筒状のケーシングにスクリュー軸を挿入したスクリューフイーダを有し、流動層ガス化炉の炉壁に前記スクリューフイーダのケーシングの原料供給方向下流端を取り付けて、流動層ガス化炉に形成される流動層の内部に固体原料をスクリューフイーダによって供給するガス化炉原料供給装置において、前記流動層のスクリューフイーダ前方個所へ向けて炉壁側から保護用ガスを噴射するガス噴射手段を備えるガス化炉原料供給装置。ガス噴射手段が、流動層ガス化炉の炉壁に設けられ且つスクリューフイーダの原料供給方向下流嬉の周囲から前記流動層に向けて保護用ガスを噴射するノズルである請求項1に記載のガス化炉原料供給装置。ガス噴射手段が、スクリュー軸の原料供給方向下流端に設けられ且つスクリューフイーダの原料供給方向下流端の中央から前記流動層に向けて保護用ガスを噴射するノズルである請求項1に記載のガス化炉原料供給装置。ガス噴射手段が、流動層ガス化炉の炉壁に設けられ且つスクリューフイーダの原料供給方向下流端の周囲から前記流動層に向けて保護用ガスを噴射するノズル、及びスクリュー軸の原料供給方向下流端に設けられ且つスクリューフイーダの原料供給方向下流端の中央から前記流動層に向けて保護用ガスを噴射するノズルである請求項1に記載のガス化炉原料供給装置。スクリュー軸を中空構造とし、スクリュー軸の原料供給方向上流端に開口を設け、ケーシングの原料供給方向上流端に、前記開口を介してスクリュー軸内へ保護用ガスを送給するガス供給管を設けることにより、スクリュー軸を介してスクリュー軸の原料供給方向下流端に設けたノズルから前記流動層に向けて保護用ガスを噴射可能とする請求項3に記載のガス化炉原料供給装置。スクリュー軸を中空構造とし、スクリュー軸の原料供給方向上流端に開口を設け、ケーシングの原料供給方向上流端に、前記開口を介してスクリュー軸内へ保護用ガスを送給するガス供給管を設けることにより、スクリュー軸を介してスクリュー軸の原料供給方向下流端に設けたノズルから前記流動層に向けて保護用ガスを噴射可能とする請求項4に記載のガス化炉原料供給装置。ケーシングの原料供給方向下流側の内径を流動層ガス化炉に向けて漸次縮小させた請求項1~6のいずれかに記載のガス化炉原料供給装置。しかしながら、特許文献1に開示されている原料供給装置では、スクリューフィーダの構成要素であるスクリュー軸回転軸の外周面に押出羽根を螺旋状に取り付けたものの先端原料供給方向下流端が、流動媒体中に晒されるため、スクリュー軸の先端部分が短期間のうちに摩耗する。本発明は上述した実情に鑑みてなしたもので、スクリューの先端部分の摩耗を抑制可能なガス化炉原料供給装置を提供することを目的としている。上記目的を達成するため、発明に係る第1の発明は、筒状のケーシングにスクリュー軸を挿入したスクリューフィーダを有し、流動層ガス化炉の炉壁に前記スクリューフィーダのケーシングの原料供給方向下流端を取り付けて、流動層ガス化炉に形成される流動層の内部に固体原料をスクリューフィーダによって供給するガス化炉原料供給装置において、前記流動層のスクリューフィーダ前方個所へ向けて炉壁側から保護用ガスを噴射するガス噴射手段を備えている。本発明に係る第2の発明は、上記第1の発明のガス化炉燃料供給装置において、ガス噴射手段を、流動層ガス化炉の炉壁に設けられ且つスクリューフィーダの原料供給方向下流端の周囲から前記流動層に向けて保護用ガスを噴射するノズルとしている。この場合、流動層ガス化炉の炉壁に設けたノズルにより、スクリューフィーダの原料供給方向下流端の周囲から流動層ガス化炉に形成されている流動層に向けて保護用ガスを噴射し、スクリュー軸の原料供給方向下流端が流動層の要素である流動媒体中に晒されることを防ぐ。そのため、スクリュー軸の原料供給方向下流端が短期間のうちに摩耗せず、スクリュー軸の供用期間を延ばせる。本発明に係る第3の発明は、上記第1の発明のガス化炉原料供給装置において、ガス噴射手段を、スクリュー軸の原料供給方向下流端に設けられ且つスクリューフィーダの原料供給方向下流端の中央から前記流動層に向けて保護用ガスを噴射するノズルとしている。