"電子銃からの電子ビームを第1の成形開口板に設けられた開口で成形し、第1の成形開口板の開口で成形された電子ビームを第2の成形開口板に設けられた開口によって成形し、第1の成形開口板の開口を通過した電子ビームを偏向して第2の成形開口板上に投射し、描画パターンデータに基づいて第1の成形開口板の開口像の第2の成形開口板の開口との重なりの割合を任意に変えることによって、任意の形状および断面積の電子ビームを成形し描画材料の所定の位置にショットすることによって所望の形状の図形を成形電子ビームで描画するようにした電子ビーム描画方法であって、第1と第2の成形開口板のそれぞれに複数の開口を設け、第1の成形開口板の複数の開口を通過した複数の電子ビームを第2の成形開口板の対応する開口部に結像させ、第2の成形開口板の複数の開口を通過した複数の成形電子ビームを被描画材料上にショットするようにした電子ビーム描画方法において、複数の成形電子ビームのショットにより描画される各図形を、少なくとも2回の同一形状および断面積の成形電子ビームの多重ショットにより描画すると共に、該少なくとも2回のショットを前記第1成形開口板の異なる開口を使用して成形した電子ビームにより行うようにしたことを特徴とする電子ビーム描画方法。前記第1および第2の成形開口板のそれぞれには、電子ビーム光軸を中心として回転対称に2個又は4個の開口が設けられ、前記少なくとも2回のショットを前記第1成形開口板の対角位置にある異なる開口を使用して成形した電子ビームにより行うようにしたことを特徴とする請求項1記載の電子ビーム描画方法。電子銃からの電子ビームを第1の成形開口板に設けられた開口で成形し、第1の成形開口板の開口で成形された電子ビームを第2の成形開口板に設けられた開口によって成形し、第1の成形開口板の開口を通過した電子ビームを偏向して第2の成形開口板上に投射し、描画パターンデータに基づいて第1の成形開口板の開口像の第2の成形開口板の開口との重なりの割合を任意に変えることによって、任意の形状および断面積の電子ビームを成形し描画材料の所定の位置にショットすることによって所望の形状の図形を成形電子ビームで描画するようにした電子ビーム描画装置であって、第1と第2の成形開口板のそれぞれに複数の開口を設け、第1の成形開口板の複数の開口を通過した複数の電子ビームを第2の成形開口板の対応する開口部に結像させ、第2の成形開口板の複数の開口を通過した複数の成形電子ビームを被描画材料上にショットするようにした電子ビーム描画装置において、複数の成形電子ビームのショットにより描画される各図形を、少なくとも2回の同一形状および断面積の成形電子ビームの多重ショットにより描画すると共に、該少なくとも2回のショットを前記第1成形開口板の異なる開口を使用して成形した電子ビームにより行うようにしたことを特徴とする電子ビーム描画装置。前記第1および第2の成形開口板のそれぞれには、電子ビーム光軸を中心として回転対称に2個又は4個の開口が設けられ、前記少なくとも2回のショットを前記第1成形開口板の対角位置にある異なる開口を使用して成形した電子ビームにより行うようにしたことを特徴とする請求項3記載の電子ビーム描画装置。前述した可変面積型電子ビーム描画装置においては、電子源4から出射した電子ビームは、図5に示すように照射レンズ2により第1の成形開口板3上の4個全ての開口を含むように照射される。このとき、第1の成形開口板3上の電子ビームの電流密度は、第1の成形開口板3の中心部が最も高く、中心から離れるにつれて減少する分布を示す。そのため、第1の成形開口板3の各開口を通過した矩形状の4本の電子ビームも、図5の下段に示す電子ビームの電流密度分布の斜線部に示すように、光軸に近い部分で電流密度が最も高く、光軸から離れるに従って放射状に減少する分布を示す。このような分布を持つ矩形状の4本の電子ビームを第2の成形開口板7に投射して得られた4本の成形電子ビームも、当然ながら同じ方向に電流密度が減少する分布を示す。このため、第2の成形開口板7から得られた4本の成形電子ビームを材料に投射して描画された各ショット図形は、各ビームの電流密度分布の影響を受けて均一なドーズ量とならず、結果として精度が良いパターンを形成することができないという問題点があった。本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであって、複数の成形電子ビームにより描画を行う際に、各成形電子ビームの電流密度分布の影響を打ち消し、均一なドーズ量の各ショット図形を描画することのできる電子ビーム描画方法及び電子ビーム描画装置を提供することを目的としている。