iVIB、VIIBおよびVIII族の金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の水素化金属成分、およびii下記化学式1で表される有機化合物または下記化学式2で表される有機金属化合物を含むことを特徴とする、水素処理触媒。化学式1R1COCH2COR2ここで、R1およびR2は互いに同じでも異なってもよく、C1~C12のアルキル、C6~C12のアリール、C1~C12のアルコキシおよびヒドロキシよりなる群から選ばれた一つ以上の基である。化学式2XR1COCH1COR2nここで、XはVIB、VIIBおよびVIII族の金属よりなる群から選ばれ、R1およびR2は互いに同じでも異なってもよく、C1~C12のアルキル、C6~C12のアリール、C1~C12のアルコキシおよびヒドロキシよりなる群から選ばれた一つ以上の基であり、nは1~6の整数である。iVIB、VIIBおよびVIII族の金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の水素化金属成分、およびii下記化学式1で表される有機化合物を含むことを特徴とする、水素処理触媒。化学式1R1COCH2COR2ここで、R1およびR2は互いに同じでも異なってもよく、C1~C12のアルキル、C6~C12のアリール、C1~C12のアルコキシおよびヒドロキシよりなる群から選ばれた一つ以上の基である。前記水素化金属成分、および前記有機化合物または前記有機金属化合物が担体に担持されたことを特徴とする、請求項1に記載の水素処理触媒。前記水素化金属成分は、モリブデンMo、タングステンW、コバルトCoおよびニッケルNiよりなる群から選ばれる一つ以上の金属であることを特徴とする、請求項1に記載の水素処理触媒。前記有機化合物はアセチルアセトン、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、ジマロン酸メチル、マロン酸またはこれらの混合物であることを特徴とする、請求項1に記載の水素処理触媒。前記有機化合物はアセチルアセトン、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテートまたはこれらの混合物であることを特徴とする、請求項1に記載の水素処理触媒。前記有機化合物はメチルアセトアセテート、エチルアセトアセテートまたはこれらの混合物であることを特徴とする、請求項1に記載の水素処理触媒。前記有機化合物の含量は水素処理触媒の全体重量に対して1~90wtであることを特徴とする、請求項1に記載の水素処理触媒。前記有機金属化合物は、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、マロン酸メチルまたはリンゴ酸が金属成分としてのコバルト、ニッケル、モリブデンまたはタングステンに結合した形態であり、或いはメチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、マロン酸メチルまたはリンゴ酸とコバルト、ニッケル、モリブデンまたはタングステンとの混合物であることを特徴とする、請求項1に記載の水素処理触媒。前記有機金属化合物は、メチルアセトアセテートまたはエチルアセトアセテートが金属成分としてのコバルト、ニッケル、モリブデンまたはタングステンに結合した形態であり、或いはメチルアセトアセテートまたはエチルアセトアセテートとコバルト、ニッケル、モリブデンまたはタングステンとの混合物であることを特徴とする、請求項1に記載の水素処理触媒。前記有機金属化合物は、メチルアセトアセテートまたはエチルアセトアセテートが金属成分としてのコバルトまたはニッケルに結合した形態であり、或いはメチルアセトアセテートまたはエチルアセトアセテートとコバルトまたはニッケルとの混合物であることを特徴とする、請求項1に記載の水素処理触媒。前記担体はアルミナ、シリカ、シリカ-アルミナ、酸化チタニウム、分子篩、ジルコニア、リン酸アルミニウム、カーボン、ニオビアまたはこれらの混合物であることを特徴とする、請求項3に記載の水素処理触媒。