"マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の操作方法であって、前記投影露光装置は、光学素子と、前記光学素子に作用を及ぼす非線形性マニピュレータ又は非忘却型マニピュレータを備え、前記マニピュレータの効果のヒストリをレコードに記録することを特徴とする操作方法。マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の操作方法であって、前記投影露光装置は、光学素子と、前記光学素子の温度を変化させること及び前記光学素子への熱の流れを引き起こす偏向を変化させることで光学素子に作用を及ぼすマニピュレータを備え、前記マニピュレータの効果のヒストリ、特に前記光学素子に導入する温度又は導入する温度に起因する光学的効果をレコードに記録することを特徴とする操作方法。請求項2に記載の方法であって、前記マニピュレータの作用モードが、オーム熱、赤外光、ペルチェ素子に起因する熱又は特にガス流による流動に起因する熱に前記光学素子を晒すことに基づくことを特徴とする方法。請求項2又は3の何れかに記載の方法であって、ベクトルXの形式で表現される格子により、前記光学素子を個々のセルXkに離散化し、時点tiにおける前記セルXkの温度は、前記時点tiにおいてベクトルの形式のレコードの部分であることを特徴とする方法。請求項4に記載の方法であって、前記格子がデカルト格子、極格子又は有限要素法により製造された格子であることを特徴とする方法。請求項5に記載の方法であって、セルのスタート時点t0における温度を含むレコードのスタート値を基本とし、セルの時点ti1における温度のレコードには以下、セルの時点tiの温度と、時点tiから時点ti1までの、セル間の熱の流れを表現する第1遷移マトリクスとの積と、bセルの時点tiにおける温度と、前記マニピュレータに起因する、セルにおける時点tiから時点ti1までの温度変化を表現する第2遷移マトリクスとの積の付加的な追加と、が続くことを特徴とする方法。請求項6に記載の方法であって、であり、但しラムダδ01又はδ05又はδ001の場合には、が定められることを特徴とする方法。請求項4~7の何れか一項に記載の方法であって、時点tiはと等距離に位置し、請求項6による遷移マトリクスが時間に依存ずることを特徴とする方法。請求項4~8の何れか一項に記載の方法であって、前記マニピュレータにより熱入力される時点は、と等距離にあり、レコードは前記マニピュレータによる熱入力の時点のみで変化することを特徴とする方法。請求項4又は5に記載の方法であって、前記マニピュレータによるセルへの熱入力が時点tiにおいて記録され、前記熱入力の前記時点tiにおける個々の光学的効果が計算され、前記熱入力の時点tnにおける総計的な光学的効果が、加重和により計算されることを特徴とする方法。請求項10に記載の方法であって、重みが指数関数的に低減する配列を形成し、特にβ0に対して、であることを特徴とする方法。請求項11に記載の方法であって、に対して定められることを特徴とする方法。請求項1~12の何れか一項に記載の方法であって、所定の時点における前記マニピュレータの光学的効果が、前記マニピュレータの効果及び前記マニピュレータの効果に関して記録されたヒストリと共に決定されることを特徴とする方法。請求項13に記載の方法であって、時点tiにおける、前記マニピュレータの持続時間ti1tiの熱入力の光学的効果が、温度分布間の差の光学的効果により計算されることを特徴とする方法。マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の操作方法であって、該方法は、先行する請求項13又は14に従ってレコードを記録するステップと、前記投影露光装置の撮像システムの第1像収差を計測するか、シミュレーション化するか又は参照テーブルに従って決定するかするステップと、熱入力の光学的効果が、像収差を低減するか又は前記第1像収差とは質的に異なる第2像収差に変えるかする場合に、前記マニピュレータが前記光学素子に熱入力を行うステップ、とを含むことを特徴とする方法。