"それぞれ式Aによって表され、式A1によって表されるノルボルネンタイプのモノマーから誘導される第1のタイプのノルボルネンタイプの繰り返し単位及び第2のタイプのノルボルネンタイプの繰り返し単位:式中、mは、0、1、又は2であり、第1のタイプの繰り返し単位に関するRa、Rb、Rc、及びRdの少なくとも1つは架橋性ヒドロカルビル懸垂基であり、第2のタイプの繰り返し単位に関するRa、Rb、Rc、及びRdの少なくとも1つは、第1のタイプの繰り返し単位とは異なり、可視光スペクトルにおいて高い透明度を有するヒドロカルビル懸垂基であるを含む層形成性ポリマー。第1のタイプの繰り返し単位に関して、Ra、Rb、Rc、及びRdの1つが、式B、C、又はD:ここで、式B及びCに関して、nは1~4の整数であり、Aは、メチレン、C2~C6アルキレンから選択される随意的な連結基であり、R1及びR2は、それぞれ独立して、H、メチル、又はエチルから選択され;式Dに関して、A†は、メチレン、C2~C6アルキレン、又はC2~C6エーテルから選択される随意的な連結基であり、R3は、水素、C1~C4ヒドロカルビル、ニトリルCN、C1~C3ペルフルオロヒドロカルビル、又はF、Cl、若しくはBrを表すの1つによって表される架橋性ヒドロカルビル懸垂基である、請求項1に記載の層形成性ポリマー。架橋性懸垂基が、式B又は式C:によって表される、請求項2に記載の層形成性ポリマー。第2のタイプの繰り返し単位に関して、Ra、Rb、Rc、及びRdの1つが、式E、F、G、又はH:式中、A†は、存在する場合には、メチレン、C2~C6アルキレン、又はC2~C6エーテルから選択される連結基であり、それぞれのRは、独立して水素又はフッ素を表し、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素、フッ素、メチル、ペルフルオロメチル、エチル、又はペルフルオロエチルから選択され、nは1~6の整数であり、nは0~3の整数であり、Zは、CnR2n1、CR1R2n、CR2nCR1R2nOHの1つから選択され、Qは、存在する場合にはC2~C9アルキレンから選択されるの1つによって表されるヒドロカルビル懸垂基であり、Ra、Rb、Rc、及びRdの他のものが水素である、請求項1に記載の層形成性ポリマー。ヒドロカルビル懸垂基が式E:式中、R、R1、及びR2のそれぞれはフッ素であるによって表される、請求項4に記載の層形成性ポリマー。ヒドロカルビル懸垂基が式H:式中、nは1、2、又は3であり、R1及びR2はそれぞれ-CF3であり、それぞれのRは水素であるによって表される、請求項4に記載の層形成性ポリマー。架橋性懸垂基が式1によって表され、高い透明度を有する懸垂基が式2によって表される:請求項1に記載の層形成性ポリマー。架橋性懸垂基が式1によって表され、高い透明度を有する懸垂基が式3によって表される:請求項1に記載の層形成性ポリマー。架橋性懸垂基が式1によって表され、高い透明度を有する懸垂基が式4によって表される:請求項1に記載の層形成性ポリマー。架橋性懸垂基が式1によって表され、高い透明度を有する懸垂基が式5によって表される:請求項1に記載の層形成性ポリマー。架橋性懸垂基が式6又は式7:によって表される、請求項7、8、9、又は10のいずれかに記載の層形成性ポリマー。式1、6、又は7:によって表される基から選択される架橋性懸垂基を有する第1のタイプの繰り返し単位;式2、3、4、又は5:によって表される基から選択される懸垂基を有する第2のタイプの繰り返し単位:を含み;第2のタイプの繰り返し単位とは異なり、これも式2、3、4、又は5によって表される基から選択される懸垂基を有する第3のタイプの繰り返し単位を更に含む、請求項1に記載の層形成性ポリマー。キャスト溶媒を更に含む、請求項1~12のいずれかに記載の層形成性組成物。キャスト溶媒が、N-メチルピロリドンNMP、γ-ブチロラクトンGBL、N,N-ジメチルアセトアミドDMA、ジメチルスルホキシドDMSO、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルPGME、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、メチルエチルケトン、又はシクロヘキサノンの1以上から選択される、請求項13に記載の層形成性組成物。熱酸発生剤TAG、及び酸化防止剤/相乗添加剤を更に含む、請求項13に記載の層形成性組成物。TAGが、SI150Lジメチル-p-アセトキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、SI100Lジベンジルメチル-p-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、又はSI60L1-ナフチルメチルメチル-p-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートから選択される、請求項11に記載の層形成性組成物。