"平行度を維持するための機械装置であって,第1のバー,第2のバー,第3のバー,および,第4のバーを備え,前記各バーが,上面,下面,第1の側面,および,第2の側面を有し,前記第1のバーの上面が装置の上面を形成し,前記第4のバーの下面が装置の下面を形成し,前記第1のバーの第1の側面と前記第2のバーの第1の側面とが第1の屈曲部によって架橋され,前記第1の屈曲部は,前記第1のバーの下面と前記第2のバーの上面との間に隙間を設け,前記第2のバーの第2の側面と前記第3のバーの第2の側面とが第2の屈曲部によって架橋され,前記第2の屈曲部は,前記第2のバーの下面と前記第3のバーの上面との間に隙間を設け,前記第3のバーの第1の側面と前記第4のバーの第1の側面とが第3の屈曲部によって架橋され,前記第3の屈曲部は,前記第3のバーの下面と前記第4のバーの上面との間に隙間を設ける,機械装置。前記装置の表面動作surfacemovementを検出するためのセンサを更に備える,請求項1に記載の装置。前記装置の表面位置を調整するためのアクチュエータを更に備える,請求項1に記載の装置。前記センサが静電容量センサまたは歪みゲージセンサである,請求項2に記載の装置。前記アクチュエータが圧電アクチュエータである,請求項3に記載の装置。前記屈曲部と前記バーとが締結手段により接続される,請求項1に記載の装置。前記装置がモノリシック構造である,請求項1に記載の装置。前記モノリシック構造がワイヤエロージョンwireerosionまたは型成形により形成される,請求項7に記載の装置。前記第1,第2,および,第3の屈曲部は,それぞれ架橋された前記第1,第2,第3,および,第4のバーの全長にわたって延びる,請求項1に記載の装置。第1のプレート,第2のプレート,および,複数の平行度維持装置を備える機械装置であって,前記複数の平行度維持装置はそれぞれ,第1のバー,第2のバー,第3のバー,および,第4のバーを備え,前記各バーが,上面,下面,第1の側面,および,第2の側面を有し,前記第1のバーの上面が装置の上面を形成し,前記第4のバーの下面が装置の下面を形成し,前記第1のバーの第1の側面と前記第2のバーの第1の側面とが第1の屈曲部によって架橋され,前記第1の屈曲部は,前記第1のバーの下面と前記第2のバーの上面との間に隙間を設け,前記第2のバーの第2の側面と前記第3のバーの第2の側面とが第2の屈曲部によって架橋され,前記第2の屈曲部は,前記第2のバーの下面と前記第3のバーの上面との間に隙間を設け,前記第3のバーの第1の側面と前記第4のバーの第1の側面とが第3の屈曲部によって架橋され,前記第3の屈曲部は,前記第3のバーの下面と前記第4のバーの上面との間に隙間を設け,前記第1のプレート及び前記第2のプレートは,これらのプレート間に位置される前記複数の平行度維持装置によって平行に維持される,機械装置。前記第1のプレートと前記第2のプレートとの間の距離を調整するためのアクチュエータを更に備える,請求項10の機械装置。前記第1のプレートと前記第2のプレートとの間の相対的な動きを検出してフィードバックを前記アクチュエータへ供給するためのセンサを更に備える,請求項11に記載の機械装置。前記アクチュエータが圧電アクチュエータである,請求項11に記載の機械装置。前記センサが静電容量センサまたは歪みゲージセンサである,請求項12に記載の機械装置。角度をもって接続された複数の平行度維持装置を備える機械装置であって,前記複数の平行度維持装置はそれぞれ,第1のバー,第2のバー,第3のバー,および,第4のバーを備え,前記各バーが,上面,下面,第1の側面,および,第2の側面を有し,前記第1のバーの上面が装置の上面を形成し,前記第4のバーの下面が装置の下面を形成し,前記第1のバーの第1の側面と前記第2のバーの第1の側面とが第1の屈曲部によって架橋され,前記第1の屈曲部は,前記第1のバーの下面と前記第2のバーの上面との間に隙間を設け,前記第2のバーの第2の側面と前記第3のバーの第2の側面とが第2の屈曲部によって架橋され,前記第2の屈曲部は,前記第2のバーの下面と前記第3のバーの上面との間に隙間を設け,前記第3のバーの第1の側面と前記第4のバーの第1の側面とが第3の屈曲部によって架橋され,前記第3の屈曲部は,前記第3のバーの下面と前記第4のバーの上面との間に隙間を設ける,機械装置。