種々の動作モード間で切り替えることのできるレーザ走査顕微鏡であって、切り替えのために第1のビーム路の照明ビーム路中には電気光学的変調器EOMが含まれ、該電気光学的変調器には、第1および第2の偏光回転素子が前置および後置され、該電気光学的変調器には、第2のビーム路を形成するための少なくとも1つの第1の偏光スプリッタが後置され、該第2のビーム路には、光影響手段が配置されている、レーザ走査顕微鏡。請求項1に記載のレーザ走査顕微鏡であって、前記第1の素子はEOMの動作モードに調整され、前記第2の素子は前記第1または前記第2のビーム路の調整を行う、レーザ走査顕微鏡。請求項1または2に記載のレーザ走査顕微鏡であって、前記光影響手段を介して、光方向で後置された第2の偏光スプリッタが前記第1および前記第2のビーム路の統合を行い、前記EOMは、少なくとも2つの動作状態B1、B2の間で切り替え可能であり、前記動作状態は、B1.偏光の切り替え、B2.焦点変調FMMを形成するためにEOMの異なる領域を異なって変調することである、レーザ走査顕微鏡。請求項1乃至3のいずれか1項に記載のレーザ走査顕微鏡であって、前記偏光回転素子は、λハーフプレートである、レーザ走査顕微鏡。請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザ走査顕微鏡であって、前記第2のビーム路には光影響手段として少なくとも2つの部分ビームへのビーム分割部が設けられている、レーザ走査顕微鏡。請求項1乃至5のいずれか1項に記載のレーザ走査顕微鏡であって、部分ビームは、互いに角度をなす、レーザ走査顕微鏡。請求項1乃至6のいずれか1項に記載のレーザ走査顕微鏡であって、前記第2のビーム路中で前記光影響手段の前方および前記第1のビーム路中で前記第1および前記第2の偏光スプリッタの間のうちの少なくとも一方には制御可能な光シャッタが設けられている、レーザ走査顕微鏡。請求項1乃至7のいずれか1項に記載の特徴を含む、前記照明ビーム路中の構成群、好ましくはレーザ走査顕微鏡中の構成群。請求項1乃至8のいずれか1項に記載のLSMによるレーザ走査顕微鏡のための方法であって、前記LSMの以下の動作モードの1つまたは複数が調整される、シングルスポットLSMマルチスポットLSMシングルスポットFMMマルチスポットFMMFRAPシステム、方法。請求項9に記載の方法であって、前記動作モードの切り替えは、ブリーチング過程または他の好ましくはシングルスポットの後に、試料領域のマニピュレーション、LSMのマルチスポットモードへの直接的切り替えが行われるように実行される、方法。発明本発明は、独立請求項の特徴部分によって特徴付けられる。有利な改善形態は従属請求項の対象である。本発明で請求される解決手段は、具体的なFRAP課題設定にも、2つのビーム経路の高速の切り替えを必要とする択一的な画像形成モード間での高速切り替えにも関連する。ここでビーム経路の1つはマルチスポット発生を含むことができるが、含む必要はない。以下、本発明の種々の有利な実施形態を概略的に説明する。図1は、LSMのフレキシブルなマルチモードアプローチのためのビーム切り替えおよびビーム変調を実行する構成を示す。図面および明細書に詳細に説明されたセグメント化されたEOMs-EOMによりマルチモードLSMが例えば、シングルスポットLSMマルチスポットLSMシングルスポットFMMマルチスポットFMMFRAPシステムとして駆動され、さらにこれらの動作状態の間を往復して高速に切り替えることができる。光源レーザのビーム路には光電変調器S-EOMが設けられており、この光電変調器は有利には図2に示されるように制御することができる。S-EOMにはλ/2プレートP1とP2が前置および後置接続されている。プレートP2には偏光ビームスプリッタPBS1が続いており、PBS1の通過方向には別の偏光ビームスプリッタPBS2が続いている。PBS1の反射方向には光シャッタS1と、レーザ光からマルチスポットを形成するためのMSモジュールとが設けられている。