"基材上に、カーボンナノチューブを含み平均短軸径が90nm以下の導電性繊維束と、珪素酸化物と、を含む導電性層を有する導電性部材。前記珪素酸化物が、下記一般式Iで示されるオルガノアルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られるゾルゲル硬化物を含む請求項1に記載の導電性部材。SiOR1aR24-aI一般式I中、aは1~3の整数を示し、a個のR1はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示し、4-a個のR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示す。但し、4-a個のR2のうちの少なくとも一つはエポキシ基を含む炭化水素基を示す。前記珪素酸化物が、下記一般式Iで示されるオルガノアルコキシシランと、下記一般式IIで示されるテトラアルコキシシランとを加水分解及び重縮合して得られるゾルゲル硬化物を含む請求項1または請求項2に記載の導電性部材。SiOR1aR24-aI一般式I中、aは1~3の整数を示し、a個のR1はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示し、4-a個のR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示す。但し、4-a個のR2のうちの少なくとも一つはエポキシ基を含む炭化水素基を示す。SiOR34II一般式II中、4個のR3はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示す。前記一般式Iにおけるaが、3である請求項2または3に記載の導電性部材。前記エポキシ基を含む炭化水素基が、グリシジル基、2-エポキシプロピル基、3-エポキシプロピル基、3-グリシドキシプロピル基、または、2-3,4-エポキシシクロキシルエチル基である請求項2~請求項4のいずれか一項に記載の導電性部材。前記ゾルゲル硬化物における前記オルガノアルコキシシランに由来する構成単位/前記テトラアルコキシシランに由来する構成単位の質量比が、0.01/1~100/1の範囲にある請求項3~請求項5のいずれか一項に記載の導電性部材。前記カーボンナノチューブと前記珪素酸化物とが、共有結合によって連結されている請求項1~請求項6のいずれか一項に記載の導電性部材。前記共有結合が、前記カーボンナノチューブが有するヒドロキシ基と、前記オルガノアルコキシシランのエポキシ基との反応に由来する請求項7に記載の導電性部材。前記導電性層が、導電性領域および非導電性領域を含む請求項1~請求項8のいずれか一項に記載の導電性部材。i基材上に、カーボンナノチューブを含む分散液を塗布して、導電性繊維束を含む導電性繊維層を形成すること、ii前記導電性繊維層上に、下記一般式Iで示されるオルガノアルコキシシランを含むアルコキシド化合物の水溶液を塗布すること、およびiii前記iiで塗布されたアルコキシド化合物を加水分解および重縮合させてゾルゲル硬化物を形成すること、を含む、カーボンナノチューブを含み平均短軸径が90nm以下の導電性繊維束と珪素酸化物とを含む導電性層を前記基材上に形成する、導電性部材の製造方法。SiOR1aR24-aI一般式I中、aは1~3の整数を示し、a個のR1はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示し、4-a個のR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示す。但し、4-a個のR2のうちの少なくとも一つはエポキシ基を含む炭化水素基を示す。前記iiにおける、前記アルコキシド化合物の水溶液が、更に下記一般式IIで示されるテトラアルコキシシランを含む請求項10に記載の導電性部材の製造方法。SiOR34II一般式II中、4個のR3はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示す。前記アルコキシド化合物の水溶液における前記オルガノアルコキシシラン/前記テトラアルコキシシランの質量比が、0.01/1~100/1の範囲にある請求項11に記載の導電性部材の製造方法。さらに、iv前記導電性層に、導電性領域および非導電性領域を形成すること、を含む請求項10~請求項12のいずれか一項に記載の導電性部材の製造方法。請求項1~請求項9のいずれか一項に記載の導電性部材を含むタッチパネル。請求項1~請求項9のいずれか一項に記載の導電性部材を含む太陽電池。従って、本発明が解決しようとする課題は、導電性に優れ、かつ透明性及び膜強度の高い導電性部材、その製造方法、並びに当該導電性部材を用いたタッチパネルおよび太陽電池を提供することにある。前記課題を解決する本発明は、以下のとおりである。<1>基材上に、カーボンナノチューブを含み、平均短軸径が90nm以下の導電性繊維束と、珪素酸化物と、を含む導電性層を有する導電性部材。<2>前記珪素酸化物が、下記一般式Iで示されるオルガノアルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られるゾルゲル硬化物を含む<1>に記載の導電性部材。SiOR1aR24-aI一般式I中、aは1~3の整数を示し、a個のR1はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示し、4-a個のR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示す。但し、4-a個のR2のうちの少なくとも一つはエポキシ基を含む炭化水素基を示す。<3>前記珪素酸化物が、下記一般式Iで示されるオルガノアルコキシシランと、下記一般式IIで示されるテトラアルコキシシランとを加水分解及び重縮合して得られるゾルゲル硬化物を含む<1>または<2>に記載の導電性部材。SiOR1aR24-aI一般式I中、aは1~3の整数を示し、a個のR1はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示し、4-a個のR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示す。但し、4-a個のR2のうちの少なくとも一つはエポキシ基を含む炭化水素基を示す。SiOR34II一般式II中、4個のR3はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示す。<4>前記一般式Iにおけるaが、3である<2>または<3>に記載の導電性部材。<5>前記エポキシ基を含む炭化水素基が、グリシジル基、2-エポキシプロピル基、3-エポキシプロピル基、3-グリシドキシプロピル基、または、2-3,4-エポキシシクロキシルエチル基である<2>~<4>のいずれか一項に記載の導電性部材。<6>前記ゾルゲル硬化物における前記オルガノアルコキシシランに由来する構成単位/前記テトラアルコキシシランに由来する構成単位の質量比が、0.01/1~100/1の範囲にある<3>~<5>のいずれか一項に記載の導電性部材。<7>前記カーボンナノチューブと前記珪素酸化物とが、共有結合によって連結されている<1>~<6>のいずれか一項に記載の導電性部材。<8>前記共有結合が、前記カーボンナノチューブが有するヒドロキシ基と、前記オルガノアルコキシシランのエポキシ基との反応に由来する<7>に記載の導電性部材。<9>前記導電性層が、導電性領域および非導電性領域を含む<1>~<8>のいずれか一項に記載の導電性部材。<10>i基材上に、カーボンナノチューブを含む分散液を塗布して、導電性繊維層を形成すること、ii前記導電性繊維層上に、下記一般式Iで示されるオルガノアルコキシシランを含むアルコキシド化合物の水溶液を塗布すること、およびiii前記iiで塗布されたアルコキシド化合物を加水分解および重縮合させてゾルゲル硬化物を形成すること、を含む、カーボンナノチューブを含み平均短軸径が90nm以下の導電性繊維束と珪素酸化物とを含む導電性層を前記基材上に形成することを含む導電性部材の製造方法。SiOR1aR24-aI一般式I中、aは1~3の整数を示し、a個のR1はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示し、4-a個のR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示す。但し、4-a個のR2のうちの少なくとも一つはエポキシ基を含む炭化水素基を示す。<11>前記iiにおける、前記アルコキシド化合物の水溶液が、更に下記一般式IIで示されるテトラアルコキシシランを含む<10>に記載の導電性部材の製造方法。SiOR34II一般式II中、4個のR3はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示す。<12>前記アルコキシド化合物の水溶液における前記オルガノアルコキシシラン/前記テトラアルコキシシランの質量比が、0.01/1~100/1の範囲にある<11>に記載の導電性部材の製造方法。<13>さらに、iv前記導電性層に、導電性領域および非導電性領域を形成すること、を含む<10>~<12>のいずれか一項に記載の導電性部材の製造方法。<14><1>~<9>のいずれか一項に記載の導電性部材を含むタッチパネル。<15><1>~<9>のいずれか一項に記載の導電性部材を含む太陽電池。本発明によれば、導電性に優れ、かつ透明性及び膜強度の高い導電性部材、その製造方法、並びに当該導電性部材を用いたタッチパネルおよび太陽電池が提供される。以下、本発明の導電性部材について詳細に説明する。以下、本発明の代表的な実施形態に基づいて記載されるが、本発明の主旨を超えない限りにおいて、本発明は記載された実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、~を用いて表される数値範囲は、~の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。本明細書において光という語は、可視光線のみならず、紫外線、エックス線、ガンマ線などの高エネルギー線、電子線のような粒子線等を含む概念として用いる。本明細書中、アクリル酸、メタクリル酸のいずれか或いは双方を示すためメタアクリル酸と、アクリレート、メタクリレートのいずれか或いは双方を示すためメタアクリレートと、それぞれ表記することがある。