舌清掃装置のヘッド部分であって、清掃突起を有する機械的舌清掃部と、動作中に使用者の舌に電流を流すための舌清掃電極と、を備えたヘッド部分。前記機械的舌清掃部及び前記舌清掃電極は、動作中に前記使用者の舌と同時に接触し得るように配置されている、請求項1に記載のヘッド部分。前記舌清掃電極は、層状電極である、請求項1に記載のヘッド部分。前記機械的舌清掃部が延在する領域が、前記舌清掃電極が延在する領域と少なくとも部分的に空間的に重なり合っている、請求項1に記載のヘッド部分。前記清掃突起は、円弧状のリブである、請求項1に記載のヘッド部分。前記清掃突起は、軟質プラスチック材料で形成されている、請求項1に記載のヘッド部分。前記舌清掃電極は、前記機械的舌清掃部の少なくとも一部を形成している、請求項1に記載のヘッド部分。前記舌清掃電極は、前記清掃突起の少なくとも一部を形成している、請求項1に記載のヘッド部分。前記清掃突起は、約0.1mm~約2mmの範囲の高さを有している、請求項1に記載のヘッド部分。前記清掃突起は、約0.1mm~約3mmの範囲の幅を有している、請求項1に記載のヘッド部分。前記機械的舌清掃部は、約5個の突起/cm2~約50個の突起/cm2の密度で配置されている複数の清掃突起を有している、請求項1に記載のヘッド部分。前記複数の清掃突起は、前記舌清掃電極の構造体によって形成されており、前記舌清掃電極上に配置された電気絶縁性材料によって互いから分離されている、請求項11に記載のヘッド部分。少なくとも1個の前記清掃突起の面積と、前記舌清掃電極の全体の面積と、の比が、約1~約50の範囲である、請求項8に記載の舌清掃装置のヘッド部分。前記舌清掃電極が配置されている部分の前記ヘッド部分の全体の厚さが、約15mmよりも小さい、請求項1に記載のヘッド部分。舌清掃装置であって、機械的舌清掃部と、動作中に使用者の舌に電流を流すための舌清掃電極と、を有するヘッド部分と、ハンドル部分と、使用状態において使用者の体内に電流を流す接触電極と、エネルギー源と、を備え、前記エネルギー源は、使用状態において、前記使用者の体を通じて前記接触電極と前記舌清掃電極との間に電流が流れるように、前記接触電極及び前記舌清掃電極に電気的に接続されている舌清掃装置。公知の舌クリーナーでは、舌の清掃後においても舌の乳頭間のくぼみ及び亀裂内に細菌の相当な部分が残留して悪臭を放つという問題が依然として存在している。一実施形態では、舌清掃装置のヘッド部分が提供される。ヘッド部分は、機械的舌清掃部及び舌清掃電極を備える。機械的舌清掃部は清掃突起を有する。舌清掃電極は、動作中に使用者の舌内に電流を流す。別の実施形態では、舌清掃装置が提供される。舌清掃装置は、機械的舌清掃部と、動作中に使用者の舌に電流を流すための舌清掃電極と、を有するヘッド部分を備える。装置は更に、ハンドル部分、使用状態において使用者の体内に電流を流す接触電極、及びエネルギー源を備える。エネルギー源は、使用状態において、使用者の体を通じて接触電極と舌清掃電極との間に電流が流れるように、接触電極及び舌清掃電極に電気的に接続されている。別の実施形態では、ヒト又は動物の舌を清掃するための方法が提供される。本方法は、イオン性抗菌剤を舌に近接して供給する工程と、第1の電極から舌へ、更に舌を通じて電流を供給する工程とを含み、この電流はイオン性抗菌剤によって少なくとも部分的に供給される。本方法は更に、舌を機械的に擦る工程を含み、この工程は電流を供給する工程と同時に行われることが好ましい。特定の実施形態のこれらの特徴、態様及び利点、並びに他の特徴、態様及び利点は、本開示を読むことで当業者には明らかとなるであろう。以下の文章において、本開示の多くの異なる実施形態について一般的に説明する。この説明文は、あくまで例示的なものとして解釈されるべきものであり、考えられるすべての実施形態を説明することは不可能ではないにしても現実的とは言えないので、考えられるすべての実施形態を説明することはしない。