マスタクロックを発生するマスタクロックジェネレータと、前記マスタクロックに同期してパルス光を発生する光発振器と、前記光発振器からのパルス光を増幅して高パワーパルス光を出力する光増幅器と、前記光増幅器を励起するための励起用パルス光を発生する励起半導体レーザと、前記励起半導体レーザを前記マスタクロックに同期するパルス状の駆動電流により駆動するための駆動部と、前記駆動部を制御するための制御部とを有し、前記制御部は、前記パルス状の駆動電流のパルス幅を変化させて、前記励起用パルス光のパルス幅を変化させ、これにより前記光増幅器のパルスごとの利得を制御する構成とされていることを特徴とする高パワーパルス光発生装置。請求項1に記載の高パワーパルス光発生装置において、前記励起半導体レーザの駆動が停止されて光増幅器からの高パワーパルス光の出力が停止されているOFF状態から、励起半導体レーザの駆動が開始されて光増幅器から高パワーパルス光が出力されるON状態に切り替えた直後の励起用パルス光のパルス幅を調整することによって、出力パルス光出射直前の光増幅器の利得を、光増幅器のON状態の定常時における最大利得に近づけるように制御する構成としたことを特徴とする高パワーパルス光発生装置。請求項2に記載の高パワーパルス光発生装置において、前記ON状態に切り替えた直後の励起用パルス光のパルス幅と、前記ON状態の定常時におけるパルス幅との差を調整幅と定義し、その調整幅の絶対値が、ON状態に切り替えた直後から次第に減少するように制御する構成としたことを特徴とする高パワーパルス光発生装置。請求項2に記載の高パワーパルス光発生装置において、前記光増幅器の出射側に出力パルス光を監視するモニタが設けられており、前記光増幅器からのパルス出射毎に前記モニタでの受光量が前記制御部に入力されて、その受光量の変化に応じて前記励起用パルス光のパルス幅を制御する構成としたことを特徴とする高パワーパルス光発生装置。請求項3に記載の高パワーパルス光発生装置において、前記光増幅器の出射側に出力パルス光を監視するモニタが設けられており、前記光増幅器からのパルス出射毎に前記モニタでの受光量が前記制御部に入力されて、その受光量の変化に応じて前記調整幅を制御する構成としたことを特徴とする高パワーパルス光発生装置。図7に、従来の高パワーパルス光発生装置において、出力パルス光出射の開始信号が入力された状態における光増幅器の励起LDからのパルス出力励起用パルス光と、光増幅器からの出力パルス光と、光増幅器の利得変化と、マスタクロックとについて、時間に依存した相互の関係を示す。図7に示すように、光増幅器の利得は、高パワーパルス光発生装置をOFF状態からON状態に切り替えた直後の出力パルス光の第1パルスは、そのパルスパワーパルス高がON状態の定常時よりも小さく、その後パルス出射ごとに徐々に大きくなり、数パルス分の出射後に定常時のパルスパワーに達する。このように、高パワーパルス光発生装置をOFF状態からON状態に切り替えた直後は、定常時に出射される出力パルス光のパルスパワーよりも小さいパワーのパルスが出射されて、その後、定常状態に達するまで、パルスごとのパワーが変動してしまう。このような現象が発生する原因は、次のように考えられる。すなわち、OFF状態では、光増幅器の利得がON状態の定常時以下、定常時における最低利得より低くなっていることに加え、励起LDに対するパルス状駆動電流のパルス幅を常に一定として、励起LDから出力される励起用パルス光のパルス幅が一定となるように制御しているためと考えられる。なお図7のケースでは、上述のように励起LDから出力される励起用パルス光のパルス幅が一定となるように制御してはいるものの、高パワーパルス光発生装置をOFF状態からON状態に切り替えるタイミング出力開始トリガのタイミングが、マスタクロックのパルスの立ち上がりタイミングとずれているため、ON状態に切り替えた直後の励起用パルス光の第1パルスの幅が小さくなり、そのため光増幅器の利得も、第1パルスでは極端に小さくなってしまっている。