露光光を発射する光源を有する露光光学手段と、マスクを保持するマスクホルダ手段と、基板を載置して平面内で移動可能なステージ手段と、前記露光光学手段と前記ステージ手段とを制御して前記ステージ手段に載置された基板上を順次露光する制御手段とを備えた露光装置であって、前記露光手段は、前記光源から発射された露光光を多数の点光源に変換する光インテグレータと、該光インテグレータを透過した露光光を平行光に変換するコリメートミラーと、該コリメートミラーで平行光に変換されて露光光を平面鏡で反射して前記マスクホルダに保持されているマスクに照射するミラーユニットとを備え、該ミラーユニットは、前記平面鏡の前記露光光を反射する面と反対側の面を押すアクチュエータを2次元状に配列して装備し、前記制御手段は、前記ステージ手段に載置された基板の表面に相当する位置に照射した前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報に基づき2次元状に配列された個々のアクチュエータを制御することを特徴とする露光装置。前記光インテグレータは、複数のフライアイレンズで構成されており、前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は前記複数のフライアイレンズのうちの前記光源に一番近いフライアイレンズにより形成される点光源の情報であることを特徴とする請求項1記載の露光装置。前記制御手段は、前記光インテグレータの点光源に関する情報を用いて算出された前記ミラーユニットの2次元に配列された個々のアクチュエータの駆動量の情報に基づいて該アクチュエータを制御することを特徴とする請求項1記載の露光装置。前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、該点光源からの光の前記基板の表面に対応する位置に入射する入射角の情報と、前記点光源の照度分布の情報であることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の露光装置。前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、前記ステージ手段に載置された基板の表面に相当する位置にピンホールを設置したピンホールカメラで撮像して得た前記露光光の画像を処理することにより得られた情報であることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の露光装置。前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、前記ピンホールカメラを前記露光光が照射される領域内を順次移動させて取得した前記露光光の画像を処理することにより得られた情報であることを特徴とする請求項5記載の露光装置。光源から発射された露光光を光学系を介して光を透過するパターンが形成されたマスクに照射し、該マスクに照射された露光光のうち前記パターンを透過した露光光を前記マスクと近接して配置された基板の第1の領域に塗布されたレジスト上に投射して該レジストを露光することを前記基板の全面に亘って繰返すことにより、前記マスクに形成されたパターンで前記基板の前面を露光する方法であって、前記露光光を前記マスクに照射することを、前記光源から発射された露光光を光インテグレータを透過させて複数の点光源に変換し、該光インテグレータを透過して複数の点光源に変換された露光光をコリメートミラーで平行光に変換し、該平行光に変換された露光光を裏面にアクチュエータを2次元状に配列して装備した平面鏡で反射して前記マスクに照射することにより行い、前記平面鏡の裏面に2次元状に配列したアクチュエータを、前記露光する基板の表面に相当する位置に照射した前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報に基づいて制御することを特徴とする露光方法。前記光インテグレータは、複数のフライアイレンズで構成されており、前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は前記複数のフライアイレンズのうちの前記光源に一番近いフライアイレンズにより形成される点光源の情報であることを特徴とする請求項7記載の露光方法。