"絶縁性の基板と、第1方向に沿って形成された第1遮光部と、前記第1方向と交差する第2方向に沿って形成された第2遮光部と、前記第1方向に沿って配置された複数の第1島状電極と、前記第2方向に沿って配置された複数の第2島状電極と、前記複数の第1島状電極に接して、前記第1方向に沿って形成された第1金属膜と、前記複数の第2島状電極に接して、前記第2方向に沿って形成された第2金属膜と、少なくとも前記第1および第2金属膜が平面視において交差する箇所に形成され、前記第1および第2金属膜を相互に絶縁する絶縁膜とを備え、前記第1金属膜は、前記第1遮光部と平面視において重畳し、前記第1金属膜の幅は前記第1遮光部の幅よりも狭く、前記第2金属膜は、前記第2遮光部と平面視において重畳し、前記第2金属膜の幅は前記第2遮光部の幅よりも狭く、前記第1および第2島状電極は、透明導電膜で形成されている、タッチパネル。前記第1および第2遮光部は、前記基板上に形成され、前記第1および第2遮光部、ならびに前記基板を覆って形成された平坦化膜をさらに備える、請求項1に記載のタッチパネル。前記複数の第1島状電極は、前記第1方向において、相互に繋がっている、請求項1または2に記載のタッチパネル。前記第1金属膜は、前記第1島状電極より上層で、かつ、前記絶縁膜より下層に形成され、前記第2金属膜は、前記第2島状電極および前記絶縁膜より上層に形成されている、請求項1~3のいずれか一項に記載のタッチパネル。前記第1金属膜は、前記第1島状電極および前記絶縁膜より下層に形成され、前記第2金属膜は、前記第2島状電極および前記絶縁膜より上層に形成されている、請求項1~3のいずれか一項に記載のタッチパネル。前記第1金属膜は、前記第1島状電極および前記絶縁膜より上層に形成され、前記第2金属膜は、前記第2島状電極および前記絶縁膜より下層に形成されている、請求項1~3のいずれか一項に記載のタッチパネル。前記第1島状電極および前記第1金属膜の少なくとも一方と接して、前記第1遮光部と平面視で重畳する箇所に、前記第1遮光部より狭い幅で形成された第3金属膜をさらに備える、請求項1~6のいずれか一項に記載のタッチパネル。前記第2島状電極および前記第2金属膜の少なくとも一方と接して、前記第2遮光部と平面視で重畳する箇所に、前記第2遮光部より狭い幅で形成された第4金属膜をさらに備える、請求項1~7のいずれか一項に記載のタッチパネル。前記絶縁膜は、前記第1および第2島状電極を覆って形成され、前記第1島状電極と前記第1金属膜と、および前記第2島状電極と前記第2金属膜と、の少なくとも一方を接続するための開口部を有する、請求項1~8のいずれか一項に記載のタッチパネル。前記第1および第2金属膜の少なくとも一方と同一材料で形成された配線をさらに備える、請求項1~9のいずれか一項に記載のタッチパネル。前記配線と接して、前記配線と平面視において重畳する箇所に形成された透明導電膜をさらに備える、請求項10に記載のタッチパネル。前記配線と電気的に接して、前記配線と異なる層に形成された第5金属膜をさらに備える、請求項10または11に記載のタッチパネル。カラーフィルタ層をさらに備える、請求項1~12のいずれか一項に記載のタッチパネル。前記絶縁膜は、前記第1方向の幅が前記第2遮光部の幅よりも小さい、または、前記第2方向の幅が前記第1遮光部の幅よりも小さい、請求項13に記載のタッチパネル。請求項1~14のいずれか一項に記載のタッチパネルと、前記タッチパネルに形成された共通電極と、前記タッチパネルに対向して配置された薄膜トランジスタ基板と、前記タッチパネルおよび前記薄膜トランジスタ基板に挟持された液晶とを備える、タッチパネル付き表示装置。前記薄膜トランジスタ基板は、酸化インジウムガリウム亜鉛を含む酸化物半導体層を有する、請求項15に記載のタッチパネル付き表示装置。静電容量方式のタッチパネルは、絶縁性の基板と、格子状に形成されたセンサ電極とを備える。タッチパネルはこれらの電極と、タッチパネルに近接した指等との間に形成される静電容量の変化に基づいて、指等の位置を検出する。これらのセンサ電極は、表示装置の表示領域と重ねて形成される。そのため通常、これらのセンサ電極は、酸化インジウムスズITO:IndiumTinOxide、酸化インジウム亜鉛IZO:IndiumZincOxide等の透明導電膜により形成される。透明導電膜は、金属等と比較すると導電率が低い。センサ電極は、観察者から視認されにくくするために、薄く形成される必要がある。センサ電極が薄く形成されれば、センサ電極の電気抵抗は高くなる。したがって、タッチパネルを大型化した場合、感度の低下が問題となる。本発明の目的は、感度の高いタッチパネルの構成を得ることである。ここに開示するタッチパネルは、絶縁性の基板と、第1方向に沿って形成された第1遮光部と、前記第1方向と交差する第2方向に沿って形成された第2遮光部と、前記第1方向に沿って配置された複数の第1島状電極と、前記第2方向に沿って配置された複数の第2島状電極と、前記複数の第1島状電極に接して、前記第1方向に沿って形成された第1金属膜と、前記複数の第2島状電極に接して、前記第2方向に沿って形成された第2金属膜と、少なくとも前記第1および第2金属膜が平面視において交差する箇所に形成され、前記第1および第2金属膜を相互に絶縁する絶縁膜とを備える。前記第1金属膜は、前記第1遮光部と平面視において重畳し、前記第1金属膜の幅は前記第1遮光部の幅よりも狭く、前記第2金属膜は、前記第2遮光部と平面視において重畳し、前記第2金属膜の幅は前記第2遮光部の幅よりも狭く、前記第1および第2島状電極は、透明導電膜で形成されている。本発明によれば、感度の高いタッチパネルの構成が得られる。本発明の一実施形態にかかるタッチパネルは、絶縁性の基板と、第1方向に沿って形成された第1遮光部と、前記第1方向と交差する第2方向に沿って形成された第2遮光部と、前記第1方向に沿って配置された複数の第1島状電極と、前記第2方向に沿って配置された複数の第2島状電極と、前記複数の第1島状電極に接して、前記第1方向に沿って形成された第1金属膜と、前記複数の第2島状電極に接して、前記第2方向に沿って形成された第2金属膜と、少なくとも前記第1および第2金属膜が平面視において交差する箇所に形成され、前記第1および第2金属膜を相互に絶縁する絶縁膜とを備える。前記第1金属膜は、前記第1遮光部と平面視において重畳し、前記第1金属膜の幅は前記第1遮光部の幅よりも狭く、前記第2金属膜は、前記第2遮光部と平面視において重畳し、前記第2金属膜の幅は前記第2遮光部の幅よりも狭く、前記第1および第2島状電極は、透明導電膜で形成されている第1の構成。