"SiO2/Al2O3モル比5以上のゼオライトを含むゼオライト膜を、水熱合成により、多孔質支持体上に形成させてゼオライト膜複合体とし、該ゼオライト膜複合体を、温度50°C以上で加熱処理した後に、温度40°C以上300°C以下の水に1時間以上浸漬することを特徴とする多孔質支持体-ゼオライト膜複合体の製造方法。前記水に含まれるSiの量が、0.01質量以上である、請求項1に記載の方法。前記水に更に酸を含む、請求項2に記載の方法。前記酸が、無機酸、カルボン酸、スルホン酸のいずれかの酸である、請求項3に記載の方法。前記酸が、硫酸、硝酸、燐酸、酢酸、ギ酸、乳酸のいずれかの酸である、請求項3または4に記載の方法。加熱処理が焼成である、請求項1~5のいずれか1項に記載の方法。水への浸漬が密閉可能な加熱容器中で行われる、請求項1~6のいずれか1項に記載の方法。水中のOH-1イオン濃度が0.05mol/L以下である、請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。水中のHイオン濃度が0.00001mol/L以上である、請求項2~7のいずれか1項に記載の方法。水への浸漬後、更に加熱処理を行う、請求項1~9のいずれか1項に記載の方法。請求項1~10のいずれか1項に記載の方法により製造されたことを特徴とする多孔質支持体―ゼオライト膜複合体。有機物を含む気体または液体の混合物を、請求項11に記載の多孔質支持体―ゼオライト膜複合体に接触させて、該混合物から、透過性の高い物質を透過させて分離することを特徴とする分離方法。しかしながら、実用化に十分な処理量と分離性能を両立し、かつ有機化合物、特に有機酸への耐性をもつゼオライト膜はいまだ見出せていない。例えば、特許文献2のモルデナイト型ゼオライト膜複合体や特許文献3のフェリエライト型ゼオライト膜複合体は、透過流束が小さく、実用化には処理量が不十分である。また、酸性条件下で脱Al化反応が進行するので、使用時間が長くなるにつれ分離性能が変化し、有機酸存在条件下での使用は望ましくない。特許文献1のA型ゼオライトは、耐酸性や耐水性がなく、適用範囲が限られていた。そこで、分離性能や透過流束を向上させる手段としてゼオライト膜をアルカリ溶液で処理することが行われてきたJournalofMembraneScience218185194。しかしながら、ゼオライトは一般に知られているようにアルカリ存在下で加熱すると溶解する。そのためアルカリ処理は、例えば処理時間を厳密に守るなどの狭い条件範囲でしか行えなかった。そこで条件範囲が広く、厳密なコントロールの不要な処理方法が望まれていた。本発明の目的は、かかる従来技術の問題点が解決された、無機材料分離膜による分離、濃縮において、実用上十分な処理量と分離性能を両立する多孔質支持体-ゼオライト膜複合体の製造方法、該方法により得られる多孔質支持体-ゼオライト膜複合体、該ゼオライト膜複合体を用いた分離、濃縮方法を提供することにある。本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ある種のゼオライトを無機多孔質支持体上に膜状に形成させれば、実用上十分な処理量と分離性能を両立するゼオライト膜複合体が得られることを見出し、先に提案した特願2010-043366号明細書。本発明者らは、さらに検討を重ねた結果、多孔質支持体上にゼオライト膜を形成させて多孔質支持体-ゼオライト膜複合体とした後に、該ゼオライト膜複合体を、ある種の温度条件で、水に浸漬することにより、ゼオライト膜の分離性能が飛躍的に向上することを見出した。そして好ましくは、水中にSiを含有する水に浸漬することにより、更にゼオライト膜の分離性能が向上することを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて成し遂げられたものである。即ち、本発明の要旨は、次の1~11に存する。1SiO2/Al2O3モル比5以上のゼオライトを含むゼオライト膜を、水熱合成により、多孔質支持体上に形成させてゼオライト膜複合体とし、該ゼオライト膜複合体を、温度50°C以上で加熱処理した後に、温度40°C以上300°C以下の水に1時間以上浸漬することを特徴とする多孔質支持体-ゼオライト膜複合体の製造方法。2前記水に含まれるSiの量が、0.01質量以上である、上記1に記載の方法。3前記水に更に酸を含む、上記2に記載の方法。4前記酸が、無機酸、カルボン酸、スルホン酸のいずれかの酸である、上記3に記載の方法。5前記酸が、硫酸、硝酸、燐酸、酢酸、ギ酸、乳酸のいずれかの酸である、上記3又は4に記載の方法6加熱処理が焼成である、上記1~5のいずれかに記載の方法。7水への浸漬が密閉可能な加熱容器中で行われる、上記1~6のいずれかに記載の方法。8水中のOH-1イオン濃度が0.05mol/L以下である、上記1~7のいずれかに記載の方法。9水中のHイオン濃度が0.00001mol/L以上である、上記2~7のいずれかに記載の方法。10水への浸漬後、更に加熱処理を行う、前記1~9のいずれかに記載の方法。11上記1~10の何れかに記載の方法により製造されたことを特徴とする多孔質支持体―ゼオライト膜複合体。12有機物を含む気体または液体の混合物を、上記11に記載の多孔質支持体―ゼオライト膜複合体に接触させて、該混合物から、透過性の高い物質を透過させて分離することを特徴とする分離方法。本発明により、有機化合物を含む気体または液体の混合物から特定の化合物を分離、濃縮する際に、実用上も十分に大きい処理量を有し、かつ十分な分離性能を有するゼオライト膜をもつ多孔質支持体-ゼオライト膜複合体が提供される。このゼオライト膜複合体を、分離手段として用いることにより、十分な処理量と分離性能を両立する、有機化合物を含む気体または液体の混合物から透過性の高い物質の分離、混合物の濃縮が可能となる。以下、本発明の実施の形態について更に詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例であり、本発明はこれらの内容に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。本発明の多孔質支持体-ゼオライト膜複合体の製造方法は、SiO2/Al2O3モル比5以上のゼオライトを含むゼオライト膜を、水熱合成により、多孔質支持体上に形成させてゼオライト膜複合体とし、該ゼオライト膜複合体を、温度50°C以上で加熱処理した後に、温度40°C以上300°C以下の水に1時間以上浸漬することに特徴を有するものである。本発明の多孔質支持体―ゼオライト膜複合体は、上記方法により製造されたことに特徴を有するものである。先ず、これらの発明の構成要件についてさらに詳細に説明する。なお、本明細書において、多孔質支持体-ゼオライト膜複合体をゼオライト膜複合体または膜複合体と、また多孔質支持体を支持体と略称することがある。多孔質支持体本発明において使用される多孔質支持体としては、その表面などにゼオライトを膜状に結晶化できるような化学的安定性があり、無機の多孔質よりなる支持体無機多孔質支持体であれば如何なるものであってもよい。例えば、シリカ、α-アルミナ、γ-アルミナ、ムライト、ジルコニア、チタニア、イットリア、窒化珪素、炭化珪素などのセラミックス焼結体セラッミクス支持体、鉄、ブロンズ、ステンレス等の焼結金属や、ガラス、カーボン成型体などが挙げられる。これら多孔質支持体の中で、基本的成分あるいはその大部分が無機の非金属物質から構成されている固体材料であるセラミックスを焼結したものを含む無機多孔質支持体セラミックス支持体が好ましい。この支持体を用いれば、その一部がゼオライト膜合成中にゼオライト化することで界面の密着性を高める効果がある。具体的には、例えば、シリカ、α-アルミナ、γ-アルミナ、ムライト、ジルコニア、チタニア、イットリア、窒化珪素、炭化珪素などを含むセラミックス焼結体セラミックス支持体が挙げられる。それらの中で、アルミナ、シリカ、ムライトのうち少なくとも1種を含む無機多孔質支持体が好ましい。これらの支持体を用いれば、部分的なゼオライト化が容易であるため、支持体とゼオライトの結合が強固になり緻密で分離性能の高い膜が形成されやすくなる。多孔質支持体の形状は、気体混合物や液体混合物を有効に分離できるものであれば特に制限されず、具体的には、例えば、平板状、管状のもの、または円筒状、円柱状や角柱状の孔が多数存在するハニカム状のものやモノリスなどが挙げられる。本発明において、かかる多孔質支持体上、すなわち支持体の表面などにゼオライトを膜状に形成させる。支持体の表面は、支持体の形状に応じて、どの表面であってもよく、複数の面であっても良い。例えば、円筒管の支持体の場合には外側の表面でも内側の表面でもよく、場合によっては外側と内側の両方の表面であってよい。多孔質支持体の表面が有する平均細孔径は特に制限されないが、細孔径が制御されているものが好ましく、通常0.02μm以上、好ましくは0.05μm以上、より好ましくは0.1μm以上であり、通常20μm以下、好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下である。平均細孔径が小さすぎると透過量が小さくなる傾向があり、大きすぎると支持体自体の強度が不十分になり、支持体表面の細孔の割合が増えて緻密なゼオライト膜が形成されにくくなる傾向がある。支持体の平均厚さ肉厚は、通常0.1mm以上、好ましくは0.3mm以上、より好ましくは0.5mm以上であり、通常7mm以下、好ましくは5mm以下、より好ましくは3mm以下である。支持体はゼオライト膜に機械的強度を与える目的で使用しているが、支持体の平均厚さが薄すぎるとゼオライト膜複合体が十分な強度を持たずゼオライト膜複合体が衝撃や振動等に弱くなる傾向がある。支持体の平均厚さが厚すぎると透過した物質の拡散が悪くなり透過流束が低くなる傾向がある。支持体の気孔率は、通常20以上、好ましくは25以上、より好ましくは30以上であり、通常70以下、好ましくは60以下、より好ましくは50以下である。支持体の気孔率は、気体や液体を分離する際の透過流量を左右し、下限未満では透過物の拡散を阻害する傾向があり、上限を超えると支持体の強度が低下する傾向がある多孔質支持体の表面は滑らかであることが好ましく、必要に応じて表面をやすり等で研磨してもよい。なお、多孔質支持体の表面とはゼオライトを結晶化させる無機多孔質支持体の表面部分を意味し、表面であればそれぞれの形状のどこの表面であってもよく、複数の面であっても良い。例えば円筒管の支持体の場合には外側の表面でも内側の表面でもよく、場合によっては外側と内側の両方の表面であってよい。ゼオライト膜複合体本発明において、上記多孔質支持体上にゼオライト膜を形成させて、ゼオライト膜複合体を得る。ゼオライト膜を構成する成分としては、ゼオライト以外にシリカ、アルミナなどの無機バインダー、ポリマーなどの有機化合物、あるいはゼオライト表面を修飾するシリル化剤などを必要に応じ含んでいてもよい。また、本発明におけるゼオライト膜は、一部アモルファス成分などを含んでいてもよいが、実質的にゼオライトのみで構成されるゼオライト膜が好ましい。ゼオライト膜の厚さは特に制限されないが、通常0.1μm以上、好ましくは0.6μm以上、より好ましくは1.0μm以上であり、通常100μm以下、好ましくは60μm以下、より好ましくは20μm以下の範囲である。膜厚が大きすぎると透過量が低下する傾向があり、小さすぎると選択性が低下したり、膜強度が低下する傾向がある。ゼオライトの粒子径は特に限定されないが、小さすぎると粒界が大きくなるなどして透過選択性などを低下させる傾向がある。それゆえ、通常30nm以上、好ましくは50nm以上、より好ましくは100nm以上であり、上限は膜の厚さ以下である。さらに、ゼオライトの粒子径が膜の厚さと同じである場合が特に好ましい。ゼオライトの粒子径が膜の厚さと同じであるとき、ゼオライトの粒界が最も小さくなる。