塩化インジウム塩を用いて合成した水酸化インジウムを、濃度0.08mol/L以上1.0mol/L以下のアンモニア水溶液に分散させ、サスペンションとし、該サスペンションを80~100°Cの液温で0.5時間以上保持した後、濾過し、得られた粉末を水洗し、仮焼することを特徴とする酸化インジウム粉末の製造方法。前記サスペンションを80~100°Cの液温に保持している状態で攪拌することを特徴とする請求項1に記載の酸化インジウム粉末の製造方法。本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであって、塩化インジウムを原料として用いた場合であっても、残留塩素量が少ない酸化インジウム粉末を低コストで製造する方法を提供することを目的とする。本発明に係る酸化インジウム粉末の製造方法は、塩化インジウム塩を用いて合成した水酸化インジウムを、濃度0.08mol/L以上1.0mol/L以下のアンモニア水溶液に分散させ、サスペンションとし、該サスペンションを80~100°Cの液温で0.5時間以上保持した後、濾過し、得られた粉末を水洗し、仮焼することを特徴とする。前記サスペンションを80~100°Cの液温で0.5時間以上保持する。また、この保持している状態で撹拌することが好ましい。また、前記粉末を水洗後、仮焼前において、乾燥、その後さらに水洗することが好ましい。さらに、前記粉末を水洗後、仮焼前において、乾燥、その後、硝酸アンモニウム水溶液に分散させ、濾過し、得られた粉末を水洗することが好ましい。このとき前記粉末が分散した硝酸アンモニウム水溶液のpHを8~11に制御することが好ましい。本発明によれば、塩化インジウムを原料として用いた場合であっても、残留塩素量が少ない酸化インジウム粉末を製造することができ、電子材料用として好適な酸化インジウム粉を低コストで提供することができる。本発明者は、塩化インジウムを出発原料として用いた場合であっても、残留塩素量が少ない酸化インジウム粉末を低コストで製造する方法を確立すべく、鋭意研究開発を行った。その結果、塩化インジウム水溶液を用いて合成した水酸化インジウムを、所定の濃度の塩基性水溶液に分散させてサスペンションとし、所定の温度で保持した後、濾過、洗浄を行うことにより、効率的に水酸化インジウム中に残留する塩素の量を減らすことができることを見出し、本発明に至った。以下、本発明に係る酸化インジウム粉末の製造方法を詳細に説明する。本発明に係る酸化インジウム粉末の製造方法は、塩化インジウム塩を用いて合成した水酸化インジウムを、濃度0.08mol/L以上0.1mol/L以下のアンモニア水溶液に分散させ、サスペンションとし、該サスペンションを80~100°Cの液温で0.5時間以上保持した後、濾過し、得られた粉末を水洗して、700~1200°Cの温度で仮焼する。塩化インジウム塩を用いて合成した水酸化インジウムを分散させてサスペンションとするためのアンモニア水溶液の濃度は、0.08mol/L以上とすることが必要である。0.08mol/L未満では、水酸化インジウム中に残留する塩素の量を減らすことが十分にはできないことがある。アンモニア水溶液の濃度は1.0mol/L以下であることが好ましく、この濃度を超えても問題はないが、塩素除去の効果は大きくならず、コストが増加するのみである。水洗あるいはサスペンションに用いる液量には特に制限はなく、通常に行われる液量とすればよいが、塩素を十分に吸収でき、かつ、十分に撹拌できる液量が必要であり、残留塩素量を勘案して決めればよい。また、塩化インジウム塩を用いて合成した水酸化インジウムを前記塩基性水溶液に分散させて得たサスペンションは、80~100°C液温に保持することが必要である。液温が80°C未満の場合、水酸化インジウム中に残留する塩素の量を減らすことが十分にはできないことがある。また、液温が100°Cを超えると、アンモニアの蒸発が激しくなり、アンモニア濃度が減少してしまうため、塩素の量を減らすことが十分にはできないことがある。また、100°Cを超えても塩素除去の効果は大きくならず、取り扱いの危険性が増してしまう。水酸化インジウムを分散させて得たサスペンションを撹拌すると、静置した場合と比較して高い脱塩素効果が得られる。サスペンションを回転により撹拌する場合、回転数は200rpm以上であることが好ましく、より好ましくは300rpm以上であり、さらに好ましくは400rpm以上である。サスペンションを濾過し、得られた水酸化インジウムケーキを水に再分散させてサスペンションとした後、攪拌して洗浄すると、残留する塩素をより低減することができる。そして、濾過水洗を繰り返すことで、さらに塩素を低減できる。しかし、濾過と水洗を繰り返すだけでは塩素濃度を40質量ppm以下にするのは困難である。再度サスペンションにする前に、水洗した水酸化インジウム粉末を乾燥させた後、再度サスペンションにして、前記した工程を繰り返すと、残留塩素量の低減に効果的である。