"下記の成分Aに対して、下記の成分Bを添加して、触媒成分を得るオレフィン重合触媒の製造方法において、成分Bは、成分AのBET法で測定される細孔容積の3倍以上の量の炭化水素に溶解または分散させることを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法。成分A:平均粒径5~25μm、かつ細孔容積0.1~3.0ml/gである無機酸化物成分B:周期律表第3~12族の遷移金属化合物下記の成分Aに対して、下記の成分B及び成分Cを添加するオレフィン重合触媒の製造方法において、成分Bは、成分AのBET法で測定される細孔容積の3倍以上の量の炭化水素に溶解または分散させることを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法。成分A:平均粒径5~25μm、かつ細孔容積0.1~3.0ml/gである無機酸化物成分B:周期律表第3~12族の遷移金属化合物成分C:成分Bと反応して、カチオン性錯体を形成する化合物成分Aは、粉体のまま用いることを特徴とする請求項1または2に記載のオレフィン重合触媒の製造方法。成分Aは、炭化水素溶媒によりスラリー化して使用することを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載のオレフィン重合触媒の製造方法。成分Aに成分B及び/又は成分Cを添加した後、炭化水素を除去することを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載のオレフィン重合触媒の製造方法。成分Aは、シリカであることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載のオレフィン重合触媒の製造方法。成分Bは、メタロセン化合物であることを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載のオレフィン重合触媒の製造方法。成分Bは、複素環式芳香族基を置換基に有するメタロセン化合物であることを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載のオレフィン重合触媒の製造方法。成分Cは、アルモキサンであることを特徴とする請求項2~7のいずれか一項に記載のオレフィン重合触媒の製造方法。請求項1~9のいずれか一項に記載の製造方法により得られるオレフィン重合触媒。請求項10に記載のオレフィン重合触媒を用いてオレフィンを重合することを特徴とするオレフィンの重合方法。請求項10に記載のオレフィン重合触媒を用いてオレフィンをスラリー重合することを特徴とするオレフィンの重合方法。本発明の目的は、かかる従来技術の状況に鑑み、特定の粒子径と細孔容積を有する特定構造の無機酸化物を用いたメタロセン担持触媒において、触媒成分のスラリー化工程を改良することにより、高活性で保存安定性に優れるオレフィン重合触媒を製造する方法、得られるオレフィン重合触媒およびオレフィンの重合方法を提供することである。本発明者等は、上記のような従来技術の問題点を解決できる理想的なオレフィン重合触媒成分について鋭意検討した結果、無機酸化物として特定の粒子径と細孔容積を有する特定の性状のシリカなどを用いて、特定の量の炭化水素でスラリー化するという製造工程を経ることで、重合活性が向上したオレフィン重合触媒が得られるという知見に達し本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明の第1の発明によれば、下記の成分Aに対して、下記の成分Bを添加して、触媒成分を得るオレフィン重合触媒の製造方法において、成分Bは、成分AのBET法で測定される細孔容積の3倍以上の量の炭化水素に溶解または分散させることを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法が提供される。成分A:平均粒径5~25μm、かつ細孔容積0.1~3.0ml/gである無機酸化物成分B:周期律表第3~12族の遷移金属化合物また、本発明の第2の発明によれば、下記の成分Aに対して、下記の成分B及び成分Cを添加するオレフィン重合触媒の製造方法において、成分Bは、成分AのBET法で測定される細孔容積の3倍以上の量の炭化水素に溶解または分散させることを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法が提供される。成分A:平均粒径5~25μm、かつ細孔容積0.1~3.0ml/gである無機酸化物成分B:周期律表第3~12族の遷移金属化合物成分C:成分Bと反応して、カチオン性錯体を形成する化合物また、本発明の第3の発明によれば、第1又は2の発明において、成分Aは、粉体のまま用いることを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法が提供される。また、本発明の第4の発明によれば、第1~3のいずれかの発明において、成分Aは、炭化水素溶媒によりスラリー化して使用することを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法が提供される。また、本発明の第5の発明によれば、第1~4のいずれかの発明において、成分Aに成分B及び/又は成分Cを添加した後、炭化水素を除去することを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法が提供される。また、本発明の第6の発明によれば、第1~5のいずれかの発明において、成分Aは、シリカであることを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法が提供される。また、本発明の第7の発明によれば、第1~6のいずれかの発明において、成分Bは、メタロセン化合物であることを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法が提供される。また、本発明の第8の発明によれば、第1~7のいずれかの発明において、成分Bは、複素環式芳香族基を置換基に有するメタロセン化合物であることを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法が提供される。さらに、本発明の第9の発明によれば、第1~8のいずれかの発明において、成分Cは、アルモキサンであることを特徴とするオレフィン重合触媒の製造方法が提供される。一方、本発明の第10の発明によれば、第1~9の発明の製造方法により得られるオレフィン重合触媒が提供される。さらに、本発明の第11の発明によれば、第10の発明のオレフィン重合触媒を用いてオレフィンを重合することを特徴とするオレフィンの重合方法が提供される。また、本発明の第12の発明によれば、第10の発明において、オレフィン重合触媒を用いてオレフィンをスラリー重合することを特徴とするオレフィンの重合方法が提供される。本発明によれば、特定の平均粒径、特定の細孔容積を有する微粒子担体の粉体に、微粒子担体の細孔容積に対して特定の溶媒量で希釈した触媒成分の溶液またはスラリーを添加するので、良好な重合活性を有し、得られるポリマーの粒子性状が良好な担持オレフィン重合触媒を得ることが出来る。また、かかるオレフィン重合触媒を用いることで、効率的にオレフィンを重合して、高品質のポリオレフィンを得ることができる。すなわち、得られるポリオレフィンは、パウダーの流れ性、かさ密度が向上し、また微粉ポリマーの発生が抑制される。次に、本発明のオレフィン重合触媒の製造方法、オレフィン重合触媒およびオレフィンの重合方法を詳細に説明する。すなわち、本発明は、特定の無機酸化物を用いたメタロセン担持触媒の製造方法とそれを用いたオレフィンの重合方法である。1.成分A:無機酸化物本発明の成分Aである無機酸化物としては、周期表1~14族の元素の単独酸化物または複合酸化物が挙げられ、例えば、SiO2、Al2O3、MgO、CaO、B2O3、TiO2、ZrO2、Fe2O3、ZnO、Al2O3-MgO、Al2O3-CaO、SiO2-MgO、SiO2-Al2O3、SiO2-TiO2、SiO2-V2O5、SiO2-Cr2O3、SiO2-TiO2-MgO、Al2O3-MgO-CaO、Al2O3-MgO-SiO2、Al2O3-CuO、Al2O3-Fe2O3、Al2O3-NiOなどの天然または合成の各種単独酸化物または複合酸化物を例示することができる。ここで、上記の式は、分子式ではなく、組成のみを表すものであって、本発明において用いられる複合酸化物の構造および成分比率は特に限定されるものではない。また、無機酸化物として無機ケイ酸塩を用いることも出来る。無機ケイ酸塩としては、粘土、粘土鉱物、ゼオライト、珪藻土などが使用可能である。これらは、合成品を用いてもよいし、天然に産出する鉱物を用いてもよい。