足裏を支持する足支持部と、前記足裏を施術する施術突起と、前記足裏に温感を付与するヒータとを備えるオットマンにおいて、前記足支持部の本体において前記足裏の足指の付け根に対応する部分から前記施術突起までの領域を足前方領域として、この足前方領域に前記ヒータが設けられていることを特徴とするオットマン。請求項1に記載のオットマンにおいて、前記足裏の幅方向において前記施術突起に隣接する部分に前記ヒータがさらに設けられていることを特徴とするオットマン。請求項1または2に記載のオットマンにおいて、前記足支持部の本体において前記足裏の踵に対応する部分から前記施術突起までの領域を足後方領域として、この足後方領域に前記ヒータがさらに設けられていることを特徴とするオットマン。請求項3に記載のオットマンにおいて、前記足前方領域に設けられた前記ヒータの一部分を部分Aとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータの別の一部分を部分Bとして、前記足裏に対向する前記部分Aの表面積が前記足裏に対向する前記部分Bの表面積よりも大きいことを特徴とするオットマン。請求項3に記載のオットマンにおいて、前記足前方領域に設けられた前記ヒータを第1ヒータとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータを第2ヒータとして、前記第1ヒータの発熱量および前記第2ヒータの発熱量を互いに独立して制御することができること、ならびに、前記第1ヒータの発熱量が前記第2ヒータの発熱量よりも高くなるように前記ヒータを制御するモードが設けられていることを特徴とするオットマン。請求項1~5のいずれか一項に記載のオットマンにおいて、足の側方に設けられる壁を足側壁とし、右足の右方に設けられる前記足側壁を足側壁Aとし、左足の左方に設けられる前記足側壁を足側壁Bとし、前記右足と前記左足との間に設けられる前記足側壁を足側壁Cとして、前記足側壁Aおよび前記足側壁Bの少なくとも一方が前記足支持部に設けられていること、ならびに、前記足側壁Cが前記足支持部に設けられていないことを特徴とするオットマン。請求項1~6のいずれか一項に記載のオットマンにおいて、前記足裏が載せられる取付台が前記足支持部の本体上に設けられていること、前記取付台の平面部に前記ヒータが取り付けられていること、前記ヒータとして電熱線を含むものが用いられていること、ならびに、前記平面部が前記電熱線よりも変形しにくい材料により形成されていることを特徴とするオットマン。請求項1~7のいずれか一項に記載のオットマンにおいて、前記ヒータを覆うカバーが前記足支持部の本体に設けられていること、前記カバーが織物により構成されていること、ならびに、前記ヒータが前記カバーに接触することを特徴とするオットマン。請求項8に記載のオットマンにおいて、互いに独立した第1織物および第2織物が互いに重ね合わせられて前記カバーが構成されていること、前記第2織物が前記第1織物の表面において前記足裏に対応する部分に重ね合わせられていること、ならびに、前記第1織物に対する前記第2織物の取り付けおよび前記第1織物からの前記第2織物の取り外しが可能であることを特徴とするオットマン。請求項8または9に記載のオットマンにおいて、前記織物に金属粉が織り込まれていることを特徴とするオットマン。請求項10に記載のオットマンにおいて、前記金属粉として銀が用いられていることを特徴とするオットマン。臀部を支持する座部と、背中を支持する背もたれとを備える椅子型マッサージ機において、請求項1~11のいずれか一項に記載のオットマンが設けられていることを特徴とする椅子型マッサージ機。ところで、上記オットマンにおいては、足裏の前方の部分に温感を付与することができるようにヒータが配線されているものの、ヒータにおいて同前方の部分に対応する部分が主に足指の先端に対応して配線されている。このため、オットマンの使用時に足の位置が規定の位置からずれたときには、ヒータの熱が足裏の前方の部分に効率的に伝えられないおそれがある。本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、ヒータの熱を足裏の前方の部分に効率よく伝えることのできるオットマン、およびこれを備える椅子型マッサージ機を提供することにある。上記目的を達成するための手段を以下に記載する。本発明のオットマンは、足裏を支持する足支持部と、前記足裏を施術する施術突起と、前記足裏に温感を付与するヒータとを備え、前記足支持部の本体において前記足裏の足指の付け根に対応する部分から前記施術突起までの領域を足前方領域として、この足前方領域に前記ヒータが設けられていることを特徴としている。このオットマンにおいては、前記足裏の幅方向において前記施術突起に隣接する部分に前記ヒータがさらに設けられていることが好ましい。このオットマンによれば、前記足支持部の本体において前記足裏の踵に対応する部分から前記施術突起までの領域を足後方領域として、この足後方領域に前記ヒータがさらに設けられていることが好ましい。