"リソグラフィ装置であって、基板を保持するテーブルと、投影システムであって前記基板と当該投影システムとが相対的に動かされている間、前記基板上に像を投影する投影システムと、前記投影システムと前記基板および/またはテーブルとの間の空間に液体を閉じ込める液体閉じ込め構造体と、を備え、前記液体閉じ込めシステムは液体のメニスカスを固定するメニスカス固定デバイスを有し、前記メニスカス固定デバイスは、使用中低圧に接続される複数の開口を含み、前記複数の開口は75μmから150μmの範囲の直径を有する、リソグラフィ装置。前記メニスカス固定デバイスは、前記低圧に接続された場合液体と気体の両方を抽出する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記複数の開口は約100μmから125μmの範囲の直径を有する、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。前記複数の開口は複数の列状に配置され、その列の数は1から10の範囲にあり、好適には3から5の範囲にある、請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記複数の列のうちの少なくともひとつは前記空間の周りの閉ループを形成する、請求項4に記載のリソグラフィ装置。前記複数の開口は間隔を隔てて配置され、かつ、前記複数の開口は約100μmから約500μmの範囲、好ましくは200μmから300μmの範囲の中心間距離を有する、請求項1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記複数の開口は規則的なアレイ状に配置され、または不規則に配置される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記複数の開口は、メニスカス固定デバイスのコーナであって前記液体閉じ込め構造体と前記基板および/またはテーブルとの間の相対運動中に先導または追従するコーナに設けられる、請求項7に記載のリソグラフィ装置。前記液体閉じ込めシステムは前記複数の開口を定義する表面を有する、請求項1から8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。リソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、液体の主な部分を基板の表面に接触する空間に閉じ込めることと、前記基板を走査方向に動かす間前記液体の主な部分を通じて前記基板に像を投影することと、を含み、前記液体の主な部分を閉じ込めることは、複数の開口を通じて環境から液体および気体を抽出することによって前記液体の主な部分のメニスカスを固定することを含み、前記複数の開口は75μmから150μmの範囲の直径を有する、デバイス製造方法。前記抽出することは、前記複数の開口を通じて液体および気体の両方を同時に抽出することを含む、請求項10に記載の方法。液浸リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造体であって、本流体ハンドリング構造体は2相流体抽出開口の2次元パターンを備え、その2相流体抽出開口は空間に閉じ込められた液浸液のメニスカスを固定し、前記メニスカスは、前記メニスカスに実質的に直交する前記2次元パターンの開口の線形アレイ中の固定開口に固定される、流体ハンドリング構造体。前記流体ハンドリング構造体の下面の幾何学的中心に対して半径方向に、前記メニスカスが前記空間に対して進むおよび/または静止している場合、前記固定開口は前記線形アレイの中で前記空間および/または幾何学的中心に最も近い開口である、請求項12に記載の流体ハンドリング構造体。開口の前記2次元パターンは前記空間の少なくとも一部の周りに放射状に配置される、請求項12または13に記載の流体ハンドリング構造体。前記流体ハンドリング構造体は平面視でコーナを有する形状を有し、開口の前記2次元アレイは少なくともそのコーナに配置される、請求項12から14のいずれかに記載の流体ハンドリング構造体。イメージング中に泡が投影ビームに入ることが防止されるリソグラフィ装置を提供することが望まれる。本発明のある態様によると、リソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、基板を保持し走査方向に基板を走査する基板テーブルと、基板が基板テーブルによって走査されている間、基板上に像を投影する投影システムと、投影システムと基板との間の空間に液体を閉じ込める液体閉じ込めシステムと、を備える。液体閉じ込めシステムは液体のメニスカスを固定するメニスカス固定デバイスを有し、メニスカス固定デバイスは、使用中低圧に接続される複数の開口を含み、複数の開口は50μmから300μmの範囲の直径を有する。本発明のある態様によると、リソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法が提供される。このデバイス製造方法は、液体の主な部分を基板の表面に接触する空間に閉じ込めることと、基板を走査方向に動かす間液体の主な部分を通じて基板に像を投影することと、を含む。液体の主な部分を閉じ込めることは、複数の開口を通じて環境から液体および気体を抽出することによって液体の主な部分のメニスカスを固定することを含み、複数の開口は50μmから300μmの範囲の直径を有する。図1は、本発明の実施の形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す図である。この装置は、放射ビームB例えばUV放射またはDUV放射を調整するよう構成されている照明システムイルミネータILと、パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するよう構成され、所定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするよう構成されている第1の位置決め装置PMに接続されている支持構造例えばマスクテーブルMTと、基板例えばレジストでコーティングされたウエハWを保持するよう構成され、所定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするよう構成されている第2の位置決め装置PWに接続されている基板テーブル例えばウエハテーブルWTなどのテーブルと、パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの例えば1つまたは複数のダイからなるターゲット部分Cに投影するよう構成されている投影システム例えば屈折投影レンズシステムPSと、を備える。