粘土、粘土鉱物の具体例としては、アロフェン等のアロフェン族、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイトなどのカオリン族、メタハロイサイト、ハロイサイトなどのハロイサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴライトなどの蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライトなどのスメクタイト族、バーミキュライトなどのバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石などの雲母鉱物、アタパルジャイト、セピオライト、パイゴルスカイト、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、ヒシンゲル石、パイロフィライト、リョクデイ石群などが挙げられる。これらは混合層を形成していてもよい。人工合成物としては、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトなどが挙げられる。これら具体例のうち好ましくは、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイトなどのカオリン族、メタハロサイト、ハロサイトなどのハロサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴライトなどの蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライトなどのスメクタイト族、バーミキュライトなどのバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石などの雲母鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトが挙げられ、特に好ましくはモンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライトなどのスメクタイト、バーミキュライトなどのバーミキュライト鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトが挙げられる。これらの無機ケイ酸塩は、そのまま用いてもよいが、塩酸、硝酸、硫酸などによる酸処理及び/又は、LiCl、NaCl、KCl、CaCl2、MgCl2、Li2SO4、MgSO4、ZnSO4、TiSO42、ZrSO42、Al2SO43などの塩類処理を行ってもよい。該処理において、対応する酸と塩基を混合して反応系内で塩を生成させて処理を行ってもよく、また粉砕や造粒などの形状制御や乾燥処理を行ってもよい。これらの無機ケイ酸塩の中で、SiO2またはAl2O3を主成分とするものが好ましく、さらにはSiO2がより好ましい。また、本発明において用いる無機ケイ酸塩は、少量の水分を吸収していても差し支えなく、少量の不純物を含有していても差し支えない。成分Aとして用いられる無機酸化物は、通常、150~800°C、好ましくは200~650°Cで空気中または窒素、アルゴン等の不活性ガス中で乾燥して用いるのが好ましい。平均粒径は5~25μm、好ましくは8~15μmのものが用いられる。成分Aの無機酸化物の平均粒径が上記の範囲を外れると、触媒活性が低下する傾向がある。また、成分Aの無機酸化物の細孔容積は、0.1~3.0ml/gであり、好ましくは0.5~2.5ml/g、さらに好ましくは1.0~2.0ml/gである。細孔容積が小さ過ぎると、触媒成分が含浸される触媒成分量が減るので、1つの粒子に担持される触媒成分が少なくなり、重合活性が低下する。また、粒子強度も強くなるため、オレフィン重合中に成分Aの崩壊が起こらなくなり、重合が持続しなくなる。また、細孔容積が大き過ぎると、成分Aの粒子強度が不足するため、良好な形状を有するオレフィン重合体が得られなくなる。また、成分Aの無機酸化物のBET法で測定される表面積は、通常150~1000m2/gであり、好ましくは200~700m2/gであり、さらに好ましくは200~500m2/gである。自然落下法により測定されるかさ密度は、通常0.05~0.30g/cm3であり、好ましくは0.08~0.20g/cm3であり、さらに好ましくは0.10~0.18g/cm3である。成分Aの無機酸化物の平均粒径は、通常の粒子径を測定する方法により測定することができる。具体的には、レーザー回折散乱式粒子径分布測定装置を用い、分散溶媒:エタノール、屈折率1.0、形状係数1.0の条件で測定し、メジアン径の値を平均粒径として求めることができる。また、成分Aの無機酸化物の細孔容積、比表面積は、具体的には、次のように測定することができる。即ち、各試料は加熱、減圧下で十分な前処理を行った後、BET測定装置を用いて、液体温度下における窒素の吸着等温線測定を行うことができる。得られた吸着等温線の相対圧0.95での吸着量から細孔容積を、BET多点法解析を実施して比表面積を算出することができる。更に、細孔構造を円筒と仮定することで、式iに従い平均細孔径を算出することができる。この式において、Daveは平均細孔径を、Vtotalは細孔容積を、SBETはBET多点法による比表面積を示す。更に、BJH法解析によりメソ孔分布を求め、指定範囲の細孔容量を算出することができる。Dave=4Vtotal/SBET式iまた、成分Aの無機酸化物のかさ密度は、具体的には、例えば、高さ5cmから自然落下させて20mlの容器に充填させたときのシリカ重量を測定して算出することができる。上記した無機酸化物は、もちろんそのまま用いることもできるが、予備処理としてこれらの担体をトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどの有機アルミニウム化合物やAl-O-Al結合を含む有機アルミニウムオキシ化合物に接触させた後、用いることができる。2.成分B:周期律表第3~12族の遷移金属化合物本発明で使用する成分Bは、周期律表第3~12族の遷移金属化合物である。具体的には、第3~10族の遷移金属ハロゲン化物、第3~6族遷移金属のメタロセン化合物、第4族遷移金属のビスアミド又はビスアルコキシド化合物、第8~10族遷移金属のビスイミド化合物、第3~11族遷移金属のフェノキシイミン化合物が挙げられる。これらの中でも第4族遷移金属のメタロセン化合物が好ましく、具体的には、下記一般式I~VIで表される化合物が使用される。C5H5-aR1aC5H5-bR2bMXYIQC5H4-cR1cC5H4-dR2dMXYIIQ’C5H4-eR3eZMXYIIIC5H5-fR3fZMXYIVC5H5-fR3fMXYWVQC5H5-gR4gC5H5-hR5hMXYVIここで、Qは二つの共役五員環配位子を架橋する結合性基を、Q’は共役五員環配位子とZ基を架橋する結合性基を、QはR4とR5を架橋する結合性基を、Mは周期律表第3~12族遷移金属を、X、Y及びWはそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20の酸素含有炭化水素基、炭素数1~20の窒素含有炭化水素基、炭素数1~20のリン含有炭化水素基又は炭素数1~20の珪素含有炭化水素基を、Zは酸素、イオウを含む配位子、炭素数1~40の珪素含有炭化水素基、炭素数1~40の窒素含有炭化水素基又は炭素数1~40のリン含有炭化水素基を示す。Mは特にTi、Zr、Hf等の第4族遷移金属が好ましい。R1~R5はそれぞれ独立して、炭素数1~20の炭化水素基、ハロゲン基、炭素数1~20のハロゲン含有炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、酸素含有炭化水素基、珪素含有炭化水素基、リン含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基又はホウ素含有炭化水素基を示す。これらの中で、R1~R5の少なくとも1つが複素環式芳香族基であることが好ましい。複素環式芳香族基の中でも、フリル基、ベンゾフリル基、チエニル基、ベンゾチエニル基が好ましく、さらには、フリル基、ベンゾフリル基が好ましい。これらの複素環式芳香族基は、炭素数1~20の炭化水素基、ハロゲン基、炭素数1~20のハロゲン含有炭化水素基、酸素含有炭化水素基、珪素含有炭化水素基、リン含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基又はホウ素含有炭化水素基を有していても良いが、その場合、炭素数1~20の炭化水素基、珪素含有炭化水素基が好ましい。また、隣接する2個のR1、2個のR2、2個のR3、2個のR4、又は2個のR5が、それぞれ結合して炭素数4~10個の環を形成していてもよい。