また、含有量は特に断りのない限り、質量換算で示し、特に断りのない限り、質量は、組成物の総量に対する割合を表し、固形分とは、組成物中の溶剤を除く成分を表す。<<<導電性部材>>>本発明の導電性部材は、基材上に、カーボンナノチューブを含み、平均短軸径が90nm以下の導電性繊維束と、珪素酸化物と、を含む導電性層を有する。カーボンナノチューブは導電性に優れているものの、高い表面エネルギーを有するためか極めて凝集しやすいという性質を有している。そのため、カーボンナノチューブを分散剤を用いて溶媒中に分散させた分散液平均短軸径が10nm前後の繊維束を含むを基材に塗布し、乾燥すると、カーボンナノチューブはそのまま基材表面に固定化されるが、上記の塗布及び乾燥の過程においても僅かな凝集が生じ、平均短軸径が30nm前後の繊維束を含む導電性繊維束を含む層が形成される。このような導電性繊維束を含む層の上に、露光によりパターニングが可能な硬化性樹脂、例えば、多官能アクリレート、光重合開始剤及び溶剤を含む光重合性組成物を塗布し、乾燥してパターン形成のためのレジスト層を形成すると、前述の導電性繊維束を形成するカーボンナノチューブの凝集が更に進行してしまい、形成された導電性繊維束は平均短軸径が少なくとも120nm程度となってしまう。そのため、このような凝集体を含む導電性層は、透明性が低く、更に導電性も低いものとなってしまう。同様に、導電性繊維束を含む層の上に、テトラブトキシシラン溶液を塗布し、加水分解及び重縮合してゾルゲル硬化物を形成した場合においても、前述の導電性繊維束を形成するカーボンナノチューブの凝集が進行してしまい、導電性繊維束は平均短軸径が少なくとも120nm程度となってしまう。本発明に係る導電性部材の導電性層は、カーボンナノチューブとともに、珪素酸化物を含むことで、導電性層に含まれる導電性繊維束の平均短軸径は90nm以下のものとなる。即ち、導電性層に含まれるカーボンナノチューブの束で構成される導電性繊維束は、平均短軸径が90nm以下となるために、導電性に優れ、且つ透明性と膜強度の高い導電性層が得られる。本発明に係る導電性部材の導電性層は、好ましくは、有機性と無機性の部分構造を備える珪素酸化物を含む場合であり、その場合、導電性層に含まれる導電性繊維束の平均短軸径は90nm以下のものとなる傾向がある。この作用機構は明確ではないが、有機性と無機性の部分構造を備える珪素酸化物を含有することで、カーボンナノチューブの凝集が抑制され、導電性繊維束は、平均短軸径が90nm以下に維持されるものと考えている。本発明の好ましい態様では、このような導電性層は、上記の珪素酸化物として、好ましくは、有機性と無機性の部分構造を備える、例えば前記一般式Iで示される化合物から選ばれた少なくとも一つのオルガノアルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られるゾルゲル硬化物、又は、上記オルガノアルコキシシラン及び前記一般式IIで示される化合物から選ばれた少なくとも一つのアルコキシシランとを加水分解及び重縮合して得られるゾルゲル硬化物を含むものを使用することにより、導電性繊維束を構成するカーボンナノチューブの凝集の抑制が効果的になされる。本発明の係る前記導電性層は、例えば、カーボンナノチューブで構成される導電性繊維束を含む導電性繊維層の上に、有機性と無機性の部分構造を備える、例えば前記一般式Iで示される化合物から選ばれたオルガノアルコキシシランを含むヒドロキシド化合物の水溶液を塗布し、その後、上記オルガノアルコキシシランを加水分解及び重縮合させて珪素酸化物を形成することにより得られる。この方法によれば、上記オルガノアルコキシシランを含むヒドロキシド化合物の水溶液を導電性繊維束を含む導電性繊維層の上に塗布した場合には、上記導電性繊維束の凝集が抑制されつつゾルゲル反応が進行するために、導電性層に含まれる導電性繊維束の平均短軸径が90nm以下に維持されたままでゾルゲル硬化物を含む珪素酸化物が形成されて、珪素酸化物からなる硬化物中に前記導電性繊維束が共有結合により固定化され、導電性に優れ、かつ透明度と膜強度に優れた導電性層を有する導電性部材が簡易に得られるという利点を有するものである。<<基材>>上記基材としては、導電性層を担うことができるものである限り、目的に応じて種々のもの使用することができる。一般的には、板状またはシート状のものが使用される。基材は、透明であっても、不透明であってもよい。基材を構成する素材としては、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス等の透明ガラス;ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ポリイミド等の合成樹脂、セルロース樹脂;アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス等の金属;その他セラミック、半導体基板に使用されるシリコンウエハーなどを挙げることができる。これらの基材の導電性層が形成される表面は、所望により、シランカップリング剤などの薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着などの前処理を行うことができる。基材の厚さは、用途に応じて所望の範囲のものが使用される。一般的には、1μm~500μmの範囲から選択され、3μm~400μmがより好ましく、5μm~300μmが更に好ましい。導電性部材に透明性が要求される場合には、基材の全可視光透過率が70以上のもの、より好ましくは85以上のもの、更に好ましくは、90以上のものから選ばれる。基材としては、特に、コストと透明性の観点から、ポリカーボネート、ポリエステルが好ましい。<<導電性層>>導電性層は、カーボンナノチューブを含み、平均短軸径が90nm以下の導電性繊維束と、珪素酸化物とを含んで構成される。<カーボンナノチューブ>カーボンナノチューブCNTは、グラファイト状炭素原子面グラフェンシートが、単層あるいは多層の同軸管状になった物質である。単層のカーボンナノチューブはシングルウォールナノチューブSWNT、多層のカーボンナノチューブはマルチウォールナノチューブMWNTと呼ばれ、特に、2層のカーボンナノチューブはダブルウォールナノチューブDWNTとも呼ばれる。本発明で用いられる導電性繊維束において、カーボンナノチューブは、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層~5層のものが好ましく、単層のものが特に好ましい。原料として使用するカーボンナノチューブは、一本当たりのチューブの外径直径が0.1nm~10nmの範囲にあり、かつその長さは0.1μm~20μmの範囲のものが、導電性が高く、且つ透明度の高い導電性部材を得ることが容易であるという点から好ましい。特に、外径が0.5nm~5nmの範囲、長さは0.1μm~10μmの範囲のものが好ましい。カーボンナノチューブは、ドープ処理を施すことが好ましい。このドープ処理により、特に半導体のカーボンナノチューブの導電性を一段と向上させることができる。ドープ処理は、通常、カーボンナノチューブに酸化剤を作用させることにより行うことができる。酸化剤としては、硝酸、硫酸などの酸、塩化白金酸、塩化鉄IIIなどの金属酸化剤が挙げられる。例えばカーボンナノチューブを濃硝酸に添加し、その後、20°Cから140°C程度の温度範囲において、1時間から25時間程度の範囲で加熱還流した後に、イオン交換水で希釈してから吸引ろ過し、さらにメタノール洗浄してから乾燥する、という方法が挙げられる。このドープ処理により、酸化された後のカーボンナノチューブは全体がカチオン性となるため、その電荷反発により繊維束の凝集が抑制されて、平均短軸径を小さくすることに有利に作用することが期待される。<導電性繊維束>導電性層に含まれる導電性繊維束は、2本以上のカーボンナノチューブを含む束で構成され且つ当該束の平均短軸径以下、束の平均短軸径を平均バンドル径ともいう。が90nm以下である。カーボンナノチューブは、水媒体中に分散剤を用いて分散された分散液の状態では、平均短軸径が小さく、例えば10nm程度である。しかし、カーボンナノチューブは表面エネルギーが高く、少しの外部環境の変化により凝集して多数のカーボンナノチューブが集まった束となってしまう。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、メチルエチルケトンのような有機溶剤を作用させた分散液の場合、その平均短軸径は120nm程度に増加してしまうことがある。従って、このような有機溶剤を少しでも含む分散液を基材上に塗布して形成した導電性層に含まれるカーボンナノチューブは、その平均短軸径は最も小さいものでも120nmとなってしまう。これに対して、本発明に係る導電性層に含まれる導電性繊維束は、2本以上のカーボンナノチューブを含み、平均短軸径が90nm以下とされる。平均短軸径が90nmを超えると、導電性と透明性との両者の性能を満足させる導電性部材を得ることが難しくなる。即ち、導電性を上げようとすると透明度が劣ってしまい、他方透明度を上げようとすると導電性が低下してしまい、いずれにせよ導電性に優れかつ透明度の高い導電性部材は得られない。上記の平均短軸径のより好ましい範囲は、10nm~50nmである。このような範囲とすることにより、導電性に優れ、且つ透明性および膜強度の高い導電性部材が得られる。導電性繊維束には、より詳しくは、2~50本のカーボンナノチューブが含まれると推測され、その本数は平均短軸径に依存するが、3~40本のカーボンナノチューブの束や5~30本のカーボンナノチューブの束が存在すると推測される。ここで、平均短軸径は、カーボンナノチューブの分散液をガラス基板上に塗布、乾燥して、100nmの厚みのサンプルを作製し、このサンプルのTEM透過型電子顕微鏡で10,000倍に拡大して撮影した写真で観察される1本当たりの繊維の幅を任意の100箇所で測定し、その平均値を算出した値である。上記サンプルの分散液の塗布厚は、導電性部材における導電性層の厚みに比べて厚いが、透過型電子顕微鏡による観察を容易とするためであり、カーボンナノチューブの分散状態は導電性部材における厚さの場合と同等であることが確認されている。カーボンナノチューブを含む束で構成される導電性繊維束の平均長軸長は、0.1μm~10μmの範囲であることが、例えばタッチパネルにおける指先での操作に起因する物理的衝撃により導電性繊維束が断線してしまう危険性が低減する、もしくは導電性繊維束間の接触点が増加するため導電性繊維束間の接触抵抗が小さくなり、導電性層の導電性を向上させることができる点で好ましい。