加速器を備えた粒子線発生部と、この粒子線発生部で発生された粒子線を照射目標に照射する照射ノズルと、照射する粒子線を制御する照射制御部と、を有し、上記照射ノズルは、上記粒子線の照射方向に直交する横方向の2次元に上記粒子線を偏向して走査する走査用偏向電磁石と、粒子線のエネルギー幅を拡大して上記照射目標の上記粒子線の照射方向である深さ方向にSOBPを形成するためのエネルギー幅拡大機器とを備えた粒子線照射システムにおいて、上記エネルギー幅拡大機器は、上記照射目標の深さ方向の照射領域全体に亘って上記深さ方向のSOBPを形成するよう構成されており、上記照射制御部は、上記粒子線が上記照射目標に形成する照射スポットを、上記照射目標の上記横方向の照射領域全体に亘ってステップ状に移動させるよう上記走査用偏向電磁石を制御することを特徴とする粒子線照射システム。上記照射目標の変位の位相を検出する変位位相検出部を備え、上記変位位相検出部は、上記照射目標の変位が所定の位相にある間、上記照射目標に上記粒子線の照射を許可するゲート信号を出力し、上記照射制御部は、上記ゲート信号のうち一つのゲート信号が出力されている間に、上記照射スポットを、上記照射目標の上記横方向の照射領域全体に亘ってステップ状に移動させるよう上記走査用偏向電磁石を制御することを特徴とする請求項1に記載の粒子線照射システム。治療計画部と、この治療計画部から受け取るデータにより、上記ステップ状に移動する照射スポットの各々の照射スポットにおける照射パラメータを計算する照射制御計算部を備え、この照射制御計算部は、上記変位位相検出部から受け取るデータにより、上記照射目標の移動周期の位相を評価し、上記一つのゲート信号間に、上記照射目標の横方向の照射領域全体を照射するための上記照射パラメータを演算して、この演算された照射パラメータにより照射するためのデータを上記照射制御部に送出することを特徴とする請求項2に記載の粒子線照射システム。上記加速器から粒子線を出射開始させるタイミングを、上記加速器の出射可能残時間がゲート内予定照射時間より長いかの判定結果に同期させることを特徴とする請求項2に記載の粒子線照射システム。上記エネルギー幅拡大機器は上記横方向にエネルギー幅が異なる分布を有するようにエネルギー幅を拡大する素子であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の粒子線照射システム。粒子線発生部で発生された粒子線を照射目標に照射する粒子線照射システムの制御方法であって、上記粒子線照射システムは、上記粒子線の照射方向に直交する横方向の2次元に上記粒子線を走査する走査用偏向電磁石と、上記粒子線のエネルギー幅を拡大して上記照射目標の上記粒子線の照射方向である深さ方向に、上記照射目標の深さ方向の照射領域全体に亘ってSOBPを形成するエネルギー幅拡大機器と、を備え、上記照射目標の変位が所定の位相にある間に、上記粒子線を上記照射目標の上記横方向の照射領域全体に亘ってステップ状に移動させて上記照射目標に照射すよう上記走査用偏向電磁石を制御することを特徴とする粒子線照射システムの制御方法。以上の従来のスキャニング照射方法では、粒子線のエネルギーを複数回変更して照射する必要があるため、エネルギーの変更に時間を要し、照射時間を短縮することが難しい。本発明は、このような課題を解決することを目的とし、スキャニング照射法による粒子線照射システムにおいて、より高速で、より精度の高い線量分布を与えることを目的とする。この発明の粒子線照射システムは、粒子線を偏向して走査する走査用偏向電磁石と、粒子線のエネルギー幅を拡大して照射目標の粒子線の照射方向である深さ方向にSOBPを形成するためのエネルギー幅拡大機器とを備え、エネルギー幅拡大機器は、照射目標の深さ方向の照射領域全体に亘って深さ方向のSOBPを形成するよう構成されており、粒子線が照射目標に形成する照射スポットを、上記照射目標の上記横方向の照射領域全体に亘ってステップ状に移動させるよう走査用偏向電磁石を制御するものである。粒子線により形成される照射スポットを横方向に移動させて照射目標を照射するスキャニング照射において、エネルギーを変更することなく照射目標の深さ方向の照射領域全体に亘って照射するため、短時間に照射が完了でき、照射目標により精度の高い線量分布を与えることができる粒子線照射システムを提供できる。実施の形態1.