"複数の凸部を表面に有する基材Aと、前記複数の凸部の頭頂部および前記複数の凸部の間の空隙を覆うように連続して形成された厚さ1~100nmの薄膜Bとを有する、薄膜積層基材。前記凸部の高さhが、10~1000nmであり、前記凸部とこれに隣接する凸部との間隔iが、10~1000nmであり、前記凸部の高さhと間隔iとの比h/iが、1以上である、請求項1に記載の薄膜積層基材。前記凸部の間の最底部から前記薄膜Bまでの高さh1が、前記凸部の高さhの半分以上前記凸部の高さh未満である、請求項1または2に記載の薄膜積層基材。前記薄膜Bが、金属酸化物または金属酸化物前駆体からなる、請求項1~3のいずれか一項に記載の薄膜積層基材。前記金属酸化物が、SiO2である、請求項4に記載の薄膜積層基材。前記基材Aの凸部側の表面における10μLの水滴の転落角が、50°以下である、請求項1~5のいずれか一項に記載の薄膜積層基材。凸部の高さhが10~1000nmであり、凸部とこれに隣接する凸部との間隔iが10~1000nmであり、凸部の高さhと間隔iとの比h/iが1以上であり、かつ凸部側の表面における10μLの水滴の転落角が50°以下である、複数の凸部を表面に有する基材Aを、金属酸化物または金属酸化物前駆体を析出できる金属酸化物析出反応液に浸漬し、該金属酸化物析出反応液を10~80°Cで保持して、前記基材Aの表面に金属酸化物または金属酸化物前駆体を析出させることによって、前記複数の凸部の頭頂部および前記複数の凸部の間の空隙を連続して覆う厚さ1~100nmの薄膜Bを形成する、薄膜積層基材の製造方法。本発明は、従来に比べ大面積化された自己支持性のナノ薄膜を有する薄膜積層基材;従来に比べ大面積化された自己支持性のナノ薄膜を、少ない工程数で、簡便にかつ確実に形成できる薄膜積層基材の製造方法を提供する。本発明の薄膜積層基材は、複数の凸部を表面に有する基材Aと、前記複数の凸部の頭頂部および前記複数の凸部の間の空隙を覆うように連続して形成された厚さ1~100nmの薄膜Bとを有することを特徴とする。前記凸部の高さhは、10~1000nmであり、前記凸部とこれに隣接する凸部との間隔iは、10~1000nmであり、かつ前記凸部の高さhと間隔iとの比h/iは、1以上であることが好ましい。前記凸部の間の最底部から前記薄膜Bまでの高さh1は、前記凸部の高さhの半分以上前記凸部の高さh未満であることが好ましい。前記薄膜Bは、金属酸化物または金属酸化物前駆体からなることが好ましい。前記金属酸化物は、SiO2であることが好ましい。前記基材Aの凸部側の表面における10μLの水滴の転落角は、50°以下であることが好ましい。本発明の薄膜積層基材の製造方法は、凸部の高さhが10~1000nmであり、凸部とこれに隣接する凸部との間隔iが10~1000nmであり、凸部の高さhと間隔iとの比h/iが1以上であり、かつ凸部側の表面における10μLの水滴の転落角が50°以下である、複数の凸部を表面に有する基材Aを、金属酸化物または金属酸化物前駆体を析出できる金属酸化物析出反応液に浸漬し、該金属酸化物析出反応液を10~80°Cで保持して、前記基材Aの表面に金属酸化物または金属酸化物前駆体を析出させることによって、前記複数の凸部の頭頂部および前記複数の凸部の間の空隙を連続して覆う厚さ1~100nmの薄膜Bを形成することを特徴とする。本発明の薄膜積層基材は、従来に比べ大面積化された自己支持性のナノ薄膜を有する。本発明の薄膜積層基材の製造方法によれば、従来に比べ大面積化された自己支持性のナノ薄膜を、少ない工程数で、簡便にかつ確実に形成できる。<薄膜積層基材>図1は、本発明の薄膜積層基材の一例を示す断面図である。薄膜積層基材1は、複数の凸部2を表面に有する基材A3と、複数の凸部2の頭頂部4および複数の凸部2の間の空隙5を覆うように連続して形成された、基材A3の面方向に拡がる薄膜B6とを有する。基材A基材A3は、支持体7と、支持体7の上に形成された、複数の凸部2を表面に有する樹脂層8とを有する。なお、基材Aは、複数の凸部を表面に有するものであればよく、図示例のものに限定はされない。例えば、支持体の表面に複数の凸部が直接形成されたものであってもよく、複数の凸部を表面に有する樹脂層のみからなるものであってもよい。支持体7の材質としては、例えば、ポリカーボネート、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂トリアセチルセルロース等、ポリオレフィン、ガラス、金属等が挙げられる。樹脂層8の材質としては、後述する硬化性樹脂組成物の硬化物等が挙げられる。