"一般式1式中、Rfは炭素数1以上のペルフルオロ有機基を、Yは存在するか存在せず、存在する場合には炭化水素基を、Zは官能基を、nは1以上の整数を表し、Rf、Yはその表示各位において同一である必要はない。で示される炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。Yが存在して炭化水素基が飽和炭化水素基である、請求項1記載の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。一般式2式中、Rfは炭素数1以上のペルフルオロ有機基を、m、p、qは0以上の整数を、nは1以上の整数を表し、Rfはその表示各位において同一である必要はない。で示される炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。ペルフルオロ有機基が炭素数4~20のペルフルオロアルキル基、ペルフルオロポリエーテル基、またはペルフルオロエーテル基で、nが1、mが2、p=qでpが2~8である請求項3記載の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。請求項1から4のいずれかに記載の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグより誘導される化合物。化合物が糖質誘導体である請求項5記載の化合物。請求項5または6に記載の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグより誘導される化合物を利用して化合物をフルオラス溶媒に抽出する方法。本発明の目的は、フルオラス鎖を3本有し、フルオラス基と官能基の間が全て炭素-炭素結合構造で、様々なリンカーを容易に導入できるように官能基の隣に少なくとも1つ以上のメチレン基を有するヘビーフルオラスタグを提供することである。上記課題を鋭意検討した結果、本発明者らはフルオラス鎖を3本有し、同一炭素上に3本のフルオラス基が炭素-炭素結合で結合しており、しかもフルオラス基と末端の官能基までの間が全て炭素-炭素結合構造であり、官能基の隣に少なくとも1つ以上のメチレン基を有する炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグの合成に成功して、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の通りである。<1>一般式1式中、Rfは炭素数1以上のペルフルオロ有機基を、Yは存在するか存在せず、存在する場合には炭化水素基を、Zは官能基を、nは1以上の整数を表し、Rf、Yはその表示各位において同一である必要はない。で示される炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。<2>Yが存在して炭化水素基が飽和炭化水素基である、<1>記載の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。<3>一般式2式中、Rfは炭素数1以上のペルフルオロ有機基を、m、p、qは0以上の整数を、nは1以上の整数を表し、Rfはその表示各位において同一である必要はない。で示される炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。<4>ペルフルオロ有機基が炭素数4~20のペルフルオロアルキル基、ペルフルオロポリエーテル基、またはペルフルオロエーテル基で、nが1、mが2、p=qでpが2~8である<3>記載の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグ。<5><1>から<4>のいずれかに記載の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグより誘導される化合物。<6>化合物が糖質誘導体である<5>記載の化合物。<7><5>または<6>に記載の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグより誘導される化合物を利用して化合物をフルオラス溶媒に抽出する方法。本発明で提供される新規な炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグは、既存のヘビーフルオラスタグと比べ化学的に非常に安定であり、かつ既存のヘビーフルオラスタグでは分解してしまう強酸性条件下や酸化反応等でも使用することができるため、反応の種類に制限を受けることなくフルオラス合成法を行うことができることから、工業的にも非常に有用なヘビーフルオラスタグである。しかも、官能基の隣に少なくとも1つ以上のメチレン基を有するため、フルオラス鎖3本の立体障害を減じることから、有機合成に必要な様々なリンカーを容易に導入できる。さらに、反応終了後のヘビーフルオラスタグは容易に再生することができ、何度でも再利用が可能であることから、廃棄物削減の観点からも環境に優しく、経済的にも優れたフルオラス合成用のヘビーフルオラスタグを提供できる。本発明の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグは、フルオラス基と官能基との間がすべて炭素-炭素結合骨格である。