"分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマーと、3官能以上のアクリレートモノマーと、酸化チタンと、熱硬化触媒と、光重合開始剤を含む光硬化性熱硬化性組成物であって、プリント配線板に形成される樹脂絶縁層上へのパターン描画に用いられることを特徴とするインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物。前記分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマーがグリシジルメタクリレート又は4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルであることを特徴とする請求項1に記載のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物。前記3官能以上のアクリレートモノマーの配合量が前記分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマー100質量部に対して15~400質量部であることを特徴とする請求項1又は2に記載のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物。前記熱硬化触媒の配合量が前記分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマー100質量部に対して0.1~5質量部であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物。プリント配線板に形成された樹脂絶縁層上に、インクジェットプリンターを用いて請求項1乃至4のいずれか1項に記載のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物をパターン描画し、これを硬化させてなるパターンを有することを特徴とするプリント配線板。本発明が解決しようとする課題は、インクジェットプリンターに使用できる粘度であって、酸化チタンを配合してもプリント配線板上に形成される樹脂絶縁層との密着性がよいパターンを形成することができる光硬化性熱硬化性組成物を提供することにある。前記目的を達成するために、本発明は以下のような特徴を有する。即ち、本発明の特徴の一つは、分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマーと、3官能以上のアクリレートモノマーと、酸化チタンと、熱硬化触媒と、光重合開始剤を含む光硬化性熱硬化性組成物であって、プリント配線板に形成される樹脂絶縁層上へのパターン描画に用いられることを特徴とするインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物である。また本発明の他の特徴は、上記インクジェット用光硬化性熱硬化性組成物において、前記分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマーがグリシジルメタクリレート又は4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルであることを特徴とするインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物である。更に本発明の他の特徴は、上記インクジェット用光硬化性熱硬化性組成物において、前記分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマーを100質量部としたとき、前記3官能以上のアクリレートモノマーを40~400質量部、好ましくは50~300質量部、前記熱硬化触媒を0.1~5質量部、好ましくは0.5~4質量部含有することである。ここで本明細書において、粘度とはJISK2283に従って測定した粘度を指す。また、上記のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物の粘度は常温25°Cで150mPas以下である。上述のように、インクジェットプリンターに使用するインクの粘度は塗布時の温度において約20mPas以下であることが必要である。しかし、常温で150mPas以下の粘度であれば、塗布前、若しくは塗布時の加温によって上記条件を充足することができる。更に、本発明の他の特徴は、プリント配線板に形成された樹脂絶縁層上に、インクジェットプリンターを用いて上記インクジェット用光硬化性熱硬化性組成物をパターン描画し、これを硬化させてなるパターンを有することを特徴とするプリント配線板である。本発明のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物は、分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマーと、3官能以上のアクリレートモノマーとを組み合わせることにより、白色顔料として酸化チタンを配合する場合でも、プリント配線板上に形成される樹脂絶縁層とマーキングパターンとの密着性を向上させることができる。特に、従来のインクジェット用樹脂組成物では、粘度の高い感光性モノマー若しくは感光性熱硬化性モノマーを使用しているため、これに白色顔料として酸化チタンを配合すると、当該組成物の粘度は更に上昇する。