カーボンナノチューブを含む束で構成される導電性繊維束のアスペクト比としては、10以上であることが好ましい。特に、100以上であることが好ましい。アスペクト比とは、一般的には繊維状の物質の長辺と短辺との比平均長軸長さ/平均短軸長さの比を意味する。アスペクト比の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子顕微鏡等により測定する方法などが挙げられる。前記導電性繊維束のアスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、前記導電性繊維束のアスペクト比が10以上であるか否かは、電子顕微鏡の1視野で確認できればよい。また、前記導電性繊維束の長軸長さと短軸長さとを各々別に測定することによって、前記導電性繊維束全体のアスペクト比を見積もることができる。前記導電性繊維束のアスペクト比としては、10以上であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、50~1,000,000が好ましく、100~1,000,000がより好ましい。このような範囲とすることで、導電性に優れる導電性層を容易に製造することができる。<珪素酸化物>導電性層に含まれる珪素酸化物は、-Si-O-Si-の三次元架橋結合を含むものである。このような珪素酸化物は、下記一般式Iで示される化合物から選ばれた少なくとも一つのオルガノアルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られるゾルゲル硬化物であることが、導電性に優れ、且つ透明度と膜強度に優れた導電性部材を容易に得ることができるので好ましい。SiOR1aR24-aI一般式I中、aは1~3の整数を示し、a個のR1はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示し、4-a個のR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示す。但し、4-a個のR2のうちの少なくとも一つはエポキシ基を含む炭化水素基を示す。上記R1およびR2の炭化水素基としては、好ましくはアルキル基又はアリール基が挙げられる。アルキル基を示す場合の炭素数は好ましくは1~18、より好ましくは1~8であり、さらにより好ましくは1~4である。また、アリール基を示す場合は、フェニル基が好ましい。アルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、エポキシ基などが挙げられる。4-a個のR2のうちの少なくとも一つが示す、エポキシ基を含む炭化水素基としては、例えばグリシジル基、2-エポキシプロピル基、3-エポキシプロピル基、3-グリシドキシプロピル基、2-3,4-エポキシシクロキシルエチル基等が挙げられる。なお、上記一般式Iで示される化合物は低分子化合物であることが好ましく、分子量1000以下であることが好ましい。上記一般式Iで示される化合物の具体例としては、例えばグリシジルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシランなどが挙げられる。上記一般式Iで示される化合物のうち、特に、有機性のグリシジル基を含む部分構造と無機性アルコキシ基を含む部分構造を備える珪素酸化物での場合、有機性の部分構造がカーボンナノチューブとの親和性を有し、無機性の部分構造により水との親和性が確保されるので、水性媒体中でのカーボンナノチューブの凝集が抑制され、導電性繊維束は、平均短軸径が90nm以下に維持されるものと推察される。上記一般式Iで示される化合物と共に、下記一般式IIで示される化合物から選ばれた少なくとも一つのテトラアルコキシシランを併用し、これらの二種の化合物を加水分解および重縮合して得られたゾルゲル硬化物を珪素酸化物として使用した場合には、導電性に優れ、かつ透明性と膜強度に一段と優れた導電性部材が得られるという点から好ましい。SiOR34II一般式II中、4個のR3はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基を示す。上記R3の炭化水素基としては、好ましくはアルキル基又はアリール基が挙げられる。アルキル基を示す場合の炭素数は好ましくは1~18、より好ましくは1~8であり、さらにより好ましくは1~4である。また、アリール基を示す場合は、フェニル基が好ましい。アルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト基などが挙げられる。なお、上記一般式IIで示される化合物は低分子化合物であることが好ましく、分子量1000以下であることが好ましい。一般式IIで示される化合物の具体例としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシラン、メトキシトリエトキシシラン、エトキシトリメトキシシラン、メトキシトリプロポキシシラン、エトキシトリプロポキシシラン、プロポキシトリメトキシシラン、プロポキシトリエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン等を挙げることができる。これらのうち特に好ましいものとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を挙げることができる。一般式Iで示される化合物と一般式IIで示される化合物を組み合わせて使用する場合、その比率は前者/後者の質量比で0.01/1~100/1の範囲から選ばれることが、前述の組合せによる効果が得られる点で好ましい。<<<導電性部材の製造方法>>>本発明に係る導電性部材の製造方法は、以下のi~iiiの各工程を含む。工程i:基材上に、カーボンナノチューブを含む分散液を塗布して、導電性繊維束を含む導電性繊維層を形成する。工程ii:前記導電性繊維層上に、下記一般式Iで示される化合物から選ばれた少なくとも一つのオルガノアルコキシシランを含むアルコキシド化合物の水溶液を塗布する。工程iii:前記工程iiで塗布されたアルコキシド化合物を加水分解および重縮合させてゾルゲル硬化物を形成する。以下、各工程について、順に説明する。<工程i>先ず、基材上にカーボンナノチューブを液媒体中に分散させた分散液を塗布したのち、基材上に塗布された分散液の液媒体を必要に応じて加熱して乾燥、除去する。塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、などが挙げられる。カーボンナノチューブを液媒体中に分散させる分散工程は、酸素の低い雰囲気、特に窒素雰囲気下で行うことが、カーボンナノチューブの分解を抑えることができるので、好ましい。上記液媒体として使用される溶剤の好適なものとしては、例えば水、アルコールなどが挙げられる。溶媒として、例えばトルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを単独でまたは二種以上を組み合わせて使用した場合には複数のカーボンナノチューブを含む束で構成された導電性繊維束の平均バンドル径が90nmより大きい、例えば120nmのものとなってしまうので、これらの溶媒の使用は避けることが好ましい。水のような溶媒中にカーボンナノチューブを分散させるに際しては、溶媒中に分散剤を含有させておき、この中にカーボンナノチューブをメカニカルホモゲナイザー、超音波分散記機等の公知の分散機を利用して分散させることにより得られる。上記の分散剤としては、カーボンナノチューブが凝集することを極力防止しつつ分散させるために用いられる。分散剤としては、前記カーボンナノチューブを分散させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適否選択することができる。分散剤としては、例えばイオン性界面活性剤である陽イオン性界面活性剤、両イオン性界面活性剤および陰イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、グルコース、リボース、デオキシリボースなどの単糖、スクロース、マルトース、ラクトース、セロビオース、トレハロースなどの二糖、シクロデキストリンなどのオリゴ糖、胆汁酸やコレステロール、コール酸などのステロイド誘導体、DNA、π共役ポリマー、フタロシアニン誘導体などがあげられる。このうち、特に好ましい分散剤としては、中でも、カーボンナノチューブ分散性、導電性から陰イオン性界面活性剤およびステロイド誘導体が好ましく用いられ、例えば、コール酸ナトリウム、デオキシコール酸ナトリウム、タウロコール酸ナトリウム、リトコール酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、DNAなど挙げられる。分散剤の量は、溶媒の量を基準として、0.1質量~10質量の範囲から選ばれることが好ましい。分散剤の分散液中の含有量としては、特に限定されるものではないが、好ましくは、カーボンナノチューブ100質量部に対して30~1500質量部、より好ましくは30~1000質量部、さらに好ましくは50~1000質量部、なかでも好ましくは50~500質量部、特に好ましくは80~300質量部である。分散液中でのカーボンナノチューブ濃度は0.01mg/mL以上、200mg/mL以下が好ましく、さらに、0.1mg/mL~100mg/mLであることが好ましい。透明性の優れた導電性層が容易に得られるという点から、20mg/mL以下程度であることが好ましく、更に10mg/mL以下がより好ましく、5mg/mL以下が最も好ましい。さらに高濃度の分散液を作製して適切な濃度に希釈して用いることも勿論可能であるし、上記のようにして調製された分散液を基材上の塗布および必要により加熱して乾燥してもよい。このようにして得られた導電性繊維層は、1本もしくは、少なくとも2本のカーボンナノチューブを含む束で構成され、そのバンドル径が90nm以下である導電性繊維束を含んでいる。<工程ii>上記のようにして基材上に形成された導電性繊維層の上には、前述の一般式Iで示される化合物から選ばれた少なくとも一つのオルガノアルコキシシランを含むアルコキシド化合物の水溶液、または上記オルガノアルコキシシランと共に、更に前述の一般式IIで示される化合物から選ばれた少なくとも一つのテトラアルコキシシランを含むアルコキシド化合物の水溶液以下、上記のオルガノアルコキシシラン及びテトラアルコキシシランを包括的に特定アルコキシド化合物とも呼び、そして上記のアルコキシド化合物を含む水溶液のことをゾルゲル塗布液とも呼ぶ。