"電子を放出する電子源と、前記電子源から放出される電子を収束するウエネルトと、を含むカソードと、前記電子源との間で加速電圧が印加されるアノードと、前記カソードと前記アノードとを納める電子銃室に接続され、前記電子銃室内を真空状態に作出する真空排気系と、前記真空排気系と対向する位置に設けられ、前記電子銃室内に気体を導入する気体導入口と、を備え、前記ウエネルトには、前記ウエネルトに付着するパーティクルを除去する際に前記ウエネルトに電圧を印加するパーティクル除去用電源機構が接続されていることを特徴とする電子銃。前記電子源は、回転自在に配設された回転体上に複数配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電子銃。電子を放出する電子源と、前記電子源から放出される電子を収束するウエネルトと、を含むカソードと、前記電子源との間で加速電圧が印加されるアノードと、前記カソードと前記アノードとを納める電子銃室に接続され、前記電子銃室内を真空状態に作出する真空排気系と、前記真空排気系と対向する位置に設けられ、前記電子銃室内に気体を導入する気体導入口と、前記ウエネルトに接続され、前記ウエネルトに付着するパーティクルを除去する際に前記ウエネルトに電圧を印加するパーティクル除去用電源機構と、前記パーティクル除去用電源機構を用いて前記ウエネルトに付着する前記パーティクルを除去する際に、併せて前記気体導入口から気体を前記電子銃室内に送り込むとともに、前記気体に乗せて前記ウエネルトから離反した前記パーティクルを前記電子銃室から吸引させるべく前記真空排気系を駆動させる制御計算機と、を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。カソードとアノードとを納める電子銃室に接続され、前記電子銃室内を真空状態に作出する真空排気系を駆動させるとともに、前記真空排気系と対向する位置に設けられる気体導入口から前記電子銃室内に気体を導入するステップと、前記カソードを構成するウエネルトに付着するパーティクルを除去するために前記ウエネルトに電圧を印加するパーティクル除去用電源機構を駆動させるステップと、前記パーティクル除去用電源機構を用いて前記ウエネルトに電圧を印加するステップと、を備えることを特徴とするパーティクルの除去方法。電子銃のカソードを構成する電子源が回転自在に配設された回転体上に複数配置されている場合に、前記回転体に対向して配置される気体導入口を駆動させて気体を前記回転体に対して送るステップと、前記回転体を挟み対向する位置に配置される吸引装置を駆動させて前記気体導入口から送られる前記気体を吸引するステップと、前記回転体に付着するパーティクルを除去するために前記回転体に電圧を印加するパーティクル除去用電源機構を駆動させるステップと、前記パーティクル除去用電源機構を用いて前記回転体に電圧を印加するステップと、を備えることを特徴とするパーティクルの除去方法。しかしながら、上記特許文献1に記載されている発明は、あくまでも放電を検知することを全ての処理の始点としており、放電が生ずる原因そのものを取り除くといった発想はない。例えば、電子銃室内のパーティクルを除去することで放電自体の発生を減少させることができれば、その後に発生が予想できるトラブルを未然に防ぐことも可能となる。本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、電子銃室内におけるパーティクルを効率良く、かつ確実に除去することによって放電の可能性を低減させることができる電子銃、荷電粒子ビーム描画装置及びパーティクルの除去方法を提供することにある。本発明の実施の形態に係る第1の特徴は、電子銃において、電子を放出する電子源と、電子源から放出される電子を収束するウエネルトと、を含むカソードと、電子源との間で加速電圧が印加されるアノードと、カソードとアノードとを納める電子銃室に接続され、電子銃室内を真空状態に作出する真空排気系と、真空排気系と対向する位置に設けられ、電子銃室内に気体を導入する気体導入口と、を備え、ウエネルトには、ウエネルトに付着するパーティクルを除去する際にウエネルトに電圧を印加するパーティクル除去用電源機構が接続されている。また、上記電子銃において、電子源は、回転自在に配設された回転体上に複数配置されていることが望ましい。