"下記一般式1で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法であって、下記一般式3~5で表される環状エーテル溶媒中に、下記一般式2で表されるハロゲン原子が置換したトリアリールアミン誘導体を溶解または分散させた後、遷移金属触媒を用いず、アルキルリチウム試薬またはアルキルマグネシウムハライド試薬と反応させることを特徴とする一般式1で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法。一般式1及び2において、R1~R3は水素原子または置換基を表す。複数のR1~R3は同じであっても異なっていてもよい。n1~n3は0または1を表すが、全てが0であることはない。一般式1において、ALKはアルキル基を表す。一般式2においてX1~X3は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。一般式3及び一般式4において、R5~R22は水素原子、炭素数1~4のアルキル基または炭素数1~4のアルコキシ基を表す。一般式5において、R23~R30は水素原子または炭素数1~4のアルキル基を表す。下記一般式6で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法であって、下記一般式3~5で表される環状エーテル溶媒中に、下記一般式7で表されるハロゲン原子が置換したトリアリールアミン誘導体を溶解または分散させた後、遷移金属触媒を用いず、アルキルリチウム試薬またはアルキルマグネシウムハライド試薬と反応させることを特徴とする一般式6で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法。一般式6及び7において、R1~R3は水素原子または置換基を表す。複数のR1~R3は同じであっても異なっていてもよい。n1~n3は0または1を表すが、全てが0であることはない。一般式6において、ALKはアルキル基を表す。一般式7においてX1~X3は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。一般式3及び一般式4において、R5~R22は水素原子、炭素数1~4のアルキル基または炭素数1~4のアルコキシ基を表す。一般式5において、R23~R30は水素原子または炭素数1~4のアルキル基を表す。前記環状エーテル溶媒が、前記一般式3で表される環状エーテル溶媒であることを特徴とする請求項1または2に記載の一般式1または6で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法。前記環状エーテル溶媒が、テトラヒドロフランTHFであることを特徴とする請求項3に記載の一般式1または6で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法。本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、遷移金属触媒を用いず、温和な反応条件で、短時間でほぼ定量的に進行する新規なクロスカップリング反応条件を見出し、トリアリールアミン誘導体に簡便にアルキル基を導入する新規な製造方法を提供することにある。本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。1.下記一般式1で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法であって、下記一般式3~5で表される環状エーテル溶媒中に、下記一般式2で表されるハロゲン原子が置換したトリアリールアミン誘導体を溶解または分散させた後、遷移金属触媒を用いず、アルキルリチウム試薬またはアルキルマグネシウムハライド試薬と反応させることを特徴とする一般式1で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法。一般式1及び2において、R1~R3は水素原子または置換基を表す。複数のR1~R3は同じであっても異なっていてもよい。n1~n3は0または1を表すが、全てが0であることはない。一般式1において、ALKはアルキル基を表す。一般式2においてX1~X3は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。一般式3及び一般式4において、R5~R22は水素原子、炭素数1~4のアルキル基または炭素数1~4のアルコキシ基を表す。一般式5において、R23~R30は水素原子または炭素数1~4のアルキル基を表す。2.下記一般式6で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法であって、下記一般式3~5で表される環状エーテル溶媒中に、下記一般式7で表されるハロゲン原子が置換したトリアリールアミン誘導体を溶解または分散させた後、遷移金属触媒を用いず、アルキルリチウム試薬またはアルキルマグネシウムハライド試薬と反応させることを特徴とする一般式6で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法。一般式6及び7において、R1~R3は水素原子または置換基を表す。複数のR1~R3は同じであっても異なっていてもよい。n1~n3は0または1を表すが、全てが0であることはない。一般式6において、ALKはアルキル基を表す。一般式7においてX1~X3は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。一般式3及び一般式4において、R5~R22は水素原子、炭素数1~4のアルキル基または炭素数1~4のアルコキシ基を表す。一般式5において、R23~R30は水素原子または炭素数1~4のアルキル基を表す。