少なくとも1種の含酸素反応物及び水を含む反応物供給ストリームとヘテロポリ酸担持触媒とを少なくとも170°Cの温度で接触させることを含む、酸素化物からアルケンを調製するプロセスであって、以下のステップ:iヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に加熱するステップ;iiステップiの加熱処理されたヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に、ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分から結合水を除去するのに十分な時間保つステップ;及びiiiステップiiのヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に保ちながら、ヘテロポリ酸担持触媒と温度が少なくとも220°Cの反応物供給ストリームとを接触させることを含むステップを含む始動手順を使用して開始されるプロセス。ステップiiにおいて、ステップiの加熱処理されたヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に少なくとも1時間保つ、請求項1に記載のプロセス。ステップiiiが:iiiaステップiiのヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に保ちながら、ヘテロポリ酸担持触媒と温度が少なくとも220°Cの水とを接触させるステップ;及びiiibステップiiiaのヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に保ちながら、含酸素反応物をステップiiiaの水に導入して反応物供給ストリームを形成するステップ;の2ステップで実施される、請求項1又は請求項2に記載のプロセス。含酸素反応物単数又は複数がアルコール及び/又はアルコール誘導体である、請求項1から3までのいずれか1項に記載のプロセス。含酸素反応物単数又は複数がエタノール及び/又はエタノールの誘導体である、請求項4に記載のプロセス。含酸素反応物がエタノールである、請求項5に記載のプロセス。ヘテロポリ酸担持触媒がケイタングステン酸担持触媒である、請求項1から6までのいずれか1項に記載のプロセス。ヘテロポリ酸担持触媒が、12-ケイタングステン酸担持触媒である、請求項7に記載のプロセス。ヘテロポリ酸担持触媒中のヘテロポリ酸の量が、ヘテロポリ酸担持触媒の合計重量に基づいて10wtから50wtの範囲内である、請求項1から8までのいずれか1項に記載のプロセス。酸素化物からアルケンを調製するプロセスが180°Cから270°Cの範囲内の温度で実施される、請求項1から9までのいずれか1項に記載のプロセス。酸素化物からアルケンを調製するプロセスが0.1MPaから4.5MPaの範囲内の圧力で実施される、請求項1から10までのいずれか1項に記載のプロセス。前記プロセスのステップiに先立って、ヘテロポリ酸担持触媒が、好ましくは、ヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に加熱して、加熱されたヘテロポリ酸担持触媒上にスチームを通し、続いてスチーム処理したヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に無水雰囲気下で加熱することにより処理される、請求項1から11までのいずれか1項に記載のプロセス。ヘテロポリ酸担持触媒が、酸素化物からアルケンを調製するプロセスにおいて以前に使用されたことがある、請求項12に記載のプロセス。aヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に加熱して、前記ヘテロポリ酸担持触媒上にスチームを通すステップ;及びbステップaにより処理されたヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cに無水雰囲気中で加熱するステップを含む、ヘテロポリ酸担持触媒処理プロセス。全プロセスを通して触媒を少なくとも220°Cの温度に保ちながら、ステップbをステップaの直後に実施する、請求項14に記載のプロセス。本発明の好ましい実施形態によれば、脱水プロセスが実施される操業条件は、脱水プロセスが常に蒸気相状態で操業されるようなものである。