"透明材料で形成された基材フィルムと、この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層され、かつナノメーターサイズの無機粒子及びビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されたハードコート層と、このハードコート層表面の一部の領域に形成された透明導電層とを含む透明導電性積層フィルムであって、前記ビニル系化合物が、ケイ素非含有多官能メタアクリレートとケイ素含有多官能メタアクリレートとを含む透明導電性積層フィルム。ケイ素非含有多官能メタアクリレートが、5~7官能メタアクリレートと、2~4官能メタアクリレートとの組み合わせであり、ケイ素含有メタアクリレートが、シリコーンメタアクリレートである請求項1記載の透明導電性積層フィルム。5~7官能メタアクリレートと、2~4官能メタアクリレートとの割合が、前者/後者=99/1~30/70であり、かつケイ素含有多官能メタアクリレートの割合が、ケイ素非含有多官能メタアクリレート100重量部に対して0.1~30重量部である請求項2記載の透明導電性積層フィルム。重合性組成物が、さらにセルロースエステルを含む請求項1~3のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。ビニル系化合物と無機粒子との割合重量比が、前者/後者=50/50~10/90である請求項1~4のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。透明導電層が形成された領域と透明導電層が形成されていない領域との全光線透過率の差が2以下である請求項1~5のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。無機粒子が平均一次粒径1~100nmの金属酸化物粒子である請求項1~6のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。無機粒子がチタン及び/又はジルコニウムを含む請求項1~7のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。基材フィルムと透明導電層との屈折率差が0.3以上である請求項1~8のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。ハードコート層の屈折率が、基材フィルムの屈折率よりも大きく、かつ透明導電層の屈折率よりも小さい請求項1~9のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。透明導電層が形成されていない領域の全光線透過率が80以上であり、透明導電層が形成されていない領域のヘイズが5以下である請求項1~10のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。基材フィルムが、ポリエステル系樹脂又はセルロースエステルで形成されている請求項1~11のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。透明導電層がパターン化された形成されたタッチパネルの透明電極基板である請求項1~12のいずれかに記載の透明導電性フィルム。基材フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層をコーティングで形成した後、得られたハードコート層に透明導電層を物理的又は化学的気相法で形成する請求項1~13のいずれかに記載の透明導電性積層フィルムの製造方法。請求項1~13のいずれかに記載の透明導電性積層フィルムを電極基板として備える投影型静電容量方式タッチパネル。従って、本発明の目的は、光散乱を抑制して、高い透明性を保持しつつ、パターン化された透明導電層透明電極を有する表示装置の視認性を向上できる透明導電性積層フィルム及びこのフィルムを備えた静電容量方式タッチパネルを提供することにある。本発明の他の目的は、静電容量方式タッチパネルのパターン化された透明導電層の映り込みを抑制できる透明導電性積層フィルム及びこのフィルムを備えた静電容量方式タッチパネルを提供することにある。本発明のさらに他の目的は、静電容量方式タッチパネルの視認性を向上できる透明導電性積層フィルム及びこのフィルムを備えた静電容量方式タッチパネルを提供することにある。本発明の別の目的は、視認性の改良された静電容量方式タッチパネルを簡便に製造することにある。