硫酸ニッケル水溶液をアルカリで中和して水酸化ニッケルを得る工程Aと、得られた水酸化ニッケルを非還元性雰囲気中において500~1000°Cで熱処理して酸化ニッケルとする工程Bと、得られた酸化ニッケルをスラリー化し、スラリー状態にて解砕メディアを用いることなく酸化ニッケルを解砕すると同時に洗浄する工程Cとを含むことを特徴とする酸化ニッケル微粉末の製造方法。前記工程Cにおいて、スラリー中の酸化ニッケルの粒子同士を衝突させて解砕と洗浄を同時に行うことを特徴とする、請求項1に記載の酸化ニッケル微粉末の製造方法。請求項1または2の製造方法で得られた酸化ニッケル微粉末であり、比表面積が3m2/g以上、硫酸品位が400質量ppm以下、ナトリウム品位が10質量ppm以下であることを特徴とする酸化ニッケル微粉末。レーザー散乱法で測定したD90が1.0μm以下であることを特徴とする、請求項3に記載の酸化ニッケル微粉末。本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑み、不純物品位、特に塩素品位および硫黄品位が低く、且つ粒径が微細であって、電子部品材料として好適な酸化ニッケル微粉末、及びその製造方法を提供することを目的とするものである。本発明者は、上記目的を達成するため鋭意研究を重ねた結果、ニッケル塩水溶液をアルカリで中和して得られた水酸化ニッケルを熱処理して酸化ニッケル微粉末を製造する方法について、ニッケル塩の中和によって得られた水酸化ニッケルを特定の温度範囲で熱処理して酸化ニッケルとし、スラリー状態として湿式解砕することによって、塩素品位が低く且つ微細な酸化ニッケル微粉末を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。即ち、本発明の酸化ニッケル微粉末の製造方法は、硫酸ニッケル水溶液をアルカリで中和して水酸化ニッケルを得る工程Aと、得られた水酸化ニッケルを非還元性雰囲気中において500~1000°Cで熱処理して酸化ニッケルとする工程Bと、得られた酸化ニッケルをスラリー化し、スラリー状態にて解砕メディアを用いることなく酸化ニッケルを解砕すると同時に洗浄する工程Cとを含むことを特徴とする。上記本発明による酸化ニッケル微粉末の製造方法では、前記工程Cにおいて、スラリー中の酸化ニッケルの粒子同士を衝突させて解砕と洗浄を同時に行うことが好ましい。本発明が提供する酸化ニッケル微粉末は、上記した本発明の酸化ニッケル微粉末の製造方法により得られた酸化ニッケル微粉末であって、比表面積が3m2/g以上、硫黄品位が400質量ppm以下であることを特徴とする。また、上記本発明の酸化ニッケル微粉末は、レーザー散乱法で測定したD90が1.0μm以下であることが好ましい。本発明によれば、不純物品位が低く、具体的には硫黄品位が400質量ppm以下、ナトリウム品位が10質量ppm以下であって、しかも比表面積が3m2/g以上と粒径が微細な酸化ニッケル微粉末を提供することができる。従って、本発明の酸化ニッケル微粉末は、フェライト部品などの電子部品材料として好適であるうえ、簡易な製造方法により大量の塩素やSOxガスを発生させることなく、生産性良く製造することができるから、その工業的価値は極めて大きい。本発明の酸化ニッケル微粉末の製造方法は、硫酸ニッケル水溶液をアルカリで中和して水酸化ニッケルを得る工程Aと、得られた水酸化ニッケルを非還元性雰囲気中において500~1000°Cで熱処理して酸化ニッケルとする工程Bと、得られた酸化ニッケルをスラリー化した後、スラリー状態にて解砕メディアを用いることなく酸化ニッケルを解砕すると同時に洗浄する工程Cとを備えている。上記工程Aは、硫酸ニッケル水溶液をアルカリで中和して水酸化ニッケルを沈殿生成させて得る工程であり、溶液の濃度及び中和条件等は公知の技術が適用できる。本発明においては、原料として硫酸ニッケルを用いるため、塩素混入の虞は少ないいため、原料に使用する硫酸ニッケルは、特に限定されないが、得られる酸化ニッケルを電子部品用として用いるためには、硫酸ニッケル水溶液中の塩素等の不純物は100質量ppm未満であることが望ましい。