"基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第1方向に対して垂直である第2方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を含み、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第1方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、一体に形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置。前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項2に記載の薄膜蒸着装置。前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項2に記載の薄膜蒸着装置。前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離ほど離隔されるように形成されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第1方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に配され、前記蒸着源から放射される前記蒸着物質のうち少なくとも一部を遮断する補正板をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。前記補正板は、蒸着される薄膜の厚みが、実質的に同一に形成されるように備わることを特徴とする請求項8に記載の薄膜蒸着装置。前記補正板は、前記パターニングスリットシートの中心から遠ざかるほど、高さが低く形成されることを特徴とする請求項8に記載の薄膜蒸着装置。前記補正板は、円弧またはコサイン曲線の形状に形成されることを特徴とする請求項10に記載の薄膜蒸着装置。前記補正板は、前記パターニングスリットシートの中心での前記蒸着物質の遮断量が、前記パターニングスリットシートの端部での前記蒸着物質の遮断量より多いように形成されることを特徴とする請求項8に記載の薄膜蒸着装置。前記複数個のパターニングスリットは、互いに異なる長さを有するように形成されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。前記複数個のパターニングスリットは、蒸着される薄膜の厚みが実質的に同一に形成されるように備わることを特徴とする請求項13に記載の薄膜蒸着装置。前記各パターニングスリットの長さによって、前記基板上に蒸着される蒸着物質の蒸着量が制御されることを特徴とする請求項13に記載の薄膜蒸着装置。前記パターニングスリットシートの中心部分の前記パターニングスリットの長さが、前記パターニングスリットシートの両端部の前記パターニングスリットの長さより短く形成されることを特徴とする請求項13に記載の薄膜蒸着装置。前記複数個の蒸着源ノズルは、所定角度でチルトされるように形成されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第1方向に沿って形成された2列の蒸着源ノズルを含み、前記2列の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトされていることを特徴とする請求項17に記載の薄膜蒸着装置。前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第1方向に沿って形成された2列の蒸着源ノズルを含み、前記2列の蒸着源ノズルのうち第1側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第2側端部を向くように配され、前記2列の蒸着源ノズルのうち第2側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第1側端部を向くように配されることを特徴とする請求項17に記載の薄膜蒸着装置。前記蒸着源は、ホスト物質を放射する第1蒸着源と、前記第1蒸着源の一側に配され、ドーパント物質を放射する第2蒸着源と、を含むことを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。前記第1蒸着源から放射される前記ホスト物質の少なくとも一部と、前記第2蒸着源から放射される前記ドーパント物質の少なくとも一部とが混合されることを特徴とする請求項20に記載の薄膜蒸着装置。前記第1蒸着源と前記第2蒸着源は、前記第1方向に沿って平行に配されることを特徴とする請求項20に記載の薄膜蒸着装置。前記蒸着源ノズル部は、前記第1蒸着源の一側に配され、前記第1方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される第1蒸着源ノズル部と、前記第2蒸着源の一側に配され、前記第1方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される第2蒸着源ノズル部と、を含むことを特徴とする請求項22に記載の薄膜蒸着装置。前記第1蒸着源ノズル部及び前記第2蒸着源ノズル部それぞれの複数個の蒸着源ノズルは、所定角度でチルトされるように形成されることを特徴とする請求項21に記載の薄膜蒸着装置。前記第1蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルと、前記第2蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトされていることを特徴とする請求項24に記載の薄膜蒸着装置。前記第1蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルと、前記第2蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルは、前記基板全体にわたって、前記ホスト物質と前記ドーパント物質との混合比率が均一になるようにチルトされていることを特徴とする請求項24に記載の薄膜蒸着装置。前記第1蒸着源と前記第2蒸着源は、それぞれ線形ソースとして形成されることを特徴とする請求項24に記載の薄膜蒸着装置。前記第1蒸着源は、線形ソースとして形成され、前記第2蒸着源は、一つ以上の点ソースとして形成されることを特徴とする請求項20に記載の薄膜蒸着装置。前記第1蒸着源は、複数個の点ソースとして形成され、前記第2蒸着源は、一つ以上の点ソースとして形成され、前記第1蒸着源を構成する複数個の点ソースは、回転自在なリボルバ形態に形成されることを特徴とする請求項20に記載の薄膜蒸着装置。前記薄膜蒸着装置は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートから構成された薄膜蒸着アセンブリを複数個具備することを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、前記薄膜蒸着装置は、複数個の薄膜蒸着アセンブリを含み、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリそれぞれは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第1方向に対して垂直である第2方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を含み、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第1方向に沿って移動しつつ蒸着が行われることを特徴とする薄膜蒸着装置。