"一般式1で表されるシラン化合物Aおよび一般式2で表されるシラン化合物Bの加水分解共縮合により得られるシルセスキオキサン化合物。R1:炭素数1~4のアルキル基またはアシル基R2:水素原子またはメチル基R3:ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、またはヒドロキシブチル基m:1または2A:m=1の場合はNH基、m=2の場合は窒素原子R4:炭素数1~10のアルキル基、アリール基、ラジカル重合性官能基を含有する有機基またはカチオン重合性官能基を含有する有機基R5:炭素数1~4のアルキル基またはアシル基前記一般式1で表されるシラン化合物Aおよび前記一般式2で表されるシラン化合物Bを加水分解共縮合する請求項1記載のシルセスキオキサン化合物の製造方法。無機酸および第4級アンモニウム塩からなる群の少なくとも一種の化合物を触媒として加水分解共縮合を行うことを特徴とする、請求項2記載のシルセスキオキサン化合物の製造方法。請求項1記載のシルセスキオキサン化合物を含む硬化性組成物。請求項4記載の硬化性組成物を硬化させることで得られる硬化物。請求項5記載の硬化物からなる透明フィルム。基材上に請求項5記載の硬化物からなる層が形成された積層体。本発明の目的は、樹脂類との相溶性が良好であり、コーティング材料、電子材料、光学材料などへの表面硬度耐擦傷性機械強度付与成分として利用可能なシルセスキオキサン化合物を提供することにある。また、該化合物の製造方法、該化合物を含有する硬化性組成物、硬化物、透明フィルムおよび積層体を提供することにある。本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、高い透明性を有し、表面硬度耐擦傷性、機械強度付与成分として優れたかご構造を有するシルセスキオキサン化合物を見出し、本発明に至った。即ち、第1の発明は、一般式1で表されるシラン化合物および一般式2で表されるシラン化合物の加水分解共縮合により得られるシルセスキオキサン化合物である。R1:炭素数1~4のアルキル基またはアシル基R2:水素原子またはメチル基R3:ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、またはヒドロキシブチル基m:1または2A:m=1の場合はNH基、m=2の場合は窒素原子R4:炭素数1~10のアルキル基、アリール基、ラジカル重合性官能基を含有する有機基またはカチオン重合性官能基を含有する有機基R5:炭素数1~4のアルキル基またはアシル基第2の発明は、前記一般式1で表されるシラン化合物Aおよび前記一般式2で表されるシラン化合物Bを加水分解共縮合する第1の発明のシルセスキオキサン化合物の製造方法である。その際、無機酸および第4級アンモニウム塩からなる群の少なくとも一種の化合物を触媒として加水分解共縮合を行うことが好ましい。第3の発明は、第1の発明のシルセスキオキサン化合物のうち重合性官能基を有するシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物である。第4の発明は、前記の硬化性組成物を、硬化させることで得られる硬化物である。第5の発明は、硬化物からなる透明フィルムである。第6の発明は、基材上に前記の硬化物からなる層が形成された積層体である。尚、本明細書において、メタアクリはアクリ又はメタクリを示す。本発明により、高い透明性を有し、表面硬度耐擦傷性、機械強度に優れた材料を提供でき、更に透明フィルム、積層体を提供できる。シルセスキオキサン化合物本発明のシルセスキオキサン化合物は、一般式1で示されるシラン化合物Aおよび一般式2で示されるシラン化合物2の共縮合により得られる化合物である。一般式2におけるR4が、炭素数1~10のラジカル重合性官能基を含有する有機基またはカチオン重合性官能基を含有する有機基であるシラン化合物Bの場合、製造されるシルセスキオキサン化合物は重合性官能基を有する。このような重合性官能基を有するシルセスキオキサン化合物は、硬化性組成物の成分として有用である。重合性官能基有するシルセスキオキサン化合物は、硬化性組成物において、表面硬度耐擦傷性、機械強度を付与することができる。尚、シルセスキオキサンとは、分子内に有機基1つを有する3官能アルコキシシランの縮合物の総称である。本発明のシルセスキオキサン化合物には、かご構造を有するものと有さないものがある。前述の共縮合により製造されるシルセスキオキサン化合物は、通常、かご構造を有するものと有さないものの混合物である。シルセスキオキサン化合物の代表的なかご構造として、構造式3~6を下記に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。上記、構造式3~6において、Rは以下の一般式7で示される有機基またはR4である。R2:水素原子またはメチル基R3:ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、またはヒドロキシブチル基m:1または2A:m=1の場合はNH基、m=2の場合は窒素原子R4は、炭素数1~10のアルキル基、アリール基、ラジカル重合性官能基を含有する有機基またはカチオン重合性官能基を含有する有機基である。ラジカル重合性官能基としては、ビニル基、アリル基およびメタアクリロイル基などが挙げられる。カチオン重合性官能基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。シルセスキオキサン化合物の共縮合成分であるシラン化合物Aおよびシラン化合物Bについて、以下に詳述する。シラン化合物Aシルセスキオキサン化合物の共縮合成分の1つであるシラン化合物Aは、例えば、アミノ基を含有するシランカップリング剤a1以下、化合物a1と単官能メタアクリレート化合物a2以下、化合物a2とのマイケル付加反応により製造することができる。ここで、化合物a1としては、3-2-アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、3-2-アミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられ、特に、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシランが好適である。