"下記一般式2で示されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルをリン配位子,Pd触媒存在下,脱炭酸を伴うアリル化反応を行うことにより下記一般式1で示される第四級α-トリフルオロメチルケトン誘導体を製造する方法。式中,R1,R2及びR3は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アラルキル基,アルキニル基,アリール基,又はアリールオキシ基を示す。なおR1およびR2,R1およびR3又はR2およびR3が一体となって,ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。請求項2に記載の発明は,前記一般式1で表される第四級α-トリフルオロメチルケトン誘導体の合成法であって,下記一般式2で表されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルをアキラルもしくはキラルなリン配位子,Pd触媒存在下,脱炭酸を伴うアリル化反応を行う工程を備えることを特徴とする製造方法にある。式中,R1,R2及びR3は式1記載の通りである。本発明は上記点に鑑みて,簡便,かつ高収率に第四級α-トリフルオロメチルケトン誘導体を合成できる製造方法を開発することを目的とする。上記目的を達成するため,本発明の第四級α-トリフルオロメチルケトン誘導体の製造方法は請求項1に示すとおり下記一般式2で示されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルをリン配位子,Pd触媒存在下,脱炭酸を伴うアリル化反応を行うことにより下記一般式1で示される第四級α-トリフルオロメチルケトン誘導体を合成する製造方法である。式中,R1,R2及びR3は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アラルキル基,アルキニル基,アリール基,又はアリールオキシ基を示す。なおR1およびR2,R1およびR3又はR2およびR3が一体となって,ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。請求項2に記載の発明は,前記一般式1で表される第四級α-トリフルオロメチルケトン誘導体の合成法であって,下記一般式2で表されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルをアキラルもしくはキラルなリン配位子,Pd触媒存在下,脱炭酸を伴うアリル化反応を行う工程を備えることを特徴とする製造方法にある。式中,R1,R2及びR3は式1記載の通りである。本明細書において,R1,R2及びR3が示すアルキル基としては,例えば,炭素数1乃至20程度のアルキル基を用いることができる。具体的には,メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,ヘプチル基,オクチル基,ノニル基,デシル基,ウンデシル基,ドデシル基,トリデシル基,テトラデシル基,ペンタデシル基,ヘキサデシル基,ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基,イコシル基,又はこれらの環状アルキル基,分鎖アルキル基などを用いることができる。アルキル基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。R1,R2及びR3が示すアルケニル基又はアルキニル基に含まれる不飽和結合の数は特に限定されないが,好ましくは1乃至2個程度である。該アルケニル基又はアルキニル基は,直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよい。R1,R2及びR3が示すアラルキル基は,例としてベンジル基,ペンタフルオロベンジル基,o-メチルベンジル基,m-メチルベンジル基,p-メチルベンジル基,p-ニトロベンジル基,ナフチルメチル基,フルフリル基,α-フェネチル基等が挙げられる。R1,R2及びR3が示すアリール基としては,ヘテロアリール基も含有し,具体例としては,例えば炭素数2~30のアリール基,具体的にはフェニル基,ナフチル基,アンスラニル基,ピレニル基,ビフェニル基,インデニル基,テトラヒドロナフチル基,ピリジル基,ピリミジニル基,ピラジニル基,ピリダニジル基,ピペラジニル基,ピラゾリル基,イミダゾリル基,キニリル基,ピロリル基,インドリル基,フリル基などが挙げることができる。R1,R2及びR3が示すアリールオキシ基としては,ヘテロアリールオキシ基も含有し,具体例としては,例えば炭素数2~30のアリール基,具体的にはフェニルオキシ基,ナフチルオキシ基,アンスラニルオキシ基,ピレニルオキシ基,ビフェニルオキシ基,インデニルオキシ基,テトラヒドロナフチルオキシ基,ピリジルオキシ基,ピリミジニルオキシ基,ピラジニルオキシ基,ピリダニジルオキシ基,ピペラジニルオキシ基,ピラゾリルオキシ基,イミダゾリルオキシ基,キニリルオキシ基,ピロリルオキシ基,インドリルオキシ基,フリルオキシ基などが挙げることができる。R1およびR2,R1およびR3,又はR2およびR3を組み合わせて形成されうる前記環状構造の例としては,3員環から20員環でなる単環,双環,またはそれ以上の多環の構造を示すことができる。これらの環状構造はヘテロ原子を有してもよい。アルキル基又はアルキル部分を含む置換基例えば,アルコキシ基,アルキルチオ基,アルコキシカルボニル基などのアルキル部分,アリール基又はアリール部分を含む置換基のアリール部分は,フッ素原子,塩素原子,臭素原子,及びヨウ素原子からなる群から選ばれる1又は2個以上のハロゲン原子有していてもよく,2個以上のハロゲン原子が置換している場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。アルキル基又はアルキル部分を含む置換基例えば,アルコキシ基,アルキルチオ基,アルコキシカルボニル基などのアルキル部分,アリール基又はアリール部分を含む置換基のアリール部分は,アルキル基又はアルキル部分を含む置換基例えば,アルコキシ基,アルキルチオ基,アルコキシカルボニル基などからなる群から選ばれる1又は2個以上の置換基を有していてもよく2個以上の置換基が置換している場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。R1,R2及びR3はそれぞれ独立に上記に定義されたいずれかの置換基を示すが,全部が同一の置換基であってもよい。本発明の化合物の光学異性体又はジアステレオ異性体などの立体異性体はいずれも本発明の範囲に包含される。また,立体異性体の任意の混合物,ラセミ体なども本発明の範囲に包含される。