試料を直接または試料ホルダを介して載置する回転テーブルと、前記回転テーブルを回転させる回転機構と、前記回転テーブルを並進移動させる並進機構と、外部から入力された指令値に従って前記回転機構と前記並進機構とを制御するステージ制御手段とを有するステージ装置において、前記試料もしくは前記試料ホルダもしくは前記回転テーブルに設けた位置および方向を測定可能なマーカーと、前記回転機構と前記並進機構とを所定の動作パターンに従って動作させたときの前記マーカーの位置と方向を測定するマーカー位置方向測定手段と、前記測定の結果から前記回転テーブルの回転中心位置を同定する回転中心同定手段と、前記回転テーブルの回転誤差を補正する回転角補正量と前記回転テーブルの回転中心の位置変動を補正する並進補正量とを回転角に対する補正量として作成する補正量テーブル作成手段と、前記回転角補正量と並進補正量を記録する補正量テーブルと、入力された回転角指令値もしくは実回転角に対応した回転角補正量および並進補正量を前記補正量テーブルから取得し取得した補正量を用いて前記回転機構を制御する回転機構制御手段および前記並進機構を制御する並進機構制御手段を有することを特徴とするステージ装置。請求項1に記載のステージ装置において、前記補正量テーブル作成手段は、前記回転機構のみを回転させたときの前記マーカーの位置と方向を測定し、その結果から前記回転テーブルの回転中心と、回転誤差を補正する回転角補正量とを求め、さらに前記補正量テーブル作成手段は、得られた前記回転テーブルの回転中心と回転角補正量とを用いて前記マーカーを仮想回転中心として回転させるように前記回転機構と前記並進機構とを移動させたときの前記マーカーの位置を測定し、その結果から前記回転テーブルの回転中心の位置変動を補正する並進補正量を求め、求められた回転角補正量と並進補正量とから回転角に対する補正量テーブルを作成することを特徴とするステージ装置。請求項1または2に記載のステージ装置において、前記ステージ制御手段は、入力された回転角指令値に対応した回転角補正量と並進補正量を前記補正量テーブルから取得し、入力された回転角指令値と並進位置指令値に取得した回転角補正量と並進補正量を加算した補正指令値を求め、補正指令値に対して前記回転機構制御手段と前記並進機構制御手段を介して前記回転機構および前記並進機構を制御することを特徴とするステージ装置。請求項1または2に記載のステージ装置において、前記回転テーブルの回転角を検出する回転角検出手段と、前記回転テーブルの並進位置を検出する並進位置検出手段とを備え、前記回転角検出手段および前記並進位置検出手段から実回転角および実並進位置を検出し、前記実回転角に対応した回転角補正量および並進補正量を前記補正量テーブルから取得し、前記実回転角および前記並進位置に対して前記回転角補正量および前記並進補正量を減算して補正回転角および補正並進位置を求め、前記補正回転角および補正並進位置をフィードバック量として用いて前記回転機構および前記並進機構とを制御することを特徴とするステージ装置。請求項1乃至4のいずれかに記載のステージ装置において、前記マーカーは、SEM画像のなかで少なくとも2つの特徴点を有するパターン、もしくは対象軸が1本以下の輪郭形状を有するパターンとして判定できるマーカーを用いることを特徴とするステージ装置。請求項1乃至5のいずれかに記載のステージ装置において、操作者がSEM画像を見ながらマーカーを選択するマーカー選択手段を有することを特徴とするステージ装置。請求項1乃至6のいずれかに記載のステージ装置において、前記回転機構および前記並進機構を駆動する駆動手段としてピエゾモータを用いることを特徴とするステージ装置。請求項1乃至7のいずれかに記載のステージ装置は、荷電粒子線装置に使用されることを特徴とするステージ装置。試料を直接または試料ホルダを介して載置する回転テーブルと、前記回転テーブルを回転させる回転機構と、前記回転テーブルを並進移動させる並進機構と、外部から入力された指令値に従って前記回転機構と前記並進機構とを制御するステージ制御手段とを有するステージ装置の制御方法において、前記試料もしくは前記試料ホルダもしくは前記回転テーブルに位置および方向を測定可能なマーカーを設け、前記回転機構と前記並進機構とを所定の動作パターンに従って動作させたときの前記マーカーの位置と方向を測定し、前記測定の結果から前記回転テーブルの回転中心位置を同定し、さらに、前記回転テーブルの回転誤差を補正するための回転角補正量と前記回転テーブルの回転中心の位置変動を補正するための並進補正量とを回転角に対する補正量テーブルとして作成し、入力された回転角指令値もしくは実回転角に対応した回転角補正量および並進補正量を前記補正量テーブルから取得し、取得した補正量を用いて前記回転機構および前記並進機構を制御することを特徴とするステージ装置の制御方法。