"透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、金属酸化物薄膜と金属薄膜とが交互に積層されてなる透明積層部と、前記透明積層部に接して積層された応力緩和層と、前記応力緩和層に接して積層された保護層とを有し、前記応力緩和層と前記保護層とは硬化物より形成されており、前記保護層の弾性率は前記応力緩和層の弾性率より大きいことを特徴とする透明積層フィルム。前記保護層の弾性率は、3.0~9.0GPaの範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の透明積層フィルム。前記応力緩和層の弾性率は、0.4~5.0GPaの範囲内にあることを特徴とする請求項1または2に記載の透明積層フィルム。前記応力緩和層と前記保護層との合計厚みは、0.3~5μmの範囲内であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の透明積層フィルム。前記硬化物は、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、あるいは、酸化ケイ素であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の透明積層フィルム。前記透明積層部の前記応力緩和層側に、金属酸化物薄膜が配置されていることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の透明積層フィルム。しかしながら、従来知られる透明積層フィルムは、以下の点で問題があった。すなわち、市販の透明積層フィルムは、透明積層部上に保護層として二軸延伸ポリプロピレン膜が形成されている。二軸延伸ポリプロピレンは、耐擦傷性に劣る。そのため、人がほとんど触れることのない冷蔵庫のガラス裏面等には適用可能であるものの、人が触れる機会の多い住宅やビル、自動車等における窓ガラスの室内側面に適用することは難しい。また、特許文献1の透明積層フィルムにおいて、透明積層部の表面に保護層として未硬化のアクリル系樹脂等を塗布した場合や、特許文献2の透明積層フィルムのように保護層の第二層を未硬化のポリアクリロニトリルから形成した場合も、上記と同様に耐擦傷性の問題が発生する。これら耐擦傷性の問題を回避するため、保護層を硬質化することも考えられるが、単純に保護層を硬質化しても、下層の透明積層部と十分に密着させることは難しい。本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、本発明が解決しようとする課題は、良好な断熱性を有しつつ、透明積層部を保護する保護層の耐擦傷性、密着性に優れた透明積層フィルムを提供することにある。上記課題を解決するため、本発明に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、金属酸化物薄膜と金属薄膜とが交互に積層されてなる透明積層部と、上記透明積層部に接して積層された応力緩和層と、上記応力緩和層に接して積層された保護層とを有し、上記応力緩和層と上記保護層とは硬化物より形成されており、上記保護層の弾性率が上記応力緩和層の弾性率より大きいことを要旨とする。ここで、上記保護層の弾性率は、3.0~9.0GPaの範囲内にあることが好ましい。また、上記応力緩和層の弾性率は、0.4~5.0GPaの範囲内にあることが好ましい。また、上記応力緩和層と保護層との合計厚みは、0.3~5μmの範囲内であることが好ましい。また、上記硬化物は、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、あるいは、酸化ケイ素であることが好ましい。また、上記透明積層部の応力緩和層側には、金属酸化物薄膜が配置されていることが好ましい。本発明に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、金属酸化物薄膜と金属薄膜とが交互に積層されてなる透明積層部と、透明積層部に接して積層された応力緩和層と、応力緩和層に接して積層された保護層とを有している。そして、応力緩和層と保護層とは、硬化物より形成されている。そのため、本発明に係る透明積層フィルムによれば、良好な断熱性を有しつつ、従来に比べ、良好な耐擦傷性を発揮できる。また、透明積層部と保護層との間に応力緩和層が形成されており、保護層の弾性率は応力緩和層の弾性率より大きくなっている。そのため、保護層の密着性にも優れる。これは、保護層よりも弾性率が小さい応力緩和層により、保護層の形成時における硬化性樹脂の硬化収縮による応力が緩和され、応力剥離が抑制されるためであると考えられる。ここで、上記保護層の弾性率が3.0~9.0GPaの範囲内にある場合には、耐擦傷性に優れる。また、上記応力緩和層の弾性率が0.4~5.0GPaの範囲内にある場合には、保護層の密着性向上に寄与できる。また、上記応力緩和層と保護層との合計厚みが0.3~5μmの範囲内である場合には、遠赤外線の吸収が少なくなり、断熱性の向上に有利となる。また、上記硬化物がアクリル樹脂、シリコーン樹脂、あるいは、酸化ケイ素である場合には、耐擦傷性、密着性の向上に寄与しやすい。また、比較的材料の種類が多いので、弾性率選択の余地も広がる。また、上記透明積層部の応力緩和層側に金属酸化物薄膜が配置されている場合には、透明積層部と応力緩和層との密着性の向上に有利となる。本実施形態に係る透明積層フィルム以下、本積層フィルムということがある。について詳細に説明する。1.本積層フィルム図1は、本積層フィルムを模式的に示したものである。図1に示すように、本積層フィルム10は、透明高分子フィルム12と、透明積層部14と、応力緩和層16と、保護層18とを有している。透明高分子フィルムの材料としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロース、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマー等の高分子材料を例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。また、2種以上の透明高分子を積層して用いることもできる。これらのうち、とりわけ、透明性、耐久性、加工性等に優れるなどの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンポリマー等を好適なものとして例示することができる。透明高分子フィルムの厚みの下限値は、加工時にしわが入り難い、破断し難いなどの観点から、好ましくは、15μm以上、より好ましくは、25μm以上であると良い。一方、透明高分子フィルムの厚みの上限値は、巻回容易性、経済性などの観点から、好ましくは、500μm以下、より好ましくは、250μm以下であると良い。透明積層部は、金属酸化物薄膜以下、MOと略表記することがある。と金属薄膜以下、Mと略表記することがある。とを少なくとも含んでいる。金属薄膜Mの何れか一方面または両面には、さらに、バリア薄膜以下、Bと略表記することがある。が形成されていても良い。金属薄膜Mを構成する元素が金属酸化物薄膜MO中に拡散するのを抑制しやすく、耐久性の向上に寄与できるからである。透明積層部の基本構造としては、金属酸化物薄膜MOと金属薄膜Mとが交互に積層された積層構造等を例示することができる。