"上面にワークが載置されるテーブルと、該テーブルの両側に起立する一対のZ軸駆動機構と、前記テーブルの上方で前記一対のZ軸駆動機構間に横架されたビームと、該ビームの両端部を前記一対のZ軸駆動機構に対して回動可能に支持する一対の回動支持部と、を有することを特徴とするステージ装置。前記一対の回動支持部のうち何れか一方を前記ビームに対してスライド可能に支持するスライド部を有することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。前記一対のZ軸駆動機構は、前記ビームの荷重を支えるシリンダと、該シリンダ内の圧力を一定に保つ圧力調整手段とを有することを特徴とする請求項1または2に記載のステージ装置。前記ビームと前記テーブル上面との距離を検出する一対の検出手段と、該一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記一対のZ軸駆動機構を駆動させる制御手段と、を有することを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載のステージ装置。前記テーブルを水平方向に移動させる水平方向駆動手段を有することを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載のステージ装置。前記一対のZ軸駆動機構は、モータ駆動力を前記ビームに伝達するボールねじ機構を有し、前記ボールねじ機構を介して前記ビームを昇降させることを特徴とする請求項1乃至5に記載のステージ装置。テーブルと、該テーブルの上方に横架されたビームを有するガントリ部と、を有するガントリ型ステージ装置において、前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整するZ軸調整機構を前記ガントリ部に設けたことを特徴とするガントリ型ステージ装置。前記Z軸調整機構は、前記ビームの両端部を回動可能に支持する一対の回動支持部と、前記一対の回動支持部のうち何れか一方を前記ビームに対してスライド可能に支持するスライド部と、を有することを特徴とする請求項7に記載のガントリ型ステージ装置。前記一対のZ軸駆動機構は、前記ビームの荷重を支えるシリンダと、該シリンダ内の圧力を一定に保つ圧力調整手段とを有することを特徴とする請求項7または8に記載のガントリ型ステージ装置。テーブルを水平方向に移動させる工程と、前記テーブルの上方に対向するように設けられたビームと前記テーブルとの距離を計測し、計測結果を記憶する工程と、前記計測結果に基づいて前記該一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整する工程と、を有することを特徴とするステージ装置の制御方法。上記従来のステージ装置では、ビームの両端部がボールねじ機構を介して昇降可能に支持される構成であるため、例えば、基板の大型化に伴ってビームの全長が長くなると、ボールねじ機構にかかる荷重も増大することになり、ボールねじ機構だけでは高精度に位置決めすることが難しい。また、基板の面積が大きくなるのに対応してテーブルも大型化するため、テーブル上面の平面度を高精度に加工することが難しく、基板搬送方向と直交するX方向の微小な傾きがテーブル表面に発生した場合、ビームがテーブル上面に対して平行になるように高さ調整を行う際に大きな荷重がかかると、ボールねじ機構の構造上の精度的ばらつきによってビームの平行度を正確に保つことが難しい。そこで、本発明は上記課題を解決したステージ装置及びガントリ型ステージ装置及びステージ装置の制御方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するため、本発明は以下のような手段を有する。請求項1記載の発明は、上面にワークが載置されるテーブルと、該テーブルの両側に起立する一対のZ軸駆動機構と、前記テーブルの上方で前記一対のZ軸駆動機構間に横架されたビームと、該ビームの両端部を前記一対のZ軸駆動機構に対して回動可能に支持する一対の回動支持部とを有することを特徴とする。請求項2記載の発明は、前記一対の回動支持部のうち何れか一方を前記ビームに対してスライド可能に支持するスライド部を有することを特徴とする。請求項3記載の発明は、前記一対のZ軸駆動機構が、前記ビームの荷重を支えるシリンダと、該シリンダ内の圧力を一定に保つ圧力調整手段とを有することを特徴とする。請求項4記載の発明は、前記ビームと前記テーブル上面との距離を検出する一対の検出手段と、該一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記一対のZ軸駆動機構を駆動させる制御手段と、を有することを特徴とする。請求項5記載の発明は、前記テーブルを水平方向に移動させる水平方向駆動手段を有することを特徴とする。