本明細書に述べられる任意の機構、特性、要素、組成物、成分、生成物、工程、若しくは方法は省略してもよく、本明細書に述べられる他の任意の機構、特性、要素、組成物、成分、生成物、工程、若しくは方法と組み合わせるか、又はこれらと全体的若しくは部分的に置き換えることができることは理解されるであろう。最新の技術又は本特許の出願日よりも後で開発された技術を用いて、多くの代替的な実施形態を実施することが可能であるが、このような実施形態はやはり特許請求の範囲に含まれるものである。本明細書において引用する刊行物及び特許はすべて、本明細書に援用するものである。本開示によれば、舌のより効果的な清掃を可能とする舌清掃装置が提供されることが望ましい。この要求は、本開示に基づく舌清掃装置のヘッド部分によって満たされる。一実施形態によれば、開示される舌清掃装置又は対応するヘッド部分は、少なくとも1個の清掃突起を有する機械的舌清掃部と、使用時に使用者の舌に電流を流す舌清掃電極と、を備える。本開示に基づく舌清掃装置のヘッド部分は、舌を機械的に擦るだけでなく、電気泳動に基づいて電気的に行われる清掃プロセスをも可能とするものである。一実施形態によれば、舌清掃装置は、ヘッド部分と、更に、使用時に使用者の体を通じて電流を流す接触電極通常は手であるが、電流は接触電極の位置に応じて使用者の唇を通じても流れ得る、及び作動時にハンドル部分の電極から使用者の体を通じてヘッド部分の電極に又はその逆に電流が流れるように、接触電極及び舌清掃装置に電気的に接続されたエネルギー源を有するハンドル部分と、を備える。本明細書において使用するところの電気的に接続されたなる用語には、電気的接続を選択的にオン又はオフに切り換えるための選択要素、例えばオン/オフボタンが電気的接続中に存在するような実施形態が含まれる。ハンドル部分に接触電極が、ヘッド部分に舌清掃電極が配置されることにより、一方の電極から他方の電極へと使用者の体を通じて電流を流すことが可能である。舌上の細菌は、細菌と接触させられると抗菌特性を示す抗菌剤含有イオンによって処理され得る。抗菌剤は、例えば使用者の口腔内に適用される歯磨き剤又はリンスのような洗浄物質中に与えることができる。一実施形態では、洗浄物質又は抗菌剤は、舌清掃装置の一体部分として、例えば舌清掃電極に近接して配置されたゲルクッション中に与えることができる。別の実施形態では、細菌を、抗菌物質を添加せずにイオン化水によって攻撃することができる。別の実施形態では、舌清掃電極は、例えば舌清掃電極が銀又は銀含有合金で形成されている場合には、それ自体が抗菌イオンを与え得る。このように、機械的な摩擦と、抗菌イオンの細菌への効果的な輸送と、の組み合わせによって、舌の清掃効果を効果的に高めることが可能となる。一実施形態では、舌と接触する舌清掃電極の表面及び機械的舌清掃部は、それらの表面の法線が使用時において少なくとも部分的に同じ方向、すなわち、舌の方向を向くように、ヘッド部分の同じ側面上に配置される。別の言い方をすれば、舌清掃電極及び機械的舌清掃部は、これらが使用者の舌に同時に接触するように配置される。印加される電流の極性は、舌のくぼみ及び亀裂内に抗菌剤の効果的な流れを供給するために、抗菌剤の電荷によって決められることは言うまでもない。例えば、正に帯電したイオンカチオンが用いられる場合には、舌にカチオンを効果的に移動させるために、舌清掃電極は正に帯電接触電極に対してしていなければならない。電流の強さ及び極性は、例えば舌清掃装置に設けられた1乃至複数の制御要素によって、使用者により手で調節することができる。電流の強さを低くして使用者を装置に慣れさせ、その後、最適の強さを選択することができる。使用者の舌が非常に敏感である場合には、電流の強さを低くすることが可能であり、あるいは使用者が強い悪臭に悩んでいる場合には、より高い電流の強さを使用することができる。一実施形態では、印加される電流は一定の直流である。また、舌清掃効果を最適化するために、交流又はパルス電流を使用することもできる。別の実施形態では、直流の極性の周期的な変化を利用することもできる。