"表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在する構造体であって、該構造体が、光照射、電子線照射及び/又は加熱によって、メタアクリレート化合物を含有する重合性組成物が重合したものであって、該メタアクリレート化合物が、該メタアクリレート化合物全体に対して、53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有することを特徴とする構造体。上記ポリエチレングリコールジメタアクリレートが、下記式1で示されるものである請求項1に記載の構造体。[式1中、Rは水素原子又はメチル基を示し、nは繰返し単位数を表し、平均値で8以上25以下の数を示す。]上記メタアクリレート化合物が更にウレタンメタアクリレートを含有する請求項1又は請求項2に記載の構造体。20°Cにおける水の接触角が35°以下となる表面を有する請求項1ないし請求項3の何れかの請求項に記載の構造体。25°Cにおける貯蔵弾性率が2GPa以下である請求項1ないし請求項4の何れかの請求項に記載の構造体。180°Cにおける貯蔵弾性率が0.5GPa未満である請求項1ないし請求項5の何れかの請求項に記載の構造体。光の反射防止用及び/又は光の透過改良用である請求項1ないし請求項6の何れかの請求項に記載の構造体。請求項1ないし請求項7の何れかの請求項に記載の構造体の製造方法であって、表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凹部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凸部を有し、その凹部又は凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在する型に、重合性組成物を供給し、その上から基材を圧着し、該重合性組成物を硬化後、型から剥離することを特徴とする構造体の製造方法。表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凹部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凸部を有し、その凹部又は凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在する型に、メタアクリレート化合物を含有する重合性組成物を供給し、該重合性組成物を、光照射、電子線照射及び/又は加熱することによって硬化させた後、該型から剥離する構造体の製造方法であって、該メタアクリレート化合物が、該メタアクリレート化合物全体に対して、53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有することを特徴とする構造体の製造方法。請求項1ないし請求項7の何れかの請求項に記載の構造体形成用の重合性組成物であって、メタアクリレート化合物を含有し、該メタアクリレート化合物が該メタアクリレート化合物全体に対して53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有することを特徴とする重合性組成物。液晶表示ディスプレイLCD、プラズマディスプレイPDP等のフラットパネルディスプレイ以下、FPDと略記する等は、その視認性確保のために、反射防止膜の装着は必須である。また、レンズ、メーターフロントカバー、窓板、ヘッドライトカバー、ショーウィンドー、額や展示ケースのカバー等においても、反射防止性能の付与が望まれている。かかる用途に用いられる構造体としては、上記a又はbに示した無機又は有機多層膜や、上記cの表面微細構造による反射防止膜等が知られており、このうち、cの表面微細構造を有する構造体は、特に優れた反射防止機能を有することが知られている。しかしながら、c表面微細構造を有する構造体については、その表面の有する好ましい形状構造については、光学の理論と共にかなり検討されているが、その形状構造を形成する材料については、あまり検討がされておらず、従って、特に、表面の機械的特性、汚れの付き難さ、汚れの拭き取り易さ等の性質が不十分であり、実用化には至っていなかった。更に、一概に、特殊な表面微細構造を有する構造体の表面の機械的特性を向上させる、汚れを付き難くする、汚れを拭き取り易くする等といっても、表面の一般的物性をどのようなものにすれば良いかについてはあまり知られていなかった。すなわち、本発明の課題は、光の反射防止性能、光の透過改良性能等を有する構造体に要求される条件として、表面形状のみならず、表面の物性をも見出し、特に表面耐傷性等の機械的強度、汚れの付き難さ、汚れの拭き取り易さ等の性質等を付与した構造体を提供することであり、また、かかる特定の表面形状と物性とを有する構造体を形成させることができる材料を提供することにある。本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、特定の表面形状を有する構造体を、特定の成分を含有する重合性組成物を重合させることによって形成すれば、構造体の表面の親水性を上げることができたり、貯蔵弾性率を好適の範囲に収めることができたりして、上記課題を解決できることを見出した。すなわち、親水性を有する特定のメタアクリレート化合物を、構造体の材料として特定量使用することによって構造体の表面の親水性が上がり、驚くことに、表面耐傷性等の機械的強度、汚れの付き難さ、汚れの拭き取り易さ等の性質を、構造体表面に付与できることを見出した。具体的には、ポリエチレングリコールジメタアクリレートを、重合性組成物中のメタアクリレート化合物全体に対して53質量以上含有させることによって、上記した表面特性に係わる課題を解決できることを見出し本発明に到達した。すなわち、本発明は、表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在する構造体であって、該構造体が、光照射、電子線照射及び/又は加熱によって、メタアクリレート化合物を含有する重合性組成物が重合したものであって、該メタアクリレート化合物が、該メタアクリレート化合物全体に対して、53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有することを特徴とする構造体を提供するものである。また、本発明は、上記ポリエチレングリコールジメタアクリレートが、下記式1で示されるものである上記の構造体を提供するものである。[式1中、Rは水素原子又はメチル基を示し、nは繰返し単位数を表し、平均値で8以上25以下の数を示す。]また、本発明は、上記メタアクリレート化合物が更にウレタンメタアクリレートを含有する上記の構造体を提供するものである。また、本発明は、20°Cにおける水の接触角が35°以下となる表面を有する上記の構造体を提供するものである。また、本発明は、25°Cにおける貯蔵弾性率が2GPa以下である上記の構造体を提供するものであり、また、180°Cにおける貯蔵弾性率が0.5GPa未満である上記の構造体を提供するものである。また、本発明は、光の反射防止用及び/又は光の透過改良用である上記の構造体を提供するものである。また、本発明は、上記構造体の製造方法であって、表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凹部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凸部を有し、その凹部又は凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在する型に、重合性組成物を供給し、その上から基材を圧着し、該重合性組成物を硬化後、型から剥離することを特徴とする構造体の製造方法を提供するものである。