酸化物基準のモル表示で、B2O3とSiO2とAl2O3の含有量の合計が72以上であり、室温でのヤング率が85GPa以下である無鉛ガラス。酸化物基準のモル表示で、B2O3とSiO2とAl2O3の含有量の合計が72以上、Li2Oが5~19であり、K2O/Li2ONa2Oのモル比が1以下である隔壁形成用無鉛ガラス。室温でのヤング率が80GPa以下である請求項1または2の隔壁形成用無鉛ガラス。B2O3SiO2Al2O3/Li2ONa2OK2Oで表されるモル比が4.2以上である請求項1~3いずれかに記載の隔壁形成用無鉛ガラス。酸化物基準のモル表示で、B2O3を20~55、SiO2を10~50、Al2O3を4~20、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1種以上を含み含有量の合計が5~20、ZnOを0~20含有する請求項1~4いずれかに記載の無鉛ガラス。このようにプラズマディスプレイの隔壁は幅が狭く、高さが高くなることにより、従来の隔壁材料ではパネルを組み立てる工程での何らかの衝撃やパネル化した後の前面基板との接触衝撃により一部が欠け落ちるおそれがあった。隔壁の一部がかけ落ちることにより、画素の不良やセル間のクロストークを引き起こすおそれがある。隔壁が欠け落ちるのを防ぐには衝撃に対してクラックが発生しにくい材料が求められる。このクラックの発生しやすさについては後述するクラックイニシエーションロード以下CILと略記する。、落球強度H/H0を指標と考えた。また、衝撃に対して強い材料とするには材料に応力がかけられたときに歪を発生させない。つまりヤング率以下、Eと称することもあるが低いことが求められる。特許文献1で提案されている隔壁材料について、ヤング率を測定し、PDPガラス基板αAが83×10-7/°Cである旭硝子社製PD200。以下、従来ガラス基板ということがある。上に隔壁用ガラスを焼成しガラス基板全面を被覆し、落球強度H/H0を測定したところ、CILは405g/cm2、落球強度は1.8、ヤング率は86GPaであった。HとH0については、本明細書の実施例等で詳細に説明するが、Hは隔壁形成用ガラスでガラス層を形成したガラス基板の落球試験によりガラス基板が破壊したときの高さであり、H0はガラス層のないガラス基板の落球試験によりガラス基板が破壊したときの高さである。本発明は、従来材料に対して、プラズマディスプレイに使用したときに衝撃による欠け落ちが起こりにくい隔壁材料の提供を目的とする。本発明は、酸化物基準のモル表示で、B2O3とSiO2とAl2O3の含有量の合計が72以上であり、室温でのヤング率が85GPa以下である隔壁形成用無鉛ガラスである。また、本発明は、酸化物基準のモル表示で、B2O3とSiO2とAl2O3の含有量の合計が72以上、Li2Oが5~19であり、K2O/Li2ONa2Oのモル比が1以下である隔壁形成用無鉛ガラスである。前記課題を解決するためには隔壁材料にクラックの発生が起こりにくくする必要があり、CILと落球強度H/H0の値が高く、ヤング率の値を低くすることが重要であると考えた。鋭意検討の結果各特性値はガラス組成と相関があり、上記の組成範囲を規定するにいたった。本発明によればCILと落球強度H/H0の値が高く、ヤング率の値が低い、隔壁材料を提供でき、隔壁の欠けが起こりにくいことが期待される。本発明のガラスは通常、粉砕後分級して粉末化されて隔壁に用いられる。ガラスペーストを用いて隔壁を作製する場合、粉末化された本発明のガラス以下、本発明のガラス粉末という。はSiO2、Al2O3、ZrO2などのセラミックスフィラー、必要に応じてTiO2などの顔料が加えられ、ビヒクルと混練されガラスペーストとされる。このガラスペーストは、誘電体層が形成された背面基板上に塗布され、サンドブラスト法や感光法により隔壁の形状が形成される。なお、隔壁の形状が形成された後、背面板は典型的には600°C以下の温度で焼成が行われる。本発明のガラスのTsは610°C以下であることが好ましい。610°C超では600°C以下の温度での焼成においてはガラスフリットの流動性が低下し、焼結が不足した欠けやすい隔壁となるおそれがある。より好ましくは600°C以下である。本発明のガラスのEは85GPa以下である。85GPaを超えると、衝撃を十分に吸収できず、隔壁に傷を生じさせるおそれがある。80GPa以下であることが好ましい。70GPa以下であることがより好ましい。隔壁の欠けは隔壁と前面基板の電極被覆ガラス層が衝突して傷つくことによって起こると考えられるが、このとき隔壁のEが80GPa以下であれば衝突による衝撃が十分吸収され、傷つきにくくなると考えられるからである。典型的には70GPa以下である。Eはたとえば次のようにして測定する。徐冷されたガラスを厚み10mmの板状に加工し、JISR1602-1995ファインセラミックスの弾性率試験方法5.3超音波パルス法によりEを測定する。