ロッドの周囲にCVD法によりガラス微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体を作製し、前記ガラス微粒子堆積体から前記ロッドを引き抜いて筒状の多孔質ガラス管を製造する多孔質ガラス管の製造方法であって、前記ガラス微粒子堆積体の作製後に、前記ガラス微粒子堆積体の表面をガラス微粒子の原料を含まない火炎により加熱する加熱処理を行うことを特徴とする多孔質ガラス管の製造方法。請求項1に記載の多孔質ガラス管の製造方法であって、前記加熱処理時に、前記ガラス微粒子堆積体の表面における気孔率が20以上70以下となるように加熱することを特徴とする多孔質ガラス管の製造方法。ところで、本発明者等は、シリカガラス膜を水素分離膜として機能させ、当該シリカガラス膜と熱膨張率が近い多孔質体をその支持体とする水素分離材料をPCTJP2010072201にて提案している。かかる構成によれば、熱衝撃に強く、水素分離膜と支持体との密着性が良く、水素分離特性に優れた水素分離材料が実現できる。また、当該先願では、シリカ系多孔質支持体の製法の一例としてCVD法による製造例を記載している。かかる製法は、CVD法によりロッドの周囲にガラス微粒子を堆積し、これをガス透過性能に優れる程度に即ち高い気孔率を有するように焼結させ、その後ロッドを引抜くことによってシリカ系多孔質支持体を円筒状のガラス管として構成したものである。しかし、上記のように、ロッドの周囲にガラス微粒子を堆積させて作製したガラス管には、その表面に、ガラス微粒子粉が付着している。このため、作製したガラス管の運搬時や次工程において表面のガラス微粒子粉が脱落するおそれがある。このガラス微粒子粉の脱落を抑えるためには、吸引、表面洗浄あるいは拭き取り等の煩雑な除去工程を行ってガラス微粒子粉を除去することが必要となる。また、ガラス微粒子を多層に堆積させてガラス管を作製した場合では、次工程でのダイヤモンドカッターによる切断処理などで振動や衝撃が加わった際に、表層部の数層が剥がれて脱落するおそれがある。なお、ガラス管の表層におけるガラス微粒子の堆積時に堆積温度を高くするようにしたとしても、堆積した直後の表層部は柔らかい状態その外側の層が堆積されていないので、火炎であぶられていない状態であるため、各層間の密着性を高めてガラス微粒子粉の脱落を防ぐには不十分であった。本発明の目的は、表層からのガラス微粒子粉や堆積層の脱落を抑制できる多孔質ガラス管の製造方法を提供することである。上記課題を解決することのできる本発明の多孔質ガラス管の製造方法は、ロッドの周囲にCVD法によりガラス微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体を作製し、前記ガラス微粒子堆積体から前記ロッドを引き抜いて筒状の多孔質ガラス管を製造する多孔質ガラス管の製造方法であって、前記ガラス微粒子堆積体の作製後に、前記ガラス微粒子堆積体の表面をガラス微粒子の原料を含まない火炎により加熱する加熱処理を行うことを特徴とする。本発明の多孔質ガラス管の製造方法において、前記加熱処理時に、前記ガラス微粒子堆積体の表面における気孔率が20以上70以下となるように加熱することが好ましい。本発明によれば、ガラス微粒子堆積体の表面を加熱処理し、ガラス微粒子堆積体の表面及び表面からある程度の深さまでを加熱することができる。これにより、ガラス微粒子堆積体の表面のガラス微粒子粉を互いに固着させたり、余剰なガラス微粒子粉を火炎によって吹き飛ばすことができる。さらに、ガラス微粒子堆積体の表層付近におけるガラス微粒子の堆積層間の密着力を向上させることができる。したがって、運搬時や次工程での処理時等における表層部からのガラス微粒子粉の脱落や堆積層の脱落を抑制することができる。以下、本発明に係る多孔質ガラス管の製造方法の実施の形態の例を、図面を参照して説明する。図1に示すように、本実施形態に係る多孔質ガラス管の製造方法によって製造する多孔質ガラス管11は、略円筒形状であり、その中心には長手方向に延びる略円形断面の中心孔12を有する。