少なくとも1つの電界を接着細胞に与えるための方法であって、電圧を少なくとも2つの活性電極48、56、63に印加することにより電界を発生させ、少なくとも3つの電極48、49、56、57、63、64が設けられる、方法において、第1の電界を発生させるために電圧を印加するときに、少なくとも2つの電極を活性電極48、63とし、少なくとも第2の電界を発生させ、かかる場合、電圧を印加するときに、前記2つの以前に活性だった電極48、63の少なくとも1つを浮遊電極57、64とすることを特徴とする、方法。更なる電界の発生中に必要なだけ多くの電界を発生させて、前記第1の電界が発生したときに以前に活性だったすべての電極48、63を少なくとも一度浮遊電極57、64にすることを特徴とする、請求項1に記載の方法。各電界を少なくとも1つの電圧パルス、好ましくは少なくとも2つの電圧パルスにより発生させ、及び/又は少なくとも2つの電界をそれぞれ少なくとも1つの電圧パルスにより発生させ、前記電圧パルス間の時間差が少なくとも500ms、好ましくは少なくとも1s、特に1~10sであることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。電界がそれぞれ接着細胞に与えられる複数の反応空間が設けられ、1つの反応空間内で2つの電界を発生させるための2つの電圧パルス間の時間差を使用して、少なくとも1つの更なる反応空間内に少なくとも1つの電界を発生させることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。前記電極48、49、56、57、63、64と前記接着細胞とが互いに分離され、前記細胞と前記電極48、49、56、57、63、64との間の距離が実験的に求められる値に調節されることを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。少なくとも1つの切換装置59、60、61、62を介して少なくとも1つの電圧源に接続された少なくとも3つの電極63、64を備えた、特に請求項1~5のいずれか一項に記載の方法を実施するための装置58において、少なくとも5つの電極63、64が4つの前記切換装置59、60、61、62を介して少なくとも1つの電圧源に接続され、少なくとも2つの電極63、64が、共有切換装置59、60、61、62を介して電圧源に接続されることを特徴とする、装置。電極63、64の2つの群が設けられ、前記群の各々が2つの前記共有切換装置59、60、61、62を介して前記電圧源に接続されることを特徴とする、請求項6に記載の装置。前記群の各々が少なくとも2つの電極63、64を備えることを特徴とする、請求項7に記載の装置。合計で少なくとも7個、好ましくは9~21個の電極63、64が設けられることを特徴とする、請求項6~8のいずれか一項に記載の装置。前記電極63、64が、少なくとも1つの反応空間に挿入するために設けられることを特徴とする、請求項6~9のいずれか一項に記載の装置。前記反応空間はマルチウェルプレートの一部であることを特徴とする、請求項10に記載の装置。少なくとも2つの電極68、69をそれぞれ備えた少なくとも2つの電極配列体65、66、74、75、77、78に接触するための装置であって、前記2つの電極配列体65、66、74、75、77、78が異なる寸法を有し、前記電極配列体65、66、74、75、77、78の前記電極68、69に電気接触可能な接触要素を備える装置において、前記異なる電極配列体65、66、74、75、77、78の前記電極68、69にそれぞれ接触可能となるように、少なくとも1つの接触要素が配置されていることを特徴とする、装置。前記異なる電極配列体65、66、74、75、77、78の前記電極68、69の少なくとも50、好ましくは少なくとも60、特に少なくとも70が前記接触要素によりそれぞれ接触可能となるように、前記接触要素の少なくとも一部が配置されていることを特徴とする、請求項12に記載の装置。前記接触要素及び/又は前記電極68、69が面内に、1つの軸を中心として旋回可能に配置されることを特徴とする、請求項12又は13に記載の装置。少なくとも1つの電界を接着細胞に与えるための、特に接着細胞の電気穿孔及び電気融合のための、請求項6~11又は12~14のいずれか一項に記載の装置の使用。本発明の目的は、電界を使用して接着細胞の効率的且つ均一な処理を可能にする方法及び装置を提供することである。本発明によれば、目的は、初めに述べた方法により達成される。すなわち、第1の電界を発生させるために電圧を印加するときに、少なくとも2つの電極を活性電極とし、また、少なくとも第2の電界を発生させ、かかる場合、電圧を印加するときに、2つの以前に活性だった電極の少なくとも1つを浮遊電極とする。例えば、第1の電極が活性、すなわち、陽極又は陰極であれば、電圧パルスを細胞に印加するときに、この電極下の電界が最小の強度を有するため、この電極下に直角に位置する細胞は十分に電気的処理されない。したがって、本発明によれば、第2の電界を発生させ、前記第1の電極が浮遊不活性となる。すなわち、電界は、電圧を少なくとも2つの異なる電極に印加することにより発生する。したがって、これにより、第2の電圧パルス中に、前記第1の電極下の領域にも電界が印加される。この結果、本発明の方法によって、第1の電圧パルス中に電界に晒されなかった細胞も、確実に十分に電気的処理される。