"アルミニウムを含む金属有機化合物及び/又は金属塩、及び、当該金属有機化合物及び当該金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布して、前記基板上に触媒担持膜を設ける工程と、鉄を含む金属有機化合物及び/又は金属塩、及び、当該金属有機化合物及び当該金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる触媒生成膜コーティング剤を前記触媒担持膜上に塗布して、前記触媒担持膜上に触媒生成膜を設ける工程と、化学気相成長法CVD法により、前記基板上にカーボンナノチューブ配向集合体を成長させる工程と、を含むことを特徴とするカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒担持膜コーティング剤に含まれる安定剤が、アルカノールアミン及び/又はβ-ジケトンであることを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒生成膜コーティング剤に含まれる安定剤が、アルカノールアミン及び/又はβ-ジケトンであることを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。触媒担持膜コーティング剤を塗布したのち、200°C以上、400°C以下で加熱することを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。5分以上、3時間以下の時間で加熱することを特徴とする請求項4に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。触媒生成膜コーティング剤を塗布したのち、50°C以上、200°C以下で加熱することを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒担持膜がアルミニウム原子及び炭素原子を含むことを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒担持膜が、酸素原子をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒担持膜が多孔質であることを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記基板上にカーボンナノチューブ配向集合体を成長させる工程において、雰囲気中に触媒賦活物質を存在させることを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記カーボンナノチューブ配向集合体を成長させる工程の前に、前記基板の周囲環境を還元ガスを含む環境として、前記基板及び前記還元ガスのうち少なくとも一方を加熱し、前記触媒生成膜を還元及び微粒子化するフォーメーション工程をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒担持膜コーティング剤中に含まれる前記金属有機化合物及び前記金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つが、アルミニウムアルコキシドであることを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒生成膜コーティング剤中に含まれる前記金属有機化合物及び前記金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つが、有機酸鉄であることを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒担持膜の膜厚は10nm以上、100nm以下であることを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒生成膜の膜厚は1nm以上、10nm以下であることを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒担持膜コーティング剤中に含まれる前記金属有機化合物及び前記金属塩の総量と前記安定剤との配合モル比が、1:0.01以上3.0以下の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。前記触媒生成膜コーティング剤中に含まれる前記金属有機化合物及び前記金属塩の総量と安定剤との配合モル比が、1:0.01以上3.0以下の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。一般にCNTの外径及び外径分布範囲は、触媒微粒子の直径及び直径分布に依存している。触媒微粒子の直径が大きくなると、CNTの外径も大きくなる。その場合、多層CNTが生成しやすくなり、CNTの比表面積は低下してしまう。たとえば特許文献2に記載の方法においては、単層CNT配向集合体を形成させるために、触媒担持膜および触媒の膜厚をナノメートルスケールで制御している。触媒担持膜及び触媒の膜厚が不均一であると、触媒微粒子の大きさが不均一となりやすい。その結果、多層CNTが生成して、比表面積の低下がおきる問題点があった。特許文献3においては、触媒金属の有機金属塩又は無機金属塩を溶媒に分散又は溶解させてなる溶液を基板上に塗布した後、乾燥及び焼成することで基板上に触媒金属の酸化物の微粒子を形成させる方法の記載がある。特許文献3に記載されているとおり、触媒金属の有機金属塩又は無機金属塩は塗布したときに凝集しやすく、塗布して形成した触媒の膜厚の均一性を損なう原因となっていた。しかも、特許文献3に記載の方法で作製した溶液は、溶液中で触媒金属の有機金属塩又は無機金属塩の凝集及びゾル化を制御することができない。その結果、溶液を塗布したときに、触媒の厚みが不均一となり、多層CNTが生成しやすいという問題がある。そのうえ、溶液を長期間使用または保存した場合も、溶液中の触媒金属の有機金属塩または無機金属塩の凝集が進行して塗布不良及び沈殿がおこり濃度が変化する不具合が発生して、長期間安定して、同品質のCNTを得ることができない。また、特許文献2において単層CNT配向集合体は、構成する単層CNTのバンドルは、平均外径が大きく2nm以上、かつ外径分布範囲が広い半値幅1nm以上上に、直線性が低いG/D比50以下;ラマン分光で観測されるCNT固有のラマンGバンドGと、欠陥品由来のラマンDバンドDとの比、単層CNTからなっている。このことから、CNTが密なバンドルを形成しにくく、比表面積の大きいCNT配向集合体を得ることが可能となった。このような単層CNT配向集合体を得るためには、触媒の直径および直径分布を最適な状態にコントロールする必要がある。しかし、たとえば特許文献3に記載の方法で形成された触媒は、一般に直径が2nm以下で小さく、直径分布範囲が狭い半値幅1nm以下。触媒微粒子の大きさに起因して、外径が2nm以下で直径分布範囲が狭いCNTが生成するため、CNT同士が密なバンドルを形成し、比表面積の大きい単層CNT配向集合体を形成することができない。そこで本発明は、長期間保存可能な、触媒担持膜および触媒生成膜を形成するための塗布液を用い、且つ、均一な膜厚の触媒担持膜及び触媒生成膜を形成してCNT配向集合体を製造する方法を提供することを課題とする。上記課題を解決するために本発明に係るカーボンナノチューブの製造方法は、アルミニウムを含む金属有機化合物及び/又は金属塩、及び、当該金属有機化合物及び当該金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布して、前記基板上に触媒担持膜を設ける工程と、鉄を含む金属有機化合物及び/又は金属塩、及び、当該金属有機化合物及び当該金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる触媒生成膜コーティング剤を前記触媒担持膜上に塗布して、前記触媒担持膜上に触媒生成膜を設ける工程と、化学気相成長法CVD法により、前記基板上にカーボンナノチューブ配向集合体を成長させる工程と、を含む。本発明によれば、触媒担持膜及び触媒生成膜の膜厚をナノメートルスケールで均一に塗布することが可能となる。それに応じて、サイズの大きい触媒微粒子の生成を抑制して、均一なサイズの触媒微粒子を生成することが可能となり、その結果、比表面積の大きいCNT配向集合体を生成することが可能となる。また、塗布液前記触媒担持膜コーティング剤及び前記触媒生成膜コーティング剤を長期間使用又は保存した場合でも、安定して同品質のCNT配向集合体を製造することが可能となる。CNT配向集合体本発明に係るカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法以下、単に本発明に係る製造方法という。によって、基材上に高効率でCNTを成長させることができ、触媒から成長した多数のCNTは特定の方向に配向し、CNT配向集合体を形成する。本発明に係る製造方法によって得られる単層CNT配向集合体は、比表面積が高く、一本一本のCNTが規則的な方向に配向していて、かつ嵩密度が低いという従来のCNT集合体にはない優れた特性を有するという特徴がある。単層CNT配向集合体の、比表面積は600m2/g~2600m2/gと非常に大きい。このように大きな比表面積は、触媒の担持体やエネルギー物質貯蔵材として有効であり、スーパーキャパシタ及びアクチュエータなどの用途に好適である。また、CNT配向集合体を構成する一本一本のCNTが規則的な方向に配向している。