"厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、前記ベース基板の前記一表面側に対向配置されたカバー基板と、前記ベース基板と前記カバー基板との一方に収納された電磁石装置と、前記ベース基板と前記カバー基板との間に配置された可動部形成基板とを備え、前記可動部形成基板は、前記ベース基板と前記カバー基板との間に介在するフレーム部と、前記フレーム部の内側に配置され前記フレーム部に第1ばね部を介して揺動自在に支持された可動部と、前記可動部における前記電磁石装置側に配置され前記電磁石装置とともに磁気回路を構成する磁性体板からなるアーマチュアと、前記アーマチュアの中央部との間に前記可動部を挟んで配置され前記可動部の厚み方向に貫通した貫通孔を通して前記アーマチュアに溶接されたプレートと、前記可動部に支持され前記アーマチュアの揺動に伴って前記固定接点に接離する可動接点が設けられた接点保持部とを有し、前記可動部に、前記アーマチュアと前記プレートとの溶接に伴って発生する残留応力を緩和する応力緩和部が形成されてなることを特徴とするMEMSリレー。前記応力緩和部は、少なくとも、前記可動部の前記厚み方向に貫設された複数の穴により構成されてなることを特徴とする請求項1記載のMEMSリレー。前記応力緩和部は、少なくとも、前記可動部の厚み方向に貫通し側方が開放された複数のスリットにより構成されてなることを特徴とする請求項1記載のMEMSリレー。前記応力緩和部は、少なくとも、前記可動部の厚み方向の両面の少なくとも一面側に形成された複数の凹部により構成されてなることを特徴とする請求項1記載のMEMSリレー。前記応力緩和部は、少なくとも、前記可動部においてコルゲート板状に形成された部分からなることを特徴とする請求項1記載のMEMSリレー。上述のマイクロリレーでは、接合補助部材225と磁性体板224との溶着に伴う残留応力に起因して磁性体保持部223aに反りが生じる。このため、上述のマイクロリレーでは、可動接点227がボディに設けられている固定接点から離れているときの可動接点227と固定接点との距離や、可動接点227が固定接点に接触しているときの接触圧などが、ばらついて、動作特性や寿命がばらついてしまう懸念がある。本発明は上記事由に鑑みて為されたものであり、その目的は、磁性体板が重ねて配置される可動部の反りを抑制することが可能なMEMSリレーを提供することにある。本発明のMEMSリレーは、厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、前記ベース基板の前記一表面側に対向配置されたカバー基板と、前記ベース基板と前記カバー基板との一方に収納された電磁石装置と、前記ベース基板と前記カバー基板との間に配置された可動部形成基板とを備え、前記可動部形成基板は、前記ベース基板と前記カバー基板との間に介在するフレーム部と、前記フレーム部の内側に配置され前記フレーム部に第1ばね部を介して揺動自在に支持された可動部と、前記可動部における前記電磁石装置側に配置され前記電磁石装置とともに磁気回路を構成する磁性体板からなるアーマチュアと、前記アーマチュアの中央部との間に前記可動部を挟んで配置され前記可動部の厚み方向に貫通した貫通孔を通して前記アーマチュアに溶接されたプレートと、前記可動部に支持され前記アーマチュアの揺動に伴って前記固定接点に接離する可動接点が設けられた接点保持部とを有し、前記可動部に、前記アーマチュアと前記プレートとの溶接に伴って発生する残留応力を緩和する応力緩和部が形成されてなることを特徴とする。このMEMSリレーにおいて、前記応力緩和部は、少なくとも、前記可動部の前記厚み方向に貫設された複数の穴により構成されてなることが好ましい。このMEMSリレーにおいて、前記応力緩和部は、少なくとも、前記可動部の厚み方向に貫通し側方が開放された複数のスリットにより構成されてなることが好ましい。このMEMSリレーにおいて、前記応力緩和部は、少なくとも、前記可動部の厚み方向の両面の少なくとも一面側に形成された複数の凹部により構成されてなることが好ましい。このMEMSリレーにおいて、前記応力緩和部は、少なくとも、前記可動部においてコルゲート板状に形成された部分により構成されてなることが好ましい。本発明のMEMSリレーにおいては、磁性体板が重ねて配置される可動部の反りを抑制することが可能となる。実施形態1以下、本実施形態のMEMSリレーについて図1~図5を参照しながら説明する。MEMSリレーは、ベース基板1と、ベース基板1の一表面側に対向配置されたカバー基板3と、ベース基板1に形成された収納部16に収納された電磁石装置4と、ベース基板1とカバー基板3との間に配置された可動部形成基板2とを備えている。このMEMSリレーは、可動部形成基板2に設けられた磁性体板からなるアーマチュア24を電磁石装置4によって動かすことにより、ベース基板1の上記一表面側に設けられた固定接点14と可動部形成基板2に設けられた可動接点27とが接離する電磁駆動式のリレーである。なお、本実施形態のMEMSリレーでは、ベース基板1およびカバー基板3の外形サイズを、可動部形成基板2の外形サイズと同じ外形サイズに設定してある。以下、MEMSリレーの各構成要素について詳細に説明する。ベース基板1は、絶縁性基板の一種であるガラス基板からなる第1の基板10を用いて形成されている。第1の基板10は、ガラス基板に限らず、例えば、高抵抗率のシリコン基板や、低温同時焼成セラミック基板LowTemperatureCofiredCeramicSubstrate:LTCC基板を用いてもよい。第1の基板10として用いるガラス基板のガラス材料としては、硼珪酸ガラスを採用しているが、これに限らず、ソーダガラス、無アルカリガラス、石英ガラスなどを採用してもよい。硼珪酸ガラスとしては、例えば、パイレックス登録商標やテンパックス登録商標を採用することができる。また、高抵抗率のシリコン基板としては、例えば、MEMSリレーを高周波信号の伝送用に用いる場合、抵抗率がより高い方が好ましく、例えば、伝送対象の高周波信号の周波数が6GHzであれば、抵抗率が100Ωcm以上であることが好ましく、1000Ωcm以上であることがより好ましい。また、伝送対象の高周波信号の周波数が高いほど、抵抗率が高い方が好ましい。