"アルミノシリケートを、酸性溶液とケイ酸塩溶液に接触させることを特徴とする、炭素数が2~50の飽和炭化水素の接触分解による不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。炭素数2~50の飽和炭化水素がナフサに含有されているものである請求項1に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。酸性溶液とケイ酸塩溶液をこの順序でアルミノシリケートに接触させる請求項1または2に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。ケイ酸塩溶液と酸性溶液をこの順序でアルミノシリケートに接触させる請求項1または2に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。前記ケイ酸塩溶液のpHが7~13である請求項1~4のいずれか1項に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。前記酸性溶液が有機酸の水溶液である請求項1~5のいずれか1項に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。前記アルミノシリケートが、10員環もしくは12員環構造を有する請求項1~6のいずれか1項に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。前記アルミノシリケートが、MFI型ゼオライトもしくはBEA型ゼオライトである請求項1~7のいずれか1項に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。前記アルミノシリケートにPt、Pd、Ni、アルカリ金属、アルカリ土類金属の少なくとも一種を担持する工程を含む請求項1~8のいずれか1項に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。前記ケイ酸塩溶液との接触の前に前記アルミノシリケートに対する金属担持工程が行われる請求項9に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。請求項1~10のいずれか1項に記載の方法で製造された不飽和炭化水素製造用触媒を用いてナフサを接触分解させることを特徴とする、不飽和炭化水素の製造方法。上述のように、ナフサの接触分解反応プロセスでは、反応温度の低下と選択率向上を図る目的で固体酸触媒を用いた反応を行うことが想定されている。ただし、その利用においては、触媒の劣化抑制が課題となっている。触媒劣化の原因としては、反応中に触媒上への炭素蓄積による失活や、触媒構造の変化に伴う失活が挙げられる。本発明はこうした課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ナフサの接触分解に用いられる触媒の劣化を抑制し、当該触媒の長寿命化を図る技術の提供にある。本発明者らは、上記課題に対して鋭意検討した結果、ナフサの接触分解用触媒の外表面を不活性化することにより、触媒への炭素蓄積を抑制し、触媒劣化を抑制する触媒の製造方法以下、触媒の調製方法ということがあるを見出し、本発明を完成させるに至った。本発明のある態様は、ナフサやナフサの主成分である炭素数2~50の飽和炭化水素の接触分解による不飽和炭化水素製造用触媒であるアルミノシリケート触媒を酸性溶液と、ケイ酸塩溶液を接触させることでケイ酸化合物を触媒の外表面に沈着させ、外表面の酸触媒活性を不活性化することを特徴とする。即ち、本発明は以下の[1]~[11]に関する。[1]アルミノシリケートを、酸性溶液とケイ酸塩溶液に接触させることを特徴とする、炭素数2~50の飽和炭化水素の接触分解による不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。[2]炭素数2~50の飽和炭化水素がナフサに含有されているものである[1]に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。[3]酸性溶液とケイ酸塩溶液をこの順序でアルミノシリケートに接触させる[1]または[2]に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。