上述のように、従来の高パワーパルス光発生装置においては、高パワーパルス光発生装置をOFF状態からON状態に切り替えた際に、出力パルス光のパルスパワーが変動する。したがって従来の高パワーパルス光発生装置をレーザ加工に用いた場合には、OFF状態からON状態に切り替えた際のパルスパワー変動期間過渡期間を、レーザ加工を行わない待機期間とせざるを得ず、そのため作業効率の低下を引き起こしていた。本発明は、上述の事情を背景としてなされたもので、高パワーパルス光発生装置の出力パルス光のパワー変動を抑え、例えば高パワーパルス光発生装置をOFF状態からON状態へ切り替えた際においても、早期に出力パルス光の各パルスのパワーを安定化させて、前述のような過渡現象の発生を防止することができる高パワーパルス光発生装置を提供するものである。本発明は、基本的には、励起LDのパルス状駆動電流のパルス幅を制御することにより、励起LDのパルス出力励起用パルス光のパルス幅を変化させて、光増幅器の利得をパルスごとに制御できるように構成することにより、前記課題を解決することとした。具体的には、本発明の第1の態様の高パワーパルス光発生装置は、マスタクロックを発生するマスタクロックジェネレータと、前記マスタクロックに同期してパルス光を発生する光発振器と、前記光発振器からのパルス光を増幅して高パワーパルス光を出力する光増幅器と、前記光増幅器を励起するための励起用パルス光を発生する励起半導体レーザと、前記励起半導体レーザを前記マスタクロックに同期するパルス状の駆動電流により駆動するための駆動部と、前記駆動部を制御するための制御部とを有し、前記制御部は、前記パルス状の駆動電流のパルス幅を変化させて、前記励起用パルス光のパルス幅を変化させ、これにより前記光増幅器のパルスごとの利得を制御する構成とされていることを特徴とするものである。上述の第1の態様の高パワーパルス光発生装置によれば、光増幅器のパルスごとの利得を制御することができるため、高パワーパルス光発生装置の出力パルス光のパルスパワーを安定化させることができる。また、上述のように光増幅器のパルスごとの利得を制御することができるため、レーザ加工の自由度を飛躍的に拡げることもできる。さらに、励起LDのパルス状駆動電流および励起用パルス光をマスタクロックに同期させ、パルス幅変調PulseWidthModulation:PWMを行うことにより、出力パルス光の立ち上がりを簡易かつ高速にすることができる。第2の態様の高パワーパルス光発生装置は、第1の態様の高パワーパルス光発生装置において、前記励起半導体レーザの駆動が停止されて光増幅器からの高パワーパルス光の出力が停止されているOFF状態から、励起半導体レーザの駆動が開始されて光増幅器から高パワーパルス光が出力されるON状態に切り替えた直後の励起用パルス光のパルス幅を調整することによって、出力パルス光出射直前の光増幅器の利得を、光増幅器のON状態の定常時における最大利得に近づけるように制御する構成としたことを特徴とするものである。上述の第2の態様の高パワーパルス光発生装置によれば、高パワーパルス光発生装置をOFF状態からON状態に切り替えた直後の励起用パルス光のパルス幅を調整して、出力パルス光出射直前の光増幅器の利得を、ON状態の定常時における最大利得に近づけるように制御することによって、ON状態に切り替えた直後の出力パルス光の第1パルスのパワーを、定常時における出力パルス光のパルスパワーとほぼ同等に揃えることができる。そのため、前記切り替え直後の1パルス目からパワー変動の少ない出力パルス光が得られて、前述のような過渡現象が抑制されることから、例えばレーザ加工においては、待機期間を不要とするか、又は少なくとも待機期間を短くすることができる。第3の態様の高パワーパルス光発生装置は、第1の態様の高パワーパルス光発生装置において、前記ON状態に切り替えた直後の励起用パルス光のパルス幅と、前記ON状態の定常時におけるパルス幅との差を調整幅と定義し、その調整幅の絶対値が、ON状態に切り替えた直後から次第に減少するように制御する構成としたことを特徴とするものである。