偏光モディファイアが放射ビームの少なくとも一部に修正された偏光を加えるように、それぞれの偏光モディファイアを放射ビームとの少なくとも部分的な交差部内に移動させるアクチュエータに各々が接続された第1及び第2の偏光モディファイアを備える偏光部材と、前記偏光部材を通過した後の前記放射ビームを受光する位置にある個別に制御可能な反射素子のアレイとを備える照明システムであって、前記第1及び第2の偏光モディファイアが前記放射ビームの異なる部分と交差するように前記アクチュエータを制御可能なコントローラをさらに備え、個別に制御可能な反射素子のアレイの一部が前記第1及び第2の偏光モディファイアによってその偏光を修正された放射ビームの一部を受光し、個別に制御可能な反射素子の前記アレイの一部が前記第2の偏光モディファイアではなく前記第1の偏光モディファイアによってその偏光を修正された前記放射ビームの一部を受光する照明システム。前記偏光部材は、第3の偏光モディファイアが前記放射ビームの一部に修正された偏光を加えるように、前記放射ビームとの少なくとも部分的な交差部内に前記第3の偏光モディファイアを移動させる第3のアクチュエータに接続された第3の偏光モディファイアをさらに備え、前記コントローラは、前記第3の偏光モディファイアが前記放射ビームの一部と交差して、個別に制御可能な反射素子の前記アレイの一部が前記第1、第2及び第3の偏光モディファイアによってその偏光を修正された前記放射ビームの一部を受光するように、前記第3のアクチュエータを制御することがさらに可能である、請求項1に記載の照明システム。前記偏光部材は、1つ又は複数の追加の偏光モディファイアが前記放射ビームの少なくとも一部の偏光を修正するように、前記1つ又は複数の偏光モディファイアを前記放射ビームとの少なくとも部分的な交差部内に移動させるアクチュエータに各々が接続された1つ又は複数の偏光モディファイアをさらに備える、請求項2に記載の照明システム。前記偏光モディファイアは、互いに隣接して配置される、請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の照明システム。各アクチュエータは、前記放射ビームの様々な部分と交差する複数の位置に各偏光モディファイアを移動させるように、前記コントローラが各アクチュエータを制御するように構成される、請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の照明システム。各偏光モディファイアは、波長板を備える、請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の照明システム。前記放射ビームが前記偏光部材に入射する前に前記放射ビームの偏光を修正する偏光回転素子をさらに備える、請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の照明システム。前記偏光部材は、ホモジナイザとマイクロレンズアレイとの間、又は前記マイクロレンズアレイと個別に制御可能な反射素子のアレイとの間に配置される、請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の照明システム。前記照明システムは、前記照明システムの瞳面に位置する偏光整形素子をさらに備える、請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の照明システム。偏光モディファイアが放射ビームと交差しないように、前記偏光モディファイアが前記放射ビームと完全に交差するように又は前記偏光モディファイアが前記放射ビームと部分的に交差するように、前記偏光モディファイアを移動させるアクチュエータに接続された偏光モディファイアを備える偏光部材と、前記偏光部材を通過した後の前記放射ビームを受光する位置にある個別に制御可能な反射素子のアレイと、前記照明システムの瞳面に位置し、個別に制御可能な素子の前記アレイによって反射された前記放射ビームの偏光を整形する偏光整形素子と、を備える照明システム。請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載の照明システムを備えるリソグラフィ装置であって、所望のパターンに従って前記照明システムから送達された前記放射ビームをパターン形成するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、前記パターン付ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、をさらに備えるリソグラフィ装置。各アクチュエータは、前記リソグラフィ装置のスキャン方向に実質的に平行な方向に各偏光モディファイアを移動させる、請求項11に記載のリソグラフィ装置。