チャンバと、前記チャンバ内に設けられたステージと、前記ステージ上に配置された基板と、前記チャンバ内に設けられたインクジェットヘッドとを備える印刷塗布装置で、前記インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法であって、a前記ステージ上に前記基板を配置する工程と、b前記チャンバ内の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程と、c前記b工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の外周部に前記インクを塗布する工程と、d前記c工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧にする工程と、e前記d工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の前記外周部よりも内側領域である内周部に、前記c工程で使用したインクと同一種類の前記インクを塗布する工程とを備えることを特徴とする印刷塗布方法。請求項1記載の印刷塗布方法であって、前記c工程で使用する前記インクジェットヘッドと、前記e工程で使用する前記インクジェットヘッドとは同一のインクジェットヘッドであることを特徴とする印刷塗布方法。請求項1記載の印刷塗布方法であって、前記基板はガラス基板であることを特徴とする印刷塗布方法。請求項3記載の印刷塗布方法であって、前記膜は、液晶表示装置に使用する配向膜であることを特徴とする印刷塗布方法。請求項4記載の印刷塗布方法であって、前記基板は、薄膜トランジスタが形成されたガラス基板であることを特徴とする印刷塗布方法。請求項4記載の印刷塗布方法であって、前記基板は、カラーフィルタが形成されたガラス基板であることを特徴とする印刷塗布方法。第1チャンバと、前記第1チャンバ内に設けられた第1ステージと、前記第1チャンバ内に設けられた第1インクジェットヘッドと、第2チャンバと、前記第2チャンバ内に設けられた第2ステージと、前記第2チャンバ内に設けられた第2インクジェットヘッドとを備える印刷塗布装置で、前記第1インクジェットヘッドおよび前記第2インクジェットヘッドを使用することにより、基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法であって、a前記第1チャンバ内に設けられている前記第1ステージ上に前記基板を配置する工程と、b前記第1チャンバの内部の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程と、c前記b工程後、前記第1チャンバ内に設けられている前記第1インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板の外周部に前記インクを塗布する工程と、d前記c工程後、前記外周部に前記インクを塗布した前記基板を前記第1チャンバから搬出する工程と、e前記d工程後、内部の圧力が大気圧にある第2チャンバ内に設けられている前記第2ステージ上に前記基板を配置する工程と、f前記e工程後、前記第2チャンバ内に設けられている前記第2インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板の前記外周部の内側領域である内周部に前記インクを塗布する工程とを備え、前記c工程において、前記基板の前記外周部に塗布される前記インクと、前記f工程において、前記基板の前記内周部に塗布される前記インクとは、同一種類のインクであることを特徴とする印刷塗布方法。チャンバと、前記チャンバ内に設けられたステージと、前記ステージ上に配置された基板と、前記チャンバ内に設けられたインクジェットヘッドとを備える印刷塗布装置で、前記インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法であって、a前記ステージ上に前記基板を配置する工程と、b前記チャンバ内の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程と、c前記b工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の第1領域に前記インクを塗布する工程と、d前記c工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧にする工程と、e前記d工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の前記第1領域と異なる第2領域に、前記c工程で使用したインクと同一種類の前記インクを塗布する工程とを備えることを特徴とする印刷塗布方法。請求項8記載の印刷塗布方法であって、前記第1領域の面積は、前記第2領域の面積よりも小さいことを特徴とする印刷塗布方法。請求項9記載の印刷塗布方法であって、前記第1領域は、前記基板の外周部であり、前記第2領域は、前記基板の前記外周部よりも内側領域の内周部であることを特徴とする印刷塗布方法。各種の表示素子や半導体装置などは、色々な種類の薄膜を用いて構成されている。これらの薄膜のうち、以下、液晶表示装置における配向膜を一例に挙げて説明する。薄型軽量や低消費電力という商品として大きな長所を持つ液晶表示装置は、携帯電話機、パーソナルコンピュータ、あるいは、薄型テレビの主流として大きな発展を遂げている。液晶表示装置は、電極が形成された二枚のガラス基板の間に液晶組成物を挟持し、両者の電極間での電圧印加により、液晶の分子配列を変化させて、光を直進させたり、遮ったりする現象を利用し、偏光板との組合せにより、画像を表示している。このとき、配向膜は、液晶が分子配列を規定する役割を有している。すなわち、液晶分子にプレチルト角液晶分子の分子軸と配向膜表面とのなす角を予め与える際、配向膜の薄膜表面が重要な役割をもち、薄膜形成後、布などで軽く摩擦することラビング処理によって、一定方向の液晶の分子配列が実現する。均一な表示をする上でも、配向膜の役割は重要で、配向膜の平坦性が要求されている。また、液晶の分子配列の状況は、明るさや視野角等の表示性能と深い関係があり、これらの特性改善のために、配向膜を平坦性よく成膜することが重要な課題となっている。つまり、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することが液晶表示装置の特性を向上させる上で重要となってくる。また、液晶表示装置では、表示面積を大きくするため、ガラス基板のうち液晶表示部が形成されない額縁領域をできるだけ狭くする要求がある。したがって、上述した配向膜をガラス基板に塗布する配向膜塗布工程においても、配向膜が形成されない額縁領域をできるだけ狭くする必要がある。配向膜塗布工程は、例えば、フレキソ印刷技術やインクジェット印刷技術により実施されるが、現状のフレキソ印刷技術や、常圧下大気圧下でのインクジェット印刷技術では、配向膜の端面における位置精度の問題から、額縁領域を狭くすることを実現できていない。一方、減圧下30kpaでのインクジェット印刷技術では、配向膜の印刷位置精度を向上することができるため、額縁領域を狭くすることはできるが、ガラス基板にスルーホールやパターン段差があると、これらの影響を受けて、配向膜の表面に凹凸ができてしまう問題点がある。つまり、減圧下でのインクジェット印刷技術では、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができない結果、液晶表示装置に表示ムラを発生させる原因を生じさせる問題点がある。本発明の目的は、例えば、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を提供することにある。本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。代表的な実施の形態における印刷塗布方法は、チャンバと、前記チャンバ内に設けられたステージと、前記ステージ上に配置された基板と、前記チャンバ内に設けられたインクジェットヘッドとを備え、前記インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法に関する。具体的な印刷塗布方法は、a前記ステージ上に前記基板を配置する工程と、b前記a工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程とを備える。そして、c前記b工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の外周部に前記インクを塗布する工程と、d前記c工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧にする工程とを備える。さらに、e前記d工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の前記外周部よりも内側領域である内周部に、前記c工程で使用したインクと同一種類の前記インクを塗布する工程とを備えることを特徴とするものである。また、代表的な実施の形態における印刷塗布方法は、第1チャンバと、前記第1チャンバ内に設けられた第1ステージと、前記第1チャンバ内に設けられた第1インクジェットヘッドと、第2チャンバと、前記第2チャンバ内に設けられた第2ステージと、前記第2チャンバ内に設けられた第2インクジェットヘッドとを備え、前記第1インクジェットヘッドおよび前記第2インクジェットヘッドを使用することにより、基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法に関するものである。そして、この印刷塗布方法は、a前記第1チャンバ内に設けられている前記第1ステージ上に前記基板を配置する工程と、b前記a工程後、前記第1チャンバの内部の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程とを備える。そして、c前記b工程後、前記第1チャンバ内に設けられている前記第1インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板の外周部に前記インクを塗布する工程と、d前記c工程後、前記外周部に前記インクを塗布した前記基板を前記第1チャンバから搬出する工程とを備える。次に、e前記d工程後、内部の圧力が大気圧にある第2チャンバ内に設けられている前記第2ステージ上に前記基板を配置する工程と、f前記e工程後、前記第2チャンバ内に設けられている前記第2インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板の前記外周部の内側領域である内周部に前記インクを塗布する工程とを備える。ここで、前記c工程において、前記基板の前記外周部に塗布される前記インクと、前記f工程において、前記基板の前記内周部に塗布される前記インクとは、同一種類のインクであることを特徴とするものである。また、代表的な実施の形態における印刷塗布方法は、チャンバと、前記チャンバ内に設けられたステージと、前記ステージ上に配置された基板と、前記チャンバ内に設けられたインクジェットヘッドとを備え、前記インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法に関する。この印刷塗布方法は、a前記ステージ上に前記基板を配置する工程と、b前記a工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程とを備える。そして、c前記b工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の第1領域に前記インクを塗布する工程と、d前記c工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧にする工程とを備える。さらに、e前記d工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の前記第1領域と異なる第2領域に、前記c工程で使用したインクと同一種類の前記インクを塗布する工程とを備えることを特徴とするものである。本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。例えば、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を提供することができる。以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数等個数、数値、量、範囲等を含むに言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でもよい。さらに、以下の実施の形態において、その構成要素要素ステップ等も含むは、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうではないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。また、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。なお、図面をわかりやすくするために平面図であってもハッチングを付す場合がある。実施の形態1<液晶表示装置の外観構成>液晶表示装置は、例えば、パーソナルコンピュータやワードプロセッサなどのディスプレイ装置をはじめとして、テレビジョンや携帯電話機の表示装置として幅広く使用されている。図1は、本実施の形態1における液晶表示装置LCDの外観構成の一例を示す図である。図1において、本実施の形態1における液晶表示装置LCDは、液晶表示部DUと、半導体チップCHPと、フレキシブル基板FSとを有している。液晶表示部DUは、画像を表示する表示部として機能し、複数の液晶表示素子から構成されている。半導体チップCHPは、液晶表示部DUを構成する複数の液晶表示素子を駆動するように構成されており、半導体チップCHPには、液晶表示部DUで画像が表示できるように制御する集積回路が形成されている。この半導体チップCHPは、液晶表示部DUを構成する複数の液晶表示素子のオン/オフを制御する機能を有し、LCDドライバと呼ばれるものである。また、フレキシブル基板FSには、多くの電子部品が搭載されており、液晶表示装置LCDを制御するように構成されている。具体的にフレキシブル基板FSには、CPUやメモリを形成した半導体チップ半導体装置や、抵抗や容量素子やインダクタといった受動素子が複数搭載されている。このフレキシブル基板FSに搭載された電子回路によって、例えば、LCDドライバである半導体チップCHPが制御され、さらに、この半導体チップCHPによって液晶表示部DUの駆動制御が行われて、液晶表示部DUに画像が表示されるように構成されている。本実施の形態1における液晶表示装置LCDは、上記のように構成されており、次に、液晶表示部DUの詳細な構成について説明する。<液晶表示部の構成>図2は、液晶表示部DUの構成を示す図である。図2に示すように、液晶表示部DUは、複数の液晶表示素子から構成されており、液晶表示部DUは、以下のような構成をしている。すなわち、まず、液晶表示部DUは、例えば、冷陰極蛍光管からなるバックライトBLを有しており、このバックライトBL上に偏光板PL1を有している。そして、偏光板PL1上にTFTガラス基板TSが配置され、このTFTガラス基板TS上には、スペースを介してカラーフィルタガラス基板CSが配置されている。さらに、カラーフィルタガラス基板CS上に偏光板PL2が配置されており、TFTガラス基板TSとカラーフィルタガラス基板CSの間に設けられているスペースにはスペーサ図示せずと液晶LCが注入されている。液晶LCとは、液体と固体の中間的な性質を有する物質である。結晶とは、分子や原子が互いに規則的に結合した状態の物質をいい、液体とは、分子や原子がそれぞればらばらに配置され、分子や原子が不規則に並んでいる状態の物質をいう。これに対し、液晶LCとは、結晶と液体の中間的な配列をしている物質であり、液体でありながら固体のような振る舞いもする物質として定義される。つまり、液晶LCを構成する分子や原子は基本的に液体のように不規則に配置されているが、ある一定方向には、結晶のように規則的に揃って配置されているのである。すなわち、液晶LCは、結晶よりも規則性は低いが、液体よりも規則性が高い状態の物質として定義される。このような液晶LCには、様々な種類の液晶が存在する。例えば、液晶LCを構成する長い分子が長軸方向に揃っており、長軸方向に揃った分子が上下方向に層を形成した液晶LCは、スメクティック液晶と呼ばれ、単に、分子の長軸方向がある方向に揃っているという規則性を有する液晶LCは、ネマテック液晶と呼ばれる。さらに、コレスティック液晶と呼ばれる種類の液晶LCも存在する。このように液晶LCには、分子配列の規則性の違いにより複数の種類が存在することがわかる。上述した液晶LCは、TFTガラス基板TSおよびカラーフィルタガラス基板CSで挟まれた構造をしている。この液晶LCを挟んでいるTFTガラス基板TSおよびカラーフィルタガラス基板CSの構成について説明する。まず、TFTガラス基板TSは、偏光板PL1上に形成されたガラス基板GS1と、このガラス基板GS1上に配置されたTFTアレイTFAと、TFTアレイTFA上に配置された配向膜AF1を有している。ガラス基板GS1は、液晶表示装置LCDの表示性能を確保する必要があるため、一般的な窓ガラスなどと異なり、非常に表面が平滑で、かつ、表面にうねりなどがないことが要求される。つまり、ガラス基板GS1は、非常に平坦度の高いガラス基板から構成される。