基板にフォトリソグラフィ処理を行い、当該基板上に所定のパターンを形成する基板処理システムにおいて、基板上に塗布液を塗布する塗布処理装置を含む基板の処理装置が鉛直方向に複数段に積層され、前記塗布処理装置には、基板を保持して回転させる回転保持部と、前記回転保持部に保持された基板上に塗布液を供給する塗布液ノズルと、前記回転保持部に保持された基板の側方を囲むように設けられたカップと、前記カップ内で回収された廃液を貯留する廃液貯留部と、前記廃液貯留部内の廃液の高さを測定するレベルセンサと、前記レベルセンサで測定された廃液の高さが所定の高さに達した場合、前記廃液貯留部から廃液を排出させるように、排液管を介して前記廃液貯留部に連通するポンプを制御する制御部と、が設けられていることを特徴とする、基板処理システム。前記排液管は、前記カップと前記ポンプとを接続し、前記廃液貯留部は、前記排液管に設けられた廃液容器であることを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。前記制御部は、レベルセンサで測定された廃液の高さに基づいて、前記廃液貯留部から廃液がオーバーフローしないように、前記カップからの廃液の排出を制御することを特徴とする、請求項2に記載の基板処理システム。前記廃液容器の内部には、前記廃液が前記排液管に向かって流通する廃液流路が形成されていることを特徴とする、請求項2又は3に記載の基板処理システム。前記廃液容器の内部には、前記廃液流路と前記排液管に接続され、当該廃液流路からの廃液を一時的に溜める貯液部が設けられていることを特徴とする、請求項4に記載の基板処理システム。前記廃液貯留部は、前記カップ自体であることを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。前記カップの下部には、環状の気液分離部が形成され、前記気液分離部は、前記排液管が接続され且つ前記廃液貯留部として機能する外側領域と、前記カップ内を排気する排気管が接続された内側領域とに区画され、前記外側領域には、常時所定の高さの廃液が貯留されていることを特徴とする、請求項6に記載の基板処理システム。前記制御部は、レベルセンサで測定された廃液の高さに基づいて、前記廃液貯留部から廃液がオーバーフローしないように、前記塗布液ノズルを制御することを特徴とする、請求項6又は7に記載の基板処理システム。前記廃液貯留部は、前記カップ内で回収された廃液に加えて、前記塗布処理装置の内部であって前記カップ外で回収された廃液を貯留することを特徴とする、請求項1~8のいずれかに記載の基板処理システム。前記カップ内の廃液を排出する排出口には、当該廃液を通過させるためのフィルタが設けられ、前記フィルタは、本体部と当該本体部から突起した突起部とを有し、前記本体部と前記突起部には、前記廃液が通過する貫通孔がそれぞれ形成されていることを特徴とする、請求項1~9のいずれかに記載の基板処理システム。前記塗布処理装置の下層には、当該塗布処理装置から排出された廃液を回収する廃液回収装置が設けられ、廃液回収装置は、前記排液管に接続された廃液回収部を有し、前記排液管は、前記カップから鉛直下方に延伸する鉛直配管と、前記鉛直配管から前記廃液回収部に所定の角度で傾斜して延伸する傾斜配管とを有することを特徴とする、請求項1~10のいずれかに記載の基板処理システム。前記カップの内部にリンス液を供給し、当該カップの内部を洗浄する際、前記制御部は、前記ポンプを制御して前記リンス液を前記排液管に供給し、当該排液管を洗浄することを特徴とする、請求項1~11のいずれかに記載の基板処理システム。前記塗布液ノズルに塗布液を供給する塗布液供給装置を有し、前記塗布液供給装置は、内部に塗布液を貯留する塗布液供給源と、前記塗布液供給源から前記塗布液ノズルに塗布液を供給するための塗布液供給管と、前記塗布液供給管に設けられ、前記塗布液供給源から前記塗布液ノズルに塗布液を圧送するためのポンプと、前記ポンプより前記塗布液ノズル側の前記塗布液供給管に設けられ、前記塗布液ノズルへの塗布液の供給を制御するバルブと、前記ポンプと前記バルブとの間の前記塗布液供給管に設けられ、当該塗布液供給管に塗布液の溶剤を供給し、前記バルブを洗浄する洗浄機構と、を有することを特徴とする、請求項1~12のいずれかに記載の基板処理システム。前記洗浄機構は、前記塗布液供給管と、前記溶剤を供給する洗浄媒体供給管とに接続された三方バルブを有し、前記三方バルブには、前記溶剤の流れを制御するダイヤフラムが前記洗浄媒体供給管側に設けられていることを特徴とする、請求項13に記載の基板処理システム。前記塗布液ノズルは複数設けられ、当該複数の塗布液ノズルに対応して、前記塗布液供給管、前記バルブ及び前記三方バルブも複数設けられ、前記洗浄媒体供給管は分岐して前記複数の三方バルブに接続されていることを特徴とする、請求項14に記載の基板処理システム。前記溶剤には、第1の溶剤と第2の溶剤の2種類の溶剤が用いられ、前記洗浄媒体供給管には、前記第1の溶剤を貯留する第1の溶剤供給源と、前記第2の溶剤を貯留する第2の溶剤供給源とが接続されていることを特徴とする、請求項14又は15に記載の基板処理システム。前記洗浄機構は、前記塗布液供給管に空気を供給し、前記バルブを洗浄することを特徴とする、請求項13~16のいずれかに記載の基板処理システム。ここで、特許文献1の塗布現像装置では、塗布ユニットの下層に別の液処理ユニットが配置されているため、上述した排液管は、カップの底面から塗布ユニットの外部までほぼ水平に延伸する。このため、カップ内に回収されたカラーレジストなどの廃液は、排液管内を流れ難い。しかも、カラーレジストは、そのレジスト成分が溶剤に溶解し難く、固化し易い性質を有するため、カップ内や排液管内に詰まり易くなる。その結果、塗布ユニットを頻繁にメンテナンスする必要があった。そして、このメンテナンス時には塗布ユニットを使用することができないため、ウェハ処理のスループット向上の妨げとなっていた。本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、カラーレジスト等の塗布液を基板上に塗布する塗布処理装置を効率よく使用し、基板処理のスループットを向上させることを目的とする。前記の目的を達成するため、本発明は、基板にフォトリソグラフィ処理を行い、当該基板上に所定のパターンを形成する基板処理システムにおいて、基板上に塗布液を塗布する塗布処理装置を含む基板の処理装置が鉛直方向に複数段に積層され、前記塗布処理装置には、基板を保持して回転させる回転保持部と、前記回転保持部に保持された基板上に塗布液を供給する塗布液ノズルと、前記回転保持部に保持された基板の側方を囲むように設けられたカップと、前記カップ内で回収された廃液を貯留する廃液貯留部と、前記廃液貯留部内の廃液の高さを測定するレベルセンサと、前記レベルセンサで測定された廃液の高さが所定の高さに達した場合、前記廃液貯留部から廃液を排出させるように、排液管を介して前記廃液貯留部に連通するポンプを制御する制御部と、が設けられていることを特徴としている。なお、所定の高さとは、廃液貯留部内において廃液が固化せず、排液管内を廃液が円滑に流れる高さである。本発明によれば、塗布液ノズルから回転保持部に保持された基板上に塗布液が供給され、回転中の基板上に塗布液が塗布される。このとき、基板から飛散する塗布液はカップ内に回収される。そして、このようにカップ内で回収された廃液は、廃液貯留部内に一旦貯留された後、ポンプにより排液管を介して廃液貯留部から排出される。このように廃液は強制的に排出されるため、塗布液がカラーレジストのように固化し易いものであっても、従来のようにカップ内や排液管内に廃液が詰まることない。また、レベルセンサによって廃液の高さを測定し、その高さが所定の高さに達した場合に廃液貯留部から廃液を排出しているので、当該廃液貯留部内において廃液が固化せず、廃液は排液管内を円滑に流れる。以上のように、本発明によれば、廃液を円滑に排出することができるため、塗布処理装置のメンテナンス頻度が減少する。したがって、塗布処理装置を効率よく使用することができ、基板処理のスループットを向上させることができる。前記排液管は、前記カップと前記ポンプとを接続し、前記廃液貯留部は、前記排液管に設けられた廃液容器であってもよい。前記制御部は、レベルセンサで測定された廃液の高さに基づいて、前記廃液貯留部から廃液がオーバーフローしないように、前記カップからの廃液の排出を制御してもよい。前記廃液容器の内部には、前記廃液が前記排液管に向かって流通する廃液流路が形成されていてもよい。前記廃液容器の内部には、前記廃液流路と前記排液管に接続され、当該廃液流路からの廃液を一時的に溜める貯液部が設けられていてもよい。