図2は、この発明の実施の形態1による粒子線照射システム全体の概略構成を示す鳥瞰図、図3は図2の鳥瞰図の全体構成に制御装置などを加えて示す実施の形態1による粒子線照射システムの概略構成のブロック図である。実施の形態1による粒子線照射システムは、図2および図3に示すように、粒子線発生部10と、粒子線輸送部20と、2つの粒子線照射部30A、30Bなどを備えている。図2では、代表的に粒子線照射部が2つ青菜得られているシステムを示したが、粒子線照射部はさらに多くあっても良く、また1つであっても良い。図3では簡単のため粒子線照射部30として粒子線照射部を一つのみとしている。放射線安全管理などの運用上の都合から粒子線発生部10と、粒子線照射部30A、30Bとは、遮蔽された部屋に設置される。粒子線輸送部20は、粒子線発生部10と、各粒子線照射部30A、30Bとを連結する。粒子線輸送部20は、粒子線発生部10で発生した粒子線を粒子線照射部30A、30Bのそれぞれに輸送する粒子線輸送路21、22を有する。粒子線輸送部20は、粒子線の方向を変えるための偏向電磁石50を備え、真空ダクト内を粒子線が通過するように構成される。粒子線照射部30A、30Bは、粒子線PBを患者の目標部位へ照射するように構成される。以後、粒子線照射部30A、30Bは、粒子線照射部30として説明する。粒子線発生部10は、入射器11と加速器12を有する。入射器11は、陽子線または炭素線などの質量の大きな粒子を発生する。加速器12は、入射器11で発生した粒子を加速し、粒子線PBを出射する。この加速器12は、照射制御部80に備えられた加速器制御器13からの信号により制御される。この加速器制御器13は、加速器12にエネルギー制御信号を供給し、加速エネルギーを設定して加速器12から出射される粒子線PBのエネルギーを設定したり、粒子線PBを出射させる時間、強度を制御したりする。粒子線照射部30は、治療室を構成する。粒子線照射部30は、照射ノズル40、治療台32などを有する。治療台32は患者を仰臥位または座位の状態に保持するのに使用される。照射ノズル40は、粒子線照射部30に輸送された粒子線PBを治療台32上の患者の照射目標に向けて照射する。図3には、実施の形態1における粒子線照射部30の照射ノズル40の具体的構成を示している。図3に示す照射ノズル40は、粒子線PBのビーム径を変化させるためのビーム径変更器44を備える。ビーム径変更器としては、例えば四極電磁石を用いたものや、薄い散乱体を用い、散乱体の厚みを変更することで照射目標におけるビーム径を変えるものなど、種々のものを用いることができる。また、ビーム径を変更したり選択したりする必要がない場合は、ビーム径変更器44が省略される場合もある。照射ノズル40は、ビーム径変更後の粒子線PBを横方向、すなわち粒子線PBの照射方向と直交するX、Y面で走査する走査用偏向電磁石41a、41b41a、41bを合わせて、走査用偏向電磁石41と称することもある。、この走査用偏向電磁石41を駆動する走査用偏向電磁石駆動電源45、粒子線PBの照射線量をモニタする線量モニタ42、粒子線PBのエネルギー幅を拡大するエネルギー幅拡大機器であるリッジフィルタ43を有する。その他に、例えばビーム位置モニタなども有するが本発明には直接関係ないため省略する。リッジフィルタ43はそこを通過する粒子線のエネルギーを低下させるが、場所によって、粒子線が通過する厚みが異なるように設けられているため、全体として通過後の粒子線は、通過する前の粒子線のエネルギー幅よりも広いエネルギー幅を有する。よって、リッジフィルタ43を通過した後の粒子線を例えば体内に照射するとそのブラッグピークBPの位置、すなわち粒子線の飛程が拡大される。拡大されたブラッグピークBPSOBPSpreadoutBraggPeakの一例を図4に示す。図4では、SOBPが約10cmとなっている。図4のSOBPを形成するリッジフィルタを用いれば、深さ方向の幅10cmの照射目標を照射できることになる。次に、図3の粒子線照射システムの動作について説明する。まず、治療計画部60において、患者毎の照射線量分布が決定されそのデータが保存されている。照射制御計算部70では、その照射線量分布のデータに基づいて、各照射スポットの照射線量が決定され、そのデータを照射制御部80の照射線量制御器14に出力する。