酸化防止剤/相乗添加剤が、ADEKASTABAO20、ADEKASTABAO30、ADEKASTABAO40、ADEKASTABAO50、ADEKASTABAO60、ADEKASTABAO80、ADEKASTABAO330、SumilizerGM、SumilizerGS、SumilizerGA80、SumilizerMDPS、SumilizerBBMS、SumilizerWXR、IRGANOX1010、IRGANOX1035、IRGANOX1076、IRGANOX1098、IRGANOX1135、IRGANOX1330、IRGANOX1726、IRGANOX1425、IRGANOX1520、IRGANOX245、IRGANOX259、IRGANOX3114、IRGANOX565、ADEKASTABPEP4C、ADEKASTABPEP8、ADEKASTABPEP8W、ADEKASTABPEP36、ADEKASTABHP10、ADEKASTAB2112、ADEKASTAB1178、ADEKASTAB1500、ADEKASTABC、ADEKASTAB135A、ADEKASTAB3010、IRGAFOS12、IRGAFOS38、SumilizerTPLR、SumilizerTPM、SumilizerTDS、SumilizerTPD、SumilizerMB、ADEKASTABAO412S、ADEKASTABAO503、IRGANOXPS800FD、又はIRGANOXPS802FDの1以上から選択される、請求項12に記載の層形成性組成物。ノルボルネンタイプのポリマー、熱酸発生剤、環式ネオペンタンテトライルビス2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニルホスファイト、テトラキス[メチレン3-3’,5’-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]メタン、及びペンタエリトリチルテトラβ-ラウリルチオプロピオネートを含む層形成性組成物。ノルボルネンタイプのポリマーが、から誘導される繰り返し単位を含み;熱酸発生剤が、SI150Lジメチル-p-アセトキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、SI100Lジベンジルメチル-p-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、又はSI60L1-ナフチルメチルメチル-p-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートから選択される、請求項18に記載の層形成性組成物。熱酸発生剤がSI150Lであり、層形成性組成物が、ADEKASTABAO60、ADEKASTABAO412S、及びADEKASTABPEP36を更に含む、請求項19に記載の層形成性組成物。ノルボルネンタイプのポリマーが、から誘導される繰り返し単位を含み;熱酸発生剤が、SI150Lジメチル-p-アセトキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、SI100Lジベンジルメチル-p-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、又はSI60L1-ナフチルメチルメチル-p-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートから選択される、請求項18に記載の層形成性組成物。熱酸発生剤がSI150Lであり、層形成性組成物が、ADEKASTABAO60、ADEKASTABAO412S、及びADEKASTABPEP36を更に含む、請求項21に記載の層形成性組成物。0005本明細書において用いる冠詞a、an、及びtheは、明確に且つ明白に1つの指示物に限定していない限り複数の指示物を含む。0006本明細書及び特許請求の範囲において用いる成分の量、反応条件等を指す全ての数、値、及び/又は表現は、他に示していない限りにおいて、かかる値を得る際に遭遇する測定の種々の不確かさに曝されており、全てのものは全ての場合において用語約によって修飾されているように理解される。0007本明細書において用いる重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mnのようなポリマーの分子量の値は、ポリスチレン標準試料を用いるゲル透過クロマトグラフィーによって求める。0008本明細書において用いるポリマーのガラス転移温度Tgの値を与える場合には、これらは他に示さない限りにおいて、AmericanSocietyforTestingandMaterialsASTM法D3418にしたがって示差走査熱量測定法によって求めた。0009本明細書において用いるポリマーの分解温度Tdを与える場合には、他に示さない限りにおいて、それらは窒素下における10°C/分の加熱速度での熱重量分析ポリマーの具体的な重量パーセント重量が分解気化による損失したことを求めるによって求められる温度であると理解される。Td1、Td5、Td50、及びTd95の用語は、ポリマーの1重量、5重量、50重量、及び95重量が分解した温度を示す。0010本明細書において数値範囲が開示されている場合には、かかる範囲は連続的であり、範囲の最小値及び最大値の両方、並びにかかる最小値と最大値との間の全ての値を含む。更には、範囲が整数を指す場合には、かかる範囲の最小値と最大値との間の全ての整数が含まれる。更に、特性又は特徴を示すために複数の範囲が与えられている場合には、かかる範囲を組み合わせることができる。即ち、他に示していない限りにおいて、本明細書において開示されている全ての範囲はその中に含まれるありとあらゆる部分範囲を含むと理解すべきである。例えば、1~10の規定されている範囲は、1の最小値と10の最大値との間のありとあらゆる部分範囲を含むと考えるべきである。1~10の範囲の部分範囲の例としては、1~6.1、3.5~7.8、及び5.5~10が挙げられるが、これらに限定されない。0011本明細書において用いる透明ポリマー、透明層、又は透明フィルムという句は、400nm~750nmの範囲可視光範囲の放射線に対して実質的に透明であるポリマー、層、又はフィルムを意味すると理解される。