"バッキングチューブに透明導電膜用材料を溶射して透明導電膜用材料層を形成した溶射円筒ターゲットにおいて、前記バッキングチューブと前記透明導電膜用材料層の間に厚みが0.3mm以上2mm以下の亜鉛、アルミニウム、亜鉛合金またはアルミニウム合金からなる下地層があることを特徴とする溶射円筒ターゲット。透明導電膜用材料層が酸化アルミニウムまたは/および酸化ガリウムを含んでいてもよい酸化亜鉛からなることを特徴とする請求項1記載の溶射円筒ターゲット。本発明の目的は、スパッタリングターゲットとして使用される透明導電膜用材料層の剥離や割れの防止を図ることにより、肉厚化した透明導電膜用材料層からなる溶射円筒ターゲットを提供することにある。本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定した範囲の厚みを有する亜鉛、アルミニウム、亜鉛合金またはアルミニウム合金からなる下地層をバッキングチューブと透明導電膜用材料層の間に介在させ、スパッタ放電中に透明導電膜用材料層を発生する熱応力をその下地層の塑性変形力を利用することによって緩和し、透明導電膜用材料層の剥離や割れを防止ができることを見出し、本発明を完成するに至った。以下、本発明の溶射円筒ターゲットについて詳細に説明する。本発明の溶射円筒ターゲットは、バッキングチューブと透明導電膜用材料層及びその間に厚みが0.3mm以上2mm以下の亜鉛、アルミニウム、亜鉛合金またはアルミニウム合金からなる下地層で構成されている。本発明の透明導電膜用材料層とは、スパッタによって透明導電膜を形成する材料を溶射法により形成したものである。本発明の透明導電膜用材料としては、ITOIndiumTinOxide、酸化アルミニウムまたは/および酸化ガリウム含有していてもよい酸化亜鉛などが挙げられる。本発明のバッキングチューブはSUS製,Ti製などの金属製が挙げられる。透明導電膜用材料層を肉厚化する場合には、スパッタ放電時の熱膨張差によるターゲットに発生する応力を緩和するため、透明導電膜用材料層との熱膨張率が比較的近いTi製が望ましい。本発明の下地層の材質は亜鉛、アルミニウム、亜鉛合金またはアルミニウム合金からなる。下地層の材質に求められる特性としては、バッキングチューブや透明導電膜用材料層との密着性が高いだけでなく、スパッタ放電中に透明導電膜用材料層に発生する応力を緩和するために塑性変形できる柔軟な材料であることが要求される。バッキングチューブと下地層との密着性を高める方法としては、バッキングチューブの表面を荒らして表面の凹凸を設ける手段などが挙げられる。下地層材料からなる溶射粒子がバッキングチューブに衝突扁平した時に、その凹部分を埋めつくすように広がることにより発生するアンカー効果で密着性が向上するからである。一方、透明導電膜用材料と下地層との密着性を向上させるためには、下地層の溶射最表面の凹凸部に透明導電膜用材料を溶射し、そのアンカー効果により密着性を向上させるだけでなく、下地層材質の融点が透明導電膜用材料層を溶射する時の表面温度に近い材質を選択する事が効果的である。また、透明導電膜用材料層をスパッタ放電する場合、その表面温度はおよそ200~300°C程度であり、透明導電膜用材料層の肉厚化に伴い、ターゲットを構成する透明導電膜用材料層と下地層及びバッキングチューブに熱応力が発生する。しかしながら、下地層材質として前記した亜鉛、アルミニウム、亜鉛合金またはアルミニウム合金を選択することにより下地層の塑性変形により熱応力の緩和効果が得られる。本発明の下地層の厚みは0.3mm以上2mm以下である。下地層の厚みが0.3mm未満の場合には下地層の密着性や塑性変形力が十分でなく、スパッタ放電時にターゲットの剥離やクラックが発生する。また、下地層の厚みが2mmを超えると下地層の熱膨張の影響が大きくなり、スパッタ放電時にターゲットの割れが発生する。本発明の透明導電膜用材料層の厚みは7mm以上であることが好ましい。7mm未満では、スパッタ放電時の透明導電膜用材料層の表面温度が高くならず、透明導電膜用材料層の剥離や割れが発生しにくいが、高出力で生産するとターゲットの寿命が大幅に低下してしまう。次に、本発明の製造方法を詳細に説明する。本発明の透明導電膜用材料の粉末の平均粒径としては20μm以上70μm以下であることが望ましい。好ましくは30μm以上50μm以下である。本発明の下地層に用いる亜鉛、アルミニウム、亜鉛合金またはアルミニウム合金の粉末の平均粒径としては20μm以上90μm以下であることが望ましい。好ましくは30μm以上70μm以下である。本発明に用いる粉末の形状は、いずれもプラズマ中に導入することにより溶融した状態であれば特に限定するものではなく、球状粒子または粉砕粉を使用することができる。本発明の下地層を有する溶射円筒ターゲットを製造する方法について、図1を用いて説明する。まず、プラズマガス6を溶射ガン7に供給し、溶射ガン7内部に対向して置かれた陰極と陽極の間に電圧をかけて直流アークを発生させることで、プラズマジェット4が発生する。次に、下地層2の原料粉末5を空気などガス気流中とともにプラズマジェット4に供給してバッキングチューブ1に下地層2を溶射し、その後、透明導電膜用材料層3の原料粉末5を前記と同様にして下地層2の上に透明導電膜用材料層3を溶射する。