"後続の結像光学系19の物体視野18を配置することができる照明視野の照明のための投影リソグラフィ用の照明光学系23;40であって、照明光3の光束の部分光束24の反射誘導のための複数の第1のファセット7;32;35を有し、前記第1のファセット7;32;35の反射面25;36を、各場合に、前記第1のファセット7;32;35上に入射する前記部分光束24を第1の物体視野照明チャンネル261に沿って照明視野に誘導する第1の照明傾斜位置と、前記第1のファセット7;32;35上に入射する前記部分光束24を更に別の物体視野照明チャンネル262に沿って前記照明視野に誘導する少なくとも1つの更に別の照明傾斜位置と、の間で傾斜させることができる、第1のファセットミラー6と、前記第1のファセットミラー6の前記第1のファセット7;32;35によって反射された前記部分光束24の前記反射誘導のための複数の第2のファセット11を有する、前記ファセットミラー6の下流に配置された第2のファセットミラー11;41と、を有し、それによって前記物体視野照明チャンネル26は、前記反射光束誘導によって予め判断され、各場合に、前記2つのファセットミラー6/10;6/41のうちの1つのファセット7/11;32/11;35/10が、前記物体視野照明チャンネルに割り当てられ、前記物体視野照明チャンネル26を形成するために各場合に前記第1のファセットミラー6の前記第1のファセット7;32;35のうちの1つに前記少なくとも2つの照明傾斜位置を用いて割り当てられる前記第2のファセット111,112,113は、2つの円錐断面線28a,28bによって制限される前記第2のファセットミラー10;41の部分28上に位置し、該2つの円錐断面線28a,28bの各々は、該第1のファセット7;32;35上の前記部分光束24と同じ反射角で該第2のファセットミラー10;41上の該部分光束24の入射部位を定めてそれぞれの物体視野照明チャンネル26を指定する、ことを特徴とする照明光学系。前記傾斜可能ファセット7のうちの1つの前記少なくとも2つの照明傾斜位置に割り当てられた前記少なくとも2つの物体視野照明チャンネル261,262は、該少なくとも2つの照明傾斜位置にある前記部分光束24が、前記反射面25上で±10の公差範囲内で一致する入射角βで反射されるように該傾斜可能ファセット7上の反射領域に誘導されることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。前記少なくとも2つの物体視野照明チャンネル261,262は、前記反射面25上に入射する前記部分光束24に沿った反射によって互いの中に通ることを特徴とする請求項2に記載の照明光学系。前記傾斜可能ファセット35の前記反射面36は、少なくとも2つの反射部分37,38に分割され、その反射率Rが、各場合に前記照明傾斜位置の1つに対して最適化されることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。前記少なくとも1つの傾斜可能ファセット7;32;35の前記反射面25;36は、反射コーティング27を担持することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学系。前記反射コーティング27は、前記少なくとも2つの照明傾斜位置に対応する前記傾斜可能ファセット7;32;35上の入射角βに対する前記部分光束24が、±10の公差範囲内で一致する反射率Rで該反射コーティング27によって反射されるように設計されることを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。前記反射コーティング27は、広帯域反射コーティングとして設計されることを特徴とする請求項6に記載の照明光学系。前記反射コーティング27は、前記少なくとも2つの照明傾斜位置に割り当てられた前記入射角βに対して、前記照明光3に対する該反射コーティング27の最大反射率Rmaxよりも1を超えて小さく、かつ±10の公差範囲内で一致する反射率をもたらすように設計されることを特徴とする請求項5から請求項7のいずれか1項に記載の照明光学系。