本発明の方法により、電界が低い領域の数を効果的に最小にすることができるため、各プロセス、例えばエレクトロトランスフェクション又は電気融合の効率を最適化することができる。したがって、本発明の方法は、電界による接着細胞の効率的且つ均一な処理を確実に行うのに適しているという利点がある。好ましくは、更なる電界の発生中に必要なだけ多くの電界を発生させて、第1の電界が発生したときに以前に活性だったすべての電極を少なくとも一度浮遊電極にする。このようにして、電界に晒されていない領域が電極下に確実にないようにする。したがって、この最適な場合に、すべての細胞が電界により均一に処理されて、各プロセス、例えばエレクトロトランスフェクション又は電気融合において、最大の効率を確保することができる。本発明の別の好ましい実施形態では、各電界を、少なくとも1つの電圧パルス、好ましくは少なくとも2つの電圧パルスによりそれぞれ発生させる。本発明によれば、各電界を、単一電圧パルス、又は少なくとも2つ若しくは多くの短期間続く電圧パルス若しくは合成サブ電圧パルスにより発生させることができる。これにより、1又は複数の電荷蓄積、好ましくは1つのキャパシタ又は少なくとも2つのキャパシタを放電させることにより、サブパルスを発生させることができる。好ましくは、電界を発生させる各電圧パルスが、短い高電圧パルスと比較的低電圧の長いパルスとから構成された二重パルスである。このような二重パルスを、例えば、2つのキャパシタを続けて、一方を他方の直後に放電することにより発生させることができ、途切れることなく両サブパルスを合成することができる。例えば、第1の電荷蓄積ユニットは、少なくとも10μF、好ましくは少なくとも50μF、特に少なくとも100μFの静電容量を有することができ、及び/又は2μs~40ms、好ましくは5μs~20ms、特に10μs~10msのパルス長で、10~1500V、好ましくは20~1200V、特に50~1000Vの初期電圧で放電され得る。第1の電荷蓄積ユニットの放電が終了する直前、同時、又は直後に、例えば、少なくとも100μF、好ましくは少なくとも500μF、特に少なくとも1000μFの静電容量を有する第2の電荷蓄積ユニットを、例えば、1ms~500ms、好ましくは2ms~350ms、特に4ms~250msのパルス長で、例えば10~240V、好ましくは20~200V、特に50~150Vの初期電圧で放電することができる。付随して、又は代わりに、少なくとも2つの電界をそれぞれ少なくとも1つの電圧パルスにより発生させることができ、電圧パルス間の時間差は、少なくとも500ms、好ましくは少なくとも1s、特に1~10sである。驚いたことに、本発明に定義されたようにそれぞれ電界を発生させる電圧パルスサブパルスではない間の時間差は、細胞の生存率を安定させ、及び/又はプロセスの高効率を確保するように、比較的大きくなければならない。これにより、前述したように、各単一電圧パルスを複数の、すなわち、少なくとも2つのサブパルスから構成することができる。本発明の更なる好ましい実施形態では、電界がそれぞれ接着細胞に印加される複数の反応空間が設けられ、1つの反応空間内で2つの電界を発生させるための2つの電圧パルス間の時間差を使用して、少なくとも1つの更なる反応空間内に少なくとも1つの電界を発生させる。本発明のこの実施形態は、多くの試料を非常に短時間で処理しなければならないとき、すなわち、特に高処理量プロセスにおいて特に有利である。前述したように、各反応空間内で電界を発生させるための単一電圧パルスは、比較的長い時間距離を互いに有することができる。多くの試料を処理する場合、これにより、プロセス時間が非常に長くなる。本発明によれば、単一電圧パルスが、これにより、処理すべき異なる反応空間に関して好ましくは入れ子状に発生し、1つの反応空間内において2つの電界が発生する間のむだ時間を使用して、少なくとも1つの更なる反応空間内で少なくとも1つの電界を発生させることができる。このようにして、例えば24ウェル細胞培養プレートのすべての反応空間を処理する際に、全プロセス時間をかなり短くすることができる。更に、この手法により、処理前及び/又は処理後の培養時間が異なるため、異なる反応空間における試料間に相違が生じる危険が低下する。例えば、24ウェルプレートの単一反応空間内の細胞をより長時間にわたって連続して処理する場合には、第1の反応空間内の試料が、処理後に比較的長い培養時間を経るとともに、最後に処理された試料が、処理前に長い培養時間を経なければならない。これは、単一反応空間内の処理効率に悪影響を与え、最終的に単一試料に異なる結果をもたらすことになり得る。逆に、異なる反応空間の入れ子処理によって、より均一になるため、異なる培養時間を最小にすることで、より再現可能な結果及び効率が得られる。本発明の特に好ましい実施形態では、更に、電極と接着細胞とが互いに分離され、細胞と電極との距離が実験的に求められる値に調節される。好ましくは、活性電極間及び浮遊電極下の電界強度がそれぞれ最適化されるように、距離が調節される。距離が大きくなると電束線の密度が低下するため、距離が大きくなるときに容器の底部領域の有効電界が減少することが示される。技術的に、この効果は、印加される電圧を増加させることにより、すなわち電流密度を増加させることにより補償され得る。しかし、これにより、技術的労力が増え、雷放電の危険も高まる。距離が小さすぎても、底面のわずかなむらによって電界が不均一になり、再現性のない結果となるため意味がない。