本発明で使用する溶射ガンとしては一般的な高電圧型のDCプラズマガンを用いることができ、例えば、Mettch社製AXIAL-III,Praxiar社製PLAZ-JETII、SulzerMetco社製TriplexProTM-200などを用いることができる。本発明のプラズマガスの流量は、120L/min.以上180L/min.以下であることが好ましい。本発明の酸化亜鉛系粉末のフィード方法は、特に限定しないが一般に言われている粉末を貯蔵するホッパーから空気圧を利用して定量的に空気流体と共にプラズマジェットにフィードする方法が挙げられる。プラズマジェットにフィードする方法としては、溶射ガン出口側上部からプラズマジェットに向かってフィードする方法上部フィード法が好ましい。本発明の原料粉末を供給するためのキャリアガス流量は、5L/min.以上30L/min.以下、好ましくは10L/min.以上25L/min.以下である。キャリアガス流量が5L/min.未満の場合には、キャリアガス流量が少ないため粉末がうまくプラズマジェットに導入ができず、密着性が低下するだけでなく、収率が悪化するため生産性が低下する。キャリアガス流量が30L/min.を超える場合には、プラズマジェットを貫通する粉末が見られると共にキャリアガスの影響でプラズマジェットが垂れ下がる傾向となるため、密着性や収率が低下する。本発明における原料粉末のフィード量の上限は特になく、生産性の観点から30g/min.以上あればよい。本発明により、スパッタ時に割れが発生しない肉厚な透明導電膜用材料層を有する溶射円筒ターゲットが低コストで且つ容易に得られる。以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。実施例1予めアルミナ不二製作所製、商品名フジランダムWA-60を用いて3インチΦのTi製バッキングチューブをブラスト処理した。処理したバッキングチューブ上のブラスト付着物をエタノール使って取り除いた後エアパージした。これを回転台の上に固定し、150rpmで回転しながら、下地層として純度99.7、平均粒子径50μmのアルミニウムを0.5mmの厚みになるまで溶射した。次に透明導電膜用材料層として、平均粒子径が45μmの酸化アルミニウム1.5重量を含む酸化亜鉛を9mmの厚みになるまで溶射した。このターゲットを4.5kW32.8W/cm2、Arガス流量:40cm3/min.、圧力:0.4Paで20hrスパッタ放電したが割れは発生しなかった。実施例2アルミニウムの下地層の厚みを1.0mmにした事以外は実施例1と同様にしてアルミニウムを溶射した。次に実施例1と同様の酸化亜鉛を透明導電膜用材料層として、9mmの厚みになるまで溶射した。このターゲットを4.5kW32.8W/cm2、Arガス流量:40cm3/min.、圧力:0.4Paで20hrスパッタ放電したが割れは発生しなかった。実施例3実施例1と同様にブラスト処理したTi製バッキングチューブに下地層として、純度99.7、粒度45μmの亜鉛を原料粉末として用い、0.5mmの厚みになるまで溶射した。次に透明導電膜用材料層として、平均粒子径が50μmのITO粉末を9mmの厚みになるまで溶射した。このターゲットを4.5kW32.8W/cm2、Arガス流量:40cm3/min.、圧力:0.4Paで20hrスパッタ放電したが割れは発生しなかった。実施例4実施例1と同様にブラスト処理したSUS製バッキングチューブに下地層として、実施例1と同様のアルミニウムの下地層の厚みを2.0mmに溶射した。次に実施例1と同様の酸化亜鉛を透明導電膜用材料層として、12mmの厚みになるまで溶射した。このターゲットを4.5kW32.8W/cm2、Arガス流量:40cm3/min.、圧力:0.4Paで30hrスパッタ放電したが割れは発生しなかった。実施例5実施例4と同様にブラスト処理したSUS製バッキングチューブに下地層として、実施例3と同様の亜鉛を0.5mmの厚みになるまで溶射した。次に実施例1と同様の酸化亜鉛を透明導電膜用材料層として、9mmの厚みになるまで溶射した。このターゲットを4.5kW32.8W/cm2、Arガス流量:40cm3/min.、圧力:0.4Paで20hrスパッタ放電したが割れは発生しなかった。実施例6実施例4と同様にブラスト処理したSUS製バッキングチューブに下地層として、純度99.5、粒度40μmのAl-Cu系A2017のアルミニウム合金を0.5mmの厚みになるまで溶射した。次に実施例1と同様の酸化亜鉛を透明導電膜用材料層として、9mmの厚みになるまで溶射した。このターゲットを4.5kW32.8W/cm2、Arガス流量:40cm3/min.、圧力:0.4Paで20hrスパッタ放電したが割れは発生しなかった。比較例1実施例1と同様にブラスト処理したTi製バッキングチューブに下地層として、純度99.7、平均粒子径50μmのアルミニウムを原料粉末として用い、0.1mmの厚みになるまで溶射した。次に透明導電膜用材料層として、平均粒子径が45μmの酸化アルミニウム1.5重量を含む酸化亜鉛を7mmの厚みになるまで溶射した。このターゲットを4.5kW32.8W/cm2、Arガス流量:40cm3/min.、圧力:0.4Paで20hrスパッタ放電した所、割れが発生した。実施例1~6、比較例1で得られた結果を表1にまとめた。"