弁ハウジング2内に軸方向に移動可能に配置された磁気アーマチャ3と、該磁気アーマチャ3と作用結合された少なくとも1つの弁要素25、26とを有する電磁弁1であって、前記弁要素25、26は、前記磁気アーマチャ3によって、前記電磁弁1の少なくとも1つの弁座11、13を開放または閉鎖するように移動可能であり、前記弁ハウジング2と、前記磁気アーマチャ3および前記弁要素25、26のうちの少なくとも一方と、の間に、少なくとも1つの流動通路24が形成されており、前記流動通路24内に設けられた流動絞り要素27であって、特に前記磁気アーマチャ3から形成された第1の当接端部28と、特に前記弁要素25、26から形成された第2の当接端部29との間に配置される流動絞り要素27を備えた電磁弁1。請求項1に記載の電磁弁であって、前記弁要素25、26は、弁座11、13に付属された少なくとも1つの閉鎖要素12、14を有し、特に、前記弁要素25、26の中間部材17が、前記磁気アーマチャ3と前記閉鎖要素12、14との間の作用結合を形成する電磁弁。請求項1または2に記載の電磁弁であって、前記弁要素25、26は、複数の閉鎖要素12、14を有し、前記閉鎖要素12、14の各々は、それぞれ1つの弁座11、13を開放または閉鎖するように設けられている電磁弁。請求項1ないし3のいずれか一項に記載の電磁弁であって、前記閉鎖要素12、14の一方は、前記電磁弁1の前段9に付属され、前記閉鎖要素12、14の他方は、前記電磁弁1の主段10に付属されている電磁弁。請求項1ないし4のいずれか一項に記載の電磁弁であって、前記中間部材17は、前記磁気アーマチャ3の少なくとも一部の領域を包囲する構成と、前記磁気アーマチャ3に固定されている構成と、のうちの少なくとも一方の構成を有する電磁弁。請求項1ないし5のいずれか一項に記載の電磁弁であって、前記流動絞り要素27は、リングディスクとして形成されている電磁弁。請求項1ないし6のいずれか一項に記載の電磁弁であって、前記第1の当接端部28が、前記磁気アーマチャ3のリング段30から形成されている構成と、前記第2の当接端部29が、中間部材17の端面32に存在する構成と、のうちの少なくとも一方の構成を有する電磁弁。請求項1ないし7のいずれか一項に記載の電磁弁であって、前記流動絞り要素27は、該流動絞り要素27の外壁と前記弁ハウジング2との間、および、前記流動絞り要素27の内壁と前記磁気アーマチャ3との間、の少なくとも一方に流動通路33を有する電磁弁。請求項1ないし8のいずれか一項に記載の電磁弁であって、前記外壁と弁ハウジング2との間の間隔、前記内壁と磁気アーマチャ3との間の間隔、および、前記流動絞り要素27の軸方向長さ、のうちの少なくとも1つは、前記流動絞り要素27の所望される絞り作用に応じて選択される電磁弁。請求項1ないし9のいずれか一項に記載の電磁弁であって、前記第1および第2の当接端部28、29間の間隔が、前記電磁弁1のリフト、特に前記主段10のリフトより小さいか、または、それに等しいこと、および、前記第1および第2の当接端部28、29間の間隔が、前記前段9のリフトより大きいか、または、それに等しいこと、とのうちの少なくとも一方を満たす電磁弁。これに対して、請求項1に記載の特徴を有する電磁弁は、電磁弁の切替時、または、磁気アーマチャおよび/または弁要素の移動時における騒音発生が低減されるという利点を有している。同時に、電磁弁の切替時間は、全く影響されるべきではなく、あるいは、少なくともほとんど影響されるべきではない。これは、本発明により、流動通路内に設けられた流動絞り要素であって、特に磁気アーマチャから形成された第1の当接端部と、特に弁要素から形成された第2の当接端部との間に配置されている、流動絞り要素により達成される。流動絞り要素は、流動通路内において流体ダンピングを生じさせる。このようにして、流体の速度が低減されるので、流体内における圧力波の発生または伝達が阻止されるか、あるいは、圧力波が減衰される。流動絞り要素は、第1および第2の当接端部間において自由に移動可能に、即ち、第1および第2の当接端部間において軸方向に移動可能に配置されていることが好ましい。しかしながら、流動絞り要素の移動は、両方の当接端部によって制限される。この場合、第1の当接端部は、磁気アーマチャから形成されていることが好ましく、また、第2の当接端部は、弁要素から形成されていることが好ましい。