"ボディと、該ボディにドッキングされる第1モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、出荷される前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第1モジュールとのドッキング時の両者の位置関係が所望の関係となるように前記ボディ工具と前記第1モジュールとの間に設けられる第1の位置決め装置を調整することと、前記調整後の前記第1の位置決め装置を介した前記ボディ工具とのドッキング時の位置関係が、前記所望の関係となる前記第1モジュールを出荷することと、出荷先で、前記調整後の前記第1の位置決め装置と同一状態にある、前記ボディと前記第1モジュールとの間に設けられる、前記第1の位置決め装置と同じ構成の第2の位置決め装置を介して前記ボディと前記第1モジュールとをドッキングすることと、を含む露光装置の製造方法。前記ボディ工具として、出荷される前記ボディが用いられる請求項1に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することでは、前記ボディ工具の第1基準面と前記第1モジュールの第2基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記第1の位置決め装置が調整される請求項1又は2に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との傾きを計測し、前記第1モジュールの傾きが調整されるように前記第1の位置決め装置を調整することを含む請求項3に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との回転ずれを計測し、前記第1モジュールの回転が調整されるように前記第1の位置決め装置を調整することを含む請求項3又は4に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との位置ずれを計測し、前記第1モジュールの位置が調整されるように前記第1の位置決め装置を調整することを含む請求項3~5のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することは、前記第1の位置決め装置を構成する、前記ボディ工具と前記第1モジュールとの一方に設けられ凹部が形成された第1部材と、前記ボディ工具と前記第1モジュールとの他方に設けられ凸部を有する第2部材と、を前記凹部と前記凸部との係合によって係合させて、前記第1部材と前記第2部材のうちの前記ボディ工具に設けられる部材の前記ボディ工具に対する位置を調整することを含む請求項1~6のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記ドッキングすることは、前記第2の位置決め装置を構成する、前記ボディと前記第1モジュールとの一方に設けられた前記第1部材と、前記ボディと前記第1モジュールとの他方に設けられた前記第2部材とのうち、前記ボディに設けられる部材であって前記調整後の前記第1の位置決め装置と同一状態にある一方の部材と、他方の部材と、を係合させることを含む請求項7に記載の露光装置の製造方法。前記凹部は、V溝であり、前記凸部は、前記V溝の一対の斜面に接触する形状を有する請求項7又は8に記載の露光装置の製造方法。前記凸部は、前記V溝の一対の斜面に線接触する請求項9に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することでは、前記ボディ工具の3箇所に対応して設けられた3つの前記第1の位置決め装置を調整する請求項1~10のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記ドッキングすることでは、前記ボディの3箇所に対応して設けられた3つの前記第2の位置決め装置を介して前記ボディと前記第1モジュールとをドッキングする請求項11に記載の露光装置の製造方法。前記第1モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項1~12のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。請求項1~13のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。ボディと、該ボディにドッキングされる第1モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、出荷される前記第1モジュールと実質的に同じ部材である第1モジュール工具と前記ボディとのドッキング時の両者の位置関係が所望の関係となるように前記第1モジュール工具と前記ボディとの間に設けられる第1の位置決め装置を調整することと、前記調整後の前記第1の位置決め装置を介した前記第1モジュール工具とのドッキング時の位置関係が、前記所望の関係となる前記ボディを出荷することと、出荷先で、前記調整後の前記第1の位置決め装置と同一状態にある、前記第1モジュールと前記ボディとの間に設けられる、前記第1の位置決め装置と同じ構成の第2の位置決め装置を介して前記ボディと前記第1モジュールとをドッキングすることと、を含む露光装置の製造方法。前記第1モジュール工具として、出荷される前記第1モジュールが用いられる請求項15に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することでは、前記ボディの第1基準面と前記第1モジュール工具の第2基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記第1の位置決め装置が調整される請求項15又は16に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との傾きを計測し、前記第1モジュール工具の傾きが調整されるように前記第1の位置決め装置を調整することを含む請求項17に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との回転ずれを計測し、前記第1モジュール工具の回転が調整されるように前記第1の位置決め装置を調整することを含む請求項17又は18に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との位置ずれを計測し、前記第1モジュール工具の位置が調整されるように前記第1の位置決め装置を調整することを含む請求項17~19のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記第1の位置決め装置を調整することは、前記第1の位置決め装置を構成する、前記ボディと第1モジュール工具との一方に設けられ凹部が形成された第1部材と、前記ボディと前記第1モジュール工具との他方に設けられ凸部を有する第2部材と、を前記凹部と前記凸部との係合によって係合させて、前記第1部材と前記第2部材のうちの前記第1モジュール工具に設けられる部材の前記第1モジュール工具に対する位置を調整することを含む請求項15~20のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記ドッキングすることは、前記第2の位置決め装置を構成する、前記ボディと前記第1モジュールとの一方に設けられた前記第1部材と、前記ボディと前記第1モジュールとの他方に設けられた前記第2部材とのうち、前記第1モジュールに設けられる部材であって前記調整後の前記第1の位置決め装置と同一状態にある一方の部材と、他方の部材と、を係合させることを含む請求項21に記載の露光装置の製造方法。前記凹部は、V溝であり、前記凸部は、前記V溝の一対の斜面に接触する形状を有する請求項21又は22に記載の露光装置の製造方法。前記凸部は、前記V溝の一対の斜面に線接触する請求項23に記載の露光装置の製造方法。第1の位置決め装置を調整することでは、前記ボディの3箇所に対応して設けられた3つの前記第1の位置決め装置を調整する請求項15~24のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記ドッキングすることでは、前記ボディの3箇所に対応して設けられた3つの前記第2の位置決め装置を介して前記ボディと前記第1モジュールとをドッキングする請求項25に記載の露光装置の製造方法。前記第1モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項15~26のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。請求項15~27のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。ボディと、該ボディに位置決め装置を介してドッキングされる第1モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、前記ボディの第1基準面と前記第1モジュールの第2基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記ボディと前記第1モジュールとのドッキング時の位置関係を決定する前記位置決め装置を調整することを含む露光装置の製造方法。前記第1モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項29に記載の露光装置の製造方法。前記位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との傾きを計測し、前記第1モジュールの傾きが調整されるように前記位置決め装置を調整することを含む請求項29又は30に記載の露光装置の製造方法。前記位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との回転ずれを計測し、前記第1モジュールの回転が調整されるように前記位置決め装置を調整することを含む請求項29~31のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との位置ずれを計測し、前記第1モジュールの位置が調整されるように前記位置決め装置を調整することを含む請求項29~32のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記位置決め装置を調整することは、前記位置決め装置を構成する、前記ボディと前記第1モジュールとの一方に設けられ凹部が形成された第1部材と、前記ボディと前記第1モジュールとの他方に設けられ凸部を有する第2部材と、を前記凹部と前記凸部との係合によって係合させて、前記第1部材と前記第2部材のうちの前記ボディに設けられる部材の前記ボディに対する位置を調整することを含む請求項29~33のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記凹部は、V溝であり、前記凸部は、前記V溝の一対の斜面に接触する形状を有する請求項34に記載の露光装置の製造方法。