"基板上に着色パターンを形成する工程と、前記着色パターンの表面に凹凸を形成する工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。前記凹凸は、エッチング法、ナノインプリント法または研磨法によって形成されることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。前記着色パターンの表面に凹凸を形成する工程は、前記着色パターンの上にレジストパターンを形成し、前記レジストパターンから露出する前記着色パターンにエッチング処理を施して、前記凹凸を形成する工程であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。前記凹凸は、凸部の高さが10nm以上、凸部の底辺の幅が10nm以上であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。前記着色パターンは、赤色の着色パターンおよび緑色の着色パターンの内の少なくとも一方を含み、前記赤色の着色パターンおよび前記緑色の着色パターンの内の少なくとも一方の表面に前記凹凸を形成することを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。前記凹凸が形成された前記着色パターンの上に保護膜を形成する工程をさらに有することを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。請求項1~6のいずれか1項に記載の方法により製造されたカラーフィルタを有することを特徴とする表示素子。基板上に複数色の着色パターンを有するカラーフィルタであって、前記複数色の着色パターンの内の少なくとも1色の前記着色パターンの表面に凹凸が形成されており、前記凹凸の凸部の高さが10nm以上、凸部の底辺の幅が10nm以上であることを特徴とするカラーフィルタ。しかしながら、顔料分散型の着色組成物の場合、顔料や組成の改善によって、カラーフィルタのY値を向上させて輝度を高める方法には、技術的な限界が来ているとされる。一方、染料を含む着色組成物を用いて形成された着色パターンには、顔料を含む着色組成物を用いて形成された着色パターンに比べて、耐熱性や耐溶剤性が著しく劣るという問題がある。したがって、染料を含む着色組成物を用いてカラーフィルタを量産するにあたっては、輝度の向上に加えて、耐熱性および耐溶剤性の向上といったさらなる性能の向上が必要とされる。本発明は、以上のような問題に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、高輝度化に有用なカラーフィルタの製造方法と、表示特性に優れた表示素子と、高輝度化に有用なカラーフィルタを提供することにある。本発明の第1の態様は、基板上に着色パターンを形成する工程と、着色パターンの表面に凹凸を形成する工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法に関する。本発明の第1の態様において、凹凸は、エッチング法、ナノインプリント法または研磨法によって形成されることが好ましい。本発明の第1の態様において、着色パターンの表面に凹凸を形成する工程は、着色パターンの上にレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する着色パターンにエッチング処理を施して凹凸を形成する工程とすることができる。本発明の第1の態様において、凹凸は、凸部の高さが10nm以上、凸部の底辺の幅が10nm以上とすることが好ましい。本発明の第1の態様において、着色パターンは、赤色の着色パターンおよび緑色の着色パターンの内の少なくとも一方を含み、赤色の着色パターンおよび緑色の着色パターンの内の少なくとも一方の表面に凹凸を形成することができる。本発明の第1の態様は、凹凸が形成された着色パターンの上に保護膜を形成する工程をさらに有することが好ましい。本発明の第2の態様は、本発明の第1の態様により製造されたカラーフィルタを有することを特徴とする表示素子に関する。本発明の第3の態様は、基板上に複数色の着色パターンを有するカラーフィルタであって、複数色の着色パターンの内の少なくとも1色の着色パターンの表面に凹凸が形成されており、その凹凸の凸部の高さが10nm以上、凸部の底辺の幅が10nm以上であることを特徴とするものである。本発明の第1の態様によれば、高輝度化に有用なカラーフィルタの製造方法が提供される。本発明の第2の態様によれば、表示特性に優れた表示素子が提供される。本発明の第3の態様によれば、高輝度化に有用なカラーフィルタが提供される。本発明者は、鋭意検討した結果、カラーフィルタを構成する各色の着色パターンの表面に凹凸を形成することにより、上記した課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。以下、本実施の形態について詳細に説明する。<カラーフィルタの製造方法>本発明者は、着色パターンの表面に凹凸を形成することで、着色パターンを透過する光の取り出し効率を高められることを見出した。このため、本実施の形態のカラーフィルタの製造方法は、少なくとも下記1および2の工程を含むことを特徴とする。1基板上に着色パターンを形成する工程2着色パターンの表面に凹凸を形成する工程以下では、1および2の各工程について、具体例を挙げて詳細に説明する。1基板上に着色パターンを形成する工程まず、基板を準備する。基板としては、例えば、ホウ珪酸ガラス、アルミノホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、合成石英ガラス、ソーダライムガラス、ホワイトサファイアなどの透明なガラス基板を用いることができる。また、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、シンジオタクティックポリスチレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、ポリエーテルニトリル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、ポリノルボルネン系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミドまたは熱可塑性ポリイミドなどの透明樹脂フィルムを用いることもできる。