"ターンテーブルに吸着された円盤状の原盤に電子線を照射して描画する電子線描画装置において、描画処理後の原盤を前記ターンテーブルから外した後再度前記ターンテーブルに載置したときの前記原盤の中心座標と、前記ターンテーブルの回転中心との差を検出する検出手段と、前記ターンテーブルの停止時に前記検出手段からの検出信号に基づいて吸着前の前記原盤を径方向に移動させる移動手段と、前記ターンテーブルを所定の角度だけ回転させて得られた前記検出手段からの検出信号に基づいて前記移動手段により吸着前の前記原盤を径方向に移動させることで前記原盤の中心を前記ターンテーブルの回転中心に一致させる制御手段と、を備えたことを特徴とする電子線描画装置。前記移動手段は、エンコーダモータ付きマイクロメータヘッドであって、前記原盤の外周端部に接触して偏芯量を検知し補正を加えることを特徴とする請求項1記載の電子線描画装置。前記移動手段は、偏芯の補正時のみ前記原盤に接触し、補正後は前記原盤から離れるように駆動機構を有することを特徴とする請求項1または2記載の電子線描画装置。前記検出手段は、電子ビーム照射による前記原盤から反射される2次電子より得られたSEM像により偏芯量を検知することを特徴とする請求項1から3の何れか一項記載の電子線描画装置。ターンテーブルに吸着された円盤状の原盤に電子線を照射して描画する電子線描画方法において、描画処理後の原盤を前記ターンテーブルから外した後再度前記ターンテーブルに載置したときの前記原盤の中心座標と、前記ターンテーブルの回転中心との差を検出し、前記ターンテーブルの停止時に前記検出手段からの検出信号に基づいて吸着前の前記原盤を径方向に移動させ、前記前記ターンテーブルを所定の角度だけ回転させて得られた前記検出手段からの検出信号に基づいて前記移動手段により吸着前の前記原盤を径方向に移動させることで前記原盤の中心を前記ターンテーブルの回転中心に一致させることを特徴とする電子線描画方法。ところで、上述した特許文献1~3に記載の発明は、回転する原盤への描画等に用いる回転描画装置では研磨されたガラス板上にレジストを塗布し、そのレジスト面に対して集光レンズで集光した電子ビームを照射し溝形成を行なっている。従って原盤描画装置にはレジスト面で集光する集光レンズにはフォーカス機構のみの構造になっている。しかし、溝付きのレジスト板の溝内部にピットを形成しようとする場合にはフォーカス機構だけでは、溝内部に電子ビームを照射する事は困難である。その理由は、溝付きレジスト板の回転中心とターンテーブル回転中心を一致させなければならない、対物レンズにトラッキング機構を設けてトラッキングサーボによる追従を実施しても偏芯が大きいとサーボ残差によって溝中心に正確に描画ができないという不具合がある。そこで、本発明の目的は、溝付きレジスト板の溝の内部に溝又はピットを正確に形成することができる電子線描画装置及び電子線描画方法を提供することにある。上記課題を解決するため、請求項1記載の発明は、ターンテーブルに吸着された円盤状の原盤に電子線を照射して描画する電子線描画装置において、描画処理後の原盤を前記ターンテーブルから外した後再度前記ターンテーブルに載置したときの前記原盤の中心座標と、前記ターンテーブルの回転中心との差を検出する検出手段と、前記ターンテーブルの停止時に前記検出手段からの検出信号に基づいて吸着前の前記原盤を径方向に移動させる移動手段と、前記ターンテーブルを所定の角度だけ回転させて得られた前記検出手段からの検出信号に基づいて前記移動手段により吸着前の前記原盤を径方向に移動させることで前記原盤の中心を前記ターンテーブルの回転中心に一致させる制御手段と、を備えたことを特徴とする。請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、前記移動手段は、エンコーダモータ付きマイクロメータヘッドであって、前記原盤の外周端部に接触して偏芯量を検知し補正を加えることを特徴とする。請求項3記載の発明は、請求項1または2記載の発明において、前記移動手段は、偏芯の補正時のみ前記原盤に接触し、補正後は前記原盤から離れるように駆動機構を有することを特徴とする。請求項4記載の発明は、請求項1から3の何れか一項記載の発明において、前記検出手段は、電子ビーム照射による前記原盤から反射される2次電子より得られたSEM像により偏芯量を検知することを特徴とする。請求項5記載の発明は、ターンテーブルに吸着された円盤状の原盤に電子線を照射して描画する電子線描画方法において、描画処理後の原盤を前記ターンテーブルから外した後再度前記ターンテーブルに載置したときの前記原盤の中心座標と、前記ターンテーブルの回転中心との差を検出し、前記ターンテーブルの停止時に前記検出手段からの検出信号に基づいて吸着前の前記原盤を径方向に移動させ、前記ターンテーブルを所定の角度だけ回転させて得られた前記検出手段からの検出信号に基づいて前記移動手段により吸着前の前記原盤を径方向に移動させることで前記原盤の中心を前記ターンテーブルの回転中心に一致させることを特徴とする。本発明によれば、溝付きレジスト板の溝の内部に溝又はピットを正確に形成することができる電子線描画装置及び電子線描画方法の提供を実現することができる。