凸部2の高さhは、10~1000nmが好ましく、20~500nmがより好ましい。高さhが10nm以上であれば、凸部2の間の空隙5における空気保持能力が高くなり、後述する金属酸化物析出反応液が空隙5に侵入しにくくなり、その結果、複数の凸部2の頭頂部4および複数の凸部2の間の空隙5を覆うように自己支持性の薄膜B6が連続して形成されやすくなる。高さhが1000nm以下であれば、凸部2同士が合一することなく、凸部2の形状を維持できる。凸部2の高さhは、樹脂層8の断面を電子顕微鏡によって観察したときにおける、凸部2の頭頂部4と、凸部2の間に存在する最底部9との間の距離を10点測定し、これらの値を平均したものである。凸部2とこれに隣接する凸部2との間隔iは、10~1000nmが好ましく、20~500nmがより好ましい。間隔iが10nm以上であれば、凸部2同士が合一することなく、凸部2の形状を維持できる。間隔iが1000nm以下であれば、凸部2の間の空隙5における空気保持能力が高くなり、後述する金属酸化物析出反応液が空隙5に侵入しにくくなり、その結果、複数の凸部2の頭頂部4および複数の凸部2の間の空隙5を覆うように自己支持性の薄膜B6が連続して形成されやすくなる。凸部2の間隔iは、樹脂層8の断面を電子顕微鏡によって観察したときにおける、凸部2の中心から隣接する凸部2の中心までの距離を10点測定し、これらの値を平均したものである。凸部2の高さhと間隔iとの比h/iは、1以上が好ましく、2以上がより好ましい。h/iが1以上であれば、凸部2の間の空隙5における空気保持能力が高くなり、後述する金属酸化物析出反応液が空隙5に侵入しにくくなり、その結果、複数の凸部2の頭頂部4および複数の凸部2の間の空隙5を覆うように自己支持性の薄膜B6が連続して形成されやすくなる。基材A3の凸部2側の表面における10μLの水滴の転落角は、50°以下が好ましく、10°以下がより好ましい。水滴の転落角が50°以下であれば、凸部2の間の空隙5における空気保持能力が高くなり、後述する金属酸化物析出反応液が空隙5に侵入しにくくなり、その結果、複数の凸部2の頭頂部4および複数の凸部2の間の空隙5を覆うように自己支持性の薄膜B6が連続して形成されやすくなる。水滴の転落角の下限は、小さければ小さいほど好ましい。水滴の転落角は、基材A3の凸部2側の表面に10μLの水滴を置き、基材A3を傾けた際に水滴が転落を開始する角度である。基材A3の凸部2側の表面における水との接触角は、90°以上が好ましく、130°以上がより好ましい。水との接触角が90°以上であれば、凸部2の間の空隙5における空気保持能力が高くなり、後述する金属酸化物析出反応液が空隙5に侵入しにくくなり、その結果、複数の凸部2の頭頂部4および複数の凸部2の間の空隙5を覆うように自己支持性の薄膜B6が連続して形成されやすくなる。水との接触角の上限は、大きければ大きいほど好ましい。水との接触角は、市販の接触角測定装置を用い、基材A3の凸部2側の表面に10μLの水滴を滴下した後、滴下の3秒後から1秒間隔で水接触角を5秒間測定し、平均値を求め、さらに水を滴下する位置を変えて同様の操作を3回行い、計3回の測定値を平均したものである。薄膜B薄膜B6は、厚さ1~100nmの自己支持性のナノ薄膜である。自己支持性とは、凸部2の頭頂部に接する部分以外において、他の部材による支持がなくとも膜としての形状を保ち得る性質を意味する。薄膜B6の材質としては、後述する液相析出法によってナノ薄膜を形成しやすい点から、金属酸化物または金属酸化物前駆体が好ましい。金属酸化物としては、例えば、TiO2、TaO、ZrO2、Fe2O3、SiO2、Al2O3、ZnO、SnO2等が挙げられ、SiO2が好ましい。金属酸化物前駆体としては、金属水酸化物が挙げられる。薄膜B6の厚さtは、1~100nmであり、5~50nmが好ましい。厚さtが1nm以上であれば、自己支持性を十分に維持できる。厚さtが100nm以下であれば、ガスやイオンの分離、特定物質の吸着、触媒、センサ等、ナノ薄膜としての多様な用途への応用が期待される。薄膜Bの厚さtは、樹脂層8の断面を電子顕微鏡によって観察したときにおける、凸部2の頭頂部に接する部分以外にて自己支持性を維持している部分の厚さを10点測定し、これらの値を平均したものである。凸部2の間の最底部9から薄膜B6までの高さh1は、凸部2の高さhの半分以上凸部2の高さh未満が好ましい。高さh1が凸部2の高さhの半分以上であれば、凹部に空気を安定に閉じ込めることが可能となり、大面積の薄膜を形成可能である。