ゼオライトとしては、アルミノ珪酸塩であるものが好ましく、そのSiO2/Al2O3モル比は、好ましくは5以上、より好ましくは8以上、さらに好ましくは10以上、特に好ましくは12以上であり、好ましくは2000以下、より好ましくは1000以下、さらに好ましくは500以下、特に好ましくは100以下である。SiO2/Al2O3モル比が下限未満では耐久性が低下する傾向があり、上限を超えると疎水性が強すぎるため、透過流束が小さくなる傾向がある。なお、本発明におけるSiO2/Al2O3モル比は、走査型電子顕微鏡-エネルギー分散型X線分光法SEM-EDXにより得られた数値である。数ミクロンの膜のみの情報を得るために通常はX線の加速電圧を10kVで測定する。ゼオライト膜を構成する主たるゼオライトは、好ましくは酸素6~10員環構造を有するゼオライトを含むもの、より好ましくは酸素6~8員環構造を有するゼオライトを含むものである。ここでいう酸素n員環を有するゼオライトのnの値は、ゼオライト骨格を形成する酸素とT元素骨格を構成する酸素以外の元素で構成される細孔の中で最も酸素の数が大きいものを示す。例えば、MOR型ゼオライトのように酸素12員環と8員環の細孔が存在する場合は、酸素12員環のゼオライトとみなす。酸素6~10員環構造を有するゼオライトとしては、例えば、AEI、AEL、AFG、ANA、BRE、CAS、CDO、CHA、DAC、DDR、DOH、EAB、EPI、ESV、EUO、FAR、FRA、FER、GIS、GIU、GOO、HEU、IMF、ITE、ITH、KFI、LEV、LIO、LOS、LTN、MAR、MEP、MER、MEL、MFI、MFS、MON、MSO、MTF、MTN、MTT、MWW、NAT、NES、NON、PAU、PHI、RHO、RRO、RTE、RTH、RUT、SGT、SOD、STF、STI、STT、TER、TOL、TON、TSC、TUN、UFI、VNI、VSV、WEI、YUGなどが挙げられる。酸素6~8員環構造を有するゼオライトとしては、例えば、AEI、AFG、ANA、CHA、EAB、ERI、ESV、FAR、FRA、GIS、ITE、KFI、LEV、LIO、LOS、LTN、MAR、PAU、RHO、RTH、SOD、STI、TOL、UFIなどが挙げられる。酸素n員環構造はゼオライトの細孔のサイズを決定するものであり、6員環よりも小さいゼオライトではH2O分子のKinetic直径半径よりも細孔径が小さくなるため透過流束が小さくなり実用的でない場合がある。また、酸素10員環構造よりも大きい場合は細孔径が大きくなり、サイズの小さな有機化合物では分離性能が低下することがあり、用途が限定的になる場合がある。ゼオライトのフレームワーク密度T/1000Å3は特に制限されないが、通常17以下、好ましくは16以下、より好ましくは15.5以下、特に好ましくは15以下であり、通常10以上、好ましくは11以上、より好ましくは12以上である。フレームワーク密度とは、ゼオライトの1000Å3あたりの、骨格を構成する酸素以外の元素T元素の数を意味し、この値はゼオライトの構造により決まる。なおフレームワーク密度とゼオライトとの構造の関係はATLASOFZEOLITEFRAMEWORKTYPESFifthRevisedEdition2001ELSEVIERに示されている。本発明において、好ましいゼオライトの構造は、AEI、AFG、CHA、EAB、ERI、ESV、FAR、FRA、GIS、ITE、KFI、LEV、LIO、LOS、LTN、MAR、PAU、RHO、RTH、SOD、STI、TOL、UFIであり、より好ましい構造は、AEI、CHA、ERI、KFI、LEV、PAU、RHO、RTH、UFIであり、さらに好ましい構造は、CHA、LEVであり、最も好ましい構造はCHAである。ここで、CHA型のゼオライトとは、InternationalZeoliteAssociationIZAが定めるゼオライトの構造を規定するコードでCHA構造のものを示す。これは、天然に産出するチャバサイトと同等の結晶構造を有するゼオライトである。CHA型ゼオライトは3.8×3.8Åの径を有する酸素8員環からなる3次元細孔を有することを特徴とする構造をとり、その構造はX線回折データにより特徴付けられる。CHA型ゼオライトのフレームワーク密度T/1000Å3は14.5である。また、SiO2/Al2O3モル比は上記と同様である。本発明において、ゼオライト膜複合体は、ゼオライト膜がCHA型ゼオライトを含む場合、X線回折のパターンにおいて、2θ=17.9°付近のピークの強度が2θ=208°付近のピークの強度の0.5倍以上の大きさであることが好ましい。ここで、ピークの強度とは、測定値からバックグラウンドの値を引いたものをさす。2θ=17.9°付近のピークの強度/2θ=208°付近のピークの強度で表されるピーク強度比以下これをピーク強度比Aということがある。でいえば、通常0.5以上、好ましくは1以上、より好ましくは1.2以上、特に好ましくは1.5以上である。上限は特に限定されないが、通常1000以下である。また、ゼオライト膜複合体は、ゼオライト膜がCHA型ゼオライトを含む場合、X線回折のパターンにおいて、2θ=9.6°付近のピークの強度が2θ=208°付近のピークの強度の4倍以上の大きさであることが好ましい。2θ=9.6°付近のピークの強度/2θ=208°付近のピークの強度で表されるピーク強度比以下これをピーク強度比Bということがある。でいえば、通常4以上、好ましくは6以上、より好ましくは8以上、特に好ましくは10以上である。上限は特に限定されないが、通常1000以下である。ここでいう、X線回折パターンとは、ゼオライトが主として付着している側の表面にCuKαを線源とするX線を照射して、走査軸をθ/2θとして得るものである。測定するサンプルの形状としては、膜複合体のゼオライトが主として付着している側の表面にX線が照射できるような形状なら何でもよく、膜複合体の特徴をよく表すものとして、作製した膜複合体そのままのもの、あるいは装置によって制約される適切な大きさに切断したものが好ましい。ここで、X線回折パターンは、ゼオライト膜複合体の表面が曲面である場合には自動可変スリットを用いて照射幅を固定して測定してもかまわない。自動可変スリットを用いた場合のX線回折パターンとは、可変→固定スリット補正を実施したパターンを指す。ここで、2θ=17.9°付近のピークとは、基材に由来しないピークのうち17.9°±0.6°の範囲に存在するピークのうち最大のものを指す。2θ=20.8°付近のピークとは、基材に由来しないピークのうち20.8°±0.6°の範囲に存在するピークで最大のものを指す。2θ=9.6°付近のピークとは、基材に由来しないピークのうち9.6°±0.6°の範囲に存在するピークのうち最大のものを指す。X線回折パターンで2θ=9.6°付近のピークは、COLLECTIONOFSIMULATEDXRDPOWDERPATTERNSFORZEOLITEThirdRevisedEdition1996ELSEVIERによればrhombohedralsettingで空間群をNo.166とした時にCHA構造において指数が1,0,0の面に由来するピークである。また、X線回折パターンで2θ=17.9°付近のピークは、COLLECTIONOFSIMULATEDXRDPOWDERPATTERNSFORZEOLITEThirdRevisedEdition1996ELSEVIERによればrhombohedralsettingで空間群をNo.166とした時にCHA構造において指数が1,1,1の面に由来するピークである。X線回折パターンで2θ=20.8°付近のピークは、COLLECTIONOFSIMULATEDXRDPOWDERPATTERNSFORZEOLITEThirdRevisedEdition1996ELSEVIERによればrhombohedralsettingで空間群をNo.166とした時にCHA構造において指数が2,0,-1の面に由来するピークである。1,0,0面由来のピークの強度と2,0,-1の面に由来のピーク強度の典型的な比ピーク強度比Bは、COLLECTIONOFSIMULATEDXRDPOWDERPATTERNSFORZEOLITEThirdRevisedEdition1996ELSEVIERによれば2.5である。それゆえ、この比が4以上であるということは、例えば、CHA構造をrhombohedralsettingとした場合の1,0,0面が膜複合体の表面と平行に近い向きになるようにゼオライト結晶が配向して成長していることを意味すると考えられる。ゼオライト膜複合体においてゼオライト結晶が配向して成長することは分離性能の高い緻密な膜が出来るという点で有利である。1,1,1面由来のピークの強度と2,0,-1の面に由来のピーク強度の典型的な比ピーク強度比Aは、COLLECTIONOFSIMULATEDXRDPOWDERPATTERNSFORZEOLITEThirdRevisedEdition1996ELSEVIERによれば0.3である。そのため、この比が0.5以上であるということは、例えば、CHA構造をrhombohedralsettingとした場合の1,1,1面が膜複合体の表面と平行に近い向きになるようにゼオライト結晶が配向して成長していることを意味すると考えられる。ゼオライト膜複合体においてゼオライト結晶が配向して成長することは分離性能の高い緻密な膜が出来るという点で有利である。このように、ピーク強度比A、Bのいずれかが、上記した特定の範囲の値であるということは、ゼオライト結晶が配向して成長し、分離性能の高い緻密な膜が形成されていることを示すものである。CHA型ゼオライト結晶が配向して成長している緻密なゼオライト膜は、次に述べる通り、ゼオライト膜を水熱合成により形成する際に、例えば、特定の有機テンプレートを用い、水性反応混合液中にKイオンを共存させることにより達成することができる。ゼオライト膜複合体の製造方法本発明においては、水熱合成により、多孔質支持体上にゼオライト膜を形成さて、ゼオライト膜複合体を調製する。具体的には、例えば、組成を調整して均一化した水熱合成用の反応混合物以下これを水性反応混合物ということがある。を、多孔質支持体を内部に緩やかに固定した、オートクレーブなどの耐熱耐圧容器に入れて密閉して、一定時間加熱すればよい。水性反応混合物としては、Si元素源、Al元素源、必要に応じて有機テンプレート、および水を含み、さらに必要に応じてアルカリ源を含むものが好ましい。水性反応混合物に用いるSi元素源としては、例えば、無定形シリカ、コロイダルシリカ、シリカゲル、ケイ酸ナトリウム、無定形アルミのシリケートゲル、テトラエトキシシランTEOS、トリメチルエトキシシラン等を用いることができる。Al元素源としては、例えば、アルミン酸ナトリウム、水酸化アルミニウム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、酸化アルミニウム、無定形アルミノシリケートゲル等を用いることができる。なお、Al元素源以外に他の元素源、例えばGa、Fe、B、Ti、Zr、Sn、Znなどの元素源を含んでいてもよい。ゼオライトの結晶化において、必要に応じて有機テンプレート構造規定剤を用いることができるが、有機テンプレートを用いて合成したものが好ましい。有機テンプレートを用いて合成することにより、結晶化したゼオライトのアルミニウム原子に対するケイ素原子の割合が高くなり、耐酸性が向上する。有機テンプレートとしては、所望のゼオライト膜を形成し得るものであれば種類は問わず、如何なるものであってもよい。また、テンプレートは1種類でも、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。ゼオライトがCHA型の場合、有機テンプレートとしては、通常、アミン類、4級アンモニウム塩が用いられる。例えば、米国特許第4544538号明細書、米国特許公開第2008/0075656号明細書に記載の有機テンプレートが好ましいものとして挙げられる。