"基材の表面に下記のA、B及びCのいずれかの触媒層を有することを特徴とする光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体。A基材の表面に二酸化ケイ素層を形成後、金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩を有効成分として含有する水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層B基材の表面に金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩及び二酸化ケイ素を有効成分として含有させてなる水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層C基材の表面に二酸化ケイ素層を形成後、さらに、金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩及び二酸化ケイ素を有効成分として含有させてなる水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層ここに、金属のカルボン酸塩とは、遷移金属のカルボン酸塩を、金属酸化物のカルボン酸塩とは、遷移金属酸化物のカルボン酸塩をいう。金属のカルボン酸塩が、シュウ酸チタン、乳酸チタン、酢酸ジルコニウム、シュウ酸ジルコニウム、シュウ酸マンガン、シュウ酸鉄、シュウ酸コバルト、シュウ酸ニッケル、シュウ酸銅及びシュウ酸亜鉛から選んだ1種又は2種以上であることを特徴とする請求項1記載の光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体。金属酸化物のカルボン酸塩が、シュウ酸チタニルアンモニウム、シュウ酸酸化バナジウム及び酢酸酸化ジルコウムから選んだ1種又は2種以上であること特徴とする請求項1記載の光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体。金属のカルボン酸塩が、シュウ酸チタン又は乳酸チタンであって、該カルボン酸塩を含有する水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層中のチタン原子の局所構造が、酸素原子の4配位構造となっていることを特徴とする請求項2記載の光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体。金属酸化物のカルボン酸塩が、シュウ酸チタニルアンモニウムであって、該カルボン酸塩を含有する水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層中のチタン原子の局所構造が、酸素原子の4配位構造となっていることを特徴とする請求項3記載の光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体。無光下メチレンブルー迅速分解試験値が60以上であることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体。水性塗布剤がリン酸及び水溶性リン酸塩から選ばれた1種または2種以上を含有するものであることを特徴とする請求項1~6のいずれかに記載の光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体。触媒体。基材が金属板、有機塗膜を有する金属板、ガラス板、プラスチック、天然繊維、合成繊維、鉱物繊維およびこらの織布又は不織布のいずれかであることを特徴とする請求項1~7記載のいずれかに記載の光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体。表面に二酸化ケイ素を含有する下地層を有する基材を準備する基材準備工程と、前記下地層を有する基材上に金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩を有効成分として含有する水性塗布剤を塗布する水性塗布剤塗布工程と、前記塗布された水性塗布剤を500°C以下の温度で乾燥して正孔を有する触媒層を生成させる触媒層生成工程と、を順次行うことを特徴とする光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体の製造方法。