"基材に対し積層するように設けられるとともに、塗布液を塗布することにより形成される塗布層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、一対のリップと当該一対のリップの間に形成されるスリット状の吐出口とを備えたダイコーターが、基材表面と所定間隔を保ちながら前記吐出口の延在方向と直交する方向に前記基材に対し相対的に移動するとともに、前記吐出口から前記塗布液を塗布することにより前記塗布層を形成する塗布層形成工程を有し、前記塗布層形成工程は、前記一対のリップのうち、前記塗布層が形成されている側のリップの前記基材表面に対向する面が前記吐出口から離れるに従い前記基材から遠ざかるように傾斜し、当該傾斜の角度が前記吐出口に対向する前記基材表面に対し10~80°に設定された前記ダイコーターを用いて、前記塗布液を塗布するものであることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。前記塗布層形成工程は、前記基材に対し積層するように少なくとも1層の塗布層が形成された後に行われることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。前記少なくとも1層の塗布層は発光層であるとともに、前記塗布層形成工程において形成する前記塗布層は発光層であることを特徴とする請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。前記塗布層形成工程は、前記ダイコーターの前記基材に対する相対的な移動速度が2m/min以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。前記塗布層形成工程は、前記所定間隔Gapと、前記塗布層形成工程において形成する前記塗布層のウエット膜厚hwとが、Gap/hw≧15となることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。前記塗布層形成工程において形成する前記塗布層と、当該塗布層に積層方向に隣接して既に形成されている塗布層とは、同じ溶媒からなる塗布液を用いて形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。前記塗布層形成工程において使用する前記ダイコーターが、前記吐出口の延在方向に平行となるように設けられるとともに前記吐出口を分割する1つ以上の仕切り板を有しており、前記吐出口が分割されて形成された2つ以上の分割吐出口からそれぞれ異なる塗布液が吐出することにより、2種以上の塗布液が積層するように構成した前記塗布層を形成することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法で製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。ダイコート法において、ダイコーターと基材との間隔Gapと、基材に対し積層するように形成される塗布層のウエット膜厚hwとの比率キャピラリー数:Gap/hwが、塗布層の塗布結果に大きな影響を及ぼすことが知られている。例えば、Gapを広く設定しすぎてしまうつまり、キャピラリー数が大きくなってしまうと、ダイコーターと被塗布体との間に形成される液溜まりの幅が狭くなり、その結果、塗布幅が狭くなり、均一な塗布層が形成されなくなる。一方、Gapを狭く設定しすぎてしまうつまり、キャピラリー数が小さくなってしまうと、ダイコーターと被塗布体との間に形成される液溜まりの形状が安定せず、その結果、塗布ムラや塗布スジが発生してしまう。ここで、特許文献3に開示されたダイコーター100は、図3aに示すように、一対のリップ210、220が、基材2の表面と平行となるように構成されていることから、一対のリップ210、220と被塗布体Tとの間に比較的大きな液溜まりB前後方向の幅の大きな液溜まりBが形成されてしまう。その結果、Gapを狭く設定しようとすると、この大きな液溜まりBが先端基端方向に潰されることにより形状が不安定となり易く、塗布ムラや塗布スジが生じ易かった。一方、塗布ムラや塗布スジの発生を回避するためにGapを広く設定しようとすると、公知のとおり、塗布幅が狭くなり、均一な塗布層が形成されなくなる。つまり、特許文献3に開示された技術は、塗布ムラや塗布スジ等の塗布故障が発生し易いことから、塗布性の向上という点において改善する余地が存在していた。そこで、本発明は、塗布性が向上する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを課題とする。本発明の上記課題は、下記の構成により解決される。1基材に対し積層するように設けられるとともに、塗布液を塗布することにより形成される塗布層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、一対のリップと当該一対のリップの間に形成されるスリット状の吐出口とを備えたダイコーターが、基材表面と所定間隔を保ちながら前記吐出口の延在方向と直交する方向に前記基材に対し相対的に移動するとともに、前記吐出口から前記塗布液を塗布することにより前記塗布層を形成する塗布層形成工程を有し、前記塗布層形成工程は、前記一対のリップのうち、前記塗布層が形成されている側のリップの前記基材表面に対向する面が前記吐出口から離れるに従い前記基材から遠ざかるように傾斜し、当該傾斜の角度が前記吐出口に対向する前記基材表面に対し10~80°に設定された前記ダイコーターを用いて、前記塗布液を塗布するものであることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。2前記塗布層形成工程は、前記基材に対し積層するように少なくとも1層の塗布層が形成された後に行われることを特徴とする前記1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。3前記少なくとも1層の塗布層は発光層であるとともに、前記塗布層形成工程において形成する前記塗布層は発光層であることを特徴とする前記2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。4前記塗布層形成工程は、前記ダイコーターの前記基材に対する相対的な移動速度が2m/min以上であることを特徴とする前記1乃至前記3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。