使用者の体に流れる電流を生理的に無害なレベル、又は使用者に快適なレベルに制限するために、電流を限定するようにエネルギー源を配置することができる。一実施形態では、エネルギー源によって使用者の体を通じて供給される電流は、約20μA~約700μAの範囲であり、別の実施形態では約50μA~約400μAの範囲である。本発明者らの経験では、約80μAよりも高いレベルでは、使用者に不快な感覚がもたらされ、電気が流れる感じ及び/又は酸っぱい味、場合によっては痛みがもたらされるようである。しかしながら、高いレベルのイオン電流の印加が、このような舌清掃装置の効率を高めるうえで望ましい場合がある。したがって、こうした装置及び方法の使用者に不快な感覚を引き起こすことなく高いイオン微少電流レベルを実現することが可能な舌清掃装置が望ましい。例えば、所定の時間にわたって開始電流から終了電流まで微少電流のレベルを増大させる、傾斜電流制御を使用することができる。一実施形態では、電極間に印加される電位差は、約8Vから約20Vの範囲である。詳細には、印加される電位差は、8V、10V、12V、14V、16V、18V又は20Vの値を有する。更なる実施形態では、舌清掃電極は層状電極である。ここで言う層状なる用語は、舌清掃電極が構造化されていないことを意味する。舌清掃電極が、例えば舌清掃装置の外表面に適合するような曲率を有することを除外するものではない。一実施形態では、機械的舌清掃部が延在する領域は、舌清掃電極が延在する領域と少なくとも部分的に空間的に重なり合う。これにより、ヘッド部分の機械的舌清掃部によって舌を機械的に擦る際に、電気泳動による上記の清掃プロセスを実現するための電流を同時に舌に確実に印加することができる。更なる実施形態では、ヘッド部分の機械的舌清掃部の領域と舌清掃電極の領域とは同じであり、全体にわたって重なり合う。別の実施形態では、機械的舌清掃部は複数の清掃突起を有する。これらの清掃突起は、舌から細菌を機械的に除去するために、舌を効果的に擦ることを可能とする様々な設計を有し得る。清掃突起は、リブ又はこぶの形状を有し得るが、これはあらゆる他の形状の使用を除外するものではない。本明細書の目的においては、清掃突起なる用語からは、例えば歯ブラシの毛として使用されるフィラメントのようなフィラメントは除外される。フィラメントは、本明細書において用いられる定義に基づく清掃突起と比較した場合、折り曲げに対してより高い自由度を有している。これに対して清掃突起は、支持体の運動に追従し、舌を効率的に擦るのに充分な力を伝達する機能を有している。本開示の具体的な応用においては、大きな折曲性はその機能を損なうものである。本開示の意味における清掃突起は支持体の運動に追従し、内部屈曲はまったく生じないか又はごくわずかである。ナイロン又は他のプラスチック材料で形成された歯ブラシのフィラメントは、通常、約400~約800Hzの自然高調波を有する。これは周知の下式によって計算することができる。式中、Eはヤング率であり、Iは断面積の二次モーメントであり、kは固定及び自由振動としての境界条件を記述する形状係数であり、ρは密度であり、Aはフィラメントの断面積であり、Lはフィラメント又はビームの長さである。不均一な直径を有する複雑な構造の固有振動数は、有限要素モデリング法によって計算することができる。清掃突起は一般的にそれ自体の内部で大きな運動は可能ではなく、したがってフィラメントよりも大幅に高い固有振動数を有する。本明細書において使用するところの清掃突起は、約1200Hzよりも高い固有振動数を有し、別の実施形態では、約2000Hzよりも高い固有振動数を有し、更なる別の実施形態では、約3000Hzよりも高い固有振動数を有する。更なる実施形態では、清掃突起の固有振動数は約4000Hz以上であり、別の実施形態では約5000Hzよりも高い。このような高い固有振動数は極めて高い内部剛性につながり、清掃突起は大きく折れ曲がることなく支持体の運動に追従する。