前記凸部は、前記V溝の一対の斜面に線接触する請求項35に記載の露光装置の製造方法。前記位置決め装置を調整することでは、前記ボディの3箇所に対応して設けられた3つの前記位置決め装置を調整する請求項29~36のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。請求項29~37のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。ボディと、該ボディにドッキングされる第1モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、出荷先で前記ボディと前記第1モジュールとを、前記ボディと前記第1モジュールとの間に設けられる第1の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングするのに先立って、出荷される前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第1モジュールとを、前記第1の位置決め装置と同じ構成の第2の位置決め装置を介してドッキングし、その際に、前記ボディ工具と前記第1モジュールとの位置関係が前記所望の関係となるように、前記ボディ工具と前記第1モジュールとの間に設けられる前記第2の位置決め装置を調整することと、前記調整後の前記第1モジュールを出荷することと、を含む露光装置の製造方法。前記ボディ工具として、出荷される前記ボディが用いられる請求項39に記載の露光装置の製造方法。前記第2の位置決め装置を調整することでは、前記ボディ工具の第1基準面と前記第1モジュールの第2基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記第2の位置決め装置が調整される請求項39又は40に記載の露光装置の製造方法。前記第2の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との傾きを計測し、前記第1モジュールの傾きが調整されるように前記第2の位置決め装置を調整することを含む請求項41に記載の露光装置の製造方法。前記第2の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との回転ずれを計測し、前記第1モジュールの回転が調整されるように前記第2の位置決め装置を調整することを含む請求項41又は42に記載の露光装置の製造方法。前記第2の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との位置ずれを計測し、前記第1モジュールの位置が調整されるように前記第2の位置決め装置を調整することを含む請求項41~43のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記第2の位置決め装置を調整することは、前記第2の位置決め装置を構成する、前記ボディ工具と前記第1モジュールとの一方に設けられ凹部が形成された第1部材と、前記ボディ工具と前記第1モジュールとの他方に設けられ凸部を有する第2部材と、を前記凹部と前記凸部との係合によって係合させて、前記第1部材と前記第2部材のうちの前記ボディ工具に設けられる部材の前記ボディ工具に対する位置を調整することを含む請求項39~44のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。出荷先で、前記調整後の前記第2の位置決め装置と同一状態にある前記第1の位置決め装置を介して前記ボディと前記第1モジュールとをドッキングすることをさらに含む請求項39~45のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。出荷先で前記ボディと前記第1モジュールとを、前記ボディと前記第1モジュールとの間に設けられる第1の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングするのに先立って、出荷される前記第1モジュールと実質的に同じ部材である第1モジュール工具と前記ボディとを、前記第1の位置決め装置と同じ構成の第3の位置決め装置を介してドッキングし、その際に、前記ボディと前記第1モジュール工具との位置関係が前記所望の関係となるように、前記ボディと前記第1モジュール工具との間に設けられる前記第3の位置決め装置を調整することと、前記調整後の前記ボディを出荷することと、をさらに含む請求項39~46のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記第1モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項39~47のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。請求項39~48のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。ボディと、該ボディにドッキングされる第1モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、前記ボディと前記第1モジュールとを、両者間に設けられ、予め調整された第1の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングすることを含み、前記第1の位置決め装置は、前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第1モジュールとを、前記第1の位置決め装置と同じ構成の第2の位置決め装置を介して、ドッキングし、その際に、前記ボディ工具と前記第1モジュールとの位置関係が前記所望の関係となるように調整された前記第2の位置決め装置と同様に、予め調整されている露光装置の製造方法。前記ボディ工具は、前記ボディと前記第1モジュールとの前記第1の位置決め装置を介したドッキングが行われるデバイス製造工場に納入される前記ボディと実質的に同じ部材である請求項50に記載の露光装置の製造方法。前記第1モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項50又は51に記載の露光装置の製造方法。請求項50~52のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。ボディと、該ボディにドッキングされる第1モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、出荷先で前記ボディと前記第1モジュールとを、前記ボディと前記第1モジュールとの間に設けられる第1の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングするのに先立って、出荷される前記第1モジュールと実質的に同じ部材である第1モジュール工具と前記ボディとを、前記第1の位置決め装置と同じ構成の第2の位置決め装置を介してドッキングし、その際に、前記ボディと前記第1モジュール工具との位置関係が前記所望の関係となるように、前記第1モジュール工具と前記ボディとの間に設けられる前記第2の位置決め装置を調整することと、前記調整後の前記ボディを出荷することと、を含む露光装置の製造方法。前記第1モジュール工具として、出荷される前記第1モジュールが用いられる請求項54に記載の露光装置の製造方法。前記第2の位置決め装置を調整することでは、前記ボディの第1基準面と前記第1モジュール工具の第2基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記第2の位置決め装置が調整される請求項54又は55に記載の露光装置の製造方法。前記第2の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との傾きを計測し、前記第1モジュール工具の傾きが調整されるように前記第2の位置決め装置を調整することを含む請求項56に記載の露光装置の製造方法。前記第2の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との回転ずれを計測し、前記第1モジュール工具の回転が調整されるように前記第2の位置決め装置を調整することを含む請求項56又は57に記載の露光装置の製造方法。前記第2の位置決め装置を調整することは、前記第1基準面と前記第2基準面との位置ずれを計測し、前記第1モジュール工具の位置が調整されるように前記第2の位置決め装置を調整することを含む請求項56~58のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記第2の位置決め装置を調整することは、前記第2の位置決め装置を構成する、前記ボディと前記第1モジュール工具との一方に設けられ凹部が形成された第1部材と、前記ボディと前記第1モジュール工具との他方に設けられ凸部を有する第2部材と、を前記凹部と前記凸部との係合によって係合させて、前記第1部材と前記第2部材のうちの前記第1モジュール工具に設けられる部材の前記第1モジュール工具に対する位置を調整することを含む請求項54~59のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。出荷先で、前記調整後の前記第2の位置決め装置と同一状態にある前記第1の位置決め装置を介して前記ボディと前記第1モジュールとをドッキングすることをさらに含む請求項54~60のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。出荷先で前記ボディと前記第1モジュールとを、前記ボディと前記第1モジュールとの間に設けられる第1の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングするのに先立って、出荷される前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第1モジュールとを、前記第1の位置決め装置と同じ構成の第3の位置決め装置を介してドッキングし、その際に、前記ボディ工具と前記第1モジュールとの位置関係が前記所望の関係となるように、前記ボディ工具と前記第1モジュールとの間に設けられる前記第3の位置決め装置を調整することと、前記調整後の前記第1モジュールを出荷することと、をさらに含む請求項54~61のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。