"少なくとも次の工程:A反応混合物中で少なくとも1つの不均一系触媒の存在下での少なくとも1つの有機化合物の化学反応、およびB磁気ろ過器を用いる、少なくとも1つの不均一系触媒の分離を含む方法。化学反応は、水素化であることを特徴とする、請求項1記載の方法。少なくとも1つの不均一系触媒は、Ni、Fe、Coおよびその混合物からなる群から選択された金属を含有することを特徴とする、請求項1または2記載の方法。工程B前に、少なくとも1つの不均一系触媒の一部分を分離することを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。工程B前の分離は、ろ過により、横流式ろ過により、地球の重力場での分離により、遠心分離場での分離により、スクリーニングにより、またはその組合せにより行なわれることを特徴とする、請求項4記載の方法。工程B前の分離は、少なくとも1つのハイドロサイクロン、少なくとも1つの沈澱容器、少なくとも1つのろ過タンクおよび/または少なくとも1つのディスクセパレーターを用いて行なわれることを特徴とする、請求項4または5記載の方法。工程B前の分離は、ろ過タンク/沈殿容器を用いて行なわれることを特徴とする、請求項4から6までのいずれか1項に記載の方法。工程B前の分離は、ろ過タンク/沈殿容器およびハイドロサイクロンを用いて行なわれることを特徴とする、請求項4から7までのいずれか1項に記載の方法。少なくとも1つの有機化合物において、C-C-二重結合、C-C-三重結合、オキシム基、イミノ基、ニトリル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、アルデヒド基およびケト基からなる群から選択された、少なくとも1個の官能基を水素化することを特徴とする、請求項2から8までのいずれか1項に記載の方法。本発明による方法の工程Bで使用される反応混合物中の少なくとも1つの不均一系触媒の含量は、それぞれ、処理すべき反応混合物に対して、有利に5~10000質量ppm、特に有利に10~1000質量ppm、殊に有利に約20~500質量ppmであることを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項に記載の方法。本発明による方法の工程Aにおいて水素化される、少なくとも1つの有機化合物は、アセトニトリル、プロピオニトリル、3-ジメチルアミノプロピオニトリル、イソホロンニトリル、アジポジニトリルおよびその混合物からなる群から選択されていることを特徴とする、請求項2から10までのいずれか1項に記載の方法。工程AにおいてアジポジニトリルADNは、ヘキサメチレンジアミンHMDまたは6-アミノカプロニトリル6-ACNおよびヘキサメチレンジアミンHMDへ水素化されることを特徴とする、請求項1から11までのいずれか1項に記載の方法。少なくとも1つの不均一系触媒は、0.1~5000μm、有利に1~1000μm、特に有利に1~100μmの粒度分布を有することを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項に記載の方法。工程Aによる反応混合物中に存在する、少なくとも1つの不均一系触媒を凝集させることを特徴とする、請求項1から13までのいずれか1項に記載の方法。磁気ろ過器は、逆洗浄可能な磁気ろ過器、例えば高勾配磁気ろ過器またはオートマグ磁気ろ過器、または湿式ドラム型分離機であることを特徴とする、請求項1から14までのいずれか1項に記載の方法。少なくとも1つの有機化合物を水素化するための方法において触媒粒子を分離するための、磁気ろ過器、有利に逆洗浄可能な磁気ろ過器、例えば高勾配磁気ろ過器またはオートマグ磁気ろ過器、または湿式ドラム型分離機の使用。前記方法において、アジポジニトリルADNを、ヘキサメチレンジアミンHMDまたは6-アミノカプロニトリル6-ACNおよびヘキサメチレンジアミンHMDへ水素化することを特徴とする、請求項16記載の使用。本実施例は、本発明を詳細に説明するが、これに限定されるものではない。例1使用物質として、ラニーニッケルを含有する粗製HMDを使用し、この粗製HMDは、ADNの低圧水素化のための工業用プラントに由来し、しかも第1のハイドロサイクロンの上方の流れに由来する。前記使用物質は、AAS-Atom-Absorptionsspektrometrie原子吸光分光分析法によって算出された、ラニーニッケルを90質量ppm含有する。ラニーニッケルの平均粒度は、レーザー回折MasterSizer2000、Malvern社による測定によって測定された5μmまたは13μmである。使用物質は、Steiner社の高勾配磁気ろ過器タイプHGF10により浄化される。図4は、試験構成を略示する。攪拌された、温度調節された400lの装入液R1中に粗製HMDを添加する。磁気ろ過器F1は、ポンプで駆動されるポンプ循環回路中に存在する。負荷されるろ過装置の逆洗浄は、脱イオン水を用いて捕集容器中で行なわれる。相応するPLT装置は、ポンプ循環回路中での量の調節、前記ろ過装置の圧力損失および逆洗浄の水量の検出ならびに前記プラントの温度調節を可能にする。以下のフィルターマトリックスは、前記ろ過装置中で使用される。