また、照射制御計算部70では、加速器12が出射すべき粒子線のエネルギーやスポットサイズも決定し、加速器制御器13やスポットサイズ制御器15にそのデータを出力する。以上により、照射前の準備が完了する。次に、実際に粒子線を照射目標に照射したときの照射領域のイメージを図1に示す。図1Aの丸印は、各照射スポットを示し、丸印の中の数字は照射スポットを走査する順番を示している。また、図1Bは、図1AのA-A断面を示している。照射時のフローチャートを図5に示す。まず、準備段階において照射制御計算部70で決定されたエネルギーやスポットサイズなどが、決定値になるよう、照射制御部80を通して加速器12、ビーム径変更器44などを設定するST1。次に、照射スポット1の位置に粒子線PBが照射されるよう、ビーム走査制御器16が走査用偏向電磁石電源45を制御して走査用偏向電磁石41の励磁電流を設定するST2。励磁電流の設定が完了した後、加速器12から粒子線を出射させST3、照射を開始する。照射が開始されると、線量モニタ42により照射される線量がカウントされる。線量カウント値は照射線量制御器14に送られる。照射線量制御器14では、照射制御計算部70から各照射スポットにおける必要照射線量値を受け取ることにより、照射スポット毎に線量カウント値が必要照射線量値に達すると線量満了の信号を照射制御計算部70に送出するST4。照射スポットにおける線量が満了すると、照射制御計算部70はビーム走査制御器16に対して、粒子線を次の照射スポットに移動させるよう指令を送出し、走査用偏向電磁石41の励磁電流を次の照射スポットに対応した励磁電流に設定するST6。この動作を、最終の照射スポット図1における照射スポットnの照射が終了ST5するまで繰り返す。以上のようにして照射された領域は図1のようになる。照射された領域は、横方向、すなわちXY方向は、走査用偏向電磁石41により照射スポットがステップ状に移動して形成される全領域となり、深さ方向、すなわちZ方向は、リッジフィルタ43により拡大された粒子線のエネルギーにより、拡大されたブラッグピークに相当する領域となる。通常のリッジフィルタによれば、粒子線のエネルギー幅はXY全領域で同一となるため、Z方向は一定の幅の領域が照射領域となる。したがって、照射スポット毎に柱状の領域が照射領域となり、全ての照射スポットによる全照射領域も、深さ方向が一定の筒状の領域となる。患部の形状が筒状に近い形状の場合、患部の深さに合った拡大ブラッグピークとなるよう、加速器12から出射される粒子線のエネルギーとリッジフィルタ43を設定することにより、エネルギーを変更することなく照射を完了することができる。従来のスポットスキャニング照射においては、照射する粒子線のエネルギーを順次変更することで、深さ方向に複数の層状の照射領域を形成して全領域を照射するようにしていた。この方法では、エネルギーを順次変更する必要があり、エネルギーの変更は、加速器12のパラメータ設定を変更したり、加速器12から出射した後に挿入するレンジシフタのパラメータを変更したりする必要があるため、時間が掛っていた。一方、本発明によれば、粒子線のエネルギーを変更する必要が無く、XY方向の1回の走査で全領域を照射できるため、短時間に照射することができ、患者の負担を軽くできるという効果がある。実施の形態2.図6は、この発明の実施の形態2による粒子線照射システム全体の概略構成のブロック図である。図6において、図3と同一符号は同一または相当する部分を示す。この実施の形態2は、図6に示すように、変位位相検出部90を設け、この変位検出部90により検出される患部の位置の変位の信号を照射制御計算部70に出力するものである。変位位相検出部90では、患者の呼吸測定または照射目標の位置検出を行ない、これらの呼吸測定または照射目標の位置検出に基づき、患部の位置判定を行なう。照射制御計算部70では、判定された患部の移動周期の位相に同期して粒子線の照射を行うように照射制御部80を制御する。患者の呼吸等により、照射目標の位置が変化するため、粒子線の照射位置が変化し、照射精度が低下する。呼気時等には照射目標の位置の変化が小さいため、この期間に照射を行うと精度が高い照射ができる。本実施の形態2では、さらに、呼気1回で、XY全照射領域に亘って照射を行う。これにより非常に精度が高い照射が可能となる。図7は変位位相検出部90の一例の詳細を示すブロック図である。