"下記式1:[式1中、Aはエポキシ基を含んでいても良い単環式脂肪族炭化水素基を表し、R1、R2、R3、及びR4はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数1乃至10のアルキル基を表わし、n1及びn2はそれぞれ独立して2乃至6の整数を表わし、n3及びn4はそれぞれ2の整数を表し、n5及びn6はそれぞれ1の整数を表す。]で表わされるエポキシ化合物、及び酸発生剤を含む硬化性組成物。前記式1のAがエポキシ基含有シクロヘキシル基である請求項1に記載の硬化性組成物。前記式1のn1及びn2がそれぞれ2であり、R1、R2、R3、及びR4がそれぞれ水素原子である請求項1に記載の硬化性組成物。前記式1のn1及びn2がそれぞれ3であり、R1、R2、R3、及びR4がそれぞれ水素原子である請求項1に記載の硬化性組成物。前記式1のn1及びn2がそれぞれ4であり、R1、R2、R3、及びR4がそれぞれ水素原子である請求項1に記載の硬化性組成物。前記酸発生剤が光酸発生剤又は熱酸発生剤である請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の硬化性組成物。前記酸発生剤がオニウム塩である請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の硬化性組成物。前記酸発生剤がスルホニウム塩化合物、又はヨードニウム塩化合物である請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の硬化性組成物。前記エポキシ化合物に対して前記酸発生剤を0.1乃至20質量の割合で含有する請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の硬化性組成物。本発明者らは、鋭意検討した結果、シクロヘキサン環の様な単環式脂肪族炭化水素環に置換したカルボキシル基とエポキシ基との間の側鎖を長くすることによって、エポキシ化合物にカチオン硬化性が付与されることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、低粘度でカチオン硬化性が高い硬化性組成物を提供しようとするものである。この硬化性組成物から得られる硬化物は高い靱性を有する。本発明は第1観点として、下記式1:[式1中、Aはエポキシ基を含んでいても良い単環式脂肪族炭化水素基を表し、R1、R2、R3、及びR4はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数1乃至10のアルキル基を表わし、n1及びn2はそれぞれ独立して2乃至6の整数を表わし、n3及びn4はそれぞれ2の整数を表し、n5及びn6はそれぞれ1の整数を表す。]で表わされるエポキシ化合物、及び酸発生剤を含む硬化性組成物、第2観点として、前記式1のAがエポキシ基含有シクロヘキシル基である第1観点に記載の硬化性組成物、第3観点として、前記式1のn1及びn2がそれぞれ2であり、R1、R2、R3、及びR4がそれぞれ水素原子である第1観点に記載の硬化性組成物、第4観点として、前記式1のn1及びn2がそれぞれ3であり、R1、R2、R3、及びR4がそれぞれ水素原子である第1観点に記載の硬化性組成物、第5観点として、前記式1のn1及びn2がそれぞれ4であり、R1、R2、R3、及びR4がそれぞれ水素原子である第1観点に記載の硬化性組成物、第6観点として、前記酸発生剤が光酸発生剤又は熱酸発生剤である第1観点乃至第5観点のいずれか一つに記載の硬化性組成物、第7観点として、前記酸発生剤がオニウム塩である第1観点乃至第6観点のいずれか一つに記載の硬化性組成物、第8観点として、前記酸発生剤がスルホニウム塩化合物、又はヨードニウム塩化合物である第1観点乃至第6観点のいずれか一つに記載の硬化性組成物、第9観点として、前記エポキシ化合物に対して前記酸発生剤を0.1乃至20質量の割合で含有する第1観点乃至第8観点のいずれか一つに記載の硬化性組成物である。アルキレン基を介してエポキシ環が、シクロヘキサン環の様な単環式脂肪族炭化水素環に置換したカルボキシル基上の酸素原子に結合した化合物を光硬化又は熱硬化させたエポキシ樹脂は、アルキレン基を長くすればするほどエポキシ環の自由度が大きくなり、反応性が高くなるためエポキシ基がすべて反応に関与し、カチオン硬化性が高くなる。したがって、本発明の硬化性組成物は、硬化速度が速いため酸発生剤添加量の低減や、弱酸系酸発生剤の使用が可能である。なお、UV照射後も酸発生剤による酸活性種が残存することがあるため、酸発生剤の使用量を低減させることは、金属腐食防止の上で重要である。また、本発明の硬化性組成物は硬化速度が速いため、厚膜硬化が可能である。また、シクロヘキサン環の様な単環式脂肪族炭化水素環に置換したカルボン酸エステルを有するエポキシ化合物と、酸発生剤を含む本発明の硬化性組成物を光硬化させると、優れた機械的特性と優れた光学特性とを両立できる硬化物又は硬化塗膜を形成できることが期待される。特に、単環式脂肪族炭化水素環に置換したカルボキシル基とエポキシ基との間のアルキレン基を長くすると、該硬化物の靭性は高くなることが期待される。本発明では、液状エポキシ化合物を光酸発生剤又は熱酸発生剤を用いて光硬化又は熱硬化させようとするものである。したがって、光酸発生剤又は熱酸発生剤を用いることにより、通常用いられるエポキシ化合物の硬化剤例えばアミンや酸無水物を用いないか又はそれらを用いたとしても極端にそれらの含有量が少ないため、本発明の硬化性組成物は保存安定性が良好である。また、本発明の硬化性組成物は、UV照射による光硬化により硬化するため、熱に弱い材料機材の作製に適用できる。