硝酸銅溶液からなる電解液を用いた高純度電気銅の電解精製方法において、a前記電解液中のイオウS含有量を20ppm以下に調整し、b添加剤としてポリエチレングリコールPEGおよびポリビニルアルコールPVAを添加し、c塩素イオンを添加し、電解を行うことを特徴とする高純度電気銅の電解精製方法。前記電解液中のイオウS含有量を5ppm以下に調整することを特徴とすることを特徴とする請求項1に記載の高純度電気銅の電解精製方法。前記電解液中のイオウS含有量を1ppm以下に調整することを特徴とすることを特徴とする請求項2に記載の高純度電気銅の電解精製方法。硝酸銅溶液からなる電解液を用いた高純度電気銅の電解精製方法によって銅カソード中のイオウS含有量を0.1ppm以下にした後、前記銅カソードをアノードとして用いて、請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の高純度電気銅の電解精製方法により2回目の電解をすることを特徴とする高純度電気銅の電解精製方法。請求項3に記載の高純度電気銅の電解精製方法において、前記電解液中にバリウム塩を添加することにより、電解液中のイオウS含有量を1ppm以下に調整することを特徴とする高純度電気銅の電解精製方法。前記バリウム塩が硝酸バリウムであることを特徴とする請求項5に記載の高純度電気銅の電解精製方法。イオウS含有量が0.01ppm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかの方法により電解精製された高純度電気銅。本発明者らは、高純度銅の電解精製時における、電解液中に含まれるS含有量と銅カソード中のS含有量に着目し、その関連性について鋭意研究を行った結果、以下の知見を得た。a電解液中に含まれるS含有量が増加すると、銅カソード中のS含有量も増加すること。b銅カソード中のS含有量を0.01ppm以下にするためには、電解液中のS含有量を20ppm以下にする必要があること。さらに、電解液中のS含有量を5ppm以下にすることによって、銅カソード中のS含有量をさらに減少させることができ、電解液中のS含有量を1ppm以下にすることによって、より一層、銅カソード中のS含有量を減少させることができることを確認した。c添加剤としてPEG、PVAを用い、塩素イオンを適宜添加することでAgの含有量は低減できるが、電解液中にSが20ppm以上存在するとPEG、PVA、塩素を併用したとしてもカソード中のS含有量を0.01ppm以下にできないこと。d電解を繰り返し行ってもバリウム塩を加えることにより電解液中のS含有量を1ppm未満に維持することができ、安定的にS含有量が0.01ppm以下のカソードを得ることができること。本発明は、前記知見に基づいてなされたものであって、1硝酸銅溶液からなる電解液を用いた高純度電気銅の電解精製方法において、a前記電解液中のイオウS含有量を20ppm以下に調整し、b添加剤としてポリエチレングリコールPEGおよびポリビニルアルコールPVAを添加し、c塩素イオンを添加し、電解を行うことを特徴とする高純度電気銅の電解精製方法。2前記電解液中のイオウS含有量を5ppm以下に調整することを特徴とすることを特徴とする1に記載の高純度電気銅の電解精製方法。3前記電解液中のイオウS含有量を1ppm以下に調整することを特徴とすることを特徴とする2に記載の高純度電気銅の電解精製方法。4硝酸銅溶液からなる電解液を用いた高純度電気銅の電解精製方法によって銅カソード中のイオウS含有量を0.1ppm以下にした後、前記銅カソードをアノードとして用いて、1乃至3のいずれかに記載の高純度電気銅の電解精製方法により2回目の電解をすることを特徴とする高純度電気銅の電解精製方法。53に記載の高純度電気銅の電解精製方法において、前記電解液中にバリウム塩を添加することにより、電解液中のイオウS含有量を1ppm以下に調整することを特徴とする高純度電気銅の電解精製方法。6前記バリウム塩が硝酸バリウムであることを特徴とする5に記載の高純度電気銅の電解精製方法。7イオウS含有量が0.01ppm以下であることを特徴とする1乃至6のいずれかの方法により電解精製された高純度電気銅。を特徴とするものである。つぎに、本発明について詳細に説明する。本発明において電解液中のS含有量を20ppm以下にした理由は、20ppmを超えると電解後の銅カソード中のS含有量が0.01ppmを越えてしまう。また、電解液中のS含有量に比例して銅カソード中のS含有量も上昇するため、より高品位の銅カソードを得るために、電解液中のS含有量は好ましくは5ppm以下、さらに好ましくは1ppm以下とした。また、2回目の電解に用いる銅アノード中のS含有量を0.1ppm以下に限定した理由は、0.1ppm以下の場合は、電解時、銅アノード中に含有されていたSはスライム中に濃縮するため電解液中に溶出せず電解液中のS量が増加しないが、アノード中のS含有量が0.1ppmを超えるとスライム中に濃縮しきれず電解液中にも溶出し始める。