前記第1モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項54~62のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。請求項54~63のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。ボディと、該ボディにドッキングされる第1モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、前記ボディと前記第1モジュールとを、両者間に設けられ、予め調整された第1の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングすることを含み、前記第1の位置決め装置は、前記第1モジュールと実質的に同じ部材である第1モジュール工具と前記ボディとを、前記第1の位置決め装置と同じ構成の第2の位置決め装置を介して、ドッキングし、その際に、前記第1モジュール工具と前記ボディとの位置関係が前記所望の関係となるように調整された前記第2の位置決め装置と同様に、予め調整されている露光装置の製造方法。前記第1モジュール工具は、前記ボディと前記第1モジュールとの前記第1の位置決め装置を介したドッキングが行われるデバイス製造工場に納入される前記第1モジュールと実質的に同じ部材である請求項65に記載の露光装置の製造方法。前記第1モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項65又は66に記載の露光装置の製造方法。請求項65~67のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。以下、本発明の一実施形態を図1~図7に基づいて説明する。図1には、一実施形態に係る露光装置100の概略構成が示されている。露光装置100は、ステップアンドスキャン方式の投影露光装置いわゆるスキャナである。後述するように、本実施形態では、投影光学系PLが設けられており、以下においては、この投影光学系PLの光軸AXと平行な方向をZ軸方向Z方向、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をY軸方向Y方向、Z軸及びY軸に直交する方向をX軸方向X方向とし、X軸、Y軸、及びZ軸回りの回転傾斜方向をそれぞれθx、θy、及びθz方向として説明を行う。露光装置100は、光源及び照明光学系を含み、照明光露光光ILによりレチクルRを照明する照明系10、レチクルRを保持するレチクルステージRSTを含むレチクルステージモジュール12、投影光学系PLを含む投影ユニットPU、レチクルステージモジュール12及び投影ユニットPUなどが搭載されたボディBD、ウエハWが載置されるウエハステージWST及び計測ステージMSTを含むウエハステージモジュール以下、ステージモジュールと略記する30、ステージモジュール30のX軸方向の一側と他側とにそれぞれ配置されたカウンタマスモジュール32A、32B、及びこれらの制御系等を備えている。照明系10は、例えば米国特許出願公開第2003/0025890号明細書などに開示されるように、光源、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、ビームスプリッタ、リレーレンズ、可変NDフィルタ、及びレチクルブラインド等いずれも不図示を含んでいる。この照明系10では、レチクルブラインドにより規定されたレチクルR上のスリット状の照明領域IARを照明光ILによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ILとしては、一例としてArFエキシマレーザ光波長193nmが用いられている。レチクルステージモジュール12は、ボディBDの一部であるレチクルベース36上に搭載されている。レチクルステージモジュール12は、レチクルステージRST及びレチクルステージRSTを駆動するリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系不図示等を備えている。レチクルステージRST上には、レチクルRが、例えば真空吸着又は静電吸着により保持されている。レチクルステージRSTは、レチクルステージ駆動系により、レチクルベース36上を所定の走査方向ここでは、図1における紙面直交方向であるY軸方向に所定のストロークで駆動され、かつX軸方向、及びθz方向に適宜微少駆動される。レチクルステージRSTの位置は、不図示のレチクルレーザ干渉計によって、例えば0.25nm程度の分解能で常時検出されている。不図示の制御装置は、レチクルレーザ干渉計の検出結果に基づいて、レチクルステージ駆動系を介してレチクルステージRSTを駆動位置制御する。なお、例えば米国特許出願公開第2007/0288121号明細書などに開示されるエンコーダシステムによってレチクルステージの位置計測を行っても良い。投影ユニットPUは、レチクルステージRSTの図1における下方に配置されている。投影ユニットPUは、鏡筒40と、鏡筒40内に保持された投影光学系PLとを含む。投影光学系PLとしては、例えば光軸AXに沿って配列された複数の光学素子レンズエレメントから成る屈折光学系が用いられている。投影光学系PLは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率例えば1/4倍、1/5倍又は1/8倍などを有する。投影ユニットPUは、ボディBDの一部を構成する後述する第1フレーム232に支持されたメトロロジーフレームMFと称される部材に一体的に保持されている。より詳細には、メトロロジーフレームMFは、鏡筒定盤とも呼ばれ、そのほぼ中央部に不図示の円形開口又はU字状の切り欠きが形成されている。円形開口内に、投影ユニットPUが上方又は紙面奥側から挿入され、鏡筒40の外周部に固定されたフランジFLGを介して、メトロロジーフレームMFに支持されている。このため、照明系10によってレチクルR上の照明領域IARが照明されると、投影光学系PLの第1面物体面とパターン面とがほぼ一致して配置されるレチクルRを通過した照明光ILにより、投影光学系PL投影ユニットPUを介してその照明領域IAR内のレチクルRの回路パターンの縮小像回路パターンの一部の縮小像が、投影光学系PLの第2面像面側に配置される、表面にレジスト感応剤が塗布されたウエハW上の前記照明領域IARに共役な領域以下、露光領域とも呼ぶIAに形成される。そして、レチクルステージRSTとウエハステージWSTとの同期駆動によって、照明領域IAR照明光ILに対してレチクルRを走査方向Y軸方向に相対移動させるとともに、露光領域IA照明光ILに対してウエハWを走査方向に相対移動させることで、ウエハW上の1つのショット領域区画領域の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルRのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系10、投影光学系PLによってウエハW上にレチクルRのパターンが生成され、照明光ILによるウエハW上の感応層レジスト層の露光によってウエハW上にそのパターンが形成される。ボディBDは、クリーンルームの床面F上に設置されたフレームキャスタFC上に搭載された第1フレーム232と、第1フレーム232上に固定されたコラム34とを備えている。コラム34は、第1フレーム232上面の投影ユニットPUを取り囲む位置に設置された複数本、例えば3本の脚41但し、図1における紙面奥側の脚は図示省略と、3本の脚41によって水平に支持されたレチクルベース36とを含む。レチクルベース36には、その中央部に照明光ILの通路となる開口36aが形成されている。フレームキャスタFCは、床面F上にY軸方向に離間して配置された一対の壁部材39A、39Bから成り図1では、紙面奥側の壁部材39Bは不図示、図2参照、該一対の壁部材39A、39Bによって、第1フレーム232が下方から水平に支持されている。なお、後述するように本実施形態では、エアホバーが用いられるので、床面Fがメッシュ構造等になっている場合には、床面F上にベースプレートと呼ばれる平板を水平に設置し、その上に一対の壁部材39A、39BをY軸方向に離間して配置し、ベースプレートと一対の壁部材39A、39Bとによって、フレームキャスタFCを構成する必要がある。ここで、床面又はフレームキャスタ上に配置される各部材は防振機構を介して配置される。なお、メトロロジーフレームMFは、床上に設置されるフレームではなく、例えば米国特許出願公開第2008/0068568号明細書などに開示されているように、不図示のメインフレームに載置されるレチクルベースから吊り下げ支持しても良い。第1フレーム232は、XY平面に平行な矩形枠状の部材から成る。第1フレーム232は、その中央部に平面視矩形の凹部232aを有しており、凹部232aの底壁には、その中央部に円形又は矩形の開口が形成されている。凹部232a内にメトロロジーフレームMFが、上方から挿入され凹部232aの底壁枠状部上に載置されている。メトロロジーフレームMFは、Y軸方向を長手方向とする平面視矩形の板状あるいは高さの低い箱形の部材から成り、不図示の防振装置を介してXY平面に平行な状態で第1フレーム232に対して固定されている。なお、不図示ではあるが、投影ユニットPUのY側には、例えば画像処理方式の結像式アライメントセンサの一種であるFIAFieldImageAlignment系から成るオフアクシスアライメント系以下、アライメント系と略述するが設けられている。このアライメント系は、メトロロジーフレームMFの下面に吊り下げ状態で固定されている。アライメント系からの撮像信号は、不図示の制御装置に供給される。アライメント系は、センサの検出方式や種類などは任意で良く、FIA系に限らず、例えばコヒーレントな検出光を対象マークに照射し、その対象マークから発生する散乱光又は回折光を検出する、あるいはその対象マークから発生する2つの回折光例えば同次数の回折光、あるいは同方向に回折する回折光を干渉させて検出するアライメントセンサを単独であるいは適宜組み合わせて用いることは勿論可能である。図2には、ステージモジュール30及びカウンタマスモジュール32A、32Bが、フレームキャスタFC及び第1フレーム232とともに示されている。図2及び図1に示されるように、ステージモジュール30は、平板メンテプレートMPと、該平板MP上に搭載されたステージベースステージ定盤71と、該ステージベース71の上面に沿って互いに独立して移動するウエハステージWST及び計測ステージMSTと、を有している。平板メンテプレートMPは、例えばその四隅部に対応して配置された4つの浮上昇降装置184つの浮上昇降装置18のうち、2つは図1に示され、他の2つはこれらの紙面奥側に隠れているを介して床面F上で水平に支持されている。浮上昇降装置18の構成等については後に詳述する。