照射光を出射する照射部と、前記照射光が検出エリアに存在する対象物に反射されることによる反射光を受光する受光部と、前記受光部の受光結果に基づいて前記対象物の位置情報を検出する検出部とを含み、前記照射部は、前記照射部の一端から前記検出エリアに対して出射される第1の照射光と、前記照射部の他端から前記検出エリアに対して出射される第2の照射光と、前記照射部の一端と他端との中間部から前記検出エリアに対して出射される第3の照射光とがそれぞれに交差し、且つ、前記第1の照射光、前記第2の照射光、及び前記第3の照射光のそれぞれの強度が異なるように、前記照射光を出射することを特徴とする光学式検出装置。請求項1において、前記受光部は、前記照射部と前記検出エリアとの間に配置されることを特徴とする光学式検出装置。請求項2において、前記受光部は、前記照射光の照射基準面に垂直な方向において、前記照射部とは異なる位置に配置されることを特徴とする光学式検出装置。請求項3において、前記照射部は、前記第1の照射光と前記第3の照射光とが、前記照射部と前記検出エリアとの間の基準点において交差するように、前記照射光を出射することを特徴とする光学式検出装置。請求項4において、前記受光部は、前記基準点から前記照射基準面に垂直な方向に離れて配置されることを特徴とする光学式検出装置。請求項1乃至5のいずれかにおいて、前記照射部は、前記照射部の一端から他端に沿って設けられるライトガイドと、前記照射部の一端に設けられる第1の光源部と、前記照射部の他端に設けられる第2の光源部と、前記照射光の照射方向を設定する照射方向設定部とを有し、前記照射部は、前記第1の光源部から出射される第1の光源光と、前記第2の光源部から出射される第2の光源光とに基づいて、前記照射光を出射することを特徴とする光学式検出装置。請求項1乃至5のいずれかにおいて、前記照射部は、前記照射部の一端と他端との間の曲線に沿って配置される第1の発光素子~第nnは2以上の整数の発光素子を含み、前記照射部は、前記第1の発光素子~前記第nの発光素子から出射される第1の光源光~第nの光源光に基づいて、前記照射光を出射することを特徴とする光学式検出装置。請求項7において、前記第1の発光素子~前記第nの発光素子のうちの前記第1の発光素子~第mmは1<m<nである整数の発光素子は、第1の曲線に沿って配置され、前記第1の発光素子~前記第nの発光素子のうちの第m1の発光素子~前記第nの発光素子は、前記第1の曲線とは離れて位置する第2の曲線に沿って配置されることを特徴とする光学式検出装置。請求項7において、前記第1の発光素子~前記第nの発光素子のうちの前記第1の発光素子~第mmは1<m<nである整数の発光素子と、前記第1の発光素子~前記第nの発光素子のうちの第m1の発光素子~前記第nの発光素子とは、前記曲線に沿って交互に配置されることを特徴とする光学式検出装置。請求項6乃至9のいずれかにおいて、前記照射部は、第1の期間では、前記照射部の一端側から他端側に向かうにつれて、前記照射光の強度が低くなる第1期間用照射光を出射し、第2の期間では、前記照射部の一端側から他端側に向かうにつれて、前記照射光の強度が高くなる第2期間用照射光を出射することを特徴とする光学式検出装置。請求項10において、前記照射部は、第1角度検出用照射光を出射する第1の照射ユニットと、第2角度検出用照射光を出射する第2の照射ユニットとを有し、前記検出部は、前記第1角度検出用照射光が前記対象物に反射されることによる反射光を受光する前記受光部の受光結果に基づいて、前記対象物の前記位置情報として第1の角度を検出し、前記第2角度検出用照射光が前記対象物に反射されることによる反射光を受光する前記受光部の受光結果に基づいて、前記対象物の前記位置情報として第2の角度を検出し、前記第1の角度と前記第2の角度とに基づいて、前記対象物の位置を検出することを特徴とする光学式検出装置。第1の光源光を出射する第1の光源部と、第2の光源光を出射する第2の光源部と、前記第1の光源光が入射する第1の入射部と、前記第2の光源光が入射する第2の入射部と、前記第1の入射部と前記第2の入射部とに接続され、凹面を有する湾曲した導光路とを有するライトガイドと、前記導光路の前記凹面から出射される光源光の出射方向を、前記光源光の出射位置における前記凹面の法線方向に設定する照射方向設定部と、前記照射方向設定部から照射された照射光が対象物に反射されることによる反射光を受光する受光部と、前記受光部の受光結果に基づいて前記対象物の位置情報を検出する検出部とを含むことを特徴とする光学式検出装置。凹面を有する湾曲した支持部と、前記支持部の前記凹面に配置され、配置位置の前記凹面の法線方向に照射光を出射する第1の発光素子~第nnは2以上の整数の発光素子と、前記照射光が対象物に反射されることによる反射光を受光する受光部と、前記受光部の受光結果に基づいて前記対象物の位置情報を検出する検出部とを含むことを特徴とする光学式検出装置。請求項1乃至13のいずれかに記載の光学式検出装置と、画像を表示する表示装置とを含むことを特徴とする表示システム。請求項1乃至13のいずれかに記載の光学式検出装置と、前記光学式検出装置からの検出情報に基づいて処理を行う情報処理装置と、前記情報処理装置からの画像データに基づいて画像を表示する表示装置とを含むことを特徴とする情報処理システム。本発明の幾つかの態様によれば、従来よりも小型な構成で対象物の位置を検出することができる光学式検出装置、表示システム及び情報処理システム等を提供できる。本発明の一態様は、照射光を出射する照射部と、前記照射光が検出エリアに存在する対象物に反射されることによる反射光を受光する受光部と、前記受光部の受光結果に基づいて前記対象物の位置情報を検出する検出部とを含み、前記照射部は、前記照射部の一端から前記検出エリアに対して出射される第1の照射光と、前記照射部の他端から前記検出エリアに対して出射される第2の照射光と、前記照射部の一端と他端との中間部から前記検出エリアに対して出射される第3の照射光とがそれぞれに交差し、且つ、前記第1の照射光、前記第2の照射光、及び前記第3の照射光のそれぞれの強度が異なるように、前記照射光を出射する光学式検出装置に関係する。本発明の一態様によれば、照射部は、照射光の強度が異なる第1~第3の照射光を互いに交差するように出射することができるから、広い範囲に照射光強度分布を形成することができる。その結果、小型な構成で、広い検出エリアに対して対象物を検出することなどが可能になる。また本発明の一態様では、前記受光部は、前記照射部と前記検出エリアとの間に配置されてもよい。このようにすれば、受光部と検出エリアとの距離を短くすることができるから、受光部が受光する光量を増加させることができる。その結果、検出エリアを広くすることなどが可能になる。また本発明の一態様では、前記受光部は、前記照射光の照射基準面に垂直な方向において、前記照射部とは異なる位置に配置されてもよい。このようにすれば、受光部が、照射部から出射された照射光を遮ることがなくなるから、検出エリアを広くすることなどが可能になる。また本発明の一態様では、前記照射部は、前記第1の照射光と前記第3の照射光とが、前記照射部と前記検出エリアとの間の基準点において交差するように、前記照射光を出射してもよい。このようにすれば、第1、第3の照射光が基準点を中心として出射されるように見えるから、照射方向による強度の変化を滑らかにすることができる。その結果、検出精度の向上や検出エリアの拡大などが可能になる。また本発明の一態様では、前記受光部は、前記基準点から前記照射基準面に垂直な方向に離れて配置されてもよい。このようにすれば、受光部が、照射部から出射された照射光を遮ることがなくなり、また基準点と検出エリアとの距離を短くすることができるから、光学式検出装置の取り付け位置などの制約を少なくすることが可能になる。