"5-ニトロイソフタル酸と、ニッケルイオンと、下記一般式I;式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはハロゲン原子であるか、R2とR3、或いはR6とR7は一緒になって置換基を有していてもよいアルケニレン基を形成してもよい。とからなる金属錯体。請求項1に記載の金属錯体からなる分離材。該分離材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気を分離するための分離材である請求項2に記載の分離材。該分離材が、メタンと二酸化炭素、水素と二酸化炭素、窒素と二酸化炭素、メタンとエタンまたは空気とメタンを分離するための分離材である請求項2に記載の分離材。5-ニトロイソフタル酸と、ニッケル塩と、該ニッケルイオンに二座配位可能な有機配位子とを溶媒中で反応させ、析出させる、請求項1に記載の金属錯体の製造方法。したがって、本発明の目的は、従来よりも高い選択性を発現するガス分離材として使用できる金属錯体を提供することにある。本発明者らは鋭意検討し、5-ニトロイソフタル酸と、ニッケルイオンと、該ニッケルイオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体により、上記目的を達成することができることを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明によれば、以下のものが提供される。15-ニトロイソフタル酸と、ニッケルイオンと、下記一般式I;式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはハロゲン原子であるか、R2とR3、或いはR6とR7は一緒になって置換基を有していてもよいアルケニレン基を形成してもよい。で表される該ニッケルイオンに二座配位可能な有機配位子Iとからなる金属錯体。21に記載の金属錯体からなる分離材。3該分離材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気を分離するための分離材である3に記載の分離材。4該分離材が、メタンと二酸化炭素、水素と二酸化炭素、窒素と二酸化炭素、メタンとエタンまたは空気とメタンを分離するための分離材である3に記載の分離材。55-ニトロイソフタル酸と、ニッケル塩と、該ニッケルイオンに二座配位可能な有機配位子Iとを溶媒中で反応させ、析出させる、1に記載の金属錯体の製造方法。本発明により、5-ニトロイソフタル酸と、ニッケルイオンと、該ニッケルイオンに二座配位可能な有機配位子Iとからなる金属錯体を提供することができる。本発明の金属錯体は、各種ガスの分離性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気などを分離するための分離材として使用することができる。本発明の金属錯体は、5-ニトロイソフタル酸と、ニッケルイオンと、該ニッケルイオンに二座配位可能な有機配位子Iとからなる。金属錯体は、5-ニトロイソフタル酸と、ニッケル塩と、二座配位可能な有機配位子Iとを、常圧下、溶媒中で数時間から数日間反応させ、析出させて製造することができる。例えば、ニッケル塩の水溶液または有機溶媒溶液と、5-ニトロイソフタル酸及び二座配位可能な有機配位子Iを含有する有機溶媒溶液とを、常圧下で混合して反応させることにより得ることができる。金属錯体の製造に用いるニッケル塩としては、酢酸塩、ギ酸塩などの有機酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩などの無機酸塩を使用することができる。本発明に用いられる二座配位可能な有機配位子Iは下記一般式I;で表される。式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはハロゲン原子であるか、R2とR3、或いはR6とR7が一緒になって置換基を有していてもよいアルケニレン基を形成してもよい。上記R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8を構成することのできる置換基の内、アルキル基の炭素原子数は1~5が好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基などの直鎖または分岐を有するアルキル基が、ハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が、それぞれ挙げられる。また、該アルキル基が有していてもよい置換基の例としては、アルコキシ基メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基,n-ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基など、アミノ基、モノアルキルアミノ基メチルアミノ基など、ジアルキルアミノ基ジメチルアミノ基など、ホルミル基、エポキシ基、アシロキシ基アセトキシ基、n-プロパノイルオキシ基、n-ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など、アルコキシカルボニル基メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル基など、カルボン酸無水物基-CO-O-CO-R基Rは炭素数1~5のアルキル基であるなどが挙げられる。アルキル基の置換基の数は、1~3個が好ましく、1個がより好ましい。上記アルケニレン基の炭素数は、2が好ましい。アルケニレン基の炭素数が2の場合、R2とR3、或いはR6とR7はそれらが結合している炭素原子と一緒になって6員環ベンゼンを構成する。また、該アルケニレン基が有していてもよい置換基の例としては、アルコキシ基メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基,n-ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基など、アミノ基、モノアルキルアミノ基メチルアミノ基など、ジアルキルアミノ基ジメチルアミノ基など、ホルミル基、エポキシ基、アシロキシ基アセトキシ基、n-プロパノイルオキシ基、n-ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など、アルコキシカルボニル基メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル基など、カルボン酸無水物基-CO-O-CO-R基Rは炭素数1~5のアルキル基であるなどが挙げられる。