次亜塩素酸の製造方法であって、次亜塩素酸塩溶液をシリカゲルで処理する工程を含み、前記次亜塩素酸塩溶液は、次亜塩素酸塩素ガスが発生するpH以上、かつ前記次亜塩素酸塩溶液のpH以下に調整される、次亜塩素酸の製造方法。前記次亜塩素酸が次亜塩素酸ナトリウムまたは次亜塩素酸カルシウムである、請求項1に記載の製造方法。前記シリカゲルで処理した後の次亜塩素酸のpHがpH35~pH75である、請求項1に記載の製造方法。前記次亜塩素酸塩溶液が1000ppm以上である、請求項1に記載の製造方法。溶液中において塩素ガスが発生するpH以下の酸性溶液を生じないシリカゲルを備える、次亜塩素酸の製造装置。請求項5に記載の次亜塩素酸の製造装置であって、シリカゲルを保持するための容器と、前記次亜塩素酸塩溶液の吸入機構と、前記次亜塩素酸塩溶液の排出機構と、をさらに備えた、請求項5に記載の次亜塩素酸の製造装置。シリカゲルと次亜塩素酸溶液を噴霧するための噴霧手段とを備えた、殺菌装置。次亜塩素酸カルシウムとシリカゲルとを含む、次亜塩素酸の製造のための容器。請求項1~4のいずれか1項に記載の製造方法によって製造された、次亜塩素酸。したがって、本発明は、酸を使用することなく、かつ実質的に塩素ガスを発生することなく次亜塩素酸水溶液を製造するための装置および方法を提供することを目的とする。本発明は、次亜塩素酸の製造方法であって、次亜塩素酸塩溶液をシリカゲルで処理する工程を含み、前記次亜塩素酸塩溶液は、次亜塩素酸塩溶液は、次亜塩素酸塩素ガスが発生するpH以上、かつ記次亜塩素酸塩溶液のpH以下に調整される、次亜塩素酸の製造方法を提供する。また、本発明は、次亜塩素酸が次亜塩素酸ナトリウムまたは次亜塩素酸カルシウムである、上記次亜塩素酸の製造方法を提供する。また、本発明は、シリカゲルで処理した後の次亜塩素酸のpHがpH35~pH75である、上記次亜塩素酸の製造方法を提供する。また、本発明は、次亜塩素酸塩溶液が1000ppm以上である、上記次亜塩素酸の製造方法を提供する。さらに、本発明は、溶液中において塩素ガスが発生するpH以下の酸性溶液を生じないシリカゲルを備える、次亜塩素酸の製造装置を提供する。また、本発明は、上記次亜塩素酸の製造装置であって、シリカゲルを保持するための容器と、前記次亜塩素酸塩溶液の吸入機構と、前記次亜塩素酸塩溶液の排出機構と、さらに備えた、次亜塩素酸の製造装置を提供する。さらに、本発明は、シリカゲルと次亜塩素酸溶液を噴霧するための噴霧手段とを備えた、殺菌装置を提供する。さらに、本発明は、次亜塩素酸カルシウムとシリカゲルとを含む、次亜塩素酸の製造のための容器を提供する。さらに、本発明は、上記の製造方法によって製造された、次亜塩素酸。さらに、本発明は、上記次亜塩素酸の製造方法によって製造された、弱酸性次亜塩素酸を提供するを提供する。本発明によれば、塩酸などの液体の酸を使用することなく、かつ塩素ガスを発生するようなpH以下にpHを低下させることなく、弱酸性~弱アルカリ性の次亜塩素酸水溶液を製造することができる。また、本発明によれば、高濃度の次亜塩素酸水溶液を製造することができる。さらに、本発明によれば、従来の製造方法のように、塩素ガスを発生するようなpH以下にpHを低下させることなく次亜塩素酸を製造することができるため、従来の次亜塩素酸よりも漂白効果の少ない次亜塩素酸を製造することができる。また、本発明によれば、従来の製造装置のように、次亜塩素酸塩溶液に由来するミネラル成分による白化現象を防止することができる。本発明者らは、強アルカリ性を有する次亜塩素酸ナトリウム溶液をシリカゲルで処理することにより、塩素ガスを実質的に発生させずにpH35~75程度の次亜塩素酸水溶液を得ることができることを見いだした。