"ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体を加熱することで脱ハロゲン化を行う、1kg中のハロゲン原子の量が1,000mg以下であるビニル系重合体を製造する方法であって、1脱ハロゲン化を水溶性の塩基性化合物aの存在下で実施した後、2該重合体をaの当量以上の酸性化合物bを含む酸性に調整した水相に接触させることにより塩基性化合物および脱ハロゲン化反応残渣を除去することを特徴とするビニル系重合体の製造方法。ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体がビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合により製造される末端にハロゲンを有するビニル系重合体と、分子内に1つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させることにより、ビニル系重合体の末端の構造をγ-ハロカルボン酸構造、γ-ハロカルボン酸塩構造又はγ-ハロエステル構造に変換したものであることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。そこで本発明はこれらの課題に対し、効率的かつ経済的に原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体を脱ハロゲン化し、ハロゲン量を低減したビニル系重合体を製造する方法を提供するものである。本発明は、ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体を加熱することで脱ハロゲン化を行う、1kg中のハロゲン原子の量が1,000mg以下であるビニル系重合体を製造する方法であって、1脱ハロゲン化を水溶性の塩基性化合物aの存在下で実施した後、2該重合体をaの当量以上の酸性化合物bを含む酸性に調整した水相に接触させることにより塩基性化合物および脱ハロゲン化反応残渣を除去することを特徴とするビニル系重合体の製造方法に関する。ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体がビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合により製造される末端にハロゲンを有するビニル系重合体と、分子内に1つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させることにより、ビニル系重合体の末端の構造をγ-ハロカルボン酸構造、γ-ハロカルボン酸塩構造又はγ-ハロエステル構造に変換したものであることが好ましい。本発明のビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体の加熱による脱ハロゲン化において、1脱ハロゲン化を水溶性の塩基性化合物aの存在下で実施した後、2該重合体をaの当量以上の酸性化合物bを含む酸性に調整した水相に接触させることにより塩基性化合物および脱ハロゲン化反応残渣を除去する製造方法によれば、その除去が問題となるジメチルアセトアミド等の含窒素溶剤または固体状の無機系吸着剤を使用することなく、またエネルギー効率の低下、着色による品質低下が問題となる長時間加熱を行うことなく、効率的かつ経済的にハロゲン量が低減され、ヒドロシリル化反応性組成物としての有用性を示しえるビニル系重合体の製造が可能となる。以下に本発明を詳述する。本発明は原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体以下、ハロゲン含有ビニル系重合体と略すことがあるを脱ハロゲン化して、ハロゲン量を低減したビニル系重合体を製造する方法である。まず始めに原子移動ラジカル重合について詳述する。[原子移動ラジカル重合について]本発明における原子移動ラジカル重合とは、リビングラジカル重合の一つであり、有機ハロゲン化物又はハロゲン化スルホニル化合物を開始剤、遷移金属を中心金属とする金属錯体を触媒としてビニル系モノマーをラジカル重合する方法である。原子移動ラジカル重合法は分子量分子量分布の制御が可能であり、重合末端に精度良くハロゲンを導入することが可能である。原子移動ラジカル重合について具体的に説明する。原子移動ラジカル重合は例えば、Matyjaszewskiら、ジャーナルオブアメリカンケミカルソサエティーJ.Am.Chem.Soc.1995年、117巻、5614頁、マクロモレキュールズMacromolecules1995年、28巻、7901頁,サイエンスScience1996年、272巻、866頁、WO96/30421号公報,WO97/18247号公報、WO98/01480号公報,WO98/40415号公報、あるいはSawamotoら、マクロモレキュールズMacromolecules1995年、28巻、1721頁、特開平9-208616号公報、特開平8-41117号公報などが挙げられる。この原子移動ラジカル重合では、有機ハロゲン化物、特に反応性の高い炭素-ハロゲン結合を有する有機ハロゲン化物例えば、α位にハロゲンを有するカルボニル化合物や、ベンジル位にハロゲンを有する化合物、あるいはハロゲン化スルホニル化合物等が開始剤として用いられる。具体的に例示するならば、C6H5-CH2X、C6H5-CHXCH3、C6H5-CXCH32各式中、C6H5はフェニル基、Xは塩素、臭素、またはヨウ素R3-CHX-CO2R4、R3-CCH3X-CO2R4、R3-CHX-COR4、R3-CCH3X-COR4、各式中、R3、R4は水素原子または炭素数1~20のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基、Xは塩素、臭素、またはヨウ素R3-C6H4-SO2X式中、R3は水素原子または炭素数1~20のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基、Xは塩素、臭素、またはヨウ素等が挙げられる。有機ハロゲン化物又はハロゲン化スルホニル化合物を開始剤としてビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を行うことにより、一般式1で表される基を末端に有するビニル系重合体が得られる。-CR1R2X1式中、R1及びR2はビニル系モノマーのエチレン性不飽和基に結合した基を示す。Xは塩素、臭素又はヨウ素を示す。原子移動ラジカル重合の開始剤として、重合を開始する官能基とともに重合を開始しない特定の反応性官能基を併せ持つ有機ハロゲン化物又はハロゲン化スルホニル化合物を用いることもできる。このような場合、一方の主鎖末端に特定の反応性官能基を、他方の主鎖末端に一般式Aで表される基を有するビニル系重合体が得られる。このような特定の反応性官能基としては、アルケニル基、架橋性シリル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、アミド基等が挙げられる。これらの反応性官能基の反応性を利用して一段階又は数段階の反応を経ることによりビニル系重合体に他の適当な官能基を導入することができる。アルケニル基を有する有機ハロゲン化物としては限定されず、例えば、一般式2に示す構造を有するものが例示される。R6R7CX-R8-R9-CR5=CH22式中、R5は水素、またはメチル基、R6、R7は水素、または、炭素数1~20の1価のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基、または他端において相互に連結したもの、R8は、-COO-エステル基、-CO-ケト基、またはo-,m-,p-フェニレン基、R9は直接結合、または炭素数1~20の2価の有機基で1個以上のエーテル結合を含んでいても良い、Xは塩素、臭素、またはヨウ素置換基R6、R7の具体例としては、水素、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。R6とR7は他端において連結して環状骨格を形成していてもよい。一般式2で示される、アルケニル基を有する有機ハロゲン化物の具体例としては、XCH2COOCH2nCH=CH2、H3CCHXCOOCH2nCH=CH2、H3C2CXCOOCH2nCH=CH2、CH3CH2CHXCOOCH2nCH=CH2、上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、nは0~20の整数XCH2COOCH2nOCH2mCH=CH2、H3CCHXCOOCH2nOCH2mCH=CH2、H3C2CXCOOCH2nOCH2mCH=CH2、CH3CH2CHXCOOCH2nOCH2mCH=CH2、上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、nは1~20の整数、mは0~20の整数o,m,p-XCH2-C6H4-CH2n-CH=CH2、o,m,p-CH3CHX-C6H4-CH2n-CH=CH2、o,m,p-CH3CH2CHX-C6H4-CH2n-CH=CH2、上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、nは0~20の整数o,m,p-XCH2-C6H4-CH2n-O-CH2m-CH=CH2、o,m,p-CH3CHX-C6H4-CH2n-O-CH2m-CH=CH2、o,m,p-CH3CH2CHX-C6H4-CH2n-O-CH2mCH=CH2、上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、nは1~20の整数、mは0~20の整数o,m,p-XCH2-C6H4-O-CH2n-CH=CH2、o,m,p-CH3CHX-C6H4-O-CH2n-CH=CH2、o,m,p-CH3CH2CHX-C6H4-O-CH2n-CH=CH2、上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、nは0~20の整数o,m,p-XCH2-C6H4-O-CH2n-O-CH2m-CH=CH2、o,m,p-CH3CHX-C6H4-O-CH2n-O-CH2m-CH=CH2、o,m,p-CH3CH2CHX-C6H4-O-CH2n-O-CH2m-CH=CH2、上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、nは1~20の整数、mは0~20の整数アルケニル基を有する有機ハロゲン化物としてはさらに一般式3で示される化合物が挙げられる。