[4]ケイ酸塩溶液と酸性溶液をこの順序でアルミノシリケートに接触させる[1]または[2]に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。[5]前記ケイ酸塩溶液のpHが7~13である[1]~[4]のいずれかに記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。[6]前記酸性溶液が有機酸の水溶液である[1]~[5]のいずれかに記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。[7]前記アルミノシリケートが、10員環もしくは12員環構造を有する請求項[1]~[6]のいずれかに記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。[8]前記アルミノシリケートが、MFI型ゼオライトもしくはBEA型ゼオライトである[1]~[7]のいずれかに記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。[9]前記アルミノシリケートにPt、Pd、Ni、アルカリ金属、アルカリ土類金属の少なくとも一種を担持する工程を含む[1]~[7]のいずれかに記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。[10]前記ケイ酸塩溶液との接触の前に前記アルミノシリケートに対する金属担持工程が行われる[1]~[9]に記載の不飽和炭化水素製造用触媒の製造方法。[11][1]~[10]のいずれかに記載の方法で製造された不飽和炭化水素製造用触媒を用いてナフサを接触分解させることを特徴とする、不飽和炭化水素の製造方法。本発明によれば、ナフサの接触分解に用いられる触媒の劣化を抑制し、当該触媒の長寿命化を図ることができる。以下に本発明の好ましい実施の形態について説明するが、本発明はこれらの形態のみに限定されるものではなく、本発明の精神とその実施の範囲内において様々な変形が可能であることを理解されたい。本発明の製造方法で得られる触媒は、炭素数が2~50の飽和炭化水素を接触分解して不飽和炭化水素を製造するための触媒として用いることができる。特に、ナフサ、即ち沸点範囲が35~180°Cの炭化水素で構成される成分を接触分解し、不飽和炭化水素を製造するための触媒として好適に用いることができる。以下、実施の形態に係る触媒およびその製造方法を具体的に説明する。<アルミノシリケート>本発明の実施の形態に係る触媒はアルミノシリケートを含む。アルミノシリケートは、10員環もしくは12員環構造を有することが好ましく、MFI構造もしくはBEA構造がより好ましい。アルミノシリケートは、SiO2/Al2O3モル比が1~1000であることが好ましく、より好ましくは5~800、最も好ましくは10~500である。アルミノシリケートの形状に制限はない。具体的には、粉末状、球状、ペレット状等が挙げられる。ナフサの接触分解反応の反応形式、反応器などに対応させ、最適な形状を選択すればよい。アルミノシリケートの大きさには特に制限はない。ナフサの接触分解を気相反応用固定床の管状型反応器で行い、球状のアルミノシリケートを用いる場合、その粒子直径は0.05~20mmであることが好ましく、より好ましくは0.2~5mmである。粒子直径が0.05mmより小さいとガスを流通させるときに大きな圧力損失が生じ、有効にガス循環ができなくなるおそれがある。また、粒子直径が20mmより大きいと、触媒内部まで反応ガスが拡散できなくなり、触媒反応効率が低下するおそれがある。アルミノシリケートの細孔構造は、その細孔直径が0.1~1000nmにあることが好ましく、0.3~200nmの間がより好ましい。BET法で測定した比表面積は10~1000m2/gのものが好ましく、50~700m2/gがより好ましい。<ケイ酸塩溶液>ケイ酸塩溶液は、原料アルミノシリケート1gに対して0.001~1000mmolのケイ酸塩を用いて溶液としたものが好ましく、0.01~100mmolがより好ましい。ケイ酸塩としては、常温で溶媒に溶解するものであればよく、溶液で塩基性を呈するものが好ましい。ケイ酸塩のケイ酸としてはオルトケイ酸、メタケイ酸、二ケイ酸、四ケイ酸が挙げられる。ケイ酸塩としてはケイ酸アルカリ金属塩が好ましい。具体的には、メタケイ酸ナトリウムNa2SiO3、メタケイ酸カリウムK2SiO3、オルトケイ酸ナトリウムNa4SiO4、二ケイ酸ナトリウムNa2Si2O5、四ケイ酸ナトリウムNa2Si4O9が挙げられる。