本発明者は、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、透明材料で形成された基材フィルムの少なくとも一方の面に、ナノメーターサイズの無機粒子及びビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されたハードコート層を積層し、さらにこのハードコート層の一部に透明導電層を形成することにより、パターン化された透明導電層透明電極を有する表示装置の視認性を向上できることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明の透明導電性積層フィルムは、透明材料で形成された基材フィルムと、この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層され、かつナノメーターサイズの無機粒子及びビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されたハードコート層と、このハードコート層表面の一部の領域に形成された透明導電層とを含む透明導電性積層フィルムであって、前記ビニル系化合物が、ケイ素非含有多官能メタアクリレートとケイ素含有多官能メタアクリレートとを含む。前記ケイ素非含有多官能メタアクリレートは、5~7官能メタアクリレートと、2~4官能メタアクリレートとの組み合わせであり、前記ケイ素含有多官能メタアクリレートは、シリコーンメタアクリレートであってもよい。前記5~7官能メタアクリレートと、前記2~4官能メタアクリレートとの割合は、前者/後者=99/1~30/70程度であり、かつ前記ケイ素含有多官能メタアクリレートの割合は、ケイ素非含有メタアクリレート100重量部に対して0.1~30重量部程度であってもよい。前記重合性組成物は、さらにセルロースエステルを含んでいてもよい。前記ビニル系化合物と前記無機粒子との割合重量比は、前者/後者=50/50~10/90程度であってもよい。前記無機粒子は平均一次粒径1~100nmの金属酸化物粒子であってもよい。前記無機粒子は、チタン及び/又はジルコニウムを含んでいてもよい。前記基材フィルムと前記透明導電層との屈折率差は0.3以上であってもよい。前記ハードコート層の屈折率は、基材フィルムの屈折率よりも大きく、かつ透明導電層の屈折率よりも小さくてもよい。本発明の透明導電性積層フィルムにおいて、前記透明導電層が形成された領域と、前記透明導電層が形成されていない領域との全光線透過率の差は2であってもよい。前記透明導電層が形成されていない領域の全光線透過率が80以上であってもよく、前記透明導電層が形成されていない領域のヘイズは5以下であってもよい。前記ハードコート層の表面において、透明導電層が形成された領域と透明導電層が形成されていない領域との面積比は、前者/後者=9/1~1/9程度であってもよい。前記基材フィルムは、ポリエステル系樹脂又はセルロースエステルで形成されていてもよい。この透明導電層を有する透明導電性積層フィルムは、透明導電層がパターン化されて形成されたタッチパネルの透明電極基板であり、かつこの透明電極基板が視認側の上部電極基板であってもよい。本発明には、基材フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層をコーティングで形成した後、得られたハードコート層に透明導電層を物理的又は化学的気相法で形成する前記透明導電性積層フィルムの製造方法も含まれる。本発明には、前記透明導電性積層フィルムを電極基板として備える投影型静電容量方式タッチパネルも含まれる。本発明では、透明材料で形成された基材フィルムの少なくとも一方の面に、ナノメーターサイズの無機粒子及び特定のビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されたハードコート層が積層され、さらにこのハードコート層表面の一部の領域に透明導電層が形成されているため、光散乱を抑制して、高い透明性を保持しつつ、パターン化された透明導電層透明電極を有する表示装置の視認性を向上できる。特に、投影型静電容量方式タッチパネルなどのパターン化された透明導電層の映り込みを抑制できる。さらに、本発明では、このような視認性の改良された静電容量方式タッチパネルを簡便に製造できる。[透明導電性積層フィルム]本発明の透明導電性積層フィルムは、透明材料で形成された基材フィルムと、この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層され、かつナノメーターサイズの無機粒子及びビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されたハードコート層と、このハードコート層表面の一部の領域に形成された透明導電層とを含む。基材フィルム基材フィルムは、透明な材質で形成されているITOなどの透明導電層を蒸着で形成できるポリマーフィルムであればよく、例えば、セルロース誘導体、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、メタアクリル系樹脂などであってもよい。これらのうち、セルロースエステル、ポリエステル系樹脂などが汎用される。