が塗布される。これにより、前記の導電性繊維層中の複数の導電性繊維束の間の間隙にオルガノアルコキシシラン、またはオルガノアルコキシシランとテトラアルコキシシランとが浸入する。<工程iii>このようにして浸入したオルガノアルコキシシラン、またはオルガノアルコキシシランとテトラアルコキシシランは、前記の複数の導電性繊維束の間の隙間において加水分解および重縮合させることにより、その場所でゾルゲル硬化物となる。その結果、カーボンナノチューブを含み、平均短軸径が90nm以下の導電性繊維束と、珪素酸化物とを含んで構成される導電性層が基材上に形成される。カーボンナノチューブは、その表面に水酸基を有することが知られている。そのため、上記の特定アルコキシド化合物の加水分解および重縮合の際に、オルガノアルコキシシランが有するエポキシ基とカーボンナノチューブが有する水酸基との間で反応が生じるものと思われる。その結果、カーボンナノチューブが凝集することを抑制しつつ、カーボンナノチューブと珪素酸化物とが共有結合で結合し、導電性が高く、且つ透明度及び膜強度の高い導電性層が得られるものと思われる。特定アルコキシド化合物の加水分解及び縮合の反応を促進させるために、加熱、乾燥することが好ましい。このような反応を促進させるための加熱温度は、30°C~200°Cの範囲が適しており、50°C~180°Cの範囲がより好ましい。加熱、乾燥時間は10秒間~300分間が好ましく、1分間~120分間がより好ましい。上記の加水分解及び重縮合反応を促進させるために、ゾルゲル塗布液には、酸性触媒または塩基性触媒を含有させておくことが反応効率を高められるので、実用上好ましい。以下、この触媒について、説明する。触媒触媒としては、上記の加水分解および重縮合の反応を促進させるものであれば使用することができる。このような触媒としては、酸、あるいは塩基性化合物が含まれ、そのまま用いるか、又は、水またはアルコールなどの溶媒に溶解させた状態のもの以下、これらを包括してそれぞれ酸性触媒、塩基性触媒とも称するで使用される。酸、あるいは塩基性化合物を溶媒に溶解させる際の濃度については特に限定はなく、用いる酸、或いは塩基性化合物の特性、触媒の所望の含有量などに応じて適宜選択すればよい。ここで、触媒を構成する酸或いは塩基性化合物の濃度が高い場合は、加水分解、重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の高過ぎる塩基性触媒を用いると、沈殿物が生成して保護層に欠陥となって現れる場合があるので、塩基性触媒を用いる場合、その濃度は水溶液での濃度換算で1N以下であることが望ましい。酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に限定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場合には、保護層中にほとんど残留しないような元素から構成される触媒がよい。具体的には、酸性触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン酸、そのRCOOHで示される構造式のRを他元素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸などが挙げられ、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。金属錯体からなるルイス酸触媒もまた好ましく使用できる。特に好ましい触媒は、金属錯体触媒であり、周期律表の2A,3B,4A及び5A族から選ばれる金属元素とβ-ジケトン、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸又はそのエステル、アミノアルコール、エノール性活性水素化合物の中から選ばれるオキソ又はヒドロキシ酸素含有化合物から構成される金属錯体である。構成金属元素の中では、Mg,Ca,St,Baなどの2A族元素、Al,Gaなどの3B族元素,Ti,Zrなどの4A族元素及びV,Nb及びTaなどの5A族元素が好ましく、それぞれ触媒効果の優れた錯体を形成する。その中でもZr、Al及びTiから得られる錯体が優れており、好ましい。上記金属錯体の配位子を構成するオキソ又はヒドロキシ酸素含有化合物は、本発明においては、アセチルアセトン2,4-ペンタンジオン、2,4-ヘプタンジオンなどのβジケトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ブチルなどのケトエステル類、乳酸、乳酸メチル、サリチル酸、サリチル酸エチル、サリチル酸フェニル、リンゴ酸,酒石酸、酒石酸メチルなどのヒドロキシカルボン酸及びそのエステル、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、4-ヒドロキシ-2-ペンタノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ヘプタノン、4-ヒドロキシ-2-ヘプタノンなどのケトアルコール類、モノエタノールアミン、N,N-ジメチルエタノールアミン、N-メチル-モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミノアルコール類、メチロールメラミン、メチロール尿素、メチロールアクリルアミド、マロン酸ジエチルエステルなどのエノール性活性化合物、アセチルアセトン2,4-ペンタンジオンのメチル基、メチレン基またはカルボニル炭素に置換基を有する化合物が挙げられる。好ましい配位子はアセチルアセトン誘導体であり、アセチルアセトン誘導体は、本発明においては、アセチルアセトンのメチル基、メチレン基またはカルボニル炭素に置換基を有する化合物を指す。アセチルアセトンのメチル基に置換する置換基としては、いずれも炭素数が1~3の直鎖又は分岐のアルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基であり、アセチルアセトンのメチレン基に置換する置換基としてはカルボキシル基、いずれも炭素数が1~3の直鎖又は分岐のカルボキシアルキル基及びヒドロキシアルキル基であり、アセチルアセトンのカルボニル炭素に置換する置換基としては炭素数が1~3のアルキル基であってこの場合はカルボニル酸素には水素原子が付加して水酸基となる。好ましいアセチルアセトン誘導体の具体例としては、エチルカルボニルアセトン、n-プロピルカルボニルアセトン、i-プロピルカルボニルアセトン、ジアセチルアセトン、1―アセチル-1-プロピオニル-アセチルアセトン、ヒドロキシエチルカルボニルアセトン、ヒドロキシプロピルカルボニルアセトン、アセト酢酸、アセトプロピオン酸、ジアセト酢酸、3,3-ジアセトプロピオン酸、4,4-ジアセト酪酸、カルボキシエチルカルボニルアセトン、カルボキシプロピルカルボニルアセトン、ジアセトンアルコールが挙げられる。中でも、アセチルアセトン及びジアセチルアセトンがとくに好ましい。上記のアセチルアセトン誘導体と上記金属元素の錯体は、金属元素1個当たりにアセチルアセトン誘導体が1~4分子配位する単核錯体であり、金属元素の配位可能の手がアセチルアセトン誘導体の配位可能結合手の数の総和よりも多い場合には、水分子、ハロゲンイオン、ニトロ基、アンモニオ基など通常の錯体に汎用される配位子が配位してもよい。好ましい金属錯体の例としては、トリスアセチルアセトナトアルミニウム錯塩、ジアセチルアセトナトアルミニウムアコ錯塩、モノアセチルアセトナトアルミニウムクロロ錯塩、ジジアセチルアセトナトアルミニウム錯塩、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、環状アルミニウムオキサイドイソプロピレート、トリスアセチルアセトナトバリウム錯塩、ジアセチルアセトナトチタニウム錯塩、トリスアセチルアセトナトチタニウム錯塩、ジ-i-プロポキシビスアセチルアセトナトチタニウム錯塩、ジルコニウムトリスエチルアセトアセテート、ジルコニウムトリス安息香酸錯塩、等が挙げられる。これらは水系塗布液での安定性及び、加熱乾燥時のゾルゲル反応でのゲル化促進効果に優れているが、中でも、特にエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、ジアセチルアセトナトチタニウム錯塩、ジルコニウムトリスエチルアセトアセテートが好ましい。上記した金属錯体の対塩の記載を本明細書においては省略しているが、対塩の種類は、錯体化合物としての電荷の中性を保つ水溶性塩である限り任意であり、例えば硝酸塩、ハロゲン酸塩、硫酸塩、燐酸塩などの化学量論的中性が確保される塩の形が用いられる。金属錯体のシリカゾルゲル反応での挙動については、J.Sol-Gel.Sci.andTec.16.2091999に詳細な記載がある。反応メカニズムとしては以下のスキームを推定している。すなわち、塗布液中では、金属錯体は、配位構造を取って安定であり、塗布後の加熱乾燥過程に始まる脱水縮合反応では、酸触媒に似た機構で架橋を促進させるものと考えられる。いずれにしても、この金属錯体を用いたことにより塗布液の経時安定性、並びに保護層の皮膜面質および高耐久性に優れるものを得られる。上記の金属錯体触媒は、市販品として容易に入手でき、また公知の合成方法、例えば各金属塩化物とアルコールとの反応によっても得られる。本発明に係る触媒は、前記ゾルゲル塗布液中に、その不揮発性成分に対して、好ましくは0~50質量、更に好ましくは5~25質量の範囲で使用される。触媒は、単独で用いても二種以上を組み合わせて使用してもよい。溶剤上記のゾルゲル塗布液には、導電性繊維層上に均一な塗布液膜の形成性を確保するために、所望により、有機溶剤を含有させてもよい。このような有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶剤、メタノール、エタノール、2-プロパノール、1-プロパノール、1-ブタノール、tert-ブタノール等のアルコール系溶剤、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエステル系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤、などが挙げられる。この場合、VOC揮発性有機溶剤の関連から問題が起こらない範囲での添加が有効であり、ゾルゲル塗布液の総質量に対して50質量以下の範囲が好ましく、更に30質量以下の範囲がより好ましい。