"一般式1ここで式中、R1は水素原子またはメチル基を表す。で表される単官能メタアクリレート化合物Aと、更に、一般式2ここで式中、R1は水素原子またはメチル基を表す。で表される二官能メタアクリレートB、または、ここで式中、n=0~5である。で表されるジフェニル誘導体Cのいずれかの少なくとも一方とを含むことを特徴とする組成物X。前記単官能メタアクリレート化合物Aにおける、o-フェニルベンジルメタアクリレートとのp-フェニルベンジルメタアクリレートのモル比率が、o-フェニルベンジルメタアクリレート/p-フェニルベンジルメタアクリレート=50/50から10/90である請求項1記載の組成物X。単官能メタアクリレート化合物Aの含有量が50質量以上であり、二官能メタアクリレート化合物Bの含有量が40質量以下であり、一般式3で表されるジフェニル誘導体Cにおいて、n=1または2でありその含有量が1質量以上、10質量以下である請求項1又は2記載の組成物X。前記組成物Xと、更にフルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Yとを含有する、請求項1から3のいずれかに記載の組成物。更に一般式1及び2で表されるメタアクリレート化合物及びフルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Y以外のメタアクリレート化合物Zを含有する、請求項4に記載の組成物。前記単官能メタアクリレートAと二官能メタアクリレートBとジフェニル誘導体Cと前記フルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Yの合計を100質量としたときに、前記単官能メタアクリレートAと二官能メタアクリレートBとジフェニル誘導体Cの合計が30~80質量である請求項4又は5記載の組成物。25°Cにおける屈折率が1.570以上である、請求項1から6のいずれか一つに記載の組成物。硬化後の屈折率が1.610以上である、請求項1から7のいずれか一つに記載の組成物を硬化してなる硬化物。請求項1から8のいずれか一つに記載のプラスチックレンズ用組成物。請求項9に記載の組成物を硬化させてなるプラスチックレンズ。本発明の課題は、光学材料として利用可能な高屈折率の組成物、及び高屈折率の硬化物を提供することである。本発明者らは、上記課題を解決するため、鋭意検討した結果、フェニルベンジルアクリレートと二官能メタアクリレートまたはジフェニル誘導体を混合することによって、光学材料として好適な高屈折率かつ低粘度で、その硬化物が高屈折率かつ耐熱性や金型離型性にすぐれた組成物を提供できることを見出した。なおかつ、更にフルオレン骨格を有するメタアクリレートを配合することにより、低粘度かつより高屈折率であって、さらに、その硬化物が高屈折率であって透明に優れ、耐光性、金型との離型性がよいため光学材料へ適用可能であることを見出し、本発明に至った。即ち本発明では、下記一般式1ここで式中、R1は水素原子またはメチル基を表す。で表される単官能メタアクリレート化合物Aと、更に、一般式2ここで式中、R1は水素原子またはメチル基を表す。で表される二官能メタアクリレートB、または、ここで式中、n=0~5である。で表されるジフェニル誘導体Cのいずれかの少なくとも一方とを含むことを特徴とする、組成物Xに関する。即ち本発明では、低粘度かつ高屈折率な反応性希釈剤として好適に利用できる組成物Xを提供するものである。また、本発明は、前記組成物Xと、フルオレン骨格を有するメタアクリレートYを含有する組成物に関する。また、本発明は、前記組成物Xと、フルオレン骨格を有するメタアクリレートYと、更に一般式1及び2で表されるメタアクリレート化合物及びフルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Y以外のメタアクリレート化合物Zを含有する組成物に関する。本発明は、更に、プラスチックレンズ用組成物に関する。本発明は、更に、前記プラスチック用組成物を成形、硬化させてなるプラスチックレンズに関する。本発明によれば、紫外線を照射することにより容易に硬化物を得ることができる、低粘度かつ光学材料として利用可能な高屈折率の組成物、及び高屈折率であって透明に優れ、耐光性、金型との離型性がよい硬化物を提供することで、光学材料として利用可能な高屈折の硬化物を提供することができる。従って、本発明の組成物は、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、眼鏡レンズ、光ファイバー、光導波路、ホログラム、プリズム等の光学部品に広く適用することができる。単官能メタアクリレート化合物A本発明で提供される組成物Xは、下記一般式1ここで式中、R1は水素原子またはメチル基を表す。で表される単官能メタアクリレート化合物Aを含有する組成物を含有する。上記単官能メタアクリレート化合物Aとしては、o-フェニルベンジルメタアクリレートOPBA、m-フェニルベンジルメタアクリレートMPBA、p-フェニルベンジルメタアクリレートPPBAが挙げられ、その中でOPBAは低粘度、PPBAは高屈折率という特徴がある。二官能メタアクリレートB前記組成物Xは、更に、下記一般式2ここで式中、R1は水素原子またはメチル基を表す。で表される二官能メタアクリレートBを含有してもよい。二官能メタアクリレートBは、前記非特許文献1に記載されるジフェニルの芳香族水素が二分子クロロメチル基で置換された化合物を、アクリル酸アルカリ金属塩と反応することで合成される。前記二官能メタアクリレートBとしては、2,2’-ビスアクリロイルメチルビフェニル、4,4’-ビスアクリロイルメチルビフェニル、2,4’―ビスアクリロイルメチルビフェニル、2,4―ビスアクリロイルメチルビフェニル、2,6―ビスアクリロイルメチルビフェニルなどが挙げられる。