"粉末冶金製造プロセスにおいて少なくとも1つの粉末状出発材料から作成された少なくとも1つの構成要素2,7,8と、前記構成要素内に設けられた少なくとも1つの強磁性領域5a,5b,6と、を含み、前記少なくとも1つの強磁性領域5a,5b,6が、前記粉末冶金製造プロセスにおいて前記構成要素2,7,8に導入されて前記構成要素と結合している、物理気相成長法用のコーティングソース1。前記少なくとも1つの強磁性領域5a,5b,6は、前記粉末冶金製造プロセスにおいて粉末の形態で導入された強磁性材料からなる少なくとも1つの領域6を含む、請求項1に記載のコーティングソース。前記少なくとも1つの強磁性領域5a,5b,6は、少なくとも1つの永久磁石の領域を含む、請求項1又は請求項2に記載のコーティングソース。前記少なくとも1つの強磁性領域5a,5b,6は、前記粉末冶金製造プロセスにおいて導入された少なくとも1つの強磁性体5a,5bを含む、請求項1~3のいずれか1項に記載のコーティングソース。当該コーティングソース1に含まれたターゲット2に、前記少なくとも1つの強磁性領域5a,5b,6が配置されている、請求項1~4のいずれか1項に記載のコーティングソース。ターゲット2と、コーティング設備の冷却支持部との熱的結合のために前記ターゲットに結合されたバックプレート7と、が当該コーティングソース1に含まれ、前記少なくとも1つの強磁性領域5a,5b,6は、前記ターゲット2及び前記バックプレート7のいずれか又は両方に配置されている、請求項1~5のいずれか1項に記載のコーティングソース。ターゲット2と、コーティング設備の冷却支持部に前記ターゲットを連結するために前記ターゲットと取り外し可能に結合されたマウント8と、が当該コーティングソース1に含まれ、前記少なくとも1つの強磁性領域5a,5b,6は、前記マウント8に配置されている、請求項1~5のいずれか1項に記載のコーティングソース。マグネトロンスパッタデポジションコーティングソースである、請求項1~7のいずれか1項に記載のコーティングソース。陰極アークデポジションコーティングソースである、請求項1~7のいずれか1項に記載のコーティングソース。コーティングソース1の少なくとも1つの構成要素2,7,8のための少なくとも1つの粉末状出発材料を型に装填し、強磁性粉末6及び少なくとも1つの強磁性体5a,5bのいずれか又は両方を前記型に導入して前記粉末状出発材料の少なくとも1つの領域に配置し、圧縮して前記構成要素を形成する、ステップを含む物理気相成長法用コーティングソースの製造方法。前記導入は、前記コーティングソース1においてターゲット2を形成する出発材料の少なくとも1つの領域に行われる、請求項10に記載の製造方法。前記導入は、前記コーティングソース1においてコーティング設備の冷却支持部への熱的結合のためにターゲット2と結合されるバックプレート7を形成する出発材料の、少なくとも1つの領域に行われる、請求項10又は請求項11に記載の製造方法。前記導入は、前記コーティングソース1においてコーティング設備の冷却支持部にターゲット2を連結するためにターゲット2と取り外し可能に結合されるマウント8を形成する出発材料の一領域に行われる、請求項10又は請求項11に記載の製造方法。本発明の課題は、マグネトロンスパッタデポジションで安定したコーティングプロセスが実現され、あるいは、陰極アークデポジションでアーク速度の良好な制御が実現され、また同時に、コーティング設備の冷却支持部へのできる限り最良の熱的結合、工程の少ない効率的なコーティングソースの製造、機械加工が困難な材料もしくは不可能な材料の場合でもターゲットの活性表面の空間的近傍へのほぼ任意のジオメトリーでの強磁性材料の配置が可能となり、その際に、コーティングソースを介してコーティング設備へ不純物が侵入するリスクが最低限に抑えられる、物理気相成長法用のコーティングソース及びその製法を、提供することにある。