その他ゾルゲル塗布液には、一般式I及び一般式IIで示される両化合物とは異なる有機シラン化合物を含有させておいてもよい。このような有機シラン化合物としては、例えばジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等のオルガノジアルコキシシラン、例えばメチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等のオルガノトリアルコキシシランなどが挙げられる。導電性層の厚さは、0.01μm~50μmが好ましく、0.05μm~20μmがさらに好ましく、0.05μm~5μmがより好まく、0.1μm~1μmがさらにより好ましい。膜厚を0.01μm以上50μm以下とすることで、十分な耐久性、膜強度が得られ、導電性層としての欠陥のない緻密な膜が得られる。特に、0.1μm~1μmの範囲とすれば、製造上の許容範囲が確保されるので好ましい。前述の導電性層を基材上に形成する別の方法としては、別途、前述の導電性層を転写用基材表面に形成した導電性層形成用積層体を準備しておき、この積層体の導電性層を、任意の基材表面に転写する方法が含まれる。このような導電性層形成用積層体は、上記のとおり転写用基材上に導電性層を形成した構成を基本構成とするが、必要に応じて、転写用基材と導電性層の間に、クッション層、中間層又はこれら両者の層をこの順で形成した構成、更には、導電性層上にカバーフィルムを形成した構成であってもよい。転写用基材表面に前述の導電性層を形成する方法は、上記に記載した基材上に導電性層を形成する方法の場合と同様の塗布方法で行うことができる。<転写用基材>前記転写用基材の形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記形状としては、膜状、シートフィルム状、板状などが挙げられる。前記構造としては、単層構造、積層構造などが挙げられる。前記大きさとしては、用途等に応じて適宜選択することができる。前記転写用基材の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、透明ガラス、合成樹脂、金属、セラミックス、半導体基板として使用されるシリコンウェハなどが挙げられる。転写用基板の表面には、所望により、シランカップリング剤等の薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着などの前処理を行うことができる。前記透明ガラスとしては、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラスなどが挙げられる。このような透明ガラスを使用した転写用基材の場合、その厚みが10μm~数百μmの薄層ガラス板でもよい。前記合成樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリカーボネート、トリアセチルセルロースTAC、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ポリイミドなどが挙げられる。前記金属としては、例えば、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレスなどが挙げられる。前記転写用基材の平均厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1μm~500μmが好ましく、3μm~400μmがより好ましく、5μm~300μmが更に好ましい。前記平均厚みが、上記範囲において、ハンドリングが良好であり、可撓性に優れることから、転写均一性が良好となる。<クッション層>導電性層形成用積層体は、転写用基材と導電性層との間に、転写性向上のためクッション層を有していてもよい。クッション層の形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記形状としては、膜状、シート状などが挙げられる。構造としては、単層構造、積層構造などが挙げられ、大きさ及び厚みは、用途等に応じて適宜選択することができる。前記クッション層は、被転写体との転写性を向上させる役割を果たす層であり、少なくともポリマーを含有し、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。クッション層に用いられるポリマーとしては、加熱時に軟化する熱可塑性樹脂であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばアクリル樹脂、スチレン-アクリル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエチレン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-エチルアクリレート共重合体、エチレン-メタクリル酸共重合体、ポリ塩化ビニルゼラチン;セルロースナイトレート、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル;塩化ビニリデン、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アルキル炭素数1~4アクリレート、ビニルピロリドン等を含むホモポリマー又は共重合体、可溶性ポリエステル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミドなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。前記クッション層に用いるポリマーは、加熱により軟化する熱可塑性樹脂が好ましい。クッション層のガラス転移温度は40°Cから150°Cであることが好ましい。このようなガラス転移温度の範囲とすることにより、ハンドリングし易く、かつ転写性の優れたものとすることができる。クッション層に含ませることができる、前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、フィラー、界面活性剤、酸化防止剤、硫化防止剤、金属腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤等の各種添加剤などが挙げられる。また、特開平5-72724号公報の段落0007以降に記載されている有機高分子物質、前記転写用基材との接着力を調節するための各種可塑剤、過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤、熱重合禁止剤、溶剤などが挙げられる。前記クッション層は、前記ポリマー、及び必要に応じて前記その他の成分を含有するクッション層用途布液を転写用基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。クッション層の平均厚みは、1μm~50μmであることが好ましく、1μm~30μmであることがより好ましく、5μm~20μmであることがより好ましい。平均厚みを前記範囲とすることで、均一な転写性が得られ、転写材料のカールバランスも良好となる。さらに、導電性層とクッション層の合計平均厚みSと、前記転写用基材の平均厚みNとの比S/Nが、下記式4を満たすことが好ましい。S/N=0.01~0.7式4S/Nは0.02~0.6の範囲であることがより好ましい。S/Nを、0.01以上とすることで被転写体への転写均一性が良好となり、0.7以下とすることでカールバランスに優れたものとなる。前述の中間層は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等で構成されるものであることが好ましく、その厚さは、0.1μm~5μmの範囲が適当である。導電性層の膜厚平均厚みは、0.001μm~2μmであることが好ましく、0.005μm~1μmであることがより好ましい。前記平均厚みを0.001μm以上とすることで導電性の面内分布が均一とされ、2μm以下とすることで良好な透明性が得られる。前述のカバーフィルムは、導電性層形成用積層体を単体として取り扱う際に、導電性層が汚染されたり、傷つけられたりすることから保護することを目的に設けられる。このカバーフィルムは、基材上に上記積層体をラミネートする前に剥離される。カバーフィルムとしては、例えばポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等が好ましく、その厚さは、20μm~200μmの範囲が適当である。<導電性層の特性、形状>本発明に係る導電性部材は、表面抵抗が1,000Ω/□以下となるように調整されることが好ましい。上記表面抵抗は、本発明に係る導電性部材における導電性層の表面を四探針法により測定した値である。四探針法による表面抵抗の測定方法は、例えばJISK7194:1994導電性プラスチックの4探針法による抵抗率試験方法などに準拠して測定することができ、市販の表面抵抗率計を用いて、簡便に測定することができる。表面抵抗を1,000Ω/□以下とするには、導電性層に含まれる導電性繊維束の種類および含有量、並びに、マトリックスの種類および含有量の少なくとも一つを調整すればよい。本発明に係る導電性部材の表面抵抗は、0.1Ω/□~900Ω/□の範囲とすることが更に好ましい。本発明に係る導電性層には、カーボンナノチューブを含み、平均短軸径が90nm以下である導電性繊維束に加え、他の導電性材料、例えば、導電性微粒子などを本発明の効果を損なわない限りにおいて併用しうるが、効果の観点からは、前記したカーボンナノチューブの比率は、体積比で、50以上が好ましく、60以上がより好ましく、75以上が特に好ましい。これらの導電性繊維束の割合を、以下、導電性繊維束の比率と呼ぶことがある。前記導電性繊維束の比率が、50未満であると、導電性に寄与する導電性物質が減少し導電性が低下してしまうことがあり、同時に密なネットワークを形成できないために電圧集中が生じ、耐久性が低下してしまうことがある。導電性繊維束の平均短軸長さ及び平均長軸長さの測定方法は既述の通りである。本発明に係る導電性部材における導電性層の基材表面に垂直な方向から観察した場合の形状としては、導電性層の全領域が導電性領域である以下、この導電性層を非パターン化導電性層ともいう。第一の態様、及び導電性層が導電性領域と非導電性領域とを含む以下、この導電性層をパターン化導電性層ともいう。第二の態様の何れであっても良い。第二の態様の場合には、非導電性領域に導電性繊維束が含まれていても含まれていなくても良い。