また本発明の一態様では、前記照射部は、前記照射部の一端から他端に沿って設けられるライトガイドと、前記照射部の一端に設けられる第1の光源部と、前記照射部の他端に設けられる第2の光源部と、前記照射光の照射方向を設定する照射方向設定部とを有し、前記照射部は、前記第1の光源部から出射される第1の光源光と、前記第2の光源部から出射される第2の光源光とに基づいて、前記照射光を出射してもよい。このようにすれば、照射部は、第1の光源光に基づいて第1の照射光強度分布を形成し、第2の光源光に基づいて第1の照射光強度分布とは異なる第2の照射光強度分布を形成することができる。また本発明の一態様では、前記照射部は、前記照射部の一端と他端との間の曲線に沿って配置される第1の発光素子~第nnは2以上の整数の発光素子を含み、前記照射部は、前記第1の発光素子~前記第nの発光素子から出射される第1の光源光~第nの光源光に基づいて、前記照射光を出射してもよい。このようにすれば、照射部は、第1~第nの光源光に基づいて、照射光強度分布を形成することができる。また本発明の一態様では、前記第1の発光素子~前記第nの発光素子のうちの前記第1の発光素子~第mmは1<m<nである整数の発光素子は、第1の曲線に沿って配置され、前記第1の発光素子~前記第nの発光素子のうちの第m1の発光素子~前記第nの発光素子は、前記第1の曲線とは離れて位置する第2の曲線に沿って配置されてもよい。このようにすれば、照射部は、第1~第mの発光素子から出射される第1~第mの光源光に基づいて、第1の照射光強度分布を形成し、また第m1~第nの発光素子から出射される第m1~第nの光源光に基づいて、第1の照射光強度分布とは異なる第2の照射光強度分布を形成することができる。また本発明の一態様では、前記第1の発光素子~前記第nの発光素子のうちの前記第1の発光素子~第mmは1<m<nである整数の発光素子と、前記第1の発光素子~前記第nの発光素子のうちの第m1の発光素子~前記第nの発光素子とは、前記曲線に沿って交互に配置されてもよい。このようにすれば、照射部は、第1~第mの発光素子から出射される第1~第mの光源光に基づいて、第1の照射光強度分布を形成し、また第m1~第nの発光素子から出射される第m1~第nの光源光に基づいて、第1の照射光強度分布とは異なる第2の照射光強度分布を形成することができる。また本発明の一態様では、前記照射部は、第1の期間では、前記照射部の一端側から他端側に向かうにつれて、前記照射光の強度が低くなる第1期間用照射光を出射し、第2の期間では、前記照射部の一端側から他端側に向かうにつれて、前記照射光の強度が高くなる第2期間用照射光を出射してもよい。このようにすれば、照射部は、第1の期間では、照射部の一端側から他端側に向かうにつれて、照射光の強度が低くなる第1の照射光強度分布を形成し、第2の期間では、照射部の一端側から他端側に向かうにつれて、照射光の強度が高くなる第2の照射光強度分布を形成することができる。こうすることで、異なる2つの照射光強度分布を交互に形成することができるから、環境光などの外乱光の影響を抑えて、より精度の高い対象物の検出などが可能になる。また本発明の一態様では、前記照射部は、第1角度検出用照射光を出射する第1の照射ユニットと、第2角度検出用照射光を出射する第2の照射ユニットとを有し、前記検出部は、前記第1角度検出用照射光が前記対象物に反射されることによる反射光を受光する前記受光部の受光結果に基づいて、前記対象物の前記位置情報として第1の角度を検出し、前記第2角度検出用照射光が前記対象物に反射されることによる反射光を受光する前記受光部の受光結果に基づいて、前記対象物の前記位置情報として第2の角度を検出し、前記第1の角度と前記第2の角度とに基づいて、前記対象物の位置を検出してもよい。このようにすれば、光学式検出装置と対象物との距離を検出しなくても、対象物の位置を特定することができる。その結果、小型な構成で、広い検出エリアに対して対象物の位置を検出することなどが可能になる。本発明の他の態様は、第1の光源光を出射する第1の光源部と、第2の光源光を出射する第2の光源部と、前記第1の光源光が入射する第1の入射部と、前記第2の光源光が入射する第2の入射部と、前記第1の入射部と前記第2の入射部とに接続され、凹面を有する湾曲した導光路とを有するライトガイドと、前記導光路の前記凹面から出射される光源光の出射方向を、前記光源光の出射位置における前記凹面の法線方向に設定する照射方向設定部と、前記照射方向設定部から照射された照射光が対象物に反射されることによる反射光を受光する受光部と、前記受光部の受光結果に基づいて前記対象物の位置情報を検出する検出部とを含む光学式検出装置に関係する。本発明の他の態様によれば、照射部は、第1の光源光に基づいて第1の照射光強度分布を形成し、第2の光源光に基づいて第1の照射光強度分布とは異なる第2の照射光強度分布を形成することができる。また、照射方向設定部により、照射方向を凹面の法線方向に設定することができるから、広い範囲に照射光強度分布を形成することなどができる。その結果、小型な構成で、広い検出エリアに対して対象物を検出することなどが可能になる。本発明の他の態様は、凹面を有する湾曲した支持部と、前記支持部の前記凹面に配置され、配置位置の前記凹面の法線方向に照射光を出射する第1の発光素子~第nnは2以上の整数の発光素子と、前記照射光が対象物に反射されることによる反射光を受光する受光部と、前記受光部の受光結果に基づいて前記対象物の位置情報を検出する検出部とを含む光学式検出装置に関係する。本発明の他の態様によれば、照射部は、第1~第nの発光素子から出射される光源光に基づいて、第1、第2の照射光強度分布を形成することができる。また、照射方向を凹面の法線方向に設定することができるから、広い範囲に照射光強度分布を形成することなどができる。その結果、小型な構成で、広い検出エリアに対して対象物を検出することなどが可能になる。本発明の他の態様は、上記いずれかに記載の光学式検出装置と、画像を表示する表示装置とを含む表示システムに関係する。本発明の他の態様は、上記いずれかに記載の光学式検出装置と、前記光学式検出装置からの検出情報に基づいて処理を行う情報処理装置と、前記情報処理装置からの画像データに基づいて画像を表示する表示装置とを含む情報処理システムに関係する。以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお以下に説明する本実施形態は特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。1.光学式検出装置図1A、図1Bに、本実施形態の光学式検出装置100の基本的な構成例を示す。光学式検出装置100は、照射部EU、受光部RU、検出部110及び制御部120を含む。なお、本実施形態の光学式検出装置は図1A、図1Bの構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素に置き換えたり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。本実施形態の光学式検出装置100は、図1A、図1Bに示すようにスクリーン20表示部の前方側Z軸方向側に設定された検出エリアRDETにおいて、ユーザーの指やタッチペンなどの対象物OBを光学的に検出する。ここでX-Y平面とは、例えば表示部20によって規定される対象面表示面に沿った平面である。対象面とは、検出エリアRDETの設定対象となる面であって、例えば情報処理装置のディスプレイの表示面、或いは投射型表示装置プロジェクターの投影面、或いはデジタルサイネージにおけるディスプレイ面などである。検出エリアRDETとは、対象物OBが検出されるエリア領域であって、具体的には、例えば照射光LTが対象物OBに反射されることによる反射光LRを、受光部RUが受光して、対象物OBを検出することができるエリアである。より具体的には、受光部RUが反射光LRを受光して対象物OBを検出することが可能であって、かつ、その検出精度について、許容できる範囲の精度が確保できるエリアである。照射部EUは、対象物OBを検出するための照射光LTを出射する。