光学ベースと、前記光学ベース上に実装された受発光素子と、前記光学ベース上に実装された光学部品と、前記光学ベース上に実装されたターゲットと、前記光学ベース上に実装された、前記光学部品からの光を前記ターゲットへ反射する反射部材と、前記光学ベース上に実装された、前記光学ベース上で前記反射部材を支持する支持部材とを備えた光軸調整装置であって、前記反射部材は、第1の反射面と、第2の反射面とを備えたことを特徴とする光軸調整装置。請求項1に記載の光軸調整装置において、前記反射部材は、前記第1の反射面と前記第2の反射面との間にスペーサ部材をさらに備え、該スペーサ部材は、第1の反射面に対する第2の反射面の相対角度を保つように、前記第1の反射面及び前記第2の反射面の夫々と固定されたことを特徴とする光軸調整装置。請求項1に記載の光軸調整装置において、前記第1の反射面と前記第2の反射面との相対角度が45度であることを特徴とする光軸調整装置。請求項1に記載の光軸調整装置において、前記反射部材は、前記第1の反射面と前記第2の反射面との間を光が伝搬する方向を回転軸として回転可能な回転手段を有することを特徴とする光軸調整装置。請求項1に記載の光軸調整装置において、前記反射部材は、前記第1の反射面と前記第2の反射面との間を伝搬する光線群を含む面の法線を回転軸として回転可能な回転手段を有することを特徴とする光軸調整装置。請求項1に記載の光軸調整装置において、前記反射部材は、ペンタプリズムであることを特徴とする光軸調整装置。請求項6に記載の光軸調整装置において、前記ペンタプリズムと前記支持部材との固定面は、前記ペンタプリズムの反射面及び透過面以外の面を用いることを特徴とする光軸調整装置。図1を参照しながら、従来の光学ブロックの構成について説明する。図1に示すように、光学ブロック100は、光学ベース110と、受発光素子112と、光学部品114と、折り返しミラー116と、ターゲットアレイ118と、支持部材120とから構成される。光学ベースとは、空間光学系を支えるベース材であり、インバーなどの熱膨張率の小さな金属、低熱膨張ガラス、石英などで構成されることが多い。光学ベース110上で、受発光素子112、光学部品114、折り返しミラー116、ターゲットアレイ118、及び支持部材120は、位置調整された後、接着や溶接等の方法により固定される。受発光素子とは、複数のビームを出力したり入力したりする素子または素子群であり、ファイバアレイ、レンズアレイ、PD、若しくはLD等又はこれらの組み合せを使用することができる。受発光素子としてファイバを使用する場合、発光素子であるファイバは受光素子を兼ねることができる。図1に示す例では、受発光素子112である複数のファイバとレンズがアレイ状に配列されて、ビームアレイをターゲットアレイ118に照射している。光学部品として、レンズ、ミラー、若しくは分散素子又はこれらの組み合せを使用することができる。WSSの場合は回折格子とレンズが含まれる光学系であり、異なる波長のビームアレイを入出力することができる。レンズは、発光素子から出射されたビームアレイのビームウェストの位置をターゲットアレイ118に合わせるために設置され、コリメート光と収束拡散光を相互変換することができる。折り返しミラーとは、光学部品から出射されたビームアレイの光路を折り曲げるためのミラーである。折り返しミラーによって反射されたビームアレイはターゲットアレイに入射する。折り返しミラーの反射面は、ガラスに金、銀、アルミ等の金属を蒸着したり、誘電体多層膜を形成したりすることで形成される。ターゲットアレイとは、光学ベースに水平に配置された、複数の微小光学素子アレイであり、PDアレイ、ファイバアレイ、MEMSミラー、又はLCoSLiquidcrystalonsilicon等を使用することができる。前述したように、ターゲットアレイはそれに対する電気配線等が必要になることから、表面実装型の空間光学系において光学ベースの表面に対して水平に配置されることが多い。これによって、光学ベース上を光学ベースの表面に水平に進行するビームは、折り返しミラーによってその光路を折り曲げる必要性が生じる。支持部材とは、折り返しミラーを接着等により光学ベース上で保持固定するための部材である。接着により固定する場合、支持部材は、折り返しミラーや光学ベースと接合するための接着面を有する。なお、座標軸を図1に示すように設定した。