気体を溶解した洗浄液を基板に供給するノズルと、前記ノズルの位置の調整を行うノズル調整手段と、前記ノズル調整手段によって基板上に形成された洗浄液液膜と前記ノズル内の洗浄液との差圧が調整されることによって微細気泡を含む洗浄液が供給されることを特徴とする洗浄液供給装置。微細気泡を含む洗浄液を基板に供給するノズルと、前記ノズルの位置の調整を行うノズル調整手段と、前記ノズル調整手段によって基板上に形成された洗浄液液膜と前記ノズル内の洗浄液との差圧が調整されることによって前記微細気泡よりも微細なサイズとなった微細気泡を含む洗浄液が供給されることを特徴とする洗浄液供給装置。気体を溶解した洗浄液を生成する洗浄液生成ユニットと、前記洗浄液生成ユニットで生成された洗浄液を基板に供給するノズルと、前記ノズルの位置の調整を行うノズル調整手段と、前記ノズル調整手段によって基板上に形成された洗浄液液膜と前記ノズル内の洗浄液との差圧が調整されることによって微細気泡を含む洗浄液が供給されることを特徴とする洗浄液供給装置。前記ノズルの先端と前記基板の表面を洗浄液が通過する際に洗浄液が減圧されることを特徴とする請求項1~3に記載の洗浄液供給装置。前記ノズルの前記基板に洗浄液を供給する側に前記基板上に形成された液膜と前記ノズル内の洗浄液との差圧を調整するためのツバが備えられていることを特徴とする請求項1~4に記載の洗浄液供給装置。前記ツバの基板に面する側が中央から外周へ向けて上がるように傾斜するテーパ状となっていることを特徴とする請求項5に記載の洗浄液供給装置。前記ツバの基板に面する側に凹凸が施されていることを特徴とする請求項5または6に記載の洗浄液供給装置。基板を保持する基板保持手段と、前記基板を洗浄する洗浄液を生成する洗浄液生成ユニットと、請求項1~7に記載の洗浄液供給装置を有することを特徴とする基板洗浄装置。前記基板保持手段が超音波印加手段を備えていることを特徴とする請求項8に記載の基板洗浄装置。気体を液体に溶解して基板を洗浄するための洗浄液を生成する洗浄液生成工程と、前記洗浄液を前記基板に供給する洗浄液供給工程と、前記洗浄液供給工程において前記基板上に形成された洗浄液液膜と前記洗浄液を前記基板に供給するためのノズル内の差圧を調整することにより前記洗浄液中に微細気泡を発生させる工程と、を有することを特徴とする洗浄液供給方法。気体を液体に溶解して基板を洗浄するための洗浄液を生成する工程と、前記洗浄液を前記基板に供給する洗浄液供給工程と、前記洗浄液供給工程において前記基板上に形成された洗浄液液膜と前記洗浄液を前記基板に供給するためのノズル内の差圧を調整することにより前記洗浄液中に微細気泡を発生させる工程と、を有することを特徴とする基板洗浄方法。しかし、従来のような二流体ノズルや高圧ジェットを用いた場合、たとえば、パターン等が形成された基板を洗浄する場合、洗浄液の供給される力によって、基板上に形成されたパターンに損傷が生じる場合があり、一方、損傷を防止するために供給する力を抑制すれば、洗浄を十分に行えないという問題があった。上記課題を達成するため、本発明の一実施形態の洗浄液供給装置は、気体を溶解した洗浄液を基板に供給するノズルと、前記ノズルの位置の調整を行うノズル調整手段と、前記ノズル調整手段によって基板上に形成された洗浄液液膜と前記ノズル内の洗浄液との差圧が調整されることによって微細気泡を含む洗浄液が供給されることを特徴とする。また本発明の一実施形態の基板洗浄装置は、基板を保持する基板保持手段と、前記基板を処理する洗浄液を生成する洗浄液生成ユニットと、上記洗浄液供給装置とを有することを特徴とする。洗浄対象物の性質に応じて必要な量の微細気泡を供給することができる。実施例1以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。図1に示すように、本実施形態に係る基板洗浄装置1は、基板保持部2、洗浄液生成ユニット3と、洗浄液生成ユニット3で生成された気体溶存液を洗浄ユニット10に供給するための液供給配管7と、気体溶存液をウェーハWに供給するノズル8とを備えている。基板保持部2は、図示しないモータが備えられており、図示しない制御部の制御により、図1に示す矢印A方向に回転し、載置しているウェーハWを回転させることができる。