"透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含有する樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した第1の層と、酸素透過する第2の層とが積層されており、かつ前記第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする光学素子。透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含有する樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した第1の層を有し、前記第1の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする光学素子。前記第1の層が低屈折率高分散材料からなり、前記第2の層が高屈折低分散材料からなることを特徴とする請求項1または2に記載の光学素子。前記酸素を供給する空間の周囲と上下が閉鎖されており、空間の高さが50μm以上5mm以下で、空間に含有される酸素の濃度が10以上100以下体積で、かつ空間に含有される水の濃度が230g/m3以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかの項に記載の光学素子。前記透明導電性物質が、インジウム錫酸化物ITOであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかの項に記載の光学素子。前記透明導電性物質からなる微粒子の平均粒径が1nm以上100nm以下であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかの項に記載の光学素子。前記樹脂組成物における前記透明導電性物質からなる微粒子の体積含有率が1vol.以上29vol.以下であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかの項に記載の光学素子。前記第1の層及び第2の層がエネルギー硬化型の樹脂からなり、前記樹脂がアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂から選ばれる少なくとも一種からなるラジカル硬化型の樹脂であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかの項に記載の光学素子。透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含む樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した樹脂よりなる、回折格子形状を有する第1の層と、酸素透過する、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第2の層とが、前記第1の層と前記第2の層の回折格子形状が対向するように積層されており、かつ前記第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする多層回折光学素子。回折格子形状を有し、高屈折低分散材料からなる透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含む樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した樹脂からなり、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第1の層が、前記透明基板と前記第1の層の回折格子形状が対向するように積層されており、かつ前記第1の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする多層回折光学素子。前記第1の層が低屈折率高分散材料からなり、前記第2の層が高屈折低分散材料からなることを特徴とする請求項9または10に記載の多層回折光学素子。前記酸素を供給する空間の周囲と上下が閉鎖されており、空間の高さが50μm以上5mm以下で、空間に含有される酸素の濃度が10以上100以下体積で、かつ空間に含有される水の濃度が230g/m3以下であることを特徴とする請求項9乃至11のいずれかの項に記載の多層回折光学素子。前記透明導電性物質が、インジウム錫酸化物ITOであることを特徴とする請求項9乃至12のいずれかの項に記載の多層回折光学素子。前記透明導電性物質からなる微粒子の平均粒径が1nm以上100nm以下であることを特徴とする請求項9乃至13のいずれかの項に記載の多層回折光学素子。前記樹脂組成物における前記透明導電性物質からなる微粒子の体積含有率が1vol.以上29vol.以下であることを特徴とする請求項9乃至14のいずれかの項に記載の多層回折光学素子。前記第1の層及び第2の層がエネルギー硬化型の樹脂からなり、前記樹脂がアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂から選ばれる少なくとも一種からなるラジカル硬化型の樹脂であることを特徴とする請求項9乃至15のいずれかの項に記載の多層回折光学素子。ITO等の透明導電性微粒子の分散材料を一部に用いた多層回折光学素子は、可視域全体の高い回折効率状態を示す。しかしながら、使用環境下で、ITO分散材料の光学特性が変動する。その事により、多層回折光学素子の可視域全体の高い回折効率の状態がなくなる。本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、可視域全体の高い回折効率状態を経時変化することなく維持することができる光学素子および多層回折光学素子を提供するものである。上記の課題を解決する光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含有する樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した第1の層と、酸素透過する第2の層とが積層されており、かつ前記第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。また、上記の課題を解決する光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含有する樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した第1の層を有し、前記第1の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。上記の課題を解決する多層回折光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含む樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した樹脂よりなる、回折格子形状を有する第1の層と、酸素透過する、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第2の層とが、前記第1の層と前記第2の層の回折格子形状が対向するように積層されており、かつ前記第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。上記の課題を解決する多層回折光学素子は、回折格子形状を有し、高屈折低分散材料からなる透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含む樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した樹脂からなり、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第1の層が、前記透明基板と前記第1の層の回折格子形状が対向するように積層されており、かつ前記第1の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。本発明によれば、可視域全体の高い回折効率状態を経時変化することなく維持することができる光学素子および多層回折光学素子を提供することができる。光学素子の作製において、ITO微粒子および単量体を含有する樹脂組成物に紫外線および短波長の可視光を照射して硬化させて樹脂からなる光学材料を作製する。通常の使用下においては、紫外線および短波長の可視光による樹脂の光化学反応により、ラジカルが発生する。発生したラジカルはITO微粒子にトラップされ、ITOのキャリアとして作用する。この際に、ラジカルによりITOは還元され、屈折率、光の吸収等の光学特性が変動して影響を与える。具体的には、可視域の長波長側λ=500から700nmの屈折率吸収が大きく変化する。その結果、初期の光学素子の高回折効率状態がITO分散材料の屈折率変動により、回折条件からずれ、回折効率が悪化する。