すなわち、Z軸方向を折り返しミラーによって反射される前のビームが進行する方向とし、Y軸方向を折り返しミラーによって反射された後のビームが進行する方向とし、X軸方向をZ軸及びY軸の両軸に垂直な方向とした。座標軸の設定は、本明細書の全ての図面において共通するものとする。図2乃至4を参照しながら、従来の光学ブロックの課題について説明する。図2aは、図1に示した光学ブロックの製造途中の状態を示す図である。光学ベース110上に、受発光素子112と、光学部品114と、ターゲットアレイ118とが実装されている。図2aに示す光学ブロック100において、支持部材と、支持部材によって保持される折り返しミラーとは、まだ実装されていない。このような状態の光学ブロックに支持部材を実装する場合を検討する。図2bは、図2aに示した製造途中の光学ブロックに対して支持部材120及び折り返しミラー116の位置を調整固定して光学ブロック100の製造を完了させたうえで、ビームを入射したときの態様を示す図である。図2bに示す光学ブロック100においては、ビーム入射位置はターゲット位置に照射されているが、焦点ずれが発生しており、ビームウェストをターゲット高さに配置することができていない。図2cは、図2aに示した製造途中の光学ブロックに対して支持部材120及び折り返しミラー116の位置を調整固定して光学ブロック100の製造を完了させたうえで、ビームを入射したときの図2bとは別の態様を示す図である。図2cに示す光学ブロック100においては、ビームウェストがターゲット高さに合うように配置されているが、ビーム入射位置ずれが発生しており、ビームが照射される位置をターゲットに位置合わせすることができていない。図3aは、従来の光学ブロック100において、ターゲットアレイ118にビームが照射されたときの一態様を示す斜視図である。光学ブロックの構成要素については、図1に示した光学ブロックと同一である。組立時の精度によっては、ターゲットアレイの位置に誤差が生じる場合がある。図3aに示す例では、ビームアレイの各ビームは、ターゲットアレイにおいてビーム径が等しくなるように照射されているが、ターゲットアレイの回転位置ずれに起因する照射ビーム位置のずれが発生している。このような場合、図3aに示す光学ブロックにおいて、折り返しミラーを、ビーム伝搬面すなわち、YZ平面と、折り返しミラーの反射面との交線lを回転軸として回転させることにより、ターゲットアレイの位置ずれに起因する照射ビーム位置のずれを補正することができる。しかしながら、折り返しミラーを回転して各照射ビームの位置のずれを補正した場合、各ビームの光路長が変化し、各ビームの焦点にずれが生じる。その結果、ターゲットに照射される各ビームの径にばらつきが生じることになる図3bを参照。図4aは、従来の光学ブロック100において、ターゲットアレイ118にビームが照射されたときの一態様を示す図である。図4aに示す光学ブロック100の構成要素は、図3aに示した光学ブロックと同一である。組立時の精度によっては、ターゲットアレイに照射される各ビームの径に誤差が生じる場合がある。図4aに示す例では、ビームアレイの各ビームは、ターゲットアレイにおいて位置が揃うように照射されているが、ビーム径のずれが発生している。ビーム径のずれは、光学部品の組立時の誤差等に起因して生じる。このような場合、図4aに示す光学ブロックにおいて、折り返しミラーを、ビーム伝搬面すなわち、YZ平面と、折り返しミラーの反射面との交線lを回転軸として回転させることにより、照射ビーム径のずれを補正することができる。しかしながら、折り返しミラーを回転して各照射ビームのビーム径のずれを補正した場合、各ビームの反射位置の変化に伴い、ターゲットアレイにおける照射ビームの位置がずれる。従って、各照射ビームの位置ばらつきが生じることになる図4bを参照。以上説明したように、従来は光学ブロックにおいてターゲットにおけるビームの位置ずれと焦点ずれの両方を独立に補正することができないという課題があった。本発明は、上記課題を解決すべくなされたものであり、ターゲットアレイにおけるビームアレイの焦点ずれ及び位置ずれを独立に調整することができる光軸調整装置を提供することを目的とする。本発明は、光学ベースと、光学ベース上に実装された受発光素子と、光学ベース上に実装された光学部品と、光学ベース上に実装されたターゲットと、光学ベース上に実装された、光学部品からの光をターゲットへ反射する反射部材と、光学ベース上に実装された、光学ベース上で反射部材を支持する支持部材とを備えた光軸調整装置であって、反射部材は、第1の反射面と、第2の反射面とを備えたことを特徴とする。