"連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ第1化合物の重合体と、下記一般式AAで表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物、下記一般式BBで表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、脂肪酸エステル、多価アルコールエステル、及び多価アルコールエーテルから選択される少なくとも1種の第2化合物と、を含んで構成される機能層を有する電子写真感光体。一般式AA及びBB中、Raは、水素原子、又はアルキル基を表す。Rbは、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。A及びBは、それぞれ独立に炭素数1以上20以下のアルキレン基を表す。前記第2化合物は、25°C、1気圧下において液状の化合物である請求項1に記載の電子写真感光体。前記機能層が、最表面層である請求項1又は2に記載の電子写真感光体。前記第1化合物が、一分子内に前記連鎖重合性官能基を2つ以上持つ化合物である請求項1~3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。前記第1化合物が、下記一般式Iで表される化合物である請求項1~4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。一般式I中、Ar1乃至Ar4は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Dは、炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、c1乃至c5はそれぞれ独立に0、1又は2を表し、kは0又は1を表し、Dの総数は1以上である。前記一般式Iで表される化合物において、Dが、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基を表す請求項5に記載の電子写真感光体。前記機能層が、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含む請求項1~6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。請求項1~7のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。請求項1~7のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備える画像形成装置。本発明の課題は、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生を抑制した電子写真感光体を提供することである。上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、請求項1に係る発明は、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ第1化合物の重合体と、下記一般式AAで表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物、下記一般式BBで表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、脂肪酸エステル、多価アルコールエステル、及び多価アルコールエーテルから選択される少なくとも1種の第2化合物と、を含んで構成される機能層を有する電子写真感光体。一般式AA及びBB中、Raは、水素原子、又はアルキル基を表す。Rbは、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。A及びBは、それぞれ独立に炭素数1以上20以下のアルキレン基を表す。請求項2に係る発明は、前記第2化合物は、25°C、1気圧下において液状の化合物である請求項1に記載の電子写真感光体。請求項3に係る発明は、前記機能層が、最表面層である請求項1又は2に記載の電子写真感光体。請求項4に係る発明は、前記第1化合物が、一分子内に前記連鎖重合性官能基を2つ以上持つ化合物である請求項1~3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。請求項5に係る発明は、前記第1化合物が、下記一般式Iで表される化合物である請求項1~4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。一般式I中、Ar1乃至Ar4は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Dは、炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、c1乃至c5はそれぞれ独立に0、1又は2を表し、kは0又は1を表し、Dの総数は1以上である。請求項6に係る発明は、前記一般式Iで表される化合物において、Dが、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基を表す請求項5に記載の電子写真感光体。請求項7に係る発明は、前記機能層が、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含む請求項1~6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。請求項8に係る発明は、請求項1~7のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。請求項9に係る発明は、請求項1~7のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備える画像形成装置。請求項1に係る発明によれば、上記第1化合物の重合体と上記第2化合物とを含んで構成される機能層を有さない場合に比べ、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。請求項2に係る発明によれば、上記第2化合物が液状の化合物ではない場合い比べ、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。請求項3に係る発明によれば、上記機能層が最表面層ではない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。請求項4に係る発明によれば、上記第1化合物として、一分子内に前記連鎖重合性官能基を2つ以上持つ化合物を適用しない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。請求項5、6に係る発明によれば、上記第1化合物として、上記一般式Iで表される化合物を適用しない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。請求項7に係る発明によれば、上記機能層が熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含まない場合に比べ、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生を抑制した電子写真感光体が提供できる。請求項8、9に係る発明によれば、上記第1化合物の重合体と上記第2化合物とを含んで構成される機能層を有する電子写真感光体を適用しない場合に比べ、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生を抑制した画像が得られるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置が提供できる。電子写真感光体本実施形態に係る電子写真感光体は、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ化合物第1化合物:以下、特定の電荷輸送性材料と称することがあるの重合体と、下記一般式AAで表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物、下記一般式BBで表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、脂肪酸エステル、多価アルコールエステル、及び多価アルコールエーテルから選択される少なくとも1種の化合物第2化合物:以下、特定のエステルエーテル化合物と称することがあると、を含んで構成される機能層を有する電子写真感光体である。ここで、特定の電荷輸送性材料の重合体を用いた層は、機械的強度が高いものの、これを電子写真感光体に適用すると、電気特性の悪化、特に、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生が生じることがある。そこで、本実施形態に係る電子写真感光体では、上記機能層を有することで、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生が抑制される。この理由は定かではないが、以下のように推測される。特定の電荷輸送性材料を重合させる過程においては、開始剤から発生するカチオン、アニオン、ラジカルや、刺激例えば熱、電子線、光等により連鎖重合性官能基を攻撃し、連鎖重合を開始することが知られている。その際に、少なからず、開始剤から発生するカチオン、アニオン、ラジカルや、刺激例えば熱、電子線、光等により、電荷輸送性材料における電荷輸送性の部位電荷輸送性骨格も攻撃を受け、これにより電気特性の悪化を招いていていたり、連鎖重合反応の際に分子運動が制限されるため重合不良が生じていたりするものと考えられる。これを抑制するには、前述の刺激を温和な条件にすれば解決されるが、温和な条件にすると、連鎖重合反応の際の分子運動が制限されるため、重合反応が進行し難く、膜強度が得られないことがある。これに対して、本実施形態の如く、特定の電荷輸送性材料と共に上記特定のエステルエーテル化合物を併用すると、第2化合物が可塑剤の如く役割を担うためか、特定の電荷輸送性材料の連鎖重合反応の際に生じる分子運動の制限が抑制され、また、理由は定かではないが、連鎖重合反応時において、開始剤から発生するカチオン、アニオン、ラジカルや、刺激例えば熱、電子線、光等が、選択的に連鎖重合性官能基を攻撃し連鎖重合を開始することにより、特定の電荷輸送性材料における電荷輸送性の部位電荷輸送性骨格への攻撃が抑制され、電荷輸送性を損なうことなく、強度に優れた硬化膜が形成されると考えられる。その結果、本実施形態に係る電子写真感光体では、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生が抑制されると考えられる。また、これらの結果、上記機能層は機械的強度が高く、当該機能層を最表面層として有すると、機械的強度も高く、長期に亘る繰り返し使用による電気特性及び画像特性の劣化が抑制される、つまり、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生が抑制されると考えられる。また、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置では、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生を抑制した画像が得られる。そして、安定した画像が得られる。本実施形態に係る電子写真感光体では、前述の通り、上記機能層を有するもので、当該機能層は、最表面層、又は最表面層以外の層のいずれであってもよいが、機械的強度が高く、繰り返し使用による、前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストの発生を抑制する観点から、最表面層であることがよい。ここで、最表面層は、電子写真感光体自体の最上面を形成しているものであり、特に保護層として機能する層、又は、電荷輸送層として機能する層として設けられることが望ましい。