前記複数の平行度維持装置間のジョイントで前記屈曲部に隙間が存在し,この結果自由度を供給する,請求項15に記載の機械装置。これは,アクチュエータと位置センサの更なる対を本明細書中に記載される本発明の一実施形態の主題である平行維持装置PCMに置き換えることによって可能である。PCM120は,図6または図7に示される100a,100bの例のように,基準ベースプレート130平面とトッププレート110平面の間に配置される。ベースプレート130とトッププレート110との間の傾斜角または起こり得る平行度の不足は,これらのプレート間に取り付けられるPCM120によって補填される。4つのPCM120と上側/下側プレート110,130とを備える図7に示される構造100bは側方へ全く移動せず,唯一の自由度は一軸の並進Z軸に限られる。この概念は,付随的側方移動を何ら伴うことなく,ベースプレートと移動プレートとの間で高精度な平行度をもって,非常に正確な移動をZ軸で達成することが操作で絶対に不可欠であるZ軸顕微鏡ステージに特に適用できる。顕微鏡Zステージは単なる一例にすぎない。PCMと複数のPCMを任意の組み合わせで備える構造とを,前述した平行度が必要な任意の用途で使用できる。本開示の平行度維持装置PCMは,必要とされるアクチュエータ/センサの数を減少させる。理論的に,特定数のPCMを用いてシステムを構成することにより,基準平面と移動平面との間に平行度を有するシステムを達成するために1つのアクチュエータおよび1つの位置決めセンサだけが必要である。使用されるセンサは,静電容量センサ,歪みゲージセンサ,または,ナノメートル範囲の動きを検出できる任意な他のタイプのセンサであってもよい。アクチュエータは圧電タイプであり得ることが好ましいが,センサと同じ分解能範囲の動きを与えることができる任意な他のタイプのアクチュエータを使用できる。そのようなシステムのためにPCMを使用すると,システム剛性を調整する選択肢も与えられ,したがって,アクチュエータの設計を変更することなく固有振動数が変えられる。より多くのPCMを加え,或いは,既に使用されたPCMの剛性を高めると,組み合わされるアセンブリの固有振動数を上げることができる。図1に示される一実施形態では,平行度を維持するための機械装置120が提供されている。機械装置120は,第1のバー122,第2のバー124,第3のバー126,および,第4のバー128を含むことが好ましく,各バーは,上面,下面,第1の側面,および,第2の側面を有し,第1のバー122の上面が装置120の上面を形成し,第4のバー128の下面が装置の下面を形成し,第1のバーの第1の側面と第2のバーの第1の側面とが第1の屈曲部123によって架橋され,第1の屈曲部123は,第1のバー122の下面と第2のバー124の上面との間に隙間を設け,第2のバー124の第2の側面と第3のバー126の第2の側面とが第2の屈曲部125によって架橋され,第2の屈曲部125は,第2のバー124の下面と第3のバー126の上面との間に隙間を設け,第3のバー126の第1の側面と第4のバー128の第1の側面とが第3の屈曲部127によって架橋され,第3の屈曲部127は,第3のバー126の下面と第4のバー128の上面との間に隙間を設ける。装置は,押圧力を直接受けるポイントにかかわらず,装置自体の全長にわたって,異なるポイント間で平行度を維持することができる。装置120の簡単な図を図1で見ることができる。本図はモノリシックタイプの構造120を示すが,用途の要件に応じて,装置を異なる構成要素から異なるサイズで形成することができる。装置は,選択される材料が使用される際の用途に応じた要求を満たすことができる限り,任意の材料または複合材料から製造することができる。本発明の原理にしたがった例示的な実施形態の説明は,添付図面と関連して読み取られるように意図されており,添付図面は記載された説明全体の一部と見なされるべきである。本明細書中に開示される本発明の実施形態の説明では,方向または配向へのいかなる言及も,単に説明の便宜のためのものであり,決して本発明の範囲を限定しようとするものではない。