このような状況で考慮しなければならないのは、距離が大きくなると活性電極間の電界強度が低下し、距離が増減すると、浮遊電極下の電界強度が中距離で最大値に到達する、すなわち、この最大値に基づいて低下することである。したがって、プロセスの条件に応じて、浮遊電極下の電界強度がほぼ最大値に到達し、同時にできるだけ高い活性電極間の値に到達するように、電極と細胞との間の距離を調節しなければならない。この最適距離は、反応空間の形状、使用する緩衝液の種類、電極の形状及びサイズ、並びに電気パラメータ等の異なる条件について実験的に求めなければならない。本発明によれば、目的は、初めに述べた装置、特に、本発明の方法を達成するための装置により達成される。すなわち、少なくとも5つの電極が4つの切換装置を介して少なくとも1つの電圧源に接続され、少なくとも2つの電極が、共有切換装置を介して電圧源に接続される。この特に有利な構成により、すべての電極を活性又は不活性浮遊電極として動作させることができる。本発明の装置において電極をグループ化し、切換装置の数を限定することにより、技術的及び構造的労力を最小限にして、干渉が起こりにくい経済的な装置を提供する。前述した方法に関連して、本発明の装置は、電界を使用して接着細胞の効率的且つ均一な処理を可能にするものであり、少数の切換装置を使用して、迅速且つ確実に活性電極と浮遊電極とを切り換えることができる。本発明の装置の特に有利な実施形態では、電極の2つの群が設けられ、各群が2つの共有切換装置を介して電圧源に接続される。これにより、比較的多くの電極を4つの切換装置のみで制御することができる。すなわち、電極の両方の群を活性又は不活性浮遊として動作させることができる。ここで、各群は、好ましくは少なくとも2つの電極、好ましくは少なくとも3つの電極、特に好ましくは少なくとも4つの電極を備える。本発明の好ましい実施形態では、合計で少なくとも7個、好ましくは9~21個の電極が設けられる。例えば、本発明によれば、第1の群が8個の電極を備え、第2の群が9個の電極を備える構成を使用することができる。本発明の装置の有利な実施形態では、電極が少なくとも1つの反応空間に挿入するために設けられる。すなわち、適切な場合には、この電極を、例えば、ユニットとして構成し設計して、電極を上方から細胞培養容器に挿入して内部の細胞培地に浸漬するようにしてもよい。反応空間の底部に接着する細胞上方に、電極を有利な方法で配置することができる。好ましくは、反応空間はマルチウェルプレートの一部であり、本発明の装置により同等の条件で複数の試料を処理するようになっている。切換装置は、例えば、電力半導体、好ましくはIGBT若しくはMOSFET、又は電気機械装置、好ましくはリレーとすることができる。本発明によれば、目的は、初めに述べた、少なくとも2つの電極配列体に接触するための装置により達成される。すなわち、少なくとも1つの接触要素が、異なる電極配列体の電極にそれぞれ接触可能となるように配置される。これにより、1又は複数の接触要素の構成が有利な方法で実行されて、接触要素は、寸法の異なる少なくとも2つの電極配列体の電極に接触する位置を取る。したがって、例えば、サイズの異なる細胞培養プレート、例えば、6ウェルプレート及び24ウェルプレート並びに/又は12ウェルプレート及び48ウェルプレートの電極配列体に、非常に少数の接触要素を接触させることができ、装置の一部について構造的労力が減る。いずれの場合にも、本発明の装置を使用すると、材料が節約され、構造的労力が全体的に最小限になる。本発明の装置の特に有利な実施形態では、異なる電極配列体の電極の少なくとも50、好ましくは少なくとも60、特に少なくとも70が接触要素によりそれぞれ接触可能となるように、接触要素の少なくとも一部が配置される。最適な場合には、電極配列体が、異なるプレート寸法について同一となる。しかし、電極配列体の形状によってこれを可能とすべきでない場合、本発明の装置により、異なる電極配列体の電極の少なくとも半分を共有接触要素によりそれぞれ接触させることができる。したがって、装置の一部に必要な接触要素の数を全体的に大きく減少させることができる。好ましくは、接触要素及び/又は電極が面内に、1つの軸の周りを旋回可能に配置されて、各反応空間及び/又は対応する電極配列体に適した接触要素の配列体を、例えば180°回転させることにより正しい位置に配置させるようになっている。本発明は更に、少なくとも1つの電界を接着細胞に印加するため、特に接着細胞の電気穿孔及び電気融合のための、本発明の装置の使用に関する。図面を参照しながら、本発明について更に例示的に説明する。図1は、本発明の電極配列体1を示し、電極配列体1は、容器7の内部空間6内へ延びる3つの同一平面電極2、3、4を備える。容器7は、生細胞が接着して増殖し得る接着細胞底部領域8を備える。内部空間6は、通常、液体、例えば、細胞培地又は細胞に適合させた別の溶液で満たされる。電極2、3、4間の空間は、絶縁材料5で完全に満たされ、電圧が電極2、3、4に印加されても、電極2、3、4間の空間を介して電流が流れることができないようになっている。本発明の装置では、電流全体が電極2、3、4と底部領域8との間の空間を通って流れ、非永久電圧源例えばキャパシタを使用する場合には電圧がゆっくりと降下するため、細胞を処理するための電界強度が時間とともに高くなる。その結果、一方では、パルスを発生させるための装置を経済的な大きさにすることができ、他方では、電気分解により生じる大量の給気流量によって誘導され得る液体のpH値のより強い変化を避けることができる。