"分散度が1.6以下のバインダーポリマーと、ペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物及びジペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物。前記バインダーポリマーが、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸ベンジル誘導体、スチレン及びスチレン誘導体からなる群より選ばれる少なくとも1種の重合性単量体に基づく構成単位を有する、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。前記バインダーポリマーの酸価が90~250mgKOH/gである、請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。前記バインダーポリマーの重量平均分子量が10000~100000である、請求項1~3のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。前記光重合性化合物が、ビスフェノールA系ジメタアクリレート化合物を更に含む、請求項4に記載の感光性樹脂組成物。前記光重合開始剤が、2,4,5-トリアリールイミダゾール二量体を含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。340~430nmに吸収極大を有する増感色素を更に含有する、請求項1~6のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。アミン系化合物を更に含有する、請求項1~7のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。支持フィルムと、該支持フィルム上に請求項1~8のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂組成物層と、を備える感光性エレメント。請求項1~8のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂組成物層を基板上に積層する積層工程と、前記感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して前記所定部分を露光させ、硬化させる露光工程と、前記感光性樹脂組成物層の前記所定部分以外の部分を前記基板上から除去することにより、前記基板上に、前記感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する現像工程と、を有するレジストパターンの形成方法。前記活性光線の波長が340~430nmの範囲内である、請求項10に記載のレジストパターンの形成方法。請求項10又は11に記載の方法によりレジストパターンが形成された基板をエッチング又はめっきする工程を含む、プリント配線板の製造方法。しかしながら、従来の感光性樹脂組成物は、解像度、密着性又はレジスト形状の点で改善の余地がある。特に、L/Sライン幅/スペース幅が10/10単位:μm以下のレジストパターンを形成することが可能な感光性樹脂組成物を得ることは困難であるため、諸特性を満足しつつ、感光性樹脂組成物の解像度及び密着性を1μm単位で向上させることが強く求められる。また、感光性樹脂組成物には、現像工程において発生したスカムが基板に再付着することを十分に低減できること、すなわち、耐スカム発生性に優れることが要求される。さらに、めっき処理時に、形成したレジストパターンにめっきもぐりが生じて、銅配線パターンの短絡を防ぐ観点から、感光性樹脂組成物にめっき液に対する耐薬品性を向上することも要求されている。そこで、本発明は、解像度、密着性、レジスト形状、テント信頼性、耐スカム発生性及び耐薬品性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、分散度が1.6以下のバインダーポリマーと、特定の光重合性化合物とを組み合わせた感光性樹脂組成物を用いることにより、解像度、密着性、レジスト形状、テント信頼性、耐スカム発生性及び耐薬品性がいずれも良好である感光性樹脂組成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、分散度が1.6以下のバインダーポリマーと、ペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物及びジペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物を提供する。本発明の感光性樹脂組成物は、上記構成を有することによって、解像度、密着性、レジスト形状、テント信頼性、耐スカム発生性及び耐薬品性がいずれも良好となる。本発明の感光性樹脂組成物によれば、L/Sライン幅/スペース幅が10/10単位:μm以下のレジストパターンを形成することが可能となる。上記バインダーポリマーは、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸ベンジル誘導体、スチレン及びスチレン誘導体からなる群より選ばれる少なくとも1種の重合性単量体に基づく構成単位を有することが好ましい。これにより、解像度及び密着性をより向上させることができる。バインダーポリマーの酸価は、90~250mgKOH/gであることが好ましく、バインダーポリマーの重量平均分子量は、10000~100000であることが好ましい。これにより、アルカリ現像性、現像時間及び耐現像液性密着性をバランスよく向上させることができる。光重合性化合物は、ビスフェノールA系ジメタアクリレート化合物を更に含むことができる。これにより、アルカリ現像性、解像度及び硬化後の剥離特性をより向上させることができる。光重合開始剤は、2,4,5-トリアリールイミダゾール二量体を含むことが好ましい。これにより、感度、解像度及び密着性をより向上させることができる。また、感度、解像度、密着性及び硬化後の剥離特性をより向上する観点から、本発明の感光性樹脂組成物は、340~430nmに吸収極大を有する増感色素を更に含有することができる。さらに、感度を更に向上する観点から、本発明の感光性樹脂組成物は、アミン系化合物を更に含有することができる。本発明は、支持フィルムと、該支持フィルム上に上記感光性樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂組成物層と、を備える感光性エレメントを提供する。このような感光性エレメントを用いることにより、特に解像度、密着性、レジスト形状、テント信頼性、耐スカム発生性及び耐薬品性に優れたレジストパターンを、感度良く効率的に形成することができる。本発明はまた、上記感光性樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂組成物層を基板上に積層する積層工程と、感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して上記所定部分を露光させ、硬化させる露光工程と、感光性樹脂組成物層の上記所定部分以外の部分を基板上から除去することにより、基板上に、感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する現像工程と、を有するレジストパターンの形成方法を提供する。上記方法によれば、解像度、密着性、レジスト形状、テント信頼性、耐スカム発生性及び耐薬品性がいずれも良好なレジストパターンを、感度良く効率的に形成することができる。上記レジストパターンの形成方法において、照射する活性光線の波長は、340~430nmの範囲内とすることが好ましい。これにより、解像度、密着性及びレジスト形状がより良好なレジストパターンを、更に感度良く効率的に形成することができる。本発明は更に、上記方法によりレジストパターンが形成された基板をエッチング又はめっきする工程を含む、プリント配線板の製造方法を提供する。この製造方法によれば、高密度パッケージ基板のような高密度化した配線を有するプリント配線板を、精度良く効率的に製造することができる。本発明によれば、解像度、密着性、レジスト形状、テント信頼性、耐スカム発生性及び耐薬品性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することができる。以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、メタアクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、メタアクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味し、メタアクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を意味する。また、ポリオキシエチレン鎖はオキシエチレン基又はポリオキシエチレン鎖を意味し、ポリオキシプロピレン鎖はオキシプロピレン基又はポリオキシプロピレン鎖を意味し、ポリオキシブチレン鎖はオキシブチレン基又はポリオキシブチレン鎖を意味する。さらにEO変性とは、ポリオキシエチレン鎖を有する化合物であることを意味し、PO変性とは、ポリオキシプロピレン鎖を有する化合物であることを意味し、BO変性とは、ポリオキシブチレン鎖を有する化合物であることを意味し、EOPO変性とは、ポリオキシエチレン鎖及びポリオキシプロピレン鎖の双方を有する化合物であることを意味し、EOPOBO変性とは、ポリオキシエチレン鎖、ポリオキシプロピレン鎖及びポリオキシブチレン鎖を有する化合物であることを意味する。感光性樹脂組成物本実施形態の感光性樹脂組成物は、分散度が1.6以下のバインダーポリマーと、ペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物及びジペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する。<バインダーポリマー>まず、分散度重量平均分子量/数平均分子量が1.6以下のバインダーポリマー以下A成分ともいう。について説明する。本明細書において、分散度とは、数平均分子量Mnに対する重量平均分子量Mwの比Mw/Mnを意味する。バインダーポリマーの分散度Mw/Mnは1.6以下であればよいが、1.58以下であることが好ましく、1.55以下であることがより好ましい。分散度が1.6を超えると、密着性及び解像度が十分に得られなくなる傾向がある。A成分としては、分散度が1.6以下のバインダーポリマーであれば特に制限無く用いることができる。A成分は、例えば、重合性単量体モノマーをラジカル重合させることにより得られる。バインダーポリマーの分散度は、合成時の反応温度、反応時間又は開始剤の添加量により調整することができる。