上記硫酸ニッケル水溶液のニッケル濃度は、特に限定されるものではないが、生産性を考慮すると、50~120g/lの範囲が好ましい。ニッケル濃度が50g/l未満では生産性が悪くなる。一方、ニッケル濃度が120g/lを超えると、水溶液中の陰イオン濃度が高くなり、生成した水酸化ニッケル中の硫黄品位が高くなるため、最終的に得られる酸化ニッケル微粉末中の不純物品位が十分に低くならない場合がある。中和に用いるアルカリとしては、特に限定されないが、反応液中に残留するニッケルの量を考慮すると水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどが好ましく、コストを考慮すると水酸化ナトリウムが特に好ましい。尚、アルカリは固体又は液体のいずれの状態で硫酸ニッケル水溶液に添加してもよいが、取扱いの容易さから水溶液を用いることが好ましい。また、均一な特性の水酸化ニッケルを得るためには、十分に撹拌されている反応槽内に、硫酸ニッケル水溶液とアルカリ水溶液をダブルジェット方式で添加することが有効である。その際、反応槽内に予め入れておく液としては、純水にアルカリを添加し、所定のpHに調整した液が好ましい。中和反応におけるpHは、83~90の範囲とすることが好ましく、この範囲内でpHを一定とすることが特に好ましい。pHが83より低いと、水酸化ニッケル中に残存する塩素や硫酸といった陰イオン成分が増大し、次の工程Bで熱処理する際に、大量の塩酸やSOxが発生することがあるため好ましくない。一方、pHが90より高くなると、得られる水酸化ニッケルが微細になりすぎ、濾過が困難になることがある。また、次の工程Bで焼結が進みすぎ、微細な酸化ニッケルを得ることが困難になることがある。中和時の液温は、室温であってもよいが、水酸化ニッケル粒子を十分に成長させるために50~70°Cの範囲とすることが好ましい。水酸化ニッケル粒子を十分に成長させることで、水酸化ニッケル中への硫黄などの陰イオン成分の巻き込みを抑制し、最終的に酸化ニッケル微粉末の残留する陰イオン成分、特に硫酸基由来の硫黄品位を低減させることができる。液温が50°C未満では水酸化ニッケル粒子の成長が十分ではなく、水酸化ニッケル中への硫黄の巻き込み多くなる。また、液温が70°Cを超えると、水の蒸発が激しくなり、水溶液中の硫黄濃度が高くなるため、生成した水酸化ニッケル中の硫黄品位が高くなることがある。上記中和反応の終了後、析出した水酸化ニッケルを濾過して回収する。回収した濾過ケーキは、次の工程Bに移る前に洗浄することが好ましい。洗浄はレパルプ洗浄とすることが好ましく、洗浄に用いる洗浄液としては水、特に純水を用いることが好ましい。洗浄時の水酸化ニッケルと水の混合比は特に限定されるものではなく、硫酸ニッケルに含まれる陰イオン、特に硫酸イオンが、十分に除去できる混合比とすればよい。尚、1回の洗浄で陰イオンが十分に低減されない場合は、複数回繰り返して洗浄することが好ましい。水酸化ニッケルに対する洗浄液の量は、残留陰イオンが十分に低減でき且つ水酸化ニッケルを良好に分散させるために、水酸化ニッケル/処理液の混合比を100g/l程度とすることが好ましい。また、洗浄時間についても、処理条件に応じて、残留陰イオンが十分に低減される時間とすればよい。残留陰イオンが十分に低減できる洗浄処理条件とすることにより、酸化ニッケルの微細化効果も十分に得られる。次の工程Bは、上記工程Aで得られた水酸化ニッケルを非還元性雰囲気中で熱処理することによって、水酸化ニッケルを酸化して酸化ニッケルとする工程である。熱処理温度は500~1000°Cの範囲であるが、800~1000の範囲とすることが好ましく、850~1000°Cの範囲とすることがより好ましい。また、熱処理の雰囲気は、非還元性雰囲気であれば特に限定されないが、経済性を考慮して大気雰囲気とすることが好ましい。