"成分A下記式1で表される構成単位と酸性基を有する構成単位と架橋性基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、成分Bオキシムスルホネート基を有する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。式1中、R1は水素原子又はアルキル基を表し、L1はカルボニル基又はフェニレン基を表し、R21~R27はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。前記R1が、メチル基である、請求項1に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記R21~R27のうち1つ以上が、水素原子である、請求項1又は2に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記R21~R27の全てが、水素原子である、請求項1~3のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記L1が、カルボニル基である、請求項1~4のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記酸性基が、カルボキシ基又はフェノール性水酸基である、請求項1~5のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記酸性基が、カルボキシ基である、請求項6に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記架橋性基が、エポキシ基又はオキセタニル基である、請求項1~7のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記架橋性基が、オキセタニル基である、請求項8に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記酸性基がカルボキシ基であり、かつ、前記架橋性基がオキセタニル基である、請求項7又は9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記成分Bが、下記式OS-103、式OS-104、及び、式OS-105で表される化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物である、請求項1~10のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式OS-103~OS-105中、R11はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、複数存在するR12はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、複数存在するR16はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。前記成分Bが、下記式2で表されるオキシムスルホネート化合物である、請求項1~10のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式2中、R4はアルキル基又はアリール基を表し、Xはそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子を表し、mは0~3の整数を表す。ポジ型感光性樹脂組成物の全固形分に対し、前記成分Aを40~95重量の範囲で含み、かつ、前記成分Bを0.1~10重量の範囲で含む、請求項1~12のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。架橋剤を更に含む、請求項1~13のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。ポジ型感光性樹脂組成物の全固形分に対し、前記成分Aを40~70重量の範囲で含み、前記成分Bを0.1~10重量の範囲で含み、かつ、前記架橋剤を3~40重量の範囲で含む、請求項14に記載のポジ型感光性樹脂組成物。溶剤を更に含む、請求項1~15のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。請求項1~16のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物に対して、光及び熱の少なくとも一方を付与して硬化させた硬化膜。1請求項16に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布されたポジ型感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程、3溶剤を除去されたポジ型感光性樹脂組成物を活性放射線で露光する露光工程、4露光されたポジ型感光性樹脂組成物を水性現像液で現像する現像工程、及び、5現像されたポジ型感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法。前記露光工程における露光後に、加熱処理を行わずに前記現像工程を行う、請求項18に記載の硬化膜の形成方法。請求項18又は19に記載の硬化膜の形成方法により形成された硬化膜。層間絶縁膜である請求項17又は20に記載の硬化膜。請求項17又は20に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。請求項17又は20に記載の硬化膜を具備する有機EL表示装置。ポジ型感光性樹脂組成物により、層間絶縁膜等に適用される硬化膜を形成するに際しては、高感度が望まれる。現像時における残渣の発生が抑制されること、及び形成された硬化膜表面が平滑であることが要求される。このうち、従来より、更に酸発生剤に対して高感度化することは、残渣残存の懸念が完全に払拭される、高精細なパターニングが形成できる、計算値と同等の物性が得られるため望みの硬化膜表面の平滑性が得られる、という観点から非常に望ましい。しかしながら、従前の感光性樹脂組成物は、感度、残渣の抑制、硬化膜表面の平滑性について、その総てを満足するものではなく、更なる改良が望まれているのが現状である。本発明は、上記従来における状況に鑑みなされたものであり、以下の課題を解決するものである。すなわち、本発明が解決しようとする課題は、高い感度を有し、現像時における残渣の発生が抑制され、かつ、平滑性に優れた表面を有する硬化膜を形成し得るポジ型感光性樹脂組成物を提供することにある。また、本発明が解決しようとする別の課題は、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成する方法、該硬化膜の形成方法により形成された硬化膜、並びに、該硬化膜を具備した液晶表示装置及び有機EL表示装置を提供することにある。本発明の上記課題は、以下の<1>、<17>、<18>、<20>、<22>又は<23>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>~<16>、<19>及び<21>とともに以下に記載する。<1>成分A下記式1で表される構成単位と酸性基を有する構成単位と架橋性基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、成分Bオキシムスルホネート基を有する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、式1中、R1は水素原子又はアルキル基を表し、L1はカルボニル基又はフェニレン基を表し、R21~R27はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。<2>前記R1が、メチル基である、上記<1>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<3>前記R21~R27のうち1つ以上が、水素原子である、上記<1>又は<2>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<4>前記R21~R27の全てが、水素原子である、上記<1>~<3>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<5>前記L1が、カルボニル基である、上記<1>~<4>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<6>前記酸性基が、カルボキシ基又はフェノール性水酸基である、上記<1>~<5>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<7>前記酸性基が、カルボキシ基である、上記<6>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<8>前記架橋性基が、エポキシ基又はオキセタニル基である、上記<1>~<7>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<9>前記架橋性基が、オキセタニル基である、上記<8>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<10>前記酸性基がカルボキシ基であり、かつ、前記架橋性基がオキセタニル基である、上記<7>又は<9>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<11>前記成分Bが、下記式OS-103、式OS-104、及び、式OS-105で表される化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物である、上記<1>~<10>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、式OS-103~OS-105中、R11はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、複数存在するR12はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、複数存在するR16はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。<12>前記成分Bが、下記式2で表されるオキシムスルホネート化合物である、上記<1>~<10>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、式2中、R4はアルキル基又はアリール基を表し、Xはそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子を表し、mは0~3の整数を表す。<13>ポジ型感光性樹脂組成物の全固形分に対し、前記成分Aを40~95重量の範囲で含み、かつ、前記成分Bを0.1~10重量の範囲で含む、上記<1>~<12>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<14>架橋剤を更に含む、上記<1>~<13>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<15>ポジ型感光性樹脂組成物の全固形分に対し、前記成分Aを40~70重量の範囲で含み、前記成分Bを0.1~10重量の範囲で含み、かつ、前記架橋剤を3~40重量の範囲で含む、上記<14>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<16>溶剤を更に含む、上記<1>~<15>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<17>上記<1>~<16>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物に対して、光及び熱の少なくとも一方を付与して硬化させた硬化膜、<18>1上記<16>に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布されたポジ型感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程、3溶剤を除去されたポジ型感光性樹脂組成物を活性放射線で露光する露光工程、4露光されたポジ型感光性樹脂組成物を水性現像液で現像する現像工程、及び、5現像されたポジ型感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法、<19>前記露光工程における露光後に、加熱処理を行わずに前記現像工程を行う、上記<18>に記載の硬化膜の形成方法、<20>上記<18>又は<19>に記載の硬化膜の形成方法により形成された硬化膜、<21>層間絶縁膜である上記<17>又は<20>に記載の硬化膜、<22>上記<17>又は<20>に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置、<23>上記<17>又は<20>に記載の硬化膜を具備する有機EL表示装置。本発明によれば、高い感度を有し、現像時における残渣の発生が抑制され、かつ、平滑性に優れた表面を有する硬化膜を形成し得るポジ型感光性樹脂組成物を提供することができる。また、本発明によれば、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成する方法、該硬化膜の形成方法により形成された硬化膜、並びに、該硬化膜を具備した液晶表示装置及び有機EL表示装置を提供することができる。ポジ型感光性樹脂組成物以下、本発明のポジ型感光性樹脂組成物以下、単に感光性樹脂組成物ともいう。。について詳細に説明する。本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、成分A下記式1で表される構成単位と酸性基を有する構成単位と架橋性基を有する構成単位とを有する樹脂以下、適宜特定樹脂ともいう。、及び、成分Bオキシムスルホネート基を有する酸発生剤以下、適宜特定酸発生剤ともいう。を含有することを特徴とする。式1中、R1は水素原子又はアルキル基を表し、L1はカルボニル基又はフェニレン基を表し、R21~R27はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。本発明の感光性樹脂組成物は、特定樹脂及び特定酸発生剤を含有することにより、感度に優れたものとなる。また、本発明の感光樹脂組成物は、現像時における残渣の発生が抑制され、かつ、平滑性に優れた表面を有する硬化膜を形成し得る。ここで、本発明において残渣とは、感光性樹脂組成物を用いてパターン状の硬化膜を形成した際において、該パターン状の硬化膜端部の周縁に存在する残膜を意味する。また、硬化膜表面の平滑性は、硬化膜表面の表面粗さRaをその指標とするものであり、以下では表面あれともいう場合がある。なお、本明細書における硬化膜表面の表面粗さRaは、触針式表面粗さ計P10Tencor社製により測定した値である。本発明の感光性樹脂組成物により得られる硬化膜は、液晶表示装置や有機EL表示装置が備える層間絶縁膜、平坦化膜などとして好適に用いることができる。液晶表示装置や有機EL表示装置が備える絶縁膜が平滑性に劣る場合、該絶縁膜上に積層するITO電極の電気抵抗が上昇したり、該絶縁膜上に積層した液晶層中の液晶配向が乱れるといった弊害が発生することがある。この点、本発明の感光性樹脂組成物により得られる硬化膜は、表面の平滑性に優れる表面あれが無いことから、かかる弊害の発生が効果的に抑制される。また、本発明の感光性樹脂組成物は、現像時の残渣の発生についても抑制されることから、良好な形状のパターン状の硬化膜形成が可能となる。このことは、例えば、コンタクトホール等を形成する場合において特に有用である。本発明の感光性樹脂組成物は、化学増幅型のポジ型感光性樹脂組成物化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物であることが好ましい。以下、本発明の感光性樹脂組成物を構成する特徴的な成分である特定樹脂及び特定酸発生剤について説明する。なお、本明細書における基原子団の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えばアルキル基とは、置換基を有さないアルキル基無置換アルキル基のみならず、置換基を有するアルキル基置換アルキル基をも包含するものである。また、本発明に使用する共重合体が含有する構成単位を導入する方法は、重合法でもよく、高分子反応法でもよい。重合法では、所定の官能基を含有するモノマーを予め合成した後に、これらのモノマーを共重合する。高分子反応法では、重合反応を行った後に、得られた共重合体の構成単位に含まれる反応性基を利用して必要な官能基を構成単位中に導入する。ここで、官能基としては、カルボキシ基又はフェノール性水酸基等の酸性基を保護すると同時に強酸の存在下で分解しこれらを遊離するための保護基、エポキシ基又はオキセタニル基などの架橋性基、また、フェノール性水酸基やカルボキシ基のようなアルカリ可溶性基酸性基等が例示できる。成分A特定樹脂本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、成分A前記式1で表される構成単位と酸性基を有する構成単位と架橋性基を有する構成単位とを有する樹脂を含有する。また、前記酸性基を有する構成単位と前記架橋性基を有する構成単位とは、同一の構成単位であってもよい。本発明において、特定樹脂は、アルカリ不溶性であり、かつ、式1で表される構成単位におけるテトラヒドロフラニル基以下、特定酸分解性基ともいう。が分解又は解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂であることが好ましい。ここで、本発明においてアルカリ可溶性とは、当該化合物樹脂の溶液を基板上に塗布し、90°Cで2分間加熱することによって形成される当該化合物樹脂の塗膜厚さ3μmの、23°Cにおける0.4重量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が、0.01μm/秒以上であることをいい、アルカリ不溶性とは、当該化合物樹脂の溶液を基板上に塗布し、90°Cで2分間加熱することによって形成される当該化合物樹脂の塗膜厚さ3μmの、23°Cにおける0.4重量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が、0.01μm/秒未満であることをいう。本発明における特定樹脂のアルカリ溶解速度は、0.005μm/秒未満であることがより好ましい。また、特定樹脂の特定酸分解性基が分解したときには、アルカリ溶解速度は0.05μm/秒以上であることが好ましい。本発明における特定樹脂は、アクリル系重合体であることが好ましい。本発明におけるアクリル系重合体は、付加重合型の樹脂であり、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来する構成単位を含む重合体であり、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来する構成単位以外の構成単位、例えば、スチレン類に由来する構成単位やビニル化合物に由来する構成単位等を有していてもよい。