そのため、個々のCNTの機能の方向性を揃えることができ、結果として、高機能なCNT集合体を得ることができる。さらにこの単層CNT配向集合体は、重量密度が0.002g/cm3~0.2g/cm3と低密度である。このように基板上で低密度に成長した単層CNT配向集合体は、集合体を構成する個々の単層CNT同士の結びつきが弱く、基板から取り外した単層CNT配向集合体を、溶媒などに均一に分散させることが容易である。これらに加えて、適度に配向していて低密度な本発明の単層CNT配向集合体は、生成後の後処理行程による密度調節が容易であり、高密度化処理行程を経ることにより、あたかも藁を束ねて作られた俵のように、互いに隣接するCNT同士を隙間なく高密度に充填させることが可能である。この際、高密度化処理行程を制御することによって様々な形状に成型することができる。なお、CNTは樹脂及びセラミックス等に高導電性、高熱伝導性などを付与するフィラーとしての用途が期待されている。CNTの高導電性、高熱伝導性を効率良く発揮させるためには、一本一本のCNTが長く、均一に分散させることが重要となる。しかし、CNTは、π-π相互作用により強固なバンドル束構造をとり非常に分散が困難である。また、直径が細いCNTは表面積が大きく表面エネルギーが大きいため、表面エネルギーを小さくしようと互いに力が働くため凝集しており非常に分散性が悪い。用途によって、より分散性に優れたCNT配向集合体の使用が望ましい場合がある。従来技術では、このような要請に応えることが難しく、さらに改善すべき余地があるが、本発明によれば、分散性に優れたCNT配向集合体を製造方法できるのである。配向性配向の評価方法については後に詳述するが、例えば、θ-2θ法、ラウエ法で得られたX線回折強度、SEM画像又は原子間力顕微鏡AMFともいう画像を高速フーリエ変換して得られた画像から得た強度プロフィールを用いて計算したヘルマンの配向係数が、本発明によって得られる単層CNT配向集合体においては、例えば、-0.5以上、1以下であり、好ましくは0より大きく1以下であり、より好ましくは0.25以上、1以下である。このような配向の範囲にある単層CNT配向集合体は、良好な電気特性、良好な機械的特性、良好な熱特性を示し、比表面積も大きく、一体性に富み、取扱いが容易で形状加工性も良好である。しかも熱力学的、電気的、機械的な異方性も十分に示し、様々な用途に好適である。これに対してヘルマンの配向係数が0より小さい単層CNT配向集合体は配向性を示さない。またヘルマンの配向係数が0.25より小さいものは、CNTの傾斜が45°となり、配向の効果は減少する。なお、ヘルマン配向係数が1の単層CNT配向集合体は、完全に配向したものとなる。単層CNT配向集合体が配向性、及び高比表面積を示すためには、単層CNT配向集合体の高さ長さは10μm以上、10cm以下の範囲にあることが好ましい。この高さ範囲にある単層CNT配向集合体は、良好な配向性及び大きい比表面積を備えている。高さを10μm以上とすることで、配向性が向上する。また高さが10cm以下であれば、生成を短時間で行なえるため炭素系不純物の付着を抑制し、比表面積を向上させることができる。さらには、この高さ範囲のある単層CNT配向集合体は高い一体性を備え、取扱いが容易であり、形状加工性も良好である。CNT配向集合体の配向は、例えば、以下の1から3の少なくともいずれか1つの方法によって評価することができる。すなわち、1.CNTの長手方向に平行な第1方向と、第1方向に直交する第2方向とからX線を入射してX線回折強度を測定θ-2θ法した場合に、第2方向からの反射強度が、第1方向からの反射強度より大きくなるθ角と反射方位とが存在し、かつ第1方向からの反射強度が、第2方向からの反射強度より大きくなるθ角と反射方位とが存在すること。2.CNTの長手方向に直交する方向からX線を入射して得られた2次元回折パターン像でX線回折強度を測定ラウエ法した場合に、異方性の存在を示す回折ピークパターンが出現すること。3.ヘルマンの配向係数が、θ-2θ法又はラウエ法で得られたX線回折強度を用いると0より大きく1より小さいこと。より好ましくは0.25以上、1以下であること。また、前述のX線回折法において、単層CNT間のパッキングに起因するCP回折ピーク、002ピークの回折強度及び単層CNTを構成する炭素六員環構造に起因する100、110ピークの平行と垂直との入射方向の回折ピーク強度の度合いが互いに異なるという特徴も有している。基板基板はその表面にCNTの触媒を担持することのできる部材であればよく、400°C以上の高温でも形状を維持できることが好ましい。例えば、CNTの製造が可能あるものを、適宜、用いることができる。材質としては、鉄、ニッケル、クロム、モリブデン、タングステン、チタン、アルミニウム、マンガン、コバルト、銅、銀、金、白金、ニオブ、タンタル、鉛、亜鉛、ガリウム、インジウム、ガリウム、ゲルマニウム、砒素、インジウム、燐、及びアンチモンなどの金属、並びにこれらの金属を含む合金及び酸化物、又はシリコン、石英、ガラス、マイカ、グラファイト、及びダイヤモンドなどの非金属、並びにセラミックなどを例示できる。金属はシリコン及びセラミックと比較して、低コストであるから好ましく、特に、Fe-Cr鉄-クロム合金、Fe-Ni鉄-ニッケル合金、Fe-Cr-Ni鉄-クロム-ニッケル合金等は好適である。基板の態様としては、平板状以外に、例えば、薄膜状、ブロック状、あるいは粉末状などでもよく、特に体積の割に表面積を大きくとれる態様が大量に製造する場合において有利である。平板状の基板を使用する場合、基板の厚さに特に制限はなく、例えば数μm程度の薄膜から数cm程度までのものを用いることができる。好ましくは、0.05mm以上3mm以下である。基板の厚さが3mm以下であれば、CVD工程で基材を十分に加熱することができCNTの成長不良を抑制することができ、また基板のコストを低減できる。基板の厚さが0.05mm以上であれば、浸炭による基板の変形を抑え、また基板自体のたわみが起こりにくいため基板の搬送や再利用に有利である。なお、本明細書にいう浸炭とは基板に炭素成分が浸透することをいう。平板状基板の形状、大きさに特に制限はないが、形状としては、長方形もしくは正方形のものを用いることができる。基板の一辺の大きさに特に制限はないが、CNTの量産性の観点から、大きいほど望ましい。触媒担持膜コーティング剤、触媒担持膜本発明に係る製造方法は、触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布して、前記基板上に触媒担持膜を設ける工程を含む。本発明に係る製造方法で用いる触媒担持膜コーティング剤は、アルミニウムを含む金属有機化合物並びに金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つ、及び、当該金属有機化合物及び前記金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる。金属有機化合物、金属塩、安定剤、有機溶剤には、後述する化合物を使用することが可能である。本発明に係る製造方法で用いる触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布すると基板上に触媒担持膜が形成される。また、塗布した後、加熱するとよい。触媒担持膜は、担持した触媒の粒径をコントロールしやすく、また高密度で触媒微粒子が存在しても高温下でシンタリングを起こりにくくする。また、触媒の活性を向上させる役割がある。本発明に係る製造方法で用いる触媒担持膜コーティング剤において、コーティング剤全量に対する水分含有量は、2.0以下であることが好ましい。水分含有量が2.0以下であることにより、コーティング剤中において、金属有機化合物及び金属塩の凝集及びゾル化の進行を抑制することが可能である。金属有機化合物及び金属塩の凝集及びゾル化が進行した場合、液中にサイズの大きい微粒子が生成しやすくなるため、CNTの比表面積が低下するおそれがある。また、徐々に縮合重合反応が進行し、均一なゾル状態を長期間維持することが難しく、安定して同品質のCNTを得ることが難しくなる。また、本発明によれば、塗布法で触媒を基板上に配置できるため、スパッタ装置を用いて金属薄膜を配置する方法に比べ、大面積化が可能でスケーラビリティに優れ、低コスト化を図ることができるCNT配向集合体の提供が可能となる。金属有機化合物、金属塩本発明によれば、触媒担持膜を、金属有機化合物及び金属塩のうち少なくとも一つを原料に形成させる。これらの化合物は後述する加熱工程に供した場合、基板上で金属水酸化物又は金属酸化物に変化する。金属有機化合物及び金属塩は、50°C以上、350°C以下の温度で熱分解することが好ましい。熱分解温度が50°C以上であればコーティング剤としての安定性を維持することができる。熱分解温度が350°C以下であれば、高温を必要としないので、後述する加熱工程において、CNTの成長が最も良好な加熱温度にすることができる。触媒担持膜を形成するための金属有機化合物又は金属塩を構成する金属としては、CNTの成長が著しく向上することから、アルミニウムを含むことが好ましい。アルミニウムを含むことで、触媒賦活物質の作用が向上すると推測される。触媒担持膜コーティング剤がアルミニウムを含む場合、その態様は、例えば、アルミニウムを含む金属有機化合物、アルミニウムを含む塩が挙げられる。中でも有機アルミニウム化合物が好ましい。アルミニウムを含む金属有機化合物には炭素原子が予め含まれており、触媒担持膜にアルミニウム原子及び炭素原子を含む基材を容易に製造できるからである。