重合性単量体モノマーとしては、例えば、メタアクリル酸;メタアクリル酸アルキルエステル、メタアクリル酸シクロアルキルエステル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸ベンジル誘導体、メタアクリル酸フルフリル、メタアクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタアクリル酸イソボルニル、メタアクリル酸アダマンチル、メタアクリル酸ジシクロペンタニル、メタアクリル酸ジメチルアミノエチル、メタアクリル酸ジエチルアミノエチル、メタアクリル酸グリシジル、2,2,2-トリフルオロエチルメタアクリレート、2,2,3,3-テトラフルオロプロピルメタアクリレート、α-ブロモメタアクリル酸、α-クロルメタアクリル酸、β-フリルメタアクリル酸、β-スチリルメタアクリル酸等のメタアクリル酸エステル;スチレン;ビニルトルエン、α-メチルスチレン等のα-位又は芳香族環において置換されている重合可能なスチレン誘導体;ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミド;アクリロニトリル;ビニル-n-ブチルエーテル等のビニルアルコールのエステル類;マレイン酸;マレイン酸無水物;マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル;フマール酸、ケイ皮酸、α-シアノケイ皮酸、イタコン酸、クロトン酸、プロピオール酸等が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を任意に組み合わせて用いることができる。A成分は、解像度及び密着性を良好にする観点から、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸ベンジル誘導体、スチレン及びスチレン誘導体からなる群より選ばれる少なくとも1種の重合性単量体に基づく構成単位を有することが好ましい。また、メタアクリル酸ベンジル及びメタアクリル酸ベンジル誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種と、スチレン及びスチレン誘導体からなる群より選ばれる少なくとも1種とを双方含むことがより好ましい。すなわち、A成分は、これらの重合性単量体をラジカル重合させることにより得られるものであることが好ましく、これらの重合性単量体に由来する構成単位を有するものであることが好ましい。A成分が、メタアクリル酸ベンジル又はその誘導体に基づく構成単位を有する場合、その含有量は、解像度及び剥離性に優れる点では、A成分を構成する重合性単量体の全質量を基準として5~80質量であることが好ましく、10~70質量であることがより好ましく、20~60質量であることが更に好ましい。解像度に優れる点では、この含有量が5質量以上であることが好ましく、10質量以上であることがより好ましく、20質量以上であることが更に好ましい。また、剥離性に優れる点では、この含有量が80質量以下であることが好ましく、70質量以下であることがより好ましく、60質量以下であることが更に好ましい。A成分が、スチレン又はその誘導体に基づく構成単位を有する場合、その含有量は、密着性及び剥離性に優れる点では、A成分を構成する重合性単量体の全質量を基準として10~70質量であることが好ましく、15~60質量であることがより好ましく、20~50質量であることが更に好ましい。密着性に優れる点では、この含有量が10質量以上であることが好ましく、15質量以上であることがより好ましく、20質量以上であることが更に好ましい。また、剥離性に優れる点では、この含有量が70質量以下であることが好ましく、60質量以下であることがより好ましく、50質量以下であることが更に好ましい。また、A成分は、アルカリ現像性及び剥離特性を向上させる観点から、メタアクリル酸アルキルエステルに基づく構成単位を有することが好ましい。A成分が、メタアクリル酸アルキルエステルに基づく構成単位を有する場合、その含有量は、剥離性、解像度及び密着性に優れる点では、A成分を構成する重合性単量体の全質量を基準として1~30質量であることが好ましく、2~20質量であることがより好ましく、3~10質量であることが更に好ましい。剥離性に優れる点では、この含有量が1質量以上であることが好ましく、2質量以上であることがより好ましく、3質量以上であることが更に好ましい。また、解像度及び密着性に優れる点では、この含有量が30質量以下であることが好ましく、20質量以下であることがより好ましく、10質量以下であることが更に好ましい。メタアクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸プロピル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸ペンチル、メタアクリル酸ヘキシル、メタアクリル酸ヘプチル、メタアクリル酸オクチル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸ノニル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸ウンデシル、メタアクリル酸ドデシルが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を任意に組み合わせて用いることができる。A成分の酸価は、現像性及び耐現像液性に優れる点では、90~250mgKOH/gであることが好ましく、100~230mgKOH/gであることがより好ましく、110~210mgKOH/gであることが更に好ましく、120~200mgKOH/gであることが特に好ましい。この酸価が90mgKOH/g未満であると現像時間が長くなる傾向があり、250mgKOH/gを超えると、感光性樹脂組成物の硬化物の耐現像液性密着性が十分に得られ難くなる傾向がある。なお、溶剤現像を行う場合は、メタアクリル酸等のカルボキシル基を有する重合性単量体モノマーを少量に調製することが好ましい。A成分の重量平均分子量Mwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにより測定標準ポリスチレンを用いた検量線により換算した場合、現像性及び耐現像液性に優れる点では、10000~100000であることが好ましく、20000~80000であることがより好ましく、25000~70000であることが更に好ましく、35000~50000であることが特に好ましく、35000~45000であることが極めて好ましい。現像性に優れる点では、100000以下であることが好ましく、80000以下であることがより好ましく、70000以下であることが更に好ましく、50000以下であることが特に好ましく、45000以下であることが極めて好ましい。耐現像液性に優れる点では、10000以上であることが好ましく、20000以上でることがより好ましく、25000以上であることが更に好ましく、35000以上であることが特に好ましい。また、A成分は、必要に応じて340~430nmの範囲内の波長を有する光に対して感光性を有する特性基をその分子内に有していてもよい。A成分としては、1種類のバインダーポリマーを単独で使用してもよく、2種類以上のバインダーポリマーを任意に組み合わせて使用してもよい。2種類以上を組み合わせて使用する場合のバインダーポリマーとしては、例えば、異なる共重合成分からなる2種類以上の異なるモノマー単位を共重合成分として含むバインダーポリマー、異なる重量平均分子量の2種類以上のバインダーポリマー、異なる分散度の2種類以上のバインダーポリマー等が挙げられる。また、特開平11-327137号公報に記載のマルチモード分子量分布を有するポリマーを使用することもできる。A成分の含有量は、フィルム形成性、感度及び解像度に優れる点では、A成分及びB成分の総量100質量部に対して30~70質量部とすることが好ましく、35~65質量部とすることがより好ましく、40~60質量部とすることが特に好ましい。この含有量が30質量部未満ではフィルム感光性樹脂組成物層を形成し難くなる傾向があり、70質量部を超えると、感度及び解像度が十分に得られ難くなる傾向がある。<光重合性化合物>次に、光重合性化合物以下B成分ともいう。について説明する。B成分は、ペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物及びジペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を必須成分として含む。ここで、ペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物又はジペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物とは、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールと、メタアクリル酸との、アルキレンオキシ基で変性された化合物を含有するエステル化物と定義する。ペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物又はジペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物としては、特に限定されないが、下記一般式1、2又は3で表わされる化合物が好ましい。式1中、R30、R31及びR32は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、L1、L2及びL3は、それぞれ独立に炭素数2~4のアルキレン基を示し、a1、a2、a3、b1、b2、b3、c1、c2及びc3は、それぞれ独立に0~30の整数を示し、-L1-O-、-L2-O-及び-L3-O-で表される構造単位は、ランダムに存在してもブロックを形成してもよい。式2中、R33、R34、R35及びR36は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、L1、L2及びL3は、それぞれ独立に炭素数2~4のアルキレン基を示し、a4、a5、a6、a7、b4、b5、b6、b7、c4、c5、c6及びc7は、それぞれ独立に0~30の整数を示し、-L1-O-、-L2-O-及び-L3-O-で表される構造単位は、ランダムに存在してもブロックを形成してもよい。式3中、R37、R38、R39、R40、R41及びR42は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、L1、L2及びL3は、それぞれ独立に炭素数2~4のアルキレン基を示し、a8、a9、a10、a11、a12、a13、b8、b9、b10、b11、b12、b13、c8、c9、c10、c11、c12及びc13は、それぞれ独立に0~30の整数を示し、-L1-O-、-L2-O-及び-L3-O-で表される構造単位は、ランダムに存在してもブロックを形成してもよい。式1、2及び3において、-L1-O-がエチレンオキサイドであり、-L2-O-がプロピレンオキサイドであり、-L3-O-がブチレンオキサイドであることが好ましい。