"金属への切屑形成機械加工用の切削工具の耐摩耗性PVDコーティングであって、前記コーティングが、少なくとも1層のA層と、少なくとも1層のB層とを備え、前記A層及びB層が、本質的に同一の化学組成を有するが、それぞれの平均粒子幅wA及びwBがwA<wBとなるように互いに異なることを特徴とする耐摩耗性PVDコーティング。各A層が、2<wA<50nmを有する微細粒であり、各B層が、30<wB<500nmを有する粗大粒であり、wB/wA>2であることを特徴とする、請求項1に記載された耐摩耗性PVDコーティング。各A層の厚さが0.03~5μmであり、各B層の厚さが0.1~5μmであり、全てのA層及びB層の合計厚さが、0.3~20μmであることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載された耐摩耗性PVDコーティング。0.5~20μmの厚さまで、A層及びB層の間に1層又は複数の中間層を備えることを特徴とする、請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載された耐摩耗性PVDコーティング。合計コーティング厚さが0.5~30μmとなるまで、基板と最も内側のA層又はB層との間に設けられた内側の単層及び/若しくは多層、並びに/又は、最も外側のA層又はB層上に設けられた外側の単層及び/若しくは多層を備えることを特徴とする、請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載された耐摩耗性PVDコーティング。前記A層及びB層が、化学式Ti1-x1-y1Alx1Mey1N1-a1Qa1z1により表された組成を有し、ここで、0.3<x1<0.7、0≦y1<0.3、0.90<z1<1.10、0≦a1<0.5であり、Meは、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Y、Sc、Ce、Mo、W及びSiの1種又は複数であり、Qは、C、B、S及びOの1種又は複数であることを特徴とする、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載された耐摩耗性PVDコーティング。前記A層及びB層が、化学式Ti1-x2-y2Six2Mey2N1-a2Qa2z2により表された組成を有し、ここで、0.02<x2<0.25、0≦y2<0.3、0.90<z2<1.10、0≦a2<0.5であり、Meは、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Y、Sc、Ce、Mo、W及びAlの1種又は複数であり、Qは、C、B、S及びOの1種又は複数であることを特徴とする、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載された耐摩耗性PVDコーティング。前記A層及びB層が、化学式Cr1-x3-y3Alx3Mey3N1-a3Qa3z3により表された組成を有し、ここで、0.3<x3<0.75、0≦y3<0.3、0.90<z3<1.10、0≦a3<0.5であり、Meは、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Y、Sc、Ce、Mo、W及びTiの1種又は複数であり、Qは、C、B、S及びOの1種又は複数であることを特徴とする、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載された耐摩耗性PVDコーティング。陰極アーク蒸着によって被着されることを特徴とする、請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載のコーティング。真空アーク蒸着を使用してAlTiNコーティングを被着する被着方法であって、前記コーティングは、最小限の組成物:AlXTi1-XN55</=X</=74原子であるを、1AlXMe1-XNMe=Ti、又はCr、Zr、Hf、V、4~5族元素を有する合金であるにアップグレードし、2AlaMe1-a-bXbNX=B、S、Y、Ce、Sc、0</=b</=10原子にアップグレードし、少なくとも1層が微細形態を示し、ある含量のw-AlN格子型と組み合わせたfcc格子型の主要相からなるAlTiNコーティングの被着方法であり、被着装置の磁場と組み合わせて被着装置電流を選択することを特徴とする被着方法。