"磁極周りに巻かれた複数のX方向磁場励磁用コイルと、前記磁極周りに巻かれた複数のY方向磁場励磁用コイルと備えた二重窓枠型電磁石であって、前記磁極内であって、前記複数のX方向磁場励磁用コイルに電流が流れる領域は、X方向磁場励磁電流通過メイン領域とX方向磁場励磁電流通過サブ領域から構成され、前記磁極内であって、前記複数のY方向磁場励磁用コイルに電流が流れる領域は、Y方向磁場励磁電流通過メイン領域とY方向磁場励磁電流通過サブ領域から構成され、前記X方向磁場励磁電流通過サブ領域は、前記Y方向磁場励磁電流通過メイン領域と前記Y方向磁場励磁電流通過サブ領域の間に配置され、X方向磁場励磁時に前記X方向磁場励磁電流通過メイン領域に発生するY方向磁場の影響を軽減し、前記Y方向磁場励磁電流通過サブ領域は、前記X方向磁場励磁電流通過メイン領域と前記X方向磁場励磁電流通過サブ領域の間に配置され、Y方向磁場励磁時に前記Y方向磁場励磁電流通過メイン領域に発生するX方向磁場の影響を軽減することを特徴とする走査電磁石。請求項1記載の走査電磁石において、前記磁極が断面正方形の筒状体であることを特徴とする走査電磁石。請求項2記載の走査電磁石において、前記X方向磁場励磁電流通過サブ領域は、X方向磁場励磁電流通過第1サブ領域とX方向磁場励磁電流通過第2サブ領域とから構成され、前記Y方向磁場励磁電流通過サブ領域は、Y方向磁場励磁電流通過第1サブ領域とY方向磁場励磁電流通過第2サブ領域とから構成され、前記X方向磁場励磁電流通過メイン領域は、前記正方形の一の相対向する辺に配置され、前記Y方向磁場励磁電流通過メイン領域は、前記正方形の他の相対向する辺に配置され、前記X方向磁場励磁電流通過第1サブ領域は、前記Y方向磁場励磁電流通過第1サブ領域と前記Y方向磁場励磁電流通過第2サブ領域の間に配置され、前記X方向磁場励磁電流通過第2サブ領域は、前記Y方向磁場励磁電流通過メイン領域と前記Y方向磁場励磁電流通過第1サブ領域の間に配置され、前記Y方向磁場励磁電流通過第1サブ領域は、前記X方向磁場励磁電流通過第1サブ領域と前記X方向磁場励磁電流通過第2サブ領域の間に配置され、前記Y方向磁場励磁電流通過第2サブ領域は、前記X方向磁場励磁電流通過メイン領域と前記X方向磁場励磁電流通過第1サブ領域の間に配置されることを特徴とする走査電磁石。請求項1記載の走査電磁石において、前記磁極が円筒体であることを特徴とする走査電磁石。請求項1記載の走査電磁石を備える荷電粒子ビーム照射装置。しかし、二重窓枠型電磁石第2従来技術では、異なる系統のコイルが互いに干渉して、いわゆる六極磁場が発生し、周辺部において一様磁場領域とならない。一様磁場領域から外れたビームはビームサイズが元の値から変化する等、照射計画に通りの線量を患部に付与できない恐れがある。大きな一様磁場領域が得られない結果、走査電磁石の内部でのビーム通過領域を第1従来技術に比べて狭くせざるを得ず、ビームの走査範囲に制限が課されてしまう。X方向磁場を励磁する電磁石とY方向磁場を励磁する電磁石の2つの電磁石を用いる第1従来技術の場合、それぞれの電磁石において、コイルのギャップに比べて磁極幅を長くするXY非対称ことにより、上記の課題を軽減できる。しかし、二重窓枠型電磁石は、X方向磁場とY方向磁場の2方向の磁場を励磁するため、その磁極形状はXとYが対称直線Y=Xに対し対称となる。第1従来技術のようにXY非対称とすることはできない。本発明の目的は、X方向磁場とY方向磁場の2方向の磁場を励磁する二重窓枠型電磁石において、一様磁場領域を広く取ることにより、X方向磁場を励磁する電磁石とY方向磁場を励磁する電磁石の2つの電磁石を用いる場合第1従来技術と同等のビーム走査範囲を維持できる走査電磁石を提供することである。