"第2の波長を有する放射線を抑制するためのフィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855を含み、該フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855が、掩蔽作用を有する少なくとも1つの構成要素360,361,363,563,763,863を含み、従って、該掩蔽作用を有する該構成要素361,363,563,763,863の結果として、照明光学ユニットの作動中に照明光学ユニットの光方向に該フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855の下流に配置された第1の光学要素7,207,407上に第1の波長を有する放射線の低い強度を有する少なくとも1つの領域469,471が存在する、第1の波長を有する放射線を用いて物体視野21,221を照明するための照明光学ユニット3,203であって、前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855が、低い強度を有する異なる領域469,471をもたらす複数の位置を取ることができ、前記第1の光学要素7,207,407の光学的使用面41,441上の各点に対して、該点が低い強度の領域469,471に位置しないような少なくとも1つの位置が存在する、ことを特徴とする照明光学ユニット。前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855は、伝導性材料で作られた周期的格子360として具現化され、該格子周期は、前記第2の波長を有する放射線が吸収されるように選択される、ことを特徴とする請求項1に記載の照明光学ユニット。前記掩蔽作用を有する前記構成要素360は、前記格子360に対応する、ことを特徴とする請求項2に記載の照明光学ユニット。前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855は、500nmよりも小さい厚みを有するフィルム365を含み、該フィルムの材料及び厚みが、該フィルム365が前記第2の波長を有する前記放射線のうちの少なくとも90の割合を吸収し、かつ前記第1の波長を有する前記放射線のうちの少なくとも70の割合を透過させるように具現化される、ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。前記掩蔽作用を有する前記構成要素360,361,363,563,763,863は、前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855の機械的安定性を強化するための保持体363,563,763,863を含む、ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。前記保持体363,563,763,863は、前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855を冷却するために熱伝導体として具現化される、ことを特徴とする請求項5に記載の照明光学ユニット。前記保持体363,563,763,863は、熱輸送のために液体で満たされた中空支柱として具現化される、ことを特徴とする請求項6に記載の照明光学ユニット。前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855は、中心軸579,679,779に関して回転されることによって第1の位置から第2の位置内にシフトさせることができる、ことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855は、前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855を回転させるためのシャフト581,681,781に接続され、該シャフト581,681,781は、前記中心軸579,679,779に沿って延びる、ことを特徴とする請求項8に記載の照明光学ユニット。前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855を前記中心軸579,679,779に関して回転させるための駆動ユニット580,680,780が、該フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855の円周上に係合する、ことを特徴とする請求項8から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。