上記一般式1において、-L1-O-がエチレンオキサイドであり、-L2-O-がプロピレンオキサイドであり、-L3-O-がブチレンオキサイドである場合、現像性、剥離性をより良好にする観点から、a1、a2及びa3はそれぞれ独立に1~28であることが好ましく、1~25であることがより好ましく、1~20であることが更に好ましい。また、解像性をより良好にする観点から、式1中、b1、b2及びb3はそれぞれ独立に0~25であることが好ましく、0~20であることがより好ましく、c1、c2及びc3はそれぞれ独立に0~25であることが好ましく、0~20であることがより好ましい。上記一般式1で表される化合物として、具体的には、下記式1aで表されるペンタエリスリトールトリアクリレートが挙げられる。ペンタエリスリトールトリアクリレートは、PET-30日本化学株製、製品名として商業的に入手可能である。上記一般式2において、-L1-O-がエチレンオキサイドであり、-L2-O-がプロピレンオキサイドであり、-L3-O-がブチレンオキサイドである場合、解像性、現像性及び剥離性をより良好にする観点から、a4、a5、a6及びa7はそれぞれ独立に1~28であることが好ましく、1~25であることがより好ましく、1~20であることが更に好ましい。また、解像性をより良好にする観点から、b4、b5、b6及びb7はそれぞれ独立に0~25であることが好ましく、0~20であることがより好ましく、またc4、c5、c6及びc7はそれぞれ独立に0~25であることが好ましく、0~20であることがより好ましい。上記一般式2で表される化合物として、具体的には、下記一般式2aで表されるEO変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートエチレンオキサイド平均4mol付加物及びEO変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートエチレンオキサイド平均35mol付加物が挙げられる。EO変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートエチレンオキサイド平均4mol付加物は、ATM-4E新中村化学工業株製、サンプル名として、EO変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートエチレンオキサイド平均35mol付加物は、ATM-35E新中村化学工業株製、製品名として商業的に入手可能である。これらは単独で又は2種類以上を任意に組み合わせて使用される。上記一般式3において、-L1-O-がエチレンオキサイドであり、-L2-O-がプロピレンオキサイドであり、-L3-O-がブチレンオキサイドである場合、解像性、現造性及び剥離性をより良好にする観点から、a8、a9、a10、a11、a12及びa13は、それぞれ1~28であることが好ましく、1~25であることがより好ましく、1~20であることが更に好ましい。また、解像性をより良好にする観点から、b8、b9、b10、b11、b12及びb13は、それぞれ独立に、0~25であることが好ましく、0~20であることがより好ましく、c8、c9、c10、c11、c12及びc13は、解像性をより良好にする観点から、それぞれ独立に0~25であることが好ましく、0~20であることがより好ましい。上記一般式3で表される化合物として、下記式3aで表されるジペンタエリスリトールテトラアクリレート及び下記式3bで表されるEO変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレートエチレンオキサイド平均12mol付加物が商業的に入手可能である。これらは単独で又は2種類以上を任意に組み合わせて使用される。一般式1、2又は3で表わされる化合物の含有量は、B成分全体の質量に対して、5~30質量であることが好ましく、10~25質量であることがより好ましく、10~20質量であることが更に好ましい。B成分は、ペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物及びジペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物以外の光重合性化合物を併用することができる。該光重合性化合物としては、光架橋が可能なものであれば特に制限はないが、エチレン性不飽和結合を有する化合物を用いることが好ましい。エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、分子内にエチレン性不飽和結合を1つ有する化合物、分子内にエチレン性不飽和結合を2つ有する化合物、分子内にエチレン性不飽和結合を3つ以上有する化合物等が挙げられる。中でも、B成分は、分子内にエチレン性不飽和結合を2つ有する化合物を、B成分全体の質量に対して30~70質量含むことが好ましく、40~65質量含むことがより好ましい。分子内にエチレン性不飽和結合を2つ有する化合物としては、例えば、ビスフェノールA系ジメタアクリレート化合物、水添ビスフェノールA系ジメタアクリレート化合物、分子内にウレタン結合を有するジメタアクリレート化合物、分子内にポリオキシエチレン鎖及びポリオキシプロピレン鎖の双方を有するポリアルキレングリコールジメタアクリレート化合物及びトリメチロールプロパンジメタアクリレートが挙げられる。上記の中でも、B成分は、解像度及び剥離特性を向上させる観点から、ビスフェノールA系ジメタアクリレート化合物を含むことが好ましい。ビスフェノールA系ジメタアクリレート化合物としては、下記一般式4で表される化合物が挙げられる。上記一般式4中、R3及びR4はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を示す。XO及びYOはそれぞれ独立に、オキシエチレン基又はオキシプロピレン基を示す。XOm1、XOm2、YOn1、YOn2は、ポリオキシエチレン鎖又はポリオキシプロピレン鎖を示す。m1、m2、n1及びn2はそれぞれ独立に、0~40の整数を示す。XOがオキシエチレン基、YOがオキシプロピレン基である場合、m1m2は1~40、n1n2は0~20であり、XOがオキシプロピレン基、YOがオキシエチレン基の場合、m1m2は0~20、n1n2は1~40である。上記一般式4で表される化合物のうち、2,2-ビス4-メタクリロキシペンタエトキシフェニルプロパンは、BPE-500新中村化学工業株製、製品名又はFA-321M日立化成工業株製、製品名として商業的に入手可能であり、2,2-ビス4-メタクリロキシペンタデカエトキシフェニルプロパンは、BPE-1300新中村化学工業株製、製品名として商業的に入手可能である。これらは単独で又は2種類以上を任意に組み合わせて使用される。また、B成分は、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性をバランスよく向上させる観点から、分子内にエチレン性不飽和結合を1つ有する光重合性化合物を含むことが好ましい。この場合、その含有量は、B成分全体の質量に対して1~20質量であることが好ましく、3~15質量であることがより好ましく、5~12質量であることが更に好ましい。分子内にエチレン性不飽和結合を1つ有する化合物としては、例えば、ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレート、フタル酸系化合物及びメタアクリル酸アルキルエステルが挙げられる。上記の中でも、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性をバランスよく向上させる観点から、ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレート又はフタル酸系化合物を含むことが好ましい。上記ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレートとしては、例えば、ノニルフェノキシトリエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシテトラエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシペンタエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシヘキサエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシヘプタエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシオクタエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシノナエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシデカエチレンオキシアクリレート及びノニルフェノキシウンデカエチレンオキシアクリレートが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を任意に組み合わせて用いることができる。なお、ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレートは、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレートとも呼ばれる。これらのうち、ノニルフェノキシオクタエチレンオキシアクリレートは、例えば、M-114東亞合成株製、製品名、4-ノルマルノニルフェノキシオクタエチレンオキシアクリレートとして商業的に入手可能である。なお、4-ノルマルノニルフェノキシオクタエチレンオキシアクリレートは、4-ノルマルノニルフェノキシオクタエチレングリコールアクリレートとも呼ばれる。上記フタル酸系化合物としては、例えば、γ-クロロ-β-ヒドロキシプロピル-β’-メタアクリロイルオキシエチル-o-フタレート、β-ヒドロキシエチル-β’-メタアクリロイルオキシエチル-o-フタレート及びβ-ヒドロキシプロピル-β’-メタアクリロイルオキシエチル-o-フタレートが挙げられ、なかでも、γ-クロロ-β-ヒドロキシプロピル-β’-メタアクリロイルオキシエチル-o-フタレートが好ましい。γ-クロロ-β-ヒドロキシプロピル-β’-メタクリロイルオキシエチル-o-フタレートは、FA-MECH日立化成工業株製、製品名として商業的に入手可能である。これらは単独で、又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。B成分が分子内にエチレン性不飽和結合を3つ以上有する光重合性化合物を含む場合、その含有量は、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性をバランスよく向上させる観点から、B成分全体の質量に対して5~30質量であることが好ましく、10~25質量であることがより好ましい。