"スイッチング能動素子とカラーフィルタ層とスペーサとを有する液晶表示素子用のアレイ基板であって、前記カラーフィルタ層は、ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料からなる群より選ばれる少なくとも1種の着色剤と、カルボキシル基と熱架橋性基を有する重合体とを含有する着色組成物から形成される着色パターンを有し、前記スペーサは、[P]アルカリ可溶性樹脂、[Q]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[R]感放射線性重合開始剤、並びに[S]下記式1で表される化合物および下記式2で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する第1の感放射線性樹脂組成物から形成されることを特徴とするアレイ基板。式1中、R1~R6は、それぞれ独立して水素原子、電子吸引性基またはアミノ基である。但し、R1~R6のうち少なくとも1つは電子吸引性基であり、かつR1~R6のうち少なくとも1つはアミノ基である。また、上記アミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数1~6のアルキル基で置換されていてもよい。式2中、R7~R16は、それぞれ独立して水素原子、電子吸引性基またはアミノ基である。但し、R7~R16のうち少なくとも1つはアミノ基である。また、上記アミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数1~6の炭化水素基で置換されていてもよい。Aは、単結合、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニルメチレン基、スルフィニル基、スルホニル基、メチレン基または炭素数2~6のアルキレン基である。但し、上記メチレン基およびアルキレン基は、水素原子の全部または一部がシアノ基、ハロゲン原子またはフルオロアルキル基で置換されていてもよい。前記着色組成物に含有される前記重合体は、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種から形成される構成単位と、エポキシ基含有不飽和化合物から形成される構成単位とを含む共重合体であることを特徴とする請求項1に記載のアレイ基板。前記着色組成物は、上記式1で表される化合物、上記式2で表される化合物、3級アミン化合物、アミン塩、ホスホニウム塩、アミジン塩、アミド化合物、チオール化合物、ブロックイソシアネート化合物およびイミダゾール環含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする請求項1または2に記載のアレイ基板。前記第1の感放射線性樹脂組成物に含有される[P]アルカリ可溶性樹脂は、P-1不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種から形成される構成単位と、P-2エポキシ基含有不飽和化合物から形成される構成単位とを含む共重合体であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のアレイ基板。前記着色パターンは、200°C以下の硬化温度で形成されたものであることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のアレイ基板。前記スペーサは、200°C以下の硬化温度で形成されたものであることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のアレイ基板。前記着色パターンは、前記スペーサの硬化温度より低い硬化温度で形成されたものであることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載のアレイ基板。前記カラーフィルタ層は、前記着色パターンの上に絶縁膜を有し、前記絶縁膜は、[I]エポキシ基を有する化合物、[II]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[III]感放射線性重合開始剤、並びに[IV]上記式1で表される化合物および上記式2で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する第2の感放射線性樹脂組成物から形成されることを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載のアレイ基板。前記第2の感放射線性樹脂組成物に含有される[I]エポキシ基を有する化合物は、重合体であることを特徴とする請求項8に記載のアレイ基板。前記第2の感放射線性樹脂組成物に含有される[I]エポキシ基を有する化合物は、カルボキシル基をさらに有することを特徴とする請求項8または9に記載のアレイ基板。前記絶縁膜は、200°C以下の硬化温度で形成されたものであることを特徴とする請求項8~10のいずれか1項に記載のアレイ基板。前記着色パターンは、前記絶縁膜の硬化温度より低い硬化温度で形成されたものであることを特徴とする請求項8~11のいずれか1項に記載のアレイ基板。前記絶縁膜は、前記スペーサの硬化温度より低い硬化温度で形成されたものであることを特徴とする請求項8~12のいずれか1項に記載のアレイ基板。前記カラーフィルタ層の上に透明電極を有し、前記透明電極の上に、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤および光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤のうちのいずれかを用いて得られた配向膜を有することを特徴とする請求項1~13のいずれか1項に記載のアレイ基板。前記配向膜は、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤を用いて得られた配向膜であることを特徴とする請求項14に記載のアレイ基板。請求項1~15のいずれか1項に記載のアレイ基板を有することを特徴とする液晶表示素子。スイッチング能動素子とカラーフィルタ層とスペーサとを有する液晶表示素子用のアレイ基板の製造方法であって、[1]ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料からなる群より選ばれる少なくとも1種の着色剤と、カルボキシル基と熱架橋性基を有する重合体とを含有する着色組成物の塗膜を、前記スイッチング能動素子を有する基板上に形成する工程、[2]前記着色組成物の塗膜に着色パターンを形成する工程、[3]前記着色パターンが形成された塗膜を200°C以下で硬化する工程、[4][P]アルカリ可溶性樹脂、[Q]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[R]感放射線性重合開始剤、および[S]下記式1で表される化合物および下記式2で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜を、工程[3]の前記硬化した塗膜を有する基板の上に形成する工程、[5]前記第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、[6]工程[5]で放射線が照射された前記塗膜を現像する工程、並びに[7]工程[6]で現像された前記塗膜を200°C以下で硬化してスペーサを形成する工程を有することを特徴とするアレイ基板の製造方法。式1中、R1~R6は、それぞれ独立して水素原子、電子吸引性基またはアミノ基である。但し、R1~R6のうち少なくとも1つは電子吸引性基であり、かつR1~R6のうち少なくとも1つはアミノ基である。また、上記アミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数1~6のアルキル基で置換されていてもよい。式2中、R7~R16は、それぞれ独立して水素原子、電子吸引性基またはアミノ基である。但し、R7~R16のうち少なくとも1つはアミノ基である。また、上記アミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数1~6の炭化水素基で置換されていてもよい。Aは、単結合、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニルメチレン基、スルフィニル基、スルホニル基、メチレン基または炭素数2~6のアルキレン基である。但し、上記メチレン基およびアルキレン基は、水素原子の全部または一部がシアノ基、ハロゲン原子またはフルオロアルキル基で置換されていてもよい。前記着色組成物は、上記式1で表される化合物、上記式2で表される化合物、3級アミン化合物、アミン塩、ホスホニウム塩、アミジン塩、アミド化合物、チオール化合物、ブロックイソシアネート化合物およびイミダゾール環含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする請求項17に記載のアレイ基板の製造方法。工程[3]の硬化温度が、工程[7]の硬化温度より低い温度であることを特徴とする請求項17または18に記載のアレイ基板の製造方法。工程[3]と工程[4]との間に、[a][I]エポキシ基を有する化合物、[II]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[III]感放射線性重合開始剤、および[IV]上記式1で表される化合物および上記下記式2で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する第2の感放射線性樹脂組成物の塗膜を前記基板上の前記硬化された着色パターンの上に形成する工程、[b]前記第2の感放射線性樹脂組成物の塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、[c]前記放射線が照射された塗膜を現像する工程、並びに[d]前記現像された塗膜を200°C以下で硬化して絶縁膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項17~19のいずれか1項に記載のアレイ基板の製造方法。工程[3]の硬化温度が、工程[d]の硬化温度より低い温度であることを特徴とする請求項20に記載のアレイ基板の製造方法。工程[d]の硬化温度が、工程[7]の硬化温度より低い温度であることを特徴とする請求項20または21に記載のアレイ基板の製造方法。配向膜を200°C以下で形成する工程をさらに有することを特徴とする請求項17~22のいずれか1項に記載のアレイ基板の製造方法。前記配向膜を200°C以下で形成する工程は、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤および光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤のうちのいずれかを用いて前記配向膜を形成することを特徴とする請求項23に記載のアレイ基板の製造方法。以上から、液晶表示素子の構造を改善するとともにカラーフィルタの改善ができれば、液晶表示素子は、表示品位を大幅に改善可能であることがわかる。より具体的には、カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子において、染料を含む着色組成物を用いた着色パターンからなるカラーフィルタ層を用いることができれば、液晶表示素子の表示品位を大幅に改善できる。そしてさらに、カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子においては、柱状のスペーサ以下、スペーサとも言う。を有する構造を備えることが好ましい。液晶表示素子は、柱状のスペーサを設けることにより、液晶を挟持する一対の基板間の間隔を所定の値に保ち、液晶の厚さを高精度に制御することが可能となって、さらなる表示品位の向上が可能となる。その場合、カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子は、染料の有する耐熱性の問題を回避するようカラーフィルタ層を構成し、アレイ基板を製造する必要がある。カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子のカラーフィルタ層は、従来の液晶表示素子を構成するカラーフィルタ基板の製造方法とほぼ同様に製造される。従来のカラーフィルタ基板と同様に、初めにスイッチング能動素子等の形成されたアレイ基板上に、適当な照射線に感応する着色組成物を塗布する。着色組成物としては、赤や緑や青の着色剤を含む着色感放射線性組成物を用いることができる。次いで、塗膜を乾燥した後、マスクを介して乾燥塗膜に放射線を照射以下、露光と称す。し、現像処理を施す。そして、230°C程度の高温加熱による硬化を行い、これらによって、定着された着色パターン形成し、カラーフィルタ層を製造している。このようにして形成されるカラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子のカラーフィルタ層であるが、上述のように、染料を含む従来の着色組成物では耐熱性に問題があるため、その着色組成物をそのまま着色パターンの形成に利用することはできない。すなわち、従来の着色組成物から着色パターンを形成し、カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子のカラーフィルタ層を製造しようとする場合、耐熱性の問題を生じさせてしまう。また、染料の耐熱性を考慮した低温硬化によってカラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子のカラーフィルタ層を形成した場合、カラーフィルタ層には、現像耐性、電圧保持率等の信頼性能が十分とならない問題が生じる場合がある。その場合、液晶表示素子の信頼性能を低下させてしまうことになる。これら問題の原因として、着色組成物の硬化反応性が不充分であり、低温硬化に対応できないことが挙げられている。したがって、カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子において、低温硬化による着色パターンの形成が可能であって着色剤として染料を含有可能な着色組成物を用い、低温硬化によって形成することができる高信頼性のカラーフィルタ層の開発が求められている。さらに、カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子では、アレイ基板上において、カラーフィルタ層の着色パターンを形成した後、透明電極形成のためのITOIndiumTinOxide:錫をドープした酸化インジュウムが成膜される。そして、このITO膜の成膜の後に、上述した柱状のスペーサを設けることが可能である。カラーフィルタ層の上に立設されたスペーサは、液晶層を挟持する一対の基板間の間隔を所定の値に保つよう、例えば、感光性の樹脂などを用いて形成することできる。スペーサは上述の基板間に配置される従来の球状や棒状のスペーサを代替する技術となり、基板間に挟持される液晶層の厚さの制御を高精度に実現する。柱状のスペーサをアレイ基板のカラーフィルタ層の上に設ける場合、ITO膜の上に、例えば、フォトリソグラフィ技術などを利用して形成することが可能である。その場合、スペーサ形成のためには、通常は硬化工程が必要となる。スペーサの硬化工程における加熱は、その下層にある、カラーフィルタ層の着色パターンの劣化を引き起こすことがある。特に、染料を含む着色組成物から着色パターンが形成された場合、その劣化が大きな問題となる。したがって、スペーサの硬化工程に対しては低温化が強く求められることになる。また、カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子では、アレイ基板上において、ITO膜の成膜の前に、着色パターンの上に絶縁膜を形成することが可能である。この絶縁膜は、着色パターンを保護し、さらに優れた特性のITO膜を実現するための保護膜の機能を有することも可能であり、液晶表示素子の表示品位向上に有効な構成要素となる。絶縁膜の形成のためには、通常、加熱による硬化工程が必要となる。硬化工程での加熱は、その下層にある着色パターンも高温に晒すことになるため、着色パターンが染料を含む着色組成物を用いて形成されたものである場合、着色パターンの劣化を招くことがある。したがって、着色パターン上に形成される絶縁膜は、着色パターンを劣化させないように、硬化温度がより低いものであることが好ましい。尚、カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子では、アレイ基板上において、液晶層と接する面に液晶配向用の配向膜を設ける。したがって、この配向膜についても、同様に、低温の加熱によって形成可能であることが好ましい。また、最近、省エネルギーの観点からも、こうしたカラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子の製造における加熱工程の低温化が求められるようになっている。すなわち、カラーフィルタ層を有するアレイ基板やそれを用いた液晶表示素子の製造において、各構成要素の硬化工程等、加熱が必要な工程の低温化による省エネルギーの実現が求められるようになっている。以上より、低温硬化による着色パターンの形成が可能であり、着色剤として染料を含有することができる着色組成物の実現が強く望まれている。そして、その着色組成物を用いて低温硬化された着色パターンからなり、現像耐性、耐熱性、耐溶媒性、電圧保持率等に優れ、カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子への適用に好適なカラーフィルタ層の実現が強く望まれている。さらに、そうしたカラーフィルタ層を備えるとともに、液晶層の厚さを高精度に制御する柱状のスペーサを有するアレイ基板、およびそのアレイ基板を用いて構成され、表示品位の向上を可能とするカラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子の実現が強く望まれている。加えて、アレイ基板の配向膜は低温での加熱によって形成可能であるものが望まれている。本発明は、以上のような課題に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、低温硬化が可能な着色組成物から形成されて着色剤に染料を含むことのできる着色パターンを有するカラーフィルタ層と、低温硬化により形成されたスペーサとを備えたアレイ基板およびその製造方法を提供することである。また、本発明の別の目的は、低温硬化が可能な着色組成物から形成されて着色剤に染料を含むことのできる着色パターンを有するカラーフィルタ層と、低温硬化により形成されたスペーサとを備えたアレイ基板を用いて構成された液晶表示素子を提供することにある。本発明の第1の態様は、スイッチング能動素子とカラーフィルタ層とスペーサとを有する液晶表示素子用のアレイ基板であって、カラーフィルタ層は、ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料からなる群より選ばれる少なくとも1種の着色剤と、カルボキシル基と熱架橋性基を有する重合体とを含有する着色組成物から形成される着色パターンを有し、スペーサは、[P]アルカリ可溶性樹脂、[Q]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[R]感放射線性重合開始剤、並びに[S]下記式1で表される化合物および下記式2で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する第1の感放射線性樹脂組成物から形成されることを特徴とするアレイ基板に関する。式1中、R1~R6は、それぞれ独立して水素原子、電子吸引性基またはアミノ基である。但し、R1~R6のうち少なくとも1つは電子吸引性基であり、かつR1~R6のうち少なくとも1つはアミノ基である。また、上記アミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数1~6のアルキル基で置換されていてもよい。式2中、R7~R16は、それぞれ独立して水素原子、電子吸引性基またはアミノ基である。但し、R7~R16のうち少なくとも1つはアミノ基である。また、上記アミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数1~6の炭化水素基で置換されていてもよい。Aは、単結合、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニルメチレン基、スルフィニル基、スルホニル基、メチレン基または炭素数2~6のアルキレン基である。但し、上記メチレン基およびアルキレン基は、水素原子の全部または一部がシアノ基、ハロゲン原子またはフルオロアルキル基で置換されていてもよい。本発明の第1の態様において、着色組成物に含有される重合体は、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種から形成される構成単位と、エポキシ基含有不飽和化合物から形成される構成単位とを含む共重合体であることが好ましい。本発明の第1の態様において、着色組成物は、上記式1で表される化合物、上記式2で表される化合物、3級アミン化合物、アミン塩、ホスホニウム塩、アミジン塩、アミド化合物、チオール化合物、ブロックイソシアネート化合物およびイミダゾール環含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することが好ましい。本発明の第1の態様において、第1の感放射線性樹脂組成物に含有される[P]アルカリ可溶性樹脂は、P-1不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種から形成される構成単位と、P-2エポキシ基含有不飽和化合物から形成される構成単位とを含む共重合体であることが好ましい。本発明の第1の態様において、着色パターンは、200°C以下の硬化温度で形成されたものであることが好ましい。本発明の第1の態様において、スペーサは、200°C以下の硬化温度で形成されたものであることが好ましい。本発明の第1の態様において、着色パターンは、スペーサの硬化温度より低い硬化温度で形成されたものであることが好ましい。本発明の第1の態様において、カラーフィルタ層は、着色パターンの上に絶縁膜を有し、その絶縁膜は、[I]エポキシ基を有する化合物、[II]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[III]感放射線性重合開始剤、並びに[IV]上記式1で表される化合物および上記式2で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する第2の感放射線性樹脂組成物から形成されることが好ましい。本発明の第1の態様において、第2の感放射線性樹脂組成物に含有される[I]エポキシ基を有する化合物は、重合体であることが好ましい。本発明の第1の態様において、第2の感放射線性樹脂組成物に含有される[I]エポキシ基を有する化合物は、カルボキシル基をさらに有することが好ましい。本発明の第1の態様において、絶縁膜は、200°C以下の硬化温度で形成されたものであることが好ましい。本発明の第1の態様において、着色パターンは、絶縁膜の硬化温度より低い硬化温度で形成されたものであることが好ましい。本発明の第1の態様において、絶縁膜は、スペーサの硬化温度より低い硬化温度で形成されたものであることが好ましい。本発明の第1の態様において、カラーフィルタ層の上に透明電極を有し、その透明電極の上に、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤および光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤のうちのいずれかを用いて得られた配向膜を有することが好ましい。本発明の第1の態様において、配向膜は、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤を用いて得られた配向膜であることが好ましい。本発明の第2の態様は、本発明の第1の態様のアレイ基板を有することを特徴とする液晶表示素子に関する。本発明の第3の態様は、スイッチング能動素子とカラーフィルタ層とスペーサとを有する液晶表示素子用のアレイ基板の製造方法であって、[1]ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料からなる群より選ばれる少なくとも1種の着色剤と、カルボキシル基と熱架橋性基を有する重合体とを含有する着色組成物の塗膜を、スイッチング能動素子を有する基板上に形成する工程、[2]着色組成物の塗膜に着色パターンを形成する工程、[3]着色パターンが形成された塗膜を200°C以下で硬化する工程、[4][P]アルカリ可溶性樹脂、[Q]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[R]感放射線性重合開始剤、および[S]下記式1で表される化合物および下記式2で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜を、工程[3]の硬化した塗膜を有する基板の上に形成する工程、[5]第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、[6]工程[5]で放射線が照射された塗膜を現像する工程、並びに[7]工程[6]で現像された塗膜を200°C以下で硬化してスペーサを形成する工程を有することを特徴とするアレイ基板の製造方法に関する。式1中、R1~R6は、それぞれ独立して水素原子、電子吸引性基またはアミノ基である。但し、R1~R6のうち少なくとも1つは電子吸引性基であり、かつR1~R6のうち少なくとも1つはアミノ基である。また、上記アミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数1~6のアルキル基で置換されていてもよい。式2中、R7~R16は、それぞれ独立して水素原子、電子吸引性基またはアミノ基である。但し、R7~R16のうち少なくとも1つはアミノ基である。また、上記アミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数1~6の炭化水素基で置換されていてもよい。Aは、単結合、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニルメチレン基、スルフィニル基、スルホニル基、メチレン基または炭素数2~6のアルキレン基である。但し、上記メチレン基およびアルキレン基は、水素原子の全部または一部がシアノ基、ハロゲン原子またはフルオロアルキル基で置換されていてもよい。本発明の第3の態様において、着色組成物は、上記式1で表される化合物、上記式2で表される化合物、3級アミン化合物、アミン塩、ホスホニウム塩、アミジン塩、アミド化合物、チオール化合物、ブロックイソシアネート化合物およびイミダゾール環含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することが好ましい。本発明の第3の態様において、工程[3]の硬化温度が、工程[7]の硬化温度より低い温度であることが好ましい。本発明の第3の態様において、工程[3]と工程[4]との間に、[a][I]エポキシ基を有する化合物、[II]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[III]感放射線性重合開始剤、および[IV]上記式1で表される化合物および上記下記式2で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する第2の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上の硬化された着色パターンの上に形成する工程、[b]第2の感放射線性樹脂組成物の塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、[c]放射線が照射された塗膜を現像する工程、並びに[d]現像された塗膜を200°C以下で硬化して絶縁膜を形成する工程を有することが好ましい。本発明の第3の態様において、工程[3]の硬化温度が、工程[d]の硬化温度より低い温度であることが好ましい。本発明の第3の態様において、工程[d]の硬化温度が、工程[7]の硬化温度より低い温度であることが好ましい。本発明の第3の態様において、配向膜を200°C以下で形成する工程をさらに有することが好ましい。本発明の第3の態様において、配向膜を200°C以下で形成する工程は、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤および光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤のうちのいずれかを用いて配向膜を形成することが好ましい。本発明によれば、低温加熱により製造されて色特性に優れたカラーフィルタ層とスペーサとを有するアレイ基板とその製造方法が提供される。また、本発明によれば、低温加熱により製造されて色特性に優れたカラーフィルタ層とスペーサとを備えたアレイ基板からなる液晶表示素子が提供される。本発明の実施形態について、以下で説明する。尚、本発明において、露光に際して照射される放射線とは、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線、荷電粒子線等を含む概念である。<液晶表示素子>本実施の形態の液晶表示素子は、本実施の形態のカラーフィルタ層を備えたアレイ基板からなる、カラーフィルタオンアレイ構造のカラー液晶表示素子である。以下、本実施の形態の液晶表示素子の構造および本実施の形態のアレイ基板について、図面を用いて説明する。本実施の形態の液晶表示素子は、例えば、アクティブ駆動が可能な、薄膜トランジスタ型とすることができる。スイッチング能動素子、電極、カラーフィルタ層およびスペーサの形成された本実施の形態のアレイ基板と、透明電極の形成された別の基板とが、液晶層を介して対向する構造とすることができる。図1は、本実施の形態のアレイ基板の要部構造を示す模式的な断面図である。図2は、本実施の形態のアレイ基板の模式的な電極配線図である。図1に示すアレイ基板1は、本実施の形態のアレイ基板の一例である。透明な基板4の一方の面に、ソース電極5と、ドレイン電極6と、ゲート電極7と、スイッチング能動素子8と、赤色R、緑色Gおよび青色Bの各色の着色パターン12とを配置した構造を有する。着色パターン12の上には、透明電極9が配置される。透明電極9の上には、スイッチング能動素子8の上方に対応する位置にスペーサ10が立設されている。着色パターン12に設けられた凹部構造は、コンタクトホール17であり、この部分で透明電極9とドレイン電極6とが電気的に接続する。そして、図2に示すように、アレイ基板1上では、ソース配線18とゲート配線19とがマトリクス状に配設される。ソース配線18とゲート配線19の交差部近傍に、スイッチング能動素子8が設けられ、ソース電極5はソース配線18に接続し、ゲート電極7はゲート配線19に接続する。こうして、アレイ基板1上に区画された各画素が構成される。尚、着色パターン12の色については、上記のRGB3色に限られるわけではなく、他の色を選択することや、RGB3色に黄色Yを加えて4色の着色パターンとすることも可能である。そして、各色の着色パターン12を配列して、アレイ基板1のカラーフィルタ層13が形成される。後述するように、本実施の形態のアレイ基板1において、カラーフィルタ層13を構成する着色パターン12は、ソース電極5等の電極とスイッチング能動素子8とが形成された基板4上に着色組成物に塗布し、パターニングした後、硬化して形成される。スペーサ10も同様に感放射線性樹脂組成物を塗布パターニングした後、硬化して形成される。尚、以下の説明においては、便宜上、スペーサ10を形成するため感放射線性樹脂組成物を第1の感放射線性樹脂組成物と称し、後述する絶縁膜を形成するための感放射線性樹脂組成物を第2の感放射線性樹脂組成物と称することにする。着色組成物および第1の感放射線性樹脂組成物は、後に説明するように、同系の類似の材料を用いた感放射性の樹脂組成物とすることが可能であり。それらは200°C以下の低温硬化により、それぞれ着色パターンおよびスペーサを形成できるという特徴を備える。したがって、本実施の形態のアレイ基板1では、200°C以下の低温硬化により着色パターン12とスペーサ10を形成することができて、低温加熱による製造が可能である。そのため、色特性に優れるものの耐熱性に課題を有する染料をカラーフィルタ層13の着色剤として使用しても、工程劣化を低減することができる。よって、着色組成物の着色剤として染料を選択することが可能となり、染料を使用した着色組成物から色特性に優れた着色パターン12を形成し、カラーフィルタ層13を得ることが可能となる。また、アレイ基板1の製造時において、着色パターン12が形成された後にスペーサ10が形成されることを考慮し、着色パターン12の形成における硬化温度を調整することが可能である。すなわち、基板4上に着色パターン12のみを形成するのに最適な硬化温度に比べ、低い硬化温度によって着色パターン12を形成する。