a、b、c、d、e、f、g及びhは、それぞれ0≦a≦5、0≦b≦5、0≦c≦4、0≦d≦4、0≦e≦4、0≦f≦5、0≦g≦5、0≦h≦5、を満足する整数である。2個の共役五員環配位子の間を架橋する結合性基Q、共役五員環配位子とZ基とを架橋する結合性基Q’、及び、R4とR5を架橋するQは、具体的には下記のようなものが挙げられる。メチレン基、エチレン基のようなアルキレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、フェニルメチリデン基、ジフェニルメチリデン基のようなアルキリデン基、ジメチルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジプロピルシリレン基、ジフェニルシリレン基、メチルエチルシリレン基、メチルフェニルシリレン基、メチル-t-ブチルシリレン基、ジシリレン基、テトラメチルジシリレン基のような珪素含有架橋基、ゲルマニウム含有架橋基、アルキルフォスフィン、アミン等である。これらのうち、アルキレン基、アルキリデン基、珪素含有架橋基、及びゲルマニウム含有架橋基が特に好ましく用いられる。上述の一般式I、II、III、IV、V及びVIで表される具体的なZr錯体を下記に例示するが、ZrをHf又はTiに置き換えた化合物も同様に使用可能である。また、一般式I、II、III、IV、V及びVIで示される成分Bは、同一の一般式で示される化合物、又は異なる一般式で示される化合物の二種以上の混合物として用いることができる。一般式Iの化合物ビスシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド、ビスn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド、ビス2-メチルインデニルジルコニウムジクロリド、ビス2-メチル-4,5-ベンゾインデニルジルコニウムジクロリド、ビスフルオレニルジルコニウムジクロリド、ビス4H-アズレニルジルコニウムジクロリド、ビス2-メチル-4H-アズレニルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド、ビス2-メチルビスシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド、ビス2-メチル-4-フェニル-4H-アズレニルジルコニウムジクロリド、ビス2-メチル-4-4-クロロフェニル-4H-アズレニルジルコニウムジクロリド。ビス2-フリルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド、ビス2-フリルインデニルジルコニウムジクロリド、ビス2-フリル-4,5-ベンゾインデニルジルコニウムジクロリド。一般式IIの化合物ジメチルシリレンビス1,1’-シクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス[1,1’-2-メチルインデニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス[1,1’-2-メチル-4-フェニル-インデニル]ジルコニウムジクロリド、エチレンビス[1,1’-2-メチル-4,5-ベンゾインデニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス[1,1’-2-メチル-4H-アズレニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス[1,1’-2-メチル-4-フェニル-4H-アズレニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1,1’-[2-メチル-4-4-クロロフェニル-4H-アズレニル]}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス[1,1’-2-エチル-4-フェニル-4H-アズレニル]ジルコニウムジクロリド、エチレンビス[1,1’-2-メチル-4H-アズレニル]ジルコニウムジクロリド。ジメチルシリレンビス[1,1’-2-フリルシクロペンタジエニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1,1’-[2-2-フリル-4,5-ジメチル-シクロペンタジエニル]}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1,1’-{2-[2-5-トリメチルシリルフリル]-4,5-ジメチル-シクロペンタジエニル}}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1,1’-[2-2-フリルインデニル]}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1,1’-[2-2-フリル-4-フェニル-インデニル]}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1,1’-[2-2-5-メチルフリル-4-フェニル-インデニル]}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1,1’-[2-2-5-メチルフリル-4-4-イソプロピルフェニル-インデニル]}ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデンシクロペンタジエニル9-フルオレニルジルコニウムジクロリド、イソプロピリデンシクロペンタジエニル[9-2,7-t-ブチルフルオレニル]ジルコニウムジクロリド、ジフェニルメチレンシクロペンタジエニル[9-2,7-t-ブチルフルオレニル]ジルコニウムジクロリド、ジフェニルメチレンシクロペンタジエニル9-フルオレニルジルコニウムジクロリド、ジフェニルメチレンシクロペンタジエニル[9-2,7-t-ブチルフルオレニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル9-フルオレニルジルコニウムジクロリド、ジフェニルシリレンシクロペンタジエニル[9-2,7-t-ブチルフルオレニル]ジルコニウムジクロリド。一般式IIIの化合物t-ブチルアミドテトラメチル-η5-シクロペンタジエニル-1,2-エタンジイルジルコニウムジクロライド、メチルアミド-テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル-1,2-エタンジイル-ジルコニウムジクロライド、エチルアミドテトラメチル-η5-シクロペンタジエニル-メチレンジルコニウムジクロライド、t-ブチルアミドジメチル-テトラメチル-η5-シクロペンタジエニルシランジルコニウムジクロライド、t-ブチルアミドジメチルテトラメチル-η5-シクロペンタジエニルシランジルコニウムジベンジル、ベンジルアミドジメチルテトラメチル-η5-シクロペンタジエニルシランジルコニウムジクロライド、フエニルホスフィドジメチルテトラメチル-η5-シクロペンタジエニルシランジルコニウムジベンジル。一般式IVの化合物シクロペンタジエニルフェノキシジルコニウムジクロリド、2,3-ジメチルシクロペンタジエニルフェノキシジルコニウムジクロリド、ペンタメチルシクロペンタジエニルフェノキシジルコニウムジクロリド、シクロペンタジエニル2,6-ジ-t-ブチルフェノキシジルコニウムジクロリド、ペンタメチルシクロペンタジエニル2,6-ジ-i-プロピルフェノキシジルコニウムジクロリド。一般式Vの化合物シクロペンタジエニルジルコニウムトリクロリド、2,3-ジメチルシクロペンタジエニルジルコニウムトリクロリド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジルコニウムトリクロリド、シクロペンタジエニルジルコニウムトリイソプロポキシド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジルコニウムトリイソプロポキシド。一般式VIの化合物エチレンビス7,7’-インデニルジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{7,7’-1-メチル-3-フェニルインデニル}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{7,7’-[1-メチル-4-1-ナフチルインデニル]}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス[7,7’-1-エチル-3-フェニルインデニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{7,7’-[1-イソプロピル-3-4-クロロフェニルインデニル]}ジルコニウムジクロリド。