本発明の実施の形態に係る第2の特徴は、荷電粒子ビーム描画装置において、電子を放出する電子源と、電子源から放出される電子を収束するウエネルトと、を含むカソードと、電子源との間で加速電圧が印加されるアノードと、カソードとアノードとを納める電子銃室に接続され、電子銃室内を真空状態に作出する真空排気系と、真空排気系と対向する位置に設けられ、電子銃室内に気体を導入する気体導入口と、ウエネルトに接続され、ウエネルトに付着するパーティクルを除去する際にウエネルトに電圧を印加するパーティクル除去用電源機構と、パーティクル除去用電源機構を用いてウエネルトに付着するパーティクルを除去する際に、併せて気体導入口から気体を電子銃室内に送り込むとともに、気体に乗せてウエネルトから離反したパーティクルを電子銃室から吸引させるべく真空排気系を駆動させる制御計算機とを備える。本発明の実施の形態に係る第3の特徴は、パーティクルの除去方法において、カソードとアノードとを納める電子銃室に接続され、電子銃室内を真空状態に作出する真空排気系を駆動させるとともに、真空排気系と対向する位置に設けられる気体導入口から前記電子銃室内に気体を導入するステップと、カソードを構成するウエネルトに付着するパーティクルを除去するためにウエネルトに電圧を印加するパーティクル除去用電源機構を駆動させるステップと、パーティクル除去用電源機構を用いてウエネルトに電圧を印加するステップとを備える。本発明の実施の形態に係る第4の特徴は、パーティクルの除去方法において、電子銃のカソードを構成する電子源が回転自在に配設された回転体上に複数配置されている場合に、回転体に対向して配置される気体導入口を駆動させて気体を回転体に対して送るステップと、回転体を挟み対向する位置に配置される吸引装置を駆動させて気体導入口から送られる気体を吸引するステップと、回転体に付着するパーティクルを除去するために回転体に電圧を印加するパーティクル除去用電源機構を駆動させるステップと、パーティクル除去用電源機構を用いて回転体に電圧を印加するステップとを備える。本発明によれば、電子銃室内におけるパーティクルを効率良く、かつ確実に除去することによって放電の可能性を低減させることができる電子銃、荷電粒子ビーム描画装置及びパーティクルの除去方法を提供することができる。以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。第1の実施の形態図1は、本発明の実施の形態における荷電粒子ビーム描画装置Sの全体構成を示すブロック図である。なお、以下の実施の形態においては、荷電粒子ビームの一例として電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは電子ビームに限られるものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームであっても良い。荷電粒子ビーム描画装置Sは、試料に所定のパターンを描画する装置であり、特に可変成形型の描画装置の一例である。図1に示すように、荷電粒子ビーム描画装置Sは、大きく描画部1と制御部2を備えている。描画部1は、電子鏡筒10としての電子銃11及び電子光学系12と、描画室13を備えている。電子銃11は、詳細は後述するが、電子を放出する電子源や、この電子源から放出される電子を収束するウエネルトから構成されるカソードと、電子源との間で加速電圧が印加されるアノード等から構成されている。一方電子鏡筒10を構成する電子光学系12内には、図1では特に図示していないが、電子銃から照射される電子ビームの光路に沿って、例えば、照明レンズと、ブランキング偏向器と、ブランキングアパーチャと、第1の成形アパーチャと、投影レンズと、成形偏向器と、第2の成形アパーチャと、対物レンズと、位置偏向器とが順に配置されている。描画室13の中には、ここでは図示を省略しているが、ステージが配置される。ステージ上には、描画時には描画対象となるマスク等の試料が配置されることになる。制御部2は、制御計算機21と、偏向制御部22と、偏向アンプDACアンプユニット23と、ステージ制御部24と、高圧電源25と、パーティクル除去用電源機構26とを備えている。制御計算機21、偏向制御部22、ステージ制御部24、高圧電源25、パーティクル除去用電源機構26は、図示しないバスを介して互いに接続されている。また、偏向制御部22とDACアンプユニット23も図示しないバスを介して互いに接続されている。