また、熱処理の際に水酸基の脱離により発生する水蒸気を排出するため、十分な流速を持った気流中で熱処理を行うことが好ましい。尚、熱処理には一般的な焙焼炉を使用することができる。この熱処理により水酸化ニッケル結晶内の水酸基が脱離して酸化ニッケルとなるが、その際、粒径の微細化と残存した硫酸基などの陰イオン成分の大部分を揮発させることができる。熱処理温度が500°C未満では残存陰イオン成分の揮発が不十分であり、酸化ニッケル中の陰イオン成分、特に硫黄品位を十分に低くすることができない。また、1000°Cを超えると酸化ニッケル粒子同士の焼結が顕著になり、後に行われる工程Cでの解砕が困難になり、微細な酸化ニッケルを得ることが困難になる。熱処理時間は、処理温度及び処理量に応じて適宜設定することができるが、最終的に得られる酸化ニッケル微粉末の比表面積が3m2/g以上となるように設定すればよい。最終的に解砕して得られる酸化ニッケル微粉末の比表面積は、熱処理後の酸化ニッケルの比表面積に対して1~2m2/g増加する程度であるため、熱処理後の酸化ニッケルの比表面積で判断して処理条件を設定することができる。このように、熱処理の温度及び時間を調整することにより、容易に酸化ニッケル粉末の比表面積、即ち粒径を調整することができる。工程Cは、上記工程Bでの酸化焙焼により得られた酸化ニッケルをスラリー化した後、スラリー状態の酸化ニッケルを、解砕メディアを用いることなく解砕すると同時に、洗浄する工程である。本発明の酸化ニッケル微粉末の製造方法においては、この工程Cにおいて、スラリー状態とした酸化ニッケルを解砕することにより、同時に酸化ニッケルの洗浄を実施できることが重要である。上記した工程Bにおける熱処理では、水酸化ニッケル結晶中の水酸基を離脱させて酸化ニッケルとするが、その際に粒径の微細化が起こると共に、抑制されているものの高温の影響で酸化ニッケル粒子同士の焼結がある程度進行する。そのため、工程Cにおいて、酸化ニッケルを解砕して粒子同士の焼結部を破壊し、最終的に微細な酸化ニッケル粉末とする。また、酸化ニッケルを解砕することで酸化ニッケル粒子の新生面が現れ、これをスラリー中で撹拌することによって残留している硫黄などの陰イオン成分を十分に洗浄除去することができる。一般的に、陰イオン成分は酸化ニッケル粒子の表面近傍に多く存在すると考えられる。従って、酸化ニッケルをスラリー化して撹拌することにより、粒子表面に存在する陰イオン成分の除去は可能であるが、粒子間の焼結部に存在する陰イオン成分はスラリーの溶媒と接触することができない。このため、酸化ニッケルをスラリー化して撹拌するのみでは、硫黄などの陰イオン成分を十分に除去し低減することは不可能である。しかるに、本発明によれば、スラリー状態で酸化ニッケルを解砕しながら同時に洗浄することで、硫黄などの陰イオン成分を十分に洗浄除去することが可能となった。この工程Cでの解砕は、解砕メディアを用いることなく行う。解砕メディアを用いると、解砕自体は容易となるものの、ジルコニア等の解砕メディアの成分が不純物として混入しやすいため不純物が増加してしまうからである。不純物としてジルコニウムのみを考慮すれば良いのであれば、ジルコニウムを含有しないアルミナ等の解砕メディアを用いて解砕することで対処できるが、この場合であっても解砕メディアから他の不純物が混入し、結果的に低不純物品位の酸化ニッケル微粉末を得ることが難しくなる。解砕メディアを用いることなく解砕する方法としては、粉体同士を衝突させる方法、溶媒により粉体にせん断力をかける方法、溶媒のキャビテーションによる衝撃力を用いる方法などがある。粉体同士を衝突させる解砕装置としては、例えば湿式ジェットミルがあり、具体的にはアルティマイザーやスターバースト登録商標等が挙げられる。また、溶媒によりせん断力を与える解砕装置としては例えばナノマイザー登録商標等があり、溶媒のキャビテーションによる衝撃力を用いた解砕装置としては例えばナノメーカー登録商標等が挙げられる。上記解砕方法のうち粉体同士を衝突させる方法は、不純物混入の恐れが少なく、比較的大きな解砕力が得られることから特に好ましい。