鉄基材の表面処理方法であって、鉄基材の表面にフラーレンを塗布し、フラーレンを塗布した前記鉄基材の表面に窒素イオンを照射し、窒素イオンを照射した前記鉄基材の表面に再度フラーレンを塗布し、再度フラーレンを塗布した前記鉄基材の表面を加熱する、鉄基材の表面処理方法。請求項1に記載の鉄基材の表面処理方法であって、前記鉄基材の表面に窒素イオンを照射するときには、フラーレンが窒素イオンの照射によってアモルファス化される前に、フラーレンがアモルファス化しない所定のイオンエネルギー以下の窒素イオンを少なくとも1回照射する、鉄基材の表面処理方法。請求項1または2に記載の鉄基材の表面処理方法であって、前記鉄基材の表面に窒素イオンを照射した後には、窒素イオンを照射した前記鉄基材の表面を除電する、鉄基材の表面処理方法。本発明の解決しようとする課題は、薄い膜厚で密着性の高い膜を形成できる鉄基材の表面処理方法を提供することである。本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。即ち、請求項1においては、鉄基材の表面処理方法であって、鉄基材の表面にフラーレンを塗布し、フラーレンを塗布した前記鉄基材の表面に窒素イオンを照射し、窒素イオンを照射した前記鉄基材の表面に再度フラーレンを塗布し、再度フラーレンを塗布した前記鉄基材の表面を加熱するものである。請求項2においては、請求項1に記載の鉄基材の表面処理方法であって、前記鉄基材の表面に窒素イオンを照射するときには、フラーレンが窒素イオンの照射によってアモルファス化される前に、フラーレンがアモルファス化しない所定のイオンエネルギー以下の窒素イオンを少なくとも1回照射するものである。請求項3においては、請求項1または2に記載の鉄基材の表面処理方法であって、前記鉄基材の表面に窒素イオンを照射した後には、窒素イオンを照射した前記鉄基材の表面を除電するものである。本発明の鉄基材の表面処理方法によれば、薄い膜厚で密着性の高い膜を形成できる。図1を用いて、表面処理工程S100の流れについて説明する。表面処理工程S100は、本発明に係る表面処理方法の実施形態である。本実施形態では、鉄基材としての基材10の表面処理を表面処理工程S100によって行うものとする。本実施形態の基材10の材質は、SKD61としている。なお、本実施形態では、基材10としてSKD61を用いたが、本発明はこれに限定されない。その他の鉄基材であっても同様の作用及び効果を奏するものとする。表面処理工程S100は、フラーレン類塗布工程S110と、窒素イオン照射工程S120と、除電工程S130と、フラーレン類塗布工程S140と、加熱工程S150と、を具備している。フラーレン類塗布工程S110は、基材10の表面にフラーレン20を塗布する工程である。より具体的には、フラーレン類塗布工程S110では、厚みが10nm以上であって20μm以下となるように、基材10の表面にフラーレン20の粉末を塗布する処理が行われる。なお、フラーレン20とは、閉殻構造を有する炭素クラスタであり、通常は炭素数が60~130の偶数である。具体例としては、C60等の高次の炭素クラスタが挙げられる。また、フラーレン30は、上述したフラーレンの他、フラーレン分子に他の分子や官能基を化学的に修飾したフラーレン誘導体を含むものとする。また、本実施形態において基材10の表面に塗布するフラーレン20としては、純度の高いフラーレンを用いるのではなく、不純物26を含むものを用いることとする。ここで、不純物26とは、C60等の高次の炭素クラスタ以外であって、例えば、ベンゼンまたはすす等である。なお、フラーレン類塗布工程S110では、基材10の表面にフラーレン20を塗布した後に、フラーレン20を塗布した基材10を加熱することが望ましい。窒素イオン照射工程S120は、フラーレン20を塗布した基材10の表面に窒素イオンを照射する工程である。より具体的には、窒素イオン照射工程S120では、真空雰囲気下において、窒素ガスにプラズマを照射することによって窒素イオンを生成し、生成した窒素イオンを基材10の表面に照射する処理が行われる。また、窒素イオン照射工程S120では、複数回に分けて段階的に、フラーレン20を塗布した基材10の表面に窒素イオンを照射する。本実施形態では、0.01eVのイオン運動エネルギーで窒素イオンを複数回照射し、その後0.1eVのイオン運動エネルギーで窒素イオンを複数回照射し、さらにその後1.0eVのイオン運動エネルギーで窒素イオンを複数回照射する。なお、詳しくは後述するものの、フラーレン20に窒素イオンを照射することによって、アモルファスカーボン25が生成される。除電工程S130は、窒素イオン照射工程S120で生成されたアモルファスカーボン25を除電する工程である。より具体的には、除電工程S130では、アモルファスカーボン25を接地するアース回路を設けることによって、アモルファスカーボン25を除電し、不純物26を排気手段等によってアモルファスカーボン25から除去する処理が行われる。フラーレン類塗布工程S140は、アモルファスカーボン25の表面にフラーレン30を塗布する工程である。つまり、フラーレン類塗布工程S140では、フラーレン類塗布工程S110と略同様の処理が行われる。加熱工程S150は、フラーレン30が塗布された基材10及びアモルファスカーボン25を加熱する工程である。より具体的には、加熱工程S150では、フラーレン30が塗布されたアモルファスカーボン25及び基材10を400°C以上で加熱する処理が行われる。