酸素含有ガスから酸素を分離する装置であり、前記装置は:膜ユニットと、電極ユニットを含み、前記膜ユニットが、多孔性基板、緻密膜及び少なくとも1つの電極を含み、前記多孔性基板が前記電極ユニットに方向付けられ、及び前記電極ユニットが、少なくとも部分的に導電性である、少なくとも1つの回転可能な電極ウィングを少なくとも1つ含む電極を含む、装置。請求項1に記載の装置であり、前記多孔性基板のポアが連続チャンネルとして形成される、装置。請求項1に記載の装置であり、前記多孔性基板のポアが、直径が0.02mm以上である、装置。請求項1に記載の装置であり、前記電極が、前記多孔性基板のポア内に設けられる導電性層として形成される、装置。請求項1に記載の装置であり、前記膜が、ペロブスカイト型又はフルオライト型結晶構造を持つ材料に基づく、装置。請求項1に記載の装置であり、カバー層が前記基板の一方側又は両方側に設けられる、装置。請求項6に記載の装置であり、バリア層が、前記膜と前記カバー層の間に設けられる、装置。請求項1に記載の装置であり、空気ブロワーが前記膜ユニットの上流に設けられる、装置。請求項1に記載の装置であり、加熱装置が、前記膜ユニットの上流に設けられる、装置。請求項1に記載の装置であり、冷却装置が、前記膜ユニットの上流に設けられる、装置。酸素含有ガスから酸素を分離する方法であり、前記方法は:請求項1に記載の装置を準備し、前記電極ユニットが酸素含有ガスと流体流通し、少なくとも1つの回転電極ウィングを回転させ、及び前記電極及び少なくとも1つの回転可能な電極ウィングに電圧を供給し、前記多孔性基板のポア内にプラズマを生成させる、ことを含む方法。請求項11に記載の方法であり、100W以上で350W以下の電力が、前記プラズマ生成のために使用される、方法。請求項11に記載の方法であり、1リットル/分以上の酸素フラックスが使用される、方法。本発明の課題は、前記の少なくとも1つの制限を解消する酸素分離のための装置及び方法を提供することである。本発明の課題はさらに、費用節約可能であり、かつ維持及び雑音の観点で利便性を改善する、酸素分離の装置及び方法を提供することである。この課題は、酸素含有ガスから酸素を分離する装置により達成され:膜ユニット及び電極ユニットを含み、前記膜ユニットは、多孔性基板、緻密膜及び少なくとも1つの電極を含み、前記多孔性基板が前記電極ユニットへ方向づけられ、及び前記電極ユニットが、少なくとも部分的に導電性である、少なくとも1つの回転可能な電極ウィング羽を含む少なくとも1つの電極を含む。本発明は、プラズマ生成の使用により酸素含有ガスから酸素を分離するために好適な装置を提供する。本発明は、次の予想外の知見、即ち、プラズマの使用による酸素含有ガスを加熱し圧縮すると同時に、特に無機膜などの緻密膜により酸素含有ガスから酸素を分離することを組み合わせることで、驚くべき非常に有効な相乗効果を奏する、という知見に基づくものである。プラズマ生成により、酸素含有ガスは1ステップで圧縮され加熱される。このことは、酸素含有ガスを圧縮し加熱するための別の装置又は膜などを必要としない、という利点を与える。対照的に、ガスは膜を加熱するために十分な温度を持つことから、それにより十分高い酸素流れが前記膜を流通することを可能にする。従って、プラズマの使用により圧縮されることで高温度を持つ圧縮酸素含有ガスの効果は、特に無機膜との組み合わせにおいて非常に好ましく適用可能になる。さらに、本発明の装置は、操作において雑音が低減され、特に家庭介護応用において利便性が改善される。前記プラズマ生成用電極を酸素含有ガスを加熱かつ圧縮するために適用することで、本発明の装置はそのサイズ及び重量を低減することができるという点でさらに、特に家庭介護応用において利便性が改善される。さらに、本発明の装置の操作は、次の点、即ち、かかる装置は、従来の酸素分離装置よりもずっと安価に設計され、さらにエネルギー効率が従来知られた技術による方法に比較して改善される、という点からより低コストで酸素を分離することを可能にする。本発明による装置のさらなる利点は滅菌酸素の生成である。追加の除感染又は滅菌ステップは必要がない。本発明によれば、滅菌酸素のオンデマンド生成が提供される。