高さh1が凸部2の高さh未満であれば、凹部に空気が閉じ込められない場合があり、凸部全体に薄膜が形成されてしまう可能性がある。用途薄膜積層基材1は、薄膜B6の厚さがナノメートルオーダーであるため、ガスやイオンの分離、特定物質の吸着、触媒、センサ等への応用が期待される。また、薄膜B6が、複数の凸部2の頭頂部4および複数の凸部2の間の空隙5を覆うように連続して形成されているため、凸部2の間の空隙5に空気を閉じ込めることもでき、空隙5が低屈折率層として作用し、光導波路としての応用も期待される。作用効果以上説明した薄膜積層基材1にあっては、薄膜B6が複数の凸部2の頭頂部4に接している部分以外がすべて連続した自己支持性のナノ薄膜となっているため、薄膜B6の面積が従来の該ナノ薄膜に比べ比較にならないほど大きくなる。<薄膜積層基材の製造方法>薄膜積層基材の製造方法としては、例えば、下記の工程Iおよび工程IIを有する方法が挙げられる。I複数の凸部を表面に有する基材Aを製造する工程。II基材Aの表面に薄膜Bを形成する工程。工程I基材Aの製造方法としては、下記の方法α、方法β等が挙げられる。α基材の表面を直接加工し、複数の凸部を形成する方法。β複数の凸部に対応した反転構造複数の細孔を有するモールドを用い、モールドの反転構造を基材の表面に転写する方法。方法βとしては、例えば、下記の方法β1~β3が挙げられる。β1熱可塑性樹脂からなる基材およびまたはモールドを加熱した状態にて、基材の表面にモールドを押し当てて、モールドの反転構造を基材の表面に転写する方法熱インプリント法。β2支持体とモールドとの間に硬化性樹脂組成物を挟んだ状態にて、硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線光紫外線、可視光線等、電子線、熱線赤外線等等を照射して硬化性樹脂組成物を硬化させた後、モールドを剥離して、モールドの反転構造が転写された樹脂層を支持体の表面に形成する方法光インプリント法等。β3樹脂溶液をモールドの上にキャストし、溶媒を揮発させて、モールドの反転構造が転写された樹脂膜を形成する方法キャスト法。モールドモールドの表面に反転構造を形成する方法としては、下記の方法γ~ε等が挙げられ、モールドの大面積化が可能であり、細孔の間隔、深さ等の制御が容易な点で、方法εが好ましい。γモールド基材の表面に電子線描画法によって複数の細孔を形成する方法。δモールド基材の表面にレーザ光干渉法によって複数の細孔を形成する方法。εアルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを形成する方法。方法εとしては、下記の工程a~fを有する方法が好ましい。aアルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。b酸化皮膜を除去し、アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。cアルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。d細孔の径を拡大させる工程。e工程dの後、電解液中、再度陽極酸化する工程。f工程dと工程eを繰り返し行う工程。工程a図2に示すように、アルミニウム基材10を陽極酸化すると、細孔12を有する酸化皮膜14が形成される。電解液としては、酸性電解液、アルカリ性電解液が挙げられ、酸性電解液が好ましい。酸性電解液とは、硫酸、シュウ酸、リン酸、これらの混合物等が挙げられる。細孔12の直径制御は、常法にしたがって行えばよい。例えば、陽極酸化を高電圧で行うほど細孔12の直径は大きくなる。また、酸性電解液を用いた場合、硫酸、シュウ酸、リン酸の順で細孔12の直径は大きくなる。細孔12の間隔は、100~1000nmが好ましく、20~500nmがより好ましい。細孔12の間隔が10nm未満では、陽極酸化の制御が難しく、目的に応じた間隔の細孔12が得られない。細孔12の間隔が1000nmを超えると、電圧が電解液の耐電圧を超え、細孔12を形成できない。細孔12の間隔は、細孔12の中心から、これに隣接する細孔12の中心までの距離である。酸化皮膜14の厚さは、電界放出形走査電子顕微鏡で観察した際に、10μm以下が好ましく、1~5μmがより好ましく、1~3μmが特に好ましい。酸化皮膜14の厚さが10μmを超えると、アルミニウムの結晶粒界が目視でも確認できるようになり、樹脂層の表面に結晶粒界の凹凸までもが転写されることがある。