最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、及び最表面層として保護層を有し、該保護層が上記機能層で構成される形態が挙げられる。一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が上記機能層で構成される形態が挙げられる。なお、上記機能層が最表面層以外の層を構成する場合、導電性基体上に、電荷発生層及び最表面層を含む感光層と共に、感光層上に最表面層として保護層を有し、該電荷輸送層が上記機能層で構成される形態が挙げられる。以下、上記機能層が最表面層である保護層として機能する層の場合の、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。図1は、実施形態に係る電子写真用感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図2乃至図3はそれぞれ他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。図1に示す電子写真感光体7Aは、いわゆる機能分離型感光体又は積層型感光体であり、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に電荷発生層2、電荷輸送層3、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Aにおいては、電荷発生層2及び電荷輸送層3により感光層が構成されている。図2に示す電子写真感光体7Bは、図1に示す電子写真感光体7Aと同様に電荷発生層2と電荷輸送層3とに機能が分離された機能分離型感光体である。また、図3に示す電子写真感光体7Cは、電荷発生材料と電荷輸送性材料とを同一の層単層型感光層6電荷発生/電荷輸送層に含有するものである。図2に示す電子写真感光体7Bにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に、電荷輸送層3、電荷発生層2、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Bにおいては、電荷輸送層3及び電荷発生層2により感光層が構成されている。また、図3に示す電子写真感光体7Cにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に単層型感光層6、保護層5が順次形成された構造を有するものである。そして、上記図1乃至図3に示す電子写真感光体7A乃至7Cにおいて、保護層5が、導電性基体2から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記機能層で構成された構成となっている。なお、図1乃至図3に示す電子写真感光体において、下引層1は設けてもよいし、設けなくてもよい。以下、代表例として図1に示す電子写真感光体7Aに基づいて、各要素について説明する。導電性基体導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウムITO等の膜を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。なお、導電性基体は、例えば体積抵抗率が107Ωcm未満の導電性を有するものがよい。導電性基体として金属パイプを用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。下引層下引層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。下引層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。下引層に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが望ましく用いられる。下引層には、シリコン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で設定される。下引層には、表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチルPMMA樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等が用いられる。ここで、下引層の構成として、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成が挙げられる。なお、導電性粒子は、例えば体積抵抗率が107Ωcm未満の導電性を有するものがよい。導電性粒子としては、例えば、金属粒子アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子、導電性金属酸化物粒子酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子、導電性物質粒子カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子が好適である。導電性粒子は、2種以上混合して用いてもよい。また、導電性粒子は、疎水化処理剤例えばカップリング剤等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量以上80質量以下であることが望ましく、より望ましくは40質量以上80質量以下である。下引層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引層形成用塗布液が使用される。また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液-液衝突や液-壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。下引層の膜厚は、15μm以上が望ましく、20μm以上50μm以下がより望ましい。ここで、図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウム若しくはケイ素を含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど点から好適である。中間層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。なお、中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロッキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こすことがある。したがって、中間層を形成する場合には、0.1μm以上3μm以下の膜厚範囲に設定することがよい。また、この場合の中間層を下引層として使用してもよい。電荷発生層電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。かかる電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも7.4 ゚、16.6 ゚、25.5 ゚及び28.3 ゚に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも7.7 ゚、9.3 ゚、16.9 ゚、17.5 ゚、22.4 ゚及び28.8 ゚に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも7.5 ゚、9.9 ゚、12.5 ゚、16.3 ゚、18.6 ゚、25.1 ゚及び28.3 ゚に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも9.6 ゚、24.1 ゚及び27.2 ゚に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は2種以上を混合して用いてもよい。電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプあるいはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル-スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン-アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ-N-ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば10:1乃至1:10の範囲が望ましい。電荷発生層の形成の際には、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。電荷発生層形成用塗布液中に粒子例えば電荷発生材料を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液-液衝突や液-壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。電荷発生層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。電荷発生層の膜厚は、望ましくは0.01μm以上5μm以下、より望ましくは0.05μm以上2.0μm以下の範囲に設定される。電荷輸送層電荷輸送層は、電荷輸送性材料と、必要に応じて結着樹脂と、を含んで構成される。電荷輸送性材料としては、例えば、2,5-ビスp-ジエチルアミノフェニル-1,3,4-オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5-トリフェニル-ピラゾリン、1-[ピリジル-2]-3-p-ジエチルアミノスチリル-5-p-ジエチルアミノスチリルピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、N,N′-ビス3,4-ジメチルフェニルビフェニル-4-アミン、トリp-メチルフェニルアミニル-4-アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N′-ビス3-メチルフェニル-N,N′-ジフェニルベンジジン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3-4′-ジメチルアミノフェニル-5,6-ジ-4′-メトキシフェニル-1,2,4-トリアジン等の1,2,4-トリアジン誘導体、4-ジエチルアミノベンズアルデヒド-1,1-ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、2-フェニル-4-スチリル-キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6-ヒドロキシ-2,3-ジp-メトキシフェニルベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p-2,2-ジフェニルビニル-N,N-ジフェニルアニリン等のα-スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N-エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロアントラキノン等のキノン系化合物、テトラアノキノジメタン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送性材料は、1種又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。電荷輸送層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプあるいはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル-スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン-アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。