"フェムト秒レーザパルスによって眼組織8を処理するための眼科用装置1であって、前記フェムト秒レーザパルスを前記眼組織8に集光して投射するための投射光学ユニット2と、前記投射光学ユニット2の上流側に配置された第1のビーム偏向スキャナ系3であって、前記フェムト秒レーザパルスによって処理線sに沿って前記眼組織8を走査するための第1のビーム偏向スキャナシステム3と、前記第1のスキャナシステム3の上流側に配置された第2のビーム偏向スキャナシステム5であって、前記フェムト秒レーザパルスによって、前記処理線sに重ね合わされ、偏向平面FF内を進む走査移動fで前記眼組織8を走査するための第2のビーム偏向スキャナシステム5と、前記偏向平面FFを前記処理線sに対して所定の角度に位置合わせするための回転システムと、を備えている、眼科用装置1。前記第1のスキャナシステム3は、前記フェムト秒レーザパルスを偏向するために、相互に直交するように位置合わせされた2つの走査軸31,32を有し、前記第2のスキャナシステム5は、前記第1のスキャナシステム3の走査速度の倍数の走査速度で前記フェムト秒レーザパルスを偏向するように構成されており、前記回転システムは、前記第1のスキャナシステム3の上流側に配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の装置1。前記回転システムは、回転モジュール9、9’、9’’と回転制御モジュール90とを備えており、前記回転モジュール9、9’、9’’は、投射光軸zを中心として前記偏向平面FFに所定の回転を加えるように構成されており、前記回転制御モジュール90は、前記処理線sの経路に基づいて前記偏向平面FFの前記回転を規定するように構成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の装置1。前記回転モジュール9、9’、9’’は、ミラーから構成された回転エレメント、プリズムから構成された回転エレメント、および、前記第2のスキャナシステム5に結合されるとともに前記投射光軸zを中心として前記第2のスキャナシステム5を回転させるように構成された駆動モジュールのうちいずれか1つを備えていることを特徴とする、請求項3に記載の装置1。前記第2のスキャナシステム5は、前記フェムト秒レーザパルスを偏向するために、相互に直交するように位置合わせされた2つの走査軸51,52を有し、前記回転制御モジュール90は、前記第1の走査軸51を中心とする偏向bの偏倚振幅Bと前記第2の走査軸52を中心とする偏向aの偏倚振幅Aを、連携させて制御することによって、前記偏向平面FF内を進む前記走査移動fの、前記処理線sに対する位置を決めるように構成されていることを特徴とする、請求項3に記載の装置1。前記処理線sの方向の推移および前記第1のスキャナシステム3の現在の走査速度のうちの少なくとも1つに応じて、前記第2のスキャナシステム5の前記走査移動fの幅Fを制御するように構成された走査制御モジュール70を特徴とする、請求項1から5のいずれか1つに記載の装置1。前記第1のスキャナシステム3と前記第2のスキャナシステム5との間に配置され、上流側の前記第2のスキャナシステム5によって所定の伝送領域Eの外側の領域R1へと偏向されたフェムト秒レーザパルスを遮光する働きをする絞り41を特徴とする、請求項1から6のいずれか1つに記載の装置1。連続する2つのフェムト秒レーザパルス間の距離および前記伝送領域E内のフェムト秒レーザパルスの数が可変となるように、前記第2のスキャナシステム5の前記走査移動fの幅Fを制御するように構成された走査制御モジュール70を特徴とする、請求項7に記載の装置1。前記絞り41は、制御可能な可変の絞り領域または伝送領域を有することを特徴とする、請求項7または8に記載の装置1。前記第1のスキャナシステム3の走査速度に応じて前記可変の絞り領域または伝送領域の大きさを制御するように構成された絞り制御モジュール40を特徴とする、請求項9に記載の装置1。前記絞り41は視野絞りとして構成されていることを特徴とする、請求項7から10のいずれか1つに記載の装置1。前記第1のスキャナシステム3は、前記第2のスキャナシステム5に比べて偏倚が著しく大きいことを特徴とする、請求項1から11のいずれか1つに記載の装置1。相互に直交するように位置合わせされた前記第1のスキャナシステム3の2つの走査軸31,32が、共通の偏向ミラーに結合されていることを特徴とする、請求項2から12のいずれか1つに記載の装置1。