このオットマンにおいては、前記足前方領域に設けられた前記ヒータの一部分を部分Aとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータの別の一部分を部分Bとして、前記足裏に対向する前記部分Aの表面積が前記足裏に対向する前記部分Bの表面積よりも大きいことが好ましい。このオットマンにおいては、前記足前方領域に設けられた前記ヒータを第1ヒータとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータを第2ヒータとして、前記第1ヒータの発熱量および前記第2ヒータの発熱量を互いに独立して制御することができること、ならびに、前記第1ヒータの発熱量が前記第2ヒータの発熱量よりも高くなるように前記ヒータを制御するモードが設けられていることが好ましい。このオットマンにおいては、足の側方に設けられる壁を足側壁とし、右足の右方に設けられる前記足側壁を足側壁Aとし、左足の左方に設けられる前記足側壁を足側壁Bとし、前記右足と前記左足との間に設けられる前記足側壁を足側壁Cとして、前記足側壁Aおよび前記足側壁Bの少なくとも一方が前記足支持部に設けられていること、ならびに、前記足側壁Cが前記足支持部に設けられていないことが好ましい。このオットマンにおいては、前記足裏が載せられる取付台が前記足支持部の本体上に設けられていること、前記取付台の平面部に前記ヒータが取り付けられていること、前記ヒータとして電熱線を含むものが用いられていること、ならびに、前記平面部が前記電熱線よりも変形しにくい材料により形成されていることが好ましい。このオットマンにおいては、前記ヒータを覆うカバーが前記足支持部の本体に設けられていること、前記カバーが織物により構成されていること、ならびに、前記ヒータが前記カバーに接触することが好ましい。このオットマンにおいては、互いに独立した第1織物および第2織物が互いに重ね合わせられて前記カバーが構成されていること、前記第2織物が前記第1織物の表面において前記足裏に対応する部分に重ね合わせられていること、ならびに、前記第1織物に対する前記第2織物の取り付けおよび前記第1織物からの前記第2織物の取り外しが可能であることが好ましい。このオットマンにおいては、前記織物に金属粉が織り込まれていることが好ましい。このオットマンにおいては、前記金属粉として銀が用いられていることが好ましい。本発明の椅子型マッサージ機は、臀部を支持する座部と、背中を支持する背もたれとを備え、前記オットマンが設けられていることを特徴としている。本発明によれば、ヒータの熱を足裏の前方の部分に効率よく伝えることのできるオットマン、およびこれを備える椅子型マッサージ機を提供することができる。図1~図6を参照して、本発明の一実施形態について説明する。図1に示されるように、椅子型マッサージ機以下、マッサージ機1には、体幹を支持するチェア10と、下肢を支持するオットマン20とが設けられている。またこの他に、チェア10およびオットマン20の各装置を制御する制御装置と、使用者がチェア10およびオットマン20を操作するためのコントローラとが設けられているいずれも図示略。チェア10には、臀部を支持する座部11と、背中を支持する背もたれ12と、腕を支持する肘掛13とが設けられている。背もたれ12には、背中を施術する施術機構14が設けられている。施術機構14には、背中をもみほぐす施術子15と、施術子15を駆動させる駆動部16とが設けられている。オットマン20には、脚を支持する脚支持部30と、足を支持する足支持部40とが設けられている。脚支持部30と足支持部40とは、脚支持部30の接続部33により互いに接続されている。ここで、足支持部40について次の各用語を定義する。A足支持部40の長手方向を足支持部40の幅方向とし、足支持部40の短手方向を足支持部40の奥行方向とし、足支持部40の幅方向および奥行方向に直交する方向を足支持部40の高さ方向とする。B足支持部40の幅方向において、座部11に着座した使用者から見て右の方向を右方とし、同使用者から見て左の方向を左方とする。C足支持部40の奥行方向において、踵から足先に向かう方向を前方とし、足先から踵に向かう方向を後方とする。D足支持部40の高さ方向において、足から下腿に向かう方向を上方とし、下腿から足に向かう方向を下方とする。脚支持部30には、脚の側面を支持する3つの脚側壁31と、下腿を支持する脚背壁32と、脚側壁31と足支持部40とを互いに接続する接続部33とが設けられている。また、脚を施術するエアバッグとして、右下腿および左下腿をそれぞれ右方側および左方側から施術する側部エアバッグ34と、右下腿および左下腿をそれぞれ後方側から施術する後部エアバッグ35とが設けられている。脚側壁31としては、右脚の右方の側面を支持する脚側壁31と、左脚の左方の側面を支持する脚側壁31と、右脚の左方の側面および左脚の右方の側面を支持する脚側壁31とが設けられている。