"ゴム成分及びシリカを含有し、前記ゴム成分100質量のうち、共役ジエンに基づく構成単位と下式Iで表される構成単位とを有し、下式IIで表される基及び/又は下式IIIで表される基を有するケイ素化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が5質量以上であり、前記シリカが、1つの粒子に対して隣接する粒子が3つ以上の粒子を分岐粒子Zとしたとき、分岐粒子Zを含む分岐粒子間Z-Zの平均長W1が30~400nmのものであり、前記ゴム成分100質量部に対する前記シリカの含有量が5~150質量部であることを特徴とするゴム組成物。[式中、X1、X2及びX3は、それぞれ独立に、下式Iaで表される基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X1、X2及びX3の少なくとも1つが、下式Iaで表される基又は水酸基である。][式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R1及びR2は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。]共役ジエンに基づく構成単位及び下式Iで表される構成単位を有し、下式IIで表される基及び/又は下式IIIで表される基を有するケイ素化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体と、シリカゾルとを混練して得られることを特徴とするゴム組成物。[式中、X1、X2及びX3は、それぞれ独立に、下式Iaで表される基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X1、X2及びX3の少なくとも1つが、下式Iaで表される基又は水酸基である。][式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R1及びR2は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。]式IaのR1及びR2が炭素原子数1~6のヒドロカルビル基であることを特徴とする請求項1又は2に記載のゴム組成物。式IのX1、X2及びX3の2つが式Iaで表される基又は水酸基であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のゴム組成物。ケイ素化合物が下式IVで表される基を有することを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載のゴム組成物。[式中、R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~4のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~4のヒドロカルビルオキシ基を表し、R3、R4及びR5の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基である。]ケイ素化合物が下式IIaで表わされる基を有することを特徴とする請求項5記載のゴム組成物。[式中、mは1~10の整数を表し、R6、R7及びR8は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~4のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~4のヒドロカルビルオキシ基を表し、R6、R7及びR8の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基である。]共役ジエン系重合体のビニル結合量が、共役ジエンに基づく構成単位の含有量を100モルとして、10モル以上80モル以下であることを特徴とする請求項1~6のいずれかに記載のゴム組成物。天然ゴム及び/又はブタジエンゴムを含有することを特徴とする請求項1~7のいずれかに記載のゴム組成物。シリカが、平均一次粒子径をDとしたとき、分岐粒子Zを含む分岐粒子間Z-Zの平均アスペクト比W1/Dが3~100のものであることを特徴とする請求項1又は3~8のいずれかに記載のゴム組成物。シリカの平均一次粒子径Dが5~1000nmであることを特徴とする請求項1又は3~9のいずれかに記載のゴム組成物。トレッド用ゴム組成物として用いられることを特徴とする請求項1~9のいずれかに記載のゴム組成物。請求項1~11のいずれかに記載のゴム組成物を用いて作製した空気入りタイヤ。本発明は、前記課題を解決し、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供することを目的とする。本発明は、ゴム成分及びシリカを含有し、上記ゴム成分100質量のうち、共役ジエンに基づく構成単位と下式Iで表される構成単位とを有し、下式IIで表される基及び/又は下式IIIで表される基を有するケイ素化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が5質量以上であり、上記シリカが、1つの粒子に対して隣接する粒子が3つ以上の粒子を分岐粒子Zとしたとき、分岐粒子Zを含む分岐粒子間Z-Zの平均長W1が30~400nmのものであり、上記ゴム成分100質量部に対する上記シリカの含有量が5~150質量部であるゴム組成物に関する。[式中、X1、X2及びX3は、それぞれ独立に、下式Iaで表される基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X1、X2及びX3の少なくとも1つが、下式Iaで表される基又は水酸基である。][式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R1及びR2は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。]本発明はまた、上記共役ジエン系重合体と、シリカゾルとを混練して得られるゴム組成物に関する。式IaのR1及びR2が炭素原子数1~6のヒドロカルビル基であることが好ましい。式IのX1、X2及びX3の2つが式Iaで表される基又は水酸基であることが好ましい。ケイ素化合物が下式IVで表される基を有することが好ましい。[式中、R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~4のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~4のヒドロカルビルオキシ基を表し、R3、R4及びR5の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基である。]ケイ素化合物が下式IIaで表わされる基を有することが好ましい。[式中、mは1~10の整数を表し、R6、R7及びR8は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~4のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~4のヒドロカルビルオキシ基を表し、R6、R7及びR8の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基である。]共役ジエン系重合体のビニル結合量が、共役ジエンに基づく構成単位の含有量を100モルとして、10モル以上80モル以下であることが好ましい。上記ゴム組成物は、天然ゴム及び/又はブタジエンゴムを含有することが好ましい。シリカが、平均一次粒子径をDとしたとき、分岐粒子Zを含む分岐粒子間Z-Zの平均アスペクト比W1/Dが3~100であることが好ましい。シリカの平均一次粒子径Dが5~1000nmであることが好ましい。上記ゴム組成物は、トレッド用ゴム組成物として用いられることが好ましい。本発明はまた、上記ゴム組成物を用いて作製した空気入りタイヤに関する。本発明によれば、特定の共役ジエン系重合体と、特定のシリカとを配合したゴム組成物であるので、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性がバランス良く改善された空気入りタイヤを提供できる。本発明のゴム組成物は、共役ジエンに基づく構成単位と下式Iで表される構成単位とを有し、下式IIで表される基及び/又は下式IIIで表される基を有するケイ素化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体と、1つの粒子に対して隣接する粒子が3つ以上の粒子を分岐粒子Zとしたとき、分岐粒子Zを含む分岐粒子間Z-Zの平均長W1が30~400nmのシリカストラクチャーシリカ直鎖シリカとを含む。[式中、X1、X2及びX3は、それぞれ独立に、下式Iaで表される基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X1、X2及びX3の少なくとも1つが、下式Iaで表される基又は水酸基である。][式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R1及びR2は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。]上記共役ジエン系重合体を配合することにより、ゴム組成物中にシリカを良好に分散させ、低燃費性、耐摩耗性及びウェットグリップ性能を改善できる。また、上記ストラクチャーシリカを使用することで、シリカ粒子の凝集が生み出すオクルードラバーシリカの凝集体に包み込まれ、歪むことができないゴムが減少し、局所的な応力集中、すなわち、局所的な歪みが減少する。これにより、タイヤの低伸張時低歪時におけるヒステリシスロスを低減し、転がり抵抗を低減することができる。更に、上記ストラクチャーシリカは、急ブレーキや急カーブ時などのタイヤの高伸張時高歪時、タイヤのトレッド周方向に配向する。これにより、ストラクチャーシリカ近傍のゴムが急激に歪み、ヒステリシスロスが増大して、ドライグリップ性能を改善できる。そして、上記共役ジエン系重合体及び上記ストラクチャーシリカの併用により、それぞれの改善効果を相乗的に高めることができる。これらの作用により、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性を高次元でバランス良く改善することができる。本発明の上記ストラクチャーシリカを含むゴム組成物は、例えば、上記共役ジエン系重合体とシリカゾルとを混練して製造できる。共役ジエンに基づく構成単位の共役ジエンとしては、1,3-ブタジエン、イソプレン、1,3-ペンタジエン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン、1,3-ヘキサジエンなどをあげることができ、これらは1種でもよく、2種以上でもよい。入手容易性の観点から、1,3-ブタジエン、イソプレンが好ましい。式Iで表される構成単位の式IのX1、X2及びX3は、それぞれ独立に、式Iaで表される基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X1、X2及びX3の少なくとも1つは、式Iaで表される基又は水酸基である。式IaのR1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R1及びR2は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。本明細書では、ヒドロカルビル基は炭化水素残基を表す。ここで、炭化水素残基とは、炭化水素から水素を除いた1価の基を表す。置換ヒドロカルビル基は、炭化水素残基の1つ以上の水素原子が置換基で置換されている基を表す。ヒドロカルビルオキシ基は、ヒドロキシル基の水素原子がヒドロカルビル基で置換されている基を表し、置換ヒドロカルビルオキシ基は、ヒドロカルビルオキシ基の1つ以上の水素原子が置換基で置換されている基を表す。また、置換シリル基は、シリル基の1つ以上の水素原子が置換基で置換されている基を表す。