前記第2のスキャナシステム5は、振動するように走査移動fをしている前記フェムト秒レーザパルスで前記眼組織8を走査するように構成されていることを特徴とする、請求項1から13のいずれか1つに記載の装置1。重ね合わされた前記走査移動fの所定領域R2のフェムト秒レーザパルスを選択的に排除するための、制御可能なフィルタモジュール4を特徴とする、請求項1から14のいずれか1つに記載の装置1。本発明の目的は、フェムト秒レーザパルスによって眼組織を処理するための眼科用装置であって、既知のシステムが持つ不都合の少なくともいくつかを無くした装置を提案することである。特に、本発明の目的は、フェムト秒レーザパルスによって眼組織を処理するための眼科用装置であって、レンズを機械運動させなくても処理領域を走査することができ、処理時間を短縮するために、パルス周波数が高いレーザ光源、詳細には1秒当たりのパルス数が100万を超えるMHz領域の周波数のレーザ光源を使用すること、およびより柔軟性の高い切断誘導を使用することを可能にする眼科用装置を提案することである。本発明によれば、これらの目標は、独立請求項の特徴によって達成される。加えて、その他の有利な態様が、従属請求項および明細書から得られる。上記の目標は、本発明によって達成される。詳細には、フェムト秒レーザパルスによって、特に目全体にわたって眼組織を処理するための眼科用装置には、フェムト秒レーザパルスを眼組織に集光して投射するための投射光学ユニットが備わっているが、他にも、投射光学ユニットの上流側に配置された第1のビーム偏向スキャナシステムであって、フェムト秒レーザパルスによって、処理線に沿って眼組織を走査するための第1のビーム偏向スキャナシステムと、第1のスキャナシステムの上流側に配置された第2のビーム偏向スキャナシステムであって、フェムト秒レーザパルスによって、処理線に重ね合わされ、偏向平面内を進む走査移動で眼組織を走査するための第2のビーム偏向スキャナシステムと、偏向平面を処理線に対して所定の角度で位置合わせするための回転システムと、が設けられているという事実によって達成される。機器の実用上の理由およびコスト上の理由で、概して、90度よりもかなり小さい偏倚角度または走査角度を都合よく実現できるように、投射光学ユニットおよび伝送光学ユニットの大きさ例えば直径を制限する必要がある。レーザパルスの集光点スポットが、組織を保護するために、および正確に処理するために要求されるように、例えばスポットの直径が5μm未満、特に3μm未満、好ましくは1μm未満のような微小な集光点の場合に、像領域処理領域が大きいと、そのために大きなビーム直径を走査させなければならず、それによって大きく重いミラーが必要になり、したがって、機械運動するレンズについての方策の場合と同様に、低走査周波数が必要になる。換言すると、基本的な物理的理由で、小さなすなわち、高速に偏向可能ミラーで、同時に上記の処理品質を得るのに望ましい小ささの直径を有するスポットで、大きな像領域を走査することはできない。可動偏向ミラーを有する2つのビーム偏向スキャナシステムを多段状にすれば、柔軟な構成および制御可能な態様で眼組織を処理することが可能になる。この場合、第1のスキャナシステムが、目全体といった広大な処理領域を受け持ち、上流側に配置された第2のスキャナシステムが、高速で微細な走査移動を重ね合わせる。その形態、大きさ、および向きは柔軟に調節することができ、過度に大きな投射光学ユニットおよび伝送光学系を使用する必要はなく、走査に必要なレンズまたは投射対物レンズの機械運動は不要であり、結果として、高走査周波数または高走査速度を実現することができる。レーザ光源と、高速主スキャナシステムである第1のスキャナシステムとの間に、より速い超高速スキャナシステムである第2のスキャナシステムを配置することで、小さなビーム開口部、例えばミラーを使用することが可能になり、したがって、眼組織の高速、高周波数走査が可能になる。この場合、比較的小さな偏倚で、眼組織の高周波数での走査および処理、すなわち切断を行えるように、速い方の第2のスキャナシステムを最適化することができ、広大な処理領域像領域で任意のアドレス可能点に迅速に移動できるように、第1のスキャナシステムを最適化することができる。偏向平面が、したがって、超高速スキャナシステムの微細な走査移動が、例えば垂直にまたは何か他の所定の角度で、主スキャナシステムの処理線に対して自動的に位置合わせされることによって、ラスター型の走査パターンに限定されない複雑な切断が可能になる。