"熱交換器及び逆浸透膜分離手段を備えた一次純水製造装置に原水を通水して一次純水を製造し、この一次純水を二次純水製造装置に通水して超純水を製造する超純水製造装置において、二次純水製造装置に供給される一次純水の温度の検出手段と、この検出手段の検出温度に基づいて前記熱交換器の流出水の目標温度を設定する手段と、この目標温度となるように熱交換器への熱源流体の供給量を制御する手段とを備えたことを特徴とする超純水製造装置。熱交換器及び逆浸透膜分離手段を備えた一次純水製造装置に原水を通水して一次純水を製造し、この一次純水を二次純水製造装置に通水して超純水を製造する超純水製造方法において、二次純水製造装置に供給される一次純水の温度を検出し、この検出温度に基づいて前記熱交換器の流出水の目標温度を設定し、この目標温度となるように熱交換器への熱源流体の供給量を制御することを特徴とする超純水製造方法。熱交換器及び逆浸透膜分離手段並びに該逆浸透膜分離手段の後段側に回収水を供給する回収水供給手段を備えた一次純水製造装置に原水を通水して一次純水を製造し、この一次純水を二次純水製造装置に通水して超純水を製造する超純水製造装置において、回収水の供給量の検出手段と、この検出手段の検出流量に基づいて前記熱交換器の流出水の目標温度を設定する手段と、この目標温度となるように熱交換器への熱源流体の供給量を制御する手段とを備えたことを特徴とする超純水製造装置。熱交換器及び逆浸透膜分離手段並びに該逆浸透膜分離手段の後段側に回収水を供給する回収水供給手段を備えた一次純水製造装置に原水を通水して一次純水を製造し、この一次純水を二次純水製造装置に通水して超純水を製造する超純水製造方法において、回収水の供給量を検出し、この回収水供給量に基づいて前記熱交換器の流出水の目標温度を設定し、この目標温度となるように熱交換器への熱源流体の供給量を制御することを特徴とする超純水製造方法。従来、熱交換器15への蒸気供給量は、熱交換器15の出口水温が所定温度となるように制御されているが、季節によって気温が変動することにより、配管19から二次純水製造装置20サブシステムのタンク21以下、サブタンク21ということがある。へ送られる水の温度が変化する。そして、夏季などにおいて、サブタンク21への流入水温が無用に高くなることがある。本発明は、二次純水製造装置に供給される一次純水の温度が無用に高くなることを防止し、一次純水製造装置の熱交換器の加熱コストを低減することができる超純水製造方法及び装置を提供することを目的とする。また、図2に図示はされていないが、一次純水製造装置10の逆浸透膜処理装置12とイオン交換装置13との間に中継タンクを設置し、半導体製造工程からの回収水を該中継タンクに導入し、RO処理水と回収水とを混合してイオン交換装置13に供給することもある。この回収水の温度は通常25~30°Cと高いので、この回収水の流量が変動することにより、サブタンク21への流入水の温度が変動することがある。本発明は、その一態様において、回収水の流量変動があっても、サブタンク流入水の温度変動を小さくすることができる超純水製造方法及び装置を提供することを目的とする。第1発明の超純水製造装置は、熱交換器及び逆浸透膜分離手段を備えた一次純水製造装置に原水を通水して一次純水を製造し、この一次純水を二次純水製造装置に通水して超純水を製造する超純水製造装置において、二次純水製造装置に供給される一次純水の温度の検出手段と、この検出手段の検出温度に基づいて前記熱交換器の流出水の目標温度を設定する手段と、この目標温度となるように熱交換器への熱源流体の供給量を制御する手段とを備えたことを特徴とするものである。第2発明の超純水製造方法は、熱交換器及び逆浸透膜分離手段を備えた一次純水製造装置に原水を通水して一次純水を製造し、この一次純水を二次純水製造装置に通水して超純水を製造する超純水製造方法において、二次純水製造装置に供給される一次純水の温度を検出し、この検出温度に基づいて前記熱交換器の流出水の目標温度を設定し、この目標温度となるように熱交換器への熱源流体の供給量を制御することを特徴とするものである。第3発明の超純水製造装置は、熱交換器及び逆浸透膜分離手段並びに該逆浸透膜分離手段の後段側に回収水を供給する回収水供給手段を備えた一次純水製造装置に原水を通水して一次純水を製造し、この一次純水を二次純水製造装置に通水して超純水を製造する超純水製造装置において、回収水の供給量の検出手段と、この検出手段の検出流量に基づいて前記熱交換器の流出水の目標温度を設定する手段と、この目標温度となるように熱交換器への熱源流体の供給量を制御する手段とを備えたことを特徴とするものである。第4発明の超純水製造方法は、熱交換器及び逆浸透膜分離手段並びに該逆浸透膜分離手段の後段側に回収水を供給する回収水供給手段を備えた一次純水製造装置に原水を通水して一次純水を製造し、この一次純水を二次純水製造装置に通水して超純水を製造する超純水製造方法において、回収水の供給量を検出し、この回収水供給量に基づいて前記熱交換器の流出水の目標温度を設定し、この目標温度となるように熱交換器への熱源流体の供給量を制御することを特徴とするものである。