請求項9に記載のステージ装置の制御方法において、前記補正量テーブルの作成は、前記回転機構のみを回転させたときの前記マーカーの位置と方向を測定し、その結果から前記回転テーブルの回転中心と前記回転テーブルの回転誤差を補正するための回転角補正量とを求め、前記得られた回転テーブルの回転中心と回転角補正量とを用いて前記マーカーを仮想回転中心として回転させるように前記回転機構と前記並進機構とを移動させたときの前記マーカーの少なくとも位置を測定し、その結果から前記回転テーブルの回転中心の位置変動を補正するための並進補正量を求め、求められた回転角補正量と並進補正量とから回転角に対する補正量テーブルを作成することを特徴とするステージ装置の制御方法。請求項9または10に記載のステージ装置の制御方法において、入力された回転角指令値に対応した回転角補正量と並進補正量を前記補正量テーブルから取得し、入力された回転角指令値と並進位置指令値に取得した回転角補正量と並進補正量を加算した補正指令値を求め、補正指令値に対して前記回転機構および前記並進機構とを制御することを特徴とするステージ装置の制御方法。請求項9乃至11のいずれかに記載のステージ装置の制御方法において、回転角検出手段および並進位置検出手段から実回転角および実並進位置を検出し、前記実回転角に対応した回転角補正量および並進補正量を前記補正量テーブルから取得し、前記実回転角および前記並進位置に対して前記回転角補正量および前記並進補正量を減算して補正回転角および補正並進位置を求め、前記補正回転角および補正並進位置をフィードバック量として用いて前記回転機構および前記並進機構とを制御することを特徴とするステージ装置の制御方法。特許文献1に開示されている技術では、回転ステージを回転させつつ基板上の回転中心付近にビームEBを照射し、基板上に全体がSEM等で拡大観察可能な小径の測定円を描画し、測定円の計測により偏芯量を求めて補正を行う。しかし、この方法では描画された測定円の輪郭から位置ずれ量を求めているのみで回転角の誤差を測定し補正することは行っておらず、回転角誤差に起因する位置ずれは補正されない。その他の特許文献でも同様に上記の問題は解決されていない。本発明はこのような問題に鑑みてなされるものであり、本発明の目的は位置ずれ量に加え回転誤差も補正して、高精度なローテーションユーセントリック動作が可能なステージ装置を提供することである。上記の課題を達成するために本発明は、試料を搭載し回転および並進移動を行うステージ装置において、試料もしくは試料を取り付けた試料ホルダを載置する回転テーブルと、回転テーブルを回転させる回転機構と、回転テーブルを並進移動させる並進機構と、外部から入力された指令値に従って回転機構と並進機構とを制御するステージ制御手段とを有するステージ装置であって、試料もしくは試料ホルダもしくは回転テーブルに位置および方向を測定可能なマーカーを設け、回転機構と並進機構とを所定の動作パターンに従って動作させたときのマーカーの位置と方向を測定し、この測定の結果から回転テーブルの回転中心位置を同定し、さらに、回転テーブルの回転誤差を補正するための回転角補正量と回転テーブルの回転中心の位置変動を補正するための並進補正量とを回転角に対する補正量テーブルとして作成し、入力された回転角指令値もしくは実回転角に対応した回転角補正量および並進補正量を補正量テーブルから取得し、取得した補正量を用いて回転機構および並進機構を制御するステージ装置を提供する。この補正量テーブルを作成するために、回転機構のみを回転させたときのマーカーの位置と方向を測定し、その結果から回転テーブルの回転中心と回転誤差を補正するための回転角補正量を求め、さらに、マーカーを仮想回転中心として回転するように回転機構と並進機構を移動させたときのマーカーの少なくとも位置、望ましくは位置と方向を測定し、その結果から回転テーブルの回転中心の位置変動を補正する並進補正量を求め、これから回転角に対する補正量テーブルを作成する。また、補正量テーブルを用いて制御する方法として、入力された回転角指令値に対する回転角補正量と並進補正量を補正量テーブルから取得し、取得した補正量を入力された指令値に加算した補正指令値を求めて、それを新しい指令値として制御する。