"エネルギビームで物体を露光して前記物体上にパターンを形成する露光方法であって、所定平面に平行なガイド面を有する定盤上で平面モータによって個別に駆動される第1、第2移動体のそれぞれに対する位置計測系による第1及び第2位置情報と、前記第1及び第2移動体の位置に応じた第1補正情報とに基づいて、前記物体を保持する前記第1移動体を駆動することを含む露光方法。前記第1補正情報は、前記第2移動体が所定の位置にあるときの、前記位置計測系によって計測される前記第1移動体に対する第1位置情報に含まれる前記第1移動体の位置に応じた位置計測誤差の補正情報を含む請求項1に記載の露光方法。前記第1補正情報は、前記第1移動体が所定の位置にあるときの、前記位置計測系によって計測される前記第1移動体に対する第1位置情報に含まれる前記第2移動体の位置に応じた位置計測誤差の補正情報を含む請求項1に記載の露光方法。前記位置計測系により、前記エネルギビームが光学部材を介して前記物体に照射される照射位置の近傍の領域で前記物体を保持する前記第1移動体の第1位置情報が計測され、第2移動体に存在するマークを検出するマーク検出系の近傍の領域で前記第2移動体の第2位置情報が計測される請求項1~3のいずれか一項に記載の露光方法。前記光学部材及び前記マーク検出系を支持するフレームに前記位置計測系の一部が設けられている請求項4に記載の露光方法。前記駆動することに先立って、前記位置計測系でその位置を計測しつつ前記第1移動体を前記ガイド面上の複数の位置に順次位置決めし、各位置決め位置に対する位置決め状態で、前記位置計測系でその位置を計測しつつ前記第2移動体を前記ガイド面上の複数位置に位置決めし、位置決め位置毎に、前記第1移動体又は前記物体上に形成されたマーク像の位置を、前記位置計測系の計測情報を用いて求め、この結果に基づいて前記第1補正情報を算出することをさらに含む請求項4又は5に記載の露光方法。前記駆動することに先立って、前記位置計測系でその位置を計測しつつ前記第2移動体を前記ガイド面上の複数の位置に順次位置決めし、各位置決め位置に対する位置決め状態で、前記位置計測系でその位置を計測しつつ前記第1移動体を前記ガイド面上の複数位置に位置決めし、位置決め位置毎に、前記第1移動体又は前記物体上に形成されたマーク像の位置を、前記位置計測系の計測情報を用いて求め、この結果に基づいて前記第1補正情報を算出することをさらに含む請求項4又は5に記載の露光方法。前記第1移動体の各位置決め位置について、前記第2移動体の位置決め位置毎に、前記第1計測系の計測情報を用いて前記第1移動体の位置を制御しつつ、前記物体上に転写形成したマークの転写像であり、前記マーク像の位置は、前記物体上に形成された転写像の位置を計測することで求められる請求項6又は7に記載の露光方法。前記マーク像は、前記第1計測系でその位置が計測される前記第1移動体上に前記光学部材を介して形成されたマークの空間像であり、前記マーク像の位置は、前記第1移動体の各位置決め位置について、前記第2移動体の位置決め位置毎に、前記空間像計測装置により計測された前記マークの空間像のプロファイルから求められる前記マーク像の結像位置を含む請求項6に記載の露光方法。前記マーク像は、前記第1計測系でその位置を計測が計測される前記第1移動体上に前記光学部材を介して形成されたマークの空間像であり、前記マーク像の位置は、前記第2移動体の各位置決め位置について、前記第1移動体の位置決め位置毎に、前記空間像計測装置により計測された前記マークの空間像のプロファイルから求められる前記マーク像の結像位置を含む請求項7に記載の露光方法。前記位置計測系からの前記第1移動体の第1位置情報と、前記位置計測系からの前記第2移動体の第2位置情報と、前記第2及び第1移動体の位置に応じた第2補正情報とに基づいて、前記第2移動体を駆動することをさらに含む請求項1~10のいずれか一項に記載の露光方法。前記第2移動体を駆動することに先立って、前記位置計測系でその位置を計測しつつ前記第2移動体を前記ガイド面上の複数位置に位置決めし、各位置決め位置に対する位置決め状態で、前記第1計測系でその位置を計測しつつ前記第1移動体を前記ガイド面上の複数位置に位置決めし、位置決め位置毎に、前記位置計測系と前記マーク検出系とを用いて所定のマークの位置情報を計測し、該位置情報を用いて前記第2補正情報を算出することをさらに含む請求項11に記載の露光方法。前記位置計測系は、前記第1移動体と該第1移動体の外部との一方に設けられた計測面に計測光を照射し、前記計測面からの戻り光を受光する前記第1移動体と該第1移動体の外部との他方に設けられた少なくとも1つのヘッド部を有し、該ヘッド部の出力に基づいて前記第1移動体の位置を計測するエンコーダシステムを含む請求項1~12のいずれか一項に記載の露光方法。請求項1~13のいずれか一項に記載の露光方法を用いて、物体上にパターンを形成することと、前記パターンが形成された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。エネルギビームで物体を露光して前記物体上にパターンを形成する露光装置であって、所定平面に平行なガイド面を有する定盤と、前記定盤内に設けられた固定子と、前記ガイド面を介して前記固定子に対向する第1及び第2可動子とを含んで構成される平面モータと、前記第1及び第2可動子をそれぞれ有し、前記平面モータにより前記ガイド面に沿って駆動される第1及び第2移動体と、前記第1及び第2移動体のそれぞれの位置を計測する位置計測系と、前記位置計測系からの前記第1移動体の位置情報と、前記位置計測系からの前記第2移動体の位置情報と、前記第1及び第2移動体の位置に応じた第1補正情報とに基づいて、前記物体を保持する前記第1移動体を駆動する駆動装置と、を備える露光装置。前記第1補正情報は、前記第2移動体が所定の位置にあるときの、前記位置計測系によって計測される前記第1移動体に対する第1位置情報に含まれる前記第1移動体の位置に応じた位置計測誤差の補正情報を含む請求項15に記載の露光装置。前記第1補正情報は、前記第1移動体が所定の位置にあるときの、前記位置計測系によって計測される前記第1移動体に対する第1位置情報に含まれる前記第2移動体の位置に応じた位置計測誤差の補正情報を含む請求項15に記載の露光装置。前記エネルギビームを前記物体に照射する光学部材と、前記第2移動体に存在するマークを検出するマーク検出系と、をさらに備え、前記位置計測系は、前記エネルギビームの照射位置の近傍の領域で前記物体を保持する前記第1移動体の位置情報を計測する第1計測系と、前記マーク検出系の近傍の領域で前記第2移動体の位置情報を計測する第2計測系とを含む請求項15~17のいずれか一項に記載の露光装置。前記第1計測系の少なくとも一部は、前記光学部材を支持するフレームに設置されている請求項18に記載の露光装置。前記第2計測系の少なくとも一部は、前記マーク検出系を支持するフレームに設置されている請求項18又は19に記載の露光装置。前記光学部材と前記マーク検出系とは同一のフレームに支持されている請求項18~20のいずれか一項に記載の露光装置。前記第1補正情報は、前記第1計測系でその位置を計測しつつ前記第1移動体を前記ガイド面上の複数の位置に順次位置決めし、各位置決め位置に対する位置決め状態で、前記第2計測系でその位置を計測しつつ前記第2移動体を前記ガイド面上の複数位置に位置決めし、位置決め位置毎に、前記第1移動体又は前記物体上に形成されたマーク像の位置を、前記第1計測系の計測情報を用いて求めることで予め算出される請求項18~21のいずれか一項に記載の露光装置。前記第1補正情報は、前記第2計測系でその位置を計測しつつ前記第2移動体を前記ガイド面上の複数の位置に順次位置決めし、各位置決め位置に対する位置決め状態で、前記第1計測系でその位置を計測しつつ前記第1移動体を前記ガイド面上の複数位置に位置決めし、位置決め位置毎に、前記第1移動体又は前記物体上に形成されたマーク像の位置を、前記第1計測系の計測情報を用いて求めることで予め算出される請求項18~21のいずれか一項に記載の露光装置。前記マーク像は、前記第1移動体の各位置決め位置について、前記第2移動体の位置決め位置毎に、前記第1計測系の計測情報を用いて前記第1移動体の位置を制御しつつ、前記物体上に転写形成したマークの転写像であり、前記マーク像の位置は、前記物体上に形成された転写像の位置を計測することで求められる請求項22又は23に記載の露光装置。前記第1移動体上に少なくとも一部が設けられ、前記第1計測系でその位置情報が計測される前記第1移動体上に前記光学部材を介して形成されたマークの空間像を計測する空間像計測装置をさらに備え、前記マーク像の位置は、前記第1移動体の各位置決め位置について、前記第2移動体の位置決め位置毎に、前記空間像計測装置により計測された前記マークの空間像のプロファイルから求められる前記マーク像の結像位置を含む請求項22に記載の露光装置。前記第1移動体上に少なくとも一部が設けられ、前記第1計測系でその位置情報が計測される前記第1移動体上に前記光学部材を介して形成されたマークの空間像を計測する空間像計測装置をさらに備え、前記マーク像の位置は、前記第2移動体の各位置決め位置について、前記第1移動体の位置決め位置毎に、前記空間像計測装置により計測された前記マークの空間像のプロファイルから求められる前記マーク像の結像位置を含む請求項23に記載の露光装置。前記駆動装置は、前記位置計測系からの前記第1移動体の位置情報と、前記位置計測系からの前記第2移動体の位置情報と、前記第2及び第1移動体の位置に応じた第2補正情報とに基づいて、前記第2移動体を駆動する請求項18~26のいずれか一項に記載の露光装置。前記第2補正情報は、前記第2計測系でその位置を計測しつつ前記第2移動体を前記ガイド面上の複数位置に位置決めし、各位置決め位置に対する位置決め状態で、前記第1計測系でその位置を計測しつつ前記第1移動体を前記ガイド面上の複数位置に位置決めし、位置決め位置毎に、前記第2計測系と前記マーク検出系とを用いて計測された所定のマークの位置情報を用いて、予め算出される請求項27に記載の露光装置。前記位置計測系は、前記第1移動体と該第1移動体の外部との一方に設けられた計測面に計測光を照射し、前記計測面からの戻り光を受光する前記第1移動体と該第1移動体の外部との他方に設けられた少なくとも1つのヘッド部を有し、該ヘッド部の出力に基づいて前記第1移動体の位置を計測するエンコーダシステムを含む請求項15~28のいずれか一項に記載の露光装置。