"精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入ステップと、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度取得ステップと、前記粗銅溶湯に前記還元剤が導入された後において、前記温度取得ステップで取得された温度の時間に対する変動量が所定値以下となった後の上昇幅が所定値以上となった場合に、前記還元剤の導入を停止する停止ステップと、を含むことを特徴とする溶銅還元処理方法。前記停止ステップにおける前記上昇幅に係る所定値は、前記粗銅溶湯中の酸素濃度が0.05重量~0.20重量となる値であることを特徴とする請求項1記載の溶銅還元処理方法。前記停止ステップにおける前記上昇幅に係る所定値は、60°C~70°Cの範囲のいずれかの値であることを特徴とする請求項1または2記載の溶銅還元処理方法。前記精製炉内に導入される還元剤は、LPGまたはブタンであることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の溶銅還元処理方法。精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入ステップと、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度取得ステップと、前記還元剤導入ステップにおいて前記還元剤が導入された後において、前記温度取得ステップで取得された温度の時間に対する変動量が第1所定値以下となった後に第2所定値以上となった時点から所定時間が経過した場合に前記還元剤の導入を停止する停止ステップと、を含むことを特徴とする溶銅還元処理方法。精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入装置と、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度センサと、前記還元剤導入装置を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記還元剤導入装置によって前記還元剤が導入された後において、前記温度センサが取得する温度の時間に対する変動量が所定値以下となった後の上昇幅が所定値以上となった場合に、前記還元剤の導入が停止されるように前記還元剤導入装置を制御することを特徴とする還元処理装置。精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入装置と、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度センサと、前記還元剤導入装置を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記還元剤導入装置によって前記還元剤が導入された後、前記温度センサが取得する温度の時間に対する変動量が第1所定値以下となった後に第2所定値以上となった時点から所定時間が経過した場合に、前記還元剤の導入が停止されるように前記還元剤導入装置を制御することを特徴とする還元処理装置。しかしながら、特許文献1の技術では、消耗型のプローブを用いることによって、コストが増加する。また、特許文献2の技術では、排ガス温度の上昇が続く限り、還元剤の吹込み量の調整が繰り返されることになる。すなわち、還元終点の判断基準が不明確である。本発明は、上記課題に鑑み、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる溶銅還元処理方法および還元処理装置を提供することを目的とする。本発明に係る溶銅還元処理方法は、精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入ステップと、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度取得ステップと、前記粗銅溶湯に前記還元剤が導入された後において、前記温度取得ステップで取得された温度の時間に対する変動量が所定値以下となった後の上昇幅が所定値以上となった場合に、前記還元剤の導入を停止する停止ステップと、を含むことを特徴とするものである。本発明に係る溶銅還元処理方法によれば、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる。前記停止ステップにおける前記上昇幅に係る所定値は、前記粗銅溶湯中の酸素濃度が0.05重量~0.20重量となる値としてもよい。前記停止ステップにおける前記上昇幅に係る所定値は、60°C~70°Cの範囲のいずれかの値としてもよい。前記精製炉内に導入される還元剤は、LPGまたはブタンとしてもよい。本発明に係る他の還元処理方法は、精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入ステップと、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度取得ステップと、前記還元剤導入ステップにおいて前記還元剤が導入された後において、前記温度取得ステップで取得された温度の時間に対する変動量が第1所定値以下となった後に第2所定値以上となった時点から所定時間が経過した場合に前記還元剤の導入を停止する停止ステップと、を含むことを特徴とするものである。