"難水溶性の多糖類又はその誘導体からなる原料にイオン液体を含む溶媒を加えた混合物に放射線を照射してゲルを得ることを特徴とする多糖類ゲルの製造方法。前記放射線の照射線量が、0.1~500kGyの範囲であることを特徴とする請求項1に記載の多糖類ゲルの製造方法。前記混合物は、前記原料100重量部に対して前記イオン液体が200~10000重量部の割合で加えられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の多糖類ゲルの製造方法。前記溶媒は水を含有し、前記混合物は、含水分量0.5~50重量の割合であることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の多糖類ゲルの製造方法。前記原料は、セルロース、キチン、キトサン及びそれらの誘導体から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の多糖類ゲルの製造方法。前記イオン液体は、その構成するカチオンが、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、又はアンモニウムカチオンであり、その構成するアニオンが、カルボン酸アニオン、又はハロゲンアニオン、ビスアミド、テトラフルオロボレート、又はヘキサフルオロホスフェートであることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の多糖類ゲルの製造方法。請求項1から6のいずれかの方法によって得られた多糖類ゲルであって、難水溶性の多糖類またはその誘導体からなり橋かけ構造を有することを特徴とする多糖類ゲル。しかしながら、セルロースをはじめ、カニやエビの殻から抽出されるキチン、およびキトサン等は難水溶性であり、そのまま原料として使用することは成形加工に制約があることから、化学処理などの前処理を原料に施すことが必要であった。本出願人が提案している上記方法においても、セルロース、キチン、およびキトサンは水に溶けず放射線照射によって目的のゲルを得ることができないため、前処理によって原料に官能基としてヒドロキシ基又はカルボキシル基を導入することが必要であった。本発明は、以上のとおりの背景から、難水溶性の多糖類又はその誘導体を原料とし、原料に特別な前処理を施すことなくゲルを製造することができる多糖類ゲルの製造方法及び多糖類ゲルを提供することを課題としている。上記課題を解決するため、本発明の多糖類ゲルの製造方法は、難水溶性の多糖類又はその誘導体からなる原料にイオン液体を含む溶媒を加えた混合物に放射線を照射してゲルを得ることを特徴とする。この多糖類ゲルの製造方法においては、前記放射線の照射線量が、0.1~500kGyの範囲であることが好ましい。この多糖類ゲルの製造方法においては、前記混合物は、前記原料100重量部に対して前記イオン液体が200~10000重量部の割合で加えられていることが好ましい。この多糖類ゲルの製造方法においては、前記溶媒は水を含有し、前記混合物は、含水分量0.5~50重量の割合であることが好ましい。この多糖類ゲルの製造方法においては、前記原料は、セルロース、キチン、キトサン及びそれらの誘導体から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。この多糖類ゲルの製造方法においては、前記イオン液体は、その構成するカチオンが、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、又はアンモニウムカチオンであり、その構成するアニオンが、カルボン酸アニオン、ハロゲンアニオン、ビスアミド、テトラフルオロボレート、又はヘキサフルオロホスフェートであることが好ましい。また、本発明の多糖類ゲルは、上記したいずれかの方法によって得られた多糖類ゲルであって、難水溶性の多糖類またはその誘導体からなり橋かけ構造を有することを特徴とする。本発明によれば、難水溶性の多糖類又はその誘導体を原料とし、原料に特別な前処理を施すことなく多糖類ゲルを製造することができる。また、難水溶性の多糖類またはその誘導体からなり橋かけ構造を有する多糖類ゲルを得ることができる。本発明の実施形態である多糖類ゲルの製造方法は、上記のとおり、難水溶性の多糖類又はその誘導体からなる原料にイオン液体を含む溶媒を加えた混合物に放射線を照射する。従来、天然高分子であるセルロース、キチン、キトサンなどはそのままでは水に溶けず、放射線照射による加工が困難であることから、高分子にヒドロキシ基又はカルボキシル基を導入して水溶性にするなどの前処理を施していた。本発明の実施形態である多糖類ゲルの製造方法では、原料に特別な前処理を施すことなく多糖類ゲルを得ることができる。本実施形態の多糖類ゲルの製造方法においては、例えば、粉末状の原料を、イオン液体を含む溶媒に徐々に添加して混合物を形成する。この混合物は、原料の濃度に依存するが、低濃度の溶液、高濃度の粘稠な溶液として得られる。また、混合物の全部もしくは一部がペースト糊状やスラリーの状態として得られることも含む。このように本実施形態では、イオン液体を含む溶媒を用いることで、原料が溶解した状態又は均一に分散した状態の混合物を得ることができる。本実施形態においては、得られた混合物に放射線を照射する。放射線の線種としては、重イオン線、アルファ線、ベータ線等の粒子線や、電子線、エックス線、ガンマ線等の電離性放射線を挙げることができる。重イオン等の大きな粒子線は多糖類分子に与える影響にムラができる可能性があることから、工業的によく用いられている電子線やガンマ線の使用が望ましい。