ただし、触媒担持膜に炭素原子を含ませる場合であって、アルミニウムを含む金属塩のように炭素原子を含まない化合物を用いる場合であっても、別途炭素原子を触媒担持膜中に含ませればよい。アルミニウムを含む金属有機化合物としては、アルコキシドが挙げられる。アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリ-n-プロポキシド、アルミニウムトリ-i-プロポキシド、アルミニウムトリ-n-ブトキシド、アルミニウムトリ-sec-ブトキシド、アルミニウムトリ-tert-ブトキシド等が挙げられる。これらは、単独あるいは混合物として用いることができる。アルミニウムを含む金属有機化合物としては他に、トリスアセチルアセトナトアルミニウムIIIなどの錯体が挙げられる。アルミニウムを含む金属塩としては、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム、臭化アルミニウム、よう化アルミニウム、乳酸アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム、塩基性硝酸アルミニウム等が挙げられる。これらのなかでも、金属製基板へのぬれ性が良く、カーボンナノチューブの成長が良好であることから、アルミニウムアルコキシドを用いることが好ましい。有機溶剤触媒担持膜コーティング剤に用いる有機溶剤としては、アルコール、グリコール、ケトン、エーテル、エステル類、炭化水素類等種々の有機溶剤が使用できるが、金属有機化合物及び金属塩の溶解性が良いことから、アルコール又はグリコールを用いることが好ましい。これらの有機溶剤は単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。アルコールとしては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、イソブタノール、オクタノール、n-プロピルアルコールなどが挙げられる。グリコール類としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn-プロピルエーテル、エチレングリコールモノn-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。前記アルコールの中でも、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどが、取り扱い性、保存安定性といった点で好ましい。用いる金属有機化合物又は金属塩がアルコール又はグリコールに溶解しにくい場合、炭化水素類等他の溶媒を併用することもできる。安定剤安定剤としては、前記金属有機化合物及び前記金属塩の縮合重合反応を抑制するものであればよいが、β-ジケトン及びアルカノールアミンからなる群より選ばれる少なくとも一つであることが好ましい。これらの化合物は単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。このような安定剤を加えることにより、縮合重合反応を起こす活性な反応基が安定剤によってキャッピングされ、縮合重合反応が進行せず、長期間にわたって粘度変化の少ないコーティング剤を得ることができる。また、高分子酸化物の重合度をコントロールすることができるため、高い分子量をもつ粒径の大きい粒子の生成による金属酸化物の沈殿が発生しない、長期間にわたって安定なコーティング剤を得ることができる。長期間にわたって同一の触媒担持膜コーティング剤を用いて、安定して同品質のCNTを製造することが可能となる。安定剤を配合しないと、たとえば調製直後の溶液と、1ヶ月間保存後の溶液とで、合成されたCNTの品質が変化してしまう恐れがある。本発明によれば、縮合重合反応が進行せずゾル化が進行していない、又はゾル化の状態を制御できることから、液中に大きい粒子が生成していない。そのため、平坦で均一な触媒担持膜を形成することが可能となる。また、触媒の粒子を最適な状態にコントロールすることが可能となる。金属有機化合物及び金属塩のゾル化が進行すると、触媒担持膜の膜厚が不均一となる原因となり、触媒の粒子サイズが大きくなり、その結果多層CNTが生成しやすくなる。多層CNTは比表面積が小さいため、比表面積の大きなCNT配向集合体を得ることができない。また、金属有機化合物及び/又は金属塩の溶液に安定剤を配合することにより、基板上へ塗布したときに金属有機化合物及び金属塩同士が凝集するのを防止して、均一な膜厚の触媒担持膜を形成できることを本発明者らは見出した。同時に、金属基板へのぬれ性を改善する役割があり、はじき等の塗布不良を防止して、均一な膜厚の触媒担持膜を形成できることを本発明者らは見出した。安定剤として用いられるβ-ジケトン類としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタン、ベンゾイルトリフルオルアセトン、フロイルアセトンおよびトリフルオルアセチルアセトンなどが例示されるが、特にアセチルアセトン、アセト酢酸エチルを用いることが好ましい。安定剤として用いられるアルカノールアミン類としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N-メチルジエタノールアミン、N-エチルジエタノールアミン、N.N-ジメチルアミノエタノール、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどがある。なかでも、金属基板へのぬれ性が向上して、CNTの成長が向上することから、第2級又は第3級アルカノールアミンであることが好ましい。安定剤は、50°C以上、350°C以下の温度で、熱分解又は揮発するものであることが好ましい。熱分解温度又は沸点が50°C以上であればコーティング剤としての安定性を維持することができる。熱分解温度又は沸点が350°C以下であれば、後述する加熱工程を行なう場合、CNTの成長が最も良好な加熱温度にでき、高温を必要としないため生産性が向上する。後述する加熱工程での温度よりも低い熱分解温度又は沸点を有することで、加熱工程の後の膜中への残存量を減らすことができ、CNTの成長不良を抑制することができる。触媒担持膜コーティング剤中に含まれる金属有機化合物及び金属塩の総量と安定剤との配合モル比は、特に限定されないが、金属有機化合物及び金属塩のモル数に対して、1:0.01以上3.0以下の範囲で添加した場合により優れた効果が現れ、特に、金属有機化合物及び金属塩のモル数に対して、1:0.5以上1.5以下の範囲で添加することが好ましい。安定剤の添加量が金属有機化合物及び金属塩の総量に対して0.01以上であれば安定化の機能が十分に発揮され、3.0以下であれば、皮膜の白化などの悪影響を抑制することができる。金属有機化合物及び金属塩の総量と安定剤との配合モル比を調整することによって、加熱工程の前に金属有機化合物または金属塩の加水分解及び縮合反応が開始することを確実に防止できると共に、後の加熱工程条件下での加水分解及び縮合反応を調整することが可能になる。触媒担持膜コーティング剤中に含まれる金属有機化合物及び金属塩の総量は、塗布したときの膜厚ムラを軽減し、表面の平滑性が優れることから、0.5重量以上10重量以下の範囲とすることが好ましく、0.5重量以上5重量以下の範囲とすることがより好ましい。なお、触媒担持膜コーティング剤において、コーティング剤全量に対する水分含有量は、2.0以下であることが好ましい。水分含有量が2.0以下であることにより、コーティング剤中において、金属有機化合物もしくは金属塩の凝集やゾル化の進行を抑制することが可能である。金属有機化合物もしくは金属塩の凝集やゾル化が進行した場合、液中にサイズの大きい微粒子が生成しやすくなるため、CNTの比表面積が低下するおそれがある。また、徐々に縮合反応が進行し、均一なゾル状態を長期間維持することが難しく、安定して同品質のカーボンナノチューブを得ることが難しくなる。塗布触媒担持膜コーティング剤を塗布することで、基板上に金属有機化合物及び/又は金属塩と安定剤とを含む皮膜が形成され、触媒担持膜が得られる。大気中に存在している水分によって金属有機化合物及び金属塩の縮合重合反応が促進される場合がある。そのため、塗布、乾燥中の温度、湿度をコントロールすることが、均一な皮膜を作製するにあたり重要である。塗布、乾燥条件としては、20°C以上、25°C以下、相対湿度60以下であることが好ましい。相対湿度が60以下であれば、金属有機化合物及び金属塩と大気中の水蒸気との反応を抑制し、塗布された皮膜をより均一にすることができる。基板表面へのコーティング剤の塗布方法としては、スプレー、ハケ塗り等により塗布する方法、スピンコーティング、ディップコーティング等、いずれの方法を用いてもよい。加熱工程本発明に係る製造方法は、触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布して、基板上に触媒担持膜を設ける工程の後に、基板上の触媒担持膜を加熱する加熱工程を含んでもよい。基板上の触媒担持膜を加熱することで、金属有機化合物及び金属塩の加水分解及び縮重合反応が開始され、金属水酸化物及び/又は金属酸化物を含む硬化皮膜が基板表面に形成される。金属がアルミニウムの場合、加熱することで、水酸化アルミニウム又は酸化アルミニウム薄膜が形成される。酸化アルミニウムアルミナは、CNTの成長が良好であることから、アモルファスアルミナであることが好ましい。