また、通常の液体酸または固体酸を使用して次亜塩素酸水溶液のpHを調整するときには、塩素ガスを発生するpH以下にpHを低下させないように、互いの量を調整しなければならなかったが、シリカゲルを使用する場合、過剰のシリカゲルで次亜塩素酸水溶液を処理しても、pHが塩素ガスを実質的に発生させるpH以下には下がらないことを見いだした。本明細書において、塩素ガスが発生するpH以上とは、次亜塩素酸塩溶液のpHを低下させたときに、塩素ガスを実質的に発生しないpHの範囲をいう。また、本明細書において、弱酸性~弱アルカリ性には、アルカリ性の次亜塩素酸塩溶液のpHを低下させたときに、塩素ガスを実質的に発生しないpHの範囲を含む。たとえば、弱酸性~弱アルカリ性の範囲は、pHが約35~90の値の範囲、特に40~75の値の範囲であることをいう。塩素ガスを実質的に発生しないとは、生体にとって危険なレベルで塩素ガスを実質的に発生しないこと、次亜塩素酸塩溶液のpHを低下させたときに溶液から塩素の気泡が発生していることを実質的に確認することができないこと、または次亜塩素酸塩溶液のpHを低下させたときに塩素による漂白作用が実質的にないことをいう。当該技術分野において、一般的にpH40であっても塩素ガスを実質的に発生せず、pH35程度までは塩素ガスをしないと考えられている。したがって、本発明に使用されるシリカゲルは、酸として作用するが、溶液中においてpH35以下の酸性溶液を生じない。以下、本発明の次亜塩素酸の製造方法について、詳細に説明する。本発明の次亜塩素酸の製造方法は、次亜塩素酸塩溶液をシリカゲルで処理する工程を含む。本明細書において、次亜塩素酸塩溶液とは、当業者に一般的に認識されるとおり、次亜塩素酸ナトリウムNaClO、次亜塩素酸カリウムKClOおよび次亜塩素酸カルシウムCa2などの任意の次亜塩素酸の塩を含む溶液をいう。次亜塩素酸塩は、市販の材料および当業者に周知の方法によって製造された材料を使用することができる。また、溶液は、水などの任意の溶液中のものであることができる。また、緩衝液中の溶液であることもできる。さらに、次亜塩素酸塩溶液には、任意の添加物を含むことができる。たとえば、次亜塩素酸塩溶液には、炭酸水素ナトリウムおよび乳酸カルシウムなどの任意の弱酸塩を含むことができる。このような添加物を含むことにより、次亜塩素酸塩溶液をより殺菌活性の高いpHに調整することができる。本発明の方法において、次亜塩素酸塩溶液は、任意の濃度の溶液を使用することができる。たとえば、市販されている12次亜塩素酸ナトリウム溶液を希釈して、10~120000ppm以上の濃度、たとえば100、200、500、1000、10000および120000ppmで使用することができる。本発明の方法によれば、10000ppmといった従来の方法では製造することができない濃度の次亜塩素酸を製造することができる。また、殺菌目的で実際に使用される濃度である50~1000ppmの濃度の次亜塩素酸を直接製造することもできる。次亜塩素酸塩溶液は、本発明の製造方法を実施する際に、調製することもできる。次亜塩素酸ナトリウムのように溶液として製造される塩だけでなく、固体の塩を使用することもできる。たとえば、次亜塩素酸カルシウムなどの固体を水に添加することにより、次亜塩素酸塩溶液を調製することができる。本発明の方法において、次亜塩素酸は、非解離型のHOClをいう。次亜塩素酸溶液は、任意の媒体中に非解離型のHOClを含有する溶液をいう。次亜塩素酸水溶液は、水中に非解離型の次亜塩素酸を含有する溶液である。次亜塩素酸水溶液中には、弱酸性から弱アルカリ性のpH領域において、高比率で非解離型のHOClが存在することが知られている。