好ましくは、第1のスキャナシステムは、フェムト秒レーザパルスを偏向するように相互に直交するように位置合わせされた2つの走査軸を有し、第2のスキャナシステムは、第1のスキャナシステムの走査速度の倍数の走査速度でフェムト秒レーザパルスを偏向するように構成され、回転システムは、第1のスキャナシステムの上流側に配置される。ミラーを利用したスキャナシステムの場合、走査軸なる用語はミラー軸と等価であると理解されるべきであり、したがって、走査軸を中心としてミラーを偏向させると、偏向平面内を延伸する走査方向にレーザビームが偏向される。ミラー軸を持たない他のスキャナシステムの場合、走査軸なる用語は、相応な走査方向にレーザビームを偏向するためにミラーをそれを中心として回転させることになる仮想的な軸として理解されるべきである。回転システムは、回転モジュールおよび回転制御モジュールを備えていることが好ましい。この場合、回転モジュールは、投射光軸を中心として、偏向平面に所定の回転を加えるように構成され、回転制御モジュールは、処理線の経路に基づいて偏向平面の回転を規定するように構成される。変形態様によっては、回転モジュールは、ミラーで構成された回転エレメント、プリズムで構成された回転エレメント、および/または第2のスキャナシステムに結合されるとともに投射光軸を中心として第2のスキャナシステムを回転させるように構成された駆動モジュールを備えている。一変形態様では、第2のスキャナシステムは、フェムト秒レーザパルスを偏向するように相互に直交するように位置合わせされた2つの走査軸を有し、回転制御モジュールは、第1の走査軸を中心とする偏向の偏倚振幅と第2の走査軸を中心とする偏向の偏倚振幅を、連携させて制御することによって、偏向平面内を進む走査移動の処理線に対する位置を決めるように構成される。偏倚振幅に基づく走査移動の位置合わせの制御が単純である結果として、全面的に電子的手段および/またはプログラミング手段によってその制御がなされるため、高価で低速な機械的および/または光学的像回転が無用になる。一変形態様では、装置は、走査制御モジュールを備えている。この走査制御モジュールは、処理線の方向の推移および/または第1のスキャナシステムの現在の走査速度に応じて、第2のスキャナシステムの走査移動の幅を制御するように構成される。例として紹介すると、処理線の方向に進む速度が遅い場合、個々の投射フェムト秒レーザパルス間の距離をそれによって広げるために、または所定の走査幅内のフェムト秒レーザパルスの数量をそれによって減らすために、走査移動の幅は広げられる。したがって、走査制御モジュールは、連続する2つのフェムト秒レーザパルス間の距離、および所定の伝送領域内のフェムト秒レーザパルスの数が可変となるように、第2のスキャナシステムの走査移動の幅を制御するように構成される。さらに別の変形態様では、第1のスキャナシステムと第2のスキャナシステムとの間に絞りを配置して、上流側の第2のスキャナシステムによって所定の伝送領域または所定の走査幅の外側の領域へと偏向されたフェムト秒レーザパルスを遮光するのに役立てている。さらに別の変形態様では、絞りは、制御可能な可変の絞り領域または伝送領域を有する。一変形態様では、装置は、第1のスキャナシステムの走査速度に応じて可変の絞り領域または伝送領域の大きさを制御するように構成された絞り制御モジュールを備えている。上記の絞りは、視野絞りとして構成されることが好ましい。第1のスキャナシステムは、第2のスキャナシステムに比べて偏倚が著しく大きいことが好ましい。一変形態様では、相互に直交するように位置合わせされた第1のスキャナシステムの2つの走査軸は、共通の偏向ミラーに結合される。一変形態様では、第2のスキャナシステムは、振動するように走査移動しているフェムト秒レーザパルスで眼組織を走査するように構成される。一変形態様では、装置は、重ね合わされた走査移動の所定領域のフェムト秒レーザパルスを選択的に排除するための、制御可能なフィルタモジュールを備えている。例に基づき、以下で本発明の一実施形態について説明する。下記の添付図面を使って、その実施形態を示す。図1において、参照符号1は、フェムト秒レーザパルスを有するパルス状のレーザビームL1によって眼組織8を処理するための眼科用装置を示している。好ましくは1秒当たりのパルス数が100万を超えるMHz領域のパルス周波数を有するパルス状のレーザビームL1は、ビーム源6によって供給され、伝送光学系10によって、パルス状の処理ビームL5として、走査軌跡tに沿って眼組織8上、または眼組織8中に集光されて投射される。