さらに、本発明に用いられるエポキシ化合物は粘度が低いため、本発明の硬化性組成物は充填性が良好である。本発明の硬化性組成物から形成される硬化物は低粘度、速硬性等の特徴を持ち電子部品、光学部品、精密機構部品の被覆や接着に用いることができる。本発明は上記式1で表されるエポキシ化合物及び酸発生剤を含む硬化性組成物である。また、本発明の硬化性組成物は上記式1で表されるエポキシ化合物及び酸発生剤以外に、更に必要に応じて溶剤、他のエポキシ化合物、硬化剤、界面活性剤、及び密着促進剤等を含有することができる。本発明の硬化性組成物における固形分の割合は1乃至100質量、又は5乃至100質量、又は50乃至100質量、又は80乃至100質量である。ここで、固形分とは硬化性組成物の全成分から溶剤を除去した残りの成分である。本発明では液状エポキシ化合物を用い、それに酸発生剤を混合するために基本的に溶剤を用いる必要はないが、必要により溶剤を添加することは可能である。例えば、酸発生剤が固体であり、酸発生剤を炭酸プロピレン等の溶剤に溶解し液状エポキシ化合物と混合して硬化性組成物を製造することができる。また、液状エポキシ化合物に酸発生剤を溶解させる場合でも、得られる硬化性組成物の粘度調整のために一般的な溶剤を添加することはできる。本発明の硬化性組成物における上記式1で表わされるエポキシ化合物の割合は、該硬化性組成物に含まれる固形分に対して、8乃至99.9質量、好ましくは40乃至99質量、更に好ましくは70乃至99質量である。また、本発明の硬化性組成物における酸発生剤の割合は、該硬化性組成物に含まれる固形分に対して、0.1乃至20質量、又は0.1乃至10質量である。本発明の硬化性組成物は、酸発生剤を上記式1で表わされるエポキシ化合物に対して0.1乃至20質量、又は0.1乃至10質量の割合で含有することができる。上記式1において、Aはエポキシ基を含んでいても良い単環式脂肪族炭化水素基を表す。エポキシ基を含んでいても良い単環式脂肪族炭化水素基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、エポキシシクロブチル基、エポキシシクロペンチル基、エポキシシクロヘキシル基、エポキシシクロオクチル基等の環状置換基が挙げられる。前記単環式脂肪族炭化水素基はエポキシ基を含むことが好ましく、例えばエポキシシクロヘキシル基等を好ましく用いることができる。また、上記単環式脂肪族炭化水素基はエポキシ基以外にメチル基等のアルキル基を置換基として含むことができる。上記式1において、R1、R2、R3、及びR4はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数1乃至10のアルキル基を表し、n1及びn2はそれぞれ独立して2乃至6の整数を表し、n3及びn4はそれぞれ2の整数を表し、n5及びn6はそれぞれ1の整数を表す。前記炭素原子数1乃至10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、シクロプロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロブチル基、1-メチル-シクロプロピル基、2-メチル-シクロプロピル基、n-ペンチル基、1-メチル-n-ブチル基、2-メチル-n-ブチル基、3-メチル-n-ブチル基、1,1-ジメチル-n-プロピル基、1,2-ジメチル-n-プロピル基、2,2-ジメチル-n-プロピル基、1-エチル-n-プロピル基、シクロペンチル基、1-メチル-シクロブチル基、2-メチル-シクロブチル基、3-メチル-シクロブチル基、1,2-ジメチル-シクロプロピル基、2,3-ジメチル-シクロプロピル基、1-エチル-シクロプロピル基、2-エチル-シクロプロピル基、n-ヘキシル基、1-メチル-n-ペンチル基、2-メチル-n-ペンチル基、3-メチル-n-ペンチル基、4-メチル-n-ペンチル基、1,1-ジメチル-n-ブチル基、1,2-ジメチル-n-ブチル基、1,3-ジメチル-n-ブチル基、2,2-ジメチル-n-ブチル基、2,3-ジメチル-n-ブチル基、3,3-ジメチル-n-ブチル基、1-エチル-n-ブチル基、2-エチル-n-ブチル基、1,1,2-トリメチル-n-プロピル基、1,2,2-トリメチル-n-プロピル基、1-エチル-1-メチル-n-プロピル基、1-エチル-2-メチル-n-プロピル基、シクロヘキシル基、1-メチル-シクロペンチル基、2-メチル-シクロペンチル基、3-メチル-シクロペンチル基、1-エチル-シクロブチル基、2-エチル-シクロブチル基、3-エチル-シクロブチル基、1,2-ジメチル-シクロブチル基、1,3-ジメチル-シクロブチル基、2,2-ジメチル-シクロブチル基、2,3-ジメチル-シクロブチル基、2,4-ジメチル-シクロブチル基、3,3-ジメチル-シクロブチル基、1-n-プロピル-シクロプロピル基、2-n-プロピル-シクロプロピル基、1-i-プロピル-シクロプロピル基、2-i-プロピル-シクロプロピル基、1,2,2-トリメチル-シクロプロピル基、1,2,3-トリメチル-シクロプロピル基、2,2,3-トリメチル-シクロプロピル基、1-エチル-2-メチル-シクロプロピル基、2-エチル-1-メチル-シクロプロピル基、2-エチル-2-メチル-シクロプロピル基及び2-エチル-3-メチル-シクロプロピル基等が挙げられる。本発明では、上記式1のn1及びn2がそれぞれ2整数であり、R1、R2、R3、及びR4がそれぞれ水素原子である3,4-エポキシブチル基を有するエポキシ化合物を用いることができ、このエポキシ化合物は下記式1-1で表わされる。