パルプ粉砕機のスクリーン室に送り込まれるパルプの処理装置であって、直立した壁及び底部を有するタワーと、前記タワーの上部分中のパルプ入口と、前記タワー中で下方に流れる前記パルプ中に希釈液を送り込むためのデバイスであって、前記希釈デバイスは、前記タワーを前記上部分と底部分に分割する高さ位置に実質的に位置決めされる、デバイスと、前記タワーの前記底部分中に配置される、希釈されるパルプのための排出デバイスとを備える処理装置であって、前記希釈されるパルプ流の濃度を均質化するためのデバイスが、前記パルプ流の方向で前記希釈デバイスの下流に所定の距離で、且つ前記排出デバイスの上流に配置されることを特徴とする、処理装置。前記希釈デバイスは、直径を有する前記タワーの前記底部分中に希釈点を画定し、前記希釈デバイスと前記均質化デバイスの間の距離が、前記希釈点において、前記タワーの前記直径の1.5~10倍であることを特徴とする、請求項1に記載の処理装置。前記均質化デバイスは、少なくとも1つの絞り部材を含むことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の処理装置。前記均質化デバイスは、シャフトと、円周の速度が5~20メートル/秒である少なくとも1つの回転部材と、を含むことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の処理装置。前記均質化デバイスは、絞り部材をさらに含むことを特徴とする、請求項4に記載の処理装置。前記希釈デバイスは、前記タワー壁の周辺に配置される、いくつかの送りノズル又は開口部を含むことを特徴とする、請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の処理装置。前記希釈デバイスは、前記パルプタワーの前記壁から前記タワーの中心に向けて内部に伸びる少なくとも1つのパイプを含み、前記パイプは、前記希釈液を加えるためのいくつかの出口穴を備えることを特徴とする、請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載の処理装置。前記タワーの前記底部分は、均質化ゾーンを含み、そこでは、前記パルプ流が、前記均質化デバイスによって均質化され、前記均質化ゾーンの容量は、0.1~3m3であることを特徴とする、請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載の処理装置。前記排出デバイスは、前記タワーの前記底部分中の前記希釈され均質化されたパルプのための出口を含むことを特徴とする、請求項1から請求項8までのいずれか一項に記載の処理装置。前記出口は、導管に接続され、前記導管は、前記タワーから前記パルプをスクリーンデバイスに運ぶためのポンプと、前記パルプの濃度を制御するために、希釈液を前記パルプ中に加えるための供給器とを備え、前記供給器は、前記ポンプと前記スクリーンデバイスの間に位置決めされることを特徴とする、請求項9に記載の処理装置。支柱が、前記タワーの前記底部分中に配置され、前記支柱は、絞り部材であり、且つ、その下側端部が前記タワーの前記底部によって少なくとも部分的に支持されることを特徴とする、請求項3に記載の処理装置。流れ誘導要素が、前記希釈デバイスと前記均質化デバイスの間に配置されることを特徴とする、請求項1から請求項11までのいずれか一項に記載の処理装置。パルプ粉砕機のスクリーン室に送り込まれるパルプの処理方法であって、濃度が8~14であるパルプが、タワーの上部分中に入口を有する前記タワーに送り込まれ、前記パルプは、前記タワーの前記上部分からその底部分に流れ、希釈液が、前記タワーの前記底部分中で前記パルプ中に導入され、濃度が低下した前記パルプが、前記タワーの前記底部から排出される、処理方法において、前記パルプ及び前記希釈液は、前記パルプ流の前記濃度を等しくし、且つ、前記濃度が低下した前記パルプを製造するために、均質化ゾーン中で均質化デバイスによって処理され、前記均質化ゾーンは、前記希釈ゾーンと排出ゾーンの間に位置決めされることを特徴とする、処理方法。