上述のベース基板1は、矩形板状に形成されており、上記一表面側において第1の基板10の長手方向の両端部それぞれに一対の信号線13,13が形成されている。ここで、各一対の信号線13,13は、ベース基板1の上記一表面側において第1の基板10の短手方向に沿って配置されている。また、ベース基板1は、各信号線13それぞれの一端部に、上述の固定接点14が設けられ、各信号線13それぞれの他端部が、第1の基板10の厚み方向に貫設された貫通孔配線15と電気的に接続されている。また、信号線13は、金属層例えば、Au層により構成されている。信号線13の材料としては、Auを採用しているが、Auに限らず、例えば、Au、Ni、Cu、Pd、Rh、Pt、Ir、Osの群から選択される1種あるいはこれらの合金を採用してもよい。固定接点14の材料としては、例えば、Auなどの導電性が良好な金属材料を採用することが好ましい。また、固定接点14は、例えば、スパッタ法、電気めっき法、真空蒸着法などを利用して形成すればよい。なお、固定接点14は、単層構造に限らず、多層構造でもよい。また、固定接点14の材料は、Auに限らず、例えば、Au、Ag、Cr、Ti、Pt、Ru、Rh、Co、Ni、Cuや、これらの合金などを採用してもよい。また、ベース基板1において上述の貫通孔配線15が内側に設けられた貫通孔12図5参照は、ベース基板1の上記一表面から上記他表面に近づくにつれて開口面積が徐々に大きくなるテーパ形状に形成されている。ここで、貫通孔配線15は、貫通孔12の内面に沿って形成されベース基板1の上記一表面側において貫通孔12を閉塞している。また、ベース基板1は、上述のように電磁石装置4を収納する収納部16が形成されている。ここで、ベース基板1は、第1の基板10の中央部に、厚み方向に貫通し電磁石装置4が挿入される開口部17が形成されている。また、ベース基板1は、第1の基板10における可動部形成基板2側の一表面側に、開口部17を閉塞する薄膜状の蓋体部18が接合されている。要するに、ベース基板1は、開口部17の内周面と蓋体部18とで囲まれた空間が収納部16を構成している。これにより、本実施形態のMEMSリレーは、ベース基板1と可動部形成基板2のフレーム部21とカバー基板3とで囲まれた空間を、気密空間とすることが可能となっている。なお、蓋体部18の材料としては、Siを採用している。蓋体部18の厚さは、電磁石装置4からアーマチュア24に作用させる吸引力などの観点から5μm~50μm程度が好ましく、蓋体部18の機械的強度などの観点から20μm~30μm程度がより好ましい。上述の開口部17は、第1の基板10の上記一表面から他表面に近づくにつれて開口面積が徐々に大きくなるテーパ形状となっている。しかして、ベース基板1は、可動部形成基板2側とは反対側から電磁石装置4を挿入し易く、且つ、第1の基板10の上記一表面における開口部17の開口面積を比較的小さくすることができる。なお、上述の開口部17および貫通孔12は、例えば、サンドブラスト法やエッチング法などによって形成すればよい。電磁石装置4は、U字状のヨーク40と、ヨーク40に巻回された2つのコイル42,42とを備えている。ヨーク40は、両コイル42,42が直接巻回される細長の矩形板状のコイル巻回部40aと、コイル巻回部40aの長手方向の両端部それぞれからコイル巻回部40aの厚み方向に延設された側片40b,40bとを有している。そして、ヨーク40は、コイル42,42への励磁電流に応じて一対の側片40b,40bの互いの先端面が異極に励磁される。なお、ヨーク40は、電磁軟鉄などの鉄板を曲げ加工、鋳造加工、プレス加工などにより加工することによって形成されており、両側片40b,40bの断面が矩形状となっている。また、電磁石装置4は、ヨーク40の両側片40b,40bの間でコイル巻回部40aの長手方向の中央部に重ねて配置された矩形板状の永久磁石41を備えている。しかして、電磁石装置4は、永久磁石41とヨーク40の側片40b,40bとによって、コイル巻回部40aの長手方向への各コイル42,42の移動が規制される。上述の電磁石装置4は、2つのコイル42,42に励磁電流を通電したときに電磁力を発生するものであり、当該電磁力によって、矩形板状のアーマチュア24の長手方向の両端部のうちの一方を吸引する吸引力、当該両端部のうちの他方を反発する反発力を発生させることができる。永久磁石41は、厚み方向の両面それぞれの磁極面が異極に着磁されており、一方の磁極面がヨーク40のコイル巻回部40aに当接し、他方の磁極面がヨーク40の両側片40b,40bの先端面と同一平面上に位置するように厚み寸法を設定してある。ここにおいて、上述の電磁石装置4は、ヨーク40の両側片40b,40bの各先端面および永久磁石41の上記他方の磁極面が蓋体部18に当接する形で収納部16に収納されている。しかして、電磁石装置4における永久磁石41の上記他方の磁極面とヨーク40の両側片40b,40bの先端面とを同一平面上に位置させることができるので、電磁石装置4とアーマチュア6との間のギャップ長の精度を高めることが可能となる。また、電磁石装置4は、細長の矩形板状に形成されたプリント基板43を備えている。このプリント基板43は、絶縁性基板43aの一表面における長手方向の両端部それぞれに導体パターン43b,43bが形成されており、各導体パターン43b,43bにおいて円形状に形成された部位が外部接続用電極43ba,43baを構成し、矩形状に形成された部位がコイル接続部43bb,43bbを構成している。ここにおいて、コイル接続部43bb,43bbには、コイル42,42の端末が接続される。コイル42,42は、外部接続用電極間に電源を接続してコイル42,42へ励磁電流を流したときにヨーク40の両側片40b,40bの先端面が互いに異なる磁極となるように接続されている。可動部形成基板2は、シリコン基板からなる半導体基板20を用いて形成されている。半導体基板20は、シリコン基板に限らず、例えば、シリコン層/絶縁層SiO2層/シリコン層の3層構造を有するSOISiliconOnInsulator基板や、シリコン層/絶縁層SiO2層/シリコン層/絶縁層SiO2層/シリコン層の5層構造ダブルSOI構造を有するダブルSOI基板などを用いてもよい。