スキームIに示す以下の反応ステップを含むテトラノール-PGDMを調製する方法であって、DMFは、NN-ジメチルホルムアミドであり、THFは、テトラヒドロフランであり、Etは、エチル基であり、DIBALは、ジイソブチルアルミニウムであり、t-BuOKは、カリウムtert-ブトキシドであり、TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムであり、THPは、テトラヒドロピランであり、Acは、アセチル基であり、R1は、C1-4アルキル基であり、各R2は個々に、C1-5アルキル基又はフェニル基であり、各R3は個々に、C1-4アルキル基であり、R4は、メチル基又はエチル基であり、R5は、保護基である方法。保護基R5には、tert-ブチルジメチルシリルが含まれる、請求項1に記載の方法。保護基R5は、スキームIに示す反応シーケンスへの導入と、適切な脱保護条件による必要な除去との間の全ての反応条件に対して安定している、請求項1に記載の方法。テトラノール-PGJMを形成する方法であって、スキームIIに示す以下の反応ステップを含み、前記酸は有機酸又は無機酸からなる方法。前記酸は酢酸からなる、請求項4に記載の方法。前記酸はトリフルオロ酢酸からなる、請求項4に記載の方法。前記化合物14は、以下の反応スキームIにより形成され、DMFは、NN-ジメチルホルムアミドであり、THFは、テトラヒドロフランであり、Etは、エチル基であり、DIBALは、ジイソブチルアルミニウムであり、t-BuOKは、カリウムtert-ブトキシドであり、TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムであり、THPは、テトラヒドロピランであり、Acは、アセチル基であり、R1は、C1-4アルキル基であり、各R2は個々に、C1-5アルキル基又はフェニル基であり、各R3は個々に、C1-4アルキル基であり、R4は、メチル基又はエチル基であり、R5は、保護基である、請求項4に記載の方法。テトラノール-PGEM又はテトラノール-PGEM-D6を形成する方法であって、スキームIIIに示す以下の反応ステップを含み、DMFは、NN-ジメチルホルムアミドであり、THFは、テトラヒドロフランであり、Etは、エチル基であり、DIBALは、ジイソブチルアルミニウムであり、t-BuOKは、カリウムtert-ブトキシドであり、9-BBNは、9-borabicyclo331ノナンであり、TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムであり、R1は、C1-4アルキル基であり、各R2は個々に、C1-5アルキル基又はフェニル基であり、各R3は個々に、C1-4アルキル基であり、R4は、メチル基又はエチル基であり、R5は、保護基であり、R6は、水素又は重水素である方法。保護基R5には、tert-ブチルジメチルシリルが含まれる、請求項8に記載の方法。保護基R5は、スキームIIIに示す反応シーケンスへの導入と、適切な脱保護条件による必要な除去との間の全ての反応条件に対して安定している、請求項8に記載の方法。保護基R5は別の保護基と置換され、該別の保護基は、スキームIIIに示す反応シーケンスへの導入と、適切な脱保護条件による必要な除去との間で安定している、請求項8に記載の方法。テトラノール-PGAMを形成する方法であって、スキームIVに示す以下の反応ステップを含み、前記酸は有機酸又は無機酸からなり、R6は水素又は重水素からなる方法。前記有機酸はトリフルオロ酢酸からなる、請求項12に記載の方法。前記化合物27A/Bは、以下のスキームIIIに従って形成され、DMFは、NN-ジメチルホルムアミドであり、THFは、テトラヒドロフランであり、Etは、エチル基であり、DIBALは、ジイソブチルアルミニウムであり、t-BuOKは、カリウムtert-ブトキシドであり、9-BBNは、9-ボラビシクロ331ノナンであり、TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムであり、R1は、C1-4アルキル基であり、各R2は個々に、C1-5アルキル基又はフェニル基であり、各R3は個々に、C1-4アルキル基であり、R4は、メチル基又はエチル基であり、R5は、保護基であり、R6は、水素又は重水素である、請求項12に記載の方法。