同一の透明基板の、表面に静電容量型のタッチパネル電極と、裏面にカラーフィルタ層と、が形成されたカラーフィルタ基板において、前記裏面の膜面の一層目に透明導電膜が形成されており、かつ、前記透明導電膜を覆う形で膜面の二層目に窒化ケイ素膜、或いは窒化ケイ素を含むガラス薄膜が形成されていることを特徴とするカラーフィルタ基板。前記窒化ケイ素膜、或いは前記窒化ケイ素を含むガラス薄膜が、少なくとも樹脂ブラックマトリックスで画定される開口部全体に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板。前記透明導電膜が、少なくともスズドープ酸化インジウムITOを含む透明導電膜であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカラーフィルタ基板。請求項1~3のいずれか1項に記載するカラーフィルタ基板を備えることを特徴とする液晶表示装置。ITO膜上にブラックマトリックスを形成する際に、パネル透過率の低下原因となるレジスト樹脂成分の残渣の問題がなく、位置精度問題や、密着性の問題といった製造工程における負荷原因のないカラーフィルタ基板及びそれを備えた液晶表示装置を提供することにある。上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、同一の透明基板の、表面に静電容量型のタッチパネル電極と、裏面にカラーフィルタ層と、が形成されたカラーフィルタ基板において、前記裏面の膜面の一層目に透明導電膜が形成されており、かつ、前記透明導電膜を覆う形で膜面の二層目に窒化ケイ素膜、或いは窒化ケイ素を含むガラス薄膜が形成されていることを特徴とするカラーフィルタ基板である。また、請求項2に記載の発明は、前記窒化ケイ素膜、或いは前記窒化ケイ素を含むガラス薄膜が、少なくとも樹脂ブラックマトリックスで画定される開口部全体に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板である。また、請求項3に記載の発明は、前記透明導電膜が、少なくともスズドープ酸化インジウムITOを含む透明導電膜であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカラーフィルタ基板である。また、請求項4に記載の発明は、請求項1~3のいずれか1項に記載するカラーフィルタ基板を備えることを特徴とする液晶表示装置である。本願発明により、開口部にレジスト樹脂成分の残渣によるパネル透過率の低下の心配がなく、位置精度問題や、密着性の問題といった製造工程における負荷原因のないカラーフィルタ基板及びそれを備えた液晶表示装置の作製が可能となる。本発明のカラーフィルタ基板を、一実施形態に基づいて以下に詳細に説明する。なお、以下の説明において、従来例と本発明例で同様の機能の構成部位については同一の符号を用いる。また、タッチパネル側すなわち視認側を基板に対して表面側、液晶側を裏面側として説明を行い、裏面ITO6のみ特別に反対に呼称する。一般に、タッチパネル式液晶表示装置は、表示パネル、パネル駆動部、タッチ位置検出部等から構成され、表示パネルはアレイ基板と対向基板及び液晶層からなる。本発明のカラーフィルタ基板は、複数の画素部とタッチ位置を感知するための信号ラインとが形成されたタッチパネル-カラーフィルタ一体型基板以下の説明ではTP-CF一体型基板と略称するとして、アレイ基板との中間に液晶層を挟持する形で用いられる。基板の裏面に樹脂ブラックマトリックス2、及び着色層3を形成する際に、画素開口部にITOが露出せずに、表面にガラス基板の表面が露出している場合には、フォトリソ工程でレジスト樹脂成分が画素開口部に残らないことは、従来からのカラーフィルタ製造の中で技術的に確立されていた。そこで、本発明では、開口部となる部分のITOの表面をガラス基板表面と同様の無機透明絶縁膜9で覆うことで、ブラックマトリックス形成時及び着色層3形成時に、残渣8が開口部に残ることなく、パネル透過率の低下を防ぐことができる。