第1,第2発明の超純水製造装置及び方法によると、一次純水製造装置の熱交換器の流出水の目標温度を、二次純水製造装置に供給される一次純水の温度に応じて設定し、この目標温度となるように熱交換器への熱源流体の供給量を制御するので、二次純水製造装置に供給される一次純水の温度が無用に高くなったり、過度に低くなったりすることが防止される。第3,第4発明の超純水製造装置及び方法によると、一次純水製造装置に導入される回収水の流量に基づいて一次純水製造装置の熱交換器の流出水の目標温度を設定し、この目標温度となるように熱交換器への熱源流体の供給量を制御するので、二次純水製造装置に供給される一次純水の温度が無用に高くなったり、過度に低くなったりすることが防止される。本発明の超純水製造装置は、一次純水製造装置及び二次純水製造装置あるいはさらに三次純水製造装置を備えたものにおいて、二次純水製造装置のサブタンクの流入水温に基づいて一次純水製造装置の熱交換器の設定温度を制御する。この一次純水製造装置の前段には、通常の場合、前処理装置が設けられる。前処理装置では、原水の濾過、凝集沈殿、精密濾過膜などによる前処理が施され、主に懸濁物質が除去される。この前処理によって通常、水中の微粒子数は103個/mL以下となる。一次純水製造装置は、逆浸透RO膜分離装置、脱気装置、再生型イオン交換装置混床式又は4床5塔式など、電気脱イオン装置、紫外線UV照射酸化装置等の酸化装置などを備え、前処理水中の大半の電解質、微粒子、生菌等の除去を行うものである。一次純水製造装置は、例えば、熱交換器、2基以上のRO膜分離装置、混床式イオン交換装置、及び脱気装置で構成される。二次純水製造装置は、給水ポンプ、熱交換器、低圧紫外線酸化装置又は殺菌装置といった紫外線照射装置、非再生型混床式イオン交換装置あるいは電気脱イオン装置、限外濾過UF膜分離装置又は精密濾過MF膜分離装置等の膜濾過装置で構成されるが、更に膜脱気装置、RO膜分離装置、電気脱イオン装置等の脱塩装置が設けられている場合もある。二次純水製造装置では、低圧紫外線酸化装置を適用し、その後段に混床式イオン交換装置を設け、これによって水中のTOCを紫外線により酸化分解し、酸化分解生成物をイオン交換によって除去する。三次純水製造装置は、装置構成としては二次純水製造装置と同様の構成を備えるものであり、これにより二次純水を更に精製して高純度の超純水を製造するものである。以下、図1を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1は実施の形態に係る超純水製造方法及び装置を示すフロー図であり、図2と同一部材については同一符号が付されている。この実施の形態にあっては、一次純水製造装置の熱交換器15で加熱されてRO装置12に供給される水の温度を検知する温度センサ16が設けられている。熱交換器15には、熱源流体として蒸気が蒸気ライン15aを介して供給される。この蒸気ライン15aに蒸気流量制御弁15bが設けられている。また、RO装置12とイオン交換装置13との間に中継タンク17が設けられており、半導体製造工程からの回収水がライン18を介して流入する。この回収水ライン18に流量計18aが設けられている。また、この実施の形態では、配管19を介して二次純水製造装置20のサブタンク21に流入する一次純水の温度を検知するように、温度センサ21aが設けられている。これらの温度センサ16,21a及び流量計18aの検出データが制御装置60に入力される。この制御装置60は、これらの入力データに基づいて蒸気流量制御弁15bに制御信号を送るように構成されている。[第1の制御例]第1の制御例においては、制御装置60は、温度センサ21aの検出温度に基づいて、温度センサ16の検出温度の目標温度を設定し、温度センサ16の検出温度がこの目標温度となるように、蒸気流量制御弁15bを制御する。一般に、熱交換器15に流入してからサブタンク21に到達するまでの時間は約2~3時間、例えば約3時間程度と長いため、単にサブタンク21への流入水温の変動に追従して熱交換器15への蒸気流量を制御しても的確な制御が行われない。そこで、この第1の制御例では、温度センサ21aの検出温度に基づいて、温度センサ16の検出温度の目標温度を設定し、温度センサ16の検出温度がこの目標温度となるように、蒸気流量制御弁15bを制御する。具体的には、サブタンク21への流入水温の許容範囲の下限値T20と上限値T21とを定めておく。また、運転実績データに基づいて、サブタンク21の流入水温がこの下限値と上限値との間の温度となる熱交換器15の出口水の温度を目標温度T1として設定しておく。そして、温度センサ16の検出温度がこの目標温度T1となるように蒸気流量制御弁15bを制御する。