少なくとも1つの光学コラムを有するリソグラフィ装置であって、複数の放射ビームを提供するよう構成されているプログラマブルパターニングデバイスと、複数のビームを基板に投影するよう構成されている投影系と、を備え、前記投影系は、複数のレンズを備え、前記光学コラムは、前記複数のビームが前記基板の目標部分を走査するよう前記複数のレンズの少なくとも1つを前記投影系の光軸に垂直な方向に移動させるよう構成されている第1アクチュエータシステムと、前記プログラマブルパターニングデバイスの像を前記少なくとも1つのレンズに投影するよう構成されている放射ビームエキスパンダと、前記放射ビームエキスパンダを前記投影系の光軸に平行な方向に移動させるよう構成されている第2アクチュエータシステムと、を備えるリソグラフィ装置。前記放射ビームエキスパンダは、軸方向に整列され固定間隔で配設された1組の正レンズを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記放射ビームエキスパンダは、物体側テレセントリックかつ像側テレセントリックであるように構成されている、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。前記放射ビームエキスパンダが前記プログラマブルパターニングデバイスの像を投影するレンズは視野レンズであり、前記投影系は、結像レンズをさらに備え、前記視野レンズに投影される像が前記基板に投影されるよう配設されており、前記視野レンズ及び前記結像レンズの位置は、互いに対して固定され、前記第1アクチュエータシステムにより移動可能である、請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記視野レンズ及び前記結像レンズは回転可能フレームに搭載されており、前記回転可能フレームは前記投影系の光軸に平行な軸まわりに回転するよう構成されている、請求項4に記載のリソグラフィ装置。前記第2アクチュエータシステムは、前記投影系の光軸に平行な方向に前記放射ビームエキスパンダを移動させているとき前記投影系の光軸に垂直な方向における前記放射ビームエキスパンダの移動を妨げるように構成されている、請求項1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。少なくとも前記第2アクチュエータシステムを制御するよう構成されているコントローラをさらに備え、前記コントローラは、前記基板でのフォーカス変位量に関する信号を受信し、前記基板でのフォーカス変位量の予め定められた倍数に基づいて、前記信号を前記放射ビームエキスパンダの必要変位量に変換し、前記放射ビームエキスパンダの必要変位量を生じさせるための信号を前記第2アクチュエータシステムに出力するよう構成されている、請求項1から6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記予め定められた倍数は、B2/A2-1であり、ここで、Aは前記放射ビームエキスパンダの倍率であり、Bは前記放射ビームエキスパンダが前記プログラマブルパターニングデバイスの像を投影するところのレンズから前記基板までの光学系の倍率である、請求項7に記載のリソグラフィ装置。請求項1から8のいずれかに記載され、第2の光学コラムを少なくとも有するリソグラフィ装置であって、第2の複数の放射ビームを提供するよう構成されている第2のプログラマブルパターニングデバイスと、第2の複数のビームを基板に投影するよう構成されている第2の投影系と、を備え、前記第2の投影系は、第2の複数のレンズを備え、前記第2の光学コラムは、前記第2の複数のビームが前記基板の目標部分を走査するよう前記第2の投影系の前記複数のレンズの少なくとも1つを前記第2の投影系の光軸に垂直な方向に移動させるよう構成されている第3アクチュエータシステムと、前記第2のプログラマブルパターニングデバイスの像を前記第2の投影系の前記少なくとも1つのレンズに投影するよう構成されている第2の放射ビームエキスパンダと、前記第2の放射ビームエキスパンダを前記第2の投影系の光軸に平行な方向に移動させるよう構成されている第4アクチュエータシステムと、を備えるリソグラフィ装置。複数の放射ビームを提供するよう構成されているプログラマブルパターニングデバイスと、複数のビームを基板の目標部分に投影するよう構成されている投影系であって複数のレンズを備える投影系と、を有する少なくとも1つの光学コラムを使用して基板の目標部分にパターンを生成することと、前記複数のビームが前記基板の目標部分を走査するよう前記複数のレンズの少なくとも1つを前記投影系の光軸に垂直な方向に移動させることと、前記プログラマブルパターニングデバイスの像を前記少なくとも1つのレンズに投影する放射ビームエキスパンダを使用することと、前記基板に形成される像のフォーカスを調整するために前記投影系の光軸に平行な方向において前記放射ビームエキスパンダの位置を制御することと、を備えるデバイス製造方法。