具体的には、可視光透過性、遠赤外線反射性などの観点から、MO1層目│B/M/B2層目│MO3層目、MO1層目│B/M2層目│MO3層目、MO1層目│M/B2層目│MO3層目、MO1層目│M2層目│MO3層目、M1層目│MO2層目│M3層目、B/M/B1層目│MO2層目│B/M/B3層目、M/B1層目│MO2層目│B/M/B3層目、B/M/B1層目│MO2層目│B/M3層目、M/B1層目│MO2層目│B/M3層目、B/M/B1層目│MO2層目│M3層目、M1層目│MO2層目│B/M/B3層目、M/B1層目│MO2層目│M3層目、M1層目│MO2層目│B/M3層目等の3層積層構造、MO1層目│B/M/B2層目│MO3層目│B/M/B4層目│MO5層目、MO1層目│B/M2層目│MO3層目│B/M4層目│MO5層目、MO1層目│M/B2層目│MO3層目│M/B4層目│MO5層目、MO1層目│M2層目│MO3層目│M4層目│MO5層目、B/M/B1層目│MO2層目│B/M/B3層目│MO4層目│B/M/B5層目等の5層積層構造、MO1層目│B/M/B2層目│MO3層目│B/M/B4層目│MO5層目│B/M/B6層目│MO7層目、MO1層目│B/M2層目│MO3層目│B/M4層目│MO5層目│B/M6層目│MO7層目、MO1層目│M/B2層目│MO3層目│M/B4層目│MO5層目│M/B6層目│MO7層目、MO1層目│M2層目│MO3層目│M4層目│MO5層目│M6層目│MO7層目、B/M/B1層目│MO2層目│B/M/B3層目│MO4層目│B/M/B5層目│MO6層目│B/M/B7層目等の7層積層構造などを好適な構造として例示することができる。好ましくは、コスト、特性等の観点から、3層、5層、7層積層構造であると良い。さらには、これら積層構造のうち、透明積層部の応力緩和層と接する部位に、金属酸化物薄膜が配置されている3層、5層、7層積層構造を好適なものとして用いることができる。例えば、後述する応力緩和層がアクリル系硬化物よりなる場合においては、応力緩和層を透明積層部上に積層した場合に、金属酸化物薄膜中に含まれることがある水酸基等の官能基とアクリル系硬化物の酸基あるいは酸エステル基とが反応し、透明積層部と応力緩和層との密着性が高まり、密着性向上に有利となるからである。なお、透明積層部の積層数は、透明積層部を支持する透明高分子フィルム側から数える。バリア薄膜Bは金属薄膜Mに付随する薄膜であるためバリア薄膜Bを含めた金属薄膜Mを1層、金属酸化物薄膜MOを1層として数える。│は層の区切りを意味し、/は金属薄膜Mにバリア薄膜Bが付随していることを意味する。2以上の金属酸化物薄膜MO、バリア薄膜Bを有する場合、膜質、膜厚等は同じであっても異なっていても良い。ここで、本積層フィルムにおいて、応力緩和層は、上述の透明積層部の表面に接して積層されている。また、保護層は、応力緩和層の表面に接して積層されている。応力緩和層および保護層は、ともに硬化物より形成されている。具体的には、熱硬化物より形成されていても良いし、光硬化物より形成されていても良い。さらには、熱硬化性樹脂と光硬化性樹脂とが混合された硬化性樹脂の硬化物より形成されていても良い。但し、硬化物の選択は、保護層の弾性率が、応力緩和層の弾性率より大きくなるように設定される。保護層形成時の硬化による応力を応力緩和層により適切に緩和させ、良好な密着性を得るためである。なお、上記弾性率は、微小硬度計を用いて測定することができる。詳しい測定方法は、実施例にて後述する。上記応力緩和層の弾性率は、保護層の密着性向上に寄与できるなどの観点から、好ましくは、0.05~7.0GPa、より好ましくは、0.4~5.0GPa、さらに好ましくは、1.5~5.0GPaの範囲内にあると良い。上記保護層の弾性率は、耐擦傷性に優れるなどの観点から、好ましくは、1.0~15.0GPa、より好ましくは、3.0~9.0GPa、さらに好ましくは、4.5~9.0GPaの範囲内にあると良い。上記応力緩和層、保護層の材料としては、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、酸化ケイ素などを挙げることができる。耐擦傷性、密着性の向上に寄与しやすく、また、比較的材料の種類が多いので弾性率選択の余地も広がるからである。この際、応力緩和層と保護層とは、同種の材料であっても良いし、異種の材料であっても良いが、応力緩和層と保護層との間の密着性を考慮すると、同種の材料であることが好ましい。同種の材料とは、いずれの材料もアクリル樹脂であったり、いずれの材料もシリコーン樹脂であったり、いずれの材料も酸化ケイ素であったりする場合をいう。上記応力緩和層、保護層の材料としては、より好ましくは、いずれの材料も酸化ケイ素の場合である。酸化ケイ素は、アクリル樹脂やシリコーン樹脂よりも硬くできるため、保護層の厚みをより薄くしても耐擦傷性を確保できる。いいかえれば、アクリル樹脂やシリコーン樹脂を用いた場合の透明性や耐擦傷性を維持したまま保護層の厚みを薄くできるため、保護層での遠赤外線の吸収をより抑えることができる。つまり、保護層を形成する材料に酸化ケイ素を用いることで、アクリル樹脂などと比べて、透明性、耐擦傷性を維持しつつ、断熱性をさらに向上させることができる熱貫流率をさらに低減させることができる。酸化ケイ素は、シリコンアルコキシドからゾルゲル法により硬化させても良いし、シラザンから加水分解反応により硬化させても良い。これらの硬化方法のうち後者は、硬化収縮が小さく、透明積層部との密着性を維持する点で、より好ましい。酸化ケイ素は、硬化後の有機分量を調整することで弾性率を制御することができる。シリコンアルコキシドを用いる場合には、シリコンアルコキシドの加水分解量を調整することで有機分を含む酸化ケイ素とし、硬化後の有機分量を調整することができる。シラザンを用いる場合には、有機ポリシラザンを用いることで有機分を含む酸化ケイ素とすることができる。また、シラザンを用いる場合には、例えば無機ポリシラザンと有機ポリシラザンとの混合比を調整することで硬化後の有機分量を調整することができる。無機ポリシラザンは、有機基炭化水素基を含まないポリシラザンであり、加水分解によって得られる酸化ケイ素には有機分は含まれない。有機ポリシラザンは、有機基炭化水素基を含むポリシラザンである。有機基炭化水素基は、シリコン原子に結合する有機基炭化水素基であり、シラザンの加水分解硬化によって得られる酸化ケイ素中に残存するものである。有機基炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基などの比較的低分子量の炭素数の小さい、例えば炭素数が1~3程度の有機基炭化水素基であることが好ましい。シラザンを用いる場合には、有機ポリシラザン成分が多くなるにつれて弾性率が低くなり、これにより応力の低減を図ることができる。また、有機ポリシラザン成分が多くなるにつれて酸化ケイ素中のSi-O結合の割合が低下する。Si-O結合は、遠赤外線を吸収する結合であり、このSi-O結合の割合が低下することにより遠赤外線の吸収量が低下するため、結果として熱貫流率の低減断熱性能の向上にもつながる。上記応力緩和層、保護層の材料として酸化ケイ素を用いる場合には、弾性率の関係から、例えば、応力緩和層には有機分を含む酸化ケイ素が用いられ、保護層には有機分を含まない酸化ケイ素が用いられる構成などを好適な構成として挙げることができる。また、上記応力緩和層、保護層の材料としては、アクリル樹脂を用いることができる。具体的には、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、シリコンアクリル樹脂、アクリルメラミン樹脂などを挙げることができる。応力緩和層を形成するアクリル樹脂としては、アクリルウレタン樹脂などが好ましい。保護層を形成するアクリル樹脂としては、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、シリコンアクリル樹脂などが好ましい。なお、保護層は、弾性率を上げるために、シリカ等の透明なフィラーを含有していても良い。上記応力緩和層と保護層との合計厚みは、遠赤外線の吸収が少なくなり、断熱性の向上に有利であるなどの観点から、好ましくは、0.3~5μm、より好ましくは、0.3~3μm、さらに好ましくは、0.3~1μmの範囲内にあると良い。より具体的には、上記応力緩和層の厚みは、密着性、遠赤外線低吸収などの観点から、好ましくは、0.1~3.5μm、より好ましくは、0.1~1.0μm、さらに好ましくは、0.1~0.4μmの範囲内にあると良い。一方、上記保護層の厚みは、耐擦傷性、遠赤外線低吸収などの観点から、好ましくは、0.2~3.7μm、より好ましくは、0.2~2.0μm、さらに好ましくは、0.2~0.6μmの範囲内にあると良い。