aスチレンとイソプロパノールとを高温で反応させて2メチル4フェニル2ブタノールを得る工程、およびb2メチル4フェニル2ブタノールに芳香族の環水素化に適した触媒による不均一触媒水素化をおこなう工程を含む、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールの調製方法。工程aの反応を、触媒を存在させずにおこなう、請求項1に記載の方法。工程aの反応に、本質的にスチレンおよびイソプロパノール以外の原料を使用しない、請求項1または2に記載の方法。工程aの反応を、イソプロパノールが超臨界状態にある条件下で実施する、請求項1~3のいずれか1項に記載の方法。工程aの反応を、250~500°Cの範囲の温度および5~50MPaの範囲の圧力で実施する、請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。工程aにおいて使用するスチレンと工程aにおいて使用するイソプロパノールとのモル比が、15~1200の範囲である、請求項1~5のいずれか1項に記載の方法。イソプロパノールの80以上を最初に入れ、工程aにおいて使用するスチレンの80以上を反応条件下で工程aの反応に供給する、請求項1~6のいずれか1項に記載の方法。スチレンを、反応中に反応区域に存在するスチレンと反応区域に存在するイソプロパノールとのモル比が110未満となるような方法で供給する、請求項7に記載の方法。工程aにおいて得られた反応混合物を、場合によりイソプロパノールを除去した後、工程bに直接供給する、請求項1~8のいずれか1項に記載の方法。工程aにおいて得られた反応混合物を蒸留により精製し、精製された2メチル4フェニル2ブタノールを工程bに供給する、請求項1~8のいずれか1項に記載の方法。工程bにおいて使用する触媒が、活性金属としてパラジウム、白金、コバルト、ニッケル、ロジウム、イリジウム、ルテニウムを、単独でまたは元素周期表CAS式の遷移族IB、VIIBまたはVIIIBに属する少なくとも1種のさらなる活性金属と共に含む、請求項1~10のいずれか1項に記載の方法。工程bにおいて使用する触媒が、活性金属としてルテニウムを、単独でまたは元素周期表CAS式の遷移族IB、VIIBまたはVIIIBに属する少なくとも1種のさらなる活性金属と共に含む、請求項1~11のいずれか1項に記載の方法。工程bにおいて使用する触媒が、活性金属としてルテニウム、ロジウムまたはニッケルを、単独でまたは元素周期表CAS式の遷移族IB、VIIBまたはVIIIBに属する少なくとも1種のさらなる活性金属と共に、二酸化ケイ素含有担持材料および酸化アルミニウム含有担持材料より選択される担持材料上に含む担持触媒である、請求項1~12のいずれか1項に記載の方法。工程bにおいて使用する触媒が、活性金属としてルテニウムを、単独でまたは元素周期表CAS式の遷移族IB、VIIBまたはVIIIBに属する少なくとも1種のさらなる活性金属と共に、二酸化ケイ素含有担持材料および酸化アルミニウム含有担持材料より選択される担持材料上に含む担持触媒である、請求項1~13のいずれか1項に記載の方法。活性金属の量が触媒の総重量に対して01~1重量である、請求項14に記載の方法。触媒が、SEMEPMAにより測定して、60重量以上の活性金属が浸透深さ200μmまでの触媒のシェルに存在するシェル触媒である、請求項13~15のいずれか1項に記載の方法。触媒の担持材料が、Hgポロシメトリーにより測定して06~10mlgの範囲の細孔容積、および280~500m2gのBET表面積を有し、かつ、存在する細孔の90以上が6~12nmの直径を有する、請求項16に記載の方法。工程bをトリクル方式でおこなう、請求項1~17のいずれか1項に記載の方法。2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物。2メチル4フェニル2ブタノールと2メチル4フェニル2ペンタノールとの重量比が501~10001の範囲である、請求項19に記載の組成物。スチレンとイソプロパノールとを、高温で、イソプロパノールが超臨界条件下で存在する条件下で、スチレンとイソプロパノールとのモル比が110~1130の範囲となるようにして反応させることを含む、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物の調製方法。イソプロパノールの80以上を最初に入れ、工程aにおいて使用するスチレンの80以上を反応条件下で工程aの反応に供給する、請求項21に記載の方法。2メチル4フェニル2ペンタノールまたは請求項19または20に記載の組成物の香料としての使用。2メチル4フェニル2ペンタノールまたは請求項19または20に記載の組成物の化粧品組成物における使用。2メチル4フェニル2ペンタノールまたは請求項19または20に記載の香料組成物の洗浄または清浄化組成物における使用。4シクロヘキシル2メチル2ペンタノール。芳香族の環水素化に適した触媒による2メチル4フェニル2ペンタノールの不均一触媒水素化を含む、4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールの調製方法。aスチレンとイソプロパノールとを、高温で、イソプロパノールが超臨界条件下で存在する条件下、スチレンとイソプロパノールとのモル比が110~1130の範囲となるようにして反応させることにより、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物を調製する工程;b工程aにおいて得られた組成物に芳香族の環水素化に適した触媒による不均一触媒水素化をおこなう工程;およびc工程bにおいて得られた組成物を蒸留により後処理して、本質的に4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールから成る組成物を得る工程またはc工程aにおいて得られた組成物を蒸留により後処理して、主に2メチル4フェニル2ペンタノールから成る組成物を得る工程;およびb工程cにおいて得られた組成物に芳香族の環水素化に適した触媒による不均一触媒水素化をおこなう工程;および場合によりc工程bにおいて得られた組成物を蒸留により後処理して、本質的に4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールから成る組成物を得る工程を含む、請求項27に記載の方法。aαメチルスチレンとイソプロパノールとを高温で反応させて2メチル4フェニル2ペンタノールを得る工程、およびb2メチル4フェニル2ペンタノールに芳香族の環水素化に適した触媒による不均一触媒水素化をおこなう工程を含む、請求項27に記載の方法。4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールを含む組成物。さらに4シクロヘキシル2メチル2ブタノールを含む組成物。4シクロヘキシル2メチル2ブタノールと4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールとの重量比が501~10001の範囲である、請求項31に記載の組成物。4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールまたは請求項30~32のいずれか1項に記載の組成物の香料としての使用。4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールまたは請求項30~32のいずれか1項に記載の組成物の化粧品組成物における使用。4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールまたは請求項30~32のいずれか1項に記載の組成物の洗浄または清浄化組成物における使用。したがって、本発明の目的は、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールを調製するための、経済的に実行可能な方法を提供することである。この目的は以下に記載される方法により達成される。この方法は、以下の工程:aスチレンとイソプロパノールとを高温で反応させて2メチル4フェニル2ブタノールを得る工程、およびb2メチル4フェニル2ブタノールに芳香族の環水素化に適した触媒による不均一触媒水素化をおこなう工程を含む。方法は以下の反応式:により表すことができる。したがって、本発明は、本明細書および特許請求の範囲に記載される工程による4シクロヘキシル2メチル2ブタノールの調製方法に関する。本方法は一連の利点を伴う。本方法により、非常に安価な商品である化学薬品から4シクロヘキシル2メチル2ブタノールを調製することが可能になる。メチルリチウムなどの高価で危険な試薬の使用は必要とされない。工程aおよび工程bの両方をいかなる問題もなく工業規模で実施して、高い選択性および良好な収率で特定の生成物を得ることができる。本発明の方法の工程aにおいて、イソプロパノールを高温でスチレンと反応させる。この反応は、ヒドロキシアルキル化により2メチル4フェニル2ブタノールを生成し、また、トルエンおよびエチルベンゼンを含む副生成物を生成する。