上記課題は、請求項1に記載の物理気相成長法用コーティングソースによって解決される。好適な発展例が従属請求項に記載されている。当該物理気相成長法用コーティングソースは、粉末冶金製造プロセスで少なくとも1つの粉末状出発材料から作成された少なくとも1つの構成要素部材と、該構成要素内に設けられた少なくとも1つの強磁性領域と、を有する。その少なくとも1つの強磁性領域は、前記粉末冶金製造プロセスにおいて前記構成要素内に導入されて一体化される。1つのつながった強磁性領域又は複数の強磁性領域が提供され得る。強磁性とは、この領域これらの領域が、透磁率>>1を有することを意味している。少なくとも1つの強磁性領域は永久磁石として設計可能であり、あるいは、1つ以上の永久磁石領域及び1つ以上の非磁性領域のいずれか又は両方が設けられ得る。少なくとも1つの強磁性領域は、たとえば、コーティングソースの製造プロセスにおいて粉末状で導入される強磁性粉末を含み得る。また、少なくとも1つの強磁性領域は、代替的又は追加的に、たとえば、製造プロセスにおいて導入される1つ以上のマクロ的巨視的な強磁性体を含み得る。コーティングソースの少なくとも1つの構成要素は、たとえば実際のターゲット、すなわちコーティングソースの蒸発させるべきコーティング材料によって形成することができる。あるいは、少なくとも1つの構成要素は、コーティング設備の冷却支持部との熱的結合のための別の材料からなり、ターゲットへ固定されるバックbackプレートによって、形成することもできる。ターゲットをコーティング設備の冷却支持部へ連結するために設けられるマウントmountに実際のターゲットが取外し可能に取り付けられているコーティングソースの構造の場合、少なくとも1つの構成要素は、たとえばそのマウントによって形成されていてもよい。強磁性領域は、たとえばターゲット及びバックプレートの両方に、あるいは、ターゲット及びマウントの両方に、形成可能である。これら全部のケースにおいて、少なくとも1つの強磁性領域は、工程実行時、コーティング設備の冷却支持部とターゲットの活性表面との間に位置するように、配置される。このような配置に基づき、ターゲットの活性表面の非常に近傍で有効となる磁界ジオメトリーを実現することができるので、ターゲットの表面近傍領域で高い磁界密度を提供することができる。このようにして、コーティング材料のそれぞれ及び投入されるプロセスに対して適合及び最適化することの可能な、使用するコーティング設備に左右されない磁界システムが提供される。さらに、このような手法で、ターゲット表面の画定領域を的確に選択的に遮蔽することができる。陰極アークデポジション中の過熱及びその結果として生じるコーティング材料の飛沫放出増大という不利益の回避が可能になる。ここで、構成要素内に設けるということは、構成要素に固定結合されることを意味する。少なくとも1つの強磁性領域は、粉末冶金製造プロセスにおいて構成要素に導入されて構成要素に固定結合されており、すなわち、粉末冶金製造プロセスにおいて、構成要素のその余の部分と恒久的に結合させるべく一緒に処理される。強磁性領域がコーティングソースの構成要素内に直接設けられているので、コーティングソース使用時に強磁性領域はターゲットの活性表面近傍にあり、したがって、マグネトロンスパッタデポジションにおいて安定したコーティングプロセスが保証され、あるいは、陰極アークデポジションにおいてアーク速度の良好な制御が保証される。少なくとも1つの強磁性領域は、プレス、鍛造、ホットアイソスタティックプレスhotisostaticpress、圧延、ホットプレス、及び焼結のいずれか1つ以上を構成要素と共に実施され得る。少なくとも1つの強磁性領域は、粉末冶金製造プロセスにおいて構成要素に導入され、当該プロセスによって構成要素と固定結合されるので、強磁性領域は隙間や空隙をもたずに構成要素と結合され、したがって、コーティング設備の冷却支持部への良好な熱伝導性が実現される。