本明細書に示す例示的な実施形態では、同一平面電極2、3、4が絶縁材料5により互いに分離されて、電極2、3、4の導電面が下方底部領域15又は底部領域15に接着する細胞側にのみ露出され、周囲環境と電気接触する。平行線で示される、同一平面電極2、3、4の対向配置された領域9間の領域、又は少なくとも電極間で液体に晒される領域に、絶縁材料5が完全に延びているため、電界を集中させることができ、又は電流を対象の作用半径に限定することができる。更に、目標細胞の領域に電界を集中させること、又は電流を作用半径に限定することは、同一平面電極2、3、4の使用により可能となり、電極2、3、4と底部領域8との間の目標領域で、一定のより安定した電界強度及び電流密度が提供されることは特に有利である。したがって、適切な絶縁材料は、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリスチロール、ポリプロピレン、ポリエチレン、又はポリカーボネート等の一般的な、好ましくは熱可塑性合成材料から形成された板、又は射出成形物である。本発明の構成により、電極2、3、4の同一平面部分の各対向領域9を通る電流の漏れを避けることができるため、一定の電流の電圧パルスが発生する。したがって、例えば、放電に従って必要な電力を制限する低エネルギー/電流の1又は複数の連続したパルス放電により、処理すべき細胞の培養床の面積に応じた反応に従って、本発明の構成を適用することができる。例えば、電極の極を交互にした、電極と絶縁体とのサンドイッチ構造を使用してもよい。このような構成では、活性電極下の領域の電界は実際には存在しないため、活性電極下の領域に位置する細胞には何の影響もない。このような領域は、導電体電極、及びしたがって相当な電界の外側に非常に近接している。活性領域、すなわち、十分な電界を有する領域は、反対の極を有する電極間にある領域のみである。電界に晒されていない電極下の領域を最小にするために、電極を、例えばできるだけ薄く例えば50μm設計して、細胞が一面に増殖した底部領域のより大きい領域を、電極と絶縁体との組合せの活性領域を有する電極配列体により覆う。しかし、電極の厚さを小さくすることが妥当でなく技術的に実行可能でなく、このような寸法の効果が制限される場合も多い。したがって、本発明によれば、第1の電圧パルス後に、少なくとも1つの更なる電圧パルスにより電極2、3、4と底部領域8との間の空間に、少なくとも1つの更なる電界を発生させる。本発明によれば、以前に活性だった電極の少なくとも1つがこの場合浮遊となり、更にこれにより、第2の電界も、不活性となった電極下の領域内で細胞に作用することができる。したがって、図1に示す例示的な実施形態において、例えば、第1の電圧パルス中に、中央の電極3が活性であり、すなわち、電圧又はグラウンド-に接続されていた場合、この電極3は、第2の電圧パルス中に浮遊不活性となることができ、第2の電圧パルス中に活性である電極2、4間に同時に位置する電極3下の領域であっても、十分な電界に晒すことができる。このようにして、底部領域8をより均一に露出することができるため、より多数の細胞を効果的に電気的処理することができる。図2は、4つの電極11、12、13、14を有する本発明の例示的な装置の代替電極配列体10を示す。電極配列体10は、図1による電極配列体1にほぼ対応しているが、容器17の内部空間16内へ延びる4つの同一平面電極11、12、13、14を備える点が異なる。容器17は、生細胞が接着して増殖し得る接着細胞底部領域18を備える。電極11、12、13、14間の空間は、それぞれ絶縁材料15で完全に満たされ、電圧が電極11、12、13、14に印加されても、電極11、12、13、14間の空間を介して電流が流れることができないようになっている。本発明によれば、例えば、第1の電圧パルスが印加されると電極11、13が活性になり、電極12、14が浮遊となるように、電極11、12、13、14を動作させることができる。次の電圧パルス中には、以前に活性だった電極11、13が浮遊となり、電極12、14が活性となる。この有利な手法により、外部電極11、14間の全領域、特に各内部電極12、13下の領域が、十分な電界に晒される。その結果、全底部領域18、及びしたがって全底部領域18に接着している細胞が、均一に電気的処理される図10、11も参照。図3は、本発明による電極配列体20の例示的な実施形態の下側の概略図である。電極配列体20は、図5、7を参照しながら詳細に後述する7つの電極21を備える。電極21は、基本的に円筒形に形成されたキャリア22内に配置される。キャリア22は、基部本体23と、基部本体23の上端部の境界領域24とを備える。境界領域24の外径が基部本体23の外径よりも大きいため、境界領域24が基部本体23の外側に突出する。電極21は、大部分が基部本体23内に配置され、キャリア22の下側25の下部表面33で露出されて周囲環境に接触している。単一電極21は、それぞれ絶縁材料26により互いに電気的に分離され、本実施形態では、単一電極26間の空間が絶縁材料26で完全に満たされている。電極21の対向領域間に絶縁材料26があることにより、電極に電圧を印加したときに、電極が導電液体に浸漬されていても電極21間の空間に電流が漏れることが確実になくなる。むしろ、絶縁材料によって、電極21に電圧を印加したときに、電流が電極21の表面33を通って流れ、キャリア22の下側25の下方で電界が発生する。