表面へパターンを書き込むための走査方法であって、独立してアドレスし得る複数のサブビームからなる走査ビームを生成するステップと、それぞれが書き込むべき情報を反映するように変調された前記サブビームが横並び状でクロス走査方向に沿って表面を走査するように、前記走査ビームで複数回にわたり前記表面を走査するステップと、少なくとも二回の走査の間に表面の書き込まれたエリアに書き込まれるように前記ビームを重ねるステップとからなる走査方法。請求項1に記載の方法であって、前記書込みエリアは少なくとも三回書き込まれることよりなる走査方法。請求項1に記載の方法であって、前記書込みエリアは少なくとも四回書き込まれることよりなる走査方法。請求項1に記載の方法であって、前記書込みエリアは少なくとも六回書き込まれることよりなる走査方法。請求項1に記載の方法であって、前記書込みエリアは少なくとも八回書き込まれることよりなる走査方法。請求項1に記載の方法であって、前記書込みエリアは少なくとも十二回書き込まれることよりなる走査方法。請求項1に記載の方法であって、前記書込みエリアは少なくとも二十四回書き込まれることよりなる走査方法。請求項1から7までの何れか一項に記載の方法であって、前記ビームは、前記サブビームを構成する矩形ビームの個々のセグメントを別々に変調して形成されることよりなる走査方法。請求項8に記載の方法であって、前記変調は、長辺方向に利用しうる広がりを有する矩形ビームを生成するステップと、前記長片方向に沿って、合計広がりが前記利用しうる広がりよりも大きい複数の変調セグメントを生成するステップとからなる走査方法。請求項1から7までの何れか一項に記載の方法であって、前記サブビームは別々に生成され、斯かるサブビームを組み合わせて前記ビームを形成するステップを含んでなる走査方法。請求項1から10までの何れか一項に記載の方法であって、アドレスし得るサブビームの内の少なくとも二本の未変調エネルギーが異なることよりなる走査方法。請求項11に記載の方法であって、前記未変調エネルギーがガウス分布を有してなる走査方法。請求項11または12に記載の方法であって、ビームの変調が二値化オンオフ変調であることよりなる走査方法。請求項1から13までの何れか一項に記載の方法であって、最小形象寸法を有するパターンが書き込まれるようになっており、また、前記サブビームの間隔がその形象寸法よりもほぼ小さいことよりなる走査方法。請求項14に記載の方法であって、前記最小形象寸法がサブビームの広がりの少なくとも四倍であることよりなる走査方法。請求項14または15に記載の方法であって、前記最小形象寸法が約77ミクロンと等しいか、それより小さいことよりなる走査方法。請求項14または15に記載の方法であって、前記最小形象寸法が約51ミクロンと等しいか、それより小さいことよりなる走査方法。請求項14または15に記載の方法であって、前記最小形象寸法が約39ミクロンと等しいか、それより小さいことよりなる走査方法。請求項1から18までの何れか一項に記載の方法であって、前記サブビームは前記表面で所定距離だけ隔てており、また、隣接するビームの方向に沿って表面で広がりを有していると共に、その広がりが前記所定距離よりも広いことよりなる走査方法。請求項19に記載の方法であって、前記所定距離が約15ミクロンより小さいことよりなる走査方法。請求項19に記載の方法であって、前記所定距離が約10ミクロンより小さいことよりなる走査方法。請求項19に記載の方法であって、前記所定距離が約635ミクロンであることよりなる走査方法。請求項19に記載の方法であって、前記所定距離が約635ミクロンより小さいことよりなる走査方法。請求項19から23までの何れか一項に記載の方法であって、前記広がりが前記所定距離の少なくとも二倍であることよりなる走査方法。請求項24に記載の方法であって、前記広がりが前記所定距離の少なくとも三倍であることよりなる走査方法。請求項19から25までの何れか一項に記載の方法であって、前記広がりが約636ミクロンより大きいことよりなる走査方法。請求項19から25までの何れか一項に記載の方法であって、前記広がりが約127ミクロンと等しいか、それより大きいことよりなる走査方法。請求項19から25までの何れか一項に記載の方法であって、前記広がりが約19ミクロンと等しいか、それより大きいことよりなる走査方法。請求項19から25までの何れか一項に記載の方法であって、前記広がりが約254ミクロンと等しいか、それより大きいことよりなる走査方法。可変所望レベルのエネルギーを表面に選択的に供給する一方で、走査システムのスループットを最適化する方法にして、サブビームの変調作用に従って露光済みエリアと未露光エリアとを画成するために、ここまでの請求項の何れか一項により表面を走査するステップと、前記ビームを所定の最適パワーに設定するステップと、走査速度比が定まる最大速度と最小速度との間のビーム走査速度と、走査方向と直交する方向への表面とビームの相対移動速度と、露光済み表面エリアを最適パワーのビームで所望エネルギーに晒すのに適したビーム重なり量とを含むパラメータの組合せを判定するステップと、前記パラメータの組合せを利用して前記表面を露光するステップとからなる最適化方法。請求項30に記載の方法であって、パラメータを変えることにより、走査速度比よりもほぼ大きい比だけ回路板上の露光エリアに供給するエネルギーを選択的に変えるステップを含む最適化方法。可変所望レベルのエネルギーを表面に選択的に供給する一方で、走査システムのスループットを最適化する方法にして、所定最適化パワーでビームを生成するステップと、前記ビームを変調するステップと、走査速度比が定まる最大速度と最小速度との間の第1速度にて第1方向に沿って表面をビームで走査するステップと、第2速度にて前記第1方向とは直交する第2方向に沿って前記表面と前記走査ビームとを相対移動させるステップと、前記走査速度比よりもほぼ大きい比だけ回路板の露光済みエリアに宛っているエネルギーを選択的に変化させるステップとからなる最適化方法。請求項31または32に記載の方法であって、供給するエネルギーが、走査速度比の少なくとも一倍半だけ変えることよりなる最適化方法。請求項31または32に記載の方法であって、供給するエネルギーが、走査速度比の少なくとも三倍の比だけ変えることよりなる最適化方法。請求項31または32に記載の方法であって、供給するエネルギーが、走査速度比の少なくとも五倍の比だけ変えることよりなる最適化方法。請求項31または32に記載の方法であって、供給するエネルギーが、走査速度比の少なくとも十倍の比だけ変えることよりなる最適化方法。請求項31から36までの何れか一項に記載の方法であって、前記走査速度比が15以下であることよりなる走査方法。請求項31から36までの何れか一項に記載の方法であって、前記走査速度比が2以下であることよりなる走査方法。走査器における走査ビームに対する表面の位置を判定する方法にして、少なくとも二つの穴を有する表面を用意するステップと、少なくとも前記穴の近傍においてビームで前記表面を走査するステップと、前記ビームが前記穴を通る位置にあればそのビームを検出するステップと、少なくともビームが穴の縁部に臨む位置に置いて、走査器基準フレームにおけるビームの位置を判定するステップと、穴の縁部の位置の判定結果に基づいて走査器基準フレームにおける穴の位置を判定するステップとからなる位置判定方法。請求項39に記載の方法であって、穴の縁部の位置が、当該穴の全周にわたって判定されることよりなる位置判定方法。請求項39または40に記載の方法であって、二つの穴の間の距離を判定するステップと、判定した距離を設計距離と比較するステップと、前記比較の結果から走査器で表面に書き込むべきデータの倍率を判定するステップとを含むことよりなる位置判定方法。請求項41に記載の方法であって、少なくとも二つの前記穴とは同一線上にはない少なくとも一つの追加穴を表面の設けるステップと、前記少なくとも一つの追加穴の位置を判定するステップと、前記少なくとも一つの追加穴と前記少なくとの二つの穴の内の一方の穴との間のもう一つの距離を判定するステップと前記もう一つの距離をもう一つの設計距離を比較するステップと、前記もう一つの距離と前記もう一つの設計距離との比較の結果から走査器で表面に書き込むべきデータの倍率を判定するステップとを更に含むことよりなる位置判定方法。請求項42に記載の方法であって、穴の位置を判定するステップが、穴の縁部の点の位置を判定し、縁部の位置について判定した位置に基づいて穴の中心の位置を算出することよりなる位置判定方法。請求項39から43までの何れか一項に記載の方法であって、穴の位置を設計位置と比較することを含む位置判定方法。請求項44に記載の方法であって、表面の位置と表面への書き込むべきデータの位置決めの一つか両方を矯正することよりなる位置判定方法。請求項45に記載の方法であって、前記矯正が表面を回転することよりなる位置判定方法。請求項45に記載の方法であって、前記矯正がデータを回転することよりなる位置判定方法。請求項45から47までの何れか一項に記載の方法であって、前記矯正が表面またはデータの相対位置を変換することよりなる位置判定方法。請求項45から48までの何れか一項に記載の方法であって、前記比較に基づいて表面に書き込むべきデータの大きさを矯正することを含む位置判定方法。請求項39から49までの何れか一項に記載の方法であって、前記検出が、複数の穴に対して同一検出器を利用して行う検出からなり、前記検出器には光ガイドを介して前記穴を透過するエネルギーが供給されるようになっていることよりなる位置判定方法。請求項50に記載の方法であって、複数の穴から同一光ガイドを介して光が検出器に伝達されることよりなる位置判定方法。請求項39から48までの何れか一項に記載の方法であって、前記検出が、異なった穴ごとに異なった検出器を利用して行うことよりなる位置判定方法。請求項39から51までの何れか一項に記載の方法であって、前記表面が少なくとも一つの穴の位置から判定されることよりなる位置判定方法。請求項53に記載の方法であって、前記少なくとも2つの穴が、少なくとも三つの対称配置の穴からなり、前記表面の側部がこれらの穴の相対位置から判定されることよりなる位置判定方法。走査式書込みシステムにおいてデータを書き込む方法にして、表面に書き込むべきデータを用意するステップと、表面上の少なくとも二つの形象の位置を測定するステップと、二つの形象の距離を設計距離と比較するステップと、比較に基づいてデータをスケーリングするステップと、表面にスケールしたデータを書き込むステップとからなるデータ書込み方法。請求項55に記載の方法であって、前記測定が、同一線上にない少なくとも三つの形象の位置を測定することからなり、前記スケーリングが異なったスケール倍率で二方向にスケーリングすることよりなるデータ書込み方法。請求項55または56に記載の方法であって、前記形象が貫通穴であることよりなるデータ書込み方法。請求項1から57までの何れか一項に記載の方法であって、前記表面が、光レジストで被覆されている金属化印刷回路板基板の表面からなるデータ書込み方法。印刷回路板のための走査式直接書込み露光システムに厚みの異なった印刷回路板が利用できるようにする方法にして、光レジスト材が被覆されている、所定厚みの金属化印刷回路板基板を用意するステップと、走査ビームの焦点面を変えることにより光レジスト材に走査ビームを合焦させるステップとからなる方法。