"式Iを有する化合物:式中、Qはハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されていないC2-30オレフィン含有基であり、Aはフッ素置換C1-30アルキレン基、フッ素置換C3-30シクロアルキレン基、フッ素置換C6-30アリーレン基、もしくはフッ素置換C7-30アルキレン-アリーレン基であり、Zはスルホナート、スルホンアミドもしくはスルホンイミドを含むアニオン性基であり、並びにGは式IIを有し:式中、XはSもしくはIであり、各R0はハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されておらず、かつ独立してC1-30アルキル基、多環式もしくは単環式C3-30シクロアルキル基、多環式もしくは単環式C4-30アリール基、または前述の少なくとも1種を含む組み合わせである;XがSの場合には、R0基の1つは場合によっては、隣の1つのR0基に単結合によって結合されており、かつaは2もしくは3である;XがIの場合にはaは2であり、もしくはXがSの場合にはaは3である。式IIIもしくはIVを有する請求項1に記載の化合物:式中、R1およびR2はそれぞれ独立して、H、F、C1-6アルキルもしくはC1-6フルオロアルキルであり、Aはフッ素置換C1-30アルキレン基、フッ素置換C3-30シクロアルキレン基、フッ素置換C6-30アリーレン基、もしくはフッ素置換C7-30アルキレン-アリーレン基であり、Gは式IIのカチオンである。Aが-[CR32x-C=OO]b-CR42yCF2z-基または、o-、m-もしくはp-置換-C6F4-基であり、各R3およびR4はそれぞれ独立してH、F、C1-6フルオロアルキル、もしくはC1-6アルキルであり、bは0もしくは1であり、xは1~10の整数であり、yおよびzは独立して0~10の整数であり、合計yzは少なくとも1である、請求項1に記載の化合物。式Iの化合物が:式中、各R1は独立して、H、F、C1-6アルキルもしくはC1-6フルオロアルキルであり、Gは式IIのカチオンであるまたは上記の少なくとも1種を含む組み合わせである、請求項1に記載の化合物。Gが式V、VIもしくはVIIを有する請求項1に記載の化合物:式中、XはIもしくはSであり、各R5、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して、ヒドロキシ、ニトリル、ハロゲン、C1-10アルキル、C1-10フルオロアルキル、C1-10アルコキシ、C1-10フルオロアルコキシ、C6-20アリール、C6-20フルオロアリール、C6-20アリールオキシ、またはC6-20フルオロアリールオキシであり、Ar1およびAr2は独立してC10-30縮合もしくは単結合多環式アリール基であり;R13はXがIの場合には孤立電子対であり、またはXがSの場合にはC6-20アリール基である;pは2または3の整数であり、XがIの場合にはpは2であり、XがSの場合にはpは3であり、qおよびrはそれぞれ独立して0~5の整数であり、sおよびtはそれぞれ独立して0~4の整数である。式Iの化合物が下記式を有する化合物から選択される請求項1に記載の化合物:式中、R1はH、F、C1-6アルキルもしくはC1-6フルオロアルキルである。請求項1に記載の化合物から形成される第1重合単位、酸感受性官能基を含む第2重合単位、および場合によって、極性基含有第3重合単位を含むコポリマー。第2重合単位が下記:式中、R9はH、F、C1-6アルキルもしくはC1-6フルオロアルキルであるの酸感受性モノマー、または、前記の少なくとも1種を含む組み合わせから形成され、並びに第3重合単位が下記:式中、R10はH、F、C1-6アルキルもしくはC1-6フルオロアルキルであるから選択される極性モノマー、または、前記の少なくとも1種を含む組み合わせから形成される請求項6に記載のコポリマー。請求項6に記載のコポリマーを含むフォトレジスト組成物。a基体表面上のパターン形成される1以上の層を有する基体、およびbパターン形成される前記1以上の層上の、請求項9に記載のフォトレジスト組成物の層を含む、コーティングされた基体。a請求項9に記載のフォトレジスト組成物の層を基体上に適用し、bフォトレジスト組成物層を活性化放射線にパターン様に露光し、およびc露光されたフォトレジスト組成物層を現像してレジストレリーフ像を提供することを含む、電子デバイスを形成する方法。放射線が極端紫外線もしくはeビーム放射線である請求項11に記載の方法。上記文献に開示された光酸発生剤は、例えば、トリフェニルスルホニウムカチオンベースの光酸発生剤と比べて改良されたガス放出を示すが、実施例特に実施例1および9はこれら光酸発生剤を用いて得られたガス発生における改良が、ライン幅ラフネスを悪化させる場合もあることを示す。先行技術の上記および他の欠点は、式Iを有する化合物によって克服されうる:式中、Qはハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されていないC2-30オレフィン含有基であり、Aはフッ素置換C1-30アルキレン基、フッ素置換C3-30シクロアルキレン基、フッ素置換C6-30アリーレン基、もしくはフッ素置換C7-30アルキレン-アリーレン基であり、Zはスルホナート、スルホンアミドもしくはスルホンイミドを含むアニオン性基であり、並びにGは式IIを有し:式中、XはSもしくはIであり、各R0はハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されておらず、かつ独立してC1-30アルキル基;多環式もしくは単環式C3-30シクロアルキル基;多環式もしくは単環式C4-30アリール基;または前述の少なくとも1種を含む組み合わせである;XがSの場合には、R0基の1つは場合によっては、隣の1つのR0基に単結合によって結合されており、かつaは2もしくは3である;XがIの場合にはaは2であり、もしくはXがSの場合にはaは3である。コポリマーは上記化合物を含む。フォトレジスト組成物は前記コポリマーを含む。コーティングされた基体は、基体表面上のパターン形成される1以上の層を有する基体、およびパターン形成される前記1以上の層上の前記フォトレジスト組成物の層を含む。また、電子デバイスを形成する方法は、前記フォトレジスト組成物の層を基体上に適用し;フォトレジスト組成物層を活性化放射線にパターン様にpatternwise露光し;および露光されたフォトレジスト組成物層を現像してレジストレリーフ像を提供することを含む。本明細書において開示されるのは、活性化放射線に露光される場合に、特に、改良されたリソグラフィのための放射線、例えば、eビーム、x線および13.5nmの波長を有する極端紫外線EUV放射線に露光されるフォトレジスト組成物に使用される場合に、低いガス放出特性を有する新規の重合性光酸発生剤本明細書においてはPAGである。この光酸発生剤はこれら化学線に対して高い感度を有し、かつ付加重合したフォトレジストポリマーの骨格に、オレフィンエステル重合性基によって結合されるオニウムカチオンの塩である。これらPAGの分解生成物は、フォトレジスト組成物、露光および処理の類似の条件下で、例えば、ジフェニルヨードニウムもしくはトリフェニルスルホニウムカチオンを有する従来のPAGと比べて低減される。本明細書において使用される場合、オニウムとは、ヨードニウムもしくはスルホニウムカチオンをいう。また、本明細書において使用される場合、置換とはハロゲンすなわち、F、Cl、Br、I、ヒドロキシ、アミノ、チオール、カルボキシル、カルボキシラート、アミド、ニトリル、チオール、スルフィド、ジスルフィド、ニトロ、C1-10アルキル、C1-10アルコキシ、C6-10アリール、C6-10アリールオキシ、C7-10アルキルアリール、C7-10アルキルアリールオキシ、または前述の少なくとも1種を含む組み合わせのような置換基を含むことを意味する。本明細書において式に関して開示された基もしくは構造は、他に特定されない限りは、または得られた構造の所望の特性にその置換が有意に悪影響を及ぼさない限りは、そのように置換されることができると理解される。また、本明細書において使用される場合、メタアクリラートとはアクリラートもしくはメタクリラートを意味し、他に特定されない限りはこれらのいずれかに限定されない。このPAGは、アニオンがフッ素化スルホン酸、スルホンアミドもしくはスルホンイミドの共役塩基であってさらに重合性基を含む、カチオン-アニオン構造を有する。カチオンはアリール置換オニウムすなわち、二置換ヨードニウムもしくは三置換スルホニウムカチオンであり、置換基であるアリール基は、例えばオニウムを含む複素環構造において、もしくは縮合芳香環システムの部分として、1以上の隣のアリール基に結合しているか、または別々で結合していない。ポリマー結合光酸発生剤は式Iを有する:式I中、Qはハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されていないC2-30オレフィン含有基である。好ましくは、Qは重合性オレフィンを含み、またはヒドロキシ基と反応してアセタールもしくはケタール構造を形成できる基を含む。また、式I中、Aは連結基、例えば、フッ素置換C1-30アルキレン基、フッ素置換C3-30シクロアルキレン基、フッ素置換C6-30アリーレン基、もしくはフッ素置換C7-30アルキレン-アリーレン基である。Gは光分解性カチオンである。連結基Aはポリマー結合PAGに好適なプラットフォームおよび機能性をもたらすあらゆる連結基であり得る。