前記タワー中で流れる前記パルプ中に加えられる前記希釈液は、前記均質化ゾーンの上流で導入されることを特徴とする、請求項13に記載の処理方法。前記パルプの前記均質化が、回転デバイスによって果たされることを特徴とする、請求項13又は請求項14に記載の処理方法。前記パルプの前記均質化が、絞りによって果たされることを特徴とする、請求項13又は請求項14に記載の処理方法。前記パルプは、容量が0.1~3m3であるゾーン中で均質化されることを特徴とする、請求項13、請求項14、請求項15又は請求項16に記載の処理方法。前記パルプは、前記タワーから排出されて、スクリーンデバイスにポンプで送られ、前記希釈液の一部分が、前記排出されるパルプの濃度を制御するために、前記スクリーンデバイスの上流で加えられることを特徴とする、請求項13から請求項17までのいずれか一項に記載の処理方法。前記希釈液の10までを前記排出されるパルプに導入することを特徴とする、請求項18に記載の処理方法。従来のスクリーン室混合タンクが広く使用されているが、また、それらは、予想外の濃度変動などの問題を生じる恐れがある。また、混合タンクには、攪拌機のために多くの設備及び器具が必要になる。タンクは、攪拌機のために、エネルギー効率が非常に良いということではない。また、さらなる問題は、それらのスペース要件及び構築コストが高いことである。新しいイノベイションの目的は、上記に述べた問題を解消し、且つ、エネルギー効率がより高く、スペースが節約でき、そしてふるい分けに送り込まれるパルプの濃度が、有害な濃度ピークを避けることができるように一様になる、スクリーン室送りタンク構成を提供することである。本発明の目的は、独立請求項に記載の構成及び方法によって成就される。さらに、本発明の他の好ましい実施例は、従属請求項で知られるようになる。パルプのための新規のスクリーン室送りタワーでは、混合容量が減少され、したがって、従来のタンク攪拌機が、不要になる。希釈液水又はろ液が、タワーの底部分の上部区域に送り込まれる。希釈されるパルプが排出ポンプに入る前に、パルプは、回転する、又は静止したホモジナイザが設置される均質化ゾーン中で処理される。均質化ゾーンの目的は、パルプ縣濁液中の濃度差を等しくし、希釈液がパルプ縣濁液中に一様に分配されるように、すなわち、パルプの濃度が均質化されるように、繊維縣濁液を混合することである。均質化ゾーンの後では、パルプ濃度は一様になり、通常のプロセスポンプ従来の遠心力ポンプを使用して、パルプをふるい分けに送ることができる。本発明の実施例によるパルプタワー又はタンクは、パルプが送り込まれる上部分と、希釈ゾーン、均質化ゾーン及び排出ポンプ送りゾーンに分割される底部分とを含む。タワーの上部分は、ブロータンク又は貯蔵保持タンクとして働くことができ、それのサイズは、何らかの緩衝作用が必要な場合、プロセスの要求事項に依存する。タワーの断面は、通常、円形である。上部分の直径は、タワーの底部分の直径より大きい。上部分と底部分の間の差は、タワーの上部分中にパルプを貯蔵するための保持時間など、プロセスの要件に依存する。タワー中で下方に流れるパルプに希釈液を送り込むためのデバイスが、タワーを上部分と底部分に分割する高さ位置に実質的に位置決めされ、希釈されたパルプのための排出デバイスが、タワーの底部分中に配置される。希釈されるパルプ流の濃度を均質化するためのデバイスが、パルプ流方向で希釈デバイスの下流に所定の距離で、且つ排出デバイスの上流に配置される。希釈液の大部分が、タワーの底部分の最上の区域中に加えられる。希釈液の少量の部分を、最上の希釈点と均質化ゾーンの間に加えることができる。希釈デバイスは、直径を有するタワーの底部分中に希釈点を画定する。実施例によれば、希釈デバイスと均質化デバイスの間の距離は、希釈点におけるタワーの直径の1.5~10倍であり、その希釈点では、希釈液の大部分が加えられる。