前記ヘッド部と前記計測面の一方は、前記フレーム部に設置されている請求項29に記載の露光装置。前記計測面には、前記所定平面内の少なくとも一軸方向を周期方向とする回折格子が設けられ、前記ヘッド部は、少なくとも前記一軸方向に関する前記第1移動体の位置を計測する請求項29又は30に記載の露光装置。前記ヘッド部は、前記所定平面に垂直な方向に関する前記第1移動体の位置を計測する請求項29~31のいずれか一項に記載の露光装置。前記平面モータは、前記第1、第2可動子にコイルが配置されたムービングコイル型である請求項15~32のいずれか一項に記載の露光装置。発明者は、上記の位置計測誤差の主要因をつきとめるべく、鋭意研究を行った結果、基板ステージの位置の変化に起因する装置内の磁場変動変化が主要因であることが判明した。また、発明者は、さらにシミュレーション等を行った結果、2つの基板ステージの存在そのものが、お互いに影響を与えること、すなわち他方の基板ステージの位置が変化しない場合であっても、一方の基板ステージの位置が変化した場合に、その一方の基板ステージの位置を計測する位置計測系の計測値に、計測誤差が生じることが判明した。この場合、一方の基板ステージの位置が変化することによって、同一位置にとどまっている他方の基板ステージとの位置関係が変化するので、2つのステージ間での磁場が変動変化するため、上記の計測誤差が生じると考えられる。本発明は、かかる事情の下でなされたものである。本発明の第1の態様によれば、エネルギビームで物体を露光して前記物体上にパターンを形成する露光方法であって、所定平面に平行なガイド面を有する定盤上で平面モータによって個別に駆動される第1、第2移動体のそれぞれに対する位置計測系による第1及び第2位置情報と、前記第1及び第2移動体の位置に応じた第1補正情報とに基づいて、前記物体を保持する前記第1移動体を駆動することを含む露光方法が、提供される。これによれば、位置計測系によって計測される第1移動体の第1位置情報に含まれる第1及び第2移動体の位置に応じた計測誤差を補正することができ、結果的に第1移動体を高精度に駆動することが可能となる。本発明の第2の態様によれば、本発明の露光方法を用いて、物体上にパターンを形成することと、前記パターンが形成された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法が、提供される。本発明の第3の態様によれば、エネルギビームで物体を露光して前記物体上にパターンを形成する露光装置であって、所定平面に平行なガイド面を有する定盤と、前記定盤内に設けられた固定子と、前記ガイド面を介して前記固定子に対向する第1及び第2可動子とを含んで構成される平面モータと、前記第1及び第2可動子をそれぞれ有し、前記平面モータにより前記ガイド面に沿って駆動される第1及び第2移動体と、前記第1及び第2移動体のそれぞれの位置を計測する位置計測系と、前記位置計測系からの前記第1移動体の位置情報と、前記位置計測系からの前記第2移動体の位置情報と、前記第1及び第2移動体の位置に応じた第1補正情報とに基づいて、前記物体を保持する前記第1移動体を駆動する駆動装置と、を備える露光装置が、提供される。これによれば、位置計測系によって計測される第1移動体の第1位置情報に含まれる第1及び第2移動体の位置に応じた計測誤差を補正することができ、結果的に第1移動体を高精度に駆動することが可能となる。以下、本発明の一実施形態について、図1~図9に基づいて説明する。図1には、一実施形態に係る露光装置100の概略構成が示されている。露光装置100は、ステップアンドスキャン方式の投影露光装置、すなわち、いわゆるスキャナである。後述するように、本実施形態では投影光学系PLが設けられており、以下においては、投影光学系PLの光軸AXと平行な方向をZ軸方向、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をY軸方向、Z軸及びY軸に直交する方向をX軸方向とし、X軸、Y軸、及びZ軸回りの回転傾斜方向をそれぞれθx、θy、及びθz方向として説明を行なう。露光装置100は、照明系10、レチクルRを保持するレチクルステージRST、投影ユニットPU、ウエハWが載置されるウエハステージWST1,WST2を含むウエハステージ装置50、及びこれらの制御系等を備えている。照明系10は、例えば米国特許出願公開第2003/0025890号明細書などに開示されるように、光源と、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、及びレチクルブラインド等いずれも不図示を有する照明光学系とを含む。照明系10は、レチクルブラインドマスキングシステムで規定されたレチクルR上のスリット状の照明領域IARを照明光露光光ILによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ILとしては、一例としてArFエキシマレーザ光波長193nmが用いられている。レチクルステージRST上には、回路パターンなどがそのパターン面図1における下面に形成されたレチクルRが、例えば真空吸着により固定されている。レチクルステージRSTは、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系11図1では不図示、図6参照によって、XY平面内で微少駆動可能であるとともに、走査方向図1における紙面直交方向であるY軸方向に所定の走査速度で駆動可能となっている。レチクルステージRSTのXY平面移動面内の位置情報θz方向の位置θz回転量の情報を含むは、図1に示される、移動鏡15実際には、Y軸方向に直交する反射面を有するY移動鏡あるいは、レトロリフレクタとX軸方向に直交する反射面を有するX移動鏡とが設けられているに測長ビームを照射するレチクルレーザ干渉計以下、レチクル干渉計という16によって例えば0.25nm程度の分解能で常時検出される。なお、レチクルRの少なくとも3自由度方向の位置情報を計測するために、レチクル干渉計16の代わりに、あるいはそれと組み合わせて、例えば米国特許出願公開第2007/0288121号明細書などに開示されているエンコーダシステムを用いても良い。投影ユニットPUは、レチクルステージRSTの図1における下方-Z側に配置され、不図示のボディの一部を構成するメインフレームメトロロジーフレームに保持されている。投影ユニットPUは、鏡筒40と、該鏡筒40に保持された複数の光学素子から成る投影光学系PLとを有している。投影光学系PLとしては、例えば、Z軸方向と平行な光軸AXに沿って配列された複数の光学素子レンズエレメントからなる屈折光学系が用いられている。投影光学系PLは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率例えば1/4倍、1/5倍又は1/8倍などを有する。このため、照明系10からの照明光ILによって照明領域IARが照明されると、投影光学系PLの第1面物体面とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルRを通過した照明光ILにより、投影光学系PLを介してその照明領域IAR内のレチクルRの回路パターンの縮小像回路パターンの一部の縮小像が、投影光学系PLの第2面像面側に配置される、表面にレジスト感応剤が塗布されたウエハW上の前記照明領域IARに共役な領域露光領域IAに形成される。そして、レチクルステージRSTとウエハステージWST1、WST2との同期駆動によって、照明領域IAR照明光ILに対してレチクルRを走査方向Y軸方向に相対移動させるとともに、露光領域IA照明光ILに対してウエハWを走査方向Y軸方向に相対移動させることで、ウエハW上の1つのショット領域区画領域の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルRのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系10、及び投影光学系PLによってウエハW上にレチクルRのパターンが生成され、照明光ILによるウエハW上の感応層レジスト層の露光によってウエハW上にそのパターンが形成される。なお、メインフレームは、従来用いられている門型、及び例えば米国特許出願公開第2008/0068568号明細書などに開示される吊り下げ支持型のいずれであっても良い。鏡筒40の-Z側端部の周囲には、例えば鏡筒40の下端面とほぼ同一面となる高さで、スケール板21がXY平面に平行に配置されている。スケール板21の中央には、図2に示されるように、矩形又は正方形の開口21aが形成され、開口21aの内部に鏡筒40の-Z側端部が配置されている。スケール板21のX軸方向及びY軸方向の幅はそれぞれA及びBである。この場合、AとBとは、同一であっても良い、すなわち。スケール板21は、正方形であっても良い。また、開口21aは、その内部に投影ユニットPUの鏡筒40の下端が配置できれば、矩形又は正方形に限らず、円形であっても良い。スケール板21は、投影ユニットPU及びアライメント系ALG等を支持するメインフレームメトロロジーフレームの下面-Z側の面に固定又は吊り下げ支持されている。スケール板21からX方向に所定距離離間した位置には、図1に示されるように、スケール板22が、メインフレームメトロロジーフレームの下面-Z側の面に固定又は吊り下げ支持されている。スケール板22は、図3に示されるように、スケール板21と同様に構成されており、その開口22aの内部の中央には、アライメント系ALGの-Z側端部が挿入されている図1参照。ここで、スケール板22は、必ずしもスケール板21と同様に構成する必要はなく、例えば開口22aは、開口21aと形状及び/又は大きさが異なっていても良い。要は、開口22aは、その内部にアライメント系ALGの-Z側端部が挿入可能であれば良い。なお、図1等ではスケール板21,22が固定されたメインフレームメトロロジーフレーム23の一部が示されている。スケール板21,22の下面-Z側の面には、X軸を基準とする45度方向Y軸を基準とする-45度方向を周期方向とする所定ピッチ、例えば1μmの格子と、X軸を基準とする-45度方向Y軸を基準とする-135度方向を周期方向とする所定ピッチ、例えば1μmの格子とから成る反射型の2次元グレーティングRG図2、図3及び図4参照が形成されている。