なお、これら具体例の化合物のシリレン基をゲルミレン基に置き換えた化合物も好適な化合物として例示される。メタロセン化合物の特殊な例として、特開平7-188335号公報やJounalofAmericanChemicalSociety,1996、Vol.118,2291に開示されている5員環あるいは6員環に炭素以外の元素を一つ以上含む配位子を有する遷移金属化合物も使用可能である。また、複素環式炭化水素基を置換基として有するメタロセン化合物の例としては、特許第3674509号公報に開示されている。周期律表第4族のビスアミド化合物の好適な例としては、Macromolecules,Vol.29,52411996やJounalofAmericanChemicalSociety,Vol.119,No.16,38301997、JounalofAmericanChemicalSociety,Vol.121,No.24,57981999に開示されている窒素原子に嵩高い置換基を有した架橋型遷移金属化合物を挙げることができる。また、周期律表第4族のビスアルコキシド化合物の好適な例としては、WO87/02370号明細書で開示されている周期律表第4族の遷移金属化合物で、好ましくは二つのアリーロキシ配位子が架橋基により結合し、さらに好ましくは、その架橋基が遷移金属に配位し得る架橋型遷移金属化合物を挙げることができる。さらに周期律表第8~10族遷移金属のビスイミド化合物は、JounalofAmericanChemicalSociety,Vol.117,6414、WO96/23010号明細書やChemicalComunication849頁,JounalofAmericanChemicalSociety,Vol.120,4049、WO98/27124号明細書で開示されている窒素原子に嵩高い置換基を有した架橋型遷移金属ビスイミド化合物を好適な例として挙げることができる。その他、周期律表第3~10族遷移金属のフェノキシイミン化合物の好適な例としては、特開平11-315109号公報で開示されている化合物を挙げることができる。さらに、これらの成分Bは、二種以上の混合物として用いることができる。また、前述した周期律表第3~12族メタロセン化合物と組み合せて複数種を併用することもできる。本発明において、成分Bである周期律表第3~12族の遷移金属化合物としては、メタロセン化合物、中でも複素環式芳香族基を置換基に有するメタロセン化合物であることが好ましい。当該化合物を用いると、本発明の効果を一層優れた形で発揮することができる。また、複素環式芳香族基を置換基に有するメタロセン化合物の中でも、一般式IIの化合物、一般式IIIの化合物、および一般式VIの化合物を用いると更に好ましく、中でも、一般式IIの化合物が最も好ましい。また、フリル基、チエニル基を有するものがさらに好ましい。3.成分C:成分Bと反応してカチオン性錯体を形成する化合物本発明で使用する成分Cは、成分Bと反応してカチオン錯体を形成する化合物である。好ましくは、下記一般式1~4で表される有機アルミニウム化合物、ボラン化合物、ボレート化合物が挙げられる。上記各一般式中、R1は水素原子または炭化水素残基、好ましくは炭素数1~10、特に好ましくは炭素数1~6の炭化水素残基を示す。また、複数のR1はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、pは0~40、好ましくは2~30の整数を示す。上記の式12で表される化合物は、アルミノキサンとも称される化合物であって、これらの中では、メチルアルミノキサン又はメチルイソブチルアルミノキサンが好ましい。上記のアルミノキサンは、各群内および各群間で複数種併用することも可能である。そして、上記のアルミノキサンは、公知の様々な条件下に調製することができる。また、式3で表される化合物は、一種類のトリアルキルアルミニウム又は二種類以上のトリアルキルアルミニウムと、一般式R2BOH2で表されるアルキルボロン酸との10:1~1:1モル比の反応により得ることができる。一般式中、R1及びR2は、炭素数1~10、好ましくは炭素数1~6の炭化水素残基を示す。また、メタロセン化合物Bと反応してカチオン性メタロセン化合物を形成する化合物Cの他の具体例として、ボラン化合物やボレート化合物が挙げられる。上記ボラン化合物をより具体的に示すと、トリフェニルボラン、トリo-トリルボラン、トリp-トリルボラン、トリm-トリルボラン、トリo-フルオロフェニルボラン、トリスp-フルオロフェニルボラン、トリスm-フルオロフェニルボラン、トリス2,5-ジフルオロフェニルボラン、トリス3,5-ジフルオロフェニルボラン、トリス4-トリフルオロメチルフェニルボラン、トリス3,5―ジトリフルオロメチルフェニルボラン、トリス2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボラン、トリスペンタフルオロフェニルボラン、トリスパーフルオロナフチルボラン、トリスパーフルオロビフェニル、トリスパーフルオロアントリルボラン、トリスパーフルオロビナフチルボランなどが挙げられる。これらの中でも、トリス3,5―ジトリフルオロメチルフェニルボラン、トリス2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボラン、トリスペンタフルオロフェニルボラン、トリスパーフルオロナフチルボラン、トリスパーフルオロビフェニルボラン、トリスパーフルオロアントリルボラン、トリスパーフルオロビナフチルボランが好ましく、さらにはトリス2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボラン、トリスペンタフルオロフェニルボラン、トリスパーフルオロナフチルボラン、トリスパーフルオロビフェニルボランがより好ましい化合物として例示される。また、ボレート化合物を具体的に表すと、第1の例は、次の一般式4で示される化合物である。[L1-H][BR6R7X4X5]-式4式4中、L1は、中性ルイス塩基であり、Hは、水素原子であり、[L1-H]は、アンモニウム、アニリニウム、ホスフォニウム等のブレンステッド酸である。アンモニウムとしては、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリn-ブチルアンモニウムなどのトリアルキル置換アンモニウム、ジn-プロピルアンモニウム、ジシクロヘキシルアンモニウムなどのジアルキルアンモニウムを例示できる。また、アニリニウムとしては、N,N-ジメチルアニリニウム、N,N-ジエチルアニリニウム、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムなどのN,N-ジアルキルアニリニウムが例示できる。さらに、ホスフォニウムとしては、トリフェニルホスフォニウム、トリブチルホスホニウム、トリメチルフェニルホスフォニウム、トリジメチルフェニルホスフォニウムなどのトリアリールホスフォニウム、トリアルキルホスフォニウムが挙げられる。また、式4中、R6およびR7は、6~20、好ましくは6~16の炭素原子を含む、同じか又は異なる芳香族又は置換芳香族炭化水素基で、架橋基によって互いに連結されていてもよく、置換芳香族炭化水素基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等に代表されるアルキル基やフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンが好ましい。さらに、X4及びX5は、ハイドライド基、ハライド基、1~20の炭素原子を含む炭化水素基、1個以上の水素原子がハロゲン原子によって置換された1~20の炭素原子を含む置換炭化水素基である。