請求項6記載の発明は、前記一対のZ軸駆動機構が、モータ駆動力を前記ビームに伝達するボールねじ機構を有し、前記ボールねじ機構を介して前記ビームを昇降させることを特徴とする。請求項7記載の発明は、テーブルと、該テーブルの上方に横架されたビームを有するガントリ部と、を有するガントリ型ステージ装置において、前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整するZ軸調整機構を前記ガントリ部に設けたことを特徴とする。請求項8記載の発明は、前記Z軸調整機構が、前記ビームの両端部を回動可能に支持する一対の回動支持部と、前記一対の回動支持部のうち何れか一方を前記ビームに対してスライド可能に支持するスライド部と、を有することを特徴とする。請求項9記載の発明は、前記一対のZ軸駆動機構が、前記ビームの荷重を支えるシリンダと、該シリンダ内の圧力を一定に保つ圧力調整手段とを有することを特徴とする。請求項10記載の発明は、テーブルを水平方向に移動させる工程と、前記テーブルの上方に対向するように設けられたビームと前記テーブルとの距離を計測し、計測結果を記憶する工程と、前記計測結果に基づいて前記該一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整する工程と、を有することを特徴とする。本発明によれば、一対の回動支持部によりビームの両端部を一対のZ軸駆動機構に回動可能に連結するため、Z軸駆動機構によりビームの高さ位置を調整してテーブル上面に対するビームの平行度を正確に保つように調整することが可能になり、特にテーブルの大型化に伴うテーブル平面度の微小な傾きにもビームの高さ位置を微調整してテーブル上面に対するビームの平行度を高精度に維持することができる。また、本発明によれば、一対の回動支持部のうち何れか一方をビームに対してスライド可能に支持するスライド部を有するため、水平方向に対してビームが微小角度の傾きを持つように調整された場合でもスライド部のスライド動作によりZ軸駆動機構に負担をかけることが防止される。また、本発明によれば、ビームの荷重を支えるシリンダと、シリンダ内の圧力を一定に保つ圧力調整手段とを有するため、ビームの荷重が増大してもZ軸駆動機構の負担を軽減して荷重増大による精度的なばらつきをなくすことができる。また、本発明によれば、テーブルを水平方向に移動させる水平方向駆動手段を有するため、ビームを移動させるよりもテーブル上に載置された基板とビームとの平行度をより精密に確保することができる。また、本発明によれば、一対のZ軸駆動機構がボールねじ機構を介してビームを昇降させるため、テーブル上面に対するビームの平行度を精密に調整することが可能になり、且つボールねじ機構にビームの全ての荷重が作用しないように構成してあり、ボールねじ機構により構造的なばらつきがビームの平行度に影響しないようにできる。また、本発明によれば、ビームがテーブル上面と平行となるようにビームの両端高さ位置を調整するZ軸調整機構をガントリ部に設けたため、テーブル上面に対するビームの平行度を正確に保つように調整することが可能になり、特にテーブルの大型化に伴うテーブル平面度の微小な傾きにもビームの高さ位置を微調整してテーブル上面に対するビームの平行度を高精度に維持することができる。以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。図1は本発明になるステージ装置の一実施例を示す正面図である。図2はステージ装置の側面図である。図1及び図2に示されるように、ステージ装置10は、ワークとしての基板図中、破線で示す11を水平方向に移動させるガントリ型と呼ばれているステージ装置であり、基礎に固定されたベース12と、ベース12上にY方向に移動可能に設けられたテーブル14と、ベース12上に固定された門型のガントリ部16と、テーブル14のY方向への移動制御及びガントリ部16のZ方向の高さ調整制御を行う制御装置制御手段17とを有する。テーブル14は、上面が基板11を載置される載置面となっている。また、テーブル14は、上面に基板11を真空吸着するための小孔図示せずが多数設けられており、真空ポンプによって基板11との隙間の空気を小孔から吸引して基板11を水平状態にチャッキングするように構成されている。ガントリ部16は、テーブル14の上方に横架されたビーム18と、ビーム18の両端部を支持する一対のZ軸駆動機構20とを有する。また、ビーム18には、テーブル14との距離Z方向の高さ位置を計測する一対のZ方向センサ検出手段21A,21Bが設けられている。一対のZ方向センサ21A,21Bは、テーブル14の上面のうち基板11が載置される載置領域の外側に形成された余白領域に対向するX方向位置に取り付けられている。このZ方向センサ21A,21Bとしては、例えば、レーザ光を照射して距離を計測する方式のセンサがある。そして、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測された値が等しくなるようにZ軸駆動機構20を駆動させることによりビーム18がテーブル14の上面と平行状態になる。