粉末材料Cをガス化反応器2に導入する方法であって、ガス化反応器2に供給されるプロセスガスPは粉末材料Cにより合成ガスに還元されそして粉末材料Cは流入領域を通って通ってガス化反応器2に導入され、粉末材料Cのための流入領域にラバールノズル15を介して負圧が発生されそして負圧はプロセスガスPがラバールノズル15を通過することで発生され、プロセスガスPはガス化反応器2のガス化空間5に拡がる、方法。粉末材料は粉末状炭素Cからなりそして粉末材料Cがガス化反応器2に導入されるときに二次反応生成物Rsが粉末状炭素Cと混合される、請求項1に記載の方法。流入領域に発生される負圧はガス化反応器2内にある気体および粒子を吸い込み、それによりガス化反応器2内の気体および粒子の滞留時間を延ばす、請求項1または2に記載の方法。流入領域に発生される負圧はガス化反応器2内の気体および粒子の循環を生じ、それによりガス組成における濃度差を補い、ガス化反応の結果としての温度変化を補いそしてガス化反応器2に配置されたバーナ4の周りの静止層を最小にする、請求項1、2または3に記載の方法。粉末材料Cをガス化反応器2に導入するための装置であって、ガス化反応器2に供給されるプロセスガスPは粉末材料Cにより合成ガスSに還元され、前記装置は注入ノズル1を含み、注入ノズル1には粉末材料Cをガス化反応器2に導入するための中心管/中心チャネル6が設けられそして注入ノズル1は中心管6の外側に配置されたラバールノズル15を含み、中心管/中心チャネル6はガス化反応器2のガス化空間5内に直接開口する、装置。ラバールノズル15は、ガス化反応器2のガス化空間5の方向に向けられた注入ノズル1の端部に配置される、請求項5に記載の装置。注入ノズル1は二次反応生成物Rsの再循環のための別のチャネル14を備え、該別のチャネル14は、ガス化反応器2のガス化空間5から離れる方向に向けられた注入ノズル1の端部付近で中心管/中心チャネル6と連通する、請求項5または6に記載の装置。別のチャネル14の断面寸法は変化させることができ、それによりラバールノズル15により発生される負圧を調整する、請求項7に記載の装置。本発明の第1の目的は、導入部に定義されるタイプの装置を提供することであり、本発明の本質的な原理は、粉末材料を注入器によってガス化反応器に導入することを容易にするために負圧を発生させることにある。本発明の別の目的は、ガス化反応器内に導入されたときに酸化気体と粉末材料の間に活発な攪拌を生じさせ、ガス反応器内で合成ガスを再循環させ、それにより、温度および組成の均一性を達成することにある。このことは反応器内でのより長い滞留時間を生じさせることによってよりコンパクトな反応器の設計を可能にする。本発明のさらに別の目的は、注入器を介して合成ガスを再循環し、粉末材料がこの方法でガス化反応器内に導入されるときに負圧を制御することにある。本発明による装置は合成ガスの製造時に粉末材料を管状注入器によって注入する炭素注入用装置であり、そこにおいて、固体材料はその中央に入り、そして炭素を注入器内に吸い込みそしてさらにガス化反応器内に分布させる強力な負圧を生じるように酸化気体用のラバール型の囲繞ノズル装置が圧力の増加を生じさせ、反応器内の滞留時間を延ばしそしてその中に均質の混合物を作り出す。酸化気体の強力な推進力はガス化反応器内で、流入する酸化気体および粉末材料との合成ガスの活発な混合を引き起こす。気体の推進力により生じる負圧はその端部内に設けられたチャネルの注入器を介してガス化反応器内の合成ガスの一部を再循環することにより制御できる。本発明の少なくとも第1の目的は、後述する独立の請求項1に特定された特色を有する装置によって達成される。