可動部形成基板2は、ベース基板1とカバー基板3との間に介在するフレーム部21と、フレーム部21の内側に配置されフレーム部21に4つの第1ばね部支持ばね部22を介して揺動自在に支持された可動部23とを有している。また、可動部形成基板2は、可動部23における一面側電磁石装置4側に配置され電磁石装置4とともに磁気回路を構成する上述のアーマチュア24と、アーマチュア24の中央部との間に可動部23を挟んで配置されたプレート25とを有している。ここで、プレート25は、可動部23の厚み方向に貫通した貫通孔29を通してアーマチュア24に溶接されている。プレート25をアーマチュア24に溶接するにあたっては、可動部23の上記一面側にアーマチュア24を配置し他面側にプレート25を配置した状態で、プレート25において貫通孔29に対応する部分にレーザ光を照射してプレート25を局所的に溶融させてアーマチュア24に溶接させるようにしている。要するに、プレート25は、アーマチュア24にレーザ溶接法により溶接されている。アーマチュア24を構成する磁性体板の材料としては、鉄-コバルト合金からなる磁性体材料を採用しているが、これに限らず、例えば、電磁軟鉄、電磁ステンレス、パーマロイなどの磁性体材料であればよい。また、プレート25の材料としては、フェライト系ステンレス鋼の一種であるSUS430を採用しているが、これに限らず、例えば、SUS430以外のステンレス鋼や、金属、合金などを採用してもよい。可動部形成基板2は、可動部23の厚みがフレーム部21の厚みよりも薄く、アーマチュア24の厚み寸法を、可動部形成基板2とベース基板1とを固着した状態においてアーマチュア24とベース基板1との間に適宜の空隙が形成されるように設定してある。また、プレート25の厚み寸法は、可動部23とカバー基板3との間に適宜の空隙が形成されるように設定されている。なお、本実施形態では、フレーム部21の厚さを200μm、可動部23の厚さを50μm、アーマチュア24の厚さを100μm、プレート25の厚さを100μmに設定してあるが、これらの数値は一例であり、特に限定するものではない。例えば、半導体基板20としてシリコン基板を用いる場合、このシリコン基板の基礎となるシリコンウェハの厚さに応じて適宜変更してもよく、例えば、50μm~1000μm程度の範囲で設定してもよく、半導体基板20の厚さ寸法に基づいて、可動部23の厚さ、アーマチュア24の厚さ、およびプレート25の厚さ、それぞれを適宜変更すればよい。上述の可動部形成基板2は、フレーム部21が、矩形枠状に形成され、可動部23が、矩形板状に形成されている。また、アーマチュア24は、可動部23よりもやや小さな矩形板状に形成されている。また、プレート25は、長手方向の寸法が可動部23の短手方向の寸法よりもやや大きな細長の板状に形成されており、長手方向の両端部が先細り状の形状となっている。そして、プレート25は、可動部23の長手方向の中央部において、当該プレートの長手方向を可動部23の短手方向に合わせて配置されている。なお、可動部形成基板2は、アーマチュア24およびプレート25以外の構成要素を、マイクロマシニング技術を利用して形成してある。つまり、可動部形成基板2は、フォトリソグラフィ技術、エッチング技術などの半導体プロセス技術を利用して形成してある。アーマチュア24およびプレート25については、打ち抜き加工などの機械加工技術を利用して形成してある。第1ばね部22は、可動部23の短手方向の両側縁側の各々において可動部23の長手方向に離間した2箇所に形成されている。各第1ばね部22は、一端部が可動部23に連結され他端部がフレーム部21の内周面に連結されている。各第1ばね部22は、平面形状において上記一端部と上記他端部との間の部位を同一面内で蛇行した形状に形成することにより長さ寸法を長くしてある。これにより、可動部形成基板2は、可動部23が揺動する際に各第1ばね部22の各々に発生する応力を各々で分散させることが可能となり、各第1ばね部22が破損するのを抑制することが可能となる。また、可動部形成基板2は、可動部23の短手方向の両側縁それぞれの中央部から矩形状の第1突片23aが1つずつ延設されている。また、可動部形成基板2は、フレーム部21の内周面において可動部23の各第1突片23aの各々に対応する各部位から、矩形状の第2突片21aが1つずつ延設されている。すなわち、可動部形成基板2は、1対1で対応する第1突片23aと第2突片21aとの、互いの先端面同士が対向している。ここにおいて、可動部23から延設された各第1突片23aの各々の先端面には、凸部23bが形成されている。一方、フレーム部21から延設された各第2突片21aの各々の先端面には、凸部23bが入り込む凹部21bが形成されている。したがって、可動部形成基板2は、凸部23bが凹部21bの内周面に当接することにより、フレーム部21の厚み方向に直交する面内における可動部23の移動が規制される。可動部23の同一の側縁側にある2つの第1ばね部22は、同一の側縁から延設されている第1突片23aの両側に位置している。可動部形成基板2は、可動部23の各第1突片23aにおけるベース基板1との対向面に、支点突起23c図2参照が突設されている。この支点突起23cは、可動部23が当該可動部23に一体化されているアーマチュア24とともに揺動回動する際の支点として機能する。要するに、可動部形成基板2は、可動部23の短手方向において離間して配置された2つの支点突起23cがベース基板1の上記一表面に当接しており、一対の支点突起23c,23cを結ぶ直線を回動軸として回動可能となっている。また、可動部形成基板2は、可動部23の4隅から当該可動部23の短手方向の両側に向かって矩形状の第3突片23dが延設され、各第3突片23dにおけるベース基板1との対向面には、可動部23の揺動範囲を規制するストッパ部23e図2参照が形成されている。これらのストッパ部23eは、ベース基板1の上記一表面と接触することにより、可動部23の変位量を制限する。これにより、MEMSリレーは、アーマチュア24と蓋体部18とが接触することを回避することが可能となり、アーマチュア24や蓋体部18が破損するのを防止することが可能となる。また、可動部形成基板2は、可動部23の長手方向の両側に接点保持部28,28が配置されている。各接点保持部28は、一対の第2ばね部接圧ばね部26,26を介して可動部23に支持されている。