"放射線源から射出された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の格子に対して格子面内方向に相対的に傾斜し、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽してモアレ縞を有する第2の周期パターン像を生成する第2の格子と、複数の画素部が2次元配列され、前記第2の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線検出器と、前記第1の格子または前記第2の格子を複数の走査位置に並進移動させる走査機構と、前記モアレ縞の周期方向に並ぶ所定数の画素部を1グループとするように前記複数の画素部を複数のグループに分けるとともに、前記複数の走査位置で得られる前記各グループ内の画素部の画素値により強度変調信号を構成し、前記強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより位相微分画像を生成する位相微分画像生成部と、を備えることを特徴とする放射線画像撮影装置。前記周期方向に並ぶ画素部の配列ピッチは、前記モアレ縞の1周期をssは2以上の整数等分した値であり、位相微分画像生成部は、前記1周期内のs個の画素部を前記1グループとすることを特徴とする請求項1に記載の放射線画像撮影装置。前記走査位置の数をnnは2以上の整数、前記周期方向に直交する方向への前記第2の格子の格子ピッチをp2とした場合に、前記走査機構による前記第1の格子または前記第2の格子の移動ピッチが、前記第1の周期パターン像に対して前記第2の格子を相対的にp2/s×nだけ移動させる値であることを特徴とする請求項2に記載の放射線画像撮影装置。s=2、n=2であることを特徴とする請求項3に記載の放射線画像撮影装置。前記放射線源と前記放射線検出器との間に被検体を配置せずに行われるプレ撮影において、前記位相微分画像生成部により生成された位相微分画像を補正画像として記憶する補正画像記憶部と、前記放射線源と前記放射線検出器との間に被検体を配置して行われる本撮影において前記位相微分画像生成部により生成された位相微分画像から、前記補正画像記憶部に記憶された補正画像を減算する補正処理部と、を備えることを特徴とする請求項1から4いずれか1項に記載の放射線画像撮影装置。前記第1の格子は、吸収型格子であり、入射した放射線を幾何光学的に投影することにより前記第1の周期パターン像を生成することを特徴とする請求項1から5いずれか1項に記載の放射線撮影装置。前記第1の格子は、吸収型格子または位相型格子であり、入射した放射線にタルボ効果を生じさせて前記第1の周期パターン像を生成することを特徴とする請求項1から5いずれか1項に記載の放射線撮影装置。前記放射線源から放射された放射線を部分的に遮蔽して焦点を分散化するマルチスリットを備えることを特徴とする請求項1から7いずれか1項に記載の放射線撮影装置。放射線源から線源格子を介して射出された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の格子に対して格子面内方向に相対的に傾斜し、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽してモアレ縞を有する第2の周期パターン像を生成する第2の格子と、複数の画素部が2次元配列され、前記第2の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線検出器と、前記線源格子を複数の走査位置に並進移動させる走査機構と、前記モアレ縞の周期方向に並ぶ所定数の画素部を1グループとするように前記複数の画素部を複数のグループに分けるとともに、前記複数の走査位置で得られる前記各グループ内の画素部の画素値により強度変調信号を構成し、前記強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより位相微分画像を生成する位相微分画像生成部と、を備えることを特徴とする放射線画像撮影装置。