テトラノール-PGFMを生成する方法であって、スキームVに示す以下のステップを含み、DMFは、NN-ジメチルホルムアミドであり、THFは、テトラヒドロフランであり、Etは、エチル基であり、DIBALは、ジイソブチルアルミニウムであり、t-BuOKは、カリウムtert-ブトキシドであり、9-BBNは、9-ボラビシクロ331ノナンであり、TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムであり、TBDMSは、tert-ブチルジメチルシリルであり、Acは、アセチル基であり、THPは、テトラヒドロピランであり、R1は、C1-4アルキル基であり、各R2は個々に、C1-5アルキル基又はフェニル基であり、各R3は個々に、C1-4アルキル基であり、R4は、メチル基又はエチル基であり、R5は、保護基であり、R6は、水素又は重水素である方法。以下の詳細な記載により、本発明は、明確に指定する場合を除き、様々な代替的変化及びステップシークエンスを想定できることが理解されるべきである。さらに、任意の実施例における以外、又は別途明記しない場合、例えば、本明細書及び特許請求の範囲で使用される成分の量を表す全ての数字は、全ての例において、用語約によって変更されるものとして理解されるべきである。従って、特に明記しない限り、以下の明細及び添付の特許請求の範囲に記載される数値パラメータは、本発明によって得られる所望の性質によって変化し得る近似値である。特許請求の範囲に均等論を適用することを少なくとも制限しようとして、又はそうしようとしなくとも、各数値パラメータは、少なくとも、報告された有効数字に照らし合わせ、そして通常行われる四捨五入法を適用することによって、解釈されるべきである。本発明の広範囲を記載する数値範囲及びパラメータは近似値であるにもかかわらず、特定の実施例に記載されている数値は、可能な限り正確に報告されている。しかしながら、あらゆる数値は本来、各試験測定において見られるありふれた変動に必然的に起因するある種の誤差を含んでいる。また、本明細書に記載の任意の数値範囲は、その中に包含される全ての部分範囲を含むことを意図していることが理解されるべきである。例えば、1乃至10の範囲は、記載される最小値の1と記載される最大値の10の間の全ての部分範囲を含むこと、即ち、最小値は1以上であり、最大値は10以下であることを意図している。本出願において、特に断りのない限り、単数形の使用は複数形を含んでおり、複数形は単数形を包含する。また、本出願では、又はの使用は、特に明記しない限り、及び/又はを意味するが、及び/又はが場合によって明確に使用されていることもある。本明細書に別途規定されない限り、例示的な実施形態に関連して使用される科学用語及び技術用語は、当該技術分野における当業者によって共通して理解される意味を有するものとする。さらに、文脈に別途定めない限り、単数形の用語は複数形を含み、複数形の用語は単数形を含むものとする。概して、本明細書に記載される化学及び生物学に関連して用いられる学術用語や、化学及び生物学の技術は、当該技術においてよく知られており、一般的に使用されるものである。用語保護基は、有機官能基を化学的に修飾する部分であって、非保護の状態の官能基に通常化学変換を起こすであろうある反応条件が、保護された官能基上で起こることが阻止され、この反応条件によって変換され得る他の官能基上で、所望の化学変換を選択的に実行できるようにする部分である。当該技術において一般的に用いられる保護基と保護基の化学的性質は、GreeneTWWutsPGM1991ProtectiveGroupsinOrganicSynthesisSecondEditionJohnWileySonsIncNewYorkに記載されている。用語THFとは、テトラヒドロフランを示す。用語DMFとは、NN-ジメチルホルムアミドを示す。用語DHPとは、34-ジヒドロピランを示す。用語PPTSは、ピリジニウムp-トルエンスルホナートを示す。Et3Nにおける用語Etは、エチル基を示す。用語DIBALは、ジイソブチルアルミニウムを示す。用語BuOKは、カリウムブトキシドを示し、用語tBuOKは、カリウムtert-ブトキシドを示す。用語THPは、テトラヒドロピランを示す。用語BBNは、ボラビシクロ331ノナンを示し、用語9-BBNは、9-ボラビシクロ331ノナンを示す。用語ジョーンズ酸化は、第1級アルコール及び第2級アルコールを、カルボン酸及びケトンに夫々酸化する有機反応を示す。ジョーンズ試薬は、希硫酸とアセトン中の三酸化クロム溶液である。重クロム酸カリウムと希硫酸の混合物をジョーンズ試薬として使用することもできる。AcOHにおける用語Acは、アセチル基、又はCH3-C=Oを示し、-OH基が結合して酢酸を形成するカルボニル基の炭素原子に開きの原子価がある。