それゆえ、前記距離は、第1の希釈点と均質化デバイスの間の距離である。希釈点と均質化点の間の距離は、求められる保持時間によって決定されるが、ホモジナイザの保守要求事項によっても決定される。希釈点とホモジナイザの間での保持時間は、希釈されていないパルプが、スクリーン室送りポンプに流入しないような長さにすべきである。プロセスにおける様々な制御システム及び遅延を考慮すると、5~10秒間ほどの短い保持時間が、十分であるはずであるが、実際の用途では、保持時間は、通常15~120秒間であるが、好ましくは20~60秒間である。実施例によれば、希釈液は、通常のパイプ接続部を使用して送り込むことができる。希釈は、混合タンクのまわりの必要な数の接続部に分割される。希釈デバイスは、タワー壁の周辺に配置されるいくつかの送りノズル/出口を含む。希釈液は、供給タンクから送り込まれて、タワーの中心に向けて内部に導かれる。その圧力は、希釈液が、タワー中で下方に流れるパルプに向けて噴霧されるようなものである。圧力制御、出口の形状及び出口の数は、いくつかの異なる方法で変化させることができ、それらは当業者に明らかである。しかし、その目的は、パルプ流中へ最大限の浸透をもたらすことである。別の実施例によれは、希釈液は、送りパイプを介して送り込むこともでき、送りパイプは、希釈点を貫通するように配管される。この種類の送りパイプでは、希釈液は、下方に流れているパルプ流中に希釈液が流入するように、いくつかの穴を通じてパルプ中に導かれる。希釈デバイスは、少なくとも1つのパイプを含み、そのパイプは、パルプタワーの壁からタワーの中心に向けて内部に伸び、そのパイプは、希釈液を加えるためのいくつかの出口穴を備える。希釈ゾーンの直径及び希釈速度に依存して、いくつかのこれらの種類の希釈送りパイプを、希釈ゾーンを貫通して設けることができる。均質化容量すなわち、均質化ゾーンのサイズは、小さく、通常、0.1m3100リットル~3m3までであり、それに対して、従来の混合タンクの容量は、10~300m3の範囲内である。新しい構成の均質化ゾーン中の保持時間は、通常、2~10秒間だけであり、それに対して、従来の混合タンクでは、保持時間は、通常、数分間である。均質化ゾーン中に擾乱を発生する回転部材複数可を有するホモジナイザは、紙料希釈液の縣濁液が一様に流れるようにさせて濃度変動をより小さくする。従来のスクリーン室送りタンクによる混合を評価すると、回転攪拌機ブレードに近接する容積スペースは、混合容量全体の0.5~3だけを示す。新しいタワー及び均質化設計について同じ計算をすると、回転するホモジナイザブレードの容積スペースは、均質化容量全体の15~20を示す。このより大きい容積スペースでは、パルプ流がより均質化されることになり、それによって、有害な濃度ピークを避けることができる。従来の攪拌機タンク中の前記のより小さいスペースは、濃度ピークを、より容易に混合ゾーンを通過させる。混合容量が小さいのと同時に、エネルギー入力をより一様に分割することができ、また、必要な混合品質を達成するために必要になる混合エネルギーが、より少なくなる。タンク攪拌機を備える従来のスクリーン室送りタンク構成とホモジナイザが使用される新しいシステムを比較すると、備え付ける電力は、50~80、たとえば66低減することができる。回転するホモジナイザは、通常、シャフトを含み、それは、タワーの壁中に搭載され、回転したときパルプ流を混合する拡張部を備える。混合するための容量がより小さいために、及び回転速度が低いために、より低い電力消費を達成することができる。ホモジナイザは、600~1200rpmの回転速度範囲内で動作することができる。ホモジナイザの円周方向速度は、5~20メートル/秒、通常10~15メートル/秒である。5000admt/dのパルプラインに関し、従来のタンク攪拌機に備え付ける電力は、490kW=360kWとすることができるが、ホモジナイザに関し、備え付ける電力は、110kWだけとすることができる。