レーザ光を透過可能なウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持し、内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が内部を流れる流路が設けられたホルダと、を備えるウィンドウユニット。前記ホルダに設けられた前記流路の前記外縁に面する側の各位置は、前記外縁から実質的に一定の距離を離間している、請求項1記載のウィンドウユニット。前記流路の形状は、前記レーザ光のビーム形状の輪郭と相似する、請求項1記載のウィンドウユニット。前記ウィンドウは、該ウィンドウの少なくとも一方の面で、前記ホルダに溶着、融着、ロウ付け及び接着のいずれかで固定されている、請求項1記載のウィンドウユニット。前記ウィンドウの形状は、円盤形状であり、前記流路は、前記ウィンドウの前記外縁に対して外側及び内側のいずれかの周辺に位置し、かつ環状である、請求項1記載のウィンドウユニット。前記環状の流路は、一部で途切れており、該途切れた部分の一方の端近傍と他方の端近傍とがそれぞれ前記ホルダの外表に開口する穴に連結されている、請求項1記載のウィンドウユニット。前記ホルダは、前記ウィンドウの一方の面の外縁と接するベース及び該ウィンドウの他方の面の外縁と接するカバーを含む、請求項1記載のウィンドウユニット。前記カバーは、前記ベースと接触する面に第1溝を備え、前記ベースは、前記カバーと接触する面に前記第1溝と位置整合する第2溝を備え、前記流路は、前記第1及び第2溝から構成される、請求項7記載のウィンドウユニット。前記ホルダに保持された前記ウィンドウのレーザ光透過面と、該透過するレーザ光のビーム軸とのなす角度が垂直ではない、請求項1記載のウィンドウユニット。前記ウィンドウ材料の熱膨張係数と前記ホルダを構成する少なくとも1つの材料の熱膨張係数との差Δε[ppm]の絶対値は、前記ウィンドウの外径をD[mm]とした場合、以下の式1を満たす、請求項1記載のウィンドウユニット。|Δε|≦1/2D×10-3式1レーザ光を透過可能なウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持するホルダと、前記ホルダ内に前記流入口を介して冷却媒体を流入する冷却部と、を備え、前記ホルダには、該ホルダの内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が流れる流路が設けられており、該流路に液体が流入する流入口及び該流路から液体が流出する流出口が設けられている、ウィンドウ装置。レーザ光を出力する出力部と、前記レーザ光を増幅する増幅部と、ウィンドウユニットと、を備え、前記ウィンドウユニットは、ウィンドウとホルダとを含み、前記ウィンドウは、前記増幅部におけるレーザ光の入射側及び出射側の少なくとも一方に設けられ、レーザ光を透過可能であり、前記ホルダは、前記ウィンドウの外縁を保持し、該ホルダの内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が流れる流路が設けられている、レーザ装置。前記増幅部で増幅されたレーザ光の波面を補正する波面補正部をさらに備える、請求項12記載のレーザ装置。レーザ光を透過するウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持し、その内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が流れる流路と、該流路に液体が流入する流入口及び該流路から液体が流出する流出口と、が設けられたホルダと、前記ホルダ内に前記流入口を介して冷却媒体を流入させる冷却部と、前記ホルダが設けられたチャンバと、前記チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記レーザ光が前記ターゲット物質に照射されることで発生したプラズマから放射された光を集光する集光ミラーと、を備える極端紫外光生成装置。実施の形態1実施の形態1によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びEUV光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明では、LPP方式によるEUV光生成装置を例に挙げるが、これに限定されるものではなく、DPP方式やSR方式のEUV光生成装置などが採用されてもよい。また、本実施の形態1では、1段階のレーザ照射によってターゲット物質をプラズマ化する場合を例に挙げるが、これに限定されるものではなく、たとえば2段階以上のレーザ照射によってターゲット物質をプラズマ化してもよい。さらに、レーザ装置やレーザ加工装置などが採用されてもよい。図1は、本実施の形態1によるEUV光生成装置の概略構成を示す。図1に示すように、EUV光生成装置1は、ターゲット物質をプラズマ化するためのレーザ光L1を出力するドライバレーザ10、EUV光の生成空間を画定するチャンバ20、及びドライバレーザ10から出力されるレーザ光L1をチャンバ20内に導く伝送光学系M1等を備えてもよい。この構成において、ドライバレーザ10は、種光を出力するマスタオシレータMO、マスタオシレータMOから出力された種光をビームエキスパンドするリレー光学系R1、ビームエキスパンドされたレーザ光を増幅するプリアンプPA、増幅されたレーザ光をコリメートするリレー光学系R2、コリメートされたレーザ光を透過させる可飽和吸収セルCE、レーザ光をビーム整形するリレー光学系R3、ビーム整形されたレーザ光を増幅するメインアンプMA、増幅されたレーザ光L1をコリメートするリレー光学系R4等備えてもよい。ここで、可飽和吸収セルCEは、自励発振を抑制したり、チャンバからの戻り光を吸収するために配置されてもよい。ドライバレーザ10からのレーザ光L1をチャンバ20内に導く伝送光学系M1には、たとえば、チャンバ20外に配置され、ドライバレーザ10から出力されたレーザ光L1をチャンバ20内へ導く少なくとも1つの高反射ミラーが含まれてもよい。