"陽極及び陰極の間に複数の有機材料層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、水の接触角70度未満の親水性表面を有する陽極又は親水性表面を有する有機材料層に接して、電荷輸送性被覆材料からなる水の接触角70度以上の疎水性表面を持つ被覆層をエレクトロスプレー法以外の手段により形成した後、この被覆層に接して、分子量2,000以下の有機化合物を溶媒に溶解した溶液を用いてエレクトロスプレー法により成膜して有機材料層とすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。分子量2,000以下の有機化合物を溶解する溶媒が、誘電率が5.5~18.0であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。電荷輸送性被覆材料が、下記一般式1で示す有機化合物を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。式中、n1、n2は0~4の整数を表し、Ar1~Ar6は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表すが、Ar1~Ar6が置換しているベンゼン環と縮合して芳香環を形成しても良い。電荷輸送性被覆材料が、下記一般式2で示す有機化合物を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。式中、Ar7~Ar12は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表すが、Ar7~Ar12が置換しているベンゼン環と縮合して芳香環を形成しても良い。電荷輸送性被覆材料が、下記式3で示す銅フタロシアニン化合物を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。電荷輸送性被覆材料が、ポリビニルカルバゾールを含むことを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。請求項1~6の何れか1つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。本発明は、分子量2,000以下の低分子量系有機材料層を含む有機EL材料を用いた多層型有機EL発光素子をES法により製造することを目的とする。ES法では、溶媒に溶解した溶質が基板に到達着弾時にはほぼ乾燥状態となっていることが特徴として挙げられるが、同時に溶媒などの緩衝作用がないことは、着弾粒子の薄膜への成長工程で、材料、及び基板表面の性状がより強く影響されるものと考えられる。すなわち、有機EL素子作製などで一般的に使用される洗浄法で表面を洗浄したITOインジウム-錫合金電極やPEDOTPSSポリエチレンジオキシチオフェンポリ硫酸スチレン混合物膜などで被覆されたいわゆる親水性の表面では、NN’-ビスナフタレン-1-イル-NN-ビスフェニル-ベンジジンα-NPDやNN-ビス3-メチルフェニル-NN-ビスフェニル-ベンジジンTPDに代表される疎水性の強い低分子系有機EL材料は、噴霧された微粒子は薄膜とはならずに凝集して網目状の凝集組織を形成し、更に噴霧を続けると絶縁性の厚膜となる性質がある。また、ES法では、帯電した液滴が互いに反発、分散することで表面積が急増し、これに伴って溶媒が揮散して微小な溶質が析出する。このために塗工液には帯電され易い、すなわち極性の大きな溶媒である水、酢酸、ギ酸などの有機酸、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類やアセトニトリル、ジメチルホルムアミドDMF、ジメチルスルフォキシドDMSOなどの高極性非プロトン性溶媒やその混合液が採用される。一方、高温真空下での蒸着法によりアモルファス薄膜を形成する低分子量系有機EL材料では、水素結合などの分子間相互作用により高沸点、高融点の原因や、脱炭酸、脱水などによる分解現象の起点となるカルボン酸基COOH基やアルコール基OH基などの高極性官能基を分子構造中に持たない低極性分子が大半であり、こうした材料を溶解するためには一般的に低極性なトルエンやキシレンなどの溶媒が使用される。すなわち、ES法を用いた成膜には、噴霧性と材料溶解性の双方を兼ね備えた溶液の調製が必要となる。