本発明の第四級α‐トリフルオロメチルケトン誘導体及びその製造法は特に限定されないが,前記式2で表されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルに対して,アキラルもしくはキラルなリン配位子,Pd触媒存在下,溶媒中で脱炭酸を伴うアリル化反応させることによって前記式1の第四級α‐トリフルオロメチルケトン誘導体を製造することができる。前記式2で表されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルは特に限定されないが,非特許文献4,5などによって合成されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルなどを用いることができる。NoritakeSShibataNNakamuraSToruTShiro,MEurJOrgChem20083465MatsnevANoritakeSNomuraYTokunagaENakamuraSShibataNAngewChemIntEd201049572溶媒の種類は特に限定されないが,ジエチルエーテル,ジイソプロピルエーテル,n-ブチルメチルエーテル,tert-ブチルメチルエーテル,シクロペンチルメチルエーテル,テトラヒドロフラン,ジオキサン等のエーテル系溶媒;ヘプタン,ヘキサン,シクロペンタン,シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒;クロロホルム,四塩化炭素,塩化メチレン,ジクロロエタン,トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ベンゼン,トルエン,キシレン,クメン,シメン,メシチレン,ジイソプロピルベンゼン,ピリジンピリミジンピラジンピリダジン等の芳香族系溶媒;酢酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン,メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;アセトニトリル,ジメチルスルホキシド,ジメチルホルムアミド等の溶媒;メタノールエタノールプロパノール,iプロピルアルコール,アミノエタノール,NNジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒;水,超臨界二酸化炭素,イオン性液体が挙げられるが,テトラヒドロフランが最も好ましい。これらは単独で使用し得るのみならず,2種類以上を混合して用いることも可能である。パラジウム触媒としては,特に限定されないが,トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体,ビスジベンジリデンアセトンパラジウム錯体,酢酸パラジウム,アリルパラジウムクロリドダイマー等を用いることができ,好ましくはトリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体である。アキラルなリン配位子としては,特に限定されないが,トリフェニルホスフィン,1,2‐ビスジフェニルホスフィノエタン,1,2‐ビスジフェニルホスフィノプロパン等を用いることができ,好ましくは1,2‐ビスジフェニルホスフィノエタンである。キラルなリン配位子としては,特に限定されないが,2,2’‐ビスジフェニルホスフィノ‐1,1’‐ビナフチル,2,2’‐ビスジ‐パラ‐トリル‐ホスフィノ-1,1’-ビナフチル,5,5’-ビスジフェニルホスフィノ‐4,4’‐ビ‐1,3‐ベンゾジオキソール,6,6’‐ジメトキシビフェニル‐2,2’‐ジイルビスジフェニルホスフィン等を用いることができ,好ましくは2,2’‐ビスジフェニルホスフィノ‐1,1’‐ビナフチルである。前記式1の製造は加圧下に行うこともできるが,通常は常圧で行う。反応温度は0°Cから溶媒の沸点までの間で行うことができるが,好ましくは0°C乃至室温付近である。反応後、前記式1で示される第四級α‐トリフルオロメチルケトン誘導体は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ,例えば反応液を濃縮した後,蒸留精製またはシリカゲル,アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製,塩析,再結晶等が挙げられる。以下,実施形態により本発明をさらに具体的に説明するが,本発明の範囲は下記の実施形態に限定されることはない。第1実施形態前記式1の一般的な製造方法トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2aを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1aを無色液体として得た。Compound1a2-アリル-2--1-インダノン1HNMRδ26128432034250451754155573974976577913CNMRδ327361562120712461259126312811304135713591519200019FNMRδ-725第2実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2bを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1bを無色液体として得た。Compound1b2-アリル-6-メチル-2--1-インダノン1HNMRδ24125828331533650351654055473674675813CNMRδ210323361565120912321260126013051359137213811493200019FNMRδ-725第3実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2cを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1cを無色液体として得た。Compound1c2-アリル-5-クロロ-2--1-インダノン1HNMRδ25928531833950651753855274074877213CNMRδ324360565121012571257126712901301134214261532198619FNMRδ-726第4実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2dを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1dを無色液体として得た。