"担体物質として少なくとも二酸化スズ、および触媒活性物質として少なくとも1種のルテニウム含有化合物を含んでなる触媒組成物であって、担体物質が、付加的な二次成分として、Nb、V、Ta、Cr、Mo、Au、In、Sc、Yおよびランタノイド特にLaおよびCeからなる群から選択される元素または元素化合物、好ましくはニオブまたはニオブ化合物、特に好ましくは酸化ニオブを含んでなることを特徴とする触媒組成物。ルテニウム化合物がハロゲンおよび/または酸素含有ルテニウム化合物であることを特徴とする、請求項1に記載の組成物。ルテニウム化合物中のハロゲンが、塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選択され、特に塩素であることを特徴とする、請求項2に記載の組成物。触媒活性ルテニウム化合物が、塩化ルテニウム、オキシ塩化ルテニウム、および塩化ルテニウムと酸化ルテニウムとの混合物からなる群から選択され、特にオキシ塩化ルテニウム化合物であることを特徴とする、請求項1~3のいずれかに記載の組成物。触媒活性ルテニウム化合物が一般式:RuClxOy[式中、xは0.8~1.5の数であり、yは0.7~1.6の数である]で示される混合化合物であることを特徴とする、請求項4に記載の組成物。二次成分の割合が、二酸化スズおよび二次成分の総重量に基づいて、0.01~30重量、好ましくは0.05~20重量、非常に好ましくは0.1~10重量の範囲であることを特徴とする、請求項1~5のいずれかに記載の組成物。A少なくとも1種のハロゲン含有ルテニウム化合物の溶液または懸濁液、特に水溶液または水性懸濁液を調製する工程、BNb、V、Ta、Cr、Mo、Au、In、Sc、Yおよびランタノイド特にLaおよびCeからなる群からの元素、好ましくはニオブの可溶性塩および可溶性スズ塩の溶液、特に水溶液を調製し、二次成分元素およびスズを共沈させる工程、Cスズおよび更なる元素の沈澱混合物を酸化気体の存在下で熱処理してドープ二酸化スズを得る工程、およびD工程Aの少なくとも1種のハロゲン含有ルテニウム化合物の溶液または懸濁液、特に水溶液または水性懸濁液を、ドープ二酸化スズに適用し、溶媒を除去する工程を少なくとも含む方法によって得られることを特徴とする、請求項1~6のいずれかに記載の組成物。工程Aで使用するハロゲン含有ルテニウム化合物がRuCl3であることを特徴とする、請求項7に記載の組成物。触媒が、溶媒の除去工程が少なくとも80°C、好ましくは少なくとも100°Cでの乾燥工程を含む方法によって得られることを特徴とする、請求項7または8に記載の組成物。特に酸素含有雰囲気中、より好ましくは空気中、少なくとも200°C、好ましくは少なくとも240°C、より好ましくは250°C~500°Cの温度で、ハロゲン含有ルテニウム化合物を担持した二酸化スズ担体を焼成することによって得られることを特徴とする、請求項1~9のいずれかに記載の組成物。触媒組成物全体に対するハロゲン含有ルテニウム化合物由来ルテニウムの割合が、特に焼成後、0.5~5重量、好ましくは1.0~4重量、より好ましくは1.5~3重量であることを特徴とする、請求項1~10のいずれかに記載の組成物。二酸化スズが少なくとも部分的に、好ましくは完全にスズ石構造であることを特徴とする、請求項1~11のいずれかに記載の組成物。固体触媒上で塩化水素を酸素によって触媒気相酸化することによる塩素の製造方法であって、気相酸化を断熱的または等温的、特に断熱的に実施し、触媒が、担体物質として少なくとも二酸化スズ、および触媒活性物質として少なくとも1種のルテニウム含有化合物を含んでなり、使用する触媒が、請求項1~12のいずれかに記載の組成物であることを特徴とする方法。塩化水素の気相酸化が、180~500°C、好ましくは200~450°C、より好ましくは250~420°Cの温度で塩化水素および酸素を含んでなる気体を流通させることを含み、生じた塩素を、反応水並びに未転化の酸素および塩化水素から分離することを特徴とする、請求項13に記載の方法。