前記水素処理触媒はリン、フッ素、塩素、臭素、ホウ素またはこれらの混合物をさらに含むことを特徴とする、請求項3に記載の水素処理触媒。前記触媒は水素処理によって硫黄、酸素および窒素の少なくとも1種を選択的に除去する触媒であることを特徴とする、請求項1に記載の水素処理触媒。aVIB族、VIIB族およびVIII族の金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の水素化金属成分を担体に担持した後、乾燥、焼成、または乾燥および焼成させる段階と、b前記a段階から得た担体に、下記化学式1で表される有機化合物または下記化学式2で表される有機金属化合物を担持した後、乾燥、焼成、または乾燥および焼成させる段階とを含んでなる、水素処理触媒の製造方法。化学式1R1COCH2COR2ここで、R1およびR2は互いに同じでも異なってもよく、C1~C12のアルキル、C6~C12のアリール、C1~C12のアルコキシおよびヒドロキシよりなる群から選ばれた一つ以上の基である。化学式2XR1COCH1COR2nここで、XはVIB、VIIBおよびVIII族の金属よりなる群から選ばれ、R1およびR2は互いに同じでも異なってもよく、C1~C12のアルキル、C6~C12のアリール、C1~C12のアルコキシおよびヒドロキシよりなる群から選ばれた一つ以上の基であり、nは1~6の整数である。a段階の前に、リン、フッ素、塩素、臭素、ホウ素またはこれらの混合物を担体に担持した後、乾燥、焼成、または乾燥および焼成させる段階をさらに含むことを特徴とする、請求項15に記載の水素処理触媒の製造方法。前記b段階における有機化合物または有機金属化合物以外に塩基をさらに添加することを特徴とする、請求項15に記載の水素処理触媒の製造方法。AVIB、VIIBおよびVIII族の金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の水素化金属成分、および下記化学式1で表される有機化合物または下記化学式2で表される有機金属化合物を担体に担持する段階と、B前記A段階から得た担体を乾燥、焼成、または乾燥および焼成させる段階とを含んでなる、水素処理触媒の製造方法。化学式1R1COCH2COR2ここで、R1およびR2は互いに同じでも異なってもよく、C1~C12のアルキル、C6~C12のアリール、C1~C12のアルコキシおよびヒドロキシよりなる群から選ばれた一つ以上の基である。化学式2XR1COCH1COR2nここで、XはVIB、VIIBおよびVIII族の金属よりなる群から選ばれ、R1およびR2は互いに同じでも異なってもよく、C1~C12のアルキル、C6~C12のアリール、C1~C12のアルコキシおよびヒドロキシよりなる群から選ばれた一つ以上の基であり、nは1~6の整数である。本発明の一具体例は、少なくとも一つの水素化金属成分、およびカルボニルまたはその誘導体成分を有する有機化合物または有機金属化合物を含んで水素処理触媒を製造することにより、より活性に優れる水素処理触媒を提供しようとする。本発明の別の具体例は、担体に少なくとも一つの水素化金属成分、およびカルボニルまたはその誘導体成分を有する有機化合物または有機金属化合物が担持された形態であって、より活性に優れる水素処理触媒およびその製造方法を提供しようとする。本発明の一具体例において、水素処理触媒は、iVIB、VIIBおよびVIII族の金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の水素化金属成分、およびii下記化学式1で表される有機化合物を含むことができ、前記水素処理触媒は担体に担持された形態または無担持形態である。化学式1R1COCH2COR2ここで、R1およびR2は互いに同じでも異なってもよく、C1~C12のアルキル、C6~C12のアリール、C1~C12のアルコキシおよびヒドロキシよりなる群から選ばれた一つ以上の基である。本発明の他の具体例において、水素処理触媒は、iVIB、VIIBおよびVIII族の金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の水素化金属成分、およびii下記化学式2で表される有機金属化合物を含むことができ、前記水素処理触媒は担体に担持された形態または無担持形態である。