そして、透明電極9が形成された後、その上に立設されるスペーサ10の硬化加熱により、着色パターン12に対しても加熱を行うことが可能である。例えば、着色パターン12とスペーサ10の最適な硬化温度がそれぞれ200°C以下、具体的には、180°Cであった場合、基板4上に着色パターン12を、例えば、150°Cの硬化温度で形成しておくことが可能である。次いで、着色パターン12上に透明電極9が形成された後、その上に、第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する。そして、その塗膜をパターニングし、最適な180°Cで硬化することにより、スペーサ10を形成する。その結果、下層にある着色パターン12に対する加熱を行うことになり、所望の状態の着色パターン12を得ることが可能である。その場合、着色組成物の着色剤として染料を選択することが可能となり、染料を使用した着色組成物から形成された着色パターン12により、色特性に優れたカラーフィルタ層13を備えたアレイ基板1を提供できる。さらに、本実施の形態のアレイ基板1では、スペーサ10を形成した後、後述するように液晶配向用の配向膜図1には図示されない。を設けることが可能である。配向膜は、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤または光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤を用いて得ることができる。その場合、200°C以下の加熱温度で配向膜を形成することが可能となる。図3は、本実施の形態の別の例のアレイ基板の要部構造を示す模式的な断面図である。図3に示すアレイ基板31は、本実施の形態のアレイ基板の別の例である。したがって、上述のアレイ基板1と共通する構成要素については、共通する符号を用い、重複する説明は省略する。本実施の形態の別の例であるアレイ基板31は、着色パターン32上に絶縁膜33を有する。よって、カラーフィルタ層34は、着色パターン32と絶縁膜33とから構成される。すなわち、アレイ基板31は、基板4上にスイッチング能動素子8と、着色パターン32および絶縁膜33からなるカラーフィルタ層34とを有する。透明電極9は、カラーフィルタ層34の絶縁膜33の上に配置され、スペーサ10は透明電極9上に立設される。アレイ基板31において、着色パターン32は、上述のアレイ基板1における着色パターン12と同様の着色組成物を用い、同様の方法に従い形成される。絶縁膜33は、着色パターン32を保護し、一方で優れた特性の透明電極9を形成するよう設けられる。絶縁膜33は、後述する第2の感放射線性樹脂組成物を用いて形成される。そして、着色パターン32と同様に、第2の感放射線性樹脂組成物を塗布パターニングした後、硬化して形成される。第2の感放射線性樹脂組成物は、着色パターン32を形成する着色組成物やスペーサ10を形成する第1の感放射線性樹脂組成物と同系の類似の材料を含む感放射線性の樹脂組成物である。そのため、200°C以下の低温硬化により、絶縁膜33を形成できるという特徴を備える。上述のように、スペーサ10も200°C以下の低温硬化によって形成が可能である。したがって、本実施の形態のアレイ基板31では、200°C以下の低温硬化により、着色パターン32と絶縁膜33とからなるカラーフィルタ層34を形成できることになり、200°C以下の低温硬化により、スペーサ10を形成できることになる。その結果、本実施の形態のアレイ基板31は、低温での加熱による製造が可能である。また、アレイ基板31では、着色パターン32を形成した後に絶縁膜33を形成する。絶縁膜33は200°C以下の低温硬化により形成することができるため、着色パターン32が形成された後に、絶縁膜形成のための高温加熱の状態に晒されることはない。したがって、色特性に優れるものの耐熱性に課題を有する染料を着色剤として使用しても、工程劣化を低減することが可能となる。すなわち、アレイ基板31は、着色パターン32の着色組成物の着色剤として染料を選択することが可能となり、色特性に優れた着色パターン32からなるカラーフィルタ層34を形成することが可能となる。さらに、上述のように、着色組成物と第2の感放射線性樹脂組成物は、いずれも後述する同様の材料を用いた感放射線性の樹脂組成物である。したがって、アレイ基板31の製造時において、着色パターン32上に絶縁膜33が形成されることを考慮し、着色パターン32形成時の硬化温度を調整することが可能である。すなわち、例えば、基板4上、着色パターン32のみ単独で形成するのに最適な硬化温度に比べ、低い硬化温度によって着色パターン32を形成する。その後、着色パターン32上に形成される絶縁膜33の硬化加熱により、着色パターン32に対する加熱も行うことが可能である。例えば、着色パターン32と絶縁膜33の最適な硬化温度がそれぞれ200°C以下で、具体例として、180°Cである場合がある。その場合、スイッチング能動素子8等の形成された基板4上、着色パターン32を、例えば、150°Cの硬化温度で形成しておく。次に、その着色パターン32の上に感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成し、最適な180°Cで硬化することにより、絶縁膜33を形成する。併せて、その下層にある着色パターン32に対する加熱を行うことになり、所望の状態の着色パターン32を得ることが可能である。その結果、着色組成物の着色剤として染料を選択した場合であっても工程劣化をさらに低減することができる。そして、色特性に優れ高信頼性のカラーフィルタ層34を備えたアレイ基板31を提供することができる。さらに、アレイ基板31の製造時において、着色パターン32および絶縁膜33が形成された後にスペーサ10が形成されることを考慮し、着色パターン32の形成時の硬化温度とともに絶縁膜33の形成における硬化温度も調整することが可能である。すなわち、基板4上、着色パターン32のみを形成するのに最適な硬化温度に比べ、低い硬化温度によって着色パターン32を形成する。次いで、絶縁膜33のみを形成するのに最適な硬化温度に比べ、低い硬化温度によって絶縁膜33を形成する。そして、透明電極9が形成された後、その上に立設されるスペーサ10の硬化加熱により、着色パターン32および絶縁膜33に対しても加熱を行うことが可能である。例えば、着色パターン32と絶縁膜33とスペーサ10の最適な硬化温度がそれぞれ200°C以下、具体的には、180°Cであった場合に、基板4上に着色パターン32を、150°Cの硬化温度で形成しておくことが可能である。次いで、その着色パターン32の上に第2の感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成し、例えば、150°Cの硬化温度で絶縁膜33を形成しておくことが可能である。次に、絶縁膜33の上に透明電極9が形成された後、その上に、第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する。そして、その塗膜をパターニングし、最適な180°Cで硬化することにより、スペーサ10を形成する。その結果、下層にある着色パターン32および絶縁膜33に対する加熱を行うことになり、所望の硬化状態の着色パターン32および絶縁膜33を得ることが可能である。その結果、着色組成物の着色剤として耐熱性に課題がある染料を選択することが可能となり、染料を使用した着色組成物から形成された着色パターン32を形成することができる。そして、色特性に優れたカラーフィルタ層34とスペーサ10とを備えたアレイ基板31を提供できる。さらに、本実施の形態のアレイ基板31では、スペーサ10を形成した後、後述するように液晶配向用の配向膜図3には図示されない。を設けることが可能である。配向膜は、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤または光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤を用いて得ることができる。その場合、200°C以下の加熱温度で配向膜を形成することが可能となり、下層の着色パターン32を高温に加熱することを回避することができる。次に、本実施の形態のアレイ基板を用いたカラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子について説明する。図4は、本実施の形態のカラー液晶表示素子の模式的な断面図である。図4に示す液晶表示素子21は、本実施の形態のカラー液晶表示素子の一例である。液晶表示素子21は、例えば、薄膜トランジスタ型のTNTwistedNematicモード液晶表示素子である。この液晶表示素子21は、上述の本実施形態のアレイ基板1と対向基板22とが、TN液晶からなる液晶層23を介して対向する構造を有する。アレイ基板1は、図4に示すように、透明な基板4の液晶層23側の面に、ソース電極5と、ドレイン電極6と、ゲート電極7と、スイッチング能動素子8と、赤色R、緑色Gおよび青色Bの各色の着色パターン12とを配置した構造を有する。そして、着色パターン12の上は透明電極9が設けられている。透明電極9の上には、アレイ基板1と対向基板22との間の間隔を維持して液晶層23の厚さを所望の値に保つようにスペーサ10が立設されている。対向基板22には、透明な基板24の液晶層23側の面に、透明な共通電極25が形成されている。アレイ基板1と対向基板22のそれぞれにおいて、液晶層23と接する面には配向膜26が設けられている。配向膜26は、必要であれば、例えば、ラビング処理などの配向処理が施され、アレイ基板1と対向基板22との間に挟持された液晶層23の均一な配向を実現する。そして、液晶層23を介して対向するアレイ基板1と対向基板22との間の距離は、アレイ基板1のスペーサ10によって維持されており、通常、2μm~10μmである。アレイ基板1と対向基板22は周辺部に設けられたシール材図示されないによって互いに固定されている。アレイ基板1と対向基板22において、液晶層23に接する側と反対の側には、それぞれ偏光板28が配置されている。図4において、符号27は、液晶表示素子21の光源となるバックライトユニット図示されないから液晶層23に向けて照射されたバックライト光である。バックライトユニットとしては、例えば、冷陰極蛍光管CCFL:ColdCathodeFluorescentLampなどの蛍光管と、散乱板とが組み合わされた構造のものを用いることができる。また、白色LEDを光源とするバックライトユニットを用いることもできる。白色LEDとしては、例えば、独立したスペクトルを有する赤色LEDと、緑色LEDと、青色LEDとを用いて白色光を得る白色LED、赤色LEDと、緑色LEDと、青色LEDとを組み合わせて混色により白色光を得る白色LED、青色LEDと、赤色LEDと、緑色蛍光体とを組み合わせて混色により白色光を得る白色LED、青色LEDと、赤色発光蛍光体と、緑色発光蛍光体とを組み合わせて混色により白色光を得る白色LED、青色LEDと、YAG系蛍光体との混色により白色光を得る白色LED、青色LEDと、橙色発光蛍光体と、緑色発光蛍光体とを組み合わせて混色により白色光を得る白色LED、紫外線LEDと、赤色発光蛍光体と、緑色発光蛍光体と、青色発光蛍光体とを組み合わせて混色により白色光を得る白色LEDなどを挙げることができる。本実施形態の液晶表示素子21の液晶モードについては、上述のTNモードの他、STNSuperTwistedNematic、IPSIn-PlanesSwitching、VAVerticalAlignmentまたはOCBOpticallyCompensatedBirefringenceなどの液晶モードとすることもできる。その場合、特に、配向膜26については、各液晶モードに最適な液晶層の配向を実現する配向膜が選択される。例えば、本実施形態の液晶表示素子がVAモードの液晶表示素子の場合、配向膜には、垂直配向型の配向膜が使用される。図5は、本実施の形態のカラー液晶表示素子の別の例の模式的な断面図である。図5に示す液晶表示素子51は、本実施の形態のカラー液晶表示素子の別の例であり、薄膜トランジスタ型のTNTwistedNematicモード液晶表示素子である。液晶表示素子51は、上述の本実施形態の液晶表示素子21と同様に、アレイ基板31と対向基板22とが、TN液晶からなる液晶層23を介して対向した構造を有する。そして、アレイ基板に31を用いる以外は、上述の液晶表示素子21と同様の構造を有する。よって、上述の液晶表示素子21と共通する構成要素については、共通する符号を用い、重複する説明は省略する。液晶表示素子51は、アレイ基板31の着色パターン32上に形成された絶縁膜33を有する。よって、着色パターン32と絶縁膜33とからカラーフィルタ層34が構成される。すなわち、液晶表示素子51のアレイ基板31は、基板4上にスイッチング能動素子8と、着色パターン32および絶縁膜33からなるカラーフィルタ層34と、スペーサ10とを有する。透明電極9は、カラーフィルタ層34の絶縁膜33の上に配置される。透明電極9の上にはスペーサ10が立設されている。着色パターン32は低温硬化が可能で染料を着色剤に含有することができる、絶縁膜33は、着色パターン32を保護し、一方で優れた特性の透明電極9を形成するよう設けられている。スペーサ10は、液晶層23を介して対向するアレイ基板1と対向基板22との間の距離を規定し、液晶層23の厚さは所望の値に維持している。以上のように、本実施の形態の液晶表示素子は、カラーフィルタオンアレイ構造を有し、そのアレイ基板のカラーフィルタ層は低温加熱による形成が可能である。スペーサも低温加熱による形成が可能である。したがって、色特性に優れるものの耐熱性に課題を有する染料を着色剤として使用しても、工程劣化を低減することができ、高信頼性を実現することができる。すなわち、本実施の形態の液晶表示素子は、カラーフィルタオンアレイ構造を有するとともに、染料を含有する着色剤を使用したカラーフィルタ層の適用を可能としている。本実施の形態の液晶表示素子において、このような素子構造とカラーフィルタ層の改善の両立は、本実施の形態の液晶表示素子のアレイ基板の主要な構成要素であるカラーフィルタ層の構成および低温硬化可能なスペーサによって実現される。したがって次に、本実施の形態の液晶表示素子のアレイ基板の主要な構成要素であるカラーフィルタ層の構成についてより詳しく説明する。その後、スペーサについてより詳しく説明する。本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層は、着色組成物を用いて基板上に形成された着色パターンからなる。また、上述のように絶縁膜を有することも可能である。その場合、絶縁膜は第2の感放射線性樹脂組成物を用いてその着色パターン上に形成されたものである。以下ではまず、本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層を構成する着色パターンについて、特にその形成に用いられる着色組成物を中心に説明する。次いで、絶縁膜について、特にその形成に用いられる第2の感放射線性樹脂組成物を中心に説明する。<着色組成物>本実施形態のアレイ基板のカラーフィルタ層の着色パターンの製造に用いられる着色組成物は、[A]アルカリ可溶性樹脂、[B]重合性化合物、[C]重合開始剤、および[D]着色剤を含有する。そしてさらに、[E]化合物を含有することができる。また、本発明の効果を損なわない限りその他の任意成分を含有してもよい。以下、着色組成物に含有される各成分について説明する。<[A]アルカリ可溶性樹脂>[A]アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基を有することで、アルカリ現像性を有する樹脂重合体であれば、特に限定されない。そして、カルボキシル基と熱架橋性基を有する重合体であることが好ましい。具体的には、メタアクリロイルオキシ基を有する構造単位およびエポキシ基を有する構造単位からなる群より選択される少なくとも1種の構造単位を含む共重合体であることが好ましい。[A]アルカリ可溶性樹脂が、上記特定構造単位を含むことで、優れた表面硬化性および深部硬化性を有する硬化膜を形成することができる。[A]アルカリ可溶性樹脂は、A1不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種以下、A1化合物とも称すると、A2エポキシ基含有不飽和化合物以下、A2化合物とも称するとを共重合して合成することができる。そして、[A]アルカリ可溶性樹脂は、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種から形成される構成単位およびエポキシ基含有不飽和化合物から形成される構成単位を含む共重合体となる。[A]アルカリ可溶性樹脂は、例えば、溶媒中で重合開始剤の存在下、カルボキシル基含有構造単位を与えるA1化合物と、エポキシ基含有構造単位を与えるA2化合物とを共重合することによって製造できる。また、A3水酸基含有構造単位を与える水酸基含有不飽和化合物以下、A3化合物とも称するをさらに加えて、共重合体とすることもできる。さらに、[A]アルカリ可溶性樹脂の製造においては、上記A1化合物、A2化合物およびA3化合物と共に、A4化合物上記A1、A2およびA3化合物に由来する構造単位以外の構造単位を与える不飽和化合物をさらに加えて、共重合体とすることもできる。以下、各化合物を詳述する。[A1化合物]A1化合物としては、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸の無水物、多価カルボン酸のモノメタアクリロイルオキシアルキルエステル、両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノメタアクリレート、カルボキシル基を有する不飽和多環式化合物及びその無水物等が挙げられる。不飽和モノカルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等;不飽和ジカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等;不飽和ジカルボン酸の無水物としては、例えば、上記ジカルボン酸として例示した化合物の無水物等;多価カルボン酸のモノメタアクリロイルオキシアルキルエステルとしては、例えば、コハク酸モノ2-メタアクリロイルオキシエチル、フタル酸モノ2-メタアクリロイルオキシエチル等;両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノメタアクリレートとしては、例えばω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレート等;カルボキシル基を有する不飽和多環式化合物及びその無水物としては、例えば、5-カルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-6-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-6-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン無水物等が挙げられる。これらのA1化合物のうち、モノカルボン酸、ジカルボン酸無水物、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸が好ましく、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸が共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性および入手の容易性からより好ましい。これらのA1化合物は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。A1化合物の使用割合としては、A1化合物並びにA2化合物必要に応じて任意のA3化合物およびA4化合物の合計に基づいて、5質量~30質量が好ましく、10質量~25質量がより好ましい。A1化合物の使用割合を5質量~30質量とすることによって、[A]アルカリ可溶性樹脂のアルカリ水溶液に対する溶解性を最適化すると共に、放射線性感度に優れる着色組成物が得られる。[A2化合物]A2化合物はラジカル重合性を有するエポキシ基含有不飽和化合物である。エポキシ基としては、オキシラニル基1,2-エポキシ構造、オキセタニル基1,3-エポキシ構造が挙げられる。オキシラニル基を有する不飽和化合物としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2-メチルグリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸3,4-エポキシブチル、メタクリル酸3,4-エポキシブチル、アクリル酸6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロへキシルメチル等が挙げられる。これらのうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2-メチルグリシジル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルが、共重合反応性および着色パターン等の耐溶媒性等の向上の観点から好ましい。オキセタニル基を有する不飽和化合物としては、例えば、3-アクリロイルオキシメチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-メチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-フェニルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-フェニルオキセタン等のアクリル酸エステル;3-メタクリロイルオキシメチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-メチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-フェニルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-フェニルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2,2-ジフルオロオキセタン等のメタクリル酸エステル等が挙げられる。これらのA2化合物のうち、メタアクリル酸グリシジルが好ましい。これらのA2化合物は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。A2化合物の使用割合としては、A1化合物並びにA2化合物必要に応じて任意のA3化合物およびA4化合物の合計に基づいて、5質量~60質量が好ましく、10質量~50質量がより好ましい。A2化合物の使用割合を5質量~60質量とすることによって、優れた硬化性等を有する硬化膜を形成できる。[A3化合物]A3化合物としては、まず、水酸基を有するメタアクリル酸エステル、フェノール性水酸基を有するメタアクリル酸エステル、ヒドロキシスチレンが挙げられる。水酸基を有するアクリル酸エステルとしては、アクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、アクリル酸4-ヒドロキシブチル、アクリル酸5-ヒドロキシペンチル、アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル等が挙げられる。また、水酸基を有するメタクリル酸エステルとしては、メタククリル酸2-ヒドロキシエチル、メタククリル酸3-ヒドロキシプロピル、メタククリル酸4-ヒドロキシブチル、メタククリル酸5-ヒドロキシペンチル、メタククリル酸6-ヒドロキシヘキシル等が挙げられる。フェノール性水酸基を有するアクリル酸エステルとしては、2-ヒドロキシエチルアクリレート、4-ヒドロキシフェニルアクリレート等が挙げられる。フェノール性水酸基を有するメタクリル酸エステルとしては、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、4-ヒドロキシフェニルメタクリレート等が挙げられる。ヒドロキシスチレンとしては、o-ヒドロキシスチレン、p-ヒドロキシスチレン、α-メチル-p-ヒドロキシスチレンが好ましい。これらのA3化合物は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。A3化合物の使用割合としては、A1化合物、A2化合物並びにA3化合物必要に応じて任意のA4化合物の合計に基づいて、1質量~30質量が好ましく、5質量~25質量がより好ましい。[A4化合物]A4化合物は、上記のA1化合物、A2化合物およびA3化合物以外での不飽和化合物であれば特に制限されるものではない。A4化合物としては、例えば、メタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、アクリル酸鎖状アルキルエステル、アクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物、マレイミド化合物、不飽和芳香族化合物、共役ジエン、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格等をもつ不飽和化合物及びその他の不飽和化合物等が挙げられる。メタクリル酸鎖状アルキルエステルとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸sec-ブチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸イソデシル、メタクリル酸n-ラウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸n-ステアリル等が挙げられる。メタクリル酸環状アルキルエステルとしては、例えば、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2-メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチル、メタクリル酸イソボロニル等が挙げられる。アクリル酸鎖状アルキルエステルとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸sec-ブチル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸イソデシル、アクリル酸n-ラウリル、アクリル酸トリデシル、アクリル酸n-ステアリル等が挙げられる。アクリル酸環状アルキルエステルとしては、例えば、シクロヘキシルアクリレート、2-メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート等が挙げられる。メタクリル酸アリールエステルとしては、例えば、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等が挙げられる。アクリル酸アリールエステルとしては、例えば、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等が挙げられる。不飽和ジカルボン酸ジエステルとしては、例えば、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等が挙げられる。ビシクロ不飽和化合物としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン等が挙げられる。マレイミド化合物としては、例えば、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-4-ヒドロキシフェニルマレイミド、N-4-ヒドロキシベンジルマレイミド、N-スクシンイミジル-3-マレイミドベンゾエート、N-スクシンイミジル-4-マレイミドブチレート、N-スクシンイミジル-6-マレイミドカプロエート、N-スクシンイミジル-3-マレイミドプロピオネート、N-9-アクリジニルマレイミド等が挙げられる。不飽和芳香族化合物としては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、ビニルトルエン、p-メトキシスチレン等が挙げられる。共役ジエンとしては、例えば、1,3-ブタジエン、イソプレン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン等が挙げられる。テトラヒドロフラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えば、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、2-メタクリロイルオキシ-プロピオン酸テトラヒドロフルフリルエステル、3-メタアクリロイルオキシテトラヒドロフラン-2-オン等が挙げられる。フラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えば、2-メチル-5-3-フリル-1-ペンテン-3-オン、フルフリルメタアクリレート、1-フラン-2-ブチル-3-エン-2-オン、1-フラン-2-ブチル-3-メトキシ-3-エン-2-オン、6-2-フリル-2-メチル-1-ヘキセン-3-オン、6-フラン-2-イル-ヘキシ-1-エン-3-オン、アクリル酸-2-フラン-2-イル-1-メチル-エチルエステル、6-2-フリル-6-メチル-1-ヘプテン-3-オン等が挙げられる。テトラヒドロピラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えば、テトラヒドロピラン-2-イルメチルメタクリレート、2,6-ジメチル-8-テトラヒドロピラン-2-イルオキシ-オクト-1-エン-3-オン、2-メタクリル酸テトラヒドロピラン-2-イルエステル、1-テトラヒドロピラン-2-オキシ-ブチル-3-エン-2-オン等が挙げられる。ピラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えば、4-1,4-ジオキサ-5-オキソ-6-ヘプテニル-6-メチル-2-ピラン、4-1,5-ジオキサ-6-オキソ-7-オクテニル-6-メチル-2-ピラン等が挙げられる。その他の不飽和化合物としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル等が挙げられる。これらのA4化合物のうち、メタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、マレイミド化合物、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、不飽和芳香族化合物、アクリル酸環状アルキルエステルが好ましい。これらのうち、スチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸n-ラウリル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、p-メトキシスチレン、2-メチルシクロヘキシルアクリレート、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、ポリエチレングリコールn=2~10モノメタアクリレート、3-メタアクリロイルオキシテトラヒドロフラン-2-オンが、共重合反応性及びアルカリ水溶液に対する溶解性の点からより好ましい。これらのA4化合物は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。A4化合物の使用割合としては、A1化合物、A2化合物並びにA4化合物および任意のA3化合物の合計に基づいて、10質量~80質量が好ましい。<[A]アルカリ可溶性樹脂の合成方法1>[A]アルカリ可溶性樹脂は、例えば、溶媒中で重合開始剤の存在下、上記A1化合物並びにA2化合物任意のA3化合物およびA4化合物を共重合することによって製造できる。かかる合成方法によれば、少なくともエポキシ基含有構造単位を含む共重合体を合成することができる。[A]アルカリ可溶性樹脂を製造するための重合反応に用いられる溶媒としては、例えば、アルコール、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、ケトン、エステル等が挙げられる。[A]アルカリ可溶性樹脂を製造するための重合反応に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できる。ラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリルAIBN、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物が挙げられる。[A]アルカリ可溶性樹脂を製造するための重合反応においては、分子量を調整するために、分子量調整剤を使用できる。分子量調整剤としては、例えば、クロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類;n-ヘキシルメルカプタン、n-オクチルメルカプタン、n-ドデシルメルカプタン、t-ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類;ジメチルキサントゲンスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類;ターピノーレン、α-メチルスチレンダイマー等が挙げられる。