もしくはα-アルミナ、γ-アルミナ、δ-アルミナ、χ-アルミナ、κ-アルミナ、θ-アルミナ、ρ-アルミナ等遷移アルミナが含まれていてもよい。触媒担持膜コーティング剤は、塗布した後、乾燥させることが好ましく、さらにその後、加熱工程を実施することが好ましい。加熱工程を実施することで、金属水酸化物及び/又は金属酸化物を含む触媒担持膜が形成される。また、基板と触媒担持膜との密着性が向上して、次の工程で触媒生成膜コーティング剤を塗布する際の塗布の安定性が向上する。加熱温度は、200°C以上、400°C以下であることが好ましく、さらには250°C以上、350°C以下であることが好ましい。通常、金属水酸化物又は金属酸化物の焼成には、500°C~1200°Cの高温であることが必要であるが、本発明においては、比較して低温で実施するため、生産性に優れる。加熱温度が400°C以下であることにより、金属酸化物皮膜の結晶性が高くなるのを抑制する。また、アルミニウムを含む金属有機化合物中に含まれる炭素原子を触媒担持膜中に残留させることができる。その結果、本発明に係る製造方法によって、平均外径が大きく2nm以上、かつ外径分布範囲が広い半値幅1nm以上CNT配向集合体を製造する際に最適な、触媒を形成することが可能となる。金属酸化物皮膜の結晶性が高くなると、触媒の微粒子化を最適な状態にもっていくことができず、さらに触媒担持膜および触媒としての活性が小さくなり、CNTの成長が悪化するおそれがある。また、金属製基板を用いた場合、加熱温度が400°C以下であることにより、基板表面の酸化を防止して、CNTの成長の悪化を防ぐことが可能である。触媒担持膜コーティング剤を塗布後の加熱温度を200°Cから700°Cまで変えたとき、得られた触媒担持膜を用いて合成したCNTの基材単位面積当たりの収量との関係を、図3に示した。加熱温度が、CNTの成長に大きく影響していることが判明した。CNTの成長が良好で安定していることから、触媒担持膜コーティング剤を塗布後の加熱温度は、200°C以上、400°C以下であることが好ましい。加熱時間は、金属酸化物皮膜の結晶性が高くなるのを抑制する観点、アルミニウムを含む金属有機化合物中に含まれる炭素原子を触媒担持膜中に残留させる観点、および生産効率上の観点から短いほど好ましく、5分以上、3時間以下であることが好ましい。加熱時間の上限はより好ましくは1時間、さらに好ましくは30分である。加熱工程後の触媒担持膜の膜厚は、10nm以上、100nm以下であることが好ましい。前記膜厚の範囲内において均一でむらのない触媒担持膜を形成することが容易である。100nm以下の膜厚において、クラックのない均質な触媒担持膜の形成が容易である。10nm以上の膜厚において、CNTを生成させることが容易となる。触媒担持膜はアルミニウム原子及び炭素原子を含んでいることが好ましい。触媒担持膜に含まれるアルミニウム原子の態様は、いかなる態様であってもよい。つまり、アルミニウム化合物が触媒担持膜に含まれていてもよく、アルミニウム単体が触媒担持膜に含まれていてもよいが、アルミニウム化合物が含まれていることが触媒担持膜に好ましい。例えば、前記のように、アルミニウムを含む金属有機化合物を基板上に塗布して、これを加熱して触媒担持膜を形成することで、アルミニウムを含む金属有機化合物由来のアルミニウム原子が触媒担持膜に含まれるようにすることができる。また、触媒担持膜に含まれる炭素原子の態様は、いかなる態様であってもよい。つまり、炭素化合物が触媒担持膜に含まれていてもよく、炭素単体が触媒担持膜に含まれていてもよい。例えば、前記のように、アルミニウムを含む金属有機化合物を基板上に塗布して、これを加熱して触媒担持膜を形成する際に、炭素成分が残留するようにすることで、触媒担持膜に炭素原子が含まれるようにすることができる。触媒担持膜中の炭素原子の組成割合は、X線電子分析ESCAで測定される元素分析において、8以上、30以下の範囲であることが好ましい。炭素原子の組成割合の下限は、より好ましくは10、さらに好ましくは15であり、上限は、より好ましくは25、さらに好ましくは20である。この範囲であれば、より凝集し難く、分散性に優れたCNT配向集合体を得ることができる。また、炭素原子の組成割合が30以下の触媒担持膜は、例えば、アルミニウムを含む金属有機化合物を炭素原子が残るように加熱することで得られるので、材料の観点、製造の観点から、コストが低いという利点を有する。触媒担持膜は、酸素原子をさらに含むことがより好ましい。例えば、アルミニウムおよび酸素原子を含む金属有機化合物を基板上に塗布して、これを加熱して触媒担持膜を形成することで、アルミニウムおよび酸素原子を含む金属有機化合物由来の酸素原子が触媒担持膜に含まれるようにするとよい。つまり、アルミニウムおよび酸素原子を含む金属有機化合物を加熱してアルミナが生成するようにして、当該アルミナ中の酸素原子が触媒担持膜に残るようにしてもよい。触媒担持膜が酸素原子を含む場合、その含有量は、例えば、X線電子分析ESCAで測定される元素分析において、酸素原子とアルミニウム原子との組成比O/Alが、1.8以上、2.7以下の範囲であることがより好ましい。この範囲であれば、より凝集し難く、分散性に優れたCNT配向集合体を得られる。また、アルミニウムを含む金属有機化合物の加熱条件を調整することによって、この範囲の組成比にすることが容易であるため、製造の観点からも有利である。触媒担持膜は、多孔質であることが好ましい。触媒担持膜が多孔質であることは、走査型電子顕微鏡SEMによる観測で、触媒担持膜の表面に細孔が観測されることで確認できる。触媒担持膜が多孔質であることにより、CNTの生産安定性が向上する。メカニズムについては定かではないが、触媒賦活物質が触媒担持膜表面に存在する細孔に吸着することで、触媒賦活物質が触媒に供給されやすくなり、触媒が失活しにくくなっていると推測される。触媒担持膜は、その表面の比表面積が、窒素吸着によるBET比表面積で、300m2/g以上であることが好ましい。BET比表面積が300m2/g以上であると、CNTをより高い効率で成長させることができる。触媒担持膜表面のBET比表面積は、触媒担持膜コーティング剤を塗布後の加熱温度と加熱時間で制御することができる。加熱温度と加熱時間を前記範囲とすることで、BET比表面積が300m2/g以上の触媒担持膜を効率よく得ることができる。また、触媒担持膜表面のBET比表面積の上限としては特に限定されないが、800m2/g以下であることが好ましい。また、触媒担持膜の表面は、平滑であることが好ましい。触媒担持膜の表面が平滑であると、触媒生成膜における触媒微粒子の粒子サイズが大きくなることを抑制でき、これにより比表面積の大きいCNTを得ることができる。触媒担持膜表面の算術平均表面粗さRaは、好ましくは0.05μm以下である。触媒生成膜コーティング剤、触媒生成膜本発明に係る製造方法は、触媒生成膜コーティング剤を触媒担持膜上に塗布して、前記触媒担持膜上に触媒生成膜を設ける工程を含む。本発明に係る製造方法で用いる触媒生成膜コーティング剤は、鉄を含む金属有機化合物並びに金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つ、及び、当該金属有機化合物及び当該金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる。金属有機化合物、金属塩、安定剤、有機溶剤には、後述する化合物を使用することが可能である。本発明に係る製造方法で用いる触媒コーティング剤を基板の触媒担持膜上に塗布することで、触媒担持膜上に触媒生成膜が形成される。塗布した後は、乾燥することがより好ましい。また、触媒生成膜を形成した後に、後述するフォーメーション工程を行うことがより好ましい。これにより、還元、微粒子化をおこさせて、CNT生成用触媒としてより好適に機能する。本発明に係る製造方法で形成される触媒微粒子は、直径分布が広く、また基板上での微粒子密度に粗密があるため、CNTの外径分布が広く、さらに屈曲点の多いCNTが得られると推測される。その結果、従来のCNTと比較して、CNT同士が強固なバンドルを形成しにくく、分散性に優れたCNTを製造することが可能となる。CNTは樹脂及びセラミックス等に高導電性、高熱伝導性などを付与するフィラーとしての用途が期待されている。CNTの高導電性、高熱伝導性を効率良く発揮させるためには、一本一本のCNTが長く、均一に分散させることが重要となる。しかし、CNTは、π-π相互作用により強固なバンドル束構造をとり非常に分散が困難である。また、直径が細いCNTは表面積が大きく表面エネルギーが大きいため、表面エネルギーを小さくしようと互いに力が働くため凝集しており非常に分散性が悪い。用途によって、より分散性に優れたCNT配向集合体の使用が望ましい場合がある。ところが、従来技術では、このような要請に応えることが難しく、さらに改善すべき余地がある。しかしながら、本発明によれば、分散性に優れたCNT配向集合体を製造できるのである。金属有機化合物、金属塩本発明によれば、触媒生成膜を、金属有機化合物及び/又は金属塩を原料に形成させる。これらの化合物は後述する加熱工程に供した場合、触媒担持膜上で金属水酸化物又は金属酸化物に変化する。金属有機化合物及び金属塩は、50°C以上、350°C以下の温度で熱分解することが好ましい。熱分解温度が50°C以上であればコーティング剤としての安定性を維持することができる。熱分解温度が350°C以下であれば、後述する加熱工程においてCNTの成長に最も適した加熱温度にでき、また高温を必要とせず生産性が向上する。