特定樹脂は、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来する構成単位を、重合体における全構成単位に対し、50モル以上有することが好ましく、80モル以上有することがより好ましく、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来する構成単位のみからなる重合体であることが特に好ましい。なお、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来する構成単位をアクリル系構成単位ともいう。また、メタアクリル酸は、メタクリル酸及びアクリル酸を総称するものである。また、特定樹脂の酸価は、透明性及び耐熱透明性の観点から、5~110mgKOH/gであることが好ましく、20~90mgKOH/gであることがより好ましく、30~70mgKOH/gであることが更に好ましい。式1で表される構成単位a1特定樹脂は、式1で表される構成単位以下、適宜構成単位a1ともいう。を有する。R1は、水素原子、又は、アルキル基を表す。R1におけるアルキル基としては炭素数が1~20の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基を挙げることができる。これらアルキル基の中では、炭素数1~12の直鎖状、炭素数3~12の分岐状、又は、炭素数5~10の環状のアルキル基が好ましく、炭素数1~12の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましい。中でも、R1は、水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。L1は、カルボニル基又はフェニレン基を表し、カルボニル基であることが好ましい。R21~R27はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。R21~R27におけるアルキル基は、R1と同義であり、好ましい態様も同様である。また、分解性、及び、合成上の観点から、R21~R27のうち、1つ以上が水素原子であることが好ましく、R21~R27の全てが水素原子であることがより好ましい。本発明における前記式1で表される構成単位では、保護されたカルボキシ基、及び/又は、保護されたフェノール性水酸基を含有する。カルボキシ基が保護されることにより、前記式1で表される単位を形成することができるカルボン酸モノマーとしては、カルボキシ基が保護されることにより構成単位となり得るものであれば用いることができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸を挙げることができる。また、構成単位としては、これらカルボキシ基が保護されたカルボン酸由来の構成単位を好ましいものとして挙げることができる。フェノール性水酸基が保護されることにより、前記式1で表される構成単位を形成することができるフェノール性水酸基を有するモノマーとしては、フェノール性水酸基が保護されることにより構成単位となり得るものであれば用いることができる。例えば、p-ヒドロキシスチレン、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類等を好ましいものとして挙げることができる。これらの中でも、α-メチル-p-ヒドロキシスチレンがより好ましい。構成単位a1を形成するために用いられるラジカル重合性単量体は、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いることもできる。例えば、メタアクリル酸を酸触媒の存在下でジヒドロフラン化合物と反応させることにより合成することができる。また、構成単位、保護されるカルボキシ基又はフェノール性水酸基含有モノマーを後述する構成単位a2~a4やその前駆体と重合した後に、カルボキシ基又はフェノール性水酸基をジヒドロフラン化合物と反応させることによっても形成することができる。なお、このようにして形成される好ましい構成単位の具体例は、上記ラジカル重合性単量体の好ましい具体例由来の構成単位と同様である。構成単位a1として特に好ましいものとしては、下記の構成単位が例示できる。特定樹脂を構成する全モノマー単位中、構成単位a1を形成するモノマー単位の含有量は、5~60モルが好ましく、10~50モルが更に好ましく、10~40モルが特に好ましい。構成単位a1を上記の割合で含有させることにより、高感度でかつ露光ラチチュードが広い感光性樹脂組成物が得られる。酸性基を有する構成単位a2特定樹脂は、酸性基を有する構成単位以下、適宜構成単位a2ともいう。を有する。特定樹脂が含む酸性基は、カルボキシ基、カルボン酸無水物残基及びフェノール性水酸基から選ばれる1種以上の酸性基を有する構成単位により、特定樹脂中に含まれることが好ましい。構成単位a2としては、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する構成単位であることがより好ましく、カルボキシ基を有する構成単位であることが更に好ましい。カルボキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸等の不飽和カルボン酸を好ましいものとして挙げることができる。また、カルボン酸無水物残基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸等を好ましいものとして挙げることができる。フェノール性水酸基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、p-ヒドロキシスチレン、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物等を好ましいものとして挙げることができる。これらの中でも、メタクリル酸、アクリル酸、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物が更に好ましく、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物が特に好ましい。これらの構成単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。構成単位a2の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。特定樹脂を構成する全モノマー単位中、酸性基を有する構成単位a2を形成するモノマー単位の含有率は、2~35モルが好ましく、5~20モルが更に好ましく、8~12モルが特に好ましい。特定樹脂が構成単位a2を上記の割合で含有することにより、高感度が得られ、現像性が良好となる。架橋性基を有する構成単位a3特定樹脂は、架橋性基を有する構成単位以下、適宜構成単位a3ともいう。を有する。架橋性基としては、前述した酸性基と反応して共有結合を形成するもの、架橋性基同士で熱や光の作用により共有結合を形成するものであればいずれでもよい。酸性基と反応して共有結合を形成する架橋性基を有する構成単位a3としては、エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位が好ましく、架橋性基同士で熱や光の作用により共有結合を形成するものとしては炭素-炭素二重結合が好ましい。これらの架橋性基の中でも、酸基と反応して共有結合を形成するものが好ましい。架橋性基は、特に、エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位として、特定樹脂に含まれることが好ましい。構成単位a3としては、エポキシ基とオキセタニル基との両方の基を含んでもよい。前記エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位としては、脂環式エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位であることが好ましく、オキセタニル基を有する構成単位であることがより好ましい。脂環式エポキシ基は、脂肪族環とエポキシ環とが縮合環を形成している基であり、具体的には例えば、3,4-エポキシシクロヘキシル基、2,3-エポキシシクロヘキシル基、2,3-エポキシシクロペンチル基等が好ましく挙げられる。オキセタニル基を有する基としては、オキセタン環を有していれば、特に制限はないが、3-エチルオキセタン-3-イルメチル基が好ましく例示できる。エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位は、1つの構成単位中にエポキシ基又はオキセタニル基を少なくとも1つ有していればよく、1つ以上のエポキシ基と1つ以上のオキセタニル基とを含んでもよく、2つ以上のエポキシ基、又は、2つ以上のオキセタニル基を有していてもよく、特に限定されないが、エポキシ基とオキセタニル基とを合計1~3つ有することが好ましく、エポキシ基とオキセタニル基とを合計1又は2つ有することがより好ましく、エポキシ基とオキセタニル基とを1つ有することが更に好ましい。エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第4168443号公報の段落0031~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられる。オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、例えば、特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルなどを挙げることができる。エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。これらのラジカル重合性単量体の中で、更に好ましいものとしては、特許第4168443号公報の段落0034~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物及び特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルであり、特に好ましいものとしては特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルである。これらの中でも好ましいものは、アクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルであり、最も好ましいものはアクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルである。これらの構成単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。構成単位a3の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。特定樹脂を構成する全モノマー単位中、架橋性基を有する構成単位a3を形成するモノマー単位の含有率は、10~80モルが好ましく、15~70モルが更に好ましく、20~65モルが特に好ましい。エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位を上記の割合で含有させることにより、感光性樹脂組成物により形成された硬化膜の物性が良好となる。その他の構成単位a4特定樹脂は、本発明の効果を妨げない範囲で、その他の構成単位a4以下、適宜構成単位a4ともいう。を含有してもよい。構成単位a4を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、特開2004-264623号公報の段落0021~0024に記載の化合物を挙げることができるただし、前記した構成単位a1~a3を除く。。構成単位a4の好ましい例としては、水酸基含有不飽和カルボン酸エステル、脂環構造含有不飽和カルボン酸エステル、スチレン、及び、N置換マレイミドの群から選ばれる少なくとも1種に由来する構成単位が挙げられる。これらの中でも、電気特性向上の観点で、メタアクリル酸トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イル、メタアクリル酸トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルオキシエチル、メタアクリル酸イソボルニル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸2-メチルシクロヘキシルのような脂環構造含有のメタアクリル酸エステル類、又は、スチレンのような疎水性のモノマーが好ましい。感度の観点で、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル、N置換マレイミドが好ましい。これらの中でも、脂環構造を有するメタアクリル酸エステル類がより好ましい。また、エッチング耐性の観点からは、スチレンやα-メチルスチレンなどのスチレン類が好ましい。これらの構成単位a4は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。特定樹脂を構成する全モノマー単位中、構成単位a4を含有させる場合における構成単位a4を形成するモノマー単位の含有率は、1~50モルが好ましく、5~40モルが更に好ましく、5~30モルが特に好ましい。特定樹脂を構成する構成単位の組み合わせの好適な例としては、特定酸分解性基で保護された酸性基を含有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、不飽和カルボン酸に由来する構成単位、及び、エポキシ基又はオキセタニル基を含有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位を含む組み合わせが挙げられる。本発明における特定樹脂の重量平均分子量は、1,000~100,000であることが好ましく、2,000~50,000であることがより好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、テトラヒドロフランTHFを溶媒とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCによるポリスチレン換算重量平均分子量であることが好ましい。また、特定樹脂の合成法については様々な方法が知られているが、一例を挙げると、少なくとも構成単位a1、構成単位a2、及び、構成単位a3を形成するために用いられるラジカル重合性単量体を含むラジカル重合性単量体混合物を有機溶剤中、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。また、特定樹脂としては、不飽和多価カルボン酸無水物類を共重合させた前駆共重合体中の酸無水物基に、2,3-ジヒドロフランを、酸触媒の不存在下、室温25°C~100°C程度の温度で付加させることにより得られる共重合体も好ましい。このような特定樹脂としては、例えば、メタアクリル酸グリシジル/無水マレイン酸/N-シクロヘキシルマレイミド/スチレン共重合体に2,3-ジヒドロフランを酸無水物基に対して1倍モル付加させた共重合体が挙げられる。以下、本発明で用いられる特定樹脂として好ましいものを、特定樹脂A~Pとして例示するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、下記に例示した各特定樹脂の重量平均分子量は、2,000~50,000の範囲である。特定樹脂A:MAA/MAMTHF/OXE-30/HEMAの共重合体モル比:10/40/30/20、酸価:35.5mgKOH/g特定樹脂B:MAA/MATHF/StOTHF/OXE-30/HEMAの共重合体モル比:10/20/14/23/33、酸価:36.3mgKOH/g特定樹脂C:MAA/AATHF/OXE-30/HEMAの共重合体モル比:10/40/35/15、酸価:37.5mgKOH/g特定樹脂D:PHS/MATHF/GMA/HEMAの共重合体モル比:10/40/30/20、酸価:38.5mgKOH/g特定樹脂E:PHS/MATHF/OXE-30/HEMAの共重合体モル比:10/40/30/20、酸価:35.4mgKOH/g特定樹脂F:MAA/MATHF/GMA/HEMAの共重合体モル比:12/25/30/33、酸価:40.2mgKOH/g特定樹脂G:MAA/StOTHF/OXE-30/HEMAの共重合体モル比:25/12/30/33、酸価:43.1mgKOH/g特定樹脂H:ITA/MATHF/OXE-30/HEMAの共重合体モル比:5/40/30/25、酸価:35.8mgKOH/g特定樹脂I:MAA/MATHF/OXE-30/HEMAの共重合体モル比:10/40/30/20、酸価:36.8mgKOH/g特定樹脂J:MAA/MATHF/OXE-30/MMA/DCPMの共重合体モル比:17/40/15/23/5、酸価:69.1mgKOH/g特定樹脂K:MAA/MATHF/OXE-30/MMA/HMAの共重合体モル比:16.5/40/10/23.5/10、酸価:68.3mgKOH/g特定樹脂L:MAA/MATHF/HEMAの共重合体モル比:18/50/32とMATHF/HEMA/OXE-30の共重合体モル比:43/13/44との混合物酸価:33.6mgKOH/g特定樹脂M:MAA/MATHF/HEMAの共重合体モル比:18/65/17とMATHF/HEMA/GMAの共重合体モル比:40/13/47との混合物酸価:35.4mgKOH/g特定樹脂N:StCO2H/MATHF/OXE-30/HEMAの共重合体モル比:10/40/30/20、酸価:35.4mgKOH/g特定樹脂O:MAA/MATHF/OXE-30/HEMA/Stの共重合体モル比:10/35/20/25/10、酸価:41.5mgKOH/g特定樹脂P:MAA/MATHF/GMA/HEMA/Stの共重合体モル比:13/32/20/22/13、酸価:61.6mgKOH/gなお、上記した各特定樹脂の合成例については後述する。また、各特定樹脂を構成する単量体の略号の詳細は以下の通りである。MATHF:2-テトラヒドロフラニルメタクリレートAATHF:2-テトラヒドロフラニルアクリレートMAMTHF:5-メチル-2-テトラヒドロフラニルメタクリレートMAA:メタクリル酸ITA:イタコン酸MAEVE:1-エトキシエチルメタクリレートMACHVE:1-シクロヘキシルエチルメタクリレートMABVE:1-tert-ブチルエチルメタクリレートOXE-30:3-エチル-3-オキセタニルメチルメタクリレートHEMA:ヒドロキシエチルメタクリレートEtMA:エチルメタクリレートHMA:ヘキシルメタクリレートBzMA:ベンジルメタクリレートCHMI:N-シクロヘキシルマレイミドGMA:グリシジルメタクリレートSt:スチレンStCO2H:スチレンカルボン酸StOTHF:4-2-テトラヒドロフラニルスチレンPHS:4-ヒドロキシスチレンDCPM:ジシクロペンタニルメタクリレートMMA:メチルメタクリレート本発明の感光性樹脂組成物中の特定樹脂の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、20~99重量であることが好ましく、40~95重量であることがより好ましく、40~70重量であることが更に好ましい。