図1は、リソグラフィ装置の部分の概略側断面図である。この実施形態においては、リソグラフィ装置は、後述するようにXY面で実質的に静止した個別制御可能素子を有するが、そうである必要はない。リソグラフィ装置1は、基板を保持する基板テーブル2と、基板テーブル2を最大6自由度で移動させる位置決め装置3と、を備える。基板は、レジストで被覆された基板であってもよい。ある実施の形態においては、基板はウェーハである。ある実施の形態においては、基板は多角形例えば矩形の基板である。ある実施の形態においては、基板はガラスプレートである。ある実施の形態においては、基板はプラスチック基板である。ある実施の形態においては、基板は箔である。ある実施の形態においては、リソグラフィ装置は、ロールトゥロール製造に適する。リソグラフィ装置1は、複数のビームを発するよう構成されている複数の個別に制御可能な自己放射可能なコントラストデバイス4をさらに備える。ある実施の形態においては、自己放射コントラストデバイス4は、放射を発するダイオード例えば、発光ダイオードLED、有機LEDOLED、高分子LEDPLED、または、レーザダイオード例えば、固体レーザダイオードである。ある実施の形態においては、個別制御可能素子4の各々は青紫レーザダイオード例えば、三洋の型式番号DL3146151である。こうしたダイオードは、三洋、日亜、オスラム、ナイトライド等の企業により供給される。ある実施の形態においては、ダイオードは、例えば約365nmまたは約405nmの波長を有するUV放射を発する。ある実施の形態においては、ダイオードは、0.5mWないし200mWの範囲から選択される出力パワーを提供することができる。ある実施の形態においては、レーザダイオードのむき出しのダイのサイズは、100μmないし800μmの範囲から選択される。ある実施の形態においては、レーザダイオードは、0.5μm2ないし5μm2の範囲から選択される発光領域を有する。ある実施の形態においては、レーザダイオードは、5度ないし44度の範囲から選択される発散角を有する。ある実施の形態においては、それらのダイオードは、合計の明るさを約6.4×108W/m2sr以上にするための構成例えば、発光領域、発散角、出力パワーなどを有する。自己放射コントラストデバイス4は、フレーム5に配設されており、Y方向に沿って及び/またはX方向に沿って延在してもよい。1つのフレーム5が図示されているが、リソグラフィ装置は、図2に示すように複数のフレーム5を有してもよい。フレーム5には更に、レンズ12が配設されている。フレーム5、従って、自己放射コントラストデバイス4及びレンズ12はXY面内で実質的に静止している。フレーム5、自己放射コントラストデバイス4、及びレンズ12は、アクチュエータ7によってZ方向に移動されてもよい。それに代えて又はそれとともに、レンズ12はこの特定のレンズに関連するアクチュエータによってZ方向に移動されてもよい。任意選択として、各レンズ12にアクチュエータが設けられていてもよい。自己放射コントラストデバイス4はビームを発するよう構成されていてもよく、投影系12、14、18はそのビームを基板の目標部分に投影するよう構成されていてもよい。自己放射コントラストデバイス4及び投影系が光学コラムを形成する。リソグラフィ装置1は、光学コラム又はその一部を基板に対して移動させるためのアクチュエータ例えばモータ11を備えてもよい。フレーム8には視野レンズ14及び結像レンズ18が配設されており、そのアクチュエータを用いてフレーム8は回転可能であってもよい。視野レンズ14と結像レンズ18との結合が可動光学系9を形成する。使用時においては、フレーム8は自身の軸10まわりを、例えば図2に矢印で示す方向に、回転する。フレーム8は、アクチュエータ例えばモータ11を使用して軸10まわりに回転させられる。また、フレーム8はモータ7によってZ方向に移動されてもよく、それによって可動光学系9が基板テーブル2に対し変位させられてもよい。内側にアパーチャを有するアパーチャ構造13がレンズ12の上方でレンズ12と自己放射コントラストデバイス4との間に配置されてもよい。アパーチャ構造13は、レンズ12、関連する自己放射コントラストデバイス4、及び/または、隣接するレンズ12/自己放射コントラストデバイス4の回折効果を限定することができる。図示される装置は、フレーム8を回転させると同時に光学コラム下方の基板テーブル2上の基板を移動させることによって、使用されてもよい。