呼吸測定部91は、患者100の呼吸を測定して呼吸信号BSを出力するものであり、従来の粒子線照射システムまたはX線CTで使用されているものを使用することができる。この呼吸測定部91には、患者100の腹部または胸部に発光ダイオードLEDを取付け、この発光ダイオードの発光位置の変位により呼吸を測定する方法、反射装置を用いレーザ光線により体の変位を測定する方法、患者の腹部に伸縮型抵抗を取付けてその電気特性の変化を測定する方法、患者100の呼吸する息を直接計測する方法などを用いることができる。照射目標位置検出部93は、患者100内の照射目標の位置を検出して呼吸信号BSを出力するものである。この照射目標位置検出部93としては、X線源931、932と、これらに対応するX線画像取得装置941、942を使用する。X線源931、932は、患者100内の照射目標に向けてX線を照射し、X線画像取得装置941、942は、X線源931、932からのX線の画像を取得して、照射目標の位置を検出する。X線画像取得装置941、942としては、例えばイメージインテンシファイアを用いたX線テレビ装置あるいはシンチレータ板をCCDカメラで計測する方法などを使用する。照射目標は、それに対応する要所に、予め金などの金属の小片をマーカとして埋め込む方法もあり、このマーカを用いることにより、照射目標の位置の特定が容易になる。呼吸測定部91および照射目標位置検出部93はともに、呼吸等に伴う照射目標の変位を検出し、呼吸信号BSを発生する。これらの呼吸信号BSは、ともに患部位置判定部95に入力される。この患部位置判定部95は、そのメモリー内に記憶された呼気/吸気の相関関係に基づき、入力された呼吸信号BSから呼吸変位をリアルタイムで判定し、ステータス信号SSを照射制御計算部70に出力する。変位位相検出部90の動作の概要を図8の線図に示す。図8aの線図は、例えば照射目標の呼吸変位を示し、図8bの線図はこの変位に基づいて判定した結果のステータス信号を示す。図8aの線図における横破線は所定の閾値を示し、変位が所定の閾値以下の場合、患部位置判定部95は、図8bに示すようなステータス信号、すなわち照射可能な状態であるとの信号を出力する。照射制御計算部70は、ステータス信号に基づき以下のようにして照射を制御する。まず、照射に先立って、患者の呼吸運動等による臓器移動を変位位相検出部90により測定し、患部の移動周期の位相データを取得する。すなわち、変位位相検出部90が出力するステータス信号のデータを照射制御計算部70に登録する。照射制御計算部70では、患部の移動におけるステータス信号の時間長以後1ゲート長と呼ぶ。を、例えば登録された複数の1ゲート長により評価し、1ゲート長以内に患部の全照射スポットを照射するための、各照射スポットにおける照射線量率強度などの照射パラメータを演算により決定する。照射線量率は、各照射スポットにおける照射線量を、各スポットにおける照射許容時間で割ることで求める。照射許容時間は、1ゲート長の中で照射する時間と、照射全体におけるスポット毎の照射割合の積で求める。照射パラメータが決定された後、照射を実行するが、ステータス信号SSが出力されている間1ゲート間に、決定した照射パラメータを用いて照射を行う。図8cに、1ゲート長を拡大して、実際に各照射スポットを照射するイメージを示す。図8cに示すように、1ゲート長以内に照射スポット1~照射スポットn全てを照射するようにしている。例えば照射スポット数が500、1ゲート長が1秒と評価されたとすると、全照射時間を1ゲート長以下の、例えば0.5秒として、1照射スポットの照射時間が約1msとなるように照射パラメータを決定する。加速器12から取り出すことのできる粒子線の線量と、照射目標の大きさにもよるが、例えば、照射目標の大きさが5cm×5cm×5cm、照射線量として生物線量で5GyE、スポットサイズφ2.5mm、とすれば、照射スポットの総数約500で、0.5秒で全ての照射スポットに必要線量を照射することは、現実的に可能である。このとき、深さ方向は、リッジフィルタ43のパラメータを、所定の深さにおいてSOBPが5cmの幅となるように設定することにより、粒子線のエネルギーを変更することなく照射目標の深さ方向の照射も実現できる。よって、1ゲートで全ての照射スポットの照射を完了することができるため、照射中の照射目標の移動を最小限に抑えた照射ができ、極めて精度の高い照射を実現できる。