実施形態によっては、ビーム源6は、伝送光学系10の一部であり、または、光ファイバー線および/またはミラー/レンズ系といった光伝送システムを介して伝送光学系10に接続される独立したユニットとして構成されている。図1に模式的に例示しているように、眼科用装置1または伝送光学系10は、2つのビーム偏向スキャナシステム3,5と、ビーム源6から投射光学ユニット2までのビーム経路L1-L2-L3-L3-L4中に配置された任意構成のフィルタモジュール4と、を備えている。ビーム偏向スキャナシステム5の走査速度は、スキャナシステム3の走査速度の倍数である。したがって、以下の説明では、スキャナシステム5を高速スキャナシステム5と呼び、スキャナシステム3を低速スキャナシステム3と呼ぶ。結果として、高速スキャナシステム5は、低速スキャナシステム3で実現可能なものに対して、整数倍だけ速い偏向速度、および振動スキャナシステムの場合は整数倍だけ高い振動周波数ωx、ωyを有している。特に、高速スキャナシステム5は、投射目標切断目標の像領域、すなわち投射光学ユニット2の像領域で高い走査速度を有し、および/または、高い走査周波数を有している。一方、低速スキャナシステム3は、投射光学ユニットの像領域で、高速スキャナシステム5に比べてはるかに大きな可動域を有している。結果として、フェムト秒レーザパルスで、眼組織8を、目全体にわたって完全に走査し処理することができるように、低速スキャナシステム3によって、高速スキャナシステム5に比べてはるかに広い像領域および処理領域をカバーし、扱うことが可能になる。高速スキャナシステム5は、ビーム源6と低速スキャナシステム3との間に配置されていることが好ましい。高速スキャナシステム5は、例えばビーム経路中でビーム源6の直ぐ下流側に配置されている。低速スキャナシステム3は、高速スキャナシステム5と投射光学ユニット2との間に配置されていることが好ましい。低速スキャナシステム3は、例えばビーム経路中で投射光学ユニット2の直ぐ上流側に配置されている。高速スキャナシステム5は、変形実施形態によっては、1本、または、相互に直交するように向けられているのが好ましい2つの走査軸ミラー軸51,52を有している。変形実施形態によっては、走査軸とも呼ぶ走査軸51,52は、傾斜可能なチップ-チルトモード共通の偏向ミラー、または、多段状に配置されたそれぞれに専用の別個の偏向ミラーに結合されている。2つの走査軸51,52および傾斜可能な共通の偏向ミラーを有するスキャナシステムを使用することには、高価な中間光学ユニットを省くことができ、装置1の全体の構成が比較的コンパクトになるという利点がある。高速スキャナシステム5は、図1aの図面の平面に対応する投射平面Pxyに垂直に向けられた偏向平面FF内で所定の走査移動fを生じるように、ビーム源6からのパルス状のレーザビームL1またはそのフェムト秒レーザパルスを偏向する。図1aに模式的に示した高速スキャナシステム5の投射平面Pxyでは、走査軸51はx軸に沿って向けられ、走査軸52はy軸に沿って向けられている。移動ベクトルaは、偏倚振幅がx方向にAである、走査軸52y軸を中心とした偏向ミラーの偏倚を指し、移動ベクトルbは、偏倚振幅がy方向にBである、走査軸51x軸を中心とした偏向ミラーの偏倚を示している。2つの走査軸51,52を中心とした偏倚が同期している場合、すなわち周波数が同一ωx=ωyで位相のずれが無いφ=0場合、フェムト秒レーザパルスは走査移動fを生じるように偏向され、図1aではこれを、対応する移動ベクトルによって表している。したがって、偏倚振幅A,Bによって、投射平面Pxyに垂直な偏向平面FFにおける、スキャナシステム5の、結果として得られる走査移動fの向きθおよび偏倚振幅Fが決まる。低速スキャナシステム3は、相互に直交するように向けられ、傾斜可能な共通の偏向ミラーまたは別個の2つの偏向ミラーに結合された、2つの走査軸ミラー軸を有することが好ましい。低速スキャナシステム3は、2つのガルバノメータースキャナの形態で、または例えばピエゾ素子で管理されるチップ-チルトモードで傾斜可能な2軸偏向ミラーで、自由にアドレス可能なように実現することが好ましい。高速スキャナシステム5は、動作モードまたは構成に応じて、共振スキャナ、振動スキャナ、または自由にアドレス可能なスキャナとして実現される。