"被検体に核磁気共鳴を起こさせるための高周波磁場を照射するRF照射部と、高周波磁場プリパルスの印加から経過時間を設けて核磁気共鳴信号を取得する信号取得シーケンスを有して成るB1分布計測シーケンスを用いて前記被検体を撮像する撮像部と、前記核磁気共鳴信号を用いて前記被検体の画像を再構成する演算部と、を備え、前記演算部は、前記画像を用いて前記RF照射部の照射磁場分布を求める磁気共鳴撮像装置であって、前記演算部は、前記経過時間の異なる複数の画像を用いて前記照射磁場分布を求めることを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項1記載の磁気共鳴撮像装置において、前記B1分布計測シーケンスは、前記経過時間が異なる複数の信号取得シーケンスを含み、前記演算部は、前記経過時間が異なる複数の信号取得シーケンスでそれぞれ取得された核磁気共鳴信号を用いて、前記経過時間の異なる複数の画像を再構成することを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項1に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記撮像部は、前記高周波磁場プリパルスの印加条件が異なる複数のB1分布計測シーケンスを実行してそれぞれ画像を取得し、前記演算部は、前記高周波磁場プリパルスの印加条件が異なる複数のB1分布計測シーケンスでそれぞれ得られた画像を用いて前記照射磁場分布を求めることを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項3に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記複数のB1分布計測シーケンスの内で、第一のB1分布計測シーケンスは、前記高周波磁場プリパルスを用いずに実行される信号取得シーケンスであり、第二のB1分布計測シーケンスは、前記高周波磁場プリパルスの印加とそれに続く少なくとも2回の信号取得シーケンスを含むことを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項4に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記演算部は、前記第一のB1分布計測シーケンスの信号取得シーケンスで得られた核磁気共鳴信号を再構成した画像の信号強度と、前記第二のB1分布計測シーケンスの複数の信号取得シーケンスでそれぞれ得られた核磁気共鳴信号を再構成した複数の画像の信号強度との比を用いて、行列式を解くことにより、前記照射磁場分布を算出することを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項1に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記撮像部は、複数の断面について、それぞれ前記B1分布計測シーケンスを実行し、前記演算部は、前記複数の断面のそれぞれについて、前記照射磁場分布を求めることを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項6に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記信号取得シーケンスは、マルチスライス撮像シーケンス又は三次元撮像シーケンスであることを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項1に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記撮像部は、前記高周波磁場プリパルスの印加条件が同一の複数の前記B1分布計測シーケンスを含み、該複数のB1分布計測シーケンスで前記画像の再構成に必要な全データを分割して取得することを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項1に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記撮像部は、前記経過時間を異ならせて、前記B1分布計測シーケンスを複数回実行し、前記演算部は、各B1分布計測シーケンスで得られた核磁気共鳴信号を用いて、前記経過時間の異なる複数の画像を再構成することを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項1に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記高周波磁場プリパルスは、フリップ角が90度以上の高周波磁場パルスであることを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項2に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記信号取得シーケンスは、フリップ角が10度以下の高周波磁場パルスを繰り返し印加して前記核磁気共鳴信号を取得することを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項11に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記撮像部は、前記複数の信号取得シーケンスは連続しており、前記高周波磁場パルスは一定の繰り返し時間で印加されることを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項12に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記信号取得シーケンスは、核磁気共鳴信号の取得を伴わない高周波磁場パルスの印加を含むことを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項1に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記演算部は、前記経過時間の異なる複数の画像の信号強度を用いて、連立方程式を解くことにより、前記照射磁場分布を求めることを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項1に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記信号取得シーケンスは、k空間を放射状に走査して前記核磁気共鳴信号を取得するパルスシーケンスであることを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項1に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記演算部は、算出した前記照射磁場分布に基づき、前記RF照射部に供給される高周波磁場の位相と振幅の少なくとも一方を調整することを特徴とする磁気共鳴撮像装置。