1~25bar、好ましくは1.2~20bar、より好ましくは1.5~17bar、特に好ましくは2.0~15barの圧力で気相酸化を実施することを特徴とする、請求項13または14に記載の方法。塩化水素の酸素による触媒気相酸化における触媒のための触媒担体としての、二次成分としてのニオブまたはニオブ化合物をドープした二酸化スズの使用。本発明の目的は、優れた活性は損なわずに、スズの放出に関して、WO2007/134772A1およびWO2007/134721A1から知られている触媒の化学的安定性を高めることである。この目的は、触媒活性物質の適用前に二酸化スズをドープすることによって達成される。意外なことに、触媒活性物質の適用前に、選択した金属で二酸化スズをドープすると、HCl気相酸化の反応条件下における触媒の化学的安定性と活性の両方が高くなることが見いだされた。本発明は、担体物質として少なくとも二酸化スズ、および触媒活性物質として少なくとも1種のルテニウム含有化合物を含んでなる触媒組成物であって、担体物質が、付加的な二次成分として、Nb、V、Ta、Cr、Mo、Au、In、Sc、Yおよびランタノイド特にLaおよびCeからなる群から選択される元素または元素化合物、好ましくはニオブまたはニオブ化合物、特に好ましくは酸化ニオブを含んでなることを特徴とする触媒組成物を提供する。二次成分は特に、ドープ剤として存在する。本発明においてドーピングとは、好ましくは、母材例えば二酸化スズの格子構造において二次成分が均一に分布していることを意味すると理解される。本発明はまた、塩化水素を酸素によって触媒気相酸化することによる塩素の製造方法であって、触媒が、Nb、V、Ta、Cr、Mo、Au、In、Sc、Yおよびランタノイド特にLaおよびCeからなる群から選択される元素または元素化合物をドープした二酸化スズと、ルテニウム化合物とを少なくとも含んでなる方法を提供する。好ましい態様では、ドープ二酸化スズは、触媒活性成分のための担体として使用し、二酸化スズはスズ石構造である。ドープ二酸化スズは、スズに加えて、Nb、Ce、La、Y、Sc、V、Mo、Cr、Auからなる群から選択される少なくとも1種の元素好ましくはNbまたは元素化合物を含んでなる。ドープ剤の割合は、二酸化スズおよび二次成分の総重量に基づいて、0.01~30重量、好ましくは0.05~20重量、非常に好ましくは0.1~10重量の範囲である。ドープ二酸化スズは、適当な可溶性のスズ塩およびドーピング元素塩の共沈、塩の高温処理、物理蒸着PVD、化学蒸着CVD、適当な溶液の噴霧熱分解などによって調製できるが、これらに限定されない。共沈による調製が好ましい。共沈は、バッチ式、半連続式または連続式で実施してよい。例えば、温度または濃度を変えること溶媒を蒸発させることを含むによって、pHを変えることによっておよび/または沈澱剤を添加することによって、或いはそれらの組み合わせによって、沈澱させる。沈澱剤を添加することによって共沈を実施することが好ましい。このための市販装置は、撹拌槽、静的ミキサー、バルブミキサー、マイクロミキサー、ノズル装置であり、これらは、塩溶液および沈澱剤の激しい撹拌を確実にする。スズ前駆体およびドーピング元素塩が、使用する溶媒に可溶性である限り、即ち、共沈の際に共沈できる限り、様々な出発化合物を使用することができる。そのような出発化合物の例は、アセテート、ニトレート、クロライドおよび別の適当な化合物である。好ましい溶媒は、短鎖C1~C6アルコール、例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、i-プロパノールまたはブタノール、および水、並びにそれらの混合物である。短鎖アルコールが特に好ましい。適当な沈澱剤の例は、前記溶媒中の、炭酸アンモニウム、水酸化アンモニウム、アンモニア、ウレア、アルカリ金属炭酸塩またはアルカリ土類金属炭酸塩、およびアルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物の溶液である。沈澱は連続して実施することが好ましい。