前記2次元状に配列したアクチュエータを制御することを、前記光インテグレータの点光源に関する情報を用いて算出された前記個々のアクチュエータの駆動量に基づいて制御することを特徴とする請求項7記載の露光方法。前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、該点光源からの光の前記露光する基板の表面に相当する位置に入射する入射角の情報と、前記点光源の照度分布の情報であることを特徴とする請求項7乃至9の何れかに記載の露光方法。前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、前記露光する基板の表面に相当する位置にピンホールを設置したピンホールカメラで撮像して得た前記露光光の画像を処理することにより得られた情報であることを特徴とする請求項7乃至9の何れかに記載の露光方法。前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、前記ピンホールカメラを前記露光光が照射される領域内を順次移動させて取得した前記露光光の画像を処理することにより得られた情報であることを特徴とする請求項11記載の露光方法。液晶ディスプレイの高精細化、3D表示に対応するためには、リソグラフィ工程において大面積のガラス基板上により微細で高精度な画素パターンを形成することが重要になる。そのために、リソグラフィ工程において大面積のガラス基板上にパターンを露光するための露光装置には、ガラス基板上の広い領域にパターンを均一に露光することが求められる。特許文献1には、露光光の光路中にフライアイレンズを配置して光強度を均一化する構成が記載されているが、露光するガラス基板の面積が大面積化し、これに伴ってマスクの面積も大きくなってくると、フライアイレンズだけでは十分な露光光の均一化を図ることができない。一方、特許文献2に記載されている方法では、被露光基板の大きさあるいはフォトマスクの大きさが露光のたびに変化するような場合も容易に補正して常に高精度な露光を行うことができるが、ミラーの変形に寄与する調整機構は4箇所と少なく、ミラーを局所的に変形させたい場合でも、変形される範囲が大きく、全体の補正はラフになってしまうため、マスクの面積が大きくなった場合、所望の露光パターンを高精度で再現するのは難しい。また、特許文献3に記載されている方法では、露光装置の変形対象となる鏡の設置時の初期形状が把握されていないため、鏡の初期形状が予想より大きく湾曲していた場合、形状を補正する際、鏡の許容応力を超えてしまい、破損させてしまう可能性がある。また、初期形状が把握できない場合、実際の形状と理想形状目標中心光線角度照度分布を満たす形状との差を定量化できないため、調整機構への正確なフィードバックが行えず、調整に時間がかかってしまう可能性がある。更に、特許文献4に記載された方法では、照明光源を構成する複数の半導体発光素子の点灯する数を変更して露光光の照度を調整することができるが、光路中にフライアイレンズなどの光インテグレータ素子や複数のミラーが配置された構成において、マスクから一番離れている光源の側でマスクに照射する光の分布を微細に調整することは難しい。本発明の第一の目的は、露光光学系でマスクの直前に設置されている平面鏡について、許容応力を超えずに、露光面上の中心光線角度照度分布を厳密に制御することにより、高精度なパターンの露光を行うことを可能にする方法を提供することにある。本発明の第二の目的は、露光面上の中心光線角度照度分布を厳密に制御するための光学系の調整を短時間で実現することを可能にする方法を提供することにある。上記第一の目的は、中心光線角度測定手段と光学シミュレータ等の手段により、現状の平面鏡形状を把握し、平面鏡の湾曲許容応力量内で平面鏡を変形させることにより解決される。上記第二の目的は、中心光線角度測定手段と光学シミュレータ等の手段により、現状の平面鏡形状と理想形状との比較を行い、算出された補正量を平面鏡へフォードバックすることにより解決される。具体的には、始めにピンホールカメラにより、露光面上での光線の中心光線角度を実測する。上記実測値から、光学シミュレータによって実機の平面鏡の形状を算出し、さらに、露光面上での光線の中心光線角度照度分布が目標値を満たすための、平面鏡の変形条件を求め、上記より得た平面鏡最適形状と、現状の平面鏡との形状差を算出し、実機の平面鏡裏面のアクチュエータへ自動でフィードバックすることにより達成する。