非導電性領域に導電性繊維束が含まれている場合、非導電性領域に含まれる導電性繊維束は断線される。第一の態様に係る導電性部材は、例えば太陽電池の透明電極として使用することができる。また、第二の態様に係る導電性部材は、例えばタッチパネルを作製する場合に使用される。この場合、所望の形状を有する導電性領域と非導電性領域が形成される。導電性領域と非導電性領域とを含む導電性層パターン化導電性層パターン化導電性層は、例えば下記パターニング方法により製造される。1予め非パターン化導電性層を形成しておき、この非パターン化導電性層の所望の領域に含まれる導電性繊維束に炭酸ガスレーザー、YAGレーザー等の高エネルギーのレーザー光線を照射して、導電性繊維束の一部を断線または消失させて当該所望の領域を非導電性領域とするパターニング方法。この方法は、例えば、特開2010-4496号公報に記載されている。2予め形成した非パターン化導電性層上にフォトレジスト層を設け、このフォトレジスト層に所望のパターン露光および現像を行って、当該パターン状のレジストを形成したのちに、導電性繊維束をエッチング可能なエッチング液で処理するウェットプロセスか、または反応性イオンエッチングのようなドライプロセスにより、レジストで保護されていない領域の導電性層中の導電性繊維束をエッチング除去するパターニング方法。これらの1~2のパターニング方法は、基材上の非パターン化導電性層、及び、転写用基材上の非パターン化導電性層のいずれに対しても適用することができる。更に、上記のいずれの場合においても、上記のパターニング方法を、後述の保護層を形成する前に適用しても、保護層形成後に適用しても良い。なお、転写用基材上でパターン化導電性層の形成を行った場合には、パターン化導電性層が基材上に転写されることになる。上記パターン露光に用いる光源は、フォトレジスト組成物の感光波長域との関連で選定されるが、一般的にはg線、h線、i線、j線等の紫外線が好ましく用いられる。また、青色LEDを用いてもよい。パターン露光の方法にも特に制限はなく、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービーム等による走査露光で行ってもよい。この際、レンズを用いた屈折式露光でも反射鏡を用いた反射式露光でもよく、コンタクト露光、プロキシミティー露光、縮小投影露光、反射投影露光などの露光方式を用いることができる。現像液は、フォトレジスト組成物に応じて、適切なものが選定される。例えば、フォトレジスト組成物がアルカリ可溶性樹脂をバインダーとして含有する光重合性組成物の場合には、アルカリ水溶液が好ましい。前記アルカリ溶液による付与方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば塗布、浸漬、噴霧などが挙げられる。具体的には、アルカリ溶液中に露光後の感光性層を有する基材あるいは基板を浸漬するディップ現像、浸漬中に現像液を攪拌するパドル現像、シャワーやスプレーを用いて現像液をかけ流すシャワー現像、また、アルカリ溶液を含浸させたスポンジや繊維塊状体等で感光性層表面を擦る現像方法などが挙げられる。これらの中でも、アルカリ溶液中に浸漬する方法が特に好ましい。前記アルカリ溶液の浸漬時間は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、10秒間~5分間であることが好ましい。更に、非パターン化導電性層上に後述の保護層を形成した後に、当該非パターン化導電性層をパターン化導電性層とする、前記の1~2以外のパターンニング方法3として、前記保護層上から導電膜に、前記導電性繊維束を溶解する溶解液をパターン状に付与し、該溶解液を付与された領域の導電性層中に存在する導電性繊維束を断線して非導電領域にする方法がある。前記導電性繊維束を溶解する溶解液としては、導電性繊維束に応じて適宜選択することができる。前記導電性繊維束を溶解する溶解液の粘度は、25°Cで、5mPas~300,000mPasであることが好ましく、10mPas~150,000mPasであることがより好ましい。前記粘度を、5mPasとすることで、溶解液の拡散を所望の範囲に制御することが容易となって、導電性領域と非導電性領域との境界が明瞭なパターニングが確保され、他方、300,000mPas以下とすることで、溶解液の印刷を負荷なく行うことが確保されると共に、導電性繊維束の溶解に要する処理時間を所望の時間内で完了させることができる。前記導電性繊維束を溶解する溶解液のパターン状の付与としては、溶解液をパターン状に付与できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばスクリーン印刷、インクジェット印刷、予めレジスト剤などによりエッチングマスクを形成しておきその上に溶解液をコーター塗布、ローラー塗布、ディッピング塗布、スプレー塗布する方法、などが挙げられる。これらの中でも、スクリーン印刷、インクジェット印刷、コーター塗布、ディップ浸漬塗布が特に好ましい。前記インクジェット印刷としては、例えばピエゾ方式及びサーマル方式のいずれも使用可能である。前記パターンの種類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、文字、記号、模様、図形、配線パターン、などが挙げられる。前記パターンの大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ナノサイズからミリサイズのいずれの大きさであっても構わない。上記フォトレジスト組成物には、リソグラフィックプロセスに好適なフォトレジスト組成物が含まれる。このようなフォトレジスト組成物のうち、特に好ましいものとして、光重合性組成物が挙げられる。このような光重合性組成物は、a付加重合性不飽和化合物と、b光に照射されるとラジカルを発生する光重合開始剤とを基本成分として含み、更に所望によりcバインダー、dその他、上記成分a~c以外の添加剤を含むものである。以下、これらの成分について、説明する。[a付加重合性不飽和化合物]成分aの付加重合性不飽和化合物以下、重合性化合物ともいう。は、ラジカルの存在下で付加重合反応を生じて高分子化される化合物であり、通常、分子末端に少なくとも一つの、より好ましくは二つ以上の、更に好ましくは四つ以上の、更により好ましくは六つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物が使用される。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、即ち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物などの化学的形態をもつ。このような重合性化合物としては、種々のものが知られており、それらは成分aとして使用することができる。このうち、特に好ましい重合性化合物としては、膜強度の観点から、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリトリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタメタアクリレートが特に好ましい。成分aの含有量は、光重合性組成物の固形分の総質量を基準として、2.6質量以上37.5質量以下であることが好ましく、5.0質量以上20.0質量以下であることがより好ましい。[b光重合開始剤]成分bの光重合開始剤は、光に照射されるとラジカルを発生する化合物である。このよう光重合開始剤には、光照射により、最終的には酸となる酸ラジカルを発生する化合物及びその他のラジカルを発生する化合物などが挙げられる。以下、前者を光酸発生剤と呼び、後者を光ラジカル発生剤と呼ぶ。-光酸発生剤-光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸ラジカルを発生する公知の化合物及びそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。このような光酸発生剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジ-又はトリ-ハロメチル基を少なくとも一つ有するトリアジン又は1,3,4-オキサジアゾール、ナフトキノン-1,2-ジアジド-4-スルホニルハライド、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、o-ニトロベンジルスルホネートなどが挙げられる。これらの中でも、スルホン酸を発生する化合物であるイミドスルホネート、オキシムスルホネート、o-ニトロベンジルスルホネートが特に好ましい。-光ラジカル発生剤-光ラジカル発生剤は、光を直接吸収し、又は光増感されて分解反応若しくは水素引き抜き反応を起こし、ラジカルを発生する機能を有する化合物である。光ラジカル発生剤としては、波長300nm~500nmの領域に吸収を有するものであることが好ましい。このような光ラジカル発生剤としては、多数の化合物が知られており、例えば特開2008-268884号公報に記載されているようなカルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、が挙げられる。これらは目的に応じて適宜選択することができる。これらの中でも、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシムエステル化合物、及びアシルホスフィンオキシド化合物が露光感度の観点から特に好ましい。成分bの光重合開始剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよく、その含有量は、光重合性組成物の固形分の総質量を基準として、0.1質量~50質量であることが好ましく、0.5質量~30質量がより好ましく、1質量~20質量が更に好ましい。このような数値範囲において、後述の導電性領域と非導電性領域とを含むパターンを導電性層に形成する場合に、良好な感度とパターン形成性が得られる。[cバインダー]バインダーとしては、線状有機高分子重合体であって、分子好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などを有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。これらの中でも、有機溶剤に可溶でアルカリ水溶液に可溶なものが好ましく、また、酸解離性基を有し、酸の作用により酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶となるものが特に好ましい。