吐出ヘッドと被描画媒体とを吐出走査方向に相対移動させるとともに、前記吐出ヘッドから液状体を選択的に吐出して、前記被描画媒体上の所定の位置に前記液状体を配置する吐出走査工程と、前記吐出走査方向と交差する検出領域方向に延在し、前記検出領域方向における長さが、前記被描画媒体の前記検出領域方向における長さより長い検出領域を有し、前記検出領域における物体の存在を検出する検出装置によって、前記被描画媒体上の異物の有無を検査する異物検査工程と、を有し、前記異物検査工程を、前記吐出走査工程の前に実施し、前記異物検査工程は、前記被描画媒体に設定された基準軸と前記吐出走査方向との角度が第一の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを前記吐出走査方向における第一走査方向に相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する第一検出工程と、前記基準軸と前記吐出走査方向との角度が前記第一の角度とは異なる第二の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを前記吐出走査方向に相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する第二検出工程と、を有することを特徴とする描画方法。前記異物検査工程は、前記第一検出工程において前記異物を検出した時点における前記被描画媒体と前記検出領域との相対位置から、前記被描画媒体における前記異物が位置する第一異物位置領域を算出する第一領域算出工程と、前記第二検出工程において前記異物を検出した時点における前記被描画媒体と前記検出領域との相対位置から、前記被描画媒体における前記異物が位置する第二異物位置領域を算出する第二領域算出工程と、前記第一領域算出工程又は前記第二領域算出工程において算出された第一異物位置領域及び第二異物位置領域から、前記異物が位置する異物位置領域を算出する異物位置領域算出工程と、をさらに有することを特徴とする、請求項1に記載の描画方法。前記第一検出工程において前記異物が検出された場合には、前記異物検査工程を継続し、前記異物が検出されなかった場合には、前記異物検査工程を終了することを特徴とする、請求項1又は2に記載の描画方法。記被描画媒体を、前記検出装置に対して、前記吐出走査方向における前記第一走査方向と反対方向の第二走査方向に相対移動させる後退工程をさらに有し、前記後退工程を、前記第一検出工程を実施した後であって、前記第二検出工程を実施する前に実施し、前記第二検出工程では、前記被描画媒体を、前記検出装置に対して、前記第一走査方向に相対移動させることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の描画方法。前記第一検出工程では、前記被描画媒体の全面について、前記異物の検出を実施することを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の描画方法。前記第二検出工程では、前記被描画媒体の全面について、前記異物の検出を実施することを特徴とする、請求項5に記載の描画方法。前記第一検出工程において前記異物が検出されたことによって、当該第一検出工程を終了することを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の描画方法。前記第二検出工程では、前記第一検出工程において検出された前記異物の数と同数の前記異物が検出されたことによって、当該第二検出工程を終了することを特徴とする、請求項5又は7に記載の描画方法。前記後退工程では、前記被描画媒体を、前記被描画媒体が前記検出領域より前記第二走査方向側に位置するまで相対移動させることを特徴とする、請求項4乃至7のいずれか一項に記載の描画方法。前記後退工程では、前記被描画媒体を、検出した前記異物が前記検出領域より前記第二走査方向側に位置するまで相対移動させることを特徴とする、請求項4乃至7のいずれか一項に記載の描画方法。前記第一検出工程及び前記第二検出工程を実施して求めた前記異物の位置について、矛盾の有無を検証する検証工程をさらに有し、前記検証工程において、前記異物の位置について、矛盾が存在するとされた場合には、第三検出工程を実施することを特徴とする、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の描画方法。前記第三検出工程は、前記基準軸と前記吐出走査方向との角度が前記第一の角度及び前記第二の角度とは異なる第三の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する工程であることを特徴とする、請求項11に記載の描画方法。前記第三検出工程は、前記第二検出工程を継続する工程であることを特徴とする、請求項11に記載の描画方法。前記第三検出工程は、前記第一検出工程又は前記第二検出工程を、再度実施する工程であることを特徴とする、請求項11に記載の描画方法。しかしながら、特許文献1に開示されたパターン形成装置描画装置では、異物を検出した場合には、異物を検出することによって、基板における、異物の主走査方向における位置は、特定されるが、主走査方向に交差する方向における位置は特定できないという課題があった。主走査方向の位置が特定できた後に、主走査方向に交差する方向において異物の位置を特定するために、多くの時間を要するという課題があった。近年、被描画媒体として大判の基板などを描画できるようにすることによって、被描画媒体の交換回数を抑制して、効率よく描画できる描画装置が用いられている。被描画媒体が大判の場合、主走査方向に交差する方向も長いため、当該方向の全体において異物を検出して位置を特定するために要する時間が長くなり、大判の被描画媒体を用いる利点が損なわれるという課題があった。本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。[適用例1]本適用例にかかる描画方法は、吐出ヘッドと被描画媒体とを吐出走査方向に相対移動させるとともに、前記吐出ヘッドから液状体を選択的に吐出して、前記被描画媒体上の所定の位置に前記液状体を配置する吐出走査工程と、前記吐出走査方向と交差する検出領域方向に延在し、前記検出領域方向における長さが、前記被描画媒体の前記検出領域方向における長さより長い検出領域を有し、前記検出領域における物体の存在を検出する検出装置によって、前記被描画媒体上の異物の有無を検査する異物検査工程と、を有し、前記異物検査工程を、前記吐出走査工程の前に実施し、前記異物検査工程は、前記被描画媒体に設定された基準軸と前記吐出走査方向との角度が第一の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを前記吐出走査方向における第一走査方向に相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する第一検出工程と、前記基準軸と前記吐出走査方向との角度が前記第一の角度とは異なる第二の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを前記吐出走査方向に相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する第二検出工程と、を有することを特徴とする。本適用例にかかる描画方法によれば、第一検出工程を実施することで検出された異物は、当該異物が検出された時点における、検出領域が被描画媒体に投影された領域第一領域と表記するに存在する。第二検出工程を実施することで検出された異物は、当該異物が検出された時点における、検出領域が被描画媒体に投影された領域第二領域と表記するに存在する。第一検出工程は基準軸と前記吐出走査方向との角度が第一の角度である状態で実施され、第二検出工程は基準軸と前記吐出走査方向との角度が第二の角度である状態で実施されている。このため、第一領域と第二領域とは、異なる領域である。第一検出工程を実施することで検出された異物は、第一領域に存在し、第二検出工程を実施することで検出された異物は、第二領域に存在するため、第一検出工程及び第二検出工程において検出された異物は、第一領域と第二領域との共通部分に存在する。これにより、第一領域と第二領域との共通部分を検査例えば目視検査することで、異物を検出し、除去することができる。第一領域と第二領域との共通部分を検査例えば目視検査することで、第一領域又は第二領域の全体を検査例えば目視検査する場合にくらべて、検査例えば目視検査する範囲を狭くすることができる。[適用例2]上記適用例にかかる描画方法において、前記異物検査工程は、前記第一検出工程において前記異物を検出した時点における前記被描画媒体と前記検出領域との相対位置から、前記被描画媒体における前記異物が位置する第一異物位置領域を算出する第一領域算出工程と、前記第二検出工程において前記異物を検出した時点における前記被描画媒体と前記検出領域との相対位置から、前記被描画媒体における前記異物が位置する第二異物位置領域を算出する第二領域算出工程と、前記第一領域算出工程又は前記第二領域算出工程において算出された第一異物位置領域及び第二異物位置領域から、前記異物が位置する異物位置領域を算出する異物位置領域算出工程と、をさらに有することが好ましい。この描画方法によれば、第一領域算出工程を実施することによって、被描画媒体における、第一検出工程を実施することで検出された異物が位置する第一異物位置領域が算出される。第二領域算出工程を実施することによって、被描画媒体における、第二検出工程を実施することで検出された異物が位置する第二異物位置領域が算出される。第一検出工程は基準軸と前記吐出走査方向との角度が第一の角度である状態で実施され、第二検出工程は基準軸と前記吐出走査方向との角度が第二の角度である状態で実施されている。このため、第一異物位置領域と第二異物位置領域とは、異なる領域である。第一検出工程を実施することで検出された異物は、第一異物位置領域に存在し、第二検出工程を実施することで検出された異物は、第二異物位置領域に存在するため、第一検出工程及び第二検出工程において検出された異物は、第一異物位置領域と第二異物位置領域との共通部分に存在する。異物位置領域算出工程を実施することによって、例えば第一異物位置領域と第二異物位置領域との共通部分を算出して、異物が位置する異物位置領域を求めることができる。[適用例3]上記適用例にかかる描画方法において、前記第一検出工程において前記異物が検出された場合には、前記異物検査工程を継続し、前記異物が検出されなかった場合には、前記異物検査工程を終了することが好ましい。この描画方法によれば、第一検出工程において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了する。第一検出工程において異物が検出されなかった場合には、第一検出工程を実施した対象の被描画媒体には異物が存在しない可能性が高い。異物検査工程を終了することで、以降の異物検査工程を実施するために要する時間を不要にすることができる。