具体的には、照射部EUは、第1の期間では第1期間用照射光LT1を出射し、第2の期間では第2期間用照射光LT2を出射する。第1期間用照射光LT1と第2期間用照射光LT2とは、照射光の強度分布が異なる。照射光の強度分布については、後で詳細に説明する。照射部EUは、照射部EUの一端から他端に沿って設けられるライトガイド、一端に設けられる第1の光源部及び他端に設けられる第2の光源部を含む。第1、第2の光源部は、LED発光ダイオード等の発光素子を有し、例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線の光源光を出射する。そしてこの光源光に基づいて、照射光LTが出射される。また、照射部EUは、照射部EUの一端と他端との間の曲線に沿って配置される第1~第nnは2以上の整数の発光素子を含む構成であってもよい。第1~第nの発光素子は、例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線を出射するLED発光ダイオード等であって、曲線に沿って配置され、第1~第nの光源光を出射する。そして第1~第nの光源光に基づいて、照射光LTが出射される。なお、照射部EUの詳細な構成については、後述する。照射部EUの形状は、中心角が180度である半円形状に限定されるものではなく、中心角が180度より小さい扇形形状であってもよい。また、半円又は扇形の曲線部分弧の部分は、円弧真円の一部でなくてもよい。例えば楕円等の一部であってもよい。受光部RUは、照射部EUから出射した照射光LTが検出エリアRDETに存在する対象物OBにより反射されることによる反射光LRを受光する。この受光部RUは、例えばフォトダイオードやフォトトランジスターなどの受光素子により実現できる。この受光部RUには検出部110が例えば電気的に接続されている。受光部RUは、照射部EUと検出エリアRDETとの間に配置され、より具体的には、照射光の照射基準面SLに垂直な方向において、照射部EUとは異なる位置に配置される。このようにすれば、受光部RUが照射部EUから出射された照射光LT1、LT2を遮ることがなくなる。さらに受光部RUは、基準点PEから照射基準面SLに垂直な方向に離れて配置されてもよい。このようにすれば、基準点PEと検出エリアRDETとの距離を短くすることができるから、光学式検出装置の取り付け位置などの制約を少なくすることが可能になる。例えば図1Bでは、照射基準面SLはX-Y平面対象面に平行な面であり、受光部RUは、Z軸方向の反対方向広義には照射基準面SLに垂直な方向において、照射部EUと異なる位置に配置される。ここで基準点PEは、後述するように照射ユニットEUから出射される少なくとも2つの照射光が交差する点である。また照射基準面SLは、照射ユニットEUが照射光を出射する方向を規定するための仮想的な面であって、この照射基準面SLに沿って照射光が出射される。ただし照射ユニットEUから出射される照射光は、照射基準面SLの面内に限定されず、照射基準面SLを基準としてそれに垂直な方向及びその反対方向に一定の広がりを持つ。なお、図1Bでは、受光部RUが照射基準面SLに対してZ軸方向の反対方向-Z方向に配置されているが、照射基準面SLに対してZ軸方向Z方向に配置されてもよい。また、照射基準面SLは、X-Y平面対象面に平行でなくてもよく、例えばX-Y平面対象面と一定の角度で交差する面であってもよい。検出部110は、照射光LTが対象物OBにより反射されることによる反射光LRの受光結果に基づいて、対象物OBの位置情報を検出する。この検出部110の機能は、アナログ回路等を有する集積回路装置や、マイクロコンピューター上で動作するソフトウェアプログラムなどにより実現できる。例えば検出部110は、受光部RUの受光素子が対象物からの反射光を受光することで発生した検出電流を、検出電圧に変換し、受光結果である検出電圧に基づいて、対象物の位置情報を検出する。なお、位置検出の手法については、後述する。ここで対象物の位置情報位置特定情報とは、対象物の位置を特定する情報であればよく、対象物の位置座標には限定されず、例えば対象物の位置を特定するための角度等であってもよい。制御部120は、光学式検出装置100の各種の制御処理を行う。具体的には照射部EUが有する発光素子の発光制御などを行う。この制御部120は照射部EU、検出部110に電気的に接続されている。制御部120の機能は、集積回路装置やマイクロコンピューター上で動作するソフトウェアなどにより実現できる。図2A、図2Bに、本実施形態の照射部EUの第1の構成例を示す。第1の構成例では、照射部EUは、照射部EUの一端から他端に沿って設けられるライトガイドLG、照射部EUの一端に設けられる第1の光源部LSU1、照射部EUの他端に設けられる第2の光源部LSU2及び照射光LTの照射方向を設定する照射方向設定部LEを含む。また、照射部EUは、反射シートRSをさらに含んでもよい。なお、本実施形態の照射部EUは図2A、図2Bの構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素に置き換えたり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。ライトガイドLGは、第1の光源光が入射する第1の入射部LA1と、第2の光源光が入射する第2の入射部LA2と、第1の入射部LA1と第2の入射部LA2とに接続され、凹面を有する湾曲した導光路LBとを含む。第1、第2の光源部LSU1、LSU2は、LED発光ダイオード等の発光素子を有し、例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線の第1、第2の光源光を第1、第2の入射部LA1、LA2にそれぞれ出射する。そして、第1、第2の光源光に基づいて、照射光LTが出射される。光源部LSU1、LSU2が発光する光源光は、ユーザーの指やタッチペン等の対象物により効率的に反射される波長帯域の光や、外乱光となる環境光にあまり含まれない波長帯域の光であることが望ましい。具体的には、人体の表面での反射率が高い波長帯域の光である850nm付近の波長の赤外光や、環境光にあまり含まれない波長帯域の光である950nm付近の赤外光などである。照射方向設定部LEは、導光路LBの凹面から出射される光源光の出射方向を、光源光の出射位置における凹面の法線方向に設定する。ライトガイドLGは、光源部LSU1、LSU2からの光源光を曲線状の導光路LBに沿って導光し、その形状は曲線形状になっている。具体的には図2A、図2BではライガイドLGは円弧形状になっている。なお、図2A、図2BではライトガイドLGはその中心角が180度の円弧形状になっているが、中心角が180度よりも小さい円弧形状であってもよい。ライトガイドLGは、例えばアクリル樹脂やポリカーボネートなどの透明な樹脂部材等により形成される。ライトガイドLGの外周側及び内周側の少なくとも一方には、ライトガイドLGからの光源光の出光効率を調整するための加工が施されている。加工手法としては、例えば反射ドットを印刷するシルク印刷方式や、スタンパーやインジェクションで凹凸を付ける成型方式や、溝加工方式などの種々の手法を採用できる。プリズムシートPSとルーバーフィルムLFにより実現される照射方向設定部LEは、ライトガイドLGの内周側に設けられ、ライトガイドLGの内周側内周面から出射される光源光を受ける。そして曲線形状円弧形状のライトガイドLGの外周側から内周側へと向かう方向に照射方向が設定された照射光LTを出射する。即ち、ライトガイドLGの内周側から出射される光源光の方向を、ライトガイドLGの例えば法線方向半径方向に沿った照射方向に設定規制する。これにより、ライトガイドLGの外周側から内周側に向かう方向に、照射光LTが出射される。このような照射光LTの照射方向の設定は、照射方向設定部LEのプリズムシートPSやルーバーフィルムLFなどにより実現される。