工程b:図2に示すように、酸化皮膜14を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点16にすることで細孔12の規則性を向上することができる例えば、益田,応用物理,vol.69,No.5,2000,pp.558。酸化皮膜14を除去する方法としては、アルミニウム基材10を溶解せず、酸化皮膜14を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸/リン酸混合液等が挙げられる。工程c:図2に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム基材10を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔12を有する酸化皮膜14が形成される。陽極酸化は、工程aと同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔12を得ることができる。工程d:図2に示すように、細孔12の径を拡大させる処理以下、細孔径拡大処理と記す。を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、5質量程度のリン酸水溶液等が挙げられる。細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。工程e:図2に示すように、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔12の底部から下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔12がさらに形成される。陽極酸化は、工程aと同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔12を得ることができる。工程f:図2に示すように、工程dの細孔径拡大処理と、工程eの陽極酸化を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔12を有する酸化皮膜14が形成され、アルミニウム基材10の表面に陽極酸化ポーラスアルミナアルミニウムの多孔質の酸化皮膜アルマイトを有するモールド18が得られる。最後は工程dで終わることが好ましい。陽極酸化ポーラスアルミナの細孔12の間隔は、転写した際にモールド18と硬化性樹脂組成物との剥離が良好で、樹脂層に転写された凸部同士が合一せずに凸部の形状を維持できる点から、10~1000nmが好ましく、20~500nmがより好ましい。また、細孔の深さと間隔との比深さ/間隔は、1以上が好ましい。硬化性樹脂組成物硬化性樹脂組成物としては、光硬化反応、電子線硬化反応または熱硬化反応を起こす成分と、これらの反応を促進する成分との混合物が挙げられ、例えば、重合性化合物と重合開始剤との混合物が挙げられる。重合性化合物としては、例えば、1モルの多価アルコールと、2モル以上のメタアクリル酸またはその誘導体とから得られるエステル化物A;多価アルコールと、多価カルボン酸またはその無水物と、メタアクリル酸またはその誘導体とから得られるエステル化物B等が挙げられる。エステル化物Aとしては、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレート等が挙げられる。メタアクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。エステル化物Bとしては、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、セバシン酸、フマル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等の多価カルボン酸またはその無水物と、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アルコールと、メタアクリル酸またはその誘導体からそれぞれ任意に選択された組み合わせで得られるエステル化物等が挙げられる。