また、均質化ゾーン中で静止した構造を使用することによって、必要な量の擾乱を発生することができる。ホモジナイザは、タワーの底部分を流れて通過するパルプ及び希釈液の流れを一様にする処理を実施する、タワー中のデバイス又は構造である。また、回転するホモジナイザと静止したホモジナイザの構造の組み合わせが可能である。静止したホモジナイザでは、流れを絞ることによって、すなわち、断面積を減少させることによって、流速を上げ、擾乱をより大きくし、それによって、導入される希釈液が、流れているパルプ中に混合されることになる。静止したホモジナイザは、タンクの内壁上に配置される突起部又は環状のフランジ又はリングからなることが好ましい。静止したホモジナイザは、絞りデバイスに加えて、均質化ゾーン中に配置される邪魔板、リブ、ピン、小さな塊など、擾乱増強デバイスを備えることができる。静止したホモジナイザの場合、排出ポンプ送りゾーンと均質化ゾーンの中間に垂直の支柱又はバーを使用すると、好ましい場合がある。支柱は、タワーの底部分中に配置される。それは、タワーの底部によって支持される下端部を有する。支柱は、排出ポンプ送りゾーンを貫通し、且つ静止したホモジナイザ要素が、タワー壁に固定される均質化ゾーンを貫通して伸びる。支柱の直径は、均質化が最適になるように決定される。支柱自体は、パルプ流の均質化を高めるために、障害物又は拡張部などの構造を含むことができる。回転する、及び/又は静止したホモジナイザを使用する設計は、要求される混合品質に依存し、その品質は、スクリーン室送りポンプの後の濃度変動及びその用途に使用される全エネルギーによって評価することができる。創意に富む構成のさらなる実施例では、それは、円筒形のパイプ、矩形のバー又は梁など、少なくとも1つの流れ誘導要素のための構造をさらに含み、それは、希釈されるパルプ流を均質化ゾーンに誘導するために、希釈点の後に、しかしホモジナイザの上に位置決めされる。パイプ又はバーは、それが通常タワーを横切って水平に位置決めされるように、取り付けることができる。それは、タワーの壁に、その両方の端部で固定される。誘導要素のホモジナイザからの距離及び場所は、均質化ゾーンへの流れが一様になり、且つパルプが自由に下方に流れることができるが、その流れは、最良の均質化結果を与える場所に誘導されるように、決定すべきである。パルプ流の均質化の後では、3~8の濃度のパルプを送ることができる通常のプロセスポンプを使用して、出口を通じてタワーの底部からパルプをスクリーンに排出することができる。濃度及び/又はプロセス中のスクリーン室の場所に依存して、スクリーン室送りポンプにガス除去機能を設けることが必要になる場合がある。パルプの送り濃度は、通常、タワーの上部分中で8~14である。発明の構成及び方法によるタワーの底部分は、パルプを混合し希釈する攪拌機を欠いている。新しいタワーでは、排出ポンプ送り出し濃度を得るために必要な希釈液が、均質化デバイスの前でパルプ中に導入される。スクリーン室の動作では、ふるい分け濃度の安定性が、従来のスクリーン室の用途で、しかし発明のシステムでも、考慮することが必要である要件である。従来のシステムでは、スクリーン室送りタンクは、予想されない濃度ピークが発生して、ふるい分け濃度が高すぎるために、スクリーン室の動作を困難にさせる恐れがある。発明のシステムでは、スクリーン室送りタンクの混合均質化容量が、本質的に従来システムと比べてより小さい。保持時間が短いために、濃度制御からの応答がより速いことが必要になるはずである。従来、スクリーン室の濃度制御は、スクリーン室送りタンク中への、及びスクリーン室送りポンプの吸い込み側中への希釈流を制御する濃度計を使用して実施される。この種類の濃度制御は、濃度ピークをふるい分けに入れさせる可能性があり、そこではピークによって、スクリーンの目詰まり、圧力及び流れの変動など、深刻な問題が発生する恐れがある。