即ち、上記課題を解決するために、本発明では、露光光を発射する光源を有する露光光学手段と、マスクを保持するマスクホルダ手段と、基板を載置して平面内で移動可能なステージ手段と、露光光学手段とステージ手段とを制御してステージ手段に載置された基板上を順次露光する制御手段とを備えた露光装置において、露光手段は、光源から発射された露光光を多数の点光源に変換する光インテグレータと、この光インテグレータを透過した露光光を平行光に変換するコリメートミラーと、このコリメートミラーで平行光に変換された露光光を平面鏡で反射してマスクホルダに保持されているマスクに照射するミラーユニットとを備え、このミラーユニットは、平面鏡の露光光を反射する面と反対側の面を押すアクチュエータを2次元状に配列して装備し、制御手段は、ステージ手段に載置された基板の表面に相当する位置に照射した露光光から得られる光インテグレータの点光源に関する情報を用いて算出されたミラーユニットの2次元状に配列された個々のアクチュエータの駆動量に基づいてこのアクチュエータを制御するようにした。また、上記課題を解決するために、本発明では、光源から発射された露光光を光学系を介して光を透過するパターンが形成されたマスクに照射し、このマスクに照射された露光光のうちパターンを透過した露光光をマスクと近接して配置された基板の第1の領域に塗布されたレジスト上に投射してこのレジストを露光することを基板の全面に亘って繰返すことにより、マスクに形成されたパターンで基板の前面を露光する方法において、露光光をマスクに照射することを、光源から発射された露光光を光インテグレータを透過させて複数の点光源に変換し、この光インテグレータを透過して複数の点光源に変換された露光光をコリメートミラーで平行光に変換し、この平行光に変換された露光光を裏面にアクチュエータを2次元状に配列して装備した平面鏡で反射してマスクに照射することにより行い、平面鏡の裏面に2次元状に配列したアクチュエータを、露光する基板の表面に相当する位置に照射した露光光から得られる光インテグレータの点光源に関する情報を用いて算出された個々のアクチュエータの駆動量に基づいて制御するようにした。これにより、液晶ディスプレイの製造に対して、マスクが大型化し、より厳密なパターン制御が求められる場合でも、平面鏡の精密な制御を可能とすることで、製造歩留りを向上させることができ、産業廃棄物低減などが実現可能となる。以下、本発明の各実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。本実施例は、液晶ディスプレイ製造において、プロキシミティ露光方式を用いて実施されるものである。図1、図8を用いて、本発明を実施するための装置の一例を示し、プロキシミティ露光光学系の平面鏡の形状を最適化し、目標の中心光線角度照度分布を満たす様な平面鏡の最適条件を算出実際の光学系へフィードバックさせる方法について説明する。図1は、本発明に係る露光装置100の一実施形態の全体構成を示す概略図の例である。露光装置100は、露光光学系ユニット110、ステージユニット130、制御駆動ユニット150を備えて構成されている。露光光学系ユニット110とステージユニット130とは、正常な環境を維持するために外部からの気流を遮断するための筐体101で覆われている。筐体101には、内部の気体を外部に排気するための排気口102が設けられている。露光光学系ユニット110は、水銀ランプなどの紫外線を含む光を発射するランプ111と楕円鏡112からなる光源113と、光源113から発射された露光光の光路を変換するための第1のミラー114、この第1のミラー114で変換された露光光の光路上に配置されて露光光の遮断と通過オンとオフを切り替えるシャッタ115、シャッタ115を通過した露光光の強度の分布を均一化するために第1フライアイレンズ1161と第2フライアイレンズ1162の組合せで構成された光インレグレータ116、光インテグレータ116で強度分布が均一化された露光光の光路を変換する第2のミラー117、第2のミラー117で光路が変換された露光光を反射して平行光を形成するコリメートミラー118、このコリメートミラー118で形成された平行光をマスク140の方向に反射するミラーユニット120を備えている。尚、シャッタ115は、図示していないシャッタ駆動機構により露光光の遮断と通過を切り替える。