前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、一体に形成されることを特徴とする請求項31に記載の薄膜蒸着装置。前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項32に記載の薄膜蒸着装置。前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項33に記載の薄膜蒸着装置。前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項33に記載の薄膜蒸着装置。前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離ほど離隔されるように形成されることを特徴とする請求項31に記載の薄膜蒸着装置。前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第1方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されることを特徴とする請求項31に記載の薄膜蒸着装置。前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項31に記載の薄膜蒸着装置。前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源には、別個の蒸着物質がそれぞれ備わることを特徴とする請求項31に記載の薄膜蒸着装置。前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源に備わった各蒸着物質が、同時に前記基板上に蒸着されることを特徴とする請求項31に記載の薄膜蒸着装置。前記薄膜蒸着アセンブリは、少なくとも三つが備わり、前記少なくとも3つの薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源に備わる蒸着物質は、それぞれ赤色発光層材料、緑色発光層材料及び青色発光層材料であることを特徴とする請求項31に記載の薄膜蒸着装置。前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源は、各蒸着源別に蒸着温度が制御自在に備わることを特徴とする請求項31に記載の薄膜蒸着装置。前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源は、各蒸着源別に蒸着量が制御自在に備わることを特徴とする請求項31に記載の薄膜蒸着装置。本発明は、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率歩留まり及び蒸着効率が向上した薄膜蒸着装置を提供することを目的とする。本発明は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第1方向に対して垂直である第2方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を含み、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第1方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、一体に形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。本発明において、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されうる。ここで、前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドできる。また、前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されうる。本発明において、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離ほど離隔されるように形成されうる。本発明において、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第1方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されうる。本発明において、前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されうる。本発明において、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に配され、前記蒸着源から放射される前記蒸着物質のうち少なくとも一部を遮断する補正板をさらに含むことができる。ここで、前記補正板は、蒸着される薄膜の厚みが実質的に同一に形成される。また、前記補正板は、前記パターニングスリットシートの中心から遠ざかるほど、高さが低く形成されうる。ここで、前記補正板は、円弧またはコサイン曲線の形状に形成されうる。また、前記補正板は、前記パターニングスリットシートの中心での前記蒸着物質の遮断量が、前記パターニングスリットシートの端部での前記蒸着物質の遮断量より多いように形成されうる。本発明において、前記複数個のパターニングスリットは、互いに異なる長さを有するように形成されうる。ここで、前記複数個のパターニングスリットは、蒸着される薄膜の厚みが実質的に同一に形成されるように備わりうる。また、前記各パターニングスリットの長さによって、前記基板上に蒸着される蒸着物質の蒸着量が制御されうる。さらにまた、前記パターニングスリットシートの中心部分の前記パターニングスリットの長さが、前記パターニングスリットシートの両端部の前記パターニングスリットの長さより短く形成されうる。本発明において、前記複数個の蒸着源ノズルは、所定角度でチルトされるように形成されうる。ここで、前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第1方向に沿って形成された2列の蒸着源ノズルを含み、前記2列の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトされうる。また、前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第1方向に沿って形成された2列の蒸着源ノズルを含み、前記2列の蒸着源ノズルのうち第1側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第2側端部を向くように配され、前記2列の蒸着源ノズルのうち第2側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第1側端部を向くように配されうる。本発明において、前記蒸着源は、ホスト物質を放射する第1蒸着源と、前記第1蒸着源の一側に配され、ドーパント物質を放射する第2蒸着源と、を含むことができる。ここで、前記第1蒸着源から放射される前記ホスト物質の少なくとも一部と、前記第2蒸着源から放射される前記ドーパント物質の少なくとも一部とが混合されうる。また、前記第1蒸着源と前記第2蒸着源は、前記第1方向に沿って平行に配されうる。