副生成物は、例えば蒸留により目的の生成物から除去することができる。超臨界条件下でのスチレンとアルカノールとの反応の分析的研究の中で、この反応は、TNakagawaらp255261およびTetrahedronLett48p84608463を参照されたいにより報告されている。しかしながら、この反応は、2メチル4フェニル2ブタノールを調製するためには利用されていない。反応の選択性に関して、工程aにおける反応を超臨界条件下でおこなうと有利であることが見いだされた。これは、反応混合物の成分の少なくとも1つ、好ましくはイソプロパノールが超臨界状態であるような反応条件を意味するものと理解される。したがって、本発明の方法の好ましい実施形態において、工程aの反応は、イソプロパノールが超臨界状態であるような条件下で実施される。イソプロパノールの臨界温度Tcは235°Cであり、臨界圧力Pcは48MPaである。超臨界条件は、当業者が、圧力および温度を変化させることにより達成することができる。スチレンがイソプロパノールと十分な速度で反応するために必要な温度は、一般に250°C以上、しばしば300°C以上、特に320°C以上である。反応の十分な選択性を達成するために、反応の温度が500°Cの値、特に400°Cの値を超えないことが有利であることが見いだされた。工程aの反応は、好ましくは高圧で、一般に5~50MPaの範囲、しばしば10~30MPaの範囲、特に15~25MPaの範囲で実施する。反応容器中の圧力は不活性物質を入れることにより調節することができる。反応は、好ましくは、所望の反応温度で存在する反応混合物の自発圧力下で実施される。元来、反応時間は選択された条件および望まれる変換に依存し、典型的には30秒~4時間の範囲、特に3分~3時間の範囲、とりわけ5分~25時間の範囲である。一般に、反応は、より少なく使用した反応物質、好ましくはスチレンが80以上まで、特に90以上まで変換される程度までおこなわれる。本発明の一実施形態において、反応時間は、30分~4時間の範囲、特に1~3時間の範囲、とりわけ15~25時間の範囲である。一般に、反応は、より少なく使用した反応物質、好ましくはスチレンが80以上まで、特に90以上まで変換される程度までおこなわれる。工程aの反応を高温で、すなわち、300°Cよりも高い温度で、特に320°Cよりも高い温度で、好ましくは350°C~400°Cの範囲でおこなうことが特に有利であることが見いだされた。これにより、反応時間を短縮することが可能になり、典型的には30秒~30分の範囲、特に3分~20分の範囲、とりわけ5分~15分の範囲とすることができる。この方法で、高いスチレン変換率の場合でさえも、明らかに60よりも高い目的の生成物に対する選択性を達成することができる。反応の選択性に関して、工程aの反応を、触媒、例えばフリーラジカル開始剤、酸または遷移金属化合物が実質的にまたは完全に存在しない条件下でおこなう場合に有利であることが見いだされた。実質的に存在しないとは、触媒の濃度が、反応混合物の総重量に対して1gkg未満、特に01gkg未満であることを意味する。工程aにおけるスチレンとイソプロパノールとの反応は、バルクで、または好適な希釈剤すなわち、反応条件下で不活性であるもの中で、おこなうことができる。好適な不活性希釈剤は、エチレン性不飽和二重結合を持たない非プロトン性有機溶媒、例えば、好ましくは4、5または6個の炭素原子を有する脂肪族および脂環式エーテル、好ましくは6~8個の炭素原子を有する脂肪族および脂環式飽和炭化水素、好ましくは4~8個の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸のアルキルエステル、および前記溶媒の混合物である。工程aの反応を、物質中で実施すること、すなわち本質的にスチレンおよびイソプロパノール以外の原料、例えば不活性溶媒を反応に使用しないことが好ましい。ここで、本質的にとは、スチレンおよびイソプロパノールが、工程aにおいて使用される組成物の総量に対して、95重量以上、特に99重量以上を占めることを意味する。さらに、反応に使用される反応物質、すなわち、スチレンおよびイソプロパノールは、調製の結果として、水、エチルベンゼン、トルエン等などの少量の不純物を含み得るが、その場合、不純物は、反応物質の総量に対して、一般に5重量未満、特に1重量未満を占める。特に、工程aに使用される反応物質の水含有量は、反応物質の総量に対して1重量以下である。反応の選択性に関して、工程aの反応において、スチレンに対してイソプロパノールを大過剰に使用する場合、および/またはスチレンとイソプロパノールとが反応条件下で互いに接触する反応区域に、反応区域内に存在するスチレンに対して高度に過剰なイソプロパノールが存在することが保証される場合に有利であることが見いだされた。一般に、工程aにおいて、スチレンおよびイソプロパノールを、スチレンとイソプロパノールとのモル比が15以下、好ましくは110以下、特に130以下、より好ましくは140以下、特に150以下となるようにして反応させる。効率的な反応レジームに関して、工程aにおいて、スチレンおよびイソプロパノールを、15~1200の範囲、好ましくは110~1200の範囲、特に130~1150の範囲または130~1130の範囲、より好ましくは140~1100の範囲、特に150~190の範囲のモル比で使用すると有利である。工程aの反応は、バッチ方式でおこなうことができる。すなわち、スチレンおよびイソプロパノールを最初に所望のモル比で好適な反応器に入れて、所望の反応条件にして、所望の程度に変換するまで反応条件下に維持する。工程aの反応はいわゆるセミバッチ方式でおこなうことも可能である。すなわち、大部分、一般に80以上の一方または両方の反応物質を、反応条件下で長時間一般に総反応時間の50以上にわたって連続的にまたは少しずつ反応器に導入する。工程aの反応は連続的におこなうことも可能である。すなわち、スチレンおよびイソプロパノールを所望のモル比で反応区域内に連続的に供給し、反応混合物を連続的に反応区域から回収する。スチレンおよびイソプロパノールを反応区域に供給する速度は、望まれる滞留時間から導き出され、滞留時間は公知の方式で反応器の形状および上に特定した反応時間に依存する。工程aの反応は、原則として、選択された反応条件に適したすべての反応器の中で、好ましくは反応物質を混合する装置を有するオートクレーブの中で、または反応管の中でおこなうことができる。反応中にスチレンのイソプロパノールに対するモル比を低く保つため、および同時に効率的な反応レジームを可能にするために、工程aに使用されるイソプロパノールの80以上、特に90以上を最初に、場合によりスチレンの一部と共に入れ、工程aに使用するスチレンの80以上、特に90以上を、反応条件下で工程aの反応に供給すると有利であることが見いだされた。スチレンは少しずつ、または好ましくは連続的に加えることができる。スチレンを供給する速度は、好ましくは、反応区域または反応器に供給された未だ反応していないスチレンと、反応中に反応区域に存在するイソプロパノールとのモル比が110未満、特に140以下、とりわけ150以下、例えば110~12000の範囲、好ましくは140~11500の範囲、特に150~11000の範囲となるように選択される。連続的反応レジームにおいて、スチレンおよびイソプロパノールは、好ましくは前記のモル比で反応器または反応区域に供給される。本発明の特定の実施形態において、スチレンを供給する速度は、好ましくは、反応区域または反応器に供給されるスチレンと、反応区域に存在するイソプロパノールとのモル比が、110~1130の範囲、特に120~1120の範囲、より好ましくは140~1100の範囲、特に150~190の範囲になるように選択される。これは、連続的反応レジームの場合においても、反応器または反応区域に供給されるスチレンとイソプロパノールとのモル比に、特に当てはまる。工程aにおいて得られた反応混合物は、公知の方法で後処理することができ、またはそのままで本発明の方法の工程bに直接使用することができる。一般に、工程aにおいて得られた反応混合物を、例えば抽出または蒸留により、またはこれらの手段の組合せにより後処理すると有利であることが見いだされた。本発明の方法の一実施形態において、工程aにおいて得られた反応混合物を蒸留により後処理して、目的の2メチル4フェニル2ブタノールを中間の留分として低沸点物質および高沸点物質から取り出す。イソプロパノール過剰で反応をおこなった場合には、主にイソプロパノールから成る低沸点留分を反応に再使用することができる。一般に、工程bの前にイソプロパノールを実質的に除去し、工程bの水素化に使用される反応物質中のイソプロパノールの比率が、工程bの反応物質の総量に対して20重量未満、特に10重量以下であるようにする。蒸留の構成によれば、純粋なメチル4フェニル2ブタノールが得られ純度≧95重量、特に≧98重量、とりわけ≧99重量または≧995重量、または、本質的に、すなわち、95重量以上、特に98重量以上、とりわけ99重量または995重量以上の2メチル4フェニル2ブタノールおよび少量の2メチル4フェニル2ペンタノールから成る組成物例えば、2メチル4フェニル2ブタノールと2メチル4フェニル2ペンタノールとの重量比が501~10001の範囲である組成物が得られる。