請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の照明光学系において少なくとも2つの第2のファセット11を第1のファセット7;32;35のうちの1つの照明傾斜位置に割り当てる方法であって、第2のファセットのうちの1つ111が、第1のファセット7によって反射された部分光束24による入射を受ける第1の照明傾斜位置を事前に判断する段階と、前記第1のファセット7;32;35上の前記部分光束24の入射角βを入射角公差範囲内に保持しながら該第1のファセット7;32;35の第2の照明傾斜位置を判断する段階と、前記判断された第2の照明傾斜位置において前記第1のファセット7;32;35によって反射された前記部分光束24による入射を受ける少なくとも更に別の第2のファセット112,113を前記第2のファセットミラー10;41の円錐断面部分28内で選択する段階と、を有することを特徴とする方法。請求項1及び請求項8のいずれか1項に記載の照明光学系23;40を有し、かつ物体視野18を像視野20に結像するための投影光学系19を有する、ことを特徴とする照明系。請求項10に記載の照明系を有し、かつEUV光源2を有する、ことを特徴とする投影露光系1。構造化構成要素を製造する方法であって、感光材料の層が少なくとも部分的に付加されたウェーハ22を準備する段階と、結像される構造を有するレチクル17を準備する段階と、第1のファセットミラー6の傾斜可能な第1のファセット7の少なくとも一部が請求項9に記載の方法に従って割り当てられた照明傾斜位置を有する請求項11に記載の投影露光系1を準備する段階と、前記投影露光系1を用いて前記レチクル17の少なくとも一部を前記ウェーハ22の前記層のある一定の領域上に投影する段階と、を有することを特徴とする方法。請求項12に記載の方法によって製造される構造化構成要素。本発明の目的は、照明光学系の照明光収量、特に、照明光学系の全伝達率に対する傾斜可能ファセットの照明傾斜位置の望ましくない影響が回避されるような冒頭で示した種類の照明光学系を開発することである。本発明によると、この目的は、請求項1に開示する特徴を有する照明光学系によって達成される。本発明によると、様々な照明傾斜位置の入射角に対する公差範囲内で一致する反射率は、傾斜可能視野ファセットが、視野ファセットの照明傾斜位置に関わらず、それ自体の上に入射する照明光を反射率の一致に従って所定の公差範囲内で一致するエネルギを伴って照明視野に伝達するという事実をもたらすことが認識された。傾斜可能ファセットのそれぞれの照明傾斜位置には依存しない恐らくはこれらのファセットに続く光学構成要素の反射率を仮定すると、照明傾斜位置には依存しない照明視野の強力な照明が公差範囲でもたらされる。部分光束は、少なくとも2つの照明傾斜位置において、±5、±2、±1の公差範囲内で一致する反射率、又は更に良好に一致する反射率で反射することができる。一般的にファセットミラーの複数のファセットは、少なくとも2つの照明傾斜位置で傾斜可能である。例えば、ファセットミラーの1つの所定のファセット群、又はそうでなければ全てのファセットを傾斜可能にすることができる。傾斜可能ファセットは、厳密に2つの照明傾斜位置の間で傾斜可能にすることができる。代替的に、傾斜可能ファセットは、2つよりも多く、例えば、3つ又は更に多くの照明傾斜位置の間で傾斜可能にすることができる。請求項2に記載の公差範囲内で一致する入射角は、傾斜可能ファセット、特にその反射面上の反射コーティングをこの一致する入射角に対して最適化された方式で構成する可能性をもたらす。この場合、他の入射角に対してはいかなる最適化も必要ではない。請求項3に記載の鏡面対称性は、照明光学系の単純に構造化された構造をもたらす。2つの物体視野照明チャンネルは、反射面上に入射する部分光束を含んでかつ部分光束の入射平面と垂直に位置する平面に関する反射によって互いの中に通すことができる。請求項4に記載の反射部分は、様々な照明傾斜位置において非常に異なる入射角に対して同じ反射率を可能にする。原理的に、反射面はまた、2つよりも多くの反射部分に分割することができ、これは、次に、照明傾斜位置に従って割り当てることができる。請求項5による反射コーティングは、ファセットの特に高い反射率を可能にする。反射コーティングは、単層コーティングとして構成することができる。反射コーティングは、二層コーティングとして構成することができる。反射コーティングは、多層コーティングとして構成することができる。