具体的には、例えば、1-アダマンタンアミンから誘導されるカチオン、3-キナクリジナールから誘導されるカチオン、3-exo-アミノノルボルネンから誘導されるカチオン等の脂環式アミンから誘導されるカチオンが挙げられる。これらの中で、1-アダマンタンアミンから誘導されるカチオンがより好ましい。1-アダマンタンアミンから誘導されるカチオンを有機テンプレートとしたとき、緻密な膜を形成し得るCHA型ゼオライトが結晶化する。また、膜が水を選択的に透過するのに十分な親水性を有するCHA型ゼオライトが生成し得るほか、耐酸性に優れたCHA型ゼオライトが得られる。1-アダマンタンアミンから誘導されるカチオンのうち、NNN-トリアルキル-1-アダマンタンアンモニウムカチオンがさらに好ましい。NNN-トリアルキル-1-アダマンタンアンモニウムカチオンの3つのアルキル基は、通常、それぞれ独立したアルキル基であり、好ましくは低級アルキル基、より好ましくはメチル基である。それらの中で最も好ましい化合物は、NNN-トリメチル-1-アダマンタンアンモニウムカチオンである。このようなカチオンは、CHA型ゼオライトの形成に害を及ぼさないアニオンを伴う。このようなアニオンを代表するものには、Cl-、Br-、I-などのハロゲンイオンや水酸化物イオン、酢酸塩、硫酸塩、およびカルボン酸塩が含まれる。これらの中で、水酸化物イオンが特に好適に用いられる。その他の有機テンプレートとしては、NNN-トリアルキルベンジルアンモニウムカチオンも用いることができる。この場合もアルキル基は、それぞれ独立したアルキル基であり、好ましくは低級アルキル基、より好ましくはメチル基である。それらの中で、最も好ましい化合物は、NNN-トリメチルベンジルアンモニウムカチオンである。また、このカチオンが伴うアニオンは上記と同様である。水性反応混合物に用いるアルカリ源としては、有機テンプレートのカウンターアニオンの水酸化物イオン、NaOH、KOHなどのアルカリ金属水酸化物、Ca2などのアルカリ土類金属水酸化物などを用いることができる。アルカリの種類は特に限定されず、通常、Na、K、Li、Rb、Cs、Ca、Mg、Sr、Baなどが用いられる。これらの中で、Na、Kが好ましく、Kがより好ましい。また、アルカリは2種類以上を併用してもよく、具体的には、NaとKを併用するのが好ましい。水性反応混合物中のSi元素源とAl元素源の比は、通常、それぞれの元素の酸化物のモル比、すなわちSiO2/Al2O3モル比として表わす。SiO2/Al2O3モル比は特に限定されないが、通常5以上、好ましくは8以上、より好ましくは10以上、更に好ましくは15以上である。また、通常10000以下、好ましくは1000以下、より好ましくは300以下、更に好ましくは100以下である。SiO2/Al2O3モル比がこの範囲内にあるときゼオライト膜が緻密に生成し、更に生成したゼオライトが強い親水性を示し、有機化合物を含有する混合物中から親水性の化合物、特に水を選択的に透過することができる。また耐酸性に強く脱Alしにくいゼオライト膜が得られる。特に、SiO2/Al2O3モル比がこの範囲にあるとき、緻密な膜を形成し得るCHA型ゼオライトを結晶化させることができる。また、膜が水を選択的に透過するのに十分な親水性を有するCHA型ゼオライトが生成し得るほか、耐酸性に優れたCHA型ゼオライトが得られる。水性反応混合物中のシリカ源と有機テンプレートの比は、SiO2に対する有機テンプレートのモル比有機テンプレート/SiO2モル比で、通常0.005以上、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.02以上であり、通常1以下、好ましくは0.4以下、より好ましくは0.2以下である。有機テンプレート/SiO2モル比が上記範囲にあるとき、緻密なゼオライト膜が生成し得ることに加えて、生成したゼオライトが耐酸性に強くAlが脱離しにくい。また、この条件において、特に緻密で耐酸性のCHA型ゼオライトを形成させることができる。Si元素源とアルカリ源の比は、M2/nO/SiO2ここで、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属を示し、nはその価数1または2を示す。モル比で、通常0.02以上、好ましくは0.04以上、より好ましくは0.05以上であり、通常0.5以下、好ましくは0.4以下、より好ましくは0.3以下である。CHA型ゼオライト膜を形成する場合、アルカリ金属の中でKを含む場合がより緻密で結晶性の高い膜を生成させるという点で好ましい。その場合のKと、Kを含むすべてのアルカリ金属および/またはアルカリ土類金属とのモル比は通常0.01以上1以下、好ましくは0.1以上1以下、さらに好ましくは0.3以上1以下である。水性反応混合物中へのKの添加は、前記のとおり、rhombohedralsettingで空間群をNo.166とした時に、CHA構造において指数が1,0,0の面に由来するピークである2θ=9.6°付近のピーク強度と2,0,-1の面に由来するピークである2θ=20.8°付近のピーク強度の比ピーク強度比B、または、1,1,1の面に由来するピークである2θ=17.9°付近のピーク強度と2,0,-1の面に由来するピークである2θ=20.8°付近のピーク強度の比ピーク強度比Aを大きくする傾向がある。Si元素源と水の比は、SiO2に対する水のモル比H2O/SiO2モル比で、通常10以上、好ましくは30以上、より好ましくは40以上、特に好ましくは50以上であり、通常1000以下、好ましくは500以下、より好ましくは200以下、特に好ましくは150以下である。水性反応混合物中の物質のモル比がこれらの範囲にあるとき、緻密なゼオライト膜が生成し得る。水の量は緻密なゼオライト膜の生成においてとくに重要であり、粉末合成法の一般的な条件よりも水がシリカに対して多い条件のほうが細かい結晶が生成して緻密な膜ができやすい傾向にある。一般的に、粉末のCHA型ゼオライトを合成する際の水の量は、H2O/SiO2モル比で、15~50程度である。H2O/SiO2モル比が高い50以上1000以下、すなわち水が多い条件にすることにより、支持体上にCHA型ゼオライトが緻密な膜状に結晶化した分離性能の高いゼオライト膜複合体を得ることができる。さらに、水熱合成に際して、必ずしも反応系内に種結晶を存在さる必要は無いが、種結晶を加えることで、支持体上にゼオライトの結晶化を促進できる。種結晶を加える方法としては特に限定されず、粉末のゼオライトの合成時のように、水性反応混合物中に種結晶を加える方法や、支持体上に種結晶を付着させておく方法などを用いることができる。ゼオライト膜複合体を製造する場合は、支持体上に種結晶を付着させておくことが好ましい。支持体上に予め種結晶を付着させておくことで緻密で分離性能良好なゼオライト膜が生成しやすくなる。使用する種結晶としては、結晶化を促進するゼオライトであれば種類は問わないが、効率よく結晶化させるためには形成するゼオライト膜と同じ結晶型であることが好ましい。CHA型ゼオライト膜を形成する場合は、CHA型ゼオライトの種結晶を用いることが好ましい。種結晶の粒子径は、通常0.5nm以上、好ましくは1nm以上、より好ましくは2nm以上であり、通常20μm以下、好ましくは15μm以下、より好ましくは10μm以下である。種結晶を加える方法としては、粉末のゼオライトの合成時のように、水性反応混合物中に加える方法、支持体上に種結晶を付着させておく方法などを用いることができるが、支持体上に種結晶を付着させておくことが好ましい。支持体上に予め種結晶を付着させておくことで緻密で分離性能良好なゼオライト膜が生成しやすくなる。使用する種結晶としては、結晶化を促進するゼオライトであれば種類は問わないが、効率よく結晶化させるためには形成するゼオライト膜と同じ結晶型であることが好ましい。CHA型ゼオライト膜を形成する場合は、CHA型ゼオライトの種結晶を用いることが好ましい。支持体上に種結晶を付着させる方法は特に限定されず、例えば、種結晶を水などの溶媒に分散させてその分散液に支持体を浸けて種結晶を付着させるディップ法や、種結晶を水などの溶媒と混合してスラリー状にしたものを支持体上に塗りこむ方法などを用いることができる。種結晶の付着量を制御し、再現性良く膜複合体を製造するにはディップ法が望ましい。種結晶を分散させる溶媒は特に限定されないが、特に水が好ましい。分散させる種結晶の量は特に限定されず、分散液の全質量に対して、通常0.01質量以上、好ましくは0.1質量以上、より好ましくは0.5質量以上であり、通常20質量以下、好ましくは10質量以下、より好ましくは5質量以下、さらに好ましくは4質量以下、とくに好ましくは3質量以下である。分散させる種結晶の量が少なすぎると、支持体上に付着する種結晶の量が少ないため、水熱合成時に支持体上に部分的にゼオライトが生成しない箇所ができ、欠陥のある膜となる可能性がある。ディップ法によって支持体上に付着する種結晶の量は分散液中の種結晶の量がある程度以上でほぼ一定となるため、分散液中の種結晶の量が多すぎると、種結晶の無駄が多くなりコスト面で不利である。支持体にディップ法あるいはスラリーの塗りこみによって種結晶を付着させ、乾燥した後にゼオライト膜の形成を行うことが望ましい。支持体上に予め付着させておく種結晶の量は特に限定されず、基材1m2あたりの質量で、通常0.01g以上、好ましくは0.05g以上、より好ましくは0.1g以上であり、通常100g以下、好ましくは50g以下、より好ましくは10g以下、更に好ましくは8g以下である。種結晶の量が下限未満の場合には、結晶ができにくくなり、膜の成長が不十分になる場合や、膜の成長が不均一になったりする傾向がある。また、種結晶の量が上限を超える場合には、表面の凹凸が種結晶によって増長されたり、支持体から落ちた種結晶によって自発核が成長しやすくなって支持体上の膜成長が阻害されたりする場合がある。何れの場合も、緻密なゼオライト膜が生成しにくくなる傾向となる。水熱合成により支持体上にゼオライト膜を形成する場合、支持体の固定化方法に特に制限はなく、縦置き、横置きなどあらゆる形態をとることができる。この場合、静置法でゼオライト膜を形成させてもよいし、水性反応混合物を攪拌させてゼオライト膜を形成させてもよい。ゼオライト膜を形成させる際の温度は特に限定されないが、通常100°C以上、好ましくは120°C以上、更に好ましくは150°C以上であり、通常200°C以下、好ましくは190°C以下、さらに好ましくは180°C以下である。反応温度が低すぎると、ゼオライトが結晶化し難くなることがある。また、反応温度が高すぎると、本発明におけるゼオライトとは異なるタイプのゼオライトが生成し易くなることがある。加熱時間は特に限定されないが、通常1時間以上、好ましくは5時間以上、更に好ましくは10時間以上であり、通常10日間以下、好ましくは5日以下、より好ましくは3日以下、さらに好ましくは2日以下である。反応時間が短すぎるとゼオライトが結晶化し難くなることがある。反応時間が長すぎると、本発明におけるゼオライトとは異なるタイプのゼオライトが生成し易くなることがある。ゼオライト膜形成時の圧力は特に限定されず、密閉容器中に入れた水性反応混合物を、この温度範囲に加熱したときに生じる自生圧力で十分である。さらに必要に応じて、窒素などの不活性ガスを加えても差し支えない。水熱合成により得られたゼオライト膜複合体は、水洗した後に、加熱処理して、乾燥させる。ここで、加熱処理とは、熱をかけてゼオライト膜複合体を乾燥又はテンプレートを使用した場合にテンプレートを焼成することを意味する。加熱処理の温度は、乾燥を目的とする場合、通常50°C以上、好ましくは80°C以上、より好ましくは100°C以上、通常200°C以下、好ましくは150°C以下である。