"回転する出発材又は火炎を噴出するバーナを相対的に成長軸方向に沿って往復トラバースさせながら、前記火炎によってガラス原料ガス及び火炎形成ガスを加熱してガラス微粒子を生成するとともに、該ガラス微粒子を前記出発材に堆積させてガラス微粒子堆積体を製造する製造方法であって、トラバース毎に堆積するガラス微粒子層の厚みを、隣接し合う層で異なるように堆積させることを特徴とするガラス微粒子堆積体の製造方法。前記出発材又は前記バーナのトラバース速度、前記ガラス原料ガスの供給量、前記火炎形成ガスの供給量のうちの少なくとも一つを変化させ、トラバース毎に堆積するガラス微粒子層の厚みを、隣接し合う層で異なるように堆積させることを特徴とする請求項1に記載のガラス微粒子堆積体の製造方法。少なくとも2層以上の複数層の周期で規則的にガラス微粒子堆積層の厚さを変化させることを特徴とする請求項1または2に記載のガラス微粒子堆積体の製造方法。前記出発材又は前記バーナのトラバース速度、前記ガラス原料ガスの供給量、前記火炎形成ガスの供給量のうちの少なくとも一つを、2値以上の設定値の間で変化させることを特徴とする、請求項2に記載のガラス微粒子堆積体の製造方法。前記設定値を、二進疑似乱数列に従って変化させることを特徴とする請求項4記載のガラス微粒子堆積体の製造方法。前記二進疑似乱数列がM系列であることを特徴とする請求項5記載のガラス微粒子堆積体の製造方法。請求項1~6に記載のガラス微粒子堆積体の製造方法において、さらに前記出発材の回転速度を、前記出発材又は前記バーナのトラバース中に変化させることを特徴とするガラス微粒子堆積体の製造方法。前記ガラス微粒子堆積体が、光ファイバ用ガラス母材のコア部又はジャケット部を合成するものであることを特徴とする請求項1乃至7何れか1項記載のガラス微粒子堆積体の製造方法。前記請求項1乃至8何れか1項記載の製造方法で製造されたガラス微粒子堆積体により製造されたことを特徴とする光ファイバ用ガラス母材。前記請求項9に記載の光ファイバ用母材を線引きしてなることを特徴とする光ファイバ。しかしながら、特許文献1の従来技術では、スリットの幅や向きを適切に設計しないと0次光のみを選択的に取り出すことは難しい。例えばスリット幅が大きすぎると高次回折光まで透過させてしまうし、スリット幅が小さすぎると信号光である0次光さえも遮断してしまう、いう問題がある。また、特許文献2の従来技術では、基本的に光ファイバ用ガラス母材の脈理の構造が非常に細かく複雑なため、その構造に合わせて最適なPA測定レーザ光のビーム径を選択しつつPA測定を行うのは非常に難しく、しかも、複雑な制御を要するという問題がある。また、特許文献3の技術では、1回転あたり、1トラバースあたりに堆積される層の厚みを薄くしているため、製造性が犠牲となり、製造コストが高くなる、という問題がある。本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、入射するPA測定レーザ光の回折による干渉の発生を防ぐことができること、PA測定レーザ光の回折による干渉の発生を防ぐことで正確な屈折率構造をPA測定できること、正確な屈折率構造をPA測定することでこのPA測定結果から計算される特性値の誤差を小さくすることができること等が、本発明の目的である。このような目的を達成するために、本発明によるガラス微粒子堆積体の製造方法は、以下の構成を具備するものである。回転する出発材又は火炎を噴出するバーナを相対的に成長軸方向に沿って往復トラバースさせながら、前記火炎によってガラス原料ガス及び火炎形成ガスを加熱してガラス微粒子を生成するとともに、該ガラス微粒子を前記出発材に堆積させてガラス微粒子堆積体を製造する製造方法であって、トラバース毎に堆積するガラス微粒子層の厚みを、隣接し合う層で異なるように堆積させることを特徴とする。前記出発材又は前記バーナのトラバース速度、前記ガラス原料ガスの供給量、前記火炎形成ガスの供給量のうちの少なくとも一つを変化させ、トラバース毎に堆積するガラス微粒子層の厚みを、隣接し合う層で異なるように堆積させることが好ましい。また、少なくとも2層以上の複数層の周期で規則的にガラス微粒子堆積層の厚さを変化させることが好ましい。また、前記出発材又は前記バーナのトラバース速度、前記ガラス原料ガスの供給量、前記火炎形成ガスの供給量のうちの少なくとも一つを、2値以上の設定値の間で変化させることが好ましい。また、前記設定値を、二進疑似乱数列に従って変化させることが好ましく、この二進疑似乱数列がM系列であることが好ましい。さらに前記出発材の回転速度を、前記出発材又は前記バーナのトラバース中に変化させることが好ましい。前記ガラス微粒子堆積体が、光ファイバ用ガラス母材のコア部又はジャケット部を合成するものであることが好ましい。また、前記の製造方法で製造されたガラス微粒子堆積体により製造されたことを特徴とする光ファイバ用ガラス母材である。また、前記光ファイバ用母材を線引きしてなることを特徴とする光ファイバである。