この無機透明絶縁膜9として、酸化ケイ素SiO2を含むガラス薄膜9が提案されているが、無機透明絶縁膜9として、酸化ケイ素SiO2を含むガラス薄膜9が提案樹脂ブラックマトリックス2との密着性が完全ではなく、剥離不良が発生してしまうことが分かり、検討の結果、窒化ケイ素SiNを用いることにより、残渣8が開口部に残ることなく、密着性に関しても改善されることが分かった。無機透明絶縁膜として用いる窒化ケイ素膜、あるいは窒化ケイ素を主成分とするガラス薄膜は、蒸着あるいはスパッタリングにて作製された薄膜層を使用することができ、窒化ケイ素、あるいは窒化ケイ素を主成分として、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化マグネシウム等との混合物からなり、透明性を有したものである。なお、下地となるITO等の透明導電膜との密着性を高めるために、酸化インジウム、酸化錫などを混合してもよい。窒化ケイ素膜、或いは窒化ケイ素を主成分とするガラス薄膜の厚さは、混合される無機化合物の種類構成により最適条件が異なるが、一般的には5~200nmの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし膜厚が5nm未満であると均一な膜が得られないことや、機能を十分に果たすことができない場合がある。また膜厚が200nmを越えても無機透明絶縁膜としての機能向上は見られず経済的でない。より好ましくは、10~150nmの範囲内にあることである。窒化ケイ素膜、或いは窒化ケイ素を主成分とするガラス薄膜を形成する方法としては種々あり、通常の真空蒸着法により形成することができる。また、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法CVDなどを用いることも可能である。本発明のカラーフィルタ基板においては、カラーフィルタ層の膜面一層目に透明導電膜が形成されており、かつ、その透明導電膜は上記した窒化ケイ素膜、或いは窒化ケイ素を主成分とするガラス薄膜を介して開口部となるため、導電性と共に透明性が重要である。ITO等インジウム、スズ、ガリウム、亜鉛などの金属酸化物複合体からなる透光性導電材料を用いて、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の真空成膜手法を用いて、透明基板1の上全面に透明導電膜を形成する。製造工程全体を考慮すると、透明導電膜はスズドープ酸化インジウムITO:IndiumTinOxideからなる透明導電膜をスパッタリング成膜することが好ましい。図1は、本発明のカラーフィルタ基板の、一実施形態での一部の構成例を断面で示す模式図である。透明基板1の表面に、予め静電容量型のタッチパネル電極11が形成され、その裏面側にカラーフィルタ層が、透明基板1側の膜面一層目に透明導電膜7が形成されて、かつ、透明導電膜7を覆う形で膜面二層目に無機透明絶縁膜として、窒化ケイ素膜、或いは窒化ケイ素を含むガラス薄膜10が形成されている。この上に公知の方法を用いて、カラーフィルタ層を形成することで、図2に示すIPS方式液晶パネル用のTP-CF一体型基板としての本発明のカラーフィルタ基板の一実施形態例が得られる。以下、本発明のIPS方式液晶パネル用のTP-CF一体型基板としての本発明のカラーフィルタ基板の構成をその製造工程の順に沿いながら説明する。透明基板1の表面には、予め静電容量型のタッチパネル電極11が形成されている。本発明のカラーフィルタ基板は、図示しないが、透明基板1の表面の同一レイヤーに、X軸方向及びこれと直交するY軸方向に間欠的に配列される複数の第1の透光性電極とX軸向及びY軸方向に配列されると共に各々が第1の透光性電極の行間及び列間に配置される複数の第2の透光性電極とを備え、第1の透光性電極と第2の透光性電極とは透明絶縁膜によって互いに絶縁され、X軸方向に整列する第1の透光性電極の各々は第1の透光性電極上の透明絶縁膜のコンタクトホールを通じてX軸方向及びY軸方向に配列される導電性材料からなる複数のジャンパーによって相互に電気的に接続される。