放射線源から射出された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の格子に対して格子面内方向に相対的に傾斜し、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽してモアレ縞を有する第2の周期パターン像を生成する第2の格子と、複数の画素部が2次元配列され、前記第2の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線検出器と、前記第1の格子または前記第2の格子を複数の走査位置に並進移動させる走査機構と、を備えた放射線画像撮影装置に用いられる画像処理方法において、前記モアレ縞の周期方向に並ぶ所定数の画素部を1グループとするように前記複数の画素部を複数のグループに分けるとともに、前記複数の走査位置で得られる前記各グループ内の画素部の画素値により強度変調信号を構成し、前記強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより位相微分画像を生成することを特徴とする画像処理方法。放射線源から線源格子を介して射出された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の格子に対して相対的に傾斜し、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽してモアレ縞を有する第2の周期パターン像を生成する第2の格子と、複数の画素部が2次元配列され、前記第2の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線検出器と、前記線源格子を複数の走査位置に並進移動させる走査機構と、を備えた放射線画像撮影装置に用いられる画像処理方法において、前記モアレ縞の周期方向に並ぶ所定数の画素部を1グループとするように前記複数の画素部を複数のグループに分けるとともに、前記複数の走査位置で得られる前記各グループ内の画素部の画素値により強度変調信号を構成し、前記強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより位相微分画像を生成することを特徴とする画像処理方法。しかしながら、特願2010-265241号に記載の方法では、単一の画像データから位相微分画像を生成するため、被検体の体動による影響を低減することができるが、モアレ縞の周期方向に画像データを分割するため、位相微分画像は、該周期方向への解像度が低下するといった問題がある。本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、体動による影響の低減と、モアレ縞の周期方向への解像度の低下の抑制とを両立させることを可能とする放射線撮影装置及び画像処理方法を提供することを目的とする。上記目的を達成するために、本発明の放射線撮影装置は、放射線源から射出された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の格子に対して格子面内方向に相対的に傾斜し、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽してモアレ縞を有する第2の周期パターン像を生成する第2の格子と、複数の画素部が2次元配列され、前記第2の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線検出器と、前記第1の格子または前記第2の格子を複数の走査位置に並進移動させる走査機構と、前記モアレ縞の周期方向に並ぶ所定数の画素部を1グループとするように前記複数の画素部を複数のグループに分けるとともに、前記複数の走査位置で得られる前記各グループ内の画素部の画素値により強度変調信号を構成し、前記強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより位相微分画像を生成する位相微分画像生成部と、を備えるものである。前記周期方向に並ぶ画素部の配列ピッチは、前記モアレ縞の1周期をssは2以上の整数等分した値であり、位相微分画像生成部は、前記1周期内のs個の画素部を前記1グループとすることが好ましい。また、前記走査位置の数をnnは2以上の整数、前記周期方向に直交する方向への前記第2の格子の格子ピッチをp2とした場合に、前記走査機構による前記第1の格子または前記第2の格子の移動ピッチが、前記第1の周期パターン像に対して前記第2の格子を相対的にp2/s×nだけ移動させる値であることが好ましい。この場合、下式8に基づいて位相微分画像を生成することが可能である。さらに、s=2、n=2であることが好ましい。この場合、下式7に基づいて位相微分画像を生成することが可能である。前記放射線源と前記放射線検出器との間に被検体を配置せずに行われるプレ撮影において、前記位相微分画像生成部により生成された位相微分画像を補正画像として記憶する補正画像記憶部と、前記放射線源と前記放射線検出器との間に被検体を配置して行われる本撮影において前記位相微分画像生成部により生成された位相微分画像から、前記補正画像記憶部に記憶された補正画像を減算する補正処理部と、を備えることが好ましい。