正弦波動作モードは、特に振動ミラーを有する機械式共振スキャナMEMマイクロエレクトロメカニカルスキャナとも呼ばれる、またはピエゾ駆動装置を有するの場合に、ガルバノメータースキャナで実現できる周波数および偏向速度よりも高い周波数および偏向速度を可能にする。したがって、共振動作モードでは振動する高速スキャナシステム5を使用することが好ましい。というのは、その高い走査周波数を考慮すると、その具体的な用途に、それが特に有利だからである。幾つかの例でさらに高い周波数が可能な他のスキャナのタイプが、文献から知られている例えば、AOM音響光学変調器スキャナまたはEOM電子光学変調器。高速スキャナシステム5および低速スキャナシステム3は、直交する複数の走査軸ミラー軸を有するように実現し動作させることが好ましい。任意構成のフィルタモジュール4が、ビーム経路中に、好ましくは高速スキャナシステム5と低速スキャナシステム3との間に配置される。変形実施形態によっては、フィルタモジュール4は、固定され、および/または制御可能な絞り41を備えている。この絞り41は、シャッタとして実現することも可能であり、この場合、そのシャッタは、レーザの所に配置されるとともに、ビーム源6の直ぐ下流側に配置されることが好ましい。一変形実施形態では、絞り41は、視野絞りとして実現され、すなわち、中間像平面に配置され、この場合、変形実施形態によっては、その視野絞りは、さらに、可変に、および/または非対称に構成されている。低速スキャナシステム3は、処理線sに沿って拡張された処理領域において、フェムト秒レーザパルスで眼組織8を走査するように構成されている。この場合、低速スキャナシステム3は、高速スキャナシステム5によって偏向されたフェムト秒レーザパルスL2、またはフィルタモジュール4でフィルタリングされて遮光されなかったフェムト秒レーザパルスL3、L3を偏向する。処理線sの方向および形状は、図1aを参照して高速スキャナシステム5について上述したように、低速スキャナシステム3のスキャナ軸ミラー軸31,32を中心とした偏倚の偏倚振幅によって決まる。したがって、高速スキャナシステム5によって生じさせられた走査移動fが、低速スキャナシステム3によって連続的に走査される処理線sに重ねあわされ、それによって、図1bに示すように、結果として得られる走査軌跡tが処理平面Txy内に形成され、この軌跡によって、眼組織8が実際に処理される。図2、図4、および図5は、眼組織8を処理するために処理平面Txy上に生じさせられる様々な走査軌跡tの例を示しており、これについては、後で詳細に述べる。眼科用装置1は、他にも、処理線sに対して所定の位置合わせ角度に、例えば垂直π/2にまたは他の所定の角度に、偏向平面FFを位置合わせするための回転システムを備えている。したがって、その回転システムによって、処理の方向が変わった場合でも、走査移動fが、処理線sに対して所定のように揃うことを保証される。この回転システムは、伝送光学系10においてビーム源6から投射光学ユニット2までのビーム経路L1-L2-L3-L3-L4中に配置され、投射光軸zを中心として、偏向平面FF、および偏向平面FF内での走査移動fに所定の回転を加える働きをする回転モジュール9、9’、9’’を備えている。種々の変形実施形態において、回転モジュール9が、投射光軸zを中心として高速スキャナシステム5を、したがって、偏向平面FFを回転させるために高速スキャナシステム5に結合された機械式駆動モジュールとして実現される。あるいは、回転モジュール9’が、プリズム、またはミラー、例えば、回転可能なK-ミラーから構成された回転エレメントと、その回転エレメントに結合され、投射光軸zを中心としてその回転エレメントを、したがって、偏向平面FFを回転させる駆動モジュールと、を備える。あるいは、回転モジュール9’’の機能が、高速スキャナシステム5または2つの走査軸51,52を中心として回転可能な高速スキャナシステム5の1つまたは複数の偏向ミラーによって実現される。回転モジュール9,9’が機械式の駆動モジュールを備えている変形実施形態では、処理線sに対する偏向平面Fの所定の位置合わせ以外の機能を得るのに、例えば、後でさらに詳細に説明するように、様々な向きθ、振幅F、および、もし適切なら、形状によって規定される走査移動fを発生させるのに、高速スキャナシステム5を使用することができる。フィルタモジュール4は、高速スキャナシステム5によって偏向されたフェムト秒レーザパルスL2のうち一定のものを、所定のフィルタ基準に従って遮光するように構成されている。