例えばプリズムシートPSは、ライトガイドLGの内周側から低視角で出射される光源光の方向を、法線方向側に立ち上げて、出光特性のピークが法線方向になるように設定する。またルーバーフィルムLFは、法線方向以外の方向の光低視角光を遮光カットする。図2Aには、第1の期間において出射される第1期間用照射光LT1の照射方向及び照射光強度を示す。第1の期間では、照射部EUの一端に設けられた第1の光源部LSU1が第1の光源光を出射し、第1の光源光に基づいて第1期間用照射光LT1が出射される。具体的には、第1の照射光LT-1が照射部EUの一端から検出エリアRDETに対して出射され、第2の照射光LT-2が照射部EUの他端から検出エリアRDETに対して出射され、第3の照射光LT-3が照射部EUの一端と他端との中間部から検出エリアRDETに対して出射される。そして第1~第3の照射光LT-1~LT-3は、それぞれに交差し、且つ、照射光のそれぞれの強度が異なる。例えば、図2Aでは、LT-1の強度が最も高く、LT-2の強度が最も低く、LT-3の強度は両者の中間である。なお、照射部EUの一端或いは他端とは、照射部EUの厳密な端でなくてもよい。第1の照射光LT-1と第3の照射光LT-3とは、照射部EUと検出エリアRDETとの間の基準点PEにおいて交差する。例えば、図2Aに示すように、LT-1とLT-3とが基準点PEにおいて交差し、さらに第2の照射光LT-2と第3の照射光LT-3とが基準点PEにおいて交差してもよい。また、さらに照射部EUの他の部分から出射される照射光が基準点PEにおいて交差するようにしてもよい。ここで第1、第3の照射光LT-1、LT-3、或いは第2、第3の照射光LT-2、LT-3が基準点PEで交差するとは、照射光の強度分布が基準点PEの1点に集中することを意味するのではなく、各照射光の強度のピークが基準点PEで交差する、即ち、基準点PEを通るという意味である。照射光の強度は、照射方向設定部LEにより、凹面の法線方向に強度のピークを持つように設定されるが、その法線方向を中心として強度分布の広がりを持つからである。このように照射部EUは、第1の期間では、照射部EUの一端側から他端側に向かうにつれて、照射光の強度が低くなる第1期間用照射光LT1を出射する。その結果、照射部EUの一端側から他端側に向かうにつれて、照射光の強度が低くなる第1の照射光強度分布LID1が形成される。図2Bには、第2の期間において出射される第2期間用照射光LT2の照射方向及び照射光強度を示す。第2の期間では、照射部EUの他端に設けられた第2の光源部LSU2が第2の光源光を出射し、第2の光源光に基づいて第2期間用照射光LT2が出射される。具体的には、第1の照射光LT-1が照射部EUの一端から検出エリアRDETに対して出射され、第2の照射光LT-2が照射部EUの他端から検出エリアRDETに対して出射され、第3の照射光LT-3が照射部EUの一端と他端との中間部から検出エリアRDETに対して出射される。そして第1~第3の照射光LT-1~LT-3は、それぞれに交差し、且つ、照射光のそれぞれの強度が異なる。例えば、図2Bでは、LT-1の強度が最も低く、LT-2の強度が最も高く、LT-3の強度は両者の中間である。第1の照射光LT-1と第3の照射光LT-3とは、照射部EUと検出エリアRDETとの間の基準点PEにおいて交差する。例えば、図2Bに示すように、LT-1とLT-3とが基準点PEにおいて交差し、さらに第2の照射光LT-2と第3の照射光LT-3とが基準点PEにおいて交差してもよい。さらに照射部EUの他の部分から出射される照射光が基準点PEにおいて交差するようにしてもよい。このように照射部EUは、第2の期間では、照射部EUの一端側から他端側に向かうにつれて、照射光の強度が高くなる第2期間用照射光LT2を出射する。その結果、照射部EUの一端側から他端側に向かうにつれて、照射光の強度が高くなる第2の照射光強度分布LID2が形成される。上述したように、本実施形態の光学式検出装置100では、第1の期間と第2の期間とが交互に設けられ、第1の期間では第1期間用照射光LT1を出射し、第2の期間では第2期間用照射光LT2を出射することができる。こうすることで、強度分布の異なる2つの照射光を交互に出射することができるから、環境光などの外乱光の影響を最小限に抑えた、より精度の高い対象物の検出が可能になる。受光部RUは、照射部EUと検出エリアRDETとの間に配置され、より具体的には、照射光の照射基準面SLに垂直な方向において、照射部EUとは異なる位置に配置される。このようにすれば、受光部RUが照射部EUから出射された照射光LT1、LT2を遮ることがなくなる。さらに受光部RUは、基準点PEから照射基準面SLに垂直な方向に離れて配置されてもよい。このようにすれば、基準点PEと検出エリアRDETとの距離を短くすることができるから、光学式検出装置の取り付け位置などの制約を少なくすることが可能になる。図3に、照射部EUの比較例を示す。図3の比較例では、上述した第1の構成例と異なり、照射方向設定部LEが、ライトガイドLGの外周側に設けられ、ライトガイドLGの外周側外周面から出射される光源光を受ける。そして曲線形状円弧形状のライトガイドLGの内周側から外周側へと向かう方向に照射方向が設定された照射光LTを出射する。この比較例では、反射シートRSがライトガイドLGの内周側に設けられるために、反射面の長さが短くなる。一方、第1の構成例では、反射シートRSがライトガイドLGの外周側に設けられるために、反射面の長さが長くなる。反射面の長さが長い方が、光の強度分布の制御が容易になるから、ライトガイドLGの半径が同一の場合には、第1の構成例の方が光の強度分布の制御が容易になる。また、反射シートRSの長さ反射面の長さが同一の場合には、第1の構成例の方が照射部EUのサイズを小さくすることができる。また、この比較例では、受光部RUと検出エリアRDETとの間に照射部EUが設けられるため、照射部EUから出射される光の一部が直接に受光部RUに入射するおそれがある。これを防止するために、受光部RUに狭いスリットを設けて、入射する光の方向を限定する必要がある。一方、第1の構成例では、照射部EUからの光が直接受光部RUに入射するおそれがないから、スリットの幅を広くすることができる。その結果、受光部RUが受光する光量が多くなるから、対象物OBの検出精度を高くすることができ、また検出エリアRDETを広くすることが可能になる。図4A、図4Bに、本実施形態の照射部EUの第2及び第3の構成例を示す。第2、第3の構成例では、照射部EUは、照射部EUの一端と他端との間の曲線CURに沿って配置される第1~第nnは2以上の整数の発光素子LD1~LDnを含む。具体的には、照射部EUは、凹面を有する湾曲した支持部SUPと、支持部SUPの凹面に配置され、配置位置の凹面の法線方向に照射光を照射する第1~第nの発光素子LD1~LDnとを含む。そして第1~第nの発光素子LD1~LDnから出射される第1~第nの光源光に基づいて、照射光LTを出射する。なお、本実施形態の照射部EUは図4A、図4Bの構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素に置き換えたり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。図4Aに示す第2の構成例では、第1~第nの発光素子LD1~LDnのうちの第1~第mmは1<m<nである整数の発光素子LD1~LDmは、第1の曲線CUR1に沿って配置される。また、第1~第nの発光素子LD1~LDnのうちの第m1~第nの発光素子LDm1~LDnは、第1の曲線CUR1とは離れて位置する第2の曲線CUR2に沿って配置される。例えば図4Aでは、照射部EUは第1~第14の発光素子LD1~LD14広義には第1~第nの発光素子を含み、第1~第7の発光素子LD1~LD7広義には第1~第mの発光素子は、第1の曲線CUR1に沿って配置され、第8~第14の発光素子LD8~LD14広義には第m1~第nの発光素子は第2の曲線CUR2に沿って配置される。