光ファイバ13のための光ファイバ冷却装置1、1 ́、1 ́ ́であって、該冷却装置1、1 ́、1 ́ ́は、半分割連通管2040、2940を夫々配置した受け部表面204、294を夫々少なくとも1有する2つの部分20、29を含み、該2つの部分20、29が夫々の前記受け部表面2040、2940の位置において当接することにより、前記光ファイバ13を通過させるための主連通管が形成され、前記夫々の部分20、29が熱伝導性材料から構成されるとともに、前記部分20、29のうち少なくとも一方の前記部分20が、該部分20の前記主半分割連通管に沿って分布配置された複数の開口2046と流体連通する円筒状の第2の管を含むことにより、前記第2の管209が、前記複数の開口2046に対して熱交換流体を分配するための分配チャンバとして構成されることを特徴とする光ファイバ冷却装置。前記第2の管が、複数の通路2092を介して前記主連通管と接続され、該通路2092の夫々は、前記主連通管の前記開口2046の夫々と接続していることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ冷却装置。前記第2の管209の直径を分子とし、複数の前記開口の直径を分母とする比率は、前記第2の管が、前記熱交換流体をすべての前記開口2046に対して並行して注入することのできる分配チャンバを成すことが可能なように選択されることを特徴とする請求項2に記載の光ファイバ冷却装置。前記第2の管209の前記直径を分子とし、複数の前記開口2046の前記直径を分母とする前記比率は、3~300の範囲内の比率であることを特徴とする請求項2または3に記載の光ファイバ冷却装置。前記第2の管209と流体連通する、前記熱交換流体のための入口208を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置。前記熱伝導性材料が、アルミニウムを含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置。前記光ファイバ冷却装置を冷却するための冷却ダクト210a、210bをさらに含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置。前記開口2046は、5~200mmの間隔をもって互いに離間していることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置。前記主連通管の周囲を密閉する少なくとも1のシール207a、207bを含むことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置。前記主連通管は、放射線吸収層2041でコーティングされることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置。前記部分20、29のうち他方の前記部分29を成すブロックもまた、第2の管及び冷却ダクトを含み、該2つの部分20、29夫々における前記第2の管及び前記冷却ダクトは、該2つの部分20、29夫々の受け部表面204、294同士の当接面に対して対称であることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置。請求項1乃至11のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置1、1 ́、1 ́ ́を少なくとも1含むことを特徴とする前記光ファイバ13を製造するためのタワーT。a前記熱伝導性材料から構成されるとともに少なくとも1の前記受け部表面204を含む第1のブロックEを形成する工程工程701と、b前記第1のブロックEの平坦な前記受け部表面204上に、前記半分割主連通管2040を形成する工程工程702と、c前記第1のブロックEに、円筒状の前記第2の管209を形成する工程工程703と、d前記第1のブロックEの前記第2の管209と前記半分割主連管2040との間に、前記複数の開口2046を介して前記複数の通路2092を形成する工程工程704と、e前記第2の管209のための少なくとも1の入口208を形成する工程工程705と、f第2のブロックE ́を形成し、前記第1のブロックEに対して行われた前記工程のうち、少なくとも前記工程bを前記第2のブロックE ́に対して行う工程工程711と、g組み合わせた前記第1のブロックE及び前記第2のブロックE ́の2つの前記主半分割連通管2040、2940により前記主連通管が形成されるように、前記第1のブロックE及び第2のブロックE ́を、第1のブロックE及び前記第2のブロックE ́夫々の受け部表面204、294を介して当接させる工程工程712とを含むことを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置の製造方法。