さらに、液晶表示部DUに使用されるガラス基板GS1は、一般的な窓ガラスと成分上の相違点も存在する。例えば、一般的な窓ガラスには、ナトリウムが多く含まれているが、ガラス基板GS1中にナトリウムが存在すると、ガラス基板GS1に含まれているナトリウムが不純物として溶け出し、ガラス基板GS1の表面に形成するTFT薄膜トランジスタThinFilmTransistorに悪影響を及ぼすことになる。このため、液晶表示部DUに使用されるガラス基板GS1には、非常に平坦性の高いガラス基板が使用されるととともに、いわゆる無アルカリガラスやシリカガラスなどが使用される。続いて、ガラス基板GS1上には、TFTアレイTFAが形成されている。このTFTアレイTFAは、画素液晶表示素子ごとに形成された薄膜トランジスタTFTと、ITO電極ITO1とを有している。液晶LCを駆動させるためには、液晶LCの上下に電圧を印加する必要があり、液晶LCの上下に電圧を印加するため、ガラス基板GS1に電極を形成する必要がある。しかし、電極といっても、通常の金属電極を形成すると、通常の金属電極は光を透過させることができない。このため、液晶表示部DUを構成するガラス基板GSには、光を透過する物質で透明電極を形成する必要がある。このことから、ガラス基板GS上にITO電極ITO1が形成されている。つまり、ITO電極ITO1は、光を透過させることができる透明電極であるため、液晶表示部DUに使用されている。このITO電極ITO1は、インジウムと、抵抗を下げるための少量のすずの酸化物を薄膜化し、液晶LCに接する側のガラス基板GS1上に貼り付けられている。ITO電極ITO1は、インジウムすず酸化物の頭文字をとってITO電極ITO1と呼ばれているが、透明で電気をよく通すという観点からでは、安価な酸化すずだけから構成することも可能である。しかし、実際には、電極自体をパターニングする必要があり、このパターニングする際の加工性が酸化すずの場合、あまりよくないのである。したがって、ガラス基板GS1上に形成する透明電極は、パターニングする際の加工性が良好なインジウムを採用したITO電極ITO1が使用されているのである。上述したように、液晶LCの上下に電圧を印加することにより、液晶LCを駆動させる。つまり、液晶LCの上下に形成されている透明電極ITO電極に電圧を印加すると、液晶分子がまっすぐに立ち上がることを利用して液晶LCを駆動させる。したがって、液晶分子を必要な時間だけ立たせておくためには、透明電極に電荷を充分に溜めておくことが望ましい。このように透明電極に充分な電荷を溜める観点から、薄膜トランジスタTFTが形成されているのである。すなわち、薄膜トランジスタTFTとITO電極ITO1とは電気的に接続されており、薄膜トランジスタTFTがオンすると、オンした薄膜トランジスタTFTを介して、ITO電極ITO1へ電流が流れてITO電極ITO1に電荷が蓄積される。そして、この状態で、薄膜トランジスタTFTをオフすることにより、ITO電極ITO1に蓄積された電荷は、そのまま、ITO電極ITO1内に留まる。この結果、必要な時間だけITO電極ITO1に電荷を蓄積することができ、これにより、液晶分子を必要な時間だけ確実に立たせることができるのである。したがって、薄膜トランジスタTFTを設けることにより、液晶LCを充分に駆動させることができることがわかる。続いて、TFTアレイTFAを形成したガラス基板GS1上には、配向膜AF1が形成されている。この配向膜AF1は、例えば、ポリイミド膜から形成されており、液晶分子の並ぶ方向を揃える役割を有している膜である。つまり、TFTアレイTFAを形成したガラス基板GS1の表面にポリイミド膜を形成し、このポリイミド膜に対してラビング処理を施すことにより配向膜AF1を形成することができる。ラビングとは擦るという意味であり、ナイロンなどでできたロール刷毛でポリイミド膜の表面を擦ると、擦ったところに微細な傷ができる。これにより、ポリイミド膜の表面に形成された微細な傷に沿って平行に液晶分子が並ぶというものである。したがって、配向膜AF1とは、ポリイミド膜の表面にラビング処理で微細な傷を形成した膜であり、液晶分子の並ぶ方向を揃える機能を有している。以上のようにしてTFTガラス基板TSが形成されている。次に、カラーフィルタガラス基板CSの構成について説明する。まず、液晶LCに接するように配向膜AF2が形成されている。この配向膜AF2も、例えば、ポリイミド膜から形成されており、液晶分子の並ぶ方向を揃える役割を有している。つまり、カラーフィタガラス基板CSの液晶LCと接する側の表面にポリイミド膜を形成し、このポリイミド膜に対してラビング処理を施すことにより配向膜AF2を形成することができる。ラビングとは擦るという意味であり、ナイロンなどでできたロール刷毛でポリイミド膜の表面を擦ると、擦ったところに微細な傷ができる。これにより、ポリイミド膜の表面に形成された微細な傷に沿って平行に液晶分子が並ぶというものである。したがって、配向膜AF2とは、ポリイミド膜の表面にラビング処理で微細な傷を形成した膜であり、液晶分子の並ぶ方向を揃える機能を有している。続いて、配向膜AF2上にITO電極ITO2が形成されている。液晶LCを駆動させるためには、液晶LCの上下に電圧を印加する必要があり、液晶LCの上下に電圧を印加するため、カラーフィルタガラス基板CSにも電極を形成する必要がある。しかし、電極といっても、通常の金属電極を形成すると、通常の金属電極は光を透過させることができない。このため、液晶表示部DUを構成するカラーフィルタガラス基板CSにも、光を透過する物質で透明電極を形成する必要がある。このことから、カラーフィルタガラス基板CS上にITO電極ITO2が形成されている。つまり、ITO電極ITO2は、光を透過させることができる透明電極であるため、液晶表示部DUに使用されている。このITO電極ITO2は、インジウムと、抵抗を下げるための少量のすずの酸化物を薄膜化し、液晶LCに接する配向膜AF2上に形成されている。このようにして、TFTガラス基板TSに形成されているITO電極ITO1と、カラーフィルタガラス基板CSに形成されているITO電極ITO2により、液晶LCは挟まれることになる。この結果、液晶LCの上下に電圧を印加することができ、液晶LCを駆動させることができることがわかる。次に、ITO電極ITO2上には、カラーフィルタCFが形成されている。例えば、このカラーフィルタCFにより、3つの画素で1つの色情報を表すことができる。具体的には、3つの画素に、それぞれ、3原色の1つに対応した小さなフィルタをかけることにより、任意の色を表示することができるように構成されている。例えば、ある色を表示するためには、その色を赤Rと緑Gと青Bの三原色の成分に分解し、それぞれを白黒の画素でその明るさを表示し、その白黒表示に対して、赤の成分に対応する画素には赤のフィルタ、緑の成分に対応する画素には緑のフィルタ、青の成分に対応する画素には青のフィルタをかける。この結果、それらの3原色が加法混色されて、もとの色が再現されるというものである。このようにカラーフィルタCFを設けることにより、液晶表示装置LCDに表示する画像のカラー化を実現することができる。そして、カラーフィルタCF上にガラス基板GS2が配置されている。ガラス基板GS2もガラス基板GS1と同様に、液晶表示装置LCDの表示性能を確保する必要があるため、一般的な窓ガラスなどと異なり、非常に表面が平滑で、かつ、表面にうねりなどがないことが要求される。つまり、ガラス基板GS2も、非常に平坦度の高いガラス基板から構成される。以上のようにして、カラーフィルタガラス基板CSが形成されている。<液晶表示部の動作>本実施の形態1における液晶表示部DUは上記のように構成されており、以下に、液晶表示部DUの動作について図面を参照しながら説明する。具体的に、本実施の形態1では、ネマテック液晶を使用した動作について説明する。ネマテック液晶とは、長い形の分子がある方向に揃っている液晶であり、この揃っている方向をダイレクタと呼ぶ。まず、図2に示すように、TFTガラス基板TSとカラーフィルタガラス基板CSの間に液晶LCを挟むように入れておく。そして、TFTガラス基板TSに接する領域において、液晶LCはTFTガラス基板TSと平行に液晶分子が寝ているようにする。つまり、液晶LCのダイレクタがTFTガラス基板TSに平行になるようにしておく。一方、カラーフィルタガラス基板CSにおいても同様に、カラーフィルタガラス基板CSに平行に液晶分子が寝ている状態にする。このとき、TFTガラス基板TS上で寝ている液晶分子の方向と、カラーフィルタ基板CSの下でカラーフィルタ基板CSと平行になっている液晶分子の方向とを90度変えておく。この場合、TFTガラス基板TS上からカラーフィルタガラス基板CS下に行くに従って、液晶分子の向く方向は次第にねじれていき、TFTガラス基板TSに接する領域における液晶分子の向いている方向と、カラーフィルタガラス基板CSに接する領域における液晶分子の向いている方向とは、90度ねじれることになる。