また、前記蒸着源ノズル部は、前記第1蒸着源の一側に配され、前記第1方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される第1蒸着源ノズル部と、前記第2蒸着源の一側に配され、前記第1方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される第2蒸着源ノズル部とを含むことができる。また、前記第1蒸着源ノズル部及び前記第2蒸着源ノズル部それぞれの複数個の蒸着源ノズルは、所定角度でチルトされるように形成されうる。ここで、前記第1蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルと、前記第2蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトできる。また、前記第1蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルと、前記第2蒸着源ノズル部の蒸着源ノズルは、前記基板全体にわたって、前記ホスト物質と前記ドーパント物質との混合比率が均一になるようにチルトされうる。また、前記第1蒸着源と前記第2蒸着源は、それぞれ線形ソースlinearsourceとして形成されうる。また、前記第1蒸着源は、線形ソースとして形成され、前記第2蒸着源は、一つ以上の点ソースpointsourceとして形成されうる。さらにまた、前記第1蒸着源は、複数個の点ソースとして形成され、前記第2蒸着源は、一つ以上の点ソースとして形成され、前記第1蒸着源を構成する複数個の点ソースは、回転自在なリボルバrevolver形態に形成されうる。本発明において、前記薄膜蒸着装置は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートから構成された薄膜蒸着アセンブリを複数個具備できる。他の側面に係わる本発明は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、前記薄膜蒸着装置は、複数個の薄膜蒸着アセンブリを含み、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリそれぞれは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第1方向に対して垂直である第2方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を含み、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第1方向に沿って移動しつつ蒸着が行われることを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。本発明において、前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、一体に形成されうる。ここで、前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されうる。また、前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドできる。また、前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されうる。本発明において、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離ほど離隔されるように形成されうる。本発明において、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して、前記第1方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されうる。本発明において、前記それぞれの薄膜蒸着アセンブリの前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されうる。本発明において、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源には、別個の蒸着物質がそれぞれ備わりうる。本発明において、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源に備わった各蒸着物質が、同時に前記基板上に蒸着されうる。本発明において、前記薄膜蒸着アセンブリは、少なくとも三つが備わり、前記少なくとも3つの薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源に備わる蒸着物質は、それぞれ赤色発光層材料、緑色発光層材料及び青色発光層材料でありうる。本発明において、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源は、各蒸着源別に蒸着温度が制御自在に備わりうる。本発明において、前記複数個の薄膜蒸着アセンブリの各蒸着源は、各蒸着源別に蒸着量が制御自在に備わりうる。本発明の薄膜蒸着装置によれば、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率及び蒸着効率が向上するという効果を得ることができる。以下、添付された図面を参照しつつ、本発明による望ましい実施形態について詳細に説明する。[第1実施形態]図1は、本発明の第1実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示した斜視図であり、図2は、図1の薄膜蒸着装置の概略的な側面図であり、図3は、図1の薄膜蒸着装置の概略的な平面図である。図1、図2及び図3を参照すれば、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置100は、蒸着源110、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150を含む。ここで、図1、図2及び図3には、説明の便宜のために、チャンバを図示していないが、図1ないし図3のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。詳細には、蒸着源110から放出された蒸着物質115を、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150を通過し、基板400に所望のパターンに蒸着させようとするなら、基本的に、チャンバ図示せず内部は、ファインメタルマスクFMM蒸着法と同じ高真空状態を維持しなければならない。また、パターニングスリットシート150の温度が、蒸着源110の温度より十分に低くなければならない約100°C以下。なぜならば、パターニングスリットシート150の温度が十分に低くなってこそ、温度によるパターニングスリットシート150の熱膨張問題を最小化できるからである。このようなチャンバ図示せず内には、被蒸着体である基板400が配される。前記基板400は、平板表示装置用基板になりうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラスmotherglassのような大面積基板が適用されうる。ここで、本発明の一実施形態では、基板400が薄膜蒸着装置100に対して、相対移動を行いつつ蒸着が進められることを1つの特徴とする。詳細には、既存のFMM蒸着法では、FMMサイズが基板サイズと同一に形成されねばならない。