"透明反射防止構造化フィルムであって、構造化面を有する構造化フィルム基材であって、前記構造化面が、構造化表面を画定し、かつ光の反射を防止する反射防止構造体を含み、前記構造化表面の少なくとも実質的な部分がガラス状表面を含み、少なくとも前記反射防止構造体が架橋シリコーンエラストマー材を含み、前記ガラス状表面が化学量論的量のSiO2を含む、構造化フィルム基材を備える、フィルム。前記ガラス状表面が、それぞれの前記反射防止構造体内に、前記化学量論的量のSiO2を少なくとも約5ナノメートルの深さまで含む、請求項1に記載のフィルム。前記ガラス状表面が、最小量の少なくとも約10モルの炭素原子を含む、請求項1又は2に記載のフィルム。前記反射防止構造体が、約15度~約75度の範囲内の角柱先端角度と、約10マイクロメートル~約250マイクロメートルの範囲内のピッチとを有する角柱を含む、請求項1~3のいずれか一項に記載のフィルム。光エネルギー吸収装置であって、光エネルギー受容面を有する光吸収器と、光エネルギーの供給源からの光エネルギーが前記光吸収器によって吸収されている間、前記光エネルギーの供給源と前記光エネルギー受容面との間となるように配置される、請求項1~4のいずれか一項に記載の透明反射防止構造化フィルムと、を備える、装置。前記光エネルギー吸収装置が光起電装置であり、前記光吸収器が、少なくとも1つの光電池を有する光電池モジュールを含み、前記反射防止構造化フィルムが、表面反射を低減して、前記光電池モジュールの電気的出力を少なくとも約3向上させる、請求項5に記載の装置。光エネルギー吸収装置の製造方法であって、請求項1~4のいずれか一項に記載の透明反射防止構造化フィルムを提供する工程と、光受容面を有する光吸収器を提供する工程と、前記反射防止構造化フィルムを通って前記光吸収器の前記光受容面へと光が通過できるように、前記光吸収器に対して前記反射防止構造化フィルムを固定する工程と、を含む、方法。透明反射防止構造化フィルムの製造方法であって、光の反射を防止する反射防止構造化表面を画定する反射防止構造体を含む構造化面を有する構造化フィルム基材を提供する工程であって、少なくとも前記反射防止構造体が架橋シリコーンエラストマー材を含む、工程と、前記反射防止構造化表面の少なくとも実質的な部分が化学量論的量のSiO2を有するガラス状表面を含むように、前記反射防止構造化表面を処理して、前記反射防止構造化表面の少なくとも実質的な部分を画定する架橋シリコーンエラストマー材を、前記化学量論的量のSiO2を含むガラス状材料に変換する工程と、を含む、方法。前記処理が、前記反射防止構造化表面を、紫外線光、紫外線光及びオゾン、酸素プラズマ、並びに熱のうちの少なくとも1つに暴露する工程を含む、請求項8に記載の方法。前記反射防止構造化表面をe-ビーム放射線に暴露して、少なくとも前記構造化表面の前記架橋シリコーンエラストマー材を更に架橋させる工程であって、前記e-ビーム放射線暴露が前記処理に先だって行われる、工程を更に含む、請求項8又は9に記載の方法。本発明は、より有用な光エネルギーを該当する光吸収要素例えば、光電池に与えることによって、太陽光エネルギー及び他の光エネルギー吸収技術の効率を高める即ち、エネルギー発生能力を高める手段を提供するものである。シリコーンエラストマーは、長期の紫外線曝露下におけるその安定性によって知られ、光学的に透明かつ強靱であり得る。残念なことに、シリコーンエラストマーは、汚れ及び埃の粒子を誘引、吸着及び保持する傾向を有する比較的粘着性の表面を有してもいる。これまで、汚れ及び埃を吸着及び保持するこうした特性のため、シリコーンエラストマーは、例えば光電池用の光学的に透明な角柱状カバーなどの光エネルギー吸収又は変換装置の露出表面を形成するための候補としては望ましくないものであった。本発明は、少なくとも部分的に、シリコーンエラストマー材の構造化表面を、化学量論的量のSiO2を含むガラス状表面となるように処理することによって、シリコーンエラストマー表面のこの粘着性が有意に低減され、またそれらの汚れ及び埃粒子の吸着に対する耐性が有意に増大され得るという発見に基づくものである。本発明の一態様において、光の反射を防止する構造化表面を画定する反射防止構造体を有する構造化面を含む構造化フィルム基材を備えた、透明反射防止構造化フィルム、シート、ウェブなどを提供する。少なくとも反射防止構造体は架橋シリコーンエラストマー材を含み、構造化表面の全部、又は殆ど、又は少なくとも実質的な部分がガラス状表面を含み、このガラス状表面は、化学量論的量のSiO2を含む。ガラス状表面は、約50モルパーセントを超えるSiO2を含むことが望ましい。ガラス状表面が、約50モルパーセント超~約90モルパーセントの範囲内のSiO2含むことが望ましい可能性がある。又はガラス状表面が、少なくとも約60モルパーセント~約90モルパーセントの範囲内のSiO2を含むことが望ましい可能性もある。ガラス状表面は、少なくとも約60、65、70、75、80又は85モルパーセントのSiO2を含むことが好ましい。ガラス状表面は、少なくとも幾分かのSiOHを含んでもよい。本明細書で使用されるとき、SiOHに対する任意の参照にはSiOHのみでなく、同様にSi及びOHを含む他の構成成分も含まれる。各反射防止構造体の外側層のみがガラス状即ち、各反射防止構造体がガラス状表面を有するであることが望ましい。反射防止構造体は、ベース部分又は構造化フィルム基材の裏材から突出していてもよい。ガラス状表面の深さは、反射防止構造体の少なくとも有意な部分上にガラス状表面を形成するのに用いられる処理例えば、火炎の温度及び継続時間、紫外線の強度及び継続時間、酸素プラズマの出力及び継続時間などの設定例えば、強度及び/又は持続時間に依存する。本発明の別の態様では、本発明による透明反射防止構造化フィルムを製造するための方法を提供する。本方法は、光の反射を防止する反射防止構造化表面を画定する反射防止構造体を含む構造化面を有する構造化フィルム基材を提供する工程であって、少なくとも反射防止構造体が架橋シリコーンエラストマー材を含む、工程と、反射防止構造化表面の少なくとも実質的な部分が化学量論的量のSiO2を有するガラス状表面を含むように、反射防止構造化表面を処理して、反射防止構造化表面の少なくとも実質的な部分を画定する架橋シリコーンエラストマー材を、化学量論的量のSiO2を含むガラス状材料に変換する工程と、を含む。構造化フィルム基材を提供する工程は、硬化性であることで架橋シリコーンエラストマー材を形成するシリコーンエラストマー前駆材料を提供する工程と、シリコーンエラストマー前駆材料を構造化フィルム基材の形状に形成する工程と、シリコーンエラストマー前駆材料を硬化させて構造化フィルム基材を形成する工程と、を含んでもよい。本発明の更なる態様では、光吸収器例えば、太陽光温水循環管又は他の導管、光電池など及び透明反射防止構造化フィルムを有する光エネルギー吸収装置例えば、太陽光温水システム、光起電力発電システムなどを提供する。光吸収器は光エネルギー受容面を有し、少なくとも光エネルギーの供給源例えば太陽からの光エネルギーが光吸収器によって吸収されている間は、透明反射防止構造化フィルムが光エネルギーの供給源と光エネルギー受容面との間となるように配置される。光エネルギー吸収装置例えば、太陽光エネルギー変換装置は、地上における用途及び宇宙での用途の両方を含む広範な用途で使用されている。いくつかの実施形態では、太陽光エネルギー変換装置は、自動車、飛行機、列車、船又は人工衛星などの地上の、水上の、空上の、及び/又は宇宙での乗物に取り付けられてもよい。これらの環境の多くは、有機高分子材料には非常に有害であり得る。本発明の更なる態様では、光エネルギー吸収装置を製造するための方法を提供する。本方法は、本発明による透明反射防止構造化フィルムを提供する工程と、光受容面を有する光吸収器を提供する工程と、反射防止構造化フィルムを通って光吸収器の光受容面へと光が通過できるように、光吸収器に対して反射防止構造化フィルムを固定する工程と、を含む。本明細書で使用されるとき、用語フィルムは、特に断らない限りは、シート、ウェブ、及び同様の構造と同義語である。本明細書で使用されるとき、用語透明なは、例えば本発明のフィルムのような構造体が所望の帯域幅の光を透過させる能力を指す。ある構造体は、この用語が本明細書において用いられる意味においては、澄んでいるとは考えられない場合であってもなお透明であり得る。これは、この用語が本明細書において用いられる意味において、ある構造体は曇っていると考えられる場合であってもなお透明であり得る、ということである。