5前記塗布層形成工程は、前記所定間隔Gapと、前記塗布層形成工程において形成する前記塗布層のウエット膜厚hwとが、Gap/hw≧15となることを特徴とする前記1乃至前記4のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。6前記塗布層形成工程において形成する前記塗布層と、当該塗布層に積層方向に隣接して既に形成されている塗布層とは、同じ溶媒からなる塗布液を用いて形成されることを特徴とする前記1乃至前記5のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。7前記塗布層形成工程において使用する前記ダイコーターが、前記吐出口の延在方向に平行となるように設けられるとともに前記吐出口を分割する1つ以上の仕切り板を有しており、前記吐出口が分割されて形成された2つ以上の分割吐出口からそれぞれ異なる塗布液が吐出することにより、2種以上の塗布液が積層するように構成した前記塗布層を形成することを特徴とする前記1乃至前記6のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。8前記1乃至前記7のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法で製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。本発明によって、塗布性が向上する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができる。以下、本発明を実施するための形態について適宜図面を参照しながら詳細に説明する。まず、本発明に係る有機EL素子の製造方法により製造される有機EL素子の各構成要素の詳細について、順次説明する。≪有機EL素子の層構成≫本発明に係る有機EL素子の層構成の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。i陽極/発光層/陰極ii陽極/発光層/電子輸送層/陰極iii陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極iv陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極v陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極なお、本発明に係る有機EL素子の塗布層とは、塗布液を塗布することにより形成される層であり、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層である。<発光層>本発明に係る有機EL素子の発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。発光層の膜厚は、特に制限されないが、形成する膜の均質性や発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、且つ駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、2~200nmの範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは5~100nmの範囲に調整される。以下、発光層に含まれる発光ホスト以下、適宜、発光ホスト化合物ともいう、発光ドーパントについて説明する。1発光ホスト本発明に係る発光ホスト化合物としては、室温25°Cにおける燐光発光の燐光量子収率が0.1未満の化合物が好ましい。さらに好ましくは燐光量子収率が0.01未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での発光ホスト化合物の体積比が50以上であることが好ましい。そして、本発明に係る発光ホスト化合物としては、公知の発光ホスト化合物を単独で用いてもよく、または複数種併用して用いてもよい。発光ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機EL素子を高効率化することができる。また、後記する発光材料を複数種用いることで異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。さらに、本発明に係る発光ホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物蒸着重合性発光ホストでもよい。公知の発光ホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、かつ発光の長波長化を防ぎ、なおかつ高Tgガラス転移温度である化合物が好ましい。ここで、ガラス転移温度Tgとは、DSCDifferentialScanningColorimetry:示差走査熱量法を用いて、JIS-K-7121に準拠した方法により求められる値である。公知の発光ホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が挙げられる。例えば、特開2001-257076号公報、同2002-308855号公報、同2001-313179号公報、同2002-319491号公報、同2001-357977号公報、同2002-334786号公報、同2002-8860号公報、同2002-334787号公報、同2002-15871号公報、同2002-334788号公報、同2002-43056号公報、同2002-334789号公報、同2002-75645号公報、同2002-338579号公報、同2002-105445号公報、同2002-343568号公報、同2002-141173号公報、同2002-352957号公報、同2002-203683号公報、同2002-363227号公報、同2002-231453号公報、同2003-3165号公報、同2002-234888号公報、同2003-27048号公報、同2002-255934号公報、同2002-260861号公報、同2002-280183号公報、同2002-299060号公報、同2002-302516号公報、同2002-305083号公報、同2002-305084号公報、同2002-308837号公報等が挙げられる。本発明に係る発光ホスト化合物は、カルバゾール誘導体であることが好ましく、カルバゾール誘導体であってジベンゾフラン化合物であることがより好ましい。