本発明者らは、大気中の酸素を取り込んでITO分散材料に接触させることにより、ITO微粒子にトラップされたラジカルを酸素により消滅させ、還元状態のITOを酸化して元の状態に戻すことにより、屈折率、光の吸収等の光学特性を改善することを見出した。本発明に係る光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含有する樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した第1の層と、酸素透過する第2の層とが積層されており、かつ前記第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。また、本発明に係る光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含有する樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した第1の層を有し、前記第1の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。本発明に係る多層回折光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含む樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した樹脂よりなる、回折格子形状を有する第1の層と、酸素透過する、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第2の層とが、前記第1の層と前記第2の層の回折格子形状が対向するように積層されており、かつ前記第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。また、本発明に係る多層回折光学素子は、回折格子形状を有し、高屈折低分散材料からなる透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含む樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した樹脂からなり、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第1の層が、前記透明基板と前記第1の層の回折格子形状が対向するように積層されており、かつ前記第1の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。上記の様に、本発明の光学素子において、第2の層の上に酸素を供給する空間をもつことにより、透明導電性物質を分散した材料が紫外線や光により長波長の屈折率透過率の変動を、抑制することが出来る。前記第1の層が低屈折率高分散材料からなり、前記第2の層が高屈折低分散材料からなることが好ましい。前記第1の層及び第2の層がエネルギー硬化型の樹脂からなり、前記樹脂がアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂から選ばれる少なくとも一種からなるラジカル硬化型の樹脂であることが好ましい。以下、本発明に係る光学素子を詳細に説明する。本発明に係る光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含有する樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した第1の層と、酸素透過する第2の層とが積層されており、かつ前記第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。透明基板には、例えばガラス基板およびガラスレンズ等が用いられる。第1の層について本発明において、第1の層を形成するための樹脂組成物は、透明導電性物質からなる微粒子、単量体、分散溶媒、表面処理剤、分散剤界面活性剤、単量体等を含有する組成物からなる。本発明の第1の層を構成する樹脂に含有される微粒子の透明導電性物質の好適な例としては、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン、インジウム錫酸化物ITO、アンチモンをドープした酸化スズATO、亜鉛をドープした酸化インジウムIZO、アルミニウムをドープした酸化亜鉛AZO、及び、フッ素をドープした酸化スズFTOが挙げられる。特に、インジウム錫酸化物ITOを用いることが好ましい。インジウム錫酸化物ITOは現存する物質の中で2次分散特性θgFが小さく中で最も透明性を維持する物質である。ただし、これは将来、2次分散特性θgFが小さくインジウム錫酸化物ITOよりも透明性な物質が出現した際、その使用を限定するものではない。またベース樹脂となる単量体、前記微粒子を、あらかじめ分散させておく溶媒に適応させて、微粒子表面に種々の表面処理剤、分散剤を用いることが好適である。微粒子の平均粒径としては、光透過率、光学散乱等に悪影響を及ぼさない大きさの粒子径であることが望ましく、1nm以上100nm以下、好ましくは2nm以上30nm以下、特に2nm以上20nm以下の範囲であることが好ましい。しかし例えば平均粒径が20nm以下であっても、微粒子の凝集した場合も含めて、粒子径の分布が幅広く30nmより大きな粒子径の粒子が体積分率で全微粒子の5以上の割合になると光学散乱に大きな悪化の影響を及ぼす。その場合には、取り除きたい粒子サイズより比較的小さな細孔を持つフィルターで濾過処理をして、不要な大きな微粒子を取り除くことが好ましい。微粒子を取り除く時期は、ベース樹脂を混ぜる前の溶媒に微粒子が分散した状態微粒子分散液か、若しくは微粒子分散液にベース樹脂を溶解させた状態か、若しくは粘度により可否はあるが、前記状態で溶媒を除去してベース樹脂と微粒子の無溶媒系にした状態が好ましい。微粒子には必要に応じて表面処理を施しておくことが望ましい。各表面処理は微粒子の合成、作製段階で行っても良いし、単独で微粒子を得た後に別途行っても良い。前記第1の層を形成するための樹脂組成物における前記透明導電性物質からなる微粒子の体積含有率が1vol.以上29vol.以下、好ましくは5vol.以上23vol.以下であることが望ましい。本発明に用いる分散溶媒の例としては、バインダー成分を溶解するため若しくは微粒子を溶媒に分散させておくため、必要に応じて表面処理剤、分散剤を溶解させるため、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、DMF、DMAc、NMP等のアミド系、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、ブチルカルビトール等のエチル類、ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。用いる微粒子の親和性、表面処理剤、分散剤の親和性に合わせて分散溶媒を選択することができ、また有溶媒は1種類のみで使用することもできるし、分散性を損なわない範囲において2種類以上を併用して使用することもできる。分散溶媒は樹脂組成物の作成工程で除去される。第1の層を形成するための樹脂組成物に含有される分散溶媒の含有量は、第1の層を形成する樹脂組成物に対して0.2重量以下、好ましくは0.05重量以下が望ましい。また、本発明において微粒子を凝集しないよう均一に分散させるための表面処理剤、分散剤界面活性剤に関しては以下のものが望ましい。一般に表面処理剤、分散剤を用いて微粒子を溶媒、樹脂等に分散する場合、添加する表面処理剤、分散剤の種類、添加量、分子量、極性、親和性等によって全く異なった分散状態を示すことが知られている。本発明に使用する表面処理剤、分散剤としては顔料の誘導体や樹脂型や活性剤型のものを好適に用いることができる。ここで表面処理剤、分散剤としては、カチオン系、弱カチオン系、ノニオン系あるいは両性界面活性剤が有効である。特にポリエステル系、ε-カプロラクトン系、ポリカルボン酸塩、ポリリン酸塩、ハイドロステアリン酸塩、アミドスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、オレフィンマレイン酸塩共重合物、アクリル-マレイン酸塩共重合物、アルキルアミン酢酸塩、アルキル脂肪酸塩、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル系、シリコーン系、フッ素系を用いることができるが、本発明においてはアンモニアよび有機アミン類から選択される少なくとも一種の塩基系のものを用いることが好適である。具体的にはディスパービックシリーズビッグケミージャパン社製の中ではディスパービック161、162、163、164、ソルスパースシリーズゼネガ社製の中ではソルスパース3000、9000、17000、20000、24000、41090あるいはTAMNシリーズ日光ケミカル社製の中ではTAMN-15等のアルキルアミンのPO若しくはEO変成物がある。