3.前記環状エーテル溶媒が、前記一般式3で表される環状エーテル溶媒であることを特徴とする前記1または2に記載の一般式1または6で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法。4.前記環状エーテル溶媒が、テトラヒドロフランTHFであることを特徴とする前記3に記載の一般式1または6で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体の製造方法。本発明により、遷移金属触媒を用いず、温和な反応条件で、短時間でほぼ定量的に進行する新規なクロスカップリング反応条件を見出し、トリアリールアミン誘導体に簡便にアルキル基を導入する新規な製造方法を提供することができた。本願発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、特定の環状エーテル溶媒中、遷移金属触媒を用いず、アルキルリチウム試薬またはアルキルマグネシウムハライド試薬グリニャール試薬をハロゲン原子が置換した特定のトリアリールアミン誘導体と作用させることにより、簡便に高収率でトリアリールアミン誘導体にアルキル基を導入できることを見出し、本願発明に至った。以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。一般式1で表されるトリアリールアミン誘導体の製造方法前記一般式1で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体は、前記一般式3~5で表される環状エーテル溶媒中に、前記一般式2で表されるハロゲン原子が置換したトリアリールアミン誘導体を溶解または分散させた後、遷移金属触媒を用いず、アルキルリチウム試薬またはアルキルマグネシウムハライド試薬と反応させることで製造される。一般式1及び2において、R1~R3は水素原子または置換基を表す。置換基としては隣接するベンゼン環同士を連結して含窒素縮合ヘテロ環を形成するのに必要な原子群、同一ベンゼン環上の複数のR1~R3が互いに結合して2環以上の縮合環を形成するのに必要な原子群、あるいは単なる連結基を含む。置換基の代表例としては、炭素数1~12のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、炭素数1~20の芳香族基例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナンスロリル基等、炭素数1~20の複素芳香族基例えば、ピリジル基、ピリミジニル基、s-トリアジニル基、チエニル基、フリル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基等、炭素数1~12のアルコキシ基、アリールオキシ基、炭素数1~12のジアリールアミノ基、シアノ基、カルバゾリル基等が挙げられる。複数のR1~R3は同じであっても異なっていてもよい。n1~n3は0または1を表すが、全てが0であることはない。好ましくはn1~n3のいずれかが1で他が0の場合、または全てが1の場合である。ALKはアルキル基を表す。炭素数1~12の第一級、第二級及び第三級アルキル基のいずれも好適に用いることができる。特に好ましくは第一級アルキル基である。具体例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-ドデシル基等が挙げられる。X1~X3は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。好ましくは臭素原子である。一般式6で表されるトリアリールアミン誘導体の製造方法前記一般式6で表されるアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体は、前記一般式3~5で表される環状エーテル溶媒中に、前記一般式7で表されるハロゲン原子が置換したトリアリールアミン誘導体を溶解または分散させた後、遷移金属触媒を用いず、アルキルリチウム試薬またはアルキルマグネシウムハライド試薬と反応させることで製造される。一般式6及び7において、R1~R3は水素原子または置換基を表す。置換基としては隣接するベンゼン環同士を連結して含窒素縮合ヘテロ環を形成するのに必要な原子群、同一ベンゼン環上の複数のR1~R3が互いに結合して2環以上の縮合環を形成するのに必要な原子群、あるいは単なる連結基を含む。置換基の代表例としては、炭素数1~12のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、炭素数1~20の芳香族基例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナンスロリル基等、炭素数1~20の複素芳香族基例えば、ピリジル基、ピリミジニル基、s-トリアジニル基、チエニル基、フリル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基等、炭素数1~12のアルコキシ基、アリールオキシ基、炭素数1~12のジアリールアミノ基、シアノ基、カルバゾリル基等が挙げられる。複数のR1~R3は同じであっても異なっていてもよい。n1~n3は0または1を表すが、全てが0であることはない。好ましくはn1~n3のいずれかが1で他が0の場合、または全てが1の場合である。ALKはアルキル基を表す。炭素数1~12の第一級、第二級及び第三級アルキル基のいずれも好適に用いることができる。特に好ましくは第一級アルキル基である。具体例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-ドデシル基等が挙げられる。