二官能のメタアクリレートを配合することで、組成物Xの反応性が上がり、組成物の硬化性向上に寄与することが出来る。ジフェニル誘導体C前記組成物Xは、下記一般式3ここで式中、n=0~5である。で表されるジフェニル誘導体Cを含有してもよい。前記ジフェニル誘導体Cは、重合度が0から5までの誘導体であり、より好ましくはn=1または2である。また、ジフェニル同士の結合位置に制限はないが、求電子芳香族置換の機構から、主に2位もしくは4位で重合しているオリゴマーである。ジフェニル誘導体Cは高屈折率であり、組成物Xに配合する事で、組成物Xの高屈折率に寄与する。ジフェニル誘導体Cにおいて、nが5より大きい場合、オリゴマーの溶解性が悪く、単官能メタアクリレートAを含む組成物Xから析出するため、好ましくない。本発明における組成物Xにおいて、前記単官能メタアクリレート化合物AにおけるOPBAとPPBAのモル比率は、OPBA/PPBA=50/50から10/90が好ましく、さらに好ましくは40/60から15/85である。本発明における組成物Xにおいて、光学材料用組成物及び反応性希釈剤としての好ましい粘度及び屈折率とするには、前記単官能メタアクリレートAと、二官能メタアクリレートまたはジフェニル誘導体Cを任意の割合で含有する必要がある。より好ましい配合比率としては、単官能メタアクリレート化合物Aの含有量が50質量以上であり、より好ましくは、60質量以上であり、二官能メタアクリレート化合物Bの含有量が40質量以下であり、より好ましくは25質量以下であり、一般式3で表されるジフェニル誘導体Cの含有量が1質量以上、10質量以下であり、より好ましくは2質量以上、10質量以下であることが好ましい。単官能メタアクリレート化合物Aの含有量が50質量以上であれば、組成物Xからの不溶成分が析出しにくくなるため好ましい。二官能メタアクリレート化合物Bは組成物Xの反応性が向上するが屈折率が単官能アクリレートAより低いことから、含有量が40質量以下であれば、組成物Xの屈折率が低下しにくいために好ましい。ジフェニル誘導体Cの含有量が1質量以上10質量以下の場合には保存中に析出しにくい上、屈折率が向上するので好ましい。組成物X組成物Xは、反応性希釈剤として用いることができるほか、組成物X自体を光学材料用として利用することができる。組成物Xを光学材料用組成物及び反応性希釈剤として用いる場合、低粘度でありかつ高屈折率であることが必要である。25°Cにおける粘度は低ければ低いほどよいが、好ましくは200mPas以下であり、より好ましくは50mPas以下、さらに好ましくは30mPas以下である。粘度が200mPas以下であれば、固形または粘調な高屈折材料の希釈効果が高く屈折率の高い組成物を得ることができる。また、組成物Xの好ましい屈折率は1.570以上であり、より好ましくは1.580以上であり、さらに好ましくは1.590以上である。組成物Xの合成組成物Xは、単官能メタアクリレートAにおけるOPPA及びPPBA、二官能メタアクリレートB、ジフェニル誘導体Cをそれぞれ合成し、所定の割合で混合することで得ることができる。下記に、合成法を示すが、これらの合成法に限定されるものではない。本発明の光学材料用組成物に用いられる単官能メタアクリレートAは、それぞれ対応する、下記一般式4で表されるアルコール化合物にメタアクリル酸を適当な有機溶媒を用いて公知の方法でエステル化することによって得ることができる。また、二官能メタアクリレートBは、それぞれ対応する、下記一般式5で表される二官能アルコール化合物にメタアクリル酸を適当な有機溶媒を用いて公知の方法でエステル化することによって得ることができる。前記一般式4および一般式5で表されるアルコール化合物のアルコール基に対するメタアクリル酸の仕込み割合は、前記一般式4で表されるアルコール基:メタアクリル酸=1.0:1.0~1.0:2.0のモル比であることが好ましく、より好ましくは1.0:1.2~1.0~1.3である。また、ここで反応に用いられる有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n-へキサン、n-へプタン等を挙げることができる。このエステル化反応は、反応を促進させるために酸触媒を使用し、反応で生成する水を除きながら反応させることが好ましい。酸触媒の具体例としては、例えば、硫酸、p-トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等を挙げることができる。また、塩基存在下でアクリル酸クロライドを用いて合成する事も可能であり、アクリル酸クロライドの仕込み量は上記に準じる。反応中は重合を防止するために重合禁止剤を使用するのが好ましい。ここで使用できる重合禁止剤の具体例としては、例えば、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、メチルハイドロキノン等を挙げることができる。反応温度は70~150°Cが好ましく、より好ましくは80~120°Cであり、反応時間は2~20時間が好ましく、より好ましくは3~8時間である。また、単官能メタアクリレートAは、それぞれ対応する、下記一般式6式中、RはCl、Br、Iのいずれかのハロゲン原子を示すで表されるハロゲン化合物にメタアクリル酸のカリウム、ナトリウム、リチウムなどのアルカリ金属塩を適当な有機溶媒を用いて公知の方法でエステル化することでも得ることができる。また、二官能メタアクリレートBは、それぞれ対応する、下記一般式7式中、RはCl、Br、Iのいずれかのハロゲン原子を示すで表される二官能ハロゲン化合物にメタアクリル酸を適当な有機溶媒を用いて公知の方法でエステル化することによって得ることができる。また、メタアクリル酸アルカリ金属塩を水に溶解し、相間移動触媒を用いてエステル化してもよい。