"下記式1式中、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Xは脱離性基を示すで表される化合物と、下記式2式中、R2は置換基を有していてもよい2価の炭化水素基、又は前記2価の炭化水素基の2以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示すで表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、下記式3式中、R1、R2は前記に同じで表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法であって、前記式2で表されるジオールを含む溶液に対し、前記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを前記式1で表される化合物と逐次的に反応させることを特徴とするモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。式1におけるR1が、オキセタニル基を有する炭化水素基である請求項1に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。式1で表される化合物が、下記式4式中、R4は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Xは前記に同じで表されるオキセタン誘導体であり、下記式5式中、R2、R4は、前記に同じで表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる請求項1又は2に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。式1における脱離性基Xが、メタンスルホニルオキシ基である請求項1~3のいずれか1項に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。前記アルカリ金属を含む塩基が、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである請求項1~4のいずれか1項に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。しかしながら、上記製造方法においては、副生成物として、ジオールアルキレングリコールの2つのヒドロキシル基がともにエーテル化されたビスオキセタンエーテル化合物が比較的多く生成し、目的物であるモノヒドロキシモノエーテル化合物オキセタン環含有アルコールの選択性及び単離収率を向上させることが難しいという問題があった。また、上記製造方法においては、上記原料を含む溶液がゲル化して、反応中に攪拌が困難となる問題が生じることが判明した。このため、溶液中で効率的に反応を進行させることができず、モノヒドロキシモノエーテル化合物オキセタン環含有アルコールの選択性及び単離収率が低下する問題が生じていた。一方で、このようなゲル化の問題に対しては、大量の溶媒の使用により対応することが可能であったが、このような解決策はコスト面で好ましいものではなかった。さらに、上記製造方法においては、ジオールと反応させるエーテル化剤3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンが、溶液中に存在する水によって加水分解することによっても、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択性及び単離収率が低下する問題が生じていた。従って、本発明の目的は、ジオールの一方のヒドロキシル基のみをエーテル化したモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で即ち、高い生産性で製造する方法モノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、カチオン重合部位であるオキセタン環とラジカル重合部位であるメタアクリロイル基をともに有する異種反応性モノマーの前駆体として特に有用な、オキセタン環含有アルコールを高選択率かつ高収率で即ち、高い生産性で製造する方法オキセタン環含有アルコールの製造方法を提供することにある。本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、脱離性基を有する特定構造の化合物と特定構造のジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下で反応させる際に、上記ジオールを含む溶液に対して上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを上記脱離性基を有する化合物と逐次的に反応させることによって、目的物としてのモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で製造できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、下記式1式中、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Xは脱離性基を示すで表される化合物と、下記式2式中、R2は置換基を有していてもよい2価の炭化水素基、又は前記2価の炭化水素基の2以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示すで表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下で反応させることにより、下記式3式中、R1、R2は前記に同じで表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法であって、前記式2で表されるジオールを含む溶液に対し、前記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを前記式1で表される化合物と逐次的に反応させることを特徴とするモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。