平面型表示装置の視認側に、透明カバーシートと一体化して、センサ電極側を平面型表示装置に相対して設けるタッチパネルであって、タッチパネルが、2次元配置したセンサ電極である複数の透明導電膜パターンと、透明導電膜パターン間を電気的に接続するジャンパ部と、ジャンパ部での層間の電気的短絡を防ぐ絶縁部と、センサ電極から配線を導いて端子部に至る配線部とから構成され、ジャンパ部と配線部とが、良導電体金属層を含む同一構成の多層を積層し、透明カバーシートと多層との界面を低反射率化してなることを特徴とするタッチパネル。同一構成の多層が、透明カバーシート側から順に保護金属酸化層、良導電体金属層、保護金属層の3層からなることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。保護金属酸化層、良導電体金属層、保護金属層が、それぞれモリブデン酸化膜、アルミニウム膜、モリブデン膜からなることを特徴とする請求項2に記載のタッチパネル。透明カバーシートの片側表面に、ジャンパ部と配線部とを構成する層を積層して成膜した後に、フォトリソグラフィー法とエッチング法とにより両部を一括して形成することを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のタッチパネルの製造方法。請求項4に記載のタッチパネルの製造方法であって、ジャンパ部と配線部とを一括して形成する工程、絶縁部を形成する工程、透明導電膜パターンを形成する工程をこの順に行うことを特徴とするタッチパネルの製造方法。前述のように、静電容量式タッチパネルにおいて、電極構造を簡略化するための改良を施したり、タッチパネル一体型として全体の簡略化を図る等により、良好な性能のタッチパネルを簡単な製造工程で作るための技術が進展してきたが、同一平面上に規則的に配置するセンサ電極を立体的につなぐための絶縁部とジャンパ部との構造が不可欠なので、その製造工程の簡略化が行き詰まっている。本発明は、前記の問題点に鑑みて提案するものであり、本発明が解決しようとする課題は、平面型表示装置の表示画面上に重ねて使用し、透明カバーシート一体型の投影型の静電容量式タッチパネルにおいて、優れた性能のタッチパネルを簡単な製造工程で提供することである。上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、平面型表示装置の視認側に、透明カバーシートと一体化して、センサ電極側を平面型表示装置に相対して設けるタッチパネルであって、タッチパネルが、2次元配置したセンサ電極である複数の透明導電膜パターンと、透明導電膜パターン間を電気的に接続するジャンパ部と、ジャンパ部での層間の電気的短絡を防ぐ絶縁部と、センサ電極から配線を導いて端子部に至る配線部とから構成され、ジャンパ部と配線部とが、良導電体金属層を含む同一構成の多層を積層し、透明カバーシートと多層との界面を低反射率化してなることを特徴とするタッチパネルである。また、請求項2に記載の発明は、同一構成の多層が、透明カバーシート側から順に保護金属酸化層、良導電体金属層、保護金属層の3層からなることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルである。また、請求項3に記載の発明は、保護金属酸化層、良導電体金属層、保護金属層が、それぞれモリブデン酸化膜、アルミニウム膜、モリブデン膜からなることを特徴とする請求項2に記載のタッチパネルである。また、請求項4に記載の発明は、透明カバーシートの片側表面に、ジャンパ部と配線部とを構成する層を積層して成膜した後に、フォトリソグラフィー法とエッチング法とにより両部を一括して形成することを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のタッチパネルの製造方法である。また、請求項5に記載の発明は、請求項4に記載のタッチパネルの製造方法であって、ジャンパ部と配線部とを一括して形成する工程、絶縁部を形成する工程、透明導電膜パターンを形成する工程をこの順に行うことを特徴とするタッチパネルの製造方法である。本発明は、平面型表示装置の視認側に、透明カバーシートと一体化して、センサ電極側を平面型表示装置に相対して設けるタッチパネルの各部の構成において、ジャンパ部と配線部とが、良導電体金属層を含む同一構成の多層を積層し、透明カバーシートと多層との界面を低反射率化してなるので、平面型表示装置の表示画面上に重ねて使用し、透明カバーシート一体型の投影型の静電容量式タッチパネルにおいて、優れた性能のタッチパネルを簡単な製造工程で提供できる。以下、図面に従って、本発明を実施するための形態について説明する。