"透明な第1の基板と、前記透明な第1の基板と所定の間隔を介して対向する第2の基板と、紫外線硬化材からなり,前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持された枠状のシール材と、前記枠状のシール材の内側に封入された液晶組成物と、前記第1の基板と前記第2の基板のうちの少なくとも一方の上に設けられた複数の電極によって、前記第1の基板と前記第2の基板との間に形成される複数の表示画素と、前記複数の表示画素の各々の輪郭を規定するとともに、該複数の表示画素からなる表示領域を囲むよう形成された遮光性材料からなるブラックマトリクスとからなる液晶表示素子において、前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、光透過部を含むようパターン化されていることを特徴とする液晶表示素子。前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、水平及び垂直方向に延在する格子パターンを形成していることを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子。前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、水平及び垂直方向から傾斜した格子パターンを形成していることを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子。前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、ストライプパターンを形成していることを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子。前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、開口パターンを形成していることを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子。前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、島状パターンを形成していることを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子。前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、くさび形パターンを形成していることを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子。近年、携帯電話などの小型携帯機器への液晶表示素子の普及はめざましいものであるが、その普及の増大とともに、液晶表示素子の低価格への要求も益々厳しいものとなってきている。この要求に応えるために、特許第3210109号公報では、上記減圧注入法真空注入法とも呼ばれるの代わりに、注入工程の短縮を目的として滴下注入法が提案されている。しかし、この場合、シール材として熱硬化型は使用できず、紫外線硬化型しか使用することが出来ない。一方、液晶表示素子においては、上記特許文献1~4に開示されているように、ブラックマトリクスは、各画素電極を囲むように設けられて各画素の輪郭をはっきりさせコントラストを向上させるばかりでなく、枠状のシール材が配置されている液晶表示素子の基板周縁部領域にもブラックマトリクスを形成して、上記バックライトからの光が、液晶表示素子の基板周縁部のシール材を通過して表示面側に漏れるのを防止することも行われている。光漏れが生じると、表示面周縁部で表示コントラストが低下し、表示品質を著しく劣化させてしまう。特に、暗い表示面に明るい文字、図形などの表示を行う場合、この光漏れの影響を大きく受けてしまい問題となる。しかしながら、このように、枠状のシール材が配置されている液晶表示素子の基板周縁部領域にもブラックマトリクスを形成してしまうと、上記滴下注入法で使用される紫外線硬化型シール材への紫外線の照射量が不十分なものとなり、硬化が十分行われず、液晶表示素子の信頼性が大幅に低下してしまう危険性があった。本発明の目的は、表示品質の低下及び液晶表示素子の信頼性の低下を伴うことなしに、液晶封入に、製造工程の短縮を可能とする滴下注入法が採用できる液晶表示素子を提供することにある。本発明の上記目的及びその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかにする。本書において開示される発明のうち、代表的なものの概要を説明すれば、下記のとおりである。1透明な第1の基板と、前記透明な第1の基板と所定の間隔を介して対向する第2の基板と、紫外線硬化材からなり,前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持された枠状のシール材と、前記枠状のシール材の内側に封入された液晶組成物と、前記第1の基板と前記第2の基板のうちの少なくとも一方の上に設けられた複数の電極によって、前記第1の基板と前記第2の基板との間に形成される複数の表示画素と、前記複数の表示画素の各々の輪郭を規定するとともに、該複数の表示画素からなる表示領域を囲むよう形成された遮光性材料からなるブラックマトリクスとからなる液晶表示素子において、前記表示領域に沿った周縁部における,前記枠状のシール材と前記ブラックマトリクスのオーバーラップ幅が0.2mm以下であることを特徴とする液晶表示素子。21の液晶表示素子において、前記枠状のシール材を形成する紫外線硬化材の、硬化前の光学濃度が2以上であることを特徴とする。32の液晶表示素子において、前記枠状のシール材を形成する紫外線硬化材の、硬化前の光学濃度が4以下であることを特徴とする。