混合物に照射する放射線の照射線量は、多糖類およびその誘導体を橋かけするのに必要十分な線量であればよい。好ましくは0.1~500kGyの範囲である。さらに好ましい範囲は1~100kGyであり、特に5~60kGyであることが望ましい。0.1~500kGyの範囲の放射線照射によって、混合物中の多糖類およびその誘導体をより効果的に橋かけし、多糖類ゲルを得ることができる。放射線照射時の温度は、使用するイオン液体によって異なるが、一般的には25~100°Cの範囲内に設定することができる。例えば、ハライドをアニオンとしたイオン液体の場合は融点である70°C以上に設定され、カルボン酸アニオンなどの有機酸イオンをアニオンとしたイオン液体の場合は融点である25°C以上に設定されることが考慮される。混合物の調製にあたり、多糖類又はその誘導体からなる原料とイオン液体との混合比は、例えば、原料100重量部に対してイオン液体が200~10000重量部の割合とすることができる。かかる混合比とすることにより、原料を効果的に溶解することができる。原料の溶解性やイオン液体のコストなどを勘案すると、原料100重量部に対してイオン液体が200~1000重量部、なかでも原料100重量部に対してイオン液体が300~800重量部であることが望ましい。また、混合物の調製にあたり、イオン液体以外の溶媒として水を原料に加えることもできる。水は、市水、工業用水、脱気水、脱イオン水、ゲル濾過水、蒸留水等であり、酸素やイオン等が含まれていないものが好ましい。原料に水を加える場合、例えば、原料100重量部に対して水10~10000重量部の割合で加えることができる。原料の溶解性を考慮すると、混合物の含水分量が0.5~50重量、なかでも0.5~30重量、特に0.5~20重量となるように水を加えることが好ましい。本実施形態の多糖類ゲルの製造方法において、原料となる難水溶性の多糖類の具体例としては、セルロース、キチン、キトサン、アルギン酸ナトリウムなどの金属塩型は含まない、デキストラン、ヒアルロン酸ナトリウムなどの金属塩型は含まない、βグルカン等が挙げられる。本実施形態の多糖類ゲルの製造方法において、原料となる難水溶性の多糖類誘導体は、上記した多糖類の誘導体である。多糖類誘導体は、上記した多糖類を化学修飾して作製したものでも、市販品ものでも構わない。多糖類誘導体のうちセルロース誘導体の具体例としては、酢酸セルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、セルロースアセテートヘキサヒドロフタレート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートフタレート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースヘキサヒドロフタレート、ヒドロキシプロピルメチルセルローステトラヒドロフタレート等が挙げられる。キチン誘導体の具体例としては、アセチルキチン、ベンジルキチン等が挙げられる。キトサン誘導体の具体例としては、ハロアシルキトサン、ベンジルキトサン、ベンゾイルキトサン等が挙げられる。以上の多糖類およびその誘導体は、単独又は2種以上を原料として使用することができる。本実施形態の多糖類ゲルの製造方法において、使用されるイオン液体を構成するカチオンとしては、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、アンモニウムカチオンなどが挙げられる。また、イオン液体を構成するアニオンとしては、ギ酸アニオン、酢酸アニオンなどのカルボン酸アニオンを含む有機酸イオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオンなどのハロゲンアニオン、ビスアミド、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェートなどが挙げられる。このようなイオン液体の具体例としては、塩化1-エチル-3-メチルイミダゾリウム、臭化1-エチル-3-メチルイミダゾリウム、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビスアミド、ギ酸1-エチル-3-メチルイミダゾリウム、酢酸1-エチル-3-メチルイミダゾリウム、塩化1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム、臭化1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレ-ト、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムビスアミド、チオシアン酸1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム、塩化3-メチル-オクチルイミダゾリウム、塩化3-メチル-ヘキサデシルイミダゾリウム、塩化-N-エチルピリジニウム、臭化-N-エチルピリジニウム、塩化-N-ブチルピリジニウム、臭化-N-ブチルピリジニウム、塩化-N-オクチルピリジニウム、塩化4-メチル-N-ブチルピリジニウム、臭化4-メチル-N-ブチルピリジニウム、N-メチル-N-プロピルピロリジニウムビスアミド、ヨウ化1,1-ジメチルピロリジニウム、塩化1-ブチル-1-メチルピロリジニウム、塩化1-へキシル-1-メチルピロリジニウム、塩化1-メチル-1-オクチルピロリジニウム、N-ブチル-N-メチルピロリジニウムビスアミド、N-メチル-N-プロピルピペリジニウムビスアミド、塩化トリへキシルホスホニウム、トリへキシルホスホニウムテトラフルオロボレート、N,N-ジエチルメチル-アンモニウムビスアミド、N,N-ジエチルメチル-アンモニウムテトラフルオロボレート、N,N-ジエチルメチル-アンモニウムヘキサフルオロホスフェート、塩化N,N-ジエチルメチル-アンモニウム、臭化N,N-ジエチルメチル-アンモニウム、ギ酸N,N-ジエチルメチル-アンモニウム、酢酸N,N-ジエチルメチル-アンモニウム等が挙げられる。