"aポリシロキサン、bナフトキノンジアジド化合物、cウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤、d溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物であって、前記cウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤が、一般式1または一般式2で表される化合物であるポジ型感光性組成物。R1、R3は直接結合あるいは炭素数1~10のアルキレン鎖を表す。R2、R4は水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアシル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表す。X、Yは水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアルケニル基、炭素数6~11のアリール基のいずれかを表す。Aは直接結合あるいは炭素数1~10のアルキレン鎖を表す。Aが直接結合の場合、Zは水素、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~6のアルケニル基、炭素数6~11のアリール基のいずれかを表す。Aが炭素数1~10のアルキレン鎖の場合、Zは水素、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルコキシ基のいずれかを表す。X、Y、Zはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。d溶剤のうち、アルコール性水酸基を有する溶剤が、ポジ型感光性組成物中の全溶剤量100重量部に対して、30重量部以上である請求項1に記載のポジ型感光性組成物。請求項1または2に記載のポジ型感光性組成物から形成された硬化膜であって、波長400nmにおける膜厚2μmあたりの光線透過率が95以上であることを特徴とする硬化膜。請求項3に記載の硬化膜を具備することを特徴とする素子。本発明は、上述のような事情に基づいてなされたものである。本発明の課題は高透明性であり、高密着性かつ酸およびアルカリ薬液に対して優れた耐薬品性を有するシロキサン材料におけるポジ型感光性組成物を提供すること、およびそのポジ型感光性組成物の製造方法を提供することにある。上記課題を解決するため、本発明者らは検討を重ねた結果、ポリシロキサン、ナフトキノンジアジド化合物、および特定の骨格を有するシラン化合物、溶剤を併用することで、高密着性および優れた耐薬品性を有する硬化膜を形成できるポジ型感光性組成物が得られることを見出した。また硬化膜の高透明性やポジ型感光性組成物の感光特性を損なうことのない製造方法として、原料を特定の順序で混合してポジ型感光性組成物を製造する方法を考案するに至った。すなわち本発明のポジ型感光性組成物は、aポリシロキサン、bナフトキノンジアジド化合物、cウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤、d溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物であって、前記cウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤が、一般式1または一般式2で表される化合物であるポジ型感光性組成物である。R1、R3は直接結合あるいは炭素数1~10のアルキレン鎖を表す。R2、R4は水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアシル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表す。X、Yは水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアルケニル基、炭素数6~11のアリール基のいずれかを表す。Aは直接結合あるいは炭素数1~10のアルキレン鎖を表す。Aが直接結合の場合、Zは水素、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~6のアルケニル基、炭素数6~11のアリール基のいずれかを表す。Aが炭素数1~10のアルキレン鎖の場合、Zは水素、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルコキシ基のいずれかを表す。X、Y、Zはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。本発明のポジ型感光性組成物は高透明性、高密着性、かつ酸およびアルカリ薬液に対して優れた耐薬品性を有する。また得られた硬化膜は、TFT基板用平坦化膜、層間絶縁膜、タッチパネル用保護膜絶縁膜として好適に用いることができる。本発明のポジ型感光性組成物は、aポリシロキサンを含有する。ポリシロキサンの構造は特に制限されないが、好ましい態様としては、下記一般式3で表されるオルガノシランのうち1種以上のオルガノシラン混合物を加水分解、縮合させることで合成されるポリシロキサンが挙げられる。R5は水素、炭素数1~10のアルキル基、炭素数2~10のアルケニル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表し、複数のR5はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。R6は水素、炭素数1~10のアルキル基、炭素数2~6のアシル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表し、複数のR6はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。nは0~3の整数である。一般式3のR5で挙げられたアルキル基、アルケニル基、およびアリール基はいずれも置換基を有していてもよく、また置換基を有していない無置換体であってもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、n-デシル基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、3-グリシドキシプロピル基、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基、3-アミノプロピル基、3-メルカプトプロピル基、3-イソシアネートプロピル基などが挙げられる。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、3-アクリロキシプロピル基、3-メタクリロキシプロピル基などが挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、p-ヒドロキシフェニル基、1-p-ヒドロキシフェニルエチル基、2-p-ヒドロキシフェニルエチル基、4-ヒドロキシ-5-p-ヒドロキシフェニルカルボニルオキシペンチル基、ナフチル基などが挙げられる。一般式3のR6で挙げられたアルキル基、アシル基、およびアリール基はいずれも置換基を有していてもよく、また置換基を有していない無置換体であってもよく、組成物の特性に応じて選択できる。一般式3のnは0~3の整数である。n=0の場合は4官能性シラン、n=1の場合は3官能性シラン、n=2の場合は2官能性シラン、n=3の場合は1官能性シランである。