含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となる。なお、感光性樹脂組成物の固形分量とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量を表す。なお、本発明の感光性樹脂組成物中では、本発明の効果を妨げない範囲で特定樹脂以外の樹脂を併用してもよい。ただし、特定樹脂以外の樹脂の含有量は、現像性の観点から特定樹脂の含有量より少ない方が好ましい。成分Bオキシムスルホネート基を有する酸発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分Bオキシムスルホネート基を有する酸発生剤以下、単にオキシムスルホネート化合物ともいう。を含有する。オキシムスルホネート化合物は、オキシムスルホネート基を有していれば特に制限はないが、下記式2、後述する式OS-103、式OS-104、又は、式OS-105で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。式2におけるXはそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子を表す。前記Xにおけるアルキル基及びアルコキシ基は、置換基を有していてもよい。前記Xにおけるアルキル基としては、炭素数1~4の、直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。前記Xにおけるアルコキシ基としては、炭素数1~4の直鎖状又は分岐状アルコキシ基が好ましい。前記Xにおけるハロゲン原子としては、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。式2におけるmは、0~3の整数を表し、0又は1が好ましい。mが2又は3であるとき、複数のXは同一でも異なっていてもよい。式2におけるR4は、アルキル基又はアリール基を表し、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数1~5のハロゲン化アルキル基、炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基、Wで置換されていてもよいフェニル基、Wで置換されていてもよいナフチル基又はWで置換されていてもよいアントラニル基であることが好ましい。Wは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数1~5のハロゲン化アルキル基又は炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基を表す。前記R4における炭素数1~10のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-アミル基、i-アミル基、s-アミル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられる。前記R4における炭素数1~10のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、n-アミルオキシ基、n-オクチルオキシ基、n-デシルオキシ基等が挙げられる。前記R4における炭素数1~5のハロゲン化アルキル基の具体例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ-n-プロピル基、パーフルオロ-n-ブチル基、パーフルオロ-n-アミル基等が挙げられる。前記R4における炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基の具体例としては、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロ-n-プロポキシ基、パーフルオロ-n-ブトキシ基、パーフルオロ-n-アミルオキシ基等が挙げられる。前記R4におけるWで置換されていてもよいフェニル基の具体例としては、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、o-エチルフェニル基、m-エチルフェニル基、p-エチルフェニル基、p-n-プロピルフェニル基、p-i-プロピルフェニル基、p-n-ブチルフェニル基、p-i-ブチルフェニル基、p-s-ブチルフェニル基、p-t-ブチルフェニル基、p-n-アミルフェニル基、p-i-アミルフェニル基、p-t-アミルフェニル基、o-メトキシフェニル基、m-メトキシフェニル基、p-メトキシフェニル基、o-エトキシフェニル基、m-エトキシフェニル基、p-エトキシフェニル基、p-n-プロポキシフェニル基、p-i-プロポキシフェニル基、p-n-ブトキシフェニル基、p-i-ブトキシフェニル基、p-s-ブトキシフェニル基、p-t-ブトキシフェニル基、p-n-アミルオキシフェニル基、p-i-アミルオキシフェニル基、p-t-アミルオキシフェニル基、p-クロルフェニル基、p-ブロモフェニル基、p-フルオロフェニル基、2,4-ジクロルフェニル基、2,4-ジブロモフェニル基、2,4-ジフルオロフェニル基、2,4,6-ジクロルフェニル基、2,4,6-トリブロモフェニル基、2,4,6-トリフルオロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、p-ビフェニリル基等が挙げられる。前記R4におけるWで置換されていてもよいナフチル基の具体例としては、2-メチル-1-ナフチル基、3-メチル-1-ナフチル基、4-メチル-1-ナフチル基、5-メチル-1-ナフチル基、6-メチル-1-ナフチル基、7-メチル-1-ナフチル基、8-メチル-1-ナフチル基、1-メチル-2-ナフチル基、3-メチル-2-ナフチル基、4-メチル-2-ナフチル基、5-メチル-2-ナフチル基、6-メチル-2-ナフチル基、7-メチル-2-ナフチル基、8-メチル-2-ナフチル基等が挙げられる。前記R4におけるWで置換されていてもよいアントラニル基の具体例としては、2-メチル-1-アントラニル基、3-メチル-1-アントラニル基、4-メチル-1-アントラニル基、5-メチル-1-アントラニル基、6-メチル-1-アントラニル基、7-メチル-1-アントラニル基、8-メチル-1-アントラニル基、9-メチル-1-アントラニル基、10-メチル-1-アントラニル基、1-メチル-2-アントラニル基、3-メチル-2-アントラニル基、4-メチル-2-アントラニル基、5-メチル-2-アントラニル基、6-メチル-2-アントラニル基、7-メチル-2-アントラニル基、8-メチル-2-アントラニル基、9-メチル-2-アントラニル基、10-メチル-2-アントラニル基等が挙げられる。式2中、mが1であり、Xがメチル基であり、Xの置換位置がオルト位であり、R4が炭素数1~10の直鎖状アルキル基、7,7-ジメチル-2-オキソノルボルニルメチル基、又は、p-トルイル基である化合物が特に好ましい。式2で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記化合物i、化合物ii、化合物iii、化合物iv等が挙げられ、これらの化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種類以上を併用することもできる。化合物i~ivは、市販品として、入手することができる。また、その他の式2で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例を以下に挙げる。式OS-103~OS-105中、R11はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、複数存在するR12はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、複数存在するR16はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。前記式OS-103~OS-105中、R11で表されるアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。前記式OS-103~OS-105中、R11で表されるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。R11で表されるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。前記式OS-103~OS-105中、R11で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基などが挙げられる。また、前記式OS-103~OS-105中、R11で表されるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数6~30のアリール基が好ましい。R11で表されるアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。R11で表されるアリール基としては、フェニル基、p-メチルフェニル基、p-クロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基が好ましい。また、前記式OS-103~OS-105中、R11で表されるヘテロアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数4~30のヘテロアリール基が好ましい。R11で表されるヘテロアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。前記式OS-103~OS-105中、R11で表されるヘテロアリール基は、少なくとも1つの複素芳香環を有していればよく、例えば、複素芳香環とベンゼン環とが縮環していてもよい。R11で表されるヘテロアリール基としては、置換基を有していてもよい、チオフェン環、ピロール環、チアゾール環、イミダゾール環、フラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾチアゾール環、及び、ベンゾイミダゾール環よりなる群から選ばれた環から1つの水素原子を除いた基が挙げられる。前記式OS-103~OS-105中、R12は、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましい。前記式OS-103~OS-105中、化合物中に2以上存在するR12のうち、1つ又は2つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることが好ましく、1つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることがより好ましく、1つがアルキル基であり、かつ残りが水素原子であることが特に好ましい。前記式OS-103~OS-105中、R12で表されるアルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよい。R12で表されるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基としては、前記R1におけるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基と同様の基が例示できる。前記式OS-103~OS-105中、R12で表されるアルキル基としては、置換基を有してもよい総炭素数1~12のアルキル基であることが好ましく、置換基を有してもよい総炭素数1~6のアルキル基であることがより好ましい。R12で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、n-ヘキシル基、アリル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、メトキシメチル基、ベンジル基が好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、n-ヘキシル基がより好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。前記式OS-103~OS-105中、R12で表されるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数6~30のアリール基であることが好ましい。R12で表されるアリール基としてフェニル基、p-メチルフェニル基、o-クロロフェニル基、p-クロロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基が好ましい。R12で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中でも、塩素原子、臭素原子が好ましい。前記式OS-103~OS-105中、XはO又はSを表し、Oであることが好ましい。前記式OS-103~OS-105において、Xを環員として含む環は、5員環又は6員環である。前記式OS-103~OS-105中、nは1又は2を表し、XがOである場合、nは1であることが好ましく、また、XがSである場合、nは2であることが好ましい。前記式OS-103~OS-105中、R16で表されるアルキル基及びアルキルオキシ基は、置換基を有していてもよい。前記式OS-103~OS-105中、R16で表されるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。R16で表されるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。前記式OS-103~OS-105中、R16で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基が好ましい。前記式OS-103~OS-105中、R16で表されるアルキルオキシ基としては、置換基を有してもよい総炭素数1~30のアルキルオキシ基であることが好ましい。R16で表されるアルキルオキシ基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。前記式OS-103~OS-105中、R16で表されるアルキルオキシ基としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、フェノキシエチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、又は、エトキシエチルオキシ基が好ましい。R16におけるアミノスルホニル基としては、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、メチルフェニルアミノスルホニル基、アミノスルホニル基が挙げられる。R16で表されるアルコキシスルホニル基としては、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、プロピルオキシスルホニル基、ブチルオキシスルホニル基が挙げられる。また、前記式OS-103~OS-105中、mは0~6の整数を表し、0~2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることが特に好ましい。また、前記式OS-103で表される化合物は、下記式OS-106、OS-110又はOS-111で表される化合物であることが特に好ましく、前記式OS-104で表される化合物は、下記式OS-107で表される化合物であることが特に好ましく、前記式OS-105で表される化合物は、下記式OS-108又はOS-109で表される化合物であることが特に好ましい。式OS-106~OS-111中、R11はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R17は、水素原子又は臭素原子を表し、R18は水素原子、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、R19は水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、R20は水素原子又はメチル基を表す。前記式OS-106~OS-111におけるR11は、前記式OS-103~OS-105におけるR11と同義であり、好ましい態様も同様である。前記式OS-106におけるR17は、水素原子又は臭素原子を表し、水素原子であることが好ましい。前記式OS-106~OS-111におけるR18は、水素原子、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~6のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。前記式OS-108及びOS-109におけるR19は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、水素原子であることが好ましい。前記式OS-108~OS-111におけるR20は、水素原子又はメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムの立体構造E,Zについては、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。前記式OS-103~OS-105で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記例示化合物が挙げられるが、本発明は、これらに限定されるものではない。オキシムスルホネート基を少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物の好適な他の態様としては、下記式OS-101で表される化合物が挙げられる。前記式OS-101中、R11は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。R12は、アルキル基又はアリール基を表す。Xは-O-、-S-、-NH-、-NR15-、-CH2-、-CR16H-又は-CR16R17-を表し、R15~R17はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。R21~R24はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基又はアリール基を表す。R21~R24のうち2つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。R21~R24としては、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基が好ましく、また、R21~R24のうち少なくとも2つが互いに結合してアリール基を形成する態様もまた、好ましく挙げられる。中でも、R21~R24がいずれも水素原子である態様が、感度の観点から好ましい。前記した置換基は、いずれも、更に置換基を有していてもよい。前記式OS-101で表される化合物は、下記式OS-102で表される化合物であることがより好ましい。前記式OS-102中、R11、R12及びR21~R24は、それぞれ式OS-101におけるR11、R12及びR21~R24と同義であり、好ましい例もまた同様である。