本発明に係る他の還元処理方法によれば、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる。本発明に係る還元処理装置は、精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入装置と、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度センサと、前記還元剤導入装置を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記還元剤導入装置によって前記還元剤が導入された後において、前記温度センサが取得する温度の時間に対する変動量が所定値以下となった後の上昇幅が所定値以上となった場合に、前記還元剤の導入が停止されるように前記還元剤導入装置を制御することを特徴とするものである。本発明に係る還元処理装置によれば、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる。本発明に係る他の還元処理装置は、精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入装置と、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度センサと、前記還元剤導入装置を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記還元剤導入装置によって前記還元剤が導入された後、前記温度センサが取得する温度の時間に対する変動量が第1所定値以下となった後に第2所定値以上となった時点から所定時間が経過した場合に、前記還元剤の導入が停止されるように前記還元剤導入装置を制御することを特徴とするものである。本発明に係る他の還元処理装置によれば、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる。本発明によれば、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる溶銅還元処理方法および還元処理装置を提供することができる。以下、本発明を実施するための実施形態について説明する。実施形態自溶炉などにおける溶錬工程で得られるマットは、転炉に導入される。マットは、例えば、Cu2SFeSなどを主成分とする。転炉においては、造カン期においてCu2Sを主体とする白カワが生成され、造銅期において粗銅溶湯が生成される。粗銅溶湯の銅含有量は、98.5重量程度である。転炉で得られた粗銅溶湯は、精製炉に導入される。次に、粗銅溶湯中にエアなどの酸化剤を吹き込むことによって硫黄を酸化除去する酸化工程が実施される。次に、還元工程が実施される。この還元工程は、転炉で生成された粗銅溶湯中に存在していた酸素および酸化工程で粗銅溶湯中に吸収された酸素を除去する工程である。還元工程は、精製炉内の粗銅溶湯中に気体還元剤を湯面下の羽口から吹き込むことによって行われる。気体還元剤として、ブタンまたはLPGを用いることができる。気体の還元剤を用いることによって、取り扱いが容易となる。また、発熱量制御が容易となるため、還元処理中の排ガス温度の上昇を抑えてほぼ一定値に制御することができる。それにより、還元終点付近での排ガス温度上昇時の反応系の変化を判断しやすくなる。還元工程の際に、還元剤が粗銅溶湯中の酸素によって酸化する。この酸化で生じる排ガスは、精製炉から排出される。図1は、精製炉から排出される排ガスが通過する経路について説明するための模式図である。図1を参照して、精製炉10の羽口に、還元剤導入装置11が設けられている。還元剤導入装置11は、粗銅溶湯中に気体還元剤を吹き込む装置である。精製炉10の排ガス出口に、煙道20が接続されている。煙道20の下流端は、シール金具30を介して煙道40が接続されている。シール金具30には、1以上の孔31が形成されている。この孔からフリーエアが煙道40内に導入される。煙道40には、温度センサ41が配置されている。また、煙道40には、温度センサ41よりも下流において、ファン42が介挿されている。それにより、煙道40内に導入されるフリーエア量を一定に保つことができる。ファン42よりも下流側には、鉱石を乾燥させるためのドライヤー43が設けられている。制御部50は、CPU中央演算処理装置、ROMリードオンリメモリ、RAMランダムアクセスメモリ等から構成される。制御部50は、温度センサ41の検出結果に応じて、還元剤導入装置11の動作を制御する。詳細は、後述する。図2aは、温度センサ41が取得する温度の変遷を示す概念図である。図2aにおいて、横軸は経過時間を示し、縦軸は温度センサ41が取得する温度Tを示す。図2aを参照して、還元剤導入装置11による還元剤導入開始後、温度Tは急激に上昇する。この期間を、期間Iとする。その後、温度Tの上昇幅が低下し、ほぼ一定となる。この期間を、期間IIとする。なお、期間IIは、温度Tの時間に対する変動量が所定値以下となった期間である。さらに、その後、温度Tは急激に上昇する。