溶媒としては、水、メタノール、エタノールなどが挙げられ、水が好適である。<酸性溶液>酸性溶液は、酸性化合物を塩基性ケイ酸塩に対して1~50倍モル用いることが好ましく、より好ましくは2~20倍モルである。酸の化合物には特に制限は無く、塩酸、硝酸などの鉱酸、蟻酸、酢酸、クエン酸などの有機酸など、広範に使用できる。溶媒としては、酸を溶解出来る物であれば特に制限は無いが、水が好適である。<アルミノシリケートと酸性溶液およびケイ酸塩溶液との接触方法>原料のアルミノシリケートを酸性溶液およびケイ酸塩溶液と接触させる方法としては、I大量の溶液に原料アルミノシリケートをしばらく浸漬した後、吸水量分の溶液を含浸させた担体を取り出す方法や、II原料アルミノシリケートの吸水量相当になるように濃度調整した溶液に含浸する方法などが挙げられる。廃液処理量削減の観点からはIIの方法が望ましい。原料アルミノシリケートを酸性溶液およびケイ酸塩溶液に含浸させる時は、逐次的に行ってもよいし、同時に行ってもよい。逐次的に行う場合、酸性溶液に含浸させた後にケイ酸塩溶液に含浸させても良く、逆の順序でも良い。ただし、先にケイ酸塩溶液へ含浸させる場合は、原料アルミノシリケートの結晶構造の崩壊を避けるため、ケイ酸塩溶液のpHを13以下にすることが好ましい。原料アルミノシリケートを酸性溶液およびケイ酸塩溶液を同時に接触させるには酸性溶液とケイ酸塩溶液を混合した溶液に含浸させればよい。この場合、工程が短縮できるメリットがある。しかし、混合溶液の場合、アルミノシリケートへの修飾前に一部の中和反応が進行し、ケイ酸化合物の沈殿を形成することがある。従って、原料アルミノシリケートへのケイ酸塩修飾効率低下を引き起こす可能性があるので、修飾のロスを回避するためにも、酸性溶液とケイ酸塩溶液の反応をアルミノシリケート上で逐次的に行うことがより好ましい。<金属担持アルミノシリケート>原料アルミノシリケートは、炭素蓄積を抑制するための金属や、酸性質制御のための金属が担持された金属担持アルミノシリケートであってもよい。担持される金属としては、白金族元素Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptやニッケル、亜鉛、マンガン、アルカリ金属、アルカリ土類金属が挙げられる。金属元素の担持は、劣化抑制の観点からは、ケイ酸溶液との接触の前後を問わないが、生成物選択率を向上させるためには、ケイ酸溶液との接触前の金属担持がより好適である。担持金属は、酸化状態から還元された金属状態でも、イオン状態でも構わない。担持金属を還元するための還元剤として、ヒドラジンや、水素、エチレン、一酸化炭素などが挙げられる。担持金属と還元剤とを液相または気相で接触させることにより、担持金属を還元することができる。液相還元は、アルコールや炭化水素類を用いた非水系、水系のいずれで行なわれてもよい。還元剤としては、カルボン酸およびその塩、アルデヒド、過酸化水素、糖類、多価フェノール、ジボラン、アミン、ヒドラジンなどが用いられる。カルボン酸およびその塩としてはシュウ酸、シュウ酸カリウム、ギ酸、ギ酸カリウム、クエン酸アンモニウムが例示され、糖類としてはグルコースが挙げられる。好ましい還元剤としてはヒドラジン、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ハイドロキノン、水素化ホウ素ナトリウム、クエン酸カリウムなどが挙げられ、最も好ましい還元剤はヒドラジンである。液相法で還元処理を行う場合は、その温度に特に制限はないが、金属担持アルミノシリケートの温度を0~200°C前後とすることが好ましく、さらに好ましくは10~100°Cである。気相還元に用いる還元剤は、エチレン、プロペン、イソブテンなどのオレフィン、水素ガス、一酸化炭素、アルコール、アルデヒドから選択される。気相還元に用いる還元剤は好ましくは水素ガスである。気相還元では希釈剤として、不活性ガスを加えてもよい。不活性ガスとしては、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素が挙げられる。気相法で還元処理を行う場合は、その温度に特に制限はないが、金属担持アルミノシリケートを30~350°C前後に加熱することが好ましく、さらに好ましくは100~300°Cである。気相法還元処理の処理圧力は、設備の点から0.0~3.0MPaGゲージ圧であることが実用上有利であるが、特にこれに制限されるものではない。