"所定方向に搬送される基板に対して前記所定方向と交差する方向に沿って近接配置される複数のマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であって、前記複数のマスクの上部にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、前記照射部に設けられてその光の照度を検出する照度計と、前記照射部の電力を前記照度計からの照度値に応じて制御する光源制御部と、前記各照射部の間を移動することにより前記各照射部の基準照度を検出する基準照度計と、を備え、前記光源制御部は前記照度計からの照度値を前記基準照度計により検出された基準照度に応じて補正する比例器を有することを特徴とする近接スキャン露光装置。所定方向に搬送される基板に対して前記所定方向と交差する方向に沿って近接配置される複数のマスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置の露光方法であって、前記複数のマスクの上部にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部に設けられ照度計によりその光の照度を検出する工程と、前記照度計からの照度値を前記基準照度計により検出された基準照度に応じて比例器により補正する工程と、前記照射部の電力を前記照度計からの照度値に応じて制御する工程と、を備えることを特徴とする近接スキャン露光装置の露光方法。ところで、特許文献2に記載された近接スキャン露光装置は、一定速度で搬送される基盤に対して搬送方向と交差する方向に沿って近接配置された複数の露光用光を用いて露光を行うものである。この装置においては、各露光用光間の照度が一定となるように制御する必要が有る。各露光用光間の照度が一定とならず、バラツクと露光むらの原因となる。このバラツキに対しては、各露光用光源毎に特許文献1に記載の露光装置のように、照度センサによって計測された照度に基づいて高圧水銀ランプの供給電圧を制御することで容易に光源間の照度のバラツキが緩和できると考えられる。しかしながら、照度計はその出力レベルや経時変化に固体差がある。このため、複数の照度計を同時に、あるいは、並べて使用する場合には照度計の性能自体のバラツキを抑える必要がある。本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることで、露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその露光方法を提供することにある。本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。1所定方向に搬送される基板Wに対して前記所定方向と交差する方向に沿って近接配置される複数のマスクMを介して露光用光を照射し、前記基板Wに前記複数のマスクMのパターンを露光する近接スキャン露光装置1であって、前記複数のマスクMの上部にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部14と、前記照射部14に設けられてその光の照度を検出する照度計50と、前記照射部14の電力を前記照度計50からの照度値に応じて制御する光源制御部15aと、前記各照射部14の間を移動することにより前記各照射部14の基準照度を検出する基準照度計60と、を備え、前記光源制御部15aは前記照度計50からの照度値を前記基準照度計60により検出された基準照度に応じて補正する比例器15bを有することを特徴とする近接スキャン露光装置1。2所定方向に搬送される基板Wに対して前記所定方向と交差する方向に沿って近接配置される複数のマスクMを介して露光用光を照射し、前記基板Wに前記複数のマスクMのパターンを露光する近接スキャン露光装置1の露光方法であって、前記複数のマスクMの上部にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部14に設けられた照度計50によりその光の照度を検出する工程と、前記各照射部14の間を移動する基準照度計60により前記各照射部14の基準照度を検出する工程と、前記照度計50からの照度値を前記基準照度計60により検出された基準照度に応じて比例器15bにより補正する工程と、前記照射部14の電力を前記照度計50からの照度値に応じて制御する工程と、を備えることを特徴とする近接スキャン露光装置1の露光方法。本発明の近接スキャン露光装置およびその露光方法によれば、基準照度計により各照度計の計測値の補正を行うことで複数の照度計の間のバラツキを抑え、各照射部間の照度を一定に制御することにより、露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる。以下、本発明に係る近接スキャン露光装置及び露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。先ず、本実施形態の近接スキャン露光装置1の構成について概略説明する。図1及び図2に示すように、本実施形態のスキャン露光装置1は、基板Wを浮上させて支持すると共に、所定方向図1のX方向に搬送する基板搬送機構10と、複数のマスクMをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向図1のY方向に沿って千鳥状に二列配置された複数図1に示す実施形態において、左右それぞれ6個のマスク保持部11と、マスク保持部11を駆動するマスク駆動部12と、複数のマスク保持部11の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部14と、スキャン露光装置1の各作動部分の動きを制御する制御部15と、を主に備える。基板搬送機構10は、基板WをX方向に搬送する領域、即ち、複数のマスク保持部11の下方領域、及びその下方領域からX方向両側に亘る領域に設けられた浮上ユニット16と、基板WのY方向一側図1において上辺を保持してX方向に搬送する基板駆動ユニット17とを備える。浮上ユニット16は、複数のフレーム19上にそれぞれ設けられた複数の排気エアパッド20及び吸排気エアパッド21を備え、ポンプ図示せずやソレノイドバルブ図示せずを介して排気エアパッド20や吸排気エアパッド21からエアを排気或いは、吸排気する。基板駆動ユニット17は、図1に示すように、浮上ユニット16によって浮上、支持された基板Wの一端を保持する吸着パッド22を備え、モータ23、ボールねじ24、及びナット図示せずからなるボールねじ機構25によって、ガイドレール26に沿って基板WをX方向に搬送する。なお、図2に示すように、複数のフレーム19は、床面にレベルブロック18を介して設置された装置ベース27上に他のレベルブロック28を介して配置されている。また、基板Wは、ボールねじ機構25の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。マスク駆動部12は、フレーム図示せずに取り付けられ、マスク保持部11をX方向に沿って駆動するX方向駆動部31と、X方向駆動部31の先端に取り付けられ、マスク保持部11をY方向に沿って駆動するY方向駆動部32と、Y方向駆動部32の先端に取り付けられ、マスク保持部11をθ方向X,Y方向からなる水平面の法線回りに回転駆動するθ方向駆動部33と、θ方向駆動部33の先端に取り付けられ、マスク保持部11をZ方向X,Y方向からなる水平面の鉛直方向に駆動するZ方向駆動部34と、を有する。これにより、Z方向駆動部34の先端に取り付けられたマスク保持部11は、マスク駆動部12によってX,Y,Z,θ方向に駆動可能である。なお、X,Y,θ,Z方向駆動部31,32,33,34の配置の順序は、適宜変更可能である。また、図1に示すように、千鳥状に二列配置された搬入側及び搬出側マスク保持部11a,11b間には、各マスク保持部11a,11bのマスクMを同時に交換可能なマスクチェンジャ2が配設されている。マスクチェンジャ2により搬送される使用済み或いは未使用のマスクMは、マスクストッカ3,4との間でローダー5により受け渡しが行われる。なお、マスクストッカ3,4とマスクチェンジャ2とで受け渡しが行われる間にマスクプリアライメント機構図示せずによってマスクMのプリアライメントが行われる。図2に示すように、各マスク保持部11の上部に配置される複数の照射部14は、光源6、ミラー7、オプチカルインテグレータ図示せず、シャッター図示せず等を備える。光源6としては、紫外線を含んだ露光用光ELを照射する、例えば超高圧水銀ランプ、キセノンランプ又は紫外線発光レーザが使用される。また、この各照射部14の前記ミラー7にはその照度を検出する各照度計50が設けられている。このような近接スキャン露光装置1は、浮上ユニット16の排気エアパッド20及び吸排気エアパッド21の空気流によって基板Wを浮上させて保持し、基板Wの一端を基板駆動ユニット17で吸着してX方向に搬送する。そして、マスク保持部11の下方に位置する基板Wに対して、照射部14からの露光用光ELがマスクMを介して照射され、マスクMのパターンを感光剤が塗布された基板Wに転写する。図3に示すように、制御部15には、前記照射部14の光源6の照度を一定に保つようにその電力を制御する光源制御部15aが設けられている。この光源制御部15aは各照度計50から出力される照度信号に応じて光源6の電力、主には電圧を制御することによりその照度を一定に保つ。