"第1の点から第2の点まで第1の方向に延在する本体部と、前記本体部に設けられ、前記第1の方向に交差する第2の方向に開口し、前記第1の方向に配列される複数の流体吐出部とを備え、前記複数の流体吐出部のうち、前記第1の点側の前記流体吐出部の開口角度が、前記第2の点側の前記流体吐出部の開口角度よりも小さい流体供給部材。前記本体部内に設けられ、前記第1の方向に延び、前記複数の流体吐出部のそれぞれと連通する液流路を更に備える、請求項1に記載の流体供給部材。前記本体内に設けられ、前記第1の方向に延び、前記複数の流体吐出部のそれぞれと連通する気体流路を更に備え、前記気体流路からの気体と前記液流路からの液体とが混合された流体が前記複数の流体吐出部のそれぞれから吐出される、請求項2に記載の流体供給部材。前記複数の流体吐出部のうち、前記第1の点側および前記第2の点側の間における流体吐出部の開口角度が、前記第1の点側の前記流体吐出部の開口角度より大きく、前記第2の点側の前記流体吐出部の開口角度よりも小さい、請求項1から3のいずれか一項に記載の流体供給部材。前記本体部に設けられ、前記第2の方向に開口し、前記複数の流体吐出部に対して前記第1の方向にずれて配列される他の前記複数の流体吐出部を更に備え、前記他の前記複数の流体吐出部のうち、前記第1の点側の前記流体吐出部の開口角度が、前記第2の点側の前記流体吐出部の開口角度よりも小さく、前記液流路が、前記他の前記複数の流体吐出部のそれぞれと更に連通する、請求項2に記載の流体供給部材。前記本体部に設けられ、前記第2の方向に開口し、前記複数の流体吐出部に対して前記第1の方向にずれて配列される他の前記複数の流体吐出部を更に備え、前記他の前記複数の流体吐出部のうち、前記第1の点側の前記流体吐出部の開口角度が、前記第2の点側の前記流体吐出部の開口角度よりも小さく、前記気体流路および前記液流路が、前記他の前記複数の流体吐出部のそれぞれと更に連通し、前記気体流路からの気体と前記液流路からの液体とが混合された流体が前記複数の流体吐出部のそれぞれから吐出される、請求項5に記載の流体供給部材。前記複数の流体吐出部のそれぞれが、前記第2の方向に沿って内径が小さくなる縮径管と前記縮径管と連通し、前記第2の方向に開口し、前記第2の方向に沿って内径が大きくなる拡径管を含み、前記開口角度が前記拡径管の拡径角度に相当する、請求項1から6のいずれか一項に記載の流体供給部材。基板を支持し回転する回転機構と、前記回転機構により支持される前記基板の周縁部上方に前記第1の点が位置し、当該基板の中心部上方に前記第2の点が位置するように配置される、請求項1から7のいずれか一項に記載の流体供給部材とを備える液処理装置。前記複数の流体吐出部が、前記複数の流体吐出部から吐出される流体が前記基板上で重なり合わないように配置される、請求項8に記載の液処理装置。前記流体供給部材を水平方向かつ/又は垂直方向に往復移動可能な移動機構を更に備える、請求項9に記載の液処理装置。基板を支持し回転する回転機構、および前記回転機構により支持される前記基板の上方において当該基板の直径に沿って延在する本体部と、前記本体部に設けられ、前記基板に向かって開口し、前記直径の方向に配列される複数の流体吐出部とを備え、前記基板の周縁部側の前記流体吐出部の開口角度が、前記基板の中心部側の前記流体吐出部の開口角度よりも小さい流体供給部材、を備える液処理装置。前記流体供給部材が、前記本体部内に設けられ、前記直径の方向に延び、前記複数の流体吐出部のそれぞれと連通する液流路を更に備える、請求項11に記載の液処理装置。前記流体供給部材が、前記本体内に設けられ、前記直径の方向に延び、前記複数の流体吐出部のそれぞれと連通する気体流路を更に備え、前記気体流路からの気体と前記液流路からの液体とが混合された流体が前記複数の流体吐出部のそれぞれから吐出される、請求項12に記載の液処理装置。前記複数の流体吐出部のうち、前記周縁部側および前記中心部側の間における流体吐出部の開口角度が、前記周縁部側の前記流体吐出部の開口角度より大きく、前記中心部側の前記流体吐出部の開口角度よりも小さい、請求項11から13のいずれか一項に記載の液処理装置。