この場合、スクリュー軸に設けたノズルにより、スクリューフィーダの原料供給方向下流端の中央から流動層ガス化炉に形成されている流動層に向けて保護用ガスを噴射し、スクリュー軸の原料供給方向下流端が流動層の要素である流動媒体中に晒されることを防ぐ。そのため、スクリュー軸の原料供給方向下流端が短期間のうちに摩耗せず、スクリュー軸の供用期間を延ばせる。本発明に係る第4の発明は、上記第1の発明のガス化炉原料供給装置において、ガス噴射手段を、流動層ガス化炉の炉壁に設けられ且つスクリューフィーダの原料供給方向下流端の周囲から前記流動層に向けて保護用ガスを噴射するノズル、及びスクリュー軸の原料供給方向下流端に設けられ且つスクリューフィーダの原料供給方向下流端の中央から前記流動層に向けて保護用ガスを噴射するノズルとしている。本発明に係る第5の発明は、上記第3、4のいずれかの発明のガス化炉原料供給装置において、スクリュー軸を中空構造とし、スクリュー軸の原料供給方向上流端に開口を設け、ケーシングの原料供給方向上流端に、前記開口を介してスクリュー軸内へ保護用ガスを送給するガス供給管を設けることにより、スクリュー軸を介してスクリュー軸の原料供給方向下流端に設けたノズルから前記流動層に向けて保護用ガスを噴射する。本発明に係る第6の発明は、上記第1~5のいずれかの発明のガス化炉原料供給装置において、ケーシングの原料供給方向下流側の内径を流動層ガス化炉に向けて漸次縮小させている。この場合、ケーシングの内径が漸次縮小する個所では、固体原料の充填率が高まり、マテリアルシールが向上するので、流動層ガス化炉から水蒸気やガス化ガスなどがスクリューフィーダヘ向けて逆流することを抑制できる。本発明のガス化炉原料供給装置では、ガス噴射手段により、炉壁側から流動層のスクリューフィーダ前方個所へ向けて保護用ガスを噴射し、スクリュー軸の原料供給方向下流端が流動層の要素である流動媒体中に晒されることを防ぐ。その結果、スクリュー軸の原料供給方向下流端が短期間のうちに摩耗せず、スクリュー軸の供用期間を延ばせる、という優れた作用効果を奏し得る。以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。図1に、本発明のガス化炉原料供給装置の第1の例を示す。このガス化炉原料供給装置の適用対象は、下部から供給される水蒸気ガス化剤により流動媒体硅砂、石灰石などを流動させた流動層4を形成する流動層ガス化炉1である。流動層ガス化炉1の炉壁23は、構造部材としての鋼板24と、鋼板24の内側に設置した耐火材25とで構成されている。ガス化炉原料供給装置は、筒状のケーシング26にスクリュー軸27を回転可能に挿入したスクリューフイーダ28を有している。スクリュー軸27は、回転軸29の外周面に押出羽根30を螺旋状に取り付けたもので、スクリュー軸27の原料供給方向上流A側の端部には、伝達軸31がケーシング26の外方へ突出するように設けられている。伝達軸31には、電動モータ32の駆動軸32aが連結され、電動モータ32を作動させるとスクリュー軸27が回転する。ケーシング26の原料供給方向上流A側の端部は、スクリュー軸27が挿入されている部分に比べて内径が小さい軸封部26aとされ、軸封部26aの内周面とそれに向き合う伝達軸31の外周面との間には、シール部材としての複数条のグランドパッキン33が介装されている。ケーシング26において、スクリュー軸27の原料供給方向上流A側の端部の上方側に位置する個所には原料供給口34が設けられ、固体原料5石炭、バイオマスをケーシング26内へ導入するためのホッパ35が、前記原料供給口34に対応するように設置されている。更に、ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部は、炉壁23の鋼板24と耐火材25を厚さ方向に沿って貫通している。