チャンバ20には、レーザ光L1を取り込むためのウィンドウW15の他、チャンバ20内に導かれたレーザ光L1をEUV集光ミラーM3の背面側からこれに形成された貫通孔A3を介してプラズマ生成領域P1に集光する軸外放物面ミラーM2、プラズマ生成領域P1にターゲット物質をドロップレットDの形態で供給するためのターゲット供給部22、プラズマ生成領域P1を通過したターゲット物質を回収するためのターゲット回収部24、レーザ光L1の照射によってプラズマ生成領域P1で生成されたプラズマから放射された光のうち所望する波長λ=13.5nmのEUV光L2を露光装置接続部30内の中間集光点IFに集光するように選択的に反射するEUV集光ミラーM3等を備えてもよい。また、たとえば、チャンバ20と露光装置接続部30との間は、ゲートバルブG1によって気密性を保ちつつ連結されていてもよい。露光装置接続部30内の中間集光点IFに一旦集光されたEUV光L2は、この中間集光点IF近傍に設けられたアパーチャ32を介して露光装置100へ導かれてもよい。露光装置100へ導かれたEUV光L2は、たとえば半導体露光に使用されてもよい。露光装置100に代えて、EUV光が利用される加工装置などへEUV光L2を導いてもよい。EUV光生成装置に用いられるウィンドウのような高出力のレーザ光が透過する光学ウィンドウは、入射したレーザ光によって加熱され、これにより、光学特性が変化してしまう場合がある。このような熱負荷による光学特性の変化は、レーザ光の集光性能を悪化させる可能性がある。そこで、たとえば、可飽和吸収セルCEの光入力ウィンドウW11及び光出力ウィンドウW12、メインアンプMAの光入力ウィンドウW13及び光出力ウィンドウW14、並びにチャンバ20のウィンドウW15は、たとえば冷却機構を備えたウィンドウホルダH11~H15によってそれぞれ保持されているのが好ましい。本実施の形態1によるウィンドウ、ウィンドウホルダ、及びそれらを備えたウィンドウユニットの一例を、図面を参照に詳細に説明する。ただし、各ウィンドウ及びウィンドウホルダの概略構成は、同一であってもよいため、以下では、ウィンドウW1及びウィンドウホルダH1、それらを備えたウィンドウユニットU1、並びにウィンドウユニットU1を備えたウィンドウ装置D1を例に挙げて説明する。図2は、本実施の形態1によるウィンドウホルダの概略構成を示す斜視図である。図3は、本実施の形態1によるウィンドウの概略構成を示す斜視図である。図4は、本実施の形態1によるウィンドウ及びウィンドウホルダの組立体ウィンドウユニットを備えたウィンドウ装置の概略構成を示す斜視図である。図2に示すように、ウィンドウホルダH1は、たとえば、中央に開口A1が形成されたリング状の形状であってもよい。開口A1は、円形に限らず、楕円形や四角形など、種々変形されてもよい。環状のウィンドウホルダH1の内径側面には、その側面に沿って環状の溝h1が設けられてもよい。この溝h1には、たとえば図3に示すような、開口A1の形状に応じたたとえば円盤状ウィンドウW1が、たとえば図4に示すように嵌め込まれてもよい。これにより、ウィンドウW1がウィンドウホルダH1によって保持され得る。ウィンドウW1は、ウィンドウホルダH1の焼成前に嵌め込まれてもよい。ウィンドウW1の材料は、ウィンドウW1を透過するレーザ光の波長に対して十分な透過率を備えるのが好ましい。特に高出力レーザ光が透過するウィンドウW1においては、熱による変形が光学特性の変化を引き起こすため、ウィンドウW1の材料は熱膨張係数が低いことが重要である。ウィンドウW1の材料の他の性質としては、硬く、熱安定性に優れ、且つ、放熱性に富むことが好ましい。このような材料には、たとえばダイヤモンド人工ダイヤモンドを含む等が含まれ得る。また、この他にも、たとえば以下の表1に例示するような、熱膨張係数が比較的低い透過系の光学素子材料を使用することが可能である。ウィンドウホルダH1の材料には、たとえば炭化珪素SiCや窒化アルミニウムAlNなど、硬度が高く、熱膨張係数が低く、且つ、熱伝導率が高い材料を用いることが好ましい。以下の表2に、ウィンドウホルダH1に好適な材料の一部を例示する。以下の表2に列挙された材料以外にも、たとえばモリブデンなどの金属材料を用いてもよい。ここで列挙する材料以外であっても、本実施の形態1によるウィンドウホルダH1としての機能を実現できる材料であれば、種々の材料を適用することが可能である。温度変化に対するウィンドウW1の膨張量とウィンドウホルダH1の膨張量との差は、小さい方が好ましい。そこで、ウィンドウW1とウィンドウホルダH1とには、互いに熱膨張係数が近い材料をそれぞれ使用することが好ましい。たとえば、ウィンドウW1の熱膨張係数とウィンドウホルダH1の熱膨張係数との差Δε[ppm]の絶対値は、ウィンドウH1の外径をD[mm]とした場合、以下の式1を満足するのが好ましい。|Δε|≦1/2D×10-3式1ウィンドウホルダH1には、内部にたとえば水や油や液体金属などの冷却媒体CLを流入させる流入口FI、及び使用後の冷却媒体CLを冷却廃液WCLとして外部に流出させる流出口FOが設けられてもよい。図4に示すように、ウィンドウホルダH1内には、冷却装置40から供給された冷却媒体CLが流入口FIに接続された供給管STを介して流入してもよい。流出口FOからは、ウィンドウホルダH1内を循環した冷却媒体CLが冷却廃液WCLとして流出してもよい。流出口FOから流出した冷却廃液WCLは、流出口FOに接続されたドレイン管DTを介して冷却装置40に戻されてもよい。冷却装置40は、たとえばドレイン管DTから流入した冷却廃液WCLを冷却し、冷却媒体CLとして再び供給管STへ供給してもよい。つづいて、本実施の形態1によるウィンドウホルダの内部構成を、図面を参照に詳細に説明する。図5は、本実施の形態1によるウィンドウホルダH1をウィンドウ面と平行な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。図6は、図5に示すウィンドウホルダH1をVI-VI面で切断した際の概略構成を示す断面図である。ウィンドウ面とは、ウィンドウW1において光が入射する面と平行な面である。また、以下の説明において、上方とは、ウィンドウ面に対する光の入射側を意味し、下方とは、ウィンドウ面に対する光の出射側を意味するものとする。図5に示すように、環状のウィンドウホルダH1内には、少なくともその内径側面近傍を略均一に冷却可能なように冷却媒体CLが流れる環状の流路F1が形成されてもよい。この流路F1は、ウィンドウホルダH1の外表で開口する流入口FI及び流出口FOとそれぞれ連通している。