また、化合物a2としては、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、i-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェニルエチルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性メタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート及びフォスフォエチルメタアクリレートなどが挙げられる。これらの中で、特に、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレートが好適である。化合物a1と化合物a2とのマイケル付加反応により、化合物a11モルに化合物a22モルが付加したシラン化合物Aを製造することができる。化合物a1と化合物a2との反応モル比は、未反応物を少なくできることから、化合物a11モルに対して化合物a22~4モルが好ましく、2~2.5モルがより好ましい。化合物a1と化合物a2の付加反応は、無溶媒で行うことができる。付加反応の反応温度は、十分に反応が進行し、副反応を抑える点から、0~100°Cが好ましく、40~80°Cがより好ましい。また、本マイケル付加反応は有機溶媒中で行うこともできる。有機溶媒としては、化合物a1や化合物a2を溶解できるものであれば特に限定はないが、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、1-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、キシレンなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、単独でも、2種類以上を混合して使用してもよい。更に、本マイケル付加反応は、触媒を用いることができる。触媒としては、マイケル付加反応に使用されるアミン類、アルカリ金属アルコキシドなどの公知のものを用いることができる。シラン化合物Bシルセスキオキサン化合物の共縮合成分の1つであるシラン化合物Bは、分子内に1つの有機基を有する3官能アルコキシシラン化合物である。シラン化合物Bとしては、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3-メタアクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、p-スチリルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらの中で、特に、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3-メタアクリロイルオキシプロピルトリエトキシシランが好適である。シルセスキオキサン化合物の製造方法本発明のシルセスキオキサン化合物は、シラン化合物AおよびBを加水分解共縮合させることにより製造することができる。前述のように、重合性官能基を有するシルセスキオキサン化合物は、一般式2におけるR4が、炭素数1~10のラジカル重合性官能基を含有する有機基またはカチオン重合性官能基を含有する有機基であるシラン化合物Bを用いて製造することができる。また、前述のように、製造されるシルセスキオキサン化合物は、通常、かご構造を有するものと有さないものの混合物である。この混合物はそのまま利用することもできるが、構造のことなるシルセスキオキサン化合物を分離して利用してもよい。構造の異なるシルセスキオキサン化合物を単離する方法としては、例えば、分子量差を利用したGPCゲル浸透クロマトグラフィー法、特定の溶媒に対する溶解度差を利用した再結晶法等が利用できる。共縮合のモル比は、シラン化合物A:シラン化合物B=90:10~10:90の範囲であることが好ましい。ここで、シラン化合物Aが90以内ならば、十分な表面硬度や耐熱性を得ることができる。また、シラン化合物Aが10以上ならば、樹脂類に対する溶解性が良好である。シラン化合物AおよびBの共縮合の触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸およびフッ化水素酸などの無機酸、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシドおよびベンジルトリエチルアンモニウムヒドロキシドなどの第4級水酸化アンモニウム、ならびに、アンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライドおよびベンジルトリエチルアンモニウムクロライドなどの第4級アンモニウム塩などが好適である。触媒量は、シラン化合物AおよびBの合計100質量部に対し、0.01~20質量部が好ましく、0.1~10質量部がより好ましい。0.01質量部以上では十分な触媒活性を得ることができる。また、20質量部以下ならば、残留触媒の硬化物性への影響を低く抑えることができる。シラン化合物AおよびBの加水分解に使用する水量は、加水分解性アルコキシ基モル数の理論量合計の0.1~10倍が好ましく、1~3倍がより好ましい。加水分解共縮合の反応温度は、0~100°Cが好ましく、20~50°Cがより好ましい。0°C以上ならば十分に反応が進行する。100°C以下ならば副反応の誘発やゲル化の可能性が少ない。加水分解共縮合反応時には、有機溶媒を使用することが好ましい。有機溶媒としては、シラン化合物AおよびBを溶解できるものであれば特に限定はないが、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1-メトキシ-2-プロパノールなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、単独でも、2種類以上を混合して使用してもよい。