H2C=CR5-R9-CR6X-R10-R73式中、R5、R6、R7、R9、Xは上記に同じ、R10は、直接結合、-COO-エステル基、-CO-ケト基、または、o-,m-,p-フェニレン基を表すR9は直接結合、または炭素数1~20の2価の有機基1個以上のエーテル結合を含んでいても良いであるが、直接結合である場合は、ハロゲンの結合している炭素にビニル基が結合しており、ハロゲン化アリル化物である。この場合は、隣接ビニル基によって炭素-ハロゲン結合が活性化されているので、R10としてCOO基やフェニレン基等を有する必要は必ずしもなく、直接結合であってもよい。R9が直接結合でない場合は、炭素-ハロゲン結合を活性化するために、R10としてはCOO基、CO基、フェニレン基が好ましい。一般式3の化合物を具体的に例示するならば、CH2=CHCH2X、CH2=CCH3CH2X、CH2=CHCHXCH3、CH2=CCH3CHXCH3、CH2=CHCXCH32、CH2=CHCHXC2H5、CH2=CHCHXCHCH32、CH2=CHCHXC6H5、CH2=CHCHXCH2C6H5、CH2=CHCH2CHX-CO2R、CH2=CHCH22CHX-CO2R、CH2=CHCH23CHX-CO2R、CH2=CHCH28CHX-CO2R、CH2=CHCH2CHX-C6H5、CH2=CHCH22CHX-C6H5、CH2=CHCH23CHX-C6H5、上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、Rは炭素数1~20のアルキル基、アリール基、アラルキル基等を挙げることができる。アルケニル基を有するハロゲン化スルホニル化合物の具体例を挙げるならば、o-,m-,p-CH2=CH-CH2n-C6H4-SO2X、o-,m-,p-CH2=CH-CH2n-O-C6H4-SO2X、上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、nは0~20の整数等である。上記架橋性シリル基を有する有機ハロゲン化物としては特に限定されず、例えば一般式4に示す構造を有するものが例示される。R6R7CX-R8-R9-CHR5CH2-[SiR112bYbO]m-SiR123aYa4式中、R5、R6、R7、R8、R9、Xは上記に同じ。R11、R12は、いずれも炭素数1~20のアルキル基、アリール基、アラルキル基、またはR’3SiO-R’は炭素数1~20の1価の炭化水素基であって、3個のR’は同一であってもよく、異なっていてもよいで示されるトリオルガノシロキシ基を示し、R11またはR12が2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示し、Yが2個以上存在するときそれらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0,1,2,または3を、また、bは0,1,または2を示す。mは0~19の整数である。ただし、amb≧1であることを満足するものとする一般式4の化合物を具体的に例示するならば、XCH2COOCH2nSiOCH33、CH3CHXCOOCH2nSiOCH33、CH32CXCOOCH2nSiOCH33、XCH2COOCH2nSiCH3OCH32、CH3CHXCOOCH2nSiCH3OCH32、CH32CXCOOCH2nSiCH3OCH32、上記の各式において、Xは塩素、臭素、ヨウ素、nは0~20の整数XCH2COOCH2nOCH2mSiOCH33、H3CCHXCOOCH2nOCH2mSiOCH33、H3C2CXCOOCH2nOCH2mSiOCH33、CH3CH2CHXCOOCH2nOCH2mSiOCH33、XCH2COOCH2nOCH2mSiCH3OCH32、H3CCHXCOOCH2nOCH2m-SiCH3OCH32、H3C2CXCOOCH2nOCH2m-SiCH3OCH32、CH3CH2CHXCOOCH2nOCH2m-SiCH3OCH32、上記の各式において、Xは塩素、臭素、ヨウ素、nは1~20の整数、mは0~20の整数o,m,p-XCH2-C6H4-CH22SiOCH33、o,m,p-CH3CHX-C6H4-CH22SiOCH33、o,m,p-CH3CH2CHX-C6H4-CH22SiOCH33、o,m,p-XCH2-C6H4-CH23SiOCH33、o,m,p-CH3CHX-C6H4-CH23SiOCH33、o,m,p-CH3CH2CHX-C6H4-CH23SiOCH33、o,m,p-XCH2-C6H4-CH22-O-CH23SiOCH33、o,m,p-CH3CHX-C6H4-CH22-O-CH23SiOCH33、o,m,p-CH3CH2CHX-C6H4-CH22-O-CH23SiOCH33、o,m,p-XCH2-C6H4-O-CH23SiOCH33、o,m,p-CH3CHX-C6H4-O-CH23SiOCH33、o,m,p-CH3CH2CHX-C6H4-O-CH23-SiOCH33、o,m,p-XCH2-C6H4-O-CH22-O-CH23-SiOCH33、o,m,p-CH3CHX-C6H4-O-CH22-O-CH23SiOCH33、o,m,p-CH3CH2CHX-C6H4-O-CH22-O-CH23SiOCH33、上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素等が挙げられる。上記架橋性シリル基を有する有機ハロゲン化物としてはさらに、一般式5で示される構造を有するものが例示される。R123aYaSi-[OSiR112bYb]m-CH2-CHR5-R9-CR6X-R10-R75式中、R5、R6、R7、R9、R10、R11、R12、a、b、m、X、Yは上記に同じこのような化合物を具体的に例示するならば、CH3O3SiCH2CH2CHXC6H5、CH3O2CH3SiCH2CH2CHXC6H5、CH3O3SiCH22CHX-CO2R、CH3O2CH3SiCH22CHX-CO2R、CH3O3SiCH23CHX-CO2R、CH3O2CH3SiCH23CHX-CO2R、CH3O3SiCH24CHX-CO2R、CH3O2CH3SiCH24CHX-CO2R、CH3O3SiCH29CHX-CO2R、CH3O2CH3SiCH29CHX-CO2R、CH3O3SiCH23CHX-C6H5、CH3O2CH3SiCH23CHX-C6H5、CH3O3SiCH24CHX-C6H5、CH3O2CH3SiCH24CHX-C6H5、上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、Rは炭素数1~20のアルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。上記ヒドロキシル基を持つ有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物としては特に限定されず、下記のようなものが例示される。HO-CH2n-OCOCHRX上記の式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、Rは水素原子または炭素数1~20のアルキル基、アリール基、アラルキル基、nは1~20の整数上記アミノ基を持つ有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物としては特に限定されず、下記のようなものが例示される。H2N-CH2n-OCOCHRX上記の式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、Rは水素原子または炭素数1~20のアルキル基、アリール基、アラルキル基、nは1~20の整数上記エポキシ基を持つ有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物としては特に限定されず、下記のようなものが例示される。上記の式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、Rは水素原子または炭素数1~20のアルキル基、アリール基、アラルキル基、nは1~20の整数ハロゲンを1分子内に2つ以上有する重合体を得るためには、2つ以上の開始点を持つ有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物が開始剤として用いるのが好ましい。具体的に例示するならば、等があげられる。重合触媒として用いられる遷移金属錯体としては特に限定されないが、好ましくは周期律表第7族、8族、9族、10族、または11族元素を中心金属とする金属錯体である。更に好ましいものとして、0価の銅、1価の銅、2価のルテニウム、2価の鉄又は2価のニッケルの錯体が挙げられる。なかでも、銅の錯体が好ましい。1価の銅化合物を具体的に例示するならば、塩化第一銅、臭化第一銅、ヨウ化第一銅、シアン化第一銅、酸化第一銅、過塩素酸第一銅等である。銅化合物を用いる場合、触媒活性を高めるために2,2′-ビピリジル若しくはその誘導体、1,10-フェナントロリン若しくはその誘導体、又はテトラメチルエチレンジアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン若しくはヘキサメチルトリス2-アミノエチルアミン等のポリアミン等が配位子として添加される。また、2価の塩化ルテニウムのトリストリフェニルホスフィン錯体RuCl2PPh33も触媒として好適である。ルテニウム化合物を触媒として用いる場合は、活性化剤としてアルミニウムアルコキシド類が添加される。更に、2価の鉄のビストリフェニルホスフィン錯体FeCl2PPh32、2価のニッケルのビストリフェニルホスフィン錯体NiCl2PPh32、及び、2価のニッケルのビストリブチルホスフィン錯体NiBr2PBu32も、触媒として好適である。