1上記目的を達成するために、本発明は、磁極周りに巻かれた複数のX方向磁場励磁用コイルと、前記磁極周りに巻かれた複数のY方向磁場励磁用コイルと備えた二重窓枠型電磁石であって、前記磁極内であって、前記複数のX方向磁場励磁用コイルに電流が流れる領域は、X方向磁場励磁電流通過メイン領域とX方向磁場励磁電流通過サブ領域から構成され、前記磁極内であって、前記複数のY方向磁場励磁用コイルに電流が流れる領域は、Y方向磁場励磁電流通過メイン領域とY方向磁場励磁電流通過サブ領域から構成され、前記X方向磁場励磁電流通過サブ領域は、前記Y方向磁場励磁電流通過メイン領域と前記Y方向磁場励磁電流通過サブ領域の間に配置され、X方向磁場励磁時に前記X方向磁場励磁電流通過メイン領域に発生するY方向磁場の影響を軽減し、前記Y方向磁場励磁電流通過サブ領域は、前記X方向磁場励磁電流通過メイン領域と前記X方向磁場励磁電流通過サブ領域の間に配置され、Y方向磁場励磁時に前記Y方向磁場励磁電流通過メイン領域に発生するX方向磁場の影響を軽減する。このように構成した本発明においては、例えば、Y方向磁場励磁の場合、Y方向磁場励磁電流通過メイン領域に隣接するX方向磁場励磁電流通過サブ領域は励磁されない。従って、従来技術に比べてX方向の磁場は軽減される。更に、X方向磁場励磁電流通過メイン領域に隣接するY方向磁場励磁電流通過サブ領域はX方向に発生する磁場の向きをY方向に変える様に作用する。これらの作用により、六極磁場の影響は軽減され、第2従来技術に比べて大きな一様磁場領域が得られる。すなわち、第1従来技術と同等の一様磁場領域が得られる。2上記1において、好ましくは、前記磁極が断面正方形の筒状体である。磁極断面が正方形であることにより、二重窓枠型電磁石はXY対称な断面形状となる。3上記2において、好ましくは、前記X方向磁場励磁電流通過サブ領域は、X方向磁場励磁電流通過第1サブ領域とX方向磁場励磁電流通過第2サブ領域とから構成され、前記Y方向磁場励磁電流通過サブ領域は、Y方向磁場励磁電流通過第1サブ領域とY方向磁場励磁電流通過第2サブ領域とから構成され、前記X方向磁場励磁電流通過メイン領域は、前記正方形の一の相対向する辺に配置され、前記Y方向磁場励磁電流通過メイン領域は、前記正方形の他の相対向する辺に配置され、前記X方向磁場励磁電流通過第1サブ領域は、前記Y方向磁場励磁電流通過第1サブ領域と前記Y方向磁場励磁電流通過第2サブ領域の間に配置され、前記X方向磁場励磁電流通過第2サブ領域は、前記Y方向磁場励磁電流通過メイン領域と前記Y方向磁場励磁電流通過第1サブ領域の間に配置され、前記Y方向磁場励磁電流通過第1サブ領域は、前記X方向磁場励磁電流通過第1サブ領域と前記X方向磁場励磁電流通過第2サブ領域の間に配置され、前記Y方向磁場励磁電流通過第2サブ領域は、前記X方向磁場励磁電流通過メイン領域と前記X方向磁場励磁電流通過第1サブ領域の間に配置される。4上記1において、好ましくは、前記磁極が円筒体である。磁極断面が円形であることにより、二重窓枠型電磁石はXY対称な断面形状となる。5上記1の走査電磁石は、好ましくは、荷電粒子ビーム照射装置に備えられる。二重窓枠型電磁石により照射装置の小型化を図ることができる。その結果、システム全体の小型化、低コスト化を図ることができる。本発明によれば、二重窓枠型電磁石を用いることにより、X方向磁場を励磁する電磁石とY方向磁場を励磁する電磁石の2つの電磁石を用いる場合第1従来技術に比べて、照射装置の小型化を図ることができる。また、第2従来技術のコイル配置を変更することで、一様磁場領域を広く取り、第1従来技術と同等のビーム走査範囲を維持できる。<第1実施形態>以下、本発明の第1実施形態を図面を用いて説明する。~構成~図1は本実施例における粒子線治療システム100の概略構成図である。本システム100は、イオン源200、入射用加速器300、主加速器400、ビーム輸送装置500、照射装置600から構成される。本システム100は陽子線を用いた治療装置であり、イオン源200で水素イオン、すなわち陽子を発生させ、入射用加速器300で予備加速されたイオンは主加速器400に入射される。主加速器400では患者ごとの治療計画によって計画されたビームの飛程に合わせたエネルギーまでビームが加速され、ビーム輸送装置500に出射される。出射されたビームはビーム輸送装置500によって適切なサイズに調整され、照射装置600まで輸送される。ビーム輸送装置500は、回転ガントリー510を有し、回転軸520を軸としてビーム輸送装置500と、それに接続された照射装置600が回転する。これにより、患者ごとの治療計画によって定められた照射方向から、照射点700にビームが照射される。図2は照射装置600の概略構成図である。