平板MPは、図2に示される3つの位置決め装置16A~16Cにより、壁部材39A、39B及び第1フレーム232を含むボディBDに対して、X軸、Y軸、Z軸、θx、θy、θzの各方向6自由度方向に関して位置決めされた状態となっている。これによって、ステージベース71ステージモジュール30がメトロロジーフレームMFに対して6自由度方向に位置決めされた状態となっている。ここで、浮上昇降装置18について、図3A及び図3Bに基づいて説明する。浮上昇降装置18は、図3Aに示されるように、一例として、エアスプリング装置22Aと、ホバー装置22Bとを含む。エアスプリング装置22Aは、円板状の板状部材24と、該板状部材24の下側に設けられたエアマウント26とを有し、板状部材24の上面は、平板MPの下面に固定されている図4A等参照。エアマウント26には、板状部材24に設けられた第1の気体供給口24aを介して気体例えば圧縮空気を供給することが可能であり、エアマウント26は、内部に充填された気体量圧縮空気の圧力変化に応じてZ軸方向に所定のストローク例えば、50mm程度で伸縮する。このため、ステージモジュール30では、複数の浮上昇降装置18それぞれが有するエアスプリング装置22Aエアマウント26を適宜用いて平板MPを上下動させることにより、ステージベース71上面のZ軸方向、θx方向、及びθy方向のそれぞれの位置を任意に調整できるようになっている。ホバー装置22Bは、図3Bに示されるように、エアマウント26を下側から支持するベース28と、ベース28の下面-Z側の面に設けられたエアホバー29とを含む。エアホバー29には、図3Aに示される板状部材24に設けられた第2の気体供給口24b及び板状部材24内に形成された管路24c並びに該管路24cとベース28とを連結する配管31を介して、圧縮気体を供給可能ただし、上記エアマウント26とは別系統であり、該圧縮気体がエアホバー29から床面F又はベースプレート上面に噴出されると、その噴出力により、エアホバー29と床面F又はベースプレートとの間に所定の間隔が形成される図4C参照。これにより、ステージモジュール30全体を、床面F上に所定の隙間クリアランス/ギャップ例えば、10mm程度を介して浮上させることができる。また、ベース28の下面の四隅部それぞれには、平面視-Z方向から見て三角形状のホバー接触防止部材35が設けられている。このホバー接触防止部材35の高さ方向Z軸方向に関する幅高さは、図4A等に示されるように、エアホバー29の高さ方向Z軸方向に関する幅高さよりも大きく設定されている。これにより、エアホバー29から圧縮気体が噴出されない場合であっても、エアホバー29の下面と床面Fとが非接触状態に維持される。また、ベース28の上面の四隅部のそれぞれには、柱部材33が設けられている図3A、図3Bでは奥側に位置する柱部材は不図示。これらの柱部材33は、図4Bに示されるように、エアマウント26内の気体を減少させた際に、平板MPの下面と接触して、エアマウント26の代わりに平板MPの自重を支持するものである。上記のように構成される浮上昇降装置18は、図4Aの状態、図4Bの状態、及び図4Cの状態の間で遷移するようになっている。以下、各状態について説明する。図4Aの状態は、エアマウント26に気体を充填し、かつエアホバー29には圧縮気体を供給しない状態である。この図4Aの状態では、ホバー接触防止部材35が床面Fに接触し以下、この状態を着地状態と呼ぶ、平板MP下面が柱部材33に接触しない状態以下、この状態を上昇状態と呼ぶとなっている。以下においては、図4Aの状態を第1状態と呼ぶこととする。また、図4Bの状態は、エアマウント26内の気体を減少させ外部に排気し、かつエアホバー29に圧縮気体を供給しない状態である。この図4Bの状態では、ホバー接触防止部材35が前記着地状態であり、平板MP下面が柱部材33に接触した状態以下、この状態を下降状態と呼ぶとなっている。以下においては、図4Bの状態を第2状態と呼ぶこととする。また、図4Cの状態は、エアマウント26内の気体を減少させ、かつエアホバー29に圧縮気体を供給した状態である。この図4Cの状態では、ホバー接触防止部材35が床面Fと非接触となっており以下、この状態を浮上状態と呼ぶ、平板MPが前記下降状態となっている。以下においては、図4Cの状態を第3状態と呼ぶこととする。なお、露光装置の稼働中露光中などにおいては、浮上昇降装置18は、図4Aの第1の状態に維持されている。次に、位置決め装置16A~16Cについて、図2、図5A及び図5B等に基づいて説明する。前記位置決め装置16Aは、図2に示されるようにフレームキャスタFCの一部を構成する壁部材39AのY側の面に形成されたY側から見てX軸方向に細長い矩形状の所定深さの凹部不図示内に-Y側の半部が挿入された状態で設けられた第1部材43Aと、平板MPの上面の-Y側端部に固定された第2部材43Bとを備えている。第1部材43Aは、凹部を区画する下側の壁面に取り付けられており、凹部との間に所定の隙間が設けられている。第1部材43Aは、図5Aに示されるように、略直方体状の部材から成り、その下面-Z側の面には、断面略V字状のV溝45が形成されている。V溝45は、XY面内でX軸及びY軸に交差する方向に沿って形成されている。また、第1部材43Aは、取り付け時に、壁部材39Aに対し、6自由度方向X軸、Y軸、Z軸、θx、θy、及びθz方向に関する位置調整が可能となっている。第2部材43Bは、図5Aに示されるように、長手方向両端の上側の角部に丸みを帯びた略直方体状の凸部44と、該凸部44を下側から支持する土台部46とを有している。凸部44は、土台部46に対しθz方向に回転可能に構成されているが、通常、長手方向が、V溝45の長手方向に直交する方向と対応するように回転調整がなされている。そして、凸部44は、回転止め47により土台部46に対して固定されている回転が制限されている。位置決め装置16Aによると、図5Bに示されるように、第1部材43Aに第2部材43Bが下側から押し付けられることにより、第2部材43Bの凸部44と、第1部材43AのV溝45とが、2箇所で線接触するようになっている。なお、凸部44は、半球状の凸部であっても良い。この場合は、凸部44と、第1部材43AのV溝45とが、2箇所で点接触する。位置決め装置16Bは、位置決め装置16Aと同様の構成であり、図2に示されるように、壁部材39AのY側の面に形成されたY側から見てX軸方向に細長い矩形状の所定深さの凹部不図示内に-Y側の半部が挿入された状態で設けられた第1部材143Aと、平板MPの上面の-Y側端部に固定された第2部材143Bとを備えている。第1部材143Aは、XY面内でX軸及びY軸に交差する方向に沿って形成されたV溝145を有している。この第1部材143Aは、ステージベース71の中心を通るY軸に平行な中心軸に関して前述した第1部材43Aと左右対称な構成を有している。第2部材143Bは、前述した第2部材43Bと同様に構成されているが、凸部44の向きがV溝145と対応する方向に向けられた状態で、土台部46に固定されている。位置決め装置16Bによると、位置決め装置16Aと同様に、第1部材143Aに第2部材143Bが下側から押し付けられることにより、第2部材143Bの凸部44と、第1部材143AのV溝145とが、2箇所で線接触するようになっている。位置決め装置16Cも、図2に示されるように、フレームキャスタFCの一部を構成する壁部材39Bの-Y側の面に形成された-Y側から見てX軸方向に細長い矩形状の所定深さの凹部不図示内にY側の半部が挿入された状態で設けられた第1部材243Aと、平板MPの上面のY側端部に固定された第2部材243Bとを備えている。第1部材243Aは、V溝245がX軸に沿って形成されている。第2部材243Bは、前述した第2部材43Bと同様に構成されているが、凸部44の向きがV溝245と対応する方向に向けられた状態で、土台部46に固定されている。位置決め装置16Cも、第1部材243Aに第2部材243Bが下側から押し付けられることにより、第2部材243Bの凸部44と、第1部材243AのV溝245とが、2箇所で線接触するようになっている。以上のように構成される3つの位置決め装置16A~16Cでは、浮上昇降装置18が図4Aに示される第1の状態にあるときには、各第1部材43A、143A、243Aに対して、これらに対応する第2部材43B、143B、243Bが下側から押し付けられる。これにより、平板MP及びステージベース71をフレームキャスタFC及びメトロロジーフレームMFに対して、X軸、Y軸、Z軸、θx、θy、θzの6自由度方向に関する所望の位置すなわち、すべての位置決め装置16A~16Cの第1部材のV溝と第2部材の凸部とが2カ所で線接触する位置に、位置決めすることができる。したがって、前述のように、露光装置の稼働中は、浮上昇降装置18が第1の状態に維持されているので、露光装置の稼働中は、ステージベース71をメトロロジーフレームMF及びフレームキャスタFCに対して常に位置決めした状態、すなわちステージモジュール30をメトロロジーフレームMF及びフレームキャスタFCに対して常に位置決めした状態に維持することができる。なお、第2の状態及び第3の状態にあるときには、第1部材43A、143A、243Aとこれに対応する第2部材43B、143B、243Bとが接触することはない図4B、図4C参照。図1に戻り、ステージモジュール30の一部を構成するステージベース71のZ側の面上面は、その平坦度が非常に高くなるように加工されており、ウエハステージWST及び計測ステージMSTのガイド面とされている。ウエハステージWSTは、図1に示されるように、ウエハステージ本体91、及びウエハテーブルWTBを含む。ウエハステージ本体91は、平面視矩形の箱形直方体状の部材から成る。なお、図1では不図示であるが、ウエハステージ本体91は、その下面に気体静圧軸受例えば、エアベアリングを複数ヶ所に有しており、その気体静圧軸受からステージベース71の上面に対して噴出する加圧気体の静圧により、ステージベース71の上面に対し数μm程度の隙間クリアランス/ギャップを介して浮上支持されている。ウエハステージ本体91には、X軸方向に貫通した開口部図示省略が形成されており、その開口部内には、X軸方向に延びる固定子80が挿入されている。固定子80は、X軸方向、及びZ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルを含むコイルユニット図示省略を有している。これに対し、ウエハステージ本体91は、X軸方向、及びZ軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含むX軸可動子、及びZ軸可動子図示省略を有している。ウエハステージ本体91は、固定子80とX軸可動子とから成る電磁力ローレンツ力駆動動方式のムービングマグネット型のX軸リニアモータにより、固定子80に沿ってX軸方向に所定のストロークで駆動される。