また、本発明は、表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凹部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凸部を有し、その凹部又は凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在する型に、メタアクリレート化合物を含有する重合性組成物を供給し、該重合性組成物を、光照射、電子線照射及び/又は加熱することによって硬化させた後、該型から剥離する構造体の製造方法であって、該メタアクリレート化合物が、該メタアクリレート化合物全体に対して、53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有することを特徴とする構造体の製造方法を提供するものである。また、本発明は、上記の構造体を形成するための重合性組成物であって、メタアクリレート化合物を含有し、該メタアクリレート化合物が該メタアクリレート化合物全体に対して53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有することを特徴とする重合性組成物を提供するものである。本発明によれば、光の反射防止性能、光の透過改良性能等の光学的性能のみならず、表面耐傷性等の機械的強度に優れ、耐汚染性等に優れた構造体を提供することができる。1.構造体表面の形状本発明の構造体は、表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有していることが必須である。ここで凸部とは、基準となる面より出っ張った部分をいい、凹部とは、基準となる面より凹んだ部分をいう。本発明の構造体は、その表面に凸部を有していても、凹部を有していてもよい。また、凸部と凹部の両方を有していてもよく、更に、それらが連結して波打った構造を有していてもよい。上記凸部又は凹部は、構造体の少なくとも一部に有していればよい。構造体が平板状又は膜状のものである場合には、該構造体の両面に有していてもよいが、少なくとも一方の表面の少なくとも一部に有していることが必須である。構造体が平板状又は膜状のものである場合には、一方の表面の実質的全面に有していることが好ましい。中でも、凸部又は凹部は、構造体の空気と接している最表面に有していることが好ましい。空気は本発明の構造体とは屈折率が大きく異なり、互いに屈折率の異なる物質の界面が、本発明の特定の構造になっていることによって、反射防止性能や透過改良性能が良好に発揮されるからである。また、機械的外力を受け易い最表面に本発明の構造が存することによって、本発明の効果が発揮されて、表面耐傷性、耐汚染性等が改良されるからである。凸部又は凹部は、構造体の少なくとも一の表面全体に均一に存在していることが、上記効果を奏するために好ましい。凸部の場合には、基準となる面からのその平均高さが、100nm以上1000nm以下であることが必須であり、凹部の場合にも、基準となる面からのその平均深さが、100nm以上1000nm以下であることが必須である。高さ又は深さは一定でなくてもよく、その平均値が上記範囲に入っていればよいが、実質的にほぼ一定の高さ又は一定の深さを有していることが好ましい。凸部の場合でも、凹部の場合でも、その平均高さ又は平均深さは、150nm以上であることが好ましく、200nm以上であることが特に好ましい。また、上限は、1000nm以下であることが好ましく、700nm以下であることがより好ましく、500nm以下であることが特に好ましい。平均高さ又は平均深さが、小さすぎると、良好な光学特性が発現されない場合があり、大きすぎると、製造が困難になる等の場合がある。構造体の表面が連結して波打った構造を有している場合には、表面全体に凸部が存在するか、又は、凹部が存在するかを決める。すなわち、基準となる面を、略最高部が形成する面にとるか、又は、略最深部が形成する面にとるかを決める。そうした上で、本発明の範囲は、最高部から最深部までの平均長さは、上記と同様の理由により、100nm以上1000nm以下であることが必須であり、150nm~800nmが好ましく、200nm~700nmがより好ましく、300nm~500nmが特に好ましい。本発明の構造体は、その表面に、上記凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在することが必須である。凸部又は凹部は、ランダムに配置されていてもよいし、規則性を持って配置されていてもよい。また、何れの場合でも、上記凸部又は凹部は、構造体の表面に実質的に均一に配置されていることが反射防止性や透過改良性の点で好ましい。また、少なくとも、ある一の方向について、平均周期が、50nm以上400nm以下となるように配置されていればよく、全ての方向に、その平均周期が50nm以上400nm以下となっている必要はない。凸部又は凹部が、規則性を持って配置されている場合、上記のように、少なくともある一の方向の平均周期が、50nm以上400nm以下となるように配置されていればよいが、最も周期が短い方向以下x軸方向というへの周期が、50nm以上400nm以下となるように配置されていることが好ましい。すなわち、ある一の方向として、最も周期が短い方向をとったときに、周期が上記範囲内になっていることが好ましい。上記平均周期凸部又は凹部の配置場所に規則性がある場合は周期は、70nm以上が好ましく、100nm以上がより好ましく、120nm以上が特に好ましく、150nm以上が更に好ましい。また、300nm以下が好ましく、250nm以下がより好ましく、200nm以下が特に好ましい。平均周期が短すぎても長すぎても、反射防止効果が充分に得られない場合がある。本発明の構造体は、表面に上記構造を有するが、更に、一般にモスアイ構造蛾の眼構造と呼ばれる構造を有していることが、良好な反射防止性能を有している点で好ましい。また、特許文献1ないし特許文献15の何れかの文献に記載の表面構造を有していることが、同じく良好な反射防止性能の点で好ましい。高さ又は深さを平均周期で割った値であるアスペクト比は特に限定はないが、1以上が光学特性の点で好ましく、1.5以上がより好ましく、2以上が特に好ましい。また、5以下が構造体製造プロセス上好ましく、3以下が特に好ましい。本発明における重合性組成物を重合させることによって、アスペクト比が大きい例えば、1.5以上構造体が好適に形成できるようになった。従って、本発明におけるメタアクリル系重合性組成物の特徴を発揮させるためにも、アスペクト比は大きいほど好ましく、1.5以上が特に好ましく、2以上が更に好ましい。本発明の構造体は、表面に上記構造が付与されていることにより、光の反射率を低減させたり、光の透過性を向上させたりする。この場合の光は、少なくとも可視光領域の波長の光を含む光である。2.構造体の構成と形成方法更に、本発明の構造体は、光照射、電子線照射及び/又は加熱によって、メタアクリレート化合物を含有する重合性組成物が重合したものであることが必須である。すなわち、本発明の構造体は、重合性組成物中のメタアクリレート化合物のメタアクリル基の炭素-炭素間二重結合が、光照射、電子線照射及び/又は加熱によって反応してできる。本発明において、メタアクリルとは、アクリル又はメタクリルを意味する。また、光照射、電子線照射及び/又は加熱によってとは、光照射、電子線照射及び加熱からなる群のうち、何れか1つの処理によってでもよく、そこから選ばれた2つの処理の併用によってでもよく、3つの処理全ての併用によってでもよい。中でも、照射機器のコスト、普及度、硬化に要する時間ラインスピード等の点から光照射の内の紫外線照射によって硬化重合させることが好ましい。本発明の構造体は、その材料となる重合性組成物中のメタアクリル基の炭素-炭素二重結合が反応してできる。その反応率は特に限定はないが、全炭素-炭素二重結合に対して、70以上であることが好ましく、85以上であることがより好ましく、90以上であることが特に好ましい。ここで反応率とは、反応前後のメタアクリル系重合性組成物を赤外線分光法IR、具体的にはフーリエ変換赤外分光光度計SpectrumOneDPerkinElmer社製全反射法ATR法で測定されるエステル結合の炭素-酸素結合に帰属される1720cm1の吸光度と、炭素-炭素結合に帰属される810cm1の吸光度の比率から求めたものである。