エチレン性不飽和結合を3つ以上有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレートオキシエチレン基の繰り返し総数が1~5のもの、PO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、EO,PO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、テトラメチロールメタントリメタアクリレート及びテトラメチロールメタンテトラメタアクリレートが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。テトラメチロールメタントリアクリレートは、A-TMM-3新中村化学工業株製、製品名として、EO変性トリメチロールプロパントリメタクリレートは、TMPT21E及びTMPT30E日立化成工業株製、サンプル名として商業的に入手可能である。また、B成分は、感光性樹脂組成物の硬化物硬化膜の可とう性を向上させる観点から、ポリアルキレングリコールジメタアクリレートを含むことが好ましい。ポリアルキレングリコールジメタアクリレートの含有量としては、B成分全質量に対して5~30質量であることが好ましく、10~25質量であることがより好ましい。ポリアルキレングリコールジメタアクリレートとしては、分子内にポリオキシエチレン鎖及びポリオキシプロピレン鎖の双方を有するポリアルキレングリコールジメタアクリレートが好ましい。ポリアルキレングリコールジメタアクリレートの分子内において、ポリオキシエチレン鎖及びポリオキシプロピレン鎖は、それぞれ連続してブロック的に存在しても、ランダムに存在してもよい。なお、ポリオキシプロピレン鎖におけるオキシプロピレン基は、オキシ-n-プロピレン基又はオキシイソプロピレン基のいずれであってもよい。また、ポリオキシイソプロピレン鎖において、プロピレン基の2級炭素が酸素原子に結合していてもよく、1級炭素が酸素原子に結合していてもよい。ポリアルキレングリコールジメタアクリレートは、更に、ポリオキシ-n-ブチレン鎖、ポリオキシイソブチレン鎖、ポリオキシ-n-ペンチレン鎖、ポリオキシヘキシレン鎖や、これらの構造異性体等である炭素原子数4~6程度のポリオキシアルキレン鎖を有していてもよい。ポリアルキレングリコールジメタアクリレートとしては、特に下記一般式5、6又は7で表される化合物が好ましい。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。式5、6及び7中、R5~R10はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、EOはオキシエチレン基を示し、POはオキシプロピレン基を示す。r1、r2、r3及びr4はオキシエチレン基からなる構成単位の繰り返し数を示し、s1、s2、s3及びs4はオキシプロピレン基からなる構成単位の繰り返し数を示し、オキシエチレン基の繰り返し総数r1r2、r3及びr4平均値はそれぞれ独立に1~30の整数を示し、オキシプロピレン基の繰り返し総数s1、s2s3及びs4平均値はそれぞれ独立に1~30の整数を示す。上記一般式5、6又は7で表される化合物において、オキシエチレン基の繰り返し総数r1r2、r3及びr4は1~30の整数であり、好ましくは1~10の整数であり、より好ましくは4~9の整数であり、特に好ましくは5~8の整数である。この繰り返し数の総数が30を超えると、十分な解像度、密着性及びレジスト形状が得られ難くなる傾向がある。また、オキシプロピレン基の繰り返し総数s1、s2s3及びs4は1~30の整数であり、好ましくは5~20の整数であり、より好ましくは8~16の整数であり、特に好ましくは10~14の整数である。この繰り返し数の総数が30を超えると、十分な解像度が得られ難くなり、スラッジが発生しやすくなる傾向がある。上記一般式5で表される化合物としては、R5及びR6=メチル基、r1r2=6平均値、s1=12平均値であるビニル化合物日立化成工業株製、製品名FA-023M等が挙げられる。上記一般式6で表される化合物としては、R7及びR8=メチル基、r3=6平均値、s2s3=12平均値であるビニル化合物日立化成工業株製、製品名FA-024M等が挙げられる。上記一般式7で表される化合物としては、R9及びR10=水素原子、r4=1平均値、s4=9平均値であるビニル化合物新中村化学工業株製、サンプル名NKエステルHEMA-9P等が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位に水酸基を有するメタアクリルモノマーとイソホロンジイソシアネート、2,6-トルエンジイソシアネート、2,4-トルエンジイソシアネート、及び1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物との付加反応物、トリスメタアクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネートヘキサメチレンイソシアヌレート、EO変性ウレタンジメタアクリレート、EO,PO変性ウレタンジメタアクリレートなどが挙げられる。なお、EOはエチレンオキサイドを示し、EO変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有する。また、POはプロピレンオキサイドを示し、PO変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有する。EO変性ウレタンジメタアクリレートとしては、例えば、新中村化学工業株製のUA-11製品名等が挙げられる。また、EO,PO変性ウレタンジメタアクリレートとしては、例えば、新中村化学工業株製のUA-13製品名等が挙げられる。また、トリスメタアクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネートヘキサメチレンイソシアヌレートとしては、例えば、新中村化学工業株製のUA-21製品名等が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。B成分全体の含有量は、A成分及びB成分の総量100質量部に対して30~70質量部とすることが好ましく、35~65質量部とすることがより好ましく、35~60質量部とすることが特に好ましい。この含有量が30質量部未満であると、十分な感度及び解像度が得られ難くなる傾向があり、70質量部を超えると、フィルムを形成し難くなる傾向があり、また良好なレジスト形状が得られ難くなる傾向がある。<光重合開始剤>次に、光重合開始剤以下C成分ともいう。について説明する。C成分である光重合開始剤としては、特に制限はないが、例えばベンゾフェノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン-1,2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノ-プロパノン-1等の芳香族ケトン;アルキルアントラキノン等のキノン類;ベンゾインアルキルエーテル等のベンゾインエーテル化合物;ベンゾイン、アルキルベンゾイン等のベンゾイン化合物;ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体;2-o-クロロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体、2-o-フルオロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5-トリアリールイミダゾール二量体;9-フェニルアクリジン、1,7-9,9’-アクリジニルヘプタン等のアクリジン誘導体が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。C成分は、感度及び密着性を向上させる観点から、2,4,5-トリアリールイミダゾール二量体を含むことが好ましく、2-o-クロロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体を含むことがより好ましい。2,4,5-トリアリールイミダゾール二量体は、その構造が対称であっても非対称であってもよい。C成分の含有量は、A成分及びB成分の総量100質量部に対して0.1~10質量部であることが好ましく、1~7質量部であることがより好ましく、2~6質量部であることが更に好ましく、3~5質量部であることが特に好ましい。この含有量が0.1質量部未満では良好な感度、解像度又は密着性が得られ難くなる傾向があり、10質量部を超えると良好なレジスト形状を得られ難くなる傾向がある。<増感色素>本実施形態の感光性樹脂組成物は、増感色素以下D成分ともいう。を含有することができる。D成分である増感色素としては、例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物及びアミノアクリジン化合物が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。特に、340~430nmの活性光線を用いて感光性樹脂組成物層の露光を行う場合には、感度及び密着性の観点から、D成分は、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、トリアリールアミン化合物、チオキサントン化合物及びアミノアクリジン化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の増感色素を含むことが好ましく、中でもジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物又はトリアリールアミン化合物を含むことがより好ましく、ピラゾリン化合物を含むことがさらに好ましい。D成分の含有量は、A成分及びB成分の総量100質量部に対して0.01~10質量部とすることが好ましく、0.05~5質量部とすることがより好ましく、0.1~3質量部とすることが更に好ましい。この含有量が0.01質量部未満では感度及び解像度が得られ難くなる傾向があり、10質量部を超えると十分に良好なレジスト形状が得られ難くなる傾向がある。上記ピラゾリン化合物としては、下記一般式8又は9で表される化合物が好ましい。一般式8中、R11~R13はそれぞれ独立に炭素原子数1~12の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素原子数1~10の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基又はハロゲン原子を示す。また、a、b及びcはそれぞれ独立に0~5の整数を示し、且つ、a、b及びcの総和は1~6である。a、b及びcの総和が2以上のとき、複数存在するR11~R13は互いに同一でも異なっていてもよい。