自己放射コントラストデバイス4は、レンズ12、14、18が互いに実質的に整列されたときこれらのレンズを通じてビームを放つことができる。レンズ14、18を移動させることによって、基板上でのビームの像が基板の一部分を走査する。同時に光学コラム下方の基板テーブル2上の基板を移動させることによって、自己放射コントラストデバイス4の像にさらされる基板の当該部分も移動する。光学コラム又はその一部の回転を制御し、自己放射コントラストデバイス4の強度を制御し、且つ基板速度を制御するコントローラの制御のもとで自己放射コントラストデバイス4のオンとオフとを高速に切り換えることによって例えば、オフであるとき出力がないか、しきい値を下回る出力を有し、オンであるときしきい値を上回る出力を有する、所望のパターンを基板上のレジスト層に結像することができる。図2は、自己放射コントラストデバイス4を有する図1のリソグラフィ装置の概略上面図である。図1に示すリソグラフィ装置1と同様に、リソグラフィ装置1は、基板17を保持する基板テーブル2と、基板テーブル2を最大6自由度で移動させる位置決め装置3と、自己放射コントラストデバイス4と基板17とのアライメントを決定し、自己放射コントラストデバイス4の投影に対して基板17が水平か否かを決定するためのアライメント/レベルセンサ19と、を備える。図示されるように基板17は矩形形状を有するが、追加的に又は代替的に円形の基板が処理されてもよい。自己放射コントラストデバイス4はフレーム15に配設されている。自己放射コントラストデバイス4は、放射を発するダイオード、例えばレーザダイオード、例えば青紫レーザダイオードであってもよい。図2に示されるように、自己放射コントラストデバイス4はXY面内に延在するアレイ21に配列されていてもよい。アレイ21は細長い線であってもよい。ある実施の形態においては、アレイ21は、自己放射コントラストデバイス4の一次元配列であってもよい。ある実施の形態においては、アレイ21は、自己放射コントラストデバイス4の二次元配列であってもよい。回転するフレーム8が設けられていてもよく、これは、矢印で図示される方向に回転してもよい。回転するフレーム8が設けられていてもよく、これは、矢印で図示される方向に回転してもよい。その回転フレームには、各自己放射コントラストデバイス4の像を与えるためのレンズ14、18図1参照が設けられていてもよい。本装置には、フレーム8及びレンズ14、18を備える光学コラムを基板に対して回転させるためのアクチュエータが設けられていてもよい。図3は、周辺部にレンズ14、18が設けられている回転フレーム8を高度に概略的に示す斜視図である。複数のビーム、本実施例では10本のビームが、それらレンズの一方へと入射し、基板テーブル2により保持された基板17のある目標部分に投影されている。ある実施の形態においては、複数のビームは直線に配列されている。回転可能フレームは、アクチュエータ図示せずによって軸10まわりに回転可能である。回転可能フレーム8の回転の結果として、それらビームは、一連のレンズ14、18視野レンズ14及び結像レンズ18に入射する。一連のレンズの各々に入射してビームは偏向され、それによりビームは基板17の表面の一部分に沿って動く。詳しくは図4を参照して後述する。ある実施の形態においては、各ビームが対応する源によって、すなわち自己放射コントラストデバイス、例えばレーザダイオードによって、生成される図3には図示せず。図3に示される構成においては、ビームどうしの距離を小さくするために、それらビームはともに、あるセグメントミラー30によって偏向されかつ運ばれる。それによって、後述するように、より多数のビームを同一のレンズを通じて投影し、要求解像度を実現することができる。回転可能フレームが回転すると、ビームが連続する複数のレンズへと入射する。このときあるレンズがビームに照射されるたびに、レンズ表面上でビームが入射する場所が移動する。レンズ上のビーム入射場所に依存してビームが異なって例えば、異なる偏向をもって基板に投影されるので、基板に到達するビームは後続のレンズが通過するたびに走査移動をすることになる。この原理について図4を参照して更に説明する。図4は、回転可能フレーム8の一部を高度に概略的に示す上面図である。第1ビームセットをB1と表記し、第2ビームセットをB2と表記し、第3ビームセットをB3と表記する。ビームセットのそれぞれが、回転可能フレーム8の対応するレンズセット14、18を通じて投影される。回転可能フレーム8が回転すると、複数ビームB1が基板17に投影され、走査移動によって領域A14を走査する。同様に、ビームB2は領域A24を走査し、ビームB3は領域A34を走査する。