基板上に現像液を供給して、所定のパターンを露光した基板上のレジスト膜を現像する現像処理装置であって、基板を保持する基板保持部と、現像液を吐出する現像液吐出口が設けられ且つ基板の直径より短い複数の供給ノズルを、基板の一端側から基板の他端側に向けて基板の直径以上の長さにわたって隙間なく並べて形成された集合ノズルと、前記集合ノズルの長さ方向と直交する方向に、前記各供給ノズルを個別に水平移動させる駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、変速機能を備えていることを特徴とする、現像処理装置。前記供給ノズルには、リンス液を基板に吐出するリンス液吐出口がさらに形成され、前記現像液吐出口は、前記供給ノズルにおいて前記リンス液吐出口よりも、当該供給ノズルの基板に対する進行方向の前側に位置し、前記吐出口から吐出された現像液は、前記供給ノズルが基板に対して相対的に移動することでリンス液に置換されることを特徴とする、請求項1に記載の現像処理装置。前記各供給ノズルにおける、前記リンス液吐出口よりも前記各供給ノズルの前記基板に対する進行方向の後方側には、前記現像液及び前記リンス液を吸引する吸引口が設けられていることを特徴とする、請求項2に記載の現像処理装置。前記基板の表面に供給された現像液が所定の時間経過後にリンス液に置換された状態となるように、前記各供給ノズルの移動速度、前記各供給ノズルからの現像液とリンス液の供給量、及び前記吸引口からの前記現像液及び前記リンス液の吸引量が調整されていることを特徴とする、請求項1~3のいずれかに記載の現像処理装置。前記駆動機構は、前記各供給ノズルを水平移動させるシャフトを有していることを特徴とする、請求項1~4のいずれかに記載の現像処理装置。前記各供給ノズルを、当該各供給ノズルの進行方向と直交する方向に移動させる他の駆動機構をさらに有することを特徴とする、請求項1~5のいずれかに記載の現像処理装置。前記各供給ノズルの進行方向と直交する方向の長さは、基板上のパターンの複数のショットを覆う長さであることを特徴とする、請求項1~6のいずれかに記載の現像処理装置。前記各供給ノズルの進行方向と直交する方向の長さは、基板上のパターンの1つのショットに対応する長さであることを特徴とする、請求項1~6のいずれかに記載の現像処理装置。現像処理装置を用いて、所定のパターンを露光した基板上のレジスト膜を現像する現像処理方法であって、前記現像処理装置は、基板を保持する基板保持部と、現像液を吐出する現像液吐出口が設けられ且つ基板の直径より短い複数の供給ノズルを、基板の一端側から基板の他端側に向けて基板の直径以上の長さにわたって隙間なく並べて形成された集合ノズルを有し、前記各供給ノズルを、前記集合ノズルの長さ方向と直交する方向に個別に水平移動させながら基板に現像液を供給することを特徴とする、現像処理方法。前記供給ノズルには、リンス液を基板に吐出するリンス液吐出口がさらに形成され、前記現像液吐出口は、前記供給ノズルにおいて前記リンス液吐出口よりも、当該供給ノズルの基板に対する進行方向の前側に位置し、前記供給ノズルを移動させながら現像液とリンス液を供給することで、基板上に供給された現像液をリンス液に置換することを特徴とする、請求項9に記載の現像処理方法。前記各供給ノズルにおける、前記リンス液吐出口よりも前記各供給ノズルの前記基板に対する進行方向の後方側には、前記現像液及び前記リンス液を吸引する吸引口が設けられ、前記供給ノズルを移動させながら前記吸引口から、基板上に供給された現像液とリンス液を吸引することを特徴とする、請求項10に記載の現像処理方法。前記基板の表面に供給された現像液が所定の時間経過後にリンス液に置換された状態となるように、前記各供給ノズルの移動速度、前記各供給ノズルからの現像液とリンス液の供給量、及び前記吸引口からの前記現像液及び前記リンス液の吸引量を調整することを特徴とする、請求項9~11のいずれかに記載の現像処理方法。前記各供給ノズルは、当該各供給ノズルの進行方向と直交する方向に移動自在であることを特徴とする、請求項9~12のいずれかに記載の現像処理方法。前記各供給ノズルの進行方向と直交する方向の長さは、基板上のパターンの複数のショットを覆う長さであることを特徴とする、請求項9~13のいずれかに記載の現像処理方法。前記各供給ノズルの進行方向と直交する方向の長さは、基板上のパターンの1つのショットに対応する長さであることを特徴とする、請求項9~13のいずれかに記載の現像処理方法。