基板保持部2とウェーハWの間には図示しないチャック機構があり、ウェーハWは静電チャック等の方法で載置されている。洗浄液生成ユニット3は、液体供給部4、気体供給部5、気液混合部6を備えており、液体供給部4から供給された液体と、気体供給部5から供給された気体とが、気液混合部6にて混合され、溶解されるように構成されている。図2は、洗浄ユニット10の断面図である。洗浄ユニット10洗浄液供給装置は、洗浄液生成ユニット3にて生成された洗浄液をウェーハWの上面に供給するノズル8、ノズル8のXYZ方向図1参照の動作を調整制御するためのノズル調整手段9を備えている。図2に示すように、洗浄ユニット10の液供給配管7と反対側の先端部分8aは、ウェーハW上に形成された洗浄液Lの液膜の液面よりも低い位置に位置するように配置される。ノズル8は、図2、図3に示すとおり、内部が空洞の円筒状をしており、液供給配管7から供給された洗浄液Lによって満たされるようになっている。処理に際して、液供給配管7から供給された洗浄液Lは、ウェーハW上に液膜を作り、さらにノズル8内に液が満ちた状態となる。ノズル8の先端部分8aは、前述のとおり、ウェーハW上の液膜の液面よりも低い位置ウェーハW側に位置するように配置され、ノズル8内から洗浄液LがウェーハW上へ供給される際図2に示す微細気泡発生領域Gを通過するとき、洗浄液Lは減圧されて液中の気体が微細気泡になる。ここでいう微細気泡とは、マイクロバブルやマイクロナノバブル、ナノバブルなどの概念を含む微細気泡である。例えば、マイクロバブルは10μm~数十μmの直径を有する気泡であり、マイクロナノバブルは数百nm~10μmの直径を有する気泡であり、ナノバブルは数百nm以下の直径を有する気泡である。中でも、ナノバブルはその気泡がイオンの核に守られて液中に存在するもので、表面張力が非常に小さく、浸透力が高いという性質を持ち、基板の洗浄処理に効果的に作用する。次に、基板洗浄装置1の処理動作について、説明する。図示しない制御手段によって、液体供給部4、気体供給部5からそれぞれ液体と気体が気液混合部6に供給される。液体は、たとえば純水やアルカリ水等が用いられ、気体はオゾン、窒素、酸素、水素等、洗浄に適するものが用いられる。ここでは、液体は純水、気体は窒素ガスを用いる例をあげて、説明する。気液混合部6内は、気体を液体に溶解させるための構造として、中空糸膜が備えられており、窒素が中空糸膜を通ることによって、純水に溶解される。窒素を溶解した純水は、液供給配管7を通って大気圧以上の圧力でノズル8に供給される。ノズル8内は既述のとおり、空洞となっている。ノズル8から供給された洗浄液Lはノズル8の内部を満たした後、ウェーハWの上面に液膜を形成する図2参照。ノズル8内は、ウェーハW上に形成された液膜によって密閉状態となり、吐出抵抗が発生する。これによってノズル8内とウェーハ上の大気圧領域との間で差圧が生じる。洗浄液Lは、密閉状態となったノズル8内を出てウェーハW上の大気圧領域に供給されると洗浄液Lが微細気泡発生領域G通過すると、溶存していた窒素が洗浄液L中に留まることができなくなり、ナノバブル等の微細な気泡となって現れる。ウェーハW上にはパターンが形成されており、パターン間に洗浄液が供給されると同時に微細気泡が形成されるので、パターン間に存在するパーティクルを吸着除去することが可能になる。また、ノズル8の位置は、ノズル調整手段9によって調節することが可能であり、XY方向の調整を行うことによって、ウェーハWの処理すべき箇所を特定し、Z方向の調整を行うことによって、微細気泡発生領域Gで生じさせる差圧を調整することができる。ノズル内の圧力と、微細気泡発生領域G通過後の圧力との差が大きくなることによって、乱流が発生し、その乱流によって微細気泡発生領域Gで発生した気泡が剪断され、より小さな径の気泡が生成される。差圧を調整することによって、生成する気泡の大きさを調整することができる。より小さいサイズの気泡を生成したい場合は、差圧を大きくすることが必要であるので、ノズル8のZ方向位置をウェーハW側へ移動させ、気泡発生領域Gが狭くなるようにする。