多層コーティングは、例えば、5個の層、10個の層、20個の層、30個の層、又は更に多くの層を有することができる。多層コーティングは、交替材料層のコーティングとして構成することができる。例えば、交替するモリブデン/シリコンの層を用いることができる。請求項6に記載の反射コーティングの設計は、反射コーティングが設けられたファセットが、様々な照明傾斜位置に割り当てられた異なる入射角、特に、非常に異なる入射角に対して同じ反射率を有するように行うことができる。反射コーティングは、2つよりも多くの照明傾斜位置において反射率の一致が存在するように設計することができる。請求項7に記載の広帯域反射コーティングは、指定値付近の入射角度範囲内で一定の反射率を可能にする。請求項8に記載の反射コーティングの設計は、最大反射率を有する入射角付近の2つの特定の入射角においてこれらの反射コーティングを公差範囲内で同じ反射率を有するように設計することを可能にする。少なくとも2つの照明傾斜位置において公差範囲内で一致する反射率は、照明光に対する反射コーティングの最大反射率よりも2を超えて小さく、5を超えて小さく、又は10を超えて小さいとすることができる。請求項9に記載の割り当て方法は、この割り当てが所定の許容限界内で第1のファセットの照明傾斜位置に依存しないファセット反射率をもたらすように、物体視野照明チャンネルを通じて第1のファセットに割り当てられた第2のファセットで第2のファセットミラーを占有することを可能にする。この割り当て方法において円錐断面部分を用いて選択される更に別のファセットは、反射率最適化の過程で割り当て時に調べられる第1のファセットと第2のファセットの組合せにおいて有利な低減が生じるという結果をもたらす。請求項10に記載の照明系、請求項11に記載の投影露光系、請求項12に記載の製造方法、及び請求項13に記載の微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素の利点は、本発明による照明光学系及び本発明による方法を参照して上記に既に解説したものに対応する。特に、極めて微細で特に複雑な構造を有する半導体チップを製造することができるように、製造される構成要素又はユニット構造に対して厳密に適応された照明を指定することができる。本発明の実施形態を図面を用いてより詳細に以下に説明する。マイクロリソグラフィのための投影露光系1は、微細構造又はナノ構造の電子半導体構造要素を生成するのに用いられる。光源2は、例えば、5nmと30nmの間の波長範囲の照明に用いられるEUV放射線を放出する。光源2は、GDPP光源ガス放電生成プラズマ又はLPP光源レーザ生成プラズマとすることができる。光源2においてシンクロトロンに基づく放射線源を用いることができる。当業者は、例えば、この種の光源に関する情報をUS6859515B2に見出されるであろう。EUV照明光又は照明放射線3は、投影露光系1内での照明及び結像に用いられる。EUV照明光3は、光源2の後に、例えば、従来技術で公知のマルチシェル構造を有する入れ子式コレクター又は代替的に楕円体形のコレクターであるコレクター4を最初に通過する。対応するコレクターは、EP1225481Aから公知である。コレクター4の後に、EUV照明光3は、EUV照明光3を望ましくない放射線又は粒子部分から分離するために用いることができる中間焦点面5を最初に通過する。中間焦点面を通過した後に、EUV照明光3は、最初に視野ファセットミラー6上に入射する。位置関係の説明を容易にするために、図面内には各場合に直交広域xyz座標系を最初に示している。図1のx軸は、作図面と垂直にそこから現れるように延びている。図1のy軸は右に延びている。z軸は、図1では上方に延びている。投影露光系1の個々の光学構成要素における位置関係の説明を容易にするために、続く図では各場合に直交局所xyz又はxy座標系を同様に用いる。それぞれの局所xy座標は、別途説明しない場合には、光学構成要素のそれぞれの主配列平面、例えば、反射面に張られる。広域xyz座標系のx軸と局所xyz又はxy座標系のx軸とは互いと平行に延びている。局所xyz又はxy座標系のそれぞれのy軸は、広域xyz座標系のy軸に対してx軸の回りのそれぞれの光学構成要素の傾斜角に対応する角度を有する。