気相成膜法を用いて撥液膜を形成するノズルプレートの製造方法であって、第1撥液剤を用いて前記ノズルプレートに前記撥液膜を成膜する第1成膜工程と、分子鎖長が前記第1撥液剤より短い第2撥液剤を用いて前記ノズルプレートに前記撥液膜を成膜する第2成膜工程と、を有し、前記第1成膜工程の後に前記第2成膜工程が行われることを特徴とするノズルプレートの製造方法。請求項1に記載のノズルプレートの製造方法において、前記第1撥液剤及び前記第2撥液剤は少なくとも一つのメトキシ基を有する金属アルコキシドであることを特徴とするノズルプレートの製造方法。インクを噴出するノズルが配置されたノズルプレートを備える液体噴出ヘッドであって、前記ノズルプレートは請求項1または請求項2に記載のノズルプレートであることを特徴とする液体噴出ヘッド。従来の溶液浸漬による成膜方法では、ノズルプレートの表面上で撥液剤の物理的な結合を恒温恒湿環境及び焼成過程を経ることにより、例えば、脱水縮重合反応のような反応をさせて化学的な結合へと変化させていた。従って、ノズルプレートの表面上の反応基と撥液剤の反応基の配置によっては化学的な結合へと変化することができない未反応剤が数多く存在することになる。また、撥液剤が局所的に集合して成膜される傾向があり、ノズルプレート表面に一様に成膜することができない。膜が一様でないとき、撥液膜の一部が欠損する場所が形成され、耐久性の悪化へと繋がる。そこで、高密度で高耐久性能を有する撥液膜を形成する方法が望まれていた。本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。[適用例1]本適用例に係るノズルプレートの製造方法は、気相成膜法を用いて撥液膜を形成するノズルプレートの製造方法であって、第1撥液剤を用いて前記ノズルプレートに前記撥液膜を成膜する第1成膜工程と、分子鎖長が前記第1撥液剤より短い第2撥液剤を用いて前記ノズルプレートに前記撥液膜を成膜する第2成膜工程と、を有し、前記第1成膜工程の後に前記第2成膜工程が行われることを特徴とする。本適用例によれば、第1成膜工程において第1撥液剤を用いて前記ノズルプレートに前記撥液膜を成膜する。次に、第2成膜工程において、第2撥液剤を用いて前記ノズルプレートに前記撥液膜を成膜する。第1成膜工程で用いられる第1撥液剤と比較して、第2成膜工程で用いられる第2撥液剤は分子鎖長が短くなっている。さらに、気相成膜法により、第1成膜工程、第2成膜工程の順に成膜している。第1成膜工程において成膜された撥液膜には、成膜されない場所が発生する可能性がある。ところで、第2成膜工程では、第1撥液剤に比べて分子鎖長の短い第2撥液剤を用いている。従って、第2撥液剤は、第1成膜工程で成膜された第1撥液剤による撥液膜の分子鎖群を通過して、ノズルプレートの表面上の未反応基へ到達することができるようになる。これにより、ノズルプレートの表面上では第1撥液剤により成膜された撥液膜に加え、第2撥液剤により成膜された撥液膜に覆われる。その結果、溶液浸漬による成膜法に比べ、より高密度で高耐久性能を有する撥液膜を形成することができる。[適用例2]上記適用例に記載のノズルプレートの製造方法において、前記第1撥液剤及び前記第2撥液剤は少なくとも一つのメトキシ基を有する金属アルコキシドであることを特徴とする。本適用例によれば、第1撥液剤及び第2撥液剤にはメトキシ基を含むものを用いている。このため、大気中の水との脱アルコール反応により水酸基に変化する。そして、ノズルプレート表面上の活性水酸基と金属アルコキシドの脱水反応によって撥液剤がノズルプレートに成膜される。従って、ノズルプレートを損傷する化学反応が生じない為、品質良くノズルプレートに撥液膜を成膜させることができる。[適用例3]本適用例に係る液体噴出ヘッドは、インクを噴出するノズルが配置されたノズルプレートを備える液体噴出ヘッドであって、前記ノズルプレートは上記記載のノズルプレートであることを特徴とする。本適用例によれば、前記液体噴出ヘッドは高耐久性能を備えたノズルプレートを有するため、撥液膜の劣化によるノズルへのインク詰まりを避けることができる。これによって、液体噴出ヘッドのクリーニング回数を減らすことが可能となる。以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。