なお、図1に示す本発明の実施の形態における荷電粒子ビーム描画装置Sには、本発明の実施の形態を説明する上で必要な構成のみを示している。従って、その他の構成、例えば、電子光学系12内の各レンズを制御する制御回路等が付加されていても良い。図2は、本発明の実施の形態における制御計算機21の内部構成を示すブロック図である。制御計算機21は、CPUCentralProcessingUnit21aと、ROM21bと、RAMRandomAccessMemory21c及び入出力インターフェイス21dがバス21eを介して接続されている。入出力インターフェイス21dには、入力部21fと、表示部21gと、通信制御部21hと、記憶部21iと、リムーバブルディスク21jとが接続されている。CPU21aは、入力部21fからの入力信号に基づいてROM21bから荷電粒子ビーム描画装置Sを起動するためのブートプログラムを読み出して実行し、記憶部21iに格納されている各種オペレーティングシステムを読み出す。またCPU21aは、入力部21fや入出力インターフェイス21dを介して、図2において図示していないその他の外部機器からの入力信号に基づいて各種装置の制御を行う。さらにCPU21aは、RAM21cや記憶部21i等に記憶されたプログラム及びデータを読み出してRAM21cにロードするとともに、RAM21cから読み出されたプログラムのコマンドに基づいて、ショットデータを生成するための処理やデータの計算、加工等、一連の処理を実現する処理装置である。入力部21fは、荷電粒子ビーム描画装置Sの操作者が各種の操作を入力するキーボード、ダイヤル等の入力デバイスにより構成されており、操作者の操作に基づいて入力信号を作成しバス21eを介してCPU21aに送信される。表示部21gは、例えば液晶ディスプレイである。この表示部21gは、CPU21aからバス21eを介して出力信号を受信し、例えば電子銃11に付着したパーティクルを除去する際の諸条件の設定を行うにあたって必要な条件等、或いはCPU21aの処理結果等を表示する。通信制御部21hは、LANカードやモデム等の手段であり、荷電粒子ビーム描画装置SをインターネットやLAN等の通信ネットワークに接続することを可能とする手段である。通信制御部21hを介して通信ネットワークと送受信したデータは入力信号または出力信号として、入出力インターフェイス21d及びバス21eを介してCPU21aに送受信される。記憶部21iは、半導体や磁気ディスクで構成されている。記憶部21iには、描画データの基となるレイアウトデータや描画データ、CPU21aで実行されるプログラムやデータが記憶されている。リムーバブルディスク21jは、光ディスクやフレキシブルディスクのことであり、ディスクドライブによって読み書きされた信号は、入出力インターフェイス21d及びバス21eを介してCPU21aに送受信される。なお、本発明の実施の形態における荷電粒子ビーム描画装置Sでは、後述するように制御計算機21の制御の下、パーティクル除去用電源機構26を使用して電子銃11に付着したパーティクルの除去を行う。但し、パーティクル除去プログラムが記憶部21i、或いはリムーバブルディスク21jに格納されており、CPU21aに読み込まれ実行されることにより、パーティクル除去システムが荷電粒子ビーム描画装置Sに実装されることでパーティクルの除去が行われても良い。また、パーティクルの除去の際に荷電粒子ビーム描画装置Sに上記パーティクル除去プログラムが格納された別体の例えば、パーソナルコンピュータ等の情報端末を接続して、荷電粒子ビーム描画装置Sの電子銃室11e内のパーティクルの除去を行っても良い。偏向制御部22は、描画処理の際に電子銃から照射される電子ビームの向き位置を偏向するために用いられ、DACアンプユニット23に対して制御用のデジタル信号を出力する。DACアンプユニット23は、偏向制御部22から入力されたデジタル信号をアナログ電圧信号に変換し、増幅させて偏向電圧として接続された各偏向器に出力する。このようにして、各偏向器には、それぞれ接続されるDACアンプから偏向電圧が印加される。かかる偏向電圧によって電子ビームが偏向させられる。なお、DACアンプユニット23にいうDACは、DigitaltoAnalogConverterの頭文字である。