好ましくは、Aはo-、m-もしくはp-置換-C6F4-基、o-、m-もしくはp-置換-C6H4-基、o-、m-もしくはp-置換-OCH22k-C6F4-基ここで、kは1~10の整数である、o-、m-もしくはp-置換-C6H4-基、または-[CR32x-C=OO]b-CR42yCF2z-基ここで、R3およびR4はそれぞれ独立してH、F、C1-6フルオロアルキル、もしくはC1-6アルキルであり、bは0もしくは1であり、xは1~10の整数であり、yおよびzは独立して0~10の整数であり、合計yzは少なくとも1であるである。また、ポリマー結合PAGにおいて、Zはアニオン性基であり、例えば、スルホナート-SO3-、スルホンアミドのアニオン-SO2N-R’、ここでR’はC1-10アルキルもしくはC6-20アリールである、またはスルホンイミドのアニオンである。Zがスルホンイミドである場合には、このスルホンイミドは一般構造A-SO2-N--SO2-Yここで、Aは上述の通りであり、Yは直鎖もしくは分岐C1-10フルオロアルキル基であるを有する非対称スルホンイミドであり得る。好ましくは、Y基はC1-4ペルフルオロアルキル基であり、かつトリフルオロメタンスルホン酸もしくはペルフルオロブタンスルホン酸のような対応する過フッ素化アルカンスルホン酸から得られる。Qはラジカル重合性基、例えば、ビニルカルボニルもしくはビニル芳香族基であり得る。ポリマー結合PAGは式IIIもしくはIVのものでありうる:式中、R1およびR2はそれぞれ独立して、H、F、C1-6アルキルもしくはC1-6フルオロアルキルである。また、式IIIおよびIVにおいては、Aはフッ素置換C1-30アルキレン基、フッ素置換C3-30シクロアルキレン基、フッ素置換C6-30アリーレン基、もしくはフッ素置換C7-30アルキレン-アリーレン基であり、Gは式IIのカチオンである。式Iの典型的なポリマー結合PAGには:式中、R1およびR2はそれぞれ独立して、H、F、C1-6アルキルもしくはC1-6フルオロアルキルであり、kは0~4の整数であり、lは0~3の整数であり、Gは式IIのカチオンであるまたは上述の少なくとも1種を含む組み合わせが挙げられる。Gは式IIのアリール置換オニウムカチオンであり得る:式II中、Xはオニウムへテロ原子であり、好ましくはSもしくはIである。各R0はハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されておらず、かつ等しくcommonlyXに結合しており、かつ独立してC1-30アルキル基、多環式もしくは単環式C3-30シクロアルキル基、多環式もしくは単環式C6-30アリール基、または前述の少なくとも1種を含む組み合わせである。場合によっては、XがSである場合には、式IIにおけるGのR0基の1つは隣の1つのR0基に単結合によって結合されている。例えば、例えば、スルホニウムへテロ原子中心に等しく結合した2つの隣り合うフェニル基は、フェニル基とスルホニウムへテロ原子との間の結合位置に対してオルトでもしくはメタ、もしくはパラ、または1つのアリールがフェニルであり隣のアリールが異なっている、例えば、ナフチル、アントラシルなどである場合に独立して異なる結合位置で単結合によって互いにさらに結合されうる。この例におけるこの方法においては、オルト-二置換ビフェニル縮合5員環が得られることができ、この場合ビフェニルが等しくスルホニウムへテロ原子に結合している。また、式IIにおいては、aは2もしくは3であり、XがIの場合にはaは2であり、もしくはXがSの場合にはaは3である。上述の場合、R0基の数は独立したR0基を言及することができ、または2つのR0基が互いに結合しかつXに結合されている場合のXに結合したR0基の1/2を言及することができることがさらに認識される。好ましくは、Gは下記式V、VIもしくはVIIを有する:式中、XはIもしくはSであり、各R5、R6、R7およびR8はそれぞれ独立して、ヒドロキシ、ニトリル、ハロゲン、C1-10アルキル、C1-10フルオロアルキル、C1-10アルコキシ、C1-10フルオロアルコキシ、C6-20アリール、C6-20フルオロアリール、C6-20アリールオキシ、またはC6-20フルオロアリールオキシであり、Ar1およびAr2は独立してC10-30縮合もしくは単結合singlybonded多環式アリール基であり;R13はXがIの場合には孤立電子対であり、またはXがSの場合にはC6-20アリール基である;並びに、pは2または3の整数であり、XがIの場合にはpは2であり、XがSの場合にはpは3であり、qおよびrはそれぞれ独立して0~5の整数であり、sおよびtはそれぞれ独立して0~4の整数である。一般式Iの典型的なポリマー結合PAGには、以下のものが挙げられる:式中、R1はH、F、C1-6アルキルもしくはC1-6フルオロアルキルである。本明細書において開示されるPAGは好ましくはEUVリソグラフィのためのフォトレジストにおいて有用であり、EUV放射線に露光される場合に、他の波長の放射線を超えて、特異的な吸収および分解特性を望ましく有することができる。例えば、EUV放射線源は、EUV領域の放射スペクトル約12~14nm、使用される典型的な放射は13.4~13.5nmであるに加えて、光酸発生剤が感受性であり得るより長い波長、例えば、248nmおよび/または193nmこれらはDUVおよび193nmリソグラフィに使用されるKrFおよびArFエキシマレーザーについての放射バンドでもあるで放射することができる。本明細書に開示されたPAGの感度は、当該技術分野において帯域外Out-of-BandOOB放射波長と称される他の輝線に対するよりもEUVに対して高く、すなわち、EUV波長でのPAGのフォトスピードは、トリフェニルスルホニウムTPSPAGもしくはジ-t-ブチルフェニルヨードニウムPAGのようなより長い波長248もしくは193nmで典型的に使用されるPAGのフォトスピードよりも低いすなわち、より速い。本明細書において開示されたPAGは、248もしくは193nm露光条件に対する、EUV露光条件でのこのPAGを使用して調製されたフォトレジストについてのクリアのための線量ドース-ツー-クリア:dose-to-clearE0、mJ/cm2単位で報告されるの比率E0-EUV/E0-248もしくはE0-EUV/E0-1932.0以下、具体的には1.5以下、具体的には1.3以下、より具体的には1.1以下、およびさらにより具体的には1.0以下として報告される、248もしくは193nm放射線に対するOOB感度を好ましくは有することができる。このPAGはヨードニウムもしくはスルホニウムPAGを製造するのに使用される好適な一般的方法によって製造されうる。本明細書に開示されるヨードニウム光酸発生剤は一般的にいくつかの様々な方法のいずれかによって製造されうる。例えば、ビス-アリールヨードニウム塩は、強酸性/脱水条件例えば、硫酸および無水酢酸下で、電子供与基、例えば、アルキル基、オレフィン基、ヒドロキシ基、エーテル基、他の芳香族基、例えば、電子供与基で置換されたフェニル基例えば、フェノキシ基など、および他の類似の基で置換されたC6-30アリール基と、ヨウ素酸カリウムKIO3のようなヨウ素酸塩との単純な縮合によって、ビス-アリール置換ヨードニウム塩前駆体を提供することにより製造されうる。より高い収率で、対称置換および非対称置換双方のヨードニウム塩前駆体を製造するのに有用な他の方法には、過ホウ酸ナトリウムNaBO3および酢酸の存在下でのヨウ化アリールの酸化、そして電子供与基を有する第2のヨウ化アリールとの縮合、またはKoser’s試薬アリールヒドロキシヨードニウムトシラート、すなわち、Ar-IOHOTsとの縮合が挙げられる。スルホニウム光酸発生剤は概して、例えば、スルフィニル基とアリールもしくはアルキル化合物との縮合を促進させるのに好適な脱水剤もしくはルイス酸例えば、硫酸もしくはEaton’s試薬の存在下で、スルフィニルジアリール化合物すなわち、上述のようなC6-30アリール基、好ましくは電子供与基で置換されたC6-30アリール基から製造されたジアリールスルホキシドを別の基、例えば、C6-30アリール化合物もしくはC1-30アルキル基、好ましくは電子供与基を有するものと化合させて、カチオンを生じさせることにより製造されうる。スルフィニルジアリール化合物の縮合は置換基との分子内縮合でもあり得ることが認識される。これらの方法のいずれかによって製造されるヨードニウムもしくはスルホニウム塩はさらに、好適な酸もしくは酸の塩、イミド、もしくはアミドを使用するメタセシスアニオン交換にかけられて、所望のアニオン例えば、式Iについて記載されるような、一般式Q-O-A-Zのアニオンを伴う対応するヨードニウムもしくはスルホニウム塩を提供することができる。好ましくは、メタセシスに使用されるアニオンはスルホン酸もしくはその塩、またはスルホンアミドもしくはスルホンイミドの塩である。本明細書において上述のPAG化合物はフォトレジストを製造するのに有用である。ある実施形態においては、フォトレジストはPAG化合物と、酸感受性官能基を含むポリマーとを含む。本明細書において上述されるポリマー結合PAG化合物はコポリマーを製造するのに有用である。このコポリマーは好ましくはフォトレジストにおいて有用ないかなるコポリマーであってもよく、限定されないが、例えば、DUV248nmおよび198nm露光のための化学増幅型ポジティブもしくはネガティブトーンフォトレジストに使用されうるフォトレジストを製造するのに有用なポリマーが考えられる。しかし、より好ましくは、コポリマーは改良されたマイクロリソグラフィのための化学線、例えば、本明細書において上述のようなx線、eビームもしくはEUVで像形成するためのフォトレジストを製造するのに有用なものである。