"光線有効部と非光線有効部からなる光学部材であって、基材上に、前記光線有効部及び少なくとも非光線有効部の一部に亘って連続的に形成された少なくとも一層の保護膜と、前記非光線有効部に形成された保護膜上に形成された遮光膜と、前記光線有効部に形成された保護膜上に形成された表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜を有することを特徴とする光学部材。前記保護膜は、少なくともSiを含むことを特徴とする請求項1記載の光学部材。前記保護膜は、有機成分を含むことを特徴とする請求項1または2記載の光学部材。前記板状結晶膜は、アルミニウムの酸化物またはアルミニウムの水酸化物または酸化アルミニウムの水和物を主成分とする結晶による凹凸構造を有することを特徴とする請求項1乃至3いずれか1項記載の光学部材。前記非光線有効部に形成された前記保護膜及び前記遮光膜の間に、アルミニウムを含む膜を有することを特徴とする請求項1乃至4いずれか1項記載の光学部材。光線有効部と非光線有効部を有する光学部材の製造方法であって、前記光線有効部及び少なくとも非光線有効部の一部に亘って連続的に少なくとも一層の保護膜を形成する工程と、前記非光線有効部に形成された保護膜上に遮光膜を形成する工程と、前記光線有効部に形成された保護膜上にアルミニウムを含む膜を形成する工程と、前記アルミニウムを含む膜を温水と接触させ、前記光線有効部に形成された保護膜上に、表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜を形成する工程とを含むことを特徴とする光学部材の製造方法。光線有効部と非光線有効部を有する光学部材の製造方法であって、前記光線有効部及び少なくとも非光線有効部の一部に亘って連続的に少なくとも一層の保護膜を形成する工程と、前記保護膜上にアルミニウムを含む膜を形成する工程と、前記非光線有効部に形成されたアルミニウムを含む膜上に遮光膜を形成する工程と、前記光線有効部に形成されたアルミニウムを含む膜を温水と接触させ、前記光線有効部に形成された保護膜上に、表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜を形成する工程とを含むことを特徴とする光学部材の製造方法。請求項1乃至5いずれか1項記載の光学部材を用いたことを特徴とする光学系。上記のように、優れた反射防止性を示す反射防止膜が望まれている中で、従来の技術においては下記の課題がある。光線有効部に保護膜を作成する際に、光学部材の非光線有効部に予め遮光膜が形成されているので、非光線有効部の近傍に膜厚ムラ、または処理ムラが発生しやすくなる。これにより、光線有効部において、反射防止のために設けられたベーマイト凹凸構造の板状結晶膜の反射防止機能が低下する。この結果、光線有効部の反射防止を実現する領域が減少することで、光学部材の反射率の増大および、外観不良になる。また、光学部材の非光線有効部に形成されている遮光膜が、長期使用または高温高湿環境試験で、剥がれによる外観不良が発生することがある。また、長期使用または環境耐久試験の結果、光学部材の基材からの成分溶出により、反射防止のために設けられた板状結晶膜の光学特性の変動を生じることがある。本発明は、この様な背景技術の課題について鑑みてなされたものであり、安定した反射防止性を長期間維持できる光学部材、それを用いた光学系及び光学部材の製造方法を提供するものである。上記の課題を解決する光学部材は、光線有効部と非光線有効部からなる光学部材において、前記光線有効部及び少なくとも非光線有効部の一部に亘って連続的に少なくとも一層の保護膜が形成され、前記非光線有効部に形成された保護膜上に遮光膜が形成され、且つ前記光線有効部に形成された保護膜上に、表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜が形成されていることを特徴とする。上記の課題を解決する光学部材の製造方法は、光線有効部と非光線有効部を有する光学部材の製造方法において、前記光線有効部及び少なくとも非光線有効部の一部に亘って連続的に少なくとも一層の保護膜を形成する工程と、前記非光線有効部に形成された保護膜上に遮光膜を形成する工程と、前記光線有効部に形成された保護膜上にアルミニウムを含む膜を形成する工程と、前記アルミニウムを含む膜を温水と接触させ、前記光線有効部に形成された保護膜上に、表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜を形成する工程とを有することを特徴とする。また、上記の課題を解決する光学部材の製造方法は、光線有効部と非光線有効部を有する光学部材の製造方法において、前記光線有効部及び少なくとも非光線有効部の一部に亘って連続的に少なくとも一層の保護膜を形成する工程と、前記保護膜上にアルミニウムを含む膜を形成する工程と、前記非光線有効部に形成されたアルミニウムを含む膜上に遮光膜を形成する工程と、前記光線有効部に形成されたアルミニウムを含む膜を温水と接触させ、前記光線有効部に形成された保護膜上に、表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜を形成する工程とを有することを特徴とする。上記の課題を解決する光学系は、上記の光学部材を用いたことを特徴とする。本発明によれば、安定した反射防止性を長期間維持できる光学部材、それを用いた光学系及び光学部材の製造方法を提供することができる。特に、本発明の光学部材は、反射防止機能を有する光線有効部を拡大し、光学特性のより優れた光学部材及びその製造方法を提供することができる。また、本発明の光学部材は、高温度プロセスを経て、長期の使用または高温高湿環境下でも、より安定な光学特性、および遮光膜部分に発生する外観不良の改善を可能とする。さらに、本発明の光学部材は、ガラス基材からの成分溶出を抑制し、安定した反射防止性を有する。以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。