前記第2のブロックE ́に対して、前記工程b~eを行うことを特徴とする請求項13に記載の光ファイバ冷却装置の製造方法。前記第1のブロックE及び/あるいは前記第2のブロックE ́に、2つの冷却ダクト210a、210bを貫設する工程工程706をさらに含むことを特徴とする請求項13または14に記載の光ファイバ冷却装置の製造方法。前記第1のブロックEに、前記第2の管209が穿孔により設けられることを特徴とする請求項13乃至15のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置の製造方法。放射線吸収層2041を形成するための、黒色陽極酸化処理工程をさらに含むことを特徴とする請求項13乃至16のいずれか1に記載の光ファイバ冷却装置の製造方法。しかしながら、この冷却装置に対しては以下の点について課題がある。光ファイバ加熱炉を出る時の光ファイバの温度は1000°Cにも達すると接触すると、ヘリウムの温度が急速に上昇するため、結果として光ファイバ13の冷却は、冷却ユニット140の一部においてしか効率的に行われない。実在の冷却ユニット140には、しばしば冷却のために水が用いられる。しかしながら、これについては冷却ユニットからの水漏れのおそれが問題として指摘されている。したがって、本発明の課題の1つは、装置内を進行する光ファイバと冷却液との間の熱交換率を実質的に上昇させることができるように構成された、特に光ファイバのための冷却装置を提供することである。本発明の別の課題は、ヘリウムの使用量を最大限節減可能な、特に光ファイバのための冷却装置を提供することである。ヘリウムは有効である一方で高価なガスであるため、光ファイバに対するヘリウムの冷却効果を最大限活用することが求められる。本発明のさらなる別の課題は、水漏れの問題を回避可能な冷却装置を提供することである。この目的を達成するために、本発明は、光ファイバのための冷却装置に関し、該冷却装置は、光ファイバを通過させるための主連通管を含む。冷却装置の特徴は、主連通管が該主連通管に沿って分布配置された複数の開口を含む点、及び複数の開口と流体連通する、熱交換流体のための分配チャンバを該冷却装置がさらに含む点である。好ましくは、光ファイバ冷却装置は、少なくとも1の受け部表面を夫々含む2つの部分を有する。2つの部分が、それら夫々が含む受け部表面の位置において互いに当接すると、光ファイバの通路を収容するための主連通管が形成されるように、2つの部分の夫々の受け部表面上には夫々半分割連通管が配置される。冷却装置の特徴は、2つの部分夫々が熱伝導性材料からなるブロックである点、及び、2つの部分のうち少なくとも一方の部分が、該部分に設けられた半分割連通管に沿って分布配置された複数の開口と流体連通する円筒状の第2の管を含むことにより、該第2の管が、該複数の開口に対して熱交換流体の分配を行う熱交換流体分配チャンバを成す点である。有利かつ任意には、本発明は以下の特徴のうち少なくとも1を含む。-装置は、分配チャンバを成す第2の管を含む。第2の管は、複数の通路を介して主連通管と接続され、該複数の通路の夫々は、主連通管の開口夫々と接続されている。-第2の管の直径を分子とし、複数の開口の直径を分母とする比率は、第2の管が、熱交換流体をすべての開口に対して並行して注入することのできる分配チャンバを成すことが可能なように選択される。-第2の管の直径を分子、複数の開口の直径を分母とする比率は、3~300の範囲内の比率である。-装置は、第2の管と流体連通する、熱交換流体のための入口を含む。-装置は、好ましくはアルミニウムを含む熱伝導性材料で構成される。-装置は、該装置を冷却する冷却ダクトを更に含む。-開口は、5~200mmの間隔をもって互いに離間している。-装置は、主連通管の周囲を密閉する少なくとも1のシールを含む。-主連通管は、放射線吸収層でコーティングされる。-2つの部分のうち、他方の部分を成すブロックもまた、第2の管及び冷却ダクトを含み、該2つの部分における第2の管及び冷却ダクトは、該2つの部分の夫々の受け部表面同士の当接面に対して対称である。