"第1成分として金属または金属塩で処理したポリカルバゾール誘導体、第2成分としてメタアクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、スチレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリカーボネートおよびそれらのコポリマーからなる群から選択される少なくとも1種、並びに第3成分として溶媒を少なくとも含有する組成物。前記第1成分である金属または金属塩で処理したポリカルバゾール誘導体が、ポリカルバゾール誘導体と金属を接触させることによって得られる、請求項1に記載の組成物。前記第1成分である金属または金属塩で処理したポリカルバゾール誘導体が、第3成分の溶媒にポリカルバゾール誘導体と金属塩を添加することによって得られる、請求項1に記載の組成物。前記金属がスズ、亜鉛、アルミニウム、ガリウム、およびインジウムからなる群から選択される少なくとも1種であり、前記ポリカルバゾール誘導体が下記一般式で表される少なくとも1種のN-アルキルカルバゾールを重合させて得られるポリN-アルキルカルバゾールである請求項1から3のいずれか1項に記載の組成物。式中、nは1以上の整数であり、アルキルの少なくとも1つの水素は、ヒドロキシ、カルボキシル、スルホ及びアミノから選択される少なくとも1種の基で置き換えられていてもよい。前記第2成分が重量平均分子量1,000以上50,000未満のポリメタクリル酸樹脂である請求項1から4のいずれか1項に記載の組成物。前記第3成分の溶媒がクロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼン、メタノール、γ-ブチロラクトン、N-メチルピロリドン、アセトン、アセトニトリル、およびTHFからなる群から選択される少なくとも1種を含む、請求項1から5のいずれか1項に記載の組成物。前記第1成分が組成物の全重量に対して1重量以上20重量以下、前記第2成分が組成物の全重量に対して1重量以上20重量以下、前記第3成分が組成物の全重量に対して60重量以上98重量以下である請求項1から6のいずれか1項に記載の組成物。前記組成物は、200倍希釈濃度で測定した波長380nm以上780nm以下の範囲の紫外可視吸収スペクトルにおける吸光度が0.5以下である請求項1から7のいずれか1項に記載の組成物。請求項1から8のいずれか1項に記載の組成物から溶媒を除去して得られた透明導電体。200倍希釈濃度で測定した波長380nm以上780nm以下の範囲内の紫外可視吸収スペクトルにおける吸光度が0.1以下である請求項9に記載の透明導電体。表面抵抗が1.0×101Ω/□以上、1.0×1011Ω/□以下であり、全光線透過率が80以上であり、ヘイズ値が5以下であり、鉛筆硬度が4B以上である請求項9または10に記載の透明導電体。請求項9~11のいずれか1項に記載の透明導電体を積層させてなるデバイス素子。上記ポリカルバゾール誘導体では、塗布工程における問題や、着色の問題は一定の解決がされている。しかしながら本発明者らが検討したところ、得られた導電膜は実用化するに際し強度の面が不十分であるという新たな課題を発見した。本発明は、良好な導電性を有し、かつ膜強度のある透明導電体を容易に製造することができるカルバゾール誘導体含有組成物、及び該組成物からなり、良好な導電性を有し、かつ膜強度のある透明導電体を提供することを課題とする。上記課題について本発明者は検討を行ったところ、ポリカルバゾール誘導体を溶媒に溶解させ金属や金属塩を加えて得られた組成物に別種のポリマーを添加することで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。本発明は以下のとおりである。1第1成分として金属または金属塩で処理したポリカルバゾール誘導体、第2成分としてメタアクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、スチレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリカーボネートおよびそれらのコポリマーからなる群から選択される少なくとも1種、並びに第3成分として溶媒を少なくとも含有する組成物。2前記第1成分である金属または金属塩で処理したポリカルバゾール誘導体が、ポリカルバゾール誘導体と金属を接触させることによって得られる、1に記載の組成物。3前記第1成分である金属または金属塩で処理したポリカルバゾール誘導体が、第3成分の溶媒にポリカルバゾール誘導体と金属塩を添加することによって得られる、1に記載の組成物。4前記金属がスズ、亜鉛、アルミニウム、ガリウム、およびインジウムからなる群から選択される少なくとも1種であり、前記ポリカルバゾール誘導体が下記一般式で表される少なくとも1種のN-アルキルカルバゾールを重合させて得られるポリN-アルキルカルバゾールである1から3のいずれかに記載の組成物。式中、nは1以上の整数であり、アルキルの少なくとも1つの水素は、ヒドロキシ、カルボキシル、スルホ及びアミノから選択される少なくとも1種の基で置き換えられていてもよい。5前記第2成分が重量平均分子量1,000以上50,000未満のポリメタクリル酸樹脂である1から4のいずれかに記載の組成物。6前記第3成分の溶媒がクロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼン、メタノール、γ-ブチロラクトン、N-メチルピロリドン、アセトン、アセトニトリル、およびTHFからなる群から選択される少なくとも1種を含む、1から5のいずれかに記載の組成物。