流動絞り要素は、流動通路内の隙間流動、即ち、弁ハウジングと磁気アーマチャおよび/または弁要素との間の隙間流動における絞り作用により、顕著なダンピングを生じさせる。したがって、磁気アーマチャまたは弁要素の移動により流体内に発生された圧力波は、もはや減衰されずに伝達されることはない。特に、第1および第2の当接端部間の間隔を介して、流動絞り要素により生じさせられるダンピングの大きさを設定可能である。流動絞り要素が両方の当接端部間において位置固定に保持されている場合、磁気アーマチャまたは弁要素の移動において、流動絞り要素の絞り作用は、遅れなく発生する。これに対して、流動絞り要素が第1の当接端部のみならず第2の当接端部にも常には当接せず、これらの間で可動なように、第1および第2の当接端部が相互に間隔を有している場合、流動絞り要素が第1または第2の当接端部と接触するまで磁気アーマチャまたは弁要素が移動したときにはじめて、流動絞り要素は、その絞り作用を実行し始める。流動絞り要素が軸方向に移動する可能性は、流動絞り要素が第1および第2の当接端部と同時には接触せず、両方の当接端部の1つのみと接触したときにだけ存在する。このような実施形態においては、流動絞り要素は、当接端部間において位置固定に保持されずに、むしろ、これらの間で移動可能に保持されている。流動絞り要素は、簡単な形状に、例えば、リングディスクとして形成されていることが好ましい。流動絞り要素は、既存の量産品の構造を変化させることなく、電磁弁内に組込み可能である。したがって、電磁弁内の騒音発生を低減させるために追加する流動絞り要素は、極めてコスト的に有利、かつ、有効な解決手段である。電磁弁の組立において、追加の作業工程、即ち、電磁弁内への流動絞り要素の組込みのみが必要であるに過ぎない。本発明の一変形態様は、弁要素が、弁座に付属された少なくとも1つの閉鎖要素を有し、特に、弁要素の中間部材が、磁気アーマチャと閉鎖要素との間の作用結合を形成するように構成されている。閉鎖要素は、弁要素の構成部品である。閉鎖要素は、弁座と協働して、弁座を開放または閉鎖する。前者の場合、閉鎖要素は、好ましくは、電磁弁の軸方向に弁座から離れて間隔をなし、後者の場合、閉鎖要素は、気密をなして弁座内に当接する。電磁弁の各弁座に対して、弁要素にそれぞれ付属された閉鎖要素が設けられていることが好ましい。弁要素は、さらに、中間部材を有していてもよく、中間部材を介して、磁気アーマチャと閉鎖要素との間の作用結合が形成されている。これは、磁気アーマチャが移動したとき、この移動が少なくとも部分的に閉鎖要素に伝達されることを意味する。しかしながら、閉鎖要素は、中間部材が必要ないように、磁気アーマチャに固定されていてもよい。複数の閉鎖要素が設けられている場合、例えば、閉鎖要素の1つが磁気アーマチャに固定され、閉鎖要素の他の1つが磁気アーマチャと作用結合されていてもよい。本発明の一変形態様は、弁要素が複数の閉鎖要素を有するように構成され、各閉鎖要素は、それぞれ1つの弁座を開放または閉鎖するように設けられている。この場合、はじめに、弁座が流動方向に相互に相前後して配置されているか、または、相互に並列に配置されているかは問題ではない。この場合、電磁弁は、多段式の電磁弁として形成されている。本発明の一変形態様は、閉鎖要素の一方が電磁弁の前段に付属され、閉鎖要素の他方が電磁弁の主段に付属されているように構成されている。したがって、電磁弁は、多段式、特に二段式である。上記のように、電磁弁の入口および出口間の差圧が高いとき、はじめに前段の閉鎖要素が移動されて、対応する弁座が開放される。このようにして、電磁弁の入口および出口間が連通し、これにより、差圧は低下する。差圧が十分に低下した場合、最後に主段の閉鎖要素が移動され、これにより、主段もまた、対応する弁座を開放する。本発明の一変形態様は、中間部材が、磁気アーマチャの少なくとも一部の領域を包囲するか、および/または、磁気アーマチャに固定されているように構成されている。即ち、中間部材は、例えば、保持アームを有し、保持アームは、磁気アーマチャに係合しているか、または、磁気アーマチャを包囲するように、少なくともその一部の領域がスリーブ状に形成されている。中間部材は、磁気アーマチャと固定結合されていることが好ましく、これにより、磁気アーマチャの移動は、直接中間部材に作用し、それに対応して中間部材が移動される。