より好ましくは0.1~1.5MPaGの範囲である。ガス状還元性物質を流通させる場合、いかなる還元性物質濃度で行ってもよく、必要に応じて窒素、二酸化炭素または希ガスなどを希釈剤として使用することができる。また、気化させた水の存在下に、エチレン、水素等を存在させて、還元を行ってもよい。還元処理された金属担持アルミノシリケートは必要に応じて純水等で洗浄を行う。洗浄は連続、あるいはバッチで行なわれてもよい。洗浄温度は、好ましくは5~200°Cの範囲、より好ましくは15~80°Cの範囲である。洗浄時間には特に制限はない。残存する好ましくない不純物の除去という目的に対して十分な条件を選択すればよい。好ましくない不純物としてはナトリウムや塩素が挙げられる。洗浄後は溶媒を乾燥、除去する。<リンの担持>ナフサの接触分解による不飽和炭化水素の製造は吸熱反応で進行するため、650°C以上の反応温度が必要である。このため、アルミノシリケートからアルミニウムの脱離が進行しやすくなる。アルミノシリケートゼオライトにリンを修飾すると、アルミノシリケート中のAlとPが相互作用して-Al-O-P-のような構造を形成し、アルミニウムの脱離が抑制される。従って、触媒の耐久性向上のためには、リンの修飾が望ましい。リンの化合物としては、リン酸、リン酸二水素アンモニウム、リン酸トリエチル、リン酸鉄など、溶媒に可溶なリン化合物が望ましく、より好ましくはリン酸、リン酸二水素アンモニウムである。<不飽和炭化水素の製造>次に、実施の形態に係る触媒を用いた不飽和炭化水素の製造工程について説明する。当該不飽和炭化水素の製造方法は不飽和炭化水素、特に炭素数が2~10の不飽和炭化水素の製造に適する。炭素数が2~10の不飽和炭化水素としては、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、デセンなどが挙げられる。接触分解するための原料としては炭素数が2~50の飽和炭化水素およびこれらの混合物が挙げられる。好ましくは炭素数4~12、より好ましくは炭素数5~10の飽和炭化水素である。具体的には、エタン、プロパン、ブタン、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロペンタン、シクロヘキサンが挙げられる。工業的には原料としてナフサを用いることができる。ナフサは1気圧での沸点範囲が35~180°Cの炭化水素で構成される成分であり、炭素数5~10の飽和炭化水素の混合物を主成分とする。本発明の実施の形態に係る触媒を用いて原料である炭素数が2~50の飽和炭化水素やナフサを接触分解して、不飽和炭化水素を製造する際の反応温度に特に制限はない。原料を接触分解する際の温度は、好ましくは500~800°Cであり、さらに好ましくは600~750°Cである。また、反応圧力は、設備の点から0.0~10.0MPaGであることが実用上有利であるが、特に制限はない。より好ましくは0.01~0.5MPaGの範囲である。反応系にはナフサ等が原料として供給される。さらに必要に応じて窒素ガス、二酸化炭素、スチームまたは希ガスなどを希釈剤とした反応混合ガスとして供給してもよい。希釈濃度は特に制限されず、目的生成物である不飽和炭化水素が効率よく生産される濃度であればよい。反応混合ガスは、標準状態において、SV=0.01~1000h-1、好適には0.1~100h-1で触媒に供給されることが好ましい。原料ナフサを接触分解させる際の反応形式は、特に制限はない。公知の方法、例えば、固定床、流動床などの形式を採り得る。好ましくは、耐蝕性を有する反応管に実施の形態の触媒を充填した固定床を採用することが、実用上有利である。以下実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお、実施例では解析、分析を容易にするため、ナフサの代わりにナフサの主成分の一つである炭素数が2~50の飽和炭化水素としてノルマルヘキサンの接触分解により不飽和炭化水素を得る場合を例とした。<前処理>各実施例および各比較例で用いた原料アルミノシリケートは、前処理として、550°C、空気下で、10時間焼成を行ったものである。<水>各実施例および各比較例で用いた水は、純水イオン交換水である。<粒子径>各実施例および各比較例で用いた原料アルミノシリケートは、気相流通反応時の差圧等の不均衡を回避するため、篩を用いて250~500μmに整粒した。