ここで、前記酸解離性基とは、酸の存在下で解離することが可能な官能基を表す。前記バインダーの製造には、例えば公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。前記ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めることができる。前記線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましい。前記側鎖にカルボン酸を有するポリマーとしては、例えば特開昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特開昭59-53836号、特開昭59-71048号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等であり、更に側鎖にメタアクリロイル基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。これらの中でも、ベンジルメタアクリレート/メタアクリル酸共重合体、ベンジルメタアクリレート/メタアクリル酸/他のモノマーからなる多元共重合体が特に好ましい。更に、側鎖にメタアクリロイル基を有する高分子重合体やメタアクリル酸/グリシジルメタアクリレート/他のモノマーからなる多元共重合体も有用なものとして挙げられる。該ポリマーは任意の量で混合して用いることができる。前記アルカリ可溶性樹脂における具体的な構成単位としては、メタアクリル酸と、該メタアクリル酸と共重合可能な他の単量体とが好適である。前記バインダーの重量平均分子量は、アルカリ溶解速度、膜物性等の点から、1,000~500,000が好ましく、3,000~300,000がより好ましく、5,000~200,000が更に好ましい。ここで、前記重量平均分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて求めることができる。成分cのバインダーの含有量は、前述の光重合性組成物の固形分の総質量を基準として、5質量~90質量であることが好ましく、10質量~85質量がより好ましく、20質量~80質量が更に好ましい。[dその他、上記成分a~c以外の添加剤]上記成分a~c以外のその他の添加剤としては、例えば、連鎖移動剤、架橋剤、分散剤、溶媒、界面活性剤、酸化防止剤、硫化防止剤、金属腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤等の各種の添加剤などが挙げられる。前述の導電性層を基材上に形成する方法としては一般的な塗布方法で行うことができ、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、などが挙げられる。本発明に係る導電性部材は、少なくとも2本のカーボンナノチューブを含む束で構成され且つ当該束の平均短軸径が90nm以下の導電性繊維束と、珪素酸化物とを含む導電性層を有することにより、導電性に優れ、且つ透明度及び膜強度に優れるという効果を奏する。特に、珪素酸化物が前述の特定アルコキシド化合物を加水分解及び重縮合して得られるゾルゲル硬化物で構成されるものである場合には、上記のカーボンナノチューブの束を構成しているカーボンナノチューブと珪素酸化物とが共有結合によって結合しているので、打鍵操作等の物理的な衝撃が導電性層に加えられた場合においても、導電性繊維束が断線することがなく、その結果として、膜強度が高い導電性層が得られているものと推定される。本発明に係る導電性部材は、導電性層のキズ及び磨耗に対する耐久性に優れ、併せて表面抵抗が低いので、例えばタッチパネル、ディスプレイ用電極、電磁波シールド、有機ELディスプレイ用電極、無機ELディスプレイ用電極、電子ペーパー、フレキシブルディスプレイ用電極、集積型太陽電池、液晶表示装置、タッチパネル機能付表示装置、その他の各種デバイスなどに幅広く適用される。これらの中でも、タッチパネルおよび太陽電池への適用が特に好ましい。<<タッチパネル>>本発明に係る導電性部材は、例えば、タッチパネルに適用でき、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式、抵抗膜式などの各種タッチパネルに利用される。ここで、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサ及びタッチパッドを含む。前記タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成は、2枚の透明電極を貼合する貼合方式、1枚の基材の両面に透明電極を具備する方式、片面ジャンパーあるいはスルーホール方式あるいは片面積層方式のいずれでもよい。前記表面型静電容量方式タッチパネルについては、例えば特表2007-533044号公報に記載されている。<<太陽電池>>本発明に係る導電性部材は、集積型太陽電池以下、太陽電池デバイスと称することもあるにおける透明電極として利用できる。集積型太陽電池としては、特に制限はなく、太陽電池デバイスとして一般的に用いられるものを使用することができる。例えば、単結晶シリコン系太陽電池デバイス、多結晶シリコン系太陽電池デバイス、シングル接合型、又はタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイス、ガリウムヒ素GaAsやインジウム燐InP等のIII-V族化合物半導体太陽電池デバイス、カドミウムテルルCdTe等のII-VI族化合物半導体太陽電池デバイス、銅/インジウム/セレン系いわゆる、CIS系、銅/インジウム/ガリウム/セレン系いわゆる、CIGS系、銅/インジウム/ガリウム/セレン/硫黄系いわゆる、CIGSS系等のI-III-VI族化合物半導体太陽電池デバイス、色素増感型太陽電池デバイス、有機太陽電池デバイスなどが挙げられる。これらの中でも、本発明においては、前記太陽電池デバイスが、タンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイス、及び銅/インジウム/セレン系いわゆる、CIS系、銅/インジウム/ガリウム/セレン系いわゆる、CIGS系、銅/インジウム/ガリウム/セレン/硫黄系いわゆる、CIGSS系等のI-III-VI族化合物半導体太陽電池デバイスであることが好ましい。本発明に係る導電性部材は、前記全ての太陽電池デバイスに関して適用できる。導電性部材は、太陽電池デバイスのどの部分に含まれてもよいが、光電変換層に隣接して導電性層または保護層が配置されていることがいることが好ましい。光電変換層との位置関係に関しては下記の構成が好ましいが、これに限定されるものではない。また、下記に記した構成は太陽電池デバイスを構成する全ての部分を記載しておらず、前記透明導電層の位置関係が分かる範囲の記載としている。ここで、[]で括られた構成が、本発明に係る導電性部材に相当する。A[基材-導電性層]-光電変換層B[基材-導電性層]-光電変換層-[導電性層-基材]C基板-電極-光電変換層-[導電性層-基材]D裏面電極-光電変換層-[導電性層-基材]このような太陽電池の詳細については、例えば特開2010-87105号公報に記載されている。以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、実施例中の含有率としての、及び、部は、いずれも質量基準に基づくものである。以下の例において、カーボンナノチューブの束の平均短軸径は、以下のようにして測定した。<平均短軸径の測定>カーボンナノチューブの分散液をガラス基板上に塗布、乾燥して、100nmの厚みのサンプルを作製し、このサンプルのTEM透過型電子顕微鏡で10,000倍に拡大して撮影した写真で観察される1本当たりの繊維の幅を任意の100箇所で測定し、その平均値を算出した。<実施例1>ステップ1:カーボンナノチューブ分散液の調製シングルウォールカーボンナノチューブILJIN社製、1本当たりのカーボンナノチューブの外径は1.4nm0.1gを、下記表1に記載の分散剤0.5gの水溶液直前に窒素バブリング1時間行ったもの。120mL中に、室温下、添加した。得られた溶液を、窒素雰囲気下メカニカルホモジナイザーIKA社製、ウルトラタラックスにて攪拌速度30,000rpm、室温にて4時間分散させた。次に、バス式超音波分散機ブランソン製5510で室温にて窒素雰囲気下1時間分散処理を行い、カーボンナノチューブが水溶液中に均一に分散された分散液A~Cを得た。表1において、略号で記載された分散剤は下記の通りである。SC:コール酸ナトリウム和光純薬製SDBS:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム東京化成製SDOC:デオキシコール酸ナトリウム和光純薬製得られたカーボンナノチューブ分散液を、遠心分離処理トミー製MX-305、16,000g、1時間を行い上澄みを得た。得られた上澄み溶液について、吸光度測定島津製可視吸収スペクトルスコピーUV3100、14倍に希釈、TEM観察分散液を凍結させて10,000倍にて観察を行った。吸光度からカーボンナノチューブの分散液中における分散濃度を換算した。TEM観察から平均短軸径を求めた。得られた結果を表1に示す。表1より得られた分散液は、高い分散濃度を有し、かつ平均短軸径は10nmであることが確認できたステップ2:カーボンナノチューブ薄膜の成膜上記で得られた分散液A~Cの各々を、支持体としてのガラス基板表面をアミノプロピルトリエトキシランを用いて処理したの表面に、実施例1で作製した分散液A~Cを塗布し、乾燥してから、一対のローラのニップ間を通して、それぞれ試料1~3を得た。塗布手段として、エクストルージョンタイプの塗布ヘッドを用いたダイコータを使用した。塗布液の湿潤状態の厚さは、透過率85支持体の吸収は除くになるように調整した。乾燥手段としては、熱風循環式の乾燥装置を用いた。熱風の温度は100°Cとした。ニップローラとして、直径が200mmで、表面にゴム硬度が90のシリコンゴムの層を形成した一対のローラを使用した。次に、上記試料1~3を、濃硝酸中に室温下1時間浸漬させた後、メタノール洗浄を行い、乾燥を行い以下、この処理をドープ処理ともいう、それぞれ試料4~6を得た。試料1~6のカーボンナノチューブ薄膜について、透過率、シート抵抗三菱化学製ロレスタ、ヘイズヘイズメーター及び平均短軸径を測定した。