表面処理層が形成されたメッキ銅層を含む積層体であって、2.0mol/Lの塩化第二銅水溶液を腐食液とし、前記腐食液中、液温50°Cで且つ前記腐食液の攪拌を行わずに、Ag/AgCl電極を用い、前記表面処理層側から測定範囲1cm×1cmで測定したときに、測定開始時の自然電位が前記メッキ銅層の自然電位より30mV以上高く、且つ、測定開始から100秒以内で前記測定開始時の自然電位の20以下まで低下する積層体。絶縁基板、前記メッキ銅層及び前記表面処理層がこの順で形成されている請求項1に記載の積層体。絶縁基板、圧延銅箔、前記メッキ銅層及び前記表面処理層がこの順で形成されている請求項1に記載の積層体。銅基材、前記メッキ銅層及び前記表面処理層がこの順で形成された請求項1に記載の積層体。前記測定開始時の自然電位が前記メッキ銅層の自然電位より50mV以上高い請求項1~4のいずれかに記載の積層体。前記自然電位が測定開始から極大値を有さずに100秒以内で前記測定開始時の自然電位の20以下まで低下する請求項1~5のいずれかに記載の積層体。前記表面処理層は、Au、Pd、Pt、Co、Ni、Cr、Mo、Sn、V及びZnのいずれか1種以上を含む請求項1~6のいずれかに記載の積層体。前記表面処理層の表面または前記メッキ銅層との間に、Ni、Cr、Sn、V及びZnのいずれか1種以上を含む層を備えた請求項1~7のいずれかに記載の積層体。30μmピッチ以下でエッチングファクターが4以上の回路が前記積層体の表面処理層形成側に形成されている請求項1~8のいずれかに記載の積層体。前記表面処理層が形成されたメッキ銅層を含む積層体を準備する工程と、前記表面処理層の表面にレジストで回路パターンを形成する工程と、前記回路パターンを形成した積層体の表面処理層の表面を、塩化第二鉄系又は塩化第二銅系のエッチング液を用いてエッチングする工程と、を含む請求項1~9のいずれかに記載の積層体の加工方法。請求項1~9のいずれかに記載の積層体を材料としたプリント配線板。フレキシブルプリント配線板である請求項11に記載のプリント配線板。近年、回路の微細化、高密度化がさらに進行し、より急峻に傾斜する側面を有する回路が求められている。しかしながら、特許文献1に記載される技術ではこれらには対応できない。また、特許文献1に記載される表面処理層はソフトエッチングにより除去する必要がある。さらに、樹脂との非接着面表面処理銅箔は、積層体に加工される工程で、樹脂の貼付け等の高温処理が施される。これは表面処理層の酸化を引き起こし、結果として銅箔のエッチング性は劣化する。前者については、エッチング除去の時間をなるべく短縮し、きれいに除去するためには、表面処理層の厚さを極力薄くすることが必要であること、また後者の場合には、熱を受けるために、下地の銅層が酸化され変色するので、通称ヤケと言われている。、レジストの塗布性均一性、密着性の不良やエッチング時の界面酸化物の過剰エッチングなどにより、パターンエッチングでのエッチング性、ショート、回路パターン幅の制御性等の不良が発生するという問題があるので、改良が必要か又は他の材料に置換することが要求されている。そこで、本発明は、回路パターンを良好なファインピッチで形成することができる積層体及びそれを用いたプリント配線板を提供することを課題とする。本発明者らは、鋭意検討の結果、所定の条件で侵食を行うことで測定したメッキ銅層を含む積層体の自然電位と、同条件で測定されたメッキ銅層の自然電位との関係が、当該銅箔に回路パターンを良好なファインピッチで形成し得ることと大きな影響を与えることを見出した。以上の知見を基礎として完成した本発明は一側面において、表面処理層が形成されたメッキ銅層を含む積層体であって、2.0mol/Lの塩化第二銅水溶液を腐食液とし、前記腐食液中、液温50°Cで且つ前記腐食液の攪拌を行わずに、Ag/AgCl電極を用い、前記表面処理層側から測定範囲1cm×1cmで測定したときに、測定開始時の自然電位が前記メッキ銅層の自然電位より30mV以上高く、且つ、測定開始から100秒以内で前記測定開始時の自然電位の20以下まで低下する積層体である。