本発明による脱水プロセス酸素化物からアルケンを調製するプロセスが実施される温度は、少なくとも170°C、好ましくは180から270°Cの範囲内、より好ましくは190から260°Cの範囲内、及び最も好ましくは200から250°Cの範囲内である。本発明による脱水プロセス酸素化物からアルケンを調製するプロセスが実施される圧力は、好ましくは0.1MPaから4.5MPaの範囲内の圧力、より好ましくは1.0MPaから3.5MPaの範囲内の圧力、及び最も好ましくは1.0MPaから2.8MPaの範囲内の圧力である。本発明のプロセスの生成組成物は、典型的には、アルケン、未反応含酸素反応物単数又は複数例えばアルコール、エーテル、水及びアルカンを含む。通常、アルケンは生成組成物から分離され、未反応含酸素反応物単数又は複数例えばアルコール及びエーテルは、好ましくは本発明のプロセスに戻して再循環される。通常、生成組成物の水の少なくとも一部も、未反応含酸素反応物単数又は複数及びエーテルと一緒に本発明のプロセスに戻して再循環される。アルケンとそれらの対応するアルカンとは、比較的近い沸点を有するので、生成組成物から分離されたアルケン組成物は、生成した対応するアルカンを含有することが多い。それ故、酸素化物からアルケンを調製する最中に生成するアルカンの量を最小化することが非常に望ましい。少なくとも1種の含酸素反応物及び水を含む反応物供給ストリームとヘテロポリ酸担持触媒とを少なくとも170°Cの温度で接触させることを含む、酸素化物からアルケンを調製するプロセスの間に生成するアルカンの量は、プロセスが開始される方法に依存して変化することが思いがけなく見出された。それ故、本明細書に記載した始動手順を使用してプロセスを始動することにより、ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分から結合水を除去する処理を受けなかったヘテロポリ酸担持触媒を使用して開始されたプロセスと比較して、生成するアルカンの量が低レベルに制御されるプロセスを提供することが可能である。したがって、本発明は、少なくとも1種の含酸素反応物及び水を含む反応物供給ストリームとヘテロポリ酸担持触媒とを少なくとも170°Cの温度で接触させることを含む、酸素化物からアルケンを調製するプロセスであって、以下のステップ:iヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に加熱するステップ;iiステップiの加熱処理されたヘテロポリ酸担持触媒を、少なくとも220°Cの温度に、結合水をヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分から除去するのに十分な時間保つステップ;及びiiiステップiiのヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に保ちながら、ヘテロポリ酸担持触媒を温度が少なくとも220°Cの反応物供給ストリームと接触させるステップを含む始動手順を使用して開始されるプロセスを提供する。ヘテロポリ酸、ヘテロポリ酸担持触媒を調製するプロセス、及び前記触媒の反応帯への装填の性質により、ヘテロポリ酸成分は、水がヘテロポリ酸成分に結合し得る条件で、殆ど確実に水雰囲気中の湿気などに曝され、したがって、始動手順のステップiでヘテロポリ酸担持触媒を加熱する前のヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分の水和状態は、ゼロを超えるであろうすなわち、ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分は、それに化学的に結合した水分子を有する。したがって、本発明のプロセスにおいては、本発明の始動手順にかける前のヘテロポリ酸担持触媒は、そのヘテロポリ酸成分がゼロを超える水和状態有するヘテロポリ酸担持触媒である。理論にとらわれることは望まないが、上記の始動手順のステップi及びiiを実施することにより、ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分に結合した水が除去されて、ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分の少なくとも一部は、ゼロ水和状態すなわちヘテロポリ酸成分が結合した水分子を有しないに変わると考えられる。