本発明による透明な構造体は、少なくとも85、91、92、93、94、95、96、97又は98の光透過率を有することが望ましい。本発明は、広い光の波長帯域において有用であり得る。例えば、本発明は、約400nm~約2500nmの波長帯域内の光の透過に対して透明であることが望ましい場合がある。この帯域は、近赤外線IRを含む可視光の帯域に一般的に相当する。本明細書で使用されるとき、用語反射防止構造体は、光が臨界角よりも大きな角度で高分子材料に入射して内部で伝播するように、光の入射角を変化させる表面構造体のことを指して言う。本明細書で使用されるとき、用語ガラス状表面は、シリコーンエラストマー基材即ち、架橋シリコーンエラストマー材、又は熱可塑性シリコーンエラストマー材、又は両方を含む基材の表面を指し、ここで表面は化学量論的量のシリカSiO2を含み、100ガラス表面が有するものと同等の又は少なくとも類似した、汚れ及び埃粒子の吸着に対する耐性即ち、汚れ耐性及び/又は摩耗耐性を有する。ガラス状表面は親水性であってもよいが、必ずしも親水性でなくてもよい。加えて、ガラス状表面は、以下に記載するように、汚れ吸着試験、又は砂落下試験、又は両方の試験に供された後、その意図される光エネルギー吸収用途に許容可能なある程度の光透過率を有する。本明細書で使用されるとき、反射防止構造化表面の一部分は、その表面が汚れ吸着試験、又は砂落下試験、又は両方の試験に対して所望の耐性を有する場合に実質的にガラス状であり、これは、そのように試験された後の、それらの試験の光透過率の程度に対する影響、及び/又はガラス状表面が有する光透過率の変化から明かとなる。本明細書で使用されるとき、用語化学量論的量のシリカ又はSiO2は、ケイ素及び酸素を化学量論的量のシリカ即ち、酸素対ケイ素の2:1に十分近い割合で含み、シリカガラスの少なくともいくつかの特性を有する組成物を指す。例えば、組成物は、少なくとも1.25:1.00、少なくとも1.5:1.0、少なくとも1.75:1.00のケイ素に対する酸素の比を有する場合、好ましくは約2.0:1.0により近い又は等しいケイ素に対する酸素の比を有する場合、化学量論的量のシリカを有する。備える、備えている、含んでいるという用語及びその変形は、これらの用語が明細書及び特許請求の範囲で用いられる場合、限定的な意味を有しない。用語好ましい及び好ましくはは、特定の状況下で、特定の利点をもたらし得る本発明の実施形態を指す。しかしながら、同じ、又は他の状況下においては他の実施形態が好ましい場合もある。更に、1つ以上の好ましい実施形態の引用は、他の実施形態が有用ではないという意味を含むものではなく、他の実施形態を本発明の範囲から除外することを意図しない。本明細書で使用されるa、an、the、少なくとも1つ、及び1つ以上は、内容上そうでないことが明らかに示されない場合は互換可能に使用される。用語及び/又はは、列挙した要素の1つ若しくは全部、又は列挙した要素の任意の2つ以上を意味する例えば、反射防止構造化表面を処理するためにUV光、UVO、酸素プラズマ、及び/又は熱を使用するは、UV光、又はUVO、又は酸素プラズマ、又は熱、又は3つの任意の組み合わせを使用することを意味する。本明細書では更に、端点による数値範囲の列挙には、その範囲内に包含されるすべての数例えば、1~5の範囲には、1、1.5、2、2.75、3、3.80、4、4.6、5、5.3などが包含される、及びその範囲内のあらゆる範囲が含まれる。本明細書に開示される反射防止構造化フィルムの使用によって、反射されて光エネルギー吸収装置の光吸収要素1つ又は複数に到達しない光の量が減少することが実証されている。例えば、このような反射防止構造化フィルムにより、従来の光起電太陽光モジュールにおいて約3~約7の範囲内で平均出力を増加させることが可能となる。本発明は、反射防止構造化フィルムの露出表面の汚れ及び埃粒子の吸着に対する耐性即ち、汚れ耐性、並びに/又は摩耗耐性を向上させることにより、光エネルギー吸収装置の寿命の間に、このような反射防止構造化フィルムを介した光の透過率を維持する助けとなりうるものである。これにより、本発明は、こうした光エネルギー吸収装置の光に曝露される表面から反射される入射光の量を低減する助けとなり得るものである。特に、ガラス状表面を有することにより、本発明の構造化面は、ガラス状表面を有さない同一のシリコーンエラストマー材と比較して、また他の高分子材料例えば、ポリウレタンで作製された同一の構造化面と比較して、容易に洗浄することができ即ち、汚れ吸着に対する耐性がより高い、比較的良好な機械的耐久性例えば、砂落下に対する耐性を有する。このような構造化面は更に、蓄積した汚れ及び埃粒子を比較的容易に取り除くことができる。光エネルギー吸収装置、及び特に反射防止構造化フィルムの構造化面は、外部環境からの様々な有害な条件に曝され得る。例えば構造化面は、構造化面の構造化表面を損傷させ得る雨、風、雹、雪、氷、吹きつける砂などの環境的要素に曝され得る。加えて、太陽からの熱及び紫外線に対する曝露などの他の環境条件に対する長期の曝露も構造化面の劣化を引き起こし得る。例えば多くの高分子有機材料は、紫外線に繰り返し曝露されると分解しやすい。例えば太陽光エネルギー変換装置のような光エネルギー吸収装置の耐候性は、材料が劣化したり又は性能が損なわれたりすることなく何年にもわたって機能しうることが望ましいため、一般的に年数によって測定される。材料は、光透過率又は機械的一体性が大幅に損なわれることなく20年程度の屋外曝露に耐え得ることが望ましい。一般的な高分子有機材料は、20年といった長期に及んで光透過率又は機械的一体性が損なわれることなく屋外曝露に耐え得るものではない。少なくともいくつかの実施形態において、本発明の構造化面は、少なくとも約5年~少なくとも約20年の範囲内、場合によっては更に長期例えば、少なくとも約25年の汚れ耐性及び/又は機械的耐久性を示すことが予想される。加えて、構造化面はシリコーン材料で形成されることから、少なくとも約15年、約20年、又は更には約25年の長期の紫外線安定性を示し得る。本発明のこれらの及び他の潜在的な利点を、同様の参照符合を用いて同様の部材を表す本発明の図面及び発明を実施するための形態に更に示し、説明する。ただし、図面及び説明文はあくまで説明を目的としたものであって、本発明の範囲を不要に限定するものとして読まれるべきものではない点は理解を要する。以下の説明は、実例となる実施形態をより詳細に例示するものである。以下の本発明の実施形態の説明では、説明を分かりやすくするために特定の用語を用いる。しかしながら、本発明は、そのように選択された特定の用語に限定されることを意図せず、そのように選択された各用語は、同様に作動するすべての技術的相当物を含む。加えて、説明される異なる実施形態の同じ、又は類似の要素を特定するために同じ参照符合を用いる。そうではない旨が断られない限り、上記明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される数値的パラメータは、本明細書に開示される教示を利用する当業者が得ようとする所望の特性に応じて変更することが可能な近似的な値である。図1を参照すると、例示的な透明反射防止構造化フィルム10は、例えば光の反射を防止する角柱状リブレット16図5を参照の形態の反射防止構造体を含む主構造化面14を有する構造化フィルム基材12を備える。各反射防止構造体例えば、リブレット16は、先端角度α、谷から山の高さHTP、及び露出された構造化表面18を有する。隣接する2つの反射防止構造例えば、リブレット16は、谷角度βと、山から山の距離DPPとをそれらの間に画定する。フィルム10は更に、そこから反射防止構造体16が延出するベース部分20を有する。ベース部分20は、図に示されるように構造体16の一体形成された部分としてもよく、あるいは破線21によって示されるような別の層としてもよい。それらの耐久性を向上させるために、丸みのある山RP及び丸みのある谷RTを有するリブレット16を提供することが望ましい可能性がある。構造化フィルム基材12は、架橋シリコーンエラストマー材を含む。シリコーンエラストマー材は、例えば、熱硬化若しくは縮合硬化され得る2部分シリコーンゴム例えば、MomentiveRTV615Silicone、又電子ビームe-ビーム硬化され得るポリジメチルシロキサン例えば、Morrisville,PAのGelestから入手可能なDMS-S51など、又はこれらの組み合わせであってもよい。