回転可能フレーム8の回転と同時に、対応するアクチュエータによって基板17及び基板テーブルが図2に示すX軸に沿う方向であってもよい方向Dに移動され、そうして領域A14、A24、A34におけるビームの走査方向に実質的に垂直に移動される。方向Dの第2のアクチュエータによる移動例えば、対応する基板テーブルモータによる基板テーブルの移動の結果、回転可能フレーム8の一連のレンズによって投影されるとき連続する複数回のビーム走査が互いに実質的に隣接するよう投影されて、実質的に隣接する領域A11、A12、A13、A14がビームB1の走査のたびに生じ図4に示すように、領域A11、A12、A13は以前に走査され、領域A14は今回走査されている、ビームB2については領域A21、A22、A23、A24が生じ図4に示すように、領域A21、A22、A23は以前に走査され、領域A24は今回走査されている、ビームB3については領域A31、A32、A33、A34が生じる図4に示すように、領域A31、A32、A33は以前に走査され、領域A34は今回走査されている。このようにして、基板表面の領域A1、A2、A3が、回転可能フレーム8を回転させる間に基板を方向Dに移動させることにより、覆われてもよい。多数のビームを同一のレンズを通じて投影することにより、回転可能フレーム8をある同一の回転速度とするとより短い時間で基板全体を処理することができる。レンズ通過のたびに各レンズにより基板を複数のビームが走査するので、連続する複数回の走査に際して方向Dの変位量を大きくすることができるからである。見方を変えると、多数のビームを同一のレンズを通じて基板に投影するとき、ある所与の処理時間における回転可能フレームの回転速度を小さくしてもよいということである。こうして、回転可能フレームの変形、摩耗、振動、乱流などといった高回転速度による影響を軽減してもよい。ある実施の形態においては、図4に示すように、複数のビームは、レンズ14、18の回転の接線に対してある角度をなして配列されている。ある実施の形態においては、複数のビームは、各ビームが重なるか、又は各ビームが隣接ビームの走査経路に隣接するように配列されている。多数のビームを一度に同一レンズにより投影する態様の更なる効果は、公差の緩和に見ることができる。レンズの公差位置決め、光学投影などがあるために、連続する領域A11、A12、A13、A14及び/または領域A21、A22、A23、A24及び/またはA31、A32、A33、A34の位置には、互いの位置決めにいくらかの不正確さが現れ得る。したがって、連続する領域A11、A12、A13、A14間にいくらかの重なりが必要とされるかもしれない。1本のビームの例えば10を重なりとする場合、同一レンズに一度にビームが一つであると、同様に10の係数で処理速度が遅くなるであろう。一方、同一レンズを通じて一度に5本又はそれより多数のビームが投影される状況においては、上記同様1本のビームについて同じ10の重なりが5本又はそれより多数の投影線ごとにあるとすると、重なりの総計は概ね5又はそれより多数分の1である2又はそれ未満へと小さくなるであろう。これは、全体的な処理速度を顕著に小さくする効果をもつ。同様に、少なくとも10本のビームを投影することにより、重なりの総計をおよそ10分の1に小さくしうる。したがって、多数のビームを同時に同一レンズにより投影するという特徴によって、基板の処理時間に生じる公差の影響を小さくしうる。それに加えて又はそれに代えて、より大きな重なり従って、より大きな公差幅が許容されてもよい。一度に同一レンズにより多数のビームを投影するのであれば、重なりが処理に与える影響が小さいからである。多数のビームを同一レンズを通じて同時に投影することに代えて又はそれとともに、インタレース技術を使用することができるかもしれない。しかしながらそのためには、より厳格にレンズどうしを整合させることが必要になるかもしれない。従って、それらレンズのうちある同一レンズを通じて一度に基板に投影される少なくとも2つのビームは相互間隔を有し、リソグラフィ装置は、その間隔の中に後続のビーム投影が投影されるように光学コラムに対して基板を移動させるよう第2アクチュエータを動作させるよう構成されていてもよい。1つのグループにおいて連続するビームどうしの方向Dにおける距離を小さくするためにそれによって、例えば方向Dに解像度を高くするために、それらビームは方向Dに対して、互いに斜めに配列されていてもよい。そうした間隔は、各セグメントが複数ビームのうち対応する1つのビームを反射するセグメントミラー30を光路に設けることによって更に縮小されてもよい。それらセグメントは、それらミラーに入射するビームどうしの間隔よりもミラーで反射されたビームどうしの間隔を狭くするよう配設されている。