また、前記廃液貯留部は、前記カップ自体であってもよい。前記カップの下部には、環状の気液分離部が形成され、前記気液分離部は、前記排液管が接続され且つ前記廃液貯留部として機能する外側領域と、前記カップ内を排気する排気管が接続された内側領域とに区画され、前記外側領域には、常時所定の高さの廃液が貯留されていてもよい。前記制御部は、レベルセンサで測定された廃液の高さに基づいて、前記廃液貯留部から廃液がオーバーフローしないように、前記塗布液ノズルを制御してもよい。前記廃液貯留部は、前記カップ内で回収された廃液に加えて、前記塗布処理装置の内部であって前記カップ外で回収された廃液を貯留してもよい。前記カップ内の廃液を排出する排出口には、当該廃液を通過させるためのフィルタが設けられ、前記フィルタは、本体部と当該本体部から突起した突起部とを有し、前記本体部と前記突起部には、前記廃液が通過する貫通孔がそれぞれ形成されていてもよい。前記塗布処理装置の下層には、当該塗布処理装置から排出された廃液を回収する廃液回収装置が設けられ、廃液回収装置は、前記排液管に接続された廃液回収部を有し、前記排液管は、前記カップから鉛直下方に延伸する鉛直配管と、前記鉛直配管から前記廃液回収部に所定の角度で傾斜して延伸する傾斜配管とを有していてもよい。前記カップの内部にリンス液を供給し、当該カップの内部を洗浄する際、前記制御部は、前記ポンプを制御して前記リンス液を前記排液管に供給し、当該排液管を洗浄してもよい。前記塗布液ノズルに塗布液を供給する塗布液供給装置を有し、前記塗布液供給装置は、内部に塗布液を貯留する塗布液供給源と、前記塗布液供給源から前記塗布液ノズルに塗布液を供給するための塗布液供給管と、前記塗布液供給管に設けられ、前記塗布液供給源から前記塗布液ノズルに塗布液を圧送するためのポンプと、前記ポンプより前記塗布液ノズル側の前記塗布液供給管に設けられ、前記塗布液ノズルへの塗布液の供給を制御するバルブと、前記ポンプと前記バルブとの間の前記塗布液供給管に設けられ、当該塗布液供給管に塗布液の溶剤を供給し、前記バルブを洗浄する洗浄機構と、を有していてもよい。なお、塗布液の溶剤とは、当該塗布液を溶解させる溶剤をいう。前記洗浄機構は、前記塗布液供給管と、前記溶剤を供給する洗浄媒体供給管とに接続された三方バルブを有し、前記三方バルブには、前記溶剤の流れを制御するダイヤフラムが前記洗浄媒体供給管側に設けられていてもよい。前記塗布液ノズルは複数設けられ、当該複数の塗布液ノズルに対応して、前記塗布液供給管、前記バルブ及び前記三方バルブも複数設けられ、前記洗浄媒体供給管は分岐して前記複数の三方バルブに接続されていてもよい。前記溶剤には、第1の溶剤と第2の溶剤の2種類の溶剤が用いられ、前記洗浄媒体供給管には、前記第1の溶剤を貯留する第1の溶剤供給源と、前記第2の溶剤を貯留する第2の溶剤供給源とが接続されていてもよい。前記洗浄機構は、前記塗布液供給管に空気を供給し、前記バルブを洗浄してもよい。本発明によれば、カラーレジスト等の塗布液を基板上に塗布する塗布処理装置を効率よく使用し、基板処理のスループットを向上させることができる。以下、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明にかかる基板処理システムとしての塗布現像処理システム1の内部構成の概略を示す平面図である。図2及び図3は、塗布現像処理システム1の内部構成の概略を示す側面図である。塗布現像処理システム1は、図1に示すように例えば外部との間で複数枚のウェハWを収容したカセットCが搬入出されるカセットステーション2と、フォトリソグラフィ処理の中で枚葉式に所定の処理を施す複数の各種処理装置を備えた処理ステーション3と、処理ステーション3に隣接する露光装置4との間でウェハWの受け渡しを行うインターフェイスステーション5とを一体に接続した構成を有している。カセットステーション2には、カセット載置台10が設けられている。カセット載置台10には、複数、例えば4つのカセット載置板11が設けられている。カセット載置板11は、水平方向のX方向図1中の上下方向に一列に並べて設けられている。これらのカセット載置板11には、塗布現像処理システム1の外部に対してカセットCを搬入出する際に、カセットCを載置することができる。カセットステーション2には、図1に示すようにX方向に延びる搬送路20上を移動自在なウェハ搬送装置21が設けられている。ウェハ搬送装置21は、上下方向及び鉛直軸周りθ方向にも移動自在であり、各カセット載置板11上のカセットCと、後述する処理ステーション3の第3のブロックG3の受け渡し装置との間でウェハWを搬送できる。処理ステーション3には、各種装置を備えた複数、例えば4つのブロックG1、G2、G3、G4が設けられている。例えば処理ステーション3の正面側図1のX方向負方向側には、第1のブロックG1が設けられ、処理ステーション3の背面側図1のX方向正方向側には、第2のブロックG2が設けられている。また、処理ステーション3のカセットステーション2側図1のY方向負方向側には、第3のブロックG3が設けられ、処理ステーション3のインターフェイスステーション5側図1のY方向正方向側には、第4のブロックG4が設けられている。例えば第1のブロックG1には、図3に示すように複数の液処理装置が鉛直方向に積層されている。例えばウェハWを現像処理する現像処理装置30、31、後述する塗布処理装置33、34で排出された廃液を回収する廃液回収装置32、ウェハW上に塗布液としてのカラーレジストを塗布してレジスト膜を形成する塗布処理装置33、34が下から順に5段に重ねられている。現像処理装置30、31は、処理時にウェハWを収容するカップFを水平方向に複数有し、複数のウェハWを並行して処理することができる。廃液回収装置32、塗布処理装置33、34の詳細な構成については後述する。なお、第1のブロックG1には、ウェハWのレジスト膜の下層に反射防止膜を形成する下部反射防止膜形成装置や、ウェハWのレジスト膜の上層に反射防止膜を形成する上部反射防止膜形成装置等が配置されていてもよい。例えば第2のブロックG2には、図2に示すようにウェハWの熱処理を行う熱処理装置40や、ウェハWを疎水化処理するアドヒージョン装置41、ウェハWの外周部を露光する周辺露光装置42が上下方向と水平方向に並べて設けられている。熱処理装置40は、ウェハWを載置して加熱する熱板と、ウェハWを載置して冷却する冷却板を有し、加熱処理と冷却処理の両方を行うことができる。なお、熱処理装置40、アドヒージョン装置41及び周辺露光装置42の数や配置は、任意に選択できる。例えば第3のブロックG3には、図2及び図3に示すように複数の受け渡し装置50、51、52、53、54、55、56が下から順に設けられている。また、第3のブロックG3の最下層には、廃液回収装置32で回収した廃液を一旦貯留し、当該廃液を塗布現像処理システム1の外部に排出するための廃液排出装置60が配置されている。廃液排出装置60には、廃液を一旦貯留するためのタンク図示せずや、廃液を排出するためのポンプ図示せずなどが設けられている。また、第4のブロックG4には、複数の受け渡し装置70、71、72が下から順に設けられている。図1に示すように第1のブロックG1~第4のブロックG4に囲まれた領域には、ウェハ搬送領域Dが形成されている。ウェハ搬送領域Dには、例えばウェハ搬送装置80が配置されている。ウェハ搬送装置80は、例えばY方向、X方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置80は、ウェハ搬送領域D内を移動し、周囲の第1のブロックG1、第2のブロックG2、第3のブロックG3及び第4のブロックG4内の所定の装置にウェハWを搬送できる。ウェハ搬送装置80は、例えば図2に示すように上下に複数台配置され、例えば各ブロックG1~G4の同程度の高さの所定の装置にウェハWを搬送できる。また、ウェハ搬送領域Dには、第3のブロックG3と第4のブロックG4との間で直線的にウェハWを搬送するシャトル搬送装置90が設けられている。シャトル搬送装置90は、例えばY方向に直線的に移動自在になっている。シャトル搬送装置90は、ウェハWを支持した状態でY方向に移動し、第3のブロックG3の受け渡し装置52と第4のブロックG4の受け渡し装置72との間でウェハWを搬送できる。図1に示すように第3のブロックG3のX方向正方向側の隣には、ウェハ搬送装置100が設けられている。ウェハ搬送装置100は、例えばX方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置100は、ウェハWを支持した状態で上下に移動して、第3のブロックG3内の各受け渡し装置にウェハWを搬送できる。