レーザ光はミラーを介してPBS2から走査モジュールを有する顕微鏡Mの方向に再び入力結合される。さらに透過方向で両方のPBSの間に第2の光シャッタS2を有利に配置することができる。プレートP1とP2は制御ユニットASを介して回転可能に構成されておりP1、P2、P2はさらに外に旋回可能に構成することができる。シャッタとS-EOMも同様に制御ユニットASと接続されており、制御ユニットは種々の動作モード間の切り替えを制御する。シャッタS1は、とりわけシングルスポットLSM、FMMモードでは、光がMSモジュールおよびPB2を介して試料に達し、それにより弱いゴーストイメージが形成され得ることを完全に回避するために用いられる。シャッタS2は、部分ビームの1つがマルチスポットモードで、急な遷移ストライプに伴う不均等な画像明度の原因となり得る両方のPBSにより誤偏光されたレーザ光が氾濫することによる強調過多を回避するために用いられる。表1には、レーザ走査顕微鏡の前記動作形態に対する個々のエレメントの例として動作モードが示されている。半波電圧とは、使用されるレーザ波長に対するEOMの動作電圧であり、この動作電圧は異方性に偏光されたレーザ光の成分の運動遅延を半分の波長において引き起こし、したがって偏光の回転は90度である。P1でのゼロ度と22.5度は、入射するレーザビームの偏光で前提にされた線形の配向と、半波プレートの異方性結晶軸との間の角度である。レーザビームは例えば前置されたAOTFにより前記線形の配向を受け、例えば垂直に配向することができる。焦点変調モード3および4では、電極E1ではなく電極E2を変調することも考えられる。したがって表1の個々の動作モードについて、レーザビームは図1に示したエレメントを介して以下のようにビーム経過する。1.P1、EOM、P2、PBS1、S2、PBS2を介して方向Mに2.P1、EOM、P2、PBS1、S1、MS、PBS2を介してMに3.P1、EOM、P2、PBS1、S2、PBS2を介してMに4.P1、EOM、P2、PBS1、S1、MS、PBS2を介してMに5.P1、EOM、P2、PBS1、S2、PBS2を介してMに図2は、電気光学的変調器EOMを示す。本発明では、EOMがFMMモードで、励起光線の少なくとも一部、好ましくは半分をとくに高速に非機械的に変調するために使用される。励起光線の半分は、1つまたは複数のEOMの一部を逆極性に制御することにより異なって逆相に変調される。EOMの一部が異なって制御される場合、当業者には通常の絶縁層によって、セグメント化された電極の互いの影響を回避することができる。電気光学的変調器は、二重屈折結晶内のポッケルス効果を利用する。ポッケルス効果では、電圧を結晶に印加することにより、その異方性屈折率が変化する。このことは、通過するレーザ光の偏光または位相を走査するのに利用される。ポッケルス効果はほとんど即時に生じ、これにより変調を結晶の種類と大きさに応じて非常に高速に行うことができる最大数10MHz。以下に、実施例についてどのようにFMM顕微鏡に有利に使用することができるかを説明する。並置される、または互いにずらし、向き合って配置される電極により形成される逆相の場E1、E2を有するEOMが図2に概略的に示されている。すべてのEOMベースの解決手段における基本的に重要な利点は、数10MHzの大きな変調速度である。EOMは、非特許文献1、非特許文献2によれば照明ビーム路、有利には拡張された視準化されたビーム区間に配置される。ビーム拡張の大きさによりビーム横断面を結晶サイズに適合することができる。図2の左では上方と下方の2つの半分ビームが、上側部分と下側部分とで逆相に極性付けられた電極により異なって変調される。変調された区間はレーザビームで上下に重なることができるが、重なる必要はない。図2の右部分には側面図が概略的に示されており左部分の矢印方向、制御される区間は有利には互いに側面がずらされている。