上記の構成によれば、複数の第1および第2島状電極に接して、それぞれ、第1および第2金属膜が形成されている。これにより、第1および第2島状電極の電気抵抗を低くし、感度を高くすることができる。第1および第2金属膜は、それぞれ、第1および第2遮光部と平面視において重畳するように形成されている。さらに、第1および第2金属膜の幅は、それぞれ、第1および第2遮光部の幅よりも狭く形成されている。これにより、反射率の高い金属膜が、観察者に視認されない。また、表示装置の開口率を低下させない。上記第1の構成において、前記第1および第2遮光部は、前記基板上に形成され、前記第1および第2遮光部、ならびに前記基板を覆って形成された平坦化膜をさらに備える構成とすることができる第2の構成。上記第1または第2の構成において、前記複数の第1島状電極は、前記第1方向において、相互に繋がっている構成とすることが好ましい第3の構成。上記の構成によれば、複数の第1島状電極は、第1金属膜によって接続されているのに加えて、第1島状電極同士が繋がっている。このような冗長構造とすることにより、信頼性を高め、歩留まりを向上させることができる。上記第1~第3のいずれかの構成において、前記第1金属膜は、前記第1島状電極より上層で、かつ、前記絶縁膜より下層に形成され、前記第2金属膜は、前記第2島状電極および前記絶縁膜より上層に形成されている構成とすることができる第4の構成。上記第1~第3のいずれかの構成において、前記第1金属膜は、前記第1島状電極および前記絶縁膜より下層に形成され、前記第2金属膜は、前記第2島状電極および前記絶縁膜より上層に形成されている構成とすることができる第5の構成。上記第1~第3のいずれかの構成において、前記第1金属膜は、前記第1島状電極および前記絶縁膜より上層に形成され、前記第2金属膜は、前記第2島状電極および前記絶縁膜より下層に形成されている構成とすることができる第6の構成。上記第1~第6のいずれかの構成において、前記第1島状電極および前記第1金属膜の少なくとも一方と接して、前記第1遮光部と平面視で重畳する箇所に、前記第1遮光部より狭い幅で形成された第3金属膜をさらに備えることが好ましい第7の構成。上記の構成によれば、第1金属膜と第3金属膜との冗長構造とすることにより、信頼性を高め、歩留まりを向上させることができる。上記第1~第7のいずれかの構成において、前記第2島状電極および前記第2金属膜の少なくとも一方と接して、前記第2遮光部と平面視で重畳する箇所に、前記第2遮光部より狭い幅で形成された第4金属膜をさらに備えることが好ましい第8の構成。上記の構成によれば、第2金属膜と第4金属膜との冗長構造とすることにより、信頼性を高め、歩留まりを向上させることができる。上記第1~第8のいずれかの構成において、前記絶縁膜は、前記第1および第2島状電極を覆って形成され、前記第1島状電極と前記第1金属膜と、および前記第2島状電極と前記第2金属膜と、の少なくとも一方を接続するための開口部を有する構成とすることができる第9の構成。上記第1~第9のいずれかの構成において、前記第1および第2金属膜の少なくとも一方と同一材料で形成された配線をさらに備えることが好ましい第10の構成。上記の構成によれば、前記第1および第2金属膜の一方と、配線とを同一工程で作製することができる。そのため、製造工程を簡略化できる。上記第10の構成において、前記配線と接して、前記配線と平面視において重畳する箇所に形成された透明導電膜をさらに備えることが好ましい第11の構成。上記の構成によれば、配線と透明導電膜との冗長構造とすることにより、信頼性を高め、歩留まりを向上させることができる。上記第10または第11の構成において、前記配線と電気的に接して、前記配線と異なる層に形成された第5金属膜をさらに備えることが好ましい第12の構成。上記の構成によれば、配線と第5金属膜との冗長構造とすることにより、信頼性を高め、歩留まりを向上させることができる。上記第1~第12のいずれかの構成において、カラーフィルタ層をさらに備える構成とすることができる第13の構成。上記第13の構成において、前記絶縁膜は、前記第1方向の幅が前記第2遮光部の幅よりも小さい、または、前記第2方向の幅が前記第1遮光部の幅よりも小さい構成とすることが好ましい第14の構成。第1および第2金属膜、ならびに絶縁膜が形成された箇所にカラーフィルタ層を形成すると、カラーフィルタ層の厚さが変化し、色味が変化してしまう。しかし、上記の構成によれば、これらはすべて、第1または第2遮光部と重畳する箇所に形成されているので、カラーフィルタ層の色味の変化は、観察者に視認されない。そのため、平坦化のための膜を別途形成する必要がなくなり、製造工程を簡略化することができる。本発明の一実施形態にかかるタッチパネル付き表示装置は、上記第1~第14のいずれかの構成のタッチパネルと、前記タッチパネルに形成された共通電極と、前記タッチパネルに対向して配置された薄膜トランジスタ基板と、前記タッチパネルおよび前記薄膜トランジスタ基板に挟持された液晶とを備えるタッチパネル付き表示装置の第1の構成。上記タッチパネル付き表示装置の第1の構成において、前記薄膜トランジスタ基板は、酸化インジウムガリウム亜鉛を含む酸化物半導体層を有することが好ましいタッチパネル付き表示装置の第2の構成。酸化インジウムガリウム亜鉛は、電子移動度が大きく、特性のばらつきが小さい。酸化インジウムガリウム亜鉛を用いることによって、タッチパネル付き表示装置を大型化、高精細化することができる。[実施の形態]以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳しく説明する。図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。なお、説明を分かりやすくするために、以下で参照する図面においては、構成が簡略化または模式化して示されたり、一部の構成部材が省略されたりしている。また、各図に示された構成部材間の寸法比は、必ずしも実際の寸法比を示すものではない。[全体の構成図1は、本発明の一実施形態にかかるタッチパネル付き表示装置8の概略構成を示す断面図である。タッチパネル付き表示装置8は、タッチパネル1と、薄膜トランジスタTFT:ThinFilmTransisor基板81と、偏光板82および83と、シール材84と、液晶85とを備えている。タッチパネル1とTFT基板81とは、互いに対向して配置されている。タッチパネル1およびTFT基板81の周縁部には、シール材84が形成されており、内側に液晶85が封入されている。