二座配位可能な有機配位子Iとしては、例えば、4,4’-ビピリジル、2,2’-ジメチル-4,4’-ビピリジン及びジアザピレンを挙げることができ、中でも4,4’-ビピリジルが好ましい。ここで、二座配位可能な有機配位子とは非共有電子対でニッケルイオンに対して配位する部位を2箇所持つ中性配位子を意味する。金属錯体を製造するときの5-ニトロイソフタル酸と二座配位可能な有機配位子Iとの混合比率は、5-ニトロイソフタル酸:二座配位可能な有機配位子I=1:5~8:1のモル比の範囲内が好ましく、1:3~6:1のモル比の範囲内がより好ましい。これ以外の範囲で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下し、副反応も増えるために好ましくない。金属錯体を製造するときのニッケル塩と二座配位可能な有機配位子Iの混合比率は、ニッケル塩:二座配位可能な有機配位子I=3:1~1:3のモル比の範囲内が好ましく、2:1~1:2のモル比の範囲内がより好ましい。これ以外の範囲では目的とする金属錯体の収率が低下し、また、未反応の原料が残留して得られた金属錯体の精製が困難になる。金属錯体を製造するための混合溶液における5-ニトロイソフタル酸のモル濃度は、0.01~5.0mol/Lが好ましく、0.05~2.0mol/Lがより好ましい。これより低い濃度で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下するため好ましくない。また、これより高い濃度では溶解性が低下し、反応が円滑に進行しない。金属錯体を製造するための混合溶液におけるニッケル塩のモル濃度は、0.01~5.0mol/Lが好ましく、0.05~2.0mol/Lがより好ましい。これより低い濃度で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下するため好ましくない。また、これより高い濃度では未反応のニッケル塩が残留し、得られた金属錯体の精製が困難になる。金属錯体を製造するための混合溶液における二座配位可能な有機配位子Iのモル濃度は、0.01~5.0mol/Lが好ましく、0.05~2.0mol/Lがより好ましい。これより低い濃度で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下するため好ましくない。また、これより高い濃度では溶解性が低下し、反応が円滑に進行しない。金属錯体の製造に用いる溶媒としては、有機溶媒、水またはそれらの混合溶媒を使用することができる。具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトン、酢酸エチル、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、水またはこれらの混合溶媒を使用することができる。反応温度としては、253~423Kが好ましい。結晶性の良い金属錯体は、純度が高くて吸着性能が良い。反応が終了したことはガスクロマトグラフィーまたは高速液体クロマトグラフィーにより原料の残存量を定量することにより確認することができる。反応終了後、得られた混合液を吸引濾過に付して沈殿物を集め、有機溶媒による洗浄後、373K程度で数時間真空乾燥することにより、本発明の金属錯体を得ることができる。以上のようにして得られる本発明の金属錯体は、ジカルボン酸化合物Iとニッケルイオンとからなる一次元鎖が、二座配位子により連結された二次元シートが形成されている。そして、これらの二次元シートが集積することにより、細孔一次元チャンネルを有する三次元構造をとる。金属錯体における三次元構造は、合成後の結晶においても変化できるため、その変化に伴って、細孔の構造や大きさも変化する。この構造が変化する条件は、吸着される物質の種類、吸着圧力、吸着温度に依存する。すなわち、細孔表面と物質の相互作用の差に加え相互作用の強さは物質のLennard-Jonesポテンシャルの大きさに比例、吸着する物質により構造変化の程度が異なるため、高い選択性が発現する。本発明では、5-ニトロイソフタル酸を用いて細孔表面の電荷密度を制御すると共に、ニッケルイオンを用いることで、構造変化のし易さを制御し、高い混合ガス分離性能を発現させることができる。吸着された物質が脱着した後は、元の構造に戻るので、細孔の大きさも元に戻る。前記の選択吸着メカニズムは推定ではあるが、例え前記メカニズムに従っていない場合でも、本発明で規定する要件を満足するのであれば、本発明の技術的範囲に包含される。本発明の金属錯体は、各種ガスの分離性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素メタン、エタン、エチレン、アセチレンなど、希ガスヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなど、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサンヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなど、水蒸気または有機蒸気などを分離するための分離材として好ましく、特に、メタン中の二酸化炭素、水素中の二酸化炭素、窒素中の二酸化炭素、メタン中のエタンまたは空気中のメタンなどを、圧力スイング吸着法や温度スイング吸着法により分離するのに適している。有機蒸気とは、常温、常圧で液体状の有機物質の気化ガスを意味する。このような有機物質としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類;トリメチルアミンなどのアミン類;アセトアルデヒドなどのアルデヒド類;炭素数5~16の脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;塩化メチル、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例および比較例における分析および評価は次のようにして行った。1粉末X線回折パターンの測定X線回折装置を用いて、回折角2θ=5~50°の範囲を走査速度1°/分で走査し、対称反射法で測定した。測定条件の詳細を以下に示す。<分析条件>装置:株式会社リガク製RINT2400X線源:CuKαλ=1.5418Å40kV200mAゴニオメーター:縦型ゴニオメーター検出器:シンチレーションカウンターステップ幅:0.02°スリット:発散スリット=0.5°受光スリット=0.15mm散乱スリット=0.5°2破過曲線の測定ガス流量計とバルブ類を備えたステンレスチューブでボンベと接続した内容積10mLの耐圧ガラス容器を用意した。