[A]アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量Mwとしては、1,000~30,000が好ましく、5,000~20,000がより好ましい。[A]アルカリ可溶性樹脂のMwを上記範囲とすることで、着色組成物の感度及び現像性を高めることができる。尚、本明細書における重合体のMw及び数平均分子量Mnは下記の条件によるゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCにより測定した。装置:GPC-101昭和電工製カラム:GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803およびGPC-KF-804を結合移動相:テトラヒドロフランカラム温度:40°C流速:1.0mL/分試料濃度:1.0質量試料注入量:100μL検出器:示差屈折計標準物質:単分散ポリスチレン<[A]アルカリ可溶性樹脂の合成方法2>また、[A]アルカリ可溶性樹脂は、例えば、上述のA1化合物を1種以上使用して合成できる共重合体以下、特定共重合体とも称すると、上記A2化合物とを反応させて合成できる。かかる合成方法によれば、少なくともメタアクリロイルオキシ基を有する構造単位を含む共重合体を合成することができる。[A]アルカリ可溶性樹脂が含むメタアクリロイルオキシ基を有する構造単位は、下記式3で表される。この構造単位は、A1化合物に由来する特定共重合体中のカルボキシル基とA2化合物のエポキシ基とが反応し、エステル結合を形成して得られる。上記式3中、R20およびR21は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基である。cは、1~6の整数である。R22は、下記式4-1または4-2で表される2価の基である。上記式4-1中、R23は、水素原子またはメチル基である。上記式4-1および式4-2中、は、酸素原子と結合する部位を示す。上記式3で表される構造単位について、例えば、カルボキシル基を有する共重合体に、A2化合物としてメタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2-メチルグリシジル等の化合物を反応させた場合、式3中のR22は、式4-1となる。一方、A2化合物としてメタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル等の化合物を反応させた場合、式3中のR22は、式4-2となる。特定共重合体の合成に際しては、A1化合物以外の化合物、例えば、上述のA3化合物、A4化合物等を共重合成分として用いてもよい。これらの化合物としては、共重合反応性の点から、メタクリル酸メチル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸2-ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イル、スチレン、p-メトキシスチレン、メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、1,3-ブタジエンが好ましい。特定共重合体の共重合の方法としては、例えば、A1化合物、および必要に応じてA3化合物等を、溶媒中ラジカル重合開始剤を使用して重合する方法が挙げられる。ラジカル重合開始剤としては、上述の[A]アルカリ可溶性樹脂の項で例示したものと同様のものが挙げられる。ラジカル重合開始剤の使用量としては、重合性不飽和化合物100質量に対して、通常0.1質量~50質量、好ましくは0.1質量~20質量である。特定共重合体は、重合反応溶液のまま[A]アルカリ可溶性樹脂の製造に供してもよく、共重合体を一旦溶液から分離した後に[A]アルカリ可溶性樹脂の製造に供してもよい。特定共重合体のMwとしては、2,000~100,000が好ましく、5,000~50,000がより好ましい。Mwを2,000以上とすることで、着色組成物の十分な現像マージンを得ると共に、形成される塗膜の残膜率パターン状薄膜が適正に残存する比率の低下を防止し、さらには得られるパターンの形状や耐熱性等を良好に保つことができる。一方、Mwを100,000以下とすることで、高度な感度を保持し、良好なパターン形状を得ることができる。また、特定共重合体の分子量分布Mw/Mnとしては、5.0以下が好ましく、3.0以下がより好ましい。Mw/Mnを5.0以下とすることで、得られるスペーサーパターンの形状を良好に保つことができる。また、上記特定範囲のMw/Mnを有する特定共重合体を含む着色組成物は、高度な現像性を有し、現像工程において、現像残りを生じることなく容易に所定パターン形状を形成することができる。[A]アルカリ可溶性樹脂のA1化合物に由来する構造単位の含有率としては、5質量~60質量が好ましく、7質量~50質量がより好ましく、8質量~40質量が特に好ましい。[A]アルカリ可溶性樹脂のA1化合物以外のA3化合物、A4化合物等の化合物に由来する構造単位の含有率としては、10質量~90質量、20質量~80質量である。特定共重合体とA2化合物との反応においては、必要に応じて適当な触媒の存在下において、好ましくは重合禁止剤を含む共重合体の溶液に、エポキシ基を有する不飽和化合物を投入し、加温下で所定時間攪拌する。上記触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。上記重合禁止剤としては、例えば、p-メトキシフェノール等が挙げられる。反応温度としては、70°C~100°Cが好ましい。反応時間としては、8時間~12時間が好ましい。A2化合物の使用割合としては、共重合体中のA1化合物に由来するカルボキシル基に対して、5質量~99質量が好ましく、10質量~97質量がより好ましい。A2化合物の使用割合を上記範囲とすることで、共重合体との反応性、硬化膜の硬化性等がより向上する。A2化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。<[B]重合性化合物>本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層において、着色パターンの製造に用いられる着色組成物に含有される[B]重合性化合物について説明する。[B]重合性化合物として使用できるものは、例えば、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレート、エチレングリコールメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジメタアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-メタアクリロイロキシプロピルメタクリレート、2-2’-ビニロキシエトキシエチルメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリ2-メタアクリロイロキシエチルフォスフェート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート等の他、直鎖アルキレン基および脂環式構造を有しかつ2個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に1個以上の水酸基を有しかつ3個~5個のメタアクリロイロキシ基を有する化合物とを反応させて得られるウレタンメタアクリレート化合物等が挙げられる。使用可能な[B]重合性化合物の市販品としては、例えば、アロニックス登録商標M-400、同M-402、同M-405、同M-450、同M-1310、同M-1600、同M-1960、同M-7100、同M-8030、同M-8060、同M-8100、同M-8530、同M-8560、同M-9050、アロニックス登録商標TO-756、同TO-1450、同TO-1382以上、東亞合成社、KAYARAD登録商標DPHA、同DPCA-20、同DPCA-30、同DPCA-60、同DPCA-120、同MAX-3510以上、日本化薬社、ビスコート295、同300、同360、同GPT、同3PA、同400以上、大阪有機化学工業社、ウレタンアクリレート系化合物としてニューフロンティア登録商標R-1150第一工業製薬社、KAYARAD登録商標DPHA、KAYARAD登録商標DPHA-40H、UX-5000日本化薬社、UN-9000H根上工業社、アロニックス登録商標M-5300、同M-5600、同M-5700、M-210、同M-220、同M-240、同M-270、同M-6200、同M-305、同M-309、同M-310、同M-315以上、東亞合成社、KAYARAD登録商標HDDA、KAYARAD登録商標HX-220、同HX-620、同R-526、同R-167、同R-604、同R-684、同R-551、同R-712、UX-2201、UX-2301、UX-3204、UX-3301、UX-4101、UX-6101、UX-7101、UX-8101、UX-0937、MU-2100、MU-4001以上、日本化薬社、アートレジンUN-9000PEP、同UN-9200A、同UN-7600、同UN-333、同UN-1003、同UN-1255、同UN-6060PTM、同UN-6060P、同SH-500B以上、根上工業社、ビスコート260、同312、同335HP以上、大阪有機化学工業社等が挙げられる。[B]重合性化合物は、単独または2種以上を混合して使用できる。着色組成物における[B]重合性化合物の使用割合としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して10質量部~700質量部が好ましく、20質量部~600質量部がより好ましい。[B]重合性化合物の使用割合を上記範囲とすることで、着色組成物は、低露光量においても十分な耐熱性、耐溶媒性、電圧保持率を有した着色パターン等を形成できる。<[C]重合開始剤>本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層において、着色パターンの製造に用いられる着色組成物に含有される[C]重合開始剤について説明する。[C]重合開始剤は、感放射線性重合開始剤であり、放射線に感応して[B]重合性化合物の重合を開始しうる活性種を生じる成分である。このような[C]重合開始剤としては、O-アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物等が挙げられる。これらの化合物は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。O-アシルオキシム化合物としては、例えば、1,2-オクタンジオン1-[4-フェニルチオ-2-O-ベンゾイルオキシム]、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、1-9-エチル-6-ベンゾイル-9.H.-カルバゾール-3-イル-オクタン-1-オンオキシム-O-アセテート、1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9.H.-カルバゾール-3-イル-エタン-1-オンオキシム-O-ベンゾエート、1-9-n-ブチル-6-2-エチルベンゾイル-9.H.-カルバゾール-3-イル-エタン-1-オンオキシム-O-ベンゾエート、エタノン-1-[9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロフラニルベンゾイル-9.H.-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロピラニルベンゾイル-9.H.-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチル-5-テトラヒドロフラニルベンゾイル-9.H.-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-{2-メチル-4-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニルメトキシベンゾイル}-9.H.-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム等が挙げられる。これらのうち、1,2-オクタンジオン1-[4-フェニルチオ-2-O-ベンゾイルオキシム]、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル-9.H.-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシムまたはエタノン-1-9-エチル-6-{2-メチル-4-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニルメトキシベンゾイル}-9.H.-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシムが好ましい。アセトフェノン化合物としては、例えば、α-アミノケトン化合物、α-ヒドロキシケトン化合物が挙げられる。α-アミノケトン化合物としては、例えば、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン等が挙げられる。α-ヒドロキシケトン化合物としては、例えば、1-フェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-i-プロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。これらのうちα-アミノケトン化合物が好ましく、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オンがより好ましい。ビイミダゾール化合物としては、例えば、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾールまたは2,2’-ビス2,4,6-トリクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾールが好ましく、そのうち、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾールがより好ましい。[C]重合開始剤の使用割合としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、1質量部~40質量部が好ましく、5質量部~30質量部がより好ましい。[C]重合開始剤の使用割合を1質量部~40質量部とすることで、着色組成物は、低露光量の場合でも高い耐溶媒性等を有する着色パターンおよびカラーフィルタ層を形成できる。<[D]着色剤>上述のように、本実施形態のアレイ基板において、着色パターンおよびカラーフィルタ層には高い色純度、輝度、コントラスト等が強く求められている。したがって、カラーフィルタ層の着色パターン形成に用いられる着色組成物に含有される[D]着色剤としては、そうした特性の実現に適したものの選択が必要となる。着色剤としては、例えば、顔料、染料および天然色素のいずれをも使用できるが、着色パターンおよびカラーフィルタ層に求められる高い色純度や輝度などを考慮すると顔料および染料の選択が好ましい。そして、染料の選択が特に好ましい。[D]着色剤として使用可能な染料については、例えば、油溶性染料、アシッド染料またはその誘導体、ダイレクト染料、モーダント染料等が挙げられる。染料として、有機溶媒に可溶である限り公知の染料を使用できる。C.I.油溶性染料としては、例えば、C.I.ソルベントイエロー4以下、C.I.ソルベントイエローの記載を省略し、番号のみを記載する。その他の染料も同様に記載する、14、15、23、24、38、62、63、68、82、88、94、98、99、162、179;C.I.ソルベントレッド45、49、125、130;C.I.ソルベントオレンジ2、7、11、15、26、56;C.I.ソルベントブルー35、37、59、67;C.I.ソルベントグリーン1、3、4、5、7、28、29、32、33、34、35等が挙げられる。C.I.アシッド染料としては、例えば、C.I.アシッドイエロー1、3、7、9、11、17、23、25、29、34、36、38、40、42、54、65、72、73、76、79、98、99、111、112、113、114、116、119、123、128、134、135、138、139、140、144、150、155、157、160、161、163、168、169、172、177、178、179、184、190、193、196、197、199、202、203、204、205、207、212、214、220、221、228、230、232、235、238、240、242、243、251;Valifastyellow1101、1109、1151、3108、3120、3130、3150、3170、4120;C.I.アシッドレッド1、4、8、14、17、18、26、27、29、31、34、35、37、42、44、50、51、52、57、66、73、80、87、88、91、92、94、97、103、111、114、129、133、134、138、143、145、150、151、158、176、182、183、198、206、211、215、216、217、227、228、249、252、257、258、260、261、266、268、270、274、277、280、281、195、308、312、315、316、339、341、345、346、349、382、383、394、401、412、417、418、422、426;C.I.アシッドオレンジ6、7、8、10、12、26、50、51、52、56、62、63、64、74、75、94、95、107、108、169、173;C.I.アシッドブルー1、7、9、15、18、23、25、27、29、40、42、45、51、62、70、74、80、83、86、87、90、92、96、103、108、112、113、120、129、138、147、150、158、171、182、192、210、242、249、243、256、259、267、278、280、285、290、296、315、324、335、340;C.I.アシッドバイオレット6B、7、9、17、19、49;C.I.アシッドグリーン1、3、5、9、16、25、27、50、58、63、65、80、104、105、106、109;C.I.アシッドブラック24等の染料が挙げられる。C.I.ダイレクト染料としては、例えば、C.I.ダイレクトイエロー2、33、34、35、38、39、43、47、50、54、58、68、69、70、71、86、93、94、95、98、102、108、109、129、136、138、141;C.I.ダイレクトレッド79、82、83、84、91、92、96、97、98、99、105、106、107、172、173、176、177、179、181、182、184、204、207、211、213、218、220、221、222、232、233、234、241、243、246、250;C.I.ダイレクトオレンジ34、39、41、46、50、52、56、57、61、64、65、68、70、96、97、106、107;C.I.ダイレクトブルー57、77、80、81、84、85、86、90、93、94、95、97、98、99、100、101、106、107、108、109、113、114、115、117、119、137、149、150、153、155、156、158、159、160、161、162、163、164、166、167、170、171、172、173、188、189、190、192、193、194、196、198、199、200、207、209、210、212、213、214、222、228、229、237、238、242、243、244、245、247、248、250、251、252、256、257、259、260、268、274、275、293;C.I.ダイレクトバイオレット47、52、54、59、60、65、66、79、80、81、82、84、89、90、93、95、96、103、104;C.I.ダイレクトグリーン25、27、31、32、34、37、63、65、66、67、68、69、72、77、79、82等が挙げられる。C.I.モーダント染料としては、例えば、C.I.モーダントイエロー5、8、10、16、20、26、30、31、33、42、43、45、56、61、62、65;C.I.モーダントレッド1、2、3、4、9、11、12、14、17、18、19、22、23、24、25、26、30、32、33、36、37、38、39、41、43、45、46、48、53、56、63、71、74、85、86、88、90、94、95;C.I.モーダントオレンジ3、4、5、8、12、13、14、20、21、23、24、28、29、32、34、35、36、37、42、43、47、48;C.I.モーダントブルー1、2、3、7、8、9、12、13、15、16、19、20、21、22、23、24、26、30、31、32、39、40、41、43、44、48、49、53、61、74、77、83、84;C.I.モーダントバイオレット1、2、4、5、7、14、22、24、30、31、32、37、40、41、44、45、47、48、53、58;C.I.モーダントグリーン1、3、4、5、10、15、19、26、29、33、34、35、41、43、53等が挙げられる。[D]着色剤として使用可能な顔料については、有機顔料、無機顔料のいずれの使用も可能である。有機顔料としては、例えば、カラーインデックスC.I.;TheSocietyofDyersandColourists社発行においてピグメントに分類されている化合物が挙げられる。具体的には、下記のようなカラーインデックスC.I.名が付されているものが挙げられる。C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメントイエロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー20、C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイエロー31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピグメントイエロー109、C.I.ピグメントイエロー110、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー153、C.I.ピグメントイエロー154、C.I.ピグメントイエロー155、C.I.ピグメントイエロー166、C.I.ピグメントイエロー168、C.I.ピグメントイエロー180、C.I.ピグメントイエロー185、C.I.ピグメントイエロー211;C.I.ピグメントオレンジ5、C.I.ピグメントオレンジ13、C.I.ピグメントオレンジ14、C.I.ピグメントオレンジ24、C.I.ピグメントオレンジ34、C.I.ピグメントオレンジ36、C.I.ピグメントオレンジ38、C.I.ピグメントオレンジ40、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメントオレンジ46、C.I.ピグメントオレンジ49、C.I.ピグメントオレンジ61、C.I.ピグメントオレンジ64、C.I.ピグメントオレンジ68、C.I.ピグメントオレンジ70、C.I.ピグメントオレンジ71、C.I.ピグメントオレンジ72、C.I.ピグメントオレンジ73、C.I.ピグメントオレンジ74;C.I.ピグメントレッド1、C.I.ピグメントレッド2、C.I.ピグメントレッド5、C.I.ピグメントレッド17、C.I.ピグメントレッド31、C.I.ピグメントレッド32、C.I.ピグメントレッド41、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピグメントレッド144、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレッド166、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメントレッド170、C.I.ピグメントレッド171、C.I.ピグメントレッド175、C.I.ピグメントレッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド178、C.I.ピグメントレッド179、C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド185、C.I.ピグメントレッド187、C.I.ピグメントレッド202、C.I.ピグメントレッド206、C.I.ピグメントレッド207、C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメントレッド214、C.I.ピグメントレッド220、C.I.ピグメントレッド221、C.I.ピグメントレッド224、C.I.ピグメントレッド242、C.I.ピグメントレッド243、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレッド255、C.I.ピグメントレッド262、C.I.ピグメントレッド264、C.I.ピグメントレッド272;C.I.ピグメントバイオレット1、C.I.ピグメントバイオレット19、C.I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピグメントバイオレット29、C.I.ピグメントバイオレット32、C.I.ピグメントバイオレット36、C.I.ピグメントバイオレット38;C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー60、C.I.ピグメントブルー80;C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン58;C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25;C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7等が挙げられる。次に、着色パターンの[D]着色剤に用いられる、染料や顔料等の着色剤の化学構造について説明する。着色剤の化学構造については、アゾ系、トリアリール系メタン系、アントラキノン系、ベンジリデン系、オキソノール系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ジケトピロロピロール系等が挙げられる。これらのうち、トリアリール系メタン系、バルビツール酸アゾ系、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、トリアリールメタン系、フタロシアニン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系およびジケトピロロピロール系の着色剤の選択が好ましい。好ましい[D]着色剤の例であるトリアリールメタン系着色剤は、青色、バイオレット色を呈するものである。青色、バイオレット色を呈するものとは、C.I.ピグメントブルー、C.I.ピグメントバイオレット等の顔料、C.I.ベーシックブルー、C.I.ベーシックバイオレット等の塩基性染料、C.I.ソルベントブルー、C.I.ソルベントバイオレット等の油溶性染料、C.I.アシッドブルー、C.I.アシッドバイオレット等の酸性染料、C.I.ディスパースブルー、C.I.ディスパースバイオレット等の分散性染料等、C.I.フードブルー、C.I.フードバイオレット等の食用着色剤等に属するものである。さらに、これらの酸性染料直接染料も含む、塩基性染料をカウンタイオンで変性した造塩染料に属するものである。トリアリールメタン系着色剤の例である、トリフェニルメタン系着色剤は、中心の炭素に対してパラの位置にあるNH2またはOH基が酸化によりキノン構造をとることによって発色するものである。また、主として塩基性染料であるが、スルホン酸基を導入したものは酸性染料となる。NH2、OH基の数によって以下3つの型に分けられるが、中でもトリアミノトリフェニルメタン系染料の形態であることが良好な青色を発色する点で好ましいものである。aジアミノトリフェニルメタン系染料bトリアミノトリフェニルメタン系染料cOH基を有するロゾール酸系染料トリアミノトリフェニルメタン系染料は色調が鮮明であり、耐光性に優れ好ましい。また、その中でも塩基性染料であるジフェニルナフチルメタン染料が、特に好ましい。トリアリールメタン系着色剤としては、以下の5つの形態の染料および顔料を用いることができる。1トリアリールメタン系染料の塩基性染料トリアリールメタン系塩基性染料2トリアリールメタン系塩基性染料と有機スルホン酸との造塩化合物、トリアリールメタン系塩基性染料と芳香族ヒドロキシカルボン酸との造塩化合物3トリアリールメタン系染料の酸性染料4トリアリールメタン系酸性染料と第四級アンモニウムとの造塩化合物5トリアリールメタン系染料のレーキ顔料特に、トリアリールメタン系染料の金属レーキ顔料これらの形態としては、中でもトリアリールメタン系染料の塩基性染料、トリアリールメタン系塩基性染料と有機スルホン酸との造塩化合物、トリアリールメタン系塩基性染料と芳香族ヒドロキシカルボン酸との造塩化合物、トリアリールメタン系染料の金属レーキ顔料を用いることが好ましい。トリアリールメタン系染料は、400nm~430nmにおいて高い透過率を持つ分光特性を有している。しかし、良好な分光特性を持つにもかかわらず、一般的な染料と同様に、耐熱性が極めて乏しい。高い信頼性が要求される、カラー液晶表示画像表示装置に用いるには、従来、特性が十分ではないとされてきた。そのため、本実施形態のアレイ基板のカラーフィルタ層の着色パターンに用いることが好ましい。また、従来のトリアリールメタン系染料の問題点の改善を行うよう、染料をベース化、造塩化、油溶性化、樹脂により変性して使用することも可能である。または、染料をレーキ化して顔料とすることも可能である。トリアリールメタン系染料の塩基性染料、油溶性染料はカルボキシル基のごとき酸基を有する樹脂やロジンエステル、ロジン変性マレイン酸樹脂ロジン変性フマル酸樹脂も同義であると混合することで、耐性が改善され好ましいものである。これら、酸基を有する樹脂、ロジンエステル、ロジン変性マレイン酸樹脂の酸価は、20~200であることが好ましい。ここで、酸価とはJISK-0070の方法により測定された値である。トリアリールメタン系塩基性染料としては、C.I.ベーシックブルー1、5、7、26、C.I.ベーシックバイオレット1、3等があげられる。その中でもC.I.ベーシックブルー7を用いることが好ましい。次いで、トリアリールメタン系塩基性染料と有機スルホン酸との造塩化合物について説明する。トリアリールメタン系塩基性染料と有機スルホン酸は水溶液、アルコール溶液中等に両者を溶解させることで、反応し造塩化合物を得ることができる。有機スルホン酸としては、ナフタレン類のスルホン化物、ナフトール類のスルホン化物などを用いることができる。ナフタレン類のスルホン化物はナフタレンの炭素原子にスルホン酸基が結合した化合物の総称であり、ナフトール類のスルホン化物はナフトールの炭素原子にスルホン酸基が結合した化合物の総称である。ナフタレン類のスルホン化物にはスルホン酸基が1個結合したナフタレンモノスルホン酸、2個結合したナフタレンジスルホン酸、3個結合したナフタレントリスルホン酸がある。具体的には、1-ナフタレンスルホン酸、2-ナフタレンスルホン酸、1,3-ナフタレンジスルホン酸、1,5-ナフタレンジスルホン酸、1,6-ナフタレンジスルホン酸、1,7-ナフタレンジスルホン酸、2,6-ナフタレンジスルホン酸、2,7-ナフタレンジスルホン酸、1,3,5-ナフタレントリスルホン酸、1,3,6-ナフタレントリスルホン酸、1,3,7-ナフタレントリスルホン酸などである。また、ナフタレン類のスルホン化物は、前記述べたナフタレンスルホン酸に加え、ナフチルアミンスルホン酸も含む。そして、スルホン酸基が1個結合したナフチルアミンモノスルホン酸、2個結合したナフチルアミンジスルホン酸、3個結合したナフチルアミントリスルホン酸がある。具体的には、1,4-ナフチルアミンスルホン酸ナフチオン酸、1,5-ナフチルアミンスルホン酸ローレンツ酸、1,6-ナフチルアミンスルホン酸6-クレーブ酸、1,7-ナフチルアミンスルホン酸7-クレーブ酸、1,8-ナフチルアミンスルホン酸ペリ酸、2,1-ナフチルアミンスルホン酸トビアス酸、2,5-ナフチルアミンスルホン酸、2,6-ナフチルアミンスルホン酸ブレンナー酸、1,3,6-ナフチルアミンジスルホン酸フロイント酸、1,3,7-ナフチルアミンジスルホン酸、2,3,6-ナフチルアミンジスルホン酸アミノR酸、2,4,6-ナフチルアミンジスルホン酸C酸、2,5,7-ナフチルアミンジスルホン酸アミノJ酸、2,6,8-ナフチルアミンジスルホン酸アミノG酸、1,3,6,8-ナフチルアミントリスルホン酸コッホ酸などである。ナフトール類のスルホン化物にもスルホン酸基が1個結合したナフトールモノスルホン酸、2個結合したナフトールジスルホン酸、3個結合したナフトールトリスルホン酸がある。