照明システムILは、放射を方向付け、放射を形成し、または放射を制御するために、各種の光学素子例えば屈折光学素子、反射光学素子、磁気的光学素子、電磁気的光学素子、静電的光学素子または他の各種光学部品を含んでもよく、あるいはこれらの任意の組み合わせを含んでもよい。支持構造MTは、パターニングデバイスMAを保持する。支持構造MTは、パターニングデバイスMAの向きやリソグラフィ装置の構成、あるいはパターニングデバイスが真空環境下で保持されるか否かなどの他の条件に応じた方式でパターニングデバイスMAを保持する。支持構造MTは、機械的固定、真空固定、またはパターニングデバイスを保持するその他の固定用技術を用いてもよい。支持構造MTは例えばフレームまたはテーブルであってよく、望まれる通りに固定されていてもよいし移動可能であってもよい。支持構造MTは、パターニングデバイスMAを例えば投影システムPSに対して所望の位置に位置決めできるようにしてもよい。本明細書ではレチクルまたはマスクという用語を用いた場合には、より一般的な用語であるパターニングデバイスに同義であるとみなされるものとする。本明細書ではパターニングデバイスという用語は、例えば基板のターゲット部分にパターンを形成すべく放射ビームの断面にパターンを付与するために使用され得るいかなるデバイスをも指し示すよう広く解釈されるべきである。放射ビームに与えられるパターンは、基板のターゲット部分に所望されるパターンと厳密に対応していなくてもよい。このような場合には例えば、放射ビームのパターンが位相シフトフィーチャあるいはいわゆるアシストフィーチャを含む場合がある。一般には、放射ビームに付与されるパターンは、ターゲット部分に形成される集積回路などのデバイスの特定の機能層に対応する。パターニングデバイスは透過型であっても反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、例えばマスクやプログラマブルミラーアレイ、プログラマブルLCDパネルなどがある。マスクはリソグラフィの分野では周知であり、バイナリマスクやレベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク、更に各種のハイブリッド型マスクが含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例としては、小型のミラーがマトリックス状に配列され、各ミラーが入射してくる放射ビームを異なる方向に反射するように個別に傾斜されるというものがある。これらの傾斜ミラーにより、マトリックス状ミラーで反射された放射ビームにパターンが付与されることになる。本明細書では投影システムという用語はいかなるタイプの投影システムをも包含するよう広く解釈されるべきである。投影システムのタイプは、屈折光学系、反射光学系、反射屈折光学系、磁気的光学系、電磁気的光学系および静電的光学系、またはそれらの任意の組み合わせを含んでもよい。投影システムの選択または組み合わせは、使用される露光放射あるいは液浸液や真空の利用などの他の要因に関して適切とされるものである。以下では投影レンズという用語は、より一般的な用語である投影システムと同義に用いられ得る。ここに図示されるのは、例えば透過型マスクを用いる透過型のリソグラフィ装置である。これに代えて、例えば上述のようなプログラマブルミラーアレイまたは反射型マスクを用いる反射型のリソグラフィ装置を用いることもできる。リソグラフィ装置は2つ以上2つの場合にはデュアルステージと呼ばれるのステージを有するタイプのものであってもよく、それらのステージのうちのひとつは基板を支持するための基板ステージである。ある実施の形態では、別のステージは投影システムのためのセンサ、クリーニングデバイスまたはその両方を支持する計測テーブルである。このような多重ステージ型の装置は2以上のパターニングデバイステーブルを有してもよい。このような多重ステージ型の装置においては追加されたテーブルは並行して使用されるか、あるいは1以上のテーブルが露光で使用されている間に他の1以上のテーブルで準備工程を実行するようにしてもよい。図1に示されるようにイルミネータILは放射源SOから放射ビームを受け取る。例えば光源がエキシマレーザである場合には、光源SOとリソグラフィ装置とは別体であってもよい。この場合、光源SOはリソグラフィ装置の一部を構成しているとはみなされなく、放射ビームは光源SOからイルミネータILへとビーム搬送系BDを介して受け渡される。ビーム搬送系BDは例えば適切な方向変更用のミラー及び/またはビームエキスパンダを含んで構成される。あるいは光源が例えば水銀ランプである場合には、光源SOはリソグラフィ装置に一体に構成されていてもよい。光源SOとイルミネータILとは、またビーム搬送系BDが必要とされる場合にはこれも合わせて、放射システムと総称される。イルミネータILは放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタADを備えてもよい。一般には、イルミネータILの瞳面における強度分布の少なくとも半径方向外径及び/または内径の大きさ通常それぞれシグマ-アウタσ-outer、シグマ-インナσ-innerと呼ばれるが調整される。加えてイルミネータILは、インテグレータIN及びコンデンサCOなどの他の要素を備えてもよい。イルミネータILはビーム断面における所望の均一性及び強度分布を得るべく放射ビームを調整するために用いられる。光源SOと同様に、イルミネータILはリソグラフィ装置の一部を形成するとみなされてもよいしみなされなくてもよい。例えば、イルミネータILはリソグラフィ装置と一体であってもよく、またはリソグラフィ装置と別体であってもよい。後者の場合、リソグラフィ装置はイルミネータILがそれに取り付け可能なように構成されてもよい。