この端部は、流動層ガス化炉1に形成される流動層4に相対するように前記鋼板24に溶接され、流動層ガス化炉1の気密性を保持している。図1に示すガス化炉原料供給装置の特徴部分は、以下の2点である。1ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部の周囲から前記流動層4に向けて保護用ガス36を噴射する複数のノズル37を、ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部を取り囲むように炉壁23に設けた。2ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部の内径を流動層ガス化炉1に向けて漸次縮小した。個々のノズル37は、炉壁23の鋼板24と耐火材25を厚さ方向に貫通する管状の部材で、鋼板24に溶接され、流動層ガス化炉1の気密性を保持している。これらのノズル37の先端部分は、図1に符号37Aで示すように、スクリュー軸27の延長方向の一点に向くように屈折している。また、これらのノズル37の先端は耐火材25の内壁に開口している。各ノズル37にはガス供給管38を介してガス源図示せずが接続され、保護用ガス36としての水蒸気、もしくはCO2が送給される。水蒸気、もしくはCO2を保護用ガス36とする理由は、流動層ガス化炉1へ供給されるガス化剤が水蒸気であり、CO2が流動層ガス化炉1で生成されることに基づく段落0002参照。次に、図1に示すガス化炉原料供給装置の作動を説明する。流動層ガス化炉1の稼働時には、電動モータ32でスクリュー軸27を回転させ、ホッパ35から原料供給口34を経てケーシング26内へ滑落してきた固体原料5を、スクリュー軸27の押出羽根30により流動層ガス化炉1に向けて押圧し、流動層ガス化炉1に形成される流動層4の内部に固体原料5を供給する。これと同時に、ガス源に蓄圧されている保護用ガス36をガス供給管38に送給すると、ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部の周囲の各ノズル37から流動層4に向けて保護用ガス36が噴射される。各ノズル37から噴射される保護用ガス36は、スクリュー軸27の原料供給方向下流B側端部が流動層4の要素である流動媒体中硅砂、石灰石に晒されることを防ぐ。よって、スクリュー軸27の原料供給方向下流B側の端部、特に押出羽根30が短期間のうちに摩耗することが抑制され、スクリュー軸27の供用期間を延ばせる。また、個々のノズル37が管状の部材から構成されているので、耐火材25の内壁に開口するノズル37の先端が流動媒体との接触により磨耗しても、各ノズル37から噴射される保護用ガス36の噴射面積は変わらない。従って、ノズル37からの保護用ガス36の噴射量を、ノズル37の磨耗に係らず均一に維持することが可能となり、かつ磨耗に伴うノズル37同士の噴射量の差を最小に留めることができる。すなわち、ノズル37の磨耗がノズル37の機能に及ぼす影響を受けにくい。また、ノズル37の先端部分が、符号37Aで示すように、スクリュー軸27の延長方向の一点に向くように屈折しているため、ノズル37が管状をなしていることと相まって、ノズル37の先端部分が指向する流動層4の特定部位に向けて保護用ガス36を集中的に噴射することが可能となる。その結果、スクリューフィーダ28の前方個所に向けた保護用ガス36の噴射を、効率的に行なうことが可能となる。また、ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部の内径を流動肩ガス化炉1に向けて漸次縮小したので、この個所における固体原料5の充填率が高まってマテリアルシールが向上する。その結果、水蒸気やガス化ガスなど段落0002参照がケーシング26内を原料供給方向上流A側へ向けて逆流することが抑制される。図2は本発明のガス化炉原料供給装置の第2の例を示し、図中、図1と同一の符号を付した部分は同―物を表している。