"パターンが予め描画されたマスクが装着されるマスク装着部と、前記マスク装着部に装着された前記マスクに対向するよう配置されたウエハに対して前記マスクを通して光を照射して、前記ウエハの表面に前記パターンを露光させる露光手段と、を備えたウエハ露光装置を用いて、前記ウエハに前記パターンを露光するウエハ露光方法であって、前記ウエハの表面に形成されたレジスト膜を前記マスクに密着させた状態で、前記レジスト膜に対してコンタクト露光を行うことにより、前記レジスト膜をパターニングしてレジストパターンを形成する露光工程と、前記マスクに予め形成された貫通孔から前記マスクと前記レジスト膜との間に気体を吹き込み、前記マスクと前記レジスト膜とを剥離させる剥離工程と、を備え、前記貫通孔は、前記レジスト膜の外周部に対向する位置と、前記レジスト膜の内周部で前記レジストパターンが形成される部分以外のレジストパターン非形成部に対向する位置とに形成されていることを特徴とするウエハ露光方法。前記貫通孔は、前記ウエハの中央部に相当する位置に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のウエハ露光方法。前記レジスト膜は、ゴム系材料からなるネガレジスト膜であることを特徴とする請求項1または2に記載のウエハ露光方法。前記露光工程は、前記ウエハの両面に形成された前記レジスト膜に、それぞれ前記マスク装着部に装着された前記マスクを密着させ、前記ウエハの両面の前記レジスト膜に対してコンタクト露光を行うことにより、前記レジスト膜をパターニングして前記ウエハの両面に前記レジストパターンを形成することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のウエハ露光方法。前記露光工程では、前記貫通孔から吸引を行うことで、前記マスクと前記レジスト膜とを密着させておき、前記剥離工程では、前記貫通孔からの吸引を解除した後、前記マスクと前記レジスト膜との間に気体を吹き込むことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のウエハ露光方法。請求項1から5のいずれか一項に記載のウエハ露光方法を使用した圧電振動片の製造方法であって、前記ウエハは、圧電材料からなる矩形状のウエハであり、前記レジストパターンは、圧電振動片の外形パターンであり、前記レジストパターン非形成部は、前記ウエハを横断する線状に設定され、前記レジスト膜の内周部であって、複数の前記レジストパターン非形成部の交点に対向する位置に、前記貫通孔が形成されていることを特徴とする圧電振動片の製造方法。請求項1から5のいずれか一項に記載のウエハ露光方法に用いられるマスクであって、ウエハの表面に形成されたレジスト膜の外周部に対向する位置と、前記レジスト膜の内周部でレジストパターンが形成される部分以外のレジストパターン非形成部に対向する位置とに、前記マスクと前記レジスト膜との間に気体を吹き込むための貫通孔を有していることを特徴とするウエハ露光用のマスク。請求項7に記載のウエハ露光用のマスクを備えた圧電振動片の製造装置であって、前記ウエハは、圧電材料からなる矩形状のウエハであり、前記レジストパターンは、圧電振動片の外形パターンであり、前記レジストパターン非形成部は、前記ウエハを横断する線状に設定され、前記レジスト膜の内周部であって、複数の前記レジストパターン非形成部の交点に対向する位置に、前記貫通孔が形成されていることを特徴とする圧電振動片の製造装置。しかしながら、レジスト膜とフォトマスクとを密着させた状態で露光を行なうコンタクト露光においては、レジスト膜がフォトマスクに密着した状態で、露光後にフォトマスクを剥がそうとすると、レジスト膜がフォトマスクに張り付いてしまうことがある。これは、レジスト膜の形成にスピンコート法を用いると、レジスト膜を形成するレジスト材料が遠心力により外周側に広がり、そのときに、最外周側のレジスト膜の膜厚が内周側に比較して大きくなりやすいことに起因する。最外周側のレジスト膜の膜厚が大きい場合、レジスト膜にフォトマスクが密着すると、レジスト膜とフォトマスクとの間の空気が外周側に押し出され、レジスト膜を形成したウエハが吸盤のようにフォトマスクに密着してしまうのである。これにより、フォトマスクをレジスト膜から剥がすのが困難になる。