<原料化合物>ノルマルヘキサン和光純薬工業株式会社製水酸化ナトリウム和光純薬工業株式会社製硝酸アンモニウム和光純薬工業株式会社製酢酸和光純薬工業株式会社製塩化亜鉛和光純薬工業株式会社製塩化白金酸IV6水和物関東化学株式会社製メタケイ酸ナトリウム9水和物和光純薬工業株式会社製ヒドラジン1水和物和光純薬工業株式会社製テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド20質量水溶液TPAOH東京化成工業株式会社製オルトケイ酸テトラエチルTEOS和光純薬工業株式会社製硝酸アルミニウム9水和物和光純薬工業株式会社製リン酸85質量水溶液和光純薬工業株式会社製<吸水量>原料アルミノシリケートの吸水量は以下の方法で求めた。1.原料アルミノシリケート約5gを天秤で計量W1gし、100ccのビーカーに入れる。2.アルミノシリケートを完全に覆うように純水約15mlをビーカーに加える。3.30分間放置する。4.純水からを取り出す。5.アルミノシリケートの表面に付着した水を、表面の光沢がなくなるまで紙タオルで軽く押して、除去する。6.吸水したアルミノシリケートの重さを測定するW2g。7.以下の式から吸水率を算出する。吸水率g/g=W2-W1/W1したがって、アルミノシリケートの吸水量gは吸水率g/g×使用したアルミノシリケートの重量gにより計算される。実施例1テトラプロピルアンモニウムヒドロキシドTPAOH20質量水溶液254.2g、オルトケイ酸テトラエチルTEOS208.3gを混合し、水溶液Aを得た。この水溶液Aを80°Cにて24時間攪拌した後、硝酸アルミニウム9水和物15.0g、水酸化ナトリウム8.0gを150mlの水に溶解して得た水溶液Bを加え、25°Cで1時間攪拌した。その後、テフロン登録商標内筒オートクレーブに移し、170°Cで24時間水熱合成を行った。得られた化合物を水で洗浄濾過後、550°Cで10時間焼成し、Na-ZSM-5Aを得た。原料組成は、TEOS:TPAOH:AlNO33:NaOH:H2O=1.00:0.25:0.04:0.20:8.3モル比となるように調製した。SiO2/Al2O3モル比=34であった。Na-ZSM-5Aに対して、酢酸が1.6mmol/gとなるように調整した酢酸水溶液で、Na-ZSM-5Aの吸水量に相当する水1.1gにNa-ZSM-5A2.0gを含浸した。更にメタケイ酸ナトリウムが0.2mmol/gとなるように調整したメタケイ酸ナトリウム水溶液10.1gに含浸させ、水で洗浄濾過後、550°Cで10時間焼成して、化合物Aを得た。化合物Aを、1Mの硝酸アンモニウム水溶液を用いてイオン交換し、550°Cで焼成して化合物Bを得た。その後、P:Al=0.5:1.0モル比となるように調整したリン酸85質量水溶液に含浸させ、100°Cで24時間乾燥後、650°Cで10時間焼成し、整粒して触媒1を得た。比較例1前記のNa-ZSM-5Aを、1Mの硝酸アンモニウム水溶液を用いてイオン交換し、550°Cで焼成してH-ZSM-5Aを得た。その後、P:Al=0.5:1.0モル比となるように調整したリン酸水溶液に含浸させ、100°Cで24時間乾燥後、650°Cで10時間焼成し、整粒して比較触媒1を得た。実施例2原料組成が、TEOS:TPAOH:AlNO33:NaOH:H2O=1.00:0.25:0.025:0.18:8.3モル比となるように調製した以外は実施例1と同様に調製して、Na-ZSM-5Bを得た。SiO2/Al2O3モル比=62であった。Na-ZSM-5Bを、1Mの硝酸アンモニウム水溶液を用いてイオン交換し、550°Cで焼成してH-ZSM-5Bを得た。H-ZSM-5B2.0gに対して、Ptの担持量が0.5wt、Znの担持量が0.3質量となるように調整した塩化白金酸水溶液0.6gおよび塩化亜鉛水溶液0.6gへ含浸させた後、0.13mol/Lのヒドラジン水溶液へ含浸させた。その後、水で洗浄濾過を行い、100°Cで24時間乾燥し、化合物Cを得た。酢酸が化合物C2.0gに対して0.45mmol/gとなるように調整した酢酸水溶液1.2gに含浸させ、更にメタ珪酸ナトリウムが0.07mmol/gとなるように調整したメタ珪酸ナトリウム水溶液10.0gに含浸させ、水で洗浄濾過後、P:Al=0.6:1.0モル比となるように調整したリン酸85質量水溶液に含浸させ、100°Cで24時間乾燥後、650°Cで10時間焼成して触媒2を得た。