[適用例4]上記適用例にかかる描画方法において、記被描画媒体を、前記検出装置に対して、前記吐出走査方向における前記第一走査方向と反対方向の第二走査方向に相対移動させる後退工程をさらに有し、前記後退工程を、前記第一検出工程を実施した後であって、前記第二検出工程を実施する前に実施し、前記第二検出工程では、前記被描画媒体を、前記検出装置に対して、前記第一走査方向に相対移動させる記被描画媒体を、ことが好ましい。この描画方法によれば、第一検出工程と第二検出工程との間に後退工程を実施する。これにより、第二検出工程を実施する前に、被描画媒体と検出装置との相対位置を、第一検出工程を実施する前と略同様にすることができる。当該状態から第二検出工程を実施することで、第一検出工程と同様に被描画媒体と検出装置とを相対移動させて、第二検出工程を実施することができる。[適用例5]上記適用例にかかる描画方法において、前記第一検出工程では、前記被描画媒体の全面について、前記異物の検出を実施することが好ましい。この描画方法によれば、第一検出工程では、被描画媒体の全面について、異物の検出を実施する。1個の異物ごとに別途第一検出工程を実施する場合、1個の異物ごとに第二検査工程も実施するために、基準軸と吐出走査方向との角度も第二の角度に変更し、再度第一検出工程を実施するために、第一の角度に戻す必要がある。このため、被描画媒体の全面について異物の検出を実施することで、多くの異物が存在する場合、1個の異物ごとに別途第一検出工程を実施する場合にくらべて、異物検出工程に要する時間を抑制することができる。この場合、被描画媒体の全面は、被描画媒体における、1回の吐出走査工程において吐出ヘッドに臨む面の全面である。[適用例6]上記適用例にかかる描画方法において、前記第二検出工程では、前記被描画媒体の全面について、前記異物の検出を実施することが好ましい。この描画方法によれば、第二検出工程では、被描画媒体の全面について、異物の検出を実施する。被描画媒体の全面について異物の検出を実施することで、多くの異物が存在する場合、1個の異物ごとに別途第二検出工程を実施する場合にくらべて、異物検出工程に要する時間を抑制することができる。[適用例7]上記適用例にかかる描画方法において、前記第一検出工程において前記異物が検出されたことによって、当該第一検出工程を終了することが好ましい。この描画方法によれば、第一検出工程において異物が検出されたことによって、当該第一検出工程を終了する。すなわち、1個の異物が検出されたことによって、第一検出工程を終了して、第二検出工程などを実施する。第二検出工程では、第一検出工程で検出された異物が位置する近くのみを検索することで当該異物を検出することができる。これにより、第二検出工程において被描画媒体と検出装置とを相対移動させる距離を短くすることができる。[適用例8]上記適用例にかかる描画方法において、前記第二検出工程では、前記第一検出工程において検出された前記異物の数と同数の前記異物が検出されたことによって、当該第二検出工程を終了することが好ましい。この描画方法によれば、第二検出工程では、第一検出工程において検出された異物の数と同数の異物が検出されたことによって、当該第二検出工程を終了する。ほとんどの場合、第二検出工程で検出される異物の数は、第一検出工程で検出された異物の数と同数である。第一検出工程において検出された異物の数と同数の異物が検出されたことによって、当該第二検出工程を終了することで、第二検出工程を実施するために要する時間を抑制することができる。なお、第二検出工程で検出される異物の数が、第一検出工程で検出された異物の数と異なる場合は、例えば、第二検出工程又は第一検出工程において、同時に複数の異物が検出されることで、複数の異物が1個の異物として検出される場合である。[適用例9]上記適用例にかかる描画方法において、前記後退工程では、前記被描画媒体を、前記被描画媒体が前記検出領域より前記第二走査方向側に位置するまで相対移動させることが好ましい。この描画方法によれば、後退工程を実施した後では、被描画媒体が検出領域より第二走査方向側に位置している。これにより、第二検出工程では、被描画媒体の端から、異物を検出して、被描画媒体上の異物を確実に検出することができる。なお、被描画媒体が検出領域より第二走査方向側に位置する状態は、基準軸と吐出走査方向との角度が第一の角度であっても、第二の角度であっても、被描画媒体が検出領域より第二走査方向側に位置する状態である。[適用例10]上記適用例にかかる描画方法において、前記後退工程では、前記被描画媒体を、検出した前記異物が前記検出領域より前記第二走査方向側に位置するまで相対移動させることが好ましい。この描画方法によれば、後退工程を実施した後では、検出された異物が検出領域より第二走査方向側に位置している。これにより、第二検出工程では、第一検出工程で検出された異物を確実に検出領域に位置させて、確実に検出することができる。異物が検出領域より第二走査方向側に位置すれば、後退工程においては、それ以上相対移動させることを必要としないため、後退工程における移動量を抑制できる可能性がある。なお、異物が検出領域より第二走査方向側に位置する状態は、基準軸と吐出走査方向との角度が第一の角度であっても、第二の角度であっても、異物が検出領域より第二走査方向側に位置する状態である。[適用例11]上記適用例にかかる描画方法において、前記第一検出工程及び前記第二検出工程を実施して求めた前記異物の位置について、矛盾の有無を検証する検証工程をさらに有し、前記検証工程において、前記異物の位置について、矛盾が存在するとされた場合には、第三検出工程を実施することが好ましい。この描画方法によれば、第一検出工程及び第二検出工程を実施して求めた異物の位置について、矛盾の有無を検証する検証工程を実施し、矛盾が存在する場合には、第三検出工程を実施する。異物の位置に矛盾が有る場合には、矛盾が生ずる要因が第一検出工程又は第二検出工程の一方、又は両方などに存在する可能性が高い。第三検出工程をさらに実施することで、矛盾の要因の影響を解除又は緩和して、矛盾を解消できる可能性が高い。異物の位置に矛盾が有る場合とは、例えば、異物の位置が被描画媒体から外れた位置にある場合である。[適用例12]上記適用例にかかる描画方法において、前記第三検出工程は、前記基準軸と前記吐出走査方向との角度が前記第一の角度及び前記第二の角度とは異なる第三の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する工程であることが好ましい。この描画方法によれば、第三検出工程は、基準軸と吐出走査方向との角度が第一の角度及び第二の角度とは異なる第三の角度である状態で、被描画媒体と検出装置とを相対移動させて、被描画媒体上に位置する異物を検出する。基準軸と吐出走査方向との角度が第一の角度又は第二の角度であることに起因して、異物の位置に矛盾が生ずる場合がある。そのような場合には、基準軸と吐出走査方向との角度が第三の角度である状態で、第三検出工程を実施することで、矛盾を解消できる可能性が高い。角度が第一の角度又は第二の角度であることに起因して、異物の位置に矛盾が生ずる場合は、例えば、角度が第一の角度又は第二の角度簿場合に、複数の異物が検出領域方向に並んだ状態となり、当該複数の異物が、1個の異物として検出される場合である。[適用例13]上記適用例にかかる描画方法において、前記第三検出工程は、前記第二検出工程を継続する工程であることが好ましい。この描画方法によれば、第三検出工程は、第二検出工程を継続する工程である。被描画媒体の途中まで第二検出工程を実施して、検出された異物の位置が求められている場合には、被描画媒体において第二検出工程を未実施の部分があることに起因して、異物の位置に矛盾が生ずる場合がある。そのような場合には、被描画媒体における第二検出工程を未実施の部分について、第二検出工程の続きを継続して実施することで、矛盾を解消できる可能性が高い。被描画媒体において第二検出工程を未実施の部分があることに起因して、異物の位置に矛盾が生ずる場合は、例えば、第一検出工程と第二検出工程とで最初に検出できる異物が異なる異物であり、異なる異物の検出結果から異物の位置が求められた場合である。[適用例14]上記適用例にかかる描画方法において、前記第三検出工程は、前記第一検出工程又は前記第二検出工程を、再度実施する工程であることが好ましい。この描画方法によれば、第三検出工程として、第一検出工程又は第二検出工程を、再度実施する。第一検出工程又は第二検出工程が正しく実施されなかったことに起因して異物の位置に矛盾が有る場合、第一検出工程又は第二検出工程を再度実施することで、第一検出工程又は第二検出工程を正しく実施して、矛盾を解消できる可能性が高い。以下、本発明に係る描画方法の一実施形態について、図面を参照して説明する。本実施形態では、インクジェット方式の液滴吐出ヘッドを備え、被描画媒体に画像などを描画する液滴吐出装置を例に、当該液滴吐出装置を用いて描画する描画方法について説明する。液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドと被描画媒体とを相対移動させると共に、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルから機能液の液滴を吐出して、被描画媒体上の所定の位置に着弾させることによって、所定の画像を形成する装置である。なお、以下の説明において参照する図面では、図示の便宜上、部材又は部分の縦横の縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。<液滴吐出装置>最初に、液滴吐出装置1の構成について、図1及び図2を参照して説明する。図1は、液滴吐出装置の概略構成を示す観斜視図である。図2は、液滴吐出装置の概略構成を示す模式図である。図2aは、液滴吐出ヘッドと基板ステージとセンサーとの位置関係を示す模式側面図であり、図2bは、液滴吐出ヘッドと基板ステージとセンサーとの位置関係を示す模式平面図である。図2cは、基板ステージとセンサーとの高さ関係を示す模式側面図である。図1および図2において、主走査方向をX軸方向、主走査方向X軸方向に直交する副走査方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向に直交する方向上下方向をZ軸方向、Z軸方向回りの回動方向をθ方向と表記する。図1に示すように、液滴吐出装置1は、床面に主走査方向X軸方向に延在した基台2が設置され、その上面2aに一対のX軸ガイドレール11が主走査方向X軸方向に敷設され、その一対のX軸ガイドレール11には搬送テーブルを構成するX軸移動テーブル12が載置されている。X軸移動テーブル12は、X軸ガイドレール11に沿って主走査方向に移動可能に搭載されている。一対のX軸ガイドレール11には、X軸リニアモーターM1が備えられ、X軸リニアモーターM1は、一対のX軸ガイドレール11に載置されたX軸移動テーブル12を、エアスライダー図示省略を介してX軸方向に往復移動させる。主走査方向X軸方向が、吐出走査方向に相当する。X軸移動テーブル12の上面には、搬送テーブルを構成する基板ステージ14が設けられている。基板ステージ14は、真空吸着テーブルであって、その上面にガラス基板よりなるマザー対向基板201A図5及び図6参照を吸着固定する。X軸移動テーブル12によって基板ステージ14を移動させることで、基板ステージ14に吸着されたマザー対向基板201Aを搬送する。