請求項1に記載の磁気共鳴撮像装置において、前記RF照射部は、複数のチャンネルを有してなり、前記撮像部は、前記チャンネル毎に前記B1分布計測シーケンスを実行して前記被検体を撮像し、前記演算部は、前記チェンネル毎に前記照射磁場分布を求めることを特徴とする磁気共鳴撮像装置。RF照射部を備えた磁気共鳴撮像装置における前記RF照射部の前記照射磁場分布を計測する方法であって、前記RF照射部による高周波磁場プリパルスの印加から経過時間を設けて核磁気共鳴信号を取得する信号取得シーケンスを実行する計測ステップと、前記核磁気共鳴信号を用いて前記被検体の画像を再構成する画像再構成ステップと、前記画像を用いて前記RF照射部の照射磁場分布を求める照射磁場分布算出ステップと、を備え、前記照射磁場分布算出ステップは、前記経過時間の異なる複数の画像を用いて前記照射磁場分布を求めることを特徴とする照射磁場計測方法。請求項18に記載の照射磁場計測方法であって、前記計測ステップは、前記高周波磁場プリパルスの印加から前記経過時間が異なる複数の信号取得シーケンスを実行し、前記画像再構成ステップは、前記経過時間が異なる複数の信号取得シーケンスでそれぞれ取得された核磁気共鳴信号を用いて、前記経過時間の異なる複数の画像を再構成することを特徴とする照射磁場計測方法。請求項19に記載の照射磁場計測方法であって、前記計測ステップは、前記高周波磁場プリパルスを用いずに信号取得シーケンスのみを実行するステップと、前記高周波磁場プリパルスの印加とそれに続く少なくとも2回の信号取得シーケンスを実行するステップと、を含み、前記照射磁場分布算出ステップは、各信号取得シーケンスでそれぞれ得られた核磁気共鳴信号を再構成して得られた複数の画像の信号強度の比を用いて、行列式を解くことにより、前記照射磁場分布を算出することを特徴とする照射磁場計測方法。しかしながら、上述した各手法には次のような問題がある。DoubleAngle法では、T1緩和の影響を除去するために、繰り返し時間TRを一般的には5秒程度の時間に設定する。これにより、単純な計算式によりB1分布の計算が可能であるが、長い撮像時間を要し、撮像時間が約10分以上となることもある。特許文献1及び非特許文献1の技術では、T1値がフィッティングに使用する関数に含まれるため、その影響を除去する必要がなく、比較的短いTRでの撮像が可能であり、撮像時間はDoubleAngle法より短くすることが可能である。しかしフィッティングや信号強度変化の周期を見出すために約20種類のフリップ角で画像を取得する必要があり、依然として撮像時間が長いという問題がある。また計算精度が撮像枚数やフィッティングの精度に依存するため、高精度にB1分布を計算するためにはさらに長い撮像時間が必要となる。非特許文献2の技術では、B1分布計算の基礎となる画像信号の強度変化の周期は、プリパルスのフリップ角のみに依存するため、画像信号を取得するためのパルスシーケンスによっては影響されない。従って、このパルスシーケンスにおけるTRを短く設定することが可能であり、DoubleAngle法に比べ撮像時間を短くすることが可能である。しかし、プリパルスの強度の変化による画像信号の強度の変化の周期を、フィッティングを用いて計算するため、高精度にB1分布を計算するためには、プリパルスのフリップ角を20回以上変化させて撮像する必要があり、依然として撮像時間が長いという問題がある。またB1分布計算には煩雑な計算が必要となる。非特許文献3の技術では、プリパルスの印加からエコー信号取得までの時間を可能な限り短くすることで、高速にB1分布を計算することが可能になるが、計算式がTI=0でしか使えない近似を用いているため、TIを長くした場合、誤差が大きくなるという問題がある。そこで本発明は、短時間で高精度にB1分布を計測することが可能なMRI装置を提供することを目的とする。本発明は、B1分布計測に、プリパルスの印加と信号取得パルスシーケンスとを組み合わせるとともに、プリパルス印加からの経過時間が異なる複数の信号取得パルスシーケンスを実行し、これら複数の信号取得パルスシーケンスの実行によって取得したTIの異なる複数の画像の演算によって、B1を求めるという新規な手法を提案するものである。即ち、本発明のMRI装置は、被検体に核磁気共鳴を起こさせるための高周波磁場を照射するRF照射部と、プリパルスの印加から経過時間を設けてエコー信号を取得する信号取得シーケンスを有して成るB1分布計測シーケンスを用いて被検体を撮像する撮像部と、エコー信号を用いて被検体の画像を再構成する演算部と、を備え、演算部は、画像を用いてRF照射部の照射磁場分布を求めるMRI装置であって、演算部は、経過時間の異なる複数の画像を用いて照射磁場分布を求めることを特徴とする。本発明の照射磁場計測方法は、RF照射部によるプリパルスの印加から経過時間を設けてエコー信号を取得する信号取得シーケンスを実行する計測ステップと、エコー信号を用いて被検体の画像を再構成する画像再構成ステップと、画像を用いてRF照射部の照射磁場分布を求める照射磁場分布算出ステップと、を備え、照射磁場分布算出ステップは、経過時間の異なる複数の画像を用いて照射磁場分布を求めることを特徴とする。本発明によれば、プリパルスと、プリパルス印加からの経過時間が異なる複数の信号取得シーケンスとの組合せにより、極めて短時間で且つ精度の高いRFパルスの磁場分布計測を行うことができる。計測した磁場分布を用いて、RF照射手段を制御することにより、高精度なRFシミングが実現できる。また演算手段が、プリパルス無の画像の信号強度とプリパルス有の画像の信号強度との比を用いて、行列式を解くことにより、照射磁場分布を算出した場合には、B1分布と併せて、T1分布の算出を行うことができる。以下、本発明の実施の形態を説明する。まず本発明が適用されるMRI装置の全体構成について、図面を参照して説明する。図1は、本発明が適用されるMRI装置の一実施形態を示すブロック図である。このMRI装置は、静磁場発生系2と、傾斜磁場発生系3と、送信系5と、受信系6と、信号処理系7と、シーケンサ4と、中央処理装置8とを備えて構成される。