本発明の一変形態様は、流動絞り要素がリングディスクとして形成されているように構成されている。この場合、リングディスクは、電磁弁の軸方向に見て、円形断面および中心開口を有し、中心開口は、同様に円形断面を有している。リングディスクは、磁気アーマチャの少なくとも一部の領域が中心開口を貫通するように配置されていることが好ましい。即ち、この場合、リングディスクは、磁気アーマチャに支持されているので、軸方向に案内部が存在する。リングディスクは、少なくとも1つの軸方向内孔を有していてもよく、軸方向内孔の大きさを介して、リングディスクの絞り作用が設定可能である。軸方向内孔の代わりに、または、これに追加して、リングディスクの外側輪郭または内側輪郭に、例えば、ノッチとして形成される、縁が開いた、少なくとも1つの軸方向切欠部が存在していてもよい。本発明の一変形態様は、第1の当接端部が磁気アーマチャのリング段から形成されているか、および/または、第2の当接端部が中間部材の端面に存在するように構成されている。この場合、リング段は、磁気アーマチャの断面寸法の変化により形成されている。リング段が磁気アーマチャの直径変化の形で存在するように、磁気アーマチャは、電磁弁の軸方向に見て、断面が円形であることが好ましい。流動絞り要素がリングディスクとして形成されている場合、磁気アーマチャの小さい方の直径の領域がリングディスクの中心開口を貫通係合可能であり、同時に、磁気アーマチャは、第1の当接端部を、直径変化の領域内またはリング段の領域内において提供可能である。追加態様または代替態様として、第2の当接端部は、中間部材の端面に存在している。本発明の一変形態様は、流動絞り要素が、その外壁と弁ハウジングとの間、および/または、その内壁と磁気アーマチャとの間に流動通路を有するように構成されている。即ち、流動絞り要素は、磁気アーマチャまたは弁要素が移動したときに、流体がそれを介して流動可能な流動通路が存在するように、弁ハウジングおよび/または磁気アーマチャから間隔をなしている。このかぎりにおいて、流動絞り要素は、流体の流動を絞る働きのみをなし、この場合、流体の流動速度は低下されるが、流動絞り要素は、流動通路を塞ぐことはない。本発明の一変形態様は、外壁と弁ハウジングとの間の間隔、内壁と磁気アーマチャとの間の間隔、および/または、流動絞り要素の軸方向長さが、流動絞り要素の所望の絞り作用に対応して選択されるように構成されている。流動絞り要素の絞り作用は、磁気アーマチャの流動絞り要素に対する直径比、および、流動絞り要素の弁ハウジングに対する直径比に依存する。同様に、流動絞り要素の軸方向長さが重要である。流動絞り要素の対応する構成により、絞り作用は、流動絞り要素を弁ハウジング内において案内することによりもたらされてもよく、この場合、流動通路は、内壁と磁気アーマチャとの間に存在する。あるいは、磁気アーマチャにおいて案内することによりもたらされてもよく、この場合、流動通路は、外壁と弁ハウジングとの間に存在する。流動絞り要素の絞り作用を決定するために、流動絞り要素の間隔の少なくとも1つ、および/または、軸方向長さがそれに対応して選択される。本発明の一変形態様は、第1および第2の当接端部間の間隔が、電磁弁のリフト、特に主段のリフトより小さいか、または、それに等しく、および/または、第1および第2の当接端部間の間隔が、前段のリフトより大きいか、または、それに等しいように構成されている。流動絞り要素が第1の当接端部と第2の当接端部との間で軸方向に移動可能な距離は、前段のリフトより大きいが、主段のリフトよりは小さくなるように決定されている。リフトとは、それぞれ、前段の閉鎖要素または主段の閉鎖要素が移動可能な距離と理解される。これにより、前段またはその閉鎖要素が対応する開放位置に既に存在するときにはじめて、流動絞り要素が流体的に有効となることが達成される。したがって、電磁弁の前段は、流動絞り要素により影響されないので、電磁弁の応答時間切換時間tanないしはtabは、不利な影響を受けない。流動絞り要素の絞り作用は、むしろ、前段が開放され、且つ、主段またはその閉鎖要素が開放位置に移動されるべきときにはじめて発生する。これは、当接端部間の間隔が、はじめは電磁弁の前段のリフトより大きいか、または、それに等しく、同時に、電磁弁の主段のリフトより小さいか、または、それに等しいことにより達成される。