絞り41は、例えば、高速スキャナシステム5によって所定の走査幅Eの外側の領域へと偏向されたフェムト秒レーザパルスL2を、固定された、または制御可能なやり方で遮光するように、または偏向されたフェムト秒レーザパルスL2を完全に、または走査曲線fの所定の領域R1,R2で遮蔽するように構成されている。図4の例では、フィルタモジュール4は、領域R1において、例えば偏倚振幅がFの場合に、所定の振幅値または走査幅Eを超える、走査移動fのピーク部を遮蔽するように構成されている。図5の例では、実質的に平行な走査部分を有する走査パターンが生じさせられるように、フィルタモジュール4は、領域R2内の走査軌跡tの立ち上がりエッジをいずれの場合にも遮光するように構成されている。遮光領域R1,R2は、例えば走査軸51,52を中心とした偏倚a,bに応じて、および/または処理線sの方向に応じて、例えば動的におよび自由に規定することができおよび変更することができる。投射光学ユニット2は、低速スキャナシステム3によって偏向されたフェムト秒レーザパルスL4を、眼組織8上または眼組織8中に焦点を合わせて投射するように構成されている。この場合、眼組織8は、処理線sの方向への走査速度または進行速度に応じて、個々のフェムト秒レーザパルスによって、または重なるように続けて投射された複数のフェムト秒レーザパルスによって、いずれの場合も、焦点Qの所で分解される。一変形実施形態では、投射光学ユニット2は、さらに、集光され、偏向されたパルス状のレーザビームL5の焦点Qを、例えば上下の変位によって、投射方向に設定するように構成されている。そうでなければ、投射光学ユニット2は、処置時に静止しており、すなわち、投射光学ユニット2のレンズは、予定された処置に備えて投射光学ユニット2を患者の目に位置合わせした後は、眼組織8を走査し処理するのに、いかなる横方向の機械運動x方向および/またはy方向も不要である。目に対する固定は、例えば真空によって制御される吸引リングによって行われる。図1で見て取れるように、眼科用装置1は、制御モジュール7を備えており、この制御モジュール7は、実施形態に応じて、伝送光学系10の一部として構成され、または、制御する目的で、制御線、または1つまたは複数のデータ通信接続、例えば、複数の信号線および/またはデータ線および/またはデータバスを介して伝送光学系10に接続されている独立したユニットとして構成されている。実施形態によっては、制御モジュール7は、ビーム源6、高速スキャナシステム5、フィルタモジュール4、回転モジュール9、9’、9’’、低速スキャナシステム3、および/または投射光学ユニット2に接続されている。図1に模式的に示すように、制御モジュール7は、複数の機能モジュール、すなわち回転制御モジュール90と、走査制御モジュール70と、絞り制御モジュール40と、を備えている。制御モジュール7は、1つまたは複数のプロセッサと、そのプロセッサに固定されて、または着脱可能に接続され、そのプロセッサを制御するためのコンピュータプログラムコードを含むプログラムされたソフトウェアモジュールが少なくとも1つ格納されている、アクセス可能なコンピュータ読み取り可能なデータキャリアコンピュータプログラム製品と、を備えていることが好ましい。様々な変形実施形態で制御モジュール7またはそれの機能モジュールは、プログラムされたソフトウェアモジュールとして、さもなければ完全にまたは少なくとも部分的にハードウェアコンポーネントによって、実現されることが、当業者には理解できる。以下の段落では、図2、図3、図4、および図5を参照して、制御モジュール7またはそれの機能モジュールの機能、およびそれによって行われるプロセッサの、したがって、眼科用装置1の制御について説明する。変形実施形態によっては、制御モジュール7は、ビーム源6および/または投射光学ユニット2を、例えばパルスエネルギー、パルス周波数、または焦点深度について制御するように構成されているが、これについては、以降の段落では、より詳細には説明しない。走査制御モジュール70は、特に、高速スキャナシステム5を制御するための高速スキャナ制御部を備えている。この高速走査制御部は、高速スキャナシステム5の走査移動fの振幅Fまたは走査幅を制御するように構成されている。それにより、走査制御モジュール70によって、投射平面Pxy内の、続いて偏向される2つのフェムト秒レーザパルス間の距離、または所定の走査幅E内のフェムト秒レーザパルスの数が決められる。