リソグラフィ装置であって、放射線のビームを供給する照明系と、前記ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイと、基板の標的部分上に前記パターン化されたビームを投影し、瞳を定めかつレンズのアレイを含む投影系とを備え、レンズの前記アレイは前記パターン化されたビームの個々の部分を前記基板の前記標的部分の個々の部分に向けるように配置され、前記個別に制御可能な要素は、前記瞳を通過する前記パターン化されたビームの量が徐々に変えられるように、前記パターン化されたビームの個々の部分を前記瞳から離すように徐々に向けるように選択的に制御可能であり、前記個別に制御可能な要素は、前記パターン化されたビームが各群の各要素によって前記レンズアレイの同じレンズに向けられるように、いくつかの群として配置されており、各群の個別に制御可能な要素は、個別に制御可能な要素の当該群によって前記ビーム上に付与されたパターンが前記瞳に対して実質的に対称状になるように、前記瞳から離して種々の方向に前記パターン化されたビームを向けるように共に制御されるリソグラフィ装置。前記個別に制御可能な要素の前記群の各々は、相互に対して180°傾斜した方向に前記瞳から離すように前記パターン化されたビームを徐々に向ける2つの要素を備えた請求項1に記載の装置。前記個別に制御可能な要素の前記群は、相互に対して120°の間隔で傾斜した方向に前記瞳から離すように前記パターン化されたビームを徐々に向ける3つの要素を備えた請求項1に記載の装置。前記個別に制御可能な要素の前記群は、相互に対して90°の間隔で傾斜した方向に前記瞳から離すように放射線を徐々に向ける4つの要素を備えた請求項1に記載の装置。前記個別に制御可能な要素は、当該ミラーが反射する前記ビームが前記瞳に対して対称状である位置から徐々に離れるように傾斜になったミラーである請求項1に記載の装置。前記照明系から前記個別に制御可能な要素に向けて前記ビームを反射し、かつ前記個別に制御可能な要素からレンズの前記アレイに向けて前記パターン化されたビームを送るビームスプリッタを備えた請求項5に記載の装置。前記瞳は投影レンズコントラスト開口プレートによって定められる請求項1に記載の装置。デバイス製造方法であって、個別に制御可能な要素のアレイを用いてビームをパターン化する工程と、投影系のレンズのアレイを用いて基板の標的部分の上に前記パターン化されたビームを投影する工程であって、レンズの前記アレイは前記パターン化されたビームの個々の部分を前記標的部分の個々の部分に向けるように配置された工程と、前記瞳を通過する前記パターン化されたビームの量が徐々に変えられるように、前記パターン化されたビームの個々の部分を前記投影系の瞳から離すように徐々に向けるように、前記個別に制御可能な要素を選択的に制御する工程と、前記個別に制御可能な要素をいくつかの群として制御する工程とを含み、各群の前記個別に制御可能な要素は、レンズの前記アレイの同じレンズに前記パターン化されたビームを向け、各群の前記個別に制御可能な要素は、前記群の各々によって前記ビームに付与された前記パターンが前記瞳に対して実質的に対称状になるように、前記瞳から種々の方向に徐々に放射線を向けるデバイス製造方法。前記個別に制御可能な要素のうちの2つを用いて、相互に対して180°だけ傾斜した方向に前記瞳から離れるように前記パターン化されたビームを向けるように徐々に調整される前記群の1つを形成する工程をさらに含む請求項8に記載の方法。前記個別に制御可能な要素のうちの3つを用いて、相互に対して120°だけ傾斜した方向に前記瞳から離れるように前記パターン化されたビームを向けるように徐々に調整される前記群の1つを形成する工程をさらに含む請求項8に記載の方法。前記個別に制御可能な要素のうちの4つを用いて、相互に対して90°だけ傾斜した方向に前記瞳から離れるように前記パターン化されたビームを向けるように徐々に調整される前記群の1つを形成する工程をさらに含む請求項8に記載の方法。ミラーを前記個別に制御可能な要素として用いる工程をさらに含み、前記ミラーは前記ミラーの各々が偏向した前記パターン化されたビームが前記瞳に対して対称的になる位置から離れるように傾けられる請求項8に記載の方法。ビームスプリッタを用いて前記個別に制御可能な要素に前記ビームを向ける工程と、前記ビームスプリッタを介して前記個別に制御可能な要素からレンズの前記アレイに前記パターン化されたビームを向ける工程とをさらに含む請求項12に記載の方法。