上述した構成を前提として、図3に示すように、液晶LCを挟むように偏光板PL1と偏光板PL2が配置されており、偏光板PL1で透過する光の振動方向a方向と、偏光板PL2で透過する光の振動方向b方向は互いに直交するように偏光板PLと偏光板PL2が配置されている。このとき、図3に示すように、偏光板PL1の表面において、液晶分子の揃っている方向は、偏光板PL1が通過させる光の振動方向と同じ方向になるように液晶分子が配置されている。つまり、液晶分子は、偏光板PL1を透過する光の振動方向と同じ向きに揃っているのである。同様に、偏光板PL2についても、同じように液晶分子の揃っている方向を、偏光板PL2が透過する光の振動方向と平行になるように配置する。ここで、偏光板PL1と偏光板PL2とは、通過させる光の振動方向が互いに直角となっていることから、液晶LCが存在しなければ、バックライトから偏光板PL1に入射した光は、偏光板PL2を透過できないと考えられる。ところが、偏光板PL1と偏光板PL2に挟まれた液晶LCを構成する液晶分子は、偏光板PL1と偏光板PL2の間で、偏光板PL1を透過する光の振動方向から偏光板PL2を透過する光の振動方向へ次第に向きを変えている。つまり、液晶分子は、偏光板PL1から偏光板PL2に向うに連れて並び方液晶分子が揃っている方向が90度変化する。この結果、バックライトから偏光板PL1に光を入射すると、偏光板PL1を通過した光偏光光は、液晶分子のねじれた並び方に沿って進み、光の振動方向が90度変えられた状態で偏光板PL2に到達する。このとき、偏光板PL2に到達した光の振動方向は、液晶分子のねじれた並び方によって、偏光板PL2を透過する光の振動方向と同じ方向に変えられているので、偏光板PL2を透過する。すなわち、バックライトから偏光板PL1に入射した光は、液晶分子によって振動方向が90度変化し、その結果、偏光板PL2を透過することができるのである。このように、液晶LCにおける光の振動方向を変える性質は施光性と呼ばれる。すなわち、ネマテック液晶では、液晶分子の並び方をねじらせることにより、互いに直交する偏光板PL1と偏光板PL2の間で光を透過させることができるのである。以上のように、液晶LCに電圧を印加しない状態では、光が透過できるようになっている。したがって、本実施の形態1における液晶表示装置では、液晶LCに電圧を印加しない場合、画素を白表示させることがわかる。続いて、液晶LCを挟む上下電極図2のITO電極ITO1とITO電極ITO2に電圧を印加する場合を考える。この場合、図4に示すように、液晶LCを構成する液晶分子は、ねじれた並び方を解消し、偏光板PL1および偏光板PL2に対して、垂直にまっすぐ立つようになる。この結果、液晶分子の施光性は失われ、偏光板PL1を通過した光は、液晶LC内を通過しても、なんら振動方向を変えることなく、偏光板PL2に達する。ここで、偏光板PL1を通過する光の振動方向と、偏光板PL2を通過する光の振動方向は、直交しているので、偏光板PL1を通過した後、振動方向を変えることなく、偏光板PL2に達した光は、偏光板PL2を通過することができない。したがって、液晶LCを挟む上下電極図2のITO電極ITO1とITO電極ITO2に電圧を印加した画素は黒表示になることがわかる。以上のように、液晶LCを挟む上下電極図2のITO電極ITO1とITO電極ITO2に電圧を印加しない場合には、白表示を行うことができる一方、液晶LCを挟む上下電極図2のITO電極ITO1とITO電極ITO2に電圧を印加する場合には、黒表示を行うことができることがわかる。この結果、画素ごとに白表示や黒表示を行うことにより、任意の文字や図形を画面上に表示させることができるのである。上述したように、液晶LCを挟む上下電極図2のITO電極ITO1とITO電極ITO2に電圧を印加しない場合、TFTガラス基板TS上からカラーフィルタガラス基板CS下に行くに従って、液晶分子の向く方向を次第にねじらせる必要がある。具体的には、TFTガラス基板TSに接する領域における液晶分子の向いている方向と、カラーフィルタガラス基板CSに接する領域における液晶分子の向いている方向とを、90度ねじれるように液晶分子を配置する必要がある。このような液晶分子の配置を実現することが画像表示を行う観点から重要であるが、この液晶分子の配置は配向膜を利用することにより実現することができる。具体的に、図3や図4に示す配向膜AF1は、TFTガラス基板TSの表面にポリイミド膜を形成し、このポリイミド膜に対してラビングすることにより形成することができる。同様に、図3や図4に示す配向膜AF2は、カラーフィルタガラス基板CSの表面のポリイミド膜を形成し、このポリイミド膜に対してラビングすることにより形成することができる。ラビングとは擦るという意味であり、ナイロンなどでできたロール刷毛でポリイミド膜の表面を擦ると、擦ったところに微細な傷ができる。これにより、ポリイミド膜の表面に形成された微細な傷に沿って平行に液晶分子が並ぶという性質を利用して、液晶分子の配置方向を制御するものである。したがって、例えば、TFTガラス基板TSに形成されているポリイミド膜の擦る方向と、カラーフィルタガラス基板CSに形成されているポリイミド膜の擦る方向とを、ちょうど90度違うようにすることにより、液晶分子の並ぶ方向を、TFTガラス基板TSとカラーフィルタガラス基板CSの間で次第に90度変化するようにすることができるのである。以上のことから、配向膜AF1および配向膜AF2の役割は重要であり、本実施の形態1における技術的思想は、この配向膜AF1および配向膜AF2の製造工程に関するものである。<液晶表示装置の製造方法>以下では、液晶表示装置の製造方法について図面を参照しながら説明する。図5は、液晶表示装置を製造する製造工程の流れを示すフローチャートである。まず、図5に示すTFTガラス基板とカラーフィルタガラス基板をガラス基板から形成する。具体的には、ガラス基板を用意し、このガラス基板に対して、洗浄技術、フォトリソグラフィ技術、エッチング技術およびアッシング技術を繰り返し使用することにより、ガラス基板に薄膜トランジスタを形成する。これにより、ガラス基板の表面に薄膜トランジスタを形成したTFTガラス基板を得ることができるS101。続いて、TFTガラス基板に対して洗浄処理を実施した後S102、TFTガラス基板の表面に、例えば、ポリイミド膜からなる配向膜を塗布するS103。その後、配向膜を形成したTFTガラス基板の表面をラビングするS104。これにより、所定方向に揃った微細な傷を有する配向膜をTFTガラス基板の表面に形成することができる。そして、TFTガラス基板に対してラビングを実施した後、TFTガラス基板の表面を洗浄するS105。その後、TFTガラス基板の表面にシール剤を塗布するS106。一方、ガラス基板を用意し、このガラス基板に対して、ブラックマトリックスを形成した後、顔料分散法、染色法、電着法あるいは印刷法などを使用することにより、ガラス基板にカラーフィルタを形成する。これにより、ガラス基板の表面にカラーフィルタを形成したカラーフィルタガラス基板を得ることができるS107。続いて、カラーフィルタガラス基板に対して洗浄処理を実施した後S108、カラーフィルタガラス基板の表面に、例えば、ポリイミド膜からなる配向膜を塗布するS109。その後、配向膜を形成したカラーフィルタガラス基板の表面をラビングするS110。これにより、所定方向に揃った微細な傷を有する配向膜をカラーフィルタガラス基板の表面に形成することができる。そして、カラーフィルタガラス基板に対してラビングを実施した後、カラーフィルタガラス基板の表面を洗浄するS111。その後、カラーフィルタガラス基板の表面にスペーサを塗布するS112。次に、シール剤と塗布したTFTガラス基板と、スペーサを塗布したカラーフィルタガラス基板とを貼り合せた後S113、貼り合せたTFTガラス基板とカラーフィルタガラス基板に対してスクライブ分断するS114。これにより、貼り合せたTFTガラス基板とカラーフィルタガラス基板は、個々の液晶表示装置のサイズに切断されることになる。その後、シール剤とスペーサによって確保されているTFTガラス基板とカラーフィルタガラス基板との間の隙間に液晶を注入するS115。そして、液晶を注入した隙間空間を封止するS116。続いて、貼り合せたTFTガラス基板とカラーフィルタガラス基板を挟むように一対の偏光板を貼り付けた後S117、検査を実施するS118。このようにして液晶パネルを製造することができる。そして、製造された液晶パネルに対して、液晶パネルを駆動するための駆動回路を圧着した後S119、さらに、液晶パネルにバックライトを着装するS120。次に、バックライトおよび駆動回路を実装した液晶パネルに対して検査を実施しS121、最終的に、液晶表示装置が完成するS122。