7前記第1成分が組成物の全重量に対して1重量以上20重量以下、第2成分が組成物の全重量に対して1重量以上20重量以下、第3成分が組成物の全重量に対して60重量以上98重量以下である1から6のいずれかに記載の組成物。8前記組成物は、200倍希釈濃度で測定した波長380nm以上780nm以下の紫外可視吸収スペクトルにおける吸光度が0.5以下である1から7のいずれかに記載の組成物。91から8のいずれかに記載の組成物から溶媒を除去して得られた透明導電体。10200倍希釈濃度で測定した波長380nm以上780nm以下の紫外可視吸収スペクトルにおける吸光度が0.1以下である9に記載の透明導電体。11表面抵抗が1.0×108Ω/□以上、1.0×1011Ω/□以下であり、全光線透過率が80以上であり、ヘイズ値が5以下であり、鉛筆硬度が4B以上である9または10に記載の透明導電体。129~11のいずれかに記載の透明導電体を用いたデバイス素子。本発明により、良好な透明性と導電性に加え膜強度を有する透明導電体を製造することができる、ポリカルバゾール誘導体含有組成物を提供することができる。以下、本発明の実施形態について説明する。本発明の組成物は、金属または金属塩で処理したポリカルバゾール誘導体、別種のポリマー及び溶媒を含有する。本発明の組成物を用いて、スピンコートなどの手法により形成された膜は、透明かつ良好な導電性を有することから、電子デバイス素子などに好適に用いることができる。本発明者らは特許文献6に示すように、ポリカルバゾール誘導体を用いた化学重合による透明な導電体を開発している。しかしながら、膜の強度や透明度など改善すべき点も存在した。本発明者は、組成物中に特定のポリマーまたはコポリマーを含有することで、透明導電体の改善に想到したものである。<ポリカルバゾール誘導体>本発明の組成物に含有されるポリカルバゾール誘導体は、カルバゾール誘導体を重合させて得られる重合体である。カルバゾール誘導体としては特段限定されないが、以下に示すN-アルキルカルバゾールであることが好ましい。上記式中、nは1以上の整数であり、アルキルCnH2n1は、1つ又は複数の水素がヒドロキシ、カルボキシル、スルホ及びアミノから選択される少なくとも1種の基で置き換えられていてもよい。カルバゾールのN位と結合している炭素は、1級炭素又は2級炭素であることが好ましい。商業的に入手容易という観点から、炭素数22以下上記式において、nが22以下を示す。のアルキルであることが好ましい。また、溶媒への溶解性の観点から、炭素数2以上上記式において、nが2以上を示す。のアルキルであることが好ましい。炭素数が7~22上記式において、nが7~22を示す。のアルキルであることが更に好ましい。本発明で用いられるポリカルバゾール誘導体は、1種類のカルバゾール誘導体を重合させて得られるホモポリマーであっても、2種類以上のカルバゾール誘導体を共重合させて得られるコポリマーであってもよい。また、ポリカルバゾール誘導体としては、1種類のポリカルバゾール誘導体のみであっても、誘導体部分が異なる2種類以上のポリカルバゾール誘導体を混合して用いてもよい。ポリカルバゾール誘導体は、着色しており、透明性が低いために、透明とするための手段が必要となるが、本発明では、ポリカルバゾール誘導体を溶媒に溶解させ、金属と接触させるか、あるいは金属塩を加えた組成物から成膜することで、透明導電体とすることができる。ポリカルバゾールを溶媒に溶かし金属との接触または金属塩を加えることで緑色着色を除去した後、そこに特定のポリマーまたはコポリマーを加えて溶媒に溶解させることで組成物を得、該組成物から成膜することによって、透明導電体とすることができる。よって、本発明の別の態様は、透明導電体を製造する方法であって、ポリカルバゾール誘導体を溶解した溶媒に、金属を加えてポリカルバゾールと金属を接触させるかまたは金属塩を加えて溶液を調製する工程、前記工程で得られた溶液に特定のポリマーを加えて組成物を調製する工程、及び前記工程により得られた組成物から導電体を得る工程、を含む透明導電体の製造方法である。透明導電体は、組成物を基板に塗布し、溶媒を除去することによって得られる。基板への塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、ディップコート法、ブレードコート法、スプレー法、凸版印刷法、凹版印刷法、平板印刷法、ディスペンス法およびインクジェット法等の一般的な方法を用いることができる。膜厚の均一性および生産性の観点から、スピンコート法とスリットコート法が好ましい。溶媒の除去は、室温乾燥、加熱乾燥または減圧乾燥のいずれを用いてもよいし、また、併用することもできる。基板としては、堅くてもよく、曲がり易くてもよい。基板の材料としては、たとえばガラス、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、アクリロイル、ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニルが挙げられる。これらは、高い光線透過率と低いヘイズ値を有することが好ましい。ポリカルバゾール誘導体としては、下記式に示したとおり、例えばポリN-アルキルカルバゾールの4量体、2量体を例示する。下記式において、nは上記式と同じである。また、ポリカルバゾール誘導体の重合度は、透明度及び強度の観点から2~100であることがより好ましく、2~22が特に好ましい。<ポリカルバゾール誘導体の金属または金属塩による処理>本発明においては、上記カルバゾール誘導体を金属または金属塩で処理して使用することにより、成形した導電体を透明にすることができる。ポリカルバゾール誘導体を金属または金属塩で処理する方法としては、以下に詳述するように、ポリカルバゾール誘導体を金属と接触させて処理する方法や、ポリカルバゾール誘導体を金属塩と反応させる方法が挙げられる。