従って、基板サイズが増大するほど、FMMも大型化されねばならず、これによってFMM製作が容易ではなく、FMMを引っ張って精密なパターンにアラインalignするのも、容易ではないという問題点が存在した。かかる問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置100は、薄膜蒸着装置100と基板400とが、互いに相対移動を行いつつ蒸着が行われることを1つの特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着装置100と向かい合うように配された基板400が、Y軸方向に沿って移動しつつ、連続して蒸着を行う。すなわち、基板400が図1の矢印A方向に移動しつつ、スキャニングscanning方式に蒸着が行われるのである。ここで、図面には、基板400がチャンバ図示せず内で、Y軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではなく、基板400は固定されており、薄膜蒸着装置100自体がY軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能である。従って、本発明の薄膜蒸着装置100では、従来のFMMに比べて、はるかに小さくパターニングスリットシート150を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着装置100の場合、基板400がY軸方向に沿って移動しつつ、連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うために、パターニングスリットシート150のX軸方向及びY軸方向の長さは、基板400の長さよりはるかに小さく形成されうるのである。このように、従来のFMMに比べて、はるかに小さくパターニングスリットシート150を設けることができるために、本発明のパターニングスリットシート150は、その製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート150のエッチング作業や、その後の精密引っ張り作業及び溶接作業、移動作業及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニングスリットシート150が、FMM蒸着法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化されるほど、さらに有利になる。このように、薄膜蒸着装置100と基板400とが互いに相対移動を行いつつ蒸着が行われるためには、薄膜蒸着装置100と基板400とが、一定程度離隔されていることが望ましい。これについては後述する。一方、チャンバ内で、前記基板400と対向する側には、蒸着物質115が収納及び加熱される蒸着源110が配される。前記蒸着源110内に収納されている蒸着物質115が気化されることによって、基板400に蒸着が行われる。詳細には、蒸着源110は、その内部に蒸着物質115が充填されるルツボ111と、ルツボ111を加熱させ、ルツボ111内部に充填された蒸着物質115をルツボ111の一側、詳細には、蒸着源ノズル部120側に蒸発させるためのヒータ112とを含む。蒸着源110の一側、詳細には、蒸着源110で基板400を向く側には、蒸着源ノズル部120が配される。そして、蒸着源ノズル部120には、Y軸方向、すなわち、基板400のスキャン方向に沿って複数個の蒸着源ノズル121が形成される。ここで、前記複数個の蒸着源ノズル121は、等間隔で形成されうる。蒸着源110内で気化された蒸着物質115は、かかる蒸着源ノズル部120を通過し、被蒸着体である基板400側に向かう。このように、蒸着源ノズル部120上に、Y軸方向、すなわち、基板400のスキャン方向に沿って複数個の蒸着源ノズル121が形成される場合、パターニングスリットシート150のそれぞれのパターニングスリット151を通過する蒸着物質によって形成されるパターンのサイズは、一つの蒸着源ノズル121だけのサイズにのみ影響を受けるのですなわち、X軸方向には、蒸着源ノズル121が一つだけ存在するのに相違ないので、陰影shadowが発生しなくなる。また、多数個の蒸着源ノズル121がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間のフラックスflux差が発生しても、その差が相殺され、蒸着均一度が一定に維持されるという効果を得ることができる。一方、蒸着源110と基板400との間には、パターニングスリットシート150及びフレーム155がさらに備わる。フレーム155は、ほぼ窓ワクのような形態に形成され、その内側に、パターニングスリットシート150が結合される。そして、パターニングスリットシート150には、X軸方向に沿って、複数個のパターニングスリット151が形成される。蒸着源110内で気化された蒸着物質115は、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150を通過し、被蒸着体である基板400側に向かうのである。このとき、前記パターニングスリットシート150は、従来のFMM、特にストライプタイプstripetypeのマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを介して製作されうる。このとき、蒸着源ノズル121の総数より、パターニングスリット151の総数がさらに多く形成されうる。一方、前述の蒸着源110及びこれと結合された蒸着源ノズル部120とパターニングスリットシート150は、互いに一定程度離隔されるように形成され、蒸着源110及びこれと結合された蒸着源ノズル部120とパターニングスリットシート150は、連結部材135によって、互いに連結されうる。すなわち、蒸着源110、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150が、連結部材135によって連結され、互いに一体に形成される。ここで、連結部材135は、蒸着源ノズル121を介して排出される蒸着物質を分散させないように、蒸着物質の移動経路をガイドできる。図面には、連結部材135が蒸着源110、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150の左右方向にのみ形成され、蒸着物質のX軸方向だけをガイドすると図示されているが、これは、図示の便宜のためであり、本発明の思想は、これに制限されるものではなく、連結部材135がボックス状の密閉型に形成され、蒸着物質のX軸方向及びY軸方向移動を同時にガイドすることもできる。前述のように、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置100は、基板400に対して、相対移動を行いつつ蒸着を行い、このように、薄膜蒸着装置100が基板400に対して相対移動を行うように、パターニングスリットシート150は、基板400から一定程度離隔されるように形成されている。詳細には、従来のFMM蒸着法では、基板に陰影を生じさせないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように、基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないために、マスクが基板と同サイズに形成されねばならない。従って、ディスプレイ装置が大型化されるにつれて、マスクのサイズも大きくならなければならないが、かかる大型マスクを形成することが容易ではないという問題点が存在した。