オプションで、イルミネータILは取り外し可能であって別途提供されてもよい例えば、リソグラフィ装置の製造者または他のサプライヤーによって。放射ビームBは、支持構造例えばマスクテーブルMTに保持されるパターニングデバイス例えばマスクMAに入射して、当該パターニングデバイスMAによりパターンが付与される。パターニングデバイスMAを通過した放射ビームBは投影システムPSを通過する。投影システムPSはビームBを基板Wのターゲット部分Cにフォーカスする。第2の位置決め装置PWと位置センサIF例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなどとにより基板テーブルWTを正確に移動させることができる。基板テーブルWTは例えば放射ビームBの経路に異なるターゲット部分Cを位置決めするように移動される。同様に、第1の位置決め装置PMと他の位置センサ図1には明示せずとにより放射ビームBの経路に対してパターニングデバイスMAを正確に位置決めすることができる。この位置決めは例えばマスクライブラリから機械検索後や走査中に行われる。一般に支持構造MTの移動は、第1の位置決め装置PMの一部を構成するロングストロークモジュール粗い位置決め用及びショートストロークモジュール精細な位置決め用により実現される。同様に基板テーブルWTの移動は、第2の位置決め装置PWの一部を構成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールにより実現される。ステッパではスキャナとは異なり、支持構造MTはショートストロークのアクチュエータにのみ接続されているか、あるいは固定されていてもよい。パターニングデバイスMAと基板Wとは、パターニングデバイスアライメントマークM1、M2及び基板アライメントマークP1、P2を用いてアライメントされてもよい。図においては基板アライメントマークが専用のターゲット部分を占拠しているが、アライメントマークはターゲット部分間のスペースに配置されてもよいこれはスクライブラインアライメントマークとして公知である。同様に、パターニングデバイスMAに複数のダイがある場合にはパターニングデバイスアライメントマークをダイ間に配置してもよい。図示の装置は例えば次のうちの少なくとも1つのモードで使用され得る。ステップモードにおいては、放射ビームBに付与されたパターンの全体が1回の照射でターゲット部分Cに投影される間、支持構造MT及び基板テーブルWTは実質的に静止状態とされるすなわち単一静的露光。そして基板テーブルWTがX方向及び/またはY方向に移動されて、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で転写されるターゲット部分Cのサイズを制限することになる。スキャンモードにおいては、放射ビームBに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期して走査されるすなわち単一動的露光。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大縮小特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光でのターゲット部分Cの非走査方向の幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分Cの走査方向の長さを決定する。別のモードにおいては、支持構造MTがプログラム可能パターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームBに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、基板テーブルWTが移動または走査される。このモードではパルス放射源が通常用いられ、プログラム可能パターニングデバイスは、基板テーブルWTの毎回の移動後、または走査中の連続放射パルス間に所望の通りに更新される。この動作モードは、上述のプログラマブルミラーアレイ等のプログラム可能パターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。上記で記載したモードを組み合わせて動作させてもよいし、各モードに変更を加えて動作させてもよいし、さらに全く別のモードでリソグラフィ装置を使用してもよい。投影システムPSの最終要素と基板との間に液体を提供する構成はいわゆる局所液浸システムIHである。このシステムでは、基板の局所域にのみ液体を供給する流体ハンドリング構造体が使用される。液体で満たされる空間は平面図にて基板上面よりも小さく、液体で満たされた領域は基板Wがその領域の下を移動しているとき投影システムPSに対し実質的に静止状態にある。4つの異なるタイプの流体ハンドリング構造体が図2乃至図5に図示されている。図2及び図3に示されるように、液体が少なくとも1つの入口によって基板上に、好ましくは最終要素に対する基板の移動方向に沿って供給される。液体は、投影システムの下を通過した後に少なくとも1つの出口によって除去される。つまり、基板が-X方向に最終要素の下を走査されると、液体が要素のX側にて供給され、-X側にて除去される。図2は、液体が入口を介して供給され、低圧源に接続された出口によって要素の他方側で除去される構成を概略的に示したものである。図2では液体が最終要素に対する基板の移動方向に沿って供給されるが、こうである必要はない。最終要素の周囲に配置された入口及び出口の様々な方向及び数が可能であり、一例が図3に示され、ここでは各側に4組の入口と出口が、最終要素の周囲に規則的なパターンで設けられる。局所液体供給システムをもつ液浸リソグラフィの更なる解決法が、図4に示されている。液体は、投影システムPSの両側にある2つの溝入口によって供給され、入口INの半径方向外側に配置された複数の分離された出口によって除去される。入口は、投影ビームを通す穴を中心に有するプレートに設けることができる。液体は、投影システムPSの一方側にある1つの溝入口によって供給され、投影システムPSの他方側にある複数の分離された出口によって除去され、これによって投影システムPSと基板Wとの間に液体の薄膜の流れが生じる。入口と出口のどちらの組合せを使用するかの選択は、基板Wの移動方向によって決まる他方の組合せの入口及び出口は作動させない。