タッチパネル1およびTFT基板81の、外側の面には、それぞれ偏光板82および83が配置されている。タッチパネル1は、詳しい構成は後述するが、静電容量方式のタッチパネルであり、絶縁性の基板10、センサ電極群X電極11、Y電極12等を備えている。X電極11およびY電極12は、格子状に形成されている。X電極11およびY電極12は、基板10を挟んで近接した指等との間に静電容量を形成する。タッチパネル1は、この静電容量の変化に基づいて、指等の位置を検出する。タッチパネル1は、さらに、ブラックマトリクス101、カラーフィルタ17、共通電極18等を備えている。TFT基板81は、絶縁性の基板811と、画素電極812と、図示しないTFTとを備えている。画素電極812およびTFTは、基板811にマトリクス状に配置されている。TFTとして、アモルファスシリコン層や酸化物半導体層等を有するものを用いることができるが、酸化物半導体層、特に、酸化インジウムガリウム亜鉛IGZOまたはIZGOを含む酸化物半導体層を用いることが好ましい。IGZOは電子移動度が大きく、特性のバラつきが小さい。そのため、タッチパネル付き表示装置8の大型化や高精細化に有利である。タッチパネル付き表示装置8は、TFT基板81のTFTを駆動して、任意の画素電極812と共通電極18との間に電界を生成する。この電界によって、液晶85の配向が変化する。偏光板83側から入射した光は、偏光板83によって、特定の方向に偏光している。液晶85に入射した光の偏光方向は、液晶85の配向によって変化する。そして、特定の方向に偏光した光のみが、偏光板82を透過する。このようにして、タッチパネル付き表示装置8は、任意の画素電極812において、光の透過非透過を制御することができる。画素電極812を透過した光は、カラーフィルタ17によって着色される。複数の色、例えば赤、緑、青のカラーフィルタ17を規則的に配置しておくことにより、加法混色によって様々な色を表示することができる。ブラックマトリクス101は、画素電極812が形成されている箇所以外の箇所からの光を遮光して、コントラストを向上させる。以上のように、本実施形態にかかるタッチパネル付き表示装置8は、液晶表示装置のいわゆるカラーフィルタ基板に、タッチパネルのセンサ電極群を作り込んだ、インセル型のタッチパネル付き表示装置である。[タッチパネルの構成][第1の実施形態]以下、タッチパネル1の構成について詳しく述べる。図2は、本発明の第1の実施形態にかかるタッチパネル1の、概略構成を模式的に示す部分破断図である。図3は、図2におけるA-A’線、B-B’線、C-C’線、D-D’線、E-E’線の各線に沿った断面図である。タッチパネル1は、基板10、ブラックマトリクス101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130~132、配線140~144、絶縁膜151,152、保護膜16、カラーフィルタ17、および共通電極18を備えている。タッチパネル1は、図2に示すように、表示領域Vと、それ以外の額縁領域とを有する。センサ電極であるX電極11およびY電極12は、表示領域Vに形成されている。X電極11およびY電極12は、配線141~144等を介して、基板10の端部付近に形成された端子131,132と電気的に接続されている。なお、端子130および配線140は、X電極11およびY電極12のいずれとも接続されていない。これらは、電磁ノイズを遮蔽するシールド線として機能する。端子130~132は、図示しないFPCFlexiblePrintedCircuit等を介して、駆動回路と接続される。図4Aは、タッチパネル1の構成から、基板10、ブラックマトリクス101、および平坦化膜102のみを抜き出して示した平面図である。図4Aに示すように、ブラックマトリクス101および平坦化膜102は、基板10の上に形成されている。なお以下では、図4Aの左右方向をX方向、図4Aの上下方向をY方向と呼んで参照する。ブラックマトリクス101は、第1遮光部101a、第2遮光部101b、および第3遮光部101cから構成されている。表示領域Vにおいては、X方向に沿って形成された複数の第1遮光部101aと、Y方向に沿って形成された複数の第2遮光部101bとが、格子状に形成されている。第1遮光部101aと第2遮光部101bとは、それらによって囲まれた、それぞれの矩形領域が、表示装置8の単位画素に相当するように形成されている。表示領域V以外の額縁領域においては、一様な遮光部101cが形成されている。ブラックマトリクス101の全体、および基板10の一部を覆って、平坦化膜102が形成されている。図4Bは、図4Aの構成に、さらにX電極11、Y電極12、および端子130~132を加えて示した平面図である。図4Bに示すように、X電極11およびY電極12は、平坦化膜102の上に形成されている。端子130~132は、平坦化膜102および基板10にまたがって形成されている。X電極11は、X方向に沿って配置された複数の島状電極110から構成されている。同様に、Y電極12は、Y方向に沿って配置された複数の島状電極120から構成されている。複数の島状電極110は、X方向に互いに繋がっている。一方、島状電極120は、それぞれ離散して配置されている。端子131および132は、基板10の端部近傍から、X電極11およびY電極12の近傍まで細長に形成されている。端子131とX電極11とは繋がっているが、端子132とY電極12とは繋がっていない。以下では、端子131および132のうち、平面視において第3遮光部101cと重畳している部分を、それぞれ延在部131aおよび132aと呼んで参照する。図4Cは、図4Bの構成に、さらに配線140~142を加えて示した平面図である。図4Cに示すように、配線141は、X電極11および端子131の延在部131aの上に形成されている。配線142は、端子132の延在部132aの上に形成されている。配線140は、端子130および平坦化膜102の上に形成されている。配線141は、延在部131aに重畳して形成されている。配線141はさらに、表示領域Vにおいて、X方向に沿ってX電極11の複数の島状電極110に接して形成されている。配線141は、表示領域Vにおいては、平面視において第1遮光部101aと重畳するように形成され、かつ、第1遮光部101aより狭い幅に形成されている。配線142は、延在部132aに重畳して形成されている。配線141とは異なり、配線142は、Y電極12等へは接続されていない。