"分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にフルオロアルキル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBと、分子内にフェノール部位及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーCとを、該モノマーAのモル数に対して、5~200モルの量の重合開始剤Dの存在下で重合させることにより得られる含フッ素高分岐ポリマー。前記モノマーAがビニル基又はメタアクリル基の何れか一方を少なくとも1つ有する化合物である、請求項1に記載の含フッ素高分岐ポリマー。前記モノマーAがジビニル化合物又はジメタアクリレート化合物である、請求項2に記載の含フッ素高分岐ポリマー。前記モノマーAがエチレングリコールジメタアクリレートである、請求項3に記載の含フッ素高分岐ポリマー。前記モノマーAがジビニルベンゼンである、請求項3に記載の含フッ素高分岐ポリマー。前記モノマーAのモル数に対して5~300モルの量の前記モノマーBを用いて得られる、請求項1に記載の含フッ素高分岐ポリマー。前記モノマーBがビニル基又はメタアクリル基の何れか一方を少なくとも1つ有する化合物である、請求項6に記載の含フッ素高分岐ポリマー。前記モノマーBが下記式[1]で表される化合物である、請求項7に記載の含フッ素高分岐ポリマー。式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2はヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素原子数2~12のフルオロアルキル基を表す。前記モノマーBが下記式[2]で表される化合物である、請求項8に記載の含フッ素高分岐ポリマー。式中、R1は前記式[1]における定義と同じ意味を表し、Xは水素原子又はフッ素原子を表し、mは1又は2を表し、nは0~5の整数を表す。前記モノマーAのモル数に対して10~300モルの量の前記モノマーCを用いて得られる、請求項1に記載の含フッ素高分岐ポリマー。前記モノマーCがビニル基又はメタアクリル基の何れか一方を少なくとも1つ有する化合物である、請求項10に記載の含フッ素高分岐ポリマー。前記モノマーCが下記式[3]で表される化合物である、請求項11に記載の含フッ素高分岐ポリマー。式中、R3は水素原子又はメチル基を表し、Lは単結合、又はエーテル結合を含んでいてもよい炭素原子数1~6のアルキレン基を表す。前記モノマーCが下記式[4]で表される化合物である、請求項12に記載の含フッ素高分岐ポリマー。式中、R3は前記式[3]における定義と同じ意味を表す。前記重合開始剤Dがアゾ系重合開始剤である、請求項1乃至請求項13のうち何れか一項に記載の含フッ素高分岐ポリマー。前記重合開始剤Dが2,2-アゾビスイソ酪酸ジメチルである、請求項14に記載の含フッ素高分岐ポリマー。請求項1乃至請求項15のうち何れか一項に記載の含フッ素高分岐ポリマーからなる、ネガ型レジストの撥液剤。a請求項1乃至請求項15のうち何れか一項に記載の含フッ素高分岐ポリマー、bアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂、c光酸発生剤、及びd架橋剤を含む、ネガ型感光性組成物。前記d架橋剤がアルコキシメチルメラミンである、請求項17に記載の感光性組成物。さらに着色剤を含む、請求項17に記載の感光性組成物。隔壁の形成に用いられる、請求項17乃至請求項19のうち何れか一項に記載の感光性組成物。請求項17乃至請求項19のうち何れか一項に記載の感光性組成物より得られる塗膜。請求項17乃至請求項19のうち何れか一項に記載の感光性組成物より得られる隔壁。分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にフルオロアルキル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBと、分子内にフェノール部位及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーCとを、該モノマーAのモル数に対して、5~200モルの量の重合開始剤Dの存在下で重合させることを特徴とする、含フッ素高分岐ポリマーの製造方法。上述の通り、含フッ素ポリマーによるレジスト膜の撥液性付与は種々提案されているが、何れもアクリル樹脂をベースとしたレジスト膜への撥液性付与である。しかしながら、アクリル樹脂は耐熱性、難燃性に課題があり、より耐熱性、難燃性の高いレジスト膜として、ノボラック樹脂をベースとしたレジスト膜への撥液性付与が望まれていた。すなわち、ノボラック樹脂をベースとしたレジスト組成物への分散性が良好であり、撥液性に優れ、しかも現像後も撥液性を維持する撥液剤、及びそれを含むレジスト組成物が求められていた。本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にフルオロアルキル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBと、分子内にフェノール部位及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーCとを、該モノマーAのモル数に対して、5~200モルの量の重合開始剤Dの存在下で重合させることによって得られる含フッ素高分岐ポリマーをレジスト組成物に添加することにより、簡便にレジスト表面に撥液性を付与することができることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、第1観点として、分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にフルオロアルキル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBと、分子内にフェノール部位及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーCとを、該モノマーAのモル数に対して、5~200モルの量の重合開始剤Dの存在下で重合させることにより得られる含フッ素高分岐ポリマーに関する。第2観点として、前記モノマーAがビニル基又はメタアクリル基の何れか一方を少なくとも1つ有する化合物である、第1観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。第3観点として、前記モノマーAがジビニル化合物又はジメタアクリレート化合物である、第2観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。第4観点として、前記モノマーAがエチレングリコールジメタアクリレートである、第3観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。第5観点として、前記モノマーAがジビニルベンゼンである、第3観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。第6観点として、前記モノマーAのモル数に対して5~300モルの量の前記モノマーBを用いて得られる、第1観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。第7観点として、前記モノマーBがビニル基又はメタアクリル基の何れか一方を少なくとも1つ有する化合物である、第6観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。第8観点として、前記モノマーBが下記式[1]で表される化合物である、第7観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2はヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素原子数2~12のフルオロアルキル基を表す。