足支持部40には、足裏を支持する部分の本体としての支持部本体41と、右足裏を支持する足裏支持部50と、左足裏を支持する足裏支持部50と、各足裏に温感を付与するヒータ70とが設けられている。また、足支持部40の各要素を覆うカバーとして、支持部本体41を覆う第1カバー44と、第1カバー44のうちの各足裏支持部50に対応する部分を覆う2枚の第2カバー45とが設けられている。図2を参照して、足支持部40の詳細な構成について説明する。支持部本体41には、各足裏支持部50が載せられる足底壁42と、右足の右方への移動を規制する足側壁43と、左足の左方への移動を規制する足側壁43とが設けられている。足底壁42の上面には、右足用および左足用の足裏支持部50が設けられている。右足用の足裏支持部50と左足用の足裏支持部50とは、隙間を介して直接的に対向している。すなわち支持部本体41において、右足用の足裏支持部50と左足用の足裏支持部50との間には、各足の幅方向への移動を規制する側壁が設けられていない。第1カバー44は、銀が織り込まれた織物により構成されている。第2カバー45も同様に銀が織り込まれた織物により構成されている。なお、第1カバー44は第1織物に相当する。また、第2カバー45は第2織物に相当する。第1カバー44において、各足裏支持部50の前方および後方の端部に対応する部分には、それぞれ第1面ファスナ44Aが設けられている。第2カバー45の前方および後方の端部には、それぞれ第2面ファスナ45Aが設けられている。これにより、マッサージ機1の使用者は、第2カバー45を第1カバー44に取り付けること、および第2カバー45を第1カバー44から取り外すことができる。図1を参照して、チェア10およびオットマン20の制御について説明する。制御装置は、コントローラから送信された信号に基づいて、施術機構14、側部エアバッグ34、後部エアバッグ35、施術突起51、およびヒータ70を制御する。マッサージ機1においては、コントローラの操作により選択することのできる複数の動作モードが予め用意されている。また、複数のモードのいずれか1つが行なわれている状態において、ヒータ70による足裏への温感の付与が行なわれる。なお、動作モードにともない行なわれるヒータ70の制御とは別に、コントローラの操作によりヒータ70のオンおよびオフを選択することもできる。動作モードの説明にあたり各用語を下記のとおり定義する。施術実行は、施術機構14が動作している状態を示す。施術停止は、施術機構14が停止している状態を示す。側部実行は、側部エアバッグ34が動作している状態を示す。側部停止は、側部エアバッグ34が停止している状態を示す。後部実行は、後部エアバッグ35が動作している状態を示す。後部停止は、後部エアバッグ35が停止している状態を示す。突起実行は、施術突起51が動作している状態を示す。突起停止は、施術突起51が停止している状態を示す。温感実行は、ヒータ70が動作している状態を示す。温感停止は、ヒータ70が停止している状態を示す。動作モードしては以下のものが用意されている。第1Aモード施術実行、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感停止。第1Bモード施術実行、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感実行。第1Cモード施術実行、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感停止。第1Dモード施術実行、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感実行。第1Eモード施術実行、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感停止。第1Fモード施術実行、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感実行。第1Gモード施術実行、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感停止。第1Hモード施術実行、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感実行。第1Iモード施術実行、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感停止。第1Jモード施術実行、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感実行。第1Kモード施術実行、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感停止。第1Lモード施術実行、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感実行。