本発明に係る積層体の一実施形態においては、絶縁基板、前記メッキ銅層及び前記表面処理層がこの順で形成されている。本発明に係る積層体の別の実施形態においては、絶縁基板、圧延銅箔、前記メッキ銅層及び前記表面処理層がこの順で形成されている。本発明に係る積層体の更に別の実施形態においては、銅基材、前記メッキ銅層及び前記表面処理層がこの順で形成されている。本発明に係る積層体の更に別の実施形態においては、前記測定開始時の自然電位が前記メッキ銅層の自然電位より50mV以上高い。本発明に係る積層体の更に別の実施形態においては、前記自然電位が測定開始から極大値を有さずに100秒以内で前記測定開始時の自然電位の20以下まで低下する。本発明に係る積層体の更に別の実施形態においては、前記表面処理層が、Au、Pd、Pt、Co、Ni、Cr、Mo、Sn、V及びZnのいずれか1種以上を含む。本発明に係る積層体の更に別の実施形態においては、前記表面処理層の表面または前記メッキ銅層との間に、Ni、Cr、Sn、V及びZnのいずれか1種以上を含む層を備える。本発明に係る積層体の更に別の実施形態においては、30μmピッチ以下でエッチングファクターが4以上の回路が前記積層体の表面処理層形成側に形成されている。本発明は別の一側面において、前記表面処理層が形成されたメッキ銅層を含む積層体を準備する工程と、前記表面処理層の表面にレジストで回路パターンを形成する工程と、前記回路パターンを形成した積層体の表面処理層の表面を、塩化第二鉄系又は塩化第二銅系のエッチング液を用いてエッチングする工程とを含む本発明の積層体の加工方法である。本発明は更に別の一側面において、本発明の積層体を材料としたプリント配線板である。本発明に係るプリント配線板の一実施形態においては、フレキシブルプリント配線板である。本発明によれば、回路パターンを良好なファインピッチで形成することができる積層体及びそれを用いたプリント配線板を提供することができる。積層体の構成本発明に係る積層体は、表面処理層が形成されたメッキ銅層を含む。積層体の構成は、例えば以下の1~3の形態が挙げられる。1絶縁基板、メッキ銅層及び表面処理層がこの順で形成された積層体2絶縁基板、圧延銅箔、メッキ銅層及び表面処理層がこの順で形成された積層体3銅基材、メッキ銅層及び表面処理層がこの順で形成された積層体ここで、メッキ銅層は、電解メッキ銅層、無電解メッキ銅層及び電解銅箔を含む。電解メッキ銅層は、銅イオンを含む電解溶液中で、被メッキ材を陰極として直流電解を行い、銅金属を陰極被メッキ材の表面に析出させて形成される層である。無電解メッキ銅層は、例えば、銅化合物と錯化剤とを含むアルカリ溶液に還元剤を加えて被メッキ材表面に銅金属を析出させて形成される層である。電解銅箔は、電解メッキ銅層の一形態であり、例えば、硫酸銅めっき浴からチタンやステンレスのドラム上に銅を電解析出して製造される。圧延銅箔は、圧延ロールによる塑性加工と熱処理を繰り返して製造される。圧延銅箔基材の材料としてはプリント配線板の導体パターンとして通常使用されるタフピッチ銅や無酸素銅等の他、例えばSn入り銅、Ag入り銅、Cr、Zr又はMg等を添加した銅合金、Ni及びSi等を添加したコルソン系銅合金のような銅合金の箔であってもよい。銅基材は、銅を主な材料とするもの全般が含まれ、具体的には、銅箔や銅層単独、或いはこれらを主な材料とする複合材料を示す。なお、本明細書において用語銅層及び銅箔を単独で用いたときには銅合金層及び銅合金箔も含むものとする。絶縁基板は、プリント配線板に適用可能な特性を有するものであれば特に制限を受けないが、例えば、リジッドPWB用に紙基材フェノール樹脂、紙基材エポキシ樹脂、合成繊維布基材エポキシ樹脂、ガラス布紙複合基材エポキシ樹脂、ガラス布ガラス不織布複合基材エポキシ樹脂及びガラス布基材エポキシ樹脂等を使用し、FPC用にポリエステルフィルムやポリイミドフィルム等を使用する事ができる。