請求項9~15のいずかに記載の現像処理方法を現像処理装置によって実行させるために、当該現像処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。請求項16に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。ところで、基板表面に形成されたレジスト膜は、基板の中心側の領域と基板の外周側の領域とでは、膜厚が異なったものとなる。そのため、基板の外周側の領域に形成されるパターンのショットと、基板の中心側の領域に形成されるパターンのショットとを同じ条件で現像処理すると、外周側と中心側で、パターンの線幅が異なったものとなってしまう。換言すれば、各ショットでのレジストパターンの線幅を同じにして面内均一な現像結果を得るためには、例えば現像時間などの現像条件を、ウェハの中心側とウェハの外周側とで異なるものとする必要がある。しかしながら、上述したような、基板の直径に対応した長さの供給ノズルを用いた場合、供給ノズルの長さ方向に位置するショットごとに現像条件を変えることはできないため、現像後の線幅に差が生じることが避けられない。本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、精密な現像処理を基板面内の各ショットに対して個別に行うことを目的とする。前記の目的を達成するため、本発明は、基板上に現像液を供給して、所定のパターンを露光した基板上のレジスト膜を現像する現像処理装置であって、基板を保持する基板保持部と、現像液を吐出する現像液吐出口が設けられ且つ基板の直径より短い複数の供給ノズルを、基板の一端側から基板の他端側に向けて基板の直径以上の長さにわたって隙間なく並べて形成された集合ノズルと、前記集合ノズルの長さ方向と直交する方向に、前記各供給ノズルを個別に水平移動させる駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、変速機能を備えていることを特徴としている。本発明の現像処理装置によれば、基板の直径より短い供給ノズルが基板の直径以上の長さにわたって並べて形成された集合ノズルと、集合ノズルの長さ方向と直交する方向に各供給ノズルを移動させる移動機構を有しているので、各供給ノズルごとに基板に対する相対的な移動速度を設定することができる。そのため、例えばレジスト膜の膜厚が相対的に厚くなる基板の外周側に対応する供給ノズルでは供給ノズルの移動速度を遅くすることで現像時間を長く、膜厚が相対的に薄くなるウェハWの中心側に対応する供給ノズルでは移動速度を早くすることで現像時間を短くすることができる。このため、基板全面にショットに対して個別に現像時間を変化させ、これにより精密な現像処理を施すことができる。その結果、各ショット間で現像後の線幅に差が生じることを避けることができる。なお、隙間なく並べて配置とは、必ずしも隣り合う供給ノズル同士が接していることを意味するのではなく、各供給ノズルが隣り合う供給ノズルと干渉することなく移動可能な程度の隙間が形成されているような状態も含まれる。また、この隙間の大きさも、基板に形成されるパターンのショットの大きさに応じて任意に設定が可能である。前記供給ノズルには、リンス液を基板に吐出するリンス液吐出口がさらに形成され、前記現像液吐出口は、前記供給ノズルにおいて前記リンス液吐出口よりも、当該供給ノズルの基板に対する進行方向の前側に位置し、前記吐出口から吐出された現像液は、前記供給ノズルが基板に対して相対的に移動することでリンス液に置換されていてもよい。前記各供給ノズルにおける、前記リンス液吐出口よりも前記各供給ノズルの前記基板に対する進行方向の後方側には、前記現像液及び前記リンス液を吸引する吸引口が設けられていてもよい。前記基板の表面に供給された現像液が所定の時間経過後にリンス液に置換された状態となるように、前記各供給ノズルの移動速度、前記各供給ノズルからの現像液とリンス液の供給量、及び前記吸引口からの前記現像液及び前記リンス液の吸引量が調整されてもよい。前記駆動機構は、前記各供給ノズルを水平移動させるシャフトを有していてもよい。また、前記各供給ノズルを、当該各供給ノズルの進行方向と直交する方向に移動させる他の駆動機構をさらに有していてもよい。前記各供給ノズルの進行方向と直交する方向の長さは、基板上のパターンの複数のショットを覆う長さであってもよく、基板上のパターンの1つのショットに対応する長さであってもよい。