上記課題を解決するため、本発明の電子ビーム描画方法は、電子銃からの電子ビームを第1の成形開口板に設けられた開口で成形し、第1の成形開口板の開口で成形された電子ビームを第2の成形開口板に設けられた開口によって成形し、第1の成形開口板の開口を通過した電子ビームを偏向して第2の成形開口板上に投射し、描画パターンデータに基づいて第1の成形開口板の開口像の第2の成形開口板の開口との重なりの割合を任意に変えることによって、任意の形状および断面積の電子ビームを成形し描画材料の所定の位置にショットすることによって所望の形状の図形を電子ビームで描画するようにした電子ビーム描画方法であって、第1と第2の成形開口板のそれぞれに複数の開口を設け、第1の成形開口板の複数の開口を通過した複数の電子ビームを第2の成形開口板の対応する開口部に結像させ、第2の成形開口板の複数の開口を通過した複数の成形電子ビームを被描画材料上にショットするようにした電子ビーム描画方法において、複数の成形電子ビームのショットにより描画される各図形を、少なくとも2回の同一形状および断面積の成形電子ビームの多重ショットにより描画すると共に、該少なくとも2回のショットを前記第1成形開口板の異なる開口を使用して成形した電子ビームにより行うようにしたことを特徴とする。また、本発明の電子ビーム描画装置は、電子銃からの電子ビームを第1の成形開口板に設けられた開口で成形し、第1の成形開口板の開口で成形された電子ビームを第2の成形開口板に設けられた開口によって成形し、第1の成形開口板の開口を通過した電子ビームを偏向して第2の成形開口板上に投射し、描画パターンデータに基づいて第1の成形開口板の開口像の第2の成形開口板の開口との重なりの割合を任意に変えることによって、任意の形状および断面積の電子ビームを成形し描画材料の所定の位置にショットすることによって所望の形状の図形を電子ビームで描画するようにした電子ビーム描画装置であって、第1と第2の成形開口板のそれぞれに複数の開口を設け、第1の成形開口板の複数の開口を通過した複数の電子ビームを第2の成形開口板の対応する開口部に結像させ、第2の成形開口板の複数の開口を通過した複数の成形電子ビームを被描画材料上にショットするようにした電子ビーム描画装置において、複数の成形電子ビームのショットにより描画される各図形を、少なくとも2回の同一形状および断面積の電子ビームの多重ショットにより描画すると共に、該少なくとも2回のショットを前記第1成形開口板の異なる開口を使用して成形した電子ビームにより行うようにしたことを特徴とする。本発明は以下に示すような効果を有する。本発明の電子ビーム描画方法によれば、第1と第2の成形開口板のそれぞれに複数の開口を設け、第1の成形開口板の複数の開口を通過した複数の電子ビームを第2の成形開口板の対応する開口部に結像させ、第2の成形開口板の複数の開口を通過した複数の電子ビームを被描画材料上にショットするようにした電子ビーム描画方法において、複数の電子ビームのショットにより描画される各図形を、少なくとも2回の同一形状および断面積の電子ビームの多重ショットにより描画すると共に、該少なくとも2回のショットを前記第1成形開口板の異なる開口を使用して成形した電子ビームにより行うようにしたため、少なくとも2回のショットにより各成形電子ビームの電流密度分布を打ち消して均一なドーズ量で描画を行うことができる。また、本発明の電子ビーム描画装置によれば、第1と第2の成形開口板のそれぞれに複数の開口を設け、第1の成形開口板の複数の開口を通過した複数の電子ビームを第2の成形開口板の対応する開口部に結像させ、第2の成形開口板の複数の開口を通過した複数の電子ビームを被描画材料上にショットするようにした電子ビーム描画装置において、複数の電子ビームのショットにより描画される各図形を、少なくとも2回の同一形状および断面積の電子ビームの多重ショットにより描画すると共に、該少なくとも2回のショットを前記第1成形開口板の異なる開口を使用して成形した電子ビームにより行うようにしたため、少なくとも2回のショットにより各成形電子ビームの電流密度分布を打ち消して均一なドーズ量で描画を行うことができる。以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。本発明の第1の実施例によるパターン描画方法を実施する可変面積型電子ビーム描画装置の構成は図3の構成と同じであり、第1の成形開口板3と第2の成形開口板7には、複数の開口例えば4個の矩形状の開口が、光軸0を中心として図4aに示すように設けられている。