高周波電場を利用してイオンを選択する又は輸送するための多重極がイオン光軸方向に沿って複数配置された質量分析装置において、a前記複数の多重極のうちの第1多重極に高周波電圧を印加する第1電圧印加手段と、b前記第1多重極の直後に配置されている第2多重極に高周波電圧を印加する第2電圧印加手段と、c前記第1多重極からのイオン出射面におけるイオンのエミッタンス特性と前記第2多重極へのイオン入射面におけるイオンのアクセプタンス特性とを合わせるように、前記第1電圧印加手段及び前記第2電圧印加手段から前記第1多重極及び前記第2多重極へそれぞれ印加される高周波電圧のパラメータを制御する制御手段と、を備えることを特徴とする質量分析装置。請求項1に記載の質量分析装置であって、前記複数の多重極が、イオン源から送られてくる各種のイオンから特定の質量電荷比であるイオンを選択して通過させる第1段多重極と、選択された前記イオンをプリカーサイオンとして解離させるコリジョンセル内に配置された第2段多重極と、その解離により生じたプロダクトイオンの中の特定の質量電荷比のイオンを選択して通過させる第3段多重極と、である三連四重極型質量分析装置であることを特徴とする質量分析装置。請求項1又は2に記載の質量分析装置であって、前記第1及び第2電圧印加手段は同一周波数の高周波電圧を第1及び第2多重極に印加するものであり、前記制御手段は前記第1及び第2多重極にそれぞれ印加される同一周波数である高周波電圧の位相差を調整するものであることを特徴とする質量分析装置。請求項3に記載の質量分析装置であって、前記制御手段は、前記第1及び第2多重極にそれぞれ印加される同一周波数である高周波電圧の位相差を、前記第1多重極から出射して前記第2多重極へ入射しようとするイオンの質量電荷比に応じて調整することを特徴とする質量分析装置。本発明は上記課題を解決するために成されたものであり、三連四重極型質量分析装置など、イオン光軸方向に沿って複数の四重極又は多重極が配置された質量分析装置において、前段の四重極から出射したイオンを次段の四重極に取り込む効率を従来よりもさらに高めることによって分析感度や分析精度を向上させることを主たる目的としている。上記課題を解決するために成された本発明は、高周波電場を利用してイオンを選択する又は輸送するための多重極がイオン光軸方向に沿って複数配置された質量分析装置において、a前記複数の多重極のうちの第1多重極に高周波電圧を印加する第1電圧印加手段と、b前記第1多重極の直後に配置されている第2多重極に高周波電圧を印加する第2電圧印加手段と、c前記第1多重極からのイオン出射面におけるイオンのエミッタンス特性と前記第2多重極へのイオン入射面におけるイオンのアクセプタンス特性とを合わせるように、前記第1電圧印加手段及び前記第2電圧印加手段から前記第1多重極及び前記第2多重極へそれぞれ印加される高周波電圧のパラメータを制御する制御手段と、を備えることを特徴としている。本発明に係る質量分析装置では、複数の多重極は四重極、六重極、八重極、というように4以上の偶数本のロッド電極又はこれに相当する電極例えば1本のロッド電極をイオン光軸方向に分割された複数の電極から構成する仮想的なロッド電極などからなる構成とすることができる。本発明に係る質量分析装置の典型的な態様は、前記複数の多重極が、イオン源から送られてくる各種のイオンから特定の質量電荷比であるイオンを選択して通過させる第1段多重極と、選択された前記イオンをプリカーサイオンとして解離させるコリジョンセル内に配置された第2段多重極と、その解離により生じたプロダクトイオンの中の特定の質量電荷比のイオンを選択して通過させる第3段多重極と、である三連四重極型質量分析装置である。また、本発明に係る質量分析装置において、エミッタンス特性及びアクセプタンス特性とはいずれも、少なくともイオン光軸に直交する面内においてイオンが存在する位置イオン光軸からの半径方向の距離に関する特性であり、さらにはイオンの速度に関する特性を加えることもできる。