4透明な第1の基板と、前記透明な第1の基板と所定の間隔を介して対向する第2の基板と、紫外線硬化材からなり,前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持された枠状のシール材と、前記枠状のシール材の内側に封入された液晶組成物と、前記第1の基板と前記第2の基板のうちの少なくとも一方の上に設けられた複数の電極によって、前記第1の基板と前記第2の基板との間に形成される複数の表示画素と、前記複数の表示画素の各々の輪郭を規定するとともに、該複数の表示画素からなる表示領域を囲むよう形成された遮光性材料からなるブラックマトリクスとからなる液晶表示素子において、前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、光透過部を含むようパターン化されていることを特徴とする液晶表示素子。54の液晶表示素子において、前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、水平及び垂直方向に延在する格子パターンを形成していることを特徴とする。64の液晶表示素子において、前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、水平及び垂直方向から傾斜した格子パターンを形成していることを特徴とする。74の液晶表示素子において、前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、ストライプパターンを形成していることを特徴とする。84の液晶表示素子において、前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、開口パターンを形成していることを特徴とする。94の液晶表示素子において、前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、島状パターンを形成していることを特徴とする。104の液晶表示素子において、前記前記ブラックマトリクスの前記枠状のシール材にオーバーラップする領域が、くさび形パターンを形成していることを特徴とする。本発明によれば、対向する一対の基板及び該一対の基板の周縁部に挟持される枠状のシール材とによって形成されるセル内への液晶封入に対し、注入工程の短縮を可能とする滴下注入法が採用でき、かつ表示品質及び液晶表示素子の信頼性が確保できる。以下、本発明の実施例を、図面を参照して詳細に説明する。なお、実施例を説明する全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。なお、本明細書添付の図面においては、簡単の為、基板、基板上に形成される電極、電子素子、電気配線及びそれらからの外部取り出し電極端子などの要素の図示を省略し、かつ、明瞭化のため、図中の各要素が、実際の表示素子、装置の場合とは異なる縮尺比率を用いて誇張して描かれている場合がある。本発明による実施例を説明するに先立って、紫外線硬化型シール材を使用した液晶表示素子に、滴下注入法を使用して液晶を封入する方法について、上記特許第3210109号公報に倣って簡単に説明する。図1は、例えば、携帯電話などの小型携帯機器用の液晶表示素子9個を作成するための一枚の基板10の斜視図である。基板10の上には、枠状のシール材20が形成されている。なお、実際には、枠状のシール材20の各々の内側には、複数の画素電極、この画素電極毎に設けられたスイッチング素子、これらに電気的に結合される配線及び液晶分子を配向するための配向膜などが設けられているが、簡単化のため図示を省略している。枠状のシール材20の各々の内側には、ディスペンサ50を用いて液晶30を滴下する。図2aは、図1における枠状のシール材20の1個についての、線IIa-IIaに沿った断面図である。この1個のシール材20の部分を例にとり、以下1個の液晶表示素子の組み立て工程を説明する。図2bは、図2aのシール材20及びその内部にある液晶30に、もう一方の基板40を重ね合わせた後、基板10及び40を加圧し、基板10と基板40を所定の間隔で対向させたこのためにスペーサなどが使われるが図示せず。状態を断面図である。次いで、図2cに示す如く、シール材20部分に紫外線を照射し、シール材20を硬化させて基板10と基板40とを固着する。図3aは、本発明の第1の実施例による液晶表示素子の平面図、図3bは、図3aの液晶表示素子の線IIIb-IIIbに沿った断面図である。滴下注入法により液晶を封入する方法を、図1における枠状のシール材20の1個についての線IIa-IIaに沿った断面図に相当する、図2a~図2bの断面図を用いて説明したが、この図3bに示した断面図は、図2cの断面図に相当するものである。図3a及び3bにおいて、参照符号110は液晶素子の背面基板、140は液晶素子の前面基板、130は液晶組成物、120は枠状の紫外線硬化型シール材、150は,画素の輪郭を規定する多数の開口が設けられたブラックマトリクス、PR,PG,PBは、ブラックマトリクス150の開口部に設けられた赤原色,緑原色、青原色表示画素を示す。図3a及び3bにおいては、簡単の為、基板に形成される画素電極、画素電極の各々に対応して設けられたスイッチング素子、電気配線及びそれらからの外部取り出し電極端子、3原色フィルタなどの要素の図示が省略されている。本実施例においては、ブラックマトリクス150の周縁部が枠状の紫外線硬化型シール材120にオーバーラップせずに、ブラックマトリクス150の外縁150Eが、枠状の紫外線硬化型シール内側縁120Eに単に接するtangentだけの大きさに形成されている。従って、背面基板110と前面基板140との間の枠状シール材120の内側に、液晶組成物130を滴下注入法により注入後、図2cを用いて説明した同様に、図3bに示した如く、枠状の紫外線硬化型シール120を硬化させるために、枠状の紫外線硬化型シール120に紫外線を照射した場合、該紫外線は、ブラックマトリクス150に妨害されずに紫外線硬化型シール材120に到達することができるので、紫外線硬化型シール120の硬化が十分行われ、信頼性の高い液晶表示素子が得られる。