"下記一般式1で示される第三級αトリフルオロメチルケトンに誘導体。式中,R1及びR2は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アラルキル基,アルキニル基,アリール基,又はアリールオキシ基を示す。なおR1およびR2が一体となって,ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。下記一般式2で示されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルをPdC触媒存在下,水素添加反応による脱炭酸反応により前記一般式1で示される第三級αトリフルオロメチルケトン誘導体を製造する方法。式中,R1及びR2は前記一般式1記載の通りである。本発明は上記点に鑑みて,簡便に,かつ高収率に第三級α‐トリフルオロメチルケトン誘導体の製造方法を開発することを目的とする。上記目的を達成するため,発明者らは下記一般式2で示されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルをPdC触媒存在下,水素添加反応による脱炭酸反応により下記一般式1で示される第三級αトリフルオロメチルケトンに誘導することに成功した。すなわち請求項1に記載の発明は,下記一般式1で表される第三級αトリフルオロメチルケトン誘導体にある。式中,R1及びR2は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アラルキル基,アルキニル基,アリール基,又はアリールオキシ基を示す。なおR1およびR2が一体となって,ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。また、本発明の第三級α‐トリフルオロメチルケトン誘導体の製造方法は請求項2に示すとおり上記一般式1で表される第三級αトリフルオロメチルケトン誘導体の合成法であって,下記一般式2で表されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルをPdC触媒存在下,水素添加反応による脱炭酸反応を行う工程を備えることを特徴とする製造方法にある。式中,R1及びR2は式1記載の通りである。本明細書において,R1,及びR2が示すアルキル基としては,例えば,炭素数1乃至20程度のアルキル基を用いることができる。具体的には,メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,ヘプチル基,オクチル基,ノニル基,デシル基,ウンデシル基,ドデシル基,トリデシル基,テトラデシル基,ペンタデシル基,ヘキサデシル基,ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基,イコシル基,又はこれらの環状アルキル基,分鎖アルキル基などを用いることができる。アルキル基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。R1,及びR2が示すアルケニル基又はアルキニル基に含まれる不飽和結合の数は特に限定されないが,好ましくは1乃至2個程度である。該アルケニル基又はアルキニル基は,直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよい。R1,及びR2が示すアラルキル基は,例としてベンジル基,ペンタフルオロベンジル基,o-メチルベンジル基,m-メチルベンジル基,p-メチルベンジル基,p-ニトロベンジル基,ナフチルメチル基,フルフリル基,α-フェネチル基等が挙げられる。R1,及びR2が示すアリール基としては,ヘテロアリール基も含有し,具体例としては,例えば炭素数2~30のアリール基,具体的にはフェニル基,ナフチル基,アンスラニル基,ピレニル基,ビフェニル基,インデニル基,テトラヒドロナフチル基,ピリジル基,ピリミジニル基,ピラジニル基,ピリダニジル基,ピペラジニル基,ピラゾリル基,イミダゾリル基,キニリル基,ピロリル基,インドリル基,フリル基などが挙げることができる。R1,及びR2が示すアリールオキシ基としては,ヘテロアリールオキシ基も含有し,具体例としては,例えば炭素数2~30のアリール基,具体的にはフェニルオキシ基,ナフチルオキシ基,アンスラニルオキシ基,ピレニルオキシ基,ビフェニルオキシ基,インデニルオキシ基,テトラヒドロナフチルオキシ基,ピリジルオキシ基,ピリミジニルオキシ基,ピラジニルオキシ基,ピリダニジルオキシ基,ピペラジニルオキシ基,ピラゾリルオキシ基,イミダゾリルオキシ基,キニリルオキシ基,ピロリルオキシ基,インドリルオキシ基,フリルオキシ基などが挙げることができる。R1,及びR2を組み合わせて形成されうる前記環状構造の例としては,3員環から20員環でなる単環,双環,またはそれ以上の多環の構造を示すことができる。これらの環状構造はヘテロ原子を有してもよい。アルキル基又はアルキル部分を含む置換基例えば,アルコキシ基,アルキルチオ基,アルコキシカルボニル基などのアルキル部分,アリール基又はアリール部分を含む置換基のアリール部分は,フッ素原子,塩素原子,臭素原子,及びヨウ素原子からなる群から選ばれる1又は2個以上のハロゲン原子有していてもよく,2個以上のハロゲン原子が置換している場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。アルキル基又はアルキル部分を含む置換基例えば,アルコキシ基,アルキルチオ基,アルコキシカルボニル基などのアルキル部分,アリール基又はアリール部分を含む置換基のアリール部分は,アルキル基又はアルキル部分を含む置換基例えば,アルコキシ基,アルキルチオ基,アルコキシカルボニル基などからなる群から選ばれる1又は2個以上の置換基を有していてもよく2個以上の置換基が置換している場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。R1,及びR2はそれぞれ独立に上記に定義されたいずれかの置換基を示すが,全部が同一の置換基であってもよい。本発明の化合物の光学異性体又はジアステレオ異性体などの立体異性体はいずれも本発明の範囲に包含される。また,立体異性体の任意の混合物,ラセミ体なども本発明の範囲に包含される。