化学式2XR1COCH1COR2nここで、XはVIB、VIIBおよびVIII族の金属よりなる群から選ばれ、R1およびR2は互いに同じでも異なってもよく、C1~C12のアルキル、C6~C12のアリール、C1~C12のアルコキシおよびヒドロキシよりなる群から選ばれた一つ以上の基であり、nは1~6の整数である本発明の別の具体例において、水素処理触媒は、担体に、iVIB、VIIBおよびVIII族の金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の水素化金属成分、およびii前記化学式1で表される有機化合物または前記化学式2で表される有機金属化合物を担持させて製造することができる。触媒の担持方法は、当業界における公知の一般な方法、たとえば通常の含浸法、沈殿法、イオン交換法などを用いることができ、必ずしもこれに限定されるものではない。本発明において、水素処理触媒は、水素化精製、水素化処理、水素化分解などの工程で使用される水素化精製触媒、水素化処理触媒、水素化分解触媒などをすべて含む触媒を意味する。本発明の一具体例において、担体はアルミナ、シリカ、シリカ-アルミナ、酸化チタニウム、分子篩、ジルコニア、リン酸アルミニウム、カーボン、ニオビアまたはこれらの混合物であり得る。たとえば、前記分子篩は、ZSM-5、ZSM-12、ZSM-21、ZSM-22、ZSM-23、ZSM-35、ZSM-38、ZSM-48、ZSM-57、SSZ-32、フェライト、SAPO-11、SAPO-31、SAPO-41、MAPO-11、MAPO-31、X-ゼオライト、Y-ゼオライト、L-ゼオライト、β-ゼオライト、SBA-15、MCM-41、MCM-48などを使用することができる。水素化金属成分は、元素周期表のVIB族、VIIB族およびVIII族の金属よりなる群から選ばれる一つ以上の金属成分であり、たとえば、モリブデンMo、タングステンW、コバルトCoおよびニッケルNiよりなる群から選ばれる一つ以上の金属成分が挙げられる。本発明の一具体例において、水素化金属成分の含量は、無担持形態または担持された形態、担体の種類、硫化処理の有無などに応じて適切に調節でき、たとえば、水素処理触媒の全体重量に対して約1~95wt、約2~90wtが挙げられる。添加される水素化金属成分の含量が1wt未満の場合は、水素処理活性を十分に発揮することができない。本発明の一具体例において、前記化学式1で表される有機化合物は、たとえば、アセチルアセトン、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、ジマロン酸メチル、マロン酸またはこれらの混合物であり、具体的に、アセチルアセトン、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテートまたはこれらの混合物であり得る。さらに具体的には、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテートまたはこれらの混合物であり得る。本発明の一具体例において、前記化学式2で表される有機金属化合物は、たとえば、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、マロン酸メチルまたはリンゴ酸が金属成分としてのコバルト、ニッケル、モリブデンまたはタングステンに結合した形態であり得る。具体的に、メチルアセトアセテートまたはエチルアセトアセテートが金属成分としてのコバルト、ニッケル、モリブデンまたはタングステンに結合した形態であり得る。さらに具体的には、メチルアセトアセテートまたはエチルアセトアセテートが金属成分としてのコバルトまたはニッケルに結合した形態であり得る。このような有機金属化合物は金属塩と前記有機化合物、そして塩基成分を反応させて前記有機金属化合物を製造することができる。また、前記化学式2で表される有機金属化合物は、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、マロン酸メチルまたはリンゴ酸とコバルト、ニッケル、モリブデンまたはタングステンとの混合物であり得る。