ここに、金属のカルボン酸塩とは、遷移金属のカルボン酸塩を、金属酸化物のカルボン酸塩とは、遷移金属酸化物のカルボン酸塩をいう。表面に二酸化ケイ素を含有する下地層を有する基材又は該下地層を有さない基材を準備する基材準備工程と、前記いずれかの基材上に金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩及び二酸化ケイ素を有効成分として含有させてなる水性塗布剤を塗布する水性塗布剤塗布工程と、前記塗布された水性塗布剤を500°C以下の温度で乾燥して正孔を有する触媒層を生成する触媒層生成工程と、を順次行うことを特徴とする光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体の製造方法。ここに、金属のカルボン酸塩とは、遷移金属のカルボン酸塩を、金属酸化物のカルボン酸塩とは、遷移金属酸化物のカルボン酸塩をいう。織布又は不織布に請求項1~8のいずれかに記載の触媒層を坦持させてなることを特徴とする抗ウイルス性抗菌クロス。特許文献7~9に記載の触媒は、無光下、すなわち光の存在しない条件下において光触媒機能と同様の作用を期待することができる。しかし、特許文献7に記載の手段によって製造された組成物は、残留塩素の抗菌効果もあり、光照射なしで抗菌、消臭、防カビ、更には、揮発性有機化合物の低減効果が期待できるものの、ウイルスの不活化の機能は期待できない。特許文献8は、正孔を有するp型の半導体が光の照射を受けることなく、従来の光触媒と同等な触媒機能を呈する基本原理を明らかにしている点で有意義である。しかしながら、金属欠乏型不定比酸化物または金属欠乏型不定比窒化物を形成する方法として各種の方法がある。としながら、具体的な不定比酸化物の製造方法としては、密閉容器内に、対象となる金属の粉末または塊状形態品サンプルを挿入し、昇温、還元雰囲気下で、表面を活性状態とする。目標とする温度にサンプルを加熱し、所定分圧で酸素または窒素を導入する。時間経過と共に、酸素または窒素分圧が低下するので、所定分圧に調整保持する。酸素分圧の低下が認められなくなった時点で処理を終了とする。処理終了後はサンプルを可能な限りに急冷する。とする例のみが記載されているに過ぎない。不定比酸化物を生成させるための具体的な温度条件や圧力調整条件は示されていない。加えて、得られた不定比酸化物を基体上に固定する手段も、大掛かりな設備を伴うものであり、現実の製造販売には至っていない。上記に加え、特許文献1~5に記載の、いわゆる光触媒については、その有機物分解性能を測定する手段が非特許文献1~2のとおり確立されているが、無光下、すなわち、光の照射を受けない状態で使用する触媒については、その特性を評価する手段も確立されていないのが現状である。本発明は、光の照射を受けない状態で使用する触媒についてその特性を評価する手段を確立するとともに、新たな構成を有する無光触媒体を提案するものであって、これによって、安価で量産可能な光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体、その製造方法及び抗ウイルス性抗菌クロスを提供可能とするものである。本発明は、二酸化ケイ素が存在する状態の下で、遷移金属又は遷移金属酸化物のカルボン酸を乾燥させたとき生成する固形組成物が光の照射を受けない状態で正孔を保有することを確認し、これを利用する具体的手段を確立して本発明を完成した。本発明に係る光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体は、基材の表面に下記のA、B及びCのいずれかの触媒層を有することを特徴とするものである。