第9観点として、前記モノマーBが下記式[2]で表される化合物である、第8観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。式中、R1は前記式[1]における定義と同じ意味を表し、Xは水素原子又はフッ素原子を表し、mは1又は2を表し、nは0~5の整数を表す。第10観点として、前記モノマーAのモル数に対して10~300モルの量の前記モノマーCを用いて得られる、第1観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。第11観点として、前記モノマーCがビニル基又はメタアクリル基の何れか一方を少なくとも1つ有する化合物である、第10観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。第12観点として、前記モノマーCが下記式[3]で表される化合物である、第11観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。式中、R3は水素原子又はメチル基を表し、Lは単結合、又はエーテル結合を含んでいてもよい炭素原子数1~6のアルキレン基を表す。第13観点として、前記モノマーCが下記式[4]で表される化合物である、第12観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。式中、R3は前記式[3]における定義と同じ意味を表す。第14観点として、前記重合開始剤Dがアゾ系重合開始剤である、第1観点乃至第13観点のうち何れか一項に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。第15観点として、前記重合開始剤Dが2,2-アゾビスイソ酪酸ジメチルである、第14観点に記載の含フッ素高分岐ポリマーに関する。第16観点として、第1観点乃至第15観点のうち何れか一項に記載の含フッ素高分岐ポリマーからなる、ネガ型レジストの撥液剤に関する。第17観点として、a第1観点乃至第15観点のうち何れか一項に記載の含フッ素高分岐ポリマー、bアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂、c光酸発生剤、及びd架橋剤を含む、ネガ型感光性組成物に関する。第18観点として、前記d架橋剤がアルコキシメチルメラミンである、第17観点に記載の感光性組成物に関する。第19観点として、さらに着色剤を含む、第17観点に記載の感光性組成物に関する。第20観点として、隔壁の形成に用いられる、第17観点乃至第19観点のうち何れか一項に記載の感光性組成物に関する。第21観点として、第17観点乃至第19観点のうち何れか一項に記載の感光性組成物より得られる塗膜に関する。第22観点として、第17観点乃至第19観点のうち何れか一項に記載の感光性組成物より得られる隔壁に関する。第23観点として、分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にフルオロアルキル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBと、分子内にフェノール部位及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーCとを、該モノマーAのモル数に対して、5~200モルの量の重合開始剤Dの存在下で重合させることを特徴とする、含フッ素高分岐ポリマーの製造方法に関する。含フッ素高分岐ポリマーは、積極的に枝分かれ構造を導入しているため、線状高分子と比較して分子間の絡み合いが少なく、微粒子的挙動を示し、有機溶媒に対する溶解性及び樹脂に対する分散性が高い。このため、マトリクスである樹脂中において、高分岐ポリマーの凝集を防ぎ、さらに、表面に移動しやすく、樹脂表面に活性を付与しやすい。従って、含フッ素高分岐ポリマーをレジスト組成物に添加することで、簡便にレジスト表面に撥液性を付与することができる。[含フッ素高分岐ポリマー]本発明の含フッ素高分岐ポリマーは、分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にフルオロアルキル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBと、分子内にフェノール部位及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーCとを、該モノマーAのモル数に対して、5~200モルの量の重合開始剤Dの存在下で重合させることにより得られる。また本発明の含フッ素高分岐ポリマーは、いわゆる開始剤断片組込み型高分岐ポリマーであり、その末端に重合に使用した重合開始剤Dの断片を有している。<モノマーA>モノマーAは、分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーであり、ビニル基又はメタアクリル基の何れか一方を少なくとも1つ有することが好ましく、特にジビニル化合物又はジメタアクリレート化合物であることが好ましい。なお、本発明ではメタアクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方をいう。例えばメタアクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸をいう。前記モノマーAとしては、例えば、以下のA1~A7に示した有機化合物が挙げられる。A1ビニル系炭化水素:A1-1脂肪族ビニル系炭化水素;イソプレン、ブタジエン、3-メチル-1,2-ブタジエン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン、1,2-ポリブタジエン、ペンタジエン、ヘキサジエン、オクタジエン等A1-2脂環式ビニル系炭化水素;シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン等A1-3芳香族ビニル系炭化水素;ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン、トリビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジビニルナフタレン、ジビニルフルオレン、ジビニルカルバゾール、ジビニルピリジン等A2ビニルエステル、アリルエステル、ビニルエーテル、アリルエーテル、ビニルケトン:A2-1ビニルエステル;アジピン酸ジビニル、マレイン酸ジビニル、フタル酸ジビニル、イソフタル酸ジビニル、イタコン酸ジビニル、ビニルメタアクリレート等A2-2アリルエステル;マレイン酸ジアリル、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、アリルメタアクリレート等A2-3ビニルエーテル;ジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等A2-4アリルエーテル;ジアリルエーテル、ジアリルオキシエタン、トリアリルオキシエタン、テトラアリルオキシエタン、テトラアリルオキシプロパン、テトラアリルオキシブタン、テトラメタリルオキシエタン等A2-5ビニルケトン;ジビニルケトン、ジアリルケトン等A3メタアクリル酸エステル:エチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、グリセロールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、アルコキシチタントリメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、2-メチル-1,8-オクタンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、1,10-デカンジオールジメタアクリレート、トリシクロ5.2.1.02,6デカンジメタノールジメタアクリレート、ジオキサングリコールジメタアクリレート、2-ヒドロキシ-1-アクリロイルオキシ-3-メタクリロイルオキシプロパン、2-ヒドロキシ-1,3-ジメタアクリロイルオキシプロパン、9,9-ビス[4-2-メタアクリロイルオキシエトキシフェニル]フルオレン、ウンデシレノキシエチレングリコールジメタアクリレート、ビス[4-メタアクリロイルチオフェニル]スルフィド、ビス[2-メタアクリロイルチオエチル]スルフィド、1,3-アダマンタンジオールジメタアクリレート、1,3-アダマンタンジメタノールジメタアクリレート等A4ポリアルキレングリコール鎖を有するビニル系化合物:ポリエチレングリコール分子量300ジメタアクリレート、ポリプロピレングリコール分子量500ジメタアクリレート等A5含窒素ビニル系化合物:ジアリルアミン、ジアリルイソシアヌレート、ジアリルシアヌレート、メチレンビスメタアクリルアミド、ビスマレイミド等A6含ケイ素ビニル系化合物:ジメチルジビニルシラン、ジビニルメチルフェニルシラン、ジフェニルジビニルシラン、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラフェニルジシラザン、ジエトキジビニルシラン等A7含フッ素ビニル系化合物:1,4-ジビニルパーフルオロブタン、1,6-ジビニルパーフルオロヘキサン、1,8-ジビニルパーフルオロオクタン等。これらのうち好ましいものは、上記A1-3群の芳香族ビニル系炭化水素、A2群のビニルエステル、アリルエステル、ビニルエーテル、アリルエーテル及びビニルケトン、A3群のメタアクリル酸エステル、A4群のポリアルキレングリコール鎖を有するビニル系化合物、並びにA5群の含窒素ビニル系化合物である。より好ましいのは、A1-3群に属するジビニルベンゼン、A2-2群に属するフタル酸ジアリル、A3群に属するエチレングリコールジメタアクリレート、1,3-アダマンタンジメタノールジメタアクリレート、トリシクロ5.2.1.02,6デカンジメタノールジメタアクリレート並びにA5群に属するメチレンビスメタアクリルアミドである。これらの中でもジビニルベンゼン、エチレングリコールジメタアクリレート、及びトリシクロ5.2.1.02,6デカンジメタノールジメタアクリレートが好ましく、特にジビニルベンゼン及びエチレングリコールジメタアクリレートがより好ましい。<モノマーB>前記モノマーBは、分子内にフルオロアルキル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーであって、好ましくはビニル基又はメタアクリル基の何れか一方を少なくとも1つ有することが好ましく、特に下記式[1]又は式[2]で表される化合物が好ましい。式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2はヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素原子数2~12のフルオロアルキル基を表す。式中、R1は前記式[1]における定義と同じ意味を表し、Xは水素原子又はフッ素原子を表し、mは1又は2を表し、nは0~5の整数を表す。前記モノマーBとしては、例えば2,2,2-トリフルオロエチルメタアクリレート、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルメタアクリレート、2-パーフルオロブチルエチルメタアクリレート、2-パーフルオロヘキシルエチルメタアクリレート、2-パーフルオロオクチルエチルメタアクリレート、2-パーフルオロデシルエチルメタアクリレート、2-パーフルオロ-3-メチルブチルエチルメタアクリレート、2-パーフルオロ-5-メチルヘキシルエチルメタアクリレート、2-パーフルオロ-7-メチルオクチルエチルメタアクリレート、1H,1H,3H-テトラフルオロプロピルメタアクリレート、1H,1H,5H-オクタフルオロペンチルメタアクリレート、1H,1H,7H-ドデカフルオロヘプチルメタアクリレート、1H,1H,9H-ヘキサデカフルオロノニルメタアクリレート、1H-1-トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタアクリレート、1H,1H,3H-ヘキサフルオロブチルメタアクリレート、3-パーフルオロブチル-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-パーフルオロヘキシル-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-パーフルオロオクチル-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-パーフルオロ-3-メチルブチル-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-パーフルオロ-5-メチルヘキシル-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、及び3-パーフルオロ-7-メチルオクチル-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート等が挙げられる。本発明において、前記モノマーAと前記モノマーBを共重合させる割合は、反応性や表面改質効果の観点から、好ましくは前記モノマーAのモル数に対して前記モノマーB5~300モル、より好ましくは10~150モルであり、さらに好ましくは20~100モルである。<モノマーC>前記モノマーCは、分子内にフェノール部位及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーであって、好ましくはビニル基又はメタアクリル基の何れか一方を少なくとも1つ有することが好ましく、特に下記式[3]又は式[4]で表される化合物が好ましい。式中、R3は水素原子又はメチル基を表し、Lは単結合、又はエーテル結合を含んでいてもよい炭素原子数1~6のアルキレン基を表す。式中、R3は前記式[3]における定義と同じ意味を表す。前記モノマーCとしては、芳香族ヒドロキシ基を有するメタアクリルアミド化合物、芳香族ヒドロキシ基を有するメタアクリレート化合物、ヒドロキシスチレン化合物などが挙げられる。具体的には、例えば、N-4-ヒドロキシフェニルメタアクリルアミド、N-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシベンジルメタアクリルアミド、2-ヒドロキシフェニルメタアクリレート、3-ヒドロキシフェニルメタアクリレート、4-ヒドロキシフェニルメタアクリレート、2-ヒドロキシスチレン、3-ヒドロキシスチレン、4-ヒドロキシスチレンなどが挙げられ、中でも2-ヒドロキシフェニルメタアクリレート、3-ヒドロキシフェニルメタアクリレート、4-ヒドロキシフェニルメタアクリレートが好ましく、4-ヒドロキシフェニルメタアクリレートがより好ましい。本発明において、前記モノマーAと前記モノマーCを共重合させる割合は、反応性や表面改質効果の観点から、好ましくは前記モノマーAのモル数に対して前記モノマーC10~300モル、より好ましくは20~150モルであり、さらに好ましくは20~100モルである。<重合開始剤D>前記重合開始剤Dとしては、好ましくはアゾ系重合開始剤が用いられる。アゾ系重合開始剤としては、例えば以下の1~6に示す化合物が挙げられる。