R1及びR2の炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n-ヘキシル基などのアルキル基;シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニル基などをあげることができる。R1及びR2の炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基、酸素原子を有する基及びケイ素原子を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができ、ケイ素原子を有する基を置換基として有する基としては、トリメチルシリルメチル基などのトリアルキルシリルアルキル基などをあげることができる。R1及びR2の置換シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリル基などをあげることができる。R1及びR2が結合した基としては、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が1~12の2価の基があげられる。例えば、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などのアルキレン基;オキシジエチレン基、オキシジプロピレン基などのオキシジアルキレン基;-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基などの含窒素基などをあげることができる。R1及びR2が結合した基としては、含窒素基が好ましく、-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基がより好ましい。R1及びR2のヒドロカルビル基としては、アルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基が更に好ましく、エチル基、n-ブチル基が特に好ましい。R1及びR2の置換ヒドロカルビル基としては、アルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基がより好ましい。R1及びR2の置換シリル基としては、トリアルキルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基がより好ましい。R1及びR2としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシアルキル基、置換シリル基又はR1及びR2が結合した含窒素基であり、より好ましくは、アルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、より更に好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基である。式Iaで表される基としては、非環状アミノ基、環状アミノ基をあげることができる。該非環状アミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジn-ブチルアミノ基、ジsec-ブチルアミノ基、ジtert-ブチルアミノ基、ジネオペンチルアミノ基、エチルメチルアミノ基などのジアルキルアミノ基;ジメトキシメチルアミノ基、ジメトキシエチルアミノ基、ジエトキシメチルアミノ基、ジエトキシエチルアミノ基などのジアルコキシアルキルアミノ基;ジトリメチルシリルアミノ基、ジt-ブチルジメチルシリルアミノ基などのジトリアルキルシリルアミノ基などをあげることができる。該環状アミノ基としては、1-ピロリジニル基、1-ピペリジノ基、1-ヘキサメチレンイミノ基、1-ヘプタメチレンイミノ基、1-オクタメチレンイミノ基、1-デカメチレンイミノ基、1-ドデカメチレンイミノ基などの1-ポリメチレンイミノ基をあげることができる。また、環状アミノ基としては、1-イミダゾリル基、4,5-ジヒドロ-1-イミダゾリル基、1-イミダゾリジニル基、1-ピペラジニル基、モルホリノ基などもあげることができる。式Iaで表される基としては、経済性及び入手容易性から、好ましくは、非環状アミノ基であり、より好ましくは、ジアルキルアミノ基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基で置換されたジアルキルアミノ基であり、より更に好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn-プロピルアミノ基、ジn-ブチルアミノ基である。式IのX1~X3のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基をあげることができる。また、置換ヒドロカルビル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができる。X1~X3のヒドロカルビル基としては、アルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましい。また、X1~X3の置換ヒドロカルビル基としては、アルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基がより好ましい。X1~X3のヒドロカルビル基及び置換ヒドロカルビル基としては、好ましくは、アルキル基又はアルコキシアルキル基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基又は炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、より更に好ましくは、メチル基又はエチル基である。式IのX1、X2及びX3の少なくとも1つは、式Iaで表される基又は水酸基である。好ましくは、X1、X2及びX3の2つ以上が、式Iaで表される基又は水酸基であり、より好ましくは、X1、X2及びX3の2つが、式Iaで表される基又は水酸基である。また、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性を高次元でバランス良く得られるという点から、X1、X2及びX3の少なくとも1つが水酸基であることが好ましく、X1、X2及びX3の2つ以上が水酸基であることがより好ましく、X1、X2及びX3の2つが水酸基であることが更に好ましい。低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、式Iで表される構成単位としては、X1、X2及びX3の2つが非環状アミノ基又は水酸基である構成単位が好ましい。X1、X2及びX3の2つが非環状アミノ基である構成単位としては、ビスジアルキルアミノアルキルビニルシラン単位が好ましく、ビスジメチルアミノメチルビニルシラン単位、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン単位、ビスジn-プロピルアミノメチルビニルシラン単位、ビスジn-ブチルアミノメチルビニルシラン単位がより好ましい。X1、X2及びX3の2つが水酸基である構成単位としては、ジヒドロキシアルキルビニルシラン単位が好ましく、ジヒドロキシメチルビニルシラン単位がより好ましい。共役ジエン系重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、重合体単位質量あたり、好ましくは、0.001mmol/g重合体以上0.1mmol/g重合体以下である。より好ましくは、0.002mmol/g重合体以上0.07mmol/g重合体以下である。更に好ましくは、0.003mmol/g重合体以上0.05mmol/g重合体以下である。上記共役ジエン系重合体は、下式IIで表される基及び/又は下式IIIで表される基を有するケイ素化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる重合体である。式IIで表される基を有する基としては、アミド基、カルボン酸エステル基、メタクリロイル基、アクリロイル基などがあげられる。また、式IIIで表される基を有する基としては、オキシジメチレン基、オキシジエチレン基などのオキシジアルキレン基;エポキシ基、テトラヒドロフラニル基などのアルキレンオキシド基などがあげられる。なお、本明細書において、アルキレンオキシド基は、環状エーテル化合物の環から水素原子を除いた1価の基を表す。ケイ素化合物としては、下式IVで表される基を有することが好ましい。[式中、R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~4のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~4のヒドロカルビルオキシ基を表し、R3、R4及びR5の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基である。]式IVにおいて、R3、R4及びR5のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基などをあげることができる。また、R3、R4及びR5のヒドロカルビルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基などのアルコキシ基をあげることができる。R3、R4及びR5のヒドロカルビル基としては、好ましくは、アルキル基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~3のアルキル基であり、更に好ましくは、メチル基、エチル基である。また、R3、R4及びR5のヒドロカルビルオキシ基としては、好ましくは、アルコキシ基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~3のアルコキシ基であり、更に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基である。R3、R4及びR5としては、低燃費性を高める観点から、好ましくは、R3、R4及びR5の少なくとも2つがヒドロカルビルオキシ基であり、より好ましくは、R3、R4及びR5の3つがヒドロカルビルオキシ基である。式IIで表わされる基及び式IVで表わされる基を有するケイ素化合物としては、下式IIaで表わされる基を有するケイ素化合物があげられる。[式中、mは1~10の整数を表し、R6、R7及びR8は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~4のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~4のヒドロカルビルオキシ基を表し、R6、R7及びR8の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基である。]mは、1~10の整数を表す。低燃費性を高める観点から、好ましくは2以上であり、製造時の経済性を高める観点から、好ましくは4以下である。特に好ましくは3である。R6、R7及びR8について、例示される基及び好ましい基は、式IVのR3、R4及びR5について上記した例示される基及び好ましい基と同じである。式IIaで表わされる基を有するケイ素化合物としては、下式IIb又は下式IIcで表わされる化合物をあげることができる。