また、テンプレートの焼成を目的とする場合、通常350°C以上、好ましくは400°C以上、より好ましくは430°C以上、更に好ましくは480°C以上であり、通常900°C以下、好ましくは850°C以下、さらに好ましくは800°C以下、特に好ましくは750°C以下である。加熱時間は、ゼオライト膜が十分に乾燥、またはテンプレートが焼成する時間であれば特に限定されず、好ましくは0.5時間以上、より好ましくは1時間以上である。上限は特に限定されず、通常200時間以内、好ましくは150時間以内、より好ましくは100時間以内である。水熱合成を有機テンプレートの存在下で行った場合、得られたゼオライト膜複合体を、水洗した後に、例えば、加熱処理や抽出などにより、好ましくは加熱処理、すなわち焼成により有機テンプレートを取り除くことが適当である。焼成温度は、通常350°C以上、好ましくは400°C以上、より好ましくは430°C以上、更に好ましくは480°C以上であり、通常900°C以下、好ましくは850°C以下、さらに好ましくは800°C以下、特に好ましくは750°C以下である。焼成温度が低すぎると有機テンプレートが残っている割合が多くなる傾向があり、ゼオライトの細孔が少なく、そのために分離濃縮の際の透過流束が減少する可能性がある。焼成温度が高すぎると支持体とゼオライトの熱膨張率の差が大きくなるためゼオライト膜に亀裂が生じやすくなる可能性があり、ゼオライト膜の緻密性が失われ分離性能が低くなることがある。焼成時間は、昇温速度や降温速度により変動するが、有機テンプレートが十分に取り除かれる時間であれば特に限定されず、好ましくは1時間以上、より好ましくは5時間以上である。上限は特に限定されず、例えば、通常200時間以内、好ましくは150時間以内、より好ましくは100時間以内、最も好ましくは24時間以内である。焼成は空気雰囲気で行えばよいが、酸素を付加した雰囲気で行ってもよい。焼成の際の昇温速度は、支持体とゼオライトの熱膨張率の差がゼオライト膜に亀裂を生じさせることを少なくするために、なるべく遅くすることが望ましい。昇温速度は、通常5°C/分以下、好ましくは2°C/分以下、さらに好ましくは1°C/分以下、特に好ましくは0.5°C/分以下である。通常、作業性を考慮し0.1°C/分以上である。また、焼成後の降温速度もゼオライト膜に亀裂が生じることを避けるためにコントロールする必要がある。昇温速度と同様、遅ければ遅いほど望ましい。降温速度は、通常5°C/分以下、好ましくは2°C/分以下、より好ましくは1°C/分以下、特に好ましくは0.5°C/分以下である。通常、作業性を考慮し0.1°C/分以上である。ゼオライト膜は、必要に応じてイオン交換しても良い。イオン交換は、テンプレートを用いて合成した場合は、通常、テンプレートを除去した後に行う。イオン交換するイオンとしては、プロトン、Na、K、Liなどのアルカリ金属イオン、Ca2、Mg2、Sr2、Ba2などのアルカリ土類金属イオン、Fe、Cu、Znなどの遷移金属のイオンなどが挙げられる。これらの中で、プロトン、Na、K、Liなどのアルカリ金属イオンが好ましい。イオン交換は、焼成後テンプレートを使用した場合などのゼオライト膜を、NH4NO3、NaNO3などアンモニウム塩あるいは交換するイオンを含む水溶液、場合によっては塩酸などの酸で、通常、室温から100°Cの温度で処理後、水洗する方法などにより行えばよい。さらに、必要に応じて200°C~500°Cで焼成してもよい。かくして得られる多孔質支持体-ゼオライト膜複合体加熱処理後のゼオライト膜複合体の空気透過量[L/m2h]は、通常1400L/m2h以下、好ましくは1000L/m2h以下、より好ましくは700L/m2h以下、より好ましくは600L/m2h以下、さらに好ましくは500L/m2h以下、特に好ましくは300L/m2h以下、もっとも好ましくは200L/m2h以下である。透過量の下限は特に限定されないが、通常0.01L/m2h以上、好ましくは0.1L/m2h以上、より好ましくは1L/m2h以上である。ここで、空気透過量とは、後述するとおり、ゼオライト膜複合体を絶対圧5kPaの真空ラインに接続した時の空気の透過量[L/]である。温水処理本発明の方法においては、上記ゼオライト膜複合体を、温度40°C以上300°C以下の水に1時間以上浸漬する。なお、本明細書において、このゼオライト膜複合体の水への浸漬を温水処理と略称することがある。上記温水処理により、加熱処理乾燥、焼成などによってゼオライトの表面に生成したSi-O-Si結合を親水性の高いSi-OHとすることができ、それにより水の透過性能が向上すると考えられる。また、微細な欠陥が、欠陥中に存在するアモルファスシリカなどを原料に修復されるため膜の性能が向上すると考えられる。ここで、温水処理における水とは、液状の水であって、沸点以上の温度では、加圧下で液状となっているものも含まれる。この場合の圧力は、自生圧でも加圧でもよい。水の温度は、通常40°C以上、好ましくは60°C以上、より好ましくは80°C以上、特に好ましくは100°C以上であり、通常300°C以下、好ましくは200°C以下、より好ましくは160°C以下である。水の温度が低すぎると、ゼオライトの表面に生成したSi-O-Si結合を親水性の高いSi-OHとする効果や微細な欠陥が、欠陥中に存在するアモルファスシリカなどを原料に修復される効果が十分に得られないことがある。水の温度が高すぎると、ゼオライトが一部水中に溶出してゼオライト膜が壊れる可能性がある。水への浸漬時間は、通常1時間以上、好ましくは5時間以上、より好ましくは7時間以上、特に好ましくは10時間以上であり、通常100時間以下、好ましくは50時間以下、より好ましくは30時間以下である。浸漬時間が短すぎると、膜表面の変化が十分に進行せず、十分な効果が得られないことがある。浸漬時間が長すぎると、ゼオライトが一部水中に溶出してゼオライトが壊れる可能性がある。上記ゼオライト膜複合体は、水への浸漬処理後、そのまま使用してもかまわないが、水洗や必要に応じて乾燥を行っても良い。加熱によって乾燥する場合は通常20°C以上、好ましくは40°C以上、より好ましくは100°C以上、さらに好ましくは150°C以上であり、通常500°C以下、好ましくは400°C以下、さらに好ましくは300°C以下である。加熱温度が高すぎると、ゼオライト膜表面が焼成後の状態に近くなり温水処理の効果が失われる可能性がある。水中に微量のOH-1イオンを積極的に存在させてもよく、その場合、水中のOH-1イオン濃度は、通常0.05mol/l以下、好ましくは0.01mol/l以下、より好ましくは0.005mol/l以下であり、通常0.0001mol/l以上、好ましくは0.0005mol/l以上、より好ましくは0.001mol/l以上である。水中にOH-1イオンが存在することによって、存在しない場合よりも短時間で同等の効果を得ることが可能になる。水中のOH-1イオン濃度が高すぎると、ゼオライト膜が溶解して破壊されやすくなり処理時間の厳密なコントロールが必要となる。水には、Si、Al、B、P等から選ばれる少なくとも1種の元素を含んでいてもよく、これらの中で、Si、Alが好ましく、Siが特に好ましい。特に水中にSi元素を含有する場合、膜に存在する欠陥が、水中に含まれるSi元素によって、一部修復されることがあるので好ましい。これら元素の濃度は、通常0.00001質量以上、好ましくは質量0.00005以上、より好ましくは0.0001質量以上、さらに好ましくは0.001質量以上、特に好ましくは0.01質量以上、もっとも好ましく0.1質量以上であり、通常20質量以下、好ましくは10質量以下、より好ましくは5質量以下である。またSi元素を含有する場合は、通常0.01質量以上、好ましくは0.1質量以上であり、通常20質量以下、好ましくは10質量以下、より好ましくは5質量以下である。Si元素源としては例えば、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、3アミノプロピルトリエトキシシランなどのアルコキシシラン、無定形シリカ、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ、シリカゲル、ケイ酸ナトリウム、シリケートオリゴマー、シリカゾルなどを用いることができ、反応性の面でアルコキシシランが好ましい。Al元素源としては、例えば、アルミン酸ナトリウム、水酸化アルミニウム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、酸化アルミニウム、アルミナゾル、無定形アルミノシリケートゲル、アルミニウムイソプロポキシドなどのアルミニウムアルコキサイド等を用いることができる。ゼオライトの構成元素となりうるSi、Al、B、P等を含む水にゼオライト膜複合体を浸漬して加熱することによって、ゼオライト膜に存在する微細な欠陥が、水中のSi、Al、B、P等を原料として修復されたり、膜の表面が前記水中に含まれる元素によって修飾されることで親水性が向上することにより、膜の性能が向上することがある。これらの元素の濃度が低すぎると、水のみの処理と効果が同等となる。これらの元素の濃度が高すぎると、ゼオライト膜複合体にアモルファスのSiO2、Al2O3などが付着し透過流束が減少する傾向がある。水には、カルボン酸、スルホン酸などの有機酸や、硫酸、燐酸などの無機酸等の酸を含んでいても良い。特に水中にSiを含む場合、水中に酸を含むことが好ましい。水中に含まれる酸としては、特にカルボン酸、無機酸が好ましい。カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、マレイン酸、フタル酸、乳酸、クエン酸、アクリル酸などが好ましく、ギ酸、酢酸、乳酸がより好ましく、これらの中で特に酢酸が好ましい。無機酸としては、硫酸、硝酸、燐酸などが好ましく、この中で硫酸、燐酸が好ましい。水中に含まれる酸の濃度は、通常0.00001質量以上、好ましくは0.00005質量以上、より好ましくは0.0001質量以上であり、通常10質量以下、好ましくは5質量以下、より好ましくは2質量以下である。水中のH濃度は通常1×10-8mol/l以上、好ましくは1×10-7mol/l以上、より好ましくは1×10-5mol/l以上、さらに好ましくは1×10-3mol/l以上、特に好ましくは0.005mol/l以上、もっとも好ましくは0.01mol/l以上であり、通常10mol/l以下、好ましくは5mol/l以下、より好ましくは1mol/l以下である。特に水中にSiを含む場合、水の液性は酸性が好ましく、そのときの水中のH濃度は、通常0.00001mol/l以上、より好ましくは0.0001moll以上、さらに好ましくは0.0005mol/l以上もっとも好ましくは0.001moll以上であり、通常10mol/l以下、好ましくは5mol/l以下、より好ましくは1mol/l以下である。本発明で用いられるゼオライト膜複合体は、酸を含む水に浸漬して加熱処理することによって、ゼオライト膜に存在する微細な欠陥部分に水中に存在する酸が吸着して欠陥がふさがれたり、酸の存在によって膜表面のSi-O-Si結合の加水分解が促進され、膜表面にSi-OHができて膜の親水性が向上したりするため膜の分離性能や透過流束が向上する場合がある。これらの酸の濃度が低すぎると、水のみの処理と効果が同等となる。また、これら酸の濃度が高すぎると、欠陥部分だけでなくゼオライト膜の表面全体に酸が吸着して流路をふさぎ、透過流束が減少する傾向になる。水には、ポリビニルアルコールPVA、Nafion登録商標などの親水性を有する高分子化合物およびまたはそのモノマーを含んでいてもよい。これら親水性を有する高分子化合物およびまたはそのモノマーの濃度は、通常0.00001質量以上、好ましくは0.00005質量以上、より好ましくは0.0001質量以上であり、通常30質量以下、好ましくは20質量以下、より好ましくは10質量以下である。