例えば、一端が固定され、他端が自由に振動する円筒状ビームとして処理された長さ5mm、直径0.15mm、及びヤング率が3000N/mm2の、ナイロンで形成された円筒状の清掃突起は、1400Hzの固有振動数を有する。2.5mmの長さでは、固有振動数は5690Hzとなる。一実施形態では、清掃突起は弾性プラスチック材料で形成される。いくつかの実施形態では、清掃突起は電気絶縁材料で形成される。清掃突起は、舌清掃電極の幅にわたって延在してもよい。その場合、清掃突起は、舌清掃電極と使用者の舌との間でスペーサー要素として機能することで、舌清掃電極と舌との直接的接触を少なくとも部分的に防止する。更なる一実施形態では、舌清掃電極は、例えばリブ状に形成された多数の電気絶縁性清掃突起によって部分的に覆われた層状電極として実現される。上から見た場合に、機械的舌清掃部の清掃突起は格子を形成する。一実施形態では、舌清掃電極は、金属、特に貴金属、例えば銀、ステンレス鋼など、導電性プラスチック、又はこれらの組み合わせからなる群から選択される材料を含む。別の実施形態では、舌清掃電極は、それ自体が機械的舌清掃部の少なくとも一部を形成するように構造化することができる。例えばこれは、例えばエッチング加工又はスタンピング加工によって舌清掃電極を構造化することによって実現することが可能である。このような実施形態では、舌清掃電極は2重の機能、すなわち、操作時に舌との電気的接触が確立されるようにエネルギー源と接続された導電性表面を与えることと、舌を機械的に清掃するための清掃突起として機能する構造体を与えることと、を果たす。このことは、絶縁性材料で形成された機械的舌清掃部によって更なる清掃突起を与えることを除外するものではない。別の実施形態では、舌清掃電極は、こぶの形態の多数の清掃突起を有する。使用者の舌の方向に突出するこれらのこぶは、機械的清掃要素として作動する機能以外に、乳頭の間のくぼみ及び亀裂内にできるだけ深くイオンを輸送することを助ける高電流密度の領域を与える。このような多数のこぶは、例えば金属箔を打ち抜くことによって1片の導電性材料から形成することができるが、こぶは1片から製造される必要はなく、例えば互いから分離された1組の個々のボールとして構成してもよい。一実施形態では、清掃突起、特にこぶの形態であるものは、こぶの周囲の材料の高さから測定して約0.1mm~約2mmの範囲の高さを有する。本開示の意味におけるこぶとは、周囲の材料から上に突き出た高さがその幅又は直径よりも大きいか又は概ね等しい突起のことである。こぶは、あらゆる種類の異なる形状を有してよい。詳細には、こぶは、円筒状、円錐状、又は半球状であってよい。円形の基部領域を有するこぶ以外にも、三角形、方形、又は他の任意の基部領域を有するこぶを有することも無論可能である。こぶは特定のパターンで配置されてもよく、また不規則に配置されてもよい。一実施形態では、清掃突起、特にこぶの形態であるものは、約0.1mm~約3.0mmの範囲の幅を有する。こぶが円形の断面を有するような別の実施形態では、こぶの幅はその直径に等しい。更なる実施形態では、清掃突起の高さ、特にこぶの高さは、その直径又は幅の5倍よりも小さい。一実施形態では、清掃突起によって覆われる舌清掃電極の面積は、舌清掃電極の全体の面積の約1~約50の範囲である。一実施形態では、こぶによって覆われる舌清掃電極の面積は約1mm2~約100mm2の範囲である。更なる一実施形態では、舌清掃電極の導電性部分における電流密度は、約0.5μA/mm2よりも高く、約60μA/mm2よりも低い。例えば100μAの電流では、電極の導電性部分の面積は、約200mm2よりも小さい面積でなければならない。一実施形態では、こぶにおける高い電流密度は、こぶが約5個のこぶ/cm2~約50個のこぶ/cm2の密度を有する場合に実現される。各こぶの先端部の電流密度は、舌清掃電極の導電性こぶが電気絶縁性材料の部分によって互いから分離されている場合に更に高められる。