金属塩溶液、並びに適切な場合には沈澱剤および別のドーピング成分を、高い混合強度で、混合装置において輸送装置によって混合する。静的ミキサー、Yミキサー、多層積層型ミキサー、バルブミキサー、マイクロミキサー、二相ノズルミキサー、および当業者に知られている他の同様のミキサーを使用することが好ましい。沈澱特性、および生成固体の表面変性を改善するために、界面活性物質例えば、イオン性または非イオン性界面活性剤、或いはカルボン酸を添加することができる。例えば沈澱剤としてのアンモニア溶液、炭酸アンモニア、水酸化アンモニア、ウレア、アルカリ金属炭酸塩およびアルカリ金属水酸化物の添加を伴った、特にアルコール溶液からの、ドープ担体形成成分の共沈は有利であり、従って好ましい。固体状で得られたドープ担体は、当業者に既知の方法で、例えば沈降、濾過、遠心分離、蒸発および濃厚化によって、反応物溶液から分離することができる。沈降および蒸発が好ましい。次いで、得られた固体は、洗浄してもよいし、または得られたまま直接使用してもよい。得られた触媒の取扱い性を改善するために、乾燥してよい。不均一触媒で知られているように、場合により、担体としてのドープ二酸化スズを更に処理することが有利である。この処理は、触媒特性の改善を目的とした、焼成および熱処理、反応性雰囲気または例えば水蒸気による処理であってよい。好ましくは250~1500°C、より好ましくは300~1200°C、非常に好ましくは700~1100°Cで、酸化雰囲気中、特に空気中、熱前処理することが好ましい。この処理に先立ってまたは続いて、成形および/または分級を実施してよい。本発明によれば、使用する触媒活性成分は、少なくとも1種のルテニウム含有化合物である。これは特に、ハロゲン化ルテニウム、水酸化ルテニウム、酸化ルテニウム、オキシハロゲン化ルテニウムおよび/または金属状ルテニウムである。ルテニウム化合物がハロゲンおよび/または酸素含有ルテニウム化合物である、触媒組成物が好ましい。使用する触媒活性成分は、好ましくはハロゲン含有ルテニウム化合物である。これは例えば、ハロゲンがルテニウム原子とのイオン結合ないし極性共有結合を有している化合物である。好ましいハロゲン含有ルテニウム化合物中のハロゲンは、好ましくは、塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選択される。塩素が特に好ましい。ハロゲン含有ルテニウム化合物は、もっぱらハロゲンおよびルテニウムからなる化合物を包含する。しかしながら、酸素およびハロゲン特に塩素、即ち塩化物の両方を含有する化合物が好ましい。触媒活性ルテニウム化合物が塩化ルテニウム、オキシ塩化ルテニウム、および塩化ルテニウムと酸化ルテニウムとの混合物からなる群から選択され、特にオキシ塩化ルテニウム化合物である、触媒組成物が特に好ましい。触媒活性種として、少なくとも1種のオキシ塩化ルテニウム化合物を使用することが特に好ましい。本発明において、オキシ塩化ルテニウム化合物は、酸素および塩素の両方がルテニウムとのイオン結合ないし極性共有結合を有している化合物である。そのような化合物は、一般式:RuOxClyで示される。好ましくは、この種類の様々なオキシ塩化ルテニウム化合物は、触媒中に同時に存在する。所定の特に好ましいオキシ塩化ルテニウム化合物の例は、とりわけ下記組成物を包含する:Ru2Cl4、RuOCl2、Ru2OCl5およびRu2OCl6。特に好ましい方法では、ハロゲン含有ルテニウム化合物は、一般式:RuClxOy[式中、xは0.8~1.5の数であり、yは0.7~1.6の数である]で示される混合化合物である。本発明において、触媒活性オキシ塩化ルテニウム化合物は、好ましくは、少なくとも1種のハロゲン含有ルテニウム化合物の溶液または懸濁液特に水溶液または水性懸濁液をドープ二酸化スズにまず適用する工程、および溶媒を除去する工程を含む方法によって得られる。別の考えられる方法は、ルテニウム化合物を担体に適用する前または後に、非塩素化ルテニウム化合物例えば水酸化ルテニウムを塩素化する工程を含む。