従って、用語AcOHは酢酸、又はCH3-CO2Hを示す。用語TBDMSは、tert-ブチルジメチルシリルを示す。用語TBDPSは、tert-ブチルジフェニルシリルを示す。用語TIPSは、トリイソプロピルシリルを示す。用語TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムを示す。用語EAは、酢酸エチルを示す。用語Rfは、保持係数を示す。薄層クロマトグラフィーにおいて、Rfは、TLCプレートのシリカ上にて、化合物が移動した距離を、溶媒又は溶媒系が移動した距離で割った値として定義されている。用語PGは、プロスタグランジンを示す。用語TLCは、薄層クロマトグラフィーを示す。用語Bzは、ベンゾイル基、又はPh-C=Oを示し、例えば、-OH基が結合して安息香酸を形成するカルボニル基の炭素原子上に開きの原子価がある。例示的な実施形態は、スキームIに示す反応ステップを含む、テトラノール-PGDMを調製するための合成経路を対象とすることができる:R1は、C1-4アルキル基であり、各R2は個々に、C1-5アルキル基又はフェニル基であり、各R3は個々に、C1-4アルキル基であり、R4は、メチル基又はエチル基であり、R5は、保護基である。スキームIの方法による化合物4A、5A、6A、7A、9A、10A、11A、12、13及び14の合成を裏付けるスペクトルデータについては、図1乃至図12を参照。幾つかの実施形態において、保護基R5は、tert-ブチルジメチルシリル基を含み、これは、スキームIに示す反応シーケンスへの導入と、適切な脱保護条件による必要な除去との間の全ての反応条件に対して安定している保護基である。他の例示的な実施形態は、テトラノール-PGDMから化合物15のテトラノール-PGJMを調製する合成方法を対象にすることができ、スキームIIに示す酸触媒脱水を含む。特定の実施形態では、酸は任意の有機酸又は無機酸を含む。特定の実施形態では、酸は酢酸又はトリフルオロ酢酸を含む。スキームIIの方法による化合物15の合成を裏付けるスペクトルデータについては、図13、図14A及び図14Bを参照。他の例示的な実施形態は、化合物27Aのテトラノール-PGEM、及び化合物27Bの、テトラノール-PGEMの重水素化類似体を調製する合成経路を対象とすることができ、スキームIIIに示す反応ステップを含む:R1はC1-4アルキル基であり、各R2は個々に、C1-5アルキル基又はフェニル基であり、各R3は個々に、C1-4アルキル基であり、R4はメチル基又はエチル基であり、R5は保護基であり、R6は水素又は重水素である。スキームIIIの方法による、化合物20A、21A、23A、25A、26A、及び27Aの合成を裏付けるスペクトルデータは、図15乃至図22を参照。特定の実施形態では、R5は、最終の脱保護ステップまでの全ての状況下において残存する保護基である。他の実施形態では、R5は、スキームIIIで示す反応シーケンス又はスキームIIIで示すものとほぼ同じ反応シーケンスを完成させるために必要な様々な反応条件セット下で安定性を維持する別の保護基と交換することができる保護基である。これらの実施形態の一部において、R5は、例えばTBDMS、TIPS、又はTBDPSを含むがこれらに限らない、THP又はシリル保護基である。R5が別の保護基と交換される実施形態では、その保護基は、THP、TBDMS、TIPS又はシリル保護基を含むことができるが、交換された保護基が、交換した保護基と異なることを条件とする。他の例示的な実施形態は、化合物28A及び28Bである夫々テトラノール-PGAM及びテトラノール-PGAM-D6を調製する合成方法を対象とすることができ、スキームIVに示す、適切な前駆体化合物27A及び27Bの酸触媒脱水を含む:他の例示的な実施形態は、化合物34のテトラノール-PGFMを調製する合成経路を対象とすることができ、スキームVに示す反応ステップを含む:上記の例示的な実施形態、及び下記に示す例は、本質的に単なる例示であり、従って、その変形例は、本発明の精神及び範囲から逸脱したものとみなされるべきではない。明細書に示す実施例は、様々なテトラノール-PG代謝物を合成する方法を対象とする実施形態を記載している。<実施例1:テトラノール-PGDMの調製><6-ヒドロキシヘキサン酸からエステルの調製>-6-ヒドロキシヘキサン酸エチル;500g-TBDMSCl;6115g-イミダゾール;425g-DMF;500ml6-ヒドロキシヘキサン酸エチルの無水DMF溶液を氷浴槽で冷却しながら、10分間TBDMSCl及びイミダゾールを一部ずつ処理した。