請求項59に記載の方法であって、ビームは走査方向に走査すると共に、この走査方向に第1広がりを、また、クロス走査方向に異なった第2広がりを有しており、走査ビームを前記表面にて両方向に合焦させることよりなる方法。請求項60に記載の方法であって、前記走査が、予備走査ビームを走査素子に与えることよりなり、前記合焦が、前記予備走査ビームの走査方向とクロス走査方向とに共通の焦点を判断し、この共通焦点を変えて被覆層上に走査ビームを合焦させることよりなる方法。請求項61に記載の方法であって、前記共通焦点を変えることがレンズの位置を変えることよりなる方法。請求項62に記載の方法であって、前記位置を変えることが一つのレンズの位置を変えることよりなる方法。請求項61から63までの何れか一項に記載の方法であって、前記予備走査ビームを与えることが、クロス走査方向の向けた複数のビームを別々に変調させることよりなり、変調された予備走査ビームはその光路の一部分においてのみ、走査方向とクロス走査方向の両方においてほぼ合焦してなる方法。請求項64に記載の方法であって、前記部分がほぼ点からなる方法。第1ビームと、その光学入力端に光ビームを受光し、供給された変調信号に基づいてその出力端に変調光ビームを出力する変調器と、第2ビームと、前記第1及び第2ビームを受光して、表面に対して第1ビームを走査させ、また、第1ビームの光路とほぼ平行な光路に沿って第2ビームを走査させる走査器と、第2ビームの位置に応じて前記変調信号を出力する制御器とからなる表面をビームで走査する装置において、第1及び第2ビームがほぼ同一波長を有していることを特徴とする走査装置。請求項66に記載のものであって、前記第1ビームが前記第2ビームの波長とは異なった波長においてエネルギーを含んでなる走査装置。請求項66または67に記載のものであって、前記第2ビームが入射するマーク付きスケールが備わっており、前記第2ビーム画素のスケールから反射されて変調反射ビームを形成することよりなる走査装置。請求項68に記載のものであって、前記第2ビームはその表面に対して傾斜してスケールに入射するようになっており、従って前記変調反射ビームは、前記第2ビームの軸とは異なった軸に沿って反射されることよりなる走査装置。第1ビームと、その光学入力端に光ビームを受光し、供給された変調信号に基づいてその出力端に変調光ビームを出力する変調器と、第2ビームと、前記第1及び第2ビームを受光して、表面に対して第1ビームを走査させ、また、第1ビームの光路とほぼ平行な光路に沿って第2ビームを走査させる走査器と、第2ビームの位置に応じて前記変調信号を出力する制御器と、変調反射ビームを形成すべく第2ビームを反射する、当該第2ビームの入射するマーク付きスケールとからなる表面をビームで走査する装置において、前記第2ビームがその表面に対して角度をなして入射するようになっており、そのために変調反射ビームは第2ビームとは異なった軸に沿って反射されることを特徴とする走査装置。請求項66から77までの何れか一項に記載のものであって、前記走査器が第1軸に沿ってビームを受光すると共に、ビーム軸を周期的に回転して回転ビームを形成する走査装置と、周期的回転をビームの周期的直線走査に変換する光学系とで構成されており、而して、前記第1及び第2ビームの両方は前記走査装置と光学系とを利用して走査されることよりなる走査装置。請求項71に記載のものであって、前記ビームのパワーはビーム軸の回転に伴って変化し、前記光学系が、前記パワーの変化を補償するために直線走査の直線速度を変える疑似fθレンズ系を含むことよりなる走査装置。第1ビームと、その光学入力端に光ビームを受光し、供給された変調信号に基づいてその出力端に変調光ビームを出力する変調器と、第2ビームと、前記第1及び第2ビームを受光して、表面に対して第1ビームを走査させ、また、第1ビームの光路とほぼ平行な光路に沿って第2ビームを走査させる走査器と、第2ビームの位置に応じて前記変調信号を出力する制御器とからなり、前記走査器が、第1軸に沿ってビームを受光すると共に、ビーム軸を周期的に回転して回転ビームを形成する走査装置と、周期的回転をビームの周期的直線走査に変換する光学系とで構成されてなる表面をビームで走査する装置において、前記第1及び第2ビームの両方は前記走査装置と光学系とを利用して走査されるようになっていることを特徴とする走査装置。請求項73に記載のものであって、前記光学系が、直線ビーム位置と角度の非線形トラッキングを行う疑似fθレンズ系からなる走査装置。請求項66から74までの何れか一項に記載のものであって、マーク付きスケールを含み、前記第2ビームがこのマーク付きスケールに入射するようになっていて、前記第2ビームがこのマーク付きスケールから反射して変調反射ビームを形成することよりなる走査装置。請求項75に記載のものであって、前記第2ビームはその表面に対して角度をなしてスケールに入射するようになっており、前記変調反射ビームは第2ビームの軸とは異なった軸に沿って反射されることよりなる走査装置。第1ビームと、その光学入力端に光ビームを受光し、供給された変調信号に基づいてその出力端に変調光ビームを出力する変調器と、第2ビームと、前記第1及び第2ビームを受光して、表面に対して第1ビームを走査させ、また、第1ビームの光路とほぼ平行な光路に沿って第2ビームを走査させる走査器と、第2ビームの位置に応じて前記変調信号を出力する制御器と、変調反射ビームを形成すべく第2ビームを反射する、当該第2ビームの入射するマーク付きスケールとからなる表面をビームで走査する装置において、第2ビームはその表面に対して角度をなしてスケールに入射するようになっていて、そのために変調反射ビームが第2ビームとは異なった軸に沿って反射されるようになっていることを特徴とする走査装置。請求項75から78までの何れか一項に記載のものであって、前記制御器は、反射ビームの変調作用に基づいて前記変調をなすことよりなる走査装置。請求項75から78までの何れか一項に記載のものであって、前記変調反射ビームを受光して変調信号を出力する検出器を含み、前記制御器が、前記変調信号のタイミングに基づいて前記変調をなすことよりなる走査装置。請求項79に記載のものであって、前記制御器が、変調信号を受信して、変調信号の周波数と調節自在に関連付けられたクロック周波数を有するタイミングクロックを出力するクロック発生器を備えてなる走査装置。請求項80に記載のものであって、前記クロック発生器としては、中間クロックと、同一周波数ではあるが、位相が反転した逆中間クロックとを出力する第1発生器と、中間クロックと逆中間クロックとがそれぞれ入力される二つの入力を有すると共に、該二つの入力のどれかにおけるクロックが選択的に切り換えられて出力されるタイミングクロック出力とを有する切換回路とからなり、前記出力におけるタイミングクロックの平均周波数が、前記選択的切換により制御されるように構成されなる走査装置。請求項81に記載のものであって、前記切換回路がクロック矯正情報に応答して前記入力を前記出力に切り換えることよりなる走査装置。請求項80から82までの何れか一項に記載のものであって、変調情報を記憶していて、前記安定クロックのタイミングに基づいて第1ビームを偏重するために前記変調器に当該情報を供給するデータ記憶器を備えてなる走査装置。表面をビームで走査する装置であって、変調ビームと、変調ビームを受光して、それを表面を横切って走査させるものであって、第1軸に沿ってビームを受光すると共に、このビーム軸を周期的に回転して回転ビームを形成する走査装置と、前記周期的回転をビームの周期的直線走査に変換する光学系とからなる走査器とからなる表面をビームで走査する装置において、前記光学系が、角度の変化に伴うビームのパワーの変動を補償すべく線形ビーム位置と角度の非線形トラッキングをなす疑似fθレンズ系を備えていることを特徴とする走査装置。請求項84に記載のものであって、その光学入力端に光ビームを受光し、供給された変調信号に基づいてその出力端に変調光ビームを出力する変調器と、走査器が変調ビームと第2ビームとを受光して、変調ビームの光路とほぼ平行な光路に沿って第2ビームを走査させるのであれば、その第2ビームと、第2ビームの位置に応じて前記変調信号を出力する制御器とを含むことよりなる走査装置。請求項85に記載のものであって、マーク付きスケールを含み、前記第2ビームがこのマーク付きスケールに入射するようになっていて、前記第2ビームがこのマーク付きスケールから反射して変調反射ビームを形成することよりなる走査装置。請求項86に記載のものであって、前記第2ビームはその表面に対して角度をなしてスケールに入射するようになっており、前記変調反射ビームは第2ビームの軸とは異なった軸に沿って反射されることよりなる走査装置。請求項85または86に記載のものであって、前記スケール上のマークは、変調及び第2ビームのそれぞれの位置の間の系統的相違を矯正するために非均一であることよりなる走査装置。寸法のことなる平坦板を保持する装置であって、平坦表面を有し、表面上に互いに連通する複数のチャンネルを有するベース部と、前記チャンネルと連通する少なくとも一つのポートと、前記少なくとも一つのポートと連通する真空源と、前記チャンネルを全て覆うと共に、穴のない平坦表面のエリアに複数の貫通穴が形成されている中間板とからなる保持装置。請求項89に記載のものであって、前記ベース部の少なくとも一部分は、截頭角錐のアレーからなり、この角錐の平坦頂部は平坦面とチャンネルを構成する角錐間のエリアからなる保持装置。請求項89または90に記載のものであって、前記穴の密度が前記平坦板を前記平坦面に保持させるのに充分であることよりなる保持装置。表面上にパターンを書き込む走査装置であって、データにより変調されたビームと、その回転に伴って移動する複数の反射鏡面を有する回転ポリゴンと、少なくともクロス走査方向にビームを反射鏡面に合焦させ、ポリゴンが回転するに伴って走査方向にビームが回転走査される第1光学系と、ビームを受光して、ポリゴンの揺らぎがクロス走査のズレとして表面に伝わらないように前記ビームをを表面で合焦させる第2光学系とからなる走査装置。請求項92に記載のものであって、ビームはポリゴン上で走査方向に非合焦とされていることよりなる走査光学系。請求項92または93に記載のものであって、ビームは表面上で走査方向及びクロス走査方向の両方において合焦とされていることよりなる走査光学系。請求項92から94までの何れか一項に記載のものであって、前記第2光学系がビームの回転掃引を表面上で直線掃引に変換することよりなる走査装置。請求項92から95までの何れか一項に記載のものであって、前記第2光学系は、走査方向でのその位置の関数としてクロス走査方向にシステム上のズレをもたらすようになっていると共に、クロス方向のズレを補償するためにビームを変調するデータを変えるデータ源からなる走査装置。一連の掃引で表面にパターンを書き込む走査装置にして、少なくとも一つのデータ信号で変調した少なくとも一つのビームと、その回転に伴って移動する複数の反射鏡面を有する回転ポリゴンと、前記少なくとも一つのビームを受光して前記表面に合焦することにより、前記少なくとも一つのビームでパターンが表面上に書き込まれるようにすると共に、走査方向でのその位置の関数としてクロス走査方向にシステム上のズレをもたらすようになっている光学系と、クロス方向のズレを補償するためにビーム変調用データを変えるデータ源とからなる走査装置。