たとえば、メチルアセトアセテートまたはエチルアセトアセテートとコバルト、ニッケル、モリブデンまたはタングステンとの混合物が挙げられる。たとえば、メチルアセトアセテートまたはエチルアセトアセテートとコバルトまたはニッケルとの混合物が挙げられる。本発明の一具体例において、有機化合物または有機金属化合物の含量は水素処理触媒の全体重量に対して約1~90wtであり得る。たとえば、有機化合物または有機金属化合物の含量は水素処理触媒の全体重量に対して約3~80wtである。添加される有機化合物または有機金属化合物の含量が90wtを超過する場合、さらに添加する有機化合物または有機金属化合物に比べて追加活性の増加現象が微々たるものであるから、経済的に好ましくないこともある。本発明の一具体例において、水素処理触媒は、活性点である金属の構造または担体の性質を変化させて反応活性を増加させるために、リン、フッ素F、塩素Cl、臭素Br、ホウ素またはこれらの混合物をさらに含むことができ、その添加量は水素処理触媒の全体重量に対して30wt以下であり、より具体的には1~10wtである。本発明の一具体例において、水素処理触媒は、水素処理反応によって硫黄、酸素および窒素の少なくとも一つを選択的に除去する工程で使用できる。本発明の一具体例において、iVIB族、VIIB族およびVIII族の金属よりなる群から選ばれる一つ以上の水素化金属成分、およびii前記化学式1で表される有機化合物または前記化学式2で表される有機金属化合物を担体に担持することは、一般な担持方法によることが可能であり、別々に行っても同時に行ってもよい。本発明の別の具体例において、別々に担持する場合、水素処理触媒の製造方法は、aVIB族、VIIB族およびVIII族の金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の水素化金属成分を担体に担持した後、乾燥、焼成、または乾燥および焼成させる段階と、b前記a段階から得た担体に、前記化学式1で表される有機化合物または前記化学式2で表される有機金属化合物を担持した後、乾燥、焼成、または乾燥および焼成させる段階とを含むことができる。前記aまたはb段階において、乾燥段階は、約70°C~350°Cで行われてもよく、たとえば約100°C~350°Cで行われる。焼成段階は、約351°C~700°Cで行われてもよく、たとえば約351°C~600°Cで行われる。本発明の一具体例において、b段階で前記有機化合物または前記有機金属化合物以外に塩基をさらに添加することができる。添加される塩基は、たとえばアンモニア、アミン類、アニリン類、ピリジン類、水酸化塩、炭酸塩またはこれらの混合物であり得る。本発明の一具体例において、水素処理触媒は、リン、フッ素、塩素、臭素、ホウ素またはこれらの混合物をさらに含むことができる。別の具体例において、リン、フッ素、塩素、臭素、ホウ素またはこれらの混合物を担体に担持させて使用することもできる。具体的に、a段階の前に、リン、フッ素、塩素、臭素、ホウ素またはこれらの混合物を担体に担持した後、乾燥、焼成、または乾燥および焼成させる段階をさらに含むことができる。本発明の別の具体例において、同時に担持する場合、水素処理触媒の製造方法は、AVIB、VIIBよびVIII族の金属よりなる群から選ばれる少なくとも一つの水素化金属成分、および前記化学式1で表される有機化合物または前記化学式2で表される有機金属化合物を担体に担持する段階と、B前記A段階から得た担体を乾燥、焼成、または乾燥および焼成させる段階とを含むことができる。別の具体例において、A段階でリン、フッ素、塩素、臭素、ホウ素またはこれらの混合物をさらに含むことができる。別の一具体例において、担体にリン、フッ素、塩素、臭素、ホウ素またはこれらの混合物を担持させて使用することもできる。具体的に、A段階の前に、リン、フッ素、塩素、臭素、ホウ素またはこれらの混合物を担体に担持した後、乾燥、焼成、または乾燥および焼成させる段階をさらに含むことができる。そして、前記化学式2で表される有機金属化合物が担持された触媒を製造する別の方法として、前記化学式2で表される有機金属化合物を直接使用して触媒を製造する方法を含むことができる。