"粒子線が照射されることによってX線を発生するX線発生用ターゲットであって、前記粒子線の照射によってX線を発生する第1材料を含むX線発生部と、前記X線発生部で生じた熱を放熱させる放熱部とを備えており、前記X線発生部は、少なくとも底面および側面を有しており、前記X線発生部の少なくとも底面および/または側面は、前記放熱部に接触している、ことを特徴とするX線発生用ターゲット。前記X線発生部は、前記第1材料よりも熱伝導性が高い第2材料をさらに含む、請求項1に記載のX線発生用ターゲット。前記第1材料および前記第2材料は、粒状または粉状であり、前記X線発生部は、粒状または粉状の当該第1材料と第2材料との混合物からなる、請求項2記載のX線発生用ターゲット。前記第2材料は、炭素材料、および/または前記第1材料よりも融点が低い低融点金属からなる、請求項2または3記載のX線発生用ターゲット。前記炭素材料は、ダイヤモンドまたはグラファイトからなる、請求項4に記載のX線発生用ターゲット。前記第2材料は、前記第1材料よりも融点が低い低融点金属からなり、前記X線発生部は、前記第1材料からなる本体部分と、当該本体部分の外周面の少なくとも一部に配置され、前記低融点金属からなる接着部分とからなり、前記第1材料は、前記低融点金属を介して前記放熱部に密着している、請求項2に記載のX線発生用ターゲット。前記低融点金属は、アルミニウム、銅または銀からなる、請求項4または6に記載のX線発生用ターゲット。前記放熱部は、凹部を有しており、前記X線発生部は、前記凹部の内部に配置されており、前記X線発生部の底面および側面は、前記放熱部に接触している、請求項1から7のいずれかに記載のX線発生用ターゲット。前記X線発生部における前記第1材料が存在する部分の厚さは、150~500μmである、請求項1から8のいずれかに記載のX線発生用ターゲット。請求項1から9のいずれかに記載のX線発生用ターゲットを備えたX線発生装置。粒子線の照射によってX線を発生する第1材料と、当該第1材料よりも融点が低い低融点金属とを含むX線発生部と、前記X線発生部で生じた熱を放熱させる放熱部とを備えているX線発生用ターゲットの製造方法であって、前記第1材料と前記放熱部との間に前記低融点金属を介在するように、前記X線発生部を前記放熱部に設置するX線発生部設置工程と、粒子線を前記X線発生部に照射し、前記第1材料で発生した熱によって前記低融点金属を溶融させることによって、前記第1材料を前記低融点金属を介して前記放熱部に密着させる溶融密着工程とを含むことを特徴とする、X線発生用ターゲットの製造方法。しかし、上記のような薄膜状のターゲット層を用いたX線管ターゲットは、加速電圧が100keV以下程度の比較的小さなエネルギーを発生するための仕様であるため、厚肉の配管などを検査するために1MeVに近い大きなエネルギーのX線を発生させる場合には、薄膜状のターゲット層では電子ビームが透過してしまい、十分なX線発生量を得られないという問題がある。また、電子ビームが透過しないようにターゲット層を厚くした場合、ターゲット層の内部で発生する熱はターゲット層内部に滞留しやすく、薄膜状の熱拡散層だけではターゲット層からの放熱を良好に行うことが困難になる。それによって、ターゲット層の寿命が短くなるおそれがある。本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、高強度のX線が得られ、かつ、放熱性が向上したX線発生用ターゲットおよびそれを備えたX線発生装置を提供する。上記課題を解決するためのものとして、本発明のX線発生用ターゲットは、粒子線が照射されることによってX線を発生するX線発生用ターゲットであって、前記粒子線の照射によってX線を発生する第1材料を含むX線発生部と、前記X線発生部で生じた熱を放熱させる放熱部とを備えており、前記X線発生部は、少なくとも底面および側面を有しており、前記X線発生部の少なくとも底面および/または側面は、前記放熱部に接触していることを特徴とする請求項1。