図4Dは、図4Cの構成に、さらに絶縁膜151および152を加えて示した平面図である。図4Dに示すように、絶縁膜151は、平坦化膜102、端子130~132、配線140~142の上に形成されている。絶縁膜152は、平坦化膜102、X電極11、配線141の上に形成されている。絶縁膜151は、平面視において第3遮光部101cと重畳する部分に形成されている。絶縁膜151は、配線140,142を完全に覆っており、また、端子130~132および配線141の一部も覆っている。絶縁膜151は、配線140~142を、製造プロセス等で用いられる薬品等から保護するために形成される。絶縁膜151には、配線141へ接続するためのコンタクトホール151a、および配線142へ接続するためのコンタクトホール151bが形成されている。絶縁膜152は、配線141と、後述する配線143図4Dには不図示とが交差する部分に形成されている。絶縁膜152は、配線141の一部と、X電極11の一部とを覆って形成されている。図4Eは、図4Dの構成に、さらに配線143および144を加えて示した平面図である。図4Eに示すように、配線143は、絶縁膜151および配線141の上に形成されている。配線144は、絶縁膜151,152、Y電極12の上に形成されている。配線143は、絶縁膜151に形成されたコンタクトホール151aを介して、配線141と接触している図3のE-E’線に沿った断面図を参照。また、表示領域Vにおいて、配線141と一部重畳して形成されている。配線143は、表示領域Vにおいては、平面視において第1遮光部101aと重畳するように形成され、かつ、第1遮光部101aより狭い幅に形成されている。配線144は、絶縁膜151に形成されたコンタクトホール151bを介して、配線142と接触している図3のD-D’線に沿った断面図を参照。配線144はさらに、表示領域Vにおいて、絶縁膜152の上を経由して、Y電極12の複数の島状電極120に接するように形成されている。配線144は、表示領域Vにおいては、平面視において第2遮光部101bと重畳するように形成され、かつ、第2遮光部101bより狭い幅に形成されている。図4Fは、図4Eの構成に、さらに保護膜16およびカラーフィルタ17を加えて示した図である。図4Fに示すように、保護膜16は、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130~132、配線140~144の上に形成されている。X電極11、Y電極12、配線140~144は、保護膜16に完全に覆われている。端子130~132は一部は保護膜16に覆われ、一部は保護膜16に覆われずに露出している。カラーフィルタ17は、保護膜16によって平坦化された面の上に、一定の厚さで形成されている。カラーフィルタ17は、表示領域Vに形成されている。カラーフィルタ17は、規則的に配置された複数の赤色着色材171、緑色着色材172、青色着色材173から構成されている。赤色着色材171と緑色着色材172と、緑色着色材172と青色着色材173と、青色着色材173と赤色着色材171とのそれぞれの境界は、平面視でブラックマトリクス101の第2遮光部101bと重なるように形成されている。なお、カラーフィルタ17の構成は任意であり、他の色の組み合わせや、4色以上の着色材を備えていても良い。また、本実施形態では、赤色着色材171、緑色着色材172、青色着色材173が縞状に配列した構成を例示したが、配置方法も任意である。図4Gは、図4Fの構成に、さらに共通電極18を加えて示した平面図であり、タッチパネル1の平面図である。図4Gに示すように、共通電極18は、保護膜16およびカラーフィルタ17の上に、ほぼ全面に形成されている。[タッチパネル1の製造方法]以下、図4A~図4G、および、図5A~図5Gを参照して、タッチパネル1の製造方法を説明する。なお、図5A~図5Gは、図2におけるA-A’線、B-B’線、C-C’線、D-D’線、E-E’線の各線に沿った断面図である。まず、図4Aおよび図5Aに示すように、基板10上にブラックマトリクス101および平坦化膜102を形成する。基板10は、例えば、ガラス基板である。ブラックマトリクス101としては、クロム等の低反射金属、または黒色樹脂を用いることができる。ここでは、黒色樹脂を用いることが好ましい。後述するように、ブラックマトリクス101の上層にセンサ電極群X電極11、Y電極12等が形成される。ブラックマトリクス101として黒色樹脂を用いれば、センサ電極群に形成される静電容量に影響を与えない。黒色樹脂は、例えば、アクリル樹脂、ノボラック樹脂等を含むフォトレジストに、黒色顔料を分散させたものである。フォトレジストは、感光すると現像液に対する溶解性が減少するポジ型、および感光すると現像液に対する溶解性が増大するネガ型の、どちらでも良い。基板10の全面に、スピンコータまたはスリットコータによって、黒色樹脂を均一に塗布する。塗布する黒色樹脂の厚さは、特に限定されないが、例えば0.1~2.0μmである。黒色樹脂を塗布後、フォトリソグラフィによるパターニングを行って、ブラックマトリクス101を形成する。続いて、ブラックマトリクス101の全体および基板10の一部を覆って、平坦化膜102を形成する。平坦化膜102は、例えばアクリル樹脂である。平坦化膜102は、スピンコータまたはスリットコータによって形成することができる。このとき、メタルマスク等を用いて、基板10の端部には平坦化膜102を形成しないようにする。平坦化膜102の厚さは、ブラックマトリクス101の厚さ以上であれば良い。次に、図4Bおよび図5Bに示すように、基板10および平坦化膜102上に、X電極11、Y電極12、端子130~132を形成する。まず、基板10および平坦化膜102上に、スパッタリングまたはCVDChemicalVaporDeposition法により、一様な透明導電膜を形成する。透明導電膜は、例えばITOやIZOである。透明導電膜の厚さは特に限定されないが、例えば10~50nmである。基板10および平坦化膜102上に形成した透明導電膜を、フォトリソグラフィによりパターニングする。具体的には、X電極11、Y電極12、端子130~132を形成する箇所にフォトレジストによるマスクを形成する。そして、残部をエッチングにより除去する。エッチング方法は任意であるが、例えば、シュウ酸または燐酸/酢酸/硝酸の混酸等を用いることができる。パターニングの終了後に、200~250°Cの温度範囲でアニールを行う。このアニールで、アモルファスであった透明導電膜X電極11、Y電極12、端子130~132が多結晶化する。