前記第1の格子は、吸収型格子であり、入射した放射線を幾何光学的に投影することにより前記第1の周期パターン像を生成することが好ましい。前記第1の格子は、吸収型格子または位相型格子であり、入射した放射線にタルボ効果を生じさせて前記第1の周期パターン像を生成するものであってもよい。前記放射線源から放射された放射線を部分的に遮蔽して焦点を分散化するマルチスリットをさらに備えることが好ましい。また、本発明の放射線撮影装置は、放射線源から線源格子を介して射出された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の格子に対して格子面内方向に相対的に傾斜し、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽してモアレ縞を有する第2の周期パターン像を生成する第2の格子と、複数の画素部が2次元配列され、前記第2の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線検出器と、前記線源格子を複数の走査位置に並進移動させる走査機構と、前記モアレ縞の周期方向に並ぶ所定数の画素部を1グループとするように前記複数の画素部を複数のグループに分けるとともに、前記複数の走査位置で得られる前記各グループ内の画素部の画素値により強度変調信号を構成し、前記強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより位相微分画像を生成する位相微分画像生成部と、を備えるものである。また、本発明の画像処理方法は、放射線源から射出された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の格子に対して格子面内方向に相対的に傾斜し、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽してモアレ縞を有する第2の周期パターン像を生成する第2の格子と、複数の画素部が2次元配列され、前記第2の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線検出器と、前記第1の格子または前記第2の格子を複数の走査位置に並進移動させる走査機構と、を備えた放射線画像撮影装置に用いられる画像処理方法において、前記モアレ縞の周期方向に並ぶ所定数の画素部を1グループとするように前記複数の画素部を複数のグループに分けるとともに、前記複数の走査位置で得られる前記各グループ内の画素部の画素値により強度変調信号を構成し、前記強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより位相微分画像を生成するものである。さらに、本発明の画像処理方法は、放射線源から線源格子を介して射出された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の格子に対して相対的に傾斜し、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽してモアレ縞を有する第2の周期パターン像を生成する第2の格子と、複数の画素部が2次元配列され、前記第2の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線検出器と、前記線源格子を複数の走査位置に並進移動させる走査機構と、を備えた放射線画像撮影装置に用いられる画像処理方法において、前記モアレ縞の周期方向に並ぶ所定数の画素部を1グループとするように前記複数の画素部を複数のグループに分けるとともに、前記複数の走査位置で得られる前記各グループ内の画素部の画素値により強度変調信号を構成し、前記強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより位相微分画像を生成するものである。本発明によれば、モアレ縞の周期方向に並ぶ所定数の画素部を1グループとするように複数の画素部を複数のグループに分けるとともに、複数の走査位置で得られる各グループ内の画素部の画素値により強度変調信号を構成し、強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより位相微分画像を生成するので、体動による影響の低減と、モアレ縞の周期方向への解像度の低下の抑制とを両立させることができる。図1において、X線撮影装置10は、X線源11、格子部12、X線画像検出器13、メモリ14、画像処理部15、画像記録部16、撮影制御部17、コンソール18、及びシステム制御部19を備える。