静磁場発生系2は、被検体1が置かれる空間に均一な静磁場を発生するものであり、永久磁石方式、常電導方式あるいは超電導方式の静磁場発生源からなる。静磁場発生源は、垂直磁場方式であれば、被検体1の体軸と直交する方向に、水平磁場方式であれば、体軸方向に、均一な静磁場を発生させるように、配置されている。傾斜磁場発生系3は、MRI装置の座標系であるX、Y、Zの直交3軸方向に傾斜磁場を印加する傾斜磁場コイル9と、それぞれの傾斜磁場コイルを駆動する傾斜磁場電源10とから成る。後述のシ-ケンサ4からの命令に従ってそれぞれのコイルの傾斜磁場電源10を駆動することにより、X、Y、Zの3軸方向に所望の傾斜磁場Gx,Gy,Gzを印加することができる。傾斜磁場の印加の仕方によって、被検体の撮像スライスを選択的に励起し、また励起領域から発生するエコー信号に位置情報を加えることができる。シーケンサ4は、RFパルスと傾斜磁場パルスをある所定のパルスシーケンスで繰り返し印加する制御手段で、CPU8の制御で動作し、被検体1の断層画像のデータ収集に必要な種々の命令を送信系5、傾斜磁場発生系3、および受信系6に送る。送信系5は、被検体1の生体組織を構成する原子の原子核スピンに核磁気共鳴を起こさせるために、被検体1にRFパルスを照射するもので、高周波発振器11と変調器12と高周波増幅器13と送信側の高周波コイル14aとから成る。送信コイルは、本実施形態では、複数の給電点を有し、供給される高周波の強度と位相を調整できるように構成されている。高周波発振器11、変調器12及び高周波増幅器13は、各チャンネルに対応して複数備えられている。図では、2つの給電点がある場合を示しているが、給電点の数は2に限定されない。高周波発振器11から出力されたRFパルスをシーケンサ4からの指令によるタイミングで変調器12により振幅変調し、この振幅変調されたRFパルスを高周波増幅器13で増幅した後に被検体1に近接して配置された高周波コイル14aに供給することにより、RFパルスが被検体1に照射される。シーケンサ4からのタイミングと変調器12による変調は、後述するB1分布の計測結果を反映して制御される。受信系6は、被検体1の生体組織を構成する原子核スピンの核磁気共鳴により放出されるエコー信号を検出するもので、受信側の高周波コイル14bと信号増幅器15と直交位相検波器16と、AD変換器17とから成る。送信コイル14aから照射された電磁波によって誘起された被検体1の応答のNMR信号が被検体1に近接して配置された受信コイル14bで検出され、信号増幅器15で増幅された後、シーケンサ4からの指令によるタイミングで直交位相検波器16により直交する二系統の信号に分割され、それぞれがAD変換器17でディジタル量に変換されて、信号処理系7に送られる。なお図1では、送信用の高周波コイルと受信用の高周波コイルが、別個に設けられている構成を示しているが、一つの高周波コイルが送信用及び受信用を兼ねる構成とすることも可能である。信号処理系7は、CPU8と、各種データ処理と処理結果の表示及び保存等を行うもので、光ディスク19、磁気ディスク18等の外部記憶装置と、CRT等からなるディスプレイ20とを有する。受信系6からのデータがCPU8に入力されると、CPU8が信号処理、画像再構成等の処理を実行し、その結果である被検体1の断層画像をディスプレイ20に表示すると共に、外部記憶装置の磁気ディスク18等に記録する。CPU8は、信号処理系7の演算部としての機能のほかに、装置の各要素を制御する制御部としての機能を有し、シーケンサ4を介して、種々のパルスシーケンスを実行させる。パルスシーケンスは、予めプログラムとして組み込まれている。本実施形態では、送信コイルによる照射磁場分布を計測するためのB1分布計測シーケンスを備えている。また信号処理系7は、このB1分布計測シーケンスの計測結果を用いて、B1分布の計算や送信コイルに与えられる高周波パルスの位相や振幅の計算を行い、この計算結果に基づき、送信コイルに与えられる高周波パルスの位相や振幅を制御する。操作部25は、MRI装置の各種制御情報や上記信号処理系7で行う処理の制御情報を入力するもので、トラックボール又はマウス23、及び、キーボード24から成る。この操作部25はディスプレイ20に近接して配置され、操作者がディスプレイ20を見ながら操作部25を通してインタラクティブにMRI装置の各種処理を制御する。なお、図1において、送信側の高周波コイル14aと傾斜磁場コイル9は、被検体1が挿入される静磁場発生系2の静磁場空間内に、垂直磁場方式であれば被検体1に対向して、水平磁場方式であれば被検体1を取り囲むようにして設置されている。また、受信側の高周波コイル14bは、被検体1に対向して、或いは取り囲むように設置されている。次に上述したMRI装置において、B1分布計測を行う手順を説明する。図2に手順を示す。まず静磁場空間内に被検体を配置し、目的とする撮像部位が静磁場空間のほぼ中央に位置するように位置決めを行う。次いで、送信コイルのチャンネル毎に、B1分布計測シーケンスを実行し画像を取得する。B1分布計測シーケンスについては、後述する。ステップ202で取得した画像を用いてチャンネル毎のB1分布を算出する。算出したB1分布を用いて、そのチャンネルに印加する高周波パルスの振幅と位相を設定する。その後、ステップ204で設定した条件で、所望の計測を行う。以下、B1分布計測の典型的な実施形態について、詳細に説明する。以下説明する各実施形態において、ステップ201とステップ204以降は共通であり、ステップ202とステップ203について、実施形態毎に説明する。<第一の実施形態><<B1分布計測>>B1分布計測シーケンスは、比較的大きなフリップ角のRFパルスからなるプリパルスと、小さなフリップ角のRFパルスを用いた信号取得シーケンスとの組合せからなり、信号取得シーケンスでは、プリパルス印加後の経過時間が異なる複数の画像を得る。プリパルスと信号取得シーケンスの組み合わせの仕方によって、異なる態様が可能であり、その態様によってB1分布算出が異なる。本実施形態は、プリパルスの印加に引き続き、少なくとも3回の信号取得シーケンスを実行し、各信号取得シーケンスで得た画像から、B1分布を算出することが特徴である。図3は、プリパルス301と信号取得シーケンス303、305、307との関係を示す図で、プリパルス301印加からの経過時間に依存した信号強度の変化を図中上側にグラフで示している。図示するグラフにおいて、横軸はプリパルス印加後の経過時間、縦軸は信号強度である。