"ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール又はポリエーテルジオールから選ばれる少なくともひとつのジオール、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有メタアクリレートの反応物であるウレタンメタアクリレートA及び1個のメタアクリロイル基を有する化合物Bを含み、硬化物のヘイズが1.0以下で、かつ厚さ80μmで測定した場合における硬化物の正面及び斜め40°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが10nm以下である光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物。厚さ80μmで測定した場合における硬化物の正面の面内レタデーションが1nm以下で、斜め40°の面内レタデーションが5nm以下で、厚さ方向のレタデーションが10nm以下である請求項1記載の光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物。前記B成分が、ホモポリマーのガラス転移温度が50°C以上の化合物である請求項1又は請求項2記載の光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物。A成分及びB成分の合計量を基準として、A成分20~95重量及びB成分5~80重量で含む請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物。前記組成物が光重合開始剤を含まない請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物。請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の組成物の電子線照射硬化物が、フィルム状又はシート状に形成されてなり、ヘイズが1.0以下で、かつ厚さ80μmで測定した場合における正面及び斜め40°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが10nm以下である光学フィルム又はシート。厚さ80μmで測定した場合における正面の面内レタデーションが1nm以下で、斜め40°の面内レタデーションが5nm以下で、厚さ方向のレタデーションが10nm以下である請求項6記載の光学フィルム又はシート。請求項6又は請求項7記載の光学フィルム又はシートからなる偏光子保護フィルム。フィルム状又はシート状基材以下、これらをまとめてシート状基材という、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の組成物の電子線照射硬化物及びシート状基材が、この順に形成されてなる光学フィルム又はシート。シート状基材のいずれか一方又は両方が、表面粗さRaが150nm以下の基材である請求項9記載の光学フィルム又はシート。シート状基材に、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の組成物を塗布した後、塗工面側又はシート状基材側から電子線を照射する光学フィルム又はシートの製造方法。シート状基材が剥離可能な基材である請求項11記載の光学フィルム又はシートの製造方法。シート状基材が剥離可能な基材であり、かつ表面粗さRaが150nm以下である請求項12記載の光学フィルム又はシートの製造方法。シート状基材に、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の組成物を塗布し、組成物の塗工面に他のシート状基材を貼合した後、前記シート状基材のいずれかの側から電子線を照射する光学フィルム又はシートの製造方法。シート状基材のいずれか一方又は両方が剥離可能な基材である請求項14記載の樹脂フィルム又はシートの製造方法。シート状基材が剥離可能な基材であり、かつ表面粗さRaが150nm以下である請求項15記載の光学フィルム又はシートの製造方法。ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、請求項8記載の偏光子保護フィルムが積層された偏光板であって、該偏光子が接着剤層を介して該偏光子保護フィルムに接着されてなる偏光板。前記した通り従来からのトリアセチルセルロースに代わる偏光子保護フィルムの材料として検討されている透明性の熱可塑性樹脂は、UVAを含むものは樹脂の黄変が大きくなることがあり、又、耐溶剤性が不充分であるために溶剤や接着剤の浸食による透明性の低下等の問題が生じることがあった。本発明は、UVAを含まずとも、又はUVAを含んだとしても、硬化物の透明性と耐光性試験後の黄変度のバランスに優れ、耐溶剤性が良好で、正面及び斜め方向の面内レタデーションや厚さ方向レタデーションが小さい光学フィルム形成用電子線硬化型組成物、当該組成物から得られた光学フィルム、偏光子保護フィルム及び偏光板を提供することを目的とする。本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のジオール、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有メタアクリレートから製造されるウレタンメタアクリレート及び1個のメタアクリロイル基を有する化合物を含み、硬化物のレタデーション及びヘイズが特定値を有する電子線硬化型組成物が、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明の組成物は、得られる硬化物の正面及び斜め方向の面内レタデーション及び厚さ方向レタデーションが10nm以下で、ヘイズが1.0以下という小さいものであり、これにより硬化物が透明性と耐光性試験後のバランスに優れ、さらに耐溶剤性にも優れたものとなる。