別な観点による本発明は、現像処理装置を用いて、所定のパターンを露光した基板上のレジスト膜を現像する現像処理方法であって、前記現像処理装置は、基板を保持する基板保持部と、現像液を吐出する現像液吐出口が設けられ且つ基板の直径より短い複数の供給ノズルを、基板の一端側から基板の他端側に向けて基板の直径以上の長さにわたって隙間なく並べて形成された集合ノズルを有し、前記各供給ノズルを、前記集合ノズルの長さ方向と直交する方向に個別に水平移動させながら基板に現像液を供給することを特徴としている。前記供給ノズルには、リンス液を基板に吐出するリンス液吐出口がさらに形成され、前記現像液吐出口は、前記供給ノズルにおいて前記リンス液吐出口よりも、当該供給ノズルの基板に対する進行方向の前側に位置し、前記供給ノズルを移動させながら現像液とリンス液を供給することで、基板上に供給された現像液をリンス液に置換してもよい。前記各供給ノズルにおける、前記リンス液吐出口よりも前記各供給ノズルの前記基板に対する進行方向の後方側には、前記現像液及び前記リンス液を吸引する吸引口が設けられ、前記供給ノズルを移動させながら前記吸引口から、基板上に供給された現像液とリンス液を吸引してもよい。前記基板の表面に供給された現像液が所定の時間経過後にリンス液に置換された状態となるように、前記各供給ノズルの移動速度、前記各供給ノズルからの現像液とリンス液の供給量、及び前記吸引口からの前記現像液及び前記リンス液の吸引量を調整してもよい。前記各供給ノズルは、当該各供給ノズルの進行方向と直交する方向に移動自在であってもよい。前記各供給ノズルの進行方向と直交する方向の長さは、基板上のパターンの複数のショットを覆う長さであってもよく、基板上のパターンの1つのショットに対応する長さであってもよい。また、別な観点による本発明によれば、前記現像処理方法を現像処理装置によって実行させるために、当該現像処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムが提供される。さらに別な観点による本発明によれば、前記プログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。本発明によれば、精密な現像処理を基板面内の各ショットに対して個別に行うことができる。以下、本発明の実施の形態の一例について説明する。図1は、本実施の形態にかかる現像処理装置を備えた塗布現像処理システム1の構成の概略を示す平面図であり、図2は、塗布現像処理システム1の正面図であり、図3は、塗布現像処理システム1の背面図である。塗布現像処理システム1は、図1に示すように例えば25枚のウェハWをカセット単位で外部から塗布現像処理システム1に対して搬入出したり、カセットCに対してウェハWを搬入出したりするカセットステーション2と、フォトリソグラフィー工程の中で枚葉式に所定の処理を施す複数の各種処理装置を多段配置してなる処理ステーション3と、この処理ステーション3に隣接して設けられている図示しない露光装置との間でウェハWの受け渡しをするインターフェイス部4とを一体に接続した構成を有している。カセットステーション2では、カセット載置台5上の所定の位置に、複数のカセットCをX方向図1中の上下方向に一列に載置自在となっている。カセットステーション2には、搬送路6上をX方向に向かって移動可能なウェハ搬送体7が設けられている。ウェハ搬送体7は、カセットCに収容されたウェハWのウェハ配列方向Z方向;鉛直方向にも移動自在であり、X方向に配列された各カセットC内のウェハWに対して選択的にアクセスできる。ウェハ搬送体7は、ウェハWの位置合わせを行うアライメント機能を備えている。ウェハ搬送体7は、後述するように処理ステーション3側の第3の処理装置群G3に属するエクステンション装置32に対してもアクセスしてウェハWを搬送できる。処理ステーション3では、その中心部に主搬送装置13が設けられており、この主搬送装置13の周辺には、各種処理装置が多段に配置されて処理装置群が構成されている。塗布現像処理システム1においては、4つの処理装置群G1、G2、G3、G4が配置されており、第1及び第2の処理装置群G1、G2は、塗布現像処理システム1の正面側に配置され、第3の処理装置群G3は、カセットステーション2に隣接して配置され、第4の処理装置群G4は、インターフェイス部4に隣接して配置されている。さらにオプションとして破線で示した第5の処理装置群G5を背面側に別途配置可能となっている。主搬送装置13は、これらの処理装置群G1~G5内に配置されている各種処理装置に対してウェハWを搬送できる。