一般式8中、R11~R13のうち少なくとも一つは、炭素原子数1~12の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基又は炭素原子数1~10の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基であることが好ましく、炭素原子数1~3の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基又は炭素原子数1~3の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基であることがより好ましく、イソプロピル基、メトキシ基又はエトキシ基であることが更に好ましい。一般式8で表されるピラゾリン化合物としては、特に制限なく用いることができるが、具体的には、1-フェニル-3-4-イソプロピルスチリル-5-4-イソプロピルフェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-4-tert-ブチル-スチリル-5-4-tert-ブチル-ピラゾリン、1-フェニル-3-4-メトキシスチリル-5-4-メトキシフェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-3,5-ジメトキシスチリル-5-3,5-ジメトキシフェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-3,4-ジメトキシスチリル-5-3,4-ジメトキシフェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-2,6-ジメトキシスチリル-5-2,6-ジメトキシフェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-2,5-ジメトキシスチリル-5-2,5-ジメトキシフェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-2,3-ジメトキシスチリル-5-2,3-ジメトキシフェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-2,4-ジメトキシスチリル-5-2,4-ジメトキシフェニル-ピラゾリン等の上記一般式8中のa=0に該当するピラゾリン化合物が挙げられる。一般式9中、R14~R16はそれぞれ独立に炭素原子数1~12の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素原子数1~10の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。また、d、e及びfはそれぞれ独立に0~5の整数を示し、且つ、d、e及びfの総和は1~6である。d、e及びfの総和が2以上のとき、複数存在するR14~R16は互いに同一でも異なっていてもよい。一般式9中、R14~R16のうち少なくとも一つは、炭素原子数1~12の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素原子数1~10の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基又はフェニル基であることが好ましく、炭素原子数1~4の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素原子数1~4の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基又はフェニル基であることがより好ましく、tert-ブチル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基又はフェニル基であることが更に好ましい。また、一般式9で表されるピラゾリン化合物としては、特に制限なく用いることができるが、1-フェニル-3,5-ビス4-tert-ブチル-フェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3,5-ビス4-メトキシ-フェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-4-メトキシ-フェニル-5-4-tert-ブチル-フェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-4-tert-ブチル-フェニル-5-4-メトキシ-フェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-4-イソプロピル-フェニル-5-4-tert-ブチル-フェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-4-tert-ブチル-フェニル-5-4-イソプロピル-フェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-4-メトキシ-フェニル-5-4-イソプロピル-フェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-4-イソプロピル-フェニル-5-4-メトキシ-フェニル-ピラゾリン、1,5-ジフェニル-3-4-tert-ブチル-フェニル-ピラゾリン、1,3-ジフェニル-5-4-tert-ブチル-フェニル-ピラゾリン、1,5-ジフェニル-3-4-イソプロピル-フェニル-ピラゾリン、1,3-ジフェニル-5-4-イソプロピル-フェニル-ピラゾリン、1,5-ジフェニル-3-4-メトキシ-フェニル-ピラゾリン、1,3-ジフェニル-5-4-メトキシ-フェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3,5-ビス4-tert-ブチル-フェニル-ピラゾリン、1,5-ジフェニル-3-4-tert-ブチル-フェニル-ピラゾリン等の上記一般式7中のa=0に該当するピラゾリン化合物;1-フェニル-3-4-ビフェニル-5-4-tert-ブチル-フェニル-ピラゾリン、1-フェニル-3-4-ビフェニル-5-4-tert-オクチル-フェニル-ピラゾリン等の上記一般式9中、e=1、R15=フェニル基であるピラゾリン化合物が挙げられる。上記アントラセン化合物としては、下記一般式10で表される化合物を含むことが好ましい。一般式10中、R17及びR18は、それぞれ独立に、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数5~12のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基、炭素原子数2~12のアルカノイル基又はベンゾイル基を示す。R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25及びR26は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~12のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、フェニル基、炭素原子数2~6のアルコキシカルボニル基又はベンゾイル基を示す。上記炭素原子数1~20のアルキル基は、アルキル基の炭素原子数が2~12の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子を有してもよく、水酸基で置換されてもよい。上記炭素原子数5~12のシクロアルキル基は、環の中に酸素原子を有してもよく、水酸基で置換されてもよい。上記R17及びR18中の上記フェニル基は、炭素原子数1~6のアルキル基、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、フェニル基、炭素原子数1~6のアルコキシ基、フェノキシ基、及び炭素原子数2~6のアルコキシカルボニル基からなる群より選ばれる1種以上の基及び/又は原子で置換されていてもよい。上記ベンジル基は、炭素原子数1~6のアルキル基、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、フェニル基、炭素原子数1~6のアルコキシ基、フェノキシ基、及び炭素原子数2~6のアルコキシカルボニル基からなる群より選ばれる1種以上の基及び/又は原子で置換されていてもよい。上記ベンゾイル基は、炭素原子数1~6のアルキル基、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、フェニル基、炭素原子数1~6のアルコキシ基、フェノキシ基及び炭素原子数2~6のアルコキシカルボニル基からなる群より選ばれる1種以上の基及び/又は原子で置換されていてもよい。一般式10中、R17及びR18としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。R17及びR18の組合せとしては、例えば、エチル基同士の組合せ、プロピル基同士の組合せ、ブチル基同士の組合せが挙げられる。R19~R26としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、へキセニル基、ヘプテニル基、エトキシカルボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基、又はフェノキシ基等が挙げられる。R19~R26の組合せとしては、それら全てが水素原子;それらのいずれか1つがメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、へキセニル基、ヘプテニル基、エトキシカルボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基、又はフェノキシ基であって、それ以外の全てが水素原子;それらのいずれか2つがメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、へキセニル基、ヘプテニル基、エトキシカルボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基又はフェノキシ基であり、或いはそれらの組合せであって、それ以外の全てが水素原子、等の組み合わせが挙げられる。上記R17及びR18は炭素原子数1~4のアルキル基であることが好ましく、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25及びR26は水素原子であることが好ましい。一般式10で示される化合物としては、具体的には9,10-ジメトキシアントラセン、9,10-ジエトキシアントラセン、9,10-ジブトキシアントラセン等が挙げられる。上記トリアリールアミン化合物としては、下記一般式11で表される化合物を含むことが好ましい。一般式11中、R27、R28及びR29はそれぞれ独立に、炭素原子数1~10のアルキル基、又は炭素原子数1~4のアルコキシ基を示し、g、h及びiは、ghiの値が1以上となるように選ばれる0~5の整数を示す。