硬化性組成物本発明の硬化性組成物は、前述のシルセスキオキサン化合物を含む。シルセスキオキサン化合物が重合性官能基を有していない場合は、重合性官能基を有する他の化合物を含む必要がある。シルセスキオキサン化合物が重合性官能基を有する場合には、重合性官能基を有する他の化合物は必ずしも必要ないが、シルセスキオキサン化合物のハンドリング性向上、硬化物の物性調節の目的で含むことができる。重合性官能基を有する他の化合物に含まれる重合性官能基としては、メタアクリロイル基、ビニル基、アリル基などのラジカル重合基もしくはイオン重合基、エポキシ基、オキセタニル基などのカチオン重合基、アルコキシシリル基、シラノール基などの重縮合基などが挙げられる。重合性官能基を有する化合物の具体例としては、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェニルエチルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性メタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、i-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート及びフォスフォエチルメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリブチレングリコールジメタアクリレート、13-ブチレングリコールジメタアクリレート、16-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、22-ビス[4-メタアクリロイルオキシフェニル]-プロパン、22-ビス[4-メタアクリロイルオキシエトキシフェニル]-プロパン、22-ビス[4-メタアクリロイルオキシジエトキシフェニル]-プロパン、22-ビス[4-メタアクリロイルオキシペンタエトキシフェニル]-プロパン、22-ビス[4-メタアクリロイルオキシエトキシ-3-フェニルフェニル]-プロパン、22-ビス[4-メタアクリロイルオキシエトキシ-35-ジブロモフェニルプロパン]、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、テトラメチロールメタントリメタアクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどのメタアクリレート化合物、スチレン、p-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、m-メトキシスチレン、p-クロロスチレン、m-クロロスチレン、α-メチルスチレン、α-メチル-p-メチルスチレン、α-メチル-m-メチルスチレン、α-メチル-p-メトキシスチレン、α-メチル-m-メトキシスチレン、α-メチル-p-クロロスチレン、α-メチル-m-クロロスチレンなどスチレン化合物;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、メチルプロペニルエーテル、エチルプロペニルエーテル、ブチルプロペニルエーテル、メチルブテニルエーテル、エチルブテニルエーテル、N-ビニルアセトアミド、N-ビニルホルムアミド、N-ビニルピペリドン、N-ビニルカルバゾール、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、9-ヒドロキシノニルビニルエーテル、プロピレングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコールモノビニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、グリセロールモノビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパンモノビニルエーテル、ペンタエリスリトールモノビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、トリシクロデカンジオールモノビニルエーテル、トリシクロデカンジメタノールモノビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、グリセロールトリビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテルなどのビニル化合物、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエーテル、アリルグリシジルエーテル、アリルフェニルエーテル、ジアリルエーテル、ジエチレングリコールビスアリルエーテル、アリルアセテート、アリルブチラート、アリルヘキサノエート、アリルカプロエート、アリルクロルアセテート、アリルメタクリレート、ジアリルマレート、ジアリルスクシネート、ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、トリアリルトリメレテート、1,3,5-トリアリルベンゼンカルボン酸、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートなどのアリル化合物、フェニルグリシジルエーテル、p-t-ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、1,2-ブチレンオキサイド、1,3-ブタジエンモノオキサイド、1,2-ドデシレンオキサイド、エピクロロヒドリン、1,2-エポキシデカン、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、3-メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3-アクロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3-ビニルシクロヘキセンオキサイド、4-ビニルシクロヘキセンオキサイド、1,1,3-テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキシルカルボシキレート、ジ3,4-エポキシシクロヘキシルアジペート、フェニルグリシジルエーテル、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、多価アルコールのポリグリシジルエーテルなどのエポキシ化合物、3,3-ジメチルオキセタン、3,3-ビスクロロメチルオキセタン、2-ヒドロキシメチルオキセタン、3-メチル-3-オキセタンメタノール、3-メチル-3-メトキシメチルオキセタン、3-エチル-3-フェノキシメチルオキセタン、レゾルシノールビス3-メチル-3-オキセタニルエチルエーテル、m-キシリレンビス3-エチル-3-オキセタニルエチルエーテル等のオキセタン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルシリケートテトラメトキシシランの部分加水分解縮合物、エチルシリケートテトラエトキシシランの部分加水分解縮合物、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3-メタアクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、p-スチリルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシランなどのアルコキシシラン化合物、これらの化合物を加水分解縮合して得られる、アルコキシシリル基および/またはシラノール基を有するシリコーン化合物などが挙げられる。これらの重合性官能基を有する化合物の中で、特にメタアクリレート化合物が好適である。本発明の硬化性組成物は、重合硬化反応を促進させる為に、重合開始剤を含むことができる。重合開始剤は、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤などの公知のものを使用することができる。具体的に例示すると、ラジカル重合開始剤としては、2,2′-アゾビス2-メチルブチロニトリル、2,2′-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、ジメチル-2,2′-アゾビスイソブチレート、ジメチル-2,2′-アゾビス2-メチルブチレート及びジメチル-2,2′-アゾビス2,4-ジメチルペンタノエート、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過炭酸ナトリウム等であり、また有機過酸化物としてはt-ブチルパーオキシマレイン酸、t-ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化アセチル、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化ターシャリジブチルなどの熱ラジカル重合開始剤、あるいは、33-ジメチル-4-メトキシ-ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、p-ジメチルアミノ安息香酸エチル、ベンゾフェノン、p-メトキシベンゾフェノン、22-ジエトキシアセトフェノン、22-ジメトキシ-12-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパノン-1246-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどの光ラジカル重合開始剤が挙げられる。また、カチオン重合開始剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩、セレニウム塩、ピリジニウム塩、フェロセニウム塩、ホスホニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。これらのうち、特にヨードニウム塩およびスルホニウム塩は、バリエーションが比較的豊富で、安価なものもあるため、好ましい光カチオン重合開始剤である。ヨードニウム塩の具体例としては、トリクミルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、ビスドデシルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビスドデシルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビスドデシルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビスドデシルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、4-メチルフェニル-4-1-メチルエチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、4-メチルフェニル-4-1-メチルエチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-メチルフェニル-4-1-メチルエチルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4-メチルフェニル-4-1-メチルエチルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が挙げられる。