"水平に保持した基板を回転させながら基板を洗浄する基板洗浄装置であって、基板の表面を上方にして水平状態に保持する基板保持部と、上記基板保持部を鉛直軸回りに回転する回転駆動部と、上記基板保持部にて保持された基板の裏面に洗浄液を吐出する洗浄液供給部と、を具備し、上記基板保持部は、基板の側縁下部を支持する支持部材を立設する環状部材と、上記回転駆動部に連結される中空回転軸の頂部に設けられるボス部と、上記ボス部と環状部材とを連結する複数の中空状スポークと、を具備し、上記洗浄液供給部は、洗浄液供給源に接続され、上記中空回転軸内に遊貫される洗浄液供給筒軸と、該洗浄液供給筒軸内を流れる洗浄液を上記スポークの中空部に案内すべく上記ボス部に設けられる連通流路と、上記スポークの軸方向に沿って設けられる複数の裏面洗浄ノズルと、を具備してなる、ことを特徴とする基板洗浄装置。請求項1記載の基板洗浄装置において、上記複数の裏面洗浄ノズルは、上記スポークにおける基板保持部の中心側から外周側に向かって順次ノズル孔径が小さくなるように形成されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。請求項1記載の基板洗浄装置において、上記複数の裏面洗浄ノズルは、同一ノズル孔径に形成されると共に、隣接するノズル間のピッチが、上記スポークにおける基板保持部の中心側から外周側に向かって順次大きくなるように形成されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。請求項1ないし3のいずれかに記載の基板洗浄装置において、上記裏面洗浄ノズルは、上記スポークにおける上記基板保持部の回転方向と対向する面にノズル孔が開口している、ことを特徴とする基板洗浄装置。請求項1ないし4のいずれかに記載の基板洗浄装置において、上記スポークの下端部に、上記基板保持部の回転方向と逆方向に下り勾配の気流形成用フィン部を突設してなる、ことを特徴とする基板洗浄装置。請求項1ないし4のいずれかに記載の基板洗浄装置において、上記スポークは、上記基板保持部の回転方向と逆方向に下り勾配を有する断面略楕円形状に形成されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。請求項1ないし6のいずれかに記載の基板洗浄装置において、上記裏面洗浄ノズルにおける上記基板保持部の中心側に位置するノズル孔が、基板の中心側に向かって傾斜状に形成されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。請求項1ないし7のいずれかに記載の基板洗浄装置において、上記裏面洗浄ノズルは、隣接するノズル孔が上記スポークの軸線に沿って千鳥状に配設されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。請求項1ないし8のいずれかに記載の基板洗浄装置において、上記洗浄液供給部は、上記洗浄液供給筒軸と上記洗浄液供給源とを接続する供給管路を具備し、更に、上記供給管路に介設される切換弁を介して乾燥用気体供給源に接続され、上記切換弁の切換操作によって上記裏面洗浄ノズルからの洗浄液の吐出と、乾燥用気体の吐出とを切換可能に形成してなる、ことを特徴とする基板洗浄装置。しかしながら、スポーク部を有するチャックの下方に配置された洗浄ノズルから洗浄液を基板の下面に吐出すると、吐出された洗浄液がスポーク部にも当たるため、スポーク部からの液弾きが基板に付着し、基板の裏面汚れにつながる懸念がある。また、上記構造のものにおいては、基板裏面の全面に洗浄液を供給するためには、複数の洗浄ノズルを配置する必要があると共に、複数の洗浄ノズルと洗浄液供給源とを配管を介して接続する必要があるため、配管構造が複雑となり装置の大型化を招く懸念もある。この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、基板の裏面洗浄の際に洗浄液が基板裏面に付着するのを抑制して、洗浄効率の向上を図れるようにすると共に、装置の小型化を図れるようにした基板洗浄装置を提供することを課題とする。