下側,上側,水平,垂直,上側,下側,上方,下方,上端,下端,および,その派生語例えば,水平に,下方に,上方になどなどの相対的な用語は,そのときに説明中の図面に記載され又は示される方向を示すものであると解釈されるべきである。これらの相対的な用語は,説明の便宜上のためのものにすぎず,明確な示唆がされなければ,機器が特定の方向で構成され或いは操作されることを強いるものではない。取り付けられ,付設され,接続され,結合され,相互接続されなどの用語,および,類似の用語は,他に明確な記載がなければ,構造体が,直接的にまたは介在する構造体を介して間接的に,相互に固定され或いは取り付けられる関係,および,移動可能な或いは固定した取り付け或いは関係の両方を示す。また,本発明の特徴および利点は,典型的に示される実施形態を参照することにより示される。したがって,本発明は明らかに,単独で或いは他の特徴との組み合わせで存在し得る幾つかの想定し得る非限定的な特徴の組み合わせを示す模範的な実施形態に限定されるべきでない。本発明の範囲は本明細書に添付された特許請求の範囲によって規定される。本開示は,最良の形態及び現在考えられる本発明を実施する複数の形態について説明する。この説明は,限定的な意味で理解されることを意図されておらず,本発明の利点および構成を当業者に知らせる添付図面を参照することにより,単なる例示目的で示される本発明の一例を提供する。図面の様々な面において,同様の参照符号は同様の或いは類似の部分を示す。図示のPCM装置は,例えばナノ位置決めステージ,または屈曲装置の全長に沿って一様な撓みを必要とする任意な他の用途で使用され得る,屈曲型装置である。PCMの1つの特徴および利点は,図1に示されるように両方のポイント122a,122bにおいてこれらの2つのポイントのうちの一方だけが力Fで押圧される場合に同じ撓み値を維持することである。同様に,押圧力が牽引力に置き換えられる場合でも,両方のポイント122a,122bで同じ撓み値が等しく維持される。これは,図4Aおよび図4Bの等価な運動学的形態により示される3つの回転ジョイント140a,140b,140cによって達成される。これらの回転ジョイント140a,140b,140cは,一実施形態では,PCM設計の断面図図2Aに見られる屈曲により表される。屈曲型構造は,力Fが印加されるときにこれらの3つの屈曲部140a,140b,140cが回転ジョイントのごとく振る舞うようにする。長さLにわたって屈曲材料の断面を薄くする図3Bと,同じ長さにわたって一様な撓みが達成される。長さL図2Bまたは図3B参照にわたって1つのアクチュエータとPCMとの対が使用されれば,全ストロークにわたって平行度が満たされ,それにより,複数のアクチュエータとフィードバックセンサとを配置して平行度を制御する必要性が排除される。PCMの他の利点は,PCMがその全長にわたって高剛性システムを備えるという点であり,このようにして,固有振動数がより高い値に維持される。前記利点の全てを1つのPCMに関して説明してきた。多数のPCMを使用して,他方のプレートに対して平行な一方の移動プレートの機械的な動きを抑制できる例えば,図6,7,8の実施形態参照。これらを使用される用途の特殊性に応じて構成することができ,また,その構成は,使用されるPCMの数,それらの剛性,および,質量に関して任意の形状およびサイズを有することができる。剛性および質量は,それらの比率によってもたらされる固有振動数を考えると重要である。PCMを使用するシステムで用いられるアクチュエータは,ナノメートル精度のために圧電性であり得ることが好ましいが,任意の他のタイプのアクチュエータを使用して所望の動きを達成することもできる。製造に関して,目的がモノリシック構造図1参照を有することである場合には,ワイヤエロージョンwireerosion,型成形,または任意な他の適した製造プロセスなどのプロセスによって,PCMを形成することができる。さもなければ,図5の場合のように,屈曲部240,ネジ230から圧縮力の一様な分布を得るための屈曲保持ストリップ220,および,屈曲部240に接続する主構造要素210を使用することによってPCMをアセンブリとして構成することができる。