請求項15に記載の方法であって、前記マニピュレータが前記像収差を、前記第1像収差とは質的に異なる像収差であり、線形性又は忘却型マニピュレータによるこの変更の間に、後に又は同時に低減される像収差へと変えることを特徴とする方法。請求項1~16の何れか一項に記載の方法であって、レコードに従って計算された、時点tiにおける前記光学素子への熱入力が、前記時点での前記光学素子における実温度分布を計測することで校正されることを特徴とする方法。請求項17に記載の方法であって、前記マニピュレータによる影響を考慮していない前記光学素子において熱を分布させるためのレンズ加熱モデルを考慮した方法で、校正が実施されることを特徴とする方法。マイクロリソグラフィ用の投影露光装置であって、前記投影露光装置はメモリを備え、該メモリには先行する請求項の何れか一項に記載の熱入力の効果のヒストリが記録されることを特徴とする投影露光装置。本発明の目的は、国際公開2008/034636号、欧州特許出願公開1670041号及びドイツ特許出願公開第19827602号のような熱マニピュレータの、非線形性及び非忘却性に関する上述の観察を考慮に入れた、マイクロリソグラフィ用の投影露光装置のための操作方法を提案することである。明確性を期すため、発明の個々の実施形態を系統的に以下のような定式に分割する。定式化1:マイクロリソグラフィ用の投影露光装置のための操作方法であって、投影露光装置は光学素子と、光学素子に作用を及ぼす非線形性マニピュレータ又は非忘却型マニピュレータを備え、マニピュレータの効果のヒストリをレコードに記録することを特徴とする操作方法。定式化1の方法により、マニピュレータの効果のヒストリをレコードに記録する。この場合前記の効果は、一方ではマニピュレータが作用を及ぼす光学素子において、マニピュレータにより誘導された温度分布となることが可能であり、他方ではマニピュレータの対応する偏向によりもたらされた光学的効果であるとも理解できる。ヒストリを精査することによりマニピュレータの現偏向状態が推定可能となり、ひいてはマニピュレータの新たな偏向の効果が予測可能となる。定式化2:マイクロリソグリフィ用の投影露光装置の操作方法であって、投影露光装置は光学素子と、光学素子の温度を変化させること及び光学素子への熱の流れを引き起こす偏向を変化させることで光学素子に作用を及ぼすマニピュレータを備え、マニピュレータの効果のヒストリ、特に光学素子に導入する温度又は導入する温度に起因する光学的効果をレコードに記録することを特徴とする操作方法。定式化2による方法は、光学素子に熱を印加するマニピュレータの実施例に基づいて定式化1による方法を構成する。光学素子が例えばレンズ素子等の反射性光学素子である場合、反射素子の素材の屈折率を変えること及びその形状を変えることで熱を印加する。光学素子がミラーである場合、熱の印加は実質的に形状の変化を誘導する。定式化3:定式化2に記載の方法であって、マニピュレータの作用モードが、オーム熱、赤外光、ペルチェ素子に起因する熱、又は特にガス流による流動に起因する熱に晒されている光学素子に基づくことを特徴とする方法。上述の定式化3は、マイクロリソグラフィ用の投影露光装置が光学素子に熱を印加するための手段の可能性について論じている。オーム熱は、国際公開第2008/034636号に記載されているように加熱ワイヤにより印加する。光学素子が平面プレート又はレンズ素子である場合、ここで有利なことに局所的に温度を変えることが可能であり、これにより平面プレート又はレンズ素子の基板の屈折率を変えることができる。この場合ワイヤの直径は、投影露光装置のレンズの許容誤差となる迷光をもはや誘発しないよう小さくすることが有利である。光学素子に赤外光を印加することにより、光学素子の加熱に必要なエネルギー移動が、有利なことに非接触型の方法で実現される。このようなマニピュレータは、光学素子の偏向のために大きな自由度を有することができる。このように、例えば欧州特許出願公開第1670041号は、8本の導波管を使用してレンズ素子に赤外光を印加するマニピュレータを開示する。一方、熱的接続されたペルチェ素子の電圧を調整して光学素子に熱を印加することにより、光学素子への熱供給を精密に分配できるよう、制御可能である。その結果、マニピュレータの偏向が特に精密に分配できる。