尚、Z軸駆動機構20の詳細については、後述する。ベース12とテーブル14との間には、テーブル14を水平方向Y方向に移動させるためのY軸駆動機構22が設けられている。このY軸駆動機構22は、Y方向に延在する一対のY方向ガイド24と、X方向を規制するX方向ガイド26と、Y方向リニアモータ水平方向駆動手段28と、テーブル14を支持する支持部材30とを有する。支持部材30は、ベース12に対向するように設けられた平板状の可動ベース32と、可動ベース32の上面に起立してテーブル14を支持する支柱34を有する。従って、テーブル14は、Y方向リニアモータ28に駆動される可動ベース32と共に、Y方向へ移動する。Y方向リニアモータ28は、X方向ガイド26の上面凹部に固定されたマグネットヨークユニット36と、可動ベース32の下面に取り付けられ、マグネットヨークユニット36に挿入されたコイルユニット38とから構成されたムービングコイルMC型リニアモータである。また、可動ベース32の下面には、Y方向ガイド24に対して圧縮空気を噴出させるY方向静圧パッド40と、X方向ガイド26の左右側面に対して圧縮空気を噴出させるX方向静圧パッド42とが設けられている。そのため、可動ベース32は、Y方向静圧パッド40、X方向静圧パッド42からの空気層によってY方向ガイド24及びX方向ガイド26に対して非接触且つ低摩擦で移動するように支持される。また、Y方向ガイド24あるいはその近傍には、テーブル14のY方向移動位置を計測するY方向リニアスケール図示せずが設けられている。このY方向リニアスケールによりテーブル14が初期位置Y方向基準位置からどの位置まで移動かを正確に検出することができる。ここで、ガントリ部16の構成について説明する。図1及び図2に示されるように、ガントリ部16は、テーブル14の左右両側に位置するようにベース12上に固定された一対の支持部材44と、支持部材44上に支持されたZ軸駆動機構20と、Z軸駆動機構20に対してビーム18の両端部を回動可能に支持する一対の回動支持部46と、一方の回動支持部46をX方向にスライド可能に支持するスライド部48と、ビーム18の両端部の荷重を支える一対のエアシリンダ50とを有する。エアシリンダ50は、Z軸駆動機構20の側面に固定されたシリンダ本体52と、シリンダ本体52より上方に突出するピストンロッド54とを有し、圧力制御部56によりシリンダ本体52の内部の圧力が所定圧力に保たれるように制御されている。また、エアシリンダ50は、ピストンロッド54の上端がビーム18に結合されており、ビーム18の荷重をシリンダ本体52の空気圧により支持するように構成されている。圧力制御部圧力調整手段56は、ピストンロッド54に作用する負荷荷重に応じた圧力となるようにシリンダ本体52の空気圧を制御しており、例えば、ビーム18に取り付けられた各種加工用治具や検査用ユニットによる荷重増大に対応してシリンダ本体52の空気圧を増大させることによりビーム18の高さ位置を一定に保つように圧力制御を行う。図3はZ軸駆動機構20の内部構造を正面からみた縦断面図である。図4はZ軸駆動機構20の内部構造を側面からみた縦断面図である。図3及び図4に示されるように、Z軸駆動機構20は、支持部材44上に固定されたZ軸ベース60と、Z軸ベース60に中心線に沿うように装架されたボールねじ62と、ボールねじ62に螺合されたナット64と、ボールねじ62に回転駆動力を付与するZ軸駆動モータ66と、ビーム18の背面に結合されるZ軸テーブル68と、Z軸テーブル68の昇降動作をガイドする一対のZ軸リニアガイド70とを有する。Z軸ベース60は、側方からみるとコ字状に形成されており、垂直方向Z方向に起立する起立部60aと、起立部60aの上端より水平方向に突出する上部60bと、起立部60aの下端より水平方向に突出し支持部材44上に固定される下部60cとを有する。ボールねじ62は、上下方向Z軸方向に延在した状態でZ軸ベース60の起立部60aに設けられた一対のボールねじサポート72により回転可能に軸承されており、上端にはカップリング74が連結されている。Z軸駆動モータ66は、下方Z軸方向に延在する回転軸76を有し、Z軸ベース60の上部60bに垂直状態に取り付けられている。また、Z軸駆動モータ66に駆動された回転軸76の回転は、カップリング74を介してボールねじ62に伝達される。ボールねじ62に螺合されたナット64は、Z軸テーブル68に結合されており、ボールねじ62の回転方向によって昇降する。また、Z軸テーブル68の背面には、Z軸リニアガイド70を摺動するリニアブロック78に結合されており、Z軸テーブル68はナット64がボールねじ62の回転と共に昇降する際にZ軸リニアガイド70にガイドされる。さらに、一対のZ軸テーブル68の前面には、ビーム18が結合されている。