[式中、nは1~10の整数を表し、R11、R12及びR13は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~4のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~4のヒドロカルビルオキシ基を表し、R11、R12及びR13の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基であり、R14及びR15は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基、炭素原子数が1~10のヒドロカルビルオキシ基又は炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビルオキシ基を表し、R14及びR15は結合していてもよい。][式中、p、q及びrは、それぞれ独立に、1~10の整数を表し、R21~R29は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~4のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~4のヒドロカルビルオキシ基を表し、R21、R22及びR23の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基であり、R24、R25及びR26の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基であり、R27、R28及びR29の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基である。]式IIbのnは、1~10の整数を表す。低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、好ましくは2以上であり、製造時の経済性を高める観点から、好ましくは4以下である。特に好ましくは3である。式IIbにおいて、R11、R12及びR13のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基などをあげることができる。また、R11、R12及びR13のヒドロカルビルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基などのアルコキシ基をあげることができる。R11、R12及びR13のヒドロカルビル基としては、好ましくは、アルキル基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~3のアルキル基であり、更に好ましくは、メチル基、エチル基である。また、R11、R12及びR13のヒドロカルビルオキシ基としては、好ましくは、アルコキシ基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~3のアルコキシ基であり、更に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基である。R11、R12及びR13としては、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、好ましくは、R11、R12及びR13の少なくとも2つがヒドロカルビルオキシ基であり、より好ましくは、R11、R12及びR13の3つがヒドロカルビルオキシ基である。R14及びR15のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基をあげることができる。R14及びR15の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基、酸素原子を有する基及びケイ素原子を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができ、ケイ素原子を有する基を置換基として有する基としては、トリメチルシリルメチル基、トリエチルシリルメチル基などのトリアルキルシリルアルキル基などをあげることができる。R14及びR15のヒドロカルビルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基などのアルコキシ基をあげることができる。また、R14及びR15の置換ヒドロカルビルオキシ基としては、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基などのアルコキシアルコキシ基をあげることができる。R14及びR15が結合した基としては、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が2~12の2価の基があげられる。例えば、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などのアルキレン基;オキシジエチレン基、オキシジプロピレン基などのオキシジアルキレン基;-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基などの含窒素基などをあげることができる。R14としては、好ましくは、アルキル基であり、より好ましくは、炭素数が1~4のアルキル基であり、更に好ましくは、メチル基及びエチル基である。R15としては、好ましくは、アルキル基であり、より好ましくは、炭素数が1~4のアルキル基であり、更に好ましくは、メチル基及びエチル基である。式IIcのp、q及びrは、それぞれ独立に、1~10の整数を表す。低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、好ましくは2以上であり、製造時の経済性を高める観点から、好ましくは4以下である。特に好ましくは3である。式IIcにおいて、R21~R29のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基などをあげることができる。また、R21~R29のヒドロカルビルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基などのアルコキシ基をあげることができる。R21~R29のヒドロカルビル基としては、好ましくは、アルキル基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~3のアルキル基であり、更に好ましくは、メチル基、エチル基である。また、R21~R29のヒドロカルビルオキシ基としては、好ましくは、アルコキシ基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~3のアルコキシ基であり、更に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基である。R21、R22及びR23としては、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、好ましくは、R21、R22及びR23の少なくとも2つがヒドロカルビルオキシ基であり、より好ましくは、R21、R22及びR23の3つがヒドロカルビルオキシ基である。R24、R25及びR26としては、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、好ましくは、R24、R25及びR26の少なくとも2つがヒドロカルビルオキシ基であり、より好ましくは、R24、R25及びR26の3つがヒドロカルビルオキシ基である。また、R27、R28及びR29としては、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、好ましくは、R27、R28及びR29の少なくとも2つがヒドロカルビルオキシ基であり、より好ましくは、R27、R28及びR29の3つがヒドロカルビルオキシ基である。式IIbで表わされる化合物としては、N-メチル-N-トリメトキシシリルメチル-アセトアミド、N-メチル-N-トリエトキシシリルメチル-アセトアミド、N-メチル-N-2-トリメトキシシリルエチル-アセトアミド、N-メチル-N-2-トリエトキシシリルエチル-アセトアミド、N-メチル-N-3-トリメトキシシリルプロピル-アセトアミド、N-メチル-N-3-トリエトキシシリルプロピル-アセトアミドなどのN-アルキル-N-トリアルコキシシリルアルキル-アセトアミド;N-メチル-N-トリメトキシシリルメチル-プロピオンアミド、N-メチル-N-トリエトキシシリルメチル-プロピオンアミド、N-メチル-N-2-トリメトキシシリルエチル-プロピオンアミド、N-メチル-N-2-トリエトキシシリルエチル-プロピオンアミド、N-メチル-N-3-トリメトキシシリルプロピル-プロピオンアミド、N-メチル-N-3-トリエトキシシリルプロピル-プロピオンアミドなどのN-アルキル-N-トリアルコキシシリルアルキル-プロピオンアミド等、N-アルキル-N-トリアルコキシシリルアルキル置換カルボン酸アミドをあげることができる。式IIbで表わされる化合物として、好ましくは、N-アルキル-N-トリアルコキシシリルアルキル置換カルボン酸アミドであり、より好ましくは、N-アルキル-N-トリアルコキシシリルアルキル-プロピオンアミドであり、更に好ましくは、N-メチル-N-3-トリメトキシシリルプロピル-プロピオンアミド、N-メチル-N-3-トリエトキシシリルプロピル-プロピオンアミドである。式IIcで表わされる化合物としては、1,3,5-トリス3-トリメトキシシリルメチルイソシアヌレート、1,3,5-トリス3-トリエトキシシリルメチルイソシアヌレート、1,3,5-トリス3-トリメトキシシリルエチルイソシアヌレート、1,3,5-トリス3-トリエトキシシリルエチルイソシアヌレート、1,3,5-トリス3-トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレート、1,3,5-トリス3-トリエトキシシリルプロピルイソシアヌレートなどの1,3,5-トリストリアルコキシアルキルイソシアヌレートをあげることができる。式IIcで表わされる化合物として、好ましくは、1,3,5-トリス3-トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレート、1,3,5-トリス3-トリエトキシシリルプロピルイソシアヌレートである。式IIIで表わされる基及び式IVで表わされる基を有するケイ素化合物としては、下式IIIaで表わされるケイ素化合物があげられる。[式中、sは1~10の整数を表し、R31、R32及びR33は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~4のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~4のヒドロカルビルオキシ基を表し、R31、R32及びR33の少なくとも1つがヒドロカルビルオキシ基であり、R34は、炭素原子数が1~10のヒドロカルビル基又は炭素原子数が1~10の置換ヒドロカルビル基を表す。]式IIIaのsは、1~10の整数を表す。低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、好ましくは2以上であり、製造時の経済性を高める観点から、好ましくは4以下である。特に好ましくは3である。式IIIaにおいて、R31、R32及びR33のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基などをあげることができる。また、R31、R32及びR33のヒドロカルビルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基などのアルコキシ基をあげることができる。R31、R32及びR33のヒドロカルビル基としては、好ましくは、アルキル基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~3のアルキル基であり、更に好ましくは、メチル基、エチル基である。また、R31、R32及びR33のヒドロカルビルオキシ基としては、好ましくは、アルコキシ基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~3のアルコキシ基であり、更に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基である。R31、R32及びR33としては、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く高める観点から、好ましくは、R31、R32及びR33の少なくとも2つがヒドロカルビルオキシ基であり、より好ましくは、R31、R32及びR33の3つがヒドロカルビルオキシ基である。