また、本発明では、上記式1のn1及びn2がそれぞれ3整数であり、R1、R2、R3、及びR4がそれぞれ水素原子である4,5-エポキシペンチル基を有するエポキシ化合物を用いることができ、このエポキシ化合物は下記式1-2で表わされる。さらに、本発明では、上記式1のn1及びn2がそれぞれ4整数であり、R1、R2、R3、及びR4がそれぞれ水素原子である5,6-エポキシヘキシル基を有するエポキシ化合物を用いることができ、このエポキシ化合物は下記式1-3で表わされる。上記式1で表わされるエポキシ化合物は、以下に例示することができる。上記式1で表されるエポキシ化合物は例えば、シクロアルケンジカルボン酸無水物と炭素原子数4乃至8のアルケノールを反応させ、そして得られた不飽和結合を有する化合物中間体と過酸化物を反応させて製造することができる。前記シクロアルケンジカルボン酸無水物としては、4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、4-メチル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、3-メチル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物等、あるいはその混合物を用いることができる。前記アルケノールとしては、3-ブテン-1-オール、4-ペンテン-1-オール、又は5-ヘキセン-1-オール、3-ヘキセン-1-オール、3-メチル-3-ブテン-1-オール等を用いることができる。これらのアルケノールは、例えば以下に示される。上記不飽和結合を有する化合物中間体は、以下に示される。[上記式中、Aは不飽和結合を含んでいても良い単環式脂肪族炭化水素基を表し、R1、R2、R3、及びR4はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数1乃至10のアルキル基を表わし、n1及びn2はそれぞれ独立して2乃至6の整数を表わし、n3及びn4はそれぞれ2の整数を表わし、n5及びn6はそれぞれ1の整数を表す。]即ち、本発明に用いられる上記式1で表されるエポキシ化合物は、上記式1-2を例示すれば以下の方法で得ることができる。上記反応では、4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物と4-ペンテン-1-オールを反応させて、ビス4-ペンテニル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸エステルを合成する。この反応はトルエン等の溶媒中で、p-トルエンスルホン酸等の触媒を用い、室温乃至110°C、0乃至20時間で行うことができる。そして、このトリエン化合物を過酸化物で酸化してエポキシ化合物を得ることができる。ここで過酸化物としては、例えば、メタクロロ過安息香酸、過酢酸、過酸化水素-タングステン酸等を用いることができる。この反応はクロロホルム等の溶媒中で、0乃至60°C、1乃至20時間で行うことができる。また、中間体のビス4-ペンテニル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸エステルは、p-トルエンスルホン酸等の触媒を用いて、4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸と4-ペンテン-1-オールを反応させることによっても得ることができる。本発明では上記式1で表わされるエポキシ化合物と、それ以外のエポキシ化合物を併用することができる。上記式1で表わされるエポキシ化合物と、それ以外のエポキシ化合物は、エポキシ基のモル比で1:0.1乃至1:0.5の範囲で用いることが可能である。上記式1で表わされるエポキシ化合物以外のエポキシ化合物としては、以下に例示することができる。固形エポキシ化合物、トリス-2,3-エポキシプロピル-イソシアヌレート式2-1、商品名:テピック、日産化学工業株製。液状エポキシ化合物式2-2、商品名:エピコート828、ジャパンエポキシレジン株製。液状エポキシ化合物式2-3、商品名:YX8000、ジャパンエポキシレジン株製。液状エポキシ化合物式2-4、商品名:DME100、新日本理化株製。液状エポキシ化合物式2-5、商品名:CE-2021P、ダイセル株式会社製。また、本発明では、液状エポキシ化合物として、以下のトリス-3,4-エポキシブチル-イソシアヌレート式2-6、トリス-4,5-エポキシペンチル-イソシアヌレート式2-7、トリス-5,6-エポキシヘキシル-イソシアヌレート式2-8を用いることができる。トリス-2,3-エポキシプロピル-イソシアヌレート1モルに無水プロピオン酸0.8モルを加えて変性させた液状エポキシ化合物式2-9、日産化学工業株製、商品名:テピックパスB22。式2-9は、モル比で2-9-1:2-9-2:2-9-3:2-9-4を約35:45:17:3の割合で含有する。トリス-2,3-エポキシプロピル-イソシアヌレート1モルに無水プロピオン酸0.4モルを加えて変性させた液状エポキシ化合物式2-10、日産化学工業株製、商品名:テピックパスB26。式2-10は、モル比で2-10-1:2-10-2:2-10-3を約60:32:8の割合で含有する。本発明では、カチオン硬化性モノマーとして、エポキシ化合物以外にビニルエーテル化合物、オキセタン化合物、カーボネート化合物、ジチオカーボネート化合物等を用いることができる。