よって、ビーム18は、上記Z軸駆動機構20により上下方向に駆動されるZ軸テーブル68の昇降位置によってZ軸方向の位置が変化し、Z軸テーブル68に設けられたリニアスケール図示せずによりテーブル14の上面またはテーブル14に載置された基板11に対する離間距離が一定となるように高さ位置が調整される。尚、回転軸76の回転軸76の回転角は、ビーム18のZ方向の移動距離に比例するため、上記のようにZ軸テーブル68にリニアスケールを設けず、回転軸76の回転角を検出する回転角検出センサ図示せずをZ軸駆動モータ66に内蔵させ、回転角を制御することによりビーム18の高さ位置を正確に調整することも可能である。ここで、上記ビーム18の両端部と一対のZ軸駆動機構20との間を連結する回動支持部46、スライド部48の構造について説明する。図5は回動支持部46、スライド部48を正面図である。図6は図5中A-A線に沿う回動支持部46、スライド部48の縦断面図である。尚、本実施例では、ビーム18の右端が回動支持部46、スライド部48に連結され、ビーム18の左端が回動支持部46に連結されている。すなわち、スライド部48は、ビーム18の両端のうち何れか一方本実施例では、右端のみに設けられている。図5及び図6に示されるように、ビーム18の端部には、回動支持部46のロータリテーブル80が設けられ、このロータリテーブル80の内周にはロータリベアリング82が回転可能に嵌合されている。そして、ロータリベアリング82の内周には、軸84が貫通されており、軸84に対してビーム18の端部が回動可能に支持されている。また、ロータリベアリング82より前方に突出した軸84の端部は、ロータリベアリング82の内輪の側面を覆う円形のカバー86が設けられている。また、ビーム18の前面には、ロータリベアリング82の外輪の側面を覆うリング状のカバー88が取り付けられている。軸84の基端は、X方向に摺動するスライダ90と一体的に設けられている。スライダ90は、右側からみると、断面形状がコ字状に形成されており、Z軸テーブル68に対向する垂直板90aと、垂直板90aの上下端部から後方に曲げられた摺動部90b、90cとを有する。そして、Z軸テーブル68の前面には、スライダベース92が固定され、且つスライダベース92の端部には、摺動部90b、90cをX方向に摺動可能に支持するクロスローラガイド94が設けられている。従って、ビーム18の右端は、ロータリベアリング82と軸84により回動可能に支持され、且つスライダ90とクロスローラガイド94によりX方向にスライド可能に支持されている。尚、ビーム18の左端は、図示していないが上記ロータリベアリング82と軸84により回動可能に支持されている。このように、ビーム18は、両端が回動可能に支持され、ビーム18の一端がスライド可能に支持されているため、一対のZ軸駆動機構20により両端の高さ位置が調整される際にZ軸駆動機構20に対して回動できると共に、回動支持部46のX方向の位置ずれがスライド部48の摺動動作により吸収される。本実施例の制御装置17では、Z方向センサ21A,21Bの検出結果に基づき第1の制御方法記憶式ならい制御と第2の制御方法リアルタイム制御の何れかを実行するように設定されている。第1の制御方法記憶式ならい制御では、基板11をテーブル14に載置し、予めZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対する高さ位置を計測し、この計測値を記憶させる。そして、実際の制御動作を行なうときには、記憶された高さ計測値に基づきビーム18がテーブル14上面と平行となるようにビーム18の両端高さ位置を制御する。また、第2の制御方法リアルタイム制御では、テーブル14に基板11を載置した状態でZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対する高さ位置を計測し、この検出された計測値に基づきビーム18がテーブル14上面と平行となるようにビーム18の両端高さ位置を制御する。ここで、上記制御装置17が実行する第1の制御方法の制御処理について図7及び図8を参照して説明する。図7に示されるように、制御装置17は、ステップS11以下ステップを省略するでY方向リニアモータ28のコイルユニット38に電圧を印加してテーブル14を初期位置からY方向に所定の一定速度で移動させる。次のS12では、一対のZ方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離テーブル14に対するビーム18の高さ位置HA,HBを計測する。続いて、S13に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHA,HBをメモリ図示せずに記憶する。尚、このメモリは、テーブル14のY方向位置に対応するビーム18とテーブル14との距離の計測値Z方向計測データHA,HBを格納するデータベースを有する。次のS14では、テーブル14がY方向の終端位置まで移動完了したか否かをチェックする。