好ましい方法は、RuCl3水溶液をドープ二酸化スズに適用する工程を含む。一般に、ルテニウム化合物の適用後、好ましいオキシ塩化ルテニウム化合物への転化を少なくとも部分的に可能にするために、酸素または空気の存在下、乾燥工程を適当に実施する。好ましいオキシ塩化ルテニウム化合物が酸化ルテニウムに転化することを防ぐために、好ましくは280°C未満、特に少なくとも80°C、より好ましくは少なくとも100°Cで乾燥しなければならない。乾燥時間は好ましくは10分~6時間である。触媒は標準圧力下、好ましくは減圧下乾燥してよい。好ましい方法は、ハロゲン含有ルテニウム化合物を担持したドープ二酸化スズ担体を、特に酸素含有雰囲気中、より好ましくは空気中、少なくとも200°C、好ましくは少なくとも240°C、より好ましくは少なくとも250°C~500°Cの温度で焼成することによって触媒が得られることを特徴とする。焼成時間は、好ましくは30分~24時間である。特に好ましい方法では、触媒組成物全体に対する触媒活性ルテニウム化合物由来ルテニウムの割合は、特に焼成後、0.5~5重量、好ましくは1.0~4重量、より好ましくは1.5~3重量である。適用触媒活性種を、酸素を含有しないハロゲン-ルテニウム化合物にする場合は、酸素を排除して、より高い温度で乾燥することもできる。触媒は好ましくは、少なくとも1種のハロゲン含有ルテニウム化合物の水溶液または水性懸濁液をドープ二酸化スズに適用する工程、次いで、280°C未満で乾燥する工程、続いて、塩化水素の気相酸化条件下で活性化する工程この過程で、オキシ塩化ルテニウムに実質的に転化するを含む方法によって得られる。酸素の存在下で乾燥する時間が長いほど、より多量のオキシ塩化物が生成する。特に好ましい態様では、酸素含有ルテニウム化合物を担体に適用する。酸素含有ルテニウム化合物は、酸素がルテニウム原子とのイオン結合ないし極性共有結合を有している化合物である。この化合物は、少なくとも1種のハライド含有ルテニウム化合物の水溶液または水性懸濁液をドープ二酸化スズに適用し、次いでアルカリ性化合物によって沈澱させて水酸化ルテニウムを得、場合により沈澱生成物を焼成することによって調製する。沈澱はアルカリ条件下で実施することができ、酸素含有ルテニウム化合物が直接生成する。また、沈澱は、金属ルテニウムの主要な生成を伴って、還元条件下で実施することもでき、次いで、酸素を供給しながら金属ルテニウムを焼成し、酸素含有ルテニウム化合物を生成する。好ましい方法は、RuCl3水溶液を、ドープ二酸化スズに、含浸、浸漬などによって適用する工程を含む。一般に、ハライド含有ルテニウム化合物の適用後、沈澱工程および乾燥または焼成工程を実施する。乾燥または焼成工程は、650°Cまでの温度で、酸素または空気の存在下、適当に実施する。より好ましくは、例えば、溶液中に存在する適当な出発化合物或いは液状またはコロイド状の出発化合物で担体を湿潤および湿式含浸することによって、沈澱法および共沈法によって、並びにイオン交換および気相コーティングCVD、PVDによって、触媒活性成分、即ちルテニウム含有化合物を担体に適用する。本発明の塩化水素酸化用触媒の低温における高い活性および高い安定性は、注目に値する。好ましくは、先に記載したように、本発明の新規な触媒組成物は、Deacon法、即ちHCl気相酸化として知られている触媒的方法において使用する。この方法では、発熱平衡反応において塩化水素を酸素により酸化して塩素を生成し、水蒸気が生じる。反応温度は、典型的には180~500°C、より好ましくは200~450°C、特に好ましくは250~420°Cであり、反応圧力は、一般的には1~25bar、好ましくは1.2~20bar、より好ましくは1.5~17bar、最も好ましくは2~15barである。反応が平衡反応なので、触媒が十分な活性をなお有する最低温度で実施することが適切である。また、塩化水素に対して化学量論量より過剰の酸素を使用することが適切である。典型的には、例えば2倍~4倍過剰の酸素を使用する。