特に、無アルカリガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり、寸法安定性および高温加熱処理における特性に優れている点から好ましく用いられる。また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤などによる薬品処理やプラズマ処理の他、イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法または真空蒸着法などによる二酸化ケイ素膜の成膜などの適当な前処理を施しておくこともできる。次に、基板上に、画素を形成する部分を区画するように遮光層ブラックマトリクスを形成する。例えば、スパッタや蒸着により成膜したクロムなどの金属薄膜を、フォトリソグラフィ法を利用して所望のパターンに加工する。あるいは、黒色の着色剤を含有する着色組成物を基板上に塗布し、フォトリソグラフィ法によって所望のパターンに加工してもよい。金属薄膜からなる遮光層の膜厚は、通常0.1μm~0.2μmとすることが好ましい。一方、黒色の着色組成物を用いて形成された遮光膜の膜厚は、1μm前後とすることが好ましい。尚、遮光層は不要とされる場合もあり、その場合は遮光層形成の工程は省略できる。次に、上記の基板上に、例えば、赤色の着色剤を含有する、ネガ型の感放射線性の着色感放射線性組成物を塗布する。次いで、プレベークを行って溶剤を蒸発させて、塗膜を形成する。その後、フォトマスクを介して塗膜を露光した後、アルカリ現像液で現像して、塗膜の未露光部を溶解除去する。その後、好ましくはポストベークをして、赤色の着色パターンが所定の配列で配置された画素アレイを形成する。次に、赤色の着色パターンが形成された基板上に、緑色の着色剤を含有する、ネガ型の感放射線性の着色感放射線性組成物を塗布し、上記と同様にして、緑色の着色パターンが所定の配列で配置された画素アレイを形成する。さらに、赤色と緑色の各着色パターンが形成された基板上に、青色の着色剤を含有する、ネガ型の感放射線性の着色感放射線性組成物を塗布し、上記と同様にして、青色の着色パターンが所定の配列で配置された画素アレイを形成する。以上のようにして、赤色、緑色および青色の三原色の画素アレイが基板上に配置されたカラーフィルタが得られる。但し、本実施の形態においては、各色の着色パターンを基板上に形成する順序は、上述の例に限定されない。各色の形成順序は適宜変更することが可能である。着色感放射線性組成物を基板に塗布する際には、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリットダイ塗布法またはバーコート法などを適宜選択することができる。均一な膜厚の塗膜が得られる点からは、スピンコート法またはスリットダイ塗布法を採用することが好ましい。プレベークは、通常、減圧乾燥と加熱乾燥とを組み合わせて行われる。減圧乾燥は、通常、50Pa~200Paに到達するまで行う。また、加熱乾燥の条件は、通常、ホットプレートを用いて、70°C~110°Cの温度の下で1分間~10分間程度である。また、塗布される塗膜の厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、0.6μm~8.0μm、好ましくは1.2μm~5.0μmである。露光に使用される放射線の光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯などのランプ光源や、アルゴンイオンレーザ、YAGレーザ、XeClエキシマーレーザ、窒素レーザなどのレーザ光源などを挙げることができる。一般に、放射される波長が190nm~450nmの範囲にあることが好ましい。また、放射線の露光量は、一般的には10J/m2~10,000J/m2が好ましい。アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8-ジアザビシクロ-[5.4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ-[4.3.0]-5-ノネンなどの水溶液が好ましく用いられる。アルカリ現像液には、例えば、メタノール、エタノールなどの水溶性有機溶剤や、界面活性剤などを適量添加することもできる。尚、アルカリ現像処理の後は、通常、水洗を行う。現像処理法としては、例えば、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ浸漬現像法またはパドル液盛り現像法などを適用することができる。現像条件は、例えば、常温で5秒間~300秒間とすることができる。ポストベークの条件は、温風加熱炉を用いた場合、例えば、180°C~280°Cで20分間~40分間程度とすることができる。以上のようにして形成された着色パターンの膜厚は、通常0.5μm~5.0μm、好ましくは1.0μm~3.0μmである。また、基板上に着色パターンを形成する他の例として、特開平7-318723号公報および特開2000-310706号公報などに開示されている、インクジェット方式により各色の画素を得る方法も挙げられる。この方法においては、まず、基板の表面上に、遮光機能も兼ねた隔壁を形成する。次いで、この隔壁内に、例えば、赤色の着色剤を含有する着色熱硬化性組成物を、インクジェット装置により吐出する。その後、プレベークを行って溶媒を蒸発させる。次いで、この塗膜を必要に応じて露光した後、ポストベークすることにより硬化させて、赤色の画素パターンを形成する。次に、赤色の着色パターンが形成された基板上に、緑色の着色剤を含有する着色熱硬化性組成物をインクジェット装置により吐出し、上記と同様にして緑色の画素パターンを形成する。さらに、赤色と緑色の各着色パターンが形成された基板上に、青色の着色剤を含有する着色熱硬化性組成物をインクジェット装置により吐出し、上記と同様にして青色の画素パターンを形成する。以上のようにして、赤色、緑色および青色の三原色の着色パターンが基板上に配置されたカラーフィルタが得られる。但し、本実施の形態においては、各色の着色パターンを形成する順序は、上記の例に限定されない。各色の形成順序は適宜変更することが可能である。尚、上述の隔壁は、遮光機能のみならず、区画内に吐出された各色の着色組成物が混色しないための機能も果たしている。そのため、上記した第一の例で使用される遮光層ブラックマトリクスに比べて膜厚が厚い。隔壁は、通常、黒色の組成物を用いて形成される。