"ステージ移動装置であって、ステージ支持部と、前記ステージ支持部が有する平面であるステージ支持面上に配置されるステージと、それぞれの先端部が前記ステージ支持面に垂直な軸を中心として回動可能に前記ステージに接続されるとともに前記ステージ支持面に平行に伸びる第1シャフトおよび第2シャフトと、前記ステージ支持面に垂直な軸を中心として回動可能に前記第1シャフトを支持するとともに、前記第1シャフトを長手方向に進退することにより前記第1シャフトの支持位置から前記ステージまでの前記第1シャフトの長さを変更する第1シャフト進退機構と、前記ステージ支持面に垂直な軸を中心として回動可能に前記第2シャフトを支持するとともに、前記第2シャフトを長手方向に進退することにより前記第2シャフトの支持位置から前記ステージまでの前記第2シャフトの長さを変更する第2シャフト進退機構と、前記ステージ支持面に垂直な軸を中心とする前記ステージの向きを決定する向き決定機構と、前記ステージの位置および向きを指示するステージ位置指示値に基づいて、前記第1シャフトの前記支持位置から前記ステージまでの前記第1シャフトの長さ、および、前記第2シャフトの前記支持位置から前記ステージまでの前記第2シャフトの長さを求め、前記第1シャフト進退機構、前記第2シャフト進退機構および前記向き決定機構を制御する移動制御部と、を備えることを特徴とするステージ移動装置。請求項1に記載のステージ移動装置であって、前記ステージが、ステージ本体と、前記ステージ本体に固定されるとともに前記第1シャフトの先端部が接続される第1軸と、前記第1軸から離間して前記ステージ本体に固定されるとともに前記第2シャフトの先端部が接続される第2軸と、を備え、前記向き決定機構が、前記第1シャフト進退機構を回動するシャフト回動機構であり、前記移動制御部が、前記ステージ位置指示値に基づいて前記第1シャフトの向きをさらに求めることを特徴とするステージ移動装置。請求項2に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトの前記先端部が、前記第1軸が挿入される第1ボールジョイントに接続され、前記第2シャフトの前記先端部が、前記第2軸が挿入される第2ボールジョイントに接続され、前記第1ボールジョイントが、前記第1軸が挿入される貫通孔を中心部に有する略球状の内球部と、前記内球部を覆う略球状の内面を有し、前記第1シャフトの前記先端部が接続される球保持部と、前記内球部と前記第1軸との間、および、前記球保持部と前記内球部との間にガスを供給することにより、前記内球部に前記第1軸を非接触にて支持させるとともに前記球保持部に前記内球部を非接触にて支持させる第1ガス供給部と、を備え、前記第2ボールジョイントが、前記第2軸が挿入される貫通孔を中心部に有する略球状の内球部と、前記内球部を覆う略球状の内面を有し、前記第2シャフトの前記先端部が接続される球保持部と、前記内球部と前記第2軸との間、および、前記球保持部と前記内球部との間にガスを供給することにより、前記内球部に前記第2軸を非接触にて支持させるとともに前記球保持部に前記内球部を非接触にて支持させる第2ガス供給部と、を備えることを特徴とするステージ移動装置。請求項1に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトの先端部と前記第2シャフトの先端部とが前記ステージの同一の軸に接続され、前記向き決定機構が、前記軸を中心として前記ステージを回動するステージ回動機構であることを特徴とするステージ移動装置。請求項1ないし4のいずれかに記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトおよび前記第1シャフト進退機構が第1シャフトモータであり、前記第2シャフトおよび前記第2シャフト進退機構が第2シャフトモータであることを特徴とするステージ移動装置。請求項1ないし4のいずれかに記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトに平行に伸びるとともに前記第1シャフトの両端部が固定される第1リニアロッドと、前記第2シャフトに平行に伸びるとともに前記第2シャフトの両端部が固定される第2リニアロッドと、をさらに備え、前記第1リニアロッドが、下面が前記ステージ支持面に平行であり、前記第1シャフトの下側を覆うとともに前記ステージ支持面上に支持される第1底面部を備え、前記第2リニアロッドが、下面が前記ステージ支持面に平行であり、前記第2シャフトの下側を覆うとともに前記ステージ支持面上に支持される第2底面部を備えることを特徴とするステージ移動装置。請求項6に記載のステージ移動装置であって、前記第1リニアロッドの前記下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記第1リニアロッドの前記下面に向けてガスを噴出することにより、前記第1リニアロッドを前記ステージ支持面から浮上させて支持する第1リニアロッド浮上部と、前記第2リニアロッドの前記下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記第2リニアロッドの前記下面に向けてガスを噴出することにより、前記第2リニアロッドを前記ステージ支持面から浮上させて支持する第2リニアロッド浮上部と、をさらに備えることを特徴とするステージ移動機構。請求項6または7に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトおよび前記第1シャフト進退機構が第1シャフトモータであり、前記第2シャフトおよび前記第2シャフト進退機構が第2シャフトモータであり、前記第1シャフト進退機構が、前記ステージ支持部に回動可能に支持されるとともに前記第1シャフトが伸びる方向への前記第1リニアロッドの移動をガイドする第1ガイド部と、前記第1ガイド部に固定されて前記第1シャフトが挿入される第1コイルと、を備え、前記第1シャフトが略円筒状であり、前記第1シャフトの内部に第1マグネットが設けられ、前記第2シャフト進退機構が、前記ステージ支持部に回動可能に支持されるとともに前記第2シャフトが伸びる方向への前記第2リニアロッドの移動をガイドする第2ガイド部と、前記第2ガイド部に固定されて前記第2シャフトが挿入される第2コイルと、を備え、前記第2シャフトが略円筒状であり、前記第2シャフトの内部に第2マグネットが設けられることを特徴とするステージ移動装置。請求項1に記載のステージ移動装置であって、前記向き決定機構が、先端部が前記ステージ支持面に垂直な軸を中心として回動可能に前記ステージに接続されるとともに前記ステージ支持面に平行に伸びる第3シャフトと、前記ステージ支持面に垂直な軸を中心として回動可能に前記第3シャフトを支持するとともに、前記第3シャフトを長手方向に進退することにより前記第3シャフトの支持位置から前記ステージまでの前記第3シャフトの長さを変更する第3シャフト進退機構と、を備え、前記ステージが、前記第1シャフトの先端部が接続される第1軸と、前記第1軸から離間して配置されるとともに前記第2シャフトの先端部が接続される第2軸と、前記第3シャフトの先端部が接続される第3軸と、を備え、前記移動制御部が、前記ステージ位置指示値に基づいて前記第3シャフトの前記支持位置から前記ステージまでの前記第3シャフトの長さをさらに求めることを特徴とするステージ移動装置。請求項9に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトの前記先端部が、前記第1軸が挿入される第1ボールジョイントに接続され、前記第2シャフトの前記先端部が、前記第2軸が挿入される第2ボールジョイントに接続され、前記第3シャフトの前記先端部が、前記第3軸が挿入される第3ボールジョイントに接続され、前記第1ボールジョイントが、前記第1軸が挿入される貫通孔を中心部に有する略球状の内球部と、前記内球部を覆う略球状の内面を有し、前記第1シャフトの前記先端部が接続される球保持部と、前記内球部と前記第1軸との間、および、前記球保持部と前記内球部との間にガスを供給することにより、前記内球部に前記第1軸を非接触にて支持させるとともに前記球保持部に前記内球部を非接触にて支持させる第1ガス供給部と、を備え、前記第2ボールジョイントが、前記第2軸が挿入される貫通孔を中心部に有する略球状の内球部と、前記内球部を覆う略球状の内面を有し、前記第2シャフトの前記先端部が接続される球保持部と、前記内球部と前記第2軸との間、および、前記球保持部と前記内球部との間にガスを供給することにより、前記内球部に前記第2軸を非接触にて支持させるとともに前記球保持部に前記内球部を非接触にて支持させる第2ガス供給部と、を備え、前記第3ボールジョイントが、前記第3軸が挿入される貫通孔を中心部に有する略球状の内球部と、前記内球部を覆う略球状の内面を有し、前記第3シャフトの前記先端部が接続される球保持部と、前記内球部と前記第3軸との間、および、前記球保持部と前記内球部との間にガスを供給することにより、前記内球部に前記第3軸を非接触にて支持させるとともに前記球保持部に前記内球部を非接触にて支持させる第3ガス供給部と、を備えることを特徴とするステージ移動装置。請求項9または10に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトおよび前記第1シャフト進退機構が第1シャフトモータであり、前記第2シャフトおよび前記第2シャフト進退機構が第2シャフトモータであり、前記第3シャフトおよび前記第3シャフト進退機構が第3シャフトモータであることを特徴とするステージ移動装置。請求項9または10に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトに平行に伸びるとともに前記第1シャフトの両端部が固定される第1リニアロッドと、前記第2シャフトに平行に伸びるとともに前記第2シャフトの両端部が固定される第2リニアロッドと、前記第3シャフトに平行に伸びるとともに前記第3シャフトの両端部が固定される第3リニアロッドと、をさらに備え、前記第1リニアロッドが、下面が前記ステージ支持面に平行であり、前記第1シャフトの下側を覆うとともに前記ステージ支持面上に支持される第1底面部を備え、前記第2リニアロッドが、下面が前記ステージ支持面に平行であり、前記第2シャフトの下側を覆うとともに前記ステージ支持面上に支持される第2底面部を備え、前記第3リニアロッドが、下面が前記ステージ支持面に平行であり、前記第3シャフトの下側を覆うとともに前記ステージ支持面上に支持される第3底面部を備えることを特徴とするステージ移動装置。請求項12に記載のステージ移動装置であって、前記第1リニアロッドの前記下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記第1リニアロッドの前記下面に向けてガスを噴出することにより、前記第1リニアロッドを前記ステージ支持面から浮上させて支持する第1リニアロッド浮上部と、前記第2リニアロッドの前記下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記第2リニアロッドの前記下面に向けてガスを噴出することにより、前記第2リニアロッドを前記ステージ支持面から浮上させて支持する第2リニアロッド浮上部と、前記第3リニアロッドの前記下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記第3リニアロッドの前記下面に向けてガスを噴出することにより、前記第3リニアロッドを前記ステージ支持面から浮上させて支持する第3リニアロッド浮上部と、をさらに備えることを特徴とするステージ移動機構。請求項12または13に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトおよび前記第1シャフト進退機構が第1シャフトモータであり、前記第2シャフトおよび前記第2シャフト進退機構が第2シャフトモータであり、前記第3シャフトおよび前記第3シャフト進退機構が第3シャフトモータであり、前記第1シャフト進退機構が、前記ステージ支持部に回動可能に支持されるとともに前記第1シャフトが伸びる方向への前記第1リニアロッドの移動をガイドする第1ガイド部と、前記第1ガイド部に固定されて前記第1シャフトが挿入される第1コイルと、を備え、前記第1シャフトが略円筒状であり、前記第1シャフトの内部に第1マグネットが設けられ、前記第2シャフト進退機構が、前記ステージ支持部に回動可能に支持されるとともに前記第2シャフトが伸びる方向への前記第2リニアロッドの移動をガイドする第2ガイド部と、前記第2ガイド部に固定されて前記第2シャフトが挿入される第2コイルと、を備え、前記第2シャフトが略円筒状であり、前記第2シャフトの内部に第2マグネットが設けられ、前記第3シャフト進退機構が、前記ステージ支持部に回動可能に支持されるとともに前記第3シャフトが伸びる方向への前記第3リニアロッドの移動をガイドする第3ガイド部と、前記第3ガイド部に固定されて前記第3シャフトが挿入される第3コイルと、を備え、前記第3シャフトが略円筒状であり、前記第3シャフトの内部に第3マグネットが設けられることを特徴とするステージ移動装置。