X軸可動子は、Y軸方向に離間して複数設けられ、その複数のX軸可動子と固定子80とにより複数のX軸リニアモータが構成されている。ウエハステージ本体91は、複数のX軸リニアモータにより、適宜θz方向に微少駆動される。また、Z軸可動子は、複数少なくとも3つ設けられ、その複数のZ軸可動子と固定子80とにより複数の電磁力ローレンツ力駆動方式のムービングマグネット型のZ軸リニアモータが構成されている。ウエハステージ本体91は、複数のZ軸リニアモータにより、適宜θx方向、及び/又はθy方向並びにZ軸方向に微少駆動される。固定子80は、図1に示されるように、長手方向の一端及び他端それぞれの近傍の下面に気体静圧軸受88例えば、エアベアリングを有している。固定子80は、気体静圧軸受88からステージベース71の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、ステージベース71の上面に対し数μm程度の隙間クリアランス/ギャップを介して浮上支持されている。固定子80の長手方向の一端及び他端には、図2に示されるように、一対のY軸可動子82、83がそれぞれ固定されている。一対のY軸可動子82、83は、ステージモジュール30のX側に設けられたカウンタマスモジュール32Aの一部を構成するY軸固定子86、及びステージモジュール30の-X側に設けられたカウンタマスモジュール32Bの一部を構成するY軸固定子87に対して、それぞれ係合した状態となっている。Y軸固定子86、87はその内部に複数のコイルを有し、Y軸可動子82、83のそれぞれは、複数の永久磁石を有する。すなわち、Y軸固定子86とY軸可動子82とにより、Y軸可動子82をY軸方向に駆動するムービングマグネット型のY軸リニアモータが構成され、Y軸固定子87とY軸可動子83により、Y軸可動子83をY軸方向に駆動するムービングマグネット型のY軸リニアモータが構成されている。以下においては、上記2つのY軸リニアモータのそれぞれを、それぞれの可動子Y軸可動子82、83と同一の符号を用いて、適宜、Y軸リニアモータ82、Y軸リニアモータ83と呼ぶものとする。2つのY軸リニアモータ82、83が上記のように構成されていることから、これらY軸リニアモータ82、83によって、固定子80と一体的にウエハステージWSTがY軸方向に駆動される。従って、本実施形態では、ウエハステージWSTは、Y軸リニアモータ82、83によって、Y軸方向に駆動されるとともに、Y軸リニアモータ82、83が互いに異なる駆動力を発生することによりθz方向に駆動される。ウエハテーブルWTBは、図2に示されるように、平面視略正方形の板状部材から成り、ウエハステージ本体91上に搭載されている。ウエハテーブルWTBの-X側及び-Y側の端面には鏡面加工が施され、反射面17b及び17aがそれぞれ形成されている。ウエハステージWSTのZ軸を除く5自由度方向の位置は、反射面17b、17aに計測ビームをそれぞれ照射するX干渉計及びY干渉計を含むウエハ干渉計システムによって、例えば0.25nm程度の分解能で常時検出されている。反射面17b及び17aはX干渉計及びY干渉計のそれぞれから計測ビームが照射される移動鏡の役目を果たすので、以下では適宜、X移動鏡17b、Y移動鏡17aと呼ぶ。なお、干渉計システムに代えて、又は加えてエンコーダシステムによりウエハテーブルWTBの位置を計測しても良い。ウエハテーブルWTBの上面には、図1に示されるように、ウエハWを真空吸着あるいは静電吸着によって保持するウエハホルダWHが取り付けられている。計測ステージMSTは、図2に示されるように、ウエハステージWSTのY側に配置されており、計測ステージ本体92、及び計測テーブルMTBを有している。計測ステージ本体92は、平面視矩形の箱形直方体状の部材から成る。なお、図1では不図示であるが、計測ステージ本体92は、その底部に気体静圧軸受例えば、エアベアリングを有している。計測ステージMSTは、気体静圧軸受からステージベース71の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、ステージベース71上に数μm程度の隙間クリアランス/ギャップを介して浮上支持されている。計測ステージ本体92には、X軸方向に貫通した開口部図示省略が形成されており、その開口部内には、例えばコイルユニットを含むX軸方向に延びる固定子81が挿入されている。これに対し、計測ステージ本体92は、X軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含む磁石ユニット図示省略から成るX軸可動子を有している。計測ステージ本体92は、固定子81とX軸可動子とから成る電磁力ローレンツ力駆動方式のムービングマグネット型のX軸リニアモータにより、固定子81に沿ってX軸方向に所定のストロークで駆動される。以下では、適宜、このX軸リニアモータを、固定子81と同一の符号を用いて、X軸リニアモータ81と呼ぶ。固定子81の長手方向の一端及び他端には、図2に示されるように、一対のY軸可動子84、85がそれぞれ固定されている。一対のY軸可動子84、85は、Y軸固定子86、及びY軸固定子87に対して、それぞれ係合した状態となっている。Y軸可動子84、85のそれぞれは、複数の永久磁石を有する。すなわち、Y軸固定子86とY軸可動子84により、Y軸可動子84をY軸方向に駆動するムービングマグネット型のY軸リニアモータが構成され、Y軸固定子87とY軸可動子85により、Y軸可動子85をY軸方向に駆動するムービングマグネット型のY軸リニアモータが構成されている。以下においては、上記2つのY軸リニアモータのそれぞれを、それぞれのY軸可動子84、85と同一の符号を用いて、適宜、Y軸リニアモータ84、Y軸リニアモータ85と呼ぶものとする。なお、これまでに説明した各リニアモータとして、ムービングマグネット型に代えて、ムービングコイル型のリニアモータを用いても良い。2つのY軸リニアモータ84、85が上記のように構成されていることから、これらY軸リニアモータ84、85によって、X軸固定子81と一体的に計測ステージMSTがY軸方向に駆動される。従って、本実施形態では、計測ステージMSTは、Y軸リニアモータ84、85及びX軸リニアモータ81によって、X軸及びY軸方向に駆動されるとともに、Y軸リニアモータ84、85が互いに異なる駆動力を発生することによりθz方向に駆動される。さらに、図1では気体静圧軸受88に対して紙面奥側に隠れているため不図示であるが、固定子81の長手方向の一端及び他端の近傍の下面には、固定子81をステージベース71上で浮上させるための気体静圧軸受がそれぞれ取り付けられている。計測テーブルMTBは、図2に示されるように、平面視矩形の板状部材から成り、計測ステージ本体92上に搭載されている。計測テーブルMTBの-X側及びY側の端面には鏡面加工が施され、反射面19b及び19aがそれぞれ形成されている。計測ステージMST計測テーブルMTBの少なくともXY平面内の位置X軸、Y軸、及びθz方向の位置は、反射面19b、19aに計測ビームをそれぞれ照射するX干渉計及びY干渉計を含む干渉計システムによって、例えば0.25nm程度の分解能で常時検出される。反射面19b及び19aはX干渉計及びY干渉計のそれぞれから計測ビームが照射される移動鏡の役目を果たすので、以下では適宜、X移動鏡19b、Y移動鏡19aと呼ぶ。計測テーブルMTBには、各種計測用部材が設けられている。この計測用部材としては、例えば、米国特許第5,243,195号明細書などに開示される複数の基準マークが形成された基準マーク領域、及び投影光学系PLを介して照明光ILを受光するセンサ照度モニタ、照度むらセンサ、空間像計測器等などが含まれている。図1に戻り、一方のカウンタマスモジュール32Aは、前述したY軸固定子86と、Y軸固定子86の底面に固定されたカウンタマス75と、カウンタマス75をY軸方向にスライド自在に支持するベース73と、ベース73を床面F上で支持する浮上昇降装置58とを備えている。また、他方のカウンタマスモジュール32Bは、前述したY軸固定子87と、Y軸固定子87の底面に固定されたカウンタマス76と、このカウンタマス76を浮上支持するベース74と、ベース74を床面F上で支持する浮上昇降装置58とを備えている。カウンタマス75、76は、略直方体状の重量物であり、その下面には、XZ断面V字状で、Y軸方向に延びる凸部が形成されている。この凸部の一対の傾斜面のそれぞれには、不図示の気体静圧軸受例えば、エアベアリングが設けられている。ベース73、74は、例えば略直方体状の形状を有し、その上面には、XZ断面V字状でY軸方向に延びるV溝が形成されている。このV溝の一対の傾斜面間には、カウンタマス75、76それぞれの凸部が挿入されている。カウンタマス75、76は、気体静圧軸受から噴出される気体の静圧により、所定の隙間クリアランス/ギャップを介してベース73、74上にて非接触支持されている。従って、ウエハステージWST又は計測ステージMSTのY軸方向への移動により生じる反力がY軸固定子86、87に作用した場合には、Y軸固定子86とカウンタマス75、Y軸固定子87とカウンタマス76が、それぞれ一体となってY軸方向に沿って移動する。この場合、Y軸固定子86とカウンタマス75、Y軸固定子87とカウンタマス76は、運動量保存則作用反作用の法則に従って移動するので、それらの移動により、上記反力がキャンセルされる。浮上昇降装置58は、大きさが異なる点を除き、ステージモジュール30が有する前述した浮上昇降装置18と同様の構成、及び機能を有する。浮上昇降装置58は、ベース73の下面に、Y軸方向に所定間隔で2つ取り付けられている図1では、一方の浮上昇降装置58は、他方の紙面奥側に隠れている。従って、カウンタマスモジュール32Aは、浮上昇降装置58が有する不図示のエアマウントを用いてY軸固定子86のZ位置を調整すること、及び不図示のエアホバーを用いて床面上に浮上することができる。カウンタマスモジュール32Bは、図1に示されるように、露光装置100を-Y側から見て左右対称である点を除きカウンタマスモジュール32Aと同様に構成されているため、説明を省略する。ここで、ステージモジュール30に対して、カウンタマスモジュール32A、32Bは、それぞれ機械的に接続されていないことから、ステージモジュール30から分離することができる。従って、カウンタマスモジュール32A、32Bそれぞれを露光装置100から取り外してメンテナンスを行うことができる。そして、特に不図示のエアホバーを用いて床面上に浮上した状態では、容易にステージモジュール30から分離することができるので、カウンタマスモジュール32A、32Bのメンテナンス作業を容易に行うことができる。以上のように構成される露光装置100は、露光装置100のユーザの半導体工場内通常はクリーンルーム内で組み立てられている。また、それに先だって本実施形態の露光装置100は、露光装置メーカの工場内で製造組み立てを含むされている。