プリパルス301は、例えば非選択性のRFパルスで、フリップ角の大きい、例えば90度パルスである。このプリパルス301によって励起された原子核スピンが縦緩和している間に、少なくとも3回の信号取得シーケンス303、305、307を実行し、TIの異なる3つのk空間データを取得する。なお、本発明では、プリパルスからの縦緩和が異なるデータを得ることが重要であり、プリパルスの影響が十分に残っている間にすべての信号取得シーケンスが完了するようにTIを設定する。これにより高精度にB1分布の計算を行うことができる。各信号取得シーケンスは、短時間でk空間データを収集できるパルスシーケンスであれば特に限定されず、例えば、図4に示すようなグラディエントエコー系のパルスシーケンスを採用できる。このGrE系シーケンスでは、スライス傾斜磁場パルス402とともに低フリップ角のRFパルス401を印加した後、位相エンコード傾斜磁場403を印加する。同時に読出し傾斜磁場404を印加し、極性の反転した読出し傾斜磁場の印加中にエコー信号405を計測する。最後に位相エンコード方向にリフェイズのための傾斜磁場406を印加する。RFパルス401として、縦磁化に対する影響を少なくするため、好ましくは10度以下、より好ましくは5度以下の低フリップ角パルスを用いる。このパルスシーケンスは、RFパルス401として低フリップ角パルスを用いると共に、位相エンコード方向のリフェイズパルス406を用いているので、繰り返し時間TRを数ms程度にすることができる。RFパルス401からリフェイズ傾斜磁場406までを、位相エンコード傾斜磁場パルス403の強度を変えながら繰り返し、スライス傾斜磁場402によって選択されたスライスのデータを得る。このk空間データは、後述するB1分布の計算に用いるものであり、マトリクスサイズは64×64程度でよい。これにより、極めて短時間、具体的には200ms程度の計測時間で全k空間データを取得することができる。k空間データから形成される画像データのコントラストは、主としてk空間データの中央のデータにより支配されるので、各信号取得シーケンスにおいてk空間データの中心のエコーを計測するタイミングをプリパルス印加からの経過時間とする。図3に示す実施形態では、各信号取得シーケンスはk空間の中央のエコーから計測を開始する所謂セントリックオーダーのパルスシーケンスであり、信号取得シーケンスの開始時点が、それぞれTI1、TI2、TI3である。またこれら経過時間の関係は、本実施形態では、TI2=2×TI1、TI3=3×TI1の関係に設定されている。<<B1分布算出>>次に、図3に示すB1分布計測シーケンスによって得られたk空間データから、B1分布を算出する手法を説明する。最初の信号取得シーケンスで得られたk空間データを逆フーリエ変換することにより得た画像データの、ある注目画素の信号強度Sは式で与えられる。式中、Sseqは、プリパルスの後の信号取得シーケンスによって決まる信号強度を表し、αは設定したプリパルスのフリップ角を表し、TIはプリパルス印加からk空間中心の信号を収集するまでの時間を表し、T1は組織に依存する縦緩和時間を表す。同様に、2番目、3番目の信号取得シーケンスから得られた画像データの注目画素の信号強度は、式、式で表わすことができる。ここでと定義すると、式~式は、式~式のように書くことができる。式~式の連立方程式を解くことにより、式、よりX及びYが求められる。ここで、定義より、X=1-cosであるので、B1は式で計算できる。本実施形態では、TIの異なる少なくとも3回の信号取得シーケンスで得た画像から連立方程式を解くことによってB1分布を求めることができるので、数秒という極めて短い時間でB1分布計測を行うことができる。上述したように、B1分布はTIの異なる複数回の計測結果から連立方程式を解くことによって正確に求めることができ、演算の容易性の点でも好適であるが、複数回の計測結果をフィッティングすることにより、B1分布を算出することも可能である。また本実施形態では、上述した連立方程式を解くために、少なくとも3つの画像が必要であるが、プリパルス印加後のスピン縦緩和時間の範囲であれば、3回以上であってもよい。また複数の信号取得シーケンスのTIは上述した例では整数比としたが、それぞれ異なっていれば良く、整数比以外でもよい。信号取得シーケンスについても、短時間で画像データを取得するものであれば、図4に示すシーケンスに限らず、種々の変更が可能である。例えば、図3に示すTIの異なる3つの信号取得シーケンスを、一定の間隔をあけて実行するのではなく、間隔を設けずに連続して複数の信号取得シーケンスを実行することも可能である。或いは信号取得シーケンスの前後で、エコーを計測することなく、信号取得シーケンスと同じTRでRFパルスを連続して印加することも可能である。これらの変更例では、RFパルスを連続して印加することにより、スピンを定常状態に維持し、信号取得シーケンス内でのコントラスト差が生じるのを抑制することができる。また図4では、一方向の位相エンコードパルスを用いるGrE系のパルスシーケンスを示したが、二軸方向のエンコードパルスを組み合わせてk空間を放射状に走査する所謂ラジアル法のパルスシーケンスを採用することもできる。ラジアル法のパルスシーケンスの一例を図5に示す。この信号取得シーケンスでは、RFパルス501を、スライス傾斜磁場パルス502と共に印加し、次いで、2軸方向にそれぞれ傾斜磁場パルス504、506と、極性の反転した傾斜磁場パルス505、507を印加し、傾斜磁場パルス504、506の印加量と傾斜磁場パルス505、507の印加量の絶対値が同一になった時点でピークとなるグラディエントエコー信号508を計測する。励起からエコー信号を発生させるまでの時間すなわちエコー時間TEは画像コントラストを決めるパラメータであり、撮影の目的に応じて任意に設定できる。計測した1つのエコー信号508をk空間に配置したデータは、k空間の原点を通り、k空間の座標軸に対する角度が2軸の傾斜磁場パルスの印加量によって決まる一列のデータとなる。以上のステップを繰り返し時間TR毎に、2軸方向の傾斜磁場パルスの印加量とその比を異ならせながら回繰り返すことにより、k空間上を回転しながらデータを取得することができる。このパルスシーケンスを採用する場合も、RFパルス501のフリップ角を10度以下とし、TRを数ms程度とすることにより、繰り返し回数を200回とした場合でも、01秒のオーダーで一つのk空間データを取得することができる。