"下記の一般式を有するポリマーフェナゾニウム化合物を製造する方法であって、R1、R2、R4、R5、R6、R8及びR9は、同一であるか又は異なっており、水素、低級アルキル、又は置換アリールを表し、R3は、NH2として開始し、ジアゾ化された後に重合され、R5及びR8は、モノマー又はポリマーのフェナゾニウム基を表してもよく、R7は、芳香環中の炭素であり、RX-N-RYは、置換アミンを表し、RX及びRYは、CH3、C2H5、及び水素の任意の組合せを表し但し、RX及びRYのいずれもが水素となることはない、Aは、酸基であり、nは、2~100の整数であり、a有効量のアミノ化合物をギ酸溶液に溶解させる工程と、b亜硝酸塩を添加して前記アミノ化合物をジアゾ化する工程と、cスルファミン酸を添加して工程bで形成され得る余分な亜硝酸を中和し、ポリマーフェナゾニウム化合物を製造する工程と、を含む方法。nが、2~20の整数である請求項1に記載の方法。アミノ化合物が、2-メチル-3-アミノ-7-ジメチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウム硫酸塩、3-アミノ-6-メチル-7-ジメチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウム硫酸水素塩、2-メチル-3-アミノ-7-ジエチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウムクロライド、3-アミノ-7-ジメチルアミノ-5-メチルフェナゾニウム酢酸塩、2-メチル-3-アミノ-7-フェニルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウム硫酸水素塩、2-メチル-3-アミノ-7-ジメチルアミノ-フェナゾニウム硫酸水素塩、3-アミノ-7-メチルアミノ-5-フェニルフェナゾニウム酢酸塩、2-フェニル-3-アミノ-7-エチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウムクロライド、1,2,6,9-テトラメチル-3-アミノ-7-ジエチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウム硫酸水素塩、2,8-ジメチル-3-アミノ-7-ジエチルアミノ-5-トリル-フェナゾニウムクロライド、及び2,9-ジフェニル-3-アミノ-6-メチル-7-ジメチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウム硫酸水素塩からなる群から選択される請求項1に記載の方法。亜硝酸塩が、亜硝酸ナトリウムである請求項1に記載の方法。アミノ化合物を、約-10°C~約0°Cの間の温度でギ酸に溶解させる請求項1に記載の方法。工程bの後、反応を少なくとも20°Cまで加温する請求項1に記載の方法。酸性銅電解槽にポリマーフェナゾニウム化合物を添加する工程を更に含む請求項1に記載の方法。ギ酸溶液中のアミノ化合物の濃度が、約100g/L~約200g/Lである請求項1に記載の方法。ギ酸溶液中のアミノ化合物の濃度が、約120g/L~約185g/Lである請求項8に記載の方法。ポリマーフェナゾニウム化合物の製造方法が、塩基でポリマーフェナゾニウム化合物を中和する工程を含まない請求項1に記載の方法。窒素のガス放出が、実質的に発生しない請求項1に記載の方法。ポリマーフェナゾニウム化合物中の重合フェナゾニウムの濃度が、約30g/L~約34g/Lである請求項1に記載の方法。本発明の目的は、従来技術の問題点を克服する、フェナゾニウムモノマーを形成する改良された方法を提供することにある。本発明の別の目的は、ポリマー染料の合成を改良するフェナゾニウムモノマーを形成する方法を提供することにある。本発明の更に別の目的は、少ない工程数で、ポリマーフェナゾニウム化合物を形成する方法を提供することにある。本発明の更に別の目的は、従来技術の方法と比較してより高いパーセント濃度の重合材料を最終生成物中に含有する、ポリマーフェナゾニウム化合物を形成する方法を提供することにある。