第1の処理装置群G1では、例えば図2に示すように、ウェハWにレジスト液を塗布するレジスト塗布装置17と、露光後のウェハWを現像処理する現像処理装置18とが下から順に2段に配置されている。第2の処理装置群G2も同様に、レジスト塗布装置19と、現像処理装置20とが下から順に2段に積み重ねられている。第3の処理装置群G3では、例えば図3に示すように、ウェハWを冷却処理するクーリング装置30、レジスト液とウェハWとの定着性を高めるためのアドヒージョン装置31、ウェハWを待機させるエクステンション装置32、レジスト液中の溶剤を乾燥させるプリベーキング装置33、34及び現像処理後の加熱処理を施すポストベーキング装置35、36等が下から順に例えば7段に重ねられている。第4の処理装置群G4では、例えばクーリング装置40、載置したウェハWを自然冷却させるエクステンションクーリング装置41、エクステンション装置42、クーリング装置43、露光後のウェハWを加熱するポストエクスポージャーベーキング装置以下PEB装置とする。44、45、ポストベーキング装置46、47等が下から順に例えば8段に積み重ねられている。図1に示すようにインターフェイス部4の中央部には、ウェハ搬送体50が設けられている。ウェハ搬送体50はX方向、Z方向の移動とθ方向Z軸を中心とする回転方向の回転が自在にできるように構成されており、第4の処理装置群G4に属するエクステンションクーリング装置41、エクステンション装置42、周辺露光装置51及び図示しない露光装置に対してアクセスして、ウェハWを搬送できる。また、ウェハ搬送体50はウェハWの位置合わせを行うアライメント機能を備えている。次に上述した現像処理装置18の構成について説明する。現像処理装置20も現像処理装置18と同一の構成を有している。現像処理装置18は、図4、図5に示すように側面に基板Gの搬入出口60が形成された処理容器61を有している。処理容器61内の中央部には、ウェハWを保持する基板保持部62が設けられている。基板保持部62の上面の保持面62aは、ウェハWの径よりも少し大きい径を有する円形状に形成されている。保持面62aには、図示しない複数の吸引口が設けられており、当該吸引口から吸引することによりウェハWを吸着できる。基板保持部62には、シリンダなどの昇降駆動部63が設けられており、基板保持部62の保持面62aを上下動させて、主搬送装置13との間でウェハWを受け渡しできる。基板保持部62の周囲には、例えば排気用の排気カップ70が設けられている。排気カップ70は、例えば基板保持部62の保持面62aの下方に位置している。排気カップ70は、例えば円筒状の外カップ71と内カップ72からなる二重構造を有し、当該外カップ71と内カップ72との間に排気通路73が形成されている。外カップ71と内カップ72との上端部の隙間には、環状の吸入口74が形成され、吸入口74は、図5に示すように保持面62aの周縁部に沿うように配置されている。外カップ71と内カップ72との下端部の隙間には、現像処理装置18の外部に設置された排気装置図示せずに通じる排気管75が接続されており、基板保持部62近傍の雰囲気を吸入口74から適宜排気できる。図5、図6に示すように排気カップ70の両側には、Y方向図5の左右方向に沿ったレール80がそれぞれ設けられている。各レール80は、例えば排気カップ70の一端部側の外方から他端部側の外方まで延伸して設けられている。レール80には、鉛直上方に延伸するアーム81の一端部が支持されており、このアーム81は、移動機構82によってレール80上を移動自在である。また、アーム81は、例えばボールねじ機構により形成され、鉛直方向に移動自在である。図6に示すように、1つのレール80には2つのアーム81がそれぞれ設けられている。排気カップ70を挟んで対向する2つのアーム81には、支持部材83がレール80、80の間を跨いで保持されている。また、排気カップ70を挟んで対向する支持部材83、83の間には、レール80と平行に複数のシャフト84が設けられている。各シャフト84には、ウェハWに対して現像液とリンス液を供給する供給ノズル90がそれぞれ設けされている。供給ノズル90の、シャフト84の延伸する方向と直交する方向の長さは、ウェハWに形成されるパターンのショットの寸法に対応した長さ、換言すればウェハWの直径より短い長さに形成されている。複数の供給ノズル90は、X方向図5の上下方向に沿って、ウェハWの一端側からウェハWの他端側に向けてウェハWの長さ以上に隙間なく並べて配置されている。