なお、上記応力緩和層、保護層は、それぞれを形成するための硬化性樹脂を適当な溶剤に希釈し、塗工法を用いて層状にコーティングした後、熱や光など、使用樹脂に応じた適当な硬化手段により硬化させることにより形成することができる。上記保護層の鉛筆硬度はH以上であることが好ましい。耐擦傷性を向上させることができるため、窓ガラスに好適に適用しやすくなるからである。より好ましくは、2H以上、さらに好ましくは、3H以上であると良い。なお、上記鉛筆硬度は、JIS-K5400に準拠して測定される値である。以下、本積層フィルムの透明積層部を構成する金属酸化物薄膜MO、金属薄膜M、バリア薄膜Bについて詳細に説明する。<金属酸化物薄膜>本積層フィルムにおいて、金属酸化物薄膜は、可視光領域において透明性を有し、主として高屈折率層として機能しうるものである。ここで、高屈折率とは、633nmの光に対する屈折率が1.7以上ある場合をいう。上記金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、2種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。上記金属酸化物としては、とりわけ、可視光に対する屈折率が比較的大きいなどの観点から、酸化チタンTiO2、ITO、酸化亜鉛ZnO、酸化スズSnO2などを好適なものとして例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。ここで、金属酸化物薄膜は、主として上述した金属酸化物より構成されているが、金属酸化物以外にも、有機分を含有していても良い。有機分を含有することで、本積層フィルムの柔軟性をより向上させることができるためである。この種の有機分としては、具体的には、例えば、ゾル-ゲル法の出発原料に由来する成分等、金属酸化物薄膜の形成材料に由来する成分などを例示することができる。上記有機分としては、より具体的には、例えば、上述した金属酸化物を構成する金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどといった有機金属化合物その分解物なども含むや、上記有機金属化合物と反応して紫外線吸収性のキレートを形成する有機化合物後述する等の各種添加剤などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。金属酸化物薄膜中に含まれる有機分の含有量の下限値は、柔軟性を付与しやすいなどの観点から、好ましくは、3質量以上、より好ましくは、5質量以上、さらに好ましくは、7質量以上であると良い。一方、金属酸化物薄膜中に含まれる有機分の含有量の上限値は、高屈折率を確保しやすくなる、耐溶剤性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、30質量以下、より好ましくは、25質量以下、さらに好ましくは、20質量以下であると良い。なお、上記有機分の含有量は、X線光電子分光法XPSなどを用いて調べることができる。また、上記有機分の種類は、赤外分光法IR赤外吸収分析などを用いて調べることができる。金属酸化物薄膜の膜厚の下限値は、可視光透過性、反射色などの観点から、好ましくは、5nm以上、より好ましくは、10nm以上、さらに好ましくは、20nm以上であると良い。一方、金属酸化物薄膜の膜厚の上限値は、可視光透過性、反射色、膜の密着性などの観点から、好ましくは、80nm以下、より好ましくは、75nm以下、さらに好ましくは、70nm以下であると良い。以上のような構成を有する金属酸化物薄膜は、気相法、液相法の何れでも形成することができる。液相法は、気相法と比較して、真空引きしたり、大電力を使用したりする必要がない。そのため、その分、コスト的に有利であり、生産性にも優れているので好適である。上記液相法としては、有機分を残存させやすいなどの観点から、ゾル-ゲル法を好適に利用することができる。上記ゾル-ゲル法としては、より具体的には、例えば、金属酸化物を構成する金属の有機金属化合物を含有するコーティング液を薄膜状にコーティングし、これを必要に応じて乾燥させ、金属酸化物薄膜の前駆体薄膜を形成した後、この前駆体薄膜中の有機金属化合物を加水分解縮合反応させ、有機金属化合物を構成する金属の酸化物を合成するなどの方法を例示することができる。これによれば、金属酸化物を主成分として含み、有機分を含有する金属酸化物薄膜を形成することができる。以下、上記方法について詳細に説明する。上記コーティング液は、上記有機金属化合物を適当な溶媒に溶解して調製することができる。この際、有機金属化合物としては、具体的には、例えば、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、シリコン、ハフニウム、鉛などの金属の有機化合物などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。上記有機金属化合物としては、具体的には、例えば、上記金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどを例示することができる。好ましくは、空気中での安定性などの観点から、金属キレートであると良い。上記有機金属化合物としては、とりわけ、高屈折率を有する金属酸化物になり得る金属の有機化合物を好適に用いることができる。このような有機金属化合物としては、例えば、有機チタン化合物などを例示することができる。上記有機チタン化合物としては、具体的には、例えば、テトラ-n-ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ-i-プロポキシチタン、テトラメトキシチタンなどのM-O-R結合Rはアルキル基を示し、Mはチタン原子を示すを有するチタンのアルコキシドや、イソプロポキシチタンステアレートなどのM-O-CO-R結合Rはアルキル基を示し、Mはチタン原子を示すを有するチタンのアシレートや、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトナート、ジヒドロキシビスラクタトチタン、ジイソプロポキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセタトチタンなどのチタンのキレートなどを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。また、これらは単量体、多量体の何れであっても良い。上記コーティング液中に占める有機金属化合物の含有量は、塗膜の膜厚均一性や一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、1~20質量、より好ましくは、3~15質量、さらに好ましくは、5~10質量の範囲内にあると良い。また、上記有機金属化合物を溶解させる溶媒としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチルなどの有機酸エステル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのシクロエーテル類、ホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミドなどの酸アミド類、ヘキサンなどの炭化水素類、トルエンなどの芳香族類などを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。この際、上記溶媒量は、上記有機金属化合物の固形分重量に対して、塗膜の膜厚均一性や一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、5~100倍量、より好ましくは、7~30倍量、さらに好ましくは、10~20倍量の範囲内であると良い。上記溶媒量が100倍量より多くなると、一回のコーティングで形成できる膜厚が薄くなり、所望の膜厚を得るために多数回のコーティングが必要となる傾向が見られる。一方、5倍量より少なくなると、膜厚が厚くなり過ぎ、有機金属化合物の加水分解縮合反応が十分に進行し難くなる傾向が見られる。したがって、上記溶媒量は、これらを考慮して選択すると良い。