カラーフィルタを形成する際に使用される基板や放射線の光源、また、プレベークやポストベークの方法や条件は、上記した第一の例と同様である。インクジェット方式により形成された着色パターンの膜厚は、隔壁の高さと同程度である。尚、本実施の形態において、カラーフィルタを構成する着色パターンは、赤色、緑色および青色に限られるものではなく、黄色、マゼンダ色およびシアン色を三原色とする着色パターンであってもよい。また、三原色の画素に対応する着色パターンに加えて、第4や第5の着色パターンを形成することもできる。例えば、特表2005-523465号公報などに開示されているように、赤色、緑色および青色の三原色の画素に対応する着色パターンに加え、表色範囲を広げるための第4の画素黄色画素や第5の画素シアン画素を配置することができる。着色パターンは、通常、感放射線性または熱硬化性の着色組成物を用いて形成される。着色パターンを形成する工程で用いられる着色組成物は、少なくとも、着色剤、バインダー樹脂および架橋剤を含有する。また、必要に応じて、着色組成物に感放射線性を付与することを目的として光重合開始剤を含有することもできる。着色組成物は、通常、溶媒を配合して液状組成物として使用される。以下、各成分について説明する。着色剤は、着色性を有すれば特に限定されるものではなく、カラーフィルタの用途に応じて色彩や材質を適宜選択することができる。具体的には、顔料、染料および天然色素の何れをも着色剤として使用することができる。カラーフィルタには、高い色純度、輝度およびコントラストなどが求められることから、顔料、染料またはそれらの混合物が好ましく使用される。顔料は、有機顔料および無機顔料のいずれの使用も可能である。有機顔料としては、例えば、カラーインデックスC.I.;TheSocietyofDyersandColourists社発行において、ピグメントに分類されている化合物が挙げられる。好ましくは、下記のようなカラーインデックスC.I.名が付されているものを挙げることができる。C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー180、C.I.ピグメントイエロー211;C.I.ピグメントオレンジ38;C.I.ピグメントレッド166、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド224、C.I.ピグメントレッド242、C.I.ピグメントレッド254;C.I.ピグメントバイオレット23;C.I.ピグメントブルー1、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー80;C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン58;C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25;C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7。無機顔料としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら赤色酸化鉄、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒またはカーボンブラックなどを挙げることができる。本実施の形態において、有機顔料は、いわゆるソルトミリングにより、一次粒子を微細化して使用することが好ましい。ソルトミリングの方法としては、例えば、特開平8-179111号公報に開示されている方法を採用することができる。染料は、各種の油溶性染料、直接染料、酸性染料および金属錯体染料などの中から適宜選択して使用することができる。例えば、下記のようなカラーインデックスC.I.名が付されているものを挙げることができる。C.I.ソルベントイエロー4、C.I.ソルベントイエロー14、C.I.ソルベントイエロー15、C.I.ソルベントイエロー24、C.I.ソルベントイエロー82、C.I.ソルベントイエロー88、C.I.ソルベントイエロー94、C.I.ソルベントイエロー98、C.I.ソルベントイエロー162、C.I.ソルベントイエロー179;C.I.ソルベントレッド45、C.I.ソルベントレッド49;C.I.ソルベントオレンジ2、C.I.ソルベントオレンジ7、C.I.ソルベントオレンジ11、C.I.ソルベントオレンジ15、C.I.ソルベントオレンジ26、C.I.ソルベントオレンジ56;C.I.ソルベントブルー35、C.I.ソルベントブルー37、C.I.ソルベントブルー59、C.I.ソルベントブルー67;C.I.アシッドイエロー17、C.I.アシッドイエロー29、C.I.アシッドイエロー40、C.I.アシッドイエロー76;C.I.アシッドレッド91、C.I.アシッドレッド92、C.I.アシッドレッド97、C.I.アシッドレッド114、C.I.アシッドレッド138、C.I.アシッドレッド151;C.I.アシッドオレンジ51、C.I.アシッドオレンジ63;C.I.アシッドブルー80、C.I.アシッドブルー83、C.I.アシッドブルー90;C.I.アシッドグリーン9、C.I.アシッドグリーン16、C.I.アシッドグリーン25、C.I.アシッドグリーン27。本実施の形態において、着色剤は、単独または2種以上を混合して使用することができる。着色組成物に使用されるバインダー樹脂は、特に限定されるものではないが、酸性官能基を有する重合体を含有することが好ましい。酸性官能基としては、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、イミド酸基、スルホ基、スルフィノ基またはスルフェノ基などを挙げることができる。これらの内、カルボキシル基が好ましく用いられる。カルボキシル基を有する重合体としては、例えば、特開平5-19467号公報、特開平6-230212号公報、特開平7-140654号公報、特開平7-207211号公報、特開平8-259876号公報、特開平9-325494号公報、特開平10-31308号公報、特開平10-300922号公報、特開平11-140144号公報、特開平11-174224号公報、特開平11-231523号公報、特開平11-258415号公報、特開2000-56118号公報、特開2002-296778号公報、特開2004-101728号公報および特開2008-181095号公報などに開示されている重合体を挙げることができる。