また、分散剤は1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。第1の層を形成するための樹脂組成物に含有される表面処理剤、分散剤の含有量は、大きく分けて表面処理剤、分散剤の種類、微粒子の種類、微粒子の表面積微粒子径、微粒子を混合する分散樹脂の種類等、分散溶媒の種類に応じて異なってくるが、微粒子の重量に対して0.1重量以上25.0重量以下、好ましくは4.0重量以上20.0重量以下の範囲であることが望ましい。分散剤の添加量が25.0重量より多すぎると白濁の原因となり光学的散乱が生じてしまうため、また微粒子を含有して得られた組成物の特性屈折率、アッベ数、2次分散特性、弾性率等を必要以上に低下させる。本発明においてベース樹脂としてのバインダー成分である単量体の選択としては前記透明導電性を有する金属酸化物微粒子が分散等している溶媒、表面処理剤、分散剤に良好に相溶するものが望ましい。単量体としては分子内に1個以上の2重結合や3重結合を有するものであれば、特に限定はされないが、不飽和基含有化合物の単量体又はオリゴマーの具体的な例としては、1,4-ジビニルシクロヘキサン、1,4-シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、4,4-ジメチル-ヘプタ-1-エン-6-イン、ジビニルベンゼン、1,6-ジビニルナフタレン、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、エトキシ化ビスフェノールAジビニルエーテル、プロポキシ化ビスフェノールAジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート等の単官能のアクリレートやメタクリレート;ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレンジメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ネオベンチルグリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、トリアクリロイロキシエチルイソシアヌレート、クリセリンやトリメチロールエタン等の多価アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後メタアクリレート化したもの、特公昭48-417G8号、特公昭50-6034号、特開昭51-37193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とメタアクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。フッ素系の場合、好適な樹脂の例としては、フッ素アクリル系、フッ素メタクリル系、フッ素エポキシ系、フッ素ビニル系の単量体が挙げられる。具体的には2,2,2-トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルアクリレート、2-パーフルオロブチルエチルアクリレート、3-パーフルオロブチル-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3-パーフルオロヘキシル-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3-パーフルオロオクチル-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-パーフルオロデシルエチルアクリレート、2-パーフルオロ-3-メチルブチルエチルアクリレート、3-パーフルオロ-3-メチルブチル-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-パーフルオロ-5-メチルヘキシルエチルアクリレート、3-パーフルオロ-5-メチルヘキシル-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-パーフルオロ-7-メチルオクチルエチルアクリレート、3-パーフルオロ-7-メチルオクチル-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、1H,1H,3H-テトラフルオロプロピルアクリレート、1H,1H,5H-オクタフルオロペンチルアクリレート、1H,1H,7H-ドデカフルオロヘプチルアクリレート、1H,1H,9H-ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、1H-1-トリフルオロメチルトリフルオロエチルアクリレート、1H,1H,3H-ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロへキサン1,6-ジアクリレート、2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2-パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3-パーフルオロブチル-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-パーフルオロヘキシルエチルメタクリレート、3-パーフルオロヘキシル-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3-パーフルオロオクチル-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2-パーフルオロ-3-メチルブチルエチルメタクリレート、3-パーフルオロ-3-メチルブチル-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-パーフルオロ-5-メチルヘキシルエチルメタクリレート、3-パーフルオロ-5-メチルヘキシル-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-パーフルオロ-7-メチルオクチルエチルメタクリレート、3-パーフルオロ-7-メチルオクチル-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、1H,1H,3H-テトラフルオロプロピルメタクリレート、1H,1H,5H-オクタフルオロペンチルメタクリレート、1H,1H,7H-ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、1H,1H,9H-ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1H-1-トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、1H,1H,3H-ヘキサフルオロブチルメタクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロへキサン1,6-ジメタクリレート、ヘキサフルオロエポキシプロパン、3-パーフルオロブチル-1,2-エポキシプロパン、3-パーフルオロヘキシル-1,2-エポキシプロパン、3-パーフルオロオクチル-1,2-エポキシプロパン、3-パーフルオロデシル-1,2-エポキシプロパン、3-パーフルオロ-3-メチルブチル-1,2-エポキシプロパン、3-パーフルオロ-5-メチルヘキシル-1,2-エポキシプロパン、3-パーフルオロ-7-メチルオクチル-1,2-エポキシプロパン、3-2,2,3,3-テトラフルオロプロポキシ-1,2-エポキシプロパン、3-1H,1H,5H-オクタフルオロペンチロキシ-1,2-エポキシプロパン、3-1H,1H,7H-ドデカフルオロヘプチロキシ-1,2-エポキシプロパン、3-1H,1H,9H-ヘキサデカフルオロノニロキシ-1,2-エポキシプロパン、1,4-ビス2’,3’-エポキシプロピル-パーフルオロ-n-ブタン等の単量体、及びそれらに類するものが挙げられる。それら単量体のいずれか一種に特に制限されるものではなく、重合体のフッ素樹脂を選択しても良い。またコポリマーとしてはセントラル硝子株の中では、No.702C、703C、704C、705C、706C、707Cに類するものが挙げられる。バインダー成分中の分子内に重合官能基を有するフッ素系単量体は一種類のみで使用することもできるし、二種類以上を併用して使用することもできる。また、先に述べたアクリレートやメタクリレートとの二種類以上を併用して用いることもできる。第1の層を形成するための樹脂組成物に含有される単量体の含有量は、第1の層を形成する樹脂組成物に対して30重量以上99重量以下、好ましくは37重量以上78重量以下が望ましい。エネルギー硬化の方法としてはプラズマ処理、熱処理、放射性、紫外線等のエネルギーにより開始剤を刺激して重合させることが可能であるが、レンズ等のレプリカ成形を考えた場合、光硬化であることが好ましい。