触媒生成膜を形成するための金属有機化合物又は金属塩を構成する金属としては、CNTの成長が著しく向上することから、鉄を含むことが好ましい。鉄を含む金属有機化合物としては、鉄ペンタカルボニル、フェロセン、アセチルアセトン鉄II、アセチルアセトン鉄III、トリフルオロアセチルアセトン鉄II、トリフルオロアセチルアセトン鉄III等が挙げられる。鉄を含む金属塩としては、例えば、硫酸鉄、硝酸鉄、リン酸鉄、塩化鉄、臭化鉄等の無機酸鉄、酢酸鉄、シュウ酸鉄、クエン酸鉄、乳酸鉄等の有機酸鉄等が挙げられる。化合物は1種または2種以上混合してもよい。これらのなかでも、金属製基板へのぬれ性が良く、カーボンナノチューブの成長が良好であることから、有機酸鉄を用いることが好ましい。有機溶剤アルコール、グリコール、ケトン、エーテル、エステル類、炭化水素類等種々の有機溶剤が使用できるが、金属有機化合物及び金属塩の溶解性が良いことから、アルコール又はグリコールを用いることが好ましい。これらの有機溶剤は単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。アルコールとしては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、イソブタノール、オクタノール、n-プロピルアルコールなどが挙げられる。グリコール類としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn-プロピルエーテル、エチレングリコールモノn-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。前記アルコールの中でも、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどが、取り扱い性、保存安定性といった点で好ましい。安定剤安定剤としては、前記金属有機化合物及び前記金属塩の縮合重合反応を抑制するものであればよいが、β-ジケトン及びアルカノールアミンからなる群より選ばれる少なくとも一つであることが好ましい。これらの化合物は単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。このような安定剤を加えることにより、縮合重合反応を起こす活性な反応基が安定剤によってキャッピングされ、縮合重合反応が進行せず、長期間にわたって粘度変化の少ないコーティング剤を得ることができる。また、高分子酸化物の重合度をコントロールすることができるため、高い分子量をもつ粒径の大きい粒子の生成による金属酸化物の沈殿が発生しない、長期間にわたって安定なコーティング剤を得ることができる。長期間にわたって同一の触媒生成膜コーティング剤を用いて、安定して同品質のCNTを製造することが可能となる。安定剤を配合しないと、たとえば調製直後の溶液と、1ヶ月間保存後の溶液とで、合成されたCNTの品質が変化してしまう恐れがある。本発明によれば、縮合重合反応が進行せずゾル化が進行していない、又はゾル化の状態を制御できることから、液中に大きい粒子が生成していない。そのため、平坦で均一な触媒生成膜を形成することが可能となる。また、触媒の粒子を最適な状態にコントロールすることが可能となる。金属有機化合物及び金属塩のゾル化が進行すると、触媒の膜厚が不均一となる原因となり、触媒の粒子サイズが大きくなり、その結果多層CNTが生成しやすくなる。多層CNTは比表面積が小さいため、比表面積の大きなCNT配向集合体を得ることができない。また、金属有機化合物及び/又は金属塩の溶液に安定剤を配合することにより、触媒担持膜上へ塗布したときに金属有機化合物及び金属塩同士が凝集するのを防止して、均一な膜厚の触媒生成膜を形成することが可能となる。安定剤として用いられるβ-ジケトン類としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタン、ベンゾイルトリフルオルアセトン、フロイルアセトンおよびトリフルオルアセチルアセトンなどが例示されるが、特にアセチルアセトン、アセト酢酸エチルを用いることが好ましい。安定剤として用いられるアルカノールアミン類としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N-メチルジエタノールアミン、N-エチルジエタノールアミン、N.N-ジメチルアミノエタノール、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどがある。なかでも、カーボンナノチューブの成長が向上することから、2級又は3級アミンであることが好ましい。安定剤は、50°C以上、350°C以下の温度で、熱分解又は揮発するものであることが好ましい。熱分解温度又は沸点が50°C以上であればコーティング剤としての安定性を維持することができる。熱分解温度又は沸点が350°C以下であれば、後述する加熱工程を行なう場合、CNTの成長に最も適した加熱温度にでき、高温を必要としないため生産性が向上する。後述する加熱工程での温度よりも低い熱分解温度又は沸点を有することで、加熱工程の後の膜中への残存量を減らすことができ、CNTの成長不良を抑制することができる。触媒生成膜コーティング剤中に含まれる金属有機化合物及び金属塩の総量と安定剤との配合モル比は、特に限定されないが、金属有機化合物及び金属塩のモル数に対して、1:0.01以上3.0以下の範囲で添加した場合により優れた効果が現れ、特に、金属有機化合物及び金属塩のモル数に対して、1:0.5以上1.5以下の範囲で添加することが好ましい。安定剤の添加量が金属有機化合物及び金属塩の総量に対して0.01以上であれば安定化の機能が十分に発揮され、3.0以下であれば、皮膜の白化などの悪影響を抑制することができる。金属有機化合物及び金属塩の総量と安定剤との配合モル比を調整することによって、加熱工程の前に金属有機化合物または金属塩の加水分解及び縮合反応が開始することを確実に防止できると共に、後の加熱工程条件下での加水分解及び縮合反応を調整することが可能になる。触媒生成膜コーティング剤中に含まれる金属有機化合物及び金属塩の総量は、塗布したときの膜厚ムラを軽減し、表面の平滑性が優れることから、0.05重量以上0.5重量以下の範囲とすることが好ましく、0.1重量以上0.5重量以下の範囲とすることがより好ましい。塗布触媒生成膜コーティング剤を塗布することで、基板上に金属有機化合物及び/又は金属塩と安定剤とを含む皮膜が形成され、触媒生成膜となる。大気中に存在している水分によって金属有機化合物及び金属塩の縮合重合反応が促進される場合がある。そのため、塗布、乾燥中の温度、湿度をコントロールすることが、均一な皮膜を作製するにあたり重要である。塗布、乾燥条件としては、20°C以上、25°C以下、相対湿度60以下であることが好ましい。相対湿度が60以下であれば、金属有機化合物及び金属塩と大気中の水蒸気との反応を抑制し、塗布された皮膜をより均一にすることができる。触媒生成膜コーティング剤において、コーティング剤全量に対する水分含有量は、2.0以下であることが好ましい。水分含有量が2.0以下であることにより、コーティング剤中において、金属有機化合物もしくは金属塩の凝集やゾル化の進行を抑制することが可能である。金属有機化合物もしくは金属塩の凝集やゾル化が進行した場合、液中にサイズの大きい微粒子が生成しやすくなるため、CNTの比表面積が低下するおそれがある。また、徐々に縮合反応が進行し、均一なゾル状態を長期間維持することが難しく、安定して同品質のCNTを得ることが難しくなる。基板表面へのコーティング剤の塗布方法としては、スプレー、ハケ塗り等により塗布する方法、スピンコーティング、ディップコーティング等、いずれの方法を用いてもよい。加熱工程触媒生成膜は、膜中に残存する有機溶剤を取り除くために、加熱工程をおこなうことが好ましい。加熱温度は、50°C以上、200°C以下であることが好ましい。加熱温度は、200°C以下の低温であるため、この時点で触媒生成膜の加水分解および縮重合反応は、進行しなくてもよい。フォーメーション工程前に実施する、触媒生成膜の加熱工程の温度は、200°C以下の低温で実施することができ、生産性に優れる。加熱時間は、金属酸化物皮膜の結晶性が高くなるのを抑制する観点と、生産効率上の観点から短いほど好ましく、5分以上、30分以下であることが好ましい。加熱工程後の触媒の膜厚は、1nm以上、10nm以下であることが好ましく、さらには2nm以上、6nm以下であることが好ましい。2nm以上、6nm以下であることにより、単層CNT配向集合体が得られる。フォーメーション工程本発明に係る製造方法では、触媒担持膜上に触媒生成膜を設ける工程の後に、より好ましくは当該工程の後に加熱工程を行なった後に、フォーメーション工程を行なうことがより好ましい。フォーメーション工程とは、基板に担持された触媒の周囲環境を還元ガス環境とすると共に、触媒及び/又は還元ガスを加熱する工程のことを意味する。この工程により、触媒の還元、触媒のCNTの成長に適合した状態の微粒子化の促進、及び触媒の活性向上のうち少なくとも一つの効果が現れる。フォーメーション工程における触媒及び/又は還元ガスの温度は、好ましくは400°C以上、1100°C以下である。またフォーメーション工程の時間は、3分以上、30分以下が好ましく、3分以上、8分以下がより好ましい。フォーメーション工程の時間がこの範囲であれば、触媒微粒子の粗大化が防止され、多層カーボンナノチューブの生成を抑制することができる。フォーメーション工程時に、触媒生成膜の加水分解および縮重合反応が開始され、金属水酸化物及び/又は金属酸化物を含む硬化皮膜が基板表面に形成され、同時もしくはその後にフォーメーション工程の主目的である触媒の還元、微粒子化が行われることが好ましい。