反応率が低すぎると、機械的強度の低下や耐薬品性の低下をまねく場合がある。3.構造体形成用材料重合性組成物上記したような特定の表面構造を有する本発明の構造体は、下記の材料重合性組成物から形成したときに、光の反射防止性能、光の透過改良性能等の光学的性能等が優れ、特に、表面耐傷性等の機械的強度;汚れの付き難さや水拭きによる汚れの拭き取り易さ等の性質耐汚染性;等に優れたものとなる。すなわち、本発明の構造体は、メタアクリレート化合物を含有する重合性組成物が重合したものであって、該メタアクリレート化合物が、該メタアクリレート化合物全体に対して、53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有することを特徴とする。以下に、本発明の構造体用の材料について詳述する。本発明の構造体は、メタアクリレート化合物を含有する重合性組成物が重合することによって形成される。重合性組成物は、メタアクリレート化合物を含有することが必須であるが、その他に、光重合開始剤、熱重合開始剤等の重合開始剤;バインダーポリマー;微粒子;酸化防止剤;紫外線吸収剤;光安定剤;消泡剤;離型剤;潤滑剤;レベリング剤等を含有することができる。これらは、従来公知のものの中から適宜選択して用いることができる。重合性組成物の成分には、メタアクリレート化合物の重合によって内部に取り込まれるだけで、それ自体が重合に直接関与しないものも含まれる。3-1.メタアクリレート化合物3-1-1.ポリエチレングリコールジメタアクリレート本発明における上記重合性組成物は、メタアクリレート化合物を必須成分として含有するが、該メタアクリレート化合物は、該メタアクリレート化合物全体に対して、53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有することが必須である。ポリエチレングリコールジメタアクリレートを、メタアクリレート化合物全体に対して53質量以上含有させることによって、構造体の表面に傷が付き難くなり、また、汚れが付き難くなったり、汚れが拭き取り易くなったりする。また、前記した特定の微細構造を有する構造体の表面に親水性が良好に付与され、また、炭素-炭素二重結合の反応率、すなわち重合度が十分上がっても、25°C及び/又は180°Cにおける貯蔵弾性率を好適の範囲に収めることができ易くなる。また、それによって、特に、得られる構造体の、光の反射防止性能、光の透過改良性能等の光学的性能;表面耐傷性等の機械的強度;汚れの付き難さや水拭きによる汚れの拭き取り易さ耐汚染性;等が極めて優れたものとなる。ポリエチレングリコールジメタアクリレートは、メタアクリレート化合物全体に対して53質量以上含有させることが必須であるが、55質量以上含有させることがより好ましく、60質量以上含有させることが特に好ましく、65質量以上含有させることが更に好ましい。上限は特に限定はないが、95質量以下で含有させることが好ましく、90質量以下で含有させることが特に好ましく、85質量以下で含有させることが更に好ましい。ポリエチレングリコールジメタアクリレートを2種以上用いるときは、上記範囲はそれらの合計量である。メタアクリレート化合物全体に対して、ポリエチレングリコールジメタアクリレートの含有割合が少なすぎるときは、得られた構造体の前記した特定の微細構造を有する表面に親水性が良好に付与されない場合や、得られた構造体の25°C及び/又は180°Cにおける貯蔵弾性率を好適の範囲に収めることができない場合がある。また、その結果、表面対傷性等の機械的強度;汚れの付き難さや水拭きによる汚れの拭き取り易さ耐汚染性;等が十分に達成できない場合がある。一方、ポリエチレングリコールジメタアクリレートの含有割合が多すぎるときは、親水性能の向上や、耐汚染性の向上には効果はあるが、表面耐傷性等の機械的強度を低下させる場合がある。なお、上記質量は、重合性組成物中のポリエチレングリコールジメタアクリレート、及び、ポリエチレングリコールジメタアクリレート以外のメタアクリレート化合物、共に、単身での質量である。例えば、これらの化合物は、しばしば溶液として入手したり使用したりするが、その場合でも、該化合物単身換算での質量であり、溶媒は質量の計算から除かれる。該化合物単身が固体の時は、固形分換算の質量である。ポリエチレングリコールジメタアクリレートのエチレングリコール鎖の長さは特に限定はないが、-CH2CH2O-を1単位として、平均で、4単位~40単位式1におけるnの平均値4~40が好ましく、6単位~32単位式1におけるnの平均値6~32がより好ましく、8単位~25単位式1におけるnの平均値8~25が特に好ましく、12単位~20単位式1におけるnの平均値12~20が更に好ましい。エチレングリコール鎖が短すぎても長すぎても、構造体の表面に良好な程度に親水性を付与できない場合がある。また、エチレングリコール鎖が短すぎる場合には、25°Cにおける貯蔵弾性率が大きくなりすぎたり、親水性を付与できなくなる場合があり、一方、長すぎる場合には、硬化性が悪くなったり、25°Cにおける貯蔵弾性率が小さくなりすぎたり、低温安定性が悪くなり結晶化する場合がある。その結果として、エチレングリコール鎖が短すぎても長すぎても、表面耐傷性等の機械的強度;汚れの付き難さや水拭きによる汚れの拭き取り易さ等の性質耐汚染性;等が十分に達成できない場合がある。すなわち、上記ポリエチレングリコールジメタアクリレートが、下記式1で示されるものであるときに、上記効果を顕著に発揮する。すなわち、繰り返し単位数が平均値で8単位~25単位であるときに、上記した理由から特に好ましい。[式1中、Rは水素原子又はメチル基を示し、nは繰返し単位数を表し、平均値で8以上25以下の数を示す。]繰り返し単位数が異なるポリエチレングリコールジメタアクリレートは1種を用いても2種類以上を併用してもよい。2種以上用いるときは、その合計量が53質量以上であることが必須である。メタアクリレート化合物、それに含まれるポリエチレングリコールジメタアクリレートの何れも、アクリレートでもメタクリレートでもよいが、アクリレートであることが、重合性が良好である点、硬化膜の機械強度の調整を行い易い点等から好ましい。本発明においては、メタアクリレート化合物として、ポリプロピレングリコールジメタアクリレートの含有を排除するものではないが、ポリプロピレングリコールジメタアクリレートより、ポリエチレングリコールジメタアクリレートの方が、格段に上記した性能に優れる。本発明は、ポリエチレングリコールジメタアクリレートを、メタアクリレート化合物全体に対して、53質量以上含有することが特徴である。3-1-2.ウレタンメタアクリレート本発明におけるメタアクリレート化合物は、更に、ウレタンメタアクリレートを含有することが好ましい。ウレタンメタアクリレートとは、分子中にウレタン結合を有するメタアクリレート化合物をいう。本発明に用いられるウレタンメタアクリレートは特に限定はなく、例えば、ウレタン結合の位置や個数、メタアクリル基の位置や個数は特に限定はない。本発明の構造体形成に用いられるウレタンメタアクリレートの好ましい化学構造としては、A分子中に好ましくは複数個のイソシアネート基を有する化合物に対して、分子中に水酸基と好ましくは複数個のメタアクリル基を有する化合物を反応させて得られるような構造をもつもの、B複数個の水酸基を有する化合物にジイソシアネート化合物やトリイソシアネート化合物を反応させ、得られた化合物の未反応イソシアネート基に、ヒドロキシエチルメタアクリレート等のように分子中に水酸基とメタアクリル基を有する化合物を反応させて得られるような構造をもつもの等が挙げられる。上記メタアクリレート化合物が、ウレタンメタアクリレートを含有することによって、硬化性、反応率が上がり、得られた構造体の25°C及び/又は180°Cにおける貯蔵弾性率を好ましい範囲に収めることができる。