以下に、本発明が、図面に示されている実施例によって、より詳細に説明されるが、本発明は、これに制限されない。図1は、電磁弁1の断面図を示す。電磁弁1は、弁ハウジング2を備え、弁ハウジング2内に磁気アーマチャ3が軸方向に移動可能に配置されている。図1には、電磁弁1が外部装置の取付部4内に弁ハウジング2によってどのように配置され、または、固定されているかが示されている。電磁弁1は、複数の入口5を備えているが、この場合、代替態様として、ただ1つの入口5のみが設けられていてもよく、ここでは、入口5の2つのみが図示されている。入口5を介しての電磁弁1への流入は、半径方向に行われる。これに対して、出口6を介しての電磁弁1からの流出は、軸方向に行われる。ここで、軸方向とは、電磁弁1の縦軸と理解され、縦軸は、ここでは線7により示されている。流動方向において入口5の手前にフィルタ要素8が設けられ、フィルタ要素8は、同様に、電磁弁1に付属されている。電磁弁1は、二段式電磁弁として形成されている。したがって、電磁弁1は、前段9および主段10を備えている。前段9に弁座11および閉鎖要素12が付属され、これに対して、主段10に弁座13および閉鎖要素14が付属されている。この場合、閉鎖要素14は、弁体15の一部であり、弁体15には、前段9の弁座11もまた設けられている。弁体15は、軸方向に流体通路16によって貫通され、閉鎖要素12が弁座11を開放したとき、流体通路16を介して、入口5と出口6との間が連通する。しかしながら、流体通路16は、少なくともその一部の領域において小さい直径のみを有するので、流体通路16は、単位時間当たり少量の流体を流動可能にするに過ぎない。したがって、電磁弁1を全開させるためには、さらに、閉鎖要素14もまた、弁座13を開放することが必要である。通常、入口5と出口6との間の差圧が高い場合、前段9のみが開放されるだけでよい。この開放により、差圧の低下が達成される。差圧が十分な程度に低下した場合、閉鎖要素14が弁座13から持ち上げられることにより、主段10もまた、開放可能である。閉鎖要素12の移動のみならず閉鎖要素14の移動もまた、磁気アーマチャ3の移動によって行われる。その目的のために、閉鎖要素12は、直接磁気アーマチャ3に固定されているので、ここに直接作用結合が存在する。磁気アーマチャ3と閉鎖要素14との間の作用結合は、中間部材17を介して形成される。この場合、中間部材17は、少なくともその一部の領域においてスリーブ状に形成され、磁気アーマチャ3の下部領域18の少なくとも一部を包囲している。この包囲により、中間部材17は、磁気アーマチャ3と固定結合されている。例えば、中間部材17は、下部領域18上に圧着締めされる。図1に示された電磁弁1の閉鎖位置において、磁気アーマチャ3は、弁座11および13を閉鎖するように配置されている。これは、閉鎖要素12が弁座11内に、また、閉鎖要素14が弁座13内に、気密をなして当接しているので、入口5と出口6との間に連通が存在しないことを意味する。磁気アーマチャ3を閉鎖位置に保持するために、ばね19が設けられ、ばね19は、磁気アーマチャ3をこの位置に押圧する。この場合、閉鎖位置は、電磁弁1の初期位置であるので、このことは、無通電時において閉鎖された電磁弁を示している。電磁弁1を開放するために、磁気アーマチャ3は、開放位置に、または、開放位置の方向に移動される。この場合、はじめに閉鎖要素12が弁座11から離れるように移動され、これにより、流体通路16を介して連通する。磁気アーマチャ3および閉鎖要素14の間の作用結合を、それを介して形成可能な中間部材17の案内装置20は、閉鎖要素14の対向面21から軸方向に十分に大きい間隔を有しているので、閉鎖要素14は、はじめは弁座13内に留まったままである。これにより、案内装置20は、前段9が全開される、磁気アーマチャ3の位置においてはじめて、対向面21と接触する。前段9が開放され、且つ、磁気アーマチャ3が開放位置の方向にさらに移動されたときにはじめて、閉鎖要素14が弁座13から離れるように移動されることにより、主段10もまた開放可能である。磁気アーマチャ3の上方に流体室22が存在し、磁気アーマチャ3の下方に流体室23が存在する。