そして、無理にフォトマスクを剥がすとレジスト膜のウエハからの剥離や、レジスト膜への傷付に繋がることがある。そこで、従来より、図7に示すように、フォトマスク101の外周部の四隅に貫通孔101aを形成しておき、この貫通孔101aからウエハ102の表面に設けられたレジスト膜103とフォトマスク101との境界部分にエアブローを行う構成が既に用いられている。しかし、エアブローを用いた場合であっても、ウエハ102が大型化すると、レジスト膜103とフォトマスク101との剥離を行うのが困難となっている。そこでなされた本発明の目的は、レジスト膜のウエハからの剥離や傷付きを防ぎつつ、フォトマスクとレジスト膜との剥離を容易かつ確実に行うことのできるウエハ露光方法、圧電振動片の製造方法、ウエハ露光用マスクおよび圧電振動片の製造装置を提供することである。本発明は、上記課題を解決するため、以下の手段を採用する。すなわち、本発明は、パターンが予め描画されたマスクが装着されるマスク装着部と、マスク装着部に装着されたマスクに対向するよう配置されたウエハに対してマスクを通して光を照射して、ウエハの表面にパターンを露光させる露光手段と、を備えたウエハ露光装置を用いてウエハにパターンを露光するウエハ露光方法であって、ウエハの表面に形成されたレジスト膜をマスクに密着させた状態で、レジスト膜に対してコンタクト露光を行うことにより、レジスト膜をパターニングしてレジストパターンを形成する露光工程と、マスクに予め形成された貫通孔からマスクとレジスト膜との間に気体を吹き込み、マスクとレジスト膜とを剥離させる剥離工程と、を備え、貫通孔は、レジスト膜の外周部に対向する位置と、レジスト膜の内周部でレジストパターンが形成される部分以外のレジストパターン非形成部に対向する位置とに形成されていることを特徴とする。レジスト膜の外周部に対向する位置と、レジスト膜の内周部でレジストパターンが形成される部分以外のレジストパターン非形成部に対向する位置とに形成された貫通孔から、マスクとレジスト膜との間に気体を吹き込むと、レジスト膜の外周部の肉厚が内周側よりも大きく、レジスト膜が吸盤のようにマスクに吸着してしまっている場合であっても、マスクとレジスト膜とを良好に剥離させることができる。ここで、レジストパターン非形成部に対向する位置に形成された貫通孔は、ウエハの中央部に相当する位置に形成するのが好ましい。この発明によれば、レジスト膜が吸盤のようにマスクに吸着した場合でも、マスクとレジスト膜とをより確実に剥離させることができる。また、レジスト膜は、ポジレジスト膜であってもよいが、ゴム系材料からなるネガレジスト膜である場合に特に本発明は有効である。ゴム系材料からなるネガレジスト膜は粘着性を有するためマスクに吸着しやすいが、この発明によれば、レジスト膜とマスクとを良好に剥離させることができる。露光工程は、ウエハの両面に形成されたレジスト膜に、それぞれマスク装着部に装着されたマスクを密着させ、ウエハの両面のレジスト膜に対してコンタクト露光を行うことにより、レジスト膜をパターニングしてウエハの両面にレジストパターンを形成することもできる。これにより、ウエハの両面を同時に露光することができる。露光工程では、貫通孔から吸引を行うことで、マスクとレジスト膜とを密着させておき、剥離工程では、貫通孔からの吸引を解除した後、マスクとレジスト膜との間に気体を吹き込むようにしても良い。この発明によれば、レジスト膜の内周部の貫通孔から気体を吹き込むことにより、剥離工程においてマスクとレジスト膜とを良好に剥離させることができるだけでなく、その貫通孔から吸引を行うことにより、露光工程においてマスクとレジスト膜とを良好に密着させることができる。また、上記したウエハ露光方法を使用した圧電振動片の製造方法であって、ウエハは、圧電材料からなる矩形状のウエハであり、レジストパターンは、圧電振動片の外形パターンであり、レジストパターン非形成部は、ウエハを横断する線状に設定され、レジスト膜の内周部であって、複数のレジストパターン非形成部の交点に対向する位置に、貫通孔が形成されていることを特徴とする。この発明によれば、ウエハを横断する線状に設定されたレジストパターン非形成部に対応して、ウエハに圧電振動片の非形成部が設けられるので、ウエハの剛性を向上させることができる。