また、得られた構造体が柔軟性に優れたものになり、表面耐傷性等の機械的強度、耐汚染性等が十分に達成できるようになる。ウレタンメタアクリレートは、4官能以上のウレタンメタアクリレートでも、3官能以下のウレタンメタアクリレートでも好適に用いられる。また、ウレタンメタアクリレートは1種でも2種類以上を併用してもよい。かかるウレタンメタアクリレートの化学構造には特に限定はなく、その重量平均分子量は、1000以上30000以下であることが好ましく、2000以上5000以下であることが特に好ましい。分子量が小さすぎると、柔軟性が低下する場合がある。[4官能以上のウレタンメタアクリレート]ウレタンメタアクリレートとしては、4官能以上のウレタンメタアクリレートを含有するものであることが特に好ましい。すなわち、分子中にメタアクリル基を4個以上有する化合物を含有することが特に好ましい。この場合のウレタン結合の位置や個数、メタアクリル基が分子末端にあるか否か等は特に限定はない。分子中にメタアクリル基を6個以上有する化合物が特に好ましく、10個以上有する化合物が更に好ましい。また、分子中のメタアクリル基の個数の上限は特に限定はないが、15個以下が特に好ましい。ウレタンメタアクリレート分子中のメタアクリル基の数が少なすぎると、得られた構造体の架橋密度や硬化性が低くなり、25°C及び/又は180°Cの貯蔵弾性率が低くなりすぎたり、構造体の膜質が柔らかくなりすぎたりすることがあり、表面耐傷性が劣る等、十分な機械強度が得られない場合がある。一方、ウレタンメタアクリレート分子中のメタアクリル基の数が多すぎると、得られた構造体の架橋密度や硬化性は高くなるが、25°C及び/又は180°Cの貯蔵弾性率が高くなりすぎたり、構造体の膜質が脆くなりすぎたりして、表面耐傷性が劣る等、十分な機械強度が得られない場合がある。メタアクリレート化合物が、ポリエチレングリコールジメタアクリレートとウレタンメタアクリレートとを含有すると、その相乗効果で、硬化性、柔軟性が向上することとなり、その結果、表面耐傷性等の機械的強度や耐汚染性が十分に達成できるようになる。4官能以上のウレタンメタアクリレートの構造は特に限定はないが、多価イソシアネート化合物aのイソシアネート基に、分子中に1個の水酸基と2個以上のメタアクリル基を有する化合物bの水酸基が反応してなるものであることが好ましい。この場合の多価イソシアネート化合物aとしては特に限定はなく、分子中に2個以上のイソシアネート基を有する化合物が挙げられる。分子中に2個のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、1,5-ナフチレンジイソシアネート、4,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、1,3-フェニレンジイソシアネート、1,4-フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ブタン-1,4-ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン-1,4-ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン-4,4-ジイソシアネート、1,3-ビスイソシアネートメチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、m-テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。また、分子中に3個のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等を変性してなるトリメチロールプロパン付加アダクト体、ビューレット体、3量体化して6員環を形成させたイソシアヌレート体等が挙げられる。イソシアヌレート体の原料となる2官能イソシアネートとしては特に限定はないが、本発明には、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートHDIのイソシアヌレート体がより好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネートHDIが3量体化したイソシヌレート体が、官能基間距離があり、柔軟性を付与する構造となっている点で特に好ましい。分子中に1個の水酸基と2個以上のメタアクリル基を有する化合物bとしては、特に限定はないが、分子中に3個以上p個とするの水酸基を有する化合物b-1の水酸基に、メタアクリル酸がp-1個反応した化合物;グリシジルメタアクリレートとメタアクリル酸が開環反応した化合物等が挙げられる。ここで、分子中に1個の水酸基と2個以上のメタアクリル基を有する化合物bには、該化合物が2種以上の化合物を部分的に反応させて製造される場合に、分子中に2個以上の水酸基を有する化合物が混入する場合や、メタアクリル基1個を有する化合物が混入する場合をも含むものとする。化合物bのうち、分子中にp個pは3以上の整数の水酸基を有する化合物b-1に、メタアクリル酸がp-1個反応した化合物における、分子中に3個以上の水酸基を有する化合物b-1としては特に限定はないが、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、テトラメチロールエタン、ジグリセリン、ジトリメチロールエタン、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、ジテトラメチロールエタン;これらのエチレンオキサイド変性化合物;これらのプロピレンオキサイド変性化合物;イソシアヌル酸のエチレンオキサイド変性化合物、プロピレンオキサイド変性化合物、ε-カプロラクトン変性化合物;オリゴエステル等が挙げられる。化合物b-1における水酸基の数は、得られるウレタンメタアクリレート中の官能基の数を多くできる点で、4個以上が特に好ましい。すなわち、化合物b-1としては、具体的には例えば、ペンタエリスリトール、テトラメチロールエタン、ジグリセリン、ジトリメチロールエタン、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、ジテトラメチロールエタン等が特に好ましい。ジグリセリンを例にとると、ジグリセリンの4個の水酸基のうちの3個の水酸基にメタアクリル酸が反応することによって、分子中に1個の水酸基と2個以上のこの場合は3個のメタアクリル基を有する化合物bが合成される。更に、多価イソシアネート化合物aが、イソホロンジイソシアネートである場合を例にとると、イソホロンジイソシアネートの2個のイソシアネート基に、上記水酸基を1個と2個以上のメタアクリル基を有する化合物bが2個反応し、4官能以上のウレタンメタアクリレートが合成される。このとき、分子中に1個の水酸基と3個のメタアクリル基を有する化合物bがイソホロンジイソシアネートに反応すれば、結果として、分子中にメタアクリル基を6個有する4官能以上のウレタンメタアクリレートが合成される。[3官能以下のウレタンメタアクリレート]ウレタンメタアクリレートとしては、3官能以下のウレタンメタアクリレートでもよい。かかる3官能以下のウレタンメタアクリレートの化学構造には特に限定はなく、公知のものが使用できる。3官能以下のウレタンメタアクリレートとしては、分子の両末端にそれぞれ1個ずつのメタアクリル基を有する2官能ウレタンメタアクリレートが挙げられる。かかる2官能ウレタンメタアクリレートの化学構造には特に限定はない。3-1-3.ポリオールメタアクリレート本発明の構造体を形成させるためのメタアクリレート化合物は、ポリオールメタアクリレートを含有することもできる。本発明におけるポリオールメタアクリレートとは、アルコールとメタアクリル酸との脱水縮合反応等で得られ、ウレタン結合もシロキサン結合も有さず、上記したポリエチレングリコールジメタアクリレート以外のものをいう。