純粋な2メチル4フェニル2ブタノールならびに本質的に2メチル4フェニル2ブタノールおよび少量の2メチル4フェニル2ペンタノールから成る組成物の両方を、次の工程bにおける水素化に使用することができ、対応して、純粋な4シクロヘキシル2メチル2ブタノール純度≧95重量、特に≧98重量、とりわけ≧99重量または≧995重量、または本質的に、すなわち95重量以上、特に98重量以上、とりわけ99重量以上または995重量以上の4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび少量の4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールから成る組成物例えば、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールと4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールとの重量比が501~10001の範囲である組成物が得られる。次に、本発明の方法の工程bにおいて、工程aにおいて得られた2メチル4フェニル2ブタノールに芳香族の環水素化に適した触媒以下に触媒とも呼ぶによる不均一触媒水素化をおこなう。好適な触媒は、原則として、芳香族の環水素化に適していることが知られているすべての触媒、すなわち、フェニル基のシクロヘキシル基への水素化を触媒する触媒である。これらは典型的には、周期表CAS式の第VIIIB族に属する少なくとも1種の活性金属、例えば、パラジウム、白金、コバルト、ニッケル、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、特にルテニウム、ロジウムもしくはニッケル、またはそれらの2種以上の混合物を含み、場合により1種以上のさらなる活性金属と組み合わされた触媒である。好ましいさらなる活性金属は、周期表CAS式の第IB族および第VIIB族より選択される。同様に使用可能な元素周期表の遷移族IBおよび/またはVIIBの金属の中でも、例えば、銅および/またはレニウムが好適である。触媒は、非担持触媒または好ましくは担持触媒であり得る。好適な担持材料は、例えば、活性炭素、炭化ケイ素、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、アルミノケイ酸塩およびこれらの担持材料の混合物である。活性金属の量は、特に活性金属がロジウム、ルテニウム、白金、パラジウムまたはイリジウムなどの貴金属である場合、担持触媒の総重量に対して、典型的には005~10重量、しばしば01~7重量、特に01~5重量である。活性金属としてコバルトおよび/またはニッケルを含む触媒において、活性金属の量は、触媒の総重量に対して、100重量までであってよく、典型的には1~100重量、特に10~90重量の範囲である。担持触媒は粉末の形態で使用することができる。一般に、このような粉末は、1~200μm、特に1~100μmの範囲の粒径を有する。粉末状の触媒は、特に触媒が水素化すべき反応混合物中に懸濁される場合懸濁液方式に好適である。固定触媒床において触媒を使用する場合には、通常、例えば球、錠剤、円柱、より糸、輪または中空円筒、星形等の形を有する成形体を使用する。これらの成形体の大きさは、典型的には05mm~25mmの範囲で変えることができる。しばしば、10~5mmの押出直径および2~25mmの押出長さを有する触媒押出成型物を使用する。一般に、押出成型物が小さいほど高い活性を達成することが可能であるが、これらは典型的には水素化工程において十分な機械的安定性を持たない。したがって、15~3mmの範囲の押出直径を有する押出成型物を使用することが特に好ましい。同様に、1~10mm、特に2~6mmの範囲の球直径を有する球形担持材料も好ましい。好ましい触媒は、ルテニウム、ロジウムおよびニッケルより選択される少なくとも1種の活性金属、および場合により周期表CAS式の第IB族、第VIIB族または第VIIIB族より選択される1種以上のさらなる活性金属を含むものである。特に好ましい触媒はルテニウム触媒である。これらは、活性金属としてルテニウムを含み、場合により1種以上のさらなる活性金属と組み合わされている。好ましいさらなる活性金属は、周期表CAS式の第IB族、第VIIB族または第VIIIB族より選択される。触媒は非担持触媒または好ましくは担持触媒である。第VIIIB族に属するさらなる活性金属の例は、例えば、白金、ロジウム、パラジウム、イリジウム、コバルトもしくはニッケル、またはそれらの2種以上の混合物である。同様に使用可能な元素周期表の遷移族IBおよび/またはVIIBの金属の中では、例えば、銅および/またはレニウムが好適である。活性金属としてルテニウムを、単独でまたは活性金属の白金またはイリジウムと共に使用することが好ましく、活性金属としてルテニウムを単独で使用することが特に好ましい。特に、担持ルテニウム触媒と呼ばれる、ルテニウムが担持材料上に配置されているルテニウム触媒が好ましい。このような担持触媒の担持材料は、一般に、DIN66131のN2吸収により測定して、30m2g以上、特に50~1000m2gのBET表面積を有する。二酸化ケイ素を含有する担持材料、特に担持材料の総重量に対して90重量以上の二酸化ケイ素含有量を有するものが好ましい。同様に、酸化アルミニウムを含有する担持材料、特に担持材料の総重量に対して90重量以上の酸化アルミニウム含有量Al2O3として計算するを有するものが好ましい。好適なルテニウム触媒は、例えば、US3027398、DE4407091、EP258789、EP813906、EP1420012、WO9932427、WO0078704、WO02100536、WO03103830、WO200561105、WO200561106、WO2006136541に特定される触媒、および本出願の優先日にはまだ刊行されていないEP091792010に特定されるものである。そこに開示される触媒に関して、これらの文書を参照する。同様に好ましい触媒はロジウム触媒である。これらは、活性金属としてロジウムを含み、場合により1種以上のさらなる活性金属と組み合わされている。好ましいさらなる活性金属は、周期表CAS式の第IB族、第VIIB族または第VIIIB族より選択される。触媒は非担持触媒または好ましくは担持触媒であり得る。第VIIIB族に属するさらなる活性金属の例は、例えば、白金、パラジウム、イリジウム、コバルトもしくはニッケル、またはそれらの2種以上の混合物である。同様に使用可能な元素周期表の遷移族IBおよび/またはVIIBの金属の中では、例えば、銅および/またはレニウムが好適である。これらの触媒において、活性金属としてロジウムを単独で使用することが好ましい。好適なロジウム触媒は、例えば上にルテニウム触媒に関して引用した刊行物により公知であり、またはそこに特定された方法により調製することができ、または市販されている例えばEngelhardより販売されている触媒Escat34。同様に好ましい触媒はニッケル触媒である。これらは、活性金属としてニッケルを含み、場合により1種以上のさらなる活性金属と組み合わされている。好ましいさらなる活性金属は、周期表CAS式の第IB族、第VIIB族または第VIIIB族より選択される。触媒は非担持触媒または好ましくは担持触媒であり得る。第VIIIB族に属するさらなる活性金属の例は、例えば、白金、パラジウム、イリジウムもしくはコバルト、またはそれらの2種以上の混合物である。同様に使用可能な元素周期表の遷移族IBおよび/またはVIIBの金属の中では、例えば、銅および/またはレニウムが好適である。これらの触媒において、活性金属としてニッケルを単独で使用することが好ましい。好適なニッケル触媒は市販されている例えばBASFの触媒Ni5249P。工程bにおいて使用する触媒は、より好ましくは、担持材料上に活性金属としてルテニウムを、単独で、または元素周期表CAS式の遷移族IB、VIIBまたはVIIIBに属する少なくとも1種のさらなる活性金属と共に含む担持触媒である。活性金属としてルテニウムを、単独でまたは活性金属の白金またはイリジウムと共に使用することが好ましく、活性金属としてルテニウムを単独で使用することが特に好ましい。担持ルテニウム触媒に有用な担持材料は、原則として前記の担持材料である。二酸化ケイ素を含有する担持材料、特に担持材料の総重量に対して90重量以上の二酸化ケイ素含有量を有するものが好ましい。同様に、酸化アルミニウムを含有する担持材料、特に担持材料の総重量に対して90重量以上の酸化アルミニウム含有量Al2O3として計算するを有するものが好ましい。DIN66131のN2吸収により測定して、30m2g以上、特に50~1000m2gのBET比表面積を有する担持材料が好ましい。活性金属の量は、担持ルテニウム触媒の総重量に対して、典型的には005~10重量、好ましくは01~3重量、特に01~1重量である。