次に、図4Cおよび図5Cに示すように、配線140~142を形成する。まず、スパッタリングまたは蒸着により、基板10、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130~132を覆って、全面に金属膜を形成する。金属膜は、例えばAl等の低抵抗金属の膜である。金属膜は、下層や上層との密着性、および耐食性を向上させるため、複数の金属を積層させた構造とすることが好ましい。例えば、MoNb、Al、およびMoNbをこの順で積層させた膜を用いることができる。金属膜の厚さは、特に限定されないが、例えば0.3~1.0μmである。基板10の全面に形成した金属膜を、フォトリソグラフィによりパターニングする。具体的には、配線140~142を形成する箇所にフォトレジストによるマスクを形成する。そして、残部をエッチングにより除去する。エッチング方法は任意であるが、例えば、燐酸/酢酸/硝酸の混酸等を用いることができる。次に、図4Dおよび図5Dに示すように、絶縁膜151および152を形成する。絶縁膜151および152として、有機系絶縁体、および無機系絶縁体のどちらを用いていも良い。絶縁膜151および152として、有機系絶縁体を用いる場合について説明する。有機系絶縁体は例えば、アクリル樹脂、ノボラック樹脂等を含むフォトレジストである。基板10の全面に、スピンコータまたはスリットコータによって、フォトレジストを均一に塗布する。絶縁膜151は、既述のように配線140~142等を保護するためのものであり、厚い方が好ましい。フォトレジストの厚さは、特に限定されないが、例えば1.5~3.0μmである。基板10の全面に形成したフォトレジストを、フォトリソグラフィによってパターニングして、絶縁膜151および152を形成する。このとき、コンタクトホール151aおよび151bも形成する。絶縁膜151および152として、無機系絶縁体を用いる場合について説明する。無機系絶縁体は例えば、SiN、SiO2、SiON等である。基板10の全面に、CVDによってこれらの物質からなる均一な無機膜を形成する。この場合も、無機膜の厚さは厚い方が好ましく、配線140~142の厚さの2倍以上であることが好ましい。基板10の全面に形成した無機膜を、フォトリソグラフィによりパターニングする。具体的には、絶縁膜151および152を形成する箇所にフォトレジストによるマスクを形成する。そして、残部をエッチングにより除去する。このとき、コンタクトホール151aおよび151bも形成する。エッチング方法は任意であるが、例えば、フッ素系ガスを用いたドライエッチングを用いることができる。次に、図4Eおよび図5Eに示すように、配線143および144を形成する。まず、スパッタリングまたは蒸着により、基板10、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130~132、配線141、絶縁膜151および152を覆って、全面に金属膜を形成する。金属膜は、配線140~142を形成する際に用いた素材と同じ素材を用いても良いし、異なる素材を用いても良い。金属膜として、例えば、MoNb、Al、およびMoNbをこの順で積層させた膜を用いることができる。金属膜の厚さは、特に限定されないが、例えば0.3~1.0μmである。基板10の全面に形成した金属膜を、フォトリソグラフィによりパターニングする。具体的には、配線143および144を形成する箇所にフォトレジストによるマスクを形成する。そして、残部をエッチングにより除去する。エッチング方法は任意であるが、例えば、燐酸/酢酸/硝酸の混酸等を用いることができる。なおこの際、配線141がエッチングされないように、エッチング時間を調整する。次に、図4Fおよび図5Fに示すように、保護膜16およびカラーフィルタ17を形成する。保護膜16は、基板10のほぼ全面を覆って形成される。保護膜16は、例えばアクリル樹脂である。保護膜16として、SiN、SiO2、SiON等の無機物の膜を形成し、その上にさらにアクリル樹脂等の膜を形成したものを用いても良い。無機物の膜は、例えばCVDによって形成することができる。アクリル樹脂等の膜は、例えば、スピンコータまたはスリットコータによって形成することができる。このとき、メタルマスク等を用いて、基板10の端部には保護膜16を形成しないようにして、端子130~132の一部を露出させる。保護膜16の厚さは、特に限定されないが、例えば、1.5~3.0μmである。続いて、保護膜16上に、カラーフィルタ17を形成する。カラーフィルタ17として、顔料または染料を、樹脂等に分散または溶解させた着色材を用いることができる。カラーフィルタ17の形成は、例えばフォトリソグラフィによるパターニングを、繰り返し行うことによって形成する。具体的には、まず、赤色の着色材を、スリットコータまたはスピンコータ等によって、保護膜16上に均一に塗布する。その後、パターニングを行って、赤色着色材171を形成する。以下、この工程を繰り返して緑色着色材172、青色着色材173を形成する。カラーフィルタ17は、インクジェット法によって形成することもできる。具体的には、まず、赤色の着色材と溶媒等との混合組成物を、インクジェットにより保護膜16上の所定の箇所に塗布する。その後、溶媒の乾燥、硬化、焼成等を行って、赤色着色材171を形成する。以下、この工程を繰り返して緑色着色材172、青色着色材173を形成する。最後に、図4Gおよび図5Gに示すように、共通電極18を形成する。共通電極18は、例えば、ITOやIZO等の透明導電膜である。保護膜16およびカラーフィルタ17を覆って、基板10のほぼ全面に、スパッタリングまたはCVDにより、一様な共通電極18を形成する。このとき、メタルマスク等を用いて、基板10の端部には共通電極18を形成しないようにして、端子130~132等と接触しないようにする。共通電極18の厚さは特に限定されないが、例えば、10~50nmである。以上、本発明の第1の実施形態にかかるタッチパネル1の構成、および製造方法を説明した。本実施形態にかかるタッチパネル1の構成によれば、配線141が、X電極11の複数の島状電極110に接して形成されている。また、配線144が、Y電極12の複数の島状電極120に接して形成されている。これにより、X電極11およびY電極12の導電性を高め、感度を向上させることができる。また、配線141は、表示領域Vにおいては、ブラックマトリクス101の第1遮光部101aと平面視において重畳し、第1遮光部101aの幅よりも狭く形成されている。