別の方法としては、回転角を検出する回転角検出手段と、並進位置を検出する並進位置検出手段とを備え、これらから実回転角と実並進位置を取得し、実回転角に対する回転角補正量と並進補正量を補正量テーブルから取得し、実回転角と実並進位置から補正量を減算した値をフィードバック量として制御する。また、本発明に使用しているマーカーは位置と方向が特定できるものであり、少なくとも2つ以上の特徴点、もしくは、対象軸が1本以下の輪郭形状をもつものを設定する。また、マーカーはSEM画像を見ながら操作者が選択できる。本発明のステージ装置は、駆動手段および動力伝達機構にガタやバックラッシュが小さいものを用いるのが望ましく、例えばピエゾモータを用いるのが望ましい。本発明によれば、ステージ装置において、試料等に設けた位置および方向を測定可能なマーカーと、回転機構と並進機構とを所定の動作パターンに従って動作させたときのマーカーの位置と方向を測定するマーカー位置方向測定手段と、測定の結果から回転テーブルの回転中心位置を同定する回転中心同定手段と、回転テーブルの回転誤差を補正する回転角補正量と回転テーブルの回転中心の位置変動を補正する並進補正量とを回転角に対する補正量として作成する補正量テーブル作成手段と、回転角補正量と並進補正量を記録する補正量テーブルと、入力された回転角指令値もしくは実回転角に対応した回転角補正量および並進補正量を補正量テーブルから取得し取得した補正量を用いて回転機構を制御する回転機構制御手段および並進機構を制御する並進機構制御手段を有することにより、回転角補正量と並進補正量を補正して、高精度なローテーションユーセントリック動作が可能なステージ装置を提供することができる。以下に本発明の実施例を図面を用いて説明する。SEMの構成本発明の実施例1において、ステージ装置を用いるSEMの構成を図2を用いて説明する。実施例1において、SEM1は電子光学系を備えた鏡筒2、試料室3、ステージ11から構成される。電子銃4から発生した一次電子線5は収束レンズ6、対物レンズ7を通して試料12に照射され、試料12から発生した二次電子9は二次電子検出器10により検出される。一次電子線5は走査偏光器8により観察する試料12の表面を二次元状に走査する。電子光学系制御手段13は走査偏光器8による一次電子線5の走査を制御するとともに、二次電子検出器10により検出される二次電子9の強度を一次電子線の走査と同期して走査生成される画像の輝度変調入力とすることで試料表面の観察画像SEM画像を生成する。生成されたSEM画像は表示装置14に表示される。観察対象となる試料12は、試料室3内に置かれたステージ11に搭載される。ステージ11は試料12を並進回転移動させるものであり、水平方向XY方向、上下方向Z方向、回転Z軸回りの回転、傾斜X軸周りの回転などの自由度を持つ。ステージ制御手段15は、例えばトラックボールやジョイスティックなどのステージ操作入力手段16からの入力に従いステージ11を制御する。ステージ操作入力手段16としてネットワークやシリアルなどで接続されたPCを用いてもよい。実施例1が対象とする回転操作は、まず表示装置14に表示されているSEM画像上での仮想回転中心を設定し、操作入力手段16で回転角を入力することで行う。ステージ装置実施例1のステージ装置の具体的構成の一例を、図3を用いて説明する。ステージ11は、試料を直接もしくは試料ホルダを介して搭載する回転テーブル210と、回転テーブル210を回転させる回転機構200と、回転テーブル210を並進移動させる並進機構100から構成される。並進機構100と回転機構200を動かすことにより試料を並進回転移動し、さらに、並進機構100と回転機構200とを協調して動かすことにより、回転テーブル210の回転軸と異なった位置に設けた仮想点を中心とした回転動作、すなわちローテーションユーセントリック動作を実現する。並進機構100は、例えば、ベース101にリニアガイド102を取り付けて、それに沿って可動テーブル103を移動させる。可動テーブル103を駆動する並進機構駆動手段としてリニアモータを用いる。ベースにリニアモータのシャフト104を、可動テーブルにモータ本体105を取り付け、シャフト104に沿ってモータ本体105を動かすことにより可動テーブル103を動かす。可動テーブル103の位置を検出する並進位置検出手段としてはリニアスケールを用いればよい。