セルロースエステルとしては、セルローストリアセテートTACなどのセルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースアセテートC3-4アシレートなどが挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、PET、PENなどのポリアルキレンアリレート系樹脂などが挙げられる。これらのうち、PETなどのポリC2-4アルキレンアリレートが特に好ましい。さらに、基材フィルムは、PET、PENなどのポリアルキレンアリレート系樹脂を二軸延伸したフィルムであってもよい。基材フィルムは、必要に応じて、安定化剤酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤など、結晶核剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。基材フィルムの厚みは、用途に応じて10~300μm程度である。ハードコート層ハードコート層は、ナノメーターサイズの無機粒子及びビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されている。本発明では、ナノメーターサイズの無機粒子を含有させることにより、単層のハードコート層を介在させるだけで視認性を向上できる。A無機粒子無機粒子の粒径はナノメーターサイズであればよく、詳しくは、平均一次粒径が1~100nm程度の範囲から選択でき、例えば、2~50nm、好ましくは3~40nm、さらに好ましくは5~30nm特に8~20nm程度である。無機粒子の粒径が大きすぎると、光散乱が大きくなるとともに、透明性も低下する。無機粒子の形状は、特に限定されず、球状、楕円体状、多角体形多角錘状、正方体状、直方体状など、板状、棒状、不定形などが挙げられるが、等方的に光を散乱し、視認性を向上できる点から、略球状などの等方形状が好ましい。無機粒子は、基材フィルムの屈折率よりも大きい屈折率を有していればよく、例えば、1.7~2.0程度である。屈折率が低すぎると、ハードコート層の屈折率を上昇させる効果が低く、高すぎると、光散乱が大きくなるともに、透明性が低下する。無機粒子を構成する無機化合物としては、例えば、金属単体、金属酸化物、屈折率を上昇できる効果の点から、金属酸化物が好ましい。金属酸化物としては、例えば、周期表第4A族金属酸化物例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウムなど、第5A族金属酸化物酸化バナジウムなど、第6A族金属酸化物酸化モリブデン、酸化タングステンなど、第7A族金属酸化物酸化マンガンなど、第8族金属酸化物酸化ニッケル、酸化鉄など、第1B族金属酸化物酸化銅など、第2B族金属酸化物酸化亜鉛など、第3B族金属酸化物酸化アルミニウム、酸化インジウムなど、第4B族金属酸化物酸化ケイ素、酸化錫など、第5B族金属酸化物酸化アンチモンなどなどが挙げられる。これらの金属酸化物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの金属酸化物のうち、少ない割合でハードコート層の屈折率を上昇でき、かつ添加量が増加してもヘイズの上昇を抑制できる点から、酸化チタンや酸化ジルコニウムなどの周期表第4A族金属酸化物が好ましく、酸化チタンが特に好ましい。酸化チタンとしては、慣用の酸化チタン[組成式TixOy]を利用でき、二酸化チタン、Ti2O5、Ti2O3などを利用できるが、通常、二酸化チタンを主成分とする。さらに、酸化チタンは、アナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型などの結晶形であってもよいが、ルチル型の二酸化チタンが好ましい。無機粒子特に酸化チタンは、凝集を抑制する点から、表面処理されていない粒子が好ましい。無機粒子の分散状態は、ハードコート層の全光線透過率及びヘイズによって評価でき、ハードコート層の全光線透過率が75以上、好ましくは80以上、さらに好ましくは85以上であってもよく、ヘイズは5以下、好ましくは3以下例えば、0.01~3、さらに好ましくは2以下例えば、0.1~2であってもよい。Bビニル系化合物ビニル系化合物は、ケイ素非含有多官能メタアクリレートとケイ素含有多官能メタアクリレートとを含む。B1ケイ素非含有多官能メタアクリレートケイ素非含有多官能メタアクリレートとしては、分子内に2以上例えば、2~8程度のメタアクリロイル基を有するメタアクリレートが使用される。2官能メタアクリレートとしては、例えば、アリルメタアクリレート;エチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレートなどのアルカンジオールジメタアクリレート;グリセリンジメタアクリレートなどのアルカンポリオールジメタアクリレート;ジエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレートなどのポリアルキレングリコールジメタアクリレート;2,2-ビス4-メタアクリロキシエトキシフェニルプロパンなどのビスフェノール類ビスフェノールA、ビスフェノールSなどのC2-4アルキレンオキサイド付加体のジメタアクリレート;トリシクロデカンジメタノールジメタアクリレート、アダマンタンジメタアクリレートなどの橋架け環式ジメタアクリレートなどが例示できる。