インターフェイスステーション5には、ウェハ搬送装置110と受け渡し装置111が設けられている。ウェハ搬送装置110は、例えばY方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置110は、例えば搬送アームにウェハWを支持して、第4のブロックG4内の各受け渡し装置、受け渡し装置111及び露光装置4との間でウェハWを搬送できる。次に、上述した上層側の塗布処理装置34の構成について説明する。塗布処理装置34は、図4及び図5に示すように内部を密閉することができる処理容器130を有している。処理容器130のウェハ搬送領域D側の側面には、図5に示すようにウェハWの搬入出口131が例えば3箇所に形成されている。これら搬入出口131は、後述する塗布部140、141、142に対応する位置に形成されている。処理容器130の内部には、例えばウェハW上にカラーレジストを塗布する3つの塗布部140、141、142が設けられている。塗布部140、141、142は、Y方向負方向図5の左方向側からY方向正方向図5の右方向側にこの順で並べて配置されている。図5に示すように塗布部140、141、142のX方向負方向図5の下方向側には、Y方向図5の左右方向に沿って延伸するレール150が形成されている。レール150は、例えば塗布部140のY方向負方向図5の左方向側の外方から塗布部142のY方向正方向図5の右方向側の外方まで形成されている。レール150には、アーム151が取り付けられている。アーム151には、図4及び図5に示すようにカラーレジストを吐出する、塗布液ノズルとしてのレジストノズル152が支持されている。アーム151は、図5に示すノズル駆動部153により、レール150上を移動自在である。これにより、レジストノズル152は、塗布部140のY方向負方向側の外方に設置された待機部154から各塗布部140、141、142内のウェハWの中心部上方まで移動でき、さらに当該ウェハWの表面上をウェハWの径方向に移動できる。また、アーム151は、ノズル駆動部153によって昇降自在であり、レジストノズル152の高さを調節できる。レジストノズル152には、図6に示すように当該レジストノズル152にカラーレジストを供給する、塗布液供給装置としてのレジスト供給装置155が接続されている。なお、待機部154はノズルバスであり、当該待機部154では、レジストノズル152が待機中、当該レジストノズル152の先端部が収容され洗浄される。このレジストノズル152の洗浄は、例えばリンス液、例えばシンナーなどのカラーレジストを溶解させる溶剤以下、単に溶剤という。によって行われる。また、待機部154では、レジストノズル152からのカラーレジストのダミーディスペンスも行うことができる。そして、レジストノズル152の洗浄によって発生する廃液は、例えば待機部154に接続された排液管図示せずから排出され、廃液回収装置32で回収される。塗布部140には、図6に示すようにウェハWを保持して回転させる回転保持部としてのスピンチャック160が設けられている。スピンチャック160は、水平な上面を有し、当該上面には、例えばウェハWを吸引する吸引口図示せずが設けられている。この吸引口からの吸引により、ウェハWをスピンチャック160上に吸着保持できる。スピンチャック160は、シャフト161に取り付けられている。スピンチャック160の下方には、このシャフト161を介して例えばモータやシリンダなどを備えた回転駆動部162が設けられている。この回転駆動部162により、スピンチャック160は鉛直周りに所定の速度で回転でき、且つ昇降可能になっている。スピンチャック160の下方側には、シャフト161を囲むようにカップベース163が設けられている。カップベース163は、スピンチャック160に保持されたウェハWの裏面側に落下する液体を受け止め、回収することができる。カップベース163には、回収した廃液を排出するための排液管164が接続されている。スピンチャック160の下方であって、カップベース163上には、ウェハWの裏面にリンス液を噴射するバックリンスノズル165、165が例えば2箇所に設けられている。バックリンスノズル165には、リンス液供給源166に連通するリンス液供給管167が接続されている。リンス液供給源166には、リンス液、例えばシンナーなどの溶剤が貯留されている。カップベース163の外周部には、断面形状が山形、すなわち上方に凸に突出した形状のガイドリング168が設けられている。このガイドリング168の外周部は下方側に屈曲して延伸している。スピンチャック160、スピンチャック160に保持されたウェハW、及びガイドリング168の側方には、これらスピンチャック160、ウェハW及びガイドリング168を囲むようにカップ170が設けられている。カップ170は、ウェハWから飛散又は落下する液体を受け止めることができ、回収することができる。カップ170は、上面にスピンチャック160が昇降できるようにウェハWよりも大きい開口部が形成されていると共に、内周側面とガイドリング168の外周縁との間に排出路をなす隙間171が形成されている。また、カップ170の下部には、カップ170内の雰囲気を排気すると共に、カップ170内の廃液を回収する気液分離部172が環状に形成されている。気液分離部172には、ガイドリング168の外周部と、カップ170の底面に設けられた仕切壁173とにより屈曲路が形成されている。そして、この屈曲路により気液分離部172で気体と液体が分離される。すなわち、気液分離部172は、仕切壁173によって、カップ170内の廃液を排出するための外側領域174と、カップ170内の雰囲気を排気するための内側領域175に区画されている。外側領域174には、カップ170内の廃液を排出する排液管176が接続されている。また内側領域175には、カップ170内の雰囲気を排気するための排気管177が接続されている。カップ170の下方には、カップベース163とカップ170内で回収された廃液を貯留する廃液貯留部としての廃液容器180が設けられている。なお、廃液容器180には、例えばその内側面にカラーレジストなどの廃液が付着し難い材料、例えばPTFEポリテトラフルオロエチレン、Polytetrafluoroethyleneが用いられる。廃液容器180の上面には、図7に示すようにカップベース163で回収した廃液を排出する排液管164と、カップ170内で回収した廃液を排出する排液管176とが接続されている。さらに廃液容器180の上面には、当該廃液容器180の内部を洗浄するためのリンス液を供給するリンス液供給管181が接続されている。リンス液供給管181は、当該リンス液供給管181にリンス液を供給するリンス液供給源図示せずに連通している。廃液容器180の一の側面には、排液管182が接続されている。排液管182は、図3に示すように後述する廃液回収装置32のポンプ203に連通し、回収タンク200に接続されている。そして、このポンプ203により、排液管182を介して廃液容器180内の廃液が排出される。なお、本実施の形態では、排液管182に連通するポンプ203は廃液回収装置32内に設けられているが、当該ポンプを配置する場所は本実施の形態に限定されない。例えば塗布処理装置34の近傍にポンプを配置してもよい。また、ポンプ203は、各排液管182毎に1基ずつ設けられていてもよいし、複数の排液管182に対して1基設けられてもよい。但し、廃液容器180からの廃液の排出制御が個別に可能となる点で、ポンプ203を各排液管182毎に1基ずつ設けた方が好適である。すなわち、各ポンプ203を個別に制御することで、例えば後述するように所定の高さまで廃液が貯留された廃液容器180のみから廃液を排出させ、所定の高さまで廃液が貯留されていない廃液容器180からの廃液の排出を停止させることができ、廃液の排出を効率よく行うことができる。廃液容器180の内部には、図8及び図9に示すように廃液を貯留する貯留空間183が形成されている。貯留空間183の底面図8及び図9の点線部分は、排液管182に向かって傾斜している。廃液容器180の一の外側面には、当該廃液容器180内の廃液の高さを測定するレベルセンサ184、185が2箇所に設けられている。第1のレベルセンサ184は、廃液容器180内の廃液が排出される所定の高さ図8及び図9中の一点鎖線に配置されている。すなわち、廃液が廃液容器180内に貯留され、第1のレベルセンサ184の測定位置まで達すると、第1のレベルセンサ184から後述する制御部250に信号が送信される。制御部250ではこの信号に基づいてポンプ203が作動するように制御し、廃液容器180から廃液が排出される。また、第2のレベルセンサ185は、廃液容器180内の廃液がオーバーフローする所定の高さ図8及び図9中の二点鎖線に配置されている。