第1Mモード施術実行、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感停止。第1Nモード施術実行、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感実行。第2Aモード施術停止、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感停止。第2Bモード施術停止、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感実行。第2Cモード施術停止、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感停止。第2Dモード施術停止、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感実行。第2Eモード施術停止、側部実行、後部停止、突起実行、かつ温感停止。第2Fモード施術停止、側部実行、後部停止、突起実行、かつ温感実行。第2Gモード施術停止、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感停止。第2Hモード施術停止、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感実行。第3Aモード施術停止、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感停止。第3Bモード施術停止、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感実行。第3Cモード施術停止、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感停止。第3Dモード施術停止、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感実行。第4Aモード施術停止、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感停止。第4Bモード施術停止、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感実行。第5Aモード施術停止、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感停止。第5Bモード施術停止、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感実行。図3を参照して、足裏支持部50の詳細な構成について説明する。なお、図3においては、第1カバー44の第1面ファスナ44Aおよび第2カバー45の第2面ファスナ45Aを省略している。各足裏支持部50には、足裏を施術する施術突起51と、施術突起51を高さ方向に移動させるエアバッグ52と、施術突起51の一部およびエアバッグ52を収容する取付台60とが設けられている。またこの他に、足裏に温感を付与するヒータ70の一部と、ヒータ70を配線するためのシート53とが設けられている。シート53には、ヒータ70の下方の半分が埋め込まれるとともにヒータ70の上方の半分が露出するようにヒータ70が配線されている。ヒータ70としては、取付台60に対応する部分の全体にわたり径の大きさが同一のものが用いられている。取付台60には、足裏を支持する平面部65と、平面部65の下面側の空間を取り囲む側壁部66とが設けられている。側壁部66は、平面部65の下面の縁に接続されている。平面部65において奥行方向および幅方向の中間部分には、施術突起51を挿入するための突起孔67が形成されている。取付台60としては、樹脂材料により形成された剛体の高いものが用いられている。すなわち、外部から力が加えられたときにヒータ70よりも変形しにくいものが用いられている。取付台60の内部、すなわち平面部65と側壁部66とにより囲まれた空間には、施術突起51の下方の部分およびエアバッグ52が収容されている。エアバッグ52は、足底壁42と施術突起51との間に設けられている。施術突起51は、突起孔67に対してすきま嵌めされている。施術突起51の先端部は、エアバッグ52が最も収縮した状態において突起孔67を介して平面部65から外部に突出している。高さ方向においての足底壁42に対する施術突起51の位置、すなわち施術突起51のうちの平面部65から突出している部分の長さ以下、突出量は、エアバッグ52の状態に応じて変更される。第1カバー44は、ヒータ70および施術突起51を上方から覆うとともにヒータ70に接触するように設けられている。すなわち、足が足裏支持部50に載せられていない状態においては、第1カバー44の裏面とヒータ70との間に小さな隙間が形成される。一方、足が足裏支持部50に載せられた状態においては、第1カバー44の裏面とヒータ70との少なくとも一部が互いに接触する。