上記一般式4で表される化合物の具体例としては、トリブチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルボレート、トリブチルアンモニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリブチルアンモニウムテトラ3,5-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリブチルアンモニウムテトラ2,6-ジフルオロフェニルボレート、トリブチルアンモニウムテトラパーフルオロナフチルボレート、ジメチルアニリニウムテトラペンタフルオロフェニルボレート、ジメチルアニリニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、ジメチルアニリニウムテトラ3,5-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、ジメチルアニリニウムテトラ2,6-ジフルオロフェニルボレート、ジメチルアニリニウムテトラパーフルオロナフチルボレート、トリフェニルホスホニウムテトラペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルホスホニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリフェニルホスホニウムテトラ3,5-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリフェニルホスホニウムテトラ2,6-ジフルオロフェニルボレート、トリフェニルホスホニウムテトラパーフルオロナフチルボレート、トリメチルアンモニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリエチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルボレート、トリエチルアンモニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリエチルアンモニウムテトラパーフルオロナフチルボレート、トリプロピルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルボレート、トリプロピルアンモニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリプロピルアンモニウムテトラパーフルオロナフチルボレート、ジ1-プロピルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラフェニルボレートなどを例示することができる。これらの中でも、トリブチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルボレート、トリブチルアンモニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリブチルアンモニウムテトラ3,5-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリブチルアンモニウムテトラパーフルオロナフチルボレート、ジメチルアニリニウテトラペンタフルオロフェニルボレート、ジメチルアニリニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、ジメチルアニリニウムテトラ3,5-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、ジメチルアニリニウムテトラパーフルオロナフチルボレートが好ましい。また、ボレート化合物の第2の例は、次の式5で表される。[L2][BR6R7X4X5]-式5式5中、L2は、カルボカチオン、メチルカチオン、エチルカチオン、プロピルカチオン、イソプロピルカチオン、ブチルカチオン、イソブチルカチオン、tert-ブチルカチオン、ペンチルカチオン、トロピニウムカチオン、ベンジルカチオン、トリチルカチオン、ナトリウムカチオン、プロトン等が挙げられる。また、R6、R7、X4及びX5は、前記一般式4における定義と同じである。上記化合物の具体例としては、トリチルテトラフェニルボレート、トリチルテトラo-トリルボレート、トリチルテトラp-トリルボレート、トリチルテトラm-トリルボレート、トリチルテトラo-フルオロフェニルボレート、トリチルテトラp-フルオロフェニルボレート、トリチルテトラm-フルオロフェニルボレート、トリチルテトラ3,5-ジフルオロフェニルボレート、トリチルテトラペンタフルオロフェニルボレート、トリチルテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリチルテトラ3,5-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリチルテトラパーフルオロナフチルボレート、トロピニウムテトラフェニルボレート、トロピニウムテトラo-トリルボレート、トロピニウムテトラp-トリルボレート、トロピニウムテトラm-トリルボレート、トロピニウムテトラo-フルオロフェニルボレート、トロピニウムテトラp-フルオロフェニルボレート、トロピニウムテトラm-フルオロフェニルボレート、トロピニウムテトラ3,5-ジフルオロフェニルボレート、トロピニウムテトラペンタフルオロフェニルボレート、トロピニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トロピニウムテトラ3,5-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トロピニウムテトラパーフルオロナフチルボレート、NaBPh4、NaBo-CH3-Ph4、NaBp-CH3-Ph4、NaBm-CH3-Ph4、NaBo-F-Ph4、NaBp-F-Ph4、NaBm-F-Ph4、NaB3,5-F2-Ph4、NaBC6F54、NaB2,6-CF32-Ph4、NaB3,5-CF32-Ph4、NaBC10F74、HBPh42ジエチルエーテル、HB3,5-F2-Ph42ジエチルエーテル、HBC6F542ジエチルエーテル、HB2,6-CF32-Ph42ジエチルエーテル、HB3,5-CF32-Ph42ジエチルエーテル、HBC10H742ジエチルエーテルを例示することができる。これらの中でも、トリチルテトラペンタフルオロフェニルボレート、トリチルテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリチルテトラ3,5-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トリチルテトラパーフルオロナフチルボレート、トロピニウムテトラペンタフルオロフェニルボレート、トロピニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トロピニウムテトラ3,5-ジトフルオロメチルフェニルボレート、トロピニウムテトラパーフルオロナフチルボレート、NaBC6F54、NaB2,6-CF32-Ph4、NaB3,5-CF32-Ph4、NaBC10F74、HBC6F542ジエチルエーテル、HB2,6-CF32-Ph42ジエチルエーテル、HB3,5-CF32-Ph42ジエチルエーテル、HBC10H742ジエチルエーテルが好ましい。さらに好ましくは、これらの中でもトリチルテトラペンタフルオロフェニルボレート、トリチルテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、トロピニウムテトラペンタフルオロフェニルボレート、トロピニウムテトラ2,6-ジトリフルオロメチルフェニルボレート、NaBC6F54、NaB2,6-CF32-Ph4、HBC6F542ジエチルエーテル、HB2,6-CF32-Ph42ジエチルエーテル、HB3,5-CF32-Ph42ジエチルエーテル、HBC10H742ジエチルエーテルが挙げられる。本発明において、成分Bと反応して、カチオン性錯体を形成する化合物である成分Cとしては、有機アルミニウム化合物、中でもアルモキサンであることが好ましい。当該化合物を用いると、本発明の効果を一層優れた形で発揮することができる。4.その他の成分:有機アルミニウム化合物その他の成分として、一般式AlRnX3-nmで表される有機アルミニウム化合物が使用される。式中、Rは炭素数1~20のアルキル基を表し、Xはハロゲン、水素、アルコキシ基又はアミノ基を表し、nは1~3の、mは1~2の整数を各々表す。有機アルミニウム化合物は、単独であるいは複数種を組み合わせて使用することができる。有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリノルマルプロピルアルミニウム、トリノルマルブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリノルマルヘキシルアルミニウム、トリノルマルオクチルアルミニウム、トリノルマルデシルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムセスキクロライド、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウムジメチルアミド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウムクロライド等が挙げられる。これらのうち好ましくは、m=1、n=3のトリアルキルアルミニウム及びアルキルアルミニウムヒドリドである。