原子移動ラジカル重合において用いられるビニル系モノマーとしては特に制約はなく、例えばメタアクリル酸、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸-n-プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸-n-ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸-tert-ブチル、メタアクリル酸-n-ペンチル、メタアクリル酸-n-ヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸-n-ヘプチル、メタアクリル酸-n-オクチル、メタアクリル酸-2-エチルヘキシル、メタアクリル酸ノニル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸ドデシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸トルイル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸-2-メトキシエチル、メタアクリル酸-3-メトキシブチル、メタアクリル酸-2-ヒドロキシエチル、メタアクリル酸-2-ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸ステアリル、メタアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸2-アミノエチル、γ-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、メタアクリル酸のエチレンオキサイド付加物、メタアクリル酸トリフルオロメチルメチル、メタアクリル酸2-トリフルオロメチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチル-2-パーフルオロブチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチル、メタアクリル酸パーフルオロメチル、メタアクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、メタアクリル酸2-パーフルオロメチル-2-パーフルオロエチルメチル、メタアクリル酸2-パーフルオロヘキシルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロデシルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロヘキサデシルエチル等のメタアクリル酸系モノマー;スチレン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン、クロルスチレン、スチレンスルホン酸及びその塩等のスチレン系モノマー;パーフルオロエチレン、パーフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン等のフッ素含有ビニルモノマー;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のケイ素含有ビニル系モノマー;無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル;フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル;マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有ビニル系モノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド基含有ビニル系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等のビニルエステル類;エチレン、プロピレン等のアルケン類;ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類;塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩化アリル、アリルアルコール等が挙げられる。これらは、単独で用いても良いし、複数を共重合させても構わない。なかでも、生成物の物性等から、スチレン系モノマー及びメタアクリル酸系モノマーが好ましい。より好ましくは、アクリル酸エステルモノマー及びメタクリル酸エステルモノマーであり、特に好ましくはアクリル酸エステルモノマーであり、更に好ましくは、アクリル酸ブチルである。本発明においては、これらの好ましいモノマーを他のモノマーと共重合、更にはブロック共重合させても構わなく、その際は、これらの好ましいモノマーが重量比で40含まれていることが好ましい。なお上記表現形式で例えばメタアクリル酸とは、アクリル酸および/あるいはメタクリル酸を表す。原子移動ラジカル重合は、無溶媒でも可能であるが、各種の溶媒中で行うこともできる。溶媒の種類としては特に限定されず、例えば、ベンジエン、トルエン等の炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、アニソール、ジメトキシベンジエン等のエーテル系溶媒;塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンジエン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n-ブチルアルコール、tert-ブチルアルコール等のアルコール系溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらは、単独でもよく、2種以上を併用してもよい。また、エマルション系もしくは超臨界流体CO2を媒体とする系においても重合を行うことができる。限定はされないが、重合は、0~200°Cの範囲で行うことができ、好ましくは、室温~150°C、より好ましくは50~120°Cの範囲である。ハロゲン含有ビニル系重合体の分子量は特に限定されないが、数平均分子量として1,000以上100,000以下が好ましい。下限は5,000以上がより好ましい。上限は50,000以下がより好ましい。ハロゲン含有ビニル系重合体の分子量分布重量平均分子量/数平均分子量は特に限定されないが1.05以上1.50以下が好ましい。下限は1.10以上がより好ましい。上限は1.40以下がより好ましい。重合体の分子量及び分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCを用いた標準ポリスチレン換算法により算出することができる。また、分子内に官能基を有するハロゲン含有ビニル系重合体に対しても好適に脱ハロゲン化できる。官能基としては特に限定されないが、例えば、エチレン性不飽和基、水酸基、シリル基、アミノ基、カルボン酸基、カルボン酸塩基、エポキシ基等が例示される。なかでもエチレン性不飽和基、水酸基が好ましい。重合体1分子あたりの官能基の数については特に限定はないが、下限は0.5以上が好ましく、0.8以上がより好ましく、1.0以上が更に好ましく、1.2以上がより更に好ましく、1.5以上が特に好ましい。上限は5.0以下が好ましく、4.0以下がより好ましく、3.0以下が更に好ましく、2.5以下が特に好ましい。官能基の位置は特に限定されないが官能基を架橋性反応基として利用する場合には分子鎖末端に近い方が好ましく、分子鎖末端に存在することがより好ましい。官能基の導入方法としては特に限定されず、様々な方法が利用される。例えば、1官能基を有するビニル系モノマーを原子移動ラジカル重合条件下で所定のビニル系モノマーと共重合させる方法、2官能基を有するラジカル重合性の低いオレフィン化合物をビニル系重合体の末端ハロゲン基に原子移動ラジカル重合条件下で反応させる方法、3官能基を有する特定の化合物によりビニル系重合体の末端ハロゲン基を置換する方法、等が例示される。ビニル系重合体の分子量、分子量分布、官能基数等の制御が可能で目的に応じたビニル系重合体の分子設計が可能であるという点で特に2の方法が好ましい。次に官能基導入方法2について詳述する。原子移動ラジカル重合の最中又は終点において、官能基を有する重合性の低いオレフィン化合物を添加すると、末端にほぼ1つずつ付加し、その結果として、このオレフィン化合物の有する官能基が重合体の末端に導入される。重合の終点とは、単量体の好ましくは80以上が反応した時点、さらに好ましくは90以上、特に好ましくは95以上、特別に好ましくは99以上が反応した時点である。官能基を有する重合性の低いオレフィン化合物としては以下の一般式6に示される化合物から選ばれる。{上の式中、R15は、水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボン酸基、エステル基、エーテル基、アミド基、シリル基、又は、一般式7:R16は水素原子あるいはメチル基を表すで表される基であり、R13は炭素数1~20の2価の炭化水素基あるいは一般式8:上の式中、R17は酸素原子、窒素原子あるいは炭素数1~20の有機基であり、R18は水素原子あるいはメチル基であり同じでも異なっていてもよいの構造を持つ基であり、且つ、R14は水素原子あるいはメチル基である}一般式6において、R13の具体例としては、-CH2n-nは1~20の整数、-CHCH3-、-CHCH2CH3-、-CCH32-、-CCH3CH2CH3-、-CCH2CH32-、-CH2CHCH3-、-CH2n-O-CH2-nは1~19の整数、-CHCH3-O-CH2-、-CHCH2CH3-O-CH2-、-CCH32-O-CH2-、-CCH3CH2CH3-O-CH2-、-CCH2CH32-O-CH2-、-CH2n-O-CH2m-m、nは1~19の整数、ただし2≦mn≦20、-CH2n-COO-CH2m-m、nは1~19の整数、ただし2≦mn≦20、-CH2n-OCO-CH2m-COO-CH2l-lは0~18の整数、m、nは1~17の整数、ただし2≦lmn≦18、-CH2n-o-,m-,p-C6H4-、-CH2n-o-,m-,p-C6H4-CH2m-mは0~13の整数、nは1~14の整数、ただし1≦mn≦14、-CH2n-o-,m-,p-C6H4-O-CH2m-mは0~13の整数、nは1~14の整数、ただし1≦mn≦14、-CH2n-o-,m-,p-C6H4-O-CHCH3-nは1~12の整数、-CH2n-o-,m-,p-C6H4-O-CHCH32-nは1~11の整数、-CH2n-o-,m-,p-C6H4-COO-CH2m-m、nは1~12の整数、ただし2≦mn≦13、-CH2n-OCO-o-,m-,p-C6H4-COO-CH2m-m、nは1~11の整数、ただし2≦mn≦12、-CH2n-o-,m-,p-C6H4-OCO-CH2m-m、nは1~12の整数、ただし2≦mn≦13、-CH2n-COO-o-,m-,p-C6H4-CH2m-m、nは1~11の整数、ただし2≦mn≦12、等が挙げられる。