本発明はさらに、光ファイバ製造のためのタワーに関し、該タワーは、本発明の冷却装置を少なくとも1つ含む。本発明はさらに、本発明の冷却装置を製造する方法に関し、該方法は以下の工程を含むことを特徴とする。a熱伝導性材料から構成され、少なくとも1の受け部表面を含む第1のブロックを提供する工程。b第1のブロックの平坦な受け部表面上に、半分割主連通管を形成する工程。c第1のブロックに、好ましくは円筒状の第2の管を形成する工程。d第1のブロックの第2の管と半分割主連管との間に、複数の通路を形成する工程。e第2の管のための少なくとも1の入口を形成する工程。f第2のブロックを形成し、第1のブロックに対して行われた上記工程のうち、少なくとも工程bを第2のブロックに対して行う工程。g組み合わせた第1のブロック及び第2のブロックの2つの主半分割連通管が主連通管を形成するように、第1のブロック及び第2のブロックを、第1のブロック及び第2のブロックの夫々の受け部表面を介して当接させる工程。有利かつ任意には、本発明の方法は以下のうち少なくとも1の工程を含む。-第2のブロックに対して上記工程b~eを行う工程。-第1のブロックE及び/あるいは第2のブロックE ́に2つの冷却ダクト210a、210b夫々を貫設する工程工程706。有利には、第2の管を第1のブロックに穿孔により設ける穿設することで、該第2の管は滑らかな内表面を有し、それにより乱流発生を促進することが可能となる。さらに有利には、本発明の方法は、放射線吸収層を形成するための黒色陽極酸化処理工程を更に含む。本発明の他の特徴、課題及び利点は、以下に述べる非制限例の詳細な説明によって明らかになる。非制限例としての実施形態は以下の図面を参照して説明される。図2a及び図2bを参照すると、本発明の1実施形態による特に光ファイバのための冷却装置2は、2つの部分20及び29から構成される光ファイバ受け部エレメントを含む。該2つの部分は、ある平面に対して全体的に対称であるとともに、互いに対向して配置される。本発明の1実施形態によると、一方の部分20は、熱伝導性材料からなるブロックEから、好ましくはZicral、Ergal及びFortalConstructalという商品名で知られる7075アルミニウム合金から形成される。このブロックEは、好ましくは主軸Aを有する直角の平行6面体形状である。ブロックEは、軸Aに沿って4つの長手方向表面を含む。該4つの表面は、201、202、203及び204であり、これらは軸Aに対して垂直な2つの表面205及び206によって画定される。軸Aに沿ったブロックEの長さは、好ましくは2600~3000mmであるが、特にこれに限定されるものではない。表面204は、より光ファイバを受けることに特化された表面である。この点に関し、表面204は、半円形断面を有する半円筒状に形成された主溝2040を含む。該主溝として形成された主半分割連通管2040は、主軸Aと平行に配置され、好ましくはブロックEの表面204の中心線上に配置される。ブロックE ́を含むもう一方の部分29は、表面204と平行な平面に対して、ブロックEと対称である。これにより、光ファイバのための夫々の受け部表面部分20においては204、部分29においては294が対向配置される。受け部表面294もまた、長手方向の主半分割連通管2940を含み、この主半分割連通管2940は前述の主半分割連通管2040と対称である。この構成により、光ファイバのための通路が、軸Aに平行でありかつ円形断面を有する円筒状の主連通管Cとして画定される。該主連通管Cは冷却装置2の中心に位置し、2つの主半分割連通管2040及び2940により形成される。主連通管は、該連通管内にて光ファイバを冷却するために、光ファイバを該連通管内で循環させる目的において形成されるものである。したがって、主連通管の直径は光ファイバの直径より大きい必要があり、好ましくは光ファイバの直径が125μmである場合5~20mmである。光ファイバの受け部表面204は、主半分割連通管2040の両側に配置され、かつ該主半分割連通管と平行に配置された2つの第2の長手方向溝2042及び2044を更に含む。これらの第2の溝2042及び2044は、受け部表面294上に対向配置された、該第2の溝2042及び2044の対称物とともに、シール207a及び207bを受け部するように構成され、受け部表面204及び294が当接すると、主連通管Cの外周と、冷却装置の外側のうち表面201、202及び203及びもう一方の部分29における、該表面201、202及び203の対称相当物との間を密封することができる。