式Iの化合物または式Iの化合物の混合物。nC7H15-O-Gp-HI式中、Gは還元糖の残基を表し、そしてpは1.05以上かつ5以下の小数を表す。請求項1に記載の式Iの化合物または前記式Iの化合物の混合物であって、前記還元糖の残基Gが、グルコース残基、キシロース残基およびアラビノース残基から選択され、そしてpが、1.05以上かつ2.5以下の小数を表す化合物または混合物。請求項1および2のいずれか一項に記載の式Iの化合物または前記式Iの化合物の混合物の製造方法であって、以下の連続した工程:-式IIIの還元糖を、過剰モルの、式C7H15-OHのn-ヘプタノールと反応させて、式Iの化合物とn-ヘプタノールとの混合物を生成する工程Aと、HO-Gp-HIII式中、Gは、還元糖の残基を表す-工程Aで得られた前記混合物からn-ヘプタノールを除去する工程Bとを含む方法。請求項1および2のいずれか一項に記載の式Iの化合物または前記式Iの化合物の混合物のハイドロトロープ界面活性剤としての使用。請求項1および2のいずれか一項に記載の式Iの化合物の使用であって、水性アルカリ性組成物中において、式IIの少なくとも1種の非イオン性界面活性剤を可溶性とする作用物質としての使用。R-O-CHR’-CH2n-O-CH2-CH2m-O-HII式中、Rは、炭素原子8~14個を含む、直鎖または分枝した飽和または不飽和の炭化水素系脂肪族ラジカルを表し、R’はメチルまたはエチルラジカルを表し、nは0以上かつ15以下の整数を表し、mは0以上かつ15以下の整数を表し、和nmはゼロを超えると理解される。請求項5に記載の使用であって、式IIにおける前記Rラジカルが、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、2-エチルヘキシル、2-ブチルオクチル、2-ブチルデシル、2-ヘキシルオクチル、イソオクチル、イソノニル、イソデシル、イソウンデシル、イソドデシル、イソトリデシル、イソテトラデシルまたは2-プロピルヘプチルラジカルから選択されるラジカルを表すことを特徴とする使用。請求項5および6のいずれか一項に記載の使用であって、式IIにおけるnが、0以上かつ6以下であり、より詳細には0以上かつ3以下であり、そしてより一層詳細には0以上かつ2以下である整数を表すことを特徴とする使用。請求項5~7のいずれか一項に記載の使用であって、式IIにおけるmが、1以上かつ9以下であり、より詳細には2以上かつ6以下であり、そしてより一層詳細には2以上かつ4以下である整数を表すことを特徴とする使用。請求項5~8のいずれか一項に記載の使用であって、前記式IIの化合物と前記式Iの化合物との間の重量比が、9/1以下かつ1/4以上であることを特徴とする使用。組成物C1であって、その重量の100に対して、a重量で0.5~20の、請求項1に記載の少なくとも1種の式Iの化合物と、b重量で0.5~80の、少なくとも1種の式IIの非イオン性界面活性剤と、R-O-CHR’-CH2n-O-CH2-CH2m-O-HII式中、Rは、炭素原子8~14個を含む、直鎖または分枝の飽和または不飽和炭化水素系脂肪族ラジカルを表し、R’はメチルまたはプロピルラジカルを表し、nは0以上かつ15以下の整数を表し、mは0以上かつ15以下の整数を表し、和nmはゼロを超えると理解されるc重量で10~50の、アルカリ金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物で構成される群の要素から選択される少なくとも1種のアルカリ性作用物質と、d重量で15~89の水と、そして任意に、e重量で10~50の、少なくとも1種の水軟化剤とを含む組成物C1。請求項10に記載の組成物C1であって、前記式IIの化合物と前記式Iの化合物との間の重量比が、9/1以下かつ1/4以上であることを特徴とする組成物C1。請求項10および11のいずれか一項に記載の組成物C1の、硬質な表面を洗浄するための使用。硬質な表面の洗浄方法であって、請求項10および11のいずれか一項に記載の組成物C1を前記硬質な表面に塗布する少なくとも1つの工程a1と、それに続く、前記硬質な表面をすすぐ少なくとも1つの工程b1とを含むことを特徴とする方法。