前記一般式6または一般式7で表されるハロゲン化合物のハロゲン基に対するメタアクリル酸の仕込み割合は、前記一般式6で表されるハロゲン基:メタアクリル酸=1.0:1.0~1.0:2.0のモル比であることが好ましく、より好ましくは1.0:1.1~1.0:1.5である。また、ここで反応に用いられる有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。反応中は重合を防止するために重合禁止剤を使用するのが好ましい。ここで使用できる重合禁止剤の具体例としては、例えば、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、メチルハイドロキノン等を挙げることができる。反応温度は70~150°Cが好ましく、より好ましくは80~120°Cであり、反応時間は2~20時間が好ましく、より好ましくは3~5時間である。本発明におけるジフェニル誘導体Cは、ジフェニルとp-ホルムアルデヒドを酸触媒下で反応させることで得ることができる。また、本発明における組成物Xにおいて、上記単官能メタアクリレート化合物Aおよび二官能メタアクリレートBは、ジフェニルを酸触媒存在下、塩化水素およびホルムアルデヒドと、前記非特許文献1に記載の公知の方法によって同時に得ることができる、ジフェニルのクロロ化合物を中間体として、上記のアクリル酸アルカリ金属塩とエステル化せしめる方法でも得ることができる。単官能メタアクリレート化合物Aと二官能メタアクリレートBの比率は、反応に用いるホルムアルデヒドの使用量や、酸触媒および有機酸の種類および使用量を変更することで、適宜調製することができる。ジフェニルに対するホルムアルデヒドのモル比は、1から25が好ましく、より好ましくは1.5から5.0である。さらに、ホルムアルデヒドはホルマリン水溶液、パラホルムアルデヒド、トリオキサンいずれの形態で使用してもよい。また、塩化水素はジフェニルに対して過剰のモル比で使用し、濃塩酸として使用してもよく、塩化水素ガスとして導入してもよい。反応に用いられる酸触媒としては、例えば、硫酸、リン酸、ポリリン酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、モノクロロ酢酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、さらには、塩化亜鉛などのルイス酸が使用できる。また、反応に有機溶媒を使用することが可能であり、例えば、ジメトキシエタン、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、酢酸などを挙げることができる。反応温度は、60~180°Cが好ましく、より好ましくは、70~120°Cであり、反応時間は3~60時間が好ましく、より好ましくは7~45時間である。エステル化反応後の単官能メタアクリレート化合物Aおよび二官能メタアクリレートBの割合は、キャピラリーガスクロマトグラフ、液体クロマトグラフ、ゲルパーミネーションクロマトグラフなどで決定することが可能であり、例えば、アジレント社製DB-1液相:100ジメチルポリシロキサンなどのキャピラリーカラムを用いて、50°Cから325°C昇温分析することで組成を決定することができる。さらに、非特許文献1では記載されていないが、本合成法ではジフェニル誘導体Cを同時に合成することができる。ジフェニル誘導体Cの存在は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで単官能メタアクリレート化合物Aおよび二官能メタアクリレートBを除いた成分をGC-MSやLC―MSで分析することにより確認できる。ジフェルオリゴマーCの含有量は、上記クロロ中間体の合成時の酸触媒としてpKaの大きな触媒、例えば、硫酸、トリクロロ酢酸、p-トルエンスルホン酸、あるいは塩化鉄、塩化アルミニウムのようなルイス酸を用いることで増加させることが可能である。フルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Y本発明における、フルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Y以下、フルオレンアクリレートYと称するは、フルオレン骨格またはジフェニルフルオレン骨格を有し、少なくとも一つのメタアクリロイル基を持つ化合物である。また、フルオレン骨格またはジフェニルフルオレン骨格が複数あってもかまわない。好ましくは、ジフェニルフルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物であり、より好ましくは1つのジフェニルフルオレン骨格を持つメタアクリレート化合物である。具体的には、下記一般式8式中、Lは置換基を有していてもよい芳香族基であり、存在していてもよく、しなくてもよい、R1はHまたはOHであり、R2はHまたはアルキル基であり、nおよびmは0~3の整数を示すで表されるフルオレン骨格を有する化合物が挙げられる。また、フルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Yとしては、具体的には、特開2009-173647号公報に記載の下記一般式9式中、R1はシアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基を示し、R2は分岐アルキレン基を示し、R3は水素原子又はメチル基を示し、R4はアリール基などの炭化水素環基を示し、kは0~4の整数、nは1以上の整数である。及び、特開2009-173646公報に記載の下記一般式10式中、R1はシアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基を示し、R2は分岐アルキレン基を示し、R3は水素原子又はメチル基を示し、R4はアルキル基を示し、kは0~4の整数、mは1以上の整数、nは2~4の整数である。