一般式3で表されるオルガノシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラフェノキシシランなどの4官能性シラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリn-ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリn-ブトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-ブチルトリメトキシシラン、n-ブチルトリエトキシシラン、n-ヘキシルトリメトキシシラン、n-ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、p-ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、1-p-ヒドロキシフェニルエチルトリメトキシシラン、2-p-ヒドロキシフェニルエチルトリメトキシシラン、4-ヒドロキシ-5-p-ヒドロキシフェニルカルボニルオキシペンチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシランなどの3官能性シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジn-ブチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランなどの2官能性シラン、トリメチルメトキシシラン、トリn-ブチルエトキシシランなどの1官能性シランが挙げられる。これらのオルガノシランのうち、硬化膜の耐クラック性と表面硬度の観点から3官能性シランが好ましく用いられる。また、これらのオルガノシランは単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。ポリシロキサン中において、膜の耐クラック性と硬度を両立させる観点から、ポリシロキサン中にあるフェニル基の含有率は、ポリシロキサン全体のSi原子モル数に対するSi原子モル比で20~70が好ましく、さらに好ましくは40~60である。フェニル基の含有率が70より多いと表面硬度が低下し、フェニル基の含有率が20より少ないと耐クラック性が低下する。フェニル基の含有率は、例えばポリシロキサンの29Si-NMR核磁気共鳴スペクトルを測定し、そのフェニル基が結合したSiのピーク面積とフェニル基が結合していないSiのピークの面積の比から求めることができる。また硬化膜の表面硬度を向上させるために、本発明のaポリシロキサンはメタアクリル基を含有することも好ましい。メタアクリル基がポリシロキサン中に存在することで、熱硬化時に未反応のシラノール基の縮合だけでなくアクリル基の架橋も進行するため、硬化膜の表面硬度が向上する。また本発明のaポリシロキサンは、さらに下記一般式4で表されるオルガノシラン1種以上を含んだオルガノシラン混合物を加水分解、縮合して合成することで得られたポリシロキサンであってもよい。R7、R8、R9、R10はそれぞれ独立に水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアシル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表す。これらのアルキル基、アシル基、アリール基はいずれも置換基を有していてもよく、また置換基を有していない無置換体であってもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基などが挙げられる。アシル基の具体例としてはアセチル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基が挙げられる。mは1から8の整数である。mが8を越えると、現像時に残渣が発生する可能性がある。一般式4で表されるオルガノシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラ-n-ブチルシラン、テトラフェノキシシランなどの4官能シランやメチルシリケート51扶桑化学工業株式会社製、Mシリケート51、シリケート40、シリケート45多摩化学工業株式会社製、メチルシリケート51、メチルシリケート53A、エチルシリケート40、エチルシリケート48コルコート株式会社製などのシリケート化合物が挙げられるが、好ましくはシリケート化合物が高感度の観点から好ましい。一般式4で表されるオルガノシランを用いることで、高い耐熱性や透明性を維持しつつ、耐薬品性に優れたポジ型感光性組成物が得られる。本発明のaのポリシロキサンにおける一般式4で表されるオルガノシランの含有比は、ポリシロキサン全体のSi原子モル数に対するSi原子モル比で80以下が好ましい。80より多いと、ポリシロキサンとナフトキノンジアジド化合物との相溶性が悪化し、硬化膜の透明性が低下する場合がある。一般式4で表されるオルガノシランの含有比は、例えばポリシロキサンの29Si-NMRを測定し、一般式4中の4官能シラン由来のSiのピーク面積と4官能シラン由来以外のSiのピーク面積の比から求めることができる。また、29Si-NMR以外に、1H-NMR、13C-NMR、IR、TOF-MS、元素分析法、灰分測定などを組み合わせて求めることができる。また本発明で用いられるポリシロキサンの重量平均分子量Mwは特に制限されないが、好ましくはGPCゲルパーミネーションクロマトグラフィで測定されるポリスチレン換算で1000~100000、さらに好ましくは1500~50000である。Mwが1000より小さいと塗膜性が悪くなり、100000より大きいとパターン形成時の現像液に対する溶解性が悪くなる。本発明におけるポリシロキサンは、一般式3および4で表されるオルガノシランなどのモノマーを加水分解、および部分縮合させることにより合成される。加水分解および部分縮合には一般的な方法を用いることができる。例えば、混合物に溶媒、水、必要に応じて触媒を添加し、50~150°C、好ましくは、90~130°Cで0.5~100時間程度加熱撹拌する。なお撹拌中、必要に応じて蒸留によって加水分解副生物メタノールなどのアルコールや縮合副生物水の留去を行ってもよい。上記の反応溶媒としては特に制限は無いが、通常は後述のd溶剤と同様のものが用いられる。溶媒の添加量はオルガノシランなどのモノマー100重量部に対して10~1000重量部が好ましい。また加水分解反応に用いる水の添加量は、加水分解性基1モルに対して0.5~2モルが好ましい。必要に応じて添加される触媒に特に制限はないが、酸触媒、塩基触媒が好ましく用いられる。酸触媒の具体例としては塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、多価カルボン酸あるいはその無水物、イオン交換樹脂が挙げられる。塩基触媒の具体例としては、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アミノ基を有するアルコキシシラン、イオン交換樹脂が挙げられる。触媒の添加量はオルガノシランなどのモノマー100重量部に対して0.01~10重量部が好ましい。また組成物の貯蔵安定性の観点から、加水分解、部分縮合後のポリシロキサン溶液には上記触媒が含まれないことが好ましく、必要に応じて触媒の除去を行うことができる。除去方法に特に制限は無いが、操作の簡便さと除去性の点で、水洗浄、および/またはイオン交換樹脂の処理が好ましい。水洗浄とは、ポリシロキサン溶液を適当な疎水性溶剤で希釈した後、水で数回洗浄して得られた有機層をエバポレーター等で濃縮する方法である。イオン交換樹脂での処理とは、ポリシロキサン溶液を適当なイオン交換樹脂に接触させる方法である。本発明のポジ型感光性組成物は、bナフトキノンジアジド化合物を含有する。ナフトキノンジアジド化合物を含有する感光性組成物は、露光部が現像液で除去されるポジ型を形成する。