本発明のガラスのαは80×10-7/°C以下であることが好ましい。80×10-7/°C超であるとガラス基板に隔壁を形成したとき、ガラス基板の強度が低下する。より好ましくは75×10-7/°C以下である。さらに好ましくは71×10-7/°C以下である。また、本発明のガラスのαは典型的には50×10-7/°C以上である。αが50×10-7/°C未満であると、ガラス基板のαすなわちα0との差によって生じる応力が大きくなりすぎて、基板の変形や破壊が生じるおそれがある。αはたとえば次のようにして測定する。徐冷されたガラスを長さ20mm、直径5mmの円柱状に加工し、石英ガラスを標準試料としてリガク社製熱膨張計TMA-8310を用いて50~350°Cにおける平均線膨張係数αを測定する。本発明のガラスのCILは450g/cm2以上であることが好ましい。CILが450g/cm2未満である場合には隔壁に衝撃が加わった場合にクラックが入りやすいおそれがある。より好ましくは600g/cm2以上である。CILはたとえば次のようにして測定する。溶融ガラスをステンレス鋼製の型枠に流し込み、徐冷する。徐冷されたガラスを板状ガラスに加工し、その一方の表面を鏡面研磨して、典型的な大きさが50mm×50mm、厚みが10mmであるガラス試験片を得る。このガラス試験片を用いて、ビッカース硬度試験機を使用し、相対湿度が35以下のグローブボックス内でガラス試験片表面にビッカース圧子を15秒間押し込み、亀裂数を測定する。そのときの押し込み荷重は10g~1kgの間で測定し、クラックが2本となる荷重を測定した。本発明のガラスの落球強度H/H0は2.5以上であることが好ましい。H/H0が2.5未満では、隔壁に衝撃が加わった場合にクラックが入りやすいおそれがある。より好ましくは3.0以上である。H/H0は次のようにして測定する。典型的には大きさが100mm×100mm、厚みが1.8mmであるガラス基板を製造し、粒度が1500である耐水研磨紙の上に置き、そのガラス基板の上面の3cmの高さから45gのステンレス鋼製球を落下させる。このステンレス鋼製球の落下によってガラス基板が割れないときは落下高さを5mm高くしてステンレス鋼製球を落下させる。ガラス基板が割れるまで落下高さを5mm刻みで高くしてステンレス鋼製球を落下させる。このようなガラス基板破壊試験を5回繰り返し、得られた破壊高さの平均値をH0とする。Hはガラス基板の一方の表面を、膜厚20~30μmの隔壁形成用ガラスで被覆したガラス層付きガラス基板について、H0と同様にして測定された破壊高さの平均値である。すなわち、隔壁形成用ガラスによって被覆されている表面を下にして前記耐水研磨紙の上に置く以外はH0測定と同様にしてガラス層付きガラス基板破壊試験を5回繰り返し、得られた破壊高さの平均値をHとする。前記ガラス層付きガラス基板は次のようにして作製される。隔壁形成用ガラスの粉末100gを、α-テルピネオール等にエチルセルロースを10質量溶解した有機ビヒクル25gと混練してガラスペーストを作製し、大きさが100mm×100mmであるガラス基板上に、焼成後の膜厚が20μmとなるよう均一にスクリーン印刷し、120°Cで10分間乾燥する。その後、このガラス基板を昇温速度毎分10°Cで隔壁形成用ガラスの軟化温度TsまたはTs-50°C~Tsの範囲の温度まで加熱してその温度に30分間保持して焼成を行い、ガラス基板上に膜厚20~30μmの隔壁形成用ガラスの層を形成してガラス層付きガラス基板とする。次に、本発明のガラスの組成についてモル百分率表示を用いて説明する。本発明の隔壁形成用無鉛ガラスの好ましいガラス組成は、B2O3を20~55、SiO2を10~50、Al2O3を4~20、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1種以上を含み含有量の合計が5~20、ZnOを0~20含有するものである。そして、K2O/Li2ONa2Oのモル比が1以下、B2O3SiO2Al2O3/Li2ONa2OK2Oで表されるモル比が4.2以上である。B2O3は所望とする範囲を含有させるとTsを下げ、Eを小さくし、CIL、H/H0を高くする等の効果を有する成分であり、必須である。20未満では上記効果が不十分になるおそれがある。好ましくは44以上である。55超では耐水性が低下するおそれがある。また、ガラスが分相しやすくなる。耐水性を高くしたい等の場合には好ましくは50以下、典型的には48以下である。SiO2はガラスの骨格をなし、Eを小さくし、CIL、H/H0を高くする等の効果を有する成分であり、必須である。10未満ではガラスが不安定になるおそれがある。またはεが大きくなるおそれがある。好ましくは20以上である。50超ではTsが高くなる。好ましくは47以下である。Al2O3はEを小さくし、耐水性を高くする等の効果があり必須である。4以下ではガラスのEが高くなるおそれがある。好ましくは6以上である。20超ではTsが高くなる。