2官能のポリオールメタアクリレートとしては、例えば、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート等の直鎖アルカンジオールジメタアクリレート;ジプロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコール400ジメタアクリレート、ポリプロピレングリコール700ジメタアクリレート等のアルキレングリコールジメタアクリレート;ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレートモノベンゾエート等の3価以上のアルコールの部分メタアクリル酸エステル;ビスフェノールAジメタアクリレート、EO変性ビスフェノールAジメタアクリレート、PO変性ビスフェノールAジメタアクリレート、水素化ビスフェノールAジメタアクリレート、EO変性水素化ビスフェノールAジメタアクリレート、PO変性水素化ビスフェノールAジメタアクリレート、ビスフェノールFジメタアクリレート、EO変性ビスフェノールFジメタアクリレート、PO変性ビスフェノールFジメタアクリレート、EO変性テトラブロモビスフェノールAジメタアクリレート等のビスフェノール系ジメタアクリレート;ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジメタアクリレート;ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジメタアクリレート;1,6-ヘキサンジオールビス2-ヒドロキシ-3-アクリロイルオキシプロピルエーテル;トリシクロデカンジメチロールジメタアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジメタアクリレート等のジメタアクリレート等が挙げられる。中でも、柔軟性を付与し、25°C及び/又は180°Cの貯蔵弾性率を調整するために、2官能のポリオールメタアクリレートが好ましい。3官能ポリオールメタアクリレートとしては、例えば、グリセリンPO変性トリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリメタアクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリメタアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリメタアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ε-カプロラクトン変性トリメタアクリレート、1,3,5-トリアクリロイルヘキサヒドロ-s-トリアジン、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタアクリレートトリプロピオネート等が挙げられる。4官能以上のポリオールメタアクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、テトラメチロールエタンテトラメタアクリレート、オリゴエステルテトラメタアクリレート等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上混合して用いられる。3-1-4.エポキシメタアクリレートまた、本発明におけるメタアクリル系重合性組成物は、エポキシメタアクリレートを含有することもできる。エポキシメタアクリレートとは、エポキシ基にメタアクリル酸が反応して得られる構造を有するメタアクリレート化合物をいう。エポキシメタアクリレートは剛直な構造を持ち、配合することによって、膜質がもろくなったり、25°C及び/又は180°Cの貯蔵弾性率が高くなりすぎて、その結果、表面耐傷性や耐汚染性が悪くなったりする場合があるので注意する必要がある。3-2.重合性組成物に含有されるメタアクリレート化合物以外の物質本発明の構造体は、メタアクリレート化合物を含有する重合性組成物が重合することによって形成される。重合性組成物は、メタアクリレート化合物以外に、光重合開始剤、熱重合開始剤等の重合開始剤;重合禁止剤;補足剤;連鎖移動剤;バインダーポリマー;微粒子;酸化防止剤;紫外線吸収剤;光安定剤;消泡剤;離型剤;潤滑剤;レベリング剤;シリコーンオイル;変性シリコーンオイル等を含有することができる。これらは、従来公知のものの中から適宜選択して用いることができる。重合性組成物の成分には、メタアクリレート化合物の重合によって内部に取り込まれるだけで、それ自体が重合に直接関与しないものも含まれる。3-2-1.重合開始剤本発明における重合性組成物には、重合開始剤等を含有させることが好ましい。本発明の構造体が、光照射によって形成される場合には、その材料となる重合性組成物には、光重合開始剤が含有されることが好ましい。光重合開始剤としては特に限定はないが、ラジカル重合に対して従来用いられている公知のもの、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルアセタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α-アシロキシムエステル類等のアリールケトン系光重合開始剤;スルフィド類、チオキサントン類等の含硫黄系光重合開始剤;アシルジアリールホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド類;アントラキノン類等が挙げられる。また、光増感剤を併用させることもできる。本発明の構造体が、電子線照射によって形成される場合には、その材料となる重合性組成物に重合開始剤の含有は必須ではないが、含有されていてもよい。本発明の構造体が、熱重合によって形成される場合には、熱重合開始剤が含有されることが好ましい。熱重合開始剤としては、ラジカル重合に対して従来用いられている公知のものが使用可能であるが、例えば、過酸化物、ジアゾ化合物等が挙げられる。光重合開始剤、熱重合開始剤等の重合開始剤の配合量は、メタアクリレート化合物100重量部に対して、通常0.2~10重量部、好ましくは0.5~7重量部の範囲で用いられる。4.接触角本発明の構造体は、その材料となる重合性組成物中のポリエチレングリコールジメタアクリレートを、メタアクリレート化合物全体に対して53質量以上含有させることが必須であるが、ポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有させることによって、表面を親水性にすることが好ましい。ここで、親水性とは、20°Cにおける水の接触角本発明おいては、単に接触角と略記する場合があるが小さい性質をいう。本発明において、接触角は、表面に規定した微細凹凸構造を持った構造体に水を1滴滴下し、接線法により求めた水の接触角を言う。接触角の測定はDataphysicaFilderstadt社製の接触角測定装置、ModelOCAH200を用いて測定を行った。そして、本発明においては、そのように測定したものとして定義される。本発明における構造体は、特にその表面が親水性になっているものには限定されないが、表面が親水性であると、意外にも、汚れの付き難さや水拭きによる汚れの拭き取り易さ等の性質耐汚染性を付与した構造体を提供することが可能となる。具体的には、20°Cにおける水の接触角が35°以下となる表面を有する上記した構造体が好ましい。より好ましくは接触角が30°以下、特に好ましくは25°以下、更に好ましくは18°以下である。構造体の表面の接触角が大きすぎると親水性でないと、構造体の表面の汚れの付き難さや水拭きによる汚れの拭き取り易さ耐汚染性等が十分でない場合がある。一般の平滑な表面に関しては、その表面が親水性になっても、耐汚染性等に優れるようになるとは言えない。すなわち、通常の平滑な表面においては、親水性にしても汚れが付き難くなるとも一般には考えられない。しかしながら、前記した反射を防止する性質を有する特殊な形状を有する表面においては、意外にも、表面が親水性であると、該表面の耐汚染性が向上する。