そのため、2回目の電解に用いる銅アノード中のS含有量を0.1ppm以下に限定した。なお、2回目の電解に用いる銅アノード中のS含有量を0.1ppm以下とする方法については、特に限定されるものではなく、前述した本発明による1乃至3のいずれかの方法であっても構わないし、本発明の方法によらなくても構わない。バリウム塩を添加する理由は、アノードから溶出した浴中のSは、SO42-イオンとして存在していると考えられるため、SO42-イオン硫酸を添加した浴にバリウム塩を加えることで、浴中のSをBaSO4として沈降処理するためである。バリウム塩には硝酸バリウム塩化バリウム炭酸バリウム等が使用できる。本発明によれば、大掛かりな設備を必要とすることなく、電解を繰り返してもS含有量0.01ppm以下を満足できる高純度電気銅の電解精製方法を実現することができる。つぎに、本発明について、実施例および比較例により具体的に説明する。硝酸銅溶液からなる電解液のS含有量を1ppm以下に調整し、PEG2000、PVA500を4:1の量比にて混合したものを40ppm、塩素イオン塩素イオン源は塩酸を使用したを100ppm添加し、電流密度は1.08A/m2、カソード面積は100cm×100cmで電解精製を行った。さらに連続的に電解した際の、アノード中のSの溶出、およびカソードへのS取り込まれ量を検証するため、長時間電解を行い、電解液中のS溶出量と、その時に作成したカソード中のS含有量を検証した。PEG2000、PVA500、塩素イオンは電解と共に消費されるため、消費量分を追加添加することで、濃度を維持した状態にて電解を行った。その結果を、表1に示す。いずれのカソードも表面が非常に平滑であった。総通電量26400KAhrの通電を行ったところ、アノードからのSの溶出が確認された。また、電解液中のS濃度の上昇に伴い、カソード中のS含有量も上昇傾向にあることがわかった。また、電解液中のS濃度が5ppmであっても、S=0.006ppmのカソードを得ることが出来た。総通電量26400KAhrの通電を行ったところ、電解液中のS濃度が21ppmとなり、得られたカソードもS濃度がS=0.011ppmとなり、カソード中のS含有量が0.01ppm以下を満たせない事がわかった。電解液中のS濃度の上昇と共に、カソード中のS含有量も上昇するため、電解液中のS濃度は20ppm以下、好ましくは5ppm以下、さらに好ましくは1ppm以下に維持する事が望ましい。電解液中のS含有量を20ppm以下に調整することにより、析出銅中のS含有量を0.01ppm以下にすることが可能であることがわかった。カソード中のS含有量が0.01ppm以上0.1ppm以下であるものについて、そのカソードをアノードとして用いて2回目の電解を行った。電流密度は、1.08A/m2、カソード面積は15cm×35cmで電解を行った。さらに連続的に電解した際の、アノード中のSの溶出、およびカソードへのS取り込まれ量を検証するため、長時間電解を行い、電解液中のS溶出量と、その時に作成したカソード中のS含有量を検証した。その結果を、表2に示す。比較例として、アノード中のS含有量が0.3ppmのものについても、同様に電解を行った。その結果を、表3に示す。アノード中のS含有量が0.1ppm以下のものを用いて、総通電量121KAhrの通電を行ったところ、いずれも、カソード中のS含有量は0.01ppm以下の高純度電解銅が得られた。したがって、本実施例の2回電解法は析出銅中のS含有量を0.01ppm以下にするのに有効であることがわかった。また、アノード中のS含有量が0.1ppm以下のものを用いると、長時間電解を行っても、電解液中へのSの溶出が確認されなかった。よって、電解を2回行うと、電解液中にSが溶出しないため、さらに安定してS含有量が0.01ppm以下のカソードが得られることがわかった。比較例において、電解に用いる銅アノード中のS含有量が0.1ppmを超えると電解液中にSが溶出し、時間の経過と共に浴中のS濃度が1ppmを超えてしまう。よって、長時間電解を行っても、電解液中にSが溶出しないアノードは、アノード中のS含有量が0.01ppm以上0.1ppm以下のものと限定した。実施例1に示したように、電解に用いる銅アノード中のS含有量が0.1ppmを超えると電解時間と共に浴中のS濃度が上昇する。そこでバリウム塩を添加し連続的にSを除去した。バリウム濃度として100ppmとなるよう硝酸バリウムを添加し、アノードから溶出するSを硫酸バリウムの沈殿としてフィルタリングすることで、連続的に除去した。その結果、150KAhr電解後も浴中のS濃度を1ppm以下とすることができ、低S濃度高純度銅を製造することができた。また、S値が23ppmの電解液に硝酸バリウムを1000ppm添加することで、S値が0.5ppmになった。よって、連続的にバリウムを添加しなくとも、S含有量が20ppm以上になった場合にバッチ処理で硝酸バリウムを添加し沈降処理することで浴中のS濃度を1ppm以下にすることが可能であることがわかった。