一般式6において、R14については水素原子あるいはメチル基であるが、水素原子が好ましい。一般式6において、R15としては、以下のような基が例示される。-[SiR212bYbO]m-SiR223aYa式中、R21、R22は炭素数1~20の炭化水素基であって、同一又は異なっていてもよい。R21、R22は、いずれも炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基であって、3個のR′は同一であってもよく、異なっていてもよいで示されるトリオルガノシロキシ基を示し、R21またはR22が2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示し、Yが2個以上存在するときそれらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0,1,2,または3を、また、bは0,1,または2を示す。mは0~19の整数である。ただし、amb≧1であることを満足するものとする。R21、R22としては、具体的には以下のような基が例示される。-CH2n-CH3、-CHCH3-CH2n-CH3、-CHCH2CH3-CH2n-CH3、-CHCH2CH32、-CCH32-CH2n-CH3、-CCH3CH2CH3-CH2n-CH3、-C6H5、-C6H5CH3、-C6H5CH32、-CH2n-C6H5、-CH2n-C6H5CH3、-CH2n-C6H5CH32nは0以上の整数で、各基の合計炭素数は20以下また、Yで示される加水分解性基としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、具体的には、水素、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、酸アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基等が挙げられ、加水分解性がマイルドで取り扱いやすいという点から、アルコキシ基が特に好ましい。該加水分解性基や水酸基は1個のケイ素原子に1~3個の範囲で結合することができ、amb、すなわち、加水分解性基の総和は、1~5の範囲が好ましい。加水分解性基や水酸基がこのシリル基中に2個以上結合するときは、それらは同一であっても、異なっていてもよい。このシリル基を構成するケイ素原子は、1個でもよく、2個以上であってもよいが、シロキサン結合により連結されたケイ素原子の場合には20個程度まであってもよい。その内、アルケニル基を導入するために用いられる、重合性の低いアルケニル基を2つ持つ化合物としては一般式9に示される化合物から選ばれる。上の式中、R13は上述と同じ基であり、R14及びR16は水素原子あるいはメチル基であり同じでも異なっていてもよい一般式9の化合物に特に制約はないが、なかでも、R13が炭素数1~20の2価の炭化水素基である場合、好ましいものとして、以下のものが例示される。nは1~20の整数であるが、原料入手の容易さから、nは2、4、6のものが好ましい。すなわち、1,5-ヘキサジエン、1,7-オクタジエン、1,9-デカジエンが好ましい。この他に、官能基を有する重合性の低いオレフィン化合物としては、アルケニルアルコール又はアルケニルアミンが好ましい。重合性の低いオレフィン化合物が有するシリル基としては特に限定されないが、上記式においてm=0のものが好ましい。アミノ基、水酸基あるいはカルボン酸基を持つ重合性の低いオレフィン化合物を重合末端に反応させる場合には、そのまま反応させても構わないが、それらの基が、重合末端あるいは触媒に影響を与える場合があるので、その場合には保護基をつけた化合物を用いても構わない。保護基としては、アセチル基、シリル基、アルコキシ基などが挙げられる。これらの官能基を導入するために用いられる重合性の低いオレフィン化合物を添加する量は、特に限定されない。これらの化合物はアルケニル基の反応性があまり高くないため、反応速度を高めるためには添加量を増やすことが好ましく、一方、コストを低減するためには添加量は成長末端に対して等量に近い方が好ましく、状況により適正化する必要がある。また、末端にアルケニル基を導入する場合、重合性の低いアルケニル基を2つ以上持つ化合物を添加する量は、重合成長末端に対して過剰量であることが好ましい。等量あるいは末端より少量の場合、2つのアルケニル基の両方ともが反応し、重合末端をカップリングしてしまう可能性がある。2つのアルケニル基の反応性が等しい化合物の場合、カップリングの起こる確率は、過剰に添加する量に応じて統計的に決まってくる。よって、好ましくは1.5倍以上、さらに好ましくは3倍以上、特に好ましくは5倍以上である。[脱ハロゲン化方法について]本発明においては、ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体に対して以下の脱ハロゲン化を行う。従来の脱ハロゲン化としては、例えば特開2000-344831号公報では塩基性化合物の一つであるオキシアニオン化合物による求核置換反応、特開2003-292531号公報では140°C以上250°C以下で加熱処理が知られている。本発明は、水溶性の塩基性化合物a存在下での加熱処理により、分離困難な含窒素溶剤および不溶性固体である無機系吸着剤、無機塩基を使用せず、重合体の変質を抑制しつつハロゲンの除去効率を向上させるとともに水相に接触させることにより塩基性化合物および脱ハロゲン化反応残渣の除去を容易とすることを特徴とする。本発明に用いられる水溶性の塩基性化合物aは、脱ハロゲン化の加速効果および反応後の重合体との混合物から水相への移行性を示すものであれば特に限定されず、例えば、オキシアニオン化合物、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩等の無機塩基があげられる。オキシアニオン化合物としては、一般式10および一般式11で表わされるアルカリ金属のカルボン酸塩、アルコキシドまたはフェノキシドがあげられる。MO-CO-R4010式中、R40は、1個以上のエーテル結合又はエステル結合を含んでいてもよい有機基を表す。Mは、アルカリ金属イオンを表す。MO-R4111式中、R41は、1個以上のエーテル結合若しくはエステル結合を含んでいてもよい有機基を表す。Mは、アルカリ金属イオンを表す。オキシアニオン化合物の具体例としては、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム等のカルボン酸塩;ナトリウムメトキシド、カリウム-t-ブトキシド等のアルコキシド;ナトリウムフェノキシド等のフェノキシドからなる群より選択される少なくとも1種の塩があげられる。無機塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等の水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩があげられる。これらの水溶性の塩基性化合物の中で脱ハロゲン化の効率と水相への移行性の点でナトリウム塩またはカリウム塩が好ましい。本発明ではビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体に上記の水溶性の塩基性化合物aを添加し、この混合状態にて加熱することで脱ハロゲン化を行う。水溶性の塩基性化合物aの添加形態は、特に限定されないが、脱ハロゲン化の効率と水相への移行性の点で固形である場合には粉砕による微粒化、溶剤への溶解または懸濁状態での添加が好ましい。水溶性の塩基性化合物aの添加量は、特に限定されないが、ハロゲン含有ビニル系重合体100重量部に対して0.01~3重量部が好ましい。0.01重量部未満では脱ハロゲン化の効率が不十分となり、3重量部を超える場合では水相に接触させることによる除去における効率が低下して好ましくない。混合状態での加熱は、特に限定されないが、80°C以上250°C以下が好ましい。80°C未満では脱ハロゲン化の効率が不十分となり、250°Cを超える場合ではビニル系重合体の分解又は熱的劣化が起こるため好ましくない。処理時間は、脱ハロゲン化の効率に応じて調整され得るが、数分から数十時間の範囲である。加熱工程での溶剤の有無は特に限定されないが、無溶媒での加熱処理が好ましい。脱ハロゲン化の際に重合体から遊離するハロゲン化合物が製品の品質、製造設備等に悪影響を与える場合には、減圧下でハロゲン化合物を除去しながら脱ハロゲン化を行うのが好ましい。好ましくは減圧度が100torr以下、より好ましくは20torr以下、更に好ましくは10torr以下である。減圧加熱しながら処理を行う場合には表面更新の影響を受けやすいので、攪拌等による良好な表面更新状態で処理を行うことが好ましい。脱ハロゲン化での高温加熱処理により重合体の熱劣化、官能基の導入でアルケニル基等のエチレン性不飽和基を有する重合体でのカップリング等が問題となる場合には、ラジカル捕捉剤の存在下で脱ハロゲン化を行ってもよい。ラジカル捕捉剤として酸素ラジカル捕捉剤又は炭素ラジカル捕捉剤が挙げられる。酸素ラジカル捕捉剤としては従来公知な酸化防止剤、老化防止剤、光安定剤等が使用されてよい。酸化防止剤は各種のものが知られており、例えば大成社発行の酸化防止剤ハンドブック、シーエムシー化学発行の高分子材料の劣化と安定化235~242等に記載された種々のものが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。例えば、MARKPEP-36、MARKAO-23等のチオエーテル系以上いずれもアデカア-ガス化学製、Irgafos38、Irgafos168、IrgafosP-EPQ以上いずれも日本チバガイギー製等のようなリン系酸化防止剤等が挙げられる。なかでも、以下に示したようなヒンダードフェノール系化合物が好ましい。ヒンダードフェノール系化合物としては、具体的には以下のものが例示できる。