重合性化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p-メトキシベンゾフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、α,α-ジメトキシ-α-フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、t-ブチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2,4-ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン等のチオキサントン;ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、ベンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシル-フェニルケトン、2-メチル-2-モルホリノ4-チオメチルフェニルプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン等のアセトフェノン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド;メチルベンゾイルホルメート、1,7-ビスアクリジニルヘプタン、9-フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t-ブチルパーオキシオクトエート、t-ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物;前記有機過酸化物にN,N-ジメチルアニリン、N,N-ジメチル-p-トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。重合開始剤の量は、重合性化合物の100質量部に対して、0.01~10質量部が好ましい。重合開始剤の量が0.01質量部未満では、硬化性樹脂組成物の十分な硬化を実現できない。重合開始剤の量が10質量部を超えると、樹脂の分子量が下がり、樹脂の強度が不十分となったり、重合開始剤の残留物等のために硬化後の樹脂層の着色問題が生じたりする。硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。非反応性のポリマーとしては、アクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、例えば、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。硬化性樹脂組成物は、さらに必要に応じて、増粘剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、溶剤、無機フィラー等の各種添加剤を含んでいてもよい。硬化性樹脂組成物は、樹脂層の表面における水との接触角を90°以上とするために、硬化性樹脂組成物を硬化させて得られた平滑な膜の表面での水との接触角が90°以上となるような材料が好ましい。水との接触角が90°未満、さらには60°未満の場合には、複数の凸部を形成した場合に、表面積の増加にともなって、水との接触角は0°に近づくため、好ましくない。水との接触角が90°以上となるような材料としては、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む硬化性樹脂組成物が好ましい。フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。シリコーン系化合物としては、メタアクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。工程II薄膜Bを形成する方法としては、薄膜の材料の前駆体または薄膜の材料が溶解した反応液に基材Aを浸漬して、基材Aの表面で薄膜Bを形成、積層させる方法が好ましい。薄膜Bを形成する方法としては、薄膜Bが樹脂の場合は、モノマー溶液に基材Aを浸漬して、モノマーを溶液重合させる方法、樹脂溶液に基材Aを浸漬する方法等が挙げられ、薄膜Bが金属酸化物の場合は、ゾルゲル法、液相析出法等が挙げられ、液相析出法が好ましい。液相析出法によって薄膜Bを形成する場合は、複数の凸部の頭頂部および複数の凸部の間の空隙を覆うように自己支持性の薄膜Bが連続して形成されやすい点から、下記のように行うことが好ましい。凸部の高さhが10~1000nmであり、凸部とこれに隣接する凸部との間隔iが10~1000nmであり、凸部の高さhと間隔iとの比h/iが1以上であり、かつ凸部側の表面における10μLの水滴の転落角が50°以下である、複数の凸部を表面に有する基材Aを、金属酸化物または金属酸化物前駆体を析出できる金属酸化物析出反応液に浸漬し、該金属酸化物析出反応液を10~80°Cで保持して、前記基材Aの表面に金属酸化物または金属酸化物前駆体を析出させることによって、前記複数の凸部の頭頂部および前記複数の凸部の間の空隙を連続して覆う厚さ1~100nmの薄膜Bを形成する。