X1~X3は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。好ましくは臭素原子である。以下に本発明の一般式1、6で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下に本発明の一般式2、7で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。一般式3~5で表される環状エーテル溶媒一般式3及び一般式4において、R5~R22は水素原子、炭素数1~4のアルキル基または炭素数1~4のアルコキシ基を表す。水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、t-ブチルオキシ基が好ましく、より好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。一般式5において、R23~R30は水素原子または炭素数1~4のアルキル基を表す。水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n-ブチル基が好ましく、より好ましくは、水素原子、メチル基であり、特に好ましくは水素原子である。上記一般式で表される環状エーテル溶媒以下、本発明の溶媒と称するは常圧下、-90~50°Cの温度範囲で液体であることが好ましい。また、沸点は常圧下、30~120°Cの範囲であることが好ましい。本発明の溶媒は、市販品のものは脱水グレードのものが好ましい。市販、非市販を問わず含水率としては100ppm以下であることが好ましい。本発明の溶媒は、本発明の一般式2または7で表されるハロゲン原子が置換したトリアリールアミン誘導体を-90~30°Cの温度範囲で均一に溶解または分散できるものが好ましい。さらには、W/Vで0.5~25の範囲で均一に溶解できるものがより好ましい。本発明の溶媒としては、前記一般式3で表される環状エーテル溶媒が好ましく、特にテトラヒドロフランTHFが好ましい。以下に本発明の溶媒の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。アルキルリチウム試薬及びアルキルマグネシウムハライド試薬本発明におけるアルキルリチウム試薬及びアルキルマグネシウムハライド試薬以下本発明の試薬と称するにおけるアルキル基としては、炭素数1~12の第一級、第二級、及び第三級アルキル基のいずれも好適に用いることができる。特に好ましくは第一級アルキル基である。本発明のアルキルマグネシウムハライド試薬の好ましいハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、最も好ましくは臭素原子である。本発明の試薬は、溶液の形態で供給、使用されることが好ましい。好適な溶媒としてはアルキルリチウム試薬ではn-ペンタン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、及びジエチルエーテル等が挙げられる。アルキルマグネシウムハライド試薬ではジエチルエーテル、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。本発明の試薬は従来公知の方法で容易に調整可能である。試薬の濃度は0.5~2.5Mの範囲であることが好ましい。以下に本発明の試薬の具体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではない。アルキルリチウム試薬Li-1H3C-Li/1MinEt2OLi-2nBu-Li/1.6Minn-hexaneLi-3secBu-Li/1.1MincyclohexaneLi-4tBu-Li/1.4Minn-pentaneLi-5nC5H11-Li/1.5Minn-hexaneLi-6nC6H13-Li/1.4Minn-hexaneLi-7nC8H17-Li/1.4Minn-hexaneLi-8nC12H25-Li/1.3Minn-hexaneアルキルマグネシウムハライド試薬Mg-1H3C-MgBr/1MinTHFMg-2H3C-MgBI/1MinEt2OMg-3C2H5-MgBr/1MinTHFMg-4iPr-MgBr/0.7MinTHFMg-5nC8H17-MgBr/1MinTHFMg-6nC12H25-MgBr/1MinTHFトリアリールアミン誘導体の製造方法本発明の製造方法では、反応は不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。好ましい不活性ガスとしては窒素ガス、及びアルゴンガスが挙げられるが、製造コストの観点から窒素ガスが好ましい。不活性ガス中の水蒸気の含量は100ppm以下であることが好ましく、特に好ましくは50ppm以下である。ハロゲン原子が置換したトリアリールアミン誘導体を、本発明の溶媒に溶解または分散させる濃度は0.5~25W/Vの範囲が好適に用いられる。本発明の溶媒に溶解または分散した後、溶液または分散液を常圧下、-90~30°Cの温度範囲下好ましくは-30~30°Cに調温し、遷移金属触媒を用いず、本発明のアルキルリチウム試薬またはアルキルマグネシウムハライド試薬を添加することにより反応させる。添加方法としては、滴下ロート及び注射器等、添加スピードをコントロールできる治具を好適に用いることができる。反応中の内温は、-70~30°Cの範囲好ましくは-20~30°Cに調温する。添加終了後、1~10時間の範囲で反応中の内温を保ちつつ、撹拌することが好ましい。反応終了後は当業者には自明の公知の処理方法によって、目的物を容易に単離精製することができる。以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例1アルキル基置換トリアリールアミン誘導体の製造製造例1ALK-1の合成脱水THF溶媒関東化学社製50mlにX-1を5.4g17mmolを溶解し、窒素気流下、内温0°Cに冷却した。