PCM120の質量および剛性は,図3Aの幾何学的パラメータ122w,122h,123tを変化させることにより変えることができる。幅122wを減少させると,質量が減少するとともに,屈曲ジョイントにより受けられる応力および歪みが更に高くなるため,PCMアセンブリ120の剛性反力が高まる。幅122wが更に小さくなるにつれて,得られる同じ撓みにおいて,同じ押圧力Fにより与えられるモーメントアームが更に高くなり,したがって,得られる同じ撓みにおけるPCMの反力が更に高くなる。厚さ123tを大きくすると,PCMの剛性が高くなるが,更なる質量の付加を伴う。高さ122hを増大させると,PCM剛性が低下し,反力が更に小さくなる。特定のシステム設計にとって望ましい質量および剛性,したがって固有振動数を得るために,これらのパラメータの全てを変えることができる。一体のアセンブリを成すPCMを配置することに関しては,無限の数の組み合わせが存在する。図6および図7の実施形態100a,100bのそれぞれには2つの例が示される。図6は,力Fが中心線ポイントのうちの一方110aまたは110bに印加されるときに2つのプレート110,130が2つのPCM120により平行に維持される一例の一実施形態を示している力が110aに印加されれば,110bが同じ量だけ撓み,逆もまた同様である。図7は,ポイント110c,110d,110e,110fにより表される角のうちの1つに力Fが印加されるときに2つのプレート110,130が4つのPCM120により平行に維持される一実施形態の一例を示している。図8は,ナノ位置決め顕微鏡Zステージの形態を成すアセンブリ300の特定の実施形態,特に2つのプレートが4つのPCM340により平行に維持されている例を示している。図8に示される例の製品は,上端ケース310,圧電増幅アクチュエータ320,プリント制御基板PCBサブアセンブリ330,電気パネル350,ウェルプレート360,ウェルプレートホルダ移動領域370,PCB実装用のスペーサ380,および,サンプルウェルプレートクランプシステム390を備える。他の単一の多軸ステージおよびアセンブリも想定し得る。多軸システムでは,動作のために必要な自由度を与えるために,複数のPCM構造体を互いに直交して積み重ねることができると想定される。PCM概念の拡張においては,複合的なマルチPCMアーム構造を想起できる。このように,図6,7,8に示されるような位置決めステージまたはアセンブリ300の固定プレート310と移動プレート370との間に固定される複数の別個の直線状のPCM340を使用するのではなく,例えば,複数のアーム410,420,430がそれらの間に角度方向を有する単一の複合的なPCMアセンブリ400が考慮される。これが,モノリシックT形状構造PCM400を示す図9A~図9Dの特定の例に図示されている。L形状構造およびH形状構造などの他の複合的なマルチアームPCM形態が想起される。なお,そのような複合形態の全てにおいて,各PCMアームは,単一の直線状のPCMアームアセンブリとしての構成および動作の基本原理を保持する。図9A~図9Dの実施形態では,複合マルチPCMアーム装置が必要な自由度を有するように,中央屈曲支持のために必要な隙間440も示されている。この隙間400は,例えば,一方のPCMの他方のPCMに対する角度方向が存在する任意の複合的なマルチPCM形態において必要である。本発明を幾つかの前述した実施形態に関してかなり詳細に説明してきたが,本発明が任意のそのような特定の事項または実施形態または任意の特定の実施形態に限定されるべきことは意図されておらず,本発明は,添付の特許請求の範囲を参照して,従来技術を考慮してそのような特許請求の範囲の最も広い可能な解釈を与えるように,したがって,本発明の意図される範囲を効果的に包含するように解釈されるべきである。また,前述したものは,現在予見されない本発明の実体のない変更が本発明の等価物を表し得るにもかかわらず,本発明者らにより予見される実施形態に関して,実施可能な記述が入手できた本発明を説明する。"