また、図1に示す荷電粒子ビーム描画装置Sでは、DACアンプユニット23を1つのみ示して他のDACアンプユニット23を省略しているが、DACアンプユニット23は、電子光学系12内に設けられている偏向器ごとに設けられ接続されている。ステージ制御部24は、描画室13内に移動可能に設けられる、図1では図示しないステージと制御計算機21とに接続し、ステージの動きを検出するとともに制御している。高圧電源25は、電子銃11を構成する各部と接続されており、電子ビームの照射を制御している。図3は、本発明の実施の形態における電子銃の電子ビームの照射時の状態を示す模式図である。図3においては、高圧電源25は、破線で示されている。また、制御部2のその他各部の図示は省略しているが、高圧電源25は制御計算機21による制御が行われる。電子銃11は、電子ビームを放出するカソード11aとアース電極を備えるアノード11bをと有する。カソード11aは、電子を放出する電子源11cとウエネルト11dとから構成される。電子銃11は、真空チャンバ11eを備え、カソード11a等、電子銃11を構成する各部を収納する。また、真空チャンバ11eは、電子銃11を構成する各部の周囲を高真空の状態に保つことができるようにする。なお、以下においては、真空チャンバ11eを適宜電子銃室11eと表わす。カソード11aを構成する電子源11cは、例えば、六硼化ランタンLaB6等からなる。また、電子源11cは、カソード加熱ヒータ11f,11gに挟持される。カソード加熱ヒータ11f,11gは、カソード加熱ヒータ電源11hに接続されている。そのため、電子源11cは、カソード加熱ヒータ11f,11gにより加熱され、高温の状態となるように構成される。ウエネルト11dは、電子源11cから放出される電子ビームが通過する開口部を備える。この開口部は、電子ビームを収束させるに好適な径が選択される。ウエネルト11dは、電子源11cから所望のビーム電流が得られるように、バイアス電源11iにより制御され、電子源11cから放出される電子を収束させるように機能する。なお、電子源11cの形状としては、例えば、図1或いは、図3に示すような形状のもの以下、このような形状を持つ電子源をシングルと表わし、このような電子源を備える電子銃をシングル電子銃と表わす。の他、回転体に複数の電子源が設けられる形状のもの以下、このような形状を持つ電子源をタレットと表わし、このような電子源を備える電子銃をタレット電子銃と表わす。図6参照。のいずれであっても構わない。本発明の第1の実施の形態においては、シングル電子銃を例に挙げて説明する。荷電粒子ビーム描画装置Sの描画動作時において、カソード11a等の各部を収納する電子銃室11e内は高真空の状態となる。この状態でカソード加熱ヒータ11f,11gを介して電子源11cとアノード11bとの間に、例えば、50kV程度の高電圧加速電圧が印加される。加速電圧の印加には、加速電源11jが用いられる。また、カソード加熱ヒータ電源11hを用いてカソード加熱電流11kを供給することにより、カソード加熱ヒータ11f,11gを通電加熱する。なお、高圧電源25には、図3に示されるように、上述したカソード加熱ヒータ電源11h、バイアス電源11i、及び加速電源11jが含まれる。その結果、電子源11cが加熱され、電子源11cから熱電子が放出される。この熱電子は加速電圧により加速されてカソード11aから電子ビームとして放出される。放出された電子ビームは、例えば、上述した電子光学系12を構成する各部を通過してステージ上の対象へ描画を行う。電子ビームは、ブランキング偏向器内を通過する際、ブランキング偏向器がONの状態にされている場合にブランキングアパーチャを通過するように制御される。一方、ブランキング偏向器がOFFの状態では、電子ビーム全体がブランキングアパーチャで遮蔽されるように偏向される。ブランキングアンプからの偏向電圧がOFFからONとなり、その後再度OFFになるまでにブランキングアパーチャを通過した電子ビームが1回の電子ビームのショットとなる。かかる電子ビームがブランキングアパーチャを通過する状態、ブランキングアパーチャによって遮蔽される状態を交互に生成する偏向電圧がブランキングアンプから出力される。そしてブランキング偏向器は、ブランキングアンプから出力された偏向電圧によって、通過する電子ビームの向きを制御して、電子ビームがブランキングアパーチャを通過する状態、ブランキングアパーチャによって遮蔽される状態を交互に生成する。