なお、電荷輸送性材料と上記結着樹脂との配合比は、例えば10:1乃至1:5が望ましい。電荷輸送層は、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。電荷輸送層形成用塗布液中に粒子例えばフッ素樹脂粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液-液衝突や液-壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。電荷輸送層層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。電荷輸送層の膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上40μm以下の範囲に設定される。保護層保護層は、特定の電荷輸送性材料の重合体、特定のエステルエーテル化合物と、の重合体を含んで構成された機能層である。具体的には、保護層機能層は、例えば、少なくとも特定の電荷輸送性材料と特定のエステルエーテル化合物とを含む電荷輸送性組成物を塗布した後、特定の電荷輸送性材料を重合することで、硬化させた硬化膜からなる機能層である。ここで、本重合体は、他の単量体との共重合体であってもよく、また、未架橋の重合体であっても、架橋された、所謂3次元網目構造を持つ重合体であってもよい。この架橋未架橋は、例えば、特定の電荷輸送性材料の連鎖重合性官能基の数により制御される。具体的には、例えば、連鎖重合性官能基の数が2つの場合には、直鎖状又は未架橋の重合体となり易く但し、必ずしもなる未架橋となるわけではない、連鎖重合性官能基の数が3つ以上の場合には、架橋された重合体となり易い。まず、特定のエステルエーテル化合物について説明する。特定のエステルエーテル化合物は、下記一般式AAで表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物以下一般式AAの化合物と称することがある、下記一般式BBで表される繰り返し単位の少なくとも1種を含み且つ重量平均分子量が10000以下の化合物以下一般式BBの化合物、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、脂肪酸エステル、多価アルコールエステル、及び多価アルコールエーテルから選択される少なくとも1種の化合物が適用される。一般式AA中、Raは、水素原子、又はアルキル基を表す。Rbは、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。一般式BB中、A及びBは、それぞれ独立に炭素数1以上20以下のアルキレン基を表す。ここで、一般式AA中、Raが表すアルキル基は、例えば、その炭素数が1以上50以下のものがよく、望ましくは炭素数が1以上5以下のもの、より望ましくは炭素数が1以上2以下のものである。一般式AA中、Rbが表すアルキル基、又はアリール基は、望ましくは炭素数が1以上50、より望ましくは炭素数が2以上以下20のものである。アルキル基としては、直鎖状、分枝状、環状のいずれであってもよく、具体的には、例えば、直鎖アルキルの例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イコシル基が挙げられ、分岐アルキル基の具体例としては、イソプロピル基、イソブチル基、トリイソブチル基、secブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、tert-ペンチル基、イソヘキシル基、tert-ヘキシル基、イソヘプチル基、tert-ヘプチル基、イソオクチル基、tert-オクチル基、イソトリデシル基、イソセチル基、イソステアリル基が挙げられ、環状のアルキルの具体例としてはシクロヘキシル基等が挙げられる。アリール基としては、具体的には、例えば、置換、もしくは未置換のフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。一般式BB中、A及びBが表すアルキレン基としては、炭素数1以上20以下のものであるが、望ましくは炭素数1以上18以下のもの、より望ましくは炭素数2以上10以下のものであり、直鎖状、分枝状のいずれであってもよく、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基等が挙げられる。一般式AAの化合物について説明する。一般式AAの化合物は、一般式AAで表される繰り返し単位単独の重合体であってもよく、当該繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体であってもよい。但し、一般式AAの化合物が一般式AAで表される繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体の場合、一般式AAで表される繰り返し単位は、少なくとも5質量以上望ましくは10質量以上含むことがよい。無論、一般式AAの化合物は、種類の異なる一般式AAで表される繰り返し単位の共重合体であってもよい。一般式AAで表される繰り返し単位としては、特に、ゴースト発生抑制の観点から、Raが水素原子、又はメチルを表し、Rbが炭素数1以上10以下のアルキル基、又はアリ-ル基を表す繰り返し単位であることがよく、望ましくは、Raが水素原子又はメチルを表し、Rbが炭素数1以上6以下のアルキル基を表す繰り返し単位である。他の繰り返し単位としては、例えば、スチレン、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、マレイン酸エステル、フマル酸、フマル酸エステル等の単量体による繰り返し単位が挙げられる。一般式AAの化合物は、その重量平均分子量Mwが10000以下であるが、望ましくは200以上100000以下のもの、より望ましくは3000以上8000以下のものである。なお、重量平均分子量Mwは、測定対象物のTHFテトラヒドロフラン可溶物を、東ソー株製GPCHLC-8120、東ソー製カラムTSKgelSuperHM-M15cmを使用し、THF溶媒で測定し、単分散ポリスチレン標準試料により作成した分子量校正曲線を使用して算出したものである。以下同様である。一般式AAの化合物として具体的には、以下に示す単量体モノマーの少なくとも1種の重合体が挙げられる。当該単量体モノマーとしては、例えば。イソブチルアクリレート、t-ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2-エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo-フェニルフェノールアクリレート、o-フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等が挙げられる。また、一般式AAの化合物の市販品としては、例えば、ARUFONUP-1000重量平均分子量Mw3000、UP-1020重量平均分子量Mw2000、UP-1021重量平均分子量Mw1600、UP-1080重量平均分子量Mw5000、UP-1110重量平均分子量Mw2500、UP-1170重量平均分子量Mw8000以上東亜合成社製などが挙げられる。一般式BBの化合物について説明する。一般式BBの化合物は、一般式BBで表される繰り返し単位単独の重合体であってもよく、当該繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体であってもよい。但し、一般式BBの化合物が一般式BBで表される繰り返し単位と他の繰り返し単位との共重合体の場合、一般式BBで表される繰り返し単位は、少なくとも5質量以上望ましくは10質量以上含むことがよい。無論、一般式BBの化合物は、種類の異なる一般式BBで表される繰り返し単位の共重合体であってもよい。一般式BBで表される繰り返し単位としては、特に、ゴースト発生抑制の観点から、Aが炭素数1以上20以下の分岐もしくは直鎖のアルキレン基を表し、Bが炭素数1以上20以下の分岐もしくは直鎖のアルキレン基を表す繰り返し単位であることがよく、望ましくは、Aが炭素数1以上10以下の分岐もしくは直鎖のアルキレン基を表し、Bが炭素数1以上10以下の分岐もしくは直鎖のアルキレン基を表す繰り返し単位であり、より望ましくは、Aが炭素数2以上6以下の直鎖のアルキレン基を表し、Bが炭素数2以上6以下の直鎖のアルキレン基を表す繰り返し単位である。他の繰り返し単位としては、例えば、一般式BBにおいて、A及びBが、炭素数1以上20の分岐もしくは直鎖のアルキレン基以外に、-O-、-NH-、-CO-、-COO-、アリーレン基を含む基を表す繰り返し単位が挙げられる。一般式BBの化合物は、その重量平均分子量Mwが10000以下であるが、望ましくは200以上10000以下のもの、より望ましくは2000以上8000以下のものである。一般式BBの化合物として具体的には、以下に示す単量体モノマーの少なくとも1種の重合体が挙げられる。当該単量体モノマーとしては、例えば、フタル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。一般式BBの化合物の市販品としては、例えばD623重量平均分子量Mw約1800、D643重量平均分子量Mw約1800、D663重量平均分子量Mw約1800、D620重量平均分子量Mw約800、D620N重量平均分子量Mw約800、D623N重量平均分子量Mw約1800、D645重量平均分子量Mw約2200、D663D重量平均分子量Mw約2000以上株式会社ジェイプラス社製等が挙げられる。なお、一般式BBの化合物の末端基としては、例えば、アリール基等が挙げられる。フタル酸エステルについて説明する。フタル酸エステルとして、例えば、ベンジル2-エチルヘキシルフタレート、ベンジルブチルフタレート、ベンジルイソノニルフタレート、ビス2-エチルヘキシルフタレート、ジーn-オクチルフタレート、ジアミルフタレート、ジブチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジエチルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジイソプロピルフタレート、ジメチルイソフタレート、ジメチルフタレート、ジノニルフタレート、ジフェニルフタレート、ジプロピルフタレート、ジトリデシルフタレート、ジウンデシルフタレート以上東京化成社製等が挙げられる。これらの中でも、ゴースト発生抑制の観点から、ジブチルフタレートがよい。トリメリット酸エステルについて説明する。トリメリット酸エステルとしてはトリス2-エチルヘキシルトリメリット酸、トリメリット酸トリノルマルオクチル等が挙げられる。脂肪酸エステルについて説明する。脂肪酸エステルとしては、例えば、アジピン酸エステル、アゼライン酸エステル、フマル酸エステル、マレイン酸エステル、セバシン酸エステル、こはく酸エステル、オレイン酸エステル、クエン酸エステルが挙げられる。脂肪酸エステルとしては、具体的には、例えば、二価のエステル例えば、アジピン酸ビス2-ブトキシエチル、アジピン酸ビス2-エチルヘキシル、アゼライン酸ビス2-エチルヘキシル、アゼライン酸ビス2-エチルヘキシル、フマル酸ビス2-エチルヘキシル、マレイン酸ビス2-エチルヘキシル、セバシン酸ビス2-エチルヘキシル、アジピン酸ジ-n-アルキル混合物、セバシン酸ジ-n-オクチル、アジピン酸ジブチル、フマル酸ジブチル、マレイン酸ジブチル、セバシン酸ジブチル、アジピン酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、セバシン酸ジエチル、こはく酸ジエチル、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、マレイン酸ジメチル、セバシン酸ジメチル、アジピン酸ジプロピル、オレイン酸エチル、オレイン酸エチル、アジピン酸ヘプチルノニル、オレイン酸メチル以上東京化成社製等、多価のエステル例えば、ブチルフタリルブチルグリコラート、エチルフタリルエチルグリコラート、O-アセチルクエン酸トリエチル、O-アセチルリシノール酸メチル、クエン酸トリアミル、クエン酸トリブチル、O-アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸トリエチル、クエン酸トリプロピル等が挙げられる。