金属酸化物析出反応液は、形成したい金属酸化物または金属酸化物前駆体が析出するように適宜選択することができる。また、金属酸化物または金属酸化物前駆体の析出、積層の途中で金属酸化物析出反応液の濃度を変化させることによって、析出、積層する金属酸化物または金属酸化物前駆体の組織を連続的に変化する傾斜組織とすることができる。また、金属酸化物析出反応液自身を析出、積層の途中で変更することによって、組織、組成の異なる多組成積層組織を有する金属酸化物または金属酸化物前駆体を積層することができる。金属酸化物析出反応液としては、NH42TiF6、NH42TaF6、NH42ZrF6、NH42FeF6、NH42SiF6、NH42AlF6、NH42ZnF6、NH42SnF6の溶液、または金属フッ化錯体イオンを含む溶液にホウ酸を所定の濃度になるように混合して得られる水溶液が挙げられる。また、ドーピングまたは析出状態、析出速度等の改善のための添加物、例えば、界面活性剤等を必要に応じて添加してもよい。液相析出法において金属酸化物または金属酸化物前駆体を析出させる温度は、10~80°Cであり、20~40°Cが好ましい。この温度範囲であっても、析出する金属酸化物または金属酸化物前駆体は、理論密度に対する相対密度90以上のアナターゼ結晶となる。さらに、高温で熱処理することで、結晶化度を高めることができる。液相析出法による金属酸化物または金属酸化物前駆体は、析出、積層した段階で、相対密度が90以上であるため、高温で熱処理した場合であっても、ほとんど収縮することがない。このため、高い寸法精度の三次元構造体を形成することができる。また、熱処理時の雰囲気ガスを適宜選択することによって、窒化または炭化することも可能であり、窒化物、炭化物セラミックスとすることも可能である。液相析出法では、金属酸化物または金属酸化物前駆体の析出、積層時に、金属酸化物析出反応液を適宜選択することによって、各種の金属酸化物または金属酸化物前駆体を析出、積層することが可能であり、また、形成される金属酸化物または金属酸化物前駆体の組織を連続的に傾斜組織としたり、階層的に変化させたり、組織の異なる層を多層に積層したりすることが容易に行える。このため、これまでにない特性を有した金属酸化物とすることも可能である。作用効果以上説明した本発明の薄膜積層基材の製造方法にあっては、凸部の高さh、間隔i、高さhと間隔iとの比h/iが特定の範囲内であり、かつ凸部側の表面における水滴の転落角が50°以下であるすなわち疎水性である複数の凸部を表面に有する基材Aを、金属酸化物析出反応液に浸漬して、基材Aの表面に金属酸化物または金属酸化物前駆体を析出させているため、複数の凸部の頭頂部および複数の凸部の間の空隙を連続して覆う厚さ1~100nmの薄膜Bを、少ない工程数で、簡便にかつ確実に形成できる。また、このようにして形成される薄膜Bは、複数の凸部の頭頂部に接している部分以外がすべて連続した自己支持性のナノ薄膜となっているため、薄膜Bを従来に比べ大面積化できる。以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。陽極酸化ポーラスアルミナの細孔陽極酸化ポーラスアルミナの一部を削り、断面にプラチナを1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡日本電子社製、JSM-7400Fを用いて、加速電圧3.00kVの条件にて、断面を観察し、細孔の間隔、細孔の深さを測定した。各測定は、それぞれ10点について行い、平均値を求めた。樹脂層の凸部および薄膜の厚さ樹脂層の一部を削り、断面にプラチナを5分間蒸着し、陽極酸化ポーラスアルミナと同様に断面を観察し、凸部の間隔、凸部の高さを測定した。各測定は、それぞれ10点について行い、平均値を求めた。薄膜の厚さ薄膜の一部を削り、断面にプラチナを5分間蒸着し、陽極酸化ポーラスアルミナと同様に断面を観察し、薄膜の厚さを測定した。測定は10点について行い、平均値を求めた。水との接触角接触角測定装置協和界面科学社製、DM301を用い、基材Aの凸部側の表面に、10μLの水を滴下した後、滴下の3秒後から1秒間隔で水との接触角を5秒間測定し、平均値を求めた。さらに、水を滴下する位置を変えて同様の操作を3回行い、計3回の平均値を算出した。水滴の転落角基材Aの凸部側の表面に10μLの水滴を置き、基材Aを傾けた際に水滴が転落を開始する角度を測定した。モールド1の製造工程a:電解液として0.5Mシュウ酸を用い、陰極および陽極としてそれぞれ厚さ0.5mmのアルミニウム板を用い、電圧40V、温度16°Cの条件で0.5時間陽極酸化を行った。