このような特徴を有することで本発明は、以下の効果を奏する。すなわち、トラバース毎に堆積するガラス微粒子層の厚みを隣接し合う層で異なるように堆積させるようにしたので、脈理の周期層の厚みがランダムになり、入射するPA測定レーザ光の回折による干渉の発生を防ぐことができる。PA測定レーザ光の回折による干渉の発生を防ぐことで、正確な屈折率構造を測定することができ、このPA測定結果から計算される特性値の誤差を小さくすることができる。本発明の出発材は、出発棒、ターゲットロッド等と呼ばれ、アルミナ等のセラミックや石英ガラス製のロッド又はパイプである。また、本発明のガラス原料は、例えば、高純度のGeCl4及び高純度のSiCl4等である。また、本発明の火炎形成ガスは、例えば、O2が製造される、この光ファイバ用ガラス母材を線引きする前に、コア相当部分で所定の屈折率分布が形成できているか否かを確認するためPA測定を行う。以下では、本発明による製造方法で製造されたガラス微粒子堆積体3から製造した光ファイバ用ガラス母材の屈折率分布と、従来の製造方法で製造されたガラス微粒子堆積体から製造した光ファイバ用ガラス母材の屈折率分布とをPA測定によって測定し、両者を比較した結果について説明する。実施例及び比較例の光ファイバ用ガラス母材は、共に、ガラス原料としてGeCl4及び高純度のSiCl4を、火炎形成ガスとしてO2及びH2等を用いて、図1に示すOVD法によりガラス微粒子堆積体3を製造し、このガラス微粒子堆積体3を加熱焼結して製造された光ファイバ用ガラス母材である。このように製造したガラス微粒子堆積体3から製造した光ファイバ用ガラス母材における比屈折率差の変動として現れる脈理構造を図2、に示し、この光ファイバ用ガラス母材をPA測定した結果を図3、に示す。比較例の製造方法は、スス付け時における出発材2のトラバース速度を1000mm/minに統一し、Δn≒1となるようにGeを添加してなるガラス微粒子堆積体3から光ファイバ用ガラス母材を製造するものである。この光ファイバ用ガラス母材は、スス付け時における出発材2のトラバース速度が一定であることから、図2に示すように、隣接し合う層が10umの厚みで均一に揃っており、一定周期の脈理が発生している。このような、光ファイバ用ガラス母材をPA測定した結果、図3に示すように、屈折率分布の中心部に潰れAが発生していることが示されている。この潰れAは、光ファイバ用ガラス母材に10um周期の脈理が生じ、PA測定時にこの周期的な屈折率変化によって入射するPA測定レーザ光が回折し、この回折による干渉によってPA測定が正しく行われなかったために生じたものと判断できる。したがって、比較例の製造方法により製造されたガラス微粒子堆積体3は、入射するPA測定レーザ光の回折による干渉が生じ、正しい屈折率分布を測定できない光ファイバ用ガラス母材が製造されてしまうものである。比較例の製造方法に対して実施例の製造方法は、2層周期でトラバース速度を1200mm/minと800mm/minで交互に変化させ、Δn≒1となるようにGeを添加してなるガラス微粒子堆積体3から光ファイバ用ガラス母材を製造するものである。この光ファイバ用ガラス母材は、2層周期でトラバース速度を1200mm/minと800mm/minで交互に変化させていることから、図2に示すように、隣接し合う層が交互に8umと12umの厚みで繰り返されるようになっており、層の厚みが2層ごとに変化する周期の脈理が発生している。このような、光ファイバ用ガラス母材をPA測定した結果、図3に示すように、屈折率分布に潰れAがないことが示された。すなわち、PA測定レーザ光の入射ビーム径が20um程度である場合、そのビーム径内では脈理の周期は不規則となるので、回折による干渉が発生しにくくなり、屈折率分布に潰れAが発生せず、PA測定が正確にできたものと判断できる。図4、、図5b1、b2、図6c1、c2、図7d1、は、実施例1~3及び比較例の光ファイバ用ガラス母材における比屈折率差の変動として現れる脈理構造を模式的に示したものであり、何れも、バーナ1が2トラバースする間に出発材2が8回転する条件で製造した場合にどのような脈理が発生するかを示している。図4、は、比較例の光ファイバ用ガラス母材に生じる脈理構造を示している。この光ファイバ用ガラス母材は、トラバース速度を一定とするとともに、回転速度も一定として、1トラバースでススの層が1層形成される間に出発材2を4回転させて製造したガラス微粒子堆積体3から製造されたものである。図4は、4トラバースで形成される範囲の脈理を示しており、1トラバースで10umの厚さの層が形成され、各層毎にさらに回転に起因する4回の脈理が繰り返されている。図4は、2トラバースで形成される範囲の脈理を拡大して示しており、トラバース速度が一定であり、1トラバース中に等速で4回の回転が行われるため、回転起因の脈理が同じ厚みの一定周期で8回繰り返されるように生じている。図5、は、実施例1の光ファイバ用ガラス母材に生じる脈理構造を示している。