2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール、2,6-ジ-tert-ブチル-4-エチルフェノール、モノ又はジ又はトリαメチルベンジルフェノール、2,2’-メチレンビス4エチル-6-tert-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス4メチル-6-tert-ブチルフェノール、4,4’-ブチリデンビス3-メチル-6-tert-ブチルフェノール、4,4’-チオビス3-メチル-6-tert-ブチルフェノール、2,5-ジ-tert-ブチルハイドロキノン、2,5-ジ-tert-アミルハイドロキノン、トリエチレングリコール-ビス-[3-3-t-ブチル-5-メチル-4ヒドロキシフェニルプロピオネート]、1,6-ヘキサンジオール-ビス[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]、2,4-ビス-n-オクチルチオ-6-4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルアニリノ-1,3,5-トリアジン、ペンタエリスリチル-テトラキス[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]、2,2-チオ-ジエチレンビス[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]、オクタデシル-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、N,N’-ヘキサメチレンビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ヒドロシンナマミド、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ベンジルフォスフォネート-ジエチルエステル、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルベンゼン、ビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルホスホン酸エチルカルシウム、トリス-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルイソシアヌレート、2,4-2,4-ビス[オクチルチオメチル]o-クレゾール、N,N’-ビス[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニル]ヒドラジン、トリス2,4-ジ-t-ブチルフェニルフォスファイト、2-5-メチル-2-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-[2-ヒドロキシ-3,5-ビスα,α-ジメチルベンジルフェニル]-2H-ベンゾトリアゾール、2-3,5-ジ-t-ブチル-2-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-3-t-ブチル-5-メチル-2-ヒドロキシフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-3,5-ジ-t-ブチル-2-ヒドロキシフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-3,5-ジ-t-アミル-2-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-5’-t-オクチルフェニル-ベンゾトリアゾール、メチル-3-[3-t-ブチル-5-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-ヒドロキシフェニル]プロピオネート-ポリエチレングリコール分子量約300との縮合物、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール誘導体、2-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル-2-n-ブチルマロン酸ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル、2,4-ジ-t-ブチルフェニル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。商品名で言えば、ノクラック200、ノクラックM-17、ノクラックSP、ノクラックSP-N、ノクラックNS-5、ノクラックNS-6、ノクラックNS-30、ノクラック300、ノクラックNS-7、ノクラックDAH以上いずれも大内新興化学工業製、MARKAO-30、MARKAO-40、MARKAO-50、MARKAO-60、MARKAO-616、MARKAO-635、MARKAO-658、MARKAO-80、MARKAO-15、MARKAO-18、MARK328、MARKAO-37以上いずれもアデカアーガス化学製、IRGANOX-245、IRGANOX-259、IRGANOX-565、IRGANOX-1010、IRGANOX-1024、IRGANOX-1035、IRGANOX-1076、IRGANOX-1081、IRGANOX-1098、IRGANOX-1222、IRGANOX-1330、IRGANOX-1425WL以上いずれも日本チバガイギー製、SumilizerGA-80以上いずれも住友化学製等が例示できるがこれらに限定されるものではない。酸化防止剤は光安定剤と併用してもよく、併用することによりその効果を更に発揮し、特に耐熱性が向上することがあるため特に好ましい。予め酸化防止剤と光安定剤を混合してあるチヌビンC353、チヌビンB75以上いずれも日本チバガイギー製などを使用しても良い。従来公知な上述のラジカル捕捉剤は一般的に酸素存在下で効果を発揮するものであるから、酸素存在下での脱ハロゲン化に使用するのが好ましい。減圧下、窒素下等、低酸素濃度で脱ハロゲン化を行う場合には炭素ラジカル捕捉剤の使用が好ましい。炭素ラジカル捕捉剤としてはアクリレート基とフェノール基を併せ持つモノアクリレートフェノール系酸化防止剤、ニトロキシド化合物等が挙げられる。モノアクリレートフェノール系酸化防止剤としては例えば、2-t-ブチル-6-3-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート商品名スミライザーGM、2,4-ジ-t-アミル-6-[1-3,5-ジ-t-アミル-2-ヒドロキシフェニルエチル]フェニルアクリレート商品名スミライザーGSなどが例示される。ニトロキシド化合物としては、限定はされないが、2,2,6,6-置換-1-ピペリジニルオキシラジカルや2,2,5,5-置換-1-ピロリジニルオキシラジカル等、環状ヒドロキシアミンからのニトロキシフリーラジカルが例示される。置換基としてはメチル基やエチル基等の炭素数4以下のアルキル基が適当である。具体的なニトロキシフリーラジカル化合物としては、限定はされないが、2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカルTEMPO、2,2,6,6-テトラエチル-1-ピペリジニルオキシラジカル、2,2,6,6-テトラメチル-4-オキソ-1-ピペリジニルオキシラジカル、2,2,5,5-テトラメチル-1-ピロリジニルオキシラジカル、1,1,3,3-テトラメチル-2-イソインドリニルオキシラジカル、N,N-ジ-t-ブチルアミンオキシラジカル等が挙げられる。ニトロキシフリーラジカルの代わりに、ガルビノキシルgalvinoxylフリーラジカル等の安定なフリーラジカルを用いても構わない。これらの炭素ラジカル捕捉剤のうちモノアクリレートフェノール系酸化防止剤が特に好ましい。脱ハロゲン化の工程は、ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体の原子移動ラジカル重合の反応混合物の状態、重合触媒等の除去工程、官能基の導入等の変換処理工程等の工程を経た後、もしくは、当該工程途中段階であってもよい。本発明の特に好ましい態様においては、脱ハロゲン化は、ハロゲン含有ビニル系重合体において分子内環化反応によるラクトン環を形成させて、それに伴い、有機ハロゲン化物を脱離させることによる。本発明の脱ハロゲン化で使用される水溶性の塩基性化合物aの中でオキシアニオン化合物は、これを用いたハロゲン基に対する求核置換反応により脱ハロゲン化することが特開2000-344831号公報に開示されているが、ジメチルアセトアミド等の含窒素溶剤を使用しない状態、特に無溶剤の減圧下においては求核置換反応が実質的に発生せず、この分子内環化反応を加速する作用があることが明らかとなった。この作用においてオキシアニオン化合物も好適に使用され得る。ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合で製造される末端に一般式1で表される基を有するビニル系重合体は本発明の脱ハロゲン化を適応し得る。-CR1R2X1式中、R1及びR2はビニル系モノマーのエチレン性不飽和基に結合した基を示す。Xは塩素、臭素又はヨウ素を示す。ここでR1及びR2はビニル系モノマーのエチレン性不飽和基に結合した基であるが、メタアクリル酸系モノマーのエチレン性不飽和基に結合した基である場合、高温加熱処理による酸の遊離、分子間カップリング等の変質、ビニル系重合体の官能基への影響が問題となり易く、あらかじめ、特定のハロゲン含有構造に変換しておくことが好ましい。例えば、一般式1で表される基を下記の一般式12で表される基に変換したハロゲン含有ビニル系重合体を用いると、重合体同士のカップリングを抑制しつつ、速やかに脱ハロゲン化を進行させることができる。-CR1R2-CH2-CHX-12式中、R1及びR2はビニル系モノマーのエチレン性不飽和基に結合した基を示す。Xは塩素、臭素又はヨウ素を示す。ここでR1及びR2はビニル系モノマーのエチレン性不飽和基に結合した基であるが、メタアクリル酸系モノマーのエチレン性不飽和基に結合した基である場合、一般式12のハロゲン含有構造はγ-ハロカルボン酸構造、γ-ハロカルボン酸塩構造もしくはγ-ハロエステル構造以下、γ-ハロカルボン酸構造等というとなり、特に脱ハロゲン化が容易となるため、本発明の脱ハロゲン化においてより好ましいハロゲン含有構造である。