このように温度センサ16の検出温度が目標温度T1となるように蒸気流量制御弁15bを制御して超純水製造装置を運転している間に、温度センサ21aの検出温度が低下してきて下限値T20又はそれ以下になったときには、目標温度を所定値ΔT1だけ高くし、T1ΔT1を新たな目標温度とし、温度センサ16の検出温度がT1ΔT1となるように蒸気流量制御弁15bを制御する。温度センサ21aの検出温度が回復上昇してきてT20よりも高くなったならば、目標温度をT1に戻す。一方、温度センサ16の検出温度が目標温度T1となるように蒸気流量制御弁15bを制御して超純水製造装置を運転している間に、温度センサ21aの検出温度が上昇してきて上限値T21又はそれ以上となったときには、目標温度をΔT2だけ低くし、T1-ΔT2を新たな目標温度とし、温度センサ16の検出温度がT1-ΔT2となるように蒸気流量制御弁15bを制御する。温度センサ21aの検出温度が低下してきてT21よりも低くなったならば、目標温度をT1に戻す。このΔT1,ΔT2は0.1~0.4°Cの間から選定されることが好ましく、例えば、ΔT1=ΔT2=0.2°Cとされる。T21-T20も0.1~0.4°Cの間から選定されることが好ましく、例えば、T21-T20=0.2°Cとされる。T20,T21は超純水製造装置に応じて設定される。通常は20~25°Cの間から選定され、例えば、T20=23.1°Cとされる。このように、サブタンク21への流入水温に応じて、熱交換器15流出水の目標温度を変更し、温度センサ16の検出温度が変更後の目標温度となるように、蒸気流量制御弁15bを制御することにより、サブタンク21への流入水温が過度に低下したり、無用に上昇したりすることが防止される。この第1の制御例では、目標温度をT1ΔT1に切り替えてから所定時間例えば熱交換器15を出てからサブタンク21に到達するまでの時間Trの1.5~2倍の範囲から選択された時間。が経過しても温度センサ21aの検出温度が下限値T20にまで回復上昇しないときには、目標温度をT12ΔT1に切り替えてもよい。さらに、目標温度をT1kΔT1k=2,3,.........に切り替えてから前記所定時間が経過しても温度センサ21aの検出温度が下限値T20にまで回復上昇しないときには、目標温度をT1k1ΔT1に切り替えてもよい。この第1の制御例では、目標温度をT1-ΔT2に切り替えてから前記所定時間が経過しても温度センサ21aの検出温度が上限値T21にまで低下しないときには、目標温度をT1-2ΔT2に切り替えてもよい。さらに、目標温度をT1-nΔT2n=2,3,.........に切り替えてから前記所定時間が経過しても温度センサ21aの検出温度が上限値T21にまで低下しないときには、目標温度をT1-n1ΔT2に切り替えてもよい。なお、超純水製造能力5,000m3/dayの超純水製造装置において、T1=24.5°C、T20=23.1°C、T21=23.3°C、ΔT1=ΔT2=0.2°Cとして運転を行った場合、T1を常に24.5°Cとした従来例に比べて熱交換器15の蒸気消費量を約30削減することができた。[第2の制御例]次に、回収水流量を考慮した第2の制御例について説明する。一般に、半導体製造工程排水は、オゾン酸化→活性炭塔→混床式イオン交換塔、活性炭塔→UV酸化装置→混床式イオン交換塔、UV酸化装置→脱酸素装置→活性炭塔→混床式イオン交換塔、活性炭塔→イオン交換塔等の処理が施されて回収水とされ、中継タンク17に導入される。この回収水の温度は、大概、25~30°Cの範囲で安定している。この回収水の温度は熱交換器15の出口水温よりも高いので、回収水の流量が変動すると、サブタンク21の流入水温が変動する。そこで、回収水流量が基準流量よりも減少したときには、それに対応して熱交換器15の出口水温の目標温度を高目に設定し直す。例えば、一次純水製造装置10からの一次純水中に占める回収水の割合が30~50程度の場合、回収水流量が基準流量の20~40又はそれ以下となったときには、目標温度T1をT1ΔT3とし、温度センサ16の検出温度がT1ΔT3となるように蒸気流量制御弁15bを制御する。これにより、サブタンク流入水温が過度に低下することが防止される。このΔT3は、1~2°Cの間から選定されることが好ましく、例えば、ΔT3=1.4°Cとされる。この第2の制御例では、回収水流量の減少幅に応じて目標温度を多段階に変えてもよい。例えば、回収水流量が基準流量の20~40のときには目標温度をT1ΔT4とし、回収水流量が基準流量の40以下のときには目標温度をT12ΔT4とするように基準値を3段階に切り替えるようにしてもよく、4段階以上に切り替えるようにしてもよい。また、回収水流量に比例して目標温度を切り替えるようにしてもよい。回収水流量が基準流量よりも増加したときには、目標温度をT1よりも所定値ΔT5だけ減少させてもよい。この場合も、回収水流量の増大幅に応じて、温度基準値を多段階に変えてもよい。なお、回収水流量が基準流量よりも増加しても基準値を切り替えず、T1のままとしてもよい。"