請求項1ないし14のいずれかに記載のステージ移動装置であって、前記ステージの下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記ステージの下面に向けてガスを噴出することにより前記ステージを前記ステージ支持面から浮上させるステージ浮上部をさらに備えることを特徴とするステージ移動装置。請求項1ないし15のいずれかに記載のステージ移動装置であって、前記ステージ支持部上に配置されて内部に前記ステージを収容するとともに前記ステージの移動範囲を覆うチャンバをさらに備え、前記チャンバが、前記第1シャフトおよび前記第2シャフトが挿入される2つの開口を有することを特徴とするステージ移動装置。請求項1ないし16のいずれかに記載のステージ移動装置であって、前記ステージの位置および向きを測定するステージ位置測定部をさらに備え、前記移動制御部が、前記ステージ位置指示値および前記ステージ位置測定部からの出力に基づいて前記第1シャフト進退機構、前記第2シャフト進退機構および前記向き決定機構を制御することを特徴とするステージ移動装置。請求項17に記載のステージ移動装置であって、前記ステージ位置測定部が、前記ステージの側面に配置された反射部と、前記ステージ支持部に固定されて前記反射部に向けて光を出射し、前記反射部からの反射光を受光して前記反射部までの距離を求める測長部と、を備え、前記反射部が、前記ステージの側面に対する鏡面加工またはミラーコーティングにより形成されることを特徴とするステージ移動装置。請求項2または3に記載のステージ移動装置であって、前記移動制御部において、前記第1シャフト進退機構に対する制御ゲインが、前記第1シャフトの重心の移動量に反比例し、前記第2シャフト進退機構に対する制御ゲインが、前記第2シャフトの重心の移動量に反比例し、前記シャフト回動機構に対する制御ゲインが、前記第1シャフトの長さに反比例することを特徴とするステージ移動装置。基板上に放射線を照射してパターンを描画するパターン描画装置であって、請求項1ないし19のいずれかに記載のステージ移動装置と、前記ステージ移動装置の前記ステージに保持される基板に向けて放射線を照射する照射部と、を備えることを特徴とするパターン描画装置。ところで、上述の複数のリニアガイドや支持台が上下方向に積み重ねられた移動機構では、ステージを含む移動構造の重心が高くなる。このため、ステージを高速で移動しようとするとピッチングが生じてしまい、ステージの移動の高速化に限界がある。また、移動構造が複雑で部品点数が多くなるため、装置の製造コストが増大してしまうとともに、各部品の振動によりステージの移動制御における位置精度の向上に限界がある。さらに、ステージの移動を制御する際の制御ゲインは、各部品の共振を励起しないように、各部品の共振周波数を避けて決定する必要があるため、充分な制御ゲインを確保することができない場合もある。その上、ステージの下側に位置するリニアモータからの発熱により、基板やステージ、あるいは、その他の構造が熱膨張する可能性があり、描画精度の向上に限界がある。一方、特許文献1ないし3のようなパラレルリンク構造は、ステージの微小距離の移動には適しているが、基板に対してパターンを描画する装置等のように、ステージを比較的高速にて長い距離だけ移動することが求められる場合には適していない。本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、高速移動時においてもステージの位置精度を向上することを目的としている。請求項1に記載の発明は、ステージ移動装置であって、ステージ支持部と、前記ステージ支持部が有する平面であるステージ支持面上に配置されるステージと、それぞれの先端部が前記ステージ支持面に垂直な軸を中心として回動可能に前記ステージに接続されるとともに前記ステージ支持面に平行に伸びる第1シャフトおよび第2シャフトと、前記ステージ支持面に垂直な軸を中心として回動可能に前記第1シャフトを支持するとともに、前記第1シャフトを長手方向に進退することにより前記第1シャフトの支持位置から前記ステージまでの前記第1シャフトの長さを変更する第1シャフト進退機構と、前記ステージ支持面に垂直な軸を中心として回動可能に前記第2シャフトを支持するとともに、前記第2シャフトを長手方向に進退することにより前記第2シャフトの支持位置から前記ステージまでの前記第2シャフトの長さを変更する第2シャフト進退機構と、前記ステージ支持面に垂直な軸を中心とする前記ステージの向きを決定する向き決定機構と、前記ステージの位置および向きを指示するステージ位置指示値に基づいて、前記第1シャフトの前記支持位置から前記ステージまでの前記第1シャフトの長さ、および、前記第2シャフトの前記支持位置から前記ステージまでの前記第2シャフトの長さを求め、前記第1シャフト進退機構、前記第2シャフト進退機構および前記向き決定機構を制御する移動制御部とを備える。請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のステージ移動装置であって、前記ステージが、ステージ本体と、前記ステージ本体に固定されるとともに前記第1シャフトの先端部が接続される第1軸と、前記第1軸から離間して前記ステージ本体に固定されるとともに前記第2シャフトの先端部が接続される第2軸とを備え、前記向き決定機構が、前記第1シャフト進退機構を回動するシャフト回動機構であり、前記移動制御部が、前記ステージ位置指示値に基づいて前記第1シャフトの向きをさらに求める。請求項3に記載の発明は、請求項2に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトの前記先端部が、前記第1軸が挿入される第1ボールジョイントに接続され、前記第2シャフトの前記先端部が、前記第2軸が挿入される第2ボールジョイントに接続され、前記第1ボールジョイントが、前記第1軸が挿入される貫通孔を中心部に有する略球状の内球部と、前記内球部を覆う略球状の内面を有し、前記第1シャフトの前記先端部が接続される球保持部と、前記内球部と前記第1軸との間、および、前記球保持部と前記内球部との間にガスを供給することにより、前記内球部に前記第1軸を非接触にて支持させるとともに前記球保持部に前記内球部を非接触にて支持させる第1ガス供給部とを備え、前記第2ボールジョイントが、前記第2軸が挿入される貫通孔を中心部に有する略球状の内球部と、前記内球部を覆う略球状の内面を有し、前記第2シャフトの前記先端部が接続される球保持部と、前記内球部と前記第2軸との間、および、前記球保持部と前記内球部との間にガスを供給することにより、前記内球部に前記第2軸を非接触にて支持させるとともに前記球保持部に前記内球部を非接触にて支持させる第2ガス供給部とを備える。請求項4に記載の発明は、請求項1に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトの先端部と前記第2シャフトの先端部とが前記ステージの同一の軸に接続され、前記向き決定機構が、前記軸を中心として前記ステージを回動するステージ回動機構である。請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトおよび前記第1シャフト進退機構が第1シャフトモータであり、前記第2シャフトおよび前記第2シャフト進退機構が第2シャフトモータである。請求項6に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトに平行に伸びるとともに前記第1シャフトの両端部が固定される第1リニアロッドと、前記第2シャフトに平行に伸びるとともに前記第2シャフトの両端部が固定される第2リニアロッドとをさらに備え、前記第1リニアロッドが、下面が前記ステージ支持面に平行であり、前記第1シャフトの下側を覆うとともに前記ステージ支持面上に支持される第1底面部を備え、前記第2リニアロッドが、下面が前記ステージ支持面に平行であり、前記第2シャフトの下側を覆うとともに前記ステージ支持面上に支持される第2底面部を備える。請求項7に記載の発明は、請求項6に記載のステージ移動装置であって、前記第1リニアロッドの前記下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記第1リニアロッドの前記下面に向けてガスを噴出することにより、前記第1リニアロッドを前記ステージ支持面から浮上させて支持する第1リニアロッド浮上部と、前記第2リニアロッドの前記下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記第2リニアロッドの前記下面に向けてガスを噴出することにより、前記第2リニアロッドを前記ステージ支持面から浮上させて支持する第2リニアロッド浮上部とをさらに備える。請求項8に記載の発明は、請求項6または7に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトおよび前記第1シャフト進退機構が第1シャフトモータであり、前記第2シャフトおよび前記第2シャフト進退機構が第2シャフトモータであり、前記第1シャフト進退機構が、前記ステージ支持部に回動可能に支持されるとともに前記第1シャフトが伸びる方向への前記第1リニアロッドの移動をガイドする第1ガイド部と、前記第1ガイド部に固定されて前記第1シャフトが挿入される第1コイルとを備え、前記第1シャフトが略円筒状であり、前記第1シャフトの内部に第1マグネットが設けられ、前記第2シャフト進退機構が、前記ステージ支持部に回動可能に支持されるとともに前記第2シャフトが伸びる方向への前記第2リニアロッドの移動をガイドする第2ガイド部と、前記第2ガイド部に固定されて前記第2シャフトが挿入される第2コイルとを備え、前記第2シャフトが略円筒状であり、前記第2シャフトの内部に第2マグネットが設けられる。請求項9に記載の発明は、請求項1に記載のステージ移動装置であって、前記向き決定機構が、先端部が前記ステージ支持面に垂直な軸を中心として回動可能に前記ステージに接続されるとともに前記ステージ支持面に平行に伸びる第3シャフトと、前記ステージ支持面に垂直な軸を中心として回動可能に前記第3シャフトを支持するとともに、前記第3シャフトを長手方向に進退することにより前記第3シャフトの支持位置から前記ステージまでの前記第3シャフトの長さを変更する第3シャフト進退機構とを備え、前記ステージが、前記第1シャフトの先端部が接続される第1軸と、前記第1軸から離間して配置されるとともに前記第2シャフトの先端部が接続される第2軸と、前記第3シャフトの先端部が接続される第3軸とを備え、前記移動制御部が、前記ステージ位置指示値に基づいて前記第3シャフトの前記支持位置から前記ステージまでの前記第3シャフトの長さをさらに求める。請求項10に記載の発明は、請求項9に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトの前記先端部が、前記第1軸が挿入される第1ボールジョイントに接続され、前記第2シャフトの前記先端部が、前記第2軸が挿入される第2ボールジョイントに接続され、前記第3シャフトの前記先端部が、前記第3軸が挿入される第3ボールジョイントに接続され、前記第1ボールジョイントが、前記第1軸が挿入される貫通孔を中心部に有する略球状の内球部と、前記内球部を覆う略球状の内面を有し、前記第1シャフトの前記先端部が接続される球保持部と、前記内球部と前記第1軸との間、および、前記球保持部と前記内球部との間にガスを供給することにより、前記内球部に前記第1軸を非接触にて支持させるとともに前記球保持部に前記内球部を非接触にて支持させる第1ガス供給部とを備え、前記第2ボールジョイントが、前記第2軸が挿入される貫通孔を中心部に有する略球状の内球部と、前記内球部を覆う略球状の内面を有し、前記第2シャフトの前記先端部が接続される球保持部と、前記内球部と前記第2軸との間、および、前記球保持部と前記内球部との間にガスを供給することにより、前記内球部に前記第2軸を非接触にて支持させるとともに前記球保持部に前記内球部を非接触にて支持させる第2ガス供給部とを備え、前記第3ボールジョイントが、前記第3軸が挿入される貫通孔を中心部に有する略球状の内球部と、前記内球部を覆う略球状の内面を有し、前記第3シャフトの前記先端部が接続される球保持部と、前記内球部と前記第3軸との間、および、前記球保持部と前記内球部との間にガスを供給することにより、前記内球部に前記第3軸を非接触にて支持させるとともに前記球保持部に前記内球部を非接触にて支持させる第3ガス供給部とを備える。