電極21間の空間に大量の電流が漏れることがないため、キャパシタ又は別の非永久電圧源の放電中の電圧降下に長い時間がかかり、時間とともに一定のより安定した電流が流れ、生物学的方法の大部分、例えばトランスフェクションについて、十分な強度の電界を放電時間にわたって発生させる。電極配列体20は、特に少なくとも部分的に液体で満たされた容器、例えば反応槽、細胞培養トレイ又はマルチウェルプレートのウェルに挿入されるように設けられ、前記容器は、生細胞が接着可能な底部領域を提供する。容器の底部領域の接着細胞は、通常、適切な液体、例えば、細胞培地又は所望の電気的処理に適合させた溶液により覆われ、電極配列体20は、容器への挿入中に前記液体の少なくとも一部を変位させる。このため、表面33を有する電極21は、容器の底部領域に直接配置されず、したがって細胞上に配置されない。キャリア22の下側25が4つのスペーサ27を提供し、電極21と容器の底部領域との間に十分な距離を確保する。距離を実験的に求められる値に調節することにより、本発明の方法の効率を最適化することができる図7、8参照。図4は、図3による電極配列体20の斜視図であり、電極21の内部が見えるようになっている。この図から、電極21が特に板状に形成され、電極板の厚さがキャリア22の下側25に向かって減少することが明らかである。したがって、容器内の液体に接触する、電極21の露出した表面33は、基部本体23内に配置された電極21の一部として基本的に薄くなっている。この利点は、電界が非常に弱いために細胞の効果的な電気的処理が不可能な各電極21下の領域が最小になることである。逆に両端部では、十分な電気接触を確立するために電極21を効率的に接触させる必要があるため、電極21の厚さを大きくしなければならない。本実施形態の場合には、電極21の肉厚領域29に挿入されるピン状接触要素28により、使用する電圧源のそれぞれに対する電気接触が確立される。接触要素28は、適切な接触装置により、領域29と反対側の端部で電圧源に電気接続される。電圧源は、例えば、電圧パルスを制御して放射可能な1又は複数のキャパシタとすることができる。発生した電圧パルスは、接触要素28を渡って電極21へ送られ、これにより電極21の下側で、すなわち、キャリア22の下側25の下方で、電極間の絶縁材料26が、細胞と電極21の細胞側との間の空間に限定又は集中するため、電界が確立される。本発明の電極配列体20は、好ましくは射出成形プロセスにより製造される。これにより、接触要素28がまず適切な射出成形具に挿入されて、絶縁ポリマーでカプセル化される。その後第2のステップで、導電ポリマーが射出されて、電極21を形成する。或いは、電極を金属、好ましくはアルミニウムから形成してもよい。本実施形態では、金属電極をまず射出成形具に挿入した後に、絶縁ポリマーでカプセル化する。本実施形態では、金属電極が、好ましくは、電極に電気接触するのに適した、上方に突出した付属物を提供する。図5は、図3に関連した本発明の電極配列体20の上側30の斜視図である。接触要素28が基部本体23から上方に突出していることが明らかである。これにより、接触要素28は、露出した端部31を除いて、基部本体の絶縁材料で完全に囲まれている。このような露出した端部31を使用して、接触要素28を適切な装置により電圧源に電気接触させることができる。図6は、図3~5に関連する電極配列体20の縦断面図である。この図から、電極21の直径が基部本体23の下側25に向かって小さくなっているため、不十分な電界が確立される電極21下の領域が最小になることが明らかである。電極21の反対側端部には、接触要素28がそれぞれ挿入又は射出される肉厚な領域29がある。この特に有利な実施形態により、接触要素28と電極21との間の十分な電気接触が確保されるため、電極21が確保されるまでに電圧源から電圧パルスが効果的に送られる。電極配列体20を、液体で満たされた、生細胞が底部領域に接着する容器に挿入する場合、スペーサ27により、電極21の下側と処理すべき細胞との間の最適な距離が確実に設定される。電極21の対向配置領域32間の空間が絶縁材料26で完全に満たされているため、電極21の領域32間に液体が入らず、電極21の領域32間を通って電流が漏れることがない。このようにして、電圧を電極21に印加することにより、電界が電極の細胞側に集中し、細胞と電極21との間の空間に限定又は集中する。このようにして、細胞を非常に効果的に、かつ比較的低い電力需要で処理することができる。本発明の更なる利点は、電極21間の中間空間がないため、電極配列体20が、容器へ挿入中の液体の一部を変位させることである。この理由により、容器を少量の液体のみで満たす必要があり、処理に必要な溶液及び物質を節約することによりコストを減らすことができる。図7は、電圧パルスの大きさの変化に応じた、処理すべき細胞間の電極の距離に対するトランスフェクション効率の依存を示す。この文脈において、トランスフェクションとは、電圧パルスにより核酸分子ここではDNAを生細胞に導入することを意味する。比較的高電圧AX-19では、電極と細胞との間の距離に対するトランスフェクション効率の依存は少ないが、低電圧A-5では、電極と細胞との間の距離が小さくなるとトランスフェクション効率が増加することがわかる。逆に、中電圧パルスK-19は、中距離で最適であることを示す。電圧パルスの強度に応じて、電極と細胞との間の距離が、トランスフェクション効率に大きな影響を与えることが示される。