同様に好ましくは、工程bにおいて使用する触媒は、担持材料上に活性金属としてロジウムを、単独でまたは元素周期表CAS式の遷移族IB、VIIBまたはVIIIBに属する少なくとも1種のさらなる活性金属と共に含む担持触媒である。活性金属としてロジウムを単独でまたは活性金属の白金またはイリジウムと共に使用することが好ましく、活性金属としてロジウムを単独で使用することが特に好ましい。担持ロジウム触媒に有用な担持材料は、原則として前記の担持材料である。二酸化ケイ素を含有する担持材料、特に担持材料の総重量に対して90重量以上の二酸化ケイ素含有量を有するものが好ましい。同様に、酸化アルミニウムを含有する担持材料、特に担持材料の総重量に対して90重量以上の酸化アルミニウム含有量Al2O3として計算するを有するものが好ましい。活性金属の量は、担持ロジウム触媒の総重量に対して、典型的には005~10重量である。同様に好ましくは、工程bにおいて使用する触媒は、活性金属としてニッケルを、単独でまたは元素周期表CAS式の遷移族IB、VIIBまたはVIIIBに属する少なくとも1種のさらなる活性金属と共に、場合により担持材料上に含む触媒である。活性金属としてニッケルを単独で使用することが好ましい。担持ニッケル触媒に有用な担持材料は、原則として前記の担持材料である。二酸化ケイ素を含有する担持材料、酸化アルミニウムを含有する担持材料および酸化マグネシウムを含有する担持材料、特に90重量以上の程度まで前記材料から成るものが好ましい。活性金属の量は、担持ニッケル触媒の総重量に対して、典型的には1~90重量、好ましくは10~80重量、特に30~70重量である。本質的に活性金属のみから成る、すなわち、活性金属の量が90重量を超える、例えば90~100重量であるニッケル触媒も好ましい。特に好ましい実施形態において、シェル触媒、特に活性金属としてルテニウムを、単独でまたは元素周期表の遷移族IB、VIIBまたはVIIIBに属する少なくとも1種のさらなる活性金属と共に、上に特定した量で含むシェル触媒を使用する。このようなシェル触媒は、特に、WO2006136541、および本出願の優先日にはまだ刊行されていないEP091792010により公知である。このようなシェル触媒は、触媒中に存在する活性金属の主たる量が触媒の表面近くに存在する担持触媒である。特に、いずれの場合にも活性金属の総量に対して60重量以上、より好ましくは80重量以上が200μm以下の浸透深さまで、すなわち、触媒粒子の表面から200μm以内の距離のシェル中に存在する。それに対して、存在したとしても非常に少量の活性金属のみが触媒の内部コアに存在する。触媒の内部に活性金属が検出できない、すなわち活性金属が最も外側のシェル、例えば100~200μmの浸透深さまでの区域にのみ存在する本発明のシェル触媒が特に好ましい。前記のデータは、SEM走査電子顕微鏡、EPMA電子プローブマイクロ分析EDXSにより測定することができ、平均値である。前記の試験法および技術に関するさらなるデータは、例えばSpectroscopyinCatalysisbyJWNiemantsverdrietVCH1995に記載されている。活性金属の浸透深さに関するさらなる詳細については、WO2006136541、特に7ページ6~12行を参照する。好ましいシェル触媒は、いずれの場合にも触媒の総重量に対して、005~1重量、特に01~05重量、より好ましくは025~035重量の範囲の活性金属含有量を有する。本発明の工程bにおける水素化には、二酸化ケイ素、一般にアモルファス二酸化ケイ素に基づく担持材料を有するシェル触媒が特に好ましい。この文脈における用語アモルファスは、結晶二酸化ケイ素相の比率が、担持材料の10重量未満を占めることを意味すると理解される。触媒を調製するために使用される担持材料は、担持材料中の細孔の規則的な配列により形成される高次構造を有してもよい。有用な担持材料は、原則として、少なくとも90重量の程度までの二酸化ケイ素から成り、担持材料の残りの10重量、好ましくは5重量以下が、他の酸化物材料、例えば、MgO、CaO、TiO2、ZrO2、Fe2O3および/またはアルカリ金属酸化物であり得るアモルファス二酸化ケイ素タイプである。シェル触媒の好ましい実施形態において、担持材料は、ハロゲン、特に塩素を含まない。すなわち、担持材料中のハロゲン含有量は500重量ppm未満、例えば0~400重量ppmである。したがって、好ましいシェル触媒は、触媒の総重量に対して、005重量未満のハロゲン化物を含むものであるイオンクロマトグラフィーにより測定する。30~700m2g、好ましくは30~450m2gDIN66131によるBET表面積の範囲の比表面積を有する担持材料が好ましい。好適な二酸化ケイ素に基づくアモルファス担持材料は当業者に周知であり、市販されているたとえば、OWFloerkeSilicainUllmannsEncyclopediaofIndustrialChemistry6thEditiononCDROMを参照されたい。それらは天然由来であっても、合成的に製造されたものであってもよい。好適な二酸化ケイ素に基づくアモルファス担持材料の例は、シリカゲル、珪藻土、ヒュームドシリカおよび沈殿シリカである。本発明の好ましい実施形態において、触媒は担持材料としてシリカゲルを有する。シェル触媒の構成によれば、担持材料はさまざまな形を有し得る。本発明のシェル触媒を使用する工程が懸濁液を用いる工程として構成される場合には、本発明の触媒は、典型的には微細な粉末の形態の担持材料を使用して調製される。粉末は、好ましくは1~200μm、特に1~100μmの範囲の粒径を有する。本発明のシェル触媒を固定触媒床において使用する場合には、例えば押出成形または打錠により得ることができ、例えば、球、錠剤、円柱、押出成型物、輪または中空円筒、星形等の形状を有する、担持材料の成形体を使用することが普通である。これらの成形体の大きさは、典型的には、05mm~25mmの範囲内で変えることができる。しばしば、10~5mmの押出直径および2~25mmの押出成型物長さを有する触媒押出成型物が使用される。一般に、より小さい押出成型物を使用するとより高い活性を達成することが可能であるが、これらは、しばしば水素化工程において十分な機械的安定性を持たない。したがって、15~3mmの範囲の押出直径を有する押出成型物を使用することが特に好ましい。同様に、1~10mm、特に2~6mmの範囲の球直径を有する球状担持材料も好ましい。シェル触媒の特に好ましい実施形態において、触媒の担持材料特に二酸化ケイ素に基づく担持材料は、Hgポロシメトリーにより測定して、06~10mlgの範囲、好ましくは065~09mlg、例えば07~08mlgの範囲の細孔容積、および280~500m2gの範囲、好ましくは280~400m2gの範囲、最も好ましくは300~350m2gの範囲のBET表面積を有する。このようなシェル触媒において、好ましくは、存在する細孔の90以上が6~12nm、好ましくは7~11nm、より好ましくは8~10nmの直径を有する。細孔径は当業者に公知の方法により、例えば、HgポロシメトリーまたはN2物理吸着により測定することができる。好ましい実施形態において、存在する細孔の95以上、より好ましくは98以上が、6~12nm、好ましくは7~11nm、より好ましくは8~10nmの細孔径を有する。好ましい実施形態において、これらのシェル触媒中に5nmよりも小さい細孔は存在しない。さらに、好ましくはこれらのシェル触媒中に25nmよりも大きい、特に15nmよりも大きい細孔は存在しない。これに関して、細孔が存在しないとは、これらの直径を有する細孔を、通常の試験法、例えばHgポロシメトリーまたはN2物理吸着により見いだすことができないことを意味する。好ましいシェル触媒において、活性金属の分散度は、好ましくは30~60、より好ましくは30~50である。活性金属の分散度を測定する方法は当業者に公知であり、例えばパルス化学吸着によりおこなわれ、貴金属分散金属比表面積、結晶サイズの測定はCOパルス法によりおこなわれる。本発明の水素化工程は、液相中または気相中でおこなうことができる。本発明の水素化工程を液相中でおこなうことが好ましい。本発明の水素化工程は、溶媒もしくは希釈剤を用いずに、または溶媒または希釈剤を存在させておこなうことができる。すなわち、水素化を溶液中でおこなう必要はない。使用される溶媒または希釈剤は、任意の好適な溶媒または希釈剤であってよい。有用な溶媒または希釈剤は、原則として水素化されるべき有機化合物を実質的に溶解することが可能なものまたはそれらと完全に混合されるものであって、水素化条件下で不活性であるもの、すなわち水素化されないものである。