なお、gが2以上の場合、複数存在するR27は同一でも異なっていてもよく、hが2以上の場合、複数存在するR28は同一でも異なっていてもよく、iが2以上の場合、複数存在するR29は同一でも異なっていてもよい。<アミン系化合物>アミン系化合物以下E成分ともいう。としては、例えば、ビス[4-ジメチルアミノフェニル]メタン、ビス[4-ジエチルアミノフェニル]メタン及びロイコクリスタルバイオレットが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。感光性樹脂組成物がE成分を含む場合、その含有量は、A成分及びB成分の総量100質量部に対して0.01~10質量部とすることが好ましく、0.05~5質量部とすることがより好ましく、0.1~2質量部とすることが特に好ましい。この含有量が0.01質量部未満では十分な感度が得られ難くなる傾向があり、10質量部を超えると、フィルム形成後、過剰なE成分が異物として析出しやすくなる傾向がある。<その他の成分>本実施形態の感光性樹脂組成物は、必要に応じて、分子内に少なくとも1つのカチオン重合可能な環状エーテル基を有する光重合性化合物オキセタン化合物等、カチオン重合開始剤、マラカイトグリーン等の染料、トリブロモフェニルスルホン、ロイコクリスタルバイオレット等の光発色剤、熱発色防止剤、p-トルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、密着性付与剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤等を含有してもよい。これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。これらの含有量は、A成分及びB成分の総量100質量部に対して、それぞれ0.01~20質量部程度とすることが好ましい。感光性樹脂組成物の溶液本実施形態の感光性樹脂組成物を有機溶剤に溶解して、固形分30~60質量程度の溶液塗布液として用いることができる。有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、N,N-ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びこれらの混合溶剤が挙げられる。上記塗布液を、金属板等の表面上に塗布し、乾燥させることにより、本実施形態の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層を形成することができる。金属板としては、銅、銅系合金、ニッケル、クロム、鉄、ステンレス等の鉄系合金、好ましくは銅、銅系合金、鉄系合金が挙げられる。感光性樹脂組成物層の厚みは、その用途により異なるが、乾燥後の厚みで1~100μm程度であることが好ましい。感光性樹脂組成物層の金属板とは反対側の表面を、保護フィルムで被覆してもよい。保護フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等の重合体フィルムが挙げられる。感光性エレメント図1は、本発明の感光性エレメント1の好適な実施形態を示す模式断面図である。上記感光性樹脂組成物の溶液を、支持フィルム2上に塗布し、乾燥させることにより、支持フィルム上に上記感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層3を形成することができる。このようにして、支持フィルム2と、該支持フィルム上に形成された上記感光性樹脂組成物層3とを備える、本実施形態の感光性エレメント1が得られる。支持フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムを用いることができる。支持フィルム重合体フィルムの厚みは、1~100μmであることが好ましく、5~50μmであることがより好ましく、5~30μmであることが更に好ましい。この厚みが1μm未満であると、支持フィルムを剥離する際に支持フィルムが破れやすくなる傾向があり、100μmを超えると解像度が十分に得られ難くなる傾向がある。感光性エレメント1は、必要に応じて、感光性樹脂組成物層3の支持フィルム2とは反対側の表面を被覆する保護フィルム4を備えてもよい。保護フィルムとしては、感光性樹脂組成物層に対する接着力が、支持フィルムの感光性樹脂組成物層に対する接着力よりも小さいものが好ましく、また、低フィッシュアイのフィルムが好ましい。ここで、フィッシュアイとは、材料を熱溶融し、混練、押し出し、2軸延伸、キャスティング法等によりフィルムを製造する際に、材料の異物、未溶解物、酸化劣化物等がフィルム中に取り込まれたものを意味する。すなわち、低フィッシュアイとは、フィルム中の上記異物等が少ないことを意味する。具体的に、保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムを用いることができる。市販のものとしては、王子製紙株製のアルファンMA-410、E-200、信越フィルム株製等のポリプロピレンフィルム、帝人株製のPS-25等のPSシリーズのポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。なお、保護フィルムは支持フィルムと同一のものでもよい。保護フィルムの厚みは1~100μmであることが好ましく、5~50μmであることがより好ましく、5~30μmであることが更に好ましく、15~30μmであることが特に好ましい。この厚みが1μm未満であると、感光性樹脂組成物層及び保護フィルムを基板上に積層ラミネートする際、保護フィルムが破れやすくなる傾向があり、100μmを超えると廉価性の点で十分でなくなる傾向がある。感光性樹脂組成物の溶液の支持フィルム上への塗布は、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、エアーナイフコート、ダイコート、バーコート等の公知の方法により行うことができる。上記溶液の乾燥は、70~150°Cにて、5~30分間程度行うことが好ましい。乾燥後、感光性樹脂組成物層中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止する観点から、2質量以下とすることが好ましい。感光性エレメントにおける感光性樹脂組成物層の厚みは、用途により異なるが、乾燥後の厚みで1~100μmであることが好ましく、1~50μmであることがより好ましく、5~40μmであることが更に好ましい。この厚みが1μm未満であると、工業的に塗工し難くなる傾向があり、100μmを超えると、密着性及び解像度が十分に得られ難くなる傾向がある。上記感光性樹脂組成物層の紫外線に対する透過率は、波長405nmの紫外線に対して5~75であることが好ましく、10~65であることがより好ましく、15~55であることが特に好ましい。この透過率が5未満であると、十分な密着性が得られ難くなる傾向があり、75を超えると、十分な解像度が得られ難くなる傾向がある。上記透過率は、UV分光計により測定することができる。UV分光計としては、株日立製作所製の228A型Wビーム分光光度計が挙げられる。感光性エレメントは、更にクッション層、接着層、光吸収層、ガスバリア層等の中間層等を有していてもよい。得られた感光性エレメントは、シート状で又は巻芯にロール状に巻き取って保管することができる。ロール状に巻き取る場合、支持フィルムが外側になるように巻き取ることが好ましい。巻芯としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ABS樹脂アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体等のプラスチック等が挙げられる。このようにして得られたロール状の感光性エレメントロールの端面には、端面保護の見地から端面セパレータを設置することが好ましく、耐エッジフュージョンの見地から防湿端面セパレータを設置することが好ましい。梱包方法としては、透湿性の小さいブラックシートに包んで包装することが好ましい。レジストパターンの形成方法上記感光性樹脂組成物を用いて、レジストパターンを形成することができる。本実施形態に係るレジストパターンの形成方法は、i上記感光性樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂組成物層を基板上に積層する積層工程と、ii感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射してその所定部分を露光させ、硬化させる露光工程と、iii感光性樹脂組成物層の上記所定部分以外の部分を基板上から除去することにより、基板上に、感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する現像工程と、を有する。i積層工程まず、感光性樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂組成物層を基板上に積層する。基板としては、絶縁層と該絶縁層上に形成された導体層とを備えた基板回路形成用基板を用いることができる。感光性樹脂組成物層の基板上への積層は、例えば、上記感光性エレメントの保護フィルムを除去した後、感光性エレメントの感光性樹脂組成物層を加熱しながら上記基板に圧着することにより行われる。これにより、基板と感光性樹脂組成物層と支持フィルムとからなり、これらが順に積層された積層体が得られる。この積層作業は、密着性及び追従性の見地から、減圧下で行うことが好ましい。圧着の際の感光性樹脂組成物層及び/又は基板の加熱は、70~130°Cの温度で行うことが好ましく、0.1~1.0MPa程度1~10kgf/cm2程度の圧力で圧着することが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。なお、感光性樹脂組成物層を70~130°Cに加熱すれば、予め基板を予熱処理することは必要ではないが、積層性を更に向上させるために、基板の予熱処理を行うこともできる。ii露光工程次に、基板上の感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射してその所定部分を露光させ、硬化させる。この際、感光性樹脂組成物層上に存在する支持フィルムが活性光線に対して透過性である場合には、支持フィルムを通して活性光線を照射することができるが、支持フィルムが遮光性である場合には、支持フィルムを除去した後に感光性樹脂組成物層に活性光線を照射する。露光方法としては、アートワークと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを通して活性光線を画像上に照射する方法マスク露光法が挙げられる。また、LDILaserDirectImaging露光法やDLPDigitalLightProcessing露光法等の直接描画露光法により活性光線を画像状に照射する方法を採用してもよい。本発明の感光性樹脂組成物は、直接描画露光方法に好適に使用することができる。