そうした効果は、複数の光ファイバによっても実現しうる。この場合、ビームのそれぞれが複数ファイバのうち対応する1つのファイバに入射し、それらファイバが、光路に沿って光ファイバ上流側でのビームどうしの間隔よりも光ファイバ下流側でのビームどうしの間隔を狭くするよう配設されている。また、そうした効果は、複数ビームのうち対応する1つのビームを各々が受光する複数の入力を有する集積光学導波路回路を使用して実現されてもよい。この集積光学導波路回路は、光路に沿って集積光学導波路回路の上流側でのビームどうしの間隔よりも集積光学導波路回路の下流側でのビームどうしの間隔を狭くするよう構成されている。本発明のある実施の形態においては、基板に投影される像のフォーカスを制御するためのシステムが提供されてもよい。上述のある構成における光学コラムの部分又は全体により投影される像のフォーカスを調整するための構成が提供されてもよい。図5に示されるように、フォーカス調整の構成は、放射ビームエキスパンダ40を含んでもよい。放射ビームエキスパンダ40は、上述の視野レンズ14に投影されるプログラマブルパターニングデバイス4の像が放射ビームエキスパンダ40を介して投影されるように配設されている。視野レンズ14及び結像レンズ18は上述のように、視野レンズ14に投影される像が基板テーブル2に支持された基板に投影されるように配設されている。したがって、視野レンズ14に投影される像の、投影系の光軸46に平行な方向における位置を調整することによって、基板高さに形成される像のフォーカスが調整され得る。後述するように、放射ビームエキスパンダ40は、視野レンズ14に投影される像の位置のこうした調整を提供するように使用される。これが有利であり得るのは、投影系に対する基板の位置を調整することなくフォーカス調整が実行され得ることを意味するからである。これにより、基板上で照明フィールドの全幅にわたって位置する複数の異なる領域について、正確なフォーカス制御を独立に行うことが可能となり得る。例えば、各光学コラム又はその一部は、それが基板上に投影している像のフォーカスを調整する独自の能力を有し得る。また、こうした構成は、視野レンズ14または結像レンズ18の位置を投影系の光軸46に平行な方向に調整することを要しない。このような制御は、上述のように視野レンズ14及び結像レンズ18が投影系の光軸46に垂直な方向に移動するよう配設されている構成においては難しいかもしれない。例えば、図5に示されかつ上述の構成に整合するように、視野レンズ14及び結像レンズ18は、第1アクチュエータシステム11により駆動される回転フレーム8に搭載されている場合がある。放射ビームエキスパンダ40は、軸方向に整列された1組の正レンズ41、42から形成されていてもよい。レンズ41、42は、例えば剛性支持フレーム43によって、互いに対して固定的に位置決めされていてもよい。ある実施の形態においては、放射ビームエキスパンダ40は、物体側テレセントリックかつ像側テレセントリックであるように構成されていてもよい。理解されるように、物体側テレセントリックであるとは入射瞳が無限遠に位置することを意味し、像側テレセントリックであるとは出射瞳が無限遠に位置することを意味する。第2アクチュエータシステム44が設けられ、投影系の光軸46に平行な方向に放射ビームエキスパンダ40の位置を制御するよう構成されていてもよい。特に、第2アクチュエータシステム44は、第1レンズ41及び第2レンズ42の相対位置を維持しつつ視野レンズ14に対し第1レンズ41及び第2レンズ42の位置を調整するために、支持フレーム43に作用するよう構成されていてもよい。第2アクチュエータシステム44は、特に、放射ビームエキスパンダ40が光軸46に平行な方向にのみ移動することを保証するために、かつ、投影系の光軸46に垂直な方向における放射ビームエキスパンダ40の移動が実質的に生じないように、構成されていてもよい。投影系の光軸46に平行な方向における放射ビームエキスパンダ40の移動は、視野レンズ14に投影されるプログラマブルパターニングデバイス4の像の位置を調整するために使用される。コントローラ45が設けられていてもよく、これは、基板に投影される像の所望のフォーカス制御を提供するために適切であるように放射ビームエキスパンダ40を移動させるために第2アクチュエータ44を制御するよう適合されている。特に、投影系の光軸46に沿う放射ビームエキスパンダ40の移動量は、その結果として生じる基板でのフォーカスシフトに比例する。したがって、コントローラは、その系のために予め定められた倍数を保存し、これを使用して、基板での所望のフォーカスシフトを放射ビームエキスパンダ40の必要移動量に変換してもよい。