図2は、視野ファセットミラー6の視野ファセット7のファセット配列を例示的に示している。視野ファセット7は矩形であり、各場合にそれぞれ同じx/yアスペクト比を有する。x/yアスペクト比は、例えば、12/5、25/4、又は104/8とすることができる。視野ファセット7は、視野ファセットミラー6の反射面を指定し、各々が6つから8つの視野ファセット群8a、8bを有する4つの列にグループ分けされる。視野ファセット群8aは、各場合に7つの視野ファセット7を有する。2つの中心視野ファセット列の2つの更に別のエッジ側視野ファセット群8bは、各場合に4つの視野ファセット7を有する。視野ファセットミラー6のファセット配列は、2つの中心ファセット列の間、及び第3のファセット行と第4のファセット行の間に、視野ファセットミラー6がコレクター4の保持スポークによって遮蔽される間隙空間9を有する。視野ファセットミラー6上での反射の後に、個別視野ファセット7に割り当てられたペンシルビーム又は部分光束に分割されたEUV照明光3は、瞳ファセットミラー10上に入射する。図3は、瞳ファセットミラー10の円形の瞳ファセット11の例示的ファセット配列を示している。瞳ファセット11は、互いの内側に位置するようにファセットリングの中心の回りに配置される。少なくとも1つの瞳ファセット11が、視野ファセット7のうちの1つによって反射されたEUV照明光3の各部分光束に割り当てられ、各場合に、視野ファセット7のうちの1つと瞳ファセット11のうちの1つとにおいて入射を受ける1つのファセット対が、EUV照明光3の関連付けられた部分光束に対する物体視野照明チャンネルを指定するようにする。瞳ファセット11の視野ファセット7へのチャンネル別割り当ては、投影露光系1による望ましい照明に依存して行われる。視野ファセット7は、瞳ファセットミラー10図1を参照されたい、及び3つのEUVミラー12、13、14から構成される後続伝達光学系15を用いて投影露光系1の物体平面16内に結像される。EUVミラー14は、かすめ入射ミラーとして構成される。物体平面16内には、投影露光系1の下流の投影光学系19の物体視野18と一致する照明視野の形態にある照明領域をEUV照明光3で照明するレチクル17が配置される。物体視野照明チャンネルは、物体視野18内で重ね合わされる。EUV照明光3はレチクル17によって反射される。投影光学系19は、物体平面16内の物体視野18を像平面21内の像視野20内に結像する。この像平面21内には、投影露光系1による投影露光中に露光される感光層を有するウェーハ22が配置される。投影露光中には、レチクル17とウェーハ22の両方が、y方向に同期方式で走査される。投影露光系1は、スキャナとして構成される。以下では、走査方向を物体変位方向とも呼ぶ。視野ファセットミラー6、瞳ファセットミラー10、及び伝達光学系15のミラー10から14は、投影露光系1の照明光学系23の構成要素である。投影光学系19と合わせて、照明光学系23は、投影露光系1の照明系を形成する。視野ファセットミラー6は、照明光学系23の最初のファセットミラーである。視野ファセット7は、照明光学系23の最初のファセットである。瞳ファセットミラー10は、照明光学系23の第2のファセットミラーである。瞳ファセット11は、照明光学系23の第2のファセットである。図4は、更に別の構成の視野ファセットミラー6を示している。図2に記載の視野ファセットミラー6を参照して上述したものに対応する構成要素は、同じ参照番号を有し、これらに対しては、図2に記載の視野ファセットミラー6の構成要素と異なる点に限って以下に説明する。図4に記載の視野ファセットミラー6は、湾曲視野ファセット7を有する視野ファセット配列を有する。これらの視野ファセット7は、各々が複数の視野ファセット群8を有する合計で5つの列で配置される。視野ファセット配列は、視野ファセットミラーの保持板24の円形の制限内に書き込まれる。図4に記載の実施形態の視野ファセット7は、全て同じ面積を有し、かつ図2に記載の構成の視野ファセット7のx/yアスペクト比に対応するx方向の幅とy方向の高さとの同じ比を有する。瞳ファセットミラー10の瞳ファセット11のうちの厳密に2つは、視野ファセットミラー6のそれぞれの構成の視野ファセット7の各々に各場合に物体視野照明チャンネルを通じて割り当てられる。