流動を光学素子へ印加することは、有利にも光学素子への熱の印加に沿って、マイクロリソグラフィの投影露光装置のレンズの空気スペースのパージにつながり、その結果レンズから不純物が取り除かれる。定式化4:定式化2又は3の何れかに記載の方法であって、ベクトルのXの形式で表現される格子により、光学素子を個々のセルXkに離散化し、時点tiにおける前記セルXkの温度は、時点tiにおいてベクトルの形式のレコードの部分であることを特徴とする方法。定式化4の方法により、光学素子の離散化された温度分布は定式化2又は3によるレコードの一部となる。前記格子の個々のセルXkにおいては、温度は空間的に一定であると推測される。従って光学素子の空間的温度分布は、ベクトルにより時点tiにおいて記録される。その結果、マニピュレータの光学的効果を決定するために必要な全てのデータである、離散化の選択のモジュロが得られる。この場合レコードは、第1バリエーションとしてすでに過去である時点tj≦tiにおける全ての温度分布のリストとするか、又は第2バリエーションとして、変化する時点tiのみの状態の記録レコードとする。この場合、tiは単調に増加する時点の有限数列である。定式化5:定式化4に記載の方法であって、格子がデカルト格子、極格子又は有限要素法により製造された格子であることを特徴とする方法。光学素子の形状に適合させた格子を使用することには、光学素子の形状及び位置に対しても適合が可能である。例えば、デカルト格子は平面プレート又は折りたたみ式ミラーに適している。極格子は、レンズの瞳に近接して配置されたレンズ素子に適している。有限要素法により製造された格子は、極めて不規則な形状を有する光学素子、又は光学素子において、投影露光装置の作動中に温度分布の空間的勾配が大きいと予測される場合に適している。特に有限要素法により製造された格子の場合、格子を空間的かつ局所的に変化させることにより、熱マニピュレータ調整に関する要求事項の変更を考慮した格子が可能であるため、マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の作動中に大きな温度勾配が予想される理由がある領域において、光学素子温度に関してより詳細な分解能が可能となる。定式化7による方法によって、光学素子における温度分布のレコードが、温度が時点ti1において所定値を下回った場合に、温度と定めることにより単純化される。定式化7においては、光学素子の公称温度のために事前に設定される限界値であると単にみなすべきである0値を参照する。これにより有利にも、定式化6により、時点ti1における新たな温度分布を決定する際の計算時間が低減される。定式化8:定式化4~7の何れか一項に記載の方法であって、時点tiはと等距離に位置し、定式化10による遷移マトリクスが時間に依存することを特徴とする方法。定式化8による遷移マトリクスは時間に依存する公式であり、複数の遷移マトリクスを異なる長さの時間周期で使用可能に保つ必要がある場合と比較して、必要とするメモリースペースが少ない。定式化10による方法は、マニピュレータの効果を記録するために、定式化6に対して代替方法を提示するものである。定式化10によれば、光学素子における一般的な温度進展を描写する遷移マトリクスは必要無しとされている。マニピュレータに起因する熱入力のみが記録され、この熱入力による光学的効果が計算される。上記で説明した非線形性のため、これら総体的熱入力により所与の時点において確立された光学的効果は、個々の熱入力の累積的効果として決定されるべきである。このために加重和が定式化10により確立される。この場合、パラメータαiは、例えば有限要素法及びそれにより得られる光学素子のための熱伝導方程式の解法といった解析的又は数値的計算から決定される。定式化11によるこの方法においては、定式化10による重みは、合計1となる指数関数的に減少する配列により確立される。この場合、パラメータβ0は光学素子に特有であり、数値的なシミュレーション又は測定により決定可能であり、光学素子の温度計測により校正可能である。定式化7による方法の場合と同様に、定式化12による方法においても類似の方法で低減が達成されるが、ここでは空間的というよりむしろ時間的重みを0に設定する場合を除く。