請求項96または97に記載のものであって、少なくとも一本のビームを受光し、そのビームを変調して変調ビームを形成する複チャンネル光学変調器を備えてなる走査装置。請求項98に記載のものであって、別々に変調されている変調器のチャンネルの数よりも多いライン数のデータを記憶するデータ記憶器を備えており、その際の前記データは変調器に送られてクロス方向のズレに応じてラインからのビームを変調されることよりなる走査装置。請求項99に記載のものであって、前記データ記憶器には、走査位置に対するクロス方向のズレに依存性をも記憶していることよりなる走査装置。請求項99または100に記載のものであって、少なくとも一つのビームとしては、複数のビームであることよりなる走査装置。放射線感受性表面にパターンを書き込む装置にして、所定の強度を有する少なくとも一つのレーザビームと、その少なくとも一つのビームを入力端において受光して、その出力端から少なくとも一つの変調ビームを出力する変調器と、重なり範囲内において可変重なりを有する連続して部分的に重なり合った複数の光帯において走査速度範囲内の走査速度にて少なくとも一つの変調ビームで表面を走査する走査器とからなり、前記重なりと前記走査速度とが、重なり範囲で考えられるパワーレベルの広がりか、または速度範囲よりも大きいパワーレベルの広がりが表面に伝わるように、それぞれ独立して調節自在となっている走査装置。ビームが変調器に入力すると共に、前記ビームを、そのビームの波長とその入力面へのビームの入射角との関数である第1角度にて屈折するようになっている入力面と、ビームが変調器から出力すると共に、前記ビームを、そのビームの波長とその出力面へのビームの入射角との関数である第1角度にて屈折するようになっている出力面と、音響はがあるときに、ビームの波長の関数である第3角度でビームを回折する音響光学ブラッグ回折域とからなり、前記入力面と前記出力面との間の少なくとも角度が、互いに異なった所定波長を有し、同一角度にて入力面に入射する二つの入力ビームが同一角度にて出力面から出射することよりなる音響光学変調器。表面にパターンを書き込む走査装置にして、データにより変調され、互いの異なった二本のスペクトル線においてエネルギーを有するビームと、少なくとも一つにビームで表面上にパターンが書き込まれるように、また、両方のスペクトル線でのエネルギーが同一位置において表面上で合焦されるように、ビームを受光してそれを表面上に合焦させる光学系とからなる走査装置。発明を実施するための最良の形態以後、添付図面を参照しながら本発明の好ましい実施の形態についてなした詳細な説明から、本発明が一層明らかになるであろう。システムの概要本発明の好ましい実施の形態による典型的な直接書込み式印刷回路板走査装置10を図1から図3に示す。走査装置10はレーザ源12を備えており、レーザ源12の出力波長は、光レジスト被覆層を露光するのに適したものとなっている。本発明の好ましい実施の形態では、3511及び3638ナノメータ波長で稼働し、44ワットの最大パワーを出すアルゴンイオン型紫外線レーザが適しているのが判明している。斯かるレーザは一般に入手可能であり、米国カリフォルニア州所在のコーヒレント社製InnovaSabre型レーザや、米国カリフォルニア州所在のSpectraPhysics社製BeamLock2085型レーザがそれに適している。レーザ源12から出射したビーム14は、第1ビーム分割器20により主ビーム16と試験ビーム18との二本のビームに分割される。後述するように、主ビーム16は印刷回路板上の光レジストを走査して露光するようになっている。他方、試験ビーム18は、主ビーム16の走査位置を判定すると共に、後述のように他の試験やアラインメント機能に利用される。好ましくは、分割器20や後述のミラーや他の分割器等は前面ミラーと前面分割器であるのが望ましい。また好ましくは、ミラーと分割器とは誘電体前面ミラーであるのが望ましい。試験に必要なパワーは書込みに必要なパワーよりも非常に小さいから、ビーム分割器20としては、反射するパワーが透過するパワーよりも大きいのが望ましい。好ましくはビーム14のパワーの99程度が主ビーム16として反射されるのが望ましい。後述の説明では、ビームの伝播軸に対して直交する二つの方向を走査方向とクロス走査方向とにそれぞれ称する。これらの方向は書込みビームの走査方向と、ビーム軸及び走査方向と直交する方向とにそれぞれ対応する。尚、これらの用語が含蓄するところは以後の説明から明らかになるであろう。説明を容易にするために、主ビーム16の光路について先ず説明する。主ビーム16は一連の光学素子22、24、25、26を順次通るが、これらの光学素子は、ビームが第1ミラー30で反射した後に当該ビームを変調器28内の変調面に合焦させる働きをする。図1から図3に示した典型的な実施の形態では、これらの素子類は、第1クロス走査用シリンドリカルレンズ22、第2クロス走査用シリンドリカルレンズ24、第1球面レンズ25、第1走査用シリンドリカルレンズ26である。また、ビーム16は第1分割器20から反射された後ではほぼ円形断面であるが、変調器28に入射するときではクロス走査方向に長く、走査方向に短い矩形断面になっている。このビームが変調器28を通るに伴って、クロス走査方向のビームのセグメントは変調器28により別々に変調される。斯かるビームは、横並びで進行する別々に変調された複数本のビームからなるものと見ることができる。しかしながら、視覚的にわかりやすくするために、主ビーム16は一本のビーム光路を進行するものとして示してある。クロス走査方向は変調器28の出力端においては垂直方向にある。主ビームは好ましい典型的な実施の形態では別々に変調した複数のサブビームからなるものとして説明したが、本発明の幾つかの面においては、このビーム16は、複数のビーム分割器や複数のレーザ発光器、或いはその他の適当な手段で形成される複数の離散ビームからなるものであってもよいことは容易に理解されよう。尚、この典型的な実施の形態では第1ミラー30は主ビームを90°反射するようにはなっていない。むしろ、主ビーム16はこのミラー30で鋭角反射されるようになっていて、変調器28に対しては、この変調器からの出射角とは別の角度で入射するようになっている。変調器28は好ましくは当業界でよく知られている音響光学変調器であるのが望ましく、編者をアキスピーゴウツオリスとデニスアルパパとして1994年にマーセルデッカー社より出版されているDesignandFabricationofAcoustoopticDevicesの第94ページにおいて説明されている。変調後では、ビームは、走査に使えるためにも好ましくは歪像レンズ系を介して光学的に処理する必要がある。図1から図3に示した典型的な実施の形態では、ビームは先ず第2球面レンズ32を通り、次に第3クロス走査用シリンドリカルレンズ34、第3球面レンズ36、そして第4クロス走査用シリンドリカルレンズ38を順に通る。その後ビーム16は第2、第3、第4ミラー40、42、44で順に反射される。ミラー44で反射したビーム16は、回転ポリゴン46の反射鏡面に入射する。ビームはこの回転ポリゴンに入射する前に複合レンズ48を通るようにするのが望ましい。後述のように、レンズ36のZ位置は、厚みの異なるPC板にビームを合焦できるためにも、調節できるようになっている。系のその他のレンズは単に融解シリカレンズであってもよいが、レンズ48だけは、走査方向とクロス走査方向における二つのレーザ波長び焦点が回路板上でほとんど一致するようにするように軸上色誤差を補正しうる複合レンズであるのが望ましい。図1において、レンズ38を通ったビーム16は、反射器50、52により折り返される。このように反射する目的は、ビームの光路長を増加させてビームのサイズを大きくすることで、光学表面上での光学パワー密度を減少させることにある。尚、典型的な実施の形態では、クロス走査方向の焦点合わせは走査方向のそれよりも大きい。本発明の好ましい実施の形態では、ビーム16はクロス走査方向にあっては、ポリゴンの振れにより生ずる誤差を減少するが、走査方向には焦点を結ばない反射鏡面に合焦されるようになっているので、パワー損失が惹起されないようにこの反射鏡面の一部しか照射しない。試験ビーム18の光路についていえば、試験ビーム18は第1ビーム分割器20を透過した後、第5ミラー54により主ビーム16の光路とほぼ平行する光とへと反射される。後述の理由によりビーム18はビーム回転器55でその光軸を中心として90°C回転させられるようになっているのが望ましい。回転以外に、一連のミラーからなる回転器はビーム16の光軸を変えないようになっているのが望ましい。ビーム18の一部は第2分割器58により分割されて、後述の動作を行うレーザ調整装置60に入射する。本発明の好ましい実施の形態では、分割器58は50対50分割器であるが、他の分割比の分割器であっても利用できる。ビーム18は第6ミラー62の側を通過して第7ミラー64に入射し、その後第7ミラー64に反射されて、好ましくはビーム16とほぼ平行に進行して変調器28を離れる。尚、ビーム16、18は、それぞれの光路のその部分においては比較的広く離れている。ビーム18は、二つのシリンドリカルレンズ65、66によりクロス方向の焦点合わせされる。一対のミラー68、70は、ビーム18もレンズ42、44によりレンズ48を介してポリゴン46へと反射されるように当該ビーム18をそれぞれ反射するようになっている。しかしながら、ビーム16、18はミラー42に入射するときは最早平行にはなっていない。ミラー70は好ましくは、ビーム16、18が互いに角度をなしながら進行するように角度を持たせて傾斜配置されているのが望ましい。好ましくは、この傾斜角度としては、両ビームがポリゴンの反射鏡面でぼぼ一致するように選ばれているのが望ましい。この反射鏡面で反射された両ビームはその後また枝分かれする。尚、ビーム16、18はミラー42を過ぎるときには垂直面にあるのが望ましい。こうすることにより、両ビームがポリゴンの反射鏡面で反射した後にほぼ同一走査位置を確実に走査するようになる。従って、ビーム18はポリゴンに入射する前はビーム16の例えば上方にあり、ポリゴン46から反射した後ではビーム16の下方に臨ませている。一つの反射鏡面を全て照射することのない主ビーム16とは異なって、試験ビーム18は好ましくはクロス走査方向では反射鏡面で合焦し、走査方向では二つ以上の反射鏡面を照射するほどになっている。ポリゴンが回転していると、主ビーム16は後述するように反射鏡面に経跡される。同時に、反射鏡面はビーム18を全ビームから一部分だけ切り出す。試験ビームはガウス分布となっているので、この切り出された部分の全パワーは走査角度と共に変化する。走査光学系72は、両ビームがポリゴン46により当該光学系72を掃引するに伴って両ビームを合焦させるようになっている。一般にこの光学系72は、両ビームを走査方向とクロス走査方向とにおいてほぼ合焦させる球面光学系である。両ビームは走査ミラー74によりレンズ76の方へと反射される。