希釈液のいくらかが、次のスクリーンに近接した濃度測定点の下流にも送り込まれるように、濃度制御が構成される場合、問題のある濃度ピークは、より小さくなるはずであり、ふるい分け濃度は、要求される値の間に保つことができる。発明の構成の実施例によれば、タワーの出口は、タワーからスクリーンデバイスに希釈されるパルプを運ぶためのポンプと、パルプ濃度を制御するためにパルプに希釈液を加えるための供給器とを備える導管に接続され、その供給器は、ポンプとスクリーンデバイスの間に位置決めされる。希釈液の5~10までを排出されるパルプに加えることができる。開発された発明の構成及び方法を、図面を参照してより詳細に述べる。図3に、本発明の実施例によるスクリーン室送りタワーを示す。タワー100は、タワー壁102、上部分104、底部分106及びタワー底部108を含む。タワーの最上部は、ガスを排出するためのデバイス又は導管110を備えることができる。この実施例では、上部分104の直径は、底部分106の直径より大きい。タワーの上部分は、ブロータンク又は貯蔵保持タンクとして働くことができ、そのサイズは、何らかの緩衝作用が必要な場合、プロセスの要求事項に依存する。パルプが、蒸解窯又は酸素脱リグニン反応炉から導管112を通じてタワーに送り込まれる。底部分106は、希釈ゾーン107と均質化ゾーン109に分割され、均質化ゾーン109は、パルプ流の方向で希釈の後に位置決めされる。底部分の上部分中に、導管114が、希釈液を、タンク中で下方に流れるパルプに導入するために、配置される。希釈ゾーンの下に位置決めされる均質化ゾーン中に、均質化デバイスが配置される。均質化ゾーンの目的は、パルプ縣濁液を、その濃度が均質化されるように、混合することである。この実施例では、回転するホモジナイザ116及び静止したホモジナイザ118の両方が設けられている。タワーに、その壁を貫通して接続されるのは、ポンプ120である。ポンプ120は、底部に隣接して、又は底部と接続される。それは、タワーの排出ゾーン121から希釈され均質化されたパルプをスクリーンにポンプで送る。回転するホモジナイザ116は、駆動手段122及びブレード又は拡張部126を装備したシャフト124を含む。ブレードは、希釈液がパルプ縣濁液中に一様に分配されるように、回転させられる。これは、ホモジナイザのただの1つの好ましい設計である。また、パルプ濃度を均質化することが可能である他の設計を使用することができる。特徴は、ホモジナイザを使用するとき、備え付ける電力は、50~80、たとえば66低減することができることである。混合するための容量がより小さいために、且つ回転速度が低いために、低電力消費を達成することができる。5000admt/dのパルプラインに関し、従来のタンク攪拌機に備え付ける電力は、490kW=360kWになるはずであるが、ホモジナイザでは、備え付ける電力は、110kWだけになるはずである。図3によるタワーでは、静止したホモジナイザ118も設けられており、それは、環状のフランジ又はリングの形での絞りである。それは、パルプ縣濁液中で擾乱をさらに高め、それゆえ起こり得る濃度差を一様にする。好ましい実施例によれば、タワーの底部分中の希釈点114は、直径がDであり、希釈デバイス114と均質化デバイス116の間の距離Cが、希釈点においてタワーの直径Dの1.5~10倍である。図4に、タワー106の底部分を示し、そこでは、パルプが、上部分から流れて底部分を通過し矢印、そしてタンクから排出される。タワーは、希釈デバイス128を備え、それは、タワー壁中に開口部130を含み、その開口部を通じて、希釈液が、パルプ流中に送り込まれる。開口部は、タワーのまわりに位置決めされ、液体を開口部中に供給するための導管複数可に接続される。2つ以上の開口部130は、互いから所定の間隔でタンクのまわりに配置される。希釈点107の後に均質化ゾーン109が設けられている。タンクの内側表面上に配置される突起部によって、均質化が果たされる。