好適な溶媒の例は、好ましくは4~8個の炭素原子を有する環式および非環式エーテル、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチルtertブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジメトキシプロパン、ジメチルジエチレングリコール、好ましくは1~6個の炭素原子を有する脂肪族アルコール、例えば、メタノール、エタノール、nまたはイソプロパノール、n、2、イソまたはtertブタノール、好ましくは3~8個の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸のカルボン酸エステル、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルまたは酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、および脂肪族エーテルアルコール、例えば、メトキシプロパノール、および脂環式化合物、例えば、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンおよびジメチルシクロヘキサンである。使用される溶媒または希釈剤の量は特に限定されず、必要に応じて自由に選択することができるが、溶媒を使用する場合、水素化を意図する有機化合物の3~70重量の溶液が得られる量が好ましい。本発明の一実施形態において、本発明の工程bを物質中でおこなう。実際の水素化は、典型的には、水素化可能な基を有する有機化合物を水素化するための、好ましくは、上に引用した先行技術に記載される通りの炭素環芳香族基を対応する炭素環脂環式基に水素化するための公知の水素化工程と同様にして実施される。この目的で、有機化合物を、液相または気相として、好ましくは液相として、水素の存在下で触媒と接触させる。液相は、移動する触媒床移動床方式または固定された触媒床固定床方式の上を通過させることができる。水素化は、連続方式またはバッチ方式のいずれかで構成することができる。連続的な工程レジームが好ましい。本発明の方法は、好ましくは、トリクル反応器中でまたは固定床方式による浸水方式でおこなう。トリクル反応器中でおこなうことが特に好ましい。特に、ここで水素化される化合物は物質中で、すなわち実質的に有機希釈剤を使用せずに好ましくは10未満の溶媒含有量で使用される。水素化は、水素化されるべき反応物の溶液と並流で、または逆流で触媒上を通しておこなうことができる。水素化はまた、バッチ方式でおこなうこともできる。この場合、水素化は好ましくは有機溶媒または希釈剤中でおこなう。本発明の方法をバッチ方式により実施する場合には、工程bにおいて、触媒を、典型的には、水素化に使用される反応混合物中のルテニウムの濃度が10~10000ppmの範囲、特に50~5000ppmの範囲、特に100~1000ppmの範囲となるような量で使用する。水素化は、典型的には、5~50Mpaの範囲、特に10~30MPaの範囲の水素圧で実施する。水素はそのままで、または不活性ガス、例えば窒素もしくはアルゴンにより希釈して反応器中に供給することができる。工程bにおける水素化は、典型的には50°Cよりも高い温度で、特に100~250°Cの範囲の温度で実施する。水素化をおこなうのに適した装置は当業者に公知であり、主に操作の方式により決定される。本発明の水素化を移動触媒床上で、および固定触媒床上でおこなうのに適した装置は、例えば、UllmannsEnzyklopaediederTechnischenChemie4theditionvolume13p135ff、およびPNRylanderHydrogenationandDehydrogenationinUllmannsEncyclopediaofIndustrialChemistry5thedにより公知である。驚くべきことに、本発明の方法の工程aにおいて、イソプロパノールが超臨界条件下で存在する条件下で実施した場合、特にスチレンとイソプロパノールとのモル比が110~1130の範囲、特に130~1120の範囲、より好ましくは140~1100の範囲、特に150~190の範囲である場合、および/または反応をセミバッチ方式で実施した場合に、2メチル4フェニル2ブタノールのみではなく、少量の2メチル4フェニル2ペンタノールも生成することが見いだされた。このような方法な新規であり、同様に本発明の主題の一部を形成する。したがって、本発明は、スチレンとイソプロパノールとを、高温で、イソプロパノールが超臨界条件下で存在する条件下で、スチレンとイソプロパノールとのモル比が110~1130の範囲、特に130~1120の範囲、より好ましくは140~1100の範囲、特に150~190の範囲となるようにして反応させることを含む、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物の調製方法に関する。上で工程aに関して既に記載した通り、反応をセミバッチ方式または連続方式でおこなうと有利であることが見いだされた。この目的で、使用するイソプロパノールの80以上、特に90以上を最初に、場合によりスチレンの一部と共に入れ、使用するスチレンの80以上、特に90以上を、反応条件下で反応に供給すると有利であることが見いだされた。スチレンは少しずつ、または好ましくは連続的に加えることができる。スチレンを供給する速度は、好ましくは、反応区域または反応器中に供給されるスチレンと反応区域に存在するイソプロパノールとのモル比が110~1130の範囲、特に120~1120の範囲、より好ましくは140~1100の範囲、特に150~190の範囲となるように選択される。これは、特に、連続的な反応レジームにおいても、反応器または反応区域に供給されるスチレンとイソプロパノールとのモル比について当てはまる。あるいは、上で工程aに関して特定した条件が、同様にして、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物を調製するための本発明の方法にも適用される。そこで、これらの詳細をすべて参照する。このような方法により、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物が得られる。前記組成物における2メチル4フェニル2ブタノールと2メチル4フェニル2ペンタノールとの重量比は、典型的には501~10001の範囲である。スチレンとイソプロパノールとの反応による2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物の調製において得られた反応混合物は、上で工程aに関して記載した方法で後処理することができる。工程aで得られた反応混合物の後処理に関して上に記載した詳細を完全に参照する。より詳細には、得られた反応混合物を蒸留により後処理し、その際に、本質的に2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールから成る目的の組成物を中間の留分として低沸点物質および高沸点物質から分離する。一般に、これにより、本質的に、すなわち95重量以上、特に98重量以上、とりわけ99重量以上または995重量以上の2メチル4フェニル2ブタノール、および少量の2メチル4フェニル2ペンタノールから成る組成物、例えば、2メチル4フェニル2ブタノールと2メチル4フェニル2ペンタノールとの重量比が501~10001の範囲である組成物が得られる。このような2メチル4フェニル2ブタノールおよび少量の2メチル4フェニル2ペンタノールの混合物は、次に工程bと同様にして水素化して、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび少量の4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールを含む組成物、例えば、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールと4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールとの重量比が501~10001の範囲である組成物を得ることができる。上に工程bの水素化に関して記載した詳細を完全に参照する。2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物の調製にイソプロパノールを過剰に使用し得るので、主にイソプロパノールから成る低沸点留分は工程に戻して再使用することができる。一般に、イソプロパノールは水素化の前に実質的に除去され、水素化に使用される反応物質中のイソプロパノールの比率が反応物質の総量に対して20重量未満、特に10重量以下であるようにする。2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物は、驚くべきことに、2メチル4フェニル2ブタノールと比較して、より一層の花のような香調を有する点で注目に値する。前記組成物は新規であり、同様に本発明の主題の一部を形成する。これらの組成物において、2メチル4フェニル2ブタノールと2メチル4フェニル2ペンタノールとの重量比は501~10001の範囲である。具体的な組成物は濃縮物、すなわち、本質的に、すなわち95重量以上、特に98重量以上、とりわけ99重量以上または995重量以上の2メチル4フェニル2ブタノールおよび少量の2メチル4フェニル2ペンタノールから成る組成物、例えば、2メチル4フェニル2ブタノールと2メチル4フェニル2ペンタノールとの重量比が501~10001の範囲である組成物である。