例えば、以下の化合物である。2発光ドーパント本発明に係る発光ドーパントとしては、蛍光ドーパント、リン光ドーパントを用いることができるが、より発光効率の高い有機EL素子を得る観点からは、前記の発光ホストを含有すると同時にリン光ドーパントを含有することが好ましい。2.1リン光ドーパント本発明に係るリン光ドーパントは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には、室温25°Cにてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が25°Cにおいて0.01以上の化合物であると定義される。なお、本発明に係るリン光ドーパントの好ましいリン光量子収率は0.1以上である。前記リン光量子収率は、第4版実験化学講座7の分光IIの398頁1992年版、丸善に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に係るリン光ドーパントは、任意の溶媒のいずれかにおいて前記リン光量子収率0.01以上が達成されればよい。リン光ドーパントの発光は原理としては2種挙げられ、一つはキャリアが輸送される発光ホスト上でキャリアの再結合が起こって発光ホストの励起状態が生成し、このエネルギーをリン光ドーパントに移動させることでリン光ドーパントからの発光を得るというエネルギー移動型、もう一つはリン光ドーパントがキャリアトラップとなり、リン光ドーパント上でキャリアの再結合が起こり、リン光ドーパントからの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、いずれの場合においても、リン光ドーパントの励起状態のエネルギーは発光ホストの励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。本発明に係るリン光ドーパントは、有機EL素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができる。ただし、本発明に係るリン光ドーパントは、フェニルイミダゾール錯体であることが好ましい。例えば、以下のD-1のような化合物である。また、以下のD-2、D-3のような化合物を組み合わせて含有させてもよい。本発明において、発光層に含まれる発光ドーパントは1種類でもよいし、異なる発光極大波長を持つ2種類以上の発光ドーパントを含有させてもよい。2種類以上の発光ドーパントを含有させる場合、全ての発光ドーパントについて発光層の厚さ方向で濃度勾配を形成させてもよいが、1種類の発光ドーパントのみ濃度勾配を形成させてもよい。1種類の発光ドーパントのみ濃度勾配を形成させる場合は、発光極大波長が最も短い発光ドーパントについて濃度勾配を形成させることが好ましい。<注入層:正孔注入層、電子注入層>本発明に係る有機EL素子においては、注入層は必要に応じて設けることができる。注入層としては正孔注入層と電子注入層があり、上記の如く陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。本発明でいう注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層で、有機EL素子とその工業化最前線1998年11月30日エヌティーエス社発行の第2編第2章電極材料123~166頁に詳細に記載されており、正孔注入層と電子注入層とがある。正孔注入層は、例えば、特開平9-45479号公報、同9-260062号公報、同8-288069号公報等にもその詳細が記載されており、正孔注入層に適用可能な正孔注入材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体等を含むポリマーやアニリン系共重合体、ポリアリールアルカン誘導体、または導電性ポリマーが挙げられ、好ましくはポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体であり、さらに好ましくはポリチオフェン誘導体である。電子注入層は、例えば、特開平6-325871号公報、同9-17574号公報、同10-74586号公報等にもその詳細が記載されており、具体的には、ストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。本発明においては、上記バッファー層注入層はごく薄い膜であることが望ましく、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムが好ましい。注入層の膜厚は0.1nm~5μm程度、好ましくは0.1~100nm、さらに好ましくは0.5~10nm、最も好ましくは0.5~4nmである。<正孔輸送層>正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、上記正孔注入層で適用するのと同様の化合物を使用することができるが、さらには、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。例えば、以下の化合物である。正孔輸送層の膜厚については、特に制限はないが、通常は5nm~5μm程度、好ましくは5~200nmである。この正孔輸送層は1種または2種以上の材料からなる一層構造であってもよい。<電子輸送層>電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。従来、単層の電子輸送層、及び複数層とする場合は発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料正孔阻止材料を兼ねるとしては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、例えば、フルオレン誘導体、カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリゾール誘導体、シロール誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、8-キノリノール誘導体等の金属錯体等が挙げられる。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。これらの中でもカルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体、ピリジン誘導体等が本発明では好ましく、カルバゾール誘導体であってジベンゾフラン化合物であることがより好ましい。