流れを絞ることによって、すなわち、突起部132を使用して断面積を減少させることによって、流速を上げ、絞りのおかげで、擾乱がより大きくなり、それによって導入される希釈液が、流れるパルプ中にさらに混合されることになる。突起部は、タワーの底部分でその断面積が減少されるように、垂直の方向に所定の距離Xで伸びる。突起部の後で、底部分の断面積は、再び広がる。図5に、静止した均質化の横断面の図面を示す。図5aは、図4の実施例の横断面A-Aに沿った切断図である。図5aに、タンクの内側表面上に配置される突起部132を示す。図5bに、矩形及び三角形など、形の種類が異なるプレート134又は突起部などの擾乱増強デバイスを示す。図6に、希釈デバイス136のための別の実施例を示す。希釈液矢印140を、送りパイプ138を通じて送り込むことができ、送りパイプは、それがタワーを少なくとも部分的に貫通して伸び、それゆえ希釈ゾーンを貫通して伸びるように、配管される。この種類の送りパイプでは、希釈液は、下方に流れているパルプ中に希釈液が流入するように、いくつかの穴142を通じてパルプ中に導かれる。図7に、制御システムを示し、それは、本発明の実施例に関して適用することができる。希釈液の一部分が、次のスクリーン148に近接した濃度測定点QICから下流にも送り込まれるように、濃度制御が構成される。したがって、この微調整を使用して、ふるい分け濃度を要求される値の間に保つことはできる。希釈液の大部分が、ライン144を通じてタンクの底部分106に送り込まれるが、いくぶんかの液体5から10までは、ライン146も通じてスクリーン148の入口に導入することができる。送りライン150が、送り濃度を調整し、且つそれを設定値に維持するための濃度測定QIC及び希釈液導管146を備える。製造外乱が生じた場合、濃度を測定し、そしてライン146も通じて希釈液を加えることによって起こり得る濃度上昇に迅速に反応することによって、本質的に濃度を設定値に保って安定させることができる。図8に、本発明のさらなる実施例によるスクリーン室送りタワーを示す。図8に示すタワーは、図3のタワーに対応するが、それは、タワー壁に取り付けられる2つのホモジナイザ116を備える。さらに、タワーは、少なくとも1つの流れ誘導要素のための構造をさらに含む。また、この図は、横断面B-Bに沿った切断図を示す。この実施例では、円筒形パイプ123が、タワーを横切って水平に配置される。パイプ123は、希釈されるパルプ流を均質化ゾーン109に誘導するために、希釈点114の後に、しかしホモジナイザ116の上に位置決めされる。パイプ123は、それが、タワーの壁102にその両方の端部で固定されるように、取り付けられる。パイプのホモジナイザ116からの距離及び場所は、均質化ゾーンへの流れが一様になり、且つパルプが自由に下方に流れることができるが、その流れは、最良の均質化の結果が与えられる場所に誘導されるように、決定すべきである。図9に、本発明のさらなる実施例によるスクリーン室送りタワーを示す。静止したホモジナイザの場合、排出ポンプ送りゾーンと均質化ゾーンの中間に垂直の支柱又はバーを使用することは、好ましい場合がある。図9に示すタワーは、図4による実施例に対応するが、支柱131が、タワーの底部分中に配置される。支柱131は、その下側端部がタワーの底部108によって支持される。支柱は、希釈デバイス128に向けて排出ポンプ送りゾーン121を貫通して伸び、そして静止したホモジナイザ要素132がタワー壁に固定される均質化ゾーン109も貫通して伸びる。支柱は、絞りに貢献する。支柱131の直径は、均質化が最適になるように決定される。支柱自体は、障害物又は他の拡張部リブ、ピン、小さな塊などなどの構造をさらの含むことができ、それらは、擾乱レベルを上げ、それゆえパルプ流の均質化を高める。以上、もっとも実際的で好ましい実施例であると現在考えられるものに関して本発明を述べてきたが、本発明は、開示した実施例に限定すべきでなく、添付する請求項の趣旨及び範囲内に含まれる様々な修正及び同等の構成を含むものと意図されることを理解すべきである。