用いるナフトキノンジアジド化合物に特に制限は無いが、好ましくはフェノール性水酸基を有する化合物にナフトキノンジアジドスルホン酸がエステル結合した化合物であり、当該化合物のフェノール性水酸基のオルト位、およびパラ位がそれぞれ独立して水素、水酸基もしくは一般式5~6で表される置換基のいずれかである化合物が用いられる。R11、R12、R13はそれぞれ独立して炭素数1~10のアルキル基、カルボキシル基、フェニル基、置換フェニル基のいずれかを表す。また、R11、R12、R13で環を形成してもよい。アルキル基は無置換体、置換体のいずれでもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、トリフルオロメチル基、2-カルボキシエチル基が挙げられる。また、フェニル基上の置換基としては、水酸基、メトキシ基などが挙げられる。また、R11、R12、R13で環を形成する場合の具体例としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、アダマンタン環、フルオレン環が挙げられる。フェノール性水酸基のオルト位、およびパラ位が上記以外、例えばメチル基の場合、熱硬化によって酸化分解が起こり、キノイド構造に代表される共役系化合物が形成され、硬化膜が着色して無色透明性が低下する。なお、これらのナフトキノンジアジド化合物は、フェノール性水酸基を有する化合物と、ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとの公知のエステル化反応により合成することができる。フェノール性水酸基を有する化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられるいずれも本州化学工業株製。原料となるナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとしては、4-ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドあるいは5-ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドを用いることができる。4-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物はi線波長365nm領域に吸収を持つため、i線露光に適している。また5-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物は広範囲の波長領域に吸収が存在するため、広範囲の波長での露光に適している。露光する波長によって4-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物、5-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物を選択することが好ましい。4-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物と5-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物を混合して用いることもできる。本発明で好ましく用いられるナフトキノンジアジド化合物として、下記一般式7で表される化合物が挙げられる。R14は水素または炭素数1~8のアルキル基であり、R15、R16、R17、R18は水素、炭素数1~8のアルキル基、アルコキシ基、カルボキシ基、エステル基のいずれかを表し、同じでも異なっていてもよい。Qは5-ナフトキノンジアジドスルホニル基あるいは水素原子であり、Qが全て水素原子になることはない。またa、b、c、d、e、α、β、γ、δはいずれも0~4の整数である。ただしαβγδ≧2である。アルキル基は置換基を有していてもよく、また置換基を有していない無置換体でもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、トリフルオロメチル基、2-カルボキシエチル基などが挙げられる。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。一般式7で表されるナフトキノンジアジド化合物を用いることで、パターン加工における感度や、解像度が向上する。ナフトキノンジアジド化合物の添加量は特に制限されないが、好ましくは樹脂ポリシロキサン100重量部に対して2重量部以上であり、さらに好ましくは3重量部以上である。また、好ましくは樹脂ポリシロキサン100重量部に対して30重量部以下であり、さらに好ましくは15重量部以下である。ナフトキノンジアジド化合物の添加量が2重量部より少ない場合、露光部と未露光部との溶解コントラストが低すぎて、実用に足る感光性を発現しない場合がある。また、さらに良好な溶解コントラストを得るためには5重量部以上が好ましい。一方、ナフトキノンジアジド化合物の添加量が30重量部より多い場合、ポリシロキサンとナフトキノンジアジド化合物との相溶性が悪くなることによる塗布膜の白化が生じたり、熱硬化時に起こるキノンジアジド化合物の分解による着色が生じたりするために、硬化膜の無色透明性が低下する場合がある。また、さらに高透明性の膜を得るためには15重量部以下が好ましい。本発明のポジ型感光性組成物は、cウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤を含有する。本発明で用いられるウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤は、加水分解反応、脱水縮合反応によってポリシロキサン骨格中に取り込まれる骨格と、それら二つの反応を促進する機能を持つ骨格の両方の骨格を有するシラン化合物である。分子内にこの二つの骨格を有するため、効果的にシロキサンの架橋反応が進行し、耐薬品性向上の効果が得られると考えられる。また二つの反応を促進する機能を持つ骨格は基板表面に配位する部位としても機能するため、密着性向上の効果も得られると考えられる。従って、この化合物を添加することで、基板に対する密着性が向上するとともに、硬化膜の酸およびアルカリ薬液に対する耐薬品性が向上する。本発明で好ましく用いられるウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤として、一般式1または一般式2で表される化合物が挙げられる。R1、R3は直接結合あるいは炭素数1~10のアルキレン鎖を表す。R2、R4は水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアシル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表す。X、Yは水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアルケニル基、炭素数6~11のアリール基のいずれかを表す。Aは直接結合あるいは炭素数1~10のアルキレン鎖を表す。Aが直接結合の場合、Zは水素、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~6のアルケニル基、炭素数6~11のアリール基のいずれかを表す。Aが炭素数1~10のアルキレン鎖の場合、Zは水素、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルコキシ基のいずれかを表す。X、Y、Zはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。一般式1については、R1は炭素数1~6のアルキレン鎖が好ましく、R2は水素、炭素数1~4のアルキル基が好ましい。またX、Yはいずれも水素が好ましく、Aは直接結合、炭素数1~6のアルキレン鎖が好ましく、Zは水素、炭素数2~4のアルケニル基が好ましい。一般式2については、R3は炭素数1~6のアルキレン鎖が好ましく、R4は水素、炭素数1~4のアルキル基が好ましい。