R34のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基などをあげることができる。R34の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基、酸素原子を有する基及びケイ素原子を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基;グリシジル基、テトラヒドロフルフリル基などのアルキレンオキシドアルキル基をあげることができ、ケイ素原子を有する基を置換基として有する基としては、トリメチルシリルメチル基などのトリアルキルシリルアルキル基などをあげることができる。なお、本明細書において、アルキレンオキシドアルキル基は、アルキル基の1つ以上の水素原子がアルキレンオキシド基で置換されている基を表す。R34としては、好ましくは、アルキレンオキシドアルキル基であり、より好ましくは、グリシジル基、テトラヒドロフルフリル基である。式IIIaで表わされる化合物としては、R34がアルキル基である化合物として、3-メトキシプロピルトリメトキシシラン、3-エトキシプロピルトリメトキシシラン、3-n-プロポキシプロピルトリメトキシシラン、3-イソプロポキシプロピルトリメトキシシラン、3-n-ブトキシプロピルトリメトキシシラン、3-sec-ブトキシプロピルトリメトキシシラン、3-t-ブトキシプロピルトリメトキシシランなどの3-アルコキシプロピルトリアルコキシシランをあげることができる。R34がアルキレンオキシドアルキル基である化合物として、2-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどのグリシドキシアルキルトリアルコキシシラン;2-テトラヒドロフルフリロキシエチルトリメトキシシラン、3-テトラヒドロフルフリロキシプロピルトリメトキシシラン、2-テトラヒドロフルフリロキシエチルトリエトキシシラン、3-テトラヒドロフルフリロキシプロピルトリエトキシシランなどのテトラヒドロフルフリロキシアルキルトリアルコキシシランをあげることができる。R34がアルコキシアルキル基である化合物として、3-メトキシメトキシプロピルトリメトキシシラン、3-メトキシエトキシプロピルトリメトキシシラン、3-エトキシメトキシプロピルトリメトキシシラン、3-エトキシエトキシプロピルトリメトキシシラン、3-メトキシメトキシプロピルトリエトキシシラン、3-メトキシエトキシプロピルトリエトキシシラン、3-エトキシメトキシプロピルトリエトキシシラン、3-エトキシエトキシプロピルトリエトキシシランなどの3-アルコキシアルコキシプロピルトリアルコキシシランをあげることができる。式IIIaで表わされる化合物として、好ましくは、R34がアルキレンオキシドアルキル基である化合物であり、より好ましくは、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-テトラヒドロフルフリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-テトラヒドロフルフリロキシプロピルトリエトキシシランである。式IIで表わされる基、式IIIで表わされる基及び式IVで表わされる基を有するケイ素化合物としては、3-アクリロキシアルキルトリアルコキシシラン、3-メタクリロキシアルキルトリアルコキシシランをあげることができる。3-アクリロキシアルキルトリアルコキシシランとしては、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリエトキシシランなどの3-アクリロキシプロピルトリアルコキシシランをあげることができる。3-メタクリロキシアルキルトリアルコキシシランとしては、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシランなどの3-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランをあげることができる。また、式IIで表わされる基、式IIIで表わされる基及び式IVで表わされる基を有するケイ素化合物としては、トリアルコキシシリルアルキル無水コハク酸、トリアルコキシシリルアルキル無水マレイン酸をあげることができる。トリアルコキシシリルアルキル無水コハク酸としては、3-トリメトキシシリルプロピル無水コハク酸、3-トリエトキシシリルプロピル無水コハク酸などの3-トリアルコキシシリルプロピル無水コハク酸をあげることができる。トリアルコキシシリルアルキル無水マレイン酸としては、3-トリメトキシシリルプロピル無水マレイン酸、3-トリエトキシシリルプロピル無水マレイン酸などの3-トリアルコキシシリルプロピル無水マレイン酸をあげることができる。上記共役ジエン系重合体は、共役ジエンに基づく構成単位共役ジエン単位に加え、さらに、他の単量体に基づく構成単位を有していてもよい。該他の単量体としては、芳香族ビニル、ビニルニトリル、不飽和カルボン酸エステルなどがあげられる。芳香族ビニルとしては、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、ビニルナフタレン、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルナフタレンを例示することができる。また、ビニルニトリルとしては、アクリロニトリルなどを、不飽和カルボン酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチルなどを例示することができる。これらの中では、芳香族ビニルが好ましく、スチレンがより好ましい。上記共役ジエン系重合体は、耐摩耗性の観点から、芳香族ビニルに基づく構成単位芳香族ビニル単位を有していることが好ましく、芳香族ビニル単位の含有量としては、共役ジエン単位と芳香族ビニル単位との総量を100質量として、好ましくは10質量以上共役ジエン単位の含有量は90質量以下であり、より好ましくは15質量以上共役ジエン単位の含有量は85質量以下である。また、低燃費性の観点から、芳香族ビニル単位の含有量は、好ましくは50質量以下共役ジエン単位の含有量は50質量以上であり、より好ましくは45質量以下共役ジエン単位の含有量は55質量以上である。上記共役ジエン系重合体のビニル結合量は、共役ジエン単位の含有量を100モルとして、低燃費性の観点から、好ましくは80モル以下であり、より好ましくは70モル以下である。また、ウェットグリップ性能の観点から、好ましくは10モル以上であり、より好ましくは15モル以上であり、更に好ましくは20モル以上であり、特に好ましくは40モル以上である。該ビニル結合量は、赤外分光分析法により、ビニル基の吸収ピークである910cm-1付近の吸収強度より求められる。上記共役ジエン系重合体の分子量分布は、低燃費性の観点から、好ましくは1~5であり、より好ましくは1~2である。分子量分布は、ゲルパーミエイションクロマトグラフGPC法により、数平均分子量Mn及び重量平均分子量Mwを測定し、MwをMnで除すことにより求められる。上記共役ジエン系重合体の好適な製造方法としては、下記工程A及びBを有する製造方法をあげることができる。工程A:炭化水素溶媒中で、アルカリ金属触媒により、共役ジエンと下式Vで表されるビニル化合物とを含む単量体を重合させ、共役ジエンに基づく単量体単位と下式Vで表されるビニル化合物に基づく単量体単位とを有する重合体鎖の少なくとも一端に、該触媒由来のアルカリ金属を有する重合体を得る工程。[式中、X4、X5及びX6は、それぞれ独立に、下式Vaで表される基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X4、X5及びX6の少なくとも1つが、下式Vaで表される基である。][式中、R9及びR10は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R9及びR10は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。]工程B:工程Aで得られた重合体と下式IIで表される基及び/又は下式IIIで表される基を有するケイ素化合物とを反応させる工程。工程Aで用いられるアルカリ金属触媒としては、アルカリ金属、有機アルカリ金属化合物、アルカリ金属と極性化合物との錯体、アルカリ金属を有するオリゴマーなどをあげることができる。該アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムなどをあげることができる。該有機アルカリ金属化合物としては、エチルリチウム、n-プロピルリチウム、iso-プロピルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-オクチルリチウム、n-デシルリチウム、フェニルリチウム、2-ナフチルリチウム、2-ブチルフェニルリチウム、4-フェニルブチルリチウム、シクロヘキシルリチウム、4-シクロペンチルリチウム、ジメチルアミノプロピルリチウム、ジエチルアミノプロピルリチウム、t-ブチルジメチルシリロキシプロピルリチウム、N-モルホリノプロピルリチウム、リチウムヘキサメチレンイミド、リチウムピロリジド、リチウムピペリジド、リチウムヘプタメチレンイミド、リチウムドデカメチレンイミド、1,4-ジリチオ-2-ブテン、ナトリウムナフタレニド、ナトリウムビフェニリド、カリウムナフタレニドなどをあげることができる。また、アルカリ金属と極性化合物との錯体としては、カリウム-テトラヒドロフラン錯体、カリウム-ジエトキシエタン錯体などをあげることができ、アルカリ金属を有するオリゴマーとしては、α-メチルスチレンテトラマーのナトリウム塩をあげることができる。これらの中でも、有機リチウム化合物又は有機ナトリウム化合物が好ましく、炭素原子数が2~20の有機リチウム化合物又は有機ナトリウム化合物がより好ましい。工程Aで用いられる炭化水素溶媒は、有機アルカリ金属化合物触媒を失活させない溶媒であり、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、脂環族炭化水素などをあげることができる。該脂肪族炭化水素としては、プロパン、n-ブタン、iso-ブタン、n-ペンタン、iso-ペンタン、n-ヘキサン、プロペン、1-ブテン、iso-ブテン、トランス-2-ブテン、シス-2-ブテン、1-ペンテン、2-ペンテン、1-ヘキセン、2-ヘキセンなどをあげることができる。また、芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンをあげることができ、脂環族炭化水素としては、シクロペンタン、シクロヘキサンなどがあげられる。これらは単独で、あるいは2種以上組み合わせて用いられる。これらの中では、炭素原子数が2~12の炭化水素が好ましい。工程Aでは、共役ジエンと式Vで表されるビニル化合物とを含む単量体を重合させ、上述のアルカリ金属触媒由来のアルカリ金属を重合体鎖末端に有する共役ジエン系重合体を製造する。該共役ジエンとしては、1,3-ブタジエン、イソプレン、1,3-ペンタジエン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン、1,3-ヘキサジエンをあげることができ、これらは単独で、あるいは2種以上組み合わせて用いられる。中でも、入手容易性の観点から、1,3-ブタジエン、イソプレンが好ましい。式VのX4、X5及びX6は、それぞれ独立に、式Vaで表される基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、X4、X5及びX6の少なくとも1つは、式Vaで表される基である。式VaのR9及びR10は、それぞれ独立に、炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基、シリル基又は置換シリル基を表し、R9及びR10は結合して窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。