A基材の表面に二酸化ケイ素層を形成後、金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩を有効成分として含有する水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層B基材の表面に金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩及び二酸化ケイ素を有効成分として含有させてなる水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層C基材の表面に二酸化ケイ素層を形成後、さらに、金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩及び二酸化ケイ素を有効成分として含有させてなる水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層ここに、金属のカルボン酸塩とは、遷移金属のカルボン酸塩を、金属酸化物のカルボン酸塩とは、遷移金属酸化物のカルボン酸塩をいう。上記発明において、前記金属のカルボン酸塩が、シュウ酸チタン、乳酸チタン、酢酸ジルコニウム、シュウ酸ジルコニウム、シュウ酸マンガン、シュウ酸鉄、シュウ酸コバルト、シュウ酸ニッケル、シュウ酸銅及びシュウ酸亜鉛から選んだ1種又は2種以上であることとするのが好ましい。また、前記金属酸化物のカルボン酸塩が、シュウ酸チタニルアンモニウム、シュウ酸酸化バナジウム及び酢酸酸化ジルコウムから選んだ1種又は2種以上であることとするのが好ましい。前記金属のカルボン酸塩が、シュウ酸チタン又は乳酸チタンである場合において、該カルボン酸塩を含有する水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層中のチタン原子の局所構造が、酸素原子の4配位構造となっていることとするのが好ましい。また、前記金属酸化物のカルボン酸塩が、シュウ酸チタニルアンモニウムであって、該カルボン酸塩を含有する水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層中のチタン原子の局所構造が、酸素原子の4配位構造となっていることとするのが好ましい。上記各発明に係る光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体は、無光下メチレンブルー迅速分解試験値が60以上であることとするのが好ましい。上記各発明において、水性塗布剤がリン酸及び水溶性リン酸塩から選ばれた1種または2種以上を含有するものであることとするのが好ましい。上記各発明において、基材が金属板、有機塗膜を有する金属板、セラミックス、織布又は不織布のいずれかであることとするのが好ましい。上記各発明面に係る光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体は、二酸化ケイ素を含有する下地層を有する基材を準備する基材準備工程と、前記下地層を有する基材上に金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩を有効成分として含有する水性塗布剤を塗布する塗布工程と、前記工程によって塗布された水性塗布剤を500°C以下の温度で乾燥して正孔を有する触媒層を生成する触媒層生成工程と、を順次行うことによって形成することができる。ここに、金属のカルボン酸塩とは、遷移金属のカルボン酸塩を、金属酸化物のカルボン酸塩とは、遷移金属酸化物のカルボン酸塩をいう。上記発明において、二酸化ケイ素を含有する下地層を有する基材を準備する基材準備工程を、表面に二酸化ケイ素を含有する下地層を有する基材又は該下地層を有さない基材を準備する基材準備工程とし、準備された基材上に金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩及び二酸化ケイ素を有効成分として含有させてなる水性塗布剤を塗布する水性塗布剤塗布工程と、前記塗布された水性塗布剤を500°C以下の温度で乾燥して正孔を有する触媒層を生成する触媒層生成工程と、を順次行うこととすることができる。ここに、金属のカルボン酸塩とは、遷移金属のカルボン酸塩を、金属酸化物のカルボン酸塩とは、遷移金属酸化物のカルボン酸塩をいう。銀など従来の抗菌剤は細胞からなる細菌に有効なものしか存在しなかったので細胞を持たないウイルスを不活化出来る抗菌クロスは存在しなかったのに対し、前記触媒層を織布又は不織布に坦持させて抗ウイルス性抗菌クロスとすることができる。本発明により、安価で量産可能な光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体、その製造方法及び抗ウイルス性抗菌クロスの提供が可能になる。