本発明に係る光学部材は、光線有効部と非光線有効部からなる光学部材において、前記光線有効部及び少なくとも非光線有効部の一部に亘って連続的に少なくとも一層の保護膜が形成されている。前記非光線有効部に形成された保護膜上に遮光膜が形成され、且つ前記光線有効部に形成された保護膜上に、表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜が形成されている。図1aは、本発明の光学部材の一実施態様を示す概略図である。図1aにおいて、本発明の光学部材は、光線有効部2,2bと、非光線有効部3から構成される。基材1は凹メニスカスレンズであり、基材1の一方の側の光線有効部2bの全面、非光線有効部3の少なくとも一部に連続した保護膜4が積層されている。前記非光線有効部3に形成された保護膜4の上には遮光膜6が形成され、保護膜4が遮光膜6と基材1の間に積層されている。前記光線有効部2bに形成された保護膜4の上に、表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜5b図中破線で示すが形成されている。保護膜4は、基材1の端部も含め全体を覆うように形成するのが望ましい。図1bは、本発明の光学部材の別の実施態様を示す概略図である。図1bにおいては、光線有効部2bには板状結晶膜5bが設けれ、非光線有効部3に形成された保護膜4及び遮光膜6の間に、さらにアルミニウムを含む膜5aを有する。その他の構成は、図1aの光学部材と同様である。光線有効部とは、光線が有効に透過する領域であって、非光線有効部とは、光線有効部以外の領域である。本発明の光学部材は、上記のような各構成からなるので、以下の作用効果が得られる。1保護膜の均一性が向上する。遮光膜6不透明な膜を形成する前に、予め保護膜4を、基材1の光線有効部2b及び少なくとも非光線有効部3の一部に連続的に均一に設ける。このことにより、保護膜4の膜厚むらが改善され、光線有効部の低反射領域を拡充することができる。2遮光膜の密着性を向上する。保護膜4が遮光膜6と基材1の間に積層されていることにより、非光線有効部3の遮光膜6と基材1との密着性が向上する。3基材1からベーマイト凹凸構造の板状結晶膜5bへの成分溶出が、光学特性に影響を与えていると考えられる。この成分溶出の経路は、ひとつには、光線有効部2bにおいて、基材1とベーマイトの凹凸構造の板状結晶膜5b界面で生じる。さらに、もうひとつは、非光線有効部3において、基材1から溶出して、遮光膜6を通過してベーマイト凹凸構造の板状結晶膜5bへ到達すると考えられる。基材1を保護膜4で覆うことにより、基材成分の成分溶出の経路を遮断して板状結晶膜への溶出を抑制し、その結果、環境安定性の高い光学部材が得られる。基材本発明の光学部材で使用される基材としては、ガラス、プラスチック基材、ガラスミラー、プラスチックミラー等が挙げられる。プラスチック基材の代表的なものとしては、ポリエステル、トリアセチルセルロース、酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ABS樹脂、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性樹脂のフィルムや成形品;不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、架橋型ポリウレタン、架橋型のアクリル樹脂、架橋型の飽和ポリエステル樹脂など各種の熱硬化性樹脂から得られる架橋フィルムや架橋した成形品等が挙げられる。ガラスの具体例として、アルカリ含有ガラス、無アルカリガラス、アルミナケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウム系ガラス、ランタン系ガラスを挙げることができる。また、基材1としては、凹メニスカスレンズの場合を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、両凸レンズ、両凹レンズ、平凸レンズ、平凹レンズ、凸メニスカスレンズ、非球面レンズ、自由曲面レンズ、プリズムなどの形状の光学部材でも良い。遮光膜本発明における遮光膜6は使用波長において不透明である。遮光膜6には、黒色染料、別の色の染料や顔料、不透明微粒子、樹脂乃至は様々な色の染料、顔料、微粒子などを混合して用いられる。遮光膜6の膜厚は、光学特性、機械強度確保などから適宜選択可能であり、0.1μmから100μmであり、好ましくは1μmから50μmである。表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜本発明における板状結晶膜5bは、反射防止機能を有しており反射防止膜として用いられる。板状結晶膜5bの表面は凹凸形状となっていて、アルミニウムを含む膜アルミニウム膜とも記す。を温水に浸漬することより、アルミニウム膜の表層が解膠作用等を受け、膜の表層に析出、成長して板状結晶となる。アルミニウム膜をゾルゲル法で作成する場合、前駆体ゾルの原料には、Al化合物の単独、或いはAl化合物とともにZr、Si、Ti、Zn、Mgの各々の化合物の少なくとも1種の化合物とを用いることができる。化合物として、例えばAl2O3、ZrO2、SiO2、TiO2、ZnO、MgOの原料としては、各々の金属アルコキシドや塩化物や硝酸塩などの塩化合物を用いることができる。製膜性の観点から、特にZrO2、SiO2、TiO2の原料としては金属アルコキシドを用いるのが好ましい。アルミニウムを含む膜は、ゾルゲル法等によって形成された酸化アルミニウムを主成分とする膜であってもよいし、公知のCVD法、蒸着、スパッタなどのPVDの気相法等を用いて、金属Al単独の膜、或いは、金属Alと、金属Zn、金属Mg等の金属を含む膜であってもよい。アルミニウムを含む膜を温水と接触させ、その表面を溶解または析出させて、酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶による凹凸構造を形成する。酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶は、アルミニウムの酸化物またはアルミニウムの水酸化物または酸化アルミニウムの水和物を主成分とする結晶から形成される。特に好ましい結晶として、ベーマイトがある。酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶による凹凸構造を形成する方法は、例えば、特開2006-259711号公報、特開2005-275372号公報等に記載されている方法を用いることができる。本明細書では、アルミニウムを含む膜を温水と接触させ、その表面を溶解または析出させて形成された、酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶による凹凸構造を有する膜を板状結晶膜と称する。保護膜本発明における保護膜4は、基材1の光学有効部2bおよび非光学有効部3の少なくとも一部に亘って連続的に、基材1に密着し積層されている、少なくとも一層の膜または表面処理層である。保護膜4は、基材と板状結晶膜との間に積層されている。本発明における保護膜4は、非光線有効部における遮光膜6の基材1との密着性を向上させる機能を有し、高温プロセスを経て、長期間の使用または、高温高湿度環境試験で生じる界面での剥がれを抑制する作用をする。保護膜の膜厚は、1nmから200nm程度の厚さ、好ましくは5nmから100nmが望ましい。さらに、光線有効部2bにおいて、前記板状結晶膜5bと基材1の各屈折率に対して、保護膜の屈折率及び膜厚を適宜調整することで、光線有効部の反射率を最小にするような屈折率調整機能を有することが好ましい。具体的には、保護膜4の成分の含有量を制御することにより、基材から酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜への基材の成分アルカリなどの移動を抑制するようにする。また、保護膜の屈折率nsが基材の屈折率nbに対して、nb≧nsとなるように膜を選択することが好ましい。これにより、基材から空気との界面の間で屈折率が連続的に減少することとなり、酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶から形成されている板状結晶膜と保護膜の屈折率の効果とあいまって高い反射防止性能を発現できる。これらの効果を同時に満たす保護膜として、少なくともSiを含む薄膜を好適に用いることができる。より好適にはSiOxX=1から2膜、また、SiTi膜を用いることができる。本発明の保護膜のSiを含む膜は、SiO2を主成分とする非晶質酸化物皮膜が好ましい。異種成分としてTiO2、ZrO2などの酸化物を単独であるいは組み合わせて含有してもよい。保護膜に含有されるSiO2の含有量は、10mol以上、好ましくは15mol以上から100molが好ましい。さらに、本発明の保護膜4は有機成分を含む保護膜を用いることができる。有機成分の例としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、マレイミド樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、レゾール樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリケトン、ポリスルホン、ポリフェニレン、ポリキシリレン、ポリシクロオレフィン、ポリオルガノシルセスキオキサンなどの有機ポリマーを好適に用いることができる。本発明における保護膜は、公知のCVD法、蒸着、スパッタなどのPVDの気相法、及びゾル-ゲルや溶液塗布などの液相法より形成することができる。ゾル-ゲルコーティング液を用いて保護膜を形成する方法としては、例えばディッピング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、およびこれらの併用等、既知の塗布手段を適宜採用することができる。膜厚は、ディッピング法における引き上げ速度やスピンコート法における基板回転速度などを変化させることと、塗布溶液の濃度を変えることにより制御することができる。ディッピング法における引き上げ速度としては、必要な膜厚によって適宜選択することができるが、浸漬後例えば約0.1乃至3.0mm/秒程度の均一な速度で引き上げることが好ましい。膜塗布後は、室温で30分程度乾燥させればよい。また、必要に応じてさらに高い温度で乾燥あるいは熱処理させることも可能であり、熱処理温度が高いほど膜は高密度化しやすくなる。本発明におけるSiを含む保護膜は、スパッタ法、蒸着法、CVD法などの気相成長法で作成することが可能である。本発明における保護膜は、基材の光線有効部および非光線有効部に亘って連続して形成される。基材の表面形状に沿って均一に膜形成を実現するためには、その成長過程において、前駆体の表面拡散を助長することが好ましい。そのためには、基材表面の温度による拡散助長、表面の不動態化処理、前駆体のエネルギー制御、が均一製膜に有効である。基材の温度蒸着法、スパッタ法、CVD法では、基材の温度を上げることで前駆体の表面拡散を助長させることが可能であり、再蒸発温度の範囲で適宜設定することが好ましい。また、基材温度は膜構造の緩和を可能とし、基材の耐熱性を配慮して適宜基材温度を設定することができる。CVD法では、酸素ガス導入などでの表面欠陥の不動態化が可能で、表面拡散を助長し均一性を図ることが可能である。蒸着法、スパッタ法には、反応性蒸着法、反応性スパッタ法などの手法を用いることが可能である。蒸着法の中で、イオンプレーティング法、スパッタ法、CVD法では、基板バイアス印加でイオン化している前駆体の基材への運動エネルギーを制御することが可能である。この制御でイオン化した前駆体の表面拡散を助長することも可能である。製膜空間の内圧を適宜設定することで、各製膜法のプラズマ状態を制御しイオン化された前駆体の運動エネルギーの制御が可能であり、これらのパラメーターを組み合わせることで、表面拡散の優れた均一製膜が可能である。