波伝搬構造と、上記波伝搬構造に沿って配置された複数の散乱素子とを備えたアンテナであり、上記複数の散乱素子は、素子間の間隔が、上記アンテナの動作周波数に対応する自由空間波長よりも実質的に小さく、上記波伝搬構造の誘導波モードあるいは表面波モードに対する複数の独立した変動電磁応答を有しており、上記複数の独立した変動電磁応答は、上記アンテナの変動照射野を提供することを特徴とするアンテナ。上記複数の散乱素子は、複数の略同一の散乱素子であることを特徴とする請求項1に記載のアンテナ。上記複数の独立した変動電磁応答は、上記波伝搬構造の上記誘導波モードあるいは上記表面波モードに対する有効媒質応答を提供することを特徴とする請求項1に記載のアンテナ。上記複数の独立した変動電磁応答は、複数の磁気双極子照射野であることを特徴とする請求項1に記載のアンテナ。上記動作周波数は、マイクロ波周波数であることを特徴とする請求項1に記載のアンテナ。上記マイクロ波周波数は、Ka帯周波数であることを特徴とする請求項5に記載のアンテナ。上記マイクロ波周波数は、Ku帯周波数であることを特徴とする請求項5に記載のアンテナ。上記マイクロ波周波数は、Q帯周波数であることを特徴とする請求項5に記載のアンテナ。上記素子間の間隔は、上記自由空間波長の4分の1の長さよりも小さいことを特徴とする請求項1に記載のシステム。上記素子間の間隔は、上記自由空間波長の5分の1の長さよりも小さいことを特徴とする請求項1に記載のシステム。上記波伝搬構造は、1つ以上の導電面と、当該1つ以上の導電面内の複数の開口部に対応する上記複数の散乱素子とを含むことを特徴とする請求項1に記載のアンテナ。上記波伝搬構造は、略二次元の波伝搬構造であることを特徴とする請求項11に記載のアンテナ。上記略二次元の波伝搬構造は、平行板導波管であり、上記1つ以上の導電面は、上記平行板導波管の上部導電体であることを特徴とする請求項12に記載のアンテナ。上記波伝搬構造は、1つ以上の略一次元の波伝搬構造を含むことを特徴とする請求項11に記載のアンテナ。上記1つ以上の略一次元の波伝搬構造は、略二次元のアンテナ領域を構成する複数の略一次元の波伝搬構造であることを特徴とする請求項14に記載のアンテナ。上記1つ以上の略一次元の波伝搬構造は、1つ以上のマイクロストリップを含むことを特徴とする請求項14に記載のアンテナ。上記1つ以上の導電面は、上記1つ以上のマイクロストリップ各々の1つ以上の上部導電体であることを特徴とする請求項16に記載のアンテナ。上記1つ以上の導電面は、上記1つ以上のマイクロストリップの1つ以上の上部導電体に平行に配置された1つ以上の導電ストリップであることを特徴とする請求項16に記載のアンテナ。上記1つ以上の略一次元の波伝搬構造は、1つ以上の共面導波管を含むことを特徴とする請求項14に記載のアンテナ。上記1つ以上の導電面は、上記1つ以上の共面導波管の上に配置されていることを特徴とする請求項19に記載のアンテナ。上記1つ以上の略一次元の波伝搬構造は、1つ以上の閉塞導波管を含むことを特徴とする請求項14の記載のアンテナ。上記1つ以上の閉塞導波管は、1つ以上の長方形導波管を含むことを特徴とする請求項21に記載のアンテナ。上記1つ以上の長方形導波管は、1つ以上の二重リッジの長方形導波管を含むことを特徴とする請求項22に記載のアンテナ。上記1つ以上の導電面は、上記1つ以上の閉塞導波管各々の1つ以上の上面であることを特徴とする請求項21に記載のアンテナ。上記1つ以上の導電面は、上記1つ以上の閉塞導波管各々の1つ以上の上面上に配置されており、上記1つ以上の上面は、上記1つ以上の導電面内の上記複数の開口部に隣接した複数のアイリスを含むことを特徴とする請求項21に記載のアンテナ。上記複数の開口部は、上記1つ以上の導電面と電気的に絶縁された複数の島状導電部各々を規定し、上記アンテナは、上記1つ以上の導電面と上記複数の島状導電部各々との間それぞれに、バイアス電圧を印加するように構成された複数のバイアス電圧線と、上記複数の開口部の周辺に少なくとも部分的に配置された電気的調整材料とをさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のアンテナ。