以上のようにブランキング偏向器とブランキングアパーチャとを通過することによって生成された各ショットの電子ビームは、照明レンズにより矩形、例えば、長方形の孔を持つ第1の成形アパーチャ全体を照射する。ここで電子ビームをまず矩形、例えば長方形に成形する。そして、第1の成形アパーチャを通過した第1のアパーチャ像の電子ビームは、投影レンズにより第2の成形アパーチャ上に投影される。第1の成形アパーチャを通過した電子ビームの向きを制御するための偏向電圧がDACアンプユニットから印加された成形偏向器によって、かかる第2の成形アパーチャ上での第1のアパーチャ像は偏向制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。第2の成形アパーチャを通過した電子ビームの照射位置を制御するための偏向電圧がDACアンプユニットから位置偏向器に対して出力される。第2の成形アパーチャを通過し第2のアパーチャ像とされた電子ビームは、対物レンズにより焦点を合わせられ、ステージ制御部24によって制御され連続的に移動するステージに載置された試料の所望する位置に照射される。また、電子銃室11eには、真空排気系11lと、気体導入口11mとが設けられている。真空排気系11lは、電子ビームの放出を行う際に電子銃室11e内に高真空状態を作出するために用いられる。電子銃室11e内に高真空状態を作出するのは、真空度が低い、或いは、大気下では熱電子の適切な放出ができず描画処理に困難を来すからである。そこで、電子銃室11eに接続される真空排気系11lを用いて電子銃室11e内を高真空の状態とする。一方、電子銃室11e内を点検等のため大気に開放する場合には、例えば、電子銃室11e内に窒素N2やアルゴンArといった気体を導入する。そのため電子銃室11eには気体導入口11mが設けられている。この気体導入口11mから気体を導入することで電子銃室11eを大気開放する。気体導入口11mから導入される気体は、寿絵に挙げた気体だけでなく、例えば、パーティクルの少ない洗浄度の高い気体であれば良い。なお、本発明の実施の形態においては、気体導入口11mは、放出される電子ビームを挟み真空排気系11lの対向する位置に設けられる。真空排気系11lと気体導入口11mとが電子ビームを挟む対向した位置に設けられるのは、後述するように、電子銃室11e内のパーティクルを発生させた気流に乗せて除去する際に効果的だからである。また、真空排気系11l、或いは、気体導入口11mの駆動、制御は、制御計算機21によって行われる。パーティクル除去用電源機構26は、電子銃室11e内、特に、ウエネルト11dに付着するパーティクルを除去する際に使用される。具体的な構成は、後述するパーティクル除去の流れを図を用いて説明する際に説明するが、パーティクルの除去処理を行う際に、ウエネルト11dに電圧を印加することによって、ウエネルト11dに付着したパーティクルをウエネルト11dからはがし易くする離反させ易くするためにパーティクル除去用電源機構26を用いる。図4は、本発明の第1の実施の形態における電子銃室11e内のパーティクルPの除去の流れを示すフローチャートである。また、図5は、本発明の第1の実施の形態における電子銃室11e内のパーティクルPの除去について説明する説明図である。図5では、図3に示されている電子銃11に接続されている高圧電源25の記載を省略し、替わりにパーティクル除去用電源機構26が接続されている状態を示している。また、ウエネルト11dには、帯電して付着しているパーティクルPが示されている。電子銃室11e内のパーティクルPの除去処理は、電子銃室11eが電子銃の交換等のために大気開放された後、新たな電子銃が設置され改めて描画処理を行うために真空状態の作出が行われる際に行われる。これはシングル電子銃、或いは、タレット電子銃の別を問わない。但し、後述するようにタレット電子銃は複数の電子源を備えていることから、シングル電子銃に比べて電子銃室11e内のパーティクルPの除去処理の回数は少なくなる。パーティクルPは、電子銃室11e内の金属材料、例えばウエネルト11dに付着し易い。これは、パーティクルPが帯電しているからであり、また、ウエネルト11dの表面にも凹凸の傷等が形成されており、パーティクルPが付着し易い状態となっているからである。電子銃の交換等が終了した後、まず電子銃室11eに接続される真空装置がONされST1、さらに気体導入口11mから例えば窒素N2等の気体を導入するST2。