ステージユニット130は、X方向に移動するXステージ131、紙面に対して垂直なY方向に移動するYステージ132、Z方向に移動するZステージ133、Z軸の周りに回転するθステージ134、試料基板1をチャックする基板チャック135を備えている。マスク140は、試料1との間にわずかなギャップを保った状態でマスクホルダ141に保持される。マスクホルダ141には、マスクをZ方向に上下移動させる駆動手段図示せずが内蔵されている。制御駆動ユニット150は、ステージユニット130の各ステージの動きを制御するステージ制御部151、ステージユニット130の基板チャック135の動作を制御する基板チャック制御部152、マスクホルダ141のマスク140の保持を制御するマスクホルダ駆動部153、光源113のランプ111のオンオフや光量を制御するランプ電源制御部154、シャッタ115による露光光の遮断と通過を切り替えを制御するシャッタ切替制御部155、ミラーユニット120を制御するミラーユニット制御部156及び全体を制御する全体制御部157を備えている。ミラーユニット120は、図2Aに示すように、平面鏡121、複数のアクチュエータ122、アクチュエータ駆動部123を備えて構成されている。図2Bは、平面鏡121に対する複数のアクチュエータ122の配置を示す図である。複数のアクチュエータ122としては、ピエゾ素子を用いる。アクチュエータ駆動部123は外部からの信号を受けて、2次元状に配列した複数のアクチュエータ122を個々に制御して平面鏡121の裏面に押し付けて平面鏡121の微小な凹凸量を調整する。また制御駆動ユニット150は、ミラーユニット制御部156でミラーユニット120を制御して、平面鏡121の裏面に2次元状に配列した複数のアクチュエータ122を、後述する露光する基板の表面に相当する位置に照射した露光光から得られる光インテグレータの点光源に関する情報を用いて算出された個々のアクチュエータ122の駆動量に応じて駆動する。次に、上記した構成による動作を説明する。先ず、ステージユニット130がマスクホルダ141から外れた場所で図示していない基板ハンドリング装置で搬送された基板1を受け取り、基板チャック制御部152で駆動制御された基板チャック135により基板1をチャックして保持した状態で基板1がマスクホルダ141の下に位置するように移動する。このとき、シャッタ115はシャッタ切替制御部155で制御されて露光光を遮断している。また、マスクホルダ141は、移動してくる基板1とマスク140との干渉を避けるために、図示していない駆動手段によりZ方向に対比している。基板1のマスクホルダ141の下への移動が完了すると、マスク140は図示していない駆動手段で駆動されて下降し、基板1と所定のギャップを形成する。次に、ランプ電源制御部154で制御されて光源113のランプ111がオンの状態で、シャッタ切替制御部155はシャッタ115を制御して露光光を通過させる。シャッタ115を通過した露光光は、第2ミラー117、コリメートミラー118、ミラーユニット120の平面鏡121で順次反射されてマスクホルダ141に保持されているマスク140に照射される。このマスク140に照射された露光光のうち、マスク140に形成された光透過パターンを透過した露光光により、マスク140と微小なギャップを持って基板チャック135でチャックされている基板1の表面に塗布されたレジストのうちマスク140の直下にあるレジストが露光される。所定の時間レジストを露光した後、シャッタ切替制御部155はシャッタ115を制御して露光光を遮光する。露光光がシャッタ115で遮光された状態で、マスク140は図示していない駆動手段で駆動されて上昇する。次に、ステージ制御部151はXステージ131又はYステージ132を駆動制御して基板1上の次の露光領域がマスク140の直下に位置するように基板1を移動させる。次の露光領域がマスク140の直下に位置した状態で、マスク140は図示していない駆動手段で駆動されて下降し、基板1の次の露光領域との間に所定のギャップを形成する。このように、基板1の新たな露光領域がマスク140の直下に位置した状態で、再びシャッタ切替制御部155がシャッタ115を制御して露光光を透過させ、透過した露光光がマスク140に照射されてマスク140の直下にある基板1の表面に塗布されたレジストが露光される。このように、シャッタ115による露光光の遮光と透過オンとオフとの切替とステージ制御部151による各ステージの移動を繰返すことにより、基板1の全面が露光される。