これらの中でも、式OS-101及び式OS-102におけるR11がシアノ基又はアリール基である態様がより好ましく、式OS-102で表され、R11がシアノ基、フェニル基又はナフチル基である態様が最も好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムやベンゾチアゾール環の立体構造E,Z等についてはそれぞれ、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。以下に、本発明に好適に用いることができる式OS-101で表される化合物の具体例例示化合物b-1~b-34を示すが、本発明はこれに限定されない。なお、具体例中、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Bnはベンジル基を表し、Phはフェニル基を表す。上記化合物の中でも、感度と安定性との両立の観点から、b-9、b-16、b-31、b-33が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、活性光線に感応する酸発生剤として1,2-キノンジアジド化合物を含まないことが好ましい。その理由は、1,2-キノンジアジド化合物は、逐次型光化学反応によりカルボキシ基を生成するが、その量子収率は1以下であり、オキシムスルホネート化合物に比べて感度が低いためである。これに対して、オキシムスルホネート化合物は、活性光線に感応して生成する酸が保護された酸性基の脱保護に対して触媒として作用するので、1個の光量子の作用で生成した酸が、多数の脱保護反応に寄与し、量子収率は1を超え、例えば、10の数乗のような大きい値となり、いわゆる化学増幅の結果として、高感度が得られるものと推測される。また、オキシムスルホネート化合物は、広がりのあるπ共役系を有しているため、長波長側にまで吸収を有しており、遠紫外線DUV、i線のみならず、g線においても非常に高い感度を示す。本発明の感光性樹脂組成物は、前記特定樹脂における酸分解性基としてテトラヒドロフラニル基を用いることにより、アセタール又はケタールに比べ同等又はそれ以上の酸分解性を得ることができる。これにより、より短時間のポストベークで確実に酸分解性基が消費できる。更に、感放射性酸発生剤であるオキシムスルホネート化合物を組み合わせて用いることで、スルホン酸発生速度が上がるため、酸の生成が促進され、樹脂の酸分解性基の分解を促進する。また、オキシムスルホネート化合物が分解することで得られる酸は、分子の小さいスルホン酸が生成することから、硬化膜中での拡散性も高くなりより高感度化することができる。また、特定樹脂の架橋性基による架橋反応も滞りなく進行し、高密着性の硬化膜を得ることができる。成分Bは、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。また、他の種類の特定の酸発生剤と組み合わせて使用することもできる。本発明の感光性樹脂組成物において、成分Bは、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~10重量使用することが好ましく、0.5~10重量使用することがより好ましい。<その他の成分>本発明の感光性樹脂組成物には、その他の成分を含有することができる。その他の成分としては、感度の観点から現像促進剤を含有することが好ましく、また、塗布性の観点から溶剤を含有することが好ましく、膜物性の観点から架橋剤を含有することが好ましい。更に、本発明の感光性樹脂組成物は、基板密着性の観点から密着改良剤を含有することが好ましく、液保存安定性の観点から塩基性化合物を含有することが好ましく、塗布性の観点から界面活性剤を含有することが好ましい。更に、必要に応じて、本発明の感光性樹脂組成物には、酸化防止剤、可塑剤、熱ラジカル発生剤、熱酸発生剤、酸増殖剤、紫外線吸収剤、増粘剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤などの、公知の添加剤を加えることができる。また、増感剤は、低分子量成分の導入量が増えることにより、熱ダレが生じてしまうため、含まないほうが好ましい。以下、本発明の感光性樹脂組成物に含有することができるその他の成分を説明する。溶剤本発明の感光性樹脂組成物は、溶剤を含有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分である特定樹脂及び特定酸発生剤、並びに、各種添加剤の任意成分を、溶剤に溶解した溶液として調製されることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、例えば、1エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;2エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類;3エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;4プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;5プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類;6プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;7ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類;8ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;9ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;10ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルメチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類;11ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;12乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n-プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸n-ブチル、乳酸イソブチル、乳酸n-アミル、乳酸イソアミル等の乳酸エステル類;13酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、酢酸n-アミル、酢酸イソアミル、酢酸n-ヘキシル、酢酸2-エチルヘキシル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n-プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸n-ブチル、プロピオン酸イソブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸エチル、酪酸n-プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n-ブチル、酪酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類;14ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチル酪酸エチル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、3-メチル-3-メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類;15メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル-n-ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、4-ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;16N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;17γ-ブチロラクトン等のラクトン類等を挙げることができる。また、これらの溶剤に更に必要に応じて、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オクタノール、1-ノナール、ベンジルアルコール、アニソール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の溶剤を添加することもできる。上記した溶剤のうち、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、及び/又は、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類が好ましく、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、及び/又は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましい。これら溶剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物における溶剤の含有量は、特定樹脂100重量部当たり、1~3,000重量部であることが好ましく、5~2,000重量部であることがより好ましく、10~1,500重量部であることが更に好ましい。現像促進剤本発明の感光性樹脂組成物は、現像促進剤を含有することが好ましい。現像促進剤としては、現像促進効果のある任意の化合物を使用できるが、カルボキシ基、フェノール性水酸基、及び、アルキレンオキシ基の群から選ばれる少なくとも1種の基を有する化合物であることが好ましく、カルボキシ基又はフェノール性水酸基を有する化合物がより好ましく、フェノール性水酸基を有する化合物が最も好ましい。また、現像促進剤の分子量としては、100~2,000が好ましく、150~1,500が更に好ましく、150~1,000が特に好ましい。現像促進剤の例として、アルキレンオキシ基を有するものとしては、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールのモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールのジメチルエーテル、ポリエチレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールジグリセリルエステル、ポリブチレングリコール、ポリエチレングリコール-ビスフェノールAエーテル、ポリプロピレングリコール-ビスフェノールAエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエステル、及び特開平9-222724号公報に記載の化合物等を挙げることができる。カルボキシ基を有するものとしては、特開2000-66406号公報、特開平9-6001号公報、特開平10-20501号公報、特開平11-338150号公報等に記載の化合物を挙げることができる。フェノール性水酸基を有するものとしては、特開2005-346024号公報、特開平10-133366号公報、特開平9-194415号公報、特開平9-222724号公報、特開平11-171810号公報、特開2007-121766号公報、特開平9-297396号公報、特開2003-43679号公報等に記載の化合物を挙げることができる。これらの中でも、ベンゼン環数が2~10個のフェノール化合物が好適であり、ベンゼン環数が2~5個のフェノール化合物が更に好適である。特に好ましいものとしては、特開平10-133366号公報に溶解促進剤として開示されているフェノール性化合物を挙げることができる。現像促進剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における現像促進剤の添加量は、感度と残膜率の観点から、特定樹脂を100重量部としたとき、0.1~30重量部が好ましく、0.2~20重量部がより好ましく、0.5~10重量部であることが最も好ましい。架橋剤本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じ、架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤を添加することにより、本発明の感光性樹脂組成物により得られる硬化膜をより強固な膜とすることができる。架橋剤としては、例えば、以下に述べる分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、アルコキシメチル基含有架橋剤、又は、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を添加することができる。これらの架橋剤の中で、特に好ましいものは、分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物である。本発明の感光性樹脂組成物中における架橋剤の添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、0.05~50重量部であることが好ましく、0.5~44重量部であることがより好ましく、3~40重量部であることが更に好ましい。この範囲で添加することにより、機械的強度及び耐溶剤性に優れた硬化膜が得られる。-分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物-分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。これらは市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010以上、ジャパンエポキシレジン株製、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055以上、DIC株製等であり、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010以上、ジャパンエポキシレジン株製、EPICLON830、EPICLON835以上、DIC株製、LCE-21、RE-602S以上、日本化薬株製等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、JER152、JER154、JER157S70、JER157S65以上、ジャパンエポキシレジン株製、EPICLONN-740、EPICLONN-740、EPICLONN-770、EPICLONN-775以上、DIC株製等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、EPICLONN-660、EPICLONN-665、EPICLONN-670、EPICLONN-673、EPICLONN-680、EPICLONN-690、EPICLONN-695以上、DIC株製、EOCN-1020以上、日本化薬株製等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ADEKARESINEP-4080S、同EP-4085S、同EP-4088S以上、株ADEKA製、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、EHPE3150、EPOLEADPB3600、同PB4700以上、ダイセル化学工業株製等である。その他にも、ADEKARESINEP-4000S、同EP-4003S、同EP-4010S、同EP-4011S以上、株ADEKA製、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502以上、株ADEKA製等が挙げられる。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中で好ましいものとしては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、及びフェノールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。特にビスフェノールA型エポキシ樹脂が好ましい。分子内に2個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンOXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX以上、東亞合成株製を用いることができる。また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することが好ましい。分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物の本発明の感光性樹脂組成物への添加量は、特定樹脂の総量を100重量部としたとき、1~50重量部が好ましく、3~30重量部がより好ましい。-アルコキシメチル基含有架橋剤-アルコキシメチル基含有架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル及びアルコキシメチル化尿素等が好ましい。これらは、それぞれメチロール化メラミン、メチロール化ベンゾグアナミン、メチロール化グリコールウリル、又は、メチロール化尿素のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等を挙げることができるが、アウトガスの発生量の観点から、特にメトキシメチル基が好ましい。これらのアルコキシメチル基含有架橋剤のうち、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリルが好ましい架橋剤として挙げられ、透明性の観点から、アルコキシメチル化グリコールウリルが特に好ましい。これらアルコキシメチル基含有架橋剤は、市販品として入手可能であり、例えば、サイメル300、301、303、370、325、327、701、266、267、238、1141、272、202、1156、1158、1123、1170、1174、UFR65、300以上、三井サイアナミッド株製、ニカラックMX-750、-032、-706、-708、-40、-31、-270、-280、-290、ニカラックMS-11、ニカラックMW-30HM、-100LM、-390、以上、株三和ケミカル製などを好ましく使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物にアルコキシメチル基含有架橋剤を用いる場合のアルコキシメチル基含有架橋剤の添加量は、特定樹脂100重量部に対して、0.05~50重量部であることが好ましく、0.5~10重量部であることがより好ましい。この範囲で添加することにより、現像時の好ましいアルカリ溶解性と、硬化後の膜の優れた耐溶剤性が得られる。-少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物-少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、単官能メタアクリレート、2官能メタアクリレート、3官能以上のメタアクリレートなどのメタアクリレート化合物を好適に用いることができる。