各接点保持部28には、ベース基板1の厚み方向において対向する一対の固定接点14,14に接離する可動接点27図2参照が設けられている。可動接点27は、固定接点14と同様に、Auなどの導電性が良好な金属材料からなる金属膜により構成されている。なお、可動接点27は、スパッタ法や、電気めっき法、真空蒸着法などを利用して形成すればよい。可動接点27は、単層構造に限らず、多層構造でもよく、例えば、Ti膜とAu膜との積層膜でもよい。また、可動接点27の材料は、Auに限らず、例えば、Au、Ag、Cr、Ti、Pt、Ru、Rh、Co、Ni、Cuや、これらの合金などを採用してもよい。各接点保持部28の厚さ寸法は、フレーム部21の厚さ寸法よりも小さく且つ可動部23の厚さ寸法よりも小さな値に設定してある。また、接点保持部28の厚み方向において重なる接点保持部28と可動接点27とを合わせた厚さ寸法も、このような条件を満たす値に設定してある。各接点保持部28は、平面視形状が細長の矩形状であり、短手方向が可動部23の長手方向に一致するように配置されている。各第2ばね部26は、一端部が可動部23の長手方向に沿った側縁に連結され、他端部が接点保持部28の短手方向に沿った側縁に連結されており、上記一端部と上記他端部との間の中間部の一部を、可動部23の厚み方向に直交する面内で蛇行した形状としてある。また、各第2ばね部26の長さは、同じとしてある。しかして、本実施形態のMEMSリレーでは、各第2ばね部26の長さを適当な長さとして各第2ばね部26のばね力を適宜設定することにより、各可動接点27と対応する一対の固定接点14,14との接点圧を所望の大きさに設定することが可能となり、各可動接点27と対応する一対の固定接点14,14との接触信頼性を向上させることが可能となる。可動部形成基板2は、フレーム部21が、ベース基板1およびカバー基板3と接合されている。これにより、可動部形成基板2は、各可動接点27が、対応する一対の固定接点14,14に対向し当該一対の固定接点14,14間を短絡する位置と開放する位置との間で変位可能となっている。ここで、説明を簡単にするために、図1において右側に位置している一対の固定接点14,14を一対の第1固定接点14a,14a、第1固定接点14a,14aに対応する可動接点27を第1可動接点27a、図1において左側に位置している一対の固定接点14,14を一対の第2固定接点14b,14b、第2固定接点14b,14bに対応する可動接点27を第2可動接点27bと称することもある。可動部形成基板2は、アーマチュア24の動作揺動に伴って、第1可動接点27aが一対の第1固定接点14a,14a間を短絡し且つ第2可動接点27bが一対の第2固定接点14b,14b間を開放した第1状態と、第1可動接点27aが一対の第1固定接点14a,14a間を開放し且つ第2可動接点27bが一対の第2固定接点14b,14b間を短絡した第2状態とが交互に現われる。ここで、可動部形成基板2の基礎となる半導体基板20として、上述のダブルSOI基板を用いれば、可動部23とベース基板1との距離をベース基板1側のシリコン層の厚みによって規定することが可能となる。これにより、MEMSリレーは、可動接点27と対応する一対の固定接点14,14とが開放されている状態での可動接点27と一対の固定接点14,14との間の距離絶縁距離を高精度に設定することが可能となり、また、アーマチュア24と電磁石装置4との距離磁気ギャップ長を高精度に設定することが可能となる。また、カバー基板3は、ガラス基板からなる第2の基板30を用いて形成されているが、第2の基板30は、第1の基板10と同様に、ガラス基板に限らず、高抵抗率のシリコン基板や、LTCC基板を用いてもよい。カバー基板3は、可動部形成基板2との対向面に可動部23の揺動空間を確保する凹所図示せずが形成されている。ここで、本実施形態のMEMSリレーの動作について説明する。本実施形態のMEMSリレーでは、コイル42,42への通電が行われると、磁化の向きに応じてアーマチュア24の長手方向の一端部がヨーク40の一方の側片40bに吸引される。これにより、MEMSリレーは、アーマチュア24の上記一端部に近い可動接点27が対応する一対の固定接点14,14に接触し、且つ、アーマチュア24の他端部に近い可動接点27が対応する一対の固定接点14,14から離れた状態となる。この状態では、コイル42,42への通電を停止しても、永久磁石41の発生する磁束により、アーマチュア24の上記一端部に対する吸引力が維持され、アーマチュア24の上記一端部に近い可動接点27と対応する一対の固定接点14,14とが接触した状態が保持される。また、本実施形態のMEMSリレーでは、コイル42,42への通電方向を逆向きにすると、アーマチュア24の長手方向の上記他端部がヨーク40の他方の側片40bに吸引され、アーマチュア24の上記他端部に近い可動接点27が対応する一対の固定接点14,14に接触し、且つ、アーマチュア24の上記一端部に近い可動接点27が対応する一対の固定接点14,14から離れた状態となる。この状態では、コイル42,42への通電を停止しても、永久磁石41の発生する磁束により、アーマチュア24の上記他端部に対する吸引力が維持され、アーマチュア24の上記他端部に近い可動接点27と対応する一対の固定接点14,14とが接触した状態が保持される。なお、本実施形態のMEMSリレーは、アーマチュア24を動かす電磁石装置4として、永久磁石41を備えた有極型の電磁石装置を用いているので、ラッチング型のリレーマイクロリレーを構成している。ただし、MEMSリレーは、電磁石装置4として永久磁石41を備えていない無極型の電磁石装置を用いてもよい。ところで、可動部形成基板2のフレーム部21とベース基板1およびカバー基板3とは、それぞれ、陽極接合法により接合されている。また、可動部23には、上述の貫通孔29が2つ形成されている。これら2つの貫通孔29は、可動部23の長手方向の中央部において可動部23の短手方向に沿った中心線上で並んで形成されている。また、各貫通孔29は、円形状の開口形状となっている。これに対して、プレート25は、長手方向の寸法が、可動部23の短手方向の寸法よりも大きな値に設定されている。また、プレート25は、長手方向の中間部における短手方向の寸法が、貫通孔29の内径よりも大きな値に設定されている。