基板ステージ14は、X軸移動テーブル12と基板ステージ14との間に設けたステージ回動機構16によって、X軸移動テーブル12に対してθ方向に回動可能に支持固定されている。図1において、ステージ回動機構16は、破線で示してある。基板ステージ14マザー対向基板201Aは、X軸移動テーブル12とともにX軸方向主走査方向に移動する。また、基板ステージ14マザー対向基板201Aは、X軸移動テーブル12の平面XY平面水平面に対して平行にθ方向に回動する。マザー対向基板201Aが、被描画媒体に相当する。X軸ガイドレール11の上方向をY軸方向に跨ぐように、一対のY軸ガイドレール18が配設されている。一対のY軸ガイドレール18の一端の支柱19aは、基台2の上面2aに立設され、他端の支柱19bは基台2から離間した床に立設されている。Y軸ガイドレール18の中央付近に形成された支柱19cは、基台2の上面2aに立設されている。一対のY軸ガイドレール18は、X軸方向に予め定めた間隔をおいて平行に配設されている。尚、本実施形態では、Y軸方向に平行に延びた一対のY軸ガイドレール18において、基台2の上方位置を作業領域、基台2から離間した位置を待機領域としている。一対のY軸ガイドレール18の間に、複数本実施形態では、6個のキャリッジプレート21が差し渡されるように配置されている。各キャリッジプレート21は、Y軸ガイドレール18に沿って副走査方向Y軸方向に移動可能に載置されている。Y軸ガイドレール18は、Y軸リニアモーターM2を備えている。一対のY軸ガイドレール18に配設された一対のY軸リニアモーターM2は、一対のY軸ガイドレール18に載置された各キャリッジプレート21を、それぞれエアスライダー図示省略を介してY軸方向に往復移動させる。各キャリッジプレート21は、一対のY軸リニアモーターM2によって、Y軸ガイドレール18上の作業領域と待機領域との間を往復移動させられる。また、キャリッジプレート21は、一対のY軸リニアモーターM2によって、任意の位置に保持される。キャリッジプレート21は、6個のキャリッジプレート21をそれぞれ独立させて移動させることも可能であり、複数のキャリッジプレート21を一体に移動させることも可能である。各キャリッジプレート21の上面には、機能液供給ユニット22とヘッド用電装ユニット23とが載置されている。機能液供給ユニット22は、機能液を所定量貯蔵して、各液滴吐出ヘッド40図3参照に機能液を供給するための供給回路装置である。ヘッド用電装ユニット23は、各液滴吐出ヘッド40を駆動するための電気信号を供給するための電気回路装置である。ここでいう機能液とは、マザー対向基板201Aガラス基板201図5及び図6参照に形成された隔壁204図5参照の枠内に配置される赤色、緑色、又は青色のフィルター用機能液である。機能液は、ガラス基板201に形成された隔壁204の枠内に配置された後に乾燥されて、赤色フィルター膜205R図5参照、緑色フィルター膜205G図5参照、又は青色フィルター膜205B図5参照となる。図2aに示すように、各キャリッジプレート21の下面の中央位置には、吊下機構25が設けられ、吊下機構25の下端部にキャリッジ30が釣支されている。吊下機構25は、吊下基板26と、吊下回動枠27と、吊下支持枠28とを有している。吊下基板26は、キャリッジプレート21の下面中央位置に連結固定され、その下端部に吊下回動枠27を連結している。吊下回動枠27は、その下端部に吊下支持枠28をθ方向に回動可能に連結支持している。吊下回動枠27は、θ軸回動モーター図示省略を有し、θ軸回動モーターは吊下支持枠28を吊下基板26キャリッジプレート21に対してθ方向に回動させる。吊下支持枠28には、キャリッジ30が固定されて、支持されている。θ軸回動モーターによって吊下支持枠28を回動させることで、吊下機構25に垂設されたキャリッジ30をθ方向に回動させる。キャリッジ30は、略直方体形状のキャリッジ枠31を有している。キャリッジ枠31には、X軸方向及びY軸方向のそれぞれの両側面に開口部が設けられておりX軸方向の各開口部は図示省略、キャリッジ枠31の内側に対して、周囲の空気が流出入できる。キャリッジ30の略直方体形状のキャリッジ枠31の下端部には、ヘッドユニット41が固定されている。ヘッドユニット41は、ユニットプレート34を備え、ユニットプレート34が図示省略したネジ等により、キャリッジ枠31の下端部に固定されている。ユニットプレート34には、液滴吐出ヘッド40が着脱可能に、かつ、精度よく位置決め固定されて取り付けられている。本実施形態では、X軸方向に並設された3個の液滴吐出ヘッド40が、Y軸方向と平行に3列、すなわち合計9個の液滴吐出ヘッド40が取り付けられている。尚、キャリッジ枠31の内側は、配管や配線などが配設されているが、表示すると煩雑になるため図示を省略している。液滴吐出ヘッド40が、吐出ヘッドに相当する。図1に示すように、基台2に敷設された一対のX軸ガイドレール11には、検査ユニット70がX軸ガイドレール11に沿って主走査方向に移動可能に配置されている。検査ユニット70は、移動テーブル71と、検査台72と、フラッシング回収台73と、重量測定ユニット74と、を有している。移動テーブル71は、X軸ガイドレール11に沿って主走査方向に移動可能に搭載されている。一対のX軸ガイドレール11に備えられた一対のX軸リニアモーターM1は、移動テーブル71を、エアスライダー図示省略を介してX軸方向に往復移動させる。移動テーブル71の上面の基板ステージ14側には、検査台72が設置固定されている。検査台72は、Y軸方向に沿って長く延び、その上面に、例えばフィルムコーティングが施された、検査用紙Pが配置されている。検査台72に配置された検査用紙Pには、検査台72が液滴吐出ヘッド40の直下に案内された状態で、各キャリッジ30の液滴吐出ヘッド40の各吐出ノズル44図3参照から吐出された液滴が着弾する。移動テーブル71の上面であって検査台72に隣接した位置には、フラッシング回収台73が配設されている。フラッシング回収台73は、上述したキャリッジ30の数6個だけ設けられている。6個のフラッシング回収台73は、Y軸方向に沿って並設されている。フラッシング回収台73の受け口73aは、各フラッシング回収台73が対応するキャリッジ30の直下に案内された状態で、ヘッドユニット41に臨んで開口している。ヘッドユニット41の液滴吐出ヘッド40の吐出ノズル44から液滴が吐出されフラッシングされると、その液滴は、ヘッドユニット41に臨んで開口している受け口73aからフラッシング回収台73に入り、収容すされる。例えば、マザー対向基板201Aに機能液の液滴でカラーフィルターを描画する前にフラッシングが実施され、フラッシングによって吐出された機能液を、フラッシング回収台73で回収する。移動テーブル71の上面であって並設されたフラッシング回収台73に隣接した位置には、重量測定ユニット74が配設されている。重量測定ユニット74は、上述したキャリッジ30の数6個だけ設けられている。6個の重量測定ユニット74はY軸方向に沿って並設されている。重量測定ユニット74は、対応するキャリッジ30の直下に案内された状態で、ヘッドユニット41に臨んでいる。ヘッドユニット41の液滴吐出ヘッド40の各吐出ノズル44から吐出された機能液の液滴が、重量測定ユニット74に着弾し、その重量が重量測定ユニット74によって計測される。例えば、マザー対向基板201Aに機能液の液滴でカラーフィルターを描画する前に、ヘッドユニット41の液滴吐出ヘッド40の各吐出ノズル44から吐出される液滴の重量を計測する。本実施形態の液滴吐出装置1では、検査台72、フラッシング回収台73、及び、重量測定ユニット74は、その上面が略同じ高さになるように設けられている。次に、マザー対向基板201Aなどに付着した異物を検出する第1異物検出センサー81について説明する。図2aに示すように、Y軸ガイドレール18の支柱19aと19cとを利用して、第1異物検出センサー81が設けられている。第1異物検出センサー81が設けられているY軸ガイドレール18は、基板ステージ14側検査ユニット70の反対側に位置するY軸ガイドレール18である。第1異物検出センサー81の第1投光部81Aは、支柱19aの内側に設けられている。第1異物検出センサー81は、図示省略したレーザー光源を有し、レーザー光からなる所定光量の第1検出光L1を出射する。第1受光部81Bは、第1投光部81Aと相対向する位置で、支柱19cに設けられており、受光面が第1投光部81Aに対向している。第1受光部81Bは、第1投光部81Aから出射された第1検出光L1を受光して、その受光量を検出する。図2cに示すように、第1投光部81Aは、基板ステージ14に載置されたマザー対向基板201Aの側面に第1検出光L1の下部が照射されるとともに、マザー対向基板201Aの上面に沿うように第1検出光L1を出射している。これにより、マザー対向基板201Aの上面に異物が付着しているときには、その異物によって第1検出光L1が遮断され、第1受光部81Bが受光する受光量が低下する。また、マザー対向基板201Aの下面に異物が付着している場合には、異物が付着している近辺のマザー対向基板201Aが基板ステージ14に対して浮き上がった状態となる。当該浮き上がった部分によって、第1検出光L1が遮断され、第1受光部81Bの受光量が低下する。また、第1投光部81Aは、水平方向に対してCF基板W側に所定の傾斜角をなすように、第1検出光L1の光軸を傾斜させている。第1検出光L1の光軸を傾斜させることによって、第1検出光L1の一部がマザー対向基板201Aで反射し、その反射した第1検出光L1を第1受光部81Bに入射させることができる。これにより、第1受光部81Bに入射する第1検出光L1の光量を増大させることができる。すなわち、マザー対向基板201Aに異物が付着しているとき、第1検出光L1を受光する第1受光部81Bにおいて、マザー対向基板201Aに異物が付着していない部分と異物が付着している部分とのコントラストを高くすることができる。したがって、第1検出光L1の拡散による影響を低減し、マザー対向基板201Aに付着した異物を精度よく検出することができる。また、図2a及びbに示すように、基板ステージ14側のY軸ガイドレール18において、基板ステージ14の上面と相対向する面には、基板検出センサー81Cが設けられている。基板検出センサー81Cは、第1異物検出センサー81の第1検出光L1の光軸の直上に設けられている。基板検出センサー81Cは、第1検出光L1の光軸の直下にマザー対向基板201Aが配置されているか否かを検出するセンサーである。基板検出センサー81Cによって第1検出光L1の光軸の直下にマザー対向基板201Aが検出されているとき、第1異物検出センサー81は、第1投光部81Aから第1検出光L1を出射する。第1異物検出センサー81が、検出装置に相当する。第1検出光L1が通過する範囲が検出領域に相当する。第1検出光L1の光軸の方向が、検出領域方向に相当する。次に、第2異物検出センサー83について説明する。第2異物検出センサー83は、基板ステージ14の上面における異物を検出する、搬送テーブル異物検出センサーである。第2異物検出センサー83は、基板ステージ14に付着した異物やメンテナンス時に置き忘れた工具などを検出することができるセンサーである。