かかる問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置100では、パターニングスリットシート150が、被蒸着体である基板400と所定間隔をおいて離隔されるように配されるのである。かかる本発明によって、マスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着を行うことが可能であり、マスク製作が容易になるという効果を得ることができる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止するという効果を得ることができる。また、工程で、基板とマスクとを密着させる時間が不要となるために、製造速度が向上するという効果を得ることができる。[第2実施形態]図4は、本発明の第2実施形態による薄膜蒸着装置のパターニングスリットシート150を示す図面である。本実施形態では、パターニングスリットシート150の一側に補正板157がさらに備わるという点で、前述の第1実施形態と区別される。詳細には、本発明の第2実施形態による薄膜蒸着装置は、基板全体の膜均一度を確保するために、補正板157をさらに具備できる。有機物放射は、コサイン法則cosinelawによって、蒸着源ノズル121図1に垂直である部分で、最も多くの有機物が放射され、パターニングスリットシート150の両端に行くほど、放射される有機物の量が減少する。従って、補正板を具備していない薄膜蒸着装置の場合、中央部分が凸型の形態を示すように蒸着膜が形成される。かかる蒸着膜厚みの不均一現象を除去するために、図4に図示されているような補正板157が、パターニングスリットシート150の一側に備わりうる。補正板157は、パターニングスリットシート150の一面上に、ほぼ円弧状またはコサイン曲線状に配される。かかる補正板157は、蒸着源ノズル121図1からパターニングスリット151図1側に移動する蒸着物質のうち一部を遮断する役割を行う。すなわち、薄膜蒸着装置によって蒸着される蒸着膜は、中央部分が凸型の形態をなすために、これを均一にするためには、中央部分に向かう蒸着物質のうち一部を遮断せねばならない。従って、補正板157を蒸着物質の移動経路の中間に配し、蒸着物質のうち一部を遮断する。このとき、補正板157は、円弧状ないしコサイン曲線状に形成されるために、相対的に突出形成された中央部分には、蒸着物質が多く衝突するようになり、蒸着物質をさらに多く遮断し、エッジ部分には、蒸着物質がさらに少なく衝突するようになり、蒸着物質をさらに少なく遮断するのである。この場合、膜厚が最も薄い部分、一般的には、パターニングスリットシート150の両端部分の膜厚が全体膜厚になるように、補正板157を形成できる。このように、蒸着物質の移動経路に補正板を配することによって、薄膜蒸着装置によって蒸着された蒸着膜が補正されうる。すなわち、蒸着物質が多く蒸着される部分は、補正板の高さを高くして蒸着物質を多く遮断し、蒸着物質が少なく蒸着される部分は、補正板の高さを低くして蒸着物質を少なく遮断することによって、全体的な蒸着物質の厚みが均一になるように、蒸着量を補正するのである。本発明によって基板に蒸着された薄膜の均一度が1~2誤差範囲以内で、均一に形成されることによって、製品品質及び信頼性が向上するという効果を得ることができる。[第3実施形態]図5は、本発明の第3実施形態による薄膜蒸着装置のパターニングスリットシート150を示す図面である。本実施形態では、基板全体の膜均一度を確保するために、パターニングスリットシート150の中心部分のパターニングスリット151aの長さが、パターニングスリットシート150の両端部のパターニングスリット151bの長さより短く形成されるという点で、前述の第1実施形態と区別される。このように、中心部分のパターニングスリット151aの長さと、両端部のパターニングスリット151bの長さとを異ならせて形成したパターニングスリットシート150によって、前述の第2実施形態と同様に、全体的な蒸着物質の厚みが均一になるように、蒸着量を補正できる。本発明によって、基板に蒸着された薄膜の均一度が1~2誤差範囲以内で均一に形成されることによって、製品品質及び信頼性が向上するという効果を得ることができる。[第4実施形態]図6は、本発明の第4実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第4実施形態による薄膜蒸着装置は、蒸着源110、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150を含む。ここで、蒸着源110は、その内部に蒸着物質115が充填されるルツボ111と、ルツボ111を加熱させ、ルツボ111内部に充填された蒸着物質115を蒸着源ノズル部120側に蒸発させるためのヒータ112とを含む。一方、蒸着源110の一側には、蒸着源ノズル部120が配され、蒸着源ノズル部120には、Y軸方向に沿って複数個の蒸着源ノズル121が形成される。一方、蒸着源110と基板400との間には、パターニングスリットシート150及びフレーム155がさらに備わり、パターニングスリットシート150には、X軸方向に沿って複数個のパターニングスリット151が形成される。そして、蒸着源110、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150は、連結部材135によって結合される。本実施形態では、蒸着源ノズル部120に形成された複数個の蒸着源ノズル121が、所定角度でチルトtiltされて配されるという点で、前述の第1実施形態と区別される。詳細には、蒸着源ノズル121は、2列の蒸着源ノズル121a,121bからなっており、前記2列の蒸着源ノズル121a,121bは、互いに交互に配される。このとき、蒸着源ノズル121a,121bは、XZ平面上で、所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。前述の第2実施形態のように、補正板157図4を具備したり、第3実施形態のように、パターニングスリット151図5の長さを差異化させる場合、蒸着材料が補正板またはパターニングスリットによって遮断されるために、材料の利用効率が低下しうる。よって、本実施形態では、蒸着源ノズル121a,121bが所定角度でチルトされて配されるようにする。ここで、第1列の蒸着源ノズル121aは、第2列の蒸着源ノズル121bを向くようにチルトされ、第2列の蒸着源ノズル121bは、第1列の蒸着源ノズル121aを向くようにチルトされうる。言い換えれば、左側列に配された蒸着源ノズル121aは、パターニングスリットシート150の右側端部を向くように配され、右側列に配された蒸着源ノズル121bは、パターニングスリットシート150の左側端部を向くように配されうるのである。図7は、本発明による薄膜蒸着装置で、蒸着源ノズルをチルトさせていないときに基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示すグラフであり、図8は、本発明による薄膜蒸着装置で、蒸着源ノズルをチルトさせたときに基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示すグラフである。図7と図8とを比較すれば、蒸着源ノズルをチルトさせたときに、基板の両端部に成膜される蒸着膜の厚みが相対的に増大し、蒸着膜の均一度が上昇することが分かる。