具体的には、1-ナフトール-2-スルホン酸、1-ナフトール-4-スルホン酸NW酸、1-ナフトール-5-スルホン酸L酸、1-ナフトール-8-スルホン酸、2-ナフトール-1-スルホン酸、2-ナフトール-6-スルホン酸シェーファー酸、2-ナフトール-8-スルホン酸クロセイン酸、1-ナフトール-2,4-ジスルホン酸、1-ナフトール-3,6-ジスルホン酸、1-ナフトール-3,8-ジスルホン酸ε酸、2-ナフトール-3,6-ジスルホン酸R酸、2-ナフトール-3,8-ジスルホン酸、2-ナフトール-6,8-ジスルホン酸G酸、1-ナフトール-2,4,7-トリスルホン酸、1-ナフトール-3,6,8-トリスルホン酸オキシコッホ酸、2-ナフトール-3,6,8-トリスルホン酸などである。この中でもスルホン酸基が2個結合したナフタレンジスルホン酸およびナフトールジスルホン酸が好ましい。中でも1,5-ナフタレンジスルホン酸、2,7-ナフタレンジスルホン酸、2-ナフトール-3,6-ジスルホン酸、2-ナフトール-3,8-ジスルホン酸が好ましい。さらにはビクトリアピュアブルーBOC.I.ベーシックブルー7とナフタレンジスルホン酸とからなる造塩化合物、ビクトリアピュアブルーBOC.I.ベーシックブルー7とナフトールジスルホン酸とからなる造塩化合物は好ましい染料である。ナフタレン類のジスルホン化物、ナフトール類のジスルホン化物をトリアリールメタン系塩基性染料と反応せしめ、本発明の着色剤とする場合、トリアリールメタン系染料2モルに対し、1モルのジスルホン化物が反応し造塩する。これは電荷を中和し、かつ着色剤成分がカウンタイオン成分のモル比で2倍の量を有していることで、着色剤として染料の発色を損なわないものとなり好ましいものである。すなわち少なくとも2つのスルホン酸基を有する有機スルホン酸を用いることが好ましいものである。また、トリアリールメタン系塩基性染料と有機スルホン酸、芳香族ヒドロキシカルボン酸との造塩化合物は従来知られている方法により合成することができる。特開2003-215850号公報などに具体的な手法が開示されている。また、上述の有機スルホン酸と同様に芳香族ヒドロキシカルボン酸を用いて造塩化合物を得ることができる。好ましい芳香族ヒドロキシカルボン酸としては、中でも3,5-ジ-tert-ブチルサリチル酸、3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、3-フェニルサリチル酸を用いることが好ましい。芳香族ヒドロキシカルボン酸を用いる場合は、トリアリールメタン系染料中のアミノ基-NHC2H5の部分と芳香族ヒドロキシカルボン酸のカルボン酸-COOHの部分が結合した造塩化合物が得られる。また水酸基-OHは造塩の反応とは関係なく残存している。さらにはビクトリアピュアブルーBOC.I.ベーシックブルー7と3,5-ジ-tert-ブチルサリチル酸とからなる造塩化合物は好ましい染料である。トリアリールメタン系染料の酸性染料としては、食用青色101号C.I.アシッドブルー1、アシッドピュアブルーC.I.アシッドブルー3、レーキブルーIC.I.アシッドブルー5、レーキブルーIIC.I.アシッドブルー7、食用青色1号C.I.アシッドブルー9、C.I.アシッドブルー22、C.I.アシッドブルー83、C.I.アシッドブルー90、C.I.アシッドブルー93、C.I.アシッドブルー100、C.I.アシッドブルー103、C.I.アシッドブルー104、C.I.アシッドブルー109を用いることが好ましい。トリアリールメタン系酸性染料と第四級アンモニウム化合物との造塩化合物としては、従来知られている方法により合成することができる。一例を挙げると、トリアリールメタン系酸性染料を水に溶解した後、第四級アンモニウム化合物を添加、攪拌しながら造塩化処理を行なえばよい。ここでトリアリールメタン系酸性染料中のスルホン酸基-SO3Hの部分と第四級アンモニウム化合物のアンモニウム基NH4の部分が結合した造塩化合物が得られる。第四級アンモニウム化合物としては、トリエチルベンジルクロライドなどを用いることが好ましい。本実施の形態において、トリアリールメタン系着色剤として、トリアリールメタンレーキ顔料を用いることができる。顔料化においてなされるレーキ化とは、可溶性である染料から沈殿剤により不溶性塩として得ることであり、化学的に反応を有しながら、沈殿剤粒子に染料成分が吸着している状態である。トリアミノトリフェニルメタン系染料はレーキ化することで耐候性、耐熱性が改善され、安定した良好な着色剤となる。トリアリールメタン系染料をレーキ化するための沈澱剤としては、塩化バリウム、塩化カルシウム、硫酸アンモニウム、塩化アルミニウム、酢酸アルミニウム、酢酸鉛、タンニン酸、カタノール、タモール、コンプレックスアシッドと称されるコンプレックスヘテロポリ酸フォスフォタングステン酸、フォスフォモリブデン酸、フォスフォタングステンモリブデン酸、シリコタングステンモリブデン酸、シリコタングステン酸、シリコモリブデン酸等が挙げられる。中でもコンプレックスヘテロポリ酸を用いたレーキ顔料は、鮮明で着色力が大きく、耐光性が著しく向上したもので、好ましいものである。トリアリールメタン系顔料として具体的に、C.I.ピグメントブルー1、C.I.ピグメントブルー2、C.I.ピグメントブルー9、C.I.ピグメントブルー10、C.I.ピグメントブルー14、C.I.ピグメントブルー62、C.I.ピグメントバイオレット3、C.I.ピグメントバイオレット27、C.I.ピグメントバイオレット39等が挙げられる。更に好ましいものを具体的に示すと、C.I.ピグメントブルー1。C.I.ベーシックブルー26、C.I.ベーシックブルー7リンタングステンモリブデン酸でレーキ化。C.I.ピグメントバイオレット3。C.I.ベーシックバイオレット1をリンタングステンモリブデン酸でレーキ化。C.I.ピグメントバイオレット39。C.I.ベーシックバイオレット3クリスタルバイオレットをリンタングステンモリブデン酸でレーキ化。中でもC.I.ピグメントブルー1を用いることが好ましい。次に、好ましい[D]着色剤の例であるバルビツール酸アゾ系染料およびピリドンアゾ系は、例えば、以下の構造を有する。しかし、本実施の形態において用いられるバルビツール酸アゾ系染料およびピリドンアゾ系は、これらに限られるわけではない。式101中、T1およびT2は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を表す。R101~R104は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数6~20のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7~20のアラルキル基または置換基を有していてもよい炭素数2~10のアシル基を表す。R105~R112は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数1~8のアルコキシル基、カルボキシル基、スルホ基、スルファモイル基またはN位-置換スルファモイル基を表す。上記の脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。より詳細に説明すると、式101において、R101~R104における炭素数1~10の脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでもよい。炭素数1~10の脂肪族炭化水素基の炭素数は、好ましくは2~8、より好ましくは3~6である。炭素数1~10の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、エチルヘキシル基2-エチルヘキシル基など、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロヘキシルアルキル基などが挙げられる。また、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、炭素数1~8の好ましくは炭素数1~4のアルコキシル基または炭素数1~8の好ましくは炭素数1~4のチオアルコキシル基で置換されていてもよい。置換された脂肪族炭化水素基としては、例えば、ヒドロキシエチル基2-ヒドロキシエチル基など、エトキシエチル基2-エトキシエチル基など、エチルヘキシルオキシプロピル基3-2-エチルヘキシルオキシプロピル基など及びメチルチオプロピル基3-メチルチオプロピル基などなどが挙げられる。R101~R104における炭素数6~20のアリール基は、無置換であってもよく、脂肪族炭化水素基、アルコキシル基、カルボキシル基、スルホ基またはエステル結合を含む基などの置換基を有していてもよい。前記アリール基の炭素数は、置換基の炭素数を含めて数えられ、好ましくは6~10である。アリール基としては、例えば、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2-メトキシフェニル基、3-メトキシフェニル基、4-メトキシフェニル基、2-スルホフェニル基、3-スルホフェニル基、4-スルホフェニル基およびエトキシカルボニルフェニル基4-COOC2H5Ph基Ph基はフェニル基を示すなどなどが挙げられる。R101~R104における炭素数7~20のアラルキル基のアルキル部分は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでもよい。アラルキル基の炭素数は、置換基の炭素数を含めて数えられ、好ましくは7~10である。炭素数7~20のアラルキルとしては、ベンジル基およびフェネチル基などが挙げられる。R101~R104における炭素数2~10のアシル基は、無置換であってもよく、脂肪族炭化水素基またはアルコキシル基などの置換基が結合していてもよい。アシル基の炭素数は、置換基の炭素数を含めて数えられ、その数は、好ましくは2~10である。アシル基としては、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、メトキシベンゾイル基p-メトキシベンゾイル基などなどが挙げられる。R105~R112における炭素数1~10の脂肪族炭化水素基は、R101~R104の場合と同様のものが挙げられる。R105~R112の脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子として、好ましくはフッ素原子が挙げられる。ハロゲン原子で置換された脂肪族炭化水素基の具体例としては、トリフルオロメチル基などが挙げられる。R105~R112における炭素数1~8のアルコキシル基の炭素数は、好ましくは1~4である。アルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、n-プロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基およびtert-ブトキシ基などが挙げられる。R105~R112におけるN位-置換スルファモイル基は、例えば、N位-一置換スルファモイル基であることが好ましく、-SO2NHR140で表される。-SO2NHR140に含まれるR140は、置換基を有していてもよい炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数6~20のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7~20のアラルキル基または置換基を有していてもよい炭素数2~10のアシル基を表す。R140における炭素数1~10の脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでもよい。脂肪族炭化水素基の炭素数には置換基の炭素数は含まれず、その数は、好ましくは6~10である。R140における炭素数1~10の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、メチルブチル基1,1,3,3-テトラメチルブチル基など、メチルヘキシル基1-メチルヘキシル基、1,5-ジメチルヘキシル基など、エチルヘキシル基2-エチルヘキシル基など、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基2-メチルシクロヘキシル基などおよびシクロヘキシルアルキル基などが挙げられる。-SO2NHR140に含まれるR140における炭素数1~10の脂肪族炭化水素基は、炭素数1~8の好ましくは炭素数1~4のアルコキシル基で置換されていてもよく、例えば、プロポキシプロピル基3-イソプロポキシプロピル基などなどが挙げられる。R140における炭素数6~20のアリール基は、無置換であってもよく、脂肪族炭化水素基またはヒドロキシル基などの置換基を有していてもよい。前記アリール基の炭素数は、置換基の炭素数を含めて数えられ、好ましくは6~10である。アリール基としては、例えば、フェニル基、ヒドロキシフェニル基4-ヒドロキシフェニル基など、トリフルオロメチルフェニル基4-トリフルオロメチルフェニル基などなどが挙げられる。R140における炭素数7~20のアラルキル基のアルキル部分は、直鎖状または分岐状のいずれでもよい。アラルキル基の炭素数は、通常、7~20、好ましくは7~10である。このアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルプロピル基1-メチル-3-フェニルプロピル基など、フェニルブチル基3-アミノ-1-フェニルブチル基などなどのフェニルアルキル基などが挙げられる。R140における炭素数2~10のアシル基は、無置換であってもよく、アシル基に含まれる水素原子が脂肪族炭化水素基またはアルコキシル基で置換されていてもよい。アシル基の炭素数は、置換基の炭素数を含めて数えられ、その数は、好ましくは6~10である。アシル基としては、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、o-トルイル基、m-トルイル基、p-トルイル基及びメトキシベンゾイル基p-メトキシベンゾイル基などなどが挙げられる。好ましい着色剤の例であるピリドンアゾ系は、例えば、以下の構造を有する。式102中、Zは、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1~12の脂肪族炭化水素基、炭素数1~8のアルコキシル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルホ基、スルファモイル基およびN位-置換スルファモイル基よりなる群から選ばれる少なくとも1種の置換基を1個または2個有するフェニル基、あるいはハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1~12の脂肪族炭化水素基、炭素数1~8のアルコキシル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルホ基、スルファモイル基およびN位-置換スルファモイル基よりなる群から選ばれる少なくとも1種の置換基を1~3個有するナフチル基を表す。R121は、水素原子、直鎖状、分岐状または環状である炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、カルボキシル基あるいはトリフルオロメチル基を表す。R122は、水素原子、シアノ基、カルバモイル基、N位-置換カルバモイル基、スルファモイル基またはスルホ基を表す。R123は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~10の直鎖状、分岐状または環状の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7~20のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3~20の複素環基、カルバモイル基、N位-置換カルバモイル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよい炭素数7~30のアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数1~30の脂肪族スルホニル基あるいは置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリールスルホニル基を表す。より詳細に説明すると、式102中、Zにおける炭素数1~12の脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれでもよい。脂肪族炭化水素基の炭素数には置換基の炭素数を全て含み、その数は、通常、1~12、好ましくは2~11である。脂肪族炭化水素基としては、例えば、n-オクチル基、メチルヘキシル基1,5-ジメチルヘキシル基など、エチルヘキシル基2-エチルヘキシル基など、シクロオクチル基、メチルシクロヘキシル基2、2-ジメチルシクロヘキシル基など及びシクロヘキシルアルキル基などが挙げられる。脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数1~8のアルコキシル基またはカルボキシル基で置換されていてもよい。置換基を有する脂肪族炭化水素基としては、アルコキシプロピル基3-2’-エチルヘキシルオキシプロピル基などおよび8-カルボキシオクチル基などが挙げられる。Zにおける炭素数1~8のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、n-プロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基及びtert-ブトキシ基などが挙げられる。Zにおけるハロゲン原子としては、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子が挙げられる。ZにおけるN位-置換スルファモイル基は、-SO2NR141R142で表される。R141およびR142は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~16の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数6~20のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7~20のアラルキル基または置換基を有していてもよい炭素数2~15のアシル基を表すただし、R141およびR142が、同時に水素原子であることはない。炭素数1~16の脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでもよく、脂肪族炭化水素基の炭素数は、好ましくは6~16である。R141およびR142における、炭素数1~16の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれでもよい。脂肪族炭化水素基の炭素数には置換基の炭素数は含まれず、その数は、通常、1~16、好ましくは6~10である。脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、メチルブチル基1,1,3,3-テトラメチルブチル基など、メチルヘキシル基1,5-ジメチルヘキシル基など、エチルヘキシル基2-エチルヘキシル基など、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基2-メチルシクロヘキシル基などおよびシクロヘキシルアルキル基などが挙げられる。脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数1~8のアルコキシル基またはカルボキシル基で置換されていてもよい。置換基を有する脂肪族炭化水素基としては、プロポキシプロピル基3-イソプロポキシプロピル基など、2-カルボキシエチル基、3-カルボキシエチル基および4-カルボキシエチル基などが挙げられる。R141およびR142における、炭素数6~20のアリール基は、脂肪族炭化水素基またはヒドロキシル基などの置換基を有していてもよい。アリール基の炭素数は、置換基の炭素数を含めて数えられ、通常、6~20、好ましくは6~10である。アリール基としては、フェニル基、カルボキシフェニル基2-カルボキシフェニル基、2,4-カルボキシフェニル基など、ヒドロキシフェニル基4-ヒドロキシフェニル基など、トリフルオロメチルフェニル基4-トリフルオロメチルフェニル基などおよびメトキシフェニル基4-メトキシフェニル基などが挙げられる。R141およびR142における炭素数7~20のアラルキル基のアルキル部分は、直鎖状または分岐状のいずれでもよい。アラルキル基の炭素数は、通常、7~20、好ましくは7~10である。アラルキルとしては、ベンジル基、フェニルエチル基2-フェニルエチル基、2-4-ヒドロキシフェニルエチル基など、フェニルエチレン基2-フェニルエチレン基など、フェニルプロピル基1-メチル-3-フェニルプロピル基などおよびフェニルブチル基3-アミノ-1-フェニルブチル基などなどのフェニルアルキル基が挙げられる。R141およびR142における炭素数2~15のアシル基は、無置換であってもよく、脂肪族炭化水素基、アルコキシル基またはカルボキシル基などの置換基を有していてもよい。アシル基の炭素数は、置換基の炭素数を含めて数えられ、その数は、通常、2~15、好ましくは6~10である。アシル基としては、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、メトキシベンゾイル基p-メトキシベンゾイル基など、カルボキシアセチル基、2-カルボキシプロピオニル基、3-カルボキシプロピオニル基、2-カルボキシブチリル基、3-カルボキシブチリル基および4-カルボキシブチリル基などが挙げられる。R121は水素原子、直鎖状、分岐状または環状である炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、カルボキシル基あるいはトリフルオロメチル基を表す。R121における炭素数1~10の脂肪族炭化水素基の炭素数には、置換基の炭素数は含まれない。その炭素数は、好ましくは2~8、より好ましくは3~6である。脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、シクロペンチル基およびシクロヘキシル基などが挙げられる。R122は、水素原子、シアノ基、カルバモイル基またはN位-置換カルバモイル基、スルファモイル基またはスルホ基を表す。R122におけるN位-置換カルバモイル基としては、-CONR143R144が挙げられる。R143およびR144は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数6~20のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7~20のアラルキル基または置換基を有していてもよい炭素数2~10のアシル基を表す。R143およびR144の脂肪族炭化水素基、アリール基、アラルキル基およびアシル基の説明および具体例は、前述のR141およびR142と同じである。ただし、アシル基はハロゲン原子を有していてもよい。ハロゲン原子を有しているアシル基としては、例えば、ブロモベンゾイル基p-ブロモベンゾイル基などなどが挙げられる。R123は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~10の直鎖状、分岐状または環状の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数7~20のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3~20の複素環基、カルバモイル基、N位-置換カルバモイル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよい炭素数7~30のアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数1~30の脂肪族スルホニル基または置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリールスルホニル基を表す。R123における脂肪族炭化水素基としては、上述のR121における脂肪族炭化水素基と同じ基が挙げられる。R123におけるアリール基としては、炭素数は、通常、6~30であり、好ましくは6~20であり、より好ましくは6~16である。アリール基の具体的な例としては、フェニル基、4-ニトロフェニル基、2-ニトロフェニル基、2-クロロフェニル基、2,4-ジクロロフェニル基、2,4-ジメチルフェニル基、2-メチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、2-メトキシフェニル基および2-メトキシカルボニル-4-ニトロフェニル基などが挙げられる。R123におけるアラルキル基としては、直鎖状または分岐状のいずれでもよく、炭素数は、好ましくは7~10である。アラルキルの具体的な例としては、ベンジル基、フェニルプロピル基1-メチル-3-フェニルプロピル基などおよびフェニルブチル基3-アミノ-1-フェニルブチル基などなどのフェニルアルキル基が挙げられる。R123における炭素数3~20の複素環基としては、飽和であっても不飽和であってもよく、炭素数としては、3~20が好ましく、より好ましくは5~15である。複素環基の具体的な例としては、ピラゾール基、1,2,4-トリアゾール基、イソチアゾール基、ベンゾイソチアゾール基、チアゾール基、ベンゾチアゾール基、オキサゾール基および1,2,4-チアジアゾール基などが挙げられる。また、さらに置換基を有していてもよい。R123におけるN位-置換カルバモイル基としては、R122について上述したN位-置換カルバモイル基と同じである。R123におけるアルキルオキシカルボニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、環状であってもよい。アルキルオキシカルボニル基の炭素数としては、通常、2~20であり、好ましくは2~16であり、さらに好ましくは2~10である。アルキルオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基およびブトキシカルボニル基などが挙げられる。R123におけるアリールオキシカルボニル基としては、無置換でも置換基を有していてもよく、炭素数としては、通常、7~30であり、好ましくは7~20であり、さらに好ましくは7~16である。アリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル基および4-メチルフェノキシカルボニル基などが挙げられる。R123にけるアシル基としては、脂肪族カルボニル基であってもアリールカルボニル基であってもよく、飽和または不飽和のいずれでもよく、環状であってもよく、更に置換基を有していてもよい。炭素数としては、通常、2~20であり、好ましくは2~15であり、さらに好ましくは2~10である。アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基などが挙げられる。R123における脂肪族スルホニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよい。炭素数としては、通常、1~30であり、好ましくは1~20であり、さらに好ましくは1~16である。脂肪族スルホニル基としては、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、メトキシメタンスルホニル基、メトキシエタンスルホニル基およびエトキシエタンスルホニル基などが挙げられる。R123におけるアリールスルホニル基としては、置換基を有していてもよく、炭素数としては、通常、6~30であり、好ましくは6~20であり、さらに好ましくは6~18である。アリールスルホニル基としては、ベンゼンスルホニルおよびトルエンスルホニル基などが挙げられる。次に、好ましい[D]着色剤の例であるジケトピロロピロール系およびフタロシアニン系は、例えば、以下の構造を有する。しかし、本実施の形態において用いられるジケトピロロピロール系およびフタロシアニン系着色剤は、これらに限られるわけではない。式103中、Yは、酸素原子または硫黄原子を表す。R131とR132は、同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、またはアルコキシカルボニル基を表す。R133、R134は、同一であっても異なっていてもよく、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、または炭素環もしくは複素環式芳香族残基を表す。より詳細に説明すると、式103において、R131、R132、R133およびR134におけるアルキル基としては分岐していても分岐していなくともよく、好ましくは1個~18個、さらに好ましくは、1個~12個、とりわけ好ましくは、1個~6個の炭素原子を有しているのがよい。具体的には、メチル、エチル、イソプロピル、第二ブチル、第三ブチル、第三アミル基、オクチル、デシル、ドデシルまたはオクタデシル基等が挙げられる。R131、R132、R133およびR134におけるシクロアルキル基としては、好ましくは3個~8個、さらに好ましくは、3個~6個の炭素原子を有しているのがよく、具体的には、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。R131、R132におけるアルケニル基としては、好ましくは2個~8個、さらに好ましくは、2個~6個の炭素原子を有しているのがよく、具体的には、ビニル基、アリル基等が挙げられる。R131、R132におけるアルキニル基としては、好ましくは2個~8個、さらに好ましくは、2個~6個の炭素原子を有しているのがよく、具体的には、エチニル基等が挙げられる。R131、R132におけるアリール基としては、好ましくは6個~10個の炭素原子を有しているのがよく、具体的には、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。R131、R132におけるアルキルカルバモイル基のアルキル基としては、上記のアルキル基と同様のものを挙げることができる。R131、R132におけるアリールカルバモイル基のアリール基としては、上記のアリール基と同様のものを挙げることができる。R131、R132におけるアルコキシカルボニル基のアルコキシ基としては、炭素数1個~4個のものを挙げることができ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等を挙げることができる。式103においてR131、R132、R133およびR134がアラルキル基を表わす場合には、特に、単環~三環式、さらに好ましくは、単環式または二環式のアリール残基を含有するのがよい。具体的には、例えば、ベンジルおよびフェニルエチルが挙げられる。式103において、R133およびR134が炭素環式芳香族残基を表わす場合には、単環~四環式、とりわけ単環式または二環式残基、すなわちフェニル、ジフェニリルまたはナフチルが好適である。式103において、R133およびR134が複素環式芳香族残基を表わす場合には、単環~三環式のものが好適である。これらのものは純複素環式であってもよく、また1個の複素環および1個または複数の縮合ベンゼン環を含有していてもよく、具体的には、例えば、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、トリアジニル、フラニル、ピロリル、チオフェニル、キノリル、クマリニル、ベンゾフラニル、ベンゾイミダゾリルまたはベンゾオキサゾリル等が挙げられる。式103においては、R131、R132は水素原子が好ましい。また、R133、R134、各々独立に炭素数1~4個のアルキル基、ジアルキルアミノ基、ハロアルキル基あるいはハロゲン原子を置換基として有していてもよいフェニル基が好ましい。次に、好ましい[D]着色剤の例であるフタロシアニン系着色剤は、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系着色剤であり、例えば、以下の構造を有する。式104中、X1~X16は、それぞれ独立に、水素原子、塩素原子または臭素原子を表す。より詳細には、式104中、X1~X16で表される置換基の数は、好ましくは塩素原子が0個~6個で、臭素原子が10個~16個であり、かつ塩素原子と臭素原子との和が10個~16個であり、より好ましくは、塩素原子が0個~3個で、臭素原子が13個~16個であり、かつ塩素原子と臭素原子との和が13個~16個であり、さらに好ましくは塩素原子が1個~3個で、臭素原子が13個~15個であり、かつ塩素原子と臭素原子との和が14個~16個である。次に、[D]着色剤に使用可能な無機顔料については、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら赤色酸化鉄III、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等が挙げられる。次に着色組成物に含有される[D]着色剤の含有量について説明する。[D]着色剤の含有量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、1質量部~400質量部が好ましく、5質量部~350質量部がより好ましい。