pHがさらに酸性側に傾くと、HOClの一部が溶存塩素Cl2に変化して、塩素臭を生じることが知られている。本発明の方法では、塩素ガスが発生するpH以上で緩衝作用を持つシリカゲルを使用する。シリカゲルは、A形シリカゲルおよびB形シリカゲルおよびB型のいずれを使用することもできる。A形は、二酸化ケイ素の微粒子が緻密に集っていて、1gあたり約700m2という広大な表面積を持つシリカデルである。そして、この表面に無数のシラノール基がある為、水と性質の近い物質を選択的に吸着する性質を持つ。このように、A形は、シラノール基による化学的吸着力によって、各種の極性分子を選択的に吸着すると考えられる。一方、B形は、二酸化ケイ素の微粒子が緩やかに集まっている為、表面積は1gあたり約450m2とやや小さくなったシリカゲルである。この為、シラノール基による化学的吸着よりも、微粒子間の間隙への毛細管現象による物理的吸着の力が優先的に働句と考えられる。この物理的な吸着力は、緩やかであり、B形シリカゲルは、低湿度に置くと、吸着していた水分を徐々に放湿する呼吸作用を持っている。重合反応により合成されたシリカゲル一次粒子の表面には、多量のシラノール基SiOHを有していると考えられ、また弱酸性を呈する。また、本発明に使用されるシリカゲルは、珪酸SiO2だけで構成される材料だけでなく、SiO2に加えて、その他の微量元素および成分を含む材料であってもよい。SiO2とその他の元素または分子とが結合した様々な分子が知られるが、次亜塩素酸水溶液を所望のpHに調整するために、種々の割合でその他の元素または分子を含有する材料を調整し、使用することができる。また、シリカゲルを使用することにより、次亜塩素酸塩溶液のpHを、弱酸性~弱アルカリ性の範囲のpH、たとえば約35~90の値の範囲、特に40~75の値の範囲に調整することができる。従来の次亜塩素酸の製造方法のように、塩酸など酸を使用して次亜塩素酸塩溶液のpHを下げる場合、塩素ガスを発生するpHの酸と次亜塩素酸塩溶液とを混合するため、混合過程において一時的または局所的に溶液のpHが塩素ガスを発生するpHにまで低下して塩素ガスを発生するものと考えられる。しかし、本発明のようにシリカゲルを使用する場合、弱酸性の酸で次亜塩素酸塩溶液を処理する場合と同様に、弱酸性のpH以下に次亜塩素酸塩溶液のpHを下がることがない。したがって、反応において、塩素ガスを生じさせることなく、また、塩素ガスの臭いを生じることなく、次亜塩素酸塩溶液のpHを下げることができる。さらに、希塩酸などを使用して次亜塩素酸塩溶液のpHを下げる場合には、次水溶液中の亜塩素酸の濃度が希釈されてしまうが、本発明の方法のようにシリカゲルを使用する場合、亜塩素酸の濃度を希釈することなくpHを下げることができる。また、本発明の方法において、シリカゲルは、任意の量で使用することができる。当業者であれば、製造する次亜塩素酸の濃度および量などに応じて、シリカゲルの量を調節することができるであろう。本発明の方法は、たとえ過剰量のシリカゲルを使用して次亜塩素酸塩溶液を処理しても、生成される次亜塩素酸のpHが低くなりすぎることはないため、非常に安全である。上記のとおり、本発明の方法では、過剰量のシリカゲルを使用してもpHを一定に維持することができる。したがって、本発明の方法によって次亜塩素酸塩溶液のpHを低下させた後に、シリカゲルを除去せずに次亜塩素酸溶液中に残したままにすることにより、長期間にわたってpHを安定に維持することができる。一方、次亜塩素酸ナトリウムによる漂白は、溶存塩素による塩素化反応によると考えられる。また、漂白力は、溶存塩素>次亜塩素酸ナトリウム>次亜塩素酸の順序であると考えられる。