R9及びR10の炭素原子数が1~6のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n-ヘキシル基などのアルキル基;シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニル基などをあげることができる。R9及びR10の炭素原子数が1~6の置換ヒドロカルビル基としては、窒素原子を有する基、酸素原子を有する基及びケイ素原子を有する基からなる基群から選ばれる少なくとも1種の基を置換基として有する置換ヒドロカルビル基をあげることができる。窒素原子を有する基を置換基として有する基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基などのジアルキルアミノアルキル基をあげることができ、酸素原子を有する基を置換基として有する基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができ、ケイ素原子を有する基を置換基として有する基としては、トリメチルシリルメチル基などのトリアルキルシリルアルキル基などをあげることができる。R9及びR10の置換シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリル基などをあげることができる。R9及びR10が結合した基としては、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子からなる原子群から選ばれる少なくとも1種の原子を有していてもよい炭素原子数が1~12の2価の基があげられる。例えば、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などのアルキレン基;オキシジエチレン基、オキシジプロピレン基などのオキシジアルキレン基;-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基などの含窒素基などをあげることができる。R9及びR10が結合した基としては、含窒素基が好ましく、-CH2CH2-NH-CH2-で表される基、-CH2CH2-N=CH-で表される基がより好ましい。R9及びR10のヒドロカルビル基としては、アルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基が更に好ましく、エチル基、n-ブチル基が特に好ましい。R9及びR10の置換ヒドロカルビル基としては、アルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基がより好ましい。R9及びR10の置換シリル基としては、トリアルキルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基がより好ましい。R9及びR10としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシアルキル基、置換シリル基又はR9及びR10が結合した含窒素基であり、より好ましくは、アルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、より更に好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基である。式Vaで表される基としては、非環状アミノ基、環状アミノ基をあげることができる。該非環状アミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジn-ブチルアミノ基、ジsec-ブチルアミノ基、ジtert-ブチルアミノ基、ジネオペンチルアミノ基、エチルメチルアミノ基などのジアルキルアミノ基;ジメトキシメチルアミノ基、ジメトキシエチルアミノ基、ジエトキシメチルアミノ基、ジエトキシエチルアミノ基などのジアルコキシアルキルアミノ基;ジトリメチルシリルアミノ基、ジt-ブチルジメチルシリルアミノ基などのジトリアルキルシリルアミノ基などをあげることができる。該環状アミノ基としては、1-ピロリジニル基、1-ピペリジノ基、1-ヘキサメチレンイミノ基、1-ヘプタメチレンイミノ基、1-オクタメチレンイミノ基、1-デカメチレンイミノ基、1-ドデカメチレンイミノ基などの1-ポリメチレンイミノ基をあげることができる。また、環状アミノ基としては、1-イミダゾリル基、4,5-ジヒドロ-1-イミダゾリル基、1-イミダゾリジニル基、1-ピペラジニル基、モルホリノ基などもあげることができる。式Vaで表される基としては、経済性及び入手容易性から、好ましくは、非環状アミノ基であり、より好ましくは、ジアルキルアミノ基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基で置換されたジアルキルアミノ基であり、より更に好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn-プロピルアミノ基、ジn-ブチルアミノ基である。式VのX4~X6のヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基をあげることができる。また、置換ヒドロカルビル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができる。X4~X6のヒドロカルビル基としては、アルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましい。また、X4~X6の置換ヒドロカルビル基としては、アルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基がより好ましい。X4~X6のヒドロカルビル基及び置換ヒドロカルビル基としては、好ましくは、アルキル基又はアルコキシアルキル基であり、より好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基又は炭素原子数が1~4のアルコキシアルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が1~4のアルキル基であり、より更に好ましくは、メチル基又はエチル基である。式VのX4、X5及びX6の少なくとも1つは、式Vaで表される基である。好ましくは、X4、X5及びX6の2つ以上が、式Vaで表される基であり、より好ましくは、X4、X5及びX6の2つが、式Vaで表される基である。工程Aで用いられる式Vで表されるビニル化合物としては、X4~X6の1つが式Vaで表される非環状アミノ基であり、2つがヒドロカルビル基または置換ヒドロカルビル基である化合物として、ジアルキルアミノジアルキルビニルシラン、{ジトリアルキルシリルアミノ}ジアルキルビニルシラン、ジアルキルアミノジアルコキシアルキルビニルシランなどをあげることができる。ジアルキルアミノジアルキルビニルシランとしては、ジメチルアミノジメチルビニルシラン、エチルメチルアミノジメチルビニルシラン、ジエチルアミノジメチルビニルシラン、エチル-n-プロピルアミノジメチルビニルシラン、エチルイソプロピルアミノジメチルビニルシラン、ジn-プロピルアミノジメチルビニルシラン、ジイソプロピルアミノジメチルビニルシラン、n-ブチル-n-プロピルアミノジメチルビニルシラン、ジn-ブチルアミノジメチルビニルシラン、ジメチルアミノジエチルビニルシラン、エチルメチルアミノジエチルビニルシラン、ジエチルアミノジエチルビニルシラン、エチル-n-プロピルアミノジエチルビニルシラン、エチルイソプロピルアミノジエチルビニルシラン、ジn-プロピルアミノジエチルビニルシラン、ジイソプロピルアミノジエチルビニルシラン、n-ブチル-n-プロピルアミノジエチルビニルシラン、ジn-ブチルアミノジエチルビニルシラン、ジメチルアミノジプロピルビニルシラン、エチルメチルアミノジプロピルビニルシラン、ジエチルアミノジプロピルビニルシラン、エチル-n-プロピルアミノジプロピルビニルシラン、エチルイソプロピルアミノジプロピルビニルシラン、ジn-プロピルアミノジプロピルビニルシラン、ジイソプロピルアミノジプロピルビニルシラン、n-ブチル-n-プロピルアミノジプロピルビニルシラン、ジn-ブチルアミノジプロピルビニルシラン、ジメチルアミノジブチルビニルシラン、エチルメチルアミノジブチルビニルシラン、ジエチルアミノジブチルビニルシラン、エチル-n-プロピルアミノジブチルビニルシラン、エチルイソプロピルアミノジブチルビニルシラン、ジn-プロピルアミノジブチルビニルシラン、ジイソプロピルアミノジブチルビニルシラン、n-ブチル-n-プロピルアミノジブチルビニルシラン、ジn-ブチルアミノジブチルビニルシランなどをあげることができる。{ジトリアルキルシリルアミノ}ジアルキルビニルシランとしては、{ジトリメチルシリルアミノ}ジメチルビニルシラン、{ジt-ブチルジメチルシリルアミノ}ジメチルビニルシラン、{ジトリメチルシリルアミノ}ジエチルビニルシラン、{ジt-ブチルジメチルシリルアミノ}ジエチルビニルシランなどをあげることができる。ジアルキルアミノジアルコキシアルキルビニルシランとしては、ジメチルアミノジメトキシメチルビニルシラン、ジメチルアミノジメトキシエチルビニルシラン、ジメチルアミノジエトキシメチルビニルシラン、ジメチルアミノジエトキシエチルビニルシラン、ジエチルアミノジメトキシメチルビニルシラン、ジエチルアミノジメトキシエチルビニルシラン、ジエチルアミノジエトキシメチルビニルシラン、ジエチルアミノジエトキシエチルビニルシランなどをあげることができる。X4~X6の2つが式Vaで表される非環状アミノ基であり、1つがヒドロカルビル基または置換ヒドロカルビル基である化合物として、ビスジアルキルアミノアルキルビニルシラン、ビス{ジトリアルキルシリルアミノ}アルキルビニルシラン、ビスジアルキルアミノアルコキシアルキルビニルシランなどをあげることができる。ビスジアルキルアミノアルキルビニルシランとしては、ビスジメチルアミノメチルビニルシラン、ビスエチルメチルアミノメチルビニルシラン、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン、ビスエチル-n-プロピルアミノメチルビニルシラン、ビスエチルイソプロピルアミノメチルビニルシラン、ビスジn-プロピルアミノメチルビニルシラン、ビスジイソプロピルアミノメチルビニルシラン、ビスn-ブチル-n-プロピルアミノメチルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノメチルビニルシラン、ビスジメチルアミノエチルビニルシラン、ビスエチルメチルアミノエチルビニルシラン、ビスジエチルアミノエチルビニルシラン、ビスエチル-n-プロピルアミノエチルビニルシラン、ビスエチルイソプロピルアミノエチルビニルシラン、ビスジn-プロピルアミノエチルビニルシラン、ビスジイソプロピルアミノエチルビニルシラン、ビスn-ブチル-n-プロピルアミノエチルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノエチルビニルシラン、ビスジメチルアミノプロピルビニルシラン、ビスエチルメチルアミノプロピルビニルシラン、ビスジエチルアミノプロピルビニルシラン、ビスエチル-n-プロピルアミノプロピルビニルシラン、ビスエチルイソプロピルアミノプロピルビニルシラン、ビスジn-プロピルアミノプロピルビニルシラン、ビスジイソプロピルアミノプロピルビニルシラン、ビスn-ブチル-n-プロピルアミノプロピルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノプロピルビニルシラン、ビスジメチルアミノブチルビニルシラン、ビスエチルメチルアミノブチルビニルシラン、ビスジエチルアミノブチルビニルシラン、ビスエチル-n-プロピルアミノブチルビニルシラン、ビスエチルイソプロピルアミノブチルビニルシラン、ビスジn-プロピルアミノブチルビニルシラン、ビスジイソプロピルアミノブチルビニルシラン、ビスn-ブチル-n-プロピルアミノブチルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノブチルビニルシランなどをあげることができる。ビス{ジトリアルキルシリルアミノ}アルキルビニルシランとしては、ビス{ジトリメチルシリルアミノ}メチルビニルシラン、ビス{ジt-ブチルジメチルシリルアミノ}メチルビニルシラン、ビス{ジトリメチルシリルアミノ}エチルビニルシラン、ビス{ジt-ブチルジメチルシリルアミノ}エチルビニルシランなどをあげることができる。ビスジアルキルアミノアルコキシアルキルビニルシランとしては、ビスジメチルアミノメトキシメチルビニルシラン、ビスジメチルアミノメトキシエチルビニルシラン、ビスジメチルアミノエトキシメチルビニルシラン、ビスジメチルアミノエトキシエチルビニルシラン、ビスジエチルアミノメトキシメチルビニルシラン、ビスジエチルアミノメトキシエチルビニルシラン、ビスジエチルアミノエトキシメチルビニルシラン、ビスジエチルアミノエトキシエチルビニルシランなどをあげることができる。X4~X6の3つが式Vaで表される非環状アミノ基である化合物として、トリジアルキルアミノビニルシランなどをあげることができる。例えば、トリジメチルアミノビニルシラン、トリエチルメチルアミノビニルシラン、トリジエチルアミノビニルシラン、トリエチルプロピルアミノビニルシラン、トリジプロピルアミノビニルシラン、トリブチルプロピルアミノビニルシランなどをあげることができる。X4~X6の2つが式Vaで表される環状アミノ基であり、1つがヒドロカルビル基または置換ヒドロカルビル基である化合物として、ビスモルホリノメチルビニルシラン、ビスピペリジノメチルビニルシラン、ビス4,5-ジヒドロイミダゾリルメチルビニルシラン、ビスヘキサメチレンイミノメチルビニルシランなどをあげることができる。X4、X5及びX6の2つが式Vaで表される基である式Vで表されるビニル化合物として、好ましくは、X4、X5及びX6の2つが非環状アミノ基であるビニル化合物であり、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性の観点から、より好ましくは、ビスジアルキルアミノアルキルビニルシランであり、更に好ましくは、ビスジメチルアミノメチルビニルシラン、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン、ビスジn-プロピルアミノメチルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノメチルビニルシランである。中でも、化合物の入手容易性の観点からは、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン、ビスジn-ブチルアミノメチルビニルシランが好ましい。工程Aでは、共役ジエンと式Vで表されるビニル化合物とに、他の単量体とを組み合わせて重合を行ってもよい。他の単量体としては、芳香族ビニル、ビニルニトリル、不飽和カルボン酸エステルなどがあげられる。芳香族ビニルとしては、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、ビニルナフタレン、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルナフタレンを例示することができる。また、ビニルニトリルとしては、アクリロニトリルなどを、不飽和カルボン酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチルなどを例示することができる。これらの中では、芳香族ビニルが好ましく、スチレンがより好ましい。工程Aの重合は、共役ジエン単位のビニル結合量を調整する剤、共役ジエン系重合体鎖中での共役ジエン単位と共役ジエン以外の単量体に基づく構成単位の分布を調整する剤以下、総称して調整剤と記す。などの存在下で行ってもよい。このような剤としては、エーテル化合物、第三級アミン、ホスフィン化合物などをあげることができる。該エーテル化合物としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4-ジオキサンなどの環状エーテル;ジエチルエーテル、ジブチルエーテルなどの脂肪族モノエーテル;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどの脂肪族ジエーテル;ジフェニルエーテル、アニソールなどの芳香族エーテルなどがあげられる。該第三級アミンとして、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、N,N-ジエチルアニリン、ピリジン、キノリンなどをあげることができる。また、該ホスフィン化合物として、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどをあげることができる。これらは単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。工程Aでの重合温度は、通常25~100°Cであり、好ましくは35~90°Cである。より好ましくは50~80°Cである。重合時間は、通常10分~5時間である。工程Bにおいて、工程Aで調製された重合体に接触させる式IIで表される基及び/又は式IIIで表される基を有するケイ素化合物の量は、該ケイ素化合物中のケイ素原子、特に、式IVで表される基を有するケイ素原子のモル換算として、アルカリ金属触媒由来のアルカリ金属1モルあたり、通常、0.1~3モルであり、好ましくは、0.5~2モルであり、より好ましくは、0.6~1.5モルである。工程Bにおいて、工程Aで調製された重合体と式IIで表される基及び/又は式IIIで表される基を有するケイ素化合物とを接触させる温度は、通常25~100°Cであり、好ましくは35~90°Cである。より好ましくは50~80°Cである。接触させる時間は、通常、60秒~5時間であり、好ましくは5分~1時間であり、より好ましくは15分~1時間である。本発明の製造方法においては、必要に応じて、アルカリ金属触媒による単量体の重合開始から重合停止において、共役ジエン系重合体の炭化水素溶液にカップリング剤を添加してもよい。カップリング剤としては、下式VIで表される化合物をあげることができる。R41aML4-aVI式中、R41はアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基または芳香族残基を表し、Mはケイ素原子またはスズ原子を表し、Lはハロゲン原子またはヒドロカルビルオキシ基を表し、aは0~2の整数を表す。ここで、芳香族残基は、芳香族炭化水素から芳香環に結合している水素を除いた1価の基を表す。式VIで表されるカップリング剤としては、四塩化珪素、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、四塩化スズ、メチルトリクロロスズ、ジメチルジクロロスズ、トリメチルクロロスズ、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメトキシジエチルシラン、ジエトキシジメチルシラン、テトラエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジエトキシジエチルシランなどをあげることができる。カップリング剤の添加量は、アルカリ金属触媒由来のアルカリ金属1モル当たり、共役ジエン系重合体の加工性の観点から、好ましくは0.03モル以上であり、より好ましくは0.05モル以上である。また、低燃費性の観点から、好ましくは0.4モル以下であり、より好ましくは0.3モル以下である。共役ジエン系重合体は、公知の回収方法、例えば、1共役ジエン系重合体の炭化水素溶液に凝固剤を添加する方法、2共役ジエン系重合体の炭化水素溶液にスチームを添加する方法によって、共役ジエン系重合体の炭化水素溶液から回収することができる。回収した共役ジエン系重合体は、バンドドライヤーや押出型ドライヤーなどの公知の乾燥機で乾燥してもよい。また、上記共役ジエン系重合体の製造方法においては、加水分解などにより、重合体の式Iaで表される基を水酸基に置換させる処理を行うことが好ましい。該処理は、重合体単独の状態で行ってもよく、後述のような組成物の状態で行ってもよい。加水分解する方法としては、例えば、スチームストリッピングによる方法等の公知の方法が挙げられる。上記処理により、式IのX1~X3を水酸基とすることができ、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をよりバランスよく向上できる。上記共役ジエン系重合体は、ゴム成分として本発明のゴム組成物に用いることができ、他のゴム成分や添加剤などと併用することが好ましい。他のゴム成分としては、従来のスチレン-ブタジエン共重合体ゴム、ポリブタジエンゴムBR、ブタジエン-イソプレン共重合体ゴム、ブチルゴムなどをあげることができる。また、天然ゴムNR、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-オクテン共重合体などもあげることができる。これらのゴム成分は、2種以上組み合わせて用いてもよい。中でも、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く改善できるという点から、NR及び/又はBRを使用することが好ましく、NR及びBRの両成分を使用することがより好ましい。ゴム成分100質量中の上記共役ジエン系重合体の含有量は、5質量以上、好ましくは10質量以上、より好ましくは30質量以上、更に好ましくは50質量以上である。上記共役ジエン系重合体の含有量が5質量未満であると低燃費性の改善効果が得られにくい傾向がある。上記共役ジエン系重合体の含有量は、好ましくは90質量以下、より好ましくは80質量以下、更に好ましくは70質量以下である。上記共役ジエン系重合体の含有量が90質量を超えると、耐摩耗性が低下するとともに、高コストになる傾向がある。NRとしては特に限定されず、例えば、SIR20、RSS3、TSR20、脱タンパク質天然ゴムDPNR、高純度天然ゴムHPNR等、タイヤ工業において一般的なものを使用できる。ゴム成分100質量中のNRの含有量は、好ましくは5質量以上、より好ましくは10質量以上、更に好ましくは15質量以上である。5質量未満であると、耐摩耗性が低下する傾向がある。上記NRの含有量は、好ましくは70質量以下、より好ましくは60質量以下である。70質量を超えると、ウェットグリップ性能が低下する傾向がある。BRとしては特に限定されず、例えば、日本ゼオン株製のBR1220、宇部興産株製のBR130B、BR150B等の高シス含有量のBR、宇部興産株製のVCR412、VCR617等のシンジオタクチックポリブタジエン結晶を含有するBR等、タイヤ工業において一般的なものを使用できる。ゴム成分100質量中のBRの含有量は、好ましくは5質量以上、より好ましくは10質量以上、更に好ましくは15質量以上である。5質量未満であると、耐摩耗性が低下する傾向がある。上記BRの含有量は、好ましくは60質量以下、より好ましくは50質量以下である。60質量を超えると、ウェットグリップ性能が低下する傾向がある。ゴム成分100質量中のNR及びBRの合計含有量は、好ましくは10質量以上、より好ましくは20質量以上、更に好ましくは30質量以上である。10質量未満であると、耐摩耗性が低下する傾向がある。上記合計含有量は、好ましくは70質量以下、より好ましくは50質量以下である。70質量を超えると、ウェットグリップ性能が低下する傾向がある。本発明で使用するストラクチャーシリカ直鎖シリカは、1つの粒子に対して隣接する粒子が3つ以上の粒子以下、分岐粒子Zとするを有し、分岐粒子Zとそれに隣接する粒子により分岐構造が形成される。分岐粒子Zとは、分岐粒子の概略説明図である図1における粒子のうちの粒子Zであり、3個以上の他の粒子と隣接している。なお、ストラクチャーシリカとしては、分岐構造を有するもの例えば図2と有しないものが挙げられるが、分岐構造を有しないストラクチャーシリカは、すぐに凝集してしまうため、実質的に存在しない。