測定は、耐圧ガラス容器に試料を入れ、373K、7Paで3時間乾燥し、吸着水などを除去した後に、混合ガスを流通させることで行った。このとき、出口ガスを2分おきにサンプリングし、ガスクロマトグラフィーで分析することで出口ガスの組成を算出した入口ガスの組成はあらかじめガスクロマトグラフィーを用いて測定。測定条件の詳細を以下に示す。<測定条件>装置:株式会社島津製作所製GC-14Bカラム:ジーエルサイエンス株式会社製UnibeadsC60/80カラム温度:200°Cキャリアガス:ヘリウム注入量:1.0mL検出器:TCD<合成例1>窒素雰囲気下、硝酸ニッケル六水和物12.3g42mmol、5-ニトロイソフタル酸8.92g42mmol及び4,4’-ビピリジル6.60g42mmolをN,N-ジメチルホルムアミド500mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、エタノールで3回洗浄した。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体17.4g収率97を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図1に示す。<比較合成例1>窒素雰囲気下、硝酸マンガン六水和物12.1g42mmol、5-ニトロイソフタル酸8.92g42mmol及び4,4’-ビピリジル6.60g42mmolをN,N-ジメチルホルムアミド500mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、エタノールで3回洗浄した。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体16.0g収率90を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図2に示す。<比較合成例2>窒素雰囲気下、硝酸コバルト六水和物4.91g17mmol、5-ニトロイソフタル酸3.57g17mmol及び4,4’-ビピリジル2.64g17mmolをN,N-ジメチルホルムアミド200mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、エタノールで3回洗浄した。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体6.68g収率93を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図3に示す。<比較合成例3>窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物12.6g42mmol、5-ニトロイソフタル酸8.92g42mmol及び4,4’-ビピリジル6.60g42mmolをN,N-ジメチルホルムアミド500mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、エタノールで3回洗浄した。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体15.5g収率85を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図4に示す。<比較合成例4>窒素雰囲気下、硝酸ニッケル六水和物4.91g17mmol、5-メトキシイソフタル酸3.32g17mmol及び4,4’-ビピリジル2.64g17mmolをN,N-ジメチルホルムアミド200mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、エタノールで3回洗浄した。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体6.54g収率95を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図5に示す。<実施例1>合成例1で得た金属錯体について、容量比でメタン:二酸化炭素=60:40からなるメタンと二酸化炭素の混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min-1における分離性能を測定した。結果を図6に示す。<比較例1>比較合成例1で得た金属錯体について、容量比でメタン:二酸化炭素=60:40からなるメタンと二酸化炭素の混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min-1における分離性能を測定した。結果を図7に示す。<比較例2>比較合成例2で得た金属錯体について、容量比でメタン:二酸化炭素=60:40からなるメタンと二酸化炭素の混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min-1における分離性能を測定した。結果を図8に示す。<比較例3>比較合成例3で得た金属錯体について、容量比でメタン:二酸化炭素=60:40からなるメタンと二酸化炭素の混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min-1における分離性能を測定した。結果を図9に示す。<比較例4>比較合成例4で得た金属錯体について、容量比でメタン:二酸化炭素=60:40からなるメタンと二酸化炭素の混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min-1における分離性能を測定した。結果を図10に示す。図6と図7~図10の比較より、本発明の金属錯体はメタンを99.5以上にまで濃縮でき、かつ二酸化炭素の破過時間が長いので、メタンと二酸化炭素の分離材として優れていることは明らかである。<実施例2>合成例1で得た金属錯体について、容量比でメタン:エタン=90:10からなるメタンとエタンの混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min-1における分離性能を測定した。結果を図11に示す。<比較例5>比較合成例3で得た金属錯体について、容量比でメタン:エタン=90:10からなるメタンとエタンの混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min-1における分離性能を測定した。結果を図12に示す。図11と図12の比較より、本発明の金属錯体はメタンを99.5以上にまで濃縮でき、かつエタンの破過時間が長いので、メタンとエタンの分離材として優れていることは明らかである。"