従って、本発明の電子線硬化光学フィルムは、偏光子保護フィルム用途に好適に使用することができ、偏光度が低下してしまうという問題もない。本発明は、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール又はポリエーテルジオールから選ばれる少なくともひとつのジオール、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有メタアクリレートの反応物であるウレタンメタアクリレートA以下、単にA成分という及び1個のメタアクリロイル基を有する化合物B以下、単にB成分というを含み、硬化物のヘイズが1.0以下で、かつ厚さ80μmで測定した場合における硬化物の正面及び斜め40°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが10nm以下である光学フィルム形成用電子線硬化型組成物に関する。以下、本発明を詳細に説明する。尚、本明細書では、組成物に電子線照射して得られる架橋物及び硬化物を、まとめて硬化物と表す。1.A成分本発明で使用するA成分は、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール又はポリエーテルジオール以下、これらをまとめてジオールaという、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有メタアクリレートの反応物であるウレタンメタアクリレートである。当該A成分は、他のウレタンメタアクリレートと比較して、ポリオールとしてジオールa、有機ジイソシアネートとして無黄変型を使用することにより、耐光性試験後の黄変度が小さいものとなる。A成分としては、ジオールaと無黄変型有機ジイソシアネートを反応させてイソシアネート基含有化合物を製造し、これとヒドロキシル基含有メタアクリレートを反応させた化合物以下、化合物A1という、及びジオールa、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有メタアクリレートを同時に反応させた化合物以下、化合物A2という等が挙げられ、分子量を制御しやすいという理由で化合物A1が好ましい。A成分としては、オリゴマー及びポリマーのいずれも使用可能であり、重量平均分子量1,000~5万のものが好ましく、より好ましくは3,000~3万である。尚、本発明において、重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定した分子量をポリスチレン換算した値である。ジオールaにおいて、ポリカーボネートジオールとしては、低分子量ジオール、ポリエーテルジオール又は/及びビスフェノールA等のビスフェノールとエチレンカーボネート及び炭酸ジブチルエステル等の炭酸ジアルキルエステルの反応物等が挙げられる。ここで、低分子量ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール及び3-メチル-1,5-ペンタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール等が挙げられる。ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール、並びにポリエチレンポリプロポキシブロックポリマージオール等のブロック又はランダムポリマーのジオール等が挙げられる。ジオールaにおいて、ポリエステルジオールとしては、前記低分子量ジオール又は/及び前記ポリエーテルジオールと、アジピン酸、コハク酸、フタル酸、テトラヒドルフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸及びテレフタル酸等の二塩基酸又はその無水物等の酸成分とのエステル化反応物等が挙げられる。ジオールaにおいて、ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール;ポリエチレンポリプロポキシブロックポリマージオール等のブロック又はランダムポリマーのジオール;並びにビスフェノールAエチレンオキサイド付加物のジオール及びビスフェノールAプロピレンオキサイド付加物のビスフェノールAアルキレンオキサイド付加物のジオール等が挙げられる。これらのジオールaは、1種のみを使用しても、2種以上を併用しても良い。無黄変型有機ジイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート以下、IPDIという、4,4′-メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート以下、H12MDIという及びω,ω′-ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。これらの有機ジイソシアネート化合物は、1種のみを使用しても、2種以上を併用しても良い。前記した化合物の中でも、硬化物に耐光性耐候性が要求される場合には、IPDI及びH12MDIが好ましい。ヒドロキシル基含有メタアクリレートとしては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ヒドロキシブチルメタアクリレート、ヒドロキシペンチルメタアクリレート、ヒドロキシヘキシルメタアクリレート、ヒドロキシオクチルメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリ、ジ又はモノメタアクリレート、及びトリメチロールプロパンジ又はモノメタアクリレート等のヒドロキシアルキルメタアクリレート等が挙げられる。