陰極表面に主として垂直な磁場である約0.5~2.5mTの弱磁場、並びに300~700°Cの被着温度で、窒素圧0.5~10Pa及びバイアス電圧約20~300Vにおいて少なくとも100A以上の電流を使用する、請求項10に記載された被着方法。前記陰極表面に主として垂直な磁場である約3~20mTの強磁場、並びに300~700°Cの被着温度で、窒素圧0.5~10Pa及びバイアス電圧約20~300Vにおいて少なくとも50A以上の電流を使用する、請求項10に記載された被着方法。純粋なfcc格子の層A、及び、ある含量のw-AlN格子型を有する層Bの少なくとも2層からなる多層構造の形成に使用される、請求項10又は請求項11に記載された被着方法。それぞれ、低い被着装置電流30...100Aを使用して層Aを形成し、高い被着装置電流100...300Aを使用して層Bを形成する、請求項11及び請求項13に記載された被着方法。[請求項14]A型の層を形成する請求項11に記載された弱磁場を有する被着装置と、請求項12に記載の、B型の層を形成する強磁場を有する被着装置との両方を備えたPVD装置を使用する、請求項11、請求項12、請求項13に記載された被着方法。請求項11に記載された弱磁場と、請求項12に記載された強磁場との間で変動する調節可能な磁場を有する被着装置を使用する、請求項10に記載された被着方法。機械的動きによって磁石の位置を変化させること、又は電磁装置のコイル電流を変化させることによる、請求項15に記載された磁場の強さを変化させる方法。1120ピークを使用して、超硬合金上に被着される時期を示すX線回折検査によって、微量w-AlN相を測定することを特徴とする層B。柱状純粋fcc格子型によるコーティングよりも低い固有応力を示す、請求項10に記載されたコーティング。本発明の目的は、非常に薄い切屑厚さから厚い切屑厚さまでの範囲にわたる広い適用領域において、高い機械加工性能を有するコーティングを提供することである。本発明は、金属への切屑形成機械加工用の切削工具インサートに被着させるのに適した耐摩耗性コーティングに関するものである。本発明によるコーティングは、組成が本質的に同一であるが粒径の異なる少なくとも2層を備えている。このコーティングは、エンドミルを使用した微細機械加工からスローアウェイチップによる中間の又は粗い機械加工までの範囲にある広い適用領域を有する。このコーティングは物理的気相成長法PVDによって被着される。本発明は、金属への切屑形成機械加のための工切削工具用の耐摩耗性PVDコーティングに関する。このコーティングは、本質的に同一の化学組成を有するが、それらの平均粒子幅wA及びwBは互いに異なる。したがってwA<wBである、少なくとも1つのA層および少なくとも1つのB層を備えている。1つの層の粒子幅wは、破面の断面の走査電子顕微鏡SEM像において、その層の中心にある成長方向に垂直な線に沿った粒子の少なくとも20個について数値を求める。本質的に同一の化学組成とは、本明細書においては、A層及びB層が同じ陰極から被着されることを意味する。A層及びB層の被着についての工程条件の違いのため、得られたA層及びB層は同一の化学元素を含有するが、各元素の原子含量が、約±3原子単位内で変化する可能性がある。各A層は、2<wA<50nmを有する微細粒であり、各B層は、30<wB<500nmを有する粗い、本質的に柱状の粒子を有し、wA/wB>2であることが好ましい。各A層の厚さは、0.03~5μm、好ましくは0.05~2μmであり、また各B層の厚さは、0.1~5μm、好ましくは0.2~2μmである。A層及びB層の数は、2~200、好ましくは2~40、最も好ましくは2~20である。全てのA層及びB層の合計厚さは0.3~20μm、好ましくは0.5~10μmである。A層及びB層間の転移は、急激であるか若しくは漸次であるかのいずれかであることが好ましいが、コーティングは、0.5~20μmの間の厚さまで、A層とB層との間に1層又は複数の中間層をも含むことができる。本発明は、微細粒径と粗大粒径との間で連続的に変化している1層又は複数の層を備えるコーティングにも関する。その場合、A層及びB層は、それぞれ微細粒径及び粗大粒径の間で選択された層部分と定義され、各層部分は、成長方向に垂直であって、少なくとも0.1μmの厚さを有する。