親水性を有する高分子化合物およびまたはそのモノマーを含む水に浸漬して加熱処理することによって、ゼオライト膜上に親水性を持つ高分子の層が形成され、ゼオライト膜がより親水的になり水の透過流束が向上するほか、ゼオライト膜に存在する微細な欠陥部分が親水性の高分子でふさがれ分離性能が向上する傾向がある。この濃度が低すぎると、水のみの処理と効果が同等となる。また濃度が高すぎると、ゼオライト膜上に形成される親水性を持つ高分子の層が厚くなるため、透過流束が減少する傾向がある。かくして製造されるゼオライト膜複合体は、上記のとおり優れた特性をもつものであり、本発明の分離方法における膜分離手段として好適に用いることができる。分離方法本発明の分離方法は、有機化合物を含む気体または液体の混合物を、上記多孔質支持体―ゼオライト膜複合体に接触させて、該混合物から、透過性の高い物質を透過させて分離することに特徴をもつものである。この発明において、多孔質支持体―ゼオライト膜複合体は、上記と同様のものが用いられる。また、好ましいものも上記と同様である。本発明の分離方法において、ゼオライト膜を備えた無機多孔質支持体を介し支持体側又はゼオライト膜側の一方の側に有機化合物を含む気体または液体の混合物を接触させ、その逆側を混合物が接触している側よりも低い圧力とすることによって混合物から、ゼオライト膜に透過性が高い物質透過性が相対的に高い混合物中の物質を選択的に、すなわち透過物質の主成分として透過させる。これにより、混合物から透過性の高い物質を分離することができる。その結果、混合物中の特定の有機化合物透過性が相対的に低い混合物中の物質の濃度を高めることで、特定の有機化合物を分離回収、あるいは濃縮することができる。例えば、水と有機化合物の混合物の場合、通常水がゼオライト膜に対する透過性が高いので、混合物から水が分離され、有機化合物は元の混合物中で濃縮される。パーベーパレーション法浸透気化法、ベーパーパーミエーション法蒸気透過法と呼ばれる分離濃縮方法は、本発明の分離方法におけるひとつの実施形態である。パーベーパレーション法は、液体の混合物をそのまま分離膜に導入する分離濃縮方法であるため、分離濃縮を含むプロセスを簡便なものにすることができる。ベーパーパーミエーション法は、液体の混合物を気化させてから分離膜に導入する分離濃縮方法であるため、蒸留装置と組み合わせて使用することや、より高温、高圧での分離に用いることができる。またベーパーパーミエーション法は、液体の混合物を気化させてから分離膜に導入することから、供給液中に含まれる不純物や、液体状態では会合体やオリゴマーを形成する物質が膜に与える影響を低減することができる。本発明により得られる無機多孔質支持体-ゼオライト膜複合体はいずれの方法に対しても好適に用いることができる。また、ベーパーパーミエーション法で高温での分離を行う場合、一般に温度が高いほど分離性能が低下するが、本発明により得られる無機多孔質支持体-ゼオライト膜複合体は、高温でも高い分離性能を発現することができる。そして通常、ベーパーパーミエーション法は、液体混合物を気化させてから分離するため、通常はパーベーパレーション法よりも過酷な条件での分離となるため、膜複合体の耐久性も要求される。本発明により得られる無機多孔質支持体-ゼオライト膜複合体は、高温条件下でも分離が可能な耐久性を有している上でベーパーパーミエーション法に好適である。前記多孔質支持体-ゼオライト膜複合体は、含水率が20質量以上の含水有機化合物を処理した場合でも、高い透過性能、選択性を発揮し、耐久性に優れた分離膜としての性能を持つ。ここでいう高い透過性能とは、十分な処理量を示し、例えば、膜を透過する物質の透過流束が、例えば含水率30質量の2-プロパノールまたはN-メチル-2-ピロリドンと水の混合物を、70°Cにおいて、1気圧1.01×105Paの圧力差で透過させた場合、1kg/m2h以上、好ましくは3kg/m2h以上、より好ましくは5kg/m2h以上であることをいう。透過流束の上限は特に限定されず、通常20kg/m2h以下、好ましくは15kg/m2h以下である。また、高い透過性能をパーミエンスPermeance、透過度ともいうで表す事もできる。パーミエンスとは、圧力差あたりの透過流束Pressurenormalizedfluxを表し、透過する物質量を膜面積と時間と水の分圧差の積で割ったものである。パーミエンスの単位で表した場合、水のパーミエンスとして、例えば含水率30質量の2-プロパノールまたはN-メチル-2-ピロリドンと水の混合物を、70°Cにおいて、1気圧1.01×105Paの圧力差で透過させた場合、通常3×10-7mol/m2sPa以上、好ましくは5×10-7mol/m2sPa以上、より好ましくは1×10-6mol/m2sPa以上、特に好ましくは2×10-6mol/m2sPa以上である。パーミエンスの上限は特に限定されず、通常1×10-4mol/m2sPa以下、好ましくは5×10-5mol/m2sPa以下である。選択性は分離係数により表される。分離係数は膜分離で一般的に用いられる選択性を表す以下の指標である。分離係数=Pα/Pβ/Fα/Fβここで、Pαは透過液中の主成分の質量パーセント濃度、Pβは透過液中の副成分の質量パーセント濃度、Fαは透過液において主成分となる成分の被分離混合物中の質量パーセント濃度、Fβは透過液において副成分となる成分の被分離混合物中の質量パーセント濃度である。分離係数は、例えば含水率30質量の2-プロパノールまたはN-メチル-2-ピロリドンと水の混合物を、70°Cにおいて、1気圧1.01×105Paの圧力差で透過させた場合、通常1000以上、好ましくは4000以上、より好ましくは10000以上、特に好ましくは20000以上である。分離係数の上限は完全に水しか透過しない場合であり、その場合は無限大となるが、好ましくは10000000以下、より好ましくは1000000以下である。分離対象が、水と有機化合物の混合物以下これを含水有機化合物ということがある。の場合、混合物中の含水率は、通常20質量以上、好ましくは30質量以上、より好ましくは45質量以上であり、通常95質量以下、好ましくは80質量以下、より好ましくは70質量以下である。本発明の分離方法では、ゼオライト膜を透過する物質は、通常水であるため、含水率が少なくなると処理量が低下するため効率的でない。また含水率が多すぎると濃縮に必要な膜が大面積となり膜が管状に形成されている場合は数が多くなり経済的な効果が小さくなる。含水有機化合物としては、適当な水分調節方法により、予め含水率を調節したものであってもよい。この場合、好ましい含水率は上記と同様である。また、水分調節方法としては、それ自体既知の方法、例えば、蒸留、圧力スイング吸着PSA、温度スイング吸着TSA、デシカントシステムなどが挙げられる。さらに、ゼオライト膜複合体によって水が分離された含水有機化合物から、さらに水を分離してもよい。これにより、より高度に水を分離し、含水有機化合物をさらに高度に濃縮することができる。有機化合物としては、例えば、酢酸、アクリル酸、プロピオン酸、蟻酸、乳酸、シュウ酸、酒石酸、安息香酸などのカルボン酸類や、スルフォン酸、スルフィン酸、ハビツル酸、尿酸、フェノール、エノール、ジケトン型化合物、チオフェノール、イミド、オキシム、芳香族スルフォンアミド、第1級および第2級ニトロ化合物などの有機酸類;メタノール、エタノール、イソプロパノール2-プロパノールなどのアルコール類;アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;アセトアルデヒドなどのアルデヒド類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類;ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等のアミドなどの窒素を含む有機化合物N含有有機化合物、酢酸エステル、アクリル酸エステル等のエステル類などが挙げられる。これらの中から、分子ふるいと親水性の両方の特徴を生かすことのできる有機酸と水との混合物から有機酸を分離するときに無機多孔質支持体-ゼオライト膜複合体の効果が際立って発現する。好ましくはカルボン酸類と水との混合物、特に好ましくは酢酸と水の分離などがより好適な例である。また、有機酸以外の有機物と水との混合物から有機物と水を分離する場合の有機物は炭素数が2以上であることが好ましく、炭素数が3以上であることがより好ましい。これら有機酸以外の有機物の中では、特にアルコール、エーテル、ケトン、アルデヒド、アミドから選ばれる少なくとも一種を含有する有機化合物が望ましい。これら有機化合物の中で、炭素数が2から10のものが好ましく、炭素数が3から8のものがより好ましい。また有機化合物としては、水と混合物混合溶液を形成し得る高分子化合物でもよい。かかる高分子化合物としては、分子内に極性基を有するもの、例えば、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコールなどのポリオール類;ポリアミン類;ポリスルホン酸類;ポリアクリル酸などのポリカルボン酸類;ポリアクリル酸エステルなどのポリカルボン酸エステル類;グラフト重合等によってポリマー類を変性させた変性高分子化合物類;オレフィンなどの非極性モノマーとカルボキシル基等の極性基を有する極性モノマーとの共重合によって得られる共重合高分子化合物類などが挙げられる。前記含水混合物としては、水とフェノールの混合物のように、共沸混合物を形成する混合物でもよく、共沸混合物を形成する混合物の分離においては、水を選択的にかつ、蒸留による分離よりも効率よく分離可能な面で好ましい。具体的には、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール等;のアルコール類と水の混合物、酢酸エチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル等;のエステル類と水の混合物、ギ酸、イソ酪酸、吉草酸等;のカルボン酸類と水の混合物フェノールやアニリン等;の芳香族有機物と水の混合物、アセトニトリル、アクリロニトリル等;の窒素含有物と水との混合物等が挙げられる。さらに、含水有機化合物としては、水とポリマーエマルジョンとの混合物でもよい。ここで、ポリマーエマルジョンとは、接着剤や塗料等で通常使用される、界面活性剤とポリマーとの混合物である。ポリマーエマルジョンに用いられるポリマーとしては、例えば、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、ポリオレフィン、エチレン-ビニルアルコール共重合体などのオレフィン-極性モノマー共重合体、ポリスチレン、ポリビニルエーテル、ポリアミド、ポリエステル、セルロース誘導体等の熱可塑性樹脂;尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン等の熱硬化性樹脂;天然ゴム、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、スチレン-ブタジエン共重合体などのブタジエン共重合体等のゴム等が挙げられる。また界面活性剤としては、それ自体既知のものを用いればよい。本発明のゼオライト膜複合体は、耐酸性を有するため、水と酢酸など有機酸の混合物からの水分離、エステル化反応促進のための水分離などにも有効に利用できる。本発明の分離方法は、前記ゼオライト膜複合体を用いて、適当な分離装置を作製し、それに有機化合物を含む気体または液体の混合物を導入することにより行えばよい。これら分離装置は、それ自体既知の部材により作製することができる。以下、実験例に基づいて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実験例により限定されるものではない。なお、以下の実験例において、物性や分離性能等の測定は、次のとおり行った。