前記した化合物の中でも、シートの柔軟性に優れるという点で、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート及びヒドロキシブチルメタアクリレートが好ましい。A成分は、常法に従い製造されたもので良い。化合物A1を製造する場合は、ジブチルスズジラウレート等のウレタン化触媒存在下、使用するジオールa及び無黄変型有機ジイソシアネートを加熱攪拌し付加反応させ、さらにヒドロキシアルキルメタアクリレートを添加し、加熱攪拌し付加反応させる方法等が挙げられ、化合物A2を製造する場合は、前記と同様の触媒の存在下に、ジオールa、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシアルキルメタアクリレートを同時に添加して加熱攪拌する方法等が挙げられる。A成分は、1種のみを使用しても、2種以上を併用しても良い。2.B成分B成分は、1個のメタアクリロイル基を有する化合物である。本発明ではB成分を含むことにより、組成物の塗工性と硬化物の機械強度のバランスをとることができる。B成分としては、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、トリメチルシクロヘキシルメタアクリレート、1-アダマンチルメタアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、i-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、アリルエーテル、ビスエーテル及びビスエーテル等のエーテル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチル-n-プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ-n-プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤が挙げられる。D成分としては、前記した化合物の1種又は2種以上用いることができる。D成分の割合としては、適宜設定すれば良いが、好ましくは組成物中に10~90重量が好ましく、より好ましくは40~80重量である。●重合禁止剤又は/及び酸化防止剤本発明の組成物には、重合禁止剤又は/及び酸化防止剤を添加することが、本発明の組成物の保存安定性を向上させことができ、好ましい。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール、並びに種々のフェノール系酸化防止剤が好ましいが、イオウ系二次酸化防止剤、リン系二次酸化防止剤等を添加することもできる。これら重合禁止剤又は/及び酸化防止剤の総配合割合は、A成分及びB成分の合計量100重量部に対して、0.001~3重量であることが好ましく、より好ましくは0.01~0.5重量である。●耐光性向上剤本発明の組成物には、紫外線吸収剤や光安定剤等の耐光性向上材を添加しても良い。紫外線吸収剤としては、2-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-3-t-ブチル-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物;2,4-ビス2,4-ジメチルフェニル-6-2-ヒドロキシ-4-イソ-オクチルオキシフェニル-s-トリアジン等のトリアジン化合物;2,4-ジヒドロキシ-ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-4-メチルベンゾフェノン、22-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2、4、4-トリヒドロキシベンゾフェノン、2244-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4-テトラヒドロキシベンゾフェノン、又は2、2-ジヒドロキシ-4,4-ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物等を挙げることができる。光安定性剤としては、N,N′-ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル-N,N′-ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス1,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-2-3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシベンジル-2-n-ブチルマロネート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジニルセバケート、等の低分子量ヒンダードアミン化合物;N,N′-ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル-N,N′-ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジニルセバケート等の高分子量ヒンダードアミン化合物等のヒンダードアミン系光安定剤を挙げることができる。耐光性向上剤の配合割合は、A成分及びB成分の合計量100重量部に対して、0~5重量であることが好ましく、より好ましくは0~1重量である。