この文脈で使用されるコポリマーは1種のコポリマー、1種より多いコポリマー、もしくは1種以上のコポリマーとフォトレジストにおいて有用な別の1種以上のポリマーとの組み合わせを意味しうると理解される。好ましいコポリマーは、それぞれがコポリマーに異なる特性を付与する2種以上の重合単位の組み合わせを含むことができる。好ましくは、コポリマーは、ポリマー結合PAG化合物から形成される第1重合単位、酸感受性官能基を含む第2重合単位を含み、および場合によっては、塩基可溶性官能基である極性基含有第3重合単位を含む。上述のポリマー結合PAG化合物を含む第1単位に加えて、第2重合単位は酸感受性官能基を有するC10-30酸感受性オレフィンエステルモノマーから形成されうる。酸感受性基はオレフィンエステルが結合される第三級アルキル中心を有する環式アルキル基、多環式アルキル基、もしくは芳香族基でありうる。第2重合単位は下記式:を有する化合物、または、前述の少なくとも1種を含む組み合わせから形成されることができ、式中、R9はH、F、C1-6アルキルもしくはC1-6フルオロアルキルである。好ましい典型的なモノマーには、上記構造におけるR9がHもしくは-CH3基であるものすなわち、メタアクリラート基が挙げられる。第3重合単位は塩基可溶性官能基を有するC10-30塩基可溶性オレフィンエステルモノマーから形成されうる。塩基可溶性官能基は、ヘキサフルオロイソプロパノール基および場合によってはヒドロキシのような第2の極性基を有する環式アルキル基もしくは多環式アルキル基のオレフィンエステル、または塩基可溶性官能基としてヘキサフルオロイソプロパノール基もしくはフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族基のオレフィンエステルもしくはビニル芳香族であることができる。好ましくは、第3重合単位は下記式:の塩基可溶性モノマー、または前述の少なくとも1種を含む組み合わせから形成されることができ、式中、R10はH、F、C1-6アルキルもしくはC1-6フルオロアルキルである。好ましい典型的なモノマーには、上記構造におけるR10がHもしくは-CH3基であるものすなわち、メタアクリラート基が挙げられる。上で特定されたモノマーの第1および第2の重合単位を含む全てのコポリマーは、本明細書に開示された光酸発生剤を伴うことが意図されると認識される。ポリマー中に、例えば、C8-20ビニル芳香族基、例えば、スチレン、4-ヒドロキシスチレンなど;C7-20環式オレフィン、例えば、ノルボルネンおよび置換ノルボルネン;C4-20オレフィン無水物、例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸など;他のC10-30メタアクリラートモノマー、例えば、ラクトン官能基を有するもの、例えば、アルファ-ガンマブチロラクトンメタアクリラートなど、並びに前述の少なくとも1種を含む組み合わせなどに由来するものをはじめとする追加のモノマー単位がさらに含まれうることが認識される。フォトレジスト組成物は上述のポリマー結合PAGを有するコポリマーを含む。フォトレジストはこのPAG化合物およびポリマーに加えて、添加剤、例えば、光分解性塩基、および界面活性剤などを含むこともできる。他の添加剤、例えば、溶解速度抑制剤、増感剤、追加のPAGなども含まれうる。フォトレジスト成分は分配およびコーティングのために溶媒中に溶解される。フォトレジストは光分解性塩基を含むことができる。塩基材料、好ましくは光分解可能カチオンのカルボキシラート塩の包含は酸分解性基からの酸の中和のためのメカニズムを提供し、そして光発生酸の拡散を制限し、それによりフォトレジストにおける向上したコントラストを提供する。光分解性塩基には、弱酸pKa>2、例えば、C1-20カルボン酸などのアニオンと対になった、光分解性カチオンおよび好ましくはPAGを製造するのにも有用なものが挙げられる。典型的なこのカルボン酸には、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酒石酸、コハク酸、シクロヘキシルカルボン酸、安息香酸、サリチル酸、および他のこのようなカルボン酸が挙げられる。光分解性塩基には、カチオンがトリフェニルスルホニウムもしくは下記のいずれかである、以下の構造のカチオン/アニオンペアが挙げられる:式中、Rは独立して、H、C1-20アルキル、C6-20アリールもしくはC6-20アルキルアリールであり、アニオンはであり、式中、Rは独立してH、C1-20アルキル、C1-20アルコキシ、C6-20アリールもしくはC6-20アルキルアリールである。他の光分解性塩基には、非イオン性光分解性発色団、例えば、2-ニトロベンジル基およびベンゾイン基などをベースにしたものが挙げられる。典型的な光塩基発生剤はオルト-ニトロベンジルカルバマートである。代替的にもしくは追加的に、他の添加剤には、光分解性でない塩基であるクエンチャーquencher、例えば、ヒドロキシド、カルボキシラート、アミン、イミンおよびアミドをベースにしたものが挙げられうる。好ましくは、このクエンチャーには、C1-30有機アミン、イミンもしくはアミドが挙げられ、または強塩基例えば、ヒドロキシドもしくはアルコキシドまたは弱塩基例えば、カルボキシラートのC1-30第四級アンモニウム塩であり得る。典型的なクエンチャーには、アミン、例えば、Troger’s塩基、ヒンダードアミン、例えば、ジアザビシクロウンデセンDBUもしくはジアザビシクロノネンDBM、またはイオン性クエンチャー、例えば、第四級アルキルアンモニウム塩、例えば、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドTBAHもしくは乳酸テトラブチルアンモニウムが挙げられる。界面活性剤には、フッ素化および非フッ素化界面活性剤が挙げられ、好ましくは非イオン性である。典型的なフッ素化非イオン性界面活性剤には、ペルフルオロC4界面活性剤、例えば、FC-4430およびFC-4432界面活性剤3Mコーポレーションから入手可能;並びに、フルオロジオール、例えば、POLYFOXPF-636、PF-6320、PF-656およびPF-6520フルオロ界面活性剤Omnovaからが挙げられる。フォトレジストは、フォトレジストに使用される成分を溶解し、分配し、そしてコーティングするのに概して好適な溶媒をさらに含む。典型的な溶媒には、アニソール、アルコール、例えば、乳酸エチル、1-メトキシ-2-プロパノールおよび1-エトキシ-2プロパノール、エステル、例えば、酢酸n-ブチル、酢酸1-メトキシ-2-プロピル、メトキシエトキシプロピオナート、エトキシエトキシプロピオナート、ケトン、例えば、シクロヘキサノンおよび2-ヘプタノン、並びに上記溶媒の少なくとも1種を含む組み合わせが挙げられる。本明細書に開示されるフォトレジスト組成物は、固形分の全重量を基準にして50~99重量、具体的には55~95重量、より具体的には60~90重量、およびさらにより具体的には65~90の量でコポリマーを含むことができる。フォトレジストにおける成分のこの文脈において使用されるコポリマーは、本明細書に開示されるコポリマーのみ、またはこのコポリマーとフォトレジストにおいて有用な別のポリマーとの組み合わせを意味しうることが理解されるであろう。光分解性塩基は、固形分の全重量を基準にして0.01~5重量、具体的には0.1~4重量、さらにより具体的には0.2~3重量の量でフォトレジスト中に存在しうる。界面活性剤は、固形分の全重量を基準にして0.01~5重量、具体的には0.1~4重量、およびさらにより具体的には0.2~3重量の量で含まれることができる。クエンチャーは、固形分の全重量を基準にして、例えば、0.03~5重量の比較的少量で含まれることができる。他の添加剤は、固形分の全重量を基準にして30重量以下、具体的には20以下、もしくはより具体的には10以下の量で含まれうる。フォトレジスト組成物の全固形分量は固形分および溶媒の合計重量を基準にして0.5~50重量、具体的には1~45重量、より具体的には2~40重量、およびさらにより具体的には5~35重量でありうる。固形分は、溶媒を除く、コポリマー、光分解性塩基、クエンチャー、界面活性剤、添加されるPAG、および任意成分の添加剤を含むと理解される。本明細書において開示されたポリマー結合PAGを含むフォトレジストはフォトレジストを含む層を提供するために使用されることができ、この層は比較のフォトレジストポリマー結合PAGを含まないが他のことは同じであるポリマーを含み、およびポリマー結合でない光酸発生剤、例えば、トリフェニルスルホニウムペルフルオロブタンスルホナートを含むを含む層について得られる濃度よりも低い濃度で揮発性分解生成物を生じさせる。同じ条件下でEUV放射線に露光された場合には、残留ガス分析RGAもしくは膜収縮のような方法によって決定されると、ポリマー結合PAGフォトレジストについての揮発性分解生成物の量はこの比較のよりも少ない。コーティングされた基体はポリマー結合PAGを含むフォトレジストから形成されうる。このコーティングされた基体はa基体表面上のパターン形成される1以上の層を有する基体、およびbパターン形成される1以上の層上の、ポリマー結合PAGを含むフォトレジスト組成物の層を含む。基体は任意の寸法および形状であることができ、好ましくはフォトリソグラフィに有用なもの、例えば、ケイ素、二酸化ケイ素、シリコンオンインシュレータsilicon-on-insulator;SOI、ストレインドシリコンstrainedsilicon、ガリウムヒ素、コーティングされた基体、例えば、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化チタン、窒化タンタルでコーティングされた基体、超薄型ゲートultrathingate酸化物、例えば、酸化ハフニウム、金属もしくは金属コーティングされた基体、例えば、チタン、タンタル、銅、アルミニウム、タングステン、これらの合金およびこれらの組み合わせでコーティングされた基体である。