例えば、以下の化合物である。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm~5μm程度、好ましくは5~200nmである。電子輸送層は上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。<陽極>有機EL素子を構成する陽極としては、仕事関数の大きい4eV以上金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Au等の金属、CuI、インジウムチンオキシドITO、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。また、IDIXOIn2O3-ZnO等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、1μm以下、通常は、10~1000nmの範囲であり、好ましくは10~200nmの範囲で選ばれる。<陰極>陰極としては仕事関数の小さい4eV以下金属電子注入性金属と称する、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム-カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウムAl2O3混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウムAl2O3混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm~5μm、好ましくは50~200nmの範囲で選ばれる。なお、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極または陰極のいずれか一方が透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。また、陰極に上記金属を1~20nmの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に形成することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する有機EL素子を作製することができる。<基材>本発明に係る有機EL素子の基材以下、適宜、基板ともいうとしては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。基材側から光を取り出す場合には、基材は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な基材としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。リジットな基材よりもフレキシブルな基材において、高温保存安定性や色度変動を抑制する効果が大きく現れるため、特に好ましい基材は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な可撓性を備えた樹脂フィルムである。次に、本発明の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において使用するダイコーターについて、図1、2、3を参照して説明する。なお、以下の説明において、先端、基端、前上流側、後下流側、左、右を表現するときは、各図面に示す方向を基準としている。≪ダイコーターの構成≫図1および図2に示すように、ダイコーター1は、被塗布体Tに対向する位置に設けられた吐出口31から塗布液Lを吐出することにより、バックアップロール5により搬送される被塗布体Tの表面に塗布液Lを塗布する装置である。なお、被塗布体Tは、ここでは、基材2、電極3から構成されているが図3参照、被塗布体Tとして電極3の表面にさらに正孔注入層図示せず等が形成されていてもよい。ダイコーター1は、左右方向に所定の長さを有する上流側ブロック11と下流側ブロック12とを備えている。そして、上流側ブロック11の先端には、上流側リップ21が形成されており、下流側ブロック12の先端には、下流側リップ22が形成されている。そして、上流側リップ21と下流側リップ22との間一対のリップ21、22の間には、塗布液Lを吐出するスリット状の吐出口31が形成されている。なお、上流側リップ21とは、塗布層4が形成されていない側のリップのことであり、下流側リップ22とは、塗布層4が形成されている側のリップのことである図2参照。下流側リップ22は、平面を呈するとともに、吐出口31から離れるに従い基材2から遠ざかるように傾斜し、当該傾斜の角度θは吐出口31に対向する基材2表面に対し10~80°となるように形成される。当該傾斜の角度θは、より好ましくは15~75°である。なお、基材2から遠ざかるように傾斜しとは、詳細には、吐出口31の前後方向における中心に対向する基材2表面被塗布体Tを構成する基材2の表面の点Xの接平面Pから遠ざかるように傾斜し、という意味である。また、吐出口31に対向する基材2表面に対しとは、詳細には、吐出口31の前後方向における中心に対向する基材2表面被塗布体Tを構成する基材2の表面の点Xの接平面Pに対し、という意味である図2参照。下流側リップ22が前記のように形成されることにより、この下流側リップ22を有するダイコーター1を用いた製造方法によれば、以下のような効果が得られる。図3bに示すように、ダイコーター1内を基端から先端に流れ、吐出口31から吐出された塗布液Lの大半は、そのまま先端方向、つまり被塗布体T表面に向かって流れる。そして、下流側リップ22の後方下流側が、ダイコーター1の基端側に近づくように傾斜しているため、下流側リップ22の表面に接触して流れる塗布液Lの量は少なくなる。その結果、下流側リップ22と被塗布体Tとの間に形成される液溜まりBは、前後方向の幅が狭くなる。したがって、ダイコーター1と基材2との間隔Gapを狭く設定した場合であっても、この液溜まりBは潰されにくく形状が安定しているため、塗布ムラ等の不具合が生じ難くなる。つまり、このダイコーター1を用いた製造方法によれば、塗布性を向上させることができる。ここで、下流側リップ22の傾斜の角度θが10°未満である場合は、下流側リップ22と被塗布体Tとの間に形成される液溜まりBの前後方向の幅が十分に小さくならず、塗布性が向上しない。一方、下流側リップ22の傾斜の角度θが80°を超える場合は、液溜まりBが適切に形成されず、塗布性が向上しない。