1X線回折XRD測定ゼオライト膜のXRD測定を、以下の条件で行った。装置名:オランダPANalytical社製X’PertProMPD光学系仕様入射側:封入式X線管球CuKαSollerSlitDivergenceSlit試料台:XYZステージ受光側:半導体アレイ検出器Ni-filterSollerSlitゴニオメーター半径:240mm測定条件X線出力:45kV、40mA走査軸:θ/2θ走査範囲:50-700°測定モード:Continuous読込幅:005°計数時間:997sec自動可変スリット:1mm横発散マスク:10mmなお、X線は円筒管の軸方向に対して垂直な方向に照射した。またX線は、できるだけノイズ等がはいらないように、試料台においた円筒管状の膜複合体と、試料台表面と平行な面とが接する2つのラインのうち、試料台表面ではなく、試料台表面より上部にあるもう一方のライン上に主にあたるようにした。また、照射幅を自動可変スリットによって1mmに固定して測定し、MaterialsData,Inc.のXRD解析ソフトJADE7.5.2日本語版を用いて可変スリット→固定スリット変換を行ってXRDパターンを得た。2空気透過量ゼオライト膜複合体の一端を封止し、他端を、密閉状態で5kPaの真空ラインに接続して、真空ラインとゼオライト膜複合体の間に設置したマスフローメーターで空気の流量を測定し、空気透過量[L/m2h]とした。マスフローメーターとしてはKOFLOC社製8300、N2ガス用、最大流量500ml/min20°C、1気圧換算を用いた。KOFLOC社製8300においてマスフローメーターの表示が10ml/min20°C、1気圧換算以下であるときはLintec社製MM-2100M、Airガス用、最大流量20ml/min0°C、1気圧換算を用いて測定した。3SEM-EDX測定ゼオライト膜のSEM-EDX測定を、以下の条件で行った。装置名:SEM:FE-SEMHitachi:S-4800EDX:EDAXGenesis加速電圧:10kV倍率5000倍での視野全面25μm×18μmを走査し、X線定量分析を行った。4SEM測定SEM測定は以下の条件に基づき行った。装置名:SEM:FE-SEMHitachi:S-4100加速電圧:10kV5パーベーパレーション法パーベーパレーション法に用いた装置の概略図を図1に示す。図1においてゼオライト膜複合体5は真空ポンプ9によって内側が減圧され、被分離液4が接触している外側と圧力差が約1気圧になっている。この圧力差によって被分離液4中透過物質の水がゼオライト膜複合体5に浸透気化して透過する。透過した物質はトラップ7で捕集される。一方、被分離液4中の有機化合物は、ゼオライト膜複合体5の外側に滞留する。一定時間ごとに、トラップ7に捕集した透過液の重量測定および組成分析、被分離液4の組成分析を行い、それらの値を用いて各時間の分離係数、透過流束、水のパーミエンスなどを前記のとおり算出した。なお、組成分析はガスクロマトグラフにより行った。6ベーパーパーミエーション法ベーパーパーミエーション法に用いた装置の概略図を図2に示す。図2において、被分離液10は送液ポンプ11によって気化器12に所定流量で送られ、気化器12での加熱により全量が気化され、被分離ガスとなる。被分離ガスは恒温槽13内のゼオライト膜複合体モジュール14に導入され、ゼオライト膜複合体の外側に供給される。ゼオライト膜複合体モジュール14は、ゼオライト膜複合体を筐体中に納めたものである。ゼオライト膜複合体は真空ポンプ18によって内側が減圧され、被分離ガスとの圧力差が約1気圧になっている。内側の圧力は、図示はしないがピラニーゲージで測定することができる。この圧力差によって被分離ガス中透過物質の水がゼオライト膜複合体14を透過する。透過した物質は透過液捕集用トラップ16で捕集される。一方、被分離ガス中の透過しなかった成分は、被分離液回収用トラップ15で液化、捕集される。一定時間ごとに、透過液捕集用トラップ16に捕集した透過液の重量測定および組成分析を行い、それらの値を用いて各時間の分離係数、透過流束、水のパーミエンスなどを前記の通り算出した。なお、組成分析はガスクロマトグラフにより行った。7XPS測定ゼオライト膜表面のXPSX線光電子分光法測定を、以下の条件で行った。装置名:PHI社製Quantum2000X線源:単色化Al-Kα、出力16kV-34WX線発生面積170μmφ帯電中和:電子銃5μA、イオン銃10V併用分光系:パルスエネルギー187.85eVワイドスペクトル58.70eVナロースペクトルNa1s、Al2p、Si2p、K2p、S2p29.35eVワイドスペクトルC1s、O1s、Si2p測定領域:スポット照射照射面積<340μmφ取り出し角:45°表面より比較例1無機多孔質支持体CHA型ゼオライト膜複合体はCHA型ゼオライトを無機多孔質支持体上に直接水熱合成することで次のとおり作製した。水熱合成用の反応混合物として、以下のものを調製した。1mol/L-NaOH水溶液10.5gと1mol/L-KOH水溶液7.0gと水100.5gを混合したものに水酸化アルミニウムAl2O353.5重量含有、アルドリッチ社製0.88gを加えて撹拌し溶解させ、透明溶液とした。これに有機テンプレートとして、NNN-トリメチル-1-アダマンタンアンモニウムヒドロキシド水溶液TMADAOH25重量含有、セイケム社製2.36gを加え、さらにコロイダルシリカ日産化学社製スノーテック-4010.5gを加えて2時間撹拌し、反応混合物とした。この反応混合物の組成モル比は、SiO2/Al2O3/NaOH/KOH/H2O/TMADAOH=1/0.066/0.15/0.1/100/0.04、SiO2/Al2O3=15である。無機多孔質支持体として、多孔質アルミナチューブ外径12mm、内径9mmを80mmの長さに切断し、超音波洗浄機で洗浄したのち乾燥させたものを用いた。種結晶として、SiO2/Al2O3/NaOH/KOH/H2O/TMADAOH=1/0033/01/0.06/40/007のゲル組成モル比で160°C、2日間水熱合成して結晶化させたCHA型ゼオライトを用いた。この種結晶の粒径は1μm程度であった。この種結晶を1質量水中に分散させた分散液に、上記支持体を所定時間浸漬した後、100°Cで5時間乾燥させて、種結晶を付着させた。付着した種結晶の質量は2.2g/m2であった。この種結晶を付着させた支持体を、上記反応混合物の入ったテフロン登録商標製内筒200mlに垂直方向に浸漬してオートクレーブを密閉し、静置状態で、160°C48時間、自生圧力下で加熱した。所定時間経過後、放冷した後に支持体-ゼオライト膜複合体を反応混合物から取り出し、洗浄後100°Cで5時間以上乾燥させた。テンプレート焼成前のゼオライトの膜複合体を電気炉で500°C、5時間焼成した。焼成後の膜複合体の重量と支持体の重量の差から求めた、支持体上に結晶化したCHA型ゼオライトの重量は130g/m2であった。焼成後のゼオライト膜複合体の空気透過量は190L/m2hであった。生成した膜のXRDを測定したところCHA型ゼオライトが生成していることがわかった。XRDパターンから、2θ=17.9°付近のピークの強度/2θ=20.8°付近のピークの強度=3.5であり、種結晶に用いた粉末のCHA型ゼオライトのXRDに比べ2θ=17.9°付近のピークの強度が顕著に大きく、rhombohedralsettingにおける1,1,1面への配向が推測された。短冊状に切断した無機多孔質支持体-ゼオライト膜複合体をSEMで観測した結果、表面に結晶が緻密に生成していることが分かった。SEM-EDXにより測定した、ゼオライト膜のSiO2/Al2O3モル比は17であった。得られた無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、パーベーパレーション法により70°Cの水/N-メチル-2-ピロリドン混合溶液から水を選択的に透過させる分離を行った。3時間後の透過成績は、透過流束:7.9kg/、分離係数:2200、透過液中の水の濃度は99.89重量であった。水のパーミエンスであらわすと、5.8×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表1に示す。実施例1比較例1と同じ条件で作製した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を、脱塩水が約150g入ったテフロン登録商標製内筒に垂直方向に浸漬してオートクレーブを密閉し、120°Cで5時間、自生圧力下で加熱し、所定時間経過後、放冷した後に支持体-ゼオライト膜複合体を反応混合物から取りだした。以下、この処理を温水処理1という。温水処理1を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、パーベーパレーション法により70°Cの水/N-メチル-2-ピロリドン混合溶液30/70重量から水を選択的に透過させる分離を行った。3時間後の透過成績は、透過流束:7.8kg/、分離係数:25100、透過液中の水の濃度:99.99重量であった。水のパーミエンスであらわすと、5.7×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表1に示す。比較例1と実施例1の結果から、温水処理1を施すことで分離係数が約11倍に向上したことが分かる。比較例2無機多孔質支持体としてニッカトー社製のムライトチューブPM外径12mm、内径9mmを用いた以外は比較例1と同様に無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。焼成後のゼオライト膜複合体の重量と支持体の重量の差から求めた、支持体上に結晶化したCHA型ゼオライトの重量は140g/m2であった。焼成後のゼオライト膜複合体の空気透過量は50L/であった。生成した膜のXRDを測定したところCHA型ゼオライトが生成していることがわかった。XRDパターンから、2θ=17.9°付近のピークの強度/2θ=208°付近のピークの強度=2.0であり、種結晶に用いた粉末のCHA型ゼオライトのXRDに比べ2θ=17.9°付近のピークの強度が顕著に大きく、rhombohedralsettingにおける1,1,1面への配向が推測された。短冊状に切断した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体をSEMで観測した結果、表面に結晶が緻密に生成していた。SEM-EDXにより、ゼオライト膜のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、生成した膜のSiO2/Al2O3モル比は17であった。得られた無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、パーベーパレーション法により70°Cの水/N-メチル-2-ピロリドン混合溶液から水を選択的に透過させる分離を行った。3時間後の透過成績は、透過流束:4.1g/、分離係数:2800、透過液中の水の濃度:99.91重量であった。水のパーミエンスであらわすと、3.0×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表1に示す。実施例2比較例2と同じ条件で作製した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体に、例2と同様に温水処理1を施した。温水処理1を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、パーベーパレーション法により70°Cの水/N-メチル-2-ピロリドン混合溶液から水を選択的に透過させる分離を行った。3時間後の透過成績は、透過流束:4.3kg/、分離係数:25100、透過液中の水の濃度:99.99重量であった。