即ち、かかる透明ポリマー又は透明層は、上述の範囲内の可視光がそれを通過する少なくとも95の透過率を可能にする。本明細書において全可視スペクトルにわたる透過率を言及する場合には、透過率の実際の測定は、可視スペクトルの下端における光の透過率は一般により高い波長よりも問題があるので、400nmにおいて行う。0012本明細書において用いるヒドロカルビルとは、炭素及び水素のみを含む炭化水素基を指し、非限定的な例は、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、及びアルカリールである。0013本明細書において用いるアルキル及びシクロアルキルという用語は、それぞれC1~C25の適当な炭素鎖の長さを有する非環式又は環式の飽和ヒドロカルビルを指す。好適なアルキル基の非限定的な例としては、-CH3、-CH23CH3、-CH24CH3、-CH25CH3、-CH29CH3、-CH223CH3、シクロペンチル、メチルシクロペンチル、シクロヘキシル、及びメチルシクロヘキシルが挙げられるが、これらに限定されない。0014本明細書において用いるアルケニル又はシクロアルケニルという用語は、それぞれ、少なくとも1つの炭素-炭素二重結合、及びC2~C25の適当な炭素鎖の長さを有する非環式又は環式の飽和炭化水素基を意味する。非限定的な例としては、中でも、ビニル基、並びにプロピレン、ブテン、シクロペンテン、シクロヘキサン、及びイソプロピルプレニルから誘導される基が挙げられる。0015本明細書において用いるアリールという用語は、限定なしに、フェニル、ビフェニル、ベンジル、及びキシリルのような基などの芳香族ヒドロカルビルを指す。0016アルカリール又はアラルキルという用語は、本明細書においては互換的に用いられ、少なくとも1つのアルキル、シクロアルキル、アルケニル、又はシクロアルケニル基で置換されている芳香族ヒドロカルビル、例えばトルエン、ブチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、及び1,2-ジヒドロ-1,1’-ビフェニルから誘導される基を指す。0017本明細書において用いるハロヒドロカルビルとは、少なくとも1つの水素がハロゲンによって置き換えられている任意の上述のヒドロカルビル基を指し、ペルハロカルビルとは、全ての水素がハロゲンによって置き換えられているかかるヒドロカルビル基、例えばペンタフルオロベンゼンを指す。0018本明細書において用いるヘテロヒドロカルビルという用語は、少なくとも1つの炭素原子が、N、O、S、Si、又はPで置き換えられている任意の上述のヒドロカルビル基を指す。非限定的な例としては、ピロリル、フラニル、及びピリデニルのような複素環式芳香族基、並びにエポキシド、アルコール、エーテル、チオエーテル、及びシリルエーテルのような非芳香族基が挙げられる。0019更に、ヒドロカルビルという用語は、より具体的な用語であるハロヒドロカルビル、ペルハロヒドロカルビル、及びヘテロヒドロカルビル基を含む包括的な用語であることが理解される。更に、任意のかかる基は、炭素原子の数、線状、分岐、又は環式の点で所望の場合には更に置換されていてもよいことが理解される。好適な置換基の非限定的な例としては、中でもヒドロキシル基、エポキシ基、ベンジル基、カルボン酸及びカルボン酸エステル基、アミド、及びイミドが挙げられる。更に、ヒドロカルビレンという用語は、任意の上述のヒドロカルビルから水素原子を除去することによって形成される二価の基を指すことが理解される。0020ノルボルネンタイプという用語は、本明細書においては、下記に示す構造1にしたがうモノマー、或いは少なくとも1種類のかかるノルボルネンタイプのモノマーから形成されたもので、したがってこれも下記に示す構造2にしたがう少なくとも1種類の繰り返し単位を有するポリマー材料を意味するように用いられる。0021種々の化合物がモノマー及び/又は重合性モノマーとして記載されている場合には、かかる化合物は上記の構造1に構造的に類似していると理解される。即ち、かかる化合物は上記の1において示される重合性二重結合を有する。また、かかるモノマーを重合すると、それらは上記の構造2に構造的に類似している反復単位又は繰り返し単位としてポリマー構造中に導入される。即ち、重合は構造2において示されるように構造1の二重結合を横切って起こり、得られるポリマーは一般にビニル付加ポリマーと呼ばれる。0022更に、ノルボルネンタイプのモノマーという用語は、本明細書においては、ノルボルネンそれ自体に加えて、任意の1種類又は複数の置換ノルボルネン、又はその置換及び非置換のより高級の環式誘導体を意味するように用いられる。下記に示す式A1及びA2は、それぞれ、かかるノルボルネンタイプのモノマー、及びかかるモノマーから誘導されるノルボルネンタイプの繰り返し単位の代表例である。0023式中、mは、0、1、又は2であり、Ra、Rb、Rc、及びRdのそれぞれは、独立して、水素、ヒドロカルビル、又は他の置換基を表す。式A1によって表されるモノマーから式A2によって表される繰り返し単位を誘導する際には、Ra、Rb、Rc、及びRdのいずれの置換状態及び性質も変性しておらず;而して、本発明のポリマーの幾つかの態様の繰り返し単位は未変性の繰り返し単位であるということができることを留意すべきである。