下流側リップ22の幅W22は、前記効果を奏するために、0.05~10mmであることが好ましく、更には、0.1~5mmであることが好ましい。一方、下流側リップ22の左右方向における長さは、特に制限されず、被塗布体Tの左右方向における長さと略同一に設定すればよい。また、下流側リップ22は、必ずしも平面を呈していなくてもよく、略平面を呈してもよい。例えば、ダイコーター1の長手方向左右方向に直交する断面において、下流側リップ22の幅W22方向中央部が外側に若干突出するような外向きアール状を呈していてもよいし、下流側リップ22の幅W22方向中央部が内側に若干突出するような内向きアール状を呈していてもよい。上流側リップ21は、平面を呈するとともに、吐出口31に対向する基材2表面に対し平行となるように形成されている。上流側リップ21が前記のように形成されることにより、上流側リップ21と被塗布体Tとの間に形成される液溜まりBは、塗布液Lの塗布中に液溜まりBの前方端部が大きく前後することなく形状を安定に保つこととなる。したがって、このダイコーター1を用いた製造方法によれば、下流側リップ22を特定することにより奏する塗布性の向上という効果を確保することができる。なお、上流側リップ21の幅W21は、前記効果を奏するために、0.05~10mmであることが好ましく、更には、0.1~5mmであることが好ましい。一方、上流側リップ21の左右方向における長さは、下流側リップ22と同様、特に制限されず、被塗布体Tの左右方向における長さと略同一に設定すればよい。上流側リップ21と下流側リップ22との間に形成される吐出口31の幅W31は、特に制限されないが、前記した各層を形成させるために使用する塗布液Lの物性等を考慮し、5~100μmが好ましく、5~50μmがより好ましい。<ダイコーターの変形例の構成>ダイコーターの変形例について、図3cを参照して説明する。ダイコーター10は、上流側リップ21と下流側リップ22との間に仕切り板41を有しており、当該仕切り板41は、吐出口31の延在方向に平行であるとともに吐出口31を分割するように設けられる。言い換えると、当該仕切り板41は、上流側ブロック11と下流側ブロック12との間に、両側に隙間を形成するように設けられる。ダイコーター10が前記の仕切り板41を有することにより、吐出口31が分割されて形成された2つの分割吐出口31a、32bからそれぞれ異なる塗布液La、Lbを吐出することとなる。したがって、1度の塗布層形成工程により、2種の塗布液La、Lbが積層するように構成した塗布層44a、4bを形成することができる。また、1度の塗布層形成工程により塗布層44a、4bを形成することができるため、2種の塗布液La、Lbの境界領域界面において、塗布液La、Lb同士が混ざることとなる。したがって、例えば、発光ドーパント濃度が異なる2種の発光層用の塗布液La、Lbを使用した場合、当該境界領域界面において発光ドーパントの拡散が進み、発光ドーパントの濃度勾配がつき易くなる。なお、分割吐出口31a、32bの前後方向における幅は、特に制限されないが、それぞれ、5~100μmが好ましく、5~50μmがより好ましい。また、仕切り板41の前後方向における幅は、特に制限されないが、0.5~10mmが好ましい。さらに、仕切り板41の先端は、基材2表面に対し平行な平面を呈する先端部41aであってもよいし、ダイコーター10の長手方向左右方向に直交する断面において、先端に面取りが施されて尖状を呈する先端部41b、41c、41dであってもよい。仕切り板41の先端部41b、41c、41dが尖状を呈することにより、2種の塗布液La、Lbが分割吐出口31a、32bにおいてスムーズに合流するため、適切な形状の液溜まりBが形成される。なお、ダイコーター10は、吐出口31の延在方向に平行であるとともに吐出口31を分割する仕切り板41を2つ以上設けてもよい。この場合は、1度の塗布層形成工程により3種以上の塗布液が積層するように構成した塗布層4を形成することができる。その他のダイコーター10の構成上流側リップ21、下流側リップ22の形状等については、前記したダイコーター1と同様である。≪ダイコーターによる塗布液の塗布方法≫ダイコーター1による塗布液Lの塗布方法について、図2、3bを参照して説明する。まず、ダイコーター1の基端側に設けられた塗布液供給装置図示せずから塗布液供給管51を通してダイコーター1内部に塗布液Lが供給される。そして、塗布液Lは、上流側ブロック11と下流側ブロック12との間に設けられるマニホールド61に供給される。なお、マニホールド61は、左右方向に延在するとともに、左右方向に延在する吐出口31と連通している。そして、マニホールド61で左右方向に溜められた塗布液Lは、上流側ブロック11と下流側ブロック12との間を先端側に向けて流れ、上流側リップ21と下流側リップ22との間の吐出口31から吐出される。そして、塗布液Lは、上流側リップ21および下流側リップ22と被塗布体Tとの間で、液溜まりBを形成させつつ、バックアップロール5が回転することにより移動する被塗布体Tの表面に塗布層4を形成することとなる。なお、図2では、ダイコーター1を固定し、被塗布体Tを移動させているが、被塗布体Tを例えば、テーブル上に固定し、ダイコーター1を移動させてもよく、さらには、両者を移動させてもよい。つまり、ダイコーター1が、基材2被塗布体Tに対し、相対的に移動すればよい。そして、ダイコーター1の基材2に対する相対的な移動速度は2m/min以上であることが好ましい。この有機EL素子の製造方法によれば、塗布性を低下させることなくGapを狭く設定することができるため、2m/min以上の高速塗布を適切に行うことができる。その結果、この有機EL素子の製造方法によれば、塗布性を低下させることなく製造効率を向上させることができる。なお、移動速度は製造効率の向上という観点から、5m/min以上がより好ましく、ダイコーター1または基材2の移動の安定性という観点から、10m/min以下が好ましい。また、ダイコーター1と基材2表面との所定間隔Gapは、150~600μmであることが好ましい。所定間隔Gapが150μm未満であると、塗布ムラが発生する可能性が高くなり、600μmを超えると、塗布スジが発生する可能性が高くなるからである。また、塗布層4のウエット膜厚hwは、特に限定されないが、塗布液Lの粘度等を考慮し、1~10μmであることが好ましい。