一実施形態では、これは、こぶを有する導電性電極を最初に形成し、第2の工程で各こぶの間の空間を導電性絶縁材料で部分的に充填することによって実現することができる。こぶは、電気絶縁性材料上に依然突出してもよい。一実施形態では、舌清掃電極の導電性部分の全体の面積は、約200mm2よりも小さく、別の実施形態では約150mm2以下である。別の実施形態では、清掃突起によって覆われる舌清掃電極の面積と電極の全体の面積との間の比は約0.7以下であり、別の実施形態では約0.3以下であり、更なる別の実施形態では約0.1~約0.3の範囲である。舌清掃電極は、約0.2cm~約6cmの範囲、別の実施形態では約0.5cm~約3cmの範囲の幅を有し得る。舌清掃装置のヘッド部分は使用者の口腔内に収まるため、機械的舌清掃部及び舌清掃電極が配置されている部分のヘッド部分の全体の高さは約15mmよりも小さく、別の実施形態では約10mmよりも小さい。一実施形態では、ヘッド部分は、電磁放射線の放射素子、特に発光ダイオードを有する。この放射素子は、使用者の口腔を照らすための可視光の範囲の光を放射し得る。しかしながら、他の実施形態では、他の電磁スペクトルの範囲の放射を実施することもできる。一実施形態では、ヘッド部分とハンドル部分とは、ヘッド部分を使い捨ての交換部品として実現できるように互いに着脱可能に取り付けられる。これを実現するためには、ヘッド部分及び/若しくはハンドル部分が、ヘッド部分とハンドル部分との間の機械的接続を確立するための機械的接続要素、並びに/又は電気的接続を確立するためのヘッド部分とハンドル部分との間の電気的接続要素を有していることが有用であり得る。使用者の体を通じて流れる電流は、例えばヘッド部分からハンドル部分にまで延在する水の被膜によって、舌清掃電極と接触電極との間に電流が与えられる場合に大幅に低減する。2個の電極間に導電性の被膜が堆積することを防止するには、ヘッド部分及び/又はハンドル部分が、被膜の剥離縁部として機能する、例えば環状突起などの突起を有することができる。舌清掃装置が、ヘッド部分上に歯を清掃するための多数の清掃要素例えば、剛毛又は弾性要素を更に有することも考えられ、こうした清掃要素は、清掃要素と舌清掃電極とが使用者の舌と同時に接触しないように、舌清掃電極と対向するヘッド部分の側面上に配置することができる。別の実施形態では、剛毛のような清掃要素が舌清掃電極及び機械的舌清掃部に近接して配されることによって、舌の清掃性能が高められる。一実施形態では、舌清掃装置、特にヘッド部分及び/又はハンドル部分は、それらがヘッド部分、特に機械的舌清掃部の振動を与えるように配置される。このような振動は、例えば、ハンドル部のヘッド部に組み込まれた超音波装置例えば圧電振動子によって、又は軸線上にモーター駆動される偏心質量を配することによって発生させることができる。別の実施形態では、ヘッド部分は、接触電極を有さない公知のハンドル部分に取り付け可能とすることができる。その場合、ヘッド部分は、標準的な歯ブラシのハンドル用の交換ヘッドとして実施することができる。この場合、ヘッド部分は、ハンドル部分に隣接する端部において使用者の体を通じた電流を確立するために、使用者の手又は使用者の唇によって触れられる接触電極を有し得る。電流を供給するため、こうした実施形態のヘッド部分は、エネルギー源、特に電池例えばコイン電池又は充電式電池を更に含み得る。図1及び2は、舌清掃装置1の第1の例示的な実施形態を示す。舌清掃装置1は、ヘッド部分2及びハンドル部分3を有している。図の第1の実施形態では、ヘッド部分2及びハンドル部分3は一体の装置を形成しているが、ヘッド部分2の交換を容易に行うために、ヘッド部分2を着脱可能な部分とすることもできる。ハンドル部分3は、更に下記に説明するように、作動状態において使用者の舌内に抗菌剤の輸送を開始する電流を流すための供給電圧を供給するための、例えば充電式電池のようなエネルギー源を有している。ハンドル部分3は、オン/オフスイッチボタン4、及びハンドル部分3の円筒状ハウジングの後面に配置された接触電極5を更に有することにより、操作時に接触電極5と使用者の手との間の接触が確立される。