0024本発明による幾つかの態様は、ノルボルネンタイプのポリマー、かかるポリマーを含む組成物、並びにかかるポリマー組成物を用いて、4H以上の鉛筆硬度を有し、空気中において280°Cの温度に30分間曝露した後に400nmにおけるその初期透明度の少なくとも95を維持し;空気中において280°Cの温度に30分間曝露している間にフィルムの重量損失が1を超えない高度の熱安定性を示し、40°CのN-メチル-2-ピロリドンNMP中に10分間浸漬した後に3μmのフィルムに関して2以下のフィルム厚さの変化を示す透明ポリマー層又はフィルムを形成する方法に関する。0025上述のノルボルネンタイプのポリマーは、式A1にしたがう少なくとも2種類の別のタイプのモノマーを含むことが見出された。即ち、第1のタイプのノルボルネンタイプのモノマーは架橋性ヒドロカルビル懸垂基を含み、第2のタイプのノルボルネンタイプのモノマーは、中でも得られるポリマーに可視光スペクトルにわたる所望の高い透明度を与えるように選択されるヒドロカルビル基を含む。0026第1のタイプのモノマーに関しては、Ra、Rb、Rc、及びRdの少なくとも1つは、式B、C、又はD:の1つにしたがうヒドロカルビル基である。0027式B及びCのそれぞれにおいて、nは1~4の整数であり;Aは、存在する場合には、メチレン、又はC2~C6アルキレンから選択されるヒドロカルビル連結基であり;R1及びR2は、それぞれ独立して、水素、フッ素、メチル、ペルフルオロメチル、エチル、又はペルフルオロエチルから選択される。好適なヒドロカルビル連結基Aの非限定的な例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレン、イソブチレン、及びヘキシレンが挙げられる。式Bにしたがう有効なグリシジルアルキルエーテル懸垂基の非限定的な例としては、グリシジルメチルエーテル、グリシジルエチルエーテル、グリシジルプロピルエーテル、グリシジルイソプロピルエーテル、グリシジルブチルエーテル、グリシジルイソブチルエーテル、グリシジルヘキシルエーテルが挙げられるが、これらに限定されない。式Cにしたがう有用なアルキルエポキシ懸垂基の非限定的な例としては、ブチルエポキシ、ペンチルエポキシ、ヘキシルエポキシ、及びオクチルエポキシが挙げられるが、これらに限定されない。0028式Dに関して、A†は、存在する場合には、メチレン、或いはC2~C6アルキレン又はエーテルから選択される連結基であり、R3は、水素、メチル、C2~C4ヒドロカルビル、ニトリルCN、C1~C3ペルフルオロヒドロカルビル、又はハロゲンF、Cl、Brを表す。代表的なペルフルオロヒドロカルビルとしては、ペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルが挙げられるが、これらに限定されない。0029第2のタイプのモノマーに関しては、Ra、Rb、Rc、及びRdの少なくとも1つは、式E、F、G、又はH:の1つにしたがうヒドロカルビル基である。0030ここで、A†は、存在する場合には上記に定義した通りであり;nは1~6の整数であり、nは0~3の整数であり、それぞれのRは、独立して水素又はフッ素を表し、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素、フッ素、メチル、ペルフルオロメチル、エチル、又はペルフルオロエチルから選択される。式Eにしたがう好適な懸垂基の非限定的な例としては、C3~C10アルキル及びペルフルオロアルキルヒドロカルビル基、例えば-A†-C4F9又は-A†-C6F13が挙げられるが、これらに限定されない。式F及びGにしたがう好適な懸垂基の非限定的な例としては、それぞれC1~C6アセテート及びカルボキシレートが挙げられるが、これらに限定されず、ここで、Qは、存在する場合にはC2~C9アルキレンから選択され、ZはCnR2n1又はCR2nCR1R2nOHの1つから選択される。代表的なアセテート及びカルボキシレートとしては、中でも-A†-CH2-COOC2H5、-A†-CCF32-COOC4H9、-A†-CH2-OCOCH3、又は-A†-CCF32-OCOC4H9が挙げられる。式Hにしたがう好適な懸垂基の非限定的な例としては、C3~C10アルコール、アセタール、及びエーテル-アルコール、例えば-CH2-O-CH2-CCF32-OHここで、nは0であり、A†は-CH2-O-CH2-であり、R1及びR2のそれぞれはペルフルオロメチルである、又は-CH2-CCF32-OHここで、nは0であり、A†は-CH2-であり、R1及びR2のそれぞれはペルフルオロメチルであるが挙げられるが、これらに限定されない。0031本発明による代表的な第1のタイプのモノマーの幾つかの態様としては、が挙げられるが、これらに限定されない。0032本発明による代表的な第2のタイプのモノマーの幾つかの態様としては、が挙げられるが、これらに限定されない。0033理解を容易にするために、4種類の代表的な第1のタイプのモノマーの態様のそれぞれ、及び6種類の代表的な第2のタイプのモノマーのそれぞれに関する化学名及びそれに関する頭字語を以下に与える:2-6-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-イルヘキシルオキシランEONB、2-2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-イルメトキシメチルオキシランMGENB、2-6-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-イルブチルオキシランEHNB、2-2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-イルエトキシメチルオキシランEGENB、