本発明の方法によれば、溶存塩素を実質的に生成することなく次亜塩素酸を製造することができるため、漂白効果が少ない次亜塩素酸を得ることができる。また、上記の通り、溶存塩素が実質的に生成しないため、塩素化反応が生じない。溶存塩素が多い場合は、臭気も大変強いものとなるが、本発明の方法によれば、溶存塩素を実質的に生成することなく次亜塩素酸を製造することができるため、塩素による臭気も少ない。対照的に、濃塩酸を使用して次亜塩素酸ナトリウム溶液を処理した場合、処理後の溶液のpHが3以下になってしまう。このため、殺菌効果も低下し、また塩素ガスも発生してしまう。次亜塩素酸塩溶液のシリカゲルによる処理は、任意の方法で行うことができる。たとえば、シリカゲルが充填されたカラムに、次亜塩素酸塩溶液を通すことによって処理することができる。また、次亜塩素酸塩溶液を含む容器内にシリカゲルを投入することにより、バッチ法で処理することもできる。また、ティーバッグのように任意の袋内にシリカゲルを充填し、次亜塩素酸塩溶液に浸漬することもできる。本発明の方法によれば、次亜塩素酸塩溶液をシリカゲルで処理するだけで、容易に殺菌効果の高い次亜塩素酸を得ることができる。さらに、次亜塩素酸カルシウムなどの固体の次亜塩素酸およびシリカゲルの両方を含む袋を使用することができる。たとえば、不織布でできた袋の中に次亜塩素酸カルシウムとシリカゲルの両方を入れたものを、次亜塩素酸を得るために使用することができる。図2には、予め次亜塩素酸カルシウムとシリカゲルを含む容器の一例を示してある。図2の上段は、不織布の中に次亜塩素酸カルシウムとシリカゲルを入れた際の模式図を示している。また、図2の下段は、上段に示した図の開口部を閉じた際の模式図である。不織布の内部に次亜塩素酸カルシウムとシリカゲルが封止される。容器には、任意の材料を使用することができる。不織布などの水を透過する容器内に次亜塩素酸カルシウムとシリカゲルを含めることにより、水に浸漬するだけで次亜塩素酸を得ることができる。容器は、水を透過する素材でなくてもよい。水が容器内に入ることができる形状であれば、水に浸漬するだけで次亜塩素酸カルシウムとシリカゲルと接触して次亜塩素酸を得ることができる。また、使用時に、容器から次亜塩素酸カルシウムとシリカゲルを取り出して、水の中に投入することもできる。このような次亜塩素酸カルシウムなどの固体の次亜塩素酸およびシリカゲルの両方を含む袋は、固体の次亜塩素酸カルシウムとシリカゲルを含んでいるだけなので、使用前に、溶液ではなく固体として製造および保存することができる。固体の次亜塩素酸カルシウムは、任意の形状のものを使用することができる。たとえば、顆粒および粉末を使用することができる。次に、本発明の次亜塩素酸の製造装置について、詳細に説明する。本発明の製造装置は、シリカゲルを備える。本発明の製造装置は、たとえば図2に示したような装置であることができる。図3の装置は、次亜塩素酸塩溶液を貯留し、および希釈するための希釈装置5を備える。希釈装置5は、シリカゲルが充填されたカラムなどのイオン交換体充填容器6に接続される。たとえば、希釈装置5は、希釈装置の次亜塩素酸塩溶液をシリカゲルが充填されたイオン交換体充填容器6に導入するためのポンプを備え、ポンプを介してイオン交換体充填容器6に接続される。ポンプにより、希釈装置からイオン交換カラムに次亜塩素酸塩溶液が導入され、シリカゲルで処理されて、次亜塩素酸を得ることができる。また、本発明の製造装置は、たとえば図4に示したような装置であることができる。図4に示した装置では、次亜塩素酸塩溶液の希釈装置からシリカゲルが充填された容器6に接続された流路7と、シリカゲルが充填された容器6に接続されていない流路8を有する。