本実施の形態において、バインダー樹脂は、単独または2種以上を混合して使用することができる。着色組成物に使用される架橋剤は、2個以上の重合可能な基を有する化合物であれば、特に限定されるものではない。重合可能な基としては、例えば、エチレン性不飽和基、オキシラニル基、オキセタニル基またはN-アルコキシメチルアミノ基などを挙げることができる。本実施の形態において、架橋剤としては、2個以上のメタアクリロイル基を有する化合物、または、2個以上のN-アルコキシメチルアミノ基を有する化合物が好ましく用いられる。特に好ましい架橋剤としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートと無水こはく酸を反応させて得られる化合物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートと無水こはく酸を反応させて得られる化合物、特開平11-44955号公報の段落0015~段落0018に記載されているカプロラクトン変性された多官能メタアクリレート、N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサアルコキシメチルメラミンまたはN,N,N’,N’-テトラアルコキシメチルベンゾグアナミンなどを挙げることができる。本実施の形態において、架橋剤は、単独または2種以上を混合して使用することができる。着色組成物に使用される光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線またはX線などの放射線の露光により、上述の架橋剤の硬化反応を開始し得る活性種を発生することのできる化合物である。好ましい光重合開始剤としては、例えば、チオキサントン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、O-アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α-ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、ジアゾ系化合物またはイミドスルホナート系化合物などを挙げることができる。本実施の形態において、光重合開始剤は、公知の増感剤や水素供与体と併用することができる。また、光重合開始剤は、単独または2種以上を混合して使用することができる。着色組成物に使用される溶媒は、着色組成物を構成する各成分を分散または溶解し、且つ、これらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものであることが好ましい。本実施の形態において、好ましい溶媒としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、1,3-ブチレングリコールジアセテート、1,6-ヘキサンジオールジアセテート、乳酸エチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、酢酸n-ブチル、酢酸i-ブチル、ぎ酸n-アミル、酢酸i-アミル、プロピオン酸n-ブチル、酪酸エチル、酪酸i-プロピル、酪酸n-ブチルまたはピルビン酸エチルなどを挙げることができる。本実施の形態において、溶媒は、単独または2種以上を混合して使用することができる。本実施の形態の着色組成物は、必要に応じて、その他の成分をさらに含有することもできる。例えば、その他の成分として、アクリル系共重合体、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエチレンイミンおよびポリアリルアミンなどの顔料分散剤;フッ素系界面活性剤およびシリコン系界面活性剤などの界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス2-メトキシエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシランおよび3-メルカプトプロピルトリメトキシシランなどの密着促進剤等を挙げることができる。2着色パターンの表面に凹凸を形成する工程上記工程により形成された着色パターンの表面に凹凸を形成する方法は、特に限定されるものではなく、例えば、エッチング法、ナノインプリント法または酸化セリウム粒子などを用いた研磨法などを挙げることができる。エッチング法としては、ドライエッチングおよびウエットエッチングのいずれの方法の適用も可能である。ドライエッチングは、反応性の気体エッチングガスやイオン、ラジカルによって材料をエッチングする方法である。これに対して、ウエットエッチングは、液体によって材料のエッチングを行う方法である。製造コストを考慮した場合、酸またはアルカリによるウエットエッチングが好ましい。一方、凹凸形成の再現性を考慮した場合には、微細加工に適したドライエッチングが好ましい。ドライエッチングには、反応ガス中に材料を曝す方法反応性ガスエッチングや、プラズマによりガスをイオン化ラジカル化してエッチングする反応性イオンエッチングなどがある。反応性イオンエッチングによるドライエッチング装置としては、種々の方式のものが挙げられる。いずれの方式においても、装置構成は概ね同様である。すなわち、所要の真空圧に保持したチャンバ内で、エッチングガスに電磁波などを与えて、ガスをプラズマ化する。また、同時に、チャンバ内で試料基板が載置される陰極に高周波電圧を印加する。これにより、プラズマ中のイオン種やラジカル種を試料方向に加速させて衝突させ、イオンによるスパッタリングと、エッチングガスの化学反応とを同時に起こして、試料の微細加工を行う。本実施の形態においては、上述した工程により着色パターンを形成した後、着色パターンに対して、そのまま直接にエッチング処理を行うことが可能である。また、フォトリソグラフィ技術を利用し、着色パターン上にマスクとなるレジストパターンを形成した後、そこから露出する着色パターン部分にエッチング処理を施してもよい。この方法によれば、複数色ある着色パターンの中から、所望の色の着色パターンを選択して凹凸を設けることが可能であり、さらに所望の個所に所望の程度の凹凸を設けることが可能である。また、ナノインプリント法では、予め電子線リソグラフィー等により数十~数百nmの凹凸パターンを形成した原盤を、着色パターンが形成された基板に押し付け、原盤の凹凸を着色パターンに転写する。