具体的に利用可能な光重合開始剤としては、例えば、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-1-ブタノン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、ビス2,46,-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイド、4-フェニルベンゾフェノン、4-フェノキシベンゾフェノン、4,4’-ジフェニルベンゾフェノン、4,4’-ジフェノキシベンゾフェノン等を好適なものとして挙げることができる。硬化した樹脂の透明性を考慮した場合、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンを用いるのが好ましい。本発明にかかる樹脂の硬化成形に利用する場合、可視光に吸収を有する微粒子の添加量によっても異なってくるが、バインダー成分に対して、光重合開始剤の添加量は0.01重量以上10.00重量以下の範囲に選択することが好ましい。光重合開始剤はバインダー成分との反応性、光照射の波長によって1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。第2の層について本発明において、酸素透過する第2の層を形成するための高屈折率低分散な樹脂組成物は、高屈折率低分散な物質からなる微粒子、単量体、分散溶媒、表面処理剤、分散剤界面活性剤、単量体を含有する組成物からなる。本発明の第2の層を構成する樹脂に含有される微粒子の高屈折率低分散の好適な例としては、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等があげられる。ただし、これは将来、高屈折率低分散な物質が出現した際、その使用を限定するものではない。また、第2の層に樹脂にフッ素樹脂等を用いた場合、その屈折率差より屈折率を高める微粒子が不要な場合もある。またベース樹脂となる単量体、前記微粒子を、あらかじめ分散させておく溶媒に適応させて、微粒子表面に種々の表面処理剤、分散剤を用いることが好適である。微粒子の平均粒径としては、光透過率、光学散乱等に悪影響を及ぼさない大きさの粒子径であることが望ましく、1nm以上100nm以下、好ましくは2nm以上30nm以下、特に2nm以上20nm以下の範囲であることが好ましい。しかし例えば平均粒径が20nm以下であっても、微粒子の凝集した場合も含めて、粒子径の分布が幅広く30nmより大きな粒子径の粒子が体積分率で全微粒子の5以上の割合になると光学散乱に大きな悪化の影響を及ぼす。その場合には、取り除きたい粒子サイズより比較的小さな細孔を持つフィルターで濾過処理をして、不要な大きな微粒子を取り除くことが好ましい。微粒子を取り除く時期は、ベース樹脂を混ぜる前の溶媒に微粒子が分散した状態微粒子分散液か、若しくは微粒子分散液にベース樹脂を溶解させた状態か、若しくは粘度により可否はあるが、前記状態で溶媒を除去してベース樹脂と微粒子の無溶媒系にした状態が好ましい。微粒子には必要に応じて表面処理を施しておくことが望ましい。各表面処理は微粒子の合成、作製段階で行っても良いし、単独で微粒子を得た後に別途行っても良い。前記第2の層を形成するための樹脂組成物における前記透明導電性物質からなる微粒子の体積含有率が1vol.以上29vol.以下、好ましくは5vol.以上23vol.以下であることが望ましい。本発明に用いる分散溶媒の例としては、バインダー成分を溶解するため若しくは微粒子を溶媒に分散させておくため、必要に応じて表面処理剤、分散剤を溶解させるため、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、DMF、DMAc、NMP等のアミド系、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、ブチルカルビトール等のエチル類、ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。用いる微粒子の親和性、表面処理剤、分散剤の親和性に合わせて分散溶媒を選択することができ、また有溶媒は1種類のみで使用することもできるし、分散性を損なわない範囲において2種類以上を併用して使用することもできる。分散溶媒は樹脂組成物の作成工程で除去される。第2の層を形成するための樹脂組成物に含有される分散溶媒の含有量は、第2の層を形成する樹脂組成物に対して0.2重量以下、好ましくは0.05重量以下が望ましい。また、本発明において微粒子を凝集しないよう均一に分散させるための表面処理剤、分散剤界面活性剤に関しては以下のものが望ましい。一般に表面処理剤、分散剤を用いて微粒子を溶媒、樹脂等に分散する場合、添加する表面処理剤、分散剤の種類、添加量、分子量、極性、親和性等によって全く異なった分散状態を示すことが知られている。本発明に使用する表面処理剤、分散剤としては顔料の誘導体や樹脂型や活性剤型のものを好適に用いることができる。ここで表面処理剤、分散剤としては、カチオン系、弱カチオン系、ノニオン系あるいは両性界面活性剤が有効である。特にポリエステル系、ε-カプロラクトン系、ポリカルボン酸塩、ポリリン酸塩、ハイドロステアリン酸塩、アミドスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、オレフィンマレイン酸塩共重合物、アクリル-マレイン酸塩共重合物、アルキルアミン酢酸塩、アルキル脂肪酸塩、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル系、シリコーン系、フッ素系を用いることができるが、本発明においてはアンモニアよび有機アミン類から選択される少なくとも一種の塩基系のものを用いることが好適である。具体的にはディスパービックシリーズビッグケミージャパン社製の中ではディスパービック161、162、163、164、ソルスパースシリーズゼネガ社製の中ではソルスパース3000、9000、17000、20000、24000、41090あるいはTAMNシリーズ日光ケミカル社製の中ではTAMN-15等のアルキルアミンのPO若しくはEO変成物がある。また、分散剤は1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。第2の層を形成するための樹脂組成物に含有される表面処理剤、分散剤の含有量は、大きく分けて表面処理剤、分散剤の種類、微粒子の種類、微粒子の表面積微粒子径、微粒子を混合する分散樹脂の種類等、分散溶媒の種類に応じて異なる。表面処理剤、分散剤の含有量は、微粒子の重量に対して0.1重量以上25.0重量以下、好ましくは4.0重量以上20.0重量以下の範囲であることが望ましい。分散剤の添加量が25.0重量より多すぎると白濁の原因となり光学的散乱が生じてしまうため、また微粒子を含有して得られた組成物の特性屈折率、アッベ数、弾性率等を必要以上に低下させる。本発明においてベース樹脂としてのバインダー成分である単量体の選択としては前記透明導電性を有する金属酸化物微粒子が分散等している溶媒、表面処理剤、分散剤に良好に相溶するものが望ましい。単量体としては分子内に1個以上の2重結合や3重結合を有するものであれば、特に限定はされないが、不飽和基含有化合物の単量体又はオリゴマーの具体的な例としては、1,4-ジビニルシクロヘキサン、1,4-シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、4,4-ジメチル-ヘプタ-1-エン-6-イン、ジビニルベンゼン、1,6-ジビニルナフタレン、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、エトキシ化ビスフェノールAジビニルエーテル、プロポキシ化ビスフェノールAジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート等の単官能のアクリレートやメタクリレート;ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレンジメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ネオベンチルグリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、トリアクリロイロキシエチルイソシアヌレート、クリセリンやトリメチロールエタン等の多価アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後メタアクリレート化したもの、特公昭48-417G8号、特公昭50-6034号、特開昭51-37193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とメタアクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。バインダー成分中の分子内に重合官能基を有するフッ素系単量体は一種類のみで使用することもできるし、二種類以上を併用して使用することもできる。