高周波電場の作用によりイオンを振動させながら輸送したり、或いは高周波電場と直流電場との作用により特定の質量電荷比を有するイオンを安定的に振動させることでイオン選別を行ったりする多重極においては、イオンの挙動は高周波電場の位相の影響を受ける。そのため、多重極の入口入射面におけるイオンのアクセプタンス特性、つまり、どのような位置にありどのような速度を以て入射してくるイオンを受け容れるのかということに関しては、イオンが入射する際の高周波電場の位相に依存する。同様に、多重極の出口出射面におけるイオンのエミッタンス特性、つまり、イオンはどのような位置にありどのような速度を以て出射してくるのかということに関しても、イオンが出射する際の高周波電場の位相に依存する。そこで、本発明に係る質量分析装置では、第1多重極からのイオン出射面におけるイオンのエミッタンス特性と第2多重極へのイオン入射面におけるイオンのアクセプタンス特性とを合わせるために、第1及び第2多重極に印加する高周波電圧の周波数を同一とした上で、制御手段は第1及び第2多重極にそれぞれ印加される同一周波数である高周波電圧の位相差を調整する構成とすればよい。上述したように多重極におけるエミッタンス特性とアクセプタンス特性とはいずれも高周波電圧の位相に依存するため、第1多重極と第2多重極へ印加する高周波電圧の位相差を適切な値に設定することにより、エミッタンス特性とアクセプタンス特性とをほぼ一致させることが可能となる。それによって、第1多重極と第2多重極との間にイオンの飛行時間が無視できない程度の空間が存在している場合でもエミッタンス特性とアクセプタンス特性とを揃え、第1多重極を出射したイオンを効率良く第2多重極に入射させることができる。なお、第1多重極からのイオン出射面におけるイオンのエミッタンス特性と第2多重極へのイオン入射面におけるイオンのアクセプタンス特性とを完全に一致させることは現実的には不可能であるとともに、実際上イオンの挙動が理想通りではないこと等を考慮するとエミッタンス特性とアクセプタンス特性とを一致させることは必ずしも必要ではない。したがって、実際には上記制御手段は、第1多重極からのイオン出射面におけるイオンのエミッタンス特性と第2多重極へのイオン入射面におけるイオンのアクセプタンス特性とを近付けるように高周波電圧のパラメータ例えば位相を制御すれば、イオンの通過効率を上げる上で十分な効果を奏する。ただし、第1多重極を出射した或るイオンが次の第2多重極に入射するまでに要する時間は該イオンの質量電荷比に依存する。何故なら、イオンの質量電荷比によってイオンの飛行速度が相違するからである。そこで、本発明に係る質量分析装置において好ましくは、前記制御手段は、前記第1及び第2多重極にそれぞれ印加される同一周波数である高周波電圧の位相差を、前記第1多重極から出射して前記第2多重極へ入射しようとするイオンの質量電荷比に応じて調整する構成とするとよい。例えば、三連四重極型質量分析装置において第1多重極から第2多重極へイオンを入射させる場合には、第1多重極で選別される特定の質量電荷比のイオンについて高周波電圧の位相差を調整すればよい。なお、シミュレーション計算により上記適切な位相差を求めるようにしてもよいが、予備測定により求めるようにすることもできる。即ち、例えば質量電荷比が既知である成分を含む複数の標準試料について各段の多重極に印加する高周波電圧の位相を変化させながら測定を行うことにより、各質量電荷比に対して、イオンの通過効率が最適又はそれに近い状態となるような高周波電圧の位相の関係を予め調べておく。こうした質量電荷比と位相との関係を例えばテーブル化して或いは数式化して記憶部に保持しておき、制御手段は、分析実行時に質量電荷比が指定されると上記記憶部に保持された情報に基づいて各多重極における最適な位相を求めて各多重極の位相を調整するようにしてもよい。本発明に係る質量分析装置によれば、イオンが複数の多重極を通過する構成において、或る多重極をイオンが出射してから次の多重極へ入射する際のイオンの損失を少なくし、イオンの通過効率を改善することができる。それによって、実質的に質量分析に供されるイオンの量を増加させ、分析感度や精度、さらには分析の再現性を向上させることができる。