この複数の供給ノズル90により、ウェハWの全面に現像液とリンス液を供給する集合ノズル91を形成する。なお、図6においては、現像処理装置18の構成の理解を容易にするために、シャフト84及び供給ノズル90の数や、供給ノズル90間の距離を図5とは変えて描図している。また、各供給ノズル90には、図示しない駆動部が内蔵されており、シャフト84と共に駆動機構を形成する。これにより供給ノズル90は、シャフト84に沿って排気カップ70のY方向正方向側の端部の外方から基板保持部62に保持されたウェハWの上方を通過し、排気カップ70のY方向負方向側の端部の外方まで移動可能である。なお、駆動部には、例えばステッピングモータなどの、変速機能を有するものが用いられる。各シャフト84は、ウェハWのパターンの各ショットに対応する位置に設けられており、平面視において供給ノズル90がパターンのショットを覆った状態で移動することができる。なお、上記の隙間なく並べて配置とは、必ずしも隣り合う供給ノズル90同士が接していることを意味するのではなく、例えば図6に示すように、各供給ノズル90が隣り合う供給ノズル90と干渉することなく移動可能な程度の隙間が形成されているような状態も含まれる。また、この隙間の大きさも、ウェハWに形成されるパターンのショットの大きさに応じて任意に設定が可能である。供給ノズル90には、図7に示すようにウェハW上に現像液を吐出する現像液吐出口100と、ウェハW上にリンス液を供給するリンス液吐出口101と、ウェハ上に供給された現像液とリンス液を吸引する吸引口102とが、供給ノズルの進行方向側Y方向負方向側から反対側に向かってこの順に形成されている。現像液吐出口100、リンス液吐出口101及び吸引口102は、例えばレール80の延伸する方向と直交する方向に沿って形成された、例えばスリット状の開口である。現像液吐出口100には、図4に示すようにポンプ103によって現像液供給源104からの現像液が、供給管105を介して供給される。リンス液吐出口101にも、ポンプ106によってリンス液供給源107からのリンス液が、供給管108を介して供給される。なお、リンス液としては、例えば純水が用いられる。また、吸引口102には、吸引管109を介して吸引機構110が接続されている。供給管105、108には、それぞれ弁体111、112と供給管105、108内の流量を測定する流量測定機構113、114が設けられている。また、吸引管109にも同様に弁体115と流量測定機構116が設けられている。また、排気カップ70のY方向正方向側の外方には、ノズルバス120が設けられている。集合ノズル91は、ウェハWに処理を行わないとき、このノズルバス120で待機している。以上の塗布現像処理システム1には、図1に示すように制御部300が設けられている。制御部300は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部図示せずを有している。プログラム格納部には、塗布現像処理システム1におけるウェハWの処理を制御するプログラムが格納されている。また、プログラム格納部には、上述の各種処理装置や搬送装置などの駆動系の動作を制御して、塗布現像処理システム1における塗布現像処理を実現させるためのプログラムも格納されている。なお、前記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスクHD、フレキシブルディスクFD、コンパクトディスクCD、マグネットオプティカルデスクMO、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体Hに記録されていたものであって、その記憶媒体Hから制御部300にインストールされたものであってもよい。次に、以上のように構成された塗布現像処理システム1を用いて行われるウェハWの処理方法について説明する。先ず、ウェハ搬送体7によりカセットCから未処理のウェハWが1枚取り出され、第3の処理装置群G3に属するエクステンション装置32に搬送される。次にウェハWは、主搬送装置13によってアドヒージョン装置31に搬入され、ウェハWに対し、レジスト液の密着性を向上させる例えばHMDSが塗布される。次にウェハWは、クーリング装置30に搬送され、所定の温度に冷却された後、レジスト塗布装置17に搬送される。レジスト塗布装置17では、ウェハW上にレジスト液が塗布され、レジスト膜が形成される。レジスト膜が形成されたウェハWは、主搬送装置13によってプリベーキング装置33、エクステンションクーリング装置41に順次搬送され、さらにウェハ搬送体50によって、周辺露光装置51、露光装置に順次搬送され、各装置で所定の処理が施される。