"導電性基材および触媒活性層を含んでなる電極であって、触媒活性層が、2種の触媒活性成分に基づき、金属酸化物または混合酸化物または酸化物混合物としてイリジウム、ルテニウムまたはチタンを含んでなり、元素イリジウム、ルテニウムおよびチタンの和に基づいたルテニウムおよび/またはイリジウムの総含量が、少なくとも10molであり、電極が、導電性基材に適用された、NaClおよび/またはNaOHおよび/またはHCl含有水性電解液を透過しない少なくとも1つの酸化物基層を含んでなる、電極。導電性基材がバルブ金属に基づく、請求項1に記載の電極。バルブ金属が、チタン、タンタル、ニオブ、ニッケル、主成分としてチタン、タンタルまたはニオブを含有するこれら金属の合金、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項2に記載の電極。少なくとも1つの酸化物基層が、塩化水素水溶液、塩化ナトリウム水溶液および水酸化ナトリウム水溶液を透過しない、請求項1に記載の電極。サイクリックボルタンメトリー電荷が基層より大きいカバー層を、電極が更に含んでなる、請求項1に記載の電極。カバー層が、触媒活性層成分を含んでなり、孔形成組成物を付加的に含んでなる、請求項5に記載の電極。孔形成組成物が、酸化ランタン、ポリマーまたはそれらの混合物を含んでなる、請求項6に記載の電極。少なくとも1つの酸化物基層の厚さ酸化物としての単位面積当たりの適用量が0.1~20g/m2である、請求項1に記載の電極。カバー層厚さ酸化物としての単位面積当たりの適用量が少なくとも2g/m2である、請求項1に記載の電極。カバー層が、層厚さ方向の断面で観察して、チタンに対するイリジウムのおよび/またはチタン成分に対するルテニウムの変化する比を有する、請求項1に記載の電極。カバー層におけるチタンに対するイリジウムのおよび/またはチタンに対するルテニウムの比が、層厚さ方向の断面で観察して、外側から導電性支持体に向かって低下している、請求項10に記載の電極。少なくとも1つの酸化物基層が導電性であり、少なくとも10S/mの導電率を有する、請求項1に記載の電極。少なくとも導電性基材および触媒活性層を含んでなる電極であって、触媒活性層が、2種の触媒活性成分に基づき、金属酸化物または混合酸化物または酸化物混合物としてイリジウム、ルテニウムまたはチタンを含んでなり、元素イリジウム、ルテニウムおよびチタンの和に基づいたルテニウムおよび/またはイリジウムの総含量が、少なくとも10molであり、ルテニウムおよび/またはイリジウムの半分までが、バナジウム、ジルコニウムまたはモリブデンによって置換されている、電極。電極が、導電性基材に適用された、NaClおよび/またはNaOHおよび/またはHCl含有水性電解液を透過しない少なくとも1つの酸化物基層を含んでなる、請求項13に記載の電極。ルテニウム、イリジウム、チタンおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属を含んでなる金属化合物の溶液または分散体を含んでなるゾル-ゲル被覆液を、導電性支持体に適用する工程、溶媒を除去するために乾燥する工程、酸素含有気体の存在下、少なくとも350°Cの温度で焼成する工程、および任意に、ゾル-ゲル被覆液の適用、乾燥および焼成を1回以上繰り返す工程を含む、電極の製造方法。ルテニウム、イリジウム、チタンおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属の金属塩の溶液または分散体を、基層に1回以上適用することによって得られたカバー層を適用する工程、溶媒を除去するために乾燥する工程、および酸素含有気体の存在下、少なくとも350°Cの温度で焼成する工程を更に含む、請求項15に記載の方法。基層を形成するために、金属塩液の適用後、乾燥を高温で、特に少なくとも200°Cで、好ましくは少なくとも240°Cで実施する、請求項15に記載の方法。低級カルボン酸、C1~C5アルコール、ケトンまたはそれらの混合物を、基層および/またはカバー層を形成するための金属化合物溶液または分散体に添加する、請求項16に記載の方法。請求項1に記載の電極を陽極として含んでなる、塩化ナトリウムまたは塩化水素を含有する溶液を電気分解するための電解槽。請求項1に記載の電極を含んでなる電解槽において、塩化ナトリウムまたは塩化水素を電気分解する工程を含む、塩素の電気化学的製造方法。従って、本発明の目的は、ゾル-ゲル法に基づいた、特に塩素製造用陽極のための、電極用触媒層の簡単かつ汎用的な製造方法を、先に記載した欠点を解消しつつ開発することである。この層は、電気触媒活性成分、および長期安定性を確実にする安定剤からなる。更に、陽極は、先行技術に比べて、塩素過電圧および貴金属含量の低下を示さなければならない。本発明の態様は、導電性基材および触媒活性層を含んでなる電極であって、触媒活性層が、2種の触媒活性成分に基づき、金属酸化物または混合酸化物または酸化物混合物としてイリジウム、ルテニウムまたはチタンを含んでなり、元素イリジウム、ルテニウムおよびチタンの和に基づいたルテニウムおよび/またはイリジウムの総含量が、少なくとも10molであり、電極が、導電性基材に適用された、NaClおよび/またはNaOHおよび/またはHCl含有水性電解液を透過しない少なくとも1つの酸化物基層を含んでなる、電極である。本発明の別の態様は、少なくとも導電性基材および触媒活性層を含んでなる電極であって、触媒活性層が、2種の触媒活性成分に基づき、金属酸化物または混合酸化物または酸化物混合物としてイリジウム、ルテニウムまたはチタンを含んでなり、元素イリジウム、ルテニウムおよびチタンの和に基づいたルテニウムおよび/またはイリジウムの総含量が、少なくとも10molであり、ルテニウムおよび/またはイリジウムの半分までが、バナジウム、ジルコニウムまたはモリブデンによって置換されている、電極である。