ここで、塗布層4のウエット膜厚hwとは、乾燥後の膜厚ではなく、ダイコーター1により形成された直後の膜厚であり、ウエット膜厚=塗布液供給量/塗布幅×ダイコーターの基材に対する相対的な移動速度で算出することもできるなお、ここでの塗布液供給量とは、単位時間あたりに供給する塗布液の体積量である。そして、所定間隔Gapと塗布層4のウエット膜厚hwとが、Gap/hwキャピラリー数≧15となることが好ましく、更には、Gap/hw≧20となることがより好ましい。所定間隔Gapとウエット膜厚hwとの関係を、前記のように規定することにより、塗布性の向上という効果を適切に発揮させることができる。次に、本発明の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法について説明する。≪有機EL素子の製造方法≫本発明の一実施形態に係る有機EL素子の製造方法は、塗布層形成工程を有する製造方法であり、この塗布層形成工程とは、前記したダイコーター1を用いて、塗布液Lを塗布することにより塗布層4を形成する工程である。本発明の一実施形態に係る有機EL素子の製造方法について、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極からなる有機EL素子を製造する場合を一例とし、図4を参照して説明する。まず、基材表面に陽極を形成するS1。このS1工程では、前記した陽極用の電極物質からなる薄膜が、前記した膜厚となるように、蒸着やスパッタリング等の薄膜形成方法により陽極を形成する。なお、フォトリソグラフィー法で所望の形状パターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合100μm以上程度は、前記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。また、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。次に、正孔注入層S2、正孔輸送層S3、発光層S4、電子輸送層S5、電子注入層S6を形成する。これら各層の形成方法としては、まず、前記したダイコーター1を用いて、前記した塗布方法により塗布液Lを塗布することにより塗布層4を形成する塗布層形成工程。その後、塗布層4を乾燥させて、前記した各層の膜厚とする。なお、乾燥方法については、特に制限されず、例えば、塗布液Lを塗布後5秒後に0.5m/secの窒素送風で乾燥させ120°Cで30分間保持するという方法である。なお、これらS2~S6工程のうち、少なくとも1工程を前記塗布層形成工程とすればよく、残りの工程では、従来公知の成膜方法例えば、蒸着法、インクジェット法、スピンコート法により各層を形成させればよい。この有機EL素子の製造方法によれば、前記したダイコーター1を用いて塗布層4を形成させることにより、ダイコーター1と基材2表面との所定間隔Gapを狭く設定した場合であっても、液溜まりBは潰されにくく形状が安定しているため、塗布ムラ等の不具合が生じ難くなる。つまり、この有機EL素子の製造方法によれば、塗布性を向上させることができる。さらに、塗布性を低下させることなくGapを狭く設定することができるため、高速塗布にも対応することが可能となる。なお、前記塗布層形成工程は、基材2に対し積層するように少なくとも1層の塗布層4が形成された後に行われることが好ましい。具体的には、S5工程において、電子輸送層を塗布層4として形成した後に、S6工程において、前記したダイコーター1を用いて、前記した塗布方法により塗布液Lを塗布することにより電子注入層を形成させればよい塗布層形成工程。ここで、電子輸送層は、塗布層4として形成されていればよいため、前記塗布層形成工程により形成されていてもよく、従来公知の塗布方法例えば、インクジェット法、スピンコート法で形成されていてもよい。この有機EL素子の製造方法によれば、従来のダイコーター100を用いた製造方法と比較し、下流側リップ22と被塗布体Tとの間に形成される液溜まりBが小さく液溜まりBの前後方向の幅が狭くなるため、液溜まりBと被塗布体Tとの接触面積が小さくなる図3b参照。さらに、この有機EL素子の製造方法によれば、高速塗布が可能となるため、液溜まりBと被塗布体Tとの単位時間あたりの接触面積も小さくなる。その結果、被塗布体Tとして既に形成されている塗布層4が液溜まりBに溶出する量、および、液溜まりBから既に形成されている塗布層4への溶媒の染み込み量をできる限り減少させることができる。したがって、この有機EL素子の製造方法によれば、所望の塗布層4を適切に形成させることができる。なお、発光層が塗布層4として形成された後、発光層を前記塗布層形成工程により形成することが好ましい。具体的には、S4-1工程において、第1発光層を塗布層4として形成した後に、S4-2工程において、前記したダイコーター1を用いて、前記した塗布方法により塗布液Lを塗布することにより第2発光層を形成させればよい塗布層形成工程。ここで、第1発光層は、塗布層4として形成されていればよいため、前記塗布層形成工程により形成されていてもよく、従来公知の塗布方法例えば、インクジェット法、スピンコート法で形成されていてもよい。この有機EL素子の製造方法によれば、前記塗布層形成工程において、液溜まりBと被塗布体Tとして既に形成されている発光層との単位時間あたりの接触面積を小さくすることができる。したがって、既に形成された発光層と塗布層形成工程において形成する発光層との間での発光ドーパントの過剰な拡散を防止することができる。その結果、適切な濃度勾配を有する有機EL素子を製造することができる。加えて、この有機EL素子の製造方法によれば、塗布性が向上する、つまり、当該製造方法で製造した有機エレクトロルミネッセンス素子の輝度ムラが少なくなるとともに、量子効率、発光寿命といった性能も向上させることができる。また、前記塗布層形成工程において形成する塗布層4と、当該塗布層4に積層方向に隣接して既に形成されている塗布層4とは、同じ溶媒からなる塗布液Lを用いて形成されることが好ましい。具体的には、S4-1工程において、所定の溶媒からなる塗布液Lを用いて第1発光層を形成した後、S4-2工程において、前記したダイコーター1を用いて、前記した塗布方法により前記の所定の溶媒と同一の溶媒からなる塗布液Lを塗布することにより第2発光層を形成させればよい塗布層形成工程。ここで、第1発光層は、塗布層4として形成されていればよいため、前記塗布層形成工程により形成されていてもよく、従来公知の塗布方法例えば、インクジェット法、スピンコート法で形成されていてもよい。