上記目的を達成するため、この発明の基板洗浄装置は、水平に保持した基板を回転させながら基板を洗浄する基板洗浄装置であって、基板の表面を上方にして水平状態に保持する基板保持部と、上記基板保持部を鉛直軸回りに回転する回転駆動部と、上記基板保持部にて保持された基板の裏面に洗浄液を吐出する洗浄液供給部と、を具備し、上記基板保持部は、基板の側縁下部を支持する支持部材を立設する環状部材と、上記回転駆動部に連結される中空回転軸の頂部に設けられるボス部と、上記ボス部と環状部材とを連結する複数の中空状スポークと、を具備し、上記洗浄液供給部は、洗浄液供給源に接続され、上記中空回転軸内に遊貫される洗浄液供給筒軸と、該洗浄液供給筒軸内を流れる洗浄液を上記スポークの中空部に案内すべく上記ボス部に設けられる連通流路と、上記スポークの軸方向に沿って設けられる複数の裏面洗浄ノズルと、を具備してなる、ことを特徴とする。このように構成することにより、基板を水平状態に保持する基板保持部を回転させながら、基板保持部を構成するスポークに設けられる裏面洗浄ノズルから基板裏面に洗浄液を吐出して、基板裏面を洗浄することができる。この発明において、上記複数の裏面洗浄ノズルは、上記スポークにおける基板保持部の中心側から外周側に向かって順次ノズル孔径が小さくなるように形成されるか、あるいは、同一ノズル孔径に形成されると共に、隣接するノズル間のピッチが、上記スポークにおける基板保持部の中心側から外周側に向かって順次大きくなるように形成されている方が好ましい。このように構成することにより、基板の外周側に対して基板の中心側に洗浄液を多く吐出して、基板中心側に吐出された洗浄液を遠心力により外周側に流すことができる。また、この発明において、上記裏面洗浄ノズルは、上記スポークにおける上記基板保持部の回転方向と対向する面にノズル孔が開口している方が好ましい。このように構成することにより、裏面洗浄ノズルから吐出される洗浄液の基板からの液弾きを抑制することができる。また、この発明において、上記スポークの下端部に、上記基板保持部の回転方向と逆方向に下り勾配の気流形成用フィン部を突設するか、あるいは、上記スポークを、上記基板保持部の回転方向と逆方向に下り勾配を有する断面略楕円形状に形成する方が好ましい。このように構成することにより、基板保持部の回転に伴って気流形成用フィン部、断面略楕円形状部の勾配に沿って気流を形成することができ、基板から滴下した洗浄液の液滴の基板への付着を抑制することができる。また、この発明において、上記裏面洗浄ノズルにおける上記基板保持部の中心側に位置するノズル孔が、基板の中心側に向かって傾斜状に形成されている方が好ましい。このように構成することにより、裏面洗浄ノズルから吐出される洗浄液を基板の中心部に当てることができる。また、この発明において、上記裏面洗浄ノズルは、隣接するノズル孔が上記スポークの軸線に沿って千鳥状に配設されていてもよい。このように構成することにより、裏面洗浄ノズルから吐出される洗浄液を分散させて基板に当てることができる。加えて、この発明において、上記洗浄液供給部は、上記洗浄液供給筒軸と上記洗浄液供給源とを接続する供給管路を具備し、更に、上記供給管路に介設される切換弁を介して乾燥用気体供給源に接続され、上記切換弁の切換操作によって上記裏面洗浄ノズルからの洗浄液の吐出と、乾燥用気体の吐出とを切換可能に形成する方が好ましい。このように構成することにより、裏面洗浄ノズルから吐出される洗浄液を基板裏面に当てて裏面洗浄を行った後、切換弁を切り換えて、裏面洗浄ノズルから乾燥用気体例えば窒素ガスあるいは清浄空気を吐出して基板裏面に当てることができる。この際、基板保持部を回転することで、乾燥時間の短縮が図れる。