本発明に係る触媒体は、基材の表面に触媒層を形成してなるものあって、光の照射を受けない状態で正孔を保有する。そのことは、本発明に係る触媒体に対し、紫外線等の光を事前あるいは使用中のいずれの段階においても照射を行うことなく、この触媒体と接触したDMPO水溶液をESR電子スピン共鳴分光法でOHラジカルを検出実証できることにより確認できる。図1は、厚さ0.4mmのA5052Pアルミニウム合金板に非晶質シリカゾル20、日産化学工業を塗布し200°Cのマッフル炉に入れ90秒後に取り出し、その表面にシュウ酸チタニルアンモニウムTiO2換算5、テイカ株製TKC-30510gに非晶質シリカゾル20、スノーテックスOを14g及びリン酸試料の調整:Al-2.5Mg板に20シリカゾルスノーテックスOを塗布、200°Cで乾燥して表面に二酸化ケイ素を含有する下地層を有する基材を準備した。得られた基材に対し、表1に示すNo.1~3の成分を有効成分として含有する水性処理液を塗布し、表1に示す所定温度に保持した炉中に90秒間装入乾燥して本発明に係る触媒体を形成した。なお、比較材として、No.4~6に記載の試料を準備した。測定:得られた試料について、シンクロトロン放射光を用いてマイクロXAFS法による局所状態分析を行った。得られたスペクトルから,4966~4967eV付近に強いピークが観察され、このピークの現れ方はチタン原子に4個の酸素が配位している場合のスペクトルと同定され、Ti原子の周りの局所構造がNo.1-3のいずれも4配位であると判定される。さらに,本試料から得られたスペクトルは金属チタンのものと形状もエネルギーも大きく異なっていることから,触媒層中のチタンは金属になっていないと言える。測定結果は、表1に示す。評価結果:本発明に従う組成を有する塗布剤を用いた実験No.1~3の場合、すなわち、基材上に形成された二酸化ケイ素SiO2,シリカ層、さらには、塗布剤中に配合された二酸化ケイ素の存在下において、シュウ酸チタンを有効成分として含有する塗布剤を用いた場合には、適用された乾燥条件の下で、Ti原子の周りの酸素の局所構造がすべて4配位であることが明らかとなった。これに対し、塗布剤中にシュウ酸チタンを含まず二酸化ケイ素とアナターゼ型二酸化チタンを有効成分として配合した場合No.4及びアナターゼ型二酸化チタンの粉末の場合No.6には、Ti原子の周りの酸素の局所構造がすべて6配位であった。なお、金属チタンの配位酸素数は0と判定された。上記のほか、本発明に係る触媒体は、X線回折によれば非晶質状態にあることが判明している。しかしながら、さらに細かい結晶構造は不明であり、極めて微細なナノ結晶粒子である可能性もある。本発明に係る光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体は、下記A,B又はCのいずれかの手段で形成された触媒層を基材上に有する。A基材の表面に二酸化ケイ素層を形成後、金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩を有効成分として含有する水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層B基材の表面に金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩及び二酸化ケイ素を有効成分として含有させてなる水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層C基材の表面に二酸化ケイ素層を形成後、さらに、金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩及び二酸化ケイ素を含有させてなる水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層基材としては、金属板、有機塗膜を有する金属板、ガラス板、プラスチック、天然繊維、合成繊維、鉱物繊維およびそれらの織布又は不織布のいずれかを用いることが出来る。基材がガラスなど表面に二酸化ケイ素層が存在する場合はカルボン酸塩を含有する水性塗布剤を400°C以上500°C以下の温度で乾燥することにより基材に二酸化ケイ素層を有する下地層と同等の性能を得ることができる。