流出口FOは、たとえば図6に示すように、流入口FIに対してウィンドウホルダH1の中心軸を挟んで反対側の位置に設けられてもよい。ただし、流路F1、流入口FI及び流出口FOの構成は、前述の構成に限定されず、ウィンドウホルダH1の内径側面を略均一に冷却できるように流路F1内に冷却媒体CLを流すことが可能であれば種々変形可能である。つぎに、ドライバレーザ10を稼働している最中のウィンドウW1における温度分布について、図面を参照に詳細に説明する。図7は、本実施の形態1によるウィンドウユニットとレーザ光のビーム断面形状及び入射位置との関係を示す模式図である。図8A及び図8Bは、本実施の形態1におけるレーザ光のビーム軸と垂直なビーム断面における強度分布を示す図である。図7に示すように、この例では、ウィンドウユニットU1におけるウィンドウW1のウィンドウ面に対して略垂直にレーザ光L1が入射してもよい。レーザ光L1のビーム軸AXビーム断面の中心は、たとえばウィンドウホルダH1の開口A1から露出するウィンドウW1のウィンドウ面の略中心に一致するのが好ましい。図8Aに示すように、レーザ光L1のビーム断面における強度分布は、たとえばビーム軸AXをピークとし、中心から外れるにしたがって減衰する形状を有してもよい。また、図8Bに示すように、レーザ光L1のビーム断面の強度は、ビーム軸AXを中心として等方的に減衰してもよい。なお、図8A及び図8Bにおいて、破線Lh1は、強度がピーク強度の半値以上である領域の輪郭を示し、破線Le1は、強度がピーク強度の1/e2eは自然対数以上となる領域の輪郭を示す。破線Lh1及びLe1で示すように、それぞれの領域の輪郭は、レーザ光L1の外縁に対してビーム軸AXを中心とした同心円となるのが好ましい。一例として、これら破線Lh1及びLe1によって示される形状をレーザ光L1のウィンドウ面に対する照射領域の輪郭又はビーム断面形状と定義してもよい。あるいは、このような定義によらずとも、レーザ光によるウィンドウへの入熱分布を反映した形状であれば、レーザ光L1のウィンドウ面に対する照射領域の輪郭又はビーム断面形状と定義されてもよい。ウィンドウホルダH1の開口A1の形状、ウィンドウホルダH1内に設けられた流路F1の形状、及び、ウィンドウホルダH1の外周の形状のうち、少なくとも1つは、ウィンドウW1のウィンドウ面の形状またはレーザ光L1のビーム断面形状に略相似であってもよい。あるいは、各形状は、その外周が、ウィンドウW1のウィンドウ面の輪郭またはレーザ光L1のウィンドウ面に対する照射領域の輪郭に対して実質的に一定の距離を保つように離間した形状であってもよい。言い換えれば、それぞれの形状におけるウィンドウW1の外縁またはウィンドウ面の中心に面する側の各位置が、ウィンドウW1またはレーザ光L1のウィンドウW1に対する照射領域に対して実質的に一定の距離を保つような形状であってもよい。本例では、図7に示すように、円形のビーム断面形状に対し、ウィンドウホルダH1の開口A1の形状、ウィンドウホルダH1内に設けられた流路F1の形状、及び、ウィンドウホルダH1の外周の形状が、それぞれ円形である場合を例に挙げている。つづいて、図7、図8A及び図8Bに示す例を用いて、シミュレーションした結果を、図面を参照に詳細に説明する。図9は、図7、図8A及び図8Bに示す場合のウィンドウW1における温度分布のシミュレーション結果を示す模式図である。図10は、図7、図8A及び図8Bに示す場合のウィンドウW1の中心部からの距離に対する温度を示すグラフである。図9に示すように、EUV光生成装置1を稼働している最中にウィンドウホルダH1に、ウィンドウの外縁に沿って、外縁から実質的に一定の距離離間する位置に冷却媒体CLを流してもよい。これにより、ウィンドウホルダH1の熱が均一に拡散され、結果として、ウィンドウW1における温度分布は中心部Cに対してほぼ軸対称となる。この際、図10に示すように、ウィンドウW1における温度分布は、中心部CからウィンドウW1の外縁に近づくに連れて徐々に温度が低下する分布となる。このことから、温度分布の偏りによるウィンドウW1の歪みまたは屈折率分布の偏りを低減できることがシミュレーション計算より分かる。以上のように、ウィンドウW1は、所望の波長たとえば10.6μm程度のレーザ光L1を透過可能であればよい。ウィンドウホルダH1は、ウィンドウW1の外縁を保持してもよく、また、その内部でウィンドウW1の外縁部分近傍に液体である冷却媒体CLを流す流路F1が設けられてもよい。また、ウィンドウW1は、ウィンドウW1の一方の面または両面で、ウィンドウホルダH1に溶着、融着または接着されていてもよい。実施の形態2つぎに、実施の形態2によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びEUV光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明において、実施の形態1と同様の構成については、それを引用することで、その詳細な説明を省略する。本実施の形態2によるEUV光生成装置は、実施の形態1において例示したEUV光生成装置1と同様の構成を備えてもよい。ただし、本実施の形態2では、たとえばウィンドウホルダH11~H15に、以下に例示するような構成のウィンドウホルダH2が用いられる場合を例示する。図11は、本実施の形態2によるウィンドウ及びウィンドウホルダの組立体ウィンドウユニットの概略構成を示す斜視図である。図12は、図11に示すウィンドウホルダの概略構成を示す分解図である。図11に示すように、ウィンドウホルダH2は、たとえばカバーホルダH21及びベースホルダH22を含む組立体であってもよい。ウィンドウW1は、たとえば、カバーホルダH21とベースホルダH22との間に挟まれた状態で保持される。ウィンドウW1とカバーホルダH21及びベースホルダH22との互いの対向面は、たとえば溶着や融着、ロウ付け、接着などで固着されてもよい。溶着には、たとえば超音波、振動、誘導、高周波、熱などの他、レーザビームやイオンビームなどを用いた溶着技術を用いることができる。また、接着には、無機系接着剤や有機系接着剤など、種々の接着剤を用いることができる。この際、熱伝導率が高く、また、気密性に優れた接着剤が用いられるのが好ましい。このように、ウィンドウW1とウィンドウホルダH2との接触部分を接合することで、ウィンドウホルダH2からウィンドウW1への伝熱面積の拡大や伝熱経路のムラの低減などが可能な場合がある。