以上のようにして、液晶表示装置を製造することができる。本実施の形態1では、上述した液晶表示装置の製造工程のうち、TFTガラス基板の表面に配向膜を塗布する配向膜塗布工程S103やカラーフィルタガラス基板の表面に配向膜を塗布する配向膜塗布工程S109に着目する。つまり、本実施の形態1における技術的思想は、配向膜塗布工程S103、S109で実施される。以下では、まず、配向膜塗布工程S103、S109での現状の問題点を説明し、その後、その問題点を解決する工夫を施した本実施の形態1における技術的思想について説明する。<配向膜塗布工程における現状の問題点>液晶表示装置、特に、中小型の液晶表示装置では、表示面積をできるだけ確保する観点から、ガラス基板のうち液晶表示部が形成されない額縁領域をできるだけ狭くする要求がある。具体的には、額縁領域の幅を1mm程度にする要求があるが、現状の配向膜塗布工程では、額縁領域の幅を2mm程度にすることが限界である。以下に、現状の配向膜塗布工程について図面を参照しながら説明する。まず、第1現状技術について説明する。図6は、配向膜塗布工程で使用する第1現状技術を示す模式図である。この第1現状技術は、フレキソ印刷装置を使用した技術である。図6に示すように、フレキソ印刷装置を使用した第1現状技術では、ローラ形状をしたフレキソ印刷装置FPに、例えば、ポリイミドを含むインクINKを垂らしながら、ローラ形状のフレキソ印刷装置FPをガラス基板GSTFTガラス基板あるいはカラーフィルタガラス基板を総称してガラス基板GSと呼ぶ上を転がす。これにより、ガラス基板GS上にインクINKを付着させて、インクINKからなる配向膜AFをガラス基板GS上に塗布する。この第1現状技術では、ガラス基板GSに形成されているスルーホールやパターン段差例えば、薄膜トランジスタの形成パターンに起因した凹凸形状NFがあっても、配向膜AFの平坦性を確保することができる。しかし、フレキソ印刷装置FPにインクINKを垂らしながら、フレキソ印刷装置FPを回転させてガラス基板GS上に配向膜AFを塗布する構成であるため、材料であるインクINKの材料使用効率が悪いという問題点がある。さらに、重要な問題点は、フレキソ印刷装置FPの回転精度やフレキソ印刷装置FPに垂らすインクINKの位置精度などから、ガラス基板GSの額縁領域の幅L1を2mm程度確保する必要がある点である。つまり、フレキソ印刷装置FPを使用した第1現状技術では、額縁領域の幅を2mm程度にすることが限界であり、額縁領域の幅を1mm程度にする要求を満たすことができない問題点がある。この結果、表示面積をできるだけ大きくした液晶表示装置を製造することが困難となる。次に、第2現状技術について説明する。図7は、配向膜塗布工程で使用する第2現状技術を示す模式図である。この第2現状技術は、常圧大気圧下でのインクジェット装置を使用した技術である。図7に示すように、大気圧下でのインクジェット装置を使用した第2現状技術では、インクジェットヘッドIJHの噴射孔HLからインクINKをガラス基板GSに向って噴射することにより、ガラス基板GSに配向膜AFを塗布する。この第2現状技術では、大気圧下でインクINKを噴射しているため、ガラス基板GSに塗布されたインクINKが乾くまである程度時間がかかる。このため、ガラス基板GSに形成されているスルーホールやパターン段差例えば、薄膜トランジスタの形成パターンに起因した凹凸形状NFがあっても、ガラス基板GSに塗布されたインクINKがレベリング平坦化し、配向膜AFの平坦性を確保することができる。しかし、大気圧下でインクINKを噴射しているため、噴射孔HLから射出されるインクINKが大気による流れゆらぎによって影響を受けやすくなる。つまり、大気の影響により、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの飛び方にばらつきが生じやすくなるため、ガラス基板GSの額縁領域の幅L1を2mm程度確保する必要がある。つまり、大気圧下でのインクジェット装置を使用した第2現状技術でも、額縁領域の幅を2mm程度にすることが限界であり、額縁領域の幅を1mm程度にする要求を満たすことができない問題点がある。この結果、表示面積をできるだけ大きくした液晶表示装置を製造することが困難となる。続いて、第3現状技術について説明する。図8は、配向膜塗布工程で使用する第3現状技術を示す模式図である。この第3現状技術は、減圧下例えば、30kpaでのインクジェット装置を使用した技術である。図8に示すように、減圧下でのインクジェット装置を使用した第3現状技術では、インクジェットヘッドIJHの噴射孔HLからインクINKをガラス基板GSに向って噴射することにより、ガラス基板GSに配向膜AFを塗布する。この第3現状技術では、減圧下でインクINKを噴射しているため、噴射孔HLから射出されるインクINKが空気による流れゆらぎの影響を受けにくくなる。つまり、減圧状態にあるため、空気の影響が小さくなり、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの飛び方にばらつきが生じにくくなる。このため、印刷塗布精度を向上させることができ、ガラス基板GSの額縁領域の幅L2を1mm程度にする要求を満たすことができる。しかし、この第3現状技術では、減圧下でインクINKを噴射しているため、ガラス基板GSに塗布されたインクINKの速乾性が高くなる。このため、ガラス基板GSに形成されているスルーホールやパターン段差例えば、薄膜トランジスタの形成パターンに起因した凹凸形状NFがあると、ガラス基板GSに塗布されたインクINKがレベリングする前にインクINKが乾燥し、配向膜AFの表面に凹凸形状NFを反映した凹凸が形成されてしまう問題点がある。このように配向膜AFの表面に凹凸が発生すると、液晶表示装置に表示ムラを発生させる原因となり、液晶表示装置の性能低下を招くことになる。以上のことから、上述した第1現状技術~第3現状技術では、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を実現できていないことがわかる。そこで、本実施の形態1における印刷塗布方法では、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる工夫を施している。以下に、この工夫を施した本実施の形態1における印刷塗布方法について説明する。<本実施の形態1における印刷塗布装置>まず、本実施の形態1における印刷塗布方法で使用するインクジェット塗布装置印刷塗布装置IJAの構成について説明する。図9は、本実施の形態1におけるインクジェット塗布装置IJAの構成を示す図である。図9に示すように、本実施の形態1におけるインクジェット塗布装置IJAは、チャンバ筐体CBを有し、このチャンバCB内にステージSTおよびインクジェットヘッドIJHが配置されている。そして、ステージSTは、基板を配置できるように構成されており、ステージSTは基板を配置した状態で水平方向に移動できるようになっている。一方、ステージSTの上方には、インクジェットヘッドIJHが配置されており、このインクジェットヘッドIJHからインクが噴射されて、ステージST上に配置された基板にインクからなる配向膜を塗布印刷することができるように構成されている。そして、ステージSTおよびインクジェットヘッドIJHが配置されているチャンバCB内は、例えば、真空ポンプなどによって30kpa程度の減圧下することができるとともに、大気圧常圧状態に維持することもできるように構成されている。つまり、本実施の形態1におけるインクジェット塗布装置IJAは、30kpa程度の減圧下や大気圧下常圧下の両方で動作できるように構成されている。<本実施の形態1における印刷塗布方法>本実施の形態1におけるインクジェット塗布装置IJAは上記のように構成されており、以下にその動作について説明する。このインクジェット塗布装置IJAにおける動作を説明することにより、本実施の形態1における印刷塗布方法が説明される。図10は、本実施の形態1におけるインクジェット塗布装置IJAでの動作を説明するフローチャートである。この図10に示すフローチャートを参照しながら、本実施の形態1におけるインクジェット塗布装置IJAの動作について説明する。まず、インクジェット塗布装置IJA内に設けられているステージST上にガラス基板を配置するS201。ガラス基板は、例えば、薄膜トランジスタが形成されたTFTガラス基板や、カラーフィルタが形成されたカラーフィルタガラス基板である。したがって、このガラス基板の表面にはスルーホールやパターン段差例えば、薄膜トランジスタのパターンによる段差が存在し、凹凸形状が形成されている。続いて、チャンバCB内の圧力を減圧化する。具体的には、例えば、真空ポンプなどによって、チャンバCB内の圧力を30kpa程度に減圧するS202。なお、先にチャンバCB内の圧力を減圧してから、インクジェット塗布装置IJA内に設けられているステージST上にガラス基板を配置してもよい。