請求項11に記載の発明は、請求項9または10に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトおよび前記第1シャフト進退機構が第1シャフトモータであり、前記第2シャフトおよび前記第2シャフト進退機構が第2シャフトモータであり、前記第3シャフトおよび前記第3シャフト進退機構が第3シャフトモータである。請求項12に記載の発明は、請求項9または10に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトに平行に伸びるとともに前記第1シャフトの両端部が固定される第1リニアロッドと、前記第2シャフトに平行に伸びるとともに前記第2シャフトの両端部が固定される第2リニアロッドと、前記第3シャフトに平行に伸びるとともに前記第3シャフトの両端部が固定される第3リニアロッドとをさらに備え、前記第1リニアロッドが、下面が前記ステージ支持面に平行であり、前記第1シャフトの下側を覆うとともに前記ステージ支持面上に支持される第1底面部を備え、前記第2リニアロッドが、下面が前記ステージ支持面に平行であり、前記第2シャフトの下側を覆うとともに前記ステージ支持面上に支持される第2底面部を備え、前記第3リニアロッドが、下面が前記ステージ支持面に平行であり、前記第3シャフトの下側を覆うとともに前記ステージ支持面上に支持される第3底面部を備える。請求項13に記載の発明は、請求項12に記載のステージ移動装置であって、前記第1リニアロッドの前記下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記第1リニアロッドの前記下面に向けてガスを噴出することにより、前記第1リニアロッドを前記ステージ支持面から浮上させて支持する第1リニアロッド浮上部と、前記第2リニアロッドの前記下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記第2リニアロッドの前記下面に向けてガスを噴出することにより、前記第2リニアロッドを前記ステージ支持面から浮上させて支持する第2リニアロッド浮上部と、前記第3リニアロッドの前記下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記第3リニアロッドの前記下面に向けてガスを噴出することにより、前記第3リニアロッドを前記ステージ支持面から浮上させて支持する第3リニアロッド浮上部とをさらに備える。請求項14に記載の発明は、請求項12または13に記載のステージ移動装置であって、前記第1シャフトおよび前記第1シャフト進退機構が第1シャフトモータであり、前記第2シャフトおよび前記第2シャフト進退機構が第2シャフトモータであり、前記第3シャフトおよび前記第3シャフト進退機構が第3シャフトモータであり、前記第1シャフト進退機構が、前記ステージ支持部に回動可能に支持されるとともに前記第1シャフトが伸びる方向への前記第1リニアロッドの移動をガイドする第1ガイド部と、前記第1ガイド部に固定されて前記第1シャフトが挿入される第1コイルとを備え、前記第1シャフトが略円筒状であり、前記第1シャフトの内部に第1マグネットが設けられ、前記第2シャフト進退機構が、前記ステージ支持部に回動可能に支持されるとともに前記第2シャフトが伸びる方向への前記第2リニアロッドの移動をガイドする第2ガイド部と、前記第2ガイド部に固定されて前記第2シャフトが挿入される第2コイルとを備え、前記第2シャフトが略円筒状であり、前記第2シャフトの内部に第2マグネットが設けられ、前記第3シャフト進退機構が、前記ステージ支持部に回動可能に支持されるとともに前記第3シャフトが伸びる方向への前記第3リニアロッドの移動をガイドする第3ガイド部と、前記第3ガイド部に固定されて前記第3シャフトが挿入される第3コイルとを備え、前記第3シャフトが略円筒状であり、前記第3シャフトの内部に第3マグネットが設けられる。請求項15に記載の発明は、請求項1ないし14のいずれかに記載のステージ移動装置であって、前記ステージの下面から前記ステージ支持面に向けて、または、前記ステージ支持面から前記ステージの下面に向けてガスを噴出することにより前記ステージを前記ステージ支持面から浮上させるステージ浮上部をさらに備える。請求項16に記載の発明は、請求項1ないし15のいずれかに記載のステージ移動装置であって、前記ステージ支持部上に配置されて内部に前記ステージを収容するとともに前記ステージの移動範囲を覆うチャンバをさらに備え、前記チャンバが、前記第1シャフトおよび前記第2シャフトが挿入される2つの開口を有する。請求項17に記載の発明は、請求項1ないし16のいずれかに記載のステージ移動装置であって、前記ステージの位置および向きを測定するステージ位置測定部をさらに備え、前記移動制御部が、前記ステージ位置指示値および前記ステージ位置測定部からの出力に基づいて前記第1シャフト進退機構、前記第2シャフト進退機構および前記向き決定機構を制御する。請求項18に記載の発明は、請求項17に記載のステージ移動装置であって、前記ステージ位置測定部が、前記ステージの側面に配置された反射部と、前記ステージ支持部に固定されて前記反射部に向けて光を出射し、前記反射部からの反射光を受光して前記反射部までの距離を求める測長部とを備え、前記反射部が、前記ステージの側面に対する鏡面加工またはミラーコーティングにより形成される。請求項19に記載の発明は、請求項2または3に記載のステージ移動装置であって、前記移動制御部において、前記第1シャフト進退機構に対する制御ゲインが、前記第1シャフトの重心の移動量に反比例し、前記第2シャフト進退機構に対する制御ゲインが、前記第2シャフトの重心の移動量に反比例し、前記シャフト回動機構に対する制御ゲインが、前記第1シャフトの長さに反比例する。請求項20に記載の発明は、基板上に放射線を照射してパターンを描画するパターン描画装置であって、請求項1ないし19のいずれかに記載のステージ移動装置と、前記ステージ移動装置の前記ステージに保持される基板に向けて放射線を照射する照射部とを備える。本発明では、高速移動時においてもステージの位置精度を向上することができる。図1は、本発明の第1の実施の形態に係るパターン描画装置1の構成を示す平面図であり、図2は、パターン描画装置1の側面図である。パターン描画装置1は、液晶表示装置用のガラス基板9以下、単に基板9という。上の感光材料に光を利用してパターンを描画する装置である。本実施の形態では、パターン描画装置1により、TFTThinFilmTransistorの回路パターンが基板9に描画される。図1および図2に示すように、パターン描画装置1は、ステージ支持部である定盤11、定盤11が有する平面である定盤面12すなわち、ステージ支持面上に配置されるステージ3、ステージ3を定盤面12に沿って移動する移動機構2以下、ステージ移動機構2という。、ステージ3を跨ぐフレーム図示省略に取り付けられる光照射部5、定盤面12上におけるステージ3の位置および向きを測定するステージ位置測定部6、および、これらの構成を制御する制御部7を備える。パターン描画装置1は、定盤11上に配置されるチャンバ4をさらに備え、チャンバ4の内部には、ステージ3、光照射部5およびステージ位置測定部6が収容される。チャンバ4は、定盤11上におけるステージ3の移動範囲図1において二点鎖線にて示す。を覆い、チャンバ4の内部空間と外部との間の熱の移動を遮断、または、低減する。図1および図2では、図の理解を容易にするために、チャンバ4を太破線にて描き、チャンバ4の内部の構成を実線にて描く。本実施の形態では、チャンバ4はアルミニウム等の金属により形成される。パターン描画装置1では、基板9がステージ3により保持され、基板9の上面上に形成された感光材料の層に向けて、光照射部5により変調された光が照射される。図3はステージ3の平面図であり、図4および図5はそれぞれ、ステージ3を図3中のA-AおよびB-Bの位置にて切断した断面図である。図3および図4に示すように、平面視において略矩形のステージ3の上面31には多数の小さい吸着穴311が形成されており、図4に示す流路312を介して吸引が行われることにより、基板9図1参照の下面がステージ3に吸着される。また、図3に示すように、ステージ3の上面31には複数のピン収容穴313が形成されており、各ピン収容穴313にはリフトピン314が収容される。ステージ3では、基板9の吸着が解除された状態で、図5に示す流路315を介して各ピン収容穴313に圧縮空気が供給されることにより、リフトピン314がステージ3の上面31から突出して基板9をステージ3から離間させる。ピン収容穴313に供給される圧縮空気の温度は、チャンバ4図1参照の内部空間を適温に保つように調整されている。図6は、ステージ3の底面図である。図6に示すようにステージ3の下面の4つの角部近傍にはステージ浮上部であるガス噴出部35いわゆる、エアパッドが設けられ、ガス噴出部35には、図示省略のフレキシブルチューブが接続される。図2に示すパターン描画装置1では、ガス噴出部35から定盤11の定盤面12に向けてガス本実施の形態では、圧縮空気が噴出されることによりステージ3が定盤面12から浮上し、ステージ3が定盤11と非接触の状態にてステージ移動機構2により移動する。ガス噴出部35に供給される圧縮空気の温度は、チャンバ4の内部空間を適温に保つように調整されている。図1に示すように、ステージ移動機構2は、それぞれステージ3の-Y側に配置される第1シャフトモータ21、第2シャフトモータ22、および、シャフト回動機構23を備える。第1シャフトモータ21は、図1および図2に示すように、定盤11の定盤面12に平行に伸びる第1シャフト211、および、第1シャフト211を支持するとともに第1シャフト211を長手方向すなわち、第1シャフト211の伸びる方向に進退する第1シャフト進退機構212いわゆる、コイル部を備える。図1に示す第2シャフトモータ22は、第1シャフトモータ21と同様に、定盤面12に平行に伸びる第2シャフト221、および、第2シャフト221を支持するとともに第2シャフト221を長手方向に進退する第2シャフト進退機構222を備える。図1および図2に示すように、第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222はそれぞれチャンバ4の外側に配置される。第1シャフト211および第2シャフト221は、チャンバ4の-Y側の側面に形成された2つの開口41からチャンバ4内に挿入され、開口41のエッジと第1シャフト211および第2シャフト221との間の間隙は、柔軟で容易に変形するベローズ42により覆われる。これにより、チャンバ4の内部空間が密閉される。図7は、第1シャフト進退機構212近傍の部位を第1シャフト211の長手方向に平行に切断した断面図である。図7に示すように、第1シャフトモータ21の第1シャフト進退機構212の下側には、回転型サーボモータであるシャフト回動機構23が配置される。シャフト回動機構23は定盤11に埋め込まれており、定盤面12から垂直に突出する軸213には第1シャフト進退機構212が接続される。第1シャフト進退機構212は軸213と共にすなわち、軸213を中心として回動可能であり、シャフト回動機構23により第1シャフト進退機構212が回動することにより第1シャフト211の向きが決定される。図8は、第2シャフト進退機構222近傍の部位を第2シャフト221の長手方向に平行に切断した断面図である。図8に示すように、第2シャフト進退機構222の下側には定盤面12に垂直な軸223が設けられ、軸223は、定盤面12に形成された凹部125内のエアパッド126により支持される。エアパッド126には、定盤11内に形成された流路図示省略を介して圧縮空気が供給されており、第2シャフト進退機構222は軸223を中心として回動可能である。図9は、ステージ3を-X側から見た側面図である。図1および図9に示すように、ステージ3の-X側かつ-Y側の角部には略直方体状の凹部32が設けられる。凹部32は、ステージ3のZ方向のおよそ中央部に位置し、ステージ3の-X側および-Y側の側面に開口している。凹部32内には、定盤面12に垂直な第1軸331が設けられ、第1軸331の両端部は、ステージ本体30のうち凹部32の上側および下側を覆う部位に固定される。第1シャフト211の先端部は、第1軸331にエアベアリング等を介して回動可能に接続される。