"棒状の金属を芯棒とし、その芯棒に弾性体が積層形成されたローラーの表面に微細パターンを有する転写ローラーを製造する方法であって、弾性体表面に対して所望パターン形状が形成されたマスクを通過させたレーザー光を照射し、弾性体表面にパターン加工することを特徴とする転写ローラーの製造方法。転写ローラーの芯棒に積層形成される弾性体が、加硫ゴムであることを特徴とする請求項1記載の転写ローラの製造方法。所望パターン形状が形成されたマスクが、ステンシルマスク、または、フォトマスクであることを特徴とする請求項1又は2記載の転写ローラーの製造方法。レーザー光を照射して形成される所望パターンの形状が、バイアス角を有する斜線を等間隔で形成されたもの、長方形の短辺の一辺が半円形で形成されたもの、ボール状に形成されたもの、のいずれかであることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の転写ローラーの製造方法。転写ローラーの芯棒を回転させて、加硫ゴム表面へのパターン加工を行なうことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の転写ローラーの製造方法。棒状の金属を芯棒とし、その芯棒に加硫ゴムを積層形成されたローラーの表面に微細パターンを有する転写ローラーを製造する装置であって、ローラーを転写面が水平になるように懸架して、ローラーの芯棒を咬合固定し、ローラーの芯棒を回転させる回転支持部と、回転支持部を環状に回転する環状回転架台と、レーザー発振器と、ローラーの近傍に設けられたマスクと、レーザー発振器から発せられたレーザー光を反射する回転ミラーと、回転ミラーによって反射されたレーザー光をマスクに照射することによって加硫ゴム表面へのパターン加工を行なうことにより、転写ローラーを製造することを特徴とする転写ローラー製造装置。これらの問題を解決するために、本発明では、耐摩耗性に優れ印刷品質の高い印刷物が得られる転写ローラーの製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。そこで本発明の請求項1に係る発明は、棒状の金属を芯棒とし、その芯棒に弾性体を積層形成されるローラーの表面に微細パターンを有する転写ローラーを製造する方法であって、弾性体表面に対して所望パターン形状が形成されたマスクを通過させたレーザ光を照射し、弾性体表面にパターン加工することを特徴とする転写ローラーの製造方法である。本発明の請求項2に係る発明は、転写ローラーの芯棒に積層形成される弾性体が、加硫ゴムであることを特徴とする請求項1記載の転写ローラの製造方法である。本発明の請求項3に係る発明は、所望パターン形状が形成されたマスクが、ステンシルマスク、または、フォトマスクであることを特徴とする請求項1又は2記載の転写ローラーの製造方法である。本発明の請求項4に係る発明は、レーザ光を照射して形成される所望パターンの形状が、バイアス角を有する斜線を等間隔で形成されたもの、長方形の短辺の一辺が半円形で形成されたもの、ボール状に形成されたもの、のいずれかであることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の転写ローラーの製造方法である。本発明の請求項5に係る発明は、転写ローラーの芯棒を回転させて、加硫ゴム表面へのパターン加工を行なうことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の転写ローラーの製造方法において転写ローラーの製造方法である。本発明の請求項6に係る発明は、棒状の金属を芯棒とし、その芯棒に弾性体を積層形成されたローラーの表面に微細パターンを有する転写ローラーを製造する装置であって、ローラーを転写面が水平になるように懸架して、ローラーの芯棒を咬合固定し、ローラーの芯棒を回転させる回転支持部と、回転支持部を環状に回転する環状回転架台と、レーザ発振器と、ローラーの近傍に設けられたマスクと、レーザ発振器から発せられたレーザ光を反射する回転ミラーと、回転ミラーによって反射されたレーザ光をマスクに照射することによって弾性体表面へのパターン加工を行なうことにより、転写ローラーを製造することを特徴とする転写ローラー製造装置である。本発明の転写ローラーの製造方法及び製造装置によれば、耐摩耗性に優れた転写ローラーを製造することが出来、その転写ローラーを画像形成装置に使用する事によって印刷品質の高い印刷物を得ることが出来る。以下、図面を参照しながら本発明を実施するための形態について説明する。図2は本発明に係るパターン加工される転写ローラーの断面を示す図である。転写ローラー14は、両端に回転軸11を有する棒状の金属12を芯棒とし図2a、その芯棒に弾性体が積層形成され、弾性体の一例として、加硫ゴム13が積層形成される図2b。加硫ゴムは、ポリブタジエン系、ニトリル系、クロロプレン系などがあり、いずれも付加重合または共重合によって得られている。材料の一例としては、アクリルゴムACM、ニトリルゴムNBR、イソプレンゴムIR、ウレタンゴムU、エチレンプロピレンゴムEPM,EPDM、シリコーンゴムQ、スチレンブタジエンゴムSBR、ブタジエンゴムBR、フッ素ゴムFKM、ポリイソブチレンブチルゴムIIR等を用いることが出来る。図3は加硫ゴムの表面にパターン加工する方法を模式的に示す図である。転写ローラー14の表面には、所望のパターンが形成されたマスク15が用意され、レーザ発振器16から発せられるレーザ光を図示しない回転ミラーによってマスクの左右の幅方向に走査照射することによってマスク15のパターンが加工される。