さらに、2官能ビニル系化合物としては、例えば、エポキシジメタアクリレート、ポリエステルジメタアクリレート、ポリウレタンジメタアクリレートなどのオリゴマー又は樹脂も例示できる。3官能以上3~8官能程度のメタアクリレートとしては、例えば、多価アルコールとメタアクリル酸とのエステル化物、例えば、グリセリントリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート;ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート;ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート;ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどが挙げられる。さらに、これらの多官能メタアクリレートにおいて、多価アルコールは、アルキレンオキシド例えば、エチレンオキシドやプロピレンオキシドなどのC2-4アルキレンオキシドの付加体であってもよい。アルキレンオキシドの平均付加モル数は、例えば、0~30モル特に1~10モル程度の範囲から選択できる。これらの多官能メタアクリレートは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの多官能メタアクリレートのうち、ハードコート性などの点から、3官能以上のメタアクリレート特に、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどの4~8官能メタアクリレートを少なくとも含む多官能メタアクリレートが好ましい。特に、5~7官能メタアクリレートと、2~4官能メタアクリレート[特に、ペンタエリスリトールトリメタアクリレートなどの3~4官能メタアクリレート]とを組み合わせてもよく、両者の割合重量比は、例えば、前者/後者=100/0~10/90、好ましくは99/1~30/70、さらに好ましくは90/10~50/50特に80/20~40/60程度である。本発明では、官能基数の異なる多官能メタアクリレートをこのような割合で組み合わせることにより、ハードコート層の機械的特性を向上でき、大量の無機粒子の配合が可能となり、ハードコート層の屈折率を向上できる。B2ケイ素含有多官能メタアクリレートケイ素含有多官能メタアクリレートとしては、シリコーンメタアクリレートが汎用される。本発明では、前記ケイ素非含有多官能メタアクリレートに加えて、ケイ素含有多官能メタアクリレートを配合することにより、多量の無機粒子を含有させるにも拘わらず、ヘイズを抑制でき、透明性などの光学特性を向上できるとともに、屈折率も調整でき、視認性も向上できる。シリコーンメタアクリレートは、通常、オルガノシロキサン単位[-Si-R2-O-]基Rは置換基を示すを有しており、Si原子又はオルガノシロキサン単位の数は、1分子中に1以上例えば、1~30、好ましくは1~20、さらに好ましくは1~15程度であってもよい。また、メタアクリロイル基の数は、1分子中に2以上例えば、2~20、好ましくは2~15、さらに好ましくは2~10程度であってもよい。シリコーンメタアクリレートは、モノマーであってもよく、オリゴマー又はプレポリマーであってもよく、モノマー及びオリゴマーを組み合わせて使用してもよい。また、オリゴマープレポリマーは、複数の-Si-O結合を有するポリシロキサン系オリゴマーであってもよく、加水分解縮合性基例えば、メトキシ、エトキシなどのC1-4アルコキシ基、塩素原子などのハロゲン原子などを有するシリコーンメタアクリレートモノマーの加水分解縮合による2量体、3量体などの多量体であってもよい。代表的なシリコーンメタアクリレートとしては、1分子中に1つのSi原子を有するシリコーンモノ乃至テトラメタアクリレート、1分子中に2つのSi原子を有するシリコーンテトラ乃至ヘキサメタアクリレートなどが例示できる。これらのシリコーンメタアクリレートのうち、1分子中に複数例えば、2~10個、好ましくは3~8個、さらに好ましくは4~7個程度のメタアクリロイル基と、1又は複数例えば、1~20個、好ましくは1~10個、さらに好ましくは1~6個程度のSi原子を有するシリコーンメタアクリレート成分[例えば、シリコーンジ乃至ヘキサメタアクリレート、好ましくはシリコーントリ乃至ヘキサメタアクリレート]が好ましい。なお、シリコーンジメタアクリレートは、商品名EBECRYL350ダイセルサイテック株製などとして入手でき、シリコーンヘキサメタアクリレートは、商品名EBECRYL1360ダイセルサイテック株製などとして入手できる。