ビニル基含有化合物ビニルエーテル化合物等としては、ビニル基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、2-ヒドロキシエチルビニルエーテルHEVE、ジエチレングリコールモノビニルエーテルDEGV、2-ヒドロキシブチルビニルエーテルHBVE、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。また、α及び/又はβ位にアルキル基、アリル基等の置換基を有するビニル化合物も使用することができる。さらに、エポキシ基及び/又はオキセタン基等の環状エーテル基を含むビニルエーテル化合物を使用することができ、例えば、オキシノルボルネンジビニルエーテル及び3、3-ジメタノールオキセタンジビニルエーテル等が挙げられる。また、ビニル基とメタアクリル基を有するハイブリッド化合物を使用することができ、例えば、メタアクリル酸2-2-ビニロキシエトキシエチルVEEA,VEEM等が挙げられる。これらは、単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。オキセタニル基含有化合物オキセタン化合物としては、オキセタニル基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、3-エチル-3-フェノキシメチルオキセタンPOX、ジ[1-エチル3-オキセタニル]メチルエーテルDOX、3-エチル-3-2-エチルヘキシロキシメチルオキセタンEHOX、3-エチル-3-{[3-トリエトキシシリルプロポキシ]メチル}オキセタンTESOX、オキセタニルシルセスキオキサンOX-SQ、フェノールノボラックオキセタンPNOX-1009等が挙げられる。また、オキセタニル基とメタアクリル基を有するハイブリッド化合物1-エチル-3-オキセタニルメチルメタアクリレートを使用することができる。これらのオキセタン系化合物は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。カーボネート化合物、ジチオカーボネート化合物としては、分子内にカーボネート基、又はジチオカーボネート基を有する化合物であれば特に限定されない。本発明で用いられる酸発生剤としては、光酸発生剤又は熱酸発生剤を用いることができる。光酸発生剤又は熱酸発生剤は、光照射又は加熱により直接又は間接的に酸を発生するものであれば特に限定されない。前記光酸発生剤の具体例としては、トリアジン系化合物、アセトフェノン誘導体化合物、ジスルホン系化合物、ジアゾメタン系化合物、スルホン酸誘導体化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩等のオニウム塩、メタロセン錯体、鉄アレーン錯体などを用いることができる。前記ヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムメシレート、ジフェニルヨードニウムトシレート、ジフェニルヨードニウムブロミド、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビスp-tert-ブチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビスp-tert-ブチルフェニルヨードニウムメシレート、ビスp-tert-ブチルフェニルヨードニウムトシレート、ビスp-tert-ブチルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビスp-tert-ブチルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビスp-tert-ブチルフェニルヨードニウムクロリド、ビスp-クロロフェニルヨードニウムクロライド、ビスp-クロロフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート等が挙げられる。更にビス4-tert-ブチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどのビスアルキルフェニルヨードニウム塩、アルコキシカルボニルアルコキシ-トリアルキルアリールヨードニウム塩例えば、4-[1-エトキシカルボニル-エトキシフェニル]-2,4,6-トリメチルフェニル-ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなど、ビスアルコキシアリールヨードニウム塩例えば、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのビスアルコキシフェニルヨードニウム塩等が挙げられる。前記スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウムクロリド、トリフェニルスルホニウムブロミド、トリp-メトキシフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリp-メトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリp-エトキシフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等のトリフェニルスルホニウム塩や、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス[4-ジフェニルスルホニオフェニル]スルフィド-ビス-ヘキサフルオロアンチモネート、ビス[4-ジフェニルスルホニオフェニル]スルフィド-ビス-ヘキサフルオロホスフェート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。前記ホスホニウム塩としては、例えば、トリフェニルホスホニウムクロリド、トリフェニルホスホニウムブロミド、トリp-メトキシフェニルホスホニウムテトラフルオロボレート、トリp-メトキシフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリp-エトキシフェニルホスホニウムテトラフルオロボレート、4-クロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。前記メタロセン錯体としては、例えば、トリフェニルセレニウムヘキサフルオロホスフェート等のセレニウム塩、η5又はη6-イソプロピルベンゼンη5-シクロペンタジエニル鉄IIヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。また、光酸発生剤としては以下の化合物も用いることができる。前記光酸発生剤としては、スルホニウム塩化合物又はヨードニウム塩化合物が好ましい。それらのアニオン種としては、CF3SO3、C4F9SO3、C8F17SO3、カンファースルホン酸アニオン、トシル酸アニオン、BF4、PF6、AsF6及びSbF6などが挙げられる。特に強酸性を示す六フッ化リン及び六フッ化アンチモン等のアニオン種が好ましい。そして光酸発生剤としては、例えば、上記式B-1、式B-2、式B-3、式B-8、式B-9及び式B-10が好ましく、特に式B-1及び式B-2が好ましい。これらの光酸発生剤は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。前記熱酸発生剤としては、例えば、スルホニウム塩、ホスホニウム塩が挙げられ、スルホニウム塩が好ましく用いられる。また、熱酸発生剤としては、以下の化合物を例示することができる。式C-1中、Rはそれぞれ独立して炭素原子数1乃至12のアルキル基又は炭素原子数6乃至20のアリール基を表わし、特に炭素原子数1乃至12のアルキル基が好ましい。これらの熱酸発生剤は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。本発明の硬化性組成物は溶剤を含むことができる。溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコール類、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン等のケトン類、及び酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、3-ヒドロキシプロピオン酸メチル、3-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-ヒドロキシプロピオン酸プロピル、3-ヒドロキシプロピオン酸ブチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-メトキシプロピオン酸ブチル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-エトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸ブチル、2-ブトキシプロピオン酸メチル、2-ブトキシプロピオン酸エチル、2-ブトキシプロピオン酸プロピル、2-ブトキシプロピオン酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸プロピル、3-エトキシプロピオン酸ブチル、3-プロポキシプロピオン酸メチル、3-プロポキシプロピオン酸エチル、3-プロポキシプロピオン酸プロピル、3-プロポキシプロピオン酸ブチル、3-ブトキシプロピオン酸メチル、3-ブトキシプロピオン酸エチル、3-ブトキシプロピオン酸プロピル、3-ブトキシプロピオン酸ブチル等のエステル類が挙げられる。本発明の硬化性組成物は必要に応じて慣用の添加剤を含むことができる。このような添加剤としては、例えば、顔料、着色剤、増粘剤、増感剤、消泡剤、レベリング剤、塗布性改良剤、潤滑剤、安定剤酸化防止剤、熱安定剤、耐光安定剤など、可塑剤、界面活性剤、溶解促進剤、充填剤、帯電防止剤、硬化剤などが挙げられる。これらの添加剤は単独で又は二種以上を組み合わせてもよい。本発明の硬化性組成物には、塗布性を向上させる目的で界面活性剤を添加することができる。このような界面活性剤としては、特に限定されず、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤等が挙げられる。前記界面活性剤は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの界面活性剤の中で、塗布性改善効果の高さからフッ素系界面活性剤が好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例としては、商品名:エフトツプ[登録商標]EF301、EF303、EF352三菱マテリアル電子化成株株トーケムプロダクツ製、商品名:メガファック[登録商標]F171、F173、R-30、R-08、R-90、BL-20、F-482DIC株大日本インキ化学工業株製、商品名:フロラードFC430、FC431住友スリーエム株製、商品名:アサヒガード[登録商標]AG710、サーフロン[登録商標]S-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106旭硝子株製等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。