マトリックスL×B×T:20×80×100mmマトリックスの面積:1600mm2マトリックスの目開き:0.5mm、1.0mm、1.5mm全ての試験を25°Cおよび約1バール絶対圧力のフィルター圧力で実施する。しかし、達成された試験結果は、ろ液圧力に依存しない。ろ液圧力をフィルターケーシングの最大の許容運転圧力ろ過中の差圧を除くだけによって制限する。分離効率をフィルターマトリックスの磁性材料特性および高性能磁気ろ過器Hochmagnetfilterの鉄回路Eisenkreisの磁性材料特性によって制限する。従って、良好な分離速度のためには、現在使用されている材料の場合に運転温度は、80°Cを超えるべきではなかった。その磁性材料特性が80°Cを上廻って劣化しないかまたはほんの少しだけ劣化する別の材料の本発明による使用の場合には、より高い運転温度で作業することができる。試験ろ過器の磁力線密度は、0.3Tである25mmの極間隙。フィルターマトリックスは、材料X6Cr17強磁性特殊鋼からなる針金で織った布で詰められている。試験結果触媒粒子約90質量ppmを有するHMD0.290~0.855m3/hの体積流は、磁気ろ過器を介して25°Cの温度および1バール絶対圧力で運搬される。その際に、フィルターマトリックス中での滞留時間は、0.68~2秒である。5μmの平均粒度を有する触媒粒子を含有する、0.29m3/hの流れのための分離度は、4.5質量ppmの残量に相応して90~95である図5参照。予想によれば、0.5mmの目開きを有する、微細構造を有するフィルターマトリックス三角形の符号のための分離度は、1.0mmの目開きを有する、より大きなフィルターマトリックス正方形の符号のための分離度よりも良好である。負荷が増加すると、磁界勾配の弱体化が増大すること、ならびにフィルターマトリックス中で流動条件が劣化することによって制限された分離度は、減少する。同様に、前記分離度は、マトリックスのより高い液体負荷とともに減少する3.2~9.4cm/秒。磁気ろ過器の分離度は、ろ過器の後方の特有のニッケル濃度HMD中に溶解されたニッケルの割合を含まないを測定することによって、印加された磁界の際および印加されてない磁界の際に算出される。この方法によって、専ら磁気分離度だけが考慮される。更に、ことさら長時間に亘って磁界なしに実施される試験は、機械的ろ過がいずれにせよ有効な範囲内で行なわれないことを示す安定した出口濃度、それというのも、圧力損失は上昇しないからである。フィルターマトリックスの蓄積能は、分離度のなおまずまずの劣化の範囲に対して、マトリックス体積100cm3当たり触媒約5gより粗大なマトリックス~触媒約7.5g微細なマトリックスである。全ての場合において、負荷されたマトリックスは、1秒当たり水約1lでの衝撃逆洗浄時間3~4秒によって十分に浄化されうる。逆洗浄工程の繰返しは、僅かにのみさらなる触媒の排出を生じる。この試験の終結後、マトリックスの基本的な圧力損失が上昇したままではないことを認識することができる。例2使用物質として、水中に懸濁された、粉砕されたラニーニッケルが使用されるx50=約3.4μm。粉砕は、攪拌ミル中で行なわれる。試験装置は、例1に相応する。試験結果3.4μmの平均粒度を有する触媒粒子約130質量ppmを有する水性懸濁液0.385~0.77m3/hの体積流は、磁気ろ過器を介して25°Cの温度および1バールで運搬される。その際に、フィルターマトリックス中での滞留時間は、0.75~1.5秒である。0.385m3/hの流れのための分離度は、6.5質量ppmの残量に相応して90~95である。予想によれば、0.5mmの目開きを有する、微細構造を有するフィルターマトリックス三角形の符号のための分離度は、1.0mmの目開きを有する、より粗大なフィルターマトリックス正方形の符号のための分離度よりも良好である。負荷が増加すると、磁界勾配の弱体化が増大すること、ならびにフィルターマトリックス中で流動条件が劣化することによって制限された分離度は、減少する。同様に、前記分離度は、マトリックスのより高い液体負荷とともに減少する4.3~8.6cm/秒の実現された流動速度。磁気ろ過器の分離度は、再びろ過器の後方の特有のニッケル濃度水中に溶解されたニッケルの割合を含まないを測定することによって、印加された磁界の際および印加されてない磁界の際に算出される。全ての場合において、負荷されたマトリックスは、1秒当たり水約1lでの衝撃逆洗浄時間3~4秒によって十分に浄化されうる。逆洗浄工程の繰返しは、僅かにのみさらなる触媒の排出を生じる。この試験は、ラニーニッケルの例につき、強磁性触媒粒子が磁気ろ過器により、水性懸濁液または乳濁液から分離されうることを示す。例3:例3は、ヘキサメチレンジアミンHMDの熱的負荷の際に、例えば生成物の浄化に使用される蒸留塔内で行なわれる、先に実施された水素化に由来する、本発明による微少量の触媒例えば、5質量ppm未満の存在下で有効に僅かな副生成物が形成され、その結果、一面で生成物の純度ならびに望ましい生成物の収量が上昇することを示す。HMDを、不活性ガスとしての窒素の下で、懸濁されたラニーニッケルの存在下で攪拌した。