なお、各貫通孔29の開口形状は特に限定するものではない。要するに、プレート25の短手方向の寸法は、可動部23の上記他面における貫通孔29の最大寸法可動部23の長手方向における貫通孔29の最大寸法よりも大きな値であればよい。そして、プレート25は、可動部23の各貫通孔29を通してアーマチュア24に溶接されている。要するに、プレート25は、アーマチュア24に2箇所が溶接されている。また、可動部形成基板2は、可動部23に、アーマチュア24とプレート25との溶接に伴って発生する残留応力を緩和する応力緩和部5が形成されている。ここにおいて、応力緩和部5は、可動部23の厚み方向に貫設された複数図示例では、8つの穴51により構成してある。また、応力緩和部5の穴51は、可動部23の短手方向に沿った中心線に対して左右対称となるように、平面視においてプレート25の幅方向の両側に同じ数図示例では、4つずつ形成されている。各穴51は、円形状の開口形状となっているが、開口形状は特に限定するものではない。また、応力緩和部5における穴51の数は、特に限定するものではないが、上記中心線に対して左右対称となるように偶数であることが好ましい。以上説明した本実施形態のMEMSリレーでは、可動部23に応力緩和部5が形成されていることにより、可動部23の厚さ寸法を従来に比べて大きくすることなく、プレート25とアーマチュア24との溶接に伴う残留応力に起因して可動部23に反りが生じるのを抑制することが可能となる。要するに、本実施形態のMEMSリレーでは、磁性体板からなるアーマチュア24が重ねて配置される可動部23の反りを抑制することが可能となる。これにより、本実施形態のMEMSリレーでは、可動接点27が対応する一対の固定接点14,14から離れている状態での絶縁距離ギャップ長や、可動接点27が対応する一対の固定接点14,14に接触している状態での接触圧などが、ばらつくのを抑制することが可能となり、動作特性や寿命がばらつくのを抑制することが可能となる。また、本実施形態のMEMSリレーでは、応力緩和部5が、可動部23の厚み方向に貫設された複数の穴51により構成されているので、製造時に、応力緩和部5を構成する各穴51を、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術などを利用して各貫通孔29と同時に形成することができ、各貫通孔29に対する応力緩和部5の相対的な位置の精度を高めることが可能となるとともに、応力緩和部5を形成するための工程を別途に追加する必要がなく、応力緩和部5を設けることによる製造コストの増加を防止することが可能となる。実施形態2本実施形態のMEMSリレーの基本構成は実施形態1と略同じであり、図6に示すように、可動部形成基板2における応力緩和部5の構成が相違するだけなので、可動部形成基板2以外の構成要素の図示および説明を省略する。なお、可動部形成基板2についても、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。本実施形態における可動部形成基板2は、応力緩和部5が、可動部23の厚み方向に貫通し側方が開放された複数のスリット52により構成されている。応力緩和部5のスリット52は、可動部23の短手方向に沿った中心線に対して左右対称となるように、平面視においてプレート25の幅方向の両側に同じ数図示例では、4つずつ形成されている。スリット52は、直線状に形成されているが、スリット52の形状は特に限定するものではない。また、応力緩和部5におけるスリット52の数は、特に限定するものではないが、上記中心線に対して左右対称となるように偶数であることが好ましい。以上説明した本実施形態のMEMSリレーでは、実施形態1と同様、可動部23に応力緩和部5が形成されていることにより、可動部23の厚さ寸法を従来に比べて大きくすることなく、プレート25とアーマチュア24との溶接に伴う残留応力に起因して可動部23に反りが生じるのを抑制することが可能となる。要するに、本実施形態のMEMSリレーでは、実施形態1と同様、磁性体板からなるアーマチュア24が重ねて配置される可動部23の反りを抑制することが可能となる。また、本実施形態のMEMSリレーでは、応力緩和部5が、可動部23の厚み方向に貫設された複数のスリット52により構成されているので、製造時に、応力緩和部5を構成する各スリット52を、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術などを利用して各貫通孔29と同時に形成することができ、各貫通孔29に対する応力緩和部5の相対的な位置の精度を高めることが可能となるとともに、応力緩和部5を形成するための工程を別途に追加する必要がなく、応力緩和部5を設けることによる製造コストの増加を防止することが可能となる。応力緩和部5は、少なくとも、複数のスリット52により構成されていればよく、複数のスリット52に加えて、実施形態1において説明した複数の穴51図1参照を備えていてもよい。実施形態3本実施形態のMEMSリレーの基本構成は実施形態1と略同じであり、図7に示すように、可動部形成基板2における応力緩和部5の構成が相違するだけなので、可動部形成基板2以外の構成要素の図示および説明を省略する。なお、可動部形成基板2についても、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。本実施形態における可動部形成基板2は、応力緩和部5が、可動部23の厚み方向の一面側ここで、可動部23においてプレート25が配置されている面側に形成された複数の凹部53により構成されている。応力緩和部5の凹部53は、可動部23の短手方向に沿った中心線に対して左右対称となるように、平面視においてプレート25の幅方向の両側に同じ数図示例では、1つずつ形成されている。各凹部53は、断面円弧状に形成されているが、各凹部53の形状は特に限定するものではない。ただし、凹部53の内面と凹部53の周部とが滑らかに連続した形状で角部がないほうが好ましい。凹部53は、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術などを利用して形成することができる。