上記1の形態の具体例としては、特に限定されないが、例えば、絶縁基板の両表面に銅層を形成又は銅箔を貼り合わせた後、プレスで貫通孔を形成し、続いて両表面の銅層又は銅箔の導通を確保するために、貫通孔壁面及び両表面の銅層又は銅箔に湿式メッキスルーホールメッキを施した積層体等が挙げられる。上記2の形態の具体例としては、特に限定されないが、例えば、絶縁基板に圧延銅箔を貼り合わせた後、圧延銅箔をソフトエッチング等で減肉し、この上に電気メッキ又は無電解メッキでメッキ銅層を形成した後、表面処理層を形成した積層体等が挙げられる。上記3の形態の具体例としては、特に限定されないが、例えば、圧延銅箔をソフトエッチング等で減肉し、この上に電気メッキ又は無電解メッキでメッキ銅層を形成した後、表面処理層を形成した積層体等が挙げられる。本発明に用いることのできるメッキ銅層の厚さについては特に制限はなく、例えば、プリント配線板用に適した厚さに適宜調節すればよい。例えば、5~100μm程度とすることができる。但し、ファインパターン形成を目的とする場合には30μm以下、好ましくは20μm以下であり、典型的には5~20μm程度である。本発明に使用するメッキ銅層は、特に限定されないが、例えば、粗化処理をしないものを用いても良い。従来は特殊めっきで表面にμmオーダーの凹凸を付けて表面粗化処理を施し、物理的なアンカー効果によって樹脂との接着性を持たせるケースが一般的であるが、一方でファインピッチや高周波電気特性は平滑な箔が良いとされ、粗化層では不利な方向に働くことがある。また、粗化処理をしないものであると、粗化処理工程が省略されるので、経済性生産性向上の効果がある。表面処理層の構成メッキ銅層の絶縁基板との接着面の反対側回路形成予定面側の表面の少なくとも一部には、金属単体又は合金で形成された表面処理層が形成されている。本発明の積層体は、腐食液中の自然電位がCuより高いことが必要である。このため、表面処理層は、本発明の所定の侵食条件におけるこのような自然電位を実現するためには、Au、Pd、Pt、Co、Ni、Cr、Mo、Sn、V及びZnのいずれか1種以上を含むことが好ましい。また、表面処理層は、貴金属を用いると耐食性が特に良好となるため、Au、Pd及びPtのいずれか1種以上を含むことが好ましい。また、原料コストの観点から、Ni等の合金や貴金属との複層としてもよい。具体的には、表面処理層は、貴金属のAu、Pd、Pt、これらを含む合金、Cr、Ni及びNi合金Ni-Cr、Ni-Sn、Ni-V、Ni-Mn、Ni-Zn等や、これらの複層で形成してもよい。また、表面処理層の表面またはメッキ銅層との間に、Ni、Cr、Sn、V及びZnのいずれか1種以上を含む層を形成してもよい。このような層は、Cuが表面に拡散することによるメッキ銅層表面の酸化変色を防止する防錆層としての効果と、Cuが表面に拡散することを防止し、エッチング途中のレジスト剥離によるエッチング不良を防止するための下地層としての効果を有する。表面処理層の同定表面処理層の同定はXPS、若しくはAES等表面分析装置にて表層からアルゴンスパッタし、深さ方向の化学分析を行い、夫々の検出ピークの存在によって同定することができる。自然電位本発明の積層体は、2.0mol/Lの塩化第二銅水溶液を腐食液とし、腐食液中、液温50°Cで且つ腐食液の攪拌を行わずに、Ag/AgCl電極を用い、表面処理層側から測定範囲1cm×1cmで測定したときに、測定開始時の自然電位がメッキ銅層の自然電位より30mV以上高く、且つ、測定開始から100秒以内で測定開始時の自然電位の20以下まで低下する。ここで、測定開始時の自然電位が高いということは腐食しにくいことを示す。メッキ銅層の表面にCuよりも腐食しにくい層がある場合、エッチングするときに回路の底部が優先的にエッチングされやすくなるため、回路の上部トップ部の幅が表面処理を施さない場合よりも広く残り、矩形に近い回路を形成することができる。そのため、ファインピッチの回路を形成できると言える。本発明の積層体は、このような測定開始時の自然電位がメッキ銅層の自然電位より30mV以上高いため、良好にファインピッチの回路を形成することができる。