さらに、式1におけるR1が、オキセタニル基を有する炭化水素基である前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。さらに、式1で表される化合物が、下記式4式中、R4は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Xは前記に同じで表されるオキセタン誘導体であり、下記式5式中、R2、R4は、前記に同じで表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。さらに、式1における脱離性基Xが、メタンスルホニルオキシ基である前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。さらに、前記アルカリ金属を含む塩基が、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は上記構成を有するため、ジオールの一方のヒドロキシル基のみをエーテル化したモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で即ち、高い生産性で製造できる。さらに、特定構造の原料を使用することにより、特に、異種反応性モノマーの前駆体として有用なオキセタン環含有アルコールを、高選択率かつ高収率で即ち、高い生産性で製造できる。また、反応溶液がゲル化しにくいため、使用する溶媒の量を低減することができ、コスト面で有利である。このため、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は生産性に優れ、工業的に適した方法である。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、下記式1式中、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Xは脱離性基を示すで表される化合物と、下記式2式中、R2は置換基を有していてもよい2価の炭化水素基、又は前記2価の炭化水素基の2以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示すで表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、下記式3式中、R1、R2は前記に同じで表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法である。なお、上記アルカリ金属を含む塩基の存在下とは、反応のいずれかの時点でアルカリ金属を含む塩基が存在することを意味し、上記反応中、アルカリ金属を含む塩基が常に存在している必要はない。[式1で表される化合物]式1で表される化合物は、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における原料反応物として使用される。式1で表される化合物におけるR1は、置換基を有していてもよい炭化水素基である。上記R1における炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらが2以上結合した炭化水素基などが挙げられる。上記脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等の炭素数1~20のアルキル基好ましくは、炭素数1~10のアルキル基;ビニル基、1-プロペニル基等の炭素数2~20のアルケニル基好ましくは、炭素数2~10のアルケニル基などが挙げられる。上記脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基;アダマンチル基、ノルボルニル基等の橋かけ環式基などが挙げられる。上記芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。また、これらの炭化水素基が2以上結合した基としては、例えば、ベンジル基、2-フェニルエチル基等のアラルキル基;メチルフェニル基等のアルキル基置換フェニル基などが挙げられる。上記R1における置換基上記炭化水素基が有していてもよい置換基としては、特に限定されないが、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基等の炭素数1~4のアルコキシ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数2~5のアルコキシカルボニル基;アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等の炭素数1~10のアシル基;シアノ基;ニトロ基;エポキシ基オキシラニル基、オキセタニル基、オキソラニル基などの複素環基などが挙げられる。なお、上記複素環基の環構造は、上記炭化水素基を構成する1又は2以上の炭素原子を含んで共有して形成されていてもよい。中でも、上記R1としては、カチオン重合性を少なくとも有するモノマー又は該モノマーの前駆体として使用できる点で、エポキシ基を有する炭化水素基、オキセタニル基を有する炭化水素基が好ましく、より好ましくはオキセタニル基を有する炭化水素基である。式1で表される化合物におけるXは、脱離性基である。上記脱離性基Xとしては、特に限定されないが、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;メタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等のスルホニルオキシ基;アセチルオキシ基等のアシルオキシ基などの脱離性の高い基が挙げられる。上記の中でも、反応収率及び反応時間の観点で、塩素原子、メタンスルホニルオキシ基が好ましく、より好ましくはメタンスルホニルオキシ基である。特に、式1で表される化合物としては、少なくともカチオン重合性を有するモノマー又は該モノマーの前駆体として使用できる点で、下記式4で表される化合物オキセタン誘導体が好ましい。式4中、R4は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Xは前記に同じ式4で表される化合物におけるR4としては、特に限定されないが、例えば、R1で例示したものと同様の炭化水素基置換基を有していてもよい炭化水素基を例示することができる。