したがって、トランスフェクション効率を最適化するために、例えば、図3~6により電極配列体20のスペーサ27の大きさをそれぞれ決めることにより、本発明により実験的に求める値に距離を調節する。図8は、電極と容器底部との間の領域内の相対電界強度を、電極と容器底部との間の距離に応じて示す。これにより、電界強度は、500μmの距離での電界強度にそれぞれ基づき、すなわち、両グラフの電界強度は、この距離について100に設定されている。活性電極間の電界強度と不活性電極下の電界強度とは逆に作用する。すなわち、距離が小さくなると活性電極間の電界強度は増加し、不活性電極下の電界強度は略ゼロに達する。距離が大きくなると活性電極間の電界強度は減少すし、不活性電極下の電界強度は更に増加する。全体として、距離が大きくなると活性電極間の電界強度が減少し、浮遊電極下の電界強度は中距離で最大値に達し、これにより、距離が増減するとこの最大値に基づいて電界強度は減少する。本発明によれば、これにより、電極と細胞との間の距離は、浮遊電極下の電界強度が最大値に近くなり、さらに活性電極間でできるだけ高い値に達するように、プロセスの状態に応じて調節される。図9は、活性電極のみ上、並びに活性電極及び浮遊電極下での、細胞培養槽内の電界のシミュレーションを示す。電界を発生させるための一般的な方法及び装置は、活性電極下方に直交する電界が最小であるため、この領域における細胞の電気的処理が不十分であるという欠点を有する。本発明の方法が浮遊不活性電極を含むことにより、細胞のより均一且つ効率的な処理が可能になることが明らかになる。図では、例示的な電極配列体40が4つの電極41、42、43、44を備え、これらの電極41、42、43、44は、電極と細胞培養槽の底部領域46との間の空間45に電圧を印加することにより電界を発生させる。図では、電界線の密度により電界強度をシミュレーションする。色の濃い領域は高い電界強度を示し、色の薄い領域は低い電界強度を示す。図Aでは、すべての電極41、42、43、44が活性である。この場合、電極41、42、43、44間と、露出した端部色の濃い領域のみで、電界強度が高い。逆に、電極41、42、43、44下の領域における空間45の電界強度が低いため、底部領域46の処理すべき細胞が、十分な電界に不規則にしか晒されない。したがって、本発明によれば、図Bに示すように、本実施形態おいて、第1の電圧が両電極41、43のみに印加され、他の2つの電極42、44が浮遊不活性である。これにより、不活性電極42、44下の領域では、強度が高いが、不活性電極42、44によってわずかにのみ弱まった電界が、底部領域46に接着する細胞に影響を与える。以前に不活性だった電極42、44に電圧パルスを印加し、以前に活性だった電極41、43が浮遊となる場合、より強い電界が、電極41、43下の領域に影響を与える。したがって、底部領域46に接着する細胞を、本発明の方法により十分な電界で均一に処理することができる。図10は、先行技術によりトランスフェクトされた蛍光標識細胞の顕微鏡画像A、及び本発明の方法によりトランスフェクトされた蛍光標識細胞の顕微鏡画像B、Cを示す。図Aに示す細胞のエレクトロトランスフェクションでは、すべての電極が活性であり、すなわち、すべての電極が高電圧又はグラウンドに接続されている。プラスミドにより順調にトランスフェクトされた細胞は、蛍光性となるため明瞭に識別される。図Aは、活性電極下の領域に対応する、トランスフェクトされた細胞叢内の間隙を示す暗い部分。この領域では、電界が、細胞を順調にトランスフェクトするのに十分な強度ではない。図Bに示す細胞のエレクトロトランスフェクションでは、電極の半分のみが活性であり、残りの半分が浮遊である。図Aによるトランスフェクションと比較すると、この場合、全体として、順調にトランスフェクトされた細胞は少ないが、間隙が少なく、非常に低いトランスフェクション効率の領域間の距離が大きくなる。ここでは、活性電極間の距離が大きくなることにより、全体として全培養領域にわたる電界が弱いため、最初はトランスフェクション効率が低下する。本発明の方法によれば、その後、同一の細胞は第2の電界電圧パルスに再び晒され、前記第2のパルス中に、活性電極及び不活性電極が逆になる。すなわち、第1のパルス中に以前に活性だったすべての電極が第2のパルス中に浮遊となり、以前に不活性だった電極が第2のパルス中に活性となる。これ以上の間隙を検出することができなくなり、すなわち電極下の領域を含むすべての領域が高トランスフェクション率を示す図C。したがって、本発明の方法により、培養領域全体にわたって、細胞を非常に均一かつ大きく処理することができる。特に、図A先行技術と図C本発明による方法とを比較することにより、一般的な方法に対する本発明の方法の重要な利点が明らかになる。図11は、本発明の方法によりトランスフェクトされた蛍光細胞の顕微鏡画像であり、2つの電圧パルス間の距離を変化させた様子を示す。非常に短い距離Aは0.5秒未満では、トランスフェクション効率の望ましくない混合が生じる。この結果は、電圧パルス間の距離を増加させるBは2.0秒ことにより和らげることができる。全体の処理が不必要に長引かないように、距離を最適化すべきであり、すなわちプロセス条件又は電気パラメータ、試料の量、緩衝液又は培地、温度及び/又は細胞の種類に適合させるべきである。好ましくは、2つの電圧パルス間の時間差を使用して、第1の複数の試料を次々に第1の電圧パルスに晒した後、これらを次々に第2の電圧パルスに晒す。