これらの処理は、第3成分である溶媒中で行うことが好ましい。本発明者らは、本発明の組成物を膜状に成形した場合に透明な導電体となるのは、このような処理によってポリカルバゾール誘導体が金属と複合化するためと考えている。<ポリカルバゾール誘導体を金属と接触させる方法>本発明の組成物は、ポリカルバゾール誘導体と金属を接触させることで、成形した導電体を透明にすることができる。金属との接触は、例えば金属を蒸着させたフィルムを溶液中に浸すことや、金属粉末を溶液中に混合させることで行うことができる。このように溶液中で金属と接触させる場合、ポリカルバゾール誘導体を含む溶媒100重量部に対して金属を0.01~300重量部用いることが好ましい。接触させる金属は特段制限されないが、仕事関数が、ポリカルバゾール誘導体のイオン化ポテンシャルよりも小さい金属を接触させて反応させることが好ましい。このような金属の具体例は、アルミニウム、インジウム、亜鉛、チタン、マンガン、鉄、銅、銀、錫、アンチモン、ナトリウム、マグネシウム、ガリウム、カリウム又はカルシウム及びこれらの合金が挙げられる。この中でも特に、アルミニウム、錫、亜鉛、インジウム、ガリウムが好ましく用いられる。本発明の組成物は、ポリカルバゾール誘導体と金属を接触させた後、金属を濾過などの方法により除去する。<ポリカルバゾール誘導体を金属塩と反応させる方法>本発明の組成物は、ポリカルバゾール誘導体と金属塩とを反応させることで、成形した導電体を透明にすることができる。具体的には、溶媒にポリカルバゾール誘導体と金属塩を添加することで、反応させることができる。反応させる金属塩は特段制限されないが、ハロゲン化金属がより好ましい。このようなハロゲン化金属塩の具体例は、塩化スズII、塩化ナトリウム、塩化鉄I、塩化鉄II、塩化亜鉛、塩化銀、塩化銅、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化アルミニウム、塩化リチウム、塩化バリウム、塩化カリウムが挙げられる。この中でも特に、塩化スズ、塩化ナトリウム、塩化亜鉛が好ましく用いられる。また、溶媒については後述する本発明の第3成分として使用できる溶媒を用いることができる。本発明の組成物中におけるポリカルバゾール誘導体モノマー換算と金属塩との含有モル比は、1:10~100:1であることが好ましく、1:1~10:1であることが、より透明性を安定させる観点から好ましい。<第2成分としてのポリマー>本発明では、上記工程の後に別種のポリマーを加えることにより、得られる透明導電体の膜強度を向上することができる。加えるポリマーは特段制限されないが、メタアクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、スチレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリカーボネートおよびそれらのコポリマーからなる群から選択される少なくとも1種が好ましく。この中でも特に、メタアクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂が好ましく用いられる。ポリマーの重量平均分子量は特段制限されないが、1,000以上50,000未満が好ましく用いられる。なお、メタアクリル樹脂との表記は、アクリル樹脂及びメタクリル樹脂を包括して含むことを意味するものである。本発明の組成物中におけるポリカルバゾール誘導体の含有量は、組成物全重量に対して1重量以上20重量以下であることが好ましく、1重量以上10重量以下であることがより好ましい。また、本発明の組成物中において透明導電体を得るために金属と接触させる場合、ポリカルバゾール誘導体を含む溶媒100重量部に対して金属を0.01~300重量部用いることが好ましい、また金属塩を反応させる場合、その含有量は、0.01重量以上10重量以下であることが好ましい。また、本発明の組成物中において透明導電体の膜強度を向上させるために加えるポリマーは組成物全重量に対して1重量以上20重量以下であることが好ましい。また、溶媒は組成物全重量に対して60重量以上98重量以下が好ましい。<溶媒>本発明の組成物に用いる溶媒は、ポリカルバゾール誘導体および第2成分を溶解することができる限り特段限定されない。具体的には、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルホルムアミド等のホルムアミド、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド、テトラヒドロフラン等のエーテル、メタノール等のアルコール、γ-ブチロラクトン等のラクトン、N-メチル-2-ピロリドン等のピロリドン、プロピレンカーボネート等のカーボネート、アセトン等のケトン等を用いることができる。これらの溶媒のうち1種のみ用いてもよく、2種以上混合して用いることもできる。ポリN-アルキルカルバゾールの溶解性から、有機溶媒が好ましい。このうち、γ-ブチロラクトン、N-メチルピロリドン、アセトン、およびアセトニトリルからなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。これらの溶媒はスピンコートなどにより成膜した後、風乾、ホットプレートまたは真空乾燥による加熱で除去することができる。<本発明の組成物>金属または金属塩で処理したポリカルバゾール誘導体、別種のポリマー、および溶媒を含有する本発明の組成物は、透明導電体形成用インクとして用いることができる。