よって、当該組成物を上記所定の粘度20mPasに低下させるためには、多量の粘度の低い単官能の感光性モノマーを配合しなければならず、十分な密着性を有するマーキングパターンを形成することができなかった。一方、本発明では、感光性熱硬化性モノマーとして粘度の低い、分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマーを使用することにより、耐熱性、耐薬品性、及び密着性に優れる、粘度の高い3官能以上のアクリレートモノマーの配合が可能となり、組成物の粘度が実現するとともに、十分な密着性を有するマーキングパターンの形成が可能となった。また、本発明のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物は、熱硬化触媒を配合することにより、プリント配線板を製造するときの加熱温度である170°C以下、望ましくは150°C以下で硬化させることができる。これにより、プリント配線板の特性に影響を与えることなく、マーキングパターンを形成することができる。以下、本発明の一実施形態を詳述する。尚、本発明が当該実施形態に限定されないことはもとよりである。上述のとおり、本発明のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物は、プリント配線板に形成される樹脂絶縁層上に、インクジェットプリンターを用いて所定のマーキングパターンを直接描画することができ、またこれに活性エネルギー線を照射することによって一次硬化させ、その後更に加熱硬化することにより、耐熱性、耐薬品性、密着性等に優れたマーキングパターンを形成することができる。また、上記組成物は熱硬化触媒を含有していることにより、上記加熱硬化においてプリント配線板を製造するときの加熱温度の低温でも十分に硬化させることが可能となる。この場合、活性エネルギー線の照射条件は、100mJ/cm2以上、好ましくは300mJ/cm2~2000mJ/cm2とすることが望ましい。また、加熱硬化の条件は、140~170°Cで20分以上、好ましくは150~170°Cで20~60分とすることが望ましい。上記活性エネルギー線の照射は、インクジェットプリンターによるパターンの描画後に行なう方法と、当該パターン描画と平行して行なう方法とがあるが、時間や工程の短縮等から、後者の方法が好ましい。上記活性エネルギー線の照射をパターン描画と平行して行なう方法としては、例えばパターン描画時に基板の側部や底部等から活性エネルギー線を照射する方法等がある。活性エネルギー線の照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等を利用することができる。その他、電子線、α線、β線、γ線、X線、中性子線等も利用できる。以下、本発明のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物について説明する。上記分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマーとしては、例えばグリシジルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル等が挙げられ、市販品としては日油製ブレンマーG、共栄社化学製ライトエステルG等がある。尚、本明細書において、メタアクリロイル基はアクリロイル基及びメタアクリロイル基を総称する用語であり、他の類似の表現についても同様とする。上記3官能以上のアクリレートモノマーとしては、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート等のポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールメタントリアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリアクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、あるいはこれらのシルセスキオキサン変性物等に代表される多官能アクリレート、あるいはこれらに対応するメタアクリレートモノマー、3官能メタクリレートエステル、ε-カプロラクトン変性トリスアクロキシエチルイソシアヌレート等が挙げられる。当該3官能以上のアクリレートモノマーの配合量は、分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマーを100質量部としたとき、15~400質量部、好ましくは20~300質量部である。上記酸化チタンとしては、アナターゼ型酸化チタンとルチル型酸化チタンのどちらも用いることができる。マーキングパターンの光劣化を抑制できる点から、特にルチル型酸化チタンを用いることが好ましい。アナターゼ型酸化チタンはルチル型酸化チタンと比較して紫外線領域と可視光領域の境界付近の反射率が高いため、白色度と反射率の点では、アナターゼ酸化チタンの方が白色顔料としては望ましい。しかし、アナターゼ型酸化チタンは光触媒活性を有するため、この光活性により光硬化熱硬化性組成物に含まれる樹脂の変色を引き起こすことがある。これに対して、ルチル型酸化チタンはアナターゼ型酸化チタンと比較して白色度は若干劣るものの、光触媒活性を殆ど有さないため、上記樹脂の劣化を抑えることができ、安定したマーキングパターンを得ることができる。