ウレア結合を有するシランカップリング剤の具体例としては、ウレイドメチルトリメトキシシラン、ウレイドメチルトリエトキシシラン、ウレイドメチルトリプロポキシシラン、2-ウレイドエチルトリメトキシシラン、2-ウレイドエチルトリエトキシシラン、2-ウレイドエチルトリプロポキシシラン、3-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリプロポキシシラン、4-ウレイドブチルトリメトキシシラン、4-ウレイドブチルトリエトキシシラン、4-ウレイドブチルトリプロポキシシラン、などが挙げられる。イソシアネート基を有するシランカップリング剤の具体例としては、トリメトキシシリルメチルイソシアネート、トリエトキシシリルメチルイソシアネート、トリプロポキシシリルメチルイソシアネート、2-トリメトキシシリルエチルイソシアネート、2-トリエトキシシリルエチルイソシアネート、2-トリプロポキシシリルエチルイソシアネート、3-トリメトキシシリルプロピルイソシアネート、3-トリエトキシシリルプロピルイソシアネート、3-トリプロポキシシリルプロピルイソシアネート、4-トリメトキシシリルブチルイソシアネート、4-トリエトキシシリルブチルイソシアネート、4-トリプロポキシシリルブチルイソシアネート、などが挙げられる。本発明で用いられるウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤は、市販のもの以外はいずれも既知の合成法により調製した。cウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤の添加量に特に制限は無いが、樹脂ポリシロキサン100重量部に対して0.1重量部以上添加するのが好ましく、より好ましくは0.5重量部以上である。また、樹脂ポリシロキサン100重量部に対して10重量部以下添加するのが好ましく、より好ましくは5重量部以下である。添加量が0.1重量部より少ないと密着性および耐薬品性向上の効果が十分でない場合がある。一方、10重量部よりも多いとプリベーク時にシロキサンの架橋が進行してしまい、感度の低下や現像時の残渣の原因となる場合がある。それ以外に、保管中にシロキサンの架橋反応が進行してしまうなど、ポジ型感光性組成物の保存安定性を悪化させてしまう場合がある。本発明のポジ型感光性組成物は、d溶剤を含有する。使用する溶剤に特に制限はないが、好ましくはアルコール性水酸基を有する化合物が用いられる。これらの溶剤を用いると、ポリシロキサンとキノンジアジド化合物とが均一に溶解し、組成物を塗布成膜しても膜は白化することなく、高透明性が達成できる。上記アルコール性水酸基を有する化合物は特に制限されないが、好ましくは大気圧下の沸点が110~250°Cである化合物である。沸点が250°Cより高いと膜中の残存溶剤量が多くなりキュア時の膜収縮が大きくなり、良好な平坦性が得られなくなる場合がある。一方、沸点が110°Cより低いと、塗膜時の乾燥が速すぎて膜表面が荒れるなど塗膜性が悪くなる場合がある。アルコール性水酸基を有する化合物の具体例としては、アセトール、3-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノン、4-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノン、5-ヒドロキシ-2-ペンタノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノn-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノn-ブチルエーテル、プロピレングリコールモノt-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、3-メトキシ-1-ブタノール、3-メチル-3-メトキシ-1-ブタノールなどが挙げられる。なお、これらのアルコール性水酸基を有する化合物は単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。また、本発明のポジ型感光性組成物は、本発明の効果を損なわない限り、その他の溶剤を含有してもよい。その他の溶剤としては、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシ-1-ブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシ-1-ブチルアセテート、アセト酢酸エチルなどのエステル類、メチルイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、アセチルアセトンなどのケトン類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジn-ブチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、などのエーテル類、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、δ-バレロラクトン、炭酸プロピレン、N-メチルピロリドン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンなどが挙げられる。本発明のポジ型感光性組成物中の全溶剤量100重量部に対して、アルコール性水酸基を有する溶剤が占める割合は30重量部以上であることが好ましく、より好ましくは40重量部以上である。30重量部より少ないと、ポジ型感光性組成物中でのcウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤の安定性が低く、液が白濁するなど、ポジ型感光性組成物の保存安定性を悪化させてしまう場合がある。d溶剤の添加量に特に制限はないが、好ましくは樹脂ポリシロキサン100重量部に対して100~2000重量部の範囲である。さらに本発明のポジ型感光性組成物は必要に応じて、光酸発生剤、増感剤、熱酸発生剤、密着改良剤、界面活性剤等の各種添加剤を含有してもよい。本発明で用いられる光酸発生剤は、ブリーチング露光時に結合開裂を起こして酸を発生する化合物であり、露光波長365nmi線、405nmh線、436nmg線、あるいはこれらの混合線の照射によって酸を発生する化合物である。従って、同様の光源を用いるパターン露光においても酸が発生する可能性はあるが、パターン露光はブリーチング露光と比べて露光量が小さいため、少量の酸しか発生せず、問題とはならない。酸はシラノールの脱水縮合を促進する触媒として機能するため、熱硬化時に酸が存在することで未反応のシラノール基の縮合が促進され、硬化膜の架橋度が高くなる。それにより、硬化膜の表面硬度や耐薬品性が向上する。また熱硬化時のパターンだれが抑制され、パターン解像度が向上する。発生する酸としてはパーフルオロアルキルスルホン酸、p-トルエンスルホン酸などの強酸であることが好ましく、カルボン酸を発生する感光剤のナフトキノンジアジド化合物はここでいう光酸発生剤の機能は有していない。好ましく用いられる光酸発生剤の具体例としては、SI-100、SI-101、SI-105、SI-106、SI-109、PI-105、PI-106、PI-109、NAI-100、NAI-1002、NAI-1003、NAI-1004、NAI-101、NAI-105、NAI-106、NAI-109、NDI-101、NDI-105、NDI-106、NDI-109、PAI-01、PAI-101、PAI-106、PAI-1001以上商品名、みどり化学株製、SP-077、SP-082以上商品名、株ADEKA製、TPS-PFBS以上商品名、東洋合成工業株製、CGI-MDT、CGI-NIT以上商品名、チバジャパン株製、WPAG-281、WPAG-336、WPAG-339、WPAG-342、WPAG-344、WPAG-350、WPAG-370、WPAG-372、WPAG-449、WPAG-469、WPAG-505、WPAG-506以上商品名、和光純薬工業株製などが挙げられる。