以上のように、多様な方法によって、前記化学式1で表される有機化合物または前記化学式2で表される有機金属化合物が担持された触媒を製造することができるので、上述した製造方法に限定されない。本発明の別の具体例において、水素処理触媒は、金属硫化物に転換させて使用することができ、一般な処理方法を用いて製造された水素処理触媒を硫化させることができる。たとえば、有機硫黄化合物またはH2Sのみを使用し或いは溶媒に硫黄化合物を混合し、水素の存在下に約120~450°Cの高温で処理することにより、触媒に担持された金属を金属硫化物に転換させることができる。触媒硫化処理は、当業界における公知の一般な方法をすべて用いることができ、必ずしもこれに限定されるものではない。本発明に係る前記化学式1で表される有機化合物または前記化学式2で表される有機金属化合物を含む水素処理触媒は、既存の水素処理触媒に比べて活性に優れるという効果がある。また、本発明に係る水素処理触媒の活性は、石油または石炭に由来する炭化水素の水素処理だけでなく、脂肪酸またはトリグリセリドが主成分である動植物油の水素処理脱酸素化にも優れる効果を示す。また、本発明に係る水素処理触媒は、様々な由来で生成された炭化水素留分の水素処理反応に優れた活性を示しており、硫黄、窒素および酸素の少なくとも1種を含有した炭化水素の脱硫、脱窒および/または脱酸素反応に卓越した効果を示す。以下、実施例によってさらに具体的に説明する。ところが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例1.CoMo/Al2O3触媒の製造CoMo/Al2O3触媒は次の順序で製造された。まず、アンモニウムヘプタモリブデートテトラハイドレートAmmoniumheptamolybdatetatrahydrate、AHMを蒸留水に溶かして製造した水溶液を直径1mmサイズのAl2O3担体に含浸させ、150°Cで2時間乾燥させた後、500°Cで2時間連続的に焼成してMoO3/Al2O3を製造した。コバルトニトレートヘキサハイドレートCobaltnitratehexahydrate、CNHを蒸留水に溶かし、前記MoO3/Al2O3触媒を含浸させた後、150°Cで2時間乾燥させ、直径1mmサイズのアルミナを担体として用いてモリブデンが約15重量、コバルトが約4重量となるように触媒を製造した。その後、乾燥触媒重量の15重量のメチルアセトアセテートMethylacetoacetate、MeAAを蒸留水と混合して触媒に添加し、150°Cで2時間乾燥させて触媒を製造した。製造に使用されたMo前駆体としては、アンモニウムヘプタモリブデートテトラハイドレートAmmoniumheptamolybdatetetrahydrate、AHMを使用したが、AHM以外の多様な形態のMo前駆体を使用することができる。コバルト前駆体としてはコバルトニトレートヘキサハイドレートCobaltnitratehexahydrate、CNHを使用したが、CNHの他に多様な形態のコバルト前駆体を使用することができ、本発明はこれに限定されるものではない。実施例2.CoMo/Al2O3触媒の製造実施例1によって製造された触媒を500°Cで2時間焼成して触媒を製造した。実施例3.CoMo/Al2O3触媒の製造AHMとCNHを蒸留水に溶かして製造した水溶液をAl2O3担体に含浸させ、150°C2時間乾燥させた後、乾燥触媒重量の15重量のMeAAを蒸留水と混合して触媒に添加し、150°Cで2時間乾燥させて触媒を製造した。実施例4.CoMo/Al2O3触媒の製造MeAA水溶液を乾燥触媒重量の13重量のアセチルアセトンとエタノールを混合した溶液に変更して触媒に添加する以外は、実施例1と同様の方法によって触媒を製造した。実施例5.CoMo/Al2O3触媒の製造MeAA水溶液を乾燥触媒重量の18重量のエチルアセトアセテートとエタノールを混合した溶液に変更して触媒に添加する以外は、実施例1と同様の方法によって触媒を製造した。実施例6.CoMo/Al2O3触媒の製造MeAA水溶液を乾燥触媒重量の18重量のマロン酸ジメチルとエタノールを混合した溶液に変更して触媒に添加する以外は、実施例1と同様の方法によって触媒を製造した。