上記ルチル型酸化チタンとしては、具体的には、タイペークR-820、タイペークR-830、タイペークR-930、タイペークR-550、タイペークR-630、タイペークR-670、タイペークR-680、タイペークR-780、タイペークR-850、タイペークCR-50、タイペークCR-57、タイペークCR-80、タイペークCR-90、タイペークCR-93、タイペークCR-95、タイペークCR-97、タイペークCR-60、タイペークCR-63、タイペークCR-67、タイペークCR-58、タイペークCR-85、タイペークUT771以上、石原産業株製、タイピュアR-100、タイピュアR-101、タイピュアR-102、タイピュアR-103、タイピュアR-104、タイピュアR-105、タイピュアR-108、タイピュアR-900、タイピュアR-902、タイピュアR-960、タイピュアR-706、タイピュアR-931以上、デュポン株製、TITONR-25、TITONR-21、TITONR-32、TITONR-7E、TITONR-5N、TITONR-61N、TITONR-62N、TITONR-42、TITONR-45M、TITONR-44、TITONR-49S、TITONGTR-100、TITONGTR-300、TITOND-918、TITONTCR-29、TITONTCR-52、TITONFTR-700以上、堺化学工業株製等が挙げられる。また、上記アナターゼ型酸化チタンとしては、TA-100、TA-200、TA-300、TA-400、TA-500以上、富士チタン工業株製、タイペークA-100、タイペークA-220、タイペークW-10以上、石原産業株製、TITANIXJA-1、TITANIXJA-3、TITANIXJA-4、TITANIXJA-5以上、テイカ株製、KRONOSKA-10、KRONOSKA-15、KRONOSKA-20、KRONOSKA-30以上、チタン工業株製、A-100、A-100、A-100、SA-1、SA-1L以上、堺化学工業株製等が挙げられる。酸化チタンの配合量は、全組成物の合計量に対して好ましくは3~30質量部、より好ましくは5~20質量部である。酸化チタンの配合量が上記合計量に対して30質量部を超えると、本発明の光硬化性熱硬化性組成物の粘度が高くなるとともに、光硬化性が低下し、硬化深度が低くなるので好ましくない。一方、酸化チタンの配合量が上記合計量に対して3質量部未満であると、当該光硬化性熱硬化性組成物の隠ぺい力が小さくなり、白色のマーキングパターンを得ることができない。上記熱硬化触媒としては、イミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、4-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-2-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体;ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、4-ジメチルアミノ-N,N-ジメチルベンジルアミン、4-メトキシ-N,N-ジメチルベンジルアミン、4-メチル-N,N-ジメチルベンジルアミン等のアミン化合物、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド等のヒドラジン化合物;トリフェニルホスフィン等のリン化合物等が挙げられる。市販されている熱硬化触媒としては、例えば四国化成工業社製の2MZ-A、2MZ-OK、2PHZ、2P4BHZ、2P4MHZいずれもイミダゾール系化合物の商品名、サンアプロ社製のU-CAT3503N、U-CAT3502Tいずれもジメチルアミンのブロックイソシアネート化合物の商品名、DBU、DBN、U-CATSA102、U-CAT5002いずれも二環式アミジン化合物及びその塩等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を混合して使用してもかまわない。当該熱硬化触媒の配合量は、分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマーを100質量部としたとき0.1~5質量部、好ましくは0.5~4質量部である。上記光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤や光カチオン重合開始剤が挙げられる。光ラジカル重合開始剤としては、光、レーザー、電子線等によりラジカルを発生し、ラジカル重合反応を開始する化合物であれば全て用いることができる。当該光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1,1-ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類;2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタン-1-オン、N,N-ジメチルアミノアセトフェノン等のアミノアセトフェノン類;2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2-t-ブチルアントラキノン、1-クロロアントラキノン等のアントラキノン類;2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;2,4,5-トリアリールイミダゾール二量体;リボフラビンテトラブチレート;2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物;2,4,6-トリス-s-トリアジン、2,2,2-トリブロモエタノール、トリブロモメチルフェニルスルホン等の有機ハロゲン化合物;ベンゾフェノン、4,4 ́-ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類又はキサントン類;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。