選択性が損なわれる危険性はないので、比較的高圧で、常圧下では対応してより長い滞留時間で、操作することが経済的に有利である。適当な触媒は、ルテニウム化合物に加えて、他の金属または貴金属例えば、金、パラジウム、白金、オスミウム、イリジウム、銀、銅、セリウム、クロムまたはレニウムの化合物も含有してよい。塩化水素の触媒的酸化は、好ましくは、断熱的または等温的またはほぼ等温的に、バッチ式、しかしながら好ましくは流動床法または固定床法好ましくは固定床法のような連続式で、より好ましくは断熱的に、180~500°C、好ましくは200~450°C、より好ましくは250~420°Cの反応器温度で、1~25bar1,000~25,000hPa、好ましくは1.2~20bar、より好ましくは1.5~17bar、特に好ましくは2.0~15barの圧力で実施することができる。塩化水素の触媒的酸化を実施する典型的な反応装置は、固定床反応器または流動床反応器である。塩化水素の触媒的酸化は、好ましくは、複数の段階で実施することもできる。断熱的、等温的またはほぼ等温的な方法において、好ましくは断熱的な方法において、複数個、特に2~10個、好ましくは2~6個の、中間冷却を伴った直列接続反応器を使用することもできる。塩化水素は、第一反応器上流で酸素と一緒に全量添加するか、または別個の反応器に分配してよい。個々の反応器の直列接続は、1つの装置内で組み合わせてもよい。この方法に適した装置の別の好ましい態様では、流れ方向に触媒活性が増大された、構造化触媒床を使用する。触媒床のこのような構造化は、触媒担体を活性物質で異なった程度に含浸することにより、または不活性物質で触媒を異なった程度に希釈することにより達成することができる。使用する不活性物質は、例えば、二酸化チタン、二酸化ジルコニウムまたはそれらの混合物、酸化アルミニウム、ステアタイト、セラミック、ガラス、グラファイトまたはステンレス鋼の、リング、円筒体または球体であってよい。触媒成形体の好ましい使用にとっては、不活性物質が同様の外形寸法を有することが好ましい。適当な触媒成形体は任意形状の成形体を包含しており、形状として、タブレット、リング、円筒体、星形、車輪形または球体が好ましく、リング、円筒体、球体または星形押出物が特に好ましい。球体が好ましい。触媒成形体の寸法、例えば球体の場合は直径、または最大横断面幅は、平均して特に0.3~7mm、好ましくは0.8~5mmである。上記の微粉触媒成形体に代えて、担体は、モノリスの担体物質であってもよく、その例は、互いに放射状に接続していない平行チャンネルを有する常套の担体だけでなく、モノリスを形成するために担体内に三次元接続を有するフォームまたはスポンジなど、および交差流チャンネルを有する担体も包含する。モノリス担体は、ハニカム構造、或いは開放または閉塞状態の交差チャンネル構造を有してよい。モノリス担体は、好ましくは100~900cpsi1平方インチあたりの気泡数、より好ましくは200~600cpsiの気泡密度を有する。本発明におけるモノリスは、例えば、MonolithsinmultiphasecatalyticprocessesaspectsandprospectsFKapteijnJJHeiszwolfTANijhuisおよびJAMoulijnCattech31999第24頁に開示されている。担体に適した付加的な担体物質、即ちバインダーは、具体的には例えば、二酸化ケイ素、グラファイト、ルチル構造またはアナターゼ構造の二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、酸化アルミニウムまたはそれらの混合物、好ましくは二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウムまたはそれらの混合物、特に好ましくはγ-またはδ-酸化アルミニウムまたはそれらの混合物である。好ましいバインダーは、酸化アルミニウムまたは酸化ジルコニウムである。バインダーの割合は、完成触媒に基づいて、1~30重量、好ましくは2~25重量、特に好ましくは5~20重量である。