従って、瞳ファセットミラー10は、視野ファセットミラー6が有する視野ファセット7の2倍多くの瞳ファセット11を有する。視野ファセット7の機械的な傾斜機能の構成に基づいて、瞳ファセットミラー10の瞳ファセット11のうちの2つよりも多くをそれぞれの物体視野照明チャンネルを通じて視野ファセット7のうちの1つに割り当てることができる。この場合、視野ファセット7を対応する数の照明傾斜位置に変位させることができる。図5は、照明光3の全光束のうちの部分光束24の反射誘導を示している。例示的に示している視野ファセット7の反射面25は、反射面25上に入射する部分光束24を第1の物体視野照明チャンネル261に沿って物体視野18又は照明視野に誘導する第1の照明傾斜位置と、部分光束24を更に別の物体視野照明チャンネル262に沿って物体視野18に誘導する更に別の照明傾斜位置との間で傾斜可能である。部分光束24は、視野ファセット7上での反射の後に、第1の照明チャンネル261に沿って第1の瞳ファセット111上で反射される。従って、視野ファセット7には、物体視野照明チャンネル261を通じて瞳ファセット111が割り当てられる。物体視野照明チャンネル262に沿って、言い換えれば視野ファセット7の別の照明傾斜位置では、部分光束24は、視野ファセット7上での反射の後に瞳ファセットミラー10の別の瞳ファセット112上で反射される。図5に記載の概略図では、瞳ファセットミラー10のうちの2つの瞳ファセット111及び112のみを示している。部分光束24が、視野ファセットミラー7の反射面25上で、物体視野照明チャンネル261に割り当てられた第1の照明傾斜位置で反射される際の入射角β1は、部分光束24が、反射面25上で、物体視野照明チャンネル262に割り当てられた視野ファセットミラー7の別の照明傾斜位置で反射される際の入射角β2に一致する。入射角β12は、入射部分光束24と視野ファセット7の反射面25に対する法線Nとの間の角度として定められる。反射面25は、多層コーティング、言い換えれば、交替して連続するモリブデン層とシリコン層とを有する多層コーティングを有する。この多層反射コーティング27の層設計は、入射角β12における視野ファセット7の高い反射率に対して最適化される。図5に記載の視野ファセットミラー7を2つの物体視野照明チャンネル261、262に割り当てられた2つの照明傾斜位置の間で切り換える時に、入射角β12は変化しないので、視野ファセットミラー7は、照明傾斜位置に関わらず同じ反射率を有する。図5に示している2つの照明傾斜位置における視野ファセットミラー7の反射率は、±1の公差範囲内で一致する。多層反射コーティング27の代わりに、非常に狭い入射角公差範囲を有する単層又は二層の反射コーティングを用いることができる。0°に近い範囲の入射角、言い換えれば垂直入射、及び多層反射コーティング27の周期的な層のスタックでは、入射角公差範囲を7°とすることができる。15°の範囲の入射角では、入射角公差範囲を1°と2°の間の範囲にあるとすることができる。非周期的な層のスタック、言い換えればいわゆる広帯域コーティングを有する多層反射コーティングを用いる場合には、入射角公差範囲は拡大する。この種の広帯域コーティングは、一般的に低い平均反射率を有する。図6は、図5に記載の配列をz軸に沿った垂直投影で示している。例示的に、瞳ファセットの方向に視野ファセット7上に入射する部分光束24を同じ入射角βで反射することができる3つの瞳ファセット111、112、及び113を示している。視野ファセット7の傾斜機構が2つの照明傾斜位置における調節を可能にする場合には、例えば、これらの3つの瞳ファセット111から113のうちの2つをこれらの2つの照明傾斜位置に割り当てることができる。視野ファセット7の傾斜機構が、例えば、3つの照明傾斜位置の指定を可能にする場合には、例えば、全ての3つの瞳ファセット111から113をこれらの照明傾斜位置に割り当てることができる。基本的に、それぞれの視野ファセット7の傾斜軸の対応する向き、及び入射角βに対する所定の公差範囲にあるその視野ファセット7の傾斜機構により、瞳ファセットミラー10の全ての瞳ファセット11を図6に示している視野ファセット7から進む物体視野照明チャンネル26を通じて作動させることができ、この照明チャンネルは、図6に略示している瞳ファセットミラー10の円錐断面部分28内に位置する。