好ましくは、本明細書においては、基体の表面はパターン形成される臨界寸法層、例えば、1以上のゲートレベル層もしくは半導体製造のための基体上の他の臨界寸法層を含む。このような基体には、例えば、直径が20cm、30cmもしくはより大きい寸法、またはウェハ製造に有用な他の寸法を有する円形ウェハとして形成されるケイ素、SOI、ストレインドシリコンおよび他のこのような基体材料が好ましくは挙げられうる。さらに、電子デバイスを形成する方法はaポリマー結合PAGを含むフォトレジスト組成物の層を基体の表面上に適用し、bフォトレジスト組成物層を活性化放射線にパターン様に露光し、およびc露光されたフォトレジスト組成物層を現像してレジストレリーフ像を提供することを含む。適用はスピンコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティング、ドクターブレーディングなどをはじめとするあらゆる好適な方法によって達成されうる。フォトレジストの層の適用は好ましくは、回転するウェハ上にフォトレジストが分配されるコーティングトラックを使用して、溶媒中のフォトレジストをスピンコーティングすることにより達成される。分配中に、ウェハは4,000rpm以下、好ましくは約500~3,000rpm、およびより好ましくは1,000~2,500rpmの速度で回転させられうる。コーティングされたウェハは回転させられて溶媒を除去し、そしてホットプレート上でベークされて、残留する溶媒を除去し、そして膜から自由体積を除いて膜を均一な高密度にする。次いで、ステッパのような露光ツールを用いてパターン様露光が行われ、露光ツールにおいてはパターンマスクを通して膜が照射され、それによりパターン様に露光される。この方法は好ましくは、極端紫外線EUVもしくはeビーム放射線をはじめとする高解像が可能な波長で活性化放射線を発生させる改良型の露光ツールを使用する。活性化放射線を使用する露光は露光領域でPAGを分解して、酸および分解副生成物を発生させ、次いでその酸はポリマーの化学変化をもたらす酸感受性基をデブロッキングdeblockingして塩基可溶性基を生じさせるか、あるいは露光領域において架橋反応を触媒することが認識される。この露光ツールの解像度は30nm未満であり得る。次いで、露光された層を、その膜の露光部分を選択的に除去できるこの場合、フォトレジストはポジティブトーンである、またはその膜の未露光部分を選択的に除去できるこの場合、フォトレジストは露光領域で架橋可能となり、すなわちネガティブトーンである好適な現像剤で処理することにより、露光されたフォトレジスト層の現像が達成される。好ましくは、フォトレジストは、酸感受性脱保護可能な基を有するポリマーをベースにしたポジティブトーンであり、そして現像剤は好ましくは金属イオンを含まない、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド溶液、例えば、水性の0.26Nのテトラメチルアンモニウムヒドロキシドである。パターンは現像によって形成される。1以上のこのパターン形成プロセスに使用される場合には、フォトレジストは電子および光電子デバイス、例えば、メモリデバイス、プロセッサチップCPU、グラフィックチップおよび他のこのようなデバイスを製造するために使用されることができる。本発明は以下の実施例によってさらに例示される。本明細書において使用される全ての化合物および試薬は、手順が以下に示されているもの以外は市販されている。比較PAG1はセントラルガラスCentralGlassから商業的に得られた。構造的な特徴付けはOMNI-PROBEを用いるINOVA500NMRスペクトロメータプロトンについて500MHzで操作する、またはGEMINI300NMRスペクトロメータフッ素について282MHzで操作するそれぞれ、Varianからにおける核磁気共鳴NMRスペクトル分析によって行われた。ポリマー組成はNOE抑制技術すなわち、Crアセチルアセトナート3およびパルスディレイ>5秒を使用する125MHzでの定量的13CNMRによって決定された。分子量Mwおよび多分散度PDは、1mg/mlのサンプル濃度、および0.02重量のLiNO3を含むテトラヒドロフランで、流速1ml/分で溶離させた、ポリスチレン標準物質を使用して較正された普遍的較正曲線を用いる、架橋スチレン-ジビニルベンゼンカラムを使用するゲル浸透クロマトグラフィGPCによって決定された。トリフェニルスルホニウム2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシベンゼンスルホナート比較PAG2の合成。4-ヒドロキシ-2,3,5,6-テトラフルオロベンゼンスルホン酸ナトリウム50g、0.1865molが400mLのトリフルオロ酢酸中に懸濁された。メタクリル酸40g、0.4646molが添加され、この混合物が油浴中で70°Cに加熱された。75mLのトリフルオロ酢酸無水物が全て一度に添加され、この混合物が70°Cで2時間攪拌された。この反応混合物は冷却され、ヒドロキノンの結晶約12.5mgが重合を禁止するために添加され、減圧下で溶媒が除去された。このようにして得られた粗生成物のペーストが約125mLのアセトン中に溶解され、ヘプタン中にゆっくりと注がれた。濾別によって沈殿物が集められ、一晩空気乾燥させられ、そしてさらに精製することなく次の工程に使用された。1HNMR500MHz、アセトン-d6、δppm:6.5s,1H、6.1s,1H、2.1s,3H。19FNMR300MHz、アセトン-d6、δppm:-156s,2F、-140.5s,2F。2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム52.0g、0.1516molおよび臭化トリフェニルスルホニウム42.50g、0.1238molの混合物に300mLの蒸留脱イオン水および300mLのCH2Cl2を添加した。この反応混合物を室温で週末にわたって攪拌した。攪拌が停止させられ、有機層が単離され、水酸化アンモニウム1水溶液175mLで2回洗浄され、蒸留脱イオン水250mLで5回洗浄され、ろ過された。ヒドロキノンの結晶約12.5mgが添加され、減圧下で溶媒が完全に蒸留されて、淡黄色オイルとして生成物を得た。この生成物はさらなる使用のためにアセトニトリル中で50重量に溶解された。1HNMR500MHz、アセトン-d6、δppm:7.8m,15H、6.5s,1H、6.1s,1H、2.1s,3H。19FNMR300MHz、アセトン-d6、δppm:-157s,2F、-140s,2F。t-ブチルフェニルジフェニルスルホニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイル-オキシエタン-1-スルホナートPAG1の合成。1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイル-オキシエタン-1-スルホン酸トリエチルアンモニウム5.00g、15.1mmolおよび臭化t-ブチルフェニルジフェニルスルホニウム6.00g、15.0mmolが、30mLのジクロロメタンおよび30mLの脱イオン水と共に、100mL丸底フラスコに入れられた。この混合物は激しく一晩攪拌された。攪拌が停止させられ、この混合物は2つの透明な層に別れ、有機相は30mLの0.1塩酸水溶液で1回洗浄され、そして30mLの脱イオン水で4回洗浄された。ヒドロキノン1mgが添加され、ロータリーエバポレーションによってジクロロメタンが除かれ、無色の粘稠オイルとして生成物を得た7.2g、87収率。このオイルはさらなる使用のためにアセトニトリル中で40重量に溶解された。1HNMR500MHz、アセトン-d6δ7.9m,14H、6.1s,1H、5.7s,1H、4.7m,2H、1.9s,3H、1.3s,9H。19FNMR300MHz、アセトン-d6δ-115.7s,2F。t-ブチルフェニルフェニルヨードニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイル-オキシエタン-1-スルホナートPAG2の合成。1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイル-オキシエタン-1-スルホン酸トリエチルアンモニウム5.00g、15.1mmolおよび酢酸t-ブチルフェニルフェニルヨードニウム5.98g、15.1mmolが、30mLのジクロロメタンおよび30mLの蒸留脱イオン水と共に、100mL丸底フラスコに入れられた。この混合物は激しく一晩攪拌され、次いで停止させられ、そしてこの混合物は2つの透明な層に別れ、有機相は30mLの0.1w/w塩酸水溶液で1回洗浄され、そして30mLの脱イオン水で4回洗浄された。ヒドロキノン1mgが添加され、ロータリーエバポレーションによってジクロロメタンが除かれ、無色の粘稠オイルとして生成物を得た7.6g、89収率。このオイルはアセトニトリル中で50重量に溶解された。1HNMR500MHz、アセトン-d6δ8.4d,2H、8.3d,2H、7.7t,1H、7.6m,4H、6.2s,1H、5.7s,1H、4.7m,2H、1.9s,3H、1.3s,9H。19FNMR300MHz、アセトン-d6δ-115.4s,2F。ジt-ブチルフェニルヨードニウム2,3,5,6-テトラフルオロ-1-メタクリロイル-オキシベンゼン-4-スルホナートPAG3の合成。