このような実施形態によれば、洗浄液Lがノズル8からウェーハWに供給される際に、ウェーハW上にて洗浄液Lが減圧され、ウェーハW上にて気泡が生成されるため、より微細な気泡を多く含む洗浄液Lが、ウェーハW上に形成されたパターンとパターンの間にも入り込みやすく、パターン間に存在する異物を吸着除去することができる。しかも、ウェーハW上に洗浄液Lを供給する際、微細気泡の効果を用いて基板の洗浄を行うため、従来用いていた高圧ジェットノズルのような、洗浄液を吹き付ける圧力によってゴミを吹き飛ばすものに比べて、パターン倒れを起こす等の損傷を防止しつつ、さらに十分にウェーハWの洗浄を行うことができる。さらに、ノズルの位置を調整することによって、発生させる微細気泡のサイズを変えることができるため、洗浄対象の基板によって差圧を調節することができる。実施例2図4は、本発明の第二の実施形態による洗浄ユニットの概略を示す図である。なお、前述の第一の実施形態と同一の部品については、同一の符号を用いて説明を省略する。第一の実施形態との違いは、ツバ81aを備えたノズル81を有している点である。ツバ81aは、図4、図5に示すとおりノズル81の円周上に円形に設けられており、その幅は、乱流が起こる程度の大きさを有しているものであり、ウェーハWの半径の三分の一以下の半径を有するものが好ましい。ノズル81は、第一の実施形態によるノズル8と同様、窒素を溶解した純水を洗浄液LとしてウェーハW上に供給する。供給される際、第一の実施形態と同様、微細気泡発生領域G通過時に減圧され、洗浄液L中に溶存していた窒素ガスが、微細気泡となって現れる。しかし、第一の実施形態のように急激に大気圧に開放されず、洗浄液Lはノズル81の先端に備えられたツバ81aとウェーハWとの隙間を通過することにより、緩やかに徐々に減圧される。さらに、ツバ81aとウェーハWとの隙間を通過するときに乱流が起こり、微細気泡発生領域Gで発生した微細気泡が剪断され、さらに小さな気泡となってウェーハWに供給される。ウェーハWに供給された洗浄液L中の微細気泡は、ウェーハW上に形成されたパターンとパターンの隙間に入り込み、異物を吸着、除去する。ノズル81のXY方向、およびZ方向の位置は、ノズル調整手段9によって調整可能であり、ツバ81aはそれに追随して位置決めされる。ツバ81aはウェーハW上に形成される液膜の液面よりも低い位置に位置するように位置が決められる。第一の実施形態と同様、よりサイズの小さい気泡を発生させる場合には、ノズル81内とウェーハW上との差圧を大きくする必要があるため、ノズル81およびツバ81aをウェーハW側に近づけるようにノズル調整手段9によってノズル81のZ軸方向の位置調整を行う。また、ツバ81aが備えられていることによって、ウェーハW側に微細気泡が押されて接しやすくなり、ウェーハWに微細気泡がより効果的に作用する。すなわち、よりパターン間に微細気泡が入り込みやすくなり、パターン間に存在する異物を吸着除去することができる。実施例3実施例2の変形例また、図6のように、ツバ82aを備えたノズル82を有するようにしてもよい。ノズル82は、ウェーハW側がテーパ状になっているツバ82aを備えている。ツバ82aは、前述のツバ81aと同様、ノズル82の円周状に円形に設けられており図5、図6、その幅は、ウェーハWの半径の半分ほどの半径を有するものが好ましく、ウェーハWに面する側の面が、ウェーハWの中央から外周方向へ向かって徐々に上側ウェーハから離れる方向に傾斜している。このような構成にすることによって、第二の実施形態と同様、洗浄液Lはノズル82の先端に備えられたツバ82aとウェーハWとの隙間を通過することにより、緩やかに徐々に減圧される。さらに、ツバ82aがテーパ状であることによって、大気圧に減圧されるスピードが緩やかになるため、乱流が起こりやすくなり、より小さいサイズの気泡を生成することが可能になる。このとき、ツバ82aの位置は、ウェーハWに形成された液膜の液面より下であることが好ましいが、ツバ82aのすべてが液面の下である必要はない。ツバ82aの位置をノズル調整手段9によって調整することにより、XY方向の位置、Z方向の位置つまりノズル82内の圧力とウェーハW上の圧力との差圧を調整する。