γ-ハロカルボン酸構造等を有するハロゲン含有ビニル系重合体は、ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合により製造される末端にハロゲンを有するビニル系重合体と、分子内に1つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させることにより製造することができる。γ-ハロカルボン酸構造等としては特に限定されないが、下記一般式13で表される基がより好ましい。-CR50CO2R51-CH2-CHX-CHR52-R5313式中、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、R50は水素原子または炭素数1~10の有機基、R51は水素原子、炭素数1~20の有機基又はアルカリ金属原子、R52は水素原子、水酸基又は有機基、R53は水素原子、水酸基又は有機基R53は水素原子または炭素数1~10の有機基であって、好ましくは水素原子または炭素数1~5の炭化水素基、さらに好ましくは水素原子またはメチル基、最も好ましくは水素原子である。R51は水素原子、炭素数1~20の有機基又はアルカリ金属原子である。炭素数1~20の有機基としては炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基等が例示されるが、1個以上のエーテル結合を有するものであってもよく、炭素数2~20のアルコキシアルキル基等が例示される。R51は、水素原子、アルカリ金属原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルコキシアルキル基が好ましく、水素原子、ナトリウム原子、カリウム原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルコキシアルキル基がより好ましく、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルコキシアルキル基が特に好ましい。R52、R53は水素原子、水酸基、1価若しくは2価の有機基であってR52及びR53は同一又は異なる基であってよい。R52、R53が有機基である場合には1個以上のエーテル結合又は1個以上のエステル結合を含んでいてもよい。また、R52、R53は他端において連結して環状骨格を形成していてもよい。またビニル系重合体等の重合体に結合する2価の有機基であってもよい。またエチレン性不飽和基、水酸基、アミノ基、シリル基等の官能基に結合する2価の有機基であってもよい。R52は水素原子又は炭素数1~20の炭化水素基であることが好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。R53が1価の有機基である場合には炭素数1~20の有機基であることが好ましく、炭素数1~20の炭化水素基が特に好ましい。R53が官能基又は重合体に結合する2価の有機基である場合には炭素数1~20の有機基であることが好ましく、炭素数1~20の炭化水素基が特に好ましい。官能基としてはエチレン性不飽和基又は水酸基が好ましい。一般式13で表される基を有するビニル系重合体は、加熱によってハロゲンXが脱離し、ラクトン環形成を経て脱ハロゲン化する。一般式13におけるR51が炭素数1~20の有機基である場合、ハロゲンXが有機ハロゲン化物として脱離するため、遊離酸の発生を抑制することができる。一般式1で表される基、一般式12で表される基、一般式13で表される基を有するビニル系重合体の製造方法は[原子移動ラジカル重合について]に述べた通り、原子移動ラジカル重合を利用して直接的若しくは間接的に製造することができる。以下に具体的な製造例を示す。一般式1で表される基を有するビニル系重合体は、例えばビニル系モノマーを上述の原子移動ラジカル重合法により重合することで製造される。一般式12で表される基を有するビニル系重合体は一般式1で表される基を有するビニル系重合体を製造し、[原子移動ラジカル重合について]に述べた官能基の導入方法としての2官能基を有するラジカル重合性の低いオレフィン化合物をビニル系重合体の末端ハロゲン基に原子移動ラジカル重合条件下で反応させる方法によっても製造される。一般式13で表されるγ-ハロカルボン酸構造等を有するビニル系重合体は、例えばメタアクリル酸系モノマーの原子移動ラジカル重合により一般式1で表される基を末端に有するビニル系重合体を製造し、重合体の末端ハロゲンに、下記一般式14で表される、分子内に1つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させることにより一般式13で表される基に変換することができる。また、ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合で製造される一般式1で表される基を有するビニル系重合体の末端ハロゲンにペンテン酸、ペンテン酸エステルもしくはペンテン酸塩であるその誘導体を反応させる方法によっても製造される。CH2=CH-CHR52-R5314式中、R52、R53は上記に同じ一般式14で表されるエチレン性不飽和基含有化合物としては特に限定されないが、ラジカル重合活性の低い化合物が好ましい。このような化合物としては炭化水素系化合物が好ましく、例えばCH2=CH-CH2n-CH3nは0~20の整数等のエチレン性不飽和基含有脂肪族炭化水素系化合物、CH=CH-CH2n-C6H5nは1~20の整数等のエチレン性不飽和基含有芳香族炭化水素系化合物が例示される。分子内に複数個のエチレン性不飽和基を有する化合物も好適に使用される。分子内に複数個のエチレン性不飽和基を有する化合物を使用する場合はエチレン性不飽和基と分子鎖末端のモル比を調節することにより、重合体同士のカップリングもしくは重合体へのエチレン性不飽和基の導入が可能となる。このような化合物としては例えば1,7-オクタジエン等の非共役ジエン具体的には上記一般式9で表される化合物ただし式9中、R14及びR16のいずれか一方若しくは両方が水素原子であるが挙げられる。分子内に水酸基、アミノ基等の官能基を有するエチレン性不飽和基含有化合物も好適に使用される。この場合には重合体への水酸基、アミノ基等の官能基の導入が可能となる。[酸性に調整した水相に接触させることによる塩基性化合物および脱ハロゲン化反応残渣の除去方法について]本発明においては、ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体に対して脱ハロゲン化の工程を行った後、以下の脱ハロゲン化で使用された水溶性の塩基性化合物aの当量以上の酸性化合物bを含む酸性に調整した水相に接触させる水溶性の塩基性化合物aおよび脱ハロゲン化反応残渣の除去工程以下、水抽出工程と略すことがあるを行う。従来の脱ハロゲン化においても脱ハロゲン化工程後の不純物除去が行われており、例えば特開2000-191728号公報、実施例4では重合体の酢酸エチル希釈液の水洗すなわち、中性水による水抽出、特開2000-344831号公報および特開2003-292531号公報では重合体溶液への無機系吸着剤の添加混合による吸着の後、沈降、濾過等の固液分離法により分離除去することが知られている。本発明は、脱ハロゲン化において水溶性の塩基性化合物a存在下での加熱処理を行い、この後に使用された水溶性の塩基性化合物aの当量以上の酸性化合物bを含む酸性に調整した水相酸性に調整した水相に接触させることにより、不純物となる塩基性化合物および脱ハロゲン化反応残渣の除去を効率的に行うことを特徴とする。水抽出工程は脱ハロゲン化の後に実施されればよく、脱ハロゲン化に別の処理がなされてもよいが、脱ハロゲン化の工程に引き続いて実施されることが好ましい。本発明における水抽出工程は酸性に調整した水相と重合体または重合体溶液である有機相の液液接触、液液分離の操作を行うこととなり、種々の実施態様が可能であるが、例えば、撹拌混合と液液分離を回分操作で行う回分式のほか、水相と有機相を向流方式で容器に通液する抽出塔方式やスプレー塔方式等も利用できる。さらに必要に応じて撹拌による混合分散に加えて、容器の振とう、超音波の利用など、分散効率を向上させる諸操作を取り入れることができる。2相を混合させる駆動力を必要としない方法として、スプレー塔、充填塔、バッフル塔、多孔板抽出塔、オリフィス塔、スタティックミキサーなどのフローミキサーと呼ばれる方法などが挙げられる。また、駆動力を必要とする方法としては、例えば、脈動式充填塔、脈動式多孔板塔、振動板塔、ポドビルニアク抽出機やルウェスタ抽出機のような遠心式抽出装置があげられる。駆動力として撹拌方式を用いる装置は様々な方式があり、ミキサーセトラー抽出装置や、シャイベル塔、回転円板抽出塔、オルドシュー-ラシュトン塔、ARD塔などがあげられる。また、水相と有機相の液液分離には比重差を利用する静置分離または遠心分離、電気的性質の違いを利用する静電浄油などを用いることができる。水抽出工程における酸性に調整した水相は水と酸性化合物bの混合により得られる。水は重合体の分解等の安定性への悪影響、混合液の乳化等の液液分離性への悪影響がないものであれば特に限定されないが、例えば、50μm以下のフィルターにより固形物を除去した水が好ましく、イオン交換樹脂で処理した純水がより好ましい。酸性化合物bは重合体の安定性、液液分離性への悪影響がなく、水溶性であって脱ハロゲン化に使用された水溶性の塩基性化合物aを中和できるものであれば特に限定はされず、水溶性の一般的な鉱酸、有機酸を用いることができる。鉱酸としては、例えば、塩酸、硫酸、りん酸、有機酸としては、例えば、蟻酸、酢酸等のカルボン酸;p-トルエンスルホン酸等のアルキルスルホン酸;酸性りん酸エステル;ホスホン酸等があげられ、酸性を呈する部分中和物、部分エステル化物もこれに含まれる。酸性化合物bの使用量は、脱ハロゲン化において使用された水溶性の塩基性化合物aに対して当量以上、1.2当量以上の使用が好ましく、2~5当量の使用がより好ましい。水相中の酸性化合物の濃度は特に限定されないが、濃厚水溶液では装置材質に制限が加わる可能性があり、使用される水に対して20重量以下とすることが好ましい。酸性に調整した水相の使用量は特に限定されないが、経済性と操作面から重合体100重量部に対して50~1000重量部の範囲が好ましい。また、酸性に調整した水相は重合体、含有する酸性化合物bの安定性および液液分離性への悪影響が生じない範囲で液液分離性の向上のための電解質および/または溶剤の添加、脱ハロゲン化反応残渣の他、金属成分の除去のための金属キレート剤の添加、発泡の抑制のための消泡剤等の各種添加剤が添加されてもよい。