1アゾニトリル化合物:2,2-アゾビスイソブチロニトリル、2,2-アゾビス2-メチルブチロニトリル、2,2-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、1,1-アゾビス1-シクロヘキサンカルボニトリル、2,2-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、2-カルバモイルアゾイソブチロニトリル等;2アゾアミド化合物:2,2-アゾビス{2-メチル-N-[1,1-ビスヒドロキシメチル-2-ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2-アゾビス{2-メチル-N-[2-1-ヒドロキシブチル]プロピオンアミド}、2,2-アゾビス[2-メチル-N-2-ヒドロキシエチルプロピオンアミド]、2,2-アゾビス[N-2-プロペニル-2-メチルプロピオンアミド]、2,2-アゾビスN-ブチル-2-メチルプロピオンアミド、2,2-アゾビスN-シクロヘキシル-2-メチルプロピオンアミド等;3環状アゾアミジン化合物:2,2-アゾビス[2-2-イミダゾリン-2-イルプロパン]ジヒドロクロリド、2,2-アゾビス[2-2-イミダゾリン-2-イルプロパン]ジスルフェートジヒドレート、2,2-アゾビス2-[1-2-ヒドロキシエチル-2-イミダゾリン-2-イル]プロパンジヒドロクロリド、2,2-アゾビス[2-2-イミダゾリン-2-イルプロパン]、2,2-アゾビス1-イミノ-1-ピロリジノ-2-メチルプロパンジヒドロクロリド等;4アゾアミジン化合物:2,2-アゾビス2-メチルプロピオンアミジンジヒドロクロリド、2,2-アゾビス[N-2-カルボキシエチル-2-メチルプロピオンアミジン]テトラヒドレート等;5その他:2,2-アゾビスイソ酪酸ジメチル、4,4-アゾビス4-シアノバレリン酸、2,2-アゾビス2,4,4-トリメチルペンタン、1,1-アゾビス1-アセトキシ-1-フェニルエタン、ジメチル1,1-アゾビス1-シクロヘキサンカルボキシレート、4,4-アゾビス4-シアノペンタン酸等;6フルオロアルキル基含有アゾ系重合開始剤:4,4-アゾビス4-シアノペンタン酸2-パーフルオロメチルエチル、4,4-アゾビス4-シアノペンタン酸2-パーフルオロブチルエチル、4,4-アゾビス4-シアノペンタン酸2-パーフルオロヘキシルエチル等。前記アゾ系重合開始剤の中でも、得られる含フッ素高分岐ポリマーの表面エネルギーの観点から、極性の比較的低い置換基を有するものが望ましく、特に2,2-アゾビスイソ酪酸ジメチル又は2,2-アゾビス2,4,4-トリメチルペンタンが好ましい。前記重合開始剤Dは、前記モノマーAのモル数に対して、5~200モルの量で使用され、好ましくは15~200モル、より好ましくは15~170モル、最も好ましくは50~100モルの量で使用される。<含フッ素高分岐ポリマーの製造方法>本発明の含フッ素高分岐ポリマーは、上記モノマーAと上記モノマーBと上記モノマーCとを、該モノマーAに対して所定量の重合開始剤Dの存在下で重合させることで得られ、該重合方法としては公知の方法、例えば溶液重合、分散重合、沈殿重合、及び塊状重合等が挙げられ、なかでも溶液重合又は沈殿重合が好ましい。特に分子量制御の点から、有機溶媒中での溶液重合によって反応を実施することが好ましい。このとき用いられる有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素系溶媒;n-ヘキサン、n-ヘプタン、ミネラルスピリット、シクロヘキサン等の脂肪族又は脂環式炭化水素系溶媒;塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、メチレンジクロライド、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系又はエステルエーテル系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ-n-ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール、2-エチルヘキシルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒;N-メチル-2-ピロリドン等の複素環式化合物系溶媒、並びにこれらの2種以上の混合溶媒が挙げられる。これらのうち好ましいのは、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、エステル系又はエステルエーテル系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒等であり、特に好ましいものはトルエン、キシレン、オルトジクロロベンゼン、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、1,4-ジオキサン、メチルセロソルブ、メチルイソブチルケトン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等である。上記重合反応を有機溶媒の存在下で行う場合、重合反応物全体における有機溶媒の含量は、上記モノマーAの1質量部に対し、好ましくは1~100質量部、さらに好ましくは5~50質量部である。重合反応は常圧、加圧密閉下、又は減圧下で行われ、装置及び操作の簡便さから常圧下で行うのが好ましい。また、N2等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。重合反応の温度は好ましくは50~200°C、より好ましくは80~150°C、さらに好ましくは80~130°Cである。より好ましくは、重合反応の温度は上記重合開始剤Dの10時間半減期温度より20°C以上高い温度で実施され、より具体的には、上記モノマーA、上記モノマーB、上記モノマーC、上記重合開始剤D及び有機溶媒を含む溶液を、該重合開始剤Dの10時間半減期温度より20°C以上高い温度に保たれた該有機溶媒中へ滴下することにより、重合反応を行うことが好ましい。また、さらにより好ましくは反応圧力下での前記有機溶媒の還流温度で重合反応を実施することが好ましい。重合反応の終了後、得られた含フッ素高分岐ポリマーを任意の方法で回収し、必要に応じて洗浄等の後処理を行なう。反応溶液から高分子を回収する方法としては、再沈殿等の方法が挙げられる。得られた含フッ素高分岐ポリマーの重量平均分子量以下、Mwと略記は、ゲル浸透クロマトグラフィーGPCによるポリスチレン換算で好ましくは1,000~200,000、さらに好ましくは2,000~100,000、最も好ましくは5,000~60,000である。<ネガ型レジストの撥液剤>本発明の含フッ素高分岐ポリマーからなるネガ型レジストの撥液剤を製造する具体的な方法としては、含フッ素高分岐ポリマーを溶媒に溶解又は分散する。前記溶媒としては、含フッ素高分岐ポリマーを溶解するものであればよく、例えばアセトン、テトラヒドロフランTHF、トルエン、N,N-ジメチルホルムアミドDMF、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルPGME、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA、プロピレングリコールモノエチルエーテルPGEE、乳酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ブチルセロソルブ、γ-ブチロラクトン等が挙げられる。これら溶媒は単独で使用してもよく、2種類以上の溶媒を混合してもよい。また、前記溶媒に溶解又は分散させる濃度は任意であるが、含フッ素高分岐ポリマーと溶媒の総質量合計質量に対して、含フッ素高分岐ポリマーの濃度は0.001乃至90質量であり、好ましくは0.002乃至80質量であり、より好ましくは0.005乃至70質量である。<ネガ型感光性組成物>本発明はまた、a上記含フッ素高分岐ポリマー、bアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂、c光酸発生剤、及びd架橋剤を含む、ネガ型感光性組成物に関する。<bアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂>アルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂としては、特に限定されないが、例えば、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族化合物以下、フェノール類というとアルデヒド類とを酸触媒下で付加縮合させることにより得られる。