上述の第3の態様の高パワーパルス光発生装置によれば、パルス毎の励起LDの励起用パルス光のパルス幅の調整幅が、その直前のパルスの調整幅より短くなるように制御しているため、短時間で調整幅が0ゼロに収束され、その結果、短時間でパルスパワーを安定化させることができる。また、過渡期間中のパルス毎の調整幅をデータテーブルとして予め制御部に入力しておくことができ、その場合には、前記励起LDのパルス出力のパルス幅が、データテーブルをもとに自動的に設定されるため、励起LDのパルス状駆動電流の自動制御が容易になる。第4の態様の高パワーパルス光発生装置は、第2の態様の高パワーパルス光発生装置において、前記光増幅器の出射側に出力パルス光を監視するモニタが設けられており、前記光増幅器からのパルス出射毎に前記モニタでの受光量が前記制御部に入力されて、その受光量の変化に応じて前記励起用パルス光のパルス幅を制御する構成としたことを特徴とするものである。上述の第4の態様の高パワーパルス光発生装置によれば、モニタにより出力パルス光のパルス毎の出射パワーを監視することができ、出射パワーの変化に応じて、出力パルス光のパルスパワーを短時間で安定化させることができる。第5の態様の高パワーパルス光発生装置は、第3の態様の高パワーパルス光発生装置において、前記光増幅器の出射側に出力パルス光を監視するモニタが設けられており、前記光増幅器からのパルス出射毎に前記モニタでの受光量が前記制御部に入力されて、その受光量の変化に応じて前記調整幅を制御する構成としたことを特徴とするものである。上述の第5の態様の高パワーパルス光発生装置によれば、モニタにより出力パルス光のパルス毎の出射パワーを監視することができ、出射パワーの変化に応じて、前記調整幅を正確かつ短時間で0に収束させ、出力パルス光のパルスパワーを、より短時間で安定化させることができる。本発明の高パワーパルス光発生装置によれば、その装置内の光増幅器の励起LDの駆動電流を制御し、励起LDのパルス出力励起用パルス光のパルス幅を変化させて、出力パルス光のパルスごとのパワーを制御することができるため、出力パルス光のパルスパワーの変動を抑えて、出力パルス光を安定化させることができる。そのため、例えばレーザ加工用の光源として用いれば、加工特性を安定化させることができ、また、光増幅器のパルスごとの利得を制御することができることから、レーザ加工の自由度を飛躍的に拡げることもできる。本発明の基本的な原理を図1、図2を参照して説明する。図1は本発明の高パワーパルス光発生装置の基本構成を示している。図1において高パワーパルス光発生装置の光発振器1から出射されたパルス光以下、発振パルス光と記すは光増幅器31に導かれる。光増幅器31には、励起LD3からの励起用パルス光が与えられ、前記発振パルス光により図示しない増幅媒体内の励起物質が励起されて、誘導放出により増幅された出力パルス光を出射する。制御部40は光発振器1と励起LD3とに接続されており、光発振器1にはON状態とOFF状態との切り替えの出力制御信号を出力し、励起LD3には、励起LDから出力される励起用パルス光のパルス幅に関する制御信号を出力する。図2は高パワーパルス光発生装置に出力開始トリガーが入力された状態、すなわちOFF状態からON状態に切り替えられたときにおける光増幅器の励起LDからの励起用パルス光と、光増幅器からの出力パルス光と、光増幅器の利得変化と、マスタクロックについて、時間に依存した相互の出力のタイミングを模式的に示している。なお、励起LDからの励起用パルス光はパルス状駆動電流と同期して、この駆動電流が制御部により制御される。図2では、出力開始トリガーが制御部に入力された直後の、出力パルス光の第1パルスにおける励起用パルス光のパルス幅を最大とする一方、第2パルスにおける励起用パルス光のパルス幅は、第1パルスにおける利得の若干のオーバーシュート分だけ短くしている。