ガス化炉原料供給装置は、筒状のケーシング26にスクリュー軸27を回転可能に挿入したスクリューフイーダ28を有している。スクリュー軸27は、中空構造とした回転軸29の外周面に押出羽根30を螺旋状に取り付けて構成されている。また、回転軸29の原料供給方向上流A側の端部の外周面には押出羽根30が取り付けられていない。更に、スクリュー軸27の原料供給方向上流A側の端部には、伝達軸31がケーシング26の外方へ突出するように設けられている。伝達軸31には、電動モータ32の駆動軸32aが連結され、電動モータ32を作動させると前記スクリュー軸27が回転する。ケーシング26の原料供給方向上流A側の端部は、スクリュー軸27が挿入されている部分に比べて内径が小さい軸封部26aとされている。また、軸封部26aの内周面とそれに向き合う伝達軸31の外周面との間には、シール部材としての複数条のグランドパッキン33が介装されている。ケーシング26において、回転軸29の原料供給方向上流A側の端部外周面押出羽根30がない個所を周方向外方から取り囲む部分は、回転軸29の押出羽根30がある個所を周方向外方から取り囲む部分に比べて内径が小さく、前述した軸封部26aよりは内径が大きい軸封部26bとされている。また、軸封部26bの内周面とそれに向き合う回転軸29の外周面との間には、シール部材としての複数条のグランドパッキン39が介装されている。図2に示すガス化炉原料供給装置の特徴部分は、以下の3点である。1スクリュー軸27に中空構造の回転軸29を用い、回転軸29の原料供給方向上流A側の端面に開口40を設け、ケーシング26の軸封部26aの原料供給方向上流A側の端面に、開口40を介してスクリュー軸27内へ保護用ガス36を送給するためのガス供給管41を設けた。2スクリュー軸27の原料供給方向下流B側の端部中央から流動層4に向けて保護用ガス36を噴射するノズル42を、回転軸29の原料供給方向下流B側の端面中央部に設けた。3ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部の内径を流動層ガス化炉1に向けて漸次縮小した。ガス供給管41は、ケーシング26の軸封部26aの原料供給方向上流A側の端面を原料供給方向に貫通するとともに、軸封部26aに溶接されている。各ガス供給管41にはガス源図示せずが接続されており、保護用ガス36としての水蒸気、もしくはCO2が送給される。水蒸気、もしくはCO2を保護用ガス36とする理由は、流動層ガス化炉1へ供給されるガス化剤が水蒸気であり、CO2が流動層ガス化炉1で生成されることに基づく段落0002参照。ノズル42は、回転軸29の原料供給方向下流B側の端面を原料供給方向に貫通するとともに、回転軸29に固着されている。このノズル42には複数の噴射孔が、保護用ガス36を放射状に噴射するように設けられている。具体的には、図3に示すように、ノズル42の先端面に、複数の噴射孔42Aがノズル42の周方向に沿って略等間隔で開口している。また、個々の噴射孔42Aは、保護用ガス36を原料供給方向下流B側に向け径方向外方に放射状に噴射するように、ノズル42の先端側に向け径方向外方に傾斜して設けられている。次に、図2に示すガス化炉原料供給装置の作動を説明する。流動層ガス化炉1の稼働時には、電動モーク32でスクリュー軸27を回転させ、ホッパ35から原料供給口34を経てケーシング26内へ滑落してきた固体原料5を、スクリュー軸27の押出羽根30により流動層ガス化炉1に向けて押圧し、流動層ガス化炉1に形成される流動層4の内部に固体原料5を供給する。これと同時に、ガス源に蓄圧されている保護用ガス36をガス供給管41に送給すると、保護用ガス36は開口40を経てスクリュー軸27内に流入し、スクリュー軸27の原料供給方向下流B側の端面に固着したノズル42から流動層4に向けて保護用ガス36が噴射される。