本発明の硬化性組成物における界面活性剤の割合は、該硬化性組成物に含まれる固形分に対して、0.0008乃至4.5質量、好ましくは0.0008乃至2.7質量、より好ましくは0.0008乃至1.8質量である。本発明の硬化性組成物には、現像後の基板との密着性を向上させる目的で、密着促進剤を添加することができる。このような密着促進剤としては、例えば、トリメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン等のクロロシラン類、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルビニルエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類、ヘキサメチルジシラザン、N,N’-ビストリメチルシリルウレア、ジメチルトリメチルシリルアミン、トリメチルシリルイミダゾール等のシラザン類、ビニルトリクロロシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-N-ピペリジニルプロピルトリメトキシシラン等のシラン類、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、インダゾール、イミダゾール、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、ウラゾール、チオウラシル、メルカプトイミダゾール、メルカプトピリミジン等の複素環状化合物や、1,1-ジメチルウレア、1,3-ジメチルウレア等の尿素、またはチオ尿素化合物等を挙げることができる。前記密着促進剤は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。本発明の硬化性組成物における密着促進剤の割合は、該硬化性組成物に含まれる固形分に対して、通常18質量以下、好ましくは0.0008乃至9質量、より好ましくは0.04乃至9質量である。本発明の硬化性組成物は、増感剤を含んでいても良い。増感剤としては、例えば、アントラセン、フェノチアゼン、ぺリレン、チオキサントン、ベンゾフェノンチオキサントン等が挙げられる。また、増感色素としては、例えば、チオピリリウム塩系色素、メロシアニン系色素、キノリン系色素、スチリルキノリン系色素、ケトクマリン系色素、チオキサンテン系色素、キサンテン系色素、オキソノール系色素、シアニン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム塩系色素等が挙げられる。特に好ましいのは、アントラセン系の増感剤であり、カチオン硬化触媒感放射性カチオン重合開始剤と併用する事により、感度が飛躍的に向上すると共に、ラジカル重合開始機能も有する。したがって、本発明のようにカチオン硬化システムとラジカル硬化システムを併用するハイブリッドタイプでは、触媒種をシンプルにできる。具体的なアントラセンの化合物としては、ジブトキシアントラセン、ジプロポキシアントラキノン等が有効である。本発明の硬化性組成物における増感剤の割合は、該硬化性組成物に含まれる固形分に対して、0.01乃至20質量、好ましくは0.01乃至10質量である。本発明では上記式1で表わされるエポキシ化合物及び光酸発生剤を含む硬化性組成物を基板上に塗布し光照射により硬化することができる。また光照射の前後に加熱することもできる。また、本発明では上記式1で表わされるエポキシ化合物及び熱酸発生剤を含む硬化性組成物を基板上に塗布し加熱により硬化することができる。さらに、本発明では上記式1で表わされるエポキシ化合物及び熱酸発生剤と光酸発生剤を含む硬化性組成物を基板上に塗布し加熱後に光照射により硬化することができる。本発明の硬化性組成物を基板上に塗布する方法としては、例えば、フローコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法等を挙げることができる。本発明の硬化性組成物から形成される塗膜の厚みは、硬化物の用途に応じて、0.01μm乃至10mm程度の範囲から選択でき、例えばフォトレジストに用いる場合は0.05乃至10μm特に0.1乃至5μm程度とすることができ、プリント配線基板に用いる場合は10μm乃至5mm特に100μm乃至1mm程度とすることができ、光学薄膜に用いる場合は0.1乃至100μm特に0.3乃至50μm程度とすることができる。光酸発生剤を用いる場合の照射又は露光する光としては、例えば、ガンマー線、X線、紫外線、可視光線等が挙げられ、通常、可視光線又は紫外線、特に紫外線が用いられる場合が多い。光の波長は、例えば150乃至800nm、好ましくは150乃至600nm、さらに好ましくは200乃至400nm、特に300乃至400nm程度である。照射光量は、塗膜の厚みにより異なるが、例えば2乃至20000mJ/cm2、好ましくは5乃至5000mJ/cm2程度とすることができる。光源としては、露光する光線の種類に応じて選択でき、例えば紫外線の場合は低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、重水素ランプ、ハロゲンランプ、レーザー光ヘリウム-カドミウムレーザー、エキシマレーザーなど等を用いることができる。このような光照射により、本発明の上記式1で表わされるエポキシ化合物及び光酸発生剤を含む硬化性組成物の硬化反応が進行する。熱酸発生剤を用いた場合の加熱や、光酸発生剤を用いた場合の光照射後に必要により行われる塗膜の加熱は、例えば60乃至250°C、好ましくは100乃至200°C程度で行われる。