本発明の一実施形態において、反射部材は、第1の反射面と第2の反射面との間にスペーサ部材をさらに備え、スペーサ部材は、第1の反射面に対する第2の反射面の相対角度を保つように、第1の反射面及び第2の反射面の夫々と固定されたことを特徴とする。本発明の一実施形態において、第1の反射面と第2の反射面との相対角度が45度であることを特徴とする。本発明の一実施形態において、反射部材は、第1の反射面と第2の反射面との間を光が伝搬する方向を回転軸として回転可能な回転手段を有することを特徴とする。本発明の一実施形態において、反射部材は、第1の反射面と第2の反射面との間を伝搬する光線群を含む面の法線を回転軸として回転可能な回転手段を有することを特徴とする。本発明の一実施形態において、反射部材は、ペンタプリズムであることを特徴とする。本発明の一実施形態において、ペンタプリズムと支持部材との固定面は、ペンタプリズムの反射面及び透過面以外の面を用いることを特徴とする。本発明に係る光学ブロックは、ターゲットにおけるビームの焦点ずれ及び位置ずれを独立して補正することができる。以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を詳細に説明する。第1の実施形態図5を参照しながら、本発明の光学ブロックの構成について説明する。図5に示すように、本発明の光学ブロック100は、光学ベース110と、受発光素子112と、光学部品114と、反射部材117と、ターゲットアレイ118と、支持部材120とから構成される。図5に示す光学ブロック100は、折り返しミラーの代わりに反射部材117を使用する点において図1に示した光学ブロックと相違する。また、折り返しミラーの代わりに反射部材117を使用することに伴い、支持部材120の形状も図1に示した例から変化する。支持部材120は、反射部材117を接着するための接着面を有する。図5に示す光学ブロック100の他の構成要素については、図1に示した光学ブロックと同一である。反射部材117は、第1の反射面152と、第2の反射面154と、スペーサ部材156とを備える。第1の反射面152及び第2の反射面154は、ガラスに金Au等を蒸着することにより形成することができる。スペーサ部材156は、第1の反射面152と第2の反射面154との間に配される。スペーサ部材156は、第1の反射面152及び第2の反射面154の夫々と固定されて、第1の反射面152に対する第2の反射面154の相対角度を保つために配置される。反射部材117は、最終的には接着等により支持部材120および光学ベース110に固定されるが、固定される前段階においては、YZ平面内の方向に沿って移動させることができる。このような移動により、反射部材117を固定するのに適した位置を探る。ビームは、反射部材117において2回反射される。図5に示す実施形態において、第1の反射面152と第2の反射面154との相対角度は45度である。よって、光学部品からのビームの第1の反射面152に対する入射角は、22.5度とし、第1の反射面152で反射されたビームの第2の反射面154に対する入射角は、22.5度とした。このような場合、光学部品から出射されたビームは、最終的に90度屈曲され、光学ベース110に配置されたターゲットに垂直に入射する。ただし、第1の反射面152に対する入射角、および、第2の反射面154に対する入射角は、必ずしも22.5度である必要はない。これらの入射角が22.5度でない場合、伝搬ビームはターゲットに垂直に入射しなくなる場合があるが、実用上問題ない範囲で設計することができる。図6aは、図5に示した光学ブロックの製造途中の状態を示す図である。光学ベース110上に、受発光素子112と、光学部品114と、ターゲット118と、支持部材120とが実装されているが、反射部材はまだ実装されておらず、支持部材120も光学ベース110に固定されていない。このような状態の光学ブロックに反射部材を実装する場合を検討する。図6bは、図6aに示した製造途中の光学ブロックに対して反射部材117を適切な位置に設置するための態様を示す図である。図6bに示す光学ブロックにおいて、反射部材117は支持部材120上に配置されているが、まだ固定されておらず、支持部材120も光学ベース110に固定されていない。