図2~5を用いて、表面処理工程S100の作用について説明する。なお、表面処理工程S100の作用については、ステップ毎に説明するものとする。図2を用いて、イオン化運動エネルギーと不純物除去との相関について説明する。なお、図2では、横軸がイオン運動エネルギーeVを示し、縦軸が不純物除去率を示している。一般的に、不純物除去率は、イオン運動エネルギーの増加に従って、対数的に増加することが分かっている。また、フラーレン20がアモルファス化するためには、1.0eVのイオン運動エネルギーが必要であることが分かっている。言い換えれば、0.1eV以下のイオン運動エネルギーでは、フラーレン20がアモルファス化しない。図3を用いて、フラーレン類塗布工程S110及び窒素イオン照射工程S120の作用について説明する。なお、図3Aは、フラーレン類塗布工程S110の作用を模式的に示し、図3Bは、窒素イオン照射工程S120の作用を模式的に示している。フラーレン類塗布工程S110においては、不純物26を含んだフラーレン20が塗布される。このとき、フラーレン20は、基材10の表面にのみ存在している。窒素イオン照射工程S120においては、0.01eVのイオン運動エネルギーで窒素イオンが複数回照射される。このとき、上述したように、0.01eVのイオン運動エネルギーでは、不純物26を完全に除去することができず、かつ、フラーレン20を完全にアモルファス化することができない図2参照。このように、不純物26を完全に除去することができず、かつ、フラーレン20を完全にアモルファス化することができない状態では、不純物26が雰囲気中に飛散する。雰囲気中で飛散する不純物26は、排気手段等によって排気される。次に、窒素イオン照射工程S120においては、0.1eVのイオン運動エネルギーで窒素イオンが複数回照射される。このとき、上述したように、0.1eVのイオン運動エネルギーでは、不純物26を十分に除去することができ、かつ、フラーレン20を完全にアモルファス化することができない図2参照。このように、不純物26を十分に除去することができ、かつ、フラーレン20を完全にアモルファス化することができない状態では、不純物26が雰囲気中にさらに飛散する。雰囲気中で飛散する不純物26は、排気手段等によって排気される。次に、窒素イオン照射工程S120においては、1.0eVのイオン運動エネルギーで窒素イオンが複数回照射される。このとき、上述したように、1.0eVのイオン運動エネルギーでは、不純物26を完全に除去することができ、かつ、フラーレン20をアモルファス化することができる図2参照。このように、フラーレン20をアモルファス化することができる状態では、アモルファスカーボン25が生成される。また、フラーレン類塗布工程S110では、基材10の表面にフラーレン20の粉末が10nm以上であって20μm以下の厚みとなるように塗布されているので、塗布された全てのフラーレン20がアモルファスカーボン25として生成され、基材10の表面にてアモルファスカーボン25が生成しない箇所が発生しない。図4を用いて、除電工程S130の作用について説明する。なお、図4A及び図4Bは、共に除電工程S130の作用を模式的に示している。除電工程S130では、アース回路による除電によって、アモルファスカーボン25の内部または表面におけるナノ分子レベルの不純物26が除去される。アモルファスカーボン25の内部または表面における不純物26は、分子間力のみで結合しているため、除電することによって除去されやすくなる。除電工程S130で除去された不純物26は、排気手段等によって排気される。図5を用いて、フラーレン類塗布工程S140及び加熱工程S150の作用について説明する。なお、図5Aは、フラーレン類塗布工程S140の作用を模式的に示し、図4Bは、加熱工程S150の作用を模式的に示している。フラーレン類塗布工程S140においては、フラーレン30が塗布される。加熱工程S150においては、フラーレン30が塗布されたアモルファスカーボン25が400°C以上で加熱され、フラーレン30が固体から気体へと昇華し、アモルファスカーボン25に浸炭する。すなわち、加熱によって、アモルファスカーボン25が緻密化される。このようにして、基材10とアモルファスカーボン25との結合が強固となり、アモルファスカーボン25が基材10から剥離することが顕著に抑制される。表面処理工程S100の効果について説明する。表面処理工程S100によれば、薄い膜厚で密着性の高い膜を形成できる。すなわち、フラーレン類塗布工程S110、窒素イオン照射工程S120及び除電工程S130の処理によって、基材10に塗布したフラーレン20をアモルファスカーボン25とすることによって、薄い膜厚の膜を形成できる。また、フラーレン類塗布工程S140及び加熱工程S150の処理によって、再度フラーレン30を浸炭させることによって、密着性の高い膜を形成できる。また、窒素イオン照射工程S120では、段階的にイオン化運動エネルギーを増加させて窒素イオンをフラーレン20に照射することで、不純物26を含んでアモルファス化することがなく、不純物26を効率的に飛散させることができる。さらに、フラーレン類塗布工程S110では、除電工程S130で不純物26を除去するため、純度の高いフラーレンを用いる必要がなく、材料コストを低減できる。また、除電工程S130で不純物26を除去するため、膜の高品質化及び耐久性を向上できる。