本発明の更に別の態様は、ルテニウム、イリジウム、チタンおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属を含んでなる金属化合物の溶液または分散体を含んでなるゾル-ゲル被覆液を、導電性支持体に適用する工程、溶媒を除去するために乾燥する工程、酸素含有気体の存在下、少なくとも350°Cの温度で焼成する工程、および任意に、ゾル-ゲル被覆液の適用、乾燥および焼成を1回以上繰り返す工程を含む、電極の製造方法である。前記した本発明の態様、および以下に記載する発明の詳細な説明は、添付の図面と併せて読むと、より良好に理解することができる。本発明の説明を補う目的で、例と考えられる代表的な態様を図面にそれぞれ示す。しかしながら、本発明が、どのような形でも、示されたまさにその態様および手段に限定されないことは理解すべきである。本発明の特定の態様は、少なくとも導電性基材および触媒活性被膜を含んでなる新規な電極であって、触媒活性層が、2種の触媒活性成分に基づき、金属酸化物または混合酸化物または酸化物混合物として少なくともイリジウム、ルテニウムまたはチタンを含んでなり、元素イリジウム、ルテニウムおよびチタンの和に基づいたルテニウムおよび/またはイリジウムの総含量が、少なくとも10mol、好ましくは10~28mol、好適には10~20molであり、導電性基材に適用された、NaClおよび/またはNaOHまたはHCl含有水性電解液を透過しない少なくとも1つの酸化物基層が供給されていることを特徴とする電極を提供する。導電性基材は、好ましくはバルブ金属、特に好ましくはチタン、タンタル、ニオブおよびニッケル、或いはこれら金属の、主成分としてチタン、タンタルまたはニオブを含有する合金からなる群の金属に基づく。塩素発生のための新規な触媒被膜は例えば、金属酸化物の総量に基づいて10~20molの含量を有する新規な活性金属成分好ましくはRuO2またはRuO2/IrO2、安定化成分好ましくはTiO2および遷移金属好ましくは錫、ランタン、バナジウム、ジルコニウム、クロム、モリブデン酸化物形態のドープ種からなる。ドープ種の濃度は、特に5~15molである。基層が塩化水素水溶液、塩化ナトリウム水溶液または水酸化ナトリウム水溶液を透過しないことを特徴とする電極が好ましい。これは例えば、サイクリックボルタンメトリー実験pH=3の3.5mol塩化ナトリウム水溶液中または0.5mol塩酸中、室温、Ag/AgCl参照電極、Ag/AgClに対して0.2~1.0Vの走査範囲において5mV/s~200mV/sの電位走査速度範囲でサイクリックボルタモグラムの陽極ブランチを積分することによって測定されるサイクリックボルタンメトリー容量電荷qaが、常に10mC/cm2未満、好ましくは5mC/cm2未満、特に好ましくは2mC/cm2未満の場合である。基層より大きいサイクリックボルタンメトリー容量電荷qaを有するカバー層が付加的に供給されている電極の態様が特に好ましい。カバー層のサイクリックボルタンメトリー容量電荷qaは、好ましくは少なくとも10mC/cm2、特に好ましくは20mC/cm2である。基層は特に、0.1~20g/m2、好ましくは0.5~10g/m2の酸化物としての単位面積当たりの適用量を有し、カバー層は特に、少なくとも2g/m2、好ましくは少なくとも5g/m2の酸化物としての単位面積当たりの適用量を有する。カバー層が少なくとも2g/m2、好ましくは少なくとも5g/m2の適用量単位面積当たりの重量を有する電極が好ましい。新規な電極の特定の態様は、カバー層が、層厚さ方向の断面で観察して、チタンに対するイリジウムのおよび/またはチタン成分に対するルテニウムの変化する比を有することを特徴とする。電極の1つの態様では、カバー層におけるチタンに対するイリジウムのおよび/またはチタンに対するルテニウムの比は、層厚さ方向の断面で観察して、外側から導電性支持体に向かって低下している。陽極被膜の貴金属酸化物および安定化成分例えばTiO2を製造するための出発化合物として、塩化物、硝酸塩、アルコキシド、アセチルアセトネートを使用することが好ましい。ルテニウムアセチルアセトネート、イリジウムアセチルアセトネートまたは酢酸イリジウムが、貴金属成分を調製するための前駆体塩として好ましく使用される。TiO2は、例えばチタンイソプロポキシドまたはチタンブトキシドから得ることができる。ドープ種は特に好ましくは、前駆体塩であるバナジウムアセチルアセトネート、バナジウムテトラブトキシド、ジルコニウムn-プロポキシド、硝酸ジルコニウム、酢酸モリブデン、酢酸錫、錫イソプロポキシド、ランタンアセチルアセトネート、硝酸ランタンによって導入される。電極の別の態様は、カバー層が触媒活性層成分を含んでなり、孔形成組成物特に、ランタンとりわけ酸化ランタンまたはポリマーとりわけポリビニルピロリドンの組成物を付加的に含有することを特徴とする。電極の別の態様では、基層は、導電性であり、少なくとも10S/m、好ましくは少なくとも1,000S/cm、特に好ましくは少なくとも10,000S/mの導電率を有する。先に記載した電極構造物の他に、本発明の別の態様である、少なくとも導電性基材および触媒活性被膜を含んでなる電極の別の態様も見出された。