水のパーミエンスであらわすと、3.1×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表1に示す。比較例2と実施例2の結果から、温水処理1を施すことで分離係数が約9倍に向上したことが分かる。比較例3水熱合成用の反応混合物として、以下のものを調製した以外は比較例2と同様に無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。水熱合成用の反応混合物は1mol/L-NaOH水溶液8.8gと1mol/L-KOH水溶液17.6gと水90.2gを混合したものに水酸化アルミニウムAl2O353.5重量含有、アルドリッチ社製1.68gを加えて撹拌し溶解させ、透明溶液とした。これにTMADAOH水溶液TMADAOH25重量含有、セイケム社製2.99gを加え、さらにコロイダルシリカ日産化学社製スノーテック-4013.2gを加えて2時間撹拌して調製した。この反応混合物の組成モル比は、SiO2/Al2O3/NaOH/KOH/H2O/TMADAOH=1/0.1/0.1/0.2/80/0.04、SiO2/Al2O3=10である。焼成後のゼオライト膜複合体の重量と支持体の重量の差から求めた、支持体上に結晶化したCHA型ゼオライトの重量は90g/m2であった。焼成後のゼオライト膜複合体の空気透過量は440L/であった。生成した膜のXRDを測定したところCHA型ゼオライトが生成していることがわかった。XRDパターンから、2θ=17.9°付近のピークの強度/2θ=208°付近のピークの強度=0.7であり、種結晶に用いた粉末のCHA型ゼオライトのXRDに比べ2θ=17.9°付近のピークの強度が顕著に大きく、rhombohedralsettingにおける1,1,1面への配向が推測された。短冊状に切断した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体をSEMで観測した結果、表面に結晶が緻密に生成していた。得られた無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いてパーベーパレーション法により70°Cの水/酢酸混合溶液から水を選択的に透過させる分離を行った。5時間後の透過成績は、透過流束:5.4kg/、分離係数:400、透過液中の水の濃度:99.76重量であった。水のパーミエンスであらわすと、3.4×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表1に示す。実施例3比較例3と同じ条件で作製した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体に、処理時間を6時間とした以外は実施例1と同様の条件で温水処理を施した。以下、この処理を温水処理2という。温水処理2を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、パーベーパレーション法により70°Cの水/酢酸混合溶液から水を選択的に透過させる分離を行った。5時間後の透過成績は、透過流束:5.7kg/m2h、分離係数:2000、透過液中の水の濃度:99.95重量であった。水のパーミエンスであらわすと、3.6×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表1に示す。比較例3と実施例3の結果から、温水処理2を施すことで分離係数が約5倍に向上したことが分かる。参考例1比較例2と同じ条件で作製した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いてパーベーパレーション法により70°Cの水/酢酸混合溶液から水を選択的に透過させる分離を比較例1と同様に行った。5時間後の透過成績は、透過流束:4.1kg/m2h、分離係数:600、透過液中の水の濃度:99.82重量であった。水のパーミエンスであらわすと、2.6×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表2に示す。参考例2比較例2と同じ条件で作製した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を、0.1mol/lのKOH水溶液が約150g入ったテフロン登録商標製内筒に垂直方向に浸漬してオートクレーブを密閉し、70°Cで2時間、自生圧力下で加熱し、所定時間経過後、放冷した後に支持体-ゼオライト膜複合体を反応混合物から取りだした。以下、この処理をアルカリ処理という。アルカリ処理を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、パーベーパレーション法により70°Cの水/酢酸混合溶液から水を選択的に透過させる分離を実施例1と同様に行った。5時間後の透過成績は、透過流束:3.0kg/m2h、分離係数:200、透過液中の水の濃度:99.40重量であった。水のパーミエンスであらわすと、1.9×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表2に示す。参考例1と参考例2の結果から、0.1mol/lの濃度でアルカリ処理を施すことで分離係数が約1/3に低下し、透過流束も減少したことが分かる。アルカリ処理によって膜の一部が変質したと推測される。比較例4比較例2と同じ条件で無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。SEM-EDXにより、ゼオライト膜のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、生成した膜のSiO2/Al2O3モル比は17であった。XPSによりゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、ゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比は36.2であった。得られた無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いてパーベーパレーション法により90°Cの水/酢酸混合溶液から水を選択的に透過させる分離を実施例1と同様に行った。5.5時間後の透過成績は、透過流束:1.3kg/m2h、分離係数:400、透過液中の水の濃度:95.75重量であった。水のパーミエンスであらわすと、1.5×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表3に示す。実施例4比較例2と同じ条件で無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。この無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のバルクでのSiO2/Al2O3比はSEM-EDXによって測定した結果17であった。XPSによりゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、ゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比は36.2であった。この無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を脱塩水135gとテトラエトキシシラン以下、TEOSと略することがある2.5gおよび硫酸1.4gが入ったテフロン登録商標製内筒に垂直方向に浸漬してオートクレーブを密閉し、100°Cで20時間、自生圧力下で加熱し、所定時間経過後、放冷した後に支持体-ゼオライト膜複合体を取りだし、脱塩水で洗浄した。以下、この処理を温水処理3という。温水処理3に用いた処理液のpHは1.0であり、H濃度は0.1mol/l、Si含有量が0.24質量であった。温水処理3を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のゼオライト膜表面のSiO2Al2O3モル比をXPSにより測定した結果109.8であった。温水処理3を行う前の無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のバルクでのSiO2/Al2O3比に比べ温水処理3を行った後の膜表面のSiO2/Al2O3比は増加していた。したがって、ゼオライト膜表面がシリカで修飾されていると推測された。温水処理3を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、パーベーパレーション法により90°Cの水/酢酸混合溶液から水を選択的に透過させる分離を実施例1と同様に行った。5時間後の透過成績は、透過流束:0.92kg/m2h、分離係数:17900、透過液中の水の濃度:99.89重量であった。水のパーミエンスであらわすと、1.2×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表3に示す。比較例4と実施例4の比較から温水処理3によって分離係数が45倍に向上したことが分かる。実施例5比較例2と同じ条件で無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。この無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のバルクでのSiO2/Al2O3比はSEM-EDXによって測定した結果17であった。この無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を脱塩水135gとテトラエトキシシランTEOS2.5gおよび酢酸1.62gが入ったテフロン登録商標製内筒に垂直方向に浸漬してオートクレーブを密閉し、100°Cで20時間、自生圧力下で加熱し、所定時間経過後、放冷した後に支持体-ゼオライト膜複合体を取りだし、脱塩水で洗浄した。以下、この処理を温水処理4という。温水処理4に用いた処理液のpHは2.9であり、H濃度は0.001moll、Si含有量が0.24質量であった。温水処理4を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比をXPSにより測定した結果91.2であった。温水処理4を行う前の無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のバルクでのSiO2/Al2O3比に比べ温水処理4を行った後の膜表面のSiO2/Al2O3比は大きくなっていた。したがって、ゼオライト膜表面がシリカで修飾されていると推測された。温水処理4を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、パーベーパレーション法により90°Cの水/酢酸混合溶液から水を選択的に透過させる分離を実施例1と同様に行った。5時間後の透過成績は、透過流束:1.2kg/m2h、分離係数:210000、透過液中の水の濃度:99.99重量であった。水のパーミエンスであらわすと、1.7×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表3に示す。比較例4と実施例5の比較から温水処理4によって分離係数が500倍に向上したことが分かる。比較例5比較例2と同じ条件で無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。SEM-EDXにより、ゼオライト膜のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、生成した膜のSiO2/Al2O3モル比は17であった。XPSによりゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、ゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比は36.2であった。