かかる構成によって、基板の中央と終端部分とでの成膜厚差が減少することになり、全体的な蒸着物質の厚みが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには、材料利用効率が上昇するという効果を得ることができる。[第5実施形態]図9は、本発明の第5実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第5実施形態による薄膜蒸着装置は、第1蒸着源110、第1蒸着源ノズル部120、第2蒸着源160、第2蒸着源ノズル部170及びパターニングスリットシート150を含む。符号番号171は、第2蒸着源ノズル部170上の蒸着源ノズルである。ここで、第1蒸着源110及び第2蒸着源160と基板400との間には、パターニングスリットシート150及びフレーム155が備わり、パターニングスリットシート150には、X軸方向に沿って、複数個のパターニングスリット151が形成される。そして、第1蒸着源110及び第2蒸着源160、第1蒸着源ノズル部120及び第2蒸着源ノズル部170、並びにパターニングスリットシート150は、連結部材135によって結合されうる。本実施形態では、ホスト物質115を蒸着する第1蒸着源110と、ドーパント物質図示せずを蒸着する第2蒸着源160とを具備し、基板400上に、ホスト物質115とドーパント物質図示せずとを同時に蒸着させられるという点で、前述の第1実施形態と区別される。すなわち、ホスト物質115とドーパント物質図示せずとは互いに異なる温度で昇華されるために、複数の蒸着源110及び160と複数の蒸着源ノズル部120及び170はホスト物質115とドーパント物質図示せずとを同時に蒸着するために設けられる。詳細には、チャンバ内で、基板400と対向する側には、蒸着物質が収納及び加熱される第1蒸着源110及び第2蒸着源160が配される。第1蒸着源110及び第2蒸着源160内に収納されている蒸着物質が気化されることによって、基板400に蒸着が行われる。すなわち、第1蒸着源110は、その内部にホスト物質115が充填されるルツボ111と、ルツボ111を加熱させ、ルツボ111内部に充填されたホスト物質115をルツボ111の一側、詳細には、第1蒸着源ノズル部120側に蒸発させるためのヒータ112とを含む。一方、第2蒸着源160は、その内部にドーパント物質図示せずが充填されるルツボ161と、ルツボ161を加熱させ、ルツボ161内部に充填されたドーパント物質図示せずをルツボ161の一側、詳細には、第2蒸着源ノズル部160側に蒸発させるためのヒータ図示せずとを含む。ここで、前記ホスト物質としては、トリス8-ヒドロキシ-キノリナートアルミニウムAlq3、9,10-ジナフト-2-イルアントラセンAND、3-tert-ブチル-9,10-ジナフト-2-イルアントラセンTBADN、4,4’-ビス2,2-ジフェニル-エテン-1-イル-4,4’-ジメチルフェニルDPVBi、4,4’-ビス2,2-ジフェニル-エテン-1-イル-4,4’-ジメチルフェニルp-DMDPVBi、tert9,9-ジアリールフルオレンTDAF、2-9,9’-スピロビフルオレン-2-イル-9,9’-スピロビフルオレンBSDF、2,7-ビス9,9’-スピロビフルオレン-2-イル-9,9’-スピロビフルオレンTSDF、ビス9,9-ジアリールフルオレンBDAF、4,4’-ビス2,2-ジフェニル-エテン-1-イル-4,4’-ジ-tert-ブチルフェニルp-TDPVBi、1,3-ビスカルバゾール-9-イルベンゼンmCP、1,3,5-トリスカルバゾール-9-イルベンゼンtCP、4,4’、4-トリスカルバゾール-9-イルトリフェニルアミンTcTa、4,4’-ビスカルバゾール-9-イルビフェニルCBP、4,4’-ビス9-カルバゾリル-2,2’-ジメチル-ビフェニルCBDP、4,4’-ビスカルバゾール-9-イル-9,9-ジメチル-フルオレンDMFL-CBP、4,4’-ビスカルバゾール-9-イル-9,9-ビス9-フェニル-9H-カルバゾールフルオレンFL-4CBP、4,4’-ビスカルバゾール-9-イル-9,9-ジ-トリル-フルオレンDPFL-CBP、9,9-ビス9-フェニル-9H-カルバゾールフルオレンFL-2CBPなどが使われうる。前記ドーパント物質としては、4,4’-ビス[4-ジ-p-トリルアミノスチリル]ビフェニルDPAVBi、9,10-ジナフト-2-イルアントラセンADN、3-tert-ブチル-9,10-ジナフト-2-イルアントラセンTBADNなどが使われうる。このように、本発明の第5実施形態に係わる薄膜蒸着装置100は、ホスト物質115を蒸着する第1蒸着源110と、ドーパント物質図示せずを蒸着する第2蒸着源160とを具備し、基板400上に、ホスト物質とドーパント物質とを同時に蒸着できるようにすることを1つの特徴とする。このように、ホスト物質とドーパント物質とを同時に蒸着することが可能になることによって、工程がさらに簡単で速くなり、素子効率もまた、向上するという効果を得ることができる。[第6実施形態]図10は、本発明の第6実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第6実施形態による薄膜蒸着装置100は、第1蒸着源110、第1蒸着源ノズル部120、第2蒸着源160、第2蒸着源ノズル部170及びパターニングスリットシート150を含む。ここで、第1蒸着源110及び第2蒸着源160と基板400との間には、パターニングスリットシート150及びフレーム155が備わり、パターニングスリットシート150には、X軸方向に沿って複数個のパターニングスリット151が形成される。そして、第1蒸着源110及び第2蒸着源160と、第1蒸着源ノズル部120及び第2蒸着源ノズル部170と、パターニングスリットシート150は、連結部材135によって結合される。ここで、該薄膜蒸着装置100は、ホスト物質115を蒸着する第1蒸着源110と、ドーパント物質図示せずを蒸着する第2蒸着源160とを具備し、基板400上に、ホスト物質115とドーパント物質図示せずとを同時に蒸着できる。本実施形態では、第1蒸着源ノズル部120と第2蒸着源ノズル部170とに形成された複数個の蒸着源ノズル121’,171’が所定角度でチルトされて配されるという点で、前述の第5実施形態と区別される。すなわち、蒸着源ノズル121’,171’は、YZ平面上で所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。詳細には、ドーパントの含有量は、薄膜形成材料によって可変的であるが、一般的に、薄膜形成材料ホストとドーパントとの総重量100重量部を基準として、3ないし20重量部であることが望ましい。もしドーパントの含有量が前記範囲を外れれば、有機発光素子の発光特性が低下しうる。ところで、前述の第5実施形態のように、蒸着源ノズル121,171がZ軸と平行に配される場合、基板400には、蒸着初期には、ドーパント物質が蒸着され、蒸着中盤には、ドーパント物質とホスト物質とが交差して蒸着され、蒸着後半には、ホスト物質が蒸着される。すなわち、各領域別に、ホスト物質とドーパント物質との混合比率差が均一ではないようになる。よって、本実施形態では、蒸着源ノズル121’,171’が所定角度でチルトされて配されるようにする。ここで、第1蒸着源ノズル部120の蒸着源ノズル121’と、第2蒸着源ノズル部170の蒸着源ノズル171’は、互いに向き合うようにチルトされうる。すなわち、第1蒸着源ノズル部120の蒸着源ノズル121’は、第2蒸着源170側を向くようにチルトされ、第2蒸着源ノズル部170の蒸着源ノズル171’は、第1蒸着源120側を向くようにチルトされうる。