例えば、触媒金属が鉄の場合、水酸化鉄薄膜又は酸化鉄薄膜が形成され、同時もしくはその後に還元、微粒子化がおこり、鉄の微粒子が形成される。そして触媒担持膜の金属がアルミナ、触媒金属が鉄である場合、鉄触媒層は還元されて微粒子化し、アルミナ層上にナノメートルサイズの鉄微粒子が多数形成される。これにより触媒はCNT配向集合体の生産に好適な触媒に調製される。還元ガス還元ガスは、一般的には、触媒の還元、触媒のCNTの成長に適合した状態の微粒子化促進、及び触媒の活性向上のうち少なくとも一つの効果を持つ、CNTの成長温度において気体状のガスである。CNTの製造が可能なものであれば適宜のものを用いることができるが、典型的には還元性を有したガスであり、例えば水素ガス、アンモニア、水蒸気及びそれらの混合ガスを適用することができる。また、水素ガスをヘリウムガス、アルゴンガス、窒素ガス等の不活性ガスと混合した混合ガスでもよい。還元ガスは、一般的には、フォーメーション工程で用いるが、適宜成長工程に用いてもよい。成長工程本発明に係る製造方法は、化学気相成長法CVD法により、前記基板上にカーボンナノチューブ配向集合体を成長させる工程以下、成長工程ともいう。を含む。例えば、成長工程では、触媒担持膜及び触媒生成膜を設けた基材をCVD炉に設置して、原料ガスを供給した後に、又はCNTの原料ガスを供給しながら、CVD法により基板上にCNT配向集合体を成長させればよい。原料ガスとしては、CNTの原料となる物質であればよく、例えば、成長温度において原料炭素源を有するガスである。なかでもメタン、エタン、エチレン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンプロピレン、及びアセチレンなどの炭化水素が好適である。この他にも、メタノール、エタノールなどの低級アルコールでもよい。これらの混合物も使用可能である。またこの原料ガスは、不活性ガスで希釈されていてもよい。不活性ガスとしては、CNTが成長する温度で不活性であり、触媒の活性を低下させず、且つ成長するカーボンナノチューブと反応しないガスであればよい。例えば、CNTの製造に使用可能であるものを適宜用いてもよく、ヘリウム、アルゴン、窒素、ネオン、及びクリプトンなど、並びにこれらの混合ガスを例示でき、特に窒素、ヘリウム、アルゴン、及びこれらの混合ガスが好適である。CNT配向集合体製造用基材及び原料ガスのうち少なくとも一方を加熱するにあたって、その両方を加熱することがより好ましい。また、加熱する温度としては、CNTの成長が可能な温度であればよいが、好ましくは400°C以上、1100°C以下である。400°C以上で後述する触媒賦活物質の効果が良好に発現され、1100°C以下では、触媒賦活物質がCNTと反応することを抑制できる。触媒賦活物質CNTの成長工程において、CNTの成長反応が行なわれる雰囲気中に触媒賦活物質を存在させることがより好ましい。触媒賦活物質の添加によって、カーボンナノチューブの生産効率や純度をより一層改善することができる。触媒賦活物質としては、例えば酸素を含む物質であり、CNTの成長温度でCNTに多大なダメージを与えない物質であることが好ましく、水蒸気の他に、例えば、硫化水素、酸素、オゾン、酸性ガス、酸化窒素、一酸化炭素及び二酸化炭素などの低炭素数の含酸素化合物、エタノール、メタノールなどのアルコール類、テトラヒドロフランなどのエーテル類、アセトンなどのケトン類、アルデヒドロ類、エステル類、酸化窒素、並びにこれらの混合物が有効である。この中でも、水蒸気、酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、エーテル類が好ましく、特に水蒸気が好適である。触媒賦活物質の添加量に格別な制限はないが、例えば、微量でよく、水蒸気の場合には、好ましくは10ppm以上10000ppm以下、より好ましくは50ppm以上1000ppm以下、さらに好ましくは200ppm以上700ppm以下の範囲とするとよい。触媒賦活物質の機能のメカニズムは、現時点では以下のように推測される。CNTの成長過程において、副次的に発生したアモルファスカーボン及びグラファイトなどが触媒に付着すると触媒は失活してしまいCNTの成長が阻害される。しかし、触媒賦活物質が存在すると、アモルファスカーボン及びグラファイトなどを一酸化炭素及び二酸化炭素などに酸化させることでガス化するため、触媒層が清浄化され、触媒の活性を高め且つ活性寿命を延長させる作用触媒賦活作用が発現すると考えられている。この触媒賦活物質の添加により、触媒の活性が高められ且つ寿命が延長した結果、従来技術であれば高々2分間程度で終了するCNTの成長が数十分間継続する上、成長速度は、従来技術に比べて100倍以上、さらには1000倍にも増大する。この結果、その高さが著しく増大したCNT配向集合体が得られる。以下に具体的な実施例を挙げて、本発明に係る製造方法及びそれにより得られるCNT配向集合体についてより詳細に説明する。比表面積測定比表面積とは液体窒素の77Kでの吸脱着等温線を測定し、この吸脱着等温曲線からBrunauer,Emmett,Tellerの方法から計測した値のことである。比表面積は、比表面積測定装置日本ベル社製BersorpminiIIを用いて測定した。G/D比G/D比とはCNTの品質を評価するのに一般的に用いられている指標である。ラマン分光装置によって測定されるCNTのラマンスペクトルには、Gバンド1600cm-1付近とDバンド1350cm-1付近と呼ばれる振動モードが観測される。GバンドはCNTの円筒面であるグラファイトの六方格子構造由来の振動モードであり、Dバンドは非晶箇所に由来する振動モードである。よって、GバンドとDバンドのピーク強度比G/D比が高いものほど、結晶性の高いCNTと評価できる。本実施例においては、顕微レーザラマンシステムサーモフィッシャーサイエンティフィック株製NicoletAlmegaXRを用い、基材中心部付近のCNT配向集合体を一部剥離し、CNT配向集合体の基材から剥離された面にレーザを当てて、ラマンスペクトルを測定し、G/D比を求めた。CNTの平均外径CNTを透過型電子顕微鏡で観察して、得られた画像から50本のCNTの外径を測定して、算術平均値を平均外径とした。炭素純度炭素純度は、熱重量分析装置TGを用いて、CNTを空気中で800°Cまで1°C/分で昇温し、800°Cに到達するまでに燃えて減少した重量/初期重量×100を炭素純度とした。X線電子分析触媒担持膜のX線電子分析ESCAによる測定には、島津製作所社製AXIS-ULTRADVDを用い、X線源としてはモノクロAlKαを使用し、エミッション電流10mA、アノード印加電圧は15kVで測定した。層の最表面からSiO2換算で5nm以上の深さの領域を分析した。エッチングは、アルゴンスパッタにより行い、エッチング速度は40nm/分SiO2換算値であった。走査型電子顕微鏡分析触媒担持膜の細孔は、極低加速電圧SEMZEISS社製ULTRA55を使用して観察した。算術平均表面粗さ算術平均表面粗さRaは、レーザ顕微鏡キーエンス製VK-9700を用いて、対物倍率50倍で測定した。触媒微粒子密度SEM観察による画像中で、任意の100nm角の領域を選定し、領域内の触媒微粒子の個数をカウントした。得られた100nm角あたりの触媒個数に、1010を乗じて、1cm2あたりの触媒個数に換算した。5箇所の領域で同様の操作を行い、算術平均をとって触媒微粒子密度とした。[実施例1]図1は、下記製造方法で作られた基材を示す。基材1は、基板1-1と、基板1-1上に設けられた触媒担持膜1-2と、触媒担持膜上に設けられた触媒生成膜1-3とからなる。アルミニウムトリ-sec-ブトキシド和光純薬工業社製1.85gを200mlビーカーに取り、エタノール100gを加えて溶解させた。さらに、安定剤としてトリエタノールアミン和光純薬工業社製1.12gを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。乳酸鉄三水和物和光純薬工業社製288mgを200mlビーカーに取り、エタノール100gを加えて溶解させた。さらに、安定剤としてトリエタノールアミン149mgを加えて溶解させて、触媒生成膜コーティング剤を作製した。基板として、大きさ40mm角、厚さ0.3mmのFe-Ni-Cr合金YEF426日立金属社製、Ni42、Cr6を使用した。レーザ顕微鏡を用いて表面粗さを測定したところ、算術平均粗さRa≒0.24μmであった。室温25°C、相対湿度50の環境下で、基板上にスピンコーティングにより、上述の触媒担持膜コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、溶液0.1mlを基板上に滴下した後、500rpmで10秒間、次いで、2000rpmで20秒間回転させた。その後、5分間風乾した。次に、300°Cの空気環境下で、30分間加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に膜厚30nmの触媒担持膜を形成した。得られた触媒担持膜のX線電子分析の結果、C、N、O、Alの存在が確認された。Cの組成割合は16、O/Alの元素比率は2.0であった。この結果より、原料として使用したアルミニウムトリ-sec-ブトキシド及びトリエタノールアミンのうち少なくともいずれかに由来する炭素原子が層中に残存しており、一般的な酸化アルミニウムの組成O/Al=1.5になっていないことを確認した。