4-ヒドロキシ-2,3,5,6-テトラフルオロベンゼンスルホン酸ナトリウム50g、0.1865molが400mLのトリフルオロ酢酸中に懸濁された。メタクリル酸40g、0.4646molが添加され、この混合物が油浴中で70°Cに加熱された。75mLのトリフルオロ酢酸無水物が全て一度に添加され、この混合物が70°Cで2時間攪拌された。この反応混合物は室温まで冷却された。、ヒドロキノンの結晶約12.5mgが添加され、減圧下で溶媒が完全に蒸留された。このようにして得られた粗生成物のペーストが約125mLのアセトン中に溶解され、ヘプタン中にゆっくりと注がれた。濾別によって沈殿生成物が集められ、一晩空気乾燥させられ、そしてさらに精製することなく使用された。19FNMR300MHz、アセトン-d6、δppm:-164.40s,2F、-142.4s,2F。1HNMR500MHz、アセトン-d6、δppm:6.47s,1H、6.07s,1H、2.07s,3H。2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム10.0g、0.0297molおよび酢酸ジ-tert-ブチルフェニルヨードニウム11.43g、0.0253molの混合物に60mLの蒸留脱イオン水および60mLのCH2Cl2を添加した。この反応混合物を室温で16時間攪拌した。有機層が脱イオン水で5回洗浄され、硫酸ナトリウムで乾燥させられ、ろ過された。ヒドロキノンの結晶約12.5mgが添加され、減圧下で溶媒が除去された、白色粉体として生成物を得た。1HNMR500MHz、アセトン-d6、δppm:8.25d,4H、7.62d,4H、6.48s,1H、6.08s,1H、2.07s,3H、1.34m,18H。19FNMR300MHz、アセトン-d6、δppm:-139.95s,2F、-156.32s,2F。フェニルジベンゾチオフェニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタン-1-スルホナートPAG4の合成。1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタン-1-スルホン酸トリエチルアンモニウム4.00g、12.1mmolおよび臭化フェニルジベンゾチオフェニウム4.50g、31.2mmolが、30mLのジクロロメタンおよび30mLの蒸留脱イオン水と共に、100mL丸底フラスコに入れられた。この混合物は激しく一晩攪拌された。攪拌が停止させられ、この混合物は2つの透明な層に別れ、有機相は30mLの1塩酸水溶液で2回洗浄され、そして30mLの蒸留脱イオン水で5回洗浄された。ヒドロキノン1mgが添加され、ロータリーエバポレーションによってジクロロメタンが除かれ、固体として生成物を得た3.9g、80収率。1HNMR500MHz、CDCl3δ8.2m,4H、7.8t,2H、7.7d,2H、7.6m,3H、7.5t,2H、6.2s,1H、5.6s,1H、4.9m,2H、1.9s,3H。19FNMR300MHz、アセトン-d6δ-115.8s,2F。トリフェニルスルホニウム1,1,2,2-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシブタン-1-スルホナートPAG5の合成。4-ヒドロキシ-1,1,2,2-テトラフルオロブタン-1-スルホン酸ナトリウムの合成。4-ブロモ3,3,4,4-テトラフルオロ-1-ブタノール19.92g、88.54mmolが、60mLのアセトニトリルおよび88mLの水中のNaHCO322.31g、265.6mmolおよびNa2S2O446.25g、265.6mmolのスラリーに添加された。この混合物が約55°Cで2日間ワックス浴中で攪拌することなく加熱された。温度が約80°Cに上げられ、この混合物が攪拌された。追加の亜ジチオン酸ナトリウム17gおよび炭酸水素ナトリウム15gが添加された。この反応混合物は周囲温度まで冷却され、全ての固体材料が溶解するように追加の水100mLおよびアセトニトリル100mLが添加された。層が分離した。水層が別にとっておかれ、追加の亜ジチオン酸ナトリウム30gおよび炭酸ナトリウム38gが約100mLの水と共にアセトニトリル層200mLに添加された。この反応混合物が約85°Cで一晩加熱された。この溶液は冷却され、ろ過され、取っておかれた水層と一緒にされ、ロータリーエバポレータで揮発性物質が除かれた。固体が約200mLのエーテルで洗浄され、真空下で乾燥させられた。上述のように製造された固体は25mLの水に溶かされ、氷浴中で0°Cに冷却され、50mLの50H2O2が水蒸気の発生下で添加された。この反応混合物は一晩攪拌された。追加の20mLH2O2が添加され、攪拌が続けられた。過酸化物がなくなるまで亜硫酸水素ナトリウムが添加された。このスラリーはろ過され、ロータリーエバポレータで揮発性物質が除去されて、白色固体を得た。4-ヒドロキシ-1,1,2,2-テトラフルオロブタン-1-スルホン酸の合成。4-ヒドロキシ-1,1,2,2-テトラフルオロブタン-1-スルホン酸ナトリウムを含んでいた上述の固体がメタノール100mLで抽出され、ろ過された。得られた淡黄色溶液は、7.5cmのアンバーライト120H酸イオン交換樹脂を充填した短いカラム2.5cm直径を通され、明褐色溶液を得た。追加のメタノールが使用されて、残りのスルホン酸をフラッシュした。減圧下で揮発性物質が除去されて、暗褐色オイルを得た。収率は15.453g、出発4-ブロモ3,3,4,4-テトラフルオロ-1-ブタノールを基準にして77であった。3,3,4,4-テトラフルオロブタンスルトンの合成。4-ヒドロキシ-1,1,2,2-テトラフルオロブタン-1-スルホン酸6.78g、30.0mmolが、V-チューブを介してシュレンク管に繋がれた50mLの丸底フラスコに入れられた。このシステムは真空下に置かれ、シュレンク管は液体窒素中に沈められた。このスルホン酸を含むフラスコは加熱ワックス浴に沈められ、温度が徐々に約160°Cまで上げられた。生成物であるスルトンおよび水は徐々に留出し、レシーバー容器内で凍結した。融解させた後で、2層が形成していた。下のスルトン層はピペットで取り出され、無水硫酸マグネシウムで乾燥させられ、ろ過されて、無色液体として生成物を得た3.85g、62。1HNMR300MHz、CD3CNδ:4.7t,2H、2.7m,2H。19FNMR300MHz、CD3CNδ:-113.3m,2F、-124.4s,2F。1,1,2,2-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシブタン-1-スルホン酸カリウムの合成。メタクリル酸1.708g、19.85mmolが40mLのTHF中の水素化カリウム1.150g、28.66mmolにゆっくりと添加された。一晩攪拌後、反応混合物がろ過され、減圧下で揮発性物質が除去された。3,3,4,4-テトラフルオロブタンスルトン3.260g、15.66mmol、メタクリル酸2.0mLおよびわずかなヒドロキノンの結晶がメタクリル酸カリウムに添加され、この混合物が一晩75°Cで加熱された。アセトン10mLがこの混合物に添加された。固体が集められ、アセトンで洗浄され、減圧下で乾燥させられた。この固体は水で抽出され、ろ過され、減圧下で揮発性物質が除去されて、白色結晶固体を得た4.10g、78.8。1HNMR300MHz、D2Oδ:6.09s,1H、5.67s,1H、4.44t,2H、2.65m,2H。19FNMR300MHz、D2Oδ:-112.3s,2F、-117.1s,2F。トリフェニルスルホニウム1,1,2,2-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシブタン-1-スルホナートの合成。1,1,2,2-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシブタン-1-スルホン酸カリウム2.00g、6.02mmolおよび臭化トリフェニルスルホニウム2.25g、6.57mmolが、15mLのジクロロメタンおよび15mLの蒸留脱イオン水と共に、100mL丸底フラスコに入れられた。この混合物は36時間にわたって激しく攪拌された。攪拌は停止させられ、この混合物は2つの透明な層に分かれ、有機層が30mLの1水酸化アンモニウム水溶液で2回洗浄され、30mLの蒸留脱イオン水で5回洗浄された。ヒドロキノン1mgが添加され、ロータリーエバポレーションによってジクロロメタンが除去されて、無色粘稠オイルとして生成物を得た2.65g、4.76mmol、80収率。このオイルはアセトニトリルに溶かされた50重量3.9g。1HNMR500MHz、アセトン-d6δ8.0m,15H、6.1s,1H、5.6s,1H、4.4t,2H、3.8m,2H、1.9s,3H。19FNMR300MHz、アセトン-d6δ-112.7s,2F、-119.8s,2F。フェニルジベンゾチオフェニウム1,1,2,2-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシブタン-1-スルホナートPAG6の合成。上述のように合成された1,1,2,2-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシブタン-1-スルホン酸カリウム1.91g、5.75mmolおよび臭化フェニルジベンゾチオフェニウム2.14g、6.27mmolが、15mLのジクロロメタンおよび15mLの蒸留脱イオン水と共に、100mL丸底フラスコに入れられた。この混合物は週末にわたって激しく攪拌された。攪拌は停止させられ、この混合物は2つの透明な層に分かれ、有機層が30mLの1水酸化アンモニウム水溶液で2回洗浄され、30mLの蒸留脱イオン水で5回洗浄された。