スケール板21,22の2次元グレーティングRGは、それぞれ、露光動作時及びアライメント計測時におけるウエハステージWST1,WST2の移動範囲をカバーしている。ここで、2次元グレーティングRGは、必ずしも上記の二方向を周期方向とする必要はなく、XY平面内の二軸方向であれば良い。従って、周期方向は、例えばX軸方向、Y軸方向であっても良い。ウエハステージ装置50は、床面上に複数例えば3つ又は4つの防振機構図示省略によってほぼ水平に支持されたステージベース12、該ステージベース12上に配置されたウエハステージWST1,WST2、該ウエハステージWST1,WST2を駆動するウエハステージ駆動系27図1では一部のみ図示、図6参照、及びウエハステージWST1,WST2の位置を計測する計測系等を備えている。計測系は、図6に示される、エンコーダシステム70,71及びウエハレーザ干渉計システム以下、ウエハ干渉計システムと略記する18等を備えている。なお、エンコーダシステム70,71及びウエハ干渉計システム18については、さらに後述する。ステージベース12は、平板状の外形を有する部材からなり、その上面は平坦度が非常に高く仕上げられ、ウエハステージWST1,WST2の移動の際のガイド面とされている。ステージベース12の内部には、XY平面内でXY二次元配列された複数の磁石から成る磁石ユニット14aが収容されている。ウエハステージWST1は、図1に示されるように、ステージ本体91と、該ステージ本体91の上方に配置され、Zチルト駆動機構28図1では不図示、図6参照によって、ステージ本体91に対して非接触で支持されたウエハテーブルWTB1とを有している。Zチルト駆動機構28は、例えばウエハテーブルWTB1をそれぞれ支持するとともに、各支持点で独立してZ軸方向に駆動する3つのボイスコイルモータなどで構成することができる。この場合、ウエハテーブルWTB1は、Zチルト駆動機構28によって、電磁力等の上向きの力斥力と、自重を含む下向きの力引力との釣り合いを3点で調整することで、非接触で支持されるとともに、Z軸方向、θx方向、及びθy方向の3自由度方向に微小駆動される。ステージ本体91の底部には、スライダ部91aが設けられている。スライダ部91aは、XY二次元方向を行方向、列方向としてマトリックス状に配置された複数のコイルを含むコイルユニット不図示と、該コイルユニットを収容する筐体と、該筐体の底面の周囲に設けられた複数のエアベアリングとを有している。コイルユニットは、前述の磁石ユニット14aとともに、例えば米国特許第6,437,463号明細書及び米国特許第4,654,571号明細書などに開示されるローレンツ電磁力駆動による平面モータ30を構成している。ウエハステージWST1は、上記複数のエアベアリングによってステージベース12上に所定のクリアランス、例えば数μm程度のクリアランスを介して浮上支持され、平面モータ30によって、X軸方向、Y軸方向及びθz方向に駆動される。従って、ウエハテーブルWTB1ウエハWは、ステージベース12に対して、6自由度方向X軸方向、Y軸方向、Z軸方向、θx方向、θy方向及びθz方向以下、X,Y,Z,θx、θy、θzと略記するに駆動可能である。本実施形態では、コイルユニットを構成する各コイル不図示に供給される電流の大きさ及び方向が、主制御装置20によって制御される。図6に示されるように、平面モータ30と、前述のZチルト駆動機構28とを含んで、ウエハステージ駆動系27が構成されている。また、例えば米国特許第6,437,463号明細書に開示されるXY方向のみでなく、Z方向の力をも発生させる平面モータ磁気浮上型の平面モータを用いることで、ウエハステージWST1を6自由度方向に駆動することとしても良い。また、ウエハテーブルWTB1を、X軸方向、Y軸方向、θz方向のうちの少なくとも一方向に微動可能としても良い。ウエハテーブルWTB1上には、不図示のウエハホルダを介してウエハWが載置され、不図示のチャック機構によって例えば真空吸着又は静電吸着され、固定されている。また、ウエハテーブルWTB1上の1つの角部近傍には、アライメント系ALGにより検出される第2基準マークと、該第2基準マークを挟んでX軸方向の両側に配置された一対の第1基準マークとがその表面に形成された基準マーク板FMが、固定されている。一対の第1基準マークは、後述する一対のレチクルアライメント系により検出される。基準マーク板FMはその表面がウエハWとほぼ同一面となるように設定されている。ウエハステージWST2も、ウエハステージWST1と同様に構成されている。エンコーダシステム70,71は、それぞれ、投影光学系PL直下の領域を含む露光時移動領域とアライメント系ALG直下の領域を含むアライメント時移動領域におけるウエハステージWST1,WST2の6自由度方向X,Y,Z,θx,θy,θzの位置情報を求める計測する。ここで、エンコーダシステム70,71の構成等について詳述する。ウエハテーブルWTB1,WTB2には、それぞれ図2及び図3の平面図に示されるように、その4隅のそれぞれにエンコーダヘッド以下、適宜、ヘッドと略称する601~604が配置されている。ここで、ヘッド601,602間のX軸方向の離間距離とヘッド603,604間のX軸方向の離間距離は互いに等しくAである。また、ヘッド601,604間のY軸方向の離間距離とヘッド602,603間のY軸方向の離間距離は互いに等しくBである。これらヘッドの離間距離A,Bは、スケール板21の開口21aのX軸、Y軸方向の幅よりも大きい。ヘッド601~604は、図4にヘッド601を代表的に採り上げて示されるように、ウエハテーブルWTB1,WTB2に形成されたZ軸方向の所定深さの穴の内部にそれぞれ収容されている。ヘッド601は、図5に示されるように、X軸を基準とする135度方向すなわちX軸を基準とする-45度方向及びZ軸方向を計測方向とする2次元ヘッドである。同様に、ヘッド602~604は、それぞれ、X軸を基準とする225度方向すなわちX軸を基準とする45度方向及びZ軸方向、X軸を基準とする315度方向すなわちX軸を基準とする-45度方向及びZ軸方向、X軸を基準とする45度方向及びZ軸方向を計測方向とする2次元ヘッドである。ヘッド601~604としては、例えば米国特許第7,561,280号明細書に開示される変位計測センサヘッドを用いることができる。ヘッド601~604は、スケール板21,22の表面に形成された2次元グレーティングRGに計測ビームを照射し、2次元グレーティングRGからの反射回折ビームを受光することにより、それぞれの計測方向についてのウエハテーブルWTB1,WTB2ウエハステージWST1,WST2の位置を計測する。上述のようにして構成されたヘッド601~604では、計測ビームの空気中での光路長が極短いため、空気揺らぎの影響が殆ど無視できる。ただし、本実施形態では、光源及び光検出器は各ヘッドの外部、具体的には、ステージ本体91の内部又は外部に設けられ、光学系のみが各ヘッドの内部に設けられている。そして、光源及び光検出器と、光学系とは、不図示の光ファイバを介して光学的に接続されている。なお、ウエハテーブルWTB1微動ステージの位置決め精度を向上させるため、ステージ本体91粗動ステージとウエハテーブルWTB1微動ステージとの間以下、粗微動ステージ間と略述するで、レーザ光等を空中伝送しても良いし、あるいはヘッドをステージ本体91粗動ステージに設けて、該ヘッドによりステージ本体91粗動ステージの位置を計測し、かつ別のセンサで粗微動ステージ間の相対変位を計測する構成としても良い。ウエハステージWST1,WST2が投影光学系PL直下の領域を含む露光時移動領域内に位置する際には、ヘッド601は、スケール板21に計測ビーム計測光を照射し、スケール板21の表面下面に形成されたX軸を基準とする135度方向を周期方向とする格子からの回折ビームを受光して、ウエハステージWST1,WST2の135度方向及びZ軸方向の位置を計測する2次元エンコーダ701図6参照を構成する。同様に、ヘッド602~604は、それぞれ、スケール板21に計測ビーム計測光を照射し、スケール板21の表面下面に形成されたX軸を基準とする225度方向、315度方向、及び45度方向を周期方向とする格子からの回折ビームを受光して、ウエハステージWSTの225度方向及びZ軸方向の位置、315度方向及びZ軸方向の位置、及び45度方向及びZ軸方向の位置、を計測する2次元エンコーダ702~704図6参照をそれぞれ構成する。また、ウエハステージWST1,WST2がアライメント系ALG直下の領域を含むアライメント時移動領域内に位置する際には、ヘッド601は、スケール板22に計測ビーム計測光を照射し、スケール板22の表面下面に形成されたX軸を基準とする135度方向を周期方向とする格子からの回折ビームを受光して、ウエハステージWST1,WST2の135度方向及びZ軸方向の位置を計測する2次元エンコーダ711図6参照を構成する。同様に、ヘッド602~604は、それぞれ、スケール板22に計測ビーム計測光を照射し、スケール板22の表面下面に形成されたX軸を基準とする225度方向、315度方向、及び45度方向を周期方向とする格子からの回折ビームを受光して、ウエハステージWST1,WST2の225度方向及びZ軸方向の位置、315度方向及びZ軸方向の位置、及び45度方向及びZ軸方向の位置、を計測する2次元エンコーダ712~714図6参照をそれぞれ構成する。2次元エンコーダ以下、適宜、エンコーダと略称する701~704,711~714のそれぞれの計測値は、主制御装置20図6参照に供給される。主制御装置20は、2次元グレーティングRGが形成されたスケール板21の下面に対向する少なくとも3つのエンコーダすなわち、有効な計測値を出力している少なくとも3つのエンコーダの計測値に基づいて、投影光学系PL直下の領域を含む露光時移動領域内でのウエハテーブルWTB1,WTB2ウエハステージWST1,WST2の位置情報を求める。同様に、主制御装置20は、2次元グレーティングRGが形成されたスケール板22の下面に対向する少なくとも3つのエンコーダすなわち、有効な計測値を出力している少なくとも3つのエンコーダの計測値に基づいて、アライメント系ALG直下の領域を含むアライメント時移動領域内でのウエハテーブルWTB1,WTB2ウエハステージWST1,WST2の位置情報を求める。また、本実施形態の露光装置100では、ウエハテーブルWTB1,WTB2ウエハステージWST1,WST2の位置は、ウエハ干渉計システム18図6参照によって、エンコーダシステム70,71とは独立して計測可能になっている。