尚、以上の各図においては、各層や各部材を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部材の尺度を実際とは異ならせしめている。実施形態1本実施形態では、液体噴出ヘッドと液体噴出ヘッドが備えるノズルプレートにおける撥液膜の成膜方法との例について、図1~図5に従って説明する。まず、液体噴出ヘッドの概略構成について説明する。図1は液体噴出ヘッドの構成を示す模式正面図である。図1に示すように、液体噴出ヘッドとしてのインクジェットプリンターヘッド10は、液体噴出ヘッド液体噴出装置の一部の一例であって、ノズル噴出口からインクを液滴にしたインク滴を噴出する。インクジェットプリンターヘッド10にはインクをヘッド内部へ導入するインク導入口12が設けられている。このインク導入口12はインク溜り14と接続しており、このインク溜り14においてインクを溜めるように形成されている。また、インク溜り14は圧力室16と連通しており、圧力室16のインク噴出側はノズルプレート18に設けられたノズルとしてのインク噴出口20と接続している。圧力室16の壁面の一部には圧力が加えられる構成となっている。この構成は、例えば、圧力室16の壁面の一部を振動板15で形成するとともに、その外側に励振電極17圧電素子を設ける。そして励振電極17に電圧を印加すると、励振電極17が変形する。そして、励振電極17が変形する力により振動板15が変形して、圧力室の内圧が変化する。この内圧の変化によりインクがインク滴となってインク噴出口20より噴出される。ノズルプレート18の材質は剛性があれば良く、特に限定されない。ノズルプレート18の材質には金属、セラミック、ガラス、硬質樹脂等各種の材質を用いることができる。本実施の形態では、例えば、ノズルプレート18にステンレス鋼SUS316を用いた。このノズルプレート18の表面及びインク噴出口20の内部表面には、撥液剤を用いて成膜した撥液膜としての金属アルコキシドの分子膜24が設置されている。金属アルコキシドの分子膜24の下地膜にはシリコーン材料をプラズマ重合して成膜されたプラズマ重合膜22が設置されている。図2は撥液膜の構成を説明するための模式図である。次に、図2を用いて撥液膜の組成を説明する。図2aに示すように、撥液膜としての金属アルコキシドの分子膜24はフッ素を含む長鎖高分子基を有する金属アルコキシドの撥液膜である。金属アルコキシドとしては、例えばTi、Li、Si、Na、K、Mg、Ca、St、Ba、Al、In、Ge、Bi、Fe、Cu、Y、Zr、Ta等を金属種に使用する様々なものがある。この中で、金属アルコキシドの金属種にはケイ素、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等が一般的に用いられている。本実施形態では、金属アルコキシドの金属種には、例えば、ケイ素を用いた物を使用している。好ましくはフッ素を含む長鎖高分子基を有するアルコキシシランがよい。長鎖高分子基は、分子量が1000以上であり、例えば、パーフルオロアルキル鎖、パーフルオポリエーテル鎖等が挙げられる。この長鎖高分子基を有するアルコキシシランとしては、例えば、長鎖高分子基を有するシランカップリング剤等が挙げられる。本実施形態の撥液剤として適している長鎖高分子基を有するシランカップリング剤としては、例えば、ヘプタトリアコンタフルオロイコシルトリメトキシシラン等が挙げられ、製品としてはKY-108商標、信越化学工業社製、KY-130商標、信越化学工業社製が挙げられる。フッ化炭素基はアルキル基より表面自由エネルギーが小さい。このため、金属アルコキシドにフッ化炭素基を含有させることにより、形成する撥液膜の撥液性を向上させることができる。さらに撥液膜は耐薬品性、耐候性、耐摩擦性等の特性も向上させることができる。本実施形態では、第1撥液剤25と第2撥液剤26とに、フッ素を含む長鎖高分子基を有するアルコキシシランを用い、かつ少なくとも1つのメトキシ基を有し、第1撥液剤25の長鎖高分子基が第2撥液剤26の長鎖高分子基よりも長いものを選定する。本実施形態に適した一例として、第1撥液剤25にKY-130商標、信越化学工業社製を用い、第2撥液剤26にKY-108商標、信越化学工業社製を用いた場合に形成される撥液膜の概要を表したものを図2bに示す。