図1に示すように、ステージ3のX側かつ-Y側の角部にも、上記と同様の凹部32が形成されており、凹部32内には、第2シャフト221の先端部がエアベアリング等を介して回動可能に接続される第2軸332が設けられてステージ本体30に固定される。換言すれば、第1シャフト211および第2シャフト221の先端部はそれぞれ、定盤面12に垂直な第1軸331および第2軸332を中心として回動可能にステージ3に接続される。第1軸331および第2軸332は、ステージ3のX方向を向く中心線上にて互いに離間して配置され、本実施の形態では、ステージ3の第1軸331と第2軸332との間のX方向の距離は300mmである。また、ステージ3のX方向およびY方向の長さは400mmであり、ステージ3のX方向およびY方向における移動範囲は750mmである。第1シャフト進退機構212の軸213図7参照および第2シャフト進退機構222の軸223図8参照もX方向に離間して配置され、軸213と軸223との間のX方向の距離は950mmである。ステージ移動機構2では、第1シャフト進退機構212により第1シャフト211が長手方向に進退することにより、第1シャフト211の支持位置からステージ3までのすなわち、第1シャフト進退機構212からステージ3までの第1シャフト211の長さが変更される。また、第2シャフト進退機構222により第2シャフト221が長手方向に進退することにより、第2シャフト221の支持位置からステージ3までの第2シャフト221の長さが変更される。さらに、シャフト回動機構23により第1シャフト211が軸213を中心として回動され、第2シャフト221も軸223を中心として回動する。その結果、ステージ3が所望の向きにて所望の位置へと移動する。ステージ3の位置とは、ステージ3の中心の水平面内における位置であり、ステージ3の向きとは、水平方向を向く所定の基準方向に対するステージ3の水平面内における傾きである。ステージ移動機構2では、シャフト回動機構23が、定盤面12に垂直な軸を中心とするステージ3の向きを決定する向き決定機構となっている。図10は、制御部7の機能を示すブロック図であり、図10では、制御部7以外の構成も併せて描いている。制御部7は、ステージ移動機構2を制御する移動制御部71、および、光照射部5を制御する照射制御部72を備える。図1に示すパターン描画装置1では、ステージ3の位置および向きを指示するステージ位置指示値が移動制御部71に入力され、当該ステージ位置指示値に基づいて、第1シャフト211の支持位置である第1シャフト進退機構212の位置からステージ3までの第1シャフト211の長さ以下、単に第1シャフト211の長さという。、第2シャフト221の支持位置である第2シャフト進退機構222の位置からステージ3までの第2シャフト221の長さ以下、単に第2シャフト221の長さという。、および、第1シャフト211の向きが移動制御部71により求められる。具体的には、第1シャフト進退機構212の軸213とステージ3の第1軸331との間の直線距離、第2シャフト進退機構222の軸223とステージ3の第2軸332との間の直線距離、および、第1シャフト211のX方向に対する傾きが求められる。そして、移動制御部71により、第1シャフト211および第2シャフト221の長さ、並びに、第1シャフト211の向きに基づいて第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23が制御されることにより、ステージ3の位置および向きがステージ位置指示値に等しくなる。以下の説明では、第1シャフト進退機構212の軸213を座標原点すなわち、X,Y=0,0とした際のステージ3の中心位置のX座標およびY座標をステージ3の位置といい、ステージ3の第1軸331と第2軸332とを結ぶ直線のX方向に対する傾きθをステージの向きという。図11.Aないし図11.Cはそれぞれ、ステージ3の中心位置のY座標および向きθをそれぞれ300mmおよび0°に維持した状態でステージ3をX方向に移動する場合の第1シャフト211の長さ、第2シャフト221の長さ、および、第1シャフト211の向きすなわち、X方向に対する傾きの変化を示す図である。図12.Aないし図12.Cはそれぞれ、ステージ3の中心位置のY座標および向きθをそれぞれ650mmおよび0°に維持した状態でステージ3をX方向に移動する場合の第1シャフト211の長さ、第2シャフト221の長さ、および、第1シャフト211のX方向に対する傾きの変化を示す図である。図11.Aないし図11.C、並びに、図12.Aないし図12.Cの横軸は、ステージ3の中心位置のX座標を示す。図13.Aないし図13.Cはそれぞれ、ステージ3の中心位置のX座標および向きθをそれぞれ300mmおよび0°に維持した状態でステージ3をY方向に移動する場合の第1シャフト211の長さ、第2シャフト221の長さ、および、第1シャフト211のX方向に対する傾きの変化を示す図である。図14.Aないし図14.Cはそれぞれ、ステージ3の中心位置のX座標および向きθをそれぞれ650mmおよび0°に維持した状態でステージ3をY方向に移動する場合の第1シャフト211の長さ、第2シャフト221の長さ、および、第1シャフト211のX方向に対する傾きの変化を示す図である。図13.Aないし図13.C、並びに、図14.Aないし図14.Cの横軸は、ステージ3の中心位置のY座標を示す。パターン描画装置1では、図11.Aないし図11.C、並びに、図12.Aないし図12.Cに示すように第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23を制御することにより、ステージ3がX方向に平行に移動し、図13.Aないし図13.C、並びに、図14.Aないし図14.Cに示すように第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23を制御することにより、ステージ3がY方向に平行に移動する。図1に示すように、ステージ位置測定部6は、定盤11に固定される3つのレーザ測長器61a~61c、並びに、ステージ3の-X側の側面およびY側の側面に配置された反射部62a,62bを備える。レーザ測長器61aはステージ3の-X側に配置され、レーザ測長器61b,61cはステージ3のY側に配置される。反射部62a,62bは、ステージ3の側面に対する鏡面加工またはミラーコーティングにより形成される。なお、レーザ測長器61a~61cはフレーム等を介して定盤11に固定されるが、図2では、図の理解を容易にするために、当該フレーム等を省略してステージ位置測定部6のレーザ測長器61a,61bを描いている。図1に示すステージ位置測定部6では、レーザ測長器61aから反射部62aに向けてX方向に平行にレーザ光が出射され、反射部62aからの反射光がレーザ測長器61aにより受光されてレーザ測長器61aから反射部62aまでの距離が求められる。また、レーザ測長器61b,61cから反射部62bに向けてY方向に平行にレーザ光が出射され、反射部62bからの反射光がレーザ測長器61b,61cにより受光されてレーザ測長器61b,61cから反射部62bまでのそれぞれの距離が求められ、さらに、これらの距離の差分からステージ3の向きが求められる。すなわち、レーザ測長器61a~61cは、ステージ3までの距離およびステージ3の向きを求める測長部である。レーザ測長器61a~61cからの出力は制御部7の移動制御部71図10参照に送られ、これらの出力に基づいてステージ3の位置および向きが算出される。図15は、ステージ3の移動制御の流れを示す図である。パターン描画装置1では、まず、ステージ3を移動すべき目標位置、および、目標位置におけるステージ3の向きを示すステージ位置指示値が移動制御部71に入力されるステップS11。続いて、ステージ位置指示値により指示されるステージ3の位置および向きを実現するための第1シャフト211の長さ、第2シャフト221の長さ、および、第1シャフト211の向きが求められるステップS12。次に、ステージ位置測定部6により、ステージ3の現在位置および現在の向きが測定されステップS13、測定結果に基づいて、第1シャフト211の現在の長さ、第2シャフト221の現在の長さ、および、第1シャフト211の現在の向きが求められるステップS14。そして、第1シャフト211の長さ、第2シャフト221の長さ、および、第1シャフト211の向きのそれぞれについて、ステップS12にて求められた目標値とステップS14にて求められた現在値との差分が求められるステップS15。その後、移動制御部71により、当該差分に基づいてすなわち、ステージ位置指示値およびステージ位置測定部6からの出力に基づいて第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23に対するフィードバック制御例えば、PID制御が行われ、ステージ3の移動が行われるステップS16。ステップS16では、第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23のそれぞれに対する制御ゲインが可変とされる。第1シャフト進退機構212に対する制御ゲインは、第1シャフト211の支持位置からステージ3までの間の第1シャフト211の重心すなわち、長手方向の中心の移動量に反比例するように決定される。第1シャフト211の重心の移動量は、第1シャフト211の長さ、および、第1シャフト211のX方向に対する傾きから求められる第2シャフト221においても同様。第2シャフト進退機構222に対する制御ゲインは、第2シャフト221の支持位置からステージ3までの間の第2シャフト221の重心すなわち、長手方向の中心の移動量に反比例するように決定される。また、シャフト回動機構23に対する制御ゲインは、第1シャフト211の支持位置からステージ3までの第1シャフト211の長さに反比例するように決定される。移動制御部71によるステージ移動機構2の制御では、第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23のそれぞれに対する制御ゲインを一定とすることもできるが、制御ゲインを上述のように可変とすることにより、ステージ3の移動量と第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23のそれぞれの駆動量すなわち、第1シャフト211および第2シャフト221の進退距離、および、第1シャフト211の回転角度との比の変化を小さくすることができる。その結果、第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23の振動や移動制御部71による制御の不安定化を防止し、高速かつ高精度なステージの移動制御を実現することができる。上述のステージ3の移動制御では、ステージ移動機構2の機械的振動を低減するために、第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23の制御にデジタルノッチフィルタ等のフィルタが適用されてもよい。具体的には、ステップS15とステップS16との間において、第1シャフト211の現在の長さから第1シャフト211の引っ張り方向および曲げ方向のぞれぞれの共振周波数が求められ、第2シャフト221の現在の長さから、第2シャフト221の引っ張り方向および曲げ方向のそれぞれの共振周波数が求められる。これらの共振周波数は各シャフトの長さに反比例し、各シャフトの長さに対応する共振周波数は構造解析や実験等により予め取得される。続いて、移動制御部71から第1シャフト進退機構212に送られる駆動信号から、第1シャフト211の引っ張り方向の共振周波数に等しい周波数、および、その近傍の周波数帯の信号成分を減衰させるように、第1シャフト進退機構212に対する制御信号にデジタルノッチフィルタが適用される。また、移動制御部71から第2シャフト進退機構222に送られる駆動信号から、第2シャフト221の引っ張り方向の共振周波数に等しい周波数、および、その近傍の周波数帯の信号成分を減衰させるように、第2シャフト進退機構222に対する制御信号にデジタルノッチフィルタが適用される。さらに、移動制御部71からシャフト回動機構23に送られる駆動信号から、第1シャフト211および第2シャフト221のそれぞれの曲げ方向の共振周波数近傍の周波数帯を減衰させるように、シャフト回動機構23に対する制御信号にデジタルノッチフィルタが適用される。その後、移動制御部71により、第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23に対するフィードバック制御が行われ、ステージ3の移動が行われる。なお、デジタルノッチフィルタの適用は、ステップS14とステップS15との間に行われてもよい。次に、図1および図2に示す光照射部5について説明する。光照射部5は光学ヘッド51を備え、光学ヘッド51には、光源光学系、UV光源および光源駆動部が接続される。