したがって、より効率的且つ均等なウィンドウW1の冷却が期待できる。つづいて、ウィンドウユニットU2の構成をより具体的に説明する。図12に示すように、カバーホルダH21は、たとえば、中央に開口A21が形成された環状の形状でもよい。この形状において、ベースホルダH22と対向する面には、たとえば、開口A21に対してウィンドウW1を位置決めするための溝T21が形成されてもよい。ベースホルダH22は、カバーホルダH21と組み合わされた際にカバーホルダH21の開口A21と連続する位置に開口A22が形成された環状の形状を有してもよい。この形状において、カバーホルダH21と対向する面には、たとえば、ウィンドウW1を位置決めするための溝T22が形成されてもよい。溝T21と溝T22とは、たとえば、カバーホルダH21とベースホルダH22とを組み合わせた際にウィンドウW1をその外周部で保持する溝を形成してもよい。また、カバーホルダH21及びベースホルダH22には、これらを組み合わせた際に連通する少なくとも1つのボルト穴J21及びJ22がそれぞれ形成されてもよい。このボルト穴J21及びJ22には、たとえば、カバーホルダH21側からカバーホルダH21及びベースホルダH22と係止するボルトJ2が挿入される。ボルトJ2の先端部に設けられるねじ部分は、たとえばチャンバ20などの取付け箇所に設けられるねじ穴に嵌め込まれてもよい。これにより、組立体であるウィンドウホルダH2がチャンバ20などに固定されてもよい。また、組立体であるウィンドウホルダH2は、図示しないメタルシールまたはOリングシールを介して可飽和吸収セルCEやメインアンプMAやチャンバ20等に固定されてもよい。つづいて、本実施の形態2によるウィンドウホルダの内部構成を、図面を参照に詳細に説明する。図13は、本実施の形態2によるウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。図14は、図13に示すウィンドウホルダをXIV-XIV面で切断した際の概略構成を示す断面図である。図13に示すように、リング状のカバーホルダH21内には、ウィンドウホルダH1と同様、ウィンドウホルダH1の内径側面を略均一に冷却可能なように、冷却媒体CLが流れる略環状の流路F2が形成されてもよい。流路F2は、たとえばカバーホルダH21の外表で開口する流入口FI及び流出口FOとそれぞれ連通してもよい。また、流路F2は、ベースホルダH22と対向する面でたとえば環状に開口していてもよい。この場合は、図14に示すように、ベースホルダH22によってこの開口部分が液密に封止されることが好ましい。流路F2は、必ずしも環状でなくてもよく、図13に示すように、その一部が途切れていてもよい。この場合、流入口FI及び流出口FOは、この途切れた部分の近傍でそれぞれ流路F2と連通しているのが好ましい。これにより、流路F2の略全体に冷却媒体CLを循環させることが可能となる。この結果、ウィンドウホルダH2に保持されたウィンドウW1をその外縁から冷却することができる。以上のように、ウィンドウW1の形状は、円盤形状であってもよい。この場合、ウィンドウホルダH2内の流路F2は、上述したように、ウィンドウW1の外縁に対して外側または内側の周辺に環状に位置してもよい。この構成において、ウィンドウホルダH2内の環状の流路F2は、一部で途切れていてもよい。この場合、途切れた部分の一方の端近傍及び他方の端近傍がウィンドウホルダH2の外表に開口する流入口FI及び流出口FOにそれぞれ連結されていてもよい。ウィンドウホルダH2は、ウィンドウW1の一方の面の外縁と接するベースホルダH22、及びウィンドウW1の他方の面の外縁と接するカバーホルダH21を含んでもよい。この構成において、カバーホルダH21は、ベースホルダH22と接触する面に第1溝としての流路F2を備えてもよく、ベースホルダH22は、カバーホルダH21と接触する面に流路F2と位置整合する第2溝としての流路を備えてもよい。この場合、流路F2と第2溝による流路とから、冷却媒体CLが流れる流路が構成されてもよい。実施の形態3つぎに、実施の形態3によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びEUV光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明において、実施の形態1または2と同様の箇所については、それを引用することで、その詳細な説明を省略する。本実施の形態3によるEUV光生成装置は、実施の形態1で例示したEUV光生成装置1と同様の構成を備えてもよい。ただし、本実施の形態3では、たとえばウィンドウホルダH11~H15に、以下に例示するような構成のウィンドウホルダH3が用いられる場合を例示する。図15は、本実施の形態3によるウィンドウユニットの概略構成を示す分解図である。図16は、図15に示すウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。図15と図12、及び、図16と図14とを比較すると明らかなように、本実施の形態3によるウィンドウユニットU3は、実施の形態2によるウィンドウユニットU2と同様の構成において、ベースホルダH22がベースホルダH32に置き換えられてもよい。ベースホルダH32には、ベースホルダH22と同様の構成において、カバーホルダH21と対向する面で環状に開口する流路F31が形成されてもよい。流路F31は、カバーホルダH21とベースホルダH32とを組み合せた際に断面が連続する1つの流路F3を形成してもよい。すなわち、本実施の形態3では、組み立てられたウィンドウホルダH3内に、断面がカバーホルダH21からベースホルダH32まで延在する流路F3が形成されてもよい。これにより、流路F3に冷却媒体CLを流すことで、ウィンドウホルダH3に保持されたウィンドウW1を外縁から冷却することができる。実施の形態4つぎに、実施の形態4によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びEUV光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明において、実施の形態1~3のいずれかと同様の箇所については、それを引用することで、その詳細な説明を省略する。