蒸着法、スパッタ法では、前駆体のエネルギーを、蒸着源又はスパッタ源とは別のイオンソース源から供給するイオンビームのエネルギーアシスト作用で、前駆体の運動エネルギーを制御することが可能であり、基材表面の拡散を助長し、均一製膜を可能とする。均一製膜の方法としては、蒸着法では、蒸着源を固定配置し、基材を蒸着源に向けて正対するように配置することが好ましい。また、基材を回転治具に取り付けて、蒸着方向軸に対して回転対称になるように回転させても構わないし、さらに、基材を自転させて、均一蒸着をさせても構わない。また、基材を固定配置し、蒸着源、あるいはスパッタ源を複数配置して、製膜の均一化を図ることも可能である。本発明の光学部材の製造方法は、下記の2つの方法が挙げられる。図3aは、本発明の第1の光学部材の製造方法の製造工程を示す概略図である。同図に示す様に、本発明の製造方法は、光線有効部と非光線有効部を有する光学部材の製造方法である。前記光線有効部及び少なくとも非光線有効部の一部に亘って連続的に少なくとも一層の保護膜4を形成する工程1と、前記非光線有効部に形成された保護膜上に遮光膜6を形成する工程2と、前記光線有効部に形成された保護膜上にアルミニウムを含む膜5aを形成する工程3と、前記アルミニウムを含む膜5aを温水と接触させ、前記光線有効部に形成された保護膜上に、表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜5bを形成する工程4、5とを有することを特徴とする。図3bは、本発明の第2の光学部材の製造方法の製造工程を示す概略図である。同図に示す様に、本発明の製造方法は、光線有効部と非光線有効部を有する光学部材の製造方法である。前記光線有効部及び少なくとも非光線有効部の一部に亘って連続的に少なくとも一層の保護膜4を形成する工程1と、前記保護膜上にアルミニウムを含む膜5aを形成する工程2と、前記非光線有効部に形成されたアルミニウムを含む膜5a上に遮光膜6を形成する工程3と、前記光線有効部に形成されたアルミニウムを含む膜5aを温水と接触させ、前記光線有効部に形成された保護膜上に、表面に凹凸構造を有する酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶膜5bを形成する工程4、5とを有することを特徴とする。次に、本発明の光学系は、上記の光学部材を用いたことを特徴とする。本発明の光学系の具体例としては、カメラ用のレンズ群が挙げられる。図3aに示す光学部材の製造方法により、図1aに示す光学部材を得る。1保護膜SiTiの塗工ランタン系ガラスからなる基材1を純水リンス、アルコールで洗浄した後、図3a-1に示すように、真空チャック式の回転ステージ7aに載せる。基材1をゆっくり回転させながら、Si、Tiを含有するゾル液を適量滴下し、約3000rpmで20秒間程度回転させスピンコートを行なう。その後、80°C以上の温度のオーブンで10分間かけて焼成して、保護膜のアモルファスSiTi膜膜厚50nmを光線有効部2b、及び非光線有効部3の一部に亘って連続的に塗工する。2遮光膜の塗工非光線有効部3基材1の外端部に、使用波長において遮光膜な塗膜として、黒色染料、添加剤、硬化剤を含有する樹脂を筆8aで塗布し乾燥させる。本実施例では、黒色染料を用いるが、これに限定するものではなく、別の色の染料や顔料、微粒子乃至は様々な色の染料、顔料、微粒子などを混合して使用しても良い。3酸化アルミニウム膜の塗工遮光膜を塗工した基材1を、真空チャック式の回転ステージ7cに載せ、デイスペンサー10から、光線有効部2bに酸化アルミニウムを含有する塗布液を適量滴下し、約3000rpmで30秒間程度回転させ、温度100°C以上のオーブンで30分間以上かけて焼成する。ここでは、スピン塗工条件を約3000rpmで30秒間程度としているが、これに限定するものではなく、所望の膜厚を得るために塗工条件を変えても構わない。また、スピンコート法に限らず、ディップコート法、スプレーコート法などを用いても良い。4温水処理図3a-4に示す温水処理槽9に浸漬し、光線有効部2bに板状結晶膜5bを形成する。基材1を温水処理槽9で、60°C以上100°C以下の温水中に5分乃至24時間浸漬し、引き上げた後、乾燥させる。5光学部材図3a-5に示す光学部材が得られる。図2aに示すように、得られた光学部材は光線有効部2bにおいて、保護膜4上に花弁状透明アルミナ膜の板状結晶膜5bが形成されている。得られた光学部材の一つを取り出し、光線有効部の表面を上面および断面からFE-SEM走査型電子顕微鏡で観察する。平均ピッチ400nm以下、平均高さ50nm以上の花弁状の板状結晶膜が形成されていることがわかる。光学部材の評価さらに、非光線有効部近傍の保護膜SiTiの膜厚を、同様にFE-SEMで断面観察すると、保護膜4の膜厚は均一であり、図2aに示すように光線有効部2bの領域が拡大されていることがわかる。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での目視による外観検査では、非光線有効部の遮光膜が劣化して生じる斑点状の発生もないことがわかる。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光線有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を行なうとガラス成分の元素が検出されていないことがわかる。[比較例1]図3cに示す光学部材の製造方法により、光学部材を得る。1遮光膜の塗工ランタン系ガラスからなる基材1を純水リンス、アルコールで洗浄後、図3c-1に示すように、真空チャック式の回転ステージ7aに載せる。基材1をゆっくり回転させながら、非光線有効部3基材1の外端部に、遮光膜として、黒色染料、添加剤、硬化剤を含有する樹脂を筆8bで塗布し乾燥させる。