及び、特開2009-173645公報に記載の下記一般式11式中、R1はシアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基を示し、R2はプロピレン基などの分岐アルキレン基を示し、R3は水素原子又はメチル基を示し、R4はアルキル基を示し、kは0~4の整数、mは1以上の整数である。及び、特開2009-079013号公報に記載の下記一般式12式中、R1はシアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基を示し、R3はアルキレン基を示し、R4は直接結合、アルキリデン基又はアルキレン基を示し、R5は置換基を示す。kは0~4の整数、mは0以上の整数、nは0又は1である。及び、特開2002-293762号公報に記載の下記一般式13式中、R及びR’は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示し、nは0~10の整数である。及び、WO05/033061号公報に記載の下記一般式14式中、R1a、R1b、R2aおよびR2bは置換基を示し、R3aおよびR3bはアルキレン基を示し、R4aおよびR4bは水素原子又はメチル基を示す。k1及びk2は0~4の整数を示し、m1及びm2は0~3の整数を示し、n1およびn2は0又は1以上の整数を示し、p1およびp2は2~4の整数を示す。ただし、m1p1及びm2p2は、2~5の整数である及び、特開2008-094987号公報に記載の下記一般式15式中、R1およびR2はそれぞれ水素原子又はメチル基であり、aおよびbは相互に独立して1~4の整数である。及び、特開平04-325508号公報に記載の下記一般式16式中、R1,R2は水素又はメチル基を、m、nは0~5の整数を示す。及び、特開平07-002939号公報に記載の下記一般式17式中、R1=Hまたはアルキル、好ましくはCH3、R2=Hまたはアルキル、好ましくはCH3、X=HまたはOH、mおよびnは、mnの合計が0~4であることを条件として整数である及び、特開平03-106918号公報に記載の下記一般式18式中、Rは炭素数1~4のアルキル基または水素、nは0~20の整数である。から導かれるエポキシメタアクリレート等が挙げられる。その他のメタアクリレート化合物Z本発明の組成物には、上記単官能メタアクリレート化合物A、二官能メタアクリレートB及びフルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Y以外のメタアクリレート化合物Zを使用してもかまわない。その他のメタアクリレート化合物Zとしては、単官能アクリレート化合物及び多官能メタアクリレート化合物があり、単官能アクリレートの例としては、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、n-ペンチルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、n-オクチルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、モルホリンメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノメタアクリレート、トリエチレングリコールモノメタアクリレート、ジプロピレングリコールモノメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、2-ブトキシエチルメタアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、2-2-エトキシエトキシエチルメタアクリレート、エトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、4-ノニルフェノキシエチレングリコールメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、シクロヘキシルメチルメタアクリレート、シクロヘキシルエチルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンタニロキシエチルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンテニロキシエチルメタアクリレート、フェニルフェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。多官能メタアクリレート化合物としては、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ブチレングリコールジメタアクリレート、テトラブチレングリコールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加物のジメタアクリレート、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加物のジメタアクリレート、ジシクロペンタニルジメタアクリレート、グリセロールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エステルジメタアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、テトラブロモビスフェノールAジメタアクリレート、ヒドロピバルアルデヒド変性トリメチロールプロパンジメタアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のトリメタアクリレート、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加物のトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、グリセロールトリメタアクリレート、アルキル変性したジペンタエリスリトールのトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加物のテトラメタアクリレート等が挙げられる。