更に、粉体同士を衝突させることにより、酸化ニッケル粒子の表面近傍の陰イオン成分が含まれる層が剥離して、残留陰イオン成分の更なる低減が可能となる。このように、粉体同士を衝突させて解砕を行うことにより、解砕メディアからの不純物、特にジルコニウムの混入が事実上なく、硫黄などの不純物品位が低く、且つ粒径が微細な酸化ニッケル微粒粉を得ることが可能となる。酸化ニッケルのスラリー化に用いる溶媒は、酸化ニッケルに含有する陰イオン成分を溶解するものであれば特に限定されないが、含有する陰イオン成分が水溶性であることから水を用いることが好ましく、不純物混入がない純水を用いることが更に好ましい。スラリー濃度は、適用する解砕方法で通常用いられている濃度でよく、例えば、粉体同士を衝突させる方法の場合には100~400g/lとすることが好ましい。尚、上記工程Bで得られた酸化ニッケルに残留する硫黄などの陰イオン成分は微量であるため、各解砕方法に通常用いられるスラリー濃度であっても十分に陰イオン成分を低減させることができる。また、解砕条件については特に限定はなく、いずれの解砕方法の場合も通常の条件の範囲内での調整により、容易に目的とする不純物品位と粒度分布の酸化ニッケル微粉末を得ることができる。これにより、フェライト部品などの電子部品材料として好適な分散性に優れた酸化ニッケル微粉末を得ることができる。以上の方法により製造される本発明の酸化ニッケル微粉末は、不純物品位、特に硫黄品位が低く、比表面積が大きい、即ち粒径が微細であることから、電子部品用の材料として好適である。具体的な不純物品位は、硫黄品位が400質量ppm以下、ナトリウム品位が10質量ppm以下である。また、本発明の酸化ニッケル微粉末の比表面積は3m2/g以上であり、その上限は6m2/g程度である。本発明の酸化ニッケル微粉末の製造方法においては、マグネシウム等の第2族元素を添加する工程を含まないので、これらの元素が不純物として含まれることは実質的にない。更に解砕メディアを用いることなく解砕を行うので、ジルコニアの混入を防止することができる。従って、ジルコニア品位及び第2族元素品位については、いずれも30質量ppm以下にすることができる。また、本発明の酸化ニッケル微粉末は、レーザー散乱法で測定したD90粒度分布曲線における粒子量の体積積算90での粒径が1.0μm以下であることが好ましい。尚、レーザー散乱法で測定したD90は電子部品等の製造時に他の材料と混合されるときに解砕されて小さくなるが、この解砕によって比表面積が大きくなる可能性は低いため、酸化ニッケル微粉末自体の比表面積が大きいことが重要である。更に、本発明による酸化ニッケル微粉末の製造方法においては、湿式法により製造した水酸化ニッケルを熱処理するため、有害なSOxが大量発生することがない。従って、有害なSOxを除害処理するための高価な設備も不要であることから、その製造コストも低く抑えることができる。以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。尚、実施例及び比較例における硫黄品位の分析は、硝酸に溶解した後、ICP発光分光分析装置セイコー社製SPS-3000によって行った。また、ナトリウム品位の分析は、硝酸に溶解した後、原子吸光光度計日立ハイテク社製Z-2300によって行った。酸化ニッケル粒子の粒度分布は、レーザー散乱法により粒度を測定し、その粒度を体積積算10、50、90して各粒度D10、D50、D90を算出することにより求めた。比表面積の分析は、窒素ガス吸着によるBET法により求めた。[実施例1]邪魔板付とオーバーフロー口を備えた1.8リットル反応槽で純水に水酸化ナトリウムを溶解し、pH85に調整した水酸化ナトリウム水溶液1.8リットルを準備した。この水酸化ナトリウム水溶液をウォーターバス中で60°Cに保持してスクリュータイプの60mmφの攪拌羽根により700rpmで攪拌しながら、硫酸ニッケルを純水に溶解させニッケル濃度120g/lに調整した硫酸ニッケル水溶液を5.2ml/分の速度で連続的に添加し、さらに125質量の水酸化ナトリウム水溶液を、pH85となるように調整しながら連続的に添加混合した。