図6bに示す光学ブロックにおいては、ビームはターゲット118の位置に照射されているが、焦点ずれが発生しており、ビームウェストの位置をターゲット118に合わせることができていない。このような場合において、反射部材117をYZ面内において図6bの矢印方向に移動させることにより、ビームが照射される位置を変えることなく、ターゲット118における焦点ずれのみを補正することができる図6cを参照。焦点ずれを補正した後、反射部材117と支持部材120との間、支持部材120と光学ベース110との間をそれぞれ接着固定することで実装が完了する。図6dは、図6aに示した製造途中の光学ブロックに対して反射部材117を適切な位置に設置するための図6bとは別の態様を示す図である。図6dに示す光学ブロックにおいて、反射部材117は支持部材120上に存在しているが、まだ固定されておらず、支持部材120も光学ベース110に固定されていない。図6dに示す光学ブロックにおいては、ビームウェストの位置がターゲット118の高さになるように、ビームは照射されているが、位置ずれが発生しており、ビームが照射される位置をターゲット118に合わせることができていない。このような場合において、反射部材117をYZ面内において図6dの矢印方向に移動させることにより、ターゲット118に照射されたビームの径を変えることなく、ターゲット118に対する位置ずれのみを補正することができる図6cを参照。位置ずれを補正した後、反射部材117と支持部材120との間、支持部材120と光学ベース110との間をそれぞれ接着固定することで実装が完了する。第2の実施形態図7aは、本発明に係る光学ブロックにおいて、ターゲットアレイにビームアレイが照射されたときの一態様を示す図である。光学ブロックの構成要素については、支持部材を除いて図5に示した光学ブロックと同一である。図7aにおいて、支持部材は図示していないが、これについては後述する。組立時の精度によっては、ターゲットアレイの位置に誤差が生じる場合がある。図7aに示す例では、ビームアレイの各ビームは、ターゲットアレイ118においてビーム径が等しくなるように照射されている。しかし、ターゲットアレイ118が固定された位置がずれていたため、意図した位置にビームを照射できておらず、照射ビーム位置のずれが発生している。前述したように、図3aに示す光学ブロックにおいて、折り返しミラーを回転して位置ずれを補正する場合、ターゲットに照射される各ビームの径にばらつきが発生していた。これに対し、本実施形態に係る光学ブロックにおいて、補正軸m反射部材117の第1の反射面152と第2の反射面154との間を伝搬する光線群に注目したとき、その光線群を含む面の法線を回転軸として反射部材を回転することにより、ターゲットアレイ118の位置ずれに起因する照射ビーム位置のずれを補正することができる。このとき、反射部材117でビームが2回反射される際に、ビームアレイの各ビームに光路長の変化をほとんどもたらさない。その結果、照射された各ビームのターゲットアレイ118における径を変えることなく、ターゲットアレイ118に対する位置ずれのみを補正することができる図7bを参照。反射部材を回転してビームアレイの位置ずれを補正した後、反射部材117と支持部材との間、支持部材と光学ベース110との間をそれぞれ接着固定することで実装が完了する。第3の実施形態図8aは、本発明に係る光学ブロックにおいて、ターゲットアレイ118にビームアレイが照射されたときの一態様を示す図である。光学ブロックの構成要素については、支持部材を除いて図5に示した光学ブロックと同一である。図8aにおいて、支持部材は図示していないが、これについては後述する。組立時の精度によっては、ビームウェストの位置に誤差が生じる場合がある。図8aに示す例では、ビームアレイの各ビームは、ターゲットアレイ118において意図した位置に照射されている。しかし、光学部品114の組立精度等に起因した、各ビームの焦点ずれが発生し、ターゲットアレイ118に照射される各ビームにおいてビーム径のずれが発生している。前述したように、図4aに示す光学ブロックにおいて、折り返しミラーを回転して焦点ずれを補正する場合、ターゲットに照射される各ビームの位置がずればらつきが発生していた図4bを参照。