この発明によれば、基板を水平状態に保持する基板保持部を回転させながら、基板保持部を構成するスポークに設けられる裏面洗浄ノズルから基板裏面に洗浄液を吐出して、基板裏面を洗浄することができるので、基板の裏面洗浄の際に洗浄液が基板裏面に付着するのを抑制して、洗浄効率の向上を図ることができる。また、この発明によれば、基板保持部を構成するスポークに設けられる複数の裏面洗浄ノズルを、基板保持部の中空回転軸内に遊貫される洗浄液供給筒軸と、基板保持部のボス部に設けられる連通流路を介して洗浄液供給源と接続するので、配管系統を簡略化して、装置の小型化を図ることができる。以下、この発明を実施するための形態について、添付図面に基づいて詳細に説明する。この発明に係る基板洗浄装置は、図1ないし図3に示すように、一側辺に設けられた開口部1aに開閉シャッター2を備える箱状のケーシング1内に、ガラス基板G以下に基板Gというの表面を上方にして水平に保持する基板保持部10と、基板保持部10を鉛直軸回りに回転する回転駆動部20と、基板保持部10及び基板保持部10にて保持される基板Gの外周を包囲するカップ部30と、基板保持部10にて保持された基板Gの表面側を洗浄する表面洗浄部40と、基板保持部10にて保持された基板Gの裏面に洗浄液を吐出する洗浄液供給部50と、で主に構成されている。上記基板保持部10は、基板Gの側縁下部を支持する支持部材14を立設する環状部材13と、回転駆動部20に連結される中空回転軸11の頂部に設けられるボス部12と、ボス部12と環状部材13とを連結する複数例えば4本の周方向に等分割された中空状のスポーク16と、を具備している。なお、中空回転軸11の中間部は、後述するカップ部30を構成する水平基部33に設けられた貫通孔33aを貫通すると共に、貫通孔33aとの間に介在されるOリング60a及びベアリング61を介して回転自在に支承されている。この場合、図2に示すように、環状部材13はドーナツ円板にて形成されており、環状部材13の4等分された位置には、断面略U字状の支持部材14が立設されている。各支持部材14の上端平坦面には、基板Gの側面角部の位置を規制する2本の位置規制ピン15が立設されている。上記4本の支持部材14の上端平坦面と、各支持部材14に突設された2本の位置規制ピン15によって基板Gの角部が支持され、基板Gが水平状態に支持される。また、ボス部12は、頂部が塞がれた有蓋円筒状に形成されており、内部の空洞部12aには、後述する洗浄液供給部50の洗浄液供給筒軸51の流路51aと連通する連通流路54が形成されている。また、スポーク16は円形パイプにて形成されており、基端部がボス部12に形成された連通流路54に連通した状態で連結し、先端部が環状部材13によって閉塞されている。回転駆動部20は、基板保持部10の中空回転軸11に固定される円筒状の回転子21と、中空回転軸11及び回転子21を回転自在に収納する円筒状ライナ22を介して回転子21の外方に対峙する円筒状の固定子23を具備する電動モータにて形成されており、電源駆動部24から供給される電流により回転駆動される。なお、回転駆動部20はコントローラ70に電気的に接続されており、コントローラ70からの制御信号に基づいて洗浄時及び乾燥時に所定の回転数で回転するように制御可能に形成されている。上記表面洗浄部40は、基板保持部10によって回転する基板Gの回転中心部上方から洗浄液を噴霧して洗浄するスプレーノズル41と、基板Gの回転中心部上方から洗浄液を吐出するストレートノズル42と、メガヘルツ帯の超音波振動を加えながら洗浄液を基板に噴霧するメガソニックノズル43とを具備している。この場合、スプレーノズル41を保持する第1のアーム44aと、ストレートノズル42を保持する第2のアーム44bは、ケーシング1内の開口部1aと対向する側に横設された第1のリニアガイド45aを有する第1のノズル駆動機構45Aによってカップ部30の一側外方図1における右側からカップ部30内の基板保持部10の上方に水平移動可能に形成されている。これらスプレーノズル41とストレートノズル42は、カップ部30の外側図1における右側に設けられたノズルバス46aに待機可能になっている。