さらに、第2パルスにおける光増幅器の利得の若干のアンダーシュート分だけ、第3パルスの励起用パルス光のパルス幅を長くしている。このように励起用パルス光のパルス幅を変化させて、ON状態での定常パルス幅に次第に近づけることにより、第1パルスからパワーの揃った出力パルス光を出射させることが可能となる。すなわち、励起LDを励起するためのパルス状駆動電流のパルス幅の制御を通じて、励起LDからの励起用パルス光のパルス幅を制御することにより、従来の高パワーパルス光発生装置で生じていた過渡現象の発生が防止される。以上の理由から、本発明では図2に示す状態を生じさせるべく、光増幅器の励起LDを駆動させるためのパルス状駆動電流のパルス幅を制御することとしている。なお、図2の励起LDのパルス駆動においては、励起LDの駆動開始のトリガーと同時にあらかじめ定められたフローにしたがって、制御部により励起LDの駆動電流および励起用パルス光のパルス幅が制御される。次に、本発明の具体的な実施の形態について、図3、図4を参照し、以下に説明する。本発明の高パワーパルス光発生装置の一実施形態を図3に示す。この高パワーパルス光発生装置には、光ファイバ10と、光発振器1と、光増幅器31と、制御部40と、出力パルス光モニタ50とが設けられている。光増幅器31は、増幅媒体であるYb添加ダブルクラッドファイバDCF2と、Yb添加DCF2に励起LD結合器8で光学的に接続された励起LD3と、励起LD3を駆動するための駆動部としてのPWMドライバ4後に改めて図4を参照して説明するとを有している。また、光発振器1と励起LD3のドライバ4は、ON状態とOFF状態との切り替えやパルス状駆動電流のパルス幅に関する制御信号を受取るために、制御部40と接続されている。制御部40はマスタクロックとユーザからの指示に関する信号を受取るために、マスタクロックジェネレータ9および、外部コントローラ45に接続されている。さらに、光増幅器31からの出力パルス光のパルス毎のパワーを測定するための出力パルス光モニタ50は、ファイバカプラ49を介してYb添加DCFに接続されている。次に、図3に示した高パワーパルス光発生装置の基本動作および機能を説明する。光発振器1から生成された発振パルス光は光増幅器31のYb添加DCF2に入射する。この発振パルス光とPWMドライバ4から出力される励起LD3のパルス状駆動電流はマスタクロックジェネレータ9からのマスタクロックに同期するように、制御部40により制御される。前記のパルス変調された駆動電流が励起LD3に印加され、励起LD3から励起光が出射される。Yb添加DCF2に、励起LD3からの励起光が入射されれば、Yb添加DCF2のYb元素が励起され、Yb添加DCF2の利得が増えて反転分布率が高くなる。この状態で、前述のように光発振器1からの発振パルス光が入射すると誘導放出が発生し、Yb添加DCF2から増幅されたパルス光が出射され、高パワーパルス光発生装置から前記出力パルス光として出射される。また、ユーザからの高パワーパルス光発生装置のON状態とOFF状態との切り替えなどの指示は、外部コントローラ45に入力され、制御部40に伝達される。続いて、励起LD3の駆動部であるPWMドライバ4として機能するシャント型定電流回路のPWM動作について図4を参照し、説明する。図4に示すシャント型定電流回路は、シャント抵抗52と、比較器53と、トランジスタ54から構成されている。定電流回路の設定電流を定める比較器53への電圧入力を、パルス幅変調した電圧パルス信号51にすることによって、励起LDのパルス状駆動電流にPWMをかけることができる。そして、PWMドライバ4は制御部40からの制御信号に従い、マスタクロックジェネレータ9からのマスタクロックパターンに対してパルス幅の調整を加えた電圧パルス信号51を生成し、前記シャント型定電流回路で構成されるPWMドライバ4に電圧パルス信号51を入力する。PWMドライバ4はパルス幅変調された電圧パルス信号51に応じたパルス状駆動電流を励起LDに印加する。