特に、この手法により、構成要素において、ターゲット表面から冷却支持部への支障のない熱の流れを妨げる空隙が形成されない。さらに、粉末冶金製造プロセスにおける導入により、強磁性領域をほぼ任意のジオメトリー配置で設けることができ、たとえば、構成要素の材料で全面的に取り囲まれるようにすることもできる。構成要素への導入は、構成要素の材料を問わず行うことができるので、機械的に後加工するのが難しい又は後加工することができない構成要素であっても、1つ以上の強磁性領域を配置することができる。さらに、少なくとも1つの構成要素に少なくとも1つの強磁性領域を備えているコーティングソースを低コスト且つ少ない工程で製造することができる。すなわち、構成要素の製造後に強磁性領域のための切欠きを機械的に作成し、次のステップで強磁性領域を挿入しなくてよいからである。さらに、粉末冶金製造プロセスにおいて少なくとも1つの強磁性領域を導入して一体化することで、コーティングプロセスのときに真空の劣化につながったり、成長中の層の無用な汚染につながったりする可能性のある不純物が溜まり得るキャビティが存在しない、それ自体が閉じた形態でコーティングソースを提供することができる。強磁性材料としては、特に次の合金を採用することができる:NdFeB,SmCo,AlNiCo,SrFe,BaFe,Fe,Co,Ni。一態様によれば、少なくとも1つの強磁性領域は、粉末冶金製造プロセスにおいて粉末の形態で導入された強磁性材料から形成される少なくとも1つの領域を含む。この場合、多種多様なジオメトリーの強磁性領域を簡単に構成要素に提供することができる。さらに、たとえば強磁性材料の組成が異なる複数の強磁性領域を簡単に提供することができ、それにより、ターゲットの活性表面に形成される磁界を的確に形作ることができる。たとえば、位置に応じて強磁性材料の組成が変わる少なくとも1つの強磁性領域を簡単に提供することができる。少なくとも1つの強磁性領域は、たとえば粉末の形態で投入される強磁性材料だけを含んだものとすることもできる。この場合には、特に簡単な製造が可能である。一態様によれば、少なくとも1つの強磁性領域は、少なくとも1つの永久磁石の領域を含む。この永久磁石の領域は、たとえば事前に磁化したマクロ的物体の導入によって形成するか、あるいは、たとえば構成要素内に設けた領域を構成要素の製造時又は製造後に磁化することでも形成可能である。一態様によれば、少なくとも1つの強磁性領域は、粉末冶金製造プロセスにおいて導入される少なくとも1つの強磁性体を有している。1つ又は複数の強磁性のマクロ的物体を導入することで、特に、磁化された永久磁石の物体の場合に、形成される磁界にかなり正確に影響を与えることができる。とりわけ、たとえば磁化の向きが異なる複数の永久磁石体を導入することができる。一態様によれば、コーティングソースはターゲットを有し、少なくとも1つの強磁性領域がターゲット内に配置される。ここでターゲットとは、使用時に侵食されるコーティング材料としての役目をする材料で製作された、コーティングソースの領域として理解される。本態様では、少なくとも1つの強磁性領域がターゲットの活性表面の非常に近くに提供され得るので、扱い難いコーティング材料でも制御下で蒸発させることができる。本態様は、特に、ターゲットがコーティング設備の冷却支持部へ直接的に他の中間構造部無しで結合される場合に適用することができる。一態様によれば、コーティングソースは、ターゲットと、コーティング設備の冷却支持部への熱的結合のためにターゲットと固定結合されたバックプレートと、を有し、少なくとも1つの強磁性領域が、ターゲット及びバックプレートのいずれか又は両方に配置されている。すなわち、当該構成において少なくとも1つの強磁性領域は、ターゲット又はバックプレート、あるいは、これらの両方に形成可能である。さらには、ターゲット及び裏面プレートの両方に、異なる強磁性領域を形成してもよい。