これらのメタアクリレート化合物Zは、単独で用いても複数組み合わせて用いても、どちらでもかまわない。組成物X、及びフルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Yを含有する組成物における各成分の使用割合本発明の組成物X及びフルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Yを含有する組成物において、前記単官能メタアクリレートAと二官能メタアクリレートBとジフェニル誘導体Cと前記フルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Yの合計を100質量としたときに、前記単官能メタアクリレートAと二官能メタアクリレートBとジフェニル誘導体Cの合計が30~80質量であることが好ましく、より好ましくは40~70質量である。単官能メタアクリレートAと二官能メタアクリレートBとジフェニル誘導体Cの使用割合が30質量以下の場合には、硬化性組成物の粘度が高くなり、精密賦形の用途には適さない。また、メタアクリレート化合物Zを混合することにより、粘度や屈折率の調整及び反応性の調整を行うことができる。組成物X及びフルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Yを含有する組成物の液屈折率及び粘度本発明の組成物X及びフルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Yを含有する組成物は、25°Cにおける屈折率が1.595以上であることが好ましく、より好ましくは1.600以上である。また、組成物X及びフルオレン骨格を有するメタアクリレート化合物Yを含有する組成物の好ましい粘度としては、25°Cにおいて5000mPas以下、より好ましくは3500mPas以下である。光重合開始剤本発明の組成物に紫外線を照射して硬化する場合、光重合開始剤を使用するのが好ましい。光重合開始剤としては、例えば1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等があげられる。これらは、単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。その他の配合成分本発明の組成物は、前記成分以外に離型剤、消泡剤、レベリング剤、光安定剤例えば、ヒンダードアミン等、酸化防止剤、重合禁止剤、帯電防止剤、着色剤例えば染料、顔料等、無機フィラー、有機フィラー等を併用することができる。組成物の硬化本発明の組成物を硬化させる方法としては、該組成物を目的用途に応じて基材へ塗布或いは成型した後、活性エネルギー線を照射するか、或いは、加熱する方法が挙げられる。ここで、活性エネルギー線の照射によって硬化させる場合、かかる活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、可視光線等が挙げられる。活性エネルギー線として、電子線を用いる場合には、コックロフトワルトン型加速器、バンデグラフ型電子加速器、共振変圧器型加速器、絶縁コア変圧器型、ダイナミトロン型、リニアフィラメント型および高周波型などの電子線発生装置を用いて本発明の硬化性組成物を硬化させることができる。また、活性エネルギー線として紫外線を用いる場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯等の水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハイトランプ、高出力のLED-UVランプ等により照射し、硬化させることができる。この際の紫外線の露光量は0.1~1000mJ/cm2の範囲であることが好ましい。一方、加熱によって硬化させる場合は、60~250°Cの温度領域に加熱することによって硬化させることができる。硬化物の屈折率本発明の硬化物の屈折率は1.610以上であり、好ましくは1.620以上、より好ましくは1.630以上である。屈折率が1.610より小さい場合、光学材料用途として用いるのに屈折率が十分でない。用途以上詳述した本発明の組成物は、眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、及びプリズムレンズ等のプラスチックレンズ、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバー、光導波路、ホログラム、プリズムレンズ、LED封止材料、太陽光電池用コーティング材等の各種光学材料に好適に使用することができる。これらのなかでも特に、硬化物における屈折率が高く、かつ、硬化物の耐熱性及び耐湿性にも優れるという特性からプラスチックレンズに好ましく適用でき、特に液晶基板用プリズムレンズとして有用である。ここで液晶基板用プリズムレンズとは、シート状成形体の片面に微細なプリズム形状部を複数有するものであって、通常、液晶表示素子の背面光源側に、該素子側にプリズム面が向くように配設され、更に、その背面に導光シートが配設されるように用いられるシート状レンズ、或いは前記プリズムレンズがこの導光シートの機能を兼ねているシート状レンズである。ここで該プリズムレンズのプリズム部の形状は、プリズム頂角の角度θが70~110°の範囲であることが、集光性に優れ輝度が向上する点から好ましく、特に75~100°の範囲、中でも80~95°の範囲であることが特に好ましい。