即ち、本発明の好適な実施形態の一つは、分散度が1.6以下のバインダーポリマーと、ペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物及びジペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物の直接描画露光法への応用である。活性光線の光源としては、公知の光源を用いることができ、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、アルゴンレーザ等のガスレーザ、YAGレーザ等の固体レーザ、半導体レーザ等の紫外線、可視光等を有効に放射するものが用いられる。活性光線の波長露光波長としては、本発明の効果をより確実に得る観点から、340~430nmの範囲内とすることが好ましく、350~420nmの範囲内とすることがより好ましい。iii現像工程さらに、感光性樹脂組成物層の上記所定部分以外の部分を基板上から除去することにより、基板上に、感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する。感光性樹脂組成物層上に支持フィルムが存在している場合には、支持フィルムを除去してから、上記所定部分露光部分以外の部分未露光部分の除去現像を行う。現像方法には、ウェット現像とドライ現像とがあるが、ウェット現像が広く用いられている。ウェット現像による場合、感光性樹脂組成物に対応した現像液を用いて、公知の現像方法により現像する。現像方法としては、ディップ方式、バトル方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピング、スクラッピング、揺動浸漬等を用いた方法が挙げられ、解像度向上の観点からは、高圧スプレー方式が最も適している。これら2種以上の方法を組み合わせて現像を行ってもよい。現像液としては、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤系現像液等が挙げられる。アルカリ性水溶液は、現像液として用いられる場合、安全且つ安定であり、操作性が良好である。アルカリ性水溶液の塩基としては、例えば、リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ;リチウム、ナトリウム、カリウム又はアンモニウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ;リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩;ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩が用いられる。アルカリ性水溶液としては、0.1~5質量炭酸ナトリウムの希薄溶液、0.1~5質量炭酸カリウムの希薄溶液、0.1~5質量水酸化ナトリウムの希薄溶液、0.1~5質量四ホウ酸ナトリウムの希薄溶液等が好ましい。アルカリ性水溶液のpHは9~11の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光性樹脂組成物層のアルカリ現像性に合わせて調節される。アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。水系現像液は、例えば、水又はアルカリ性水溶液と1種以上の有機溶剤とからなる現像液である。ここで、アルカリ性水溶液の塩基としては、先に述べた物質以外に、例えば、ホウ砂やメタケイ酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、エタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、2-アミノ-2-ヒドロキシメチル-1,3-プロパンジオール、1,3-ジアミノ-2-プロパノール及びモルホリンが挙げられる。水系現像液のpHは、現像が十分に行われる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、pH8~12とすることが好ましく、pH9~10とすることがより好ましい。水系現像液に用いる有機溶剤としては、例えば、アセトン、酢酸エチル、炭素原子数1~4のアルコキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル及びジエチレングリコールモノブチルエーテルが挙げられる。これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。水系現像液における有機溶剤の濃度は、通常、2~90質量とすることが好ましく、その温度は、アルカリ現像性に合わせて調整することができる。水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入することもできる。有機溶剤系現像液としては、例えば、1,1,1-トリクロロエタン、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ-ブチロラクトン等の有機溶剤が挙げられる。これらの有機溶剤には、引火防止のため、1~20質量の範囲で水を添加することが好ましい。未露光部分を除去した後、必要に応じて60~250°C程度の加熱又は0.2~10J/cm2程度の露光を行うことにより、レジストパターンを更に硬化してもよい。プリント配線板の製造方法上記方法によりレジストパターンが形成された基板をエッチング又はめっきすることにより、プリント配線板を製造することができる。基板のエッチング又はめっきは、形成されたレジストパターンをマスクとして、基板の導体層等に対して行われる。エッチングを行う場合のエッチング液としては、例えば、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液及び過酸化水素エッチング液が挙げられ、これらの中では、エッチファクタが良好な点から塩化第二鉄溶液を用いることが好ましい。めっきを行う場合のめっき方法としては、例えば、硫酸銅めっき、ピロリン酸銅めっき等の銅めっき、ハイスローはんだめっき等のはんだめっき、ワット浴硫酸ニッケル-塩化ニッケルめっき、スルファミン酸ニッケル等のニッケルめっき、ハード金メッキ、ソフト金メッキ等の金メッキが挙げられる。エッチング又はめっき終了後、レジストパターンは、例えば、現像に用いたアルカリ性水溶液より更に強アルカリ性の水溶液により剥離することができる。この強アルカリ性の水溶液としては、例えば、1~10質量水酸化ナトリウム水溶液、1~10質量水酸化カリウム水溶液等が用いられる。なかでも、1~10質量水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液を用いることが好ましく、1~5質量水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液を用いることがより好ましい。レジストパターンの剥離方式としては、浸漬方式、スプレー方式等が挙げられ、これらは単独で用いても併用してもよい。また、レジストパターンが形成されたプリント配線板は、多層プリント配線板でもよく、小径スルーホールを有していてもよい。本実施形態の感光性樹脂組成物は、プリント配線板の製造に好適に使用することができる。即ち、本発明の好適な実施形態の一つは、分散度が1.6以下のバインダーポリマーと、ペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物及びジペンタエリスリトール由来の骨格を有するメタアクリレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物のプリント配線板の製造への使用である。より好適な実施形態としては、高密度パッケージ基板の製造への使用である。以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。感光性樹脂組成物の溶液の調製表2及び表3に示すA~E成分を、同表に示す配合量gで混合することにより、実施例1~15及び比較例1~12の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。表2及び表3に示すA成分の配合量は不揮発分の質量固形分量である。表2及び表3に示す各成分の詳細については、以下のとおりである。<Aバインダーポリマー>[バインダーポリマーA-1及びA-2]バインダーポリマーA-1及びA-2としては、リビングラジカル重合精密重合により合成したものを使用した。合成手法としては、例えば、特開2009-19165公報に記載の手法が挙げられる。[バインダーポリマーA-3の合成]重合性単量体モノマーであるメタクリル酸150g、メタクリル酸ベンジル125g、メタクリル酸メチル25g及びスチレン200g質量比30/25/5/40と、アゾビスイソブチロニトリル9.0gとを混合して得た溶液を溶液aとした。メチルセロソルブ60g及びトルエン40gの混合液質量比3:2100gに、アゾビスイソブチロニトリル1.2gを溶解して得た溶液を溶液bとした。撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロート及び窒素ガス導入管を備えたフラスコに、メチルセロソルブ270g及びトルエン180gの混合液質量比3:2450gを投入し、フラスコ内に窒素ガスを吹き込みつつ撹拌しながら加熱し、80°Cまで昇温させた。フラスコ内の上記混合液に、上記溶液aを4時間かけて滴下した後、撹拌しながら80°Cにて2時間保温した。次いで、フラスコ内の溶液に、上記溶液bを10分間かけて滴下した後、フラスコ内の溶液を撹拌しながら80°Cにて3時間保温した。さらに、フラスコ内の溶液を30分間かけて90°Cまで昇温させ、90°Cにて2時間保温した後、冷却してバインダーポリマーA-3の溶液を得た。バインダーポリマーA-3の不揮発分固形分は47.8質量であり、重量平均分子量は40000であり、酸価は196mgKOH/gであった。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法GPCによって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。GPCの条件を以下に示す。GPC条件ポンプ:日立L-6000型株日立製作所製、製品名カラム:GelpackGL-R420、GelpackGL-R430、GelpackGL-R440以上、日立化成工業株製、製品名溶離液:テトラヒドロフラン測定温度:40°C流量:2.05mL/分検出器:日立L-3300型RI株日立製作所製、製品名[バインダーポリマーA-4~A-8の合成]重合性単量体モノマーとして、表1に示す材料を同表に示す質量比で用いたほかは、バインダーポリマーA-3の溶液を得るのと同様にしてバインダーポリマーA-4~A-8の溶液を得た。バインダーポリマーA-1~A-8における、重合性単量体モノマーの質量比、酸価、重量平均分子量及び分散度を表1に示す。