第1~第nの発光素子LD1~LDnは、例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線を出射するLED発光ダイオード等であって、光源光をそれぞれ出射する。曲線CUR1、CUR2は円弧線であってもよいし、曲率半径が変化する曲線であってもよい。また、各発光素子の配置間隔は等間隔であってもよいし、変化する間隔であってもよい。第1の曲線CUR1と第2の曲線CUR2とは、互いに交差せず、離れた位置に配置される。第1の曲線CUR1と第2の曲線CUR2との間隔は、一定であってもよいし、変化してもよい。図4Bに示す第3の構成例では、第1~第nの発光素子LD1~LDnのうちの第1~第mmは1<m<nである整数の発光素子LD1~LDmと、第1~第nの発光素子LD1~LDnのうちの第m1~第nの発光素子LDm1~LDnとは、曲線CURに沿って交互に配置される。例えば図4Bでは、照射部EUは第1~第14広義には第nの発光素子LD1~LD14を含み、第1~第7広義には第mの発光素子LD1~LD7と、第8~第14の発光素子LD8~LD14とは、曲線CURに沿って交互に配置される。即ち、曲線CURの一端に第1の発光素子LD1が配置され、LD1に隣接して第8の発光素子LD8が配置され、LD8に隣接して第2の発光素子LD2が配置される。そして曲線CURの他端に、第7の発光素子LD7と第14の発光素子LD14とが隣接して配置される。第1~第nの発光素子LD1~LDnは、例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線を出射するLED発光ダイオード等であって、光源光をそれぞれ出射する。曲線CURは円弧線であってもよいし、曲率半径が変化する曲線であってもよい。また、発光素子の配列は図4Bに示すものに限定されない。例えば、曲線CURの一端から他端に向かって、LD1、LD2、LD8、LD9、LD3、LD4、LD10、LD11のように、2個ずつ交互に配置してもよい。なお、以降の説明において、第1~第mの発光素子LD1~LDmをまとめて第1の発光素子群と記載し、第m1~第nの発光素子LDm1~LDnをまとめて第2の発光素子群と記載する。例えば、図4A、図4Bでは、LD1~LD7をまとめて第1の発光素子群とし、LD8~LD14をまとめて第2の発光素子群とする。図5A、図5Bは、照射部EUの第2の構成例図4Aにより出射される照射光を説明する図である。図5Aには、第1の期間に出射される第1期間用照射光LT1の照射方向及び照射光強度を示す。第1の期間では、第1の発光素子群LD1~LD7は、照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、各発光素子の光量が低くなる第1~第7の光源光LS1~LS7を出射する。具体的には、例えば第1の光源光LS1広義には第1の照射光が照射部EUの一端から検出エリアRDETに対して出射され、第7の光源光LS7広義には第2の照射光が照射部EUの他端から検出エリアRDETに対して出射され、第4の光源光LS4広義には第3の照射光が照射部EUの一端と他端との中間部から検出エリアRDETに対して出射される。そして第1、第4、第7の光源光LS1、LS4、LS7は、それぞれに交差し、且つ、それぞれの強度が異なる。例えば、図5Aでは、LS1の強度が最も高く、LS7の強度が最も低く、LS4の強度は両者の中間である。なお、照射部EUの一端或いは他端とは、照射部EUの厳密な端でなくてもよい。第1の光源光LS1と第4の光源光LS4とは、照射部EUと検出エリアRDETとの間の基準点PEにおいて交差する。例えば、図5Aに示すように、LS1とLS4とが基準点PEにおいて交差し、さらにLS4とLS7とが基準点PEにおいて交差してもよい。また、さらに他の発光素子から出射される光源光が基準点PEにおいて交差するようにしてもよい。ここで各光源光が基準点PEで交差するとは、光源光の強度分布が基準点PEの1点に集中することを意味するのではなく、各光源光の強度のピークが基準点PEで交差する、即ち、基準点PEを通るという意味である。発光素子から出射される光源光の強度は、強度のピークを持つ方向を中心として強度分布の広がりを持つからである。LD1は最も光量の高い光源光LS1を出射し、次のLD2はLS1よりも光量が低い光源光LS2を出射し、次のLD3はLS2よりも光量が低い光源光LS3を出射する。そして最後のLD7はLS6よりも光量の低い光源光LS7を出射する。すなわち、照射部EUの一端からは最も光量の高い光源光が出射され、一端から他端に向かって徐々に光量が減少し、他端からは最も光量の低い光源光が出射される。このようにして、第1の期間では第1~第7の光源光LS1~LS7が出射され、これに基づいて照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、照射光の強度が低くなる第1期間用照射光LT1が出射される。即ち、照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、照射光の強度が低くなる第1の照射光強度分布LID1が形成される。第1期間用照射光LT1は、各発光素子から出射された第1~第7の光源光LS1~LS7が合成された光である。発光素子LD1~LD7の光量は、各発光素子を流れる電流発光電流に比例するから、この電流を制御することで、各発光素子の光量を上記のように設定することができる。発光電流は、例えば発光素子と直列に接続された抵抗素子の抵抗値により設定することができる。図5Bには、第2の期間に出射される第2期間用照射光LT2の照射方向及び照射光強度を示す。第2の期間では、第2の発光素子群LD8~LD14は、照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、各発光素子の光量が高くなる第8~第14の光源光LS8~LS14を出射する。具体的には、例えば第8の光源光LS8広義には第1の照射光が照射部EUの一端から検出エリアRDETに対して出射され、第14の光源光LS14広義には第2の照射光が照射部EUの他端から検出エリアRDETに対して出射され、第11の光源光LS11広義には第3の照射光が照射部EUの一端と他端との中間部から検出エリアRDETに対して出射される。そして第8、第11、第14の光源光LS8、LS11、LS14は、それぞれに交差し、且つ、それぞれの強度が異なる。例えば、図5Bでは、LS8の強度が最も低く、LS14の強度が最も高く、LS11の強度は両者の中間である。第8の光源光LS8と第11の光源光LS11とは、照射部EUと検出エリアRDETとの間の基準点PEにおいて交差する。例えば、図5Bに示すように、LS8とLS11とが基準点PEにおいて交差し、さらにLS11とLS14とが基準点PEにおいて交差してもよい。また、さらに他の発光素子から出射される光源光が基準点PEにおいて交差するようにしてもよい。LD8は最も光量の低い光源光LS8を出射し、次のLD9はLS8よりも光量が高い光源光LS9を出射し、次のLD10はLS9よりも光量が高い光源光LS10を出射する。そして最後のLD14はLS13よりも光量の高い光源光LS14を出射する。すなわち、照射部EUの一端からは最も光量の低い光源光が出射され、一端から他端に向かって徐々に光量が増加し、他端からは最も光量の高い光源光が出射される。このようにして、第2の期間では第8~第14の光源光LS8~LS14が出射され、これに基づいて照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、照射光の強度が高くなる第2期間用照射光LT2が出射される。即ち、照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、照射光の強度が高くなる第2の照射光強度分布LID2が形成される。