上記コーティング液の調製は、例えば、所定割合となるように秤量した有機金属化合物と、適当な量の溶媒と、必要に応じて添加される他の成分とを、攪拌機などの撹拌手段により所定時間撹拌混合するなどの方法により調製することができる。この場合、各成分の混合は、1度に混合しても良いし、複数回に分けて混合しても良い。また、上記コーティング液のコーティング法としては、均一なコーティングが行いやすいなどの観点から、マイクログラビア法、グラビア法、リバースロールコート法、ダイコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート法など、各種のウェットコーティング法を好適なものとして例示することができる。これらは適宜選択して用いることができ、1種または2種以上併用しても良い。また、コーティングされたコーティング液を乾燥する場合、公知の乾燥装置などを用いて乾燥させれば良く、この際、乾燥条件としては、具体的には、例えば、80°C~120°Cの温度範囲、0.5分~5分の乾燥時間などを例示することができる。また、前駆体薄膜中の有機金属化合物を加水分解縮合反応させる手段としては、具体的には、例えば、紫外線、電子線、X線等の光エネルギーの照射、加熱など、各種の手段を例示することができる。これらは1種または2種以上組み合わせて用いても良い。これらのうち、好ましくは、光エネルギーの照射、とりわけ、紫外線照射を好適に用いることができる。他の手段と比較した場合、低温、短時間で金属酸化物を生成できるし、熱劣化など、熱による負荷を透明高分子フィルムに与え難いからであるとりわけ、紫外線照射の場合は、比較的簡易な設備で済む利点がある。。また、有機分として、有機金属化合物その分解物なども含むなどを残存させやすい利点もあるからである。さらには、ゾルゲル硬化時に光エネルギーを用いるゾル-ゲル法を採用した場合には、スパッタ等により形成した金属酸化物薄膜に比べ、粗な金属酸化物薄膜とすることができる。そのため、建築物の窓ガラスに本積層フィルムを水貼り施工した場合に、窓ガラスとの間に水が残ったときでも、良好な水抜け性が得られ、水貼り施工性を向上させることができるなどの利点があるからである。この際、用いる紫外線照射機としては、具体的には、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、重水素ランプ、エキシマランプ、メタルハライドランプなどを例示することができる。これらは1種または2種以上組み合わせて用いても良い。また、照射する光エネルギーの光量は、前駆体薄膜を主に形成している有機金属化合物の種類、前駆体薄膜の厚みなどを考慮して種々調節することができる。もっとも、照射する光エネルギーの光量が過度に小さすぎると、金属酸化物薄膜の高屈折率化を図り難くなる。一方、照射する光エネルギーの光量が過度に大きすぎると、光エネルギーの照射の際に生じる熱により透明高分子フィルムが変形することがある。したがって、これらに留意すると良い。照射する光エネルギーが紫外線である場合、その光量は、金属酸化物薄膜の屈折率、透明高分子フィルムが受けるダメージなどの観点から、測定波長300~390nmのとき、好ましくは、300~8000mJ/cm2、より好ましくは、500~5000mJ/cm2の範囲内であると良い。なお、前駆体薄膜中の有機金属化合物を加水分解縮合反応させる手段として、光エネルギーの照射を用いる場合、上述したコーティング液中に、有機金属化合物と反応して光吸収性例えば、紫外線吸収性のキレートを形成する有機化合物等の添加剤を添加しておくと良い。出発溶液であるコーティング液中に上記添加剤が添加されている場合には、予め光吸収性キレートが形成されたところに光エネルギーの照射がなされるので、比較的低温下において金属酸化物薄膜の高屈折率化を図り得やすくなるからである。上記添加剤としては、具体的には、例えば、βジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類などの添加剤を例示することができる。より具体的には、上記βジケトン類としては、例えば、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、マロン酸ジエチルなどを例示することができる。上記アルコキシアルコール類としては、例えば、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、2-メトキシ-2-プロパノールなどを例示することができる。上記アルカノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。これらのうち、とりわけ、βジケトン類が好ましく、中でもアセチルアセトンを最も好適に用いることができる。また、上記添加剤の配合割合としては、屈折率の上がりやすさ、塗膜状態での安定性などの観点から、上記有機金属化合物における金属原子1モルに対して、好ましくは、0.1~2倍モル、より好ましくは、0.5~1.5倍モルの範囲内にあると良い。<金属薄膜>本積層フィルムにおいて、金属薄膜は、遠赤外線を反射する金属合金含むより形成されている。上記金属としては、具体的には、例えば、銀、金、白金、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル、コバルト、ニオブ、タンタル、タングステン、ジルコニウム、鉛、パラジウム、インジウムなどの金属や、これら金属の合金などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。上記金属としては、積層時の可視光透過性、遠赤外線反射性等に優れるなどの観点から、銀または銀合金が好ましい。より好ましくは、熱、光、水蒸気などの環境に対する耐久性が向上するなどの観点から、銀を主成分とし、銅、ビスマス、金、パラジウム、白金、チタンなどの金属元素を少なくとも1種以上含んだ銀合金であると良い。さらに好ましくは、銅を含む銀合金Ag-Cu系合金、ビスマスを含む銀合金Ag-Bi系合金、チタンを含む銀合金Ag-Ti系合金等であると良い。銀の拡散抑制効果が大きい、コスト的に有利であるなどの利点があるからである。銅を含む銀合金を用いる場合、銀、銅以外にも、例えば、銀の凝集拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。上記他の元素としては、具体的には、例えば、Mg、Pd、Pt、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Sb、Li、Cd、Hg、AsなどのAgに固溶可能な元素;Be、Ru、Rh、Os、Ir、Bi、Ge、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Si、Tl、Pbなど、Ag-Cu系合金中に単相として析出可能な元素;Y、La、Ce、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ti、Zr、Hf、Na、Ca、Sr、Ba、Sc、Pr、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、S、Se、TeなどのAgとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは1種または2種以上含有されていても良い。銅を含む銀合金を用いる場合、銅の含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、1原子以上、より好ましくは、2原子以上、さらに好ましくは、3原子以上であると良い。一方、銅の含有量の上限値は、高透明性を確保しやすくなる、スパッタターゲットが作製しやすい等の製造性などの観点から、好ましくは、20原子以下、より好ましくは、10原子以下、さらに好ましくは、5原子以下であると良い。また、ビスマスを含む銀合金を用いる場合、銀、ビスマス以外にも、例えば、銀の凝集拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。