図2a及びbに示すように、第2異物検出センサー83は、第1異物検出センサー81に隣接した位置に設けられている。第2異物検出センサー83は、投受光部83Aと、反射板83Bと、を備えている。投受光部83Aは、検出光L2を射出する投光部、及び受光部を有している。反射板83Bは、投受光部83Aの投光部から射出された検出光L2を、投受光部83Aの方に反射させる装置である。第2異物検出センサー83は、図示省略したレーザー光源を有し、投受光部83Aの投光部から、反射板83Bに向かってレーザー光からなる所定の光量の検出光L2を出射する。検出光L2は、投受光部83Aと反射板83Bとの間に基板ステージ14が位置する状態で、基板ステージ14の上面に沿うように出射されている。反射板83Bは、投受光部83Aの投光部から出射された検出光L2を、投受光部83Aの受光部に向かって反射させる。投受光部83Aの受光部は、反射板83Bにて反射された検出光L2を受光して、その光量を検出する。基板ステージ14の上面に異物があるときには、検出光L2が遮断され、投受光部83Aの受光部が受光する光量が低下する。次に、第3異物検出センサー84について説明する。第3異物検出センサー84は、検査ユニット70における異物を検出する、検査ユニット異物検出センサーである。第3異物検出センサー84は、検査ユニット70の検査台72、フラッシング回収台73、重量測定ユニット74の上面に付着した異物や検査台72の検査用紙Pの紙浮き、及びメンテナンス時に置き忘れた工具などを検出することができるセンサーである。図1及び図2に示すように、第3異物検出センサー84は、第2異物検出センサー83と同様に、投受光部84Aと、反射板84Bと、を備えている。第2異物検出センサー83の投受光部83Aと同様に、投受光部84Aは、検出光L3を射出する投光部と、受光部とを備えている。反射板83Bは、投受光部84Aの投光部から射出された検出光L3を、投受光部84Aの方に反射する装置である。第3異物検出センサー84の投受光部84Aは、検査ユニット70側のY軸ガイドレール18の支柱19aに隣接した位置に立設された固定部材85aに固定されている。投受光部84Aは、投光部から射出された検出光L3の光軸が所定の高さで略水平となる状態で、固定部材85aに固定されている。反射板84Bは、検査ユニット70側のY軸ガイドレール18の支柱19cに隣接した位置に立設された固定部材85bに、反射面を投受光部83Aに対向させて、固定されている。当該位置及び姿勢で固定されることによって、反射板84Bは、投受光部83Aの投光部から出射された検出光L2を、投受光部83Aの受光部に向かって反射させる。第3異物検出センサー84は、図示省略したレーザー光源を有し、投受光部84Aの投光部から、反射板84Bに向かってレーザー光からなる所定の光量の検出光L3を出射する。検出光L3は、投受光部84Aと反射板84Bとの間に検査ユニット70が位置する状態で、検査ユニット70の検査台72、フラッシング回収台73、又は重量測定ユニット74の上面に沿うように出射されている。反射板84Bは、投受光部84Aの投光部から出射された検出光L3を、投受光部84Aの受光部に向かって反射させる。投受光部84Aの受光部は、反射板84Bによって反射された検出光L3を受光して、その光量を検出する。検査ユニット70の検査台72、フラッシング回収台73、又は重量測定ユニット74の上面に異物があるときには、検出光L3が遮断され、投受光部84Aの受光部が受光する光量が低下する。<液滴吐出ヘッド>次に、液滴吐出ヘッド40について、図3を参照して説明する。図3は、液滴吐出ヘッドの概略構成を示す図である。図3aは、液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図であり、図3bは、液滴吐出ヘッドの構造を示す斜視断面図であり、図3cは、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルの部分の構造を示す断面図である。図3aに示したように、液滴吐出ヘッド40は、ノズル基板45を備えている。ノズル基板45には、多数の吐出ノズル44が略一直線状に並んだノズル列44Aが2列形成されている。吐出ノズル44から液状体を液滴として吐出し、対向する位置にある描画対象物などに着弾させることで、当該位置に液状体を配置する。ノズル列44Aは、液滴吐出ヘッド40が液滴吐出装置1に装着された状態で、図1に示したY軸方向に延在している。ノズル列44Aにおいて吐出ノズル44は等間隔のノズルピッチで並んでおり、2列のノズル列44A間で、吐出ノズル44の位置がY軸方向に半ノズルピッチずれている。したがって、液滴吐出ヘッド40としては、Y軸方向に半ノズルピッチ間隔で液状体の液滴を配置することができる。図3b及びcに示すように、液滴吐出ヘッド40は、ノズル基板45に圧力室プレート51が積層されており、圧力室プレート51に振動板52が積層されている。圧力室プレート51には、液滴吐出ヘッド40に供給される液状体が常に充填される液たまり55が形成されている。液たまり55は、振動板52と、ノズル基板45と、圧力室プレート51の壁とに囲まれた空間である。液状体は、振動板52の液供給孔53を経由して液たまり55に供給される。また、圧力室プレート51には、複数のヘッド隔壁57によって区切られた圧力室58が形成されている。振動板52と、ノズル基板45と、2個のヘッド隔壁57とによって囲まれた空間が圧力室58である。圧力室58は吐出ノズル44のそれぞれに対応して設けられており、圧力室58の数と吐出ノズル44の数とは同じである。圧力室58には、2個のヘッド隔壁57の間に位置する供給口56を介して、液たまり55から液状体が供給される。ヘッド隔壁57と圧力室58と吐出ノズル44と供給口56との組は、液たまり55に沿って1列に並んでおり、1列に並んだ吐出ノズル44がノズル列44Aを形成している。図3bでは図示省略したが、図示した吐出ノズル44を含むノズル列44Aに対して液たまり55に関して略対称位置に、1列に並んで配設された吐出ノズル44がもう1列のノズル列44Aを形成している。当該ノズル列44Aに対応するヘッド隔壁57と圧力室58と供給口56との組が、1列に並んでいる。振動板52の圧力室58を構成する部分には、それぞれ圧電素子59の一端が固定されている。圧電素子59の他端は、固定板図示省略を介して液滴吐出ヘッド40全体を支持する基台図示省略に固定されている。圧電素子59は電極層と圧電材料とを積層した活性部を有し、電極層に駆動電圧を印加することで、活性部が長手方向図3b又はcにおける振動板52の厚さ方向に縮む。活性部が縮むことで、圧電素子59の一端が固定された振動板52が圧力室58と反対側に引張られる力を受ける。振動板52が圧力室58と反対側に引張られることで、振動板52が圧力室58の反対側に撓む。これにより、圧力室58の容積が増加することから、液状体が液たまり55から供給口56を経て圧力室58に供給される。次に、電極層に印加されていた駆動電圧が解除されると、活性部が元の長さに戻ることで、圧電素子59が振動板52を押圧する。振動板52が押圧されることで、圧力室58側に戻る。これにより、圧力室58の容積が急激に元に戻る、すなわち増加していた容積が減少することから、圧力室58内に充填されていた液状体に圧力が加わり、当該圧力室58に連通して形成された吐出ノズル44から液状体が液滴となって吐出される。<ヘッドユニット>次に、キャリッジ30が備えるヘッドユニット41の概略構成について、図4を参照して説明する。図4は、ヘッドユニットの概略構成を示す平面図である。図4に示したX軸方向及びY軸方向は、ヘッドユニット41が液滴吐出装置1に取り付けられた状態において、図1に示したX軸方向又はY軸方向と一致している。図4に示したように、ヘッドユニット41は、ユニットプレート34と、ユニットプレート34に搭載された9個の液滴吐出ヘッド40と、を有している。液滴吐出ヘッド40は、図示省略したヘッド保持部材を介してユニットプレート34に固定されている。固定された液滴吐出ヘッド40は、ヘッド本体がユニットプレート34に形成された孔図示省略に遊嵌して、ノズル基板45が、ユニットプレート34の面より突出した位置に位置している。図4は、ノズル基板45の側から見た図である。9個の液滴吐出ヘッド40は、Y軸方向に分かれて、それぞれ3個ずつの液滴吐出ヘッド40を有するヘッド組42を3群、形成している。それぞれの液滴吐出ヘッド40のノズル列44Aは、ヘッドユニット41が液滴吐出装置1に取り付けられた状態において、Y軸方向に延在している。1個のヘッド組42が有する3個の液滴吐出ヘッド40は、Y軸方向において、互いに隣り合う液滴吐出ヘッド40の、一方の液滴吐出ヘッド40の端の吐出ノズル44に対して、もう一方の液滴吐出ヘッド40の端の吐出ノズル44が半ノズルピッチずれて位置する位置に、配設されている。ヘッド組42が有する3個の液滴吐出ヘッド40において、全ての吐出ノズル44のX軸方向の位置を同じにすると、吐出ノズル44は、Y軸方向に半ノズルピッチの等間隔で並ぶ。すなわち、X軸方向の同じ位置において、それぞれの液滴吐出ヘッド40が有するそれぞれのノズル列44Aを構成する吐出ノズル44から吐出された液滴は、設計上では、Y軸方向に等間隔に並んで一直線上に着弾する。液滴吐出ヘッド40は、Y軸方向において互いに重なるため、X軸方向に階段状に並んでヘッド組42を構成している。ノズル列44Aは、例えば180個の吐出ノズル44を有しており、液滴吐出ヘッド40は、360個の吐出ノズル44を有している。9個の液滴吐出ヘッド40を有するヘッドユニット41は、3240個の吐出ノズル44を有している。1個のヘッドユニット41が備える9個の液滴吐出ヘッド40が有する18列のノズル列44Aは、1本のノズル列として扱うこともできる。当該ノズル列をユニットノズル列240Aと表記する。ユニットノズル列240Aは、3240個の吐出ノズル44を有している。ユニットノズル列240Aのそれぞれの吐出ノズル44から一滴ずつ吐出させて、X軸方向が同じ位置になるように着弾させると、3240個の点が半ノズルピッチのピッチ間隔で直線状に連なる点の集合体が形成される。<液晶表示パネルの構成>次に、液滴吐出装置1を用いて機能膜を形成する対象物の一例としての液晶表示パネルについて説明する。液晶表示パネル200図5参照は、液晶装置の一例であり、カラーフィルターの一例である液晶表示パネル用のカラーフィルターを備える液晶表示パネルである。最初に、液晶表示パネル200の構成について、図5を参照して説明する。図5は、液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図である。図5に示した液晶表示パネル200は、駆動素子として薄膜トランジスターTFTThinFilmTransistor素子を用いるアクティブマトリックス方式の液晶装置であり、図示省略したバックライトを用いる透過型の液晶装置である。図5に示すように、液晶表示パネル200は、TFT素子215を有する素子基板210と、対向電極207を有する対向基板220と、シール材図示省略によって接着された素子基板210と対向基板220との隙間に充填された液晶と、を備えている。貼り合わされた素子基板210と、対向基板220とには、互いに貼り合わされた面の反対側の面に、それぞれ偏光板231又は偏光板232が、配設されている。