次にLi-210.9ml17mmolを20mlの滴下ロートにセットした。内温0~10°Cを保ちながら、約10分かけて滴下を行った。その後、内温を15~25°Cに保ちながら、3時間撹拌を行った。反応終了後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下に留去した。残さをメチレンクロリド-nヘキサンの混合溶媒で再結晶し、ALK-1を4.6g収率93得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。比較製造例1鈴木-宮浦カップリングによるALK-1の合成脱水THF溶媒関東化学社製50mlにX-1を5.4g17mmol溶解し、n-ブチルボロン酸2.6g25mmol、酢酸パラジウム0.35g1.6mmol、燐酸カリウム7.1g31mmol、及びトリフェニルフォスフィン1.3g3.2mmolを加え、封管中、内温110°Cで35時間加熱撹拌を行った。反応終了後、室温まで冷却し、不溶物を濾別後、溶媒を減圧下に留去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:メチレンクロライド:n-ヘキサン:1:10に付し、目的物を分離した。展開溶媒を濃縮後、残さをメチレンクロリド-nヘキサンの混合溶媒で再結晶し、ALK-1を2.7g収率53得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。製造例2ALK-2の合成脱水THF溶媒関東化学社製50mlにX-2を5.0g16mmolを溶解し、窒素気流下、内温-15°Cに冷却した。次にLi-210.2ml16mmolを20mlの滴下ロートにセットした。内温-10~5°Cを保ちながら、約10分かけて滴下を行った。その後、内温を10~15°Cに保ちながら、3時間撹拌を行った。反応終了後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下に留去した。残さをメチレンクロリド-nヘキサンの混合溶媒で再結晶し、ALK-2を4.5g収率97得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。比較製造例2鈴木-宮浦カップリングによるALK-2の合成脱水THF溶媒関東化学社製50mlにX-2を5.0g16mmol溶解し、n-ブチルボロン酸2.4g23mmol、酢酸パラジウム0.35g1.6mmol、燐酸カリウム7.1g31mmol、及び下記リガンド11.3g3.2mmolを加え、封管中、内温100°Cで30時間加熱撹拌を行った。反応終了後、室温まで冷却し、不溶物を濾別後、溶媒を減圧下に留去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:メチレンクロライド:n-ヘキサン:1:10に付し、目的物を分離した。展開溶媒を濃縮後、残さをメチレンクロリド-nヘキサンの混合溶媒で再結晶し、ALK-2を2.5g収率54得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。製造例3ALK-4の合成脱水THF溶媒関東化学社製50mlにX-5を5.5g10mmolを溶解し、窒素気流下、内温0°Cに冷却した。次にMg-415.0ml11mmolを30mlの滴下ロートにセットした。内温5~10°Cを保ちながら、約10分かけて滴下を行った。その後、内温を10~25°Cに保ちながら、3時間撹拌を行った。反応終了後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下に留去した。残さをトルエンで再結晶し、ALK-4を5.5g収率97得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。比較製造例3鈴木-宮浦カップリングによるALK-4の合成脱水THF溶媒関東化学社製50mlにX-5を5.5g10mmol溶解し、i-Prボロン酸1.3g15mmol、酢酸パラジウム0.22g1.0mmol、燐酸カリウム4.2g20mmol、及びリガンド10.8g0.2mmolを加え、封管中、内温120°Cで30時間加熱撹拌を行った。反応終了後、室温まで冷却し、不溶物を濾別後、溶媒を減圧下に留去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:トルエンラ:n-ヘキサン:1:10に付し、目的物を分離した。展開溶媒を濃縮後、残さをトルエンで再結晶し、ALK-4を2.6g収率45得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。製造例4ALK-7の合成脱水THF溶媒関東化学社製50mlにX-6を3.8g7.8mmolを溶解し、窒素気流下、内温-10°Cに冷却した。次にLi-25.1ml8.2mmolを10mlの滴下ロートにセットした。内温-5~0°Cを保ちながら、約10分かけて滴下を行った。その後、内温を0~5°Cに保ちながら、6時間撹拌を行った。反応終了後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下に留去した。残さをトルエンで再結晶し、ALK-7を3.5g収率96得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。比較製造例4鈴木-宮浦カップリングによるALK-7の合成脱水THF溶媒関東化学社製50mlにX-6を3.8g7.8mmol溶解し、n-Buボロン酸1.2g12mmol、酢酸パラジウム0.18g0.8mmol、燐酸カリウム3.3g16mmol、及びリガンド10.6g1.6mmolを加え、封管中、内温100°Cで30時間加熱撹拌を行った。