中でも、原料入手の観点で、メチル基、エチル基、ヒドロキシメチル基が好ましい。上記式4で表される化合物の代表的な例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができる。式4で表される化合物は、周知慣用の方法で製造することができ、例えば、トリエチルアミン及びトルエンの存在下、3-アルキル-3-オキセタンメタノールとハロゲン化メタンスルホニルとを反応させたり、3-アルキル-3-オキセタンメタノールをハロゲン化することにより合成することができる。[式2で表されるジオール]式2で表されるジオールは、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における原料反応物として使用される。式2で表されるジオールにおけるR2は、1つ以上2つ以上でも良い置換基を有していてもよい2価の炭化水素基、又は上記2価の炭化水素基の2以上がエーテル結合を介して連結された連結基である。上記R2における2価の炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、2価の脂肪族炭化水素基、2価の脂環式炭化水素基、2価の芳香族炭化水素基、これらが2以上結合した2価の炭化水素基などが挙げられる。上記2価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン基、ペンチレン基等の炭素数が1~18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基などが挙げられる。上記2価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2-シクロペンチレン、1,3-シクロペンチレン、シクロペンチリデン、1,2-シクロヘキシレン、1,3-シクロヘキシレン、1,4-シクロヘキシレン、シクロヘキシリデン基等の2価のシクロアルキレン基シクロアルキリデン基を含むなどが挙げられる。上記2価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基などが挙げられる。上記R2における置換基上記2価の炭化水素基が有していてもよい置換基としては、特に限定されないが、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基等の炭素数1~4のアルコキシ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数2~5のアルコキシカルボニル基;アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等の炭素数1~10のアシル基;シアノ基;ニトロ基;エポキシ基オキシラニル基、オキセタニル基、オキソラニル基などの複素環基などが挙げられる。上記R2における連結基上記2価の炭化水素基の2以上がエーテル結合を介して連結された連結基としては、特に限定されないが、上記2価の炭化水素基の2つが1つのエーテル結合を介して連結された連結基例えば、エチレンオキシエチレン基[-CH2CH2OCH2CH2-]等のアルキレンオキシアルキレン基、フェニレンオキシフェニレン基など;上記2価の炭化水素基の3以上が2以上のエーテル結合を介して連結された連結基例えば、アルキレンポリオキシアルキレン基などが挙げられる。なお、上記連結基における2価の炭化水素基は、上記置換基を有していてもよい。上記式2で表されるジオールの代表的な例としては、入手容易の観点から、以下の化合物2a=ネオペンチルグリコール、化合物2b=1,3-プロパンジオール、化合物2c=1,4-ブタンジオール等を挙げることができる。[アルカリ金属を含む塩基]アルカリ金属を含む塩基は、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における原料反応物として使用される。上記アルカリ金属を含む塩基アルカリ金属塩基は、アルカリ金属を含み、かつ塩基性を示す物質化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属の水素化物;炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩;メチルリチウム、エチルリチウム、n-ブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム等のアルキルリチウム化合物などの有機リチウム化合物等が挙げられる。アルカリ金属を含む塩基は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。上記の中でも、アルカリ金属を含む塩基としては、溶媒への溶解性に優れる点で、アルカリ金属の水酸化物が好ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが特に好ましい。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、上述の式1で表される化合物、式2で表される化合物、アルカリ金属を含む塩基以外にも、溶解性向上、反応収率向上を目的として、各種添加剤を用いてもよい。上記添加剤としては、例えば、相間移動触媒、界面活性剤等が挙げられる。上記添加剤は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。[本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法]本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、式1で表される化合物と、式2で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、式3で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法である。上記反応は、溶液中で行われるものであれば特に限定されず、液相一相系液相が一相のみの系であってもよいし、液相が二相以上存在する系であってもよい。