構造化表面を形成するのに使用できるシリコーン材の他の特定の例は、例えばDowCorningから入手可能なSylgard184、又はWackerChemieAGから入手可能なElastosil601などの他のヒドロシリル化硬化シリコーン、例えばDowCorningから入手可能な732及び734RTVシリコーンなどの縮合硬化シリコーン、並びに例えば、Gelestから入手可能なDMS-S42、又はWackerから入手可能なELPolymerNAなどの電子ビーム架橋性シリコーンである。構造化面14は、各構造体16の表面18の全部、又は殆ど、又は少なくとも実質的な部分を画定する架橋シリコーンエラストマー材を、化学量論的量のSiO2を含むガラス状材料に変換する処理に暴露される。そのような処理には、例えば、シリコーン材を真空紫外線VUV光例えば、172nmエキシマVUVランプ処理、真空紫外線光及びオゾンVUVO、火炎、酸素プラズマのうちの1つ又はこれらの組み合わせに暴露すること、並びに、化学量論的量のSiO2を有するように、シリコーンエラストマー材中のケイ素原子を転換することができる任意の他の処理を挙げることができる。このガラス状材料は、各構造体16内に深さDまで形成される。ガラス状材料の深さDは、暴露強度及び/又は処理の継続時間に依存する。それ故、ガラス状材料は、それぞれの構造体16内に架橋シリコーンエラストマー材のコア若しくは残りの部分22を残し、又は各構造16をガラス状材料で完全に形成されている状態とする深さDまで形成されてもよい。後者の実施形態では、未処理シリコーンエラストマー材から形成されているフィルム基材12の残りの部分例えば、破線21の下方が存在し得る。構造化表面18を形成する材料が化学量論的量のSiO2を示すにつれて、表面18は、汚れ及び埃粒子吸着汚れ吸着試験結果で示される、又は磨耗耐性砂落下試験結果で示される、又は両方に対して耐性となる可能性が高くなる。理論に束縛されるものではないが、ガラス状表面は、高エネルギー光子の吸収又は熱酸化による、反射防止構造体の露出表面上の又は該表面の付近のSi-C結合の破壊により形成されると考えられる。そのようなSi-C結合の破壊後、SiOHが生成され、これは縮合して化学量論的量のSiO2を形成する。フィルム10又は本発明による任意の他の透明反射防止構造化フィルムは、場合により用いられる透明支持裏材24と組み合わせて使用することが望ましい場合がある。こうした実施形態では、支持裏材24は主面24aを有し、構造化フィルム基材12は更に支持裏材24の主面24aと結合される主裏打ち面12aを含むことにより、強化された透明反射防止構造化フィルムが形成される。支持裏材24は、高分子材料若しくはガラス、又は他の透明セラミック材料で形成することができる。例示的な高分子材料には、ポリメチルメタアクリレートPMMAフィルム、ポリフッ化ビニリデンPVDFフィルム、ポリエチレンテレフタレートPETフィルム、プライミングされたPETフィルム、ポリカーボネートフィルム、架橋ポリウレタンフィルム、アクリレートフィルム、エチレンテ谷ルオロエチレンETFE、フッ素化エチレン-プロピレンFEPフィルム、又はこれらのブレンドのうちの少なくとも1つ又は組み合わせが含まれる。紫外線光の吸収剤例えば、CibaGeigy製のTinuvin1577、並びに両方がSukanoPolymersCorporation,Duncan,SCから入手可能なSukanoTA11-10MB03PMMA-UVA及びSukanoTA07-07MV02PET-UVAなどを、PMMA及びPVDFとPMMAとのブレンドに組み込んで、屋外耐久性を向上させることができる。他の透明セラミック材料は、例えば石英結晶などであってもよい。透明の不織布若しくは織布繊維材料、又は細断された透明繊維も、支持裏材24の形成に使用することができる。こうした繊維材料は、構造化フィルム10を形成するシリコーンエラストマー材中に配置され、又は構造化フィルム10上に配置され、又はその両方であってもよい。透明支持裏材24は、静電気を消散させるように選択することもできる。例えば、支持裏材は、支持裏材24に静電気を消散させるような1種以上の高分子材料を含むことができる。静電気を消散させるために、透明支持裏材24は、LubrizolCorp.製のSTATRITEX5091ポリウレタン又はSTATRITEM809ポリメチルメタクリレートとして入手可能なものなどの、本質的に静電気消散性を有するポリマーも含み得る。代替的に、3MCompanyから入手可能なFC4400などの静電気拡散性塩を、透明支持裏材24例えば、PVDFの作製に使用されるポリマーにブレンドしてもよい。加えて又は代替的に、構造化フィルム基材12はこうした静電気消散性塩を含んでもよい。支持裏材24に加えて又は支持裏材24の代わりに、フィルム10又は本発明による任意の他の透明反射防止構造化フィルムは、場合により用いられる水分バリア層26と組み合わせて使用することが望ましい場合もある。こうした実施形態では、耐水分バリア層26は、例えば水分バリア層26を1つ以上の中間層例えば、支持裏材層24を介して間接的に、又は構造化フィルム基材12の主裏打ち面12a上に直接的に積層し、又はコーティングし、又は結合することによって形成することができる。あるいは、水分バリア層26は、フィルム10の組成を水分バリア性を示すように例えば、水分の吸収、浸透を阻止するように配合することによって形成することもできる。水分バリアは、例えば、その全容が参照により本明細書に組み込まれる国際特許出願第PCT/US2009/062944号、米国特許第7,486,019号及び同第7,215,473号、並びに米国特許出願公開第2006/0062937A1号に開示されているバリアアセンブリ、又は1つ以上のバリア層であってもよい。水分バリアは、シリコーンが高い湿気透過速度を有し、光電池が一般に水分感受性であるため有用であり得る。したがって、本発明の透明反射防止構造化フィルムは、水分バリア層により裏打ちされることによって、水分感受性の光電池例えば、銅/インジウム/ガリウム/セレン又はCIGS光電池上に直接使用することができる。図2を参照すると、本発明の透明反射防止構造化フィルムの別の実施形態10aでは、主構造化面14は、それぞれの反射防止構造体16の全部のシリコーンエラストマー材が、化学量論的量のSiO2を含むガラス状材料に変換される程度に/処理継続時間にて露出される。この実施形態では、フィルム基材12の残りの部分22はシリコーンエラストマー材のまま留まる。破線23は、基材12のガラス状材料部分をシリコーンエラストマー材部分から分離する。図3を参照すると、本発明の透明反射防止構造化フィルムの更なる実施形態10bでは、反射防止構造体16のそれぞれが別体のベース部分20’から延出している。別体のベース部分20’は架橋シリコーンエラストマー材の1つ以上の層であってもよく、あるいは別体のベース部分20’は異なる材料の1つ以上の層であってもよい例えば、PMMA、PVDF及びPETなどのより安価な材料。別体のベース部分20’は、シリコーンエラストマー材と異なる材料との適合性に応じて、任意の適当な手段によって反射防止構造体16に接着又は結合される。例えば、ベース部分20’は、シリコーンエラストマー反射防止構造体16のそれぞれの主裏打ち面16aを受承して、主裏打ち面16aと結合されるように場合に応じてプライマーでコーティングされるか、又は処理例えば、コロナ放電処理若しくは準備される主面20aを有し得る。反射防止構造体16は、例えば、その主面の少なくとも一方に反射防止構造体16の所望のパターンと一致する微小複製パターンが形成された金型フィルム図に示されていないによって形成することができる。所望のシリコーンエラストマー前駆材料の層を、ベース部分面20aの表面上に押出し、又はコーティングし、又は適用することができる。次いで金型フィルムの微小複製された主面を、シリコーンエラストマー前駆材料の層と接触させることによって、適用されたシリコーンエラストマー前駆材料の露出表面を所望の反射防止構造体16の形状に形成することができる。代替的に、シリコーンエラストマー前駆材料の層を金型フィルムの微小複製された主面上に押出し、又はコーティングし、又は適用し、次いで適用された前駆材料の露出した裏面をベース部分面20aの表面と積層し又は接触させて結合させてもよい。代替的に、全ての3つの層は、例えばニップロールステーションに通過させることにより一緒に積層されるときに、シリコーンエラストマー前駆材料の層を、金型フィルムの微小複製された主面とベース部分面20aの表面との間に直接的に押出し、又はコーティングし、又は別様に適用してもよい。形成された前駆材料をベース部分面20aの表面と接触させた時点で、最初にシリコーンエラストマー前駆材料を架橋又は硬化させ、金型を取り除き、この後、反射防止構造体16の少なくとも表面18にガラス状の材料を生じさせる処理を行う。