これに対し、本実施形態に係る光学ブロックにおいて、補正軸n反射部材117の第1の反射面152と第2の反射面154との間を伝搬するビームに注目したとき、そのビームの進行方向を回転軸として反射部材117を回転することにより、各ビームの焦点ずれすなわち、ターゲットアレイ118に照射される各ビームのビーム径のずれを補正することができる。このとき、反射部材117でビームが2回反射されることで、ターゲットアレイ118において各ビームが照射される位置の変化をほとんどもたらさない。その結果、ターゲットアレイ118において各ビームが照射される位置を変えることなく、照射された各ビームのターゲットアレイ118におけるビーム径のみを補正することができる図8bを参照。反射部材117を回転してビームアレイの各ビームの焦点ずれを補正した後、反射部材117と支持部材との間、支持部材と光学ベース110との間をそれぞれ接着固定することで実装が完了する。前述した第2、第3の実施形態で説明した光学ブロックの、支持部材の具体例を図9、図10に示す。前述した補正軸mあるいはnを法線として持つような接着面が、支持部材120と反射部材の両方に必要であるため、反射部材のスペーサ部材156の端部に接着面を持たせ、支持部材120も反射部材の端部に配置し、接着面同士を摺動することで回転調整を可能とする構成となっている。なお、図9が第3の実施例補正軸nに対応しており、図10が第2の実施例補正軸mに対応している。第4の実施形態図11及び図12は、本発明の一実施形態に係る光学ブロックの構造を説明するため、支持部材120と反射部材117のみを抽出した概略図である。上述の第1乃至第3の実施形態では、第1の反射面と、第2の反射面と、スペーサ部材とから成るものを反射部材として使用したのに対し、本実施形態に係る光学ブロックは、反射部材117としてペンタプリズムを使用する。ペンタプリズム全5面のうち2面が第1の反射面152および第2の反射面154になるように高反射コートを形成し、そのうちの一つの反射面第1の反射面152を、支持部材120とペンタプリズムとの接着面として利用する。反射部材としてペンタプリズムを使用する場合、プリズム表面でのビームの戻り光を防ぐために、ペンタプリズムのビーム入射面とビーム出射面にARコートを形成することが望ましい図11を参照。また、ペンタプリズムは、それ自身の実装において、X軸回りの角度ずれが発生しても、プリズムへの入力ビームと出力ビームとの相対角度が変化しないという性質を有する。よって、本実施形態の光学ブロックにおいて、ビーム入射面及びビーム出射面を伝搬ビームに対して垂直にならないようにペンタプリズムを傾斜させることにより、ペンタプリズムのビーム入射面及びビーム出射面にARコートを形成することなく、戻り光の発生を防ぐことができる。これにより、ARコートの形成コストを節約することができる図12を参照。なお、光学ベースが金属製、ペンタプリズムと支持部材が石英製の場合、ペンタプリズムと支持部材の熱膨張率は一致しているため、温度変化時にその界面の接着剤には応力がかからない。しかし、支持部材と光学ベースの熱膨張率には差があるため、温度変化時にその界面の接着剤に応力がかかり、剥離する可能性が考えられる。したがって、支持部材と光学ベースの界面の接着剤の応力を低減し、剥離させないようにするためには、支持部材を小型化し、接着面積を低減するのが望ましい。第5の実施形態図13は、本発明の一実施形態に係る光学ブロックの構造を説明するための斜視概略図である。これは図7に示す第2の実施形態において、反射部材をペンタプリズム158に変更し、支持部材120とペンタプリズム158の接着面として、ペンタプリズムのARコート面、高反射コート面ペンタプリズムの第1の反射面及び第2の反射面以外の面すなわち、ペンタプリズムの第1の反射面及び第2の反射面の間の面を利用できるように、支持部材120の形状を変更した場合の例である。本実施形態により、支持部材120をペンタプリズム158の反射面および透過面に接着することなくペンタプリズム158を支持することができ、接着剤の変形変質が反射面および透過面を劣化させることを防止することができる。なお、支持部材120は単一部材の切削加工で作製してもよいし、複数部材の接着等で組立ててもよい。また、本実施形態においても、図7a及び図10と同様に、補正軸mを回転軸として反射部材を回転させる機構を付与できるので、照射された各ビームのターゲットアレイにおける径を変えることなく、ターゲットアレイに対する位置ずれのみを補正することができる図7bを参照。