照射装置600はスキャニング照射法の照射装置である。図示上方からビームが入射され、走査電磁石610によるビーム軌道に垂直な磁場成分からの力により偏向され、照射点700に対し、所定の走査範囲710内でビームを走査できる。走査電磁石610の下流にはビーム位置を確認するビーム位置モニタ620が設置されており、このモニタ620によって照射中に、有感部621を通過したビーム位置を測定し、その照射位置を確認している。図2では、走査電磁石610のコイルの一部のみ図示している。走査電磁石610にはX方向磁場励磁用コイル611とY方向磁場励磁量コイル612が備えられており、それぞれのコイル611、612にはX方向磁場励磁用電源図示せずとY方向磁場励磁用電源図示せずがそれぞれ接続されており、治療計画装置によって計画された患者ごとのビーム照射位置と照射経路に従って、制御装置からの指令によって計算した電流パターンを出力する。磁極613は断面正方形の筒状体をしており、窓枠状の厚さ約05mmの電磁鋼板を積層したものである。その平面形状は正方形であり、ビーム通過領域615も正方形である。照射装置600の長さは走査電磁石の磁場と照射野サイズの比で決められている。例えば、片側ビームサイズが5mm、運動エネルギー220MeVの陽子線を一辺400mmの正方形の範囲で、最大磁場02T、磁極長700mmの電磁石で走査する。走査電磁石の下流側の端面と照射点の距離は2900mmとなる。一方、一様磁場領域615は一辺54mmの正方形となる。X方向磁場励磁用コイル611とY方向磁場励磁用コイル612が磁極613周りに巻かれている。図3は、走査電磁石610の断面図である。X方向磁場励磁用コイル611は複数のコイルから構成され、磁極内のコイル101~120を無地で示す。Y方向磁場励磁用コイル612は複数のコイルから構成され、磁極内のコイル201~220をハッチングで示す。本発明の特徴的構成は各コイルの配置にある。図示正方形上側には、コイル102~107が配置され、図示正方形下側には、コイル112~117が配置され、X方向磁場励磁電流通過メイン領域121,122を構成している。図示正方形右側には、コイル202~207が配置され、図示正方形左側には、コイル212~217が配置され、Y方向磁場励磁電流通過メイン領域221,222を構成している。図示正方形上側において、コイル101は、コイル218とコイル219との間に配置され、コイル108は、コイル201とコイル220との間に配置され、図示正方形下側において、コイル111は、コイル208とコイル209との間に配置され、コイル118は、コイル211とコイル210との間に配置され、それぞれ、X方向磁場励磁電流通過第1サブ領域を構成している。図示正方形右側において、コイル109は、メイン領域221とコイル201との間に配置され、コイル110は、メイン領域221とコイル208との間に配置され、図示正方形左側において、コイル119は、メイン領域222とコイル211との間に配置され、コイル120は、メイン領域222とコイル218との間に配置され、それぞれ、X方向磁場励磁電流通過第2サブ領域を構成している。図示正方形右側において、コイル201は、コイル108とコイル109との間に配置され、コイル208は、コイル111とコイル110との間に配置され、図示正方形左側において、コイル211は、コイル118とコイル119との間に配置され、コイル218は、コイル101とコイル120との間に配置され、それぞれ、Y方向磁場励磁電流通過第1サブ領域を構成している。図示正方形上側において、コイル219は、メイン領域121とコイル101との間に配置され、コイル220は、メイン領域121とコイル108との間に配置され、図示正方形下側において、コイル209は、メイン領域122とコイル111との間に配置され、コイル210は、メイン領域122とコイル118との間に配置され、それぞれ、Y方向磁場励磁電流通過第2サブ領域を構成している。X方向磁場励磁用コイル611では、電源からコイル101~120まで順次直列接続され電源に戻る回路が構成されている。X方向磁場励磁用コイル611に電流を流した場合は図示X方向に磁場が励磁される。