また、応力緩和部5における凹部53の数は、特に限定するものではないが、上記中心線に対して左右対称となるように偶数であることが好ましい。以上説明した本実施形態のMEMSリレーでは、実施形態1と同様、可動部23に応力緩和部5が形成されていることにより、可動部23の厚さ寸法を従来に比べて大きくすることなく、プレート25とアーマチュア24との溶接に伴う残留応力に起因して可動部23に反りが生じるのを抑制することが可能となる。要するに、本実施形態のMEMSリレーでは、実施形態1と同様、磁性体板からなるアーマチュア24が重ねて配置される可動部23の反りを抑制することが可能となる。応力緩和部5は、少なくとも、複数の凹部53により構成されていればよく、複数の凹部53に加えて、実施形態1において説明した複数の穴51図1参照や実施形態2において説明した複数のスリット52図6参照を備えていてもよい。実施形態4本実施形態のMEMSリレーの基本構成は実施形態1と略同じであり、図8に示すように、可動部形成基板2における応力緩和部5の構成が相違するだけなので、可動部形成基板2以外の構成要素の図示および説明を省略する。なお、可動部形成基板2についても、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。本実施形態における可動部形成基板2は、応力緩和部5が、可動部23の厚み方向の両面に形成された複数の凹部53により構成されている。応力緩和部5の凹部53は、可動部23の短手方向に沿った中心線に対して左右対称となるように、可動部23の厚み方向の両面の各々において、プレート25の幅方向の両側に同じ数図示例では、2つずつ形成されている。各凹部53は、断面円弧状に形成されているが、各凹部53の形状は特に限定するものではない。ただし、凹部53の内面と凹部53の周部とが滑らかに連続した形状で角部がないほうが好ましい。凹部53は、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術などを利用して形成することができる。また、応力緩和部5における凹部53の数は、特に限定するものではないが、上記中心線に対して左右対称となるように偶数であることが好ましい。以上説明した本実施形態のMEMSリレーでは、実施形態1と同様、可動部23に応力緩和部5が形成されていることにより、可動部23の厚さ寸法を従来に比べて大きくすることなく、プレート25とアーマチュア24との溶接に伴う残留応力に起因して可動部23に反りが生じるのを抑制することが可能となる。要するに、本実施形態のMEMSリレーでは、実施形態1と同様、磁性体板からなるアーマチュア24が重ねて配置される可動部23の反りを抑制することが可能となる。応力緩和部5は、少なくとも、複数の凹部53により構成されていればよく、複数の凹部53に加えて、実施形態1において説明した複数の穴51図1参照や実施形態2において説明した複数のスリット52図6参照を備えていてもよい。実施形態5本実施形態のMEMSリレーの基本構成は実施形態1と略同じであり、図9に示すように、可動部形成基板2における応力緩和部5の構成が相違するだけなので、可動部形成基板2以外の構成要素の図示および説明を省略する。なお、可動部形成基板2についても、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。本実施形態における可動部形成基板2は、応力緩和部5が、可動部23においてコルゲート板状に形成された部分以下、コルゲート板状部と称する54により構成されている点などが相違する。このコルゲート板状部54では、アーマチュア24側、プレート25側、それぞれの面が波状面に形成されており、アーマチュア24の厚み方向においてアーマチュア24側の波状面の山部とプレート25側の波状面の谷部とが対応し、アーマチュア24側の波状面の谷部とプレート25側の波状面の山部とが対応している。要するに、コルゲート板状部54では、厚みが略一定となっている。応力緩和部5のコルゲート板状部54は、可動部23の短手方向に沿った中心線に対して左右対称となるように形成されている。コルゲート板状部54は、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術などを利用して形成することができる。以下、コルゲート板状部54の形成方法について図10を参照しながら簡単に説明する。まず、図10aに示すように、可動部23の厚み方向の一面側に、上述の波状面の谷部に対応する部分が開口された第1レジスト層151を形成する。また、可動部23の他面側の全面を第2レジスト層152で覆う。なお、第1レジスト層151と第2レジスト層152とはどちらを先に形成してもよい。上述の第1レジスト層151および第2レジスト層152を形成した後、可動部23の上記一面側から可動部23の露出部位を所定のエッチング液可動部23の材料がSiであれば、フッ酸などによりエッチングすることで凹溝23fを形成することによって、図10bに示す構造を得る。その後、第1レジスト層151および第2レジスト層152を除去する。その後、図10cに示すように、また、可動部23の上記一面側の全面を第3レジスト層153で覆う。また、可動部23の厚み方向の上記他面側に、上述の波状面の谷部に対応する部分が開口された第4レジスト層154を形成する。なお、第3レジスト層153と第4レジスト層154とはどちらを先に形成してもよい。上述の第3レジスト層153および第4レジスト層154を形成した後、可動部23の上記他面側から可動部23の露出部位を所定のエッチング液可動部23の材料がSiであれば、フッ酸などによりエッチングすることで凹溝23g。その後、第3レジスト層153および第4レジスト層154を除去することによって、図10dに示す構造を得る。その後、可動部23の両面の角部をスムージングして滑らかな波状面とするエッチングを行うことによって、図10eに示すコルゲート板状部54を形成する。このエッチングにより、角部に起因した応力集中による破損や特性ばらつきを抑制することが可能となる。なお、図10において説明した可動部23は、フレーム部21から分離されていない状態であり、コルゲート板状部54の形成後にフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術などを利用して、各第1ばね部22との連結部位を除いてフレーム部21から分離される。