さらに好ましくは、Rが炭素数1~8であるトリアルキルアルミニウムである。5.オレフィン重合用触媒の調製本発明では、粉体状または炭化水素溶媒でスラリー化した成分Aに炭化水素を溶媒として溶解または分散した少なくとも成分Bを添加する工程を経て、オレフィン重合触媒の触媒成分が製造される以下、第1の製法という。また、本発明では、粉体状または炭化水素溶媒でスラリー化した成分Aに、炭化水素溶媒に溶解または分散した成分Bとともに、成分Cを添加する工程を経てオレフィン重合触媒が製造される以下、第2の製法という。この第2の製法において、各成分の接触順は以下の組み合わせが例示できる。I特定の粒径の無機酸化物成分Aと周期律表第3~12族の遷移金属化合物成分Bを接触させた後、成分Bと反応してカチオン性錯体を形成する化合物成分Cを接触させる。II特定の粒径の無機酸化物成分Aと成分Bと反応してカチオン性錯体を形成する化合物成分Cを接触させた後、周期律表第3~12族の遷移金属化合物成分Bを接触させる。III特定の粒径の無機酸化物成分Aに、周期律表第3~12族の遷移金属化合物成分Bと成分Bと反応してカチオン性錯体を形成する化合物成分Cの混合物を接触させる。これらの中で、IIIの接触方法が好ましい。また、いずれの接触順でも、成分Aに対して成分Bおよび成分Cを添加していくことが好ましく、さらには、乾燥した成分Aに炭化水素溶媒で溶解またはスラリー化した成分B、成分C、または成分Bと成分Cの混合物を添加することが好ましい。いずれの接触方法においても、通常は窒素またはアルゴンなどの不活性ガス雰囲気中、一般にベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素通常炭素数は6~12、ヘプタン、ヘキサン、デカン、ドデカン、シクロヘキサンなどの脂肪族あるいは脂環族炭化水素通常炭素数5~12等の液状不活性炭化水素の存在下、撹拌下または非撹拌下に各成分を接触させる方法が採用される。上記した通り、ある種の成分が可溶ないしは難溶な芳香族炭化水素溶媒と、ある種の成分が不溶ないしは難溶な脂肪族または脂環族炭化水素溶媒とがいずれも使用可能であるが、成分B、または成分Bと成分Cの混合物については溶解出来る溶媒を用いることが好ましい。例えば、成分Aがシリカ、成分Bがシクロペンタジエニル系遷移金属化合物、成分Cがアルモキサン化合物の場合、溶媒として芳香族炭化水素、中でもトルエンや、ヘキサン、ヘプタンの脂肪族炭化水素が好ましいものとして挙げられる。また、成分A、成分B及び/又は成分Cと炭化水素との溶解または分散を向上させるための添加剤を使用してもよい。この接触は、通常-100°C~200°C、好ましくは-50°C~100°C、さらに好ましくは0°C~50°Cの温度にて、5分~50時間、好ましくは30分~24時間、さらに好ましくは30分~12時間で行うことが望ましい。溶媒として用いる液状不活性炭化水素の使用量は、成分Aとして用いる無機酸化物の細孔容積の3倍以上の体積量とする必要がある。溶媒の使用量としてさらに好ましくは成分Aの細孔容積に対して3倍~30倍の体積量であり、さらに好ましくは4倍~20倍の体積量である。ここでいう細孔容積はBET法で測定される。上記の範囲を外れると、触媒活性が低下したり、粉体の流動性が低下する傾向がある。使用する溶媒量が成分Aの細孔容積に対して3倍未満の場合、成分Aの粒径が小さいため、成分Bおよび成分Cの分散不良を生じる。一方、多すぎる溶媒量は、各成分の濃度が薄くなるため成分Aに対する成分Bおよび成分Cの担持量が低下するし、その後の乾燥などの工程への負荷が増大するため好ましくない。本発明において、特定の粒径の無機酸化物成分Aと、周期律表第3~12族の遷移金属化合物成分Bと、成分Bと反応してカチオン性錯体を形成する化合物成分Cの使用割合は、特に制限されないが、以下の範囲が好ましい。周期律表第3~12族の遷移金属化合物成分Bと反応してカチオン性錯体を形成する化合物成分Cとして、有機アルミニウムオキシ化合物を用いる場合、遷移金属化合物成分B中の遷移金属Mに対する有機アルミニウムオキシ化合物のアルミニウムの原子比Al/Mは、通常、1~100,000、好ましくは5~1000、さらに好ましくは50~200の範囲が望ましく、また、ボラン化合物やボレート化合物を用いる場合、遷移金属化合物中の遷移金属Mに対する、ホウ素の原子比B/Mは、通常、0.01~100、好ましくは0.1~50、さらに好ましくは0.2~10の範囲で選択することが望ましい。特定の粒径の無機酸化物成分Aの使用量は、周期律表第3~12族の遷移金属化合物成分B中の遷移金属0.0001~5ミリモル当たり1gが好ましく、0.001~0.5ミリモル当たり1g、さらに好ましくは0.01~0.1ミリモル当たり1gである。特定の粒径の無機酸化物成分Aと、周期律表第3~12族の遷移金属化合物成分Bと、成分Bと反応してカチオン性錯体を形成する化合物成分Cとを前記接触方法I~IIIのいずれかで相互に接触させた後、そのままオレフィン重合用触媒として用いても良いし、溶媒に遊離した成分を洗浄により除去して使用しても良いし、溶媒を除去して乾燥させて使用しても良い。この中で、溶媒を除去することでオレフィン重合触媒を固体触媒として得ることが好ましい。溶媒の除去は、常圧下または減圧下、0~200°C、好ましくは20~150°Cで1分~50時間、好ましくは10分~10時間で行うことが望ましい。ここで得られるオレフィン重合用触媒は、重合槽内で、あるいは重合槽外で接触させオレフィンの存在下で予備重合を行ってもよい。オレフィンとは炭素間二重結合を少なくとも1個含む炭化水素をいい、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ヘキセン、3-メチルブテン-1、スチレン、ジビニルベンゼン等が例示されるが、特に種類に制限はなく、これらと他のオレフィンとの混合物を用いてもよい。好ましくはエチレン、プロピレンである。オレフィンの供給方法は、オレフィンを反応槽に定速的にあるいは定圧状態になるように維持する供給方法やその組み合わせ、段階的な変化をさせるなど、任意の方法が可能である。予備重合時間は、特に限定されないが、5分~24時間の範囲であることが好ましい。また、予備重合量は、予備重合ポリマー量が成分A1部に対し、好ましくは0.01~100、さらに好ましくは0.1~50である。予備重合を終了した後に、触媒の使用形態に応じ、そのまま使用することが可能であるが、必要ならば乾燥を行ってもよい。予備重合温度は、特に制限は無いが、0°C~100°Cが好ましく、より好ましくは10~70°C、特に好ましくは20~60°C、さらに好ましくは30~50°Cである。この範囲を下回ると反応速度が低下したり、活性化反応が進行しないという弊害が生じる可能性があり、上回ると予備重合ポリマーが溶解したり、予備重合速度が速すぎて粒子性状が悪化したり、副反応のため活性点が失活するという弊害が生じる可能性がある。予備重合時には有機溶媒等の液体中で実施することも出来、かつこれが好ましい。予備重合時の固体触媒の濃度には特に制限は無いが、好ましくは50g/L以上、より好ましくは60g/L以上、特に好ましくは70g/L以上である。濃度が高い方がメタロセンの活性化が進行し、高活性触媒となる。さらに、上記各成分の接触の際、もしくは接触の後に、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなどの重合体やシリカ、チタニアなどの無機酸化物固体を共存させることも可能である。予備重合後に触媒を乾燥してもよい。乾燥方法には特に制限は無いが、減圧乾燥や加熱乾燥、乾燥ガスを流通させることによる乾燥などが例示され、これらの方法を単独で用いても良いし2つ以上の方法を組み合わせて用いてもよい。乾燥工程において触媒を攪拌、振動、流動させてもよいし静置させてもよい。6.重合方法前記のオレフィン重合用触媒を用いておこなう重合は、オレフィン単独あるいは該オレフィンと他のコモノマーとを混合接触させることにより行われる。共重合の場合、反応系中の各モノマーの量比は、経時的に一定である必要はなく、各モノマーを一定の混合比で供給することも便利であるし、供給するモノマーの混合比を経時的に変化させることも可能である。また、共重合反応比を考慮してモノマーのいずれかを分割添加することもできる。重合し得るオレフィンとしては、炭素数2~20程度のものが好ましく、具体的にはエチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ヘキセン、1-オクテン、スチレン、ジビニルベンゼン、7-メチル-1,7-オクタジエン、シクロペンテン、ノルボルネン、エチリデンノルボルネン等が挙げられる。好ましくは炭素数2~8のα-オレフィンである。