ヒドロキノン1mgが添加され、ロータリーエバポレーションによってジクロロメタンが除去されて、白色固体として生成物を得た2.41g、4.35mmol。1HNMR500MHz、アセトン-d6δ8.0m,15H、6.1s,1H、5.6s,1H、4.4t,2H、3.8m,2H、1.9s,3H。19FNMR300MHz、アセトン-d6δ-112.7s,2F、-119.8s,2F。トリス4-2-2-メトキシエトキシエトキシフェニルスルホニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタンスルホナートPAG7の合成。4,4’-スルフィニルジフェノールの合成。エタノール350mL中の過酸化水素H2O中30重量、50mL、0.382molおよびトリフルオロメタンスルホン酸無水物32.4mL、0.191mmol、0.5当量の溶液が、エタノール1.25L中の4,4’-チオジフェノール125g、0.573mol、1.5当量の溶液に4時間にわたって滴下添加された。完全に添加した後で、この反応混合物が室温で30分間攪拌され、真空濃縮され、酢酸エチル1Lで希釈され、そして水600mLで洗浄された。水層は酢酸エチル3×600mLで逆抽出され、合わせた有機層を乾燥させNa2SO4、真空濃縮した。クルードの固体がメチルtert-ブチルエーテル1Lで希釈され、一晩攪拌された。沈殿物はメチルtert-ブチルエーテル3×500mLで洗浄され、空気乾燥されて、標記化合物100.50gを白色固体として定量的収率で提供した。1HNMR500MHz、アセトン-d6δ8.85-9.05brs,2H、7.50d,J8.5Hz,4H、6.95d,J8.5Hz,4H。2-2-メトキシエトキシエトキシベンゼンの合成。フェノール15.0g、0.159mol、炭酸カリウム26.4g、0.191mol、1.2当量およびテトラメチルエチレンジアミン0.92g、7.95mmol、0.05当量がDMSO100mLに溶解され、室温で30分間攪拌された。次いで、1-ブロモ-2-2-メトキシエトキシエタン30.56g、0.166mol、1.04当量が添加され、この溶液は18時間90°Cに加熱され、室温に冷却された。この反応混合物は酢酸エチル600mLで希釈され、1Mの水酸化カリウム3×300mLで洗浄され、乾燥させられNa2SO4、そして真空で濃縮されて、標記化合物16.50g、52を橙色オイルとして得た。1HNMR500MHz、CD32COδ:7.27dt,J=8.5Hz,1Hz,2H、6.94dd,J=8Hz,1Hz,2H、6.92dt,J=8Hz,1Hz,4H、4.12t,J=5Hz,2H、3.80t,J=5Hz,2H、3.64t,J=5Hz,2H、3.50t,J=5Hz,2Hz、3.29s,3H。4,4’-スルフィニルビス2-2-メトキシエトキシエトキシベンゼンの合成。4,4’-スルフィニルジフェノール20.0g、85.0mmol、炭酸カリウム26.6g、0.192mol、2.26当量およびテトラメチルエチレンジアミン0.495g、4.25mmol、0.05当量がDMSO100mL中に溶解され、室温で30分間攪拌された。次いで、1-ブロモ-2-2-メトキシエトキシエタン32.67g、0.179mmol、2.1当量が添加され、この溶液が90°Cで18時間加熱され、室温に冷却された。この反応混合物は酢酸エチル600mLで希釈され、水5×500mLで洗浄され、乾燥させられNa2SO4、そして真空で濃縮されて標記化合物33.40g、90を橙色オイルとして得た。1HNMR500MHz、CD32COδ:7.59d,J=8.5Hz,4H、7.07d,J=8.5Hz,4H、4.17t,J=4.5Hz,4H、3.80t,J=5Hz,4H、3.63t,J=4.5Hz,4H、3.48t,J=4.5Hz,4Hz、3.28s,6H。ジクロロメタン80mL中の4,4’-スルフィニルビス2-2-メトキシエトキシエトキシベンゼン16.09g、36.7mmolおよび2-2-メトキシエトキシエトキシベンゼン7.20g、36.7mmol、1当量の溶液に、Eaton’s試薬64mLが2時間にわたって滴下添加され、室温で一晩攪拌された。この反応混合物は、水500mLの添加によってゆっくりとクエンチされ、酢酸エチル5×500mLで抽出された。トリエチルアンモニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタンスルホナート14.59g、44.04mmol、1.2当量がこの水層に添加され、ジクロロメタン500mLおよび生じた二相混合物が室温で一晩攪拌された。この混合物は水200mLで希釈され、層分離し、水性層がジクロロメタン3×300mLで抽出され、合わせた有機相が真空で濃縮された。クルードオイルがジクロロメタン800mLに溶かされ、水5×500mLで洗浄され、真空濃縮され、残留する水がアセトニトリルを用いて共沸で除かれ、標記化合物26.39g、85収率を橙色オイルとして得た。1HNMR500MHz、アセトン-d6δ7.81d,J=9Hz,4H、7.35d,J=9Hz,4H、6.14-6.16m,1H、5.67-5.69m,1H、4.74dd,J=15.5,15Hz,2H、4.30t,J=4.5Hz,4H、3.85t,J=5Hz,4H、3.65t,J=5Hz,4H、3.49t,J=4.5Hz,4Hz、3.28s,9H、1.94m,3H。実施例に使用されたポリマー結合PAGは表1に示される通りである。比較ポリマー例1ACPEx.1A比較PAG1CP1を含むポリマーの合成。2-フェニル-2-プロピルメタクリラート30.16g、0.1469mol、アルファ-ガンマブチロラクトンメタクリラート36.54g、0.2147mol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート28.40g、56.5mmolおよびトリフェニルスルホニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタン-1-スルホナート比較PAG1、16.69g、33.9mmolが、184.14gの乳酸エチル/シクロヘキサノン70/30v/vに溶解された。2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル11.24g、45.2mmolがモノマー溶液に溶かされた。75°Cに設定された油浴中であらかじめ加熱された容器に少量の溶媒9.6gが入れられ、5分後、この容器にモノマー溶液が4時間にわたって供給された。この反応混合物はさらに3.5時間加熱された。この反応液は室温まで冷却され、2760gの攪拌されたイソプロピルエーテルおよびメタノール95:5w/w中で沈殿させられた。得られたポリマーは吸引ろ過によって単離され、真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、97gのポリマーを白色粉体として得た。乾燥したポリマー90gが溶解させられ、そして再び攪拌されたイソプロピルエーテルおよびメタノール95:5w/wの混合物中で沈殿させられた。得られた再沈殿ポリマーは再び吸引ろ過および真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、79g88のポリマーを白色粉体として得た。13CNMR500MHz,アセトン-d6組成30/46/14/9モル、Mw=5,648;Mw/Mn=1.58。比較ポリマー例1BCPEx.1B比較PAG1を含むポリマーの合成。2-フェニル-2-プロピルメタクリラート8.01g、39.2mmol、アルファ-ガンマブチロラクトンメタクリラート9.80g、57.2mmol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート7.54g、15.1mmolおよびトリフェニルスルホニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタン-1-スルホナート比較PAG1、4.45g、9.0mmolが、94.0gのアセトニトリル/THF2/1v/vに溶解された。2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル1.5g、6.0mmolがモノマー溶液に溶かされた。67°Cに設定された油浴中であらかじめ加熱された容器に少量の溶媒4.6gが入れられ、5分後、この容器にモノマー溶液が2時間にわたって供給された。この反応混合物はさらに2時間加熱された。この反応液は室温まで冷却され、959.5gの攪拌されたイソプロピルエーテルおよびメタノール90:10w/w中で沈殿させられた。得られたポリマーは吸引ろ過によって単離され、真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、15.6g53のポリマーを白色粉体として得た。乾燥したポリマー11.8gが溶解させられ、そして再び攪拌されたイソプロピルエーテルおよびメタノール90:10w/wの混合物中で沈殿させられた。得られた再沈殿ポリマーは再び吸引ろ過および真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、10.1g86のポリマーを白色粉体として得た。13CNMR500MHz,アセトン-d6組成31/47/13/9モル、Mw=7,258;Mw/Mn=1.59。比較ポリマー例2CPEx.2比較PAG2を含むポリマーの合成。