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-イルメチルアセテートMeAcONB、2-2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-イルメトキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-メチルプロパン-2-オールMMHFPNB、5-ペルフルオロブチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エンPFBNB、2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-イルメチル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-オールHFANB、エチル3-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-イルプロパノエートEPENB、及び5,5,5-トリフルオロ-4-ヒドロキシ-4-トリフルオロメチルペンタン-2-イルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-カルボキシレートsecPrHFAEsNB。0034上述したように、本発明による幾つかの態様は、ノルボルネンタイプの層形成性ポリマー、かかるポリマーを含む組成物、及び透明ポリマー層を形成するためにかかるポリマー組成物を使用する方法に関する。したがって、かかるノルボルネンタイプの層形成性ポリマーの幾つかの態様は、本発明による幾つかのポリマーの態様の非限定的な例として下記に示す実施例1~6によって例示されるように、少なくとも1種類の第1のタイプのモノマーと少なくとも1種類の第2のタイプのモノマーの2,3-連鎖結合によって形成されると理解される。0035更に、本発明による層形成性組成物は、1種類以上の層形成性ポリマーの態様、キャスト溶媒、及び1種類以上の添加剤を含む。かかる層形成性組成物の幾つかの態様は、本発明による幾つかのポリマー組成物の態様の非限定的な例として下記に示す実施例7~12によって例示される。0036かかるポリマー組成物の幾つかの態様の上述のキャスト溶媒に関して、かかるキャスト溶媒としては、N-メチルピロリドンNMP、γ-ブチロラクトンGBL、N,N-ジメチルアセトアミドDMA、ジメチルスルホキシドDMSO、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルPGME、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA、酢酸メチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、メチルエチルケトンMEK、メチルアミルケトンMAK、シクロヘキサノン、及びこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。0037かかるポリマー組成物の幾つかの態様の上述の添加剤に関して、かかる添加剤としては、熱酸発生剤TAG、酸化防止剤、及び相乗剤が挙げられるが、これらに限定されず、ここで、代表的なTAGとしては、中でも、SANSHINCHEMICALINDUSTRYCOLTDによって製造されているSI45L、SI60L、SI80L、SI100L、SI110L、SI150L、SI145L、150、及び160;並びに、ADEKACORPORATIONによって製造されているADEKAOPTONCP77及びCP66が挙げられ;ここで、SI150Lはジメチル-p-アセトキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートであり、SI100Lはジベンジルメチル-p-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートであり、SI60Lは1-ナフチルメチルメチル-p-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートである。0038酸化防止剤/相乗剤に関して、代表的な材料の商品名としては、中でも、ADEKASTABAO20、ADEKASTABAO30、ADEKASTABAO40、ADEKASTABAO50、ADEKASTABAO60、ADEKASTABAO80、ADEKASTABAO330、SumilizerGM、SumilizerGS、SumilizerGA80、SumilizerMDPS、SumilizerBBMS、SumilizerWXR、IRGANOX1010、IRGANOX1035、IRGANOX1076、IRGANOX1098、IRGANOX1135、IRGANOX1330、IRGANOX1726、IRGANOX1425、IRGANOX1520、IRGANOX245、IRGANOX259、IRGANOX3114、IRGANOX565、ADEKASTABPEP4C、ADEKASTABPEP8、ADEKASTABPEP8W、ADEKASTABPEP36、ADEKASTABHP10、ADEKASTAB2112、ADEKASTAB1178、ADEKASTAB1500、ADEKASTABC、ADEKASTAB135A、ADEKASTAB3010、IRGAFOS12、IRGAFOS38、SumilizerTPLR、SumilizerTPM、SumilizerTDS、SumilizerTPD、SumilizerMB、ADEKASTABAO412S、ADEKASTABAO503、IRGANOXPS800FD、又はIRGANOXPS802FDが挙げられ、ここで、上記に列記したADEKA材料はADEKACorporation東京日本の製品であり;上記に列記したSumilizer材料はSumitomoChemicalCoLtd東京日本の製品であり;上記に列記したIRGANOX又はIRGAFOS材料はCibaSpecialtyChemicalsCorpの製品である。