なお、これらの化合物は単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。光酸発生剤の添加量に特に制限は無いが、好ましくは樹脂ポリシロキサン100重量部に対して0.01~5重量部の範囲である。添加量が0.01重量部より少ないと酸の発生量が少ないために効果が十分ではない場合があり、5重量部より多いとパターン露光時にポリシロキサンの架橋が起こる場合があり、また光線透過率の低下の原因となる場合がある。本発明で用いられる増感剤は、パターン露光時に自身が紫外線のエネルギーを吸収し、そのエネルギーを感光剤のナフトキノンジアジド化合物へと供給する化合物である。それにより、ナフトキノンジアジド化合物の光反応が促進され、見かけの感度が向上する。また光酸発生剤を含有する場合は硬化膜の表面硬度、耐薬品性、およびパターン解像度が向上する。本発明で用いられる増感剤は特に制限されないが、好ましくは熱処理により気化する、および/または光照射によって退色する増感剤が用いられる。この増感剤は、パターン露光やブリーチング露光における光源の波長である365nmi線、405nmh線、435nmg線に対して吸収をもつことが必要であるが、そのまま硬化膜に残存すると可視光領域に吸収が存在するために硬化膜の無色透明性が低下してしまう。そこで増感剤による無色透明性の低下を防ぐため、用いられる増感剤は熱硬化などの熱処理で気化する化合物、および/またはブリーチング露光などの光照射によって退色する化合物が好ましい。上記の熱処理により気化する、および/または光照射によって退色する増感剤の具体例としては、3,3’-カルボニルビスジエチルアミノクマリンなどのクマリン、9,10-アントラキノンなどのアントラキノン、ベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、アセトフェノン、4-メトキシアセトフェノン、ベンズアルデヒドなどの芳香族ケトン、ビフェニル、1,4-ジメチルナフタレン、9-フルオレノン、フルオレン、フェナントレン、トリフェニレン、ピレン、アントラセン、9-フェニルアントラセン、9-メトキシアントラセン、9,10-ジフェニルアントラセン、9,10-ビス4-メトキシフェニルアントラセン、9,10-ビストリフェニルシリルアントラセン、9,10-ジメトキシアントラセン、9,10-ジエトキシアントラセン、9,10-ジプロポキシアントラセン、9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ジペンタオキシアントラセン、2-t-ブチル-9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ビストリメチルシリルエチニルアントラセンなどの縮合芳香族などが挙げられる。これらの増感剤の中で熱処理により気化する増感剤は、好ましくは熱処理により昇華、蒸発、あるいは熱分解による熱分解物が昇華または蒸発する増感剤である。また増感剤の気化温度としては、好ましくは130~400°C、さらに好ましくは150~250°Cである。増感剤の気化温度が130°Cより低いと、増感剤がプリベーク中に気化してパターン露光プロセス中に存在せず、感度が向上しない場合がある。プリベーク中の気化を極力抑えるためには、増感剤の気化温度は150°C以上が好ましい。一方、増感剤の気化温度が400°Cより高いと、増感剤が熱硬化時に気化せずに硬化膜中に残存し、硬化膜の無色透明性が低下する場合がある。熱硬化時に増感剤を完全に気化させるためには、増感剤の気化温度は250°C以下が好ましい。一方、光照射によって退色する増感剤は、透明性の観点から光照射によって可視光領域の吸収が退色する増感剤が好ましい。従って、光照射によって退色する化合物、さらに好ましい化合物は光照射によって二量化する化合物である。光照射によって二量化することで分子量が増大して不溶化するので、耐薬品向上、耐熱性向上という効果が得られる。また増感剤は高感度を達成できるという点、光照射によって二量化して退色するという点からアントラセン系化合物が好ましく、さらに9,10位が水素であるアントラセン系化合物は熱に不安定であるので、9,10-二置換アントラセン系化合物であることが好ましい。さらに増感剤の溶解性の向上と光二量化反応の反応性の観点から、一般式8で表される9,10-ジアルコキシドアントラセン系化合物であることが好ましい。一般式8のR19~R28は、それぞれ独立して水素、炭素数1~20のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アシル基、およびそれらが置換された有機基を表す。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基が挙げられる。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基が挙げられる。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、アクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基が挙げられる。化合物の気化性、光二量化の反応性の点から、R19~R28は水素、または炭素数は1~6までの有機基であることが好ましい。さらに好ましくは、R19、R22、R23、R26は水素であることが好ましい。一般式8のR27、R28は炭素数1~20のアルコキシ基、およびそれらが置換された有機基を表す。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基が挙げられるが、化合物の溶解性と光二量化による退色反応の点から、プロポキシ基、ブトキシ基が好ましい。増感剤の添加量は、特に制限は無いが、好ましくは樹脂ポリシロキサン100重量部に対して0.01~5重量部の範囲である。この範囲を外れると、透明性が低下したり、感度が低下したりする。本発明で用いられる熱酸発生剤は、熱硬化時に分解して酸を発生する化合物である。発生した酸によって未反応のシラノール基の縮合が促進されるため、硬化膜の架橋度が高くなる。それにより、硬化膜の表面硬度、耐薬品性、およびパターン解像度が向上する。組成物塗布後にプリベークによって酸を発生しない、あるいは少量しか発生しないことが好ましい。すなわちプリベーク温度以上、例えば100°C以上で酸を発生する化合物であることが好ましい。プリベーク温度以下で酸が発生すると、プリベーク時にポリシロキサンの架橋が起こりやすくなり、感度の低下や現像時に残渣が発生する場合がある。好ましく用いられる熱酸発生剤の具体例としては、サンエイドSI-60、SI-80、SI-100、SI-200、SI-110、SI-145、SI-150、SI-60L、SI-80L、SI-100L、SI-110L、SI-145L、SI-150L、SI-160L、SI-180L以上商品名、三新化学工業株製、4-ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、2-メチルベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-アセトキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジル-4-メトキシカルボニルオキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート以上、三新化学工業株製などが挙げられる。