X線源11は、例えば、回転陽極型のX線管と、X線の照射野を制限するコリメータとを有し、撮影制御部17の制御に基づき、被検体Hに向けてX線を射出する。格子部12は、第1の格子21、第2の格子22、及び走査機構23を備える。第1及び第2の格子21,22は、X線照射方向であるz方向に関してX線源11に対向配置されている。X線源11と第1の格子21との間には、被検体Hが配置可能な間隔が設けられている。X線画像検出器13は、例えば、半導体回路を用いたフラットパネル検出器であり、第2の格子22の背後に、検出面13aがz方向に直交するように配置されている。第1の格子21は、z方向に直交する格子面内の一方向であるy方向に延伸された複数のX線吸収部21a及びX線透過部21bを備えた吸収型格子である。X線吸収部21a及びX線透過部21bは、z方向及びy方向に直交するx方向に交互に配列されており、縞状のパターンを形成している。第2の格子22は、第1の格子21と同様にy方向に延伸され、かつx方向に交互に配列された複数のX線吸収部22a及びX線透過部22bを備えた吸収型格子である。X線吸収部21a,22aは、金Au、白金Pt等のX線吸収性を有する材料により形成されている。X線透過部21b,22bは、シリコンSiや樹脂等のX線透過性を有する材料や空隙により形成されている。第1の格子21は、X線源11から射出されたX線を部分的に通過させて第1の周期パターン像以下、G1像というを生成する。第2の格子22は、第1の格子21により生成されたG1像を部分的に透過させて第2の周期パターン像以下、G2像というを生成する。被検体Hが配置されていない場合において、G1像は、第2の格子22の格子パターンとほぼ一致する。詳しくは後述するが、第2の格子22に対して第1の格子21がz軸周り格子面内方向に僅かに傾斜しており、G2像には、その傾斜角に応じた周期を有するモアレ縞が生じている。X線画像検出器13は、G2像を検出して画像データを生成する。メモリ14は、X線画像検出器13から読み出された画像データを一時的に記憶する。画像処理部15は、メモリ14に記憶された画像データに基づいて位相微分画像を生成し、この位相微分画像に基づいて位相コントラスト画像を生成する。画像記録部16は、位相微分画像と位相コントラスト画像とを記録する。走査機構23は、第2の格子22をx方向に並進移動させ、第1の格子21に対する第2の格子22の相対位置を変更する。走査機構23は、圧電アクチュエータや静電アクチュエータにより構成され、撮影制御部17の制御に基づいて駆動される。メモリ14には、相対位置の変更前後でX線画像検出器13により得られる1組の画像データが記憶される。コンソール18は、操作部18a及びモニタ18bを備えている。操作部18aは、キーボードやマウス等により構成され、X線源11の管電圧、管電流、照射時間等の撮影条件の設定や、本撮影またはプレ撮影のモード選択、撮影実行指示等の操作入力を可能とする。本撮影とは、X線源11と第1の格子21との間に被検体Hを配置した状態で行う撮影モードである。プレ撮影とは、X線源11と第1の格子21との間に被検体Hを配置せずに行う撮影モードである。詳しくは後述するが、プレ撮影は、本撮影で被検体Hにより生じたX線の位相変化を算出するための参照情報と同時に第1及び第2の格子21,22の製造誤差や配置誤差等により生じるバックグランド成分を補正画像として取得するために用いられる。モニタ18bは、撮影条件等の撮影情報や、画像記録部16に記録された位相微分画像及び位相コントラスト画像の表示を行う。システム制御部19は、操作部18aから入力される信号に応じて各部を統括的に制御する。図2において、X線画像検出器13は、入射X線により半導体膜図示せずに生じた電荷を収集する画素電極31と、画素電極31によって収集された電荷を読み出すためのTFTThinFilmTransistor32とを備えた画素部30が2次元状に多数配列されたものである。半導体膜は、例えば、アモルファスセレンにより形成されている。また、X線画像検出器13は、ゲート走査線33、走査回路34、信号線35、及び読み出し回路36を備える。ゲート走査線33は、画素部30の行ごとに設けられている。走査回路34は、TFT32をオン/オフするための走査信号を各ゲート走査線33に付与する。信号線35は、画素部30の列ごとに設けられている。読み出し回路36は、各信号線35を介して画素部30から電荷を読み出し、画像データに変換して出力する。各画素部30の詳細な層構成については、例えば、特開2002-26300号公報に記載されている層構成と同様である。