この態様は、触媒活性層が、2種の触媒活性成分に基づき、金属酸化物または混合酸化物または酸化物混合物として少なくともイリジウム、ルテニウムまたはチタンを含有し、元素イリジウム、ルテニウムおよびチタンの和に基づいたルテニウムおよび/またはイリジウムの総含量が、少なくとも10mol、好ましくは10~28mol、好適には10~20molであり、ルテニウムおよび/またはイリジウムの半分までが、バナジウム、ジルコニウムまたはモリブデン好ましくはバナジウムによって置換されていることを特徴とする。この選択された構造物は好ましいことに、導電性支持体に適用された、NaClおよび/またはNaOHまたはHCl含有水性電解液を透過しない酸化物基層も供給するために、最初に記載した電極の態様と組み合わせることができる。本発明の態様は更に、電極、特に先に記載した新規な電極の製造方法であって、第一の工程において、金属であるルテニウム、イリジウムおよびチタンの1種以上の金属化合物の溶液または分散体を含有するゾル-ゲル被覆液を、特に浸漬によって、導電性支持体に1回以上適用し;次いで、溶媒を除去するために乾燥し;続いて、乾燥金属化合物層を酸素含有気体の存在下、高温で、特に少なくとも350°Cで、好ましくは少なくとも400°Cで焼成し;任意に、溶液または分散体の適用、乾燥および焼成を1回以上繰り返すことを特徴とする方法を提供する。カバー層を製造するためには、ルテニウム、イリジウムおよびチタンからなる群からの金属の金属塩の溶液または分散体を基層に1回以上適用し、溶媒を除去し、酸素含有気体の存在下、高温で、特に少なくとも350°Cで、好ましくは少なくとも450°Cで焼成する方法が好ましい。製造方法の一態様では、基層を製造するために、金属塩液を適用した後、乾燥を高温で、特に少なくとも200°Cで、好ましくは少なくとも240°Cで実施する。1つの変法では、低級カルボン酸、特にプロピオン酸、C1~C5アルコールまたはケトン或いはそれらの混合物を、基層および/またはカバー層を製造するための金属化合物液に添加する。均一かつ安定な被覆液を調製するため、プロピオン酸ゾル-ゲル法を使用することが特に好ましい。同方法では、プロピオン酸とアルコールメタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、ブタノールの様々な濃度の混合物が、先に記載した化合物の溶媒として使用される。前駆体塩の溶解は、各前駆体塩について独立して、撹拌しながら130°Cを超える温度で起こる。溶解工程の時間は約1時間である。これにより、澄明かつ安定なゾル液を得る。プロピオン酸を使用することにより、使用した金属カチオンが錯体を形成するので、制御された加水分解が可能となる。冷却後、各前駆体塩の溶液を混合し、次いで撹拌する。この混合物から、電気触媒活性塩素発生陽極を製造するための被覆液を調製する。この被覆液は、チタンシートまたはチタン網のような基材例えばエキスパンデッドチタンメタルに適用することができる。適用前に、基材を物理的、化学的または電気化学的に、清浄し、磨き、粗化しなければならない。これにより、被膜の接着性を向上させる。常套法である塩の熱分解と比べて、ゾル-ゲル法は以下の利点を有する:低いプロセス温度、制御された化学量論量を有する混合酸化物が、異なった化合物のゾルを混合することによって容易に調製できること、出発物質の混合が分子レベルで起こるので、生成物の均一性が高いこと、最終熱処理により単純な有機基が完全に除去されるので、生成物の純度が高いこと、最終熱処理により、得られる層の微細構造多孔性に影響を与え得ること、浸漬被覆法、噴霧被覆法または回転被覆法により複雑な形態を被覆できること。ゾル-ゲル法により、溶媒メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールに溶解されている1種以上の易加水分解性アルコキシド、アセチルアセトネートまたは無機塩を含んでなる被覆液を調製することができる。安定なコロイドゾルを調製するために、被覆液を酸触媒塩酸、硝酸または酢酸或いは塩基触媒アンモニア、水酸化ナトリウム溶液を用いて加水分解する。加水分解により、ヒドロキシ架橋およびオキソ架橋金属原子の網状構造が形成される。次いで、この被覆液で基材を被覆することができる。続く乾燥工程では、ゾルが基材に固定される。最終の焼成工程では、有機成分は除去され、混合酸化物はナノ構造粒子に結晶化する。ゾル-ゲル法によって、ドープ種を導入することもできる。これらのドープ種は、触媒の活性を高めることができるので、貴金属の含量を低下させることができる。被覆液の適用は、浸漬法、塗布法、滴下法、噴霧法または回転法によって実施することができる。次いで、特に室温で、層を乾燥し、その後、例えば250°Cで少なくとも10分間、それに続いて450°Cで少なくとも5分間焼成する。層を安定化するための最終の焼成工程は、例えば450°Cで12~30分間実施する。成分の酸化を向上させるため、純酸素または酸素リッチ雰囲気を使用することができる。記載した方法の逐次的繰り返し数を変えることによって、層厚さを変えることができる。この手順によって多層構造を得ることもできる。本発明の態様は更に、塩化ナトリウムまたは塩化水素含有液を電気分解するための電解槽であって、先に記載した新規な電極が電解槽の陽極として供給されている電解槽を提供する。本発明の別の態様は、塩素を電気化学的に製造するために塩化ナトリウムまたは塩化水素を電気分解するための電解槽における陽極としての、先に記載した新規な電極の使用も提供する。先に記載した引用文献の全ては、有用な目的全てのために、それらの全内容を引用してここに組み込む。本明細書では、用語および/または文脈が別途明確に記載していない限り、単数形のための用語aおよびtheは、1以上および少なくとも1と同義であり、互いに置き換えて使用することができる。