Y方向磁場励磁用コイル612では、別の電源からコイル201~220まで順次直列接続され電源に戻る回路が構成されている。Y方向磁場励磁用コイル612に電流を流した場合は図示Y方向に磁場が励磁される。異なるコイル通過領域を通過するコイル間の接続は磁極外のコイル接続部614図2参照を介して行われている。~作用効果~従来技術に係る二重窓枠型電磁石第2従来技術と比較することにより、本実施形態の効果を説明する。図4は、従来技術に係る走査電磁石の断面図である。本実施形態のX方向磁場励磁用コイル109,110,119,120の配置位置に、Y方向磁場励磁用コイル231,232,233,234が配置され、本実施形態のY方向磁場励磁用コイル219,220,209,210の配置位置に、X方向磁場励磁用コイル131,132,133,134が配置される。すなわち、従来技術においては、正方形の上側および下側全域に、X方向磁場励磁電流通過領域が構成され、正方形の右側および左側全域に、Y方向磁場励磁電流通過領域が構成される。メイン領域、サブ領域といった区分はない全てメイン領域。ところで、鉄や電磁鋼などの磁性体の最大比透磁率はおおよそ5000から8000程度である。このような比透磁率の大きい磁性体のまわりに生じる磁場は磁性体表面に対しほぼ垂直な方向に生じる。この性質を用い、窓枠型電磁石では長方形の開口を持つ磁性体を磁極として用いる。例えば、長方形開口部の左右の端に設けられた励磁用コイルに互いに逆向きの電流を流すことで、開口部内に上下方向の磁場を励起できる。X方向磁場とY方向磁場の2方向の磁場を励磁する二重窓枠型電磁石においては、磁極および開口部の形状は正方形となる。X方向磁場励磁用コイル611に電流を流した場合は図示X方向に磁場が励磁され、Y方向磁場励磁用コイル612に電流を流した場合は図示Y方向に磁場が励磁される。従来技術の課題について説明する。例えば、Y方向磁場励磁用コイル612によりY方向に磁場が励磁される場合、二極磁場である。しかしながら、Y方向磁場励磁用コイル612周辺では、僅かながらX方向の磁場が生じる。このX方向磁場は中心からの距離の2乗に比例するように開口部の端に向けて大きくなっていく。その結果、特にコイル201,208,211,218周辺でのX方向磁場は無視できなくなり、いわゆる六極磁場となる。発生する磁場の概略を図4に追加する。Y方向磁場に対し、X方向磁場は102から101程度の大きさとなるため、大きな一様磁場領域615が得られない。この課題を図5、図6において更に詳しく説明する。図5は、X方向の磁場分布を示す図であり、図6はY方向の磁場分布を示す図である。ともに、Y方向磁場励磁用コイル612によりY方向の磁場を励磁する場合、中心磁場で規格化した磁場について示している。従来技術の磁場分布について実線で示す。XY方向ともに、中心から離れるに従って、六極磁場の影響が大きくなり、一様磁場でなくなる。一方、本実施形態の構成は以下のように作用する。図7は、走査電磁石610の断面図図3にY方向磁場励磁用コイル612により発生するY方向の磁場の概略を追加したものである。メイン領域221に隣接するX方向磁場励磁用コイル109,110およびメイン領域222に隣接するX方向磁場励磁用コイル119,120は励磁されない。従って、従来技術に比べてX方向の磁場は軽減される。更に、メイン領域121に隣接するY方向磁場励磁用コイル219,220およびメイン領域122に隣接するY方向磁場励磁用コイル209,210はX方向に発生する磁場の向きをY方向に変える様に作用する。これらの作用により、六極磁場の影響は軽減され、従来技術に比べて大きな一様磁場領域615が得られる。この効果を図5、図6において更に詳しく説明する。図5、図6に、本実施形態の磁場分布について破線で示す。XY方向ともに、中心から離れるに従って、六極磁場の影響が大きくなり、一様磁場でなくなるという傾向は従来技術と同じである。しかし、従来技術にくらべて、本実施形態のほうが、XY方向ともに、より広い範囲で磁場が一様である規格磁場が1に近いことが分かる。したがって、より大きな一様磁場領域615が得られる。なお、Y方向磁場励磁の場合について述べたが、X方向磁場励磁の場合も同様である。