水酸化ニッケルの沈殿を連続的に生成させ、オーバーフロー口より回収した。その後、濾過と30分の純水でのレパルプを8回繰り返して反応により生成した塩類を洗浄し、水酸化ニッケル濾過ケーキを得た。この濾過ケーキを、送風乾燥機を用いて大気中にて110°Cで24時間乾燥し、水酸化ニッケルを得た。工程B得られた水酸化ニッケル500gを大気焼成炉に供給し、空気を10リットル/分の流量で流しながら、950°Cで3時間熱処理して酸化ニッケル試料1を得た。工程C次に、得られた酸化ニッケル300gを純水1.5リットルに攪拌羽根にて攪拌しながら分散させ、酸化ニッケル含有スラリーを作製した。このスラリーを、湿式ジェットミル粉砕機スギノマシン社製を用いて処理圧力245MPaにて20回の処理を行い、酸化ニッケルの解砕と同時に洗浄して酸化ニッケル微粉末を得た試料4。このようにして得られた試料4の酸化ニッケル微粉末は、硫酸品位が60質量ppm、ナトリウム品位が10質量ppm以下であった。また、比表面積は3.00m2/g、D90は0.86μmであった。[実施例2]また、上記工程Bの熱処理温度を900°Cとした以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル試料2を得た後、実施例1と同様に解砕および洗浄を行って酸化ニッケル微粉末試料5を得た。得られた試料5の酸化ニッケル微粉末は、硫黄品位が150質量ppm、ナトリウム品位が10質量ppm以下、比表面積が3.74m2/g、D90は0.49μmであった。[実施例3]また、上記工程Bの熱処理温度を850°Cとした以外は上記実施例1と同様にして酸化ニッケル試料3を得た後、上記工程Cの処理回数を15回とした以外は実施例1と同様に解砕および洗浄を行って酸化ニッケル微粉末試料6を得た。得られた試料6の酸化ニッケル微粉末は、硫黄品位が390質量ppm、ナトリウム品位が10質量ppm以下、比表面積が5.78m2/g、D90は0.28μmであった。[比較例1]上記実施例1の工程Cで用いた湿式ジェットミルを使用せず、撹拌機を用いて酸化ニッケルを6時間撹拌して洗浄した以外は実施例1と同様にして、酸化ニッケル微粉末試料7を得た。得られた試料7の酸化ニッケル微粉末は、硫黄品位が65質量ppm、ナトリウム品位が33質量ppm、比表面積0.71m2/g、D90は14.64μmであった。[比較例2]また、上記実施例1の工程Bにおけるの熱処理温度を900°Cとし、工程Cにおいて湿式ジェットミルを使用せず、撹拌機を用いて6時間撹拌して洗浄した以外は上記実施例1と同様にして、酸化ニッケル微粉末試料8を得た。得られた試料8の酸化ニッケル微粉末は、硫黄品位が190質量ppm、ナトリウム品位が47質量ppm、比表面積が2.20m2/g、D90は13.09μmであった。[比較例3]また、上記実施例1の工程Bにおけるの熱処理温度を850°Cとし、工程Cにおいての湿式ジェットミルを使用せず、撹拌機を用いて6時間撹拌して洗浄した以外は上記実施例1と同様にして、酸化ニッケル微粉末試料9を得た。得られた試料9の酸化ニッケル微粉末は、硫黄品位が580質量ppm、ナトリウム品位が57質量ppm、比表面積が5.24m2/g、D90は13.57μmであった。上記した試料1~9について、熱処理温度、得られた酸化ニッケル微粉末の硫黄品位、ナトリウム品位、粒度分布D10、D50、D90、比表面積、を下記表1にまとめて示した。上記の結果から分るように、本発明の実施例である試料4~6においては、硫黄品位が400質量ppm以下であって、比表面積が3m2/g以上と非常に大きくなっており、高純度で微細な酸化ニッケル微粉末が得られた。一方、解砕と洗浄のいずれも行っていない試料1~3、洗浄のみで解砕を同時に行っていない比較例である試料7~9では、硫黄品位が高い、もしくは比表面積は3m2/g未満となっている。