この有機EL素子の製造方法によれば、前記塗布層形成工程において、被塗布体Tとして既に形成されている塗布層4が液溜まりBに溶出する量、および、液溜まりBから既に形成されている塗布層4への溶媒の染み込み量をできる限り減少させることができる。そのため、前記塗布層形成工程において形成する塗布層4と、当該塗布層4に隣接する塗布層とが、同じ溶媒からなる塗布液Lを用いて形成した場合であっても、2つの層が混合してしまう可能性をできる限り低下させることができ、所望の塗布層4を適切に形成させることができる。次に、電子注入層の表面に陰極を形成するS7。このS7工程では、前記した陰極用の電極物質からなる薄膜が前記した膜厚となるように、蒸着やスパッタリング等の薄膜形成方法により形成させて、陰極を作成する。本発明においては、陰極を設けた後に、40~200°Cの範囲で有機EL素子を加熱処理することが、高温保存安定性および色度変動を抑制する効果が顕著なために好ましい。そして、加熱処理後に密着封止あるいは封止部材と電極、基材とを接着剤で接着することで有機EL素子を作製する。なお、所望の層構成の有機EL素子を得るために、S2、S3、S4-2~S4-n、S5、S6の各工程を適宜省略してもよく、また、所定の層を複数層設ける場合は、当該層を形成する工程を複数回行ってもよい。例えば、電子輸送層を複数層設ける場合はS5工程を複数回行ってもよい。≪用途≫本発明に係る有機EL素子の製造方法は、図2に示すように、バックアップロール5により搬送される被塗布体Tに対し塗布液Lを塗布するロールtoロールのプロセスに適用することが可能であるほか、テーブル上に設置された被塗布体Tに対し塗布液Lを塗布するテーブルコーターに適用することも可能である。本発明に係る有機EL素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源として、例えば、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源、さらには表示装置を必要とする一般の家庭用電気器具等広い範囲の用途が挙げられるが、特にカラーフィルターと組み合わせた液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。以上説明した本発明の一実施形態に係る有機EL素子の製造方法は、塗布層4を形成する塗布層形成工程を有し、前記塗布層形成工程は、一対のリップ21、22のうち、前記塗布層4が形成されている側のリップ22の基材2表面に対向する面が吐出口31から離れるに従い基材2から遠ざかるように傾斜し、当該傾斜の角度が吐出口31に対向する基材2表面に対し10~80°に設定されたダイコーター1を用いて、塗布液Lを塗布するものである。したがって、この有機EL素子の製造方法によれば、塗布層4が形成されている側のリップ22下流側リップ22の基材2表面に対向する面が、基材2表面に対し10~80°となるように傾斜していることから、下流側リップ22と被塗布体Tとの間に形成される液溜まりBを小さく液溜まりBの前後方向の幅を狭くすることができる図3b参照。その結果、ダイコーター1と基材2表面との所定間隔Gapを狭く設定した場合であっても、この液溜まりBは潰されにくく形状が安定しているため、塗布ムラ等の不具合が生じ難くなる。つまり、この有機EL素子の製造方法によれば、塗布性を向上させることができる。また、ダイコーター1を用いて塗布液Lを高速で塗布しようとした場合、Gapが広いと塗布ムラ等の不具合の発生率が向上してしまう。しかし、この有機EL素子の製造方法によれば、従来のダイコーター100を用いた製造方法と比較し、塗布性を低下させることなくGapを狭く設定することができるため、高速塗布にも適切に対応することが可能となる。以下、実施例1~3を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例1~3において部あるいはの表示を用いるが、特に断りがない限り質量部あるいは質量を表す。≪サンプルの作成≫1サンプル101の作製陽極として150mm×150mm×1.1mmのガラス基板上に、ITOインジウムチンオキシドを150nm製膜した基板NHテクノグラス製NA45にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。この基板上に、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン-ポリスチレンスルホネートPEDOT/PSS、Bayer製、BaytronPAl4083を純水で70に希釈した溶液を3000rpm、30秒でスピンコート法により製膜した後、200°Cにて1時間乾燥し、膜厚30nmの第1正孔輸送層を設けた。この基板を、窒素ガスグレードG1を用いた窒素雰囲気下に移し、前記正孔輸送材料であるHT-1化合物Mw=80,000をクロロベンゼンに0.5溶解した溶液を、1500rpm、30秒でスピンコート法により製膜した後、160°Cで30分間保持し、膜厚30nmの第2正孔輸送層とした。1.1第1発光層次に、下記発光層組成物1を、表1に記載の形状の一対のリップを有するダイコーター仕切り板は有さないを用いて、表1に記載の塗布条件Gap:500μm、塗布スピードCS:1m/minで塗布液の膜厚ウエット膜厚が5.3μmになるように吐出し、塗布後5秒後に0.5m/秒の窒素送風で乾燥させたのち120°Cで30分間保持し、膜厚40nmの発光層第1発光層を形成した。発光層組成物1発光ホストH-A0.69質量部青色ドーパントD-10.30質量部緑色ドーパントD-20.005質量部赤色ドーパントD-30.005質量部酢酸イソプロピル100質量部1.2第2発光層次に、下記発光層組成物2を、表1に記載の形状の一対のリップを有するダイコーター仕切り板は有さないを用いて、表1に記載の塗布条件Gap:500μm、塗布スピードCS:1m/minで塗布液の膜厚ウエット膜厚が5.3μmになるように吐出し、塗布後5秒後に05m/秒の窒素送風で乾燥させたのち120°Cで30分間保持し、膜厚40nmの発光層第2発光層を形成した。発光層組成物2発光ホストH-A0.89質量部青色ドーパントD-10.10質量部緑色ドーパントD-20.005質量部赤色ドーパントD-30.005質量部酢酸イソプロピル100質量部続いて、30mgのET-1化合物を4mlのテトラフルオロプロパノールTFPOに溶解した溶液を、1500rpm、30秒でスピンコート法により製膜した後、120°Cで30分間保持し、膜厚30nmの電子輸送層とした。