このように気体を導入しつつ、真空引きを行うことによって、電子銃室11e内に気体の流れ気流が発生する。真空排気系11lによって吸引される気合いの流量としては、例えば、5ないし70l/min程度が好ましい。また、本発明の実施の形態においては、上述したように、真空排気系11lと気体導入口11mとは放出される電子ビームを挟んで対向する位置に設けられている。従って、気体導入口11mから気体が導入され発生した気流は、図5の破線の矢印で示すように、その多くがウエネルト11d付近を流れて真空排気系11lによって電子銃室11eの外へと排気される。このように気流が発生していれば、この気流に乗せてパーティクルPを電子銃室11eの外へと排出することがより容易になる。次に、パーティクル除去用電源機構26がONされるST3。このパーティクル除去用電源機構26の電源のON、或いは、OFFについては、制御計算機21が電子銃室11e内の真空度を計測し、必要な真空度が確保されてことを確認した上でパーティクル除去用電源機構26の電源をONにする。なお、本発明の実施の形態においては、パーティクル除去用電源機構26の制御は、制御計算機21によって行われる。但し、例えば、上述したように、情報端末を荷電粒子ビーム描画装置Sに接続して、電子銃室11e内のパーティクルの除去が行われる場合には、パーティクル除去用電源機構26の制御は、当該情報端末によって行われる。従って、このように情報端末を用いてパーティクルの除去処理が行われる場合には、例えば、荷電粒子ビーム描画装置Sは必要な真空度が確保された場合に、その旨を報知するにとどめ、別途情報端末の操作者にパーティクル除去用電源機構26の電源をONにするように促しても良い。図5において、パーティクル除去用電源機構26は一点鎖線で示されている。パーティクル除去用電源機構26は、ウエネルト11d及びカソード加熱ヒータ11f,11gに接続されている。なお、図3に示されている配線とは異なり、ウエネルト11dにもカソード加熱ヒータ11f,11gにもパーティクル除去用電源機構26が接続されている。これは、パーティクルの除去処理においては、ウエネルト11dの電位とカソード加熱ヒータ11f,11gの電位とを特に異ならせる必要はないからである。パーティクル除去用電源機構26には、正の電圧を印加する電源26aと負の電圧を印加する電源26bとが設けられている。これは、正負の電圧を交互にウエネルト11dに印加することによって、ウエネルト11dに付着しているパーティクルPをウエネルト11dから離反させ易くするためである。正負の電圧を印加する際には、スイッチ26cによって切り替えを行う。なお、図5においては、スイッチ26cを機械的なスイッチとして表わしているが、電子的なスイッチング素子を利用しても良い。ウエネルト11dに正負の電圧を交互に印加することによって、ウエネルト11dに帯電して付着しているパーティクルは、静電斥力によってウエネルト11dから引き離される。ウエネルト11dから引き離されたパーティクルPは、気流に乗って真空排気系11lを介して電子銃11の外へと排出される。パーティクル除去用電源機構26によって印加される電圧は、例えば1kV程度が好ましい。また正負の電圧は、予め定められた時間ごとに交互に印加される。制御計算機21では、パーティクル除去用電源機構26を制御し、ウエネルト11dに対して予め定められた回数、電圧を印加するST4。どのくらいの回数電圧を印加するかについては、例えば、電子銃の種類や印加される電圧値等を勘案して任意に設定することができる。また、ここでは印加される電圧の回数を取り上げているが、例えば、ウエネルト11dに印加された電圧値の合計を加算し、所定の値になるまで電圧を印加する、といった方法も採用することができる。また、印加される電圧の正負をも設定することができるようにされていても良い。例えば、パーティクルPが付着するウエネルト11dが、例えば負の状態にある場合には、当該ウエネルト11dに帯電して付着しているパーティクルPは正に帯電している。従ってこのような場合には、ウエネルト11dに印加する電圧として、例えば負の電圧よりも正の電圧を多く印加するといった方法も採用することができる。ウエネルト11dに対して所定回数電圧が印加された後ST4のYES、パーティクルPがウエネルト11dから除去されたか否か確認するST5。