個別に制御可能な反射素子のアレイに入射する放射ビームの偏光を制御する方法であって、第1の偏光モディファイアが前記放射ビームの一部と交差するように第1の偏光モディファイアを移動させるステップと、第2の偏光モディファイアが前記放射ビームの別の部分と交差して個別に制御可能な反射素子のアレイの第1の部分が前記第1及び第2の偏光モディファイアによってその偏光を修正された放射を受光し、個別に制御可能な反射素子のアレイの第2の部分が前記第2の偏光モディファイアではなく前記第1の偏光モディファイアによってその偏光を修正された放射を受光するように第2の偏光モディファイアを移動させるステップとを含む方法。第3の偏光モディファイアが前記放射ビームの別の部分と交差して前記放射ビームの別の部分の偏光を修正し、前記個別に制御可能な素子の第3の部分が前記第3の偏光モディファイアを通過した放射を受光するように、前記第3の偏光モディファイアを移動させるステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。実質的に同じ平面内に配置された第1及び第2の偏光モディファイアを備え、前記放射ビームに様々な偏光を加えるように構成された偏光部材と、前記偏光部材を通過した前記放射ビームを受光する位置にある個別に制御可能な反射素子のアレイとを備える照明システムであって、個別に制御可能な反射素子の前記アレイの一部がその偏光を前記第1の偏光モディファイアによって修正された前記放射ビームの一部を受光し、個別に制御可能な反射素子の前記アレイの一部がその偏光を前記第2の偏光モディファイアによって修正された前記放射ビームの一部を受光する照明システム。0006したがって、例えば、偏光照明モードをより柔軟に生成可能なように構成された照明システム及びリソグラフィ装置を提供することが有利である。0007本発明の第1の態様によれば、偏光モディファイアが放射ビームの少なくとも一部に修正された偏光を加えるように、それぞれの偏光モディファイアを放射ビームとの少なくとも部分的な交差部内に移動させるように構成されたアクチュエータに各々が接続された第1及び第2の偏光モディファイアを備える偏光部材と、偏光部材を通過した後の放射ビームを受光する位置にある個別に制御可能な反射素子のアレイとを備える照明システムであって、第1及び第2の偏光モディファイアは、放射ビームの異なる部分と交差するようにアクチュエータを制御することができるコントローラをさらに備え、個別に制御可能な反射素子のアレイの一部は、第1及び第2の偏光モディファイアによってその偏光を修正された放射ビームの一部を受光し、個別に制御可能な反射素子のアレイの一部は、第2の偏光モディファイアではなく第1の偏光モディファイアによってその偏光を修正された放射ビームの一部を受光する照明システムが提供される。0008本発明の第2の態様によれば、個別に制御可能な反射素子のアレイに入射する放射ビームの偏光を制御する方法であって、第1の偏光モディファイアが放射ビームの一部と交差するように第1の偏光モディファイアを移動させるステップと、第2の偏光モディファイアが放射ビームの別の部分と交差して個別に制御可能な反射素子のアレイの第1の部分が第1及び第2の偏光モディファイアによってその偏光を修正された放射を受光し、個別に制御可能な反射素子のアレイの第2の部分が第2の偏光モディファイアではなく、第1の偏光モディファイアによってその偏光を修正された放射を受光するように第2の偏光モディファイアを移動させるステップとを含む方法が提供される。0009本発明の第3の態様によれば、偏光モディファイアが放射ビームと交差しないように、偏光モディファイアが放射ビームと完全に交差するように、又は偏光モディファイアが放射ビームと部分的に交差するように、偏光モディファイアを移動させるように構成されたアクチュエータに接続された偏光モディファイアを備える偏光部材と、偏光部材を通過した後の放射ビームを受光する位置にある個別に制御可能な反射素子のアレイと、照明システムの瞳面に位置し、個別に制御可能な素子のアレイによって反射された放射ビームの偏光を整形するように構成された偏光整形素子とを備える照明システムが提供される。0016図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、0017放射ビームB例えばEUV放射又はDUV放射を調節するように構成された照明システムイルミネータとして知られるILと、0018パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造例えばマスクテーブルMTと、0019基板例えばレジストコートウェーハWを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル例えばウェーハテーブルWTと、0020パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C例えば1つ又は複数のダイを含むに投影するように構成された投影システム例えば屈折投影レンズシステムPSとを含む。0021照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組合せなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。