素子基板210は、ガラス基板211の対向基板220と対向する面に、TFT素子215や、導電性を有する画素電極217や走査線212や信号線214が、形成されている。これらの素子や導電性を有する膜の間を埋めるように、絶縁層216が形成されており、走査線212及び信号線214は、絶縁層216の部分を挟んで互いに交差する状態で形成されている。走査線212と信号線214とは、絶縁層216の部分を間に挟むことで互いに絶縁されている。これらの走査線212と信号線214とに囲まれた領域内には画素電極217が形成されている。画素電極217は方形状の一部の角部分が方形状に欠けた形状をしている。画素電極217の切欠部と走査線212と信号線214とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体部、及びゲート電極を具備するTFT素子215が組み込まれて構成されている。走査線212と信号線214とに信号を印加することによってTFT素子215をオンオフして画素電極217への通電制御を実施する。素子基板210の液晶230と接する面には、上記した走査線212や信号線214や画素電極217が形成された領域全体を覆う配向膜218が設けられている。対向基板220は、ガラス基板201の素子基板210と対向する面に、カラーフィルター以降、CFと表記する。層208が形成されている。CF層208は、隔壁204と、赤色フィルター膜205Rと、緑色フィルター膜205Gと、青色フィルター膜205Bとを有している。ガラス基板201の上に、格子状に隔壁204を構成するブラックマトリックス202が形成されており、ブラックマトリックス202の上にバンク203が形成されている。ブラックマトリックス202とバンク203とで構成された隔壁204によって、方形のフィルター膜領域225が形成されている。フィルター膜領域225には、赤色フィルター膜205R、緑色フィルター膜205G、又は青色フィルター膜205Bが形成されている。赤色フィルター膜205R、緑色フィルター膜205G、及び青色フィルター膜205Bは、それぞれ上述した画素電極217のそれぞれと対向する位置及び形状に形成されている。CF層208の上素子基板210側には、平坦化膜206が設けられている。平坦化膜206の上には、ITOなどの透明な導電性材料で形成された対向電極207が設けられている。平坦化膜206を設けることによって、対向電極207を形成する面を略平坦な面にしている。対向電極207は、上述した画素電極217が形成された領域全体を覆う大きさの連続した膜である。対向電極207は、図示省略した導通部を介して、素子基板210に形成された配線に接続されている。対向基板220の液晶230と接する面には、少なくとも画素電極217の全面を覆う配向膜228が設けられている。液晶は、素子基板210と対向基板220とが貼り合わされた状態において、対向基板220の配向膜228と、素子基板210の配向膜218と、対向基板220と素子基板210とを貼り合わせるシール材とに囲まれた空間に充填されている。なお、液晶表示パネル200は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。<マザー対向基板>次に、マザー対向基板201Aについて、図6を参照して説明する。対向基板220は、分割されることによってガラス基板201となるマザー対向基板201Aの上に上述したCF層208などを形成した後、マザー対向基板201Aを個別の対向基板220ガラス基板201に分割して形成される。図6aは、対向基板の平面構造を模式的に示す平面であり、図6bは、マザー対向基板の平面構造を模式的に示す平面図であり、図6cは、3色カラーフィルターのフィルター膜の配列例を示す模式平面図であり、図6dは、3色カラーフィルターのフィルター膜の配列例を示す模式平面図である。なお、本実施形態においては、マザー対向基板201Aの上にCF層208などを形成したものや、CF層208などを形成する途中の状態のものも、マザー対向基板201Aと表記する。対向基板220は、厚みおよそ1.0mmの透明な石英ガラスからなるガラス基板201を用いて形成されている。図6aに示すように、対向基板220は、ガラス基板201の周囲の僅かな額縁領域を除く部分に、CF層208が形成されている。CF層208は、方形状のガラス基板201の表面に複数のフィルター膜領域225をドットパターン状、本実施形態ではドットマトリクス状に形成し、当該フィルター膜領域225にフィルター膜205を形成することによって形成されている。ガラス基板201のCF層208が形成される領域にかからない位置には、図示省略したアライメントマークが形成されている。アライメントマークは、CF層208などを形成する諸工程を実行するためにガラス基板201を、液滴吐出装置1などの製造装置に取り付ける際などに位置決め用の基準マークとして用いられる。図6bに示すように、マザー対向基板201Aには、対向基板220のCF層208が、分割されてガラス基板201となる部分のそれぞれに形成されている。図6c及び図6dに示すように、フィルター膜205は、隔壁204によって区画されてドットマトリクス状に並んだ複数の方形状のフィルター膜領域225を色材で埋めることによって形成されている。例えば、液滴吐出装置1を用いて、フィルター膜205を構成する色材を含む機能液をフィルター膜領域225に充填し、当該機能液の溶媒を蒸発させて機能液を乾燥させることで、フィルター膜領域225を埋める膜状のフィルター膜205を形成する。3色カラーフィルターにおける赤色フィルター膜205R、緑色フィルター膜205G、及び青色フィルター膜205Bなどの配列としては、例えば、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列などが知られている。ストライプ配列は、図6cに示したように、マトリクスの縦列が全て同色の赤色フィルター膜205R、緑色フィルター膜205G、又は青色フィルター膜205B、になる配列である。モザイク配列は、図6dに示したように、横方向の各行ごとにフィルター膜205を1個分だけ色をずらした配列で、3色フィルターの場合、縦横の直線上に並んだ任意の3つのフィルター膜205が3色となる配列である。図6c又はdに示した3色フィルターにおいて、フィルター膜205は、それぞれが、R赤色、G緑色、B青色のうちのいずれか1色の色材によって形成されている。隣り合って形成された赤色フィルター膜205R、緑色フィルター膜205G、及び青色フィルター膜205Bを各1個ずつ含むフィルター膜205の組で、画像を構成する最小単位である絵素のフィルター以降、絵素フィルター254と表記する。を形成している。絵素フィルター254などの1個の絵素フィルターにおける、赤色フィルター膜赤色フィルター膜205R、緑色フィルター膜緑色フィルター膜205G、及び青色フィルター膜青色フィルター膜205Bのいずれか一つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過させること、及び通過させる光の光量を調整することにより、フルカラー表示を行う。<異物検査工程>次に、液滴吐出装置1を用いて、マザー対向基板201Aに描画する描画工程において実施する異物検査工程について、図7、図8、及び図9を参照して説明する。描画工程は、液滴吐出装置1のヘッドユニット41を用いて、フィルター膜205を構成する色材を含む機能液を、マザー対向基板201Aにおけるフィルター膜領域225に充填するための工程である。異物検査工程は、第1異物検出センサー81を用いて、マザー対向基板201A上の異物を検出し、異物の有無を検査する工程である。機能液を、マザー対向基板201Aにおけるフィルター膜領域225に充填するための工程が、吐出走査工程に相当する。機能液が液状体に相当する。図7は、異物検査工程における各工程を示すフローチャートである。図8及び図9は、異物検査工程におけるマザー対向基板と第1異物検出センサーとの位置関係を示す説明図である。図8は、マザー対向基板201Aの異物が1個の例を示しており、図9は、マザー対向基板201Aの異物が2個の例を示している。最初に、図7のステップS1では、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度を第一角度に調整する。図8に示した例では、マザー対向基板201Aの一辺を基準軸としている。図8aに示すように、マザー対向基板201Aを基板ステージ14に保持させて、基準軸が主走査方向となす角度が第一角度θ1となるように、方向を調整する。図8aに示した第一角度θ1は、90度である。上述したように、基板ステージ14は、真空吸着テーブルであって、その上面にマザー対向基板201Aを吸着固定することができる。基板ステージ14は、ステージ回動機構16によって、X軸移動テーブル12に対してθ方向に回動可能である。基板ステージ14をθ方向に回動させることによって、基板ステージ14に保持されたマザー対向基板201Aの方向を調整することができる。次に、図7のステップS2では、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第一角度である状態で、マザー対向基板201Aの全面について異物検出を実施する。図8aに矢印aで示した主走査方向に基板ステージ14を走査させながら、第1異物検出センサー81によって、マザー対向基板201A上の異物を検出する。上述したように、第1投光部81Aは、基板ステージ14に載置されたマザー対向基板201Aの側面に第1検出光L1の下部が照射されるとともに、マザー対向基板201Aの上面に沿うように第1検出光L1を出射している。図8bに示したように、塵埃91が第1検出光L1の位置に達すると、塵埃91によって第1検出光L1の少なくとも一部が遮られる。第1検出光L1の少なくとも一部が遮られることにより、異物この場合は塵埃91の存在を検知することができる。ステップS2が、第一検出工程に相当する。第一角度θ1が、第一の角度に相当する。主走査方向における矢印aで示した方向が、第一走査方向に相当する。ステップS2では、マザー対向基板201Aの全体が第1検出光L1の位置を通過するまで、基板ステージ14を走査させて、マザー対向基板201Aの全面について異物検出を実施する。このとき、塵埃91が液滴吐出ヘッド40に衝突する可能性があるため、キャリッジ30は、予め待機領域に移動しておくことが好ましい。マザー対向基板201Aの全体が第1検出光L1の位置を通過したか否かは、基板検出センサー81Cによって検出することができる。次に、図7のステップS3では、異物が検出されたか否かを判定する。異物が検出されていなかった場合ステップS3でNOには、異物検査工程を終了する。図8bに示した場合のように、異物が検出されていた場合ステップS3でYESには、ステップS4に進む。ステップS3の次に、ステップS4では、第一異物位置領域191を算出する。第一異物位置領域191は、マザー対向基板201Aにおける、ステップS2を実施して検出された異物が位置する可能性がある領域である。塵埃91が図8bに示したように検出された場合、検出された時点における、基板ステージ14の位置、すなわちマザー対向基板201Aの位置は、走査方向の位置として正確に特定することができる。