また、プリズムのピッチは、100μm以下であることが好ましく、特に70μm以下の範囲であることが、画面のモアレ模様の発生防止や、画面の精細度がより向上する点から好ましい。また、プリズムの凹凸の高さは、プリズム頂角の角度θとプリズムのピッチの値によって決定されるが、好ましくは50μm以下の範囲であることが好ましい。さらに、プリズムレンズのシート厚さは、強度面からは厚い方が好ましいが、光学的には光の吸収を抑えるため薄い方が好ましく、これらのバランスの点から50μm~1000μmの範囲であることが好ましい。本発明の組成物から前記したプリズムレンズを製造するには、例えば、該組成物をプリズムパターンが形成された金型あるいは樹脂型等の成形型に塗布し、組成物の表面を平滑化した後、透明基材を重ね合わせ活性エネルギー線を照射、硬化させることによって製造する方法が挙げられる。ここで、透明基材としては透明性の高いものであれば、活性エネルギー線の透過性や取扱性等を考慮した場合には、厚さ3mm以下のものが好ましい。また、透明基材の材料としては、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、これらポリマーの混合物等の合成樹脂あるいはガラス等が挙げられる。このようにして得られる透明基材上に形成されたプリズムシートは、そのまま使用することもできるが、透明基材を剥離してプリズム部単独の状態として使用してもよい。透明基材上にプリズム部を形成したまま使用する場合には、その界面の接着が十分であることが耐候性および耐久性の点で重要であり、透明基材にプライマー処理等の接着性向上処理を施すことが好ましい。一方、透明基材を剥離して使用する場合、比較的容易に剥離できるようにすることが好ましく、透明基材の表面をシリコーンやフッ素系の剥離剤で表面処理を施すことが好ましい。以下本発明の態様を更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、特に言及がない場合、単位は質量換算である。1粘度:25°CにてE型粘度計東機産業株製TV-20形コーンプレートタイプを使用して測定した。21H-NMR:日本電子株式会社製NMRGSX270、300MHz、重クロロホルム溶媒3マススペクトルGC-MS:島津社製GC-2010、カラムZebronZB-5、Heキャリアガス、流量1.47mL/min、カラムオーブン50度、気化室300度、昇温50度から300度25度/min4高速液体クロマトグラムLC:Waters社製2695、カラムL-Column2ODSChemicalEvaluationandResearchInstitute製、検出UV240nm、温度40度、流速1mL/min、アセトニトリル/水=70/30~100/05ガスクロマトグラムGC:Agilent社製6850Series、カラムAgilentDB-1、Heキャリアガス、流速1mL/min、注入温度300度、検出温度300度、昇温50度から325度25度/min合成例1o-フェニルベンジルアクリレートの合成攪拌機、温度計、冷却管、塩化カルシウム管を具備した200mL3つ口フラスコに、o-フェニルベンジルアルコール20.0g、脱水トルエン100.0g、トリエチルアミン13.2g、メトキノン7.8mgを仕込み、氷浴で10°C以下に冷却した。ここに、アクリル酸クロライド11.8gを30分間かけて滴下し、室温に戻し2時間反応を行った。反応終了後、反応溶液を水に注ぎ、5NaOH水溶液、食塩水で洗浄後、溶媒留去することにより、得た橙色液体をシリカゲルカラムで精製を行い、20.44gの透明液体を得た。この得られた反応物の25°Cにおける屈折率は1.5776であり、粘度27mPasの無色透明の液体であった。1H-NMRでの測定結果を以下に示す。1H-NMRCDCl3,300MHz:7.53-7.49m,1HofPh,7.48-7.28m,8HofPh,6.41-6.34q,1HofCH=CH,6.34-6.07q,1HofCH=CH,5.82-5.77q,1HofCH=CH,5.13s,2HofCH2-Ph.合成例2m-フェニルベンジルアクリレートの合成攪拌機、温度計、冷却管を具備した200mL4つ口フラスコに、3-ブロモメチルビフェニル20.0g、脱水ジメチルホルムアミド39.3g、無水炭酸カリウム13.4g、メトキノン6.2mgを仕込み、室温でアクリル酸を添加した。炭酸ガスの発泡が収まった後、反応温度90°Cに加熱し2時間反応を行った。室温に冷却後水120mLで希釈し、トルエン100gで抽出を行い、水洗を行った。得られた粗反応物をシリカゲルカラムで精製し、16.1gの透明液体である反応物を得た。この得られた反応物の25°Cにおける屈折率は1.5888であり、粘度24mPasの無色透明の液体であった。1H-NMRでの測定結果を以下に示す。1H-NMRCDCl3,300MHz:7.60-7.32m,9HofPh,6.50-6.42q,1HofCH=CH,6.22-6.12q,1HofCH=CH,5.87-5.82q,1HofCH=CH,5.26s,2HofCH2-Ph.合成例3p-フェニルベンジルアクリレートの合成合成例1のo-フェニルベンジルアルコールをp-フェニルベンジルアルコールに代え、同様の手順で、22.4gの透明液体である反応物を得た。この得られた反応物は室温では固形であり、融点32°Cであった。この、40°Cにおける屈折率は1.5920であった。1H-NMRでの測定結果を以下に示す。1H-NMRCDCl3,300MHz:7.62-7.32m,9HofPh,6.50-6.43q,1HofCH=CH,6.23-6.12q,1HofCH=CH,5.88-5.84q,1HofCH=CH,5.27s,2HofCH2-Ph.