前記瞳を定めるように投影レンズコントラスト開口部が位置決めされた請求項8に記載の方法。リソグラフィ装置であって、放射線のビームを供給する照明系と、前記ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイと、基板の標的部分上に前記パターン化されたビームを投影し、瞳を定めかつレンズのアレイを含む投影系とを備え、前記個別に制御可能な要素は、前記パターン化されたビームが各群の各要素によって前記レンズアレイの同じレンズに向けられるように、いくつかの群として配置されたリソグラフィ装置。各群の個別に制御可能な要素は、個別に制御可能な要素の当該群によって前記ビーム上に付与されたパターンが前記瞳に対して実質的に対称状になるように、前記瞳から離して種々の方向に前記パターン化されたビームを向けるように共に制御される請求項15に記載のリソグラフィ装置。前記個別に制御可能な要素の各々は、前記瞳を通過する前記パターン化されたビームの量が変えられるように、前記パターン化されたビームの個々の部分を前記瞳から離すように向けるように選択的に制御可能である請求項15に記載のリソグラフィ装置。リソグラフィ装置であって、放射線のビームを供給する照明系と、前記ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイと、基板の標的部分上に前記パターン化されたビームを投影し、瞳を定めかつレンズのアレイを含む投影系とを備え、前記個別に制御可能な要素は、前記瞳を通過する前記パターン化されたビームの量が変えられるように、前記パターン化されたビームの個々の部分を前記瞳から離すように向けるように選択的に制御可能であるリソグラフィ装置。デバイス製造方法であって、個別に制御可能な要素のアレイを用いてビームをパターン化する工程と、投影系のレンズのアレイを用いて基板の標的部分の上に前記パターン化されたビームを投影する工程であって、レンズの前記アレイは前記パターン化されたビームの個々の部分を前記標的部分の個々の部分に向けるように配置された工程と、前記瞳を通過する前記パターン化されたビームの量が変えられるように、前記パターン化されたビームの個々の部分を前記投影系の瞳から離すように向けるように、前記個別に制御可能な要素を選択的に制御する工程とを含むデバイス製造方法。デバイス製造方法であって、個別に制御可能な要素のアレイを用いてビームをパターン化する工程と、投影系のレンズのアレイを用いて基板の標的部分の上に前記パターン化されたビームを投影する工程であって、レンズの前記アレイは前記パターン化されたビームの個々の部分を前記標的部分の個々の部分に向けるように配置された工程と、前記個別に制御可能な要素をいくつかの群として制御する工程とを含み、前記群の前記個別に制御可能な要素は、レンズの前記アレイの同じレンズに前記パターン化されたビームを向け、前記群の前記個別に制御可能な要素は、前記群によって前記ビームに付与された前記パターンが前記瞳に対して実質的に対称状になるように、前記瞳から種々の方向に徐々に放射線を向けるデバイス製造方法。したがって、必要とされるのはグレートーン能力を提供するためにマイクロレンズアレイイメージングシステムにおいて使用することのできる改善されたリソグラフィ装置及びデバイス製造方法である。本発明のある実施例によれば、放射線のビームを供給する照明系と、そのビームの断面にパターンを付与するように働く個別に制御可能な要素のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、パターンが付与されたビームを基板の標的部分上へ投影するための投影系とを備えたリソグラフィ装置が提供される。投影系は瞳を定め、レンズのアレイを含む。アレイ内の各レンズはパターン化されたビームの個々の部分を基板の標的部分の個々の部分に向けるように配置されている。一例では、個別に制御可能な要素のアレイの各々は、瞳を通過するビームの個々の部分が徐々に調整されるように、ビームの個々の部分を瞳から離して徐々に方向付けるように選択的に制御可能である。一例では、個別に制御可能な要素は放射線がレンズアレイ内の同じレンズに向けて1つの群の各要素によって方向付けられるように配置されている。その群の要素によってビームに付与されたパターンが瞳に対して実質的に対称的になるように、任意の1つの群の個別に制御可能な要素は共に制御されて瞳から離して種々の方向に放射線を徐々に方向付ける。