しかも、レジストパターン非形成部の交点に対向する位置に貫通孔が形成されているので、貫通孔を形成するため圧電振動片の形成部を縮小する必要がなく、ウエハからの圧電振動片の取り個数を確保することができる。また、本発明は、上記したウエハ露光方法に用いられるマスクであって、ウエハの表面に形成されたレジスト膜の外周部に対向する位置と、レジスト膜の内周部でレジストパターンが形成される部分以外のレジストパターン非形成部に対向する位置とに、マスクとレジスト膜との間に気体を吹き込むための貫通孔を有していることを特徴とする。この発明によれば、レジスト膜が吸盤のようにマスクに吸着した場合でも、マスクとレジスト膜とをより確実に剥離させることができる。また、上記したウエハ露光用のマスクを備えた圧電振動片の製造装置であって、ウエハは、圧電材料からなる矩形状のウエハであり、レジストパターンは、圧電振動片の外形パターンであり、レジストパターン非形成部は、ウエハを横断する線状に設定され、レジスト膜の内周部であって、複数のレジストパターン非形成部の交点に対向する位置に、貫通孔が形成されていることを特徴とする。この発明によれば、ウエハを横断する線状に設定されたレジストパターン非形成部に対応して、ウエハに圧電振動片の非形成部が設けられるので、ウエハの剛性を向上させることができる。しかも、レジストパターン非形成部の交点に対向する位置に貫通孔が形成されているので、貫通孔を形成するため圧電振動片の形成部を縮小する必要がなく、ウエハからの圧電振動片の取り個数を確保することができる。本発明によれば、レジスト膜の外周部に対向する位置と、レジスト膜の内周部でレジストパターンが形成される部分以外のレジストパターン非形成部に対向する位置とに形成されたマスクの貫通孔からマスクとレジスト膜との間に気体を吹き込むことで、マスクとレジスト膜とを良好に剥離させることができる。これにより、レジスト膜のウエハからの剥離や傷付きを防ぎつつ、フォトマスクからのレジスト膜の剥離を容易かつ確実に行うことが可能となる。以下、添付図面を参照して、本発明によるウエハ露光方法を使用した圧電振動片の製造方法、およびウエハ露光用マスクを備えた圧電振動片の製造装置を実施するための最良の形態を説明する。しかし、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。圧電振動片最初に、圧電振動片について説明する。図1は圧電振動片の上面から見た平面図であり、図2は下面から見た平面図である。圧電振動片1は、例えば、表面実装型のガラスパッケージタイプの圧電振動子や、シリンダーパッケージタイプの圧電振動子等に組み込まれるものであって、図1,図2に示すように、水晶やタンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電材料から形成された音叉型の圧電板2を備えている。圧電板2は、平行に配置された一対の振動腕部3,4と、これら一対の振動腕部3,4の基端部側を一体的に固定する基部5とを備えている。また、これら一対の振動腕部3,4の上下面上には、振動腕部3,4の基端部から先端部に向かって、一定幅で縦長の溝部6が形成されている。これら溝部6は、振動腕部3,4の基端部側から中間部を越える範囲に亘って形成されている。これにより、一対の振動腕部3,4は、それぞれ図3に示すように断面H型となっている。なお、図3は図1のA-A線に沿う断面図である。このように形成された圧電板2の外表面上には、図1,図2に示すように、一対の励振電極10,11及び一対のマウント電極12,13が形成されている。このうち、一対の励振電極10,11は、電圧が印加されときに一対の振動腕部3,4を互いに接近又は離間する方向に所定の共振周波数で振動させる電極であり、主に一対の振動腕部3,4の外表面にそれぞれ電気的に切り離された状態でパターニングされて形成されている。具体的には、図3に示すように、一方の励振電極10が、主に一方の振動腕部3の溝部6内と他方の振動腕部4の側面上とに形成され、他方の励振電極11が、主に一方の振動腕部3の側面上と他方の振動腕部4の溝部6内とに形成されている。また、一対のマウント電極12,13は、図1,図2に示すように、基部5の主面及び側面を含む外表面上に形成されており、引き出し電極16を介して一対の励振電極10、11にそれぞれ電気的に接続されている。