提案されている別の構成は液体閉じ込め部材をもつ液体供給システムを設けることである。液体閉じ込め部材は、投影システムの最終要素と基板テーブルとの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延在する。こうした構成を図5に示す。図5は、流体ハンドリング構造体12を有する局所液体供給システムを模式的に示す図である。流体ハンドリング構造体12は、投影システムPSの最終要素と対向表面、好ましくは基板テーブルWTおよび/または基板Wなどの実質的に平坦な面との間の空間11の境界の少なくとも一部に沿って延在する。以下の記載においては、明示的に別段の定めをした場合を除き、基板Wの表面について言及した場合、追加的にまたは代替的に基板テーブルWTの表面にもついても言及していることを留意されたい。流体ハンドリング構造体12は、投影システムPSに対してXY面で実質的に静止しているが、Z方向光軸方向では多少の相対運動があってよい。ある実施の形態においては、流体ハンドリング構造体12と基板Wの表面との間にシールが形成され、このシールは流体シールなどの非接触シール、好ましくはガスシールであってもよい。そのようなシステムは米国特許出願公開第2004-0207824号に開示されており、米国特許出願公開第2004-0207824号はその全体が参照により本明細書に組み入れられる。流体ハンドリング構造体12は、投影システムPSの最終要素と基板Wとの間の液浸空間11に液体を少なくとも部分的に収容する。基板Wに対する非接触シール16は、投影システムPSの像フィールドの周囲の流体ハンドリング構造体12の下面40に形成されてもよい。これにより、基板Wの表面と投影システムPSの最終要素との間の空間11に液体が閉じ込められてもよい。下面40は対向表面と実質的に平行であることが望ましい。この液浸空間11は少なくとも一部が流体ハンドリング構造体12により形成される。流体ハンドリング構造体12は投影システムPSの最終要素の下方に配置され、当該最終要素を囲む。液体が、投影システムPSの下方かつ流体ハンドリング構造体12内部の空間11に、液体入口13によって供給される。液体出口13によって液体が除去されてもよい。流体ハンドリング構造体12は、投影システムPSの最終要素の少し上方まで延在していてもよい。液位が最終要素の上まで上昇することで、液体のバッファが提供される。ある実施の形態においては流体ハンドリング構造体12は、上端において内周が投影システムPSまたはその最終要素の形状に近似し、例えば円形であってもよい。下端において、下面40のエッジ20によって定義される内周が像フィールドの形状に近似し、例えば長方形であってもよい。これらの形状は必須ではない。下面40は外側エッジ45またはリムを有する。ガスシール16は、例えば空気又は合成空気、ある実施の形態ではN2又はその他の不活性ガスなどの気体によって形成される。ガスシール16の気体は、圧力の作用で入口15を介して流体ハンドリング構造体12と基板Wとの隙間に提供される。気体は出口14から抜き取られる。気体入口15での過剰圧力、出口14の真空レベル、及び隙間の幾何学的形状は、液体を閉じ込める内側への高速の気体流れが存在するように構成される。流体ハンドリング構造体12と基板Wとの間の液体に作用する気体の力が液浸空間11に液体を収容する。入口/出口は空間11を取り巻く環状溝であってもよい。環状溝は連続していてもよいし不連続であってもよい。気体流れは空間11に液体を収容する効果がある。こうしたシステムは米国特許出願公開第2004-0207824号に開示されている。図6は本発明の実施の形態のメニスカス固定デバイスを説明する図である。このメニスカス固定デバイスは、例えば図5のシール構成14、15、16と置き換えられてもよい。図6のメニスカス固定デバイスは、複数の分離された抽出開口50を備える。各開口50は円形のものとして図示されているが、これは必須ではない。実際、ひとつ以上の開口50の形状は、正方形、円形、直線で構成された形状、矩形、楕円形、三角形、スリットなどの細長い形状等から選択されたひとつ以上であってもよい。各開口50は平面視で大きな最大断面寸法例えば直径を有しており、最大寸法は約50μmから約300μmの範囲にあり、望ましくは約75μmから約150μmの範囲にあり、望ましくは約100μmから約125μmの範囲にある。開口50のいくつかのラインが設けられることが望ましい。開口50のそのようなラインは、同心のリング、正方形または他の形状を形成しうる。開口50のピッチ中心間距離は約100μmから500μmの範囲、望ましくは約200μmから約300μmの範囲にあってよい。開口のいくつかのラインが設けられる場合、ラインごとに異なるピッチを有してもよい。いくつかのラインが設けられる場合、隣接するラインの開口はお互いにオフセットしていることが望ましい。ある実施の形態では、開口のラインの数は1から10の範囲にあり、3から5の範囲にあることが望ましい。ある実施の形態では開口は渦巻き線上に配置される。渦巻き線はその原点の周りに1回転以上行い、3回転から5回転の間が望ましい。渦巻き線の原点は液浸液によって占有される空間内に存在する。渦巻き線の原点は例えば、投影システムの光軸および/または空間11の断面形状の幾何学的中心であって基板および/または基板テーブルの表面と同一平面内にある幾何学的中心にまたはその近くに存在することが望ましい。ある実施の形態では、開口は共通の原点を有する複数の渦巻き線上に配置される。共通の原点は空間内に配置され、例えば投影システムの光軸および/または基板テーブルと同一平面内にある空間の幾何学的中心にまたはその近くに配置されることが望ましい。ある実施の形態では、原点n周りの極座標r、θで表される開口の位置が以下の式によって与えられるように開口が配置されてもよい。ここでbおよびcは定数である。原点は空間内で、投影システムの光軸および/または空間11の断面形状の幾何学的中心であって基板Wおよび/または基板テーブルWTの表面と同一平面内にある幾何学的中心にまたはその近くに存在することが望ましい。ある実施の形態では、異なる列またはラインの開口は異なるサイズを有する。特に、空間に対して外側の列またはラインの開口は内側の列またはラインの開口よりも小さい。