ケイ素含有多官能メタアクリレートの割合は、ケイ素非含有多官能メタアクリレート100重量部に対して、例えば、0.1~30重量部、好ましくは0.2~20重量部、さらに好ましくは0.5~10重量部特に1~5重量部程度である。ビニル系化合物としては、多官能メタアクリレートに加えて、単官能ビニル系化合物、例えば、アルキルメタアクリレートなどのメタアクリル酸エステル、シクロヘキシルメタアクリレートなどのシクロアルキルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレートやアダマンチルメタアクリレートなどの橋架環式炭化水素基を有するメタアクリレート、フェニルメタアクリレートなどのアリールメタアクリレート、ビニルピロリドンなどのビニル系単量体などを含んでいてもよい。ビニル系化合物と無機粒子との割合重量比は、基材フィルムと透明導電層との屈折率差などに応じて適宜選択でき、例えば、99/1~1/99程度の範囲から選択でき、例えば、前者/後者=80/20~5/95、好ましくは50/50~10/90、さらに好ましくは40/60~15/85特に30/70~20/80程度である。本発明では、特定のビニル系化合物を組み合わせるため、多量の無機粒子を配合しても、機械的特性に優れ、ハードコート層の屈折率を向上できる。無機粒子の割合が少なすぎると、屈折率を向上できず、多すぎると、ハードコート層の機械的特性が低下する。C重合性組成物重合性組成物硬化性樹脂前駆体は、ハードコート層の塗工性及び機械的特性を向上させるために、セルロースエステルを含んでいてもよい。セルロースエステルとしては、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースC2-6アシレートなどが例示できる。これらのセルロースエステルは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのセルロースエステルのうち、溶剤のへの溶解性が高く、塗工液の調製がし易い上に、少量の添加によって塗工液の粘度調節が容易にできるとともに、塗工液での微粒子の凝集を抑制し、保存安定性を高めることができる点から、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースC2-4アシレート特に、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースアセテートC3-4アシレートが好ましい。セルロースエステルの割合は、ビニル系化合物100重量部に対して、例えば、0.01~30重量部、好ましくは0.05~10重量部、さらに好ましくは0.1~5重量部特に0.2~1重量部程度である。重合性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤は、熱重合開始剤ベンゾイルパーオキサイドなどの過酸化物などの熱ラジカル発生剤であってもよく、光重合開始剤光ラジカル発生剤であってもよい。好ましい重合開始剤は、光重合開始剤である。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類又はプロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アシルホスフィンオキシド類などが例示できる。光重合開始剤には、慣用の光増感剤や光重合促進剤例えば、第三級アミン類などが含まれていてもよい。光重合開始剤の割合は、ビニル系化合物100重量部に対して0.1~20重量部、好ましくは0.5~10重量部、さらに好ましくは1~8重量部特に1~5重量部程度であってもよい。重合性組成物は、透明性を損なわない範囲で、さらに慣用の添加剤を含有していてもよい。重合性組成物は、塗工性などの点から、さらに溶媒を含んでいるのが好ましい。重合性組成物硬化性樹脂前駆体は、熱硬化性組成物であってもよいが、短時間で硬化できる光硬化性化合物、例えば、紫外線硬化性化合物、EB硬化性化合物であってもよい。特に、実用的に有利な樹脂前駆体は、紫外線硬化性樹脂である。ハードコート層の屈折率は、基材フィルムの屈折率よりも大きく、かつ透明導電層の屈折率よりも小さく、例えば、1.5~2.2程度の範囲から選択でき、例えば、1.55~2.0、好ましくは1.6~1.95、さらに好ましくは1.65~1.9特に1.7~1.85程度であってもよい。ハードコート層の厚みは、例えば、0.01~30μm、好ましくは0.015~20μm、さらに好ましくは0.02~10μm特に0.03~10μm程度である。透明導電層透明導電層は、透明電極として利用されている慣用の透明導電層を利用でき、導電性無機化合物で形成された透明導電層でよい。導電性無機化合物としては、ITO膜などの金属酸化物が汎用される。本発明では、透明導電層は、ハードコート層表面の一部の領域に部分的に形成されており、通常、格子状などにパターン化されて形成されている。