また、質量電荷比に応じて高周波電圧の位相差を調整する構成とすれば、分析目的のイオンの質量電荷比に拘わらず通過効率が向上するので、幅広い質量電荷比に対し分析感度や精度、再現性を向上させることができる。本発明の一実施例による三連四重極型質量分析装置を添付図面を参照して説明する。図1は本実施例による三連四重極型質量分析装置の要部の構成図である。この装置は、試料液を噴霧するノズル11と、サンプリングコーン12と、第1イオンレンズ13と、オクタポール型の第2イオンレンズ14と、第1プリロッド四重極151及び第1メイン四重極152から成る第1段四重極15と、コリジョンセル16内に配置された第2段四重極17と、第3プリロッド四重極191及び第3メイン四重極192から成る第3段四重極19と、検出器20と、第1イオンレンズ13、第2イオンレンズ14、第1段四重極15、第2段四重極17、及び第3段四重極19にそれぞれ直流電圧と高周波電圧とを重畳した電圧を印加する第1乃至第5電圧源30、33、36、39、42と、第1乃至第5電圧源30、33、36、39、42に対し高周波電圧の位相をそれぞれ独立に設定するための位相設定部32、35、38、41、44と、第1乃至第5電圧源30、33、36、39、42よりそれぞれ印加される高周波電圧の位相をモニタする位相モニタ部31、34、37、40、43と、第1乃至第5電圧源30、33、36、39、42やサンプリングコーン12などに直流電圧を供給する直流電圧源45と、上記各部の動作を制御する制御部46と、を備える。ノズル11から検出器20までのイオンが通過する経路は複数に区画されたチャンバ10内に配設され、ノズル11が配設されたイオン化室内は略大気圧であり、第1段四重極15から検出器20までが配置された分析室内は最も真空度が高い。即ち、この質量分析装置では、イオン化室から分析室まで順番に真空度が高くなる多段差動排気系の構成が採られている。この三連四重極型質量分析装置における基本的なMS/MS分析動作を概略的に説明する。この装置の前段には液体クロマトグラフが設けられ、液体クロマトグラフのカラムで分離された試料液がノズル11に導入される。ノズル11において片寄った電荷を付与されつつ略大気圧雰囲気中に噴霧された試料液の液滴から溶媒が気化する過程で、試料に含まれる各種成分はイオン化され、生成されたイオンはサンプリングコーン12を通過して後段へと送られる。イオンは第1イオンレンズ13及び第2イオンレンズ14を通過する際に収束され、場合によっては加速されて、第1段四重極15に導入される。第1段四重極15には様々な質量電荷比を有するイオンが導入されるが、特定の質量電荷比を有する目的イオンのみが第1段四重極15を選択的に通過し、それ以外のイオンは第1段四重極15を通過する途中で発散して除去される。第1段四重極15を通過したイオンはプリカーサイオンとしてコリジョンセル16内に導入される。コリジョンセル16にはガス供給管18よりアルゴン等の所定の衝突ガスが導入されており、プリカーサイオンは第2段四重極17により形成される電場で収束されつつ通過する際に衝突ガスに衝突すると解離し、多様なプロダクトイオンを生成する。これら各種のプロダクトイオンはコリジョンセル16から出て第3段四重極19に導入され、特定の質量電荷比を有するプロダクトイオンのみが第3段四重極19を選択的に通過して検出器20に送られる。こうして検出器20には特定の質量電荷比を有するプリカーサイオンに由来し質量電荷比を有するプロダクトイオンのみが到達しその数に応じたイオン電流が流れ、検出信号として出力される。次に、本実施例の三連四重極型質量分析装置に特徴的な動作について説明する。上述したMS/MS分析において高い感度や精度を実現するには、コリジョンセル16内で解離させるプリカーサイオンの量をできるだけ多くすること、及び、第3段四重極19を通過させる目的プロダクトイオンの量をできるだけ多くすることが重要である。これらのためには、第1段四重極15を出射したイオンを効率良く第2段四重極17に導入し、また第2段四重極17を出射したイオンを効率良く第3段四重極19に導入する必要がある。