多孔質ガラス管11は、中心孔12の外周上に管壁としてガラス微粒子堆積体13を有する。ガラス微粒子堆積体13の外径Tは2mm~50mmであり、内径中心孔12の径Pは1.6mm~48mm、長さLは200mm~400mm程度である。中心孔12の一方の端部12aは塞がれていることが望ましい。また、多孔質ガラス管11の表面積を大きくするため、外径Tおよび内径Pを長手方向に周期的に変化させても良く、機械的強度を補強するために厚さを部分的に変化させることもできる。多孔質ガラス管11は、その平均気孔率が、例えば、40~70とされている。なお、気孔率は、単位体積当たりの空気容積が占める割合として算出できる。多孔質ガラス管11は、例えば、流体分離材料として用いられる。多孔質ガラス管11を流体分離材料である水素分離材料として用いる場合、多孔質ガラス管11の外周には、孔径が0.3nm程度となるように緻密化されたシリカガラス分離膜層が形成される。そして、水素脆性や原料不純物との反応による膜の劣化が生じることなく、このシリカガラス分離膜層が水素透過膜として使用される。シリカガラス分離膜層の厚さは、例えば、0.01μm~50μmであることが好ましく、0.02μm~10μmであることがより好ましく、0.03μm~5μmであることが更に好ましい。厚さが0.01μm未満では、透過ガスの水素純度が低くなりすぎ、また、50μmを超えると水素透過速度が小さくなりすぎ、実用上十分な水素分離性能が得られにくくなる場合がある。また、シリカガラス分離膜層の孔径等を変更することで、水素以外の気体または液体を分離するものとしても適用可能である。シリカガラス分離膜層の支持体をガラス微粒子堆積体13とすることで、シリカガラス分離膜層における水素の透過を干渉することなく該薄膜を支持することができる。ガラス微粒子堆積体13の外付けの一層の気孔率は、特に限定されるものではないが、機械的強度とガス透過性のバランスから、シリカガラス分離膜層よりも大きい20~70であることが好ましい。また、ガラス微粒子堆積体13の線熱膨張係数は、2×10-6/K以下である。線熱膨張係数が2×10-6/Kを超えると、発生する熱応力が大きくなり、所望の耐熱衝撃性が得られない場合がある。ガラス微粒子堆積体13の形成材料は、耐熱衝撃性の観点からシリカガラス分離膜と線熱膨張係数が近似するものが好ましく、多孔質シリカガラスであることがより好ましい。該ガラス微粒子堆積体13の厚さは、特に限定されるものではないが、機械的強度とガス透過性のバランスから0.2~5mmであることが好ましく、0.5~3mmであることがより好ましい。耐熱衝撃性の観点からは、ガラス微粒子堆積体13はシリカガラス分離膜層に線熱膨張係数が近似するものから選ばれることが好ましい。また、本実施形態のガラス微粒子堆積体13においては、多孔質シリカガラスに、希土類元素、4B族元素、Al、Ga、又はこれらの2種以上の元素を組合せて添加することがが好ましい。ガラス微粒子堆積体13を構成する多孔質シリカガラスの成分を調整することにより、所望の機械特性や、耐水蒸気性などが得られるからである。例えば、多孔質ガラス管11を炭化水素燃料の水蒸気改質に用いる場合、500°C以上の水蒸気に必然的に接触するため、このように他成分を導入することにより耐水蒸気性能を向上させることが好ましい。次に、多孔質ガラス管の製造方法の一実施形態について、図面を参照して説明する。多孔質ガラス管11の製造方法の例として、ロッドの周囲にガラス微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体13を形成した後堆積体作製工程、ガラス微粒子堆積体13の表面に加熱処理を施し加熱処理工程、該ロッドを引き抜いて引抜工程行う方法を挙げることができる。図2を用いて、当該方法の一実施形態を以下に説明する。1堆積体作製工程図2aに示すように、ロッド20は、先端部が下になるようにして鉛直に配置される。また、水平に配置する形としても良い。ロッド20の素材としては、アルミナ、ガラス、耐火性セラミクス、カーボンなどを用いることができる。ロッド20は固定された後、中心軸を中心として回転される。