上記他の元素としては、具体的には、例えば、Mg、Pd、Pt、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Sb、Li、Cd、Hg、AsなどのAgに固溶可能な元素;Be、Ru、Rh、Os、Ir、Cu、Ge、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Si、Tl、Pbなど、Ag-Bi系合金中に単相として析出可能な元素;Y、La、Ce、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ti、Zr、Hf、Na、Ca、Sr、Ba、Sc、Pr、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、S、Se、TeなどのAgとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは1種または2種以上含有されていても良い。ビスマスを含む銀合金を用いる場合、ビスマスの含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、0.01原子以上、より好ましくは、0.05原子以上、さらに好ましくは、0.1原子以上であると良い。一方、ビスマスの含有量の上限値は、スパッタターゲットが作製しやすい等の製造性などの観点から、好ましくは、5原子以下、より好ましくは、2原子以下、さらに好ましくは、1原子以下であると良い。また、チタンを含む銀合金を用いる場合、銀、チタン以外にも、例えば、銀の凝集拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。上記他の元素としては、具体的には、例えば、Mg、Pd、Pt、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Sb、Li、Cd、Hg、AsなどのAgに固溶可能な元素;Be、Ru、Rh、Os、Ir、Cu、Ge、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Si、Tl、Pb、Biなど、Ag-Ti系合金中に単相として析出可能な元素;Y、La、Ce、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Zr、Hf、Na、Ca、Sr、Ba、Sc、Pr、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、S、Se、TeなどのAgとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは1種または2種以上含有されていても良い。チタンを含む銀合金を用いる場合、チタンの含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、0.01原子以上、より好ましくは、0.05原子以上、さらに好ましくは、0.1原子以上であると良い。一方、チタンの含有量の上限値は、膜にした場合、完全な固溶体が得られやすくなるなどの観点から、好ましくは、2原子以下、より好ましくは、1.75原子以下、さらに好ましくは、1.5原子以下であると良い。なお、上記銅、ビスマス、チタン等の副元素割合は、ICP分析法を用いて測定することができる。また、上記金属薄膜を構成する金属合金含むは、部分的に酸化されていても良い。金属薄膜の膜厚の下限値は、遠赤外線反射性、耐久性などの観点から、好ましくは、3nm以上、より好ましくは、5nm以上、さらに好ましくは、7nm以上であると良い。一方、金属薄膜の膜厚の上限値は、可視光透過性、経済性などの観点から、好ましくは、30nm以下、より好ましくは、20nm以下、さらに好ましくは、15nm以下であると良い。ここで、金属薄膜を形成する方法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、MBE法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法PVD、熱CVD法、プラズマCVD法などといった化学的気相成長法CVDなどの気相法などを例示することができる。金属薄膜は、これらのうち何れか1つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、2つ以上の方法を用いて形成されていても良い。これら方法のうち、緻密な膜質が得られる、膜厚制御が比較的容易であるなどの観点から、好ましくは、DCマグネトロンスパッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。なお、金属薄膜は、後述する後酸化等を受けて、本願における金属薄膜の機能を損なわない範囲内で酸化されていても良い。<バリア薄膜>本積層フィルムにおいて、バリア薄膜は、主として、金属薄膜を構成する元素が、金属酸化物薄膜中へ拡散するのを抑制するバリア的な機能を有している。また、金属酸化物薄膜と金属薄膜との間に介在することで、両者の密着性の向上にも寄与しうる。なお、バリア薄膜は、上記拡散を抑制できれば、浮島状など、不連続な部分があっても良い。バリア薄膜を構成する金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、2種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。なお、バリア薄膜は、上記金属酸化物以外に不可避不純物などを含んでいても良い。ここで、バリア薄膜としては、金属薄膜を構成する金属の拡散抑制効果に優れる、密着性に優れるなどの観点から、金属酸化物薄膜中に含まれる金属の酸化物より主に構成されていると良い。より具体的には、例えば、金属酸化物薄膜としてTiO2薄膜を選択した場合、バリア薄膜は、TiO2薄膜中に含まれる金属であるTiの酸化物より主に構成されるチタン酸化物薄膜であると良い。また、バリア薄膜がチタン酸化物薄膜である場合、当該バリア薄膜は、当初からチタン酸化物として形成された薄膜であっても良いし、金属Ti薄膜が後酸化されて形成された薄膜、または、部分酸化されたチタン酸化物薄膜が後酸化されて形成された薄膜等であっても良い。バリア薄膜は、金属酸化物薄膜と同じように主に金属酸化物から構成されるが、金属酸化物薄膜よりも膜厚が薄く設定される。これは、金属薄膜を構成する金属の拡散は、原子レベルで生じるので、屈折率を十分確保するのに必要な膜厚まで厚くする必要性が低いからである。また、薄く形成することで、その分、成膜コストが安価になり、本積層フィルムの製造コストの低減にも寄与することができる。バリア薄膜の膜厚の下限値は、バリア性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、0.5nm以上、より好ましくは、0.8nm以上、さらに好ましくは、1.0nm以上であると良い。一方、バリア薄膜の膜厚の上限値は、可視光透過性などの観点から、好ましくは、10nm以下、より好ましくは、8nm以下、さらに好ましくは、5nm以下であると良い。バリア薄膜が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ti/Oの下限値は、バリア性などの観点から、1.0/4.0以上、より好ましくは、1.0/3.8以上、さらに好ましくは、1.0/3.5以上、さらにより好ましくは、1.0/3.0以上、最も好ましくは、1.0/2.8以上であると良い。バリア薄膜が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ti/Oの上限値は、可視光透過性などの観点から、好ましくは、1.0/0.5以下、より好ましくは、1.0/0.7以下、さらに好ましくは、1.0/1.0以下、さらにより好ましくは、1.0/1.2以下、最も好ましくは、1.0/1.5以下であると良い。上記Ti/O比は、当該薄膜の組成から算出することができる。当該薄膜の組成分析方法としては、極めて薄い薄膜の組成を比較的正確に分析することが可能な観点から、エネルギー分散型蛍光X線分析EDXを好適に用いることができる。