前記本体部に設けられ、前記基板に向かって開口し、前記複数の流体吐出部に対して前記直径の方向にずれて配列される他の前記複数の流体吐出部を更に備え、前記他の前記複数の流体吐出部のうち、前記周縁部側の前記流体吐出部の開口角度が、前記中心部側の前記流体吐出部の開口角度よりも小さく、前記液流路が、前記他の前記複数の流体吐出部のそれぞれと更に連通する、請求項12に記載の液処理装置。前記本体部に設けられ、前記基板に向かって開口し、前記複数の流体吐出部に対して前記基板方向にずれて配列される他の前記複数の流体吐出部を更に備え、前記他の前記複数の流体吐出部のうち、前記周縁部側の前記流体吐出部の開口角度が、前記中心部側の前記流体吐出部の開口角度よりも小さく、前記気体流路および前記液流路が、前記他の前記複数の流体吐出部のそれぞれと更に連通し、前記気体流路からの気体と前記液流路からの液体とが混合された流体が前記複数の流体吐出部のそれぞれから吐出される、請求項15に記載の液処理装置。前記他の前記複数の流体吐出部のそれぞれが、前記基板に向かう方向に沿って内径が小さくなる縮径管と前記縮径管と連通し、前記基板に向かって開口し、前記基板に向かう方向に沿って内径が大きくなる拡径管を含み、前記開口角度が前記拡径管の拡径角度に相当する、請求項11から16のいずれか一項に記載の液処理装置。前記複数の流体吐出部が、前記複数の流体吐出部から吐出される流体が前記基板上で重なり合わないように配置される、請求項11から17のいずれか一項に記載の液処理装置。前記流体供給部材を水平方向かつ/又は垂直方向に往復移動可能な移動機構を更に備える、請求項12から18のいずれか一項に記載の液処理装置。前記基板を支持し回転する工程と、前記基板の上方において前記基板の半径に沿って配列される複数の流体吐出部から、回転される前記基板に対して、前記基板の中心部側においてよりも前記基板の周縁部側において小さい吐出角度で流体を供給する工程とを含む液処理方法。前記流体を供給する工程において供給される前記流体が液体である、請求項20に記載の液処理方法。前記流体を供給する工程において、気体と液体が混合された流体が供給される、請求項21に記載の液処理方法。前記流体を供給する工程において、前記複数の流体吐出部のうち、前記基板の中心部側と前記基板の周縁部側の間における流体吐出部から、前記基板の中心部側における吐出角度よりも大きく、前記基板の周縁部側における吐出角度よりも小さい吐出角度で、前記流体が供給される、請求項20から22のいずれか一項に記載の液処理方法。前記流体を供給する工程が、前記複数の流体吐出部を水平かつ/又は垂直方向に往復移動する工程を含む、請求項20から23のいずれか一項に記載の液処理方法。前記基板を支持し回転する工程と、前記基板の上方において前記基板の直径に沿って配列される複数の流体吐出部から、回転される前記基板に対し、前記基板の中心部側においてよりも前記基板の周縁部側において小さい吐出角度で流体を供給する工程とを含む液処理方法。前記流体を供給する工程において供給される前記流体が液体である、請求項25に記載の液処理方法。前記流体を供給する工程において、気体と液体が混合された流体が供給される、請求項25に記載の液処理方法。前記流体を供給する工程において、前記複数の流体吐出部のうち、前記基板の中心部側と前記基板の周縁部側の間における流体吐出部から、前記基板の中心部側における吐出角度よりも小さく、前記基板の周縁部側における吐出角度よりも大きい吐出角度で、前記流体が供給される、請求項25から27のいずれか一項に記載の液処理方法。前記流体を供給する工程が、前記複数の流体吐出部を水平かつ/又は垂直方向に往復移動する工程を含む、請求項25から28のいずれか一項に記載の液処理方法。例えば特許文献1には、円筒状のノズルヘッダと、このノズルヘッダに互いに近接して並設される複数のノズルとにより構成される液滴供給装置が開示されている特許文献1の段落0016。ノズルヘッダ内において液体および気体を混合して液滴を生成させ、その液滴を複数のノズルから基板に対して噴出することにより、基板が洗浄される。