高速走査制御部は、処理線sの方向の推移に応じて、および/または低速スキャナシステム3の現在の走査速度または処理線sの方向の進行速度に応じて、走査移動fの振幅Fまたは幅を、したがって、走査幅内のパルスの数を制御するように構成されることが好ましい。2つの走査軸51,52を有する高速スキャナシステム5の実施形態では、高速走査制御部は、走査軸51,52を中心とするフェムト秒レーザパルスの偏向a,bを表1に示すように制御して、様々な向きθ、振幅F、および、もし適切なら、形状直線的な走査移動に加えて、楕円形、リサジュ形状、正弦波、のこぎり歯形状、台形、または長方形の振動またはフーリエ合成によって生成可能な他の形状によって規定される所定の走査移動fを実施するように構成されている。所定の走査移動fに従ってフェムト秒レーザパルスを偏向するために、制御モジュール7は、識別子によって示される当該走査移動fに割り当てられた、高速スキャナシステム5を制御するための相応の制御パラメータを使用する。走査軸51,52を中心とする偏倚は、特に、偏倚振幅A,B、偏倚周波数ωx,ωy、および/または走査軸51,52を中心とする偏倚a,b振動の間の相対的な位相φ位相のずれのそれぞれを制御するためのパラメータによって決められる。図1aは、走査軸51,52を中心とする偏倚振幅A,Bを制御することによって、投射平面Pxy上での、結果として得られる走査移動fの向きθおよび偏倚Fを、2つの走査軸51,52を中心とする偏向a,bが、同一の周波数ωx=ωyおよび偏倚振動間の位相のずれを伴わないφ=0の状態で行われるように、残りの制御パラメータが設定された場合に、走査制御モジュール70がどのように設定できるのか、その例を示している後で、図3を参照して、より詳細に説明する。走査制御モジュール70は、他にも、低速スキャナシステム3の走査軸31,32を中心とするフェムト秒レーザパルスの偏向を制御するための低速スキャナ制御部を備えている。この低速スキャナ制御部は、様々な処理パターンによって規定され、例えば割り当てられた特有のパターン識別子または線識別子を有する所定の処理線に従って、例えば走査軸31,32を中心とする偏向を制御するように構成されている。例えば格納された処理パターンまたは時間関数によって規定される処理線s上にフェムト秒レーザパルスを偏向するために、制御モジュール7は、低速スキャナシステム3を制御するのに、当該処理線sに割り当てられた相応の制御パラメータを用いる。回転制御モジュール90は回転システムの一部であり、処理線sの方向の推移に基づいて、回転モジュール9、9’、9’’による偏向平面FFまたは走査移動fの回転の規定と制御を行うように構成されている。すなわち、回転制御モジュール90および走査制御モジュール70、特に、低速スキャナ制御部は、処理線sの規定と制御を行うとともに、それに依存する形で、偏向平面FFの、したがって走査移動fの向きθの決定と制御を行うために、低速スキャナシステム3と回転モジュール9、9’、9’’の、連携させた制御を実施する。回転モジュール9、9’、9’’の変形実施形態によっては、回転制御モジュール90は、偏向平面FFを、処理線sに対して所定の位置合わせ角度、例えばπ/2または他の所定の角度を有するように投射光軸zを中心として回転させるために、回転モジュール9、9’、9’’用の処理線sの現在の方向に依存する制御信号を駆動モジュール、回転エレメント、および/または高速スキャナシステム5または高速スキャナ制御部に供給する。高速スキャナシステム5または2つの走査軸51,52を中心として回転可能な高速スキャナシステム5の1つまたは複数の偏向ミラーによって回転モジュール9’’の機能が実現される変形実施形態は、追加の駆動エレメントおよび/または回転エレメントを装置1に含める必要がないという利点を有する。この場合、回転制御モジュール90を高速スキャナ制御部に一体化することができ、または、回転制御モジュール90が、高速スキャナ制御部の機能を呼び出すことによって、高速スキャナシステム5を制御することができる。図2は、重ね合わされた走査移動fが、処理線sx、syの、例えばx方向からy方向への方向の変化に適合されている走査軌跡tの例を示している。図2に模式的に示されているように、高速スキャナシステム5が、処理線sx,syの方向に応じて、走査軸51を中心とするy方向の偏倚bの偏倚振幅Bおよび走査軸52を中心とするx方向の偏倚aの偏倚振幅Aを設定するように、例えば、低速スキャナシステム3による処理がx方向の処理線sxに沿って行われている間、高速スキャナシステム5の偏倚振幅Bが所定の走査幅Eに設定され、高速スキャナシステム5の偏倚振幅Aがゼロに設定され、逆に低速スキャナシステム3による処理がy方向の処理線syに沿って行われている間、高速スキャナシステム5の偏倚振幅Aが所定の走査幅Fに設定され、偏倚振幅Bがゼロに設定されるように、回転制御モジュール90は高速スキャナシステム5を制御するように構成されている。