本実施の形態では、UV光源は固体レーザであり、制御部7の照射制御部72図10参照により光源駆動部が駆動されることにより、UV光源から波長355nmの紫外光が出射され、光源光学系を介して光学ヘッド51へと導かれる。図2に示すように、光学ヘッド51は、UV光源からの光を下方に向けて出射する出射部55、出射部55からの光を反射する光学系551、光学系551を介して照射された出射部55からの光を変調しつつ反射する空間光変調器56、および、空間光変調器56からの変調された光を基板9の上面に設けられた感光材料上へと導く光学系57を備える。図16は、空間光変調器56を拡大して示す図である。図16に示すように、空間光変調器56は、出射部55を介して照射されたUV光源からの光を基板9の上面へと導く回折格子型の光変調素子561を備える。光変調素子561は半導体装置製造技術を利用して製造され、格子の深さを変更することができる回折格子となっている。光変調素子561には複数の可撓リボン561aおよび固定リボン561bが交互に平行に配列形成され、複数の可撓リボン561aは背後の基準面に対して個別に昇降移動可能とされ、複数の固定リボン561bは基準面に対して固定される。回折格子型の光変調素子としては、例えば、GLVGratingLightValve:グレーチングライトバルブシリコンライトマシーンズサニーベール、カリフォルニアの登録商標が知られている。図17.Aおよび図17.Bは、可撓リボン561aおよび固定リボン561bに対して垂直な面における光変調素子561の断面を示す図である。図17.Aに示すように可撓リボン561aおよび固定リボン561bが基準面561cに対して同じ高さに位置するすなわち、可撓リボン561aが撓まない場合には、光変調素子561の表面は面一となり、入射光L1の反射光が0次光L2として導出される。一方、図17.Bに示すように可撓リボン561aが固定リボン561bよりも基準面561c側に撓む場合には、可撓リボン561aが回折格子の溝の底面となり、1次回折光L3さらには、高次回折光が光変調素子561から導出され、0次光L2は消滅する。このように、光変調素子561は回折格子を利用した光変調を行う。光照射部5では、UV光源からの光が光源光学系により線状光光束断面が線状の光とされ、出射部55図2参照を介して空間光変調器56のライン状に配列された複数の可撓リボン561aおよび固定リボン561b上に照射される。光変調素子561では、隣接する各1本の可撓リボン561aおよび固定リボン561bを1つのリボン対とすると、例えば、3つ以上のリボン対が描画されるパターンの1つの画素に対応する。光変調素子561では、照射制御部72図10参照からの信号に基づいてパターンの各画素に対応するリボン対の可撓リボン561aがそれぞれ制御され、各画素に対応するリボン対が0次光正反射光を出射する状態と、非0次回折光主として1次回折光1次回折光および-1次回折光を出射する状態との間で遷移可能とされる。光変調素子561から出射される0次光は光学系57へと導かれ、1次回折光は光学系57とは異なる方向へと導かれる。なお、迷光となることを防止するために1次回折光は図示を省略する遮光部により遮光される。光変調素子561からの0次光は、光学系57を介して基板9の上面へと導かれ、これにより、基板9の上面上においてX方向すなわち、主走査方向に垂直な副走査方向に並ぶ複数の照射位置のそれぞれに変調された光が照射される。すなわち、光変調素子561の各画素に対応するリボン対は0次光を出射する状態がON状態であり、1次回折光を出射する状態がOFF状態である。光変調素子561では、図17.Aに示すように、可撓リボン561aと固定リボン561bとの基準面561cからの高さを等しくすることにより、0次光が信号光として得られるが、可撓リボン561aの高さを固定リボン561bの高さよりも僅かに低くすることにより信号光の光量を低下させることができ、この性質を利用して光変調素子561からの光量の調整を行うことができる。図1および図2に示すパターン描画装置1においてパターンの描画が行われる際には、ステージ移動機構2により基板9がステージ3と共にY方向へと移動しつつ、光照射部5において光学ヘッド51の空間光変調器56の光変調素子561図16参照が、描画されるべきパターンのデータに基づいて照射制御部72により制御されるすなわち、各画素に対応するリボン対のON/OFFが切り替えられることにより、基板9の上面上の感光材料に上記パターンが描画される。以上に説明したように、パターン描画装置1では、ステージ移動機構2が、定盤11の定盤面12に平行に伸びるとともにそれぞれの先端部がステージ3に接続される第1シャフト211および第2シャフト221、第1シャフト211および第2シャフト221を進退させる第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222、並びに、ステージ3の向きを決定する向き決定機構であるシャフト回動機構23を備える。これにより、複数のリニアガイドや支持台が上下方向に積み重ねられたステージ移動機構以下、比較例のステージ移動機構という。に比べて、ステージ移動機構2の重心を低くすることができる。その結果、ステージ3の高速移動時においても、ステージ3のピッチングを防止してステージ3の移動制御における位置精度すなわち、ステージ位置指示値に対する追随性を向上することができる。また、ステージ移動機構2では、比較例のステージ移動機構に比べて構成部品の個数および組立工数を削減することができるため、装置の製造コストを低減することができるとともに、構成部品の振動によるステージの移動制御における位置精度の低下を抑制することができる。ステージ3の移動制御における制御ゲインは、ステージ移動機構2の構成部品の共振周波数を避けて決定されることが好ましい。ステージ移動機構2では、上述の構成部品の個数削減により、制御ゲインの決定の自由度が向上するため、より適切な移動制御を行うことができる。図2に示すように、パターン描画装置1では、発熱源となる第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222が、ステージ3の側方にステージ3から離間して配置されるため、発熱源である複数のリニアモータがステージの直下に配置される比較例のステージ移動機構に比べて、ステージ3や基板9、あるいは、その他の構成がこれらの発熱源からの熱により膨張してしまうことが抑制される。このように、ステージ3等に対する熱の影響を低減することにより、基板9に対するパターンの描画精度を向上することができる。また、ステージ移動機構2では、ステージ3の向きを決定するシャフト回動機構23も、ステージ3の側方にステージ3から離間して配置されるため、ステージ3等に対するシャフト回動機構23からの熱の影響が低減され、パターンの描画精度がより向上する。さらに、ステージ3の移動範囲をチャンバ4により覆うとともに、第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23がチャンバ4の外部に配置されることにより、ステージ3等に対する第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23からの熱の影響がより一層低減され、パターンの描画精度がさらに向上する。第1シャフト211および第2シャフト221は、様々な構造のリニアモータや回転型サーボモータ、ピエゾアクチュエータ等により長手方向に進退されてもよいが、第1シャフト211および第1シャフト進退機構212として第1シャフトモータ21が利用され、第2シャフト221および第2シャフト進退機構222として第2シャフトモータ22が利用されることにより、ステージ移動機構2の構造が簡素化されることが好ましい。また、高推力のシャフトモータが利用されることにより、ステージ3の移動の高速化、および、ステージ3の移動範囲の大型化が実現される。さらに、ステージ3にガス噴出部35が設けられてステージ3を定盤面12から浮上させることにより、ステージ3と定盤面12との摩擦によるステージ3の移動への影響を防止することができる。パターン描画装置1では、ステージ位置指示値およびステージ位置測定部6から出力されるステージ3の現在の位置および向きに基づいて第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23が制御されることにより、ステージ3の移動制御における位置精度を向上することができる。ステージ位置測定部6では、レーザ測長器61a~61cからのレーザ光を反射する反射部62a,62bが、ステージ3の側面に対する鏡面加工またはミラーコーティングにより形成されることにより、ステージ3が移動する際に反射部62a,62bが歪んだりずれることが防止される。その結果、ステージ3の現在位置を正確に測定することができ、ステージ3の移動制御における位置精度をより向上することができる。次に、本発明の第2の実施の形態に係るパターン描画装置について説明する。図18は、第2の実施の形態に係るパターン描画装置1aを示す平面図である。パターン描画装置1aでは、図1および図2に示すパターン描画装置1のステージ移動機構2と異なる構造のステージ移動機構2aが設けられる。その他の構成は、パターン描画装置1と同様であり、以下の説明において同符号を付す。なお、図18では、図を簡素化するために制御部7は図示していない図20においても同様。図18に示すように、ステージ移動機構2aは、第1の実施の形態と同様の構造を有する第1シャフトモータ21および第2シャフトモータ22を備え、第1シャフトモータ21の第1シャフト進退機構212、および、第2シャフトモータ22の第2シャフト進退機構222はそれぞれチャンバ4の外側に配置される。ステージ移動機構2aでは、第1の実施の形態とは異なり、第1シャフト進退機構212の下側にシャフト回動機構23は設けられず、第1シャフト進退機構212は、第2シャフト進退機構222図8参照と同様の構造により定盤11上に回動可能に支持される。具体的には、第1シャフト進退機構212の下側に、定盤11の定盤面12に垂直な軸が設けられ、定盤面12に形成された凹部内のエアパッドにより当該軸が回動可能に支持されることにより、第1シャフト進退機構212が当該軸を中心として回動可能となる。図19は、ステージ3の中心位置近傍の断面図ある。図19に示すように、ステージ3の中心位置には上面側からZ方向のおよそ中央まで凹部34が形成されており、凹部34内には回転型サーボモータであるステージ回動機構24が収容されてステージ3に固定される。また、凹部34の-Z側には凹部34と連続する凹部36が設けられ、凹部36は、ステージ3の-Y側においてステージ3の全幅に亘って広がる。凹部36は、ステージ3の-X側、-Y側およびX側の側面に開口している。ステージ回動機構24の軸241は定盤面12図18参照に垂直に下向きに伸びており、凹部36内において軸241に円柱状の部材242が固定される。ステージ回動機構24および部材242はステージ3の上面と下面との間に配置される。図18に示すように、第1シャフト211および第2シャフト221は、チャンバ4の-Y側の側面に形成されてベローズ42に覆われた2つの開口41からチャンバ4内に挿入され、第1シャフト211の先端部および第2シャフト221の先端部は、図19に示すように、ステージ回動機構24の軸241に部材242を介して接続される。上述のように、ステージ回動機構24はステージ3に固定されているため、第1シャフト211の先端部と第2シャフト221の先端部とは、ステージ3の同一の軸241に接続されるといえる。第1シャフト211の先端部は、ねじ等により部材242に固定されており、第2シャフト221の先端部はエアベアリング等を介して軸241に回動可能に接続される。図18に示すパターン描画装置1aでは、移動制御部71図10参照において、ステージ位置指示値に含まれるステージ3の中心位置に基づいてステージ移動機構2aの第1シャフト211および第2シャフト221のそれぞれの長さが求められ、ステージ位置指示値に含まれるステージ3の向きに基づいてステージ回動機構24によるステージ3の回動角度が求められる。そして、移動制御部71により第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222が駆動されて第1シャフト211および第2シャフト221が長手方向に進退することにより、ステージ3が所望の位置へと移動し、さらに、ステージ回動機構24が部材242図19参照に対して回動することにより、ステージ回動機構24が固定されたステージ3が軸241図19参照を中心として回動して所望の向きとなる。