これにより、電圧パルスの特に有利なタイムインターリービングが可能となり、複数の試料を処理する場合にプロセス時間が最小になる。本発明の方法を実施するために、図12に示すように個々で、又は図13に示すように群で電極を動作させなければならない。これは、好ましくは、開状態又は閉状態となり得る切換装置、例えばIGBT、MOSFET又はリレーにより行われる。開状態では、切換装置が電流を供給しないため、接続された電極が絶縁されることにより浮遊となる。閉状態では、切換装置が電流を供給することにより、接続された電極を電流が通ることができる。電極は電位プラス又はマイナスを有し、陽極又は陰極として作用する。これらの電極は、活性電極として示される。図12は、17個の電極48、49、56、57を使用する、本発明の方法を実施するための切換装置47を示す。同一平面に配置された電極48、49、56、57は、それぞれ切換装置50、51、54、55を介して電圧源52又はグラウンド53に接続される。図Aは、第1の電界の確立中の切換装置47の状態を示す。この場合、開の切換装置50に接続された電極48、49の一部は、第1の浮遊電極49である。閉の切換装置51に接続された電極48、49の一部は、細胞を処理するために最終的に第1の電界を発生させる活性電極48である。活性電極48の下方に直交する電界は最小であるため、この領域では細胞は十分に処理されない。図Bは、第2の電界の確立中の切換装置47の状態を示す。この場合、第1の電界の確立中に開だった切換装置47は閉となり、第1の電界の確立中に閉だった切換装置55は開となる。結果として、第1の電界中に浮遊だった電極45は活性電極となり、第2の電界の確立中に第2の電界を発生させる。第1の電界の確立中に以前に活性だった電極57は、第2の電界の確立中に浮遊となる。第1の電界の確立中に、すべての活性電極56が2つの浮遊電極57間に配置されるため、活性電極56下の領域が、活性電極56により発生した第2の電界に晒される。したがって、第2の電界により、第1の電界中に十分に処理されなかった細胞も電気的に処理されるため、全体としてすべての細胞が均一に処理される。図13は、4つの切換装置59、60、61、62を使用する、本発明の方法を実施するための例示的な装置58を示す。切換装置59、60は電圧源に接続され、切換装置61、62はグラウンドに接続される。装置58の電極活性電極63は斜線又は黒、浮遊電極64は白は2つの群に分けられ、一方の群が切換装置59、61に電気接続され、他方の群が切換装置60、62に電気接続される。図示した実施形態では、17個の電極63、64が4つの切換装置59、60、61、62のみを介して電圧源に接続される。図示した状態では、活性電極63第1の群が閉の切換装置59、61を介して電圧源又はグラウンドに接続されるため、電圧を活性電極63に印加する場合に、活性電極間に第1の電界が生じる。切換装置60、62が開であるため、これにより接続された電極64第2の群は、この状態では浮遊又は不活性のままである。前記の状態では最小の電界にしか晒されなかった活性電極63下の領域の細胞を、第2の電界を確立するよう十分に処理するために、本発明によれば切換装置59、61が開であり、切換装置60、62が閉である。この単なる切換えにより、前記の状態では活性電極63だった第1の群の電極が浮遊電極になり、前記の状態では浮遊電極64だった第2の群の電極が活性になり第2の電界を発生させる。この第2の電界により、第1の群63の電極下の領域が確実に十分に処理されるため、全体として均一且つ効率的な細胞の処理が確保される。本発明による装置58は、4つの切換装置を使用して機能し、切換装置の切換により両群の電極間を迅速に切り換えることができるという利点を有する。電極の各群を活性又は不活性に切り換えることができ、1つの群のすべての電極が同時に切り換えられる活性又は浮遊。この電極63、64の集合体があるため、本発明の装置58は、例えば図12の切換装置47と比較して、切換装置の数が非常に少ない。これにより、必要な設備が少なくなり、装置58の感受性が低下する。図14は、3つの大きい培養ウェル6ウェルサイズ、電極配列体65と12個の小さい培養ウェル24ウェルサイズ、電極配列体66とを備えた細胞培養プレートについて異なる寸法を有する電極配列体65、66の概略図である。材料を節約し構造的労力を減らすために、本発明によれば、異なるサイズの電極配列体のための接合接点が選択される。有利なことに、これにより、電極の電気接触のための装置に関して必要な接触要素を大きく減らすことができる。図示した細胞培養プレートの受け領域67は、3つの大きい培養ウェルの区画と、12個の小さい培養ウェルの区画とを有する。大きい培養ウェルは、内部に配置された細胞を適切な大きさの電極配列体65で電気的処理するために備えられる。電極配列体65は、例えば浸漬電極の形であり、それぞれ17個の電極68を備える。小さい培養ウェルは、内部に配置された細胞を適切な大きさの電極配列体66で電気的処理するために備えられる。電極配列体66は、例えば浸漬電極の形であり、それぞれ7個の電極69を備える。電極配列体を、細胞培養プレートのカバーに組み込むか、対応する接触装置のキャリアユニットに固定することができる。このような接触装置は、後述するように、電極の接点に対応して受け領域の各区画に配置された接触要素を備える。