円錐断面部分28は、2つの円錐断面線28a、28bによって制限され、瞳ファセットミラー10の外側輪郭によって更に制限される。図6では、この外側輪郭の外側に2つの円錐断面線28a、28bを破線で示している。幾何学比に基づいて、円錐断面線28a、28bは、放物線、楕円、円、又は双曲線とすることができる。2つの円錐断面線28a、28bの各々は、部分光束24がそれぞれの円錐断面線28a、28b上に反射されるような視野ファセット7における対応する傾斜の向きによってそれぞれの物体視野照明チャンネル26を指定する最初のファセット7上の部分光束24の同じ反射角の位置を定める。円錐断面部分28の範囲に位置する瞳ファセット11は、円錐断面線28a、28bによって定められる2つの制限角度の間に位置する入射角における視野ファセット7上での部分光束24の反射によって得ることができる。言い換えれば、これらの制限角度を指定した後に、それらに関連付けられる円錐断面線28a、28bを判断することにより、瞳ファセットミラー10全体の範囲で瞳ファセット11が位置する円錐断面部分28を割り出すことができ、これらの瞳ファセット11は、ファセット7上でのこれらの2つの制限角度の範囲の反射角における部分光束24の反射によって得ることができる。従って、円錐断面部分28を用いて、全ての瞳ファセット11のうちから瞳ファセット部分群を指定することができ、又は着目している視野ファセット7への物体視野照明チャンネルの割り当てに対してある特定個数の瞳ファセット候補を指定することができる。図6に記載の視野ファセット7の照明傾斜位置は、以下の方法によって少なくとも2つの瞳ファセット11に割り当てることができ、最初に、割り当てられる物体視野照明チャンネルを通じて、瞳ファセット11のうちの1つ、例えば、図6の瞳ファセット111が視野ファセット7によって反射された部分光束24による入射を受ける視野ファセット7の第1の照明傾斜位置が予め判断される。次に、視野ファセット7の反射面25上の多層反射コーティング27の入射角公差範囲によって予め判断される円錐断面部分28の範囲で、視野ファセット7の第2の照明傾斜位置が、視野ファセット7上での部分光束24の入射角をこの入射角公差範囲に保持しながら判断される。この時点で、判断された第2の照明傾斜位置において、更に別の物体視野照明チャンネル26を通じて、視野ファセット7によって反射された部分光束24による入射を受ける更に別の瞳ファセット、例えば、瞳ファセット112が選択される。視野ファセット7の2つの照明傾斜位置における入射角β1とβ2の一致を図7及び図8を用いて再度明確にする。図7及び図8のxyz座標系は、全視野ファセットミラー6の主反射面に関連している。図7は、入射部分光束24が、入射角β1で物体視野照明チャンネル261内に反射される第1の照明傾斜位置にある視野ファセット7を示している。図8は、入射部分光束24が、視野ファセット7によって入射角β2で物体視野照明チャンネル262内に反射される更に別の照明傾斜位置にある視野ファセット7を示している。この場合、β1=β2が適用される。図7及び図8に記載の2つの照明傾斜位置の間で、視野ファセット7は、図7に概略的にのみ示す制御デバイス30への信号接続を有するアクチュエータ29を用いて、y軸と平行に延びる傾斜軸31の回りに傾斜角2β1だけ傾斜される。入射部分光束24は、視野ファセット7上での反射までは、図7及び図8における空間内でのその位置を変化させない。図7及び図8に記載の2つの物体視野照明チャンネル261及び262は、反射面25上に入射する部分光束24を含んで視野ファセット7上の部分光束24の入射平面に対して垂直である平面に関する反射、言い換えれば、yz平面と平行な平面に関する反射によって互いの中に通る。2つの物体照明チャンネル261、262は、反射面25上に入射する部分光束24に沿った反射によって互いの中に通る。図9は、図5から図8に記載の視野ファセット7の代わりに用いることができる更に別の構成の視野ファセット32を図5と類似の図に示している。図1から図8を参照して上述した構成要素又は参照番号は、同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しなことにする。図9は、同様に入射部分光束24、並びに2つの物体視野照明チャンネル261及び262を示している。