それ故、用語ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分から結合水を除去するにより、ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分の少なくとも一部がその水和状態をゼロに変えており、より好ましくはヘテロポリ酸担持触媒の少なくとも50wtがその水和状態をゼロに変えており、最も好ましくはヘテロポリ酸担持触媒の少なくとも75wtがその水和状態をゼロに変えていることを意味する。したがって、ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分の少なくとも一部は、含酸素反応物又は反応物供給ストリームと接触するときには、ゼロ水和状態結合した水分子を有しないを有する。ヘテロポリ酸担持触媒を使用して酸素化物からアルケン調製するプロセスは、ヘテロポリ酸成分の1又は1を超える水和状態すなわち少なくとも1個の結合した水分子を有するヘテロポリ酸成分に至る/その状態を保つ条件下で実施することができるが、プロセス開始中に、ゼロ水和状態にないヘテロポリ酸成分の量が増すと、プロセスがアルカンを生成する傾向は上昇すると考えられる。それ故、上記の始動手順を使用して、ヘテロポリ酸担持触媒を使用して酸素化物からアルケンを調製するプロセスが一旦開始されると、生成するアルカン単数又は複数の量を大きく増加させずに、反応温度を220°C未満の温度に調節することができる。好ましくは、上記の始動手順のステップi及びステップiiのいずれか又は両方が、不活性ガスストリームの下で実施される。本明細書において使用する用語不活性ガスにより、本発明のプロセスの反応で消費されず、且つヘテロポリ酸担持触媒により触媒され得る如何なる他のプロセスによっても消費されないガスが意味される。適当な不活性ガスの例は、窒素、アルゴン、ヘリウム、メタン及び二酸化炭素である。好ましくは、不活性ガスは、窒素、アルゴン及びヘリウムから選択され、より好ましくは、不活性ガスは窒素である。本明細書において使用する用語不活性ガスストリームは、その下でステップが行われる雰囲気が一定して除去されて且つ新鮮又は再循環不活性ガスで補充される不活性ガスすなわち、ガス流を意味する。例えば、不活性ガスストリームは、好ましくは窒素ガスストリームである。それ故、上記の始動手順のステップi及び/又はステップiiは、窒素ガスストリームの下で実施することが好ましい。ヘテロポリ酸担持触媒が、上記の始動手順のステップiで加熱され、ステップiiで保たれる温度は、少なくとも220°Cである。温度は高いほど、結合水がヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分から除去される速度を上昇させることができるので、使用することができる。したがって、好ましいヘテロポリ酸担持触媒が、上記の始動手順のステップiで加熱され、ステップiiで保たれる温度は、220°Cを超えることが好ましく、例えば、少なくとも230°Cの温度、少なくとも240°C、又はさらに少なくとも250°Cを超える温度を便利に使用することができる。本発明の好ましい実施形態において、ヘテロポリ酸担持触媒が始動手順のステップiで加熱され、ステップiiで保たれる温度は、少なくとも240°Cである。好ましくは、ヘテロポリ酸担持触媒が、上記の始動手順のステップiで加熱され、ステップiiで保たれる温度は、最高で450°C、より好ましくは最高で400°C、さらにより好ましくは最高で350°Cである。ヘテロポリ酸担持触媒が始動手順のステップiiで少なくとも220°Cの温度に保たれる時間の長さは、ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分から結合水の少なくとも一部、好ましくは大部分、より好ましくは全部を除去するのに十分なものである。ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分からの結合水の除去は吸熱的であるから、当業者は、そのようなプロセスが何時起こっているか及び/若しくはヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分からの結合水の除去が何時完結するかを、始動手順のステップi及びステップiiの間の熱流及び触媒の重量減少を監視することにより決定することができるであろう;又はステップi及びステップiiが不活性ガスストリームの下で実施されている場合は、出口のガス流中の水の量を監視することにより決定することができるであろう。