パドル789が、前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855の前記円周上に配置され、前記駆動ユニット780は、該パドル789に向けられるガス流を生成するガスアクチュエータ791を含む、ことを特徴とする請求項10に記載の照明光学ユニット。請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学ユニット、を含むことを特徴とする照明系。請求項8から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学ユニットを含む照明系であって、光源ユニット43,243、を含み、中心軸が、フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855と交点で交わり、前記交点873は、第1及び第2の波長を有する放射線を備えた前記光源ユニット43,243によって照明される前記フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855上の全ての領域895,896の凸包絡線899内に位置する、ことを特徴とする照明系。請求項12から請求項13のいずれか1項に記載の照明系、を含むことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。請求項14に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法であって、少なくとも、構造担持マスク上の点が物体視野21,221を通して移動させられる間の第2の期間よりも短い第1の期間内にフィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855を第1の位置から第2の位置内に移動する段階、を含むことを特徴とする方法。請求項8から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学ユニットを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法であって、少なくとも、フィルタ要素55,255,255a,355,555,655,755,855を毎秒5回転よりも大きい速度で中心軸579,679,779に関して回転させる段階、を含むことを特徴とする方法。従って、本発明の目的は、そのようなフィルタ要素の結果としての第1の波長の強度変動の効果が低減するようなフィルタ要素を有する照明光学ユニットを開発することである。本発明により、上述の目的は、フィルタ要素が、低い強度を有する異なる領域をもたらす複数の位置を取ることができること、及び第1の光学要素の光学的使用面上の各点に対して、当該点が低い強度の領域内に位置しないような少なくとも1つの位置が存在することによって達成される。従って、走査経過時間にわたって放射照度ρx,y,tの時間変化を得るために、フィルタ要素の位置を変更することができる。照射量Dxは時間積分であるので、このフィルタ要素の位置の変更は、平均化、すなわち、x方向のより均一な照射量をもたらすことができる。ここで、第1の光学要素上の強度変動は、物体視野上に特に鮮明に伝達されるので、特に、第1の光学要素が、少なくとも1つの第2の光学要素によって物体視野上に結像される複数の第1の反射ファセット要素を有するミラーである場合には、上述の均一な照射量が必要である。更に、特に第1の波長が5~15nmの範囲にある場合には、通常、そのような放射線を発生させる時に第2の波長を有する放射線も同時に発生するので、そのようなフィルタ要素が必要である。一般的に、この第2の波長は、0.78μmから1000μmの赤外線範囲、特に3μmから50μmの範囲にある。一実施形態において、フィルタ要素は、伝導性材料で作られた周期的格子として具現化され、格子周期は、第2の波長を有する放射線が吸収されるか、又は回折されてビーム経路から外されるように選択され、掩蔽作用を有する構成要素は格子に対応する。そのような格子はUS6522465B2から公知であり、一般的に、第2の波長よりも短い格子間隔を有する準λ格子。