"疎水性材料7の表面に金属電極を形成する方法であって、次の工程、即ち、前記材料7の表面領域の近くに、溶媒に溶解された金属粒子を含む流体を含有する毛細管5の一端を運ぶ工程、並びに、前記毛細管からの流体の滴の流れを引き起こす作用、前記領域上に前記滴を堆積させる作用、前記滴に含まれる溶媒を気化させる作用、及び前記電極を形成するために前記材料表面上の前記金属粒子を再加熱する作用を有するように、レーザ照射3により前記領域を照射する工程を含む、疎水性材料の表面に金属電極を形成する方法。前記材料7は、グラフェンである、請求項1記載の方法。前記金属粒子は、金粒子である、請求項1記載の方法。前記材料7は、予め基板8に結合されている、請求項1記載の方法。前記基板8は、ほうけい酸塩ガラスから形成される、請求項4記載の方法。前記レーザ照射は、前記材料の領域7を照射するために、前記基板8を通過する、請求項4記載の方法。本発明の目的は、疎水性材料の表面に金属電極を形成する方法を提供することであり、この方法は、上述した欠点を除去することを可能とする。この目的を達成するため、本発明の目的は、疎水性材料の表面に金属電極を形成する方法を提供する。前記方法は、次の工程、即ち、前記材料の表面領域の近くに、溶媒に溶解された金属粒子を含む流体を含有する毛細管の一端を運ぶ工程、並びに、前記毛細管からの流体の滴の流れを引き起こす作用、前記領域上に前記滴を堆積する作用、前記滴に含まれる溶媒を気化させる作用、及び前記電極を形成するために前記材料表面上の前記金属粒子をアニールする作用を有するようにレーザ照射により前記領域を照射する工程を含む。このように、前記レーザ照射は、前記疎水性材料の局所的なイオン化により静電気帯電を生じさせる。よって、静電力が、前記材料内に含有された帯電粒子及び前記流体の前記金属粒子内に含有された帯電粒子間に作用する。これらの静電力は、前記毛細管の端及び前記材料表面間の電界を生じさせる。前記電界の作用下で、前記毛細管の端で前記流体に含有される自由電荷の動きが活性化されて、前記流体の肉眼視可能な動きが生じる。このような現象は、電気浸透現象として知られている。よって、前記流体の動きは、前記毛細管の端で滴を形成し流れを生じさせる。そして、一旦、前記滴が前記材料表面上に堆積すると、前記レーザ照射は、前記電極を形成することができる。よって、前記毛細管の端が高圧となることは全く無いため、本発明は、前記毛細管の端で前記流体が局所的に気化することを回避する。本発明の他の特徴や利点は、下記の詳細な説明に開示され、本発明の実施態様に限定されない。参照符号は、添付図面に付されている。図1を参照すると、本発明の方法は、倒立顕微鏡2を制御することができるコンピュータ1を具備する操作装置で実施されるように設計されている。その顕微鏡は、レーザ3に結合される。倒立顕微鏡2及びレーザ3は、固定組立品を形成する。また、コンピュータ1は、第1のマニピュレータ4も制御する。第1のマニピュレータ4は、平面内の2つの並進軸X,Y及び前記平面に垂直な並進軸Zに沿って、顕微鏡2及びレーザ3に対する、毛細管5の移動操作を行うことができる。また、コンピュータ1は、図示しないマニピュレータ4の制御を行う。マニピュレータ4は、平面内の2つの並進軸X,Y及び平面に垂直な並進軸Zに沿って、顕微鏡2及びレーザ3に対する、サンプル6の移動操作を行う。毛細管5は、金属粒子を含む流体を含み、本実施態様では金粒子が、溶媒に溶解されている。サンプル6は、適切な基板8上に堆積された疎水性材料7の第1の薄い層を有する。好ましい実施態様では、第1層7はグラフェンで形成され、基板8は、ほうけい酸塩ガラスで形成される。前記操作装置では、基板8は、レーザ3を向くように整列され、且つ第1層7は、毛細管5を向くように整列される。一例として、図2aの工程aを参照すると、サンプル6は、次のように準備される。疎水性材料10の厚い層が、基板8の表面に対して設置される。次いで、基板8が高温にされると、基板8の酸化物が解離を生じる。そして、基板8及び厚い層10は、基板8と接触する電極及び厚い層10と接触する電極により、電界がかかる。基板8の酸化物分離は、基板8を弱導電性にし、特に、電界適用の下で、電流が電極間で確立されるほどに十分な導電性にする。電界効果の下では、可動イオンが、基板8に接触する電極に向かって移動し、反対に帯電した固定イオンが残る。よって、基板8及び厚い層10間の界面に電荷が生じる。電界が、所定時間適用された後、基板8に接触する厚い層10の表面が、基板8に強力に結合する。図2bの工程bを参照すると、基板8に結合した第1の薄い層7だけを残すことにより、サンプル6を形成するために、次に、厚い層10の大部分を除去すれば十分である。金属電極を堆積する方法は、次のように行われる。図2cの工程cを参照すると、図1の装置で一旦前記サンプルが設置されると、毛細管5の一端が、第1層7の領域に近づくように移動される。そして、レーザ3が第1層の領域7を照射し、第1層7の局所的なイオン化により静電荷が生じる。従って、静電力が、第1層7の帯電粒子と流体の金属粒子に含有された帯電粒子との間に作用する。これらの静電力は、毛細管5の端と、第1層の領域7との間に電界を生成する。電気浸透により、電界が毛細管5に含まれる流体を動かし、今度は、毛細管の端5に滴9を形成して流れを生じさせる。第1層7の領域上に滴下することにより、滴9は流体の堆積を形成する。よって、毛細管5に含有される流体は、第1層7に含まれる帯電粒子と流体の金属粒子に含まれる帯電粒子との間に生成される静電力により、及び毛細管5で生成された電気浸透場により、第1層上に簡単な方法で堆積される。滴9の堆積が生じる領域は、毛細管5に対する、サンプル6の移動により規定される。同様に、前記堆積の範囲は、毛細管5により近く、又はより遠くにサンプル6を移動することにより制御される。図2dの工程dを参照すると、レーザが基板8を透過して、滴9が堆積した領域を照射する。これにより、前記領域が局所的に加熱される。よって、滴9が加熱されると、滴9に含有される溶媒がしだいに気化され、レーザ3が金粒子を滴9の中心に集中させる。同時に、滴9の加熱は、第1層7の表面上の金属粒子をアニールする。よって、第1層7の表面上に金属電極が形成される。このように、レーザ照射は、幾つかの役割を行う。レーザ照射は、疎水性材料を局所的にイオン化することによる静電荷の生成に寄与する。レーザ照射は、滴に含まれていた溶媒を順次気化を生じさせて、金粒子を集中させる。レーザ照射は、金粒子をアニールし、金粒子が疎水性材料に結合することを可能にする。勿論、本発明は、開示した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に規定された発明の範囲を超えない範囲の変更例を対象としてよい。特に、この実施態様のレーザ3からの照射が第1層の領域7を照射するために基板8を通過しているが、疎水性材料の自由端に直接照射することにより、基板を通過することなく、第1層の領域7を照射するようにさせることも勿論可能である。"