ある実施では、開口50は帯bandを形成するよう表面に形成される。その帯は原点の周りに配置されてもよく、環帯を形成してもよい。開口は、0.5mmから5mmの範囲の幅、望ましくは約0.75mmの幅を有する帯または環帯内に配置されてもよい。帯の幅は、例えば原点についての半径方向において外側の開口の外側のエッジと内側の開口の内側のエッジとの間の距離であってもよい。帯が広すぎる場合および/または設けられた開口が多すぎる場合、環境から抽出される気体の量は望まれないほどに多くなる。気体を多く抽出すると、開口における十分な圧力降下を維持するのが難しくなる。帯が狭すぎる場合および/または開口数が少なすぎる場合、水の抽出が不十分となり得るおよび/またはメニスカス固定デバイスはメニスカスの動きを十分に許容できなくなる可能性がある。従来のメニスカス固定デバイスは2つのカテゴリに分けられる。第1のタイプは直径が10μmから20μm程度の多数の開口を伴う多孔質構造を使用する。この構成はメニスカスを固定するのには有効であるが、汚染の影響を受けやすいことが発見された。この構成は液体のみを抽出することによって動作するので小さな開口が要求される。毛細管力によってその小さい開口に気体が入るのを防ぐためである。別のタイプの既知のメニスカス固定デバイスは、大きな開口の単一ラインを使用する。このタイプの構成は、汚染によって影響を受けにくいことが発見された。しかしながら、500μmより大きな開口および対応するピッチを有するメニスカス固定デバイスで高い走査速度が使用された場合、メニスカスが隣接開口間で望まれずに凹状となるすなわち、メニスカスに関連する気体よりもむしろ液体について凹状となることが発見された。メニスカスが極端に凹状となると、特にメニスカスが基板上に残る液滴と衝突した場合に液浸液の中に大きな泡が生成されうる。衝突時に液滴のメニスカスとメニスカス固定デバイスの開口によって固定されているメニスカスとの間に気体が存在することによって、その気体は液体のなかに捕らわれることとなる。本発明の構成は中間のサイズの開口および開口の複数のラインを有している点で望ましく、汚染および泡生成の両方に対する感度を最小化できる。特に、本発明の実施の形態において生成されるどんな泡もより小さいであろうし、投影ビームのなかへ漂っていくよりもむしろメニスカス開口デバイスへと抽出されていくであろう。メニスカス固定デバイスは泡のサイズを低減するであろう。衝突時の固定されたメニスカスと液滴メニスカスとの間の気体の体積はより小さいであろうからである。したがって、本発明のメニスカス固定デバイスによって固定される固定メニスカスの曲率半径は、液滴の曲率半径に対するメニスカス固定デバイスの固定メニスカスの曲率半径よりも大きくてもよい。この場合、泡が形成されにくく、および/または捕らわれる気体の体積はより小さくなる。メニスカスは、メニスカス固定開口によって覆われる領域内で自分自身で安定な位置を見つけることができるので、従来の構成よりも安定である。メニスカスがある開口から外れるようなことがあっても、そのメニスカスは別の開口によって容易に保持される。本発明の実施の形態は、開口の少なくともひとつの列またはラインが液浸液のみを抽出し、開口の少なくともひとつの他の列またはラインが気体のみを抽出する場合に最も安定的に動作する。別の列またはラインは液体および気体の両方を同時に抽出できる。本発明の実施の形態では、液体の主な部分の先導側において、開口によって覆われる領域の内側の近くでメニスカスが開口によって固定される傾向にある。メニスカスの外側の開口は、前回の走査またはステップ中に基板または基板テーブル上に残された液滴または薄膜を除去するのに役に立つ。これにより、基板上でメニスカスと液滴とが衝突することによって泡が生成される確率を低減できる。図6のメニスカス固定デバイスの各開口50は別個の低圧源と接続されていてもよい。代替的にまたは追加的に、各開口50または複数の開口50は、それ自身が低圧に保持される環状であってもよい共通チャンバと接続されていてもよい。このようにすることにより、各開口50または複数の開口50における一様な低圧が達成されうる。必要とされる低圧を生成するために、開口50を真空源に接続することもできるし、および/または液体供給システムの周囲の気圧を増やしてもよい。振動を最大化するよう開口における圧力降下は十分に高いことが望ましい。ある実施の形態では、流体ハンドリング構造体中の凹部を覆うように流体ハンドリング構造体に取り付けられるプレート、に設けられた開口によって開口50が形成される。その凹部は低圧と接続され、環状でありうる。ある実施の形態では、プレートの開口はレーザドリルによってまたはエッチング抵抗性カバー層をリソグラフィ的にパターニングした後エッチングすることによって形成される。各開口50は、液体と気体との混合物を例えば2相流として抽出するよう設計される。液体は空間11から抽出される一方、気体は開口50の液体とは反対側の大気から抽出される。これは矢印100で示される気体流を発生させる。この気体流は、開口50間のメニスカス90を実質的に図6に示されるような場所に、例えば隣接する開口50間に固定するのに有効である。この気体流は、運動量阻止による、気体流誘導圧力勾配による、および/または液体に対する気体流のドラッグずりshearによる、液体閉じ込めの維持に貢献する。ある実施の形態では、開口50は表面内に設けられる。その表面は液浸液となじみやすいすなわち、液浸液が水であれば親水性であることが望ましい。そのような実施の形態では、メニスカスがある開口から別の開口へ移動する場合の遷移がスムーズになる。開口への液浸液の進入はより良くなるであろう。ある実施の形態では、その表面と基板または基板テーブルとの間の距離が130μmから180μmの範囲になるように基板テーブルおよび/または流体ハンドリング構造体12の位置が制御される。図6から分かるように、開口50は平面視で多角形形状を形成するように配置される。図6の場合、これは主軸110、120を伴う菱形であり、主軸110、120は投影システムPS下での基板Wの主たる進行方向に揃えられている。これは、例えばそれ以上の速度ではメニスカスが不安定となるメニスカス臨界走査速度以下において、最大走査速度が開口50が円形に配置された場合より大きいことを確かなものとするのに役に立つ。