別の実施形態において、フィルタ要素は、500nmよりも小さい、より具体的には300nmよりも小さい厚みを有するフィルムを含み、フィルムの材料及び厚みは、フィルムが、第2の波長を有する放射線のうちの少なくとも90の割合を吸収し、第1の波長を有する放射線のうちの少なくとも70、好ましくは、少なくとも80、特に好ましくは、少なくとも95の割合を透過させるように具現化される。この実施形態の利点は、格子支柱を省くことができるので、フィルタ要素が、周期的格子を有する実施形態よりも少ない数の掩蔽作用を有する構成要素を含む点である。更に、掩蔽作用を有する構成要素は、フィルタ要素の機械的安定性を強化するための保持体を含むことができる。ここで、フィルタ要素は、作動中に第2の波長を有する放射線の吸収の結果として加熱され、従って、取りわけ光学要素を加熱するようにもたらされる黒体放射線を放出するので、保持体が、フィルタ要素を冷却するために熱伝導体として具現化される場合は特に有利である。特に、保持体は、熱輸送のために液体で満たされた中空支柱として具現化することができる。それによって特に良好な熱消散を提供する。特別な発展形態では、フィルタ要素は、中心軸の回りに回転させることにより、第1の位置から第2の位置にシフトさせることができる。そのような再配置は、機械的観点からは特に容易に達成することができ、照明光学ユニットの作動中に継続的に維持することができる。機械的には、そのような実施形態は、フィルタ要素が中心軸に沿って延びるフィルタ要素を回転させるためのシャフトに接続される場合に特に容易に達成することができる。特定の実施形態において、フィルタ要素は、フィルタ要素を中心軸の回りに回転させるための駆動ユニットを含み、駆動ユニットは、フィルタ要素の円周上に係合する。それによって駆動ユニットが光源ユニットからのいずれの放射線も遮蔽しない位置に駆動ユニットを配置することが可能になる。特に、フィルタ要素は、パドルがフィルタ要素の円周上に配置され、かつ駆動ユニットが、ガス圧力が機械的な駆動力を発生させるようにパドルに向けられるガス流を生成するガスアクチュエータを含むように開発することができる。それによって機械ドライバからフィルタ要素に伝達される振動を回避することが可能になる。更に、フィルタ要素は堅固に接続されず、従って、自由に振動し、加熱された場合に膨張することができる。この接続の更に別の利点は、フィルタ要素に対して作用する拘束力が回避又は低減される点である。上述の照明光学ユニットを有する照明系は、照明光学ユニットに関して上述した利点を有する。特別な発展形態では、照明系は、照明光学ユニットと光源ユニットとを含み、フィルタ要素が回転される際の中心軸は、フィルタ要素と交点において交わり、交点は、光源ユニットによって第1及び第2の波長を有する放射線で照明されるフィルタ要素上の全ての領域の凸包絡線内に位置する。それによって回転軸が光ビームの中央に位置するので、フィルタ要素の特に小型の設計を得ることができる。上述の照明系を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置は、照明系に関して上述した利点を有する。本発明は、そのようなマイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法に関し、本方法は、少なくとも、構造担持マスク上の点が物体視野を移動させられる第2の期間よりも短い第1の期間内にフィルタ要素を第1の位置から第2の位置に移動する段階を含む。照射量Dxは、放射照度ρx,y,tの時間積分であるので、上述の移動段階によって時間平均化を提供することができる。この付加的な時間平均化は、xの関数としてのDxのより小さい変動をもたらす。従って、リソグラフィ工程のより良好な結果がもたらされる。本発明は、更に、上述のマイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法に関し、本方法は、少なくとも、フィルタ要素を中心軸の回りに毎秒5回転よりも大きい速度、より具体的には10回転よりも大きい速度で回転させる段階を含む。フィルタ要素をそのような回転速度で回転させることにより、フィルタ要素が均一に加熱され、走査積分放射照度Dxの十分な時間平均化が存在することが保証される。本発明を図面に基づいてより詳細に以下に説明する。参照符号は、図1に示す物体に1桁又は2桁の数字を与えるように選択したものである。更に別の図に示す物体は、3桁又はそれよりも多い桁から構成される参照符号を有し、下位2桁は物体を指定し、それより上位桁は、物体を提供している図の番号を指定する。