ビーム16はシリンドリカルレンズ82を通った後に、光レジストが被覆されている印刷回路板78に入射する。光学系72はレンズ76と共に、ポリゴンによりビームに与えられた角変化を印刷回路板を横切る直線移動に変換する疑似fθ光学系を構成している。ビーム16から枝分かれしたビーム18は、シリンドリカルレンズ82を通ることなくスケール80に入射する。尚、ビーム16、18の走査位置はほぼ同一であるから、試験ビーム18の走査位置を測定するだけでビーム16の位置が分かることになる。スケール80は、ビーム18の方向に対して直交する方向から僅かの角度傾いているのが望ましい。このようにすることで、ビーム18がスケールへ入射すると共にほとんど同一方向にスケールから反射されることから、僅かだけの角度を入射ビームと反射ビームとの間に持たせるようにしている。配置関係を明確にするために、この説明と添付図面では必要に応じてこの反射ビームをビーム18’としている。ビーム18’はレンズ76、ミラー74、光学系72、ポリゴン46、レンズ48、ミラー44、42、70、68、そしてレンズ66、65を順次介してミラー64へと進行する。ビームがミラー62に至るまで、ビーム18、18’は別々になっており、従ってミラー62はビーム18’をさえぎって、それを検出器84へとレンズ85を介して反射するようになっている。検出器84は、スケール80におけるマークによりビームに対して与えた変調を検出するようになっている。これらの検出された信号には走査ビーム16の位置に関する情報が含まれているのではあるが、これらの検出された信号は、後述のように変調器28によるビーム16の変調作用を制御するのに使われるのが望ましい。分割器52により試験ビーム18から枝分かれしたビーム56について説明すれば、このビーム56は、好ましくは第1球面レンズを透過した後にビーム分割器86に入射するのが望ましい。このビームの一部は、好ましくは第2球面レンズを透過した後に第1四象限検出器88に送られる。第1及び第2球面レンズは検出器88へのレーザビームのウェストを投影しているので、検出器88からの信号で走査方向とクロス走査方向へのビームのズレが表される。ビーム56の第1部分はビーム分割器52から一対のレンズを介して第2四象限検出器90に送られる。この一対のレンズはfθレンズとして作用するようの構成されているので、検出器90からの信号で、走査方向とクロス走査方向での回転ズレが分かるようになっている。好ましくは、信号は回路91で受信された後にシステム制御器に供給されるようにするのが望ましい。システムを最初に調整すると、検出器のズレ信号が全てゼロとなるように当該検出器を位置決めして調整しておく。レーザを取り替えた場合では、システム全体を再調整する必要はない。レーザをそのマウントに載置して、検出器88、90からの出力が無ズレ信号となるように当該検出器88、90の高さと回転位置を調節するだけで充分である。斯かる無ズレ信号は、システムを最初に調整したときでのレーザと同一ビーム光路を正確に通るビームが出力されるように適切に調整しただけで出力される。レーザをこのように調整すればシステム全体が調整されたことになる。好ましくは、システムは、安定性を保つためにも合成花崗岩製ベース92に装着するのが望ましい。大部分の構成部品はレール94に搭載するのが望ましく、斯かる搭載方法については、受理官庁をヨーロッパ特許庁として本願と同日に出願をなし、発明の名称をOpticalAlignmentandMountingSystemとする同時係属中の国際出願に開示されている。この搭載方法では、光学系全てを再調整することなく、また、取替えた部品の再調整もそれを行う必要なく、部品を容易に交換できるようにしている。ビーム変調作用前述したように、主ビーム16は変調器28により区分的に変調される。概して、本発明では、非常に高度の正確性を期して非常に小さいエレメントを書き込むことを意図している。一般に、約50ミクロメータよりも小さい広がりを有する形象が書き込まれるようにしている。この目的のために、ビームは変調器28において、印刷回路板に変調したビームが投射されると、中心間距離が書き込むべき形象の最小寸法の18となるスポットが形成されるように変調される。しかし、中心間距離が約635ミクロンとしているものに、個々にアドレスした走査ラインのスポットの大きさは回折及びその他の光学的影響がために一般に乏しく、約19ミクロン程度である。尚、ビームは635ミクロンごとの走査ライン解像度でアドレスし得る。この寸法選択により、エッジが鋭く、ライン幅が正確に制御された2ミルの形象寸法のパターンを高度に忠実に得ることができる。実地では、本発明の好ましい実施の形態として、アドレスし得る変調ビームセグメントに対応する回路板上の走査ライン位置は、何回も走査されるのが望ましい。図4Aから図4Dまでは、本発明の好ましい実施の形態による四種の走査スキームをそれぞれ示している。それぞれの図において、クロス走査は左から右へと行われる。走査方向については一本のラインだけを示している。上方のラインは走査ライン番号を示し、走査ラインデータが書き込まれている。露光すべき走査ラインには陰線が施してあり、また、データ書込みを行うべきでない走査ラインは陰線なしで示してある。図示の例では、走査ライン7~10、19~26、31~34は露光すべきところであり、その他の走査ラインはそうでないものとして示してある。下方のラインは連続走査を示し、番号は変調ビームセグメントを表している。ビームは24個の変調器チャンネルにわたっている。それぞれの場合、チャンネルは、それに書き込まれた上方のラインにおけるインデックスに対応するデータを有している。視覚的にわかりやすくするために、PC板に露光すべきビームを伝送するチャンネルには陰線を施してあり、そうでないチャンネルは白抜きのままにしてある。図4Aは、各走査ラインが2回書き込まれることから二倍重なりと称する典型的な第1スキームを示している。この図4Aには、走査の光帯が三つ示されている。このスキームにあっては、走査ラインの光帯の幅が走査ライン24本分あれば、二倍重なりの場合、光帯は各走査ごとに12本の走査ライン分前進することになる。第1走査の場合、変調器17~20が書込みのためにビームを通すことになる。その次のラインに示されている同一走査位置での第2走査の場合、変調器5~8、17~24が書込みのためにビームを通すことになる。また、更に次のラインに示されている同一走査位置での第3走査の場合、変調器5~12、17~20が書込みのためにビームを通すことになる。次のラインに示されている同一走査位置での第4走査の場合、変調器5~8が走査のためにビームを通すことになる。上気した典型的な実施の形態では、光帯が重なったとき、ビームのラインはインターレースされない。図4Bから図4Dまではそれぞれ三倍重なり、四倍重なり、六倍重なりを示している。尚、十二倍重なりや二十四倍重なりも考えられるところである。尚、クロス走査宝庫に沿って一本のデータラインだけを示している。これは光帯の一つの走査位置に対するデータを表している。光帯が前進するに伴い、このデータは、特定の走査位置で走査されている画素の要件に従って変調作用が行われるように変わる。本発明の好ましい実施の形態では、走査重なりとポリゴン速度との組合せを利用して、考えられる最大書込み速度にて光レジストを最適露光できるようにしていると共に、ビームがもたらすエネルギーの利用効率を最大化している。本発明のこの好ましい実施の形態では、走査重なりとポリゴン速度とを変えることにより、光レジストに対して所望の露光エネルギーを与えている。好ましくは、レーザパワーを一定に、好ましくは最適パワーレベルに設定するのが望ましい。図5は、曲線のパラメータとしての種々の走査重なりごとのポリゴン速度と露光エネルギーとに関する曲線を示している。これらの曲線は、24インチの走査長に基づくものである。光レジストが高感度のものであれば、図5に示すように、レーザパワーを所望の最適レベルに維持する一方で、ポリゴン速度と光帯の重なりとを調節することによりスループットを最適化することができる。尚、二倍、三倍、四倍重なりスキームを利用するだけで、32だけのポリゴン速度比に対して三倍の変化量のエネルギーが得られる。パワーは一定の最適パワーレベルに保たれているから、それぞれの露光は走査装置が出し得る最大速度において行われる。また、六倍、八倍、十二倍、二十四倍重なりを利用することにより、レーザのパワーを最適化する一方で、露光エネルギーの変化範囲を広げることができる。本発明の別の実施の形態では、変調器でのレーザビームのクロス走査のオフセットを自動的に補償するようにしている。図6Aから図6Cまでは、斯かる自動補償作用を行う方法を示している。特に、変調器を照射しているビームの幅は24個の物理的画素に相当しているが、中心24画素位置の両側に幾つかの余分の変調の物理的チャンネルが変調器により出されている。図6Aから図6Cにあっては、チャンネルは図4Aから図4Dで示したのと同様に陰線で示されていて、下方のラインに対する変調器設定を表している。図6Aから図6Cにおいては、変調器の両側に四つの余分のチャンネルー1、―2、1、2を有する1~24番のチャンネルが示されている。各チャンネルは、変調器でのビームにパワーがあるとすれば走査されるライン、即ち、X軸走査ライン位置に従って変調作用を行う。図6Aにおいて、太線で示したビームは正しく配置されている。従って、図示の如くの二倍重なりの場合、結果は図4Aに示したのと同一である。図6Bにあっては、ビームは走査ライン二本分、左側にずれて変調器に誤配置されている。図6Aにおいて第1光帯における変調位置23、24と第2光帯における変調位置11、12により書き込まれた走査位置25、26は、第2光帯における位置11、12と第3光帯における1、2により書き込まれている。各光帯は誤配置されることもあるが、各走査ラインは適切な回数だけ適切なデータで走査される。図6Cは、右の方へ2本の走査ライン分だけビームが誤配置されているところを示している。この場合でも、走査パワーとデータとはそのままになっている。従って、実際の光帯の幅に必要とするよりも多い変調チャンネルを設定することにより、変調器におけるビームのクロス走査方向への位置決めがあまり重要でないものとなる。尚、本発明の好ましい実施の形態では、主ビーム16のエネルギー分布は走査方向にしても、また、クロス走査方向にしても均一にはなっていない。これらの方向にあっては、ガウス形状ないし近似ガウス形状になっている。クロス走査方向においてビームがガウス形状を呈するようにすれば、ビームの極端テール部が使われないことから、システムの総合効率が増加する。各画素が一本の走査ラインで書き込まれるとすれば、画素が異なるたびに異なった露光が行われることになる。しかしながら、PC板における各走査ラインはクロス走査用ビームの光帯の異なった部分を利用して少なくとも二回書き込まれるから、光レジストに与えられるパワーの総量はビームのガウス断面形状の大部分を利用しても、程良く一定である。また、変調走査ラインのそれぞれは、先ほど説明したように回折限度よりも約三倍小さいから、書き込まれた走査ラインに対してパワーをより均質化することができる。主ビームの光学系本発明の好ましい実施の形態により、改良された光学系も提供されているところである。