[D]着色剤の含有量を上記範囲とすることで、着色組成物のアルカリ現像性や、画素の耐熱性、耐溶媒性と着色パターンおよびカラーフィルタ層としての高輝度化や高コントラスト化が高いレベルでバランス良く達成できる。<[E]化合物>本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層において、その着色パターンの製造に用いられる着色組成物は[E]化合物を含有することができる。[E]化合物は、硬化剤としての機能を果たす化合物である。したがって、便宜上、[E]化合物硬化剤や[E]硬化剤などと称することもある。[E]化合物は、下記式1で表される化合物、下記式2で表される化合物、3級アミン化合物、アミン塩、ホスホニウム塩、アミジン塩、アミド化合物、チオール化合物、ブロックイソシアネート化合物およびイミダゾール環含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物である。着色組成物が、その特定の化合物群から選択される[E]化合物を含有することで着色パターンの低温硬化を実現することができる。併せて、着色組成物の保存安定性を向上させることもできる。以下、各化合物を詳述する。[式1および式2で表される化合物][E]化合物としては、下記式1および下記式2で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。[E]化合物として、アミノ基と電子欠乏基とを有する、上述の特定化合物を選択することで、着色パターンの低温硬化を実現することができる。併せて、着色組成物の保存安定性を向上させることもできる。さらに得られたカラーフィルタ層を備えた液晶表示素子の電圧保持率をより向上できる。上記式1中、R1~R6は、それぞれ独立して水素原子、電子吸引性基またはアミノ基である。但し、R1~R6のうち少なくとも1つは電子吸引性基であり、かつR1~R6のうち少なくとも1つはアミノ基であり、上記アミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数1~6のアルキル基で置換されていてもよい。上記式2中、R7~R16は、それぞれ独立して水素原子、電子吸引性基またはアミノ基である。但し、R7~R16のうち少なくとも1つはアミノ基である。また、そのアミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数1~6の炭化水素基で置換されていてもよい。そして、着色組成物に用いられる[E]化合物の場合、そのアミノ基は、炭素数1~6のアルキル基で置換されていてもよい。Aは、単結合、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニルメチレン基、スルフィニル基、スルホニル基、メチレン基または炭素数2~6のアルキレン基である。但し、上記メチレン基およびアルキレン基は、水素原子の全部または一部がシアノ基、ハロゲン原子またはフルオロアルキル基で置換されていてもよい。上記式1および上記式2のR1~R16が示す電子吸引性基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、アシル基、アルキルスルホニル基、アルキルオキシスルフォニル基、ジシアノビニル基、トリシアノビニル基、スルホニル基等が挙げられる。これらのうち、ニトロ基、アルキルオキシスルフォニル基、トリフルオロメチル基が好ましい。Aが示す基としては、スルホニル基、フルオロアルキル基で置換されていてもよいメチレン基が好ましい。上記式1および式2で表される化合物としては、2,2-ビス4-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、2,3-ビス4-アミノフェニルスクシノニトリル、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノフェニルベンゾエート、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ジアミノ-2-クロロベンゼン、1,4-ジアミノ-2-ブロモベンゼン、1,4-ジアミノ-2-ヨードベンゼン、1,4-ジアミノ-2-ニトロベンゼン、1,4-ジアミノ-2-トリフルオロメチルベンゼン、2,5-ジアミノベンゾニトリル、2,5-ジアミノアセトフェノン、2,5-ジアミノ安息香酸、2,2’-ジクロロベンジジン、2,2’-ジブロモベンジジン、2,2’-ジヨードベンジジン、2,2’-ジニトロベンジジン、2,2’-ビストリフルオロメチルベンジジン、3-アミノベンゼンスルホン酸エチル、3,5-ビストリフルオロメチル-1,2-ジアミノベンゼン、4-アミノニトロベンゼン、N,N-ジメチル-4-ニトロアニリンが好ましく、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、2,2-ビス4-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、2,2’-ビストリフルオロメチルベンジジン、3-アミノベンゼンスルホン酸エチル、3,5-ビストリフルオロメチル-1,2-ジアミノベンゼン、4-アミノニトロベンゼン、N,N-ジメチル-4-ニトロアニリンがより好ましい。上記式1および上記式2で表される化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。上記式1および上記式2で表される化合物の含有割合としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.1質量部~20質量部が好ましく、0.2質量部~10質量部がより好ましい。上記式1および上記式2で表される化合物の含有割合を上記範囲とすることで、着色組成物の保存安定性と低温硬化とをより高いレベルで両立できる。[3級アミン化合物]反応性の高い一般的な1級アミン化合物や2級アミン化合物をエポキシ化合物と共存させると、組成物溶液の保存中にアミンのエポキシ基への求核攻撃により硬化反応が進行し、製品としての品質を損なうおそれがある。しかし、3級アミンを使用した場合は、比較的反応性が低いことに起因してか組成部中ではエポキシ化合物と共存させても保存安定性は良好となる。3級アミン化合物としては、下記式5で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種を使用することができる。上記式5中、R24~R26は、それぞれ独立して炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~18のアリール基または炭素数7~30のアラルキル基である。但し、R24およびR25は互いに結合して、それらが結合する窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。上記アルキル基、アリール基およびアラルキル基は水素原子の一部または全部が置換されていてもよい。上記式5中のR24~R26が示す上記炭素数1~20のアルキル基としては、例えば、直鎖状または分岐状のメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ラウリル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。上記式5中のR24~R26が示す炭素数6~18のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。上記式5中のR24~R26が示す炭素数7~30のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。3級アミン化合物としては、例えば、N,N-ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、トリドデシルアミン、ジブチルベンジルアミン、トリナフチルアミン、N-エチル-N-メチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、N-フェニル-N-メチルアニリン、N,N-ジメチル-p-トルイジン、N,N-ジメチル-4-ブロモアニリン、N,N-ジメチル-4-メトキシアニリン、N-フェニルピペリジン、N-4-メトキシフェニルピペリジン、N-フェニル-1,2,3,4-テトラヒドロイソキノリン、6-ベンジルオキシ-N-フェニル-7-メトキシ-1,2,3,4-テトラヒドロイソキノリン、N,N’-ジメチルピペラジン、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミン、2-ジメチルアミノメチルフェノール、2,4,6-トリスジメチルアミノメチルフェノール等が挙げられる。これらの3級アミン化合物のうち、トリオクチルアミン、2-ジメチルアミノメチルフェノール、N,N-ジエチルアニリン等が好ましい。3級アミン化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。着色組成物における3級アミン化合物の含有割合としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.1質量部~10質量部が好ましく、0.5質量部~5質量部がより好ましい。3級アミン化合物の含有割合を上記特定範囲とすることで、着色組成物の保存安定性と低温硬化とをより高いレベルで両立できる。[アミン塩およびホスホニウム塩]アミン塩およびホスホニウム塩としては、下記式6で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を使用することができる。上記式6中、A1は、窒素原子またはリン原子である。R27~R30は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~18のアリール基または炭素数7~30のアラルキル基である。但し、これらの基は水素原子の一部または全部が置換されていてもよい。Q-は、1価の陰イオンである。上記式6中のR27~R30が示す炭素数1~20のアルキル基としては、例えば、直鎖状または分岐状の、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ラウリル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。上記式6中のR27~R30が示す炭素数6~18のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。上記式6中のR27~R30が示す炭素数7~30のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。上記式6中のQ-が示す1価の陰イオンとしては、例えば、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、シアン化物イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、次亜塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、塩素酸イオン、過塩素酸イオン、過マンガン酸イオン、炭酸水素イオン、リン酸二水素イオン、硫化水素イオン、チオシアン酸イオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオン、テトラフルオロボレートイオン、テトラアリールボレートイオン、ヘキサフルオロアンチモネートイオン等が挙げられる。上記式6中のA1が窒素原子である場合、すなわちアンモニウム塩としては、例えば、塩化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ドデシルジメチルベンジルアンモニウム、塩化オクチルトリメチルアンモニウム、塩化デシルトリメチルアンモニウム、塩化ドデシルトリメチルアンモニウム、塩化テトラデシルトリメチルアンモニウム、塩化セチルトリメチルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ベンザルコニウム、臭化ベンザルコニウム、塩化ジデシルジメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウムが挙げられる。A1がリン原子である場合、すなわちホスホニウム塩としては、例えば、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラp-トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラp-エチルフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラp-メトキシフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラp-エトキシフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラp-tert-ブトキシフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラm-トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラm-メトキシフェニルボレート、トリp-トリルフェニルホスホニウムテトラp-トリルボレート、テトラp-トリルホスホニウムテトラp-トリルボレート、トリp-メトキシフェニルフェニルホスホニウムテトラp-トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、ブチルトリフェニルホスホニウムチオシアネート、メチルトリフェニルホスホニウムチオシアネート、p-トリルトリフェニルホスホニウムチオシアネート等が挙げられる。これらのアミン塩およびホスホニウム塩のうち、塩化テトラメチルアンモニウム、ブチルトリフェニルホスホニウムチオシアネートが好ましい。アミン塩およびホスホニウム塩は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。着色組成物におけるアミン塩およびホスホニウム塩の含有割合としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.05質量部~10質量部が好ましく、0.1質量部~5質量部がより好ましい。アミン塩およびホスホニウム塩の含有割合を上記特定範囲とすることで、着色組成物の保存安定性と低温硬化とをより高いレベルで両立できる。[アミジン塩]アミジン塩としては、下記式7で表される化合物の塩からなる群より選ばれる少なくとも1種を使用することができる。上記式7中、mは2~6の整数である。但し、アルキレン基が有する水素原子の一部または全部が有機基で置換されていてもよい。なお、上記アルキレン基とは、テトラヒドロピリミジン環中のアルキレン基および式7においてCH2mで表されるアルキレン基の両方をいう。上記アルキレン基が置換基として有していてもよい有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基等の炭素数1~6のアルキル基;ヒドロキシメチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、3-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシイソプロピル基、3-ヒドロキシ-t-ブチル基、6-ヒドロキシヘキシル基等の炭素数1~6のヒドロキシアルキル基;ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、t-ブチルメチルアミノ基、ジn-ヘキシルアミノ基等の炭素数2~12のジアルキルアミノ基等が挙げられる。上記式7で表される化合物としては、1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-ノネン-5DBN、1,5-ジアザビシクロ[4,4,0]-デセン-5、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-ウンデセン-7DBU、5-ヒドロキシプロピル-1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-ウンデセン-7、5-ジブチルアミノ-1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-ウンデセン-7等が挙げられる。これらのうち、DBNおよびDBUが好ましい。上記式7で表される化合物が塩を形成するための酸としては、有機酸および無機酸が挙げられる。有機酸としては、例えば、カルボン酸、モノアルキル炭酸、芳香族ヒドロキシ化合物、スルホン酸等が挙げられる。これらの酸のうち、カルボン酸、芳香族ヒドロキシ化合物、スルホン酸が好ましく、飽和脂肪酸、芳香族ヒドロキシ化合物、スルホン酸がより好ましく、強酸であるスルホン酸が特に好ましく、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸が最も好ましい。アミジン塩としては、DBUとトルエンスルホン酸との塩、DBUとオクチルベンゼンスルホン酸との塩、DBNとトルエンスルホン酸との塩、DBNとオクチルベンゼンスルホン酸との塩が好ましい。アミジン塩は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。着色組成物におけるアミジン塩の含有割合としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.1質量部~10質量部が好ましく、0.5質量部~5質量部がより好ましい。アミジン塩の含有割合を上記特定範囲とすることで、着色組成物の保存安定性と低温硬化とをより高いレベルで両立できる。[アミド化合物]アミド化合物としては、下記式8~下記式10で表されるアミド基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を使用することができる。上記式8中、R31およびR32は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~12のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ビニル基、または2-ピリジル基である。但し、上記炭素数1~12のアルキル基、フェニル基およびナフチル基は、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基またはアセチル基で置換されていてもよい。上記式9中、R33およびR34は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~12のアルキル基またはシクロヘキシル基である。A2は、メチレン基、炭素数2~12のアルキレン基、フェニレン基、ナフチレン基、またはビニレン基である。但し、上記メチレン基、炭素数2~12のアルキレン基、フェニレン基およびナフチレン基は、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい。上記式10中、R35およびR36は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~12のアルキル基またはシクロヘキシル基である。A3は、メチレン基、炭素数2~12のアルキレン基、フェニレン基、ナフチレン基、またはビニレン基である。但し、上記メチレン基、炭素数2~12のアルキレン基、フェニレン基およびナフチレン基は、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい。上記式8で表されるアミド化合物は分子内に一つのアミド結合を有する化合物である。その具体例としては、例えば、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N-エチルアセトアミド、フタルアミド酸、アクリルアミド、ベンズアミド、ナフトアミド、ニコチンアミド、イソニコチンアミド等が挙げられる。これらのうち、室温での保存安定性、得られる着色パターン等の耐熱性、電圧保持率等を向上できる観点からアセトアミド、N-メチルアセトアミド、フタルアミド酸が好ましい。上記式9および10で表される化合物は分子内に2つのアミド結合を有する化合物である。その具体例としては、例えば、フタルアミド、イソフタルアミド、テレフタルアミド、マロンアミド、スクシンアミド、N,N’-ジアセチル-p-フェニレンジアミン、N,N’-ジアセチル-ヘキサメチレンジアミン、N,N’-ジアセチル-ドデシルメチレンジアミン等が挙げられる。これらのうち、保存安定性と低温硬化とを高いレベルで両立できるという観点から、イソフタルアミド、アジピンアミド、N,N’-ジアセチル-p-フェニレンジアミン、N,N’-ジアセチル-ヘキサメチレンジアミンが好ましい。アミド化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。着色組成物におけるアミド化合物の含有割合としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.1質量部~10質量部が好ましく、0.5質量部~5質量部がより好ましい。アミド化合物の含有割合を上記特定範囲とすることで、着色組成物の保存安定性と低温硬化とをより高いレベルで両立できる。[チオール化合物]チオール化合物としては、1分子中に2個以上のメルカプト基を有する化合物である。チオール化合物は、1分子中に2個以上のメルカプト基を有する限り特に限定されるものではないが、下記式11で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を使用することができる。上記式11中、R37は、メチレン基、炭素数2~10のアルキレン基である。但し、これらの基は水素原子の一部または全部がアルキル基で置換されていてもよい。Y1は、単結合、-CO-またはO-CO-である。但し、を付した結合手がR37と結合する。nは2~10の整数である。A4は、1個または複数個のエーテル結合を有していてもよい炭素数2~70のn価の炭化水素基、または、nが3の場合下記式12で示される基である。上記式12中、R38~R40は、それぞれ独立してメチレン基または炭素数2~6のアルキレン基である。は、それぞれ結合手であることを表す。上記式11で表される化合物として、典型的にはメルカプトカルボン酸と多価アルコールとのエステル化物などを使用することができる。エステル化物を構成するメルカプトカルボン酸としては、例えば、チオグリコール酸、3-メルカプトプロピオン酸、3-メルカプトブタン酸、3-メルカプトペンタン酸等が挙げられる。また、エステル化物を構成する多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、テトラエチレングリコール、ジペンタエリスリトール、1,4-ブタンジオール、ペンタエリスリトール等が挙げられる。上記式11で表される化合物としては、トリメチロールプロパントリス3-メルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトプロピオネート、テトラエチレングリコールビス3-メルカプトプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサキス3-メルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、1,4-ビス3-メルカプトブチリルオキシブタン、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトブチレート、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトペンチレート、1,3,5-トリス3-メルカプトブチルオキシエチル-1,3,5-トリアジン-2,4,61H,3H,5H-トリオンが好ましい。チオール化合物の1分子中に2個以上のメルカプト基を有する化合物としては、下記式13~下記式15で表される化合物を用いることもできる。上記式13中、R41は、メチレン基または炭素数2~20のアルキレン基である。R42は、メチレン基または炭素数2~6の直鎖若しくは分岐アルキレン基である。kは1~20の整数である。上記式14中、R43~R46は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基または下記式15で表される基である。但し、R43~R46の少なくとも1つは下記式15で表される基である。上記式15中、R47は、メチレン基または炭素数2~6の直鎖若しくは分岐アルキレン基である。チオール化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。着色組成物におけるチオール化合物の含有割合としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、1質量部~20質量部が好ましく、5質量部~15質量部がより好ましい。チオール化合物の含有割合を上記特定範囲とすることで、着色組成物の保存安定性と低温硬化とをより高いレベルで両立できる。[ブロックイソシアネート化合物]ブロックポリイソシアネート化合物は、イソシアネート基を活性水素基含有化合物ブロック剤と反応させて常温で不活性としたものであり、これを加熱するとブロック剤が解離してイソシアネート基が再生されるという性質を持つものである。着色組成物がブロックポリイソシアネートを含有することで、効果的な架橋剤としてイソシアネート-水酸基架橋反応が進行し、着色組成物の保存安定性と低温硬化とを高いレベルで両立できる。ブロックポリイソシアネート化合物は、脂肪族または脂環族ジイソシアネートから誘導されるポリイソシアネートと活性水素とを有する化合物ブロック剤との公知の反応によって得られる。ジイソシアネートとしては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートHDI、2,2,4-トリメチル-1,6-ジイソシアナトヘキサン、2,4,4-トリメチル-1,6-ジイソシアナトヘキサン、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートIPDI、1,3-ビスイソシアナトメチルシクロヘキサン、4,4-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、4,4′-ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、キシリジンイソシアネート、1,4-テトラメチレンジイソシアネート、1,5-ペンタメチレンジイソシアネート、1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート、3-イソシアネートメチル-3,5,5-トリメチルシクロヘキシルジイソシアネート等が挙げられる。市販品としては、例えば、イソシアネート基をメチルエチルケトンのオキシムでブロックしたものとして、デュラネート登録商標TPA-B80E、TPA-B80X、E402-B80T、MF-B60XN、MF-B60X、MF-B80M以上、旭化成工業社;イソシアネート基を活性メチレンでブロックしたものとして、デュラネート登録商標MF-K60X旭化成工業社;メタアクリロイル基を有するイソシアネート化合物のブロック体として、カレンズ登録商標MOI-BP、カレンズ登録商標MOI-BM以上、昭和電工社が挙げられる。これらのうち、デュラネート登録商標E402-B80T、MF-K60Xを用いた場合に高いフレキシブル性が発現し、他との混合系にして使用する事で、自在にその硬さを制御する事ができるため好ましい。ジイソシアネートより誘導されるポリイソシアネートとしては、例えば、イソシアヌレート型ポリイソシアネート、ビュウレット型ポリイソシアネート、ウレタン型ポリイソシアネート、アロファネート型ポリイソシアネート等が挙げられる。硬化性の観点からイソシアヌレート型ポリイソシアネートが好ましい。ブロック剤としては、例えば、アルコール系化合物、フェノール系化合物、活性メチレン系化合物、メルカプタン系化合物、酸アミド系化合物、酸イミド系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、尿素系化合物、オキシム系化合物、アミン系化合物、イミン系化合物、ピリジン系化合物等が挙げられる。アルコール系化合物としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、2-エチルヘキサノール、メチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、メチルカルビトール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール等;フェノール系化合物としては、例えば、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、ジノニルフェノール、スチレン化フェノール、ヒドロキシ安息香酸エステル等;活性メチレン系化合物としては、例えば、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等;メルカプタン系化合物としては、例えば、ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等;酸アミド系化合物としては、例えば、アセトアニリド、酢酸アミド、ε-カプロラクタム、δ-バレロラクタム、γ-ブチロラクタム等;酸イミド系化合物としては、例えば、コハク酸イミド、マレイン酸イミド等;イミダゾール系化合物としては、例えば、イミダゾール、2-メチルイミダゾール等;ピラゾール系化合物としては、例えば、3-メチルピラゾール、3,5-ジメチルピラゾール、3,5-エチルピラゾール等;尿素系化合物としては、例えば、尿素、チオ尿素、エチレン尿素等;オキシム系化合物としては、例えば、ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等;アミン系化合物としては、例えば、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾール等;イミン系化合物としては、例えば、エチレンイミン、ポリエチレンイミン等;ピリジン系化合物としては、例えば、2-ヒドロキシピリジン、2-ヒドロキシキノリン等が挙げられる。ブロックポリイソシアネート化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。着色組成物におけるブロックポリイソシアネート化合物の含有割合としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.1質量部~10質量部が好ましく、0.5質量部~5質量部がより好ましい。ブロックポリイソシアネート化合物の含有割合を上記範囲とすることで、着色組成物の保存安定性と低温硬化とをより高いレベルで両立できる。[イミダゾール環含有化合物]イミダゾール環含有化合物としては、下記式16で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を使用することができる。上記式16中、A5、A6、A7およびR48は、それぞれ独立して水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1~20の直鎖状、分岐状または環状の炭化水素基である。また、A6とA7は互いに連結して環を形成してもよい。A5、A6、A7およびR48が示す炭素数1~20の直鎖状、分岐状または環状の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基、n-エイコシル基等の炭素数1~20のアルキル基;シクロペンチル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3~20のシクロアルキル基;フェニル基、トルイル基、ベンジル基、メチルベンジル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、アントリル基等の炭素数6~20のアリール基;ノルボルニル基、トリシクロデカニル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、メチルアダマンチル基、エチルアダマンチル基、ブチルアダマンチル基等の炭素数6~20の有橋脂環式炭化水素基等が挙げられる。上記炭化水素基は置換されていてもよく、この置換基の具体例としては、水酸基;カルボキシル基;ヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、3-ヒドロキシプロピル基、1-ヒドロキシブチル基、2-ヒドロキシブチル基、3-ヒドロキシブチル基、4-ヒドロキシブチル基等の炭素数1~4のヒドロキシアルキル基;メトキシル基、エトキシル基、n-プロポキシル基、i-プロポキシル基、n-ブトキシル基、2-メチルプロポキシル基、1-メチルプロポキシル基、t-ブトキシル基等の炭素数1~4のアルコキシル基;シアノ基;シアノメチル基、2-シアノエチル基、3-シアノプロピル基、4-シアノブチル基等の炭素数2~5のシアノアルキル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、t-ブトキシカルボニル基等の炭素数2~5のアルコキシカルボニル基;メトキシカルボニルメトキシル基、エトキシカルボニルメトキシル基、t-ブトキシカルボニルメトキシル基等の炭素数3~6のアルコキシカルボニルアルコキシル基;フッ素、塩素等のハロゲン原子;フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等のフルオロアルキル基等が挙げられる。