より具体的には、米国特許5772905号明細書、S.Y.Chouetal,Appl.Phys.Lett.76,31141995等を参考にすることができる。ナノインプリント法によっても、複数色ある着色パターンの中から、所望の色の着色パターンを選択して凹凸を設けることが可能であり、さらに所望の個所に所望の程度の凹凸を設けることが可能である。上記の通り、着色組成物を用いて形成された着色パターンの表面に凹凸を形成することで、着色パターンを透過する光の取り出し効率を高めることができる。かかる効果は、特に、赤色の着色パターンと緑色の着色パターンで顕著である。したがって、赤色および緑色の着色パターンの内の少なくとも一方を選択して、その表面に凹凸を付与してもよい。着色パターンの表面に形成される凹凸のサイズについては、所望の値に調整することが可能であるが、好ましくは凸部の高さは10nm以上、凸部の底辺の幅は10nm以上である。本実施の形態においては、凸部の高さは50nm以上であることがより好ましく、50nm~200nmの範囲であることがさらに好ましく、80nm~200nmの範囲であることが特に好ましい。一方、凸部の幅は20nm以上であることが好ましく、20nm~200nmの範囲であることがより好ましい。尚、着色パターンの表面に形成される凹凸のサイズは、SEM写真を画像解析することにより測定したものである。また、カラーフィルタのY値を向上させることを目的とする場合、凹凸を形成しようとする着色パターンの総画素面積の内の30以上の表面に凹凸が形成されていることが好ましい。その場合、凹凸が形成された領域が、カラーフィルタ全体においても、そして任意の一画素内においても、一部分に偏ることなく、全体に均一に分散されるよう構成されることが好ましい。このようにして凹凸が形成された着色パターン上に、さらに保護膜を設けることで、表示素子の表示特性を高めることができる。保護膜としては、硬化性組成物から形成される有機膜若しくは有機無機ハイブリッド膜、またはSiNx膜およびSiOx膜などの無機膜を挙げることができる。本実施の形態においては、硬化性組成物を用いて保護膜を形成することが好ましい。硬化性樹脂組成物を用いて保護膜を形成する方法としては、例えば、特開平4-53879号公報または特開平6-192389号公報などに開示されている方法を採用することができる。この方法によれば、まず、硬化性樹脂組成物を、着色パターンが形成された基板表面に塗布し、プレベークにより溶媒を除去して塗膜とする。この塗膜を、必要に応じて露光現像することにより所望のパターンとした後、ポストベークすることにより保護膜を形成する。保護膜を形成する際に使用される放射線の光源、また、プレベークやポストベークの方法や条件は、上述した1基板上に着色組成物を用いて着色パターンを形成する工程での着色パターンを形成する方法と同様である。このようにして、形成された保護膜の膜厚は、通常0.1μm~8.0μm、好ましくは0.1μm~6.0μmである。保護膜の形成に用いられる硬化性樹脂組成物としては、例えば、特開平3-188153号公報または特開平4-53879号公報などに開示されている熱硬化性樹脂組成物、特開平6-192389号公報または特開平8-183819号公報などに開示されている感放射線性樹脂組成物、特開2006-195420号公報または特開2008-208342号公報などに開示されているポリオルガノシロキサンを含有する硬化性組成物などを挙げることができる。本実施の形態のカラーフィルタの製造方法によれば、CIE表色系における明るさの刺激値Yの高いカラーフィルタが得られる。したがって、本実施の形態のカラーフィルタを用いることにより、輝度の高い表示素子とすることが可能である。本実施の形態のカラーフィルタは、例えば、カラー液晶表示素子用カラーフィルタ、固体撮像素子の色分解用カラーフィルタ、有機EL表示素子用カラーフィルタ、電子ペーパー用カラーフィルタを始めとする各種のカラーフィルタとして好適である。<カラーフィルタ>本実施の形態のカラーフィルタは、上述した本実施の形態のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタである。具体的には、本実施の形態のカラーフィルタでは、上述した顔料や染料等を含む、赤色、緑色および青色の三原色の着色パターンが所定の配列で配置されて画素アレイを有し、この画素アレイが基板上に配置されて構成される。尚、カラーフィルタを構成する着色パターンは、黄色、マゼンダ色およびシアン色を三原色とする着色パターンであってもよい。また、上述のように、赤色、緑色および青色の三原色の画素に対応する着色パターンに加え、表色範囲を広げるための第4の画素黄色画素や第5の画素シアン画素を配置するよう、第4および第5の着色パターンを形成することもできる。また、本実施の形態のカラーフィルタでは、基板上、画素を形成する部分を区画するように遮光層ブラックマトリクスを有することが好ましい。尚、遮光層を有しないことも可能である。本実施の形態のカラーフィルタでは、着色パターンの表面に、上述のエッチング法、ナノインプリント法または研磨法などによって形成された微細な凹凸が設けられる。凹凸のサイズは、所望の値に調整することが可能であるが、凸部の高さを10nm以上、凸部の底辺の幅を10nm以上とすることが好ましい。さらに、凸部の高さは、50nm以上であることが好ましく、50nm~200nmの範囲であることがより好ましく、80nm~200nmの範囲であることが特に好ましい。一方、凸部の幅は、20nm以上であることが好ましく、20nm~200nmの範囲であることがより好ましい。また、カラーフィルタのY値を向上させることを目的とする場合、凹凸を形成しようとする着色パターンの総画素面積の内、30以上の表面に、凹凸が形成されていることが好ましい。その場合、上述したように、着色パターンの表面に凹凸が形成された領域が、カラーフィルタ全体においても、そして任意の一画素内においても、一部領域に偏ることなく、全体に均一に分散されるよう構成されることが好ましい。本実施の形態のカラーフィルタは、凹凸が形成された着色パターン上に保護膜を有することが好ましい。保護膜を有することで、表示素子の製造工程におけるカラーフィルタの耐プロセス性を高めることができる。保護膜としては、上述のように、硬化性組成物から形成される有機膜若しくは有機無機ハイブリッド膜、またはSiNx膜およびSiOx膜などの無機膜を挙げることができる。