単官能メタアクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、カルビトールメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、3-メトキシブチルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。2官能メタアクリレートとしては、例えば、エチレングリコールメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。3官能以上のメタアクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメタアクリロイロキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどが挙げられる。これらの少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。本発明の感光性樹脂組成物における少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用割合は、特定樹脂100重量部に対して、50重量部以下であることが好ましく、30重量部以下であることがより好ましい。このような割合で少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有させることにより、本発明の感光性樹脂組成物から得られる硬化膜の耐熱性及び表面硬度等を向上させることができる。少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を加える場合には、後述の熱ラジカル発生剤を添加することが好ましい。密着改良剤本発明の感光性樹脂組成物は、密着改良剤を含有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる密着改良剤は、基板となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物である。具体的には、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。本発明で使用される密着改良剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリアコキシシラン、γ-グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。これらのうち、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、及びγ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが更に好ましい。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらは基板との密着性の向上に有効であるとともに、基板とのテーパ角の調整にも有効である。本発明の感光性樹脂組成物における密着改良剤の含有量は、特定樹脂100重量部に対して、0.1~20重量部が好ましく、0.5~10重量部がより好ましい。塩基性化合物本発明の感光性樹脂組成物は、塩基性化合物を含有することが好ましい。塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、及び、カルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。脂肪族アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、トリ-n-プロピルアミン、ジ-n-ペンチルアミン、トリ-n-ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミンなどが挙げられる。芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、ベンジルアミン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。複素環式アミンとしては、例えば、ピリジン、2-メチルピリジン、4-メチルピリジン、2-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2-フェニルピリジン、4-フェニルピリジン、N-メチル-4-フェニルピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、4-メチルイミダゾール、2-フェニルベンズイミダゾール、2,4,5-トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、8-オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、4-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン、1,8-ジアザビシクロ[5.3.0]-7-ウンデセンなどが挙げられる。第四級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ヘキシルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。カルボン酸の第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ-n-ブチルアンモニウムアセテート、テトラ-n-ブチルアンモニウムベンゾエートなどが挙げられる。本発明に用いることができる塩基性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよいが、2種以上を併用することが好ましく、2種を併用することがより好ましく、複素環式アミンを2種併用することが更に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物における塩基性化合物の含有量は、特定樹脂100重量部に対して、0.001~1重量部であることが好ましく、0.002~0.2重量部であることがより好ましい。界面活性剤本発明の感光性樹脂組成物は、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、フッ素系、シリコーン系界面活性剤を挙げることができる。本発明の感光性樹脂組成物は、界面活性剤として、フッ素系界面活性剤、及び/又は、シリコーン系界面活性剤を含有することがより好ましい。これらのフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤として、例えば、特開昭62-36663号、特開昭61-226746号、特開昭61-226745号、特開昭62-170950号、特開昭63-34540号、特開平7-230165号、特開平8-62834号、特開平9-54432号、特開平9-5988号、特開2001-330953号各公報記載の界面活性剤を挙げることができ、市販の界面活性剤を用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えば、エフトップEF301、EF303、以上、新秋田化成株製、フロラードFC430、431以上、住友スリーエム株製、メガファックF171、F173、F176、F189、R08以上、DIC株製、サーフロンS-382、SC101、102、103、104、105、106以上、旭硝子株製、PolyFoxシリーズOMNOVA社製等のフッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤を挙げることができる。また、ポリシロキサンポリマーKP-341信越化学工業株製も、シリコーン系界面活性剤として用いることができる。また、界面活性剤として、下記式1で表される構成単位A及び構成単位Bを含み、テトラヒドロフランTHFを溶媒とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwが1,000以上10,000以下である共重合体を好ましい例として挙げることができる。式1中、R1及びR3はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R4は水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは重合比を表す重量百分率であり、pは10重量以上80重量以下の数値を表し、qは20重量以上90重量以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、nは1以上10以下の整数を表す。前記Lは、下記式2で表される分岐アルキレン基であることが好ましい。式2におけるR5は、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数1以上3以下のアルキル基が好ましく、炭素数2又は3のアルキル基がより好ましい。前記共重合体の重量平均分子量Mwは、1,500以上5,000以下がより好ましい。これら界面活性剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物における界面活性剤の添加量は、特定樹脂100重量部に対して、10重量部以下であることが好ましく、0.01~10重量部であることがより好ましく、0.01~1重量部であることが更に好ましい。酸化防止剤本発明の感光性樹脂組成物は、酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤が好ましい。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブAO-60、アデカスタブAO-80以上、株ADEKA製、イルガノックス1098チバジャパン株製が挙げられる。酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~6重量であることが好ましく、0.2~5重量であることがより好ましく、0.5~4重量であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時の感度も良好となる。また、酸化防止剤以外の添加剤として、高分子添加剤の新展開株日刊工業新聞社に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。可塑剤本発明の感光性樹脂組成物は、可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリン、ジメチルグリセリンフタレート、酒石酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリアセチルグリセリンなどが挙げられる。本発明の感光性樹脂組成物における可塑剤の含有量は、特定樹脂100重量部に対して、0.1~30重量部であることが好ましく、1~10重量部であることがより好ましい。熱ラジカル発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、熱ラジカル発生剤を含んでいてもよく、前述の少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物のようなエチレン性不飽和化合物を含有する場合、熱ラジカル発生剤を含有することが好ましい。本発明における熱ラジカル発生剤としては、公知の熱ラジカル発生剤を用いることができる。熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、重合性化合物の重合反応を開始又は促進させる化合物である。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する場合がある。好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物等が挙げられる。熱ラジカル発生剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における熱ラジカル発生剤の含有量は、膜物性向上の観点から、特定樹脂を100重量部としたとき、0.01~50重量部が好ましく、0.1~20重量部がより好ましく、0.5~10重量部であることが最も好ましい。熱酸発生剤本発明では、低温硬化での膜物性等を改良するために、熱酸発生剤を使用してもよい。本発明に用いることができる熱酸発生剤とは、熱により酸が発生する化合物であり、通常、熱分解点が130°C~250°C、好ましくは150°C~220°Cの範囲の化合物であり、例えば、加熱によりスルホン酸、カルボン酸、ジスルホニルイミドなどの低求核性の酸を発生する化合物である。熱酸発生剤により発生する酸としては、pKaが2以下と強い、スルホン酸や、電子求引基の置換したアルキル又はアリールカルボン酸、同じく電子求引基の置換したジスルホニルイミドなどが好ましい。電子求引基としては、フッ素原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。また、本発明においては、露光光の照射によって実質的に酸を発生せず、熱によって酸を発生するスルホン酸エステルを使用することも好ましい。露光光の照射によって実質的に酸を発生していないことは、化合物の露光前後でのIRスペクトルやNMRスペクトル測定により、スペクトルに変化がないことで判定することができる。スルホン酸エステルの分子量は、230~1,000であることが好ましく、230~800であることがより好ましい。本発明に用いることができるスルホン酸エステルは、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いてもよい。スルホン酸エステルは、例えば、塩基性条件下、スルホニルクロリド乃至はスルホン酸無水物を対応する多価アルコールと反応させることにより合成することができる。熱酸発生剤の感光性樹脂組成物への含有量は、特定樹脂を100重量部としたとき、0.5~20重量部が好ましく、1~15重量部がより好ましい。酸増殖剤本発明の感光性樹脂組成物は、感度向上を目的に、酸増殖剤を用いることができる。本発明に用いることができる酸増殖剤は、酸触媒反応によって更に酸を発生して反応系内の酸濃度を上昇させることができる化合物であり、酸が存在しない状態では安定に存在する化合物である。このような化合物は、1回の反応で1つ以上の酸が増えるため、反応の進行に伴って加速的に反応が進むが、発生した酸自体が自己分解を誘起するため、ここで発生する酸の強度は、酸解離定数、pKaとして3以下であるのが好ましく、特に2以下であるのが好ましい。酸増殖剤の具体例としては、特開平10-1508号公報の段落0203~0223、特開平10-282642号公報の段落0016~0055、及び、特表平9-512498号公報第39頁12行目~第47頁2行目に記載の化合物を挙げることができる。本発明で用いることができる酸増殖剤としては、酸発生剤から発生した酸によって分解し、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、フェニルホスホン酸などのpKaが3以下の酸を発生させる化合物を挙げることができる。酸増殖剤の感光性樹脂組成物への含有量は、特定酸発生剤100重量部に対して、10~1,000重量部とするのが、露光部と未露光部との溶解コントラストの観点から好ましく、20~500重量部とするのが更に好ましい。硬化膜の形成方法次に、本発明の硬化膜の形成方法を説明する。本発明の硬化膜の形成方法は、本発明の感光性樹脂組成物を用いること以外に特に制限はないが、以下の1~5の工程を含むことが好ましい。1本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程2塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程3溶剤を除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程4露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程5現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程本発明の硬化膜の形成方法においては、前記露光工程における露光後に、加熱処理を行わずに、前記4の現像工程を行ってもよい。また、前記ポストベーク工程前に、更に6現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含んでいてもよい。以下に各工程を順に説明する。1の塗布工程では、本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とすることが好ましい。2の溶剤除去工程では、塗布された上記の膜から、減圧バキューム及び/又は加熱により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させることが好ましい。3の露光工程では、得られた塗膜に波長300nm以上450nm以下の活性光線を照射することが好ましい。この工程では、特定酸発生剤が分解し酸が発生する。発生した酸の触媒作用により、特定樹脂中に含まれる構成単位a1中の酸分解性基が分解されて、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基が生成する。酸触媒の生成した領域において、上記の分解反応を加速させるために、必要に応じて、露光後加熱処理:PostExposureBake以下、PEBともいう。を行ってもよい。PEBにより、酸分解性基からのカルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基の生成を促進させることができる。特定樹脂における構成単位a1中の酸分解性基は、酸分解の活性化エネルギーが低く、露光による特定酸発生剤由来の酸により容易に分解し、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を生じるため、必ずしもPEBを行う必要はない。したがって、露光工程の後、加熱処理を行わずに前記現像工程を行うことが好ましい。より詳細には、3の露光工程の後、PEBを行うことなく、4の現像工程にて現像を行うことにより、ポジ画像を形成することが好ましい。なお、比較的低温でPEBを行うことにより、架橋反応を起こすことなく、酸分解性基の分解を促進することもできる。PEBを行う場合の温度は、30°C以上130°C以下であることが好ましく、40°C以上110°C以下がより好ましく、50°C以上90°C以下が特に好ましい。4の現像工程では、遊離したカルボキシ基を有する特定樹脂を、アルカリ性現像液を用いて現像することが好ましい。アルカリ性現像液に溶解しやすいカルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する感光性樹脂組成物を含む露光部領域を除去することにより、ポジ画像が形成することができる。