冷却槽を外し、反応混合物を一晩攪拌した。翌日、反応混合物を氷で処理し、5分間攪拌し、H-EAで抽出した。混合した有機相を、水-ブライン、ブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、H-EA100:1乃至70:1によって精製した。生成物の収量は815gであり、TLCRf=08であった。<エステルからホスホナートの調製>-保護エステル2A;4117g-メチルホスホン酸ジメチル;1788ml-27Mn-BuLi;722ml-THF;n-BuLiの25Mヘキサン溶液を、窒素ブランケット下の-75°Cの無水THF中ホスホナート溶液に加えた。3時間後、無水THF中エステル2Aを溶液に添加し、得られた混合物を同じ温度で1時間撹拌した。その後、その混合物を室温で一晩放置した。その後、NH4Cl水溶液を混合物に添加し、得られた混合物を酢酸エチルで抽出し、ブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。蒸発後に得られた残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、CH2Cl2-MeOH100:1によって精製した。生成物の収量は262gであり、Rf=05であった。<ホスホナートからPGラクトンの調製>-ホスホナート3A;2377g-コーリーアルデヒド;1827g-LiCl;272g-TEA;895ml-THF;300mlホスホナート3A及びコーリーアルデヒドの無水THF溶液をLiClで処理し、混合物が透明な溶液になるまで室温で撹拌した。その後、混合物を-10°Cまで冷却し、窒素ブランケット下で5分間TEAを滴下した。生じたスラリーを同じ温度で1時間撹拌した後、冷却槽を外した。得られた混合物を室温で一晩撹拌した。翌日、NH4Cl水溶液を反応混合物に添加し、得られた混合物を酢酸エチルで抽出した。その後、混合した有機相をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し蒸発させた。蒸発後の残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、H-EA10:1乃至5:1によって精製した。生成物の収量は、215gであり、Rf=07であった。<PGラクトンからラクトンの調製>-PG-ラクトン4A;217g-Pd/CaCO3;40g-酢酸エチル;400mlPGラクトン4Aの酢酸エチル溶液を触媒で処理し、生じた懸濁液を一晩、H2下で撹拌した。その後、触媒をセライト濾過し、濾過物を蒸発させ、残渣を精製することなく使用した。粗生成物-212g、Rf=075。<ラクトンからラクトンの調製>-ラクトン5A;211g-NaBH4;156g-MeOH;100mlラクトン5Aの無水メタノール溶液を-7°Cに冷却し、30分間NaBH4で一部ずつ処理した。その後、反応混合物をNH4Cl水溶液で処理した。冷却漕を外し、得られた混合物をジエチルエーテルで抽出した。混合した有機相をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。蒸発後の残渣を精製することなく使用した。粗生成物2118g、Rf=05。<ラクトンからラクトンの調製>-ラクトン6A;2118g-TBDMSCl;9g-イミダゾール;616g-DMF;300mlラクトン6Aの無水DMF溶液を氷浴槽で冷却し、10分間TBDMSCl及びイミダゾールで一部ずつ処理した。冷却槽を外し、反応混合物を一晩撹拌した。翌日、反応混合物を氷で処理し、5分間撹拌し、酢酸エチルで抽出した。混合した有機相を合わせ、水-ブライン、次にブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、によって精製した。生成物の収量は256gであり、Rf=08であった。<ラクトンからラクトンの調製>-ラクトン7A;255g-DIBAl-H;527ml-トルエン;600ml-THF-H2O7:1混合物;50mlラクトン7Aの無水トルエン溶液を-70°Cに冷却し、窒素ブランケット下でDIBALを滴下した。反応混合物を1時間攪拌し、TLCは出発物質を示さなかった。次いで、反応混合物を酢酸エチルで処理し、THF-H2O混合物を追加した。冷却漕を外し、反応混合物を2時間撹拌した。この間に沈殿物が形成されたため、濾過してトルエンで洗浄した。その後、濾過物を蒸発させ、純粋なラクトール27gを得、精製することなく次のステップで使用した。Rf=05であった。