しかし、従来の知見は高分子系材料の使用を想定したものであり、低分子系材料に対してどのような溶媒が好適であるかを見極める定量的な指標は存在しない。噴霧性を確保するために必要な要件=高極性溶媒、親水性と、溶解性を確保するための要件=低極性溶媒、疎水性は相反するため、これら双方を満足できる溶媒系を見出す指標として誘電率を制御することが有効であることを見出した。すなわち、従来のスピンコート法などのウエット法では、材料の溶解のために使用している溶媒が下層材料を溶解や浸透剥離することにより多層化=高性能化を阻んできた。このため本発明者らは、蒸着法のように界面作成時に溶媒などが介在しない薄膜作成法を探索した結果、比較的簡便な装置で非常に微細な液滴が形成でき、基板着弾時には溶質はほぼ乾燥状態に近い状態にあるといわれるES法にその可能性を見出した。そして、それまでに知られていた成膜手法をそのまま低分子系有機材料に適用することは困難であった。こうした状況を鑑み本発明者らが鋭意検討を行った結果、ES法を用いて、複数の有機層を積層する有機EL素子を作成する際に、噴霧される下地表面を疎水性の電荷輸送材料で被覆処理することで、その濡れ性を制御することと、噴霧性の指標として溶媒の誘電率を利用した塗液設計を行うことにより、低分子量系有機材料を、親水性の電極や親水性の有機材料層の表面上であっても、同様の低分子量系有機材料薄膜上であっても多層化できる条件を見出して本発明を完成させるに至った。本発明は、陽極及び陰極の間に複数の有機材料層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、水の接触角70度未満の親水性表面を有する陽極又は親水性表面を有する有機材料層に接して、電荷輸送性被覆材料からなる水の接触角70度以上の疎水性表面を持つ被覆層をエレクトロスプレーES法以外の手段により形成した後、この被覆層に接して、分子量2,000以下の有機化合物を溶媒に溶解した溶液を用いてエレクトロスプレーES法により成膜して有機材料層とすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。上記有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、分子量2,000以下の有機化合物を溶解する溶媒が、誘電率が5.5~18.0である溶媒であることが望ましい。上記有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、電荷輸送性被覆材料が、下記一般式1又は2で示す有機化合物を含むこと、又は式3で示す銅フタロシアニン化合物を含むこと、又はポリビニルカルバゾールを含むことが好ましい。式中、n1、n2は0~4の整数を表し、Ar1~Ar6は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表すが、Ar1~Ar6が置換しているベンゼン環と縮合して芳香環を形成しても良い。式中、Ar7~Ar12は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表すが、Ar7~Ar12が置換しているベンゼン環と縮合して芳香環を形成しても良い。また、本発明は、上記有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子である。本発明によって、エレクトロスプレー法を用いた低分子量系有機材料層を含む高性能な多層型有機EL素子を提供することができる。以下、本発明を詳細に説明する。前述のようにES法では、溶媒に溶解した溶質基質が基板着弾時にはほぼ乾燥状態となっていることが特徴として挙げられるが、同時に溶媒などの緩衝作用がないことは、着弾粒子の薄膜への成長過程で、材料、及び基板表面の性状がより強く影響されるものと考えられる。すなわち、有機EL素子作製などで一般的に使用される洗浄法で表面を洗浄したITOインジウム-錫合金電極やPEDOTPSSポリエチレンジオキシチオフェンポリ硫酸スチレン混合物膜などで被覆されたいわゆる親水性の表面では、α-NPDやTPDに代表される疎水性の強い低分子系有機EL材料は、噴霧された微粒子が薄膜とはならずに凝集して網目状の凝集組織を形成し、更に噴霧を続けると絶縁性の厚膜となる。図2に、ITO表面にα-NPD又はTPDの溶液をES法で噴霧して得られる膜の原子間力顕微鏡AFM像を示す。図2中、1はα-NPDの膜を示し、2はTPDの膜を示す。