5のポストベーク工程において、得られたポジ画像を加熱することにより、例えば、構成単位a2中のカルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基、及び、構成単位a1中の酸分解性基を熱分解し生成したカルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基と、構成単位a3中のエポキシ基及び/又はオキセタニル基と架橋させ、硬化膜を形成することができる。この加熱は、150°C以上の高温に加熱することが好ましく、180~250°Cに加熱することがより好ましく、200~250°Cに加熱することが特に好ましい。加熱時間は、加熱温度などにより適宜設定できるが、10~90分の範囲内とすることが好ましい。更に、ポストベーク工程の前に6現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含むことが好ましく、現像された感光性樹脂組成物のパターンに活性光線、好ましくは紫外線を、全面照射する工程を加えると、活性光線の照射により発生する酸により架橋反応を促進することができる。次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法を具体的に説明する。感光性樹脂組成物の調製方法特定樹脂及び酸発生剤の必須成分に、必要によって溶剤を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解して感光性樹脂組成物を調製する。例えば、特定樹脂又は酸発生剤を、それぞれ予め溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して感光性樹脂組成物を調製することもできる。以上のように調製した感光性樹脂組成物の溶液は、孔径0.1μmのフィルタ等を用いてろ過した後に、使用に供することもできる。本発明の感光性樹脂組成物の好適な態様の一例は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、特定樹脂を40~95重量の範囲で含み、かつ、特定酸発生剤を0.1~10重量の範囲で含む態様である。また、本発明の感光性樹脂組成物の好適な態様の他の例は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、特定樹脂を40~70重量の範囲で含み、特定酸発生剤を0.1~10重量の範囲で含み、かつ、架橋剤を3~40重量の範囲で含む態様である。<塗布工程及び溶剤除去工程>感光性樹脂組成物を、所定の基板に塗布し、減圧及び/又は加熱プリベークにより溶剤を除去することにより、所望の乾燥塗膜を形成することができる。前記の基板としては、例えば液晶表示装置の製造においては、偏光板、更に必要に応じてブラックマトリックス層、カラーフィルタ層を設け、更に透明導電回路層を設けたガラス板などが例示できる。基板への塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法等の方法を用いることができる。中でもスリットコート法が大型基板に適するという観点で好ましい。ここで大型基板とは、各辺が1m以上の大きさの基板をいう。また、2溶剤除去工程の加熱条件は、未露光部における特定樹脂中の構成単位a1において酸分解性基が分解して、かつ、特定樹脂をアルカリ現像液に可溶性としない範囲であり、各成分の種類や配合比によっても異なるが、好ましくは70~120°Cで30~300秒間程度である。<露光工程>3露光工程では、感光性樹脂組成物の乾燥塗膜を設けた基板に所定のパターンの活性光線を照射する。露光はマスクを介して行ってもよいし、所定のパターンを直接描画してもよい。波長300nm以上450nm以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。露光工程の後、必要に応じてPEBを行ってもよい。活性光線による露光には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、レーザ発生装置、LED光源などを用いることができる。水銀灯を用いる場合にはg線436nm、i線365nm、h線405nmなどの波長を有する活性光線が好ましく使用できる。水銀灯はレーザに比べると、大面積の露光に適するという点で好ましい。レーザを用いる場合には固体YAGレーザでは343nm、355nmが好適に用いられ、エキシマレーザでは351nmXeFが好適に用いられ、更に半導体レーザでは375nm、405nmが好適に用いられる。この中でも、安定性、コスト等の点から355nm、405nmがより好ましい。レーザは1回あるいは複数回に分けて、塗膜に照射することができる。レーザの1パルス当たりのエネルギー密度は0.1mJ/cm2以上10,000mJ/cm2以下であることが好ましい。塗膜を十分に硬化させるには、0.3mJ/cm2以上がより好ましく、0.5mJ/cm2以上が最も好ましく、アブレーション現象により塗膜を分解させないようにするには、1,000mJ/cm2以下がより好ましく、100mJ/cm2以下が最も好ましい。また、パルス幅は、0.1nsec以上30,000nsec以下であることが好ましい。アブレーション現象により色塗膜を分解させないようにするには、0.5nsec以上がより好ましく、1nsec以上が最も好ましく、スキャン露光の際に合わせ精度を向上させるには、1,000nsec以下がより好ましく、50nsec以下が最も好ましい。更に、レーザの周波数は、1Hz以上50,000Hz以下が好ましく、10Hz以上1,000Hz以下がより好ましい。更に、レーザの周波数は、露光処理時間を短くするには、10Hz以上がより好ましく、100Hz以上が最も好ましく、スキャン露光の際に合わせ精度を向上させるには、10,000Hz以下がより好ましく、1,000Hz以下が最も好ましい。レーザは水銀灯と比べると、焦点を絞ることが容易であり、露光工程でのパターン形成のマスクが不要でコストダウンできるという点で好ましい。本発明に使用可能な露光装置としては、特に制限はないが市販されているものとしては、Callisto株ブイテクノロジー製やAEGIS株ブイテクノロジー製やDF2200G大日本スクリーン製造株製などが使用可能である。また上記以外の装置も好適に用いられる。また、必要に応じて長波長カットフィルタ、短波長カットフィルタ、バンドパスフィルタのような分光フィルタを通して照射光を調整することもできる。<現像工程>4現像工程では、塩基性現像液を用いて露光部領域を除去して画像パターンを形成する。現像液に用いる塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類;ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。現像液のpHは、10.0~14.0であることが好ましい。現像時間は、好ましくは30~180秒間であり、また、現像の手法は液盛り法、ディップ法、シャワー法等のいずれでもよい。現像後は、流水洗浄を10~90秒間行い、所望のパターンを形成させることができる。<ポストベーク工程架橋工程>現像により得られた未露光領域に対応するパターンについて、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温度、例えば180~250°Cで所定の時間、例えばホットプレート上なら5~60分間、オーブンならば30~90分間、加熱処理をすることにより、特定樹脂中の酸分解性基を分解して、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を発生させ、特定樹脂中のエポキシ基及び/又はオキセタニル基である架橋性基と反応して、架橋させることにより、耐熱性、硬度等に優れた保護膜や層間絶縁膜を形成することができる。また、加熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより透明性を向上させることもできる。なお、加熱処理に先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により再露光した後、ポストベークすること再露光/ポストベークにより未露光部分に存在する酸発生剤Bから酸を発生させ、架橋を促進する触媒として機能させることが好ましい。すなわち、本発明における硬化膜の形成方法は、現像工程とポストベーク工程の間に、活性光線により再露光する前記6工程を含むことが好ましい。再露光工程における露光は、前記露光工程と同様の手段により行えばよいが、前記再露光工程では、基板の本発明の感光性樹脂組成物により膜が形成された側に対し、全面露光を行うことが好ましい。再露光工程の好ましい露光量としては、100~1,000mJ/cm2である。本発明の硬化膜は、本発明の感光性樹脂組成物を硬化して得られた硬化膜であり、層間絶縁膜として好適に用いることができる。また、本発明の硬化膜は、本発明の硬化膜の形成方法により得られた硬化膜であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物により、高い感度を有し、現像時における残渣の発生が抑制され、かつ、平滑性に優れた表面を有する硬化膜が得られ、該硬化膜は層間絶縁膜として有用である。また、本発明の感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜は、高い透明性を有し、良好な形状のパターン形状を形成でき、また、その表面の平滑性にも優れるので、有機EL表示装置や液晶表示装置の用途に有用である。本発明の感光性樹脂組成物を適用し得る有機EL表示装置や液晶表示装置としては、本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜を平坦化膜や保護膜、層間絶縁膜として用いること以外は、特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機EL表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。また、本発明の感光性樹脂組成物及び本発明の硬化膜は、前記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜や保護膜、層間絶縁膜以外にも、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルタ上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。図1は、本発明の感光性樹脂組成物を用いた有機EL表示装置の一例の構成概念図を示す。ボトムエミッション型の有機EL表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜4を有している。ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3が形成されている。絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmが絶縁膜3上に形成されている。配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。更に、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上に平坦化膜4が形成されている。平坦化膜4上には、ボトムエミッション型の有機EL素子が形成されている。すなわち、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5が、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成されている。第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8が形成されており、この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。更に、図1には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られる。図2は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置10の一例を示す概念的断面図である。このカラー液晶表示装置10は、背面にバックライトユニット12を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた2枚のガラス基板14,15の間に配置されたすべての画素に対応するTFT16の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜17中に形成されたコンタクトホール18を通して、画素電極を形成するITO透明電極19が配線されている。ITO透明電極19の上には、液晶20の層とブラックマトリックスを配置したRGBカラーフィルタ22が設けられている。次に、実施例により本発明を更に具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部、は重量基準である。以下の特定樹脂A~P、及び、比較用樹脂R1~R12の合成例において用いている各化合物の略号は、それぞれ以下の化合物を表す。MATHF:2-テトラヒドロフラニルメタクリレート合成品AATHF:2-テトラヒドロフラニルアクリレート合成品MAMTHF:5-メチル-2-テトラヒドロフラニルメタクリレート合成品MAA:メタクリル酸和光純薬工業株製ITA:イタコン酸和光純薬工業株製MAEVE:1-エトキシエチルメタクリレート和光純薬工業株製MACHVE:1-シクロヘキシルエチルメタクリレート合成品MABVE:1-tert-ブチルエチルメタクリレート合成品OXE-30:3-エチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート大阪有機化学工業株製HEMA:ヒドロキシエチルメタクリレート和光純薬工業株製V-65:2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル和光純薬工業株製V-601:2,2-アゾビス2-メチルプロピオン酸ジメチル和光純薬工業株製EtMA:エチルメタクリレート和光純薬工業株製HMA:ヘキシルメタクリレート和光純薬工業株製BzMA:ベンジルメタクリレート和光純薬工業株製CHMI:N-シクロヘキシルマレイミド和光純薬工業株製GMA:グリシジルメタクリレート和光純薬工業株製St:スチレン和光純薬工業株製StCO2H:スチレンカルボン酸StOTHF:4-2-テトラヒドロフラニルスチレン合成品PHS:4-ヒドロキシスチレンDCPM:ジシクロペンタニルメタクリレートFA-513M、日立化成工業株製MMA:メチルメタクリレート和光純薬工業株製PGMEA:メトキシプロピルアセテート昭和電工株製HS-EDM:ハイソルブEDMジエチレングリコールエチルメチルエーテル、東邦化学工業株製<合成例1:MATHFの合成>3つ口フラスコにメタクリル酸50.33g0.585mol、カンファースルホン酸0.27g0.2molを混合して15°Cに冷却した。その溶液に2,3-ジヒドロフラン41.00g0.585mol滴下した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液500mLを加え、酢酸エチル500mLで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後した。不溶物をろ過後40°C以下で減圧濃縮し、残渣の無色油状物を減圧蒸留することで沸点bp.54~56°C/3.5mmHg留分の73.02gのMATHFを得た。<合成例2:AATHFの合成>3つ口フラスコにアクリル酸42.16g0.585mol、カンファースルホン酸0.27g0.2molを混合して15°Cに冷却した。その溶液に2,3-ジヒドロフラン41.00g0.585mol滴下した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液500mLを加え、酢酸エチル500mLで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後した。不溶物をろ過後40°C以下で減圧濃縮し、残渣の無色油状物を減圧蒸留することで62.18gのAATHFを得た。<合成例3:MAMTHFの合成>3つ口フラスコにメタクリル酸50.33g0.585mol、カンファースルホン酸0.27g0.2molを混合して15°Cに冷却した。その溶液に5-メチル-2,3-ジヒドロフラン49.21g0.585mol滴下した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液500mLを加え、酢酸エチル500mLで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後した。不溶物をろ過後40°C以下で減圧濃縮し、残渣の無色油状物を減圧蒸留することで66.70gのMAMTHFを得た。<合成例4:特定樹脂Aの合成>3つ口フラスコにHS-EDM36.86gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MAMTHF13.62g、HEMA5.21g、OXE-3011.05g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM36.86gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Aを得た。酸価は35.5mgKOH/g、重量平均分子量は8,200であった。<合成例5:特定樹脂Bの合成>3つ口フラスコにHS-EDM36.07gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MAMTHF6.81g、StOTHF5.33g、HEMA8.59g、OXE-308.47g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM36.07gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Bを得た。酸価は36.3mgKOH/g、重量平均分子量は7,900であった。<合成例6:特定樹脂Cの合成>3つ口フラスコにHS-EDM34.88gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、AATHF11.37g、HEMA3.90g、OXE-3012.90g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM34.88gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Cを得た。酸価は37.5mgKOH/g、重量平均分子量は8,600であった。<合成例7:特定樹脂Dの合成>3つ口フラスコにHS-EDM34.05gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にPHS2.96g、MATHF12.49g、HEMA5.21g、GMA8.53g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM34.05gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Dを得た。