ここで除去の確認方法としては、例えば、レーザ等を使用したパーティクルカウンターを利用してウエネルト11dに付着しているパーティクルPを計数する、或いは、電荷量の推移をみる、といった方法を挙げることができる。但し、いずれの方法を採用しても構わない。また、そもそも所定回数、或いは、所定の電圧をウエネルト11dに印加したことでウエネルト11dからパーティクルPが引き離されたと判断しても良い。パーティクルPが除去されていない場合にはST5のNO、再びウエネルト11dへ電圧を印加するST4参照。一方、パーティクルPが除去されたと判断された場合にはST5のYES、電子銃室11e内に付着したパーティクルPの除去は終了する。従って、パーティクル除去用電源機構26をOFFするとともにST6、気体導入口11mから気体の導入を停止するST7。また、真空装置の動きも停止させるST8。但し、ウエネルト11dに付着したパーティクルPの除去処理が終了したことに続いて電子銃室11e内を真空状態へと移行させるべく真空引きを行う場合であれば、気体導入口11mからの気体の導入が停止された後、引き続き真空排気系11lを介して真空排気を行うことも可能である。以上説明した通り、既設の真空排気系及び気体導入口を利用して電子銃室内に気流を生じさせるとともに、ウエネルトに対して正負の電圧を印加することで、ウエネルトに付着しているパーティクルを引き離し発生している気流に乗せて電子銃室外へと排出させることによって、電子銃室内におけるパーティクルを効率良く、かつ確実に除去することによって放電の可能性を低減させることができる電子銃、荷電粒子ビーム描画装置及びパーティクルの除去方法を提供することができる。第2の実施の形態次に本発明における第2の実施の形態について説明する。なお、第2の実施の形態において、上述の第1の実施の形態において説明した構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付し、同一の構成要素の説明は重複するので省略する。図6は、本発明の第2実施の形態におけるタレット電子銃30のパーティクル除去について説明する説明図である。図6に示す電子銃は、タレット型の電子銃である。タレット電子銃は、複数のカソード31と、複数のカソード31を保持する円筒形状の回転体であるバレル32と、を備える。なお、電子銃室に当該タレット電子銃が備え付けられた場合には、シングル電子銃と同様、アース電極を備えるアノードと、電子放出部とを備えることになるが、図6に示すタレット電子銃30は電子銃室に備え付けられた状態ではないので製造後、電子銃室に備え付けられる前の状態であることから、これらは備えられていない。複数のカソード31はそれぞれ電子を放出する電子源を備える。なお、電子源及び電子源から放出される電子を収束するためのウエネルトの役割は、バレル32の所定の部分が各カソード31に対してその機能を果たすようにされている。その意味では、カソード31は上述した第1の実施の形態において説明したシングル電子銃のカソード11aと同様の構成を有する。一般に電子銃においては、カソードの電子源に異常や寿命の問題が発生することがある。電子銃にカソードが1つのみ搭載されたシングル電子銃の場合、カソードの異常や寿命の問題が生ずると、電子銃から電子ビームを放出することができなくなる。この場合、荷電粒子ビーム描画装置自体の稼働を停止しなければならない。そこで複数のカソードを1つのバレルに搭載して構成された電子銃がタレット電子銃である。上述したように、タレット電子銃では、複数のカソードが回転可能なバレルに間隔をあけて設けられている。電子源で異常が発生した場合は寿命の問題によって現在使用しているカソードを交換しなければならなくなった場合、バレルを回転させることによって未使用のカソードをアノードに対向して配置させることができる。このようにタレット電子銃であれば、個々のカソードの異常発生頻度や寿命がシングル電子銃におけるカソードと同等であっても、バレルを回転させてバレルに複数設けられたカソードを交換しながら使用することが可能である。そのため、シングル電子銃に比べて長期間に亘って電子銃及び当該タレット電子銃を搭載した荷電粒子ビーム描画装置を停止させることなく稼働させることができる。従って、荷電粒子ビーム描画装置の稼働効率も上げることができる。また、シングル電子銃に比べて長期間稼働可能ということは、電子銃の交換に伴う電子銃室の真空状態から大気開放への遷移回数が減る。