合成例44,4’-ビスアクリロイルメチルビフェニルの合成攪拌機、温度計、冷却管を具備した200mL4つ口フラスコに、4,4’-クロロメチルビフェニル18.0g、脱水ジメチルホルムアミド100mL、無水炭酸カリウム25.0g、メトキノン100mgを仕込み、空気をバフリングしながら反応温度120°Cに上昇し、15分間反応を行った。50°C冷却後、蒸留水300mLに反応液を注ぎ、析出した結晶を濾過、乾燥した。これを、80mLエタノールから再結晶し、14.5gの生成物を得た。この得られた反応物は融点61~62°Cの結晶であり、70°Cにおける屈折率は1.5648であった。1H-NMR及びマススペクトルでの測定結果を以下に示す。1H-NMRCDCl3,300MHz:7.67-7.46m,4HofPh,7.44-7.28m,4HofPh,6.50-6.43q,2HofCH=CH,6.23-6.12q,2HofCH=CH,5.88-5.84q,2HofCH=CH,5.27s,4HofCH2-Ph.GCMS:[MH]=323合成例5ジフェニル誘導体の合成攪拌機、冷却管、温度計を具備した5L4つ口フラスコに、ジフェニル709g、パラホルムアルデヒド276g、酢酸1381g、濃塩酸958g、三塩化鉄117gを仕込み、80°Cまで昇温した。仕込み溶液が80°Cであることを確認後、15時間反応を行った。反応中、固体が析出した。反応終了後、60°Cで反応液をろ過し、析出した固体をろ集した。ろ集した固体をメタノール500mLで洗浄、乾燥し、固体として90g得た。LCを測定したところ、3量体までのジフェニル誘導体が含まれていることを確認した。ジフェニル誘導体n=1:99.24保持時間:15.73-17.08min、ジフェニル誘導体n=2:0.54保持時間:19.93-20.55min、ジフェニル誘導体n=3:0.22保持時間:21.99-22.23min実施例1組成物Xの直接合成1クロロ中間体の合成攪拌機、冷却管、温度計、塩化水素ガス導入装置を具備した5L4つ口フラスコに、ジフェニル709g、パラホルムアルデヒド276g、酢酸1381g、濃塩酸958gを仕込み、80°Cまで昇温した。仕込み溶液が80°Cであることを確認後、木下式ガラスボールフィルターを使って塩化水素ガスを20g/hr速度で仕込み溶液に導入した。仕込み溶液への塩化水素ガスの溶解が飽和であることを確認後、りん酸1061gを1時間かけて滴下し、更に、30時間反応を行った。反応終了後、直ちに反応溶液から下層を取り除き、有機層にトルエン2.3kgを添加し、有機層を400gの12.5水酸化ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、蒸留水で洗浄した。有機層を留去後、クロロ中間体を白色固体として908g得た。アクリロイル化上記で得られた中間体908gを反応溶媒であるDMF1603gに溶解し、炭酸カリウム372gおよびメトキノンを全量に対して300ppmになるように添加した。中間体溶液を40°Cに昇温後、アクリル酸323gを1.5時間で中間体溶液に滴下した。滴下終了後、2時間かけて80°Cまで昇温し、80°Cにて3時間加熱撹拌した。得られた溶液に水3.4kgおよびトルエン1.8kgを添加し抽出を行った後、有機層を水層が中性になるまで洗浄した。有機層を濃縮して液状のサンプルを995g得た。サンプルの分析得られたサンプルについて、25°Cにおける液屈折率及び粘度を測定した。更に、0°Cにて2日間保管後の結晶析出の有無を観察した。また、ガスクロマトグラムにて単官能メタアクリレートA、二官能メタアクリレートB、ジフェニル誘導体Cの組成比を測定した。[液屈折率]アッベ屈折計のプリズムに直接塗布し、25°Cにて屈折率589.3mmのD線の測定を行った。[粘度]E型回転粘度計にて25°Cでの粘度測定を行った。実施例2組成物Xの直接合成2実施例1において、りん酸1061gを1時間かけて滴下し、更に45時間反応をおこなった以外は同様にして、液状のサンプルを995g得た。得られたサンプルについて、結晶析出の観察と25°Cにおける液屈折率及び粘度を測定した。また、ガスクロマトグラムにて単官能メタアクリレートA、二官能メタアクリレートB、ジフェニル誘導体Cの組成比を測定した。実施例3~8組成物Xの調製合成例1で得られたOPBA、合成例3で得られたPPBA、合成例4で得られた4,4’-ビスアクリロイルメチルビフェニル及び合成例5で得られたビフェニルオリゴマーを下記表1の配合率で混合し、サンプルを得た。得られたサンプルについて、結晶析出の観察と25°Cにおける液屈折率及び粘度を測定した。実施例9組成物Xの調製実施例1で得られたサンプルを75質量部、合成例4で得られた4,4’-ビスアクリロイルメチルビフェニルを25質量部を混合し、サンプルを得た。得られたサンプルについて、結晶析出の観察と25°Cにおける液屈折率及び粘度を測定した。比較例1~6合成例1で得られたOPBA、合成例3で得られたPPBA、合成例4で得られた4,4’-ビスアクリロイルメチルビフェニル及び合成例5で得られたビフェニルオリゴマーを下記表1の配合率で混合し、サンプルを得た。得られたサンプルについて、結晶析出の観察と25°Cにおける液屈折率及び粘度を測定した。実施例1~9、及び比較例1~6の配合率と物性を、表1に示す。液屈折率:アッペ屈折率計による25°Cでの屈折率。但し、比較例2は40°C、比較例4は70°C。粘度:E型粘度計による25°Cでの粘度。結晶析出:0°Cで2日間保管後の結晶析出の有無単官能メタアクリレートA中のOPBA/PPBA/MPBA比率及び組成物Xの配合率:直接合成の場合は、ガスクロマトグラムにより比率を測定。実施例10~18、比較例7及び8組成物Xの硬化物評価実施例1~11、比較例1及び3で得られたサンプルについて、硬化物の作成と評価を行った。硬化物の耐熱性光重合開始剤としてイルガキュア184チバスペシャルティケミカルズ製を4部、実施例1~11、比較例1及び3で得られたサンプルを各100部配合した組成物を、バーコーターNo.20を用いてガラス板に塗布した。