図1は、本発明のタッチパネルの一例の構成を説明するための模式図であって、aは、主要部の一部を拡大した平面図を示し、bは、ジャンパ部と配線部との同一構成の断面図を示す。本発明は、平面型表示装置の視認側に、透明カバーシート2と一体化して、センサ電極側を平面型表示装置に相対して設けるタッチパネルであって、タッチパネル1が、2次元のマトリクス状に配置したセンサ電極3である複数の透明導電膜パターンと、図で横方向の透明導電膜パターン間を立体的に電気的に接続するジャンパ部4と、ジャンパ部での層間の電気的短絡を防ぐ絶縁部5と、センサ電極からの配線を縦横方向の周辺部に導いて端子部図示せずに至る配線部6とから構成され、ジャンパ部4と配線部6とが、良導電体金属層8を含む同一構成の多層を積層し、透明カバーシートと多層との界面を低反射率化してなることを特徴とする。前記同一構成の多層は、配線部6における導電性を大きくするとともに、ジャンパ部4における視認性を小さくする構成に相当する。導電性を大きくするための方策として、前記同一構成の多層に、良導電体金属層8を含むことで効果があり、視認性を小さくするための方策として、視認側から見た際の反射率を小さくすることで効果があるからである。視認側から見た際の反射率を小さくするには、反射率を高くする金属層8と透明カバーシートとの間に金属酸化層7を設けることにより、光の干渉効果により達成できる。図2に示した従来の配線部61において、カバーガラスを用いることの多い透明カバーシート2の表示装置側にあたる片側表面上に、透明カバーシート2と2層目の金属との密着性を向上し、薄膜としての各種環境への耐性を補強する保護金属層71を設けた。それに対して、本例では、透明カバーシート2を通して見た際の反射率を小さくする機能も上記の機能に追加することを狙って、保護金属層71に代えて、保護金属酸化層7を設ける。また、従来の配線部61に設けた良導電体金属層81と保護金属層91とは、本例でも同様に、良好な導電性を目的とする良導電体金属層8と、機械的強度の向上と各種環境への耐性を補強する保護金属層9として、多層形成することができ、しかも、本例では、配線部6に加えてジャンパ部4にも共通に形成できる。すなわち、上記各層の積層は、透明カバーシート側から順に保護金属酸化層7、良導電体金属層8、保護金属層9の3層とすることができる。なお、本発明は、上記3層以外に例えば密着力の更なる向上やパターニング形状の向上等のために中間層を挟むことを排除しない。また、本発明は、前記保護金属酸化層7、良導電体金属層8、保護金属層9の3層が、それぞれモリブデン酸化膜、アルミニウム膜、モリブデン膜であるように構成することができる。前述の各層が有するべき特性を、これらの具体的な膜がその特性上備えている上に、膜形成がスパッタリング法等の真空成膜技術により容易に高品質に実施でき、フォトリソグラフィー法とエッチング法とによるパターニング手段を好適に採用できる。なお、本発明は、使用する具体的な膜として、上記モリブデン酸化膜、アルミニウム膜、モリブデン膜に限定されるものではないが、保護金属酸化層7と保護金属層9とは、共通の金属をベースに用いた方が製造上、好ましい。本例において、モリブデン酸化膜7、アルミニウム膜8、モリブデン膜9の3層からなる多層の膜形成をスパッタリング法で行う場合は、スパッターターゲットをモリブデンとアルミニウムの2元で準備して、酸化膜の成膜時には定量の酸素ガスを導入する反応性スパッタリングにより、ソース電源を増結することなく可能である。また、本発明のタッチパネルの製造方法は、透明カバーシート2の片側表面に、ジャンパ部4と配線部6とを構成する層を積層して成膜した後に、フォトリソグラフィー法とエッチング法とにより両部を一括して形成することを特徴とする。従来は、ジャンパ部4と配線部6とに異なる層を設けて、別途パターン形成していたが、本発明により、製造工程を短縮できる。図4は、本発明のタッチパネルの製造方法の一例を説明するための工程順模式図であって、aは、ジャンパ部4と配線部6とを一括して形成する工程、bは、絶縁部5を追加形成する工程、cは、センサ電極である透明導電膜パターン3を追加形成する工程を、それぞれ透明カバーシート2の片面に位置合わせして形成する順に示す。また、比較のために示す図5は、従来のタッチパネルの製造方法の一例を説明するための工程順模式図であって、aは、配線部61をパターン形成する工程、bは、センサ電極である透明導電膜パターン3を追加形成する工程、cは、絶縁部5を追加形成する工程、dは、ジャンパ部41を第二の透明導電膜パターンとして追加形成する工程を、それぞれ透明カバーシート2の片面に位置合わせして形成する順に示す。なお、図示していないが、上記本発明の方法および従来の方法のいずれも、最終工程として、透明樹脂等による全面均一な保護膜を塗布形成することができる。