また、第1の透光性電極と第2の透光性電極とのそれぞれのパネル端部には電気信号を検出するための図示しない検出器に接続されている金属電極を備える。さらに、その上に感光性透明樹脂で形成される保護膜を備える。なお、本発明のカラーフィルタ基板は、表面側のタッチパネル電極の構成に制限されるものではない。図2に示すように、透明基板1の裏面側にカラーフィルタ層が、膜面一層目に透明導電膜7が形成されており、この透明導電膜7を覆う形で膜面二層目に無機透明絶縁膜として窒化ケイ素膜、或いは窒化ケイ素を含むガラス薄膜10が形成されている。そして、この上に公知の方法を用いて、カラーフィルタ層を形成する。まず、樹脂ブラックマトリックス2を形成し、この樹脂ブラックマトリックス2で画定された画素開口部分に、赤R、緑G、青B等複数色の着色層3が形成され、樹脂ブラックマトリックス2と着色層3の上には、液晶へのイオン浸出等を防止するためのオーバーコート層4が一様に形成されている。さらに、樹脂ブラックマトリックス2上の所定の位置には、オーバーコート層4を介して、図示しないアレイ基板との中間に液晶層を挟持する間隙を規定するフォトスペーサー5が設けられている。透明基板1は、可視光に対して80以上の透過率を有するものを用いることができ、好ましくは95以上の透過率を有するものを用いることができる。一般に液晶表示装置に用いられているものでよく、ガラス等の無機透明基板、又はポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、環状オレフィンコポリマー等の透明樹脂基板が使用可能である。本発明に係るタッチパネル機能は静電容量型であるため、従来のタッチスクリーン方式のように外力による歪みの必要はなく、適用する表示パネルの仕様によって材質及び厚みは適宜選択できるが、工程での耐熱性を考慮するとガラス基板が最適である。ジャンパーは、導電性材料から形成され、透明基板1の表面にX軸方向及びY軸方向行列状に配列されている。ジャンパーの各々は、X軸方向に整列する第1の透光性電極をX軸方向に接続するためのものであり、両端部がX軸方向に隣接する1対の第1の透光性電極に、各々と重なり合うような位置及び寸法で、かつ、本発明のカラーフィルタ基板表示面を垂直方向から見たときに透明基板裏面のカラーフィルタ層のブラックマトリックス2と重なる所定の位置に形成されることが好ましい。ジャンパーは、例えば、メタルMAM、APCその他やITOIndiumTinOxide:酸化インジウム錫、PEDOTポリエチレンジオキシチオフェン等の導電性高分子で形成することができる。ここで、MAMは、Moモリブデン/Alアルミニウム/Moの略称で3層構造の導電材料である。また、APCは銀/パラジウム/銅の合金である。絶縁膜は、透光性の絶縁材料をジャンパー及び透明基板1の表面全体を覆うように積層することにより形成される。第1の透光性電極とジャンパーとが重なり合う部分の絶縁膜には、ジャンパーの表面にまで達するスルーホールが設けられる。次に、ITO等インジウム、スズ、ガリウム、亜鉛などの金属酸化物複合体からなる透光性導電材料を用いて、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の真空成膜手法を用いた同一工程で、上記した絶縁膜とジャンパーを有する透明基板1の上全面に透明導電膜を形成する。その後、この透明導電膜を公知の手法でパターニングして、所定形状の第1の透光性電極と第2の透光性電極を形成する。X軸方向に整列する第1の透光性電極の各々は、絶縁膜上においてはX軸方向及びY軸方向のいずれにも相互に接続されていないが、スルーホールを介して透明基板上のジャンパーに電気的に接続された状態となる。一方、第2の透光性電極の各々は、X軸方向及びY軸方向に配列されると共に各々が第1の透光性電極の行間及び列間に配置され、ジャンパー部の絶縁膜上において、第2の透光性電極と同時にパターニングされる接続部を介してY軸方向に相互に連結されている。