読み出し回路36は、積分アンプ、A/D変換器、補正回路いずれも図示せず等を備える。積分アンプは、各画素部30から信号線35を介して出力された電荷を積分して画像信号を生成する。A/D変換器は、積分アンプにより生成された画像信号を、デジタル形式の画像データに変換する。補正回路は、画像データに対して、暗電流補正、ゲイン補正、リニアリティ補正等を行う。この補正後の画像データがメモリ14に記憶される。X線画像検出器13は、入射X線を半導体膜で直接電荷に変換する直接変換型に限られず、ヨウ化セシウムCsIやガドリウムオキシサルファイドGOS等のシンチレータで入射X線を可視光に変換し、可視光をフォトダイオードで電荷に変換する間接変換型であってもよい。さらに、X線画像検出器13を、シンチレータとCMOSセンサを組み合わせて構成してもよい。図3において、X線源11から照射されるX線は、X線焦点11aを発光点としたコーンビームである。第1の格子21は、タルボ効果が生じず、X線透過部21bを通過したX線を幾何光学的に投影するように構成される。具体的には、x方向へのX線透過部21bの幅を、X線源11から照射されるX線のピーク波長より十分大きな値とし、X線の大部分がX線透過部21bで回折しないようにすることで実現される。X線源11の回転陽極としてタングステンを用い、管電圧を50kVとした場合には、X線のピーク波長は約0.4Åである。この場合には、X線透過部21bの幅を1~10μm程度とすればよい。これにより、G1像は、第1の格子21からz方向下流への距離に依らず、常に第1の格子21の自己像となる。G1像は、X線焦点11aからz方向下流への距離に比例して拡大される。第2の格子22の格子ピッチp2は、前述のように、第2の格子22の格子パターンが第2の格子22の位置におけるG1像に一致するように設定されている。具体的には、第2の格子22の格子ピッチp2は、第1の格子21の格子ピッチp1、X線焦点11aと第1の格子21との間の距離L1、第1の格子21と第2の格子22との間の距離L2と、下式1をほぼ満たすように設定されている。G1像は、被検体HでX線に位相変化が生じて屈折することにより変調される。この変調量には、被検体HでのX線の屈折角φxが反映される。同図には、被検体HでのX線の位相変化を表す位相シフト分布Φxに応じて屈折するX線の経路が例示されている。符号X1は、被検体Hが存在しない場合にX線が直進する経路を示し、符号X2は、被検体Hにより屈折したX線の経路を示している。位相シフト分布Φxは、X線の波長をλ、被検体Hの屈折率分布をnx,zとして、下式2で表される。屈折角φxは、位相シフト分布Φxと、下式3の関係にある。第2の格子22の位置において、X線は、屈折角φxに応じた量だけx方向に変位する。この変位量Δxは、X線の屈折角φxが微小であることに基づいて、近似的に下式4で表される。このように、変位量Δxは、位相シフト分布Φxの微分値に比例する。そして、変位量Δxは、後述する強度変調信号の位相ズレ量ψx被検体Hがある場合とない場合とでの強度変調信号の位相ズレ量と、下式5に示すように関連している。上式3~5から、強度変調信号の位相ズレ量ψxを求めることにより、位相微分画像が得られることが分かる。なお、位相ズレ量ψxに定数を乗じたり加算したりしたものを位相微分画像と定義してもよい。図4において、G1像が第2の格子22に対してz軸周りに僅かに傾斜するように、第1の格子21は、第2の格子22に対してz軸周りに角度θだけ傾斜して配置される。この配置により、G2像には、y方向に下式6で表される周期Tを有するモアレ縞が生じる。X線画像検出器20の画素部30のx方向の大きさをDx以下、主画素サイズDxという、y方向の大きさをDy以下、副画素サイズDyというとする。第2の格子22の傾斜角θは、モアレ周期Tが副画素サイズDyのほぼ整数倍となるように設定されている。本実施形態では、画素部30のy方向への配列ピッチは、モアレ周期Tを2分割した値であり、副画素サイズDyは、モアレ周期Tの半分である。また、主画素サイズDxは、モアレ周期Tとほぼ同一の値である。図5に示すように、1モアレ周期Tに含まれるy方向に配列された2つの画素部30を、第1の画素部30aと第2の画素部30bとに分類し、この1組の第1及び第2の画素部30a,30bを1グループGrとする。1グループGr内の第1及び第2の画素部30a,30bは、1モアレ周期Tを2分割しているため、第1の画素部30aにより得られる第1の画素値I1と、第2の画素部30bにより得られる第2の画素値I2とは、強度変調信号において位相がπだけ異なる2点に相当する。