すなわち、廃液が廃液容器180内に貯留され、第2のレベルセンサ185の測定位置まで達すると、第2のレベルセンサ185から後述する制御部250に信号が送信される。制御部250ではこの信号に基づいて、例えば少なくともカップ170又はカップベース163からの廃液の排出を制御する。この廃液の排出を制御する際には、例えば排液管164、176に設けられた流量調整バルブ図示せずによって廃液の排出量を調整してもよいし、あるいは例えばレジストノズル152からのカラーレジストの供給量やバックリンスノズル165からのリンス液の供給量を調整してもよい。そして、このようにカップ170又はカップベース163からの廃液の排出を制御することにより、廃液容器180内で廃液がオーバーフローするのを防止できる。なお、本実施の形態では、廃液容器180には2つのレベルセンサ184、185が設けられていたが、1つのレベルセンサを設けて廃液容器180からの廃液の排出とオーバーフローを制御してもよい。このレベルセンサは例えば圧力センサ等が用いられ、当該レベルセンサを任意の位置に配置して廃液容器180内の廃液の高さを測定できる。また、本実施の形態では、レベルセンサ184、185として静電容量センサを用いることが好ましい。カラーレジストは光を通し難いので、光電センサでは正確な廃液の高さの検出が困難である。なお、塗布部141、142の構成については、上述した塗布部140と同様であるので説明を省略する。次に、上述した下層側の塗布処理装置33の構成と廃液回収装置32の構成について説明する。下層側の塗布処理装置33は、上述した上層側の塗布処理装置34とほぼ同様の構成を有している。塗布処理装置33の内部には、図10に示すように例えばウェハW上にカラーレジストを塗布する3つの塗布部190、191、192が、Y方向負方向図10の左方向側からY方向正方向図10の右方向側にこの順で並べて配置されている。これら塗布部190、191、192の構成は、上述した塗布処理装置34の塗布部140の構成とほぼ同様であるが、塗布部190、191、192には、廃液容器180に代えて液受け容器193がそれぞれ設けられている。液受け容器193は、廃液容器180のように廃液を一旦貯留する機能は無く、単に排液管164、176からの廃液を集めて、廃液回収装置32に流すための容器である。なお、塗布処理装置33においても液受け容器193を用いずに、廃液容器180を用いても勿論よい。また、塗布処理装置33のその他の構成は、上述した塗布処理装置34の構成と同様であるので説明を省略する。廃液回収装置32の内部には、塗布処理装置33、34からの廃液を回収する廃液回収部としての回収タンク200が設けられている。回収タンク200は、鉛直配管201及び傾斜配管202を介して、上述した液受け容器193と接続されている。鉛直配管201は、液受け容器193カップ170から鉛直下方に延伸して設けられている。傾斜配管202は、鉛直配管201の端部から回収タンク200に所定の角度で傾斜して延伸して設けられている。この所定の角度は、傾斜配管202内を廃液が詰まることなく円滑に流れる角度であって、例えば水平方向から15度以上である。なお、図3に示すように回収タンク200には、塗布処理装置34の排液管182が接続される。また、図示はしないが、回収タンク200には、塗布処理装置33、34の待機部154からの廃液を排出する排液管も接続される。図10に示すように廃液回収装置32の内部には、排液管182から廃液を排出させるためのポンプ203が設けられている。回収タンク200には排液管204が接続され、図3に示すように排液管204は廃液排出装置60に連通している。そして、廃液排出装置60内のポンプによって回収タンク200から廃液排出装置60に廃液が排出され、さらに廃液排出装置60から塗布現像処理システム1の外部に廃液が排出される。なお、上述したようにポンプ203が各排液管182毎に1基ずつ設けられている場合には、当該排液管182からの廃液は回収タンク200を経由せず、当該廃液は廃液排出装置60に直接排出されてもよい。なお、廃液回収装置32には、回収タンク200の内部を洗浄する洗浄機構図示せずや、回収タンク200から排出される廃液の不純物を除去するためのフィルタ図示せずなどが設けられていてもよい。次に、上述したレジスト供給装置155の構成について説明する。レジスト供給装置155は、図11に示すように内部にカラーレジストを貯留する、塗布液供給源としてのレジスト供給源210を有している。レジスト供給源210の上部には、レジスト供給源210内に空気を供給するための空気供給管211が接続されている。空気供給管211は、内部に空気を貯留する空気供給源212に連通している。そして、空気供給源212からレジスト供給源210内に空気が供給され、レジスト供給源210内の圧力が所定の圧力に維持されている。なお、空気として例えば不活性ガスを用いてもよい。また、レジスト供給源210の上部には、レジストノズル152にカラーレジストを供給するための塗布液供給管としてのレジスト供給管213が設けられている。すなわち、レジスト供給管213は、レジスト供給源210とレジストノズル152を接続して設けられている。レジスト供給源210の下流側のレジスト供給管213には、カラーレジストを一旦貯留させておくリキッドエンドタンク214が設けられている。リキッドエンドタンク214は、バッファタンクとしての役割を果たしており、レジスト供給源210から供給されるカラーレジストが無くなった場合でも、リキッドエンドタンク214内に貯留されているカラーレジストをレジストノズル152に供給することができる。リキッドエンドタンク214の下流側のレジスト供給管213には、レジスト供給源210からレジストノズル152にカラーレジストを圧送するポンプ215が設けられている。また、ポンプ215の下流側のレジスト供給管213には、カラーレジスト中の異物を捕集し除去するフィルタ216が設けられている。さらに、フィルタ216の下流側のレジスト供給管213には、レジストノズル152へのカラーレジストの供給を制御するバルブ217が設けられている。すなわち、このバルブ217によって、レジストノズル215へのカラーレジストの供給を開始又は停止させることができる。フィルタ216とバルブ217との間のレジスト供給管213には、当該レジスト供給管213内に例えばシンナーなどの溶剤を供給し、バルブ217を洗浄する洗浄機構220が介設されている。洗浄機構220は三方バルブ221を有し、三方バルブ221はレジスト供給管213と洗浄媒体供給管222とに接続されている。なお、三方バルブ221の詳細な構成については後述する。洗浄機構220は、内部に溶剤を貯留する溶剤供給源230を有している。溶剤には、例えばシンナーであるペグミアが用いられる。溶剤供給源230の上部には、溶剤供給源230内に空気を供給するための空気供給管231が接続されている。空気供給管231は、内部に空気を貯留する空気供給源232に連通している。そして、空気供給源232から溶剤供給源230内に空気が供給され、溶剤供給源230内の圧力が所定の圧力に維持されている。なお、空気として例えば不活性ガスを用いてもよい。また、溶剤供給源230の上部には、洗浄媒体供給管222に溶剤を供給するための溶剤供給管233が設けられている。溶剤供給管233は、バルブ234を介して洗浄媒体供給管222に接続されている。溶剤供給源230とバルブ234との間の溶剤供給管233には、溶剤を一旦貯留させておくリキッドエンドタンク235が設けられている。リキッドエンドタンク235は、バッファタンクとしての役割を果たしており溶剤供給源230から供給される溶剤が無くなった場合でも、リキッドエンドタンク235内に貯留されている溶剤を洗浄媒体供給管222に供給することができる。空気供給管231は、空気供給源232と溶剤供給源230との間で、別の空気供給管236に分岐している。空気供給管236は、バルブ237を介して洗浄媒体供給管222に接続されている。そして、三方バルブ221とバルブ237を制御することで、空気供給源232からの空気が洗浄媒体供給管222内を流通し、レジスト供給管213に供給される。そして、後述するようにこの空気もバルブ217の洗浄に用いられる。上述した三方バルブ221は、図12に示すようにレジスト供給管213と洗浄媒体供給管222とを接続する流通路240と、流通路240の洗浄媒体供給管222側に設けられたダイヤフラム241とを有している。ダイヤフラム241は、例えば空気圧によって移動自在であり、流通路240の洗浄媒体供給管222側の開口部を開閉自在に構成されている。このダイヤフラム241により、三方バルブ221は、洗浄媒体供給管222からレジスト供給管213への洗浄媒体溶剤や空気の供給を制御することができる。