上記A6とA7が互いに連結して形成する環としては、好ましくは芳香環、炭素数2~20の飽和若しくは不飽和の含窒素複素環が挙げられる。A6とA7が互いに連結して形成する環が、ベンゼン環の場合のイミダゾール環含有化合物としては、下記式17で表される化合物が挙げられる。上記式17中、R48およびA5は、上記式16と同義である。R49~R52は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1~20の直鎖状、分岐状または環状の炭化水素基である。なお、R49~R52が示す炭化水素基としては、上記式16中の炭化水素基と同様のものを挙げることができる。イミダゾール環含有化合物としては、2-フェニルベンズイミダゾール、2-メチルイミダゾール、2―メチルベンズイミダゾールが好ましい。イミダゾール環含有化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。イミダゾール環含有化合物の含有割合としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.1質量部~10質量部が好ましく、0.5質量部~5質量部がより好ましい。イミダゾール環含有化合物の含有割合を上記特定範囲とすることで、着色組成物の保存安定性と低温硬化とをより高いレベルで両立できる。<その他の任意成分>本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層において、その着色パターンの形成に用いられる着色組成物は、上記の[A]アルカリ可溶性樹脂、[B]重合性化合物、[C]重合開始剤、および[D]着色剤に加え、[E]化合物硬化剤のほか、本発明の効果を損なわない範囲で必要に応じて界面活性剤、保存安定剤、接着助剤、耐熱性向上剤等のその他の任意成分を含有できる。これらの各任意成分は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。以下、各成分を詳述する。[界面活性剤]界面活性剤は、着色組成物の塗膜形成性をより向上させるために使用できる。界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他の界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖および側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基および/またはフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましい。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、フタージェント登録商標FT-100、同-110、同-140A、同-150、同-250、同-251、同-300、同-310、同-400S、フタージェント登録商標FTX-218、同-251以上、ネオス社等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えば、トーレシリコーンDC3PA、同DC7PA、同SH11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA、同SH-190、同SH-193、同SZ-6032、同SF-8428、同DC-57、同DC-190以上、東レダウコーニングシリコーン社等が挙げられる。界面活性剤の使用量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、1.0質量部以下が好ましく、0.7質量部以下がより好ましい。界面活性剤の使用量が1.0質量部を超えると、膜ムラを生じやすくなる。[保存安定剤]保存安定剤としては、例えば、硫黄、キノン類、ヒドロキノン類、ポリオキシ化合物、アミン、ニトロニトロソ化合物等が挙げられ、より具体的には、4-メトキシフェノール、N-ニトロソ-N-フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム等が挙げられる。保存安定剤の使用量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、3.0質量部以下が好ましく、1.0質量部以下がより好ましい。保存安定剤の配合量が3.0質量部を超えると、感度が低下してパターン形状が劣化する場合がある。[接着助剤]接着助剤は、得られる着色パターンおよびカラーフィルタ層と基板などとの接着性をさらに向上させるために使用できる。接着助剤としてはカルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましく、例えばトリメトキシシリル安息香酸、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等が挙げられる。接着助剤の使用量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、20質量部以下が好ましく、15質量部以下がより好ましい。接着助剤の使用量が20質量部を超えると、現像残りを生じやすくなる傾向がある。<着色組成物の調製方法>本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層において、その着色パターンの形成に用いられる着色組成物は、[A]アルカリ可溶性樹脂、[B]重合性化合物、[C]重合開始剤、および[D]着色剤のほか、さらに[E]化合物硬化剤および必要に応じ添加されるその他の任意成分を均一に混合することによって調製される。この着色組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状で用いられる。着色組成物の調製に用いられる溶媒としては、必須成分および任意成分を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。このような溶媒としては、上述した[A]アルカリ可溶性樹脂を製造するために使用できる溶媒として例示したものと同様のものが挙げられる。例えば、このような溶媒のうち、各成分の溶解性、各成分との反応性、塗膜形成の容易性等の観点から、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等のポリアルキレングリコールモノアルキルエーテル類;酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、酢酸エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸3-メトキシブチル、酢酸3-メチル-3-メトキシブチル等の酢酸ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、ジアセトンアルコール4-ヒドロキシ-4-メチルペンタン-2-オン、4-ヒドロキシ-4-メチルヘキサン-2-オン等のケトン類;プロピレングリコールジアセテート、1,3-ブチレングリコールジアセテート、1,6-ヘキサンジオールジアセテート等のジアセテート類;乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸i-プロピル、酢酸n-ブチル、酢酸i-ブチル、ぎ酸n-ペンチル、酢酸i-ペンチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、プロピオン酸n-ブチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、酪酸エチル、酪酸n-プロピル、酪酸i-プロピル、酪酸n-ブチル、ヒドロキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n-プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチル酪酸メチル、2-オキソ酪酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。これらの溶媒のうち、溶解性、顔料分散性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸3-メトキシブチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、1,3-ブチレングリコールジアセテート、1,6-ヘキサンジオールジアセテート、乳酸エチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、酢酸n-ブチル、酢酸i-ブチル、ぎ酸n-アミル、酢酸i-アミル、プロピオン酸n-ブチル、酪酸エチル、酪酸i-プロピル、酪酸n-ブチル、ピルビン酸エチルが好ましい。溶媒は単独または2種以上を使用できる。さらに、上記溶媒と共に、ベンジルエチルエーテル、ジ-n-ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オクタノール、1-ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ-ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。上記高沸点溶媒は、単独または2種以上を使用できる。溶媒の含有量としては限定されないが、得られる着色組成物の塗布性、安定性等の観点から着色組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、5質量~50質量となる量が好ましく、10質量~40質量となる量がより好ましい。着色組成物を溶液状態として調製する場合、固形分濃度組成物溶液中に占める溶媒以外の成分は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意の濃度例えば、5質量~50質量に設定できる。さらに好ましい固形分濃度は、基板上への塗膜の形成方法により異なるが、これについては後述する。このようにして調製された組成物溶液は、孔径0.5μm程度のミリポアフィルタ等を用いて濾過した後、使用に供することができる。以上の成分と調製方法による着色組成物は、低温硬化により着色パターンを形成することができる。具体的には、200°C以下の硬化温度で耐溶媒性等の良好な信頼性を有する着色パターンを得ることができ、さらには180°C以下の硬化温度であっても、耐溶媒性等の良好な信頼性を有する着色パターンを得ることができる。そして、低温硬化によって本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層を提供することができる。次に、本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層は、着色パターンを有するが、その着色パターンの上に絶縁膜を設けることが可能である。すなわち、本実施の形態のアレイ基板では、着色パターンとその上の絶縁膜とからカラーフィルタ層を構成することが可能である。この絶縁膜は、上述したように、着色パターン上に第2の感放射線性樹脂組成物を用いて形成される。そして、絶縁膜は、着色パターンを保護し、さらに、その上に形成される透明電極の優れた特性を実現するための保護膜の機能を備えることも可能である。以下で、本実施の形態のアレイ基板において、カラーフィルタ層の絶縁膜の形成に用いられる第2の感放射線性樹脂組成物について説明する。<絶縁膜形成用の感放射線性樹脂組成物第2の感放射線性樹脂組成物>本実施の形態のアレイ基板において、カラーフィルタ層の絶縁膜の形成に用いられる感放射線性樹脂組成物である第2の感放射線性樹脂組成物は、[I]化合物、[II]重合性化合物、[III]重合開始剤および[IV]化合物を含有し、さらに任意成分を含有してもよい。第2の感放射線性樹脂組成物は、感放射線性を利用した露光により低温硬化を実現する。併せて、保存安定性を有し、かつ充分な放射線感度を有する。以下、各成分について説明する。<[I]化合物>第2の感放射線性樹脂組成物に含有される[I]化合物は、エポキシ基を有する化合物である。[I]化合物としては、例えば、1分子内に2個以上のオキシラニル基、オキセタニル基、グリシジル基、3,4-エポキシシクロヘキシル基を有する化合物等が挙げられる。1分子内に2個以上の3,4-エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-3,4-エポキシシクロヘキシル-5,5-スピロ-3,4-エポキシシクロヘキサン-メタ-ジオキサン、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアジペート、ビス3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチルアジペート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシル-3’,4’-エポキシ-6’-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス3,4-エポキシシクロヘキサン、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ3,4-エポキシシクロヘキシルメチルエーテル、エチレンビス3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。1分子中に2個以上のオキセタニル基1,3-エポキシ構造を有する化合物としては、例えば1,4-ビス[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチル]ベンゼン、ビス{[1-エチル3-オキセタニル]メチル}エーテル、ビス3-エチル-3-オキセタニルメチルエーテル等が挙げられる。1分子中に2個以上のグリシジル基を有する化合物として、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル;1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル;フェノールノボラック型エポキシ樹脂;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂;ポリフェノール型エポキシ樹脂;環状脂肪族エポキシ樹脂;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル;高級脂肪酸のグリシジルエステル;エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。これらの市販品としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂として、エピコート1001、同1002、同1003、同1004、同1007、同1009、同1010、同828以上、ジャパンエポキシレジン社等;ビスフェノールF型エポキシ樹脂として、エピコート807ジャパンエポキシレジン社等;フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート152、同154、同157S65以上、ジャパンエポキシレジン社、EPPN登録商標201、同202以上、日本化薬社等;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、EOCN登録商標102、同103S、同104S、同1020、同1025、同1027以上、日本化薬社、エピコート180S75ジャパンエポキシレジン社等;ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート1032H60、同XY-4000以上、ジャパンエポキシレジン社等;環状脂肪族エポキシ樹脂として、CY-175、同177、同179、アラルダイトCY-182、同192、同184以上、チバスペシャルティケミカルズ社、ERL-4234、同4299、同4221、同4206以上、U.C.C社、ショーダイン509昭和電工社、エピクロン200、同400以上、大日本インキ社、エピコート871、同872以上、ジャパンエポキシレジン社、ED-5661、同5662以上、セラニーズコーティング社等;脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト100MF共栄社化学社、エピオール登録商標TMP日本油脂社等が挙げられる。これらのうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびポリフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。上記に例示したような[I]化合物と、後述するカルボキシル基を有する共重合体である[I]化合物とが共に第2の感放射線性樹脂組成物に含有される場合における、上記に例示した[I]化合物の使用量としては、後述するカルボキシル基を有する共重合体である[I]化合物100質量部に対して、50質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましく、2質量部~15質量部の範囲内とすることが特に好ましい。[I]化合物は重合体であることが好ましく、この重合体がカルボキシル基をさらに有することがより好ましい。[I]化合物が、カルボキシル基を持つ構造を有することで第2の感放射線性樹脂組成物は、耐熱性、耐光性、耐薬品性、透過率、平坦性等により優れる硬化膜を形成できる。[I]化合物としては、上述したカラーフィルタ層の着色パターンの形成に用いられた着色組成物に含有される[A]アルカリ可溶性樹脂と同様の共重合体を用いることができる。例えば、上述したA1不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種A1化合物と、A2エポキシ基含有不飽和化合物A2化合物とを共重合してなるアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。その場合、第2の感放射線性樹脂組成物は、感放射線性を利用した露光現像によって低温硬化を実現するとともに、容易に微細かつ精巧なパターンを形成することも可能である。<[II]重合性化合物>[II]重合性化合物としては、上述した本実施形態のアレイ基板のカラーフィルタ層の着色パターンにおいて、その形成に用いられる着色組成物に含有される[B]重合性化合物と同様の化合物を用いることができる。[II]重合性化合物は、単独で、または2種以上を混合して使用できる。第2の感放射線性樹脂組成物における[II]重合性化合物の含有割合としては、カルボキシル基を有する共重合体である[I]化合物100質量部に対して、20質量部~200質量部が好ましく、40質量部~160質量部がより好ましい。[II]重合性化合物の含有割合を上記範囲とすることで、第2の感放射線性樹脂組成物は、密着性に優れ低露光量においても十分な硬度を有した硬化膜を形成でき、優れた絶縁膜を提供できる。<[III]重合開始剤>[III]重合開始剤は感放射線性重合開始剤であり、放射線に感応して重合反応を開始しうる活性種を生じる成分である。本実施形態のアレイ基板のカラーフィルタ層の着色パターンにおいて、その形成に用いられる着色組成物に含有される[C]重合開始剤と同様の化合物を用いることができる。[III]重合開始剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。第2の感放射線性樹脂組成物における[III]重合開始剤の含有割合としては、カルボキシル基を有する共重合体である[I]化合物100質量部に対して、1質量部~40質量部が好ましく、5質量部~30質量部がより好ましい。[III]重合開始剤の含有割合を1質量部~40質量部とすることで、第2の感放射線性樹脂組成物は、低露光量の場合でも高い硬度および密着性を有する絶縁膜を形成できる。<[IV]化合物>本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層において、その絶縁膜の形成に用いられる第2の感放射線性樹脂組成物は、アミノ基と電子吸引性基とを有する[IV]化合物を含有することで、第2の感放射線性樹脂組成物の低温硬化によって得られる硬化膜の硬化促進を実現できる。併せて、保存安定性も実現する。さらに、得られた絶縁膜を有するカラーフィルタ層を備えた液晶表示素子の電圧保持率を高いレベルで保持できる。[IV]化合物は、上記式1および上記式2で表わされる化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である。式1および式2で表わされる化合物の構造の詳細については、上述の着色組成物に含有される[E]化合物を説明する際に説明した。よって、上記式2において、R7~R16のうち少なくとも1つはアミノ基であり、そのアミノ基の水素原子の全部または一部が炭素数1~6の炭化水素基で置換されていてもよいが、第2の感放射線性樹脂組成物に用いられる[IV]化合物の場合、そのアミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数2~6のアルキレン基で置換されていてもよい。[IV]化合物としては、2,2-ビス4-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、2,3-ビス4-アミノフェニルスクシノニトリル、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノフェニルベンゾエート、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ジアミノ-2-クロロベンゼン、1,4-ジアミノ-2-ブロモベンゼン、1,4-ジアミノ-2-ヨードベンゼン、1,4-ジアミノ-2-ニトロベンゼン、1,4-ジアミノ-2-トリフルオロメチルベンゼン、2,5-ジアミノベンゾニトリル、2,5-ジアミノアセトフェノン、2,5-ジアミノ安息香酸、2,2’-ジクロロベンジジン、2,2’-ジブロモベンジジン、2,2’-ジヨードベンジジン、2,2’-ジニトロベンジジン、2,2’-ビストリフルオロメチルベンジジン、3-アミノベンゼンスルホン酸エチル、3,5-ビストリフルオロメチル-1,2-ジアミノベンゼン、4-アミノニトロベンゼン、N,N-ジメチル-4-ニトロアニリンが好ましく、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、2,2-ビス4-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、2,2’-ビストリフルオロメチルベンジジン、3-アミノベンゼンスルホン酸エチル、3,5-ビストリフルオロメチル-1,2-ジアミノベンゼン、4-アミノニトロベンゼン、N,N-ジメチル-4-ニトロアニリンがより好ましい。第2の感放射線性樹脂組成物における[IV]化合物の含有割合としては、カルボキシル基を有する共重合体である[I]化合物100質量部に対して、0.1質量部~20質量部が好ましく、0.2質量部~10質量部がより好ましい。[IV]化合物の含有割合を0.1質量部~10質量部とすることで、第2の感放射線性樹脂組成物から形成される絶縁膜の硬化促進を実現することができる。併せて、第2の感放射線性樹脂組成物の保存安定性を向上し、さらに、得られた絶縁膜を有するカラーフィルタ層を備えた液晶表示素子の電圧保持率を高いレベルで保持できる。<その他の任意成分>本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層において、絶縁膜の形成に用いられる第2の感放射線性樹脂組成物は、上述した[I]化合物、[II]重合性化合物、[III]重合開始剤、および[IV]化合物に加え、所期の効果を損なわない範囲で必要に応じて[V]接着助剤、[VI]界面活性剤、[VII]保存安定剤および[VIII]耐熱性向上剤等の任意成分を含有できる。これらの各任意成分は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。以下、順に詳述する。[[V]接着助剤][V]接着助剤は、得られる絶縁膜とその下にある層との接着性をさらに向上させるために使用できる。このような[V]接着助剤としては、上述した着色組成物のその他の任意成分である接着助剤と同様の化合物を用いることができる。[V]接着助剤の使用量としては、カルボキシル基を有する共重合体である[I]化合物100質量部に対して、20質量部以下が好ましく、15質量部以下がより好ましい。[V]接着助剤の使用量が20質量部を超えると現像残りを生じやすくなる傾向がある。[[VI]界面活性剤][VI]界面活性剤は、第2の感放射線性樹脂組成物の塗膜形成性をより向上させるために使用できる。[VI]界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他の界面活性剤が挙げられるが、上述した着色組成物のその他の任意成分である界面活性剤と同様のものを用いることができる。[VI]界面活性剤の使用量としては、カルボキシル基を有する共重合体である[I]化合物100質量部に対して、1.0質量部以下が好ましく、0.8質量部以下がより好ましい。[VI]界面活性剤の使用量が1.0質量部を超えると、膜ムラを生じやすくなる。[[VII]保存安定剤][VII]保存安定剤としては、上述した着色組成物のその他の任意成分である保存安定剤と同様のものを用いることができ、例えば、硫黄、キノン類、ヒドロキノン類、ポリオキシ化合物、アミン、ニトロニトロソ化合物等が挙げられ、より具体的には、4-メトキシフェノール、N-ニトロソ-N-フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム等が挙げられる。[VII]保存安定剤の使用量としては、カルボキシル基を有する共重合体である[I]化合物100質量部に対して、3.0質量部以下が好ましく、1.0質量部以下がより好ましい。[VII]保存安定剤の配合量が3.0質量部を超えると、第2の感放射線性樹脂組成物の感度が低下してパターン形状が劣化する場合がある。[[VIII]耐熱性向上剤]第2の感放射線性樹脂組成物は、上述した着色組成物と同様に、[VIII]耐熱性向上剤を含有することができる。[VIII]耐熱性向上剤は、上述した着色組成物のその他の任意成分である耐熱性向上剤と同様のものを用いることができる。[VIII]耐熱性向上剤の使用量としては、カルボキシル基を有する共重合体である[I]化合物100質量部に対して、50質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましい。[VIII]耐熱性向上剤の配合量が50質量部を超えると、第2の感放射線性樹脂組成物の感度が低下してパターン形状が劣化する場合がある。<絶縁膜形成用の感放射線性樹脂組成物第2の感放射線性樹脂組成物の調製>本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層において、その絶縁膜を形成する第2の感放射線性樹脂組成物は、[I]化合物、[II]重合性化合物、[III]重合開始剤および[IV]化合物に加え、所期の効果を損なわない範囲で必要に応じて上述した任意成分を所定の割合で混合することにより調製される。この第2の感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。第2の感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、[I]化合物、[II]重合性化合物、[III]重合開始剤、[IV]化合物および任意成分を均一に溶解または分散し、各成分と反応しないものが用いられる。このような溶媒としては、本実施形態のカラーフィルタ層の着色パターンの形成に用いられる着色組成物の調製に使用する溶媒として例示したものが挙げられる。溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。第2の感放射線性樹脂組成物の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その使用量としては、全溶媒量に対して、50質量以下が好ましく、40質量以下がより好ましく、30質量以下が特に好ましい。高沸点溶媒の使用量が50質量以下の時、塗膜の膜厚均一性、感度および残膜率が良好となる。第2の感放射線性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、固形分濃度組成物溶液中に占める溶媒以外の成分は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意の濃度例えば、5質量~50質量に設定できる。より好ましい固形分濃度としては、基板上への塗膜の形成方法により異なるが、これについては後述する。このようにして調製された組成物溶液については、孔径0.5μm程度のミリポアフィルタ等を用いて濾過した後、使用に供することができる。以上の成分と調製方法による第2の感放射線性樹脂組成物は、低温硬化によりカラーフィルタ層の絶縁膜を形成することができる。具体的には、200°C以下の硬化温度で、さらには180°C以下の硬化温度であっても、良好な信頼性を有する絶縁膜を得ることができる。そして、低温硬化によって本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層を提供することができる。次に、本実施の形態のアレイ基板は、カラーフィルタ層の上に透明電極を有する。透明電極は、スパッタリング法など公知の方法を用いてカラーフィルタ層の上に、例えば、ITO膜を成膜し、そのITO膜から形成される。尚、透明電極は、ITOの他、可視光に対する高い透過率と導電性を有する透明な材料を用いて構成することができる。例えば、IZOIndiumZincOxideや、ZnO酸化亜鉛などを用いて構成することができる。次に、本実施の形態のアレイ基板は、カラーフィルタ層上の透明電極の上に立設された柱状のスペーサを有する。このスペーサは、上述したように、第1の感放射線性樹脂組成物を用いて形成される。以下で、本実施の形態のアレイ基板のスペーサの形成に用いられる第1の感放射線性樹脂組成物について説明する。<スペーサ形成用の感放射線性樹脂組成物第1の感放射線性樹脂組成物>本実施形態のアレイ基板のスペーサの形成に用いられる感放射線性樹脂組成物である第1の感放射線性樹脂組成物は、[P]化合物、[Q]重合性化合物、[R]重合開始剤および[S]化合物を含有し、さらに任意成分を含有してもよい。第1の感放射線性樹脂組成物は、感放射線性を利用した露光現像によって容易に微細かつ精巧なパターンを形成でき、低温硬化を実現する。併せて、保存安定性を有し、かつ充分な解像度および放射線感度を有する。以下、各成分を詳述する。<[P]化合物>第1の感放射線性樹脂組成物に含有される[P]化合物としては、本実施形態のアレイ基板のスペーサのパターニングを考慮して、アルカリ可溶性樹脂を選択することが好ましい。アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基を有することで、アルカリ現像性を有する樹脂であれば、特に限定されない。そして、アルカリ可溶性樹脂には、エポキシ基を有する化合物を含有することができる。エポキシ基を有する化合物としては、例えば、1分子内に2個以上のオキシラニル基、オキセタニル基、グリシジル基、3,4-エポキシシクロヘキシル基を有する化合物等が挙げられる。1分子内に2個以上の3,4-エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-3,4-エポキシシクロヘキシル-5,5-スピロ-3,4-エポキシシクロヘキサン-メタ-ジオキサン、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアジペート、ビス3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチルアジペート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシル-3’,4’-エポキシ-6’-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス3,4-エポキシシクロヘキサン、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ3,4-エポキシシクロヘキシルメチルエーテル、エチレンビス3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。