この場合、接触電極5は、導電性プラスチック材料を2要素又は多要素射出成形プロセスにおいて射出成形することによって、ハンドル部分3のハウジング6と一体に形成されている。接触電極5は、エネルギー源と電気的に接続されている。ハンドル部分3が使用者の手によって握られているとき、接触電極5は使用者の手と直接接触し、これにより使用者の体と第1の電気的接続が確立される。ヘッド部分2は、舌清掃電極7、及び機械的舌清掃部8を備えている。図に示される第1の実施形態では、ヘッド部分2の舌清掃電極7及び機械的舌清掃部8は同じ領域にわたって概ね延在しているが、機械的舌清掃部8は舌清掃電極7の上方に配置されている使用者の舌に対して。これは、動作中に機械的舌清掃部が使用者の舌により近いことを意味する。図1及び2に示される第1の実施形態では、舌清掃電極7は、ヘッド部分2の外表面の一部を形成する導電性金属シートで形成されており、これにより、使用者の口腔の一部、特に目的とする用途であるその舌との電気的接点を与える。この第1の実施形態では、機械的舌清掃部8は、使用者の舌を機械的に擦るためにそれぞれが舌清掃電極7にわたって延在する、6本のリブ9の形態の複数の清掃突起によって形成されている。各リブは、弾性プラスチック材料で形成されており、本質的に円筒状のハンドル部分3の対称軸すなわち、長手方向軸に本質的に直交する延在方向を有している。使用時には、装置1は使用者の口腔内に挿入され、ヘッド部分2が使用者の舌と接触させられる。操作時には、舌清掃電極7及び機械的舌清掃部8を支持するヘッド部分2の側面が使用者の舌に面する。装置1は、リブ9が舌の表面上を擦ることによって、悪臭を発生する細菌の部分を機械的に除去するように動かされる。機械的清掃に加えて、舌清掃装置1は、オン/オフボタン4を作動させることによって電気的にオンされる。ハンドル部分3内部のエネルギー源は、オンされると、ハンドル部分3の接触電極5、及びヘッド部分2の舌清掃電極7に所定の電圧を供給し、これにより両電極間に所定の電位差が生じる。使用者が手にハンドル部分3を保持することによって、装置1が使用者の口腔内に挿入されたものと仮定して、舌清掃電極7が舌と接触させられ、歯磨き剤又はマウスリンスなどを更に含み得る唾液を通常は介して導電性接続が確立されると直ちに、使用者の体を通じて舌清掃電極7からハンドル部分3の接触電極5に、又はその逆の方向に電流が流れ始める。本例では、使用者は、舌清掃装置1を口腔内に挿入する前に、正に帯電したイオンを含む洗浄剤例えば洗浄液を口腔内に挿入しているものと仮定する。この洗浄剤は抗菌特性を有する。舌の乳頭間のくぼみ及び亀裂内に抗菌イオンを輸送するうえで最適の結果を得るため、舌清掃電極7が接触電極5に対して正に帯電するように、舌清掃電極7及び接触電極5に電圧を印加する。図3は、舌清掃装置1の代替的な第2の例示的実施形態を示す。図1及び2に示される平面状かつ構造化されていない舌清掃電極7及び機械的舌清掃部8のリブ9が、1個の横方向に延びる舌清掃電極10によって置き換えられている。この第2の実施形態の舌清掃電極10は、舌清掃電極の機能を与えるのみではなく、同時に機械的舌清掃部8を形成している。両方の機能を実現するため、舌清掃電極10は、舌清掃電極10内に1組の直角に配置された溝11をエッチングすることにより形成された構造化表面を有している。舌清掃電極10に溝11を適用することによって、舌清掃電極10の表面は、溝11の下地の上に延びる多数の菱形の形態の、概ね規則的な清掃突起の構造体から構成されている。舌清掃電極10の表面上の菱形の配置は、装置が図1及び2に示される装置のリブ9として使用され、すなわち、清掃突起を与える場合に、使用者の舌の上を機械的に擦るのと同じ目的を果たすものである。図3に示される第2の実施形態では、ヘッド部分及びハンドル部分は、機械的及び電気的境界面32において互いから分離することが可能である。