液滴吐出装置1における第1異物検出センサー81の位置は固定されている。したがって、第1異物検出センサー81による第1検出光L1と、マザー対向基板201Aとの相対位置を正確に特定することができる。このとき、塵埃91が第1検出光L1の少なくとも一部を遮っているため、塵埃91の少なくとも一部は、第1検出光L1をマザー対向基板201Aに投影した領域の中に位置している。図8cに示した第一異物位置領域191は、塵埃91が存在する可能性がある領域である。第一異物位置領域191は、図8bに示した第1検出光L1とマザー対向基板201Aとの位置関係において、第1検出光L1の範囲をマザー対向基板201A上に投影した領域である。図8cに示したように、基準軸としたマザー対向基板201Aの一辺をV軸とし、当該V軸とした辺と略直交する2辺の中の1辺をW軸とする。V軸とした辺とW軸とした辺との角をVW座標の原点とする。第一異物位置領域191における第1検出光L1の光軸の投影線は、VW座標を用いて、W=-tan90-θ1aで表される。aは、図8bに示したように塵埃91が検出された時点における、第1検出光L1の光軸の、V軸からのW軸方向の距離である。θ1=90度であるため、第一異物位置領域191における第1検出光L1の光軸の投影線は、VW座標を用いて、W=aで表される。第一異物位置領域191は、W=aで表される直線に沿った、第1検出光L1の太さを考慮した幅を有する領域である。ステップS4が、第一領域算出工程に相当する。次に、図7のステップS5では、基板ステージ14を後退させる。すなわち、マザー対向基板201Aを後退させる。基板ステージ14を、図8dに示した矢印bの方向に走査させることによって、ステップS2を実施して、第1検出光L1の位置より検査ユニット70の側に位置するマザー対向基板201Aを、図8dに示したように、第1検出光L1に対して、検査ユニット70の反対側に移動させる。ステップS5が、後退工程に相当する。次に、図7のステップS6では、マザー対向基板201Aの角度を第二角度θ2に調整する。ステージ回動機構16を用いて、基板ステージ14を図8dに示した矢印cの方向に回動させることによって、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度を第二角度θ2に調整する。なお、ステップS5では、ステップS6を実施してマザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度θ2となった状態で、マザー対向基板201Aが第1検出光L1に対して、検査ユニット70の反対側に位置する位置まで、基板ステージ14を移動させる。次に、図7のステップS7では、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度θ2である状態で、マザー対向基板201Aの全面について異物検出を実施する。図8eに矢印aで示した主走査方向に基板ステージ14を走査させながら、第1異物検出センサー81によって、マザー対向基板201A上の異物を検出する。図8dに示したように、塵埃91が第1検出光L1の位置に達すると、塵埃91によって第1検出光L1の少なくとも一部が遮られる。第1検出光L1の少なくとも一部が遮られることにより、異物この場合は塵埃91の存在を検知することができる。ステップS7では、マザー対向基板201Aの全体が第1検出光L1の位置を通過するまで、基板ステージ14を走査させて、マザー対向基板201Aの全面について異物検出を実施する。マザー対向基板201Aの全体が第1検出光L1の位置を通過したか否かは、基板検出センサー81Cの検出結果と第二角度θ2とによって、判定することができる。ステップS7が、第二検出工程に相当する。第二角度θ2が、第二の角度に相当する。次に、図7のステップS8では、第二異物位置領域291を算出する。第二異物位置領域291は、マザー対向基板201Aにおける、ステップS7を実施して検出された異物が位置する可能性がある領域である。塵埃91が図8eに示したように検出された場合、ステップS4の第一異物位置領域191を算出する工程と同様にして、第二異物位置領域291を特定することができる。図8fに示した第二異物位置領域291は、塵埃91が存在する可能性がある領域である。第二異物位置領域291は、図8eに示した第1検出光L1とマザー対向基板201Aとの位置関係において、第1検出光L1の範囲をマザー対向基板201A上に投影した領域である。第二異物位置領域291における第1検出光L1の光軸の投影線は、VW座標を用いて、W=-tan90-θ2bで表される。bは、図8eに示したように塵埃91が検出された時点における、第1検出光L1の光軸とW軸とが交差する位置の、V軸からのW軸方向の距離である。第二異物位置領域291は、W=-tan90-θ2bで表される直線に沿った、第1検出光L1の太さを考慮した幅を有する領域である。ステップS8が、第二領域算出工程に相当する。次に、図7のステップS9では、第一異物位置領域191と第二異物位置領域291とから、異物位置領域391を算出する。第一異物位置領域191は、ステップS2を実施することによって求められた塵埃91が位置する領域であり、第二異物位置領域291は、ステップS7を実施することによって求められた塵埃91が位置する領域である。塵埃91は、第一異物位置領域191と第二異物位置領域291との両方に含まれる領域に位置している。図8fに示した異物位置領域391は、第一異物位置領域191と第二異物位置領域291との両方に含まれる領域である。異物位置領域391は、W=aで表される直線と、W=-tan90-θ2bで表される直線との交点の位置に、第1検出光L1の太さを考慮した幅を付加した領域である。ステップS9が、異物位置領域算出工程に相当する。次に、図7のステップS10では、異物位置領域391を表示する。異物位置領域391の表示は、例えば、W=aで表される直線と、W=-tan90-θ2bで表される直線との交点の位置の座標を表示することで表示する。ステップS10を実施して、異物検査工程を終了する。異物検査工程において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了して、直ちに、描画工程を実施することができる。異物検査工程において異物が検出された場合には、異物を除去する工程を実施した後、描画工程を実施する。図9に示したマザー対向基板201Aには、塵埃92と塵埃93とが付着している。図7のステップS2では、図9bに示したように、塵埃92によって第1検出光L1の少なくとも一部が遮られ、塵埃92が検出される。マザー対向基板201Aの全面について異物検出を実施する過程において、塵埃93も検出される。ステップS4を実施して、図9cに示したように、第一異物位置領域192及び第一異物位置領域193が求められる。第一異物位置領域192は、塵埃92が存在する可能性がある領域である。第一異物位置領域193は、塵埃93が存在する可能性がある領域である。第一異物位置領域192における第1検出光L1の光軸の投影線は、VW座標を用いて、W=cで表される。cは、塵埃92が検出された時点における、第1検出光L1の光軸の、V軸からのW軸方向の距離である。第一異物位置領域192は、W=cで表される直線に沿った、第1検出光L1の太さを考慮した幅を有する領域である。第一異物位置領域193における第1検出光L1の光軸の投影線は、VW座標を用いて、W=dで表される。dは、塵埃93が検出された時点における、第1検出光L1の光軸の、V軸からのW軸方向の距離である。第一異物位置領域193は、W=dで表される直線に沿った、第1検出光L1の太さを考慮した幅を有する領域である。図7のステップS7では、図9eに示したように、塵埃92によって第1検出光L1の少なくとも一部が遮られ、塵埃92が検出される。マザー対向基板201Aの全面について異物検出を実施する過程において、塵埃93も検出される。ステップS8を実施して、図9fに示したように、第二異物位置領域292及び第二異物位置領域293が求められる。第二異物位置領域292は、塵埃92が存在する可能性がある領域である。第二異物位置領域293は、塵埃93が存在する可能性がある領域である。第二異物位置領域292における第1検出光L1の光軸の投影線は、VW座標を用いて、W=-tan90-θ2eで表される。eは、図9eに示したように塵埃92が検出された時点における、第1検出光L1の光軸とW軸とが交差する位置の、V軸からのW軸方向の距離である。第二異物位置領域292は、W=-tan90-θ2eで表される直線に沿った、第1検出光L1の太さを考慮した幅を有する領域である。第二異物位置領域293における第1検出光L1の光軸の投影線は、VW座標を用いて、W=-tan90-θ2fで表される。fは、塵埃93が検出された時点における、第1検出光L1の光軸とW軸とが交差する位置の、V軸からのW軸方向の距離である。第二異物位置領域293は、W=-tan90-θ2fで表される直線に沿った、第1検出光L1の太さを考慮した幅を有する領域である。図7のステップS9では、第一異物位置領域192と第二異物位置領域292とから、異物位置領域392を算出する。図9fに示した異物位置領域392は、第一異物位置領域192と第二異物位置領域292との両方に含まれる領域である。異物位置領域392は、W=cで表される直線と、W=-tan90-θ2eで表される直線との交点の位置に、第1検出光L1の太さを考慮した幅を付加した領域である。ステップS9では、同様に、第一異物位置領域193と第二異物位置領域293とから、異物位置領域393を算出する。図9fに示した異物位置領域393は、第一異物位置領域193と第二異物位置領域293との両方に含まれる領域である。異物位置領域393は、W=dで表される直線と、W=-tan90-θ2fで表される直線との交点の位置に、第1検出光L1の太さを考慮した幅を付加した領域である。図9に示した例においては、図7のステップS10では、異物位置領域392及び異物位置領域393を表示する。異物位置領域392及び異物位置領域393を表示するステップS10を実施して、異物検査工程を終了する。<他の異物検査工程例1>次に、液滴吐出装置1を用いて、マザー対向基板201Aに描画する描画工程において実施する異物検査工程の上述した異物検査工程とは一部が異なる異物検査工程について、図10を参照して説明する。図10は、異物検出工程における各工程を示すフローチャートである。最初に、図10のステップS21では、上述した図7のステップS1と同様に、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度を第一角度θ1に調整する。上述した異物検査工程の説明で図8aに示したように、マザー対向基板201Aを基板ステージ14に保持させて、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第一角度θ1となるように、方向を調整する。図8aに示したθ1は、90度である。次に、図10のステップS22では、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第一角度である状態で、マザー対向基板201A上の異物検出を実施し、異物の有無を判定する。