上記電気的調整材料は、液晶材料であることを特徴とする請求項26に記載のアンテナ。上記液晶材料は、ネマチック液晶であることを特徴とする請求項27に記載のアンテナ。上記液晶材料は、二周波液晶であることを特徴とする請求項27に記載のアンテナ。上記液晶材料は、高分子網目液晶であることを特徴とする請求項27に記載のアンテナ。上記液晶材料は、高分子分散液晶であることを特徴とする請求項27に記載のアンテナ。上記複数の開口部は、上記1つ以上の導電面と電気的に絶縁された複数の島状導電部各々を規定し、行列状に配置されており、上記アンテナは、上記1つ以上の導電面と上記複数の島状導電部各々との間それぞれに、バイアス電圧を印加するように構成された複数のバイアス回路と、上記複数のバイアス回路の列を各々がアドレス指定する1組の列制御線と、上記複数のバイアス回路の行を各々がアドレス指定する1組の行制御線と、上記複数の開口部の周辺に少なくとも部分的に配置された電気的調整材料とをさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のアンテナ。上記複数のバイアス回路各々は、上記複数の開口部に隣接する位置に行列状に配置されていることを特徴とする請求項32に記載のアンテナ。上記複数の開口部は、上記誘導波あるいは上記表面波の磁場に対する複数の磁気双極子応答を有する複数の相補的メタマテリアル要素を規定することを特徴とする請求項11に記載のアンテナ。上記複数の相補的メタマテリアル要素は、複数の相補的電気LCメタマテリアル要素であることを特徴とする請求項34に記載のアンテナ。上記複数の磁気双極子応答は、上記1つ以上の導電面に平行に方向づけられた複数の面内磁気双極子応答であることを特徴とする請求項34に記載のアンテナ。上記複数の面内磁気双極子応答は、上記1つ以上の導電面に平行な第1方向に方向づけられた複数の第1面内磁気双極子と、上記第1方向に垂直であり、かつ、上記1つ以上の導電面に平行な第2方向に方向づけられた複数の第2面内磁気双極子とを含むことを特徴とする請求項36に記載のアンテナ。対応する複数の第1位相を複数の位置各々に届けるための第1誘導波あるいは表面波を伝搬する工程と、複数の位置各々の中から選択された第1組の位置で上記第1誘導波あるいは地上波に結合させ、当該第1組の位置で第1照射野を生成する複数の第1電磁振動を生じさせる工程と、上記複数の第1位相と略同等であり、対応する複数の第2位相を上記複数の位置各々に届けるための第2誘導波あるいは表面波を伝搬する工程と、複数の位置各々の中から選択された第2組の位置で上記第2誘導波あるいは表面波に結合させ、当該第2組の位置で第1照射野とは異なる第2照射野を生成する複数の第2電磁振動を生じさせる工程とを含むことを特徴とする方法。上記第1誘導波あるいは表面波、および上記第1照射野は、第1干渉縞を規定し、上記複数の位置各々の中から選択された上記第1組の位置は、上記第1干渉縞の建設的干渉領域内の1組の位置に対応し、上記第2誘導波あるいは表面波、および上記第2照射野は、上記第1干渉縞とは異なる第2干渉縞を規定し、上記複数の位置各々の中から選択された上記第2組の位置は、上記第2干渉縞の建設的干渉領域内の1組の位置に対応することを特徴とする請求項38に記載の方法。複数の位置で第1自由空間波を受け取る工程と、複数の位置各々の中から選択された第1組の位置で上記第1自由空間波に結合させ、対応する複数の第1位相を有する第1誘導波あるいは表面波を上記複数の位置で生成する複数の第1電磁振動を当該第1組の位置で生じさせる工程と、複数の位置で第1自由空間波とは異なる第2自由空間波を受け取る工程と、複数の位置各々の中から選択された第2組の位置で上記第2自由空間波に結合させ、複数の第1位相と略同等であり、対応する複数の第2位相を有する第2誘導波あるいは表面波を上記複数の位置で生成する複数の第2電磁振動を当該第2組の位置で生じさせる工程とを含むことを特徴とする方法。