乾燥を加えることで、水酸化インジウム粉内部まで十分に再洗の水が入るため、塩素が効果的に除去できるものと思われる。なお、乾燥工程後の洗浄は、水で行うよりも無機塩水溶液を用いて再度サスペンションにして洗浄を行うことが好ましく、特に、硝酸アンモニウム水溶液で行うことがより好ましい。さらには、硝酸アンモニウム水溶液中に水酸化インジウムを分散させて得るサスペンションのpHを8~11に制御することがさらに好ましい。pHが11を超えても問題はないが、効果の向上が認められず、高コストとなるのみである。以上のようにして得た水酸化インジウムの残留塩素量は100質量ppm以下と少なく、その水酸化インジウムを焼成して得る酸化インジウム粉末における残留塩素量は120質量ppm以下であって、電子材料用としては好適なものとなる。さらに得られる酸化インジウム粉末の残留塩素量が少ないほど、電子材料用として好適であるため、得られる酸化インジウム粉末の残留塩素量は、40質量ppm以下であることが好ましく、20質量ppm以下であることがより好ましい。[実施例1~3、5~7、参考例4、8~9、比較例1~2]実施例1~3、5~7、参考例4、8~9、比較例1~2では、合成した水酸化インジウムを分散させるサスペンションに用いるNH4OH水溶液の濃度およびその液温が、最終的に得られる水酸化インジウム中に残留する塩素の量へ及ぼす影響について検討した。実施例11.09mol/Lの塩化インジウム水溶液140Lに当量分の25質量NH4OH水溶液を供給して水酸化インジウムを合成し、濾過した。合成した水酸化インジウムを質量比で約15倍の純水で水洗した後、同じ質量比の0.1mol/LのNH4OH水溶液に分散させてサスペンションとした。撹拌は行わず、これを80°Cで1時間保持した後、濾過し、同じ質量比で水洗を行ったところ、最終的に得られた水酸化インジウム粉末中に残留する塩素の量は58質量ppmであった。以上の結果を下記表1に示す。本実施例における水酸化インジウム中の残留塩素量は、乾燥後の水酸化インジウムを蛍光X線定量分析にて測定した。また、塩素含有量が100質量ppm以下のものについては、乾燥後の水酸化インジウムを硝酸で溶解し、硝酸銀を加えて塩化銀を沈殿させ、沈殿物中の塩素を検量線による蛍光X線定量分析にて測定することで残留塩素量を求めた。実施例2~3、5~7、参考例4、8~9、比較例1~2実施例1と同様の方法で水酸化インジウムを合成した。合成した水酸化インジウムを分散させ、サスペンションとするのに用いたNH4OH水溶液の濃度を下記表1に示す通りとし、サスペンションの保持温度と保持時間を変更した以外は、実施例1と同様の方法で洗浄した。最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量は、下記表1に示す通りとなった。図1に、サスペンションの保持温度を80°C、保持時間を1時間としたときの合成した水酸化インジウムを分散させサスペンションとするのに用いたNH4OH水溶液の濃度と、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量との関係を示す。表1および図1から明らかなように、サスペンションの保持温度が本発明の範囲である80°Cとしたとき、合成した水酸化インジウムを分散させ、サスペンションとするのに用いたNH4OH水溶液の濃度が0.05mol/Lでは、保持時間が1時間でも、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量は2145質量ppmと非常に大きくなったのに対し、サスペンションとするのに用いたNH4OH水溶液の濃度が0.05mol/Lよりも大きくなると、保持時間が0.25時間参考例でも、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量は82質量ppm以下と小さくなり、さらに保持時間を0.5時間以上実施例とすると、残留する塩素の量は68ppm以下となった。したがって、合成した水酸化インジウムを分散させ、サスペンションとするのに用いるNH4OH水溶液の濃度は0.05mol/Lよりも大きくする必要があることがわかる。また、サスペンションとするのに用いたNH4OH水溶液の温度が80°C以上で、かつ、保持時間が0.5時間以上であれば、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量は68質量ppm以下と小さくなったのに対し、サスペンションとするのに用いたNH4OH水溶液の温度が25°Cの比較例1では、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量は2034質量ppmと大きくなった。したがって、合成した水酸化インジウムを分散させ、サスペンションとするのに用いるNH4OH水溶液の温度は80°C以上する必要があることがわかる。