マスク15は転写ローラー14の表面上にごく少ない隙間をあけてローラー表面と平行に設けられる。尚、符号10は転写ローラーを載置可能とする転写ローラー回転支持部であって、転写ローラーを転写面が水平になるように懸架して、転写ローラーの芯棒を咬合固定し、転写ローラーの芯棒を回転させるものである。このようにして、ローラー表面上に均一なパターンを形成することが出来る。レーザ発振器16は、例えばエキシマレーザ発振器を使用することが出来る。また、マスク15には、ステンシルマスク、または、フォトマスクを用いることによって微細なパターンを形成することが出来る。上記レーザ光を照射して加工される所望パターンの形状は、図4に示されるようにバイアス角を有する斜線を等間隔で形成された菱形形状のもの図4a、長方形の短辺の一辺が半円形で形成されたもの図4b、ボール状に形成されたもの図4c、のいずれかであることが望ましい。これら転写ローラーに形成されるパターンの形状は、転写時に転写ローラーに印加される圧力と転写ロ-ラーの回転によって弾性体が変形して転写ローラーと転写用紙の接触面積が変化することから、転写ローラーのパターン凹部に充填されたカーボントナーの転写性の向上を図る目的で、転写ローラーの回転を考慮してパターンの形状が変化することが好適である。図5は加硫ゴムの表面にマスク15を通過させたレーザ光16aを照射した場合を示す図である。マスク15を介してレーザ光16aを加硫ゴムの表面13aに照射した場合に図5a、マスクの開口部17aを通過したレーザ光によって加硫ゴムの表面にはマスクの開口形状のパターン17bが加工される。一方、マスクの開口部の外側18aではレーザ光は遮光され、符号18bで示されるようにパターンは加工されない図5b。また、上記レーザ光の照射出力を調整することによって所望パターンの幅と、厚さ方向の深度は矩形の断面形状とすることが望ましい。その結果、矩形の断面形状に形成された転写ローラーの表面の凹部には転写時に必要となるカーボントナーが過不足なく転移、充填される。そのため、転写用紙に転写されるパターンや文字については、かすれや、滲みが生じることなく高いた印刷特性を示すと共に、耐磨耗性を備えることが可能となる。図6は加硫ゴムの表面に微細なパターンを加工して、転写ローラーを製造する装置の概略を示す図である。転写ローラー製造装置100は、図2に示される加硫ゴムが積層形成された転写ローラー14の芯棒を咬合固定して回転させる回転支持部10によって転写面が水平になるように懸架する。懸架された転写ローラー14は、図6に示すレール25上を環状回転する環状回転架台に載置され、リボルバー回転によって矢印23で示される方向に移動される。符号14aで示されるローラーはパターン加工が行われている転写ローラーであり、符号14bで示されるローラーはこれからパターン加工が行われる転写ローラーであり、符号14cで示されるローラーは既にパターン加工が行われた転写ローラーである。符号14aで示されるローラーはレーザ発振器16によって発せられたレーザ光16aが矢印24の方向に回転する回転ミラー21によってマスク15に走査、照射され、マスク15を通過したレーザ光によって加硫ゴム表面へのパターン加工が行なわれる。符号31は回転支持部に供給される転写ローラー、符号32は回転支持部から排出される転写ローラーを示す。加硫ゴム表面へのパターン加工が行なわれる転写ローラー14aは幅方向に1回のレーザ照射される度に、例えば、0.76度回転し、この場合には、360度/0.76度=471回のレーザ照射を行うことによって転写ローラーの全面がレーザ照射される。図7に加硫ゴムの表面に微細なパターンを加工する工程フローを示す。環状回転架台に載置され回転支持部10に懸架された1本目の転写ローラーは、リボルバー回転によってレーザ照射される位置に移動されS1、レーザ照射される。これをレーザ照射1S2と呼ぶ。次に転写ローラーは回転される。この場合の回転角度は例えば上記の0.76度とする。これをローラー回転1S3と呼び、この角度でレーザ照射される。これをレーザ照射2S4と呼ぶ。更に上記ローラー回転とレーザ照射を繰り返し、ローラー回転471まで行うことによって1本目のローラーのパターン加工が終了する。次に2本目のローラーのパターン加工を行うためにリボルバー回転によってレーザ照射される位置に2本目のローラーが移動されS6、レーザ照射レーザ照射1S7される。次に転写ローラーは回転ローラー回転1S8される。この場合の回転角度も1本目と同様に例えば0.76度とする。この角度でレーザ照射レーザ照射2S4される。更に上記ローラー回転とレーザ照射を繰り返し、ローラー回転471S10まで行うことによって2本目のローラーのパターン加工が終了する。上記レーザ照射とローラー回転例えばレーザ照射1とローラー回転1は21msミリ秒で行われ、その結果、1本のローラーのパターン加工は、凡そ21ms471回≒10s秒で行われる。このようにして、加硫ゴムの表面に微細なパターンを加工することによって転写ローラーは製造される。以上のように、本発明による転写ローラーの製造方法及び製造装置によれば加工パターンはマスクを使用することによって、その加工誤差は小さく抑えられ、高精度のパターンを加工することが出来る。また、マスク形状が加工形状となるためマスク形状を選択することによって耐摩耗性にも優れ高品位な転写ローラーを製造することが出来、またその転写ローラーを画像形成装置に使用することによって、高い印刷品位の印刷物を得ることが出来る。"