ステージ移動機構2aでは、ステージ回動機構24が、軸241を中心としてステージ3を回動して向きを決定する向き決定機構となっている。パターン描画装置1aでは、第1シャフトモータ21、第2シャフトモータ22およびステージ回動機構24によりステージ3の位置および向きを変更することにより、第1の実施の形態と同様に、ステージ3の高速移動時においても、ステージ3のピッチングを防止してステージ3の移動制御における位置精度を向上することができる。また、ステージ移動機構2aの構成部品の個数を削減することにより、装置の製造コストを低減することができるとともに、構成部品の振動によるステージ3の移動制御における位置精度の低下を抑制することができ、さらに、制御ゲインの決定の自由度が向上するため、より適切な移動制御を行うことができる。特に、パターン描画装置1aでは、第1シャフト211の先端部と第2シャフト221の先端部とが同一の軸241に接続されるため、ステージ位置指示値により指示されるステージ3の位置を実現するために必要な第1シャフト211および第2シャフト221の長さを容易に求めることができる。さらに、軸241がステージ3の中心位置に配置されることにより、第1シャフト211および第2シャフト221の長さをより容易に求めることができる。パターン描画装置1aでは、第1の実施の形態と同様に、発熱源となる第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222が、ステージ3の側方にステージ3から離間して配置されるため、ステージ3等に対する熱の影響が低減され、基板9に対するパターンの描画精度を向上することができる。また、第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222がチャンバ4の外部に配置されることにより、ステージ3等に対する熱の影響がより一層低減され、パターンの描画精度がさらに向上する。次に、本発明の第3の実施の形態に係るパターン描画装置について説明する。図20は、第3の実施の形態に係るパターン描画装置1bを示す平面図である。パターン描画装置1bでは、図1および図2に示すパターン描画装置1のステージ移動機構2と異なる構造のステージ移動機構2bが設けられる。その他の構成は、パターン描画装置1と同様であり、以下の説明において同符号を付す。図20に示すように、ステージ移動機構2bは、第1の実施の形態と同様に第1シャフトモータ21および第2シャフトモータ22を備え、さらに、ステージ3の向きを決定する向き決定機構として、第1シャフトモータ21および第2シャフトモータ22と同様の構造を有する第3シャフトモータ25を備える。ステージ3のY側に配置される第3シャフトモータ25は、定盤11の定盤面12に平行に伸びる第3シャフト251、および、第3シャフト251を支持するとともに第3シャフト251を長手方向に進退する第3シャフト進退機構252を備える。第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222は、第2の実施の形態と同様に定盤11上に回動可能に支持され図8参照、第3シャフト進退機構252も、第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222と同様の構造により定盤11上に回動可能に支持される。具体的には、第3シャフト進退機構252の下側に、定盤11の定盤面12に垂直な軸が設けられ、定盤面12に形成された凹部内のエアパッドにより当該軸が回動可能に支持されることにより、第3シャフト進退機構252が当該軸を中心として回動可能となる。ステージ3の側面には、第1の実施の形態と同様に、2つの凹部32が形成さており、凹部32内の第1軸331および第2軸332にはそれぞれ、第1シャフト211および第2シャフト221の先端部がエアベアリング等を介して回動可能に接続される。ステージ3のY側の側面には、他の凹部37がさらに形成されており、凹部37内には、定盤面12に垂直な第3軸333が設けられる。第3軸333の両端部は、ステージ3の凹部37の上側および下側を覆う部位に固定されており、第3軸333は、第1軸331と第2軸332とを通る平面すなわち、XZ平面に平行な平面からY側に離間して配置される。第3シャフト251は、チャンバ4のY側の側面に形成されてベローズ42に覆われた開口41からチャンバ4内に挿入され、第3シャフト251の先端部は、第3軸333にエアベアリング等を介して回動可能に接続される。換言すれば、第3シャフト251の先端部は、定盤面12に垂直な第3軸333を中心として回動可能にステージ3に接続される。ステージ移動機構2bでは、第3シャフト進退機構252により第3シャフト251が長手方向に進退することにより、第3シャフト251の支持位置からステージ3までのすなわち第3シャフト進退機構252からステージ3までの第3シャフト251の長さが変更される。パターン描画装置1bでは、移動制御部71図10参照により、ステージ位置指示値に基づいて第1シャフト211、第2シャフト221および第3シャフト251のそれぞれの長さが求められる。そして、第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222および第3シャフト進退機構252が駆動されて第1シャフト211、第2シャフト221および第3シャフト251が長手方向に進退することにより、ステージ3が所望の位置において所望の向きとなる。パターン描画装置1bでは、第1シャフトモータ21、第2シャフトモータ22および第3シャフト251によりステージ3の位置および向きを変更することにより、第1の実施の形態と同様に、ステージ3の高速移動時においても、ステージ3のピッチングを防止してステージ3の移動制御における位置精度を向上することができる。また、ステージ移動機構2bの構成部品の個数を削減することにより、装置の製造コストを低減することができるとともに、構成部品の振動によるステージ3の移動制御における位置精度の低下を抑制することができ、さらに、制御ゲインの決定の自由度が向上するため、より適切な移動制御を行うことができる。特に、パターン描画装置1bでは、向き決定機構として第1シャフトモータ21および第2シャフトモータ22と同様の構造を有する第3シャフトモータ25を利用することによりすなわち、ステージ移動機構2の複数の駆動部を同一の機構とすることにより、ステージ移動機構2の構成を簡素化することができる。パターン描画装置1bでは、発熱源となる第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222および第3シャフト進退機構252が、ステージ3の側方にステージ3から離間して配置されるため、ステージ3等に対する熱の影響が低減され、基板9に対するパターンの描画精度を向上することができる。また、第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222および第3シャフト進退機構252がチャンバ4の外部に配置されることにより、ステージ3等に対する熱の影響がより一層低減され、パターンの描画精度がさらに向上する。次に、本発明の第4の実施の形態に係るパターン描画装置について説明する。図21は、第4の実施の形態に係るパターン描画装置1cを示す平面図である。パターン描画装置1cは、図1および図2に示すパターン描画装置1の各構成に加え、ステージ移動機構2cが、第1リニアロッド215および第2リニアロッド225を備える。また、パターン描画装置1cでは、第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222に代えて、構造が異なる第1シャフト進退機構212aおよび第2シャフト進退機構222aが設けられる。さらに、第1シャフト211および第2シャフト221は、第1ボールジョイント381および第2ボールジョイント382を介してステージ3の第1軸331および第2軸332に接続される。その他の構成は、パターン描画装置1と同様であり、以下の説明において同符号を付す。図22は、第1シャフト211、第1シャフト進退機構212aおよび第1リニアロッド215を示す平面図であり、図23および図24は、これらの構成を図22中のC-CおよびD-Dの位置にて切断した断面図である。図22ないし図24に示すように、第1リニアロッド215は、第1シャフト211に平行に伸びるとともに上部が開口した略直方体状の箱形の部材であり、セラミック等により形成される。第1リニアロッド215は、第1シャフト211の下側を覆う第1底面部216、第1底面部216から上方に広がって第1シャフト211の長手方向に垂直な幅方向の両側を覆う一対の第1側壁部217、および、第1シャフト211の長手方向の両端部において第1底面部216から上方に広がるとともに第1シャフト211の両端部が固定される一対の第1シャフト固定部218を備える。図24に示すように、第1シャフト211の両端部は、一対の第1シャフト固定部218に形成された貫通孔に挿入されて固定される。第1リニアロッド215の第1底面部216の下面2161は、図24に示すように、定盤11の定盤面12に平行である。第1リニアロッド215には、下面2161から定盤面12に向けてガスを噴出する第1リニアロッド浮上部219が設けられる。第1リニアロッド浮上部219からガスが噴出されることにより、第1リニアロッド215が、定盤面12から僅かに浮上した状態で定盤面12上に支持される。第1シャフト進退機構212aは、図23および図24に示すように、断面が矩形の筒状である第1ガイド部2121、および、第1ガイド部2121の内側に固定された第1コイル2122を備える。第1ガイド部2121には、第1リニアロッド215および第1シャフト211が挿入され、第1コイル2122には、第1シャフト211が挿入される。第1シャフト211は、略円筒状の薄肉の部材であり、内部に第1マグネット2111が設けられる。ステージ移動機構2cでは、第1シャフト211および第1シャフト進退機構212aにより第1シャフトモータ21が構成され、第1シャフト211および第1リニアロッド215が、第1シャフト211が伸びる方向へと移動する。第1リニアロッド215の移動は、第1ガイド部2121によりガイドされる。第1ガイド部2121の内面からはガスが噴出されており、第1リニアロッド215は、第1ガイド部2121に非接触の状態でガイドされる。定盤11では、第1シャフト進退機構212aの下方に第1凹部131が設けられており、第1ガイド部2121の下部が第1凹部131内に収容される。第1ガイド部2121の下側には、回転型サーボモータであるシャフト回動機構23が接続される。シャフト回動機構23は定盤11に埋め込まれており、第1ガイド部2121は定盤11に対して回動可能に支持される。シャフト回動機構23により第1ガイド部2121が回動することにより、第1シャフト211および第1リニアロッド215の向きが決定される。図25および図26は、第2シャフト221、第2シャフト進退機構222aおよび第2リニアロッド225の断面図であり、図23および図24に対応する。第2リニアロッド225および第2シャフト進退機構222aの構造は、第1リニアロッド215および第1シャフト進退機構212aと同様である。第2リニアロッド225は、第1リニアロッド215と同様に、第2シャフト221に平行に伸びるとともに第2シャフト221の両端部が固定される箱形の部材であり、セラミック等により形成される。第2リニアロッド225は、第2底面部226、一対の第2側面部227、および、一対の第2シャフト固定部228を備える。第2底面部226は、第2シャフト221の下側を覆い、第2底面部226の下面2261は、図26に示すように、定盤11の定盤面12に平行である。第2リニアロッド225には、下面2161から定盤面12に向けてガスを噴出する第2リニアロッド浮上部229が設けられる。第2リニアロッド浮上部229からガスが噴出されることにより、第2リニアロッド225が、定盤面12から僅かに浮上した状態で定盤面12上に支持される。パターン描画装置1cでは、定盤面12から第1リニアロッド215の下面2161図24参照および第2リニアロッド225の下面2261に向けてガスを噴出することにより、第1リニアロッド215および第2リニアロッド225を定盤面12から浮上させて支持する第1リニアロッド浮上部および第2リニアロッド浮上部が設けられてもよい。図25および図26に示すように、第2シャフト進退機構222aは、第1シャフト進退機構212aと同様に、断面が矩形の筒状である第2ガイド部2221、および、第2ガイド部2221の内側に固定された第2コイル2222を備える。第2ガイド部2221には、第2リニアロッド225および第2シャフト221が挿入され、第2コイル2222には、第2シャフト221が挿入される。