室温25°C、相対湿度50の環境下で、基板の触媒担持膜上にスピンコーティングにより、上述の触媒生成膜コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、溶液0.1mlを基板上に滴下した後、500rpmで10秒間、次いで、2000rpmで20秒間回転させた。その後、5分間風乾した。次に、100°Cの空気環境下で、30分加熱した。加熱後、室温まで冷却して、膜厚3nmの触媒生成膜を形成した。これにより、図1に示す基材1が得られた。得られたこの基材を、炉内温度:750°C、炉内圧力:1.02E5に保持されたCVD装置図2の反応炉内に設置し、この炉内に、He:100sccm、H2:900sccmを6分間導入した。これにより、酸化鉄からなる触媒は還元されて単層CNTの成長に適合した状態の微粒子化が促進され、アルミナ層上にナノメートルサイズの鉄微粒子が多数形成されたフォーメーション工程。なお、このときの鉄微粒子の密度触媒微粒子密度は、7.8×1011個/cm2に調整された。次に、炉内温度:750°C、炉内圧力:1.02×105Paに保持された状態の反応炉内に、He:850sccm、C2H4:100sccm、H2O含有He相対湿度23:50sccmを5分間供給した。これにより、単層CNTが各鉄触媒微粒子から成長した成長工程。成長工程終了後、反応炉内にHe:1000sccmのみを供給し、残余の原料ガスや触媒賦活物質を排除したフラッシュ工程。これにより、配向した単層CNTの集合体が得られた。得られた単層CNT配向集合体の特性は、生産量1.4mg/cm2、G/D比5.0、密度:0.03g/cm3、BET-比表面積:1100m2/g、CNT外径:0.8-8.0nm、CNT平均外径2.8nm、炭素純度99.9であった。触媒担持膜コーティング剤および触媒生成膜コーティング剤を1ヶ月間、大気雰囲気中に常温で保存後、上述と同様の条件で基板上へ塗布して触媒担持膜および触媒生成膜を作製し、基材上へカーボンナノチューブ配向集合体を合成した結果、上述のカーボンナノチューブCNT配向集合体の特性と同品質のものが得られた。CNTの分散液の調整、評価上述の実施例1で得られたカーボンナノチューブについて、カーボンナノチューブの分散液の調整、評価をおこなった。エタノール100gに対し、合成したCNTを4mg添加し、撹拌し、CNT混合液を調製した。次に、この混合液を超音波照射器UltrasonicGeneratorModelUS-150日本精機製作所製を用いて、150W、120μAの出力で、約10分間、超音波照射を行った。超音波照射による混合液の発熱を抑えるために、適宜、氷水などで冷却することにより、液温を40°C以下に保持した。超音波照射後、10分間静置した後の写真を図4のaに示した。実施例1で得られたCNTから調整した分散液は、均一に黒濁していた。一方で、スパッタ装置を用いてYEF426製基板上に酸化アルミニウム10nm、鉄1.0nmを積層した。この基材を用いて、CNTを合成した。合成したカーボンナノチューブから調整した分散液は、図4のbに示すように、溶媒とカーボンナノチューブが分離した状態となった。実施例1で合成したカーボンナノチューブが、溶媒への分散性に優れていることが判明した。透過型電子顕微鏡による観察実施例1で得られたカーボンナノチューブの分散液をグリッド上に塗布した後、乾燥させて、透過型電子顕微鏡を用いて観察を行った。結果を図5に示す。直径分布が0.8nm以上、8nm以下であり、屈曲点の多いカーボンナノチューブが得られたことが、確認できた。直径分布が広く、屈曲点が多いことから、分散性に優れたカーボンナノチューブが得られたと推測される。実施例1で得られたカーボンナノチューブのαsプロットの結果を、図6に示した。横軸が1.5以下の領域において、屈曲点を有していた。この計測結果は、カーボンナノチューブが開口しており、チューブの内部にもガスが吸着していることを示している。このことから、本発明の製造方法により得られたカーボンナノチューブは、チューブの屈曲点等に結晶性の低い欠陥があり、そこからチューブの内部にもガス吸着が可能であり、比表面積の大きいことが特徴である。[実施例2]塩化アルミニウム和光純薬工業社製1.00gを200mlビーカーに取り、2-プロパノール100gを加えて溶解させた。さらに、安定剤としてアセト酢酸エチル和光純薬工業社製0.98gを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。硝酸鉄III九水和物和光純薬工業社製404mgを200mlビーカーに取り、エタノール100gを加えて溶解させた。さらに、安定剤としてトリエタノールアミン和光純薬工業社製149mgを加えて溶解させて、触媒生成膜コーティング剤を作製した。実施例1と同様の条件で、上述のコーティング剤を用いて、基板上に触媒担持膜および触媒生成膜を形成した。この基材を用いて、実施例1と同様の条件でCVD法を行ない、基材上に配向した単層CNTの集合体が得られた。得られた単層CNT配向集合体の特性は、生産量1.0mg/cm2、G/D比5.0、密度:0.03g/cm3、BET-比表面積:1000m2/g、CNT外径:0.8-8.0nm、CNT平均外径2.8nm、炭素純度99.9であった。[実施例3]アルミニウムトリ-sec-ブトキシド1.9gを2-プロパノール100ml78gに溶解させた。さらに、安定剤としてトリイソプロパノールアミン0.9gを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。これとは別に、酢酸鉄174mgを2-プロパノール100mlに溶解させた。さらに、安定剤としてトリイソプロパノールアミン190mgを加えて溶解させて、触媒生成膜コーティング剤を作製した。基板として、大きさ40mm×100mm、厚さ0.3mmのFe-Cr合金SUS430JFEスチール株式会社製、Cr18を使用した。レーザ顕微鏡を用いて表面粗さを測定したところ、算術平均粗さRa≒0.063μmであった。室温25°C、相対湿度50の環境下で、基板上にディップコーティングにより、上述の触媒担持膜コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、基板を浸漬後、20秒間保持して、10mm/secの引き上げ速度で基板を引き上げた。その後、5分間風乾した。次に、300°Cの空気環境下で、30分間加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に膜厚40nmの触媒担持膜を形成した。触媒担持膜の算術平均表面粗さRa=0.050μmであった。得られた触媒担持膜のX線電子分析ESCAによる分析の結果、C、N、O、Alの存在が確認された。Cの組成割合は15、O/Alの元素比率は1.8であった。この結果より、原料として使用したアルミニウムトリ-sec-ブトキシド及びトリイソプロパノールアミンのうち少なくともいずれかに由来する炭素原子が層中に残存しており、一般的な酸化アルミニウムの組成O/Al=1.5になっていないことを確認した。得られた触媒担持膜表面のSEM観察を行なった結果を図9に示した。表面に細孔図9に示す像の黒色の部分を有していることが観察され、多孔質構造であることを確認した。つづいて、室温25°C、相対湿度50の環境下で、基板の触媒担持膜上にディップコーティングにより、上述の触媒生成膜コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、基板を浸漬後、20秒間保持して、3mm/秒の引き上げ速度で基板を引き上げた。その後、5分間風乾した。次に、100°Cの空気環境下で、30分加熱した。加熱後、室温まで冷却して、膜厚3nmの触媒生成膜を形成した。この基材を用いて、実施例1と同様の条件でフォーメーション工程を行なった。得られた触媒生成膜表面のSEM観察を行った結果を図10に示した。表面に触媒微粒子図10に示す像の白色の部分が形成されていることが確認できた。続いて、実施例1と同様にしてCVD法による成長工程を行ない、基材上に配向した単層CNTの集合体が得られた。得られた単層CNT配向集合体の特性は、生産量1.4mg/cm2、G/D比4.0、密度:0.03g/cm3、BET-比表面積:1100m2/g、CNT外径:0.8-8.0nm、CNT平均外径2.8nm、炭素純度99.9であった。[実施例4]アルミニウムトリ-iso-プロポキシド1.5gをエタノール50ml39gとヘプタン50ml34gを混合してなる溶媒に溶解させた。さらに、安定剤としてジイソプロパノールアミン1.0gを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。これとは別に、2-エチルヘキサン酸鉄ミネラルスピリット50溶液和光純薬工業社製970mgを酢酸ブチル100ml88gに加えて溶解させた。さらに、安定剤としてアセト酢酸エチル130mgを加えて溶解させて、触媒生成膜コーティング剤を作製した。実施例3と同様の条件で、上述のコーティング剤を用いて、基板上に触媒担持膜を形成した。得られた触媒担持膜のESCAによる分析をおこなった。分析の結果、C、N、O、Alの存在が確認された。Cの組成割合は20、O/Alの元素比率は2.3であった。つづいて、実施例3と同様の条件で、上述のコーティング剤を用いて、基板の触媒担持膜上に膜厚3nmの触媒生成膜を形成した。得られた基材で、実施例1と同じ条件でCVDをおこない、配向した単層CNTの集合体を得た。