走査機構23は、第1の格子21に対して第2の格子22を、初期位置である第1の走査位置から、x方向に格子ピッチp2の1/4倍の距離p2/4だけ離れた第2の走査位置に並進移動させる。本撮影及びプレ撮影では、第1及び第2の走査位置のそれぞれにおいてX線画像検出器20によりG2像の検出が行われる。第1の走査位置における第1の画素値I1と、第2の走査位置における第1の画素値I1’とは、強度変調信号において位相がπ/2だけ異なる2点に相当する。同様に、第1の走査位置における第2の画素値I2と、第2の走査位置における第2の画素値I2’とは、強度変調信号において位相がπ/2だけ異なる2点に相当する。したがって、各グループGrについて、第1の走査位置における第1及び第2の画素値I1,I2と、第2の走査位置における第1及び第2の画素値I1’,I2’とにより、図6に示すように、1周期分の強度変調信号が構成される。図7において、画像処理部15は、位相微分画像生成部40、補正画像記憶部41、補正処理部42、及び位相コントラスト画像生成部43を備える。位相微分画像生成部40は、本撮影またはプレ撮影においてメモリ14に記憶された1組の画像データをそれぞれ読み出し、後述する方法によって位相微分画像を生成する。プレ撮影時に位相微分画像生成部40により生成された位相微分画像は、補正画像として補正画像記憶部41に記憶される。補正処理部42は、本撮影時に位相微分画像生成部40により生成された位相微分画像から、補正画像記憶部41に記憶された補正画像を減算することにより、位相微分画像を補正する。位相コントラスト画像生成部43は、補正処理部42により補正された位相微分画像をx方向に沿って積分処理することにより位相コントラスト画像を生成する。位相微分画像生成部40は、上記各グループGrについて、図6に示す強度変調信号の位相ズレ量ψxを算出することにより位相微分画像を生成する。この位相ズレ量ψxは、通常の縞走査法と同様な方法により算出可能である。例えば、応用光学光計測入門谷田貝豊彦著丸善株式会社136~138頁に示された位相変調干渉法フリンジスキャン干渉法における位相分布の算出法を適用することができる。本実施形態では、強度変調信号は、位相を0から2πの間で等間隔に4段階変化させた場合に相当するため、位相ズレ量ψxは、下式7を用いて算出される。次に、以上のように構成されたX線撮影装置10の作用を説明する。まず、被検体Hを配置せずに、操作部18aからプレ撮影指示が入力されると、第2の格子22が第1の走査位置にセットされた状態で、X線源11によるX線の照射とともに、X線画像検出器20によるG2像の検出が行われ、X線画像検出器20から出力された画像データがメモリ14に記憶される。そして、走査機構23により、第2の格子22が第2の走査位置にセットされ、同様に、X線源11によるX線の照射とともに、X線画像検出器20によるG2像の検出が行われ、X線画像検出器20から出力された画像データがメモリ14に記憶される。メモリ14に記憶された1組の画像データは、画像処理部15に読み出される。画像処理部15内では、位相微分画像生成部40により上式7に基づく演算が行われ、位相微分画像が生成される。この位相微分画像は、補正画像として補正画像記憶部41に記憶される。プレ撮影は、以上で動作が終了する。プレ撮影は、X線撮影装置10の立ち上げ時等に少なくとも一度行われればよく、本撮影の前に毎回行われる必要はない。次に、被検体HをX線源11と第1の格子21との間に配置して、操作部18aから本撮影指示が入力されると、プレ撮影時と同様に、第2の格子22が第1の走査位置と第2の走査位置とにセットされ、それぞれの位置でX線源11によるX線の照射とともに、X線画像検出器20によるG2像の検出が行われ、X線画像検出器20から出力された1組の画像データがメモリ14に記憶される。この1組の画像データが画像処理部15に読み出され、画像処理部15内では、位相微分画像生成部40により同様に位相微分画像が生成される。この位相微分画像は、補正処理部42に入力される。補正処理部42は、補正画像記憶部41から補正画像を読み出し、入力された位相微分画像から補正画像を減算する。これにより、被検体Hの位相情報のみが反映された位相微分画像が生成される。この補正済みの位相微分画像は、位相コントラスト画像生成部43に入力され、x方向に沿って積分処理がなされることにより、位相コントラスト画像が生成される。この位相コントラスト画像及び補正済みの位相微分画像は、画像記録部16に記録された後、コンソール18に入力され、モニタ18bに表示される。