そして、OVD法によって、ロッド20の側方に配置されたバーナ21により、ロッド20の外周にガラス微粒子が堆積される。バーナ21は、ガラス原料ガスと可燃性ガス及び助燃性ガスとを噴出し、酸水素火炎で生じる火炎加水分解反応によって生成されるガラス微粒子をロッド20へ吹き付ける。バーナ21に供給するガラス原料ガスに所望の成分のガスを添加することにより、生成されるガラス微粒子には、所望の機械特性や耐水蒸気性に応じて、希土類元素、4B族元素、Al、Ga、又はこれらの2種以上の元素を組合せて添加することができる。つまり、この製造法によれば、容易に成分の調整ができる。ガラス微粒子の堆積に際して、バーナ21をロッド20の軸方向にトラバースさせるか、またはバーナ21を固定してロッド20を軸方向にトラバースさせる。そのトラバースの回数毎にバーナ21への供給原料の種類やガスの供給量を異ならせることもできる。これにより、ロッド20の外周に堆積されるガラス微粒子は、径方向に所定の嵩密度と組成の分布を有することになる。また、ロッド20の先端部にもガラス微粒子を堆積させることで、先端が閉じた管状のガラス微粒子堆積体13が作製される。なお、ガラス微粒子堆積体13は、OVD法に限らず、他のCVD法であるVAD法やMMD法多バーナ多層付け法で作製しても良い。2加熱処理工程ガラス微粒子を堆積した後、ガラス微粒子堆積体13に対して加熱処理を行う。この加熱処理では、バーナ21へのガラス原料ガスの供給を停止することにより、バーナ21からガラス微粒子の原料を含まない酸水素火炎のみを噴出させてトラバースさせ、ガラス微粒子堆積体13の表面を加熱する。これにより、ガラス微粒子堆積体13の表面及び表面からある程度の深さまで加熱される。すると、ガラス微粒子堆積体13の表面のガラス微粒子粉が互いに固着する。また、ガラス微粒子堆積体13の表層付近におけるガラス微粒子の堆積層が緻密化して、堆積層間の密着力が向上する。なお、ガラス微粒子粉は、固着する以外にも火炎によって吹き飛ばされるものもある。この加熱処理では、多孔質ガラス管11を流体分離材料として用いる場合、流体透過性を失わないようにガラス微粒子堆積体13の表面の気孔率が20以上になるように制御する。なお、この加熱処理では、ガラス微粒子堆積体13の気孔率が何れの部位でも20以上70以下の範囲になるように制御するのが好ましい。この加熱処理では、ガラス微粒子の生成時と同一条件で酸素及び水素をバーナ21へ供給して火炎を発生させても良いが、ガラス微粒子堆積体13の表面に付着したガラス微粒子粉の付着量やガラス微粒子堆積体13の表面状態に応じてバーナ21の火炎の強さ温度や大きさを調整するのが好ましい。バーナ21の火炎の強さを調整する場合、ガラス微粒子堆積体13の表面状態をある程度予測してバーナ21の火炎の強さを調整し、ガラス微粒子堆積体13の作製と連続して加熱処理を行っても良い。なお、加熱処理における火炎の条件を設定するために、ガラス微粒子堆積体13を装置から一旦取り外し、ガラス微粒子堆積体13のガラス微粒子粉の付着度合や表面状態を観察しても良い。加熱処理の温度は、特に限定はないが、例えば、900°C~1400°Cとすることが好ましい。900°C未満では表面の安定化が十分に進行しない場合があり、1400°Cを超えると気孔率が小さくなりすぎる場合がある。また、加熱温度により気孔率を調整する場合も特に温度の限定はないが、例えば、1250°C程度とすることが好ましい。なお、加熱温度はトラバース速度と密接に関係しており、同じ加熱温度でもトラバース速度が遅いと加熱時間が長くなる為、急激に気孔率が小さくなる場合がある。逆にトラバース速度が速くなると、表面の安定化が進まなくなる。バーナ21へのガスの供給量は、前記の加熱温度となるような酸素、水素の流量に調整することになるが、例えば酸素20~30リットル/分、水素1~10リットル/分とし、バーナ21のトラバース速度は5~500m/秒、ガラス微粒子堆積体13の回転数は50~500rpm、バーナ21のトラバース回数は1~10回とするのが好ましい。なお、加熱処理におけるバーナ21のトラバースは、一方向トラバースでも良く、または往復トラバースでも良い。