なお、塗布現像処理システム1には、図11に示すようにレジストノズル152が複数設けられている。すなわち、本実施の形態では、レジストノズル152は塗布処理装置33、34にそれぞれ設けられている。また、塗布処理装置33、34の数は本実施の形態に限定されず、例えば塗布現像処理システム1にレジストノズル152を有する塗布処理装置を3つ以上設けてもよい。さらに、本実施の形態では、塗布処理装置33、34に1つのレジストノズル152がそれぞれ設けられていたが、カラーレジストの種類ごと、すなわち赤色のカラーレジスト、緑色のカラーレジスト、青色のカラーレジストごとに3つのレジストノズル152を設けてもよい。このように塗布現像処理システム1にはレジストノズル152が複数設けられており、それぞれのレジストノズル152にレジスト供給管213が接続されている。そして、各レジスト供給管213には、レジスト供給源210、空気供給管211、空気供給源212、リキッドエンドタンク214、ポンプ215、フィルタ216、バルブ217、及び洗浄機構220の三方バルブ221が設けられている。また、洗浄機構220の洗浄媒体供給管222は、分岐して複数の三方バルブ221に接続されている。そして、洗浄機構220は、複数のバルブ217を同時に洗浄することができる。以上の塗布現像処理システム1には、図1に示すように制御部250が設けられている。制御部250は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部図示せずを有している。プログラム格納部には、塗布現像処理システム1におけるウェハ処理を実行するプログラムが格納されている。なお、前記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスクHD、フレキシブルディスクFD、コンパクトディスクCD、マグネットオプティカルデスクMO、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体Hに記録されていたものであって、その記憶媒体Hから制御部250にインストールされたものであってもよい。次に、以上のように構成された塗布現像処理システム1を用いて行われるウェハWの処理方法について説明する。先ず、複数枚のウェハWを収容したカセットCが、カセットステーション2の所定のカセット載置板11に載置される。その後、ウェハ搬送装置21によりカセットC内の各ウェハWが順次取り出され、処理ステーション3の第3のブロックG3の例えば受け渡し装置54に搬送される。次にウェハWは、ウェハ搬送装置80によって第2のブロックG2の熱処理装置40に搬送され、温度調節される。その後ウェハWは、ウェハ搬送装置80によって第2のブロックG2のアドヒージョン装置41に搬送され、アドヒージョン処理される。その後ウェハWは、ウェハ搬送装置80によって熱処理装置40に搬送され、温度調節される。その後ウェハWは、ウェハ搬送装置80によって塗布処理装置34に搬送される。塗布処理装置34では、回転中のウェハW上にカラーレジストを塗布し、ウェハW上にレジスト膜が形成される。なお、この塗布処理装置34おけるウェハWのカラーレジスト塗布処理については後述する。その後ウェハWは、ウェハ搬送装置80によって熱処理装置40に搬送されて、プリベーク処理される。その後ウェハWは、ウェハ搬送装置80によって第3のブロックG3の受け渡し装置55に搬送される。次にウェハWは、ウェハ搬送装置80によって周辺露光装置42に搬送され、周辺露光処理される。その後ウェハWは、ウェハ搬送装置80によって第3のブロックG3の受け渡し装置56に搬送される。次にウェハWは、ウェハ搬送装置100によって受け渡し装置52に搬送され、シャトル搬送装置90によって第4のブロックG4の受け渡し装置72に搬送される。その後ウェハWは、インターフェイスステーション5のウェハ搬送装置110によって露光装置4に搬送され、露光処理される。次に、ウェハWは、ウェハ搬送装置110によって露光装置4から第4のブロックG4の受け渡し装置70に搬送される。その後、ウェハWは、ウェハ搬送装置80によって第2のブロックG2の熱処理装置40に搬送され、露光後ベーク処理される。その後、ウェハWは、ウェハ搬送装置80によって第1のブロックG1の現像処理装置30に搬送され、現像される。現像終了後、ウェハWは、ウェハ搬送装置80によって第2のブロックG2の熱処理装置40に搬送され、ポストベーク処理される。その後、ウェハWは、ウェハ搬送装置80によって第3のブロックG3の受け渡し装置50に搬送され、その後カセットステーション2のウェハ搬送装置21によって所定のカセット載置板11のカセットCに搬送される。こうして、ウェハW上に所定のパターンとしてのカラーレジストのレジストパターンが形成され、一連のフォトリソグラフィ処理が終了する。なお、例えばイメージセンサのカラーフィルタを製造する際には、かかる一連のフォトリソグラフィ処理は、例えば緑色のカラーレジスト、赤色のカラーレジスト、青色のカラーレジストに対してそれぞれ行われ、ウェハW上に所定のレジストパターンが形成される。また、上述した一連のフォトリソグラフィ処理をさらに行って、当該カラーフィルタ上にマイクロレンズを形成するためのレジストパターンを形成してもよい。次に、レジスト供給装置155から塗布処理装置34のレジストノズル152にカラーレジストを供給し、塗布処理装置34でカラーレジストをウェハW上に塗布する一連のカラーレジスト塗布処理について説明する。先ず、レジスト供給装置155において、バルブ217を開くと共に、ポンプ215を作動させる。また、三方バルブ221は、レジスト供給管213内にカラーレジストが流通するように操作される。すなわち、三方バルブ221では、ダイヤフラム241によって流通路240の洗浄媒体供給管222側の開口部を閉じ、洗浄媒体供給管222からレジスト供給管213に洗浄媒体が流れないようにする。そうすると、レジスト供給源210からリキッドエンドタンク214にカラーレジストが圧送される。カラーレジストは一旦リキッドエンドタンク214に貯留される。リキッドエンドタンク214内に所定量のカラーレジストが貯留されると、その後レジスト供給源210からリキッドエンドタンク214に流入するカラーレジストによって、カラーレジストがリキッドエンドタンク214からレジストノズル152側に流出する。その後、カラーレジストは、レジスト供給管213内を流れ、ポンプ215、フィルタ216、三方バルブ221、バルブ217を通って、レジストノズル152に供給される。なお、カラーレジストがフィルタ216を通過する際、当該カラーレジスト中の異物が捕集され除去される。レジストノズル152にカラーレジストが供給される際には、塗布処理装置34内にウェハWが搬入され、スピンチャック160に吸着保持されている。また、レジストノズル152がウェハWの中心部の上方まで移動している。そして、レジストノズル152にカラーレジストが供給されると、スピンチャック160に保持されたウェハWを回転駆動部162によって回転させると共に、レジストノズル152からウェハWの中心部にカラーレジストを供給する。ウェハW上に塗布されたカラーレジストは、ウェハWの回転により生じる遠心力によってウェハWの表面の全体に拡散し、ウェハWの表面にカラーレジストが塗布される。その後、レジストノズル152からのカラーレジストの供給を停止した後、引き続きウェハWを回転させる。そして、ウェハW上のカラーレジストの膜厚を調整し、当該カラーレジストを乾燥させて、ウェハW上にレジスト膜が形成される。続いてバックリンスノズル165からウェハWの裏面にリンス液を噴射し、ウェハWの裏面及び外周部の洗浄が行われる。その後ウェハWの回転が停止され、スピンチャック130上からウェハWが搬出されて、一連のカラーレジスト塗布処理が終了する。上述のようにレジストノズル152からウェハW上にカラーレジストを塗布する際、ウェハWから飛散するカラーレジストはカップ170内又はカップベース163に回収される。なお、カップベース163で回収されるカラーレジストは極めて少量であり、カップベース163で回収される廃液は、主にバックリンスノズル165から噴射されるリンス液を主に含んでいる。また、バックリンスノズル165からウェハWの裏面にリンス液を塗布する際、発生する廃液はカップベース163又はカップ170内に回収される。そして、カップ170で回収された廃液は、気液分離部172の外側領域174から排液管176を通って廃液容器180に排出される。また、カップベース163で回収された廃液は、排液管164を通って廃液容器180に排出される。