比較例2化合物Cに対して、P:Al=0.6:1.0モル比となるように調整したリン酸水溶液に含浸させ、100°Cで24時間乾燥後、650°Cで10時間焼成して比較触媒2を得た。実施例3、6、7H-ZSM-5Aに対して、化合物Cを得る工程と同様にPt、Zn修飾操作を行い、化合物Dを得た。化合物D2.0gに対して、酢酸が0.85mmol/gとなるように調整した酢酸水溶液1.2gに含浸させ、更にメタケイ酸ナトリウムが0.11mmol/gとなるように調整したメタケイ酸ナトリウム水溶液10.0gに含浸させた。水で洗浄濾過後、P:Al=0.5:1.0モル比となるように調整したリン酸85質量水溶液に含浸させ、100°Cで24時間乾燥後、650°Cで10時間焼成して触媒3を得た。実施例4化合物Dに対して、酢酸水溶液とメタケイ酸ナトリウム水溶液への含浸順序を逆にした以外は、触媒3と同様に調製して、触媒4を得た。実施例5化合物D2.0gに対して、酢酸が0.85mmol/g、となるように調整した酢酸水溶液1.2gと、メタケイ酸ナトリウムが0.11mmol/gとなるように調整したメタケイ酸ナトリウム水溶液10.0gを混合して、混合溶液Aを得た。この混合溶液Aに化合部Dを含浸させ、水で洗浄濾過後、P:Al=0.5:1.0モル比となるように調整したリン酸85質量水溶液に含浸させ、100°Cで24時間乾燥後、650°Cで10時間焼成して触媒5を得た。比較例3化合物Dに対して、P:Al=0.5:1.0モル比となるように調整したリン酸85質量水溶液に含浸させ、100°Cで24時間乾燥後、650°Cで10時間焼成して比較触媒3を得た。比較例4化合物D2.0gに対して、メタケイ酸ナトリウムが0.11mmol/gとなるように調整したメタケイ酸ナトリウム水溶液1.2gに含浸させ、洗浄濾過後、P:Al=0.5:1.0モル比となるように調整したリン酸85質量水溶液に含浸させ、100°Cで24時間乾燥後、650°Cで10時間焼成して比較触媒4を得た。比較例5化合物D2.0gに対して、酢酸が0.85mmol/g、となるように調整した酢酸水溶液1.2gに含浸させ、水で洗浄濾過後、P:Al=0.5:1.0モル比となるように調整したリン酸水85質量溶液に含浸させ、100°Cで24時間乾燥後、650°Cで10時間焼成して比較触媒5を得た。実施例1~7、比較例1~5の触媒調整法の概要を表1にまとめた。実施例1~7、比較例1~5触媒性能評価触媒1-5、比較触媒1-5のそれぞれ0.36gを、ハステロイ登録商標製反応管内径7mmに充填した。触媒層温度650°C、反応圧力0.01MPaGの条件下で、ノルマルヘキサンをSV=10h-1または6.8h-1で、水蒸気を水蒸気/ノルマルヘキサンS/Oと標記;重量比=0または0.1で導入し、エチレンおよびプロピレンへの転化反応を行った。反応開始1時間後と所定時間17時間、41時間、または47時間経過後に触媒充填層を通過した出口ガスの一部を取り出し、ガスクロマトグラフィー島津製作所製GC-2014ATT、GC-2014AFF、カラムDC-20025onシマライト,ポラパック-N,ポラパック-Qモレキュラーシーブ-5Aシマライト-Q,FFAP25onCWDMCSDB-1-60W-THKCP-AL203/KCLにて組成を分析した。反応開始1時間経過時点でのノルマルヘキサン転化率と、所定時間が経過した時点でのノルマルヘキサン転化率を用いて触媒の劣化特性を評価した。得られた結果を表1に示す。なお、転化率低下量は以下の式を用いて算出された。転化率低下量=転化率1時間経過時-転化率所定時間経過時炭素蓄積量測定反応後の触媒について示差熱熱重量分析TG-DTA測定を行い、触媒上への炭素蓄積量を確認した。測定には示差熱熱重量分析装置リガク製ThermoplusEVOIITG8120を用い、基準物質としてAl2O3を使用した。試料約20mgをPtパンに量りとり、空気を200ml/minで流通させながら、約25°Cから900°Cまで10°C/minで測定を行った。得られた結果を表2に示す。アルミノシリケート外表面の不活性化処理酸性溶液および室温で水や有機溶媒に可溶なケイ素化合物の溶液との接触処理を行った各実施例の触媒は、不活性化処理を施さなかった各比較例の触媒と比べて、ナフサなどの基質の転化率低下量が少なく、劣化が抑制されていることが確認された。また、外表面の不活性化には、ケイ酸塩溶液への処理だけではなく、酸性溶液とケイ酸塩溶液との処理で劣化が抑制されていることが確認された。"