S14において、テーブル14がY方向の終端位置に達していない場合には、上記S11に戻り、テーブル14のY方向への移動及び一対のZ方向センサ21A,21Bによるテーブル14上面との距離を計測する。また、上記S14において、テーブル14がY方向の終端位置まで移動完了したときは、S15に進み、テーブル14を初期位置に戻す。次のS16では、搬入装置図示せずにより基板11をテーブル14の上面に搬入する。続いて、S17に進み、基板11をテーブル14上に真空吸着する。S18では、Y方向リニアモータ28によりテーブル14を初期位置からY方向に所定の一定速度で移動させる。そして、図8に示すS19では、Y方向リニアスケールにより計測されたビーム18に対するテーブル14のY方向位置を読み込む。続いて、S20に進み、メモリに記憶された当該Y方向位置におけるZ方向計測データHA,HBに基づいてHA=H、HB=HとなるようにZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の両端高さ位置を修正し、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18を平行にする。次のS21では、テーブル14がY方向の終端位置に達したか否かをチェックする。上記S21において、テーブル14がY方向の終端位置に達していない場合には、前述したS18に戻り、S18~S21の制御処理を再度実行する。また、S21において、テーブル14がY方向の終端位置に達した場合には、S22に進み、テーブル14上の基板11を搬出装置図示せずにより搬出する。その後、S23に進み、停止スイッチ図示せずがオンに操作されたか否かをチェックする。S23において、停止スイッチ図示せずがオフのときは、上記S15に戻り、S15以降の処理を繰り返す。また、S23において、停止スイッチ図示せずがオンに操作されたときは、ステージ装置10を停止状態にして今回の制御処理を終了する。このように、第1の制御方法では、予めZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対する高さ位置を計測し、この計測値を記憶させてあるので、実際の作業工程のときには、Y方向位置に対応する計測値を読み込むことにより、テーブル14の上面に対してビーム18の両端高さ位置を修正して平行とすることが可能となる。そのため、ビーム18を常に規定高さ位置でテーブル14の上面と平行状態に保つことができるので、基板11に対する加工や検査を精密に行うことが可能になる。ここで、上記制御装置17が実行する第2の制御方法の制御処理について図9及び図10を参照して説明する。図9に示されるように、制御装置17は、S31で、テーブル14を初期位置に戻す。次のS32では、搬入装置図示せずにより基板11をテーブル14の上面に搬入する。続いて、S33に進み、基板11をテーブル14上に真空吸着する。次のS34では、Y方向リニアモータ28によりテーブル14を初期位置からY方向に所定の一定速度で移動させる。そして、図10に示すS35では、Y方向リニアスケールにより計測されたビーム18に対するテーブル14のY方向位置を読み込む。続いて、S36に進み、メモリに記憶された当該Y方向位置におけるZ方向計測データHA,HBを読み込む。次のS37では、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHA,HBが共に予め設定された基準高さHと等しいか否かをチェックする。このS37において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行であり、且つビーム18とテーブル14との距離が規定値であると判断し、S38~S46の処理を省略して後述するS47に移行する。また、S37において、HA=H、HB=Hでない場合は、S38に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHA>Hか否かをチェックする。このS38において、HA>Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18の左端が上がった状態に傾いているため、S39に進み、左側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の左端をZ方向差分HA-Hだけ下げる。次のS40では、一対のZ方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離テーブル14に対するビーム18の高さ位置HA,HBを計測する。そして、上記S37に戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。このS37において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正されたため、上記S47に移行する。