その後、チャンバCB内を減圧下に維持した状態で、ステージST上に配置されているガラス基板の外周部にだけインクを塗布するS203。例えば、インクジェットヘッドIJHの噴射孔から噴射するインクを制御することにより、ガラス基板の外周部にだけインクを塗布する。これにより、ガラス基板の外周部にだけ配向膜が塗布印刷される。次に、例えば、チャンバCB内を開放することにより、チャンバCB内の圧力を常圧化大気圧化するS204。そして、チャンバCB内の圧力を常圧下大気圧下に維持した状態で、ステージST上に配置されているガラス基板の内周部にインクを塗布するS205。例えば、インクジェットヘッドIJHの噴射孔から噴射するインクを制御することにより、ガラス基板の内周部インクを塗布する。これにより、ガラス基板の外周部だけでなく、外周部の内側領域である内周部にも配向膜が塗布印刷される。以上のようにして、ガラス基板上に配向膜を塗布することができる。以下では、図11を参照しながら、本実施の形態1における印刷塗布方法について、さらに詳細に説明する。まず、インクジェット塗布装置内に設けられているステージ上にガラス基板を配置した後、チャンバ内の圧力を減圧化する。具体的には、例えば、真空ポンプなどによって、チャンバ内の圧力を30kpa程度に減圧する。そして、図11の左図に示すように、チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部にだけインクINKを塗布する。例えば、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの噴射を制御することにより、ガラス基板GSの外周部にだけインクINKを塗布印刷する。このとき、インクINKは、減圧状態でインクジェットヘッドIJHの噴射孔HLから噴射されるので、噴射孔HLから射出されるインクINKが空気による流れゆらぎの影響を受けにくくなる。つまり、減圧状態にあるため、空気の影響が小さくなり、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの飛び方にばらつきが生じにくくなる。このため、印刷塗布精度を向上させることができ、ガラス基板GSの額縁領域の幅L2を狭く1mm程度することができる。つまり、本実施の形態1の特徴は、まず、減圧状態で、インクジェットヘッドIJHの噴射孔HLからインクINKを噴射し、ガラス基板GSの外周部にインクINKからなる配向膜AFを形成する点にある。これにより、第1に、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの噴射の際、空気の流れゆらぎによる影響を受けにくくなるので、位置精度良くガラス基板GSの外周部にインクINKを印刷することができる。さらに、第2に、ガラス基板GSに塗布されたインクINKは、減圧状態に置かれているので、速乾性が高く、ガラス基板GSに塗布された後、直ぐに乾燥する。このため、インクINKは、ガラス基板GSに塗布された後に移動することなく固まるので、設定された塗布位置からずれることを抑制できる。このように本実施の形態1によれば、減圧下でインクジェットヘッドIJHからインクINKを噴射することにより、空気の流れゆらぎによる影響を受けにくくなるという第1利点と、速乾性が高く、ガラス基板GSに塗布された後、直ぐに乾燥するので位置ずれが起きにくいという第2利点により、精度良くガラス基板GSの外周部に配向膜AFを塗布することができる。この結果、本実施の形態1によれば、ガラス基板GSの外周部の外側となる額縁領域の幅L2例えば、1mm程度をきわめて狭くすることができる。続いて、チャンバ内の圧力を大気圧常圧に回復した後、図11の右図に示すように、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部よりも内側領域である内周部にインクINKを塗布する。例えば、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの噴射を制御することにより、ガラス基板GSの内周部にインクINKを塗布印刷する。このとき、インクINKは、大気圧状態でインクジェットヘッドIJHの噴射孔HLから噴射されるので、噴射孔HLから射出されるインクINKが空気による流れゆらぎの影響を受けやすくなるが、既に、ガラス基板GSの外周部には減圧下で塗布した配向膜AFが形成されているので、この外周部に形成された配向膜AFが、例えば土手BKとして機能し、内周部に塗布されたインクINKが外周部の外側に漏れ出ることを防止できる。すなわち、既に、外周部に形成された配向膜AFが、内周部に塗布されたインクINKが外周部よりも外側にはみでることを防止できるので、ガラス基板GSの外周部の外側に形成されている額縁領域と配向膜AFが形成されている領域との境界領域の位置精度は、減圧下で外周部に形成された配向膜AFにより規定されることになる。この結果、配向膜AFの外側境界を精度良く位置決めされることになるので、額縁領域を狭くすることができる。一方、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部よりも内側領域である内周部にインクINKを塗布する場合、ガラス基板GSに塗布されたインクINKが乾くまで、減圧状態よりも、より時間がかかる。このため、ガラス基板GSに形成されているスルーホールやパターン段差例えば、薄膜トランジスタの形成パターンに起因した凹凸形状NFがあっても、ガラス基板GSに塗布されたインクINKがレベリング平坦化し、配向膜AFの平坦性を確保することができるのである。以上のように本実施の形態1では、まず、減圧状態でガラス基板GSの外周部にインクジェットヘッドIJHによってインクINKを噴射して配向膜AFを形成することにより、精度良くガラス基板GSの外周部に配向膜AFを形成することができる。したがって、本実施の形態1における印刷塗布方法によれば、外周部に形成される配向膜AFの位置精度を向上させることができるので、額縁領域の幅L2を狭くすることができる。この結果、液晶表示装置の表示領域を大きくすることができる。一方で、ガラス基板GSの外周部よりも内側領域である内周部においては、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、内周部にインクINKを塗布することができる。したがって、減圧状態よりも速乾性を低くして乾きにくくできるため、インクINKの液状状態を長くすることができ、ガラス基板GSの凹凸を吸収して、配向膜AFの表面の平坦性を向上することができる。つまり、大気圧下でインクINKを塗布印刷することにより、液状化したインクINKのレベリング平坦化機能を充分に発揮させることができるので、凹凸が存在するガラス基板GSの内周部に形成される配向膜AFの表面での平坦性を向上させることができる。したがって、本実施の形態1における印刷塗布方法によれば、ガラス基板GSの額縁領域をできるだけ狭くすることができ、かつ、ガラス基板GSに形成される配向膜AFの平坦性を向上させることができるという従来技術では実現できない顕著な効果を得ることができるのである。この結果、本実施の形態1によれば、まず、額縁領域をできるだけ狭くすることができるので、液晶表示装置の表示面積を大きくすることができる。そして、ガラス基板GSに形成される配向膜AFの平坦性を向上させることができるので、配向膜AFの表面の凹凸に起因した表示ムラを抑制することができ、液晶表示装置の性能向上を図ることができる。本実施の形態1における技術的思想は、減圧下でインクジェットヘッドIJHからインクINKを噴射する印刷塗布方法の利点である位置精度良く配向膜AFを形成できる第1特徴点と、大気圧下でインクジェットヘッドIJHからインクINKを噴射する印刷塗布方法の利点であるガラス基板GSの凹凸に関係なく配向膜AFの平坦性を向上できる第2特徴点を最大限に発揮できるように構成している点に特徴がある。つまり、本実施の形態1では、上述した第1特徴点を考慮して、ガラス基板GSの外周部だけに位置精度良く配向膜AFを形成できれば、額縁領域をできるだけ狭くできる点に着目し、かつ、上述した第2特徴点を考慮して、凹凸のあるガラス基板GSの内周部だけにレベリング機能を充分発揮できればよい点に着目して、本実施の形態1における印刷塗布方法を実現しているものである。言い換えれば、減圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットは、インクINKの速乾性が高く、ガラス基板GSの凹凸を反映して配向膜AFが形成されてしまう点を的確に把握し、凹凸のないガラス基板の外周部にだけ配向膜AFを形成する場合には、減圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットが顕在化しないという点に着目している。