上記したタッチパネル電極の最表面には、感光性樹脂で形成される保護膜を備える。保護膜の形成に用いて好適な感光性樹脂は、可視光領域の400~700nmの全波長領域において透過率が好ましくは80以上、より好ましくは95以上である透明樹脂である。この透明樹脂には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び感光性樹脂が含まれる。透明樹脂には、必要に応じて、その前駆体である、放射線照射により硬化して透明樹脂を生成するモノマー若しくはオリゴマーを単独で、又は2種以上混合して用いることができる。タッチパネル電極11の最表面に、上記した感光性樹脂で形成される保護膜を形成する方法としては、まず透明樹脂組成物を必要に応じて有機溶剤を含有するワニスとして塗布し、その後溶剤を乾燥する。塗布する手段はスピンコート、ダイコートなどが通常用いられるが、タッチパネル電極が形成された透明基板上に均一な膜厚で塗布可能な方法ならばこれらに限定されるものではない。感光性組成物を塗布し透明樹脂層を形成した基板に露光を行う。光源には通常の高圧水銀灯などを用いればよい。また、必要に応じて、ポストベークを行ってもよい。次に、予めその表面にタッチパネル電極11が形成された透明基板1の裏面に、透明導電膜7を形成する。前記した、タッチパネル電極製造工程との連動性を考慮して、ITO等インジウム、スズ、ガリウム、亜鉛などの金属酸化物複合体からなる透光性導電材料を用いて、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の真空成膜手法を用いて、透明基板1の上全面に透明導電膜7を形成する。さらに、透明導電膜7を覆う形で膜面二層目に無機透明絶縁膜9を形成する。次に、透明導電膜7及び無機透明絶縁膜9が形成された透明基板1の上に、画素部に対応する開口領域を画定する樹脂ブラックマトリックス2を形成する。この場合、前記したタッチパネル電極11のジャンパーが、基板表示面を垂直方向から見たときに、この樹脂ブラックマトリックス2と重なる所定の位置となるようにブラックマトリックスのピッチ及び形状を設計する。本実施形態においては、このジャンパーと樹脂ブラックマトリックス2の位置の条件を満たす範囲であれば、第1の透光性電極と第2の透光性電極、それぞれのピッチは、例えば、赤色画素R、緑色画素G、青色画素Bで構成される単位画素毎にも、あるいは、所定個数の単位画素毎にも形成することができ、その形状も矩形以外の各種形状を選択することが可能である。なお、本実施形態では、樹脂ブラックマトリックス2の幅は3~30μmの範囲が好ましい。樹脂ブラックマトリックス2は、液晶表示装置のコントラストアップのために各画素間に形成する細い遮光パターンである。本発明のカラーフィルタ基板では、IPS方式の液晶表示装置での電界の乱れを抑制するために、高絶縁性の樹脂ブラックマトリックスが採用され、黒色樹脂を用いて形成される。樹脂ブラックマトリックス2を形成する方法としては、黒色感光性樹脂を用いフォトリソグラフィー法によってマトリックス状に形成する。黒色の色材としては、カーボンブラックや複数の有機顔料を用いることができる。透明導電膜7及び無機透明絶縁膜9が形成された透明基板1の上に、黒色顔料を分散した感光性樹脂組成物を塗布乾燥して黒色感光性樹脂層を形成する。次に、所定のパターンを有するマスクを用いて、黒色感光性樹脂層に対して、超高圧水銀光灯ランプ等を用いて露光する。次に、炭酸ナトリウム水溶液等の現像液で現像し、現像後よく水洗し、さらに乾燥後、加熱処理して樹脂ブラックマトリックスパターンを硬化させる。次に、上記した遮光パターンの開口領域に赤色R、緑色、青色B等複数色の着色層3を形成する。そしてさらに、この上全面にオーバーコート層4を形成する。着色層3を形成する方法としては顔料分散法が主流となっている。顔料分散法は、有機顔料などの色材を分散した着色感光性樹脂の塗布層を公知のフォトリソグラフィー法によってパターニングすることにより、カラーフィルタを複数の着色層赤色、緑色、青色などの画素に形成する方法である。