また、各照射部114a、照射部214b、照射部314c照射部N14Nには各々に対応する照度計150a、照度計250b、照度計350c照度計N50Nが設けられており、各々の照射部14は各々の照度計50に応じて照度が制御される。さらに、光源制御部15aには、基準となる照度の測定を行う基準照度計60が接続されている。この基準照度計60はマスクチェンジャ2のマスクM側表面に設けられている。マスクチェンジャ2が各照射部14の間を移動することにより各照射部14の基準照度を検出する。すなわち1つの基準照度計60により各照射部14の照度を検出する。この基準照度計60は設置位置60aから設置位置60bに移動可能とされており、千鳥状に配置された照射部14の片側図2における左側の照度を検出後、もう片側図2における右側の照度計測が可能である。また、基準照度計60を複数用意し、各々を設置位置60a及び設置位置60bに各載置しても良い。また、基準照度計60は光源6近傍に設けられた各照度計14とは異なり、マスクM近傍の照度を計測することになるため、より実露光に使用される照度に近いものとなる。その為、基準照度と各照度計の値が異なる場合には比例器15bによって、照度計の値を基準照度の値に補正することが好ましい。さらに、この基準照度計60は基板Wの搬送方向に移動可能に形成されており、一枚のマスクM内での各点での照度分布も計測可能とされている。尚、マスクチェンジャ2に基準照度計60を設けるのではなく、別途移動機構を設けても良い。また、光源制御部15aには、比例器15bが設けられている。この比例器15bは前記照度計50からの照度値を前記基準照度計60により検出された基準照度に応じて補正する。詳細には、前記各照度計50からの照度値を前記基準照度計60により検出された基準照度値に合わせるように、照度値を補正する。以下、照度補正の具体的な処理について、図4のフローチャートを参照して説明する。尚、設定照度を変えて各々2点測定し、その近似式で補正を行う場合について説明する。まず、基準照度計60が制御部15からマスクチェンジャ2の移動機構70への指令により照射部114aの下に移動するステップ1。そして、光源制御部15aから照射部114aに出力仮設定1が行われステップ2、仮出力で光源6から露光用光ELが照射されるステップ3。その後シャッターが開かれステップ4、実際にマスクMに露光用光ELが照射される。ここで、照度計150aにより照度計測が行われステップ6、照度信号が光源制御部15aに出力される。これと同時又はその後に、基準照度計60により基準照度が計測され、基準照度信号が光源制御部15aに出力される。そしてシャッターを閉めステップ7、さらに光源6からの露光用光ELの照射を止めるステップ8。そして、光源制御部15aから照射部114aに出力仮設定2が行われステップ9上記、ステップ3からステップ18の処理が繰り替えされるステップ10~ステップ15。その後、照度計150aと基準照度計60の各々2点の値比較が行われステップ16、値が異なる場合には、比例器15bによって光源制御部15aで基準照度計60の値に照度を補正するステップ17。さらに、次の照射部214bに基準照度計60が移動し、上記処理が繰り返し行われる。各照射部14の全ての計測が完了した後、光源制御部15aから照射部114aに実際に露光を行う初期出力設定が行われステップ20、光源6から実露光となる露光用光ELが照射されるステップ3。その後シャッターが開かれステップ22、実際にマスクMに露光用光ELが照射される。そして、仮出力設定時と同じ様に再度各照度計50で基準照度計60との値比較が行われ、値が合っているようであれば、実際に露光動作が開始される。また、値が異なるようであれば、値が異なる照射部14で、ステップ1~ステップ18の処理が繰り替えされることとなる。尚、基準照度を測定は、定期的に発生する光源6の交換時にしも良いし、必要に応じて毎日、毎週等、所定の期間毎に計測しても良い。以上の様に、本実施形態の近接スキャン露光装置1およびその露光方法によれば、各照度計50のバラツキを抑えることにより各光源6間の照度を一定にすることで、露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる。なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものでなく、適宜、変更、改良等が可能である。上記実施形態においては、各照射部14に各照度計50を設けたが、各照度計50を設けることなく、定期的に基準照度計60で基準照度を検出することで電力制御するものであってもよい。また、近接スキャン露光装置だけではなく、ステップ式近接露光装置にも適用可能である。"