反射防止構造体は、角柱状、角錐状、円錐状、半球状、放物線状、円筒状、及び柱状構造体の少なくとも1つ又は組み合わせで構成され得る。角柱を含む反射防止構造体は、約90°未満、約60°以下、約30°以下、又は約10°~約90°までの範囲内の角柱先端角度αを有し得る。そのような反射防止角柱構造体は、約2マイクロメートル~約2cmの範囲内の谷から谷の、又は山から山のピッチ又は距離も有し得る。角柱を含む反射防止構造体は、約15度~約75度の範囲内の角柱先端角度も有し得る。角柱を含む反射防止構造体は、約10マイクロメートル~約250マイクロメートルの範囲内の谷から谷の、又は山から山のピッチも有し得る。向上された耐久性を有する反射防止構造体16の一実施形態では、リブレット16は、丸みのある山RP及び谷RTを有し、約5マイクロメートルの半径、約53度の谷角度β、約50マイクロメートルの山から山のピッチ又は距離DPP、並びに約37.7307マイクロメートルの谷から山の高さHTPを有する。反射防止構造体は、約1.55未満の屈折率、好ましくは約1.50未満の屈折率を示すことが望ましい場合がある。反射防止構造体が角柱構造体を有する場合例えば、直線状角柱構造体又はリブレット、それぞれの角柱が、それらの基部から約90°未満の頂角、好ましくは約60°以下の頂角を有する先端へと幅が狭くなることが望ましい場合がある。このような角柱構造体は、約10マイクロメートル~約250マイクロメートルの範囲内の、谷から山の高さを有することが望ましい場合がある。このような角柱構造体は、約25マイクロメートル~約100マイクロメートルの範囲内の、谷から山の高さを有することが望ましい場合もある。本発明の透明反射防止構造化フィルムは、構造化表面を汚れ吸着試験、又は砂落下試験、又は両試験の組み合わせに曝露した後に、少なくとも約85、90、91、92、93、94、95、96、97、98又は99の光透過率を示すことが望ましい場合がある。これらの試験については後述する。本発明の透明反射防止構造化フィルムは、構造化表面を汚れ吸着試験、又は砂落下試験、又は両試験の組み合わせに曝露した後に、10、9、8、7、6、5、4、3、2又は1未満の光透過率の変化を示すことが望ましい場合もある。本発明の透明反射防止構造化フィルムは、反射防止構造体のシリコーンエラストマー材中に無機粒子、好ましくはナノ粒子を含んでもよい。これらの粒子には、任意の好適な無機材料が含まれ得る例えば、シリカ、ジルコニア、チタニアなど、又はこれらの任意の組み合わせ。そのような粒子はまた、シラン表面改質剤で被覆されてシリコーン中での分散を促進してもよい。こうした粒子は、約2.0マイクロメートル以下の範囲内の粒径を有するものでよい。シリカ粒子は最大でマイクロメートルサイズであってよいが、他の材料で形成された粒子はナノメートルサイズのものが使用されることが好ましい即ち、約5nm~約50nm以下の範囲内。こうした粒子、特にナノ粒子は、0重量~約60重量以下の範囲内でシリコーンエラストマー材中に添加してもよい。図4を参照すると、本発明の透明反射防止構造化フィルム10のいずれの実施形態も、例えば、光源熱エネルギー吸収装置例えば、太陽光温水システム、光起電装置、又は任意の他の光エネルギー吸収装置などの光エネルギー吸収装置30において使用することができる。こうした装置30は、光エネルギー受容面32aを有する光吸収器32例えば、光電池を更に含み、透明反射防止構造化フィルム10が、光エネルギーの供給源例えば、太陽と光エネルギー受容面32aとの間となるように光吸収器32に対して配置される。これにより、光源からの光エネルギーは、光吸収器32によって吸収される前に構造化フィルム10を通過することになる。フィルム10は、光エネルギー受容面32aに結合、接着、機械的に締結又は直接接触させて配置することができる。また、必要な場合には、1つ以上の透明支持裏材24又は他の中間層を、フィルム10と光吸収器32との間に配置することができる。図5を参照すると、本発明の透明反射防止構造化フィルム10を光エネルギー吸収装置30の光吸収器32とともに使用することにより、反射防止構造体16の表面18に入射する入射光矢印40により示されるが複数回反射される可能性が高くなる矢印40Rにより示される。このような光40の複数回の反射によって、光40が光吸収器32内へと屈折する確率、及び入射光の受容角が大きくなる確率が高くなる。このように、こうした透明反射防止構造体の使用により、装置30の効率及びエネルギー出力を高めることが可能である。光エネルギー吸収装置が光起電装置の場合、光吸収器は、太陽光又は他の光エネルギーを電気エネルギーに変換するための少なくとも1つの光電池を有する光電池モジュールである。反射防止構造化フィルムは表面反射を低減し、これは光電池上に衝突する光の量を増大させ、電気エネルギー生成の増大をもたらすことができる。このようにして本発明の透明反射防止構造化フィルムを使用することにより、光エネルギーを電気エネルギーに変換する効率を、少なくとも約3、場合により約5~約10以下の範囲内で高めることが可能である。透明反射防止構造体はフィルムの形態であるため、光電池は、破損することなくロールに巻いたり、折り畳めたりするような充分な可撓性及び柔軟性を有し得る。本発明の光エネルギー吸収装置は、反射防止構造化フィルムを通って光吸収器例えば、光電池の光受容面へと光が通過できるように、光吸収器に反射防止構造化フィルムを機械的に取り付け、又は接着剤により接着し、又は他の手段により固定することによって作製することができる。光吸収器は例えば、太陽光温水ヒーター又は他の光により発生する熱エネルギーの吸収装置、太陽光エネルギー又は他の光エネルギーを電気エネルギーに変換するための光電池、又はこれらの組み合わせであってよい。本発明による透明反射防止構造化フィルムは、上述したような透明構造化フィルム基材を提供した後、構造化表面を画定する架橋シリコーンエラストマー材の全部、又は殆ど、又は少なくとも実質的な部分が、化学量論的量のSiO2を含むガラス状材料に変換されるように、構造化表面を処理することにより作製することができる。初期の構造化フィルム基材の反射防止構造化表面を、例えば該表面を真空紫外線VUV光例えば、172nmエキシマ処理により、真空紫外線光及びオゾンVUVO、酸素プラズマ、並びに熱例えば、誘導加熱、火炎などのうちの少なくとも1つ又は組み合わせなどの任意の好適な処理に暴露することにより処理して、ガラス状表面を形成してもよい。高真空製造の設定での使用に好適であるように、そのような処理は、比較的急速に行われる必要がある。特に、例えば高速即ち、大量ウェブベース製造プロセスでは、例えば約5分以下の短い処理時間を用いる必要があるであろう。同時に、シリコーン材の表面は、十分な期間例えば、5~300秒間の172nmエキシマランプ暴露、かつ好適なエネルギーレベル例えば、酸素50ppm未満の窒素不活性雰囲気中で10~50mW/cm2で処理されて、ケイ素から化学量論的量のSiO2への所望のレベルの転換を生じる必要がある。ガラス状表面の生成に用いられる処理の設定例えば、強度及び/又は継続時間に応じて、ガラス状材料に転換されていない構造化フィルム基材の残りの部分が存在し得る。例えば図2から明らかなように、処理設定はまた、反射防止構造体のそれぞれを画定する架橋シリコーンエラストマー材の全部が、化学量論的量のSiO2を含むガラス状表面に変換されるように選択されてもよい。代替的に、処理設定は、反射防止構造体のそれぞれのコア部分がシリコーンエラストマー材のまま留まるように選択されてもよい図1、3及び4参照。エネルギー費用を節約するために、反射防止構造化表面がガラス状表面に転換される深さ及び程度を最小限にすることが望ましい場合がある。透明構造化フィルム基材は、硬化性であることで架橋シリコーンエラストマー材料を形成するシリコーンエラストマー前駆材料を与えることによって作製することができる。このシリコーンエラストマー前駆材料は、任意の適当な形成方法によって構造化フィルム基材の形状に形成される。例えば、適当な大きさの溝を基材に形成した後、この基材を鋳型表面として使用してその上にシリコーンエラストマー前駆材料をコーティングすることによって、構造化フィルム基材の反射防止構造体を有する主構造化面を成形することができる。このような鋳型基材は、例えば、その全容が参照により本明細書に組み込まれる米国特許出願公開第2006/0234605号に開示される方法及び装置に基づいて作製することができる。