なお、平均短軸径はTEM観察から求めた。結果を表2に示す。表2の結果から、ドープ処理していない場合に比べて、ドープ処理することにより、シート抵抗が低くなり、且つ、ヘイズが少なくなる一方、平均短軸径は変化がないことが分かる。ステップ3:ゾルゲル溶液の調製、並びに塗布及び硬化以下の組成からなるゾルゲル溶液Aを調製した。グリシジルトリメトキシシラン4gテトラエトキシシラン6gAlacac340mg酢酸20mg水30ml上記のacacはアセチルアセトナート配位子を意味する。試料1~6のカーボンナノチューブ層の上に、上記ゾルゲル溶液Aを塗布し、乾燥して、それぞれ試料11~16を得た。塗布手段として、エクストルージョンタイプの塗布ヘッドを用いたダイコータを使用した。乾燥手段としては、熱風循環式の乾燥装置を用いた。熱風の温度は100°Cとした。試料11~16のカーボンナノチューブ及び珪素酸化物を含む導電性層の透過率、シート抵抗、ヘイズ、及び平均短軸径を試料1の場合と同様にして測定した結果を表3に示す。表3と前述の表2の結果から、試料1~6に比べて、本発明による試料11~16は、透過率、シート抵抗およびヘイズが改善されていることが分かる。そしてカーボンナノチューブの平均短軸径については、変化がないことが分かる。耐熱性の評価上記の試料4珪素酸化物を含まないカーボンナノチューブ層を有する及び試料14カーボンナノチューブと珪素酸化物を含む導電性層を有するについて、100°Cで3時間加熱する耐熱テストを行い、その前後における透過率、シート抵抗及びヘイズを試料1の場合と同様にして測定し、その結果を表4に示した。本発明による試料14は、耐熱テストの前後でシート抵抗、透過率及びヘイズのいずれについても変動が少ないか又は変動がなく、高い耐熱性を示すことが理解できる。膜強度の評価上記の試料4~6いずれも珪素酸化物を含まないカーボンナノチューブ層を有する及び試料14~16カーボンナノチューブと珪素酸化物を含む導電性層を有するの各サンプルについて、膜硬度を測定するため、硬度計島津製硬度計にて鉛筆硬度を測定した。結果を表5に示す。本発明による試料14~16の導電性部材は、高い膜強度を示すことが分かる。<比較例1>以下の組成からなるゾルゲル溶液Bを調製した。テトラエトキシシラン10gAlacac340mg酢酸20mg水30ml前述の試料1~6のカーボンナノチューブ層の上に、前述の試料11の作製の場合と同様に、上記ゾルゲル溶液Bを塗布し、乾燥して、それぞれ試料C11~C16を得た。これらの試料C11~C16について、透過率、シート抵抗、ヘイズ、及び平均短軸径を測定し、その結果を表6に示した。表6の結果から、一般式Iで示される化合物に該当しないアルコキシシランを用いて作製された珪素酸化物をカーボンナノチューブと共に含む導電性層の場合には、カーボンナノチューブの平均短軸径が90nmを超えてしまい、透過率が低くヘイズが高い導電性部材しか得られないことがわかった。膜強度の評価上記で得られた試料C14~C16について、前述と同様にして鉛筆硬度を測定し、その結果を表7に示した。表7の結果から、試料C14~C16は膜強度が低いことが分かる。耐熱性の評価試料C14について、前述と同様の耐熱テストを行い、その前後における透過率、シート抵抗およびヘイズの結果を表8に示す。<比較例2>以下の組成からなるゾルゲル溶液Cを調製した。メチルシリケートコルコート社製、固形分536gメチルトリメトキシシラン10gAlacac340mg酢酸20mg水30ml前述の試料1及び4のカーボンナノチューブ層の上に、前述の試料11の作製の場合と同様に、上記ゾルゲル溶液Cを塗布し、硬化して、それぞれ試料C17及びC18を得た。これらの試料C17及びC18について、透過率、シート抵抗及びヘイズを測定し、その結果を表9に示した。表9の結果から、一般式Iで示される化合物に該当しないメチルシリケートとメチルトリメトキシシランを用いて作製された珪素酸化物をカーボンナノチューブと共に含む導電性層の場合には、透過率が低くヘイズが高い導電性部材しか得られないことがわかった。膜強度の評価上記試料C17について、前述と同様にして鉛筆硬度を測定したところ、2Bであった。試料C17は膜強度が低いことが分かる。比較例1及び2の結果から、一般式Iで示される化合物には該当しないアルコキシシランを用いて作製された珪素酸化物をカーボンナノチューブと共に含む導電性層の場合には、透過率、ヘイズ、耐熱性及び膜強度のいずれもが劣る導電性部材しか得られないことが分かる。このようにグリシジル基を有する化合物を添加するとカーボンナノチューブ薄膜の性能が向上する効果について、詳細は不明ではあるが、グリシジル基とカーボンナノチューブ中に存在するごくわずかなヒドロキシ基とが反応することにより、カーボンナノチューブとゾルゲル膜との相溶性が向上し、さらには、支持体との相互作用が増加することで、カーボンナノチューブ薄膜と支持体との密着性が向上し膜強度が向上するものと考える。耐熱性が向上する理由については、カーボンナノチューブとゾルゲル膜との相溶性が向上した結果と考えることができる。<比較例3>以下の組成からなるゾルゲル溶液Dを室温で2時間攪拌し調製した。テトラ-n-ブトキシシラン2gエタノール1g0.1規定塩酸0.5mlイソプロピルアルコール50mlトルエン24mln-ブタノール24mlこのゾルゲル溶液に対して、下記のシリコーングラフト樹脂0.1g、酢酸エチルエステル50ml、トルエン50mlを添加し、ゾルゲル溶液Dを調製した。上記の式において、l/m=80/20であり、nは45である。前述の試料1及び4のカーボンナノチューブ層の上に、前述の試料11の作製の場合と同様に、上記ゾルゲル塗布液Dを塗布し、硬化して、試料C19及びC20を得た。これらの試料C19及びC20について、透過率、シート抵抗、ヘイズ及び平均短軸径を前述と同様にして測定し、そのの測定結果を表10に示した。表10の結果から、一般式Iで示される化合物に該当しないテトラ-n-ブトキシシランを用いて作製された珪素酸化物と上記のシリコーングラフト樹脂とをカーボンナノチューブと共に含む導電性層の場合には、カーボンナノチューブの平均短軸径が90nmを超えてしまい、透過率が低くヘイズが高い導電性部材しか得られないことがわかった。膜強度の評価上記の試料C-19及びC-20について、前述と同様にして鉛筆硬度を測定したところ、いずれの試料も3Bであり、膜強度も弱いことが分かった。<比較例4>以下の組成からなるゾルゲル溶液Eを調製した。テトラ-n-ブトキシシラン10gAlacac340mg酢酸20mg水30ml前述の試料1及び4のカーボンナノチューブ層の上に、前述の試料11の作製の場合と同様に、上記ゾルゲル塗布液Dを塗布し、硬化して、試料C21及びC22を得た。これらの試料C21及びC22について、透過率、シート抵抗、ヘイズ及び平均短軸径を前述と同様にして測定し、そのの測定結果を表11に示した。表11の結果から、一般式Iで示される化合物に該当しないテトラ-n-ブトキシシランを用いて作製された珪素酸化物をカーボンナノチューブと共に含む導電性層の場合には、カーボンナノチューブの平均短軸径が90nmを超えてしまい、透過率が低くヘイズが高い導電性部材しか得られないことがわかった。膜強度の評価上記の試料C-21及びC-22について、前述と同様にして鉛筆硬度を測定したところ、いずれの試料も3Bであり、膜強度も弱いことが分かった。<比較例5>以下の組成からなる光硬化性組成物の塗布液を調製した。重合性モノマーA-DPH、新中村化学工業株式会社製11.2g光重合開始剤イルガキュア907商品名:チバスペシャルティケミカルズ0.1gメチルエチルケトン20ml前述の試料1及び4のカーボンナノチューブ層の上に、上記の塗布液を塗布し、窒素雰囲気下、紫外線を照射し、120°Cで10分間加熱後、室温まで放冷して、硬化膜を形成させて、試料C23及びC24を得た。これらの試料C23及びC24について、前述と同様にして透過率、シート抵抗、ヘイズ、及び平均短軸径を測定し、その結果を表12に示した。表12の結果から、光硬化性組成物の硬化物を使用した場合においては、平均短軸径が90nmを超えてしまい、シート抵抗が高くヘイズが高いことがわかった。膜強度の評価上記の試料C-21及びC-22について、前述と同様にして鉛筆硬度を測定したところ、いずれの試料も1Hであり、高い膜強度を得ることができないことが分かった。<実施例2>-集積型太陽電池の作製--アモルファス太陽電池スーパーストレート型の作製-ガラス基板上に、実施例1と同様にして導電性層を形成し、透明導電膜を形成した。その上部にプラズマCVD法により膜厚約15nmのp型、膜厚約350nmのi型、膜厚約30nmのn型アモルファスシリコンを形成し、裏面反射電極としてガリウム添加酸化亜鉛層20nm、銀層200nmを形成し、光電変換素子101を作製した。<実施例3>-CIGS太陽電池サブストレート型の作製-ソーダライムガラス基板上に、直流マグネトロンスパッタ法により膜厚500nm程度のモリブデン電極、真空蒸着法により膜厚約2.5μmのカルコパイライト系半導体材料であるCuIn0.6Ga0.4Se2薄膜、溶液析出法により膜厚約50nmの硫化カドミニウム薄膜を形成した。その上に実施例1の導電性層を形成し、ガラス基板上に透明導電膜を形成し、光電変換素子201を作製した。次に、作製した各太陽電池において、以下のようにして変換効率を評価した。太陽電池特性変換効率の評価各太陽電池について、AM1.5、100mW/cm2の疑似太陽光を照射することで効率を測定した。その結果、何れの光電変換素子についても、10前後の変換効率を有していることが確認された。この結果から、本発明の導電性部材を透明導電膜の形成に用いることで、いずれの集積型太陽電池方式においても高い変換効率が得られることが分かった。<実施例4>-タッチパネルの作製-ガラス基板上に、実施例1の導電性層を形成した。得られた透明導電膜を用いて、最新タッチパネル技術2009年7月6日発行、株式会社テクノタイムズ、三谷雄二監修、タッチパネルの技術と開発、シーエムシー出版2004年12月発行、FPDInternational2009ForumT-11講演テキストブック、CypressSemiconductorCorporationアプリケーションノートAN2292等に記載の方法により、タッチパネルを作製した。作製したタッチパネルを使用した場合、光透過率の向上により視認性に優れ、かつ導電性の向上により素手、手袋を嵌めた手、指示具のうち少なくとも一つによる文字等の入力又は画面操作に対し応答性に優れるタッチパネルを製作できることが分かった。"