具体的な組成分析方法について説明すると、先ず、超薄切片法ミクロトームなどを用いて、分析対象となる当該薄膜を含む積層構造の断面方向の厚みが100nm以下の試験片を作製する。次いで、断面方向から積層構造と当該薄膜の位置を、透過型電子顕微鏡TEMにより確認する。次いで、EDX装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となる当該薄膜の膜厚中央部近傍に入射させる。試験片表面から入射した電子は、ある深さまで入り込み、各種の電子線やX線を発生させる。この際の特性X線を検出して分析することで、当該薄膜の構成元素分析を行うことができる。本積層フィルムにおいて、バリア薄膜は、緻密な膜を形成できる、数nm~数十nm程度の薄膜を均一な膜厚で形成できるなどの観点から、気相法を好適に利用することができる。上記気相法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、MBE法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法PVD、熱CVD法、プラズマCVD法などといった化学的気相成長法CVDなどを例示することができる。上記気相法としては、真空蒸着法などと比較して膜界面の密着性に優れる、膜厚制御が容易であるなどの観点から、DCマグネトロンスパッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。なお、上記積層構造中に含まれうる各バリア層は、これら気相法のうち何れか1つの方法を利用して形成されていても良いし、あるいは、2つ以上の方法を利用して形成されていても良い。また、上記バリア薄膜は、上述した気相法を利用し、当初から金属酸化物薄膜として成膜しても良いし、あるいは、一旦、金属薄膜や部分酸化された金属酸化物層を成膜した後、これを事後的に酸化して形成することも可能である。なお、部分酸化された金属酸化物薄膜とは、さらに酸化される余地がある金属酸化物薄膜を指す。当初から金属酸化物薄膜として成膜する場合、具体的には、例えば、スパッタリングガスとしてのアルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、さらに反応性ガスとして酸素を含むガスを混合し、金属と酸素とを反応させながら薄膜を形成すれば良い反応性スパッタリング法。反応性スパッタリング法を用いて、例えば、上記Ti/O比を有するチタン酸化物薄膜を得る場合、雰囲気中の酸素濃度不活性ガスに対する酸素を含むガスの体積割合は、上述した膜厚範囲を考慮して最適な割合を適宜選択すれば良い。一方、金属薄膜や部分酸化された金属酸化物薄膜を成膜した後、これを事後的に後酸化する場合、具体的には、透明積層部付フィルムを形成した後、応力緩和層、保護層を形成する前または後に、透明積層部中の金属薄膜や部分酸化された金属酸化物薄膜を後酸化させる等すれば良い。なお、金属薄膜の成膜には、スパッタリング法等を、部分酸化された金属酸化物薄膜の成膜には、上述した反応性スパッタリング法等を用いれば良い。また、後酸化手法としては、加熱処理、加圧処理、化学処理、自然酸化等を例示することができる。これら後酸化手法のうち、比較的簡単かつ確実に後酸化を行うことができるなどの観点から、加熱処理が好ましい。上記加熱処理としては、例えば、透明積層フィルムを加熱炉等の加熱雰囲気中に存在させる方法、温水中に浸漬する方法、マイクロ波加熱する方法や、透明積層部中の金属薄膜や部分酸化された金属酸化物薄膜等を通電加熱する方法などを例示することができる。これらは1または2以上組み合わせて行っても良い。上記加熱処理時の加熱条件としては、具体的には、例えば、好ましくは、30°C~60°C、より好ましくは、32°C~57°C、さらに好ましくは、35°C~55°Cの加熱温度、加熱雰囲気中に存在させる場合、好ましくは、5日間以上、より好ましくは、10日間以上、さらに好ましくは、15日間以上の加熱時間から選択すると良い。上記加熱条件の範囲内であれば、後酸化効果が良好だからである。また、上記加熱処理時の加熱雰囲気は、大気中、高酸素雰囲気中、高湿度雰囲気中など酸素や水分の存在する雰囲気が好ましい。特に好ましくは、製造性、低コスト化等の観点から、大気中であると良い。透明積層部中に上述した後酸化薄膜を含んでいる場合には、後酸化時に、金属酸化物層中に含まれていた水分や酸素が消費されているため、太陽光が当たっても金属酸化物薄膜が化学反応し難くなる。具体的には、例えば、金属酸化物薄膜がゾル-ゲル法により形成されている場合、後酸化時に、金属酸化物薄膜中に含まれていた水分や酸素が消費されているため、金属酸化物薄膜中に残存していたゾル-ゲル法による出発原料金属アルコキシド等と水分吸着水等酸素等とが、太陽光によってゾルゲル硬化反応し難くなる。そのため、透明積層部の形成時における硬化収縮等の体積変化によって生じる内部応力を緩和することが可能となり、透明積層部と透明高分子フィルムとの間の界面剥離等を抑制しやすくなる等、太陽光に対する耐久性を向上させやすくなる。本積層フィルムは、建築物や自動車等の窓ガラスの透明断熱用途等に好適に用いることができる。2.本積層フィルムの製造方法本積層フィルムは、例えば、以下のようにして製造することができる。透明高分子フィルム上に、所定の積層構造となるように各薄膜を上述した薄膜形成手法によって順次積み上げて透明積層部を形成する。その後、必要に応じて、後酸化等の熱処理を行う。その後、透明積層部の表面に、所定の塗工膜を形成するとともに、形成した塗工膜に対して硬化処理を行い、応力緩和層を形成する。さらに、応力緩和層の表面に、所定の塗工膜を形成するとともに、形成した塗工膜に対して硬化処理を行い、応力緩和層を形成する。基本的には、以上により本積層フィルムを得ることができる。また、得られた本積層フィルムの透明積層部とは反対側の表面に、粘着剤層を任意で形成しても良い。以下、実施例および比較例を用いて本発明を詳細に説明する。1.透明積層フィルムの作製<実施例1>実施例1に係る透明積層フィルムとして、概略以下の7層積層構造からなる透明積層部と、この透明積層部に接して積層された応力緩和層と、この応力緩和層に接して積層された保護層とを有する透明積層フィルムを作製した。すなわち、実施例1に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの一方面に、ゾル-ゲル法及びUV照射によるTiO2薄膜1層目│チタン酸化物薄膜/Ag-Cu合金薄膜/チタン酸化物薄膜2層目│ゾル-ゲル法及びUV照射によるTiO2薄膜3層目│チタン酸化物薄膜/Ag-Cu合金薄膜/チタン酸化物薄膜4層目│ゾル-ゲル法及びUV照射によるTiO2薄膜5層目│チタン酸化物薄膜/Ag-Cu合金薄膜/チタン酸化物薄膜6層目│ゾル-ゲル法及びUV照射によるTiO2薄膜7層目が順に積層されてなる透明積層部を有している。なお、チタン酸化物薄膜は、金属Ti薄膜が熱酸化されて形成されたものであり、これがバリア薄膜に該当する。このチタン酸化物薄膜は、Ag-Cu合金薄膜に付随する薄膜として、Ag-Cu合金薄膜に含めて積層数を数えている。以下、具体的な作製手順を示す。コーティング液の調製先ず、ゾル-ゲル法によるTiO2薄膜の形成に使用するコーティング液を調製した。すなわち、チタンアルコキシドとして、テトラ-n-ブトキシチタン4量体日本曹達株製、B4と、紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤として、アセチルアセトンとを、n-ブタノールとイソプロピルアルコールとの混合溶媒に配合し、これを攪拌機を用いて10分間混合することにより、コーティング液を調製した。この際、テトラ-n-ブトキシチタン4量体/アセチルアセトン/n-ブタノール/イソプロピルアルコールの配合は、それぞれ6.75質量/3.38質量/59.87質量/30.00質量とした。透明積層部の形成透明高分子フィルムとして、易接着層が片面に形成された厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム東洋紡績株製、コスモシャイン登録商標A4100以下、PETフィルムという。