少なくとも一真空室と基板と伝動装置を含む任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスクシステムにおいて、前記の各真空室内全てにはその中に位置するM組のシャドウマスクと成長源を備え、前記基板には、M個の基本ユニットを備え、各基本ユニットは一致性をもってN個のエリアに分割され、前記伝動装置は、基板或いはシャドウマスクを真空室の経路に沿ってフラット移動させるのに用い、N個の異なる時間の中でM組のシャドウマスクをそれぞれM個の基本ユニット中の異なるエリアに対応させ、該Mは1を超えるか等しい自然数であり、Nは2を超えるか等しい自然数であることを特徴とする任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスクシステム。前記Nは4であることを特徴とする請求項1に記載の任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスクシステム。前記少なくとも一真空室は直列配置のN個の真空室であり、並びに伝動装置は基板伝動装置であることを特徴とする請求項1に記載の任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスクシステム。前記少なくとも一真空室はただ一つであり、並びに伝動装置はシャドウマスク伝動装置であることを特徴とする請求項1に記載の任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスクシステム。シャドウマスクシステムは、基本ユニット中の隣接エリアに対応するシャドウマスクと成長源が成長時の一部材料を重ね合わせる操作を行うことを特徴とする請求項1に記載の任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスクシステム。前記任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスク法には、A真空室内に位置するシャドウマスク及び成長源を完全に操作できる関係により、各組のシャドウマスクと成長源をそれぞれ各基本ユニットの第一エリアに定位させ、B真空蒸着により材料を各基本ユニットの第一エリアに成長させ、C伝動装置によりシャドウマスクと成長源の各組をそれぞれ各基本ユニットの第二エリアに定位し、D真空蒸着により材料を各基本ユニットの第二エリアに成長させ、EステップC、Dを繰り返し、各基本ユニット中のN個のエリアに対する成長を完成させ、該Nは2を超えるか等しい自然数とすることを特徴とする任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスク法。前記Nは4であることを特徴とする請求項6に記載の任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスク法。前記伝動装置は基板伝動装置であり、該真空室は直列配置のN個を含み、並びに、各基本ユニットの異なるエリアはそれぞれ異なる真空室で成長を行うことを特徴とする請求項6に記載の任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスク法。前記伝動装置はシャドウマスク伝動装置であり、真空室は一つとすることを特徴とする請求項6に記載の任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスク法。前記基本ユニット中の隣接エリアに成長させる時、対応するシャドウマスクと成長源が成長時の一部材料を重ね合わせることを特徴とする請求項6に記載の任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスク法。本発明は、任意サイズの底板及びスクリーンの気相成長シャドウマスクシステムを提供し、従来技術中の製造システムが長すぎて、シャドウマスクと基板間の定位が複雑となるために発生する隣接する基板区間の連結性能不良、並びに成長源中の成長材料の補充が不便である問題を解決することを第一目的とする。上述の目的を達成するために、本発明は次の解決手段を提供する。任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスクシステム及びその方法は、少なくとも一真空室を含み、各真空室内にはその中に位置するM組のシャドウマスクと成長源を備え、基板にはM個の基本ユニットを備え、各基本ユニットは一致性をもってN個エリアに分割される。