得られた無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いてパーベーパレーション法により90°Cの水/酢酸混合溶液から水を選択的に透過させる分離を比較例1と同様に行った。5時間後の透過成績は、透過流束:1.8kg/m2h、分離係数:1900、透過液中の水の濃度:99.49重量であった。水のパーミエンスであらわすと、1.3×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表3に示す。実施例6比較例2と同じ条件で無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。この無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のバルクでのSiO2/Al2O3比はSEM-EDXによって測定した結果17であった。XPSによりゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、ゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比は36.2であった。この無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を脱塩水135gとテトラエトキシシランTEOS2.5gおよびリン酸4.7gが入ったテフロン登録商標製内筒に垂直方向に浸漬してオートクレーブを密閉し、100°Cで20時間、自生圧力下で加熱し、所定時間経過後、放冷した後に支持体-ゼオライト膜複合体を取りだし、脱塩水で洗浄した。以下、この処理を温水処理5という。温水処理5に用いた処理液のpHは1.3であり、H濃度は0.05mol/l、Si含有量が0.24質量であった。温水処理5を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比をXPSにより測定した結果900であった。温水処理5を行う前の無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のバルクでのSiO2/Al2O3比に比べ温水処理5を行った後の膜表面のSiO2/Al2O3比は増加していた。したがって、ゼオライト膜表面がシリカで修飾されていると推測された。温水処理5を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、パーベーパレーション法により90°Cの水/酢酸混合溶液から水を選択的に透過させる分離を実施例1と同様に行った。5時間後の透過成績は、透過流束:1.7kg/m2h、分離係数:99000、透過液中の水の濃度:99.99重量であった。水のパーミエンスであらわすと、1.3×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表3に示す。比較例5と実施例6の比較から温水処理5によって分離係数が50倍に向上したことが分かる。実施例7比較例2と同じ条件で無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。得られた無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を脱塩水134gと日産化学製コロイダルシリカスノーテックス40:1.8gが入ったテフロン登録商標製内筒に垂直方向に浸漬してオートクレーブを密閉し、100°Cで21時間、自生圧力下で加熱し、所定時間経過後、放冷した後に支持体-ゼオライト膜複合体を取りだし、脱塩水で洗浄した。以下、この処理を温水処理6という。温水処理6の、Si含有量は0.25質量であった。温水処理6を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いてパーベーパレーション法により90°Cの水/酢酸混合溶液から水を選択的に透過させる分離を比較例1と同様に行った。5時間後の透過成績は、透過流束:2.3kg/m2h、分離係数:91000、透過液中の水の濃度:99.99重量であった。水のパーミエンスであらわすと、1.6×10-6mol/m2sPaであった。比較例5と実施例7の比較から温水処理6によって分離係数が48倍に向上したことが分かる。比較例6比較例1と同じ条件で無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。SEM-EDXにより、ゼオライト膜のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、生成した膜のSiO2/Al2O3モル比は17であった。XPSによりゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、ゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比は32.4であった。得られた無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いてパーベーパレーション法により75°Cの水/フェノール混合溶液から水を選択的に透過させる分離を比較例1と同様に行った。3時間後の透過成績は、透過流束:5.8kg/m2h、分離係数:700、透過液中の水の濃度:98.78重量、フェノールの濃度は1.22重量であった。水のパーミエンスであらわすと、2.9×10-6mol/m2sPaであった。実施例8比較例1と同じ条件で作製した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製に処理温度を100°C、処理時間を19時間とした以外は実施例1と同様の条件で温水処理を施した。以下、この処理を温水処理7という。温水処理7を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いてパーベーパレーション法により75°Cの水/フェノール混合溶液から水を選択的に透過させる分離を比較例1と同様に行った。3時間後の透過成績は、透過流束:5.8kg/m2h、分離係数:3200、透過液中の水の濃度:99.72重量、フェノールの濃度は0.28重量であった。水のパーミエンスであらわすと、3.0×10-6mol/m2sPaであった。実施例9比較例1と同じ条件で無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。SEM-EDXにより、ゼオライト膜のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、生成した膜のSiO2/Al2O3モル比は17であった。XPSによりゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比を測定した結果、ゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比は32.4であった。得られた無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を脱塩水135gとテトラエトキシシランTEOS2.5gおよび酢酸4.05gが入ったテフロン登録商標製内筒に垂直方向に浸漬してオートクレーブを密閉し、100°Cで20時間、自生圧力下で加熱し、所定時間経過後、放冷した後に支持体-ゼオライト膜複合体を取りだし、脱塩水で洗浄した。以下、この処理を温水処理8という。温水処理8に用いた処理液のpHは2.8であり、H濃度は0.0016moll、Si含有量が0.24質量であった。温水処理8を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のゼオライト膜表面のSiO2/Al2O3モル比をXPSにより測定した結果は60.4であった。温水処理8を行う前の無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体のバルクでのSiO2/Al2O3比に比べ温水処理8を行った後の膜表面のSiO2/Al2O3比は増加していた。したがって、ゼオライト膜表面がシリカで修飾されていると推測された。温水処理8を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、パーベーパレーション法により75°Cの水/フェノール混合溶液から水を選択的に透過させる分離を比較例1と同様に行った。3時間後の透過成績は、透過流束:5.2kg/m2h、分離係数:75000、透過液中の水の濃度:99.99重量、フェノールの濃度は0.01重量であった。水のパーミエンスであらわすと、2.7×10-6mol/m2sPaであった。評価結果を表3に示す。比較例6と実施例8の比較から、温水処理7によって温水処理したことにより、分離係数が5倍に向上したことが分かる。また比較例6と実施例9の比較から、温水処理8によってSi元素存在下で温水処理をしたことにより、分離係数が100倍に向上したことが分かる。実施例10比較例2と同じ条件で無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。得られた無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体に温水処理7を施した。温水処理7を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いてパーベーパレーション法により75°Cの水/フェノール混合溶液から水を選択的に透過させる分離を比較例1と同様に行った。3時間後の透過成績は、透過流束:3.6kg/m2h、分離係数:90000、透過液中の水の濃度:99.99重量であった。水のパーミエンスであらわすと、1.8×10-6mol/m2sPaであった。実施例10により、ムライトチューブを使用した場合でも、共沸混合物である水/フェノール混合物に対して、高い分離係数を示した。実施例11比較例2と同じ条件で無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。得られた無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を、脱塩水130gとテトラエトキシシランTEOS2.5gが入ったテフロン登録商標製内筒に垂直方向に浸漬してオートクレーブを密閉し、100°Cで24時間、自生圧力下で加熱し、所定時間経過後、放冷した後に支持体-ゼオライト膜複合体を取り出し、脱塩水で洗浄した。洗浄後の支持体-ゼオライト膜複合体に、乾燥処理として大気中170°Cで1時間の熱処理を施した。以下この処理を温水処理9というこの温水処理9を施した無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体を用いて、ベーパーパーミエーション法により、水/酢酸混合溶液10/90wtから水を選択的に透過させる分離を行った。無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体は130°Cの恒温槽内に設置し、水/酢酸混合溶液を0.8cm3/minの流量で気化器に送液し、全量を気化させて無機多孔質支持体-CHA型ゼオライト膜複合体に供給した。1.5時間後の透過成績は、透過流束:0.61kg/m2h、分離係数:7800、透過液中の水の濃度:99.89重量であった。水のパーミエンスで表すと、3.4×10-7mol/m2sPaであった。実施例11により、本発明の製造方法により得られたゼオライト膜複合体は、ベーパーパーミエーション法によっての分離にも好適であることが示された。"