加熱時間は、3秒以上例えば、3秒乃至5時間程度の範囲から選択でき、例えば、5秒乃至2時間、好ましくは20秒乃至30分程度であり、通常は1分乃至3時間例えば、5分乃至2.5時間程度である。さらに、パターンや画像を形成する場合例えば、プリント配線基板などを製造する場合、基材上に形成した塗膜をパターン露光してもよい。このパターン露光は、レーザー光の走査により行ってもよく、フォトマスクを介して光照射することにより行ってもよい。このようなパターン露光により生成した非照射領域未露光部を現像液で現像又は溶解することによりパターン又は画像を形成することできる。上記現像液としては、アルカリ水溶液や有機溶剤を用いることができる。前記アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、コリン等の水酸化四級アンモニウムの水溶液、エタノールアミン、プロピルアミン、エチレンジアミン等のアミン水溶液等を挙げることができる。前記アルカリ現像液は10質量以下の水溶液であることが一般的で、好ましくは0.1乃至3.0質量の水溶液等が用いられる。さらに上記アルカリ現像液にアルコール類や界面活性剤を添加することもでき、これらの配合量はそれぞれ、アルカリ現像液100質量部に対して、好ましくは0.05乃至10質量部である。この中で、0.1乃至2.38質量の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いることができる。また、現像液としての有機溶剤としては、一般的な有機溶剤を用いることが可能であり、例えば、アセトン、アセトニトリル、トルエン、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロパノール、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテート、乳酸エチル、シクロヘキサノン等が挙げられる。これらは、単独で又はニ種類以上を組み合わせて用いることができる。特にプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等は好ましく使用することができる。以下のエポキシ化合物を準備した。エポキシ化合物の準備合成例1ビス3,4-エポキシブチル-4,5-エポキシシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸エステルの合成ディーンスターク装置、冷却器をつけた反応器にシス-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物10g、p-トルエンスルホン酸一水和物0.6g、トルエン100mL、3-ブテン-1-オール10gを加え、還流温度で5時間反応させた。反応終了後、重曹水洗浄、水洗浄を行い、濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒としてヘキサン/酢酸エチルを、ヘキサン/酢酸エチル=80/20の体積比で使用で精製し、ビス3-ブテニル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸エステル18gを無色液体として得た。反応器にビス3-ブテニル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸エステル17g、クロロホルム300mLを加え、0-10°Cに冷却後、メタクロロ過安息香酸51gを加え、室温まで昇温し、18時間反応させた。反応終了後、チオ硫酸ナトリウム水溶液でクエンチし、重曹水を加えて、抽出した。有機層を重曹水洗浄、水洗浄し、乾燥、溶媒留去して粗物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒としてヘキサン/酢酸エチルを、ヘキサン/酢酸エチル=40/60~10/90の体積比で使用にて精製して淡黄色液体16gを得た。得られた化合物は上記式1-1に相当するビス3,4-エポキシブチル-4,5-エポキシシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸エステルであった。このエポキシ化合物をi-1とした。合成例2ビス4,5-エポキシペンチル-4,5-エポキシシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸エステルの合成ディーンスターク装置、冷却器をつけた反応器にシス-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物10g、p-トルエンスルホン酸一水和物0.6g、トルエン100mL、4-ペンテン-1-オール12gを加え、還流温度で6時間反応させた。反応終了後、重曹水洗浄、水洗浄を行い、濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒としてヘキサン/酢酸エチルを、ヘキサン/酢酸エチル=80/20の体積比で使用で精製し、ビス4-ペンテニル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸エステル19gを無色液体として得た。反応器にビス4-ペンテニル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸エステル19g、クロロホルム300mLを加え、0-10°Cに冷却後、メタクロロ過安息香酸50gを加え、室温まで昇温し、19時間反応させた。反応終了後、チオ硫酸ナトリウム水溶液でクエンチし、重曹水を加えて、抽出した。