導電性材料によって構成される透明導電膜であって、表面にミシン目状に設けた孔の列で構成され、前記孔の列に沿って折り曲げ可能な折り曲げ部を有することを特徴とする透明導電膜。前記折り曲げ部は、前記透明導電膜の表面から裏面まで貫通した貫通孔を含む孔の列で構成される、請求項1に記載の透明導電膜。前記折り曲げ部は、前記透明導電膜の表面から裏面まで貫通していない有底孔を含む孔の列で構成される、請求項1に記載の透明導電膜。前記導電性材料は、導電性ナノワイヤ材料、カーボンナノワイヤ、導電性メッシュ材料、及び、導電性高分子材料からなる群から選択する、請求項1から3のいずれか一項に記載の透明導電膜。しかし、上記特許文献1では、折り曲げ部分を直角状にするのではなくある程度の曲率となるように丸みをもたせている。この場合、タッチパネルを直角状に折り曲げることはできない。また、上記引用文献2では、折り曲げるのではなく、立体形状の基板の側面に電極と該電極を外部への取り出し部に接続するリード回路とを形成している。つまり、引用文献2では、タッチパネルを折り曲げるのではなく、立体形状の基板の側面に電極等を形成できる場合に限られる。そこで、本発明の目的は、タッチパネル等に利用可能な透明導電膜について、所定箇所で折り曲げ可能な透明導電膜を提供することである。本発明に係る透明導電膜は、導電性材料によって構成される透明導電膜であって、表面にミシン目状に設けた孔の列で構成され、前記孔の列に沿って折り曲げ可能な折り曲げ部を有することを特徴とする。また、前記折り曲げ部は、前記透明導電膜の表面から裏面まで貫通した貫通孔を含む孔の列で構成されてもよい。さらに、前記折り曲げ部は、前記透明導電膜の表面から裏面まで貫通していない有底孔を含む孔の列で構成されてもよい。前記導電性材料は、導電性ナノワイヤ材料、カーボンナノワイヤ、導電性メッシュ材料、及び、導電性高分子材料からなる群から選択してもよい。本発明に係る透明導電膜は、導電性材料を用いて構成され、表面にミシン目状に設けられた孔の列からなる折り曲げ部を有するので、この折り曲げ部の孔の列に沿って折り曲げ可能である。以下に、本発明の実施の形態に係る折り曲げ可能な透明導電膜について添付図面を用いて説明する。なお、図面において実質的に同一の部材には同一の符号を付している。実施の形態1図1は、実施の形態1に係る透明導電膜10の平面図である。図2は、図1の透明導電膜10の表面にミシン目状に設けられた孔が貫通孔4の場合のA-A線に沿った断面構造を示す断面図である。図3は、図1の透明導電膜10の表面にミシン目状に設けられた孔が有底孔6の場合のA-A線に沿った断面構造を示す断面図である。図4は、図1の透明導電膜を折り曲げ部で折り曲げた状態を示す断面図である。実施の形態1に係る透明導電膜10は、導電性ナノワイヤ材料3によって構成され、表面にミシン目状に設けられた孔の列で構成され、孔の列に沿って折り曲げ可能な折り曲げ部を有する。そこで、この透明導電膜10では、折り曲げ部の孔の列に沿って折り曲げ可能である。この実施の形態1に係る透明導電膜10では、透明導電膜10を構成する材料として、折り曲げ負荷に対して抵抗値変化の少ない導電性材料を用いることを特徴とする。図6は、ITOからなる透明導電膜◆と、銀ナノワイヤからなる透明導電膜■とについて、8mmφマンドレル屈曲試験テスト結果の折り曲げ回数と抵抗値変化率との関係を示すグラフである。この図6に示すように、通常よく使用されるITOインジウムスズ酸化物材料からなる透明導電膜は、折り曲げ等の機械的負荷に弱く、わずかな折り曲げであってもその抵抗値が大きく変化する。