"一般式1:式中、R1~R4及びR1’~R4’は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又はハロゲン原子を示し、R5は、炭素数1~4のアルキル基、又は芳香族複素環基を示す。で表されるジアリールスルホン化合物。芳香族複素環基が、2個以上の異なるヘテロ原子を有する芳香族複素環基である請求項1に記載のジアリールスルホン化合物。R5が、メチル基、ベンゾチアゾリル基、又はベンゾイソチアゾリル基である請求項1に記載のジアリールスルホン化合物。R1~R4及びR1’~R4’がいずれも水素原子であり、R5が、メチル基、ベンゾチアゾリル基、又はベンゾイソチアゾリル基である請求項1~3のいずれか一項に記載のジアリールスルホン化合物。一般式2:式中、R1~R4及びR1’~R4’は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又はハロゲン原子を示し、Xはハロゲン原子を示す。で表される4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物と、一般式3:MSR5式中、Mはアルカリ金属を示し、R5は、炭素数1~4のアルキル基、又は芳香族複素環基を示す。で表されるチオール塩化合物とを反応させることを特徴とする、一般式1:式中、R1~R4、R1’~R4’、及びR5は上記に同じで表されるジアリールスルホン化合物の製造方法。一般式2で表される4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物において、R1~R4及びR1’~R4’が全て水素原子であり、Xが塩素原子である請求項5に記載の方法。一般式3で表されるチオール塩化合物が、ナトリウムメタンチオラート、カリウム-1-プロパンチオラート、ナトリウム-2-プロパンチオラート、リチウム-sec-ブチルチオラート、ナトリウム-tert-ブチルチオラート、ナトリウム-2-ベンゾチアゾリルチオラート、カリウム-2-チアゾリルチオラート、及びナトリウム-3-イソチアゾリルチオラートからなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物である請求項5又は6に記載の方法。極性溶媒中、又は有機溶媒と水との二相系溶媒中で反応を行う請求項5~7のいずれか一項に記載の方法。有機溶媒と水との二相系溶媒中において、相間移動触媒の存在下に反応を行う請求項5~8のいずれか一項に記載の方法。本発明は、上記した従来技術の現状に鑑みてなされてものであり、その主な目的は、有機光学材料用樹脂に対して高い屈折率を付与するための添加剤として有用であって、しかも、安価な原料を用いて経済的に有利な条件で容易に製造できる新規な化合物、及びその製造方法を提供することである。本発明者は、上記した目的を達成すべく鋭意研究を重ねてきた。その結果、比較的安価な物質であるジハロジアリールスルホン化合物を原料として用い、経済的に有利な条件で容易に製造できる、特定の置換基を有する新規なジアリールスルホン化合物が、1.64以上という高い屈折率を有し、有機光学材料に高屈折率を付与するための添加剤として有用であることを見出し、ここに本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、下記の新規ジアリールスルホン化合物、及びその製造方法を提供するものである。項1.一般式1:式中、R1~R4及びR1’~R4’は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又はハロゲン原子を示し、R5は、炭素数1~4のアルキル基、又は芳香族複素環基を示す。で表されるジアリールスルホン化合物。項2.芳香族複素環基が、2個以上の異なるヘテロ原子を有する芳香族複素環基である上記項1に記載のジアリールスルホン化合物。項3.R5が、メチル基、ベンゾチアゾリル基、又はベンゾイソチアゾリル基である上記項1に記載のジアリールスルホン化合物。項4.R1~R4及びR1’~R4’がいずれも水素原子であり、R5が、メチル基、ベンゾチアゾリル基、又はベンゾイソチアゾリル基である上記項1~3のいずれか一項に記載のジアリールスルホン化合物。項5.一般式2:式中、R1~R4及びR1’~R4’は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又はハロゲン原子を示し、Xはハロゲン原子を示す。で表される4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物と、一般式3:MSR5式中、Mはアルカリ金属を示し、R5は、炭素数1~4のアルキル基、又は芳香族複素環基を示す。で表されるチオール塩化合物とを反応させることを特徴とする、一般式1:式中、R1~R4、R1’~R4’、及びR5は上記に同じで表されるジアリールスルホン化合物の製造方法。項6.一般式2で表される4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物において、R1~R4及びR1’~R4’が全て水素原子であり、Xが塩素原子である上記項5に記載の方法。項7.一般式3で表されるチオール塩化合物が、ナトリウムメタンチオラート、カリウム-1-プロパンチオラート、ナトリウム-2-プロパンチオラート、リチウム-sec-ブチルチオラート、ナトリウム-tert-ブチルチオラート、ナトリウム-2-ベンゾチアゾリルチオラート、カリウム-2-チアゾリルチオラート、及びナトリウム-3-イソチアゾリルチオラートからなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物である上記項5又は6に記載の方法。項8.極性溶媒中、又は有機溶媒と水との二相系溶媒中で反応を行う請求項5~7のいずれかに記載の方法。項9.有機溶媒と水との二相系溶媒中において、相間移動触媒の存在下に反応を行う上記項5~8のいずれか一項に記載の方法。以下、本発明の新規ジアリールスルホン化合物及びその製造方法について具体的に説明する。新規ジアリールスルホン化合物本発明の新規ジアリールスルホン化合物は、下記一般式1:式中、R1~R4及びR1’~R4’は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又はハロゲン原子を示し、R5は、炭素数1~4のアルキル基、又は芳香族複素環基を示す。