図4に示すとおり、本発明のタッチパネルの製造方法は、aジャンパ部4と配線部6とを一括して形成する工程、b絶縁部5を形成する工程、c透明導電膜パターン3を形成する工程を、この順に行うことを特徴とする。一連の成膜または塗布による膜形成とフォトリソグラフィー法を用いるパターン形成とを一組の大きな工程としてみると、図5に示す製造方法と比較して、4工程から3工程に短縮される。また、タッチパネルを構成する各部位の形成順が変化する。つまり、本例では、センサ電極である透明導電膜パターン3の形成より前にジャンパ部4の形成を行う。上記の理由は、本例でジャンパ部4と配線部6とを一括して形成するために、透明導電膜パターン3の形成より先行して行うというだけではなく、モリブデン酸化膜を用いた保護金属酸化層7のパターンの全体が、透明カバーシート2上に直接成膜されている方が、部分的に透明導電膜を間に挟む領域が混在するより、良導電体金属層の高反射率を均一に抑制して、視認性を均一に小さくすることができるので好ましいからである。本発明のタッチパネルの製造方法をさらに具体的に説明すると、aジャンパ部4と配線部6とを構成するための前述の同一構成の多層成膜を行い、フォトレジストの塗布、露光、現像、を含むフォトリソグラフィー法とその後のエッチングと残留レジストの除去を経て、一括形成する。次に、b絶縁部5を形成するための感光性樹脂材料を塗布し、フォトリソグラフィー法により、前記ジャンパ部4と位置合わせしてパターン形成する。次に、cセンサ電極である透明導電膜パターン3を、例えばITOの成膜後に、前工程のパターン位置との合わせを前提として、フォトリソグラフィー法によるフォトレジストのパターニングを行い、その後のエッチングと残留レジストの除去を経て形成することができる。図6は、本発明の構成における多層膜の低反射率化の効果を従来例と比較するための分光反射率の測定結果のグラフである。また、図7は、分光反射率の測定方法を示す概念図であって、aは、リファレンスの決め方、bは、従来の多層膜の測定方法、cは、本発明を構成する多層膜の測定方法である。分光反射率の測定は、市販の分光光度計を利用して可能である。原理的な概念図の図7に示すように、光源モノクロメータからの分光された照射光実線表示が測定試料、図7aではアルミニウム単層膜80に照射され、鏡面反射された光実線矢印表示を受光部32で受光して光の強度を測定する。モノクロメータからの分光照射光の波長を連続的に変化させて分光反射率を測定する。測定におけるリファレンスをアルミニウム単層膜80とする。すなわち、以後の各測定試料における100の基準をアルミニウム単層膜80で得られた強度とする。図7bに示すように、従来の多層膜の例として、透明カバーシート2に成膜したモリブデン膜71、アルミニウム膜81、モリブデン膜91からなる多層膜を、透明カバーシート2の成膜されていない面から測定し、次に、図7cに示すように、本発明を構成する多層膜の例として、透明カバーシート2に成膜したモリブデン酸化膜7、アルミニウム膜8、モリブデン膜9からなる多層膜を、透明カバーシート2の成膜されていない面から測定する。図6に示すとおり、本発明を構成する多層膜は、従来の多層膜と比較して、可視光域の全域で反射率を小さくすることができる。波長400nm未満の紫外域の測定結果は、本測定結果において正確な値を示さないため参照しない。金属酸化層と金属層との間での光の干渉効果により低反射率化する本発明の構成になる多層膜による分光反射率曲線の形は、使用する金属酸化層の屈折率特性や膜厚によって変動するが、従来の多層膜の反射率より低くできる。次に、本発明を構成する多層膜を、従来の多層膜と総合的に比較した結果を、表1に示す。各評価項目別に、判定基準に対しての良否判定を○×で表中に示す。本発明を構成する多層膜が、500~600nmの波長における平均反射率で代表させて比較すると、反射率において、従来の多層膜より顕著な改善を示す一方、エッチング時間、シート抵抗値、下地との密着性の諸項目に関しては、同等であることが分かる。本発明は、透明な基材と多層膜の配線パターンとの界面を簡単な方法で低反射率化して、透明な基材の多層膜を設けていない面からの配線パターンに対する視認性を小さくすることができる。同様な方策によって、他の電子部品等の表示性能に関係する特性品質を高めることが容易に考えられる。例えば、透明導電膜をさらに低抵抗化するための金属層を含む補助配線パターンの視認性を小さくすることができる。また、一般に表示装置に関係する配線を始めとして、電子部品における各種配線パターンに金属層を適用できる範囲を拡大することができ、製品設計の自由度を大幅に高めることが可能になる。