上記の材料の化学構造、並びに別の商品名及び供給業者は、ここに添付するAppendix‘Aにおいて見ることができる。0039更には、実施例1~12は非限定的な例であると理解される。即ち、これらは本発明による幾つかの態様が実際に実施化されたことを示すだけのために与えられる。上記に与えたノルボルネンタイプのモノマーの開示を考慮すれば、当業者は上述の実施例が本発明にしたがう可能性がある唯一の可能なポリマー及び/又は組成物の態様ではないことを知見するであろう。0040本発明によるポリマー組成物の幾つかの態様を用いる方法に関して、かかる方法の幾つかの態様は、所望/適当なポリマー組成物を形成し、かかる組成物を基板の上方/上に適用又はキャストすることを含む。かかるキャストは、例えばスピンコート、スプレーコート、又はドクターブレード法によって基板上にポリマー組成物を適用する任意の適当な方法を含む。更に、本発明によるフィルム形成の幾つかの態様に関して、かかる態様は適用後焼成PAB及び硬化焼成を含み、後者はポリマー組成物中に存在する熱酸発生剤TAGを活性化するのに十分な温度において行い、かかるTAGの活性化によってポリマーの架橋が開始され、これは層/フィルムを硬化させるように働く。0041更に、本発明による層/フィルムの幾つかの態様の使用に関しては米国特許7,361,931を参照されたい。ここでは、アクティブマトリクス液晶ディスプレイなどの従来公知のフラットパネルディスプレイが、スイッチングのための薄膜トランジスタTFTが複数のディスプレイピクセルのそれぞれに与えられている構造を有することが記載されている‘931特許には更に、マスキング手段光遮蔽手段は光がTFTに侵入することを阻止するように与えなければならず、したがってかかるマスキング手段はその上に凹凸を有する基板を与えることが記載されている。当業者であれば、かかる凹凸を排除又は減少させることが望ましく、本発明による幾つかの態様はかかる望ましい結果を与えることができることを認識する。更に、本明細書において示されるように、かかるポリマー層又はフィルムの幾つかの態様は、可視光スペクトルにわたって高い透明度、優れた熱安定性、かかるディスプレイの製造に通常的な溶媒であるNMPに対する抵抗性、及び誘発されたフィルム又は層の欠陥の取扱いを回避又は最小にするのに十分な硬度の特性を示す。実施例1:MeOAcNB/MGENB80:20のポリマーの合成:0042MEOAcNBビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-イルメチルアセテート、7.87g、47.4ミリモル及びMGENB2.13g、11.8ミリモルをトルエン15.17g及びMEK1.17g中に溶解し、反応容器に充填した。溶液に窒素を30分間散布して酸素を除去し、次に60°Cに加熱した。その温度になったら、7.00gのトルエン中のη6-トルエンNiC6F520.164g、0.34ミリモルグローブボックス内で調製を、シリンジによって反応容器に加えた。混合物を60°Cにおいて4.0時間撹拌した後、溶液を室温に冷却した。次に、50gのトルエンで希釈した反応混合物を、酢酸2.65g、44.0ミリモル及び濃度30のH2O2水溶液5.02g、44.0ミリモルで処理してNi残渣を除去し、次に水で洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーターで蒸発させることによって除去して、明黄色の固体を与えた。黄色の固体をTHF中に再溶解し50重量、ヘキサン20倍過剰量に加えて明黄色の粉末を与え、これを濾過し、40°Cにおいて真空によって16時間乾燥した。約8.6g86のMEOAcNB/MGENBポリマーが単離された。MEOAcNBとMGENBとのモル比は、13C-NMRによって80:20であると求められた。実施例2:HFANB/C4F9NB/MGENB60:20:20のポリマーの合成:0043HFANB3.13g、11.4ミリモル、C4F9NB1.19g、3.8ミリモル、及びMGENB0.68g、3.8ミリモルをトルエン8.85g及びMEK0.75g中に溶解し、反応容器に充填した。溶液に窒素を30分間散布して酸素を除去し、次に60°Cに加熱した。その温度になったら、5.40gのトルエン中のη6-トルエンNiC6F520.184g、0.38ミリモルグローブボックス内で調製を、シリンジによって反応容器に加えた。混合物を60°Cにおいて14.0時間撹拌した後、溶液を室温に冷却した。次に、トルエン20g及びTHF10gで希釈した反応混合物を、酢酸3.60g、60.0ミリモル及び30のH2O2水溶液6.81g、60.0ミリモルで処理してNi残渣を除去し、次に水で洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーターで蒸発させることによって除去して、明黄色の固体を与えた。黄色の固体をTHF中に再溶解し50重量、ヘキサン20倍過剰量に加えて明黄色の粉末を与え、これを濾過し、40°Cにおいて真空によって16時間乾燥した。約3.48g70のHFANB/C4F9NB/MGENBポリマーが単離された。