<ラクトンからオレフィンの調製>-ラクトール;270g-n-BuLi;4053ml-メチルトリフェニルホスホニウムブロミド;333g-THF;500mlメチルトリフェニルホスホニウムブロミドを、乾いた1リットルの三つ口丸底フラスコに入れた。無水THFを塩に添加し、懸濁液を氷浴槽中で冷却した。懸濁液を攪拌しながら、n-BuLiを、窒素雰囲気下で加えた。氷浴槽を外し、オレンジ色の反応混合物を室温で30分間攪拌した。反応混合物にラクトール8Aを加え、一晩撹拌した。翌日、黄色の反応混合物を、NH4Cl水溶液で急冷し、10分間撹拌した後、酢酸エチルで希釈した。水相を分離し、酢酸エチルで抽出した。混合した有機相をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、H-EA50:1乃至30:1で精製した。生成物の収量は229gであり、Rf=07であった。<オレフィンからトリオールの調製>-オレフィン9A;105g-ジヒドロピラン;03ml-PPTS;21mg-CH2Cl2;20mlオレフィン9Aの無水CH2Cl2溶液を、ジヒドロピランとPPTSで処理した。生じた混合物を室温で一晩攪拌した。翌日、反応混合物をNaHCO3水溶液とブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、H-EA100:1乃至50:1により精製した。生成物の収量は、095gであった。<トリオールからペンタオールの調製>-トリオール10A;095g-9-BBN;120ml-NaOH;15ml-H2O2;153ml-THF;40mlオレフィン10AのTHF溶液を氷浴漕で冷却し、窒素ブランケット下で9-BBNを滴下した。1時間後、冷却槽を外し、反応混合物を2時間撹拌した。次いで、反応混合物を氷浴槽で冷却し、NaOHに続けてH2O2を加えた。反応混合物を2時間撹拌し、酢酸エチルで希釈し、漏斗に移した。次いで、反応混合物をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、H-EA20:1乃至10:1によって精製した。生成物の収量は072gであった。<ペンタオールからテトラオールの調製>-tri-TBSペンタオール11A;061g-TBAF;58ml-THF;3mlTBAFを、tri-TBSペンタオール11AのTHF溶液に添加し、反応混合物を一晩撹拌した。翌日、酢酸エチルを反応溶液に添加し、反応溶液をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、CH2Cl2-MeOH20:1により精製した。生成物の収量は、026gであり、Rf=05であった。<テトラオールから保護されたテトラノールPGDMの調製>-テトラオール12A;255mg-ジョーンズ試薬-アセトン;20mlテトラオール12Aのアセトン溶液を、ジョーンズ試薬により、反応混合物の色が黄色になり、10分間は消えなくなるまで、0°Cで40分間、処理した。次いで、反応混合物を10分以上撹拌し、05mlのi-PrOHで処理し、酢酸エチルで希釈し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、H-EA-HOAc70:30:05により精製した。生成物の収量は、11mgであった。RF=05であった。<保護されたテトラオールPGDMからテトラノールPGDMの調製>-保護されたテトラノールPGDM;180mg-CH2Cl2中10TFA;04ml-CH2Cl2;2ml保護されたテトラノールPGDMの溶液を、10TFAで処理し、室温で一晩撹拌した。翌日、蒸発後の残渣を、フラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、H-EA-HOAc70:30:05乃至30:70:05によって精製した。生成物の収量は、70mgであった。Rf=035であった<実施例2:テトラノール-PGJMの調製>テトラノール-PGDMのCH2Cl2溶液を、TFAで処理し、室温で一晩撹拌した。翌日、蒸発後の残渣を、フラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、H-EA-HOAc60:40:05乃至50:50:05によって精製した。生成物の収量は、26mgであった。Rf=075であった。<実施例3:テトラノール-PGEM-D6、化合物の調製>からエステルの調製-ナトリウム塩16B;20g-5KHSO4水溶液s-n-エーテル中CH2N2ナトリウム塩16Bの飽和水溶液を、pHが約1になるまで、5のKHSO4水溶液で処理した。