対応して、他の熱入力との比較ではるか過去であるマニピュレータの熱入力は減衰していると見なされ、従って対応する係数を00と設定する。定式化13:先行する定式化の何れか一項に記載の方法であって、所定の時点におけるマニピュレータの光学的効果が、マニピュレータの効果及びマニピュレータの効果に関して記録されたヒストリと共に決定されることを特徴とする方法。定式化13による方法においては、非線形性又は非忘却型マニピュレータの光学的効果は、それらに関して記録されたヒストリに基づいて決定される。その結果,線形性マニピュレータに元来備わっている感度と並行して,レンズ又はマイクロリソグラフィ用の投影露光装置を調整するためにヒストリを利用可能である。光学的効果は,マニピュレータの非線形性及び所望の最大偏向が組み合わさって感度などの鮮明度を妨げている場合,調整の間の感度の代替機能となる。定式化14:定式化13、及び先行する定式化6から9の何れか一項による方法であって、時点tiにおける、マニピュレータの持続時間ti1tiの熱入力の光学的効果が、温度分布間の差の光学的効果により計算されることを特徴とする方法。定式化14による方法においては、温度分布間の差の光学的効果は、定式化13からの光学的効果の相似形として計算されることを特徴とする。定式化15:マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の操作方法であって、先行する定式化13又は14に従ってレコードを記録するステップと、投影露光装置のレンズの第1像収差を計測するか、シミュレーション化するか又は参照テーブルに従って決定するかするステップと、a熱入力の光学的効果が像収差を低減するか、又はb熱入力の光学的効果が、像収差を第1像収差とは質的に異なる第2像収差に変えるかする場合に、マニピュレータが光学素子に熱入力を行うステップとを含むことを特徴とする方法。定式化15による方法は、定式化13又は14いずれかに従う像収差の計算を伴う。マイクロリソグラフィ用の投影露光装置のレンズの決定された第1像収差を、前記像収差により低減可能である場合、又は前記像収差とは質的に異なる第2像収差に変更可能である場合、前記像収差は直接的に低減可能であり、又は第2像収差を低減可能な更なるマニピュレータにより低減可能でもある。定式化16:先行する定式化のいずれか一項に記載の方法であって、レコードに従って計算された、時点tiにおける光学素子への熱入力が、前記時点での光学素子における実温度分布を計測することで校正されることを特徴とする方法。定式化16による方法においては、計算された熱入力のレコードの校正は、光学素子における実温度分布を計測することにより実行される。これにより、実温度分布及び計算された温度分布が互いに大きくかけ離れてドリフトし、マニピュレータの光学的効果がもはや計算不能となるか又は実際に確立されている光学的効果と無関係になることを防止する。このような校正は、定期的又は不定期的に実施可能である。校正により、所与の時点tiにおいて、セルの温度入力を、定式化6に従って決定された温度に替えて、計測された温度で置き換える。この場合好適には、校正の間マニピュレータは偏向されない。この場合、レンズが操作される前に、定式化6からの遷移マトリクス、定式化10からのパラメータ又は定式化11からのパラメータβをレンズに対して確実に適合させる基本校正をレンズに行うことが可能である。この基本校正は、2回以上の温度計測の助力を受けて実行可能である。このような基本校正は、ガラス配合又はミラー基板が異なる場合、又は異なるレンズの異なる光学素子においてコーティング特性が異なる場合などの組み合わせの場合に有利となることが可能である。定式化17:定式化16に記載の方法であって、マニピュレータによる影響を考慮していない光学素子において熱を分布させるためのレンズ加熱モデルを考慮した方法で、校正が実施されることを特徴とする方法。定式化17による方法においては、米国特許公開公報第20080002167号が開示する、例えばマニピュレータに起因する温度入力を、照明光が引き起こした温度入力から区別可能であるようなレンズ加熱モデルを考慮した方法で、校正が実施されることを特徴とする。