ラジアル法のパルスシーケンスでは、各スポークのデータがk空間の中心を通るので、式で表わす信号強度は、全データのうち最初のスポーク取得時から最後のスポーク取得時までの縦緩和の影響を平均した値となるが、上述したとおり、全データの取得時間が短いので、図4の信号取得シーケンスを用いたときと同様に、式~式までの計算により、B1分布を算出することができる。別の変更例として、図4に示す信号取得シーケンスのスライス軸にスライスエンコード傾斜磁場が加えた3Dパルスシーケンスを採用することも可能である。3Dパルスシーケンスを用いることにより、三次元のB1分布を計測することが可能になる。<第二の実施形態><<B1分布計測>>本実施形態では、プリパルス印加からの経過時間が異なる少なくとも2回の画像用信号取得シーケンスと、第一のB1分布計測シーケンスとは異なるプリパルス印加の条件の信号取得シーケンスとを実行することによって取得した、少なくとも3つの画像から、B1分布を算出することが特徴である。図7は、第一のB1分布計測シーケンス710と、第二のB1分布計測シーケンス720との関係を示す図である。第一のB1分布計測シーケンス710は、図3に示す第一の実施形態と同様に、フリップ角が90度以上のRFパルスからなるプリパルス711と、それに続く少なくとも2回の信号取得シーケンス713、715とからなる。ただし、第一の実施形態では、プリパルス711印加後のスピンの縦緩和時間以内に少なくとも3回の信号取得シーケンスを実行したのに対し、本実施形態では、信号取得シーケンス713、715は2回以上であればよい。第二のB1分布計測シーケンス720は、プリパルスを用いない単一の信号取得シーケンス721からなる。図7では、第一のB1分布計測シーケンス710の前に、第二のB1分布計測シーケンス720が配置されているが、図7に示すように、第一のB1分布計測シーケンス710の後の縦緩和時間TD経過後に第二のB1分布計測シーケンス720が配置されていてもよい。信号取得シーケンス713、715及び721は、第一の実施形態と同様に、短時間でk空間データを収集できるパルスシーケンスであれば、種類を問わない。例えば、図4や図5に示すようなGrE系のパルスシーケンスを採用できる。<<B1分布算出>>次に、図7に示すB1計測パルスシーケンスによって得られたk空間データから、B1を算出する手法を説明する。第二のB1分布計測シーケンス720はフリップ角が0度のプリパルスを用いた信号取得シーケンスとみなすことができ、取得した画像の、ある注目画素の信号強度は、式においてα=0°とした、式で与えられる。一方、プリパルス711のフリップ角をαとし、プリパルス711印加からの経過時間TI、TI×2において、k空間の中心データを取得した最初の信号取得シーケンス713、715では、注目画素の信号強度は式、式で与えられる。式及び式を、式、式のように変形し、式を二乗し、式で除算することにより、式によりB1分布が求められる。なお図7に示す例では、第二のB1分布計測シーケンスはプリパルスを用いない信号取得シーケンスで構成されているが、本実施形態は、第一および第二のB1分布計測シーケンスにおけるプリパルスの印加条件が異なっており、少なくとも3つの信号取得シーケンスが実行されればよく、例えば図8に示すように、第一のB1分布計測シーケンス810を、第1のフリップ角のプリパルス811の印加と2つの信号取得シーケンス813、815で、第二のB1分布計測シーケンス820を、第1のフリップ角とは異なる第2のフリップ角のプリパルス821の印加と1つの信号取得シーケンス823で構成することも可能である。第1のフリップ角及び第2のフリップ角との関係は特に限定されないが、例えば、90度と0度、90度と180度などの組み合わせとすることができる。また図において、第一のB1分布計測シーケンス810と第二のB1分布計測シーケンス820とは、順序を入れ替えてもよい。いずれの場合にも、第一の計測と第二の計測との間は、縦緩和時間以上に設定することが望ましく、それによりB1分布計測の精度を向上することができる。本実施形態によれば、非特許文献2記載の技術に比べ、フリップ角の変更を1回で済ませられるため、撮像時間を[2÷]に短縮することができる。また第一実施形態と比較した場合、フリップ角のデータも用いているため、より高精度なB1分布を計測することができる。なおB1分布計測シーケンスを繰り返す場合に、その間隔を短くすると、十分に緩和しない状態で次のプリパルスを印加することとなり、式~式を用いた計算の誤差が大きくなる可能性がある。この問題は、上述したようにTDを縦緩和時間以上に設定することで解決できるが、B1分布計測シーケンスにおける最後の信号取得シーケンスの後に、強制的に縦緩和するRFパルスを追加し、プリパルス印加間隔を短縮することも可能である。強制的に縦緩和させるRFパルスとしては、プリパルスと強度が同じで位相が逆のRFパルスを用いることができ、このような強制縦緩和パルスを用いることで、撮像時間を短縮しても、精度の高いB1分布の計算を行うことができる。<第三の実施形態><<B1分布計測>>本実施形態は、プリパルスを印加しないで信号を取得する基準画像取得シーケンスと、プリパルス印加後に、プリパルス印加からk空間中心の信号を取得するまでの時間TIが異なる複数の信号取得シーケンスを実行し、基準画像とTIの異なる複数の画像を用いた行列演算によってB1分布を算出することが特徴である。図9に、本実施形態におけるプリパルスと、信号取得シーケンスとの関係を示す。図9は、プリパルスと信号取得シーケンスとの関係を示す図7に類似しているが、本実施形態では、信号取得シーケンスは、プリパルスの影響が大きい間に信号を取得する、短TIのシーケンスであり、第一及び第二実施形態では、最初の信号取得シーケンスのTIとそれに続く信号取得シーケンスのTIとの比が整数比であったのに対し、本実施形態では整数比に限らない。信号取得シーケンス903、905、907は、第一実施形態と同様に、図4に示すような短TRのグラディエントエコー系のパルスシーケンスとすることができ、セントリックオーダーであること、またフリップ角を小さく設定することが好ましい。プリパルス901は、非選択性のフリップ角の大きいRFパルスである。基準画像取得シーケンス900は、信号取得シーケンス903等と同じパルスシーケンスであり、撮像時間を短縮するために、プリパルス901を印加する直前に実行することが好ましい。<<B1分布算出>>次に基準画像取得シーケンス900及び信号取得シーケンスで取得した画像を用いたB1分布の算出について説明する。