2-メチル-2-アダマンチルメタクリラート27.54g、0.1175mol、アルファ-ガンマブチロラクトンメタクリラート22.50g、0.1322mol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート14.70g、0.0294molおよびトリフェニルスルホニウム2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシベンゼンスルホナート、アセトニトリル中50重量比較PAG2、16.95g、0.0147molが、211mLのアセトニトリル/THF2/1v/vに溶解された。2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル3.65g、0.0147molがモノマー溶液に溶かされた。67°Cに設定された油浴中であらかじめ加熱された容器に約5~10mLのモノマー溶液が入れられ、5分後、この容器に残りのモノマー溶液が2時間にわたって供給された。この反応混合物はさらに2時間加熱された。この反応液は室温まで冷却され、2.5Lのメチル-t-ブチルエーテル中で沈殿させられた。得られたポリマーは吸引ろ過によって単離され、真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、39.6g54のポリマーを白色粉体として得た。13CNMR500MHz,アセトン-d6組成37/45/10/8モル、Mw=8,360;Mw/Mn=1.75。ポリマー実施例1PEx.1PAG1を含むポリマーの合成。2-メチル-2-アダマンチルメタクリラート6.86g、29.3mmol、アルファ-ガンマブチロラクトンメタクリラート5.60g、3.29mmol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート3.66g、7.3mmolおよびt-ブチルフェニルジフェニルスルホニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタン-1-スルホナートPAG1;アセトニトリル中40重量溶液、5.02g、3.70mmolが、54gのアセトニトリル/テトラヒドロフラン2:1v/vに溶解された。2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル0.91g、3.70mmolがモノマー溶液に溶かされた。80°Cに設定された油浴中であらかじめ加熱された容器に少量~5mLのモノマー溶液が入れられ、5分後、この容器に残りのモノマー溶液が2時間にわたって供給された。この反応混合物はさらに2時間加熱された。この反応液は室温まで冷却され、0.65Lの攪拌されたメチルt-ブチルエーテル中で沈殿させられた。得られたポリマーは吸引ろ過によって単離され、真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、10.3g55のポリマーを白色粉体として得た。13CNMR500MHz,アセトン-d6組成37/48/9/6モル;Mw=8,365;Mw/Mn=1.55。ポリマー実施例2PEx.2PAG2を含むポリマーの合成。2-メチル-2-アダマンチルメタクリラート6.86g、29.3mmol、アルファ-ガンマブチロラクトンメタクリラート5.60g、3.29mmol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート3.66g、7.3mmolおよびt-ブチルフェニルフェニルヨードニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタン-1-スルホナートPAG2;アセトニトリル中50重量溶液、4.15g、3.70mmolが、52gのアセトニトリル/テトラヒドロフラン2:1v/vに溶解された。2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル0.91g、3.70mmolがモノマー溶液に溶かされた。80°Cに設定された油浴中であらかじめ加熱された容器に少量~5mLのモノマー溶液が入れられ、5分後、この容器に残りのモノマー溶液が2時間にわたって供給された。この反応混合物はさらに2時間加熱された。この反応液は冷却され、0.65Lの攪拌されたメチルt-ブチルエーテル中で沈殿させられた。得られたポリマーはろ過によって単離され、真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、7.6g42のポリマーを白色粉体として得た。13CNMR500MHz,アセトン-d6組成37/47/10/9モル;Mw=10,210;Mw/Mn=1.59。ポリマー実施例3PEx.3PAG3を含むポリマーの合成。エチルシクロヘキシルメタクリラート6.0g、0.0306mol、ガンマブチロラクトン7.6g、0.0447mol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート6.07g、0.0118molおよびジt-ブチルフェニルヨードニウム2,3,5,6-テトラフルオロ-1-メタクリロイルオキシベンゼン-4-スルホナートPAG3、4.98g、0.0771molが、68gのTHF/アセトニトリル1/2v/vに溶解された。2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル1.17g、0.0047molがモノマー溶液に溶かされた。80°Cに設定された油浴中であらかじめ加熱された容器に少量~5gの重合溶媒が入れられ、5分後、この容器に残りのモノマー溶液が2時間にわたって供給された。この反応混合物はさらに2時間加熱された。この反応液は室温まで冷却され、1Lの攪拌されたメチルt-ブチルエーテルおよびメタノール95/5v/v中で沈殿させられた。生じた白色粉体ポリマーはろ過によって単離され、真空で45°Cで48時間乾燥させられた収率15.5g、70。Mw=15,100g/mol;Mw/Mn=1.56。ポリマー実施例4PEx.4PAG4を含むポリマーの合成。2-フェニル-2-プロピルメタクリラート6.02g、29.40mmol、アルファ-ガンマブチロラクトンメタクリラート7.34g、42.90mmol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート5.66g、11.30mmolおよびフェニルジベンゾチオフェニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタン-1-スルホナートPAG4、2.36g、6.80mmolが、36.8gの乳酸エチル/シクロヘキサノン/テトラヒドロフランTHF60:20:20w/wに溶解された。2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル2.24g、9.00mmolがモノマー溶液に溶かされた。75°Cに設定された油浴中であらかじめ加熱された容器に少量~5mLのモノマー溶液が入れられ、5分後、この容器に残りのモノマー溶液が4時間にわたって供給された。この反応混合物はさらに3.5時間加熱された。この反応液は室温まで冷却され、560gの攪拌されたイソプロピルエーテルおよびメタノール95:5w/w中で沈殿させられた。得られたポリマーは吸引ろ過によって単離され、真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、17g76.3のポリマーを白色粉体として得た。乾燥したポリマー14gがTHF中に25重量固形分で溶解させられ、そして再び攪拌されたイソプロピルエーテルおよびメタノール95:5w/wの混合物中で沈殿させられた。得られた再沈殿ポリマーは再び吸引ろ過および真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、12g86のポリマーを白色粉体として得た。13CNMR500MHz,アセトン-d6組成31/46/14/9モル;Mw=4,381;Mw/Mn=1.55。ポリマー実施例5PEx.5PAG5を含むポリマーの合成。2-フェニル-2-プロピルメタクリラート3.32g、16.25mmol、アルファ-ガンマブチロラクトンメタクリラート4.40g、23.75mmol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート3.13g、6.25mmolおよびトリフェニルスルホニウム1,1,2,2-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシブタン-1-スルホナートPAG5;アセトニトリル中50重量溶液;4.17g、3.75mmolが、16.8gの乳酸エチル/シクロヘキサノン70:30v/vに溶解された。2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル1.24g、3.75mmolがモノマー溶液に溶かされた。80°Cに設定された油浴中であらかじめ加熱された容器に少量~5mLのモノマー溶液が入れられ、5分後、この容器に残りのモノマー溶液が4時間にわたって供給された。この反応混合物はさらに2時間加熱された。この反応液は室温まで冷却され、1Lの攪拌されたメチルt-ブチルエーテルおよび2-プロパノール90:10v/v中で沈殿させられた。得られたポリマーは吸引ろ過によって単離され、真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、7.3g58のポリマーを白色粉体として得た。13CNMR500MHz,アセトン-d6組成32/50/10/8モル;Mw=6,430;Mw/Mn=1.52。