第2シャフト221は、略円筒状の薄肉の部材であり、内部に第2マグネット2211が設けられる。ステージ移動機構2cでは、第2シャフト221および第2シャフト進退機構222aにより第2シャフトモータ22が構成され、第2シャフト221および第2リニアロッド225が、第2シャフト221が伸びる方向へと移動する。第2リニアロッド225の移動は、第2ガイド部2221によりガイドされる。第2ガイド部2221の内面からはガスが噴出されており、第2リニアロッド225は、第2ガイド部2221に非接触の状態でガイドされる。定盤11では、第2シャフト進退機構222aの下方に第2凹部132が設けられており、第2ガイド部2221の下部が第2凹部132内に収容される。第2ガイド部2221の下側には、定盤面12に垂直な軸223が設けられ、軸223は、第2凹部132の底面に形成された挿入穴135に挿入される。第2凹部132の底面、および、挿入穴135の内面からはガスが噴出されており、これにより、第2ガイド部2221および軸223が、定盤11に非接触の状態にて回動可能に支持される。図27は、第1リニアロッド215の先端部近傍を拡大して示す側面図である。第1リニアロッド215の先端部では、一方の第1シャフト固定部218を貫通する第1シャフト211が、ステージ3の第1軸331が挿入される第1ボールジョイント381に直接的に接続される。なお、第1シャフト211の先端部は、第1リニアロッド215を介して間接的に第1ボールジョイント381に接続されてもよい。第1ボールジョイント381は、ステージ本体30の凹部32の上側および下側を覆う部位すなわち、第1軸331の両端部が固定される部位から離間している。図28は、第1ボールジョイント381の断面図である。図28では、第1ボールジョイント381に挿入される第1軸331も併せて描いている。第1ボールジョイント381は、多孔質材料にて略球状に形成された内球部384、内球部384を覆う略球状の内面を有する球保持部385、および、球保持部385を貫通する配管386を介して内球部384にガスを供給する第1ガス供給部387を備える。内球部384は、第1軸331が挿入される貫通孔3841を中心部に有し、球保持部385は、貫通孔3841の上下に位置する2つの貫通孔3851を有する。貫通孔3851の直径は、第1軸331の直径、および、貫通孔3841の直径よりも大きい。本実施の形態では、貫通孔3851の直径は、第1軸331の直径よりも約2mm大きい。球保持部385には、第1シャフト211図27参照の先端部が接続されるシャフト接続部3852が設けられる。第1ボールジョイント381では、第1ガス供給部387から内球部384にガスが供給され、内球部384の表面すなわち、内球部384の外面、および、貫通孔3841の内面からガスが噴出する。このように、内球部384と第1軸331との間、および、球保持部385と内球部384との間にガスを供給することにより、第1軸331が内球部384に非接触にて支持され、内球部384が球保持部385に非接触にて支持される。図21に示す第2シャフト221の先端部は、第1シャフト211の第1ボールジョイント381に対する接続と同様に、ステージ3の第2軸332が挿入される第2ボールジョイント382に直接的に接続される。第2ボールジョイント382は、第1ボールジョイント381と同様に、上下方向においてステージ本体30から離間している。なお、第2シャフト221は、第2リニアロッド225を介して間接的に第2ボールジョイント382に接続されてもよい。第2ボールジョイント382の構造は、第1ボールジョイント381と同様である。具体的には、第2ボールジョイント382は、第2軸332が挿入される貫通孔を中心部に有するとともに多孔質材料にて略球状に形成された内球部、内球部を覆う略球状の内面を有するとともに第2シャフト221の先端部が接続される球保持部、および、内球部と第2軸332との間、および、球保持部と内球部との間にガスを供給することにより、内球部に第2軸332を非接触にて支持させるとともに球保持部に内球部を非接触にて支持させる第2ガス供給部を備える。ステージ移動機構2cによるステージ3の移動、および、パターン描画装置1cによるパターンの描画に係る動作は、第1の実施の形態と同様であるため説明を省略する。図21に示すパターン描画装置1cでは、第1の実施の形態と同様に、第1シャフトモータ21、第2シャフトモータ22およびシャフト回動機構23によりステージ3の位置および向きを変更することにより、ステージ3の高速移動時においても、ステージ3のピッチングを防止してステージ3の移動制御における位置精度を向上することができる。また、ステージ移動機構2cの構成部品の個数を削減することにより、装置の製造コストを低減することができるとともに、構成部品の振動によるステージ3の移動制御における位置精度の低下を抑制することができ、さらに、制御ゲインの決定の自由度が向上するため、より適切な移動制御を行うことができる。パターン描画装置1cでは、上述のように、第1シャフト211の両端部が第1リニアロッド215に固定され、第1リニアロッド215の第1底面部216が定盤面12上に支持される。また、第2シャフト221の両端部が第2リニアロッド225に固定され、第2リニアロッド225の第2底面部226が定盤面12上に支持される。これにより、長い第1シャフト211および第2シャフト221が設けられる場合であっても、第1シャフト211および第2シャフト221のたわみ等の変形を防止し、ステージ3の移動制御における位置精度をより向上することができる。さらに、第1リニアロッド浮上部219および第2リニアロッド浮上部229により、第1リニアロッド215および第2リニアロッド225の下面2161,2261から定盤面12に向けてガスを噴出することにより、第1リニアロッド215および第2リニアロッド225が、定盤面12から浮上した状態で支持される。これにより、第1リニアロッド215および第2リニアロッド225と定盤面12との摩擦によるステージ3の移動への影響を防止することができる。上述のように、パターン描画装置1cでは、第1シャフト211の先端部が、第1軸331が挿入される第1ボールジョイント381に接続され、第2シャフト221の先端部が、第2軸332が挿入される第2ボールジョイント382に接続される。第1ボールジョイント381および第2ボールジョイント382では、第1軸331および第2軸332が内球部384により非接触にて支持され、内球部384が球保持部385により非接触にて支持される。これにより、ステージ3が僅かに傾いて第1軸331および第2軸332が垂直方向から傾いた場合であっても、第1シャフト211および第2シャフト221が、第1軸331および第2軸332により捻られることを防止することができる。また、第1ボールジョイント381および第2ボールジョイント382が、ステージ本体30から離間して配置されることにより、ステージ3が僅かに上下方向に移動した場合であっても、第1シャフト211および第2シャフト221が上下方向に移動することを防止することができる。このように、第1ボールジョイント381および第2ボールジョイント382により、ステージ3のピッチング、ヨーイングおよびヒービングを吸収することにより、ステージ移動機構2cによるステージ3の移動制御における位置精度をさらに向上することができる。次に、本発明の第5の実施の形態に係るパターン描画装置について説明する。図29は、第5の実施の形態に係るパターン描画装置1dを示す平面図である。パターン描画装置1dは、図18および図19に示すパターン描画装置1aの各構成に加え、ステージ移動機構2dが、図22ないし図26に示す第1リニアロッド215および第2リニアロッド225を備える。また、第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222に代えて、図22ないし図26に示す第1シャフト進退機構212aおよび第2シャフト進退機構222aが設けられる。ただし、第1シャフト進退機構212aの第1ガイド部2121の下側にはシャフト回動機構23は設けられず、第2ガイド部2221と同様に、定盤面12に垂直な軸が設けられ、当該軸が第1凹部131図23参照の底面に設けられた挿入穴に挿入される。当該挿入穴の内面、および、第1凹部131の底面からはガスが噴出されており、これにより、当該軸および第1ガイド部2121が、定盤11に非接触の状態にて回動可能に支持される。その他の構成は、パターン描画装置1aと同様であり、以下の説明において同符号を付す。また、ステージ移動機構2dによるステージ3の移動に係る動作は、第2の実施の形態と同様であるため説明を省略する。パターン描画装置1dでは、第2の実施の形態と同様に、第1シャフトモータ21、第2シャフトモータ22およびステージ回動機構24によりステージ3の位置および向きを変更することにより、ステージ3の高速移動時においても、ステージ3のピッチングを防止してステージ3の移動制御における位置精度を向上することができる。また、ステージ移動機構2dの構成部品の個数を削減することにより、装置の製造コストを低減することができるとともに、構成部品の振動によるステージ3の移動制御における位置精度の低下を抑制することができ、さらに、制御ゲインの決定の自由度が向上するため、より適切な移動制御を行うことができる。また、第1シャフト211の先端部と第2シャフト221の先端部とが、同一の軸241図19参照に接続されるため、ステージ位置指示値により指示されるステージ3の位置を実現するために必要な第1シャフト211および第2シャフト221の長さを容易に求めることができる。さらに、軸241がステージ3の中心位置に配置されることにより、第1シャフト211および第2シャフト221の長さをより容易に求めることができる。パターン描画装置1dでは、第4の実施の形態と同様に、第1シャフト211の両端部が第1リニアロッド215に固定され、第1リニアロッド215の第1底面部216図24参照が定盤面12上に支持される。また、第2シャフト221の両端部が第2リニアロッド225に固定され、第2リニアロッド225の第2底面部226図26参照が定盤面12上に支持される。これにより、長い第1シャフト211および第2シャフト221が設けられる場合であっても、第1シャフト211および第2シャフト221のたわみ等の変形を防止し、ステージ3の移動制御における位置精度をより向上することができる。さらに、第1リニアロッド浮上部219および第2リニアロッド浮上部229図24および図26参照により、第1リニアロッド215および第2リニアロッド225の下面2161,2261図24および図26参照から定盤面12に向けてガスを噴出することにより、第1リニアロッド215および第2リニアロッド225が、定盤面12から浮上した状態で支持される。これにより、第1リニアロッド215および第2リニアロッド225と定盤面12との摩擦によるステージ3の移動への影響を防止することができる。次に、本発明の第6の実施の形態に係るパターン描画装置について説明する。図30は、第6の実施の形態に係るパターン描画装置1eを示す平面図である。パターン描画装置1eは、図20に示すパターン描画装置1bの各構成に加え、ステージ移動機構2eが、第1リニアロッド215、第2リニアロッド225および第3リニアロッド255を備える。また、第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222および第3シャフト進退機構252に代えて、第1シャフト進退機構212a、第2シャフト進退機構222aおよび第3シャフト進退機構252aが設けられる。その他の構成は、パターン描画装置1bとおよそ同様であり、以下の説明において同符号を付す。また、ステージ移動機構2eによるステージ3の移動に係る動作は、第3の実施の形態と同様であるため説明を省略する。第1シャフト211、第2シャフト221および第3シャフト251の先端部は、第1ボールジョイント381、第2ボールジョイント382および第3ボールジョイント383を介して第1軸331、第2軸332および第3軸333に接続される。第3リニアロッド255の構造は、図22ないし図26に示す第1リニアロッド215および第2リニアロッド225の構造と同様であり、第3ボールジョイント383の構造は、図28に示す第1ボールジョイント381の構造と同様である。具体的には、第3リニアロッド255は、第3シャフト251に平行に伸びるとともに第3シャフト251の両端部が固定される箱形の部材であり、セラミック等により形成される。第3リニアロッド255は、第3シャフト251の下側を覆う第3底面部、一対の第3側壁部、および、一対の第3シャフト固定部を備える。