尚、主連通管は両端が開放状態の連通管であるため、主連通管Cの入口及び出口が配置される表面205及び206及びもう一方の部分29における、該表面205及び206の対称相当物は密閉されない。図2cを参照すると、シール207aは及びシール207bも同様に、円形断面及び長手方向突起2072を有する円筒状部分2070を含む。長手方向突起2072は円筒状部分2070の外表面に対して垂直に延在し、長手方向突起2072の主軸は、円筒状部分2070の主軸と平行である。この長手方向突起2072は、好ましくは長方形板状であり、該長方形板の長い側が円筒状部分2070と当接する。長手方向突起2072はさらに、該長手方向突起2072における互いに反対側にある2つの表面上に配置された複数のフィン2073を含む。図2a及び図2bを再び参照すると、シール207aは長手方向突起2072の位置において第2の溝2042に挿入されている。該第2の溝2042は狭い幅好ましくは3.8mm及び長手方向突起2072の高さ好ましくは6mmよりも大きい奥行き好ましくは8mmを有する。長手方向突起2072のフィン2073が第2の溝2042の壁と当接することにより、シール207aが第2の溝2042の位置に固定される。部分29の受け部表面294における第2の溝2942は、第2の溝2042と対向しており、好ましくは対向する該第2の溝2042よりも浅い奥行きを有するが、一方で該第2の溝2042よりも広い幅を有する。第2の溝2942は、部分20の受け部表面204における第2の溝2044と同形状を有する。したがって、受け部表面204と294が当接した時、第2の溝2042から突出しているシール207aの円筒状部分2070は、第2の溝2942内で圧縮される。この圧縮中に、シール207aの円筒状部分2070は第2の溝2942の輪郭形状に沿って変形する傾向があるため、前述したように冷却装置の外側との間に密閉状態が形成される。好ましくは、第2の溝2044及び2944夫々受け部表面204及び294に含まれ、互いに対向するよう配置されるは、第2の溝2042及び2942の反転相当物である。この構成によりシール207bが長手方向突起2072の位置において第2の溝2944に挿入され、該シール207bの円筒状部分2070が受け部表面204における第2の溝2044内で圧縮される。したがって、受け部表面204と294との当接表面に対するブロックEとブロックE ́との対称性は、互いに対向配置された第2の溝の形状に関しては適用されない。好ましくは、表面201、202及び203及びもう一方の部分29における、該表面201、202及び203の対称相当物は絶縁層211によってコーティングされている。この絶縁体により、水滴をともなう結露が装置の外表面に生じるのを防ぐことができる。こうした水滴が何らかの部材に滴下した場合、あるいは該水滴が光ファイバと接触した場合、水滴と接触した部材または光ファイバの劣化を引き起こすおそれがあるため、一般的には該水滴の発生を防ぐのが望ましい。また、好ましくは、受け部表面204及び294の夫々の半分割連通管は、加熱炉を出た光ファイバから発せられる放射線を吸収するための放射線吸収層204でコーティングされている。該コーティングは、例として黒色陽極酸化処理により行われる。放射線を光ファイバに対して反射させることなく吸収することにより、光ファイバの冷却が改善される。装置の形成にアルミニウム製のブロックを用いることにより、黒色陽極酸化処理を容易な方法、例えばこれらのブロックを適切な電解槽に浸す方法により行うことができるという格別の利点が生じる。本発明の主な1特徴によると、冷却装置の主半分割連通管2040は、該半分割連通管2040に沿って分布配置された複数の開口2046を含む。該装置はさらに、複数の開口2046と流体連通する、熱交換流体のための入口208を含む。好ましくは、開口2046は5~200mmの間隔をもって互いに離間しており、0.2~2mmの直径を有する。開口は、特に同一間隔をもって離間しているか、あるいは逆に開口間の間隔は可変であるように規定される。図3及び図4を参照すると、装置の部分20を成すブロックEは、主半分割連通管2040と平行に位置する第2の管209を含む。