本実施の形態においては、硬化性組成物を用いて保護膜を形成することが好ましい。本実施の形態のカラーフィルタは、上記構成を有することにより、CIE表色系における明るさの刺激値Yが高いものとなる。したがって、このカラーフィルタは、例えば、カラー液晶表示素子用カラーフィルタ、固体撮像素子の色分解用カラーフィルタ、有機EL表示素子用カラーフィルタおよび電子ペーパー用カラーフィルタを始めとする各種のカラーフィルタとして有用である。<表示素子>本実施の形態の表示素子は、上述した本実施の形態のカラーフィルタを有するものである。表示素子の具体例としては、カラー液晶表示素子、有機EL表示素子または電子ペーパーなどを挙げることができる。本実施の形態のカラー液晶表示素子は、以下の構造とすることができる。カラー液晶表示素子は、例えば、薄膜トランジスタThinFilmTransistor:TFTが配置された駆動用基板と、本実施の形態のカラーフィルタが設けられた別の基板とが、液晶層を介して対向する構造とすることができる。あるいは、カラー液晶表示素子は、薄膜トランジスタTFTが配置された駆動用基板の表面上に本実施の形態のカラーフィルタを形成した基板と、ITOIndiumTinOxide:錫をドープした酸化インジュウム電極を形成した基板とが、液晶層を介して対向した構造とすることもできる。後者の構造は、開口率を格段に向上させることができ、明るく高精細な液晶表示素子が得られるという利点を有する。図1は、本実施の形態のカラーフィルタを有するカラー液晶表示素子の模式的な断面図である。図1に示す液晶表示素子1は、本実施の形態のカラー液晶表示素子の一例であり、TFT駆動によるTNTwistedNematic型の液晶モードの表示素子である。このカラー液晶表示素子は、上記した駆動用基板とカラーフィルタを形成した基板とが、TN液晶の層を介して対向した構造を有する。すなわち、図1に示すように、透明な基板2の液晶13に接する側には、TFT図示されないと透明な画素電極3とが格子状に配設され、駆動用基板を構成している。また、透明な基板5の液晶13に接する側には、画素電極3に対向する位置に、赤色、緑色および青色の着色パターン6と、ブラックマトリクス7と、着色パターン6の上に設けられた保護膜8とを有するカラーフィルタ10が配置されている。ここで、着色パターン6の表面には、上述した微細な凹凸が設けられている。さらに、カラーフィルタ10の上には、透明な共通電極11が設けられている。基板2と基板5には、それぞれ、配向膜12が設けられている。配向膜12をラビング処理することにより、両基板2、5の間に挟持された液晶13の均一な配向を実現できる。基板2と基板5において、液晶13に接する側と反対の側には、それぞれ偏光板14が配置されている。基板2と基板5の間隔は、通常、2μm~10μmであり、これらは、周辺部に設けられたシール材16によって互いに固定されている。図1において、符号17は、バックライトユニット図示されないから液晶13に向けて照射されたバックライト光である。バックライトユニットとしては、例えば、冷陰極蛍光管CCFL:ColdCathodeFluorescentLampなどの蛍光管と、散乱板とが組み合わされた構造のものを用いることができる。また、白色LEDを光源とするバックライトユニットを用いることもできる。白色LEDとしては、例えば、赤色LEDと、緑色LEDと、青色LEDとを組み合わせて混色により白色光を得る白色LED、青色LEDと、赤色LEDと、緑色蛍光体とを組み合わせて混色により白色光を得る白色LED、青色LEDと、赤色発光蛍光体と、緑色発光蛍光体とを組み合わせて混色により白色光を得る白色LED、青色LEDと、YAG系蛍光体との混色により白色光を得る白色LED、青色LEDと、橙色発光蛍光体と、緑色発光蛍光体とを組み合わせて混色により白色光を得る白色LED、紫外線LEDと、赤色発光蛍光体と、緑色発光蛍光体と、青色発光蛍光体とを組み合わせて混色により白色光を得る白色LEDなどを挙げることができる。本実施形態のカラー液晶表示素子には、上述のTN型の他、STNSuperTwistedNematic型、IPSIn-PlanesSwitching型、VAVerticalAlignment型またはOCBOpticallyCompensatedBirefringence型などの液晶モードとすることもできる。本実施の形態のカラーフィルタを有する有機EL表示素子は、適宜の構造を採ることが可能であり、例えば、特開平11-307242号公報に開示されている構造を挙げることができる。本実施の形態のカラーフィルタを有する電子ペーパーは、適宜の構造を採ることが可能であり、例えば、特開2007-41169号公報に開示されている構造を挙げることができる。以上、本実施の形態について説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。着色剤分散液の調製調製例1着色剤として、C.I.ピグメントレッド254を2.3質量部、C.I.ピグメントレッド177を11.4質量部、C.I.ピグメントイエロー150を1.3質量部、分散剤としてBYK登録商標-21324ビックケミーBYK社製を8質量部固形分濃度=40質量、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/プロピレングリコールモノエチルエーテル=90/10質量比混合溶媒を固形分濃度が20となるよう用いて、ビーズミルにより12時間混合分散して、顔料分散液M-1を調製した。調製例2着色剤として、C.I.ピグメントグリーン58を9.7質量部、C.I.ピグメントイエロー150を5.3質量部、分散剤としてBYK登録商標-21324ビックケミーBYK社製を8質量部固形分濃度=40質量、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/プロピレングリコールモノエチルエーテル=90/10質量比混合溶媒を固形分濃度が20となるよう用いて、ビーズミルにより12時間混合分散して、顔料分散液M-2を調製した。調製例3着色剤として、C.I.ピグメントブルー15:6を9.3質量部、C.I.ピグメントバイオレットを5.7質量部、分散剤としてBYK登録商標-21324ビックケミーBYK社製を8質量部固形分濃度=40質量、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/プロピレングリコールモノエチルエーテル=90/10質量比混合溶媒を固形分濃度が20となるよう用いて、ビーズミルにより12時間混合分散して、顔料分散液M-3を調製した。