第1カバー44とヒータ70との接触面積は、施術突起51の突出量に応じて変化する。図5に示されるように、シート53には、左方の取付台60に対応した配線部53Aと、右方の取付台60に対応した配線部53Aと、左方の配線部53Aと右方の配線部53Aとを互いに連結する連結部53Bとが設けられている。シート53の配線部53Aは、奥行方向において取付台60の前方の端部以下、台前方端部60Xから取付台60の後方の端部以下、台後方端部60Yまでにわたり設けられている。また、幅方向において取付台60の左方の端部から右方の端部までにわたり設けられている。配線部53Aにおいて取付台60の突起孔67に対応する部分には、突起孔67よりも径が大きい開口部53Cが形成されている。施術突起51、突起孔67、および開口部53Cはそれぞれ同心円上に設けられている。図4を参照して、取付台60の詳細な構成について説明する。なお図4は、取付台60の内部から施術突起51およびエアバッグ52を省略した状態の取付台60について、これを下方側からみたときの平面構造を示している。取付台60には、平面部65および側壁部66の他に、補強のための複数の種類のリブ、すなわち第1リブ61、第2リブ62、第3リブ63、および第4リブ64が設けられている。第1リブ61~第4リブ64はそれぞれ、平面部65の下面および側壁部66の内周面に接続されている。第1リブ61は、取付台60の前方の部分において幅方向に延びるように、すなわち幅方向において、左方の側壁部66の内周面から右方の側壁部66の内周面までにわたり設けられている。また、奥行方向において2つの第1リブ61が並べて設けられている。第2リブ62は、取付台60の前方の部分において奥行方向に延びるように、すなわち奥行方向において、前方の側壁部66の内周面から第1リブ61の側面までにわたり設けられている。また、幅方向において2つの第2リブ62が並べて設けられている。第3リブ63は、取付台60の後方の部分において幅方向に延びるように、すなわち幅方向において、左方の側壁部66の内周面から右方の側壁部66の内周面までにわたり設けられている。また、奥行方向において3つの第3リブ63が並べて設けられている。第4リブ64は、取付台60の後方の部分において奥行方向に延びるように、すなわち奥行方向において、後方の側壁部66の内周面から第3リブ63の側面までにわたり設けられている。また、幅方向において2つの第4リブ64が並べて設けられている。図5および図6を参照して、ヒータ70の配線の態様について説明する。なお、図5は第1カバー44および第2カバー45が取り外された状態の足支持部40の平面構造を示している。また、図6は各足裏支持部50に足Fが載せられた状態の足支持部40の平面構造を示している。取付台60は、奥行方向において前方から後方に向けて5つの領域、すなわち第1領域60A、第2領域60B、第3領域60C、第4領域60D、および第5領域60Eに区分される。なお、第2領域60Bは足前方領域に相当し、第5領域60Eは足後方領域に相当する。a第1領域60Aは、台前方端部60Xから足指FTの付け根に対応する部分までの領域を示す。b第2領域60Bは、足指FTの付け根に対応する部分から施術突起51の前方の縁に対応する部分までの領域を示す。c第3領域60Cは、施術突起51の前方の縁から施術突起51の後方の縁までの領域を示す。d第4領域60Dは、施術突起51の後方の縁から踵FHの前端に対応する部分までの領域を示す。e第5領域60Eは、踵FHの前端に対応する部分から台後方端部60Yまでの領域を示す。ヒータ70は、第1領域60A~第5領域60Eにまたがり配線されている。ヒータ70の各部分は、各領域60A~60Eとの関係に基づいて5つの領域、すなわち第1部分71、第2部分72、第3部分73、第4部分74、および第5部分75に区分される。a第1部分71は、第1領域60Aに対応する部分を示す。b第2部分72は、第2領域60Bに対応する部分を示す。c第3部分73は、第3領域60Cに対応する部分を示す。d第4部分74は、第4領域60Dに対応する部分を示す。e第5部分75は、第5領域60Eに対応する部分を示す。足支持部40においては、2つの足裏支持部50に対して1本のヒータ70が足Fの各部分に対応するように配線されている。また、1つの足裏支持部50において施術突起51を取り囲むようにヒータ70が配線されている。ヒータ70と足Fとの関係について説明する。a第1部分71は、足指FTに対応して配線されている。b第2部分72は、土踏まずFAの前方の部分に対応して配線されている。c第3部分73は、長さ方向中間かつ幅方向外側の部分に対応して配線されている。d第4部分74は、長さ方向後方かつ幅方向外側の部分に対応して配線されている。e第5部分75は、踵FHに対応して配線されている。ヒータ70の各部分の長さの関係について説明する。第1領域60Aおよび第2領域60Bにおいての単位面積あたりのヒータ70の長さは、第4領域60Dおよび第5領域60Eにおいての単位面積あたりのヒータ70の長さよりも大きい。