第1段四重極15、第3段四重極19と第2段四重極17とは特定の質量電荷比を持つイオン選択機能の有無という相違はあるものの、いずれも高周波電場の作用によりイオンを輸送する機能を持つ。このように高周波電圧が印加される四重極の入口端面において受け容れ可能なイオンの速度や位置四重極ロッド電極内のイオン光軸Cからの距離の拡がりの範囲は、イオンが入口端面にあるときの高周波電圧の位相に依存することが知られているピーターPeterHDawson著、クォドルポールマススペクトロメトリアンドイッツアプリケーションズQuadrupoleMassSpectrometryandItsApplications、エルセビエールサイエンティフィックパブリケイションElsevierScientificPubCo発行、1976年等参照。図2は該文献の第25頁Fig.2.14に基づく状態位相図の一例である。この図は四重極の入口端面においてどのような条件イオン速度、位置のイオンを受け容れ可能であるのかを示す図である。横軸がイオンの相対位置、縦軸がイオンの相対速度を示し、横軸の中心点は四重極内空間の中心点つまりイオン光軸を示し、横軸上の中心点からの距離は四重極内空間の中心点からの距離を示す。また、図2中a、b、c、dで示す楕円で囲む範囲はそれぞれ、イオン入射時の高周波電圧の位相が0、-π/4、π/2、π/4であるときのイオン受け容れ可能な範囲である。例えばイオン入射時の高周波電圧の位相が0である場合には、図2A又はB中にaで示す範囲の相対速度、相対位置のイオンが四重極ロッド内空間に受け容れられる。なお、図2においてAとBの相違は四重極の動作点によるものであり、状態位相図は動作点によって変わることになる。ただ、いずれにしても、図2から、イオンが四重極に入射するときの高周波電圧の位相によって、受け容れられるイオンの速度や位置、つまりはアクセプタンス特性が大きく相違するということが分かる。一方、四重極の出口端面においても同様に、四重極から出射するイオンの速度や位置、つまりエミッタンス特性はイオン出射時の高周波電圧の位相によって相違する。そのため、例えばイオンが第1段四重極15から出射し次の第2段四重極17に入射する場合を考えた場合、出射側のエミッタンス特性と入射側のアクセプタンス特性図2における例えばaの形状が一致していれば、第1段四重極15から出射したイオンが最も効率よく次段の第2段四重極17に入射することになる。第2段四重極17から出射したイオンが第3段四重極19に入射する場合も同様である。仮に第1段四重極15を出射したイオンが全く時間遅れなく次の第2段四重極17に入射するとすれば、上述したように出射側のエミッタンス特性と入射側のアクセプタンス特性とをほぼ一致させるために、第1段四重極15に印加される高周波電圧の位相と第2段四重極17に印加される同一周波数の高周波電圧の位相とは常に一定の関係を保てばよいことになる。しかしながら、実際には第1段四重極15と第2段四重極17との間には高周波電場の作用が及ばない飛行空間が存在し、イオンがその飛行空間を通過するのに要する時間は無視できず、さらにその飛行時間は通過するイオンの質量電荷比によって相違する。そのため、出射側のエミッタンス特性と入射側のアクセプタンス特性とを一致させるためには、第1段四重極15に印加される高周波電圧の位相と第2段四重極17に印加される同一周波数の高周波電圧の位相との関係は一定にはならず、通過するイオンの質量電荷比に応じて調整する必要がある。本実施例の構成では、第3乃至第5電圧源36、39、42から第1段乃至第3段四重極15、17、19に対し同一周波数の高周波電圧が印加されるが、それら高周波電圧の位相は、第1段四重極15と第2段四重極17に印加される高周波電圧の位相の差が通過するイオンの質量電荷比ここではプリカーサイオンの質量電荷比に応じた所定の状態になり、且つ、第2段四重極17と第3段四重極19に印加される高周波電圧の位相の差が通過するイオンの質量電荷比ここでは目的とするプロダクトイオンの質量電荷比に応じた所定の状態になるように設定される。