ベース101に取り付けたリニアスケール106には一定間隔毎にスリットが付けられており、その上を可動テーブル103に取り付けたセンサヘッド107を移動させる。センサヘッド107がスリットを通過するたびにパルスが発生し、そのパルスをカウントすることでベース101に対する可動テーブル103の位置を得る。2自由度の並進移動を実現させるには、図3に示すように並進機構を2段重ねにすればよい。回転機構200は、並進機構100の最上段の可動テーブル103bに回転モータ205を取り付け、回転モータ205のシャフトに回転テーブル210を取り付ける。回転テーブル210の回転角を検出する回転角検出手段としてはロータリースケール206を用いる。リニアスケールと同様に、回転テーブル210に取り付けたロータリースケール206には一定角度間隔にスリットが付けてあり、そのスリットを可動テーブル103bに取り付けたセンサヘッド207で読み取ることで可動テーブル103bに対する回転テーブル210の回転角を取得する。なお、実施例1で対象としているステージ機構は試料を回転させる回転機構と並進移動させる並進機構を備えていれば良く、本発明は実施例1の回転機構および並進機構に限定されるものではない。マーカーの設定本発明では、試料、試料ホルダもしくは回転テーブルに、位置と方向を測定するためのマーカーを設け、回転機構と並進機構を所定パターンに従って動かした時のマーカー位置と方向を測定し、その測定結果から回転テーブルの回転中心および回転誤差および回転中心の位置変動を補正する補正量を求める。本発明で使用するマーカーはSEM画像上で特定でき、かつ位置と方向を同時に測定できる特徴的な図形を使用する。例えば、図4に示すような三角形400を用い、三角形400の各頂点401、402、403を特徴点として設定する。このような複数の特徴点を持つマーカーを用いる場合には、マーカーの代表位置として特徴点401、402、403の重心位置、マーカーの方向として特徴点のうちの2点を結ぶ線分最も距離の長い2点を結ぶ線分を用いるのが望ましい、あるいは重心位置から1つの特徴点に向かうベクトル404を用いればよい。複数の特徴点を持つマーカーを用いる場合には、特徴点は少なくとも2点あればマーカーとして使用できる。また、マーカーの応用例として、図5に示すように特徴的な図形の輪郭形状そのものを用いる事ができる。これは画像処理装置を用いる場合に有効であり、特徴的な図形400を含む領域405を選択し、その領域に対してエッジ強調処理を行って特徴的な輪郭形状400を抽出する。マーカーの代表位置としては輪郭パターン400の重心を用い、マーカーの方向をパターンの幅が最も長い部分を用いればよい。ただし、輪郭形状を利用する場合には、対称軸が複数あると方向が一義に決まらないため、そのような図形円や正多角形などは使用できない。回転テーブルの補正量の導出実施例1では、所定のパターンに従って回転機構200および並進機構100を動かし、そのときのマーカーの位置および方向を測定して、回転テーブルの回転中心の同定および回転誤差を補正する回転角補正量、回転中心の位置変動を補正する並進補正量を求める。以下に、その導出方法を図6~8を用いて説明する。始めに、図6のフローチャートを用いて回転中心および回転角補正量、並進補正量の導出を説明する。まず、前述の方法によりマーカーを試料等に設定するステップS1000。次に、回転機構200のみを回転させてマーカーの位置と方向を測定するS1001。これは、例えば図7に示すように、回転機構200のみを一定角度刻みで動かしてそのときのマーカーの位置および方向を測定する。図7は90度ずつ回転させたときのマーカー位置を示す。回転角指令値は少なくとも3個であればよく、また厳密に一定角度刻みである必要はない。その結果、例えばn回、回転機構を動かして測定したとき、回転機構への回転角指令値、そのとき測定されたマーカーの位置、マーカーの方向を回転角指令値:θrii=1、、nマーカーの位置:Xi、Yii=1、、nマーカーの方向:θii=1、、nとする。次に回転テーブルの回転中心を同定するS1002。回転中心をXc、Yc、回転半径をRとすると、以下の関係式が成り立つ。数1Xi-Xc^2Yi-Yc^2=R^21この関係式に対して最小二乗法を適用すれば、もっとも誤差の小さいXc、YcおよびRを同定することができる。次に、回転テーブルの回転誤差を補正するための回転角補正量を求めるS1003。回転誤差Δθii=1、、nは回転角指令値とマーカーの方向θiから次のように求められる。