かかる構成によって、基板全体にわたって、ホスト物質とドーパント物質との混合比率が均一になるという効果を得ることができる。そして、ホスト物質とドーパント物質とが均一な割合で含まれていた混合物で薄膜層を形成する場合、色座標、光効率、駆動電圧、寿命のいずれの面でも向上した特性を示すことができる。[第7実施形態]図11は、本発明の第7実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第7実施形態による薄膜蒸着装置100は、第1蒸着源110、第1蒸着源ノズル部120、第2蒸着源180、第2蒸着源ノズル181及びパターニングスリットシート150を含む。ここで、第1蒸着源110及び第2蒸着源180と基板400との間には、パターニングスリットシート150及びフレーム155が備わり、パターニングスリットシート150には、X軸方向に沿って複数個のパターニングスリット151が形成される。そして、第1蒸着源110及び第2蒸着源180、第1蒸着源ノズル部120及び第2蒸着源ノズル181、並びにパターニングスリットシート150は、連結部材135によって結合される。ここで、薄膜蒸着装置100は、ホスト物質115を蒸着する第1蒸着源110と、ドーパント物質図示せずを蒸着する第2蒸着源180とを具備し、基板400上に、ホスト物質115とドーパント物質図示せずとを同時に蒸着できる。本実施形態の薄膜蒸着装置100は、第2蒸着源180が点ソースpointsourceであり、線形ソースlinearsourceではないという点で、図9に示した前述の第5実施形態の薄膜蒸着装置と異なっている。前述のように、ドーパント物質は、薄膜形成材料ホストとドーパントの総重量100重量部を基準として、3ないし20重量部であることが望ましい。すなわち、薄膜形成材料のうちドーパント物質は、ホスト物質に比べて、その量がかなり少ないので、必ずしも容量が大きい線形ソースを使用する必要はない。従って、本発明の第7実施形態による薄膜蒸着装置は、ホスト物質を蒸着する第1蒸着源110は、線形ソースとして形成され、ドーパント物質を蒸着する第2蒸着源180は、点ソースとして形成される。ここで、図面には点ソースである第2蒸着源が一つ備わっていると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではなく、必要なドーパント物質の含有量によって、複数個が備わりもするのである。このように、第2蒸着源180を点ソースでもって構成することによって、薄膜蒸着装置の構造が簡単になり、製造コストが節減されるという効果を得ることができる。[第8実施形態]図12は、本発明の第8実施形態による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第8実施形態による薄膜蒸着装置100は、第1蒸着源190、第1蒸着源ノズル191、第2蒸着源180、第2蒸着源ノズル181及びパターニングスリットシート150を含む。ここで、第2蒸着源180及び第1蒸着源190と基板400との間には、パターニングスリットシート150及びフレーム155が備わり、パターニングスリットシート150には、X軸方向に沿って複数個のパターニングスリット151が形成される。そして、第2蒸着源180及び第1蒸着源190と、第2蒸着源ノズル181及び第1蒸着源ノズル191は、蒸着源収容部195内に収容され、蒸着源収容部195とパターニングスリットシート150は、連結部材135によって結合されうる。ここで、薄膜蒸着装置100は、ホスト物質を蒸着する第1蒸着源190と、ドーパント物質を蒸着する第2蒸着源180とを具備し、基板400上に、ホスト物質とドーパント物質とを同時に蒸着できる。本実施形態では、第1蒸着源190もまた、線形ソースではなく、点ソースとして形成されるという点で、前述の第7実施形態と区別される。詳細には、第2蒸着源180及び第1蒸着源190と基板400との間の距離が遠ざかるほど、線形ソースではない点ソースの方が蒸着に有利である場合がある。従って、この場合、ホスト物質を蒸着する第1蒸着源190及び第1蒸着源ノズル191を、複数個の点ソースでもって構成するが、前記第1蒸着源190及び第1蒸着源ノズル191を、回転自在なリボルバrevolver形態に構成できる。このように、第1蒸着源190及び第2蒸着源180を点ソースとして構成することによって、薄膜蒸着装置の構造が簡単になり、製造コストが節減されるという効果を得ることができる。[第9実施形態]図13は、本発明の第9実施形態による薄膜蒸着装置1000を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第9実施形態による薄膜蒸着装置は、図1ないし図3で説明した薄膜蒸着装置が複数個備わることを1つの特徴とする。言い換えれば、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、赤色発光層R材料、緑色発光層G材料、青色発光層B材料が一度に放射されるマルチ蒸着源multisourceを具備することを1つの特徴とする。詳細には、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、第1薄膜蒸着アセンブリ100、第2薄膜蒸着アセンブリ200及び第3薄膜蒸着アセンブリ300を含む。かかる第1薄膜蒸着アセンブリ100、第2薄膜蒸着アセンブリ200及び第3薄膜蒸着アセンブリ300それぞれの構成は、図1ないし図3で説明した薄膜蒸着装置と同一であるので、ここでは、その詳細な説明は省略する。ここで、第1薄膜蒸着アセンブリ100、第2薄膜蒸着アセンブリ200及び第3薄膜蒸着アセンブリ300の蒸着源には、互いに異なる蒸着物質が備わりうる。例えば、第1薄膜蒸着アセンブリ100には、赤色発光層Rの材料になる蒸着物質が備わり、第2薄膜蒸着アセンブリ200には、緑色発光層Gの材料になる蒸着物質が備わり、第3薄膜蒸着アセンブリ300には、青色発光層Bの材料になる蒸着物質が備わりうる。すなわち、従来の有機発光ディスプレイ装置の製造方法では、各色相別に別途のチャンバとマスクとを具備するのが一般的であったが、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を利用すれば、1つのマルチソースで、赤色発光層R、緑色発光層G及び青色発光層Bを一度に蒸着できるのである。従って、有機発光ディスプレイ装置の生産時間が画期的に短縮されると同時に、備わらなければならないチャンバ数が減少することによって、設備コストもまた、顕著に節減されるという効果を得ることができる。この場合、図面には詳細に図示されていないが、第1薄膜蒸着アセンブリ100、第2薄膜蒸着アセンブリ200及び第3薄膜蒸着アセンブリ300のパターニングスリットシート150,250,350は、互いに一定程度オフセットoffsetされて配されることによって、その蒸着領域を重畳させないことが可能である。言い換えれば、第1薄膜蒸着アセンブリ100が赤色発光層Rの蒸着を担当し、第2薄膜蒸着アセンブリ200が緑色発光層Gの蒸着を担当し、第3薄膜蒸着アセンブリ300が青色発光層Bの蒸着を担当する場合、第1薄膜蒸着アセンブリ100のパターニングスリット151と、第2薄膜蒸着アセンブリ200のパターニングスリット251と、第3薄膜蒸着アセンブリ300のパターニングスリット351とが、互いに同一線上に位置しないように配されることによって、基板上の互いに異なる領域に、それぞれ赤色発光層R、緑色発光層G、青色発光層Bを形成させられる。