[実施例10~12]実施例10~12では、合成した水酸化インジウムを分散させたサスペンションに対する撹拌が、最終的に得られる水酸化インジウム中に残留する塩素の量へどのように影響するかについて検討した。1.05mol/Lの塩化インジウム水溶液140Lに当量分の25質量NH4OH水溶液を供給して水酸化インジウムを合成し、濾過した。合成した水酸化インジウムを実施例1と同様に水洗した後、0.1mol/LのNH4OH水溶液に分散させてサスペンションとし、80°Cで1時間保持した。保持している間はASONECORPORATION製TORNADOPM203型を用いて撹拌を行った。攪拌の回転数は、200rpm実施例10、300rpm実施例11、400rpm実施例12とした。その後、濾過し、実施例1のようにして水洗を行ったところ、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量は表2に示す通りとなった。撹拌を行わなかった実施例1の水酸化インジウム中の残留塩素量が58質量ppmであるのに対して、撹拌の回転数の増加に伴い、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量が少なくなることがわかる。[実施例13~14]実施例13~14では、サスペンションからの濾過後の水酸化インジウムを一旦乾燥させてから、さらに洗浄する効果について検討した。0.88mol/Lの塩化インジウム水溶液140Lに当量分の25質量NH4OH水溶液を供給して水酸化インジウムを合成し、濾過した。合成した水酸化インジウムを実施例1と同様に水洗した後、実施例1と同じ質量比の0.2mol/LのNH4OH水溶液に分散させてサスペンションとした。そして、回転数を200rpmにして、80°Cにて1時間攪拌した。その後、濾過し、実施例1のようにして水洗を行い、110°Cで一旦乾燥させた後、同じ質量比で再度水に分散させて水洗を行ったところ、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量は28質量ppmとなった実施例13。実施例13と同様に、サスペンションとし、撹拌させ、濾過、水洗、乾燥を行った。得られた水酸化インジウムを同じ質量比の0.1mol/Lの硝酸アンモニウム水溶液中に再分散させ、200rpmで1時間撹拌した後、乾燥前と同様に濾過し、水洗したところ、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量は18質量ppmとなった実施例14。実施例15~17実施例15~17では硝酸アンモニウム洗浄におけるpHの効果について検討を実施した。0.1molLの硝酸アンモニウム水溶液中に再分散させたサスペンションにNH4OH水溶液を添加してpHを8実施例15、9実施例16、11実施例17に調整した以外は実施例14と同様の処理を行ったところ、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量は表3に示す通りとなった。pH無調整の場合と比較して、NH4OHを添加してpHを8~11に調整した場合は、最終的に得られた水酸化インジウム中に残留する塩素の量が少なくなることがわかる。[焼結体の作製および焼結体の相対密度の算出]脱塩素処理を施して最終的に得られた水酸化インジウムを850°C、大気中雰囲気で仮焼して酸化インジウムとし、その後、ハンマーミルで粉砕した。粉砕後の酸化インジウム粉の残留塩素濃度は、水酸化インジウムの残留塩素濃度を仮焼による質量減少分で換算することにより求めた。また、酸化インジウム粉のBET比表面積を、ユアサアイオニクス製MULTISORB16型で測定した。得られた酸化インジウム粉を400kgf/cm2の圧力で一軸成型し、得られた成型体を1500°Cで5m3/minの流量の酸素気流中で焼成した。焼成後の焼結体の質量および寸法を測定して焼結体密度を算出し、酸化インジウムの真密度を7.0g/cm3として相対密度を算出した。これらの結果をあわせて表4に示す。表4からわかるように、本発明の範囲内の製造方法で作製した実施例1、実施例13~17は水酸化インジウム中の残留塩素量が58質量ppm以下と少なく、また、酸化インジウム中の残留塩素量も69質量ppm以下と少なく、最終的に得られた焼結体の相対密度は72~98と大きくなった。特に酸化物の残留塩素量が20質量ppm以下の場合は焼結体の相対密度は93以上と非常に大きくなる。それに対して、水酸化インジウム合成後のサスペンションにおけるアンモニア水溶液濃度と保持温度が本発明の製造方法の範囲から外れる比較例1および2は、水酸化インジウム中の残留塩素量が100質量ppmより大きくなり、また、酸化インジウム中の残留塩素量も120質量ppmより大きくなり、得られた焼結体の相対密度は60を下回った。