なお、上記反応における溶液中には、固体が含まれていてもよい。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、特に限定されないが、上記反応を溶液中で実施するために、通常、溶媒を使用することが好ましい。上記溶媒としては、式1で表される化合物と、式2で表されるジオールの両方を溶解することができるものであればよく、具体的には、例えば、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素;シクロヘキサン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素;テトラヒドロフランTHF、イソプロピルエーテルIPE等のエーテル;ジメチルスルホキシドDMSO等の含硫黄系溶媒;ジメチルホルムアミド等の含窒素系溶媒などが挙げられる。中でも、水を共沸して留去しやすい点で、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素が好ましく、又は、水溶性が低く精製時の分液性を向上させやすい点で、イソプロピルエーテル等のエーテルが好ましい。式1で表される化合物と式2で表されるジオールとのアルカリ金属を含む塩基の存在下での反応は、例えば、これらの化合物を上記溶媒中で共存させることにより行うことができる。より具体的には、例えば、式2で表されるジオールを上記溶媒に溶解させた溶液中に、アルカリ金属を含む塩基、及び式1で表される化合物をそれぞれ滴下することにより上記反応を行うことができる。なお、式2で表されるジオールは、特に限定されないが、アルカリ金属を含む塩基、式1で表される化合物を滴下する前の溶液に対してあらかじめ全使用量を仕込んでおいてもよいし、全使用量の一部を上記溶液に仕込み、残りを適切な時期に適宜分割して溶液中に追加してもよい。式2で表されるジオールの使用量全使用量は、特に限定されないが、例えば、上記式1で表される化合物に対して、1.8~10モル倍が好ましく、より好ましくは2~6モル倍、さらに好ましくは2.5~4モル倍である。上記使用量が1.8モル倍未満であると、ジアルコキシドの生成量が増加することによって、ジエーテル体が多く生成する傾向がある。一方、上記使用量が10モル倍を超えると、精製時に原料のジオール残存量が増加する。また、ジオールの残存量の増加により、除去工程が増えるためにモノヒドロキシモノエーテル化合物の収率が低下する傾向がある。上記アルカリ金属を含む塩基の使用量全使用量は、該アルカリ金属を含む塩基の塩基強度によっても異なり、特に限定されないが、例えば、上記式1で表される化合物に対して、1.0~1.8モル倍が好ましく、より好ましくは1.0~1.4モル倍、さらに好ましくは1.1~1.3モル倍である。上記使用量が1.0モル倍未満であると、未反応原料が多くなる傾向がある。一方、上記使用量が1.8モル倍を超えると、副生成物である式2で表されるジオールの2つのヒドロキシル基がともにエーテル化された化合物ジエーテル体が多く生成する傾向がある。また、反応溶液中の残存アルコキシド量も増加するので、ゲル化を起こす可能性が高くなる。上記溶媒の使用量全使用量は、溶媒の粘度や反応物の溶解度等によっても異なり、特に限定されないが、例えば、上記1で表される化合物100重量部に対して、400~2000重量部が好ましく、より好ましくは500~1800重量部、さらに好ましくは600~1500重量部である。溶媒の使用量が400重量部未満であると、反応溶液がゲル化しやすく、攪拌が困難となってモノヒドロキシモノエーテル化合物の生産性反応収率が低下する場合がある。一方、溶媒の使用量が2000重量部を超えると、コスト面で不利となったり、生産性が低下する場合がある。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における反応温度は、上記式1で表される化合物の滴下速度等により適宜調整することができ、特に限定されないが、例えば、30~150°Cが好ましく、より好ましくは40~120°Cである。反応温度が30°C未満であると、未反応原料が多くなる傾向がある。一方、反応温度が150°Cを超えると、副生成物である式2で表されるジオールの2つのヒドロキシル基がともにエーテル化された化合物ジエーテル体が多く生成する傾向がある。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、上記反応式1で表される化合物と式2で表されるジオールのアルカリ金属を含む塩基の存在下での反応に際し、上記ジオールを少なくとも含む溶液に対し、上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを上記式1で表される化合物と逐次的に順次反応させることを特徴としている。なお、本明細書において、逐次添加とは、連続的に添加、又は、間欠的に添加することを意味し、一括添加ではないという意味である。上記モノアルコキシドとは、式2で表されるジオールの一方のヒドロキシル基のみがアルカリ金属を含む塩基と反応した金属アルコキシドモノ金属アルコキシドを意味する。また、本明細書においては、式2で表されるジオールの両方のヒドロキシル基がともにアルカリ金属を含む塩基と反応した金属アルコキシドを、ジアルコキシドと称する場合がある。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、式2で表されるジオールを含む溶液に対し、上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加することによって、上記モノアルコキシドを逐次的に生成させ、該モノアルコキシドを逐次的に順次上記式1で表される化合物と反応させる。即ち、本発明の要点は、上記ジオールにアルカリ金属を含む塩基を反応させてモノアルコキシドを生成させるたびに、該モノアルコキシドを式1で表される化合物と順次反応させ、これを連続的又は間欠的に繰り返すことにある。