すなわち、第1部分71および第2部分72の合計の長さは、第4部分74および第5部分75の合計の長さよりも大きい。なお、第2部分72は部分Aに相当し、第5部分75は部分Bに相当する。ヒータ70の各部分の表面積の関係について説明する。第1領域60Aおよび第2領域60Bにおいての単位面積あたりのヒータ70の表面積は、第4領域60Dおよび第5領域60Eにおいての単位面積あたりのヒータ70の表面積よりも大きい。すなわち、第1部分71および第2部分72の合計の表面積は、第4部分74および第5部分75の合計の表面積よりも大きい。なお、ここでのヒータ70の表面積はシート53から露出しているヒータ70の上方の部分の表面積を示す。足支持部40においては、上記のようにヒータ70が配線されていることにより、第1部分71および第2部分72の合計の発熱量が第4部分74および第5部分75の合計の発熱量よりも大きくなる。図5を参照して、足支持部40の動作について説明する。足Fのマッサージは次の順序で行なわれる。手順A足Fが足裏支持部50に載せられる。手順Bエアバッグ52による施術突起51の移動が開始される。手順Cヒータ70による足裏への温感の付与が開始される。手順Dヒータ70による温感の付与が停止される。手順Eエアバッグ52による施術突起51の移動が停止される。上記手順Bにおいては、エアバッグ52の膨張および収縮にともない施術突起51の突出量が変化することにより、突出量の変化に応じた刺激が足裏に付与される。すなわち、施術突起51の突出量が増大するときには足裏に付与される刺激が大きくなる。一方、施術突起51の突出量が減少するときには足裏に付与される刺激が小さくなる。実施形態の効果本実施形態のマッサージ機1によれば、以下の効果が得られる。1比較例のオットマン以下、比較オットマンとの対比に基づいて本実施形態のマッサージ機1により得られる効果について説明する。比較オットマンは、以下の点においてマッサージ機1のオットマン20と構成が相違し、その他の点についてはオットマン20と同一の構成を有する。すなわち、オットマン20において図5等に示されるようにヒータ70が配線されている点に対して、比較オットマンにおいては、取付台60の外周に沿うようにヒータが環状に配線されている。また、同ヒータにおいて台前方端部60Xに対応する部分以下、比較ヒータ前方部分は主に足指の先端に対応して配線されている。比較オットマンにおいては、上記のように比較ヒータ前方部分が配線されているため、当該オットマンの使用時に足の位置が規定の位置から奥行方向の後方にずれたとき、比較ヒータ前方部分が足裏と対向しない状態となりやすい。すなわち、ヒータの熱が足裏の前方の部分に効率的に伝えられなくなるおそれが高い。一方、本実施形態のマッサージ機1のオットマン20においては、第2領域60Bにヒータ70の一部分第2部分72が配線されている。この構成によれば、当該オットマン20の使用時に足の位置が規定の位置から奥行方向の後方にずれたときに第2部分72が足裏と対向しない状態となる頻度は、比較オットマンにおいて比較ヒータ前方部分が足裏と対向しない状態となる頻度よりも小さくなる。このため、ヒータ70の熱を足裏の前方の部分に効率的に伝えることができる。2オットマン20においては、第3領域60Cにヒータ70の一部分第3部分73が配線されている。この構成によれば、足裏の前方の部分のより広い範囲に温感を付与することができる。3オットマン20においては、第2領域60Bに加えて第5領域60Eにヒータ70の一部分第5部分75が配線されている。この構成によれば、足裏の前方の部分に加えて足裏の後方の部分にも温感が付与されるため、足裏の全体に温感が付与されている感覚を使用者に与えることができる。4オットマン20においては、施術突起51を取り囲むようにヒータ70が配線されている。この構成によれば、施術突起51により温感が付与されている感覚を使用者に与えることができる。5オットマン20においては、第1部分71および第2部分72の合計の表面積が第4部分74および第5部分75の合計の表面積よりも大きい。この構成によれば、踵に付与される温感に比べて足指およびその付近に付与される温感の方が大きくなるため、足裏を効率的に温めることができる。5オットマン20においては、左方の足裏支持部50と右方の足裏支持部50との間に足側壁が設けられていない。この構成によれば、左方の足裏支持部50と右方の足裏支持部50との間に足側壁が設けられる構成と比較して、ヒータ70が停止したときに足の温度が下がりやすい。このため、足裏に温感を付与するモードの後に足裏に温感を付与しないモードが行なわれるとき、足裏の状態を後者のモードに適した状態に速やかに近づけることができる。6オットマン20においては、取付台60としてヒータ70よりも変形しにくいものが用いられている。この構成によれば、ヒータ70の断線を生じにくくすることができる。7オットマン20においては、第1カバー44に接触するようにヒータ70が配線されている。