また、スルホニウム塩の具体例としては、ビス[4-ジフェニルスルホニオフェニル]スルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、ビス[4-ジフェニルスルホニオフェニル]スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス[4-ジフェニルスルホニオフェニル]スルフィドビステトラフルオロボレート、ビス[4-ジフェニルスルホニオフェニル]スルフィドテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、ジフェニル-4-フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル-4-フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル-4-フェニルチオフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニル-4-フェニルチオフェニルスルホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、ビス[4-ジ4-2-ヒドロキシエトキシフェニルスルホニオフェニル]スルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、ビス[4-ジ4-2-ヒドロキシエトキシフェニルスルホニオフェニル]スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス[4-ジ4-2-ヒドロキシエトキシフェニルスルホニオフェニル]スルフィドビステトラフルオロボレート、ビス[4-ジ4-2-ヒドロキシエトキシフェニルスルホニオフェニル]スルフィドテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルスルホニウム四フッ化ホウ素、トリフェニルスルホニウム六フッ化アンチモン、トリフェニルスルホニウム六フッ化ヒ素、トリ4-メトキシフェニルスルホニウム六フッ化ヒ素、ジフェニル4-フェニルチオフェニルスルホニウム六フッ化ヒ素等が挙げられる。本発明の硬化性組成物は、固形分濃度調整、塗布性向上、基材への密着性向上等を目的として、有機溶媒を含有できる。有機溶媒としては、例えば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、セロソルブ類及び芳香族化合物類が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、1-プロピルアルコール、2-プロピルアルコール、1-ブチルアルコール、2-ブチルアルコール、イソブチルアルコール、tert-ブチルアルコール、ベンジルアルコール、2-メトキシエチルアルコール、2-エトキシエチルアルコール、2-メトキシメトキシエタノール、2-ブトキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エトキシ-2-プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジアセトンアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、2-ペンタノン、3-ペンタノン、2-ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン、4-ヘプタノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アニソール、フェネトール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、12-ジメトキシエタン、12-ジエトキシエタン、12-ジブトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、グリセリンエーテル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸sec-ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、3-メトキシブチルアセテート、2-エチルブチルアセテート、2-エチルヘキシルアセテート、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、γ-ブチロラクトン、2-メトキシエチルアセテート、2-エトキシエチルアセテート、2-ブトキシエチルアセテート、2-フェノキシエチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ベンゼン、トルエン、キシレンが挙げられる。これらの有機溶媒は単独で又は2種以上を併用して使用できる。また、本発明の硬化性組成物は、その他、必要に応じて、無機微粒子、染料、顔料、顔料分散剤、流動調整剤、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤等を含有できる。硬化物本発明の硬化性組成物を重合により硬化させることで硬化物を得ることができる。硬化方法としては、熱ラジカル重合、光ラジカル重合、熱カチオン重合、光カチオン重合、熱重縮合、光重縮合などが好適である。これらの硬化方法において、活性エネルギー線を使用することがより好適である。即ち、本発明の硬化性組成物に、活性エネルギー線を照射することにより、硬化物を製造することができる。ここでいう活性エネルギー線とは、電子線、紫外線、可視光線、赤外線を示す。光源線源としては、電子銃、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、白熱電球、太陽光線、IRヒーターなどが挙げられる。また、加熱炉などの輻射熱を利用することもできる。透明フィルム本発明の硬化性組成物を、押出成形法、キャスティング法など、フィルム製造に広く利用されている方法で所望の膜厚に成膜した後、活性エネルギー線を照射すると、透明フィルムを作製することができる。この透明フィルムは、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、タッチパネル、太陽電池、電子ペーパーなどのエレクトロニクスデバイスのプラスチック基板などに利用できる。積層体本発明は、基材上に本発明の硬化物からなる層が形成された積層体である。この積層体は、例えば、本発明の硬化性組成物を基材に塗布し、重合硬化させることで作製することができる。積層体に使用される基材としては、例えば、プラスチック、金属、缶、紙、木質材、無機質材、及びこれらの基材にプライマー層を形成したものが挙げられる。