本実施の形態4によるEUV光生成装置は、実施の形態1で例示したEUV光生成装置1と同様の構成を備えてもよい。ただし、本実施の形態4では、たとえばウィンドウホルダH11~H15に、以下に例示するような構成のウィンドウホルダH4が用いられる場合を例示する。図17は、本実施の形態4によるウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。図17と図14とを比較すると明らかなように、本実施の形態4によるウィンドウホルダH4は、実施の形態2によるウィンドウホルダH2と同様の構成において、カバーホルダH21がカバーホルダH41に置き換えられてもよい。ベースホルダH41は、ベースホルダH21と同様の構成において、流路F2が流路F4に置き換えられてもよい。流路F4は、流路F2と同様、略環状の形状でよい。流路F4の断面は、円形に限らず、種々の形状でもよい。略環状の流路F4の少なくとも内径側は、上方から見て、環状の溝T21の外縁、言い換えればウィンドウW1の外縁よりも内側に位置してもよい。この場合、ウィンドウW1の中心により近い箇所からウィンドウW1を効率的に冷却できる場合がある。ただし、流路F4は、少なくともベースホルダH22と対向する面において開口していないのが好ましい。これにより、ウィンドウW1との接触部からの液漏れを防止できる。実施の形態5つぎに、実施の形態5によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びEUV光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明において、実施の形態1~4のいずれかと同様の箇所については、それを引用することで、その詳細な説明を省略する。本実施の形態5によるEUV光生成装置は、実施の形態1で例示したEUV光生成装置1と同様の構成を備えてもよい。ただし、本実施の形態5では、たとえばウィンドウホルダH11~H15に、以下に例示するような構成のウィンドウホルダH5が用いられる場合を例示する。図18は、本実施の形態5によるウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。図18に示すように、本実施の形態5によるウィンドウホルダH5は、ドライバレーザ10から出力されてウィンドウホルダH5に入射するレーザ光L1のビーム軸AXに対してウィンドウ面の垂線ARが傾くように、ウィンドウW1を保持してもよい。本実施の形態5では、たとえばウィンドウW1を保持する溝T22がビーム軸AXと垂直な面に対して傾くように、ベースホルダH52におけるカバーホルダH51との接触面S52がビーム軸AXと垂直な面に対して傾いている。これに合わせ、たとえばウィンドウW1を保持する溝T21がビーム軸AXと垂直な面に対して傾くように、カバーホルダH51におけるベースホルダH52との接触面S52がビーム軸AXと垂直な面に対して傾いていてもよい。このように、レーザ光L1のビーム軸AXに対してウィンドウW1のウィンドウ面を傾かせることで、ウィンドウW1で反射されたレーザ光L1の一部がドライバレーザ10へ戻ることを防止できる。本実施の形態5において、ウィンドウホルダH5は、光学系たとえば可飽和吸収セルCEやメインアンプMAなどにおいて、レーザ光L1の入出力部のいずれか一方または両方に用いられてもよい。以上のように、ウィンドウホルダH5は、ウィンドウホルダH5がプリアンプPAやメインアンプMAや可飽和吸収セルCEやチャンバ20などの他の部材に搭載される面に対してウィンドウW1においてレーザ光が入射する面が傾くようにウィンドウW1を保持してもよい。実施の形態6つぎに、実施の形態6によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びEUV光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明において、実施の形態1~5のいずれかと同様の箇所については、それを引用することで、その詳細な説明を省略する。上述した各実施の形態によれば、ウィンドウW1をその外縁から略均等に冷却できる。そこで、レーザ光L1の強度分布をビーム軸AXを中心として軸対称な分布とし且つビーム軸AXがウィンドウW1の中心を通るようにアレンジすれば、ウィンドウW1における熱分布をその中心に対して略点対称の分布とすることができるであろう。この場合、ミラーなどの簡易な光学素子による波面補正器によってレーザ光L1の波面を容易に補正できると考えられる。そこで、本実施の形態6では、上述の実施の形態1~5におけるレーザ光L1の波面を波面補正器にて補正してもよい。以下の説明では、説明の簡略化のため、実施の形態1におけるレーザ光L1の波面を波面補正器にて補正する場合を例に挙げる。図19は、本実施の形態6によるEUV光生成装置の概略構成を示す。図19と図1とを比較すると明らかなように、本実施の形態6によるEUV光生成装置6は、図1に示すEUV光生成装置1と同様の構成において、レーザ光L1の波面を補正する波面補正器61及び62、並びにレーザ光L1の波面形状断面の大きさを含んでもよいを検出する波面センサS1及びS2を備えてもよい。波面補正器61及び62並びに波面センサS1及びS2は、ドライバレーザ10Fの一部であっても、ドライバレーザ10F以とは別途の要素として構成であってもよい。波面補正器61は、たとえばリレー光学系R3を挟んでメインアンプMAの上流側に配置されてもよい。波面補正器61には、たとえばリレー光学系R4を介してメインアンプMAの下流側に設けられる波面センサS1による波面検出結果が入力されてもよい。波面補正器61は、リレー光学系R4によってコリメート化されたメインアンプMAから出力されるレーザ光L1の波面形状に基づいて、メインアンプMAに入力するレーザ光L1の波面形状を補正してもよい。また、波面補正器62は、たとえばドライバレーザ10Fから出力されるレーザ光L1をチャンバ20へ導く伝送光学系M1の上流側に配置されてもよい。波面補正器62には、たとえばチャンバ20内に導かれたレーザ光L1をプラズマ生成領域P1に集光する軸外放物面ミラーM2の上流側に設けられた波面センサS2による波面検出結果が入力されてもよい。波面補正器62は、軸外放物面ミラーM2に入射するレーザ光L1の波面形状に基づいて、プラズマ生成領域P1に集光されるレーザ光L1の波面形状を補正してもよい。