得られた酸化皮膜の厚みは2.8μmであった。工程b:酸化皮膜が形成された陽極を、70°Cの6質量リン酸/1.8質量クロム酸混酸に浸漬して、酸化皮膜を除去した。工程c:陽極を純水で洗浄した後、電解液として0.3Mシュウ酸を用い、電圧40V、温度16°Cの条件で30秒陽極酸化を行った。工程d:陽極を32°Cの5質量リン酸に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。工程e:陽極を純水で洗浄した後、電解液として0.3Mシュウ酸を用い、電圧40V、温度16°Cの条件で30秒陽極酸化を行った。工程f:工程dおよびeを合計で4回繰り返し、最後に工程dを行って、細孔の間隔:100nm、細孔の深さ:250nmの陽極酸化ポーラスアルミナを得た。陽極酸化ポーラスアルミナを、含フッ素シラン化合物信越シリコーン社製、KP-801Mで処理することにより、酸化皮膜の表面のフッ素化処理を行い、モールド1を製造した。モールド2の製造工程a:電解液として0.05Mシュウ酸を用い、陰極および陽極としてそれぞれ厚さ0.5mmのアルミニウム板を用い、電圧80V、温度3°Cの条件で5分間陽極酸化を行った。得られた酸化皮膜の厚みは2.7μmであった。工程b:陽極を純水で洗浄した後、30°Cの8Mリン酸に30分間浸漬し、酸化被膜を除去した。工程c:陽極を純水で洗浄した後に、陽極酸化時間を30秒する以外は、工程aと同じ条件で陽極酸化を行った。工程d:陽極を純水で洗浄した後に、30°Cの1Mリン酸に5分間浸漬させて細孔径拡大処理を行った。工程e:陽極を純水で洗浄した後に、陽極酸化時間を30秒する以外は、工程aと同じ条件で陽極酸化を行った。工程f:工程dおよびeを交互に合計で5回繰り返し、細孔の間隔:200nm、細孔の深さ:250nmの陽極酸化ポーラスアルミナを得た。陽極酸化ポーラスアルミナを、含フッ素シラン化合物信越シリコーン社製、KP-801Mで処理することにより、酸化皮膜の表面のフッ素化処理を行い、モールド2を製造した。硬化性樹脂組成物1の調製TASの45質量部、C6DAの45質量部、X-22-1602の10質量部、Ir184の3質量部、Ir819の0.2質量部を混合し、硬化性樹脂組成物1を調製した。略号は下記の通りである。TAS:トリメチロールエタンアクリル酸無水コハク酸縮合エステル、C6DA:1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、X-22-1602:ラジカル重合性シリコーンオイル信越化学工業社製、Ir184:1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンチバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184、Ir819:ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイドチバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア819。硬化性樹脂組成物2の調製ATM-4Eの82質量部、M260の15質量部、HEAの3質量部、Ir184の5質量部、Ir819の2質量部を混合し、硬化性樹脂組成物2を調製した。略号は下記の通りである。ATM-4E:エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート新中村化学工業製、ATM-4E、M260:ポリエチレングリコールジアクリレート東亞合成製、アロニックスM260、HEA:ヒドロキシエチルアクリレート関東化学製、Ir184:1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンチバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184、Ir819:ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイドチバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア819。微細凹凸転写フィルムの製造製造例1モールド1の表面に硬化性樹脂組成物1を塗布し、ポリエチレンテレフタレートフィルムを被せた。紫外線照射機高圧水銀ランプ、積算光量:3600mJ/cm2、ピーク照度:180mW/cm2を用いて、硬化性樹脂組成物1の塗膜に紫外線を照射し、硬化性樹脂組成物1の硬化を行い、モールド1から剥離することで微細凹凸転写フィルム1を得た。