共重合の場合、用いられるコモノマーの種類は、前記オレフィンとして挙げられるものの中から、主成分となるもの以外のオレフィンを選択して用いることができる。主成分となるオレフィンとしてエチレンが使用される場合、通常の化石原料由来の原油から製造されるエチレンであってもよいし、植物由来のエチレンであってもよい。植物由来のエチレンやそのポリマーは、カーボンニュートラル化石原料を使わず大気中の二酸化炭素の増加につながらないの性質を持ち、環境に配慮した製品の提供が可能となる。重合様式は、触媒成分と各モノマーが効率よく接触するならば、あらゆる様式を採用しうる。具体的には、不活性溶媒を用いるスラリー法、不活性溶媒を実質的に用いずプロピレンを溶媒として用いる方法、溶液重合法あるいは実質的に液体溶媒を用いず各モノマーをガス状に保つ気相法などが採用できる。また、連続重合、回分式重合、又は予備重合を行う方法も適用される。これらの中では、スラリー法が好ましい。スラリー重合の場合は、重合溶媒として、ヘキサン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の飽和脂肪族又は芳香族炭化水素の単独又は混合物が用いられる。重合温度は0~150°Cであり、また分子量調節剤として補助的に水素を用いることができる。重合圧力は0~200MPa、好ましくは0~6MPaが適当である。7.得られる重合体本発明のオレフィン重合用触媒を用いて得られる重合体は、パウダーの流れ性、かさ密度が向上し、また微粉ポリマーの発生が抑制される。具体的に同じ重合条件で比較すると、触媒効率が1.5~3倍に向上し、高品質のポリオレフィンを得ることができる。次に本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限りこれらの実施例によって制約を受けるものではない。試料の無機酸化物は、窒素雰囲気下、400°C、7時間焼成した後、窒素雰囲気下で保管したシリカを用いた。比表面積および細孔容積は次のように測定した。シリカの各試料は加熱、減圧下で十分な乾燥を行った後、カンタークローム社製オートソーブ3B型を用いて、液体温度下における窒素の吸着等温線測定を行った。得られた吸着等温線の相対圧0.95での吸着量から細孔容積を、BET多点法解析を実施して比表面積を算出した。更に、細孔構造を円筒と仮定することで、式iに従い平均細孔径を算出した。この式でDaveは平均細孔径を、Vtotalは細孔容積を、SBETはBET多点法による比表面積を示す。Dave=4Vtotal/SBET式i更にBJH法解析によりメソ孔分布を求め、指定範囲の細孔容積を算出した。シリカの粒径分布:堀場製作所社製レーザー回折散乱式粒子径分布測定装置LA-920を用い、分散溶媒をエタノール、屈折率1.0、形状係数1.0の条件で測定し、メジアン径の値を平均粒径とした。シリカのかさ密度は、高さ5cmから自然落下させて20mlの容器に充填させたときのシリカ重量を測定して算出した。ポリマーの分子量分布Mw/Mn:生成されたエチレン系重合体について、下記の条件でゲル透過クロマトグラフGPCを行ない、数平均分子量Mnおよび重量平均分子量Mwを求めて分子量分布Mw/Mnを算出した。[ゲル透過クロマトグラフ測定条件]装置:Waters150Cモデル、カラム:Shodex-HT806M、溶媒:1,2,4-トリクロロベンゼン、温度:135°C、単分散ポリスチレンフラクションを用いてユニバーサル評定。ポリマーの密度:JISK-71122004年版に従い測定した。実施例1a担持触媒の調製十分に窒素で置換した、誘導撹拌機を装着したフラスコに、平均粒径12μmのシリカ水澤化学社製、P-78D、シリカ性状は表1に記載を成分Aとして5g充填し、オイルバスにより40°Cに加熱した。別のフラスコに成分Cとしてメチルアルモキサンのトルエン溶液アルベマール社製、3.0molAl/Lを8.1ml分取した。成分Bとしてビスn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド50.5mg、125μmolのトルエン溶液50mlをメチルアルモキサンのトルエン溶液に室温で添加し、30分撹拌した。次いで、このトルエン溶液を、40°Cに加熱したシリカに撹拌しながら添加し1時間保持した。このとき、全溶媒量ml/全細孔容積mlは6.8であり、均一なスラリー状態となっていた。その後、40°C加熱した状態で、減圧により溶媒を留去した。減圧度が0.8mmHg以下となってから、さらに15分間減圧乾燥を継続し担持触媒を得た。得られた担持触媒の一部をn-ヘプタンにより希釈10mg-固体触媒/mlしオレフィン重合評価に用いた。bエチレン重合内容積2リッターの誘導攪拌式ステンレス製オートクレーブ内を精製窒素で置換し、精製ヘキサン1000mLをオートクレーブ内に導入した。トリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液0.1mmol/mlを1ml、1-ヘキセンを5ml添加した後、80°Cまで昇温した。エチレンで0.7MPaまで昇圧後、水素を添加しオートクレーブ内の気相部の水素濃度を0.5にした。次いで、上記aで得られた担持触媒のヘプタンスラリーを2.1ml21mg触媒の担持触媒スラリーを圧入することで重合を開始した。1時間後、エタノールを圧入することで重合反応を停止し、ポリマーをろ過により回収した。重合結果を表2に記載した。なお、上記とは別に、成分Aに成分Bを接触させて触媒成分を得た後、これに成分Cを添加して担持触媒を調製し、同様な条件でエチレン重合を行った場合についても実験した。この場合、若干エチレン重合活性が低下したがほぼ同様な結果であった。実施例2a担持触媒の調製表1に記載のシリカGRACE社製、Sylopol22125gを使用する以外は、実施例1aと同様に行った。bエチレン重合上記aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は、実施例1のbの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。実施例3a担持触媒の調製十分に窒素で置換した、誘導撹拌機を装着したフラスコに、平均粒径11μmのシリカGRACE社製、Sylopol2212、シリカ性状は表1に記載を成分Aとして5g充填した。さらにトルエンを30ml添加した後、オイルバスにより40°Cに加熱した。別のフラスコに成分Cとしてメチルアルモキサンのトルエン溶液アルベマール社製、3.0molAl/Lを8.1ml分取した。成分Bとしてビスn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド50.5mg、125μmolのトルエン溶液20mlをメチルアルモキサンのトルエン溶液に室温で添加し、30分撹拌した。次いで、このトルエン溶液を、40°Cに加熱したシリカに撹拌しながら添加し1時間保持した。このとき、全溶媒量ml/全細孔容積mlは12であり、均一なスラリー状態となっていた。その後、40°C加熱した状態で、減圧により溶媒を留去した。減圧度が0.8mmHg以下となってから、さらに15分間減圧乾燥を継続し担持触媒を得た。得られた担持触媒の一部をn-ヘプタンにより希釈10mg-固体触媒/mlしオレフィン重合評価に用いた。bエチレン重合実施例2aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。比較例1a担持触媒の調製十分に窒素で置換した、誘導撹拌機を装着したフラスコに、平均粒径12μmのシリカ水澤化学社製、P-78D、シリカ性状は表1に記載を成分Aとして5g充填し、トルエンを添加することなくオイルバスにより40°Cに加熱した。別のフラスコにn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド50.5mg、125μmolを成分Bとして分取し、成分Cとしてメチルアルモキサンのトルエン溶液アルベマール社製、3.0molAl/L8.1mlを室温で添加した。室温で30分撹拌した後、このトルエン溶液を40°Cに加熱したシリカに撹拌しながら添加し1時間保持した。このとき、全溶媒量ml/全細孔容積mlは1.0である。このときシリカの粉体としての流動性が悪いため、触媒のトルエン溶液が含浸したシリカ部分と、まったく触媒成分が接触しないシリカ部分に分かれた。また、シリカの凝集体の生成も見られた。このことから、平均粒径12μmのシリカを用いる場合、溶媒量が全細孔容積の1倍程度では、触媒成分が均一に含浸された固体触媒を得ることが出来ないことがわかった。実施例4a担持触媒の調製実施例1a記載のビスn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド50.5mg、125μmolの代わりに、ジメチルシリレンビス[1,1’-2-フリルシクロペンタジエニル]ジルコニウムジクロリド60.1mg、125μmolを用いる以外は、実施例1aと同様に行った。