特に、コーティング材料が比較的低い熱伝導性を有しており、その結果として過熱の可能性があるために、厚いターゲットとして提供することができないけれども、コーティング設備では冷却支持部からターゲットの活性表面までの設計高さを高くすることが要求される場合などに、ターゲットと、ターゲットと固定結合されたバックプレートとを有する本態様を採用することができる。ターゲットとバックプレートは、たとえば共通の粉末冶金プロセスで、それぞれ異なる材料から製造され得る。たとえばターゲットは、オプションで別の成分特にCr,B,C,Siを含むTiAlで生成可能であり、バックプレートは、Al又はCuで生成可能である。ターゲットの材料とバックプレートの材料とを、たとえば、製造プロセスにおいて粉末の形態で上下に積層し、次いで一緒にプレス及び鍛造のいずれか又は両方を施すことができる。あるいは、たとえばターゲットとバックプレートとを、たとえばインジウムを使用したボンディング、又は類似の方法によって、互いに固定結合することも可能である。一態様によれば、コーティングソースは、ターゲットと、このターゲットをコーティング設備の冷却支持部と結合するためにターゲットと取外し可能に結合されるマウントと、を有し、少なくとも1つの強磁性領域が、マウントに配置される。このような構成は、たとえば比較的薄いターゲットに対し好適であり、コーティング設備において冷却支持部からターゲットの活性表面まで設計高さを比較的高くしなくてはならない場合などに、採用することができる。ターゲットとマウントは、たとえば機械式取付具を介して取り外し可能に互いに結合される。本態様では、少なくとも1つの強磁性領域がマウントに配置されることにより、設備に左右されずターゲットに固有の磁界を同様に提供することができる。交換可能なターゲットを、強磁性領域を伴って又は強磁性領域を伴わずに、低コストで提供することができる。一態様によれば、コーティングソースは、マグネトロンスパッタデポジションコーティングソースである。この場合、ターゲットの活性表面近傍の少なくとも1つの強磁性領域は、活性表面でのスパッタプロセスを的確に制御するために利用することができる。一態様によれば、コーティングソースは、陰極アークデポジションコーティングソースである。この場合、ターゲットの活性表面近傍の少なくとも1つの強磁性領域は、表面での電気アークの運動を制御する目的に利用することができる。運動又はアブレーションパターンを的確に選択的に設定することができ、コーティングソースの中央部におけるアークの崩壊が的確に低減又は防止され、そして、コーティングソースの所定領域へのアークの、制御下の磁気的誘導退去を発生させることができる。前述の課題は、請求項10に記載された物理気相成長法用コーティングソースの製造方法によっても、解決される。好適な発展例が従属請求項に記載されている。当該方法は次の各ステップを含む:コーティングソースの少なくとも1つの構成要素のための少なくとも1つの粉末状出発材料を型に装填し、強磁性粉末及び少なくとも1つの強磁性体のいずれか又は両方を前記型に導入して前記粉末状出発材料の少なくとも1つの領域に配置し、構成要素を形成すべく圧縮する。この製法により、コーティングソースに関して上述した利点が実現される。特に、この製法により、ターゲットの活性表面近傍における強磁性領域を簡単且つ少ない工程で、機械式加工し難い材料又は加工できない材料の場合であっても、生成することができる。したがって、1つ以上の強磁性領域を簡単に且つほぼ任意のジオメトリーで、構成要素の材料中に配設することができ、そして、当該領域を、たとえば前記材料で全面的に取り囲むことも簡単にできる。このことは、各種多様な材料で可能である。1つ以上の強磁性領域は、この場合も、たとえばターゲット、ターゲットと固定結合されたバックプレート、マウントのいずれか1つ以上に配置することができる。本製法においては、たとえばまず最初に構成要素のための粉末状出発材料を型に装填し、次いで、強磁性粉末又は少なくとも1つの強磁性体を装填することが可能である。