瞳ファセット111は、図9に破線で示している第1の照明傾斜位置において入射部分光束24がもたらされる物体視野照明チャンネル261を通じて入射を受ける。瞳ファセット112は、図9に実線で示している更に別の照明傾斜位置において入射部分光束24がもたらされる更に別の物体視野照明チャンネル262を通じて入射を受ける。図9に示している2つの照明傾斜位置における部分光束24の入射角は、絶対値で10よりも大きくは異ならず、特に10°よりも大きくは異ならない。視野ファセット32の反射面25上の多層反射コーティング33は、大きい入射角公差範囲を有する層設計を有し、従って、±10の公差範囲内で一致する反射率により、物体視野照明チャンネル261、262の入射角をも含むある一定範囲の入射角にわたって入射部分光束24を反射する。この種の反射コーティングを広帯域反射コーティングとも呼ぶ。図12には、反射率Rの入射角βへの依存性を反射率曲線34として破線で示している。この場合、反射率Rは、視野ファセット7によって反射された部分光束24のエネルギEoutと、視野ファセット7上に入射する部分光束24のエネルギEinとの間のエネルギ比Eout/Einとして定められる。小さい公差範囲の反射率Rは、約9.5°の範囲の最小入射角βminと、約17.3°からの範囲の最大入射角βmaxとの間で約R=0.6で一定であり、僅かに制限値R=.058とR=0.62の間の範囲[βmin,βmax]内で変動する。図9には、入射角公差範囲[βmin,βmax]内で視野ファセット32の対応する照明傾斜位置によって得ることができる複数の瞳ファセット11iを例示的に示している。例として、図9に記載の視野ファセット32の傾斜調節の機械的な設計に基づいて、瞳平面11iから2つ又はそれよりも多くの瞳ファセット111、112...、11nを選択することができ、この場合、これらの瞳ファセットは、物体視野照明チャンネル261、262...、26nを通じて入射を受ける。反射率曲線34の推移に起因して、様々な物体視野照明チャンネル26iを通じてもたらされる部分光束24のエネルギは、視野ファセット32のそれぞれの照明傾斜位置に関わらず±10の公差範囲内で一定である。以下では、図10及び図11を用いて、視野ファセット7又は32の代わりに用いることができる視野ファセット35上の更に別の構成の反射コーティングを以下に説明する。図1から図8を参照して上述した構成要素又は参照変数は、同じ参照番号を有し、再度詳細には説明しないことにする。視野ファセット35の反射面36は、2つの反射部分37、38に分割され、これらの反射部分の反射率Rは、各場合に視野ファセット35の2つの照明傾斜位置の一方に対して最適化される。第1の反射部分37は、単層、二層、又は多層のコーティングとして構成され、かつ入射部分光束24における第1の入射角β1に対して最適化された第1の反射コーティングを有する。第2の反射部分38は、同様に単層、二層、又は多層のコーティングとして構成することができ、かつその反射率に関して入射部分光束24の第2の入射角β2に対して最大にされた更に別の反射コーティングを有する。この場合、入射角β1に対する反射部分37の反射率Rは、±10の公差範囲内で入射角β2に対する反射部分38の反射率Rと一致する。反射部分37、38の反射コーティングの対応する設計により、5、2、1、又は1よりも小さい公差範囲での反射率の一致も可能である。図10は、入射部分光束24が、入射角β1で第1の物体視野照明チャンネル261内に偏向される第1の照明傾斜位置にある視野ファセット35を示している。反射部分37の反射コーティングは、専らこの第1の照明傾斜位置で作用する。図11は、入射部分光束24が、入射角β2で更に別の物体視野照明チャンネル262内に偏向される第2の照明傾斜位置にある視野ファセット35を示している。反射部分38の反射コーティングは、専らこの更に別の照明傾斜位置で作用する。一致する反射率Rに起因して、視野ファセット35上での反射の後に照明チャンネル261、262に反射される部分光束24は、それぞれの照明傾斜位置に関わらず同じエネルギを有する。以下では、図9に記載の視野ファセット32の反射コーティング33の代わりに用いられる更に別の設計の反射コーティングを図12に実線で示している反射率曲線39を用いて説明する。