ウエハ干渉計システム18の計測結果は、エンコーダシステム70,71の計測値の長期的変動例えばスケールの経時的な変形などによるを補正較正する場合、あるいはエンコーダシステムの出力異常時のバックアップ用などとして補助的に用いられる。アライメント系ALGは、図1に示されるように、投影光学系PLのX側に所定間隔を隔てて配置されたオフアクシス方式のアライメント系である。アライメント系ALGとして、一例としてハロゲンランプ等のブロードバンド広帯域光でマークを照明し、このマーク画像を画像処理することによってマーク位置を計測する画像処理方式のアライメントセンサの一種であるFIAFieldImageAlignment系が用いられている。アライメント系ALGからの撮像信号は、不図示のアライメント信号処理系を介して主制御装置20図6参照に供給される。なお、アライメント系ALGとしては、FIA系に限らず、例えばコヒーレントな検出光をマークに照射し、そのマークから発生する散乱光又は回折光を検出する、あるいはマークから発生する2つの回折光例えば同次数の回折光、あるいは同方向に回折する回折光を干渉させて検出するアライメントセンサを単独であるいは適宜組み合わせて用いることは勿論可能である。この他、アライメント系ALGとして、例えば米国特許出願公開第2008/0088843号明細書などに開示される複数の検出領域を有するアライメント系を採用しても良い。この他、本実施形態の露光装置100には、アライメント系ALGの近傍に、例えば米国特許第5,448,332号明細書等に開示されるものと同様の構成の斜入射方式の多点焦点位置検出系以下、多点AF系と略述するAF図1では不図示、図6参照が設けられている。多点AF系AFの検出信号は、AF信号処理系不図示を介して主制御装置20に供給される図6参照。主制御装置20は、ウエハアライメント時に、アライメントマークの検出と並行して、例えば、スケール板22の下面に対向する少なくとも3つのエンコーダ、すなわち、有効な計測値を出力している少なくとも3つのエンコーダなどを用いてウエハテーブル上面のZ軸方向の位置を検出しながら、多点AF系AFの検出信号に基づいて、各検出点におけるウエハW表面の面位置情報凹凸情報を取得する処理以下、フォーカスマッピングと呼ぶを行う。そして、主制御装置20は、露光時には、フォーカスマッピングにより取得したウエハW表面の面位置情報と、スケール板21の下面に対向する少なくとも3つのエンコーダすなわち、有効な計測値を出力している少なくとも3つのエンコーダなどを用いて検出したウエハテーブル上面のZ軸方向の位置情報とに基づいて、走査露光中のウエハWのいわゆるフォーカスレベリング制御を実行する。露光装置100では、さらに、レチクルRの上方に、例えば米国特許第5,646,413号明細書などに開示される露光波長の光を用いたTTRThroughTheReticle方式の一対のレチクルアライメント系13A,13B図1では不図示、図6参照が設けられている。レチクルアライメント系13A,13Bの検出信号は、不図示のアライメント信号処理系を介して主制御装置20に供給される。図6には、露光装置100のステージ制御に関連する制御系が一部省略して、ブロック図にて示されている。この制御系は、主制御装置20を中心として構成されている。主制御装置20は、CPU中央演算処理装置、ROMリードオンリメモリ、RAMランダムアクセスメモリ等からなるいわゆるマイクロコンピュータ又はワークステーションを含み、装置全体を統括して制御する。上述のようにして構成された露光装置100では、デバイスの製造に際し、主制御装置20により、アライメント時移動領域内でウエハステージWST1,WST2上に保持されたウエハWに対して、アライメント系ALGを用いたウエハアライメント例えば米国特許第4,780,617号明細書などに開示されるエンハンストグローバルアライメントEGAなどが行われる。その際、エンコーダシステム71エンコーダ711~714により、ウエハステージWST1,WST2の6自由度方向X,Y,Z,θx,θy,θzの位置情報が求められる計測される。ウエハアライメントの後、主制御装置20により、ウエハステージWST1、WST2は露光時移動領域に移動され、通常のスキャニングステッパと同様に、ウエハテーブルWTB1,WTB2上の基準マーク板FMの一対の第1基準マークとレチクルR上の対応する一対のレチクルアライメントマークとをレチクルアライメント系13A,13Bで検出するレチクルアライメント等が行われる。レチクルアライメントの手順については、例えば、米国特許第5,646,413号明細書などに開示されている。そして、主制御装置20により、ウエハアライメントの結果EGAの結果得られたウエハW上の複数のショット領域の配列座標を基準マーク板FM上の第2基準マークの位置を基準に換算した配列座標等に基づいて、ステップアンドスキャン方式の露光動作が行われ、ウエハW上の複数のショット領域にレチクルRのパターンがそれぞれ転写される。ステップアンドスキャン方式の露光動作は、レチクルステージRSTとウエハステージWST1,WST2との同期駆動を行う走査露光動作と、ウエハステージWST1,WST2をショット領域の露光のための加速開始位置に移動させるショット間移動ステッピング動作とを交互に繰り返すことで行われる。露光動作時には、エンコーダシステム70エンコーダ701~704により、ウエハステージWST1,WST2の6自由度方向X,Y,Z,θx,θy,θzの位置情報が求められる計測される。また、本実施形態の露光装置100は、2つのウエハステージWST1,WST2を備えている。そこで、一方のウエハステージ、例えばウエハステージWST1上にロードされたウエハに対してステップアンドスキャン方式の露光を行うのと並行して、他方のウエハステージWST2上ではウエハ交換とその交換後のウエハに対するウエハアライメント例えば米国特許出願公開第2008/0088843号明細書などに開示されるPriBCHKの前半の処理同様の第2基準マークをアライメント系ALGを用いて検出する処理、及びEGAを行う、並行処理動作が行われる。本実施形態の露光装置100では、前述の通り、主制御装置20は、露光時移動領域内ではエンコーダシステム70図6参照を用いて、アライメント時移動領域内ではエンコーダシステム71図6参照を用いて、ウエハテーブルWTB1,WTB2の6自由度方向X,Y,Z,θx,θy,θzの位置情報を求める計測する。ここで、エンコーダシステム70,71によるウエハテーブルウエハステージのXY平面内の3自由度方向X軸方向,Y軸方向及びθz方向X,Y,θzとも略記するの位置計測の原理などについてさらに説明する。ただし、ウエハテーブルWTB2ウエハステージWST2はウエハテーブルWTB1ウエハステージWST1と同様に構成されているので、ここではウエハテーブルWTB1ウエハステージWST1についてのみ説明する。本実施形態では、前述のようなエンコーダヘッド601~604及びスケール板21の構成及び配置を採用したことにより、露光時移動領域内ではエンコーダヘッド601~604のうちの少なくとも3つが、常時、スケール板21に対向する。ウエハテーブルWTB1の中心ウエハの中心に一致が、露光時移動領域内の露光中心投影光学系PLの光軸AXに一致からX側及びY側に位置する場合、ウエハテーブルWTB1上のヘッド604,601,602がスケール板21に対向する。この場合、これらのヘッド604,601,602エンコーダ704,701,702から有効な計測値が主制御装置20に送信される。なお、以下の説明において、ウエハテーブルWTB1の中心の位置ウエハの中心位置を、単に、ウエハテーブルウエハの位置と呼ぶ。同様に、ウエハテーブルWTB1が、露光中心光軸AXから-X側及びY側に位置する場合、ヘッド601,602,603がスケール板21に対向する。ウエハテーブルWTB1が、露光中心光軸AXから-X側及び-Y側に位置する場合、ヘッド602,603,604がスケール板21に対向する。ウエハテーブルWTB1が、露光中心PからX側及び-Y側に位置する場合、ヘッド603,604,601がスケール板21に対向する。さらに、ウエハテーブルWTB1が、露光中心光軸AXの極近傍に位置する場合、すべてのヘッド601~604がスケール板21に対向する。スケール板21に対向しているヘッドエンコーダから、有効な計測値が主制御装置20に送信される。主制御装置20は、ヘッド601~604エンコーダ701~704の計測結果に基づいて、ウエハテーブルWTB1ウエハステージWST1のXY平面内での位置X,Y,θzを算出する。ここで、エンコーダ701~704の計測値それぞれC1~C4と表記するは、ウエハテーブルWTB1の位置X,Y,θzに対して、次式1~4のように依存する。C1=-cosθzsinθzX/√2cosθz-sinθzY/√2√2psinθz...1C2=-cosθz-sinθzX/√2-cosθzsinθzY/√2√2psinθz...2C3=cosθzsinθzX/√2-cosθz-sinθzY/√2√2psinθz...3C4=cosθz-sinθzX/√2cosθzsinθzY/√2√2psinθz...4ただし、pは、図5に示されるように、ウエハテーブルWTB1WTB2の中心からのヘッドのX軸及びY軸方向に関する距離である。主制御装置20は、ウエハテーブルWTB1ウエハステージWST1のXY平面内の位置に応じてスケール板21に対向する3つのヘッドエンコーダを特定し、それらの計測値が従う式を上式1~4から選択して連立方程式を組み、3つのヘッドエンコーダの計測値を用いて連立方程式を解くことにより、ウエハテーブルWTB1のXY平面内での位置X,Y,θzを算出する。例えば、ウエハテーブルWTB1が露光中心光軸AXからX側及びY側に位置する場合、主制御装置20は、ヘッド601,602,604エンコーダ701,702,704の計測値が従う式1,2,及び4から連立方程式を組み、それらの左辺に各ヘッドの計測値を代入して連立方程式を解く。なお、ウエハステージWST1が露光中心Pの極近傍に位置する場合、主制御装置20は、ヘッド601~604エンコーダ701~704から任意の3つを選択すれば良い。主制御装置20は、上の算出結果X,Y,θzに基づいて、露光時移動領域内でウエハステージWST1を駆動位置制御する。ウエハテーブルWTB1ウエハステージWST1が、アライメント時移動領域内に位置する場合、主制御装置20は、エンコーダシステム71を用いて3自由度方向X,Y,θzの位置情報を計測する。