一例では、2つ以上のミラー又は他の徐々に調整可能なパターン付与機器を用いてアレイの単一レンズ及びそのミラーが照射されるか、又は他のパターン付与機器は照明の光点の位置が照明の光点の強度から切り離される対称的配置を形成するように制御される。一例では、ミラー要素などの2つの個別に制御可能な要素が単一の群を形成してよい。2つの要素の各々は放射線を瞳から離して相互に180°傾斜した方向に向けるように徐々に調整される。一例では、3つの要素が放射線を徐々に瞳から離して相互に120°のインターバルで傾斜した方向に向ける。一例では、4つの要素が放射線を徐々に瞳から離して相互に90°のインターバルで傾斜した方向に向ける。このような上記例では、個別に制御可能な要素はミラーであってよく、その各々はそのミラーによって反射される放射線が瞳に対して対称的である位置から離して徐々に傾斜され得る。ビームスプリッタを用いて照明系からの放射線を個別に制御可能な要素に向けて反射し、かつ個別に制御可能な要素からの光をレンズのアレイに向けて送ることができる。瞳は投影レンズコントラスト開口プレートによって定められ得る。本発明の別の実施例は、基板を用意する工程と、照明系を使用して放射線のビームを提供する工程と、個別に制御可能な要素のアレイを用いてビームの断面にパターンを付与する工程と、パターン化されたビームの個々の部分を標的部分の個々の部分に向けるように各々配置されたレンズのアレイを通して、基板の標的部分の上にパターン化された放射線のビームを投影する工程と、ビームの個々の部分を瞳から離れるように方向付けて瞳を通過するその部分が徐々に調整されるように、個別に制御可能な要素の各々を選択的に制御する工程とを含むデバイス製造方法を提供する。個別に制御可能な要素は任意の1つの群の要素がレンズアレイ内の同じレンズに放射線を向けるように、かつ、その群の要素によってビームに付与されたパターンが瞳に対して実質的に等しくなるように放射線を瞳から離して種々の方向に向けるように徐々に制御されるように、群として制御される。一例では、上記実施例及び例に記載の本発明は、投影されたビームにパターンを付与するために個別に制御可能な要素のアレイに依存するリソグラフィ装置において使用される。さらに、本発明の実施例、フィーチャ、及び利点並びに本発明の種々の実施例の構造及び動作を図面を参照して以下に詳細に記載する。ここに組み入れ、本願明細書の一部を成す添付図面は本発明を説明し、その記載と共に、本発明の原理を説明し、当業者が本発明を作製かつ使用できるような役割をする。ここで、添付図面を参照して本発明を記載する。図面中、同様の参照番号は同一又は機能的に同一の要素を意味し得る。概要及び用語本願明細書では集積回路ICの製造におけるリソグラフィ装置の使用を具体的に参照するかもしれないが、本願明細書に記載のリソグラフィ装置には集積光学系、磁気ドメインメモリ用の誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、薄膜磁気ヘッド等の製造などの他の用途がある。当業者であれば、そのような代替的用途の関連で、ウェーハ又はダイという用語を本願明細書において使用する場合には、より一般的な用語基板又は標的部分とそれぞれ同義であるとみなされ得ることが理解されよう。本願明細書で言及する基板は、例えば、トラック例えば、典型的にはレジストの層を基板に塗布し、露光されたレジストを現像する器具或いは測定又は検査ツールで露光の前又は後に処理され得る。適用可能であれば、本願明細書の開示はそのような及び他の基板処理器具に適用されてよい。さらに、例えば、多層ICを作るために基板は2回以上処理することができるので、本明細書で使用する用語基板は、処理された複数の層をすでに含む基板を指すこともできる。本明細書で使用する用語個別に制御可能な要素は、入射投影ビームの断面にパターンを付与して、基板の標的部分に所望のパターンを形成することができるようにするために使用することができる装置を指すものと広く解釈しなければならない。この文脈では用語光弁及び空間的光変調器SLMも使用することができる。このようなパターン形成装置の例については後に論じる。プログラム可能ミラーアレイは、粘弾性制御層及び反射面を有する、マトリックス式のアドレス指定が可能な表面を含む。このような装置の基本原理は、例えば、反射面のアドレス指定された領域は入射光を回折光として反射し、アドレス指定されていない領域は入射光を非回折光として反射するというものである。