次に、露光装置100の製造方法を図6A及び図6Bを参照して説明する。露光装置100は、照明モジュール、レチクルステージモジュール12、投影レンズモジュール、ステージモジュール30、カウンタマスモジュール32A、32B、ボディBDそれぞれが、露光装置100の製造工場において個別に組立調整された後、所定の出荷先半導体の製造工場などにモジュールごとに出荷され、その複数のモジュール同士が出荷先でドッキングされることによって製造される。ここで、照明モジュールとは、光源及び照明光学系などを含む図1の照明系10のモジュールであり、投影レンズモジュールとは、鏡筒40及び投影光学系PLを含む図1の投影ユニットPUのモジュールである。なお、照明モジュールは光源を含まず、照明光学系のみ、あるいは照明光学系と他のユニット例えばビームマッチングユニットなどを含むものとしても良い。ステージモジュール30の組み立てにおいては、図6Aに示されるように、まずステップ202でステージモジュール30の組み立て、すなわち図1及び図2に示されるステージモジュール30を構成する各パーツ同士の組み付けが行われる。具体的には、露光装置メーカの露光装置100の製造工場内部のクリーンルームの床面F上に4つの浮上昇降装置18が設置され、該4つの浮上昇降装置18上に平板MPが搭載され、さらに平板MP上にステージベース71が載置される。また、ステージベース71上には、ウエハステージWST及び計測ステージMSTが載置され、ウエハステージWST、計測ステージMSTに固定子80、81がそれぞれ挿入され、固定子80、81のそれぞれに、可動子82、83及び可動子84、85が接続される。次に、ステップ204で、ステージモジュール30は、例えば、製造工場に設置された不図示のボディ工具と称される装置に対してドッキングされる。ボディ工具とは図1に示されるボディBDと実質的に同じものである。従って、ボディ工具は、図1に示されるメトロロジーフレームMFと実質的に同じ部材であるメトロロジーフレーム工具図示省略を有している。そして、干渉計、アライメント系その他の計測系など、メトロロジーフレームMFに取り付けられる部材に関して、メトロロジーフレーム工具と実機、すなわち露光装置メーカから出荷され、露光装置のユーザのデバイス製造工場に納入される装置のメトロロジーフレームMFとは、互いに状態計測系の取付位置、干渉計の光軸の位置などが同じとなるように精度良く調整されている実際には、後述するように、実機のボディBDが、その状態がボディ工具と同じ状態に調整されて出荷される。ここで、干渉計本体の外部に参照鏡固定鏡を配置するタイプの干渉計を用いる場合には、参照鏡をメトロロジーフレーム工具及びメトロロジーフレームMFに対して所定の位置関係で取り付けても良い。ただし、ボディ工具を用いてウエハWに露光処理を行うことがないことから、ボディ工具には、例えばアライメント系その他の計測系などの代わりに同じ重量を有するダミー工具が取り付けられていても良い。また、ステージモジュールの調整用工具などをボディ工具に設けても良い。ステップ204におけるボディ工具とステージモジュール30とのドッキングは、一例として図7のステップ402~ステップ420のような手順で、作業者によって行われる。ステップ402の開始前に、既に上記のボディ工具が有するメトロロジーフレーム工具に取り付けられたX干渉計、Y干渉計それぞれの取り付け、及びその位置調整が後述するようにして行われている。このため、X干渉計、Y干渉計それぞれの位置調整のために用いられる基準反射面を有する工具以下、基準ミラー工具と呼ぶが、反射面の直交度、鉛直度などが精度良く調整された状態でメトロロジーフレーム工具に取り付けられている。そして、基準ミラー工具の基準反射面は、メトロロジーフレーム工具に設けられた絶対基準面例えばX側端面及び-X側の端面と正確に平行かつ鉛直軸に対して平行になっている。まず、図7のステップ402において、作業者は、浮上昇降装置18のエアホバー29に空気を供給して、エアホバー29によりステージモジュール30を床面F上に浮上させた状態でボディ工具が備えるメトロロジーフレーム工具の下方空間に搬入する。次に、ステップ404において、作業者は、基準ミラー工具と同様の基準反射面を有する専用工具を、ステージベース71上に設置する。このとき、専用工具は、その基準反射面がステージベース71が有するステージ位置基準面例えばX側端面及び-X側の端面に正確に平行になる状態で設置される。次に、ステップ406において、作業者は、ステージベース71上に、その上面の鉛直軸に対する直交度、すなわち水平面に対する傾斜を計測するためのレベリングセンサ、例えば気泡式のセンサを固定する。次に、ステップ408において、作業者は、浮上昇降装置18のエアマウント26に空気を供給してステージモジュール30を上昇させる。このとき、作業者は、レベリングセンサの計測値に基づいて、ステージベース71が、ほぼ水平状態を保ったまま上昇するように、4つの浮上昇降装置18のエアマウント26に対する空気の供給を調整する。そして、ステージモジュール30が、所定の高さまで上昇すると、ステップ410において、作業者は、浮上昇降装置18のエアマウント26に対する空気の供給を停止する。このとき、位置決め装置16A~16Cのそれぞれの第1部材43A、143A、243AのV溝45、145、245と、第2部材43B、143B、243Bそれぞれの凸部44とが、ほぼ嵌合した状態でステージモジュール30は停止する。このとき、第2部材43B、143B、243Bは、平板MP上の図2に示される位置に、図2に示される状態で固定されているが、第1部材43A、143A、243Aは、いずれも6自由度方向の位置が微調整可能な状態となっている。次に、ステップ412において、作業者は、基準ミラー工具の基準反射面に対する専用工具の基準反射面の傾きθx、θy方向の回転ずれを計測し、その計測結果に基づいて、ステージモジュール30の傾きθx、θy方向の回転を調整するとともに、第1部材43A、143A、243Aの壁部材39A、39Bに対する取り付け姿勢を調整する。作業者は、例えば複数のオートコリメータ又は多軸計測が可能なオートコリメータを用いて、基準ミラー工具の基準反射面と専用工具の基準反射面との平行度を計測し、浮上昇降装置18のエアマウント26を介してステージモジュール30の傾きを調整し、例えばシムの調整を行うことで第1部材43A、143A、243Aの壁部材39A、39Bに対する取り付け姿勢θx、θy方向の回転を調整する。次に、ステップ414において、作業者は、基準ミラー工具の基準反射面に対する専用工具の基準反射面のXY平面内のθz方向の回転ずれを計測するとともに、その計測結果に基づいてステージモジュール30のθz方向の回転を調整し、第1部材43A、143A、243Aの壁部材39A、39Bに対するθz方向の回転を調整する。このステップ414では、オートコリメータを用いて、計測が行われ、その計測結果に基づいて、ステージモジュール30のθz方向の回転が調整され、例えばシムの調整を行うことで第1部材43A、143A、243Aの壁部材39A、39Bに対するθz方向の取り付け姿勢が調整される。次に、ステップ416において、作業者は、基準ミラー工具の基準反射面に対する専用工具の基準反射面のXY直交二軸方向に関する位置ずれを計測し、その計測結果に基づいてステージモジュール30のX、Y位置を調整すると同時に、第1部材43A、143A、243Aの壁部材39A、39Bに対するX、Y位置を調整する。例えば、干渉計を用いて、基準ミラー工具の基準反射面に対する専用工具の基準反射面のXY直交二軸方向に関する位置ずれを計測することができる。あるいは、一方の基準反射面を適宜な治具を用いて、他方と同一面上に写し、デジタルマイクロメータなどで、基準ミラー工具の基準反射面に対する専用工具の基準反射面のXY直交二軸方向に関する位置ずれを計測することとしても良い。次に、ステップ418において、作業者は、ステージモジュール30を微少量上昇させて、第1部材43A、143A、243AのV溝45、145、245と、第2部材43B、143B、243Bそれぞれの凸部44とを、確実に嵌合させる。そして、基準ミラー工具の基準反射面と専用工具の基準反射面とが平行であることを確認後、第1部材43A、143A、243Aを壁部材39A、39Bに対して固定する。最後に、ステップ420において、メトロロジーフレーム工具とステージベース71とのZ軸方向の距離を、3カ所又は4カ所で、計測した後、専用工具をステージベース71から取り外す。これにより、ボディ工具とステージモジュール30とのドッキングが終了する。ボディ工具に対するドッキングが終了した後、ステップ206で、ウエハ干渉計システムの各移動鏡の調整が行われる。具体的には、浮上昇降装置18により、ステージモジュール30がZ側に持ち上げられ、Y移動鏡17a、及びX移動鏡17bにそれぞれY干渉計、X干渉計から照射される測長ビームが当たる位置まで、ウエハステージ本体91の下面に設けられた気体静圧軸受によりウエハステージWSTがZ側に持ち上げられる。この後、ウエハステージ本体91を適宜X軸、及びY軸方向に移動させつつ、各干渉計から照射される測長ビームが対応する移動鏡に垂直に入射するように各移動鏡の位置θx、θy及びθz方向、すなわちウエハステージWSTの回転θz方向の位置及び傾斜θx及びθy方向の位置が調整される。ウエハステージWSTは、ステップ206での移動鏡の位置調整作業の終了後、ステップ208で、ウエハステージ本体91が有する気体静圧軸受に対する加圧気体の供給が停止される。これにより、ウエハステージWSTが下降してステージベース71上面に接触する。ウエハステージWSTは、ステージベース71上面に接触した状態でステージベース71あるいは平板MPに不図示の工具を用いて固定される。また、計測ステージMSTも同様に、ステップ206で、Y移動鏡19a、X移動鏡19bの干渉計の測長軸に対する位置調整が行われた後、ステージベース71上面に接触した状態で不図示の工具により固定される。次いで、ステップ210でウエハステージWST、及び計測ステージMSTが固定されたステージモジュール30は、製造工場から出荷先に出荷される。出荷先では、ステージモジュール30と、その出荷先で既に組み上げられたボディBDとがドッキングされる。このとき、ボディBDが有する第1部材43A、143A、243Aの壁部材39A、39Bに対する6自由度方向の位置姿勢の調整が、予め出荷前に前述と同様の手順で行われているので、前述したステップ402、406、408、410、418と同様の手順で、第1部材43A、143A、243AのV溝45、145、245と、第2部材43B、143B、243Bそれぞれの凸部44とを、確実に嵌合させるだけで、ボディBDが有するメトロロジーフレームMFの絶対基準面と、ステージモジュール30のステージベース71が有するステージ位置基準面とが、製造工場における調整時ステップ204参照と同じ位置関係となる。