また、メガソニックノズル43を保持する第3のアーム44cは、第1のリニアガイド45aと平行に横設された第2のリニアガイド45bを有する第2のノズル駆動機構45Bによってカップ部30の一側外方図1における右側からカップ部30内の基板保持部10の上方に水平移動可能に形成されている。また、メガソニックノズル43は、カップ部30の外側図1における左側に設けられたノズルバス46bに待機可能になっている。なお、第1,第2のノズル駆動機構45A,45Bは、例えばボールねじ機構あるいはタイミングベルト機構等によって形成されている。上記カップ部30は、図3に示すように、基板保持部10の外周を包囲する略截頭円錐状の外カップ31と、基板保持部10によって保持された基板Gの縁部の下方から外カップ31の内方側に向かって下り勾配を有する内カップ32とを具備している。なお、内カップ32は、基板保持部10の中空回転軸11を回転自在に貫挿する貫通孔33aを有する円板状の水平基部33によって支持されている。また、水平基部33の周縁部の下部と外カップ31の下端部には、洗浄に供された洗浄液を貯留するドーナツ状の底カップ34が配置されている。この底カップ34の底部34aの一部には排液口34bが設けられており、この排液口34bにはドレイン管35が接続されている。一方、上記洗浄液供給部50は、一端すなわち下端部が供給管路52を介して洗浄液供給源53に接続され、中空回転軸11内に遊貫される洗浄液供給筒軸51と、洗浄液供給筒軸51内の流路51aを流れる洗浄液をスポーク16の中空部16aに案内すべくボス部12に設けられる連通流路54と、スポーク16の軸方向に沿って設けられる複数の裏面洗浄ノズル55と、を具備している。この場合、洗浄液供給筒軸51の上端部には外向きフランジ51bと、外向きフランジ51bの先端から直交状に屈曲される筒状垂下片51cが形成されており、この外向きフランジ51b及び筒状垂下片51cと上記ボス部12の天板12b及び円筒状側壁12cとで連通流路54が形成されている。また、洗浄液供給筒軸51には、筒状垂下片51cの下端から内方に屈曲する内向きフランジ51dと、内向きフランジ51dの内方端から直交状に屈曲する筒状起立片51eが設けられている。そして、これら筒状垂下片51c,内向きフランジ51d及び筒状起立片51eが、上記中空回転軸11の上端から外方に向かって直交状に屈曲される円形水平片11aの先端から直交状に屈曲される筒状の内方垂下片11bの周囲に位置して、洗浄液の中空回転軸11内への回り込みを阻止している。なお、中空回転軸11の上端部と洗浄液供給筒軸51の上端部との隙間にはOリング60bが介在されており、このOリング60bによって、洗浄液の中空回転軸11内への回り込みを確実に阻止している。また、図3に示すように、洗浄液供給筒軸51の下端部に設けられた供給口51fと洗浄液供給源53とを接続する供給管路52には、開閉弁V1と切換弁Vcが介設されており、切換弁Vcを介して乾燥用気体供給源例えば窒素N2ガス供給源80に接続する分岐管路52Aが接続されている。なお、分岐管路52Aには開閉弁V2が介設されている。なお、開閉弁V1,V2及び切換弁Vcは、コントローラ70に電気的に接続されており、コントローラ70からの制御信号に基づいて開閉又は切換制御されるように形成されている。このように、洗浄液供給筒軸51と洗浄液供給源53を接続する供給管路52に介設される切換弁Vcを介してN2ガス供給源80に接続する分岐管路52Aを接続することにより、裏面洗浄ノズル55に洗浄液の供給とN2ガスの供給を選択的に行うことができる。上記裏面洗浄ノズル55は、上記スポーク16の上端部の軸線に沿って適宜間隔をおいて列設される複数のノズル孔56具体的には、56a,56b,56c,...56n1,56nによって形成されている。この場合、ノズル孔56a,56b,56c,...56n1,56nの孔径D1,D2,D3,...Dn1,Dnは、スポーク16における基板保持部10の中心側から外周側に向かって順次小さくなるように形成されている。