第3底面部の下面は、定盤11の定盤面12に平行である。第3リニアロッド255には、下面から定盤面12に向けてガスを噴出する第3リニアロッド浮上部が設けられる。第3リニアロッド浮上部からガスが噴出されることにより、第3リニアロッド255が、定盤面12から浮上した状態で定盤面12上に支持される。パターン描画装置1eでは、定盤面12から第3リニアロッド255の下面に向けてガスを噴出することにより、第3リニアロッド255を定盤面12から浮上させて支持する第3リニアロッド浮上部が設けられてもよい。また、第3ボールジョイント383は、第3軸333が挿入される貫通孔を中心部に有するとともに多孔質材料にて略球状に形成された内球部、内球部を覆う略球状の内面を有し、第3シャフト251の先端部が接続される球保持部、および、上記内球部と第3軸333との間、および、球保持部と内球部との間にガスを供給することにより、内球部に第3軸333を非接触にて支持させるとともに球保持部に内球部を非接触にて支持させる第3ガス供給部を備える。パターン描画装置1eでは、第1シャフト進退機構212aの定盤11に対する支持方法は、図25および図26に示す第2シャフト進退機構222aと同様であり、第3シャフト進退機構252aの構造および定盤11に対する支持方法も、第2シャフト進退機構222aと同様である。具体的には、第3シャフト進退機構252aは、定盤11に非接触にて回動可能に支持されるとともに第3シャフト251が伸びる方向への第3リニアロッド255の移動をガイドする第3ガイド部、および、第3ガイド部に固定されて第3シャフト251が挿入される第3コイルを備える。また、第3シャフト251は、第1シャフト211および第2シャフト221と同様に略円筒状であり、第3シャフト251の内部に第3マグネットが設けられる。パターン描画装置1eでは、第3の実施の形態と同様に、第1シャフトモータ21、第2シャフトモータ22および第3シャフトモータ25によりステージ3の位置および向きを変更することにより、ステージ3の高速移動時においても、ステージ3のピッチングを防止してステージ3の移動制御における位置精度を向上することができる。また、ステージ移動機構2eの構成部品の個数を削減することにより、装置の製造コストを低減することができるとともに、構成部品の振動によるステージ3の移動制御における位置精度の低下を抑制することができ、さらに、制御ゲインの決定の自由度が向上するため、より適切な移動制御を行うことができる。その上、向き決定機構として第1シャフトモータ21および第2シャフトモータ22と同様の構造を有する第3シャフトモータ25を利用することにより、ステージ移動機構2eの構成を簡素化することができる。パターン描画装置1eでは、第1シャフト211、第2シャフト221および第3シャフト251の両端部がそれぞれ、第1リニアロッド215、第2リニアロッド225および第3リニアロッド255に固定され、第1リニアロッド215の第1底面部216、第2リニアロッド225の第2底面部226、および、第3リニアロッド255の第3底面部が定盤面12上に支持される。これにより、長い第1シャフト211、第2シャフト221および第3シャフト251が設けられる場合であっても、第1シャフト211、第2シャフト221および第3シャフト251のたわみ等の変形を防止し、ステージ3の移動制御における位置精度をより向上することができる。また、第1リニアロッド215、第2リニアロッド225および第3リニアロッド255が、定盤面12から浮上した状態で支持されることにより、第1リニアロッド215、第2リニアロッド225および第3リニアロッド255と定盤面12との摩擦によるステージ3の移動への影響を防止することができる。パターン描画装置1eでは、第1シャフト211の先端部が、第1軸331が挿入される第1ボールジョイント381に接続され、第2シャフト221の先端部が、第2軸332が挿入される第2ボールジョイント382に接続され、第3シャフト251の先端部が、第3軸333が挿入される第3ボールジョイント383に接続される。第1ボールジョイント381、第2ボールジョイント382および第3ボールジョイント383では、第1軸331、第2軸332および第3軸333が内球部により非接触にて支持され、内球部が球保持部により非接触にて支持される。また、第1ボールジョイント381、第2ボールジョイント382および第3ボールジョイント383が、ステージ本体30から離間して配置される。このため、第1ボールジョイント381、第2ボールジョイント382および第3ボールジョイント383により、ステージ3のピッチング、ヨーイングおよびヒービングを吸収することができ、ステージ移動機構2eによるステージ3の移動制御における位置精度をさらに向上することができる。以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。第1の実施の形態では、ステージ3がX方向またはY方向に平行に移動する場合について説明したが、上記実施の形態に係るパターン描画装置では、ステージ3はX方向およびY方向に対して斜めに移動してもよい。この場合も、第1シャフト進退機構212、第2シャフト進退機構222およびシャフト回動機構23のそれぞれに対する制御ゲインが、第1の実施の形態と同様に可変とされることにより、高速かつ高精度なステージの移動制御を実現することができる。また、移動制御部71によるステージ3の移動制御では、PID制御以外の様々な手法例えば、比例制御や高次の微分値を使用した制御によるフィードバック制御が行われてもよく、あるいは、フィードフォワード制御等が行われてもよい。パターン描画装置では、ステージ3のガス噴出部35に代えて、定盤11の定盤面12からステージ3の下面に向けてガスを噴出することにより、ステージ3を定盤面12から浮上させるガス噴出部が定盤11に設けられてもよい。具体的には、定盤面12に多数の微小な穴を形成し、定盤11内部の流路を介してこれらの穴から圧縮空気を噴出することによりステージ3を浮上させる。この場合も、ステージ3と定盤面12との摩擦によるステージ3の移動への影響を防止することができる。ステージ3と定盤面12との摩擦を防止または低減するという観点からは、ガス噴出部が省略され、第1シャフトモータ21および第2シャフトモータ22により、ステージ3が定盤面12の上方にて定盤面12から離間した位置に機械的に支持されてもよい。また、ステージ3の下面と定盤面12との間に、ボールベアリングが設けられたり、潤滑油が付与されてもよく、定盤面12がテフロン登録商標等により被覆されてもよい。第2および第5の実施の形態に係るパターン描画装置では、ステージ回動機構24に代えて、X方向およびY方向にそれぞれ伸びる2つのガイドが、向き決定機構として設けられてもよい。これらのガイドはステージ3と共に移動し、ステージ3がガイドに沿って水平面内で回動することなく移動する。この場合、第1シャフト211および第2シャフト221の先端部は、ステージ3に固定された同一の軸好ましくは、ステージ3の中心位置に設けられる軸にエアベアリング等を介して回動可能に接続される。このような構造を有するパターン描画装置では、2つのガイドは、ステージ3の回動を規制する回動規制部とも捉えられる。第3および第6の実施の形態に係るパターン描画装置では、第3シャフトモータ25はステージ3の-Y側に設けられてもよい。この場合、チャンバ4の-Y側には、第1シャフト211、第2シャフト221および第3シャフト251がそれぞれ挿入される3つの開口が設けられるが、例えば、チャンバ4にX方向に長い1つの開口が設けられ、当該開口に3本のシャフトが挿入されてもよい。また、第3軸333は、必ずしも、第1軸331と第2軸332とを通る平面から離間して配置される必要はなく、当該平面内に設けられてよい。さらに、第3シャフト251の先端が第1軸331または第2軸332に回動可能に接続されてもよい。換言すれば、第3シャフト251が接続される第3軸333として、第1軸331または第2軸332が兼用される。第4ないし第6の実施の形態に係るパターン描画装置では、第1リニアロッド215、第2リニアロッド225および第3リニアロッド255は、必ずしも、定盤面12から浮上した状態で定盤面12に支持される必要はなく、定盤面12に接触した状態で支持されてもよい。この場合、各リニアロッドと定盤面12との摩擦を低減するために、各リニアロッドの底面部の下面や定盤面12がテフロン登録商標やダイヤモンドライクカーボンDLC等により被覆されることが好ましい。また、各リニアロッドでは、一対の側壁部は省略されてもよい。第1シャフト進退機構212aでは、第1コイル2122を支持し、かつ、第1リニアロッド215をガイドすることができるのであれば、第1ガイド部2121は筒状以外の様々な形状とされてよい。また、第1ガイド部2121は、定盤面12上に設けられた門型のフレーム等を利用して上下両方から支持されてもよい。第2シャフト進退機構222aおよび第3シャフト進退機構252aにおいても同様である。第1ボールジョイント381では、内球部384は必ずしも多孔質部材により形成される必要はない。例えば、図31に示すように、第1ガス供給部387図28参照から、球保持部385の複数の貫通孔3853を介して球保持部385と内球部384との間の間隙にガスが供給され、第1軸331内の流路3311を介して内球部384と第1軸331との間の間隙にガスが供給されてもよい。第2ボールジョイント382および第3ボールジョイント383においても同様である。上記実施の形態に係るパターン描画装置では、ステージ位置測定部6は、必ずしもレーザ測長器および反射部を備えるものである必要はなく、他の様々な変位計等が利用されてよい。光照射部5では、回折格子型の光変調素子を有する空間光変調器56により基板9上に光が照射されるが、基板9に対する光の照射は他の様々な種類の光変調器により行われてもよい。また、パターン描画装置によるパターンの描画は、液晶表示装置用のガラス基板以外の様々な基板例えば、半導体基板や太陽電池パネル用の基板、プリント配線基板に対して行われてよい。さらに、パターン描画装置では、光ビーム以外の放射線、例えば、電子ビームやイオンビームが基板に照射されることにより、パターンの描画が行われてもよい。電子ビームにより描画が行われるパターン描画装置では、上述のチャンバ4として真空チャンバが用いられ、当該真空チャンバは、真空チャンバ内の空間が外部磁場の影響を受けないような材料により形成される。また、真空チャンバ内では、基板9は、例えば静電チャックによりステージ3に保持される。第1シャフト211では、その全長に亘って第1マグネット2111が設けられる必要はなく、例えば、第1シャフト211のうち第1コイル2122を通過する部位のみに第1マグネット2111が設けられてもよい。この場合、第1シャフト211のうち第1マグネット2111が設けられる部位よりもステージ3側の部位は、中実の棒状部材であってもよい。電子ビーム等による描画が行われるパターン描画装置では、当該中実の棒状部材を被磁性材とし、第1シャフト211の第1マグネット2111が設けられた部位がチャンバ4内に挿入されないように第1シャフトモータ21を配置することにより、第1マグネット2111によるチャンバ4内の磁場変動を抑制または防止することができる。第2シャフト221および第3シャフト251においても同様である。上述のパターン描画装置の構成のうち少なくとも定盤11、ステージ3、第1シャフト211および第2シャフト221、第1シャフト進退機構212および第2シャフト進退機構222、向き決定機構すなわち、シャフト回動機構23やステージ回動機構24、第3シャフトモータ25等、並びに、移動制御部71を備える装置は、パターン描画装置以外の様々な装置において、ステージ3を移動するステージ移動装置として利用されてよい。このようなステージ移動装置では、上記実施の形態と同様に、ステージ3の高速移動時においても、ステージ3のピッチングを防止してステージ3の移動制御における位置精度を向上することができる。また、ステージ移動装置の構成部品の個数を削減することにより、装置の製造コストを低減することができるとともに、構成部品の振動によるステージ3の移動制御における位置精度の低下を抑制することができ、さらに、制御ゲインの決定の自由度が向上するため、より適切な移動制御を行うことができる。上述のパターン描画装置では、定盤以外のステージ支持部が利用されてもよい。当該ステージ支持部では、ステージの移動範囲のみが平面すなわち、ステージ支持面であってもよい。あるいは、ステージ支持部上におけるステージおよびリニアガイドの移動範囲のみが平面であってもよい。上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせられてよい。"