なお、波面センサS2は、チャンバ20内に配置されても、チャンバ20外に配置されてもよい。言い換えれば、波面センサS2は、ウィンドウW15の上流側に配置されても、下流側に配置されてもよい。本実施の形態6による波面補正器及び波面センサは、メインアンプMAや伝送光学系M1の上下流側に限らず、プリアンプPAや可飽和吸収セルCEやリレー光学系R1~R4の状下流側にそれぞれ設けられてもよい。さらに、波面補正器及び波面センサは、プリアンプPAやメインアンプMAなどの光学系それぞれに対して1組設けられても、複数の光学系に対して1組設けられてもよい。つづいて、本実施の形態6による波面補正器の一例を、図面を参照に詳細に説明する。本実施の形態6における波面補正器たとえば図19に示す波面補正器61及び62は、同様の構成であってもよいため、以下では、波面補正器60Aを例に挙げて説明する。図20~図22は、本実施の形態6による波面補正器の概略構成を示す。図20は、波面補正器60Aに入射するレーザ光L1が平面波である場合を示し、図21は、波面補正器60Aに入射するレーザ光L1が凸面波である場合を示し、図22は、波面補正器60Aに入射するレーザ光L1が凹面波である場合を示している。なお、本説明において、波面補正器60Aは、レーザ光L1の入射軸ビーム軸AXに対して45°傾いて配置されてもよい。図20~図22に示すように、波面補正器60Aは、たとえば、反射面を備えたミラー部M61、及び波面センサS61で検出されたレーザ光L1の波面形状に基づいてミラー部M61の反射面の曲率を変化させるミラーアクチュエータ61aを備えてもよい。レーザ光L1の波面が平面である場合、図20に示すように、ミラーアクチュエータ61aは、ミラー部M61の反射面が平面を維持するように、波面センサS61からの波面検出結果に基づいてミラー部M61の凹凸形状を制御してもよい。レーザ光L1の波面が凸面である場合、図21に示すように、ミラーアクチュエータ61aは、波面センサS61で検出されるレーザ光L1の波面形状が平面となるように、ミラー部M61の反射面をレーザ光L1に対して凹面形状に変化させてもよい。レーザ光L1の波面が凹面である場合、図22に示すように、ミラーアクチュエータ61aは、波面センサS61で検出されるレーザ光L1の波面形状が平面となるように、ミラー部M61の反射面をレーザ光L1に対して凸面形状に変化させてもよい。つづいて、本実施の形態6による波面補正器の他の例を、図面を参照に詳細に説明する。図23~図25は、本実施の形態6の変形例1による波面補正器の概略構成を示す。図23に示すように、本変形例1では、レーザ光のビーム軸をZ字状に折り返すZ型アダプティブミラーを用いた波面補正器60Bを例に挙げる。図23は、波面補正器60Bに入射するレーザ光L1が平面波である場合を示し、図24は、波面補正器60Bに入射するレーザ光L1が凸面波である場合を示し、図25は、波面補正器60Bに入射するレーザ光L1が凹面波である場合を示している。図23に示すように、波面補正器60Bは、波面補正器60Aと同様に、反射面を備えたミラー部M61、及び波面センサS61で検出されたレーザ光L1の波面形状に基づいてミラー部M61の反射面の曲率を変化させるミラーアクチュエータ61aを備えてもよい。また、波面補正器60Bは、ミラー部M61で波面補正されつつ反射されたレーザ光L1を反射させるミラー部M62をさらに備えてもよい。波面補正機能を備えたミラー部M61は、レーザ光L1の入射軸ビーム軸AXに対して、たとえば2.5°傾いて配置されてもよい。たとえば平面ミラーであるミラー部M62は、ミラー部M62で反射されるレーザ光L1のビーム軸AXがミラー部M61に入射するレーザ光L1のビーム軸AXと略平行となるように、ミラー部M61で反射されたレーザ光L1のビーム軸AXに対して、たとえば2.5°傾いて配置されてもよい。また、本実施の形態6における波面補正器には、図26に示す波面補正器60Cを使用することも可能である。図26は、本実施の形態6の変形例2による波面補正器の概略構成を示す。図26に示すように、波面補正器60Cは、レーザ光L1のビーム径を拡大する凸面ミラーM63、ビーム径が拡大されたレーザ光L1をコリメート化する凹面ミラーM64、並びにコリメート化されたレーザ光L1のビーム軸AXを波面補正器60Cに入射したレーザ光L1のビーム軸AXの延長上に戻すための平面ミラーM65及びM66を備えてもよい。この構成において、凹面ミラーM64と平面ミラーM65とは、たとえば共通の可動プレート61bに搭載されてもよい。可動プレート61bは、たとえば不図示の移動機構を備えてもよい。移動機構は、波面センサS61で検出されたレーザ光L1の波面形状に基づいて、凸面ミラーM63と凹面ミラーM64との間の距離を変化させてもよい。これにより、レーザ光L1の波面が補正され得る。上述では、波面センサS61によってレーザ光L1の波面形状を計測していた。しかし、レーザ光L1の波面形状を計測する波面計測機構は、波面センサS61に限定されず、種々変形可能である。以下に、本実施の形態6による波面計測機構の他の例を、図面を参照に詳細に説明する。図27は、本実施の形態6の変形例3による波面計測機構の概略構成を示す。図27に示すように、本変形例3による波面計測機構は、2つの波面計測部67及び68を含んでもよい。波面計測部67は、波面補正器60から出力されたレーザ光L1の一部を反射し、一部を透過させるハーフミラーM67、レーザ光L1の断面の強度分布及びサイズを計測するビームプロファイラS67、並びにハーフミラーM67を透過したレーザ光L1の像をビームプロファイラS67の受光面に結像するレンズR67を備えてもよい。同様に、波面計測部68は、ハーフミラーM67で反射されたレーザ光L1の一部を反射し、一部を透過させるハーフミラーM68、レーザ光L1の断面の強度分布及びサイズを計測するビームプロファイラS68、並びにハーフミラーM68を透過したレーザ光L1の像をビームプロファイラS68の受光面に結像するレンズR68を備えてもよい。波面補正器60は、上述した波面補正器60A~60Cのいずれであってもよい。また、波面補正器60に入射するレーザ光L1は、平面波、凸面波及び凹面波のいずれであってもよい。以上の構成において、2つのビームプロファイラS67及びS68による計測結果は、波面補正器コントローラ60aに入力されてもよい。