好ましくは、ステップiiは、ヘテロポリ酸成分からの水の除去を最早検出することができなくなるように十分な時間をかけて実施する。本発明の一実施形態において、ヘテロポリ酸担持触媒が始動手順のステップiiにおいて少なくとも220°Cの温度に保たれる時間の長さは、少なくとも1時間、好ましくは少なくとも2時間、より好ましくは少なくとも5時間、さらにより好ましくは少なくとも10時間、最も好ましくは少なくとも20時間である。温度は高いほど、ヘテロポリ酸担持触媒のヘテロポリ酸成分から結合水が除去される速度を上昇させることができるので、ステップiの加熱処理をされたヘテロポリ酸担持触媒を、ステップiiで少なくとも220°Cの温度に、より低い温度が使用されたときには、より高い温度が使用されたときに比較してより長い時間保つことが好ましい。したがって、本発明の特定の一実施形態においては、ステップiの加熱処理されたヘテロポリ酸担持触媒は、ステップiiで、好ましくは少なくとも220°Cの温度に少なくとも10時間、より好ましくは少なくとも20時間保たれる。本発明の他の特定の実施形態においては、ステップiの加熱処理されたヘテロポリ酸担持触媒は、ステップiiで、好ましくは少なくとも230°Cの温度に少なくとも5時間、より好ましくは少なくとも10時間保たれる。本発明のさらに他の特定の実施形態においては、ステップiの加熱処理されたヘテロポリ酸担持触媒は、ステップiiで、好ましくは少なくとも240°Cの温度に少なくとも2時間、より好ましくは少なくとも5時間保たれる。本発明のさらに他の特定の実施形態においては、ステップiの加熱処理されたヘテロポリ酸担持触媒は、ステップiiで、好ましくは少なくとも250°Cの温度に少なくとも1時間、より好ましくは少なくとも2時間保たれる。理論にとらわれることは望まないが、少なくとも220°Cの温度では、ヘテロポリ酸担持触媒が存在する雰囲気中に存在する如何なる水も触媒のヘテロポリ酸成分に結合していなくなり、ヘテロポリ酸成分に既に結合していたかもしれない水が除去されることは妨げられないであろうと考えられる。それ故、始動手順のステップi及びステップiiは両方とも、含水雰囲気でも無水雰囲気でも実施することができる。用語無水雰囲気は、当業者により本発明のプロセスに関して本質的に水を含有しないとみなされる雰囲気を意味する。好ましくは、本明細書において使用する用語無水雰囲気は、5ppmvを超える水を含有しない雰囲気を意味する。用語含水雰囲気は、当業者により本発明のプロセスに関して水を含有するとみなされる雰囲気を意味する。好ましくは、本明細書において使用する用語含水雰囲気は、5ppmvを超える水を含有する雰囲気を意味する。酸素化物から、新鮮なヘテロポリ酸担持触媒を使用してアルケンを調製するプロセス中に生成するアルカンの量は、上記の始動手順が無水雰囲気下で実施されたときと比較して、上記の始動手順中の水の存在により大きく変化することはないことが見出されているので、無水雰囲気の使用は必須ではない。本発明の好ましい実施形態において、始動手順のステップi及びステップiiは無水雰囲気下で実施される。しかしながら、水は少なくとも220°Cの温度でヘテロポリ酸成分に結合しなくなるであろうと考えられるので、本発明の別の実施形態においては、特に新鮮ヘテロポリ酸担持触媒が使用されるときに、始動手順のステップi及び/又はステップiiを水の存在下に実施して、例えばステップiを無水条件下で実施することができて、且つステップiiを水の存在下で実施することができ、又は逆も成り立つ。用語新鮮なヘテロポリ酸担持触媒は、これまで触媒として如何なる反応でも使用されたことがない、すなわち効力がなくなったか又は再生された触媒ではないヘテロポリ酸担持触媒を意味する。ヘテロポリ酸担持触媒に関して使用されたときの用語再生されたは、本発明のプロセスにおける有効度が所望の有効度より低く、その後本発明のプロセスにおける触媒の有効度を向上させるために後で処理されたヘテロポリ酸担持触媒を意味する。用語本発明のプロセスにおける有効度は、1種又は複数種の触媒活性、アルケン選択性、及びアルカン選択性を包含して使用される。高い触媒活性が本発明プロセスにおいて望ましく、それと独立に、高いアルケン選択性が本発明のプロセスにおいて望ましく、且つ、低いアルカン選択性が本発明のプロセスにおいて望ましい。本発明のさらに他の代替的実施形態においては、始動手順のステップi及びステップiiは、最初無水雰囲気下で実施され、続いて始動手順のステップiiiの前に水が添加される。