図7のステップS2と同様に、図8aに矢印aで示した主走査方向に基板ステージ14を走査させながら、第1異物検出センサー81によって、マザー対向基板201A上の異物を検出する。ステップS22では、マザー対向基板201A上の異物を検出するか、マザー対向基板201A上の異物を検出している状態ではなくなるまで、基板ステージ14を走査させて、マザー対向基板201Aについて異物検出を実施する。マザー対向基板201A上の異物を検出している状態ではなくなるのは、マザー対向基板201Aの全体が第1検出光L1の位置を通過して、マザー対向基板201Aの全面について異物検出が実施された状態である。ステップS22が、第一検出工程に相当する。マザー対向基板201A上の異物が検出されず、マザー対向基板201A上の異物を検出している状態ではなくなった場合ステップS22でNOには、異物検査工程を終了する。図8bを参照して説明した場合のように、異物が検出された場合ステップS22でYESには、ステップS23に進む。ステップS22の次に、ステップS23では、第一異物位置領域191を算出する。第一異物位置領域191は、マザー対向基板201Aにおける、ステップS22を実施して検出された異物が位置する可能性がある領域である。上述したように、塵埃91が、図8bに示したように検出された場合、図8cに示した第一異物位置領域191を求めることができる。第一異物位置領域191における第1検出光L1の光軸の投影線は、VW座標を用いて、W=aで表される。第一異物位置領域191は、W=aで表される直線に沿った、第1検出光L1の太さを考慮した幅を有する領域である。ステップS23が、第一領域算出工程に相当する。次に、図10のステップS24では、基板ステージ14を後退させる。すなわち、マザー対向基板201Aを後退させる。基板ステージ14を、図8dに示した矢印bの方向に走査させることによって、図8bに示した塵埃91を検出した位置に位置するマザー対向基板201Aを、図8dに示したように、第1検出光L1に対して、検査ユニット70の反対側に移動させる。ステップS24が、後退工程に相当する。次に、図10のステップS25では、マザー対向基板201Aの角度を第二角度θ2に調整する。ステージ回動機構16を用いて、基板ステージ14を図8dに示した矢印cの方向に回動させることによって、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度を第二角度θ2に調整する。なお、ステップS24では、ステップS25を実施してマザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度θ2となった状態で、マザー対向基板201Aが第1検出光L1に対して、検査ユニット70の反対側に位置する位置まで、基板ステージ14を移動させる。次に、図10のステップS26では、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度θ2である状態で、異物を検出するまで、マザー対向基板201Aについて異物検出を実施する。ステップS26が、第二検出工程に相当する。次に、ステップS27では、第二異物位置領域291を算出する。第二異物位置領域291は、マザー対向基板201Aにおける、ステップS26を実施して検出された異物が位置する可能性がある領域である。上述したように、塵埃91が図8eに示したように検出された場合、ステップS23の第一異物位置領域191を算出する工程と同様にして、第二異物位置領域291を特定することができる。上述したように、第二異物位置領域291は、W=-tan90-θ2bで表される直線に沿った、第1検出光L1の太さを考慮した幅を有する領域である。ステップS27が、第二領域算出工程に相当する。次に、図10のステップS28では、図7のステップS9と同様にして、第一異物位置領域191と第二異物位置領域291とから、異物位置領域391を算出する。上述したように、異物位置領域391は、W=aで表される直線と、W=-tan90-θ2bで表される直線との交点の位置に、第1検出光L1の太さを考慮した幅を付加した領域である。ステップS28が、異物位置領域算出工程に相当する。次に、図10のステップS29では、異物位置領域391を表示する。異物位置領域391の表示は、例えば、W=aで表される直線と、W=-tan90-θ2bで表される直線との交点の位置の座標を表示することで表示する。ステップS29を実施して、異物検査工程を終了する。異物検査工程において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了して、直ちに、描画工程を実施することができる。異物検査工程において異物が検出された場合には、異物を除去する工程を実施する。本異物検査工程においては、1個の異物が検出された部分より先の部分については、異物検査を実施してないため、異物を除去する工程を実施した後、異物検査を未実施の部分について、異物検査を実施する。マザー対向基板201Aの全面について、異物検査及び異物を除去する工程を実施した後、描画工程を実施する。<他の異物検査工程例2>次に、液滴吐出装置1を用いて、マザー対向基板201Aに描画する描画工程において実施する異物検査工程の上述した異物検査工程とは一部が異なる異物検査工程について、図11、図12、及び図13を参照して説明する。図11は、異物検出工程における各工程を示すフローチャートである。図12及び図13は、異物検出工程におけるマザー対向基板と第1異物検出センサーとの位置関係を示す説明図である。図11のステップS31からステップS39の工程は、図7を参照して説明したステップS1からステップS9の工程と同様の工程である。マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第一角度である状態で、マザー対向基板201Aの全面について異物検出を実施し、塵埃94及び塵埃95が検出されて、図12cに示したように、第一異物位置領域194及び第一異物位置領域195が求められる。図12に示した例では、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度である状態で異物検出を実施し他場合、図12eに示すように、塵埃94及び塵埃95が、恰も1個の異物のように検出されている。このため、図12fに示すように、第二異物位置領域294が求められ、異物位置領域394が求められている。しかし、塵埃95に対応する第二異物位置領域が求められておらず、異物位置領域が特定できていない。図11のステップS39の次にステップS40では、求められた異物位置領域に矛盾があるか否かを判定する。上述した図9に示した例のように、異物位置領域異物位置領域391に矛盾がないステップS40でNO場合には、ステップS47に進む。図12に示した例のように、異物位置領域に矛盾がある塵埃95に対応する異物位置領域が特定できていないステップS40でYES場合には、ステップS41に進む。ステップS41からステップS46の工程は、ステップS42において、図13gに示したように、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度を第三角度に調整する以外は、ステップS35からステップS40の工程と同様の工程である。ステップS41からステップS43を実施して、図13hに示したように、塵埃94及び塵埃95が検出される。ステップS44及びステップS45を実施して、図13iに示したように、第三異物位置領域494と第三異物位置領域495、及び異物位置領域594と異物位置領域595とが求められる。なお、図13iに示した異物位置領域694及び異物位置領域695は、第一異物位置領域194及び第一異物位置領域195と第三異物位置領域494及び第三異物位置領域495とから、異物位置領域594及び異物位置領域595と同様に算出される。異物位置領域694及び異物位置領域695は、異物は存在しないが、異物位置領域として算出される領域である。本異物検査工程では、検出された塵埃94及び塵埃95が存在するのが、異物位置領域694、異物位置領域695、異物位置領域594、及び異物位置領域595のいずれであるかは特定されない。図11のステップS45の次にステップS46では、求められた異物位置領域に矛盾があるか否かを判定する。異物位置領域に矛盾がないステップS46でNO場合には、ステップS47に進む。異物位置領域に矛盾があるステップS46でYES場合には、ステップS48に進む。ステップS46の次にステップS48では、算出されている異物位置領域を表示すると共に、表示した異物位置領域に矛盾があることを表示する。ステップS40又はステップS46の次にステップS47では、算出されている異物位置領域を表示する。図13iに示したように、検出された塵埃94及び塵埃95が存在するのが、異物位置領域694、異物位置領域695、異物位置領域594、及び異物位置領域595のいずれであるかは特定されない場合には、算出された異物位置領域を全て表示する。ステップS47又はステップS48を実施して、異物検査工程を終了する。異物検査工程において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了して、直ちに、描画工程を実施することができる。異物検査工程において異物が検出された場合には、異物を除去する工程を実施した後、描画工程を実施する。ステップS47において、検出された異物の数より多い異物位置領域が表示された場合には、表示された全ての異物位置領域において異物を除去する工程を実施し、実際に存在した異物を除去する。ステップS48が実施されて、算出されている異物位置領域が表示されると共に、表示された異物位置領域に矛盾があることが表示されている場合には、表示された異物位置領域において異物を除去する工程を実施し、再度異物検査工程を実施する。<他の異物検査工程例3>次に、液滴吐出装置1を用いて、マザー対向基板201Aに描画する描画工程において実施する異物検査工程の上述した異物検査工程とは一部が異なる異物検査工程について、図14を参照して説明する。図14は、異物検出工程における各工程を示すフローチャートである。図14のステップS51からステップS58の工程は、図10を参照して説明したステップS21からステップS28の工程と同様の工程である。マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第一角度である状態及び第二角度である状態で異物検出を実施し、第一異物位置領域及び第二異物位置領域が求められる。ステップS58において、第一異物位置領域と第二異物位置領域とから、異物位置領域が算出される。図14のステップS58の次にステップS59では、求められた異物位置領域に矛盾があるか否かを判定する。上述した図8に示した例のように、異物位置領域に矛盾がないステップS59でNO場合には、ステップS66に進む。異物位置領域に矛盾があるステップS59でYES場合には、ステップS60に進む。異物位置領域に矛盾がある場合とは、例えば、異物位置領域がマザー対向基板201Aの上にない場合などである。