液液分離性の向上のための電解質としては、特に限定されないが、例えば、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウム等の塩化物;硫酸ナトリウム等の硫酸塩があげられる。また、溶剤としては、例えば、エタノール、イソプロパノール等のアルコール;プロピレングリコール等のグリコールがあげられる。水抽出工程において、酸性に調整した水相と接触する脱ハロゲン工程後の重合体は脱ハロゲン工程完了時点の状態であってもよいが、操作面および塩基性化合物aおよび脱ハロゲン化反応残渣の除去の効率を向上のために非水溶性溶剤に溶解することが好ましい。非水溶性溶剤としては、重合体を溶解し、水相に完全混和せず、酸性化合物bおよび水で変質しない溶剤であれば特に限定されず、例えば、n-ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の飽和炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル等のエステル系溶媒;n-ブタノール、n-ペンタノール、n-ヘキサノール等の炭素数4以上のアルコール系溶媒等があげられる。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、液液分離性への悪影響が生じない範囲で水溶性溶剤も併用されてよい。非水溶性溶剤の使用量は特に限定されないが、重合体100重量部に対して通常10~2000重量部の範囲が好ましく、経済性と操作面から50~200重量部の範囲がより好ましい。水抽出工程の操作温度は重合体、使用する酸性化合物の安定性および液液分離性への悪影響が生じない範囲であれば特に限定されないが、0~200°Cであればよく、常圧操作が可能な20~100°Cが好ましい。操作温度を高くすれば、重合体または重合体溶液である有機相の粘度が低下し、有機相の混合時の分散、静置時の合一が効率的となるが、重合体の加水分解等の悪影響の可能性もあり、40~80°Cが特に好ましい。接触を行う時間も特に限定されず、目的とする不純物除去を達成できる範囲内であればよく、5~300分程度で行うことができる。また、分離を行う時間も特に限定されず、目的とする不純物除去を達成できる範囲内であればよく、5~300分程度で行うことができる。水抽出工程における酸性に調整した水相との接触、分離の回数は特に限定されず、目的とする不純物除去を達成できる範囲内であればよく、一回でも数回行ってもかまわない。また、本発明においては、水抽出工程としての重合体と酸性に調整した水相の接触の他に中性または塩基性に調整した水相との接触、固体吸着剤による吸着処理を行ってもかまわない。例えば、本発明における水抽出工程を実施後、重合体中に酸性化合物bの残留の可能性のある場合にこの除去として重合体と中性または塩基性に調整した水相との接触、塩基性固体吸着剤による吸着処理を行ってよい。また、例えば、重合体中にイオン性不純物の残留が問題となる場合には溶解イオン量の少ない純水を用いた水相との接触を数回実施してもよい。重合体と中性または塩基性に調整した水相との接触は上記の酸性に調整した水相との接触と同様の方法を用いることができる。[脱ハロゲン化されたビニル系重合体について]本発明の製造方法による脱ハロゲン化されたビニル系重合体は各種用途に使用される。脱ハロゲン化されたビニル系重合体の分子量は特に限定されないが、数平均分子量として1,000以上10,0000以下が好ましい。脱ハロゲン化されたビニル系重合体の分子量分布は特に限定されないが1.05以上1.60以下が好ましい。本発明の製造方法である水溶性の塩基性化合物存在下での脱ハロゲン化工程の後、酸性に調整した水相に接触させる水抽出工程の実施により、ビニル系重合体中のハロゲン量、不純物量が低減されることから、例えば、該重合体を配合した物品ではイオン性不純物量の低減により電気絶縁性が向上、またハロゲン化水素の発生に起因する金属腐食性が抑制される。酸に対して不安定な加水分解性反応基例えばアルコキシシリル基等を導入したビニル系重合体では安定性が向上する。エチレン性不飽和基を導入したビニル系重合体ではエチレン性不飽和基とヒドロシリル基含有化合物のヒドロシリル化反応の阻害要因が減少し、この反応活性が高くなるためヒドロシリル化反応性組成物の反応性成分としてより有効に利用できる。本発明の製造方法によって脱ハロゲン化された後のビニル系重合体の残ハロゲン量としては、ビニル系重合体1kgに対して1,000mg以下とすることができる。好ましくは600mg以下である。残ハロゲン量は原子吸光分析、イオンクロマトグラフ等の元素分析によって測定できる。[ヒドロシリル化反応性組成物について]ヒドロシリル化反応性組成物は、例えばA分子内にエチレン性不飽和基を有する重合体、Bヒドロシリル基含有化合物よりなり、一般にはヒドロシリル化触媒の存在下、加熱することでA成分のエチレン性不飽和基CH2=C-にB成分のヒドロシリル基Si-Hが付加反応して-CH-CH2-Si結合を形成し得る。A成分に分子内に複数のエチレン性不飽和基を有する重合体、B成分にヒドロシリル基を複数有する化合物を用いた場合、加熱によって速やかに架橋体を形成する硬化性樹脂組成物として用いることができる。また、B成分に加水分解性基とヒドロシリル基を有するヒドロシリル基含有化合物、例えば、一般式15で示される化合物を用いた場合、このヒドロシリル化反応性組成物より加水分解性ケイ素基例えばアルコキシシリル基等を導入したビニル系重合体を得ることができる。この加水分解性ケイ素基を導入したビニル系重合体は湿分により硬化する硬化性樹脂組成物として有用である。H-[SiR602bYbO]m-SiR613aYa15{式中、R60、R61、いずれも炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR’3SiO-R’は炭素数1~20の1価の炭化水素基であって、3個のR’は同一であってもよく、異なっていてもよいで示されるトリオルガノシロキシ基を示し、R60またはR61が2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示し、Yが2個以上存在するときそれらは同一であってもよく、異なっていてもよい。加水分解性基としては、たとえば、水素原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基等があげられる。aは0,1,2,または3を、また、bは0,1,または2を示す。mは0~19の整数である。ただし、amb≧1であることを満足するものとする。}ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合および末端ハロゲン基へのエチレン性不飽和基の導入により得られる尖鋭的な分子構造、すなわち単一的な分子量分布および末端に高選択的に位置するエチレン性不飽和基はヒドロシリル化反応性組成物においては得られる硬化物の破断時強度、破断時伸び等の力学特性に有利に作用するが、このためには充分な架橋度が必要であり、ヒドロシリル化反応の活性以下、シリル化活性と略すことがあるの一層の向上が望まれる。本発明の製造方法によればビニル系重合体中のハロゲン量、不純物量が低減されることでシリル化活性が向上し、この分子構造の有効性をより高めることが可能となる。ヒドロシリル化反応性組成物は、上記のA、B成分に加え、一般的にはCヒドロシリル化触媒を含有してなる。このヒドロシリル化触媒は特に限定されず、例えば、有機過酸化物やアゾ化合物等のラジカル開始剤および遷移金属触媒があげられる。ラジカル開始剤としては特に限定されず、例えば、ジ-t-ブチルペルオキシド、2,5-ジメチル-2,5-ジt-ブチルペルオキシヘキサン、2,5-ジメチル-2,5-ジt-ブチルペルオキシ-3-ヘキシン、ジクミルペルオキシド、t-ブチルクミルペルオキシド、α,α’-ビスt-ブチルペルオキシイソプロピルベンゼンのようなジアルキルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、p-クロロベンゾイルペルオキシド、m-クロロベンゾイルペルオキシド、2,4-ジクロロベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシドのようなアシルペルオキシド、過安息香酸-t-ブチルのような過酸エステル、過ジ炭酸ジイソプロピル、過ジ炭酸ジ-2-エチルヘキシルのようなペルオキシジカーボネート、1,1-ジt-ブチルペルオキシシクロヘキサン、1,1-ジt-ブチルペルオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンのようなペルオキシケタール等があげられる。遷移金属触媒としても特に限定されず、例えば、白金単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に白金固体を分散させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金-オレフィン錯体、白金0-ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体があげられる。白金化合物以外の触媒の例としては、RhClPPh33,RhCl3,RuCl3,IrCl3,FeCl3,AlCl3,PdCl2H2O,NiCl2,TiCl4等が挙げられる。これらの触媒は単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもかまわない。触媒量としては特に制限はないが、A成分のエチレン性不飽和基CH2=CH-1molに対し、101~108molの範囲で用いるのが良く、好ましくは103~106molの範囲で用いるのがよい。108molより少ないと硬化が十分に進行しない。またヒドロシリル化触媒は一般に高価で腐食性であり、また、水素ガスを大量に発生して硬化物が発泡してしまう場合があるので101mol以下とすることが好ましい。A成分のシリル化活性の評価は、例えば、一定のB成分を使用したヒドロシリル化反応性組成物に対して反応速度または反応収率へのC成分使用量、反応温度の依存性を評価し、より少ないC成分使用量、より低い反応温度で高反応速度または高反応収率となるものが高活性であるとする。