で表される文献未載の新規化合物である。該ジアリールスルホン化合物は、1.64以上という高い屈折率を有する物質であり、例えば、有機光学材料用樹脂に対する添加剤として使用して、比較的少ない添加量であっても、該樹脂に高い屈折率を付与することができる。このため、該化合物を光学材料用樹脂に添加することによって、物性値等に大きく影響を及ぼすことなく、高屈折率を有する光学材料を得ることができる。上記一般式1において、R1~R4及びR1’~R4’で表される炭素数1~4のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基を例示でき、特にメチル基が好ましい。また、ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を例示でき、特に、塩素原子が好ましい。R5で表される炭素数1~4のアルキル基の具体例は、R1~R4及びR1’~R4’として示されているアルキル基と同様である。特にメチル基が好ましい。R5で表される芳香族複素環基としては、炭素原子以外に、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子から選ばれる少なくとも1個のヘテロ原子を含む芳香族複素環基であればよく、5~7員の単環式複素環基、これに3~8員の環が縮合した縮環式複素環基等を例示できる。芳香族複素環基の具体例としては、チエニル基、ピロリル基、フリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾフラニル基等を挙げることができる。特に、芳香族複素環基としては、2個以上の異なるヘテロ原子を有する芳香族複素環基が好ましく、その具体例としては、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基等の窒素原子及び硫黄原子を含む単環式芳香族複素環基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基等の窒素原子及び硫黄原子を含む縮環式芳香族複素環基等を例示できる。本発明では、特に、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル等が好ましい。上記一般式1で表される化合物の具体例としては、4,4’-ジメチルチオジフェニルスルホン、4,4’-ジエチルチオジフェニルスルホン、4,4’-ジn-プロピルチオジフェニルスルホン、4,4’-ジ2-ベンゾチアゾリルチオジフェニルスルホン、4,4’-ジ2-チアゾリルチオジフェニルスルホン、4,4’-ジ3-イソチアゾリルチオジフェニルスルホン等が挙げられる。上記一般式1で表される化合物の内で、好適な化合物の具体例としては、R1~R4及びR1’~R4’が全て水素原子であって、R5がメチル基である化合物;R1~R4及びR1’~R4’が全て水素原子であって、R5がベンゾチアゾリル基である化合物等を挙げることができる。ジアリールスルホン化合物の製造方法一般式1:式中、R1~R4及びR1’~R4’は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又はハロゲン原子を示し、R5は、炭素数1~4のアルキル基、又は芳香族複素環基を示す。で表されるジアリールスルホン化合物は、例えば、下記一般式2:式中、R1~R4及びR1’~R4’は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又はハロゲン原子を示し、Xはハロゲン原子を示す。で表される4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物と、一般式3:MSR5式中、Mはアルカリ金属を示し、R5は、炭素数1~4のアルキル基、又は芳香族複素環基を示す。で表されるチオール塩化合物とを反応させることにより得ることができる。原料として用いる一般式2の4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物は、公知化合物であり、比較的安価な物質である。一般式2において、Xで表されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を例示でき、特に、塩素原子が好ましい。R1~R4及びR1’~R4’で表される各基の具体例は、上記一般式1と同様である。特に、経済的な観点から、R1~R4及びR1’~R4’は全て水素原子であることが好ましい。上記一般式3のチオール塩化合物において、Mで表されるアルカリ金属としては、ナトリウム、カリウム、リチウムなどを例示できる。R5で表される炭素数1~4のアルキル基と芳香族複素環基は、上記した一般式1におけR5で表される基と同様である。一般式3のチオール塩化合物の具体例としては、ナトリウムメタンチオラート、カリウム-1-プロパンチオラート、ナトリウム-2-プロパンチオラート、リチウム-sec-ブチルチオラート、ナトリウム-tert-ブチルチオラート、ナトリウム-2-ベンゾチアゾリルチオラート、カリウム-2-チアゾリルチオラート、ナトリウム-3-イソチアゾリルチオラート等が挙げられる。経済的な観点からナトリウムメタンチオラート、ナトリウム-2-ベンゾチアゾリルチオラートが好ましい。一般式3のチオール塩化合物は、アルカリ金属塩として反応溶媒に直接添加する他、一般式:HSR5で表されるチオールと、アルカリ金属水素化物MH又はアルカリ金属水酸化物MOHを溶媒中に添加して、溶媒中で塩を形成してもよい。一般式3のチオール塩化合物の使用量は、一般式2の4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物1モルに対して、2~6モル程度とすることが好ましく、2~3モル程度とすることがより好ましい。