この期間を、期間IIIとする。図2bは、温度センサ41が取得する温度の変遷を示す実測値である。図2bにおいて、横軸は経過時間を示し、縦軸は温度センサ41が取得する温度Tを示す。図2bを参照して、温度センサ41が取得する温度の実測値は、図2aとほぼ同様の変遷をたどることがわかる。以下、この現象について考察する。粗銅溶湯には、所定量の酸素が溶解している。この酸素は、転炉で生成された粗銅溶湯にあらかじめ存在していた酸素および上述した酸化工程で粗銅溶湯に吸収された酸素である。粗銅溶湯中の酸素は、還元剤によって還元される。ここで、一例として、還元剤にC4H10ブタンを用いている。精製炉内の化学反応について粗銅溶湯、酸素、ブタンの反応を検討すると、反応中の生成物には様々な中間生成物が存在すると考えられるが、ここでは反応そのものを単純化して、以下のように表すことにする。精製炉10内での粗銅の還元反応は、反応式1で表される吸熱反応となる。反応式1Cu2Ol→2Cul1/2O2g吸熱反応ΔH=30kcal/mol:1,150°Cまた、ブタンが酸素と反応し、完全燃焼が行われる酸化反応は、反応式2で表される発熱反応となる。反応式2C4H10g13/2O2g=4CO2g5H2Og発熱反応ΔH=-677kcal/mol:1,150°C精製炉10内は、還元雰囲気であることから、吹き込まれたブタンの全てが反応式2のように反応しないで、一部、反応式3のような不完全燃焼反応が行われる。反応式3も反応式2と同じ発熱反応であるが、反応熱は反応式3の方が、反応式2よりも小さくなっている。反応式3C4H10g9/2O2g=4COg5H2Og発熱反応ΔH=-408kcal/mol:1,150°Cまた、精製炉10内で完全に反応しなかったCOガスは、炉外でフリーエアと反応することで、反応式4の発熱反応が起こると考えられる。反応式4COg1/2O2g=CO2g発熱反応ΔH=-67kcal/mol:1,150°C期間Iにおいては、精製炉10内では、反応式1と反応式2と反応式3とが同時に起こっていると考えられ、この総括反応は発熱反応となる。温度上昇の主要因として、反応式2による精製炉羽口から吹き込んだ酸素若干精製炉内へ吹き込まれる空気中の酸素や溶湯中の酸素とブタンとの酸化反応による発熱によって高温のCO2ガスが排出される。高温となった排ガスは、精製炉10から煙道20を通り、煙道40に設置された温度センサ41を通り、最終的には煙道出口に設置されたドライヤー43の乾燥用ガスとして吹き出される。ここで、煙道40は、還元処理前には室温程度であり、還元処理による高温の排気ガスが通過することによって、顕熱として働き、配管の温度上昇に寄与し、煙道40に設置された温度センサの温度指示値が、徐々に上昇し始める。期間IIにおいては、煙道40の温度上昇が平衡に達し、反応式1と反応式2と反応式3との割合が釣り合う状態となっている。また、期間IIにおいては、反応式1と反応式2と反応式3とによる精製炉10内での溶湯中酸素の還元が十分に進行する。それにより、溶湯中酸素濃度が低下し始め、ブタンとの酸化発熱反応が鈍化し、さらに、煙道温度も十分に暖まり、また外気への放熱との温度補償等により、温度センサ41の温度指示値は均衡状態で推移し始める。さらに、期間IIIにおいては、溶湯中酸素濃度が低下するに従い、反応式3の割合が上昇し、精製炉10に供給されたブタンガスの一部が未反応の状態で精製炉10から排出され始める。それにより、シール金具30の孔31付近で、精製炉10から排出された未反応のブタンガスとフリーエアー中の酸素とが燃焼反応を起こす。この燃焼反応の発熱により、温度Tが再度急激に上昇するようになる。したがって、温度Tが再上昇した際の所定時点を、還元終点と判断することができる。このように、粗銅溶湯中の酸素量と温度Tとの間に相関関係が生じると考えられる。したがって、還元終点は、温度Tに基づいて求めることができる。一例として、温度Tの時間変動量が所定値以下となった場合のいずれかの温度からの温度上昇幅ΔTが所定値以上になった場合に、還元終点に至ったと判断することができる。この場合、期間IIを経ることを確認してから還元終点を定めることができることから、還元終点の決定精度が向上する。還元終点は、粗銅溶湯中の酸素濃度が所定範囲になる時点である。粗銅溶湯中の酸素量が多いと、銅電解精製の工程において、Cu2OH2SO4→CuSO4CuH2Oからなる、銅アノードからの非電解的溶出が起こり易くなる。この場合、電解槽底部に沈殿するスライムの銅品位の上昇や電解液中の銅濃度の上昇の原因となり、電解精製の効率低下および電解液の脱銅処理量の増加に繋がり、問題となる。一方で、粗銅溶湯の還元処理を溶湯中酸素濃度が所定値より少なくなるまで実施すると、吹き込む還元剤の量が増加し、コストが増加する。本発明者は、粗銅溶湯中の酸素濃度が0.05重量~0.20重量であれば、アノードの内部から表面近傍に放出される酸素ガスにより形成される空孔の表面隆起を抑制できるとともに、所望形状のアノードが得られることを確認した。したがって、粗銅溶湯中の酸素濃度と上昇幅ΔTとの関係をあらかじめ取得しておくことによって、還元終点における上昇幅ΔTを定めることができる。上昇幅ΔTは、酸素濃度0.05重量~0.20重量を実現するための温度差であることが好ましい。