実施例7.CoMo/Al2O3触媒の製造アンモニア水をMEAA水溶液に混合して触媒に添加する以外は、実施例1と同様の方法で触媒を製造した。実施例8.CoMo/Al2O3触媒の製造実施例1と同じ含量のAHM、CNHおよびMeAAを蒸留水に溶かして製造した水溶液をAl2O3担体に含浸させた後、150°Cで2時間乾燥させて触媒を製造した。実施例9.CoMo/Al2O3触媒の製造実施例1の方法で製造したMoO3/Al2O3触媒に、乾燥触媒重量の4重量コバルト基準のコバルトメチルアセトアセテートIIをメタノールと混合して添加し、150°Cで2時間乾燥させて触媒を製造した。比較例1.CoMo/Al2O3触媒の製造直径1mmサイズのアルミナを担体として用いてモリブデンが約15重量、コバルトが約4重量となるように触媒を製造した。まず、AHMを蒸留水に溶かして製造した水溶液をAl2O3担体に含浸させ、150°Cで2時間乾燥させた後、500°Cで2時間連続的に焼成してMoO3/Al2O3を製造した。CNHを蒸留水に溶かし、前記MoO3/Al2O3触媒を含浸させた後、150°Cで2時間乾燥させ、500°Cで2時間連続的に焼成してCoMo/Al2O3触媒を製造した。比較例2.CoMo/Al2O3触媒の製造MeAA水溶液を乾燥触媒重量の30重量のEDTAをアンモニア水と蒸留水を混合した溶液に変更して触媒に添加する以外は、実施例1と同様の方法で触媒を製造した。実験例1前記方法で製造した触媒を下記の触媒硫化方法で硫化させた後、水素処理反応を行った。結果を表1に示す。-触媒の硫化-前記方法で製造した5gの触媒実施例1~7、比較例1~2と77gのペンタデカンと30gのジメチルジスルフィドdimethyldisulfide、DMDSをオートクレーブに仕込み、常温で40barのH2で加圧した後、350°Cまで昇温させ、3時間触媒を硫化させた。-水素処理反応-硫化した0.1gの触媒粒子サイズ80~140mesh、46gのペンタデカン、0.06gのジベンゾチオフェンDibenzothiophene、DBTを100ccのオートクレーブに入れて320°Cで1時間反応させた後、DBTの残量をGCで分析して水素処理反応を行い、水素処理活性を比較した。水素処理活性=[反応前の溶液内のDBT含量-反応後の溶液内のDBT含量/反応前の溶液内のDBT含量]×100上記表1の結果より分かるように、水素処理触媒の水素処理活性は、カルボニルまたはカルボニル誘導体成分を含む有機化合物を添加した実施例1~9で優れた活性を示した。また、有機化合物を含まない比較例1、およびカルボニルまたはカルボニル誘導体成分を含む有機化合物の代わりにEDTAを添加した比較例2では、低い水素処理活性を示した。これはカルボニルまたはカルボニル誘導体成分を含む有機化合物を添加することにより、さらに優れた活性を示す触媒を得ることができることを示唆する。実施例10.CoMo/ZrO2触媒の製造担体をZrO2に変更する以外は、実施例1と同様の方法で触媒を製造した。比較例3.CoMo/ZrO2触媒の製造担体をZrO2に変更する以外は、比較例1と同様の方法で触媒を製造した。実験例2前記方法で製造した実施例10と比較例3の触媒を実験例1の方法で硫化させた後、酸素が含まれた炭化水素の水素処理反応を行った。結果を表2に示す。-水素処理反応-硫化した0.1gの触媒粒子サイズ80~140mesh、46gのペンタデカン、0.06gのジベンゾフランDibenzofuran、DBFを100ccのオートクレーブに入れて320°Cで1時間反応させた後、DBFの残量をGCで分析して水素処理反応を行い、水素処理活性を比較した。水素処理活性=[反応前の溶液内のDBF含量-反応後の溶液内のDBF含量/反応前の溶液内のDBF含量]×100前記表2の結果から分かるように、カルボニルまたはカルボニル誘導体成分を含む有機化合物を添加した触媒は、表1における脱硫反応活性だけでなく、脱酸素化反応においても優れた水素処理活性を示した。実施例11.NiMo/Al2O3触媒の製造CNHをニッケルニトレートヘキサハイドレートNickelnitratehexahydrate、NNHに変更する以外は、実施例1と同様の方法で触媒を製造した。