このノズル42から噴射される保護用ガス36は、スクリュー軸27の原料供給方向下流B側の端部が流動層4の要素である流動媒体中硅砂、石灰石に晒されることを防ぐ。よって、スクリュー軸27の原料供給方向下流B側の端部、特に押出羽根30が短期間のうちに摩耗することが抑制され、スクリュー軸27の供用期間を延ばせる。また、個々の噴射孔42Aが、保護用ガス36を原料供給方向下流B側に向け径方向外方に放射状に噴射するように、ノズル42の先端側に向け径方向外方に傾斜して設けられている。そのため、スクリュー軸27の原料供給方向下流B側の端部のうち、特にスクリューフイーダ28からの流動層4への固体原料5の供給箇所である、押出羽根30の前方に位置する部位に向けて、保護用ガス36を放射状に噴射することが可能となる。その結果、この部位における流動層4の流動が促進され、押出羽根30の磨耗防止に加え、スクリューフイーダ28からの流動層4への固体原料5の供給を容易化することができる。更に、中空の回転軸29を保護用ガス36の通路として利用することにより、回転するスクリュー軸27の端部中央に設けたノズル42から流動層4に向け保護用ガス36を噴射することが可能となっている。また、この保護用ガス36の噴射は、軸封部26aの内周面と伝達軸31の外周面との間及び軸封部26bの内周面と回転軸29の外周面との間におけるグランドパッキン33、39の介在と、これらグランドパッキン33、39間に形成された空間を介した、軸封部26aに設けられたガス供給管41から回転軸29に設けられた開口40へのガスの供給により可能となっている。すなわち、上記構成を用いることにより、ガスに対するシール性の維持と、回転するスクリュー軸27に設けたノズル42からの保護用ガス36の噴射とを両立することができる。また、ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部の内径を流動層ガス化炉1に向けて漸次縮小したので、この個所における固体原料5の充填率が高まってマテリアルシールが向上する。その結果、水蒸気やガス化ガスなど段落0002参照がケーシング26内を原料供給方向上流A側へ向けて逆流することが抑制される。図2に示すガス化炉原料供給装置では、スクリュー軸27の構成要素である中空構造の回転軸29自体を保護用ガス36の旅路としているが、回転軸29の内部に、開口40とノズル42の噴射孔のガス流通方向上流端とを連通させる配管を設けてもよい。このような配管を設ければ、保護用ガス36に水蒸気を用いた場合、ガス化炉原料供給装置の停止時に水蒸気が凝結した水分が配管に残っても、ガス化炉原料供給装置の起動時には、前記水分を保護用ガス36によって直ちに流動層ガス化炉1へと送出させることができる。あるいは、回転軸29の内径が小さくなるように回転軸29の肉厚寸法を厚く採って、保護用ガス36の波路断面を縮小すれば、上述した配管を設けた例と同様に回転軸29の内部に水分が残っても、ガス化炉原料供給装置の起動時には、前記水分を保護用ガス36によって直ちに流動層ガス化炉1へと送出させることができる。なお、ガス化炉原料供給装置の停止に伴って図2に示す回転軸29の内部に残った水分は、ガス化炉原料供給装置の起動後、保護用ガス36により回転軸29内に飛散して微細な水粒となり、保護用ガス36に随伴されて流動層ガス化炉1へと送出される。図4は本発明のガス化炉原料供給装置の第3の例を示し、図中、図1、図2と同一の符号を付した部分は同一物を表している。このガス化炉原料供給装置は、図1、並びに図2に示すガス化炉原料供給装置を組み合わせた構成を備えているので、特徴部分以外の説明は省く。図4に示すガス化炉原料供給装置の特徴部分は、以下の4点である。1スクリュー軸27に中空構造の回転軸29を用い、回転軸29の原料供給方向上流A側の端面に開口40を穿設し、ケーシング26の軸封部26aの原料供給方向上流A側の端面に、前記開口40を介してスクリュー軸27内へ保護用ガス36を送給するためのガス供給管41を設けた。