配線144は、表示領域Vにおいては、ブラックマトリクス101の第2遮光部101bと平面視において重畳し、第2遮光部101bの幅よりも狭く形成されている。これにより、配線141および144は、観察者から視認されない。また、表示装置8の開口率を低下させない。本実施形態では、図4Bに示すように、X電極11を構成する複数の島状電極110および端子131は、連続して一体的に形成されている。すなわち、X電極11と端子131は、それら自身で電気的に接続されている。複数の島状電極110、および端子131は、これに加えてさらに、配線141によって電気的に接続されている。また、配線143が、配線141に一部重畳して形成されている。このような冗長構造とすることにより、低抵抗化できるとともに、配線の信頼性を高め、歩留まりを向上させることができる。本実施形態では、図4Cに示すように、表示領域V以外の額縁領域において、配線141および142と、端子131および132の延出部131aおよび132aとが、重畳して形成されている。このような冗長構造とすることにより、低抵抗化できるとともに、配線の信頼性を高め、歩留まりを向上させることができる。本実施形態では、X電極11、Y電極12、および端子130~132を、同一材料、同一工程で形成している。また、配線141は、表示領域Vと、表示領域V以外の額縁領域に、配線140および142とともに同一材料、同一工程で形成される。このように、本実施形態によれば、パターニングの回数を減らし、製造工程を簡略化することができる。[第2の実施形態]タッチパネル付き表示装置8は、タッチパネル1に代えて、以下に説明するタッチパネル2~6のいずれかを備えていても良い。図6は、本発明の第2の実施形態にかかるタッチパネル2の、概略構成を模式的に示す部分破断図である。図7は、図6におけるA-A’線、B-B’線、C-C’線、D-D’線、E-E’線の各線に沿った断面図である。タッチパネル2は、基板10、ブラックマトリクス101、平坦化膜102、X電極21、Y電極22、端子230~232、配線143,144,240~242、絶縁膜151,152、保護膜16、カラーフィルタ17、および共通電極18を備えている。タッチパネル2は、タッチパネル1と比較して、X電極、Y電極、端子、および配線の構成が異なっている。タッチパネル2では、配線240~242は、X電極21、Y電極22、および端子230~232よりも下の層に形成されている。すなわち、タッチパネル1では、まず、平坦化膜102の上にX電極11、Y電極12および端子130~132を形成した図4Bを参照。そして、その上に、配線140~142を形成した図4Cを参照。これに対し、タッチパネル2では、先に配線240~242を形成し、その後にX電極21、Y電極22、および端子230~232を形成する。本実施形態によれば、タッチパネルの構成のバリエーションが得られる。[第3の実施形態]図8は、本発明の第3の実施形態にかかるタッチパネル3の、概略構成を模式的に示す部分破断図である。図9は、図8におけるA-A’線、B-B’線、C-C’線、D-D’線、E-E’線の各線に沿った断面図である。タッチパネル3は、基板10、ブラックマトリクス101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130~132、配線140~144、絶縁膜151,352、カラーフィルタ37、および共通電極38を備えている。タッチパネル3は、タッチパネル1と比較して、絶縁膜、カラーフィルタ、および共通電極の構成が異なっている。また、タッチパネル3は、タッチパネル1が備える保護膜16に相当する構成を備えていない。タッチパネル3では、タッチパネル1が備える保護膜16に代えて、カラーフィルタ37が基板10のほぼ全面に形成されている。カラーフィルタ37の上に、共通電極38が形成されている。すなわち、タッチパネル3では、カラーフィルタ37が保護膜の役割を兼ねている。カラーフィルタ37の直下に形成されている絶縁膜352や配線141および144等の厚さにより、カラーフィルタ37の厚さは不均一になっている。具体的には、直下の層が厚い部分では、カラーフィルタ37の厚さは薄くなっている。カラーフィルタ37の厚さが薄い部分は、彩度が低くなる。すなわち、カラーフィルタ37の厚さが不均一であると、表示される色味が不均一になる。タッチパネル3では、絶縁膜352は、ブラックマトリクス101の第2遮光部101bに平面視において重畳し、かつ、第2遮光部101bの幅よりも狭く形成されている。また、タッチパネル1と同様に、配線141は、表示領域Vにおいては、ブラックマトリクス101の第1遮光部101aと平面視において重畳し、第1遮光部101aの幅よりも狭く形成されている。配線144は、表示領域Vにおいては、ブラックマトリクス101の第2遮光部101bと平面視において重畳し、第2遮光部101bの幅よりも狭く形成されている。したがって、配線141,144および絶縁膜352によってカラーフィルタ37の厚さが薄くなっている部分は、ブラックマトリクス101によって遮蔽され、観察者に視認されない。本実施形態によれば、タッチパネル1における保護膜16の形成を省略できる。これにより、製造工程数を削減でき、歩留まりを向上させることができる。なお、本実施形態では、絶縁膜352が、ブラックマトリクス101の第2遮光部101bにより遮蔽される構成を示した。絶縁膜352が、第1遮光部101aにより遮蔽される構成としても良い。具体的には、絶縁膜352を第1遮光部101aと平面視において重畳し、かつ、第1遮光部101aの幅よりも狭く形成すれば良い。[第4の実施形態]図10は、本発明の第4の実施形態にかかるタッチパネル4の、概略構成を模式的に示す部分破断図である。図11は、図10におけるA-A’線、B-B’線、C-C’線、D-D’線、E-E’線の各線に沿った断面図である。タッチパネル4は、基板10、ブラックマトリクス101、平坦化膜102、X電極41、Y電極42、端子430~432、配線440~444、絶縁152,451、保護膜16、カラーフィルタ17、および共通電極18を備えている。タッチパネル4は、タッチパネル1と比較して、X電極、Y電極、端子、配線、絶縁膜の構成が異なっている。タッチパネル1では、平坦化膜102の上にX電極11、Y電極12、端子130~132を形成し図4Bを参照、その上に配線140~142を形成した図4Cを参照。そして、その上に絶縁膜151,152を形成し図4Dを参照、さらにその上に配線143,144を形成した図4Eを参照。