を用い、このPETフィルムの易接着層面側とは反対側の面PET面側に、1層目として、TiO2薄膜を以下の手順により成膜した。すなわち、PETフィルムのPET面側に、マイクログラビアコーターを用いて、所定の溝容積のグラビアロールで上記コーティング液を連続的に塗工した。次いで、インラインの乾燥炉を用いて、塗工膜を100°Cで80秒間乾燥させ、TiO2薄膜の前駆体膜を形成した。次いで、インラインの紫外線照射機高圧水銀ランプ160W/cmを用いて、上記塗工時と同線速で、上記前駆体膜に対して連続的に紫外線を1.5秒間照射した。これによりPETフィルム上に、ゾルゲル硬化時に紫外線エネルギーを用いるゾル-ゲル法以下、ゾルゲルUVと省略することがある。によるTiO2薄膜1層目を成膜した。次に、1層目の上に、2層目を構成する各薄膜を成膜した。すなわち、DCマグネトロンスパッタ装置を用い、1層目のTiO2薄膜上に、下側の金属Ti薄膜をスパッタリングにより成膜した。次いで、この下側の金属Ti薄膜上に、Ag-Cu合金薄膜をスパッタリングにより成膜した。次いで、このAg-Cu合金薄膜上に、上側の金属Ti薄膜をスパッタリングにより成膜した。この際、上側および下側の金属Ti薄膜の成膜条件は、Tiターゲット純度4N、真空到達圧:5×10-6Torr、不活性ガス:Ar、ガス圧:2.5×10-3Torr、投入電力:1.5kW、成膜時間:1.1秒とした。また、Ag-Cu合金薄膜の成膜条件は、Ag-Cu合金ターゲットCu含有量:4原子、真空到達圧:5×10-6Torr、不活性ガス:Ar、ガス圧:2.5×10-3Torr、投入電力:1.5kW、成膜時間:1.1秒とした。次に、3層目として、2層目の上に、ゾルゲルUVによるTiO2薄膜を成膜した。ここでは、1層目に準じた成膜手順を2回行うことにより、所定の膜厚とした。次に、4層目として、3層目の上に、4層目を構成する各薄膜を成膜した。ここでは、2層目に準じた成膜手順を行った。但し、Ag-Cu合金薄膜の成膜条件は、Ag-Cu合金ターゲットCu含有量:4原子、真空到達圧:5×10-6Torr、不活性ガス:Ar、ガス圧:2.5×10-3Torr、投入電力:1.8kW、成膜時間:1.1秒とした。次に、5層目として、4層目の上に、3層目と同様にしてゾルゲルUVによるTiO2薄膜を成膜した。次に、6層目として、5層目の上に、2層目と同様にして各薄膜を成膜した。次に、7層目として、6層目の上に、ゾルゲルUVによるTiO2薄膜を成膜した。ここでは、1層目に準じた成膜手順を1回行うことにより、所定の膜厚とした。次に、得られた透明積層部付きフィルムを、加熱炉内にて、大気中、40°Cで300時間加熱処理することにより、積層構造中に含まれる金属Ti薄膜を熱酸化させ、チタン酸化物薄膜とした。なお、TiO2薄膜の屈折率測定波長は633nmを、FilmTek3000ScientificComputingInternational社製により測定した。また、TiO2薄膜中に含まれる有機分の含有量を、X線光電子分光法XPSにより測定した。また、金属Ti薄膜を熱酸化させて形成したチタン酸化物薄膜についてEDX分析を行い、Ti/O比を次のようにして求めた。すなわち、透明積層部付きフィルムをミクロトームLKB株製、ウルトロームV2088により切り出し、分析対象となるチタン酸化物薄膜バリア薄膜を含む積層構造の断面方向の厚みが100nm以下の試験片を作製した。作製した試験片の断面を、電界放出型電子顕微鏡HRTEM日本電子株製、JEM2001Fにより確認した。そして、EDX装置分解能133eV以下日本電子株製、JED-2300Tを用い、この装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となるチタン酸化物薄膜バリア薄膜の膜厚中央部近傍に入射させ、発生した特性X線を検出して分析することにより、チタン酸化物薄膜バリア薄膜の構成元素分析を行った。また、合金薄膜中の副元素Cu含有量を次のようにして求めた。すなわち、各成膜条件において、別途、ガラス基板上にAg-Cu合金薄膜を形成した試験片を作製し、この試験片を6HNO3溶液に浸漬し、20分間超音波による溶出を行った後、得られた試料液を用いて、ICP分析法の濃縮法により測定した。また、各薄膜の膜厚を、上記電界放出型電子顕微鏡HRTEM日本電子株製、JEM2001Fによる試験片の断面観察から測定した。表1に、透明積層部の詳細な層構成を示す。応力緩和層の形成紫外線硬化性のアクリルウレタン樹脂DIC株製、UCシーラーTE-014を濃度20となるようにMEKで希釈し、塗液Aを調製した。次に、上記透明積層部付きフィルムの透明積層部の表面に、調製した塗液Aを塗工し、100°Cで2分間乾燥し、さらに150mJ/cm2の紫外線を照射した。これにより、透明積層部の表面に、アクリルウレタン樹脂硬化物よりなる応力緩和層を形成した。保護層の形成紫外線硬化性のアクリル樹脂DIC株製、UVTクリアーTEF-019を濃度20となるようにMEKで希釈し、塗液Bを調製した。次に、上記応力緩和層の表面に、調製した塗液Bを塗工し、100°Cで2分間乾燥し、さらに400mJ/cm2の紫外線を照射した。これにより、応力緩和層の表面に、アクリル樹脂硬化物よりなる保護層を形成した。以上により、実施例1に係る透明積層フィルムを作製した。<実施例2>応力緩和層の形成において、紫外線硬化性のアクリル樹脂UCシーラーTE-014に代えて紫外線硬化性のアクリル樹脂DIC株製UCインキEXP100119メジュームを用いた以外は実施例1と同様にして、実施例2に係る透明積層フィルムを作製した。<実施例3>応力緩和層と保護層を以下のように構成した以外は実施例1と同様にして、実施例3に係る透明積層フィルムを作製した。応力緩和層および保護層の形成応力緩和層となる、無機ポリシラザンAZエレクトロニックマテリアルズ社製アクアミカNAX120と有機ポリシラザンAZエレクトロニックマテリアルズ社製アクアミカMHPSを混合比率1:5質量比で混合した塗液を、上記透明積層部付きフィルムの透明積層部の表面に塗工し、100°Cに加熱して溶媒を除去した。次いで、保護層となる、無機ポリシラザンの塗液AZエレクトロニックマテリアルズ社製アクアミカNL120A-20を、アクアミカNAMH1215-20の塗膜上に塗工し、100°Cに加熱して溶媒を除去した。次いで、80°Cで96時間加熱することによりシラザンを加水分解させて、酸化ケイ素よりなる応力緩和層厚み0.2μmおよび保護層厚み0.5μmを形成した。<実施例4~5>実施例3の応力緩和層の材料における無機ポリシラザンと有機ポリシラザンの混合比率を変えた塗液を用いた以外は実施例3と同様にして、実施例4~5に係る透明積層フィルムを作製した。この際、NAX120:MHPS質量比は、実施例4においては1:3、実施例5においては1:1とした。<比較例1>市販の透明積層フィルムNI帝人商事株製、レフテルZC05Gを、比較例1に係る透明積層フィルムとした。当該透明積層フィルムは、PET系フィルムの片面に、Ag系薄膜を含む薄膜層が積層され、この表面に、厚み15μmの二軸延伸ポリプロピレン樹脂層OPP層が積層されている。<比較例2>アクリルウレタン樹脂日本化工塗料株製、FS-3017-2を濃度20となるようにMEK/トルエン混合溶媒で希釈し、塗液Cを調製した。次に、実施例1において作製した透明積層部付フィルムの透明積層部の表面に、応力緩和層を形成することなく、上記調製した塗液Cを塗工し、乾燥させた。これにより、透明積層部の表面に、アクリルウレタン樹脂未硬化物よりなる保護層を形成した。以上により、比較例2に係る透明積層フィルムを作製した。<比較例3>シクロオレフィン樹脂日本ゼオン株製、ZEONEX330Rを濃度20となるようにシクロヘキサン溶剤で希釈し、塗液Dを調製した。次に、実施例1において作製した透明積層部付フィルムの透明積層部の表面に、応力緩和層を形成することなく、上記調製した塗液Dを塗工し、乾燥させた。