Compound1d2-アリル-5-クロロ-2--1-インダノン1HNMRδ25928531833950651753855274074877213CNMRδ324360565121012571257126712901301134214261532198619FNMRδ-726第5実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2eを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1eを無色液体として得た。Compound1e2-アリル-5-ブロモ-2--1-インダノン1HNMRδ25928431933950651753855275676576613CNMRδ323360564121112571257129713011315131813461533198819FNMRδ-726第6実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2fを加え,60°C,2時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1fを白色固体として得た。Compound1f2-アリル-5,6-ジメトキシ-2--1-インダノン1HNMRδ25728530933139239850451754155568771813CNMRδ324360561563565104610701204126112861306147414991564198319FNMRδ-727第7実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2gを加え,60°Cで3時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1gを無色液体として得た。Compound1g2-2-メチルアリル-2--1-インダノン1HNMRδ14526229733647548274174876478013CNMRδ235322390562117112461261126312801358135813951524200519FNMRδ-733第8実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2hを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1hを無色液体として得た。Compound1h2-アリル-2--3,4-テトラヒドロナフタレン-12H-オン1HNMRδ22724225827629631551451856958272573475280713CNMRδ246263354534119912641270128412871314131713411429192819FNMRδ-697第9実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2iを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1iを無色液体として得た。Compound1i2-アリル-6-メトキシ-2--3,4-テトラヒドロナフタレン-12H-オン1HNMRδ22923825627729131138751351756858266868580513CNMRδ250264356531555112411381198125112651309131914551641191319FNMRδ-697第10実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2jを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1jを無色液体として得た。Compound1j6-アリル-6--6,7,8,9-テトラヒドロベンゾ7アヌレン-5-オン1HNMRδ19320525827127228229030051051556758071372673073774413CNMRδ216270314379577119912631269127912851313131713701403205219FNMRδ-681第11実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2kを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1kを無色液体として得た。Compound1k2-メチル-1-フェニル-2--ペンタ-4-エン-1-オン1HNMRδ15025230751051555856774076113CNMRδ182383567120312441274127412821311131413691389200519FNMRδ-711第12実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2lを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1lを無色液体として得た。Compound1l2-エチル-1-フェニル-2--ペンタ-4-エン-1-オン1HNMRδ09521127128750751356657773974474875375913CNMRδ872513636091194126612721282131413191383200219FNMRδ-663第13実施形態トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム錯体1,2-ビスジフェニルホスフィノエタンのテトラヒドロフラン溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2mを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1mを無色液体として得た。Compound1m2-アリル-2-シクロペンタノン1HNMRδ18119319720621021822425651451955857219FNMRδ-716第14実施形態キラルな前記式1の一般的な製造方法アリルパラジウムクロリドダイマー錯体2,2’‐ビスジフェニルホスフィノ‐1,1’‐ビナフチルのシクロペンチルメチルエーテル溶液に非特許文献4もしくは5によって合成したα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステル2aを加え,室温下1時間撹拌した。反応溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のαトリフルオロメチルケトン1aを無色液体として得た。Compound1a2-アリル-2--1-インダノン1HNMR,13CNMR,19FNMRは上記1aと同様。HPLCusingthreeOJHcolumns"