x方向の処理からy方向の処理に移行する遷移領域Uでは、例えば、高速スキャナシステム5の偏倚aの偏倚振幅Aは、連続的に増加させられ、偏倚bの偏倚振幅Bは、連続的に減少させられる。図3は、θ=π/2からθ=πへの走査移動fの向きθを、相対的な位相φπの動作モードにおけるx方向からy方向への遷移領域Uにおける、処理線sx,syのπ/2の方向の変化に適合させるように、走査軸51,52を中心とする偏倚a,bを制御する際の、一連の複数の中間段階を示している。図3に見られるように、この場合、走査軸52y軸を中心とするx方向の偏倚aの偏倚振幅Aは、A=0からA<B、A=B、およびA>Bを経由してA=Fまで連続的に増加させられる。一方、走査軸51x軸を中心とするy方向の偏倚bの偏倚振幅Bは、B=FからB>A、B=A、およびB<Aを経由してB=0まで連続的に減少させられる。図2、図4、図5において、いずれの場合も、円は、パルス状のレーザビーム処理ビームL5またはフェムト秒レーザパルスの、焦点Qでの焦点の中心点を模式的に表している。図42に示されている走査軌跡tでは、レーザパルスの分布が特定の領域で不均一になっている。その対策として、変形実施形態および/または用途によっては、レーザビームまたはレーザパルスは、フィルタモジュール4によって、例えばシャッタおよび/または絞り41によって、所定の伝送領域の外側でまたは特定の遮光領域で遮光され、その結果として、走査軌跡tの、選択的に定められた領域が選択される。絞り制御モジュール40は、フィルタモジュール4における絞り41の制御可能な可変の絞り領域または伝送領域を制御するように構成されている。絞り制御モジュール40は、例えば、低速スキャナシステム3の走査速度に応じて可変の絞り領域または伝送領域の大きさを制御するように構成されている。図4の例では、例として、任意構成として、連続するレーザパルスが比較的密集している振動のピーク部が、所定の走査幅Eの外側にある領域R1において、フィルタモジュール4によって、好ましくは絞り41、特に、視野絞りによって遮光されている。図5の例では、走査軌跡tの立ち下がり枝部だけが選択的に処理に使用されるように、領域R2において走査軌跡tの各立ち上がりエッジが、いずれの場合も、遮光されている。この場合、例として、図4におけるようなのに加えて、領域R1において振動のピーク部も切り取られる。走査軌跡中の領域R2を遮光するために、相当するフェムト秒レーザパルスが、重ね合わされる走査移動fにおける領域R2において、いずれの場合も立ち上がりエッジの間、遮光され、立ち下がりエッジの間は、元通り伝送されるようなに、絞り制御モジュール40によって絞り41の可変の絞り領域が制御される。すなわち、絞り領域R2は、走査移動fの振動と同期するようにして、遮光モードと伝送モードとの間を変化する。領域R2は、レーザの所に配置されるとともにビーム源6の下流側に配置され、領域R2を遮光するときは閉じられ、通常は開いているシャッタによって遮光することが好ましい。さらに別の変形実施形態では、枝部またはエッジ内にパルスの分離を整合させるように、制御モジュール7によって、走査軌跡tにおける位置に応じてパルス周波数を適合させ例えばパルスピッカーによって、または、高速スキャナシステム5の偏倚振幅A,Bを動的に変化させている。高速走査制御部70は、例えば、高速スキャナシステム5の走査移動fの振幅Fを、処理線sの方向の推移に応じて、および/または低速スキャナシステム3の現在の走査速度に応じて制御するように構成されている。結果として生じる、走査曲線fの偏倚振幅Fにおける動的な増大拡張または減少圧縮のために、走査移動fまたは走査軌跡t上の連続する個々のフェムト秒レーザパルス間の距離を拡大し、または短縮することができ、それによって、遮光されない走査幅E内の伝送領域内のレーザパルスの数を、可変に制御することができる。最後に、上記の説明では、コンピュータプログラムコードを特定の機能モジュールに割り当てていたが、保護される主題から逸脱することなく、コンピュータプログラムコードを種々の構造的形態に変更できることが、当業者には理解でできるということを述べておきたい。"