4.使用方法本発明の組成物は、光学フィルム形成の目的に応じて種々の使用方法を採用することができる。具体的には、基材に組成物を塗工し電子線を照射して硬化させる方法、基材に組成物を塗工し別の基材と貼り合せた後さらに電子線を照射して硬化させる方法、凹部を有する型枠に組成物を流し込み、電子線を照射して硬化させる方法等が挙げられる。基材としては、剥離可能な基材及び離型性を有しない基材以下、非離型性基材というのいずれも使用することができる。剥離可能な基材としては、離型処理されたフィルム及び剥離性を有する表面未処理フィルム以下、まとめて離型材という等が挙げられる。離型材としては、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理シクロオレフィンポリマーフィルム及び表面未処理OPPフィルムポリプロピレン等が挙げられる。本発明の組成物の硬化物のヘイズを1.0以下に抑えるためには、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理OPPフィルムポリプロピレンを使用することが好ましい。本願発明の組成物から得られる光学フィルムに対して、低いヘイズにしたり表面平滑性を付与するためには、剥離可能な基材として表面粗さRaが150nm以下の基材を使用することが好ましい。当該基材の具体例としては、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理OPPフィルムポリプロピレン等が挙げられる。尚、本発明において表面粗さRaとは、フィルムの表面の凹凸を測定し、平均の粗さを計算したものを意味する。非離型性基材としては、前記以外の各種プラスチックが挙げられ、ポリビニルアルコール、トリアセチルセルロース及びジアセチルセルロース等のセルロースアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ノルボルネン等の環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。塗工方法としては、目的に応じて適宜設定すれば良く、従来公知のバーコート、アプリケーター、ドクターブレード、ナイフコーター、コンマコーター、リバースロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター及びマイクログラビアコーター等で塗工する方法が挙げられる。電子線照射における、線量等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。5.光学フィルム本発明の組成物は、光学フィルムの製造に好ましく使用できる。以下、光学フィルムについて説明する。尚、以下においては、図1及び図2に基づき一部説明する。5-1.光学フィルムの製造方法光学フィルムの製造方法としては常法に従えば良く、例えば、組成物を基材に塗布した後、電子線を照射して製造することができる。図1は、離型材/硬化物から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す。図1において、は離型材を意味する。組成物が無溶剤型の場合図1:F1は、組成物を離型材図1:に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合図1:F2は、組成物を離型材図1:に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる図1:1-1。離型材に組成物層が形成されてなるシートに対して電子線を照射することで、離型材/硬化物から構成される光学フィルムが得られる。電子線の照射は、通常、組成物層側から照射するが、離型材側からも照射できる。上記において、基材として離型材を使用すれば、離型材/硬化物から構成される光学フィルムを製造することができる。本発明の組成物の塗工量としては、使用する用途に応じて適宜選択すればよいが、有機溶剤等を乾燥した後の膜厚が5~200μmとなるよう塗工するのが好ましく、より好ましくは10~100μmである。組成物が有機溶剤等を含む場合は、塗布後に乾燥させ、有機溶剤等を蒸発させる。乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、40~150°Cの温度に加熱する方法等が挙げられる。電子線照射における、線量等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。図2は、離型材/硬化物/離型材から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す。図2において、、、は離型材を意味する。組成物が無溶剤型の場合図2:F1は、組成物を離型材図2:に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合図2:F2は、組成物を離型材図2:に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる図2:2-1。組成物層には離型材をラミネートした後電子線照射したり、電子線照射した後に離型材をラミネートすることで、離型材、硬化物及び離型材が、この順に形成されてなる光学フィルムが得られる。上記図1及び2では基材として離型材を使用した例を記載したが、非離型性基材を使用して、光学フィルムを製造することもできる。例えば、図1において、の離型材に代え非離型性基材を使用し、前記と同様に電子線照射して硬化させ、非離型性基材/硬化物から構成される光学フィルムを製造することもできる。