有機層を重曹水洗浄、水洗浄し、乾燥、溶媒留去して粗物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒としてヘキサン/酢酸エチルを、ヘキサン/酢酸エチル=40/60~10/90の体積比で使用にて精製して無色液体21gを得た。得られた化合物は上記式1-2に相当するビス4,5-エポキシペンチル-4,5-エポキシシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸エステルであった。このエポキシ化合物をi-2とした。合成例3ビス5,6-エポキシヘキシル-4,5-エポキシシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸エステルの合成ディーンスターク装置、冷却器をつけた反応器にシス-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物10g、p-トルエンスルホン酸一水和物0.6g、トルエン100mL、5-ヘキセン-1-オール15gを加え、還流温度で3時間反応させた。反応終了後、重曹水洗浄、水洗浄を行い、濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒としてヘキサン/酢酸エチルを、ヘキサン/酢酸エチル=90/10の体積比で使用で精製し、ビス5-ヘキセニル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸エステル22gを淡黄色液体として得た。反応器にビス5-ヘキセニル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸エステル21g、クロロホルム300mLを加え、0-10°Cに冷却後、メタクロロ過安息香酸53gを加え、室温まで昇温し、15時間反応させた。反応終了後、チオ硫酸ナトリウム水溶液でクエンチし、重曹水を加えて、抽出した。有機層を重曹水洗浄、水洗浄し、乾燥、溶媒留去して粗物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒としてヘキサン/酢酸エチルを、ヘキサン/酢酸エチル=40/60~10/90の体積比で使用にて精製して淡黄色液体23gを得た。得られた化合物は上記式1-3に相当するビス5,6-エポキシヘキシル-4,5-エポキシシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸エステルであった。このエポキシ化合物をi-3とした。合成例4ビス2,3-エポキシプロピル-4,5-エポキシシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸エステルの合成反応器にシス-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸15g、炭酸カリウム37g、ジメチルホルムアミド255mL、アリルブロミド32gを加え、室温で15時間反応させた。反応終了後、ろ過し、トルエンと水を加え、抽出した。水洗浄、濃縮したあと、シリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒としてヘキサン/酢酸エチルを、ヘキサン/酢酸エチル=90/10の体積比で使用で精製し、ビス2-プロペニル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸エステル21gを淡黄色液体として得た。反応器にビス2-プロペニル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸エステル21g、クロロホルム300mLを加え、0-10°Cに冷却後、メタクロロ過安息香酸87gを加え、室温まで昇温し、5日間反応させた。反応終了後、チオ硫酸ナトリウム水溶液でクエンチし、重曹水を加えて、抽出した。有機層を重曹水洗浄、水洗浄し、乾燥、溶媒留去して粗物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒としてヘキサン/酢酸エチルを、ヘキサン/酢酸エチル=50/50~10/90の体積比で使用にて精製して無色液体20gを得た。得られた化合物はビス2,3-エポキシプロピル-4,5-エポキシシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸エステルであった。このエポキシ化合物をi-4とした。光酸発生剤の準備スルホニウム塩の炭酸プロピレン溶液上記式B-2、有効成分50、商品名:CPI-101A、サンアプロ株式会社製を準備した。この光酸発生剤ii-1とした。硬化性組成物の光硬化性試験エポキシ化合物と酸発生剤を配合し、40°Cで混合し、脱泡して硬化性組成物を調製した。表1において、配合量は全て質量部で記載し、エポキシ化合物及び酸発生剤は有効成分の質量部を記載した。炭酸プロピレン溶液の光酸発生剤ii-1はそのまま使用した。調製した硬化性組成物に9.5cmの距離からUV紫外線照射を行い、光硬化挙動をレオメーター粘度計で観測し、貯蔵弾性率が10の4乗Pa1×104Paに至った時間秒を硬化時間秒と定義した。UV照射は600秒まで行った。レオメーターはレオロジカ社製商品名:VAR-50型、ランプはHg-Xeランプを用いた。UV照射において、照射したUV波長は365nmで、照射量は20mW/cm2であった。UV照射における照射窓材は3mm厚の硬質ガラスを用い、硬化性組成物から形成された塗膜の膜厚は50μmであった。硬化性組成物の光硬化速度を測定した。"