2保護膜SiTiの塗工図3c-2において、基材1にSi、Tiを含有するゾル液を適量滴下し、約3000rpmで20秒間程度回転させスピンコートを行なう。その後、80°C以上の温度のオーブンで10分間かけて焼成する。このようにして、保護膜のアモルファスSiTi膜50nmを光線有効部2b、及び非光線有効部3の一部に亘って連続的に塗工する。3酸化アルミニウム膜の塗工図3c-3に示すように、保護膜を塗工した基材1を、真空チャック式の回転ステージ7cに載せ、光線有効部2bに酸化アルミニウムを含有するゾル液を適量滴下し、約3000rpmで30秒間程度回転させ、100°C以上の温度のオーブンで30分間以上かけて焼成する。4温水処理図3c-4の温水処理槽9で、60°C以上100°C以下の温水中に5分乃至24時間浸漬し、引き上げた後、乾燥させる。5光学部材このようにして得られた光学部材を、図3c-5、及び図2cに模式的に示す。比較例1の光学部材は、光線有効部2bの板状結晶膜5bと基材1との間に保護膜4があり、また非光線有効部3には遮光膜と基材1との界面には保護膜がない構成である。光学部材の評価比較例1で得られる光学部材の、非光線有効部近傍の保護膜SiTiの膜厚を、実施例1と同様にFE-SEMで断面観察すると、膜厚に薄い箇所、厚い箇所などが存在し、ムラがあることがわかる。この結果、図2cに示すように、光学部材の光線有効部2bの領域が縮小していることがわかる。これは比較例1の工程2で保護膜を形成すると、予め遮光膜が周辺部に存在するので、スピン塗工時の塗工液の遠心方向への拡散が阻害されるためと考えられる。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での外観検査を実施すると、非光線有効部の遮光膜が劣化して生じる斑点状の外観不良が発生している。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光線有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を実施するとガラス成分の元素が検出される。実施例1の図3a-1の保護膜SiTiの塗工に代わって、バリウム系ガラスでできた基材を用いて、真空蒸着プロセスを用いた場合の実施例である。そのために、図3a-1のスピン塗工工程は用いない。1保護膜の蒸着不図示のイオンアシスト装置のある真空装置を用いて、基板ホルダーに蒸着源に凹面を正対させてセットする。基材のホルダーは自転の回転機能を有し、その回転数をスピード30rpmに設定する。基材の温度は150°Cとする。蒸着源にSiO2パウダーを用い、電子ビーム蒸着でSiO2を蒸着する。イオンアシスト装置からは酸素ガスをプラズマ化しビームを基材中心に向けて照射する。このようにして基材上にはSiO2膜が、光線有効部、非光線有効部の一部に連続的に製膜される。2遮光膜の塗工図3a-2に示すように、真空チャック式の回転ステージ7aに載せる。基材1をゆっくり回転させながら、非光線有効部3基材1の外端部に塗工膜を塗工する。遮光膜として、黒色染料、添加剤、硬化剤を含有する樹脂を筆8aで塗布し乾燥させる。3酸化アルミニウム膜の塗工遮光膜を塗工した基材1を、真空チャック式の回転ステージ7cに載せ、光線有効部2bに酸化アルミニウムを含有する塗布液を適量滴下し、約3000rpmで30秒間程度回転させ、100°C以上の温度のオーブンで30分間以上かけて焼成する。ここでは、スピン塗工条件を約3000rpmで30秒間程度としたが、これに限定するものではなく、所望の膜厚を得るために塗工条件を変えても構わない。また、スピンコート法に限らず、ディップコート法、スプレーコート法などを用いても良い。4温水処理図3a-4に示す温水処理槽9に浸漬し、光線有効部に板状結晶膜を形成する。基材1を温水処理槽9の、60°C以上100°C以下の温水中に5分乃至24時間浸漬し、引き上げた後、乾燥させる。5光学部材図3a-5に示すように、完成した光学部材は、光線有効部2bにおいて、花弁状透明アルミナ膜の板状結晶膜5bが保護膜上4に形成される。このようにして多数作製される中の一つを取り出し、光線有効部の表面を上面および断面からFE-SEMで観察する。平均ピッチ400nm以下、平均高さ50nm以上の花弁状のアルミナ膜で板状結晶膜が形成され、優れた反射率特性を示す。光学部材の評価非光線有効部3近傍の保護膜4の膜厚を同様に断面観察すると膜厚は均一である。この結果、図2aに示すように、光学部材の光線有効部の領域が拡大されていることがわかる。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での外観検査を実施すると、非光線有効部の遮光膜が剥離して生じる斑点状の外観不良の発生はない。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光線有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を実施するとガラス成分元素が検出されない。[比較例2]図3cに示す光学部材の製造方法により、比較例2の光学部材を得る。1遮光膜の塗工バリウム系ガラスからなる基材1を純水リンス、アルコールで洗浄後、図3c-1に示すように、真空チャック式の回転ステージ7aに載せる。基材1をゆっくり回転させながら、非光線有効部3基材1の外端部に、使用波長において遮光膜として、黒色染料、添加剤、硬化剤を含有する樹脂を筆8bで塗布し乾燥させる。2保護膜の蒸着図3c-2の保護膜塗工プロセスに代わって、実施例2の保護膜の蒸着のプロセスと同様にして、保護膜4のSiO2膜を蒸着する。保護膜4のSiO2膜は、基材1の光線有効部2b及び非光線有効部3の遮光膜6の表面に蒸着される。図2cに示すように、遮光膜6の光学有効部2bの側では、遮光膜6の立体障害の影響で、保護膜4の膜厚ムラが発生している。3酸化アルミニウム膜の塗工図3c-3に示すよう、光線有効部2bに酸化アルミニウムを含有する塗布液を適量滴下し、約3000rpmで30秒間程度回転させ、100°C以上の温度のオーブンで30分間以上かけて焼成する。