また、先に述べたアクリレートやメタクリレートとの二種類以上を併用して用いることもできる。第2の層を形成するための樹脂組成物に含有される単量体の含有量は、第2の層を形成する樹脂組成物に対して30重量以上99重量以下、好ましくは37重量以上78重量以下が望ましい。エネルギー硬化の方法としてはプラズマ処理、熱処理、放射性、紫外線等のエネルギーにより開始剤を刺激して重合させることが可能であるが、レンズ等のレプリカ成形を考えた場合、光硬化であることが好ましい。具体的に利用可能な光重合開始剤としては、例えば、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-1-ブタノン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、ビス2,46,-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイド、4-フェニルベンゾフェノン、4-フェノキシベンゾフェノン、4,4’-ジフェニルベンゾフェノン、4,4’-ジフェノキシベンゾフェノン等を好適なものとして挙げることができる。硬化した樹脂の透明性を考慮した場合、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンを用いるのが好ましい。本発明にかかる樹脂の硬化成形に利用する場合、可視光に吸収を有する微粒子の添加量によっても異なってくるが、バインダー成分に対して、光重合開始剤の添加量は0.01重量以上10.00重量以下の範囲に選択することが好ましい。光重合開始剤はバインダー成分との反応性、光照射の波長によって1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。樹脂組成物としての光学材料の調製工程について次に、本発明における樹脂組成物としての光学材料の調製工程について述べる。代表して光重合可能なバインダー成分を用いた場合を記載する。まず選択した溶媒に好適な表面処理剤若しくは分散剤を適量溶解させ、微粒子を加えせん断力を加え、微粒子の凝集体を破砕し、残った凝集体を遠心分離とフィルター処理により取り除き、均一な微粒子分散液を得る。その後、選択した光重合可能なバインダー成分及び光重合開始剤を溶解させる。バインダー成分を微粒子分散液に溶解させるにあたっては、バインダー成分の添加で微粒子の分散状態の悪化がより生じにくい溶媒、表面処理剤、分散剤の組み合わせにすることが望ましい。また必要に応じてフィルタリング処理を行い、凝集微粒子を除去することができる。完全に溶解後、微粒子の沈殿等なく好適に分散していることを確認した後、エバポレーターを用いて溶媒を除去する。この際、溶媒の沸点、残留溶媒量等に応じて減圧度を適宜調整することが望ましい。急激な溶媒の蒸発、除去により微粒子の凝集の程度を悪化させ、分散性を損なうことがある。また減圧による溶媒除去の際、必要に応じて分散性を損なわない程度に加熱することも可能である。このようにして本発明の光学材料を得る。得られた光学材料には除去し切れなかった残留溶剤を含有することがある。その含有率が0.1重量よりも大きいとエネルギー硬化時の微粒子移動を助長する作用があるらしく、屈折率勾配GIや光散乱が大きくなる。そのため残留溶媒の含有率は0.1重量以下であることが望ましい。ただし、減圧度が高すぎると、または減圧と同時に加熱を伴うことで、若しくは長時間にわたる減圧工程を経ることで、溶媒と共に添加した表面処理剤、分散剤およびバインダー成分等の単量体類も留去される恐れがある。そのため個々の分子量、沸点、昇華性等を考慮した減圧度、温度、時間等の調整が必要である。次に、本発明の光学素子および回折光学素子の成形において、光重合法を利用して、上記の樹脂組成物をエネルギー硬化により型成形体層を形成する過程を示す。基板に利用する光透過性材料上に、膜厚の薄い第1および第2の層を形成する際には、例えば、ガラス平板を基板に利用する。一方、微細な回折格子構造に対応する型に金属材料を利用する際、両者の間に、流動性を示す樹脂組成物の光学材料を流し込み、軽く抑えることで、型成形を成す。その状態に保ったまま該光学材料の光重合を行う。かかる光重合反応に供する光照射は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に対応して、好適な波長の光、通常、紫外光もしくは可視光を利用して行う。例えば、前記基板に利用する光透過性材料、具体的には、ガラス平板を介して、成形されている光学材料調製用の樹脂組成物等の原料体に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。続いて、酸素透過する第2の層を積層する。可視域全体で高効率な回折光学素子として用いる場合、第2の層に用いる材料は第1の層の光学定数により決定され、第1の層に相対的に硬化後に高屈折率低分散な値を示す。第2の層の材料としては、樹脂単体を用いたり、樹脂にジルコニアやアルミナの微粒子を混合したものを用いている。第2の層の樹脂の樹脂組成物を金型、もしくはガラス型に配置し、上記、第1の層の重合成形体回折格子等を軽く押し付け、その状態に保ったまま該光学材料の光重合を行う。かかる光重合反応に供する光照射は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に対応して、好適な波長の光、通常、紫外光もしくは可視光を利用して行う。例えば、前記基板に利用する光透過性材料、具体的には、第1の層の透明基板側もしくはガラス型側から、成形されている光学材料調製用の単量体等原料体に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。上記方法で第2の層の樹脂組成物を硬化した後、金型、もしくはガラス型から離型する事により、光学素子が得られる。第2の層の膜厚が厚すぎると酸素の透過率が小さくなり、酸素透過層としての効果がなくなる。次に、本発明を図面に基づいて説明する。図1aは、本発明の多層回折光学素子の一実施態様を示す模式的図であり、上方の図は平面図、下方の図はAA線断面図である。図1aにおいて、多層回折光学素子100は、透明基板3上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含む樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した樹脂よりなる、回折格子形状を有する第1の層2と、酸素透過する、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第2の層1とが、互いの回折格子形状が対向するように積層されて構成されている。前記第1の層2は低屈折率高分散材料からなり、前記第2の層1は高屈折低分散材料からなる。前記第2の層の上は大気中に開放され、酸素を供給する空間となっている。本発明の多層回折光学素子を用いることで、屈折率波長分散の異なる材料からなる層複数を基板上に積層し、使用波長域全域で特定次数設計次数の回折効率を高くする設計とし、かつ、可視光もしくは紫外線による特性に変化することの無い回折光学素子を提供することが可能となる。図1bは、本発明の多層回折光学素子の他の実施態様を示す模式的図である。図1bは、微細な回折格子構造に対応する型に金属材料の変わりに、多層回折光学素子の他の材料、具体的には相対的に高屈折率低分散材料を微細な回折格子構造に成形したものを透明基材ガラス基板やガラスレンズ等とし、その上に第1の層2を形成したものである。図1bの構成の多層回折光学素子を用いることで、屈折率波長分散の異なる材料からなる層複数を基板上に積層し、使用波長域全域で特定次数設計次数の回折効率を高くする設計とし、かつ、可視光もしくは紫外線による特性に変化することの無い回折光学素子を提供することが可能となる。図1cは、本発明の多層回折光学素子の他の実施態様を示す模式的図である。図1cは、図1aの第2の層1の上に、周囲と上下を閉鎖した、酸素を供給する空間5を設けたものである。前記酸素を供給する空間の高さ第2の層1と透明基板3との距離が50μm以上5mm以下で、空間に含有される酸素の濃度が10以上100以下体積で、かつ空間に含有される水の濃度が230g/m325°Cの相対湿度10以下であることが好ましい。その空間の水の濃度を230g/m325°Cの相対湿度10以下に保つ為、空間5の端部はスペーサ4および封止剤6により、外部からの水分の侵入を遮断している。封止剤としては封止材料OE-6450A/B東レダウコーニング等が挙げられる。本発明における図1cに示す構成の多層回折光学素子を用いることで、屈折率波長分散の異なる材料からなる層複数を基板上に積層し、使用波長域全域で特定次数設計次数の回折効率を高くする設計とし、かつ、可視光もしくは紫外線による特性に変化、および、吸湿による特性変化がない、回折光学素子を提供することが可能となる。図1dは、本発明の多層回折光学素子の他の実施態様を示す模式的図である。