この構成によれば、X線発生部の少なくとも底面および/または側面が放熱部に接触しているので、X線発生部で発生される熱は、その底面および/または側面と放熱部の接触部分を介して放熱部へ伝達し、接触していない部分がある場合にはその部分から周囲の空気などへ放熱される。そのため、X線発生部がその底面および側面の両方から放熱することが可能であるので、X線発生部からの放熱性が向上し、X線発生部の内部に熱が滞留するおそれがなく、大きなエネルギーのX線を発生させてもX線発生部の寿命を延ばすことが可能になる。前記X線発生部は、前記第1材料よりも熱伝導性が高い第2材料をさらに含むのが好ましい請求項2。この構成によれば、X線発生部がX線を発生する第1材料よりも熱伝導性が高い第2材料を含んでいるので、X線発生時に第1材料で発生した熱を第2材料を介して放熱部へ円滑に伝達することが可能になり、X線発生部の放熱性をより向上することが可能である。前記第1材料および前記第2材料は、粒状または粉状であり、前記X線発生部は、粒状または粉状の当該第1材料と第2材料との混合物からなるのが好ましい請求項3。この構成によれば、X線発生部が粒状または粉状の第1材料と第2材料との混合物からなるので、第1材料と第2材料とは粒子ごとで接触することが可能になり、X線発生部の内部における第1材料と第2材料との接触面積がさらに増大し、X線発生部の放熱性をより一層向上することが可能である。前記第2材料は、炭素材料、および/または前記第1材料よりも融点が低い低融点金属からなるのが好ましい請求項4。この構成によれば、X線発生部に含まれる第2材料が、熱伝導性にすぐれた炭素材料および/またはX線発生時に第1材料の熱で溶融しやすい低融点金属からなるので、X線発生部に含まれる第1材料は炭素材料または低融点金属を介して熱伝導を良好に行うことが可能になり、X線発生部の放熱性を向上することが可能である。とくに、X線発生部が低溶融金属を含有する場合、第1材料で発生した熱などで溶融した低融点金属を介して第1材料と放熱部とを密着させることによって、第1材料と放熱部との密着性が向上するので、X線発生部の放熱性を向上することが可能である。前記炭素材料は、ダイヤモンドまたはグラファイトからなるのが好ましい請求項5。この構成によれば、ダイヤモンドまたはグラファイトは金属材料よりも熱伝導性に優れているので、これらの材料をX線発生部内部に含有することにより、X線発生部の放熱性をより向上することが可能である。前記第2材料は、前記第1材料よりも融点が低い低融点金属からなり、前記X線発生部は、前記第1材料からなる本体部分と、当該本体部分の外周面の少なくとも一部に配置され、前記低融点金属からなる接着部分とからなり、前記第1材料は、前記低融点金属を介して前記放熱部に密着しているのが好ましい請求項6。この構成によれば、X線発生部は、X線を発生する第1材料からなる本体部分の外周面に低融点金属からなる接着部分が配置されており、低融点金属は第1材料で発生した熱などによって容易に溶融させることが可能である。これにより、第1材料は低融点金属を介して隙間無く放熱部に密着することが可能になり、X線発生部から放熱部への熱伝導が向上し、X線発生部の放熱性をより向上することが可能である。前記低融点金属は、アルミニウム、銅または銀からなるのが好ましい請求項7。この構成によれば、アルミニウム、銅または銀は溶融温度が低く、かつ、溶融状態での密着性に優れているので、これらの材料をX線発生部に含有することにより、X線発生部の放熱性をより向上することが可能である。前記放熱部は、凹部を有しており、前記X線発生部は、前記凹部の内部に配置されており、前記X線発生部の底面および側面は、前記放熱部に接触しているのが好ましい請求項8。