主半分割連通管2040と第2の管209とは、夫々主半分割連通管2040の開口2046に接続した複数の通路2092によって接続されている。第2の管209は、該第2の管209の主軸がブロックEの主軸Aと一致するように配置される。第2の管209は円形断面を有する円筒状に形成され、6~20mmの直径、好ましくは13mmの直径を有する。通路2092は、好ましくは軸Aに対して垂直であり、主半分割連通管2040の正中面に配置される。ブロックEはまた、熱交換流体のための少なくとも1の入口208を含む。入口208は、軸Aに対して垂直な通路2094を介して第2の管209と流体連通している。入口208はしたがって、複数の開口2046とも流体連通している。入口208には、図2aに示すように空気圧式の接続部材が設けられる。好ましくは、ブロックEは、第2の管209の2つの端部に配置された2つの入口208a及び208bを含む。したがって、第2の管209は、複数の開口2046のための、熱交換流体分配チャンバを成す。分配チャンバを成す第2の管209の内部にまず流体が注入されるということは、すなわちすべての開口2046に対して並行して流体が注入可能であることを意味する。したがって、流体が主連通管の長さ全体に亘って光ファイバと接触し、これにより流体と光ファイバとの熱交換表面が増大する。第2の管209の直径を分子、複数の開口2046の直径を分母とする比率は、分配チャンバ効果を発揮可能な比率であり、好ましくは3~300の比率である。第2の管及び開口の相対的寸法により、光ファイバに対してヘリウムを均一かつ連続的に分布することのできる分布チャンバの形成が可能となり、また夫々の開口における流速が同一となる。さらに、この夫々の開口における流速は、ヘリウムの供給速度に影響を受けることがない。ブロックEはまた、軸Aに平行かつ第2の管209の両側に位置するダクト210a及び210bを含む。この構成により、第2の管209の主軸と、ダクト210a及び210bの主軸とが、軸Aを含むとともに受け部表面204と平行な同一の平面に含まれる。ダクト210a及び210bは、好ましくは第2の管209と同一の形状及び直径を有する。尚、異なる部材同士を区別するために夫々別の用語を用いてはいるものの、管とダクトは類似の技術的意義を示すものである。ダクト210a及び210bは、該ダクト210a及び210bを通過する熱交換流体例えば冷却水を用いてブロックEの冷却を行う冷却回路として用いられる。有利には、2つのダクトは、夫々のダクトの一端においてチャンネル部材により接続されており、それにより熱交換流体の入口及び出口がブロックEの同一表面上に配置される。図2aに示すように、ダクト210a及び210bには接続部材も設けられている。好ましくは、部分29のブロックE ́もまた第2の管及び冷却ダクトを含み、該ブロックE ́における該第2の管及び該冷却ダクトは、前述の部分20のブロックEにおける第2の管及び冷却ダクトと、受け部表面204及び294の当接面に対して対称である。装置の製造に非中空のブロックを使用することにより、特に熱応力等の様々な応力に起因する変形を抑えることが可能となる。この構成は、流体循環管を形成するように配置された1組の平板から構成されるシステムと比較すると特に有利である。図7を参照すると、本発明の1実施形態による冷却装置の製造方法は、以下の工程を含むことが分かる。a.工程701ブロックEを熱伝導性材料、好ましくは7075アルミニウム合金で形成する工程。ブロックEは、少なくとも1の平坦な受け部表面204を含む。b.工程702ブロックEの平坦な受け部表面204上に、例えば球状の掘削器具を用いて主半分割連通管2040を形成する工程。c.工程703ブロックEに第2の管209を貫設あるいは穿設する工程。d.工程704ブロックEにおける第2の管209と主半分割連通管2040との間に、複数の通路2092を貫設あるいは穿設する工程。e.工程705第2の管209のための少なくとも1の入口208を穿設する工程。f.工程706ブロックEに2つの冷却ダクト210a及び210bを貫設あるいは穿設する工程。g.工程707受け部表面204の主半分割連通管2040の両側に、2つの第2の溝2042及び2044を形成する工程。h.工程708第2の管209の両端を密閉し、少なくとも1の入口208と、複数の開口2046との間に密閉流体回路を形成する工程。i.工程709必要に応じて、入口208、冷却ダクト210a及び210bに接続部材を配置する工程。