上記したような構成で基板1の全面の露光を行う露光装置において、基板1の全面に亘って均一で高精度なパターンの露光を実現するためには、基板1の露光面上における露光光の中心光線角度がほぼ垂直になるようにし、かつ、照度分布が均一になるようにすることが必要になる。以下に、露光光の中心光線角度および照度分布を制御する方法とその手段について説明する。ここでは、説明を簡単にするために、図1に示した露光光学系110の光源部113から基板1までの光路を単純化して図3のように表示する。図3に示した構成において、ミラーユニット120の平面鏡121の形状を最適化し、目標の中心光線角度照度分布を満たす様な平面鏡121の最適条件を算出して実際の光学系へフィードバックさせる方法について説明する。図3に示した構成において、300はピンホールカメラ、310はシミュレータを搭載したPCである。ピンホールカメラ300は、上面が露光時の基板1の露光面の位置11と一致するようにステージユニット130で高さと位置が調整されている。ピンホールカメラ300は、図4に示すように、筐体301の上面にピンホール302を設けたピンホール板303が取付けられている。筐体301の内部でピンホール302の真下には目視用メモリガイド304が固定されており、CCDカメラ305で目視用メモリガイド304と目視用メモリガイド304上に投影されたピンホール302を透過した光の投影像を撮像する。次に、ピンホールカメラ300で撮像した画像を用いて基板1の露光面上の中心光線角度、照度分布を厳密に制御する手順を図5を用いて説明する。まず始めに、図4に示すようなピンホールカメラ300のピンホール302が図3に示すように露光時の基板1の露光面の位置11と一致するようにステージユニット130で高さと位置が調整された状態で、このピンホールカメラ300を用いて、露光面上に到達する光線の中心光線角度を実測するS501。このピンホールカメラ300において、ピンホール302から目視目盛りガイド304までの距離はL1、目視目盛りガイド304からカメラ305までの距離はL2で配置する。図3に示したような構成で、光源113から発射した露光光は、露光面位置11に到達してその一部がピンホール302を通り、ピンホール302を通過した光はピンホール302の直下L1の距離の位置に配置された目視用目盛りガイド304上に投影される。このピンホールを通過した露光光の投影像と目視目盛りガイド304を同時にCCDカメラ305で撮影し、画像を取得するS501。図6に示す取得画像60には、多数のスポット状の像62と目視メモリガイドの像61が含まれている。多数のスポット状の像62は、第一フライアイレンズ1611を構成するレンズの個数に相当する集光点図6の場合は、10×10列から構成されている。上記取得画像60から、目視目盛りガイドの像61の中心位置53と多数のスポット状の像62の中心位置54のX方向のずれ量D1、Y方向のずれ量D2を算出し、中心光線角度をtan1D2/D1により決定する。上記に説明した方法を用いて、ピンホールカメラ300を搭載しているステージ300を一定のピッチ例えば、図2Bに示したミラーユニット120の平面鏡121の裏面に配置した多数のアクチュエータ122の間隔に相当する距離ずつ移動させて各位置でピンホールカメラ300で撮像することを繰返してマスク140を用いた1回の露光による露光面に相当する領域露光領域内における中心光線角度をマトリクス状に計測し、その結果から図7に70として示すような中心光線角度分布図を作成する。次に、上記により露光領域内においてマトリクス状に計測した中心光線角度の実測値を用いて、平面鏡121の形状をPC310に搭載したシミュレータを用いて算出するS502。平面鏡形状算出方法は、露光面上での中心光線角度の各計測位置の値を入力値とし、シミュレーション上の光学系の平面鏡モデル作成時に適用した例えば、XY多項式平面の係数X、Y、X2、XY、Y2、X3、X2Y、XY2、Y3を変数値として、上記入力値に対応する形状となる様、シミュレーションにより平面鏡最適化を実施する。その結果得られた係数を基に平面鏡121の形状を算出する。最適化方法は、目標値を求める為に、初期条件として設定した中心光線角度例えば、0°と、上記XY多項式の変数を変化させ、初期値をわずかに変化させた場合の中心光線角度との変化率を求め、それらの値から、最小二乗法または減衰最小二乗法により、最良解を得るというものである。