あるいは、まず最初に強磁性粉末又は少なくとも1つの強磁性体を型に導入し、次いで、粉末状出発材料を導入することも可能である。圧縮に加えて、場合により、形成した構成部分の成形を行うこともできる。一態様によれば、導入は、コーティングソースのターゲットを形成する出発材料の少なくとも1領域に行われる。別の態様によれば、導入は、コーティングソースにおいて、コーティング設備の冷却支持部に対する熱的結合のためにターゲットと固定結合されるバックプレートを形成する出発材料の少なくとも1領域に、行われる。さらに別の態様によれば、導入は、コーティングソースにおいて、コーティング設備の冷却支持部とターゲットとを結合するためにターゲットと取り外し可能に結合されるマウントを形成する出発材料の領域に、行われる。その他の利点や変形例は、添付の図面を参照した以下の実施形態の説明から明らかとなる。第1の実施形態第1の実施形態について図1から図5を参照しながら説明する。図示した実施形態では、陰極アークデポジション法用のコーティングソース1がターゲット2によって構成されている。ターゲット2は、この実施形態では、コーティング設備の冷却支持部に直接取り付けられるように構成されている。図1では、コーティングソース1は円形の断面を有するように示されているが、これ以外の形状、たとえば楕円形、長方形なども可能である。このことは、後述する他の実施形態とその変形例についても当てはまる。以下においては、各コーティングソース1が陰極アークデポジション用として構成されている実施形態とその変形例を説明するが、マグネトロンスパッタデポジション用としてコーティングソースを構成することもそれぞれ可能である。ターゲット2は、コーティングプロセスにおいてターゲット2の材料が侵食される活性表面3を有する。図示した実施形態では、ターゲット2は、活性表面3と反対側の裏面に、コーティング設備の冷却支持部に取り付けるための穴4を有する。しかしながら、冷却支持部に対する取付具はこれ以外の種類のものも可能である。図2に示す例において、コーティングソース1は、コーティング法の間に蒸発させるコーティング材料によって全体的に形成されているので、ターゲット2がコーティングソース1のただ1つの構成要素を構成する。このターゲット2は、粉末冶金製造プロセスにおいて、少なくとも1つの出発材料から形成される。ターゲットは、たとえば、1つの粉末状出発材料、又は複数の異なる粉末状出発材料の混合で、作成され得る。第1の実施形態において、ターゲット2の材料内には、少なくとも1つの強磁性領域が設けられている。図2に示す例では、ターゲット2の材料内に2つの強磁性領域5a,5bが形成されている。強磁性領域5a,5bは、図2の例では、ターゲット2の材料に埋め込まれた2つのマクロ的巨視的な永久磁石体により形成されている。強磁性領域5a,5bは、ターゲット2を製造するための粉末冶金製造プロセスにおいて粉末状出発材料中に導入されて、ターゲット2の材料と結合される。当該強磁性領域は、粉末状出発材料と一緒に圧縮、成形されることで、ターゲット2の材料と恒久的に結合されている。図2では一例として、このような物体が2つ示されているが、1つ又は2つ以上の同様の物体が導入されていてもよい。導入される物体は、任意の他の形状としてもよい。図3は、第1の実施形態に係るコーティングソース1の第2の例を示している。この第2の例が、図2を参照して説明した例と相違しているのは、少なくとも1つの強磁性領域6が、導入されたマクロ的物体によって形成されるのではなく、ターゲット2の出発材料に導入された強磁性粉末によって形成されるという点にある。強磁性粉末は、ターゲット2を製造するための粉末冶金製造プロセスにおいて粉末状出発材料に導入され、第1の例のときと同様に、一緒に加工されることによってターゲット2の材料と結合される。図3では、特定のヨーク形の強磁性領域6が示されているが、これ以外にも数多くの構造が可能である。