上記説明では、ブラックマトリクス150の外縁150Eが、枠状の紫外線硬化型シール材120の内側縁120Eに単に接するtangent構成として説明したが、枠状の紫外線硬化型シール材120の幅W図3a,3b参照は、通常1mm程度なので、枠状の紫外線硬化型シール材120とブラックマトリクス150のオーバーラップ幅が、0.2mm以下ならば許容できる。このオーバーラップが存在する場合の関係を、図3bの中のA部拡大図に、太い破線で示す。すなわち、図示の如く、ブラックマトリックス150の外縁が、紫外線硬化型シール材120と液晶表示素子の前面基板140との間の150EXで示された位置まで入り込む構成となる。ここで、紫外線硬化型シール材料としては、つぎのようなものが提案されている。ビスフェノールFエポキシ樹脂のエポキシアクリレートを80重量部、エポキシ樹脂としてRE203日本化薬株式会社製;エポキシ当量233g/eq、エチレンオキサイド付加ビスフェノールS型エポキシ樹脂20重量部、ラジカル発生型光重合開始剤として3,6ビス2メチル2モルホリノプロピオニル9nオクチルカルバゾール旭電化工業製、アデカオプトマーN14141.2重量部、ホウ酸エステルとして2,2オキシビス5,5ジメチル1,3,2ジオキサボリナン0.5重量部、PN80日本化薬株式会社製、フェノールノボラック樹脂0.5重量部、アミノシランカップリング剤N-βアミノエチルγ-アミノプロピルトリメトキシシラン、信越シリコーン製、KBM6031.3重量部を90°Cで加熱溶解し、樹脂液を得た。室温に冷却後、イソフタル酸ジヒドラジド商品名IDHS;大塚化学株式会社製ジェットミル粉砕グレードを更にジェットミルで微粉砕したもの、融点224°C、活性水素当量48.5g/eq、平均粒径1.7μm、最大粒径7μm10重量部、アルミナシーアイ化成株式会社製、SPCAl、平均粒径1.0μm13重量部、ゴム呉羽化学工業株式会社製、パラロイドEXL2655、平均粒径0.2μm3.9重量部を、ミルで分散混練して得られたUVシール剤が有効と思われる。ブラックマトリクス150の形成方法としては、例えば、アクリル,エポキシ,又はポリイミド樹脂などの有機樹脂にカーボンブラック又は黒色の有機顔料などを含有させたものを、透明ガラス基板140の上に、パターン状に塗布する方法がある。次に、枠状の紫外線硬化型シール材120に要求される光学的特性について検討を加える。本実施例においては、枠状の紫外線硬化型シール材120とブラックマトリクス150のオーバーラップ幅が0.2mm以下ならば許容できる構成にしているので、紫外線硬化型シール材120にもブラックマトリクス150同等の光学特性、例えば、光学濃度ODopticaldensity≧20が満足されることが好ましい。しかしながら、光学濃度ODが過度に大きすぎると、紫外線硬化型シール材が硬化しなくなる問題がある。紫外線硬化型シール材120に対して要求される光学濃度ODの値は、背面基板110と前面基板140との間の間隔CG図3b参照に依存するが、下記の値が好ましいと考えられる。基板間間隔CGμm要求される光学濃度OD42~332~3.522~4上記光学濃度を調整する方法の一例として、紫外線硬化型シール材にチタン系黒色顔料を添加する方法がある。このチタン系黒色顔料については、特開昭58180413号公報に詳述されている。上記実施例1においては、ブラックマトリクス150の外縁150Eが、枠状の紫外線硬化型シール材120の内側縁120Eに単に接するtangentか、枠状の紫外線硬化型シール材120とブラックマトリクス150のオーバーラップ幅を0.2mm以下とする構成であった。上記実施例1においては、紫外線硬化型シール材120にもブラックマトリクス150同等の光学特性を付与するために、例えば、光学濃度ODopticaldensityについても十分配慮する必要がある。本実施例においては、紫外線硬化型シール材120に要求される光学濃度ODopticaldensityなどの条件を緩和するため、枠状の紫外線硬化型シール材120とブラックマトリクス150の周縁部を積極的にオーバーラップさせるが、枠状の紫外線硬化型シール材120の紫外線硬化を十分に行うことを可能とする構成である。即ち、本実施例においては、ブラックマトリクス150の周縁部を、枠状の紫外線硬化型シール材120にオーバーラップさせることにより枠状の紫外線硬化型シール材を透過する光量を減ずるが、該枠状の紫外線硬化型シール材120を硬化させるために必要な紫外線の量を確保するために、枠状の紫外線硬化型シール材120にオーバーラップするブラックマトリクス150の周縁部に開口、スリットなどを設けるか、枠状の紫外線硬化型シール材120にオーバーラップするブラックマトリクス150の周縁部を、島状に離散したブラックマトリクス片の集合で形成するものである。図4aは、枠状の紫外線硬化型シール材120にオーバーラップするブラックマトリクス150周縁部を格子状パターン150Pに形成した場合の液晶表示素子の要部上面図である。図4bは、枠状の紫外線硬化型シール材120にオーバーラップするブラックマトリクス150の周縁部を斜め格子状パターン150Pに形成した場合の液晶表示素子の要部上面図である。図4cは、枠状の紫外線硬化型シール材120にオーバーラップするブラックマトリクス150の周縁部をストライプパターン150Pに形成した場合の液晶表示素子の要部上面図である。図4dは、枠状の紫外線硬化型シール材120にオーバーラップするブラックマトリクス150の周縁部を円形開口パターン150Pに形成した場合の液晶表示素子の要部上面図である。図4eは、枠状の紫外線硬化型シール材120にオーバーラップするブラックマトリクス150の周縁部を島状パターン150Pに形成した場合の液晶表示素子の要部上面図である。図4fは、枠状の紫外線硬化型シール材120にオーバーラップするブラックマトリクス150の周縁部をくさび形パターン150Pに形成した場合の液晶表示素子の要部上面図である。なお、図4a~4fにおいて、参照符号110は背面基板、140は前面基板、PR,PG,PBはそれぞれ赤原色,緑原色,青原色表示画素を示す。"