従って、例えば、明細書または特許請求の範囲におけるacatalyticallyactivecomponentは、1種の触媒活性成分または1種以上の触媒活性成分に言及し得る。また、数値の全ては、特に記載のない限り、用語約によって修飾されていると理解すべきである。本発明を具体的に表す特定の構造物を示し、記載しているが、本発明の概念の意図および範囲から逸脱することなく、その一部を様々に変更および修正できること、並びにそれらが本明細書に示され、記載されている特定の形態に限定されないことは当業者には明らかであろう。本発明の態様を、後記実施例および図面によって説明するが、それらは本発明を何ら限定するものではない。図1は、実施例6の被膜の表面の走査型電子顕微鏡写真を示すスケール:a10μm。図2は、実施例7の被膜の表面の走査型電子顕微鏡写真を示すスケール:10μm。図3は、実施例8の被膜の表面の走査型電子顕微鏡写真を示すスケール:10μm。図4は、実施例9bの被膜の表面の走査型電子顕微鏡写真を示すスケール:10μm。図5は、実施例9の緻密基層実線および割れ構造物点線についての、電位走査速度vの関数としてプロットしたボルタンメトリー電荷qaを示す。図6は、実施例10の被膜の表面の走査型電子顕微鏡写真を示すスケール:10μm。図7は、実施例11のRu0.4Ti0.6O2被膜実線およびRu0.4Ti0.45La0.15O2被膜点線についての、サイクリックボルタモグラム数の関数としてプロットしたボルタンメトリー電荷qaを示す。サイクリックボルタンメトリーは、Ag/AgCl参照電極を用い、室温で、0.5mol塩酸溶液中で実施した。電位は、v=50mV/sの電位走査速度で、Ag/AgClに対して0.2~1.0Vの範囲で変化させた。図8は、実施例12の被膜についての、電位走査速度vの関数としてプロットしたボルタンメトリー電荷qaを示す。サイクリックボルタンメトリーは、Ag/AgCl参照電極を用い、室温で、3.5mol塩酸溶液中で実施した。電位は、Ag/AgClに対して0.2~1.0Vの範囲で変化させた。実施例115mmの直径を有するチタン板厚さ2mmにサンドブラストを掛け、表面を清浄および粗化し、次いで、10濃度シュウ酸中、80°Cで2時間酸洗いし、続いて、イソプロパノールで清浄して窒素流中で乾燥した。被覆液を調製するため、99.6mgのルテニウムアセチルアセトネートRuacac3、207.2μlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4および13.3mgのバナジルアセチルアセトネートVOacac2をそれぞれ、1.45mlのイソプロパノールおよび1.45mlのプロピオン酸に溶解し、還流しながら30分間加熱した。室温に冷却後、3つの溶液を混合し、ワインレッド色の均一かつ澄明な溶液を得た。この被覆液50μlを、マイクロピペットによってチタン基材に適用し、次いで、空気中で乾燥した。層を空気中で、まず250°Cで10分間、次いで450°Cで10分間焼成した。これらの手順被覆液の適用、乾燥、焼成を8回繰り返した。9回目の被覆工程後、被覆チタン基材を450°Cで1時間焼成した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti70mol/V5molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、6.4g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2、V2O5の和として23.7g/m2の総被膜適用量に相当する。塩素発生のための電気触媒活性は、クロノアンペロメトリー参照電極:Ag/AgCl、電解液:3.5MのNaCl、pH:3、室温によって測定した。実験では、定常電流密度を1kA/m2に設定した。得られた電位は1.17Vであった。実施例1b比較例実施例1と同じ方法で、チタン基材を前処理した。熱分解によって被膜を製造するために、2.00gの塩化ルテニウムIII水和物Ru含量=40.5重量、21.56gのn-ブタノール、0.94gの濃塩酸および5.93gのチタン酸テトラブチルTi-O-Bu4を含有する被覆液を調製した。被覆液の一部を、小さいチタン板にハケ刷りした。これを空気中、80°Cで10分間乾燥し、次いで、空気中、470°Cで10分間処理した。この手順被覆液の適用、乾燥、熱処理を合計8回実施した。続いて、板を空気中、520°Cで1時間処理した。単位面積当たりのルテニウムの適用量は、被覆液の消費量から16g/m2と算出された。これは、31molのRuO2および69molのTiO2の組成で酸化物として49.2g/m2の総被膜適用量に相当する。実施例1と同じ方法で測定した塩素発生のための電位は、この試料では1.25Vであった。実施例2実施例1と同じ方法で、チタン基材を前処理した。60mgのルテニウムアセチルアセトネートRuacac3、236.8μlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4および13.3mgのバナジルアセチルアセトネートVOacac2をそれぞれ、1.45mlのイソプロパノールおよび1.45mlのプロピオン酸に溶解し、次いで、撹拌しつつ還流しながら150°Cで30分間加熱した。室温に冷却後、3つの溶液を混合し、ワインレッド色の均一かつ澄明な溶液を得た。実施例1に記載したように、被覆工程および焼成工程を実施した。