"式I:式中、R1は、ヒドロキシ保護基であり、そしてR2は、カルボン酸保護基であるで示される7-[2-5-アミノ-[1,2,4]チアジアゾール-3-イル-2-ヒドロキシ-イミノ-アセチルアミノ]-3-ホルミル-8-オキソ-5-チア-1-アザ-ビシクロ[4.2.0]オクタ-2-エン-2-カルボン酸誘導体の調製方法であって、式II:で示される化合物を、適切な溶媒中の10-I-3型超原子価ヨウ素酸化剤と、2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシTEMPO、4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシ及び4-アセチルアミノ-2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシから選択される触媒との組み合わせを用いて酸化することを含むことを特徴とする方法。超原子価ヨウ素酸化剤が、ビスアセトキシヨードベンゼンBAIB又は[ビス1,1,1-トリフルオロアセトキシ-ヨード]ベンゼンBTIBから選択される、請求項1記載の方法。超原子価ヨウ素酸化剤が、ビスアセトキシヨードベンゼンBAIBである、請求項2記載の方法。ヒドロキシ保護基R1が、ベンジル、フェニルエチル、ナフタレニルメチル、トリフェニルメチル又はトリC1-6アルキルシリルから選択され、そしてカルボン酸保護基R2が、ジフェニルメチル、tert-ブチル、p-ニトロベンジル、p-メトキシベンジル、メトキシメチルから選択される、請求項3記載の方法。R1が、トリフェニルメチルであり、そしてR2が、ジフェニルメチルから選択される、請求項4記載の方法。触媒が、2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシTEMPOである、請求項5記載の方法。触媒量が、式IIの化合物に対して0.05~0.2molの範囲であり、そしてBAIBの量が、式IIの化合物に対して1モル~1.2molの範囲である、請求項5又は6のいずれか一項記載の方法。式IIの化合物に対して、触媒量が、0.1モルであり、BAIBの量が、1.1molである、請求項7記載の方法。適切な溶媒が、ハロゲン化炭化水素、エステル、エーテル、炭化水素、極性溶媒及びそれらの溶媒混合物から選択される、請求項8記載の方法。適切な溶媒が、ジクロロメタン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトン及びアセトニトリル並びにそれらの溶媒混合物から選択される、請求項9記載の方法。適切な溶媒が、ジクロロメタンと、テトラヒドロフラン、アセトニトリル又は酢酸エチルとの溶媒混合物;酢酸エチルとテトラヒドロフランとの溶媒混合物;及びトルエンとテトラヒドロフランとの溶媒混合物から選択される溶媒混合物である、請求項10記載の方法。"