この目的のために、本発明は、一般的に、下記一般式を有するポリマーフェナゾニウム化合物を製造する方法であって、R1、R2、R4、R5、R6、R8及びR9は、同一であるか又は異なっており、水素、低級アルキル、又は置換アリールを表し、R3は、NH2として開始し、ジアゾ化された後に重合され、R5及びR8は、モノマー又はポリマーのフェナゾニウム基を表してもよく、R7は、芳香環中の炭素であり、RX-N-RYは、置換アミンを表し、RX及びRYは、CH3、C2H5、及び水素の任意の組合せを表し但し、RX及びRYのいずれもが水素となることはない、Aは、酸基であり、nは、2~100の整数であり、前記ポリマーフェナゾニウム化合物は、金属めっき浴中の添加剤として使用可能であり、前記方法は、a有効量のアミノ化合物をギ酸溶液に溶解させる工程と、b亜硝酸塩を添加して前記アミノ化合物をジアゾ化する工程と、cスルファミン酸を添加して工程bで形成され得る余分な亜硝酸を中和する工程と、を含み、ポリマーフェナゾニウム化合物が製造される方法に関する。本発明は、例えば特許文献1に記載されたポリマーフェナゾニウム化合物を合成するための従来の方法とは異なる方法をとり、ポリマー染料の合成の容易さにおいて、幾つかの利点を提供する。本発明は、一般的に、ポリマーフェナゾニウム化合物、及びその改良された製造方法に関する。これらのポリマーフェナゾニウム化合物は、例えば、酸電解質中での光沢平滑化銅被膜の堆積のために使用される。本発明者らは、驚くべきことに、アミノ化合物と得られた重合フェナゾニウム染料との両方が、ギ酸溶液に極めて溶解し易いことを見出した。特許文献1は、重合フェナゾニウム化合物を製造するための強酸としての酢酸の使用を示しているが、酢酸の使用は、依然として前記特許に記載された多数の工程を必要とする。しかしながら、本発明者らは、ギ酸を使用した場合に、アミノ化合物のギ酸への溶解度によりもたらされる驚くべき結果を見出した。従って、その結果として、本明細書に記載の方法によれば、ポリマーフェナゾニウム化合物を製造するために必要な工程数は遥かに少ない。特に、アミノ化合物を選択し、前記アミノ化合物をギ酸溶液に溶解し、続いて亜硝酸塩を低温下で通常の方法で添加し、前記アミノ化合物をジアゾ化することが可能である。その後、余分な亜硝酸を中和するためにスルファミン酸が添加される。その結果、酸性銅電解質溶液における使用の前に何ら追加の工程を必要としない、重合フェナゾニウム染料の高濃度の溶液となり、これは次の形態をとる:R1、R2、R4、R5、R6、R8及びR9は、同一であるか又は異なっており、水素、低級アルキル、又は置換アリールを表し、R3は、NH2として開始し、ジアゾ化された後に重合され、R5及びR8は、モノマー又はポリマーのフェナゾニウム基を表してもよく、R7は、芳香環中の炭素であり、RX-N-RYは、置換アミンを表し、RX及びRYは、CH3、C2H5、及び水素の任意の組合せを表し但し、RX及びRYのいずれもが水素となることはない、Aは、酸基であり、nは、2~100の整数である。特に、本発明は、一般的に、下記一般式を有するポリマーフェナゾニウム化合物を製造する方法であって、R1、R2、R4、R5、R6、R8及びR9は、同一であるか又は異なっており、水素、低級アルキル、又は置換アリールを表し、R3は、NH2として開始し、ジアゾ化された後に重合され、R5及びR8は、モノマー又はポリマーのフェナゾニウム基を表してもよく、R7は、芳香環中の炭素であり、RX-N-RYは、置換アミンを表し、RX及びRYは、CH3、C2H5、及び水素の任意の組合せを表し但し、RX及びRYのいずれもが水素となることはない、Aは、酸基であり、nは、2~100の整数であり、前記ポリマーフェナゾニウム化合物は、金属めっき浴中の添加剤として使用可能であり、前記方法は、a有効量のアミノ化合物を低温でギ酸溶液に溶解させる工程と、b亜硝酸塩を添加して前記アミノ化合物をジアゾ化する工程と、cスルファミン酸を添加して工程bで形成され得る余分な亜硝酸を中和する工程と、を含み、これによってポリマーフェナゾニウム化合物が製造される方法に関する。本発明の実施において使用可能なアミノ化合物としては、例えば、2-メチル-3-アミノ-7-ジメチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウム硫酸塩、3-アミノ-6-メチル-7-ジメチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウム硫酸水素塩、2-メチル-3-アミノ-7-ジエチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウムクロライド、3-アミノ-7-ジメチルアミノ-5-メチルフェナゾニウム酢酸塩、2-メチル-3-アミノ-7-フェニルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウム硫酸水素塩、2-メチル-3-アミノ-7-ジメチルアミノ-フェナゾニウム硫酸水素塩、3-アミノ-7-メチルアミノ-5-フェニルフェナゾニウム酢酸塩、2-フェニル-3-アミノ-7-エチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウムクロライド、1,2,6,9-テトラメチル-3-アミノ-7-ジエチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウム硫酸水素塩、2,8-ジメチル-3-アミノ-7-ジエチルアミノ-5-トリル-フェナゾニウムクロライド、及び2,9-ジフェニル-3-アミノ-6-メチル-7-ジメチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウム硫酸水素塩等が挙げられる。