波面補正器コントローラ60aは、入力された2つの計測結果の少なくともいずれか一方に基づいて、レーザ光L1が、所定の波面形状、強度分布、ビームサイズを有するように、波面補正器60を制御してもよい。この例において、ハーフミラーM67には、このハーフミラーM67のレーザ光L1のビーム軸AXに対する傾斜角を制御するミラーアクチュエータA67が設けられてもよい。波面補正器コントローラ60aは、入力された2つの計測結果の少なくともいずれか一方に基づいて、上流の波面計測部67から出力されるレーザ光L1がより適切に下流の波面径側部68に入射するように、ミラーアクチュエータA67を駆動してもよい。波面計測部67及び68は、それぞれ図28に示すような構成であってもよい。図28は、本実施の形態6の変形例3による波面計測部の概略構成を示す。波面計測部67と68とには、ミラーアクチュエータA67以外、同様の構成を用いることが可能であるため、以下では、波面計測部67に着目して説明する。また、以下の説明では、簡略化のため、ミラーアクチュエータA67を省略する。図28に示すように、波面計測部67におけるハーフミラーM67においてレーザ光L1が入射する面には、レーザ光L1の一部を反射し、一部を透過させるハーフミラーコートH67が設けられてもよい。また、たとえばレンズR67は、微小な集光レンズが2次元配列されて構成されるマイクロレンズアレイR67aであってもよい。さらに、ビームプロファイラS67は、たとえば、マイクロレンズアレイR67aによって集光されたレーザ光L1の2次元像を取得可能な赤外線カメラS67aであってもよい。このように、波面計測部67及び68は、いわゆるシャックハルトマン波面センサであってもよい。また、図28に示す波面計測部67は、図29に示す波面計測部67Aに置き換えることも可能である。図29は、本実施の形態6の変形例3による波面計測部の他の概略構成を示す。図28と図29とを比較すると明らかなように、波面計測部67Aは、図28に示す波面計測部67と同様の構成において、マイクロレンズアレイR67aが、集光レンズR67bに置き換えられてもよい。レーザ光L1は、集光レンズR67bを透過することによって、赤外線カメラS67aの受光面に結像され得る。この構成によれば、レーザ光L1のビームサイズを計測することが可能である。したがって、この検出結果に基づいて波面補正器60を制御することで、レーザ光L1のビームサイズを調整することが可能である。図29に示す波面計測部67Aは、図30に示す波面計測部67Bのように変形することも可能である。図30は、本実施の形態6の変形例3による波面計測部の他の概略構成を示す。図29と図30とを比較すると明らかなように、本変形例3では、集光レンズR67bはその焦点が赤外線カメラS67aの受光面上に位置するように配置されてもよい。この構成によれば、レーザ光L1のビームウエストを計測することが可能である。したがって、この検出結果に基づいて波面補正器60を制御することで、レーザ光L1のビームウエストのサイズを調整することが可能である。さらにまた、本変形例3による波面計測部67は、図31に示す波面計測部67Cに置き換えることも可能である。図31は、本実施の形態6の変形例3による波面計測部の他の概略構成を示す。図31に示すように、波面計測部67Cは、図29に示す波面計測部67Aと図30に示す波面計測部67Bとを組み合わせた構成を備えてもよい。波面計測部67Aの計測系に相当する集光レンズR67b及び赤外線カメラS67a、並びに波面計測部67Bの計測系に相当する集光レンズR67c及び赤外線カメラS67cには、それぞれハーフミラーM67を透過したレーザ光L1がハーフミラーM69によって分岐されて入射してもよい。この構成によれば、レーザ光L1の波面の大きさとビームウエストとの両方を計測することが可能である。したがって、この検出結果に基づいて波面補正器60を制御することで、レーザ光L1の波面のビームサイズとビームウエストのサイズとの両方を調整することが可能である。変形例1上述した実施の形態またはその変形例では、レーザ光L1のビーム断面形状、ウィンドウホルダH1の開口A1の形状、ウィンドウホルダH1内に設けられた流路F1の形状、及び、ウィンドウホルダH1の外周の形状が、それぞれ円形である場合を例に挙げている。しかし、上述したように、ウィンドウホルダH1の開口A1の形状、ウィンドウホルダH1内に設けられた流路F1の形状、及び、ウィンドウホルダH1の外周の形状のうち、少なくとも1つが、ウィンドウW1のウィンドウ面の形状またはレーザ光L1のビーム断面形状に略相似であってもよい。あるいは、各形状は、その外周が、ウィンドウW1のウィンドウ面の輪郭またはレーザ光L1のウィンドウ面に対する照射領域の輪郭に対して実質的に一定の距離を保つように離間した形状であってもよい。そこで以下に、それぞれの形状の他の例を、図面を参照して詳細に説明する。図32は、本開示の実施の形態におけるウィンドウユニットの形状及びレーザ光のビーム断面の形状の変形例1を示す模式図である。図32に示すように、本変形例1によるレーザ光L1の断面の形状は、上述の実施の形態と同様に、円形であってもよい。これに対し、ウィンドウユニットU1Aのうち、ウィンドウホルダH1Aは、その外周の形状が、四角形たとえば正方形でもよい。このような構成であっても、上述において、図9を用いて説明したように、ウィンドウW1の温度分布を中心部Cに対してほぼ軸対称にできる。また、上述において図10を用いて説明したように、ウィンドウW1の温度分布を中心部CからウィンドウW1の外縁に近づくに連れて徐々に温度が低下する分布にできる。変形例2ウィンドウホルダの外周の形状は、図33に示すようにも変形することができる。図33は、本開示の各実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例2を示す模式図である。図33に示すように、本変形例2によるウィンドウユニットU1Bでは、ウィンドウホルダH1Bの外周の形状が、たとえば正八角形などの多角形であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。変形例3レーザ光のビーム断面形状は、図34に示すようにも変形することができる。図34は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例3を示す模式図である。