ここで、計測原理等は、露光中心がアライメント系ALGの検出中心に、スケール板21がスケール板22に置き換わる以外、先のエンコーダシステム70を用いる場合と同様である。さらに、主制御装置20は、ウエハテーブルWTB1,WTB2ウエハステージWST1,WST2のX,Y平面内の位置に応じて、スケール板21,22に対向するヘッド601~604のうちの3つを切り換えて使用する。ここで、エンコーダヘッドを切り換える際には、例えば米国特許出願公開第2008/0094592号明細書などに開示されているように、ウエハステージの位置計測結果の連続性を保証するためのつなぎ処理が行われる。本実施形態の露光装置100では、ウエハステージWST1,WST2の軽量化及び位置制御性の向上等の観点から、ムービングコイル型の平面モータ30が採用されている。ムービングコイル型の平面モータ30の場合、ステージベース12内に設けられた固定子磁石ユニット14aにより、例えば図7Aに示されるように、露光装置100内に定常的な開放磁場が放出される。図7Aでは、開放磁場の力線磁力線が点線破線で示されている。投影ユニットPU、アライメント系ALG等の露光装置100の構成各部ステージ装置を除くを支持するメインフレームメトロロジーフレーム23は、通常その素材として磁性体であるインバーが用いられる。勿論、セラミックス等の非磁性体をメインフレームの素材として用いることもできるが、メインフレームに支持される構成各部の全てを非磁性体とすることはほぼ不可能である。このため、磁石ユニット14aにより放出される開放磁場が媒体となってステージベース12とメインフレーム23支持される構成各部を含むとの間に磁力が作用し、この磁力の作用によりメインフレーム23が極めて微量ではあるが歪み得る。このメインフレーム23の歪みにより、スケール板21,22の姿勢が変わる、あるいはスケール板21,22自体が歪み、結果的にエンコーダシステム70,71の計測誤差が発生し得る。さらに、ウエハステージWST1,WST2も、永久磁石等の磁性体を含むZチルト駆動機構28等を含んで構成されている。また、平面モータ30を構成する可動子コイルユニット不図示、またZチルト駆動機構28のコイルも磁場を発生する。このため、ウエハステージWST1,WST2がステージベース12上を移動することにより開放磁場が変化し、メインフレーム23支持される構成各部を含むに作用する磁力がウエハステージWST1,WST2の位置に応じて変わり得る。図7Bには、図7Aと同様に、露光装置100内の開放磁場が示されている。図7A及び図7Bは、ウエハステージWST2がアライメント時移動領域内で-X方向に移動することにより、ウエハステージWST1は露光時移動領域内のほぼ同じ位置にあるにもかかわらず、露光時移動領域内の開放磁場が図7Aに示される状態から図7Bに示される状態に変化する様子が示されている。この開放磁場の変化は、上述の通り、スケール板21の姿勢の変化あるいはスケール板21自体の歪みを生じさせる。上記と反対に、ウエハステージWST1が移動すると、ウエハステージWST2が停止していても、アライメント時移動領域内の磁場が変化し、スケール板22の姿勢の変化あるいはスケール板22自体の歪みを生じさせる。従って、一方のウエハステージの位置に応じて、他方のウエハテーブルウエハステージの位置を計測するエンコーダシステム70又は71の計測誤差が発生し得る。この計測誤差は、露光精度及びアライメント計測精度の低下を招き、ひいては重ね合わせ精度、フォーカス精度等が低下し、最終的には、半導体デバイスの歩留まりの低下をも招くこととなる。以下、一方のウエハステージの移動に伴う磁場の変化に起因する他方のウエハテーブルウエハステージの位置を計測するエンコーダシステム70,71の計測誤差を補正する方法について説明する。主制御装置20により、露光装置100の起動時、アイドル時等に、エンコーダシステム70,71の計測誤差を補正するための補正マップが作成される。ここで、エンコーダシステム70用の補正マップは、以下の手順により作成される。なお、以下の補正マップの作成に関する説明中では、エンコーダシステム70によるウエハステージの位置の計測情報をX,Yとし、エンコーダシステム71によるウエハステージの位置の計測情報をx,yとして、説明を行う。ウエハテーブルWTB1ウエハステージWST1上には、テストウエハWT図8B参照がロードされているものとする。テストウエハWTの表面には、露光装置100にインライン接続された不図示のコータデベロッパC/Dによりレジストが塗布されている。主制御装置20は、テストウエハWTがロードされたウエハテーブルWTB1上の基準マーク板FMが投影光学系PLの直下露光中心投影光学系PLの光軸AXと一致に位置するよう、ウエハステージWST1を移動させる。このとき、ウエハステージWST2は、ウエハステージWST1から十分に離れた基準位置x0、y0、例えば、ウエハの交換が行われるロードアンロード位置に位置しているものとする。また、主制御装置20は、レチクル交換機構不図示を用いて、テストレチクルRTをレチクルステージRST上にロードする。テストレチクルRTには、矩形のパターン領域が形成され、その中央部に図8Aに示されるような十字状の遮光パターン又は開口パターンから成るテストパターンMRが形成されている。また、テストレチクルRTには、レチクルセンタを通るパターン領域のX軸方向の両側に、一対のレチクルアライメントマーク不図示が形成されている。テストレチクルRTのロード後、主制御装置20は、一対のレチクルアライメント系13A,13B及びウエハステージWST1の基準マーク板FMを用いて、前述と同様にしてテストレチクルRTのレチクルアライメントを行う。一対のレチクルアライメント系13A,13Bにより対応するレチクルアライメントマークと第1基準マークとが検出される状態で、主制御装置20は、エンコーダシステム70からの位置計測結果X1,Y1,θz1をリセットする。なお、以下のテスト露光中、レチクルステージRSTテストレチクルRTは、その位置決め位置に留められる。次に、主制御装置20は、ウエハテーブルWTB1の中心テストウエハWTの中心が投影光学系PLの下方露光中心の近傍に位置するよう、ウエハステージWST1を移動する。なお、この時のウエハステージWST1の位置を、露光時移動領域内の第1計測点での基準位置X10,Y10とする。移動後、主制御装置20は、エンコーダシステム70からの計測情報X,Yが一定に維持されるように、ウエハステージWST1をサーボ制御して、その位置決め状態を維持するその位置に留める。ただし、ウエハステージWST1のθz1方向の位置はリセット時の位置に維持されている。上述の状態において、主制御装置20は、照明光ILをテストレチクルRTに照射して、テストパターンMRの像をテストウエハWTに転写する。転写後、主制御装置20は、ウエハステージWST1を-X方向に距離H、ステップ駆動する。このとき、主制御装置20は、エンコーダシステム70からの計測情報X,Yではなく、ウエハ干渉計システム18からの計測情報に基づいて、ウエハステージWST1をステップ駆動する。ステップ駆動の後、主制御装置20は、エンコーダシステム70からの計測情報X,Yが一定に維持されるようにサーボ制御して、その位置決め状態を維持するその位置に留める。ただし、ウエハステージWST1のθz1方向の位置はリセット時の位置に維持されている。この状態において、主制御装置20は、ウエハステージWST2をアライメント時移動領域内の第1計測位置x1,y1に移動させる。上述の状態において、主制御装置20は、先と同様に、照明光ILをテストレチクルRTに照射して、テストパターンMRの像をテストウエハWTに転写する。以降同様に、主制御装置20は、ウエハステージWST1を-X方向に距離Hステップ駆動し、エンコーダシステム70からの計測情報X,Yが一定に維持されるように、ウエハステージWST1をサーボ制御してその位置決め状態を維持している間に、ウエハステージWST2をアライメント時移動領域内の次の計測位置xi1,yi1に移動するとともに、テストパターンMRの像をテストウエハWTに転写する。この処理を、ウエハステージWST2をアライメント時移動領域内の計測位置x2,y2~xI、yIへの逐次移動に対して繰り返す。これにより、図8B及び図8Cに示されるように、テストパターンMRに対応するI1個の潜像M10~M1Iが、テストウエハWTの中央にX軸方向に並んで形成される。なお、ステップ距離Hは、露光時移動領域内の計測点間の離間距離に対して十分小さく、例えば100μm程度に、選ぶこととする。露光時移動領域内の第1計測点X1i,Y1ii=0~iにおけるテスト露光が終了すると、続いて、主制御装置20は、露光時移動領域内の第2計測点X2i,Y2ii=0~iにおけるテスト露光を開始する。ここで、第2計測点は、その基準位置X20,Y20が、図8Bに示されるウエハテーブルWTB1の中心テストウエハWTの中心からX方向に距離HXの点が投影光学系PLの下方露光中心の近傍に位置するウエハテーブルWTB1ウエハステージWST1の位置である。露光時移動領域内の第2計測点X2i,Y2ii=0~iにおけるテスト露光に際しては、まず、主制御装置20は、ウエハステージWST1を、ウエハ干渉計システム18からの計測情報に基づいて、第2計測点の基準位置X20,Y20に移動させる。それと同時に、主制御装置20は、ウエハステージWST2を基準位置x0,y0に移動させる。移動後、主制御装置20は、エンコーダシステム70からの計測情報X,Yが一定に維持されるように、ウエハステージWST1をサーボ制御して、その位置状態を維持する。ただし、ウエハステージWST1のθz1方向の位置はリセット時の位置に維持されている。上述の状態において、主制御装置20は、照明光ILをテストレチクルRTに照射して、テストパターンMRの像をテストウエハWTに転写する。以降同様に、主制御装置20は、ウエハステージWST1を-X方向に距離H、ステップ駆動し、エンコーダシステム70からの計測情報X,Yが一定に維持されるようにウエハステージWST1をサーボ制御してその位置決め状態を維持している間に、ウエハステージWST2をアライメント時移動領域内の次の計測位置xi1,yi1に移動するとともに、テストパターンMRの像をテストウエハWTに転写する。