すなわち、ステージモジュール30と、その出荷先で既に組み上げられたボディBDとのドッキングに際しては、両者の位置調整のための計測及びこれに付属する処理ステップ404、412、414、416等が不要となる。従って、出荷先での露光装置の組み立て立ち上げが簡単になり、短時間で行うことができる。先にステップ420で計測したZ距離と同じZ距離になっていることを確認する。また、ボディBDには、照明モジュール、レチクルステージモジュール12、投影レンズモジュールなどがドッキングされる。また、ステージモジュール30には、カウンタマスモジュール32A、32Bがドッキングされる。ここで、ボディBDの全ての部品は、メトロロジーフレームMFの絶対基準面を基準として調整することができ、また、ステージモジュール30の全ての部品は、ステージ位置基準面を基準として調整することができる。従って、ドッキング後にボディBDの全ての部品、及びステージモジュールの全ての部品を調整しても良いが、本実施形態では、上述したように、ボディ工具が有するメトロロジーフレーム工具と、出荷先に設置されたボディBDが有するメトロロジーフレームMFとは、互いのX干渉計、Y干渉計それぞれの状態取付位置、光軸などが同じとなるよう精度良く調整されている。従って、メトロロジーフレーム工具を用いてウエハ干渉計システムの各移動鏡の位置調整が行われたステージモジュール30をボディBDにドッキングさせると、自動的にメトロロジーフレームMFに固定されたX干渉計、Y干渉計それぞれから照射される測長ビームが、X移動鏡17b、19b、Y移動鏡17a、19aに垂直に入射するようになる。これにより、ステージモジュール30をボディBDにドッキングさせた後のウエハ干渉計システムの各干渉計及び各干渉計に対する移動鏡の位置調整作業を省略することができ、出荷先における露光装置100の組み立て作業時間を短縮することができる。また、例えばステージモジュール30を交換する場合、位置決め装置の第1部材が所定の位置に位置決めされたボディ工具を用いて、新たなステージモジュール30の組み立て及び移動鏡の位置調整上記ステップ202~208の処理を、製造工場で行うことにより、出荷先でのボディBDに対する新たなステージモジュール30のドッキングを容易に行うことができるとともに、ドッキング後の移動鏡の位置調整作業を省略できる。本実施形態では、製造工場において、ボディ工具すなわち基準となるボディに対し、ドッキング時の位置決め装置の調整、及びメトロロジーフレーム工具に対するウエハ干渉計システムの各移動鏡の位置調整が行われたステージモジュール30が出荷される。また、ステージモジュール30は、製造工場において、単体精度振動、位置決め、周波数応答特性、空圧などが一定の規格内となるように調整されている。なお、製造工場における作業では、ボディ工具の代わりに、実際に出荷先で用いられる予定のボディBDメトロロジーフレームMFを用いてステージモジュール30の組み立て及び移動鏡の位置調整上記ステップ202~208の処理を行っても良い。次に、出荷先においてステージモジュール30のドッキングが行われるボディBDのメトロロジーフレームMFが有するX干渉計、Y干渉計などの露光装置の製造工場における取付調整手順について説明する。メトロロジーフレームMFに対するX干渉計、Y干渉計などの取り付け位置の調整は、露光装置の製造工場において、ステージモジュール工具と称される部材を用いて行われる。ステージモジュール工具は、図1に示されるステージモジュール30と実質的に同じものであり、移動鏡の位置がステップ202~206図6A参照と同様の手順で精度良く調整されている。ボディBDの製造では、図6Bに示されるように、まずステップ302でボディBDの組み立て、具体的にはフレームキャスタFC壁部材39A、39B、第1フレーム232、メトロロジーフレームMFなどの組み付けが行われる。この後、ステップ304で、そのボディBDが有するメトロロジーフレームMFにY干渉計、X干渉計、及び計測系などが取り付けられる。次いで、ステップ306でボディBDにステージモジュール工具がドッキングされる。このドッキングは、基本的には、ステップ204と同様にして行われる。従って、このドッキングが終了した時点では、位置決め装置の第1部材は、ステージモジュール工具及び前述のステージモジュール30ボディBDが出荷先でドッキングされるステージモジュール30に対して所望の位置関係に調整されている。ステージモジュール工具をボディBDにドッキングさせた後、ステップ308で、そのステージモジュール工具が有するX移動鏡17b、19b、Y移動鏡17a、19aなどを用いて、メトロロジーフレームMFに取り付けられた干渉計の光軸調整などが行われる。具体的には、測長ビームがX移動鏡17b、19b、Y移動鏡17a、19aに垂直に入射するようにX干渉計、Y干渉計それぞれの取付位置及び光軸が調整される。この後、ステップ310で、ボディBDからステージモジュール工具が取り外され、ボディBDが出荷先に出荷される。出荷先に設置されたボディBDには、前述したステップ202~210図6A参照の手順でボディ工具を用いて予め調整されて出荷されたステージモジュール30がドッキングされる。なお、通常は、ボディBDが製造工場から出荷された後に、ステージモジュール30が製造工場から出荷される。従って、ステージモジュール30をボディBDにドッキングさせると、ボディBDが有するメトロロジーフレームMFの絶対基準面と、ステージモジュール30のステージベース71が有するステージ位置基準面とが、製造工場における調整時ステップ204参照と同じ位置関係となる。さらに、自動的にメトロロジーフレームMFに固定されたX干渉計、Y干渉計それぞれから照射される計測ビームが、X移動鏡17b、19b、Y移動鏡17a、19aに垂直に入射するようになるので、ステージモジュール30をボディBDにドッキングさせた後の干渉計の取付位置及び光軸調整作業を省略できる。これにより、出荷先における露光装置100の組み立て作業時間を短縮することができる。なお、製造工場における作業では、ステージモジュール工具を用いず、実際に出荷先で用いられる予定のステージモジュール30を用いて干渉計などの調整を行っても良い。以上説明したように、本実施形態の露光装置100の製造方法では、最初にボディ工具が製造され、そのボディ工具を用いてステージモジュール工具が製造される。すなわち、ボディ工具は、ステージモジュール工具とドッキングし、メトロロジーフレーム工具の絶対基準面とステージモジュール工具のステージ位置基準面とが、一定の位置関係となるように、ボディ工具及びステージモジュール工具が備える位置決め装置16A、16B、16Cそれぞれの第1部材43A、143A、243Aの位置調整を上記ステップ204と同様に行う。そして、その調整後のボディ工具を用いて実機のステージモジュール30が量産されるとともに、そのステージモジュール工具を用いて実機のボディBDが量産される。この場合、ボディ工具は、量産されるステージモジュール30とドッキングした際に、そのメトロロジーフレーム工具の絶対基準面と、ステージモジュール30のステージベース71が有するステージ位置基準面との位置関係が常に一定になるように、位置決め装置16A、16B、16Cそれぞれの第1部材43A、143A、243Aの位置調整が予め行われている。また、ステージモジュール30は、そのボディ工具を用いて移動鏡の調整、及び単体精度振動、位置決め、周波数応答特性、空圧などが一定の規格内となる調整が、出荷前に行われている。従って、本実施形態によると、単体精度が一定の規格内となるように調整されたウエハステージモジュール30を出荷すること供給することが可能となる。この意味で、ボディ工具すなわち基準となるボディを、基準/調整工具、基準/調整フレーム、あるいはフレーム工具などと言い換えても良い。また、位置決め装置16A、16B、16Cそれぞれの第1部材43A、143A、243Aの位置調整が行われているボディ工具は、ステージモジュール工具とドッキングした際に、メトロロジーフレーム工具の絶対基準面とステージモジュール工具のステージ位置基準面とが、上記と同じ関係になる。そして、量産される複数のボディBDは、全てステージモジュール工具を用いて干渉計などの調整が行われる。従って、量産される複数のステージモジュール30のうちのひとつと、量産される複数のボディBDのうちのひとつをドッキングさせる場合、どのような組み合わせであっても、位置決め装置16A~16Cの第1部材と第2部材とを嵌合させるだけで、メトロロジーフレームMFの絶対基準面と、ステージモジュール30のステージベース71が有するステージ位置基準面との位置関係が理想的な状態となる。従って、ステージモジュール30とボディBDとの位置関係の調整が不要となる。また、干渉計システム干渉計、移動鏡に関しても調整が不要となる。従って、本実施形態によると、露光装置100の組み立て作業時間を短縮することができる。また、出荷先におけるボディBDの設置と、製造工場におけるステージモジュール30の調整を並行して行うこともできるので、この点においても露光装置100の組み立て作業時間を短縮することができる。なお、上記実施形態では、ステージモジュール30、ボディBDの出荷前に、位置決め装置16A~16Cの第1部材の位置調整のみでなく、干渉計システム干渉計、移動鏡に関する調整も行われる場合について説明したが、必ずしも干渉計システム干渉計、移動鏡に関する調整は、ステージモジュール30又はボディBDの出荷前に行わなくても良い。この場合であっても、ボディBDの位置基準とステージモジュール30の位置基準との位置関係が所望の関係に調整されていれば、それらの位置基準を基準として出荷先でボディBDの部品、ステージモジュール30の部品の位置を調整することは比較的に短時間に行うことができる。なお、上記実施形態では、位置決め装置16A~16Cとして、凸部とV溝との組み合わせの位置決め装置を3つ用いたが、これに限らず、通常のキネマティック構造点と、V溝と、面とで接触する構造を採用することとしても良い。なお、上記実施形態では、位置決め装置16A~16Cを構成する第1部材43A、143A、243Bが壁部材39A、39Bに設けられ、第2部材43B、143B、243Bが平板MPに設けられる場合について説明したが、これに限らず、第1部材が平板MPに設けられ、第2部材が壁部材39A、39Bに設けられることとしても良い。すなわち、第2部材が壁部材39A、39Bに対する位置関係が固定で、平板MPに対する第1部材の6自由度方向の位置が調整可能であっても良い。また、平板MPに代えて、ステージベース71に第1部材又は第2部材を設けることとしても良いし、壁部材39A、39Bに代えて、メトロロジーフレームMFに第2部材又は第1部材を設けることとしても良い。