2スクリュー軸27の原料供給方向下流B側の端部中央から前記流動層4に向けて保護用ガス36を噴射するノズル42を、回転軸29の原料供給方向下流B側の端面に設けた。3ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部の周囲から前記流動屑4に向けて保護用ガス36を噴射し得るノズル37を、ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部を取り囲むように炉壁23に設けた。4ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部の内径を流動層ガス化炉1に向けて漸次縮小した。次に、図4に示すガス化炉原料供給装置の作動を説明する。流動層ガス化炉1の稼働時には、電動モータ32でスクリュー軸27を回転させ、ホッパ35から原料供給ロ34を経てケーシング26内へ滑落してきた固体原料5を、スクリュー軸27の押出羽根30により流動層ガス化炉1に向けて押圧し、流動層ガス化炉1に形成される流動層4の内部に固体原料5を供給する。これと同時に、ガス源に蓄圧されている保護用ガス36をガス供給管41に送給すると、保護用ガス36は開口40を経てスクリュー軸27内に流入し、スクリュー軸27の原料供給方向下流B側の端面に固着したノズル42から前記流動層4に向けて保護用ガス36が噴射される。また、並行してガス源に蓄圧されている保護用ガス36をガス供給管38に送給すると、ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部の周囲の各ノズル37から前記流動層4に向けて保護用ガス36が噴射される。ノズル42と各ノズル37から噴射される保護用ガス36は、スクリュー軸27の原料供給方向下流B側端部が流動層4の要素である流動媒体中硅砂、石灰石に晒されることを防ぐ。よって、スクリュー軸27の原料供給方向下流B側の端部、特に押出羽根30が短期間のうちに摩耗することが抑制され、スクリュー軸27の供用期間を延ばせる。また、ケーシング26の原料供給方向下流B側の端部の内径を流動層ガス化炉1に向けて漸次縮小したので、この個所における固体原料5の充填率が高まってマテリアルシールが向上し、水蒸気やガス化ガスなど段落0002参照がケーシング26内を原料供給方向上流A側へ向けて逆流することが抑制される。図4に示すガス化炉原料供給装置では、スクリュー軸27の構成要素である中空構造の回転軸29自体を保護用ガス36の流路としているが、回転軸29の内部に、前記開口40とノズル42の噴射孔のガス流通方向上流端とを連通させる配管を設けてもよい。このような配管を設ければ、保護用ガス36に水蒸気を用いた場合、ガス化炉原料供給装置の停止時に水蒸気が凝結した水分が配管に残っても、ガス化炉原料供給装置の起動時には、前記水分を保護用ガス36によって直ちに流動層ガス化炉1へと送出させることができる。あるいは、回転軸29の内径が小さくなるように回転軸29の肉厚寸法を厚く採って、保護用ガス36の流路断面を縮小すれば、上述した配管を設けた例と同様に回転軸29の内部に水分が残っても、ガス化炉原料供給装置の起動時には、前記水分を保護用ガス36によって直ちに流動層ガス化炉1へと送出させることができる。図1、図2、図4に示すガス化炉原料供給装置では、スクリューフィーダ28を流動層ガス化炉1に対して水平に取り付けたが、スクリューフィーダ28を流動層ガス化炉1に対して、原料供給方向上流A側から原料供給方向下流B側に向けて下り勾配となるように取り付けてもよく、スクリューフィーダ28を流動層ガス化炉1に対して、原料供給方向上流A側から原粁供給方向下流B側に向けて上り勾配となるように取り付けてもよい。特に後者の場合には、ケーシング26内の全般にわたり固体原料5の充填率が高まってマテリアルシールが向上し、水蒸気やガス化ガスなどがケーシング26内を原料供給方向上流A側へ向けて逆流することがより効果的に抑制される。