3引抜工程図2cに示すように、加熱処理工程の後の引抜工程では、ガラス微粒子堆積体13からロッド20が引き抜かれる。引抜により形成される中心孔12は、貫通しておらず、下端側先端側12aが塞がれていて、上端側のみが開口している。なお、引き抜きを容易にするために、予めロッド20の表面にカーボンや窒化物等を塗布しておくことが好ましい。また、同様に引き抜きを容易にするという観点から、ロッド20は先細のテーパ形状を有することが好ましく、例えばその外径傾斜率を0.2~2.0mm/1000mmとすることができる。更に、ロッド20は熱膨張率5×10-6/K以下であることが好ましい。ロッド20の熱膨張率が高いと堆積体作製工程中においてバーナ21が接近する度にロッド20に伸縮膨張が生じ、ガラス微粒子堆積体13を破損する虞がある為である。また、熱膨張率を上記範囲とすることでロッド20自体の熱衝撃による破損を防止することができる。さらにロッド20は、例えばガラスとの親和性が低い窒化珪素等の非酸化物からなるロッドであることが好ましい。このように、上記実施形態に係る多孔質ガラス管の製造方法によれば、バーナ20のガラス原料ガスを含まない酸水素火炎を用いてガラス微粒子堆積体13の表面を加熱処理し、ガラス微粒子堆積体13の表面及び表面からある程度の深さまでを加熱する。これにより、ガラス微粒子堆積体13の表面に存在するガラス微粒子粉を互いに固着させたり、余剰なガラス微粒子粉を火炎によって吹き飛ばしたりすることができる。さらに、ガラス微粒子堆積体13の表層付近におけるガラス微粒子の堆積層間の密着力を向上させることができる。したがって、運搬時や次工程での処理時等において、多孔質ガラス管11の表層部からガラス微粒子粉が脱落したり表層の堆積層が脱落したりすることを抑制することができる。上記のようにして製造された多孔質ガラス管11を水素分離材料として用いる場合は、この多孔質ガラス管11の表面に、水素透過膜として使用されるシリカガラス分離膜層を形成する。このシリカガラス分離膜層は、ゾルゲル法やCVD法、多孔質シリカガラスを表面改質する方法などにより形成することができる。なお、表面改質とは、水素透過膜部分を作製するために、表面の膜となる部分、例えば、多孔質ガラス管11を構成する多孔質シリカガラスの表面近傍をある程度緻密化することによって、緻密質のシリカガラスの層にすることをいう。その一つの方法として、加熱によるものが挙げられる。具体的には、例えば、CO2レーザー、プラズマアーク、酸水素バーナなどを単独で、又は複数組合せて照射する方法である。表面改質による形成法によれば、多孔質ガラス管11を構成する多孔質シリカガラスとシリカガラス分離膜層を別々に製造して積層する製造方法よりも膜と支持体との接合強度を上げることができ、またシリカガラス分離膜層の厚さや孔の大きさを緻密化の程度によって、簡単に制御することができる。シリカガラス分離膜層の緻密化の程度は、分離する流体の分子サイズで設定される。水素透過の観点から、シリカガラス分離膜層の孔径が0.3nm程度となるように緻密化されることが望ましい。このとき、本実施形態の製造方法によって製造した多孔質ガラス管11では、次工程であるシリカガラス分離膜層の形成工程において、表層部からのガラス微粒子粉の脱落やガラス微粒子の表層の堆積層の脱落が抑えられるので、円滑に処理を行うことができる。不良率の調査堆積体作製工程によってガラス微粒子堆積体を作製し、その後、加熱処理工程で加熱処理を行い、引抜工程でロッドを引き抜き、長さ300mm、外径9mmの多孔質ガラス管を複数本製造した。製造した多孔質ガラス管の不良率を調査した。加熱処理の条件加熱温度1250°Cバーナへのガスの供給量酸素24リットル/分、水素6リットル/分トラバース速度100m/分トラバース回数4回ガラス微粒子堆積体の回転数100rpm調査結果堆積体作製工程後に加熱処理工程を行うことで、多孔質ガラス管の表層部からのガラス微粒子粉の脱落や表層の堆積層の脱落などを要因とした多孔質ガラス管の不良率を、従来方法の場合の23から6に低減させることができた。