この構成によれば、X線発生部は、放熱部に形成された凹部の内部に配置され、かつ、X線発生部の底面および側面が放熱部に接触しているので、X線発生部と放熱部との接触面積が広くなるので、X線発生部から放熱部への熱伝導がさらに向上し、X線発生部の放熱性をより向上することが可能である。前記X線発生部における前記第1材料が存在する部分の厚さは、150~500μmであるのが好ましい請求項9。この構成によれば、X線発生部における第1材料が存在する部分の厚さが150~500μmであれば、厚肉の配管などを検査するために1MeVに近い大きなエネルギーのX線を発生させる場合に、電子ビーム等の粒子線がX線発生部を透過するおそれが低く、十分大きなエネルギーのX線を発生させることが可能である。本発明のX線発生装置は、上記のX線発生用ターゲットを備えている請求項10。そのため、X線発生部からの放熱性が向上し、X線発生部の内部に熱が滞留するおそれがなく、大きなエネルギーのX線を発生させてもX線発生部の寿命を延ばすことが可能になる。本発明のX線発生用ターゲットの製造方法は、粒子線の照射によってX線を発生する第1材料と、当該第1材料よりも融点が低い低融点金属とを含むX線発生部と、前記X線発生部で生じた熱を放熱させる放熱部とを備えているX線発生用ターゲットの製造方法であって、前記第1材料と前記放熱部との間に前記低融点金属を介在するように、前記X線発生部を前記放熱部に設置するX線発生部設置工程と、粒子線を前記X線発生部に照射し、前記第1材料で発生した熱によって前記低融点金属を溶融させることによって、前記第1材料を前記低融点金属を介して前記放熱部に密着させる溶融密着工程とを含むことを特徴とする請求項11。かかる特徴によれば、X線発生部を放熱部に設置した後、粒子線をX線発生部に照射して第1材料で発生した熱によって低融点金属を溶融させることにより、第1材料を低融点金属を介して放熱部に密着させることが可能になる。これにより、X線発生部から放熱部への熱伝導性が向上し、X線発生部の放熱性をより向上することが可能である。以上説明したように、本発明のX線発生用ターゲットおよびそれを備えたX線発生装置によれば、X線発生部からの放熱性が向上し、X線発生部の内部に熱が滞留するおそれがなく、大きなエネルギーのX線を発生させてもX線発生部の寿命を延ばすことが可能になる。以下、本発明のX線発生用ターゲットの実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1に示されるX線発生用ターゲット1は、X線発生部9と、放熱部3と、被覆部6とから構成されている。X線発生部9は、本体部分2と、接着部分4とから構成されている。本体部分2は、電子ビームすなわち、電子線等の粒子線の照射によってX線を発生する第1材料からなる部分であり、具体的には、タングステンなどの金属材料の厚肉の部材からなり、150~500μmの厚さを有する。本体部分2は、例えば、タングステンの金属塊例えばバルク材などから切り出すことにより、150~500μmの厚さを有する厚肉の板状の部材になるように成形される。接着部分4は、第1材料よりも熱伝導性が高い第2材料からなる部分であり、具体的には、第1材料よりも融点が低い低融点金属である銅、アルミニウムまたは銀の薄膜からなる。放熱部3は、X線発生部9で生じた熱を放熱させる板状または厚い膜状の部分であり、銅などの金属材料よりも熱伝導性が高いダイヤモンドからなる。放熱部3は、上面側に開放した凹部5を有している。凹部5の内部には、X線発生部9が配置されている。具体的には、X線発生部9の本体部分2の底面2aおよび側面2bが凹部5の内周面に沿って接着部分4によって密着している。これにより、本体部分2で発生した熱を本体部分2の底面2aおよび側面2bから接着部分4を介して放熱部3に逃がすことが可能である。被覆部6は、放熱部3と同様に、熱伝導性が高いダイヤモンド製の薄膜状の部分である。被覆部6は、放熱部3およびX線発生部9の上面全体を覆うように、薄膜状に形成される。