具体的には、1B成分にヒドロシリル基を複数有する化合物を使用した加熱による硬化性組成物において、一定温度下にて一定ゲル化時間を示すC成分使用量を評価し、この使用量のより少ないものを高活性とする。また、2B成分に一般式29で示される一個のヒドロシリル基を有する化合物を用いる、加水分解性ケイ素基を導入したビニル系重合体の製造において、一定温度下、一定時間、一定C成分使用量にて反応収率、例えばA成分のエチレン性不飽和基の消失量を1H-NMRで定量評価し、この反応収率のより高いものを高活性とする。以下に、本発明の具体的な実施例を比較例と併せて説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。[分子量測定法]ビニル系重合体の数平均分子量Mnおよび分子量分布重量平均分子量と数平均分子量の比Mw/Mnは、システムとしてウォーターズWaters社製GPCシステムを用い、カラムに昭和電工株製ShodexK-804ポリスチレンゲルを用い、クロロホルムを移動相として、ポリスチレン換算の分子量を求めた。[末端官能基分析方法]ビニル系重合体末端のエチレン性不飽和基量は、日本分光株製JNMLA400を使用し、重クロロホルム溶液に対する1H-NMRのピーク積分値から算出した。[臭素含有量分析方法]ビニル系重合体中の臭素含有量は、イオンクロマトグラムダイオネスク社製DX-500GP40、ED40を用いて酸素フラスコ燃焼法により測定した。臭素含有量の低いものほど脱ハロゲンおよび精製の効率に優れることを表す。[ヒドロシリル化反応率]撹拌機、ジャケット付きの反応槽に末端にエチレン性不飽和基を有するビニル系重合体を仕込み、窒素置換の後、オルトギ酸メチルをエチレン性不飽和基に対して1mol当量、ビス1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体触媒のキシレン溶液を白金金属量として重合体1kgに対して10mg、メチルジメトキシシランをエチレン性不飽和基に対して3mol当量を順に加え混合し、窒素雰囲気下、100°Cで3時間加熱攪拌した後、減圧脱気して揮発分を除去し、加水分解性ケイ素基としてメチルジメトキシシリル基を導入したビニル重合体を得た。1H-NMRによるエチレン性不飽和基量の分析からヒドロシリル化反応率として反応による消失量/初期の含有量×100[]を算出した。ヒドロシリル化反応率の高いものほどシリル化活性が高く、脱ハロゲンおよび精製の効率に優れることを表す。[50°C貯蔵時増粘率]ヒドロシリル化反応率の評価で得た加水分解性ケイ素基としてメチルジメトキシシリル基を導入したビニル系重合体10gに水0.04gを加えて混合後、容積20mlのガラス製サンプルびんに充填し、密栓下、50°Cにて2週間貯蔵した。貯蔵前後の重合体の粘度測定値から増粘率として貯蔵後粘度-初期粘度/初期粘度×100[]を算出した。重合体の粘度は、東機産業株製RE80U型粘度計を用い、測定温度23°Cにて測定した。増粘率の低いものほど加水分解性ケイ素基を不安定化させる残留ハロゲンおよび不純物が少なく、脱ハロゲンおよび精製の効率に優れることを表す。[色差ΔEab]ヒドロシリル化反応率の評価で得た加水分解性ケイ素基としてメチルジメトキシシリル基を導入したビニル系重合体を1cm角の透明ポリスチレン製セルに充填し、日本電色工業株製COH-300A型色差濁度測定器を用いてJISZ8722に準拠した透過物体色を測定した。この測定値から純水の測定値を基準としてJISZ8730に準拠した色差ΔEab値を算出した。色差ΔEab値の低いものほど着色が低く、外観に優れていることを表す。製造例1原子移動ラジカル重合、末端官能基導入およびハロゲン含有構造変換撹拌機、ジャケット付きの反応槽に臭化第一銅084kgを仕込み、反応容器内を窒素置換した。アセトニトリル8.79kgを加え、ジャケットに温水を通水し80°Cで30分間攪拌した。これにアクリル酸ブチル100kg、2,5-ジブロモアジピン酸ジエチル351kgを加え、さらに80°Cで25分間撹拌した。これにペンタメチルジエチレントリアミン以下、トリアミンと表すを加え、反応を開始した。反応途中トリアミンを総量0.15kgとなるよう適宜添加して重合を行った。アクリル酸ブチルの転化率が95以上の時点で未反応のアクリル酸ブチルおよびアセトニトリルを減圧脱揮により除去した。この濃縮物に1,7-オクタジエン21kg、アセトニトリル35kg、トリアミン0.68kgを添加して80°Cで6時間撹拌した後、反応容器気相部に酸素‐窒素混合ガスを導入して80°Cでさらに数時間攪拌して反応液中の重合触媒と酸素を接触させた。この重合体反応液の未反応のオクタジエンおよびアセトニトリルを80°Cで減圧脱揮により除去して末端にエチレン性不飽和基およびγ-ブロモエステル構造を有する臭素含有ビニル系重合体[1]を得た。製造例2重合触媒の除去工程撹拌機、ジャケット付きの反応槽に製造例1による臭素含有ビニル系重合体[1]1kg、n-ブタノール2kgを仕込み、ジャケットに温水を通水し50°Cで撹拌して溶解させた。これに硫酸0.1重量、硫酸ナトリウム1重量を含有する水溶液2kgを加え、50°Cで30分間撹拌した後、0.5~1時間静置することにより油相、水相の2相に分離させ、下層となる水相を反応槽下部より取り出した。これに1重量硫酸ナトリウム水溶液2kgを加え、同様に撹拌、静置して油相、水相の2相に分離させ、油相を回収した。この油相を90°Cで減圧脱気して揮発分を除去し、重合触媒が除去された末端にエチレン性不飽和基およびγ-ブロモエステル構造を有する臭素含有ビニル系重合体[2]を得た。この臭素含有ビニル系重合体は、GPCによる分子量測定から数平均分子量Mnが12800、分子量分布Mw/Mnが1.15、1H-NMRによるエチレン性不飽和基量が重合体1分子あたり2.1個であった。実施例1脱ハロゲン化工程撹拌機を備えた4つ口フラスコに臭素含有ビニル系重合体[2]100g、住友化学株製スミライザーGS0.1g、酢酸カリウム0.1g重合体100gあたり1.0mmol当量を仕込み、オイルバスにより180°Cに加熱、2~4torrの減圧下で4時間撹拌した。水抽出工程攪拌機、ジャケット付きの反応槽に脱ハロゲン工程後の重合体80g、n-ブタノール160gを仕込み、ジャケットに温水を通水し50°Cで撹拌して溶解させた。これに0.1重量硫酸水溶液160g重合体100gあたり4.1mmol当量を加え、50°Cで30分間撹拌した後、0.5~1時間静置することにより油相、水相の2相に分離させ、下層となる水相を反応槽下部より取り出した。これに純水160gを加え、同様に50°Cで撹拌、静置して油相、水相の2相に分離させ、水相を取り出す抽出操作を2回行った後、油相を回収した。この油相を90°Cで減圧脱気して揮発分を除去し、末端にエチレン性不飽和基を有する脱ハロゲン化されたビニル系重合体Aを得た。Aの臭素含有量、ヒドロシリル化反応率、ヒドロシリル化反応率の評価で得た加水分解性ケイ素基としてメチルジメトキシシリル基を導入したAの50°C貯蔵時増粘率、目視外観による着色、色差ΔEabの各評価結果を表1に示す。実施例2実施例1の脱ハロゲン化工程での酢酸カリウム量を1g重合体100gあたり10.2mmol当量とし、水抽出工程を0.7重量硫酸水溶液による抽出操作1回重合体100gあたり28.5mmol当量、純水による抽出操作3回とした以外は同様に実施して脱ハロゲン化されたビニル系重合体Bを得た。各評価結果を表1に示す。実施例3実施例1の脱ハロゲン化工程での酢酸カリウムの代わりに炭酸水素ナトリウム0.7g重合体100gあたり5.1mmol当量を用い、水抽出工程を0.5重量硫酸水溶液による抽出操作1回重合体100gあたり20.4mmol当量、純水による抽出操作2回とした以外は同様に実施して脱ハロゲン化されたビニル系重合体Cを得た。各評価結果を表1に示す。比較例1実施例1の水抽出工程を純水による抽出操作3回とした以外は同様に実施して脱ハロゲン化されたビニル系重合体Dを得た。各評価結果を表1に示す。比較例2実施例1の水抽出工程を0.01重量硫酸水溶液による抽出操作1回重合体100gあたり0.41mmol当量、純水による抽出操作2回とした以外は同様に実施して脱ハロゲン化されたビニル系重合体Eを得た。各評価結果を表1に示す。比較例3実施例1の脱ハロゲン化工程で酢酸カリウムを使用せず、水抽出工程を純水による抽出操作3回とした以外は同様に実施して脱ハロゲン化されたビニル系重合体Fを得た。各評価結果を表1に示す。比較例4比較例3の脱ハロゲン化工程での180°C加熱減圧下での撹拌時間を14時間に延長した以外は同様に実施して脱ハロゲン化されたビニル系重合体Gを得た。各評価結果を表1に示す。脱ハロゲン化工程で、0.1~1重量部の水溶性塩基物質を使用し、水抽出工程で水溶性塩基物質に対して2.8~4当量の硫酸水溶液による抽出を行った実施例1~3は、水溶性塩基物質を使用していない比較例3より、脱ハロゲンの効率が向上しており、ヒドロシリル化反応性組成物としての十分なシリル化活性、かつ加水分解性ケイ素基含有重合体における十分な貯蔵安定性を示すビニル系重合体が得られている。さらに色差ΔEabが低く、外観にも優れている。また、水抽出工程で中性水を用いる比較例1および0.4当量の硫酸酸性水を用いる比較例2は、ヒドロシリル化反応率70以下であり、水抽出工程での不純物除去が不十分である。さらに、脱ハロゲン化工程で水溶性塩基物質を使用せず、加熱減圧を14時間とした比較例4は、脱ハロゲンおよび精製度に問題はないが、180°Cでの加熱を長時間行うため、エネルギー効率が悪く、色差ΔEabが51であり、かつ目視で黒色が強く、外観に劣っている。以上より、本発明のビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体の加熱による脱ハロゲン化において、1脱ハロゲン化を水溶性の塩基性化合物の存在下で実施した後、2該重合体を酸性に調整した水相に接触させることにより塩基性化合物および脱ハロゲン化反応残渣を除去する製造方法によれば、その除去が問題となるジメチルアセトアミド等の含窒素溶剤または固体状の無機系吸着剤を使用することなく、またエネルギー効率の低下、着色による品質低下が問題となる長時間加熱を行うことなく、効率的かつ経済的にハロゲン量が低減され、ヒドロシリル化反応性組成物としての有用性を示しえるビニル系重合体の製造が可能となることが明白である。"