そして、第1成形開口板3を通過した4本の電子ビームを図1に示すように、成形偏向器12で偏向量を変えて第2成形開口板7上に照射させることで、通常の4本だけでなく、2本あるいは1本の電子ビームも形成させることができる。図1は、4本の成形電子ビームを作成する例を示す。第1の成形開口板3を通過して形成された4本の矩形状断面の電子ビームEB1~EB4は、第2の成形開口板7に設けられた4つの矩形状開口に重なるように投射され、開口を通過した斜線で示す4つの成形電子ビームEB12~EB42を第2の成形開口板7から取り出すことができる。図1は、横方向に並んだ2本の成形電子ビームEB12,EB22を作成する例を示し、図1は、縦方向に並んだ2本の成形電子ビームEB12,EB42を作成する例を示す。なお、においては使用されなかった、第2の成形開口板7の反対側の2つの開口にEB4とEB3を重ねることにより、横方向に並んだ2本の成形電子ビームEB42,EB32を作成することができる。同様に、においては使用されなかった、第2の成形開口板7の反対側の2つの開口にEB2とEB3を重ねることにより、縦方向に並んだ2本の成形電子ビームEB22,EB32を作成することができる。図1は、1本の成形電子ビームを作成する例を示す。第1の成形開口板3を通過して形成された4本の矩形状断面の電子ビームEB1~EB4の内、第2の成形開口板7に設けられた4つの矩形状開口の右下の一つに電子ビームEB1のみが重なるように投射され、その結果、1本の成形電子ビームEB12のみを第2の成形開口板7から取り出すことができる。なお、図1では使用されなかった第2の成形開口板7の右上の矩形状開口に、電子ビームEB4のみが重なるように投射すれば、EB42のみを第2の成形開口板7から取り出すことができる。全く同様に、図1では使用されなかった第2の成形開口板7の左上の矩形状開口に、電子ビームEB3のみが重なるように投射すれば、EB32のみを第2の成形開口板7から取り出すことができ、左下の矩形状開口に、電子ビームEB2のみが重なるように投射すれば、EB22のみを第2の成形開口板7から取り出すことができる。このように、EB12,EB22,EB32,EB42の内から任意の1本の成形電子ビームを第2の成形開口板7から取り出すことができる。以上説明したように、成形電子ビームを4本、2本、1本と切り替えて発生可能な可変面積型電子ビーム描画装置を用いて行われる本発明のパターン描画方法により、繰り返しパターンを描画する様子を図2を用いて説明する。図2は、描画すべき描画パターン、例えばメモリ系素子の繰り返し図形で、縦横均等ピッチで配列される6×6の矩形図形1~36から構成されている。図2は、1回目の描画を説明する図であり、図1を用いて説明したように、描くべき矩形図形1~36の形状に合わせた断面形状を有する4本の成形電子ビームEB12~EB42が第2の成形開口板7から同時に取り出されて材料上にショットされ、それにより矩形図形1,2,7,8が同時に描画される。それを縦横方向にずらしながら9回のショットを繰り返すことにより、矩形図形1~36が描画され、1回目の描画を終える。図2において、4つの矩形図形を囲むように描かれた矩形は、第1の成形開口板3の像を仮想的に描いたものである。図2は、2回目の描画を説明する図であり、成形電子ビームを前述した方法で4本、2本、1本と切り替えて合計16回のショットが行われる。図2において、1個、2個または4個の矩形図形を囲むように描かれた16個の矩形は、図2の場合と同様に16回の各ショットで使用される第1の成形開口板3の開口を仮想的に描いたものであり、使用されないビームに相当する開口は消されている。この図から分かるように、16回のショットの内、中央の4回のショットは4本のビームを使用して行われる。そして、その上側、下側、右側、左側の各2回のショットは2本のビームを使用して行われ、残る四隅の4回のショットは1本のビームを使用して行われる。このようにして、各矩形図形1~36が、それぞれ1回目と2回目の描画で1回ずつ、合計2回のショットで描画でされるのであるが、1回目のショットで使用される成形電子ビームと、2回目のショットで使用される成形電子ビームは、互いに逆向きの電流密度分布を持つものが選ばれるため、2回のショットで描画された矩形図形は、均一な電流密度で描画されたものとなる。例えば、左上隅の矩形図形1の描画は、1回目のショットでは成形電子ビームEB12が使用され、2回目のショットでは図2に示されているように成形電子ビームEB32が使用されて行われる。