又、図2において、、及びのいずれかの離型材として、非離型性基材を使用し、前記と同様の方法で電子線照射して硬化させ、離型材/硬化物/非離型性基材から構成される光学フィルムや、非離型性基材/硬化物/非離型性基材から構成される光学フィルムを製造することもできる。当該実施態様の具体例としては、非離型性基材として偏光子を使用し、組成物を塗工して電子線を照射し、偏光子に保護膜を直接形成させる方法等が挙げられる。又、前記の例では、組成物を基材に塗工して光学フィルムを製造する例を挙げたが、膜厚が大きい光学フィルムを製造する場合は、特定の凹部を有する型枠等に組成物を流し込み、前記と同様にして電子線を照射して組成物を硬化させ光学フィルムを製造することもできる。5-2.光学フィルムの用途本発明の組成物から形成される光学フィルムは、ヘイズが1.0以下で、かつ厚さ80μmで測定した場合における正面及び斜め40°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが10nm以下である。当該光学フィルムは、種々の光学用途に使用できるものであり、より具体的には、液晶表示装置等に使用される偏光板の偏光子保護フィルム、プリズムシート用支持フィルム及び導光フィルム等が挙げられる。本発明の組成物から形成される光学フィルムは、これらの中でも偏光子保護フィルムに公的に使用できるものである。以下、本発明の組成物から形成される偏光子保護フィルム以下、単に保護フィルムというを使用した偏光板について説明する。●偏光板偏光板は、偏光子の少なくとも片面に保護フィルムが積層された構成である。偏光子としては、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過する機能を有するものであれば種々の材料が使用できる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着配向させたヨウ素系偏光フィルム、ポリビニルアルコール系フィルムに二色性の染料を吸着配向させた染料系偏光フィルム、二色性染料をコーティングし、配向固定化した塗布型偏光子等が挙げられる。これら、ヨウ素系偏光フィルム、染料系偏光フィルム及び塗布型偏光子は、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を吸収する機能を有するもので、吸収型偏光子と呼ばれている。これらの偏光子の中でも、視認性に優れている吸収型偏光子を用いるのが好ましい。吸収型偏光子の厚みは、5~40μmが好ましい。本発明の偏光板は、偏光子の少なくとも片面に、保護フィルムとして本発明の光学フィルムが積層された偏光板であって、接着剤により接着される。偏光子と保護フィルムとの接着に用いる接着剤は、それぞれの接着性を考慮して任意のものを用いることができる。接着剤としては、具体的には、ポリビニルアルコール系水系接着剤、溶剤系接着剤、ホットメルト系接着剤及び無溶剤系接着剤等が挙げられ、無溶剤系の活性エネルギー線硬化型接着剤を好適に用いることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、光カチオン硬化型接着剤、光ラジカル硬化型接着剤、及び光カチオン硬化と光ラジカル硬化を併用するハイブリッド型接着剤が挙げられる。光カチオン硬化型接着剤としては、エポキシ化合物及びオキセタン化合物等の光カチオン硬化性化合物、並びに光カチオン重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。光ラジカル硬化型接着剤としては、メタアクリレート、ビニルエーテル、ビニル化合物等の光ラジカル硬化性化合物、並びに光ラジカル重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。ハイブリッド型接着剤としては、前記した光カチオン硬化性化合物、光ラジカル硬化性化合物、光カチオン重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。偏光子の両面に保護フィルムを有する場合、本発明の保護フィルムを両面に有するものが最も好ましい。但し、必要に応じて本発明の保護フィルムを片面に使用し、もう片面には本願発明の保護フィルム以外の保護フィルム以下、その他保護フィルムというを使用することもできる。その他保護フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロースやジアセチルセルロースのようなセルロースアセテート樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム、ノルボルネンのような環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂フィルム等が挙げられる。又、これらをディスプレイ側の保護フィルムとして使用する場合には位相差を有するフィルムであっても良い。以下に、実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。尚、下記において部とは、重量部を意味する。○製造例1A成分の製造攪拌機を備えた500mL反応容器に、数平均分子量が2,000のポリエステルポリオール株クラレ製P-2020、テレフタル酸と3-メチル-1,5-ペンタンジオールのエステル化物を200g0.098モル、希釈剤としてイソボルニルアクリレートを114.2g、触媒としてジブチルスズジラウレートを290mg反応溶液中に1,000ppm、重合禁止剤として2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノールを290mg仕込み、5容量の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを攪拌しながら液温が70°Cになるまで加温した。