バインダー樹脂の合成合成例1冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル2質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部を仕込み、引き続きメタクリル酸15質量部、N-フェニルマレイミド20質量部、ベンジルメタクリレート55質量部、スチレン10質量部および分子量調節剤として2,4-ジフェニル-4-メチル-1-ペンテン日油株製商品名:ノフマー登録商標MSD3質量部を仕込んで、窒素置換した。その後ゆるやかに撹拌して、反応溶液の温度を80°Cに上昇させ、この温度を5時間保持して重合することにより、樹脂溶液固形分濃度=33質量を得た。得られた樹脂は、Mw=16,000、Mn=7,000であった。この樹脂溶液をバインダー樹脂溶液P1とする。着色感放射線性組成物の調製調製例4顔料分散液M-1100質量部、バインダー樹脂としてバインダー樹脂溶液P130質量部固形分濃度=33質量、架橋剤としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート15質量部、光重合開始剤として2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニルブタン-1-オン4質量部と4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン1質量部、フッ素系界面活性剤としてDIC株式会社製メガファック登録商標F-554を0.1質量部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを混合して、固形分濃度22の赤色感放射線性組成物CR-1を調製した。調製例5調製例4において、顔料分散液M-1の代わりに顔料分散液M-2を用いた以外は、調製例4と同様にして緑色感放射線性組成物CR-2を調製した。調製例6調製例4において、顔料分散液M-1の代わりに顔料分散液M-3を用いた以外は、調製例4と同様にして青色感放射線性組成物CR-3を調製した。以下、本実施例の赤色感放射線性組成物CR-1、緑色感放射線性組成物CR-2および青色感放射線性組成物CR-3を用いた着色パターンの形成と、その着色パターンへの凹凸形成の実施例を述べる。尚、以下では、着色パターンを着色硬化膜と称する。実施例1<赤色硬化膜の形成および凹凸の形成>赤色感放射線性組成物CR-1をソーダガラス基板上に、スピンコータを用いて塗布した後、80°Cのクリーンオーブン内で10分間プレベークを行って、塗膜を形成した。次いで、塗膜が形成された基板を室温に冷却した後、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に365nm、405nmおよび436nmの各波長を含む放射線を400J/m2の露光量で露光した。その後、これらの基板に対して、23°Cの0.04質量水酸化カリウム水溶液からなる現像液を、現像圧1kgf/cm2ノズル径1mmで吐出することにより、1分間のシャワー現像を行った。その後、これらの基板を超純水で洗浄し、風乾した後、さらに230°Cのクリーンオーブン内で30分間ポストベークを行うことにより、基板上に赤色の硬化膜を形成した。得られた硬化膜に対して、神港精機社製プラズマエッチング装置EXAMを用いて、ドライエッチング処理を行い、硬化膜の表面全体に凹凸を形成した。この時、RFパワーは400Wであった。表1にドライエッチング処理条件を示す。実施例2および実施例3<赤色硬化膜の形成および凹凸の形成>実施例1と同様にして赤色硬化膜を形成するとともに、ドライエッチング処理時間を表1に示す時間としたこと以外は、実施例1と同様にして凹凸の形成を行った。比較例1<赤色硬化膜の形成>実施例1と同様にして、赤色硬化膜を形成した。しかし、実施例1で行ったドライエッチング処理による凹凸の形成は行わなかった。実施例4<緑色硬化膜の形成および凹凸の形成>緑色感放射線性組成物CR-2をソーダガラス基板上に、スピンコータを用いて塗布した後、80°Cのクリーンオーブン内で10分間プレベークを行って、塗膜を形成した。次いで、塗膜が形成された基板を室温に冷却した後、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に365nm、405nmおよび436nmの各波長を含む放射線を400J/m2の露光量で露光した。その後、これらの基板に対して、23°Cの0.04質量水酸化カリウム水溶液からなる現像液を、現像圧1kgf/cm2ノズル径1mmで吐出することにより、1分間のシャワー現像を行った。その後、これらの基板を超純水で洗浄し、風乾した後、さらに230°Cのクリーンオーブン内で30分間ポストベークを行うことにより、基板上に緑色の硬化膜を形成した。得られた硬化膜に対して、神港精機社製プラズマエッチング装置EXAMを用いて、ドライエッチング処理を行い、硬化膜の表面全体に凹凸を形成した。この時、RFパワーは400Wであった。表1にドライエッチング処理条件を示す。実施例5および実施例6<緑色硬化膜の形成および凹凸の形成>実施例4と同様にして緑色硬化膜を形成するとともに、ドライエッチング処理時間を表1に示す時間としたこと以外は、実施例4と同様にして凹凸の形成を行った。比較例2<緑色硬化膜の形成>実施例4と同様にして緑色硬化膜を形成した。しかし、実施例4で行ったドライエッチング処理による凹凸の形成は行わなかった。実施例7<青色硬化膜の形成および凹凸の形成>青色感放射線性組成物CR-3をソーダガラス基板上に、スピンコータを用いて塗布した後、80°Cのクリーンオーブン内で10分間プレベークを行って、塗膜を形成した。次いで、塗膜が形成された基板を室温に冷却した後、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に365nm、405nmおよび436nmの各波長を含む放射線を400J/m2の露光量で露光した。その後、これらの基板に対して、23°Cの0.04質量水酸化カリウム水溶液からなる現像液を、現像圧1kgf/cm2ノズル径1mmで吐出することにより、1分間シャワー現像を行った。その後、これらの基板を超純水で洗浄し、風乾した後、さらに230°Cのクリーンオーブン内で30分間ポストベークを行うことにより、基板上に青色の硬化膜を形成した。