なお、これらの化合物は単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。熱酸発生剤の添加量に特に制限はないが、好ましくは樹脂ポリシロキサン100重両部に対して0.01~5重量部の範囲である。添加量が0.01重量部より少ないと熱硬化時における効果が不十分であり、5重量部より多いと感度の低下、クラックの発生、および光線透過率の低下を引き起こす。本発明で用いられる密着改良剤は、加水分解性基を有するシラン部位と基板表面に配位する骨格の両方を有する、cウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤以外のシラン化合物である。密着改良剤を含有すると、塗布膜と基板との間の相互作用が強くなり、密着性が向上する。好ましく用いられる密着改良剤の具体例としては、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-1,3-ジメチル-ブチリデンプロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、3-エチル-3-オキセタニルメトキシプロピルトリメトキシシラン、3-エチル-3-オキセタニルメトキシプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-トリメトキシシリルプロピルコハク酸、N-t-ブチル-3-3-トリメトキシシリルプロピルコハク酸イミドなどが挙げられる。なお、これらの化合物は単独で使用しても、2種以上組み合わせて使用してもよい。密着改良剤の添加量に特に制限はないが、好ましくは樹脂ポリシロキサン100重量部に対して0.1~10重量部の範囲である。添加量が0.1重量部より少ないと密着性向上の効果が十分ではなく、10重量部より多いとポジ型感光性組成物を貯蔵中にシランカップリング剤同士が縮合反応を起こし、現像時の残渣発生の原因となる。本発明のポジ型感光性組成物は、界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤を含有することでレベリング性が向上し、塗布ムラが改善されて均一な塗布膜が得られる。好ましくは、フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤が用いられる。フッ素系界面活性剤の具体的な例としては、1,1,2,2-テトラフロロオクチル1,1,2,2-テトラフロロプロピルエーテル、1,1,2,2-テトラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ1,1,2,2-テトラフロロブチルエーテル、ヘキサエチレングリコール1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロペンチルエーテル、オクタプロピレングリコールジ1,1,2,2-テトラフロロブチルエーテル、ヘキサプロピレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロペンチルエーテル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-デカフロロドデカン、1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロデカン、N-[3-パーフルオロオクタンスルホンアミドプロピル]-N,N′-ジメチル-N-カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル-N-エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビスN-パーフルオロオクチルスルホニル-N-エチルアミノエチル、モノパーフルオロアルキルエチルリン酸エステルなどの末端、主鎖および側鎖の少なくともいずれかの部位に、フルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物からなるフッ素系界面活性剤を挙げることができる。また、市販品としては、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183、同F475、同F477以上、大日本インキ化学工業株製、エフトップEF301、同303、同352新秋田化成株製、フロラードFC-430、同FC-431住友スリーエム株製、アサヒガードAG710、サーフロンS-382、同SC-101、同SC-102、同SC-103、同SC-104、同SC-105、同SC-106旭硝子株製、BM-1000、BM-1100裕商株製、NBX-15、FTX-218、DFX-218株ネオス製などのフッ素系界面活性剤がある。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、SH28PA、SH7PA、SH21PA、SH30PA、ST94PAいずれも東レダウコーニングシリコーン株製、BYK-333ビックケミージャパン株製などが挙げられる。界面活性剤の含有量はポジ型感光性組成物中、0.0001~1重量とするのが一般的である。本発明のポジ型感光性組成物の製造方法について説明する。まずbナフトキノンジアジド化合物、必要に応じて光酸発生剤、増感剤、熱酸発生剤を秤量する。そこにd溶剤と必要に応じて界面活性剤を加え、撹拌して溶かした後、必要に応じて密着改良剤を加え、次いでaポリシロキサンを添加し、撹拌して均一な溶液とする。そして、最後にcウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤を添加して撹拌する方法で製造するのが好ましい。cウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤を密着改良剤と同じ時点で添加すると、cウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤がポジ型感光性組成物の製造中にbナフトキノンジアジドと反応してしまい、液が黒く変色してしまう場合がある。それにより、ポジ型感光性組成物から形成される硬化膜の透明性や、密着性および耐薬品性の低下を招く場合がある。cウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤を最後に添加することで、そのような液の変色を起こすことなく、高透明性、高密着性、および優れた耐薬品性を有するポジ型感光性組成物を製造できる。本発明のポジ型感光性組成物を用いた硬化膜の形成方法について説明する。本発明のポジ型感光性組成物をスピナー、スリットなどの公知の方法によって下地基板上に塗布し、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置でプリベークする。プリベークは、50~150°Cの範囲で30秒~30分間行い、プリベーク後の膜厚は、0.1~15μmとするのが好ましい。プリベーク後、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナーMPA、パラレルライトマスクアライナーPLAなどの紫外可視露光機を用い、10~4000J/m2程度波長365nm露光量換算を所望のマスクを介してパターン露光する。露光後、現像により露光部が溶解し、ポジパターンを得ることができる。現像方法としては、シャワー、ディップ、パドルなどの方法で現像液に5秒~10分間浸漬することが好ましい。現像液としては、公知のアルカリ現像液を用いることができる。具体的例としてはアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、ホウ酸塩などの無機アルカリ、2-ジエチルアミノエタノール、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等のアミン類、水酸化テトラメチルアンモニウム、コリン等の4級アンモニウム塩を1種あるいは2種以上含む水溶液等が挙げられる。