例えば、上昇幅ΔTが60°C~70°C程度となった場合に、還元終点に至ったと判断することができる。図3は、還元終点を判断するためのフローチャートの一例を説明するための図である。まず、制御部50は、精製炉10内に還元剤が導入されるように、還元剤導入装置11を制御するステップS1。次に、制御部50は、温度センサ41から温度T1を取得するステップS2。次いで、制御部50は、単位時間経過後に、温度センサ41から温度T2を取得するステップS3。次に、制御部50は、温度T1,T2に基づいて、時間に対する温度の変動量Dを取得するステップS4。次いで、制御部50は、温度の変動量Dが所定値以下であるか否かを判定するステップS5。この場合の所定値として、ゼロに近い値を用いることができる。ステップS5において温度の変動量Dが所定値以下であると判定されなかった場合、制御部50は、ステップS2から再度実行する。ステップS5において温度の変動量Dが所定値以下であると判定された場合、制御部50は、温度センサ41から温度T3を取得するステップS6。次に、制御部50は、温度の上昇幅ΔT=T3-T2が所定値以上になったか否かを判定するステップS7。この場合の所定値として、例えば、60°C~70°Cの範囲のいずれかの値を用いてもよい。ステップS7において上昇幅ΔTが所定値以上になったと判定された場合、制御部50は、現時点が還元終点であると判定し、還元剤導入装置11による粗銅溶湯中への還元剤の導入を停止するステップS8。その後、フローチャートの実行が終了する。ステップS7において上昇幅ΔTが所定値以上になったと判定されなかった場合、制御部50は、ステップS6に戻る。図3のフローチャートによれば、時間に対する温度の変動量Dが所定値以下になった後の温度上昇幅ΔTが所定値以上になった場合に、還元剤の導入が停止される。この場合、図2aの期間IIを経ることを確認してから還元終点を定めることができる。それにより、高い精度で、粗銅溶湯中の酸素濃度を適正値に調整することができる。また、未反応の還元剤のフリーエアによる燃焼が抑制される。それにより、煙道などの損傷を抑制することができる。なお、図3のフローチャートでは、制御部50を用いて自動的に還元剤導入装置11を制御したが、ユーザが上昇幅ΔTに基づいて還元剤導入装置11を制御してもよい。なお、温度の上昇幅ΔTを検出しなくても還元終点を判断することができる。例えば、還元剤導入量と温度センサ41が取得する温度Tとの関係をあらかじめ取得しておくことによって、還元剤が導入された後の経過時間と還元終点との関係を得ることができる。例えば、還元剤を導入した後に温度Tの時間に対する変動量Dが低下した後に上昇に転じた時点から所定時間が経過した場合に、還元終点であると判断して、還元剤の導入を停止してもよい。図4は、この場合に実行されるフローチャートの一例を説明するための図である。まず、制御部50は、精製炉10内に還元剤が導入されるように、還元剤導入装置11を制御するステップS11。次に、制御部50は、図3のステップS2~S4と同様の処理により、温度の変動量Dを取得するステップS12。次いで、制御部50は、温度の変動量Dが第1所定値以下であるか否かを判定するステップS13。この場合の第1所定値として、ゼロに近い値を用いることができる。ステップS13において温度の変動量Dが第1所定値以下であると判定されなかった場合、制御部50は、ステップS12から再度実行する。ステップS13において温度の変動量Dが第1所定値以下であると判定された場合、制御部50は、図3のステップS2~S4と同様の処理により、温度の変動量Dを再度取得するステップS14。次に、制御部50は、ステップS14で取得した温度の変動量Dが第2所定値>第1所定値以上になったか否かを判定するステップS15。ステップS15において温度の変動量Dが第2所定値以上になったと判定されなかった場合、制御部50は、ステップS15を再度実行する。ステップS15において温度の変動量Dが第2所定値以上になったと判定された場合、制御部50は、所定時間が経過したか否かを判定するステップS16。この場合の所定時間として、還元剤導入量から求まる還元終点に至る経過時間を用いる。ステップS16において所定時間が経過したと判定された場合、制御部50は、現時点が還元終点であると判定し、還元剤導入装置11による粗銅溶湯中への還元剤の導入を停止するステップS17。その後、フローチャートの実行が終了する。ステップS16において所定時間が経過したと判定されなかった場合、制御部50は、ステップS16を再度実行する。図4のフローチャートによれば、還元剤を導入した後に温度Tの上昇幅が低下した後に上昇に転じた時点から所定時間が経過した場合に、還元剤の導入が停止される。この場合、図2aの期間IIを経ることを確認してから還元終点を定めることができる。それにより、高い精度で、粗銅溶湯中の酸素濃度を適正値に調整することができる。なお、図4のフローチャートでは、制御部50を用いて自動的に還元剤導入装置11を制御したが、ユーザが経過時間に基づいて還元剤導入装置11を制御してもよい。なお、本実施形態においては、煙道40内の温度を取得したが、それに限られない。例えば、煙道40の外壁温度を取得することによって、煙道40内の温度を間接的に取得してもよい。"