これらのイオン液体は、単独で、又は2種以上の混合物として使用してもよい。以上の本実施形態の製造方法によって、難水溶性の多糖類またはその誘導体からなり橋かけ構造を有する多糖類ゲルを得ることができる。セルロース、キチン、キトサンなどの多糖類は、植物、動物由来の天然高分子であるため、これを原料とする多糖類ゲルは環境に優しい材料である。得られた多糖類ゲルは、水、又は、メタノール、エタノール、アセトン、ジクロロメタン、ジメチルアセトアミド等の有機溶剤を吸収可能であり、吸収体や保湿材として、使い捨てオムツなどの衛生用品や医療、化粧品の分野に利用することができる。例えば、多糖類ゲルの自重1に対して1重量倍以上の水又は有機溶剤を吸収可能な多糖類ゲルを得ることができる。以下に実施例を示し、さらに詳しく説明する。もちろん以下の例によって本発明が限定されることはない。<実施例1>セルロースMERCK社製100重量部に酢酸1-エチル-3-メチルイミダゾリウム310重量部及び水90重量部を加え、25°Cにおいて20重量濃度のセルロース溶液を得た。この溶液の含水分量は18重量である。この溶液に対してγ線を温度25°Cで5~60kGy照射した。セルロースの橋かけ反応は5kGyから始まり、10kGyでゲル分率が最大値10となることが確認できた。得られたゲルの5塩化リチウムジメチルアセトアミドの吸収率は、ドライゲル1重量部当たり10重量部であった。なお、セルロースにイオン液体を加えず水のみを加えた混合物にγ線を照射したところ、その照射後の試料においてはゲルの形成を確認できなかった。上記ゲル分率は次のようにして求めた下記実施例のゲル分率についても同様の方法で求めた。放射線照射後に得られた試料を乾燥し、更に50°Cの真空乾燥器中で恒量になるまで乾燥させた。乾燥した試料を200メッシュのステンレス網に入れ、室温で24時間多量の蒸留水に浸漬した。このとき、橋かけしていない溶解部分は蒸留水側に移るため、ゲル成分のみがステンレス網中に残る。ゲル成分を包含したステンレス網を蒸留水でよく洗浄してから、更にメタノール中に1時間浸漬し、その後50°Cで24時間乾燥させた。ゲル分率は次式により算出した。ゲル分率=溶解成分を除いたゲル乾燥重量/初期乾燥重量×100上記5塩化リチウムジメチルアセトアミドの吸収率は次のようにして求めた下記実施例の5塩化リチウムジメチルアセトアミドの吸収率についても同様の方法で求めた。放射線照射後に得られた試料を多量の5塩化リチウムジメチルアセトアミド溶液に室温で24時間浸漬後、多量の蒸留水で洗浄し、残留ゲルを凍結乾燥してドライゲルを得る。ジメチルアセトアミドの吸収率は、得られたドライゲルを多量の5塩化リチウムジメチルアセトアミドに漬け、1gのドライゲルが吸収する5塩化リチウムジメチルアセトアミドの量25°Cジメチルアセトアミド中平衡重量で表わした。<実施例2>キチンフナコシ株式会社製100重量部に臭化1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム730重量部及び水170重量部を加え、25°Cにおいて10重量濃度のキチンのスラリー状の混合物を得た。この混合物の含水分量は17重量である。この混合物に対してγ線を25°Cで10kGy照射した。照射後の試料のゲル分率は46であり、ゲルが生成されていることを確認した。得られたゲルの5塩化リチウムジメチルアセトアミドの吸収率は、ドライゲル1重量部当たり10重量部であった。また、得られたゲルの水の吸収率は、ドライゲル1重量部当たり7.5重量部であった。この水の吸収率は、上記した5塩化リチウムジメチルアセトアミドの吸収率の測定に使用したドライゲルと同様の方法で得たドライゲルを多量の水に漬け、1gのドライゲルが吸収する水の量25°C水中平衡重量で表わした。なお、キチンにイオン液体を加えず水のみを加えた混合物にγ線を照射したところ、その照射後の試料においてはゲルの形成を確認できなかった。<実施例3>ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート信越化学工業株式会社製100重量部にギ酸N,N-ジエチルメチル-2-メトキシエチルアンモニウム、およびN,N-ジエチルメチル-アンモニウムビスアミドをそれぞれ200重量部加え、25°Cにおいて20重量濃度のセルロース溶液を得た。この溶液に対してγ線を25°Cで20kGy照射した。照射後の試料について動的粘弾性測定を行ったところ、振動数1~100radsの測定領域において試料の弾性率がほぼ一定となり、ゲル材料の挙動を示すことが分かった。このことからゲルが形成されていることが確認できた。また、照射後の試料はアセトンを吸収することも確認できた。なお、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートにイオン液体を加えず水のみを加えた混合物にγ線を照射したところ、その照射後の試料においてはゲルの形成を確認できなかった。"