0022支持構造は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。この支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。支持構造は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書においてレチクル又はマスクという用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語であるパターニングデバイスと同義と見なすことができる。0023本明細書において使用するパターニングデバイスという用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。0024パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルLCDパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。0025本明細書において使用する投影システムという用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において投影レンズという用語を使用した場合、これはさらに一般的な投影システムという用語と同義と見なすことができる。0026本明細書で示すように、本装置は透過タイプである例えば透過マスクを使用する。あるいは、装置は反射タイプでもよい例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する。0027リソグラフィ装置は、2つデュアルステージ又はそれ以上の基板テーブル及び/又は2つ以上の支持構造を有するタイプでよい。このようなマルチステージ機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、1つ又は複数の他のテーブルを露光に使用している間に1つ又は複数のテーブルで予備工程を実行することができる。0028リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で周知である。本明細書で使用する液浸という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。0029図1を参照すると、照明システムILは放射源SOから放射ビームを受ける。放射源及びリソグラフィ装置は、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び/又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムBDの助けにより、放射源SOから照明システムILへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源SO及び照明システムILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDとともに放射システムと呼ぶことができる。0030照明システムILは、放射ビームの角度強度分布を調整するアジャスタを備えていてもよい。通常、照明システムの瞳面における強度分布の少なくとも外側及び/又は内側半径範囲一般にそれぞれ、σouter及びσinnerと呼ばれるを調整することができる。また、照明システムILは、インテグレータ及びコンデンサなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。照明システムを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。0031放射ビームBは、支持構造例えば、マスクテーブルMT上に保持されたパターニングデバイス例えば、マスクMAに入射し、パターニングデバイスMAによってパターニングされる。パターニングデバイスMAを横断した放射ビームBは、投影システムPSを通過し、投影システムPSは、ビームを基板Wのターゲット部分C上に合焦させる。第2のポジショナPWと位置センサIF例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサの助けを借りて、基板テーブルWTは、例えば、様々なターゲット部分Cを放射ビームBの経路に位置決めできるように正確に移動できる。同様に、第1のポジショナPMと別の位置センサ図1には明示されていないを用いて、マスクライブラリからの機械的な取り出し後又はスキャン中などに放射ビームBの経路に対してパターニングデバイスMAを正確に位置決めできる。一般に、支持構造MTの移動は、第1のポジショナPMの部分を形成するロングストロークモジュール粗動位置決め及びショートストロークモジュール微動位置決めの助けにより実現できる。