このとき、第1撥液剤25としてのKY-130商標、信越化学工業社製は両端にメトキシ基を持つと考えられ、第1撥液剤25としてのKY-130商標、信越化学工業社製と第2撥液剤26としてのKY-108商標、信越化学工業社製とが酸素を介して結合している。図2aの場合と比較すると、第2撥液剤26としてのKY-108商標、信越化学工業社製がノズルプレート18の最表面を被膜している分だけ、膜厚が大きくなり、耐久性によい影響を与えている可能性がある。図3は、気相成膜装置の概略構成図である。次に、図3を用いて気相成膜装置の構成を説明する。本実施形態では気相成膜法としてCVDChemicalVaporDeposion成膜法を用いた。この気相成膜装置としてのCVD装置35は高温減圧下で撥液剤の雰囲気を作り出すために、減圧ポンプ30と第1チャンバー27を備える。成膜対象となるノズルプレート18は第1チャンバー27内に配置される。第1チャンバー27には加熱装置が設置されている。また、CVD装置35は、第1撥液剤25を気化させるための第2チャンバー28と、気化された第1撥液剤を第1チャンバー27に供給するための撥液剤供給管31とを備える。同様に、CVD装置35は、第2撥液剤26を気化させるための第3チャンバー29と、気化された第2撥液剤を第1チャンバー27に供給するための撥液剤供給管32とを備える。撥液剤供給管31及び撥液剤供給管32には弁が設置され、撥液剤供給管31及び撥液剤供給管32を通過する気体の流動を制御可能になっている。減圧ポンプ30は第2チャンバー28及び第3チャンバー29と配管を介して接続されている。そして、減圧ポンプ30は第2チャンバー28及び第3チャンバー29を減圧する。さらに、第1チャンバー27の雰囲気を排気するための排気ポンプ33を備える。第2チャンバー28及び第3チャンバー29にも加熱装置が設置され、雰囲気を高温に維持することができる。減圧ポンプ30が第1チャンバー27、第2チャンバー28、第3チャンバー29内を減圧する。第1チャンバー27、第2チャンバー28、第3チャンバー29は加熱装置により加熱される。これにより、第2チャンバー28では第1撥液剤25の雰囲気が形成され、第3チャンバー29では第2撥液剤26の雰囲気が形成される。そして、撥液剤供給管31及び撥液剤供給管32の弁を開閉することにより、第1撥液剤25の雰囲気または第2撥液剤26の雰囲気を第1チャンバー27に供給することができる。排気ポンプ33は第1チャンバー27内の気体を排気する。従って、弁の開閉と排気ポンプ33とを制御することにより、第1チャンバー27内の雰囲気を制御することが可能になっている。図4は、撥液膜製造工程を示すフローチャートである。次に、図4を用いて、撥液膜製造工程フローを説明する。まず、ステップS1において、第1チャンバー27と第2チャンバー28をつなぐ撥液剤供給管31の弁を開く。これにより、第1撥液剤25の雰囲気が第1チャンバー27に流入する。次にステップS2において、第1チャンバー27と第2チャンバー28とをそれぞれ加熱装置が加熱し、減圧ポンプ30が減圧する。減圧条件及び温度条件は、本実施形態では例えば、温度は200°C以上400°C以下とし、圧力は100Pa以下とする。その後、加熱、減圧状態を保持し、第1撥液剤25の反応基とノズルプレート18表面上の活性水酸基とを化学結合させる。反応時間は、本実施形態では例えば、加熱、減圧状態保持時間を30分から5時間の範囲とした。次に、ステップS3において、撥液剤供給管31の弁を閉じる。続いて、ステップS4において、排気ポンプ33が第1チャンバー27内の第1撥液剤25の雰囲気を排気する。ステップS1からステップS4までのステップを第1成膜工程とする。次に、ステップS5において、第1チャンバー27と第3チャンバー29をつなぐ撥液剤供給管32の弁を開く。その後、ステップS6において、第1チャンバー27と第3チャンバー29とをそれぞれ加熱装置が加熱し、減圧ポンプ30が減圧する。減圧条件及び温度条件は、本実施形態では例えば、温度は200°C以上400°C以下とし、圧力は100Pa以下とする。加熱、減圧状態を保持し、第2撥液剤26の反応基とノズルプレート18表面上の活性水酸基とを化学結合させる。反応時間は、本実施形態では例えば、加熱、減圧状態保持時間を30分から5時間の範囲とした。次に、ステップS7において、撥液剤供給管32の弁を閉じる。