なお、以上では、1ゲート内で全照射領域に必要照射線量を照射できる例を説明したが、必ずしも1ゲート内で必要照射線量が照射できなくても良い。例えば、加速器から1回の加速で取り出すことのできる粒子線の量では、例えば上記の例で、全照射領域に5GyEを照射することができない場合、複数回に分けて照射することで、全照射領域に5GyEを照射することができる。必要照射線量が5GyEである場合に、照射制御計算部70において、加速器から1回の加速で取り出すことのできる粒子線の量で全照射領域に3GyEを照射することができると評価した場合、まず、加速器における1回目の加速による粒子線により、1ゲートで、全ての照射スポットを照射して、照射目標に対して3GyEの線量を与える。次に2回目の加速による粒子線により、2回目の加速後の1ゲート内に、再び全ての照射スポットを照射して、照射目標に対して2GyEの線量を与える。このようにして、2ゲートの時間を用いて、それぞれのゲートにおいて全ての照射スポットを照射することで、合計5GyEの線量を与えることができる。このように、必ずしも1ゲート内で全線量を照射する必要はなく、複数のゲートに分けて照射しても良い。ただし、1ゲートにおいて全照射スポットを照射し、次の1ゲートにおいても全照射スポットを照射するようにしなければならない。1ゲートで全照射スポットを照射するため、ゲート毎に精度の高い照射を実現でき、したがって合計についても精度の高い照射線量が得られる。実施の形態3.図9は、この発明の実施の形態3による粒子線照射システムの概略構成を示すブロック図である。図9において、図3および図6と同一符号は同一または相当する部分を示す。実施の形態1および実施の形態2では、リッジフィルタ43により深さ方向に一定のSOBPを形成するようにした。患部の形状は多様なため、深さ方法に一定のSOBPを形成するだけでは適用範囲が狭い。本実施の形態3では、図9に示すように、エネルギー幅拡大機器として、コーンリッジフィルタ431とボーラス46を用いている。コーンリッジフィルタ431は、非常に細い錘状体をビームの進行方向Z方向が軸となるよう、ビームの進行方向と垂直なXY面内に多数配置して形成される。図9に概念的に示すように、例えば錘状体の高さを変化させることで、通過する粒子線が受ける影響がXY面内で異なり、位置によってエネルギー幅の異なる粒子線を照射目標に照射することができる。図10にコーンリッジフィルタ431通過後の粒子線によって形成されるSOBPの一例を示す。図10においてAで示される実線の曲線は、高さが高い錘状体が配置されている部分例えば中央部分を粒子線が通過したときに、通過後の粒子線によって形成されるSOBPであって、幅が広いSOBPとなっている。Bで示される破線の曲線は、Aの曲線で示される部分よりも高さが低い錘状体が配置されている部分例えば中央周辺部分を粒子線が通過したときに、通過後の粒子線によって形成されるSOBPであって、Aよりも幅が狭いSOBPとなっている。Cで示される一点鎖線の曲線は、Bの曲線で示される部分よりもさらに高さが低い錘状体が配置されている部分例えば周辺部分を粒子線が通過したときに、通過後の粒子線によって形成されるSOBPであって、Bよりもさらに幅が狭いSOBPとなっている。このように配置される錘状体の高さに応じてSOBPの幅が異なるが、SOBP幅が大きくなるにつれて、SOBP中心において等量の線量を得るのに必要な照射線量照射粒子数が大きくなり、コーンリッジフィルタの配置に応じて照射線量を調節しなければならない。上記のようにコーンリッジフィルタの配置に応じて照射線量を調整する方法としてスキャニング照射法は最適な照射方法である。コーンリッジフィルタ431を通過した粒子線は、ボーラス46を通過する。ボーラスは、樹脂等で形成された制限器であり、照射目標の深さ形状に合わせて粒子線の飛程が制限されるように、ボーラスを通過する粒子線のエネルギーを制限する。図10で示すコーンリッジ431によってエネルギー幅が広げられた粒子線がボーラス46を通過することにより、図11に示すような深さ方向のSOBPを形成する粒子線となる。すなわち、例えば図10において曲線Aで示した、中央部分を通過した粒子線は、ボーラス46も中央部分を通過し、エネルギーがそれほど制限されず、図11のA1の実線で示す曲線のように、深さ300mmまでの広いSOBPを形成する。