各電極68、69に対して接点70がそれぞれ割り当てられ、各電極68、69には接触要素が接触させることができるため、電圧源、例えばキャパシタに対する電気接触を確立することができる。したがって、このような混合細胞培養プレート67に接触するための装置は、3×17127=135個の接触要素を必要とする。細胞培養プレートの2つの異なるフォーマットに接触するための装置は、例えば6ウェルサイズ17個の電極をそれぞれ有する電極配列体について6つの培養空間及び24ウェルサイズ7つの電極をそれぞれ有する24個の培養空間は、6×1724×7=270個の接触要素を必要とする。例えば、ばね作動の接触要素により十分な電気接触を作るために、製造公差を補償する、ある接触圧が必要であるため、接点又は対応する接触要素の数はできるだけ少なくすべきである。したがって、標準的なばねの接触圧力は約0.4Nであり、270個の接触要素の場合には、約108N約10Kgの機械力を生じさせることができる。このため、技術的労力及び装置に関連する労力を減らすために接触要素の数を最小限にすることが望ましい。図15は、電極配列体74、75の接点71、72、73の例示的かつ好ましい構成を示す。電極配列体74、75は、少なくとも1つの大きい反応ウェル電極配列体74と少なくとも4つの小さい反応ウェル電極配列体75とを含む細胞培養プレートについて異なる寸法を有する。本発明により、種々のフォーマットについて同一である大部分の接点71、72、73を配置することができるため、接点71、72、73は、大きい電極配列体74の電極と小さい電極配列体75の電極との両方の接点として機能することができる。例示的に示すフォーマットでは、大きい電極配列体74の中間電極グリッド番号8~10及び外側電極グリッド番号1、17のみはそれぞれの位置を有しており、これらを小さい電極配列体75の電極の対応する位置に合わせることはできない。残りの接点グリッド番号2~7及び11~16はそれぞれ、両フォーマット図Aの電極配列体の対応する電極についての接点として使用することができる。小さい電極配列体75の認識されていない電極のそれぞれについて、それ自身の接点を割り当てなければならない。製造プロセスに関して最適化された本発明による接点72、73の配列が、図Bに示される。17個の黒い接点72は、大きい電極配列体74例えば6ウェルサイズのすべての電極及び小さい電極配列体75例えば24ウェルサイズの一部の電極が接触可能な点を示す。16個の斜線の接点73は、小さい電極配列体75の残りの電極のみが接触可能な点を示す。全体として、接触要素の対応する配列を有する両フォーマットに接触するための適切な装置は、細胞培養プレートの受け領域内に6×1716=198個の接触要素を有する。これにより、図14270個の接触要素に示す例と比較して、接触要素の数が非常に少なくなるため、装置に関連する労力がかなり減少する。図16は、3つの大きい反応空間6ウェルサイズと12個の小さい反応空間24ウェルサイズとを有する細胞培養プレートについて異なる寸法を有する電極配列体の接点の別の例示的かつ好ましい構成を示す。この特に有利な実施形態では、電極及び/又は接点に接触するための対応する接触要素が、軸、好ましくは細胞培養プレートの面に垂直に配置された軸の周りを旋回可能である。これにより、装置の一部に必要な接触要素の数が更に少なくなり、有利な方法では3×1716=99個の接触要素となる。更に、本実施形態により、他の寸法、例えば、12ウェル及び48ウェルサイズの細胞培養プレートの更なる処理が可能になる。図示した実施形態では、細胞培養プレートの受け領域76が設けられ、この受け領域76は、例えば、電極配列体77、78に接触するための装置の一部とすることができる。この装置は、電極配列体77、78の電極と電気接触可能な、図示しない接触要素を有する。受け領域76は2つの区画79、80を有し、この区画79、80内に接触要素が、電極配列体77、78の接点81、82に対応する配列でそれぞれ設けられる。黒の接点81は、大きい電極配列体776ウェルサイズのすべての電極と小さい電極配列体7824ウェルサイズの一部の電極が接触可能な位置を示す。斜線の接点82は、小さい電極配列体78の残りの電極のみが接触可能な点を示す。受け領域76の第1の区画79は、電極配列体77、78、及びしたがって対応する大きさの細胞培養空間ウェルのために設けられ、本実施形態では、大きい電極配列体776ウェルサイズ及び小さい電極配列体7824ウェルサイズを電気接触させることができる。その結果、6又は24個の培養空間を有する細胞培養プレート、或いは3つの大きい培養空間と12個の小さい培養空間とを有する混合プレートが受け領域76に配置された場合に、第1の瞬間には、第1の区画79で各電極配列体の半分を電気接触させることができる。培養空間で細胞を処理した後、プレートを水平方向に180°回転させて、培養空間の残りの半分を第1の区画79に配置し電気接触させることができる。或いは、接触要素を備えたユニットをプレートの代わりに回転させて、プレートの残り半分を処理してもよい。受け領域76の第2の区画80は空で使用せずにおくか、又は電極配列体及びしたがって対応する大きさの細胞培養空間ウェルのために設けられる。この細胞培養空間は、他の寸法、例えば、12ウェルサイズの大きい電極配列体及び48ウェルサイズの小さい電極配列体を有する。したがって、少なくとも2つの電極配列体に接触するための本発明の装置により、少なくとも2つ、好ましくは4つの異なるプレートサイズを有利な方法で電気接触させることができる。