実施例4図7は、本発明の第四の実施形態による洗浄ユニットの概略を示す図である。なお、前述の実施形態と同一の部品については、同一の符号を用いて説明を省略する。第一乃至第三の実施形態との違いは、ツバ83aを備えたノズル83を有している点である。ノズル83は、ウェーハW側に凹凸を有するツバ83aを有している。ツバ83aは、前述のツバ81a、ツバ82aと同様、ノズル83の円周上に円形に設けられており図5、図7、その幅は、ウェーハWの半径の半分ほどの半径を有するものが好ましく、凹凸を有することにより、ツバ83aとウェーハWの間を通過する洗浄液Lを繰り返し減圧、加圧することになる。これによって、乱流が起こり、微細気泡発生領域Gで生成された微細気泡が剪断されながらウェーハWに供給される。微細気泡発生領域Gで生成された微細気泡が剪断されて、より微細な気泡となるので、さらに微細な気泡を多数含む洗浄液LがウェーハWのパターン間に供給される。これによって、よりパターン間にサイズの小さい微細気泡が多数入り込みやすくなり、パターン間に存在する異物を吸着除去することが可能になる。ツバ83aに形成される凹凸のサイズや数は、特に限定しないが、通過する洗浄液Lに乱流が起きる程度の凹凸が形成される。なお、上記実施の形態において、気液混合部6は中空糸膜を用いて気体を液体に溶解させる構成である例を挙げて説明したが、これに限らない。気体を液体に溶解させることのできるものであれば良く、例えば、混合部内で液体と気体を旋回させて溶解させるもの、加圧して溶解させるもの等でも良い。また、基板保持部2は、超音波印加手段を備えていても良い。この場合、微細な気泡を含む洗浄液Lに超音波を印加することにより、ウェーハW上の洗浄液Lに含まれる気泡が圧壊され、その際に発生するキャビテーションによってウェーハW上に存在する異物が取り除かれる。すなわち、より効率よくウェーハWの洗浄を行うことができる。また、上記実施の形態において、基板洗浄装置1は基板保持部2が回転することによって洗浄処理が行われるものを例に挙げて説明したが、これに限らず、搬送ローラによって搬送しながら洗浄するものであってもよい。なお、上記実施の形態においては、気体を液体に溶解させた状態の洗浄液をウェーハWに供給する例を挙げて説明したが、これに限らず、微細気泡として気体を液体に存在させた状態でノズルに供給し、微細気泡を含む洗浄液Lを微細気泡発生領域Gを通過させてさらに微細気泡を発生させるようにしても良い。なお、上記実施の形態においては、ツバはウェーハの半径の三分の一の半径を有するものを例に挙げて説明したが、これに限らず、洗浄対象物であるウェーハ上に付着したパーティクルの大きさ等によって決めるようにしてもよい。すなわち、小さなパーティクルを除去したい場合には、より小さな気泡が必要であるため、より長いツバを用いる。長いツバを用いることによって、ツバとウェーハ間を通過する洗浄液はツバとウェーハの隙間に存在する時間が長くなるため、微細気泡発生領域Gで発生した気泡が剪断され続け、より小さいサイズの気泡がウェーハWに供給されることになる。また、上記実施の形態において説明したノズルは、XYZ方向に揺動させることが可能であり、揺動させることによって、洗浄液Lに含まれる微細気泡を広範囲に行き渡らせることができ、洗浄効果がより向上する。また、上記実施の形態においては、ツバは円形である例を挙げたが、これに限らず、四角形など、多角形のものであっても良い。なお、上記実施の形態においては、気体が溶解されている液体をノズルに供給する例を挙げて説明したが、これに限らず、予め微細気泡を含む洗浄液をノズルに供給するようにしても良い。このような構成にすることにより、ウェーハWにより多くの微細気泡を供給することが可能になる。また、ノズル8、81、82、83のウェーハWに対する位置は、図中ではウェーハWの中央付近に位置しているが、これに限らず、ノズル調整手段9によってXY方向へ移動させ、処理が必要な位置へ移動することが可能である。上記実施形態においては、基板は半導体ウェーハを用いた例を記載したが、ガラス基板等、洗浄対象物であればよい。本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。