エレクトウェッティングデバイスの製造方法であって、基板上に透明電極を形成する工程と、フォトリソグラフィにより前記透明電極上に画素を区切る隔壁リブを形成する工程と、前記隔壁リブを覆うように基板全面にブラシ固定化膜を形成する工程と、前記隔壁リブの垂直部分をUV露光して不活性化する工程と、前記隔壁リブの裾の部分を含め隔壁リブ間の前記透明電極上に撥水性のブラシ層を形成する工程とを有するエレクトウェッティングデバイスの製造方法。請求項1に記載のエレクトウェッティングデバイスの製造方法において、前記ブラシ層として、222trifluoromethacrylateを用いたことを特徴とするエレクトウェッティングデバイスの製造方法。請求項1または2に記載のエレクトウェッティングデバイスの製造方法において、前記ブラシ固定化膜として、propionyloxyhexyltriethoxysilaneを用いたことを特徴とするエレクトウェッティングデバイスの製造方法。本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、液滴の移動不良が発生しなく、表示不良が発生しない、エレクトウェッティングデバイスの製造方法を提供することを課題とする。本発明に係るエレクトウェッティングデバイスの製造方法は、基板上に透明電極を形成する工程と、フォトリソグラフィにより前記透明電極上に画素を区切る隔壁リブを形成する工程と、前記隔壁リブを覆うように基板全面にブラシ固定化膜を形成する工程と、前記隔壁リブの垂直部分をUV露光して不活性化する工程と、前記隔壁リブの裾の部分を含め隔壁リブ間の前記透明電極上に撥水性のブラシ層を形成する工程とを有する。本発明によれば、隔壁リブの側面にまで撥水層が広がるため隔壁リブからのオイル滴の離れ易さを向上することで、液滴の移動不良が発生しなく、表示不良が発生しない、エレクトロウェッティングディスプレイを製造することができる。実施の形態1.以下、本発明の実施の形態1に係るエレクトウェッティングデバイスの製造方法について説明する。図1ないし図5は、本発明の実施の形態1に係るエレクトウェッティングデバイスの製造方法を説明する工程図である。まず、図1に示すように、基板1上に透明電極としてのITO電極2が形成される。そして、図2に示すように、フォトリソグラフィによって基板1上に形成されたITO電極2上に画素を区切る隔壁リブ3を形成する。この隔壁リブ3の形成時に、下地膜からの散乱光によって隔壁リブ3の下部で裾が広がった形状を有するFoot部分4が少なからず発生する。本発明の実施の形態1では、その後、図3に示すように、このようなFoot部分4を有する隔壁リブ3を覆うように基板全面にブラシ固定化膜5を形成する。このブラシ固定化膜5の材料としては、例えばpropionyloxyhexyltriethoxysilaneを用いる。次に、隔壁リブ3の垂直部分をUV露光して不活性化することで裾の部分に固定化膜を成膜できるようにする。さらに、図5に示すように、隔壁リブ3の裾の部分であるFoot部分4を含め隔壁リブ3間のITO電極2上にフッ素系濃厚ブラシ層6を形成する。このフッ素系濃厚ブラシ層6の材料としては、222trifluoromethacrylateを用いる。このフッ素系濃厚ブラシ層6の機能としては、ナノレベルの膜厚で撥水性を与えるだけである。このようにして、フッ素系濃厚ブラシ層6を形成すると、図5に示すように、隔壁リブ3の側面裾の部分であるFoot部分4にまでブラシ層を形成して撥水性を得ることができ、隔壁リブ3の側面にまで撥水層が広がるため、隔壁リブ3からのオイル滴の離れ易さを向上することで、液滴の移動不良が発生しないようになる。従って、上記実施の形態によるエレクトウェッティングデバイスの製造方法によれば、隔壁リブ3の裾の部分を含め隔壁リブ3間のITO電極2上に撥水性のブラシ層を形成することにより、隔壁リブ3の側面にまで撥水層が広がるため隔壁リブ3からのオイル滴の離れ易さを向上することで、液滴の移動不良が発生しないようになり、この結果、表示不良の発生を防止できる。