図1dは、図1bの多層回折光学素子の第1層2の上に、周囲と上下を閉鎖した、酸素を供給する空間5を設けたものである。前記酸素を供給する空間の高さ第1の層2と透明基板3との距離が50μm以上5mm以下で、空間に含有される酸素の濃度が10以上100以下体積で、かつ空間に含有される水の濃度が230g/m325°Cの相対湿度10以下であることが好ましい。その空間の水分濃度を230g/m325°Cの相対湿度10以下に保つ為、図1dに示す様に、空間5の端部はスペーサ4および封止剤6により、外部からの水分の侵入を遮断している。図1dに示す構成の多層回折光学素子を用いることで、屈折率波長分散の異なる材料からなる層複数を基板上に積層し、使用波長域全域で特定次数設計次数の回折効率を高くする設計とし、かつ、可視光もしくは紫外線による特性に変化、および、吸湿による特性変化がない、回折光学素子を提供することが可能となる。以下に本発明における光学材料の調製について具体的に説明する。実施例1低屈折率高分散材料11の調整まず、キシレン溶媒にインジウム錫酸化物ITOを分散した微粒子分散液平均粒経20nmのインジウム錫酸化物濃度9.96w、分散剤量2.19wを51.63gと、紫外線硬化型アクリル系樹脂として、トリス2―アクリロキシエチルイソシアヌレート20w、ペンタエリスリトールトリアクリレート25w、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート40w、ウレタン変性ポリエステルアクリレート13w、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2wの混合物3.72gとを混合した。この混合溶液をエバポレーターに入れ、最終的にはオイルバス温度45°C設定気圧2hPas、15時間にてキシレン溶剤を除去し、低屈折率高分散材料11を調製した。なお、インジウム錫酸化物ITOの粒径は、レーザー方式の粒度分布計ELS:大塚電子で測定を行った。また、TGAパーキンエルマー製にて、低屈折率高分散材料11を焼成し、低屈折率高分散材料11中の無機固形分量を定量した。51.2重量であった。残留溶剤キシレンの測定は、ガスクロマトグラフィー5890seriesII:HewlettPackard製で行い、0.015wであった。高屈折率低分散材料21の調整トルエン溶媒に酸化ジルコニウムを分散した微粒子分散液平均粒経10nmの酸化ジルコニウム濃度10.11w、分散剤量2.27wを160.2gと、紫外線硬化型アクリル系樹脂として、トリス2―アクリロキシエチルイソシアヌレート20w、ペンタエリスリトールトリアクリレート25w、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート40w、ウレタン変性ポリエステルアクリレート13w、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2wの混合物9.41gとを混合した。この混合溶液をエバポレーターに入れ、最終的にはオイルバス温度45°C、設定気圧3hPas、15時間にてトルエン溶剤を除去し、高屈折率低分散材料21を調製した。なお、酸化ジルコニウムの粒径は、レーザー方式の粒度分布計ELS:大塚電子で測定を行った。また、TGAパーキンエルマー製にて、高屈折率低分散材料21を焼成し、高屈折率低分散材料21中の無機固形分量を定量した。53.7重量であった。残留溶剤キシレンの測定は、ガスクロマトグラフィー5890seriesII:HewlettPackard製で行い、0.005w以下であり検出限界以下であった。光学特性の評価低屈折率高分散材料11、高屈折率低分散材料21の光学特性の評価は以下の様に行った。<屈折率>各光学素子の屈折率は、次のようにしてサンプルを作製して測定した。図2は、屈折率測定用サンプルの作製方法を示す模式図である。まず、図2aに示すように、厚さ1mmの高屈折ガラスS-TIH11:オハラ製7の上に、厚さ12.5μmのスペーサー10と測定材料8低屈折率高分散材料11を配置した。その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー10を介して載せ、測定材料8を押し広げた。これを、20mW/cm2石英ガラスを通した照度、1300秒の条件26Jで高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、測定材料8を硬化した。硬化した後、石英ガラス9をはがし、80°C、72時間でアニールした。その後、図2bの様に50μmのスペーサー11と測定材料12高屈折率低分散材料21を配置し、その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー11を介して載せ、測定材料12を押し広げてサンプルとした。これを、20mW/cm2石英ガラスを通した照度、1300秒の条件26Jで高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、測定材料12を硬化した。硬化した後、石英ガラス9をはがし、80°C72時間でアニールしたものを屈折率測定用サンプルとした。図2cに測定用サンプルの構成を示す。硬化したサンプルは、屈折計KPR-30、株島津製作所を用いて、高屈折率ガラス4側からg線435.8nm、f線486.1nm、e線546.1nm、d線587.6nm、c線656.3nmの屈折率を測定した。また、測定した屈折率より、アッペ数を算出した。<多層回折光学素子>次に、低屈折率高分散材料11で回折光学形状を成形し、空間を空ける事無く、高屈折率低分散材料21を積層し多層回折光学素子を作成し、その評価を行なった。<多層回折格子の作成>図3および図4は、回折効率の評価用多層回折光学素子の作製方法を示す模式図である。まず、図3aに示す様に、回折格子形状の金型13の上に測定材料8低屈折率高分散材料11、その上に2mm平板ガラス14を配置した。14.2mW/cm2、211秒の条件と、20mW/cm2、600秒の条件で高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、80°C、72時間、大気中でアニールして、回折格子を作成した。アニール後に測定した回折格子の格子高さは11.7μm、ピッチは80μmであった図3b。次に、平板ガラス14上に成形された測定材料8を、平板ガラス14とともに成形治具16にセットし、次いで測定材料8上に測定材料12高屈折率低分散材料21を滴下した図4a。その上に平板ガラス14をのせ、樹脂の厚みが格子の高さよりも30μm高くになるように押し広げサンプルとした。図4b。このサンプルに、14.2mW/cm2、211秒の条件と、20mW/cm2、600秒の条件で高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、サンプルを硬化した。その後、平板ガラス14を外し、80°C72時間にアニールし、多層回折光学素子作成した。図4cに多層回折格子の構成を示す。<回折効率の評価>回折効率は、スポット光を上記の多層回折光学素子にあて、受光部密着して、すべての透過光の光量を測定した後、設計次数1次の回折光の光量を測定し、その光量比設計次数の光量/全透過光光量を回折効率と定義した。<耐光性の評価>低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される屈折率測定サンプルおよび多層回折光学素子を、耐光試験機キセノンウェザーメーターX75スガ試験機株式会社製にて5mW300から400nmの照射強度、100時間にて耐光試験を行った。その後、屈折率測定サンプルの屈折率、および多層回折光学素子の回折効率を測定した。<高温高湿耐久性の評価>低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される屈折率測定サンプルおよび多層回折光学素子を高温高湿試験機小型環境試験機IW241、ヤマト科学製にて60°C、90、500時間にて高温高湿試験を行った。その後、屈折率測定サンプルの屈折率、および多層回折光学素子の回折効率を測定した。<評価結果>1初期評価結果低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子11は可視域全体の回折効率が99以上となる。ngからnCは屈折率、νdはアッペ数、θgFは部分分散比2次分散を表す。屈折率および光学定数低屈折率高分散材料11屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6037,1.5916,1.5809,1.5740,1.5640νd,θgF=20.8,0.44高屈折率低分散材料21屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.641,1.633,1.627,1.623,1.619νd,θgF=43.9,0.572耐光性評価結果低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子11は可視域全体の回折効率が99以上と初期に対して大きな変動はない。