この場合も、単一の強磁性領域6又は複数の強磁性領域を形成することができる。図4は、第1の実施形態に係るコーティングソース1の第3の例を示している。この第3の例では、導入されたマクロ的物体により形成される強磁性領域5a,5bだけではなく、導入された強磁性粉末により形成される強磁性領域6も設けられている。したがって、第3の例は、第1の例と第2の例の複合型である。図5は、強磁性粉末により形成される強磁性領域6の形状が図4に示す例と相違する、別の例を示している。このように第1の実施形態では、コーティングソース1が、コーティング設備の冷却支持部と直接結合されるように構成されたターゲット2を含んでいる。このターゲット2に、粉末冶金製造プロセスにおいて導入される物体又は強磁性粉末により構成された、1つ又は複数の強磁性領域5a,5b,6が形成されている。当該強磁性領域は、たとえば、導入された永久磁石体により、あるいは、外部磁界中でキュリー温度以下に強磁性粉末を冷却することにより、永久磁石として設計可能である。次に、第1の実施形態に係るコーティングソース1を製造する方法について、図11を参照しながら説明する。ステップS1で、ターゲット2の粉末状出発材料1種類以上の粉末を型に導入する。ステップS2で、少なくとも1つの強磁性領域5a,5b及び強磁性領域6のいずれか又は両方を粉末状出発材料中に導入する。これは、たとえば少なくとも1つのマクロ的強磁性体の導入によって、又は、強磁性粉末の導入によって、行うことができる。ステップS3で、粉末状出発材料を、導入した強磁性領域と一緒に圧縮し、場合によっては成形する。これは、たとえばプレス機における高圧下でのプレスとこれに続く鍛造によって実施され得る。たとえば圧延、ホットアイソスタティックプレスHIP、ホットプレスなどによる加工を実施することもできる。ステップS1とS2は、たとえば逆の順序でも実施できることに注意が必要である。図2~図5において、各強磁性領域5a,5b,6はターゲット2の材料の端にあるが、たとえば、ターゲット2の材料で全周を取り囲まれるように強磁性領域を形成することも可能である。導入される強磁性粉末により形成される強磁性領域だけでなく、導入される強磁性体により形成される強磁性領域も設けられるケースについては、導入される粉末により形成される領域は、強磁性体により形成される領域に対して任意の配置で構成される。特に、たとえば導入される強磁性粉末により形成される領域は、導入される強磁性体により形成される領域よりもターゲットの活性表面の近くに構成される、又は、これよりも遠くに構成される。第2の実施形態次に、第2の実施形態について図6と図7を参照しながら説明する。ここでは繰り返しを避けるために、第1の実施形態との相違についてのみ説明し、対応する部分には同一の符号を使用する。第2の実施形態において、コーティングソース1は、活性表面3を含むターゲット2と、ターゲット2に直接固定結合されたバックプレート7と、を構成要素として有する。バックプレート7は、コーティング設備の冷却支持部に取り付けられるように構成されており、該構成は、たとえば一例として図示している穴4によって実現することができる。バックプレート7は、ターゲット2からの良好な熱排出を保証するために、冷却支持部へのターゲット2の良好な熱的結合を提供するように構成されている。本実施形態では、ターゲット2とバックプレート7とは、いずれも共通の粉末冶金製造プロセスにおいて粉末状出発材料から製造される。たとえば、ターゲット2の材料は熱伝導性の低いコーティング材料、一例としてオプションで他の成分を含むTixAlyであり、バックプレート7の材料は熱伝導性の高い材料、たとえば、AlやCuである。コーティングソース1の両方の構成要素、すなわちターゲット2とバックプレート7との間の固定結合は、たとえば、ターゲット2の粉末状出発材料とバックプレート7の粉末状出発材料とを共通の型の中で上下に積層して圧縮し、続いて、任意に、鍛造、ホットアイソスタティックプレス、圧延、ホットプレス、焼結のいずれか1つ以上を実施することによって、生成することができる。