ここで、PWMドライバ4のシャント電圧を参照電圧とし、前記PWMのスイッチングの状態が励起LD3の発光閾値電流をシャント電圧によって定まるようにすることが望ましい。このような制御を行うことにより、スイッチングによるオーバーシュートを抑圧し、励起LD3の負担を軽減することができる。また、出力電圧の温度補償デバイスを励起LD3と直列に接続することにより、前記出力電圧が簡易な電圧制御で励起LD3の温度特性の影響を受けないようにすることもできる。従来のシャント型定電流回路をPWMで高速にON-OFFを切り替えられるように時定数を短くすると、一般的に電流の安定化は悪化する傾向があるが、本提案では1sec以上の時間定電流を流すことは無いので問題とはならない。以上をふまえ、上述の高パワーパルス光発生装置の出力パルス光出射中に、ユーザから出力パルス光停止信号以降、停止信号が外部コントローラ45に入力され、その後出力パルス光開始信号以降、開始信号が入力された場合の詳細な動作について、図5を参照し、説明する。なお、図5の励起LD3のパルス状駆動電流は、マスタクロックと同じ周波数でパルス変調されている例として示しているが、マスタクロックと同期がとられていればよいため、前記パルス状駆動電流がマスタクロックの2倍波、3倍波、となっても同様の制御方法で励起LDの駆動電流のパルス幅を制御することができる。ここで、T2:外部コントローラ45から、制御部40に停止信号が入力されたタイミング、T4:外部コントローラ45から、制御部40に開始信号が入力されたタイミング、T20:T2から、Yb添加DCF2の利得保持時間t10だけ経過したタイミング、t10:Yb添加DCF2の利得保持時間、tt:T2からT4までの時間差、とする。外部コントローラ45から停止信号が制御部40に入力されると、制御部40により、励起LD3の励起用パルス光は小さくなり、次に開始信号が制御部40に入力されるまでその状態を保持する。マスタクロックは停止信号や開始信号の外部コントローラ45への入力に関係なく、定常時と同じ矩形パルスパターンの出力を継続する。Yb添加DCF2の利得は、T2からT20まではT2の時点での利得を保持し、その後、T4までの間に低下する。t10は極めて短時間であるため、T4の時点でYb添加DCF2の利得は、前記定常時における最低利得よりも低くなるのが通常である。外部コントローラ45から開始信号が制御部40に入力されると、制御部40から光発振器1とPWMドライバ4に向けて開始信号が発信される。制御部40では、T20でのYb添加DCF2の利得と定常時の最低利得との差、すなわちT20からT4までのYb添加DCF2の利得の低下量DAを回復するのに必要な励起LD3への駆動電流印加時間パルス幅dtがPWMドライバ4に与えられる。励起LD3への駆動電流印加時間dtがPWMドライバ4に与えられると、PWMドライバ4から、定常時の駆動電流の印加時間にdtが付加されたパルス幅の駆動電流のパルスが励起LD3に印加される。その結果、図5に示すように、T4以降で最初に励起LD3の駆動電流のパルスが立ち上がるすなわち、励起LD3の励起用パルス光が大きくなるタイミングは、T3からdtだけ早いタイミング図5のT3 ́となる。励起LD3からは定常時の励起用パルス光のパルス幅すなわち定常パルス幅に、dtに相当する調整幅が付加された合計パルス幅のパルスが出力される。このような動作により、開始信号が制御部40に入力された直後の出力パルス光のパルスパワーが、定常時における出力パルス光のパルスパワーと略等しくなる。ここで、t0:定常時における励起LD3の励起用パルス光のパルス幅、tm:高パワーパルス光発生装置がOFF状態からON状態に切り替わった後、出力パルス光のm番目のパルス以降、第mパルスが出射されたときの励起LD3の励起用パルス光のパルス幅、Δtm:第mパルスが出射されたときの励起LD3の励起用パルス光の調整幅、とする。このとき、第mパルスが出射されるための励起LD3の励起用パルス光のパルス幅tmはtm=t0Δtmで表される。そして、第1パルスm=1についてはt1=t0Δt1となる。