また、本実施形態は、二重窓枠型電磁石を用いることにより、照射装置の小型化を図ることができる。<第2実施形態>~構成~図8は、第2実施形態に係る走査電磁石の断面図である。第1実施形態図3参照のX方向磁場励磁用コイル109,110,119,120の配置位置に、Y方向磁場励磁用コイル231,232,233,234が配置され、第1実施形態のY方向磁場励磁用コイル219,220,209,210の配置位置に、X方向磁場励磁用コイル131,132,133,134が配置される。さらに、第1実施形態のX方向磁場励磁用コイル101,108,111,118の配置位置に、Y方向磁場励磁用コイル236,237,238,239が配置され、第1実施形態のY方向磁場励磁用コイル201,208,211,218の配置位置に、X方向磁場励磁用コイル136,137,138,139が配置される。言い換えると、従来技術図4参照のX方向磁場励磁用コイル101,108,111,118の配置位置に、Y方向磁場励磁用コイル236,237,238,239が配置され、従来技術のY方向磁場励磁用コイル201,208,211,218の配置位置に、X方向磁場励磁用コイル136,137,138,139が配置される。すなわち、図示正方形上側には、コイル131,102~107,132が配置され、図示正方形下側には、コイル133,112~117,134が配置され、X方向磁場励磁電流通過メイン領域121,122を構成している。図示正方形右側には、コイル231,202~207,232が配置され、図示正方形左側には、コイル233,212~217,234が配置され、Y方向磁場励磁電流通過メイン領域221,222を構成している。図示正方形右側において、コイル136は、メイン領域221とコイル237との間に配置され、コイル137は、メイン領域221とコイル238との間に配置され、図示正方形左側において、コイル138は、メイン領域222とコイル239との間に配置され、コイル139は、メイン領域222とコイル236との間に配置され、それぞれ、X方向磁場励磁電流通過サブ領域を構成している。図示正方形上側において、コイル236は、メイン領域121とコイル139との間に配置され、コイル237は、メイン領域121とコイル136との間に配置され、図示正方形下側において、コイル238は、メイン領域122とコイル137との間に配置され、コイル239は、メイン領域122とコイル138との間に配置され、それぞれ、Y方向磁場励磁電流通過サブ領域を構成している。~作用効果~第1実施形態と同様に、Y方向磁場励磁の場合を例に、本実施形態の作用効果を説明する。発生するY方向の磁場の概略を図8に追加する。メイン領域221に隣接するX方向磁場励磁用コイル136,137およびメイン領域222に隣接するX方向磁場励磁用コイル138,139は励磁されない。従って、従来技術に比べてX方向の磁場は軽減される。更に、メイン領域121に隣接するY方向磁場励磁用コイル236,237およびメイン領域122に隣接するY方向磁場励磁用コイル238,239はX方向に発生する磁場の向きをY方向に変える様に作用する。これらの作用により、六極磁場の影響は軽減され、従来技術図4参照に比べて大きな一様磁場領域615が得られる。なお、Y方向磁場励磁の場合について述べたが、X方向磁場励磁の場合も同様である。<第3実施形態>~構成~第1実施形態および第2実施形態は、本発明を断面正方形の筒状体の磁極613に適用したものであるのに対し、第3実施形態は、本発明を円筒体の磁極616に適用したものである。図9は照射装置600の概略構成図である。照射点700に対し半径200mmの範囲720でビームを走査するように、一様磁場領域617は一辺27mmの円形となる。図10は、第3実施形態に係る走査電磁石610の断面図である。X方向磁場励磁用コイル611は複数のコイルから構成され、磁極内のコイル151~166を無地で示す。Y方向磁場励磁用コイル612は複数のコイルから構成され、磁極内のコイル251~266をハッチングで示す。ここで、X軸を0°とし反時計回りに角度を規定する。説明の便宜上、45°~135°の範囲を図示円周上側、135°~225°の範囲を図示円周左側、225°~315°の範囲を図示円周下側、315°~405°45°の範囲を図示周右側と呼ぶ。