これは散乱場EOMでは高電圧が必要を回避するのに有利である。逆相に極性付けられた実施例は、例えば結晶を変調すべきでないが、一方の側から他方の側へのクロストーク効果を回避すべき場合に有利である。逆相の制御により、さらに有利にはストローク間隔逆に経過する振幅の間隔が、単相の制御と比較して倍になる。所望の位相ストロークを区別する場合、これにより有利には結晶も短縮できる伝搬長の短縮。さらにEOMの制御される領域をずらして配置することにより、両方のビーム領域をオーバラップすることができる半分を超えて。マルチモード切り替えのためのアプローチ後で明らかになるように、EOMは別の動作モードでも同じ構成で、シングルスポット変形例での駆動のために、好ましくはFRAPのために驚くことには有利に使用できる。図3は、図1に示した構成のための電気光学的変調器を斜視図で示す。交番電場を形成するための電極1と2は、結晶の下面に対応する対向電極を有する分かりやすくするため図示されていない。セグメント化された電極を備えるEOMの等方性結晶軸と異方性結晶軸とは互いに垂直であり、かつ光軸に対して垂直であり、図に示されているように、電場の軸に対して45°で配向されている。このことは線形に偏光されたレーザ光に対して以下の作用を有する。異方性結晶軸に沿ったレーザ偏光→レーザ光は、電極に印加される電界強度にしたがいポッケルス効果のため遅延運転期間が延長される。異方性等方性結晶軸に対して45°でレーザ偏光→光は異方性等方性伝搬方向に均等に分割される。電極に印加される電圧に応じて異方性伝搬成分の遅延、結晶から出た後に両方の成分が重なると新たな位相状態が調整される。これは半波遅延では例えば線形の90°回転、または四分の一波遅延では円偏光である。動作モードFMM3aに対しては、レーザ偏光がEOMの高速結晶軸すなわち異方性軸に沿って入射される。この配向は、図1でS-EOMに前置され、回転可能に構成された第1のλ/2プレートP1によって調整することができる。対応して偏光回転は行われないが、FMMに必要なように、EOMにおける半分ビームの位相変調または両方の半分ビームの逆相変調は必要である。第2のλ/2プレートP2S-EOMの後方の回転により、PBS1と関連して、レーザ出力をマルチスポットモードを介して導くのかマルチスポットFMMまたはスキャンヘッド/顕微鏡の方向に直接導くのかシングルスポットFMMを調整することができる。S-EOMの前方にある第1のλ/2プレートP1が回転されると、レーザ偏光と異方性等方性結晶軸とが45°の角度を形成し図3b、セグメント化された電極が同相で制御される。これにより両方のビーム半分の間に位相差は存在せず、EOMは偏光スイッチとして機能し、例えば偏光を水平と垂直との間で、例えば矩形電圧の制御により高速に切り替える。すなわち、光がPBSを透過するか、またはここで反射されるかを設定する。その際、この動作モードに対しては、第2のλ/2プレートがビーム路から取り出されるか、またはその高速軸が後続のPBSの優位軸に対して平行になるよう配向される。この動作モードでは、このシステムを有利にはFRAPに使用することができる。高速の切り替えにより、スキャナと関連して任意のROI関心領域、特許文献3を目的通りにブリーチングすることができる。とりわけ生体セル画像形成のためには、高速観察のためのマルチスポットLSMとシングルスポットマニピュレーションとの魅力的な組み合わせが有利に可能である。直線通過表T1の第5行でのマニピュレーションイベントの後に、マルチスポットLSMモードで引き続き観察走査表T1の第2行を高速に行うことができ、これによりマニピュレーションによってトリガされた動的な事象例えば色素の活性化を高い時間的分解能で観察することができる。本発明は提示された経過に束縛されるものではない。むしろ当業者が取り扱う枠内で本発明を、異なる複数の動作モードの切り替えのために使用することができ、本発明はペアでもまたは多重の組み合わせでも有利に使用することができる。