このインクはスピンコート、スクリーン印刷、インクジェット等の成膜手段により必要とする大きさの透明導電体を簡易に作製することができることから、透明導電体を作製した後に加工する手間を省くことができる。また、特許文献6に開示される、本発明者らによる金属と接触させることにより作成したインクや金属塩と反応させることにより作られるインクと比較して、本発明の組成物では膜強度が向上している。これは、もともと強度に優れるポリマーを添加することによって、全体の導電性を失わず、透明性を維持したまま加えたポリマーによる膜全体の強さが向上できたことによる。このようにして得られた本発明の透明導電体は、透明でありかつ高い電気導電性を有する。本発明の製造方法で作製される透明導電体は、透過スペクトル測定において、450~700nmの波長での透過率が70以上であり、非常に透明度が高い。ポリカルバゾール誘導体は、金属塩との反応により、成膜した導電体の透過スペクトルの透過率が増加する。これによりポリカルバゾール誘導体が金属塩と反応したと判断できる。また、本発明の透明導電体は、透明度の観点から波長380nmから780nmの範囲内の規格化吸収スペクトルの値紫外可視吸収スペクトルが0.5以下であることが好ましく、0.1以下であることがより好ましい。規格化吸収スペクトルは、例えば溶媒を含む組成物を200倍に希釈することにより溶液状態で測定することができる。また、本発明の透明導電体は、導電性を良好にする観点から、表面抵抗が1.0×101Ω/□以上、1.0×1011Ω/□以下であることが好ましく、1.0×104Ω/□以上、1.0×1010Ω/□以下であることがより好ましい。また、本発明の透明導電体は、透明度の観点からヘイズ値が5以下であることが好ましく、3以下であることがより好ましい。加えて本発明の透明導電体は、良好な膜強度を有する。具体的には、鉛筆硬度が4B以上であることが好ましく、HB以上であることがより好ましい。本発明では、組成物にポリアルキルカルバゾール以外のポリマーを加えることで、膜強度を改善するものである。透明導電体の鉛筆硬度は、例えばYOSHIMITSUSEIKI製C221モデルで1000グラムの錘を用いて測定することができる。また、本発明における透明導電体は、その形状は特段限定されないが、一般的に塗布により製造する場合には、膜状及び板状となる。膜状である場合にはその厚みはおおよそ10nm~0.1mm程度であり、板状の場合には0.1mmを超える場合もある。また、本発明における透明導電膜は、ガラスや透明プラスチックなどの透明基板上に積層させることで、導電性を有するデバイス素子として使用することができ、様々な分野に応用することができる。以下、本発明のポリカルバゾール誘導体の製造方法について説明する。<カルバゾール誘導体の合成>本発明の組成物中に含有されるポリカルバゾール誘導体について、ポリN-アルキルカルバゾールを例に挙げて説明する。カルバゾールのN位にアルキルが結合したN-アルキルカルバゾールは、水素化ナトリウム等の強塩基性のアルカリ金属化合物存在下で、カルバゾールとアルキル化剤であるハロゲン化アルキルとの脱ハロゲン化水素反応により合成することができる。または、カルバゾールカリウム塩とハロゲン化アルキルの脱ハロゲン化カリウム反応で合成することができる。なお、酸化剤を用いる化学重合で、ポリN-アルキルカルバゾールを合成する場合には、カルバゾールのN位に結合するアルキルは、一級炭素または二級炭素であることが好ましい。カルバゾールのN位に結合するアルキルが三級炭素の場合には、重合時にアルキルが脱離する傾向にあり、所望のポリN-アルキルカルバゾールが得難い場合がある。<ハロゲン化アルキル>上記アルキル化剤であるハロゲン化アルキルは、試薬メーカーより入手することができる。実験室で取り扱うには、反応性、アルキルの種類の豊富さから、アルキルモノ臭化物が扱いやすい。入手できるアルキルモノ臭化物は、具体的に、1-ブロモプロパン、2-ブロモプロパン、1-ブロモブタン、2-ブロモブタン、1-ブロモ-2-メチルプロパン、2-ブロモ-2-メチルプロパン、1-ブロモ-3-メチル-ブタン、1-ブロモヘキサン、2-ブロモヘキサン、3-ブロモヘキサン、1-ブロモメチルペンタン、1-ブロモヘプタン、3-ブロモヘプタン、4-ブロモヘプタン、1-ブロモ-5-メチルヘキサン、1-ブロモ-2-エチルヘキサン、1-ブロモオクタン、2-ブロモオクタン、1-ブロモノナン、2-ブロモノナン、1-ブロモデカン、1-ブロモウンデカン、1-ブロモドデカン、2-ブロモドデカン、1-ブロモトリデカン、1-ブロモテトラデカン、2-ブロモテトラデカン、1-ブロモペンタデカン、1-ブロモヘプタデカン、1-ブロモ-2-メチルヘキサデカン、1-ブロモオクタデカン、1-ブロモエイコサン、1-ブロモドコサンがあり、東京化成工業株、シグマアルドリッチジャパン株、ランカスター社等から入手できる。<ハロゲン化アルキルの合成>上記ハロゲン化アルキルは、アルキルモノハロゲン化物以外に、アルケンのハロゲン水素付加反応により得ることができる。この反応は、アルケン溶液にハロゲン化水素を添加することで容易に進行する。アルケンのハロゲン化水素付加反応でハロゲン化アルキルを得るには、JOHNWILEYSON,INC.出版のOrganicSynthesesIV543-544頁1962年発行記載の方法に従ってアルキルモノヨウ化物をアルケンのヨウ化水素付加反応により、合成することが都合がよい。