2メチル4フェニル2ブタノールと2メチル4フェニル2ペンタノールとの重量比がここに特定された範囲に含まれない組成物は、2メチル4フェニル2ブタノールミュゲアルコールを所望の量の2メチル4フェニル2ペンタノールと混合することにより調製することができる。当然ながら、このような組成物も同様に本発明の主題の一部を形成する。このような組成物、特に前記濃縮物は、上に述べた理由により香料または芳香剤として、特に化粧品組成物および洗浄または清浄化組成物において使用することができる。したがって、本発明はまた、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物を含む化粧品組成物を提供する。したがって、本発明はまた、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物を含む洗浄または清浄化組成物を提供する。さらに、本発明の文脈において、2メチル4フェニル2ペンタノールは、αメチルスチレンとイソプロパノールとを上で工程aに関して特定した条件下で反応させることによっても制御された方式で調製することができることが見いだされた。したがって、本発明はまた、αメチルスチレンを高温でイソプロパノールと反応させる、2メチル4フェニル2ペンタノールの調製方法を提供する。αメチルスチレンとイソプロパノールとの反応に関して、工程aにおけるスチレンとイソプロパノールとの反応に関して上および特許請求の範囲に記載した本質的にすべての詳細が適用される。したがって、これらの詳細を完全に参照する。あるいは、2メチル4フェニル2ペンタノールまたは本質的に2メチル4フェニル2ペンタノールから成る混合物を、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールから成る混合物を蒸留により分離することにより、例えば本発明の方法の工程aにおいて得られた混合物を蒸留により分離することにより、得ることができる。2メチル4フェニル2ペンタノールは同様に香気物質であり、したがってこのタイプの香気物質のすべての用途に使用することができる。既に上に述べた通り、これは、驚くべきことに、2メチル4フェニル2ブタノールの香気特性を変更するために使用することもできる。香気物質としての2メチル4フェニル2ペンタノールの使用はこれまでに報告されていない。したがって、これも、特に2メチル4フェニル2ペンタノールの化粧品組成物および洗浄または清浄化組成物における香気物質としての使用も、同様に本発明の主題の一部を形成する。したがって、本発明はまた、2メチル4フェニル2ペンタノールを含む化粧品組成物を提供する。したがって、本発明はまた、2メチル4フェニル2ペンタノールを含む洗浄または清浄化組成物を提供する。2メチル4フェニル2ペンタノールは、工程bと同様にして水素化をおこなうことができる。これにより、4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールが高い収率で得られる。4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールは新規であり、同様に本発明の主題の一部を形成する。4シクロヘキシル2メチルペンタノールは、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールと同様に香気物質である。さらに、これは、驚くべきことに、他の香気物質、特に4シクロヘキシル2メチル2ブタノールの香気特性を変更するために使用することができる。したがって、4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールは、香料または芳香剤として、特に化粧品組成物および洗浄または清浄化組成物において使用することができる。したがって、本発明はまた、4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールを含む化粧品組成物を提供する。したがって、本発明はまた、4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールを含む洗浄または清浄化組成物を提供する。4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールを含む組成物は、驚くべきことに、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールと比較して、より一層の花のような香調を有する点で注目に値する。前記組成物は新規であり、同様に本発明の主題の一部を形成する。これらの組成物において、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールと4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールとの重量比は、一般に501~10001の範囲である。前記組成物は、少量の4シクロヘキシル2メチルブタンおよびおそらく4シクロヘキシル2メチルペンタンそれぞれ、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールの過還元により得られるをも含む可能性がある。シクロヘキシル2メチルブタンおよびいくらかの4シクロヘキシル2メチルペンタンの総量の重量比率は、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールに対して一般に10重量以下、特に5重量以下であり、存在したとしても、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールに対して001~10重量の範囲、特に001~5重量の範囲である。当然ながら、シクロヘキシル2メチルブタンおよびいくらかの4シクロヘキシル2メチルペンタンを、たとえは蒸留により除去して、シクロヘキシル2メチルブタンおよびいくらかの4シクロヘキシル2メチルペンタンの総量が4シクロヘキシル2メチル2ブタノールに対して1重量未満、特に05重量未満または01重量未満となるようにすることも可能である。具体的な組成物は、濃縮物、すなわち、本質的に、すなわち、95重量以上、特に98重量以上、とりわけ99重量以上または995重量以上の4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび少量の4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールから成る組成物、例えば、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールと4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールとの重量比が501~10001の範囲である組成物である。これらの濃縮物は、シクロヘキシル2メチルブタンおよびおそらく4シクロヘキシル2メチルペンタンを上に記載した量で含む可能性がある。4シクロヘキシル2メチル2ブタノールと4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールとの重量比がここに特定された範囲に含まれない組成物は、シクロヘキシル2メチル2ブタノールを所望の量の4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールと混合することにより調製することができる。当然ながら、このような組成物も同様に、本発明の主題の一部を形成する。このような組成物、特に前記濃縮物は、上に記載した理由から香料または芳香剤として、特に化粧品組成物および洗浄または清浄化組成物において使用することができる。したがって、本発明はまた、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールを含む組成物を含む化粧品組成物を提供する。したがって、本発明はまた、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールを含む組成物を含む洗浄または清浄化組成物を提供する。上に既に述べた通り、4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールは、2メチル4フェニル2ペンタノールから工程bと同様にして、すなわち、芳香族の環水素化に適した触媒による2メチル4フェニル2ペンタノールの不均一触媒水素化を含む方法により調製することができる。このような方法も同様に本発明の主題の一部を形成する。2メチル4フェニル2ペンタノールの水素化に関して、上に工程bにおける水素化に関して記載した詳細を完全に参照する。この方法は、最初に制御された方法で2メチル4フェニル2ペンタノールを調製し、次に、上記の工程bと同様にしてそれに芳香族の環水素化に適した触媒による不均一触媒水素化をおこなうというものであってよい。