また、それぞれの流路の流量を調節することができるように、構成することができる。たとえば、流路7および流路8に絞り弁または開閉弁などを設けることにより、それぞれの流路を通る溶液の混合比を調節することができる。このような装置の構成にすることにより、シリカゲルで処理後の次亜塩素酸溶液と、シリカゲルで処理前の次亜塩素酸塩溶液を任意の量で混合することができる。たとえば、中性のpH7の溶液を製造する場合、シリカゲルで処理後の次亜塩素酸溶液がpH65であるときに、イオン交換前の次亜塩素酸ナトリウム溶液たとえば、pH12を適切な量で混合することにより、pH6の溶液を得ることができる。また、本発明の次亜塩素酸製造装置および製造方法により、一旦、たとえばpH85などの弱アルカリ性の次亜塩素酸溶液を調整した後、この溶液を使用時に希釈することによってpH70程度の溶液として使用することもできる。また、本発明の製造装置は、図4に示したように、シリカゲルカラムを通過した次亜塩素酸を噴霧するための噴霧手段9をさらに備えることができる。このように、噴霧手段を備えることにより、殺菌効果を有する次亜塩素酸を空気中に拡散させることができる。このような噴霧手段を備えた装置は、たとえば空気清浄機および空調設備などの機器に組み込むことができ、殺菌装置として使用することができる。噴霧装置は、当業者に公知の任意の装置を使用することができる。たとえば、超音波を利用した噴霧装置を使用することができる。上記のとおり、本発明の次亜塩素酸の製造方法および製造装置によれば、溶液のpHを塩素ガスを発生する範囲に低下させることなく、容易に次亜塩素酸を得ることができる。また、本発明の次亜塩素酸の製造方法および製造装置によれば、下記の実施例に示したように、1000ppm以上の高濃度の次亜塩素酸を得ることができる。さらに、本発明の次亜塩素酸の製造方法および製造装置によって得られた次亜塩素酸は、下記の実施例に示したように、従来の次亜塩素酸と比較して、漂白活性が低い。1.材料および方法特に明記しない限り、実験には以下の材料を使用した。シリカゲルは、シリカゲルMSGELD30060AAGCエスイアテック株式会社製を使用した。次亜塩素酸ナトリウムツルクロン登録商標TW鶴見曹達株式会社製は、精製水で1000ppmの濃度に希釈して使用した。溶液pHは、ポータブルpH計HM30P東亜DKK株式会社またはpH試験紙を使用して測定した。次亜塩素酸濃度は、アクアチェックHC日産化学工業株式会社を使用して、遊離残留塩素濃度として測定した。2.次亜塩素酸のpH測定精製水で1000ppmの濃度に希釈した次亜塩素酸ナトリウム溶液のpHを測定したところ、pH90であった。500mlのこの溶液を50mlのシリカゲルと共にビーカー内で混合して接触させた。混合後、この溶液のpHは、pH69まで低下した。また、混合による塩素ガスの発生も見られず、塩素臭も生じなかった。上記の接触後のシリカゲルを、pH55の希塩酸で処理して再生したシリカゲル再生A。また、上記の接触後のシリカゲルを、pH20の希塩酸で処理して、精製水によってpH55まで水洗したシリカゲル再生B。これらのシリカゲル再生Aおよび再生B各50mlを使用して、上記と同様に500mlの1000ppmの濃度に希釈した次亜塩素酸ナトリウム溶液とビーカー内で混合して接触させた。以下の表1に結果の一部を示した。また、図1は、上記結果を示すグラフである。上記の手順を繰り返して、1000ppmの濃度の次亜塩素酸ナトリウム500mlとシリカゲル再生Aおよび再生B各50mlの接触、再生および水洗を20回繰り返したが、次亜塩素酸ナトリウム溶液のpHは、同様にpH90からpH69まで低下し塩素ガスの発生も見られなかった。