本体部分2の上面2cは、被覆部6に接触しているので、本体部分2で発生した熱は被覆部6を介して放出することが可能である。放熱部3および被覆部6として、熱伝導性が高いダイヤモンドやグラファイトを用いるのが好ましい。その理由として、ダイヤモンドは通常の金属金、銀、銅などの2~10倍近くの熱伝導度を持ち、グラファイトはそれに次ぐ材料であり、工業的に安価且つ一般的に入手可能な材料であるなどの理由が挙げられる。なお、ダイヤモンドの他に、カーボンナノチューブ、グラフェン、ナノグラフェン、カーボンナノホーン、グラフェンナノリボンなど、金属よりも熱伝導性が高い炭素材料を用いるのが好ましい。X線発生用ターゲット1は、図1に示されるように、X線発生装置100の陽極部アノード101に設置され、電子銃などの陰極部カソード102から照射される電子ビームEを受けたとき、X線発生部9の本体部分2からX線XRを放射する。本実施形態のX線発生用ターゲット1を製造する場合、図2~6に示される工程により製造される。まず、図2に示されるように、CVD成膜により形成したダイヤモンドからなる放熱部3の表面にエッチング処理やレーザ加工などを施すことにより、X線発生部9が収納可能な深さを有する凹部5を形成する。なお、本実施形態では、放熱部3をCVD成膜により形成しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の方法で形成してもよい。また、放熱部3をグラファイトで形成する場合には、PVD,CVD成膜の他、グラファイトの固まりから削り出す方法を採用することも可能である。グラファイトは、より高い熱伝導性を備える高配向性のものが好ましい。ついで、図3~4に示される手順でX線発生部9を放熱部3に設置する。具体的には、まず、図3に示されるように、放熱部3の凹部5の内周面に沿って銅の薄膜をスパッタリングなどによって成膜することにより、X線発生部9の接着部分4を形成する。その後、図4に示されるように、放熱部3の凹部5の内部に、本体部分2となるタングステンの金属材を挿入することにより、X線発生部9の設置が完了する。なお、接着部分4を本体部分2の外周面に成膜してあらかじめX線発生部9を製造してから、X線発生部9を凹部5の内部に挿入してもよい。ついで、図5に示されるように、放熱部3およびX線発生部9の上面全体を覆うように、CVD法などによってダイヤモンド製の薄膜を成膜することにより、被覆部6を形成する。なお、被覆部6は、成膜時に凹部5の内部に入り込で形成されるので、その凹部5に入り込んだ部分6aがX線発生部9の本体部分2の上端面に密着する。その後、図6に示されるように、電子ビームEをX線発生部9の本体部分2に照射することにより、本体部分2が加熱され、そのときに発生する熱Hによって、銅薄膜からなる接着部分4が溶融する。その後、電子ビームEの照射を止めて、接着部分4が固化すれば、本体部分2が接着部分4を介して放熱部3に隙間無く密着し、X線発生用ターゲット1の製造が完了する。電子ビームEについては、X線発生装置100の電子銃などの陰極部101を用いてビーム量を調整して照射するようにしても良いし、別途加熱用の電子銃を設けても良い。これにより、接着部分4が溶融し、冷却時にはタングステンからなる本体部分2と放熱部3との隙間を埋めることが可能になる。なお、銅、アルミニウムまたは銀などの接着部分4がタングステン製の本体部分2の周囲に存在しても、本体部分2から発生するX線の特性を変化させるものではない。なぜならば、接着部分4は、本体部分2と放熱部3の隙間を埋める程度の量があればよく、本体部分2を構成するタングステンの量に比べてごく微量であるからであり、また、タングステンから発生する本来欲しい強度のX線に対して、タングステンと比較して軽い金属である銅、アルミニウムまたは銀からは強度の低いX線がわずかに発生するのみだからである。