ここで、Ni前駆体の場合、NNHの他に多様な前駆体を使用することができ、必ずしもこれに限定されるものではない。実施例12.NiMoP/Al2O3触媒の製造H3PO4水溶液をアルミナに担持し、500°Cで2時間焼成した後、実施例11と同様の方法を用いてモリブデン約15重量、ニッケル約4重量、P約3重量の触媒を製造した。ここで、Pの場合、H3PO4の他に多様な前駆体を使用することができ、必ずしもこれに限定されるものではない。実施例13.NiW/Al2O3触媒の製造AHMをアンモニウムメタタングステートハイドレートAmmoniummetatungstatehydrate、AMTに変更する以外は、実施例11と同様の方法で触媒を製造した。ここで、Wの場合、AMTの他に多様な前駆体を使用することができ、必ずしもこれに限定されるものではない。比較例4.NiMo/Al2O3触媒の製造CNHをNNHに変更する以外は、比較例1と同様の方法で触媒を製造した。比較例5.NiW/Al2O3触媒の製造CNHをNNHに変更し、AHMをAMTに変更する以外は、比較例1と同様の方法で触媒を製造した。実験例3前記方法で製造した触媒を次の触媒硫化方法で硫化させた後、水素処理反応を行った。その結果を表3に示す。-触媒の硫化-前記方法で製造した触媒5cc実施例11~13、比較例4~5を6ccの円筒型反応器に充填した後、常温の条件で反応圧力45bar、H2flow16cc/minおよび3wtのDMDSを含むR-LGOを0.1cc/minの速度で流しながら320°Cまで昇温させ、320°Cに到達すると、3時間前処理した。-水素処理反応-前記方法で硫化させた反応器にH2flow60cc/min、軽質サイクルオイル沸点範囲170~360°C、硫黄含量=0.3wt、窒素含量=0.03wtを0.12cc/minの速度で流しながら300°C、60barの条件で水素処理反応を行った。その結果を表3に示す。水素処理活性は反応物内の硫黄化合物および窒素化合物の除去率で示した。硫黄除去率=[反応前の溶液内のS含量-反応後の溶液内のS含量/反応前の溶液内のS含量]×100窒素除去率=[反応前の溶液内のN含量-反応後の溶液内のN含量/反応前の溶液内のN含量]×100上記表3の結果から分かるように、反応物内の硫黄化合物および窒素化合物の除去率で示した水素処理触媒の水素処理活性は、カルボニルまたはカルボニル誘導体成分を含む有機化合物を添加する実施例11~13で優れた活性を示し、有機化合物を含まない比較例4~5では低い水素化処理活性を示した。よって、有機化合物を添加することにより、より活性に優れた触媒を得ることができることを確認した。実施例14.NiMo/TiO2触媒の製造担体をTiO2に変更する以外は、実施例11と同様の方法で触媒を製造した。比較例5.NiMo/TiO2触媒の製造担体をTiO2に変更する以外は、比較例4と同様の方法で触媒を製造した。実験例4前記方法で製造した実施例14と比較例5の触媒を実施例3の方法で硫化させた後、水素処理反応を行った。結果を表4に示す。-水素処理反応-実験例3の方法で硫化させた触媒5gに対して、反応温度320°C、反応圧力30bar、水素100cc/minの導入条件で運転を行った。反応用フィードは大豆乳を使用し、0.1cc/minLHSV=1の速度で反応させた。結果を表4に示す。大豆乳は触媒上で水素化脱酸素または脱炭酸化反応によって沸点221~343°Cのディーゼル留分に転換される。水素処理反応活性は反応生成物に含まれたディーゼルへの転換率で計算した。水素処理活性=[沸点221~343°Cの生成物の重量wt/総生成物の重量wt]×100触媒は、石油または石炭に由来する炭化水素に含まれた硫黄、窒素、酸素成分だけでなく、脂肪酸またはトリグリセリドが主成分である動植物油の水素処理脱酸素化においても優れた水素処理活性を示した。一方、本発明は、前記記載された実施例に限定されるのではなく、本発明の思想および範囲を外れることなく多様に修正および変形を加え得るのは、当該技術分野における通常の知識を有する者には自明である。よって、それらの変形例または修正例は本発明の特許請求の範囲に属すると理解すべきである。