本発明では、透明導電層の有無により、積層フィルムの光透過性の違いが発生することによるパターンが映り込むことを有効に防止できる。基材フィルムと透明導電層との屈折率差は0.3以上であってもよく、例えば、0.3~0.9、好ましくは0.35~0.8、さらに好ましくは0.4~0.75特に0.5~0.75程度であってもよい。透明導電層の厚みは、例えば、1~1000nm、好ましくは5~500nm、さらに好ましくは10~400nm特に20~300nm程度であってもよい。透明導電性積層フィルムの特性本発明の透明導電性積層フィルムは透明性に優れており、透明導電層が形成された領域における全光線透過率は、例えば、75以上、好ましくは80~99、さらに好ましくは85~95程度である。一方、透明導電層が形成されていない領域における全光線透過率は、例えば、80以上、好ましくは85~99、さらに好ましくは90~95程度である。透明導電層が形成された領域と透明導電層が形成されていない領域との全光線透過率の差は、例えば、2以下であってもよく、好ましくは0.1~2、さらに好ましくは0.2~1.5程度である。このように、本発明の透明導電性積層フィルムは透明性に優れているが、透明導電層が形成された領域と透明導電層が形成されていない領域とでは屈折率差を有している。そのため、このようなフィルムでは、領域間における反射率の差によりパターンの映り込みなど、視認性が低下する。しかし、本発明では、屈折率差があるにも拘わらず、ナノメータサイズの無機粒子を含むハードコート層を介在させることにより、屈折率差に起因するパターンの映り込みを抑制でき、視認性を向上できる。本発明の透明導電性積層フィルムは、ヘイズも低く、透明導電層が形成された領域におけるヘイズは、例えば、5以下、好ましくは0.1~3、さらに好ましくは0.3~1.5程度である。一方、透明導電層が形成されていない領域におけるヘイズは、例えば、5以下、好ましくは0.1~3、さらに好ましくは0.3~2程度である。本発明の透明導電性積層フィルムは、少なくとも一方の面にハードコート層が形成されていればよく、両面に形成されていてもよい。ハードコート層が両面に形成された場合、透明導電層も両面に形成されてもよい。本発明の透明導電性積層フィルムには、さらに慣用の機能層、例えば、アンチニュートンリング層、光散乱層、反射防止層、低屈折率層などと組み合わせてもよい。[透明導電性積層フィルムの製造方法]本発明の透明導電性積層フィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層をコーティングで形成した後、得られたハードコート層に透明導電層を物理的又は化学的気相法で形成する方法により得られる。ハードコート層の形成工程詳細には、ハードコート層の形成工程においては、重合性組成物を含む塗工液を塗布した後、硬化することにより得ることができる。重合性組成物の塗布方法としては、慣用の方法、例えば、ロールコーター、エアナイフコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、リバースコーター、バーコーター、コンマコーター、ディップスクイズコーター、ダイコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、シルクスクリーンコーター法、ディップ法、スプレー法、スピナー法などが挙げられる。これらの方法のうち、バーコーター法やグラビアコーター法などが汎用される。なお、必要であれば、塗布液は複数回に亘り塗布してもよい。重合性組成物が有機溶媒を含有する場合など、塗布後は、必要に応じて乾燥を行ってもよい。乾燥は、例えば、50~150°C、好ましくは60~140°C、さらに好ましくは70~130°C程度の温度で行ってもよい。硬化工程において、重合性組成物は、重合開始剤の種類に応じて加熱して硬化させてもよいが、通常、活性エネルギー線を照射することにより硬化できる。活性エネルギー線としては、例えば、放射線ガンマー線、X線など、紫外線、可視光線、電子線EBなどが利用でき、通常、紫外線、電子線である場合が多い。光源としては、例えば、紫外線の場合は、DeepUVランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、レーザー光源ヘリウム-カドミウムレーザー、エキシマレーザーなどの光源などを用いることができる。照射光量照射エネルギーは、塗膜の厚みにより異なるが、例えば、50~10000mJ/cm2、好ましくは70~7000mJ/cm2、さらに好ましくは100~5000mJ/cm2程度であってもよい。電子線の場合は、電子線照射装置などの露光源によって、電子線を照射する方法が利用できる。照射量は、塗膜の厚みにより異なるが、例えば、1~200kGyグレイ、好ましくは5~150kGy、さらに好ましくは10~100kGy特に20~80kGy程度である。