例示的に、形成された副生成物としてのテトラヒドロアゼピンTHAの濃度は、一定の時間後に測定される。副生成物THAは、一般に高い蒸留費用をもってのみヘキサメチレンジアミンと分離させることができる。WO01/66514、第1頁、第31~39行参照のこと。純粋なHMD中のTHA量は、100ppmを上廻らなかったUllmann’sEncyclopediaofIndustrialChemistry,完全改訂版第6版、第16巻、第435頁、第1欄。例3.1比較例純粋なHMDを180°CでラニーNi1質量10000質量ppmに相当するで無圧で保護ガスとしての窒素の下で攪拌する。t分cTHA質量00.05342.08823.362925.72このことから、約0.7質量/時間のTHAのための形成速度が結論される。例3.2比較例純粋なHMDを150°CでラニーNi1質量10000質量ppmに相当するで無圧で保護ガスとしての窒素の下で攪拌する。t分cTHA質量00.1480.42751.692212.263634.19例3.3本発明による純粋なHMDを200°CでラニーNiなしですなわち、ラニーニッケル5質量ppm未満で無圧で保護ガスとしての窒素の下で攪拌する。t分cTHA質量00.0614400.10例3.4比較例純粋なHMDを180°CでラニーNi65質量ppmで無圧で保護ガスとしての窒素の下で攪拌する。t分cTHA質量00.06100.15600.401800.604201.14試験は、僅かな含量のラニーNiの際にも相当量のテトラヒドロアゼピンTHAが生じることを示す。HMDのTHA含量を例3の全ての試験においてガスクロマトグラフィーにより測定した。例4本発明によるEclipseMagneticsLtd.社の型式オートマグAutomagskidAM12/SKID1の2個の平行に接続された逆洗浄可能な磁気ろ過器を工業用プラントにおいてADNの低圧水素化のために試験した。その際に、第1のハイドロサイクロンの上方の流れラニーニッケルを含有する粗製HMDは、連続的にタンク中に運搬され、このタンク中で触媒粒子の一部分が凝集した。このタンクから、連続的に2個の磁気ろ過器の各ろ過器には、ラニーニッケルを含有する粗製HMD6t/時間約7.3m3/hが70~100°Cで供給された。55m3の容積を有するタンク中での滞留時間は、約3.5時間であった。前記タンクへの供給流は、試験中に、AAS-Atom-Absorptionsspektrometrie原子吸光分光分析法によって算出された、ラニーニッケルを30~60質量ppm含有する。前記タンクへの供給流中でのラニーニッケル粒度は、約5μmまたは13μmであった。前記タンクからの排出流は、ラニーニッケルを約30~60質量ppm含有していた。前記タンクからの排出流中のラニーニッケルの平均粒度は、30~80μmであった。前記タンクからの排出流を磁気ろ過器型式オートマグAutomagskidAM12/SKID1、EclipseMagneticsLtd.社を用いて触媒によって浄化した。前記磁気ろ過器を浄化のために全部で12~24時間、供給流懸濁液で洗浄した。このために、前記磁気ろ過器中で最初に、磁性化された金属管の内部に上向きに永久磁石を引き、固体の排出のためにコックを開いた。達成された試験結果は、ろ液圧力に依存しない。ろ液圧力を本例によれば、フィルターケーシングの最大の許容運転圧力だけによって制限する。分離効率を本例によれば、フィルター取付け物の磁性材料特性および前記磁気ろ過器の永久磁石の磁性材料特性によって制限する。本例によれば、分離速度は、最初に若干低い供給流温度の場合でも減少しない。粒子に作用する磁力線密度は、本例によれば、70°C超~100°Cで高まるので、より低い温度で若干増加する、粒子の分離を若干劣化する粘度は、補償される。その磁性材料特性が100°Cを上廻って劣化しないかまたはほんの少しだけ劣化する別の材料の本発明による使用の場合には、本発明によれば、より高い運転温度でも作業することができる。試験結果磁気ろ過器オートマグAutomagskidAM12/SKID1には、触媒粒子約30~60質量ppmを有するHMD約7.3m3/hの体積流が70~100°Cの温度および1~5バール絶対圧力で輸送される。約30~80μmの平均粒度を有する触媒粒子を含有する、7.3m3/hの流れのための分離度は、8~15質量ppmの残量に相応して、約75である。前記ろ過装置の負荷が増加すると、磁界勾配の弱体化が増大すること、ならびにフィルター中で流動条件が劣化することによって制限された分離度は、減少する。同様に、前記ろ過装置へのより高い供給流の流れの際に分離度は、減少する。逆の場合には、供給流の流れが減少した際に、分離度は高まる。更に、より少ない供給流の流れの場合には、微細な触媒粒子が分離されうる。磁気ろ過器オートマグAutomagskidAM12/SKID1の蓄積能は、粒度に依存して約4~6kg、最大12kgである。全ての場合に、負荷された磁気ろ過器は、衝撃洗浄によって十分に浄化されうる。逆洗浄工程の繰返しは、僅かにのみさらなる触媒の排出を生じる。試験の終結後に、前記ろ過器の基本的な圧力損失が上昇したままではないことを認識することができる。"