式2で表されるジオールを含む溶液に対して上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加するに際しては、アルカリ金属を含む塩基の最初の添加を開始してから、アルカリ金属を含む塩基の全使用量の添加が完了するまでの時間全使用量の添加時間を、30分以上例えば、60~360分とすることが好ましく、より好ましくは120~240分である。上記全使用量の添加時間が30分未満であると、アルカリ金属を含む塩基を逐次添加することによる効果が得られにくい。モノアルコキシドを逐次的に順次式1で表される化合物と反応させる方法としては、特に限定されないが、モノアルコキシドを生成させた溶液に対し、式1で表される化合物を逐次添加する方法が挙げられる。即ち、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、式2で表されるジオールを含む溶液に対し、アルカリ金属を含む塩基と、式1で表される化合物をそれぞれ逐次添加する方法であることが好ましい。なお、アルカリ金属を含む塩基と式1で表される化合物のそれぞれの添加回数の上限は、特に限定されないが、式1で表される化合物、式2で表されるジオール、及びアルカリ金属を含む塩基のそれぞれの使用量全使用量が上述の範囲内となるように適宜調整することが好ましい。式2で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、上記アルカリ金属を含む塩基の1回の添加量は、特に限定されないが、仕込みのジオール溶液中に仕込んだ式2で表されるジオールの量に対して、0.001~0.2モル倍が好ましく、より好ましくは0.002~0.19モル倍、さらに好ましくは0.003~0.18モル倍である。上記添加量1回の添加量が仕込みのジオールに対して0.2モル倍を超えると、ジエーテル体が生成しやすく、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率や収率が低下する場合がある。なお、上記アルカリ金属を含む塩基を添加する際には、該塩基を適当な溶媒に溶解又は分散させた溶液又は分散液を使用してもよい。また、式2で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、上記アルカリ金属を含む塩基の1回の添加量は、特に限定されないが、溶液中に存在する上記ジオールの量に対して、0.001~0.2モル倍が好ましく、より好ましくは0.002~0.19モル倍、さらに好ましくは0.003~0.18モル倍である。上記添加量1回の添加量が溶液に存在する上記ジオールに対して0.2モル倍を超えると、ジエーテル体が生成しやすく、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率や収率が低下する場合がある。式2で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、式1で表される化合物の1回の添加量は、特に限定されないが、仕込みのジオール溶液中に仕込んだ式2で表されるジオールの量に対して、0.001~0.2モル倍が好ましく、より好ましくは0.002~0.19モル倍、さらに好ましくは0.003~0.18モル倍である。また、式2で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、式1で表される化合物の1回の添加量は、上記アルカリ金属を含む塩基の1回の添加量に対して、0.55~1.0モル倍が好ましく、より好ましくは0.66~1.0モル倍、さらに好ましくは0.77~1.0モル倍である。上記添加量式1で表される化合物の1回の添加量が仕込みのジオールに対して0.2モル倍又は、アルカリ金属を含む塩基の1回の添加量に対して1.0モル倍を超えると、式1で表される化合物の加水分解物が生成しやすくなる場合がある。一方、上記添加量式1で表される化合物の1回の添加量がアルカリ金属を含む塩基の1回の添加量に対して0.55モル倍未満であると、ジエーテル体が生成しやすく、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率や収率が低下する場合がある。また、反応溶液のゲル化が起こりやすくなる場合がある。なお、上記式1で表される化合物を添加する際には、該化合物を適当な溶媒に溶解又は分散させた溶液又は分散液を使用してもよい。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、アルカリ金属を含む塩基を添加する際に、式1で表される化合物と式2で表されるジオールとを反応させる溶液中の、ジオールに対するモノアルコキシドの割合モノアルコキシドmol/ジオールmolが、アルカリ金属を含む塩基の全添加回数の少なくとも半数において、0.2モル倍以下となるように制御することが好ましく、より好ましくは0.19モル倍以下、さらに好ましくは0.18モル倍以下である。上記ジオールに対するモノアルコキシドの割合が0.2モル倍を超えると、ジアルコキシドの生成が促進されたり、溶液がゲル化することによって、式3で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率及び収率が低下する場合がある。上記ジオールに対するモノアルコキシドの割合は、式1で表される化合物と式2で表されるジオールとを反応させる溶液中に存在するモノアルコキシドの量存在量を、上記溶液中に存在する上記ジオールの量存在量で除することによって算出される。上記ジオール及びモノアルコキシドの存在量としては、上記ジオールとアルカリ金属を含む塩基とが定量的に反応してモノアルコキシドのみが生成するとの仮定の下、下記式により算出される理論値を採用するものとする。[モノアルコキシドの存在量mol]=[溶液に添加されたアルカリ金属を含む塩基の総量mol]-[溶液に添加された式1で表される化合物の総量mol][式2で表されるジオールの存在量mol]=[溶液に仕込んだジオールの総量mol]-[溶液に添加されたアルカリ金属を含む塩基の総量mol]中でも、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、式2で表されるジオールを含む溶液に対して、アルカリ金属を含む塩基を上記添加量1回の添加量の範囲で添加し、次いで、式1で表される化合物を上記添加量1回の添加量の範囲で添加し、その後さらに、これらの添加を少なくとも1回以上繰り返すことが好ましい。