反射率曲線39は、入射角度範囲[βmin、βmax]に沿って特定の反射率値で実質的に一定に延びることはなく、2つの入射角βmin、βmaxの間に位置する反射率の最大値Rmaxを有する反射率曲線39の推移を有し、この場合、Rmax≒0.71が適用される。また、2つの制限入射角βmin及びβmaxでは、反射率曲線39を有する反射コーティングは、各場合に0.6という同じ反射率Rを有する。視野ファセット、例えば、図9に記載の視野ファセット32が、公差範囲で各場合に入射角βmin又はβmaxに対応する入射部分光束24における入射角に対応する照明傾斜位置で作動される限り、これらの照明傾斜位置を用いて視野ファセット32によって反射される部分光束24は、選択された照明傾斜位置に関わらず、いずれも同じエネルギを有する。以下では、図13及び図14を用いて、投影露光系1内で図1に記載の照明光学系23の構成要素10から14の代わりに用いることができる更に別の構成の照明光学系40を説明する。図1から図12を参照して上述した構成要素又は参照変数は、同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には説明しないことにする。照明光学系40内の瞳ファセットミラー41は、照明光3のための貫通開口部42を有する。照明光3は、貫通開口部42を通過した後に、最初に視野ファセットミラー6の視野ファセット7上で反射され、次に、瞳ファセットミラー41の詳細には示していない瞳ファセット上で反射され、そこから物体視野18に誘導され、そこで様々な物体視野照明チャンネル26が重ね合わさる。図13には、照明光3の光束のエッジを定める2つの物体視野照明チャンネル26、及び略示しているファセット7の2つの照明傾斜位置に割り当てられた2つの物体視野照明チャンネル261及び262を示している。図13では、視野ファセット7は、同様に照明光3の部分光束24による入射を受ける。物体視野照明チャンネル261、262に割り当てられた部分光束24の2つの入射角β1とβ2は、±10の公差範囲で同じである。視野ファセットミラー6の領域内及び瞳ファセットミラー41の領域内の照明光3のビーム経路に関する照明光学系40の事実上対称な構造に起因して、視野ファセットミラー6の視野ファセット7の照明傾斜位置において、入射角β1,β2のより高度な一致、例えば、±5、±2、±1の公差範囲内の一致、又は更に良好な一致を得ることができる。2つの照明傾斜位置の間では、図13に記載の視野ファセットは、x軸に平行な傾斜軸31の回りに約12°の角度だけ傾斜される。照明光3の全光束は、中間焦点43の領域内で視野ファセットミラー41の貫通開口部42を通じた収量に近い0.125という開口数を有する。照明光は、全ての物体視野照明チャンネル26を通じて0.125という開口数で物体視野18を照明する。図14は、入射部分光束24に対する所定の公差範囲で同じ入射角βで1つの同じ視野ファセット7からの入射を受けることができる瞳ファセットミラー41の瞳ファセット11を図6と類似の図に示している。これらの瞳ファセット11は、円錐断面の特殊な場合を表すリング44内に位置する。図14には、リング44の範囲に位置する3つの代表的な瞳ファセット111、112、113を示している。図6に記載の視野ファセット7に対する対応する割り当てに関連して上述したものは、これらの瞳ファセット111から113の図14に記載の視野ファセット7の照明傾斜位置への割り当てに適用される。円錐断面部分28は、たとえ領域毎であっても、楕円、放物線、双曲線、又はリングの形状を有することができる。投影露光中に、レチクル17と、EUV照明光3に対する感光コーティングを有するウェーハ22とが設けられる。次に、レチクル17の少なくとも一部分が、投影露光系1を用いてウェーハ22上に投影される。最後に、EUV照明光3で露光された感光層がウェーハ22上で現像される。このようにして微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素、例えば、半導体チップが製造される。以上の実施形態は、EUV照明を用いて説明したものである。EUV照明の代替として、UV照明又はVUV照明、例えば、193nmの波長を有する照明光を用いることもできる。"