この構成によれば、第1カバー44とヒータ70との間に樹脂製のカバー等が設けられる構成と比較して、ヒータ70の熱を足裏に効率よく伝えることができる。8オットマン20においては、第1カバー44に対して取り付けおよび取り外しができるように第2カバー45が構成されている。この構成によれば、オットマン20の使用にともない汚れやすい部分、すなわち足裏に対応する部分のカバーとしての第2カバー45を容易に交換することができる。9オットマン20においては、銀が織り込まれた織物により第1カバー44が構成されている。この構成によれば、第1カバー44が消臭作用を有するものとなるため、オットマン20の使用にともない足支持部40から汗等の臭いが発生することを抑制することができる。また、第1カバー44が抗菌作用を有するものとなるため、オットマン20の使用にともない足支持部40に雑菌が繁殖することを抑制することができる。また、第1カバー44が高い熱伝導率を有するものとなるため、ヒータ70から足裏に熱を効率よく伝えることができる。10オットマン20においては、銀が織り込まれた織物により第2カバー45が構成されている。この構成によれば、第2カバー45においても第1カバー44により得られる効果と同様の効果が得られる。11オットマン20においては、取付台60に第1リブ61~第4リブ64が設けられている。この構成によれば、取付台60の平面部65の強度が向上するため、足が足支持部40に載せられたときの平面部65の変形量が小さくすることができる。このため、ヒータ70の断線が生じにくくなる。その他の実施形態本発明の実施態様は、上記実施形態の内容に限定されるものではなく、例えば以下のように変更することもできる。また、以下の変形例は上記実施形態についてのみ適用されるものではなく、異なる変形例同士を互いに組み合わせて実施することもできる。上記実施形態では、1本の電熱線によりヒータ70を構成しているが、ヒータ70の構成を以下のように変更することもできる。A図7に示されるように、ヒータ70に代えてヒータ80を設けることもできる。このヒータ80には、取付台60の前方の部分に配線される第1ヒータ81と、取付台60の後方の部分に配線される第2ヒータ82とが設けられる。第1ヒータ81は、第1領域60A、第2領域60B、および第3領域60Cにわたり配線されている。また、その配線態様としては、ヒータ70の第1部分71、第2部分72、および第3部分73の配線態様に準じたものが採用される。第2ヒータ82は、第3領域60C、第4領域60D、および第5領域60Eにわたり配線されている。また、その配線態様としては、ヒータ70の第3部分73、第4部分74、および第5部分75の配線態様に準じたものが採用される。Bヒータ70に代えて、各取付台60に配線される部分が3本の電熱線により構成されるヒータを設けることもできる。このヒータの構成としては、例えば図5に示されるヒータ70において、第1部分71および第2部分72を1本の電熱線により構成し、第3部分73を1本の電熱線により構成し、第4部分74および第5部分75を1本の電熱線により構成したものが挙げられる。上記Aの変形例において、ヒータの制御として以下の制御1~制御4をマッサージ機1の制御装置に予めプログラムすることもできる。この場合には、各制御の実行および停止を選択するための操作部と、各制御のうちの実行するものを選択するための操作部とがマッサージ機1のコントローラに設けられる。制御1第1ヒータ81の発熱量が第2ヒータ82の発熱量よりも大きくなるように各ヒータの供給電力を制御する。制御2第1ヒータ81の発熱量が第2ヒータ82の発熱量よりも小さくなるように各ヒータの供給電力を制御する。制御3第1ヒータ81の発熱量が第2ヒータ82の発熱量と等しくなるように各ヒータの供給電力を制御する。制御4上記制御1~制御3の少なくとも2つを選択し、予めプログラムされた順序に基づいて選択した制御を順に行なう。上記実施形態では、1つの足裏支持部50に1つの施術突起51を設けているが、1つの足裏支持部50に複数の施術突起51を設けることもできる。図8を参照して、複数の施術突起51が設けられる構成の一例について説明する。図8に示されるように、各足裏支持部50には、複数の施術突起51としての第1施術突起51Aおよび第2施術突起51Bと、ヒータ70に代わるヒータ90とが設けられる。第1施術突起51Aは、取付台60の前方の部分に設けられる。第2施術突起51Bは、取付台60の後方の部分に設けられる。なお、図8の変形例においてヒータ90に代えてヒータ70を設けることもできる。取付台60には、第1施術突起51Aおよび第2施術突起51Bをそれぞれ挿入するための2つの突起孔67が形成される。取付台60の内部には、第1施術突起51Aを高さ方向に移動させるための第1エアバッグ52Aと、第2施術突起51Bを高さ方向に移動させるための第2エアバッグ52Bとが設けられる。ヒータ90には、取付台60の前方の部分に配線される第1ヒータ91と、取付台60の後方の部分に配線される第2ヒータ92とが設けられる。