また、シラン処理を施したガラスクロスを用いる場合は500°C以上の高温の熱処理を行うとシランの酸化により基材の表面に二酸化ケイ素層を得ることが出来る。カルボン酸塩を構成する金属元素としては、遷移金属、なかでも、チタン、ジルコニウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ランタンおよびセリウムはシュウ酸塩が市販されており、入手が容易であるのでこれらを採択することが好ましい。特に、チタン金属のカルボン酸は、テトライソプロポキシドをシュウ酸水溶液に加えるだけで容易に製造できるという利点がある。また、酸化チタンのシュウ酸塩は商品として複数のメーカーから入手できるので特に好適である。さらに、チタンは重金属に該当しないので衛生マスクや抗菌クロスなどの用途に用いることもできるというメリットもある。上記遷移金属は、金属又はその酸化物のカルボン酸塩の形で水性塗布剤の1成分とされ、それが乾燥される過程において、基板上に形成された二酸化ケイ素を含有する下地層又は水性塗布剤に配合された二酸化ケイ素と共存する場合に正孔を有する触媒被膜層を形成する。金属のカルボン酸塩としては、シュウ酸チタン、乳酸チタン、酢酸ジルコニウム、シュウ酸ジルコニウム、シュウ酸マンガン、シュウ酸鉄、シュウ酸コバルト,シュウ酸ニッケル、シュウ酸銅、シュウ酸亜鉛から選んだ1種又は2種以上を用いることができる。また、金属酸化物のカルボン酸塩としては、シュウ酸チタニルアンモニウム、シュウ酸酸化バナジウム及び酢酸酸化ジルコニウムから選んだ1種又は2種以上を用いることができる。また、チタンラクテートアンモニウムも用いることができる特に、金属のカルボン酸塩として、シュウ酸チタン又は乳酸チタンを選択した場合は、すでに述べたように、これを含む水性塗布剤を塗布乾燥して形成された触媒層中のチタン原子の局所構造が、酸素原子の4配位構造となっていることが確認されており、6配位構造をとるルチル型やアナターゼ型二酸化チタンと異なり正孔を保有する金属欠乏型不定比酸化物が形成されていることを意味している。上記のとおり本発明に係る触媒体は、遷移金属又はその酸化物のカルボン酸塩を、二酸化ケイ素の共存下において乾燥させて光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒層を形成することによって製造される。かかるカルボン酸塩と共存させる二酸化ケイ素源としては、例えば、シリカの微粉末でもよいが水または有機溶媒に分散したシリカゾルを用いると塗布剤中で沈降することが無く利用できるので好都合である。代表的には日産化学工業株の各種スノーテックスを利用できる。二酸化ケイ素は、基材に対して下塗りされた形で、あるいは、水性塗布剤中にカルボン酸塩とともに配合された形で存在すればよい。なお、上記カルボン酸塩とシリカゾルの量比は、質量比で、カルボン酸塩1部に対し、シリカゾルを、シリカ分に換算して0.1~40部とするのがよい。水性塗布剤は、リン酸から選ばれた1種または2種以上を含有させることができる。このリン酸や水溶性リン酸塩の含有により、密着性の向上など製品特性の向上や後述する加熱処理温度を幅広く取ることができるようになり、処理工程の安定化が得られる。リン酸源としては、リン酸のほかにリン酸アルミニウム,リン酸マグネシウム,リン酸カルシウム、リン酸亜鉛、リン酸マンガンなどの水溶性リン酸塩を用いることができる。上記水性塗布剤には、リン酸及び水溶性リン酸塩の添加に加え、着色顔料や光触媒性二酸化チタン粉末を加えることもできる。本発明に係る触媒体を構成する触媒層の基板上における目付量は、金属板などの板状物の場合は、乾燥膜厚としての目付量が0.1~12g/m2とするのがよい。0.1g/m2以下では性能が不十分であり、12g/m2を超えると形成された触媒層が粉状に剥離しやすいので好ましくない。一方、繊維製品の織布、不織布の場合は板状物に比べて非常に表面積が大きいので、目付量を0.5~30g/m2とするのが好ましい。塗布方法は特に限定されるものではなく小規模の場合は刷毛塗りが作業がし易く液濃度を変えることにより付着量を制御できる。大量生産には帯状基材を処理液に浸漬し、ロールの絞り加減で付着量を制御する方法、流れかけ塗装、やスプレー塗装でもよい。