すなわち、舌清掃装置1は、摩耗した際に交換される使い捨てヘッド部分とすることができる、着脱可能なヘッド部分2を有する2部品型の装置である。図4~6に示される第3、第4、及び第5の実施形態では、電気的接触表面として、及び機械的摩擦部としての舌清掃電極の2重の機能性は、リブの形態の清掃突起を形成する舌清掃電極12、13、14によってそれぞれ実現されている。電流を印加するのみではなく、舌を機械的に擦ることを可能とするため、図4に示される第3の実施形態の電極12は、ヘッド部分2のハウジング15の上に延びるリブとしてそれ自体が形成されている。リブ12は、ハンドル部分3の円筒状ハウジング6の対称軸に本質的に垂直に延びている。リブは、装置1のヘッド部分2のスプーン形状のハウジング15の全幅のほぼ全体にわたっている。更にリブ12は、リブ12とハンドル部分3のハウジング6の下部との間の装置の対称軸上に位置する曲率中心を中心としてわずかに湾曲している。図5に示される第4の実施形態では、図4の第3の実施形態の1本のリブ12は、図の実施形態では3本のリブ13によって示される、複数のリブの組によって置き換えられている。この構成によれば、舌を機械的に擦る効果が高められる。これに対して、図6に示される第5の実施形態は、5個の小型のリブ14を有している。図7及び8に示される第6の実施形態では、電気的接点及び機械的摩擦部としての2重の機能を有する舌清掃電極16を提供するための別の概念について考察する。この場合もやはり、舌清掃電極16が延在する領域と、機械的舌清掃部8が延在する領域とは、空間的に重なり合っている。舌清掃電極16は、ベース電極シートから突出する金属リブ17の形態の6個の清掃突起の組を形成するように折り曲げられた金属シートによって形成されている。金属リブ17の向き及び配置は、図1に示される弾性リブ9の配置と同等である。各金属リブ17間の間隙は、例えばプラスチック材料のような電気絶縁性材料18によって部分的に充填されている。絶縁性材料18は各金属リブ17間の間隙を部分的に充填しているのみであるため、金属リブ17は絶縁性材料18の表面の高さ19を越えて突出し、これにより、舌清掃装置1のヘッド部分2を使用者の舌の上で動かす際に効果的に擦ることが可能となる。図8には更に、舌清掃電極16を装置のハンドル部分3内のエネルギー源図8には示されていないと接続するための電気的接続20が示されている。図9~11に示された状態で提案される舌清掃装置の第7及び第8の実施形態は、舌清掃電極22がこぶ21の形態の清掃突起を有する構造となっている概念を利用したものである。この場合もやはり、舌清掃電極22は2重の機能性、すなわち、動作中に使用者の舌との電気的な接触を確立するための電極表面を与えることと、清掃突起を電極材料自体で形成することによって機械的に擦る動作を行うための機械的舌清掃部を与えることと、を実現するものである。異なる実施形態では、各こぶは、例えば、固化して舌清掃電極の材料と接続される液体金属の液滴を適用することによって舌清掃電極に取り付けたものであってもよい。図10は、図9に示される舌清掃装置の舌清掃領域を通る断面図である。この第7の実施形態における舌清掃電極22は、こぶ21の形態の複数の清掃突起が、電極22の平面部分からこぶ21が突出するようにスタンピング加工された金属箔からなる。個々のこぶ21の間の間隙は、やはり電気的に絶縁性の弾性プラスチック材料23によって充填されている。こぶ21は、絶縁材料23の表面高さ24よりも上に突出している。動作中には、舌清掃電極22と使用者の舌との電気的接触は、こぶ21の先端部によって確立される。これにより、舌と構造化された舌清掃電極22との接点における電流密度が高められ、清掃効果の向上につながる。図9及び11に示される第7及び第8の実施形態は、寸法について、更により重要な点として1平方cm当たりのこぶの密度について互いと異なっている。