実施例3:HFANB/C4F9NB/MGENB40:40:20のポリマーの合成:0044HFANB2.08g、7.6ミリモル、C4F9NB2.38g、7.6ミリモル、及びMGENB0.68g、3.8ミリモルをトルエン8.85g及びMEK0.75g中に溶解し、反応容器に充填した。溶液に窒素を30分間散布して酸素を除去し、次に60°Cに加熱した。その温度になったら、5.40gのトルエン中のη6-トルエンNiC6F520.184g、0.38ミリモルグローブボックス内で調製を、シリンジによって反応容器に加えた。混合物を60°Cにおいて14.0時間撹拌した後、溶液を室温に冷却した。次に、トルエン20g及びTHF10gで希釈した反応混合物を、酢酸3.60g、60.0ミリモル及び30のH2O2水溶液6.81g、60.0ミリモルで処理してNi残渣を除去し、次に水で洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーターで蒸発させることによって除去して、明黄色の固体を与えた。黄色の固体をTHF中に再溶解し50重量、ヘキサン20倍過剰量に加えて明黄色の粉末を与え、これを濾過し、40°Cにおいて真空によって16時間乾燥した。約3.60g70のポリマーが単離された。実施例4:HFANB/MGENB80:20のポリマーの合成:0045HFANB4.30g、15.7ミリモル、及びMGENB0.70g、3.9ミリモルをトルエン9.25g及びMEK0.75g中に溶解し、反応容器に充填した。溶液に窒素を30分間散布して酸素を除去し、次に60°Cに加熱した。その温度になったら、5.00gのトルエン中のη6-トルエンNiC6F520.190g、0.39ミリモルグローブボックス内で調製を、シリンジによって反応容器に加えた。混合物を60°Cにおいて7.0時間撹拌した後、溶液を室温に冷却した。次に、THF20g中の反応混合物を、酢酸3.72g、62.0ミリモル及び30のH2O2水溶液7.03g、60.0ミリモルで処理してNi残渣を除去し、次に水で洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーターで蒸発させることによって除去して、明黄色の固体を与えた。黄色の固体をTHF中に再溶解し50重量、ヘキサン20倍過剰量に加えて明黄色の粉末を与え、これを濾過し、40°Cにおいて真空によって16時間乾燥した。約3.25g65のHFANB/MGENBポリマーが単離された。実施例5:MeOAcNB/EONB80:20のポリマーの合成:0046MeOAcNB7.51g、45.2ミリモル、及びEONB2.49g、11.3ミリモルをトルエン16.00g及びMEK2.33g中に溶解し、反応容器に充填した。溶液に窒素を30分間散布して酸素を除去し、次に60°Cに加熱した。その温度になったら、5.00gのトルエン中のη6-トルエンNiC6F520.156g、0.32ミリモルグローブボックス内で調製を、シリンジによって反応容器に加えた。混合物を60°Cにおいて4.0時間撹拌した後、溶液を室温に冷却した。次に、トルエン30g及びTHF20g中に希釈した反応混合物を、酢酸3.06g、51.0ミリモル及び30のH2O2水溶液5.77g、51.0ミリモルで処理してNi残渣を除去し、次に水で洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーターで蒸発させることによって除去して、明黄色の固体を与えた。黄色の固体をTHF中に再溶解し50重量、ヘキサン20倍過剰量に加えて明黄色の粉末を与え、これを濾過し、40°Cにおいて真空によって16時間乾燥した。約9.06g91のMeOAcNB/EONBポリマーが単離された。実施例6:EPENB/MGENB80:20のポリマーの合成:0047EPENB4.66g、24.0ミリモル、及びMGENB1.32g、6.0ミリモルをトルエン12.00g及びMEK0.9g中に溶解し、反応容器に充填した。溶液に窒素を30分間散布して酸素を除去し、次に60°Cに加熱した。その温度になったら、5.00gのトルエン中のη6-トルエンNiC6F520.073g、0.15ミリモルグローブボックス内で調製を、シリンジによって反応容器に加えた。混合物を60°Cにおいて5.0時間撹拌した後、溶液を室温に冷却した。次に、トルエン10g及びTHF6g中に希釈した反応混合物を、酢酸1.4g、23.3ミリモル及び30のH2O2水溶液2.7g、23.8ミリモルで処理してNi残渣を除去し、次に水で洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーターで蒸発させることによって除去して、明黄色の固体を与えた。黄色の固体をTHF中に再溶解し50重量、ヘキサン20倍過剰量に加えて白色の粉末を与え、これを濾過し、40°Cにおいて真空によって16時間乾燥した。約4.1g70のEPENB/MGENBポリマーが単離されたGPCによって、Mw=78,400、Mn=44,000。0048上記に与えた重合実施例のそれぞれに関する収率、Mw、及びMnを下表1にまとめる。Mn及びMwは、ポリスチレン標準試料を用いる標準的なGPC法によって求めた。0049以下の組成物実施例である実施例7~12においては、3種類の具体的な酸化防止剤/相乗剤材料を用いた。それぞれの材料の製造及び材料の化学名は、下記の実施例においてそれぞれを用いた最初の時点で与え、その後は製造者の商品名のみを与えた。