同様に、基板テーブルWTの移動は、第2のポジショナPWの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを用いて実現できる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、支持構造MTをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定してもよい。パターニングデバイスMA及び基板Wは、パターニングデバイスアライメントマークM1、M2及び基板アライメントマークP1、P2を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分Cの間の空間に位置してもよいスクライブレーンアライメントマークとして周知である。同様に、パターニングデバイスMA上に複数のダイを設ける状況では、パターニングデバイスアライメントマークをダイ間に配置してもよい。0032図示のリソグラフィ装置は、以下のモードのうち少なくとも1つにて使用可能である。1.ステップモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影されるすなわち単一静的露光。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。2.スキャンモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影されるすなわち単一動的露光。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大縮小及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の非スキャン方向における幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分のスキャン方向における高さが決まる。3.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。0033上述した使用モードの組合せ及び/又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。0034図2は、照明システムILの一部を示す。照明システムILは、放射源図示せずから受光する放射ビームBを調節する。照明システムは、放射回転素子11と、ビームホモジナイザ12と、マイクロレンズアレイ13と、偏光部材14と、個別に制御可能な反射素子のアレイ15と、方向転換光学系16とを備える。照明システムは、以下に詳述する偏光整形素子18をさらに備えていてもよい。動作時に、放射ビームBは、放射源によって直線偏光形式で生成される。放射ビームBは、回転可能な波長板を備え、放射ビームの偏光軸を回転させるための偏光回転素子を通過する。次に放射ビームBは、放射ビームを均一化するホモジナイザ12を通過する。次に放射ビームBは、放射ビームを各々が個別に制御可能な反射素子のアレイ15の異なる反射素子15a~eに入射する複数の個別にコリメートされた放射サブビームに分離するマイクロレンズアレイ13を通過する。マイクロレンズアレイ13と個別に制御可能な反射素子のアレイ15との間に配置される偏光部材14は、放射ビームBが以下に詳述する方法で個別に制御可能な反射素子のアレイに入射する前に放射ビームBの偏光を修正する。0035図2は、第1の反射素子15aに入射する第1の放射サブビームを示す。個別に制御可能な反射素子のアレイ15のその他の反射素子15b~eと同様に、反射素子15aは、光学系16光学系は、例えば合焦レンズを備えていてもよいを介してサブビームを中間面17へ反射する。中間面17は、例えば上記の2次放射源として機能する照明システムの瞳面であってもよい。その他の反射素子15b~eは、方向転換光学系16を介して平面17のその他の区域へ図に示すその他のサブビームを反射する。反射素子15a~eの向きを調整し、サブビームが入射する平面17の区域を決定することで、平面17内のほとんどいかなる空間強度分布も生成できる。コントローラCT1を用いて反射素子15a~eの向きを制御することができる。0036個別に制御可能な反射素子のアレイ15は図2では5つの反射素子15a~eとして示されているが、実際にはそれよりもはるかに多くの反射素子をアレイ内に提供できる。個別に制御可能な反射素子のアレイ15は、例えば2次元アレイを備えていてもよい。個別に制御可能な反射素子のアレイ15は、例えば100個の反射素子、1000個の反射素子、又はそれ以上の反射素子を備えていてもよい。個別に制御可能な反射素子のアレイ15は矩形であってもよい。0037マイクロレンズアレイ13は、異なるマイクロレンズが個別に制御可能な反射素子のアレイ15の各々の反射素子に関連付けられるように構成されていてもよい。マイクロレンズアレイ13は、例えば2次元アレイを備えていてもよい。マイクロレンズアレイ13は、例えば100個のマイクロレンズ、1000個のマイクロレンズ、又はそれ以上のマイクロレンズを備えていてもよい。