入手できる上記アルケンには、3,3-ジメチル-1-ブテン、2-ヘキセン、3-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、4-メチル-2-ペンテン、3,3-ジメチル-1-ペンテン、4,4-ジメチル-1-ペンテン、2-ヘプテン、3-ヘプテン、3-メチル-1-ヘキセン、4-メチル-1-ヘキセン、4-メチル-2-ヘキセン、5-メチル-1-ヘキセン、5-メチル-2-ヘキセン、3,3-ジメチル-1-ヘキセン、3,4-ジメチル-1-ヘキセン、5-メチル-2-ヘプテン、5-メチル-3-ヘプテン、2-オクテン、trans-3-オクテン、trans-4-オクテン、2-ノネン、4-ノネン、3,3,5-トリメチル-1-ヘキセン、cis-2-デセン、cis-4-デセン、cis-5-デセン、5-ドデセン、7-テトラデセン、cis-9-トリコセンがあり、東京化成工業株等より入手できる。上記、アルケンのヨウ化水素付加反応により、2-ヨード-3,3-ブタン、3-ヨードヘキサン、4-ブロモヘキサン、2-ヨード-4-メチルペンタン、3-ヨード-4-メチルペンタン、2-ヨード-3,3-ジメチルペンタン、2-ヨード-4,4-ジメチルペンタン、3-ヨード-ヘプタン、4-ヨードヘプタン、2-ヨード-3-メチルヘキサン、2-ヨード-4-メチルヘキサン、3-ヨード-4-メチルヘキサン、2-ヨード-5-メチルヘキサン、3-ヨード-5-メチルヘキサン、2-ヨード-ジメチルヘキサン、2-ヨード-3,4-ジメチルヘキサン、2-ヨード-4,4-ヘキサン、3-ヨード-5-メチルヘプタン、4-ヨード-5-メチルヘプタン、3-ヨード-オクタン、4-ヨードオクタン、5-ヨードオクタン、3-ヨードノナン、5-ヨードノナン、2-ヨード-3,3,5-ヘキサン、3-ヨードデカン、4-ヨードデカン、6-ヨードデカン、6-ヨード-ドデセン、8-テトラデセン、10-ヨードトリコサンを得ることができる。<ポリN-アルキルカルバゾールの形成>ポリN-アルキルカルバゾールを形成する工程について説明する。ポリN-アルキルカルバゾールは、N-アルキルカルバゾールを含む溶媒に酸化剤を加えて重合を行うことで得られる。上記の重合では、比較的高い誘電率の溶媒を用いることが好ましい。溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、γ-ブチロラクトン、N-メチル-2-ピロリドン、プロピレンカーボネート、ピリジン、ジオキサン、酢酸、水およびこれらの混合物を用いることができる。重合時のモノマー濃度は、上記の溶媒の重量を100重量部とした場合、0.01重量部以上300重量部以下とすることが好ましく、0.1重量部以上50重量部以下であることがより好ましい。0.01重量部以上とすることで生成物であるポリN-アルキルカルバゾールの生産性を上げることができ、0.1重量部以上とすることでこの効果がより顕著となる。また300重量部以下とすることで反応収率を上げることができ、50重量部以下とすることでこの効果がより顕著となる。また酸化剤としては、例えば第二鉄塩、第二銅塩、セリウム塩、二クロム酸塩、過マンガン酸塩、過硫酸アンモニウム、三フッ化ホウ素、臭素酸塩、過酸化水素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられ、なかでも、第二鉄塩が好ましい。第二鉄塩としては、例えば、過塩素酸鉄IIIが例示できる。この過塩素酸鉄IIIを使用することで重合度を上げることができる。酸化剤の濃度としては、適宜調整が可能であり限定されるわけではないが、溶媒の重量を100重量部とした場合、0.01重量部以上500重量部以下とすることが好ましく、0.1重量部以上100重量部以下であることがより好ましい。0.01重量部以上とすることで原料であるN-アルキルカルバゾールと同等以上の濃度となるために効率的に重合反応を進めることができ、0.1重量部以上とすることでこの効果がより顕著となる。また500重量部以下とすることで溶液の粘度上昇を抑制し、やはり効率的に重合反応を進めることができ、100重量部以下とすることでこの効果がより顕著となる。重合において、反応温度は酸化剤やN-アルキルカルバゾールの濃度等により適宜調整が可能であり、特に限定されないが、-100°C以上100°C以下であることが好ましく、-80°C以上90°C以下であることがより好ましい。-80°C以上とすることで生成物であるポリN-アルキルカルバゾールの電気伝導度を高めることができるという利点がある。また100°C以下とすることでポリN-アルキルカルバゾールの架橋反応や過酸化反応を抑止することができ、電気伝導度の低下を防ぐことができるという利点がある。また反応時間についても、反応温度と同様に適宜調整が可能であり、特に限定されないが、例えば上記好ましい温度範囲において1秒以上1週間以下であることが好ましく、より好ましくは1秒以上48時間以下である。化学重合による反応後の溶液を濾過、洗浄、乾燥させることにより、粉末状のポリN-アルキルカルバゾールを得ることができる。これらの吸引濾過、洗浄、乾燥工程は公知の方法により適宜行えばよい。金属との接触については、粉末状のポリN-アルキルカルバゾールをクロロホルム、γ-ブチロラクトンなどの溶媒に溶解し、そこに金属を適宜加えて室温で攪拌すれば、溶液の色が緑色から黒色に変化する。緑色が消失したところで反応は終了する。高沸点溶媒の場合は透明導電体を得るために、スピンコートなどの成膜プロセスの後に真空乾燥やホットプレート上で加熱するなど、溶媒を除去する必要がある。低沸点溶媒はスピンコートなどの成膜プロセスの後、風乾することにより溶媒は除去できる。金属塩との反応については、粉末状のポリN-アルキルカルバゾールをγ-ブチロラクトンなどの溶媒に溶解し、そこに金属塩を適宜加えて室温で攪拌すれば、溶液の色が緑色から褐色に変化する。緑色が消失したところで反応は終了する。高沸点溶媒の場合は透明導電体を得るために、スピンコートなどの成膜プロセスの後に真空乾燥やホットプレート上で加熱するなど、溶媒を除去する必要がある。