1分子中に2個以上のオキセタニル基1,3-エポキシ構造を有する化合物としては、例えば、1,4-ビス[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチル]ベンゼン、ビス{[1-エチル3-オキセタニル]メチル}エーテル、ビス3-エチル-3-オキセタニルメチルエーテル等が挙げられる。その他の[P]化合物に含有できるエポキシ化合物としては、グリシジル基を有する化合物として、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル;1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル;フェノールノボラック型エポキシ樹脂;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂;ポリフェノール型エポキシ樹脂;環状脂肪族エポキシ樹脂;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル;高級脂肪酸のグリシジルエステル;エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。これらの市販品としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂として、エピコート1001、同1002、同1003、同1004、同1007、同1009、同1010、同828以上、ジャパンエポキシレジン社等;ビスフェノールF型エポキシ樹脂として、エピコート807ジャパンエポキシレジン社等;フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート152、同154、同157S65以上、ジャパンエポキシレジン社、EPPN登録商標201、同202以上、日本化薬社等;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、EOCN登録商標102、同103S、同104S、同1020、同1025、同1027以上、日本化薬社、エピコート180S75ジャパンエポキシレジン社等;ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート1032H60、同XY-4000以上、ジャパンエポキシレジン社等;環状脂肪族エポキシ樹脂として、CY-175、同177、同179、アラルダイトCY-182、同192、同184以上、チバスペシャルティケミカルズ社、ERL-4234、同4299、同4221、同4206以上、U.C.C社、ショーダイン509昭和電工社、エピクロン200、同400以上、大日本インキ社、エピコート871、同872以上、ジャパンエポキシレジン社、ED-5661、同5662以上、セラニーズコーティング社等;脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト100MF共栄社化学社、エピオール登録商標TMP日本油脂社等が挙げられる。これらのうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびポリフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。第1の感放射線性樹脂組成物の含む[P]化合物であるアルカリ可溶性樹脂としては、P1不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種P1化合物から形成される構造単位と、P2エポキシ基含有不飽和化合物P2化合物から形成される構造単位とを含む共重合体であるアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。そして、上述した本実施形態のアレイ基板のカラーフィルタ層の形成に用いられる着色組成物に含有される[A]アルカリ可溶性樹脂と同様の共重合体を用いることができる。例えば、P1化合物として上述のA1不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種A1化合物を用い、P2化合物としてA2エポキシ基含有不飽和化合物A2化合物を用いることができる。そして、[P]化合物であるアルカリ可溶性樹脂として、A1化合物から形成される構造単位と、A2化合物から形成される構造単位とを含む共重合体であるアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。<[Q]重合性化合物>[Q]重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物である。そして、[Q]重合性化合物としては、上述した本実施形態のアレイ基板のカラーフィルタ層の製造に用いられる着色組成物に含有される[B]重合性化合物と同様の化合物を用いることができる。[Q]重合性化合物は、単独で、または2種以上を混合して使用できる。第1の感放射線性樹脂組成物における[Q]重合性化合物の含有割合としては、[P]化合物100質量部に対して、20質量部~200質量部が好ましく、40質量部~160質量部がより好ましい。[Q]重合性化合物の含有割合を上記範囲とすることで、第1の感放射線性樹脂組成物は、密着性に優れ低露光量においても十分な硬度を有した硬化膜を形成でき、優れたスペーサを提供できる。<[R]重合開始剤>[R]重合開始剤は、感放射線性の重合開始剤である。[R]重合開始剤としては、上述した本実施形態のアレイ基板のカラーフィルタ層の製造に用いられる着色組成物に含有される[C]重合開始剤と同様の化合物を用いることができる。[R]重合開始剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。第1の感放射線性樹脂組成物における[R]重合開始剤の含有割合としては、[P]化合物100質量部に対して、1質量部~40質量部が好ましく、5質量部~30質量部がより好ましい。[R]重合開始剤の含有割合を1質量部~40質量部とすることで、第1の感放射線性樹脂組成物は、低露光量の場合でも高い硬度および密着性を有する硬化膜することができ、優れたスペーサを形成できる。<[S]化合物>本実施形態のアレイ基板のスペーサの形成に用いられる第1の感放射線性樹脂組成物は、アミノ基と電子吸引性基とを有する[S]化合物を含有することで第1の感放射線性樹脂組成物の低温硬化によって得られる硬化膜の硬化促進を実現できる。併せて、保存安定性も実現し、さらに、得られたスペーサを有するアレイ基板を備えた液晶表示素子の電圧保持率を高いレベルで保持できる[S]化合物は、上記式1および上記式2で表わされる化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である。式1および式2で表わされる化合物の構造の詳細については、上述の着色組成物に含有される[E]化合物を説明する際に説明した。よって、上記式2において、R7~R16のうち少なくとも1つはアミノ基であり、そのアミノ基の水素原子の全部または一部が炭素数1~6の炭化水素基で置換されていてもよいが、第1の感放射線性樹脂組成物に用いられる[S]化合物の場合、そのアミノ基は、水素原子の全部または一部が炭素数2~6のアルキレン基で置換されていてもよい。[S]化合物としては、2,2-ビス4-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、2,3-ビス4-アミノフェニルスクシノニトリル、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノフェニルベンゾエート、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ジアミノ-2-クロロベンゼン、1,4-ジアミノ-2-ブロモベンゼン、1,4-ジアミノ-2-ヨードベンゼン、1,4-ジアミノ-2-ニトロベンゼン、1,4-ジアミノ-2-トリフルオロメチルベンゼン、2,5-ジアミノベンゾニトリル、2,5-ジアミノアセトフェノン、2,5-ジアミノ安息香酸、2,2’-ジクロロベンジジン、2,2’-ジブロモベンジジン、2,2’-ジヨードベンジジン、2,2’-ジニトロベンジジン、2,2’-ビストリフルオロメチルベンジジン、3-アミノベンゼンスルホン酸エチル、3,5-ビストリフルオロメチル-1,2-ジアミノベンゼン、4-アミノニトロベンゼン、N,N-ジメチル-4-ニトロアニリンが好ましく、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、2,2-ビス4-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、2,2’-ビストリフルオロメチルベンジジン、3-アミノベンゼンスルホン酸エチル、3,5-ビストリフルオロメチル-1,2-ジアミノベンゼン、4-アミノニトロベンゼン、N,N-ジメチル-4-ニトロアニリンがより好ましい。第1の感放射線性樹脂組成物における[S]化合物の含有割合としては、[P]化合物100質量部に対して、0.1質量部~20質量部が好ましく、0.2質量部~10質量部がより好ましい。[S]化合物の含有割合を0.1質量部~10質量部とすることで、第1の感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサの硬化促進を実現することができる。併せて、第1の感放射線性樹脂組成物の保存安定性を向上し、さらに、得られたスペーサを有するアレイ基板を用いた液晶表示素子の電圧保持率を高いレベルで保持できる。<その他の任意成分>本実施形態のアレイ基板のスペーサの形成に用いられる第1の感放射線性樹脂組成物は、上述した[P]化合物、[Q]重合性化合物、[R]重合開始剤、および[S]化合物に加え、所期の効果を損なわない範囲で必要に応じて[T1]接着助剤、[T2]界面活性剤、[T3]保存安定剤および[T4]耐熱性向上剤等の任意成分を含有できる。これらの各任意成分は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。以下、順に詳述する。[[T1]接着助剤][T1]接着助剤は、形成されるスペーサと基板との接着性をさらに向上させるために使用できる。このような[T1]接着助剤としては、上述した着色組成物のその他の任意成分である接着助剤と同様の化合物を用いることができる。[T1]接着助剤の使用量としては、[P]化合物100質量部に対して、20質量部以下が好ましく、15質量部以下がより好ましい。[T1]接着助剤の使用量が20質量部を超えると現像残りを生じやすくなる傾向がある。[[T2]界面活性剤][T2]界面活性剤は、第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜形成性をより向上させるために使用できる。[T2]界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他の界面活性剤が挙げられるが、上述した着色組成物のその他の任意成分である界面活性剤と同様のものを用いることができる。[T2]界面活性剤の使用量としては、[P]化合物100質量部に対して、1.0質量部以下が好ましく、0.8質量部以下がより好ましい。[T2]界面活性剤の使用量が1.0質量部を超えると、膜ムラを生じやすくなる。[[T3]保存安定剤][T3]保存安定剤としては、上述した着色組成物のその他の任意成分である保存安定剤と同様のものを用いることができ、例えば、硫黄、キノン類、ヒドロキノン類、ポリオキシ化合物、アミン、ニトロニトロソ化合物等が挙げられ、より具体的には、4-メトキシフェノール、N-ニトロソ-N-フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム等が挙げられる。[T3]保存安定剤の使用量としては、[P]化合物100質量部に対して、3.0質量部以下が好ましく、1.0質量部以下がより好ましい。[T3]保存安定剤の配合量が3.0質量部を超えると、第1の感放射線性樹脂組成物の感度が低下してパターン形状が劣化する場合がある。[[T4]耐熱性向上剤]第1の感放射線性樹脂組成物は、上述した着色組成物と同様に、[T4]耐熱性向上剤を含有することができる。[T4]耐熱性向上剤は、上述した着色組成物のその他の任意成分である耐熱性向上剤と同様のものを用いることができる。[T4]耐熱性向上剤の使用量としては、[P]化合物100質量部に対して、50質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましい。[T4]耐熱性向上剤の配合量が50質量部を超えると、第1の感放射線性樹脂組成物の感度が低下してパターン形状が劣化する場合がある。<スペーサ形成用の感放射線性樹脂組成物第1の感放射線性樹脂組成物の調製>本実施形態のアレイ基板の有するスペーサを形成するための第1の感放射線性樹脂組成物は、[P]化合物、[Q]重合性化合物、[R]重合開始剤および[S]化合物に加え、所期の効果を損なわない範囲で必要に応じて任意成分を所定の割合で混合することにより調製される。この第1の感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。第1の感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、[P]化合物、[Q]重合性化合物、[R]重合開始剤、[S]化合物および任意成分を均一に溶解または分散し、各成分と反応しないものが用いられる。このような溶媒としては、上述した本実施形態のカラーフィルタ層を形成するための着色組成物の調製に用いられる溶媒として例示したものが挙げられる。溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。第1の感放射線性樹脂組成物の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その使用量としては、全溶媒量に対して、50質量以下が好ましく、40質量以下がより好ましく、30質量以下が特に好ましい。高沸点溶媒の使用量が50質量以下の時、塗膜の膜厚均一性、感度および残膜率が良好となる。第1の感放射線性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、固形分濃度組成物溶液中に占める溶媒以外の成分は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意の濃度例えば5質量~50質量に設定できる。より好ましい固形分濃度としては、基板上への塗膜の形成方法により異なるが、これについては後述する。このようにして調製された組成物溶液については、孔径0.5μm程度のミリポアフィルタ等を用いて濾過した後、使用に供することができる。以上の成分と調製方法による第1の感放射線性樹脂組成物は、低温硬化によりスペーサを形成することができる。具体的には、200°C以下の硬化温度で、さらには180°C以下の硬化温度であっても、良好な信頼性を有するスペーサを得ることができる。そして、低温硬化によって本実施の形態のアレイ基板を提供することができる。次に、本実施の形態のアレイ基板から本実施の形態の液晶表示素子を製造する場合、アレイ基板において、スペーサの形成された透明電極の上に液晶配向用の配向膜を設ける。そして、配向膜を有するアレイ基板を製造する。配向膜は、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤または光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤を用いて得ることができる。その場合、200°C以下の加熱温度で配向膜を形成することが可能となる。次に、配向膜を形成する液晶配向剤について、特にその主要成分について説明する。<液晶配向剤>本実施の形態のアレイ基板において配向膜を形成する液晶配向剤は、上述のように、光配向性基を有する[L]感放射線性重合体、または光配向性基を有さない[M]ポリイミドを主要な成分として含有する液晶配向剤である。これらはいずれも、例えば、200°C以下など、低温の加熱温度で配向膜を形成することが可能である。特に、光配向性基を有する[L]感放射線性重合体を含有する液晶配向剤が、より低温での配向膜形成が可能であって好ましい。また、本実施の形態のアレイ基板の配向膜を形成する液晶配向剤は、本発明の効果を損なわない限り[N]その他の成分を含有することができる。以下、それら成分について説明する。[[L]感放射線性重合体]本実施の形態のアレイ基板の配向膜を形成する液晶配向剤に含有される[L]感放射線性重合体は、光配向性基を有する重合体である。この[L]感放射線性重合体が有する光配向性基は、光照射により膜に異方性を付与する官能基であり、本実施の形態では、特に、光異性化反応及び光二量化反応の少なくともいずれかを生じることにより膜に異方性を与える基である。光配向性基として具体的には、アゾベンゼン、スチルベン、α-イミノ-β-ケトエステル、スピロピラン、スピロオキサジン、桂皮酸、カルコン、スチルバゾール、ベンジリデンフタルイミジン、クマリン、ジフェニルアセリレンおよびアントラセンからなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物由来の構造を有する基である。上述の光配向性基としては、これらの中でも、桂皮酸由来の構造を有する基が特に好ましい。光配向性基を有する[L]感放射線性重合体としては、上述の光配向性基が直接または連結基を介して結合された重合体であるのが好ましい。そのような重合体としては、例えば、ポリアミック酸およびポリイミドの少なくともいずれかの重合体に上述の光配向性基が結合したもの、ポリアミック酸およびポリイミドとは別の重合体に上述の光配向性基が結合したものが挙げられる。後者の場合、光配向性基を有する重合体の基本骨格としては、例えば、ポリメタアクリル酸エステル、ポリメタアクリルアミド、ポリビニルエーテル、ポリオレフィン、ポリオルガノシロキサン等を挙げることができる。感放射線性重合体としては、ポリアミック酸、ポリイミドまたはポリオルガノシロキサンを基本骨格とするものが好ましい。また、これらの中でも、ポリオルガノシロキサンが特に好ましく、例えば、国際公開WO第2009/025386号パンフレットに記載された方法により得ることができる。[[M]ポリイミド]本実施の形態のアレイ基板の配向膜を形成する液晶配向剤に含有される[M]ポリイミドは、光配向性基を有さないポリイミドである。このような光配向性基を有さない[M]ポリイミドは、光配向性基を有さないポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。このようなポリアミック酸は、例えば、テトラカルボン酸二無水物と、ジアミンとを反応させることにより得ることができ、特開2010-97188号公報に記載されるようにして得ることができる。[M]ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造が併存する部分イミド化物であってもよい。[M]ポリイミドは、そのイミド化率が30以上であることが好ましく、50~99であることがより好ましく、65~99であることがより好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよく、例えば、特開2010-97188号公報に記載されるようにして得ることができる。[[N]その他の成分]本実施の形態のアレイ基板の配向膜を形成する液晶配向剤は、光配向性基を有する感放射線性重合体および光配向性基を有さないポリイミド以外の[N]その他の成分を含有することができる。[N]その他の成分としては、例えば、光配向性基を有する[L]感放射線性重合体および光配向性基を有さない[M]ポリイミド以外の重合体、硬化剤、硬化触媒、硬化促進剤、エポキシ化合物、官能性シラン化合物、界面活性剤、光増感剤などを挙げることができる。次に、本実施の形態のアレイ基板の製造方法について説明する。<カラーフィルタ層、スペーサおよびアレイ基板並びにそれらの製造方法>本実施の形態のアレイ基板の製造においては、上述した着色組成物から着色パターンを形成してカラーフィルタ層を形成する工程と上述の第1の感放射線性樹脂組成物からスペーサを形成する工程が主要な製造工程として含まれる。そして、着色パターンの上には絶縁膜を形成してカラーフィルタ層を構成することも可能である。その場合、さらに、上述した第2の感放射線性樹脂組成物から絶縁膜を形成するための工程が、主要な製造工程として含まれるようになる。以下、カラーフィルタ層、スペーサおよびアレイ基板並びにこれらの製造方法について説明する。本実施の形態のアレイ基板の製造方法では、着色パターンからなるカラーフィルタ層とスペーサとが形成され、少なくとも下記の工程[1]~工程[7]を下記の順で含むことが好ましい。[1]着色組成物の塗膜を、スイッチング能動素子や電極等ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極、ソース配線、およびゲート配線など。以下、電極等と総称することがある。の形成された基板上に形成する工程以下、[1]工程と称することがある。[2]着色組成物の塗膜に着色パターンを形成する工程以下、[2]工程と称することがある。[3]着色パターンが形成された塗膜を200°C以下で硬化する工程以下、[3]工程と称することがある。[4]第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜を、[3]工程で硬化された塗膜を有する基板の上に形成する工程以下、[4]工程と称することがある。[5][4]工程で形成された第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程以下、[5]工程と称することがある。[6][5]工程で放射線が照射された塗膜を現像する工程以下、[6]工程と称することがある。[7][6]工程で現像された塗膜を200°C以下で硬化してスペーサを形成する工程以下、[7]工程と称することがある。そして、カラーフィルタ層は着色パターンの上に絶縁膜を有することができる。その場合、上記[3]工程と上記[4]工程との間に、下記の工程[a]~[d]を下記の順で含むことができる。[a]第2の感放射線性樹脂組成物の塗膜を、[3]工程の後の基板上の硬化された着色パターンの上に形成する工程以下、[a]工程と称することがある。[b][a]工程で形成された第2の感放射線性樹脂組成物の塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程以下、[b]工程と称することがある。[c][b]工程で放射線が照射された塗膜を現像する工程以下、[c]工程と称することがある。[d][c]工程で現像された塗膜を200°C以下で硬化する工程以下、[d]工程と称することがある。以上の各工程を含む、本実施形態のアレイ基板の製造方法により、上述した着色組成物を用いて、スイッチング能動素子や電極等の形成された基板上に、カラーフィルタ層の着色パターンを形成することができ、上述した第1の感放射線性樹脂組成物を用いてスペーサを形成することができる。そして、カラーフィルタ層の絶縁膜を形成する場合は、上述した第2の感放射線性樹脂組成物を用いて、形成された着色パターンの上に絶縁膜を形成することができる。その結果、耐熱性、耐薬品性、電圧保持率等が良好なカラーフィルタ層を有するアレイ基板を形成することができる。また、着色パターンを形成してカラーフィルタ層を製造し、スペーサを形成してアレイ基板を製造する場合、硬化工程である[3]工程および[7]工程において、低温硬化を実現できる。したがって、上述の着色組成物には着色剤として耐熱性に課題がある染料を使用することができる。さらに、絶縁膜を着色パターンの上に形成してカラーフィルタ層を製造する場合でも硬化工程で低温硬化を実現することができる。具体的には、上記[d]工程において、200°C以下の温度で硬化が可能となる。そのため、カラーフィルタ層が着色パターン上に絶縁膜を有する場合であっても、着色パターンの着色組成物には着色剤として耐熱性に課題がある染料を使用することができる。したがって、色特性に優れたカラーフィルタ層を有するアレイ基板を製造することができる。さらに、以上のようにして製造されるアレイ基板は、省エネルギーの観点から加熱工程の低温化が望まれる場合においても好適なアレイ基板となる。以下、各工程について詳述する。[[1]工程]本工程では上述の着色組成物の塗膜を基板上に形成する。この基板には、スイッチング能動素子、ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極、ソース配線、およびゲート配線などが形成されている。これらスイッチング能動素子等は、基板上、通常の半導体膜成膜と、絶縁膜成膜と、フォトリソグラフィ法によるエッチングを繰り返すことにより形成されたものである。この基板のスイッチング能動素子等の形成面に、例えば、赤色の[D]着色剤を含有する着色組成物を塗布した後、プレベークを行って溶媒を蒸発させ、塗膜を形成する。基板上に着色パターンを形成する他の方法としては、特開平7-318723号公報、特開2000-310706号公報等に開示されているインクジェット方式により各色の画素を得る方法も利用できる。基板の材料としては、例えば、ソーダライムガラスや無アルカリガラス等のガラス、シリコン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等が挙げられる。また、これらの基板には、所望によりシランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。着色組成物を基板に塗布する方法としては、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリットダイ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。これらのうち、スピンコート法、スリットダイ塗布法が好ましい。プレベークは、通常、減圧乾燥と加熱乾燥を組み合わせて行われる。減圧乾燥としては、通常50Pa~200Paに到達するまで行う。また、加熱乾燥の条件としては、通常70°C~110°Cで1分間~10分間程度である。乾燥後の膜厚としては、通常0.6μm~8.0μm、好ましくは1.2μm~5.0μmである。[[2]工程][2]工程では、[1]工程で形成した塗膜にフォトマスクを介して露光をし、アルカリ現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去することにより赤色の画素パターンが所定の配列で配置された着色パターンを得ることができる。次いで、緑色または青色の各着色組成物を用い、上述の[1]工程および[2]工程を繰り返し緑色の着色パターンおよび青色の着色パターンを同一基板上に順次形成する。これにより、赤色、緑色および青色の三原色の着色パターンが基板上に配置されたアレイ基板が得られる。但し、本実施形態においては、各色の画素を形成する順序および色数は、上記のものに限定されない。放射線の光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯等のランプ光源やアルゴンイオンレーザ、YAGレーザ、XeClエキシマーレーザ、窒素レーザ等のレーザ光源等が挙げられる。波長が190nm~450nmの範囲にある放射線が好ましい。放射線の露光量は、10J/m2~10,000J/m2が好ましい。アルカリ現像液としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8-ジアザビシクロ-[5.4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ-[4.3.0]-5-ノネンが好ましい。アルカリ現像液には、例えば、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤等を適量添加できる。尚、アルカリ現像後は通常、水洗する。現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ浸漬現像法、パドル液盛り現像法等を適用できる。現像条件としては、常温で5秒~300秒が好ましい。[[3]工程][2]工程で着色パターンを形成した後、硬化以下、ポストベークとも言う。を行うことにより、着色パターンの形成を完了することができる。ポストベークの加熱条件は200°C以下である。ポストベークの加熱時間としては、10分間~60分間である。本実施の形態ではポストベーク温度が低温であっても、耐溶媒性等の良好な着色パターンを得ることができる。具体的には、ポストベーク温度が200°C以下であっても、さらには180°C以下であっても、十分な耐溶媒性等を有するカラーフィルタ層が得られる。画素の膜厚としては、通常0.5μm~5.0μm、1.0μm~3.0μmが好ましい。なお、実際に商業上要求されるレベルまで硬度等を高めるためには通常120°Cを超える温度での硬化工程が必要とされる。そして、180°C以下の範囲内で、より高い温度での硬化が好ましい。そして、着色パターンの形成の後、スパッタリング法などを利用して、着色パターンの上に、例えば、ITOからなる透明導電層を形成する。次いで、フォトリソグラフィ法を利用してこの透明導電層をエッチングして、着色パターン上に透明電極を形成することができる。[[4]工程][3]工程の後で透明電極を形成した後、着色パターンの形成された基板の上であって、透明電極の上に第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する。塗布法により塗膜を形成する場合、着色パターン等の形成された基板の上に第1の感放射線性樹脂組成物の溶液を塗布した後、好ましくは塗布面を加熱以下、プレベークとも言う。することにより、塗膜を形成することができる。塗布法に用いる組成物溶液の固形分濃度としては、5質量~50質量が好ましく、10質量~40質量がより好ましく、15質量~35質量が特に好ましい。第1の感放射線性樹脂組成物溶液の塗布方法としては、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリット塗布法スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法が採用できる。これらのうち、スピンコート法またはスリット塗布法が好ましい。上述のプレベークの条件としては、各成分の種類、配合割合等によって異なるが、70°C~120°Cが好ましく、1分間~15分間程度である。塗膜のプレベーク後の膜厚は、0.5μm~10μmが好ましく、1.0μm~7.0μm程度がより好ましい。[[5]工程]次いで、[4]工程で形成された第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する。このとき、所望の位置にスペーサを形成するため、塗膜の一部に放射線を照射するが、例えば、所定のパターンを有するフォトマスクを介して照射する方法によることができる。照射に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線等が挙げられる。このうち波長が250nm~550nmの範囲にある放射線が好ましく、365nmの紫外線を含む放射線がより好ましい。放射線照射量露光量は、照射される放射線の波長365nmにおける強度を照度計OAImodel356、OpticalAssociatesInc.製により測定した値として、100J/m2~5,000J/m2が好ましく、200J/m2~3,000J/m2がより好ましい。本実施形態のアレイ基板のスペーサ形成に用いられる第1の感放射線性樹脂組成物は、従来知られているスペーサ形成の組成物と比較して放射線感度が高い。したがって、上記放射線照射量が700J/m2以下、さらには600J/m2以下であっても所望の膜厚、良好な形状、優れた密着性および高い硬度の硬化膜としてスペーサを得ることができる利点を有する。[[6]工程]次に、放射線照射後の第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定のスペーサのパターンを形成する。現像に使用される現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等のアルカリ性化合物の水溶液が使用できる。上記アルカリ性化合物の水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒を適当量添加して使用することもできる。さらに、界面活性剤をそれのみで、または、上述の水溶性有機溶媒を添加とともに、適当量添加して使用することもできる。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー法等のいずれでもよく、現像時間は、常温で10秒間~180秒間程度が好ましい。現像処理に続いて、例えば、流水洗浄を30秒間~90秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素で風乾することによって所望のスペーサのパターンが得られる。[[7]工程]次いで、得られたパターン状塗膜を、ホットプレート、オーブン等の適当な加熱装置によりポストベークすることによって、硬化膜としてスペーサが得られる。硬化温度としては、200°C以下が好ましい。そして、180°C以下であっても十分な特性のスペーサが得られる。具体的には、100°C~200°Cが好ましく、低温硬化と信頼性能を高いレベルで両立させようとする場合、150°C~180°Cがより好ましい。