次いで、この溶液を酢酸エチルで4回抽出した。有機相をブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をエーテル中に溶解し、反応混合物の色が黄色になるまで、CH2N2のエーテル溶液で一部ずつ処理した。蒸発後の残渣を精製せずに次のステップで用いた。<エステルから保護されたエステルの調製>-ヒドロキシエステル17B-1;18g-TBDMSCl;214g-イミダゾール;100g-DMF;20mlエステル17B-1をDMF中に溶解した。TBDMSCl及びイミダゾールを添加し、反応混合物を一晩攪拌した。次いで、反応混合物を、酢酸エチルで希釈し、ブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、ヘキサン-エーテル50:1乃至20:1によって精製した。生成物の収量は、244gであり、Rf=055であった。<保護されたエステルから保護されたエステルの調製>-保護されたエステル18B-1a;244g-ジメチルメチルホスホナート;102ml-25Mn-BuLi;366ml-THF;50mlヘキサン中25Mのn-BuLi溶液を、窒素ブランケット下の‐75°CのTHF溶液に加えた。40分後、THF中のエステル18B-1aを反応溶液に添加し、反応溶液を‐75°Cで1時間、室温で1時間撹拌した。NH4Cl水溶液を添加し、反応混合物を酢酸エチルで抽出し、ブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣を精製せずに次のステップで用いた。<ホスホナートからPGラクトンの調製>-ホスホナート19B-1a;307g-コーリーアルデヒド;2235g-LiCl;037g-TEA;12ml-THF;30mlTHFTEA中のLiCl及びのコーリーアルデヒドを、N2下の-10°Cでホスホナート19B-1aの懸濁液に滴下した。反応混合物を-10°Cで撹拌し、冷却漕を外した。次いで、反応混合物を室温で一晩攪拌した。翌日、NH4Cl水溶液を反応混合物に加えた。次いで、反応混合物を酢酸エチルで抽出し、ブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。蒸発後の残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、ヘキサン-酢酸エチル5:1乃至2:1により精製した。生成物の収量は、234gであり、Rf=06であった。或いはまた、LiCl-TEAを過剰に使用してもよい。<PGラクトンからPGラクトンの調製>-PG-ラクトン20B-1a;234g-Pd/C;07g-酢酸エチル;50mlPG-ラクトン20B-1aを、まず酢酸エチルに溶解した。反応フラスコをN2でフラッシュし、触媒を反応混合物に慎重に滴下した。反応溶液をH2と共に2時間攪拌し、約105mlのH2を除去した。触媒を濾過で除去し、反応混合物を酢酸エチルで洗浄した。濾過物を蒸発させ、フラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、ヘキサン-酢酸エチル3:1乃至2:1によって精製した。生成物の収量は、215gであり、Rf=055であった。<PGラクトンからラクトンの調製>-PG-ラクトン21B-1a;215g-K2CO3;058g-MeOH;30mlラクトン21B-1aをMeOH中に溶解し、K2CO3と共に5時間攪拌した。次いで、反応混合物を酢酸エチルで希釈し、ブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、ヘキサン-酢酸エチル2:1乃至1:1により精製した。生成物の収量は、134gであり、Rf=03であった。<PGラクトンからラクトンの調製>-ラクトン21B-1a;133g-ジヒドロピラン;062ml-PPTS;43mg-CH2Cl2;40mlラクトン21B-1Aa、ジヒドロピラン、PPTS及びCH2Clを混合し、一晩撹拌した。翌日、反応混合物をNaHCO3水溶液、ブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、ヘキサン-酢酸エチル3:1乃至1:1により精製した。生成物の収量は、1495gであり、Rf=07であった。<PGラクトンからラクトールの調製>-ラクトン21B-1a;149g-DIBAl-H;82ml-トルエン;100ml-THF-H2Oの2:1混合物;15mlラクトン21B-1aのトルエン溶液を-70°Cに冷却し、DIBALを窒素ブランケット下で滴下した。