本発明に係る触媒体は、上記遷移金属又はその酸化物のカルボン酸塩を二酸化ケイ素の共存下において塗布乾燥させて触媒層に形成させることによって製造される。この工程において、光を受けることの有無は問わない。上記工程において、形成された触媒層を光の照射を受けない状態で正孔を保有するもの、水性塗布剤の塗布後の乾燥条件は広くとれる。ただし乾燥温度が、500°Cより高い場合には、例えばチタンのカルボン酸塩を用いた場合には、乾燥のための保持時間が2時間以上の長時間になると結晶性の二酸化チタンが生成することがあり、本発明の目的を達成出来ない可能性がある。一般には、市販の乾燥機の上限温度300°C以下で十分である。なお、乾燥温度は、室温でもよいが時間がかかるので150°C以上とし、基材の厚さに応じて乾燥時間を調整するのがよい。乾燥時間は、通常、5分以下で十分である。乾燥は、一般の乾燥と同じく、空気が移動するように自然対流乾燥機やさらに強制対流乾燥機を用いるのがよい。本発明に係る触媒体は、上記のようにして製造することができ、製品が光の照射を受けない状態で正孔を保有することは、すでに述べたように述べたように、DMPOを用いるOHラジカル検出試験によって確認することができる。しかしながら、OHラジカル検出試験は、その結果を得るのにESR電子スピン共鳴分光測定用の大がかかりな設備を要する。このOHラジカル検出試験に代えて下記の無光下メチレンブルー迅速分解試験を行い、その測定値が60以上のものを光の照射を受けない状態で正孔を保有するものと判定することができる。無光下メチレンブルー迅速分解試験法触媒体が板状体の場合試料の調整:触媒が表面に形成された1辺30mm角の平板状の試験片を準備する。メチレンブルー水溶液の調整:濃度100mg/lのメチレンブルー水溶液を準備する。シャーレに前記により調整した平板状の試料を入れ、その表面ににより調整したメチレンブルー水溶液を0.1ml滴下し、1辺30mm角のプラスティックフィルムで覆う。その状態で、2分間放置した後、試料表面からプラスティックフィルムを剥離し、3mLの精製水を用いて洗浄して、洗浄液とともに分光光度計の吸光度測定用溶液とする。測定:吸光度の測定:前記で得た吸光度測定用溶液の波長664nmにおける吸光度を測定し、測定値をaとする。併せて、濃度100mg/lのメチレンブルー水溶液0.1mlに精製水3mlを加えて希釈したメチレンブルー水溶液の吸光度を測定し、基準値、bとする。無光下メチレンブルー迅速分解試験値の算出:[b-a/b]×100をメチレンブルー迅速分解試験値として算出する。触媒体が布状体の場合試料の調整:触媒が表面に形成された1辺30mm角の平板状の試験片を準備する。メチレンブルー水溶液の調整:濃度20mg/lのメチレンブルー水溶液を準備する。30x30mmのプラスティックフィルムをシャーレに敷き濃度20mg/lのメチレンブルー水溶液を0.5ml滴下する。1で作成した試験片の上に別の30x30mmのプラスティックフィルムを重ね、滴下したメチレンブルー水溶液の液滴の上に乗せる。しかし、この水溶液が試験片とプラスティックフィルムの全面に廣がらない場合は0.5mlに加えて0.1ml単位で精製水を追加して滴下する。6分間放置した後、試料表面からプラスティックフィルムを剥離し、2.6-追加滴下水量mlの精製水を用いて洗浄して洗浄液とともに分光光度計の吸光度測定用溶液とする。測定:吸光度の測定:前記で得た吸光度測定用溶液の波長664nmにおける吸光度を測定し、測定値をaとする。併せて、濃度100mgLのメチレンブルー水溶液0.1mlに精製水3mlを加えて希釈したメチレンブルー水溶液の吸光度を測定し、基準値、bとする。無光下メチレンブルー迅速分解試験値の算出:[b-a/b]×100を無光下メチレンブルー迅速分解試験値として算出する。水中のウイルスが無光下で不活化される機構は、この触媒が無光下で正孔を保有しメチレンブルーのH3C-N結合を切断する機能を有するためと推測され、ウイルスの主成分であるタンパク質を構成するアミノ酸を分解したためではないかと考えられた。そこで触媒を担持したガラスクロスにアミノ酸として側鎖にC-N結合を持つアルギニン及びヒスチジンのそれぞれの水溶液を接触させてその前後のFT-IR赤外分光分析を行った。