すなわち、ノズル孔56a,56b,56c,...56n1,56nの孔径D1,D2,D3,...Dn1,Dnは、図5aに示すように、D1>D2>D3>...Dn1>Dnに形成されている。このように、ノズル孔径D1,D2,D3,...Dn1,Dnを、スポーク16における基板保持部10の中心側から外周側に向かって順次小さくなるように形成することにより、基板Gの外周側に対して基板Gの中心側に洗浄液を多く吐出して、基板中心側に吐出された洗浄液を遠心力により外周側に流すことができ、洗浄液を基板裏面に均一に当てることができる。なお、この場合、基板保持部10の中心側に最も近い位置に設けられるノズル孔56aを、基板Gの中心側に向かって傾斜状に形成することにより、図3に想像線で示すように、洗浄液を基板Gの中心側に吐出することができ、更に洗浄液を基板裏面に均一に当てることができる。更に、図3に示すように、基板保持部10のボス部12の天板12bに連通流路54に接続するノズル孔56oを設けてもよい。これにより、更に洗浄液を基板裏面に均一に当てることができる。また、上記実施形態では、ノズル孔径D1,D2,D3,...Dn1,Dnを、スポーク16における基板保持部10の中心側から外周側に向かって順次小さくなるように形成する場合について説明したが、図5bに示すように、ノズル孔径を同一に形成し、隣接するノズル孔56間のピッチP1,P2,P3,P4,...Pnが、スポーク16における基板保持部10の中心側から外周側に向かって順次大きくなるように形成してもよい。すなわち、隣接する同一孔径のノズル孔56のピッチP1,P2,P3,P4,...Pnを、図5bに示すように、P1<P2<P3<P4<...<Pnに形成してもよい。このように、隣接する同一孔径のノズル孔56のピッチP1,P2,P3,P4,...Pnをスポーク16における基板保持部10の中心側から外周側に向かって順次大きくなるように形成することにより、基板Gの外周側に対して基板Gの中心側に洗浄液を多く吐出して、基板中心側に吐出された洗浄液を遠心力により外周側に流すことができ、洗浄液を基板裏面に均一に当てることができる。また、図6aに示すように、裏面洗浄ノズル55は、スポーク16における基板保持部10の回転方向Rと対向する面にノズル孔56が開口するように形成してもよい。このように、ノズル孔56をスポーク16における基板保持部10の回転方向Rと対向する面に形成することにより、裏面洗浄ノズル55から吐出される洗浄液の基板Gからの液弾きを抑制することができる。また、図6bに示すように、裏面洗浄ノズル55は、隣接するノズル孔56がスポーク16の軸線に沿って千鳥状に配設されていてもよい。このように、隣接するノズル孔56をスポーク16の軸線に沿って千鳥状に配設することにより、裏面洗浄ノズル55から吐出される洗浄液を分散させて基板Gに当てることができ、基板Gの広い範囲に洗浄液を当てることができる。次に、上記実施形態の基板洗浄装置による基板Gの洗浄処理について説明する。まず、外部の基板搬送アーム90によってケーシング1内に搬入された基板Gを、基板保持部10の支持部材14によって受け取り、基板Gを表面が上向きにして水平状態に保持する。次に、回転駆動部20を駆動して基板Gを回転させた状態で、表面洗浄部40のスプレーノズル41、ストレートノズル42、メガソニックノズル43の選択された一つあるいは複数を用いて基板Gの表面を洗浄する。また、基板Gの表面を洗浄した後、あるいは基板Gの表面洗浄時に、開閉弁V1を開放して洗浄液供給源53から供給される洗浄液を洗浄液供給筒軸51の流路51a、ボス部12の連通流路54及びスポーク16の中空部16aに流して、スポーク16の軸線に沿って適宜間隔をおいて列設される複数の裏面洗浄ノズル55すなわちノズル孔56,56a,56b,56c,...56n1,56n以下、ノズル孔56で代表するから基板Gの裏面に洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する。