これは、2つの開口50間のメニスカスに働く力が係数cosθで低減されることによるものである。ここでθは、これらの2つの開口50を結んでいる線の、基板Wが移動する方向に対する角度である。したがって、開口50の形状の主軸110を基板の主進行方向通常は走査方向に整列させ、かつ、第2の軸120を基板のもう一方の主進行方向通常はステップ方向に整列させることによって、スループットを最適化することができる。θが90度以外となる任意の構造は利点を与えることは理解される。したがって、主軸と主進行方向との正確なアライメントは重要ではない。円形の場合、進行方向と垂直に整列される2つの開口50が常に存在し、それら2つの出口の間のメニスカスは基板Wの移動によって可能な限りの最大の力を受けることは理解されるであろう。上記から、辺を基板の主進行方向に対して約45度に揃えた正方形を使用することによっても大きな利益を得ることができることが理解される。しかしながら、実施の形態は例えば円形などの平面視で任意の形状を形成する開口50を有することができる。開口の半径方向外側にはガスナイフ開口が設けられ、そのガスナイフ開口を通じて気体流が動作中に供給されてもよい。そのような構成は2009年5月25日に提出されたUSSN61/181,158に記載されており、そのUSSN61/181,158は参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。開口50および流体ハンドリング構造体12のさらなる詳細はUS2008/0212046に見ることができ、そのUS2008/0212046は参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。流体ハンドリング構造体12から流体例えば液浸液などの液体を出すためのさらなる供給開口70が下面40に形成される。さらなる開口70は、空間11に液体を入れるものとみなされうる。供給開口70は、投影システムPSの光軸に対して抽出開口50よりも半径方向内側である。流体ハンドリングシステム12の開口70を出た液体は基板Wへと導かれる。液浸液の中に泡が生成される確率を低減するために、このタイプの開口70が設けられる。基板Wのエッジと基板テーブルWTとの間の隙間に気体が捕らわれうる。流体ハンドリング構造体12の下面の進行部分においては、流体ハンドリング構造体は基板Wの対向表面に対して十分速く移動するので、液体が空間11から開口50へと流れることができないかもしれない。流体ハンドリング構造体12の下面の一部であってエッジ20と開口50との間の一部はディウェットdewettedとなり、開口50のメニスカス固定効果に影響を与えるかもしれない。さらなる開口70を通じて望ましくは開口50の近くで液体を供給することにより、泡混入およびディウェットのリスクを低減できる。開口70のジオメトリは、液体を保持する際の流体ハンドリング構造体12の有効性に影響を与える。特に、供給開口70は、開口50の平面視における形状と同じように、平面視でコーナを有する形状を有することが望ましい。実際、開口70および開口50のコーナを有する形状は実質的に同様のものであることが望ましい。ある実施の形態では、各形状は各コーナの頂部に開口70または開口50を有する。各開口70は開口50の10mm以内、望ましくは5mm以内であることが望ましい。すなわち、開口50によって生成される形状の全ての部分は、開口70によって生成される形状の部分の10mm以内にある。抽出開口50およびさらなる供給開口70についてのさらなる詳細は2009年5月6日に提出されたUSSN12/436,626に見られる。このUSSN12/436,626は参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。図7は、テストプレートであるプレートの平面図である。ある実施の形態では、このプレートに存在する特徴は、流体ハンドリング構造体例えば、液体閉じ込め構造体12の下側のひとつ以上の特徴を形成してもよい。プレート12aは、約200mmの全体的な直径D3と、約35mmの直径D2を有する中央開口20と、を有してもよい。プレート12aは開口50の4つの同心リングを備え、メニスカス固定デバイスを形成する。各開口50は約125μmの直径D1を有する。開口50の4つのリングは、それぞれ約35mm、37.5mm、40mmおよび42.5mmの半径R1からR4を有してもよい。各リングの開口50のピッチP1からP4はそれぞれ、約220μm、240μm、250μm、および270μmであってもよい。図7では開口50および開口間のピッチは縮尺通りには描かれていないことに注意されたい。図8は、本発明のメニスカス固定デバイスを具現化する流体ハンドリング構造体の実施の形態の平面図である。図示の流体ハンドリング構造体は、半径方向に配列された開口であってその流体ハンドリング構造体の下側の面に形成される開口を有する。開口50は円形で同心状であってもよい複数のリングを形成してもよい。開口50の同心リングこれはメニスカス固定デバイスを形成するの半径方向内側には複数の開口70が設けられ、それらの開口70は空間11を囲むリングの形態であってもよい。開口70は、流体ハンドリング構造体12と基板テーブルおよび/または基板Wの対向表面との間の隙間への液体サプライを形成する。メニスカス固定デバイスの半径方向外側には開口30および60が設けられ、これらの開口30および60は同心スリット形状を有してもよい。各同心スリットを通じて高圧気体が提供され、ガスナイフを形成してもよい。ガスナイフはひとつ以上の目的を果たす。開口60からの半径方向内側ガスナイフは、メニスカス固定デバイスの開口を通じての液体の固定を容易にし、空間から液滴が半径方向外側に逃れることを防ぐのに役立つ。半径方向内向きガスナイフは、開口60の半径方向外側の液滴がメニスカス90に到達して衝突することを防ぐのに役立つ。半径方向外向きガスナイフ開口は、流体ハンドリング構造体12の下側に面する表面上の液体であって開口30の半径方向外側にある液体がメニスカス90に到達するのを防ぐことによって、基板上に残っている液体がメニスカス90と衝突することを防ぐのを支援する。ガスナイフ開口30とガスナイフ開口60との間には抽出開口40が設けられる。