シリコーンエラストマー前駆材料は、この形状で硬化させることで構造化フィルム基材が形成される。代替的に、米国特許出願第2006/0234605号に開示される金型を使用して、適当な大きさの溝を高分子鋳型基材例えば、フィルムの形態のに成形した後、これを鋳型表面として使用することもできる。使用するシリコーンシリコーンエラストマー前駆材料に応じて、硬化プロセスにおいて前駆材料に架橋処理を行ってもよい例えば、熱及び/又は放射線処理。前駆材料が2成分型の自己硬化型シリコーンエラストマー材である場合、硬化プロセスにおいて、2成分を混合した後、前駆材料を鋳型表面と充分に長い時間、接触状態に維持することで架橋を生じさせることができる。以下の実施例は、単に本発明の特徴、利点、及び/又は他の細部を更に説明するために選択したものである。しかしながら、実施例はこの目的を果たすものではあるが、使用される特定の成分及びその量、並びに他の条件及び詳細は、本発明の範囲を必要以上に限定するものとして解釈されるべきではない点は明確に理解されるはずである。実施例1Waterford,NewYorkのMomentivePerformanceMaterialsから入手可能なRTV615のA液及びRTV615のB液を10:1の比で混合し、4枚の石英スライドガラスのそれぞれに厚さ100マイクロメートルでコーティングした。次いで、シリコーンコーティングされた石英スライドガラスを対流式オーブン中で85°Cに30分加熱し、熱硬化性シリコーンエラストマーの前駆材料を架橋/硬化させた。次いで、これらの架橋シリコーンでコーティングされたスライドガラスサンプル2~5を、表1に示す火炎処理に暴露した。次いで、これらの火炎処理したシリコーンコーティングガラス構造を、ナノインデンテーションにより貯蔵弾性率に関して分析した。これらの火炎処理シリコーンコーティングガラス構造における弾性率変化を、表1に示す。実施例214枚の7.6cm3インチ×5.1cm2インチのスライドガラスVWRInternational,LLC.から入手可能をナノシリカベースのプライマーで下塗りした。このナノシリカプライマーは、HNO3で2.5~2.0のpHにした、第一コロイドシリカNALCO1115COLLOIDALSILICAと第二コロイドシリカNALCO1050colloidalSILICAの重量比70:30ブレンドの5重量H2O溶液から構成される。このナノシリカプライマー溶液で湿らせた小さな拭取り布Kimberly-Clark,Roswell,GAから商品名KIMTECHで入手で表面を拭くことにより、プライマーの薄い約100ナノメートル均質コーティングを各スライドガラスに適用した。プライマーを室温で乾燥させた。添加硬化シリコーンSylgard184,DowCorning,Midland,MIから入手可能を10:1A液対B液の比で混合し、下塗りしたスライドスライドガラスに平滑コーティングsmoothcoatingにて厚さ45マイクロメートルで適用し、48時間かけて完全に硬化させた。サンプル6及び7の場合、シリコーン表面を処理しなかった一方、サンプル8~19は、27インチ38.58cm下方駆動電極及び中央ガスポンプとともに反応性イオンエッチングRIE用に構成された市販のバッチプラズマシステムPlasmathermモデル3032を使用して、酸素プラズマ処理した。このチャンバを、ドライメカニカルポンプEdwardsモデルiQDP80によりバックアップされたルーツブロワーEdwardsモデルEH1200により排気する。3kWの13.56Mhzソリッドステート発生器RFPPモデルRF30HによりRF電力をインピーダンスマッチングネットワークから送達する。このシステムは、5mTorr0.67Paの公称のベース圧力を有する。ガスの流量をMKSフローコントローラーにより制御する。プラズマ処理用の基材を、下方駆動電極上に配置する。シリコーンコーティングスライドガラスを、バッチプラズマ機器の駆動電極上に配置した。酸素プラズマを用いて、酸素ガスOxygenServiceCorporation,UHP等級を流量500標準cm3/分で流し、3000ワットのプラズマ出力で90秒間、プラズマ処理を行った。プラズマ処理が完了した後、チャンバを大気中に通気し、サンプルを取り出した。サンプル6~17を、1枚のコーティングしていないそのままのスライドガラスとともに、以下に述べる汚れ吸着試験1に一定期間ごとに供した。試験を行う前の最初の光透過率をTi、試験を行った後の最終的な光透過率をTfとし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差Tdを下記表2汚れ吸着試験1結果にそれぞれについて示した。透過率計を使用して、透過率を試験した。表のデータは、未処理サンプル6及び7と比較して、酸素プラズマ処理サンプル8~17の光透過率が有意に増大していることを示す。この光透過率における相違は、更に処理されたシリコーンエラストマー表面サンプル8~17が、未処理サンプル6及び7と比較して、汚れの吸着及び保持量が少ないことによる。表2のデータは、処理サンプル6~17が、そのままのスライドガラスの光透過率と同等の光透過率を有したことも示す。サンプル18及び19を、以下に述べる砂落下試験に供した。試験を行う前の最初の光透過率をTi、試験を行った後の最終的な光透過率をTfとし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差Tdを下記表3砂落下試験に示した。表のデータは、処理サンプル18~19が、そのままのスライドガラスの光透過率と同等の光透過率を有したことを示す。サンプル18及び19はまた、砂落下試験の直後に汚れ試験に供され、初期透過率Tiは砂落下試験後の透過率値を表し、最終透過率Tfは汚れ試験後の透過率値を表し、初期透過率と最終透過率Tdとの差を下記表4砂落下試験直後の汚れ試験1結果に示した。表のデータは、酸素プラズマ処理シリコーンサンプルが、そのままのスライドガラスの性能から2の範囲内にあることを示す。実施例32枚の30.5cm12インチ×15.2cm6インチのポリエチレンテレフタレートPETシートDuPontTeijinFilms,Chester,VAから商品名MELINEX618で入手を、ナノシリカベースのプライマーで下塗りした。このナノシリカプライマーは、HNO3で2.5~2.0のpHにした、第一コロイドシリカNALCO1115COLLOIDALSILICAと第二コロイドシリカNALCO1050colloidalSILICAの重量比70:30ブレンドの5重量H2O溶液から構成される。このナノシリカプライマー溶液で湿らせた小さな拭取り布Kimberly-ClarkRoswell,GAから商品名KIMTECHで入手で表面を拭くことにより、プライマーの薄い約100ナノメートル均質コーティングを各スライドガラスに適用した。プライマーを室温で乾燥させた。シラノール末端ポリジメチルシロキサン流体DMS-S51、GelestInc.,Morrisville,PAから入手可能を、下塗りしたPETフィルム上に、ノッチバーコーターを使用して厚さ100マイクロメートルでコーティングした。シリコーンコーティングを有するPETフィルムを支持ウェブにテープで貼り、加速電圧190keV3.044×10-14J及び照射量10MRads0.1mGyで、電子ビームに通過させた。E-ビームユニットは、ブロードバンドカーテンタイプの電子ビームプロセッサPCTEngineeredSystems,LLCから入手であった。シリコーンコーティングフィルムの1つから6片サンプル20、21、22、23、24及び25を切り取り、サンプル20、21、22及び23は、窒素パージングを有する放射照度10mW/cm2での120秒の172nmエキシマランプモデルUER20-172、UshioAmerica,Inc.,Cypress,CAから入手可能に暴露されたシリコーンコーティングの表面を有した。サンプル24及び25は、エキシマランプ処理を受けなかった。他のシリコーンコーティングフィルムから6片サンプル26、27、28、29、30及び31を切り取り、これらは120keV1.923×10-14J及び照射量15MRad/通過での4回の通過からなる追加のe-ビーム照射量を受けて、表面を更に架橋させた。次いで、サンプル26、27、28及び29を、172nmエキシマランプに、放射照度10mW/cm2で120秒間暴露した。サンプル30及び31は、エキシマランプ処理を受けなかった。サンプル20、21、24、26、27及び30を、以下に述べる汚れ吸着試験1に供した。