上記第1誘導波あるいは表面波、および上記第1自由空間波は、第1干渉縞を規定し、上記複数の位置各々の中から選択された上記第1組の位置は、上記第1干渉縞の建設的干渉領域内の1組の位置に対応し、上記第2誘導波あるいは表面波、および上記第2自由空間波は、上記第1干渉縞とは異なる第2干渉縞を規定し、上記複数の位置各々の中から選択された上記第2組の位置は、上記第2干渉縞の建設的干渉領域内の1組の位置に対応することを特徴とする請求項40に記載の方法。第1アンテナ照射パターンを選択する工程と、1つ以上の制御入力に対して変動的に応答する表面散乱アンテナについて、選択された上記第1アンテナ照射パターンに対応する上記1つ以上の制御入力の第1値を決定する工程とを含むことを特徴とする方法。上記表面散乱アンテナは、上記1つ以上の制御入力の機能である変動物理パラメータを各々が有する複数の散乱素子を有していることを特徴とする請求項42に記載の方法。上記1つ以上の制御入力の第1値を決定する工程は、選択された上記第1アンテナ放射パターンを提供するために、各上記変動物理パラメータの各々の第1値を決定する工程と、各上記変動物理パラメータに関して決定された上記各々の第1値に対応する上記1つ以上の制御入力の上記第1値を決定する工程とを含むことを特徴とする請求項43に記載の方法。各上記変動物理パラメータは、上記複数の散乱素子の各変動共振周波数であることを特徴とする請求項43に記載の方法。上記1つ以上の制御入力は、上記複数の散乱素子のための複数のバイアス電圧各々を含むことを特徴とする請求項43に記載の方法。上記複数の散乱素子は、列および行によってアドレス指定可能であり、上記1つ以上の制御入力は、1組の列入力部および1組の行入力部を含むことを特徴とする請求項43に記載の方法。上記複数の散乱素子は、調整ゲインを有する1組の給電線によって給電され、上記1つ以上の制御入力は、上記調整ゲインを含むことを特徴とする請求項43に記載の方法。上記表面散乱アンテナのための上記1つ以上の制御入力の上記第1値を提供する工程をさらに含むことを特徴とする請求項43に記載の方法。上記第1アンテナ照射パターンを選択する工程は、アンテナビーム方向を選択する工程を含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。上記アンテナビーム方向は、通信衛星の方向に対応することを特徴とする請求項50に記載の方法。上記アンテナビーム方向は、通信基地局の方向に対応することを特徴とする請求項50に記載の方法。上記アンテナビーム方向は、通信モバイルプラットフォームの方向に対応することを特徴とする請求項50に記載の方法。上記第1アンテナ照射パターンを選択する工程は、1つ以上のヌル方向を選択する工程を含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。上記第1アンテナ照射パターンを選択する工程は、アンテナビーム幅を選択する工程を含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。上記第1アンテナ照射パターンを選択する工程は、多数のビームの配置を選択する工程を含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。上記第1アンテナ照射パターンを選択する工程は、全位相を選択する工程を含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。上記第1アンテナ照射パターンを選択する工程は、偏向状態を選択する工程を含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。選択された上記偏向状態は、円偏向状態であることを特徴とする請求項58に記載の方法。選択された上記偏向状態は、直線偏向状態であることを特徴とする請求項58に記載の方法。上記第1アンテナ照射パターンとは異なる第2アンテナ照射パターンを選択する工程と、上記第2アンテナ照射パターンに対応する上記1つ以上の制御入力の第2値を決定する工程とをさらに含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。