よって、一対の励振電極10,11は、このマウント電極12,13を介して電圧が印加されるようになっている。なお、上述した励振電極10,11、マウント電極12,13及び引き出し電極16は、例えば、クロムCrと金Auとの積層膜であり、水晶と密着性の良いクロム膜を下地として成膜した後に、表面に金の薄膜を施したものである。但し、この場合に限られず、例えば、クロムとニクロムNiCrとの積層膜の表面にさらに金の薄膜を積層しても構わないし、クロム、ニッケル、アルミニウムAlやチタンTi等の単層膜でも構わない。また、一対の振動腕部3,4の先端部には、自身の振動状態を所定の周波数の範囲内で振動するように調整周波数調整を行うための重り金属膜17粗調膜17a及び微調膜17bからなるが形成されている。この重り金属膜17を利用して周波数調整を行うことで、一対の振動腕部3、4の周波数をデバイスの公称周波数の範囲内に収めることができるようになっている。このように構成された圧電振動片1を作動させる場合には、一対の励振電極10,11間に所定の駆動電圧を印加して電流を流すことで、一対の振動腕部3,4を接近離間させる方向に所定の周波数で振動させることができる。そして、この振動を、時刻源、制御信号のタイミング源やリファレンス信号源等として利用することができる。圧電振動片の製造方法次に、上述した圧電振動片の製造方法について説明する。以下の説明では、水晶からなるウエハから複数の圧電振動片を製造する場合について説明する。図4は、圧電振動片の製造方法を示すフローチャートである。まず、水晶のランバート原石を所定の角度でスライスして一定の厚みのウエハSとする。続いて、ウエハSをラッピングして粗加工した後、加工変質層をエッチングで取り除き、その後ポリッシュ等の鏡面加工を行なって、所定の厚みとするS10。次に、ウエハSから複数の圧電振動片1の外形形状をパターニングするための金属マスクを形成するS20。始めに、ポリッシングが終了したウエハSを準備した後、ウエハSの両面に金属膜をそれぞれ成膜するS21。この金属膜は、例えばクロムからなる下地膜と、金からなる保護膜との積層膜であり、それぞれスパッタリング法や蒸着法等により成膜される。ここで、このウエハSの表面に成膜された金属膜上にフォトレジスト膜以下、レジスト膜と称する25を形成するS22。具体的には、まず金属膜上に、スピンコート法等によりレジスト材料を塗布する。なお、本実施形態で用いるレジスト材料としては、感光性材料からなる環化イソプレン等のネガレジストが好適に用いられている。そして、レジスト材料が塗布された状態で、ウエハSをプリベークして乾燥させることで、厚さが7000Å程度のレジスト膜25を形成する。なお、プリベークをホットプレートで行う場合には120°C~130°C、オーブンで行う場合には80°C~90°C程度で行うことが好ましい。この後、フォトリソグラフィ技術を用い、レジスト膜25を所望のレジストパターンにパターニングするS24:レジストパターン形成工程。これには、後に詳述するようにして、マスクをレジスト膜25上にセットした状態で、レジスト膜25をコンタクト露光するS24A:露光工程。露光が終了したら、マスクをレジスト膜25から剥離して取り除くS24B:マスク剥離工程。そして、レジスト膜25の現像を行うS24C:現像工程。具体的には、ウエハSをアルカリ水溶液からなる現像液に浸漬することで、露光されなかった領域のレジスト膜25が選択的に除去される。すなわち、現像後の金属膜上には、圧電振動片の外形形状にレジスト膜が残存した状態のレジストパターンが複数形成される。次に、レジストパターンをマスクとしてエッチング加工例えば、ウェットエッチングを行い、マスクされていない金属膜を選択的に除去するS25。次いで、パターニングされた金属膜をマスクとして、ウエハSの両面からそれぞれエッチング加工を行うS30。これにより、金属膜でマスクされていない領域を選択的に除去して、ウエハSに圧電振動片1の外形形状を形作ることができる。続いて、一対の振動腕部3、4の主面上に溝部6を形成する溝部形成工程を行うS40。具体的には、フォトリソグラフィ技術によって、金属膜に溝部6の領域を開口する。