しかしながら、この液滴供給装置では、回転する基板に対しては、基板の中心部と周縁部とでは線速度が異なるため、基板を均一に洗浄することは困難であった。本発明は、上記の事情に鑑みて為され、基板表面の洗浄均一性を向上できる流体供給部材、液処理装置、および液処理方法を提供する。本発明の第1の態様によれば、第1の点から第2の点まで第1の方向に延在する本体部と、前記本体部に設けられ、前記第1の方向に交差する第2の方向に開口し、前記第1の方向に配列される複数の流体吐出部とを備え、前記複数の流体吐出部のうち、前記第1の点側の前記流体吐出部の開口角度が、前記第2の点側の前記流体吐出部の開口角度よりも小さい流体供給部材が提供される。本発明の第2の態様によれば、基板を支持し回転する回転機構と、前記回転機構により支持される前記基板の周縁部上方に前記第1の点が位置し、当該基板の中心部上方に前記第2の点が位置するように配置される、第1の態様の流体供給部材とを備える液処理装置が提供される。本発明の第3の態様によれば、基板を支持し回転する回転機構、および前記回転機構により支持される前記基板の上方において当該基板の直径に沿って延在する本体部と、前記本体部に設けられ、前記基板に向かって開口し、前記直径の方向に配列される複数の流体吐出部とを備え、前記基板の周縁部側の前記流体吐出部の開口角度が、前記基板の中心部側の前記流体吐出部の開口角度よりも小さい流体供給部材、を備える液処理装置が提供される。本発明の第4の態様によれば、前記基板を支持し回転する工程と、前記基板の上方において前記基板の半径に沿って配列される複数の流体吐出部から、回転される前記基板に対して、前記基板の中心部側においてよりも前記基板の周縁部側において小さい吐出角度で流体を供給する工程とを含む液処理方法が提供される。本発明の第5の態様によれば、前記基板を支持し回転する工程と、前記基板の上方において前記基板の直径に沿って配列される複数の流体吐出部から、回転される前記基板に対し、前記基板の中心部側においてよりも前記基板の周縁部側において小さい吐出角度で流体を供給する工程とを含む液処理方法が提供される。本発明の実施形態によれば、基板表面の洗浄均一性を向上できる流体供給部材、液処理装置、および液処理方法が提供される。以下、添付図面を参照しながら、本発明の実施形態による流体供給部材、液処理装置、および液処理方法を説明する。添付図面においては、同一の又は対応する部品または部材には、同一の又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。まず、図1を参照しながら、本発明の実施形態による液処理装置を含む基板処理装置について説明する。図1は、本発明の実施形態による基板処理装置を模式的に示す上面図である。図示のとおり、基板処理装置100は、複数のウエハWを収容する複数の図示の例では4つのウエハキャリアCが載置されるキャリアステーションS1と、キャリアステーションS1と後述の液処理ステーションS3との間でウエハWを受け渡す搬入出ステーションS2と、本発明の実施形態による液処理装置1が配置される液処理ステーションS3とを備える。搬入出ステーションS2には、ウエハキャリアCからウエハWを搬出してステージ13に載置し、また、ステージ13のウエハWを取り上げてウエハキャリアCへ搬入する搬送機構11を有している。搬送機構11は、ウエハWを保持する保持アーム11aを有している。搬送機構11は、ウエハキャリアCの配列方向図中のX方向に延びるガイド12に沿って移動することができる。また、搬送機構11は、X方向に垂直な方向図中のY方向および上下方向に保持アーム11aを移動させることができ、水平面内で保持アーム11aを回転させることができる。液処理ステーションS3は、Y方向に延びる搬送室16と、搬送室16aの両側に設けられた複数の液処理装置1とを有している。搬送室16には、搬送機構14が設けられ、搬送機構14は、ウエハWを保持する保持アーム14aを有している。搬送機構14は、搬送室16に設けられY方向に延びるガイド15に沿って移動することができる。