低沸点溶媒はスピンコートなどの成膜プロセスの後、風乾することにより溶媒は除去できる。上記実施形態に基づき実際に本発明の組成物、及び透明導電体の作製を行い本発明の効果の確認を行った。以下、実施例を用いて説明を行うが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、膜厚の測定方法は、段差計XP-Plus株テックサイエンス、表面抵抗の測定には抵抗率計Hiresta-GP株三菱化学アナリテック、ヘイズおよび全光線透過率の測定にはヘーズメーターNDH5000日本電色工業株、紫外可視吸収スペクトル測定は紫外可視分光器V-660日本分光株、NMRスペクトル測定にはVARIAN500MHzNMRVARIAN、鉛筆硬度の測定にはYOSHIMITSUSEIKI製C221モデルで1000グラムの錘を用いた。<アルキル化剤の合成>N-アルキルカルバゾールの製造に用いるアルキル化剤は、アルキルモノ臭素化物を東京化成工業株、シグマ-アルドリッチ社及びランカスター社より購入した。<N-アルキルカルバゾールの合成>テトラヒドロフランとN,N-ジメチルホルムアミドの3対1体積比の混合溶媒にカルバゾールを溶解し、上記で得たアルキル剤アルキル臭化物又はアルキルヨウ化物をカルバゾール1当量に対して1当量加え、撹拌しながら水素化ナトリウム1.5当量に相当する60重量の水素化ナトリウム鉱物油分散物関東化学製、商品名水素化ナトリウムを徐々に加え、室温で1時間撹拌した。そこに、反応を停止させるためにメタノールを気泡が出なくなるまで加えた後、溶媒を減圧下で蒸発除去した。残渣にジクロロメタンを加え、3N塩酸と水とで洗浄した。無水硫酸マグネシウムを加え乾燥し、濾過した。得られた濾液に含まれる溶媒を真空除去し、ヘキサンを展開溶媒に用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製した。<N-2-エチルヘキシルカルバゾールの合成>ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾールの重合に用いるモノマーN-2-エチルヘキシルカルバゾールを例に具体的な合成法を説明する。テトラヒドロフラン30mLとN,N-ジメチルホルムアミド10mLの混合溶液にカルバゾール東京化成工業株製、6.0g、0.036molを溶かし、2-エチルヘキシルブロミドアルドリッチ社製、3.95g、0.036molを加え、さらに室温約20°Cで60重量水素化ナトリウム鉱物油分散物関東化学製、商品名水素化ナトリウム、2.16g、0.054molを徐々に添加し、1時間攪拌し反応を完了させた。反応完了後、得られた反応液に、メタノールを気泡が出なくなるまで注ぎ、反応を停止させた。エバポレーターで反応液中の溶媒を除去後、濃縮物を塩化メチレンで抽出し、有機層を3N塩酸、水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。濾液中の塩化メチレンをエバポレーターで除去し、ヘキサンを展開溶媒に用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。エバポレーターでヘキサンを除去し、透明液体8g、収率80を得た。H-NMRにより、N-2-エチルヘキシルカルバゾールであることが確認できた。また、高速液体クロマトグラフィーHPLCによって純度が99.5であることを確認した。<ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾールの製造>アセトニトリル10mLにモノマーであるN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.14g、0.05molと酸化剤である過塩素酸鉄III0.33g、0.1molを溶解し、窒素雰囲気下、室温約20°Cで24時間攪拌し、化学重合を行った。反応液を濾過し、濾過物をメタノールで洗浄し、40°Cで1時間乾燥して、目的とするポリN-2-エチルヘキシルカルバゾールの緑色粉末0.21gを得た。<実施例1>上記ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.1gをγ-ブチロラクトン2mLに溶解し、粒状の金属スズ0.5gを加えて攪拌した。金属スズは数日攪拌の後、溶液色が濃緑色から黒褐色に変化したところで取り除き、金属の細かい粉を除くために0.2μmのシリンジフィルターでろ過後、ポリメタクリル酸メチル関東化学株製試薬CatNo259031を5重量溶解させたγ-ブチロラクトンを同容量加え、本発明の組成物1を得た。組成物1金属スズ複合化ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール中のポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール2.1重量ポリメタクリル酸メチル2.1重量γ-ブチロラクトン95.8重量スライドガラス上にスピンコーター株エイブル製AS-300を使い、上記組成物1を1,000rpmでスピンコートし、それを真空乾燥器で60°C0.3kPaで乾燥した。このスライドガラス上のポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール膜の透過スペクトルを図1に示す。スペクトルから明白なように、この膜は無色透明であった。膜厚は188nmであった。この膜の二重リング法による表面抵抗は、2.62×109Ω/□、電気伝導度は2.03×104S/cm1であった。このときのヘイズは2.6、全光線透過率は90.2であった。