また、上記S38において、HA>Hでない場合は、S41に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHA<Hか否かをチェックする。S41において、HA<Hである場合は、ビーム18の左端が下がった状態に傾いているので、S42に進み、左側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の左端をZ方向差分HA-Hだけ上げる。続いて、上記S40に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離テーブル14に対するビーム18の高さ位置HA,HBを計測する。そして、再び、上記S37に戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。このS37において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正されたため、上記S47に移行する。また、上記S41において、HA<Hでない場合は、S43に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHB>Hか否かをチェックする。このS43において、HB>Hである場合は、ビーム18の右端が上がった状態に傾いているので、S44に進み、右側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の右端をZ方向差分HB-Hだけ下げる。続いて、上記S40に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離テーブル14に対するビーム18の高さ位置HA,HBを計測する。そして、再び、上記S37に戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。S37において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正されたため、上記S47に移行する。また、上記S43において、HB>Hでない場合は、S45進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHB<Hか否かをチェックする。このS45において、HB<Hである場合は、ビーム18の右端が下がった状態に傾いているので、S46に進み、右側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の右端をZ方向差分HB-Hだけ上げる。続いて、上記S40に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離テーブル14に対するビーム18の高さ位置HA,HBを計測する。そして、再び、上記S37に戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。このS37において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正されたため、上記S47に移行する。上記S39,S42,S44,S46では、Z軸駆動モータ66を駆動させてビーム18の高さ位置を調整する際、ビーム18の荷重が、エアシリンダ50により支えられているので、Z軸駆動モータ66及びボールねじ62の負担が小さくなっており、ビーム18の高さ調整を容易且つスムーズに行える。また、上記S45において、HB<Hでない場合は、ビーム18がテーブル14に対して平行であるとしてS47に進み、テーブル14がY方向の終端位置に達したか否かをチェックする。上記S47において、テーブル14がY方向の終端位置に達していない場合には、前述したS34に戻り、S34以降の処理を再度実行する。また、S47において、テーブル14がY方向の終端位置に達した場合には、S48に進み、テーブル14上の基板11を搬出装置図示せずにより搬出する。その後、S49に進み、停止スイッチ図示せずがオンに操作されたか否かをチェックする。このS49において、停止スイッチ図示せずがオフのときは、上記S31に戻り、S31以降の処理を繰り返す。また、S49において、停止スイッチ図示せずがオンに操作されたときは、ステージ装置10を停止状態にして今回の制御処理を終了する。このように、第2の制御方法では、実際の作業工程のときにテーブル14をY方向に移動させると共にZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対する高さ位置を計測し、この計測値に基づきテーブル14の上面に対してビーム18の両端高さ位置を修正して平行とすることが可能となる。そのため、ビーム18を常に規定高さ位置でテーブル14の上面と平行状態に保つことができるので、基板11に対する加工や検査を精密に行うことが可能になる。"