いずれも、網目状に凝集している状態となっていることが分かる。サンプル作製時のES噴霧条件は以下の通り。溶液濃度:0.05重量溶媒組成体積比:ジクロロメタン/DMF=4/1ε=14.9印加電圧:10kVガラスキャピラリー先端径:10μm噴霧距離ノズルから基板まで距離:50mm吐出時間:600秒図2に示されるような網目状の凝集状態は、低極性疎水性な低分子量系有機EL材料が、高極性で親水性な基板上に粒子状に着弾した際、その粒子は固定化されて薄膜とはならず、表面を移動して凝集、固化していくものと考えられる。図3に表面移動から凝集、固化するイメージを示した。図3の上側の図は理想的な膜の形成状況を示し、下側の図は実際の膜の形成状況を示す。一方、成膜性に優れた高分子量系材料ではこうした現象は観察されておらず、理想的な膜の形成が可能であり、低分子系材料特有の現象であると考えられる。本発明では、こうした凝集現象を抑制して安定な薄膜を形成するため、下地の性質濡れ性の制御に着目した。親水性表面を持つITO、及びPEDOTPSS膜上では、噴霧したTPDは網目状の凝集状態となるが、疎水性=親油性の表面を持つスピンコートしたTPD膜上ではTPDは凝集せず均一に全体が被覆されている。更に、スピンコートしたTPD膜に代えて、銅フタロシアニンCuPCの蒸着膜や444-トリス[3-メチルフェニル-フェニル-アミノ]-トリフェニル-アミンmMTDATAのスピンコート膜を用いても同様の現象が確認された。表1に各種下地被覆層とその水との接触角、及び成膜性の良否を示す。また、図4の1はITO上にTPDをES噴霧した状態の顕微鏡写真を示す。図4の2は、ITO上にスピンコート成膜したPEDOTPSS上にTPDをES噴霧した状態の顕微鏡写真を示す。図4の3は、ITO上にスピンコート成膜したTPD膜上にTPDをES噴霧した状態の顕微鏡写真を示す。ES噴霧条件は以下の通りである。TPD溶液濃度:0.07重量溶媒組成体積比:ジクロロメタン/DMF=4/1印加電圧:10kVガラスキャピラリー先端径:10μm噴霧距離:50mm吐出時間:600秒また、接触角の測定条件は以下の通りである。使用機器:協和界面化学製DM301使用溶媒:水測定液滴体積:1μL測定温度:25°C表1中の成膜性は、図4の3に示したように、顕微鏡観察において網目状の凝集が観察されなかったものを○、図4の1や2に示したように、網目状の凝集が観察されたものを×とした。前記のように、親水性が高い電極や無機材料上に、ESで噴霧し有機層を積層する場合、疎水性の高い電荷輸送性の材料で事前に被覆する必要がある。被覆の方法としては、ES法以外であれば昇華蒸着等のドライプロセスであってもスピンコートや印刷等のウエットプロセスであってもよいが、その表面の接触角が70度以上であり、好ましくは75度以上であることが良い。上記ES法以外の被覆の方法としては、シーエムシー出版、プリンタブル有機エレクトロニクスの最新技術、2008年に記載される方法が挙げられ、具体的には昇華蒸着法等のドライプロセス、スピンコート法、インクジェット法、ノズルプリント法、グラビア印刷法、及びスリットコート法等のウエットプロセスが挙げられる。電荷輸送性の被覆材料は、正孔注入、輸送材料として知られるTPD、αNPD、mMTDATAなどのトリフェニルアミン誘導体や、CuPCなどの低分子系材料や、ポリビニルカルバゾールPVK、ポリコなどの正孔輸送性ポリマーも使用できる。また、トップエミッション型の素子作製の際には、被覆材料として135-トリスN-フェニルベンズイミダゾール-2-イルベンゼンTPBiのような電子輸送材料を使用することもできる。また、これを被覆したときの表面の接触角が70度以上となれば、これら電荷輸送性材料を混合して使用しても構わない。好ましい電荷輸送性の被覆材料としては、上記一般式1又は2で示す有機化合物を含む材料がある。また、式3で示す銅フタロシアニン化合物を含む材料がある。更に、PVKを含む材料がある。ここで、TPDは上記一般式1に含まれる化合物であり、mMTDATAは上記一般式2に含まれる化合物であり、CuPCは式3に含まれる化合物である。本発明の製造方法では、親水性が高い陽極又は有機層を、疎水性表面を与える電荷輸送性材料で被覆する。疎水性表面の程度は水の接触角で定めることが可能である。電荷輸送性材料の化学構造からは、極性基と非極性基の割合から推測可能である。そして、上記したような多くの公知の電荷輸送性材料が、被覆用の材料として使用可能である。