この光ファイバ用ガラス母材は、2種類のトラバース速度を1層毎に交互に変化させ、回転速度は比較例と同じように、一定の速度で製造したガラス微粒子堆積体3から製造されたものである。図5は、4トラバースで形成される範囲の脈理を示しており、トラバース速度を1層毎に、2層周期で変化させているため、1トラバースで8umの厚さの層と、1トラバースで12umの厚さの層とが繰り返されるように形成され、2トラバースの間にさらに8回の脈理が繰り返されている。図5は、2トラバースで形成される範囲の脈理を拡大して示しており、回転起因の脈理が同じ厚みの一定周期で8回繰り返されるように生じている。図6、は、実施例2の光ファイバ用ガラス母材に生じる脈理構造を示している。この光ファイバ用ガラス母材は、2種類のトラバース速度を1層毎に交互に変化させるとともに、回転速度をトラバース中に2値間で変化させて製造したガラス微粒子堆積体3から製造されたものである。図6は、4トラバースで形成される範囲の脈理を示しており、トラバース速度を1層毎に、2層周期で交互に変化させているため、1トラバースで8umの層と、1トラバースで12umの厚さの層とが繰り返されるように形成され、2トラバースの間にさらに8回の脈理が繰り返されている。図6は、2トラバースで形成される範囲の脈理を拡大して示しており、回転起因の脈理が、2um、3umの厚みで、交互に8回繰り返されるように生じている。図7、は、実施例3の光ファイバ用ガラス母材に生じる脈理構造を示している。この光ファイバ用ガラス母材は、2種類のトラバース速度を1層毎に交互に変化させるとともに、回転速度をトラバース中に4値間で変化させて製造したガラス微粒子堆積体3から製造されたものである。図7は、4トラバースで形成される範囲の脈理を示しており、トラバース速度を1層毎に、2層周期で交互に変化させているため、1トラバースで8umの層と、1トラバースで12umの厚さの層とが繰り返されるように形成され、2トラバースの間にさらに8回の脈理が繰り返されている。図7は、2トラバースで形成される範囲の脈理を拡大して示しており、回転起因の脈理が、1.5um、3.5um、2um、3umの厚みで、計8回繰り返されるように生じている。したがって、実施例1~3の製造方法は、バーナ1のトラバース速度を変化させることで、堆積するガラス微粒子層の厚みを隣接し合う層で異ならせているため、比較例のような一定周期の脈理による周期的変化を崩して、光ファイバ用ガラス母材内に不定周期の脈理を形成することができている。また、実施例2,3のように、回転周期も変えることにより、より周期性を崩すことができる。よって、実施例の製造方法は、入射するPA測定レーザ光の回折現象による干渉の発生を防ぐことができ、正確な屈折率構造をPA測定できるガラス微粒子堆積体3を製造することができる。また、実施例の製造方法で製造されたガラス微粒子堆積体3から製造された光ファイバ用ガラス母材は、正確な屈折率構造をPA測定できるので、このPA測定結果から計算される特性値の誤差を小さくすることができる。実施例1~3におけるスス付け時の出発材2のトラバース速度や出発材2の回転速度を変化させる方法は、例えば、M系列やM系列以外の二進疑似乱数列を用いる方法が挙げられる。尚、M系列は、疑似的なホワイトノイズを発生する疑似ランダムパターンであって、単純パターン化されたものである。すなわち、実施例のように出発材2の回転速度やバーナ1のトラバース速度を変化させる際に、このM系列を採用することは、スス付け作業を行うための設備に簡単に装備することができる。尚、本発明は、例示した実施の形態に限定するものではなく、特許請求の範囲の各項に記載された内容から逸脱しない範囲の構成による実施が可能である。例えば、バーナ1のトラバース速度や出発材2の回転速度を変化させることで、不定周期の脈理を形成し、この不定周期の脈理による不定期的な屈折率変化を生じさせる製造方法に限らず、原料ガスの投入量を変化させること、火炎形成ガスの流量を変化させること等で、不定周期の脈理を形成し、この不定周期の脈理による不定期的な屈折率変化を生じさせる製造方法としてもよい。また、バーナ1のトラバース速度や出発材2の回転速度を他の条件によるM系列に従って変化させること、出発材2の回転速度をM系列以外の二進疑似乱数列に従って変化させること、バーナ1のトラバース速度や出発材2の回転速度を3値以上の有限個の設定値で変化させること等で、不定周期の脈理を形成し、この不定周期の脈理による不定期的な屈折率変化を生じさせる製造方法としてもよい。また、OVD法のような外付け法によるガラス微粒子堆積体の製造方法に限らず、MCVD法やPCVD法等のような内付け法によって、ガラス管の内側にガラス微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体を製造する製造方法としてもよい。また、製造されるガラス微粒子堆積体は、光ファイバ用ガラス母材のコア部を製造するものに限らず、光ファイバ用ガラス母材のジャケット部を製造するものであってもよい図示せず。"