即ち、アルカリ金属を含む塩基の添加と式1で表される化合物の添加は、交互にそれぞれ2回以上繰り返すことが好ましい。これにより、溶液中に存在する上記モノアルコキシドの割合を上記範囲に制御しやすく、式3で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率及び収率を向上させることができる。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、上記のように、式2で表されるジオールを含む溶液に対して上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを式1で表される化合物と逐次的に反応させることによって、式3で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率高単離収率で得ることができる。このような効果は、式2で表されるジオールとアルカリ金属を含む塩基とを反応させて得られるモノアルコキシドを逐次的に生成させ、なおかつ該モノアルコキシドを逐次的に式1で表される化合物と反応させて順次消滅させ、反応溶液中に存在するモノアルコキシドの量を上記ジオールに対して低いレベルに維持することによって、モノアルコキシドによる溶液のゲル化、及びジアルコキシドの生成によるジエーテル体の副生が抑制されたことによるものと推測される。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、式2で表されるジオールを含む溶液に対して、アルカリ金属を含む塩基と式1で表される化合物をそれぞれ逐次添加すること、並びに、アルカリ金属を含む塩基の1回の添加量、式1で表される化合物の1回の添加量、及び溶液中に存在する式2で表されるジオールに対するモノアルコキシドの割合を上述の範囲に制御すること等によって、式3で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率及び収率を特に高くすることができる。これに対して、従来のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、ジオールに対して反応させるアルカリ金属を含む塩基水酸化ナトリウムの全使用量を、反応前にジオールとともに反応容器に仕込むか、反応初期にジオールを含む溶液に一括で添加するものである即ち、逐次添加するものではない。このため、ジアルコキシドの大量の生成によるジエーテル体の副生、及び、溶液のゲル化が顕著であり、目的物であるモノヒドロキシモノエーテルを生産性良く製造することができなかった。さらに、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、主に、式2で表されるジオールとアルカリ金属を含む塩基の反応により生成する水を随時取り除く脱水することが好ましい。溶液反応溶液中の水を取り除くことにより、式1で表される化合物の加水分解が抑制される即ち、式1で表される化合物におけるXがヒドロキシル基に置き換わった加水分解物の生成が抑制されるため、モノヒドロキシモノエーテル化合物をより効率よく高選択率かつ高収率で得ることができる。上記脱水の方法としては、周知慣用の方法を利用することができ、特に限定されないが、例えば、反応の溶媒としてトルエンを使用し、該トルエンが還流する反応温度例えば、100~115°Cで反応させる方法等を利用できる。また、減圧して反応温度を下げることによって脱水することも可能である。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法により、上記式3で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物が得られる。特に、式1で表される化合物として、式4で表されるオキセタン誘導体を用いた場合には、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法により、下記式5で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物オキセタン環含有アルコールが得られる。式5中、R2、R4は前記に同じ式5で表されるオキセタン環含有アルコールは、カチオン重合部位であるオキセタン環を有するため、樹脂のモノマー又は該モノマーの前駆体として好ましく利用できる。具体的には、例えば、式5で表されるオキセタン環含有アルコールのヒドロキシル基を公知乃至慣用の方法によりメタアクリル化することによって、カチオン重合部位であるオキセタン環とラジカル重合部位であるメタアクリロイル基を有する化合物異種反応性モノマーを得ることができる。このような化合物を重合カチオン重合及び/又はラジカル重合させることにより得られる硬化物は、優れた耐熱性を発揮することができる。本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法によると、副生成物であるジエーテル体の生成率を2.5未満好ましくは2.0以下、特に好ましくは1.5以下に抑制することができる。これにより、式3で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物特に、式5で表されるオキセタン含有アルコールを選択的に合成することができ、これを高い収率単離収率例えば、70以上、好ましくは75以上、特に好ましくは80以上で得ることができる。なお、上記生成率は、例えば、ガスクロマトグラフィーにより算出することができる。なお、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法により生成した式1で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物特に、式5で表されるオキセタン環含有アルコールは、慣用の分離精製手段、例えば、濃縮、抽出、晶析、再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィーなど、又はこれらの組み合わせにより分離精製することができる。