本発明の有機EL素子は、陽極及び陰極の間に複数の有機材料層を有するものであるが、被覆層は陽極及び陰極の間に設けられる有機層でもあるので、上記複数の有機材料層の一つである。被覆層は、1層からなる層であっても、2層以上からなる層であってもよいが、1層からなる層であることが好ましい。被覆層は親水性が高い陽極に接して設けることが好ましいが、複数の有機層の1以上が親水性が高い層である場合は、その層に接して設けることもできる。このような観点からは、被覆層は複数あってもよい。そして、被覆層の上に、少なくとも1層の有機層をES法により設ける。表面の接触角が70度以上の被覆層に接して少なくとも1層の有機層をES法により設ける。有機層は複数層あるので、陽極と接する第1層を被覆層とし、被覆層と接する第2層を有機層2とし、有機層2と接する第3層を有機層3とし、以下同様にして第n層の有機層までを形成することが好ましい。ここで、有機層1を被覆層とすることがよい。有機層2~n1の上記接触角が70度以上であれば、その上に形成される次の有機層もES法により形成することが好ましい。接触角が70度以上となる有機層が得られない場合は、それに接する次の有機層は、ES法以外の方法、例えば、蒸着法やスピンコート法によって形成することがよい。なお、有機層の材料として高分子材料を使用する場合は、ES法により形成してもよい。これによって得られる層が、接触角が70度以上の有機層であれば、次の有機層はES法により形成することができる。本発明においては、少なくとも1つ有機層をES法で形成するが、有機層2をES法で形成することがよい。本発明においては、水の接触角70度以上の疎水性の表面を持つ被覆層を設けることだけでなく、その上に接してES法で設ける有機層の形成方法にも工夫することが望ましい。すなわち、少なくとも1層の有機層をES法で設けるに際しては、分子量2,000以下の低分子量の有機化合物を使用し、且つ誘電率が5.5~18.0である溶媒に溶解した溶液を使用することがよい。表2に各種溶媒の沸点、代表的な正孔輸送材料であるTPDの溶解性、ES法での噴霧性、及び誘電率を示す。これから、噴霧可能な溶媒の下限値はTHF7.5とクロロホルム4.8の範囲内に、TPDが溶解する上限値はMEK15.5とIPA18との範囲内にあることが判る。なお、ES法で使用される溶媒の沸点は、すばやく揮発することができる150°C以下であることが好ましい。表2において、溶解性は、1.0mg/ml以上溶解するものを○とし、未満のものを×とした。噴霧性は、帯電による微細均一な円錐霧状の広がり図1に示すような状態が生成した場合を○、帯電できずに液滴が落下するのみの場合を×とした。また、溶解性及び誘電率の測定は、常温25°Cで行った。また、ES法による製膜も常温25°Cで行った。更に、混合溶媒の誘電率εmは混合される溶媒各々の誘電率ε1、ε2とその体積分率φ1、φ2の和で示されることが知られている下式A、非特許文献3参照ことから、これとエレクトロスプレー装置における噴霧性とを比較検討した。εm=ε1φ1ε2φ2A表3に低誘電率=低極性溶媒としてトルエンε=2.4、ジオキサンε=2.2、クロロホルムε=4.8を、高極性=高誘電率溶媒としてDMFε=38イソプロピルアルコールIPA、ε=18、メチルエチルケトンMEK、ε=15.5を用い、異なる体積比1/5、1/10、1/20で混合した際の上記式Aより導いた誘電率計算値と噴霧性をまとめる。表3中、噴霧性の評価は、表2と同じである。エレクトロスプレーの噴霧条件は以下の通りである。吐出量:1ml/時間印加電圧:8~12kVガラスキャピラリー先端径:10μm噴霧距離:50mmこれらの結果から、噴霧可能な誘電率の下限値が5.5ジオキサン/DMF=10/1と5.4ジオキサン/IPA=5/1、クロロホルム/IPA=20/1の範囲内にあることが判る。本発明で使用する溶媒は、誘電率が上記範囲にあれば、単一の溶媒であっても、混合溶媒であってもよいが、有機層を形成するために使用される低分子量系有機材料を溶解するものの中から選択される。低分子量系有機材料は一般的に非極性溶媒に溶解しやすい傾向があるので、非極性溶媒と極性溶媒の混合溶媒が好ましい。