次いで、金属膜をマスクとしてウエハSをハーフエッチングし、一対の振動腕部3、4の両主面上に溝部6をそれぞれ形成する。溝部6の形成後、金属膜を除去する。なお、複数の圧電板2は、後に行う切断工程を行うまで、図示しない連結部を介してウエハSに連結された状態となっている。次いで、複数の圧電板2の外表面上に電極膜をパターニングして、励振電極10,11、引き出し電極16、マウント電極12,13をそれぞれ形成する電極形成工程を行うS50。次いで、一対の振動腕部3,4の先端に周波数調整用の粗調膜17a及び微調膜17bからなる重り金属膜17例えば、銀や金等を形成するS60。そして、ウエハSに形成された全ての振動腕部3,4に対して、共振周波数を粗く調整する粗調工程を行うS70。これは、重り金属膜17の粗調膜17aにレーザー光を照射して一部を蒸発させ、重量を変化させることで行う。なお、共振周波数をより高精度に調整する微調に関しては、圧電振動片1をパッケージに実装した後に行う。そして、最後にウエハSと圧電板2とを連結していた連結部を切断して、複数の圧電板2をウエハSから切り離して個片化する切断工程を行うS80。これにより、1枚のウエハSから、音叉型の圧電振動片1を一度に複数製造することができる。この時点で、圧電振動片1の製造工程が終了し、図1に示す圧電振動片1を得ることができる。そして、このように製造された圧電振動片1は、表面実装型のガラスパッケージや、シリンダーパッケージに実装されて圧電振動子として使用される。ウエハ露光装置、圧電振動片の製造装置上記の露光工程S24Aで用いるウエハ露光装置50について説明する。図5に示すウエハ露光装置50は、このようなウエハSの両面にパターンPを同時に露光する装置である。図5に示すように、ウエハ露光装置50は、互いに対向して配置されると共に、上記パターンPが予め描画された下部マスクマスクM1及び上部マスクマスクM2がそれぞれ装着される下部マスクホルダ53及び上部マスクホルダ52を備えている。これら下部マスクホルダ53及び上部マスクホルダ52は、それぞれに装着された下部マスクM1及び上部マスクM2が、互いに対向するように平行に配置される構成とされている。下部マスクM1及び上部マスクM2は、光例えば紫外光Lを透過する材料、より具体的には例えば石英ガラス等で形成されている。下部マスクM1及び上部マスクM2は、図示しない描画装置によって遮光膜のパターンP図6参照が描画された後、図示しない欠陥検査装置によって検査を受けたものであり、共にウエハSよりも大きいサイズに形成されている。図6に示すように、下部マスクM1内には、ウエハSレジスト膜25に圧電振動片1レジストパターンを形成するための振動片形成領域P1が設定されている。振動片形成領域P1には、ウエハSのレジスト膜25に対向する領域において、複数個の圧電振動片1を形成する遮光膜パターンPが、複数組整列されてレイアウトされる。下部マスクM1内には、ウエハSレジスト膜25に圧電振動片レジストパターンを形成しない振動片非形成領域Zが設定されている。なお、下部マスクM1の振動片非形成領域Zが、レジスト膜25におけるレジストパターン非形成部に相当する。振動片非形成領域Zは、ウエハSを横断する線状に設定されている。例えば、長方形状のウエハSにおける一対の長辺の中央に第1の振動片非形成領域Z1が設定され、一対の短辺の中央に第2の振動片非形成領域Z2が設定されている。これにより、長方形状のウエハSをより小さな長方形領域に四分する十文字状に、振動片非形成領域Zが設定されている。振動片非形成領域Zを十文字状に設けることで、ウエハSがエッチングされた後にも、十文字状の振動片非形成部がウエハSの補強要素として作用し、ウエハSが不要に撓むのを防ぐことができる。また、下部マスクM1には、その厚み方向に下部マスクM1を貫通する貫通孔M1a、M2aが形成されている。ここで、貫通孔M1aは、レジスト膜25の外周部に対向し、かつ、振動片形成領域P1内の外縁図示2点鎖線よりも外側に位置するように複数図示の例ではレジスト膜25の4隅に対向して4つ形成されている。貫通孔M2aは、レジスト膜25の内周部に対向し、かつ、下部マスクM1の振動片形成領域P1内の外縁よりも内側で、振動片非形成領域Zの中央部に位置するよう形成されている。具体的には、ウエハSを横断する線状に設定された第1の振動片非形成領域Z1と第2の振動片非形成領域Z2との交点に、貫通孔M2aが形成されている。