試験を行う前の最初の光透過率をTi、試験を行った後の最終的な光透過率をTfとし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差Tdを下記表5汚れ吸着試験1結果にそれぞれについて示した。表のデータは、未処理サンプル24及び30と比較して、更に処理された20、21、26及び27の光透過率が有意に増大していることを示す。この光透過率における相違は、更に処理されたシリコーンエラストマー表面サンプル20、21、26及び27が、未処理サンプル24及び30と比較して、汚れの吸着及び保持量が少ないことによる。表5のデータは、処理サンプル20、21、26及び27が、表5のそのままのスライドガラスの光透明度と同等の光透明度を有したことも示す。表は、サンプル30における追加の電子ビーム架橋が、172nmエキシマランプ処理を有さなくても、電子ビーム及び172nmエキシマランプ処理のいずれも受けなかったサンプル24と比較して、低い透過率損失をもたらすことも示す。サンプル22、23、25、28、29及び31を、以下に述べる砂落下試験に供した。試験を行う前の最初の光透過率をTi、試験を行った後の最終的な光透過率をTfとし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差Tdを下記表6砂落下試験に示した。表のデータは、172nmエキシマランプ処理に先だって更に電子ビーム架橋されたサンプル28及び29は、更に電子ビーム架橋されなかったサンプル22及び23と比較して、光透過率即ち、砂落下試験結果が増大していることを示す。表は、サンプル31において、172nmエキシマランプ処理を有さなかった追加の電子ビーム橋架が、追加の電子ビーム橋架又は172nmエキシマランプ処理のいずれも受けなかったサンプル25、172nmエキシマランプ処理のみを受けたサンプル22及び23、追加の電子ビーム架橋及び172nmエキシマランプ処理の両方を受けたサンプル28及び29と比較して、低い透過率損失をもたらすことも示す。実施例42枚の30.5cm12インチ×15.2cm6インチのポリエチレンテレフタレートPETシートDuPontTeijinFilms,Chester,VAから商品名MELINEX618で入手を、ナノシリカベースのプライマーで下塗りした。このナノシリカプライマーは、HNO3で2.5~2.0のpHにした、第一コロイドシリカNALCO1115COLLOIDALSILICAと第二コロイドシリカNALCO1050colloidalSILICAの重量比70:30ブレンドの5重量H2O溶液から構成される。このナノシリカプライマー溶液で湿らせた小さな拭取り布Kimberly-ClarkRoswell,GAから商品名KIMTECHで入手で表面を拭くことにより、プライマーの薄い約100ナノメートル均質コーティングを各スライドガラスに適用した。プライマーを室温で乾燥させた。熱硬化シリコーンエラストマーSylgard184、DowCorning,Midland,MIから入手可能を、裏打ちしたPETと、反射防止表面構造を含むポリプロピレン金型フィルムとの間にコーティングした。シリコーンコーティング及びポリプロピレン金型フィルムを有するPETフィルムを、75°Cの炉内に90分間配置して、シリコーンコーティングを硬化させた。フィルムを炉から取り出した後、金型フィルムを除去し、PETフィルムに取り付けられた表面構造化反射防止シリコーンコーティングを得た。シリコーン表面構造体の表面の耐久性を向上させるために、次いでコーティングされたフィルムの1つのシートを支持ウェブにテープで貼り、加速電圧120keV1.923×10-14J及び15MRads/通過0.15mGy/通過で電子ビームに4回通過させて、追加の架橋を提供した。E-ビームユニットは、ブロードバンドカーテンタイプの電子ビームプロセッサPCTEngineeredSystems,LLCから入手であった。追加の電子ビーム処理を受けなかったシリコーンコーティングフィルムのうちの1つから4片サンプル32、33、34及び35を切り取り、サンプル32及び33は、窒素パージングを有する放射照度およそ10mW/cm2での172nmエキシマランプモデルUER20-172Ushioから販売に300秒間暴露されたシリコーンコーティングの表面を有した。サンプル34及び35は、エキシマランプ処理を受けなかった。追加のe-ビーム処理を受けた他のシリコーンコーティングフィルムから、4片サンプル36、37、38及び39を切り取った。次いで、サンプル37及び37を、172nmエキシマランプに、放射照度およそ10mW/cm2で300秒間暴露した。サンプル38及び39は、エキシマランプ処理を受けなかった。サンプル32、34、36及び38を、以下に述べる汚れ吸着試験1に供した。試験を行う前の最初の光透過率をTi、試験を行った後の最終的な光透過率をTfとし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差Tdを下記表7汚れ吸着試験1結果にそれぞれについて示した。表のデータは、未処理サンプル34及び38と比較して、172nmエキシマランプ処理されたサンプル32及び36の光透過率が有意に増大していることを示す。この光透過率の相違は、172nmエキシマランプ処理されたシリコーンエラストマーの表面サンプル32及び36が、未処理サンプル34及び38と比較して、汚れの吸着及び保持量が少ないことによる。表7のデータは、172nmエキシマランプ処理に先だって更なる電子ビーム橋架を受けたサンプル36が、172nmエキシマランプ処理のみを受けたサンプル32と比較して、より良好な汚れ吸着試験結果を生じることも示す。サンプル33、35、37及び39を、以下に述べる砂落下試験に供した。試験を行う前の最初の光透過率をTi、試験を行った後の最終的な光透過率をTfとし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差Tdを下記表8砂落下試験に示した。表のデータは、172nmエキシマランプで処理されなかったサンプル35及び39と比較して、172nmエキシマランプ処理を受けたサンプル33及び37の光透過率即ち、砂落下試験結果が増大していることを示す。更に電子ビーム架橋されなかったサンプル33及び35と比較して、172nmエキシマランプ処理に先だって更に電子ビーム架橋されたサンプル37及び39の光透過率即ち、砂落下試験結果が増大していることも理解される。サンプル33、35、37及び39はまた、砂落下試験の直後に汚れ試験1に供され、初期透過率Tiは砂落下試験後の透過率値を表し、最終透過率Tfは汚れ試験後の透過率値を表し、初期透過率と最終透過率Tdとの差を下記表9砂落下試験直後の汚れ試験1結果に示した。表のデータは、追加の電子ビーム表面処理を受けたサンプル37及び39が、汚れ試験後の透過率損失から理解されるように、追加の電子ビーム表面処理を受けなかったサンプル33及び35と比較して、サンプルの汚れ耐性を維持したことを示す。実施例5シラノール末端ポリジメチルシロキサンGelest製のPDMS-S51を、SS4120MometivePerformanceMaterials,Waterford,NYから販売で裏打ちしたポリエチレンテレフタレートPETDuPontTeijinFilms,Chester,VAから商品名MELINEX618で入手可能のシート上に、厚さ25マイクロメートルでコーティングした。シリコーンコーティングを有するPETフィルムを支持ウェブにテープで貼り、加速電圧160keV2.563×10-14J及び照射量12MRads0.12mGyで、電子ビームに通過させた。E-ビームユニットは、ブロードバンドカーテンタイプの電子ビームプロセッサPCTEngineeredSystems,LLCから入手であった。次いで、シリコーンコーティングPETフィルムを6片に切った。これらシリコーンコーティングPET片のうちの2つサンプル41及び44を、厚さ6.4mmのアルミニウム板上の水の薄いフィルム上に浮遊させ、次いでコーティングされた表面をおよそ2000°Cの火炎に20秒間暴露することにより、火炎処理に暴露した。シリコーンコーティングPET片の他の2つサンプル42及び45を、140kV及び12Mrad/通過での5回の通過からなる更なる電子ビーム処理に暴露してシリコーンの表面を更に架橋させ、次いで厚さ6.4mmのアルミニウム板上の水の薄いフィルム上に浮遊させ、およそ2000°Cの火炎に20秒間暴露した。最後のシリコーンコーティングPET片サンプル40及び43は、更に処理されなかった。