ここで、赤色発光層Rの材料になる蒸着物質と、緑色発光層Gの材料になる蒸着物質と、青色発光層Bの材料になる蒸着物質は、互いに気化される温度が異なりうるので、前記第1薄膜蒸着アセンブリ100の蒸着源110の温度と、前記第2薄膜蒸着アセンブリ200の蒸着源210の温度と、前記第3薄膜蒸着アセンブリ300の蒸着源310の温度とが互いに異なるように設定されることも可能である。一方、図面には、薄膜蒸着アセンブリが三つ備わると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではない。すなわち、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、薄膜蒸着アセンブリを多数個具備でき、前記多数個の薄膜蒸着アセンブリそれぞれに互いに異なる物質を具備できる。例えば、薄膜蒸着アセンブリを五つ具備し、それぞれの薄膜蒸着アセンブリに、赤色発光層R、緑色発光層G、青色発光層B、赤色発光層の補助層R’及び緑色発光層の補助層G’を具備できる。このように、複数個の薄膜蒸着アセンブリを具備し、多数個の薄膜層を一度に形成できるようにすることによって、製造収率及び蒸着効率が向上するという効果を得ることができる。また、製造工程が簡単になり、製造コストが節減されるという効果を得ることができる。図14は、本発明の蒸着装置を利用して製造されたアクティブマトリックス型有機発光ディスプレイ装置の断面を図示したものである。図14に図示されているように、ガラス材またはプラスチック材の基板50上に、バッファ層51が形成されており、この上に、薄膜トランジスタTFTと、有機電界発光素子OLEDとが形成される。基板50のバッファ層51上に、所定パターンの活性層52が備わる。活性層52の上部には、ゲート絶縁膜53が備わり、ゲート絶縁膜53上部の所定領域には、ゲート電極54が形成される。ゲート電極54は、薄膜トランジスタのオン/オフ信号を印加するゲートライン図示せずと連結されている。ゲート電極54の上部には、層間絶縁膜55が形成され、コンタクトホールを介して、ソース/ドレイン電極56,57が、それぞれ活性層52のソース/ドレイン領域52b,52cに接するように形成される。ここで、符号番号52aは、チャネル領域である。ソース/ドレイン電極56,57の上部には、SiO2、SiNxなどからなるパッシベーション膜58が形成され、パッシベーション膜58の上部には、アクリル、ポリイミド、ベンゾシクロブテンBCBなどの有機物質によって、平坦化膜59が形成されている。平坦化膜59の上部に、有機電界発光素子のアノード電極になる画素電極61が形成され、これを覆うように、有機物によって、画素定義膜pixeldefinelayer60が形成される。画素定義膜60に、所定の開口を形成した後、画素定義膜60の上部及び開口が形成され、外部に露出された画素電極61の上部に、有機膜62を形成する。該有機膜62は、発光層を含んだものになる。本発明は、必ずしもかかる構造に限定されるものではなく、多様な有機発光ディスプレイ装置の構造がそのまま適用されうることは言うまでもない。該有機電界発光素子は、電流の流れによって、赤色、緑色、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するものであり、ここで、薄膜トランジスタのドレイン電極56に連結され、ここからプラス電源を供給される画素電極61と、全体画素を覆うように備わり、マイナス-電源を供給される対向電極63と、それら画素電極61と対向電極63との間に配され、発光する有機膜62とから構成される。画素電極61と対向電極63は、有機膜62によって互いに絶縁されており、有機膜62に互いに異なる極性の電圧を加え、有機膜62で発光を行わせる。有機膜62は、低分子または高分子の有機膜が使われうるが、低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層HIL:holeinjectionlayer、ホール輸送層HTL:holetransportlayer、発光層EML:emissionlayer、電子輸送層ETL:electrontransportlayer、電子注入層EIL:electroninjectionlayerなどが、単一あるいは複合の構造に積層されて形成され、使用可能な有機材料も、銅フタロシアニンCuPc、N,N-ジナフタレン-1-イル-N,N’-ジフェニル-ベンジジンNPB、Alq3などを始めとして多様に適用可能である。それら低分子有機膜は、真空蒸着法によって形成される。高分子有機膜の場合には、概して、ホール輸送層及び発光層として備わった構造を有し、このとき、ホール輸送層としては、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェンPEDOTを使用し、発光層としては、ポリフェニレンビニレンPPV系及びポリフルオレン系の高分子有機物質を使用し、これを、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法などで形成できる。かかる有機膜は、必ずしもそれに限定されるものではなく、多様な実施形態が適用されうることは言うまでもない。画素電極61は、アノード電極の機能を行い、対向電極63は、カソード電極の機能を行うが、それら画素電極61と対向電極63との極性は、反対になっても差し支えないことは言うまでもない。画素電極61は、透明電極または反射型電極で備わりうるが、透明電極として使われるときには、酸化インジウムスズITO、酸化インジウム亜鉛IZO、ZnOまたはIn2O3で備わり、反射型電極として使われるときには、Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr及びそれらの化合物で反射膜を形成した後、その上に、ITO、IZO、ZnOまたはIn2O3を形成できる。一方、対向電極63も、透明電極または反射型電極で備わりうるが、透明電極として使われるときには、対向電極63がカソード電極として使われるので、仕事関数が小さい金属、すなわち、Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg及びそれらの化合物が、有機膜62の方向を向くように蒸着された後、その上に、ITO、IZO、ZnOまたはIn2O3のような透明電極形成用物質で、補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われるときには、上記のLi、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg及びそれらの化合物を全面蒸着して形成する。かかる有機発光ディスプレイ装置で、発光層を含む有機膜62は、例えば、前述の薄膜蒸着装置100図1によって形成されうる。本発明は、これ以外にも、有機数膜トランジスタの有機膜または無期膜などの蒸着にも使用でき、その他の多様な素材の成膜工程にも適用可能である。本発明は、図面に図示された実施形態を参考にして説明したが、それらは、例示的なものに過ぎず、本技術分野の当業者であるならば、それらから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解することが可能であろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決まるものである。"