複数の着色層3の入色順を限定するものではなく、アライメントの都合から樹脂ブラックマトリックスのパターン形成後に着色層の塗布、露光、現像等により着色画素赤色画素、緑色画素、青色画素などを順次形成する。樹脂ブラックマトリックス及び着色画素の形成に用いる黒色感光性樹脂及び着色感光性樹脂は、例えば、樹脂バインダに顔料を、分散剤を用いて分散させ、この分散液にモノマー、開始剤、増感剤、溶剤などを添加して調製される。次に、この上全面にオーバーコート層4を形成する。このオーバーコート層4は、平坦化膜としてカラーフィルタの表面段差を低減すると共に、着色層3の保護膜として耐薬品性、耐熱性などの諸耐性を向上させる機能を持つものである。このようなオーバーコート膜は感光性樹脂又は熱硬化性樹脂を用い、これらいずれかの樹脂を含有する塗工液を塗布し、乾燥、UV照射又は加熱することにより形成することができる。また、オーバーコート層を形成する場合の膜厚としては、1.0μm以上5.0μm以下の範囲の膜厚が最適に使用することができる。1.0μm以下では、樹脂ブラックマトリックス2と着色層3でできているカラーフィルタの段差を十分に低減させることができない。また、膜厚が5.0μm以上では、均一性良く塗膜を塗布することが難しくなる。次に、本実施形態例では、オーバーコート層4を介して、フォトスペーサー5を公知の方法で形成する。以上説明したように、同一の透明基板1に、表面加工工程でタッチパネル電極11を形成し、続いて裏面加工工程でカラーフィルタを形成することで本発明のカラーフィルタ基板、TP-CF一体型基板が得られる。対向基板としての本発明のカラーフィルタ基板とアレイ基板とに、必要な配向処理を行って、中間に液晶層を挟持することでパネルとして組立て、偏光板や、駆動電極、バックライト等と組み合わせることでタッチパネル機能を有する液晶表示装置が得られる。本発明のカラーフィルタ基板はIPS方式液晶パネル用として好適に用いることができる。次に、本発明の表示装置に係るアレイ基板は、別の透明基板上に、モリブデンやタングステンもしくはその合金等の金属からなるゲート線、およびゲート電極を配置し、これらを覆うように酸化ケイ素窒化ケイ素からなるゲート絶縁膜が配置されている。また、ゲート絶縁膜上にはアモルファスシリコンなどの半導体層が配置され、さらにモリブデンやアルミニウムからなるソース線、ソース電極、ドレイン電極が配置されスイッチング素子を形成している。スイッチング素子の上には、酸化ケイ素窒化ケイ素からなる保護層が配置される。スイッチング素子は、表示装置の表面側のタッチパネル電極を操作することによっても駆動可能なように配線される。対向基板としての本発明のカラーフィルタ基板とアレイ基板とに、液晶を所定の方向ダイレクターに配向させる性質を持つ配向膜を塗布する。所定の液晶モードに合わせて配向膜を選定する必要があり、配向膜の材料としては、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂などの感光性又は非感光性のものが好ましく用いられるが、これらに限られるものではない。ただし、配向膜の耐熱性信頼性の点からポリイミド系樹脂が好ましい。液晶表示装置に使用される液晶材料としては、表示モード、駆動方式に応じて適宜選択することができる。例えば、ネマティック液晶やスメクチック液晶が良好な表示を得るために用いられる。スメクチック液晶には強誘電性液晶や反強誘電性液晶などが含まれる。ネマティック液晶としては、表示方式に応じて誘電異方性の正のもの、負のものを適宜用いることができる。前述したように、本発明のカラーフィルタ基板はIPS方式液晶パネル用として好適に用いることができる。以上述べたように、本発明のカラーフィルタ基板は、無機透明絶縁膜として酸化ケイ素を含むガラス薄膜を用いた場合と同様に光線透過率に優れ、しかも問題となっていた密着性の心配のない、製造時の歩留りも高いものである。また、それを備えた本発明の液晶表示装置は電界の乱れが抑制され、優れた表示品位を有したものであった。