以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。製造例[3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの合成]攪拌装置、温度計、滴下漏斗を備えた内容量2000mLのガラス製セパラブルフラスコに、3-エチル-3-オキセタンメタノール100g0.85mol、トリエチルアミン113.2g1.12mol、及びトルエン400gを加えて攪拌した後、氷浴にて液温を5°Cまで冷却した。次いで、メタンスルホニルクロライド108.5g0.95molを2時間かけて滴下し、滴下の間は液温を5~15°Cに保持した。その後、液温15°Cでさらに2時間保持して熟成を行った。熟成後、水を400mL加えて反応をクエンチし、分液させて有機層トルエン層を分取し、3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの濃度が25重量のトルエン溶液565g3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンが150g0.8mol含まれるを得た。なお、上記反応における3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの収率は、原料の3-エチル-3-オキセタンメタノール基準で90であった。実施例1攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器、及び脱水器を備えた内容量3000mLのガラス製セパラブルフラスコに、ネオペンチルグリコール230.3g2.21mol及びトルエン466gを加え、設定温度90°Cにて加熱しながら攪拌した。トルエンの温度が80°C付近でネオペンチルグリコールがトルエンに溶解したことを確認後、加熱を停止し、純度96の水酸化ナトリウムを5.15g0.13mol加えた。再度加熱して、溶液の温度が110°C付近に到達してトルエンの還流が開始したところで、3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液濃度:2579.3g3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンが0.10molを20分かけてゆっくり滴下した。次いで、冷却放冷して還流を停止させた後、先ほどと同量の水酸化ナトリウム0.13molを加え、再度110°C付近まで加熱してトルエンの還流が開始したところで、3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液濃度:2579.3g3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンが0.10molを20分かけてゆっくり滴下した。この作業を繰り返し合計3時間30分かけて7回行い、水酸化ナトリウム及び3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの逐次添加添加回数:それぞれ7回を行った。また、反応系中で生成した水は、脱水器にて随時抜き取った。水酸化ナトリウムの全量0.91mol及び3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの全量を仕込んだ後、さらに2時間トルエンを還流させて反応溶液を熟成させた。反応溶液の熟成の終了後、加熱を停止し、自然冷却を行った。熟成の終了時点反応開始3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン滴下開始から5時間30分後の加熱状態で、反応溶液のGC分析を行ったところ、転化率は100、目的物である3-エチル-3-3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピルオキシメチルオキセタンの収率反応収率は943-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準であった。また、生成した2量体ビスオキセタンエーテル化合物は1.1対3-エチル-3-3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピルオキシメチルオキセタンのGC面積であった。反応溶液の液温が80°Cとなった時点で、水を322g加えて攪拌抽出し、水浴にて液温が室温30°C以下となるまで冷却した後、n-ヘキサンを393.8g加え、15分間攪拌抽出を行った。その後、分液した有機層に水を999g加えて15分間攪拌抽出し、分液した有機層に再度水を同量加えて、攪拌抽出を行った。分液した有機層から、エバポレーターを用いて80°C、300mmHgの条件でトルエンを留去し、さらに3時間フルバキューム80°Cして脱トルエンを行い、3-エチル-3-3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピルオキシメチルオキセタンを118g得た純度:97、2量体濃度:1.1。なお、3-エチル-3-3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピルオキシメチルオキセタンの収率単離収率は、3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準で80であった。表1に結果を示した。実施例2トルエンの仕込み量を466gから1665gに変更した以外は、実施例1と同様にして、3-エチル-3-3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピルオキシメチルオキセタンを合成した。なお、熟成終了後の反応溶液のGC分析によると、目的物である3-エチル-3-3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピルオキシメチルオキセタンの収率反応収率は953-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準であった。