適当な空間フィルタを使用して非回折光を反射ビームから除き、回折光だけを残して基板に到達させることができる。このようにして、ビームにはマトリックス式アドレス指定可能面のアドレス指定パターンに従ったパターンが付与される。別の実施例として、フィルタが回折光を除去し、非回折光を残して基板に到達させることもできることを理解されたい。回折光学マイクロ電気機械系MEMSデバイスのアレイを相応する方法で使用することもできる。それぞれの回折光学MEMSデバイスは、入射光を回折光として反射する格子を形成するために互いに対して変形することができる複数の反射リボンを含むことができる。さらなる別の実施例は、適当な局所電界を適用することによって、又は圧電作動手段を使用することによって軸周囲にそれぞれを個別に傾けることができる小さなミラーのマトリックス配置を使用するプログラム可能ミラーアレイを含む。この場合も、ミラーはマトリックス式のアドレス指定が可能であり、アドレス指定されたミラーは入射放射ビームを、アドレス指定されていないミラーとは異なる方向に反射させる。このようにして、反射ビームに、マトリックス式アドレス指定可能ミラーのアドレス指定パターンに従ったパターンが付与される。必要なマトリックス式アドレス指定は適当な電子手段を使用して実施することができる。上記のどちらの状況でも、個別に制御可能な要素のアレイは、1つ又は複数のプログラム可能ミラーアレイを備えることができる。ここで言及したミラーアレイの詳細な情報は、例えばその全体を参照によって本明細書に援用する米国特許第5296891号及び5523193号、並びに国際特許出願第98/38597号及び第98/33096号から得ることができる。プログラム可能LCDアレイも使用することができる。このような構造の一例が、その全体を本明細書に援用する米国特許第5229872号に開示されている。例えば画像構造のプレバイアス、光学的近接効果補正画像構造、位相変動技法及び多重露光技法を使用する場合には、個別に制御可能な要素のアレイ上に表示されるパターンが、基板の層又は基板上に最終的に転写されるパターンとは大きく異なる可能性があることを理解されたい。同じく、基板上に最終的に生成されるパターンが、個別に制御可能な要素のアレイ上に瞬間的に形成されるパターンと一致しないこともある。このことは基板のそれぞれの部分上に形成される最終的なパターンが構築される所与の期間又は所与の露光回数の間に、個別に制御可能な要素のアレイ上のパターン及び/又は基板の相対位置が変化する配置で起こり得る。本明細書ではIC製造におけるリソグラフィ装置の使用を特に参照するが、本明細書に記載のリソグラフィ装置は例えばDNAチップ、MEMS、MOEMS、集積光学系、磁気ドメインメモリの誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、薄膜磁気ヘッドなどの製造など他に応用できることを理解されたい。当業者であれば、このような代替応用の文脈において、本明細書で使用される用語ウェーハ又はダイはそれぞれ、より一般的な用語基板又は標的部分と同義とみなすことができることを理解されたい。本明細書で参照する基板は、例えばトラック一般にレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像する器具或いは測定又は検査ツールで露光の前又は後に処理することができる。適用可能な場合には、本明細書の開示を、このような基板処理器具及び他の基板処理器具に適用することができる。さらに、例えば多層ICを作るために基板は2回以上処理することができるので、本明細書で使用する用語基板は、処理された複数の層をすでに含む基板を指すこともできる。本願明細書で使用する放射及びビームという用語は、紫外UV放射例えば波長365、248、193、157又は126nmを有する、極紫外線EUV放射例えば波長5~20nmを有する、及びイオンビーム、電子ビームなどの粒子ビームを含む、あらゆるタイプの電磁放射を包含する。本願明細書で使用する投影系という用語は、屈折光学系、反射光学系及び反射屈折光学系を含む、例えば使用する露光放射、又は浸液の使用、真空の使用などの他の要素に関して適当な、さまざまなタイプの投影系を包含するものと広く解釈しなければならない。本明細書での用語レンズの使用は、より一般的な用語投影系と同義とみなすことができる。