本発明は、上記した特殊な表面微細構造において、その表面を親水性にすることにより、耐汚染性等に優れる表面物性が実現することを見出してなされた。表面を親水性にする方法としては、通常、水酸基、カルボキシル基等の親水性官能基を導入することが考えられるが、ポリエチレングリコールジメタアクリレートのポリエチレングリコール鎖で親水性を付与した表面が、特異的に、耐汚染性や表面耐傷性等の機械的強度等に優れている。また、前記した通り、ポリプロピレングリコール鎖で親水性を付与した表面より、ポリエチレングリコール鎖で親水性を付与した表面の方が、特異的に、耐汚染性、及び表面耐傷性等の機械的強度等に優れている。接触角を調整するためには、本発明の構造体形成のための材料である重合性組成物の組成、例えば、メタアクリレート化合物の種類や含有量を調整する。特に、ポリエチレングリコールジメタアクリレートの種類エチレングリコールの繰返し数、特に繰返し数が平均で8から25のものを含有させるを調整したり、メタアクリレート化合物の全体量に対するポリエチレングリコールジメタアクリレートの量を53質量以上の範囲で調整したりして行なう。5.貯蔵弾性率25°Cと180°Cにおける貯蔵弾性率本発明の構造体の25°Cにおける貯蔵弾性率本発明においては、単に貯蔵弾性率と略記する場合があるは、特に限定はないが、2GPa以下が好ましく、0.05~2GPaがより好ましく、0.08~1.8GPaが特に好ましく、0.1~1.5GPaが更に好ましく、0.2~1.3GPaが最も好ましい。また、本発明の構造体の180°Cにおける貯蔵弾性率本発明においては、単に180°C貯蔵弾性率と略記する場合があるは、特に限定はないが、0.5GPa未満が好ましく、0.05~0.48GPaがより好ましく、0.1~0.46GPaが特に好ましく、0.15~0.45GPaが更に好ましい。貯蔵弾性率は、測定物の形状や大きさには依存しない物性であるが、本発明においては、構造体から約5mm×約40mm×約100μm厚さに切り出したテストピースで測定されるか、又は、別途この大きさになるように重合させたテストピースで測定される。測定装置は、セイコーインスツルメント社製の動的粘弾性試験機DMS6100を用いて、上記形状のテストピースを、20mmの方向で挟み、-20°C~200°Cの範囲で走査し、25°Cと180°Cの貯蔵弾性率を測定する。もし周波数依存性がある場合には、10Hzで測定された貯蔵弾性率が採用される。貯蔵弾性率や180°C貯蔵弾性率が低すぎる場合も高すぎる場合も、使用温度例えば室温での機械的強度が劣り、構造体の表面が摩耗し易くなったり、表面に傷が付き易くなったりする場合がある。貯蔵弾性率や180°C貯蔵弾性率が高すぎる場合には構造体が固くなり、もろくなり易いために、本発明の特殊な表面微細構造を有する構造体においては構造体の表面が摩耗し易くなったり、表面に傷が付き易くなったりするものと考えられる。貯蔵弾性率や180°C貯蔵弾性率が適度な範囲である場合には、微細構造体であっても摩擦等の外力を柔軟に逃すことによって、構造体の表面が摩耗したり、表面に傷が付き易くなったりするのを防いでいるものと考えられる。また、貯蔵弾性率や180°C貯蔵弾性率が低すぎる場合には構造体が柔らかくなりすぎて、摩擦等の外力に対する機械的な強度が低すぎ、構造体の表面が摩耗し易くなったり、表面に傷が付き易くなったりするものと考えられる。貯蔵弾性率を調整するためには、また要すれば充分な反応率や硬化性を得るためには、本発明の構造体形成のための材料である重合性組成物の組成例えば、メタアクリレート化合物の種類や含有量、重合開始剤の種類や含有量等、重合に用いる光や電子線の照射条件強度、照射時間、波長、酸素の除去等、重合に際しての加熱条件温度、加熱時間、酸素の除去等等を調整する。特に、メタアクリレート化合物の全体量に対するポリエチレングリコールジメタアクリレートの量を53質量以上の範囲で含有させることに加えて、ポリエチレングリコールジメタアクリレートのエチレングリコール鎖の繰返し数が平均で8から25のものを選択したり、ウレタンメタアクリレートを併用したりすることが、貯蔵弾性率を適度な範囲に調整する上で相乗的な効果がある。本発明の構造体は、低反射率や高透過性が発現される特殊な表面構造を有するため、その物性にも特殊な物性が要求される。本発明は、上記した特殊な表面微細構造において、表面耐傷性等の機械的強度に優れ、耐汚染性に優れた構造体物性を見出してなされた。6.構造体の製造方法本発明の構造体の製造方法は特に限定はないが、例えば下記の方法が好ましい。すなわち、上記重合性組成物を基材上に採取、バーコーター若しくはアプリケーター等の塗工機又はスペーサーを用いて塗布する。構造体が膜状の場合には、均一膜厚になるように塗布する。ここで、基材としては、特に限定はないが、ポリエチレンテレフタレート以下、PETと略記する、トリアセチルセルロース等のフィルムが好適である。次いで、前記表面構造をもった型を貼り合わせる。貼り合わせた後、該フィルム面から紫外線照射若しくは電子線照射及び/又は熱により重合させる。その後、重合性組成物が重合したものを、型から剥離して本発明の構造体を製造する。あるいは以下の方法も好ましい。すなわち、前記表面構造をもった型の上に、直接、重合性組成物を採取する。構造体が膜状の場合には、塗工機やスペーサー等で均一膜厚の塗布膜を作成してもよい。重合性組成物が重合したものを、型から剥離して本発明の構造体を製造する。また、特に好ましい構造体の製造方法は以下の通りである。すなわち、前記の構造体の製造方法であって、表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凹部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凸部を有し、その凹部又は凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在する型に、重合性組成物を供給し、その上から基材を圧着し、該重合性組成物を硬化後、型から剥離することを特徴とする構造体の製造方法である。また、表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凹部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凸部を有し、その凹部又は凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在する型に、メタアクリレート化合物を含有する重合性組成物を供給し、該重合性組成物を、光照射、電子線照射及び/又は加熱することによって硬化させた後、該型から剥離する構造体の製造方法であって、該メタアクリレート化合物が、該メタアクリレート化合物全体に対して、53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有することを特徴とする構造体の製造方法である。型は、特に限定はないが、一例として、アルミニウム又はアルミニウム合金に、陽極酸化とそれによって得られた陽極酸化皮膜のエッチングとの繰り返しにより、アルミニウム合金の表面に、上記の形状を形成させたものが好ましいものとして挙げられる。前記した特許文献14や特許文献15に記載の方法によって、好ましく製造することができる。本発明の構造体の製造方法を、更に図1を用いて具体的に説明するが、本発明は図1の具体的態様に限定されるものではない。すなわち、型2に重合性組成物1を適量供給又は塗布し図1a、ローラー部側を支点に基材3を斜めから貼り合せる図1b。型2と重合性組成物1と基材3が一体となった貼合体を、ローラー4へと移動し図1c、ローラー圧着させることにより、型2が有する特定の構造を重合性組成物1に転写、賦型させる図1d。これを硬化させた後、型2から剥離することにより図1e、本発明の目的とする構造体5を得る。図2は、連続的に構造体を製造する装置の一例の模式図であるが、本発明はこの模式図に限定されるものではない。