マイクロレンズアレイは矩形であってもよい。0038図3は、偏光部材14のある実施形態14aの概略平面図を示す。偏光部材は、3つの波長板20a~cと、1つの窓21とを備える。波長板20a~cは、石英結晶から形成されていてもよく、反射防止コーティングを施されていてもよい。波長板20a~cの各々は、放射ビームに異なる偏光を施すように構成されている。この実施形態では、放射ビームは、偏光部材14に入射する時にx方向に直線偏光する。この偏光は、窓21内の水平の両方向矢印によって概略的に図示されている。第1の波長板20aは、放射ビームがy方向に偏光するように、放射ビームの偏光を90°回転させるように構成されている。これは、第1の波長板20a内の垂直の両方向矢印によって概略的に図示されている。第2の波長板20bは、放射ビームが平面x=-y内にあるように放射ビームの偏光を回転させるように構成されている。これは、第2の波長板20b内の後方傾斜した両方向矢印によって概略的に図示されている。第3の波長板20cは、放射ビームが平面x=y内にあるように放射ビームの偏光を回転させるように構成されている。これは、第3の波長板20c内の前方傾斜した両方向矢印によって概略的に図示されている。0039波長板20a~c及び窓21は、フレーム22内に保持されている。フレーム22は、波長板20a~cの間と、波長板と窓21の間にギャップ23が存在するように構成されていてもよい。ギャップ23によって放射ビームBに対する偏光部材14の位置合わせをより容易にすることができる。0040使用時に、リソグラフィ装置図1を参照によってパターニング手段MAから基板Wに投影されているパターンは、x方向に偏光された放射を用いて最適に投影できる。この場合、コントローラCT1は、窓21を通過した放射を受光した反射素子だけを用いてリソグラフィ装置が使用する照明モードが形成されるように、反射素子15a~eの向きを制御することができる。波長板20a~cを通過して個別に制御可能な反射素子のアレイ15に入射する放射は、例えば反射素子15a~eによってビームダンプの方へ、又は照明モードに寄与しないその他の場所の方へ誘導されてもよい。したがって、本発明の実施形態によって、コントローラCT1を用いて、リソグラフィ装置の照明システムのx方向のみの偏光放射を選択できる。0041パターニングデバイスMAから基板W上に投影されるパターンがy方向に偏光された放射を用いて最もよく投影されるとすると、コントローラCT1は、第1の波長板20aを通過した放射のみを用いて照明モードを形成するように、個別に制御可能な反射素子のアレイ15の反射素子15a~eを制御することができる。同様に、平面x=-yで偏光された放射が最良の結像を提供するようにパターンが構成されている場合、コントローラCT1は、第2の波長板20bを通過した放射のみを用いて照明モードを形成するように、反射素子15a~eを制御することができる。同様に、平面x=yで偏光された放射が最良の結像を提供するようにパターンが構成されている場合、コントローラCT1は、第3の波長板20cを通過した放射のみを用いて照明モードを形成するように、反射素子15a~eを制御することができる。0042幾つかの例では、図3に示す4つの偏光の組合せを含む放射ビームを使用することが望ましい。この場合、様々な波長板20a~c又は窓21を通過した放射ビームBの成分を用いて所望の偏光を提供できる。例えば、窓21を通過した放射と、第3の波長板20cを通過した放射とを用いてx方向に偏光された放射と、x=y方向に偏光された放射とを含む照明モードを形成することができる。0043幾つかの例では、偏光されていない放射を近似する放射を使用することが望ましい。この場合、例えば、窓21を通過した放射ビームの一成分を第1の波長板20aを通過した放射ビームの一成分と共に使用することができる。あるいは、第2の波長板20bを通過した放射ビームの一成分を第3の波長板20cを通過した放射ビームの一成分と共に使用してもよい。別の代替形態では、3つの波長板20a~cのすべてと窓21とを通過した放射ビームの各成分を使用してもよい。窓21は、照明システム内で放射ビームがたどる光路の一貫性を提供するために波長板20a~cと同じ長さを有していてもよい。0044ある実施形態では、波長板20a~cは、放射ビームが移動する光路の距離に大きく影響しない程度の薄さである。この場合、窓21を省略してもよい。0045図4は、本発明の代替実施形態による偏光部材14bを概略的に示す。図4aを参照すると、偏光部材は、互いに隣接する3つの波長板40a~cを備える。波長板40a~cは、石英結晶から形成されていてもよく、反射防止コーティングを施されていてもよい。各波長板40a~cは、コントローラCT2によって運用されるアクチュエータ42a~cに接続されていてもよい。コントローラCT2を用いてアクチュエータ42a~cを個別に動かして、波長板40a~cのうち1つ以上が放射ビームBと部分的に交差するように、波長板のうち1つ以上が放射ビームと完全に交差するように、又は波長板のいずれも放射ビームと交差しないようにすることができる。