しかしながら、この方法は、最初に、例えば上に工程aに関して記載した方法により2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールから成る組成物を調製し、上記の工程bと同様にしてこの組成物に芳香族の環水素化に適した触媒による不均一触媒水素化をおこない、次いで得られた4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールを含む組成物を蒸留によりその成分に分離するというのもであってもよい。したがって、本発明はまた、以下の工程:aスチレンとイソプロパノールとを、高温で、イソプロパノールが超臨界条件下で存在する条件下、スチレンとイソプロパノールとのモル比が110~1130の範囲となるようにして反応させることにより、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物を調製する工程;b工程aにおいて得られた組成物に芳香族の環水素化に適した触媒による不均一触媒水素化をおこなう工程;およびc工程bにおいて得られた組成物を蒸留により後処理して、本質的に、すなわち90重量以上、特に95重量以上の4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールから成る組成物を得る工程を含む、4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールの調製方法に関する。したがって、本発明はさらに、以下の工程:aスチレンとイソプロパノールとを、高温で、イソプロパノールが超臨界条件下で存在する条件下、スチレンとイソプロパノールとのモル比が110~1130の範囲となるようにして反応させることにより、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物を調製する工程;c工程aにおいて得られた組成物を蒸留により後処理して、主に2メチル4フェニル2ペンタノールから成る組成物を得る工程;b工程cにおいて得られた組成物に芳香族の環水素化に適した触媒による不均一触媒水素化をおこなう工程;および場合によりc工程bにおいて得られた組成物を蒸留により後処理して、本質的に4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールから成る組成物を得る工程を含む、4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールの調製方法に関する。工程aは、上で既に記載した工程aと同様にして実施されることが理解されるであろう。その範囲において、工程aに関して、工程aに関して記載した詳細を完全に参照する。また、工程bは、上で既に記載した工程bと同様にして実施されることが理解されるであろう。その範囲において、工程bに関して、工程bに関する記載を完全に参照する。蒸留の工程c、cおよびcは、通常の分留の方法と同様にして実施することができる。この目的に好適な装置は当業者に公知である。必要な条件は通常の実験により決定することができる。一般に、蒸留は減圧下で実施される。さらに、本発明は、以下の工程:aαメチルスチレンとイソプロパノールとを高温で反応させることにより2メチル4フェニル2ペンタノールを得る工程、およびb2メチル4フェニル2ペンタノールに芳香族の環水素化に適した触媒による不均一触媒水素化をおこなう工程を含む、4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールの調製方法に関する。上で既に説明した通り、工程aは、上で既に記載した工程aと同様にして実施される。その範囲において、工程aに関して、工程aに関して記載した詳細を完全に参照する。また、工程bは、上で既に記載した工程bと同様にして実施されることが理解されるであろう。その範囲において、工程bに関して、工程bに関して記載した詳細を完全に参照する。工程aにおいて得ることができる反応生成物を、工程bにおいて使用する前に、上記の工程aにおいて得られた反応生成物と同様にして後処理をおこなうこと、特に低沸点物質および高沸点物質を除去して中程度の沸点の物質として2メチル4フェニル2ペンタノールを得る蒸留により後処理をおこなうことができることが理解されるであろう。これに関して、同様に上に記載した詳細を参照する。上に既に述べた通り、本発明はまた、香料または芳香剤として、以下の物質または物質混合物:i4シクロヘキシル2メチル2ペンタノール;ii2メチル4フェニル2ペンタノール;iii2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物;またはiv4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールを含む組成物のうちの1つを含む化粧品組成物に関する。好適な化粧品組成物の例は、原則として、典型的に香料を含むすべての化粧品組成物である。これらには、例えば、オードパルファム、オードトワレ、オーデコロン、ローションおよびクリームなどのアフターシェーブ製品、プレシェーブ製品、香りを付けたウェットティッシュ、脱毛クリームおよびローション、日焼けクリームおよびローション、シャンプー、ヘアリンス、整髪製品、ヘアジェル、毛髪染料、ヘアワックス、ヘアスプレー、整髪用フォーム、ヘアムース、枝毛手入れ液、パーマネントウェーブ用中和剤、染毛剤および漂白剤またはホットオイルトリートメントなどのヘアケア製品、ならびに石鹸、洗浄用ジェル、シャワージェルなどの皮膚清浄化製品、皮膚用のクリーム、オイル、ローション等などのボディケア製品、特に手、顔および足の手入れのための製品、サンスクリーン、消臭剤および制汗剤、皮膚殺菌剤、防虫剤および装飾用化粧製品が含まれる。使用の分野により、化粧品組成物は水性またはアルコール性の液体、油、エアロゾルスプレー、エアロゾルフォーム、ムース、ゲル、ゲルスプレー、クリーム、ローション、粉末、錠剤またはワックスとして製剤することができる。上に既に述べた通り、本発明はまた、香料または芳香剤として、以下の物質または物質混合物:i4シクロヘキシル2メチル2ペンタノール;ii2メチル4フェニル2ペンタノール;iii2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールを含む組成物;またはiv4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールを含む組成物のうちの1つを含む洗浄または清浄化組成物に関する。これらには、表面の清浄化および/または殺菌のための製品、例えば、家庭用クリーナー、中性クリーナー、トイレクリーナー、床クリーナー、カーペットクリーナー、窓クリーナー、光沢剤、家具手入れ用製品、液体および固体の食器洗浄製品、液体および固体の食器洗浄機用製品、ならびに固体または液体の織物洗浄組成物、洗濯後処理組成物、布柔軟剤、アイロンがけ助剤、布用消臭剤、布用プレコンディショナー、洗濯石鹸、洗濯用錠剤等などの織物の清浄化または処理のための製品が含まれる。さらに、本発明の物質および物質混合物は、エアコンディショナー、ランプオイル、ろうそく、消臭剤等などの他の香料を含有する製品の香料成分として使用することができる。本発明を以下の実施例により詳細に説明する。調製例1:水素化触媒の調製使用した担持材料は、3~5mmの球直径および049kglのタップ密度を有する球状SiO2担持体であった。BET表面積は337m2gであり、水吸収は083mlgであった。含浸のために、1425重量の酢酸ルテニウムの酢酸溶液を使用した。最初に200gの担持体を丸底フラスコに入れた。15gの酢酸ルテニウム溶液を蒸留水により150mlに希釈した。担持材料を最初にロータリーエバポレーターの蒸留フラスコに入れ、少し減圧して3~6rpmで回転させた担持材料上に溶液の最初の14をポンプで送り込んだ。添加が完了した後、触媒を均質化するために、担持体を3~6rpmのロータリーエバポレーター中にさらに10分間放置した。この含浸均質化工程を、すべての溶液を担持体に適用し終わるまで、さらに3回繰り返した。このようにして処理された担持材料を140°Cの回転する管状オーブン中で攪拌しながら乾燥した後、水素気流中、200°Cで3時間還元し、25°Cで不動態化した。このようにして得られた本発明の触媒Aは、触媒の重量に対して034重量のルテニウムを含んでいた。工程a実施例1400mlのオートクレーブに、最初に208gのスチレンおよび512gのイソプロパノールを入れた。オートクレーブを閉じ、反応混合物を350°C自発圧力230barで攪拌した。いずれの場合にも2時間の反応時間の後、さらに208gのスチレンを加えた。合計14回加えた後これは312gのスチレンの総量に相当する、反応混合物を冷却し、オートクレーブを減圧した。それぞれの添加の前に、サンプルを取ってその組成をガスクロマトグラフィーにより分析した。この方法で、使用したスチレンに基づく2メチル4フェニル2ブタノールの生成の選択性を決定した。選択性を下記の表に報告する。反応混合物を蒸留により後処理した。低沸点物質特に、イソプロパノールを除去した後、純度75の粗生成物が得られ、ここには2メチル4フェニル2ペンタノール10GC面積も含まれていた。さらなる精密な蒸留により、257gの4フェニル2メチルブタン2オール収率503に相当するが得られた。