ステップS60からステップS65の工程は、ステップS61において、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度を第三角度に調整する以外は、ステップS54からステップS59の工程と同様の工程である。異物位置領域がマザー対向基板201Aの上にない場合は、例えば、ステップS52で検出した異物と、ステップS56で検出した異物とが異なる場合である。この場合、第三角度は、第一角度に対して第二角度と反対側に、マザー対向基板201Aを回動させた角度であることが好ましい。ステップS61では、図12cなどに示した矢印cの方向とは反対側にマザー対向基板201Aを回動させて、マザー対向基板201Aの角度を変更することが好ましい。ステップS60からステップS62を実施して、異物が検出される。ステップS63及びステップS64を実施して、異物位置領域が求められる。図14のステップS64の次にステップS65では、求められた異物位置領域に矛盾があるか否かを判定する。異物位置領域に矛盾がないステップS65でNO場合には、ステップS66に進む。異物位置領域に矛盾があるステップS65でYES場合には、ステップS67に進む。ステップS65の次にステップS67では、算出されている異物位置領域を表示すると共に、表示した異物位置領域に矛盾があることを表示する。ステップS59又はステップS65の次にステップS66では、算出されている異物位置領域を表示する。ステップS47又はステップS48を実施して、異物検査工程を終了する。異物検査工程において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了して、直ちに、描画工程を実施することができる。異物検査工程において異物が検出された場合には、異物を除去する工程を実施した後、描画工程を実施する。ステップS67が実施されて、算出されている異物位置領域が表示されると共に、表示された異物位置領域に矛盾があることが表示されている場合には、表示された異物位置領域において異物を除去する工程を実施し、再度異物検査工程を実施する。以下、実施形態による効果を記載する。本実施形態によれば、以下の効果が得られる。1第1異物検出センサー81の第1投光部81Aと第1受光部81Bとは、主走査方向と交差する方向において、主走査方向に走査される基板ステージ14をはさむ位置に配設されている。これにより、1回の検出工程を実施することで、塵埃91などの異物が位置する領域を、第一異物位置領域191や第二異物位置領域291に特定することができる。2走査方向に対するマザー対向基板201Aの角度を変えた2回の検出工程を実施することで、第一異物位置領域191と第二異物位置領域291とのように、1個の塵埃91などの異物が位置する領域として、2個の異なる領域を特定している。第一異物位置領域191と第二異物位置領域291とから異物位置領域391を求めるように、2個の異なる領域の共通部分を求めることで、異物が位置する領域を、異物位置領域391のような狭い範囲に特定することができる。3異物検査工程は、ステップS40などの、異物位置領域391などに矛盾があるか否かを検証する工程を有している。これにより、矛盾がある異物位置領域が、検査結果として出力されることを抑制することができる。4ステップS22やステップS52において塵埃91などの異物が検出された場合には、ステップS24やステップS54において基板ステージ14を後退させている。続いて異物検出工程が実施され、特定された異物位置領域に位置する塵埃91などの異物が除去される。したがって、塵埃91などの異物は、第1異物検出センサー81よりキャリッジ30側に位置することがない。これにより、第1異物検出センサー81とキャリッジ30とを近接させて配置することが可能となり、液滴吐出装置1を小型にすることができる。あるいは、異物検査工程に際して、ヘッドユニット41とマザー対向基板201Aを対向させないためにキャリッジ30を待機領域に移動することを不要にすることができる。5ステップS40などにおいて、異物位置領域391などに矛盾があると判定された場合には、マザー対向基板201Aの角度を第三角度に変更して、異物検出工程を実施する。これにより、矛盾のない異物位置領域を求めることができる確率を高くすることができる。6ステップS61では、図12cなどに示した矢印cの方向とは反対側にマザー対向基板201Aを回動させて、マザー対向基板201Aの角度を変更することが好ましい。ステップS61の前に実施したステップS59で矛盾有りと判定された理由は、ステップS52で検出した異物と、ステップS56で検出した異物とが異なることである可能性が高い。この場合、第二角度に変更するために矢印cの方向にマザー対向基板201Aを回動させたことに対して、第三角度に変更するために矢印cの反対方向にマザー対向基板201Aを回動させることで、矛盾を生じさせた要因を排除できる可能性を高くすることができる。以上、添付図面を参照しながら好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は、前記実施形態に限らない。実施形態は、要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下のように実施することもできる。変形例1前記実施形態においては、ステップS2やステップS22やステップS32やステップS52において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了していた。しかし、第一検出工程において異物が検出されなかった場合に異物検査工程を終了することは必須ではない。例えば異物が小さい場合は、受光量の変化量が小さいことに起因して、検出されない場合がある。異物の形状によって、第一角度の場合に検出光を遮る量が少ないが、第二角度の場合に、検出光を遮る量が第一角度の場合より増加する場合もある。異物が小さい環境などにおいては、第一検出工程において異物が検出されなかった場合にも、第二検出工程を実施してもよい。第一検出工程において異物が検出されなかった場合にも、第二検出工程を実施することで、より確実に異物を検出することができる。第一検出工程において異物が検出されなかった場合にも、第二検出工程を実施すると、異物位置領域に矛盾が生ずる第一異物位置領域が求められていないことに起因して異物位置領域が求められない可能性がある。このため、第一検出工程において異物が検出されなかった場合にも第二検出工程を実施する場合、第二検出工程において異物が検出された場合には、さらに検証工程を実施することが好ましい。変形例2前記実施形態においては、ステップS62では、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度を、第一角度及び第二角度とは異なる第三角度に調整した状態で、異物検出を実施していた。しかし、第三検出工程は、第一検出工程又は第二検出工程を、再度実施する工程であってもよい。異物が小さい場合は、受光量の変化量が小さいことに起因して、検出され難い場合がある。このように、異物が存在するが検出され難い場合には、複数回実施することによって、検出される可能性が高くなる。異物が小さい環境においては、第一検出工程又は第二検出工程を再度実施することが有効である。変形例3前記実施形態においては、ステップS62では、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度を、第一角度及び第二角度とは異なる第三角度に調整した状態で、異物検出を実施していた。しかし、第三検出工程は、異物を検出することによって終了した第二検出工程を、当該異物を検出した状態から再開する工程であってもよい。第一検出工程及び第二検出工程を実施して求めた異物の位置に矛盾が生ずる原因として、第一検出工程と第二検出工程とで、検出された異物が異なる可能性がある。この場合、第二検出工程を、当該異物を検出した状態から再開することで、第一検出工程で検出された異物を、再開した第二検出工程において検出できる可能性が高い。例えば、算出された異物位置領域が被描画媒体から外れた位置である場合などは、第一検出工程と第二検出工程とで、検出された異物が異なる可能性が高い。このような場合には、第二検出工程を、異物を検出した状態から再開することが有効である。変形例4前記実施形態においては、図7を参照して説明した異物検査工程及び図11を参照して説明した異物検査工程におけるステップS7及びステップS37において、マザー対向基板201Aの全面について異物の検出を実施していた。しかし、ステップS7やステップS37のように、2回目の異物検出の工程において被描画媒体の全面について異物の検出を実施することは必須ではない。2回目の異物検出の工程は、例えば、1回目の異物検出の工程において検出した異物の数と同数の異物を検出した時点で終了してもよい。変形例5前記実施形態においては、ステップS5やステップS35において、基板ステージ14を後退させてマザー対向基板201Aを後退させる工程を実施していた。しかし、第一検出工程で被描画媒体の全面について異物の検出を実施する場合、後退工程を実施することは必須ではない。後退工程を実施することなく、第二検出工程においては、第一検出工程と反対方向に、被描画媒体と検出装置とを相対移動させながら異物検出を実施してもよい。変形例6前記実施形態においては、ステップS5やステップS24などにおいて、基板ステージ14を後退させてマザー対向基板201Aを後退させる工程では、マザー対向基板201Aの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度θ2となった状態で、マザー対向基板201Aが第1検出光L1に対して、検査ユニット70の反対側に位置する位置まで、基板ステージ14を移動させていた。しかし、後退工程において、被描画媒体を、被描画媒体が検出領域より第一検出工程を開始した相対位置側第二走査方向側に位置するまで相対移動させることは必須ではない。後退工程では、被描画媒体を、検出した異物が検出領域より第一検出工程を開始した相対位置側第二走査方向側に位置するまで相対移動させてもよい。変形例7前記実施形態においては、被描画媒体は、液晶表示パネル200を構成する対向基板220を区画形成するマザー対向基板201Aであった。しかし、被描画媒体は、液晶表示パネルを構成する基板に限らない。被描画媒体は、液滴吐出ヘッドを用いて描画する被描画媒体であれば、どのような被描画媒体であってもよい。変形例8前記実施形態においては、主走査方向に基板ステージ14を走査させながら、第1異物検出センサー81によって、マザー対向基板201A上の異物を検出していた。しかし、被描画媒体と検出装置とを吐出走査方向における第一走査方向に相対移動させるために、被描画媒体を移動させることは必須ではない。検出装置を移動させることによって、被描画媒体と検出装置とを相対移動させてもよい。変形例9前記実施形態においては、ステップS9などの異物位置領域391などを算出して求める工程を有していた。しかし、異物検査工程において、異物位置領域算出工程を実施することは必須ではない。異物検査工程の結果として、第一異物位置領域と第二異物位置領域とを出力し、第一異物位置領域と第二異物位置領域とが交差する位置は、異物を除去する作業者が、第一異物位置領域と第二異物位置領域との情報から凡その位置を特定する方法であってもよい。