また、図5に示すように、下部マスクホルダ53には、下部マスクM1との間にウエハ吸引空間31Aが形成されるように空間形成部材31が装着されている。図示の例では、空間形成部材31は、下部マスクホルダ53において上方に位置する下部マスクM1と開口53aを挟んで対向し、下部マスクM1と、下部マスクホルダ53と共に上記ウエハ吸引空間31Aを形成するように、下部マスクホルダ53に装着されている。また、空間形成部材31は、光例えば紫外光Lを透過する材料、より具体的には例えば石英ガラス等で形成されており、空間形成部材31の下方から照射された光が上方に透過可能な構成とされている。そして、前述したように空間形成部材31と、下部マスクM1と、下部マスクホルダ53とによって形成されたウエハ吸引空間31Aは、下部マスクM1の貫通孔M1a、M2aを通して下部マスクM1の上部の空間に連通した状態となっている。このウエハ吸引空間31Aには、ウエハ吸引空間31Aの内圧を減圧可能な真空ポンプ32が接続されている。また、真空ポンプ32は、ポンプ制御部図示無しからの信号を受けて作動するようになっている。以上のように構成された空間形成部材31、真空ポンプ32及びポンプ制御部図示無しによれば、下部マスクM1上の所定位置に配置されたウエハSを、下部マスクM1に形成された貫通孔M1a、M2aを通して真空吸着することが可能である。また、ウエハ吸引空間31Aには、ウエハ吸引空間31Aの内圧を増圧可能なエアブローポンプ35が接続されている。また、エアブローポンプ35は、ポンプ制御部図示無しからの信号を受けて作動するようになっている。また、本実施形態では、下部マスクホルダ53は、下部マスクM1に対して平行なXY方向及び垂直なZ方向の3方向に移動するXYZステージ図示無し上に固定されている。このXYZステージは、ステージ駆動制御部図示無しからの信号を受けて作動するようになっている。上部マスクホルダ52及び下部マスクホルダ53の外側には、搬送アーム60aを有する搬送ロボット60が配置されている。搬送アーム60aは、XY方向に沿って伸縮自在とされ、先端部でウエハSを吸着できるように構成されている。この搬送ロボット60は、図示しない搬送ロボット駆動制御部からの信号を受けてXY方向及びZ方向の3方向に移動可能とされると共に、ウエハSの吸着及び吸着解除が可能とされている。下部マスクホルダ53の下方及び上部マスクホルダ52の上方には、両マスクM1、M2を通して紫外光光Lを照射してウエハSの両面にパターンPを露光させる上部ランプ装置露光手段55及び下部ランプ装置露光手段56が、上部マスクM2及び下部マスクM1を間に挟むように配置されている。ウエハ露光方法次に、このように構成されたウエハ露光装置50により、露光工程S24Aにおいて、ウエハSの両面にパターンPを同時に露光するウエハ露光方法について説明する。以下の動作は、図示しない制御装置が、各構成品を制御することによって自動的に実行されるものである。まず、下部マスクM1と上部マスクM2との間にウエハSを搬送すると共に、該ウエハSを下部マスクM1上の所定位置に配置する。次いで、真空ポンプ32を制御してウエハ吸引空間31Aを減圧することで、下部マスクM1上の所定位置に接触されたウエハSを吸着する。同時に、搬送ロボット60によるウエハSの吸着を解除する。これにより、下部マスクM1上の所定位置にウエハSを配置することができる。また、下部マスクM1に予め描画されているパターンPとウエハSの下面とが、接した状態となる。続いて、XYZステージを作動させて、上部マスクM2と下部マスクM1とが予め決められた位置関係となるようにし、両マスクM1、M2のパターンPが高い精度で位置合わせされた状態で、下部マスクM1に配置されているウエハSを、上部マスクM2に対して密着させる。この後、上部ランプ装置55及び下部ランプ装置56から、上部マスクM2及び下部マスクM1に向けて紫外光Lを照射させるS24A:露光工程。上部ランプ装置55から照射された紫外光Lは、上部マスクホルダ52の開口52aを通過した後、上部マスクM2を通じてウエハSの上面に照射される。一方、下部ランプ装置56から照射された紫外光Lは、下部マスクホルダ53に装着された空間形成部材31を透過した後、下部マスクM1を通じてウエハSの下面に照射される。