一般式Iのシラオキサシクレンの製造にあたり、一般式IIの化合物を、IUPAC表記による元素の周期律表の第3族ないし第15族の金属又はその金属の化合物及びランタノイドから選択される触媒の存在下で反応させることによる前記シラオキサシクレンの製造方法であって、前記式中、xは、0より大きい整数値であるか、又は0に等しく、nは、1より大きい整数値であるか、又は1に等しく、R1は、水素、又は非置換のもしくは1あるいは複数の基Q1で置換された炭化水素基であって、1もしくは複数のヘテロ原子によって中断されていてよい基、又は基OR3を意味し、R2は、水素、又は非置換のもしくは1あるいは複数の基Q1で置換された炭化水素基であって、1もしくは複数のヘテロ原子によって中断されていてよい基、又は基OR4を意味し、R3は、非置換のもしくは1あるいは複数の基Q1で置換された炭化水素基であって、1もしくは複数のヘテロ原子によって中断されていてよい基を意味し、R4は、非置換のもしくは1あるいは複数の基Q1で置換された炭化水素基であって、1もしくは複数のヘテロ原子によって中断されていてよい基、又は基CH2SiR53q{OCH2SiR53r[OCH2SiR52OR3]r}qを意味し、qは、0、1、2又は3から選択される整数値であり、rは、0、1、2又は3から選択される整数値であり、R5は、水素、又は非置換のもしくは1あるいは複数の基Q1で置換された炭化水素基であって、1もしくは複数のヘテロ原子によって中断されていてよい基、又は基OR3を意味し、Q1は、一価の、二価の、又は三価のヘテロ原子を有する基を意味し、その際、R1、R2、R3、R4、R5及びQ1は、互いに結合して、1もしくは複数の環を形成してよい、前記製造方法。一般式Iの少なくとも1種の化合物を反応混合物から単離する、請求項1に記載の方法。一般式Iの化合物の反応混合物からの単離を、蒸留によって行い、その際、一般式Iの化合物は留出物として留出する、請求項2に記載の方法。xが1~3の値をとる、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。R1が、水素、C1~C12-アルキル基、C6~C12-アリール基、C7~C12-アルキルアリール基又はC7~C12-アリールアルキル基である、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。R2が、C1~C12-アルキル基、C6~C12-アリール基、C7~C12-アルキルアリール基もしくはC7~C12-アリールアルキル基、C1~C12-アルコキシ基、C2~C12-アルコキシアルコキシ基、C6~C12-アリールオキシ基、C7~C12-アリールアルコキシ基又はC7~C12-アルキルアリールオキシ基である、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。R3が、C1~C12-アルキル基、C6~C12-アリール基、C7~C12-アルキルアリール基、C7~C12-アリールアルキル基又はC2~C12-アルコキシアルキル基である、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。基R1が、水素原子、メチル基もしくはエチル基であり、基R2は、互いに独立して、メチル基、メトキシ基もしくはエトキシ基であり、基R3は、メチル基もしくはエチル基であり、nは、1~3の整数値をとり、かつxは、1~3の整数値をとる、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。触媒が、チタン、鉄、コバルト、ニッケル、亜鉛、アルミニウム、スズ、鉛又はビスマスの金属又は化合物から選択される、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。一般式IV[式中、yは、1より大きい整数値であるか、又は1に等しく、R2は、水素、又は非置換のもしくは1あるいは複数の基Q1で置換された炭化水素基であって、1もしくは複数のヘテロ原子によって中断されていてよい基、又は基OR4を意味し、R4は、非置換のもしくは1あるいは複数の基Q1で置換された炭化水素基であって、1もしくは複数のヘテロ原子によって中断されていてよい基、又は基CH2SiR53q{OCH2SiR53r[OCH2SiR52OR3]r}qを意味し、qは、0、1、2又は3から選択される整数値であり、rは、0、1、2又は3から選択される整数値であり、R5は、水素、又は非置換のもしくは1あるいは複数の基Q1で置換された炭化水素基であって、1もしくは複数のヘテロ原子によって中断されていてよい基、又は基OR3を意味し、R3は、非置換のもしくは1あるいは複数の基Q1で置換された炭化水素基であって、1もしくは複数のヘテロ原子によって中断されていてよい基を意味し、Q1は、一価の、二価の、又は三価のヘテロ原子を有する基を意味し、その際、R2、R3、R4、R5及びQ1は、互いに結合して、1もしくは複数の環を形成してよい]の化合物。