反応溶液にIPDI43.7g0.196モルを一括で添加し、2時間反応させた。その後、2-ヒドロキシエチルアクリレートを22.8g0.196モルを添加し、3時間反応させ、赤外線吸収スペクトル装置PerkinElmer製FT-IRSpectrum100によりスペクトルを測定し、イソシアネート基が完全に消費されたことを確認し、ウレタンアクリレート以下、UA-1というを含む30イソボルニルアクリレート希釈溶液を得た。UA-1のポリスチレン換算重量平均分子量以下、Mwというを、ゲル浸透クロマトグラフィー溶媒:テトラヒドロフラン、カラム:Waters製HSPgelHRMB-Lにより測定した結果、9,300であった。○製造例2A成分以外のウレタンアクリレートの製造製造例1においてイソシアネートをm-キシリレンジイソシアネート37gとした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート以下、UA-2というを含む30イソボルニルアクリレート希釈溶液を得た。得られたUA-2のMwは、10,400であった。○製造例3A成分以外のウレタンアクリレートの製造製造例1においてイソシアネートをトリレン-2,6-ジイソシアネート34.2gとした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート以下、UA-3というを含む30イソボルニルアクリレート希釈溶液を得た。得られたUA-3のMwは、8,500であった。○製造例4偏光子の製造厚さ80μmのポリビニルアルコールフィルムを、30°Cの水浴で膨潤させた後、5重量重量比:ヨウ素/ヨウ化カリウム=1/10のヨウ素水溶液中で染色した。次いで、3重量のホウ酸および2重量ヨウ化カリウムを含む水溶液に浸漬し、さらに55°Cの4重量のホウ酸および3重量のヨウ化カリウムを含む水溶液中で5.5倍まで一軸延伸した後、5重量のヨウ化カリウム水溶液に浸漬した。その後、70°Cのオーブンで1分間乾燥を行い、厚さ30μmの偏光子以下、偏光子Pというを得た。得られた偏光子Pについて、偏光プリズム付き分光光度計島津製作所製UV-2200を用いて偏光度及び単体透過率を測定したところ、それぞれ99.99及び43.1であった。○製造例5紫外線硬化型接着剤の製造ビスフェノールAジグリシジルエーテルジャパンエポキシレジン株製jER80750部、テトラヒドロフルフリルアクリレート大阪有機化学工業株製THF-A20部、4-ヒドロキシルブチルアクリレート日本化成株製4-HBA30部、光重合開始剤以下、光開始剤というのヨードニウム4-メチルフェニル[4-2-メチルプロピルフェニル]-ヘキサフルオルフォスフェートBASFジャパン株製IRGACURE2504部、2,4-ジエチルチオキサントン日本化薬株製カヤキュアDETX-s1部をステンレス製容器に投入し、マグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、紫外線硬化型接着剤以下、接着剤UVXというを得た。1実施例組成物の製造後記表1に示す成分を表1に示す割合でステンレス製容器に投入し、加温しながらマグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、組成物を得た。表1における略号は、下記を意味する。UCA002:ポリカーボネート系無黄変型ウレタンアクリレート、根上工業株製アートレジンUCA-002Mw7,000M1600:ポリエーテル系ウレタンアクリレート、東亞合成株製アロニックスM-1600IBXA:イソボルニルアクリレート、大阪有機化学工業株製IBXAM140:N-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、東亞合成株製アロニックスM-140Dc1173:2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、BASFジャパン株製DAROCUR-11733実施例5~8及び比較例7~8電子線硬化による光学フィルムの製造幅300mm×長さ300mmの東レ株製フィルムルミラー50-T60表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ50μm、表面粗さRa111nm、以下ルミラーというに、実施例1~4及び比較例3~4で得られた組成物を加温し、膜厚が80μmになるようアプリケーターで塗工した。その後、組成物層に、幅300mm×長さ300mmのルミラーをラミネートした後、株NHVコーポレーション製の電子線照射装置により、加速電圧200kV、線量50kGyビーム電流及び搬送速度により調整、酸素濃度300ppm以下の条件下で電子線照射を行い、光学フィルムを得た。硬化後、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、後記する全光線透過率、ヘイズ、耐光性試験、面内及び厚さ方向レタデーション、耐溶剤性の評価に用いた。4比較例5~6紫外線硬化による光学フィルムの製造幅300mm×長さ300mmのルミラーに、比較例1及び同2で得られた紫外線硬化型組成物を加温し、膜厚が80μmになるようアプリケーターで塗工した。