バインダーは、触媒成形体の物理的安定性強度を高める。本発明の特に好ましい態様では、触媒活性成分は、バインダー表面上ではなく、実際の担体物質例えばドープ二酸化スズ表面上に本質的に存在する。触媒を付加的にドーピングするのに適した促進剤は、アルカリ金属またはアルカリ金属化合物例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムおよびセシウム、好ましくはリチウム、ナトリウムおよびカリウム、より好ましくはカリウム、アルカリ土類金属例えば、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウム、好ましくはマグネシウムおよびカルシウム、より好ましくはマグネシウム、希土類金属例えば、スカンジウム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジムおよびネオジム、好ましくはスカンジウム、イットリウム、ランタンおよびセリウム、より好ましくはランタンおよびセリウム、またはそれらの混合物である。促進剤は、含浸およびCVD法によって触媒に適用してよいが、それらに限定されない。含浸、例えば金属化合物、特に硝酸塩の含浸が好ましく、触媒主成分の適用と組み合わせることが特に好ましい。単一パスで塩化水素を酸化する際の塩化水素の転化率は、好ましくは15~90、より好ましくは40~90、特に好ましくは70~90に制限される。未転化塩化水素は分離後、その一部または全量を、触媒を用いた塩化水素の酸化に再循環できる。反応器入口における酸素と塩化水素との体積比は、好ましくは1:2~20:1、より好ましくは2:1~8:1、特に好ましくは2:1~5:1である。有利なことに、触媒を用いた塩化水素の酸化における反応熱を、高圧水蒸気をもたらすために利用できる。この水蒸気は、ホスゲン化反応器および/または蒸留塔、特にイソシアネート蒸留塔を運転するために利用できる。更なる工程で、生成した塩素を分離する。分離工程は典型的には、複数の工程、具体的には、触媒を用いて塩化水素を酸化した際の生成物気体流からの未転化塩化水素の分離および任意の再循環、塩素および酸素を本質的に含有する生成流の乾燥、および乾燥流からの塩素の分離を含む。未転化塩化水素および生成水蒸気は、塩化水素を酸化した際の生成物気体流から、冷却により塩酸を凝縮することによって分離除去できる。塩化水素を、希塩酸または水に吸収させてもよい。本発明は更に、塩化水素の酸素による触媒気相酸化における触媒のための触媒担体としての、ドープ二酸化スズの使用も提供する。本発明はまた、触媒としての、特に酸化反応のための触媒としての、より好ましくは塩化水素の酸素による触媒気相酸化における触媒としての、新規な触媒組成物の使用も提供する。以下の実施例により本発明を説明する。実施例1本発明共沈によるNbドープSnO2の調製室温で、i-プロパノール中SnCl4濃度0.2mol/LおよびNbCl5濃度8.1mmol/Lを有する溶液、および脱イオン水中0.1mol/LのNH3溶液を、激しく連続した混合が確実となるようにバルブミキサーEhrfeld製を通してポンプにより輸送した。生じた懸濁流を撹拌しながらビーカーに集めた。この間、pHは9.2に維持した。溶液Aの体積流量は250mL/時であった。溶液Bの体積流量は、最初500mL/時であり、一定のpHを確保するために絶えず調節した。このようにして得られた固体を遠心分離し、次いで、NH3を含有しなくなるまで脱イオン水で洗浄した。濾過ケークを空気中120°Cで一晩乾燥し、次いで、空気中1000°Cで2時間焼成した。このようにして調製したSnO2中の理論Nb含量は2.5重量である。TEMEDXFei製、EDAX製EDX検出器PV976098GEモデルを伴ったTECNAI20モデル、メーカーの指示に従って測定によって、SnO2マトリックス中にNbが均一に分布していることが検出できた。実施例2本発明NbドープSnO2への塩化ルテニウムの担持実施例1で調製したドープSnO21.68gを、丸底フラスコ内で、市販塩化ルテニウムn水和物0.0865gの水5mL溶液に懸濁させ、室温で180分間撹拌した。