その結果、ヒスチジンの場合は変化が見られなかったのに対しアルギニンの場合は1000~1500cm-1の領域で触媒処理により新規の強い吸収が発生しており、C-NH2結合が切断された可能性が強く、この被膜が無光下で正孔を保有していることが裏付けられたといえる。実施例1基材として厚さ0.2mmの55アルミニウム-43亜鉛合金溶融めっき鋼板を準備した。この基材上に二酸化ケイ素を含有する20シリカゾルスノーテックスCを刷毛塗り以下同じしたのち乾燥して二酸化ケイ素層を形成した。チタンの酸化物のカルボン酸塩としてシュウ酸チタニルアンモニウムを選択し、その5水溶液TiO2換算10gに二酸化ケイ素として20スノーテックスOを14g及びリン酸アルミニウムの50水溶液1gを配合した水性塗布剤を塗布した後、160°Cの炉中で2分乾燥して触媒体を得た。得られた触媒体は、無光下メチレンブルー分解迅速試験値:79を示し、光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体であることが確認できた。実施例2基材として、厚さ0.42mm、質量378g/m2、密度3333本/25mmの摸紗織り、ヒートクリーニング処理のガラスクロス日東紡WAR420BHを準備した。このガラスクロスに20シリカゾルスノーテックスOを精製水で2倍に希釈して塗布後、300°Cのマッフル炉に入れ60秒後に取り出して二酸化ケイ素の下地層を形成した。得られた二酸化ケイ素の下地層付きの基材に、金属酸化物のカルボン酸塩として、酢酸酸化ジルコニウムZrOC2H3O22、第一希元素化学工業株ジルコゾールZA-20を20含有する水溶液を精製水で2倍に希釈して塗布し、300°Cに保持した炉に装入して、90秒保持した後に取り出し、触媒体を得た。得られた触媒体は、無光下メチレンブルー分解迅速試験値:83を示した。実施例3ポリエステル系着色有機塗膜を塗布した厚さ0.2mmの55アルミニウム―43亜鉛合金めっき鋼板を基材とし、その表面にシリカゾルとしてスノーテックスOまたはCを塗布したところ弾いて均一に塗布出来なかった。そこで、非晶質シリカ30、IPA70から成るアモルファスシリカゾル日産化学工業株IPA-STを精製水で2倍に希釈して塗布したところ弾かずに塗布できたので200°Cの炉内で90秒乾燥して、二酸化ケイ素下地層付きの基材とした。その上に下記組成の水性塗布液を塗布後、200°Cの炉内で90秒乾燥した。乳酸チタン:44、IPA:43、残部水からなる乳酸チタン-IPA溶液松本製薬工業株オルガチックスTC―31010gを準備し、これに85リン酸を0.7g、精製水10gを添加して水性塗布液とした。得られた水性塗布液を前記二酸化ケイ素下地層付きの基材に塗布し、200°Cの炉内で90秒乾燥して、触媒体を得た。無光下メチレンブルー分解迅速試験値を算出したところ85であった。この本触媒を担持した有機被覆合金めっき鋼板と本触媒を担持しない有機被覆合金めっき鋼板とを家庭の浴室の壁に貼り3ヶ月後に観察したところ本触媒を担持しない鋼板は表面が黴で覆われていたのに対し本触媒を担持鋼板には全く黴が見られなかった。実施例4厚さ0.21mm、平織りガラスクロスM200Xユニチカ株製、質量200g/m2密度19/18を500°Cのマッフル炉に入れ5分間加熱処理したものを基材とした。シュウ酸ジルコニウム10水溶液第一希元素化学工業株製15gに20のシリカゾルスノーテックスOを10gに85リン酸1.1g及び精製水30gを加えて撹拌して水性処理液とした。得られた水性処理液を、前記加熱処理したガラスクロスに塗布し300°Cの炉内で90秒加熱して、触媒体を得た。無光下メチレンブルー分解迅速試験値を測定し、90であった。実施例5厚さ0.26mmのナイロン不織布質量:40g/m2,ユニチカ製ナイエースP0403WTOを基材とし、これにシュウ酸チタニルアンモニウムTKC-305の水溶液10gに20シリカゾルスノーテックスOを20g及び50リン酸アルミニウム0.5gを加え、精製水で3倍に希釈した水性処理液を塗布し、120°Cの炉中で3分乾燥して触媒体を得た。無光下メチレンブルー分解迅速試験値を算出したところ82であった。実施例6厚さ0.2mmの55アルミニウム-43亜鉛合金厚さ7μmを溶融めっきした鋼板に20シリカゾルスノーテックスOを塗布後、200°Cのマッフル炉に入れ30秒加熱して二酸化ケイ素の下地付き基材とした。