また、現像後は水でリンスすることが好ましく、必要であればホットプレート、オーブンなどの加熱装置で50~150°Cの範囲で脱水乾燥ベークを行うこともできる。その後、ブリーチング露光を行うことが好ましい。ブリーチング露光を行うことによって、膜中に残存する未反応のナフトキノンジアジド化合物が光分解して、膜の光透明性がさらに向上する。ブリーチング露光の方法としては、PLAなどの紫外可視露光機を用い、100~20000J/m2程度波長365nm露光量換算を全面に露光する。ブリーチング露光した膜を、必要であればホットプレート、オーブンなどの加熱装置で50~150°Cの範囲で30秒~30分間ソフトベークを行った後、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置で150~450°Cの範囲で1時間程度キュアすることで、表示素子におけるTFT用平坦化膜、半導体素子における層間絶縁膜、あるいは光導波路におけるコアやクラッド材といった硬化膜が形成される。本発明のポジ型感光性組成物を用いて作製した硬化膜は、波長400nmにおける膜厚2μmあたりの光線透過率が90以上であり、さらに好ましくは95以上である。光線透過率が90より低いと、液晶表示素子のTFT基板用平坦化膜として用いた場合、バックライトが通過する際に色変化が起こり、白色表示が黄色味を帯びる。前記の波長400nmにおける膜厚2μmあたりの光線透過率は、以下の方法により求められる。組成物をテンパックスガラス板にスピンコーターを用いて任意の回転数でスピンコートし、ホットプレートを用いて100°Cで3分間プリベークする。その後、ブリーチング露光として、PLAを用いて、膜全面に超高圧水銀灯を1000J/m2波長365nm露光量換算露光し、オーブンを用いて空気中220°Cで1時間熱硬化して膜厚2μmの硬化膜を作製する。得られた硬化膜の紫外可視吸収スペクトルを株島津製作所製MultiSpec-1500を用いて測定し、波長400nmでの光線透過率を求める。この硬化膜は表示素子におけるTFT用平坦化膜、半導体素子における層間絶縁膜、タッチパネル用絶縁膜保護膜あるいは光導波路におけるコアやクラッド材等に好適に使用される。本発明における素子は、上述のような高透明性の硬化膜を有する表示素子、半導体素子、あるいは光導波路材を指し、特に、TFT用平坦化膜として有する液晶、ならびに有機EL表示素子、タッチパネル機能つき表示素子に好適である。以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。なお用いた化合物のうち、略語を使用しているものについて、以下に示す。DAA:ジアセトンアルコールPGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートMeOH:メタノールまた、ポリシロキサン溶液、アクリル樹脂溶液の固形分濃度、およびポリシロキサン、アクリル樹脂の重量平均分子量Mwは、以下の通り求めた。1固形分濃度アルミカップにポリシロキサン溶液またはアクリル樹脂溶液を1g秤取し、ホットプレートを用いて250°Cで30分間加熱して液分を蒸発させた。加熱後のアルミカップに残った固形分を秤量して、ポリシロキサン溶液の固形分濃度を求めた。2重量平均分子量重量平均分子量はGPCWaters社製410型RI検出器、流動層:テトラヒドロフランにてポリスチレン換算により求めた。3ポリシロキサン中の一般式3と一般式4で表されるオルガノシラン構造の比率29Si-NMRの測定を行い、全体の積分値から、それぞれのオルガノシランに対する積分値の割合を算出して、比率を計算した。試料液体は直径10mmのテフロン登録商標製NMRサンプル管に注入し測定に用いた。29Si-NMR測定条件を以下に示す。装置:日本電子社製JNMGX-270、測定法:ゲーテッドデカップリング法測定核周波数:53.6693MHz29Si核、スペクトル幅:20000Hzパルス幅:12μsec45°パルス、パルス繰り返し時間:30.0sec溶媒:アセトン-d6、基準物質:テトラメチルシラン測定温度:室温、試料回転数:0.0Hz。合成例1ポリシロキサン溶液PS-1の合成500mlの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを54.48g0.40mol、フェニルトリメトキシシランを99.15g0.50mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを24.64g0.10mol、PGMEAを161.55g、MeOHを17.95g仕込み、撹拌しながらオイルバスで40°Cに加熱した。さらに撹拌しながら水55.80gにリン酸0.54g仕込みモノマーに対して0.30wtを溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。添加終了後、40°Cで30分撹拌して加水分解を行った。その後、バス温を70°Cにして1時間撹拌した後、続いてバス温を115°Cまで昇温した。昇温開始後、約1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから2時間加熱撹拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液PS-1を得た。なお、加熱撹拌中、窒素を0.05lリットル/min流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計121g留出した。得られたポリシロキサン溶液PS-1の固形分濃度は47wt、ポリシロキサンの重量平均分子量は3200であった。なお、ポリシロキサン中の一般式3で表されるオルガノシランのうちフェニル基を有するものの含有比はSi原子モル比で50、一般式4で表されるオルガノシランの含有比はSi原子モル比で0であった。合成例2ポリシロキサン溶液PS-2の合成500mlの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを40.86g0.30mol、フェニルトリメトキシシランを99.15g0.50mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを12.32g0.05mol、Mシリケート51多摩化学工業株式会社製を17.63g0.15mol、PGMEAを153.69g、MeOHを17.08g仕込み、撹拌しながらオイルバスで40°Cに加熱した。さらに撹拌しながら水53.55gにリン酸0.51g仕込みモノマーに対して0.30wtを溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。添加終了後、40°Cで30分撹拌して加水分解を行った。その後、バス温を70°Cにして1時間撹拌した後、続いてバス温を115°Cまで昇温した。昇温開始後、約1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから2時間加熱撹拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液PS-2を得た。なお、加熱撹拌中、窒素を0.05lリットル/min流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計125g留出した。得られたポリシロキサン溶液PS-2の固形分濃度は45wt、ポリシロキサンの重量平均分子量は8500であった。なお、ポリシロキサン中の一般式3で表されるオルガノシランのうちフェニル基を有するものの含有比はSi原子モル比で50、一般式4で表されるオルガノシランの含有比はSi原子モル比で15であった。