ガラス成分、樹脂成分および溶剤を含み、前記樹脂成分はアクリル樹脂成分を含有し、前記溶剤は、第1の溶剤および、前記第1の溶剤と沸点が異なる2種類以上の溶剤を含み、前記第1の溶剤は、沸点が250°C以上であり、前記溶剤全体に対し15重量~80重量である、プラズマディスプレイパネルの誘電体ペースト。請求項1に記載の誘電体ペーストを用いて形成した誘電体層を有するプラズマディスプレイパネル。近年、PDPは従来のNTSC方式に比べて走査線数が2倍以上のハイディフィニションテレビへの適用が進んでいる。このようなハイビジョン化によって、走査線数が増加して表示電極の数が増加し、さらに表示電極間隔が小さくなる。そのため、表示電極を被覆する誘電体層も小さくなった表示電極間隔に空隙などなく、また膜表面が平滑に形成される必要がある。空隙や膜表面欠陥などが存在した場合、誘電体層に求められる絶縁耐圧特性が低下してしまう。一方、PDPの高効率化といった観点からは前面板の誘電体層の誘電率が低いことが望ましい。誘電体層の誘電率が低いと、紫外線の発生効率が向上し、PDPの低電力化に寄与するからである。ここで、誘電体層のガラス組成に重元素であるBiを除くことで誘電率5~7程度の低誘電率を得ることができる。しかし、Biを除くことにより、ガラスの転移点や屈伏点、軟化点といった各種物性温度の上昇もみられる。このような物性温度差が大きいガラスをロングなガラスと呼ぶ。軟化点が高いガラス組成の場合、誘電体層の焼成に有する焼成温度も高透過率を得るために高温焼成が必要となり、焼成に有するエネルギー量も多く必要となる。また、従来は、焼成工程の中でガラスの焼結を進行促進させる部分の温度は表示電極中の残留有機物などからのガス発生を抑制するため、軟化点付近の温度で可能な限り低い温度で焼成を行っていたが、低誘電率組成のガラスは物性温度間の温度差が大きいロングなガラスであるため、この温度では十分な焼結が得られず、膜表面欠陥を生じさせる場合がある。膜表面欠陥部分では耐圧が不足し、点灯時に耐圧不良を引き起こす原因となる。本発明は、このような課題を解決して、高精細表示でも、高輝度、高信頼性を確保し、さらに環境問題に配慮したPDPを実現することを目的としている。上記の目的を達成するために、本発明の誘電体ペーストは、ガラス成分、樹脂成分および溶剤を含み、前記樹脂成分はアクリル樹脂成分を含有し、前記溶剤は、第1の溶剤および、前記第1の溶剤と沸点が異なる2種類以上の溶剤を含み、前記第1の溶剤は、沸点が250°C以上であり、前記溶剤全体に対し15重量~80重量であることを特徴としている。そして本発明のPDPはこの誘電体層ペーストによって形成した誘電体層を有している。以上のように、本発明によれば、高信頼性を確保し、さらに環境問題に配慮したPDPを実現することができる。以下、本発明の実施の形態におけるPDPについて図面を用いて説明する。実施の形態図1は本発明の実施の形態におけるPDPの構造を示す斜視図である。PDPの基本構造は、一般的な交流面放電型PDPと同様である。図1に示すように、PDP1は前面ガラス基板3などよりなる前面板2と、背面ガラス基板11などよりなる背面板10とが対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたPDP1内部の放電空間16には、NeおよびXeなどの放電ガスが55kPa~80kPaの圧力で封入されている。前面板2の前面ガラス基板3上には、走査電極4および維持電極5よりなる一対の帯状の表示電極6とブラックストライプ遮光層7が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板3上には表示電極6と遮光層7とを覆うようにコンデンサとしての働きをする誘電体層8が形成され、さらにその表面に酸化マグネシウムMgOなどからなる保護層9が形成されている。また、背面板10の背面ガラス基板11上には、前面板2の走査電極4および維持電極5と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極12が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層13が被覆している。さらに、アドレス電極12間の下地誘電体層13上には放電空間16を区切る所定の高さの隔壁14が形成されている。隔壁14間の溝にアドレス電極12毎に、紫外線によって赤色、青色および緑色にそれぞれ発光する蛍光体層15が順次塗布して形成されている。