以上説明した本実施形態のMEMSリレーでは、実施形態1と同様、可動部23に応力緩和部5が形成されていることにより、可動部23の厚さ寸法を従来に比べて大きくすることなく、プレート25とアーマチュア24との溶接に伴う残留応力に起因して可動部23に反りが生じるのを抑制することが可能となる。要するに、本実施形態のMEMSリレーでは、実施形態1と同様、磁性体板からなるアーマチュア24が重ねて配置される可動部23の反りを抑制することが可能となる。応力緩和部5は、少なくとも、コルゲート板状に形成されている部分により構成されていればよく、実施形態1において説明した複数の穴51図1参照、実施形態2において説明した複数のスリット52図6参照、実施形態3,4において説明した凹部53などを備えていてもよい。実施形態6以下、本実施形態のMEMSリレーについて図11~図14に基づいて説明する。本実施形態のMEMSリレーの基本構成は実施形態1と略同じであるが、ベース基板1ではなく、カバー基板3に、電磁石装置4を収納する収納部36が形成されている点、可動部形成基板2の可動部23におけるカバー基板3側にアーマチュア24が配置されている点などが相違する。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を適宜省略する。ベース基板1は、実施形態1と同様に、矩形板状に形成されており、一表面側において第1の基板10の長手方向の両端部それぞれに一対の信号線13,13が形成されている。ここで、各一対の信号線13,13は、ベース基板1の上記一表面側において第1の基板10の短手方向に沿って配置されている。また、ベース基板1は、各信号線13それぞれの一端部に、上述の固定接点14が設けられ、各信号線13それぞれの他端部が、第1の基板10の厚み方向に貫設された貫通孔配線15と電気的に接続されている。なお、本実施形態のMEMSリレーは、ベース基板1と可動部形成基板2とカバー基板3とに亘って形成され信号線13を囲む接地導体図示せずを備えている。なお、本実施形態では、信号線13が当該信号線13の長手方向の一端部で貫通孔配線15と接続されているが、他端部に接続される貫通孔配線を形成してもよい。カバー基板3は、中央部に、上述の電磁石装置4が収納する収納部36が形成されている。ここで、カバー基板3は、第2の基板30の中央部に、厚み方向に貫通し電磁石装置4が挿入される開口部37が形成されている。また、カバー基板3は、第2の基板30における可動部形成基板2側の一表面側に、開口部37を閉塞する蓋体部38が接合されている。要するに、カバー基板3は、開口部37の内周面と蓋体部38とで囲まれた空間が収納部36を構成している。しかして、本実施形態のMEMSリレーは、ベース基板1と可動部形成基板2のフレーム部21とカバー基板3とで囲まれた空間を、気密空間とすることが可能となる。なお、蓋体部38の材料としては、Siを採用している。蓋体部38の厚さは、電磁石装置4からアーマチュア24に作用させる吸引力などの観点から5μm~50μm程度が好ましく、蓋体部18の機械的強度などの観点から20μm~30μm程度がより好ましい。上述の開口部37は、第2の基板30の上記一表面から他表面に近づくにつれて開口面積が徐々に大きくなるテーパ形状となっている。しかして、カバー基板3は、可動部形成基板2側とは反対側から電磁石装置4を挿入し易く、且つ、第2の基板30の上記一表面における開口部37の開口面積を比較的小さくすることができる。なお、上述の開口部37は、例えば、サンドブラスト法やエッチング法などによって形成すればよい。電磁石装置4は、ヨーク40の両側片40b,40bの各先端面および永久磁石41の上記他方の磁極面が蓋体部38に当接する形で収納部36に収納されている。しかして、電磁石装置4における永久磁石41の上記他方の磁極面とヨーク40の両側片40b,40bの先端面とを同一平面上に位置させることができるので、電磁石装置4とアーマチュア24との間のギャップ長の精度を高めることが可能となる。また、電磁石装置4は、絶縁性樹脂からなる断面U字状の端子保持部44の両側片44b,44bの各々からコイル端子45が突出した端子ブロック46を備えている。電磁石装置は、平面視において、端子保持部44の中央片44aがヨーク40のコイル巻回部40aと直交するようにコイル巻回部40aにおける永久磁石41側とは反対側に配設されている。ここにおいて、各コイル端子45には、各コイル42の端末が接続されており、一対のコイル端子45,45間に電圧を印加することで、両コイル42,42に電流が流れる。また、カバー基板3は、可動部形成基板2側とは反対側の表面にコイル端子45,45の各々が電気的に接続される金属膜からなる配線パターン導体パターン34,34が形成されている。そして、電磁石装置4は、配線パターン34,34の各々の一端部に、コイル端子45,45が半田付けなどによって接合され電気的に接続されている。一方、配線パターン34,34の各々の他端部は、ベース基板1の上記他表面側に設けられた駆動用の外部接続電極19,19図12a参照と電気的に接続されている。ここにおいて、各配線パターン34,34と駆動用の各外部接続電極19,19とは、カバー基板3、可動部形成基板2、ベース基板1それぞれに形成された通電用の貫通孔配線315,215,115を介して電気的に接続されている。なお、カバー基板3の貫通孔配線315と可動部形成基板2の貫通孔配線215とは、カバー基板3と可動部形成基板2との互いの対向面側に形成されている接続用金属層図示せず同士を接合することにより電気的に接続されている。同様に、可動部形成基板2の貫通孔配線215とベース基板1の貫通孔配線115とは、可動部形成基板2とベース基板1との互いの対向面側に形成されている接続用金属層図示せず同士を接合することにより電気的に接続されている。なお、半導体基板20の各接続用金属層同士は半導体基板20に形成されている絶縁膜図示せずにより電気的に絶縁されている。各接続用金属層は、上記絶縁膜上に形成されたTi膜と当該Ti膜上に形成されたAu膜との積層膜により構成されている。