これにより、金属元素に基づいてRu15mol/Ti80mol/V5molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、3.9g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2、V2O5の和として22.7g/m2の総被膜適用量に相当する。実施例1と同じ方法で測定した塩素発生のための電位は、この試料では1.17Vであった。実施例3実施例1と同じ方法で、チタン基材を前処理した。99.6mgのルテニウムアセチルアセトネートRuacac3、207.2μlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4および22.4μlのジルコニウムn-プロポキシドn-プロパノール中70重量をそれぞれ、1.44mlのイソプロパノールおよび1.44mlのプロピオン酸に溶解し、次いで、撹拌しつつ還流しながら150°Cで30分間加熱した。室温に冷却後、3つの溶液を混合し、ワインレッド色の均一かつ澄明な溶液を得た。実施例1に記載したように、被覆工程および焼成工程を実施した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti70mol/Zr5molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、6.4g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2、ZrO2の和として24.2g/m2の総被膜適用量に相当する。実施例1と同じ方法で測定した塩素発生のための電位は、この試料では1.25Vであった。実施例4実施例1と同じ方法で、チタン基材を前処理した。99.6mgのルテニウムアセチルアセトネートRuacac3、192.4μlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4および42.8μlの酢酸モリブデンMo2OCOCH34をそれぞれ、1.45mlのイソプロパノールおよび1.45mlのプロピオン酸に溶解し、次いで、撹拌しつつ還流しながら150°Cで30分間加熱した。室温に冷却後、3つの溶液を混合し、ワインレッド色の均一かつ澄明な溶液を得た。実施例1に記載したように、被覆工程および焼成工程を実施した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti65mol/Mo10molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、6.4g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2、MoO3の和として25.2g/m2の総被膜適用量に相当する。実施例1と同じ方法で測定した塩素発生のための電位は、この試料では1.18Vであった。実施例5実施例1と同じ方法で、チタン基材を前処理した。49.8mgのルテニウムアセチルアセトネートRuacac3、62.3mgのイリジウムアセチルアセトネートIracac3、16.6mgのバナジウムアセチルアセトネートVOacac2、207.6mgの錫イソプロポキシドプロパノールSni-OPr4C3H7OHおよび129.5μlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4をそれぞれ、1.11mlのイソプロパノールおよび1.11mlのプロピオン酸に溶解し、次いで、撹拌しつつ還流しながら150°Cで30分間加熱した。室温に冷却後、5つの溶液を混合し、ワインレッド色の均一かつ澄明な溶液を得た。実施例1に記載したように、被覆工程および焼成工程を実施した。これにより、金属元素に基づいてRu10mol/Ir10mol/V5mol/Sn40mol/Ti35molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、3.2g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、IrO2、V2O5、SnO2、TiO2の和として33.6g/m2の総被膜適用量に相当する。実施例1と同じ方法で測定した塩素発生のための電位は、この試料では1.22Vであった。実施例6実施例1と同じ方法で、チタン基材を前処理した。149.4mgのルテニウムアセチルアセトネートRuacac3および333.1μlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4をそれぞれ、3.25mlのイソプロパノールおよび3.25mlのプロピオン酸に溶解し、次いで、撹拌しつつ還流しながら150°Cで30分間加熱した。室温に冷却後、2つの溶液を混合し、ワインレッド色の均一かつ澄明な溶液を得た。浸漬被覆によって、割れのない緻密な被膜を製造した。この目的のため、チタン基材を被覆液に20秒間浸漬し、次いで、167mm/分の速度で被覆液から垂直に取り出し、続いて、空気中で乾燥した。層を空気中で、まず250°Cで10分間、次いで450°Cで5分間焼成した。浸漬被覆-乾燥-焼成の手順を5回繰り返した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti75molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、0.16g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2の和として0.59g/m2の総被膜適用量に相当する。