第2期間用照射光LT2は、各発光素子から出射された第8~第14の光源光LS8~LS14が合成された光である。図6A、図6Bは、照射部EUの第3の構成例図4Bにより出射される照射光を説明する図である。第3の構成例の照射部EUによっても、上述した第1期間用照射光LT1及び第2期間用照射光LT2を出射することができる。図6Aには、第1の期間に出射される第1期間用照射光LT1の照射方向及び照射光強度を示す。第1の期間では、第1の発光素子群LD1~LD7は、照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、各発光素子の光量が低くなる第1~第7の光源光LS1~LS7を出射する。具体的には、例えば第1の光源光LS1広義には第1の照射光が照射部EUの一端から検出エリアRDETに対して出射され、第7の光源光LS7広義には第2の照射光が照射部EUの他端から検出エリアRDETに対して出射され、第4の光源光LS4広義には第3の照射光が照射部EUの一端と他端との中間部から検出エリアRDETに対して出射される。そして第1、第4、第7の光源光LS1、LS4、LS7は、それぞれに交差し、且つ、それぞれの強度が異なる。例えば、図6Aでは、LS1の強度が最も高く、LS7の強度が最も低く、LS4の強度は両者の中間である。なお、照射部EUの一端或いは他端とは、照射部EUの厳密な端でなくてもよい。第1の光源光LS1と第4の光源光LS4とは、照射部EUと検出エリアRDETとの間の基準点PEにおいて交差する。例えば、図6Aに示すように、LS1とLS4とが基準点PEにおいて交差し、さらにLS4とLS7とが基準点PEにおいて交差してもよい。また、さらに他の発光素子から出射される光源光が基準点PEにおいて交差するようにしてもよい。LD1は最も光量の高い光源光LS1を出射し、次のLD2はLS1よりも光量が低い光源光LS2を出射し、次のLD3はLS2よりも光量が低い光源光LS3を出射する。そして最後のLD7はLS6よりも光量の低い光源光LS7を出射する。すなわち、照射部EUの一端からは最も光量の高い光源光が出射され、一端から他端に向かって徐々に光量が減少し、他端からは最も光量の低い光源光が出射される。このようにして、第1の期間では第1~第7の光源光LS1~LS7が出射され、これに基づいて照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、照射光の強度が低くなる第1期間用照射光LT1が出射される。即ち、照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、照射光の強度が低くなる第1の照射光強度分布LID1が形成される。第1期間用照射光LT1は、各発光素子から出射された第1~第7の光源光LS1~LS7が合成された光である。図6Bには、第2の期間に出射される第2期間用照射光LT2の照射方向及び照射光強度を示す。第2の期間では、第2の発光素子群LD8~LD14は、照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、各発光素子の光量が高くなる第8~第14の光源光LS8~LS14を出射する。具体的には、例えば第8の光源光LS8広義には第1の照射光が照射部EUの一端から検出エリアRDETに対して出射され、第14の光源光LS14広義には第2の照射光が照射部EUの他端から検出エリアRDETに対して出射され、第11の光源光LS11広義には第3の照射光が照射部EUの一端と他端との中間部から検出エリアRDETに対して出射される。そして第8、第11、第14の光源光LS8、LS11、LS14は、それぞれに交差し、且つ、それぞれの強度が異なる。例えば、図6Bでは、LS8の強度が最も低く、LS14の強度が最も高く、LS11の強度は両者の中間である。第8の光源光LS8と第11の光源光LS11とは、照射部EUと検出エリアRDETとの間の基準点PEにおいて交差する。例えば、図6Bに示すように、LS8とLS11とが基準点PEにおいて交差し、さらにLS11とLS14とが基準点PEにおいて交差してもよい。また、さらに他の発光素子から出射される光源光が基準点PEにおいて交差するようにしてもよい。LD8は最も光量の低い光源光LS8を出射し、次のLD9はLS8よりも光量が高い光源光LS9を出射し、次のLD10はLS9よりも光量が高い光源光LS10を出射する。そして最後のLD14はLS13よりも光量の高い光源光LS14を出射する。すなわち、照射部EUの一端からは最も光量の低い光源光が出射され、一端から他端に向かって徐々に光量が増加し、他端からは最も光量の高い光源光が出射される。このようにして、第2の期間では第8~第14の光源光LS8~LS14が出射され、これに基づいて照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、照射光の強度が高くなる第2期間用照射光LT2が出射される。即ち、照射部EUの一端から他端に向かうにつれて、照射光の強度が高くなる第2の照射光強度分布LID2が形成される。第2期間用照射光LT2は、各発光素子から出射された第8~第14の光源光LS8~LS14が合成された光である。図7A、図7Bは、照射部EUの他の比較例及び角度と照射光強度の関係を説明する図である。図7Aに示す比較例では、上述した第2、第3の構成例と異なり、第1~第nの発光素子が湾曲した支持部SUPの凸面に配置される。図7Aには、比較例により出射される第1期間用照射光LT1を示す。図7Bには、比較例による第1期間用照射光LT1の角度に対する強度実線を示す。図7Bに示すように、比較例では、光源光LS1~LS7のそれぞれの強度のピークに対応する角度では強度が高くなるが例えば図7BのA1、ピークとピークとの中間に対応する角度では強度が低くなってしまう例えば図7BのA2。このような照射光強度の山と谷ができることで、対象物の検出精度が低下してしまう。一方、本実施形態の照射部EUの第2、第3の構成例によれば、複数の光源光が基準点PEを通ることで、強度分布の広がりを持った複数の光源光が基準点PEを中心として出射されるように見える。こうすることで、例えば図7BのA3一点鎖線に示すように、ピークとピークとの中間で強度の低下を抑えることができる。その結果、滑らかな照射光強度分布を形成することができるから、対象物の検出精度を向上させることができる。図8A、図8Bに、本実施形態の受光部RUの構成例を示す。図8Aに示すように、受光素子PHDの前面にスリットSLTを設けて、入射する入射光を制限する。スリットSLTはX-Y平面に沿って設けられ、入射光が入射するZ方向の角度を制限することができる。すなわち受光部RUは、スリットSLTのスリット幅で規定される所定の角度で入射する入射光を受光することができる。図8Bは、スリットSLTを有する受光ユニットの上から見た平面図である。例えばアルミニウム等の筐体ケース内に配線基板PWBが設けられ、この配線基板PWB上に受光素子PHDが実装される。受光素子PHDは、例えばフォトダイオードやフォトトランジスターなどであって、照射部EUから出射した照射光LTが検出エリアRDETに存在する対象物OBにより反射されることによる反射光LRを受光する。以上説明したように、本実施形態の光学式検出装置によれば、広い範囲で強度分布の異なる2つの照射光強度分布を形成することができる。また、検出装置と検出エリアとの距離を短くすることができるから、検出装置の取り付け位置の制約などを少なくすることができる。また、受光部RUのスリット幅を広くすることができるから、受光する光量が多くなり、検出エリアを広くすることができる。さらに照射光強度のピークとピークとの中間で強度の低下を抑えることができるから、照射光強度分布を滑らかにすることができ、検出精度を向上させることができる。その結果、従来よりも小型な構成で、広い検出エリアに対して対象物の位置を検出することなどが可能になる。2.