本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。図1は、本発明に係る電子線描画装置の一実施の形態を示すブロック図である。図2は、図1に示した電子線描画装置のターンテーブル、及びスライダの説明図である。図1に示す電子線描画装置の構成は、円盤状の原盤31を吸着したまま回転させるターンテーブル付きスピンドルモータ27、ターンテーブル付きスピンドルモータ27を移動させるスライダ24、円盤状の原盤31のレジスト32、33に記録するための電子ビーム照射系29、ブランカ制御回路15、θ偏光器制御回路16、X偏光器制御回路17、回転制御回路18、送り制御回路19、及び制御信号発生回路群51を有する。スライダ24は、モーターで水平移動が可能であり、送り制御回路19により移動距離及び移動方向が制御される。電子線照射系24は、電子線発生器24a、入射側集光レンズ24b、ブランカ11、θ偏光器13、X偏光器14、及び出射側集光レンズ24cを有する。電子線発生器24aは、電子線を発生する機能を有する。入射側集光レンズ24bは、電子線発生器24aからの電子線をブランカ11にて集光する機能を有する。ブランカ11は、電子線を一時的に遮断する公知の機構であり、θ偏光器13は電子線の照射角度を変化させる機能を有し、X偏光器14は電子線をX軸方向図では例えば左右方向に変化させる機能を有する。出射側集光レンズ24cは、X偏光器14から出射した電子線をレジスト上で集光させる機能を有する。ブランカ制御回路15は、ブランカ11の開閉を制御する機能を有する回路である。θ偏光器制御回路16は、θ偏光器13の偏光角度を制御する機能を有する回路である。X偏光器制御回路17は、X偏光器14の偏光量を制御する機能を有する回路である。制御信号発生回路群51は、クロック信号発生回路群50、フォーマット信号発生回路41、偏光信号発生回路43、及び位置誤差検出回路20を有する。クロック信号発生回路群50は、クロック回路CLK45、フォーマッタClk発生回路42、偏向Clk発生回路44、回転パルス発生回路T-PG46、及びスライダパルス発生回路S-PG47を有する。クロック回路CLK45は、本電子線描画装置の動作の基準となるクロック信号を発生する回路であり、例えば、水晶発振回路が挙げられるがPLL回路を用いてもよい。フォーマッタClk発生回路42は、クロック回路45からのクロック信号に基づいて、フォーマット信号を発生するための新たなクロック信号を発生するための回路であり、例えば分周器が挙げられる。ここで、フォーマットとは、書き込み可能な記録媒体のデジタル信号列を、記憶装置で読み書き認識可能な状態に初期化する事、またその初期化された型式を言う。書き込み可能なディスク媒体磁気ディスク、光ディスク等の場合、トラックやセクター等の信号列を含めてディスク全体を規定パターンで書き直す。セクター内のプリアンプル形成や、初期化データ列、誤り訂正符号の書き込みも含まれる。これらのデータ信号を、電子ビームをON/OFFしてパターンを形成する。偏向Clk発生回路44は、クロック回路45からのクロック信号に基づいて、偏向信号を発生するための新たなクロック信号を発生する回路であり、例えば分周器が挙げられる。回転パルス発生回路T-PG46は、クロック回路45からのクロック信号に基づいて新たなクロック信号を発生する回路であり、例えば分周器が挙げられる。スライダパルス発生回路S-PG47は、クロック回路45からのクロック信号に基づいて新たなクロック信号を発生する回路であり、例えば分周器が挙げられる。位置誤差検出回路20は、回転制御回路18及び送り制御回路19からの信号と回転制御回路18及び送り制御回路19からの信号とを比較してターンテーブルの位置誤差を検出する回路である。本装置が描画動作を行なう場合、レジスト板原盤31にレジスト32、33を形成した部材をターンテーブル28に固定させて一定線速CLV:ConstantLinearVelocityで回転させる。次にスライダ24のステージがその半径、回転数に応じてレジスト板の半径方向矢印方向に移動して電子線電子ビームとも言うをレジスト板に照射して潜像を形成する。通常、潜像を形成する場合はレジスト原盤原盤31上のレジスト32に溝はなく、平滑なレジスト面に対して描画が行なわれるためフォーカスサーボのみで描画が行なわれる。CLV描画の場合は、線速が一定になるようにターンテーブル28の回転、スライダ24の送り速度を送りピッチに合うように駆動する事で一定ピッチの動作を行なう。また、エアスライダを設定したピッチになるように送るためにはエアスライダ移動体に設置したスケールレーザスケール、マグネスケール、レーザ測長器等25により位置情報を得てその位置情報にフィードバックサーボを行ないスピンドルスライダサーボドライバ22精度の良い送りを実現することができる図1。次に本発明に係る電子線描画装置に用いられる偏芯防止機構の構成及び動作について図2及び図3を参照して説明する。図3は、偏芯防止の原理を説明するための説明図である。偏芯防止機構の構成は、エンコーダモータ付きのマイクロメータ以下マイクロメータ21、2次電子信号検出SEMScanningElectronMicroscope像、及びパーソナルコンピュータPC23から構成されている。