図34に示すように、本変形例3では、レーザ光L1cのビーム断面形状が楕円形であってもよい。これに対し、ウィンドウユニットU1CにおけるウィンドウホルダH1Cの開口A1cの形状、ウィンドウホルダH1C内に設けられた流路F1cの形状、及び、ウィンドウホルダH1Cの外周の形状のうち、少なくとも1つは、ウィンドウ面が楕円形状のウィンドウW1cのウィンドウ面の形状またはレーザ光L1cのビーム断面の形状に略相似であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。変形例4図34に示す変形例3におけるウィンドウホルダの外周の形状は、図35に示すようにも変形することができる。図35は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例4を示す模式図である。図35に示すように、本変形例4によるウィンドウユニットU1Dでは、ウィンドウホルダH1Dの外周の形状が、四角形たとえば正方形であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。変形例5レーザ光のビーム断面の形状は、図36に示すようにも変形することができる。図36は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例5を示す模式図である。図36に示すように、本変形例5では、レーザ光L1eのビーム断面の形状が正方形や長方形などを含む四角形であってもよい。これに対し、ウィンドウユニットU1EにおけるウィンドウホルダH1Eの開口A1eの形状、ウィンドウホルダH1E内に設けられた流路F1eの形状、及び、ウィンドウホルダH1Eの外周の形状のうち、少なくとも1つは、ウィンドウ面が正方形や長方形などを含む四角形のウィンドウW1eのウィンドウ面の形状またはレーザ光L1eのビーム断面形状に略相似であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。変形例6図36に示す変形例5におけるウィンドウホルダの外周の形状は、図37に示すようにも変形することができる。図37は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例6を示す模式図である。図37に示すように、本変形例6によるウィンドウユニットU1Fでは、ウィンドウホルダH1Fの外周の形状が、たとえば円形や楕円形などであってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。変形例7レーザ光のビーム断面の形状は、図38に示すようにも変形することができる。図38は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例7を示す模式図である。図38に示すように、本変形例7では、レーザ光L1gのビーム断面の形状が正方形や長方形などを含む四角形であってもよい。これに対し、ウィンドウユニットU1GにおけるウィンドウホルダH1Gの開口A1gの形状、ウィンドウホルダH1g内に設けられた流路F1gの形状、及び、ウィンドウホルダH1Gの外周の形状のうち、少なくとも1つは、ウィンドウ面が正方形や長方形などを含む四角形のウィンドウW1gのウィンドウ面の形状またはレーザ光L1gのビーム断面の形状に略相似であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。変形例8レーザ光のビーム断面の形状は、図39に示すようにも変形することができる。図39は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例8を示す模式図である。図39に示すように、本変形例8では、レーザ光L1hのビーム断面の形状が五角形以上の多角形であってもよい。これに対し、ウィンドウユニットU1HにおけるウィンドウホルダH1Hの開口A1hの形状、ウィンドウホルダH1H内に設けられた流路F1hの形状、及び、ウィンドウホルダH1Hの外周の形状のうち、少なくとも1つは、ウィンドウ面が多角形のウィンドウW1hのウィンドウ面の形状またはレーザ光L1hのビーム断面の形状に略相似であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、限定的でない用語と解釈されるべきである。例えば、含む又は含まれるという用語は、含まれるものとして記載されたものに限定されないと解釈されるべきである。有するという用語は、有するものとして記載されたものに限定されないと解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句1つのは、少なくとも1つ又は1又はそれ以上を意味すると解釈されるべきである。1、6極端紫外光生成装置10、10Fドライバレーザ20チャンバ22ターゲット供給部22aノズル24ターゲット回収部30露光装置接続部32壁40冷却装置60a波面補正器コントローラ61、62、60、60A~60C波面補正器61b可動プレート67、67A、67B、67C、68波面計測部100露光装置A1、A1c、A1e~A1h、A21、A22開口A67ミラーアクチュエータAXビーム軸AR垂線CE可飽和吸収セルCL冷却媒体DドロップレットD1ウィンドウ装置DTドレイン管F1~F4、F1c、F1e~F1h、F31流路FI流入口FO流出口G1ゲートバルブH1~H5、H1A~H1H、H11~H15ウィンドウホルダH21、H51カバーホルダH22、H32、H52ベースホルダH67ハーフミラーコートIF中間集光点J2ボルトJ21、J22ボルト穴L1レーザ光L2EUV光M1伝送光学系M2軸外放物面ミラーM3EUV集光ミラーM61、M62ミラー部M63凸面ミラーM64凹面ミラーM65、M66平面ミラーM67、M68ハーフミラーMOマスタオシレータMAメインアンプP1プラズマ生成領域PAプリアンプR1~R4リレー光学系R67、R68レンズR67aマイクロレンズアレイR67b、R67c集光レンズS1、S2、S61波面センサS52接触面S67、S68ビームプロファイラS67a、S67c赤外線カメラST供給管T21、T22、h1溝U1、U1A~U1H、U2、U3ウィンドウユニットW1、W1c、W1e~W1h、W11~W15ウィンドウWCL冷却廃液