また、搬送機構14は、保持アーム14aをX方向に移動することができ、水平面内で回転させることができる。搬送機構24は、搬入出ステーションS2の受け渡しステージ13と各基板処理ユニット1との間でウエハWを搬送する。以上の構成を有する基板処理装置100においては、キャリアステーションS1に載置されるウエハキャリアCから搬送機構11によってウエハWが取り出されてステージ13に載置される。ステージ13上のウエハWは、液処理ステーションS3内の搬送機構14により液処理装置1に搬入され、上述のとおり、ウエハWの表面が洗浄される。ウエハW上に残留するDIWが、基板処理ユニット1のウエハ支持部材10が高速で回転することにより振り切られ、ウエハWの表面が乾燥された後、ウエハWは、搬入時と逆の経路手順によりウエハキャリアCへ戻される。また、一のウエハWが洗浄される間に、他のウエハWが他の液処理装置1へ順次搬送され、洗浄される。このため、高いスループットで洗浄することができる。図2は、本発明の実施形態による液処理装置を示す概略断面図である。図示のとおり、液処理装置1は、ウエハWを支持するウエハ支持部材10と、ウエハ支持部材10を回転するモータMと、モータMによって回転されるウエハ支持部材10に支持されるウエハWに処理液を供給する流体供給部材200とを備える。また、液処理装置1には、ウエハ支持部材10の周囲を取り囲み、流体供給部材200からウエハWに供給される処理液を受け取り、排出口30dから外部へ排出するカップ部30が設けられている。ウエハ支持部材10は、中央部に開口を有する円環形状のプレート部材10aと、プレート部材10aの裏面側において中央部の開口の開口縁に取り付けられる中空の円筒形状のベース部10bと、プレート部10aの外周から立ち上がる円筒形状の円周部10cとを有している。円周部10cは、ウエハWの外径よりもわずかに大きい内径を有し、上部には、円周部10cから内方に延びる爪部Sが設けられている。図3に示すように、本実施形態においては、円周部10cには、12個の爪部Sが所定の間隔で設けられている。これらの爪部SはウエハWの裏面周縁部に接し、これによりウエハWが支持される。再び図2を参照すると、モータMは、ウエハ支持部材10のベース部10bを取り囲むように支持台32上に配置されている。モータMはベース部10bを回転可能に保持し、これによりウエハ支持部材10とウエハ支持部材10に支持されるウエハWとを回転することができる。ウエハ支持部材10により支持されるウエハWの上方には流体供給部材200が配置されている。流体供給部材200は、図示しない支持部材により上方から吊り下げられ、支持部材により上下動可能である。図2および図3に示すように、流体供給部材200は、長細い筒状の形状を有する本体部20を有している。図示の例では、本体部20は、ウエハ支持部材10に支持されるウエハWの周縁の上方の位置からウエハWの中心の上方の位置にまでウエハWの半径方向に沿って延びている。したがって、図示の例では、本体部20の長さは、ウエハWの中心から周縁までの長さとほぼ等しい。また、本体部20の下面には、流体供給部材200の長手方向に沿って配列される複数の突起部20nが配置されている。突起部20nとウエハWの表面との間隔hは、たとえば1mmから10mmまでの範囲にあって良い。本体部20には、気体供給管20aと液体供給管20bとが接続されている。気体供給管20aには、気体供給管20aに所定の気体を供給する気体供給源GSが接続されている。気体供給源GSとしては、たとえば、液処理装置1が配置されるクリーンルームに備わる用役設備を利用することができる。気体は、たとえば清浄空気または窒素ガスであって良く、希ガスであっても構わない。また、気体供給源GSと気体供給管20aとを繋ぐ配管L1には、開閉弁V1、流量計FM1、およびニードル弁NV1が設けられており、これらにより、気体の供給の開始及び停止が制御され、気体の供給量が調整される。また、この配管L1には気体フィルタ図示せずを設けても良い。液体供給管20bには、液体供給管20bに所定の液体を供給する液体供給源LSが接続されている。