屈折率および光学定数低屈折率高分散材料11屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6027,1.5909,1.5802,1.5733,1.5632νd,θgF=20.7,0.43初期に対して屈折率変動が-0.0007~-0.0010であった。高屈折率低分散材料21屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6416,1.6336,1.6271,1.6237,1.6196νd,θgF=43.9,0.57初期に対して屈折率変動が0.0003~0.0005であった。3高温高湿耐久性評価の結果低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子11は可視域全体の回折効率が98以上と初期に対して1から2変動する。屈折率および光学定数低屈折率高分散材料11屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6015,1.5895,1.5787,1.5720,1.5621νd,θgF=20.9,0.44初期に対して屈折率変動が-0.0019~-0.0022であった。高屈折率低分散材料21屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6364,1.6285,1.6219,1.6186,1.6143νd,θgF=43.7,0.56初期に対して屈折率変動が-0.0046~-0.0049であった。実施例2実施例1と異なり、屈折率評価サンプルおよび、多層回折光学素子上に酸素を供給する空間の高さ図5の測定材料12と9石英ガラス9との距離が50μm以上5mm以下の空間を設け、水分が入ってこない様に、周りを封止剤により封止した。光学特性の評価低屈折率高分散材料11、高屈折率低分散材料21の光学特性の評価は以下の様に行った。<屈折率測定用サンプルの作成>各光学素子の屈折率は、次のようにしてサンプルを作製して測定した。まず、図2aに示すように、厚さ1mmの高屈折ガラスS-TIH11:オハラ製7の上に、厚さ12.5μmのスペーサー10と測定材料8低屈折率高分散材料11を配置した。その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー10を介して載せ、測定材料8を押し広げた。これを、20mW/cm2石英ガラスを通した照度、1300秒の条件26Jで高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、測定材料8を硬化した。硬化した後、石英ガラス9をはがし、80°C、72時間でアニールした。その後、図2bの様に50μmのスペーサー11と測定材料12高屈折率低分散材料21を配置し、その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー11を介して載せ、測定材料12を押し広げてサンプルとした。これを、20mW/cm2石英ガラスを通した照度、1300秒の条件26Jで高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、測定材料12を硬化した。硬化した後、石英ガラス9をはがし、80°C、72時間でアニールした。その後、図5に示す様に、75μmから5mmのスペーサー17を介して、石英ガラス9を載せ、封止剤18LED用封止材料OE-6450A/Bを配し、80°C、24時間で封止剤18硬化させ、25μmから5mmの酸素を供給する空間19を配した屈折率測定サンプルを作成した。その屈折率測定サンプル構成を図5示す。屈折率測定サンプル12-0は75μmスペーサー17を用いて25μmの酸素を供給する空間を配した屈折率測定サンプルを作成した。屈折率測定サンプル12-1は100μmスペーサー17を用いて50μmの酸素を供給する空間を配した多屈折率測定サンプルを作成した。屈折率測定サンプル12-2は150μmスペーサー17を用いて100μmの酸素を供給する空間を配した多屈折率測定サンプルを作成した。屈折率測定サンプル12-3は500μmスペーサー17を用いて450μmの酸素を供給する空間を配した多屈折率測定サンプルを作成した。屈折率測定サンプル12-4は1mmスペーサー17を用いて950μmの酸素を供給する空間を配した多屈折率測定サンプルを作成した。屈折率測定サンプル12-5は5mmスペーサー17を用いておおよそ5mmの酸素を供給する空間を配した多屈折率測定サンプルを作成した。硬化したサンプルは、屈折計KPR-30、株島津製作所を用いて、高屈折率ガラス4側からg線435.8nm、f線486.1nm、e線546.1nm、d線587.6nm、c線656.3nmの屈折率を測定した。また、測定した屈折率より、アッペ数を算出した。<多層回折格子の作成12>図3に示す様に、まず、回折格子形状の金型13の上に測定材料8低屈折率高分散材料11、その上に2mmガラス基板14を配置した。14.2mW/cm2、211秒の条件と20mW/cm2、600秒の条件で高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、80°C、72時間、大気中でアニールして、回折格子を作成した。アニール後に測定した回折格子の格子高さは11.7μm、ピッチは80μmであった。次に、図4に示す様に、平板ガラス14上に成形された測定材料8を、平板ガラス14とともに成形治具16にセットし、次いで測定材料8上に測定材料12高屈折率低分散材料21を滴下した図4a。その上に平板ガラス14をのせ、樹脂の厚みが格子の高さよりも30μm高くになるように押し広げサンプルとした。図4b。このサンプルに、14.2mW/cm2、211秒の条件と20mW/cm2、600秒の条件で高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、サンプルを硬化した後、平板ガラス14を外し、80°C72時間にアニールし、多層回折光学素子作成した。図4cに多層回折格子の構成を示す。その後、75μmから5mmのスペーサー17を介して、平板ガラス14を載せ、封止剤18LED用封止材料OE-6450A/Bを配し、80°C、24時間で硬化し、50μmから5mmの酸素を供給する空間19を配した多層回折光学素子を作成した。図6にその多層回折光学素子の構成の概要を示す。以下にその多層回折光学素子の構成を示す。多層回折格子12-0は75μmスペーサー17を用いて25μm酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。多層回折格子12-1は100μmスペーサー17を用いて50μm酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。多層回折格子12-2は150μmスペーサー17を用いて100μm酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。多層回折格子12-3は500μmスペーサー17を用いて450μm酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。多層回折格子12-4は1mmスペーサー17を用いて950μm酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。多層回折格子12-5は5mmスペーサー17を用いておおよそ5mmの酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。<回折効率の評価>実施例1の方法に準ずる<耐光性の評価>実施例1の方法に準ずる<高温高湿耐久性の評価>実施例1の方法に準ずる<評価結果>1初期評価結果多層回折光学素子12-0、12-1、12-2、12-3、12-4、12-5は可視域全体の回折効率が99以上となる。屈折率および光学定数屈折率測定サンプル:12-0、12-1、12-2、12-3、12-4、12-5の結果低屈折率高分散材料11屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6037,1.5916,1.5809,1.5740,1.5640νd,θgF=20.9,0.44Δn=±0.0003となり、大きな違いは見受けられない。高屈折率低分散材料21屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.641,1.633,1.627,1.623,1.619νd,θgF=43.9,0.57Δn=±0.0003となり、大きな違いは見受けられない。2耐光性評価結果多層回折光学素子12-1、12-2、12-3、12-4、12-5は可視域全体の回折効率が99以上と初期に対して大きな変動はない。