各接続用金属層は、Au膜と上記絶縁膜との間に密着性改善用の密着層としてTi膜を介在させてあるが、密着層の材料はTiに限らず、例えば、Cr、Nb、Zr、TiN、TaNなどでもよい。また、各接続用金属層は、Au膜の代わりに、例えば、Al膜やCu膜を採用してもよい。また、Ti膜の膜厚は例えば15nm~50nm程度の範囲、Ti膜上のAu膜の膜厚は例えば200~500nm程度の範囲で適宜設定すればよい。対応する接続用金属層同士を例えば常温接合法により接合する場合、Au膜の膜厚は、接合歩留まりの向上を図るうえで、200nm~500nmの範囲においては、より大きな値の方が好ましい。ところで、可動部形成基板2は、上記一表面側におけるフレーム部21の周部の全周に亘って、カバー基板3と接合するための接合用金属層238図11および図14a参照が形成され、上記他表面側におけるフレーム部21の周部の全周に亘って、ベース基板1と接合するための接合用金属層218図14b参照が形成されている。これに対して、カバー基板3における可動部形成基板2との対向面側の周部の全周に亘って、接合用金属層238に接合される接合用金属層図示せずが形成され、ベース基板1における可動部形成基板2との対向面側の周部の全周に亘って、接合用金属層218に接合される接合用金属層118図11参照が形成されている。接合用金属層118は、Ti膜と当該Ti膜上に形成されたAu膜との積層膜により構成されている。接合用金属層118は、Au膜と第1の基板10との間に密着性改善用の密着層としてTi膜を介在させてあるが、密着層の材料はTiに限らず、例えば、Cr、Nb、Zr、TiN、TaNなどでもよい。また、接合用金属層118は、Au膜の代わりに、Al膜やCu膜を採用してもよい。また、Ti膜の膜厚は例えば15nm~50nm程度の範囲、Ti膜上のAu膜の膜厚は例えば200nm~500nm程度の範囲で適宜設定すればよい。また、各接合用金属層218,23は、上記絶縁膜上に形成されたTi膜と当該Ti膜上に形成されたAu膜との積層膜により構成されている。各接合用金属層218,118は、Au膜と上記絶縁膜との間に密着性改善用の密着層としてTi膜を介在させてあるが、密着層の材料はTiに限らず、例えば、Cr、Nb、Zr、TiN、TaNなどでもよい。また、各接合用金属層218,238は、Au膜の代わりに、Al膜やCu膜を採用してもよい。また、Ti膜の膜厚は例えば15nm~50nm程度の範囲、Ti膜上のAu膜の膜厚は例えば200nm~500nm程度の範囲で適宜設定すればよい。なお、可動部形成基板2とベース基板1およびカバー基板3との接合方法は、互いの接合表面を活性化してから互いの接合表面を重ね合わせて常温下で適宜の荷重を印加することにより直接接合する上述の常温接合法に限らず、例えば、互いの接合表面を活性化した後で50~300°C程度の加熱を行いながら適宜の荷重を印加することにより接合する直接接合法を採用してもよい。また、実施形態1と同様に、陽極接合法を採用してもよい。可動部形成基板2は、可動部23の長手方向への可動部23の移動を規制する4つの移動規制部21cがフレーム部21から内方へ突設されている。また、可動部形成基板2は、可動部23の長手方向の両端部の各々から当該長手方向に沿って接点保持部28が延設されており、各接点保持部28におけるベース基板1側に、可動接点27が設けられている。また、可動部形成基板2は、各第1突片23aにおけるカバー基板3との対向面に、突起23cが突設されている。要するに、支点突起23cは、第1突片23aとカバー基板3との間に介在しており、可動部24は、支点突起23cを介してカバー基板3に支持されることとなる。また、可動部形成基板2の第1ばね部22は、実施形態1とは形状が相違するだけで、機能的には実施形態1と同様の機能を有するものである。本実施形態における第1ばね部22も、可動部23の短手方向の両側縁側の各々において可動部23の長手方向に離間した2箇所に形成されている。各第1ばね部22は、一端部が可動部23に連結され他端部がフレーム部21の内周面に連結されている。各第1ばね部22は、平面形状において上記一端部と上記他端部との間の部位を同一面内で蛇行した形状に形成することにより長さ寸法を長くしてある。これにより、可動部形成基板2は、可動部23が揺動する際に各第1ばね部22の各々に発生する応力を各々で分散させることが可能となり、各第1ばね部22が破損するのを抑制することが可能となる。また、可動部形成基板2には、実施形態1と同様の応力緩和部5が形成されている。すなわち、応力緩和部5は、可動部23の厚み方向に貫設された複数図示例では、8つの穴51により構成してある。以上説明した本実施形態のMEMSリレーでは、実施形態1と同様、可動部23に応力緩和部5が形成されていることにより、可動部23の厚さ寸法を従来に比べて大きくすることなく、プレート25とアーマチュア24との溶接に伴う残留応力に起因して可動部23に反りが生じるのを抑制することが可能となる。要するに、本実施形態のMEMSリレーでは、実施形態1と同様、磁性体板からなるアーマチュア24が重ねて配置される可動部23の反りを抑制することが可能となる。また、本実施形態のMEMSリレーでは、カバー基板3に電磁石装置4を収納する収納部36を形成してあるので、実施形態1~5のようにベース基板1に電磁石装置4を収納する収納部16を設ける場合に比べて、電磁石装置4と信号線13,13との距離を長くすることができるから、電磁石装置4が発生する磁束の影響で伝送損失が生じるのを抑制することが可能となる。また、本実施形態のMEMSリレーによれば、ベース基板1に電磁石装置4を収納する場合に比べて、ベース基板1の厚さ寸法を小さくすることが可能となり、貫通孔配線15の長さを短くすることが可能となるから、高周波特性を向上させることが可能となる。本実施形態のMEMSリレーにおいては、応力緩和部5を実施形態1における応力緩和部5と同様の構成としてあるが、これに限らず、実施形態2~5において説明したのと同様の応力緩和部5の構成としてもよい。ところで、実施形態1~6では、2つの可動接点27と、各可動接点27の各々に対して対応する一対の固定接点14,14が設けられているが、対応する可動接点27と固定接点14との数は1対2に限らず、例えば、1対1でもよい。また、可動接点27と対応する固定接点14との組も2組に限らず、1組でもよい。"