液体供給源LSとしては、たとえば、クリーンルームの用役設備を利用することができる。液体は、本実施形態において、純水または脱イオン水DIWである。液体供給源LSと液体供給管20bとを繋ぐ配管L2には、開閉弁V2、流量計FM2、およびニードル弁NV2が設けられており、これらにより、液体の供給の開始及び停止が制御され、液体の供給量が調整される。また、この配管L2には、液体フィルタを図示せず設けても良い。図3に示すように、流体供給部材200の本体部20の内部には、気体供給管20aに連通し本体部20の長手方向に延びる気体導管20cと、液体供給管20bに連通し本体部20の長手方向に延びる液体導管20dとが形成されている。図3のI-I線に沿った断面図である図4aを参照すると、流体供給部材200の本体部20には、縮径管22、円筒管23、および拡径管24からなる吐出管25が複数の突起部20nに対応して設けられている。縮径管22は、上端において気体導管20cに連通している。縮径管22の内径は、下方向ウエハWに向かう方向に逆円錐状に小さくなっている。円筒管23は、上端において縮径管22に連通し、一定の内径で下方向に延びている。拡径管24は、円筒管23を介して縮径管22に連通し、下端において突起部20nの下面に開口している。拡径管24の内径は下方向に円錐状に大きくなっている。また、流体供給部材200は、ウエハW図2の中央から周縁に向かう方向に沿って、ゾーンZ1第2の端部側、ゾーンZ2、およびゾーンZ3第1の端部側に区分けされている。ゾーンZ1,Z2,Z3に対応して拡径管24は異なる拡径角度θ1,θ2,θ3を有している。具体的には、ゾーンZ1の拡径管24の拡径角度θ1は例えば40°であり、ゾーンZ2拡径管24の拡径角度θ2は例えば30°であり、ゾーンZ3の拡径管24の拡径角度θ3は例えば25°である。ただし、これらの拡径角度は、上記の値に限らず、流体供給部材200とウエハWとの間の距離や、吐出管25の配列間隔などに応じて、適宜設定して良いことは勿論である。また、吐出管25は、本実施形態においては、ゾーンZ1,Z2,Z3に対応して異なる間隔で設けられている。図示の例では、吐出管25の間隔は、ゾーンZ1、ゾーンZ2、およびゾーンZ3の順に狭くなっても良い。図3のII-II線に沿った断面図である図4bを参照すると、液体導管20dと拡径管24とが連通導管20eにより連通している。また、連通導管20eは、図4aに示すように、拡径管24のそれぞれに対応して形成されている。本実施形態においては、各連通導管20eの内径は同一である。上記の構成において、ウエハWがウエハ支持部材10により支持され回転する間に、図4bに示すように、流体供給部材200に対して気体供給源から窒素ガスが供給されると、窒素ガスは、気体導管20cを流れて各吐出管25からウエハWに向けて吐出される。このとき、窒素ガスは縮径管22により圧縮されるため、円筒管23を抜け出て拡径管24に至る際には膨張し、円錐状に広がる。その広がり角は、各拡径管24の拡径角度θ1~θ3により規制される。窒素ガスの供給と同時に又は少し遅れて、流体供給部材200に対して液体供給源からDIWが供給されると、図4bに示すように、DIWは、液体導管20dから連通導管20eを通して吐出管25の拡径管24に至る。拡径管24に到達したDIWは、吐出管25から吐出される窒素ガスによって吹き飛ばされるようにして窒素ガスと混ざり合い、吐出管25から吐出される。このため、DIWは、窒素ガスによりミスト状になってウエハWの表面に吹き付けられる。主に、このように吹き付けられるミストの衝撃力によってウエハWの表面が洗浄される。図4aに示すように、ゾーンZ1における拡径管24の拡径角度θ1、ゾーンZ2における拡径管24の拡径角度θ2、およびゾーンZ3における拡径管24の拡径角度θ3は、この順に小さくなるため、各吐出管25から吐出されるミストM1、M2、M3の広がり角もまた、図5に示すようにθ11ゾーンZ3、θ21ゾーンZ2、およびθ31ゾーンZ3の順に小さくなる。各吐出管25において縮径管22および円筒管23は同一形状を有し、各吐出管25拡径管24に連通する連通導管20eもまた同一形状を有するため、各吐出管25から吐出される窒素ガスおよびDIWは同量となる。