4温水処理図3c-4に基材1を、温水処理槽9の60°C以上100°C以下の温水中に5分乃至24時間浸漬し、引き上げた後、乾燥させる。5光学部材得られた光学部材を、図3c-5および図2cに模式的に示す。光学部材は、非光線有効部3には遮光膜6と基材1との界面には保護膜4がなく、かつ光線有効部2bの板状結晶膜5bと基材1との間に保護膜4がある構成である。光学部材の評価図3c-5および図2cに示す光学部材の非光線有効部3近傍の保護膜SiO2をFE-SEMで観察すると、膜厚に薄い箇所、厚い箇所などが存在し、ムラが多いことがわかる。この結果、光学部材の光線有効部の領域が縮小していることがわかる。これは比較例2の工程2で保護膜を形成するときに、光線有効部の周辺に存在する遮光膜の立体障害が、SiO2蒸着の均一蒸着に影響を及ぼすためである。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での外観検査を実施すると、非光線有効部の遮光膜が剥離して生じる斑点状の外観不良が発生している。これは、非光線有効部において保護層がなく、遮光膜6の密着力が低下したためと考えられる。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を実施するとガラス成分の元素が検出される。これは非光線有効部において保護層4がなく基材1から遮光膜6をへて、板状結晶膜5bに拡散したためと考えられる。保護膜4にポリイミドを用いた実施例を説明する。本実施例では、実施例1の工程1の保護膜SiTiの塗工に代わって、保護膜に有機材料としてポリイミド膜を用いた例である。図3a-1の保護膜の塗工において、以下の工程を用いる。バリウム系ガラスからなる基材1に、下記の化学式1で表されるポリイミド:シクロヘキサノン=2:98重量比のポリイミド溶液を適量滴下し、500rpmで5秒、さらに3000rpmで20秒間程度回転させスピンコートを行なう。その後、200°Cのオーブン中で30分間かけて焼成する。この時のポリイミド膜の膜厚および屈折率をエリプソメトリーを用いて測定した結果、膜厚52nm、屈折率波長550nm1.57である。その他の工程は、実施例1と同様である。光学部材の評価非光線有効部近傍の保護膜4の膜厚を、実施例1と同様にFE-SEMで断面観察すると保護膜4の膜厚は均一であり、図2aに示すように光線有効部2bの領域が拡大されていることがわかる。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での目視による外観検査を行なうと、非光線有効部の遮光膜が劣化して生じる斑点状の発生もないことがわかる。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光線有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を行なうとガラス成分の元素が検出されていないことがわかる。[比較例3]比較例1の工程2保護膜SiTiの塗工に代えて、保護膜としてポリイミドを、実施例3と同様に塗工する。その他の工程は比較例1と同様である。光学部材の評価図3c-5に示すように、得られた光学部材の基材1の非光線有効部近傍の保護膜のポリイミドをFE-SEMで観察すると、膜厚に薄い箇所、厚い箇所などが存在し、ムラが多いことがわかる。この結果、光学部材の光線有効部の領域が縮小していることがわかる。これは比較例3の工程2で保護膜を形成するときに、光線有効部の周辺に存在する遮光膜が、ポリイミド膜のスピンコートの際に、均一塗工に影響を及ぼすためである。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での外観検査を実施すると、非光線有効部の遮光膜が剥離して生じる斑点状の外観不良が発生している。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光線有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を実施するとガラス成分の元素が検出される。本実施例は、実施例1の工程1の保護膜SiTiの塗工に代わって、保護膜にシルセスキオキサンを用いた例である。図3a-1の保護膜の塗工において、以下の工程を用いる。バリウム系ガラスからなる基材1に、下記の化学式2で表されるフェニル/メチルシルセスキオキサンポリマー商品名:グラスレジンGR-150F、TechneglassInc.製:ケイ酸エチル:1-メトキシ-2-プロパノール=4.9:0.1:95重量比からなるオルガノシルセスキオキサンポリマー溶液を適量滴下し、500rpmで5秒、さらに3000rpmで20秒間程度回転させスピンコートを行なう。その後、200°Cのオーブン中で30分間かけて焼成する。この時のフェニル/メチルシルセスキオキサンポリマー膜の膜厚および屈折率をエリプソメトリーを用いて測定した結果、膜厚56nm、屈折率波長550nm1.52である。その他の工程は実施例1と同様である。光学部材の評価非光線有効部近傍の保護膜4の膜厚を同様にFE-SEMで断面観察すると保護膜4の膜厚は均一であり、図2aに示すように光線有効部2bの領域が拡大されていることがわかる。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での目視による外観検査を実施すると、非光線有効部の遮光膜が劣化して生じる斑点状の発生もないことがわかる。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光線有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を実施するとガラス成分の元素が検出されていないことがわかる。[比較例4]比較例1の工程2の保護膜SiTiの塗工に代えて、シリセスキオキサンを実施例4と同様に塗工する。その他の工程は比較例1と同様である。