また、測定開始から100秒以内で測定開始時の自然電位の20以下まで低下するため、エッチングの際のレジスト開口部に露出した部分の過度の耐食性が抑制されており、初期エッチング性が良好であり、より良好にファインピッチの回路を形成することができる。上述の測定開始時の自然電位は、メッキ銅層の自然電位より50mV以上高いとより好ましい。このような構成によれば、基材のメッキ銅層よりもより腐食されにくいということになり、このような表面処理を施した場合、回路の底部のエッチングが優先的に行われ、回路上部の幅が広く残り易くなり、よりエッチングファクターが高い回路、好ましくは30μmピッチでエッチングファクターが3以上、好ましくは4以上の回路を形成できる。上述の自然電位は、測定開始から極大値を有さずに100秒以内で測定開始時の自然電位の20以下まで低下することが好ましい。自然電位が低下する際に極大値を有するということは、後述のポリイミドを硬化するときの熱履歴でCuが表面に拡散していることを示している。この拡散したCuの影響により、エッチング工程においてレジスト剥離によるエッチング不良が起こりやすくなる。また、一般に電位が低下するまでの時間が短いほど回路の直線性は良好になるが、本発明では100秒以内で表面処理層が溶解するため、初期エッチング性がより良好となる。このため、上述のように自然電位が測定開始から極大値を有さずに100秒以内で測定開始時の自然電位の20以下まで低下するように構成されていると、エッチング不良を良好に抑制することができる。なお、自然電位の測定において、Ag/AgCl電極を腐食液に入れた直後に腐食液の乱れが生じることで、測定される電位が若干上昇するが後述の図3における実施例1のグラフ参照、本発明における極大値は、このときの腐食液の乱れに起因する電位の上昇部分を除いた部分における極大値を意味する。積層体の製造方法本発明に係る積層体は、スパッタリング法により形成することができる。すなわち、スパッタリング法によってメッキ銅層の表面の少なくとも一部を、表面処理層により被覆する。具体的には、スパッタリング法によって、メッキ銅層のエッチング面側に銅よりもエッチングレートの低い単体金属又は合金からなる表面処理層を形成する。表面処理層は、スパッタリング法に限らず、例えば、電気めっき、無電解めっき等の湿式めっき法で形成してもよい。プリント配線板の製造方法本発明に係るプリント配線板PWBを常法に従って製造することができる。以下に、プリント配線板の製造方法の例を示す。プリント配線板は、絶縁基板、積層体メッキ銅層及び表面処理層がこの順で形成されてなるが、形成順序は限定されない。すなわち、例えば、メッキ銅層上に表面処理層を形成して積層体を形成した後、この積層体を絶縁基板上に形成してもよい。また、絶縁基板上にメッキ銅層を形成した後、メッキ銅層上に表面処理層を形成してもよい。さらに、圧延銅箔を間に設ける形態では、絶縁基板上に圧延銅箔を形成した後、圧延銅箔上にメッキ銅層及び表面処理層を形成してもよく、圧延銅箔上にメッキ銅層及び表面処理層を形成したものを絶縁基板上に形成してもよい。より具体的な、上記積層体を絶縁基板に貼り合わせる方法としては、リジッドPWB用の場合、ガラス布などの基材に樹脂を含浸させ、樹脂を半硬化状態まで硬化させたプリプレグを用意する。積層体を表面処理層の反対側の面からプリプレグに重ねて加熱加圧させることにより行うことができる。フレキシブルプリント配線板FPC用の場合、ポリイミドフィルム又はポリエステルフィルムと積層体とをエポキシ系やアクリル系の接着剤を使って接着することができる3層構造。また、接着剤を使用しない方法2層構造としては、ポリイミドの前駆体であるポリイミドワニスポリアミック酸ワニスを積層体に塗布し、加熱することでイミド化するキャスティング法や、ポリイミドフィルム上に熱可塑性のポリイミドを塗布し、その上に積層体を重ね合わせ、加熱加圧するラミネート法が挙げられる。キャスティング法においては、ポリイミドワニスを塗布する前に熱可塑性ポリイミド等のアンカーコート材を予め塗布しておくことも有効である。