前記フェノール類としては、例えば、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール等のクレゾール類;2,3-キシレノール、2,4-キシレノール、2,5-キシレノール、2,6-キシレノール、3,4-キシレノール、3,5-キシレノール等のキシレノール類;o-エチルフェノール、m-エチルフェノール、p-エチルフェノール等のエチルフェノール類;2-イソプロピルフェノール、3-イソプロピルフェノール、4-イソプロピルフェノール、o-ブチルフェノール、m-ブチルフェノール、p-ブチルフェノール、p-tert-ブチルフェノール等のアルキルフェノール類;2,3,5-トリメチルフェノール、3,4,5-トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類;レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、フロログリシノール等の多価フェノール類;アルキルレゾルシン、アルキルカテコール、アルキルハイドロキノン等のアルキル多価フェノール類いずれのアルキル基も炭素原子数1~4である;α-ナフトール;β-ナフトール;ヒドロキシジフェニル;並びにビスフェノールA等が挙げられる。これらのフェノール類は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。前記アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、アセトアルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒド類は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。<c光酸発生剤>光酸発生剤としては、露光により直接若しくは間接的に酸を発生する化合物であれば特に制限はなく、公知のものを使用することができ、例えば、ジアゾメタン化合物、オニウム塩化合物、スルホンイミド化合物、ジスルホン系化合物、スルホン酸誘導体化合物、ニトロベンジル化合物、ベンゾイントシレート化合物、鉄アレーン錯体、ハロゲン含有トリアジン化合物、アセトフェノン誘導体化合物、シアノ基含有オキシムスルホネート化合物などが挙げられる。具体的には、BASFジャパン製以下、商品名のIRGACURE登録商標PAG103、同108、同121、同203等が挙げられる。また、これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。<d架橋剤>架橋剤は、熱や酸の作用により、樹脂等の配合組成物や他の架橋剤分子との結合を形成する化合物である。架橋剤としては、例えば、ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基で置換された窒素原子を二つ以上有する化合物が挙げられる。このような化合物としては、メトキシメチル化グリコールウリル、メトキシメチル化ベンゾグアナミン、メトキシメチル化メラミン等が挙げられ、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン、1,3,4,6-テトラキスブトキシメチルグリコールウリル、1,3,4,6-テトラキスヒドロキシメチルグリコールウリル、1,3-ビスヒドロキシメチル尿素、1,1,3,3-テトラキスブトキシメチル尿素、1,1,3,3-テトラキスメトキシメチル尿素、1,3-ビスヒドロキシメチル-4,5-ジヒドロキシ-2-イミダゾリノン、及び1,3-ビスメトキシメチル-4,5-ジメトキシ-2-イミダゾリノン等がある。また、メトキシメチルタイプメラミン化合物商品名:CYMEL登録商標300、同301、同303、同350、ブトキシメチルタイプメラミン化合物商品名:マイコート登録商標506、508、グリコールウリル化合物商品名:CYMEL登録商標1170、POWDERLINK登録商標1174等の化合物、メチル化尿素樹脂商品名:UFR65、ブチル化尿素樹脂商品名:UFR300、U-VAN10S60、U-VAN10R、U-VAN11HV以上、日本サイテックインダストリーズ株製、メチル化メラミン樹脂商品名:ニカラック登録商標MW-30HM、MW-390、MW-100LM、MW-750LM、メチル化尿素樹脂商品名:ニカラック登録商標MX-270、MX-280、MX-290以上、株三和ケミカル製、尿素/ホルムアルデヒド系樹脂高縮合型、商品名:ベッカミン登録商標J-300S、同P-955、同N以上、DIC株製等を挙げることができる。また、これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。<着色剤>本発明の感光性組成物は、さらに着色剤を含有していてもよい。この着色剤としては、例えば、カラーインデックスC.I.;TheSocietyofDyersandColourists社発行においてピグメントPigmentに分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックスC.I.番号が付されているもの等が挙げられる。この着色剤は、単独で用いてもよく、色調を整えるために二種以上を組み合わせて用いてもよい。C.I.ピグメントイエロー1以下、C.I.ピグメントイエローは同様で番号のみ記載する。、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73、74、81、83、86、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、175、180、185;C.I.ピグメントオレンジ1以下、C.I.ピグメントオレンジは同様で番号のみ記載する。、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、73;C.I.ピグメントバイオレット1以下、C.I.ピグメントバイオレットは同様で番号のみ記載する。、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、50;C.I.ピグメントレッド1以下、C.I.ピグメントレッドは同様で番号のみ記載する。、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、265;C.I.ピグメントブルー1以下、C.I.ピグメントブルーは同様で番号のみ記載する。、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66;C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37;C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグメントブラウン26、C.I.ピグメントブラウン28;C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7。また、液晶表示ディスプレイにおけるブラックマトリックスを形成する際には、着色剤として黒色顔料が用いられる。そのような黒色顔料としては、カーボンブラックやチタンブラックを用いることが好ましい。この他、Cu、Fe、Mn、Cr、Co、Ni、V、Zn、Se、Mg、Ca、Sr、Ba、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Hg、Pb、Bi、Si、Al等の各種金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩、金属炭酸塩等の無機顔料等を挙げられる。