走査電極4および維持電極5とアドレス電極12とが交差する位置に放電セルが形成され、表示電極6方向に並んだ赤色、青色、緑色の蛍光体層15を有する放電セルがカラー表示のための画素になる。図2は、本発明の実施の形態におけるPDPの誘電体層8の構成を示す前面板2の断面図である。図2は図1と上下反転させて示している。図2に示すように、フロート法などにより製造された前面ガラス基板3に、走査電極4と維持電極5よりなる表示電極6とブラックストライプ7がパターン形成されている。走査電極4と維持電極5はそれぞれインジウムスズ酸化物ITOや酸化スズSnO2などからなる透明電極4a、5aと、透明電極4a、5a上に形成された金属バス電極4b、5bとにより構成されている。金属バス電極4b、5bは透明電極4a、5aの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀Ag材料を主成分とする導電性材料によって形成されている。誘電体層8は、前面ガラス基板3上に形成されたこれらの透明電極4a、5aと金属バス電極4b、5bとブラックストライプ7を覆って形成し、さらに誘電体層8上に保護層9を形成している。次に、PDPの製造方法について説明する。まず、前面ガラス基板3上に、走査電極4および維持電極5と遮光層7とを形成する。これらの透明電極4a、5aと金属バス電極4b、5bは、フォトリソグラフィ法などを用いてパターニングして形成される。透明電極4a、5aは薄膜プロセスなどを用いて形成され、金属バス電極4b、5bは銀Ag材料を含むペーストを所望の温度で焼成して固化している。また、遮光層7も同様に、黒色顔料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料をガラス基板の全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することにより形成される。次に、走査電極4、維持電極5および遮光層7を覆うように前面ガラス基板3上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層誘電体材料層を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布された誘電体ペースト表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極4、維持電極5および遮光層7を覆う誘電体層8が形成される。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料、バインダおよび溶剤を含む塗料である。次に、誘電体層8上に酸化マグネシウムMgOからなる保護層9を真空蒸着法により形成する。以上の工程により前面ガラス基板3上に所定の構成物走査電極4、維持電極5、遮光層7、誘電体層8、保護層9が形成され、前面板2が完成する。一方、背面板10は次のようにして形成される。まず、背面ガラス基板11上に、銀Ag材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりアドレス電極12用の構成物となる材料層を形成し、それを所望の温度で焼成することによりアドレス電極12を形成する。次に、アドレス電極12が形成された背面ガラス基板11上にダイコート法などによりアドレス電極12を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層13を形成する。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料とバインダおよび溶剤を含んだ塗料である。次に、下地誘電体層13上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布して所定の形状にパターニングすることにより、隔壁材料層を形成した後、焼成することにより隔壁14を形成する。ここで、下地誘電体層13上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。次に、隣接する隔壁14間の下地誘電体層13上および隔壁14の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層15が形成される。以上の工程により、背面ガラス基板11上に所定の構成部材を有する背面板10が完成する。