廃液容器180では、レベルセンサ184、185によって当該廃液容器180内の高さが測定されている。そして、廃液が廃液容器180内に一旦貯留され、第1のレベルセンサ184の測定位置まで達すると、第1のレベルセンサ184から後述する制御部250に信号が送信される。制御部250ではこの信号に基づいてポンプ203が作動するように制御し、廃液容器180から廃液が排出される。廃液容器180から排出された廃液は、排液管182を通って廃液回収装置32の回収タンク200に一旦回収され、その後廃液排出装置60を介して塗布現像処理システム1の外部に排出される。一方、廃液が廃液容器180内に貯留され、第2のレベルセンサ185の測定位置まで達した場合、第2のレベルセンサ185から後述する制御部250に信号が送信される。制御部250ではこの信号に基づいて、少なくともカップ170又はカップベース163からの廃液の排出を制御する。これによって、廃液容器180内で廃液がオーバーフローするのを防止できる。なお、塗布処理装置33におけるウェハWへのカラーレジスト塗布処理は、上述した塗布処理装置34における塗布処理と同様の方法で行われる。但し、塗布処理装置33では、カップ170やカップベース163からの廃液は、液受け容器193、鉛直配管201及び傾斜配管202を介して、回収タンク200に排出される。このとき、鉛直配管201と傾斜配管202が所定の傾斜を有しているので、鉛直配管201と傾斜配管202内を廃液は詰まることなく円滑に流れる。以上のような一連のカラーレジスト塗布処理を繰り返し行うと、レジスト供給装置155において、バルブ217内にカラーレジストが固化して堆積してしまう。この場合、固化したカラーレジストがレジストノズル152からウェハW上に供給され、製品の歩留まりが低下するおそれがある。このため、所定のタイミングで洗浄機構220によってバルブ217を洗浄する必要がある。上述の洗浄機構220によってバルブ217を洗浄する際には、先ず、ポンプ215の動作を停止すると共に、バルブ217を開く。その後、洗浄機構220のバルブ237を開き、さらに三方バルブ221の洗浄媒体供給管222側を開く。すなわち、三方バルブ221においては、ダイヤフラム241を移動させて流通路240の開口部を開放し、洗浄媒体供給管222と流通路240を連通される。そして、空気供給源232から、空気供給管231、236、バルブ237、洗浄媒体供給管222、三方バルブ221を介して、レジスト供給管213に空気を供給する。レジスト供給管213内に供給された空気は、バルブ217に流れる。この空気によって、バルブ217内に堆積したカラーレジストが概ね洗浄される。所定の経過後、バルブ237を閉じ、レジスト供給管213への空気の供給が停止される。なお、空気供給源232からの空気は、例えばポンプ図示せずによってレジスト供給管213に供給される。また、この空気の供給タイミングや供給時間、供給量は、例えば制御部250によって制御される。その後、バルブ234を開き、溶剤供給源230から、溶剤供給管233リキッドエンドタンク235、バルブ234、洗浄媒体供給管222を介して、レジスト供給管213に溶剤を供給する。レジスト供給管213内に供給された溶剤は、バルブ217に流れる。この溶剤によって、空気では洗浄しきれなかったバルブ217内に残存するカラーレジストが洗浄される。所定の経過後、バルブ234を閉じ、レジスト供給管213への溶剤の供給が停止される。なお、溶剤供給源230からの溶剤は、例えばポンプ図示せずによってレジスト供給管213に供給される。また、この溶剤の供給タイミングや供給時間、供給量は、例えば制御部250によって制御される。その後、さらにバルブ237を開き、レジスト供給管213とバルブ217に空気を供給する。この空気によって、レジスト供給管213やバルブ217、ダイヤフラム241とレジスト供給管213とを接続する流通路240の内部に残存する溶剤などが除去され、当該内部が乾燥される。所定の経過後、バルブ237を閉じると共に、三方バルブ221の洗浄媒体供給管222側を閉じる。こうして、洗浄機構220によってバルブ217が洗浄される。なお、その後バルブ217が閉じられ、レジスト供給源210からのカラーレジストにより、レジスト供給管213内がパージされる。以上の実施の形態によれば、塗布処理装置34において、カップ170内やカップベース163で回収される廃液は、排液管176、164を通って廃液容器180に排出される。かかる廃液は、廃液容器180内に一旦貯留された後、ポンプ203により排液管182を介して廃液容器180から排出される。このように廃液は強制的に排出されるため、従来のようにカップ内や排液管内に廃液が詰まることない。また、第1のレベルセンサ184によって廃液の高さを測定し、その高さが所定の高さ、すなわち第1のレベルセンサ184の高さに達した場合に、廃液容器180から廃液を排出しているので、当該廃液容器180内において廃液が固化せず、廃液は排液管182内を円滑に流れる。以上のように、本実施の形態によれば、カラーレジストなどの廃液を円滑に排出することができるため、塗布処理装置34のメンテナンス頻度が減少する。したがって、塗布処理装置34を効率よく使用することができ、ウェハ処理のスループットを向上させることができる。また、廃液容器180において、第2のレベルセンサ185によって廃液の高さを測定し、その高さが所定の高さ、すなわち第2のレベルセンサ185の高さに達した場合、制御部250によって少なくともカップ170又はカップベース163からの廃液の排出が制御される。これによって、廃液容器180内で廃液がオーバーフローするのを防止することができる。また、塗布処理装置33において、カップ170内やカップベース163で回収される廃液は、鉛直配管201と傾斜配管202を通って、廃液回収装置32の回収タンク200に排出される。かかる場合、塗布処理装置33の下層に廃液回収装置32を設けているので、当該廃液回収装置32内に鉛直配管201と所定の角度で傾斜する傾斜配管202を配置することができる。したがって、塗布処理装置33で発生した廃液は、従来のようにカップ内や排液管内に廃液が詰まることなく、回収タンク200に円滑に排出される。このため、塗布処理装置33のメンテナンス頻度も減少し、塗布処理装置33を効率よく使用することができ、ウェハ処理のスループットを向上させることができる。また、レジストノズル152にカラーレジストを供給するレジスト供給装置155には洗浄機構220が設けられているので、当該洗浄機構220からレジスト供給管213に供給される空気及び溶剤によって、バルブ217を洗浄することができる。このように2つの洗浄媒体が用いられるため、バルブ217を確実に洗浄することができる。したがって、レジスト供給装置155からレジストノズル152にカラーレジストを適切に供給することができ、塗布処理装置33、34におけるカラーレジスト塗布処理を適切に行うことができる。また、この場合、製品の歩留まりの低下を抑制することができる。しかも、レジスト供給管213に設けられる三方バルブ221には、洗浄媒体供給管222側にダイヤフラム241が設けられているので、空気や溶剤の洗浄媒体の流れを確実に制御できる。また、洗浄媒体供給管222側にのみダイヤフラム241を設け、レジスト供給管213には三方バルブ221を開閉するための切り換え弁等を設けていないので、このレジスト供給管213側の切り換え弁にカラーレジストが堆積して固化するというおそれもない。したがって、バルブ217を適切に洗浄することができる。さらに、洗浄媒体供給管222は、分岐して複数の三方バルブ221に接続されているので、洗浄機構220は、複数のバルブ217を同時に効率よく洗浄することができる。以上の実施の形態の塗布現像処理システム1では、第1のブロックG1に塗布処理装置33、34と廃液回収装置32が積層されていたが、塗布処理装置33と廃液回収装置32に代えて、図13に示すように塗布処理装置34、34を設けてもよい。すなわち、塗布処理装置34が3層に積層されて配置されてもよい。かかる場合、塗布処理装置34の排液管182は廃液排出装置60に接続され、廃液容器180からの廃液は排液管182を通って直接廃液排出装置60に排出される。本実施の形態によれば、塗布処理装置34の数を増加させることができるので、カラーレジスト塗布処理をより多くのウェハWに対して行うことができ、ウェハ処理のスループットをさらに向上させることができる。以上の実施の形態の塗布処理装置34の塗布部140では、廃液貯留部としての廃液容器180が設けられていたが、廃液容器180に代えて、図14に示すようにカップ170自体を廃液貯留部としてもよい。かかる場合、カップ170内の気液分離部172において、外側領域174が廃液貯留部として機能する。