ストラクチャーシリカの分岐粒子Zを含む分岐粒子間Z-Zの平均長図2におけるW1は、30nm以上、好ましくは40nm以上である。30nm未満では、高伸長領域においてシリカの配向によるヒステリシスロスの増加効果が得られにくく、ドライグリップ性能を充分に改善できない傾向がある。また、W1は、400nm以下、好ましくは200nm以下、更に好ましくは100nm以下である。400nmを超えると、低伸長領域において応力が増大することにより、ヒステリシスロスが増大し、低燃費性が悪化する傾向がある。ストラクチャーシリカの平均一次粒子径D、分岐粒子を含むストラクチャーシリカの概略説明図である図2参照は、好ましくは5nm以上、より好ましくは7nm以上である。5nm未満では、比表面積が増加して、低伸長領域でもゴムとシリカとの界面が受け持つ応力が増大する、すなわち、低伸長領域におけるヒステリシスロスが増大し、低燃費性が悪化する傾向がある。また、Dは、好ましくは1000nm以下、より好ましくは800nm以下、更に好ましくは100nm以下、特に好ましくは20nm以下である。1000nmを超えると、高伸長領域におけるヒステリシスロスが増加しにくく、ドライグリップ性能を充分に改善できない傾向がある。ストラクチャーシリカの分岐粒子Zを含む分岐粒子間Z-Zの平均アスペクト比W1/Dは、好ましくは3以上、より好ましくは4以上である。3未満では、高伸長領域におけるヒステリシスロスが増加しにくく、ドライグリップ性能を充分に改善できない傾向がある。また、W1/Dは、好ましくは100以下、より好ましくは30以下である。W1/Dが100を超えると、低伸長領域において応力が増大することにより、ヒステリシスロスが増大し、低燃費性が悪化する傾向がある。なお、本発明では、シリカのD、W1及びW1/Dは、加硫ゴム組成物中に分散したシリカを透過型電子顕微鏡観察により測定することができる。例えば、図2において、粒子が真球とした場合には、W1/Dは5となる。ストラクチャーシリカの含有量は、ゴム成分100質量部に対して、5質量部以上、好ましくは10質量部以上、より好ましくは15質量部以上、更に好ましくは50質量部以上である。5質量部未満では、ストラクチャーシリカを配合した効果が充分に得られない傾向がある。また、ストラクチャーシリカの含有量は、150質量部以下、好ましくは120質量部以下、より好ましくは100質量部以下である。150質量部を超えると、ゴム組成物の剛性が高くなり、加工性及びウェットグリップ性能が悪化する傾向がある。ストラクチャーシリカ及びカーボンブラックの合計100質量中のストラクチャーシリカの含有量は、好ましくは60質量以上、より好ましくは85質量以上であり、好ましくは98質量以下、より好ましくは95質量以下である。上記範囲内であれば、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性を高次元でバランス良く改善することができる。本発明のゴム組成物には、ストラクチャーシリカとともに、シランカップリング剤を配合することが好ましい。シランカップリング剤としては、補強性改善効果などの点から、ビス3-トリエトキシシリルプロピルテトラスルフィド、3-トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾリルテトラスルフィドを使用することが好ましい。シランカップリング剤の含有量は、ストラクチャーシリカ100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、より好ましくは2質量部以上である。1質量部未満では、未加硫ゴム組成物の粘度が高く、加工性が悪化する傾向がある。また、シランカップリング剤の含有量は、好ましくは20質量部以下、より好ましくは15質量部以下である。20質量部を超えると、コストの増加に見合った効果が得られない傾向がある。添加剤としては、公知のものを用いることができ、硫黄などの加硫剤;チアゾール系加硫促進剤、チウラム系加硫促進剤、スルフェンアミド系加硫促進剤、グアニジン系加硫促進剤などの加硫促進剤;ステアリン酸、酸化亜鉛などの加硫活性化剤;有機過酸化物;カーボンブラック、炭酸カルシウム、タルク、アルミナ、クレー、水酸化アルミニウム、マイカなどの充填剤;伸展油、滑剤などの加工助剤;老化防止剤を例示することができる。カーボンブラックとしては、SAF、ISAF、HAF、MAF、FEF、SRF、GPF、APF、FF、CF、SCF及びECFのようなファーネスブラックファーネスカーボンブラック;アセチレンブラックアセチレンカーボンブラック;FT及びMTのようなサーマルブラックサーマルカーボンブラック;EPC、MPC及びCCのようなチャンネルブラックチャンネルカーボンブラック;グラファイトなどをあげることができる。これらは1種または2種以上組み合わせて用いることができる。カーボンブラックの含有量は、ゴム成分100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、より好ましくは3質量部以上である。1質量部未満では、充分な補強性が得られないおそれがある。カーボンブラックの含有量は、好ましくは60質量部以下、より好ましくは50質量部以下、更に好ましくは30質量部以下、特に好ましくは10質量部以下である。60質量部を超えると、低燃費性が悪化する傾向がある。カーボンブラックの窒素吸着比表面積N2SAは、通常、5~200m2/gであり、下限は50m2/g、上限は150m2/gであることが好ましい。また、カーボンブラックのジブチルフタレートDBP吸収量は、通常、5~300ml/100gであり、下限は80ml/100g、上限は180ml/100gであることが好ましい。カーボンブラックのN2SAやDBP吸収量が上記範囲の下限未満では、補強効果が小さく耐摩耗性が低下する傾向があり、上記範囲の上限を超えると、分散性が悪く、ヒステリシスロスが増大し低燃費性が低下する傾向がある。該窒素吸着比表面積は、ASTMD4820-93に従って測定され、該DBP吸収量は、ASTMD2414-93に従って測定される。市販品としては、東海カーボン社製商品名シースト6、シースト7HM、シーストKH、エボニックデグッサ社製商品名CK3、SpecialBlack4A等を用いることができる。伸展油としては、アロマチック系鉱物油粘度比重恒数V.G.C.値0.900~1.049、ナフテン系鉱物油V.G.C.値0.850~0.899、パラフィン系鉱物油V.G.C.値0.790~0.849などをあげることができる。伸展油の多環芳香族含有量は、好ましくは3質量未満であり、より好ましくは1質量未満である。該多環芳香族含有量は、英国石油学会346/92法に従って測定される。また、伸展油の芳香族化合物含有量CAは、好ましくは20質量以上である。これらの伸展油は、2種以上組み合わされて用いられてもよい。加硫促進剤としては、2-メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジサルファイド、N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアジルスルフェンアミド等のチアゾール系加硫促進剤;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等のチウラム系加硫促進剤;N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N-t-ブチル-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N-オキシエチレン-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N-オキシエチレン-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N,N’-ジイソプロピル-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド等のスルフェンアミド系加硫促進剤;ジフェニルグアニジン、ジオルトトリルグアニジン、オルトトリルビグアニジン等のグアニジン系加硫促進剤をあげることができ、その使用量は、ゴム成分100質量部に対して0.1~5質量部が好ましく、さらに好ましくは0.2~3質量部である。上記共役ジエン系重合体に、他のゴム成分や添加剤などを配合してゴム組成物を製造する方法としては、公知の方法、例えば、各成分をロールやバンバリーのような公知の混合機で混練する方法を用いることができる。特に、ストラクチャーシリカが形成された前述の本発明のゴム組成物を容易に製造できるという点から、シリカゾルを、上記共役ジエン系重合体を含むゴム成分などと共にゴム混練装置で混練することが好ましく、具体的には、I上記共役ジエン系重合体を含むゴム成分と、シリカゾルと、必要に応じて、カーボンブラック、シランカップリング剤、酸化亜鉛、ステアリン酸、軟化剤、老化防止剤、ワックス等を80~180°C好ましくは90~170°Cで3~10分間混練するベース練り工程と、IIベース練り工程により得られた混練物と、加硫剤と、加硫促進剤とを30~100°C好ましくは40~90°Cで3~10分間混練する仕上げ練り工程と、III仕上げ練り工程により得られた未加硫ゴム組成物を150~190°C好ましくは160~180°Cで5~30分間加硫する加硫工程とを含む製造方法がより好ましい。シリカゾルの好ましい配合量シリカ換算は、上述のストラクチャーシリカと同様である。なお、ストラクチャーシリカを形成する混練工程ベース練り工程などでは、ゴムの良溶媒であるトルエン中で各成分を混練りすると、ストラクチャーシリカのW1が過度に長くなりやすい傾向があるため、トルエンを用いずに混練りすることが好ましい。本明細書において、シリカゾルとは、溶媒にシリカを分散させたコロイド溶液をいう。シリカゾルとしては、特に限定されないが、好適にストラクチャーシリカを形成できるという理由から、細長い形状のシリカが溶媒中に分散したコロイド溶液が好ましく、細長い形状のシリカが有機溶媒中に分散したコロイド溶液オルガノシリカゾルがより好ましい。ここで、細長い形状のシリカとは、球状や粒状などの一次粒子が複数個繋がった鎖のような形状のシリカ二次粒子を意味する。なお、線状であっても分岐したものであってもよい。また、シリカを分散させる溶媒としては、特に限定されないが、メタノール、イソプロパノール等のアルコールが好ましく、イソプロパノールがより好ましい。シリカゾルに含まれるシリカ二次粒子を構成する一次粒子の平均粒子径は、好ましくは1~100nm、より好ましくは5~80nmである。一次粒子の平均粒子径は、日本電子製透過電子顕微鏡JEM2100FXで撮影した写真において、目視で50個の一次粒子の粒子径平均直径を測定し、それらを平均した値を平均粒子径とした。なお、一次粒子の平均直径は、シリカ二次粒子が細長形状である場合、電子顕微鏡写真における、シリカ二次粒子の任意の50箇所で測定した太さ直径の平均値として求めることができ、シリカ二次粒子がくびれを有した数珠状である場合、電子顕微鏡写真における、50個の各数珠の直径の平均値として求めることができる。各数珠に長径と短径がある場合、即ち各数珠が細長状である場合は、短径を測定する。シリカゾルに含まれるシリカ二次粒子の平均粒子径は、好ましくは20~300nm、より好ましくは30~150nmである。シリカ二次粒子の平均粒子径は動的光散乱法によって測定することができ、具体的には、以下の方法により測定することができる。シリカ二次粒子の平均粒子径は、大塚電子株式会社のレーザー粒子解析システムELS-8000キュムラント解析で測定した。測定条件は、温度25°C、入射光と検出器との角度90°、積算回数100回であり、分散溶媒の屈折率として水の屈折率1.333を入力する。測定濃度は、通常5×10-3質量程度で行った。上記シリカ二次粒子は、例えば、国際公開第00/15552号パンフレットの請求の範囲第2項、及びそれに関する明細書の開示部分に記載の方法、特許第2803134号公報、特許第2926915号公報の請求項2及びそれに関する明細書の開示部分に記載の方法等に準じて製造することができる。