その場合平均粒子幅の数値が求められる。本発明によるコーティングは、当技術分野で知られているように、基板と最初のA層又はB層との間に設けられた内側の単層及び/又は多層、並びに/或いは最終のA層又はB層上に設けられた外側の単層及び/若しくは多層を、合計コーティング厚さが0.5~30μm、好ましくは0.5~15μm、又は最も好ましくは0.5~10μmとなるまで、さらに備えることができる。好ましい一実施例において、A層及びB層は、化学式Ti1-x1-y1Alx1Mey1N1-a1Qa1z1ここで、0.3<x1<0.7、0≦y1<0.3、好ましくは0≦y1<0.15、最も好ましくはy1=0、0.90<z1<1.10、好ましくは0.96<z1<1.04、0≦a1<0.5、好ましくは0≦a1<0.3、最も好ましくはa1=0であるによる組成を有する。Meは、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Y、Sc、Ce、Mo、W及びSiの1種又は複数、好ましくはZr、Hf、V、Nb、Cr、Ce及びSiの1種又は複数であり、Qは、C、B、S及びOの1種又は複数である。他の好ましい実施例において、A層及びB層は、化学式Ti1-x2-y2Six2Mey2N1-a2Qa2z2ここで、0.02<x2<0.25、0≦y2<0.3、好ましくは0≦y2<0.15、最も好ましくはy2=0、0.90<z2<1.10、好ましくは0.96<z2<1.04、0≦a2<0.5、好ましくは0≦a2<0.3、最も好ましくはa2=0であるによる組成を有する。Meは、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Y、Sc、Ce、Mo、W及びAlの1種又は複数、好ましくはZr、Hf、V、Nb、Cr、Ce及びAlの1種又は複数であり、Qは、C、B、S及びOの1種又は複数である。さらに他の好ましい実施例において、A層及びB層は、化学式Cr1-x3-y3Alx3Mey3N1-a3Qa3z3ここで、0.3<x3<0.75、0≦y3<0.3、好ましくは0≦y3<0.15、最も好ましくはy3=0、0.90<z3<1.10、好ましくは0.96<z3<1.04、0≦a3<0.5、好ましくは0≦a3<0.3、最も好ましくはa3=0であるによる組成を有する。Meは、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Y、Sc、Ce、Mo、W及びTiの1種又は複数、好ましくはZr、Hf、V、Nb、Cr、Ce及びTiの1種又は複数であり、Qは、C、B、S及びOの1種又は複数である。本発明によるコーティングは、PVDによって、好ましくは陰極アーク蒸着によって被着される。粒径の変動は、いくつかの手段、例えば1陰極において磁場を変化させること、2被着温度を変化させること、3蒸発電流を変化させること、及び/又は4バイアス電圧を変化させることによって達成できる。当業者であれば、実験によって適正な工程条件を決定することが可能である。実施例1本発明によるTi,AlNコーティングを、陰極アーク被着により、WC90重量Co10重量の主組成を有する超硬合金cementedcarbideインサートに被着させた。被着前に、インサートを、アルカリ溶液及びアルコールの超音波浴中で洗浄した。被着槽は、基本圧力2.0×10-3Pa未満まで減圧し、その後インサートをArイオンでスパッタリング洗浄した。コーティングは、組成Ti:Al=34:66を有するTiAl複合陰極から、全圧4Paの99.995純粋N2雰囲気中において、バイアス電圧約80V及び蒸発電流90Aを使用し450°Cで被着させた。陰極表面の前面の磁場を、2つのレベルM強及びM弱の間で調節して、それぞれA層及びB層を形成した。M強は、主として陰極表面に垂直であり、3~20mTの範囲で陰極表面で変化する磁場強さを有し、またM弱も、主として陰極表面に垂直であり、0.5~2.5mTの範囲にある磁場強さを有する。最初に、M弱において全被着時間の20でB層を被着させ、次いでM強において全被着時間の30でA層を被着させ、次に同一の手順を1回繰り返した。コーティングは、走査電子顕微鏡観察SEMにより調べられた。図1は、破面の断面のSEM像を示し、A層及びB層が明らかに見られる。図1b中の線に沿って、平均粒子幅wの数値を求めた。