始動手順のステップiiiにおける、ヘテロポリ酸担持触媒と反応物供給ストリームとの接触は、場合により段階的様式で、例えば、最初に反応物供給ストリームの水成分とヘテロポリ酸担持触媒とを接触させた後、含酸素反応物単数又は複数を水成分に加えることにより実施して反応物供給ストリームを形成することができ、又は逆も成り立つ。本発明の好ましい実施形態において、始動手順のステップiiiは2つのステップ:iiiaステップiiのヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に保ちながら、ヘテロポリ酸担持触媒と温度が少なくとも220°Cの水とを接触させるステップ;及びiiibステップiiiaのヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に保ちながら、含酸素反応物をステップiiiaの水に導入して反応物供給ストリームを形成するステップで実施される。本発明の酸素化物からアルケンを調製するプロセスにおいて、ヘテロポリ酸担持触媒を使用するのに先立って、ヘテロポリ酸担持触媒を、場合により少なくとも220°Cの温度に加熱して、加熱されたヘテロポリ酸担持触媒上にスチームを通し、続いてスチーム処理したヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に無水雰囲気下で加熱することにより処理することができる。この任意選択の処理においては、好ましくは、ヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に最初に加熱することを無水雰囲気下で実施する。ヘテロポリ酸担持触媒のこの任意選択の処理は、始動手順のステップiに先立って便利に実施することができる。あるいは、ヘテロポリ酸担持触媒の任意選択の処理は、始動手順のステップi及びii中に実施することができる。そのような実施形態においては、ステップiを無水雰囲気下で実施し、ステップii中に加熱されたヘテロポリ酸担持触媒上にスチームを通し、続いて触媒を少なくとも220°Cの温度に無水雰囲気下で保つ。好ましくは、始動手順又はヘテロポリ酸担持触媒の任意選択の処理のための無水雰囲気は、無水の不活性ガス雰囲気、より好ましくは不活性ガスストリームであり、典型的には、無水雰囲気は窒素ガスのストリームである。酸素化物からアルケンを調製する本発明のプロセスにおいて、前記触媒を使用するのに先立つヘテロポリ酸担持触媒のこの任意選択の処理は、新鮮触媒又は酸素化物からアルケンを調製するプロセスで以前に使用されたことがある触媒のいずれでも実施することができる。特に、本発明のプロセスにおいて前記触媒を使用するのに先立つヘテロポリ酸担持触媒のこの任意選択の処理は、本発明のプロセスにおいて使用するべき不均一担持触媒が、酸素化物からアルケンを調製するプロセスにおいて以前に使用されたことがある場合に、特に有益である。特に、酸素化物からアルケンを調製するプロセスにおいて以前に使用されたことがある不均一担持触媒に対するこの任意選択の処理を使用することにより、触媒のアルカン選択性がこの任意選択の処理が実施されなかった場合より低くなることが見出された。したがって、本発明の酸素化物からアルケンを調製するプロセスにおいて前記触媒を使用するのに先立つヘテロポリ酸担持触媒のこの任意選択の処理の使用により、以前に使用されたヘテロポリ酸担持触媒を再生することができる。特に、触媒のアルカン選択性を、上記の任意選択の処理前の触媒のアルカン選択性と比較して低下させることができる。理論にとらわれることは望まないが、ヘテロポリ酸担持触媒のこの任意選択の処理により、窒素ガスを触媒上に通すだけ又はスチームを触媒上に通すだけにより除去されるよりも、ヘテロポリ酸担持触媒から多くの汚染物質が除去されると考えられる。それ故、本発明は、aヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に加熱して、前記ヘテロポリ酸担持触媒上にスチームを通すステップ;及びbステップaにより処理されたヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cに無水雰囲気下で加熱するステップを含むヘテロポリ酸担持触媒処理プロセスをさらに提供する。好ましくは、ステップaにおいて、ヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に最初に加熱することは、無水雰囲気下で実施される。