装置の構成や各部への印加電圧などの測定条件が決まっていれば、或る質量電荷比を有するイオンについての好適な位相差は定まっているため、予備測定などによって、出射側のエミッタンス特性と入射側のアクセプタンス特性とがほぼ一致するような好適な位相差に関する情報を質量電荷比に対応して求めることができる。そこで、この質量分析装置では、未知試料の測定に先立ち、制御部46において上記のような位相差に関する情報を格納した位相値テーブルを作成するために複数の相異なる質量電荷比を有する成分を含有する標準試料を用いて予備測定が実行される。予備測定では、第1乃至第5電圧源30、33、36、39、42でそれぞれ直流電圧に重畳させる高周波電圧の周波数を規定の共通値に設定し、第1段四重極15、第2段四重極17、及び第3段四重極19にそれぞれ印加する高周波電圧の位相の差を徐々に変化させながら検出信号のピーク値をモニタし、ピーク値が最大となるような位相差をそれぞれ見い出す。そして、通過するイオンの質量電荷比を変化させたものについて、第1段四重極15へ印加される高周波電圧と第2段四重極17へ印加される高周波電圧との最適位相差、及び、第2段四重極17へ印加される高周波電圧と第3段四重極19へ印加される高周波電圧との最適位相差、を順次求め、これをテーブル化して位相値テーブル47に格納しておく。なお、求めた位相差情報をテーブル化するのではなく例えば数式化する等、他の形態で以て制御部46の内部に記憶させておいてもよい。なお、上記のような最適位相差情報の算出動作は、例えば各部に印加される電圧値の調整や質量校正などのオートチューニングと同時に行うことができる。目的試料のMS/MS分析を行う際に、制御部46にはプリカーサイオンの質量電荷比と目的プロダクトイオンの質量電荷比とが設定される。分析が開始されると、制御部46はそれぞれのイオン質量電荷比に応じて第1乃至第5電圧源30、33、36、39、42に対し電圧値などを設定するとともに、位相値テーブル47から上記の質量電荷比に対応した位相差情報を読み出し、位相設定部38、41、44を介して各四重極15、17、19に印加される高周波電圧の位相の相互の関係を設定する。なお、求めたい質量電荷比に対するデータが位相値テーブル47中にない場合には、近接する質量電荷比に対応するデータに基づいて内挿処理等により近似的に位相差情報を求めればよい。なお、プリカーサイオンスキャンやプロダクトイオンスキャンのように所定の質量電荷比範囲で質量走査を行う場合には、位相値テーブル47から各質量電荷比に対応した位相差情報を順次読み出して、それぞれの高周波電圧の位相の関係が時間経過に伴って順次変化するように位相設定部38、41、44を介して高周波電圧の位相を変化させればよい。上記のように第1イオンレンズ13、第2イオンレンズ14、第1段四重極15、第2段四重極17、及び第3段四重極19に印加される電圧のうちの高周波成分の位相が設定されると、目的とする質量電荷比を持つプリカーサイオンは高い効率で以て第1段四重極15と第2段四重極17との間の空間を通過し、コリジョンセル16内の第2段四重極17の内部空間に導入される。そして、衝突ガスと衝突して解離を生じ、各種のプロダクトイオンを生成する。生成されたプロダクトイオンの中で目的とする質量電荷比を持つプロダクトイオンが高い効率で以て、第2段四重極17と第3段四重極19との間の空間を通過して第3段四重極19に導入され、ここで目的とする質量電荷比を持つプロダクトイオンのみが選択されて通過し検出器20に到達する。これにより、検出器20には目的とするプロダクトイオンの開裂によって生成された目的とするプロダクトイオンが高い効率で以て到達し、高い感度の分析を行うことができる。なお、上記実施例はLC/MSに本願発明を適用したものであるが、GC/MS等、三連四重極型質量分析装置であればその適用範囲は上記記載に限るものではない。また、三連四重極型質量分析装置でなく通常の四重極型質量分析装置において、多重極のイオンガイドから出射したイオンが四重極マスフィルタに入射する場合でも同様である。また、上記実施例は一例であって、本発明の趣旨の範囲で適宜変更や修正を行っても本願発明に包含されることは明らかである。