製造した被膜の表面形態を、走査型電子顕微鏡によって特徴付けた図1参照。実施例7実施例1と同じ方法で、チタン基材を前処理した。被覆液は、実施例6と同じである。実施例6と同じ方法で、割れのない緻密な被膜を得た。浸漬被覆-乾燥-焼成の手順を15回繰り返した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti75molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、0.50g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2の和として1.84g/m2の総被膜適用量に相当する。製造した被膜の表面形態を、走査型電子顕微鏡によって特徴付けた図2参照。実施例8実施例1と同じ方法で、チタン基材を前処理した。4.62mlのイソプロパノールに421.1mgの塩化ルテニウムIII水和物RuCl3xH2O、36Ruを溶解し、一晩撹拌することによって、被覆液液Aを得た。1332mlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4を、2.246mlの4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンおよび5mlのイソプロパノールの予備混合液に添加し、30分間撹拌した液B。液Aおよび液Bを超音波処理によって混合し、澄明な液を得た。続いて、この液に、25.8μlの酢酸および108μlの脱イオン水を添加した。このように調製した液に蓋をし、室温で一晩撹拌した。浸漬被覆によって、割れのない緻密な被膜を製造した。この目的のため、チタン基材を被覆液に20秒間浸漬し、次いで、193mm/分の速度で被覆液から垂直に取り出し、続いて、空気中で乾燥した。層を空気中で、まず90°Cで30分間、次いで450°Cで10分間焼成した。浸漬被覆-乾燥-焼成の手順を6回繰り返した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti75molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、1.0g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2の和として3.69g/m2の総被膜適用量に相当する。製造した被膜の表面形態を、走査型電子顕微鏡によって特徴付けた図3参照。実施例9実施例1と同じ方法で、チタン基材を前処理した。4.81mlのイソプロパノールに210.6mgの塩化ルテニウムIII水和物RuCl3xH2O、36Ruを溶解し、一晩撹拌することによって、被覆液液Aを得た。666.1mlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4を、1.123mlの4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンおよび20mlのイソプロパノールの予備混合液に添加し、30分間撹拌した液B。液Aおよび液Bを超音波処理によって混合し、澄明な液を得た。続いて、この液に、12.9μlの酢酸および54μlの脱イオン水を添加した。このように調製した液に蓋をし、室温で一晩撹拌した。浸漬被覆によって、割れのない緻密な被膜を製造した。この目的のため、チタン基材を被覆液に20秒間浸漬し、次いで、193mm/分の速度で被覆液から垂直に取り出した。湿潤被膜を空気中で乾燥し、空気中、90°Cで30分間、次いで450°Cで10分間焼成した。浸漬被覆-乾燥-焼成の手順を50回繰り返し、最後の焼成は450°Cで1時間実施した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti75molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、2.0g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2の和として7.38g/m2の総被膜適用量に相当する。実施例9b比較例比較のため、実施例9と同じ被覆液を用いて、亀甲割れ構造を有する被膜を製造した。チタン基材を実施例1と同じ方法で前処理し、マイクロピペットを用いた滴下法によって50μlの被覆液を適用した。湿潤被膜を空気中で乾燥し、空気中、90°Cで30分間、次いで450°Cで10分間焼成した。滴下被覆-乾燥-焼成の手順を4回繰り返し、最後の焼成は450°Cで1時間実施した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti75molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、3.4g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2の和として12.54g/m2の総被膜適用量に相当する。製造した被膜の表面形態を、走査型電子顕微鏡によって特徴付けた図4参照。割れのない構造を有する電極および亀甲割れ構造を有する電極を、サイクリックボルタンメトリーによって試験した。測定は、銀/塩化銀参照電極を用い、室温、pH=3、3.5mol塩化ナトリウム溶液中で実施した。電位は、5~200mV/sの範囲の様々な電位走査速度vで、0.2~1.0Vの範囲で変化した。ボルタンメトリー容量電荷qaは、サイクリックボルタモグラムの陽極ブランチを積分することによって、EC-Labソフトウェアを用いて得た。