これらの中でも、ゴースト発生抑制の観点から、アジピン酸ビス2-エチルヘキシルがよい。多価アルコールエステル及び多価アルコールエーテルについて説明する。多価アルコールエステル及び多価アルコールエーテルとしては、ジエチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールジベンゾアート、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、モノオレイン、トリアセチン、トリブチリン、トリエチレングリコールジアセタート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。これらの中でも、ゴースト発生抑制の観点から、ジエチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールジブチルエーテルがよい。特定のエステルエーテル化合物は、固体状の化合物であってもよいが、電荷輸送性組成物塗布液の成膜性や、ゴーストの発生を抑制する観点から、25°C、1気圧下において液状の化合物であることがよい。これは、電荷輸送性組成物塗布液において、特定のエステルエーテル化合物が特定の電荷輸送性材料と混ざり易くなるためと考えられる、特定のエステルエーテル化合物の含有量は、例えば、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して、1質量以上30質量以下が望ましく、より望ましくは2質量以上20質量以下、更に望ましくは5質量以上15質量以下である。次に、特定の電荷輸送性材料について説明する。特定の電荷輸送性材料は、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を一分子内に持つ化合物である。ここで、特定の電荷輸送性材料における連鎖重合性官能基としては、例えば、炭素二重結合を持つ官能基が挙げられ、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される基が挙げられる。これらの中も、その反応性に優れる観点から、連鎖重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、ビニル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つが挙げられる。一方、特定の電荷輸送性材料における電荷輸送性骨格としては、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が電荷輸送性骨格であるものが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格がよい。特定の電荷輸送性材料としては、一分子内に連鎖重合性官能基を2つ以上特に4以上持つ化合物であることがよい。これにより、硬化膜の電気特性電荷輸送性や、帯電性、残留電位等が向上すると共に、これら特性が繰り返し使用によっても維持され易くなり、繰り返し使用によるゴーストの発生が抑制され易くなる。また、架橋密度が上がり、より機械的強度の高い硬化膜が得られ易くなる。この連鎖重合性官能基の数は、電荷輸送性組成物塗布液の安定性、電気特性の点から、20以下の範囲、10以下の範囲が挙げられる。特定の電荷輸送性材料として具体的には、例えば、電気特性及び膜強度の観点から、下記一般式Iで表される化合物が挙げられる。下記一般式Iで表される化合物を適用すると、硬化膜の電気特性電荷輸送性や、帯電性、残留電位等が向上すると共に、これら特性が繰り返し使用によっても維持され易くなり、繰り返し使用によるゴーストの発生が抑制され易くなる。一般式I中、Ar1乃至Ar4は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Dは、炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、c1乃至c5はそれぞれ独立に0、1又は2を表し、kは0又は1を表し、Dの総数は1以上である。ここで、一般式Iで表される化合物としては、Dが、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基特に、これら基が末端に有する基を表がよい。特に、一般式Iで表される化合物としては、Dが-CH2d-O-CH2-CH2e-O-CO-CR’=CH2但し、R’は水素原子、又はメチル基を表し、dは1以上5以下の整数、eは0又は1を表すを表し、Dの総数が4以上を表す化合物がよい。本化合物を適用すると、硬化膜の電気特性電荷輸送性や、帯電性、残留電位等が向上すると共に、これら特性が繰り返し使用によっても維持され易くなり、繰り返し使用によるゴーストの発生が抑制され易くなる。また、架橋密度が上がり、より機械的強度の高い硬化膜が得られ易くなる。なお、クリロイル基、メタクロイル基、ビニルフェニル基は、反応性が高く、得られる硬化膜の機械的強度が高まる傾向があり、好適である。一般式Iにおいて、Ar1乃至Ar4は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表す。Ar1乃至Ar4は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。ここで、置換アリール基における置換基としては、Dで表される基以外のものとして、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数6以上10以下の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。Ar1乃至Ar4としては、下記式1乃至7のうちのいずれか一つであることがよい。なお、下記式1乃至7は、Ar1乃至Ar4の各々に連結され得る-DC1乃至-DC4を総括的に表した-DCと共に表す。式1乃至7中、R1は、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を表す。R2乃至R4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表す。Arは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Dは一般式IにおけるDと同様の基を表し、cは1又は2を表し、sは0又は1を表し、tは0以上3以下の整数を表す。ここで、式7中のArとしては、下記構造式8又は9で表されるものがよい。式8及び9中、R5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、t’は0以上3以下の整数を表す。また、式7中、Z’は2価の有機連結基を表すが、下記式10乃至17のうちのいずれか一つで表されるものがよい。また、sは0又は1を表す。式10乃至17中、R7及びR8は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Wは2価の基を表し、q及びrはそれぞれ独立に1以上10以下の整数を表し、tは0以上3以下の整数を表す。式16乃至17中のWとしては、下記18乃至26で表される2価の基のうちのいずれか一つであることがよい。但し、式25中、uは0以上3以下の整数を表す。また、一般式I中、Ar5は、kが0の時は置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ar1乃至Ar4の説明で例示されたアリール基と同様のものが挙げられる。また、Ar5は、kが1の時は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ar1乃至Ar4の説明で例示されたアリール基から目的とする位置の水素原子を1つ除いたアリーレン基が挙げられる。以下、特定の電荷輸送性材料の具体例を示す。なお、特定の電荷輸送性材料は、これらにより何ら限定されるものではない。まず、1つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。次に、2つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。次に、3つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。次に、4つから6つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。特定の電荷輸送性材料は、例えば、以下のようにして合成される。即ち、特定の電荷輸送性材料は、例えば、前駆体であるアルコールを、対応するメタクリル酸、又はメタクリル酸ハロゲン化物と縮合させて合成する。特定の電荷輸送性材料は、例えば、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合、アルコールと、ヒドロキシエチルメタクリレート等の水酸基を有するメタクリル酸誘導体と、の脱水エーテル化などにより合成してもよい。本実施形態で用いる化合物iv-4及び化合物iv-17の合成経路を一例として以下に示す。他の特定の電荷輸送性材料は、例えば、上述した化合物iv-4の合成経路、及び化合物iv-17合成経路と同様にして合成される。本実施形態において、特定の電荷輸送性材料としては、前述のように、連鎖重合性官能基を2つ以上含む化合物が用いられることがよく、特に4つ以上含む化合物が用いられることがよい。また、特定の電荷輸送性材料として、連鎖重合性官能基を4つ以上である化合物と、連鎖重合性官能基を1乃至3つ含む化合物と、を併用してもよい。この併用により、電荷輸送性能の低下を抑制しつつ、硬化膜の強度が調整される。特定の電荷輸送性材料として、連鎖重合性官能基を4つ以上である化合物と、連鎖重合性官能基を1乃至3つ含む化合物と、を併用する場合、特定の電荷輸送性材料の総含有量に対して、連鎖重合性官能基を4つ以上である化合物の含有量を5質量以上とすることがよく、特に20質量以上とすることがよい。特定の電荷輸送性材料の総含有量は、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して、例えば、40質量以上が望ましく、より望ましくは50質量以上、更に望ましくは60質量以上である。この範囲とすることで、電気特性に優れ、硬化膜の厚膜化が実現される。また、本実施形態においては、特定の電荷輸送性材料と、反応性基を有さない公知の電荷輸送性材料とを併用してもよい。反応性基を有さない公知の電荷輸送性材料は、電荷輸送を担わない反応性基を有さないため、電荷輸送性材料の成分濃度を高め、電気特性が更に改善されることから有効である。この公知の電荷輸送性材料としては、前述の電荷輸送層を構成する電荷輸送性材料として挙げられたものが用いられる。以下、保護層機能層を形成するための電荷輸送性組成物の他の成分について説明する。保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、製膜性を確保する観点から、下記界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤は、例えば、Aフッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造、B炭素-炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造、Cアルキレンオキサイド構造、D炭素-炭素三重結合及び水酸基を有する構造のうち1種以上の構造を分子内に含む界面活性剤である。