このようにして所定の構成部材を備えた前面板2と背面板10とを走査電極4とアドレス電極12とが直交するように対向配置して、その周囲をガラスフリットで封着し、放電空間16にNe、Xeなどを含む放電ガスを封入することによりPDP1が完成する。次に、前面板2の誘電体層8について詳細に説明する。前述したように、誘電体層は、高耐電圧を要求されるが、一方で高光透過率を有することを要求される。この特性は誘電体層に含まれるガラス成分の組成に大きく左右される。誘電体層のガラス組成において、重元素であるBiを除くことで誘電率5~7程度の低誘電率を得ることができるが、Biを除くことにより、ガラスの転移点や屈伏点、軟化点といった各種物性温度の上昇もみられる。このような物性温度差が大きいガラスをロングなガラスと呼ぶ。軟化点が高いガラス組成の場合、誘電体層の焼成に有する焼成温度も高透過率を得るために高温焼成が必要となり、焼成に有するエネルギー量も多く必要となる。また、従来は、焼成工程の中でガラスの焼結を進行促進させる部分の温度は表示電極中の残留有機物などからのガス発生を抑制するため、軟化点付近の温度で可能な限り低い温度で焼成を行っていたが、低誘電率組成のガラスは物性温度間の温度差が大きいロングなガラスであるため、この温度では十分な焼結が得られず、膜表面欠陥を生じさせる場合がある。膜表面欠陥部分では耐圧が不足し、点灯時に耐圧不良を引き起こす原因となる。ところで、誘電体ペーストを用いて誘電体層を形成する場合、膜表面欠陥の一部は、その乾燥工程中に発生している。これは、誘電体ペースト中に含有される溶剤が乾燥時に突沸し、乾燥膜表面に欠陥を生じさせるものである。このような膜表面欠陥は、数μm程度のサイズの小穴形状であるため、焼成工程におけるガラス焼結で塞がるものであり、焼成温度を上げるなどの焼結促進により低減させることが可能であるが、軟化点が高くロングなガラスの場合は、上述の課題のために、膜表面欠陥の低減が困難である。また、この膜表面欠陥は、その乾燥時のレベリング作用の促進によっても低減させることが可能であるが、低誘電率のガラス組成では、乾燥レベリング性が悪化するため、乾燥工程での膜表面欠陥低減も困難となる。低誘電率のガラス組成での乾燥レベリング性が悪化の理由は以下の通りである。低誘電率のガラス組成の場合、ガラス比重が小さいため、従来の塗工手段を用いて層形成するには、ペースト組成中の有機成分を大きく増やす必要があるが、溶剤のみによる補填では、乾燥工程で十分に乾燥させることが困難となるため望ましくない。また、溶剤突沸による膜表面欠陥増大の原因ともなる。一方で、樹脂成分により補填する場合は、エチルセルロース樹脂成分のみを増量させるとペースト粘度上昇による塗工困難性を招くため、ペースト粘度上昇を抑えやすいアクリル樹脂成分も含有させることが望ましいが、アクリル樹脂はエチルセルロース樹脂より表面張力が大きく、塗工膜の表面形状を保ちやすいため、結果として、乾燥レベリング性が悪化する。このような課題に対し、本発明の実施の形態では、誘電体層8を形成する工程で使用する誘電体ペーストがガラス成分、樹脂成分および溶剤を含み、樹脂成分はアクリル樹脂成分を含有し、溶剤は、第1の溶剤および、第1の溶剤と沸点が異なる2種類以上の溶剤を含み、前記第1の溶剤は、沸点が250°C以上であり、前記溶剤全体に対し15重量~80重量であることを特徴としている。これにより、上記の膜表面欠陥が低減でき、表示品位を損なわない。一般的に使用されている溶剤には、ターピネオールやブチルカルビトールアセテートが挙げられ、それぞれ沸点は、219°C、243°Cである。膜欠陥低減には、先に挙げた溶剤の沸点以上の溶剤を含む必要があるため、250°C以上とした。また、沸点が250°C以上の溶剤の含有率については、膜表面欠陥の低減効果が現れる最低限の含有率として15重量を下限とする。一方で、乾燥膜中の残存溶剤量が多い場合は、乾燥膜中に膜厚ムラを発生させ、表示品位を損なう可能性があるため、乾燥膜中の残存溶剤量が5重量以下となることが望ましい。そのため、沸点が250°C以上の溶剤の含有率は80重量以下を上限とする。このような現象について、発明者等は次のように考察している。上記の異なる3種類の沸点の溶剤が混合していることで、各溶剤の沸騰するタイミングが分散され、結果として、溶剤突沸による膜欠陥発生を低減させている。また、乾燥時に溶剤が高温状態になり気化するまでの低粘度の状態の時間が長くなるため、乾燥時のレベリング性が促進され、膜欠陥を低減させている。