酸価は38.5mgKOH/g、重量平均分子量は7,800であった。<合成例8:特定樹脂Eの合成>3つ口フラスコにHS-EDM37.00gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にPHS2.96g、MATHF12.49g、OXE-3011.05g、HEMA5.21g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM37.00gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Eを得た。酸価は35.4mgKOH/g、重量平均分子量は8,300であった。<合成例9:特定樹脂Fの合成>3つ口フラスコにHS-EDM32.60gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MATHF12.49g、GMA8.53g、HEMA5.21g、V-6013.22g、モノマーに対して7molをHS-EDM32.60gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Fを得た。酸価は40.2mgKOH/g、重量平均分子量は7,700であった。<合成例10:特定樹脂Gの合成>3つ口フラスコにHS-EDM36.42gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA2.07g、StOTHF9.51g、OXE-3011.05g、HEMA8.59g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM33.5gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Gを得た。酸価は43.1mgKOH/g、重量平均分子量は9,300であった。<合成例11:特定樹脂Hの合成>3つ口フラスコにHS-EDM36.57gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にITA1.30g、MATHF12.49g、OXE-3011.05g、HEMA6.51g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM36.57gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Hを得た。酸価は35.8mgKOH/g、重量平均分子量は8,100であった。<合成例12:特定樹脂Iの合成>3つ口フラスコにPGMEA35.55gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MATHF12.49g、OXE-3011.05g、HEMA5.21g、V-653.34g、モノマーに対して7molをPGMEA35.55gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Iを得た。酸価は36.8mgKOH/g、重量平均分子量は7,900であった。<合成例13:特定樹脂Jの合成>3つ口フラスコにHS-EDM32.19gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA2.93g、MATHF12.49g、OXE-305.53g、MMA4.61g、DCPM2.04g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM32.19gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Jを得た。酸価は69.1mgKOH/g、重量平均分子量は7,900であった。<合成例14:特定樹脂Kの合成>3つ口フラスコにHS-EDM31.64gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA2.84g、MATHF12.49g、OXE-303.68g、MMA4.71g、HMA3.41g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM31.64gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Kを得た。酸価は68.3mgKOH/g、重量平均分子量は9,900であった。<合成例15:特定樹脂Lの合成>3つ口フラスコにHS-EDM31.54gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA3.10g、MATHF15.61g、HEMA8.33g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM31.54gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それによりn1を得た。重量平均分子量は7,200であった。また、3つ口フラスコにHS-EDM38.52gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液に、MATHF13.42g、OXE-3016.21g、HEMA3.38g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM38.52gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それによりn2を得た。重量平均分子量は7,600であった。n1/n2=4/6で混合することにより、特定樹脂Lを得た。酸価は33.9mgKOH/gであった。<合成例16:特定樹脂Mの合成>3つ口フラスコにHS-EDM32.45gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA3.10g、MATHF20.29g、HEMA4.42g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM32.45gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それによりm1を得た。重量平均分子量は8,100であった。また、3つ口フラスコにHS-EDM34.10gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液に、MATHF12.49g、GMA13.36g、HEMA3.38g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM34.10gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それによりm2を得た。重量平均分子量は7,900であった。m1/m2=4/6で混合することにより、特定樹脂Mを得た。酸価は35.4mgKOH/gであった。<合成例17:特定樹脂Nの合成>3つ口フラスコにHS-EDM37.00gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にStCO2H2.96g、MATHF12.49g、OXE-3011.05g、MMA5.21g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM37.00gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Nを得た。酸価は68.3mgKOH/g、重量平均分子量は9,700であった。<合成例18:特定樹脂Oの合成>3つ口フラスコにHS-EDM34.00gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MATHF10.93g、HEMA5.21、OXE-309.21g、St2.08g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM34.00gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Oを得た。酸価は41.5mgKOH/g、重量平均分子量は10,200であった。<合成例19:特定樹脂Pの合成>3つ口フラスコにHS-EDM30.77gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA2.24g、MATHF9.99g、HEMA5.21、GMA6.25g、St2.71g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM30.77gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより特定樹脂Pを得た。酸価は61.6mgKOH/g、重量平均分子量は9,200であった。<比較合成例1:比較用樹脂R1の合成>3つ口フラスコにHS-EDM31.63gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、EtMA9.13g、OXE-3011.05g、HEMA5.21g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM31.63gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R1を得た。酸価は41.4mgKOH/g、重量平均分子量は7,500であった。<比較合成例2:比較用樹脂R2の合成>3つ口フラスコにHS-EDM34.57gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MATHF12.49g、HMA10.22g、HEMA5.21g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM34.57gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R2を得た。酸価は37.9mgKOH/g、重量平均分子量は7,300であった。<比較合成例3:比較用樹脂R3の合成>3つ口フラスコにHS-EDM33.64gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA5.17g、MATHF9.99g、OXE-3012.90g、HEMA0.78g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM33.64gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R3を得た。酸価は116.8mgKOH/g、重量平均分子量は8,200であった。<比較合成例4:比較用樹脂R4の合成>3つ口フラスコにHS-EDM34.34gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MATHF6.24g、OXE-3011.05g、HEMA10.41g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM34.34gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R4を得た。酸価は38.1mgKOH/g、重量平均分子量は7,600であった。<比較合成例5:比較用樹脂R5の合成>3つ口フラスコにHS-EDM35.74gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MAEVE12.65g、OXE-3011.05g、HEMA5.20g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM35.74gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R5を得た。酸価は36.6mgKOH/g、重量平均分子量は6,600であった。<比較合成例6:比較用樹脂R6の合成>3つ口フラスコにHS-EDM34.89gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MACHVE16.97g、OXE-3011.05g、HEMA5.21g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM34.89gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R6を得た。酸価は32.1mgKOH/g、重量平均分子量は7,200であった。<比較合成例7:比較用樹脂R7の合成>3つ口フラスコにHS-EDM32.46gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MABVE14.89g、OXE-3011.05g、HEMA5.21g、V-653.34g、モノマーに対して7molをHS-EDM32.46gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R7を得た。酸価は34.1mgKOH/g、重量平均分子量は6,800であった。<比較合成例8:比較用樹脂R8の合成>3つ口フラスコにPGMEA70.0gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA30.0g、MMA12.0g、HEMA12.0g、BzMA6g、V-653.34g、モノマーに対して7molをPGMEA70.0gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R8を得た。酸価は325.9mgKOH/g、重量平均分子量は7,500であった。<比較合成例9:比較用樹脂R9の合成>ナス型フラスコに、ポリp-ヒドロキシスチレン40gp-ヒドロキシスチレン単位として333mmol、p-トルエンスルホン酸一水和物47mg0.25mmolを入れ、PGMEA98.3gと混合した。そこにエチルビニルエーテル16.6g230mmolを滴下した後、25°Cで5時間反応させた。この反応溶液に、メチルイソブチルケトン100gを加え、更にイオン交換水100mLを加えた。撹拌した後、有機層部分を取り出した。有機層を取り出して減圧蒸留することにより、PGMEA溶液とした。得られた液体は、ポリp-ヒドロキシスチレンのフェノール性水酸基が部分的に1-エトキシエチルでエーテル化された樹脂の溶液であり、この樹脂を1H-NMRで分析したところ、フェノール性水酸基の50が1-エトキシエチルエーテル化されていた。この樹脂を比較用樹脂R9とする。なお、この樹脂の酸価は213.99mgKOH/gであった。<比較合成例10:比較用樹脂R10の合成>3つ口フラスコにHS-EDM50.0gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMACHVE20.0g、St2.5g、GMA27.5g、HEMA5.0g、V-653.5g、モノマーに対して7molをHS-EDM50.0gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R10を得た。酸価は0mgKOH/g、重量平均分子量は9,700であった。<比較合成例11:比較用樹脂R11の合成>3つ口フラスコにPGMEA35.4gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA6.47g、CHMI11.77g、HEMA8.50g、MMA6.60g、V-655.56g、モノマーに対して7molをPGMEA35.4gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R11を得た。酸価は126.4mgKOH/g、重量平均分子量は8,200であった。<比較合成例12:比較用樹脂R12の合成>3つ口フラスコにPGMEA43.2gを入れ、窒素雰囲気下において70°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MATHP19.07g、OXE-3011.05g、HEMA5.21g、V-653.34g、モノマーに対して7molをPGMEA43.2gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、反応を終了させた。それにより比較用樹脂R12を得た。酸価は30.3mgKOH/g、重量平均分子量は7,700であった。<合成例20:オキシムスルホネートOS-2B4の合成>300mL3つ口フラスコにNaOH8.4g200mmolとメタノール42gを仕込み、加温して溶解させた。続いて5°Cでベンジルアセトニトリル5.41g50mmolを添加した後、続いて2-ニトロチオフェン7.75g60mmolを滴下した。更に5°Cで1時間撹拌した。反応容器に水200mLと酢酸エチル50mLとを加えて撹拌した。酢酸エチル200mLで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過し濃縮して得た残渣をカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=4/1にて精製し、酢酸エチルから再結晶させることにより5.14gを得た。この結晶は1H-NMRより、OS-2中間体であることを確認した。また、2種類の異性体混合物1対1であることを確認した。100mL3つ口フラスコにOS-2中間体2.28g10mmolとTHF20mLを仕込み、5°Cでプロパンスルホニルクロリド1.57g11mmolを添加した。そのまま撹拌下に、トリエチルアミンEt3N1.21g12mmolを滴下した。5°Cのまま2時間撹拌した後、水200加えた。酢酸エチルで抽出下の地、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過し、乾燥したら粗結晶が得られたため、ヘキサン50mLでスラリーを行い乾燥することで、OS-2を2.01g得た。液体カラムクロマトグラフィーでの分析により、純度は98.8であり、1H-NMRから2種類の異性体混合物1対1であることを確認した。1H-NMRDMSO-d6,δppm:7.47~7.38m,5H,6.22d,J=6.6Hz,1H,3.78~3.73m,2H,1.87~1.79q,J=7.5Hz,2H,1.03t,3H.<合成例21:オキシムスルホネートOS-16B5の合成>300mL3つ口フラスコにNaOH8.4g200mmolとメタノール42gとを仕込み、加温して溶解させた。続いて5°Cで2-メチルフェニルアセトニトリル6.56gを添加した後、続いて2-ニトロチオフェン7.50gを滴下した。更に5°Cで1時間撹拌した。反応容器に水200mLと酢酸エチル50mLを加えて撹拌した。酢酸エチル200mLで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過し濃縮して得た残渣をカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=4/1にて精製し、酢酸エチルから再結晶させることにより5.45gを得た。この結晶は1H-NMRより、OS-16中間体であることを確認した。