光学部材の評価図3c-5に示すように、得られた光学部材の基材1の非光線有効部近傍の保護膜シルセスキオキサンをFE-SEMで観察すると、膜厚に薄い箇所、厚い箇所などが存在し、ムラが多いことがわかる。この結果、光学部材の光線有効部の領域が縮小していることがわかる。これは比較例4の工程2で保護膜を形成するときに、光線有効部の周辺に存在する遮光膜が、シルセスキオキサン膜のスピンコートの際に、均一塗工に影響を及ぼすためである。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での外観検査を実施すると、非光線有効部の遮光膜が劣化して生じる斑点状の外観不良が発生している。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を実施するとガラス成分の元素が検出される。本実施例は、実施例1の工程1の保護膜SiTiの塗工に代わって、保護膜にシランカップリング剤を用いた例である。図3a-1の保護膜の塗工において、以下の工程を用いる。バリウム系ガラスからなる基材1に、下記の化学式3で表される3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン:1-メトキシ-2-プロパノール:イオン交換水=1:99:0.01重量比からなるシランカップリング剤溶液を適量滴下し、500rpmで5秒、さらに3000rpmで20秒間程度回転させスピンコートを行なう。その後、80°Cのオーブン中で30分間かけて焼成する。この時のシランカップリング剤の膜厚は5nmである。その他の工程は実施例1と同様である。光学部材の評価非光線有効部近傍の保護膜4の膜厚を、実施例1と同様にFE-SEMで断面観察すると、保護膜4の膜厚は均一であり、図2aに示すように光線有効部2bの領域が拡大されていることがわかる。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での目視による外観検査を実施すると、非光線有効部の遮光膜が劣化して生じる斑点状の発生もないことがわかる。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光線有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を実施するとガラス成分の元素が検出されていないことがわかる。[比較例5]比較例1の工程2保護膜SiTiの塗工に代えて、保護膜にシランカップリング剤を実施例5と同様に塗工する。その他の工程は比較例1と同様である。光学部材の評価図3c-5に示すように、得られた光学部材の基材1の非光線有効部近傍の保護膜シランカップリング剤をFE-SEMで観察すると、膜厚に薄い箇所、厚い箇所などが存在し、ムラが多いことがわかる。この結果、光学部材の光線有効部の領域が縮小していることがわかる。これは比較例5の工程2で保護膜を形成するときに、光線有効部の周辺に存在する遮光膜が、保護膜シランカップリング剤の均一塗工に影響を及ぼすためである。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での外観検査を実施すると、非光線有効部の遮光膜が劣化して生じる斑点状の外観不良が発生している。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を実施するとガラス成分の元素が検出される。本実施例では、実施例1の保護膜SiTiの積層構成に対し、さらに非光線有効部には、保護膜及び遮光膜の間にアルミニウムを含む膜を有する構成の光学部材の例である。図1b、図2bは本実施例の光学部材の例である。その製造方法は、図3bに示す光学部材の製造方法である。以下、図3bの製造工程により本実施例を説明する。1保護膜SiTiの塗工ランタン系ガラスからなる基材1を純水リンス、アルコールで洗浄後、図3b-1に示すように、真空チャック式の回転ステージ7aに載せる。基材1をゆっくり回転させながら、基材1にSi、Tiを含有するゾル液を適量滴下し、約3000rpmで20秒間程度回転させスピンコートを行なう。その後、80°C以上の温度のオーブンで10分間かけて焼成する。このようにして、保護膜のアモルファスSiTi膜を膜厚50nmとして、光線有効部及び非光線有効部の一部に亘って連続的に塗工する。2酸化アルミニウム膜の塗工保護膜を塗工した基材1を、真空チャック式の回転ステージ7cに載せ、光線有効部2bおよび非光線有効部3に酸化アルミニウムを含有する塗布液を適量滴下し、約3000rpmで30秒間程度回転させ、100°C以上の温度のオーブンで30分間以上かけて焼成する。酸化アルミニウムを主成分とする膜5aを形成する。3遮光膜の塗工非光線有効部3基材1の外端部に、遮光膜6として、黒色染料、添加剤、硬化剤を含有する樹脂を筆8aで塗布し乾燥させる。4温水処理図3b-4に示す温水処理槽9に浸漬し、光線有効部に板状結晶膜を形成する。基材1を温水処理槽9で、60°C以上100°C以下の温水中に5分乃至24時間浸漬し、引き上げた後、乾燥させる。5光学部材図3b-5、図2bに示すように、得られた光学部材は光線有効部の保護膜の上に花弁状透明アルミナ膜の板状結晶膜5bが形成される。さらに、非光線有効部は、保護膜4及び遮光膜6の間にさらにアルミニウムを含む膜5aを有する構成になっている作製された光学部材の光線有効部の表面を上面および断面からFE-SEMで観察する。平均ピッチ400nm以下、平均高さ50nm以上の花弁状の板状結晶膜が形成されていることがわかる。光学部材の評価さらに、非光線有効部近傍の保護膜SiTiの膜厚をSEMで断面観察すると膜厚は均一であり、図2bに示すように光線有効部の領域が拡大されていることがわかる。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での目視による外観検査を実施すると、非光線有効部の遮光膜が劣化して生じる斑点状の発生もないことがわかる。