第2の実施形態において、ターゲット2及びバックプレート7のいずれか又は両方に、少なくとも1つの強磁性領域が設けられる。ターゲット2に1つ以上の強磁性領域を構成する、又は、バックプレート7に1つ以上の強磁性領域を構成する、又は、ターゲット2及びバックプレート7にそれぞれ1つ以上の強磁性領域を構成することができる。個々の強磁性領域は、この場合も、たとえば導入されたマクロ的物体によって、又は導入された強磁性粉末によって構成され得る。強磁性領域は、ターゲット2及びバックプレート7のいずれか又は両方の粉末状出発材料と一緒に圧縮、成形されて、ターゲット2及びバックプレート7のいずれか又は両方の材料と恒久的に結合される。1つ以上の強磁性領域は、この場合も、永久磁石で構成され得る。これらの考えられる数多くの異なる具体例のうち、2つを例として以下に説明する。図6に示す例では、バックプレート7内に2つの強磁性領域5a,5bが設けられている。両方の強磁性領域5a,5bは、マクロ的永久磁石体で形成されており、これらは、バックプレート7の出発材料の粉末冶金製造プロセスにおいてバックプレート7の材料へ導入されて、バックプレート7の材料と固定結合される。これに加えて図7に示す例では、別の強磁性領域6がコーティングソース1に設けられている。強磁性領域6は、粉末冶金製造プロセスにおいてターゲット2及びバックプレート7の各粉末状出発材料に導入される強磁性粉末によって形成される。次に、第2の実施形態に係るコーティングソースを製造する方法について、図11を参照しながら簡略に説明する。ステップS11で、ターゲット2の粉末状出発材料とバックプレート7の粉末状出発材料とを型に順次装填する。たとえば、最初にバックプレート7の出発材料を装填してから、次にターゲット2の出発材料を装填することができ、また、この逆順で行うこともできる。ステップS12で、ターゲット2及びバックプレート7のいずれか又は両方の粉末状出発材料の少なくとも1つの領域への強磁性粉末及び少なくとも1つの強磁性体のいずれか又は両方の投入により、少なくとも1つの強磁性領域5a,5b及び強磁性領域6のいずれか1つ以上を形成する。これに続くステップS13で、粉末状出発材料を、導入した強磁性領域と一緒に圧縮し、成形する。この場合も、ステップS11とステップS12は、逆の順序で実施することができる。第3の実施形態次に、第3の実施形態について図8~図10を参照しながら説明する。同じく第1及び第2の実施形態との相違点だけを説明し、対応する部分には同一の符号を使用する。第3の実施形態において、コーティングソース1は、活性表面3を含むターゲット2と、ターゲット2のためのマウント8と、を構成要素として有する。マウント8は、ターゲット2を取り外し可能に収容し、コーティング設備の冷却支持部へ取り付けるために構成されている。マウント8は、冷却支持部へのターゲット2の良好な熱的結合を保証するように構成されている。冷却支持部との結合は、たとえばこの場合も、一例として図示する穴4によって実現することができる。図9に示す例では、マウント8は、ターゲット2を嵌合により保持するように構成された、第1のマウント要素8aと第2のマウント要素8bとを有している。第1のマウント要素8a及び第2のマウント要素8bは、ターゲット2を嵌合で収容するために、たとえば、ねじ山8cを介して取り外し可能に相互に結合することができる。第3の実施形態において、マウント8及びターゲット2のいずれか又は両方に少なくとも1つの強磁性領域が設けられる。ターゲット2に1つ以上の強磁性領域を構成し、又は、マウント8に1つ以上の強磁性領域を構成し、又は、ターゲット2及びマウント8のそれぞれに1つ以上の強磁性領域を構成することができる。個々の強磁性領域は、この場合も、たとえば導入されたマクロ的物体によって、又は導入された強磁性粉末によって構成される。