波長板40a~cは、放射ビームが波長板の1つ以上を通過する時に放射ビームBの経路長が大きく変化しない放射ビームが波長板のいずれも通過しない場合の経路長と比較して程度の薄さであってもよい。波長板40a~cは矩形であってもよく、又はその他の任意の好適な形状を有していてもよい。波長板40a~cの遠位の縁部は直線的であってもよく、アレイ15の反射素子の列に実質的に平行であってもよい。0046波長板40a~cの各々は、放射ビームの偏光を実質的に45°回転させるように構成されている。したがって、放射ビームBが1つの波長板を通過する時に偏光は実質的に45°回転し、放射ビームBが2つの波長板を通過する時に偏光は実質的に90°回転し、放射ビームBが3つの波長板を通過する時に偏光は実質的に135°回転する。代替実施形態では、波長板40a~cは、放射ビームの偏光をある別の分量だけ回転させるように構成されていてもよい。別の波長板40a~cは、放射ビームの偏光をそれとは別の分量だけ回転させるように構成されていてもよい。0047図4aを参照すると、アクチュエータ42a~cは、放射ビームBが第1及び第2の波長板40a、bを通過しないが、第3の波長板40cを通過するように波長板を配置してもよい。これは、波長板40cを通過する前に放射ビームがx方向に偏光されることを示し、第3の波長板40cを通過した後に放射ビームがx=-y平面で偏光されることを示す両方向矢印で示されている。個別に制御可能な反射素子のアレイ15も図4aに示されている。個別に制御可能な反射素子のアレイ15は、x=-y平面で偏光された放射を受光することが分かる。したがって、個別に制御可能な反射素子のアレイ15によって形成される照明モードは、x=-y偏光を有する。0048図4bを参照すると、アクチュエータ42a~cは、放射ビームBが第3の波長板40cを通過し、第2の波長板40bが放射ビームBの半分と交差するように波長板を配置してもよい。波長板40b、cの位置の結果として、個別に制御可能な反射素子のアレイ15が受光する放射の半分がx=-y平面で偏光され、放射の半分がy方向に偏光される。したがって、個別に制御可能な反射素子のアレイ15によって形成される照明モードは、x=-y偏光とy偏光との組合せを有する。0049図4cを参照すると、個別に制御可能な反射素子のアレイ15が受光する放射の3分の1が第3の波長板40cを通過した放射を受光し、個別に制御可能な反射素子のアレイの3分の1が第2及び第3の波長板40b、cを通過した放射を受光し、個別に制御可能な反射素子のアレイの3分の1が第1、第2及び第3の波長板40a~cを通過した放射を受光するようにアクチュエータ42a~cが配置されていてもよい。したがって、個別に制御可能な反射素子のアレイ15の3分の1は、x=-y平面で偏光された放射を受光し、個別に制御可能な反射素子のアレイの3分の1は、y方向に偏光された放射を受光し、個別に制御可能な反射素子のアレイの3分の1は、x=y平面で偏光された放射を受光する。したがって、個別に制御可能な反射素子のアレイ15によって形成される照明モードは、x=-y、y偏光及びx=y偏光の組合せを有する。0050偏光部材14bの波長板40a~c及びアクチュエータ42a~cによって、個別に制御可能な反射素子のアレイ15の異なる部分に入射する放射の偏光の選択が可能になる。コントローラCT2を用いて個別に制御可能な反射素子のアレイ15のどの部分がどの偏光を受光するか決定できる。0051図4b及び図4cに示す実施形態では、放射ビームBは各々が異なる偏光を有する等しい部分に分離されているが、放射ビームは等しくない部分に分離されていてもよい。例えば、第1のアクチュエータ42aは、第1の波長板40aが放射ビームBの任意の選択された部分に偏光回転を加えるように第1の波長板40aを配置してもよい。第1のアクチュエータ42aは、第1の波長板40aが個別に制御可能な反射素子のアレイ15の反射素子の列の場所に対応する位置をとるようにコントローラCT2によって制御されてもよい。例えば、第1のアクチュエータ42aは、第1の波長板40aが個別に制御可能な反射素子のアレイ15の第1の反射素子の列この例では、第1の波長板は右側から導入されているので右手の列に入射する放射ビームBの部分と交差するように第1の波長板40aを配置してもよい。同様に、第1のアクチュエータ42aは、第1の波長板40aが個別に制御可能な反射素子のアレイ15の第1及び第2の列に入射する放射ビームBの部分、第1の波長板40aが個別に制御可能な反射素子のアレイ15の第1、第2及び第3の列に入射する放射ビームの部分、又は個別に制御可能な反射素子のアレイ15の他の任意の数の列に入射する放射ビームBの部分と交差するように第1の波長板40aを配置してもよい。残りの波長板40b、cも同等な方法で制御することができる。0052変形実施形態図示せずでは、窓を各波長板40a~cに接続でき、放射ビームBが波長板を通過しない時には窓を通過するように窓を配置できる。