露光装置において露光処理の終了したウェハWは、ウェハ搬送体50によりアライメントが調整され、次いでエクステンション装置42に搬送される。その後ポストエクスポージャーベーキング装置44、クーリング装置43で所定の処理が施された後、現像処理装置18に搬送されて、現像処理が行われる。現像処理装置18に搬送されたウェハWは、例えば図8に示すようにパターンのショットが形成される各領域Sの縦方向か横方向の並びのいずれかが、レール80の延伸する方向と一致するように基板保持部62に保持される。この際、基板保持部62を回転自在に構成し、当該基板保持部62により回転方向のアライメントを再調整するようにしてもよい。なお、図8においては、シャフト84の描図を省略している。次いで、2つの支持部材83がウェハWの端部より外側に位置するまでアーム81が図8のY方向負方向側に移動する。これにより、ノズルバス120の位置に退避していた集合ノズル91が、図9に示すようにアーム81と共にウェハWのY方向の端部近傍まで移動する。その後、アーム81が降下し、集合ノズル91を形成する各供給ノズル90の下端部が、ウェハWの表面から所定の高さ、例えば1mm程度高くなるように高さ方向の位置が調整される。そして、各供給ノズル90がY方向負方向側に所定の速度で移動し、ウェハWの外周端部の上方に到達すると、図10に示すように、順次現像液吐出口100から所定の流量、本実施の形態においては例えば50ml/min~300ml/minで現像液Dが供給され、現像処理が開始される。その後、現像液Dの供給を維持したまま、供給ノズル90はウェハWのY方向負方向側の端部に向けて移動を続ける。それと並行して、リンス液吐出口101がウェハWのY方向正方向側の外周端部の上方に到達すると、リンス液吐出口101から所定の流量、本実施の形態においては例えば50ml/min~300ml/minでリンス液の供給が開始される。これにより、供給ノズル90の進行方向前側に位置する現像液吐出口100から供給された現像液Dは、図11に示すように、リンス液Lに順次置換される。その後、吸引口102がウェハWのY方向正方向側の外周端部の上方に到達すると、図12に示すように、吸引口102によりウェハW表面に供給された現像液Dやリンス液Lが吸引され、順次現像が終了する。そして、図13に示すように、供給ノズル90がウェハWのY方向負方向側の端部上方を横切ってウェハWの外側に移動すると、現像液D及びリンス液Lの供給、並びに吸引口102からの吸引が停止し、ウェハW全面の現像処理が完了する。なお、各供給ノズル90の移動速度、各供給ノズル90から供給される現像液D及びリンス液Lの流量、並びに吸引口102による現像液Dとリンス液Lの吸引量は、予め実験により求められた最適な現像時間、即ちウェハWの表面に供給された現像液Dがリンス液Lに置換されるまでの最適な時間に基づいて、各供給ノズル90ごとに適宜決定される。なお、ウェハWの外周側の領域Sとウェハの中心側の領域Sとでは、一般にレジスト膜の膜厚が異なっているので、ウェハWの外周側と中心側とでは、例えば、供給ノズル90の移動速度を変化させるなどして、最適な現像時間が得られるように供給ノズル90の動作が制御される。かかる場合、例えばウェハWの図13におけるX方向側の端部近くを横切って移動する供給ノズル90と、ウェハWの中心側に近い位置を横切る供給ノズル90とで、供給ノズル90の移動速度を変えてもよい。また、例えばウェハWの中心側に近い位置を横切る供給ノズル90が、ウェハWのY方向側の端部近くを横切る場合と、ウェハWの中心に近い位置を移動する場合とで供給ノズル90の移動速度を変化させてもよい。その後、現像処理が完了したウェハWは、エクステンション装置32に搬送された後にカセットCに収容され、塗布現像処理視システム1から搬出される。以上の実施の形態によれば、ウェハWの直径より短い供給ノズル90が、ウェハWの直径以上の長さにわたって並べて形成された集合ノズル91と、集合ノズル91の長さ方向と直交する方向に各供給ノズル90を個別に移動させる移動機構を有しているので、各供給ノズル90ごとにウェハWに対する相対的な移動速度を設定することができる。そのため、例えばレジスト膜の膜厚が相対的に厚くなるウェハWの外周側に対応する供給ノズル90では現像時間を長くしたり、膜厚が相対的に薄くなるウェハWの中心側に対応する供給ノズル90では現像時間を短くしたりすることで、精密な現像処理をパターンのショットごと行うことができる。