外側領域174に設けられた排液管176は、例えば上述の廃液回収装置32のポンプ203に接続されている。また、カップ170の外側面には、レベルセンサ300、301が設けられている。これらレベルセンサ300、301は、それぞれ上記実施の形態のレベルセンサ184、185と同じ機能を有している。すなわち、第1のレベルセンサ300は、カップ170内の廃液が排出される所定の高さに配置されている。そして、廃液が外側領域174内に貯留され、第1のレベルセンサ300の測定位置まで達すると、第1のレベルセンサ300から制御部250に信号が送信される。制御部250ではこの信号に基づいてポンプ203が作動するように制御し、外側領域174から廃液が排出される。一方、第2のレベルセンサ301は、カップ170内の廃液がオーバーフローする高さに配置されている。そして、廃液が外側領域174内に貯留され、第2のレベルセンサ301の測定位置まで達すると、第2のレベルセンサ301から制御部250に信号が送信される。制御部250ではこの信号に基づいて、例えば少なくともレジストノズル152からのカラーレジストの供給量又はバックリンスノズル165からのリンス液の供給量を制御する。これによって、外側領域174内で廃液がオーバーフローするのを防止できる。なお、塗布部140のその他の構成については、上記実施の形態における塗布部140の構成と同様であるので説明を省略する。本実施の形態によれば、カップ170の外側領域174を廃液貯留部として利用しているので、大量の廃液を貯留することができる。したがって、塗布処理装置34において、廃液の排出を制御する自由度が向上する。なお、外側領域174内の廃液は、常時所定の高さまで貯留されているのが好ましい。具体的には、当該廃液は仕切壁173よりも低い高さに維持されているのが好ましい。かかる場合、例えばカップ170内にミスト状のカラーレジストが発生した場合でも、当該ミスト状のカラーレジストが外側領域174及び内側領域175を通って排気管177に流入するのを防止することができる。これにより、排気管177のメンテナンス頻度を減少させることができ、塗布処理装置34をさらに効率よく使用することができる。以上の実施の形態のレジスト供給装置155において、洗浄機構220は2種類の溶剤を用いてバルブ217を洗浄するようにしてもよい。なお、本実施の形態においては、説明の都合上、上述した溶剤供給源230を第1の溶剤供給源230といい、当該第1の溶剤供給源230に貯留される溶剤を第1の溶剤という。かかる場合、図15に示すように洗浄機構220は、内部に第2の溶剤を貯留する第2の溶剤供給源310を有している。第2の溶剤供給源310の上部には、空気供給管231から分岐した別の空気供給管311が接続されている。また、第2の溶剤供給源310の上部には、洗浄媒体供給管222に第2の溶剤を供給するための溶剤供給管312が設けられている。溶剤供給管312は、バルブ313を介して洗浄媒体供給管222に接続されている。第2の溶剤供給源310とバルブ313との間の溶剤供給管312には、第2の溶剤を一旦貯留させておくリキッドエンドタンク314が設けられている。リキッドエンドタンク314は、バッファタンクとしての役割を果たしており第2の溶剤供給源310から供給される第2の溶剤が無くなった場合でも、リキッドエンドタンク314内に貯留されている第2の溶剤を洗浄媒体供給管222に供給することができる。なお、洗浄機構220及びレジスト供給装置155のその他の構成は、上記実施の形態における洗浄機構220及びレジスト供給装置155の構成と同様であるので説明を省略する。かかる洗浄機構220を用いてバルブ217を洗浄する際には、先ず、ポンプ215の動作を停止すると共に、バルブ217を開く。その後、洗浄機構220のバルブ237を開き、さらに三方バルブ221の洗浄媒体供給管222側を開く。そして、空気供給源232からレジスト供給管213に空気を供給する。この空気によって、バルブ217内に堆積したカラーレジストが洗浄される。所定の経過後、バルブ237を閉じ、レジスト供給管213への空気の供給が停止される。その後、バルブ234を開き、第1の溶剤供給源230からレジスト供給管213に第1の溶剤を供給する。この第1の溶剤によってバルブ217内に残存するカラーレジストが概ね洗浄される。所定の経過後、バルブ234を閉じ、レジスト供給管213への第1の溶剤の供給が停止される。その後、バルブ313を開き、第2の溶剤供給源310から、溶剤供給管312リキッドエンドタンク314、バルブ313、洗浄媒体供給管222を介して、レジスト供給管213に第2の溶剤を供給する。レジスト供給管213内に供給された第2の溶剤は、バルブ217に流れる。この第2の溶剤によって、例えばバルブ217のデッドスペースに残った第1の溶剤やカラーレジストが洗浄される。所定の経過後、バルブ313を閉じ、レジスト供給管213への第2の溶剤の供給が停止される。なお、第2の溶剤供給源310からの第2の溶剤は、例えばポンプ図示せずによってレジスト供給管213に供給される。また、この第2の溶剤の供給タイミングや供給時間、供給量は、例えば制御部250によって制御される。その後、さらにバルブ237を開き、レジスト供給管213とバルブ217に空気を供給する。この空気によって、レジスト供給管213とバルブ217の内部が乾燥される。所定の経過後、バルブ237を閉じると共に、三方バルブ221の洗浄媒体供給管222側を閉じる。こうして、洗浄機構220によってバルブ217が洗浄される。本実施の形態によれば、2種類の溶剤を使用してバルブ217を洗浄しているので、バルブ217をより適切に洗浄することができる。したがって、レジスト供給装置155からレジストノズル152にカラーレジストをより適切に供給することができる。以上の実施の形態では、バルブ217を洗浄する際、空気を用いてバルブ217内のカラーレジストの仮洗浄、及び洗浄後のバルブ217内部の乾燥を行っていたが、空気を用いることなく溶剤のみでバルブ217を洗浄し、その後すぐにカラーレジストに置換してもよい。かかる場合、先ず、バルブ217内に溶剤を供給し、当該バルブ217内のカラーレジストを洗浄する。溶剤としては、上記実施の形態で説明したように1種類の溶剤を用いてもよいし、2種類の溶剤を用いてもよい。なお、この溶剤によるカラーレジストの洗浄方法は、上記実施の形態と同様であるので説明を省略する。こうして、洗浄機構220によってバルブ217が洗浄される。その後、バルブ217が閉じられ、レジスト供給源210からのカラーレジストにより、レジスト供給管213内がパージされ、さらにカラーレジストのダミーディスペンスを行うことにより、レジスト供給管213内に残存する溶剤をカラーレジストに置換する。本実施の形態によれば、カラーレジストはレジスト供給管213内において空気に触れることがないため、当該カラーレジストが乾燥して固化することを防止できる。また、レジスト供給管213には三方バルブ221を開閉するための切り換え弁等を設けていないので、このレジスト供給管213側の切り換え弁にカラーレジストが堆積して固化するというおそれもない。なお、以上の実施の形態の塗布処理装置34では、ウェハWにカラーレジスト塗布処理を行っていない場合、例えばカップ170の洗浄が行われる。カップ170の洗浄は、図16に示すように例えば洗浄装置320を用いて行われる。洗浄装置320からカップ170の上端部に形成されたリンス液吐出口321にリンス液が供給されると共に、洗浄装置320からガイドリング168の上端部に形成されたリンス液吐出口322にリンス液が供給される。そして、これらリンス液供給口321、322からカップ170内にリンス液が供給され、カップ170の内部が洗浄される。なお、リンス液には、例えばシンナーなどの溶剤が用いられる。また、カップ170の洗浄は、例えばウェハWにカラーレジスト塗布処理を行う度に枚葉式に行ってもよい。そして、このようにカップ170の内部を洗浄する際、カップ170内のリンス液が排液管176、廃液容器180、排液管182を流通するようにポンプ203を制御する。このリンス液によって、排液管176、廃液容器180、排液管182が洗浄される。かかる場合、カップ170と共に、排液管176、廃液容器180及び排液管182を洗浄することができるので、塗布処理装置34のメンテナンスを効率よく行うことができ、塗布処理装置34をより効率よく使用することができる。以上の実施の形態では、廃液容器180はカップベース163内の廃液とカップ170の外側領域174内の廃液を回収して貯留していたが、塗布処理装置34において排出される他の廃液を回収するようにしてもよい。