本発明に係る積層体は各種のプリント配線板PWBに使用可能であり、特に制限されるものではないが、例えば、導体パターンの層数の観点からは片面PWB、両面PWB、多層PWB3層以上に適用可能であり、絶縁基板材料の種類の観点からはリジッドPWB、フレキシブルPWBFPC、リジッドフレックスPWBに適用可能である。また、上述のような上記積層体を絶縁基板に貼り合わせる方法以外では、絶縁基板上にスパッタリング、めっきでメッキ銅層を形成し、このメッキ銅層上に表面処理層を形成してメタライジング材を作製することができる。メッキ銅層上に表面処理層を設けて積層体を形成する際には、メッキ銅層の表面処理層形成側表面を逆スパッタ、及び/又は、酸洗等の湿式処理等により、適宜必要な前処理を行う。この前処理の程度は、その後に形成する回路パターンのファインピッチ化に影響を与える。続いて、積層体の加工方法について説明する。まず、積層体の表面処理層表面にレジストを塗布し、マスクによりパターンを露光し、現像することによりレジストパターンを形成する。続いて、パターンを形成した積層体の表面処理層の表面を、塩化第二鉄系又は塩化第二銅系のエッチング液を用いてエッチングする。このエッチングでは、積層体にエッチング液を噴霧、またはエッチング液に浸漬して行うことができる。このとき、自然電位が高い表面処理層側より、腐食されやすい回路の底部が優先的にエッチングされ、回路の上部トップ部の幅が表面処理を施さない場合よりも広く残り、エッチングファクターが高い回路を形成することができる。これにより銅の不必要部分が除去されて、次いでエッチングレジストを剥離除去して回路パターンを露出することができる。積層体に回路パターンを形成するために用いるエッチング液に対しては、表面処理層のエッチング速度は、銅よりも十分に小さいためエッチングファクターを改善する効果を有する。エッチング液は、塩化第二鉄系又は塩化第二銅系のエッチング液等を用いることができる。また、表面処理層を形成する前に、あらかじめ銅箔基材表面に耐熱層を形成しておいてもよい。上述のように表面処理層側からエッチングされて形成されたプリント配線板の積層体表面の回路は、レジスト及び積層体の界面近傍のサイドエッチングが抑制されて、良好なファインピッチ回路に形成することができ、30μmピッチ以下でエッチングファクターが3以上、好ましくは4以上の回路とすることができる。以下、本発明の実施例を示すが、これらは本発明をより良く理解するために提供するものであり、本発明が限定されることを意図するものではない。例1:実施例1~10、12~19メッキ銅層への表面処理層の形成実施例1~10、12~19のメッキ銅層として、厚さ8μmのメタライジングCCLJX日鉱日石金属製マキナス、銅層側Ra0.01μm、タイコート層の金属付着量Ni1780μgdm2、Cr360μgdm2を用意した。メッキ銅層の表面に付着している薄い酸化膜を逆スパッタにより取り除き、Au、Pd、Pt、Co、Ni、Cr、Mo、Sn、V、Zn又はこれらの合金のターゲットを以下の装置及び条件でスパッタリングすることにより、メッキ銅層表面に表面処理層を形成した。スパッタリングに使用した各種金属の単体は純度が3Nのものを用いた。また、NiVVは7質量、NiZnZnは20質量、NiSnSnは20質量等を具体的な合金ターゲットとして用いた。装置:バッチ式スパッタリング装置アルバック社、型式MNS-6000到達真空度:1.0×105Paスパッタリング圧:0.2Pa逆スパッタ電力:50W逆スパッタ時間:以下の条件1~3のいずれか条件115秒条件260秒条件3300秒スパッタリング電力:50W成膜速度:各ターゲットについて一定時間約0.2μm成膜し、3次元測定器で厚さを測定し、単位時間当たりのスパッタレートを算出した。<付着量の測定>表面処理層のAu、Pd、Pt、Niの付着量測定は、王水で銅層の半分程度を溶解させ、その溶解液を希釈し、原子吸光分析法で行った。