これにより、ウエハSの両面にパターンPを同時に露光することができる。露光完了後、上部マスクM2と下部マスクM1とを、ウエハSの表面に直交する方向に離間させる。このとき、ウエハSは、下部マスクM1に吸着されたままの状態となっているので、ウエハSから下部マスクM1を剥離するS24B:マスク剥離工程。具体的には、ポンプ制御部図示無しを介して真空ポンプ32によるウエハ吸引空間31Aの減圧を解除するとともに、エアブローポンプ35によりウエハ吸引空間31Aにエアを送り込んで加圧する。すると、送り込まれたエアは、下部マスクM1に形成された貫通孔M1a、M2aから噴出し、ウエハSを下部マスクM1から離間する方向に押し上げる。このとき、レジスト膜25の外周部に対向する位置に設けられた貫通孔M1aだけでなく、レジスト膜25の中央部に対向する位置に設けられた貫通孔M2aからもエアが噴出する。これによって、ウエハSが下部マスクM1から引き剥がされる。ここで、ウエハSの表面にスピンコート法により形成されたレジスト膜25が、その外周縁部の膜厚が内周側の膜厚よりも大きくなっている場合であっても、中央部の貫通孔M2aからレジスト膜25と下部マスクM1との間にエアを吹き込むことができる。これと並行して、搬送ロボット60によりウエハSを吸着し、下部マスクM1上のウエハSを取り出す。上述したように、レジスト膜25の外周部に対向する位置に設けられた貫通孔M1aだけでなく、レジスト膜25の中央部に対向する位置にも貫通孔M2aを設け、この貫通孔M2aからもエアを噴出させるようにした。これにより、ウエハSの表面にスピンコート法により形成されたレジスト膜25が、その外周縁部の膜厚が内周側の膜厚よりも大きくなっている場合であっても、中央部の貫通孔M2aからレジスト膜25と下部マスクM1との間にエアを吹き込むことができる。その結果、ウエハが大型化した場合であっても、レジスト膜25と下部マスクM1とを確実に剥離させることが可能となる。これにより、レジスト膜25のウエハからの剥離や傷付きを防ぎつつ、レジスト膜25と下部マスクM1との剥離を容易かつ確実に行うことが可能となる。これにより、下部マスクM1からウエハSを離間させるウエハ剥離工程S24Bを、手作業ではなく搬送ロボット60の搬送アーム60aを用いて行うことができる。したがって、ウエハ剥離工程S24Bの効率化を図ることができる。さらに、その搬送ロボット60を用いてウエハSを自動搬送することができる。なお露光工程S24Aにおいて、貫通孔M1a、M2aの形成領域では、紫外光Lの回折等の影響によりレジスト膜25が露光されない。そのためウエハエッチング工程S30では、下部マスクM1の貫通孔M1a、M2aに相当する位置に、ウエハ貫通孔が形成されることになる。本実施形態では、ウエハSの内周部では中央部の1箇所のみにウエハ貫通孔が形成されるので、ウエハ剛性の低下を最小限に抑えることができる。その他の実施形態なお、本発明は、図面を参照して説明した上述の各実施形態に限定されるものではなく、その技術的範囲において様々な変形例が考えられる。例えば、下部マスクM1に設けた貫通孔M1a、M2aの位置は、上記に示した例に限らず、上記以外の位置に設けても良い。その場合、前述したように、貫通孔M1a、M2aは、下部マスクM1の所定位置上に配置されたウエハSにおいて製品としての加工対象とならない部分と、平面視で重なる位置であることが好ましい。また、下部マスクM1内に設定された振動片非形成領域Zは、十字状に限らず、適宜他の形状とすることもできる。さらに、ネガレジストに代えて、ポジレジストを形成する場合にも本発明は適用できる。加えて、下部マスクM1だけでなく、上部マスクM2にも、同様に貫通孔M1a、M2aを形成し、エアにより上部マスクM2とウエハSとの剥離を速やかに行う構成とすることも可能である。なお、両面同時露光を行う場合に限らず、片面のみ露光を行う場合にも、本発明を適用することが可能である。また、ウエハ露光装置50の各部の構成や、動作制御については、上記実施形態に挙げた構成に限らず、適宜他の構成としても良い。これ以外にも、本発明の主旨を逸脱しない限り、上記実施の形態で挙げた構成を取捨選択したり、他の構成に適宜変更することが可能である。"