好ましくは、ヘテロポリ酸担持触媒を処理するこのプロセスのステップbは、ステップaの直後に実施され、その間、全プロセス中を通して触媒を少なくとも220°Cの温度に保つ。それ故、ヘテロポリ酸担持触媒処理プロセスは、好ましくは、a’ヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に無水雰囲気下で加熱するステップ;b’ヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に保ちながら、前記ヘテロポリ酸担持触媒上にスチームを通すステップ;c’ヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に保ちながら、前記ヘテロポリ酸担持触媒上にスチームを通すことを中止するステップ;及びd’ヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に無水雰囲気下で保つステップを含む。好ましくは、上のプロセスのステップb’は、少なくとも30分、より好ましくは少なくとも1時間実施する。好ましくは、上のプロセスのステップd’は、少なくとも30分、より好ましくは少なくとも1時間、さらにより好ましくは少なくとも2時間実施する。上のプロセスは、本明細書中に記載した始動手順のステップiに先立って実施することができ、又は別の方法で始動手順のステップi及びii中に実施することができる。したがって、好ましい実施形態において、ヘテロポリ酸担持触媒を処理する上記のプロセスは、ヘテロポリ酸担持触媒を少なくとも220°Cの温度に窒素雰囲気下で加熱し、触媒を少なくとも220°Cの温度に保ちながら、スチームを触媒上に、好ましくは少なくとも1時間通し、続いて窒素ガスのストリームを触媒上に通すことを含む。ヘテロポリ酸担持触媒が上記のように処理されたら、それは次に触媒を最初に220°C未満の温度に冷やさずに直ちに本発明のプロセスにかけることもでき、又は最初に220°C未満の温度に冷却することもできる。都合のよいことに、上記のプロセスにより処理すべきヘテロポリ酸担持触媒が効力のなくなった触媒であるか、又は以前に酸素化物からアルケンを調製するプロセスで使用されたことがある触媒である場合には、触媒を反応器から取り出す前に及び/又は触媒を廃棄する前に、上記プロセスによるヘテロポリ酸担持触媒の処理を実施することができる。本発明は、少なくとも1種の含酸素反応物及び水を含む反応物供給ストリームとヘテロポリ酸担持触媒とを少なくとも170°Cの温度で接触させることを含む酸素化物からアルケンを調製するプロセスであって、ヘテロポリ酸担持触媒が、本明細書中に記載したステップa及びbを含むヘテロポリ酸担持触媒処理プロセスにより、好ましくはこの上で記載したステップa’、b’、c’及びd’を含むヘテロポリ酸担持触媒処理プロセスにより処理される、この上で記載したステップi、ii及びiiiを含む始動手順を使用して開始される、アルケンを調製するプロセスをさらにまた提供する。それ故、本発明は、少なくとも1種の含酸素反応物及び水を含む反応物供給ストリームとヘテロポリ酸担持触媒とを少なくとも170°Cの温度で接触させることを含む酸素化物からアルケンを調製するプロセスであって、ヘテロポリ酸担持触媒が、酸素化物からアルケンを調製するプロセスで以前に使用されて、この上で記載したヘテロポリ酸担持触媒処理プロセスにより再生される、この上で記載した始動手順により開始される、アルケンを調製するプロセスをさらにまた提供する。本発明は、対応するステップiとステップiiの両方は含まない始動手順を使用して開始されるプロセスと比較して、生成するアルカンの量を減少させる、ヘテロポリ酸担持触媒を使用して酸素化物からアルケンを製造するプロセスのための上記の始動手順の使用をさらに提供する。以下の例は、全て、内径l5mm、長さ69cmで、5mm外径のサーモウェルが該反応器中に縦向きに挿入されたマイクロリアクターで実施した。反応器中に挿入されたサーモウェルには、4本の熱電対を入れ、第1のものは液体供給原料が蒸発する余熱帯に、他の3つは触媒床に置いた。プロセスの圧力は、圧力制御バルブPCVにより制御し、蒸気は全て反応器を出てPCVの低圧側に行く。出口ガスの一部は生成物のオンライン分析のためにGCに向けた。全ての実施例において、5cm3の容積に相当する約2.7gの触媒を、反応器中に装填した。触媒も不活性希釈剤のDavicat商標A372G57としても知られるシリカ2.7g、直径は0.25から0.5mmであったと混合した。