これにより、レンズ加熱の寄与によりレコードが誤りを含まないよう保証される。定式化18:マイクロリソグラフィ用の投影露光装置であって、投影露光装置はメモリを備え、このメモリには先行する請求項の何れか一項に記載の熱入力の効果のヒストリが記録されることを特徴とする投影露光装置。定式化18によるマイクロリソグラフィ用の投影露光装置は、メモリを備えることによりマニピュレータによる熱入力の効果の上述のヒストリを記録し、それに対応してマイクロリソグラフィ用の投影露光装置の上述の操作方法のうちの一つとして適していることが事実となり、上述の利点から利益を得る。図1は、像視野102上に物体視野101を撮像するためのマイクロリソグラフィ用の投影装置100の例示的な一実施形態を示す。投影装置100は投影レンズ110以下、レンズと略称するを収容する。物体視野内に位置する2つの視野点103及び104を例として図示している。前記視野点は、レンズにより撮像面102に撮像される。レンズはレンズ素子111、113、ミラー112及びここに図示されていない平面プレート等の光学素子を収容する。マニピュレータ121は、レンズ素子のうちの1つに作用する。マニピュレータ121は、レンズ素子を変位させ又は屈曲させることができる。このようなマニピュレータは線形性であり、与えられた最大偏向との関連で忘却型と見なすことができる。第2マニピュレータ122は、同様の方法でミラー112に作用する。第3マニピュレータ123は、第2レンズ素子113に熱を印加する。この熱の印加は、オーム熱、赤外光、ペルチェ素子に起因する熱、又は特にガス流による流動に起因する熱により実施可能である。これにより、局所的に屈折率及びレンズ素子の形状が変化し、その結果局所的にこれらの光学的効果が変化する。所定の開口が設けられ、その開口により境界が画定される最大光線が2つの視野点103及び104から現れる。ここでは前記光線の最も外側の光線を破線で示してある。前記最も外側の光線はそれぞれ視野点103及び104と関連する波面の境界を画定する。本発明の例示のために、前記波面は球面であると仮定する。波面センサ及び/又は更なるセンサ及び/又は予測モデルが、波面がレンズを通過した後の像収差又は波面に関する情報をもたらす決定ユニット150を形成する。前記更なるセンサは例えば、空気圧センサ、レンズ内の温度の測定センサ、レンズ素子上の温度又はミラーの裏面上の温度の測定センサである。特にレンズ素子113の温度は、センサ151により計測される。図2は、本発明による投影装置100を備えるマイクロリソグラフィ用の投影露光装置201を示す。投影露光装置は光源により構成し、光源は一般に193nm又は248nmの動作波長で操作するレーザーとする。性質上、より狭い帯域幅の動作波長をもたらすが、365nm、405nm及び435nmi、g及びhラインの波長でピークを顕著に示したガス放電ランプのような他の光源も使用する。同様に、135nmの波長がプラズマ源LPP又はDPP、又はシンクロトロン放射源などのX線源と共に使用される。投影露光装置内の照明光の進路は、図中の矢印により概略的に示してある。光は感知可能なエタンデュ無くレーザー202を出る。エタンデュは照明系203により発生し、照明系203は照明系203の所定の出力側開口によりレチクル101を照らす。照明設定も又、照明系203により定められる。二極、四極又は環状設定、例えばマルチミラーアレイを利用して設定可能な自由設定も使用される。一般にバイナリクロムマスク又は位相シフトマスクとして定義されるマスクを通過した後、照明光は本発明による投影装置100及びその内部のレンズ110に到達する。前記レンズは、現在使用されているレチクルの撮像に最適なシグマ設定に対応する絞り位置で操作される。シグマ設定は、照明系の出力側開口とレンズの入力側開口の商として定義される。ダイの露光中にダイを変更した場合、ウェハを変更した場合、レチクルを変更した場合又はバッチを変更した場合に、波面センサ150によりレンズの像収差が測定され、前記像収差の1つがもはや所定の仕様を満たさない場合には、マニピュレータ121、122及び123を調整又は制御することにより、前記像収差を再び仕様どおりの状態に戻す。"