その結果、一部の図に示す同じ物体の参照符号は、下位2桁に対応する。これらの物体の説明は、時に先行する図に関する本文に見出される。図1aは、照明光学ユニット3及び投影光学ユニット5を有する本発明による投影露光装置1の実施形態を示している。ここで、照明光学ユニット3は、複数の第1の反射ファセット要素9を有する第1の光学要素7及び複数の第2の反射ファセット要素13を有する第2の光学要素11を含む。第2の光学要素11の下流の光路内には、両方共に法線入射で作動され、すなわち、放射線が0°と45°の間の入射角で両方のミラー上に入射する第1のテレスコープミラー15及び第2のテレスコープミラー17が配置される。ここで、入射角は、入射放射線と反射光学面の法線との間の角度と理解すべきである。ビーム経路内の下流には偏向ミラー19が配置され、偏向ミラー19は、入射する放射線を物体平面23の物体視野21上に向ける。偏向ミラー19は、かすめ入射で作動され、すなわち、放射線は、45°と90°の間の入射角でミラー上に入射する。物体視野21の場所には反射構造担持マスクが配置され、反射構造担持マスクは、投影光学ユニット5を用いて像平面25に結像される。投影光学ユニット5は、6つのミラー27、29、31、33、35、37を含む。投影光学ユニット5の全ての6つのミラーの各々は、光軸39に関して回転対称な面に沿って延びる反射光学面を有する。図1bは、複数の第1の反射ファセット要素9を含む第1の光学要素7の平面図を示している。第1の反射ファセット要素9の各々は、入射放射線を反射するための反射面を有する。第1の反射ファセット要素9の全ての反射面の全体を第1の光学要素7の光学的使用面41を呼ぶ。図1bでは、光学的使用面41を陰付きで例示している。図1cは、複数の第2の反射ファセット要素13を有する第2の光学要素11の対応する平面図を示している。図1aに記載の投影露光装置は、放射線を第1の光学要素7上に向ける光源ユニット43を更に含む。ここで、光源ユニット43は、光源プラズマ45及びコレクターミラー47を含む。光源ユニット43は、異なる実施形態で構成することができる。レーザプラズマ光源LPPを示している。この光源の種類では厳しく限定された光源プラズマ45が発生し、光源内では小さい材料液滴が液滴発生器49を用いて生成され、所定の場所に移動させられる。この所定の場所で、材料液滴は高エネルギレーザ51によって照射され、従って、材料は、プラズマ状態に変化し、5~15nm波長範囲の放射線を放出する。ここで、レーザ51は、レーザ放射線が、材料液滴上に入射する前にコレクターミラー内の開口部53を通過するように配置することができる。一例として、10μmの波長を有する赤外線レーザがレーザ51として使用される。代替的に、光源ユニット43は、光源プラズマ45が放電を用いて発生する放電光源として具現化することができる。両方の場合に、光源プラズマによって放出される5~15nmの範囲の第1の波長を有する望ましい放射線に加えて、第2の望ましくない波長を有する放射線も発生する。一例として、この望ましくない放射線は、光源プラズマによって放出される5~15nmの望ましい範囲外の放射線であり、又は特にレーザプラズマ光源が使用される場合には、光源プラズマによって反射されるレーザ放射線である。その結果、第2の波長は、一般的に、0.78μm~1000μmの赤外線範囲、特に3~50μmの範囲にある。レーザプラズマ光源で投影露光装置を作動させる場合には、第2の波長は、特に光源プラズマ45を発生させるのに使用されるレーザ51の波長に対応する。CO2レーザが使用される場合には、第2の波長は、例えば、10.6μmの波長である。第2の波長は、ナノメートル範囲のマスク構造を結像するには長過ぎるので、第2の波長を有する放射線は、物体視野21の場所において構造担持マスクを結像するために使用することができない。従って、第2の波長を有する放射線は、像平面25内に、特に100nmから300nmの波長範囲DUV内の望ましくない背景輝度を招く。特に赤外線範囲に第2の波長を有する放射線は、更に照明光学ユニット及び投影光学ユニット内の光学要素の加熱を招く。本発明により、これらの2つの理由から、第2の波長を有する放射線を抑制するためのフィルタ要素55が設けられる。フィルタ要素55は、光源ユニット43と照明光学ユニット3の第1の反射光学要素7との間のビーム経路に配置される。その結果、第2の波長を有する放射線は、可能な限り早期に抑制される。代替的に、フィルタ要素55は、ビーム経路内の他の位置に配置することができる。