そして、大気圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットは、塗布するインクINKの位置精度が良くない点を的確に把握し、額縁領域との境界領域であるガラス基板GSの外周部ではなく、内周部にだけ配向膜AFを形成する場合には、大気圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットは顕在化しないという点に着目している。これにより、本実施の形態1における印刷塗布方法は、減圧下でのインクジェット塗布方法のメリットと、大気圧下でのインクジェット塗布方法のメリットとを充分に発揮させるとともに、減圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットと、大気圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットが顕在化しないように構成された優れた技術的思想となっている。<本実施の形態1における効果>本実施の形態1における効果をまとめると以下のようになる。1減圧状態でガラス基板GSの外周部にインクジェットヘッドIJHによってインクINKを噴射して、配向膜AFを形成することにより、精度良くガラス基板GSの外周部に配向膜AFを形成することができる。したがって、本実施の形態1における印刷塗布方法によれば、外周部に形成される配向膜AFの位置精度を向上させることができるので、額縁領域の幅L2を狭くすることができる。この結果、液晶表示装置の表示領域を大きくすることができる。2ガラス基板GSの外周部よりも内側領域である内周部においては、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、内周部にインクINKを塗布することができる。したがって、減圧状態よりも速乾性を低くして乾きにくくできるため、インクINKの液状状態を長くすることができ、ガラス基板GSの凹凸を吸収して、配向膜AFの表面の平坦性を向上することができる。つまり、大気圧下でインクINKを塗布印刷することにより、液状化したインクINKのレベリング平坦化機能を充分に発揮させることができるので、凹凸が存在するガラス基板GSの内周部に形成される配向膜AFの表面での平坦性を向上させることができる。3本実施の形態1における印刷塗布方法によれば、上述した1と2の効果を同時に得ることができる。つまり、本実施の形態1における印刷塗布方法によれば、ガラス基板GSの額縁領域をできるだけ狭くすることができ、かつ、ガラス基板GSに形成される配向膜AFの平坦性を向上させることができるという従来技術では実現できない顕著な効果を得ることができる。4さらに、本実施の形態1によれば、減圧状態でガラス基板GSの外周部にインクジェットヘッドIJHによってインクINKを噴射する場合と、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、内周部にインクINKを塗布する場合の両方で、同一種類のインクINKを使用することができる。このことから、複数種類のインクINKを使用しなくてもよいので、液晶表示装置のコスト削減を図ることができる。例えば、本実施の形態1は、減圧状態と常圧状態で同一種類のインクINKを使用した場合に、インクINK自体の乾燥性を相違させることができる点に着目した技術的思想である。この技術的思想によれば、使用するインクINKを一種類にすることができるので、液晶表示装置のコストを削減できる顕著な効果を得ることができる。これに対し、例えば、圧力は一定にして、乾燥性の異なる複数種類のインクを使用する技術も考えられる。すなわち、速乾性の高いインクを使用してガラス基板の外周部に配向膜を形成し、その後、速乾性の低いインクを使用してガラス基板の内周部に配向膜を形成することも考えられる。しかし、この技術の場合、性質の異なる複数種類のインクが必要となるため、液晶表示装置のコストが上昇してしまう。したがって、減圧状態と常圧状態で同一種類のインクINKを使用することにより、インクINK自体の乾燥性を相違させるという本実施の形態1における技術的思想は、額縁領域の幅を狭くし、かつ、液晶表示装置の性能向上を図るとともに、液晶表示装置のコスト削減も図ことができる点からも優れた技術的思想であるということができる。5また、本実施の形態1で使用するガラス基板GSは、TFTガラス基板でもよいし、カラーフィルタガラス基板であってもよいが、特に、TFTガラス基板に使用する場合に顕著な効果を得ることができる。なぜなら、TFTガラス基板には、薄膜トランジスタやスルーホールなどが形成されており、カラーフィルタガラス基板よりも表面の凹凸形状が大きくなる傾向があるからである。つまり、このように凹凸形状の大きなTFTガラス基板でも、本実施の形態1における印刷塗布方法を適用することにより、TFTガラス基板上に平坦性の高い配向膜AFを形成することができるのである。<本実施の形態1の変形例>次に、本実施の形態1の変形例1について説明する。図12は、変形例1における印刷塗布方法を示す図である。本変形例1においても、まず、インクジェット塗布装置内に設けられているステージ上にガラス基板を配置した後、チャンバ内の圧力を減圧化する。具体的には、例えば、真空ポンプなどによって、チャンバ内の圧力を30kpa程度に減圧する。そして、図12の左図に示すように、チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部と縦方向に延在する中心線に沿ってインクINKを塗布する。例えば、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの噴射を制御することにより、ガラス基板GSの外周部と縦方向に延在する中心線に沿ってインクINKを塗布印刷する。これにより、ガラス基板GSの外周部に配向膜AFからなる土手BK1を形成することができるとともに、ガラス基板GSの縦方向に延在する中心線上に配向膜AFからなる土手BK2を形成することができる。このとき、インクINKは、減圧状態でインクジェットヘッドIJHの噴射孔HLから噴射されるので、噴射孔HLから射出されるインクINKが空気による流れゆらぎの影響を受けにくくなる。つまり、減圧状態にあるため、空気の影響が小さくなり、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの飛び方にばらつきが生じにくくなる。このため、印刷塗布精度を向上させることができ、ガラス基板GSの額縁領域の幅L2を狭く1mm程度することができる。続いて、チャンバ内の圧力を大気圧常圧に回復した後、図12の右図に示すように、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部土手BK1と縦方向に延在する中心線土手BK2によって区分けされた内周部にインクINKを塗布する。例えば、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの噴射を制御することにより、ガラス基板GSの内周部にインクINKを塗布印刷する。このとき、インクINKは、大気圧状態でインクジェットヘッドIJHの噴射孔HLから噴射されるので、噴射孔HLから射出されるインクINKが空気による流れゆらぎの影響を受けやすくなるが、既に、ガラス基板GSの外周部には減圧下で塗布した配向膜AFが形成されているので、この外周部に形成された配向膜AFが、例えば土手として機能し、内周部に塗布されたインクINKが外周部の外側に漏れ出ることを防止できる。ここで、本変形例1では、図12の左図に示すように、ガラス基板GSに土手BK1と土手BK2が形成されており、特に、ガラス基板GSの内周部は土手BK2によって区切られている。すなわち、ガラス基板GSの内周部は、土手BK2によって小さな領域に分割2分割されていることになる。この結果、本変形例1によれば、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの内周部にインクINKを塗布する場合、土手BK2によって区切られた小さな領域ごとにインクINKが塗布される。このため、本変形例1によれば、液状のインクINKがレベリング平坦化しやすくなるという利点が得られる。続いて、本実施の形態1の変形例2について説明する。図13は、変形例2における印刷塗布方法を示す図である。本変形例2においても、まず、インクジェット塗布装置内に設けられているステージ上にガラス基板を配置した後、チャンバ内の圧力を減圧化する。具体的には、例えば、真空ポンプなどによって、チャンバ内の圧力を30kpa程度に減圧する。そして、図13の左図に示すように、チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部と縦方向に延在する中心線と横方向に延在する中心線に沿ってインクINKを塗布する。