この抽出開口40を通じて気体およびガスナイフおよび基板Wから掃き出された任意の液体が抽出される。半径方向外向きガスナイフからの気体は抽出開口を通じた抽出を支援しうる。この構成の機能は、2009年12月2日に提出されたP-3511.020-US、USシリアル番号61/266,058に詳細に記載されている。その出願は参照により本明細書に組み入れられる。図9は、本発明の別の実施の形態における流体ハンドリング構造体12の下側の平面図である。本実施の形態では、単一のガスナイフ60がメニスカス固定デバイスの外側に設けられ、そのメニスカス固定デバイスは開口50によって形成されている。図9に示されるガスナイフ60は、図8に示される開口60と同様の目的を有してもよい。ガスナイフスリット60、メニスカス固定開口50および水供給開口70および流体ハンドリング構造体12の中央開口20は全て、平面視で菱形すなわち、ダイヤモンド形状を有してもよい。この構成の機能は、2009年9月3日に提出されたP-3420.020-US、USシリアル番号61/239,555に詳細に記載されている。その出願は参照により本明細書に組み入れられる。本発明を具現化する流体ハンドリング構造体のある実施の形態では、本発明に係るメニスカス固定デバイスは、流体ハンドリング構造体の平面的な断面の幾何学的中心の周りにまたはその周りの一部に設けられてもよい。例えば、メニスカス固定デバイスは流体ハンドリング構造体の下面の形状のコーナに設けられる。図10は、図9に示されるものと同様ではあるが本発明の別の実施の形態に係る流体ハンドリング構造体12の先導コーナまたは追従コーナの拡大図である。ある実施の形態では、メニスカス固定開口50はあるコーナで交わる2つの直線または曲線の形で設けられる。主たるメニスカス固定開口50例えばコーナ間のものは従来使用されているような大きな開口であってもよいし、上述のような中間サイズの開口であってもよい。メニスカス固定開口50の2本の線が交わるコーナにコーナ部55が設けられる。このコーナ部は2つの半径方向外側のエッジを有し、この2つのエッジはメニスカス固定開口50の2本の線と揃えられていてもよい。コーナ部の半径方向内側のエッジ56はコーナ部の内側の辺を定義し、2つの半径方向外側のエッジと共にコーナ部55の表面を定義する。複数の開口51はコーナ部55の表面に不規則なパターンで、一連の線形アレイ状でおよび一連の曲線アレイ状で形成されてもよい。複数の開口51は、コーナ部55を通じて開口の線形アレイを形成してもよい。内側のエッジは、流体ハンドリング構造体12の下面の幾何学的中心に対して正の曲率半径で曲がっていてもよい。コーナ部55aの一例が図11に示される。コーナ部55aは上述のような中間サイズの開口51の配列を含む。図11から分かるように、中間サイズ開口51の配列は、開口50の線の延長線を少し越えて延在する。その結果、メニスカス固定デバイスにより鋭利な部分が形成される。コーナ部55のコーナの角度は60度から80度の範囲内であってもよい。コーナ部の辺は曲がっていてもよい。図12に示される構成では、コーナ部55bはメニスカス固定開口50の延長線の形状に従う。ある実施の形態では、リソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、基板を保持するテーブルと、投影システムであって基板と当該投影システムとが相対的に動かされている間、基板上に像を投影する投影システムと、投影システムと基板および/またはテーブルとの間の空間に液体を閉じ込める液体閉じ込め構造体と、を備える。液体閉じ込めシステムは液体のメニスカスを固定するメニスカス固定デバイスを有し、メニスカス固定デバイスは、使用中低圧に接続される複数の開口を含み、複数の開口は75μmから150μmの範囲の直径を有する。ある実施の形態では、メニスカス固定デバイスは、低圧に接続された場合液体と気体の両方を抽出する。ある実施の形態では、複数の開口は約100μmから125μmの範囲の直径を有する。ある実施の形態では、複数の開口は空間を囲む複数の同心仮想線上に配置され、その同心仮想線の数は例えば1から10の範囲内にあり、好適には3から5の範囲内にある。ある実施の形態では、複数の開口は複数の列状に配置され、その列の数は例えば1から10の範囲にあり、好適には3から5の範囲にある。そのような実施の形態では、複数の列のうちの少なくともひとつは空間の周りの閉ループを形成する。ある実施の形態では、複数の開口は間隔を隔てて配置され、かつ、複数の開口は約100μmから約500μmの範囲、好ましくは約200μmから300μmの範囲の中心間距離を有する。ある実施の形態では、複数の開口は規則的なアレイ状に配置され、または不規則に配置される。ある実施の形態では、複数の開口は、メニスカス固定デバイスのコーナであって液体閉じ込め構造体と基板および/またはテーブルとの間の相対運動中に先導または追従するコーナに設けられる。ある実施の形態では、液体閉じ込めシステムは複数の開口を定義する表面を有する。ある実施の形態では、リソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法が提供される。このデバイス製造方法は、液体の主な部分を基板の表面に接触する空間に閉じ込めることと、基板を走査方向に動かす間液体の主な部分を通じて基板に像を投影することと、を含む。液体の主な部分を閉じ込めることは、複数の開口を通じて環境から液体および気体を抽出することによって液体の主な部分のメニスカスを固定することを含む。複数の開口は75μmから150μmの範囲の直径を有する。ある実施の形態では、複数の開口は空間を囲む複数の同心仮想線に配置される。ある実施の形態では、抽出することは、複数の開口を通じて液体および気体の両方を同時に抽出することを含む。ある実施の形態では、液浸リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造体が提供される。この流体ハンドリング構造体は、2相流体抽出開口の2次元パターンを備える。その2相流体抽出開口は空間に閉じ込められた液浸液のメニスカスを固定する。メニスカスは、メニスカスに実質的に直交する2次元パターンの開口の線形アレイ中の固定開口に固定される。