上記表面散乱アンテナのための上記1つ以上の制御入力の上記第2値を提供する工程をさらに含むことを特徴とする請求項61に記載の方法。上記第1アンテナ照射パターンを選択する工程は、第1アンテナビーム方向を選択する工程を含み、上記第2アンテナ照射パターンを選択する工程は、第1アンテナビーム方向とは異なる第2アンテナビーム方向を選択する工程を含むことを特徴とする請求項61に記載の方法。選択された上記第1アンテナ照射パターンは、上記第1アンテナビーム方向に対応する第1偏向状態を提供し、選択された上記第2アンテナ照射パターンは、上記第1偏向状態と略同等であり、上記第2アンテナビーム方向に対応する第2偏向状態を提供することを特徴とする請求項63に記載の方法。上記第1偏向状態および上記第2偏向状態は、円偏向状態であることを特徴とする請求項64に記載の方法。上記第1偏向状態および上記第2偏向状態は、直線偏向状態であることを特徴とする請求項64に記載の方法。上記第1アンテナビーム方向および上記第2アンテナビーム方向は、第1通信衛星および第2通信衛星の方向に対応することを特徴とする請求項63に記載の方法。上記第1アンテナビーム方向および上記第2アンテナビーム方向は、通信衛星、通信基地局、および通信モバイルプラットフォームを含む複数の物体の中から選択される第1物体および第2物体の方向に対応することを特徴とする請求項63に記載の方法。1つ以上の第1制御入力に対応する第1変動照射パターンを有する第1表面散乱アンテナのための第1対象物を特定する工程と、上記第1対象物と上記第1表面散乱アンテナとの間の第1相対運動に対応する上記第1変動照射パターンの実質的な連続変異を提供するために、上記1つ以上の第1制御入力を繰り返し調整する工程とを含むことを特徴とする方法。上記第1相対運動は、上記第1対象物の変形であることを特徴とする請求項69に記載の方法。上記第1相対運動は、上記第1表面散乱アンテナの変形あるいは回転であることを特徴とする請求項69に記載の方法。上記第1相対運動は、上記第1対象物の変形と、上記第1表面散乱アンテナの変形あるいは回転との組み合わせであることを特徴とする請求項69に記載の方法。上記第1変動照射パターンの実質的な連続変異は、上記第1変動照射パターンの最初のビーム内に上記第1対象物を実質的に保持するために選択されることを特徴とする請求項69に記載の方法。上記第1変動照射パターンの実質的な連続変異は、上記第1変動照射パターンのヌル内に上記第1対象物を実質的に保持するために選択されることを特徴とする請求項69に記載の方法。上記第1変動照射パターンの実質的な連続変異は、上記第1対象物の位置において実質的な連続偏向状態を提供するために選択されることを特徴とする請求項69に記載の方法。上記実質的な連続偏向状態は、円偏向状態であることを特徴とする請求項75に記載の方法。上記実質的な連続偏向状態は、直線偏向状態であることを特徴とする請求項75に記載の方法。上記第1対象物は、通信衛星であることを特徴とする請求項69に記載の方法。上記第1対象物は、通信基地局であることを特徴とする請求項69に記載の方法。上記第1対象物は、通信モバイルプラットフォームであることを特徴とする請求項69に記載の方法。1つ以上の第2制御入力に対応する第2変動照射パターンを有する第2表面散乱アンテナのための第2対象物を特定する工程と、上記第2対象物と上記第2表面散乱アンテナとの間の相対運動に対応する上記第2変動照射パターンの実質的な連続変異を提供するために、上記1つ以上の第2制御入力を繰り返し調整する工程とを含むことを特徴とする方法。上記第1対象物および上記第2対象物は、通信衛星のコンステレーションの構成部材であることを特徴とする請求項81に記載の方法。上記第1相対運動は、上記第1対象物の変形であり、上記第2相対運動は、上記第2対象物の変形であることを特徴とする請求項81に記載の方法。上記第1相対運動は、上記第1対象物の変形と、上記第1表面アンテナの変形あるいは回転との組み合わせであり、上記第2相対運動は、上記第2対象物の変形と、上記第2表面アンテナンの変形あるいは回転との組み合わせであり、上記第1表面アンテナの変形あるいは回転は、上記第2表面アンテナの変形あるいは回転と同等であることを特徴とする請求項81に記載の方法。