割れのない被膜および亀甲割れ構造を有する被膜について、ボルタンメトリー電荷qaを電位走査速度vの関数としてプロットする図5。亀甲割れ構造を有する被膜図5の点線については、電位走査速度vが5mV/sから50mV/sに上昇すると、ボルタンメトリー電荷は急激に低下し、その後、ほぼ一定の値をとった。このことは、低い電位走査速度vでは、割れを通して内部の割れおよびボイドに電解液が浸透し、容量電荷が高い値となるが、より高い電位走査速度では、最外表面しか接近可能でないという事実と一致している。それとは対照的に、割れのない被膜の容量電荷は、電位走査速度に実質的には依存しない図5の実線。これにより、被膜が詰まっていて緻密であることが明らかである。実施例10割れのない緻密な基層と割れのある電気触媒活性カバー層を有する被膜を製造するために、割れのない基層を実施例7と同じ方法で製造した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti75molの基層組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、0.50g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、1.84g/m2の酸化物RuO2、TiO2の和としての総基層適用量に相当する。被覆-焼成サイクルを合わせて4回実施した以外は、実施例1と同じ被覆液を用い、実施例1と同じ被覆および焼成手順によって、割れのない基層に適用された割れのあるカバー層を製造した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti70mol/V5molのカバー層組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、2.6g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、9.64g/m2の酸化物RuO2、TiO2、V2O5の和としての総カバー層適用量に相当する。製造した被膜の表面形態を、走査型電子顕微鏡によって特徴付けた図6参照。塩素発生のための電極電位を、実施例1と同じ条件下で測定した。測定された電極電位は1.21Vであった。実施例11割れのある多孔性電気触媒活性被膜を製造するために、実施例1と同じ方法でチタン基材を前処理した。2mlのイソプロパノールに67.4mgの塩化ルテニウムIII水和物RuCl3xH2O、36Ruを溶解し、一晩撹拌することによって、被覆液液Aを得た。39mgの硝酸ランタンIII六水和物LaNO336H2Oを1mlのイソプロパノールに添加し、30分間撹拌した液B。80μlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4を、224.6μlの4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンおよび0.66mlのイソプロパノールの予備混合液に添加し、10分間撹拌した液C。液A、B、Cを超音波処理によって混合し、澄明な液を得た。続いて、この液に、5.15μlの酢酸および10.8μlの脱イオン水を添加した。このように調製した液に蓋をし、室温で一晩撹拌した。50μlの被覆液を、マイクロピペットを用いて滴下法によって、チタン基材に適用した。湿潤被膜を空気中で乾燥し、空気中、250°Cで10分間、次いで450°Cで10分間焼成した。滴下被覆-乾燥-焼成の手順を5回繰り返し、最後の焼成は450°Cで1時間実施した。これにより、金属元素に基づいてRu40mol/Ti45mol/La15molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、8.5g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2、La2O3の和として29.0g/m2の総被膜適用量に相当する。比較のために、Ru0.4Ti0.6O2の組成を有する被膜を製造した。この目的のために、2mlのイソプロパノールに67.4mgの塩化ルテニウムIII水和物RuCl3xH2O、36Ruを添加し、一晩撹拌した液A。106.6μlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4を、224.6μlの4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンおよび1.66mlのイソプロパノールの予備混合液に添加し、10分間撹拌した液B。液AおよびBを超音波処理によって混合し、澄明な液を得た。続いて、この液に、5.15μlの酢酸および10.8μlの脱イオン水を添加した。このように調製した液に蓋をし、室温で一晩撹拌した。50μlの被覆液を、マイクロピペットを用いて滴下法によって、チタン基材に適用した。湿潤被膜を空気中で乾燥し、空気中、250°Cで10分間、次いで450°Cで10分間焼成した。滴下被覆-乾燥-焼成の手順を5回繰り返し、最後の焼成は450°Cで1時間実施した。これにより、金属元素に基づいてRu40mol/Ti60molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、8.5g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2の和として21.3g/m2の総被膜適用量に相当する。参照電極として銀/塩化銀を用い、室温で、0.5mol塩酸中でサイクリックボルタンメトリーを実施した。