いずれにしても、ステージモジュール30の量産、出荷を目的とする場合には、ボディBD側壁部材39A、39B、メトロロジーフレームMFに設けられる位置決め装置の部材が、ボディBDに対する位置調整が可能となっていることが望ましく、同様にボディBDの量産、出荷を目的とする場合には、ステージモジュール30側平板MP、ステージベース71に設けられる位置決め装置の部材が、ステージモジュール30に対する位置調整が可能となっていることが望ましい。このような場合には、製造工場では工具側の位置決め装置の部材の位置調整が可能となっている。従って、製造工場で前述と同様の手順で位置決め装置の調整を行うことにより、出荷先では、ボディBD又はステージモジュール30に対して、出荷されたステージモジュール30又はボディBDを調整済みの位置決め装置を介してドッキングすることができる。また、工具側の位置決め装置の部材が適切に調整されていることを前提とすれば、調整済みのボディ工具を使って、ステージモジュール30側の部材を調整すれば、出荷後に、ボディ工具と同様の状態にあるボディとステージモジュール30とを正しくドッキングできる。同様に、ボディBDの量産、出荷を目的とする場合もステージモジュール工具で位置調整を実施してボディをいつも同じ状態にすることが望ましい。すなわち、ボディ工具とステージモジュール工具との両方か露光装置の製造工場に用意され、ボディとステージモジュールはそれぞれステージモジュール工具とボディ工具とを用いてモジュール単位で調整、出荷され、現地ユーザのデバイス製造工場でドッキングされることが望ましい。また、ボディ工具とステージモジュール工具の少なくとも一方は、ユーザの工場に出荷するボディ又はステージモジュールでも良い。さらに、出荷時は、前述のように調整されたモジュール単位でバラすことなく出荷されるが、例えば精度への影響が無視できる、あるいは現地での調整が実質的に不要な部材についてはモジュールから切り離して輸送しても良い。また、上記実施形態における互いにドッキングできる複数のモジュールを1つのモジュールとして取り扱うこともできる。例えば、ステージモジュール30とカウンタマスモジュール32A、32Bとを、1つのウエハステージモジュールとして取り合うこともできる。この場合、このウエハステージモジュールでは、精度への影響が無視できる、あるいは現地での調整が実質的に不要なカウンタマスが切り離されて輸送される。また、上記実施形態では、浮上昇降装置18が、エアスプリング装置とホバー装置とが一体化されている構成である場合について説明したが、これに限らず、エアスプリング装置とホバー装置とを別体で構成し、それぞれを平板MPの下面に設けることとしても良い。また、上記実施形態では、エアスプリング装置及びホバー装置を採用したが、これに限らず、ステージモジュール30の高さ方向の位置を調整することができる装置であれば、エアスプリング装置以外の装置を採用することとしても良いし、ステージモジュール30を床面F又はベースプレート上で浮上させることができる装置であれば、エアホバー以外の装置例えば、気体静圧軸受などを採用することとしても良い。なお、上記実施形態では、位置決め装置16A~16Cを、ステージモジュール30をフレームキャスタFC壁部材39A、39Bに対して位置決めするために用いることとしたが、これとともに又はこれに代えて、露光装置を構成する他のモジュールをボディBDに位置決めするために、上記実施形態と同様の位置決め装置を用いることが可能である。例えば、レチクルステージモジュール12をボディBDに対して位置決めするために、上記実施形態と同様の位置決め装置を用いることも可能である。この場合、レチクルステージモジュール12とレチクルベース36との間に位置決め装置を設けることができ、レチクルステージモジュール12の自重により、位置決め装置を構成する第1部材と第2部材とを押し付けることで、レチクルステージモジュール12をボディBDに対して位置決めし、両者の位置関係を所望の関係に設定することが可能である。また、この場合、レチクルベース工具を有するボディ工具と、レチクルステージモジュール工具とを用意して、上記実施形態と同様の手順で製造工場内でのボディ及びレチクルステージの製造、並びにモジュールでの出荷を行い、出荷先でボディ及びレチクルステージのドッキングを含む露光装置の組み立てを行っても良い。同様に、カウンタマスモジュール32A、32Bをボディに対して位置決めするために、上記実施形態と同様の位置決め装置を用いることとしても良い。なお、上記実施形態では、ステージモジュール30とカウンタマスモジュール32A、32Bとを別体とすることとしたが、これに限らず、ステージモジュールとカウンタマスモジュールを一体的に構成することとしても良い。なお、上記実施形態ではステージモジュールが、ウエハステージと計測ステージとを有する露光装置の製造について説明したが、これに限らず、例えば米国特許第6,590,634号明細書、米国特許第5,969,441号明細書、米国特許第6,208,407号明細書などに開示されているように、複数のウエハステージを有する露光装置にも上記実施形態の製造方法を適用することが可能である。また、単一のウエハステージを有するシングルステージタイプの露光装置に上記実施形態を適用することも可能である。なお、上記実施形態では、液体水を介さずにウエハWの露光を行うドライタイプの露光装置の製造について説明したが、これに限らず、例えば欧州特許出願公開第1420298号明細書、国際公開第2004/055803号、米国特許第6952253号明細書などに開示されているように、投影光学系とウエハとの間に照明光の光路を含む液浸空間を形成し、投影光学系及び液浸空間の液体を介して照明光でウエハを露光する露光装置の製造にも上記実施形態の製造方法を適用することができる。また、例えば米国特許出願公開第2008/0088843号明細書に開示される、液浸露光装置の製造などにも、上記実施形態を適用することができる。なお、上記実施形態では、ウエハステージWST、及び計測ステージMSTがリニアモータにより定盤上で駆動される構成であったが、これに限らず、例えば米国特許第5,196,745号明細書などに開示される電磁力ローレンツ力駆動方式の平面モータにより駆動されても良い。また、上記実施形態では、スキャニングステッパの製造について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置の製造に上記実施形態を適用しても良い。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップアンドスティッチ方式の縮小投影露光装置の製造にも上記実施形態は適用することができる。また、上記実施形態の露光装置における投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系は屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。また、照明光ILは、ArFエキシマレーザ光波長193nmに限らず、KrFエキシマレーザ光波長248nmなどの紫外光や、F2レーザ光波長157nmなどの真空紫外光であっても良い。また、例えば米国特許第7023610号明細書に開示されているように、真空紫外光としてDFB半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム又はエルビウムとイッテルビウムの両方がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外域に波長変換した高調波を用いても良い。また、上記実施形態では、露光装置の照明光ILとしては波長100nm以上の光に限らず、波長100nm未満の光を用いても良いことは言うまでもない。例えば、近年、70nm以下のパターンを露光するために、SORやプラズマレーザを光源として、軟X線領域例えば5~15nmの波長域のEUVExtremeUltraviolet光を発生させるとともに、その露光波長例えば13.5nmの下で設計されたオール反射縮小光学系、及び反射型マスクを用いたEUV露光装置の開発が行われている。この装置においては、円弧照明を用いてマスクとウエハを同期走査してスキャン露光する構成が考えられるので、かかる装置の製造にも上記実施形態の製造方法を好適に適用することができる。このほか、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置の製造にも、上記実施形態は適用できる。また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン又は位相パターン減光パターンを形成した光透過型マスクレチクルを用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第6,778,257号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク可変成形マスクを用いても良い。また、国際公開2001/035168号に開示されているように、干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にラインアンドスペースパターンを形成する露光装置リソグラフィシステムの製造にも上記実施形態を適用することができる。さらに、例えば米国特許第6,611,316号明細書に開示されているように、2つのレチクルパターンを投影光学系を介してウエハ上で合成し、1回のスキャン露光によってウエハ上の1つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置の製造にも上記実施形態を適用することができる。なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体エネルギビームが照射される露光対象の物体はウエハに限られるものではなく、ガラスプレート、セラミック基板、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写形成する液晶用の露光装置、あるいは有機EL、薄型磁気ヘッド、撮像素子CCD等、マイクロマシン及びDNAチップなどを製造するための露光装置にも上記実施形態は広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置の製造にも上記実施形態を適用できる。なお、半導体デバイスは、デバイスの機能性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、レチクルに形成されたパターンをウエハ等の物体上に転写するリソグラフィステップ、デバイス組み立てステップダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置が用いられるので、高集積度のデバイスの生産性を向上することが可能である。なお、これまでの説明で引用した露光装置などに関する全ての公報、国際公開公報、米国特許出願公開明細書及び米国特許明細書の開示を援用して本明細書の記載の一部とする。"