この処理を、ウエハステージWST2をアライメント時移動領域内の計測位置x1,y1~xI、yIへの逐次移動に対して繰り返す。これにより、図8Bに示されるように、テストパターンMRに対応するI1個の潜像M20~M2Iが、テストウエハWTのX端近傍にX軸方向に並んで形成される。以後、主制御装置20は、同様のテスト露光を露光時移動領域内の第3~5計測点X3i,Y3i~X5i,Y5ii=0~iについて行う。ここで、第3~5計測点は、それぞれの基準位X30,Y30、X40,Y40、X50,Y50が、図8Bに示されるウエハテーブルWTB1の中心テストウエハWTの中心からY方向に距離HYの点、-X方向に距離HXの点、及び-Y方向に距離HYの点が投影光学系PLの下方露光中心の近傍に位置するウエハステージWST1の位置である。これにより、図8Bに示されるように、テストパターンMRに対応する潜像M30~M3I、M40~M4I、及びM50~M5Iが、テストウエハWTのY端近傍、-X端近傍、及び-Y端近傍にX軸方向に並んで形成される。テスト露光の終了後、主制御装置20は、ウエハステージWST1をロードアンロード位置に移動し、ウエハステージWST1からテストウエハWTをアンロードする。主制御装置20は、テストウエハWTを、前述のC/D不図示に搬送して現像する。これにより、テストウエハWT上に、図8Bに示されるように、レジストパターンM10~M1I、M20~M2I、M30~M3I、M40~M4I、及びM50~M5Iが形成される。主制御装置20は、現像されたテストウエハWTを、ロードアンロード位置に待機しているウエハステージWST1に再度ロードし、ウエハステージWST1をアライメント時移動領域に移動する。なお、この時、ウエハステージWST2は、露光時移動領域等に退避している。上述のテストウエハWTの現像後、主制御装置20は、アライメント系ALGを用いてテストウエハWTに形成されたレジストパターンを検出する。主制御装置20は、テストウエハWTの中央に形成されたレジストパターンM10がアライメント系ALGの検出視野内に位置するよう、ウエハステージWST1を移動する。主制御装置20は、アライメント系ALGの検出中心指標中心にレジストパターンM10を一致させ、ウエハステージWST1を位置決めする。この時の指標中心からのレジストパターンM10のX軸方向及びY軸方向に関する位置ずれΔX10,ΔY10は、ΔX10=ΔY10=0と検出される。主制御装置20は、検出された位置ずれΔX10,ΔY10をレジストパターンM10に対応するテスト露光時のウエハステージWST1の位置露光時移動領域内の第1計測点の位置X1,Y1とウエハステージWST2の位置アライメント時移動領域内の基準位置x0,y0とに対応付けて、記憶装置不図示に記憶する。ここで、第1計測点の位置X1,Y1は、先に説明した第1計測点における基準位置X10,Y10と同じである。主制御装置20は、アライメント系ALGの検出中心指標中心とレジストパターンM10が一致した上の状態から、ウエハステージWST1を-X方向に距離Hステップ駆動する。この場合も、エンコーダシステム71からの計測情報X2,Y2ではなく、ウエハ干渉計システム18からの計測情報に基づいてウエハステージWST1をステップ駆動するのが望ましい。ステップ駆動後、主制御装置20は、アライメント系ALGを用いてレジストパターンM11を検出し、その指標中心からのX軸方向及びY軸方向に関する位置ずれΔX11,ΔY11を検出する。ここで、テスト露光時に、ウエハステージWST2の位置に応じた磁場の変化に起因するエンコーダシステム70の計測誤差が発生していなければ、位置ずれはΔX11=ΔY11=0と検出される。しかし、図8Cに示される例では、位置ずれはΔX11≠0,ΔY11≠0と検出される。なお、図中、レジストパターンM11~M1Iの検出時における指標マークの位置が、破線を用いて、レジストパターンとともに示されている。検出された位置ずれは、ウエハステージWST2の位置に応じた磁場の変化に起因するエンコーダシステム70の計測誤差を意味する。主制御装置20は、検出された位置ずれΔX11,ΔY11をレジストパターンM11に対応するテスト露光時のウエハステージWST1の位置露光時移動領域内の第1計測点の位置X1,Y1とウエハステージWST2の位置アライメント時移動領域内の基準位置x0,y0とに対応付けて、記憶装置不図示に記憶する。以降、主制御装置20は、同様に、逐次、ウエハステージWST1を-X方向に距離Hステップ駆動し、アライメント系ALGを用いてレジストパターンM1ii=2~Iを検出する。検出毎に、主制御装置20は、レジストパターンM1ii=2~Iの指標中心からの位置ずれΔX1i,ΔY1ii=2~Iの検出結果を、レジストパターンM1iに対応するテスト露光時のウエハステージWST1の位置露光時移動領域内の第1計測点の位置X1,Y1とウエハステージWST2の位置アライメント時移動領域内の基準位置x0,y0とに対応付けて、記憶装置不図示に記憶する。主制御装置20は、同様に、その他のレジストパターンM20~M2I、M30~M3I、M40~M4I、及びM50~M5Iを検出する。ここで、テスト露光時に、ウエハステージWST1の位置に応じた磁場の変化に起因するエンコーダシステム70の計測誤差が発生していなければ、ウエハステージWST2の位置が互いに等しいレジストパターンM1i~M5iのそれぞれについての位置ずれΔXi,ΔYii=1~Iが検出される。計測誤差が発生している場合、異なる位置ずれΔXki,ΔYkik=1~5、i=1~Iが検出される。これにより、補正マップΔXi,ΔYiが、Xk,Yk,xi,yiについての関数ΔXiXk,Yk,xi,yi,ΔYiXk,Yk,xi,yiとして求められる。なお、補正マップΔXiXk,Yk,xi,yi,ΔYiXk,Yk,xi,yiはXk,Yk,xi,yiの複数の離散点についての離散データとして求められるので、線形補完等を用いてX,Y,x,yについての連続関数に変換しても良い。すなわち、補正情報を補正マップではなく、補正関数ΔXiX,Y,x,y,ΔYiX,Y,x,yの形で持っておいても良い。主制御装置20は、露光時にウエハステージWST1を露光時移動領域内で駆動する際、エンコーダシステム70,71からのウエハステージWST1,WST2の位置計測情報X,Y,x,yを用いて補正マップΔXiXk,Yk,xi,yi,ΔYiXk,Yk,xi,yiから補正値ΔXi,ΔYiを導出し、該補正値を用いてエンコーダシステム70からのウエハステージWST1の位置計測情報X,YをそれぞれX-ΔXi,Y-ΔYiと補正する。主制御装置20は、補正した位置計測情報X-ΔXi,Y-ΔYiを用いて、ウエハステージWST1を駆動位置制御する。エンコーダシステム71用の補正マップは、形成位置が既知の複数のマークが設けられた基準ウエハW0を用いて、以下の手順により作成される。図9には、基準ウエハW0の一例が示されている。基準ウエハW0上には、5つの十字マークAM1~AM5が形成されている。ここで、マークAM1~AM5は、それぞれ、基準ウエハW0の中心、中心からX方向に距離WXの位置、中心からY方向に距離WYの位置、中心から-X方向に距離WXの位置、中心から-Y方向に距離WYの位置に形成されている。基準ウエハW0は、ウエハテーブルWTB2ウエハステージWST2上にロードされているものとする。主制御装置20は、基準ウエハW0がロードされたウエハステージWST2をアライメント時移動領域内に移動させる。また、主制御装置20は、ウエハステージWST1を、ウエハステージWST2から十分に離間させた基準位置X0,Y0に移動させる。次に、主制御装置20は、基準ウエハW0に形成されたマークAM1がアライメント系ALGの検出視野内に位置するよう、ウエハステージWST2を移動させる。主制御装置20は、アライメント系ALGの検出中心指標中心にマークAM1を一致させる。この時のウエハステージWST2の位置を、アライメント時移動領域内の第1計測位置x1,y1と定める。この時の指標中心からのマークAM1のX軸方向及びY軸方向に関する位置ずれΔx10,Δy10は、Δx10=Δy10=0と検出される。主制御装置20は、検出された位置ずれΔx10,Δy10をウエハステージWST1の位置露光時移動領域内の基準位置X0,Y0とウエハステージWST2の位置アライメント時移動領域内の第1計測位置x1,y1とに対応付けて、記憶装置不図示に記憶する。主制御装置20は、エンコーダシステム71からの計測情報x,yに基づいて、ウエハステージWST2をサーボ制御し、その位置決め状態を維持するその位置x1,y1に留める。ただし、ウエハステージWST2のθz方向の位置は基準位置θz=0に維持されている。上述の状態において、主制御装置20は、ウエハステージWST1を露光時移動領域内の第1計測位置X1,Y1に移動する。移動後、主制御装置20は、アライメント系ALGを用いてマークAM1を検出し、その指標中心からのX軸方向及びY軸方向に関する位置ずれΔx11,Δy11を検出する。ここで、ウエハステージWST1の位置に応じた磁場の変化に起因するエンコーダシステム71の計測誤差が発生している場合、位置ずれはΔx11≠0,Δy11≠0と検出される。主制御装置20は、検出された位置ずれΔx11,Δy11を、ウエハステージWST1の位置露光時移動領域内の第1計測位置X1,Y1とウエハステージWST2の位置アライメント時移動領域内の第1計測位置x1,y1とに対応付けて、記憶装置不図示に記憶する。以降、主制御装置20は、同様に、逐次、ウエハステージWST1を露光時移動領域内の計測位置Xi,Yii=2~Iに移動し、アライメント系ALGを用いてマークAM1を検出する。検出毎に、主制御装置20は、マークAM1の指標中心からの位置ずれΔx1i,Δy1ii=2~Iの検出結果を、ウエハステージWST1の位置露光時移動領域内の第1計測位置Xi,YiとウエハステージWST2の位置アライメント時移動領域内の第1計測位置x1,y1とに対応付けて、記憶装置不図示に記憶する。主制御装置20は、同様に、その他のマークAMjj=2~5を検出する。ここで、ウエハステージWST2の位置に応じた磁場の変化に起因するエンコーダシステム71の計測誤差が発生していなければ、ウエハステージWST1の位置が互いに等しいマークAMjj=1~5のそれぞれについての位置ずれΔxi,Δyii=1~Iが検出される。計測誤差が発生している場合、異なる位置ずれΔXjj,ΔYjjj=1~5、i=1~Iが検出される。