次に、本発明の実施の形態における前面板2の誘電体層8の製造方法について詳細に説明する。誘電体層8に含まれる誘電体ガラス材料は、鉛Pb系成分以外のを主成分とし、さらに酸化銅CuOやR2ORはLi、Na、K、RbおよびCsから選ばれる少なくとも1種を含有する材料組成により構成されている。これらの組成成分からなる誘電体材料を、湿式ジェットミルやボールミルで平均粒径が0.5μm~3.0μmとなるように粉砕して誘電体材料粉末を作製する。次にこの誘電体材料粉末35重量~65重量と、バインダ成分35重量~65重量とを三本ロールでよく混練してダイコート用あるいは印刷用の誘電体層用ペーストを作製する。バインダ成分中の樹脂成分としては、アクリル樹脂を必ず含有し、エチルセルロースと併せて1重量~25重量を含む。バインダ成分中の溶剤成分としては、沸点250°C未満の溶剤を全溶剤中の20重量~85重量含み、沸点250°C以上の溶剤を全溶剤中の15重量~80重量を含む。また、誘電体ペーストに含まれる溶剤は3種類以上で構成されている。沸点250°C未満の溶剤としてはターピネオールもしくはブチルカルビトールアセテートBCAなどが挙げられ、沸点250°C以上の溶剤としてはフェニルジグリコールPhDG、ターピニルオキシエタノールTOE、テキサノールなどが挙げられるが、α-、β-、γ-テルピネオールなどのテルペン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、トリプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールジアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールトリアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、トリプロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、トリプロピレングリコールトリアルキルエーテルアセテート類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1-ブタノールなどのアルコール類等も適宜選択できる。また、ペースト中には、必要に応じて可塑剤としてフタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルを添加し、分散剤としてグリセロールモノオレート、ソルビタンセスキオレヘート、ホモゲノールKaoコーポレーション社製品名、アルキルアリル基のリン酸エステルなどを添加して印刷性を向上させてもよい。次に、この誘電体層用ペーストを用い、表示電極6を覆うように前面ガラス基板3にダイコート法あるいはスクリーン印刷法で印刷して乾燥させ、その後、誘電体材料の軟化点より少し高い温度の575°C~600°Cで焼成する。発明者等は本発明の効果を確認するため、表1に示す試料について実施例を評価した。上記に示すような溶剤を2~3種類含有する溶剤を用いて誘電体ペーストを作製し、このペーストによって誘電体層およびそれを有するPDPを形成し、そのPDP膜欠陥の個数を評価した。なお、誘電体焼成膜表面の膜欠陥個数に関しては、膜表面を形状測定レーザマイクロスコープ株式会社キーエンス製VK9510にて撮影し、撮影画像を二値化処理することにより、単位面積あたりの欠陥個数密度を測定している。同表に示すように、試料1~試料5では、42インチ画面サイズあたりの膜欠陥個数が比較的少なく良好な結果を示している。これは、沸点が250°C以上の溶剤と、それと異なる沸点の溶剤とを含む誘電体ペーストであることで、各溶剤の沸騰するタイミングが分散され、乾燥後の誘電体膜中の残存溶剤量が比較的多くなり、この結果、溶剤突沸による膜欠陥発生を低減させている。一方で上記の条件を満たさない試料6~試料8では膜欠陥の個数が多く良好な誘電体層が得られていない。なお、誘電体層8の膜厚が小さいほどパネル輝度の向上と放電電圧を低減するという効果は顕著になるので、絶縁耐圧が低下しない範囲内であればできるだけ膜厚を小さく設定するのが望ましい。このような条件と可視光透過率の観点から、本発明の実施の形態では、誘電体層8の膜厚を41μm以下に設定している。また、鉛成分、ビスマス成分について実質的に含有しないというのは、不純物等で鉛成分またはビスマス成分を含んだ誘電体層についても本願発明に相当すると考える。