本発明でES法により有機層を形成するために使用される低分子量系有機材料は、公知の有機EL材料、すなわちトリス8-ヒドロキシ-キノリナトアルミニウムAlq3、分子量459.4、2-ターシャリーブチル-9,10-ジナフト-2-イルアントラセンTBADN、分子量486.6、1,4-ビス4-9H-カルバゾール-9-イルスチリルベンゼンBCzSB、分子量612.76、4,4-ビスカルバゾール-9-イルビフェニルCBP、分子量484.59などの蛍光発光性有機化合物、トリス2-フェニルピリジンイリジウムIIIIrPPy3、分子量696.86のような燐光発光性有機化合物、TPD分子量516.7やαNPD分子量588.7や2,2,2-1,3,5-ベンジントリル-トリス1-フェニル-1-H-ベンズイミダゾールTPBi、分子量654.76などの電荷輸送性有機材料など多くの例が挙げられる。更に、2277-テトラキスN-ナフタレニルフェニル-アミノ-99-スピロフルオレンSpiro-2NPB、分子量1185.5やNN-ビスナフタレン2―イル-NN-ビスフェニル-トリス99-ジメチルフルオレニレンBNP3FL、分子量1013.3など分子量1000を越える分子量領域の材料も使用可能である。かかる低分子量系有機材料で形成できる有機層としては、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等があるが、これに限らない。これらの層は2種以上の低分子量系有機材料の混合物から形成されてもよく、2層以上の有機層から形成されてもよい。被覆層は低分子量系有機材料で形成してもよく、これは正孔注入層又は正孔輸送層であることもでき、被覆層と同種の低分子量系有機材料でES法により有機層を形成してもよい。これらが前記した低極性溶媒に0.01重量以上程度の濃度で溶解すれば本発明に使用可能であるが、成膜の速度などを考慮した場合、0.05~0.5重量程度の濃度が適当である。一方、0.5重量以上の高濃度域も材料が溶解すれば使用可能であるが、微小キャピラリー先端へのつまりや材料の結晶性を勘案した場合は1重量未満までの範囲が適当であると考えられる。有機EL素子作製に用いられる基板としては、ガラス基板、プラスチック製のフィルム、またはシートを用いることができる。そのプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート等を用いることができる。また、これらのフィルムには水蒸気バリア性、酸素バリア性を示す酸化ケイ素といった金属酸化物、窒化ケイ素といった金属窒化物やポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニレン、エチレン酢酸ビニル共重合体鹸化物からなるバリア層が必要に応じて設けられる。透光性基板の上には陽極が設けられ、その材料としてはITOインジウム錫複合酸化物、IZOインジウム亜鉛複合酸化物、酸化錫、酸化インジウム、酸化アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が使用できる。エレクトロスプレー装置については、以前はガラスキャピラリーと白金素材で製作された針金状の電圧印加電極などを利用した装置が使用されていたが、現在は市販装置例えばメック社製ナノファイバー紡糸装置SDシリーズなどを利用することもできる。スプレーノズル先端には先端径1μから1mm程度のステンレスなどの金属やガラス製のキャピラリーが使用可能であるが、本発明のようなナノレベルの薄膜の形成には、1μ以上50μ以下程度のガラスキャピラリーが好適である。前記導電性基板とスプレーノズル先端までの距離は30mmから100mm程度であり、その間に1kVから30kV程度の電圧を印加することにより試料溶液がスプレーフレームとなって吐出される。スプレーによる不均化を防止するため、電圧印加部を横方向に移動させたり、導電性基板を回転させながら噴霧することもできる。本発明においては、基板上の陽極や無機材料又は有機層上に、あらかじめ疎水性の電荷輸送性有機材料で被覆処理し、それを下地層としてその上に多層化された有機層の少なくとも1層をES法で形成する。有機層形成後、陰極層を形成して有機EL素子とする。陰極材料としては、有機層の特性に応じたものを使用できるが、例えばリチウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウムなどの金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などがあげられる。またインジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物も用いることができる。