伝動装置は、基板或いはシャドウマスクを真空室の経路に沿ってフラット移動させるのに用い、N個の異なる時間の中でM組のシャドウマスクをそれぞれM個の基本ユニット中の異なるエリアに対応させる。該Mは1を超えるか等しい自然数であり、Nは2を超えるか等しい自然数である。さらにNは4である。さらに少なくとも一真空室は直列配置のN個の真空室であり、並びに伝動装置は基板伝動装置である。さらに少なくとも一真空室はただ一つであり、並びに伝動装置はシャドウマスク伝動装置である。さらにシャドウマスクシステムは、基本ユニット中の隣接エリアに対応するシャドウマスクと成長源が成長時の一部材料を重ね合わせる操作ができる。本発明の第二の目的は、任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスクの方法を提供することにあり、次のステップを含む。A真空室内に位置するシャドウマスク及び成長源を完全に操作できる関係に基づき、各組のシャドウマスクと成長源をそれぞれ各基本ユニットの第一エリアに定位させる。B真空蒸着により材料を各基本ユニットの第一エリアに成長させる。C伝動装置によりシャドウマスクと成長源の各組をそれぞれ各基本ユニットの第二エリアに定位する。D真空蒸着により材料を各基本ユニットの第二エリアに成長させる。EステップC、Dを繰り返し、各基本ユニット中のN個のエリアに対する成長を完成させる。その内、Nは2を超えるか等しい自然数である。さらに、Nは4である。さらに、伝動装置は基板伝動装置であり、該真空室は直列配置のN個を含み、並びに、各基本ユニットの異なるエリアはそれぞれ、異なる真空室で成長を行う。さらに、伝動装置はシャドウマスク伝動装置であり、真空室は一つとする。さらに、基本ユニット中の隣接エリアに成長させる時、対応するシャドウマスクと成長源は成長時の一部材料を重ね合わせる。前述構造を採用した本発明には、少なくとも次の有益効果が備えられる。1本発明の基板の移動方式を利用して実施する場合は、各基本ユニット中のエリアの個数Nに基づきN個の真空室を設置すればよい。シャドウマスクの移動方式を利用して実施する場合は、一真空室内で移動するだけでよい。即ち本発明は、従来技術の如く大量の真空室の設置を必要としないため、全体の成長システムを簡素化する効果を備える。2本発明は、ただN個の時間内において各基本ユニット中のN個のエリアに対する成長を完成させ、任意サイズの底板及びスクリーンの製造を完成させる。よって、本発明を移動させる時はN回の移動だけでよく、移動回数の過多のために発生する隣接する基本区間の連結性能の不良を防ぐことができる。3本発明において移動する基板を用いて成長させる時、一底板及びスクリーンの成形において一シャドウマスクは一回の成長のみでよいため、成長源中の成長材料を便利にコントロールできる効果を備える。本発明の技術形態をさらにご理解いただくために、次に具体的な実施例を用いた本発明の詳細説明を行う。図2の本発明第一実施例の製造工程のフロー図に示したとおり、気相成長シャドウマスクシステムは、連続的に直列設置する四つの真空室13A、13B、13C、13Dと、真空室内を移動可能な基板10と、駆動基板10を真空室の経路に従ってフラット移動させるための伝動装置未図示とを含む。該基板10は一基本ユニットだけを備え、並びに該基本ユニットは四エリアに分割される。各真空室内にはその中に位置する一組のシャドウマスクと成長源を備える。即ち本実施例中のMは1に等しく、Nも4に等しい。本実施例は四回の成長によって、ステップに基づいて2×2アレイの底板を形成する。次に、本発明第一実施例の具体的なフロー図に対する詳細説明を行う。時間1時に、シャドウマスク11aを使用して、真空室13A内の基板区10a上に成長させる。伝動装置によって基板を押し動かして真空室13B中のシャドウマスク11bが基板区10bに正確に照準を合わせる。時間2時に、シャドウマスク11bの使用を通して、真空室13B内の基板区10b上に成長させる。さらに伝動装置を通して基板を押し出すと真空室13C中のシャドウマスク11cが基板区10cに正確に照準を合わせ、時間3時に、シャドウマスク11cの使用を通して、真空室13C内の基板区10c上に成長を起こす。また、伝動装置により基板を押し出すと真空室13D中のシャドウマスク11dは基板区10dに正確に照準を合わせ、時間4時に、シャドウマスク11dの使用によって、真空室13D内の基板区10d上に成長が起こる。