上記ネガ型感光性組成物において、a含フッ素高分岐ポリマー、bアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂、c光酸発生剤、及びd架橋剤の配合量は以下の通りである。すなわち、bアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂の質量に対して、a含フッ素高分岐ポリマーは好ましくは0.001~20質量であり、より好ましくは0.005~15質量であり、さらに好ましくは0.01~10質量である。また、bアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂の質量に対して、c光酸発生剤は好ましくは0.5~30質量であり、より好ましくは0.25~25質量であり、さらに好ましくは1.0~20質量である。さらに、bアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂の質量に対して、d架橋剤は好ましくは1~80質量であり、より好ましくは2~60質量であり、さらに好ましくは5~60質量である。また、本発明のネガ型感光性組成物に着色剤を添加する場合、着色剤の配合量は、bアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂の質量に対して、好ましくは1~100質量であり、より好ましくは20~60質量である。本発明のネガ型感光性組成物には、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて一般的に添加される添加剤、例えば、光増感剤、重合禁止剤、重合開始剤、レベリング剤、界面活性剤、密着性付与剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、貯蔵安定剤、帯電防止剤、無機充填剤等を適宜配合してよい。<塗膜の製造方法>本発明の感光性組成物より得られる塗膜を形成する具体的な方法としては、まず、含フッ素高分岐ポリマー、アルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂、光酸発生剤、及び架橋剤を溶媒に溶解又は分散してワニスの形態膜形成材料とし、該ワニスを基板上{例えば、酸化珪素膜で被膜されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素膜又は酸化窒化珪素膜で被膜されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素基板、石英基板、ガラス基板無アルカリガラス、低アルカリガラス、結晶化ガラスを含む、ITO膜が形成されたガラス基板、熱可塑性プラスチックポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン;ポリカーボネート;ポリメチルメタクリレート;ポリスルホン;ポリイミド等シート、熱硬化性プラスチックエポキシ樹脂等シート等}にキャストコート法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、インクジェット法、印刷法凸版、凹版、平版、スクリーン印刷等、スプレーコート法等によって塗布し、その後、ホットプレートまたはオーブン等で予備乾燥することにより、成膜する。これらの塗布方法の中でもスピンコート法が好ましい。スピンコート法を用いる場合には、単時間で塗布することができるために、揮発性の高い溶液であっても利用でき、また、均一性の高い塗布を行うことができるという利点がある。前記ワニスの形態において使用する溶媒としては、含フッ素高分岐ポリマーを溶解するものであればよく、上記<ネガ型レジストの撥液剤>で例示された溶媒が挙げられ、溶媒は単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。固形分溶媒以外の成分濃度としては、5~90質量であり、好ましくは10~80質量であり、より好ましくは20~60質量である。また、前記溶媒に溶解又は分散させる濃度は任意であるが、含フッ素高分岐ポリマーと溶媒の総質量合計質量に対して、含フッ素高分岐ポリマーの濃度は0.001乃至90質量であり、好ましくは0.002乃至80質量であり、より好ましくは0.005乃至70質量である。さらに、前記予備乾燥の条件としては、温度80~250°C、時間0.3~60分間から適宜選択され、好ましくは、温度100~250°C、時間0.5~5分間である。感光性組成物より得られる塗膜の厚さは特に限定されないが、通常0.01μm乃至50μm、好ましくは0.05μm乃至20μmである。<隔壁の製造方法>本発明の感光性組成物より得られる隔壁を形成する具体的な方法としては、上述より、形成された塗膜に所定のパターンを有するマスクを介して露光を行う。そして、必要に応じて露光後加熱を行い、アルカリ現像液を用いて現像することにより未露光部分を除去し、目的とする隔壁に対応するパターン状薄膜を基板の表面上に形成する。露光には、波長100~600nmの光線であり、300~500nmの範囲に分布を有する電磁波を使用することができる。中でも、i線365nm、h線405nm、g線436nmが好ましい。具体的には、KrFエキシマーレーザー、ArFエキシマーレーザー、F2エキシマーレーザー、極端紫外線EUVの他、露光装置用途に汎用的に用いられている超高圧水銀灯等を使用することができる。露光量としては、通常、5~1,000mJ/cm2の範囲で露光するのが好ましい。また、露光後加熱の条件としては、温度80~150°C、時間0.3~60分間から適宜選択される。さらに、前記アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類;エチルアミン、n-プロピルアミン等の第一級アミン類;ジエチルアミン、ジ-n-ブチルアミン等の第二級アミン類;トリエチルアミン、メチルジメチルアミン等の第三級アミン類;ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン等の第四級アンモニウム塩;ピロール、ピペリジン等の環状アミン類等のアルカリ水溶液を使用することができる。さらに、これらの現像液に界面活性剤等を加えることもできる。現像条件としては、現像温度5~50°C、現像時間10~300秒から適宜選択される。以下、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例において、試料の調製及び物性の分析に用いた装置及び条件は、以下の通りである。1ゲル浸透クロマトグラフィーGPC装置:東ソー株製HLC-8220GPCカラム:Shodex登録商標KF-804L、KF-805Lカラム温度:40°C溶媒:テトラヒドロフラン検出器:RI21HNMRスペクトル及び13CNMRスペクトル装置:日本電子データム株製JNM-ECA700溶媒:CDCl3内部標準1:テトラメチルシラン高分岐ポリマー1~4、8内部標準2:CHCl3δ7.25ppm高分岐ポリマー5~73イオンクロマトグラフィーF定量分析装置:日本ダイオネクス株製ICS-1500溶媒:2.7mmolNa2CO30.3mmolNaHCO3/L水溶液検出器:電気伝導度4スピンコーター装置:ミカサ株製MS-A1005エリプソメトリー屈折率及び膜厚測定装置:J.A.Woollam社製EC-4006接触角測定装置:ASTProducts社製VCAOptima測定温度:20°C測定法:測定媒体を被測定表面へ滴下し10秒後の接触角を5回測定し、最大値と最小値を除いた3つの値の平均値を接触角値とした。7ガラス転移温度Tg測定7-1高分岐ポリマー1~7装置:NETZSCH社製DSC204F1Phoenix登録商標測定条件:窒素雰囲気下昇温速度:10°C/分7-2高分岐ポリマー8装置:PerkinElmer社製DiamondDSC測定条件:窒素雰囲気下昇温速度:5°C/分25~160°C85重量減少時温度Td5測定装置:株リガク製TG8120測定条件:空気雰囲気下昇温速度:10°C/分25~500°C9UV照射装置装置:アイグラフィックス株製H02-L41強度:16mW/cm2365nmまた、略記号は以下の意味を表す。