したがって、ゾーンZ3におけるミストM3のように広がり角θ31が小さい場合には、他のゾーンZ2、Z1におけるミストM2,M1に比べて、狭い範囲にミストM3が照射されることとなる。よって、ウエハWに対する単位体積当たりの洗浄力も大きくなる。すなわち、ミストの洗浄力は、ゾーンZ1、ゾーンZ2、およびゾーンZ3の順に大きくなっている。また、図5に示すように、各吐出管25から吐出されるミストM1~M3は、互いに重なり合うことなく、かつ、隙間なくウエハW上に照射される。これにより、ウエハWの表面をむらなく洗浄することができる。このようにミストを照射するためには、たとえばゾーンZ3における吐出管25の間隔dを概ねd=L×tanθ31Lは、拡径管24の上端とウエハWとの間の距離と設定し、流体供給部材200のウエハWに対する高さを調整することが好ましい。勿論、窒素ガスやDIWの供給圧力などによっても広がり角が異なり得るため、予備実験やシミュレーションを行って間隔dや高さを調整することがより好ましい。ウエハ支持部材10により回転するウエハWにおいては、周縁側ほど線速度が速くなるため、流体供給部材200から吐出されるミストに対し、ウエハWが単位面積当たりに晒される時間は、ウエハWの周縁側ほど短くなる。このため、洗浄効率は、ウエハWの周縁側ほど低くなり、ウエハWの表面を均一に洗浄できない事態となり得る。しかし、本実施形態による液処理装置1においては、図5に示すように、ウエハWの中央から周縁に向かう方向に沿って並ぶゾーンZ1、ゾーンZ2、およびゾーンZ3に対応して、拡径管24の拡径角度が段階的に狭くなっているため、ウエハWの周縁側において小さい広がり角でミストを供給することができる。このため、ウエハWの周縁側ほど、大きな圧力でミストが供給される。したがって、ウエハWの周縁側での洗浄効率の低下が相殺され、表面全体を均一に洗浄することが可能となる。しかも、拡径管24の拡径角度に応じて吐出管25の間隔が調整されているため、ウエハW上でミストが照射されない部分がなく、洗浄むらは生じない。なお、ウエハWの面積は半径の2乗に比例して大きくなるから、ウエハWの周縁側において大きい広がり角でミストを照射すべきとも考えられる。しかし、広がり角を大きくすると、ウエハWに対する衝撃力が低下するため、洗浄効率も低下してしまう。しかし、本実施形態による液処理装置1においては、ウエハWの周縁部において小さい広がり角でミストを供給できるから、洗浄効率の均一化が可能となる。また、流体供給部材200は、ウエハWの周縁の上方の位置からウエハWの中心の上方の位置にまでウエハWの半径方向に沿って延びているため、流体供給部200から流体を供給している間に、流体供給部材200を例えばウエハWの半径方向に沿ってスキャンさせる必要がないためスキャンレス、スキャンに必要な機構を設ける必要がなく、装置構成を簡略することができる。なお、本実施形態による液処理装置1には、図2に示すように、ウエハ支持部材10の内側の空間ウエハ支持部材10と、これに支持されるウエハWとで囲まれる空間に、流体供給部材200と同様の構成を有し、同様に機能する流体供給部材201が設けられている。図示のとおり、ウエハ支持部材10のベース部10bの内側に、ベース部10bとほぼ同心円状に配置され、下端においてステージ34に固定されるスリーブ34sが設けられている。スリーブ34sおよびウエハ支持部材10の内側の空間には、ほぼT字状の支持部材40が配置され、この支持部材40の片側に、ウエハW裏面の中央から周縁部に延在するように流体供給部材201が支持されている。また、気体供給源GSからの気体と液体供給源LSからの液体とが、図示しない流量計等を介し、支持部材40の内部を通して流体供給部201へ供給される。流体供給部201により、ウエハWの裏面も同様に均一に洗浄することができる。なお、スリーブ34sの上端には、スリーブ34sとベース部10bとの隙間から流体供給部材201からの液体流体が流れ落ちるのを防ぐため、バッフル板34bが設けられている。