プリパルス印加後にk番目の信号取得シーケンスで取得した信号から再構成した画像の注目画素の信号強度は、k番目のTIをTIkとすると、第一実施形態で示した式と同様の式で与えられる。式中、式と同じ符号は同じ意味を持つ。一方、プリパルスの直前の基準画像取得シーケンスによって得られた画像の同じ注目画素に信号強度は、式においてα=0とした場合と同じであるため、式と同一の式で与えられる。式を式で除算し、自然対数を取ると、式のように、logとの線形結合で表わすことができる。各信号取得シーケンスから得られたTIの異なる画像について同様の計算をすると、式の連立方程式が得られる。ここで、Sは1×nの行列、Aは2×nの行列、Xは1×2の行列である。WiはそれぞれのTIに対する重みを示し、任意に設定することができる。行列Aの擬似逆行列pinvAを左から掛けることで、式を解くことができ、次式、のようにB1及びT1を求めることができる。第一及び第二実施形態は、式~或いは式及びの連立方程式を解くことにより、解を求めるので、解が発散しないためには、プリパルス後の信号取得シーケンスのTIを整数比としていたが、本実施形態では、そのようなTIの制限が要せずに解を求めることができるので、プリパルスの効果が高い、短TIで信号取得でき、計測時間を短縮できるとともに高精度なB1分布を得ることができる。また本実施形態では、B1分布と併せてT1分布を算出することが可能である。算出されたT1分布は、例えば、非特許文献4に記載されているように、骨関節炎の診断等に利用される。なお図9では、プリパルス901の直前に、基準画像取得シーケンス900を実行し、基準画像を取得する場合を説明したが、プリパルス901印加後に十分の時間即ちT1緩和するに十分な時間経過後に、基準信号取得シーケンス900を実行してもよい。図10に、この変更例を示す。図示するように、プリパルス901印加後に異なるTIで信号取得シーケンス903、905、907を実行してTIの異なる画像を取得し、最後にTIを十分長く設定して基準画像取得シーケンス900を実行して基準画像を取得する。この基準画像の信号強度S0は、式で示したように、S0=Sseqと表すことができるので、図9の場合と同様に、式~式により、B1分布及びT1分布を算出することができる。<第四の実施形態>本実施形態は、複数の断面のB1分布計測をマルチスライスの手法で行うことを特徴とする。それ以外は、第一~第三の実施形態と同様であり、異なる点を中心に説明する。図11に本実施形態によるB1分布計測シーケンスの一例を示す。図示するように、B1分布計測シーケンス910は、プリパルス911とそれに続く信号取得シーケンス913、915、917からなる。このB1分布計測シーケンス910は、図3に示すB1分布計測シーケンスと類似しているが、各信号取得シーケンス913、915、917は、互いに直交する3つの断面のうちの一つを、それぞれ選択して行う。即ち、例えば図4に示すシーケンスにおいて、RFパルス401と同時に印加されるスライス選択傾斜磁場402は、信号取得シーケンス毎に異なる軸のスライス傾斜磁場であり、異なる断面が励起される。これにより、各断面の画像は、プリパルス911印加からの経過時間TIが異なることになる。所定の間隔を置いて、同様のB1分布計測シーケンス920、930を繰り返す。その際、各B1分布計測シーケンスに含まれる信号取得シーケンスにおいて選択されるスライスの順序をサイクリックに変更する。例えば、最初のB1分布計測シーケンス910では、アキシャル面、サジタル面、コロナル面とし、次のB1分布計測シーケンス920では、SG→COR→AXの順、その次のB1分布計測シーケンス830では、COR→AX→SGの順とする。これによって、3回目のB1分布計測シーケンス930が終了した時点では、アキシャル面、サジタル面、コロナル面のそれぞれについて、TIの異なる3つの画像データを得ることができる。図9は、複数の断面が互いに直交する3つの断面である場合を示したが、複数の断面が互いに平行な断面の場合にも、各信号取得シーケンスにおけるスライス選択条件を変えることにより、直交3断面の場合と同様に、複数の平行な断面について3組あるいはそれ以上の組の画像データを得ることができる。その後、これら3組のデータを用いて、式~式によりB1分布を算出することは第一の実施形態と同様である。図9に示すB1分布計測シーケンスに代えて、図7又はに示すB1分布計測シーケンスとしてもよく、その場合にも、第二の実施形態と同様に、式~式を用いて、各断面についてB1分布を算出することができる。またプリパルスを印加せずに基準画像を得ることにより、第三の実施形態と同様に式~を用いてB1分布を算出することができる。本実施形態は、複数の断面のB1分布が必要となるRFシミングに有効である。本実施形態によれば、第一~第三の実施形態と比較して、断面の数だけ計測時間が多くなるが、1回のB1分布計測シーケンスによる計測時間がわずか数秒程度であるので、10~30秒程度の短い時間で3断面についてB1分布を計測することができる。<第五の実施形態>本実施形態は、B1分布の計算に用いるk空間データを複数回に分けて計測する。即ちマルチショットによる計測を行うことが特徴である。それ以外は、第一の実施形態~第三の実施形態と同様であり、異なる点を中心に説明する。本実施形態では、図12に示すように、プリパルス101と複数の信号取得シーケンス103、105、107とからなるB1分布計測シーケンス100を複数回行う。各回で同一フリップ角のプリパルス101を用いるが、1回の信号取得シーケンスではk空間データの一部を取得し、複数回で全k空間データを取得するようにする。k空間の分割の仕方は、特に限定されず、図示するように単純に複数の領域に分割してもよいし、それぞれの信号取得シーケンス110、120、130で位相エンコードステップを粗くして計測し、k空間の中心に最も近いデータを常に所定のTIで計測するようにしてもよい。第一~第三の実施形態において、1回で全k空間データを取得する場合には、その中心データを取得するタイミングが、所定のTIとなるように設定されることを説明したが、その場合、k空間データにはTIが異なるデータが含まれることになる。本実施形態では、k空間データを分けて取得するので、k空間データに含まれる、TIが所定のTIと異なるデータの割合を少なくすることができる。その結果、信号取得時間はショット数倍延長することになるが、B1分布計測の精度を向上することができる。