本発明の第三級α‐トリフルオロメチルケトン誘導体及びその製造法は特に限定されないが,前記式2で表されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルに対して,水素雰囲気下,PdC触媒をもちいて,溶媒中で反応させることによって前記式1の第三級α‐トリフルオロメチルケトン誘導体を製造することができる。前記式2で表されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルは特に限定されないが,非特許文献4,5などによって合成されるα‐トリフルオロメチル‐β‐ケトエステルなどを用いることができる。NoritakeSShibataNNakamuraSToruTShiro,MEurJOrgChem20083465MatsnevANoritakeSNomuraYTokunagaENakamuraSShibataNAngewChemIntEd201049572溶媒の種類は特に限定されないが,ジエチルエーテル,ジイソプロピルエーテル,n-ブチルメチルエーテル,tert-ブチルメチルエーテル,テトラヒドロフラン,ジオキサン等のエーテル系溶媒;ヘプタン,ヘキサン,シクロペンタン,シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒;クロロホルム,四塩化炭素,塩化メチレン,ジクロロエタン,トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ベンゼン,トルエン,キシレン,クメン,シメン,メシチレン,ジイソプロピルベンゼン,ピリジンピリミジンピラジンピリダジン等の芳香族系溶媒;酢酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン,メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;アセトニトリル,ジメチルスルホキシド,ジメチルホルムアミド等の溶媒;メタノールエタノールプロパノール,iプロピルアルコール,アミノエタノール,NNジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒;水,超臨界二酸化炭素,イオン性液体が挙げられるが,アセトニトリルが最も好ましい。これらは単独で使用し得るのみならず,2種類以上を混合して用いることも可能である。前記式1の製造は加圧下に行うこともできるが,通常は常圧で行う。反応温度は-80°Cから溶媒の沸点までの間で行うことができるが,好ましくは-20°C乃至室温付近である。反応後、前記式1で示される第三級α‐トリフルオロメチルケトン誘導体は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ,例えば反応液を濃縮した後,蒸留精製またはシリカゲル,アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製,塩析,再結晶等が挙げられる。以下,実施形態により本発明をさらに具体的に説明するが,本発明の範囲は下記の実施形態に限定されることはない。第1実施形態前記式1の一般的な製造方法非特許文献4もしくは5によって合成したαトリフルオロメチルβケトエステル2aのアセトニトリル50ml溶液に10wtPdCを加え,アスピレーターを用いて反応系中を十分窒素置換した後,アスピレーターを用いて反応系中を水素置換した。室温下20時間撹拌し,反応溶液をセライトろ過した後,減圧下,溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のトリフルオロメチル化体1aを白色固体として得た。Compound1a2--2,3-ジヒドロインデン-1-オン1HNMRδ780765753738353323ppm19FNMRδ677ppm13CNMRδ197181524213966136161285512686125291251050112796ppm第2実施形態非特許文献4もしくは5によって合成したαトリフルオロメチルβケトエステル2bのアセトニトリル50ml溶液に10wtPdCを加え,アスピレーターを用いて反応系中を十分窒素置換した後,アスピレーターを用いて反応系中を水素置換した。室温下20時間撹拌し,反応溶液をセライトろ過した後,減圧下,溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のトリフルオロメチル化体1bを白色固体として得た。Compound1b2--2,3-ジヒドロ-5,6-ジメトキシインデン-1-オン1HNMRδ719690398391347314ppm19FNMRδ679ppm13CNMRδ19568156801504414814129131254510755105155679565850392771ppm第3実施形態非特許文献4もしくは5によって合成したαトリフルオロメチルβケトエステル2cのアセトニトリル50ml溶液に10wtPdCを加え,アスピレーターを用いて反応系中を十分窒素置換した後,アスピレーターを用いて反応系中を水素置換した。室温下20時間撹拌し,反応溶液をセライトろ過した後,減圧下,溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のトリフルオロメチル化体1cを黄色油状物として得た。Compound1c2--3,4-ジヒドロナフタレン-12H-オン1HNMRδ805751737725338316312297257243237217ppm19FNMRδ675ppm13CNMRδ1905714341134541323112912128251274812541512527892379ppm第4実施形態非特許文献4もしくは5によって合成したαトリフルオロメチルβケトエステル2dのアセトニトリル60ml溶液に10wtPdCを加え,アスピレーターを用いて反応系中を十分窒素置換した後,アスピレーターを用いて反応系中を水素置換した。室温下20時間撹拌し,反応溶液をセライトろ過した後,減圧下,溶媒を留去し,残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的のトリフルオロメチル化体1dを油状物として得た。Compound1d2--1-フェニルプロパ-1-オン1HNMRδ796766761754749427148ppm19FNMRδ688ppm13CNMRδ19477136041343512927128961256644641204ppm"