以上の通り、本実施形態では、図4及び図5に示すように1モアレ周期Tの分割数1グループGrの画素部の数は2と少ないため、モアレ縞の周期方向y方向への解像度の低下は最低限に抑えられる。また、縞走査の走査数は2と少ないため、被検体Hの体動の影響が抑えられる。したがって、X線撮影装置10は、体動による影響を低減するとともに、モアレ縞の周期方向への解像度の低下を抑制している。変形例1上記実施形態では、1モアレ周期Tの分割数を2、縞走査の走査数を2としているが、それぞれ2以上の整数であればよく特に限定されない。一般に、1モアレ周期Tの分割数をs、縞走査の走査数をnとした場合には、縞走査時の第2の格子22の移動ピッチをp2/Nここで、N=s×nとし、第2の格子22を第1の走査位置から第nの走査位置まで段階的に移動させればよい。これにより、位相を0から2πの間で等間隔にN段階に変化させてなる強度変調信号が得られる。この場合には、強度変調信号の位相ズレ量ψxは、下式8、9を用いて算出される。ここで、Ikは、位相δkにおける画素値である。変形例2また、上記実施形態及び変形例1では、1モアレ周期Tを等分割し、かつ第2の格子22の移動ピッチをd/Nを満たすように設定しているが、必ずしもこれらの条件を満たす必要はない。これらの条件を満たさない場合には、位相δkは、0から2πの間を等間隔に分割するものではないため、上式9を満たさず、非等間隔の値を取る。この場合には、強度変調信号の位相ズレ量ψxは、最小二乗法の原理に従い、下式10~14を用いて算出することが可能である。以上の通り、従来の縞走査法の場合にはN=s×n回の走査が必要であるのに対して、本発明によればn回の走査で済むため、曝射回数が抑えられ、被検体Hの被曝が軽減される。また、これにより撮影時間が短くなるため、被検体Hの体動による影響が軽減される。一方、走査を行わずに単一の画像データから位相微分画像を生成する特願2010-265241号に記載の方法の場合には、モアレ縞の周期方向の解像度が1/N倍に低下してしまうが、本発明によれば、該方向への解像度の低下は1/s倍で済む。したがって、本発明によれば、走査回数の低減と解像度の向上との両立を図ることができる。特に、n=2、s=2の場合には、2回の走査で4つの値からなる強度変調信号が得られ、最小限の走査回数と最小限の解像度の低下により位相微分画像及び位相コントラスト画像を生成することができる。その他の変形例上記実施形態では、走査機構23は、第2の格子22を複数の走査位置に移動させているが、第2の格子22に代えて、第1の格子21を複数の走査位置に移動させてもよい。第1の格子21を移動させる場合には、第1の格子21の移動に伴うG1像に対する第2の格子22の相対的な移動量が上記関係を満たすように移動制御すればよい。例えば、G1像に対する第2の格子22のx方向への相対的な移動ピッチをp2/4とするには、第1の格子21のx方向への移動ピッチをp1/4とすればよい。また、上記実施形態では、第2の格子22のX線吸収部22aの延伸方向をy方向とし、これに対して第1の格子21のX線吸収部21aの延伸方向を角度θだけ傾斜させているが、逆に、第1の格子21のX線吸収部21aの延伸方向をy方向とし、これに対して第2の格子22のX線吸収部22aの延伸方向を角度θだけ傾斜させてもよい。さらには、y方向に対して、第1の格子21のX線吸収部21aの延伸方向と、第2の格子22のX線吸収部22aの延伸方向とを逆方向に傾斜させ、両者が角度θをなすようにしてもよい。また、上記実施形態では、主画素サイズDxをモアレ周期Tとほぼ同一の値としているが、主画素サイズDxとモアレ周期Tとの関係は特に限定されるものではなく、適宜変更してよい。また、上記実施形態では、被検体HをX線源11と第1の格子21との間に配置しているが、被検体Hを第1の格子21と第2の格子22との間に配置してもよい。また、上記実施形態では、走査機構23は、第2の格子22を格子線に直交する方向x方向に並進移動させているが、本出願人により特願2011-097090号として出願されているように、第2の格子22を格子線に対して傾斜する方向xy平面内でx方向及びy方向に直交しない方向に並進移動させてもよい。この移動方向は、xy平面内で、かつy方向以外であれば、いずれの方向であってもよい。この場合には、第2の格子22の移動のx方向成分に基づいて、走査位置を設定すればよい。第2の格子22を格子線に対して傾斜する方向に並進移動させることにより、走査機構23による各位置への移動に要するストローク移動距離が長くなるため、移動精度が向上するといった利点がある。また、上記第実施形態では、X線源11から射出されるコーンビーム状のX線を射出するX線源11を用いているが、平行ビーム状のX線を射出するX線源を用いることも可能である。