この界面活性剤は、分子内に、A乃至Dの構造を1種以上含有していればよく、2種以上を含有していてもよい。以下、上記のA乃至Dの構造と該構造を有する界面活性剤について説明する。Aフッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造Aフッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造としては、特に制限されないが、フルオロアルキル基を有するアクリルモノマーを重合してなる構造であることが望ましく、パーフルオロアルキル基を有するアクリルモノマーを重合してなる構造であることがより望ましい。上記Aの構造を有する界面活性剤としては、具体的には、ポリフローKL-600共栄社化学社製、エフトップEF-351、EF-352、EF-801、EF-802、EF-601以上、JEMCO社製などが挙げられる。B炭素-炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造B炭素-炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造としては、特に制限されないが、下記構造式B1及びB2の少なくとも一方で示される基であることが望ましい。Bの構造を有する界面活性剤としては、アクリル重合体の側鎖に上記構造式B1及びB2の少なくとも一方で示される基を有する化合物、若しくは、下記構造式B3乃至B5のいずれかで示される化合物であることが望ましい。Bの構造を有する界面活性剤がアクリル重合体の側鎖に構造式B1及びB2の少なくとも一方を有する化合物である場合には、アクリル構造が組成物中の他の成分となじみやすい性質を有しているため、均一な最表面層を形成しうる。また、Bの構造を有する界面活性剤が、構造式B3乃至B5のいずれかで示される化合物である場合には、塗布の際のはじきを防止する傾向にあり、塗膜欠陥を抑制しうる。上記構造式B3乃至B5中、v及びwはそれぞれ独立に1以上の整数を示し、R’は水素原子又は1価の有機基を示し、Rfはそれぞれ独立に構造式B1又はB2で示される基を表す。構造式B3乃至B5中、R’が表す1価の有機基としては、例えば、炭素数1以上30以下のアルキル基、炭素数1以上30以下のヒドロキシアルキル基が挙げられる。Bの構造を有する界面活性剤の市販品としては以下のものが挙げられる。例えば、構造式B3乃至B5のいずれかで示される化合物として、フタージェント100、100C、110、140A、150、150CH、A-K、501、250、251、222F、FTX-218、300、310、400SW、212M、245M、290M、FTX-207S、FTX-211S、FTX-220S、FTX-230S、FTX-209F、FTX-213F、FTX-222F、FTX-233F、FTX-245F、FTX-208G、FTX-218G、FTX-230G、FTX-240G、FTX-204D、FTX-280D、FTX-212D、FTX-216D、FTX-218D、FTX-220D、FTX-222Dネオス株式会社製等が挙げられる。また、アクリル重合体の側鎖に構造式B1及びB2の少なくとも一方を有する化合物としては、KB-L82、KB-L85、KB-L97、KB-L109、KB-L110、KB-F2L、KB-F2M、KB-F2S、KB-F3M、KB-FaMネオス株式会社製等が挙げられる。Cアルキレンオキサイド構造Cアルキレンオキサイド構造としては、アルキレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイドを含む。具体的には、アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどがあり、これらのアルキレンオキサイドの繰り返し数が2以上10000以下であるポリアルキレンオキサイドであってもよい。Cアルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤としては、ポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。ポリエチレングリコールとしては、平均分子量が2000以下のものが好ましく、平均分子量が2000以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール2000平均分子量2000、ポリエチレングリコール600平均分子量600、ポリエチレングリコール400平均分子量400、ポリエチレングリコール200平均分子量200等が挙げられる。また、PE-M、PE-L以上、和光純薬工業社製、消泡剤No.1、消泡剤No.5以上、花王社製等のポリエーテル消泡剤も好適な例として挙げられる。Cアルキレンオキサイド構造の他に分子内にフッ素原子を含む界面活性剤としては、アルキレンオキサイド若しくはポリアルキレンオキサイドをフッ素原子を有する重合体の側鎖に有するものや、アルキレンオキサイド若しくはポリアルキレンオキサイドの末端がフッ素原子を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。Cアルキレンオキサイド構造の他に分子内にフッ素原子を含む界面活性剤として具体的には、例えば、メガファックF-443、F-444、F-445、F-446以上、大日本インキ化学工業株式会社製、フタージェント250、251、222F以上、ネオス社製、POLYFOXPF636、PF6320、PF6520、PF656以上、北村化学社製などが挙げられる。Cアルキレンオキサイド構造の他に分子内にシリコーン構造を含む界面活性剤としては、具体的には、KF351A、KF352A、KF353A、KF354A、KF355A、KF615A、KF618、KF945A、KF6004以上、信越化学工業社製、TSF4440、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4452、TSF4453、TSF4460以上、GE東芝シリコン社製、BYK-300、302、306、307、310、315、320、322、323、325、330、331、333、337、341、344、345、346、347、348、370、375、377,378、UV3500、UV3510、UV3570等以上、ビックケミージャパン株式会社社製が挙げられる。D炭素-炭素三重結合及び水酸基を有する構造D炭素-炭素三重結合及び水酸基を有する構造としては特に制限はなく、この構造を有する界面活性剤としては、以下に示す化合物が挙げられる。D炭素-炭素三重結合及び水酸基を有する構造を有する界面活性剤としては、分子中に三重結合及び水酸基を有する化合物が挙げられ、具体的には、例えば、2-プロピン-1-オール、1-ブチン-3-オール、2-ブチン-1-オール、3-ブチン-1-オール、1-ペンチン-3-オール、2-ペンチン-1-オール、3-ペンチン-1-オール、4-ペンチン-1-オール、4-ペンチン-2-オール、1-ヘキシン-3-オール、2-ヘキシン-1-オール、3-ヘキシン-1-オール、5-ヘキシン-1-オール、5-ヘキシン-3-オール、1-ヘプチン-3-オール、2-ヘプチン-1-オール、3-ヘプチン-1-オール、4-ヘプチン-2-オール、5-ヘプチン-3-オール、1-オクチン-3-オール、1-オクチン-3-オール、3-オクチン-1-オール、3-ノニン-1-オール、2-デシン-1-オール、3-デシン-1-オール、10-ウンデシン-1-オール、3-メチル-1-ブチン-3-オール、3-メチル-1-ペンテン-4-イン-3-オール、3-メチル-1-ペンチン-3-オール、5-メチル-1-ヘキシン-3-オール、3-エチル-1-ペンチン-3-オール、3-エチル-1-ヘプチン-3-オール、4-エチル-1-オクチン-3-オール、3,4-ジメチル-1-ペンチン-3-オール、3,5-ジメチル-1-ヘキシン-3-オール、3,6-ジメチル-1-ヘプチン-3-オール、2,2,8,8-テトラメチル-3,6-ノナジイン-5-オール、4,6-ノナデカジイン-1-オール、10,12-ペンタコサジイン-1-オール、2-ブチン-1,4-ジオール、3-ヘキシン-2,5-ジオール、2,4-ヘキサジイン-1,6-ジオール、2,5-ジメチル-3-ヘキシン-2,5-ジオール、3,6-ジメチル-4-オクチン-3,6-ジオール、2,4,7,9-テトラメチル-5-デシン-4,7-ジオール、-1,6-ビス2-クロロフェニル-1,6-ジフェニル-2,4-ヘキサジイン-1,6-ジオール、--1,6-ビス2-クロロフェニル-1,6-ジフェニル-2,4-ヘキサジイン-1,6-ジオール、2-ブチン-1,4-ジオールビス2-ヒロドキシエチル、1,4-ジアセトキシ-2-ブチン、4-ジエチルアミノ-2-ブチン-1-オール、1,1-ジフェニル-2-プロピン-1-オール、1-エチニル-1-シクロヘキサノール、9-エチニル-9-フルオレノール、2,4-ヘキサジインジイル-1,6-ビス4-フェニルアゾベンゼンスルフォネート、2-ヒドロキシ-3-ブチン酸、2-ヒドロキシ-3-ブチン酸エチルエステル、2-メチル-4-フェニル-3-ブチン-2-オール、メチルプロパラギルエーテル、5-フェニル-4-ペンチン-1-オール、1-フェニル-1-プロピン-3-オール、1-フェニル-2-プロピン-1-オール、4-トリメチルシリル-3-ブチン-2-オール、3-トリメチルシリル-2-プロピン-1-ol等が挙げられる。また、上記の化合物の水酸基の一部又は全部にエチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドが付加した化合物例えば、サーフィノール400シリーズ信越化学社製等が挙げられる。D炭素-炭素三重結合及び水酸基を有する構造を有する界面活性剤としては、下記一般式D1及びD2のいずれかで示される化合物が望ましい。上記一般式D1及びD2中、Ra、Rb、Rc、及びRdは、それぞれ独立に、1価の有機基を示し、x、y、及びzは、それぞれ独立に、1以上の整数を示す。上記一般式D1又はD2で示される化合物の中でも、Ra、Rb、Rc、Rdが、アルキル基であるものが望ましい。また、Ra及びRbの少なくとも一方、Rc及びRdの少なくとも一方が分岐アルキル基であるものがより望ましい。更に、zは1以上10以下であることが望ましい。x及びyは、それぞれ1以上500以下であることが望ましい。一般式D1又はD2で示される化合物の市販品としては、サーフィノール400シリーズ信越化学社製が挙げられる。上述したA乃至Dの構造を有する界面活性剤は、1種を単独で用いてもよいが、複数種を混合して用いてもよい。また、複数種を混合して用いる場合、効果を損なわない範囲において、A乃至Dの構造を有する界面活性剤とは異なる構造の界面活性剤を併用してもよい。併用しうる界面活性剤としては、以下に挙げるフッ素原子を有する界面活性剤やシリコーン構造を有する界面活性剤が挙げられる。即ち、A乃至Dの構造を有する界面活性剤と併用しうるフッ素原子を有する界面活性剤としては、パーフルオロアルキルスルホン酸類例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など、パーフルオロアルキルカルボン酸類例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、及びパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩及びそのアミド変性体であってもよい。パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えば、メガファックF-114大日本インキ化学工業株式会社製、エフトップEF-101、EF102、EF-103、EF-104、EF-105、EF-112、EF-121、EF-122A、EF-122B、EF-122C、EF-123A以上、JEMCO社製、フタージェント100、100C、110、140A、150、150CH、A-K、501以上、ネオス社製などが挙げられる。パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えば、メガファックF-410大日本インキ化学工業株式会社製、エフトップEF-201、EF-204以上、JEMCO社製などが挙げられる。パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックF-493、F-494以上、大日本インキ化学工業株式会社製エフトップEF-123A、EF-123B、EF-125M、EF-132、以上、JEMCO社製などが挙げられる。なお、A乃至Dの構造を有する界面活性剤と併用しうるフッ素原子を有する界面活性剤としては、上記に限られず、例えば、フッ素原子含有ベタイン構造化合物例えば、フタージェント400SW、ネオス社製、両性イオン基を持つ界面活性剤例えば、フタージェントSWネオス社製も好適に用いられる。A乃至Dの構造を有する界面活性剤と併用しうるシリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーンや、それらの誘導体の如く一般的なシリコーンオイルが挙げられる。界面活性剤の含有量は、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して、望ましくは0.01質量以上1質量以下、より望ましくは0.02質量以上0.5質量以下である。界面活性剤の含有量が0.01質量未満の場合は塗膜欠陥防止効果が不十分となる傾向にある。また、界面活性剤の含有量が1質量を超えると、界面活性剤と硬化成分一般式Iで示される化合物やその他のモノマー、オリゴマーなどの分離により、得られる硬化膜の強度が低下する傾向にある。また、全界面活性剤中、A乃至Dの構造を有する界面活性剤は、1質量以上含まれることが望ましい、10質量以上含まれることがより望ましい。また、保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、該組成物の粘度、膜の強度、かとう性、平滑性、クリーニング性などの制御を目的とし、電荷輸送能を持たないラジカル重合性のモノマー、オリゴマー等が添加されていてもよい。1官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、t-ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2-エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo-フェニルフェノールアクリレート、o-フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等が挙げられる。2官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、1,9-ノナンジオールジアクリレート、2-n-ブチル-2-エチル-1,3‐プロパンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタクリレート等が挙げられる。3官能以上のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパンEO付加トリアクリレート、グリセリンPO付加トリアクリレート、トリスアクロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレートが挙げられる。また、ラジカル重合性のオリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。電荷輸送能を持たないラジカル重合性のモノマー、オリゴマーは、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して0質量以上50質量以下含有することが望ましく、0質量以上40質量以下含有することがより望ましく、0質量以上30質量以下含有することが更に望ましい。また、保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を添加することが望ましい。つまり、保護層機能層には、熱ラジカル発生剤又はその誘導体が含まれていることが望ましい。ここで、保護層機能層を構成する硬化膜架橋膜は、上記各成分を含む電荷輸送性組成物を、熱、光、電子線など様々な方法にて硬化することで得られるが、硬化膜の電気特性、機械的強度等の特性のバランスを取るためには熱硬化が望ましい。通常、一般的なアクリル塗料などを硬化する際には無触媒で硬化が可能な電子線、短時間で硬化が可能な光重合が好適に用いられる。しかしながら、電子写真感光体は最表面層の被形成面となる感光層が感光材料を含むため、この感光材料にダメージを与え難くするため、また、得られる硬化膜の表面性状を高めるため、穏やかに反応を進められる熱硬化が望ましい。したがって、熱硬化は無触媒で行ってもよいが、上記熱ラジカル発生剤又はその誘導体を触媒として用いることが望ましい。これにより、繰り返し使用による、ゴーストの発生が抑制され易くなる。熱ラジカル発生剤又はその誘導体は特に限定されないが、保護層機能層の形成時における感光層中の感光材料のダメージを抑制するために、10時間半減期温度が40°C以上110°C以下のものが望ましい。熱ラジカル発生剤又はその誘導体の市販品としては、V-3010時間半減期温度:104°C、V-40同:88°C、V-59同:67°C、V-601同:66°C、V-65同:51°C、V-70同:30°C、VF-096同:96°C、Vam-110同:111°C、Vam-111同:111°C以上、和光純薬工業製、OTAZO-15同:61°C、OTAZO-30、AIBM同:65°C、AMBN同:67°C、ADVN同:52°C、ACVA同:68°C以上、大塚化学社製等のアゾ系開始剤;パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH,パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT-K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーへヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ以上、日油化学社製、カヤケタールAM-C55、トリゴノックス36-C75、ラウロックス、パーカドックスL-W75、パーカドックスCH-50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH-70、ペルカドックスBC-FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD-E85、パーカドックス12-XL25、パーカドックス12-EB20、トリゴノックス22-N70、トリゴノックス22-70E、トリゴノックスD-T50、トリゴノックス423-C70、カヤエステルCND-C70、カヤエステルCND-W50、トリゴノックス23-C70、トリゴノックス23-W50N、トリゴノックス257-C70、カヤエステルP-70、カヤエステルTMPO-70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP-65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF-C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH-C70、カヤカルボンEH-W60、カヤカルボンI-20、カヤカルボンBIC-75、トリゴノックス117、カヤレン6-70以上、化薬アクゾ社製、ルペロックスLP同:64°C、ルペロックス610同:37°C、ルペロックス188同:38°C、ルペロックス844同:44°C、ルペロックス259同:46°C、ルペロックス10同:48°C、ルペロックス701同:53°C、ルペロックス11同:58°C、ルペロックス26同:77°C、ルペロックス80同:82°C、ルペロックス7同:102°C、ルペロックス270同:102°C、ルペロックスP同:104°C、ルペロックス546同:46°C、ルペロックス554同:55°C、ルペロックス575同:75°C、ルペロックスTANPO同:96°C、ルペロックス555同:100°C、ルペロックス570同:96°C、ルペロックスTAP同:100°C、ルペロックスTBIC同:99°C、ルペロックスTBEC同:100°C、ルペロックスJW同:100°C、ルペロックスTAIC同:96°C、ルペロックスTAEC同:99°C、ルペロックスDC同:117°C、ルペロックス101同:120°C、ルペロックスF同:116°C、ルペロックスDI同:129°C、ルペロックス130同:131°C、ルペロックス220同:107°C、ルペロックス230同:109°C、ルペロックス233同:114°C、ルペロックス531同:93°C以上、アルケマ吉富社製などが挙げられる。熱ラジカル発生剤又はその誘導体は、電荷輸送性組成物中の反応性化合物特定の電荷輸送性材料に対して0.001質量以上10質量以下含有することが望ましく、0.01質量以上5質量以下含有することがより望ましく、0.1質量以上3質量以下含有することが更に望ましい。また、保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、放電生成ガスを吸着しすぎないように、添加することで放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的から、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を添加してもよい。また、保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、更に、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、カップリング剤、ハードコート剤、含フッ素化合物を添加してもよい。これらの添加剤として具体的には、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-βアミノエチルγ-アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が用いられる。また、市販のハードコート剤としては、KP-85、X-40-9740、X-8239以上、信越シリコーン社製、AY42-440、AY42-441、AY49-208以上、東レダウコーニング社製等が用いられる。更に、撥水性等の付与のために、トリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3-ヘプタフルオロイソプロポキシプロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H-パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H-パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H-パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の含フッ素化合物を加えてもよい。シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で0.25倍以下とすることが望ましい。この使用量を超えると、架橋膜の成膜性に問題が生じる場合がある。また、保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、保護層機能層の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などや、粒子分散性、粘度コントロールの目的で、熱可塑性樹脂を加えてもよい。ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂たとえば積水化学社製エスレックB、K等、ポリアミド樹脂、セルロ-ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性の点でポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。当該樹脂の重量平均分子量は2,000以上100,000以下が望ましく、5,000以上50,000以下がより望ましい。樹脂の分子量が2,000未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、100,000を超えると溶解度が低下して添加量が制限され、更には塗布時に製膜不良を招く傾向にある。また、当該樹脂の添加量は1質量以上40質量以下が望ましく、1質量以上30質量以下がより望ましく、5質量以上20質量以下が更に望ましい。当該樹脂の添加量が1質量未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、40質量を超えると高温高湿下例えば28°C、85RHでの画像ボケが発生しやすくなる。保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、保護層機能層の帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を添加することが望ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長い時間接触することになるため、従来より強い酸化耐性が要求される。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては20質量以下が望ましく、10質量以下がより望ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、2,5-ジ-t-ブチルヒドロキノン、N,N’-ヘキサメチレンビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシヒドロシンナマイド、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ベンジルフォスフォネート-ジエチルエステル、2,4-ビス[オクチルチオメチル]-o-クレゾール、2,6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-エチル-6-t-ブチルフェノール、4,4’-ブチリデンビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,5-ジ-t-アミルヒドロキノン、2-t-ブチル-6-3-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート、4,4’-ブチリデンビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール等が挙げられる。更に、保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、保護層機能層の残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径1nm以上100nm以下、望ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、又はエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。保護層機能層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して、0.1質量以上50質量以下、望ましくは0.1質量以上30質量以下の範囲で用いられる。ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは1nm以上500nm以下、より望ましくは10nm以上100nm以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、更に十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中にバラツキが生じることなくに取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。保護層機能層中のシリコーン粒子の含有量は、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して、望ましくは0.1質量以上30質量以下、より望ましくは0.5質量以上10質量以下である。また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集p89に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ZnO-Al2O3、SnO2-Sb2O3、In2O3-SnO2、ZnO2-TiO2、ZnO-TiO2、MgO-Al2O3、FeO-TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物が挙げられる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5-トリメチル-1.3.5-トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7-テトラメチル-1,3,5,7-テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9-ペンタメチル-1,3,5,7,9-ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;3,3,3-トリフルオロプロピルメチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。また、保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層機能層の透明性の点で0.3μm以下、特に0.1μm以下が望ましい。保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物は、保護層形成用塗布液機能層形成用塗布液として調製されることが好ましく、この保護層形成用塗布液は、無溶媒であってもよいし、必要に応じて、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を含有していてもよい。かかる溶剤は1種を単独で又は2種以上を混合して使用可能であるが、望ましくは沸点が100度以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも1種以上の水酸基を持つ溶剤例えば、アルコール類等を用いることが望ましい。保護層機能層を形成するために用いる電荷輸送性組成物からなる保護層形成用塗布液は、電荷輸送層の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布され、必要に応じて、例えば、温度100度以上170度以下で加熱して重合硬化させることで、膜が得られる。その結果、この膜からなる保護層機能層が得られる。なお、保護層形成用塗布液の重合硬化中の酸素濃度は1以下が望ましく、1000ppm以下がより望ましく、500ppm以下が更に望ましい。以上、電子写真感光体として機能分離型の例を説明したが、図2に示される単層型感光層6電荷発生/電荷輸送層中の電荷発生材料の含有量は、10質量以上85質量以下程度、望ましくは20質量以上50質量以下である。また、電荷輸送性材料の含有量は5質量以上50質量以下とすることが望ましい。単層型感光層6電荷発生/電荷輸送層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。単層型感光層電荷発生/電荷輸送層6の膜厚は5μm以上50μm以下程度が望ましく、10μm以上40μm以下とするのが更に望ましい。また、本実施形態では、上記機能層からなる最表面層が保護層である形態を説明したが、保護層がない層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が該最表面層となり、当該層に機能層を適用してもよい。また、保護層があっても、その下層の電荷輸送層として上記機能層を適用してもよい。画像形成装置/プロセスカートリッジ図4は、実施形態に係る画像形成装置100を示す概略構成図である。図4に示される画像形成装置100は、電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置静電潜像形成手段9と、転写装置転写手段40と、中間転写体50と、を備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光可能な位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置帯電手段8、現像装置現像手段11、及びクリーニング装置13を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレードクリーニング部材を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。なお、プロセスカートリッジ300は、電子写真感光体7を備え、画像形成装置に着脱される構成であれば、特に制限はなく、必要に応じて電子写真感光体7以外の装置例えば、帯電装置帯電手段8、現像装置現像手段11、及びクリーニング装置13から選択される一つを電子写真感光体7と共に一体に支持した構成であってもよい。また、図4では、クリーニング装置13として、潤滑材14を感光体7の表面に供給する繊維状部材132ロール状を備え、また、クリーニングをアシストする繊維状部材133平ブラシ状を用いた例を示してあるが、これらは必要に応じて使用される。帯電装置8としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。なお、図示しないが、画像の安定性を高める目的で、電子写真感光体7の周囲には、電子写真感光体7の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。露光装置9としては、例えば、感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザーや青色レーザーとして400nm以上450nm以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビーム出力が可能なタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。現像装置11としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの中間転写ベルトが使用される。また、中間転写体50の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いられる。画像形成装置100は、上述した各装置の他に、例えば、感光体7に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。図5は、他の実施形態に係る画像形成装置120を示す概略断面図である。図5に示される画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式のカラー画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。本実施形態に係る画像形成装置は、上記構成に限られず、他の周知の方式の画像形成装置を適用してもよい。以下実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。