主制御装置20は、マークAMjの指標中心からの位置ずれΔXjj,ΔYjjj=2~5の検出結果を、ウエハステージWST1の位置露光時移動領域内の計測位置Xi,YiとウエハステージWST2の位置アライメント時移動領域内の計測位置xj,yjとに対応付けて、記憶装置不図示に記憶する。これにより、補正マップΔxi,Δyiが、Xi,Yi,xj,yjについての関数ΔxiXi,Yi,xj,yj,ΔyiXi,Yi,xj,yjとして求められる。なお、補正マップΔxiXi,Yi,xj,yj,ΔyiXi,Yi,xj,yjはXi,Yi,xj,yjの複数の離散点についての離散データとして求められるので、線形補完等を用いてX,Y,x,yについての連続関数に変換しても良い。すなわち、補正情報を補正マップではなく、補正関数ΔxiX,Y,x,y,ΔyX,Y,x,yの形で持っておいても良い。主制御装置20は、アライメント計測時にウエハステージWST2をアライメント時移動領域内で駆動する際、エンコーダシステム70,71からのウエハステージWST1,WST2の位置計測情報X,Y,x,yを用いて補正マップΔxiXi,Yi,xj,yj,ΔyiXi,Yi,xj,yjから補正値Δxi,Δyiを導出し、該補正値を用いてエンコーダシステム71からのウエハステージWST2の位置計測情報x,yをそれぞれx-Δxi,y-Δyiと補正する。主制御装置20は、補正した位置計測情報x-Δxi,y-Δyiを用いて、ウエハステージWST2を駆動位置制御する。なお、本実施形態では露光時移動領域内の5つの計測位置及びアライメント時移動領域内のI1の計測位置基準位置を含むを選択したが、補正マップの作成に費やす時間、要する補正精度等より、計測位置の数及び位置を定めることとする。本実施形態の露光装置100では、両ウエハステージWST1,WST2は同様に構成されているので、補正マップΔXiXk,Yk,xi,yi,ΔYiXk,Yk,xi,yi及びΔxiXi,Yi,xj,yj,ΔyiXi,Yi,xj,yjは両方のウエハステージWST1,WST2に対して兼用することができる。なお、ウエハステージWST1,WST2間の個体差がある場合、両ステージのそれぞれに対して補正マップを作成することとする。作成手順は、ウエハステージWST1,WST2が入れ替わる以外、上述の手順と同様である。なお、本実施形態では、一方のウエハステージの移動に伴う磁場の変化に起因する他方のウエハステージについてのエンコーダシステム70,71の計測誤差に注目しているため、補正マップを作成するに際し、一方のウエハステージを、逐一、計測位置に位置決めすることとした。ここで、一方のウエハステージを、各計測位置から、例えば単位加速度単位駆動力でX軸方向及びY軸方向のそれぞれに駆動することとしても良い。この場合、一方のウエハステージの移動に伴う雰囲気中の圧力変動等、力学的効果に起因する他方のウエハステージについてのエンコーダシステム70,71の計測誤差を補正することのできる補正マップが得られる。次に、エンコーダシステム70,71による3自由度方向Z,θx,θyの位置計測の原理などについてさらに説明する。本実施形態では、前述のようなエンコーダヘッド601~604及びスケール板21の構成及び配置を採用したことにより、露光時移動領域内では、ウエハステージWST1WST2の位置に応じて、エンコーダヘッド601~604のうちの少なくとも3つがスケール板21に対向する。スケール板21に対向するヘッドエンコーダから有効な計測値が主制御装置20に送信される。主制御装置20は、エンコーダ701~704の計測結果に基づいて、ウエハテーブルWTB1WTB2の位置Z,θx,θyを算出する。ここで、エンコーダ701~704のZ軸方向に関する計測値前述のXY平面内の一軸方向についての計測値C1~C4と区別して、それぞれ、D1~D4と表記するは、ウエハテーブルWTB1WTB2の位置Z,θx,θyに対して、次式5~8のように依存する。D1=-ptanθyptanθxZ...5D2=ptanθyptanθxZ...6D3=ptanθy-ptanθxZ...7D4=-ptanθy-ptanθxZ...8ただし、pは、ウエハテーブルWTB1WTB2の中心からのヘッドのX軸及びY軸方向に関する距離図5参照である。主制御装置20は、ウエハテーブルWTB1WTB2の位置に応じて3つのヘッドエンコーダの計測値の従う式を上式5~8から選択し、それらから構成される連立方程式に3つのヘッドエンコーダの計測値を代入して解くことにより、ウエハテーブルWTB1WTB2の位置Z,θx,θyを算出する。例えば、ウエハテーブルWTB1WTB2が露光中心光軸AXからX側及びY側に位置する場合、主制御装置20は、ヘッド601,602,604エンコーダ701,702,704の計測値が従う式5,6,及び8から連立方程式を組み、それらの左辺に計測値を代入して解く。ウエハテーブルWTB1WTB2の位置Z,θx,θyの算出は、先に説明したようにウエハアライメント時のフォーカスマッピングの際、及び露光の際に行われる。主制御装置20は、事前に取得したウエハの凹凸情報と、上記の算出結果Z,θx,θyとに基づいて、露光時移動領域内でウエハテーブルWTB1WTB2をフォーカスレベリング制御する。ウエハテーブルWTB1WTB2が、アライメント時移動領域内に位置する場合、主制御装置20は、エンコーダシステム71を用いて3自由度方向Z,θx,θyの位置情報を計測する。この場合の計測原理等は、露光中心がアライメント系ALGの検出中心に、スケール板21がスケール板22に置き換わる以外、先のエンコーダシステム70を用いる場合と同様である。主制御装置20は、エンコーダシステム71の計測結果に基づいて、露光時のフォーカスレベリング制御のため、ウエハの面位置とウエハテーブルWTB1WTB2のZ位置との関係を取得する。さらに、主制御装置20は、ウエハステージWST1,WST2の位置に応じて、スケール板21,22に対向するヘッド601~604のうちの3つを切り換えて使用する。ここで、エンコーダヘッドを切り換える際には、ウエハテーブルWTB1WTB2の位置の計測結果の連続性を保証するため、前述と同様のつなぎ処理が行われる。エンコーダシステム70,71によるウエハテーブルWTB1WTB2の3自由度方向Z,θx,θyの位置計測においても、主制御装置20は、前述と同様に、補正マップを作成し、その補正マップを用いてエンコーダシステム70,71からのウエハテーブルWTB1WTB2の3自由度方向Z,θx,θyの位置計測情報を補正し、その補正した位置計測情報を用いて、例えば前述のフォーカスレべリング制御などを行うことができる。ただし、主制御装置20は、エンコーダシステム70用の補正マップを作成するに際し、エンコーダシステム70の少なくとも3つのエンコーダでウエハテーブルWTB1のZ位置を計測しながら、ウエハテーブルWTB1のZ位置を変更してフォーカス計測マークをウエハ上に転写し、そのウエハの現像後にレジストパターンを検出することで、マークのフォーカス情報ウエハテーブルのZ軸方向の位置を計測する。また、エンコーダシステム71用の補正マップを作成するに際し、アライメント時移動領域内アライメント系ALG近傍に設置された多点AF系AFを用いてウエハテーブルのZ軸方向の位置を計測する。以上説明したように、本実施形態の露光装置100によると、主制御装置20により、エンコーダシステム70で計測された一方のウエハステージWST1又はWST2の位置情報と、両方のウエハステージWST2及びWST1の位置に応じた補正情報予め作成した補正マップ又は補正関数とに基づいて、露光時移動領域内で、平面モータ30を介して一方のウエハステージWST1又はWST2が駆動される。ここで、補正マップ等から補正値を取り出すためのウエハステージWST2、WST1の位置情報は、エンコーダシステム71、70で計測された位置情報が用いられる。従って、露光時移動領域内では、一方のウエハステージWST1又はWST2を高精度に駆動することが可能となる。また、主制御装置20により、エンコーダシステム71で計測された他方のウエハステージWST2又はWST1の位置情報と、両方のウエハステージWST2及びWST1の位置に応じた補正情報予め作成した補正マップ又は補正関数とに基づいて、アライメント時移動領域内で、平面モータ30を介して他方のウエハステージWST2又はWST1が駆動される。ここで、補正マップ等から補正値を取り出すためのウエハステージWST2、WST1の位置情報は、エンコーダシステム71、70で計測された位置情報が用いられる。従って、アライメント時移動領域内では、他方のウエハステージWST2又はWST1を高精度に駆動することが可能となる。本実施形態では、補正情報は、6自由度方向に関して求められている。従って、本実施形態の露光装置100によると、アライメント時における高いアライメント計測精度及びフォーカスマッピング精度を確保することができ、これらの結果を用いて露光が行われるので、高い露光精度重ね合わせ精度、フォーカス制御精度等を実現して、最終的には、半導体デバイスの歩留まりを向上させることが可能となる。なお、上記実施形態では、エンコーダシステム70の補正マップ又は補正関数の作成のため、テストパターンMRの像をテストウエハWTに転写し、その転写像の位置計測を行うことで、補正マップ又は補正関数の作成のためのデータΔXki,ΔYkik=1~5、i=1~Iを求める場合について説明したが、これに限らず、ウエハテーブルに少なくともその一部空間像計測用スリットを含むが配置された空間像計測装置を設け、該空間像計測装置を用いて、テストパターンMRの像を計測し、その空間像計測により得られる横軸をエンコーダシステム70の計測情報とする空間像プロファイルからテストパターンMRの像の結像位置を求めることで、上記のデータΔXki,ΔYkik=1~5、i=1~Iを求めても良い。また、露光装置が上述の空間像計測装置を備えている場合、例えば、その空間像計測用スリット以下、スリットと称するを複数、例えば少なくともウエハステージWST1のウエハテーブルWTB1の四隅を含む複数箇所に配置して、それぞれのスリットでテストパターンの空間像を計測可能にすることができる。