これらの化合物は、最も好ましくは、3位のアミン、及び7位の置換アミンを有する。好ましい一実施形態においては、前記アミノ化合物は、下記構造を有する2-メチル-3-アミノ-7-ジメチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウムクロライドである。別の好ましい実施形態においては、前記アミノ化合物は、下記構造を有する2-メチル-3-アミノ-7-ジエチルアミノ-5-フェニル-フェナゾニウムクロライドである。それに基づけば、本明細書に記載の方法に従ってこれらのアミノ化合物から製造されるポリマーフェナゾニウム化合物としては、例えば、ポリ6-メチル-7-ジメチルアミノ-5-フェニルフェナゾニウム硫酸塩、ポリ2-メチル-7-ジエチルアミノ-5-フェニルフェナゾニウムクロライド、ポリ2-メチル-7-ジメチルアミノ-5-フェニルフェナゾニウム硫酸塩、ポリ5-メチル-7-ジメチルアミノフェナゾニウム酢酸塩、ポリ2-メチル-7-アニリノ-5-フェニルフェナゾニウム硫酸塩、ポリ2-メチル-7-ジメチルアミノフェナゾニウム硫酸塩、ポリ7-メチルアミノ-5-フェニルフェナゾニウム酢酸塩、ポリ7-エチルアミノ-2,5-ジフェニルフェナゾニウムクロライド、ポリ2,8-ジメチル-7-ジエチルアミノ-5-p-トリル-フェナゾニウムクロライド、ポリ2,5,8-トリフェニル-7-ジメチルアミノフェナゾニウム硫酸塩、及びポリ7-ジメチルアミノ-5-フェニルフェナゾニウムクロライドを含む、この種のポリマーフェナゾニウム化合物からなる群から選択される化合物が挙げられるが、これらに限定されない。本発明の実施において、様々な亜硝酸塩が使用可能であるが、好ましい亜硝酸塩は、ジアゾ化剤としての亜硝酸ナトリウムである。本発明の実施において使用可能な別のジアゾ化剤は、ニトロシル硫酸である。反応は、典型的には、完全に反応生成物ポリマーを生成するために、少なくとも20°Cまで加温される。好ましい実施形態においては、金属めっき浴は銅を含む。典型的には、銅は硫酸銅の形態である。但し、他の銅塩を使用してもよい。例えば、一実施形態では、本発明に係るポリマーフェナゾニウム化合物を添加した銅被膜の堆積のための電解質として、以下の組成の硫酸-硫酸銅溶液を用いてもよい。硫酸銅CuSO45H2O125g/L~260g/L硫酸H2SO420g/L~85g/L硫酸銅に代えて、少なくとも一部に他の銅塩を使用してもよい。硫酸は、フルオロホウ酸、リン酸、及び他の好適な酸の少なくともいずれかによって、部分的に又は完全に置き換えられてもよい。電解質は、塩化物を含まなくてもよいし、又は、アルカリ塩化物等の塩化物や塩酸を0.001g/Lから0.2g/Lの量で含んでいてもよく、これは光沢及びレベリングを改善するために通常有利である。ギ酸溶液中のアミノ化合物の濃度は、好ましくは約100g/L~約200g/Lであり、より好ましくは約110g/L~185g/Lであり、最も好ましくは約110g/L~約122g/Lである。上述のように、本明細書において請求する方法は、例えば特許文献1に記載されている方法において必要とされる追加の処理工程を必要としない。例えば、本発明の方法は、ポリマーフェナゾニウム化合物を析出させるためのポリマーフェナゾニウム化合物の塩基による中和工程、並びに最終生成物を製造するための追加の精製及び単離工程を必要としないので、これらの工程を含まない。より具体的には、本発明の好ましい実施形態においては、アンモニアガス、水酸化カリウム、又は水酸化ナトリウムによってポリマーフェナゾニウム化合物を中和する必要はない。また、使用前に最終生成物をろ過する必要もない。最後に、ギ酸の使用はまた、著しい窒素ガスの放出を生じることなく、ポリマーフェナゾニウム生成物を製造する。その一方、ポリマーフェナゾニウム生成物の生成における硫酸、塩酸、酢酸等の他の強酸の使用は、著しい窒素ガスの放出を伴う。