照明系も、放射投影ビームを誘導、成形、制御する、屈折、反射及び反射屈折光学構成要素を含むさまざまなタイプの光学構成要素を包含し、以下、このような構成要素を集合的に又は単独でレンズと呼ぶことがある。リソグラフィ装置は、2つ例えばデュアルステージ又は3つ以上の基板テーブル及び/又は2つ以上のマスクテーブルを有するタイプの装置とすることができる。このような多ステージ装置では、これらの追加のテーブルを並行して同時に使用することができ、或いは、1つ又は複数のテーブルを露光に使用している間に他の1つ又は複数のテーブル上で準備工程を実施することができる。リソグラフィ装置は、比較的高い屈折率を有する液体例えば水に基板を浸して、投影系の最後の要素と基板の間の空間を満たすタイプの装置とすることもできる。リソグラフィ装置の他の空間、例えばマスクと投影系の最初の要素との間の空間で浸液を使用することもできる。液浸技法は、投影系の開口数を増大させるものとして当該分野でよく知られている。さらにこの装置は、流体と基板の照射部分との間の相互作用を可能にする例えば基板に化学物質を選択的に付着させ、又は基板の表面構造を選択的に修正する流体処理セルを備えることができる。リソグラフィ投影装置図1に、本発明の一実施例に基づくリソグラフィ投影装置100を概略的に示す。装置100は少なくとも、放射系102と、個別に制御可能な要素のアレイ104と、物体テーブル106例えば基板テーブルと、投影系レンズ108とを含む。放射系102は、放射例えばUV放射投影ビーム110を供給するために使用することができ、この特定のケースではさらに放射源112を含む。個別に制御可能な要素のアレイ104例えばプログラム可能ミラーアレイは、投影ビーム110にパターンを付与するために使用することができる。個別に制御可能な要素のアレイ104の位置は、一般に投影系108に対して固定することができる。しかし代替装置では、個別に制御可能な要素のアレイ104を、投影系108に対してアレイ104を正確に配置するための位置決め装置図示せずに接続することができる。図示の通り、個別に制御可能な要素104は例えば個別に制御可能な要素の反射型アレイを有する反射型である。物体テーブル106は、基板114例えばレジストでコーティングされたシリコンウェーハ又はガラス基板を保持するための基板ホルダ具体的には図示されていないを備えることができ、投影系108に対して基板114を正確に配置するための位置決め装置116に接続することができる。投影系108例えば、石英及び/又はCaF2レンズ系、或いは該材料から作られたレンズ要素を含む反射屈折光学系、或いはミラー系は、ビームスプリッタ118から受け取ったパターンが付与されたビームを基板114の標的部分120例えば1つ又は複数のダイ上へ投影するために使用することができる。投影系108は、個別に制御可能な要素のアレイ104の像を基板114上に投影することができる。投影系108は或いは、個別に制御可能な要素のアレイ104の要素がそれに対するシャッタの働きをする2次源の像を投影することができる。投影系108はさらに、2次源を形成しマイクロスポットを基板114上に投影するためのマイクロレンズアレイMLAを含むことができる。放射源112例えばエキシマレーザは放射ビーム122を生み出すことができる。ビーム122は、直接に、又は例えばビームエキスパンダ126などの調節装置126を通過させた後に、照明系照明装置124に供給される。照明装置124は、放射ビーム122の強度分布の半径方向外側及び/又は半径方向内側の広がり普通はそれぞれσアウター及びσインナーと呼ばれるを設定する調整装置128を備えることができる。さらに照明装置124は一般に、インテグレータ130、コンデンサ132など、他のさまざまな構成要素を含む。このようにして、個別に制御可能な要素104のアレイに入射する投影ビーム110は、所望の断面均一性及び断面強度分布を有する。図1に関して、放射源112を、例えば放射源112が水銀ランプであるときにしばしばそうであるようにリソグラフィ投影装置100のハウジングの中に収容することができることに留意されたい。代替実施例では、放射源112を、リソグラフィ投影装置100から分離して配置することもできる。この場合、放射ビーム122は例えば適当な誘導ミラーの助けを借りて装置100の中に導かれることになる。この後者のシナリオは、放射源112がエキシマレーザであるときにしばしば用いられる。これらのシナリオはともに本発明の範囲内で企図されることを理解されたい。