ある実施の形態では、流体ハンドリング構造体の下面の幾何学的中心に対して半径方向に、メニスカスが空間に対して進むおよび/または静止している場合、固定開口は線形アレイの中で空間および/または幾何学的中心に最も近い開口である。ある実施の形態では、開口の2次元パターンは空間の少なくとも一部の周りに放射状に配置される。ある実施の形態では、流体ハンドリング構造体は平面視でコーナを有する形状を有し、開口の2次元アレイは少なくともそのコーナに配置される。ある実施の形態では、流体ハンドリング構造体は空間に液浸液を供給し閉じ込めるよう構成され、その空間は、液浸リソグラフィ装置の投影システムと投影システムに対向する対向表面との間に定義され、対向表面はテーブルおよび基板のうちの少なくともひとつを含む。ある実施の形態では、2次元パターンは2次元アレイである。ある実施の形態では、線形アレイは少なくとも部分的に曲がっている。本明細書ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、リソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用案内パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどがある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書におけるウエハあるいはダイという用語がそれぞれ基板あるいはターゲット部分という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。基板は露光前または露光後においてトラック典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置、メトロロジツール、及び/またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ICを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味する。本明細書において放射及びビームという用語は、紫外UV放射例えば約365nm、248nm、193nm、157nm、または126nmの波長を有するを含むあらゆる種類の電磁放射を含む。レンズという用語は、文脈が許す限り、屈折光学素子及び反射光学素子を含む1つの光学素子またはこれら各種の光学素子の組み合わせを指し示すものであってもよい。本発明の特定の実施の形態が上述されたが、説明したもの以外の態様で本発明が実施されてもよい。例えば、本発明の実施の形態は、上述の方法を記述する機械で読み取り可能な命令のひとつ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラムの形式をとってもよいし、そのコンピュータプログラムを記録したデータ記録媒体例えば半導体メモリ、磁気ディスク、または光ディスクであってもよい。機械で読み取り可能な命令は2以上のコンピュータプログラムにより実現されてもよい。それら2以上のコンピュータプログラムはひとつ以上の異なるメモリ及び/またはデータ記録媒体に記録されていてもよい。上述のコントローラは信号を受信し処理し送信するのに適切ないかなる構成であってもよい。例えば、コントローラの各々は、上述の方法のための機械読み取り可能命令を含むコンピュータプログラムを実行するためのひとつ以上のプロセッサを含んでもよい。コントローラはそのようなコンピュータプログラムを記録するデータ記録媒体及び/またはそのような媒体を受けるハードウエアを含んでもよい。本発明のひとつ以上の実施の形態はいかなる液浸リソグラフィ装置に適用されてもよい。上述の形式のものを含むがこれらに限られない。液浸液が浴槽形式で提供されてもよいし、基板の局所領域のみに提供されてもよいし、基板および/または基板テーブル上で非閉じ込め型であってもよい。非閉じ込め型においては、液浸液が基板及び/または基板テーブルの表面から外部に流れ出ることで、基板テーブル及び/または基板の覆われていない実質的に全ての表面が濡れ状態であってもよい。非閉じ込め液浸システムにおいては、液体供給システムは液浸液を閉じ込めなくてもよいし、液浸液の一部が閉じ込められるが完全には閉じ込めないようにしてもよい。本明細書で述べた液体供給システムは広く解釈されるべきである。ある実施の形態においては投影システムと基板及び/または基板テーブルとの間の空間に液体を提供する機構または構造体の組合せであってもよい。ひとつ以上の構造体、ひとつ以上の液体入口、ひとつ以上の気体入口、ひとつ以上の気体出口および/または液体を空間に提供するひとつ以上の液体出口の組み合わせを含んでもよい。ある実施の形態においては、空間の表面は基板及び/または基板テーブルの一部であってもよい。あるいは空間の表面は基板及び/または基板テーブルの表面を完全に含んでもよいし、空間が基板及び/または基板テーブルを包含してもよい。液体供給システムは、液体の位置、量、性質、形状、流速、またはその他の性状を制御するためのひとつ以上の要素をさらに含んでもよいが、それは必須ではない。さらに、本発明がある実施の形態および例の内容にしたがって開示されたが、本発明は特に開示された実施の形態を超えて、他の代替的な実施の形態および/または本発明の使用および本発明の自明な変形例や等価物にも広がることは当業者には理解されるであろう。加えて、本発明の多くの変形例が示され詳述されたが、本発明の範囲内にある他の変形例もまた当業者には本開示に基づいて容易に自明となるであろう。例えば、実施の形態の特定の特徴や側面の様々な組み合わせやサブコンビネーションがなされてよく、それらは依然として本発明の範囲に入ることが想定されている。したがって、開示された実施の形態の様々な特徴や側面が互いに組み合わせられまたは代替され、それによって開示された発明の種々のモードを形成できることは理解されるべきである。したがって、ここに開示される本発明の範囲は上述の特定の開示された実施の形態によって限定されるべきではなく、以下の請求の範囲の正当な読解によってのみ決定されるべきであることが意図されている。上述の説明は例示であり、限定を意図しない。よって、後述の請求の範囲から逸脱することなく既述の本発明に変更を加えることができるということは、関連技術の当業者には明らかなことである。"