EGDMA:エチレングリコールジメタクリレート[新中村化学工業株製1G]DVB:ジビニルベンゼン[新日鐵化学株製DVB-960]C6FA:2-パーフルオロヘキシルエチルアクリレート[ダイキン化成品販売株製R-1620]PQMA:4-ヒドロキシフェニルメタクリレート[昭和電工株製PQMA]MAIB:2,2’-アゾビスイソ酪酸ジメチル[大塚化学株製MAIB]AMBN:2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリル[和光純薬工業株製V-59]TESMA:3-メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン[信越化学工業株製信越シリコーンKBE-503]MIBK:イソブチルメチルケトンPGME:プロピレングリコールモノメチルエーテルPGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート[実施例1]高分岐ポリマー1の合成200mLの反応フラスコに、MIBK44gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込み、内液が還流するまでおよそ温度115°C加熱した。別の100mLの反応フラスコに、EGDMA4.0g20mmol、C6FA5.0g12mmol、PQMA1.8g10mmol、MAIB2.8g12mmol及びMIBK44gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換を行い、氷浴にて0°Cまで冷却を行った。前述の200mLの反応フラスコ中の還流してあるMIBK中に、EGDMA、C6FA、PQMA及びMAIBが仕込まれた前記100mLの反応フラスコから、滴下ポンプを用いて、内容物を30分間かけて滴下した。滴下終了後、1時間熟成させた。次に、この反応液からロータリーエバポレーターを用いてMIBK28gを留去後、ヘキサン198gに添加してポリマーをスラリー状態で沈殿させた。このスラリーを減圧濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物高分岐ポリマー15.7gを得た収率50。得られた目的物の1HNMR及び13CNMRスペクトルを図1及び図2に示す。また、目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは5,000、分散度:Mw重量平均分子量/Mn数平均分子量は1.8であった。[実施例2]高分岐ポリマー2の合成300mLの反応フラスコに、MIBK89gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込み、内液が還流するまでおよそ温度115°C加熱した。別の200mLの反応フラスコに、EGDMA6.0g30mmol、C6FA7.5g18mmol、PQMA5.3g30mmol、MAIB4.1g18mmol及びMIBK89gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換を行い、氷浴にて0°Cまで冷却を行った。前述の300mLの反応フラスコ中の還流してあるMIBK中に、EGDMA、C6FA、PQMA及びMAIBが仕込まれた前記200mLの反応フラスコから、滴下ポンプを用いて、内容物を30分間かけて滴下した。滴下終了後、1時間熟成させた。次に、この反応液からロータリーエバポレーターを用いてトルエン75gを留去後、その残渣をヘキサン/エタノール質量比9:1300gに添加してポリマーをスラリー状態で沈殿させた。このスラリーを減圧濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物高分岐ポリマー28.9gを得た収率39。得られた目的物の1HNMR及び13CNMRスペクトルを図3及び図4に示す。また、目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは6,000、分散度:Mw/Mnは1.7であった。[実施例3]高分岐ポリマー3の合成MAIBに替えてAMBN3.5g18mmolを使用した以外は実施例2と同様に操作し、白色粉末の目的物高分岐ポリマー310.8gを得た収率50。得られた目的物の1HNMR及び13CNMRスペクトルを図5及び図6に示す。また、目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは5,000、分散度:Mw/Mnは2.1であった。[実施例4]高分岐ポリマー4の合成EGDMAに替えてDVB2.6g20mmolを使用し、C6FAの仕込量を5.4g13mmolに変更した以外は実施例1と同様に操作し、白色粉末の目的物高分岐ポリマー46.7gを得た収率55。得られた目的物の1HNMR及び13CNMRスペクトルを図7及び図8に示す。また、目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは19,000、分散度:Mw/Mnは1.7であった。[実施例5]高分岐ポリマー5の合成200mLの反応フラスコに、PGME32gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込み、内液が還流するまでおよそ温度120°C加熱した。別の100mLの反応フラスコに、EGDMA4.0g20mmol、C6FA4.2g10mmol、PQMA1.1g6.0mmol、TESMA2.9g10mmol、MAIB2.3g10mmol及びPGME32gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換を行い、氷浴にて5°Cまで冷却を行った。前述の200mLの反応フラスコ中の還流してあるPGME中に、EGDMA、C6FA、PQMA、TESMA及びMAIBが仕込まれた前記100mLの反応フラスコから、滴下ポンプを用いて、内容物を30分間かけて滴下した。滴下終了後、1時間熟成させた。次に、この反応液からロータリーエバポレーターを用いてPGME22gを留去後、その残渣をヘキサン279gに添加してポリマーをスラリー状態で沈殿させた。このスラリーを減圧濾過し、トルエン15gに再溶解させた後、ヘキサン/エタノール質量比9:1200gに添加してポリマーをスラリー状態で沈殿させた。このスラリーを減圧濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物高分岐ポリマー55.5gを得た収率39。得られた目的物の1HNMR及び13CNMRスペクトルを図9及び図10に示す。また、目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは13,000、分散度:Mw/Mnは2.1であった。[実施例6]高分岐ポリマー6の合成200mLの反応フラスコに、PGME32gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込み、内液が還流するまでおよそ温度120°C加熱した。別の100mLの反応フラスコに、EGDMA4.0g20mmol、C6FA4.3g10mmol、PQMA1.8g10mmol、TESMA2.9g10mmol、MAIB2.3g10mmol及びPGME32gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換を行い、氷浴にて5°Cまで冷却を行った。前述の200mLの反応フラスコ中の還流してあるPGME中に、EGDMA、C6FA、PQMA、TESMA及びMAIBが仕込まれた前記100mLの反応フラスコから、滴下ポンプを用いて、内容物を30分間かけて滴下した。滴下終了後、1時間熟成させた。