一般式2で表される4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物と、一般式3で表されるチオール塩化合物との反応は、例えば、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド等の極性溶媒中で行うか、或いは、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、n-ヘキサン、n-ヘプタン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類等の有機溶媒と水との二相系溶媒中で行うことが好ましい。特に、経済的な観点から、N-メチルピロリドンを単独で用いるか、或いは、トルエンと水との二相系溶媒を用いることが好ましい。反応溶媒の使用量は、極性溶媒を用いる場合には、一般式2で表される4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物100重量部に対して10~5000重量部程度とすることが好ましく、100~1000重量部程度とすることがより好ましい。二相系溶媒を用いる場合には、一般式2で表される4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物100重量部に対して、有機溶媒、水ともに10~5000重量部程度とすることが好ましく、100~1000重量部程度とすることがより好ましい。二相系溶媒中で反応を行う場合は、相間移動触媒を用いることが好ましい。相間移動触媒としては、例えば、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムブロミドおよびトリオクチルメチルアンモニウムブロミド等の4級アンモニウム塩;ヘキサドデシルトリエチルホスホニウムブロミド、ヘキサドデシルトリブチルホスホニウムクロリドおよびテトラ-n-ブチルホスホニウムクロリド等の4級ホスホニウム塩等を用いることができる。特に、収率向上および経済性の観点から、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロミドが好ましい。相間移動触媒の使用量は、一般式2の4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物100重量部に対して、0.1~100重量部程度とすることが好ましく、0.1~10重量部程度とすることがより好ましい。反応温度は、30~150°C程度とすることが好ましく、60~150°C程度とすることがより好ましい。反応時間は、通常、1~30時間程度である。具体的な反応方法については、特に限定はなく、上記した溶媒中において、必要に応じて触媒を加えて、一般式2で表される4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物と、一般式3で表されるチオール塩化合物とを均一に混合すればよい。各成分の添加順序については特に限定はなく、任意の方法を採用できる。上記した方法によれば、目的とする一般式1:式中、R1~R4及びR1’~R4’は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又はハロゲン原子を示し、R5は、炭素数1~4のアルキル基、又は芳香族複素環基を示す。で表されるジアリールスルホン化合物を得ることができる。かくして得られるジアリールスルホン化合物は、必要に応じて水洗、分液して取得できる。また、溶媒留去後、再結晶することにより純度を高めて単離することができる。本発明の方法によれば、安価な物質である4,4’-ジハロジアリールスルホン化合物を原料として、簡単な製造工程によって、収率良く目的とする一般式1で表されるジアリールスルホン化合物を得ることができる。この方法で得られるジアリールスルホン化合物は、1.64以上という高い屈折率を有する物質であり、例えば、有機光学材料に高屈折率を付与するための添加剤として有効に用いることができる。以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。実施例14,4’-ジメチルチオジフェニルスルホンの製造攪拌機、温度計、冷却管およびガス導入管を備えた内容積300mlのフラスコに、4,4’-ジクロロジフェニルスルホン61.0g212mmol、トルエン75.0gおよび50重量テトラ-n-ブチルアンモニウムブロミド水溶液1.0gを加え、昇温し、液温を60°Cに保ちながら、32重量ナトリウムメタンチオラート水溶液97.5g445mmolを滴下し、攪拌しながら5時間反応させた。反応終了後、液温を25°Cに冷却し、濾過することにより4,4’-ジメチルチオジフェニルスルホンを得た。次いで、攪拌機、温度計、冷却管およびガス導入管を備えた内容積300mlのフラスコに、得られた粗4,4’-ジメチルチオジフェニルスルホンとアセトニトリル150.0gを加え、液温を80°Cに昇温して溶解させた。溶解後、液温10°Cに冷却し、濾過することにより、4,4’-ジメチルチオジフェニルスルホン62.5gを得た。4,4’-ジクロロジフェニルスルホンに対する収率は95であった。1HNMRd2.48s6H、7.27dJ=8.4Hz4H、7.79dJ=8.8Hz4H;元素分析C14H14O2S3として;計算値C:54.16、H:4.55、O:10.31、S:30.99実測値C:54.19、H:4.61、O:10.27、S:30.94屈折率;1.644実施例24,4‘-ジ2-ベンゾチアゾリルチオジフェニルスルホンの製造攪拌機、温度計、冷却管およびガス導入管を備えた内容積500mlのフラスコに、4,4’-ジクロロジフェニルスルホン14.4g50mmol、2-ベンゾチアゾールチオール17.6g105mmolおよびN-メチルピロリドン100.0gを加え、液温を10°Cに保ちながら、水素化ナトリウム4.2g105mmolを分割添加し、攪拌しながら液温を150°Cに昇温し、13時間反応させた。反応終了後、10°Cに冷却し、水257gを滴下し、その後、反応液を濾過することにより、4,4’-ジ2-ベンゾチアゾリルチオジフェニルスルホン16.7gを得た。4,4’-ジクロロジフェニルスルホンに対する収率は90であった。1HNMRd7.35-7.49m4H、7.73-7.79m6H、7.92-8.00m6H;元素分析C26H16N2O2S5として;計算値C:56.91、H:2.94、N:5.11、O:5.83、S:29.22実測値C:56.87、H:2.91、N:5.14、O:5.88、S:29.21屈折率;1.692"