この光学系は、機能に応じて2つの部分、即ち、変調器照射システムと変調器から印刷回路板への撮像システムとに分けられる。また、予備走査光学系と走査光学系との2つにも分けられる。予備走査光学系はレーザとポリゴンとの間に介在する全てのレンズからなる。走査光学系は、ポリゴンと回路板面との間に介在する全てのレンズからなる。このように光学系を分けることは、これらの2つの部分の要件が非常に異なっていることから望ましいことである。予備走査光学系の素子類の大きさは、ビームが小さいことから小さくなっている。しかし、パワー密度が高く、そのために問題が発生しやすい。走査光学系の場合、ビームの大きさやパワー密度についての要件は逆となっているのが通常である。変調器照射システムは、当業界で最新型レーザ光学系でよく知られているレーザウェイスト変換の光学要件に従ってレーザレーザヘッドからのビームを変調器に変換するものである。その結果、変調器チャンネルが、好ましくは走査方向とクロス走査方向とに異なった広がりを有するガウスエネルギー分布で照明されることになる。好ましくはビームはこの光学系で平衡化されているので、レーザのウェイストは変調器またはその近傍にある。本発明による好ましい実施の形態では、改良されたレーザ照射システムはが提供されている。図7Aと図7Bとは、変調器28に至るまでの主ビーム光学系の一部を示している。これらの素子類は図1から図3においても示したところではあるが、図7Aと図7Bでは所要に応じてこれらの素子類に対して施す調節の有様を示している。図7Aは、システムを上方から見た図であり、この図にあっては走査方向は上から下への方向に該当する。他方、図7Bは側方から見た図であり、クロス走査方向が上から下への方向に該当する。図7Aと図7Bとに示した光学系の部分は、走査方向とクロス走査方向において異なっていると共に組み合わされている光学パワーを有する四個のレンズからなる。本発明の好ましい実施の形態では、レンズ22、24はクロス走査方向に光学パワーを有する同じシリンドリカルレンズであり、レンズ25は球面レンズ、レンズ26は走査方向に光学パワーを有するシリンドリカルレンズである。レンズ25、26は走査方向のダイナミックビーム伸張器として有効なものである。レンズ26を光軸に沿って移動させると、走査方向から見た変調器でのビームの大きさが増減する。これにより、レーザ源の寿命中での、例えばウェイスト径、ウェイスト位置、ビームモード純度の如くの個々の違いや変化を補償することができる。それにより、大きな走査方向のビーム径を要する変調器の高回折効率の要件と、小さい走査方向のビーム権を要するスコフォニ効果の適用の要件との兼ね合いを取ることができる。このスコフォニ効果は、スポットフライ式走査器の走査方向における生成エッジのボケを減らすか、除去するのに使われる。このことは後でも説明するし、また、前掲のDesignandFabricationofAcoustoopticDevicesの第190~192ページ、及び米国特許第4205348号において説明されているところである。レンズ22、24、25はクロス走査方向のための結合型ビーム伸張器バリオビームステアリングシステムとして作用する。レンズ22を光軸に沿って移動させると、変調器でのビームの大きさを変えることができるが、非平行化されてしまう。レンズ24を反対方向に移動させると、ビームは再び平行化される。レンズ22、24を軸から逸れてクロス走査方向に移動させると、ビームは、変調器での光軸の局部的な配置と角度について操向される。本発明の好ましい実施の形態では、ビーム角と位置とは後述の光ガイド152を用いて測定している。これらの測定を行う好ましい方法については、後述のクロス走査エラーの判定の見出しのもとで詳述する。pとaとがビームの位置と角度の移動の測定量とすれば、操向情報は、レンズ22についてはΔycpda、レンズ24についてはΔyepfaとなり、ここでのc、d、eは光学設計に応じて変わる定数である。この種の矯正は、変調器が書込みに必要なセグメント数と同一セグメント数を有しているだけなら特に重要である。図6について説明したように余分のチャンネルを有する変調器を用いた場合では、ビームの位置決め上での要件は幾らか正確でなくてもよい。このようなビーム伸張器バリオビーム操向システムは、日常の利用サイクル中ないしレーザの寿命中での熱変化ないし電気または音響式レーザ共振器の条件の変化によりもたらされる変動を補償するのに必要なものである。このような変動が矯正されなかったとすると、大概のパターンは劣化する。変調器でのビームの大きさと位置決めとが不適切であると、前述した二倍~二十四倍重なりがためにパワー分布が不均一となり、従って、生成されるパターンのライン幅変動もしくはエッジの粗さが増大する。回転変動が不適切であると、露出系での開口度絞りでビームがカットされることから、また、生成したパターンのエッジが非対称性を帯びることからパワー損失が惹起される。前述した好ましい実施の形態では、このような生成パターンの劣化の原因となる全ての現象を阻止するのが好ましい。変調器印刷回路板撮像システムは、変調器から印刷回路板への画像の伝送を受け持っている。本発明の好ましい実施の形態では、PC板上でのレーザビームの焦点は光学的に調節できるようになっている。言うまでもないことではあるが、合焦光学系はよく知られたところである。しかし、本発明における如くの複雑な走査装置では、一般に固定焦点式である。このことは、システム上の要件が多様であること、また、走査方向とクロス走査方向とでは異なった合焦系が必要であることを鑑みれば、別に驚くに値しない。また、オブジェクトを合焦させるには、そのオブジェクトを比較的短い距離だけ移動させなければならない。しかし、本願発明者らは、正確度を高めるためには、機構としてはできるだけ簡単で頑丈でなければならないと確信している。前述したような合焦を達成するためには、レーザパワー伝達効率が全体として大きいこと、解像度も大きいこと、また、パターン生成も高忠実度で行われることなどのシステム要件を考慮に採り入れなければならない。図8Aと図8Bとは、本発明の好ましい実施の形態の機能説明図である。図7Aと図7Bと同じく、図8Aと図8Bも、それぞれクロス走査方向と走査方向に沿って見た図である。変調器回路板撮像システムは、幾つかのモジュールから成り立っている。この撮像システムの出発点は音響光学変調器28で、この変調器28は好ましくは複チャンネル変調器であるのが望ましい。音波の光学軸上での中心位置は、物面と見ることができる。クリスタルテクノロジー社から入手しうるAOMC11724UV型音響変調器は24チャンネル変調器であり、本発明の一部の好ましい実施の形態に適している。走査方向では、第1撮像モジュールは、球面レンズ32、36からなり、平面39に変調器平面の第1像を形成する。第2撮像モジュールは平面39における像をPC板78の平面に写すようになっている。この第2モジュールは球面レンズ34と走査レンズ系72の球面部とレンズ76とからなる。従って、ポリゴン46と回路板平面78との間では、光学系は、好ましくはテレセントリック系である疑似fθレンズとして作用する。レンズ34、36の間には物理的絞り31が設けられている。この絞りは、ポリゴンの回転する反射鏡面により定まるこの方向での走査開口度を制限しないほど大きくしている。その主たる機能は、変調器28から直接伝送されるビームが光学系へ入らないようにすることにある。クロス走査方向の物理的絞り31’は、この方向への開口度を定めるようにはなっていない。生成されるパターンに急峻な側壁を形成し、かつ、高パワー効率を達成するためには、当業界で知られているスコフォニ効果と反射鏡面トラッキングを利用するのが望ましい。スコフォニ効果に必要なものは、変調器媒体における切換情報の音響速度-変調器と回路板との間の光学系の縮小比により減少されている-が、反対方向ではあるが回路板上の書込みスポットの走査速度と等しいのでなければならないことである。このようにすることで、回路板上の所定位置に定常データ情報をもたらすことになる。変調器において光学媒体として使われる水晶材の音響速度は一秒当たり57キロメートルであり、走査速度は一秒当たり0270キロメートルであるから、約21倍の縮小比が必要である。この縮小比が一定とすると、一秒当たり0270キロメートルからの走査速度の差はパターンのエッジでボケをもたらすことになる。異なった走査速度でのボケの大きさは、変調器での照射ビームの大きさを減少させることで減らすことができる。しかし、大きさを減らせば、発散作用が増大し、そのために変調器の回折効率が減少する。ポリゴンでの1e2までのビームの大きさは反射鏡面の幅よりも小さい。反射鏡面それ自体は、走査歩行の開口度絞りとして作用し、ポリゴンの回転でビームが偏向すると、開口度も移動する。ポリゴンまでのビームの位置が固定されているとすると、ポリゴンの動きで走査にわたるパワーが減少する。これは、変調器における変調信号の搬送周波数を変えて、変調器で光軸を回転させ、それに伴ってポリゴンでのビームが平行シフトするようにすれば補償できる。変調周波数は、反射鏡面の回転と同期してビームを掃引するように変えられる。反射鏡面トラッキングにより、他の方法に比べてサイクルタイム効率を約99まで上げることができる。当業界でよく知られているように、入射光と音波頭とが特異角度-ブラッグ角―をなせば変調器での最大回折効率が達せられる。このブラッグ角はビームの波長と光学媒体における音速と変調信号の搬送周波数に依存しているだけだから、ビームの調節は一つの周波数に対してのみ最適化できるに過ぎない。これが一般に掃引の中心周波数として選ばれている。掃引の外側位置では、回折効率は減少して、これらの位置で回路板に与えられるパワーが減少する。本発明の好ましい実施の形態ではこのような効果を光学的に補償しており、従って、おUSAに沿ってパワー分布を均等化している。これは、クロス走査方向のビームをポリゴンで合焦させ、また、回路板の上でも合焦させることにより達せられる。従って、振れによりビームの方向にクロス走査が僅かだけ回転しても、回路板上のビーム位置が移動するようなことはない。図8Bにおいて、クロス走査方向では、球面レンズ32、36とシリンドリカルレンズ34とが、シリンドリカルレンズ38を除外して、実焦点が走査方向のそれに近接している撮像モジュールを構成している。系にレンズ38があると、平面39におけるクロス走査方向の焦点は虚焦点になる。球面複合レンズ48と共に、第2実像がクロス走査方向のみポリゴンの反射鏡面、或いはその近くに形成される。クロス走査方向の画像の大きさは、反射鏡面の高さよりも多数倍小さい。第2像から回路板面に至る第3撮像モジュールは、走査レンズの球面部とシリンドリカルレンズ82とからなる。この第3モジュールは、第2焦点の近傍にある反射鏡面の回転変化が、局部的な位置変化ではなくて、回転変動としていた平面に伝わることから、ポリゴンの振れを補償する働きをする。しかしながら、光学系が不完全だと、ビームがその走査路に沿って掃引するに伴い、クロス走査方向にビームが系統的にずれてしまう。このようなズレは下記するように補償される。即ち、変調器から回路板までの全てのクロス走査方向の撮像システムの縮小比は、所要データ解像度により予め定まっている。本発明の好ましい実施の形態では、最小アドレス単位としての375ミクロンの一つの変調器チャンネルの幅は、所要アドレス解像度が4000DPIであれば636ミクロンに減少する。