磁気アーマチャ3が移動したとき、圧力均衡を達成させるために、流体室22から流体室23内に、または、その反対に、流体が到達可能でなければならない。このために、弁ハウジング2と、磁気アーマチャ3または弁要素25との間に、流動通路24が設けられている。この場合、弁要素25は、閉鎖要素14および中間部材17を有している。これに対して、閉鎖要素12は、他の弁要素26に付属されている。特に、電磁弁1の圧力がない状態において、主段10が開放および閉鎖したときに圧力波が発生可能であり、この圧力波は、不快な騒音を導く。この騒音は、流体が、流体室22および23の間を流動するために、小さい断面積を有する流動通路24内を流動したときに発生する。したがって、流体は著しく加速される。ここで、流体が流体ストッパに衝突した場合、この位置において高い圧力が発生し、不快な騒音が発生する。これを阻止するために、電磁弁1に流動絞り要素27が付属され、ここに示された実施形態においては、流動絞り要素27は、リングディスクとして存在する。流動絞り要素27は、流動通路24内に配置され、第1の当接端部28と第2の当接端部29との間で軸方向に移動可能である。ここに示された実施形態においては、第1の当接端部28は、磁気アーマチャ3から形成され、第2の当接端部29は、中間部材17または弁要素25から形成される。流動絞り要素27が磁気アーマチャ3の下部領域18を周方向に完全に包囲することにより、流動絞り要素27の案内が得られる。第1の当接端部28は、磁気アーマチャ3のリング段30の形で存在する。ここでは、リング段30は、下部領域18と上部領域31との間の、磁気アーマチャ3の直径変化から形成される。したがって、上部領域31は、下部領域18よりも大きい直径を有している。これに対して、第2の当接端部29は、中間部材17または弁要素25の端面32に存在する。この場合、流動絞り要素27は、その外壁と弁ハウジング2との間に流動通路33が存在するように構成されている。この流動通路33内を流体が流動可能であり、同時に、流動絞り要素27の絞り作用が発生する。流動絞り要素27が電磁弁1の切換時間に負の影響を与えるように、第1の当接端部28と第2の当接端部29との間の間隔は、前段9のリフトより大きいか、または、それに等しいように選択される。このような実施形態において、流動絞り要素27は、通常、前段9が既に全開したときにはじめて、第1の当接端部28または第2の当接端部29と接触する。したがって、流動絞り要素27の絞り作用は、主段10に対してのみ存在する。即ち、流動絞り要素27が軸方向に移動可能なことにより、流動絞り要素27は、磁気アーマチャ3の移動の開始時においては、電磁弁1の開放において前段9が全開するまで、または、電磁弁1の閉鎖において主段10が全閉するまで、流体室22および23の間の流体流動に対してはいかなる作用も有しておらず、むしろ、磁気アーマチャ3が妨害されずに上昇運動または下降運動することを可能にする。したがって、電磁弁1の応答時間は変化しない。しかしながら、磁気アーマチャ3の移動がさらに進行したとき、流動絞り要素27は、第1の当接端部28または第2の当接端部29に当接し、その結果、流体絞りまたは流体ダンピングを生じさせる。流動絞り要素27が当接端部28および29の1つと接触する時点は、中間部材17を磁気アーマチャ3上に所定の間隔値で適切に配置または押圧することにより得られる。代替態様として、当接端部28および29は、それぞれ独立の要素により、例えば、磁気アーマチャ3上に装着された保持リングにより形成されてもよいことは明らかである。しかしながら、磁気アーマチャ3または中間部材17による当接端部28および29の形成が好ましく、その理由は、このようにして流動絞り要素27は別として、追加の部品なしに、電磁弁1の簡単かつコスト的に有利な製造が可能であるからである。電磁弁1の製造または組立において、当接端部28および29の間の間隔は、中間部材17の軸方向長さをそれに対応して選択することにより達成される。この中間部材17の軸方向長さは、前段9のリフトを設定した後に、流動絞り要素27に必要な移動可能なことが保証されるように選択される。図2は、流動絞り要素27の領域内の電磁弁1の詳細断面図を示す。ここに示された実施形態は、図1により示された実施形態に対応している。したがって、上記の説明を参照されたい。