その結果、各ショット間で現像後の線幅に差が生じることを避けることができる。以上の実施の形態では、吸引口102は直線状のスリットであったが、例えば図14に示すように、現像液吐出口100及びリンス液吐出口101を囲み且つ現像液吐出口100が開口した略U字形状のスリットとしてもよい。かかる場合、供給ノズル90から供給された現像液やリンス液が、隣り合う他の供給ノズル90から供給された現像液やリンス液と干渉することなく吸引されるので、各供給ノズル90ごとに厳密に現像処理を行うことができる。以上の実施の形態では、供給ノズル90はパターンのショットの幅に対応した長さとしていたが、各供給ノズル90の長さは、それぞれ個別に異なったものとしてもよい。例えば1つの供給ノズル90で2つ以上のショットに対応する領域Sを覆う長さに形成してもよい。また、以上の実施の形態では、供給ノズル90はレール80の延伸する方向に沿った方向にのみ移動するものであったが、レール80に直交する方向に移動するようにしてもよい。かかる場合、例えば図15に示すように、支持部材83の上部に、レール80の延伸する方向と直交する方向に水平移動可能な、他の駆動機構としての水平移動機構130が設けられる。そして水平移動機構130によりシャフト84を保持するように構成することで、供給ノズル90のレール80に直交する方向の位置を調整することができる。なお、水平移動機構130は、例えばボールねじ機構である。これにより、処理するロット毎にパターンのショットが形成される領域が異なっていても、供給ノズル90の位置をショットの位置にあわせて調整することができるので、供給ノズル90の取替え等を行うことなく現像処理を行うことができる。また、以上の実施の形態では、パターンのショットが形成される領域の幅と供給ノズル90の幅とが対応していたが、処理するロット毎にショットが形成される領域の幅が異なる場合には、供給ノズル90に代えて、現像液などを供給する領域をレール80の延伸方向と直交する方向に沿って変化させることが出来る可変ノズルを複数組み合わせた集合ノズルを用いてもよい。例えば図16に示すように、可変ノズル140は、ケーシング141内に配置された現像液ノズル142と、リンス液ノズル143と、吸引ノズル144を有している。現像液ノズル142とリンス液ノズル143は、可変ノズル140の進行方向前側に設けられた前方ノズル142a、143aと、進行方向後側に設けられた後方ノズル142b、143bにより構成されている。後方ノズル142b、143bには、例えばボールねじ機構で形成された水平移動機構150が設けられており、可変ノズル140の進行方向と直交する方向に沿って後方ノズル142b、143bを自在に移動させることができる。また、吸引ノズル144は、略L字状の固定側ノズル144aと、固定側ノズル144aと組み合わせて現像液ノズル142側が開口する略U字を形成する、直線状の移動側ノズル144bにより構成されている。そして、移動側ノズル144bにも水平移動機構150が設けられ、後方ノズル142b、143bの移動に伴い、吸引する領域を変化させることができるようになっている。このような可変ノズル140によれば、現像液やリンス液を供給する領域の幅を変化させることができるので、例えばロット毎にショットが形成される領域の幅が異なる場合においても、適切にショットごとに現像処理を行うことができる。なお、図16では、略U字形状の吸引ノズル144を描図したが、吸引ノズル144は現像液ノズル142やリンス液ノズル143と同じ形状であってもよい。また、以上の実施の形態においては、例えば供給ノズル90の移動速度などを変化させることで現像時間の調整を行ったが、例えば、可変ノズル140において、現像液ノズル142とリンス液ノズル143との間の距離を変更自在に構成し、ノズル142、143間の距離を調整することで、現像液のウェハW上への滞留時間、即ち現像時間を調整するようにしてもよい。かかる場合、複数の可変ノズル140を個別に移動させるのではなく、ウェハWの直径の長さ以上の1つの可変ノズルに、複数の現像液ノズル142とリンス液ノズル143をそれぞれ設けるようにしてもよい。以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。本発明は、基板がウェハ以外のFPDフラットパネルディスプレイ、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板である場合にも適用できる。