その結果、59倍の縮小比がクロス走査方向に選ばれる。本発明の好ましい実施の形態では、走査方向とクロス走査方向とが、変調器と印刷回路板との間に共通の像面を共有している。但しこの像面は少量だけ違っていてもよい。好ましくは、両方のビーム方向が一つの素子、即ち、レンズ36により合焦されるようにするのが望ましい。この点から回路板面までの縮小比は両方向において等しい。このように、レンズ36を軸方向に沿って移動させるだけで、走査方向及びクロス走査方向にわたって焦点をほぼ等量だけ変えることができる。回路板における焦点シフトに対する合焦レンズ36間のギア比は、第1焦点39から回路板面78までの縮小比により決まる。本発明の好ましい実施の形態による典型的なシステムにあっては、下記の縮小比が選ばれている。走査方向変調器から第1像まで:1235x第1像から回路板まで:17x変調器から回路板まで:21xクロス走査方向変調器から第1像まで:347x第1像から第2像まで:0113x第2像から回路板まで:15x第1像から回路板まで:17x変調器から回路板まで:59x前述したように、走査方向でのビームの精度とエッジ解像度とを向上させるためには、変調器28において反射鏡面トラッキングとスコフォニを利用している。しかし、これにより変調器でのビーム偏向角が変わってしまう。その結果、変調器の効率は偏向角に左右されるので、ビームのパワーが変わる。そして、走査に当たりパワーが非均一になってしまう。このような現象を矯正するには、fθレンズとしては、fを、パワーが小さい場合、即ち、走査の終端ではビームをスローダウンにする補償関数として、xfなる関係を満たすレンズとする。一般に、単純二次関数矯正式、xf1θf2θ3が、パワーの非均一性を補償するのに充分である。但し、ここでのf1は、中心焦点距離であり、f2は好ましくは負の数である。複波長用音響光学変調器図18Aは、前述したように市販されている変調器の如くの入手可能な変調器28を示している。この変調器320では、トランスジューサ322から音波が発生して、この音波で入力ビーム324、326を回折するのに用いるパターンを形成するようになっている。前述したように、本発明では二本のスペクトル線を利用したレーザを用いている。効率からすれば、二本のスペクトル線は両方とも利用すべきである。しかし、図18Aに示したように、二本のスペクトル線を利用するとビームが変調器に入射して出射するに伴って別々に回折されること、また、ブラッグ角が異なっていることから、回折されるビーム324’、326’は異なった出射角を有する波長で回折されることになる。図18Bは、2つのスペクトル線が変調器から出射するときにそれらが分割されることに対する本発明での解決策を示している。図18Bに示した変調器28’においては、変調器の入射面と出射面とは平行にはなっていない。むしろ、入射面と出射面とは互いに角度をなしており、その角度は、入射面と出射面とにおける二本のビームの屈折率の相違が、それらのビームのブラッグ角の相違と正に等しく、反対関係となるように選ばれている。従って、共に入射したこれらの二本のビームは共に出射することになる。尚、伝送したビーム324、326は互いに異なった出射角を有している。しかし、ここでのシステムでは回折した波だけ利用しているから、出射角の違いは問題ない。しかし、回折ビームではなくて、伝送ビームを利用するシステムにあっては、入射面と出射面との間の補角によっては伝送作用に同一角度で出射するビームが得られることになる。言うまでもないことではあるが、この場合では回折ビームのズレが増大する。走査方向の位置測定PC板への正確なレーザ直接書込みにおいて最も重要な要因の一つに、PC板におけるビームの位置を知ることが挙げられる。ビームの位置を知ることで、走査ラインにおける正確なデータを伴うビームの変調を適切に行うことができる。PC板はクロス走査方向に移動し、ビームは走査方向に掃引する。従って、PC板78が載置されているテーブル79のクロス走査方向の位置とビームの走査位置とを知っておれば、ビームの位置が分かることになる。テーブルのクロス走査方向の位置を判断するのは簡単である。当業界でよく知られている公知のエンコーダを用いてもよい。本発明の好ましい実施の形態では、テーブルは二本のX形レール96に沿って移動させられるようになっており、その位置測定に光学エンコーダを利用している。このエンコーダに連繋するスケール98は図1に示されている。本発明の好ましい実施の形態では、ドイツ国イエナ所在のニューメリクイエナ社のLIE5型エンコーダシステムを利用している。好ましくは、クロス走査方向の位置測定は±2ないし3ミクロンの精度で、±01ミクロンの解像度にて行えるのが望ましいが、システム要件に応じてその他の精度と解像度であってもよい。尚、印刷回路板上の各形象は、ビーム16の幾つかのセグメントで書き込まれるようになっている。従って、クロス走査方向の位置についての知識が、形象の所要最小寸法よりも大きい位置精度でビームの変調を判断するのの利用できる。データの位置は、所要精度よりも一般に非常に小さい走査ライン間隔と等しい位置精度に調節しうる。走査方向におけるビームの位置をより精度よく判断することは非常に困難である。この点については、データ源からのデータストリームに対してより正確の制御を行う必要があることから、位置に伴って変わる走査速度を利用すればもっと困難になってしまう。図9は、本発明の好ましい実施の形態による走査装置のためのデータ制御システム100の簡略ブロック図である。この制御システム100には検出回路84から信号が入力される。これらの信号は、スケール80上のマークにより変調されたビーム18’のパワー変化を表す信号である。一般に、これらのマークは、比較的小さい、システムのデータクロックレートよりも非常に小さいパルスレートを有するアナログ信号を生ずることになる。そこで、クロック発生器102がXクロックと、走査位置検出信号から走査開始信号を発生する。走査信号からXクロックを発生する好ましい方法について以下に説明する。その際、クロックの特性に注意すべきである。1平均Xクロックレートは走査長にわたり一定でないのが望ましい。2瞬間Xクロック計数値と走査開始信号に基づいてデータが変調器28に送られる。尚、Xクロックに応答してデータが変調器に送られるのではあるが、ビームがPC板に書込みを行うに適した位置にあるとき以外にデータが送られることはない。従って、ビームが反射鏡面を変える期間中、または、走査の開始または終了時に、ビームが書込み位置にない場合、変調器にデータが送られることはなく、その時の変調器はオフになっている。クロック発生器102から、走査すべきPC板の二値化マップを含むデータベース104にXクロック信号と走査開始信号とが送られる。別の方法としては、データをベクトル形として、オンラインでラスター形に変換してもよい。このデータは圧縮されているのが望ましい。走査開始信号は、走査開始信号をクロック発生器へ供給する別の検出器に基づいて発生されるようにしてもよい。好ましくは、この走査開始信号は、走査信号それ自体に基づいているのが望ましく、例えば、走査開始時と走査終了時の何れか、または両方において発生する長い信号により発生するのが望ましい。クロック発生器102は、制御器に対してy同期信号を供給するようにもなっている。この制御器は、y走査信号と同期してテーブルの移動を制御する。走査開始と同期されているこの信号は、テーブルの位置をデータストリームと同期させる手段をなしている。データベース104から複ラインデータバッファ走査ライン発生器106に複数のデータの走査ラインが供給される。好ましくは、この複ラインデータバッファ106には、その時の走査とその次の走査に必要なデータの走査ラインが全て蓄えられているのが望ましい。クロス走査方向位置信号とPC板位置情報とに基づいて、複ラインデータバッファ走査ライン発生器106が走査ラインデータを生成して、それを走査ラインバッファ制御器108に転送する。このデータは、走査開始信号により定まる時点から始まってクロックに応答して1ビットずつ種々の変調器に供給される。尚、図9は機能ブロック図に過ぎず、当業者には図9に示した機能を行うのであれば種々の装置と方法とが利用できることは容易に想到できるところである。また、各ブロックに対応する機能の一部は、他のブロックに受け持たせることも可能である。更に、一部または全ての機能はハードウェア、ソフトウェア、もしくはファームウェア、或いはその組合せと、汎用ないし特殊コンピュータとの何れか、または、両方で行うようにすることも可能である。しかし、一般に高速システムにあっては、専用ハードウェアシステムが望ましい。斯かるシステムではハードウェアによるデータ圧縮、データ保持にFIFO、FIFOからのデータをビームに切り換えるスイッチ、印刷回路板の位置に基づいてデータを遅延させるプログラマブル遅延回路などを利用しているのが通常である。このようなシステムに書き込まれ、12本が後述のようにクロス走査方向矯正に使われるシステムの概略構成図を図10Aは、本発明の好ましい実施の形態によるバッファ発生器106と走査ラインバッファ制御器108のブロック図を示す。図10Bは、図10Aのハードウェアロジックを実現する方法を示している。図11は、図10Bに示した高速切換器が、前述した走査制御信号に基づいてどのデータラインをAOMに送るべきかを制御する態様を示している。このシステムは各方向の変調器信号に対して6本の走査ラインまで対応している。尚、図11に示した高速切換器は、走査位置に関係するクロス走査エラーの矯正に対応している。このようなエラーは、例えば走査光学系における残留収差によりもたらされる。このエラーは時間に伴って変わるようなことはないから、走査装置の寿命中に一回処置しておいてもよい。これらのエラーはメモリに記憶して高速切換器への信号の基にする。特に、図11は、図11に示した切換システムに入力するビームとして36データ入力ストリームと、それから出てくるものとして、それぞれが変調器28におけるビーム変調チャンネルに対応する24出力データストリームを示している。入力データストリームは所定走査ラインの公称位置に応じて回路板上のそれに対応する。図11には、切換器の典型的な三つの位置を表す三つのボックス310~312も示されている。各ボックス310~312は、走査光学系が不完全であることから惹起される如くの所定の走査位置における回路板上のビームの、クロス走査方向への典型的なオフセット位置に対応している。位置310においては、クロス走査方向のオフセットはゼロであり、この場合、入力ラインN0~N23が変調器に送られる。符号311は、ビームがクロス走査方向に走査ライン二本分オフセットした状況を示している。これを補償するために、入力ラインN2~N21を変調器へ送って、これらの入力ラインからのデータでサブビームが変調されるようにしている。これにより、走査時にビームがクロス走査方向に移動しても、回路板上の適切な位置に情報が書き込まれるのである。同様に、符号312は走査線一本分反対方向にオフセットが発生した状況を示しており、その場合、入力ラインN1~N24が変調器の送られる。図12は、本発明の好ましい実施の形態によるXクロック発せ異様クロック発生器102の回路概略図である。