硬化時間としては、例えば、ホットプレート上では5分間~30分間、オーブン中では30分間~180分間が好ましい。第1の感放射線性樹脂組成物は、上述のように[S]化合物を含有するため、このように低い低温硬化を実現することができる。併せて、保存安定性を実現するとともに、充分な解像度および放射線感度を有する。従って、第1の感放射線性樹脂組成物は、染料を着色剤とする着色パターンと組み合わせて使用されるスペーサの形成材料として好適に用いられる。以上の製造方法に従い、着色パターンおよびスペーサを製造し、本実施の形態のアレイ基板を製造することが可能である。上述のように、本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層の着色パターンは、着色組成物を適当な基板上に塗布パターニングした後、硬化して形成される。スペーサも同様に第1の感放射線性樹脂組成物を塗布パターニングした後、硬化して形成される。そして、着色組成物および第1の感放射線性樹脂組成物はいずれも、上述したように、同系の材料を用いた感放射線性の樹脂組成物とすることができる。そして、それらはそれぞれ、200°C以下の低温硬化により、着色パターンおよびスペーサを形成できる。したがって、本実施の形態のアレイ基板では、200°C以下の低温硬化により、カラーフィルタ層の着色パターンとスペーサとをそれぞれ形成できる。本実施の形態のアレイ基板は、低温硬化による製造が可能である。また、本実施の形態のアレイ基板では、カラーフィルタ層の着色パターンを形成した後にスペーサを形成する。スペーサが200°C以下の低温硬化により形成できるため、着色パターンは、形成された後に、スペーサ形成のための高温加熱の状態に晒されることがない。したがって、色特性に優れるものの耐熱性に課題を有する染料を着色剤として使用しても、工程劣化を低減することが可能となる。さらに、上述のように、着色組成物と第1の感放射線性樹脂組成物は、いずれも同系の材料を用いた感放射線性の樹脂組成物とすることが可能である。したがって、本実施の形態のアレイ基板の製造時のカラーフィルタ層の着色パターンの形成時において、その後のスペーサ形成を考慮して硬化温度を調整することが可能である。すなわち、基板上、着色パターンを単独で形成するのに最適な硬化温度に比べ、低い硬化温度によって着色パターンを形成する。その後、形成されるスペーサの硬化加熱により、着色パターンに対しても加熱をすることが可能である。例えば、着色パターンとスペーサの最適な硬化温度がそれぞれ200°C以下、具体的には180°Cであった場合、着色パターンを、例えば、150°Cの硬化温度で形成しておくことができる。次いで、第1の感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成し、最適な180°Cで硬化することによりスペーサを形成する。その結果、その下層に形成されているカラーフィルタ層の着色パターンにも加熱がなされ、所望の状態の着色パターンとスペーサとを備えた本実施の形態のアレイ基板を得ることが可能となる。また、本実施の形態のアレイ基板のカラーフィルタ層が、着色パターンの上に絶縁膜を有する場合は、上記[3]工程の後であって透明電極の形成の前に、以下の[a]工程から[d]工程を実施して絶縁膜を形成する。[[a]工程][3]工程の後、その着色パターンの形成された基板において、着色パターンの上に第2の感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する。塗布法により塗膜を形成する場合、着色パターンの形成された基板の上に第2の感放射線性樹脂組成物の溶液を塗布し、次いで、好ましくは塗布面をプレベークすることにより、塗膜を形成することができる。塗布法に用いる組成物溶液の固形分濃度としては、5質量~50質量が好ましく、10質量~40質量がより好ましく、15質量~35質量が特に好ましい。第2の感放射線性樹脂組成物溶液の塗布方法としては、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリット塗布法スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法が採用できる。これらのうち、スピンコート法またはスリット塗布法が好ましい。上述のプレベークの条件としては、各成分の種類、配合割合等によって異なるが、70°C~120°Cが好ましく、1分間~15分間程度である。塗膜のプレベーク後の膜厚は、0.5μm~10μmが好ましく、1.0μm~7.0μm程度がより好ましい。[[b]工程]次いで、[a]工程で形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する。このとき、塗膜の一部にのみ照射する際には、例えば、所定のパターンを有するフォトマスクを介して照射する方法によることができる。照射に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線等が挙げられる。このうち波長が250nm~550nmの範囲にある放射線が好ましく、365nmの紫外線を含む放射線がより好ましい。放射線照射量露光量は、照射される放射線の波長365nmにおける強度を照度計OAImodel356、OpticalAssociatesInc.製により測定した値として、100J/m2~5,000J/m2が好ましく、200J/m2~3,000J/m2がより好ましい。本実施形態のアレイ基板のカラーフィルタ層において、絶縁膜の形成に用いられる第2の感放射線性樹脂組成物は、従来知られている絶縁膜形成の組成物と比較して放射線感度が高く、上記放射線照射量が700J/m2以下、さらには600J/m2以下であっても所望の膜厚、良好な形状、優れた密着性および高い硬度の絶縁膜を得ることができる利点を有する。[[c]工程]次に、放射線照射後の塗膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定のパターンを形成する。現像に使用される現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等のアルカリ性化合物の水溶液が使用できる。上述のアルカリ性化合物の水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒を適当量添加して使用することもできる。さらに、界面活性剤をそれのみで、または、上述の水溶性有機溶媒を添加とともに、適当量添加して使用することもできる。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー法等のいずれでもよく、現像時間は、常温で10秒間~180秒間程度が好ましい。現像処理に続いて、例えば、流水洗浄を30秒間~90秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素で風乾することによって所望のパターンが得られる。[[d]工程]次いで、得られたパターン状塗膜を、ホットプレート、オーブン等の適当な加熱装置により硬化ポストベークとも言うすることによって、硬化膜として絶縁膜が得られる。硬化温度としては、200°C以下が好ましい。そして、180°C以下であっても十分な特性の絶縁膜が得られる。具体的には、100°C~200°Cが好ましく、低温硬化と信頼性能を高いレベルで両立させようとする場合、150°C~180°Cがより好ましい。硬化時間としては、例えば、ホットプレート上では5分間~30分間、オーブン中では30分間~180分間が好ましい。第2の感放射線性樹脂組成物は、上述のように[IV]化合物を含有するため、このように低い低温硬化を実現することができる。併せて、保存安定性を実現するとともに、充分な放射線感度および解像度を有する。従って、第2の感放射線性樹脂組成物は、染料を着色剤とする着色パターンと組み合わされて用いられる絶縁膜の形成材料として好適に用いられる。そして、絶縁膜の形成の後にスパッタリング法などを利用して、絶縁膜の上に、例えば、ITOからなる透明導電層を形成することができる。次いで、フォトリソグラフィ法を利用してこの透明導電層をエッチングして、絶縁膜上に透明電極を形成することができる。以上の製造方法に従い、着色パターンを製造し、その上に絶縁膜を形成することにより、本実施の形態のアレイ基板であって、絶縁膜を有するカラーフィルタ層とスペーサとを備えたアレイ基板を製造することができる。その場合、上述のように、アレイ基板のカラーフィルタ層の着色パターンは、着色組成物を適当な基板上に塗布パターニングした後、硬化して形成される。絶縁膜も同様に第2の感放射線性樹脂組成物を塗布パターニングした後、硬化して形成される。そして、着色組成物と第2の感放射線性樹脂組成物はいずれも、200°C以下の低温硬化により着色パターンと絶縁膜を形成することができる。したがって、本実施の形態のアレイ基板は、カラーフィルタ層が絶縁膜を有する場合であっても、200°C以下の低温硬化による製造が可能である。そして、本実施の形態のアレイ基板では、着色パターンを形成した後に絶縁膜を形成する。絶縁膜が200°C以下の低温硬化により形成できるため、着色パターンは形成の後に、絶縁膜形成のための高温加熱の状態に晒されることがない。したがって、色特性に優れるものの耐熱性に課題を有する染料を着色剤として使用しても、工程劣化を低減することが可能となる。さらに、上述のように、着色組成物と第2の感放射線性樹脂組成物は、同様の材料を用いて構成される感放射線性の樹脂組成物とすることが可能である。したがって、本実施の形態のアレイ基板であって、カラーフィルタ層が絶縁膜を有しているアレイ基板の製造時においては、後の絶縁膜形成を考慮し、着色パターン形成時の硬化温度を調整することができる。すなわち、基板上、着色パターンの最適な硬化温度に比べ、低い硬化温度によって着色パターンを形成する。その後、着色パターン上に形成される絶縁膜の硬化加熱により、着色パターンに対しても加熱をすることが可能である。例えば、着色パターンと絶縁膜の最適な硬化温度がそれぞれ200°C以下であり、具体的には180°Cであった場合、着色パターンを、例えば、150°Cの硬化温度で形成しておくことができる。次いで、その着色パターンの上に第2の感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成し、最適な180°Cで硬化することにより、絶縁膜を形成する。その結果、その下層に形成されている着色パターンにも加熱がなされ、所望の状態の着色パターンと絶縁膜を備えた本実施の形態のアレイ基板を得ることが可能となる。次に、本実施の形態のアレイ基板から本実施の形態の液晶表示素子を製造する場合、上述したアレイ基板の着色パターン上の透明電極の上に液晶配向用の配向膜を設け、配向膜を有するアレイ基板を製造する。以下、配向膜の形成工程について説明する。上述した[7]工程の後に得られたアレイ基板を用い、スペーサの形成された透明電極上に、上述した液晶配向剤を、例えば、ロールコーター法、スピンナ法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法により塗布する。次いで、液晶配向剤の塗布されたアレイ基板をプレベークし、その後、ポストベークすることにより塗膜を形成する。プレベーク条件としては、例えば、40°C~120°Cで0.1分間~5分間である。ポストベーク条件としては、好ましくは120°C~230°C、より好ましくは150°C~200°C、さらに好ましくは150°C~180°Cで、好ましくは5分間~200分間、より好ましくは10分間~100分間である。ポストベーク後の塗膜の膜厚は、好ましくは0.001μm~1μmであり、より好ましくは0.005μm~0.5μmである。液晶配向剤を塗布する際に使用される液晶配向剤の固形分濃度液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計重量が液晶配向剤の全重量に占める割合は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1重量~10重量の範囲である。液晶配向剤として、光配向性基を有する[L]感放射線性重合体を含む液晶配向剤を用いる場合は、上述の塗膜に直線偏光もしくは部分偏光された放射線、または非偏光の放射線を照射することにより、液晶配向能を付与する。ここで、放射線としては、例えば、150nm~800nmの波長の光を含む紫外線および可視光線を用いることができる。特に、放射線としては、300nm~400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。使用する放射線が直線偏光または部分偏光している場合には、照射は基板面に垂直の方向から行っても、プレチルト角を付与するために斜め方向から行ってもよく、また、これらを組み合わせて行ってもよい。非偏光の放射線を照射する場合には、照射の方向は斜め方向である必要がある。放射線の照射量としては、好ましくは1J/m2以上10,000J/m2未満であり、より好ましくは10J/m2~3,000J/m2である。液晶配向剤として、光配向性基を有さない[M]ポリイミドを含む液晶配向剤を用いる場合は、ポストベーク後の塗膜をそのまま配向膜として使用することができる。そして、必要に応じてポストベーク後の塗膜に対し、例えば、ナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦る処理ラビング処理を施して、液晶配向能を付与することも可能である。以上のように、アレイ基板上に配向膜を形成する場合、上述の液晶配向剤を使用し、200°C以下の加熱温度、さらに、180°C以下の加熱温度で配向膜を形成することが可能である。したがって、上述した[1]工程~[3]工程で形成された、カラーフィルタ層の着色パターンが、配向膜の形成工程で高温の状態に晒されることを避けることができる。以下、実施例に基づき本発明の実施形態を詳述するが、この実施例によって本発明が限定的に解釈されるものではない。<着色パターンの形成と評価>実施例1[[A]アルカリ可溶性樹脂A-Iの合成]冷却管および撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル5質量部およびジエチレングリコールメチルエチルエーテル220質量部を仕込んだ。引き続き、A1化合物としてメタクリル酸18質量部、A2化合物としてメタクリル酸2-メチルグリシジル14質量部およびメタクリル酸グリシジル20質量部、A4化合物としてスチレン10質量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル23質量部およびメタクリル酸メチル15質量部を仕込み、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持して重合することにより、共重合体であるアルカリ可溶性樹脂A-Iを含有する溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は31.5であり、共重合体A-IのMwは、10,100であった。実施例2[[A]アルカリ可溶性樹脂A-IIの合成]冷却管および撹拌機を備えたフラスコに、AIBN4質量部およびジエチレングリコールメチルエチルエーテル300質量部を仕込み、引き続きA1化合物としてメタクリル酸23質量部、A4化合物としてスチレン10質量部、メタクリル酸ベンジル32質量部およびメタクリル酸メチル35質量部を仕込み、さらにα-メチルスチレンダイマー2.7質量部を仕込み、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を80°Cに上昇し、この温度を4時間保持した後、100°Cに上昇させ、この温度を1時間保持して重合することにより共重合体を含有する溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は24.9、Mwは12,500であった。次いで、得られた共重合体を含む溶液に、テトラブチルアンモニウムブロミド1.1質量部、重合禁止剤として4-メトキシフェノール0.05質量部を加え、空気雰囲気下90°Cで30分間攪拌後、A2化合物としてメタクリル酸グリシジル16質量部を入れて90°Cのまま10時間反応させることにより、共重合体であるアルカリ可溶性樹脂A-IIを得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は29.0であり、Mwは、14,200であった。実施例3[着色組成物の調製]実施例1で得られた共重合体A-I90質量部に対し、[B]重合性化合物としてエチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートB-Iと多官能アクリレート化合物の混合物KAYARAD登録商標DPHA-40H、日本化薬社B-IIとの混合物混合比率B-I/B-II=4を100質量部、[C]重合開始剤として2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オンイルガキュア907、チバスペシャルティケミカルズ社C-IIを25質量部、[D]着色剤として赤色染料からなる赤色着色剤D-Iを100質量部、[E]化合物としてペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトプロピオネートE-Iと3-アミノベンゼンスルホン酸エチルE-Iとの混合物混合比率E-I/E-II=5を6質量部、別のアルカリ可溶性樹脂として実施例2で得られた共重合体A-IIを10質量部混合した。次いで、溶媒としてシクロヘキサノンを用い、着色組成物の固形分濃度が30質量となるように溶媒を加えた後、孔径0.5μmのミリポアフィルタで濾過することにより、赤色着色組成物を調製した。[D]着色剤として緑色染料からなる緑色着色剤D-IIを用いた以外、上記と同様にして、緑色着色組成物を調製した。また、[D]着色剤として青色染料からなる青色着色剤D-IIIを用いた以外、上記と同様にして、青色着色組成物を調製した。実施例4[着色パターンの形成]表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO2膜が形成されたソーダガラス基板上に、実施例3で得られた赤色着色組成物を、スピンコータを用いて塗布した。次いで90°Cのホットプレートで2分間プレベークを行って、プレベーク後の膜厚が2.5μmの塗膜を形成した。これらの基板を室温に冷却した後、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に365nm、405nmおよび436nmの各波長を含む放射線を1,000J/m2の露光量で露光した。その後、これらの基板に対して現像液23°Cの0.04質量水酸化カリウム水溶液を現像圧1kgf/cm2ノズル径1mmで吐出することにより、シャワー現像を行い基板上に200μm×200μmの着色パターンを多数形成した。さらに180°Cで30分間ポストベークを行って赤色の着色パターンを形成した。着色組成物として実施例3で得られた緑色着色組成物を用いた以外、上記と同様にして、緑色の着色パターンを形成した。また、着色組成物として実施例3で得られた青色着色組成物を用いた以外、上記と同様にして、青色の着色パターンを形成した。実施例5[着色パターンの評価]製造した着色パターンについて下記の評価を行った。現像耐性の評価上記各色の着色パターンの形成において、下記式現像前後の膜厚比=現像後の膜厚/現像前の膜厚×100の値を算出した。上記各色の着色パターンはいずれも現像前後の膜厚比が95以上であり、良好な現像耐性を有することがわかった。耐熱性の評価上記各色の着色パターンについて、さらに180°Cで30分間追加加熱した。そして、追加加熱前後の色変化ΔEabを求めた。上記各色の着色パターンはいずれもΔEabが3未満であり、良好な耐熱性を有することがわかった。耐溶媒性の評価上記、着色パターンについて、基板とともに、60°CのN-メチルピロリドンに30分間浸漬した。その後、基板上の各色の着色パターンを観察したところ、いずれも、浸漬後に着色パターンが保持されており、かつ浸漬後のN-メチルピロリドンが全く着色していないことが確認された。上記いずれの着色パターンも耐溶媒性が良好であることがわかった。<感放射線性樹脂組成物の調製>実施例6[[I]化合物の合成]冷却管および撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部およびジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸16質量部、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルメタクリレート16質量部、メチルメタクリレート38質量部、スチレン10質量部、メタクリル酸グリシジル20質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇し、この温度を4時間保持して重合することにより、共重合体I-Iを含有する溶液を得た固形分濃度=34.4質量、Mw=8,000、Mw/Mn=2.3。なお、固形分濃度は共重合体溶液の全質量に占める共重合体質量の割合を意味する。実施例7[感放射線性樹脂組成物の調製][I]化合物である実施例6で得られた共重合体I-I100質量部に対し、[II]重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを100質量部、[III]重合開始剤としてエタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシムイルガキュア登録商標OXE02、チバスペシャルティケミカルズ社を5質量部、および[IV]化合物として4,4’-ジアミノジフェニルスルホンを混合し、さらに[V]接着助剤としてγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5質量部、[VI]界面活性剤FTX-218、ネオス社0.5質量部、[VII]保存安定剤として4-メトキシフェノール0.5質量部を混合し、固形分濃度が30質量となるように、それぞれプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えた後、孔径0.5μmのミリポアフィルタで濾過することにより、感放射線性樹脂組成物を調製した。<絶縁膜の形成と評価>実施例8[絶縁膜の形成]無アルカリガラス基板上に、実施例7で調製した感放射線性樹脂組成物溶液をスピンナにより塗布した後、100°Cのホットプレート上で2分間プレベークすることにより膜厚4.0μmの塗膜を形成した。次いで、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量700J/m2として放射線照射を行った。次いで、オーブン中で180°Cの硬化温度および30分間の硬化時間でポストベークすることにより絶縁膜を形成した。実施例9[絶縁膜の評価]保存安定性の評価調製直後の実施例7の感放射線性樹脂組成物溶液から、実施例8の形成方法により絶縁膜を形成し、膜厚を測定した下記式において、調製直後の膜厚と称する。また、実施例7の方法により調製した後、5日間25°Cで感放射線性樹脂組成物溶液を保存し、5日後に同様に形成した絶縁膜の膜厚を測定した下記式において、5日後の膜厚と称する。膜厚増加率を下記式から算出した。膜厚増加率=5日後の膜厚-調製直後の膜厚/調製直後の膜厚×100膜厚増加率が3以下であり、保存安定性は良好と判断した。耐光性の評価実施例8の形成方法による絶縁膜ついて、さらに、UV照射装置UVX-02516S1JS01、ウシオ社にて130mWの照度で800,000J/m2照射して、膜減り量を調べた。膜減り量は2以下であり、耐光性は良好と判断した。耐熱性の評価実施例8の形成方法による絶縁膜について、さらにオーブン中、230°Cで20分加熱し、この加熱前後での膜厚を触針式膜厚測定機アルファステップIQ、KLAテンコール社で測定した。そして、残膜率処理後膜厚/処理前膜厚×100を算出し、この残膜率を耐熱性とした。残膜率は99であり、耐熱性は良好と判断した。耐薬品性の評価実施例8の形成方法による絶縁膜について、60°Cに加温した配向膜剥離液ケミクリーン登録商標TS-204三洋化成工業社中に15分浸漬し、水洗後、さらにオーブン中、120°Cで15分乾燥させた。この処理前後の膜厚を触針式膜厚測定機アルファステップ社IQ、KLAテンコール社で測定し、残膜率処理後膜厚/処理前膜厚×100を算出し、この残膜率を耐薬品性とした。残膜率は99であり、耐薬品性は良好と判断した。<スペーサの形成と評価>実施例10[スペーサの形成]スペーサの形成の例として、基板上にスペーサのみを形成する例を説明する。スペーサを形成するための感放射線性樹脂組成物には、実施例7で調製した感放射線性樹脂組成物を用いた。無アルカリガラス基板上に、実施例7で調製した感放射線性樹脂組成物溶液を、スピンコータを用いて塗布した。次いで、100°Cのホットプレート上で2分間プレベークすることにより膜厚6.0μmの塗膜を形成した。次いで、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量700J/m2として放射線照射を行った。その後、この基板に対して現像液23°Cの0.04質量水酸化カリウム水溶液を現像圧1kgf/cm2ノズル径1mmで吐出することにより、シャワー現像を行い基板上にスペーサのパターンを形成した。次いで、オーブン中で180°Cの硬化温度および30分間の硬化時間でポストベークすることにより、基板上にスペーサを形成した。そして、所望の位置と形状解像度で基板上にスペーサが形成されていることを確認した。実施例11[スペーサの評価]実施例10で得られたスペーサについて、断面形状を走査型電子顕微鏡にて観察した。形成されたスペーサは、いずれも、パターンエッジが順テーパであり、良好であった。次に、実施例10において基板上形成されたスペーサの上に、液晶配向剤としてAL3046ジェイエスアール株製を液晶配向膜塗布用の印刷機により塗布し、180°Cで1時間乾燥し、乾燥膜厚0.05μmの配向膜の塗膜を形成した。この塗膜に、ナイロン製の布を巻き付けたロールを有するラビングマシンにより、ロールの回転数500rpm、ステージの移動速度1cm/秒の条件でラビング処理を行った。このとき、スペーサにおいては、削れや剥がれは生じなかった。<アレイ基板の製造>実施例12実施例3により得られた各色の着色組成物赤色着色組成物、緑色着色組成物および青色着色組成物を使用し、スイッチング能動素子や電極等の形成された基板上にカラーフィルタ層を形成した。この基板には、スイッチング能動素子、ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極、ソース配線、およびゲート配線などが形成されている。これら能動素子等は、基板上、通常の半導体膜成膜と、公知の絶縁膜成膜と、フォトリソグラフィ法によるエッチングを繰り返すことにより形成されたものである。そして、カラーフィルタ層は、着色パターンの上に上述の絶縁膜を有する。先ず、赤色着色組成物をスイッチング能動素子などが形成された基板上に、スリットダイコーターにより塗布し、ホットプレート上で90°C、2分間プレベークして塗膜を形成した。その後、所定のパターンマスクを介して、露光機CanonPLA501Fキャノン社を用いてghi線波長436nm、405nm、365nmの強度比=2.7:2.5:4.8をi線換算で1,000J/m2の露光量で照射し、0.05水酸化カリウム水溶液を用いて現像し、超純水にて60秒間リンスした後、さらにオーブン中で180°Cにて30分間加熱処理して、膜厚が2.0μmの赤色のストライプ状の着色パターンパターン幅100μmを形成した。次いで、同様に操作して、緑色着色組成物を用いて基板上に緑色の着色パターンを形成した。さらに、青色着色組成物を用いて青色の着色パターンを形成し、基板上に赤、緑、および青の3色の着色パターンパターン幅100μmを形成した。上記のポストベーク温度180°C、30分の条件で形成された赤色、緑色、青色の3色の着色パターンは、硬化不十分によるパターンの欠けや、基板との剥がれ等の問題が発生することなく形成された。次に、得られた3色の着色パターンの上に、実施例7で説明した感放射線性樹脂組成物をスリットダイコーターで塗布した。次いで、ホットプレート上で90°C、5分間プレベークして塗膜を形成した。次いで、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量700J/m2として放射線照射を行い、放射線照射後の塗膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定の形状の塗膜を形成した。さらにオーブン中で180°Cにて60分間加熱処理し、3色の着色パターンの上面からの膜厚が2.0μmの絶縁膜を形成した。得られた着色パターン上に絶縁膜が形成された基板について、接触式膜厚測定装置α-ステップテンコールジャパン社にて絶縁膜の表面の凹凸平坦性を測定した測定長2,000μm、測定範囲2,000μm角、測定点数n=5。すなわち、測定方向を赤、緑、青方向のストライプライン短軸方向および赤赤、緑緑、青青の同一色のストライプライン長軸方向の2方向とし、各方向につきn=5で測定した合計のn数は10。測定ごとの最高部と最低部との高低差nmの10回の平均値を求めた。この時の平均値は220nmであった。絶縁膜形成後も着色パターンが収縮、膨張することなく、絶縁膜の表面の凹凸はなく、良好な平坦性を示した。次いで、着色パターン上に絶縁膜が形成された基板について、スパッタリング法を用いて、絶縁膜の上にITOからなる透明導電層を形成し、フォトリソグラフィ法を利用して透明導電層をエッチングして、絶縁膜上に透明電極を形成した。次に、実施例7で調製した感放射線性樹脂組成物を透明電極上にスリットダイコーターで塗布した。次いで、100°Cのホットプレート上で2分間プレベークすることにより膜厚6.0μmの塗膜を形成した。次いで、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量700J/m2として放射線照射を行った。その後、この基板に対して現像液23°Cの0.04質量水酸化カリウム水溶液を現像圧1kgf/cm2ノズル径1mmで吐出することにより、シャワー現像を行い基板上にスペーサのパターンを形成した。次いで、オーブン中で180°Cの硬化温度および30分間の硬化時間でポストベークを行った。こうして、ITO電極の上にスペーサを形成した。スペーサは、透明電極の上の、スイッチング能動素子の形成領域に対応する領域に形成されている。以上のようにして、本実施例のアレイ基板を製造した。得られた本実施例のアレイ基板は、カラーフィルタ層の色純度が優れており、優れた色特性を有していた。実施例13[光配向膜を有するアレイ基板の製造]本実施例においては、実施例12で得られたアレイ基板を用い、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤を用いて光配向膜を形成する。はじめに、実施例12のアレイ基板の透明電極の上に、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤として、国際公開WO2009/025386号パンフレットの実施例6に記載の液晶配向剤A-1をスピンナにより塗布する。次いで、80°Cのホットプレートで1分間プレベークを行った後、内部を窒素置換したオーブン中、180°Cで1時間加熱して膜厚80nmの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Hg-Xeランプ及びグランテーラープリズムを用いて313nmの輝線を含む偏光紫外線200J/m2を、基板表面に垂直な方向に対して40°傾いた方向から照射し、光配向膜を有するアレイ基板を製造した。実施例14[垂直配向膜を有するアレイ基板の製造]本実施例においては、実施例12で得られたアレイ基板を用い、光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤を用いて垂直配向膜を形成する。はじめに、実施例12のアレイ基板の透明電極の上に、光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤として、垂直配向膜形成用のAL60101ジェイエスアール株製をスピンナにより塗布した。次いで、80°Cのホットプレートで1分間プレベークを行った後、内部を窒素置換したオーブン中、180°Cで1時間加熱して膜厚80nmの塗膜を形成し、垂直配向膜を有するアレイ基板を製造した。<液晶表示素子の製造>実施例15実施例13で得られたアレイ基板を用いた。そして、対向基板として透明な基板上に透明な共通電極を配設した基板を準備し、その共通電極の上に実施例13でアレイ基板上に形成したのと同様の光配向膜を形成して、配向膜の形成された対向基板を準備した。これら一対の基板を用い、TN液晶層を挟持して、カラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子を製造した。本実施例のカラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子は、上述した図5に示す液晶表示素子と同様の構造を有する。本実施例の液晶表示素子は、優れた電気特性と表示特性と信頼性能を示した。"