次に、この反応液からロータリーエバポレーターを用いてPGMEを減圧留去後、その残渣をトルエンに溶解し、総質量27gのトルエン溶液とした。この溶液をヘキサン/エタノール質量比23:2250gに添加してポリマーをスラリー状態で沈殿させた。このスラリーを減圧濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物高分岐ポリマー67.9gを得た収率53。得られた目的物の1HNMR及び13CNMRスペクトルを図11及び図12に示す。また、目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは12,000、分散度:Mw/Mnは2.4であった。[実施例7]高分岐ポリマー7の合成200mLの反応フラスコに、PGME32gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込み、内液が還流するまでおよそ温度120°C加熱した。別の100mLの反応フラスコに、EGDMA4.0g20mmol、C6FA4.2g10mmol、PQMA2.5g14mmol、TESMA2.9g10mmol、MAIB2.3g10mmol及びPGME32gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換を行い、氷浴にて5°Cまで冷却を行った。前述の200mLの反応フラスコ中の還流してあるPGME中に、EGDMA、C6FA、PQMA、TESMA及びMAIBが仕込まれた前記100mLの反応フラスコから、滴下ポンプを用いて、内容物を30分間かけて滴下した。滴下終了後、1時間熟成させた。次に、この反応液からロータリーエバポレーターを用いてPGMEを減圧留去後、その残渣をトルエン10gに溶解し、ヘキサン325gに添加してポリマーをスラリー状態で沈殿させた。このスラリーを減圧濾過し、トルエン15gに再溶解させた後、ヘキサン/エタノール質量比8:1200gに添加してポリマーをスラリー状態で沈殿させた。このスラリーを減圧濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物高分岐ポリマー77.0gを得た収率45。得られた目的物の1HNMR及び13CNMRスペクトルを図13及び図14に示す。また、目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは14,000、分散度:Mw/Mnは2.8であった。[比較例1]高分岐ポリマー8の合成200mLの反応フラスコに、トルエン44gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込み、内液が還流するまでおよそ温度110°C加熱した。別の100mLの反応フラスコに、EGDMA4.0g20mmol、C6FA4.2g10mmol、MAIB2.8g12mmol及びトルエン44gを仕込み、撹拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換を行い、氷浴にて0°Cまで冷却を行った。前述の200mLの反応フラスコ中の還流してあるトルエン中に、EGDMA、C6FA及びMAIBが仕込まれた前記100mLの反応フラスコから、滴下ポンプを用いて、内容物を30分間かけて滴下した。滴下終了後、1時間熟成させた。次に、この反応液からロータリーエバポレーターを用いてトルエン75gを留去後、その残渣をヘキサン278gに添加してポリマーをスラリー状態で沈殿させた。このスラリーを減圧濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物高分岐ポリマー84.4gを得た収率45。得られた目的物の1HNMR及び13CNMRスペクトルを図15及び図16に示す。また、目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは6,200、分散度:Mw/Mnは1.8であった。実施例1~7及び比較例1で得られた高分岐ポリマー1~8の、各モノマー及び開始剤の種類及びモノマーAに対する仕込量[mol]、重量平均分子量Mw、分散度Mw/Mn、13CNMRスペクトルから算出したフッ素モノマーモノマーB導入量[mol]、並びにフッ素定量分析から算出したフッ素原子含有量[質量]を表1に示す。[各高分岐ポリマーの物性評価]実施例1~7及び比較例1で得られた高分岐ポリマー1~8の各50mgを、表2に記載の溶媒950mgに溶解し、フィルタろ過を行い、各高分岐ポリマー溶液を調製した。この高分岐ポリマー溶液をガラス基板高分岐ポリマー8のみシリコンウェハー上にスピンコーティングslope5秒間、次いで1,500rpm30秒間、さらにslope5秒間し、100°Cにて30分間の熱処理を行うことにより溶媒を蒸発させて、成膜した。得られた薄膜の波長633nmにおける屈折率、並びに水及びジヨードメタンの接触角の評価を行った。また接触角の結果から表面エネルギーを算出した。さらに、各高分岐ポリマー粉末のガラス転移温度Tg及び5重量減少温度Td5を測定した。得られた結果を表2に示す。[実施例8]フェノール部位を有する高分岐ポリマーによるレジストの表面改質実施例1で得られた高分岐ポリマー125mg、ノボラック樹脂[旭有機材工業株製EP4050G]2.5g、光酸発生剤[BASFジャパン株製IRGACURE登録商標PAG121]125mg、及び架橋剤[株三和ケミカル製ニカラックMW-390]2.5gを、PGMEA21gに溶解し、ノボラック系ネガ型感光性レジスト組成物を調製した。このレジスト組成物を、シリコンウェハー上にスピンコーティングslope5秒間、次いで2,000rpm60秒間、さらにslope5秒間し、110°Cのホットプレートで90秒間ソフトベークを行った。得られた塗膜全面に露光量100mJ/cm2のUV光を照射し露光した後、さらに110°Cのホットプレートで90秒間ポストベークを行い、ノボラック系ネガ型レジストの露光膜を作製した。得られたレジスト膜の水の接触角を測定し、撥液性を評価した。また、該レジスト膜をアセトン及びアルカリ現像液[シグマアルドリッチジャパン株製水酸化テトラメチルアンモニウムTMAH10質量水溶液]に1分間浸漬し、水洗浄、エアーガンで乾燥させた後、再度水の接触角を測定し、撥液性の有機溶媒耐性及びアルカリ現像液耐性を評価した。また、各液浸漬前後の膜厚を測定した。得られた結果を表3に示す。[実施例9~14]フェノール部位を有する高分岐ポリマーによるレジストの表面改質高分岐ポリマー1に替えて、実施例2~7で得られた高分岐ポリマー2~7をそれぞれ使用した以外は実施例8と同様に操作、評価した。結果を表3にあわせて示す。[比較例2]フェノール部位を有さない高分岐ポリマーによるレジストの表面改質高分岐ポリマー1に替えて、比較例1で得られた高分岐ポリマー8を使用した以外は実施例8と同様に操作、評価した。結果を表3にあわせて示す。[比較例3]撥液剤を添加しないレジストの表面特性高分岐ポリマー1を添加しない以外は実施例8と同様に操作、評価した。結果を表3にあわせて示す。表3に示す通り、フェノール部位を有さない高分岐ポリマーによるレジストの露光膜比較例2では、浸漬前の接触角が93.1度であるのに対し、アセトン浸漬後の接触角が67.2度、TMAH浸漬後の角度が85.6度であった。また高分岐ポリマーを添加していないレジストの露光膜比較例3では、浸漬前の接触角が70.1度であるのに対し、アセトン浸漬後の接触角が67.4度、TMAH浸漬後の角度が67.2度であった。一方、フェノール部位を有する高分岐ポリマーによるレジストの露光膜実施例8乃至14では、浸漬前の接触角が92.0~98.1度であるのに対し、アセトン浸漬後の接触角が86.4~94.3度、TMAH浸漬後の角度が88.8~95.0度といずれも高い接触角を示した。この結果から、フェノール部位を有する高分岐ポリマーを添加することで、撥液性の有機溶剤耐性及びアルカリ現像液耐性が付与されたことが明らかとなった。"