すなわち、型2に重合性組成物1を付着させ、ローラー4により力を加え、基材3を型に対して斜めの方向から貼り合せて、型2が有する特定の構造を重合性組成物1に転写させる。これを、硬化装置6を用いて硬化させた後、型2から剥離することにより、本発明の目的とする構造体5を得る。支持ローラー7は、構造体5を上部に引き上げるためのものである。ローラー4を用いて、斜めから貼り合わせることによって、気泡が入らず欠陥のない構造体5が得られる。また、ローラーを用いれば線圧を加えることになるため圧力を大きくでき、そのため大面積の構造体の製造が可能になり、また、圧の調節も容易になる。また、構造体5が膜状の場合には、基材と一体となった均一な膜厚と、所定の光学物性を有する構造体の製造が可能になり、更に、連続的に製造できるため生産性に優れたものになる。本発明の構造体は、光照射、電子線照射及び/又は加熱によって重合したものであることが必須であるが、光照射の場合の光の波長については特に限定はない。可視光線及び/又は紫外線を含有する光であることが、要すれば光重合開始剤の存在下で良好にメタアクリル基の炭素-炭素間二重結合を重合させる点で好ましい。特に好ましくは紫外線を含有する光である。光源は特に限定はなく、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、ハロゲンランプ、無電極ランプ、各種レーザー等公知のものが用いられ得る。電子線の照射の場合、電子線の強度や波長には特に限定はなく、公知の方法が用いられる。熱によって重合させる場合は、その温度は特に限定はないが、80°C以上が好ましく、100°C以上が特に好ましい。また、200°C以下が好ましく、180°C以下が特に好ましい。重合温度が低すぎる場合は重合が充分に進行しない場合があり、高すぎる場合は重合が不均一になったり、基材の劣化が起こったりする場合がある。加熱時間も特に限定はないが、5秒以上が好ましく、10秒以上が特に好ましい。また、10分以下が好ましく、2分以下が特に好ましく、30秒以下が更に好ましい。7.作用原理特定の表面構造を有する本発明の構造体の表面において、重合性組成物中のメタアクリレート化合物全体に対して53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートが含有されると、柔軟で、優れた機械的強度を与え、表面に傷が付き難く、また、汚れの付き難さや水拭きによる汚れの拭き取り易さ耐汚染性等に優れるようになる作用原理については明らかではなく、また、以下の作用原理の当てはまる範囲に本発明は限定される訳ではないが、機械的強度の向上については、ポリエチレングリコールジメタアクリレートの官能基分子間距離が適度であることと、エチレングリコール鎖の分子構造とが相互作用して、表面の凹凸1個1個の微細構造にかかる外力を柔軟に抗する力学物性を持った構造体の表面を形成するためと考えられる。そして、汚れの付き難さや水拭きによる汚れの拭き取り易さ、特に水拭きによる汚れの拭き取り性は、表面微細構造体が親水性であるため、付着した汚れ油を水拭きすると、その水が親水性表面の凹部にまで濡れ拡がり、汚れ成分と構造体界面に水の層が形成され、拭き取ったときに汚れ成分が容易に拭き取られるものと考えられる。また、柔軟な膜質であることも水拭きによる汚れの拭き取り易さの向上に寄与しているものと考えられる。つまり、微細構造が柔軟に動くことによって、水が凹部に入り込むことや、汚れが凹部の外に出て行くのを助け、その結果、水拭きによる汚れの拭き取り易さが向上するものと考えられる。これに対して、親水性でない場合には、付着した汚れ油を水拭きしても、その水が表面の凹部にまで濡れ拡がり難く、特に凹部に入り込んだ汚れ成分が拭き取り難くなってしまうものと考えられる。また、特定の表面構造を有する本発明の構造体が前記の貯蔵弾性率を有するとき、適度な柔軟性と特に優れた機械的強度を与え、特に表面に傷が付き難く、耐汚染性に優れるようになる作用原理については明らかではなく、以下の作用原理の当てはまる範囲に本発明は限定される訳ではないが、高分子の力学物性を考慮すると、凹凸1個1個の微細な部分の力学物性が特定の範囲の値になることにより、構造体表面が外力に耐えられる性能を有するようになるからであると考えられる。以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これらに限定されるものではない。実施例1[構造体の製造]前記式1に含まれる下記の一般式2で示されるポリエチレングリコールジアクリレートにおいて、m=24mはエチレングリコールの繰り返し単位数を示すのものを70g、下記の式aで示されるイソホロンジイソシアネートにジペンタエリスリトールペンタアクリレートが2個結合してなるウレタンメタアクリレートaを30g、光重合開始剤として、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン5gを撹拌混合して重合性組成物を得た。[式2中、mは自然数を示す。][式a中、Xは、ジペンタエリスリトール6個の水酸基を有する残基を示す。]次いで、その適量をPETフィルム上に採取して、バーコーターNO28にて、均一な膜厚になるように塗布した。その後、表面に、平均高さ150nmの凸部が平均周期205nmで配置された構造をもった型を貼り合わせた。型全体が、重合性組成物に貼り合わされたことを確認して、フュージョン社製UV照射装置によって、800mJ/cm2の紫外線を照射して重合させ、構造体を製造した。[評価]得られた構造体を以下の方法で評価した。結果を表1に示す。<表面耐傷性の評価方法と判定基準>構造体の表面上を、新東科学株社製の表面試験機ドライボギアTYPE-14DRを用い、25mm円柱の平滑な断面にスチールウール0000を均一に貼り付け、荷重400gをかけながら、速度10cm/秒で10往復させたときの傷の付き具合を観察した。以下の基準で判定し、4以上を良好、3をやや良好、2以下を不良、とした。判定基準5:数本未満の引掻き傷あり4:数本から10本の引掻き傷あり3:25mm円柱の半分に引掻き傷あり2:25mm円柱の2/3に引掻き傷あり1:25mm円柱の全面に引掻き傷あり<反射率の測定方法>島津製作所製、自記分光光度計UV-3150を用い、裏面に黒色テープを貼り付け、構造体の表面の5°入射絶対反射率を測定した。測定波長は、380nmから780nmとした。<耐汚染性の評価方法と判定基準>人差し指の油を付着させ、構造体の表面上に強く押し付け、正面からの目視で指紋汚れがはっきり分かるようにした。その後、市販のティッシュペーパー1枚を3cm角に包め、水を十分に浸み込ませ水滴が滴り落ちない程度、それを手に持って、構造体の表面を、上記指紋汚れを拭き取るように、腕の自荷重位の強さで、5往復させて水拭きした。そして、拭き取り部に残った過剰の水分を乾燥したティッシュペーパーで1回拭き取った。その後、上記した反射率の測定方法を用いて、水拭き後の構造体の表面の反射率を測定し、水拭き前の構造体の表面の反射率と比較した。以下の基準で判定し、反射率の上昇が、0.2ポイント以下◎、○を良好、0.2ポイントより大きく0.3ポイント以下△をやや良好、0.3ポイントを超えるもの×を不良と判断した。反射率の上昇分をポイントとした。すなわち、例えば、水拭き前の構造体の表面の反射率が0.2であり、水拭き後の構造体の表面の反射率が0.3の場合には、反射率の上昇は0.1ポイントである。なお、反射率の上昇値と指紋汚れを目視で観察したときの状態はおおむね以下の通りだった。判定基準[反射率の上昇値と指紋汚れを目視したときの状態]◎:0.1ポイント以下。指紋汚れが正面から観察できないし斜めからでも観察できない。○:0.1ポイントより大きく0.2ポイント以下。指紋汚れが正面から観察できないが斜めからわずかに観察できる。△:0.2ポイントより大きく0.3ポイント以下。指紋汚れが正面から観察できないが斜めからでは観察できる。×:0.3ポイントより大きく0.5ポイント以下、指紋汚れが正面からでも観察できる。<接触角>接触角は、表面に規定した微細凹凸構造を持った構造体に水を滴下し、接線法により求めた水の接触角を言う。