続いて、ステップS8において、排気ポンプ33により第1チャンバー27内の第2撥液剤26の雰囲気を排気する。ステップS5からステップS8までのステップを第2成膜工程とする。以上のステップにより撥液膜製造工程が終了する。図5は、撥液膜製造工程を説明するための模式図である。次に、図5を用いて、撥液膜の製造工程を説明する。図5aはステップS1以前において、第1チャンバー27に設置されたノズルプレート18を示す図である。図5aに示すように、ノズルプレート18の表面上には活性水酸基34が結合している状態となっている。活性水酸基34はプラズマ重合膜22に設置される。プラズマ重合膜22に活性水酸基34を設置する方法は公知であり、一例を簡単に説明する。加熱して気化したシリコーンをアルゴンプラズマ環境にて重合反応させ、ノズルプレート18の表面にプラズマ重合膜22を成膜する。次に、窒素雰囲気中にてアニールする。続いて、プラズマ重合膜22の表面をプラズマによりエッチングする。次に、プラズマ重合膜22を大気に曝すことにより、プラズマ重合膜22の表面にて終端する酸素原子に水素原子を結合させて活性水酸基34を形成する。このノズルプレート18を第1チャンバー27内に配置し、ステップS1~ステップS4を行う。つまり、気相成膜法としてのCVD成膜法を用いて第1撥液剤25における長鎖高分子基を有するシランカップリング剤と、ノズルプレート18表面上の活性水酸基34を化学結合させる。その結果、図5bに示すようにノズルプレート18に金属アルコキシドの分子膜24が形成される。この状態では金属アルコキシドの分子膜24は第1撥液剤25によって形成された膜となっている。このとき、ノズルプレート18表面上には一部の活性水酸基34が残留した状態となっている。その後、ステップS5~ステップS8を行う。そして、ノズルプレート18表面上に残留した活性水酸基34と第2撥液剤26における長鎖高分子基を有するシランカップリング剤とを、気相成膜法としてのCVD成膜法を用いて化学結合させる。その結果、図5cに示すように、ノズルプレート18に金属アルコキシドの分子膜24が形成される。この状態では金属アルコキシドの分子膜24は第1撥液剤25によって形成された金属アルコキシドの分子膜24に加え、第2撥液剤26によって形成された金属アルコキシドの分子膜24が混在した膜となっている。第2撥液剤26における長鎖高分子基は第1撥液剤25における長鎖高分子基より短い長鎖高分子基となっている。これにより、第2撥液剤26の長鎖高分子基は第1撥液剤25によって成膜された膜を通過して活性水酸基34と化学結合することが可能となっている。以上のステップにより撥液膜製造工程が終了する。上述したように、本実施形態に係るノズルプレート18によれば、以下の効果を得ることができる。1本実施形態によれば、気相成膜法としてのCVD成膜法を用いている。CVD成膜法はノズルプレート18の表面上の活性水酸基34と撥液剤との化学反応による結合を前提としており、化学反応できなかった撥液剤は再気化する。従って、ノズルプレート18の表面上の活性水酸基34と撥液剤とにおける未反応剤は溶液浸漬による成膜方法よりも減らすことができる。尚、未反応剤は反応基の配置によっては化学的な結合へと変化することができない撥液剤を示す。2本実施形態によれば、第1撥液剤25を用いて金属アルコキシドの分子膜24を成膜する第1成膜工程に加え、第1撥液剤25よりも分子鎖の短い第2撥液剤26を用いて金属アルコキシドの分子膜24を成膜する第2成膜工程を行っている。これにより、ノズルプレート18の表面上の未反応活性水酸基をより減少させることができる。なぜなら、分子鎖の短い第2撥液剤26は、第1成膜工程で成膜された第1撥液剤25による金属アルコキシドの分子膜24の分子鎖群を通過して、ノズルプレート18の表面上の未反応基へ到達することができる。これにより、ノズルプレート18の表面上では第1撥液剤25により成膜された金属アルコキシドの分子膜24に加え、第2撥液剤26により成膜された金属アルコキシドの分子膜24に覆われる。その結果、溶液浸漬による成膜法に比べ、より高密度で高耐久性能を有する金属アルコキシドの分子膜24を形成することができる。3本実施形態によれば、第1撥液剤25及び第2撥液剤26にはメトキシ基を含むものを選定しているため、化学反応する際に生じるアルコールによってノズルプレート18を損傷させることを防止することができる。