ビーム110は続いて、ビームスプリッタ118を使用して導かれた後に個別に制御可能な要素のアレイ104にさえぎられる。個別に制御可能な要素のアレイ104によって反射された後、ビーム110は投影系108を通過し、投影系108はビーム110を、基板114の標的部分120上に集束させる。位置決め装置116及び任意選択で、ビームスプリッタ140を介して干渉計ビーム138を受け取るベースプレート136上の干渉計測定装置134を用いて、ビーム110の通り道に別の標的部分120が配置されるように、基板テーブル106を正確に移動させることができる。個別に制御可能な要素のアレイ104の位置決め装置を使用する場合には、これを使用して、例えば走査中に、ビーム110の経路に対する個別に制御可能な要素のアレイ104の位置を、正確に補正することができる。物体テーブル106の移動は一般に、図1には明示されていない長ストロークモジュールおおまかな位置決め及び短ストロークモジュール細かい位置決めを用いて実現される。同様の系を使用して、個別に制御可能な要素のアレイ104の位置を決めることもできる。或いは/これに加えて、物体テーブル106及び/又は個別に制御可能な要素のアレイ104の位置を固定し、必要な相対移動を得るために、投影ビーム110のほうを移動させることもできる。この実施例の代替構成では、基板テーブル106を固定とし、基板114を基板テーブル106上で移動させる。この場合、基板テーブル106はその平らな上面に多数の開口を有し、この開口を通して、基板114を支持することができるガスクッションを提供するガスが供給される。これは従来から空気支持装置と呼ばれているものである。ビーム110の経路に対して基板114を正確に位置決めする能力を有する1つ又は複数のアクチュエータ図示せずを使用して、基板114を基板テーブル106上で移動させる。或いは、開口を通したガスの放出を選択的に開始/停止することによって、基板114を基板テーブル106上で移動させることもできる。本明細書では、本発明に基づくリソグラフィ装置100を、基板上のレジストを露光するための装置として説明するが、本発明はこの使用法に限定されるものではなく、レジストレスリソグラフィで、パターンが付与された投影ビーム110を投影するために装置100を使用することもできることを理解されたい。図示の装置100は以下の4つの好適なモードで使用することができる。1.ステップモード:個別に制御可能な要素のアレイ104上のパターン全体を、1つの標的部分120の表面に一度にすなわち1回の静止露光で投影する。次いで、パターンが付与された投影ビーム110によって別の標的部分120を照射するために、基板テーブル106を別の位置へx及び/又はy方向に移動させる。2.走査モード:ステップモードと本質的には同じだが、所定の標的部分120が1回の静止露光では露光されない点が異なる。その代わりに、個別に制御可能な要素のアレイ104が、所定の方向いわゆる走査方向、例えばy方向に速度vで移動することができ、そのため投影ビーム110は個別に制御可能な要素のアレイ104の上を走査する。同時に、基板テーブル106を、同じ方向又は反対方向に速度V=Mvで同時移動させる。ここでMは投影系108の倍率である。このようにすると、解像度を犠牲にすることなく、比較的に大きな標的部分120を露光することができる。3.パルスモード:個別に制御可能な要素のアレイ104を本質的に固定し、パルス放射系102を使用して基板114の1つの標的部分120にパターン全体を投影する。パターンが付与された投影ビーム110が基板106を横切る線を走査するように、基板テーブル106を本質的に一定の速度で移動させる。放射系102のパルスとパルスの間に、個別に制御可能な要素のアレイ104上のパターンが必要に応じて更新され、基板114上の必要な位置の連続した標的部分120が露光されるようにパルスのタイミングが調節される。その結果、パターンが付与された投影ビーム110が基板114を走査して、基板114の帯状部分に完全なパターンを露光することができる。基板114の全体がラインごとに露光されるまでこのプロセスを繰り返す。4.連続走査モード:パルスモードと本質的には同じだが、実質的に一定の放射系102が使用される点、及び、パターンが付与された投影ビーム110が基板114を走査しこれを露光するときに個別に制御可能な要素のアレイ104上のパターンが更新される点が異なる。