上記のようなX線発生用ターゲット1の構造では、X線発生部9の本体部分2を小さくすることによって、電子ビームの収束性能に依らず、X線光源のサイズを自由に変更することが可能である。本実施形態の特徴1以上のように構成された図1に示されるX線発生用ターゲット1では、X線発生部9が、電子ビームEの照射によってX線を発生するタングステンなどの第1材料を含む厚肉形状の本体部分2を有している。このX線発生部9の本体部分2の底面2a、側面2bおよび上面2cは、熱伝導性が高いダイヤモンドからなる放熱部3および被覆層6によって全面にわたって接触しており、これらの面全体から放熱部3および被覆層6へ放熱することが可能である。そのため、X線発生部9からの放熱性が向上し、X線発生部9の内部に熱が滞留するおそれがなく、大きなエネルギーのX線を発生させてもX線発生部9の寿命を延ばすことが可能になる。2また、上記実施形態のX線発生用ターゲット1では、X線発生部9がX線を発生するタングステンなどの第1材料よりも熱伝導性が高い銅、アルミニウムまたは銀などの第2材料からなる接着部分4を有している。そのため、X線発生時にタングステンなどの第1材料で発生した熱を銅などの第2材料を介して放熱部3へ円滑に伝達することが可能になり、X線発生部9の放熱性をより向上することが可能である。3さらに、上記実施形態のX線発生用ターゲット1では、X線発生部9は、X線を発生するタングステンなどの第1材料からなる本体部分2の外周面に銅などの低融点金属からなる接着部分4が配置されており、低融点金属はタングステンで発生した熱などによって容易に溶融させることが可能である。これにより、タングステンなどからなる本体部分2は低融点金属からなる接着部分4を介して隙間無く放熱部3に密着することが可能になり、X線発生部9から放熱部3への熱伝導が向上し、X線発生部9の放熱性をより向上することが可能である。なお、低溶融金属のうち、とくにアルミニウム、銅または銀は、溶融温度が低く、かつ、溶融状態での密着性に優れているので、これらの材料をX線発生部9に含有することにより、X線発生部9の放熱性をより向上する点で好ましい。4さらに、上記実施形態のX線発生用ターゲット1では、X線発生部9は、放熱部3に形成された凹部5の内部に配置され、かつ、X線発生部9の底面2aおよび底面2aが放熱部3に接触しているので、X線発生部9と放熱部3との接触面積が広くなるので、X線発生部9から放熱部3への熱伝導がさらに向上し、X線発生部9の放熱性をより向上することが可能である。5また、本実施形態では、X線発生部9におけるタングステンなどの第1材料が存在する本体部分2の厚さが150~500μmであるので、厚肉の配管などを検査するために1MeVに近い大きなエネルギーのX線を発生させる場合に、電子ビーム等の電子ビームEがX線発生部9を透過するおそれが低く、十分大きなエネルギーのX線を発生させることが可能である。なお、本体部分2の厚さが150μm未満であれば、X線発生部9を透過するおそれが高くなり、また、500μmを超えると発生するX線のエネルギーの大きさが変わらなくなるので、上記のように本体部分2の厚さが150~500μmであるのが好ましい。6さらに、本実施形態のX線発生用ターゲット1を、X線発生装置100に備えた場合、X線発生部9からの放熱性が向上し、X線発生部9の内部に熱が滞留するおそれがなく、大きなエネルギーのX線を発生させてもX線発生部9の寿命を延ばすことが可能になる。そのため、部品交換の手間や回数を低減することが可能になる。7また、本実施形態のX線発生用ターゲット1の製造方法では、タングステンなどの第1材料からなる本体部分2と放熱部3との間に銅などの低融点金属からなる接着部分4が介在するようにX線発生部9を放熱部3に設置し、その後、電子ビームEをX線発生部9に照射して第1材料で発生した熱によって低融点金属を溶融させることにより、第1材料を低融点金属を介して放熱部3に密着させることが可能になる。