図示円周上側には、コイル151~156が配置され、図示円周下側には、コイル159~164が配置され、X方向磁場励磁電流通過メイン領域171,172を構成している。図示円形右側には、コイル252~257が配置され、図示円周左側には、コイル260~265が配置され、Y方向磁場励磁電流通過メイン領域271,272を構成している。図示円周右側において、コイル157は、メイン領域271とコイル251との間に配置され、コイル158は、メイン領域271とコイル258との間に配置され、図示円周左側において、コイル165は、メイン領域272とコイル259との間に配置され、コイル166は、メイン領域272とコイル266との間に配置され、それぞれ、X方向磁場励磁電流通過サブ領域を構成している。図示円周上側において、コイル266は、メイン領域171とコイル166との間に配置され、コイル251は、メイン領域171とコイル157との間に配置され、図示円周下側において、コイル258は、メイン領域172とコイル158との間に配置され、コイル259は、メイン領域172とコイル165との間に配置され、それぞれ、Y方向磁場励磁電流通過サブ領域を構成している。~作用効果~従来技術と比較することにより、本実施形態の効果を説明する。なお、従来技術の磁極613は断面正方形の筒状体であるが、従来技術に係るコイル配置図4参照を円筒体の磁極616に適用した場合を仮定して、本実施形態の従来技術とする。図11は、従来技術に係るコイル配置を円筒体の磁極616に適用した場合の走査電磁石の断面図である。本実施形態のX方向磁場励磁用コイル157,158,165,166の配置位置に、Y方向磁場励磁用コイル281,282,283,284が配置され、本実施形態のY方向磁場励磁用コイル251,258,259,266の配置位置に、X方向磁場励磁用コイル181,182,183,184が配置される。すなわち、従来技術においては、円周の上側および下側全域に、X方向磁場励磁電流通過領域が構成され、円周の右側および左側全域に、Y方向磁場励磁電流通過領域が構成される。メイン領域、サブ領域といった区分はない。例えば、Y方向磁場励磁用コイル612によりY方向に磁場が励磁される場合、二極磁場である。しかしながら、Y方向磁場励磁用コイル612周辺では、僅かながらX方向の磁場が生じる。このX方向磁場は中心からの距離の2乗に比例するように開口部の端に向けて大きくなっていく。その結果、特にコイル281,282,283,284周辺でのX方向磁場は無視できなくなり、いわゆる六極磁場となり、大きな一様磁場領域617が得られない。この課題を図12、図13において更に詳しく説明する。図12は、X方向の磁場分布を示す図であり、図13はY方向の磁場分布を示す図である。ともに、Y方向磁場励磁用コイル612によりY方向の磁場を励磁する場合、中心磁場で規格化した磁場について示している。従来技術の磁場分布について実線で示す。XY方向ともに、中心から離れるに従って、六極磁場の影響が大きくなり、一様磁場でなくなる。発生する磁場の概略を図11に追加する。一方、本実施形態の磁場分布について破線で示す。XY方向ともに、中心から離れるに従って、六極磁場の影響が大きくなり、一様磁場でなくなるという傾向は従来技術と同じである。しかし、従来技術にくらべて、本実施形態のほうが、XY方向ともに、より広い範囲で磁場が一様である規格磁場が1に近いことが分かる。本実施形態において発生するY方向の磁場の概略を図10に追加する。メイン領域271に隣接するX方向磁場励磁用コイル157,158およびメイン領域272に隣接するX方向磁場励磁用コイル165,166は励磁されない。従って、従来技術に比べてX方向の磁場は軽減される。更に、メイン領域171に隣接するY方向磁場励磁用コイル251,266およびメイン領域172に隣接するY方向磁場励磁用コイル258,259はX方向に発生する磁場の向きをY方向に変える様に作用する。これらの作用により、六極磁場の影響は軽減され、従来技術図11参照に比べて大きな一様磁場領域617が得られる。なお、Y方向磁場励磁の場合について述べたが、X方向磁場励磁の場合も同様である。"