従って、電子銃室内が外気汚染される可能性を低減させることにもつながる。図6に示すタレット電子銃30は、製造直後の状態であり、未だ荷電粒子ビーム描画装置に搭載されていない。すなわち、第2の実施の形態においては、タレット電子銃30の製造工程で付着したパーティクルを荷電粒子ビーム描画装置へ搭載する前に除去する場合を説明する。なお、搭載後のタレット電子銃30のパーティクルの除去処理は、上述した第1の実施の形態における流れと同一である。タレット電子銃30は、ガンハウジング40内に円筒形状の回転体であるバレル32が回転自在に収納される。また、バレル32は、動力部33に接続される回転軸34と、支持部35によって支持される。バレル32は、ステンレスSUS、チタンTi、或いは、モリブデンMo等の材料で構成される。バレル32の外周面には、開口部36が円周上に略等間隔に複数設けられている。図6に示すバレル32では、開口部36が4つ設けられているが、どのくらいの数を設けるかは自由である。開口部36の内部には、電子ビームを放出するカソード31が設けられている。バレル32を支持する支持部35には、カソード31に高電圧を印加するための高圧端子が設けられている図6においては図示せず。図6においては、支持部35に高圧電源25の代わりにパーティクル除去用電源機構26が接続されており、パーティクル除去用電源機構26によってパーティクルを除去するための電圧が印加される。また、このガンハウジング40には、当該空間に存在する気体を吸引する吸引装置50と、タレット電子銃30を挟んで対向する位置に気体導入口60が設けられている。本発明の第2の実施の形態におけるタレット電子銃30のパーティクル除去処理は、第1の実施の形態において説明したように真空排気がなされる空間にて行われるわけではなく、大気開放下で行われる。そのため、吸引装置50としては、例えば、CR用の掃除機や既設のセントラルバキュームシステム等を利用することができる。また、気体導入口60からガンハウジング40内に導入される気体も、窒素N2やアルゴンArに限られず、パーティクルが予め除去されている純度の高い気体であれば、例えば、高洗浄度エアー等であっても良い。吸引装置50と気体導入口60とがタレット電子銃30を挟んで対向する位置に設けられていることから、ガンハウジング40内に気体が導入され吸引装置50が吸引を開始すると、タレット電子銃30の周囲に気流が発生する図6の破線の矢印参照。吸引装置50によって吸引される気合いの流量としては、例えば、5ないし70l/min程度が好ましい。また、パーティクル除去用電源機構26によって正負の電圧がタレット電子銃30に印加されることによって、バレル32や開口部36、カソード31等に付着しているパーティクルPが引き離され、気流に乗ってガンハウジング40の外へと排出される図6の矢印参照。パーティクルP除去の流れは、第1の実施の形態において図4を用いて説明した通りである。以上説明した通り、既設の真空排気系及び気体導入口を利用して電子銃室内に気流を生じさせるとともに、ウエネルトに対して正負の電圧を印加することで、ウエネルトに付着しているパーティクルを引き離し発生している気流に乗せて電子銃室外へと排出させることによって、電子銃室内におけるパーティクルを効率良く、かつ確実に除去することによって放電の可能性を低減させることができる電子銃、荷電粒子ビーム描画装置及びパーティクルの除去方法を提供することができる。特に、その製造工程においてパーティクルが付着しやすいとされるタレット電子銃に対して、製造後荷電粒子ビーム描画装置に搭載されるまでの間にパーティクルの除去処理を行っておくことで、搭載時にタレット電子銃に付着するパーティクルの量を大きく減少させることができる。荷電粒子ビーム描画装置への搭載後は、第1の実施の形態において説明したように適宜パーティクルの除去処理を行うことで、ますます長期間の使用に耐えうるというタレット電子銃の長所を発揮させやすくなる。本発明の実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することを意図していない。この実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。この実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。"