ほんはつめいの好適な実施形態は従属項に確定される。本発明の好適な実施例について、以下、添付の図面を参照して説明する。図1はガス化処理における炭素注入用装置を示す図で、粉末状炭素Cは、プロセスガスP好ましくは水蒸気および再循環反応生成物Rs合成ガスと粉末状炭素Cを混合する注入ノズル1に供給される。注入ノズル1からの混合物は加熱されそして間接的に加熱されたガス化反応器2で反応する。このために、ガス化反応器2はガス化反応器2のガス化空間5に延びるバーナ4を備え、バーナ4はガス化反応器2の間接的加熱を提供する。プロセスガスPは加圧されそして注入ノズル1内に組み込まれた環状ラバールノズル15を介して超音速マッハ1を超える。まで加速する。ラバールノズル15は注入ノズル1の中央に強力な負圧を発生し、粉末状炭素Cおよび再循環生成物Rs合成ガスのための中心管/中心チャネル6がガス化反応器2内に開口する注入ノズル1に組み込まれる。注入ノズル1の中心管6がガス化反応器2内に開口する領域は粉末状炭素Cの流入領域を画定する。負圧は粉末状炭素Cおよび再循環反応生成物Rsを注入ノズル1/流入領域の中央に吸い出し、そこにおいて3つの流れが混合されそしてガス化反応が開始する。環状ラバールノズル15を通って超音速で流れるプロセスガスPもまたその周縁部から再循環をさらにもたらす。さらに、反応生成物は注入ノズル1自体のすぐ前の混合区域Mの中央で注入ノズル1からのガス化混合物に組み込まれる。再循環反応生成物Rsからの熱は、注入された粉末状炭素CおよびプロセスガスPの温度をガス化処理のための反応温度へ急速に上昇するようにガス化反応器2における間接的放射熱を助長する。プラントのユニットを連結するパイプや管等は詳細には説明されておらずまだ示されていない。パイプや管等はそれらの機能を遂行する、すなわち、プラントのユニット間でガスや固形物質を移送するのに適当な手段で設計される。図1は、間接的に加熱されるガス化反応器2、通常はセラミックで引かれたceramicallylined反応器に接続される注入ノズル1の原理を示す。注入ノズル1はプロセスガスPを超音速に加速するためのラバールノズル15を有する。環状のラバールノズル15は中心管/チャネル6の外側に配列される。このプロセスの合成ガスSは主としてガス化反応器2で生成される。固体の炭素粒子Cは、プロセスガスPおよび再循環される二次反応生成物Rsの一部と共に注入ノズル1に供給される。炭素注入のための負圧は、二次反応生成物Rsが注入ノズル1の分離されたチャネル14を通って流れるという事象を受けて不定期に制御できる。炭素粒子Cはガス化に先立って熱分解から生じるのが好ましい。炭素粒子Cの寸法は反応器内で可能な最速の反応を行うように適合されるのが好ましい。プロセスガスPは、例えば反応器を加熱する燃焼段階から燃焼排ガスを蒸発または再生して浄化できる。プロセスガスPが燃焼排ガスを再生する場合、水蒸気H2Oと二酸化炭素CO2を共に含むことができる。プロセスガスPは、通常、熱交換器の下流側に排出される合成ガスSから回収された熱により余熱される。プロセスガスPは、通常、超音速の速度を達成するように反応器圧力に比較して十分に高い過剰圧力を有する。マッハ1を超える速度を有するプロセスガスPはガス化反応器2内に強力な推進力を発生する。水蒸気への圧力は前述の熱交換器の外の温度に依存する。燃焼排ガスが水蒸気の代わりに用いられるとき、再循環された燃焼排ガスの圧力は、通常、コンプレッサにより発生される。注入ノズル1を出たプロセスガスPの推進力は、混合区域Mの反応区域Rに取り込まれた二次反応生成物Rsの再循環を生じることになる。