凸部の間隔は、100nmであり、凸部の高さは、200nmであった。水との接触角は、145°であり、水滴の転落角は3°であった。走査型電子顕微鏡写真を図3に示す。製造例2モールド1の表面に硬化性樹脂組成物2を塗布し、ポリエチレンテレフタレートフィルムを被せた。紫外線照射機高圧水銀ランプ、積算光量:3600mJ/cm2、ピーク照度:180mW/cm2を用いて、硬化性樹脂組成物2の塗膜に紫外線を照射し、硬化性樹脂組成物2の硬化を行い、モールド1から剥離することで微細凹凸転写フィルム2を得た。凸部の間隔は、100nmであり、凸部の高さは、200nmであった。水との接触角は、20°であり、水滴がのった状態でフィルムを垂直にしても水滴が落下しなかったことから、水滴の転落角は90°以上であった。製造例3モールド2の表面に硬化性樹脂組成物1を塗布し、ポリエチレンテレフタレートフィルムを被せた。紫外線照射機高圧水銀ランプ、積算光量:3600mJ/cm2、ピーク照度:180mW/cm2を用いて、硬化性樹脂組成物1の塗膜に紫外線を照射し、硬化性樹脂組成物1の硬化を行い、モールド2から剥離することで微細凹凸転写フィルム3を得た。凸部の間隔は、200nmであり、凸部の高さは、200nmであった。水との接触角は、144°であり、水滴がのった状態でフィルムを垂直にしても水滴が落下しなかったことから、水滴の転落角は90°以上であった。走査型電子顕微鏡写真を図4に示す。製造例4モールド2の表面に硬化性樹脂組成物2を塗布し、ポリエチレンテレフタレートフィルムを被せた。紫外線照射機高圧水銀ランプ、積算光量:3600mJ/cm2、ピーク照度:180mW/cm2を用いて、硬化性樹脂組成物2の塗膜に紫外線を照射し、硬化性樹脂組成物2の硬化を行い、モールド2から剥離することで微細凹凸転写フィルム4を得た。凸部の間隔は、200nmであり、凸部の高さは、200nmであった。水との接触角は、20°であり、水滴がのった状態でフィルムを垂直にしても水滴が落下しなかったことから、水滴の転落角は90°以上であった。実施例1溶液1の調製:40質量ケイフッ化水素酸の173g水の28gを混合し、撹拌した。さらにSiO2の20gを添加し混合した。調製した溶液をろ過し、ろ液を回収した。ろ液を樹脂製容器に移液し、水の774gを加えて希釈することで、溶液1を調製した。溶液2の調製:溶液2として0.1Mホウ酸水溶液の100gを調製し、容量が100mLの樹脂製容器に保存した。溶液2を溶液1に加え、混合し、金属酸化物析出反応液を得た。金属酸化物析出反応液の容器をウォーターバスに浸して、金属酸化物析出反応液の温度を37°Cにした。金属酸化物析出反応液に微細凹凸転写フィルム1を浸漬して、30分反応させた。反応後、金属酸化物析出反応液から微細凹凸転写フィルム1を引き上げて、流水で5分間洗浄し、風乾させることで、薄膜を微細凹凸転写フィルム1の表面に形成させた。微細凹凸転写フィルム1の凸部の上に金属酸化物からなる薄膜が形成されていることを走査型電子顕微鏡観察により確認した。走査型電子顕微鏡写真を図5に示す。薄膜には微細凹凸の凸部に対応した凸部も確認された。薄膜の厚さは10nmであり、凸部も含めた薄膜の厚さ図1中のtmaxは20nmであった。実施例2金属酸化物析出反応液に微細凹凸転写フィルム1を浸漬する時間を60分としたこと以外は、実施例1と同様に行った。微細凹凸転写フィルム1の凸部の上に金属酸化物からなる薄膜が形成されていることを走査型電子顕微鏡観察により確認した。走査型電子顕微鏡写真を図6に示す。薄膜には微細凹凸の凸部に対応した凸部も確認された。薄膜の厚さは10nmであり、凸部も含めた薄膜の厚さ図1中のtmaxは70nmであった。実施例1よりも薄膜の凸部に顕著に三次元構造体が形成されていた。比較例1微細凹凸転写フィルム1から微細凹凸転写フィルム2に変更したこと以外は、実施例1と同様に行った。微細凹凸転写フィルム2の凹凸に追随した薄膜が形成されていることを走査型電子顕微鏡観察により確認した。走査型電子顕微鏡写真を図7に示す。比較例2微細凹凸転写フィルム1から微細凹凸転写フィルム3に変更したこと以外は、実施例1と同様に行った。微細凹凸転写フィルム3の凹凸に追随した薄膜が形成されていることを走査型電子顕微鏡観察により確認した。走査型電子顕微鏡写真を図8に示す。比較例3微細凹凸転写フィルム1から微細凹凸転写フィルム4に変更したこと以外は、実施例1と同様に行った。微細凹凸転写フィルム4の凹凸に追随した薄膜が形成されていることを走査型電子顕微鏡観察により確認した。"