これに対し、タッチパネル4では、絶縁膜を形成した後にX電極、Y電極、および端子を形成する。まず、図12Aに示すように、平坦化膜102の上に、配線440~442を形成する。配線440は、タッチパネル1の配線140と同様に、電磁ノイズ遮蔽用のシールド線である。配線441は、タッチパネル1の配線141と異なり、表示領域Vには形成されない。一方、配線442は、表示領域Vに、ブラックマトリクス101の第2遮光部101bと重畳して、第2遮光部101bの幅よりも狭く形成される。表示領域Vに形成された配線442配線442aと呼んで参照すると、表示領域V以外の額縁領域に形成された配線442配線442bと呼んで参照するとは、繋がっていない。次に、図12Bに示すように、平坦化膜102および配線440~442を覆って、絶縁膜451を形成する。絶縁膜451には、コンタクトホール451a~451cが形成されている。また、配線442aの一部を覆って、絶縁膜152を形成する。次に、図12Cに示すように、X電極41、Y電極42、および端子430~432を形成する。X電極41は、タッチパネル1のX電極11と同様、X方向に沿って配置された複数の島状電極410から構成されている。Y電極12は、Y方向に沿って配置された複数の島状電極420から構成されている。複数の島状電極410は、X方向に互いに繋がっている。一方、島状電極420は、それぞれ離散して配置されている。Y方向の島状電極420は、配線442aによって互いに電気的に接続されている。X電極41と配線442aとは、絶縁膜152によって絶縁されている。タッチパネル1と同様に、X電極41と端子431とは、連続して一体的に形成されている。一方、Y電極42と端子432とは、繋がっていない。端子431と配線441とは、コンタクトホール451aおよび451cにより電気的に接続されている。同様に、端子432と配線442bとは、コンタクトホール451bおよび451cにより電気的に接続されている。端子430と配線440とは、コンタクトホール451cにより電気的に接続されている。次に、図12Dに示すように、配線443および444を形成する。配線443は、端子431に一部重畳して形成されている。配線443は、X電極41の複数の島状電極410と接するように形成されている。配線443は、表示領域Vにおいては、ブラックマトリクス101の第1遮光部101aと平面視で重畳して、第1遮光部101aの幅よりも狭く形成されている。配線444は、端子432とY電極42とに一部重畳して形成され、端子432とY電極42とを電気的に接続している。本実施形態にかかるタッチパネル4の構成によれば、配線442aが、Y電極42の複数の島状電極420に接して形成されている。また、配線443が、X電極41の複数の島状電極410に接して形成されている。これにより、X電極41およびY電極42の導電性を高め、感度を向上させることができる。タッチパネル1と同様、配線442および443は、ブラックマトリクス101によって遮蔽され、観察者から視認されず、表示装置8の開口率を低下させない。また、複数の島状電極410、および端子431は、連続して一体的に形成されている。さらに、配線141および143によって電気的に接続されている。このような冗長構造とすることにより、低抵抗化できるとともに、配線の信頼性を高め、歩留まりを向上させることができる。表示領域V以外の額縁領域においても、端子431と配線441とが冗長構造になっている。同様に、端子432と配線442bとが冗長構造になっている。これにより、低抵抗化できるとともに、配線の信頼性を高め、歩留まりを向上させることができる。本実施形態では、タッチパネル1と同様に、配線430,431,432aおよび432bを、同一材料、同一工程で形成することができる。これにより、パターニング回数を減らし、製造工程を簡略化することができる。[第5の実施形態]図13は、本発明の第5の実施形態にかかるタッチパネル5の、概略構成を模式的に示す部分破断図である。図14は、図13におけるA-A’線、B-B’線、C-C’線、D-D’線、E-E’線の各線に沿った断面図である。タッチパネル5は、基板10、ブラックマトリクス101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130~132、配線140,141,540,542~544、絶縁152,551、保護膜16、カラーフィルタ17、および共通電極18を備えている。タッチパネル5は、タッチパネル1と比較して、配線および絶縁膜の構成が異なっている。図15Aは、タッチパネル5の構成から、基板10、ブラックマトリクス101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130~132、および配線140,141、542を抜き出して示した図である。タッチパネル1の構成図4Cを参照と比較すると、タッチパネル5は、タッチパネル1が備える配線142に代えて、配線542を備えている。配線542は、配線142と同様に、端子132と一部重畳して形成されている。配線542はさらに、表示領域Vに、ブラックマトリクス101の第2遮光部101bと重畳して、第2遮光部101bの幅よりも狭く形成されている。表示領域Vに形成された配線542配線542aと呼んで参照するは、配線141と接触しないように、離散的に形成されている。また、配線542aと、表示領域V以外の額縁領域に形成された配線542配線542bと呼んで参照するとは、繋がっていない。配線140,141および542は、タッチパネル1における配線140~142の場合と同様にして、同一材料で、同一工程で形成することができる。タッチパネル1と同様に、配線140,141および542を形成した後、絶縁膜152および551を形成する。その後、配線540、543および544を形成する。図15Bは、タッチパネル5の構成から、配線540,543および544を抜き出して示した図である。なお、図15Bでは、基板10と絶縁膜551の位置を破線で示している。図15Bに示すように、配線543は、表示領域Vに形成された配線543aと、表示領域V以外の額縁領域に形成された配線543bとから構成される。配線543aと543bとは、連続して一体的に形成されている。配線543aは、ブラックマトリクス101の第1遮光部101aと平面視で重畳して、第1遮光部101aの幅よりも狭く形成されている。配線543aは、配線544と接触しないように、離散的に形成されている。