その後、組成物層に、幅300mm×長さ300mmのルミラーをラミネートした後、アイグラフィックス株製のコンベア式紫外線照射装置高圧水銀灯、ランプ高さ12cm、365nmの照射強度400mW/cm2フュージョンUVシステムズジャパン株社製UVPOWERPUCKの測定値によりコンベア速度を調整して、積算光量1,000mJ/cm2の紫外線照射を行い、紫外線硬化型光学フィルムを得た。硬化後、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、後記する評価に用いた。5比較例9電子線硬化による光学フィルムの製造離型材として東レフィルム加工株製離型フィルムセラピールBX8シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ38μm、表面粗さRa363nm、以下セラピールという、組成物として実施例1を用いた以外は、実施例5~8及び比較例7~8と同様にして、電子線硬化により光学フィルムを得た。硬化後、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、後記する評価に用いた。全光線透過率及びヘイズ実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、ヘイズメーター日本電色工業株製NDH2000を用いて全光線透過率及びヘイズを測定した。それらの結果を表2に示す。耐光性試験実施例及び比較例で得られた光学フィルムの初期YIYellowingIndex及び、紫外線フェードメータースガ試験機株製紫外線ロングライフフェードメーターFAL-5H型に500時間放置した後のYI変化△YIを測定することで、光学フィルムの耐光性を評価した。それらの結果を表2に示す。尚、YI値は、高速積分球式分光透過率測定器株村上色彩技術研究所製SPECTROPHOTOMETERDOT-3Cを用いて測定した。面内及び厚さ方向レタデーション実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、位相差測定器王子計測機器株製KOBRA21ADHを用いて正面及び斜め40°の面内レタデーション以下、それぞれ0°Re及び40°Reという及び厚さ方向レタデーション以下、Rthというを測定した。それらの結果を表2に示す。耐溶剤性実施例及び比較例で得られた光学フィルムの耐溶剤性酢酸エチルについて、スポット試験により下記基準で評価した。それらの結果を表2に示す。○:外観変化なし×:溶剤浸食による白化表2における略号は、下記を意味する。TAC:トリアセチルセルロースフィルム、富士フイルム株製フジタックUVA入り、80μm実施例5~8は、本発明の組成物である実施例1~4から組成物を電子線照射して得られた光学フィルムであり、UVAを含まずとも耐光性試験後の黄変度が小さく、ヘイズ、斜め40°正面及び厚さ方向のレタデーションが小さく、耐溶剤性が良好であった。これに対して、比較例5及び6は、A及びB成分を含むものの、さらに光開始剤を含む比較例1及び同2の組成物を紫外線照射して製造された光学フィルムであり、実施例5~8の光学フィルムよりも耐光性試験後の黄変度が大きく、特に、厚さ方向レタデーションが大きかった。比較例7は、A成分とは異なる難黄変型有機ジイソシアネートから製造されるウレタンアクリレートUA-2を含む比較例3の組成物から製造された光学フィルムであり、耐光性試験後の黄変度が大きかった。比較例8は、A成分とは異なる黄変型有機ジイソシアネートから製造されるウレタンアクリレートUA-3を含む比較例4の組成物から製造された光学フィルムであり、耐光性試験後の黄変度が非常に大きかった。比較例9は、実施例1の組成物を使用したものであるが、離型材の表面粗さRaが150nmより大きいために硬化物のヘイズが1.0よりも大きかった。比較例10は、従来のトリアセチルセルロースであるが、UVAを含むために初期黄変が大きかった。又、斜め40°正面及び厚さ方向のレタデーションが大きく、熱可塑性樹脂であるために耐溶剤性が悪かった。6実施例9~10及び比較例11~12偏光板の製造偏光子保護フィルムとして実施例5~6及び比較例9で得られた光学フィルムやTACフィルムを用い、偏光子Pの両面に接着剤UVXを介して貼り合わせた後、アイグラフィックス株製のコンベア式紫外線照射装置高圧水銀灯、ランプ高さ15cm、365nmの照射強度370mW/cm2フュージョンUVシステムズジャパン株社製UVPOWERPUCKの測定値によりコンベア速度を調整して、積算光量220mJ/cm2の紫外線照射を行い、偏光板幅100mm×長さ100mmを得た。なお、いずれの偏光子保護フィルムに対してもコロナ処理は行わなかった。偏光度及び単体透過率の測定実施例及び比較例で得られた偏光板について、偏光プリズム付き分光光度計島津製作所製UV-2200を用いて偏光度及び単体透過率を測定した。それらの結果を表3に示す。偏光子保護フィルムと偏光子の接着性実施例及び比較例で得られた偏光板における、偏光子保護フィルムと偏光子Pの接着性を手でひねりを加えてねじ切ったときの状態を以下の基準で評価した。それらの結果を表3に示す。○:偏光子と偏光子保護フィルムとが一体化して剥がれが生じない。×:偏光子と偏光子保護フィルムとの間に剥がれが認められる。実施例9及び10は、本発明の組成物である実施例5~6で得られた光学フィルムを用いた偏光板であり、偏光子Pの性能が維持されており、コロナ処理を行わずとも接着性が良好であった。これに対して、比較例11は、比較例9で得られた光学フィルムを用いた偏光板であるが、接着性は良好なものの、光学フィルムのヘイズが高いため、偏光子Pの性能が維持されず偏光度が低下した。又、比較例12は、従来のTACフィルムを用いた偏光板であるが、偏光子Pの性能が維持されたものの、コロナ処理を行わなかったため接着性が悪かった。"