一例として、フィルタ要素は、伝導性材料で作られた周期的格子として具現化することができ、格子間隔は、第2の波長を有する放射線が吸収されるように選択される。一例として、そのような格子は、US6,522,465から公知であり、この文献の内容は、その全体が引用によって本出願に組み込まれている。代替的に又はそれに加えて、フィルタ要素は、500nmよりも小さい厚みを有するフィルムを含むことができ、フィルムの材料及び厚みは、フィルムが、第2の波長を有する放射線のうちの少なくとも90の割合を吸収し、第1の波長を有する放射線のうちの70の割合を透過させるように具現化される。ここで、このようにしてスペクトル的に調節された放射線が、第1の反射光学要素7を照明する。コレクターミラー49及び第1の反射ファセット要素9は、光源プラズマ45の像が、第2の光学要素11の第2の反射ファセット要素13の場所にもたらされるという光学作用を有する。一方で、この目的のために、コレクターミラー49及び第1のファセット要素9の焦点距離は、空間距離に従って選択される。一例として、この空間距離は、第1の反射ファセット要素9の反射光学面に適切な曲率を与えることによってもたらされる。他方で、第1の反射ファセット要素9は、反射光学面の空間内での向きを固定する方向を有する法線ベクトルを有する反射光学面を有し、第1のファセット要素9の反射面の法線ベクトルは、第1のファセット要素9によって反射された放射線が、関連付けられた第2の反射ファセット要素13上に入射するように向けられる。第2の反射ファセット要素13は、照明光学ユニット3の瞳平面に配置され、ミラー15、17、及び19を用いて射出瞳平面上に結像される。ここで、照明光学ユニット3の射出瞳平面は、投影光学ユニット5の入射瞳平面57に正確に対応する。その結果、第2の光学要素11は、投影光学ユニット5の入射瞳平面57に対して光学的に共役な平面に位置する。この理由から、第2の光学要素11上の放射線の強度分布は、物体視野21の領域内の放射線の角度依存の強度分布と単純な関係にある。ここで、投影光学ユニット5の入射瞳平面は、物体視野21の中点の主光線59が光軸39と交わる光軸39に対して垂直な平面として定義される。第2のファセット要素13及びミラー15、17、及び19を含む下流光学ユニットの役割は、第1のファセット要素9を物体視野21上に重ね合わせ方式で結像することである。ここで、重ね合わせ結像は、第1の反射ファセット要素9の像が、物体平面内に少なくとも部分的に重ねて発生することを意味すると理解すべきである。この目的のために、第2の反射ファセット要素13は、反射光学面の空間内での向きを固定する方向を有する法線ベクトルを有する反射光学面を有する。各第2のファセット要素13において、法線ベクトルの方向は、各第2のファセット要素13に関連付けられた第1のファセット要素9が、物体平面23の物体視野21上に結像されるように選択される。第1のファセット要素9は、物体視野21上に結像されるので、照明される物体視野21の形状は、第1のファセット要素9の外側形状に対応する。従って、通常、第1のファセット要素9の外側形状は、照明される物体視野21の長手の境界線が、投影光学ユニット5の光軸39の回りに円弧の形に延びるような弧であるように選択される。図2は、マイクロリソグラフィ投影露光装置における本発明による照明光学ユニットの更に別の実施形態を示している。ここで、投影露光装置201は、照明光学ユニット203及び投影光学ユニット205を含む。図1aに示す投影光学ユニット5とは対照的に、図2に記載の投影光学ユニット205は、入射瞳の負の頂点焦点距離を有する。すなわち、投影光学ユニット205の入射瞳平面257は、物体視野221の上流の光路に配置される。物体視野221の場所にある構造担持マスクにおける反射を考慮せずに主光線259が延びる場合には、主光線は、光軸239と平面257a内で交わる。物体視野221の場所にある構造担持マスクにおける反射及び偏向ミラー219における反射を考慮した場合には、平面257aは、入射瞳平面257と一致する。入射瞳の負の頂点焦点距離を有するそのような投影光学ユニットの場合には、異なる物体視野点における主光線は、物体視野221の場所において光方向に発散光線経路を有する。この種の投影光学ユニットは、US2009/0079952A1から公知である。図1aに記載の照明光学ユニットに対する更に別の相違点は、光源プラズマ245が、コレクターミラー249を用いて最初に中間焦点254上に結像されることにある。