T4の時点でYb添加DCF2の利得は定常時における最低利得よりも低くなっていることから、第1パルス出射直前のYb添加DCF2の利得を定常時におけるYb添加DCF2の最大利得に近づけるために、Δt1>0とする。続いて第2パルスm=2についてはt2=t0Δt2となる。第1パルスが出射された直後にYb添加DCF2の利得が定常時における最低利得よりも高くなる場合には、Δt2=0とすると第2パルスの出射直前におけるYb添加DCF2の利得が前記定常時のYb添加DCF2の最大利得より高くなる。この場合には図6のaに示すように、Δt2<0とすることで第2パルスの出射直前におけるYb添加DCF2の利得が前記定常時のYb添加DCF2の利得に近づく。図6aの場合に対し、第1パルスの出射直後のYb添加DCF2の利得が定常時における最低利得よりも低くなる場合には、Δt2=0とすると前記第2パルスの出射直前のYb添加DCF2の利得が前記定常時のYb添加DCF2の最低利得より低くなる。この場合には図6bに示すように、Δt2>0とすることで第2パルスの出射直前におけるYb添加DCF2の利得が定常時のYb添加DCF2の利得に近づく。同様に、第3パルス以降の第mパルスを出射するための励起LD3の励起用パルス光のパルス幅tmが制御部によりPWMドライバ4を介して制御される。つまり、この励起LD3の励起用パルス光のパルス幅の制御方法では、図6のaまたはbのいずれかのようにΔtmm=1~nを決定し、|Δt1|>|Δt2|>|Δt3|>|Δtn-1|>|Δtn|=0となるように励起LD3の励起用パルス光のパルス幅の制御を行う。その結果、高パワーパルス光発生装置をOFF状態からON状態に切り替えた直後から、定常時と同じパワーの出力パルス光のパルス出射が行われる。前述の制御はフィードフォワードで行われるため、Δt1~Δtnまでのn個の調整幅の値をデータテーブルとして、高パワーパルス光発生装置の使用前に、予め制御部に入力しておく必要がある。出力パルス光の第n1パルス以降の出射については、定常時と同様の励起LD3のパルス状駆動電流の制御を行う。さらに、この実施形態の高パワーパルス光発生装置には、図3に示すようにYb添加DCF2の出射部にファイバカプラ49を介して出力パルス光モニタ50が接続されている。出力パルス光モニタ50にはフォトディテクタなどを適用することができる。高パワーパルス光発生装置をOFF状態からON状態に切り替えた直後に、この出力パルス光モニタ50を用いて出力パルス光のパルス毎のパワーを測定し、その受光量を制御部にパルス毎に入力する。次いで、制御部は前記受光量から出力パルス光の第mパルスの出射を行うための励起LD3の調整幅Δtmの値を決める。その値をPWMドライバ4に出力し、PWMドライバ4で励起LD3の励起用パルス光のパルス幅を調整することにより、Δtmを正確かつ短時間内に0に収束させる。このような制御を行うことにより、高パワーパルス光発生装置からパワー変動の少ない出力パルス光を得ることができる。上述のように、制御部40によりPWMドライバ4からの励起LD3を励起するためのパルス状駆動電流のパルス幅を調整することにより、励起LD3の励起用パルス光のパルス幅が調整され、高パワーパルス光発生装置をON状態からOFF状態に切り替えた直後においても、出力パルス光のパルス毎の出射パワーの変動が抑えられる。また、dtなどの制御パラメータを自在に操作することにより、出力パルス光の出射パワーをパルス毎に制御することも可能である。以上、本発明の好ましい実施形態を説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはもちろんである。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。なお本発明の高パワーパルス光発生装置は、レーザ加工用の光源に最適であるが、それに限定されないことはもちろんであり、高パワーのパルス光が求められる用途には、すべて適用可能である。