鉛筆硬度はBであった。<実施例2>ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾールと同様の手順で得たポリN-オクチルカルバゾール0.1gをγ-ブチロラクトン2mLに溶解し、粒状の金属スズ0.15gを加えて攪拌した。金属スズは数日攪拌の後、溶液色が濃緑色から黒褐色に変化したところで取り除き、金属の細かい粉を除くために0.2μmのシリンジフィルターでろ過後、ポリメタクリル酸メチル関東化学株製試薬CatNo259031を5重量溶解させたγ-ブチロラクトンを同容量加え、本発明の組成物2を得た。組成物2金属スズ複合化ポリN-オクチルカルバゾール中のポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール2.1重量ポリメタクリル酸メチル2.1重量γ-ブチロラクトン95.8重量スライドガラス上にスピンコーター株エイブル製AS-300を使い、上記組成物2を1,000rpmでスピンコートし、それを真空乾燥器で60°C0.3kPaで乾燥した。このスライドガラス上のポリN-オクチルカルバゾール膜の透過スペクトルを図2に示す。スペクトルから明白のように、この膜は無色透明であった。膜厚は69nmであった。この膜の二重リング法による表面抵抗は6.23×1010Ω/□、電気伝導度は、2.32×106Scm1であった。このときのヘイズは1.2、全光線透過率は89であった。鉛筆硬度はHBであった。<実施例3>上記ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.1gをγ-ブチロラクトン2mLに溶解し、粒状の金属亜鉛0.25gを加えて攪拌した。金属亜鉛は数日攪拌の後、溶液色が濃緑色から黒褐色に変化したところで取り除き、金属の細かい粉を除くために0.2μmのシリンジフィルターでろ過後、ポリメタクリル酸メチル関東化学株製試薬CatNo259031を5重量溶解させたγ-ブチロラクトンを同容量加え、本発明の組成物3を得た。組成物3金属亜鉛複合化ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール中のポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール2.1重量ポリメタクリル酸メチル2.1重量γ-ブチロラクトン95.8重量スライドガラス上にスピンコーター株エイブル製AS-300を使い、上記組成物3を1,000rpmでスピンコートし、それを真空乾燥器で60°C0.3kPaで乾燥した。このスライドガラス上のポリN-エチルヘキシルカルバゾール膜の透過スペクトルを図3に示す。スペクトルから明白のように、この膜は無色透明であった。膜厚は185nmであった。この膜の二重リング法による表面抵抗は3.74×108Ω/□、電気伝導度は、1.45×104Scm1であった。ヘイズは0.54、全光線透過率は90であった。鉛筆硬度は4Bであった。<実施例4>上記ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.1gをγ-ブチロラクトン2mLに溶解し、塩化スズII29mgを加えて攪拌した。溶液色が濃緑色から暗褐色に変化したところで、ポリメタクリル酸メチル関東化学株製試薬CatNo259031を5重量溶解させたγ-ブチロラクトンを同容量加え、本発明の組成物4を得た。組成物4金属スズ複合化ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール2.7重量ポリメタクリル酸メチル2.1重量γ-ブチロラクトン95.2重量スライドガラス上にスピンコーター株エイブル製AS-300を使い、上記組成物4を1,000rpmでスピンコートし、それを真空乾燥器で60°C0.3kPaで乾燥した。このスライドガラス上のポリN-エチルヘキシルカルバゾール膜の透過スペクトルを図4に示す。スペクトルから明白のように、この膜は無色透明であった。膜厚は125nmであった。この膜の二重リング法による表面抵抗は8.14×1010Ω/□、電気伝導度は9.83×107S/cmであった。ヘイズは0.2、全光線透過率は89であった。鉛筆硬度はHBであった。<実施例5>上記ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.1gをテトラヒドロフラン2mLに溶解し、塩化スズII29mgを加えて攪拌した。溶液色が濃緑色から暗褐色に変化したところで、ポリメタクリル酸メチル関東化学株製試薬CatNo259031を5重量溶解させたγ-ブチロラクトンを同容量加え、本発明の組成物5を得た。組成物5金属スズ複合化ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール3.0重量ポリメタクリル酸メチル2.3重量テトラヒドロフラン41.6重量γ-ブチロラクトン53.0重量スライドガラス上にスピンコーター株エイブル製AS-300を使い、上記組成物5を1,000rpmでスピンコートし、それを真空乾燥器で60°C0.3kPaで乾燥した。このスライドガラス上のポリN-エチルヘキシルカルバゾール膜の透過スペクトルを図5に示す。スペクトルから明白のように、この膜は無色透明であった。膜厚は1177nmであった。この膜の二重リング法による表面抵抗は2.15×1010Ω/□、電気伝導度は3.95×107S/cmであった。ヘイズは4.5、全光線透過率は80であった。鉛筆硬度は4Bであった。