シュウ酸チタニルアンモニウムTKC-305の水溶液10gに20のシリカゾルスノーテックスOを14g、50リン酸アルミニウムを1g配合した水性塗布剤を塗布後、300°Cの炉に入れ90秒後に取り出し触媒体を得た。無光下メチレンブルー分解迅速試験値を算出したところ92であった。実施例7厚さ0.4mm、の2.5Mg-Alアルミニウム合金板を基材とし、これに非晶質シリカ20シリカゾルスノーテックスCを塗布し200°Cのマッフル炉に入れ90秒後に取り出し、二酸化ケイ素の下地層付き基材とした。チタンテトライソプロポキシドTiC3H7O4:100gを9シュウ酸COOH2、濃度10.4のイソプロピルアルコール及び濃度9.8のシュウ酸チタンを含む水溶液114gを作成した。このシュウ酸チタン水溶液10gに対し、濃度20シリカゾルスノーテックスO20gを配合して水性処理液とした。この水性処理液を前記二酸化ケイ素の下地層付き基材に塗布した後、400°Cのマッフル炉に装入して、90秒保持し、触媒体を得た。無光下メチレンブルー分解迅速試験値を算出したところ96であった。実施例8実施例7により得られた触媒体の抗ウイルス性について下記の試験を行った。記本触媒担持板を30x30mmに切断し、180°C30分滅菌したのちSindbisウイルス液50μlを滴下し、ポリプロピレン膜で覆い、30秒、5分、15分、45分室温処理した後にPBS2mlでウイルスを回収し、ウイルス力価の測定を行った。結果は30秒で約80が、45分後には殆どすべてが不活化することが判明した。抗ウイルス試験に用いた試験片を室内で自然乾燥したのち、再び同じ抗ウイルス試験を実施したところ殆ど同じ結果が得られた。このことは本触媒が保有する正孔がウイルス液中で一旦失われても自然乾燥により回復することを示しており、本触媒を担持する基材が繰り返し使用できることが証明された。実施例9太さ1μm以下の極細ガラス繊維の湿式不織布のガラスクロス厚さ0.65mm、質量90g/m2のAGMペーパー、日本板硝子製を基材とし、これに濃度20のシリカゾルスノーテックスOを精製水で3倍に希釈して塗布した後、200°Cのマッフル炉に装入し、90秒保持し、二酸化ケイ素の下地層を有するガラスクロスとした。乳酸チタン44、IPA43、残部水の水溶液オルガチックスTC―31010gを精製水で3倍に希釈、85リン酸を0.7g、20シリカゾルスノーテックスOを30g配合した処理液を塗布して200°Cの炉内で90秒処理した。無光下メチレンブルー分解迅速試験値を測定したところ89であった。実施例10厚さ0.38mmのコットン不織布質量60g/m2ユニチカ製、商標:コットエースC60SA01を基材とした。シュウ酸チタニルアンモニウムTiO2換算5TKC-30510gに非晶質シリカゾルスノーテックスO10g及び50リン酸アルミニウム0.5gを加え、精製水で3倍に希釈して水性処理塗布液とした。これを前記コットン不織布に塗布した後、120°Cの炉中で3分乾燥して触媒体を得た。無光下メチレンブルー分解迅速試験値を算出、87であった。同じ本触媒担持コットン不織布を5日間水道水に浸漬し、自然乾燥後に無光下メチレンブルー分解迅速試験を行ったところ86とほぼ同じ値が得られ、耐水性を有することが実証されたた。上記のように本発明に係る触媒体は、無光下メチレンブルー迅速測定試験結果から理解されるとおり、無光下で機能する触媒としての作用を呈し、有機物のC-N結合、特に、そのC-N結合の解離反応に寄与し、これによって水中汚染物質の分解作用、さらには、殺菌作用や抗ウイルス不活化作用が生ずる。また、NOXやSOXの酸化触媒として作用し、それにより環境汚染物質の無害化が期待される。本発明はかかる効果を利用して、抗ウイルス性のある衛生マスク、抗菌クロス、エアフイルターなど多くの新しい製品が生み出される可能性が大きい。また従来から光源の設置が不可能という理由で光触媒の採用が見送られてきた、空気調和機エアコンのフインやフイルターなどにも適用が可能になった。これらは基材として繊維の織布、不織布を用いた用途であるが、大気中の室温で自然乾燥することから浴室の壁や天井に塗布して黴発生の防止にも利用できる。本触媒を担持した金属板を回転させながら水に浸漬、乾燥を繰り返すと薬品を使わずに水中のウイルスの不活化、細菌の殺菌ができるので漁業、農業にも貢献できる。"