数2Δθi=θi-θoffset-θri2ここで、θoffsetは回転テーブルの回転角に対するマーカーの方向のオフセット値である。このΔθiを用いて回転誤差を補正することが可能であり、これを回転角補正量として利用すればよい。なお、S1002およびS1003では実施例1で行う同定演算方法の一例を示しているが、マーカーの位置と方向を組み合わせてより精度な演算を行うものでもよい。次にマーカーを中心とするように回転機構200、並進機構100を動かしてマーカーの位置変化量、望ましくは位置と方向、を測定するS1004。単純に回転機構のみを動かして回転角をθriとすると、マーカーの理想位置座標は以下のようになる。XcRcosθriθ0、YcRsinθriθ0ここで、θ0は回転テーブル角度原点からのマーカー初期位置の角度である。そこで、回転機構を回転させたときに上記のマーカー位置の変動分だけ並進機構を移動させればマーカーを仮想中心とした回転が実現できるこれは幾何学的な関係から回転中心位置の補正を行う処理であり、幾何学的回転補正と呼ぶ。このときは、S1003にて求めた回転角補正と上記の幾何学的回転補正を行いながら、図8に示すように回転角をθrii=1、、nと変えていったときのマーカーの位置と方向を測定する。図8は90度ずつ回転させたときの様子を示す。次に回転中心の位置変動を補正する並進補正量を求めるS1005。S1004でのマーカーの位置および方向の測定結果を、それぞれ以下のようにする。マーカーの位置:X2i、Y2ii=1、、n、マーカーの方向:θ2ii=1、、n回転軸の単純な偏芯、回転軸の傾きである場合には、上記の幾何学的回転補正により回転中心の位置変動を補正することはできるが、非線形的な変動が発生している場合にはこの計測によりマーカーの位置変動が発生する。このマーカーの位置変動量が回転中心の位置変動に相当するので、マーカーの位置変動量を並進補正量とすればよい。なお、ここではマーカーの位置を用いて並進補正量を求めているが、マーカーの位置と方向とを用いてより高精度に求められる演算を行うようにしてもよい。以上の測定演算により求められた回転角補正量および並進補正量は、回転角をインデックスとする補正量テーブルとして保存しておくS1006。任意の回転角が与えられたときに補正量テーブルから補正値を取得する。特徴点マーカーによる補正操作次にマーカーの設定および測定方法を図9~11を用いて説明する。図9~11は、図4に示すマーカーが特徴的な図形の特徴点を持つ場合の、測定時の表示装置14におけるSEM画像の操作画面を示す。図9において、まず必要に応じて並進機構を移動させ、マーカー400をSEM画像500に表示させる。このときは特徴点401~403を用いてマーカーの代表位置および方向を測定するので、画面上のxカーソル508およびyカーソル509を移動させて、位置を測定する特徴点に合わせる。合わせられたらSetボタン504を押すと、その特徴点の位置が確定され、特徴点位置表示欄501にその座標が表示される。505はCancellボタンである。この作業をすべての特徴点に対して行い、完了したらAllSetボタン506を押す。これによりマーカーの代表位置および方向が計算され、その結果がマーカー位置方向表示欄502に表示されるとともに、SEM画像上にもそのベクトル404が表示される。回転角指令値を変えて測定を続け、すべての回転角に対して測定が終了するとFinishボタン507を押し、これにより回転中心の同定や補正量の計算が行われる。画面500上にはインデックス表示503が設けられているが、これにより測定点数の確認ができる。輪郭形状マーカーによる補正操作図10および図11を用いて、図5に示す輪郭形状パターンをマーカーとして用いる場合の補正を説明する。形状パターンを用いる際にはまずパターンの登録を行う。図10はその登録画面の例である。並進機構を動かして登録したい形状パターン400をSEM画像上に表示させる。次にカーソルを用いて形状パターンを含む領域405を設定しPatternSetボタン510を押す。これにより、エッジ強調、2値化などの画像処理が行われ、形状パターン400がマーカーとして登録される。511はNextボタンである。マーカー位置と方向を測定する時の操作方法の例を図11に示す。必要に応じて並進機構を移動させ登録した形状パターンをSEM画面500上に表示させる。必要に応じて領域405を設定してOKボタン512を押すと、エッジ強調、2値化、パターンマッチングなどの画像処理が行われ、形状パターン400が抽出され、その代表位置および方向が求められ、マーカー位置方向表示欄502に表示されるとともに、SEM画像上にもそのベクトル404を表示される。