j.工程710ブロックEにおいて、主半分割連通管2040が設けられた受け部表面204以外の少なくとも1の表面上に、絶縁層を配置する工程。k.工程711第2のブロックE ́を設け、該ブロックE ́に対して、少なくとも前記工程bを、好ましくは前記工程b~jすべてを行う工程。l.工程7122つのブロックE及びE ́を、該ブロックE及びE ́夫々の受け部表面204及び294を介して当接させ、組み合わせた該ブロックE及びE ́の2つの主半分割連通管2040及び2940夫々により主連通管を形成する工程。非中空の夫々のブロックに形成される夫々の管、ダクト及び開口は、好ましくは穿孔によって形成穿設される。この製造技術を用いることにより、応力の集中により装置に損傷を与える可能性がある非対称性を排除した、完全な円状の管を形成することが可能となる。加えて、穿孔技術により得られた円状の管の内表面は、押出成形された管と比較して、より少ない欠陥を有する。この特徴により、ヘリウムを供給する第2の管内におけるヘリウム乱流システムの発生を促進することができる。図5a及び図5bを参照すると、ブロックEとブロックE ́との当接工程712が、以下の方法で行われることが分かる。互いに対向する受け部表面204及び294を夫々含むブロックE及びE ́は、円筒状のアーム3a及び3b夫々に配置される。2つの円筒状のアームが同一のフレーム3cに配置される。該構成により、円筒状のアーム3a及び3bが延長位置にある場合、2つのブロックE及びE ́は並進することにより、該ブロックE及びE ́夫々の平坦な受け部表面204及び294を介して互いに当接する。この当接により、組み合わせたブロックE及びE ́における2つの主半分割連通管2040及び2940夫々が主連通管を形成する。円筒状のアーム3a及び3bが後退位置にある場合には、2つのブロックブロックE及びE ́は並進することにより、2つの光ファイバ受け部表面204及び294の平行状態を維持したまま互いに離間する。また、受け部表面204及び294を滑らかに形成することにより、該受け部表面の清掃が容易となる。上記以外の他の当接方法、例えば、1の受け部表面をもう一方の受け部表面に対して相対回転させる方法、あるいは回転及び並進を組み合わせた方法等を適用することも可能であることは明らかである。図6を参照すると、光ファイバ13を製造するためのタワーTは、光ファイバの出現元である加熱炉不図示の下流に冷却領域Zを有する。該冷却領域Zは、例えば前述したような冷却装置を3つ1、1 ́及び1 ́ ́含む。光ファイバは夫々の冷却装置1、1 ́及び1 ́ ́の主連通管内を循環することにより、冷却される。再度図4を参照すると、光ファイバが矢印Fの方向に主連通管内を循環する時、ヘリウムHヘリウムHの流路は黒色の矢印で示されているが入口208から注入され、第2の管209を介して主連通管のすべての開口2046へと分配される。開口2046を主連通管に沿って互いに離間して配置することにより、ヘリウムHは乱流システム内に直ちに投じられた後、光ファイバの数箇所と同時に熱的に接触する。ヘリウム乱流システム、及び複数の開口へのヘリウムの同時注入により、低温ヘリウムと光ファイバとの間の熱交換表面が増大する。この構成により、従来技術の装置と比較してより効率的に光ファイバの冷却を行うことができる。さらに、ブロックE及びE ́を熱伝導性材料で構成すること、及び主連通管をシール207a及び207bにより密閉することにより、ヘリウムは開口2046以外の場所からは流出せず、したがってヘリウムを効率的に使用することができる。特に黒色陽極酸化処理によって主連通管に放射線吸収層を設けることにより、加熱炉を出た後の光ファイバが発する放射線を吸収することができる。それに加えて、装置を形成するブロックE及びE ́の材料によって収集された熱エネルギーは、冷却水等の熱交換流体が内部を循環する冷却ダクトを介して、除去可能である。尚、行われた研究により、以下のデータが得られた。-冷却領域に入る時点での光ファイバ13の温度は、1000°Cである。-冷却領域を出る時点での光ファイバの温度は、35~50°Cである。-光ファイバの直径は、125μmである。-冷却水の吸入時温度は、15~18°Cである。-冷却領域における冷却装置の数は、2~3である。-冷却装置のブロックの長さは、2600~3000mmである。-冷却装置のブロックは、黒色陽極酸化処理された7075アルミニウム合金である。