これらの中で、プラスチック基材が好適であり、中でも、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートなどの透明プラスチック基材が特に好適である。基材への本発明の組成物の塗布方法としては、例えば、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、スピンコート法、フローコート法及び静電塗装法などの公知の方法を用いることができる。硬化方法は、前記の活性エネルギー線の照射が好適である。本発明の積層体は、携帯電話、ノートパソコン等のディスプレイ前面板、ヘッドランプカバー等の自動車部品、車両用プラスチック窓材等の各種用途に好適である。合成樹脂類とシルセスキオキサン化合物のブレンド本発明のシルセスキオキサン化合物は、合成樹脂類にブレンドすることにより、合成樹脂類の改質が期待される。合成樹脂類の具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。以下、本発明を実施例により説明する。但し、本発明は、これらに限定されるものではない。[合成例1]シラン化合物A1の合成窒素置換した2口フラスコに、3-アミノプロピルトリエトキシシラン5.00g22.6mmmolとジブチルヒドロキシトルエンBHT0.025gを加え、氷冷下で撹拌しながら、2-ヒドロキシエチルアクリレート5.25g45.2mmolを滴下した。滴下終了後、40°Cで6時間撹拌した。そこに、3-アミノプロピルトリエトキシシラン1.00g4.52mmolを加え、40°Cで20分撹拌した。得られた生成物をヘキサンで洗浄後、溶媒を減圧留去し、シラン化合物A1を得た。[合成例2]シルセスキオキサン化合物SQ1の合成ナスフラスコに、合成例1で得られたシラン化合物A10.50g1.1mmolとメチルトリエトキシシラン0.196g1.1mmolを加え、窒素置換した後に撹拌しながらメタノール3.6mlを加え溶解し、フッ化水素酸水溶液3.2を0.123ml滴下した。滴下終了後、混合物を室温で2時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。生成物を40°C、800Paで4時間乾燥し、透明固体のSQ1を得た。合成例3シルセスキオキサン化合物SQ2の合成合成例2において、メチルトリエトキシシランの代わりに、ビニルトリエトキシシラン0.21g1.1mmolを用いた以外は同様の手順で、シルセスキオキサン化合物SQ2を定量的に得た。合成例4シルセスキオキサン化合物SQ3の合成合成例2において、メチルトリエトキシシランの代わりに、2-メタクリロキシプロピル0.29g1.1mmolを用いた以外は同様の手順で、シルセスキオキサン化合物SQ3を定量的に得た。[比較合成例1]シルセスキオキサン化合物SQcの合成合成例2において、シラン化合物として、メチルトリエトキシシランを用いず、合成例1で得られたシラン化合物A11.00g2.2mmolだけを用いた以外は同様の手順により、透明固体のSQcを得た。[実施例1]合成例2で得られた化合物SQ125部、エポキシアクリレートナガセケムテックス株式会社製、商品名:デナコールDA31467.5部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート三菱レイヨン株式会社製、商品名:アクリエステルHO7.5部、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オンチバスペシャルティケミカルス株式会社製、商品名:DAROCURE11735部を混合し、硬化性組成物C1を調製した。積層体の作製および評価<積層体の作製>硬化性組成物C1を、基材である長さ10cm、幅5cm、厚み3mmのアクリル樹脂板三菱レイヨン株製、商品名:アクリライトEX上に、バーコートで厚さ10μmになるように塗布した後、コンベアを備えた120W/cmの高圧水銀ランプ株オーク製作所製、紫外線照射装置、商品名:ハンディーUV-1200、QRU2161型を用いて、積算光量3000mJ/cm2の紫外線を照射し、基材上に硬化性組成物の硬化物層が形成された積層体L1を形成した。尚、紫外線照射量は紫外線光量計株オーク製作所製、商品名:UV-351型、ピーク感度波長360nmで測定した。得られた積層体L1の硬化物層について、次の評価を行った。<積層体の硬化物層の評価>1外観目視にて硬化物層の透明性並びにクラック及び白化の有無を観察し、以下の基準で外観を評価した。○:透明で、クラック及び白化などの欠陥の無いもの。×:不透明な部分があるもの又はクラック若しくは白化などの欠陥があるもの。2鉛筆硬度鉛筆引っかき試験JIS-K-5600に準じて硬化物層の鉛筆硬度を評価した。3耐擦傷性ラビングテスター株井元製作所製、商品名:A1566改を使用し、硬化物層の表面を0000スチールウールで、1cm2当たり9.8×104Paの荷重を加えて10往復擦った。次いで、ヘイズメーター日本電色工業株製、商品名:NDH2000で、傷が発生した部分をヘイズメーターでヘイズ値を測定し、試験前のヘイズ値を差し引いた値ΔHzで以下のように評価した。A:ΔHzが5未満B:ΔHzが5以上~10未満C:ΔHzが10以上[実施例2~3および比較例1~2]実施例1において、硬化性組成物の組成比を表1のように変更した以外は、同様の手順で硬化性組成物C2~C5を調製した。次いで、実施例1と同様にして積層体L2~L5を作製して、積層体の硬化物層の評価を実施した。組成物C1~C5の組成を表1に、積層体L1~L5の評価結果を表2に示す。表中の略号は以下の化合物を示す。DA314:エポキシアクリレートナガセケムテックス株製、商品名:デナコールアクリレートDA3142-HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート三菱レイヨン株製、商品名:アクリエステルHOD1173:2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オンチバスペシャルティケミカルス株、商品名:DAROCURE1173"