次に、この中間焦点254は、第1のファセット配列光学要素207の第1の反射ファセット要素209を用いて第2の光学要素211の第2の反射ファセット要素213上に結像される。図示の実施形態において、フィルタ要素255は、照明光学ユニット203の中間焦点254と第1の反射光学要素207の間の光路に配置される。代替的に、フィルタ要素255は、光源ユニット243と中間焦点254の間の光路に配置することができる。図2には対応する位置を点線で例示しており、参照符号255aを付記している。第2の波長を有する放射線をフィルタ要素を用いて光路内で可能な限り早期に抑制することが好ましいので、これらの位置は、フィルタ要素255に対する2つの好ましい位置変形である。図3aは、本発明によるフィルタ要素355の第1の実施形態である。ここで、フィルタ要素355は、格子間隔gを有する周期的格子360として具現化される。格子間隔gは、2つの隣接する格子支柱361の間の距離を意味する。格子間隔gは、第2の波長を有する放射線が吸収されるように選択したものである。ここで、格子は、伝導性材料で作られた自己支持格子として具現化される。図示の1次元格子の場合には、格子支柱と平行な偏光方向を有する第2の波長を有する放射線のみが吸収される。従って、そのような格子は、第2の波長を有する放射線が偏光されている限り十分である。そうでなければ、第2の波長を有する放射線を抑制するのに、直交格子又は複数の1次元格子が使用される。しかし、第2の波長を有する放射線に対する望ましい作用に加えて、フィルタ要素は、第1の波長を有する放射線に対する効果も有する。第1の波長を有する放射線は、一般的に、第2の波長を有する放射線よりも有意に短いので、格子支柱361は、第1の波長を有する放射線に対して掩蔽作用を有する。第1の波長が5~15nmの範囲にあり、第2の波長が0.78μm~1000μmの赤外線範囲にある場合には、第1の波長を有する放射線に対する格子360の効果を幾何光学を用いて計算することができる。これは、第1の波長が、第2の波長に適合された格子間隔よりも有意に短いことに起因する。従って、格子360は、第1の波長を有する放射線に対する掩蔽構成要素としても機能する。従って、照明光学ユニットの作動中に、格子360の掩蔽作用結果として、照明光学ユニットの光方向にフィルタ要素355の下流に配置された第1の光学要素上で第1の波長を有する放射線の低い強度の領域影が存在する。図3bは、格子360の発展実施形態を示している。第2の波長に適合された格子間隔を有する格子支柱361に加えて、この格子は、付加的な保持体363を有する。これらの保持体363は、フィルタ要素355の機械的安定性を強化するように機能する。従って、ここで、格子支柱は自己支持のものではなく、保持体363に接続される。照明光学ユニットの作動中には、保持体363もまた、光方向にフィルタ要素の下流に配置された第1の光学要素上での第1の波長を有する放射線の低い強度の領域を招く。従って、保持体363もまた、掩蔽作用を有する構成要素を形成する。図3cは、本発明によるフィルタ要素の更に別の実施形態を示している。この実施形態において、スペクトルフィルタ効果は、第2の波長を有する放射線のうちの90の割合を吸収し、第1の波長を有する放射線のうちの少なくとも70の割合を透過させるフィルム365によって得られる。一例として、200μmの厚みを有するジルコニウムフィルムをフィルムとして使用することができる。図3cに記載の実施形態において、フィルタ要素の機械的安定性を強化するために、薄フィルムを安定化させる保持体363も設けられる。保持体は第1の波長を有する放射線に対して透過性を持たないので、これらの保持体363は、光方向にフィルタ要素の下流に配置された第1の光学要素上に第1の波長を有する放射線の低い強度の領域を招く。図4aは、第1の反射ファセット要素409を有する第1の光学要素407の平面図を示している。更に、第1の波長を有する放射線におけるいくつかの低い強度の領域を示している。領域467は、光源ユニット内の掩蔽作用を有する構成要素の結果として出現する。一例として、この構成要素は、図1aに示す液滴発生器49である。しかし、第1の反射ファセット要素409は、その光学面が低い強度の領域467内に収まらないように配置される。その結果、第1の光学要素407の光学的使用面441内の各点は、低い強度の領域467の外側に位置するので、この低い強度の領域は、像平面内の照明の品質に対していずれの効果も持たない。