上で説明した使用モードの組合せ及び/又は変形、或いは全く異なる使用モードを使用することもできる。図2は本発明の一実施例による、マイクロレンズアレイを組み入れた光学投影系の略図である。図2は図1に一般的に示したタイプの特定のリソグラフィ装置を概略的に図示している。図2に示した装置は、要素2の二次元アレイをその下面に有するコントラスト装置1を備えている。要素2の二次元アレイの各々の角度位置は選択的に制御することができる。ビームスプリッタ3はコントラスト装置1の下に位置決めされている。照明源4はビームスプリッタ3に放射線5のビームを向け、ビームスプリッタ3はビーム5をコントラスト装置1の下面上に反射する。コントラスト装置1の要素2の一方は、ビームスプリッタ3を通し、かつレンズ6、7、及び8によって定められた投影光学を通して基板10上にビーム5の成分部分を再反射する。一例では、最下のレンズ8は実質的にテレセントリックなビームを発生する視野レンズであり、このビームはマイクロレンズアレイ9に向けられる。マイクロレンズアレイ9は二次元の小さなレンズのアレイを備えており、その各々はレンズに入射する光を基板10の上面に集束させるように配置されている。したがって、光をアレイ9に反射するミラーとして働くコントラスト装置1のコントラスト要素2の各々について、アレイ9のレンズの個々の1つが照射され、光の個々の点はアレイ9のそのレンズによって基板10の上面に投影される。この配置では、コントラスト装置1が基板10上に結像される。図3は本発明の一実施例による、図2に示した系のコンポーネントの略図であり、移動可能な基板テーブルを備えている。この例では、基板10はマイクロレンズアレイ9の下で、基板テーブル11の上に支持された状態で示されている。投影光学は簡単な矩形12で表されている。図2のコントラスト装置1のコントラスト要素2を投影光学12の上に示している。この例では、基板テーブル11はマイクロレンズアレイ9の下の矢印13の方向に直線的に動かされる。図4は本発明の一実施例による、図3に示した系の基板上に投影された光点の向きを示す略図である。この図は図2及び3のマイクロレンズアレイ9の個々のレンズの配置と、図3の基板テーブル11の配置の方向との関係を示している。移動の方向は図4に矢印13で示している。この方向は線15に対して傾斜している線14に平行である。線15はマイクロレンズアレイ9のレンズの列に対して平行に延びる。各レンズは矩形アレイの光点16の異なる1つの上に光を投影する。コントラスト装置1の個々の要素2によって個々のレンズに届けられる照明ビームを適切に制御することによって基板10の表面全体が露光されるように、レンズは基板テーブル移動の方向13に対して僅かに傾斜している二次元アレイとして配置されている。各レンズは基板10の表面に連続的な線を実質的に書き込むことができ、基板移動の方向に対してレンズが配置されている場合は、連続的な線は重なり合うように十分に近接している。基板10の選択された二次元領域を露光するために、基板10はマイクロレンズアレイ9の下に進められる。露光される領域が任意のある時間に下で位置決めされる個々のレンズは、コントラスト装置1の関連する要素2を適切に制御することによって照射される。図5は本発明の一実施例による、コントラスト装置及び該コントラスト装置の第1配置にあるコントラスト開口部の略図である。図6は本発明の一実施例による、コントラスト装置の配置を変更後の図5に相当する。一例では、基板10上の点16の各々に達する放射線の強度を制御できることが好ましい。この例では、コントラスト装置1の個々の要素2の位置は、例えば図2及び3に示したように調整される。これは個々の反射要素2が反射した光のビームの一部のみが、マイクロレンズアレイ9の関連するレンズに到達するように行われ得る。これを図5及び6に簡単に示している。図5はコントラスト開口プレート18の円形開口の中心に向けられた軸17に沿って放射線のビームを向けるコントラスト装置1の反射要素2を示している。図6はビームがコントラスト開口プレート18に対して部分的にずらされるように、図5の位置に対して傾けられた後の要素2を示している。図5及び6の配置では、コントラスト開口プレート18は基板10に結像される瞳を定める。一例では、図5に示したように、放射線の強度はコントラスト開口プレート18の中心を通る中心線19を中心に対称的である。この強度を曲線20で示している。