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光線有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を実施するとガラス成分の元素が検出されていないことがわかる。本実施例7は、図3aに示す光学部材の製造方法により、図1aに示す光学部材を得るもので、実施例1の工程3酸化アルミニウム膜の塗工に代えてアルミニウム膜を作製する実施例である。実施例1の1保護膜SiTiの塗工2遮光膜の塗工は同様で、3酸化アルミニウム膜の蒸着、4温水処理の工程となる。このようにして得られる光学部材の評価も実施例1と同様に実施する。本実施例の工程3アルミニウム膜の作製について説明する。基材1を真空装置の中の基板ホルダーに蒸着源に凹面を正対させてセットする。基材のホルダーは自転の回転機能を有し、その回転数をスピード30rpmに設定する。基材の温度は室温とする。蒸着源にペレット状アルミを用い、予め、電子ビーム蒸着でアルミを溶融しておく、次にt適宜電子銃のパワーを調整しながら電子ビーム蒸着法で基材上にアルミニウム膜を製膜する。アルミニウム膜は所望の膜厚を製膜したのち、真空装置を大気に戻し、基板を取り出す。次に実施例1と同様に以下の工程、評価を実施する。4温水処理図3a-4に示す温水処理槽9に浸漬し、光線有効部2bに板状結晶膜5bを形成する。基材1を温水処理槽9で、60°C以上100°C以下の温水中に5分乃至24時間浸漬し、引き上げた後、乾燥させる。5光学部材図3a-5に示す光学部材が得られる。図2aに示すように、得られた光学部材は光線有効部2bにおいて、保護膜4上に花弁状透明アルミナ膜の板状結晶膜5bが形成されている。得られた光学部材の一つを取り出し、光線有効部の表面を上面および断面からFE-SEM走査型電子顕微鏡で観察する。平均ピッチ400nm以下、平均高さ50nm以上の花弁状の板状結晶膜が形成されていることがわかる。光学部材の評価さらに、非光線有効部近傍の保護膜SiTiの膜厚を、同様にFE-SEMで断面観察すると、保護膜4の膜厚は均一であり、図2aに示すように光線有効部2bの領域が拡大されていることがわかる。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での目視による外観検査では、非光線有効部の遮光膜が劣化して生じる斑点状の発生もないことがわかる。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光線有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を行なうとガラス成分の元素が検出されていないことがわかる。[比較例6][比較例1]と同様にして、図3cに示す光学部材の製造方法により、光学部材を得る。[比較例1]の工程3酸化アルミニウム膜の塗工に代えてアルミニウム膜を作製する比較例である。比較1の1遮光膜の塗工2保護膜SiTiの塗工は同様で、3アルミニウム膜の作製、4温水処理の工程となる。このようにして得られる光学部材の評価も[比較例1]と同様に実施する。1遮光膜の塗工ランタン系ガラスからなる基材1を純水リンス、アルコールで洗浄後、図3c-1に示すように、真空チャック式の回転ステージ7aに載せる。基材1をゆっくり回転させながら、非光線有効部3基材1の外端部に、遮光膜として、黒色染料、添加剤、硬化剤を含有する樹脂を筆8bで塗布し乾燥させる。2保護膜SiTiの塗工図3c-2において、基材1にSi、Tiを含有するゾル液を適量滴下し、約3000rpmで20秒間程度回転させスピンコートを行なう。その後、80°C以上の温度のオーブンで10分間かけて焼成する。このようにして、保護膜のアモルファスSiTi膜50nmを光線有効部2b、及び非光線有効部3の一部に亘って連続的に塗工する。3アルミニウム膜の作製基材1を真空装置の中の基板ホルダーに蒸着源に凹面を正対させてセットする。基材のホルダーは自転の回転機能を有し、その回転数をスピード30rpmに設定する。基材の温度は室温とする。蒸着源にペレット状アルミを用い、予め、電子ビーム蒸着でアルミを溶融しておく、次にt適宜電子銃のパワーを調整しながら電子ビーム蒸着法で基材上にアルミニウム膜を製膜する。アルミニウム膜は所望の膜厚を製膜したのち、真空装置を大気に戻し、基板を取り出す。4温水処理図3c-4の温水処理槽9で、60°C以上100°C以下の温水中に5分乃至24時間浸漬し、引き上げた後、乾燥させる。5光学部材このようにして得られた光学素子を、図3c-5、及び図2cに模式的に示す。比較例1の光学部材は、光線有効部2bの板状結晶膜5bと基材1との間に保護膜4があり、また非光線有効部3には遮光膜と基材1との界面には保護膜がない構成である。光学部材の評価比較例6で得られる光学部材の、非光線有効部近傍の保護膜SiTiの膜厚を、実施例7と同様にFE-SEMで断面観察すると、膜厚に薄い箇所、厚い箇所などが存在し、ムラがあることがわかる。この結果、図2cに示すように、光学部材の光線有効部2bの領域が縮小していることがわかる。これは[比較例6]の工程2で保護膜を形成すると、予め遮光膜が周辺部に存在するので、スピン塗工時の塗工液の遠心方向への拡散が阻害されるためと考えられる。環境評価高温高湿度下、HH70°C/湿度90、1500時間の環境試験での外観検査を実施すると、非光線有効部の遮光膜が劣化して生じる斑点状の外観不良が発生している。成分溶出同様の高温高湿環境下で、光有効部の板状結晶膜の蛍光X線分析を実施するとガラス成分の元素が検出される。本発明によれば内面反射防止の性能が高く、高品位で高性能な光学部材を得ることができる。下記の表1に、実施例および比較例の光学部材を評価した結果をまとめて示す。注1光線有効領域○:有効領域が広い△:有効領域が狭い注2外観検査HH耐久○:外観不良なし目視による観察△:外観不良あり目視による観察注3成分溶出分析○:ガラス成分元素が検出される△:ガラス成分元素が検出されない"