しかし、これは、低い強度の領域469及び471には当て嵌まらない。これらの2つの領域は、図3bに記載の実施形態におけるフィルタ要素を使用する結果として出現する。図3bに示す格子支柱361は、低い強度の領域469を招き、図3bに示す保持体363は、低い強度の領域471を招く。領域469は、結像格子定数g’を有する格子構造を有する。正確な位置に基づいて、この結像格子定数g’は、対応する結像スケールを用いて格子定数gから導出される。これらの領域の間の小さい距離の結果として、第1の反射ファセット要素を第1の光学要素407の光学的使用面が領域469及び471の外側に位置するように配置するのは不可能であることが分る。従って、フィルタ要素の結果として、全ての第1の反射ファセット要素409上に第1の波長を有する放射線の強度変動が存在する。図1aに関連して上述したように、第1の反射ファセット要素409は、その後の光学ユニットを用いて物体視野に結像されるので、利用されるフィルタ要素の結果として、物体視野内にも第1の波長を有する放射線の強度変動が存在する。リソグラフィ工程に対するこれらの強度変動の効果を低減するために、フィルタ要素は、第1の光学要素407上に第1の波長を有する放射線の低い強度を有する異なる領域をもたらすように具現化される。それに伴って図4bは、フィルタ要素が、中心軸の回りに角度φだけ回転されることによって第1の位置から第2の位置にシフトされた後の低い強度の領域467、469、及び471を有する第1の光学要素407の平面図を示している。ここで、中心軸は、フィルタ要素の面に対して垂直である。中心軸の回りの角度φの回転の結果として、低い強度の領域469及び471も、図4aの図と比較して角度φだけ回転される。従って、第1の光学要素409の光学的使用面上の全ての点に対して、当該点が低い強度の領域内に位置しないような少なくとも1つの回転角φ、すなわち、フィルタ要素の1つの位置が存在する。その結果、フィルタ要素を中心軸の回りに十分な回転速度で回転させることにより、第1の光学要素上の強度変動、従って、同じく物体視野上の強度変動を露光時間にわたって平均した場合にフィルタ要素の静的配列の場合におけるものよりも有意に小さくすることを可能にすることができる。代替的に、ある角度1つの方向に回転移動を行い、続いてそれに反対の回転方向の回転移動を行うことができる。機械的な観点からは、この回転は、冷却剤を用いて能動的な冷却を実施することを容易にする。リソグラフィ工程中の一般的な露光時間は、約t=10msを要する。領域469の構造が、結像格子定数g’の10倍のオフセットVだけ変位した場合には、第1の光学要素上の強度変動の良好な不鮮明化がある。回転の場合には、オフセットVは、回転の中心からの距離に比例して次式のように増大する。V=βrtここで、βは回転の角速度を表し、rは回転中心からの距離を表している。従って、回転中心の最も近くに位置する第1のファセット要素の場所にあり、従って、最も小さいr値を取る領域469は、最も小さいオフセットVを受ける。第1の光学要素の一般的な設計の場合には、この間隔はr=10mmである。一般的な結像格子定数は約g’=15.9μmである。これは、g=10.6μm/2の格子定数に3という結像スケールを乗算することから導出される。これは、約11sにおける1回転に対応する。例えば、保持支柱において現実的なg’=3mmの結像格子定数の場合には、毎秒約16回転が発生する。図5a、5b、及び5cは、フィルタ要素の好ましい機械的な実施形態の様々な図を示している。図5aは、光方向のフィルタ要素555の平面図を示している。ここで、中心軸は、フィルタ要素と交点573で交わる。この実施形態において、中心軸は、フィルタ要素と垂直に配置され、実質的にフィルタ要素の場所における平均光方向の方向に延びている。フィルタ要素は、中心軸に対して半径方向に延びる様々な保持体563を含む。機械的安定化に加えて、更に保持体は、フィルタ要素を冷却するための熱伝導体として具現化される。この目的のために、保持体は、例えば、高い熱伝導を有する適切な材料で作られるか、又はそうでなければ熱輸送のための液体で満たされた中空支柱として具現化される。更に、フィルタ要素は、同じくフィルタ要素の機械的安定化のためなどに機能し、更に吸収された熱を消散させるためなどに機能する外側リング575を含む。フィルタ要素555は、中央保持デバイス577に接続される。図5bは、同じフィルタ要素555を通る断面を示している。