サンプル41及び42を、以下に述べる汚れ吸着試2験に供した。試験を行う前の最初の光透過率をTi、試験を行った後の最終的な光透過率をTfとし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差Tdを下記表10汚れ吸着試験2結果にそれぞれについて示した。表のデータは、更に処理された41及び42の光透過率が、未処理サンプル40と比較して有意に増大していることを示す。この光透過率における相違は、更に処理されたシリコーンエラストマー表面サンプル41及び42が、未処理サンプル40と比較して、汚れの吸着及び保持量が少ないことによる。表10のデータは、火炎処理前の更なる架橋即ち、サンプル42が、より良好な汚れ吸着試験結果を生じることも示す。サンプル43、44及び45を、11枚のコーティングしていないそのままの石英スライドガラスとともに、以下に述べる砂落下試験に供した。試験を行う前の最初の光透過率をTi、試験を行った後の最終的な光透過率をTfとし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差Tdを下記表11砂落下試験に示した。表のデータは、更に処理されたサンプル45の光透過率が、未処理サンプル43と比較して有意に増大していることを示す。この光透過率における相違は、更に処理されたシリコーンエラストマー表面サンプル45が、未処理サンプル43と比較して、汚れの吸着及び保持量が少ないことによる。表のデータは、火災処理の前に更に架橋されたサンプル45の光透過率即ち、砂落下試験結果が、更に架橋されなかったサンプル44と比較して増大していることも示す。試験方法汚れ吸着試験1コーティングの汚れ耐性は、95mm正方形プラスチックペトリ皿BectonDickinsonLabwareから商品名Falcon35112で入手可能から構成される機器5cm孔がペトリ皿の下半分にドリルにより貫通されているを用いて、試験される。5cm×8cmのコーティングされたサンプルを、サンプルのコーティングされた表面がペトリ皿の内側を向き、試験汚れに直接曝露されるであろうように、接着テープで5cm孔を覆ってペトリ皿の外側上に取り付ける。50gのArizonaTestDirt0~600マイクロメートル分布、PowderTechnology,Inc.,Burnsville,MNから入手可能を、コーティングされたサンプルを覆うペトリ皿の下半分の中に配置する。ペトリ皿の二等分部分二つをしっかりと組み合わせて、汚れがサンプルの表面にわたって前後に転回するように、左右方向のサイクルで軽く振る。サンプルを秒当たり1サイクルの速度にて60サイクルにわたって振る。次に、サンプルを試験装置から取り出し、軽くたたいて、汚れを除去してその付着をゆるやかにする。コーティングされたサンプルの透過率を、BYK-Gardnerから入手可能なHazeGardPlusを用いて、汚れ試験の前後で測定する。汚れ吸着試験2本明細書において使用するこの汚れ吸着試験では、1ガロン3.78LのNalgen容器の内部に透明反射防止構造化フィルムのサンプルを100gの細かい/埃状のアリゾナ土と一緒に入れて容器をタンブルすることを行う。1.5×2.53.81cm×6.35cmのサンプルを、3×57.62cm×12.7cmのより大きな10ミルPET片に取り付ける。サンプル及び汚れは、モータ駆動ローラ上に水平に置かれたNalgen容器の内側のバッフル板によってタンブルされる。2分間のタンブリング後、サンプルを缶入り圧縮空気で吹き飛ばし、表面に結合した汚れのみが残るように余分な汚れを除去する。コーティングされたサンプルの透過率を、BYK-Gardnerから入手可能なHazeGardPlusを用いて、汚れ試験の前後で測定する。砂落下試験HumboldtMFGCo.から入手可能な砂落下摩耗試験機商標名HP-1160を使用して、コーティングの磨耗耐性を試験する。5cm×8cmのコーティングされたサンプルを、落砂チューブの出口の下に中心を置いた試験プラットフォームに接着テープで取り付ける。1000gのASTMC778シリカ砂U.S.SilicaCompanyから販売を、落砂チューブに供給するホーパーhoperの中に装填する。ゲートを開くと、砂が落砂チューブを通して100cmの距離を落下し始め、コーティングされたサンプルの表面上に当たる。摩耗した表面上に水を5秒間流した後、湿ったKimWipeKimberly-Clarkを使用して表面を軽く拭う。次いで、乾燥したKimWipeでサンプルを軽く拭って、サンプルを乾燥させる。コーティングされたサンプルの透過率を、BYK-Gardnerから入手可能なHazeGardPlusを用いて、砂落下試験の前後で測定する。本発明の例示的実施形態反射防止フィルムの実施形態1透明反射防止構造化フィルム、シート、ウェブ又は同様物であって、主構造化面と主裏打ち面とを有する構造化フィルム基材であって、構造化面が、構造化表面を画定し、かつ光の反射を防止する反射防止構造体を含み、構造化表面の少なくとも実質的な部分、構造化面の殆ど、又は全部がガラス状表面を含み、少なくとも反射防止構造体が架橋シリコーンエラストマー材を含み、ガラス状表面が化学量論的量のSiO2を含む、構造化フィルム基材を備える、透明反射防止構造化フィルム、シート、ウェブ又は同様物。フィルムの実施形態2ガラス状表面が、それぞれの反射防止構造体内に化学量論的量のSiO2を少なくとも約1、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95若しくは100ナノメートルの深さまで、又は更にはより深く含む、フィルムの実施形態1に記載のフィルム。フィルムの実施形態3ガラス状表面が、それぞれの反射防止構造体内に化学量論的量のSiO2を約100、110、120、130、140若しくは150ナノメートルの深さまで、又は更にはより深く例えば、深さ1、2、3、4又は5マイクロメートル含む、フィルムの実施形態1に記載のフィルム。フィルムの実施形態4ガラス状表面が、最小量の少なくとも約10モルの炭素原子、又は少なくとも約20モルの炭素原子、約40モルまでの炭素原子のを含む、フィルムの実施形態1~3のいずれか一項に記載のフィルム。ガラス状表面中の比較的大量の炭素原子は、シリコーン材の処理にて比較的短い時間が用いられて、本発明による化学量論的量のSiO2を生じたことを示すと考えられる。フィルムの実施形態5反射防止構造体が、角柱状、角錐状、円錐状、放物線状、半球状、円筒状、及び柱状構造体の少なくとも1つ又は組み合わせを含む、フィルムの実施形態1~4のいずれか一項に記載のフィルム。フィルムの実施形態6反射防止構造体が、約90°未満、60°以下、又は約10°~約90°までの範囲内の角柱先端角度、及び約2マイクロメートル~約2cmの範囲内のピッチを有する角柱を含む、フィルムの実施形態1~5のいずれか一項に記載のフィルム。フィルムの実施形態7反射防止構造体が、約15°~約75°の範囲内の角柱先端角度と、約10マイクロメートル~約250マイクロメートルの範囲内のピッチとを有する角柱を含む、フィルムの実施形態1~6のいずれか一項に記載のフィルム。フィルムの実施形態8反射防止構造体が、約10マイクロメートル~約250マイクロメートルの範囲内の、谷から山の高さを有する角柱を含む、フィルムの実施形態1~7のいずれか一項に記載のフィルム。フィルムの実施形態9フィルムが、構造化表面を汚れ吸着試験、又は砂落下試験、又は両方の試験に曝露した後に、少なくとも約80、81、82、83、84、85、90、91、92、93、94、95、96、97、98又は99の光透過率を示す、フィルムの実施形態1~8のいずれか一項に記載のフィルム。フィルムの実施形態10フィルムが、構造化表面を砂落下試験、又は汚れ吸着試験、又は両方の試験に曝露した後に、10、9、8、7、6、5、4、3、2又は1未満の光透過率の変化を示す、フィルムの実施形態1~9のいずれか一項に記載のフィルム。フィルムの実施形態11構造化表面が少なくとも約20MPaの貯蔵弾性率を示し、それぞれの反射防止構造体の残りの部分が、構造化表面により示される貯蔵弾性率よりも低い貯蔵弾性率を示す、フィルムの実施形態1~10のいずれか一項に記載のフィルム。フィルムの実施形態12少なくとも反射防止構造体の架橋シリコーンエラストマー材中に無機ナノ粒子例えば、シリカ、ジルコニア、チタニアなどのを更に含む、フィルムの実施形態1~11のいずれか一項に記載のフィルム。こうした粒子は、約2.0マイクロメートル以下の範囲内の粒径を有するものでよい。