配線543bは、配線141と平面視で重畳するように形成されている。配線543bと141とは、絶縁膜551に形成されたコンタクトホール551aおよび551cを介して、電気的に接続されている。配線544は、表示領域Vに形成された配線544aと、表示領域V以外の額縁領域に形成された配線544bとから構成される。配線544aと544bとは、連続して一体的に形成されている。配線544aは、ブラックマトリクス101の第2遮光部101bと平面視で重畳して、第2遮光部101bの幅よりも狭く形成されている。図15Bには図示していないが、配線544aは、絶縁膜152の上を経由して、Y電極12上の配線542aに接するように形成されている。配線544bは、配線542bと平面視で重畳するように形成されている。配線544bと542bとは、絶縁膜551に形成されたコンタクトホール551bおよび551cを介して、電気的に接続されている。配線540は、配線140と平面視で重畳するように形成されている。配線540は、配線544と接触しないように、離散的に形成されている。配線540と配線140とは、絶縁膜551に形成されたコンタクトホール551cを介して、電気的に接続されている。なお、配線540,543および544は、タッチパネル1における配線143および144と同様にして、同一材料、同一工程で形成することができる。本実施形態にかかるタッチパネル5の構成によれば、配線141が、X電極11の複数の島状電極110に接して形成されている。また、配線544が、Y電極12の複数の島状電極120に接して形成されている。これにより、X電極11およびY電極12の導電性を高め、感度を向上させることができる。本実施形態では、さらに、配線141に平面視で一部重畳して、配線543aが形成されている。これにより、X電極11、配線141および543aによる3重の冗長構造が形成されている。同様に、配線544bに平面視で一部重畳して、配線542bが形成されている。これにより、Y電極12、配線542bおよび544bによる3重の冗長構造が形成されている。表示領域V以外の額縁領域においても、互いに電気的に接続された、端子131、配線141および配線543bが平面視で重畳して形成され、3重の冗長構造が形成されている。同様に、互いに電気的に接続された端子132、配線542および544bが平面視で重畳して形成され、3重の冗長構造が形成されている。また、互いに接続された配線140と540とが、平面視で重畳して形成され、冗長構造が形成されている。このような冗長構造とすることにより、タッチパネル1と比較して、さらに低抵抗化が可能であり、さらに配線信頼性を高め、歩留まりを向上させることができる。タッチパネル1と同様、配線141,542a,543aおよび544aは、ブラックマトリクス101によって遮蔽され、観察者から視認されず、表示装置8の開口率を低下させない。本実施形態では、配線140,141および542を、同一材料、同一工程で形成することができる。また、配線540,543および544を、同一材料、同一工程で形成することができる。これにより、パターニング回数を減らし、製造工程を簡略化することができる。[第6の実施形態]図16は、本発明の第6の実施形態にかかるタッチパネル6の、概略構成を模式的に示す部分破断図である。図17は、図16におけるA-A’線、B-B’線、C-C’線、D-D’線、E-E’線の各線に沿った断面図である。タッチパネル6は、基板10、ブラックマトリクス101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130~132、配線140~142,643,644、絶縁膜650、保護膜16、カラーフィルタ17、および共通電極18を備えている。タッチパネル6は、タッチパネル1と比較して、配線および絶縁膜の構成が異なっている。タッチパネル6では、図16に示すように、絶縁膜650は、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130~132、配線140~142のほぼ全体を覆って形成されている。絶縁膜650には、コンタクトホール650a~650eが形成されている。絶縁膜650の上に、配線643および644が形成されている。配線643は、コンタクトホール650aおよび650cを介して、配線141と電気的に接続されている。配線644は、コンタクトホール650bおよびコンタクトホール650dを介して、配線142およびY電極12に接している。これにより、Y電極12、配線142および644は、相互に電気的に接続されている。配線644はさらに、コンタクトホール650eを介して、Y電極12の複数の島状電極120に接している。これにより、複数の島状電極120と配線644とが、相互に電気的に接続されている。配線664は、表示領域Vにおいて、ブラックマトリクス101の第2遮光部101bに重畳し、第2遮光部101bの幅よりも狭く形成されている。本実施形態によれば、タッチパネルの構成のバリエーションが得られる。[第7の実施形態]図18は、本発明の他の実施形態にかかるタッチパネル付き表示装置9の概略構成を示す断面図である。タッチパネル付き表示装置9は、タッチパネル7と、TFT基板91と、偏光板82および83と、シール材84と、液晶85とを備えている。図19は、本発明の第7の実施形態にかかるタッチパネル7の概略構成を示す部分破断図である。図20は、図19におけるA-A’線、B-B’線、C-C’線、D-D’線、E-E’線の各線に沿った断面図である。タッチパネル7は、基板10、ブラックマトリクス101、平坦化膜102、X電極11、Y電極12、端子130~132、配線140~144、絶縁膜151,152、保護膜16、および共通電極78を備えている。タッチパネル7は、タッチパネル1と比較して、カラーフィルタ17に相当する構成を備えていない点で異なる。タッチパネル7では、共通電極78は、保護膜16の上に形成されている。再び図18を参照して、TFT基板91は、基板811と、画素電極812と、カラーフィルタ913とを備えている。すなわち、タッチパネル付き表示装置9は、カラーフィルタを、TFT基板側に形成した構成である。本実施形態によれば、タッチパネル側の製造工程を簡略化できる。これにより、タッチパネル7の歩留まりを向上させることができる。[その他の実施形態]以上、本発明についての実施形態を説明したが、本発明は上述の各実施形態のみに限定されず、発明の範囲内で種々の変更が可能である。また、各実施形態は、適宜組み合わせて実施することが可能である。"