この場合、主制御装置20は、ウエハステージWST1ウエハテーブルWTB1を駆動して複数のスリットを順次に投影光学系PLの下方に位置させ、その都度、ウエハステージWST2を上記実施形態と同様にアライメント時移動領域内の複数箇所に順次位置決めし、位置決め位置毎に、投影光学系PLの下方に位置するスリットを用いて、テストパターンの空間像計測を、ウエハテーブルWTB1の位置をエンコーダシステム70で計測しつつ、スリットスキャン方式で行っても良いし、あるいは、主制御装置20は、ウエハステージWST2を上記実施形態と同様にアライメント時移動領域内の複数箇所に順次位置決めし、位置決め位置毎に、ウエハステージWST1ウエハテーブルWTB1を駆動して複数のスリットを順次に投影光学系PLの下方に位置させて、テストパターンの空間像計測を、ウエハテーブルWTB1の位置をエンコーダシステム70で計測しつつ、スリットスキャン方式で行っても良い。いずれにしても、計測されたテストパターンの空間像のプロファイルから求められるテストパターンの像の結像位置を求めることで、上記のデータΔXki,ΔYkik=1~5、i=1~Iを求めることができる。同様に、上記実施形態と同様に、テストパターンMRの像をテストウエハWTに転写し、その転写像の位置計測を行う場合であっても、ウエハステージWST2をアライメント時移動領域内の複数の位置に位置決めする都度、ウエハテーブルWTBを露光時移動領域内の複数位置に位置決めし、位置決め位置毎にテストパターンMRの像をテストウエハWTに転写しても良い。また、上記実施形態では、計測位置とは別に基準位置を定め、基準位置におけるマークの位置の実測値を基準として、各計測位置におけるマーク位置の差を求めるものとしたが、これに限らず、複数の計測位置の1つにおけるマークの位置の実測値を基準として、残りの各計測位置におけるマーク位置の差を求めることとしても良い。また、上記実施形態では、主としてエンコーダシステム70,71を用いてウエハステージWST1,WST2の位置情報を計測し、ウエハステージWST2,WST1の移動に伴う磁場変化を主要因とするエンコーダシステム70,71の計測誤差の補正に本発明を適用する場合を例示した。しかし、これに限らず、エンコーダシステム70,71ではなく、ウエハ干渉計システム18をウエハステージWST1,WST2の位置情報の計測に主として用いる場合に、上記の磁場変化を主要因とするウエハ干渉計システム18の計測誤差の補正にも本発明を適用することは有効である。ウエハ干渉計システム18では、干渉計ユニットからウエハステージWST1,WST2上に設けられた反射面移動鏡等不図示に計測ビームが照射される。この場合、干渉計ユニットがメインフレームに取り付けられている場合は、ウエハステージWST2,WST1の移動に伴う磁場変化により上記実施形態と同様の理由によって干渉計システムに計測誤差が生じる。また、干渉計ユニットがメインフレームに取り付けられていない場合においても、ウエハステージWST1,WST2上の磁性体を含む構造物が磁場変化によって変形し、その構造物の変形に伴って反射面が変位又は変形する蓋然性が高いからである。また、上記実施形態の露光装置100では、ムービングコイル型の平面モータ30を採用したウエハステージ装置50及びこれを備える露光装置100に本発明が適用された場合を例示した。しかし、ステージ装置では、ムービングコイル型の平面モータに代えて例えば米国特許第6,437,463号明細書などで開示されるムービングマグネット型の平面モータを採用することも可能である。この場合、ウエハステージWST1,WST2に永久磁石が設けられ、ステージベース12の内部にコイルが配置されることになる。この場合にも、ウエハステージWST1,WST2の移動に伴って磁場が変化することは明らかであり、この磁場の変化によって、ウエハステージWST1,WST2の位置を計測するエンコーダ又は干渉計等の計測装置に計測誤差が発生することは明らかである。従って、この場合にも、本発明を適用することは有効である。なお、上記実施形態では、スケール板21,22のそれぞれの下面に2次元グレーティングRGが形成された場合について例示したが、これに限らず、対応するエンコーダヘッド601~604の計測方向XY平面内での一軸方向のみを周期方向とする1次元回折格子が形成された場合においても、本発明は適用可能である。また、上記実施形態では、各ヘッド601~604エンコーダ701~704として、XY平面内の一軸方向とZ軸方向とを計測方向とする2次元ヘッドが採用された場合について例示したが、これに限らず、XY平面内の1軸方向を計測方向とする1次元エンコーダとZ軸方向を計測方向とするZセンサ例えば光ピックアップ方式あるいはその他の方式の面位置センサなどとを採用しても良い。また、Zセンサとともに、XY平面内で互いに直交する2軸方向を計測方向とする2次元エンコーダを採用しても良い。また、上記実施形態で説明したエンコーダシステムの構成は一例に過ぎず、本発明がこれに限定されないことは勿論である。例えば、ウエハテーブルウエハステージ上に回折格子スケールを設け、これに対向してエンコーダヘッドをウエハステージの外部に配置する構成のエンコーダシステムを採用することも可能である。この場合においても、エンコーダヘッドとして、上記実施形態において採用したXY平面内の一軸方向とZ軸方向とを計測方向とする2次元ヘッドに限らず、XY平面内の1軸方向又は直交する2軸方向を計測方向とする1次元又は2次元のエンコーダとZセンサとの組み合わせを、採用しても良い。なお、上記実施形態では、スキャニングステッパ型のツインウエハステージを備えた露光装置以下、ツインタイプ露光装置と略称するに本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの一括露光型のツインタイプ露光装置に本発明を適用しても良い。ステッパなどであっても、露光対象の物体が搭載されたステージの位置をエンコーダで計測することにより、空気揺らぎに起因する位置計測誤差の発生を殆ど零にすることができ、エンコーダの計測値に基づいて、ウエハステージを高精度に位置決めすることが可能になり、結果的に高精度なレチクルパターンのウエハ上への転写が可能になる。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップアンドスティッチ方式のツインタイプ露光装置にも本発明は適用することができる。また、例えば、米国特許出願公開第2007/0211235号明細書及び米国特許出願公開第2007/0127006号明細書などに開示されるようにウエハステージとは別に、計測部材例えば、基準マーク、及び/又はセンサなどを含む計測ステージを備える露光装置計測ステージ付き露光装置と略称するに本発明を適用しても良い。また、例えば国際公開第99/049504号、米国特許出願公開第2005/0259234号明細書などに開示される液浸型のツインタイプ露光装置又は計測ステージ付き露光装置に本発明を適用しても良い。なお、以下で説明する各種露光装置は、特に明示しないが、ツインタイプ露光装置又は計測ステージ付き露光装置などの複数ステージを備える露光装置である。また、上記実施形態の露光装置を含む本発明に係る投影露光装置では、投影光学系は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系PLは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。また、照明光ILは、ArFエキシマレーザ光波長193nmに限らず、KrFエキシマレーザ光波長248nmなどの紫外光や、F2レーザ光波長157nmなどの真空紫外光であっても良い。例えば米国特許第7023610号明細書に開示されているように、真空紫外光としてDFB半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム又はエルビウムとイッテルビウムの両方がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン又は位相パターン減光パターンを形成した光透過型マスクレチクルを用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第6,778,257号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子空間光変調器の一種であるDMDDigitalMicromirrorDeviceなどを含むを用いても良い。かかる可変成形マスクを用いる場合には、ウエハ又はガラスプレート等が搭載されるステージが、可変成形マスクに対して走査されるので、そのステージの位置をエンコーダを用いて計測することで、上記実施形態と同等の効果を得ることができる。また、例えば国際公開第2001/035168号に開示されているように、干渉縞をウエハW上に形成することによって、ウエハW上にラインアンドスペースパターンを形成する露光装置リソグラフィシステムにも本発明を適用することができる。さらに、例えば米国特許第6,611,316号明細書に開示されているように、2つのレチクルパターンを、投影光学系を介してウエハ上で合成し、1回のスキャン露光によってウエハ上の1つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも本発明を適用することができる。なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体エネルギビームが照射される露光対象の物体はウエハに限られるものでなく、ガラスプレート、セラミック基板フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど他の物体でも良い。露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機EL、薄膜磁気ヘッド、撮像素子CCD等、マイクロマシン及びDNAチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、半導体デバイスは、デバイスの機能性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、上記実施形態の露光装置で、マスクに形成されたパターンをウエハ等の物体上に転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハ物体を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置及び露光方法が用いられるので、高集積度のデバイスを歩留り良く製造することができる。"