本実施形態は、特に、信号取得シーケンスとして、図5に示すようなラジアルシーケンスや図6に示すような3Dパルスシーケンスを採用する場合に、有効である。<第六の実施形態>第一、第二の実施形態では、1回のプリパルスの後に続けてTIの異なる複数の信号取得シーケンスを実行する場合を説明したが、本実施形態は、1回のプリパルス後に1回の信号取得シーケンスを行い、この1回のプリパルスと1回の信号取得シーケンスからなるB1分布計測シーケンスを、信号取得シーケンスのTIを異ならせて繰り返し、TIの異なる複数の画像データを得ることが特徴である。図13に、本実施形態のB1分布計測シーケンスを示す。図13は、第一の実施形態のB1分布計測シーケンスを本実施形態に従い変更した場合、図13は、第二の実施形態のB1分布計測シーケンスを本実施形態に従い変更した場合をそれぞれ示している。図13において、3回のB1分布計測シーケンス1110、1120、1130で用いるプリパルス111及び信号取得シーケンス113、115、117は、3回とも同じであるが、TIのみが異なっている。また図13において、3回のB1分布計測シーケンス1140、1150、1160で用いる信号取得シーケンス114、116、118は同じであるが、1回目のB1分布計測シーケンス1140は、プリパルスを用いてない。また2回目のB1分布計測シーケンス1150と3回目のB1分布計測シーケンス1160は、TIのみが異なっている。前述したように、信号取得シーケンスで用いるRFパルスは、フリップ角が10度以下の低フリップ角パルスであるが、連続して実行した場合には、後続の信号取得シーケンスでは先行する信号取得シーケンスで印加したRFパルスの影響を受ける。本実施形態では、TIの異なる信号取得シーケンスを別個に実行するので、互いのRFパルスによる影響を受けることなく、正確なTIを反映した画像データを得ることができる。またB1分布計測シーケンスの繰り返し回数は3回程度であるので、繰り返しによる計測時間の延長は少なく、図13、のいずれの場合も15秒程度でB1分布に必要なデータの収集を完了することができる。以上、図2に示す本発明のMRI装置の動作のうち、コイルのチャンネル毎に行うB1計測ステップ202およびB1分布計算ステップ203の典型的な実施形態を説明したが、これら実施形態は適宜組み合わせることが可能であり、またパルスシーケンスやその繰り返し回数などは例示したものに限定されず種々の変更が可能である。<<RFパルスの振幅および位相の設定>>次に、ステップ203で算出されたB1分布を用いたRFパルスの調整を説明する。ここでは、RFコイルが複数の小型RFコイルからなるマルチプルアレイコイルであり、小型RFコイル毎に独立して制御できる給電点を持つ場合を説明する。RFコイルのチャンネル数がNとして、各チャンネル毎に求めたB1分布をB1nとし、各小型RFコイルに供給される高周波信号の振幅および位相をAn、φnとしたとき、全体としての磁場分布B1totalは式で表わすことができる。式の振幅及び位相の組を変化させて、磁場分布B1totalとして、均一な磁場分布B1を与える振幅及び位相の組を求める。この計算は、公知の非線形最適化アルゴリズムを用いて解くことができ、例えば、式で求めたB1totalと目標とする磁場分布との平均2乗誤差の平方根を最小化する最適化アルゴリズムを用いて振幅及び位相の組を求めることができる。求めた振幅及び位相の組を各小型RFコイルに設定する。具体的には、シーケンサ4および変調器12により、RFコイルの各チャンネルに供給される高周波パルスの振幅とタイミングとが調整される。ステップ204、205で設定した振幅及び位相を用いて、所望の撮像を行う。なお、ステップ202で計測したB1分布は、計測を行った被検体の部位に依存する。従って、被検体や撮像部位が変化した場合には、B1分布の再計測を行うことが好ましい。被検体や撮像部位の変更を含む手順を図14に示す。図14中、図2と同じステップは同じ符号で示している。このフローでは、撮像部位や被検体が変わったタイミングで、ステップ201に戻り、B1分布の計測と、その結果を反映した各小型RFコイルの振幅及び位相の設定を行う。このように被検体や撮像部位が変わったときのみにB1分布計測を行うことにより、B1分布計測の回数を少なくすることができ、検査のスループットを向上させることができる。なお、以上の実施形態では、RFコイルがマルチプルアレイコイルである場合を説明したが、RFコイルとして独立した複数のRFコイルを用いる場合にも同様に適用することができる。また図2および図14に示すフローでは、複数のチャンネルからなる照射コイルについて、チャンネル毎にB1分布を計測する場合を示したが、2以上のチャンネルを組み合わせてB1分布を取得することも可能である。例えば、4チャンネルの照射コイルの場合、3チャンネルの組合せを異ならせて、4回の画像取得を行う。それにより、3チャンネルのB1分布の合成したB1分布が式により算出される。例えば、4回のB1分布計測で得られるB1分布は次式~のようになる。B11=B1aB1bB1cB12=B1bB1cB1dB13=B1aB1cB1dB14=B1aB1bB1dよってこれら式から、次式~により各チャンネルのB1a~B1dを求めることができる。B1a={-2B12}3B1b={-2B13}3B1c={-2B14}3B1d={-2B11}3各チャンネルのB1分布を求めた後のステップ204は、上述したとおりである。また2チャンネルだけを用いてRFシミングを行う場合には、用いる2チャンネルを組み合わせて画像を取得してもよい。また以上の実施形態では、B1分布計測の結果を用いて、RFコイルの位相と振幅を調整する場合を説明したが、本発明の特徴の一つは、B1分布計測の手法すなわち特定のB1分布計測シーケンスを備えたMRI装置であることに特徴があり、計測したB1分布を用いてRFコイルの位相と振幅を調整する代わりに、B1分布を用いて、撮像シーケンスにより収集したデータを補正することも可能である。その場合、単独のRFコイルについても本発明を適用することができる。さらに計算したB1分布は、RFシミングに用いるのではなく、T2分布を取得するときの後処理として、B1不均一に起因するT2値の誤差を補正するのに用いることも可能である。B1分布を用いたT2値の補正については、例えば、非特許文献5に記載されている。以上の各実施形態の説明で明らかになった本発明の特徴を纏めると以下のようになる。