この図では、断面平面を中心軸579を含むように配置している。フィルタ要素は、フィルタ要素を交点573の場所で回転させるためのシャフト581に接続される。シャフトは、更に駆動ユニット580に接続される。この図では、シャフト581は、中心軸579に沿って延びている。ここで、シャフト581は、フィルタ要素を冷却するために冷却剤を誘導し通すことができる中空体として具現化される。シャフトを通る中心軸に対して垂直である図5cに示す断面は、一方のチャンバを通じて冷却剤をフィルタ要素に向けることができ、かつ他方のチャンバを通じて冷却剤をフィルタ要素から向けることができるようにシャフトが2つのチャンバ583を含むことを示している。この目的のために、チャンバは、交点573の領域内で相互接続される図5bに示す。図6aは、別の実施形態における同じフィルタ要素655を通る断面を示している。この図では、断面平面を中心軸679を含むように配置している。図5bに記載の実施形態とは対照的に、この場合のシャフト681は、内側中空円筒685と外側中空円筒687とを含む。シャフトを冷却し、従って、同じくフィルタ要素を冷却するために、冷却剤は、シャフト内で、これらの2つの中空円筒を通じてもたらされる。図6bは、シャフトを通って中心軸と垂直に延びる断面を示している。図7a及び図7bは、本発明によるフィルタ要素の更に別の実施形態の様々な図を示している。図7aは、フィルタ要素755の光方向の平面図を示している。図5aに図示の実施形態とは対照的に、フィルタ要素755の円周上、すなわち、外側リング775上には、パドル789が配置される。図7bに示すガスアクチュエータ791と共に、これらのパドル789は、フィルタ要素を中心軸779の回りに回転させるための駆動ユニットとして機能する。従って、フィルタ要素を回転させるための駆動ユニットは、フィルタ要素の円周上に係合する。図7bは、図7aに記載のフィルタ要素755を通る断面を示している。この図では、断面平面を中心軸779を含むように配置している。図7bは、円周上に配置されたパドル789も示している。更に、パドルに向けられるガス流を発生させるガスアクチュエータ791を示している。これが、トルクがフィルタ要素上に伝達される方法、従って、フィルタ要素が中心軸779の回りを回転する方法である。パドル及びアクチュエータは、好ましくは、密封チャンバ793に配置される。フィルタ要素755、更に照明光学ユニット全体も同じく真空中に置かれ、これは、そうでなければ5~15nm範囲の放射線が残りのガスによって吸収されることになるからである。真空を維持し、同時にガスアクチュエータの機能を保証するために、密封チャンバ793が使用される。図7bと類似の図において、図7cは、フィルタ要素を回転させるための駆動ユニットが円周上に係合する更に別の実施形態を示している。この実施形態において、パドル789の代わりに永久磁石790が外側リング775上に配置される。外側リングに隣接して少なくとも1つの電磁石792がある。電気モータ792は、交替する極性によって作動され、従って、駆動力が、永久磁石790を通じてフィルタ要素に伝達される。それによって図7bに示す空気圧ドライバの場合と全く同様に、機械ドライバからフィルタ要素に振動が伝達されるのを回避することが可能になる。更に、フィルタ要素は堅固に接続されず、従って、自由に振動し、加熱された場合に膨張することができる。この更に別の利点は、フィルタ要素に対して作用する拘束力が回避又は低減される点である。図8は、ビーム経路内の図5aに記載のフィルタ要素を示している。フィルタ要素855上で2つの照明領域895及び896が照明される。非隣接領域895及び896へのそのような再分割は、光源ユニットが、掩蔽作用を有する付加的な構成要素を有する場合に出現する。ここで、この構成要素は、例えば、図1aに示す液滴発生器49又はそうでなければ放射線を遮蔽する他の機械構成要素とすることができる。全体として可能な限り僅かな放射線しか掩蔽しないように、保持デバイス877が照明されないように配置される。従って、いずれの付加的な放射線も保持デバイス877によって遮蔽されない。更に、図8は、中心軸がフィルタ要素と交わる交点873が、光源ユニットによって照明される全ての領域895及び896の凸包絡線899内に位置することを示している。その結果、交点873は、照明領域895及び896に隣接して位置せず、これらの間に位置する。その結果、フィルタ要素が中心軸の回りに回転される場合に、特に小型の設計が得られる。"