接触角の測定は、DataphysicaFilderstadt社製の接触角測定装置、ModelOCAH200を用いて測定を行った。<貯蔵弾性率>上記で得られた構造体1~6を、それぞれ5mm×40mmに切り出して、5mm×40mm×100μmのテストピースを作成した。測定は、セイコーインスツルメント社製の動的粘弾性試験機DMS6100を用いて、上記テストピースを、20mmの方向で挟み、10Hzの周波数の力を加え、-20°C~200°Cの範囲を走査し、25°Cの貯蔵弾性率を測定し、貯蔵弾性率とした。<180°C貯蔵弾性率>上記した25°Cの貯蔵弾性率の測定方法と同様に、-20°C~200°Cの範囲を走査し、180°Cの貯蔵弾性率を測定し、180°C貯蔵弾性率とした。実施例2~7、比較例1~11表1に示した組成を有する重合性組成物の適量をPETフィルム上に採取して、実施例1と同様に、均一な膜厚になるように塗布した。その後、実施例1と同様の型を貼り合わせ、同様に重合させ、それぞれの構造体を製造した。なお、表1中の数字の単位は[g]である。実施例1、実施例2及び比較例1では、上記一般式2で示されるポリエチレングリコールジアクリレートにおいて、m=24mはエチレングリコールの平均繰り返し単位数を示すを表1に記載の量だけ用いた。また、実施例3、実施例4、実施例7、比較例2、比較例4及び比較例11では、上記一般式2で示されるポリエチレングリコールジアクリレートにおいて、m=14mはエチレングリコールの平均繰り返し単位数を示すのものを、表1に記載の量表1中の数字は[g]を示す用いた。また、実施例5、実施例6及び比較例3では、上記一般式2で示されるポリエチレングリコールジアクリレートにおいて、m=9mはエチレングリコールの平均繰り返し単位数を示すのものを、表1に記載の量表1中の数字は[g]を示す用いた。表1中、プロピレングリコールジアクリレートにおいても、mはプロピレングリコールの平均繰り返し単位数を示す。表1中、ウレタンメタアクリレートbは、ヘキサメチレンジイソシアネートが3量体化して6員環を形成したヌレート体3官能イソシアネートに、ペンタエリスリトールトリアクリレートが3個結合したものを示す。ポリエチレングリコールジメタアクリレートを、メタアクリレート化合物全体に対して53質量以上含有する実施例1~7は、表面耐傷性が全て4以上であり、耐汚染性が全て△以上すなわち、水拭き後の反射率の上昇値が0.3ポイント以下であり、全て総合的に極めて優れたものであった。一方、ポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有していても、メタアクリレート化合物全体に対して53質量未満しか含有しない比較例1~4、11は、表面耐傷性が全て4未満であり、耐汚染性が×すなわち、水拭き後の反射率の上昇値が0.3ポイントより大であった。また、ポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有していない比較例5~10は、表面耐傷性が全て3以下であり、耐汚染性が×すなわち、水拭き後の反射率の上昇値が0.3ポイントより大であった実際には、全て0.6ポイント上昇であった。比較例は、評価した全ての性能で劣り、総合的にも劣ったものであった。特に、ポリエチレングリコールジメタアクリレートに代えて、ポリプロピレングリコールジメタアクリレートを用いた比較例5~7も、総合的に劣ったものであった。また、実施例1~7から、ポリエチレングリコールジメタアクリレートとウレタンメタアクリレートの併用が、特に優れた性能を示すことが分かった。接触角は、実施例1~7は全て35°以下であったが、比較例は全て40°以上であった。実際には、比較例4の40°以外は全て60°と極めて大きかった。これより、接触角が小さい、すなわち親水性の表面を有する構造体において、特に優れた表面耐傷性と耐汚染性が達成できることが分かった。25°Cにおける貯蔵弾性率は、測定した実施例では全て2GPa以下であったが、測定した比較例では全て2GPaより大きかった。これより、25°Cにおける貯蔵弾性率が一定値より小さいと、特に優れた表面耐傷性及び耐汚染性を達成できることが分かった。また、180°C貯蔵弾性率は、測定した実施例では全て0.5GPa未満であったが、比較例で測定したものは全て0.7GPa以上であった。上記表1に示した実施例及び比較例で作製した構造体は、光の反射防止性能及び光の透過改良性能については、何れも良好で優れていた。実施例8、9表2に記載したように、式2で表わされるポリエチレングリコールジアクリレートにおいて、繰り返し単位数mを14に固定し、ウレタンメタアクリレートaとの比を、更にポリエチレングリコールジアクリレートが多い方に変化させて評価した。重合性組成物や構造体の製造方法は実施例1と同様であった。表2に記載の量は[質量部]である。結果も合わせて表2に示す。また、表1中の実施例3、実施例4及び比較例2については、参考のために表2にも記載した。表2から、ポリエチレングリコールジメタアクリレートを、メタアクリレート化合物全体に対して53質量以上含有する実施例8、9、3、4は、25°Cにおける貯蔵弾性率が全て2GPa以下であり、性能も全て総合的に優れたものであったが、ポリエチレングリコールジメタアクリレートの含有量が少ない比較例2では、3.03GPaと大きく、性能も優れたものではなかった。また、180°C貯蔵弾性率は、実施例8、9、3、4は、全て0.5GPa未満実際には0.48GPa以下であった。上記表2に示した実施例及び比較例で作製した構造体は、光の反射防止性能及び光の透過改良性能については、何れも良好で優れていた。参考例1、2重合性組成物を同一にして、表面の構造の違いによる差を検討した。すなわち、実施例3と比較例2のそれぞれの重合性組成物を用い、特殊な表面微細構造を有する構造体に代えて、フラットな表面を有する構造体型を貼り合わせて型を転写しない構造体を用いて評価を行なった。表3に参考例1実施例3と同一重合性組成物使用及び参考例2比較例2と同一重合性組成物使用の重合性組成物の成分と評価結果を示す。表3中、耐汚染性目視判定は、前記した<耐汚染性の評価方法と判定基準>の中の指紋汚れを目視したときの状態の判定基準に従って判定した。接触角は、本発明における微細構造の表面で18°となり親水性であったが実施例3、フラット面では55°であり親水性とはならなかった参考例1。すなわち、特定の材料が、特定の表面の構造をとることで初めて親水性の表面となった。耐汚染性は、比較例2の重合性組成物は、本発明の微細構造の表面では×であったが比較例2、フラット面では◎となり参考例2、特定の表面構造であるが故に耐汚染性が低下していたことが分かった。それに対して、フラット面の参考例2では、耐汚染性が良好なままキープされていた。比較例2の重合性組成物では、本発明における微細構造の表面では表面耐傷性が不良であったのに対し、フラット面では良好であった参考例2。特定の表面構造であるが故に表面耐傷性が劣る傾向があることが明らかになった。また、貯蔵弾性率が特定のときに、表面耐傷性の優れる構造体が得られるということが分かった。すなわち、フラット面では、メタアクリレート化合物全体に対して53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有するメタアクリレート化合物を含有する重合性組成物が重合した構造体の表面であっても、接触角は55°であり親水性とはならなかったが、それでも、耐汚染性は◎であり、表面耐傷性は5であった参考例1。従って、本発明における微細構造の表面である場合に限り、メタアクリレート化合物全体に対して53質量以上のポリエチレングリコールジメタアクリレートを含有するメタアクリレート化合物を含有する重合性組成物が重合した構造体の表面で、接触角は18°となり親水性となり、それに伴い耐汚染性が◎となった実施例1。これより、フラット面における物性、評価結果等は、本発明における微細構造の表面に対して、全く参考にならないことが分かった。"