したがって、マイクロレンズアレイ9のレンズ21に達するコントラスト開口プレート18を通過するビームが基板10に投影されて、基板10上に、レンズ21の中心軸を中心に対称的な照明点を形成し、この軸を線22で示している。一例では、図6に示したように、線20で表した強度分布はコントラスト開口プレート18の中心線19に対してずれるので、レンズ21下の基板10上の光の分布もずれる。その結果、基板10上の光点の位置と強度との間には望ましくない結合が存在する。効果的には基板10に図6の線22の左側に投影される光点の一部は、線22の右側の光点の一部よりも強度の大きい放射線を受け取る。したがって、図5に示した位置から図6に示した位置までコントラスト装置1の要素2を移動させることによって基板10に達する放射線の強度は低減されるが、図5に示した場合に達成される放射線の対称的分布は図6に示した場合には達成されない。図7及び8は本発明の一実施例による、図5及び6に示したコントラスト装置1の配置の場合のコントラスト開口プレート18に対する放射線ビームの分布を示している。図7は図5のコントラスト開口プレート18の開口部の周縁を線23で、また放射線のビームのその開口に対する位置を線24で示している。他方、図8は開口部の周縁28と図6に示した場合の放射線24のビームとの相対位置を線28で示している。ビーム24は影の付いた領域だけにおいて開口28と重なっており、非対称的であるのは明らかである。図9は本発明の一実施例による、2つのコントラスト装置がコントラスト開口部に対して対称的な放射線分布を発生するように調整された配置を示している。対称性は2つのコントラスト装置2に依存してマイクロレンズアレイ9の同じレンズ21を照射することによって達成される。図9の左側の要素2が反射した放射線の分布を図9に線25で示し、右側の要素2に対する強度分布を線26で示している。この2つの分布は開口プレート18の開口部の中心線19を通る平面に対して対称的である。この対称性は投影系全体を通して維持されるので、図9に対して直交し、かつレンズ21の中心線22を通る平面を中心に対称的である。図10は本発明の一実施例による、図9に示した2つのコントラスト装置の配置の場合の放射線の分布を示す。線23は開口プレート18の開口部の周縁部であり、線27及び28は図9に示したコントラスト装置1の個々の要素2が投影するビームの周縁部である。対称性は図9の線22を通る線29で示した図9に対して直交する平面を中心に維持される。図9及び10に示した例では、2つの反射要素2の群はマイクロレンズアレイ9の同じ単一のレンズに向けて光を反射する。この群を形成する2つの反射要素2は反対方向に回転するように制御される。したがって、2つの要素2は関連する放射線のビームを相互に180°だけ傾斜した方向に反射する。ある群は3つ以上の反射要素2を備えてよく、所定の対称性を依然と維持し得ることを理解されたい。例えば、3つの反射要素2がマイクロレンズアレイ9の1つのレンズに関連するある群として配置されてよい。図11及び12は本発明の種々の実施例による、それぞれ対称的に配置された3つのコントラスト装置及び対称的に配置された4つのコントラスト装置における放射線の分布を示している。図11に簡単に示したように、3つの反射要素は相互に対して120°のインターバルで傾斜した方向に放射線を徐々に偏向するように1つの群として配置されている。開口プレート18の開口部の輪郭をやはり線23で示し、関連する3つの反射要素の群が反射する3つの別個のビームを線30で示している。図12に簡単に示したように、4つの個別に制御可能な要素のアレイは相互に対して90°のインターバルで傾斜した方向に放射線を徐々に偏向するように1つの群として配置されている。開口プレート18の開口部の輪郭をやはり線23で示し、関連する4つの反射要素の群が反射する4つの別個のビームを線31で示している。図10、11、及び12に示した例の各々では、対称性は直線で示した平面に対して維持される。結語本発明の種々の実施例を説明してきたが、それらは単に例示のために提示したものであって、限定するものではないことを理解されたい。本発明の精神及び範囲から逸脱することなくこれらの実施例に形態及び詳細のさまざまな変更を加えることができることは当業者には明白である。したがって、本発明の範囲は上記の例示的な実施例によって限定されず、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等物によってのみ定義される。