特徴点マーカーと同様に回転角指令値を変えて測定を続け、すべての回転角に対して測定が終了するとFinishボタン507を押し、これにより回転中心の同定や補正量の計算が行われる。ステージ装置の制御次に、図1を用いて実施例1のステージ装置の制御方法を説明する。実施例1のステージ装置は、並進機構100と、回転機構200と、外部から与えられた指令値により並進機構100および回転機構200を制御するステージ制御手段300とから構成される。ステージ制御手段300は、回転機構を制御する回転機構制御手段301と、並進機構を制御する並進機構制御手段302と、仮想中心点回りの回転を行う際に幾何学的から回転中心の位置変動を補正する幾何学的回転補正手段303、および回転角補正量および並進補正量とを保存する補正量テーブル304を持つ。また、S1002の処理を行い回転中心を同定する回転中心同定手段305、および、S1003、S1005、S1006を行い回転角補正量および並進補正量を求めて補正量テーブル303を作成する補正量テーブル作成手段306、マーカー位置方向測定手段307を持つ。これらはステージ制御手段300に備えられていてもよい。また、ロータリースケールおよびセンサヘッドを有する回転角検出手段208、リニアスケールおよびセンサヘッドを有する並進位置検出手段108を備えている。ステージ装置の動作は次のように行われる。まず、動作開始前に、幾何学的回転補正手段303のパラメータとして回転中心を同定し、また補正量テーブル304の作成を行う。外部から回転角指令値および並進位置指令値が与えられた時、与えられた回転角指令値に対応した回転角補正量および並進補正量を補正量テーブル304から取得する。補正量テーブル304は回転角をインデックスとして参照するが、与えられた回転角指令値が前後するインデックスの中間にある場合は内挿補間を行い補正量を取得する。取得した回転角補正量および並進補正量は、与えられた回転角指令値および並進位置補正値に加算され、それに従って回転機構制御手段301および並進機構制御手段302を制御して、ステージを移動させる。従来技術では回転誤差に回転軸から仮想中心までの距離を乗じた分だけ仮想回転中心位置の変動が発生する。実施例1では回転誤差に対する補正を行っているため、回転角の補正を行うことでその変動を補正することできる。また、回転角に対してテーブルとして補正量を求めておくことで、単純な回転中心の偏差として補正することができなかった非線形的な変動に対してもこれを補正でき、高精度なローテーションユーセントリック動作が実現できる。なお、実施例1のステージ装置の並進機構100および回転機構200が、アクチュエータや伝達機構にガタやバックラッシュがないことが望ましい。そこで、並進機構100および回転機構200の駆動手段としてピエゾモータを用いれば、ガタやバックラッシュの低減を図ることができる。これにより、回転角に非依存な変動や非線形な変動を低減することが可能となり、より高精度なローテーションユーセントリック動作が実現できる。次に、図12を用いて本発明の実施例2を説明する。回転中心の同定および補正量テーブルの作成は、実施例1と同じである。実施例2でのステージ装置は、並進機構100、並進位置検出手段108、回転機構200、回転角検出手段208、ステージ制御手段300から構成され、さらにステージ制御手段300には回転機構制御手段301、並進機構制御手段302、幾何学的回転補正手段303、補正量テーブル304を備えている。また図示していないが、回転中心同定手段や補正量テーブル作成手段を、ステージ制御手段300の内部もしくは外部に備えている。実施例2のステージ装置においては、回転位置検出手段208により検出された回転角に対応した回転角補正量および並進補正量とを取得する。回転角が補正量テーブルの前後するインデックスの中間にある場合は内挿補間を行い補正量を取得する。取得した回転角補正量および並進補正量は、回転角検出手段208から検出された回転角および並進位置検出手段108から検出される並進位置からそれぞれ減算し、その値を回転機構制御手段301および並進機構制御手段302へのフィードバック量として制御を行う。以上のような構成を用いても、回転誤差を補正し、非線形的な変動も補説することが可能となり、高精度なローテーションユーセントリック動作が実現できる。