本発明に使用することができる上記シリカ二次粒子の具体例としては、日産化学工業株式会社製のスノーテックス-OUP平均二次粒子径:40~100nm、同スノーテックス-UP平均二次粒子径:40~100nm、同スノーテックスPS-M平均二次粒子径:80~150nm、同スノーテックスPS-MO平均二次粒子径:80~150nm、同スノーテックスPS-S平均二次粒子径:80~120nm、同スノーテックスPS-SO平均二次粒子径:80~120nm、IPA-ST-UP平均二次粒子径:40~100nm、扶桑化学工業株式会社製のクォートロンPL-7平均二次粒子径:130nm等が挙げられる。なかでも、好適にストラクチャーシリカを形成できるという理由から、IPA-ST-UPが好ましい。本発明のゴム組成物は、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性のバランスに優れており、これらの性能の顕著な改善効果を得ることができる。本発明のゴム組成物は、タイヤの各部材に好適に用いることができ、特にトレッドに好適に用いることができる。本発明の空気入りタイヤは、上記ゴム組成物を用いて通常の方法によって製造される。すなわち、必要に応じて各種添加剤を配合したゴム組成物を、未加硫の段階でタイヤのトレッドの形状に合わせて押し出し加工し、タイヤ成型機上にて通常の方法にて成形し、他のタイヤ部材とともに貼り合わせ、未加硫タイヤを形成する。この未加硫タイヤを加硫機中で加熱加圧して、本発明の空気入りタイヤを製造できる。本発明の空気入りタイヤは、乗用車用タイヤ、トラックバス用タイヤ重荷重用タイヤとして好適に用いることができる。以下、実施例によって本発明を説明する。物性評価は次の方法で行った。なお、以下の評価においては、比較例1を基準比較例とした。1.ビニル結合量単位:モル赤外分光分析法により、ビニル基の吸収ピークである910cm-1付近の吸収強度より重合体のビニル結合量を求めた。2.スチレン単位の含量単位:質量JISK63831995に従って、屈折率から重合体のスチレン単位の含量を求めた。3.分子量分布Mw/Mn下記の条件1~8でゲルパーミエイションクロマトグラフGPC法により、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnを測定した。そして、測定したMw、Mnから重合体の分子量分布Mw/Mnを求めた。1装置:東ソー社製HLC-80202分離カラム:東ソー社製GMH-XL2本直列3測定温度:40°C4キャリア:テトラヒドロフラン5流量:0.6mL/分6注入量:5μL7検出器:示差屈折8分子量標準:標準ポリスチレン4.転がり抵抗転がり抵抗試験機を用い、試験用タイヤを、リム15×6JJ、内圧230kPa、荷重3.43kN、速度80km/hで走行させたときの転がり抵抗を測定し、基準比較例を100とした時の指数で表示した。指数は大きい方が良好低燃費性である。5.ウェットグリップ性能各試験用タイヤを車両国産FF2000ccの全輪に装着して、湿潤アスファルト路面にて初速度100km/hからの制動距離を求めた。結果は指数で表し、指数が大きいほどウェットスキッド性能ウェットグリップ性能が良好である。指数は次の式で求めた。ウェットグリップ性能指数=基準比較例の制動距離/各配合の制動距離×1006.LAT摩耗試験LAT試験機LaboratoryAbrationandSkidTesterを用い、荷重50N、速度20km/h、スリップアングル5°の条件にて、各加硫ゴム組成物の容積損失量を測定した。表2の数値耐摩耗性指数は、基準比較例の容積損失量を100としたときの相対値である。当該数値が大きいほど耐摩耗性に優れている。7.ドライグリップ性能各試験用タイヤを車両国産FF2000ccの全輪に装着して、ドライアスファルト路面にて初速度100km/hからの制動距離を求めた。結果は指数で表し、指数が大きいほどドライグリップ性能が良好である。指数は次の式で求めた。ドライグリップ性能指数=基準比較例の制動距離/各配合の制動距離×100製造例1重合体1の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応容器内に投入した。次に、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン16.0mmol及びn-ブチルリチウム18.5mmolを、それぞれ、シクロヘキサン溶液及びn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応容器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、1,3,5-トリス3-トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレート4.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.80mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体1を回収した。重合体1の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.009mmol/g重合体であった。製造例2重合体2の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応容器内に投入した。次に、n-ブチルリチウム18.5mmolをn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応容器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、1,3,5-トリス3-トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレート4.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.80mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体2を回収した。重合体2の評価結果を表1に示す。なお、重合体2は合成時に式Vで表される化合物を使用しなかったため、式Iで表される構成単位を含有していなかった。製造例3重合体3の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応容器内に投入した。次に、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン16.0mmol及びn-ブチルリチウム18.5mmolを、それぞれ、シクロヘキサン溶液及びn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応容器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、1,3,5-トリス3-トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレート4.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.80mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、重合体溶液を、常温、24時間で蒸発させ、更に55°Cで12時間減圧乾燥し、重合体3を得た。重合体3の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.009mmol/g重合体であった。製造例4重合体4の合成内容積20リットルのステンレス製重合反応器内を洗浄、乾燥し、乾燥窒素で置換し、ヘキサン比重0.68g/cm310.2kg、1,3-ブタジエン547g、スチレン173g、テトラヒドロフラン6.1ml、エチレングリコールジエチルエーテル5.0mlを重合反応容器内に投入した。次に、ビスジエチルアミノメチルビニルシラン16.0mmol及びn-ブチルリチウム18.5mmolを、それぞれ、シクロヘキサン溶液及びn-ヘキサン溶液として投入し、重合を開始した。撹拌速度を130rpm、重合反応器内温度を65°Cとし、単量体を重合反応容器内に連続的に供給しながら、1,3-ブタジエンとスチレンの共重合を3時間行った。全重合での1,3-ブタジエンの供給量は821g、スチレンの供給量は259gであった。次に、得られた重合体溶液を130rpmの撹拌速度で撹拌し、3-メトキシプロピルトリメトキシシラン4.0mmolを添加し、15分間撹拌した。重合体溶液にメタノール0.80mlを含むヘキサン溶液20mlを加えて、更に重合体溶液を5分間撹拌した。重合体溶液に2-tert-ブチル-6-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学株製、商品名:スミライザーGM1.8g、ペンタエリスリチルテトラキス3-ラウリルチオプロピオネート住友化学株製、商品名:スミライザーTP-D0.9gを加え、次に、スチームストリッピングによって重合体溶液から重合体4を回収した。重合体4の評価結果を表1に示す。なお、重合反応器内への原料の投入量及び供給量から計算した重合体中の式Iで表される構成単位の含有量は、重合体単位質量あたり0.009mmol/g重合体であった。以下に、実施例及び比較例で用いた各種薬品について説明する。天然ゴム:RSS3ブタジエンゴム:宇部興産株製のウベポールBR150B重合体1~4:上記製造例1~4カーボンブラック:三菱化学株製のダイアブラックN220N2SA:114m2/g、DBP吸収量:114ml/100gシリカ1:日産化学工業株製のオルガノシリカゾルIPA-ST-UP細長い形状のイソプロパノール分散シリカゾル動的光散乱法によって測定されたシリカ二次粒子の平均粒子径:40~100nm、シリカ含有率:15質量表2に記載の量は、オルガノシリカゾル中のシリカ量を示す。シリカ2:デグッサ社製のウルトラシルVN3粒子状シリカ、N2SA:175m2/gシランカップリング剤:デグッサ社製のSi69ビス3-トリエトキシシリルプロピルテトラスルフィドステアリン酸:日油株製のステアリン酸酸化亜鉛:三井金属鉱業株製の亜鉛華1号ワックス:大内新興化学工業株製のサンノックN硫黄:鶴見化学工業株製の粉末硫黄加硫促進剤TBBS:大内新興化学工業株製のノクセラーNSN-tert-ブチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド加硫促進剤DPG:大内新興化学工業株製のノクセラーDジフェニルグアニジン実施例及び比較例表2に示す配合内容に従い、株神戸製鋼所製の1.7Lバンバリーミキサーを用いて、硫黄及び加硫促進剤以外の材料を150°Cの条件下で5分間混練りし、混練り物を得た。次に、得られた混練り物に硫黄及び加硫促進剤を添加し、オープンロールを用いて、50°Cの条件下で5分間練り込み、未加硫ゴム組成物を得た。得られた未加硫ゴム組成物を170°Cで20分間、0.5mm厚の金型でプレス加硫し、加硫ゴム組成物を得た。また、得られた未加硫ゴム組成物をトレッドの形状に成形し、タイヤ成型機上で他のタイヤ部材とともに貼り合わせて未加硫タイヤを形成した後、170°Cで12分間加硫し、試験用タイヤサイズ:195/65R15を製造した。得られた加硫ゴム組成物及び試験用タイヤを使用して、上記試験方法により評価を行った。それぞれの試験結果を表2に示す。表2に示すように、共役ジエンに基づく構成単位及び上記式Iで表される構成単位を有し、かつ上記式IIで表される基及び/又は上記式IIIで表される基を有するケイ素化合物によって末端が変性された重合体重合体1、3、4と、W1が特定の範囲内のストラクチャーシリカとを含んだ実施例のゴム組成物は、比較例のゴム組成物に比べて、低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能が相乗的に改善し、これらの性能が高次元でバランス良く得られた。"