例えば、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの噴射を制御することにより、ガラス基板GSの外周部と縦方向に延在する中心線と横方向に延在する中心線に沿ってインクINKを塗布印刷する。これにより、ガラス基板GSの外周部に配向膜AFからなる土手BK1を形成することができるとともに、ガラス基板GSの縦方向に延在する中心線上に配向膜AFからなる土手BK2を形成することができる。さらに、ガラス基板GSの横方向に延在する中心線上に配向膜AFからなる土手BK3を形成することができる。このとき、インクINKは、減圧状態でインクジェットヘッドIJHの噴射孔HLから噴射されるので、噴射孔HLから射出されるインクINKが空気による流れゆらぎの影響を受けにくくなる。つまり、減圧状態にあるため、空気の影響が小さくなり、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの飛び方にばらつきが生じにくくなる。このため、印刷塗布精度を向上させることができ、ガラス基板GSの額縁領域の幅L2を狭く1mm程度することができる。続いて、チャンバ内の圧力を大気圧常圧に回復した後、図12の右図に示すように、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部土手BK1と縦方向に延在する中心線土手BK2と横方向に延在する中心線土手BK3によって区分けされた内周部にインクINKを塗布する。例えば、インクジェットヘッドIJHからのインクINKの噴射を制御することにより、ガラス基板GSの内周部にインクINKを塗布印刷する。このとき、インクINKは、大気圧状態でインクジェットヘッドIJHの噴射孔HLから噴射されるので、噴射孔HLから射出されるインクINKが空気による流れゆらぎの影響を受けやすくなるが、既に、ガラス基板GSの外周部には減圧下で塗布した配向膜AFが形成されているので、この外周部に形成された配向膜AFが、例えば土手として機能し、内周部に塗布されたインクINKが外周部の外側に漏れ出ることを防止できる。ここで、本変形例2では、図13の左図に示すように、ガラス基板GSに土手BK1と土手BK2と土手BK3が形成されており、特に、ガラス基板GSの内周部は土手BK2と土手BK3によって区切られている。すなわち、ガラス基板GSの内周部は、土手BK2と土手BK3によって小さな領域に分割4分割されていることになる。この結果、本変形例2によれば、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの内周部にインクINKを塗布する場合、土手BK2と土手BK3によって区切られた小さな領域ごとにインクINKが塗布される。このため、本変形例2によれば、液状のインクINKがレベリング平坦化しやすくなるという利点が得られる。以上のように説明した変形例1および変形例2を考慮すると、本願発明の技術的思想は、チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの第1領域例えば、外周部と縦方向に延在する中心線と横方向に延在する中心線に沿ってインクINKを塗布する工程を備える。そして、その後、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの第2領域例えば、外周部土手BK1と縦方向に延在する中心線土手BK2と横方向に延在する中心線土手BK3によって区分けされた内周部にインクINKを塗布する工程を備える。このとき、第1領域は、額縁領域と外周部の境界線境界領域や、内周部を分割する線領域として規定され、第2領域は、分割された内周部内の領域として規定される。したがって、例えば、第1領域の面積は、第2領域の面積よりも小さくなっているということができる。実施の形態2前記実施の形態1では、同一のインクジェット塗布装置を使用することにより、チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板の外周部に沿ってインクを塗布する第1工程と、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの内周部にインクを塗布する第2工程とを実施する例について説明した。本実施の形態2では、第1工程を実施するインクジェット塗布装置と、第2工程を実施するインクジェット塗布装置とを異なる装置とする例について説明する。本実施の形態2では、第1工程を実施するインクジェット塗布装置第1インクジェット塗布装置と、第2工程を実施するインクジェット塗布装置第2インクジェット塗布装置とは異なる装置であるが、それぞれのインクジェット塗布装置の構成は、前記実施の形態1で説明した図9に示すインクジェット塗布装置IJAと同様の構成をしている。以下に、本実施の形態2における印刷塗布方法について図14を参照しながら説明する。図14は、本実施の形態2における印刷塗布方法を説明するためのフローチャートである。図14に示すように、まず、第1インクジェット塗布装置の第1チャンバ内に設けられている第1ステージ上にガラス基板を配置するS301。ガラス基板は、例えば、薄膜トランジスタが形成されたTFTガラス基板や、カラーフィルタが形成されたカラーフィルタガラス基板である。したがって、このガラス基板の表面にはスルーホールやパターン段差例えば、薄膜トランジスタのパターンによる段差が存在し、凹凸形状が形成されている。続いて、第1チャンバ内の圧力を減圧化する。具体的には、例えば、真空ポンプなどによって、第1チャンバ内の圧力を30kpa程度に減圧するS302。その後、第1チャンバ内を減圧下に維持した状態で、第1ステージ上に配置されているガラス基板の外周部にだけインクを塗布するS303。例えば、インクジェットヘッドの噴射孔から噴射するインクを制御することにより、ガラス基板の外周部にだけインクを塗布する。これにより、ガラス基板の外周部にだけ配向膜が塗布印刷される。次に、第1インクジェット塗布装置の第1チャンバ内からガラス基板を搬出するS304。そして、搬出したガラス基板を常圧下になる第2インクジェット塗布装置の第2チャンバ内に搬入するS305。続いて、第2チャンバ内の第2ステージ上にガラス基板を配置するS306。その後、第2チャンバ内の圧力を常圧下大気圧下に維持した状態で、第2ステージ上に配置されているガラス基板の内周部にインクを塗布するS307。例えば、インクジェットヘッドの噴射孔から噴射するインクを制御することにより、ガラス基板の内周部インクを塗布する。これにより、ガラス基板の外周部だけでなく、外周部の内側領域である内周部にも配向膜が塗布印刷される。以上のようにして、ガラス基板上に配向膜を塗布することができる。本実施の形態2においても、前記実施の形態1と同様の効果を得ることができる。1例えば、減圧状態でガラス基板の外周部にインクジェットヘッドによってインクを噴射して、配向膜を形成することにより、精度良くガラス基板の外周部に配向膜を形成することができる。したがって、本実施の形態2における印刷塗布方法によれば、外周部に形成される配向膜の位置精度を向上させることができるので、額縁領域の幅を狭くすることができる。この結果、液晶表示装置の表示領域を大きくすることができる。2ガラス基板の外周部よりも内側領域である内周部においては、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、内周部にインクを塗布することができる。したがって、減圧状態よりも速乾性を低くして乾きにくくできるため、インクの液状状態を長くすることができ、ガラス基板の凹凸を吸収して、配向膜の表面の平坦性を向上することができる。つまり、大気圧下でインクを塗布印刷することにより、液状化したインクのレベリング平坦化機能を充分に発揮させることができるので、凹凸が存在するガラス基板の内周部に形成される配向膜の表面での平坦性を向上させることができる。3本実施の形態2における印刷塗布方法によれば、上述した1と2の効果を同時に得ることができる。つまり、本実施の形態2における印刷塗布方法によれば、ガラス基板の額縁領域をできるだけ狭くすることができ、かつ、ガラス基板に形成される配向膜の平坦性を向上させることができるという従来技術では実現できない顕著な効果を得ることができる。以上、本発明者によってなされた発明をその実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。前記実施の形態では、インクジェット塗布装置を使用して基板に膜を印刷する印刷塗布方法の一例として、ガラス基板に配向膜を塗布する例について説明したが、本願発明の技術的思想は、これに限らず、インクジェット塗布装置を使用して基板に膜を印刷する印刷塗布方法に幅広く適用することができる。