得られた単層CNT配向集合体の特性は、生産量1.4mg/cm2、G/D比4.0、密度:0.03g/cm3、BET-比表面積:1100m2/g、CNT外径:0.8-8.0nm、CNT平均外径2.8nm、炭素純度99.9であった。CNTの分散液の調整、評価上述の実施例3および実施例4で得られたCNTについて、実施例1と同様にしてCNTの分散液の調整、評価をおこなった。実施例3のサンプルについて、超音波照射後、10分間静置した後の写真を図7に示す。実施例3で得られたCNTから調整した分散液は、均一に黒濁した。実施例4で得られたCNTから調整した分散液についても、均一に黒濁した。透過型電子顕微鏡による観察実施例3で得られたCNTの分散液をグリッド上に塗布した後、乾燥させて、透過型電子顕微鏡を用いて観察を行なった。結果を図8に示す。直径分布が0.8-8nmであり、屈曲点の多いCNTが得られたことが確認できた。直径分布が広く、屈曲点が多いことから、分散性に優れたCNTが得られたと推測される。[実施例5]アルミニウムトリ-sec-ブトキシド1.9gを酢酸n-ブチル100ml88gに溶解させた。さらに、安定剤としてアセト酢酸エチル0.9gを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。これとは別に、酢酸鉄174mgを2-プロパノール100ml78gに溶解させた。さらに、安定剤としてアセチルアセトン100mgを加えて溶解させて、触媒層コーティング剤を作製した。実施例3と同様の条件で、上述のコーティング剤を用いて、基板上に触媒担持膜を形成した。得られた触媒担持膜のESCAによる分析をおこなった。分析の結果、C、N、O、Alの存在が確認された。Cの組成割合は12、O/Alの元素比率は1.8であった。つづいて、実施例3と同様の条件で、上述のコーティング剤を用いて、基板の触媒担持膜上に膜厚3nmの触媒生成膜を形成した。この基材を用いて、実施例1と同様の条件でCVD法を行ない、基材上に配向した単層CNTの集合体が得られた。得られた単層CNT配向集合体の特性は、生産量1.5mg/cm2、G/D比5.0、密度:0.03g/cm3、BET-比表面積:1100m2/g、CNT外径:0.8-8.0nm、CNT平均外径2.8nm、炭素純度99.9であった。[比較例1]アルミニウムトリ-sec-ブトキシド和光純薬工業社製1.85gを200mlビーカーに取り、エタノール100gを加えて溶解させた。さらに、加水分解反応促進のため純水0.2gを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。硝酸鉄III九水和物和光純薬工業社製404mgを200mlビーカーに取り、エタノール試薬1級100gを加えて溶解させて、触媒生成膜コーティング剤を作製した。基板として、大きさ40mm角、厚さ0.3mmのFe-Ni-Cr合金YEF426日立金属社製、Ni42、Cr6を使用した。レーザ顕微鏡を用いて表面粗さを測定したところ、算術平均粗さRa≒0.24μmであった。室温25°C、相対湿度50の環境下で、基板上にスピンコーティングにより、上述の触媒担持膜コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、溶液0.1mlを基板上に滴下した後、500rpmで10秒間、次いで、2000rpmで20秒間回転させた。その後、5分間風乾した。次に、700°Cの空気環境下で、30分間加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に酸化アルミニウムからなる触媒担持膜を形成した。室温25°C、相対湿度50の環境下で、基板の触媒担持膜上にスピンコーティングにより、上述の触媒コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、溶液0.1mlを基板上に滴下した後、500rpmで10秒間、次いで、2000rpmで20秒間回転させた。その後、5分間風乾した。次に、700°Cの空気環境下で、30分空気中で加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に酸化鉄からなる触媒生成膜を形成した。この基材を用いて、実施例1と同様の条件でCVD法を行なった。得られたCNT配向集合体の特性は、製造条件の詳細に依存するが、典型値として、生産量0.4mg/cm2、G/D比3.0、密度:0.03g/cm3、BET-比表面積:580m2/gであり、生産量が低く、BET-比表面積も低かった。触媒担持膜コーティング剤および触媒生成膜コーティング剤を、1ヶ月間、大気雰囲気中に常温で保存後、上述と同様の条件で基板上へ塗布して触媒担持膜および触媒生成膜を作製し、基材上へカーボンナノチューブ配向集合体を合成した結果、得られたCNT配向集合体の特性は、製造条件の詳細に依存するが、典型値として、生産量0.3mg/cm2、G/D比2.0、密度:0.03g/cm3、BET-比表面積:500m2/gであり、生産量、BET-比表面積ともに、コーティング剤の調整直後よりも悪化した。コーティング剤中に安定剤を配合しなかったため、経時変化により液中で凝集や縮合重合反応が起こり、粒径の大きな金属酸化物が生成して、マルチウォールのカーボンナノチューブが生成しやすくなったと推測される。[比較例2]アルミナゾル川研ファインケミカル社製アルミゾル-10D、10ベーマイトアルミナDMF溶液をDMFジメチルホルムアミドで希釈して、3のアルミナゾルベーマイトアルミナDMF溶液を調整した。硝酸鉄III九水和物1.52g3.75ミリモルを約40mlのエタノールに溶かして分液ロートに入れた。300mlの三角フラスコにエタノール約200mlを入れて電熱器で加熱沸騰させ、沸騰を続けながら、前記の硝酸鉄溶液を約10ml/分の速度で滴下する。滴下終了後、三角フラスコを冷水に浸して室温まで冷却させ、エタノールを加えて全体の容積を250mlとした。以上により、濃赤褐色で透明な鉄濃度15mmol/lの酸化鉄ゾルを調製した。基板として、大きさ40mm角、厚さ0.3mmのFe-Ni-Cr合金YEF426日立金属社製、Ni42、Cr6を使用した。レーザ顕微鏡を用いて表面粗さを測定したところ、算術平均粗さRa≒0.24μmであった。室温25°C、相対湿度50の環境下で、基板上にスピンコーティングにより、上述のアルミナゾルを塗布した。塗布条件としては、溶液0.1mlを基板上に滴下した後、500rpmで10秒間、次いで、2000rpmで20秒間回転させた。その後、5分間風乾した。次に、700°Cの空気環境下で、30分間加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に酸化アルミニウムからなる触媒担持膜を形成した。触媒担持膜の膜厚は110nm、触媒担持膜の算術平均表面粗さRa=0.20μmであった。室温25°C、相対湿度50の環境下で、基板の触媒担持膜上にスピンコーティングにより、上述の酸化鉄ゾルを塗布した。塗布条件としては、溶液0.1mlを基板上に滴下した後、500rpmで10秒間、次いで、2000rpmで20秒間回転させた。その後、5分間風乾した。次に、700°Cの空気環境下で、30分空気中で加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に酸化鉄からなる触媒生成膜を形成した。この基材を用いて、実施例1と同様の条件でCVDを行なった。得られたCNT配向集合体の特性は、製造条件の詳細に依存するが、典型値として、生産量0.5mg/cm2、G/D比2.0、密度:0.03g/cm3、BET-比表面積:550m2/gであり、生産量が低く、BET-比表面積も著しく低かった。生産装置本発明のカーボンナノチューブ配向集合体の合成に用いる生産装置は、触媒と担持した基板を受容する合成炉反応チャンバ及び加熱手段を備えることが必須であるが、その他は各部の構造構成については特に限定されることはなく、例えば、熱CVD炉、熱加熱炉、電気炉、乾燥炉、恒温槽、雰囲気炉、ガス置換炉、マッフル炉、オーブン、真空加熱炉、プラズマ反応炉、マイクロプラズマ反応炉、RFプラズマ反応炉、電磁波加熱反応炉、マイクロ波照射反応炉、赤外線照射加熱炉、紫外線加熱反応炉、MBE反応炉、MOCVD反応炉、レーザ加熱装置などの、公知の生産装置をいずれも使用できる。本実施例におけるカーボンナノチューブ合成は、図2に示したCVD装置を使用した。このCVD装置は、カーボンナノチューブ生成用基材2-1を受容する石英ガラスからなる管状の反応チャンバ2-2直径30mm、加熱長360mmと、反応チャンバ2-2を外囲するように設けられた加熱コイル2-3と、原料ガス2-4並びに雰囲気ガス2-5を供給すべく反応チャンバ2-2の一端に接続された供給管2-6と、反応チャンバ2-2の他端に接続された排気管2-7と、触媒賦活物質2-8を供給すべく供給管2-6の中間部に接続された触媒賦活物質供給管2-9とを備えている。また極めて微量の触媒賦活物質を高精度に制御して供給するために、原料ガス2-4並び雰囲気ガス2-5の供給管2-6には、原料ガス2-4並びに雰囲気ガス2-5から触媒賦活物質を除去するための純化装置2-10が付設されている。さらに図示していないが、流量制御弁や圧力制御弁などを含む制御装置が適所に付設されている。触媒担持膜コーティング剤及び触媒生成膜コーティング剤の組成実施例1~5並びに比較例1及び2で作製した触媒担持膜コーティング剤及び触媒生成膜コーティング剤の組成をまとめて以下の表1に示す。"