反応終了後、室温まで冷却し、不溶物を濾別後、溶媒を減圧下に留去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:トルエン:n-ヘキサン:1:20に付し、目的物を分離した。展開溶媒を濃縮後、残さをトルエンで再結晶し、ALK-7を1.4g収率40得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。製造例5ALK-12の合成脱水テトラヒドロピラン溶媒関東化学社製50mlにX-11を4.1g4.2mmolを溶解し、窒素気流下、内温-20°Cに冷却した。次にLi-113ml13.2mmolを20mlの滴下ロートにセットした。内温-15~-5°Cを保ちながら、約10分かけて滴下を行った。その後、内温を-5~0°Cに保ちながら、7間撹拌を行った。反応終了後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下に留去した。残さをトルエンで再結晶し、ALK-12を3.1g収率95得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。比較製造例5鈴木-宮浦カップリングによるALK-12の合成脱水テトラヒドロピラン溶媒関東化学社製50mlにX-11を4.1g4.2mmol溶解し、メチルボロン酸1.1g19mmol、酢酸パラジウム0.28g1.3mmol、燐酸カリウム5.3g25mmol、及びリガンド11.0g2.5mmolを加え、封管中、内温130°Cで30時間加熱撹拌を行った。反応終了後、室温まで冷却し、不溶物を濾別後、溶媒を減圧下に留去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:トルエン:n-ヘキサン:1:15に付し、目的物を分離した。展開溶媒を濃縮後、残さをトルエンで再結晶し、ALK-12を1.4g収率40得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。製造例6ALK-15の合成脱水1,3-ジオキサン溶媒関東化学社製50mlにX-14を5.1g6.1mmol溶解し、窒素気流下、内温-5°Cに冷却した。次にLi-85.2ml6.7mmolを20mlの滴下ロートにセットした。内温-5~5°Cを保ちながら、約10分かけて滴下を行った。その後、内温を5~10°Cに保ちながら、7間撹拌を行った。反応終了後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下に留去した。残さをトルエンで再結晶し、ALK-15を3.4g収率96得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。比較製造例6鈴木-宮浦カップリングによるALK-15の合成脱水1,3-ジオキサン溶媒関東化学社製50mlにX-14を5.1g6.1mmol溶解し、n-ドデシルボロン酸2.00g9.1mmol、酢酸パラジウム0.14g0.6mmol、燐酸カリウム2.6g12mmol、及びリガンド10.5g1.2mmolを加え、封管中、内温120°Cで25時間加熱撹拌を行った。反応終了後、室温まで冷却し、不溶物を濾別後、溶媒を減圧下に留去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:トルエン:n-ヘキサン:1:20に付し、目的物を分離した。展開溶媒を濃縮後、残さをトルエンで再結晶し、ALK-15を1.4g収率38得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。製造例7ALK-23の合成脱水した2-メチル-テトラヒドロフラン50mlにX-22を6.0g7.8mmol溶解し、窒素気流下、内温-10°Cに冷却した。次にLi-411ml16mmolを20mlの滴下ロートにセットした。内温-10~0°Cを保ちながら、約15分かけて滴下を行った。その後、内温を5~10°Cに保ちながら、5時間撹拌を行った。反応終了後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下に留去した。残さをトルエンで再結晶し、ALK-23を4.5g収率92得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。比較製造例7鈴木-宮浦カップリングによるALK-23の合成脱水した2-メチル-テトラヒドロフラン50mlにX-22を6.0g7.8mmol溶解し、t-ブチルボロン酸1.2g12mmol酢酸パラジウム0.17g0.8mmol、燐酸カリウム3.3g16mmol、及びリガンド10.6g1.6mmolを加え、封管中、内温130°Cで25時間加熱撹拌を行った。反応終了後、室温まで冷却し、不溶物を濾別後、溶媒を減圧下に留去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:トルエン:n-ヘキサン:1:8に付し、目的物を分離した。展開溶媒を濃縮後、残さをトルエンで再結晶し、ALK-23を1.9g収率39得た。構造はMASS及びNMRスペクトルにて同定した。実施例1から、本発明の製造法は鈴木-宮浦カップリング反応を用いた従来の製造法に較べ、遷移金属触媒を用いずとも、温和な反応条件で、短時間でほぼ定量的に目的物を製造できることが分かる。実施例2機能性薄膜の形成上記製造したアルキル基が置換したトリアリールアミン誘導体は、広範囲な溶剤に高濃度に溶解可能であり、公知の塗布プロセスを用いて電子写真用感光体や有機EL素子に用いられる機能性薄膜を簡便に形成することができた。"