上記第1変動照射パターンの実質的な連続変異は、上記第1変動照射パターンの最初のビーム内に上記第1対象物を実質的に保持するために選択され、上記第2変動照射パターンの実質的な連続変異は、上記第2変動照射パターンの最初のビーム内に上記第2対象物を実質的に保持するために選択されることを特徴とする請求項81に記載の方法。上記第1変動照射パターンの上記最初のビーム内に上記第2対象物を実質的に配置するために、上記1つ以上の第1制御入力を調整する工程をさらに含むことを特徴とする請求項85に記載の方法。上記第1対象物および上記第2対象物とは異なる、第2表面散乱アンテナのための新たな対象物を特定する工程と、上記第2変動照射パターンの上記最初のビーム内に上記新たな対象物を実質的に配置するために、上記1つ以上の第2制御入力を調整する工程をさらに含むことを特徴とする請求項86に記載の方法。1つ以上の制御入力に変動的に応答する表面散乱アンテナと、上記1つ以上の制御入力を提供するように構成されたアンテナ制御回路と、上記表面散乱アンテナの給電構造に結合された通信回路とを備えることを特徴とするシステム。上記表面散乱アンテナは、上記1つ以上の制御入力の機能である各変動物理パラメータを有する複数の散乱素子を有していることを特徴とする請求項88に記載のシステム。上記1つ以上の制御入力は、上記複数の散乱素子のための複数のバイアス電圧各々を含むことを特徴とする請求項89に記載のシステム。上記複数の散乱素子は、列および行によってアドレス指定可能であり、上記1つ以上の制御入力は、1組の列入力部および1組の行入力部を含むことを特徴とする請求項89に記載のシステム。上記給電構造は、複数の増幅器各々を有する複数の給電部を含み、上記1つ以上の制御入力は、上記複数の増幅器各々の調整ゲインを含むことを特徴とする請求項89に記載のシステム。上記アンテナ制御回路は、1組のアンテナ照射パターンパラメータと、それに対応する、上記1つ以上の制御入力に対する1組の値とを割り出すルックアップテーブルを含む記憶媒体を含むことを特徴とする請求項88に記載のシステム。上記1組のアンテナ照射パターンパラメータは、1組のアンテナビーム方向を含むことを特徴とする請求項93に記載のシステム。上記1組のアンテナ照射パターンパラメータは、1組のアンテナヌル方向を含むことを特徴とする請求項93に記載のシステム。上記1組のアンテナ照射パターンパラメータは、1組のアンテナビーム幅を含むことを特徴とする請求項93に記載のシステム。上記1組のアンテナ照射パターンパラメータは、1組の偏向状態を含むことを特徴とする請求項93に記載のシステム。上記アンテナ制御回路は、所望のアンテナ照射パターンパラメータに対応する上記1つ以上の制御入力に対する1組の値を算出するように構成された処理回路を含むことを特徴とする請求項88に記載のシステム。上記処理回路は、上記所望のアンテナ照射パターンパラメータに対応するホログラフィックパターンを演算することによって、上記1つ以上の制御入力に対する上記1組の値を算出するように構成されていることを特徴とする請求項98に記載のシステム。上記表面散乱アンテナの環境条件を検出するように構成されたセンサユニットをさらに含むことを特徴とする請求項88に記載のシステム。上記センサユニットは、GPSセンサ、温度計、ジャイロスコープ、および歪みゲージの中から選択される1つ以上のセンサを含んでいることを特徴とする請求項100に記載のシステム。上記環境条件は、上記表面散乱アンテナの位置、方向、温度、あるいは機械的変形を含むことを特徴とする請求項100に記載のシステム。上記センサユニットは、上記アンテナ制御回路に対して環境条件データを提供するように構成されており、上記アンテナ制御回路は、上記表面散乱アンテナの上記環境条件の変動を補正するために、上記1つ以上の制御入力を調整するように構成された回路を含んでいることを特徴とする請求項100に記載のシステム。