続いて、コントローラ45は、その所望の移動量を与えるために第2アクチュエータシステム44を制御してもよい。基板高さで必要とされるフォーカスシフトは、例えば、基板及び/または基板テーブル2の位置の測定結果に、像が投影されるべき目標部分での基板上面の変形の測定結果を併用して、決定されてもよい。基板上面の変形は、基板へのパターンの露光に先立ってマップ化されていてもよいし、及び/または、基板の各部分にパターンが投影される直前に基板の当該部分について測定されてもよい。放射ビームエキスパンダ40の移動量を基板でのフォーカスシフトに関連付ける倍数は次式により決定されてもよい。1/B2/A2-1ここで、Aは放射ビームエキスパンダ40の倍率であり、Bは放射ビームエキスパンダがプログラマブルパターニングデバイスの像を投影するところのレンズ14から基板までの光学系の倍率、すなわち、視野レンズ14と結像レンズ18との結合の倍率である。例示的な実施の形態においては、視野レンズ14と結像レンズ18との結合系の倍率は1/15即ち縮小であってもよく、放射ビームエキスパンダ40の倍率は2であってもよい。したがって、上式を用いると、基板高さでの25μmのフォーカスシフトに必要な放射ビームエキスパンダの移動量は1.875mmであることがわかる。上述のように、本発明の焦点調節の構成は、あるリソグラフィ装置内の各光学コラムに個別に設けられていてもよい。したがって、各光学コラムは、対応する放射ビームエキスパンダ40と、関連するアクチュエータシステム44と、を含み、関連するアクチュエータシステム44は、当該対応する放射ビームエキスパンダ40を投影系の光軸46に平行な方向に移動させるよう配設されていてもよい。本発明のある実施の形態によると、自己放射コントラストデバイス例えばレーザダイオードのそれぞれの強度は、基板上に所望のパターンを照射するように光学コラムの一部の移動中本例においては回転可能フレーム8及びレンズ14、18の回転中に変調されてもよい。光学コラムの一部、即ちフレーム8及びレンズ14、18が回転可能であるという既述の概念は、高精度かつ高度の移動再現性でのレンズ14、18の高速移動を許容することに留意されたい。図示の実施形態においては、一組のレンズ14、18が、基板に少なくとも2つのビームを投影する1つの投影主体を形成する。こうした投影主体は1つ又は複数のレンズを備えてもよいものと理解される。よって、本発明のある実施の形態は、回転可能フレームの複数の投影主体のうちある1つの同一の投影主体によって少なくとも2つのビームが基板に投影され、投影主体の各々は、少なくとも1つのレンズを備えかつ少なくとも2つのビームを基板に投影するよう構成されている、というように理解されてもよい。あるデバイス製造方法によると、パターンが投影された基板から、ディスプレイ、集積回路、又はその他の任意の品目等のデバイスが製造されうる。本書ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、本明細書に説明したリソグラフィ装置は他の用途を有してもよいものと理解されたい。他の用途としては例えば、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用案内パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどの製造がある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書におけるウェーハあるいはダイという用語がそれぞれ基板あるいは目標部分という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。本書に言及された基板は露光前または露光後において、例えばトラック典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置、メトロロジツール、及び/またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ICを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味し得る。レンズという用語は、文脈が許す限り、屈折光学部品、回折光学部品、反射光学部品、磁気的光学部品、電磁気的光学部品、静電的光学部品を含む各種の光学部品のうちいずれか1つ、またはこれらの組み合わせを指し示してもよい。上述の説明は例示であり、限定を意図しない。よって、以下に述べる請求項の範囲から逸脱することなく既述の本発明に変更を加えることができるということは、当業者には明らかなことである。