一般式1において、Rfはペルフルオロ有機基である。ここで有機基とは、C-H部分を必須とする基をいう。有機基としては、飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有飽和炭化水素基が好ましい。Rfの炭素数は1以上であって、1~20が好ましく、特に4~12が好ましい。Rfの構造は直鎖構造であっても、分岐構造であっても、環構造であっても、または部分的に環構造を有する構造であってもよいが、原料となるペルフルオロ有機化合物の入手のしやすさの点から直鎖構造、または分岐構造であるのが好ましいRfの具体例としては次の例が挙げられる。一般式1において、Yは存在するか存在せず、存在する場合には2価の炭化水素基であって、好ましくは飽和炭化水素基であり、特に好ましくはアルキレン基である。Yが炭化水素基である場合の炭素数は、1~30が好ましく、特に2~12が好ましい。Yが炭化水素基である場合の構造は、直鎖構造であっても、分岐構造であっても、環構造であっても、または部分的に環構造を有する構造であっても、または構造中に直鎖構造や分岐構造や環構造が混在する構造であっても、また環構造が複数連結した構造であってもよいが、原料となる炭化水素化合物の入手のしやすさの点から直鎖構造、または環構造であるのが好ましく、特に直鎖構造が好ましい。Yが炭化水素基である場合の具体例としては、次の例が挙げられる。一般式1において、Zは官能基である。官能基の種類としては水酸基、ペルオキシ基、アルデヒド基、ケトン基、カルボキシル基、アミド基、イミド基、シアノ基、オキシム基、チオール基、スルホニル基、ケテン基、ジイミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、アミノ基、イミノ基、アゾ基、アジド基、ニトロ基などが挙げられるが、水酸基、アルデヒド基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基、アジド基が好ましく、特に水酸基が好ましい。一般式1で表される炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグの合成は、如何なる方法によってもよい。具体的な合成例として、一般式2で表される炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグの合成例を示す。すなわち、合成ラジカル開始剤存在下、以下の一般式3式中、m、p、qは2以上の整数を、nは1以上の整数を表し、Rfはその表示各位において同一である必要はない。で表される、末端に不飽和2重結合を有するオレフィン化合物と、一般式4Rf-X4式中、Rfは炭素数1以上のペルフルオロ有機基を表し、Xはヨウ素または臭素を表す。で表わされるペルフルオロ有機ハロゲン化物を反応させ、一般式5式中、Rfは炭素数1以上のペルフルオロ有機基を、m、p、qは2以上の整数を、nは1以上の整数を表し、Rfはその表示各位において同一である必要はない。で表される、目的物質の中間体であるハロゲン付加体が得られる。本発明において使用されるラジカル開始剤としては、ラジカルを発生させるものであれば特に制限されない。代表的なラジカル開始剤としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリルAIBN、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物、過酸化ベンゾイル、ジtert-ブチルペルオキシド等のペルオキシド化合物、トリメチルボラン、トリエチルボラン等のトリアルキルボランが挙げられる。ラジカル開始剤の使用量に特に制限はないが、ペルフルオロ有機ハロゲン化物に対して0.01~1モル当量が好ましく、さらに好ましくは0.05~0.3モル当量が好ましい。反応は、無溶媒で実施しても、溶媒の存在下に実施してもよい。溶媒を用いる場合は、該反応において不活性な溶媒の1種または2種以上を用いうる。溶媒としては、シクロヘキサン、イソオクタン、n-ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-tert-ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロヘプタン、ペルフルオロオクタン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、ペルフルオロ-1,2-ジメチルシクロヘキサン、ペルフルオロデカリン、3M社のフロリナート登録商標シリーズなどのペルフルオアルキル系溶媒、DuPont社のKrytox登録商標シリーズや、ダイキン工業社のデムナム登録商標シリーズ、ソルベイソレクシス社のガルデン登録商標シリーズなどのペルフルオロポリエーテル系溶媒が用いられる。また用いる溶媒の量に特に制限はない。反応の圧力は、減圧下、大気圧下、または加圧下のいずれであってもよい。反応時間には何ら制限はないが、30分~72時間が好ましい。反応温度は使用するラジカル開始剤がアゾ化合物の場合は、分解してラジカルを発生する温度が好ましいため、アゾ化合物の種類により適宜変更しうるが、40°C~200°Cが好ましい。