前述したとおり、シャドウマスクの使用を通して、時間1、2、3、4を通過した連続成長により2×2アレイの底板が形成される。これは小面積の底板製作への応用である。最も好ましくは、シャドウマスクシステムは、基本ユニット中の隣接エリアに対応するシャドウマスクと成長源が成長時の一部材料を重ね合わせる操作を行い、これによって底板の縫合効果を提供する。ここで説明すべき点は、各真空室間の間隔Sは適当な或いは必要な任意距離とし、前記間隔によって基板を真空室から真空室に送ることができるとともに、真空室の操作が干渉されることなく行える。このため間隔Sは0でもよい。また、使用目的を達成するため、間隔Sをかなり大きくしてもよく、真空室の半分の構造を使用する時、基板には比較的広い範囲の尺度を備えさせることを許容する。当然ながら、本実施例では次のように調整することも可能である。即ち、単に一つだけの真空室を採用し、真空室内に一組のシャドウマスクと成長源を設置する。伝動装置はシャドウマスク伝動装置とし、シャドウマスク伝動装置の駆動の下、時間1、時間2、時間3、時間4を経てシャドウマスクを異なる基板区10a、10b、10c、10dに対応させ、四回の気相成長を行い、並びに2×2アレイの底板を形成する。図3には本発明第二実施例の製造工程のフロー図を示した。その内、該気相成長シャドウマスクシステムは、連続的に直列設置した四つの真空室23A、23B、23C、23Dと、真空室内を移動する基板20と、駆動基板20を真空室の経路に沿ってフラット移動させる伝動装置未図示とを含む。基板20には四つの基本ユニットを備え、各基本ユニットを四つのエリアに分割する。各真空室内にはその中に位置する四組のシャドウマスクと成長源を備え、各組のシャドウマスクはそれぞれ一基本ユニット中の一エリアに対応する。即ち、本実施例中のMは4に等しく、Nも4に等しい。その内基板区20aa、20ba、20ca、20daは一基本ユニットを、基板区20ab、20bb、20cb、20dbは一基本ユニットを、基板区20ac、20bc、20cc、20dcは一基本ユニットを、基板区20ad、20bd、20cd、20ddは一基本ユニットを構成する。本実施例は、四回の成長を行うだけで、ステップに基づいて4×4アレイの底板を形成する。次に、本発明第二実施例の具体的なフロー図について詳細説明する。時間1時に、シャドウマスク21aa、21ab、21ac、21adの使用を通して、真空室23A内の基板区20aa、20ab、20ac、20ad上に成長させる。その内シャドウマスク21aaは基板区20aaに、シャドウマスク21abは基板区20abに、シャドウマスク21acは基板区20acに、シャドウマスク21adは基板区20adに対応する。伝動装置により基板を押し動かし、真空室23B中のシャドウマスク21ba、21bb、21bc、21bdのそれぞれの照準を基板区20ba、20bb、20bc、20bdに正確に合わせる。即ち時間2時に、シャドウマスク21ba、21bb、21bc、21bdの使用を通して、真空室23B内で基板区20ba、20bb、20bc、20bd一つ一つに成長させる。伝動装置により基板を押し動かして真空室23C中のシャドウマスク21ca、21cb、21cc、21cdのそれぞれの照準を基板区20ca、20cb、20cc、20cdに正確に合わせる。即ち時間3時に、シャドウマスク21ca、21cb、21cc、21cdの使用を通して、真空室23C内で基板区20ca、20cb、20cc、20cd一つ一つに成長させる。伝動装置により基板を押し動かして真空室23D中のシャドウマスク21da、21db、21dc、21ddのそれぞれの照準を基板区20da、20db、20dc、20ddに正確に合わせる。即ち時間4時に、シャドウマスク21da、21db、21dc、21ddの使用を通して、真空室23D内で基板区20da、20db、20dc、20dd一つ一つに成長させる。上述したとおり、シャドウマスクの使用を通して、時間1、2、3、4の連続成長を経て4×4アレイの底板を形成する。ここで説明すべき点は、更に大きな底板の形成が必要である時は、基板区の個数及び各真空室中のシャドウマスクの個数を対応させて増加する。これにより本発明は、その製造を任意サイズの底板及びスクリーンに拡大することができ、4×4アレイの底板と2×2アレイの底板に制限されず、Mを自然数の範囲に拡大できる。