また、2種類の異性体混合物1対1であることを確認した。100mL3つ口フラスコにOS-16中間体2.42gとTHF20mLを仕込み、5°Cでメタンスルホニルクロリド1.26gを添加した。そのまま撹拌下に、トリエチルアミン1.21gを滴下した。5°Cのまま2時間撹拌した後、水200加えた。酢酸エチルで抽出下の地、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過し、乾燥したら粗結晶が得られたため、ヘキサン50mLでスラリーを行い乾燥することで、OS-16を2.31g得た。液体カラムクロマトグラフィーでの分析により、純度は98.8であり、1H-NMRから生成物であることを確認した。1H-NMRDMSO-d6,δppm:7.45~7.33m,5H,6.22J=6.6Hz,1H,3.58s,3H,2.32s,3H.<合成例22:B8の合成>1-1.合成中間体B8Aの合成2-アミノベンゼンチオール:31.3g東京化成工業株製をトルエン:100mL和光純薬工業株製に室温25°C下溶解させた。次に、フェニルアセチルクロリド:40.6g東京化成工業株製を滴下し、室温下1時間、次いで100°Cで2時間撹拌し反応させた。得られた反応液に水500mLを入れ析出した塩を溶解させ、トルエン油分を抽出、抽出液をロータリエバポレーターで濃縮させ、合成中間体B8Aを得た。1-2.B8の合成前記のようにして得られた合成中間体B8A2.25gをテトラヒドロフラン:10mL和光純薬工業株製に混合させた後、氷浴につけ反応液を5°C以下に冷却した。次に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド:4.37g25重量メタノール溶液、AlfaAcer社製を滴下し、氷浴下0.5時間撹拌し反応させた。更に、亜硝酸イソペンチル:7.03gを内温20°C以下に保ちながら滴下し、滴下終了後に反応液を室温まで昇温後、1時間撹拌した。次いで、反応液を5°C以下に冷却し後、p-トルエンスルホニルクロリド1.9g東京化成工業株製を投入し、10°C以下を保ちながら1時間撹拌した。その後水80mLを投入し、0°Cで1時間撹拌した。得られた析出物をろ過した後、イソプロピルアルコールIPA60mLを投入し、50°Cに加熱して1時間撹拌し、熱時ろ過、乾燥させることで、B8を1.8g得た。得られたB8の1H-NMRスペクトル300MHz、重DMSOD3C2S=Oは、δ=8.2~8.17m,1H,8.03~8.00m,1H,7.95~7.9m,2H,7.6~7.45m,9H,2.45s,3Hであった。上記の1H-NMR測定結果より、得られたB8は、1種単独のシス又はトランス異性体であることが推定される。<合成例23:B9の合成>2-ナフトール10g、クロロベンゼン30mLの懸濁溶液に塩化アルミニウム10.6g、2-クロロプロピオニルクロリド10.1gを添加し、混合液を40°Cに加熱して2時間反応させた。氷冷下、反応液に4NHCl水溶液60mLを滴下し、酢酸エチル50mLを添加して分液した。有機層に炭酸カリウム19.2gを加え、40°Cで1時間反応させた後、2NHCl水溶液60mLを添加して分液し、有機層を濃縮後、結晶をジイソプロピルエーテル10mLでリスラリーし、ろ過、乾燥してケトン化合物6.5gを得た。得られたケトン化合物3.0g、メタノール30mLの懸濁溶液に酢酸7.3g、50重量ヒドロキシルアミン水溶液8.0gを添加し、加熱還流した。放冷後、水50mLを加え、析出した結晶をろ過、冷メタノール洗浄後、乾燥してオキシム化合物2.4gを得た。得られたオキシム化合物1.8gをアセトン20mLに溶解させ、氷冷下トリエチルアミン1.5g、p-トルエンスルホニルクロリド2.4gを添加し、室温に昇温して1時間反応させた。反応液に水50mLを添加し、析出した結晶をろ過後、メタノール20mLでリスラリーし、ろ過、乾燥してB92.3gを得た。なお、B9の1H-NMRスペクトル300MHz、CDCl3は、δ=8.3d,1H,8.0d,2H,7.9d,1H,7.8d,1H,7.6dd,1H,7.4dd,1H7.3d,2H,7.1d.1H,5.6q,1H,2.4s,3H,1.7d,3Hであった。<合成例24:B10の合成2-ナフトール20gをN,N-ジメチルアセトアミド150mLに溶解させ、炭酸カリウム28.7g、2-ブロモオクタン酸エチル52.2gを添加して100°Cで2時間反応させた。反応液に水300mL、酢酸エチル200mLを添加して分液し、有機層を濃縮後、48重量水酸化ナトリウム水溶液23g、エタノール50mL、水50mLを添加し、2時間反応させた。反応液を1NHCl水溶液500mLにあけ、析出した結晶をろ過、水洗してカルボン酸粗体を得た後、ポリリン酸30gを添加して170°Cで30分反応させた。反応液を水300mLにあけ、酢酸エチル300mLを添加して分液し、有機層を濃縮した後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ケトン化合物10gを得た。得られたケトン化合物10.0g、メタノール100mLの懸濁溶液に酢酸ナトリウム30.6g、塩酸ヒドロキシルアミン25.9g、硫酸マグネシウム4.5gを添加し、24時間加熱還流した。放冷後、水150mL、酢酸エチル150mL添加して分液し、有機層を水80mLで4回分液し、濃縮した後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してオキシム化合物5.8gを得た。得られたオキシム3.1gに対し、B8と同様にスルホネート化を行い、B103.2gを得た。なお、B10の1H-NMRスペクトル300MHz、CDCl3は、δ=8.3d,1H,8.0d,2H,7.9d,1H,7.8d,1H,7.6dd,1H,7.5dd,1H7.3d,2H,7.1d.1H,5.6dd,1H,2.4s,3H,2.2ddt,1H,1.9ddt,1H,1.4~1.2m,8H,0.8t,3Hであった。<合成例25:B11の合成>B9の合成におけるp-トルエンスルホニルクロリドの代わりにベンゼンスルホニルクロリドを用いた以外は、B9の合成と同様にしてB11を合成した。なお、B11の1H-NMRスペクトル300MHz、CDCl3は、δ=8.3d,1H,8.1d,2H,7.9d,1H,7.8d,1H,7.7-7.5m,4H,7.4dd,1H,7.1d.1H,5.6q,1H,1.7d,3Hであった。実施例1~50、及び、比較例1~141感光性樹脂組成物の調製表1及び表2に示す各成分を混合して均一な溶液とした後、0.2μmのポアサイズを有するポリテトラフルオロエチレン製フィルタを用いてろ過して、実施例1~50及び比較例1~14の感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。なお、表1及び表2中の略号は以下の通りである。B1:CGI1397下記構造、チバジャパン株製B2:CGI1325下記構造、チバジャパン株製B3:CGI725下記構造、チバジャパン株製B4:OS-2合成品B5:OS-16合成品B6:4,7-ジ-n-ブトキシ-1-ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネートB7:m/p-クレゾールノボラックと1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステルとの組成物の市販品東京応化工業株製B8:下記の化合物合成品B9:下記の化合物合成品B10:下記の化合物合成品B11:下記の化合物合成品C1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートメトキシプロピルアセテートC2:ジエチレングリコールエチルメチルエーテルD1:アデカスタブAO-60下記構造、株ADEKA製E1:JER-157S70多官能ノボラック型エポキシ樹脂エポキシ当量200~220g/eq、ジャパンエポキシレジン株製H1:メガファックR-08パーフルオロアルキル基含有ノニオン性界面活性剤、DIC株製H2:W-3下記構造G1:4-ジメチルアミノピリジンG2:1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネンF1:KBM-403下記構造、信越化学工業株製2感度の評価シリコン酸化膜を有するシリコンウエハ上に、各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、95°Cで90秒間ホットプレート上においてプリベークして、膜厚3μmの塗膜を形成した。次に、i線ステッパーキヤノン株製FPA-3000i5を用いて、所定のマスクを介して露光した。露光後、0.4重量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により23°Cで80秒間液盛り法により現像した後、超純水で1分間リンスした。これらの操作により10μmのラインアンドスペースを1:1で解像する時の最適露光量を感度とした。感度は、以下の評価基準により評価した。A:15mJ/cm2未満B:15~30mJ/cm2C:30~50mJ/cm2D:50mJ/cm2を超える3未露光部残膜率の評価感度の評価と同様に形成した塗膜の現像後における未露光部の膜厚を、触針式の膜厚計にて測定し、同様に測定した初期膜厚に対する残存膜厚の比率を残膜率として評価した。すなわち、未露光部残膜率=現像後の膜厚未露光部÷現像前の膜厚未露光部×100である。未露光部残膜率が高い方が、現像マージンが良好である。4透明性の評価ガラス基板コーニング1737コーニング社製上に感光性樹脂組成物溶液をスリット塗布した後、95°Cで90秒間ホットプレート上においてプリベークして膜厚3μmの塗膜を形成した。得られた塗膜にキヤノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプで積算照射量が200mJ/cm2照度:20mW/cm2となるように露光し、その後、この基板をオーブンにて230°Cで1時間加熱して硬化膜を得た。得られた硬化膜をオーブンにて230°Cで2時間更に加熱した後、光線透過率を分光光度計150-20型ダブルビーム株日立製作所製を用いて400~800nmの範囲の波長で測定した。そのときの400nmにおける透過率の評価を、透明性の評価として、この値が90以上であれば、耐熱透明性が良好であるといえる。5耐熱透明性の評価上述で得られた硬化膜をオーブンにて、更に230°Cで2時間加熱した後、光線透過率を分光光度計150-20型ダブルビーム株日立製作所製を用いて400~800nmの範囲の波長で測定した。そのときの400nmにおける透過率の評価を、耐熱透明性の評価として、この値が90以上であれば、耐熱透明性が良好であるといえる。5比誘電率の評価ベアウエハN型低抵抗SUMCO社製上に、感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、90°Cにて2分間ホットプレート上でプリベークして膜厚3.0μmの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物を、キヤノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプで積算照射量が300mJ/cm2照度:20mW/cm2となるように露光し、この基板をオーブンにて220°Cで1時間加熱することにより、硬化膜を得た。この硬化膜について、CVmap92AFourDimensionsInc.社製を用い、測定周波数1MHzで比誘電率を測定した。結果を表3及び表4に示す。この値が低いほど好ましく、3.9以下のとき、硬化膜の比誘電率は良好であるといえる。6残渣の評価感度の評価と同様にして、各感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、95°Cで90秒間ホットプレート上においてプリベークして、膜厚3μmの塗膜を形成した。得られた塗膜を、10μmのコンタクトホールを形成するためのマスクを介して、円状に最適露光量パターン露光し、感度の評価と同様にして、現像後、リンスした。得られた円状のパターン硬化膜の端部の残渣について、光学顕微鏡を用いて、硬化膜が形成されている場所から完全に膜が無くなった場所までの距離を観察した。評価基準は以下の通りである。A:1.0μm未満B:1.0~2.0μmC:硬化膜の端部から2.0μmより外側まで残膜している7表面あれの評価耐熱透明性の評価と同様にして硬化膜を形成した。得られたポストベーク後の硬化膜について、接触膜厚計Tencor社製触針式表面粗さ計P10用い、その表面のRaを測定し、以下の評価基準により評価した。A:5.0nm未満B:5.0nm以上10nm未満C:10nm以上実施例1~50及び比較例1~14の感光性樹脂組成物における前記各評価の評価結果を、まとめて表3及び表4に示す。なお、表3及び表4における-は、評価できなかった、又は、未露光部残膜率が80未満であり実用範囲外であるため評価していないことを示す。表3及び表4から、特定樹脂を含有する各実施例の感光性樹脂組成物は、各比較例の感光性樹脂組成物との対比において、いずれも感度が高く、残渣の発生が抑制され、形成された硬化膜の表面あれも生じておらず、更に、透明性及び耐熱透明性に優れ、比誘電率の評価においても良好な結果が得られていることが分かる。実施例51シリコン酸化膜を有するシリコンウエハ上に実施例2で用いた感光性樹脂組成物溶液をスリット塗布した後、95°Cで90秒間ホットプレート上においてプリベークして膜厚3μmの塗膜を形成した。次に、塗膜から150μmの間隔を介して、所定のフォトマスクをセットし、波長355nmのレーザを、露光量15mJ/cm2で照射した。なお、レーザ装置は、株ブイテクノロジー製のAEGISを使用し波長355nm、パルス幅6nsec、露光量はOPHIR社製のPE10B-V2を用いて測定した。露光後、0.4のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により23°Cで80秒間液盛り法により現像した後、超純水で1分間リンスした。これらの操作により10μmのラインアンドスペースを1:1で解像することができた。更に、露光をi線ステッパーからUV-LED光源露光機に変更した以外は、上記2感度の評価PEB無しと同様の評価を実施したところ、いずれもパターン形成可能であることが分かった。実施例52薄膜トランジスターTFTを用いた有機EL表示装置を以下の方法で作製した図1参照。ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3を形成した。次に、この絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmを絶縁膜3上に形成した。この配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。更に、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上へ平坦化層4を形成した。絶縁膜3上への平坦化膜4の形成は、実施例9の感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク90°C×2分した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてi線365nmを15mJ/cm2照度20mW/cm2照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、230°Cで60分間の加熱処理を行った。該感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。更に、配線2の平均段差は500nm、作製した平坦化膜4の膜厚は2,000nmであった。次に、得られた平坦化膜4上に、ボトムエミッション型の有機EL素子を形成した。まず、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5を、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ITOエッチャント用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液モノエタノールアミンとジメチルスルホキシドDMSOとの混合液を用いて該レジストパターンを剥離した。こうして得られた第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。次に、第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8を形成した。絶縁膜8には、実施例7の感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で形成した。この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。更に、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にAlからなる第二電極を形成した。得られた上記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。以上のようにして、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続してなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機EL表示装置であることが分かった。実施例53実施例9の感光性樹脂組成物と実施例7の感光性樹脂組をいずれも実施例22の感光性樹脂組成物に変更した以外は、実施例52と同様にして有機EL表示装置を作製した。得られた有機EL表示装置は、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機EL表示装置であることが分かった。実施例54実施例9の感光性樹脂組成物と実施例7の感光性樹脂組をいずれも実施例35の感光性樹脂組成物に変更した以外は、実施例52と同様にして有機EL表示装置を作製した。得られた有機EL表示装置は、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機EL表示装置であることが分かった。実施例55実施例9の感光性樹脂組成物と実施例7の感光性樹脂組をいずれも実施例41の感光性樹脂組成物に変更した以外は、実施例52と同様にして有機EL表示装置を作製した。得られた有機EL表示装置は、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機EL表示装置であることが分かった。実施例56特許第3321003号公報の図1及び図2に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、層間絶縁膜として硬化膜17を以下のようにして形成し、実施例17の液晶表示装置を得た。すなわち、実施例9の感光性樹脂組成物を用い、実施例52における有機EL表示装置の平坦化膜4の形成方法と同様の方法で、層間絶縁膜として硬化膜17を形成した。得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることが分かった。"