アゾ化合物以外のラジカル開始剤の場合は反応温度には何ら制限はないが、0°C~200°Cが好ましい。一般式5のハロゲン付加体の脱ハロゲン化を行うことで、目的物である一般式1のヘビーフルオラスアルコールが得られる。脱ハロゲン化の工程としては、還元反応による1工程の反応で一般式5から目的物である一般式1を得ることもできる。還元反応としては水素化アルミニウムリチウム、水素化トリブチルスズ、パラジウム0などの還元剤を用いる手法、またはニッケルやパラジウム等の金属触媒による接触水素化還元などが挙げられる。なお、一般式5の構造によっては還元反応が進行しにくい場合がある。この場合は塩基処理による脱ハロゲン化を行う。脱ハロゲン化の際にベータ水素脱離が起こるため、一般式6式中、式中、Rfは炭素数1以上のペルフルオロ有機基を、m、p、qは2以上の整数を、nは1以上の整数を表し、Rfはその表示各位において同一である必要はない。で表されるオレフィン体が生成する。脱ハロゲン化に用いる塩基としてはルイス塩基でもブレンステッド塩基でもよく、また無機塩基、有機塩基のいずれであっても用いることができる。また塩基の形態は気体、液体、固体のどの形態でもよい。塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジエチルアミン、ブチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられる。塩基の使用量に特に制限はないが、一般式4のハロゲン付加体に対して3~20モル当量が好ましく、さらに好ましくは6~10モル当量が好ましい。この反応における反応温度としては、通常-78°C~溶媒の沸点であり、-10~60°Cが好ましく、0~40°Cが特に好ましい。反応時間には何ら制限はないが、30分~72時間が好ましい。一般式6のオレフィン中間体は還元反応により目的物である一般式2を得ることができる。オレフィン中間体の還元反応としてはニッケルやパラジウム等の金属触媒による接触水素化還元が好ましい。還元反応における反応温度には何ら制限はないが、0~40°Cが好ましい。反応時間には何ら制限はないが、10分~48時間が好ましい。反応の圧力は、大気圧下、または加圧下のいずれであってもよい。以上のようにして得られる、本発明化合物である炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグは、例えばリンカーとしてベンジル型リンカーを用いると、ウィリアムソン法によるエーテル化が可能である。更に、接触還元により容易に炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグに再生される。以下に、本発明を実施例を用いて更に詳細に説明するが、これらの実施例は本発明の具体例を示すもので、本発明を何ら限定するものではない。炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグの合成1工程1アルゴン雰囲気中、テトラヒドロフラン5mLにリチウムジイソプロピルアミド1.09Mテトラヒドロフラン溶液、13mL、14.2mmolとヘキサメチルホスホルアミド2.3mL,13.2mmolを加え、-78°Cに冷却した。ここにクロトン酸エチル1.5mL,12.1mmolをテトラヒドロフラン1mLに溶解させた溶液を加え、-78°Cで1時間攪拌した。さらに5-ブロモペンテン1.9mL,16.1mmolを加えたのち、反応温度を室温まで自然昇温させながら一晩攪拌し、得られた溶液を反応溶液Aとする。次に、別な反応容器中にアルゴン雰囲気中、テトラヒドロフラン5mLにリチウムジイソプロピルアミド1.09Mテトラヒドロフラン溶液、13mL、14.2mmolとヘキサメチルホスホルアミド2.3mL,13.2mmolを加え、-78°Cに冷却した。ここに反応溶液Aを加え-78°Cで1時間攪拌した。さらに5-ブロモペンテン1.7mL,14.4mmolを加えたのち、反応温度を室温まで自然昇温させながら一晩攪拌した。反応温度を0°Cにした後、反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させた。反応溶液にn-ヘキサンを加えて分配抽出し有機層を分離した後、有機層を2M塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーn-ヘキサン:酢酸エチル=30:1にて精製し、化合物1を2.04g67得た。2工程2水素化アルミニウムリチウム309mg,8.14mmolをジエチルエーテル10mLに加え反応温度を0°Cにした溶液に、実施例1で得られた化合物12.04g,8.14mmolをジエチルエーテル20mLに溶解させた溶液を加え0°Cで攪拌した。2時間後に氷片を加えて反応を停止させた後、さらに3M水酸化ナトリウム水溶液を加えた。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーn-ヘキサン:酢酸エチル=7:1にて精製し、化合物2を1.67g74得た。3工程3工程2で得られた化合物2111mg,0.53mmolをn-ヘキサン1mLに溶解させ、さらにC8F17I2.45g,4.48mmolとフロリナート登録商標FC-724mLを加えて反応温度を60°Cにし、1Mトリエチルボラン/n-ヘキサン溶液0.5mLを加えて攪拌した。