ポリマー実施例6PEx.6PAG6を含むポリマーの合成。2-フェニル-2-プロピルメタクリラート3.02g、14.63mmol、アルファ-ガンマブチロラクトンメタクリラート3.69g、21.38mmol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート2.86g、5.63mmolおよびフェニルジベンゾチオフェニウム1,1,2,2-テトラフルオロ-4-メタクリロイルオキシブタン-1-スルホナートPAG6、1.88g、3.38mmolが、16.8gの乳酸エチル/シクロヘキサノン70:30v/vに溶解された。2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル1.16g、4.50mmolがモノマー溶液に溶かされた。75°Cに設定された油浴中であらかじめ加熱された容器に少量~5mLのモノマー溶液が入れられ、5分後、この容器に残りのモノマー溶液が4時間にわたって供給された。この反応混合物はさらに3.5時間加熱された。この反応液は室温まで冷却され、70mLの攪拌されたイソプロピルエーテルおよびメタノール95:5w/w中で沈殿させられた。得られたポリマーは吸引ろ過によって単離され、真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、6.1g53のポリマーを白色粉体として得た。乾燥したポリマー5gがTHF中に25重量固形分で溶解させられ、そして再び攪拌されたイソプロピルエーテルおよびメタノール95:5w/wの混合物中で沈殿させられた。生じたポリマーは吸引ろ過によって単離され、そして真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、3.6g72のポリマーを白色粉体として得た。13CNMR500MHz,アセトン-d6組成28/20/12.5/9.5モル;Mw=4,044;Mw/Mn=1.74。ポリマー実施例7PEx.7PAG7を含むポリマーの合成。2-フェニル-2-プロピルメタクリラート0.41g、mmol、アルファ-ガンマブチロラクトンメタクリラート0.34g、mmol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート0.58g、mmolおよびトリス4-2-2-メトキシエトキシエトキシフェニルスルホニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタンスルホナートPAG8、0.65g、mmolが、14.2gの乳酸エチル/シクロヘキサノン70:30v/vに溶解され、75°Cに設定された油浴中であらかじめ加熱された容器に入れられた。2-フェニル-2-プロピルメタクリラート4.64g、24.5mmol、アルファ-ガンマブチロラクトンメタクリラート5.80g、35.8mmol、3,5-ビス1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシプロパン-2-イルシクロヘキシルメタクリラート4.18g、9.4mmol、トリス4-2-2-メトキシエトキシエトキシフェニルスルホニウム1,1-ジフルオロ-2-メタクリロイルオキシエタンスルホナートアセトニトリル中に50重量で溶解されたものPAG7、9.90g、5.60mmolおよび2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル1.86g、7.50mmolが、14.8gの乳酸エチル/シクロヘキサノン70:30v/vに溶解された。この溶液が4時間にわたって前記反応容器に供給された。この反応混合物はさらに3.5時間加熱された。この反応液は室温まで冷却され、370gの攪拌されたイソプロピルエーテルおよびメタノール90:10w/w中で沈殿させられた。得られたポリマーは吸引ろ過によって単離され、真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、8.0g39のポリマーを白色粉体として得た。乾燥したポリマー7.0gがTHF中に40重量固形分で溶解させられ、そして再び攪拌されたイソプロピルエーテルおよびメタノール80:20w/wの混合物中で沈殿させられた。生じたポリマーは吸引ろ過によって単離され、そして真空オーブン内で45°Cで48時間乾燥させられて、5.8g83のポリマーを白色粉体として得た。13CNMR500MHz,アセトン-d6組成38/49/8/5モル。フォトレジスト製造および処理リソグラフィ性能データを得るために、それぞれ、比較ポリマー例1A、1B、2およびポリマー実施例1~7のポジティブトーンフォトレジスト組成物である、比較配合物例1A、1Bおよび2、並びに配合物実施例1~7が準備された。比較配合物例1ACFEx.1A比較ポリマー1A1.000g、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドおよび2-ヒドロキシ安息香酸から形成されるクエンチャーの乳酸エチルEL中1重量溶液1.000g、EL中のOmnovaオムノバPF656界面活性剤の0.5重量溶液0.200g、EL溶媒26.100gおよびシクロヘキサン溶媒CH11.700gを混合することにより、ポジティブトーンフォトレジスト組成物が製造され、このフォトレジスト組成物はろ過された0.2μm。表2に特定された量に置き換えて、同様の方法で、比較配合物例1Bおよび2CFEx.1Bおよび2並びに配合物実施例1~7FEx.1~7を含むポジティブトーンフォトレジスト組成物が製造された。CFEx.2、FEx.1、およびFEx.3のフォトレジスト配合物はシクロヘキサノンの代わりに溶媒としてPGMEAを使用した。上記フォトレジスト配合物CFEx.1A、1Bおよび2、並びにFEx1~7は以下のようにリソグラフィ処理された。フォトレジストはTELACT-8東京エレクトロン株式会社コーティングトラックもしくは同様の装置を用いて、有機反射防止コーティング248nm露光についてはAR商標9、ロームアンドハースエレクトニックマテリアルズLLC、または193nm露光についてはAR商標19、ロームアンドハースエレクトニックマテリアルズLLC、またはEUVについての有機下層を有する200mmシリコンウェハ上にスピンコートされ、100~140°Cで60~90秒間ベークされて、厚さ約60nmのレジスト膜を形成した。得られたフォトレジスト層はオープンフレームマスクを通してKrFエキシマレーザー放射線248nm、ArFエキシマレーザー放射線193nm、またはEUV放射線eMET、13.5nmで露光され、90°C~120°Cで60秒間露光後ベークされ、そして0.26Nのテトラメチルアンモニウムヒドロキシド現像剤水溶液で現像されて、ポジティブトーンフォトレジストパターンを形成した。表3は上記フォトレジスト配合物について得られたE0値を記載する。表4はポリマー結合PAGに含まれるカチオンの分子量および推定相対的サイズCambridgeSoftInc.,から入手可能なケムドローChemDrawバージョン11での、Sの代わりにCH、またはIの代わりにCH2を用いた、体積測定フィーチャに基づくを記載する。フォトレジストサンプルのガス放出配合物実施例3、4および7のフォトレジストサンプルが、EUV露光ドース-ツー-クリアdose-to-clearE0値の2.3~2.5倍の倍率での、残留ガス分析RGAによって分析された。ウェハ上のEUV照射は~10mm2のスポットサイズおよび~4mW/cm2の出力密度powerdensityを使用する。このRGA試験は超高真空~1.5E-8mbar下で行われる。RGA方法のさらなる詳細はポレンティエルPollentierらによってProc.SPIE、2009、7271~7246ページおよびProc.SPIE、2010、7636ページに記載されるのと同様である。E0データおよびRGA結果分子/平方センチメートル;分子/cm2で報告されるを含むデータは表5に示される。表4におけるデータに認められるように、ポリマー実施例4のPDBTPAG、およびポリマー実施例7のMEEPSPAG、およびポリマー実施例3のDTBPIPAGは、トリフェニルスルホニウムベースの比較PAG1および2よりも低いガス放出水準を示す。比較ポリマー1B比較PAG1に対応する比較配合例1B、並びにポリマー4PAG4およびポリマー6PAG6に対応する配合物実施例4および6についての帯域外放射線性能が決定され、その結果は表6に提供された。上記表6に認められるように、ポリマー実施例4および6それぞれ、PAG4および6を有するのそれぞれは、これら配合物実施例についての248nmDUVおよび193nm193波長の双方と比較したEUV波長について、より低いすなわち、向上した、全体で0.7未満のOOB値を提供した。比較ポリマー1B比較PAG1Bに対応する比較配合例1BはE0-EUV/E0-193について3という有意に高いOOB比率を示した。本明細書に開示された全ての範囲は終点を含み、その終点は互いに独立して組み合わせ可能である。場合によってまたは任意のとはその後に記載された事象もしくは状況が起こってもよく、または起こらなくてもよく、そしてその記載はその事象が起こる例およびその事象が起こらない例を含む。本明細書において使用される場合、組み合わせは、ブレンド、混合物、合金もしくは反応生成物を包含する。全ての参考文献は参照により本明細書に組み込まれる。さらに、用語第1、第2などは、本明細書においては、順序、品質もしくは重要性を示すものではなく、1つの要素を他のものから区別するために使用されることもさらに留意されたい。"