この場合には、上式1に代えて、p2=p1をほぼ満たすように第1及び第2の格子21,22を構成すればよい。また、上記実施形態では、X線源11から射出されたX線を第1の格子21に入射させており、X線源11は単一焦点であるが、X線源11の射出側直後に、WO2006/131235号公報等に記されたマルチスリット線源格子を設けることにより、X焦点を分散化してもよい。これより、高出力のX線源を用いることが可能となり、X線量が向上するため、位相微分画像の画質が向上する。マルチスリットの格子線格子溝は、y方向に延伸しており、第1及び第2の格子21,22の少なくとも一方の格子線と平行である。この場合、マルチスリットのx方向への格子ピッチp0は、下式15を満たす必要がある。ここで、距離L1は、マルチスリットから第1の格子21までのz方向への距離を表す。このようにX線源11と第1の格子21の間にマルチスリットを設ける場合には、走査機構23は、第1及び第2の格子21に代えて、マルチスリットを複数の走査位置に移動させてもよい。マルチスリットを移動させる場合には、マルチスリットの移動に伴うG1像に対する第2の格子22の相対的な移動量が上記関係を満たすように移動制御すればよい。例えば、G1像に対する第2の格子22のx方向への相対的な移動ピッチをp2/4とするには、マルチスリットのx方向への移動ピッチをp0/4とすればよい。また、上記実施形態では、第1の格子21が入射X線を幾何光学的に投影するように構成しているが、WO2004/058070号公報等で知られているように、第1の格子21をタルボ効果が生じる構成としてもよい。第1の格子21でタルボ効果を生じさせるためには、X線の空間干渉性を高めるように、小焦点のX線光源を用いるか、上記マルチスリットを用いればよい。また、第1の格子21でタルボ効果を生じさせる場合には、第1の格子21を、吸収型格子に代えて、位相型格子とすることも好ましい。位相型格子は、吸収型格子のX線吸収部をX線位相形成部に置換することにより構成される。X線位相形成部は、隣接するX線透過部に対して所定の屈折率差を有する材料空気、樹脂などにより形成される。この位相型格子としては、入射X線にπ/2の位相変調を与えて透過させるものと、入射X線にπの位相変調を与えて透過させるものとが知られている。第1の格子21でタルボ効果が生じる場合には、第1の格子21の自己像G1像が、第1の格子21からz方向下流にタルボ距離Zmだけ離れた位置に生じるため、第1の格子21から第2の格子22までの距離L2をタルボ距離Zmとする必要がある。タルボ距離Zmは、第1の格子21の構成とX線のビーム形状とに依存する。第1の格子21が吸収型格子であり、X線源11から射出されるX線がコーンビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式16で表される。ここで、mは正の整数である。また、第1の格子21がX線にπ/2の位相変調を与える位相型格子であり、X線源11から射出されるX線がコーンビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式17で表される。ここで、mは0または正の整数である。また、第1の格子21がX線にπの位相変調を与える位相型格子であり、X線源11から射出されるX線がコーンビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式18で表される。ここで、mは0または正の整数である。また、第1の格子21が吸収型格子であり、X線源11から射出されるX線が平行ビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式19で表される。ここで、mは正の整数である。また、第1の格子21がX線にπ/2の位相変調を与える位相型格子であり、X線源11から射出されるX線が平行ビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式20で表される。ここで、mは0または正の整数である。そして、第1の格子21がX線にπの位相変調を与える位相型格子であり、X線源11から射出されるX線が平行ビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式21で表される。ここで、mは0または正の整数である。本発明は、医療診断用の放射線撮影装置の他に、工業用の放射線撮影装置等に適用することが可能である。また、放射線は、X線以外に、ガンマ線等を用いることも可能である。"