ガス化反応器2で起こる反応は、炭素CがプロセスガスPH2OおよびCO2の中身を合成ガスSH2OおよびCOに還元することであり、この熱を消費する還元は、間接的に加熱するバーナ4による処理過程に供給される。熱はバーナ4からの放射熱によってガス化反応に供給され、その燃焼は、その内部で燃料Fおよび酸化剤Oが燃焼排ガスを生み出すように燃焼される、すなわち、ガス化の流れから分離された放射管の内部で起こる。バーナ4とプロセスガスPまたはその反応生成物の間のガス化反応器2における直接のガス生産はない。プロセスガスPに超音速を与えることにより、注入ノズル1は反応器2における滞留時間の延長を提供し、そしてガス化反応はより均衡した状態で実現できる。このことはまた炭素粒子Cの燃焼終了の最大可能温度を得られる。出発合成ガスSは燃焼のためのエネルギーガスとして或いは液体燃料典型的な自動車燃料のためのフィッシャー‐トロプシュ法、メタノール製造等の更なる精製のための基盤として使用できる。注入ノズル1はガス化反応器2における異なったシステム圧力を扱うように設計される。ガス化反応器2の圧力は大気圧から非常高い圧力100MPa100bar以上まで制御できる。注入ノズル1は、典型的に、ガス化反応器2内のセラミックライニングに適合されたセラミック部分および耐熱性鋼から作成された外側部分を有する設計であり、そこにおいて、炭素C、プロセスガスPおよび再循環反応ガスR2が位置されそして最終的にノズルの下方端の外に共に移動される。注入ノズルはいつでもガス化反応器2内のシステム圧力よりも高いプロセスガスPのための供給圧力を有していなければならない。この圧力差はまた、炭素粒子Cを吸い出して二次反応生成物Rsを混入させる負圧を生じる。ラバールノズル15は、その圧力が直管を有する標準的な注入器に比べて高い、プロセスガスPの質量流に関して強力な負圧を生じる。ラバールノズル15からの強力な負圧は、ガス化反応器2での炭素CとプロセスガスPの質量流の間の比率を制御し、そしてそれにより、最適な反応条件を達成するのに有利である。注入ノズル1の材料の選択は合成ガスSの最大収率を達成するようにガス化反応器2における温度に依存し、そしてそれは同様に反応温度に依存する。典型的な値は900~1300°Cの範囲にある。注入ノズル1のセラミックおよび金属部分の材料の選択は選定される温度レベルに適合される。反応区域Rにおける温度均一性は、部分的に注入ノズル1のチャネル3を通りそして部分的に混合区域Mを通る反応ガスRsの再循環の結果として通常の注入ノズルの場合よりもより迅速に達成される。ガス化反応器2からの合成ガスSH2およびCOは、流入するプロセスガスPおよび選定された温度によって水素および一酸化炭素のほかに特定量の二酸化炭素およびメタンを含む。図2は、合成ガスを生産するときに炭素を注入するための装置の実施形態を示す。注入ノズル1は、1つのユニットを形成する金属部分11とセラミック部分13から構成される。この注入ノズルは、そこを通る加圧ガスが超音速まで加速される、プロセスガスPのためのラバールノズル15を有する。粉末状炭素Cは、典型的に、供給スクリューおよび栓流によって中心管/中心チャネル6に供給され、そこにおいて粉状体はチャネル14を介して吸い込まれた再循環反応生成物Rsと混合される。プロセスガスP好ましくは水蒸気はラバールノズル15に至る同心管を通る結合部12を介して供給され、そこにおいてプロセスガス水蒸気はラバールノズル15により過剰圧力で強力に超音速マッハ1以上まで加速されてノズルの外で膨張しp、そして中心部に負圧-pを生じて粉末状炭素Cおよび再循環反応生成物Rsを混合区域Mに取り込み、そこにおいてラバールノズル15の周縁部もまた負圧-pを生じて反応生成物Rsを混合区域Mで再循環する。