特許文献1に記載されている実施例がウェットケーキ収率について報告しており、これらの実施例に従って調製された物質の特性を下記の表1に示した。特許文献1に記載の物質1~物質12の特性Na2SO4が混入しているNH42SO4が混入している上記物質はいずれも、数種のアルカリ塩KCl、NaCl、K2SO4、Na2SO4、NH42SO4、NH4Cl等も含んでいるであろう。その一方、本明細書に記載されている方法は中和工程を含んでおらず、その結果として無機塩の存在が排除されている。析出物の塩含有量のため、モノマーの割合を予測することは困難である。しかしながら、本発明者らは、0.1モルのモノマー36.45gから開始し、本明細書に記載された工程が完了した後に、反応物の全量が、脱イオン水によって1Lの使用可能な溶液に希釈されることを見出した。この材料の性能は極めて優れている。モノマーを重合工程のない実行手順で処理する場合、結果が良いということはない。本明細書に記載されるように、ポリマーフェナゾニウム化合物を銅電解液に添加する場合、通常は結晶性の光沢のない析出物が、広い電流密度の範囲で光沢を有するようになる。好ましくは、電流密度が約0.1ASDから約8.0ASDのレベルに維持される。本発明に従って製造された物質は、他の一般的な光沢形成剤及び湿潤剤の少なくともいずれかと併用し、濁りがなく高光沢の被膜を堆積させるためにも特に適している。特許文献1に記載の光沢形成剤及び湿潤剤の少なくともいずれかもまた、所定の範囲内で本発明の銅電解液に添加することができる。加えて、銅電解液中の個々の化合物の濃度比は、広い範囲内で変化し得る。本明細書に記載の方法に従って製造されたポリマーフェナゾニウム化合物は、約0.0001g/L~0.5g/L、好ましくは約0.002g/L~約0.015g/Lの濃度で酸性銅電解液に用いることができる。実施例1幾つかの染料製造業者から入手可能なアミノ化合物C21H21N4Cl2-メチル-3-アミノ-5-フェニル-7-ジメチルアミノフェナゾニウムクロライド36.45グラム0.1モルを、約300mLの90重量のギ酸に溶解した。次いで、前記溶液を約-10°Cから0°Cに冷却し、ジアゾ化溶液7.59グラムの亜硝酸ナトリウム約0.11モルを、25.00gの脱イオン水に溶解させたものを前記所定の範囲の温度を維持しながらゆっくりと添加した。添加が完了した後、反応物を前記所定の温度で約2時間撹拌した。次いで、1.20gのスルファミン酸を10gの脱イオン水に溶解した溶液を混合することにより、過剰な亜硝酸を除いた。溶液を約20°Cまで加温した場合には、観測されたガス放出は殆ど無いか、又は全く無かった。反応が完了した後、染料濃縮物を1Lの脱イオン水に希釈し、4時間混合した。これは、追加の中間工程なしで酸性銅電解液に直接使用することができる。比較例36.45g0.1モルのアミノ化合物2-メチル-3-アミノ-5-フェニル-7-ジメチルアミノフェナゾニウムクロライドを423mLの脱イオン水に溶解し、次いで210mLの37塩酸12.0N溶液で懸濁した。その後、前記溶液を35.00gの脱イオン水に溶解した7.59gの亜硝酸ナトリウムと混合してジアゾ化した。次いで、前記溶液を1.20gのスルファミン酸を10.00gの脱イオン水に溶解させた溶液と混合することにより、過剰な亜硝酸を除いた。前記溶液を約20°Cまで加温した。しかしながら、著しいガス放出が観察された。窒素の発生が終了した後、95.32gの脱イオン水と混合した315.00gの45水酸化カリウムの溶液で染料を中和した。その後、中和された染料を析出物の形で溶液から濾過し、これをオーブン中で乾燥し、次いで粉砕して微粉にした。最後に、得られた染料を硫酸に溶解し、次いで浴を用意するために脱イオン水で希釈した。乾燥したポリマーフェナゾニウム生成物は、残留無機塩をも含んでいた。従って、塩酸中において目的物を製造した後、ナトリウム又はカリウムで中和して塩化ナトリウム又は塩化カリウムのいずれかを形成する場合は、めっき浴の消費量を超える塩/生成物比を避ける必要がある。本明細書に記載したように、本発明の方法は、より簡単に製造可能なポリマーフェナゾニウム化合物を製造し、必要な処理工程数が少なく、著しいガス放出を伴わない。本発明をその特定の実施形態に関して上記で説明したが、本明細書に開示された発明の概念から逸脱することのない多くの変更、修正、及び変形がなされ得ることは明らかである。従って、添付する特許請求の範囲の精神及び広い範囲内に入る全てのそのような変更、修正、及び変形を包含することが意図される。本明細書中で引用した全ての特許出願、特許、及び他の刊行物は、その全体を参照することにより援用する。"