下記数1にて、XY多項式の詳細を示す。ここで、z:平面鏡湾曲量c:平面鏡曲率k:コーニック定数cj:xyの係数r:x2y21/2nt:多項式項数平面鏡121の実際の形状を算出した後、中心光線角度を目標値0.25°へ到達させるため、シミュレーションにより露光面上での光線の入射角度が0°に近づく様、平面鏡を最適化するS503。例えば、実測した中心光線角度が0°~0.6°の範囲で分布を持っていたとする図7の領域71中心光線角度0°~0.2°、領域72中心光線角度0.2°~0.4°、領域73中心光線角度0.4°~0.6°。この値を入力値として、PC310に搭載したシミュレータにて、光線の中心光線角度の目標値を0°と設定し、平面鏡に適用しているXY多項式の係数X、Y、X2、XY、Y2、X3、X2Y、XY2、Y3を変数とし、中心光線角度が上記目標値に入る様、シミュレーションにより平面鏡最適化を実施する。次に、平面鏡121を上記最適化の結果を基に変形した場合、照度分布も目標値を満たすか、平面鏡最適化結果を反映させたモデルを作成し、これを用いて露光面上での照度分布をシミュレーションにより算出するS504。次に、得られた照度分布が、目標値±2.5を満たしているかを確認するS505。もし、S505において、シミュレーションから得た照度分布が目標値を達成していないNOと判断した場合は、照度分布が均一になる様、中心光線角度が目標値から外れない許容範囲内で、光線の中心光線角度を変更しS506、S504へ戻ってシミュレーションにより露光面上での照度分布を算出し、再びS506に進んで、得られた照度分布が目標値±2.5以下を満たしているかを確認することを繰返す。照度分布が目標値を満たすようにするために平面鏡の形状を修正する方法として、具体的には、図8に示すような照度分布図中に、照度分布が±3と、目標値±2.5を超えたエリア80があった場合、その部分に到達する光線の方向をランダムにさせる様に、平面鏡のXY多項式の係数を再度計算する。S505で照度分布が目標値を満たすことが確認された場合YES、得られた平面鏡の最適化形状を再現させるため、上記再計算から得られたシミュレーションによる平面鏡の形状と実際の平面鏡121の形状との差分を算出し、その差分より、平面鏡裏面に設置されているアクチュエータの各位置における補正量最大3mmを決定しS507、この決定したアクチュエータの補正量の情報を制御駆動ユニット150のミラーユニット制御部156へ送信され、ミラーユニット制御部156で受信したアクチュエータの補正量の情報に基づいてミラーユニット120の平面鏡121の調整機構であるアクチュエータ122を動かすことでフィードバックして調整するS508。以下の段落を1つ前の段落へ移動その後、ピンホールカメラ300を用いて露光面11の露光領域における中心光線角度を実測しS509、露光面での光線の中心光線角度が目標値を達成しているか確認しS510、目標値を達成していればフィードバック終了となる。目標値が達成していない場合、S503へ戻って実測した平面鏡の中心光線角度の結果をシミュレーションモデルに反映させ、再度シミュレーションにより、S504からS509までを実施し、実測値が目標値を満たすまで繰り返し、実測値が目標値を満たした時点で終了とする。これら上記手順によって、基板1の表面に塗布されたレジストを露光するパターン形状の補正を行う。また、制御駆動部150のミラーユニット制御部156に送られたアクチュエータ122の補正量の情報は、ミラーユニット制御部156に記憶保持される。これにより、一旦露光装置100の電源を切って、再び電源を接続した場合でも、ミラーユニット制御部156は、記憶保持されていたアクチュエータの補正量の情報を用いてミラーユニット120の個々のアクチュエータ122を制御して、平面鏡121を電源を切る前の状態に再現することができる。このようにして中心光線角度と照度分布とが調整された露光光学系を用いて基板1の表面に塗布されたレジストにマスク140に形成されたパターンを露光することにより、高精度で基板全面に亘って均一なパターンの露光を実現することができる。上記に説明したピンホールカメラを用いた露光光の中心光線角度と照度分布との調整は、露光装置で実際の基板上に露光を開始する前に行うが、露光装置で一定の枚数の基板を露光するごとに定期的に実施しても良く、また、光学系の調整、部品交換を行った後に行うようにしても良い。