また、図10において曲線Bで示した、中央周辺部分を通過した粒子線は、ボーラス46によってエネルギーが制限されて、図11のB1の破線で示す曲線のように、深さ約270mmまでに制限されたやや狭いSOBPを形成する。さらに、図10において曲線Cで示した、周辺部分を通過した粒子線は、ボーラス46によってエネルギーが大きく制限されて、図11のC1の破線で示す曲線のように、深さ約250mmまでに制限された狭いSOBPを形成する。以上のように、XY面内で分布を有するコーンリッジフィルタ431とボーラス46を用いることで、照射目標の深さ方向に分布を有する照射領域を形成することができる。図9の粒子線照射システムにより、XY面内をスキャンして照射するスキャニング照射をした場合に形成される照射領域のイメージを図12に示す。図12Aの丸印は、図1Aと同様、各照射スポットを示し、丸印の中の数字は照射スポットを走査する順番を示している。また、図12Bは、図12AのA-A断面を示している。図12Bで示されるように、各照射スポットにおける深さ方向の照射領域は位置によって変化しており、エネルギー幅拡大機器であるコーンリッジフィルタ431とエネルギー制限器であるボーラス46を用いることにより、深さ方向の照射領域を照射目標の形状に合う領域とすることができることがわかる。本実施の形態3においても、実施の形態2で説明したのと同じように、患部の移動周期を評価して、1ゲート内に全ての照射スポットを照射するよう、照射パラメータを設定して照射を実行することができる。よって、粒子線のエネルギーを変更することなく照射目標の深さ方向の照射も実現でき、1ゲートで全ての照射スポットの照射を完了することができるため、照射中の照射目標の移動を最小限に抑えた照射ができ、極めて精度の高い照射を実現できる。実施の形態4.図13は、この発明の実施の形態4による粒子線照射システムの概略全体構成のブロック図である。図13において、図3、図6および図9と同一符号は同一または相当する部分を示す。粒子線のエネルギーを変更せずに、深さ方向に所定の照射領域を形成する、すなわちSOBPを形成するための構成は、種々の構成が可能である。図13においては、リッジフィルタ43とボーラス46を用いて深さ方向の照射領域を形成する構成としている。さらに、照射目標の横方向の形状に合わせた照射領域を形成するために、マルチリーフコリメータMLCや患者コリメータといったコリメータを用いても良い。従来のスキャニング照射法では、深さ方向の照射領域は粒子線のエネルギーを変更し、深さ方向に対して異なる照射領域を形成しながら照射する。これに対して、本発明においては、走査用偏向電磁石41の下流に設けたリッジフィルタなどのエネルギー幅拡大機器やエネルギー制限器であるボーラスなどを用いて、深さ方向の照射目標の全領域に亘って照射領域を形成する構成としている。この構成において横方向の照射領域を、照射スポットをスキャニングするスキャニング照射により形成することにより、例えば1ゲート内に照射目標の全領域の照射を完了することが可能となり、精度の高い照射を実現することができる。実施の形態5.図14は、本発明の実施の形態5による粒子線照射システムの動作を説明する線図である。図14a、b、およびcは、図8a、b、およびcと同様の図である。図14dは、図14cの拡大された時間軸に対応して、加速器12から出射されるビーム強度の時間変化を示すものであり、加速器から粒子線を出射させる状態を示している。例えば、実施の形態2において、1ゲートで全照射領域を照射するようにしたが、加速器から粒子線を出射させるタイミングを、照射のタイミングと同期させるものが本実施の形態5による粒子線照射システムの動作である。まず、ゲート内の照射開始時刻t0になったら、加速器の出射可能残時間を算出し、出射可能残時間がゲート内の予定照射時間に満たなければ、出射を見送る。出射可能残時間がゲート内の予定照射時間を満たしていれば、出射を行う。患部の移動周期と加速器の運転周期を評価することで、ゲート内で全照射領域を照射し切ることができる。複数のゲートを跨いで照射領域を照射することは、患部の移動周期間で位置のばらつきがある場合、線量分布の計画外の高線量域や低線量域を原理的に発生させる。ゲート内で全照射領域を照射し切ることができることは、線量分布の精度向上に結びつく。