また、ベース部10bの上端が延在し、液体流体がバッフル板34bの下方を回り込むのを抑えている。さらに、流体供給部材201からの液体は、ウエハ支持部材10の円周部10cに形成された流出口10hから流れだして、カップ部30の排出口30dから排出される。以下、図6から図7までを参照しながら、本実施形態の変形例について説明する。図6を参照すると、他の変形例の流体供給部材202は、ウエハWに照射されるミストMの間隔があくように各吐出管25が設定され、流体供給部材202を長手方向ODに往復移動させる移動機構図示せずを備えている点で流体供給部材202と相違し、他の点においては同様である。移動機構は、たとえばリニアモータと、流体供給部材202を上方から吊り下げる支持部材とリニアモータとを繋ぐリンク部材とから構成することができる。往復移動の周期は、ウエハWの回転速度を考慮して決定することが好ましい。この構成によれば、流体供給部材202が長手方向ODに往復移動することができるため、図中に点線で示すように、ミストMもまた長手方向ODに往復移動することができる。したがって、ミストMが照射されない部分が発生せず、ウエハWの全面を均一に洗浄することができる。また、各吐出管25の拡径管24の拡径角度は、図4および図5に示す流体供給部材200における吐出管25の拡径管24と同様に設定されているため、流体供給部材200と同様の効果を発揮することができる。図7aを参照すると、他の変形例の流体供給部材203においては、液体流路20dがU字状に枝分かれしており、この液体流路20dに液体供給管21bが接続されている。また、気体流路20cには、吐出管25が長手方向に沿って二列に設けられている。図示のとおり、一の列の吐出管25と他の列の吐出管25とは、流体供給部材203の長手方向に沿って互いにずれて位置している。図7aでは、一の列における隣り合う2つの吐出管25の中心を結ぶ線分の垂直二等分線上に、他の列の一の吐出管25の中心が位置している。また、一の列の吐出管25のそれぞれの拡径管24図4b参照と、枝分かれした一の液体流路20dとが連通管2eにより接続され、他の列の吐出管25のそれぞれの拡径管24図4b参照と、枝分かれした他の液体流路20dとが連通管2eにより接続されている。なお、流体供給部材203の各列の各吐出管25の拡径管24は、流体供給部材200の各吐出管25と同様に、ゾーンZ1、Z2、Z3に対応して拡径角度θ1、θ2、θ3を有している。また、各列の各吐出管25の間隔は、たとえば図6の流体供給部材202と同様に、ウエハWに照射されるミストMの間隔があくように設定されている。この構成によれば、図7bに示すように、一の列の吐出管25から吐出されるミストには、ウエハW上で隙間があるが、ウエハWが回転すると、図中に一点鎖線で示すように、一の列の吐出管25からのミストMの軌跡Tと、他の列の吐出管25からのミストMの軌跡Tとが重複するため、ミストMが照射されない部分は発生しない。また、各列の吐出管25の拡径管24の拡径角度θ1~θ3は、図4および図5の流体供給部材200における吐出管25の拡径管24と同様に設定されているため、流体供給部材200と同様の効果を発揮することができる。以上、本発明による実施形態とその変形例について説明したが、本発明は、上述の実施形態および変形例に限定されることなく、添付の特許請求の範囲に照らし種々に変形可能である。たとえば、流体供給部材200、202、203は、ゾーンZ1、Z2、Z3の3つのゾーンに区分けされたが、3つのゾーンに限らず、2つのゾーンに区分けされても良く、4つ以上のゾーンに区分けされても良い。また、ゾーンに区分けすることなく、たとえば流体供給部材200、202、203において、ウエハWの周縁側ほどミストの広がりが小さくなるように、その長手方向に沿って各拡径管24の拡径角度を徐々に変えても良い。また、吐出管25においては、縮径管22と拡径管24を円筒管23を介して連通させることなく、縮径管22と拡径管24を直接に接続しても良い。また、変形例の流体供給部材202は、水平方向に往復移動するのではなく、上下方向に流体供給部材202がウエハWに近づく方向と遠ざかる方向に往復移動しても良い。