0050実施例7~12のそれぞれのポリマー組成物は同じ3種類の酸化防止剤/相乗剤成分を含んでいるが、かかる実施例は非限定的であるので、これらの具体的な成分の使用は例示のみのものであると理解すべきであり、本発明のフィルムの幾つかの態様によって示される熱及び光安定性のタイプに関して、1つより多いタイプの酸化防止剤/相乗剤の使用が有利であり、かかるタイプの酸化防止剤/相乗剤は、フェノール類、ホスファイト類、チオエーテル類、及びこれらの混合物を含むことを示すためだけのものであると理解すべきである。0051しかしながら、かかる具体的な酸化防止剤/相乗剤成分の選択は、表2の実験マトリクス表において示される結果に基づいて行った。それぞれの組成物1~22に関しては、基ポリマーはMeOAcNBホモポリマーであり、これをガラスウエハ上にキャストして、110°Cにおいて100秒間の適用後焼成PABの後に測定して3μmのフィルムを形成した。22種類の3μmのフィルム、19種類の試料組成物示されている添加剤を有する、及び3種類の対照組成物添加剤なしの透明度の測定を、それぞれのフィルムを280°Cにおいて30分間加熱し、具体的な3種類の添加剤パッケージの選択を行った後に、400nmにおいて行った。0052勿論、当業者には、下記の実施例7~12のそれぞれにおいて用いる具体的な添加剤パッケージは例示の目的のみのために与えられることが理解される。即ち、小型の実験デザインに基づいて成功したパッケージの選択は、過度の実験の必要なしに他の酸化防止剤/相乗剤添加剤パッケージを容易に決定することができることを示すものである。任意のかかる別のパッケージは本明細書に与える教示の結果であるが、これらは本発明の幾つかの態様の範囲内であると理解される。実施例7~12:熱硬化性組成物の製造:0053実施例7~12のそれぞれに関しては、それぞれ実施例1~6から得た2.0gのポリマーを用いて、PGMEA中の17重量のポリマー溶液を調製した。次に、それぞれ示されている量の下記に列記する配合添加剤を、ポリマー溶液に加えてその中に溶解したが、実施例12に関しては、その後に溶液を1ミクロンのシリンジフィルターを通して濾過した。0054それぞれの実施例に関して、SI150LSI150Lはジメチル-p-アセトキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートに関するSanshinChemicalIndustryCOLTDの商品名であるを、0.08gの50重量GBL溶液として加えた。酸化防止剤/相乗剤添加剤のそれぞれに関して、それぞれの添加剤に関する加えた量gを下表3に示す。用いた添加剤は、ADKSTABAO60ペンタエリトリトールテトラキス{3-3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート}に関するADEKACORPORATIONの商品名;ADKSTABPEP363,9-ビス2,6-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ5.5ウンデカンに関するADEKACORPORATIONの商品名;及びADEKASATBAO412S2,2-ビス[[3-ドデシルチオ-1-オキソプロポキシ]メチル]プロパン-1,3-ジイルビス[3-ドデシルチオプロピオネート]に関するADEKACORPORATIONの商品名であった。硬化材料に関する評価手順:0055上記に例示した熱硬化性組成物のそれぞれを、透明度、熱安定性、鉛筆硬度、及びNMP耐性に関して評価した。それぞれの評価試験に関する基本手順を下記に与え、評価試験結果を表4に与える。透明度:0056それぞれの配合溶液をガラスウエハ上にスピンキャストして、3μmのフィルムを形成した。キャストの後、フィルムに、110°Cにおいて100秒間の適用後焼成PABを行った。空気中280°Cにおける30分間の熱処理の前及び後において、400nmにおける透明度を測定した。熱安定性:0057それぞれの配合溶液を4インチのシリコンウエハ上にスピンキャストして、3μmのフィルムを形成した。キャストの後、フィルムに、110°Cにおいて100秒間の適用後焼成PABを行い、その後に空気中250°Cにおいて硬化焼成を30分間行った。硬化したフィルムの一部をシリコンウエハから削り取り、それに関してTG/DTA分析を行った。測定条件は、N2流下で10°C/分の温度上昇であった。結果を、1重量の損失が観察された温度として与える。鉛筆硬度:0058それぞれの配合溶液を4インチのシリコンウエハ上にスピンキャストして、3μmのフィルムを形成した。キャストの後、フィルムに、110°Cにおいて100秒間の適用後焼成PABを行い、その後に空気中250°Cにおいて硬化焼成を30分間行った。硬化焼成の後、ASTM-D3363の手順を用いて鉛筆硬度試験を行った。但し、具体的な温度及び湿度の制御は行わず、雰囲気試験時の温度及び湿度制御を用いた。NMPN-メチルピロリドン耐性:0059それぞれの配合溶液を4インチのシリコンウエハ上にスピンキャストして、3μmのフィルムを形成した。キャストの後、フィルムに、110°Cにおいて100秒間の適用後焼成PABを行い、その後に空気中250°Cにおいて硬化焼成を30分間行った。硬化焼成の後、フィルム厚さを測定し、フィルムを40°CのNMP中に10分間浸漬し、フィルム厚さを再測定した。フィルム厚さの差をフィルム厚さ損失として記録した。0060ここまでで、記載したポリマー、ポリマー組成物、及びポリマー層の幾つかの態様は、液晶ディスプレイ、有機発光ダイオードディスプレイ、及び他のオプトエレクトロニクスデバイスの製造において用いる透明層に関する要求を満足することができる層を形成するために有用であることが認識される。"