すなわち、ヒータ90は2本の電熱線により構成される。取付台60は、奥行方向において前方から後方に向けて6つの領域、すなわち第11領域60F、第12領域60G、第13領域60H、第14領域60I、第15領域60J、および第16領域60Kに区分される。なお、第12領域60Gは足前方領域に相当し、第16領域60Kは足後方領域に相当する。a第11領域60Fは、台前方端部60Xから足指の付け根に対応する部分までの領域を示す。b第12領域60Gは、足指の付け根に対応する部分から第1施術突起51Aの前方の縁に対応する部分までの領域を示す。c第13領域60Hは、第1施術突起51Aの前方の縁から第1施術突起51Aの後方の縁までの領域を示す。d第14領域60Iは、第1施術突起51Aの後方の縁から第2施術突起51Bの前方の縁までの領域を示す。e第15領域60Jは、第2施術突起51Bの前方の縁から第2施術突起51Bの後方の縁までの領域を示す。f第16領域60Kは、第2施術突起51Bの後方の縁から台後方端部60Yまでの領域を示す。第1ヒータ91は、第11領域60F、第12領域60G、第13領域60H、および第14領域60Iの前方の部分にわたり配線される。また、図6のヒータ70の第1部分71、第2部分72、および第3部分73の配線態様に準じて第1施術突起51Aを取り囲むように配線される。第2ヒータ92は、第14領域60Iの後方の部分、第15領域60J、および第16領域60Kにわたり配線される。また、図6のヒータ70の第3部分73、第4部分74、および第5部分75の配線態様に準じて第2施術突起51Bを取り囲むように配線される。上記実施形態において、ヒータ70の第1部分71を省略することもできる。上記実施形態において、ヒータ70の第3部分73~第5部分75の少なくとも一部分を省略することもできる。上記実施形態では、ヒータ70として電熱線により構成されるものを用いているが、ヒータ70の構成はこれに限られない。例えば、遠赤外線を放射する素子と、遠赤外線を受けるセラミック板とにより構成されるヒータを用いることもできる。この場合、取付台60上にセラミック板が設けられるとともに、取付台60の内部に素子が設けられる。またセラミック板は、ヒータ70の第1部分71~第5部分75と対応するように設けられる。また素子は、セラミック板に対応する位置に設けられる。上記実施形態では、樹脂製の取付台60を用いているが、金属製の取付台60を用いることもできる。また、ヒータ70よりも変形しにくいゴムにより形成された取付台60を用いることもできる。上記実施形態では、各足に対応する2つの取付台60を設けているが、右方の取付台60および左方の取付台60の少なくとも一方を省略することもできる。この場合、ヒータ70がシート53を介して足底壁42上に配線される。上記実施形態において、第2カバー45の構成を次のように変更することもできる。すなわち、図9aに示されるように、第2カバー45の前方の端部に足の甲を覆うための甲カバー46を設けることもできる。この甲カバー46の幅は、第2カバー45において足裏に対応する部分の幅よりも大きく設定される。図9bに示されるように、この第2カバー45においては、甲カバー46を折り返すことにより足の甲を覆うことができる。これにより、使用者の足に対してより効率的に温感を付与することができる。上記実施形態において、銀に代えてアルミ二ウム等の他の金属粉が織り込まれた織物により第1カバー44および第2カバー45の少なくとも一方を構成することもできる。上記実施形態において、金属粉が織り込まれていない織物により第1カバー44および第2カバー45の少なくとも一方を構成することもできる。上記実施形態において、第2カバー45を省略することもできる。この場合、第1カバー44から第1面ファスナ44Aが省略される。上記実施形態において、第1カバー44とヒータ70との間にヒータ70を覆う別のカバーを設けることもできる。この構成においても、上記実施形態の1~6および8~11の効果が得られる。上記実施形態において、右方の足裏支持部50と左方の足裏支持部50との間に足側壁を設けることもできる。この足側壁は、足側壁Cに相当するものであり、右足の左方への移動および左足の右方への移動を規制するものとして設けられる。上記実施形態において、足側壁43の少なくとも一方を省略することもできる。上記実施形態では、取付台60の突起孔67が施術突起51とすきま嵌めされる大きさとして設けられているが、突起孔67の大きさはこれに限られない。施術突起51と足指の付け根との間の範囲に第1部分71が設けられていれば、突起孔67を奥行方向または幅方向に延びる長孔とすることもできる。上記実施形態において、オットマン20から脚支持部30を省略することもできる。上記実施形態において、マッサージ機1の一部としてオットマン20を構成しているが、オットマン20をマッサージ機1から独立した単独のマッサージ機として構成することもできる。