陰極層の形成方法としてはマスクを用いた真空蒸着法やスパッタリングなどが使用される。以下に本発明を実施例および比較例により更に詳しく説明するが。本発明は下記例に制限されるものではない。実施例1膜厚100nmのITOからなる陽極が形成されたガラス基板を、中性洗剤水CicaCleanLX-2、純水、有機溶媒アセトン、イソプロパノールの各溶媒中で超音波洗浄後、UV/オゾン洗浄を行った。このITO上に、被覆層である第1のTPDの薄膜層25nmをスピンコート法1.0重量トルエン溶液、1500rpm、30秒にて形成し、ホットプレート上50°Cで1時間乾燥した膜厚25nm。次に、図1に示すES装置を使用して、有機層を形成する。図1において、1は溶液蓄積用シリンジ、2は試料溶液、3はスプレーフレーム、4は導電層ITO、5はガラス基板、6は電圧印加部、7はスプレー用電源、8は接地用銅テープ、9はアルミホイル、10は本体テーブルを示す。被覆層である第1のTPDの薄膜層が形成されたITO電極4を銅テープ8にてアルミホイル9上に導通させたガラス基板5を、ES装置のサンプルテーブル10上に設置する。一方、TPDを低極性溶媒であるジククロメタン沸点40°Cと高極性溶媒であるジメチルホルムアミド沸点153°Cの混合溶媒体積比4:1、誘電率計算値14.9に溶解した塗液0.08重量を、第1のTPDの薄膜層が形成されたガラス基板5に、ES法で噴霧して第2のTPDの薄膜層を形成する。このES法の条件は、基板-ノズル先端距離50mm、15rpmの速度で回転させながら10kVの電圧を印加しつつ600秒噴霧を行うものとし、第2のTPDの薄膜層の膜厚は34nmとした。次に、真空度5.0×104Paの条件下でAlq3を50nmの厚みに蒸着法で積層させた。その後、電極としてマグネシウム-銀、及び銀をそれぞれ100nm、及び10nmの厚さに蒸着法で形成し、有機EL素子を作製した。得られた有機EL素子に外部電源を接続し直流電圧を印加しながら、浜松ホトニクス株製C9920―02型絶対量子収率測定装置を用いて、300Kでの特性評価を行った。その結果、Alq3由来する520nmの発光が確認され、その時の外部発光効率は、1.0mA/cm2の電流密度において、1.0であった。比較例1スピンコート法で被覆層である第1のTPDの薄膜層を作製しなかった以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製した。この素子の300Kでの素子特性評価を実施しようとしたが、作製した素子はショートして発光特性を測定することはできなかった。比較例2ES法で第2のTPDの薄膜層を作製する代わりに、真空度5.0×104Paの条件下でTPDを35nm蒸着法で積層させた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し300Kでの特性評価を行った。その結果、Alq3由来する520nmの発光が確認され、その時の外部発光効率は、1.0mA/cm2の電流密度において、1.0であった。実施例2スピンコート法で被覆層である第1のTPDの薄膜層の代わりに、mMTDATAをスピンコート法1.1重量トルエン溶液、1500rpm、30秒で25nmの厚さに成膜した以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し300Kでの特性評価を行った。その結果、Alq3由来する520nmの発光が確認され、その時の外部発光効率は、1.0mA/cm2の電流密度において、1.5であった。実施例3スピンコート法で被覆層である第1のTPDの薄膜層の代わりに、真空度5.0×104Paの条件下で銅フタロシアニンを25nm蒸着法で成膜させた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し300Kでの特性評価を行った。その結果、Alq3由来する520nmの発光が確認され、その時の外部発光効率は、1.0mA/cm2の電流密度において1.2であった。実施例4スピンコート法で被覆層である第1のTPDの薄膜層の代わりに、PVKをスピンコート法で25nmの厚さに成膜させた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製し300Kでの特性評価を行った。その結果、Alq3由来する520nmの発光が確認され、その時の外部発光効率は、1.0mA/cm2の電流密度において、1.2であった。"