この際、基板Gの外周側に対して基板Gの中心側に洗浄液を多く吐出して、基板中心側に吐出された洗浄液を遠心力により外周側に流すことができ、洗浄液を基板裏面に均一に当てることができるので、基板Gの裏面洗浄を効率よく行うことができる。裏面洗浄を行った後、基板保持部10を高速回転して基板Gの乾燥処理を行う。この際、開閉弁V1を閉じて洗浄液供給源53からの洗浄液の供給を停止する一方、切換弁Vcを切り換えると共に、開閉弁V2を開放して、N2ガス供給源80から供給されるN2ガスを分岐管路52A,洗浄液供給筒軸51の流路51a、連通流路54及びスポーク16の中空部16aを介して裏面洗浄ノズル55のノズル孔56から基板Gの裏面に向かって吹き付ける。これにより、スピン乾燥とN2ガスの吹き付けによるドライ乾燥を併用して行うので、基板Gの乾燥処理時間の短縮を図ることができる。上記第1実施形態では、基板保持部10を構成するスポーク16が断面円形状に形成される場合について説明したが、以下に示す第2実施形態のように、スポーク16の断面形状を円形以外に代えてもよい。例えば、図7及び図8に示すように、基板保持部10の回転方向Rと逆方向に下り勾配を有する断面略楕円形状のスポーク16Aを用いてもよい。この場合、スポーク16Aには、上部側に洗浄液を流通する断面略楕円形状の中空部16cが設けられており、基板保持部10の回転方向Rと対向する上部の勾配面16bにノズル孔56Aが開口している。なお、ノズル孔56Aは、少なくとも上記第1実施形態と同様に、基板Gの中心部側に洗浄液を多く吐出するように形成されている。例えば、ノズル孔56Aはスポーク16Aにおける基板保持部10の中心側から外周側に向かって順次ノズル孔径が小さくなるように形成されている。これに代えて、ノズル孔56Aを同一ノズル孔径に形成すると共に、隣接するノズル間のピッチが、スポーク16Aにおける基板保持部10の中心側から外周側に向かって順次大きくなるように形成してもよい。なお、第2実施形態において、その他の部分は第1実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。上記のように構成される第2実施形態の基板洗浄装置によれば、図8に示すように、基板保持部10の回転に伴ってスポーク16Aの断面略楕円形状部の勾配に沿って気流Cを形成することができ、基板Gから滴下した洗浄液の液滴Lを上部の勾配面16bによって弾いて基板Gへの付着を抑制することができる。なお、上記第1実施形態におけるスポーク16に第2実施形態と同様の機能を持たせるために、図9に示すように、スポーク16の下端部に、基板保持部10の回転方向と逆方向に下り勾配の気流形成用フィン部17を突設してもよい。このように構成することにより、基板保持部10の回転に伴って気流形成用フィン部17の勾配に沿って気流Cを形成することができ、基板Gから滴下した洗浄液の液滴Lを気流形成用フィン部17の上部の勾配面16bによって弾いて基板Gへの付着を抑制することができる。なお、上記実施形態では、スポーク16,16Aが周方向に等分割された4本の場合について説明したが、スポーク16,16Aの本数はこれに限定されるものではなく、スポーク16,16Aの本数を周方向に等分割された5本以上、例えばスポーク16,16Aの本数を周方向に等分割された8本にして洗浄液の吐出範囲を多くしてもよい。なお、全てのスポーク16,16Aに必ずしもノズル孔56を設けずにノズル孔なしのスポークを用いてもよい。なお、スポーク16,16Aは、少なくとも周方向に等分割された3本以上であればよい。なお、上記実施形態は、この発明の一例を示すものであり、この発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば、この発明は、レチクル、LCD、FPDフラットパネルディスプレイ等の方形の基板に限られず、ウエハ等の円形の基板など他の基板にも適用できる。"