精密な蒸留において得られた2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールの混合物は、香気の点で、特に2メチル4フェニル2ブタノールの純粋な物質と比較して、さらに心地よい、ほのかな花の香調により注目に値するものであった。実施例2:400mlのオートクレーブに118gのイソプロパノールを加えた。オートクレーブを閉じ、内部温度を375°C自発圧力244barとした。そこに206gのスチレンを迅速に加え、15分の反応時間の後、そこにさらに208gのスチレンを加えた。この方法でスチレンをさらに4回加えた。合計6回の添加これは1236gのスチレンの総量に相当するの後、反応混合物を冷却し、次いでオートクレーブを減圧した。それぞれの添加の前に、サンプルを取ってその組成をガスクロマトグラフィーにより分析した。この方法で、使用したスチレンに基づく2メチル4フェニル2ブタノールの生成の選択性を決定した。選択性を下記の表に報告する。実施例3:連続方式300mlのオートクレーブに、最初に78gのイソプロパノールを入れた。オートクレーブを閉じ、反応混合物を350°Cの内部温度自発圧力150barに加熱した。次に、圧力と温度が常に一定を保つように圧力を制御しながら、連続的な供給および回収を実施した。スチレンおよびイソプロパノールの110重量部の比の混合物を、40ghの流速で計量添加した。対応して、40ghの産物を反応器から回収した。反応の経過をガスクロマトグラフィーによりモニターした。約10時間後に反応器内に定常状態が確立した。スチレンの変換は75であると測定され、2ghの2メチル4フェニル2ブタノールの生産が見いだされた。実施例4:400mlのオートクレーブに、最初に512gのイソプロパノールを入れた。オートクレーブを閉じ、内容物を350°C自発圧力230barで攪拌した。計量ポンプを使用してスチレンを104ghの添加速度で合計20時間に渡ってオートクレーブに加えた。次に、反応混合物を冷却し、オートクレーブを減圧した。サンプルを4時間ごとに取って、その組成をガスクロマトグラフィーにより分析した。この方法で、使用したスチレンに基づく2メチル4フェニル2ブタノールの形成の選択性を測定した。選択性を下記の表に報告する。工程b実施例5:300mlのオートクレーブに、最初に、150mlのテトラヒドロフランに溶解した102gの2メチル4フェニル2ブタノールおよび触媒バスケットに入れた17gの調製例1の触媒を入れた。オートクレーブを窒素により3回パージした後、水素を200°C、200barの圧力で12時間注入した。6時間後および12時間後に、反応の進行をガスクロマトグラフィー30m、カラム材料DB1、内径:025mm、フィルム厚さ025μm、温度プログラム50°C5分間等温;6°C分→290°C219分間等温により分析した。生成物含有量を下記の表に報告する。わずか6時間後に、出発物質はもはや検出できなかった。4シクロヘキシル2メチルブタンなどの副生成物の比率が低いことは、目的とする標的化合物である4シクロヘキシル2メチル2ブタノールに対する水素化の高い選択性を証明している。実施例6:300mLのオートクレーブに、最初に、97gのテトラヒドロフランに溶解した70gの2メチル4フェニル2ブタノール、および触媒バスケットに入れた22gの調製例1の触媒を加えた。オートクレーブを窒素により3回パージした。この後、160°Cおよび160barの水素圧で10時間水素化をおこなった。生成物をガスクロマトグラフィー30m、カラム材料DB1、ID:025mm、FD:025μm、50°C5分間等温、6°C分→290°C219分間等温により分析した。10時間後の生成物の組成を下記の表に報告する。110時間後の生成物の組成実施例7:300mLのオートクレーブに、最初に160gの2メチル4フェニル2ブタノールおよび触媒バスケットに入れた64gのEP1042273の実施例1の触媒を入れた。オートクレーブを窒素により3回パージした。この後、160°Cおよび160barの水素圧で10時間水素化をおこなった。生成物をガスクロマトグラフィー30m、カラム材料DB1、ID:025mm、FD:025μm、50°C5分間等温、6°C分→290°C219分間等温により分析した。10時間後の生成物の組成を下記の表に報告する。110時間後の生成物の組成実施例8:300mLのオートクレーブに、最初に160gの2メチル4フェニル2ブタノールおよび触媒バスケットに入れた064gの市販の担持Rh触媒を入れた。オートクレーブを窒素により3回パージした後、160°Cおよび160barの水素圧で10時間水素化をおこなった。生成物をガスクロマトグラフィー30m、カラム材料DB1、ID:025mm、FD:025μm、50°C5分間等温、6°C分→290°C219分間等温により分析した。10時間後の生成物の組成を下記の表に報告する。110時間後の生成物の組成実施例9:300mLのオートクレーブに、最初に160gの2メチル4フェニル2ブタノールおよび004gの市販のニッケル触媒を入れた。オートクレーブを窒素により3回パージした後、160°Cおよび160barの水素圧で10時間水素化をおこなった。生成物をガスクロマトグラフィー30m、カラム材料DB1、ID:025mm、FD:025μm、50°C5分間等温、6°C分→290°C219分間等温により分析した。10時間後の生成物の組成を下記の表に報告する。110時間後の生成物の組成実施例10:循環装置を付けた三連の連結した管状反応器から構成される主反応器および管状反応器として形作られたポスト反応器を含む連続的実験室プラントにおいて反応を実施した。管状反応器に調製例1に従って調製した触媒Aを以下の通りに充填した:MR:それぞれの管に77g、PR:325g。主反応器の第1および第3の管はトリクル方式で、第2の管は液相方式で操作し、第3の管の産出物を部分的に第1の管の供給口と連結させた。ポスト反応器は液相方式の直線通過で操作した。2メチル4フェニル2ブタノール20~30gh;触媒の毎時空間速度04~06kgを、主反応器中の平均温度120~180°C、ポスト反応器中の平均温度140~180°C、36barの一定圧力で純粋な水素と共にポンプにより反応カスケードに送り込んだ。2メチル4フェニル2ブタノールの変換率は100であり、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールの選択性は88~98であった。サンプルをガスクロマトグラフィー30m、カラム材料DB1、ID:025mm、FD:025μm、50°C5分間等温、6°C分→290°C219分間等温により分析した。水素化を250時間に渡って実施したが、触媒活性の低下は観察されなかった。実施例11:4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールの混合物300mLのオートクレーブ中で、2メチル4フェニル2ブタノールおよび2メチル4フェニル2ペンタノールから成る69gの混合物を95gのテトラヒドロフランに溶解し、最初に触媒バスケットに入れた22gの調製例1の触媒を入れた。オートクレーブを窒素により3回パージした。その後、160°Cおよび160barの水素圧で10時間水素化をおこなった。生成物をガスクロマトグラフィー30m、カラム材料DB1、ID:025mm、FD:025μm、50°C5分間等温、6°C分→290°C219分間等温により分析した。10時間後の生成物の組成を下記の表に報告する。110時間後の生成物の組成4シクロヘキシル2メチルブタンを蒸留により除去した後、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールおよび4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールの混合物が得られた。これは、4シクロヘキシル2メチル2ブタノールの純粋な物質とは、特に、さらなる、有利な、かすかな花のような香調により異なっていた。実施例12:4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールαメチルスチレンとイソプロパノールとの、実施例1に記載された条件下での反応により、多段階の蒸留の後、2メチル4フェニル2ペンタノールを含む混合物が得られた。300mLのオートクレーブ中で、277gのこの混合物を1323gのテトラヒドロフランに溶解し、最初に触媒バスケットに入れた16gの調製例1の触媒を入れた。オートクレーブを窒素により3回パージした。その後、160°Cおよび160barの水素圧で10時間水素化をおこなった。生成物をガスクロマトグラフィー30m、カラム材料DB1、ID:025mm、FD:025μm、50°C5分間等温、6°C分290°C219分間等温により分析した。10時間後の生成物の組成を下記の表に報告する。110時間後の生成物の組成高分解能質量分析および1HNMRにより4シクロヘキシル2メチル2ペンタノールが同定された。HRMSMH2OH1661726;MH2OH1661722、差:000041HNMRδ405248095177105092ppm