続いて、基板を大気に曝露することなく真空蒸着装置へ取り付けた。また、モリブデン製抵抗加熱ボートにフッ化ナトリウムおよびフッ化カリウムを入れたものを真空蒸着装置に取り付け、真空槽を4×10-5Paまで減圧した後、前記ボートに通電して加熱してフッ化ナトリウムを0.02nm/秒で前記電子輸送層上に膜厚1nmの薄膜を形成し、続けて同様にフッ化カリウムを0.02nm/秒でフッ化ナトリウム上に膜厚1.5nmの電子注入層を形成した。引き続き、アルミニウム100nmを蒸着して陰極を形成し、サンプル101有機EL素子を作製した。2サンプル102~106の作製サンプル102~106の作製において、第1発光層、第2発光層を形成する際に、表1に記載の形状のリップを有するダイコーターを用いた。それ以外は、サンプル101と同様にして、サンプル102~106有機EL素子を作製した。なお、表中の下流側リップ幅基材と平行となる幅とは、詳細には、図2の接平面Pと平行となる下流側リップの幅である。また、表中の下流側リップの角度とは、詳細には図2のθである。また、表中のCSとは、塗布スピードであり、ダイコーターの基材に対する相対的な移動速度のことである。3発光ドーパント濃度分布の測定以上のようにして得られたサンプル101~106の発光層中に含まれる発光ドーパントの濃度分布を、TOF-SIMS飛行時間型二次イオン質量分析により分析し、膜厚方向でのIr分布を測定した。得られた結果は表2に示す通りで、サンプル101~106では、陽極側が最もドーパント濃度が高く、陰極側に向かって連続的に発光ドーパントの濃度が減少していた。≪サンプルの評価≫作製したサンプルについて、下記のようにして外部取り出し量子効率、発光寿命及び発光面内輝度ムラを評価した。1外部取り出し量子効率作製したサンプルに対し、2.5mA/cm2定電流を印加したときの外部取り出し量子効率を測定した。測定には分光放射輝度計CS-1000コニカミノルタセンシング製を用いた。なお、量子効率は、サンプル101の測定値を100としてこれに対する相対値で表した。2発光寿命作製したサンプルに対し、正面輝度1000cd/m2となるような電流を与え、連続駆動した。正面輝度が初期の半減値500cd/m2になるまでに掛かる時間発光寿命を求めた。測定には分光放射輝度計CS-1000コニカミノルタセンシング社製を用いた。なお、発光寿命は、サンプル101の測定値を100としてこれに対する相対値で表した。3輝度ムラ作製したサンプルに対し、2.5mA/cm2定電流を印加したときの発光面内輝度分布をPrometricサイバネットシステム社製で測定した。なお、輝度分布は、発光面を均等に40分割したときの各輝度の標準偏差で表わした。数値が低いほど、輝度ムラが少ないことを表す。なお、輝度ムラが少ないということは、塗布ムラが少ないということでもあり、つまり、塗布性に優れていると判断することができる。以上のようにして得られた量子効率、発光寿命、輝度ムラ塗布性の結果、および発光ドーパント濃度分布を表2に示す。4まとめ表2に記載の結果より明らかなように、下流側リップ角度が10~80°であるダイコーターを用いて製造したサンプル103、104、105は、量子効率、発光寿命特性に優れ、発光面積内の輝度ムラが少なく発光デバイスとして優れていることがわかる。≪サンプルの作製≫1サンプル201~203の作製サンプル201~203の作製において、第1発光層、第2発光層を形成する際に、表3に記載の塗布条件塗布スピードにより塗布を行った。それ以外は、実施例1のサンプル101と同様にして、サンプル201~203有機EL素子を作製した。2サンプル204~206の作製サンプル204~206の作製において、第1発光層、第2発光層を形成する際に、表3に記載の塗布条件塗布スピードにより塗布を行った。それ以外は、実施例1のサンプル103と同様にして、サンプル204~206有機EL素子を作製した。≪サンプルの評価≫1評価内容以上のようにして作製したサンプル201~206について、実施例1同様に、外部取り出し量子効率、発光寿命及び発光面内輝度ムラを評価した。なお、外部取り出し量子効率、発光寿命は実施例1のサンプル101の測定値を100としてこれに対する相対値で表した。結果を表4に示す。2まとめ表4に記載の結果より明らかなように、下流側リップ角度が0°であるダイコーターを用いて製造したサンプル101、201、202、203は、塗布速度が上昇するに従い、輝度ムラ塗布性が低下し、量子効率、発光寿命も低下している。一方、下流側リップ角度が30°であるダイコーターを用いて製造したサンプル103、204、205、206は、塗布速度が上昇しても、輝度ムラ塗布性、量子効率、発光寿命の低下は確認できない。特に、塗布速度が2m/min以上において、両者の差異は大きくなり本発明を適用する効果が大きいことがわかる。≪サンプルの作製≫1サンプル301~303の作製サンプル301~303の作製において、第1発光層、第2発光層を形成する際に、表5に記載の塗布条件Gap/hw、Gapにより塗布を行った。それ以外は、実施例1のサンプル101と同様にして、サンプル301~303有機EL素子を作製した。2サンプル304~306の作製サンプル304~306の作製において、第1発光層、第2発光層を形成する際に、表5に記載の塗布条件Gap/hw、Gapにより塗布を行った。それ以外は、実施例1のサンプル104と同様にして、サンプル304~306有機EL素子を作製した。≪サンプルの評価≫1評価内容以上のようにして作製したサンプル301~306について、実施例1同様に、外部取り出し量子効率、発光寿命及び発光面内輝度ムラを評価した。なお、外部取り出し量子効率、発光寿命は実施例1のサンプル101の測定値を100としてこれに対する相対値で表した。結果を表6に示す。2まとめ表6に記載の結果より明らかなように、下流側リップ角度が0°であるダイコーターを用いて製造したサンプル101、301、302、303は、キャピラリー数であるGap/hwが小さくなるに従い、輝度ムラ塗布性が低下し、量子効率、発光寿命も低下している。一方、下流側リップ角度が50°であるダイコーターを用いて製造したサンプル104、304、305、306は、Gap/hwが小さくなっても、輝度ムラ塗布性、量子効率、発光寿命の大幅な低下は確認できない。そして、Gap/hwが15以上の場合、輝度ムラ塗布性、量子効率、発光寿命の点において優れた効果を奏することがわかる。なお、Gap/hwが15未満の場合、両者の差異は大きくなり本発明を適用する効果が大きいこともわかる。"