先に説明したように、EB12とEB32とは、電子ビーム内の電流密度分布の減少方向が逆である。そのため、EB12によるショットとEB13によるショットとを重ねて描画された矩形図形1は、各ショットにおける減少方向が打ち消され、均一な電流密度で描画されたものとなる。同様に、右上隅、左下隅、右下隅の矩形図形6、31、36は、1回目のショットではEB22、EB42、EB32がそれぞれ使用されているため、逆向きの減少方向を持つEB42、EB22、EB12がそれぞれ選択されて使用される。このように、1回目のショットで使用されたビームと逆向きの減少方向をもつビームを選択して2回目のショットを重ね描画することにより、各図形を均一な電流密度で描画することができる。この考え方に基づき、1回目の描画で描画された36個の各矩形図形ごとに逆向きの減少方向をもつ1つのビームを選択して2回目の描画を行えば、1回目9ショット、2回目36ショットの合計45ショットで各図形を均一な電流密度で描画することができる。本実施例では、1回目の描画で描画された36個の各矩形図形における電流密度分布の減少方向の配列に規則性があることに着目し、2回目の描画を1本だけでなく、2本または4本のビームを同時に用いたショットにより行うことにより、ショット数の減少を図っている。例えば、矩形図形2,3に着目すると、矩形図形2、3は、1回目のショットではEB22、EB12がそれぞれ使用されている。これと逆向きの減少方向を持つビームは、EB42、EB32であるが、この2種のビームは同時に取り出すことができ、EB42、EB32を同時に取り出して一度にショットすることができる。矩形図形4,5も、1回目のショットではEB22、EB12がそれぞれ使用されているため、逆向きの減少方向を持つEB42、EB32の2本のビームを同時に取り出してそれぞれに重ね描画することができる。その他の6つの矩形図形の組[7,13]、[12,18]、[19,25]、[24,30]、[32,33]、[34,35]についても全く同様に、2回目の描画において、逆向きの減少方向を持つ2本のビームを同時に取り出してそれぞれに重ね描画することができる。一方、中央部分の矩形図形8、9、14、15に着目すると、1回目のショットではEB32、EB42、EB22、EB12がそれぞれ使用されている。これと逆向きの減少方向を持つビームは、EB12、EB22、EB42、EB32であるが、この4種のビームのこの配列は図1で示したように同時に取り出して一度にショットすることができる。その他の矩形図形の組[10,11,16,17]、[20,21,26,27]、[22,23,28,29]についても、全く同様に1回目のショットではEB32、EB42、EB22、EB12がそれぞれ使用されているため、2回目の描画において、逆向きの減少方向を持つ4本のビームを同時に取り出して一度にショットし、4つの矩形図形それぞれに重ね描画することができる。なお、上記説明では、4つの開口が光軸を中心に回転対称に配列されているため、電流密度分布の減少方向が正反対のビームが存在したが、その様な配列でなければ、逆向きのビームが存在しない場合もある。その様な場合でも、少なくとも、複数回のショットにより描画すると共に、該複数回のショットを第1の成形開口板の異なる開口を使用して成形した電子ビームにより行うようにすることにより、同じ開口を使用する場合に比べて、電流密度分布が均一になる方向に改善されることは言うまでもない。また、1回目の描画を各図形均一のショット時間で行い、2回目の描画を行う際、各図形の位置に応じた近接効果補正を行うために、各図形の位置に応じてショット時間を調節することも可能である。通常の近接効果補正では、図形群の中央部分にある図形よりも、端部にある図形ほどドーズ量を減少させることが行われ、1本のビームを使用する四隅の矩形図形のドーズ量が最も大きく、2本のビームを使用する図形がそれに次ぎ、中央部分の4本のビームを使用する図形が最もドーズ量が少なくなるように、それぞれショット時間が選定されることになる。さらに、上記説明では、電流密度分布の減少方向について着目して説明したが、本発明のように多重描画を行う際に異なる開口を通過したビームを使用することにより、複数の開口の製作精度のばらつき等に基づく複数ビームの特性のばらつきに起因する描画精度の悪化を減少あるいは改善することができるという効果が得られる。また、上記説明では、前記第1および第2の成形開口板のそれぞれには、電子ビーム光軸を中心として回転対称に4個の開口が設けられた例を挙げたが、電子ビーム光軸を中心として回転対称に2個の開口が設けられたものであっても良い。"