<自然電位の測定>積層体の自然電位は、1cm×1cmの範囲の測定部を除いて全てマスキングし、下記条件の腐食液中に浸漬した後、測定した。自然電位はガルバノポテンショスタットを用いて測定し、その変化を経過時間で追った。塩化第二銅水溶液濃度:2.0mol/L塩酸2.3mol/L液温:50°C攪拌:なし測定電極:Ag/AgCl電極極間距離:3cmエッチングによる回路形状銅箔の表面処理層が形成された面に感光性レジスト塗布及び露光工程により10本の18μm幅の回路を印刷し、銅箔の不要部分を除去するエッチング処理を以下の条件で実施した。<エッチング条件>エッチングは、下記の条件でスプレーエッチング装置を用いて行った。塩化第二銅水溶液2.0mol/L塩酸2.3mol/Lスプレー圧:0.2MPa液温:50°C30μmピッチ回路形成レジストL/S=18μm/12μm仕上がり回路ボトム底部幅:12μmエッチング時間:20~70秒エッチング終点の確認:時間を変えてエッチングを数水準行い、光学顕微鏡で回路間に銅が残存しなくなるのを確認し、これをエッチング時間とした。エッチング後、45°CのNaOH水溶液100g/Lに1分間浸漬させてレジストを剥離した。<エッチングファクターの測定条件>エッチングファクターは、末広がりにエッチングされた場合ダレが発生した場合、回路が垂直にエッチングされたと仮定した場合の、銅層からの垂線と樹脂基板との交点からのダレの長さの距離をaとした場合において、このaと銅層の厚さbとの比:b/aを示すものであり、この数値が大きいほど、傾斜角は大きくなり、エッチング残渣が残らず、ダレが小さくなることを意味する。図1に、回路パターンの一部の表面写真と、当該部分における回路パターンの幅方向の横断面の模式図と、該模式図を用いたエッチングファクターの計算方法の概略とを示す。このaは回路上方からのSEM観察により測定し、エッチングファクターEF=b/aを算出した。このエッチングファクターを用いることにより、エッチング性の良否を簡単に判定できる。さらに、傾斜角θは上記手順で測定したa及び銅層の厚さbを用いてアークタンジェントを計算することにより算出した。これらの測定範囲は回路長600μmで、12点のエッチングファクター、その標準偏差及び傾斜角θの平均値を結果として採用した。例2:実施例11実施例11として例1の手順で銅層の酸化物を取り除き、NiV層を形成した後に、Pd層をスパッタリングにより形成した。その後、エッチング性を評価した。例3:比較例1比較例1ブランク材として、8μm厚のメタライジングCCLJX日鉱日石金属製マキナス、銅層側Ra0.01μm、タイコート層の金属付着量Ni1780μgdm2、Cr360μgdm2を準備した。次に、銅層に感光性レジスト塗布及び露光工程により10本の回路を印刷し、さらに銅層の不要部分を除去するエッチング処理を実施した。例4:比較例2~68μm厚のメタライジングCCLJX日鉱日石金属製マキナス、銅層側Ra0.01μm、タイコート層の金属付着量Ni1780μgdm2、Cr360μgdm2を準備し、例1と同じ手順で銅層表面に種々の金属で構成された表面処理層をスパッタリングで形成し、エッチングで回路を形成した。例1~4の各測定条件及び測定結果を表1~2に示す。なお、回路の断面形状は、正確には斜辺が直線である台形ではない。表には実施例及び比較例の回路の傾斜角が記載されているが、これはあくまで図1に示した定義式によって算出した値である。評価実施例1~19は、いずれも測定開始時の自然電位がメッキ銅層の自然電位より30mV以上高く、且つ、測定開始から100秒以内で測定開始時の自然電位の20以下まで低下しており、エッチングファクターが大きく、矩形方に近い断面の回路を形成することができた。表面処理が施されていない比較例1は、裾引きが大きい回路となった。比較例2~6は、いずれも測定開始時の自然電位がメッキ銅層の自然電位より30mV高くなっておらず、エッチングファクターが小さく、矩形方に近い断面の回路を形成することができなかった。図3に、実施例1及び比較例4の自然電位を測定した結果のグラフをそれぞれ示す。