過剰の溶液を60°Cで一晩濃厚化した。次いで、得られた固体を空気流中、250°Cで16時間焼成し、ドープSnO2に担持された塩化ルテニウム触媒を得た。ルテニウムの担持量は、2.01重量に相当した。実施例3本発明NbドープSnO2成形体への塩化ルテニウムの担持平均直径1.9mmおよびBET表面積47.6m2/gを有する球形Nb-SnO2成形体メーカー:SaintGobain、実施例1に相当するNb-SnO250gを、市販塩化ルテニウムn水和物2.64gおよびCeCl30.258gの水10g溶液で含浸した。1時間放置した後、固体を空気流中、約60°Cで5時間かけて乾燥した。続いて、触媒を250°Cで16時間焼成した。2重量のルテニウムを含有すると計算される触媒を得た。実施例4比較例市販SnO2粉末への塩化ルテニウムの担持実施例2に従い、市販SnO2MEI製、BET8.1m2/gを用いてRu含有触媒を調製した。ルテニウム含量は、2重量に相当した。実施例5比較例市販SnO2成形体への塩化ルテニウムの担持平均直径1.9mmおよびBET表面積47.6m2/gを有する球形SnO2成形体メーカー:SaintGobain、市販SnO250gを、市販塩化ルテニウムn水和物2.6397gおよびCeCl30.2582gの水8.3g溶液で含浸した。1時間放置した後、固体を空気流中、約60°Cで5時間かけて乾燥した。続いて、触媒を250°Cで16時間焼成した。2重量のルテニウムを含有すると計算される触媒を得た。触媒試験実施例6塩化水素の酸化における実施例2の触媒の使用80mL/分標準状態、STPの塩化水素および80mL/分STPの酸素の気体混合物を、300°Cで、石英反応管内径10mm内の固定床における実施例2の微粉触媒0.2gに流通させた。石英反応管は電気加熱流動砂床で加熱した。30分後、生成物気体流を16重量ヨウ化カリウム溶液に15分間流通させた。次いで、導入された塩素量を測定するために、生じたヨウ素を0.1N標準チオスルフェート溶液で逆滴定した。2.79kg塩素/kg触媒hの塩素生成速度が測定された。触媒試験実施例7塩化水素の酸化における実施例3の触媒の使用実施例3の触媒25gを、不活性物質ガラスビーズ75gと一緒に、油浴で加熱されるニッケル製固定床反応器直径22mm、長さ800mmに導入した。これは約150mmの固定床を提供した。350°Cに加熱した熱媒体によって固定床を加熱した。4barの圧力で、40.5L/hSTPの塩化水素、315L/hSTPの酸素および94.5L/hSTPの窒素の気体混合物を、固定床反応器に流通させた。所定の反応時間例えば30分間の後、生成物気体流を16ヨウ化カリウム溶液に5分間流通させた。次いで、導入された塩素量を測定するために、生じたヨウ素を0.1N標準チオスルフェート溶液で逆滴定した。それから計算した転化率は85であった。3108分のランタイム後、凝縮反応試料を、ICP-OES誘導結合プラズマ発光分析、機器:VarianVistaPRO、メーカーの指示通りの測定方法によってSn含量について分析した。分析されたスズ含量は3ppmであった。触媒試験実施例8比較例塩化水素の酸化における実施例4の触媒の使用触媒試験実施例6と同様に、実施例4の触媒0.2gを試験した。2.34kg塩素/kg触媒hの塩素生成速度が測定された。触媒試験実施例9比較例塩化水素の酸化における実施例5の触媒の使用触媒試験実施例7と同様に、実施例5の触媒25gを試験した。凝縮物中のスズを、ICP-OES誘導結合プラズマ発光分析、機器:VarianVistaPRO、メーカーの指示通りの測定方法によって分析した。凝縮試料は、35ppmのスズを含有していた。結果を以下にまとめる。上記表に示した試験結果から、本発明の触媒担体からのスズ放出量が10分の1に低減したので、担体物質の安定性が著しく改善されたことが明らかになった。更に、既知の触媒系と比べて、本発明の触媒系の活性が高くなったことも見いだされた。"