例えば図17に示すように廃液容器400の上面には、上記実施の形態の廃液容器180と同様に、カップベース163からの排液管164と、カップ170の外側領域174からの排液管176とが接続されている。これら排液管164、176に加えて、廃液容器400の上面には、カップ170の内側領域175からの廃液を排出する排液管410が接続されていてもよい。ここで、カップ170の内側領域175には、通常はカップ170内の雰囲気が流入するが、ミスト状のカラーレジストも流入する場合がある。かかるカラーレジストなどのミストを回収するため、排気管177にミスト回収部411が設けられる。またミスト回収部411には、上記排液管410が接続されている。そして、カップ170の内部、排気管177の内部、ミスト回収部410の内部をリンス液によって洗浄する際に、リンス液によって洗い流されたカラーレジストがリンス液と共に廃液として排液管410から排出される。また、廃液容器400は、塗布処理装置34の内部であってカップ170の外部で回収された廃液を貯留するようにしてもよい。例えば上記実施の形態では、待機部154内の廃液は、廃液回収装置32に直接排出されていたが、廃液容器400に排出されるようにしてもよい。かかる場合、廃液容器400の上面には、待機部154内の廃液を排出する排液管412が接続される。ここで、塗布処理装置34には、スピンチャック160に保持されたウェハWの外周部上にリンス液を吐出するエッジリンスノズル420が設けられていてもよい。エッジリンスノズル420は、例えばレジストノズル152のアーム151と同様の構成を有するアーム421に支持されている。かかる構成により、エッジリンス420は、昇降自在であり、且つカップ170内のウェハW上を移動可能であると共に、カップ170の外側に設置された待機部422まで移動できる。そして、例えばウェハW上にレジスト膜を形成後、バックリンスノズル165によってウェハWの裏面にリンス液を噴射する際に、エッジリンスノズル420からもウェハWの外周部にリンス液を吐出する。こうして、ウェハWの裏面及び外周部の洗浄が行われる。なお、待機部422はノズルバスであり、当該待機部422では、エッジリンスノズル420が待機中、当該エッジリンスノズル420の先端部が収容され洗浄される。また、待機部422では、エッジリンスノズル420からのリンス液のダミーディスペンスも行うことができる。そして、エッジリンスノズル420の洗浄によって発生する廃液は、待機部422に接続された排液管423から排出され、廃液容器400で回収される。すなわち、廃液容器400の上面には、待機部422からの排液管423が接続される。以上のように廃液容器400の上面には、図18に示すように排液管164、176、410、412、423が接続されている。廃液容器400の内部空間は、図19に示すように排液管176、410、412、423からのカラーレジストを含む廃液が流通する廃液流路430と、排液管164からの廃液を貯留する貯留空間431とに区画されている。また、廃液容器400の内部には、廃液流路430と貯留空間431からの廃液を一時的に溜める貯液部としての貯液カップ432が設けられている。廃液流路430の貯液カップ432と反対側の端部には、リンス液供給管181が廃液容器400の側面に接続されている。なお、このリンス液供給管181は、上記実施の形態の廃液容器180の上面に接続されていたものを廃液容器400の側面に接続したものであり、構成は同じであるので詳細な説明を省略する。廃液流路430の底面は、図19及び図20に示すようにリンス液供給管181から貯液カップ432に向けて傾斜している。そして、リンス液供給管181からのリンス液によって、廃液流路430の内部が洗浄される。貯留空間431の底面も、図19及び図21に示すように貯液カップ432に向かって傾斜している。なお、貯留空間431に貯留される廃液は、排液管164を介してカップベース163で回収された廃液である。この廃液は、バックリンスノズル165から噴射されるリンス液を主に含み、カラーレジストを殆ど含んでいない。そうすると、貯留空間431の内部にはカラーレジストが固化して堆積することがなく、当該貯留空間431の内部をリンス液によって洗浄する必要がない。このため、貯留空間431には上述したリンス液供給管181が接続されていない。図20及び図21に示すように貯液カップ432の下端部には、廃液回収装置32に連通する排液管182が接続されている。また、廃液容器400の一の外側面には、図18、図20及び図21に示すように当該廃液容器400内の廃液の高さを測定する第1のレベルセンサ184と第2のレベルセンサ185が設けられている。第1のレベルセンサ184は廃液容器400から廃液を排出するタイミングを制御するためのセンサであり、第2のレベルセンサ185は廃液容器400内で廃液がオーバーフローするのを防止するためのセンサである。なお、これら第1のレベルセンサ184と第2のレベルセンサ185の構成、作用及び効果は、上記実施の形態と同様であるので説明を省略する。本実施の形態によれば、廃液容器400では、カップベース163内の廃液とカップ170内の廃液に加えて、カップ170の外部である待機部154、422内の廃液も回収することができる。したがって、塗布処理装置34の内部の廃液を一の廃液容器400で効率よく回収することができる。また、廃液容器400の内部空間は、カラーレジストを含む廃液が流通する廃液流路430と、カラーレジストを含まない廃液を回収する貯留空間431に区画されているので、固化し易いカラーレジストを限られた範囲廃液流路430にのみ流通させることができる。したがって、リンス液供給管181からのリンス液によってカラーレジストが洗浄される空間を小さくすることができる。またリンス液の使用量を少量にすることができ、廃液容器400において廃液を効率よく回収することができる。そして、回収された廃液を貯液カップ432から廃液回収装置32に適切に排出することができる。以上の実施の形態において、図22に示すようにカップ170内の廃液を排出する排出口440には、当該廃液のみを排液管176に排出するためのフィルタ450が設けられていてもよい。フィルタ450は、排出口440に対して着脱自在に設けられている。フィルタ450は、図22及び図23に示すように本体部451と突起部452とを有している。本体部451は、平面視において円形状を有し、排出口440を覆う長さの径を有している。また突起部452は、平面視において円形状を有し、本体部451の中央部において当該本体部451から突起して設けられている。なおフィルタ450は、カップ170において、突起部452が上方、すなわち排出口440と反対側に延伸するように設置される。本体部451には、当該本体部451を厚み方向に貫通する貫通孔453が形成されている。貫通孔453は、例えば本体部451に2箇所に形成され、平面視において略半円形状を有している。また突起部452にも、当該突起部452を厚み方向に貫通する貫通孔454が形成されている。これら貫通孔453、454は、それぞれ固化したカラーレジストを通過させず、カラーレジストを含む廃液のみを通過させるような大きさで形成されている。また貫通孔453、454は、それぞれ排出口440に開口するように形成されている。かかる場合、カップ170内でカラーレジストが固化しても、当該固化したカラーレジストはフィルタ450で捕捉され、排出管176に排出されない。このため、排出管176にはカラーレジストを含む廃液のみが排出されるので、当該排出管176やその下流側の廃液容器180、400等が詰まることがない。また、フィルタ450は突起部452を有しているので、本体部451上に固化したカラーレジストが堆積して貫通孔453が塞がれた場合でも、突起部452の貫通孔454から廃液を排出することができる。したがって、フィルタ450によって廃液のみを確実に排出管176に排出することができる。なお、フィルタ450は着脱自在に設けられているので、フィルタ450に固化したカラーレジストが堆積したタイミングで、当該フィルタ450を交換することができる。本発明は、カラーレジストだけでなく、他の塗布液、例えば通常のレジストや、SODSpinOnDielectric膜用処理液やSOGSpinOnGlass膜用処理液、又はポリイミド膜を得るためのポリアミド酸溶液などの高粘度の塗布液に対しても好適に適用することができる。以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。本発明は、基板がウェハ以外のFPDフラットパネルディスプレイ、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板である場合にも適用できる。