加速電圧は、例えば、10~1000kV、好ましくは50~500kV、さらに好ましくは100~300kV程度である。なお、活性エネルギー線の照射は、必要であれば、不活性ガス例えば、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスなど雰囲気中で行ってもよい。ハードコート層に対する透明導電層の密着性を向上させるために、ハードコート層を表面処理に供してもよい。表面処理としては、慣用の表面処理、例えば、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、オゾンや紫外線照射処理などが挙げられる。透明導電層の形成工程導電性無機化合物で形成された透明導電層は、金属又は金属化合物を含む薄膜を形成可能な方法であれば、特に限定されず、慣用の成膜方法を利用して形成できる。成膜方法としては、例えば、物理的気相法PVD[例えば、真空蒸着法、フラッシュ蒸着法、電子ビーム蒸着法、イオンビーム蒸着法、イオンプレーティング法例えば、HCD法、エレクトロンビームRF法、アーク放電法など、スパッタリング法例えば、直流放電法、高周波RF放電法、マグネトロン法など、分子線エピタキシー法、レーザーアブレーション法など]、化学的気相法CVD[例えば、熱CVD法、プラズマCVD法、MOCVD法有機金属気相成長法、光CVD法など]、イオンビームミキシング法、イオン注入法などが例示できる。これらの成膜方法のうち、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などの物理的気相法、化学的気相法などが汎用され、スパッタリング法、プラズマCVD法特にスパッタリング法が好ましい。一方、導電性ポリマーで構成された透明導電層は、導電性ポリマーを含有する液状組成物を前述のコーティングなどで塗布して乾燥することにより製造できる。透明導電層は、タッチパネルなどの種類に応じて、格子状又はストライプ状などの形状にパターン化される。投影型静電容量方式タッチパネルでは、例えば、ハードコート層の全面に透明導電層を形成した後、酸やアルカリなどを用いたエッチングにより格子状にパターン化する方法や、マスクなどを利用したパターニングにより格子状のパターンを形成する方法などが挙げられる。以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。実施例及び比較例で得られた透明導電性積層フィルムを以下の項目で評価した。[ヘイズHZ及び全光線透過率TT]ヘイズメーター日本電色株製、商品名NDH-5000Wを用いて、JISK7136に準拠して測定した。[視認性]黒紙の上に透明導電層が形成された領域と形成されていない領域とを並べて置き、目視で観察して以下の基準で判定した。◎:差がわからない○:差がわかりにくい△:わずかに差がある×:明らかに差がある。[ハードコート層の配合成分]6官能アクリレート:六官能アクリル系UV硬化モノマー、ダイセルサイテック株製DPHA3官能アクリレート:三官能アクリル系UV硬化モノマー:ダイセルサイテック株製PETIAシリコーンアクリレート:六官能アクリル系UV硬化モノマー、ダイセルサイテック株製EBECRYL1360CAP:セルロースアセテートプロピオネート、イーストマン社製CAP-482-20、アセチル化度=2.5、プロピオニル化度=46、ポリスチレン換算数平均分子量75,000酸化チタン分散液:シーアイ化成株製RTTDNB15WT-N39BuOH:1-ブタノール、沸点113°CMMPG:1-メトキシ-2-プロパノール、沸点119°CMEK:メチルエチルケトンIPA:2-プロパノール開始剤1:光重合開始剤、チバジャパン株製イルガキュアIrgacure184開始剤2:光重合開始剤、チバジャパン株製イルガキュアIrgacure907。比較例1~2及び実施例1~3表1に示すアクリレート、セルロースエステル及び酸化チタン分散液を、表1に示す混合溶媒に溶解した。この溶液を用いてトリアセチルセルロースフィルム上にワイヤーバー5を用いて流延したのち、60°Cのオーブン内で1分間放置後、コートフィルムを紫外線照射装置ウシオ電機株製、高圧水銀ランプ、紫外線照射量:800mJ/cm2に通して、紫外線硬化処理を行い、塗工膜を硬化させてハードコート層を形成した。さらに、ハードコート層の上に、InO2及びSnO2の複合酸化物物ITOをスパッタリング処理して透明導電層を形成した後、1Nの塩酸に浸漬することによりITO膜を除去して透明導電層が形成されていない領域を作成した。得られた積層フィルムの透明導電層が形成されていない領域のヘイズ及び全光線透過率、ハードコート層の屈折率を測定し、視認性を評価した結果を表1に示す。表1の結果から明らかなように、比較例1の積層フィルムでは屈折率が低く、視認性が低い。また、比較例2の積層フィルムはヘイズが高い。一方、実施例の積層フィルムは、屈折率が高く、特に、実施例4の積層フィルムは、視認性に優れるとともに、屈折率が高い。"