位置情報検出の手法図9A、図9Bは、本実施形態の光学式検出装置による位置情報を検出する手法を説明する図である。図9AのE1は、図2A、図5A、図6Aに示した第1の照射光強度分布LID1において、第1期間用照射光LT1の照射方向の角度と、その角度での第1期間用照射光LT1の強度光度、放射強度との関係を示す図である。図9AのE1では、照射方向が図9BのDD1の方向左方向である場合に強度が最も高くなる。一方、DD3の方向右方向である場合に強度が最も低くなり、DD2の方向ではその中間の強度になる。具体的には方向DD1から方向DD3への角度変化に対して照射光の強度は単調減少しており、例えばリニアー直線的に変化している。また図9AのE2は、図2B、図5B、図6Bに示した第2の照射光強度分布LID2において、第2期間用照射光LT2の照射方向の角度と、その角度での第2期間用照射光LT2の強度との関係を示す図である。図9AのE2では、照射方向が図9BのDD3の方向である場合に強度が最も高くなる。一方、DD1の方向である場合に強度が最も低くなり、DD2の方向ではその中間の強度になる。具体的には方向DD3から方向DD1への角度変化に対して照射光の強度は単調減少しており、例えばリニアーに変化している。なお図9Aでは照射方向の角度と強度の関係はリニアーな関係になっているが、本実施形態はこれに限定されず、例えば双曲線の関係等であってもよい。そして図9Bに示すように、角度θの方向DDBに対象物OBが存在したとする。すると、第1の期間において第1の照射光強度分布LID1を形成した場合E1の場合には、図9Aに示すように、DDB角度θの方向に存在する対象物OBの位置での強度はINTaになる。一方、第2の期間において第2の照射光強度分布LID2を形成した場合E2の場合には、DDBの方向に存在する対象物OBの位置での強度はINTbになる。従って、これらの強度INTa、INTbの関係を求めることで、対象物OBの位置する方向DDB角度θを特定できる。そして例えば後述する図10A、図10Bの手法により光学式検出装置の配置位置基準点PEからの対象物OBの距離を求めれば、求められた距離と方向DDBとに基づいて対象物OBの位置を特定できる。或いは、後述する図11に示すように、照射部EUとして2個の照射ユニットEU1、EU2を設け、EU1、EU2の各照射ユニットに対する対象物OBの方向DDB1θ1、DDB2θ2を求めれば、これらの方向DDB1、DDB2と照射ユニットEU1、EU2間の距離DSとにより、対象物OBの位置を特定できる。このような強度INTa、INTbの関係を求めるために、本実施形態では、受光部RUが、照射光強度分布LID1を形成した際の対象物OBの反射光第1の反射光を受光する。この時の反射光の検出受光量をGaとした場合に、このGaが強度INTaに対応するようになる。また受光部RUが、照射光強度分布LID2を形成した際の対象物OBの反射光第2の反射光を受光する。この時の反射光の検出受光量をGbとした場合に、このGbが強度INTbに対応するようになる。従って、検出受光量GaとGbの関係が求まれば、強度INTa、INTbの関係が求まり、対象物OBの位置する方向DDBを求めることができる。例えば光源部LSU1の制御量例えば電流量、変換係数、放出光量を、各々、Ia、k、Eaとする。また光源部LSU2の制御量電流量、変換係数、放出光量を、各々、Ib、k、Ebとする。すると下式1、2が成立する。Ea=kIa1Eb=kIb2また光源部LSU1からの光源光第1の光源光の減衰係数をfaとし、この光源光に対応する反射光第1の反射光の検出受光量をGaとする。また光源部LSU2からの光源光第2の光源光の減衰係数をfbとし、この光源光に対応する反射光第2の反射光の検出受光量をGbとする。すると下式3、4が成立する。Ga=faEa=fakIa3Gb=fbEb=fbkIb4従って、検出受光量Ga、Gbの比は下式5のように表せる。Ga/Gb=fa/fbIa/Ib5ここでGa/Gbは、受光部RUでの受光結果から特定することができ、Ia/Ibは、照射部EUの制御量から特定することができる。そして図9Aの強度INTa、INTbと減衰係数fa、fbとは一意の関係にある。例えば減衰係数fa、fbが小さな値となり、減衰量が大きい場合は、強度INTa、INTbが小さいことを意味する。一方、減衰係数fa、fbが大きな値となり、減衰量が小さい場合は、強度INTa、INTbが大きいことを意味する。従って、上式5から減衰率の比fa/fbを求めることで、対象物の方向、位置等を求めることが可能になる。より具体的には、一方の制御量IaをImに固定し、検出受光量の比Ga/Gbが1になるように、他方の制御量Ibを制御する。例えば光源部LSU1、LSU2を逆相で交互に点灯させる制御を行い、検出受光量の波形を解析し、検出波形が観測されなくなるようにGa/Gb=1になるように、他方の制御量Ibを制御する。そして、この時の他方の制御量Ib=Imfa/fbから、減衰係数の比fa/fbを求めて、対象物の方向、位置等を求める。また下式6、7のように、Ga/Gb=1になると共に制御量IaとIbの和が一定になるように制御してもよい。Ga/Gb=16Im=IaIb7上式6、7を上式5に代入すると下式8が成立する。Ga/Gb=1=fa/fbIa/Ib=fa/fbIm-Ib/Ib8上式8より、Ibは下式9のように表される。Ib=fa/fafbIm9ここでα=fa/fafbとおくと、上式9は下式10のように表され、減衰係数の比fa/fbは、αを用いて下式11のように表される。Ib=αIm10fa/fb=α/1-α11従って、Ga/Gb=1になると共にIaとIbの和が一定値Imになるように制御すれば、そのときのIb、Imから下式10によりαを求め、求められたαを上式11に代入することで、減衰係数の比fa/fbを求めることができる。これにより、対象物の方向、位置等を求めることが可能になる。そしてGa/Gb=1になると共にIaとIbの和が一定になるように制御することで、外乱光の影響等を相殺することが可能になり、検出精度の向上を図れる。上記の説明では、照射部EUの第1の構成例図2A、図2Bを例として説明したが、第2、第3の構成例図4A、図4Bについても同様な手法で対象物OBの位置する方向角度θを特定できる。第2、第3の構成例では、制御量として発光素子LD1~LDnの電流発光電流を制御すればよい。次に本実施形態の光学式検出装置を用いて対象物の位置情報を検出する手法の一例について説明する。図10A、図10Bは、光源部LSU1、LSU2の発光制御についての信号波形例である。信号SLS1は、光源部LSU1の発光制御信号であり、信号SLS2は、光源部LSU2の発光制御信号であり、これらの信号SLS1、SLS2は逆相の信号になっている。また信号SRCは受光信号である。例えば光源部LSU1は、信号SLS1がHレベルの場合に点灯発光し、Lレベルの場合に消灯する。また光源部LSU2は、信号SLS2がHレベルの場合に点灯発光し、Lレベルの場合に消灯する。従って図10Aの第1の期間T1では、光源部LSU1と光源部LSU2が交互に点灯するようになる。即ち光源部LSU1が点灯している期間では、光源部LSU2は消灯する。これにより例えば図2Aに示すような第1の照射光強度分布LID1が形成される。一方、光源部LSU2が点灯している期間では、光源部LSU1は消灯する。これにより例えば図2Bに示すような第2の照射光強度分布LID2が形成される。このように検出部110は、第1の期間T1において、光源部LSU1と光源部LSU2を交互に発光点灯させる制御を行う。そしてこの第1の期間T1において、光学式検出装置照射部から見た対象物の位置する方向が検出される。具体的には、例えば上述した式6、7のようにGa/Gb=1になると共に制御量IaとIbの和が一定になるような発光制御を、第1の期間T1において行う。そして図9Bに示すように対象物OBの位置する方向DDBを求める。