即ち、本発明のMRI装置は、被検体に核磁気共鳴を起こさせるための高周波磁場を照射するRF照射部と、高周波磁場プリパルスの印加から経過時間を設けて核磁気共鳴信号を取得する信号取得シーケンスを有して成るB1分布計測シーケンスを用いて前記被検体を撮像する撮像部と、核磁気共鳴信号を用いて被検体の画像を再構成する演算部と、を備え、演算部は、画像を用いてRF照射部の照射磁場分布を求めるものであって、演算部は、経過時間の異なる複数の画像を用いて前記照射磁場分布を求めることを特徴とする。好ましくは、B1分布計測シーケンスは、経過時間が異なる複数の信号取得シーケンスを含み、演算部は、経過時間が異なる複数の信号取得シーケンスでそれぞれ取得された核磁気共鳴信号を用いて、経過時間の異なる複数の画像を再構成する。また好ましくは、撮像部は、高周波磁場プリパルスの印加条件が異なる複数のB1分布計測シーケンスを実行してそれぞれ画像を取得し、演算部は、高周波磁場プリパルスの印加条件が異なる複数のB1分布計測シーケンスでそれぞれ得られた画像を用いて前記照射磁場分布を求める。また好ましくは、複数のB1分布計測シーケンスの内で、第一のB1分布計測シーケンスは、高周波磁場プリパルスを用いずに実行される信号取得シーケンスであり、第二のB1分布計測シーケンスは、高周波磁場プリパルスの印加とそれに続く少なくとも2回の信号取得シーケンスを含む。また好ましくは、演算部は、第一のB1分布計測シーケンスの信号取得シーケンスで得られた核磁気共鳴信号を再構成した画像の信号強度と、第二のB1分布計測シーケンスの複数の信号取得シーケンスでそれぞれ得られた核磁気共鳴信号を再構成した複数の画像の信号強度との比を用いて、行列式を解くことにより、照射磁場分布を算出する。また好ましくは、撮像部は、複数の断面について、それぞれ前記B1分布計測シーケンスを実行し、演算部は、複数の断面のそれぞれについて、照射磁場分布を求める。また好ましくは、信号取得シーケンスは、マルチスライス撮像シーケンス又は三次元撮像シーケンスである。また好ましくは、撮像部は、高周波磁場プリパルスの印加条件が同一の複数の前記B1分布計測シーケンスを含み、該複数のB1分布計測シーケンスで画像の再構成に必要な全データを分割して取得する。また好ましくは、撮像部は、経過時間を異ならせて、B1分布計測シーケンスを複数回実行し、演算部は、各B1分布計測シーケンスで得られた核磁気共鳴信号を用いて、経過時間の異なる複数の画像を再構成する。また好ましくは、高周波磁場プリパルスは、フリップ角が90度以上の高周波磁場パルスである。また好ましくは、信号取得シーケンスは、フリップ角が10度以下の高周波磁場パルスを繰り返し印加して核磁気共鳴信号を取得する。また、好ましくは、撮像部は、複数の信号取得シーケンスは連続しており、高周波磁場パルスは一定の繰り返し時間で印加される。また好ましくは、信号取得シーケンスは、核磁気共鳴信号の取得を伴わない高周波磁場パルスの印加を含む。また好ましくは、演算部は、経過時間の異なる複数の画像の信号強度を用いて、連立方程式を解くことにより、照射磁場分布を求める。また好ましくは、信号取得シーケンスは、k空間を放射状に走査して核磁気共鳴信号を取得するパルスシーケンスである。また好ましくは、演算部は、算出した照射磁場分布に基づき、RF照射部に供給される高周波磁場の位相と振幅の少なくとも一方を調整する。また好ましくは、RF照射部は、複数のチャンネルを有してなり、撮像部は、チャンネル毎にB1分布計測シーケンスを実行して前記被検体を撮像し、演算部は、チェンネル毎に前記照射磁場分布を求める。また、本発明の照射磁場計測方法は、RF照射部を備えた磁気共鳴撮像装置における照射部の前記照射磁場分布を計測する方法であって、RF照射部による高周波磁場プリパルスの印加から経過時間を設けて核磁気共鳴信号を取得する信号取得シーケンスを実行する計測ステップと、核磁気共鳴信号を用いて被検体の画像を再構成する画像再構成ステップと、画像を用いてRF照射部の照射磁場分布を求める照射磁場分布算出ステップと、を備え、照射磁場分布算出ステップは、経過時間の異なる複数の画像を用いて照射磁場分布を求めることを特徴とする。好ましくは、計測ステップは、高周波磁場プリパルスの印加から経過時間が異なる複数の信号取得シーケンスを実行し、画像再構成ステップは、経過時間が異なる複数の信号取得シーケンスでそれぞれ取得された核磁気共鳴信号を用いて、経過時間の異なる複数の画像を再構成する。また好ましくは、計測ステップは、高周波磁場プリパルスを用いずに信号取得シーケンスのみを実行するステップと、高周波磁場プリパルスの印加とそれに続く少なくとも2回の信号取得シーケンスを実行するステップと、を含み、射磁場分布算出ステップは、各信号取得シーケンスでそれぞれ得られた核磁気共鳴信号を再構成して得られた複数の画像の信号強度の比を用いて、行列式を解くことにより、照射磁場分布を算出する。<実施例1>図13に示すB1分布計測シーケンスを用いて、以下のパラメータでTIの異なる3つの画像データを得た。撮像時間は15秒であった。プリパルス:フリップ角90度TR:5000ms位相エンコード数:64TI:150ms、300ms、450msこれら画像データを用いて、B1分布を算出した結果を図15に示す。<実施例2>図13に示すB1分布計測シーケンスを用いて、実施例1と同じパラメータでTIの異なる3つの画像データを得た。撮像時間は15秒であった。これら画像データを用いて、B1分布を算出した結果を図16に示す。これら実施例で得られた結果は、従来法で得られる結果と同等の精度であった。<実施例3>図9に示すB1分布計測シーケンスを用いて、TR及び位相エンコード数は実施例1と同様にし、TI1=50ms、TI2=150msとして、一つの基準画像を含む3つの画像データを得た。撮像時間は、約500msであった。エンコード数を64から32に減らした場合には、さらに撮像時間を350msに短縮することができる。これら画像データを用いて、第三実施形態と同様の計算手法でB1分布を算出した結果を図18に示す。本発明の手法と従来法との計算精度を比較した結果を図19に示す。図中、はDAM、は実施例1、は実施例3をそれぞれ示している。図19の横軸は、送信コイルに設定された実際のフリップ角を示し、縦軸はそれぞれの手法で算出しB1からも求めたフリップ角を示しており、計算の誤差が全くなければ縦軸と横軸は一致し、y=xのグラフとなる。実施例3の手法は最も精度よくB1分布を算出できることがわかる。また撮像時間については、同じ撮像パラメータで計測した場合、DAMでは108分かかるところ、実施例1、2は15秒と大幅に短縮でき、実施例3では500msとさらに短縮できた。"