多層回折光学素子12-0は可視域全体の回折効率が98以上と初期に対して1~2変動する。屈折率および光学定数屈折率測定サンプ12-1、12-2、12-3、12-4、12-5は、低屈折率高分散材料11および高屈折率低分散材料21の変動が、初期値に対してΔn=±0.0003と大きな変化はない。屈折率測定サンプ12-0は、高屈折率低分散材料21の変動は初期値に対してΔn=-0.0002と大きな変化はない。低屈折率高分散材料11屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6019,1.5898,1.5786,1.5714,1.5606νd,θgF=19.6,0.42初期に対してΔn=-0.0018~-0.0034と大きい。3高温高湿耐久性評価の結果多層回折光学素子12-0、12-1、12-2、12-3、12-4、12-5は可視域全体の回折効率が99以上と初期に対して大きな変動はない。屈折率および光学定数屈折率測定サンプ12-0、12-1、12-2、12-3、12-4、12-5は、低屈折率高分散材料11および高屈折率低分散材料21の変動が、初期値に対してΔn=±0.0003と大きな変化はない。比較例1実施例1と異なり、屈折率測定用サンプルおよび多層回折光学素子を作成する際、石英ガラス9および平板ガラス14を外さなかった。<屈折率測定サンプル13の作成>各光学素子の屈折率は、次のようにしてサンプルを作製して測定した。まず、図2aに示すように、厚さ1mmの高屈折ガラスS-TIH11:ホヤ製7の上に、厚さ12.5μmのスペーサー10と測定材料8低屈折率高分散材料11を配置した。その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー10を介して載せ、測定材料8を押し広げた。これを、20mW/cm2石英ガラスを通した照度、1300秒の条件26Jで高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、測定材料8を硬化した。硬化した後、石英ガラス9をはがし、80°C、72時間でアニールした後、図2bの様に50μmのスペーサー11と測定材料12高屈折率低分散材料21を配置し、その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー11を介して載せ、測定材料12を押し広げてサンプルとした。これを、20mW/cm2石英ガラスを通した照度、1300秒の条件26Jで高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、測定材料12を硬化した。硬化した後、実施例1とは異なり、石英ガラス9をはがさず、80°C72時間でアニールしたものを測定用サンプルとした。図7に測定用サンプルの構成を示す。硬化したサンプルは、屈折計KPR-30、株島津製作所を用いて、高屈折率ガラス4側からg線435.8nm、f線486.1nm、e線546.1nm、d線587.6nm、c線656.3nmの屈折率を測定した。また、測定した屈折率より、アッペ数を算出した。<多層回折光学素子>次に、低屈折率高分散材料11で回折光学形状を成形し、空間を空ける事無く、高屈折率低分散材料21を積層し多層回折光学素子13を作成し、その評価を行った。<多層回折格子の作成13>図3に示す様に、まず、回折格子形状の金型13の上に測定材料8低屈折率高分散材料11、その上に2mmガラス基板14を配置した。14.2mW/cm2、211秒の条件と20mW/cm2、600秒の条件で高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、80°C、72時間大気中でアニールして、回折格子を作成した。アニール後に測定した回折格子の格子高さは12μm、ピッチは80μmであった。実施例1と屈折率の評価結果が異なる為、回折格子の格子高さは屈折率の測定結果に基づいて最適化を行っている。次に、図4に示す様に、平板ガラス14上に成形された測定材料8を、平板ガラス14とともに成形治具16にセットし、次いで測定材料8上に測定材料12高屈折率低分散材料21を滴下した図4a。その上に平板ガラス14をのせ、樹脂の厚みが格子の高さよりも30μm高くになるように押し広げサンプルとした。図4b。このサンプルに、14.2mW/cm2、211秒の条件と20mW/cm2、600秒の条件で高圧水銀ランプEXECURE250、HOYACANDEOOPTRONICS株を照射し、サンプルを硬化した。硬化後、実施例1とは異なり、平板ガラス14を外さず、80°C、72時間にアニールし、多層回折光学素子作成した。図8にその構成を示す。<回折効率の評価>実施例1の方法に準ずる。<耐光性の評価>実施例1の方法に準ずる<高温高湿耐久性の評価>実施例1の方法に準ずる<評価結果>1初期評価結果低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子13は可視域全体の回折効率が99以上となる。屈折率および光学定数低屈折率高分散材料11屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6009,1.5888,1.5776,1.5704,1.5596νd,θgF=19.6,0.42実施例1に対してΔn=-0.0028~-0.0044であった。高屈折率低分散材料21屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6364,1.6285,1.6220,1.6186,1.6145νd,θgF=44.3,0.57実施例1に対してΔn=-0.0045~-0.0048であった。2耐光性評価結果低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子13は可視域全体の回折効率が98以上と初期に対して1から2変動する。屈折率および光学定数低屈折率高分散材料11屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.5997,1.5874,1.5755,1.5683,1.5572νd,θgF=18.8,0.41初期に対して屈折率変動が-0.0011~-0.0025であった。高屈折率低分散材料21屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6365,1.6286,1.6220,1.6187,1.6146νd,θgF=44.3,0.57初期に対して屈折率変動が0.0001であった。3高温高湿耐久性評価の結果低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子13は可視域全体の回折効率が99以上と初期に対して大きな変動はない。屈折率および光学定数低屈折率高分散材料11屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6009,1.5889,1.5777,1.5704,1.5597νd,θgF=19.6,0.41初期に対して屈折率変動が0.0000~0.0001であった。高屈折率低分散材料21屈折率ng,nF,ne,nd,nC=1.6364,1.6285,1.6220,1.6186,1.6145νd,θgF=44.3,0.57初期に対して屈折率変動はほとんどなかった。以上の実施例および比較例の結果から、次のことが分る。比較例1においては、ITO微粒子および単量体を含有する樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させて、低屈折率高分散材料11第1の層と高屈折率低分散材料21第2の層を石英ガラス9および平板ガラス14で密閉し、酸素の供給を遮断した多層回折光学素子を作製する。この酸素の供給を遮断した条件においては、紫外線による樹脂の光化学反応により、ラジカルが発生する。発生したラジカルはITO微粒子にトラップされ、ラジカルによりITOは還元された状態にあり、屈折率、光の吸収等の光学特性が変動して影響を与える。初期の状態では、屈折率の変化を考慮し、格子高さの補正により、回折効率を可視域全体で99以上を達成する事が可能である。しかし、耐光試験等で上記の同様な状況で、屈折率変動が-0.0011~-0.0025になる場合、回折効率が98以上となり悪化する。一方、実施例1,2の低屈折率高分散材料11第1の層と高屈折率低分散材料21第2の層を積層した多層回折光学素子は、高屈折率低分散材料21第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられている。そのために、第2の層が大気中の酸素を取り込んで第1の層のITO材料に酸素を接触させることにより、ITO微粒子にトラップされたラジカルを酸素により消滅させ、還元したITOを酸化して元の状態に戻す。このことにより、屈折率、光の吸収等の光学特性は耐光試験等での変動が小さくなる。"