bエチレン重合本実施例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。実施例5a担持触媒の調製実施例3aのビスn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド50.5mg、125μmolの代わりに、ジメチルシリレンビス[1,1’-2-フリルシクロペンタジエニル]ジルコニウムジクロリド60.1mg、125μmolのトルエン溶液50mlを用い、メチルアルモキサンのトルエン溶液を8.1ml用いる以外は、実施例3aと同様に行った。bエチレン重合本実施例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。比較例2a担持触媒の調製実施例5aにおいて用いたシリカの代わりに、シリカGRACE社製、Sylopol948、平均粒径50μm5gを使用した以外は同様に行った。bエチレン重合本比較例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。実施例5と比較例2の比較により、平均粒径が50μmのシリカを用いた場合は、重合活性が低くなることがわかる。実施例6a担持触媒の調製実施例3aのビスn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド50.5mg、125μmolの代わりに、ジメチルシリレンビス{1,1’-{2-[2-5-トリメチルシリルフリル]-4,5-ジメチル-シクロペンタジエニル}}ジルコニウムジクロリド88.6mg、125μmolのトルエン溶液50mlを用い、メチルアルモキサンのトルエン溶液を8.1ml用いる以外は、実施例3aと同様に行った。bエチレン重合本実施例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。比較例3a担持触媒の調製実施例6aで用いたシリカの代わりに、シリカGRACE社製、Sylopol948、平均粒径50μm5gを使用した以外は同様に行った。bエチレン重合本比較例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。実施例6と比較例3の比較により、平均粒径が50μmのシリカを用いた場合は、重合活性が低くなることがわかる。実施例7a担持触媒の調製実施例1aのビスn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド50.5mg、125μmolの代わりに、ジメチルシリレンビス{1,1’-[2-2-フリル-4、5-ジメチル-シクロペンタジエニル]}ジルコニウムジクロリド67.1mg、125μmolを用い、メチルアルモキサンのトルエン溶液を8.1ml用いる以外は、実施例1aと同様に行った。bエチレン重合本実施例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。実施例8a担持触媒の調製実施例1aのビスn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド50.5mg、125μmolの代わりに、ジフェニルメチレンシクロペンタジエニル[9-2,7-t-ブチルフルオレニル]ジルコニウムジクロリド83.5mg、125μmolを用い、メチルアルモキサンのトルエン溶液を8.1ml用いる以外は、実施例1aと同様に行った。bエチレン重合本実施例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。比較例4a担持触媒の調製実施例8aで用いたシリカの代わりに、シリカGRACE社製、Sylopol948、平均粒径50μm5gを使用した以外は同様に行った。bエチレン重合本比較例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例8bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。実施例8と比較例4の比較により、平均粒径が50μmのシリカを用いた場合は、重合活性が低くなることがわかる。実施例9a担持触媒の調製実施例1aのビスn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド50.5mg、125μmolの代わりに、ジメチルシリレンビス[1,1’-2-メチル-4-フェニル-インデニル]ジルコニウムジクロリド78.5mg、125μmolを用い、メチルアルモキサンのトルエン溶液を8.1ml用いる以外は、実施例1aと同様に行った。bエチレン重合本実施例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。実施例10a担持触媒の調製実施例1aのビスn-ブチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド50.5mg、125μmolの代わりに、ジメチルシリレンビス{1,1’-[2-2-5-メチルフリル-4-フェニル-インデニル]}ジルコニウムジクロリド95.1mg、125μmolを用い、メチルアルモキサンのトルエン溶液を8.1ml用いる以外は、実施例1aと同様に行った。bエチレン重合本実施例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。実施例11a担持触媒の調製十分に窒素で置換した、誘導撹拌機を装着したフラスコに、平均粒径11μmのシリカGRACE社製、Sylopol2212、シリカ性状は表1に記載を成分Aとして5g充填した。さらにトルエンを90ml添加した後、オイルバスにより40°Cに加熱した。別のフラスコに成分Cとしてメチルアルモキサンのトルエン溶液アルベマール社製、3.0molAl/Lを8.1ml分取した。成分Bとしてジメチルシリレンビス[1,1’-2-フリルシクロペンタジエニル]ジルコニウムジクロリド60.1mg、125μmolのトルエン溶液50mlをメチルアルモキサンのトルエン溶液に室温で添加し、30分撹拌した。次いで、このトルエン溶液を、40°Cに加熱したシリカに撹拌しながら添加し1時間保持した。このとき、全溶媒量ml/全細孔容積mlは19.1であり、均一なスラリー状態となっていた。その後、40°C加熱した状態で、減圧により溶媒を留去した。減圧度が0.8mmHg以下となってから、さらに15分間減圧乾燥を継続し担持触媒を得た。bエチレン重合本実施例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。実施例12a担持触媒の調製十分に窒素で置換した、誘導撹拌機を装着したフラスコに、平均粒径11μmのシリカGRACE社製、Sylopol2212、シリカ性状は表1に記載を成分Aとして5g充填した。さらにトルエンを165ml添加した後、オイルバスにより40°Cに加熱した。別のフラスコに成分Cとしてメチルアルモキサンのトルエン溶液アルベマール社製、3.0molAl/Lを8.1ml分取した。成分Bとしてジメチルシリレンビス[1,1’-2-フリルシクロペンタジエニル]ジルコニウムジクロリド60.1mg、125μmolのトルエン溶液50mlをメチルアルモキサンのトルエン溶液に室温で添加し、30分撹拌した。次いで、このトルエン溶液を、40°Cに加熱したシリカに撹拌しながら添加し1時間保持した。このとき、全溶媒量ml/全細孔容積mlは28.8であり、均一なスラリー状態となっていた。その後、40°C加熱した状態で、減圧により溶媒を留去したが、溶媒量が多いため溶媒留去に時間がかかった。減圧度が0.8mmHg以下となってから、さらに15分間減圧乾燥を継続し担持触媒を得た。bエチレン重合本実施例aで調製した担持触媒のヘプタンスラリーを、表2で記載した触媒量になるように添加した以外は実施例1bの重合と同様に行った。重合結果は表2に記載した。実施例12は、実施例11に対して溶媒使用量をさらに増やした場合であるが、比較例2との比較により、平均粒径が11μmのシリカを用いた場合は、重合活性が高くなることがわかる。評価上記表2の結果から明らかなように、実施例では、平均粒径5~25μm、かつ細孔容積0.1~3.0ml/gであるシリカを無機酸化物として用い、所定量の炭化水素を添加しているために、触媒効率が高く、所望のポリマーが得られている。これに対して、比較例1では、シリカに含浸される溶媒量が全細孔容積の1倍程度と少なかったために、触媒成分が均一に含浸された固体触媒が得られず、また、比較例2,3では、平均粒径が25μmを超えるシリカを用いたために、固体触媒の活性が低下した。"