<組成物の吸収スペクトル>上記実施例1~5に記載の組成物1~5と、対照のため上記ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.1gをγ-ブチロラクトン2mLに溶解し、ポリメタクリル酸メチル関東化学株製試薬CatNo259031を5重量溶解させたγ-ブチロラクトンを同容量加えた組成物6について、それぞれ15μlをクロロホルムで3mlに希釈し、紫外可視吸収スペクトルを測定した。スペクトルを図6に示す。組成物6では吸収ピークが400nmおよび800nmにあるが、組成物1~5では吸光度は0.5以下である。<実施例6>上記ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.1gをテトラヒドロフラン2mLに溶解し、粒状の金属スズ0.5gを加えて攪拌した。金属スズは数日攪拌の後、溶液色が濃緑色から黒褐色に変化したところで取り除き、金属の細かい粉を除くために0.2μmのシリンジフィルターでろ過後、ポリメタクリル酸メチル関東化学株製試薬CatNo259031を5重量溶解させたテトラヒドロフランを5容量または0.2容量加え、本発明の組成物7および8を得た。組成物7金属スズ複合化ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール中のポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.7重量ポリメタクリル酸メチル3.5重量テトラヒドロフラン95.8重量組成物8金属スズ複合化ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール中のポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール3.5重量ポリメタクリル酸メチル0.7重量テトラヒドロフラン95.8重量スライドガラス上にスピンコーター株エイブル製AS-300を使い、上記組成物7および8を1,000rpmでスピンコートし、それを真空乾燥器で60°C0.3kPaで乾燥した。これらの膜は無色透明であった。膜厚はそれぞれ157nm、191nmであった。この膜の二重リング法による表面抵抗はそれぞれ1.80×1010Ω/□、5.02×1010Ω/□、電気伝導度はそれぞれ3.54×106S/cm、1.04×106S/cmであった。ヘイズはそれぞれ0.89、0.18、全光線透過率はそれぞれ89、92であった。鉛筆硬度はそれぞれ4H、2Hであった。<実施例7>上記ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.1gをγ-ブチロラクトン2mLに溶解し、粒状の金属スズ0.5gを加えて攪拌した。金属スズは数日攪拌の後、溶液色が濃緑色から黒褐色に変化したところで取り除き、金属の細かい粉を除くために0.2μmのシリンジフィルターでろ過後、ヒドロキシプロピルセルロース和光純薬工業株製試薬ヒドロキシプロピルセルロース6.0~10.0を5重量溶解させたγ-ブチロラクトンを同容量加え、本発明の組成物9を得た。組成物9金属スズ複合化ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール中のポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール2.1重量ヒドロキシプロピルセルロース2.1重量γ-ブチロラクトン95.8重量スライドガラス上にスピンコーター株エイブル製AS-300を使い、上記組成物9を1,000rpmでスピンコートし、それを真空乾燥器で60°C0.3kPaで乾燥した。この膜は無色透明であった。膜厚は178nmであった。この膜の二重リング法による表面抵抗は1.66×1010Ω/□、電気伝導度は3.38×106S/cmであった。ヘイズは5.0、全光線透過率は89であった。鉛筆硬度はHであった。<実施例8>上記ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.1gをγ-ブチロラクトン2mLに溶解し、塩化スズII29mgを加えて攪拌した。溶液色が濃緑色から暗褐色に変化したところで、脂環式エポキシ樹脂EHPE3150、ダイセル化学製を5重量溶解させたγ-ブチロラクトンを同容量加え、本発明の組成物10を得た。組成物10金属スズ複合化ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール2.7重量EHPE31502.1重量γ-ブチロラクトン95.2重量スライドガラス上にスピンコーター株エイブル製AS-300を使い、上記組成物10を1,000rpmでスピンコートし、それを真空乾燥器で60°C0.3kPaで乾燥した。この膜は無色透明であった。膜厚は80nmであった。この膜の二重リング法による表面抵抗は1.35×109Ω/□、電気伝導度は9.25×105S/cmであった。ヘイズは2.4、全光線透過率は87であった。鉛筆硬度は4Hであった。<比較例>上記ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール0.1gをγ-ブチロラクトン2mLに溶解し、塩化スズII29mgを加えて攪拌、比較例の組成物11を得た。組成物11金属スズ複合化ポリN-2-エチルヘキシルカルバゾール5.4重量γ-ブチロラクトン94.6重量スライドガラス上にスピンコーター株エイブル製AS-300を使い、上記組成物10を1,000rpmでスピンコートし、それを真空乾燥器で60°C0.3kPaで乾燥した。膜厚は70nmであった。この膜の二重リング法による表面抵抗は5.74×107Ω/□、電気伝導度は2.51×103Scm1であった。ヘイズは1.4、全光線透過率は90であった。鉛筆硬度は5Bであった。"