これにより、X線発生部9から放熱部3への熱伝導性が向上し、X線発生部9の放熱性をより向上することが可能である。また、このような製造方法では、X線発生部9を放熱部3に設置した後に、X線発生装置100の既存の電子銃などの陰極部102を用いて低溶融金属を溶融させることが可能であるので、特別な製造装置が不要である。しかも、タングステンなどの第1材料からなる本体部分2の大きさを変えることによって、X線発生装置100の電子ビームの収束性能に依らないX線発生用ターゲットを製造することが可能である。他の実施形態A上記実施形態では、放熱部3が非貫通型の凹部5にX線発生部9が設置された例が示されているが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明の他の実施形態として図7に示されるX線発生用ターゲット11のように、放熱部3に形成された貫通孔7の内部にX線発生部9を設置し、放熱部3の上下両面をダイヤモンドの薄膜からなる被覆層6、8によって被覆してもよい。この場合、タングステンなどの本体部分2の上面2cおよび底面2aにダイヤモンドからなる被覆層6、8が直接成膜されているので接触性が向上し、それとともにX線発生部9の放熱性が向上している。なお、本体部分2の側面2bは、図1に示される構造と同様に、銅、アルミニウムまたは銀などの低溶融金属からなる接着部分4を介してダイヤモンドからなる放熱部3に密着しており、放熱部3を介して本体部分2で発生した熱を逃すことが可能である。しかも、図7に示される構造でも、電子ビームEを受けて本体部分2から発生する熱によって本体部分2の両側の接着部分4を溶融させて、本体部分2と放熱部3とを密着させることが可能である。Bまた、本発明のさらに他の実施形態として図8に示されるX線発生用ターゲット21のように、ダイヤモンドからなる放熱部22の上面に、X線発生部9が設置された構造でもよい。この構造では、X線発生部9のタングステンなどからなる本体部分2の底面2aは、銅などの低溶融金属からなる接着部分4を介して放熱部22の上面に密着している。この場合も、X線発生部9の本体部分2の底面2aから接着部分4を介して放熱部22に放熱することが可能である。また、本体部分2の側面2bおよび上面2cは、周囲の空気に直接接触しているので、これら側面2bおよび上面2cからの放熱も可能である。また、図8に示される構造でも、電子ビームEを受けて本体部分2から発生する熱によって本体部分2の底面2aの接着部分4を溶融させて、本体部分2と放熱部3とを密着させることが可能である。なお、通常のろう付けや接着などの技術によって本体部分2と放熱部3とを密着させることも可能である。Cさらに、本発明のさらに他の実施形態として図9に示されるX線発生用ターゲット31では、X線を発生する第1材料と熱伝導性が高い第2材料とがそれぞれ粒状または粉末状であり、これらの粒を混合したものをX線発生部32として用いている。具体的には、X線発生部32は、電子ビームEを受けてX線を発生するタングステンなどの第1材料の粒33と、第1材料よりも熱伝導性が高い第2材料例えば、ダイヤモンドまたはグラファイトなどの炭素材料からなる粒34とからなり、粒33、34は、ダイヤモンドからなる放熱部3に形成された凹部5の内部に充填されている。さらに、放熱部3および粒33、34の上には、ダイヤモンドの薄膜からなる被覆層6が成膜されている。これにより、X線を発生する第1材料の粒33は、熱伝導性が高いダイヤモンドなどの第2材料からなる粒34を介して放熱部3に接触することが可能になり、第1材料と放熱部3とが密に接触することが可能になり、X線発生部32の放熱性をさらに向上することが可能になる。なお、粉末状の第1材料と第2材料を放熱部3の凹部5にそのまま充填することも可能であるが、これらの粉末を混合した後に加圧成型してペレット状に固めた後に放熱部3の凹部5に埋め込み、ロウ付けなどで放熱部3に密着させてもよい。