これによっても、ウエハW上におけるミストの隙間を解消することができる。なお、流体供給部材202を昇降可能な支持部材により、上下方向の往復移動を実現することができる。また、流体供給部材200の吐出管25の間隔は、各吐出管25から吐出されるミストがウエハW上で互いに重なり合わず、かつ隙間ができないように設定されたが、隙間ができるように設定し、流体供給部材202のように、その長手方向または上下方向に往復移動して良い。なお、ミストが重なり合うと、ウエハWに対する衝撃力が弱まるおそれがあるため、これに限定されないが、重なり合わないようにすることが好ましい。また、ミストがウエハW上で互いに重なり合わないように吐出管25を配列した場合においても、流体供給部材200を上下方向または長手方向に往復移動しても良い。また、気体流路20cは、流体供給部材200、202、および203の本体部20の長手方向に延びているが、他の実施形態においては、気体流路20cの代わりに、本体部20の上部に開口を有し、対応する吐出管25に連通する複数の気体導入管を設けても良い。さらに、液体流路20dを形成することなく、連通導管20eを本体部20の側面に開口させることにより気体流路を形成し、この気体流路に液体供給管20を接続しても構わない。また、上記の実施形態では、液処理装置1に1つの流体供給部材200、202、203を設けたが、追加の流体供給部材200、202、203を設けても良い。また、流体供給部材200、202、203においては、液体供給管20b、液体流路20d、および連通導管20eを設けることなく、気体供給管20aから気体流路20cを通して吐出管25からウエハWに対して気体だけを供給しても良い。また、気体供給管20a、気体流路20c、吐出管25、および連通導管20eを設けずに、液体流路20dと連通し、本体部20の下面に開口する吐出管25を設け、液体だけをウエハWに対して供給しても良い。この場合においても、吐出管25の拡径管24の拡径角度は、上述のとおり本体部20の長手方向に沿って変わっている。また、上記の実施形態および変形例においては、流体供給部材200、202、203の本体部20は、ウエハWの半径とほぼ同一又は僅かに長い長さを有していたが、ウエハWの直径とほぼ同一又は僅かに長い長さを有し、ウエハWの直径に沿って配置されても良い。この場合、拡径管24の拡径角度は、ウエハ支持部材10に支持されるウエハWの中心に対応する部分において大きく、ウエハWの周縁部に対応する部分において小さくなるように設定される。また、ウエハWの中心に対応する部分を中心にして所定の幅を有する第1の領域と、第1の範囲の両側に配置され所定の幅を有する第2の領域と、第2領域のそれぞれ外側に配置され所定の幅を有する第3の領域とを設け、拡径管24の拡径角度を第1の領域、第2の領域、および第3の領域の順に小さくしても良い。また、吐出管25から吐出されるミストの大きさは、主に窒素ガスの供給圧および供給量によって変化する。このため、場合に応じて、ミストというよりむしろ窒素バブルを含むDIWを吐出管25から吐出しても良い。また、流体供給部材200、202、203において、突起部20nを形成せずに、本体部20の下面に吐出管25拡径管24が開口しても構わない。さらに、本体部20は角柱形状でなく、円柱形状を有しても良い。また、液処理装置1において、ウエハWは、ウエハ支持部材10の爪部Sにより裏面周縁部が支持されて回転されたが、ウエハ支持部材10の代わりに、ウエハWの中央を吸着により保持し回転するスピンチャックを設けても良い。また、液体供給源LSから液体供給部材200、202、203へ供給される液体として、例えば洗浄処理においては、純水や脱イオン水に限らず、アルコール例えばイソプロピルアルコールIPA、SC1、又はSC2HClH2O2H2Oなどを用いることができる。また、現像処理においては現像液が用いられる。さらに、エッチング処理においては、フッ酸HF、バッファードフッ酸BHF、又はHNO3などを使用しても良い。また、ウエハWは半導体ウエハに限らず、ガラス基板でも樹脂基板でも良い。"