これにより、透明積層部の表面に、シクロオレフィン系樹脂未硬化物よりなる保護層を形成した。以上により、比較例3に係る透明積層フィルムを作製した。<比較例4>実施例1において作製した透明積層部付フィルムの透明積層部の表面に、応力緩和層を形成することなく、上記調製した塗液Bを塗工し、100°Cで2分間加熱した。これにより、透明積層部の表面に、アクリル樹脂硬化物よりなる保護層を形成した。以上により、比較例4に係る透明積層フィルムを作製した。<比較例5>実施例1において作製した透明積層部付フィルムの透明積層部の表面に、上記調製した塗液Cを塗工し、乾燥させ、アクリルウレタン樹脂未硬化物よりなる応力緩和層を形成した。この応力緩和層の表面に、上記調製した塗液Bを塗工し、100°Cで2分間加熱した。これにより、応力緩和層の表面に、アクリル樹脂硬化物よりなる保護層を形成した。以上により、比較例5に係る透明積層フィルムを作製した。<比較例6>実施例1において作製した透明積層部付フィルムの透明積層部の表面に、上記調製した塗液Aを塗工し、100°Cで2分間加熱し、アクリルウレタン樹脂硬化物よりなる応力緩和層を形成した。この応力緩和層の表面に、上記調製した塗液Cを塗工し、乾燥させた。これにより、応力緩和層の表面に、アクリルウレタン樹脂未硬化物よりなる保護層を形成した。以上により、比較例6に係る透明積層フィルムを作製した。<比較例7>実施例1において作製した透明積層部付フィルムの透明積層部の表面に、上記調製した塗液Bを塗工し、100°Cで2分間加熱し、アクリル樹脂硬化物よりなる応力緩和層を形成した。この応力緩和層の表面に、上記調製した塗液Aを塗工し、100°Cで2分間加熱した。これにより、応力緩和層の表面に、アクリルウレタン樹脂硬化物よりなる保護層を形成した。以上により、比較例7に係る透明積層フィルムを作製した。3.透明積層フィルムの特性各透明積層フィルムについて、以下の特性を測定した。この際、測定サンプルには、透明積層フィルムの透明積層部側とは反対面に、厚さ25μmのアクリル粘着シート日東電工株製、CS9621を貼り付け、この粘着シートの粘着層を、厚さ3mmのフロートガラスの片面に貼り付けたものを用いた。なお、測定光は、ガラス面側から入射させた。可視光透過率JISA5759に準拠し、分光光度計島津製作所株製、UV3100を用いて、波長300~1000nmの透過スペクトルを測定し、可視光透過率を計算することにより求めた。日射透過率JISA5759に準拠し、分光光度計島津製作所株製、UV3100を用いて、波長300~2500nmの透過スペクトルを測定し、日射透過率を計算することにより求めた。耐腐食性濃度10ppmの塩化ナトリウム水溶液中に24時間浸漬後、湿熱60°C90RH処理により、塩水に対する耐腐食性を調査した。全く腐食が見られなかった場合を○、腐食が見られた場合を×とした。断熱性JISR3106に準拠し、ガラス面およびフィルム面の垂直放射率を求め、JISA5759に準拠して熱貫流率を求めた。膜密着性透明積層フィルムサンプル形状:50mm×50mmの薄膜層面上に、端部に対して直角方向に、メンディングテープ住友3M株製、810を貼り付け、180°剥離試験を行い、薄膜剥離の有無を目視にて確認した。その結果、全く薄膜が剥離しなかった場合を○、薄膜が剥離した場合を×と判断した。耐擦傷性スチールウール日本スチール社製BonStarNo.0000を用い、サンプル表面に一定の荷重500kgをかけながらスチールウールを10往復擦り付けた。この際、傷が全く観測されなかった場合を○、傷が観測された場合を×とした。なお、上記可視光透過率、日射透過率および耐腐食性は、参考値である。弾性率の測定ISO14577-1に基づき、超微小硬さ試験機株フィッシャーインストルメント製、フィッシャースコープH-100を用いて、透明積層フィルムの応力緩和層および保護層の弾性率を測定した。具体的には、透明高分子フィルムとしてのポリエチレンテレフタレートフィルム東洋紡績株製、コスモシャインA4100の易接着層面側とは反対側の面PET面側に、応力緩和層または保護層を単層、上述した条件で成膜後の膜厚が50μmになるように形成した。次いで、50mm角に切り出し、上記超微小硬さ試験機を用いて、圧子:ダイヤモンド四角錐ビッカース圧子開き角度136°、押込み力:1mN、クリープ時間:0.5秒、測定温度:20°Cで、時間経過に伴う荷重と押込み深さの変化を表す一連のデータ図2参照の測定を行った。次いで、以下の式により、応力緩和層、保護層の弾性率を算出した。E=EIT/1-νs2=1/1/Er-1-νi2/EiEr=√π/2C√Apなお、今回の試験では、押込み深さhは、約10μmなので、√Apは以下になる。√Ap=4950×hcビッカース圧子および変形バーコビッチの場合但し、E:弾性率EIT:押込み弾性率νs:サンプルのポアソン比νi:圧子のポアソン比ダイヤモンドの場合0.07Er:押込み接点の減少弾性率Ei:圧子の弾性率ダイヤモンドの場合1.14×106N/mm2C:接点のコンプライアンス、すなわち、最大試験荷重時における試験荷重除荷曲線のdh/dF接点剛性の逆数→図2の直線cの勾配Ap:投影接触面積ISO14577-2:2002の4に従って定義した接触深さにおける圧子面積関数の値hc:圧子が試験片に接している深さを以下のように計算したものhc=hmax-εhmax-hrhmax:Fmax最大試験力における最大押込み深さhr:Fmax最大試験力における曲線bに対する接線cと押込み深さ軸の交点ε:圧子の幾何学形状による補正係数ビッカース圧子=3/4表2、表3に、各透明積層フィルムの概略構成と評価結果とをまとめて示す。表2、3を相対比較すると、次のことが分かる。すなわち、比較例1に係る透明積層フィルムは、保護層が二軸延伸ポリプロピレンよりなる。そのため、耐擦傷性に劣る。比較例2に係る透明積層フィルムは、保護層がアクリルウレタン樹脂未硬化物より形成されている。そのため、耐擦傷性に劣る。比較例3に係る透明積層フィルムは、保護層がシクロオレフィン樹脂未硬化物より形成されている。シクロオレフィン樹脂は、比較的軟らかい樹脂であるため、耐擦傷性が悪い。また、透明積層部への密着性が悪い。比較例4に係る透明積層フィルムは、保護層がアクリル樹脂硬化物より形成されており、透明積層部と保護層との間に応力緩和層が形成されていない。そのため、保護層の硬化時に生じる応力を緩和することができず、透明積層部との密着が悪い。比較例5に係る透明積層フィルムは、応力緩和層が未硬化のアクリルウレタン樹脂より形成されている。そのため、保護層の形成時に塗液を応力緩和層上に塗布すると、応力緩和層と保護層の材料が混ざり合う。そのため、保護層の耐擦傷性の低下、および密着性の低下が見られる。比較例6に係る透明積層フィルムは、保護層の弾性率よりも応力緩和層の弾性率の方が値が大きい。そのため、保護層の硬化時における応力を応力緩和層が緩和することができず、密着性が悪い。また、保護層が未硬化のアクリルウレタン樹脂より形成されているので、耐擦傷性にも劣る。比較例7に係る透明積層フィルムは、保護層の弾性率よりも応力緩和層の弾性率の方が値が大きい。そのため、保護層の硬化時における応力を応力緩和層が緩和することができず、密着性が悪い。これらに対し、実施例に係る透明積層フィルムによれば、良好な断熱性を有しつつ、透明積層部を保護する保護層の耐擦傷性、密着性に優れることが確認できた。そして、このように密着性に優れるものとしたことで、塩水腐食試験では腐食が観測されなかった。また、実施例同士を比較すると、次のことが分かる。すなわち、実施例1~2に比べ、実施例3~5のように応力緩和層や保護層の材料に酸化ケイ素を用いることで、透明性可視光透過率と耐擦傷性とを維持したまま、保護膜の厚みを薄くすることができ、これによって熱貫流率をより低減できることが分かる。すなわち、保護膜において、遠赤外線の吸収成分を減少させた結果、室内側に多くの遠赤外線を反射できるようになり、断熱性能を向上できることが分かった。以上、本発明の実施形態実施例について説明したが、本発明は上記実施形態実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。"