例えば上式10、11から減衰係数の比fa/fbを求め、図9A、図9Bで説明した手法により対象物OBの位置する方向DDBを求める。そして第1の期間T1に続く第2の期間T2では、受光部RUでの受光結果に基づいて対象物OBまでの距離方向DDBに沿った方向での距離を検出する。そして、検出された距離と、対象物OBの方向DDBとに基づいて、対象物の位置を検出する。即ち図9Bにおいて、光学式検出装置の配置位置基準点PEから対象物OBまでの距離と、対象物OBの位置する方向DDBを求めれば、対象物OBのX、Y座標位置を特定できる。このように、光源の点灯タイミングと受光タイミングの時間のずれから距離を求め、これと角度結果を併せることで、対象物OBの位置を特定できる。具体的には図10Aでは、発光制御信号SLS1、SLS2による光源部LSU1、LSU2の発光タイミングから、受光信号SRCがアクティブになるタイミング反射光を受光したタイミングまでの時間Δtを検出する。即ち、光源部LSU1、LSU2からの光が対象物OBに反射されて受光部RUで受光されるまでの時間Δtを検出する。この時間Δtを検出することで、光の速度は既知であるため、対象物OBまでの距離を検出できる。即ち、光の到達時間のずれ幅時間を測定し、光の速度から距離を求める。なお、光の速度はかなり速いため、電気信号だけでは単純な差分を求めて時間Δtを検出することが難しいという問題もある。このような問題を解決するためには、図10Bに示すように発光制御信号の変調を行うことが望ましい。ここで図10Bは、制御信号SLS1、SLS2の振幅により光の強度電流量を模式的に表している模式的な信号波形例である。具体的には図10Bでは、例えば公知の連続波変調のTOFTimeOfFlight方式で距離を検出する。この連続波変調TOF方式では、一定周期の連続波で強度変調した連続光を用いる。そして、強度変調された光を照射すると共に、反射光を、変調周期よりも短い時間間隔で複数回受光することで、反射光の波形を復調し、照射光と反射光との位相差を求めることで、距離を検出する。なお図10Bにおいて制御信号SLS1、SLS2のいずれか一方に対応する光のみを強度変調してもよい。また図10Bのようなクロック波形ではなく、連続的な三角波やSin波で変調した波形であってもよい。また、連続変調した光としてパルス光を用いるパルス変調のTOF方式で、距離を検出してもよい。距離検出手法の詳細については例えば特開2009-8537号公報などに開示されている。なお、上記の説明では、照射部EUの第1の構成例図2A、図2Bを例として説明したが、第2、第3の構成例図4A、図4Bについても同様な手法で対象物OBまでの距離を検出することができる。第2、第3の構成例では、第1の光源部LSU1に対応するものとして第1の発光素子群例えばLD1~LD7、第2の光源部LSU2に対応するものとして第2の発光素子群例えばLD8~LD14を制御すればよい。図11に、本実施形態の照射部EUの変形例を示す。図11では、照射部EUは、第1の照射ユニットEU1及び第2の照射ユニットEU2を有し、これらの第1、第2の照射ユニットEU1、EU2は、対象物OBの検出エリアRDETの面に沿った方向において所与の距離DSだけ離れて配置される。即ち図1A、図1BのX軸方向に沿って距離DSだけ離れて配置される。第1の照射ユニットEU1は、照射方向に応じて強度が異なる第1角度検出用照射光を出射する。第2の照射ユニットEU2は、照射方向に応じて強度が異なる第2角度検出用照射光を出射する。受光部RUは、第1、第2の受光ユニットRU1、RU2を含み、第1の受光ユニットRU1は、第1の照射ユニットEU1からの第1角度検出用照射光が対象物OBに反射されることによる第1の反射光を受光する。第2の受光ユニットRU2は、第2の照射ユニットEU2からの第2角度検出用照射光が対象物OBに反射されることによる第2の反射光を受光する。そして検出部110は、受光部RUでの受光結果に基づいて、対象物OBの位置POBを検出する。具体的には検出部110は、第1の反射光の受光結果に基づいて、第1の照射ユニットEU1に対する対象物OBの方向を第1の方向DDB1第1の角度θ1として検出する。また第2の反射光の受光結果に基づいて、第2の照射ユニットEU2に対する対象物OBの方向を第2の方向DDB2第2の角度θ2として検出する。そして検出された第1の方向DDB1第1の角度θ1及び第2の方向DDB2第2の角度θ2と、第1、第2の照射ユニットEU1、EU2の間の距離DSとに基づいて、対象物OBの位置POBを求める。図11の変形例によれば、図10A、図10Bのように光学式検出装置と対象物OBとの距離を求めなくても、対象物OBの位置POBを検出できるようになる。なお、受光部RUとして、第1、第2の受光ユニットRU1、RU2を設けることは、必須の要件ではない。例えば1つの受光部RUを第1、第2の照射ユニットEU1、EU2の中間の位置に設けてもよい。3.表示システム及び情報処理システム図12A、図12Bに、本実施形態の表示システム及び情報処理システムの構成例を示す。図12Aに示す表示システムの構成例は、光学式検出装置100及び表示装置10を含む。また、図12Aに示す情報処理システムの構成例は、光学式検出装置100、表示装置10及び情報処理装置200を含む。情報処理装置200は、例えばパーソナルコンピューターPCなどであって、光学式検出装置100からの検出情報に基づいて処理を行う。光学式検出装置100と情報処理装置200とは、USBケーブルUSBCを介して電気的に接続される。表示装置10は、例えば投射型表示装置プロジェクターなどであって、情報処理装置200からの画像データに基づいて、表示部スクリーン20に画像を表示する。ユーザーは、表示部20に表示された画像を参照しながら、表示画像のアイコン等をポインティングすることで、情報処理装置200に対して必要な情報を入力することができる。なお、図12Aでは、光学式検出装置100が表示部20に取り付けられているが、他の場所に取り付けることもできる。例えば、光学式検出装置100を表示装置10に取り付けてもよいし、天井や壁などに取り付けてもよい。また、表示装置10としては、投射型表示装置プロジェクターに限定されるものではなく、例えばデジタルサイネージ用表示装置であってもよい。上述したように、本実施形態の光学式検出装置によれば、広い範囲で照射光強度分布を形成することができるから、従来よりも小型な構成で、広い範囲に存在する対象物の位置を検出することなどが可能になる。従って、投射型表示装置プロジェクターやデジタルサイネージ用の表示装置のように表示エリアが広い場合であっても、従来よりも小型な構成でポインティング等による情報入力などが可能になる。図12Bに示す情報処理システムの構成例では、表示装置10として情報処理装置200PCに内蔵されたディスプレイ220が用いられる。光学式検出装置100はディスプレイ220に着脱可能であって、USBケーブルUSBCを介して情報処理装置200と電気的に接続される。上述したように、本実施形態の光学式検出装置によれば、従来よりも小型な構成で対象物の位置情報を検出することができる。その結果、例えばタッチパネル機能を持たないディスプレイに本実施形態の光学式検出装置を後付けで装着することにより、ディスプレイに手を加えずにタッチパネル機能を付加することなどが可能になる。なお、以上のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項及び効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例は全て本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義又は同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また光学式検出装置、表示システム及び情報処理システムの構成、動作も本実施形態で説明したものに限定されず、種々の変形実施が可能である。