図9に示されるX線発生用ターゲット31では、X線発生部32が粒状または粉状の第1材料と第2材料との混合物からなるので、第1材料と第2材料とは粒子ごとで接触することが可能になり、X線発生部32の内部における第1材料と第2材料との接触面積がさらに増大し、X線発生部32の放熱性をより一層向上することが可能である。また、X線発生部31に含まれる第2材料が、熱伝導性にすぐれた炭素材料からなるので、X線発生部31に含まれる第1材料は炭素材料を介して熱伝導を良好に行うことが可能になり、X線発生部31の放熱性を向上することが可能である。また、炭素材料として、とくに、ダイヤモンドまたはグラファイトを用いた場合、これらの材料は金属材料よりも熱伝導性に優れているので、これらの材料をX線発生部9内部に含有することにより、X線発生部9の放熱性をより向上することが可能である。Dさらに、本発明のさらに他の実施形態として図10~11に示されるX線発生用ターゲット41では、上記の図9に示される粒33、34の他に、銅などの低溶融金属からなる接着部分36を含有することによりX線発生部42を構成している。具体的には、図11に示されるX線発生部42は、電子ビームEを受けてX線を発生するタングステンなどの第1材料の粒33と、ダイヤモンドなどからなる粒34と、銅などの低溶融金属からなる接着部分36とによって構成されている。ダイヤモンドおよび低溶融金属は、第1材料よりも熱伝導性が高い材料であり、本発明の第2材料の概念に含まれるものである。粒33と粒34との間、および粒33、34と放熱部3との間は、接着部分36によって密着している。X線発生部42は、ダイヤモンドからなる放熱部3の凹部5の内部に配置され、ダイヤモンドからなる被覆層6が放熱部3およびX線発生部42の上を被覆している。なお、タングステンの粒33およびダイヤモンドの粒34は、粉末状でもよい。銅などの低溶融金属からなる接着部分36を形成する場合、図10に示されるように、タングステンの粒33およびダイヤモンドの粒34とともに、銅などの低溶融金属の粒35を混合した状態で放熱部3の凹部5に充填し、被覆層6によって凹部5の上を閉じた後に、電子ビームEを照射すれば、タングステンの粒33から発生した熱によって低溶融金属の粒35が溶融して粒33、34の間に流れ込むことにより、粒33、34および放熱部3を互いに密着することが可能な接着部分36を形成することが可能である。これにより、X線を発生するタングステンの粒33は、熱伝導性が高いダイヤモンドの粒34および低溶融金属の接着部分36を介して放熱部3により密着させることが可能になり、X線発生部32の放熱性をより一層向上させることが可能になる。なお、低溶融金属の接着部分36は、上記以外の方法でも加熱溶融させることが可能である。また、図11に示されるX線発生用ターゲット41では、X線発生部42に含まれる第2材料が、熱伝導性にすぐれた炭素材料からなる粒34およびX線発生時に第1材料の熱で溶融しやすい低融点金属からなる接着部分36からなるので、X線発生部42に含まれる第1材料の粒33は炭素材料の粒34および低融点金属の接着部分36を介して熱伝導を良好に行うことが可能になり、X線発生部42の放熱性を向上することが可能である。とくに、X線発生部42が低溶融金属の接着部分36を含有しているので、低融点金属の接着部分36がX線発生時に第1材料の粒33から発生する熱で溶融して第1材料の粒33と放熱部3とを密着させることが可能になる。これにより、第1材料の粒33と放熱部3との密着性が向上するので、X線発生部42の放熱性を向上することが可能である。なお、粒34は、上記のようにダイヤモンドの粒だけでなく、種々の炭素材料を採用することが可能であり、例えば、カーボンナノチューブ、グラフェン、ナノグラフェン、カーボンナノホーン、グラフェンナノリボンなどの粉末を使用するか、もしくは一部代替することも可能である。"