強磁性領域は、ターゲット2の粉末状出発材料及びマウント8の粉末状出発材料のいずれか又は両方と一緒に圧縮され、成形されて、ターゲット2及びマウント8のいずれか又は両方の材料と恒久的に結合される。1つ以上の強磁性領域は、この場合も、永久磁石で構成され得る。これらの考えられる数多くの異なる具体例のうち、2つを例として以下に説明する。図9に示す例において、マウント8には、埋設されたマクロ的永久磁石体により形成される2つの強磁性領域5a,5bに加え、マウント8の粉末冶金製造プロセスにおいて粉末の形態で導入される強磁性粉末により形成される強磁性領域6も設けられている。この例では、ターゲット2には強磁性領域が設けられていない。図10に示す別の例では、マウント8に、埋設されたマクロ的永久磁石体により形成される2つの強磁性領域5a,5bが設けられ、ターゲット2に、ターゲット2の粉末冶金製造プロセスにおいて粉末の形態で導入される強磁性粉末により形成される別の強磁性領域6が設けられている。このコーティングソース1の製造方法における一つのステップで、マウント8及びターゲット2のいずれか又は両方の粉末状出発材料を型に装填する。次のステップで、強磁性粉末及び少なくとも1つの強磁性体のいずれか又は両方を粉末状出発材料の少なくとも1つの領域に導入し、少なくとも1つの強磁性領域5a,5b及び強磁性領域6のいずれか1つ以上を形成する。これに続くステップで、粉末状出発材料を、導入した強磁性領域と一緒に圧縮し、成形する。以上、コーティングソースのターゲット表面で非常に高い磁界密度を提供することがそれぞれ可能となる実施形態について説明してきた。陰極アークデポジションの場合、コーティングプロセス中のアーク点火特性と安定性が大幅に改善される。金属ターゲットの場合、飛沫や液滴の放出の削減が実現される。金属セラミック材料又はセラミック材料のターゲットの場合、電気アークの運動に関して実現される高い速度、及び運動の制御とこれによってコーティング材料の侵食剥離を所望の軌道で案内するという能力により、スポットでの局所的なエネルギー注入が低減され、且つターゲット材料の低い導電性と低い熱衝撃耐性に起因する欠点が補償される。導入される強磁性又は磁性成分は、コーティング材料の侵食処理又は侵食プロフィルを制御することができるように配置することができる。さらに上述した構成により、陰極アークデポジションによる強磁性コーティング材料の直接成長も可能となる。1つ又は複数の磁性領域は、たとえばコーティング設備において提供される外部磁界との連携で、ターゲットの表面近傍の領域において所望の磁界が高い精度で設定されるように、最適化することができる。設備側の磁界の選択的な減衰及び増幅のいずれか又は両方を局所的な解像度で提供することができる。磁性領域は、たとえば特定の領域がコーティングプロセスに対して遮蔽され、それにより、その領域で顕著な侵食が起きないようにも、構成することができる。さらに上述した実施形態により、ターゲットの特定の領域が汚染されないように防護することができ、これは、たとえば発生する磁界の的確なフォーメーションにより、たとえばセラミックの窒化物層や酸化物層による無用なターゲットのコーティングを回避することによる。陰極アークデポジションプロセス用のコーティングソースの場合、ターゲットの活性表面におけるアークの運動経路を設定することができる。このことは、たとえば所望の化学組成をもつ層を成長させるために、異なる領域に異なる材料組成を含むセグメント化されたターゲットの使用を可能にする。ターゲット及び固定結合されたバックプレート、又は、ターゲット及びマウントを有するコーティングソースの構成は、特に、たとえばセラミックのように切削加工できない材料又は切削加工が非常に難しい材料でターゲットができており、そのために、ねじ穴やクランプ段部をターゲット材料に後から刻設するのが不可能である場合であっても、適用することができる。"