上記光ラジカル重合開始剤は、単独で又は複数種を混合して使用することができる。また更に、これらに加え、N,N-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N-ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル-4-ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類等の光開始助剤を使用することができる。また、可視光領域に吸収のあるCGI-784等BASFジャパン社製のチタノセン化合物等も、光反応を促進するために光ラジカル重合開始剤に添加することもできる。尚、光ラジカル重合開始剤に添加する成分はこれらに限られるものではなく、紫外光もしくは可視光領域で光を吸収し、メタアクリロイル基等の不飽和基をラジカル重合させるものであれば、光重合開始剤、光開始助剤に限らず、単独であるいは複数併用して使用できる。上記光カチオン重合開始剤としては、光、レーザー、電子線等によりカチオン重合反応を開始する化合物であれば用いることができる。光によりカチオン種を発生する光カチオン重合開始剤としては、例えばジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、ブロモニウム塩、クロロニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、ピリリウム塩、チアピリリウム塩、ピリジニウム塩等のオニウム塩;トリストリハロメチル-s-トリアジン及びその誘導体等のハロゲン化化合物;スルホン酸の2-ニトロベンジルエステル;イミノスルホナート;1-オキソ-2-ジアゾナフトキノン-4-スルホナート誘導体;N-ヒドロキシイミド=スルホナート;トリメタンスルホニルオキシベンゼン誘導体;ビススルホニルジアゾメタン類;スルホニルカルボニルアルカン類;スルホニルカルボニルジアゾメタン類;ジスルホン化合物等が挙げられる。市販されている光カチオン重合開始剤としては、サイラキュアUVI-6970、UVI-6974、UVI-6990、UVI-6950以上、UCC社製の商品名、イルガキュア261BASFジャパン社製の商品名、SP-150、SP-152、SP-170以上、旭電化工業株製の商品名、DAICATIIダイセル化学工業株製の商品名、UVAC1591ダイセルサイテック株製の商品名、CI-2734、CI-2855、CI-2823、CI-2758以上、日本曹達株製の商品名、PI-2074ローヌプーラン株製の商品名、FFC5093M株製の商品名、ロードシルフォトイニシエーター2074ローディア株製の商品名、BBI-102、BBI-101ミドリ化学株製の商品名、CD-1012サートマー株製の商品名等が挙げられる。本発明のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物は、粘度の調整を目的として、希釈溶剤を添加することもできる。希釈溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤類等が挙げられる。更に本発明の光硬化性熱硬化性組成物は、必要に応じて、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、アイオジングリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、カーボンブラック、ナフタレンブラック等の着色剤、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、tert-ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジン等の公知慣用の重合禁止剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系等の消泡剤及び/又はレベリング剤、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤等の密着性付与剤等の添加剤類を配合することができる。以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。尚、以下において特に断りのない限り、部は質量部を意味する。実施例1~5及び比較例1~8について、表1に示す割合で各成分を配合し、これをディゾルバーで攪拌し、更に1μmのディスクフィルターでろ過を行い、各組成物を得た。