これは、例えば、放射ビームBがたどる光路長が放射ビームが波長板を通過したか否かに関わらず確実に同じであるようにするためである。図4に示す実施形態では、放射の光路長が波長板の通過によって大きい影響を受けない程度に波長板40a~cの厚さが小さいために窓が省略されている。波長板40a~cは、例えば900ミクロン以下、好ましくは300ミクロン以下の厚さを有していてもよい。0053図2では、偏光部材14はマイクロミラーアレイ13と個別に制御可能な反射素子のアレイ15との間に配置されているが、偏光部材14は任意の好適な場所に提供してもよい。偏光部材14の場所は、個別に制御可能な反射素子のアレイ15の様々な部分に入射する放射の偏光の制御が可能な場所であればよい。図4に示す実施形態又は同等の実施形態の場合、偏光部材は個別に制御可能な反射素子のアレイ15が受光した放射の偏光を列ごと列は反射素子の列であるに制御することができるように配置してもよい。これは、例えば偏光部材14を個別に制御可能な反射素子のアレイ15の隣に提供することで達成される。偏光部材14は、個別に制御可能な反射素子のアレイ15が反射した放射を阻止しない程度に個別に制御可能な反射素子のアレイ15から離間していてもよい。0054偏光部材14をホモジナイザ12とマイクロレンズアレイ13との間に提供することが可能である。偏光部材14の一部をホモジナイザ12とマイクロレンズアレイ13との間に提供し、偏光部材の一部をマイクロレンズアレイと個別に制御可能な反射素子のアレイ15との間に提供することもできる。0055図4に示す実施形態は3つの波長板を示しているが、2つの波長板、4つの波長板、5つの波長板、又は任意の好適な数の波長板を使用することができる。0056個別に制御可能な反射素子のアレイ15に入射する放射ビームの偏光は、偏光部材14と偏光回転素子11との組合せによって制御してもよい。偏光回転素子11は、例えば回転可能に装着された波長板を備えていてもよい。偏光回転素子11は、放射ビームは、例えば、偏光部材14に入射する前に、放射ビームを90°、45°、22.5°、又はその他の任意の回転角だけ回転させるために使用することができる。したがって、図4bに示す偏光部材14の構成を例にとると、偏光回転素子11によって放射ビームBをy方向に図4bに示すx方向ではなく偏光することができ、この結果として、個別に制御可能な反射素子のアレイ15に入射する放射は、x=y方向及びx方向図4bに示すx=-y方向及びy方向ではなくに偏光される。0057代替実施形態では、偏光回転素子11は、回転可能な波長板ではなく、波長板を放射との交差部に出し入れすることで放射ビームBに異なる偏光回転を加えるための一組の波長板を備えていてもよい。これらの波長板は、例えば回転可能な円板を備える交換器内に保持され、円板の周囲に分散していてもよい。交換器は回転し、所望の波長板を放射ビームBとの交差部に導入してもよい。0058ある実施形態では、放射ビームの特定の偏光は、個別に制御可能な反射素子のアレイ15の整数個の列からの放射ビームの反射に対応しない強度を有する照明モードを提供することが望ましい。例えば、反射アレイの3.5列からの放射ビームの反射例えば、160個の反射素子からの反射に対応する強度を備えた偏光を提供することが望ましい。この場合、波長板40a~cは、所望の偏光を有する放射が個別に制御可能な反射素子のアレイの4つの列に入射するように配置でき、アレイの列の半分に相当する幾つかのミラーが照明モードへ向けて放射を誘導しないようにアレイを配向できる。これらのミラーは、例えばビームストップ又はどこか他の場所へ向けて放射を誘導するように配向できる。0059一般に、波長板40a~cを用いて個別に制御可能な反射素子のアレイ15内の反射素子の列の数に対応する精度を備えた放射の様々な偏光の強度を選択できる。個別に制御可能な反射素子のアレイ15内の反射素子を用いてより高い精度例えば、反射アレイ内の反射素子の数に対応する又はほぼ対応する精度を備えた放射ビームの相対偏光の強度を調整できる。0060反射素子15a~eの向きを制御するのに使用されるコントローラCT1は、波長板40a~cの位置を制御するコントローラCT2と連携して制御することができる。これらのコントローラは両方共、例えば、ソフトウェア又はその他の任意の好適な手段によって制御することができる。ソフトウェアは、例えばコントローラ図示せずを介して偏光回転素子11を制御することもできる。ソフトウェアは、偏光回転素子11、偏光部材14、及び個別に制御可能な反射素子のアレイ15の累積的な影響を考慮するように構成することができる。0061波長板40a~cが放射ビームB内に挿入される時の波長板40a~cの移動方向は、リソグラフィ装置のスキャン方向に実質的に平行であってもよいリソグラフィ装置内のビームの方向の変化を考慮して。言い換えれば、基板テーブルWTから放射ビームに沿って見た場合の波長板40a~cの移動方向は、スキャン方向に実質的に平行であってもよい。この場合、個別に制御可能な反射素子のアレイ15上の偏光領域の重心は、スキャン方向を横断する方向でゼロである。