触媒粒子間の間隙を満たすために希釈剤を使用して、反応物触媒との相互作用をよくしたすなわちチャンネリングをなくした。実施例1及び2実施例1及び2で使用した触媒は、CariAct商標Q15シリカペレット例えばFujiSilysiaにケイタングステン酸275g/kgの濃度で担持されたケイタングステン酸12-ケイタングステン酸例えば、NipponInorganicChemicalsであった。実施例1及び2においては、表1に詳細を示した反応物供給ストリームを使用した。実施例1において、新鮮触媒を窒素流の下で20barg:0.115g/min250°Cの温度に加熱して、窒素ストリーム下で250°Cに2時間保った。次に温度を220°Cに下げた。触媒の温度が220°Cになったところで、表1に詳細を示した反応物供給ストリームを反応器に20bargの圧力で導入して、これらの条件を90分間保った。次に温度を240°Cに上げ、10分かけて圧力を30bargに上げて、反応器をこれらの条件下に保った。表1に詳細を示した反応物供給ストリームからのエチレンの調製における触媒の性能を、下表2に記録したストリームにおける66時間後の生成物組成により示す。実施例2においては、新鮮触媒を窒素流の下で20barg:0.115g/min180°Cの温度に加熱し、窒素ストリームの下で180°Cに30分間保った。次に、表1に詳細を示した反応物供給ストリームを反応器に20bargの圧力で導入して、これらの条件を2時間間保った。次に温度を240°Cに上げ、10分かけて圧力を30bargに上げて、反応器をこれらの条件に保った。表1に詳細を示した反応物供給ストリームからのエチレンの調製における触媒の性能を、下表2に記録した、ストリームにおける85時間後の生成物組成により示す。表2に提示した結果からわかるように、生成組成物中に存在するエタンの濃度は、本発明のプロセスを使用して開始した場合、プロセスがより低い温度を使用して開始した場合に比較して有意に低い。実施例3及び4実施例3及び4で使用した触媒は、CariAct商標Q15シリカペレット例えばFujiSilysiaに22.4w/wタングステン分析によるに相当するケイタングステン酸濃度で担持されたケイタングステン酸12-ケイタングステン酸例えばNipponInorganicChemicalsであった。タングステン分析は:i触媒を130°Cで3時間乾燥し、ii知られた重量の乾燥した試料を知られた体積の水中で振盪して、水性濾液中のタングステンを誘導結合高周波プラズマ分光分析ICPにより定量し、iii残渣を取って、550°Cで灰化し、残留固体をフッ化水素酸で処理し、続いてホウ酸リチウム融剤で溶融し、酸性溶液中に溶解して酸性溶液中のタングステンをICPにより定量することにより達成した。ii及びiiiからの個々のタングステン分析の合計は、触媒中のタングステンの合計になる。実施例3及び4には、表3に詳細を示した反応物供給ストリームを使用した。実施例3においては、新鮮触媒を220°Cの温度に窒素流の下で20barg:0.115g/min加熱して、窒素ストリーム下で220°Cに24時間保った。表3に詳細を示した反応物供給ストリームを反応器に20bargの圧力で導入して、これらの条件を約10分間保った。次に温度240°Cに上げて圧力を約10分かけて30bargに上げた。その後温度を250°Cに上げて、窒素流を0.0925g/minに下げ、反応器をこれらの条件下に保った。表3に詳細を示した反応物供給ストリームからのエチレンの調製における触媒の性能を、下表4に記録したストリームに対する115時間後の生成物組成により示す。実施例4においては、新鮮触媒を220°Cの温度に窒素流の下で20barg:0.115g/min加熱して、窒素ストリーム下で220°Cに2時間保った。表3に詳細を示した反応物供給ストリームを反応器に20bargの圧力で導入してこれらの条件を約10分保った。次に温度を240°Cに上げ、圧力を30bargに約10分かけて上げた。その後温度を250°Cに上げて窒素流を0.0925g/minに下げ、反応器をこれらの条件下に保った。表3に詳細を示した反応物供給ストリームからのエチレンの調製における触媒の性能を、下表4に記録したストリームに対する115時間後の生成物組成により示す。表4に提示した結果からわかるように、生成組成物中に存在するエタン、他の副生物の濃度は、触媒が少なくとも220°Cの温度に、より長い時間保たれる場合に減少している。