<分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマー>GMA:グリシジルメタクリレート粘度2mPas25°C4HBAGE:4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル粘度7mPas25°C<分子内にメタアクリロイル基とグリシジル基を有し25°Cでの粘度が10mPas以下のモノマー以外のモノマー>EA-1010N:ビスフェノールA型エポキシ樹脂の片方のエポキシ基にアクリル酸を付加させた化合物新中村化学工業社製粘度22,000mPas25°CAGE:アリルグリシジルエーテルアリル基とグリシジル基を持つ粘度1mPas25°C4HBA:4-ヒドロキシブチルアクリレート粘度10mPas25°CDPGDA:ジプロピレングリコールジアクリレート粘度12mPas25°CM-100:3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートメタクロイルと脂環式エポキシ基を持つ化合物ダイセル化学工業製粘度10mPas25°C<3官能以上のアクリレートモノマー>PETA:ペンタエリスリトールトリアクリレートTMPTA:トリメチロールプロパントリアクリレートSR9011:3官能メタクリレートエステルサートマー社製M327:ε-カプロラクトン変性トリスアクロキシエチルイソシアヌレート東亞合成社製<酸化チタン>CR-95:石原産業製酸化チタン<硫酸バリウム>B-30:堺化学製硫酸バリウム<熱硬化触媒>2E4MZ:2-エチル-4-メチルイミダゾール<光重合開始剤>IRG819:BASF社製イルガキュア819上記各組成物について以下に示す特性試験を行った。その結果を表2に示す。<塗布性>富士フィルム製インクジェットプリンターDimatixMaterialsPrinterDMP-2831を用い、インクジェットプリンター用フィルムサンハヤトPF-10R-A4に、上記各組成物でアルファベットのA~Zを2mm角の大きさで印刷した。各文字について、ルーペで観察して文字の形状を以下のとおり評価した。○:文字にかすれやよれがなく、余計な部分への飛び出しがない。×:文字が確認できない、又は文字にかすれやよれが発生、若しくは余計な部分への飛び出しがある。<光硬化性>プリント配線板用銅張積層板FR-4厚み1.6mm大きさ150×95mmに対し、太陽インキ製造株製ソルダーレジストPSR-4000G24を、乾燥塗膜が20μmになるようにスクリーン印刷にてベタ印刷した。そしてこれを80°Cで30分乾燥し、塗膜を上記積層板に全面残すパターンで300mJ/cm2で露光した。露光後の積層板を30°C1wtNa2CO3で現像して水洗した。更にこれを150°Cで30分間硬化させて、試験用基板を作製した。そして、富士フィルム製インクジェットプリンターDimatixMaterialsPrinterDMP-2831を用いて、当該各試験用基板に上記各組成物で10×20mmの大きさの長方形のパターンを印刷した。更に印刷直後の各試験用基板を高圧水銀灯を用いて300mJ/cm2の積算光量でUV照射した。上記長方形パターンについて、UV照射後の硬化状態について以下のとおり評価した。○:硬化しており、形状保持している。×:硬化せず。<密着性>上記光硬化性試験に記載した方法と同様の方法で各試験用基板を作製した。そして、富士フィルム製インクジェットプリンターDimatixMaterialsPrinterDMP-2831を用い、上記各試験用基板に、上記各組成物で、10×20mmの大きさの長方形のパターンを膜厚が15μmになるように印刷した。印刷直後の各試験用基板を高圧水銀灯を用いて300mJ/cm2の積算光量でUV照射した。次いで、UV照射後の各試験用基板を熱風循環式乾燥炉にて150°C30分加熱して熱硬化させ、各試験片を得た。その後、各試験片の長方形パターンにカッターナイフで縦横に1本ずつ切り込みをいれてからセロハンテープでピーリングを行い、はがれについて以下のとおり評価を行った。○:ほとんどはがれが見られない。×:セロテープに大きく転写するはがれがある。<耐薬品性>上記各組成物について、上記密着性試験に記載した方法と同様の方法で各試験片を作製した。当該各試験片について、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに室温で30分浸漬させ、これを取り出した後に乾燥させた。乾燥後の各試験片について、塗膜の状態を目視にて以下のとおり評価した。○:塗膜の状態に変化なし×:塗膜に浮き、はがれがある<耐熱性>上記各組成物について、上記密着性試験に記載した方法と同様の方法で各試験片を作製した。当該各試験片について、ロジン系フラックスを塗布して、260°Cのはんだ槽に10秒間浸漬し、これを取り出して自然冷却した。この試験を3回繰返した後、各試験片の塗膜の状態を目視にて以下のとおり評価した。○:塗膜の状態に変化なし×:塗膜に浮き、はがれがある<視認性>上記光硬化性試験に記載した方法と同様の方法で各試験用基板を作製した。そして、当該各試験用基板に、富士フィルム製インクジェットプリンターDimatixMaterialsPrinterDMP-2831を用いて、上記各組成物でアルファベットのA~Eを3mm角の大きさで印刷した。各文字について、目視で下地とのコントラストについて以下のとおり評価した。○:コントラストが大きく文字がはっきり視認できる。×:コントラストが小さく下地と文字の区別が曖昧である。以上から、本発明のインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物は、プリント配線板に形成された樹脂絶縁層にインクジェットプリンターを用いて直接パターンを描画することができ、また塗布性に問題なく、密着性、耐薬品性、耐熱性に優れたマーキングパターンを形成することができる。特に、上記樹脂絶縁層と密着性の高いマーキングパターンを形成することができる。そして当該光硬化性熱硬化性組成物は、プリント配線板をはじめ、過酷な特性を要求されるマーキング用組成物として使用することができる。"