好ましくは18以下である。B2O3とSiO2とAl2O3の含有量の合計が72以上であればEの値を小さくさせやすい。Li2O、Na2O、K2OはTsを下げる成分であり、いずれか1種類以上が必須である。5以下ではTsが高くなるおそれがある。より好ましくは8以上である。20超ではαが大きくなりすぎるおそれがある。特に、Li2Oは必須成分である。好ましくは7.5以上、さらに好ましくは10以上である。一方、19超ではαが大きくなりすぎるおそれがある。K2O/Li2ONa2O比が1より小さいことが好ましい。1を超える場合はαが大きくなりすぎるおそれがあり、H/H0が小さくなるおそれがある。ZnOは、ガラスを安定化する、Tsを下げる、αを小さくする、耐水性を高める等の効果を有する場合があり、この場合20以下の範囲で含有してもよい。含有する場合は2以上含むことが好ましい。20超である結晶化が起こる可能性がある。ZnOの含有量は好ましくは15以下である。α、Ts、化学的耐久性、ガラスの安定性、誘電率の調整などの目的で添加してもよい成分として、MgO、CaO、SrO、BaO、TiO2、SnO2、MnO2、ZrO2等の成分が例示される。これらの成分は、15以下まで含有させることができる。好ましくは10以下である。なお、本発明のガラスはPbOを含有しない。表1のB2O3からAl2O3までの欄にモル百分率表示で示した組成となるように原料を調合、混合した。これを、白金ルツボを用いて1400°Cにそれぞれ加熱し60分間溶融した。例1~22は実施例、例23~27は比較例である。このうち、例9、10は半透明であり分相していると認められたので、以下に述べる測定などは行わなかった。なお、表2には各ガラスの質量百分率表示組成を示す。得られた溶融ガラスの一部をステンレス鋼製ローラーに流し込んでフレーク化した。得られたガラスフレークをアルミナ製のボールミルで16時間乾式粉砕後、気流分級を行い、平均粒径D50が2~4μmであるガラス粉末を作製した。本明細書においてD50は、レーザ回折散乱法で測定した値をいう。このガラス粉末を試料として示差熱分析装置DTAを用いてガラス転移点Tg、Tsを測定した単位:°C。また、残った溶融ガラスをステンレス鋼製の型枠に流し込み、徐冷した。徐冷されたガラスの一部を長さ20mm、直径5mmの円柱状に加工し、石英ガラスを標準試料としてリガク社製熱膨張計TMA-8310を用いてこのガラスのαを測定した単位:10-7/°C。徐冷されたガラスの他の部分を厚み約5mmの板状に加工し、オリンパスNDT社製超音波厚さ計35DLを使用し、JISR1602-1995ファインセラミックスの弾性率試験方法5.3超音波パルス法により弾性率ヤング率E単位:GPaを測定した。また、板状に加工した前記ガラスの片面を鏡面研磨し、残留応力を除去するため500~520°Cに1時間保持して徐冷した試験片を用いて、先に述べた方法によってCILを測定したg/cm2。H/H0は大きさが100mm×100mm、厚みが1.8mmであるガラス基板を製造し、粒度が1500である耐水研磨紙の上に置き、そのガラス基板の上面の3cmの高さから22gのステンレス鋼製球を落下させる。このステンレス鋼製球の落下によってガラス基板が割れないときは落下高さを5mm高くしてステンレス鋼製球を落下させる。ガラス基板が割れるまで落下高さを5mm刻みで高くしてステンレス鋼製球を落下させる。このようなガラス基板破壊試験を5回繰り返し、得られた破壊高さの平均値をH0とした。Hはガラス基板の一方の表面に、隔壁形成用ガラスで膜厚20μmとなるようにガラス層を形成したガラス層付きガラス基板について、H0と同様にして測定された破壊高さの平均値である。表1に示した例はすべて膜厚20μmとなるようにガラス層を形成したものの評価である。すなわち、隔壁形成用ガラスによって被覆されている表面を下にして前記耐水研磨紙の上に置く以外はH0測定と同様にしてガラス層付きガラス基板破壊試験を5回繰り返し、得られた破壊高さの平均値をHとした。CILは溶融ガラスをステンレス鋼製の型枠に流し込み、徐冷する。徐冷されたガラスを板状ガラスに加工し、その一方の表面を鏡面研磨して、典型的な大きさが50mm×50mm、厚みが10mmであるガラス試験片を得る。このガラス試験片を用いて、ビッカース硬度試験機を使用し、相対湿度が35以下のグローブボックス内でガラス試験片表面にビッカース圧子を15秒間押し込み、亀裂数を測定する。そのときの押し込み荷重は10g~1kgの間で測定し、クラックが2本となる荷重を測定した。1kgでも亀裂数が2本に達しない場合は>1000と記載した。また、厚さ約3mmの板状試料の両面に直径38mmの円形の電極を設け、横川ヒューレットパッカード社製LCRメーター4192Aを使用して1MHzにおける比誘電率εを測定した。表1にこのようにして得られた測定結果または計算結果を示す。なお、表中の-は測定または計算をしなかったことを示す。