<B光重合性化合物>A-DPH-12E新中村化学工業株製、サンプル名:EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートエチレンオキサイド平均12mol付加物A-DPH-6P新中村化学工業株製、サンプル名:PO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートプロピレンオキサイド平均6mol付加物ATM-4新中村化学工業株製、サンプル名:EO変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートエチレンオキサイド平均4mol付加物ATM-35新中村化学工業株製、製品名:EO変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートエチレンオキサイド平均35mol付加物ATM-20B新中村化学工業株製:BO変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートブチレンオキサイド平均20mol付加物ATM-20E6P6B新中村化学工業株製:EOPOBO変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートエチレンオキサイド平均20mol、プロピレンオキサイド平均6mol、ブチレンオキサイド平均6mol付加物PET-9E:EO変性ペンタエリスリトールトリアクリレートエチレンオキサイド平均9mol付加物PET-6E3P:EOPO変性ペンタエリスリトールトリアクリレートエチレンオキサイド平均6mol、プロピレンオキサイド平均3mol付加物PET-6E3B:EOBO変性ペンタエリスリトールトリアクリレートエチレンオキサイド平均6mol、ブチレンオキサイド平均3mol付加物FA-321M日立化成工業株製、製品名:2,2-ビス4-メタクリロキシペンタエトキシフェニルプロパンFA-024M日立化成工業株製、製品名:上記一般式6において、R7及びR8=メチル基、r3=6平均値、s2s3=12平均値であるビニル化合物FA-023M日立化成工業株製、製品名:上記一般式5において、R5及びR6=メチル基、r1r2=6平均値、s1=12平均値であるビニル化合物TMPT21E日立化成工業株製、サンプル名:EO変性トリメチロールプロパントリメタクリレートエチレンオキサイド平均21mol付加物M-114東亞合成株製、製品名:4-ノルマルノニルフェノキシオクタエチレングリコールアクリレートAPG-400新中村化学工業株製、製品名:ポリプロピレングリコール400ジアクリレートプロピレンオキサイド平均7mol付加物APG-700新中村化学工業株製、製品名:ポリプロピレングリコール700ジアクリレートプロピレンオキサイド平均12mol付加物<C光重合開始剤>B-CIMHampford社製、製品名:2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビスイミダゾール<D増感色素>PYR-1株日本化学工業所製:1-フェニル-3-4-メトキシスチリル-5-4-メトキシフェニルピラゾリンDBA川崎化成工業株製、製品名:9,10-ジブトキシアントラセンEAB保土ヶ谷化学工業株製、製品名:4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノンJ205日本蒸溜工業株製、製品名:下記式11aで表されるトリフェニルアミン誘導体<Eアミン系化合物>LCV山田化学株製、製品名:ロイコクリスタルバイオレット<染料>MKG大阪有機化学工業株製、製品名:マラカイトグリーン感光性エレメント上記感光性樹脂組成物の溶液を、それぞれ厚さ16μmのポリエチレンテレフタレートフィルム帝人株製、製品名HTF-01上に均一に塗布し、70°C及び110°Cの熱風対流式乾燥器で乾燥して、乾燥後の膜厚が25μmである感光性樹脂組成物層を形成した。この感光性樹脂組成物層上に保護フィルムタマポリ株製、製品名NF-15を貼り合わせ、ポリエチレンテレフタレートフィルム支持フィルムと、感光性樹脂組成物層と、保護フィルムとが順に積層された感光性エレメントを得た。積層基板ガラスエポキシ材と、その両面に形成された銅箔厚さ16μmとからなる銅張積層板日立化成工業株製、製品名MCL-E-679Fの銅表面を、メック株社製CZ処理液で粗化した。この粗化銅基板以下、基板という。を加熱して80°Cに昇温させた後、実施例1~15及び比較例1~12に係る感光性エレメントを、基板の銅表面にラミネート積層した。ラミネートは、保護フィルムを除去しながら、各感光性エレメントの感光性樹脂組成物層が基板の銅表面に密着するようにして、温度120°C、ラミネート圧力4kgf/cm2の条件下で行った。このようにして、基板の銅表面上に感光性樹脂組成物層及びポリエチレンテレフタレートフィルムが積層された積層基板を得た。感度の評価得られた積層基板を放冷し、23°Cになった時点で、積層基板のポリエチレンテレフタレートフィルム上に、濃度領域0.00~2.00、濃度ステップ0.05、タブレットの大きさ20mm×187mm、各ステップの大きさが3mm×12mmである41段ステップタブレットを有するフォトツールを密着させた。波長405nmの青紫色レーザダイオードを光源とする日立ビアメカニクス社製直描機DE-1UH製品名を使用して、80mJ/cm2のエネルギー量露光量でフォトツール及びポリエチレンテレフタレートフィルムを介して感光性樹脂組成物層に対して露光を行った。なお、照度の測定は、405nm対応プローブを適用した紫外線照度計ウシオ電機株製、製品名UIT-150を用いて行った。露光後、積層基板からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、感光性樹脂組成物層を露出させ、1質量炭酸ナトリウム水溶液を30°Cにて50秒間スプレーすることにより、未露光部分を除去した。このようにして、基板の銅表面上に感光性樹脂組成物の硬化物からなる硬化膜を形成した。硬化膜として得られたステップタブレットの残存段数ステップ段数を測定することにより、感光性樹脂組成物の感度を評価した。感度は、上記ステップ段数により示され、この段数が高いほど感度が良好であることを意味する。結果を表5及び表6に示す。解像度及び密着性の評価ライン幅L/スペース幅S以下、L/Sと記す。が3/3~30/30単位:μmである描画パターンを用いて、41段ステップタブレットの残存段数が16段となるエネルギー量で上記積層基板の感光性樹脂組成物層に対して露光描画を行った。露光後、上記感度の評価と同様の現像処理を行った。現像後、スペース部分未露光部分がきれいに除去され、且つライン部分露光部分が蛇行や欠けを生じることなく形成されたレジストパターンにおけるライン幅/スペース幅の値のうちの最小値により、解像度及び密着性を評価した。この数値が小さいほど解像度及び密着性が共に良好であることを意味する。結果を表5及び表6に示す。レジスト形状の評価上記解像度及び密着性の評価において、得られたレジスト形状レジストパターンの断面形状を日立走査型電子顕微鏡S-500Aを用いて観察した。レジスト形状が台形又は逆台形である場合や、レジストの裾引き又はクラックがある場合には、その後のエッチング処理又はめっき処理により形成された回路に短絡や断線が生じやすくなる傾向がある。従って、レジスト形状は矩形長方形で、且つレジストの裾引き又はクラックがないことが望ましい。なお、クラックとは、レジストパターンのライン部分露光部分に、ひびや亀裂が生じ、あるいはそれに伴いライン部分に欠けや断裂が生じたことを意味する。レジスト形状が矩形で、且つレジストの裾引き又はクラックがない場合をA、レジストの裾引きが見られた場合をBとして評価した。結果を表5及び表6に示す。剥離特性の評価各感光性エレメントを上記銅張積層板基板上に積層し、表4に示す条件で露光及び現像を行うことにより、基板上に硬化膜が形成された試験片40mm×50mmを作製した。この試験片を室温で一昼夜放置した後、表4に示す条件で剥離を行った。撹拌開始から、硬化膜が基板から完全に剥離除去されるまでの時間を剥離時間秒とした。また、剥離後の剥離片のサイズを目視にて観察し、以下の基準で評価した。剥離時間が短く、剥離片サイズが小さいほど剥離特性が良好であることを意味する。結果を表5及び表6に示す。剥離片サイズL:シート状M:30~40mm角S:30mm角より小さいテント信頼性の評価1.6mm厚の銅張積層板に直径4mmの穴が3個連なって空いてある図2に示す穴破れ数測定用基板上に、実施例及び比較例で作製した感光性エレメントを温度120°C、ラミネート圧力4kgf/cm2の条件下でラミネートした。ラミネートは、保護フィルムを除去しながら、感光性エレメントの感光性樹脂層が穴破れ数測定用基板面に密着するようにして行った。次いで、現像後の残存ステップ段数が16.0段となるエネルギー量で露光を行い、露光後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし、50秒の現像を2回行った。現像後、図2に示した箇所合計18個の3連φ4mm穴の穴破れ個数を測定し、異形テント破れ率として評価し、これをテント信頼性とした。異形テント破れ率=穴破れ数個/18個×100スカム発生性の評価未露光の感光性樹脂組成物層からなるフィルム0.5m2を1Lの1質量炭酸ナトリウム水溶液に溶解し、その溶液を30°C、90分間スプレー現像機で循環させた。2分間放置後、現像機の壁面に付着した油状生成物を観察し、以下に示す基準によりスカム発生性を評価した。数字が大きいほうが特性上好ましい。4:油状生成物無し3:油状生成物微量2:油状生成物少量1:油状生成物多量耐めっき性の評価上記積層基板からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、感光性樹脂組成物層を露出させ、現像後の残存ステップ段数が16.0段となるエネルギー量で露光を行い、1質量炭酸ナトリウム水溶液で現像した。次いで、脱脂液メルテックス社製、製品名PC-455、25質量に5分間浸漬→水洗→ソフトエッチ液過硫酸アンモニウム150g/Lに2分間浸漬→水洗→10質量硫酸に1分間浸漬の順で前処理を行い、硫酸銅めっき浴硫酸銅75g/L、硫酸190g/L、塩素イオン50ppm、メルテックス社製、製品名カパーグリームPCM5mL/Lに入れ、硫酸銅めっきを室温、2A/dm2で40分間行い、その後水洗した。その後、水洗、乾燥し、耐めっき性耐薬品性を調べるために、直ちにセロテープ登録商標を貼り、これを垂直方向に引き剥がして90°ピールオーフ試験、レジストの剥がれの有無を観察した。また、レジスト剥離後、上方から光学顕微鏡で、銅めっきのもぐりの有無を観察した。銅めっきのもぐりを生じた場合、透明なレジストを介して、その下部にめっきにより析出した銅めっきが観察される。表5及び表6から明らかなように、実施例1~15の感光性樹脂組成物は、感度、解像度、密着性、レジスト形状、テント信頼性、硬化後の剥離特性、耐スカム発生性及び耐薬品性がいずれも良好なものであった。"