この回路とこの回路が実施する方法とが望ましいものの、低レート信号から高レートクロックを生成するその他の従来公知の方法を本発明の他の実施の形態で利用することも出きる。図13は、クロック発生器102の動作を理解する上で有用なクロック信号を示している。検出回路84からの光学クロック信号は、PLLVCO140のためのロック用信号を出すのに利用される。PLLVCO140は、16分割回路142と共にループ回路を形成して、光学クロックと類似にPLL信号に基づいてVCO信号を生成する。PLLクロックは、下記の点で光学クロックとは異なっている。1PLLクロックは光学クロックよりも安定している。2PLLクロックは、光学クロックよりも鋭く、より安定したトランジッションを有している。3PLLクロックは連続している。光学クロックは反射鏡面切換の際の消失する。光学クロックが消失すると、PLLがPLLクロックを光学クロックにロックする。数サイクル間、位相差が出る。しかし、この期間中には、データがまだ書き込まれていないときではビームは走査を始めたばかりであるから、データがトリガーされることはない。PLLVCO140は、2つのクロックを生成するが、両方ともPLLクロックと光学クロックよりも16倍ほど高速である。この分割には標準的な回路が利用できる。この分割を行うのにAD9850BRSを利用すれば、40ビットの精度で他の分割も行える。それにより所要の直線スケーリングが生成できる。論理回路144がこのVCOクロックを利用して走査開始信号とY位相信号とを生成する。この論理回路144にはスケール倍率と走査矯正値とが走査矯正メモリ146から入力されるようになっている。本発明の好ましい実施の形態においては、スケールにより生成されたVCOクロックは、変調器に実際に要するデータストリーム周波数よりも僅かだけ高い周波数を有している。システムのこの内蔵エラーとその他のエラーとは図13のクロックチャートに示したクロック生成スキームで矯正される。このラインに示した信号ではXクロックを生成するのにVCOクロックと逆VCOクロックとが利用されている。クロック間における各対のスイッチで一つの計数値の損失が惹起される。従って、VCOクロックの計数周波数を意図的に大きくすると、所要周波数まで必要なだけ周波数を減らすことができる。論理回路144は下記のために矯正するのに充分なスイッチの周波数を生成する。1スケールの予歪による意図的に大きいVCO周波数。この周波数は約075高いことがある。2後述の回路板のスケール倍率。3スケール測定と書込みビームの位置との間の位置エラー。これらのエラーは、主として2つのビームが同一光路を辿らないこと、それに、テレセントリックレンズである走査レンズが幾らか非テレセントリック誤差を有していることから発生する。従って、ビームとビームの異なった波長との間のオフセットで幾らか繰り返し得るエラーが発生する。これらのエラー後は矯正メモリ146に記憶される。論理回路は、前述したように好ましくは光学クロックそれ自体から走査開始信号を発生する。この信号は、ポリゴンとテーブルのy方向移動との実際の同期を決めるy位相信号により補われる。説明を簡単にするためにその他のデータ矯正については説明しなかった。しかし、走査読取りでの既知のエラーも、変調器へ送るべきデータを決めるに当たり考慮に入れている。電気クロックに基づくデータ切換と回路板への光学ビームの入射との間の時間遅延についても矯正が行われている。この時間遅延のために、例えば現在のポリゴンの速度によっては走査方向に位置決めの遅れが別に生ずる。本発明の好ましい実施の形態では、後述するように位置測定システムに基づく自動調整機構が用いられている。好ましくは回路板がビームの直下に臨まない光ガイド152の部分の外側におけるテーブル位置にあっては、データ信号は公知のXクロック位置で送られる。しかし、電子システム、特に変調器28の切換時間に遅延が起こると、デーが送られたときからオフセットした時刻に回路板で変調が生じる。その場合、回路板で位置決めオフセットエラーが発生する。この位置決めエラーは、主としてポリゴンの速度の要因である。ポリゴン速度を変えた後でこの位置のオフセットを測定するために、第1X位置に置いて変調器にデータ信号を送り、光パイプからの光信号を第2X位置で受光するようにしている。第1及び第2位置の間でのXクロックパルスの数が時間遅延量を表すことになり、Xクロック発生器に対する別の遅延として使われる。尚、幾つかのXクロック位置における幾つかの時間遅延を良好な精度を得るために利用してもよい。好ましくは、システムでは、レーザを励起させることなく回路の試験に利用する試験クロックが発生されるようにしてもよい。PC回路板の調整本発明の好ましい実施の形態では、回路板に対するデータの調整は、従来技術と同様に貫通穴を参照して行っている。絶対位置における回路板への書込みは、既に書込みが行われている回路板、例えば多層回路板において利用するそうの裏側や多層回路板の外側に書込みを行う場合には特に重要なことである。しかし、回路板における穴が走査装置と機械的に調節されるようになっている従来のシステムとは異なって、本発明の好ましい実施の形態では、、回路板における穴を走査データと光学的に調整している。好ましくは、印刷回路板に書込みを行うのに利用する、走査方向位置決め機構とクロス走査方向位置決め機構とを含むシステムを利用して、穴の正確な位置、ひいては走査装置上での回路板の正確な位置を決めている。本発明の好ましい実施の形態においては、データに対する回路板の回転方向のミスアラインメントを補償すべくその回路板を回転させるか、残留走査位置ミスアラインメントを補償すべく走査方向とクロス走査方向において走査ラインを選択的に遅延座競るかの何れか、または、両方で回路板の位置にデータを一致させている。好ましくは、クロス走査方向のミスアラインメントはクロス走査方向にデータを遅らせるか、または進めることで矯正するのが望ましい。一般にこれら全ての矯正が行われている。本発明の別の実施の形態では、測定位置と一致するようのデータを回転して変換することにより、データそれ自体を測定した座標系に変換している。しかし、オンライン出かかる変換を行うのは難しいので、前述した位置に対するデータのハイブリッドアラインメントが、データベースからのオンライン変換が望まれている高スループット型走査装置には好ましい。図14は、本発明の好ましい実施の形態による位置測定システムの概略図である。PC板78には複数、好ましくは図示のように三個の穴150が形成されている。図14にはテーブル79が図示されていないが、このテーブルにも穴150よりも幾らか大きい穴がその穴の下方に形成されている。テーブルの直下において、蛍光材が頂部に塗布されている光ガイド152が穴を透過した光を受光して検出器153を照射するようになっている。ビームが穴を透過すると、検出器153から信号が発生する。しかし、PC板によりビームが遮断されると、検出器153からは信号は生じない。検出器153からの出力信号はビームX位置とビームY位置と共に位置演算器メモリ155に供給される。位置演算器メモリは、信号がオフからオンへ、オンからオフへと変わったときにビームの位置からの穴のエッジを判定する。このエッジから、穴の中心の実際の位置が分かるのである。全ての穴150の中心位置は位置エラー演算器156に送られる。この演算器156は穴の公称位置が入力されるようになっている。穴の実際の位置と公称位置との相違に基づき、回転矯正装置157がテーブルの所要回転を判断する。回転機構158が、回路板78のXY軸を走査システムの対応する軸に合わせるべく、走査に先立って所望量だけテーブルを正確に回転させる。また、テーブルの異cyひと書込みエリアの位置との関係は位置矯正モジュール160により判定される。この関係は、データ制御器100により変調器28に送られたデータの位置を矯正するのに利用される。また、穴間の距離の公称値からの誤差に基づいて走査操向スケール倍数が演算されるようにしてもよい。本発明の好ましい実施の形態では、もう一つの穴150’を設けて、穴150と穴150’との間のクロス走査方向距離が判定できるようにしている。この距離は、クロス走査方向の入力データをスケールするのに利用できる。別の方法としては、両方向に同一スケール倍率を利用してもよい。このスケール矯正は、前述したようにデータをスケールするためにPC板に実際に書込みを行う際に利用する。穴の位置を判定しているときに回路板78上の光レジストに露光を行うのは望ましくない。そのため、ビーム16が光レジストを焼き付けるほど強力にはならないようにパワーを落とすか、または、書き込むべきパターンの一部でもない穴の部分を照射するようにすればよい。尚、図14はごく概略的なものであり、機能の説明に利用しているに過ぎない。位置判定にはその他の電子回路構成を採ることもできるし、また、ソフトウェアないしファームウェアで実現することもできる。実地では回路板の一方面に書込みを行った後、その回路板を反転する。図14における最左側の穴はテーブルの右縁側近傍に臨むことになるが、そうするとテーブルにおける別の穴を新たな位置として載置されることになる。好ましくは対称配置を取る中間の穴は、位置が切り替わるのみである。穴の位置を再び演算して、回路板の他面に書込みを行うが、その際、回路板の他面へのパターンの書込みに当たって一方面に既に書き込まれているパターンに対応する位置の判定の基準として、それぞれの穴の位置を利用する。尚、穴を対称配置にすると、回路板の表面を自動検出できるようになる。一般に、このようにして幾つかの層に露光を行い、その後エッチングにかける。バッチで層ができると、層の寸法変化量は全てにわたり同一である。そして、好ましくは穴を手掛かりとして、或いは、従来公知のX線撮像の如きのその他の手段を用いて、その穴が整合した状態で層を積み重ねて積層化する。外側の層も積層体の一部である。従来技術におけるのと同様に、例えばX線撮像に基づいてバイアホールや、装着穴を穿孔する。好ましくは、積層体を外層への書込みのために整合するに適した穴も穿孔する。これらの穴は、内層に書き込まれたパターンを回路板外のデータと整合させるのに利用することもできる。尚、積層化取付プロセス中に歪による圧力の影響があるので、積層体のスケール倍率は一般に層のそれとは異なっているのが通常である。このような位置決め法が望ましいのではあるが、本発明の他の実施の形態では、例えば整合用穴と対応するピンとを用いるとか、その他の整合法を利用することもできる。所望によっては、テーブルに位置決めピンを設け、回路板には穴を形成しておいて、前述した位置判定矯正法を行うに先立ってテーブルと回路板とを大ざっぱに整合させるようにしてもよい。このようにすれば、所要回転矯正とデータ位置矯正とを最小限にすることができる。本発明の好ましい実施の形態では、光ガイド152は、10ミリ高さ、10ミリ幅である。好ましくは、一つだけのビームセグメントが照射されるのが望ましい。このビームはPC板上に合焦されるか、別の方法としては意図的の非合焦として光学エッジが鮮明にならないようにしてもよい。このようにすれば、位置の関数として光に勾配を持たせることができる。このような勾配を利用して、位置の関数としての輝度点から準画素サイズの位置を判定することができる。