即ち時間1、2、3、4に四回の移動を通すことで同様に成長全体を完了できる。Nに対しては、前述の実施例中に示した四つに制限されることなく、要望に応じて2を超えるか等しい自然数を設定する。最も好ましくは、本実施例中のシャドウマスクシステムは、基本ユニット中の隣接エリアに対応するシャドウマスクと成長源が成長時の一部材料を重ね合わせる操作を行い、これによって底板の縫合効果を提供する。ここで説明すべき点は、各真空室間の間隔Sは適当な或いは必要な任意距離とし、前記間隔によって基板を真空室から真空室に送ることができるとともに、真空室の操作が干渉されることなく行える。このため間隔Sは0でもよい。また、使用目的を達成するため、間隔Sをかなり大きくしてもよく、真空室の半分の構造を使用する時、基板には比較的広い範囲の尺度を備えさせることを許容する。当然ながら、本実施例では次のように調整することも可能である。即ち、単に一つだけの真空室23Eを採用し、シャドウマスクの移動方式を通して時間1、2、3、4において順に成長させる。図4に示すとおり、真空室23E中にはシャドウマスク21ea、21fa、21ga、21haを備え、基板には四つの基本ユニットを含む。その内、基板区20ea、20eb、20ec、20edは一基本ユニットを、基板区20fa、20fb、20fc、20fdは一基本ユニットを、基板区20ga、20gb、20gc、20gdは一基本ユニットを、基板区20ha、20hb、20hc、20hdは一基本ユニットを構成する。真空室23Eで四回成長させ、4×4アレイの底板を形成する。前述したとおり、本発明を基板の移動方式を利用して実施する場合は、各基本ユニット中エリアの個数Nに基づきN個の真空室を設置すればよく、シャドウマスクの移動方式を利用して実施する場合は、一真空室内で移動するだけでよい。即ち本発明は、従来技術の如く大量の真空室の設置を必要としないため、全体の成長システムを簡素化する効果を備える。同時に本発明は、ただN個の時間内において各基本ユニット中のN個のエリアに対する成長を完成させ、任意サイズの底板及びスクリーンの製造を完成させる。よって、本発明を移動させる時はN回の移動だけでよく、移動回数の過多のために発生する隣接する基本区間の連結性能の不良を防ぐことができる。また、本発明において移動する基板を用いて成長させる時、一底板及びスクリーンの成形において一シャドウマスクは一回の成長のみでよいため、成長源中の成長材料は便利にコントロールできる効果を備える。本発明はさらに任意サイズの底板及びスクリーンを製造する気相成長シャドウマスク法を提供する。尚、それには次のステップを含む。A真空室内に位置するシャドウマスク及び成長源を完全に操作できる関係に基づき、各組のシャドウマスクと成長源をそれぞれ各基本ユニットの第一エリアに定位させる。具体的には、第一実施例において第一エリアは即ち基板区10aであり、第二実施例の第一エリアは基板区20aa、20ba、20ca、20daである。B真空蒸着により材料を各基本ユニットの第一エリアに成長させる。C伝動装置によりシャドウマスクと成長源の各組をそれぞれ各基本ユニットの第二エリアに定位する。具体的には、第一実施例中の第二エリアは基板区10bであり、第二実施例の第二エリアは基板区20ab、20bb、20cb、20dbである。D真空蒸着により材料を各基本ユニットの第二エリアに成長させる。EステップC、Dを繰り返し、各基本ユニット中のN個のエリアに対する成長を完成させる。その内、Nは2を超えるか等しい自然数である。第一実施例と第二実施例中では、第三エリアと第四エリアまでだけに延伸する。その内、伝動装置は基板伝動装置とし、該真空室は直列配置のN個を含み、並びに、各基本ユニットの異なるエリアはそれぞれ、異なる真空室で成長する。また、該伝動装置はシャドウマスク伝動装置としてもよく、この時、真空室は一つとする。縫合効果を得るために、基本ユニット中の隣接エリアに成長する時、対応するシャドウマスクと成長源が成長時の一部材料を重ね合わせる。ここで説明すべき点であるが、本発明での基板には基本ユニットを備え、基本ユニットを複数個のエリアに分割するが、それは単にそう見なすだけであり、実際には境界が存在し明らかな基本ユニットとエリアが形成されているのではない。尚、前述の実施例と図面は本発明の製品形態と様式を制限するものではなく、当該技術分野に属する一般の技術員によって為される適当な変化や修飾は全て本発明の特許範囲を逸脱しないものと見做す。