電位は、v=50mV/sの電位走査速度vで、0.2~1.0Vの範囲で変化した。ただし、電解液に暴露された面積は1cm2であった。ボルタンメトリー容量電荷qaは、サイクリックボルタモグラムの陽極ブランチを積分することによって、EC-Labソフトウェアを用いて得た。Ru0.4Ti0.45La0.15O2被膜点線およびRu0.4Ti0.6O2被膜実線について、ボルタンメトリー電荷qaをサイクリックボルタンメトリーサイクル数の関数としてプロットする図7。Ru0.4Ti0.6O2被膜のボルタンメトリー容量電荷qaは、サイクリックボルタンメトリーサイクル数に依存しない。このことは、被膜の特性が変わらないことを示している。一方、Ru0.4Ti0.45La0.15O2被膜の場合は、第2電位サイクルから第79電位サイクルまで、ボルタンメトリー電荷の連続的な上昇が見られた。このことは、被膜の多孔性の増大を同時に伴うサイクリックボルタンメトリーサイクルの間に、酸化物マトリックスから酸化ランタンが連続的に溶解していることに起因する。実施例12割れのある多孔性電気触媒活性被膜を製造するために、実施例1と同じ方法でチタン基材を前処理した。1.33mlのイソプロパノールに37.9mgの塩化ルテニウムIII水和物RuCl3xH2O、36Ruを溶解し、一晩撹拌することによって、4つの被覆液液Aをそれぞれ得た。130.8mgの錫イソプロポキシドプロパノレートSni-OPr4C3H7OHを、1.34mlのイソプロパノールおよび1.33mlのプロピオン酸の混合物に添加し、次いで、激しく撹拌しつつ還流しながら150°Cで30分間煮沸することによって、4つの液液Bをそれぞれ得た。続いて、異なった量すなわち39mg、29.2mg、9.7mgおよび0mgの硝酸ランタンIII六水和物LaNO336H2Oを4つの熱い液Bに添加し、次いで、室温まで冷える前に、これらの液を更に20分間撹拌した。その後、これらの液を、撹拌しながら液Aに滴加した。それぞれの場合において、50μlの被覆液を、マイクロピペットを用いて滴下法によって、チタン基材に適用した。湿潤被膜を空気中で乾燥し、空気中、250°Cで10分間、次いで450°Cで10分間焼成した。続いて、被膜の酸化ランタン成分を溶解するために、被覆チタン板を5濃度塩酸に、穏やかに撹拌しながら、60°Cの温度で15分間浸漬した。それぞれの場合において、滴下被覆-乾燥-焼成-溶解の手順を8回繰り返し、最後の焼成は450°Cで1時間実施した。これにより、金属元素に基づいてRu30mol/Sn70molの組成を有する試料を4つ得た。金属含量に基づいて計算すると、それぞれの場合において、これは、7.7g/m2のルテニウム適用量に相当する。それぞれの場合において、これは、酸化物RuO2、SnO2の和として36.9g/m2の総被膜適用量に相当する。得られた被膜を、被覆液中に存在する異なった量39mg、29.2mg、9.7mgまたは0mgの硝酸ランタンIII六水和物に対応して、La39、La29、La9、La0と表す。実施例9に記載したようにサイクリックボルタンメトリーによって電極を試験し、実施例9に記載したようにボルタンメトリー容量電荷qaを測定した。図8に、電極の電位走査速度vの関数としてのボルタンメトリー電荷qaを示す。電位走査速度が5mV/sから200mV/sに上昇すると、ボルタンメトリー電荷qaはかなり低下する。このことは、被膜が割れを有する多孔性構造であることを示している。硝酸ランタンIII六水和物の量が上昇するにつれて、容量電荷も上昇した。酸化ランタンの溶解の結果、より多孔性の被膜が得られる。実施例13割れのある多孔性電気触媒活性被膜を製造するために、実施例1と同じ方法でチタン基材を前処理した。被覆液を調製するために、99.6mgのルテニウムアセチルアセトネートRuacac3、192.4μlのチタンイソプロポキシドTii-OPr4および26.6mgのバナジルアセチルアセトネートVOacac2をそれぞれ、1.45mlのイソプロパノールおよび1.45mlのプロピオン酸に溶解し、各々の場合に、激しく撹拌しつつ還流しながら150°Cで30分間加熱した。室温に冷却後、3つの溶液を混合し、ワインレッド色の均一かつ澄明な溶液を得た。溶液に72.2mgのポリビニルピロリドンK30PVP平均分子量Mw=40,000を添加し、溶液を超音波で30分間処理した。この被覆液50μlを、マイクロピペットを用いてチタン基材に滴下し、次いで、空気中で乾燥した。層を空気中、まず250°Cで15分間、次いで450°Cで20分間焼成した。これらの手順被覆液の適用、乾燥、焼成を8回繰り返した。その後、被覆チタン基材を450°Cで1時間焼成した。これにより、金属元素に基づいてRu25mol/Ti65mol/V10molの組成を有する試料を得た。金属含量に基づいて計算すると、これは、6.4g/m2のルテニウム適用量に相当する。これは、酸化物RuO2、TiO2、V2O5の和として23.9g/m2の総被膜適用量に相当する。Ag/AgCl参照電極を用い、室温で、3.5mol塩化ナトリウム溶液中でサイクリックボルタンメトリーを実施した。電位は、v=50mV/sの電位走査速度で、Ag/AgClに対して0.2~1.0Vの範囲で変化した。ボルタンメトリー容量電荷qaは、実施例9に記載した様に測定した。割れを有する多孔性層について、39.2mC/cm2の値を得た。比較のために、ポリビニルピロリドンPVPを添加しなかったこと以外は同じ被覆液を用い、同じ製造方法で電極を製造し、同じ方法でボルタンメトリー容量電荷qaを測定した。PVPを添加しなかった被膜のボルタンメトリー容量電荷qaについて、20.8mC/cm2の値を得た。"