本発明の別の実施の形態では、図示はしていないが、光ガイド152と検出器153との組合せを利用する代わりに、各穴の直下に検出器を一つずつ設けてもよい。クロス走査方向エラーの判定前述したように、二種のクロス走査方向エラーを判定して矯正しなければならない。この内の一つはポリゴンの回転角度の関数として変動するクロス走査方向位置エラーであり、これは図11を参照しながら説明した方法を利用することで矯正できる。残りのエラーはクロス走査方向の、緩やかに変動する回転オフセットであり、これは図7Bを参照しながら説明したように矯正される。音響変調器28においてクロス走査方向のビームの不正確な配置は、比較的容易に判定できる。この判定を行うには、ビームを光ガイド152に掃引して、検出器153からの信号を測定する。この走査を複数回繰り返すのではあるが、その際連続操作ラインまたは数本の走査ラインをアクティブにする。ビームが変調器に正確に達したら、変調器セグメント数を関数とするビームパワーのプロットが、中間の2つのセグメントに間を中心とするガウス形状を呈するようになる。それが変調器の中心からのオフセットであれば、ガウス形状の中心がオフセットしていることになる。このオフセットは、変調器セグメントを関数とするビームパワーのプロットに対して当てはめたガウス形の中心を判定することにより判定することができる。図17Aと図17Bとは、クロス走査方向への回転オフセットを判定する好ましい方法において用いられる走査装置の一部の側面図と上面図とをそれぞれ示している。この図17において、同一構成部品には、参照した添付図面で用いた符号を付してあるが、新たに追加した符号300は焦点面を、302は回転シフトの基準部を示している。図17Aから分かるように、回転エラーはクロス走査方向にオフセットを著しく伴うようになり、その位置ではビームは光ガイド152に接触する。基準部302は好ましくは、スリット304が形成されている不透明材で構成するのが望ましい。スリット304は走査方向及びクロス走査方向に対して傾斜して配置されている。図17Bを見るに、クロス走査方向のビームの位置は焦点面と光ガイドにあっては異なっている。このクロス走査方向での位置の違いは、スリット304により時間のズレに変換される。前述したように、ビームが基準部を通るときに限ってこの基準部からパルスが検出器153により集められる。この走査位置は、焦点面での位置を測定するスケール80を含むX位置測定システムを用いることで測定できる。回転オフセットは受信したパルスの位置誤差からもたらされる。尚、ポリゴンのぶれは、光学システムの設計次第でクロス走査方向のビームの著しい振れをもたらすようなことはない。スケールスケール80は、位置測定の精度と信頼性を向上するために幾つかの特徴を有している。前述したように、反射鏡面は拡張ガウス分布の試験ビーム18から光の一部をカットする。その結果、順光ビームの全パワーは、走査の中心よりもその外側で小さくなっている。また、走査レンズが完全にテレセントリックではないから、入射ビームから異なった方向、走査方向にビームが反射される。その結果、反射したビームは、入射ビームと同一位置に置いて反射鏡面に入射するようなことはない。その後、この反射ビームはテレセントリック誤差に応じて反射鏡面により再びカットされる。テレセントリック誤差の特性は通常、式ΘaXbX3で表される。この問題を解消するには、本発明の好ましい実施の形態では、走査方向におけるスケールの表面の輪郭を、入射ビームと同一方向にビームが反射されるように構築している。このことは、スケールの平坦性からのズレをZとする式ZcX2dX4で表される輪郭を有する表面をスケールが有している場合に達成しうる。しかし、焦点深度もあることだから、オフセットは約05ミリに限られる。しかし、これでも矯正は完全でない。そのため、ある走査位置に置いて、特に、走査の中間にあっては、反射ビームによる信号の振幅は飽和状態にあり、オン期間がオフ期間よりもほぼ長くなっている。他の位置にあっては、特にスケールの端部にあっては、オフ期間がオン期間よりも長くなっている。データクロックは信号を終わらせることにより発生されるようにするのが望ましいことから、特にオフ期間の長さが閾値以下のならない、或いは、オン期間の長さが閾値以上にならない場合、タイミングエラーが惹起されることになる。本発明の好ましい実施の形態では、素ぺーるの反射部と非反射部の大きさが位置と共の変わるようになっているので、信号のオン期間とオフ期間とは同一である。回路板用真空吸引チャック位置決めと走査のサイクル中にあっては、印刷回路板が定置されているのが重要である。ところが、位置決めピンを用いている場合でさえ、正確な位置決めにはそれでもまだ不十分であることから、印刷回路板の定置は容易ではない。従って、テーブル79上のPC回路板78を保持するのに真空吸引チャックを利用するのが望ましいのである。図15に、テーブル79が引き出され、PC回路板78がテーブルから取り外された状態での図1の走査装置の斜視図を示す。テーブル79には、図16に明確に示すように碁盤目状凹凸面200が形成されている。この碁盤目状凹凸面200には無数の截頭角錐があって、これらの角錐の平坦頂部が全体として平坦表面を画成している。この凹凸面200には、空気を給排する一つかそれ以上の吸引穴202が形成されている。この表面全体が覆われ、吸引穴202を介して空気を吸引すると、真空が醸し出され、それが角錐の形成する溝にわたって作用し、かくて被覆体が真空作用によりテーブル上に保持されるようになる。実地では、大抵のPC回路板は全表面よりも小さいから、その回路板を截頭角錐上の直接載置することはできない。従って、回路板の縁部から真空漏れが発生する。また、大部分のPC回路板には露光に先立って穴が穿孔されているから、この穴を介しても真空漏れが起こる。本発明の好ましい実施の形態では、凹凸面200とPC回路板78との間に中間板204を介装している。中間板204は、特定の構成のPC回路板のための真空分配器として作用するようになっている。この中間板204には多数の穴205が形成されているが、これらの穴205はPC回路板により覆われる部分のみに形成されている。図15と図16を参照するに、テーブル200の端部の構造は凹凸面200のそれとは異なっていることが示されている。好ましくは、前述した位置測定システムを使用する場合、テーブルには、印刷回路板における穴150と中間板204に形成されている穴207とに合わせて穴206が形成されている。尚、穴206、207は穴150よりもほぼ大きくしてあるので、前述した回路板78の位置調整の邪魔になるようなことはない。また、PC回路板を大ざっぱに位置決めするためにテーブル79の上部に所望に応じてピン208が設けられている。これらのピンはPC回路板78における穴210と中間板204における穴212とに係入するようになっている。テーブルに穴があることから、截頭角錐はテーブルの端部には設けられていない。むしる、複数のチャンネルが截頭角錐の形成する溝と連通して、テーブルの端部での真空吸引による保持作用をなすようにしている。本発明の好ましい実施の形態では、書込みが終わった後でのPC回路板の取外しは、穴202と截頭角錐の形成する溝を介して回路板の底部に圧縮空気を送り込むことにより容易になされる。この圧縮空気が僅か高回路板を持ち上げるので、取り出しが容易になるのである。前述の真空吸引チャックには、回路板が全面的に平坦面へと押勢され、定置されると言ったもう一つの利点がある。従って、回路板全体が同一焦点面に臨むことになる。ここまで説明した本発明の種々の実施の形態は、本の一例に過ぎず、本発明を限定するものではない。特に、説明した好ましい実施の形態には、システムの最適動作のために利用しているものと説明したが、本発明に絶対に必要でもない特徴や詳細構成が含まれている。また、説明した構成の代わりに、他の構成が採れることも当業者には容易に分かることである。更に、ここまで使ってきた印刷回路板なる用語は、類似ではあるが、大きいその他の構造体、同じような技法で書込みが行われる例えばフラットパネル表示板をも含むものとすべきである。最後に、説明した装置や方法には、密接な関係があれば、実用的な走査システムにも別途適用できるようなアイデアが含まれている。従って、この詳細な説明に基づいて、斯かるアイデアが全て一緒に使われていなければならないとか、見出しは見出しごとに発明を限定しているものと解釈すべきではない。本明細書と請求の範囲において用いた構成されているや含まれるなる用語は、含むが、それに限られないと介すべきである。本発明の好ましい実施の形態による印刷回路板直接書込み型走査装置の概略斜視図。図2の走査装置の概略上面図。分かりやすくするために走査装置の構成部品を支持部材なしで、また、実物通りとはしないで示した図1と図2の走査装置の概略図。本発明の好ましい実施の形態による走査スキームを示す図。本発明の好ましい実施の形態による別の走査スキームを示す図。本発明の好ましい実施の形態によるまた別の走査スキームを示す図。本発明の好ましい実施の形態による更に別の走査スキームを示す図。本発明の好ましい実施の形態による、直接レーザ走査装置のスループットを最適化する方法を示す種々の重なり値に対する走査重なりをポリゴン速度と関連付ける定型的な曲線図。本発明の好ましい実施の形態による走査装置のアラインメント補償を示す図。本発明の好ましい実施の形態による走査装置のアラインメント補償を示す図。本発明の好ましい実施の形態による走査装置のアラインメント補償を示す図。本発明の好ましい実施の形態による音響光学変調器までの主ビーム光学系の機能図。本発明の好ましい実施の形態による音響光学変調器までの主ビーム光学系の機能図。本発明の好ましい実施の形態による音響光学変調器と印刷回路板との間の主ビーム光学系の機能図。本発明の好ましい実施の形態による音響光学変調器と印刷回路板との間の主ビーム光学系の機能図。本発明の好ましい実施の形態による走査装置のデータ制御システムの簡略ブロック図。本発明の好ましい実施の形態による図9のシステムの一部を示す全体ブロック図。本発明の好ましい実施の形態による、図10Aのハードウェア論理を実現した図。本発明の好ましい実施の形態により走査制御信号に基づいてデータラインが音響光学変調器の送られる図10Bの回路の一部の動作を示す図。本発明の好ましい実施の形態によるデータクロックを生成するのに有用な装置のブロック図。図12に示した装置の理解に有用なクロックパルスを示す図。本発明の好ましい実施の形態による走査装置における印刷回路板の位置を正確に判定する方法を示す概略図。本発明の好ましい実施の形態による、印刷回路板を保持する真空吸引チャックと印刷回路板を保持する特殊アダプタの汎用部からなる走査システムを示す図。図15の真空吸引チャックの常設部の詳細を示す図。あるクロス走査方向エラーを判定するのに利用する走査装置の部分の側面図。あるクロス走査方向エラーを判定するのに利用する走査装置の部分の上面図。従来の音響光学変調器を示す図。本発明の好ましい実施の形態に従って構築した音響光学変調器を示す図。10...走査装置12...レーザ源16...主ビーム18...試験ビーム28...変調器72...走査光学系78...印刷回路板80...スケール84...検出器88...第1四象限検出器90...第2四象限検出器96...レール98...スケール150...穴152...光ガイド