また、生成した2量体ビスオキセタンエーテル化合物は1.0対3-エチル-3-3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピルオキシメチルオキセタンのGC面積とごく微量であった。また、実施例1と同様の単離作業を行った結果、3-エチル-3-3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピルオキシメチルオキセタンの収率単離収率は、3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準で80であった。表1に結果を示した。比較例1攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器、及び脱水器を備えた内容量3000mLのガラス製セパラブルフラスコに、ネオペンチルグリコール460.3g4.42mol、トルエン850g、及び純度96の水酸化ナトリウム36.10g0.90molを加え、常圧でトルエンの還流が開始するまで攪拌しながら加熱した。水酸化ナトリウムが溶解してしばらくすると、反応溶液が液状からゲル状になり、中心部のみが攪拌された状態となった。この状態で、3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液濃度:90159g3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン0.73molの滴下を開始した。3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの滴下開始から5時間30分間、トルエン還流状態で加熱して反応させた後、反応溶液にトルエンとほぼ同量の水850gを加えてゲルを溶解し、分離した2層トルエン層、水層の分析を行った結果、転化率98、目的物である3-エチル-3-3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピルオキシメチルオキセタンの収率反応収率は、3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準で70.8であった。表1に結果を示した。比較例2攪拌装置、温度計、滴下漏斗、及び還流冷却器を備えた内容積3000mLのガラス製フラスコに、ネオペンチルグリコール720.3g6.92mol、及びトルエン280gを加え、攪拌しながら60°Cまで加温した後、テトラブチルアンモニウムブロマイド38.7g0.21mol、及び96水酸化ナトリウム184g4.4molを加え、攪拌しながら75°Cまで加温した。次いで、純度95の3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン777g3.8molを、液温を75~85°Cに保ちながらゆるやかに滴下した。しかしながら、ネオペンチルグリコールが固体のまま完全に溶解せず、さらに、一部溶解した反応溶液もゲル化したため、生成物の収率等のデータを取得できなかった。比較例3攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器、及び脱水器を備えた内容量3000mLのセパラブルフラスコに、ネオペンチルグリコールを129g1.24mol、トルエン472g、及び純度96の水酸化ナトリウム20.63g0.52molを加えて常圧でトルエンの還流が開始するまで加熱した。トルエンの還流開始後、3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液濃度:9088.9g0.41molの滴下を開始した。3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン滴下開始から5時間30分間、トルエン還流状態で加熱して反応させた後、比較例1と同様にして反応溶液の分析を行った。表1に結果を示した。比較例3では反応溶液のゲル化は抑制されたが、表1に示すように、反応収率が68.6と低く、3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの加水分解物である3-エチル-3-オキセタンメタノールの収率が22.3と高くなった。比較例4表1に示すように、原料の仕込み量を変えたこと以外は、比較例3と同様に反応を行った。表1に結果を示した。比較例5攪拌装置、温度計、滴下漏斗、及び還流冷却器を備えた内容積2000mLのガラス製フラスコに、1,4-ブタンジオールBD721g8.0mol、及びトルエン350mLを加え、攪拌しながら60°Cまで加温した後、テトラブチルアンモニウムブロマイド38.7g0.21mol、及び96水酸化ナトリウム184g4.4molを加え、攪拌しながら75°Cまで加温した。次いで、純度95の3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン777g3.8molを、液温を75~85°Cに保ちながらゆるやかに滴下し、同温度で2時間反応させた。反応終了後、反応溶液に水800mLを加え、有機層を分液した。得られた有機層にトルエン800mL及び水400mLを加え、攪拌しながら酢酸を加えてpHを9.5に調整した。分液後、水層をトルエン400mLで2回抽出した。抽出液トルエン層と有機層を混合し、減圧下で濃縮した。得られた濃縮物を減圧下で蒸留157~159°C、1.9kPaし、無色液体として、純度96ガスクロマトグラフィーによる分析値の3-エチル-4-ヒドロキシブチルオキシメチルオキセタンを497g得た3-エチル-3-メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準の単離収率:67。表1に結果を示した。表1に示すように、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法によると、目的物であるモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で得ることができた実施例。一方、本発明の規定を満たさない製造方法による場合比較例には、副生成物であるジエーテル体の生成が多かったり、反応中に溶液のゲル化が生じる等により、目的物であるモノヒドロキシモノエーテル化合物を高い収率で得ることはできなかった。"