[実施例1]電子写真感光体の作製-下引層の作製-酸化亜鉛:平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m2/g100質量部をトルエン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤KBM503:信越化学社製1.3質量部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120°Cで3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤で表面処理を施した酸化亜鉛を得た。表面処理を施した酸化亜鉛110質量部を500質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン0.6質量部を50質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50°Cにて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、更に60°Cで減圧乾燥を行い、アリザリンを付与させた酸化亜鉛を得た。このアリザリンを付与させた酸化亜鉛:60質量部と、硬化剤ブロック化イソシアネートスミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製:13.5質量部と、ブチラール樹脂エスレックBM-1、積水化学社製:15質量部と、をメチルエチルケトン85質量部に混合した液38質量部とメチルエチルケトン:25質量部とを混合し、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005質量部、及びシリコーン樹脂粒子トスパール145、GE東芝シリコーン社製:40質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材上に塗布し、170°C、40分の乾燥硬化を行い、厚さ20μmの下引層を得た。-電荷発生層の作製-電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度2θ±0.2°が少なくとも7.3 ゚,16.0 ゚,24.9 ゚,28.0 ゚の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15質量部、結着樹脂としての塩化ビニル酢酸ビニル共重合体樹脂VMCH、日本ユニカー社製10質量部、及びn-酢酸ブチル200質量部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn-酢酸ブチル175質量部、及びメチルエチルケトン180質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温25°Cで乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。-電荷輸送層の作製-N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス3-メチルフェニル-[1,1’]ビフェニル-4,4’-ジアミン以下、TPDと標記48質量部、及びビスフェノールZポリカーボネート樹脂以下、PCZ500と標記、粘度平均分子量:5万52質量部をクロルベンゼン800質量部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、130°C、45分の乾燥を行って膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。-保護層の作製-一般式Iで表される化合物上記化合物i-1030質量部、一般式Iで表される化合物上記化合物ii-1870質量部、電荷輸送能を有さないモノマーBEP-500新中村化学工業社製20質量部をテトラヒドロフランTHF200質量部に溶解し、更に開始剤VE-73和光純薬社製2.4質量部、及びポリマー410質量部を溶解させ保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で145°C、40分加熱し、厚み7μmの保護層を形成した。以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体1とする。評価作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製Color1000Plusに装着し、10°C、15RHの環境下において、15ハーフトーン画像を連続して5万枚印刷した。5万枚印刷後、同環境下で画像評価テスト1を行った。また、画像評価テスト1の後、画像形成装置を28°C、80RHで24時間放置し、その後印刷した1枚目の画像の画質について同環境下で画質評価テスト2を行った。ここで、画像評価テスト1及び画像評価テスト2では、以下に示す濃度ムラ、スジ、画像流れ、及び前画像の履歴が残ることで生じる残像現象ゴーストと標記について評価した。なお、画像形成テストには、富士ゼロックスオフィスサプライ製P紙A4サイズ、横送りを用いた。評価結果は、表4に示す。-濃度ムラ評価-濃度ムラ評価は20ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。A:濃度ムラの発生なし。B:部分的に濃度ムラの発生あり。C:画質上問題となる濃度ムラ発生。-スジ評価-スジ評価は20ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。A:スジの発生なし。B:部分的にスジの発生あり。C:画質上問題となるスジ発生。-画像流れの評価-また、上記テストとともに画像流れの評価も以下のような要領で行った。画像流れは20ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。A:画像流れの発生なし。B:連続的にプリントテストしている時は問題ないが、24時間放置後に発生。C:連続的にプリントテストしている時にも発生。-ゴーストの評価-ゴーストは、図6Aに示したGと黒領域を有するパターンのチャートをプリントし、黒領域部分にGの文字の現れ具合を目視にて評価した。A:図6Aのように良好乃至軽微である。B:図6Bのように若干目立つ程度であるC:図6Cのようにはっきり確認されることを示す。-表面観察-また、画質評価テスト1、2時において電子写真感光体表面を観察し、以下のように評価した。A:20倍に拡大しても傷、付着ともに見らせず良好。B:20倍に拡大するとわずかな傷、若しくは付着物が見られるC:肉眼でも傷、若しくは付着物が見られる。[実施例2~20、23~24、比較例1~3]電子写真感光体の作製電荷輸送層までは実施例1と同様に作製し、保護層の組成を表1~表3のように変更して、保護層形成用塗布液を得た。それぞれの塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で145°C、40分加熱し、7μmの保護層を形成した。以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体2~20、23~24、比較感光体1~3とする。評価得られた感光体について、実施例1と同様な評価を行った。結果を表4~表6に示す。[実施例21]電子写真感光体の作製電荷輸送層までは実施例1と同様に作製し、保護層の組成を表3のように変更して、保護層形成用塗布液を得た。その塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で、メタルハライドランプウシオ電機社製を用いて、照度700mW/cm2365nm基準、照射時間60秒にてUV照射を行った。150°C、40分加熱し、7μmの保護層を形成した。以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体21とする。評価得られた感光体について、実施例1と同様な評価を行った。結果を表6に示す。[実施例22]電子写真感光体の作製電荷発生層までは実施例1と同様に作製し、電荷輸送層の組成を表3に示すように変更し、使用溶剤量を250質量部に変更して、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で145°C、40分加熱し、20μmの電荷輸送層を形成した。以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体22とする。評価得られた感光体について、実施例1と同様な評価を行った。結果を表6に示す。上記結果から、本実施例は、比較例に比べ、濃度ムラ、スジ、画像流れ、ゴースト、表面観察につき、総合的に良好な結果が得られたことがわかる。上記表1~表3に記載の略記について以下に説明する。電荷輸送能を有さないモノマーBEP-100新中村化学工業社製熱可塑性樹脂PCZ-400:三菱ガス化学社製のビスフェノールZポリカーボネート樹脂粘度平均分子量4万開始剤VE-73:和光純薬工業製の開始剤熱ラジカル発生剤Iracure819:チバスペシャリティケミカルズ社製の開始剤光ラジカル発生剤添加剤ジブチルフタレート:東京化成社製アジピン酸ビス2-エチルヘキシル:東京化成工業株式会社社製25°C、1気圧下で液状ジエチレングリコールジアセテート:東京化成工業株式会社社製25°C、1気圧下で液状ジエチレングリコールジブチルエーテル:東京化成工業株式会社社製25°C、1気圧下で液状ARUFONUP-1000:一般式AAで表される繰り返し単位Ra=水素原子H、Rb=ブチル基からなる化合物、東亜合成社製、重量平均分子量Mw300025°C、1気圧下で液状ARUFONUP-1170:一般式AAで表される繰り返し単位Ra=水素原子、Rb=ブチル基からなる化合物、東亜合成社製、重量平均分子量Mw800025°C、1気圧下で液状D643:一般式BBで表される繰り返し単位A=ブチレン基、B=ブチレン基からなる化合物、株式会社ジェイプラス社製、重量平均分子量Mw180025°C、1気圧下で液状BA-2グリコール:日本乳化剤株式会社製25°C、1気圧下で固体ポリマー1:下記合成例1で得られたポリマー:重量平均分子量Mw9700-合成例1-窒素導入管、コンデンサーを装着した二口フラスコに、ブチルメタクリレート30質量部、トルエン50質量部、及びアゾビスイソブチロニトリル0.7質量部を採取し、窒素置換をした。その後攪拌しながら温度を徐々に90°Cに上げ、3時間反応させた。その後減圧下溶剤を留去し、さらに空気を流しながら温度を140°Cに上げ1時間攪拌し、25°C、1気圧下で液状のポリマー1を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Mwは9700ポリスチレン換算であった。本ポリマー1は、一般式AAで表される繰り返し単位Ra=メチル基、Rb=ブチル基からなる化合物である。ポリマー2:下記合成例2で得られたポリマー:重量平均分子量Mw19000-合成例2-アゾビスイソブチロニトリル0.4質量部を用いた以外は、合成例1と同様にして、25°C、1気圧下で液状のポリマー2を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Mwは19000ポリスチレン換算であった。ポリマー3:下記合成例3で得られたポリマー:重量平均分子量Mw11000-合成例3-アゾビスイソブチロニトリル0.6質量部を用いた以外は、合成例1と同様にして、25°C、1気圧下で液状のポリマー3を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Mwは11000ポリスチレン換算であった。ポリマー4:下記合成例4で得られたポリマー:重量平均分子量Mw8000-合成例4-アゾビスイソブチロニトリル0.75質量部を用いた以外は、合成例1と同様にして、25°C、1気圧下で液状のポリマー4を得た。得られたポリマーの重量平均分子量Mwは8000ポリスチレン換算であった。"