3時間後と6時間後にそれぞれ1Mトリエチルボラン/n-ヘキサン溶液0.5mLを加えた。20時間後に室温まで反応温度を下げた後、溶媒を減圧濃縮し、残渣にFC72とアセトニトリルを加え、分配抽出後FC72層を分離し、溶媒を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーn-ヘキサン:酢酸エチル=10:1にて精製し、化合物3を551mg56得た。4工程4工程3で得られた化合物3550mg、0.30mmolをテトラヒドロフラン10mLに溶解させ、ジアザビシクロウンデセン0.27mLを加え室温で一晩攪拌した。反応液を濾過して不溶物を除去した後、ろ液に酢酸エチルを加え、有機層を1M塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をエタノール5mL-酢酸エチル5mL混合溶媒に溶解させ、水酸化パラジウム/炭素260mgと触媒量の酢酸を加え、溶液中に水素ガスをバブリングしながら18時間攪拌した。反応液を濾過し、ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーn-ヘキサン:酢酸エチル=8:1にて精製し、化合物4を269mg61得た。炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグの安定性の検討本発明の1級アルコール型の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグの安定性について、従来のエーテル結合型ヘビーフルオラスタグとの比較実験を行った。1級アルコール型の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグとしては実施例1で合成した化合物4を、比較例であるエーテル結合型ヘビーフルオラスタグとしては化合物5を用いた。まず、比較例として、化合物5354mg,0.23mmolを酢酸エチル3.5mLに溶解させ、1.0M三臭化ホウ素のジクロロメタン溶液0.70mL,0.70mmolを加え、室温で17時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで3回抽出した。有機層を飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーn-ヘキサン:酢酸エチル=1:1にて精製したところ、エーテル結合が1か所切断された化合物6が139mg56得られた。次に、実施例2として、化合物4102mg,69.5μmolを酢酸エチル1mLに溶解させ、三臭化ホウ素の1.0Mジクロロメタン溶液0.21mL,0.21mmolを加え、室温で20時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで3回抽出した。有機層を飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーn-ヘキサン:酢酸エチル=10:1にて精製したところ、化合物4がほぼ定量的100mg、98に回収された。以上の結果から、本発明の炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグは、比較例である従来のエーテル型ヘビーフルオラスタグが分解してしまう反応条件下でも安定であることが明らかとなった。炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグを用いた糖鎖合成化合物4313mg,0.21mmol、α,α-ジブロモキシレン281mg,1.07mmolおよび15-クラウン-50.13mL,0.64mmolをテトラヒドロフラン1.5mLとノベック登録商標HFE71000.75mLの混合溶媒に溶解させ、この溶液に水素化ナトリウム29mg,0.66mmolを加え、室温で24時間攪拌した。反応液に水0.5mlを加え過剰の試薬を分解した後、水30ml、トルエン30mLおよびペルフルオロカーボンフロリナート登録商標FC7230mL×3で分配抽出した。FC72層に無水硫酸マグネシウムを加え乾燥させた後、乾燥剤を濾別し、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣326mgとチオ尿素17.8mg,0.23mmolをエタノール6mLに溶解させ、4時間加熱還流した。反応液に0.35M水酸化ナトリウム水溶液0.91mlを加えさらに2時間加熱還流した。反応液に希硫酸を加えpHを2~3に調製した後、メタノール20mLとFC-7220mL×3で分配抽出し、FC72層を減圧濃縮した。得られた残渣304mgと2-フタルイミド-2-デオキシ-1,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコース509mg,1.07mmolをジクロロメタン3mLとHFE71003mLの混合溶媒に溶解させ、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体0.12mL,1.07mmolを加え、室温で21時間攪拌した。