次に、空気雰囲気下で120W/cm2の高圧水銀灯を用い、500mJ/cm2の照射量で照射し、硬化塗膜を得た。塗膜作製で得られた塗膜を125°Cの乾燥機に入れ150時間保持した。保持後の塗膜の変化を目視で観察し、耐熱性の評価を行った。評価は以下のように判断した。評価◎:変化なし○:色相のみ変化、形状変化なし×:色相および形状が変化[硬化物屈折率]実施例1~9、比較例1及び3で得られたサンプル各100部に対し、光重合開始剤としてイルガキュア184チバスペシャルティケミカルズ製を4部配合した組成物を調整した。該クロムメッキ処理金属板と透明表面密着処理PETフィルムとの間に、調整した組成物を入れた後に厚さを50μmに調整し、高圧水銀灯により、500mJ/cm2の紫外線を透明基材側から照射して硬化させた後、金属板及び透明機材から硬化フィルムを剥離し、硬化フィルム以下、これを硬化フィルムAと略記する。を得た。得られた硬化フィルムAを、1-ブロモナフタレンにより、アッベ屈折計のプリズムに密着させ、25°Cにて屈折率589.3mmのD線の測定を行った。[離型性]クロムメッキ処理したプリズム金型と透明表面密着処理PETフィルムとの間に下記表5の配合に従って調整した組成物を入れた後に厚さを調整し、高圧水銀灯により500mJ/cm2の紫外線を透明基材側から照射して硬化させた後、金型から離型する際、金型に組成物が残らないものを○、残るものを×とした。実施例10~18、比較例7及び8の結果を表2に示す。合成例6フルオレンアクリレートの合成攪拌機、温度計、コンデンサーを具備した200mL四つ口フラスコに、9,9-ビス[4-2-ヒドロキシエトキシフェニル]フルオレン和光純薬製400.0g、脱水トルエン1000g、トリエチルアミン185g、メトキノン1.0gを仕込み、氷浴で10°C以下に冷却した。ここに、アクリル酸クロライド124gを30分間かけて滴下し、室温に戻し2時間反応を行った。反応終了後、反応溶液を水に注ぎ、5NaOH水溶液、食塩水で洗浄後、トルエンを留去することにより反応組成物497gを得た。これを、シリカゲルカラムで精製することにより、下記式19で表される反応物を465g得た。40°Cにおける屈折率は1.617であり、外観は無色~微黄色の固体であった。実施例19~31、及び比較例9~13組成物Xとして実施例1から9で得られたサンプル又は比較例2から6で得られたサンプルと、フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂Yとして、上記式19で表されるフルオレン型アクリレート大阪ガスケミカル社製オグゾールEA-0200、ならびに合成例6で得た化合物を、その他のメタアクリレートZとしてOPPEAを用いて、下記表3の配合に従い、組成物を調整し、該組成物の液屈折率及び粘度を上記の方法にて測定した。実施例32~44、及び比較例14~16また、実施例19~31、及び比較例11~13で得られた組成物100部に、光重合開始剤としてイルガキュア184チバスペシャルティケミカルズ製を4部配合した硬化性組成物をバーコーターNo.20を用いてガラス板に塗布した。次に、空気雰囲気下で120W/cm2の高圧水銀灯を用い、500mJ/cm2の照射量で照射し、硬化塗膜を得た。この耐溶剤性、耐熱性、耐湿性を下記の方法で測定した。耐溶剤性硬化塗膜作製で得られた塗膜をメチルエチルケトンを含ませた綿棒ジョンソン社製で50往復擦った後に塗膜の変化を目視で観察した。評価は以下のように判断した。評価○:変化なし×:曇り、剥がれなどの変化あり耐熱性硬化塗膜作製で得られた塗膜を125°Cの乾燥機に入れ150時間保持した。保持後の塗膜の変化を目視で観察した。評価は以下のように判断した。評価○:変化なし△:色相のみ変化、形状変化なし×:色相および形状が変化耐湿性硬化塗膜作製で得られた塗膜を85°C、湿度85の恒温恒湿機に入れ300時間保持した。保持後の塗膜の変化を目視で観察した。評価は以下のように判断した。評価○:変化なし△:色相のみ変化、形状変化なし×:色相および形状が変化硬化フィルムAの製造実施例19~31、及び比較例11~13で得られた組成物100部に、光重合開始剤としてイルガキュア184チバスペシャルティケミカルズ製を4部配合した硬化性組成物を、クロムメッキ処理金属板と透明表面密着処理PETフィルムとの間に入れた後に厚さを50μmに調整し、高圧水銀灯により、500mJ/cm2の紫外線を透明基材側から照射して硬化させた後、金属板及び透明機材から硬化フィルムを剥離し、硬化フィルム以下、これを硬化フィルムAと略記する。を得た。硬化フィルム付き基盤Bの製造前記硬化性組成物を、クロムメッキ処理金属板と透明表面密着処理PETフィルムとの間に入れた後に厚さを50μmに調整し、高圧水銀灯により、500mJ/cm2の紫外線を透明基材側から照射して硬化させた後、金属板のみを剥離し、硬化フィルム付基板以下、これを硬化フィルム付き基板Bと略記する。を得た。[硬化物屈折率]硬化フィルムAを、1-ブロモナフタレンにより、アッベ屈折計のプリズムに密着させ、25°Cにて屈折率589.3mmのD線の測定を行った。[透明性]硬化フィルムAを用い、400~900nmの波長領域の光透過率を測定し、全領域で85以上の透過率を示すものを○とし、透過率がそれ未満のものを×とした。[密着性]硬化フィルム付き基板Bを用い、基材と硬化フィルム層との密着性をJISK5400に準拠して測定し、升目が全て残存する時を○、それ以外を×とした。[離型性]クロムメッキ処理したプリズム金型と透明表面密着処理PETフィルムとの間に下記表5の配合に従って調整した組成物を入れた後に厚さを50μmに調整し、高圧水銀灯により500mJ/cm2の紫外線を透明基材側から照射して硬化させた後、金型から離型する際、金型に組成物が残らないものを○、残るものを×とした。"