反応混合物を1時間撹拌し、TLCは出発物質を示さなかった。THF-H2O混合物を反応フラスコに加え、冷却漕を外し、反応混合物を2時間撹拌した。この間に沈殿物が形成された。沈殿物を濾過し、トルエンで洗浄した。次に、濾過物を蒸発させ、純粋なラクトール16gを得て、精製することなく次のステップに使用した。RF=065であった。<ラクトールからオレフィンの調製>-ラクトール22B-1a;16g-n-BuLi;43ml-メチルトリフェニルホスホニウムブロミド;38g-THF;50mlメチルトリフェニルホスホニウムブロミドを乾いた100mlの三つ口丸底フラスコに入れ、THFを塩に添加し、生じた懸濁液を氷浴槽中で冷却した。反応混合物を窒素雰囲気下で攪拌しながら、n-BuLiを添加した。氷浴槽を外し、オレンジ色の反応混合物を室温で30分間攪拌した。ラクトール22B-1aをTHFに加え、オレンジ色の反応混合物を一晩撹拌した。翌日、黄色の反応混合物をNH4Cl水溶液で急冷し、10分間撹拌し、酢酸エチルで希釈した。水相を分離し、酢酸エチルで抽出した。重なった有機相をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、ヘキサン-酢酸エチル3:1乃至1:1により精製した。生成物の収量は、104gであり、Rf=08であった。或いはまた、メチルトリフェニルホスホニウムブロミドは、最大11モル当量までの過剰n-BuLi塩基と対応させて、最大10モル当量まで過剰に使用することができる。<オレフィンからトリオールの調製>-オレフィン23B-1a;033g-9-BBN;61ml-NaOH10ml;-H2O2;08ml-THF;20mlオレフィン23B-1aのTHF溶液を氷浴漕で冷却し、9-BBNを窒素ブランケット下で溶液に滴下した。1時間後、冷却槽を外し、反応混合物を2時間撹拌した。次いで、反応混合物を氷浴漕で冷却し、NaOHに続けてH2O2を加えた。反応混合物を2時間撹拌し、酢酸エチルで希釈し、漏斗に移した。反応混合物をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、CH2Cl2-MeOH30:1乃至20:1によって精製した。生成物の収量は、035gであり、精製せずに次のステップで使用した。Rf=03であった。<トリオールからテトラオールの調製>-未精製24B-1a;0345g-TBAF;10ml-THF;10mlトリオール24B-1aのTHF溶液にTBAFを加え、反応混合物を一晩撹拌した。翌日、酢酸エチルを反応混合物に添加し、反応混合物をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、MeOH-酢酸エチル-HOAc5:95:05乃至20:80:05により精製した。生成物の収量は、224mgであった。Rf=04。<テトラオールからテトラノールPGEMの調製>-テトラオール25B-1a;214mg-ジョーンズ試薬;-アセトン;70mlテトラオール25B-1aのアセトン溶液を、ジョーンズ試薬により、反応物質が黄色になり、10分間は消えなくなるまで、0°Cで40分間、処理した。反応混合物を10分以上撹拌し、05mlのi-PrOHで処理し、酢酸エチル150mlで希釈し、MgSO4で乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、ヘキサン-酢酸エチル-HOAc60:40:05乃至20:80:05により精製した。生成物の収量は46mgであった。Rf=057であった。<テトラノールPGEMからテトラノールPGAMの調製>-保護されたテトラノールPGEM26B-1a;45mg-HOAc/THF/H2O混合物;5ml保護されたテトラノールPGEM26B-1a溶液5ml中を2日間攪拌し、トルエンで蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル、ヘキサン-酢酸エチル-HOAc25:75:05-ヘキサン-酢酸エチル-HOAc10:90:05により精製した。生成物の収量は、14mgであった。Rf=045であった。本開示は、本発明に対してなされ得る様々な変更及び修正が、本発明の範囲内にあることを目的としていることが理解されるべきである。その他多数の変更も、当該技術の当業者であれば容易に実行でき、本明細書に開示された発明の範囲に含まれている。ここに引用された特許、特許出願公開及び出版物のリストは夫々、あらゆる目的において、参照によってその全体が本明細書の一部となる。