得られた硬化膜に対して、神港精機社製プラズマエッチング装置EXAMを用いて、ドライエッチング処理を行い、硬化膜の表面全体に凹凸を形成した。この時、RFパワーは400Wであった。表1にドライエッチング処理条件を示す。実施例8<青色硬化膜の形成および凹凸の形成>実施例7と同様にして青色硬化膜を形成するとともに、ドライエッチング処理時間を表1に示す時間としたこと以外は、実施例7と同様にして凹凸の形成を行った。比較例3<青色硬化膜の形成>実施例7と同様にして青色硬化膜を形成した。しかし、実施例7で行ったドライエッチング処理による凹凸の形成は行わなかった。上記した各実施例および各比較例におけるドライエッチング処理条件を表1に示す。実施例9<SEM像評価>実施例1~実施例8および比較例1~比較例3において得られた、凹凸が形成された各色硬化膜について、それぞれ40000倍の倍率にてSEM写真を撮影し、各硬化膜の表面に形成された凹凸の状態を評価した。図2は、実施例1~実施例3および比較例1で得られた赤色硬化膜の表面SEM写真である。図3は、実施例1~実施例3および比較例1で得られた赤色硬化膜の断面SEM写真である。図4は、実施例4~実施例6および比較例2で得られた緑色硬化膜の表面SEM写真である。図5は、実施例4~実施例6および比較例2で得られた緑色硬化膜の断面SEM写真である。図6は、実施例7、実施例8および比較例3で得られた青色硬化膜の表面SEM写真である。図7は、実施例7、実施例8および比較例3で得られた青色硬化膜の断面SEM写真である。図2~図7に示す各色硬化膜についてのSEM写真評価の結果から、各色硬化膜の表面に形成される凹凸のサイズについては、高さが80nm~200nm、幅が20nm~200nmの範囲であることが分かった。そして、ドライエッチング処理時間を長くするほど、各色硬化膜に形成される凹凸のサイズは大きくなる傾向があることも分かった。実施例10<色度特性の評価>実施例1~実施例8および比較例1~比較例3において得られた、凹凸が形成された各色硬化膜について、カラーアナライザ大塚電子株製MCPD登録商標2000を用い、C光源、2度視野にて、CIE表色系における色度座標値x,yおよび刺激値Yを測定した。評価結果を表2に示す。実施例1~実施例8において得られた、凹凸が形成された各色硬化膜は、対応する比較例で得られた硬化膜に対し、いずれも高いY値を示した。特に、実施例1~実施例6において得られた、凹凸が形成された赤色硬化膜および緑色硬化膜において、その効果が大きかった。実施例11<カラーフィルタの製造と評価>赤色感放射線性組成物CR-1を、ブラックマトリクスが形成されたガラス基板上に、スリットアンドスピンコータを用いて塗布した後、90°Cのホットプレートで3分間プレベークを行って、塗膜を形成した。次いで、塗膜が形成された基板を室温に冷却した後、高圧水銀ランプを用い、ストライプ状フォトマスクを介して、塗膜に365nm、405nmおよび436nmの各波長を含む放射線を、1,000J/m2の露光量で露光した。その後、得られた基板に対して、23°Cの0.04質量水酸化カリウム水溶液からなる現像液を、現像圧1kgf/cm2ノズル径1mmで吐出してシャワー現像を行った後、超純水で洗浄し、さらに230°Cのクリーンオーブン内で20分間ポストベークを行った。これにより、基板上に、上記実施例1と同等の色度座標値x,yを示す赤色のストライプ状着色パターンを形成した。次いで、同様の方法により、緑色感放射線性組成物CR-2を用いて、赤色のストライプ状着色パターンの隣に、上記実施例4と同等の色度座標値x,yを示す緑色のストライプ状着色パターンを形成した。次いで、同様の方法により、青色感放射線性組成物CR-3を用いて、緑色のストライプ状着色パターンの隣に、上記実施例7と同等の色度座標値x,yを示す青色のストライプ状着色パターンを形成することにより、赤色、緑色および青色のストライプ状着色パターンからなるカラーフィルタを作製した。各色着色パターン形成の後、神港精機社製プラズマエッチング装置EXAMRFパワー:400W/ガス種流量:酸素20ml/分アルゴン5ml/分を用いて、40秒間ドライエッチング処理を行った。得られたカラーフィルタについて、冷陰極蛍光管をバックライト光源としたときの、白表示での刺激値Yを測定した。その結果、白表示での刺激値Yは、後述する比較例4に比べて、0.6ポイント向上した。比較例4<カラーフィルタの製造と評価>実施例10と同様にして、赤色、緑色および青色のストライプ状着色パターンからなるカラーフィルタを作製した。しかし、実施例10で行ったドライエッチング処理による凹凸の形成は行わなかった。得られたカラーフィルタについて、冷陰極蛍光管をバックライト光源としたときの、白表示での刺激値Yを測定し、実施例10で得られたカラーフィルタのY値と比較した。実施例12<カラーフィルタの液晶表示素子への適用>実施例11で得られた、赤色、緑色および青色のストライプ状着色パターンからなるカラーフィルタを用い、着色パターンの上に後述する組成からなる熱硬化性樹脂組成物を、スリットアンドスピンコータを用いて塗布した。80°Cのホットプレートで2分間プレベークを行って塗膜を形成し、さらに230°Cのクリーンオーブン内で60分間ポストベークを行うことにより、膜厚1.5μmの保護膜を形成した。次いで、このカラーフィルタを用いて液晶表示素子を製造した。液晶表示素子は、上述した図1に示すカラー液晶表示素子と同様の構造を有する。得られたカラー液晶表示素子は、優れた電気特性と表示特性を示した。次に、カラーフィルタの保護膜として用いた熱硬化性樹脂組成物について説明する。熱硬化性樹脂組成物は、メタクリル酸グリシジル/スチレン/メタクリル酸t-ブチル/メタクリル酸ジシクロペンタニル=40/10/30/20質量比共重合体数平均分子量Mn=6,000、分子量分布Mw/Mn=2.0を100質量部、ノボラック型エポキシ樹脂ジャパンエポキシレジン株製、商品名エピコート152を40質量部、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランを20質量部、界面活性剤FTX-218株ネオス製を0.2質量部含有する。溶剤としては、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルを用いた。熱硬化性樹脂組成物の固形分濃度は、15質量であった。"