合成例3キノンジアジド化合物QD-1の合成乾燥窒素気流下、Ph-cc-AP-MF商品名、本州化学工業株製15.32g0.05molと5-ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド37.62g0.14molを1,4-ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4-ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン15.58g0.154molを系内が35°C以上にならないように滴下した。滴下後30°Cで2時間撹拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、上記構造のキノンジアジド化合物QD-1を得た。合成例4キノンジアジド化合物QD-2の合成乾燥窒素気流下、TrisP-PA商品名、本州化学工業株製21.23g0.05molと5-ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド37.62g0.14molを1,4-ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4-ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン15.58g0.154molを系内が35°C以上にならないように滴下した。滴下後30°Cで2時間撹拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、上記構造のキノンジアジド化合物QD-2を得た。合成例5キノンジアジド化合物QD-3の合成乾燥窒素気流下、TrisP-HAP商品名、本州化学工業株製15.32g0.05molと5-ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド26.87g0.1molを1,4-ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4-ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン11.13g0.11molを系内が35°C以上にならないように滴下した。滴下後30°Cで2時間撹拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、上記構造のキノンジアジド化合物QD-3を得た。実施例1黄色灯下、合成例3で得られたキノンジアジド化合物QD-1を、溶剤としてDAA、PGMEAで溶解し、合成例1で得られたポリシロキサン溶液PS-1を混合、撹拌して均一溶液とした後、ウレア結合またはイソシアネート基を有するシランカップリング剤として3-ウレイドプロピルトリメトキシシランを添加し、さらに撹拌した後、0.45μmのフィルターで濾過して組成物1を調製した。組成物1を、単層Crをスパッタにより成膜したガラス基板株倉元製作所製、OA-10ガラス板日本電気硝子株製、Mo/Al/Moをスパッタにより成膜したガラス基板、およびITO基板三容真空工業株製にスピンコーターミカサ株製1H-360Sを用いて任意の回転数でスピンコートした後、ホットプレート大日本スクリーン製造株製SCW-636を用いて100°Cで2分間プリベークし、膜厚2μmの膜を作製した。作製した膜をマスクアライナーユニオン光学株製、PEM-6Mを用いて、超高圧水銀灯を感度測定用のグレースケールマスクを介してパターン露光した後、自動現像装置滝沢産業株製AD-2000を用いて2.38重量水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液であるELM-D商品名、三菱ガス化学株製で90秒間シャワー現像し、次いで水で30秒間リンスした。その後、ブリーチング露光として、PLAキヤノン株製PLA-501Fを用いて、膜全面に超高圧水銀灯を1000J/m2波長365nm露光量換算露光した。その後、オーブンタバイエスペック株製IHPS-222を用いて窒素中220°Cで1時間キュアして硬化膜を作製した。感光特性、および硬化膜特性の評価結果を表1に示す。なお、表中の評価は以下の方法で行った。下記の4~7の評価は単層Crをスパッタ成膜したガラス基板を、8の評価はOA-10ガラス板を、9~11の評価はMo/Al/Moをスパッタ成膜したガラス基板を、12の評価はITO基板を、それぞれ用いて行った。4膜厚測定ラムダエースSTM-602商品名、大日本スクリーン製を用いて、屈折率1.55で測定を行った。5残膜率の算出残膜率は以下の式に従って算出した。残膜率=現像後の未露光部膜厚÷プリベーク後の膜厚×1006感度の算出露光、現像後、10μmのラインアンドスペースパターンを1対1の幅に形成する露光量以下、これを最適露光量というを感度とした。7解像度の算出最適露光量における現像後の最小パターン寸法を現像後解像度、キュア後の最小パターン寸法をキュア後解像度とした。8光線透過率の測定MultiSpec-1500商品名、株島津製作所を用いて、まずOA-10ガラス板のみを測定し、その紫外可視吸収スペクトルをリファレンスとした。次にOA-10ガラス板上に組成物の硬化膜を形成パターン露光は行わないし、このサンプルをシングルビームで測定し、2μmあたりの波長400nmでの光線透過率を求め、リファレンスとの差異を硬化膜の光線透過率とした。9アルカリ現像液処理における密着性評価Mo/Al/Moをスパッタ成膜したガラス基板上に、上記の実施例1の要領で作製した組成物のパターン露光後の薄膜を、2.38重量水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で現像処理し、現像後に光学顕微鏡OLYMPUS株製BH3-MJLにて、残存ラインアンドスペースパターンの基板からの剥離の有無を確認した。剥離が発生した場合は、残存している最小のパターン寸法を評価結果とした。10キュア膜の密着性評価Mo/Al/Moをスパッタ成膜したガラス基板上に、組成物の硬化膜を形成し、JISK5600-5-6規格1999年制定に基づき、クロスカット試験を行った。11アルカリ薬液に対する耐薬品性評価アルカリ薬液浸漬後の密着性評価Mo/Al/Moをスパッタ成膜したガラス基板上に、組成物の硬化膜を形成し、この硬化膜を30°Cに加熱したアルカリ薬液N321長瀬産業株製に30秒間浸漬した後、水で2分間リンスした。次いで、JISK5600-5-6規格1999年制定に基づき、クロスカット試験を行った。12酸薬液に対する耐薬品性評価酸薬液浸漬後の密着性評価ITOをスパッタ成膜したガラス基板上に、組成物の硬化膜を形成し、この硬化膜を50°Cに加熱した酸薬液重量比:濃塩酸/濃硝酸/水=50/7.5/42.5に80秒間浸漬した後、水で2分間リンスした。次いで、JISK5600-5-6規格1999年制定に基づき、クロスカット試験を行った。実施例2~23、比較例1~6組成物1と同様に、組成物2~31を表1に記載の組成にて調製した。なお光酸発生剤として用いたCGI-MDT商品名、チバジャパン株製はN-ヒドロキシ-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボキシイミドトリフルオロメタンスルホネート、増感剤として用いたDPA商品名、川崎化成工業株製は9,10-ジプロポキシアントラセン、熱酸発生剤として用いたサンエイドSI-200商品名、三新化学工業株製は、4-メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネートである。得られた各組成物を用いて、実施例1と同様にして各組成物の評価を行った。結果を表1および表2に示す。"