一方、図6の8mmφマンドレル屈曲試験テスト結果に示すように、導電性ナノワイヤ材料の一つである銀ナノワイヤ材料からなる透明導電膜は、10回を越える折り曲げ回数を経ても抵抗値変化がほとんどないほど十分な折り曲げ耐性を有している。そこで、この銀ナノワイヤ材料からなる透明導電膜では、折り曲げた場合にも抵抗率変化がほとんどないため、所定箇所で折り曲げ可能となる。また、この透明導電膜10は、表面にミシン目状に設けられた孔の列で構成され、孔の列に沿って折り曲げ可能な折り曲げ部を有する。このミシン目状に設けられた孔は、図2に示すように表面から裏面まで貫通した貫通孔4であっても、あるいは、図3に示すように表面から裏面まで貫通していない有底孔6であってもよい。また、この孔の列は直線状に設けられていることが好ましいが、曲線状であってもよい。なお、孔の列を構成する各孔の孔径や、孔と孔との間隔は特に制限されない。なお、孔の径が大きくなりすぎると引き回し部分が大きくなり、ディスプレイ部分が小さくなるので、孔の径は、1mm以下が好ましい。また、孔の径が小さすぎると折り曲げ効果が小さくなるので、50μm以上が好ましい。さらに、孔の間隔は、大きすぎると折り曲げ効果が小さくなるため20mm以下が好ましい。また、孔の間隔は、狭くなると100μm以上が好ましい。また、図1の平面図では、孔の列を2列設けているが、これに限られず、図5の平面図に示すように孔の列は1列でもよく、あるいは3列以上設けてもよい。以下に、この透明導電膜10を構成する各構成部材について説明する。<透明導電膜>透明導電膜10を構成する導電性材料としては、導電性ナノワイヤ材料、カーボンナノワイヤ、導電性メッシュ材料、及び、導電性高分子材料からなる群から選択して用いることができる。<導電性ナノワイヤ材料>導電性ナノワイヤ材料としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル、金めっきされた銀、アルミニウム等を用いることができる。なお、導電性ナノワイヤ材料3としては、上記例示に限定されるものではない。導電性ナノワイヤ材料として、特に銀ナノワイヤが好ましい。また、図6の8mmφマンドレル屈曲試験テスト結果に示すように、この導電性ナノワイヤ材料の一つである銀ナノワイヤ材料からなる透明導電膜■は、10回を超える折り曲げ回数を経ても抵抗値変化がほとんどないほど十分な折り曲げ耐性を有している。なお、導電性ナノワイヤ材料を透明導電材料として用いる提案特開2010-244747号公報、特表2009-505358号公報がある。<カーボンナノワイヤ>カーボンナノワイヤとしては、例えば、カーボンナノチューブを使用できる。<導電性メッシュ材料>導電性メッシュ材料としては、例えば、銅メッシュ、アルミメッシュ等を使用できる。なお、導電性メッシュ材料は、上記のものに限られず、これらを複合して用いてもよい。<導電性高分子材料>導電性高分子材料としては、例えば、PEDOTポリエチレンジオキシチオフェン、PSSポリスチレンスルホン酸等を使用できる。なお、導電性高分子材料は、これらに限られず、これらを複合して用いてもよい。<製造方法>この透明導電膜10は、例えば、以下のようにして得られる。a導電性ナノワイヤ材料として銀ナノワイヤからなる導電膜を形成する。b銀ナノワイヤからなる導電膜の表面に、例えば、レーザ光の照射によってミシン目状の貫通孔の列を形成する。なお、貫通孔4ではなく有底孔6を形成する場合には、圧縮機等によって表面から有底孔6を形成してもよい。以上によって、銀ナノワイヤからなり、表面にミシン目状の貫通孔4の列で構成され、前記孔の列に沿って折り曲げ可能な折り曲げ部2を有する透明導電膜10が得られる。