反応液に飽和食塩水を加え、クロロホルムで3回抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧留去した。残渣に95メタノール水溶液20mLを加えHFE7100:FC72=2:1のフルオラス混合溶媒20mL×3で分配抽出した。フルオラス混合溶媒層を分取後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーn-ヘキサン:酢酸エチル=3:1にて精製し、化合物7を175mg3工程41得た。化合物71H-NMRCDCl3:δ=1.12-1.41m,12H,1.51-1.64m,6H,1.84s,3H,1.89-2.10m,9H,2.12s,3H,3.11s,2H,3.76-3.80m,1H,4.27-4.33m,1H,4.34-4.67m3H,5.17t,J=8.9Hz,1H,5.32d,J=11.0Hz,1H,5.77t,J=8.9Hz,1H,7.10-7.24m,4H,7.71-7.87m,4H.次に、化合物7128mg,64.1μmolとメチル=2,3,4-トリ-O-ベンジル-α-D-グルコピラノシド149mg,0.32mmolをアルゴン雰囲気下、ジクロロメタン1mLとHFE71000.5mLの混合溶媒に溶解し、モレキュラーシーブス4A0.24gを加え、室温で2時間攪拌した。その後N-ヨードスクシンイミド28.8mg,128μmolおよびトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートの0.1Mジクロロメタン溶液256μL,25.6μmmolを順次加え、室温で21時間攪拌した。固形物を濾別し、酢酸エチルで洗浄した。濾液は洗液と合わせて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧留去した。残渣に95アセトニトリル水溶液20mLを加えHFE7100:FC72=2:1のフルオラス混合溶媒20mL×3で分配抽出した。有機層を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルシリカゲルカラムクロマトグラフィーn-ヘキサン:酢酸エチル=2:1にて精製し、目的物質である2糖誘導体の化合物8を16.9mg30得た。一方、フルオラス混合溶媒層を分取後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーn-ヘキサン:酢酸エチル=3:1にて精製し、化合物9を27.7mg14得た。さらに原料である化合物7を175mg56回収した。化合物8:1HNMR600MHz,CDCl3:δ=1.83S,3H,2.03S,3H,2.09S,3H,3.17S,3H,3.23t,J=9.0Hz,1H,3.38dd,J=6.2,3.5Hz,1H,3.66d,9.0Hz,2H,3.81-3.89m,2H,4.10t,J=10.3Hz,2H,4.17dd,J=9.6,2.1Hz,1H,4.32dd,J=7.6,4.8Hz,1H,4.35-4.42m,3H,4.57d,J=12.4Hz,1H,4.65d,J=11.0Hz,1H,4.72d,J=11.7Hz1H,4.86d,J=11.0Hz,1H,5.18t,J=10.3Hz,1H,5.43d,J=9.1Hz,1H,5.79t,J=9.1Hz,1H,7.00-7.04m,2H,7.19-7.35m,15H,7.46-7.80m,2H.化合物9:1HNMR600MHz,CDCl3:δ=1.31-1.37m,24H,1.50-1.62m,12H,1.91-2.08m,12H,3.13S,4H,3.60s,4H,4.40s,4H,7.11-7.30m,8H.炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグの再生化合物925.5mg,80.7μmolをベンゾトリフルオリド3mLに溶解させ、無水酢酸0.3mLおよび三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体0.3mLを加え、50°Cで3時間攪拌した。反応液に飽和食塩水を加え酢酸エチルで3回抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、溶媒を減圧留去した。残渣をメタノール20mLとFC-7220mL×3で分配抽出し、FC-72層を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール2mLとHFE71002mLの混合溶媒に溶解させ、28ナトリウムメトキシドメタノール溶液40μLを加え、室温にて20時間攪拌した。反応液にAmberliteIR-120Hformを加えて中和後、樹脂を濾別し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーn-ヘキサン:酢酸エチル=10:1にて精製し、炭素-炭素結合型ヘビーフルオラスタグ4を21.9mg90得た。化合物4MALDI-TOFMASS:CalcdforC38H27F51NaO5MNa:1491.1、Found:1491.1."