シリカ粒子は最大でマイクロメートルサイズであってよいが、他の材料で形成された粒子はナノメートルサイズのものが使用されることが好ましい即ち、約5nm~約50nm以下の範囲内。そのような粒子、特にナノ粒子は、約0重量~約60重量以下の範囲内でシリコーンエラストマー材中に添加してもよい。フィルムの実施形態13構造化フィルム基材が、そこから反射防止構造体が延出するベース部分を更に含む、フィルムの実施形態1~12のいずれか一項に記載のフィルム。ベース部分及び反射防止構造体が両方ともシリコーンエラストマー材から形成されている場合、反射防止構造体のそれぞれは、ほぼ同一のシリコーンエラストマー架橋密度を有してもよく、ベース部分は、反射防止構造体のそれぞれのシリコーンエラストマー架橋密度よりも低いシリコーンエラストマー架橋密度を有してもよい。フィルムの実施形態14主面を有する透明支持裏材と組み合わされたフィルムの実施形態1~13のいずれか一項に記載のフィルムであって、構造化フィルム基材が、支持裏材の主面と結合されて強化された反射防止構造化フィルムを形成する裏打ち面例えば、主裏打ち面を更に含む、フィルム。反射防止構造体は、強化された反射防止構造化フィルムの露出表面を形成してもよい。フィルムの実施形態15透明支持裏材が静電気を消散させる、フィルムの実施形態14に記載のフィルム。フィルムの実施形態16バリア層と組み合わされたフィルムの実施形態1~15のいずれか一項に記載のフィルムであって、構造化フィルム基材が裏打ち面例えば、主裏打ち面を更に含み、バリア層が構造化フィルム基材の裏打ち面と結合されている、フィルム。フィルムの実施形態17バリア層が水分バリアである、フィルムの実施形態16に記載のフィルム。フィルムの実施形態18反射防止構造体のそれぞれが、シリコーンエラストマー架橋密度勾配を示し、シリコーンエラストマー架橋密度は、ガラス状表面に接近するにつれて高く、ガラス状表面から離れるにつれて低くなる、フィルムの実施形態1~17のいずれか一項に記載のフィルム。フィルムの実施形態19反射防止構造体のそれぞれが、そのガラス状表面に加えてコア部分及び残りの部分を有し、コア部分を形成する架橋シリコーンエラストマー材は、残りの部分を形成する架橋シリコーンエラストマー材よりも低い架橋密度を有する、フィルムの実施形態1~18のいずれか一項に記載のフィルム。コア部分を形成する架橋シリコーンエラストマー材は、残りの部分を形成する架橋シリコーンエラストマー材よりも低い、実質的に均一な架橋密度を有してもよい。光エネルギー吸収装置の実施形態1光エネルギー吸収装置であって、光エネルギー受容面を有する光吸収器と、光エネルギーの供給源からの光エネルギーが光吸収器によって吸収されている間、光エネルギーの供給源と光エネルギー受容面との間となるように配置される、請求項1~19のいずれか一項に記載の透明反射防止構造化フィルムと、を備える、光エネルギー吸収装置。光エネルギー吸収装置には、例えば光源例えば、太陽からの熱エネルギーを吸収するための熱エネルギー吸収装置、光を電気エネルギーに変換する光起電装置、又は任意の他の光エネルギー吸収装置を挙げることができるが、これらに限定されない。装置の実施形態2光エネルギー吸収装置が光起電装置であり、光吸収器が、少なくとも1つの光電池を有する光電池モジュールを含み、反射防止構造化フィルムが、表面反射を低減して、光電池モジュールの電気的出力即ち、光エネルギーを電気エネルギーに変換する光電池モジュールの効率を向上させるを少なくとも約3向上させる、装置の実施形態1に記載の装置。光電池モジュールの電気的出力は、少なくとも約5、好ましくは約5~約10の範囲内、又はそれ以上向上されることが望ましい。装置の実施形態3光吸収器が光電池を含み、光エネルギー吸収装置が、破損することなくロールに巻き又は折り畳むことができるような充分な可撓性及び柔軟性を有する光起電装置である、装置の実施形態1又は2に記載の装置。装置の実施形態4光エネルギー吸収装置が、剛性の光電池モジュールを含む、装置の実施形態1又は2に記載の装置。装置の実施形態5光エネルギー吸収装置が、太陽光熱パネルを含む、装置の実施形態1に記載の装置。装置の実施形態6構造化フィルム基材が、ガラス基材上に積層され、又はコーティングされ、又は別様にガラス基材を覆って配置される、装置の実施形態1、2、4及び5のいずれか一項に記載の装置。透明反射防止フィルムの製造方法の実施形態1透明反射防止構造化フィルムの製造方法であって、主構造化面と主裏打ち面とを有する透明構造化フィルム基材を提供する工程であって、構造化面が、光の反射を防止する反射防止構造化表面を画定する反射防止構造体を含み、少なくとも反射防止構造体が架橋シリコーンエラストマー材を含む、工程と、反射防止構造化表面の全部、又は殆ど、又は少なくとも実質的な部分が化学量論的量のSiO2を有するガラス状材料を含むように、反射防止構造化表面の全部、又は殆ど、又は少なくとも実質的な部分を処理して、該反射防止構造化表面における架橋シリコーンエラストマー材を、化学量論的量のSiO2を含むガラス状表面に変換する工程と、を含む、方法。フィルムの製造方法の実施形態2処理が、反射防止構造化表面を、真空紫外線VUV光例えば、172nmエキシマ処理により、真空紫外線光及びオゾンVUVO、酸素プラズマ、並びに熱例えば、誘導加熱、火炎などのうちの少なくとも1つ又は組み合わせに暴露する工程を含む、フィルムの製造方法の実施形態1に記載の方法。シリコーン材の表面は、十分な期間例えば、5~300秒間の172nmエキシマランプ暴露、かつ好適なエネルギーレベル例えば、酸素50ppm未満の窒素不活性雰囲気中で10~50mW/cm2で処理されて、ケイ素から化学量論的量のSiO2への所望のレベルの転換を生じる必要がある。フィルムの製造方法の実施形態3反射防止構造化表面をe-ビーム放射線に暴露して、少なくとも構造化表面の架橋シリコーンエラストマー材を更に架橋させる工程であって、e-ビーム放射線暴露が処理に先だって行われる、工程を更に含む、フィルムの製造方法の実施形態1又は2に記載の方法。フィルムの製造方法の実施形態4透明構造化フィルム基材を提供する工程が、硬化して架橋シリコーンエラストマー材を形成することが可能なシリコーン前駆材料例えば、溶融熱可塑性樹脂又は架橋性熱硬化性シリコーンエラストマー樹脂を提供する工程と、シリコーン前駆材料を構造化フィルム基材の形状に形成する工程と、シリコーン前駆材料を硬化させて、透明構造化フィルム基材を形成する工程と、を含む、フィルムの製造方法の実施形態1~3のいずれか一項に記載の方法。光エネルギー吸収装置の製造方法の実施形態1例えば光源例えば太陽光の熱エネルギー吸収装置、光起電装置、又は任意の他の光エネルギー吸収装置などの光エネルギー吸収装置の製造方法であって、フィルムの実施形態1~19のいずれか一項に記載の透明反射防止構造化フィルムを提供する工程と、光受容面を有する光吸収器例えば、太陽光温水ヒーター又は他の熱エネルギー吸収装置、太陽光エネルギー又は他の光エネルギーを電気エネルギーに変換するための少なくとも1つの光電池を有する光電池モジュールなどを提供する工程と、反射防止構造化フィルムを通って光吸収器の光受容面へと光が通過できるように、光吸収器に対して反射防止構造化フィルムを機械的に取り付け、又は接着剤により接着し、又は他の手段により固定する工程と、を含む、方法。光エネルギー吸収装置の製造方法の実施形態2例えば光源例えば太陽光の熱エネルギー吸収装置、光起電装置、又は任意の他の光エネルギー吸収装置などの光エネルギー吸収装置の製造方法であって、フィルムの実施形態1~4のいずれか一項に記載の透明反射防止構造化フィルムを作製する工程と、光エネルギー受容面を有する光吸収器例えば、太陽光温水ヒーター又は他の熱エネルギー吸収装置、太陽光エネルギー又は他の光エネルギーを電気エネルギーに変換するための少なくとも1つの光電池を有する光電池モジュールを提供する工程と、反射防止構造化フィルムを通って光吸収器の光受容面へと光が通過できるように、光吸収器に対して反射防止構造化フィルムを機械的に取り付け、又は接着剤により接着し、又は他の手段により固定する工程と、を含む、方法。本発明には、その趣旨及び範囲から逸脱することなく、様々な改変及び変更を行うことができる。したがって本発明は上記の記載によって限定されるものではないが、以下の特許請求の範囲及びそのあらゆる均等物において記載される限定条件によって規制されるものである。本発明は、本明細書に詳細に開示されていない要素を欠いても適宜実施され得る。上記に引用したすべての特許及び特許出願は、背景技術の項目において記載されるものを含め、その全容にわたって本文書に援用するものである。"