図11に示される実施形態では、こぶは、図に示される第8の実施形態の機械的舌清掃部の作動領域に等しい、リム25によって包囲された舌清掃電極の全体の領域1cm2当たりにつき約10個のこぶの密度を有している。図11に基づく第8の実施形態のこぶ21は、個々のこぶ21間の絶縁材料23の表面高さ24からこぶ21の頂部までを測定した場合に約1mmの高さを有している。こぶが電極21の平面状の材料部分へと移行する部分において測定される各こぶ21の幅又は直径は、約2mmである。図12は、舌清掃装置のハンドル部分の代替的な実施形態を示す。この実施形態では、ヘッド部分2及びハンドル部分3は、ヘッド部分を交換するために互いに着脱可能に可能に取り付けられる。通常のオン/オフボタン4以外に、図12に基づくハンドル3は、モード設定ボタン26、ディスプレイ27、及び充電表示発光ダイオード28を備えている。図に示される実施形態では、モード設定ボタン26は、イオン強度、すなわち抗菌剤を舌に輸送するために用いられる電流を選定するために使用される。ディスプレイ27は、設定されたイオン強度を表示し、ステータスLED28は、エネルギー源が再充電が必要となったことを表示する。代替的な実施形態では、モード設定ボタン26を使用して異なる動作モードの間、例えば強い清掃動作高電流と軽いリフレッシュ動作低電流との間で切り換えることができる。図13は、従来のハンドル部分用の交換部品を形成するヘッド部分2の代替的実施形態の概略断面図である。ヘッド部分2は、任意の既存のハンドルに取り付けることができる。したがって、ヘッド部分2は、例えば1乃至複数の電池のようなエネルギー源29、及び使用時に使用者の体の一部と接触させられる接触電極30上記一部とは、電極及びヘッド部分の寸法及び位置に応じて使用者の手又は唇であり得るを備えている。この特定の実施形態では、ヘッド部分に存在するエネルギー源から舌清掃電極31へと流れ、更に使用者の体を通り、ヘッド部分の接触電極30を通ってエネルギー源29に戻る電流が供給される。一層更なる実施形態では、この少なくとも1個の清掃突起は、小さい円柱状に形成され、この円柱は舌清掃電極を形成する外側の金属円筒面を有する。円柱はプラスチックのコアを有してもよい。その高さ寸法は、約0.1mm~約2.0mmの間でよく、その幅直径は約0.1mm~約2.0mmの範囲でよい。多数の円柱状清掃突起を有する実施形態の場合では、各清掃突起に個別の舌清掃電極が設けられてもよい。個々の舌清掃電極が連続して電気的に接続されてもよく、個別にエネルギー源に接続されてもよい。本明細書に開示した寸法及び値は、記載された正確な数値に厳密に限定されるものとして理解されるべきでない。むしろ、特に断らないかぎり、そのようなそれぞれの寸法は、記載された値及びその値周辺の機能的に同等の範囲の両方を意味するものとする。例えば、40mmとして開示された寸法は、約40mmを意味するものとする。相互参照されるか又は関連するすべての特許又は特許出願を含む、本願に引用されるすべての文書を、特に除外すること又は限定することを明言しないかぎりにおいて、その全容にわたって本願に援用するものである。いずれの文献の引用も、こうした文献が本願で開示又は特許請求されるすべての発明に対する先行技術であることを容認するものではなく、また、こうした文献が、単独で、あるいは他のすべての参照文献とのあらゆる組み合わせにおいて、こうした発明のいずれかを参照、教示、示唆又は開示していることを容認するものでもない。更に、本文書において、ある用語の任意の意味又は定義の範囲が、援用文献中の同じ用語の任意の意味又は定義と矛盾する場合には、本文書中で用語に与えられる意味又は定義が優先するものとする。以上、本発明の特定の実施形態を例示、記載したが、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく他の様々な変更及び改変を行い得る点は、当業者には明らかであろう。したがって、本発明の範囲に含まれるそのようなすべての変更及び改変を添付の特許請求の範囲において網羅するものとする。