A層は、wが約19nmの微細な等軸粒を有し、またB層は、wが約61nmのより粗い柱状粒を有する。合計層厚は約2μmである。実施例2実施例1のコーティングを、下記のデータによりフライス削り作業において試験した。ジオメトリー:XOEXI20408R-M07用途:スクエアショルダーフライス削りワーク片材料:AISI316L切削速度:160m/分フィード:0.15mm/歯切削深さ:2mm切削幅:13mm26工具寿命基準:逃げ面摩耗vb>0.3mm参照として、本発明のコーティングと同様の組成及び厚さの2つの市販Ti,AlNコーティングであるRef1及びRef2を使用した。Ref1は、この特定のフライス削り用途向けの現代の最先端技術であり、wが約100nmの柱状及び粗粒を有している。Ref2は、wが約15nmの微細粒のものである。この表では、本発明のコーティングについて達成された工具寿命が、Ref1の工具寿命と同様であり、Ref2の工具寿命よりも著しく長いことが見出されたことを示している。実施例3実施1のコーティングを、下記のデータを使用して、コーティングしたエンドミルによる微細機械加工において試験した。ジオメトリー:10mmスクエアショルダー超硬合金エンドミル用途:スクエアショルダーフライス削りワーク片材料:Ck45W切削速度:120m/分3800rpmフィード:0.05mm/歯380mm/分切削深さ:13mm切削幅:5mm工具寿命基準:切刃条件削りくず変質参照として、実施例2におけるものと同じ市販Ti,AlNコーティングであるRef1及びRef2を使用した。Ref2は、この特定の用途向けの現代の最先端技術である。この表では、本発明のコーティングについて達成された工具寿命が、Ref2の工具寿命と同様であり、Ref1の工具寿命よりも著しく長いことが見出されたことを示している。本発明は、下記において、より著しく詳細に記述される微細形態を含む被着方法並びにコーティングにも関する。好ましくは真空アーク被着を使用してAlTiNコーティングを被着する被着方法であって、最小限の組成物:AlXTi1-XN55</=X</=74原子を、AlXMe1-XNMe=Ti、又はCr、Zr、Hf、V、4~5族元素を有する合金にアップグレードするステップ1、AlaMe1-a-bXbNX=B、S、Y、Ce、Sc、0</=b</=10原子にアップグレードするステップ2を有し、微細形態を示し、ある含量のw-AlN格子型と組み合わせたfcc格子型が大部分である相からなる、少なくとも1層を有するAlTiNコーティングの被着方法であり、被着装置の磁場と組み合わせて被着装置電流を選択することを特徴とする被着方法。特別な実施例において、この方法は、主として陰極表面に垂直な磁場を有し、300~700°Cの被着温度で、窒素圧0.5~10Pa及びバイアス電圧約20~300Vにおいて少なくとも100A以上の電流による約0.5~2.5mTの弱磁場を使用している。この方法は、主として陰極表面に垂直な磁場を有し、300~700°Cの被着温度で、窒素圧0.5~10Pa及びバイアス電圧約20~300Vにおいて少なくとも50A以上の電流による約3~20mTの強磁場を使用することもできる。本発明による被着方法を使用して、少なくとも2層からなる、すなわち純粋なfcc格子の層A、及び、ある量のw-AlN格子を有する層Bからなる多層構造を形成できる。それぞれ、低い被着装置電流30...100Aを使用して層Aを形成し、高い被着装置電流100...300Aを使用して層Bを形成することが好ましい。型Aの層を形成させる上述の弱磁場を有する被着装置と、型Bの層を形成させる前述の強磁場を有する被着装置との両方を備えたPVD装置を使用することが有利である。他の実施例に関して、弱磁場と強磁場との間で調節可能な磁場を有する被着装置が使用される。また、本発明は、機械的動きによって磁石の位置を変化させるステップ、又は電磁系のコイル電流を変化させるステップによって、磁場の強さを変化させる方法にも関する。さらに、本発明は、1120ピークを使用した、超硬合金上に被着される時期を示すX線回折検査によって、微量w-AlN相を測定することを特徴とする上述の層Bに関し、並びに、柱状純粋fcc格子によるコーティングよりも低い固有応力を示す本発明によるコーティングに関する。下記において、本発明は、より著しく詳細に記述され、特徴付けられる。"