言い換えれば、各々の偏光を備えた実質的に同じ量の放射が、リソグラフィ装置の露光スリットをスキャン方向に等分する線の両側に存在する。0062代替実施形態では、波長板40a~cが放射ビームB内に挿入される時の波長板40a~cの移動方向は、リソグラフィ装置のスキャン方向に対して非平行、例えば、横断方向であってもよい。この場合、個別に制御可能な反射素子のアレイ15上の偏光領域の重心は、スキャン方向を横断する方向でゼロでない。これによって、放射ビームに不要な偏心が加わることがある。0063図4に示す本発明の実施形態は、波長板40a~cのすべてを放射ビームの同じ側から放射ビームとの交差部内に導入するが、これはそうでなくてもよい。例えば、1つ又は複数の波長板を放射ビームの反対側から放射ビーム内に導入してもよい。放射ビームの任意の側から波長板を放射ビーム内に導入できる。0064図4では、波長板40a~cは互いに隣接しているが、場合によっては、波長板は互いに離間していてもよい。0065本発明のある実施形態では、図4に示すのと同じ方法でアクチュエータとコントローラを介して制御される位置を有する単一の波長板が提供される。この単一の波長板を用いて個別に制御可能な反射素子のアレイ15の様々な部分に入射する放射の偏光を制御することができる。例えば、単一の波長板は、偏光を90°回転することができる。この単一の波長板を例えば放射ビームBの半分と交差するように配置してもよい。これを実施する場合、個別に制御可能な反射素子のアレイ15の半分は、第1の方向例えば、x方向に偏光された放射を受光し、反射アレイの残り半分は、横断方向例えば、y方向に偏光された放射を受光する。例えば、単一の波長板を放射ビームBの任意の好適な部分と交差するように配置できる。0066本発明のこの実施形態又はその他の実施形態を偏光部材14に到達する前に放射ビームの偏光を修正するのに使用できる偏光回転素子11と併用することができる。0067本発明のこの実施形態又はその他の実施形態を偏光整形素子18と併用することができる。偏光整形素子は、例えば、照明システムの瞳面に位置し、照明モード形成時に放射ビームの偏光を整形するように構成された1つ又は複数の波長板などの偏光モディファイアを備えていてもよい。例えば、偏光整形素子は、図5aに示すように、八極照明モードが放射方向を横断する偏光を有するように直線偏光放射ビームの偏光を整形できる。単一の波長板が放射ビームBの半分と交差するように位置している時には、図5bに示すように、八極照明モードの4極が放射方向の偏光を有し、八極照明モードの4極が放射方向を横断する方向の偏光を有するように、偏光整形素子は偏光を整形する。様々な偏光整形素子が本発明の実施形態と併用できる。0068上記の波長板は、偏光モディファイアの例と考えることができる。本発明の実施形態は、波長板以外の偏光モディファイアを使用することができる。0069本発明の実施形態を、参照により本明細書に組み込むものとする第US2009174877号に記載された方法及び装置と組み合わせることができる。0070本文ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書でウェーハ又はダイという用語を使用している場合、それぞれ、基板又はターゲット部分という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール、メトロロジーツール及び/又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板は、例えば多層ICを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。0071本明細書で使用される放射及びビームという用語は、紫外UV放射例えば、365nm、355nm、248nm、193nm、167nm若しくは126nmの波長又はこれら辺りの波長を有する、及びEUV放射例えば、5nm~20nmの波長、例えば約13.5nmの波長を有するを含めて、あらゆるタイプの電磁放射を網羅する。0072レンズという用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電気光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか一つ、又はその組合せを指すことができる。0073以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の1つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスクの形態をとることができる。さらに、偏光の角度を変えることができるIPSなどの他のパラメータを犠牲にすることがあるが。0074上記の説明は例示的であり、限定的ではない。それ故、添付の特許請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。