マイクロメータ21は長手方向に出し入れ自在な移動軸28aを有し、移動軸28aがターンテーブル28の中心に向くように設置されている。このマイクロメータ21の移動軸28aは、使用時以外はレジスト板から離れるように設定されている。また、マイクロメータ21は、スライダ24の移動軸に平行になるように位置している。偏芯除去のステップは以下の通りである。溝付きレジスト板をターンテーブル上に設置しフォーカスサーボをかける、この時はまだ吸着を行なわない図2。描画装置内蔵のSEM機能を利用して溝又はピット描画済みレジスト板をSEM観察して、最内周の溝の任意の3点座標を計測する。なお、この時の計測原点0,0は回転するターンテーブル28の中心であるのでスライダ24のステージの位置をR=0とし、ターンテーブル28の角度を0とする。図3より3点の座標をP1I,J、P2L,M、P3U,Vとし、P1とP2との中点座標P,Qを数式1、2で求めると、P=IL÷2...1Q=JM÷2...2P,Qを通って線分P1,P2に直交する線の角度をAとすると、角度Aは数式3で表される。A=tan1{M-J÷L-I}90...3同様にしてP2,P3の中点座標S,Tと線分P2,P3に直交する線の角度Bは、数式4、5を用いて数式6で表される。S=LU÷2...4T=MV÷2...5B=tan1{V-M÷U-L}90...6よって、P,Qを通る角度Aの直線の方程式と、S,Tを通る角度Bの直線の方程式とをたてて連立方程式を解くと、中心座標X,Yは、数式7、8で表される。X=P{T-Q-S-PtanB}÷tanA-tanB...7Y=QX-PtanA...8となる。マイクロメータ21をレジスト板の端面周面に接触させて求めた描画中心座標O’X,YのX成分がゼロになるようにマイクロメータ21でレジスト板を押して調整後、ターンテーブル28を90度回転させてY成分も同様にゼロになるように調整する。この測定、調整を複数回通常は2~3回実施する事でターンテーブル28の回転中心とレジスト板に既に描画されている回転中心とを一致させる事ができる。ここで、中心位置の調整はマイクロメータ21の移動軸21aの先端で原盤31を押して位置を調整していく。しかしターンテーブル28上を原盤がその方向だけにスムーズに動かなくて、多少斜めに動いたりしますから複数回行うことでターンテーブル28の中心に合わせていく。このように既に形成されているレジスト原盤の溝に対して偏芯除去偏芯補正を行ってから描画を行う事で、既に形成されている溝内部にピットの描画を行う事ができる。ここで、原盤31に印は付けない。原盤31には現像後であればスパイラル、あるいは同心円状の描画パターンが形成されており、そのパターンの最内周をSEMで観察し、任意の3点を設定する。その3点の配置はほぼ正三角形の頂点上にほぼ120度3等分位配置することで中心座標を求める事ができる。現像のためにターンテーブル28から原盤31を外すと回転中心はずれる。これは、最初描画する時は原盤31を外径基準で固定している。外径基準で加工を始めるため、描画時の回転中心はターンテーブル28の中心となる。しかし、現像のため一度外すとこの基準が狂うため、前回描画で得た回転中心をターンテーブル中心に合わす必要がある。また、原盤31を一度ターンテーブル28から外すので、ターンテーブル28の中心と描画回転中心とを一致させるために中心座標を求めている。90度回転というのは原盤31の位置を調整するためのマイクロメータ21の数が1個であるため、回転させてX方向とY方向を調整するのである。図4は、本発明に係る電子線描画方法を用いた製造プロセスの一例である。まず、原盤31としてのガラスSiウェハからなる基板を洗浄するステップS1。原盤31の上にレジスト32を塗布するステップS2。原盤31を図示しないターンテーブルに真空吸着させた状態で回転させ、電子線40を径方向に移動させてレジスト32に描画を行うことにより潜像を形成するステップS3。レジスト32を現像することにより可視像が形成されたレジスト32aを得るステップS4。レジスト32aの上に再度レジスト33を塗布するステップS5。原盤31を図示しないターンテーブルに真空吸着させた状態で回転させ、電子線41を径方向に移動させてレジスト33に描画を行うことにより潜像を形成するステップS6。レジスト33を現像することにより溝内に形成されたピット34、35及びグルーブが得られるステップS4。以上において、本実施の形態によれば、偏芯除去装置を有している事から、対象となる溝又はピット描画済みレジスト板の外径真円度の影響に関係なく溝中心とターンテーブル中心を一致させる事が可能となる。本実施の形態によれば、電子ビームを溝又はピット描画済みレジスト原盤の溝部に位置決めする事が可能になる。本実施の形態によれば、溝又はピット描画済みレジスト原盤に対しても溝内部に電子ビームを照射する事が可能なので、溝内部に溝又はピットを描画する事ができる。なお、上述した実施の形態は、本発明の好適な実施の形態の一例を示すものであり、本発明はそれに限定されることなく、その要旨を逸脱しない範囲内において、種々変形実施が可能である。"