さらに、電極ユニットを持つ膜を前記電極ユニットへ方向付けられる基板に設けることで、いくつかの利点が達成され得る。回転可能な電極ウィングを含む電極ユニットと組み合わせた電極を含む膜ユニットを設けることで、前記電極ユニットと前記膜の近接カップリンが達成され得る。本発明によれば、前記プラズマを前記膜ユニットの基板のポア内部にプラズマを生成することが可能になる。このことは、非常に効率的な分離条件を実現することを可能にする。加えて、前記電極ユニットの前記膜の近接カップリングは望ましくない熱損失を低減させることを可能にする。詳細には、前記プラズマは、酸素含有ガスを圧縮するのみならず、これを加熱し、これにより前記膜を操作温度に加熱する。従って、酸素含有ガスは好ましくは、前記膜の操作温度を超える温度に加熱されるべきである。前記電極ユニットと前記膜ユニットとの近接カップリングにより、前記ガスはこのようにして少なくとも部分的に前記膜ユニット内で、従って前記膜に直接接触して加熱され、その結果熱エネルギーをほとんど又は全く損失しないこととなる。加えて、前記膜の供給側でガスを膜を通過させるための加圧を生成するための耐熱弁の適用が不要になり得る。このことは、本発明の装置が、簡単かつ費用節約の方法で形成されることを可能にする。回転可能な電極ウィングを含む電極ユニット及びさらなる電極を含む膜ユニットを組み合わせることで、本発明による装置は非常にコンパクトに形成され得る。従って、これは家庭介護応用、特に酸素分離のためのポータブル装置にとって非常に適する。以下、形成されるガスは酸素とする。しかし、本発明の装置により酸素の100までの高純度が形成される場合であっても、ある程度の不純物を含む形成ガスも又本発明に含まれる。従って、前記用語酸素は、酸素を主成分とするガス混合物を含む。本発明による装置は、従って、コスト、価格、サービス及び雑音の点で低減を提供する。本発明の好ましい実施態様では、前記多孔性基板のポアは連続チャンネルを形成する。このことは、プラズマを、前記膜に直接隣接して、着火し維持することを可能にする。この実施態様は、従って、前記加熱かつ圧縮された酸素含有ガスを前記膜に近接接触を実現することを可能にし、これは、前記膜の加熱の点で有利であり、同様に酸素を前記膜を通すために設けられる圧力の点で有利である。前記により本発明の装置は非常に効率的に操作され得る。本発明のさらなる好ましい実施態様では、前記多孔性基板のポアは直径が≧0.02mm0.02mm以上である。このことは、酸素含有ガスの好適な量を前記ポア内に案内することを可能にし、効果的にプラズマを形成することを可能にする。言い換えると、これらの寸法は、本発明による装置の効率を改善する。本発明のさらに好ましい実施態様では、前記電極は、前記多孔性基板のポア内に設けられる導電性層として形成される。これは、前記電極間でプラズマを生成させるために特に好ましい構成である。詳細には、多孔性基板は前記回転電極に方向付けられているという事実により、前記プラズマは、特に効果的な方法で、前記ポア内で直接生成され得る。加えて、このことは、形成されるプラズマの特質に依存して前記ポアを設計することを可能にする。その結果、本発明による装置が操作される条件が調節され得ることとなる。本発明のさらなる好ましい実施態様では、前記膜は、ペロブスカイトperovskite型又はフルオライトfluorite型結晶構造を持つ材料に基づく。特に好ましくは、前記膜は、ペロブスカイト型に基づくものであり、前記ペロブスカイト型は、Sr1-yBayCo1-xFexO3-zこれはドナー又はアクセプターでドープされていてもよく、ドープされていなくてもよく、及びLa1-ySryFe1-xCrxO3-zこれは、ニオブ、マグネシウム、チタン又はガリウムでドープされていてもよく、されていなくてもよい、Sr1-y-xBayLaxCo1-b-cFebCrcO3-zこれは、例えば、ニオブ、マグネシウム、チタン又はガリウムなどのドナー又はアクセプターで、ドープされていてもよく、されていなくてもよい、Ba1-xSrxTi03-zこれは、例えば、マンガン、鉄、クロム又は他のドープ化合物で、ドープされていてもよく、されていなくてもよい、及びPbZr1-xTixO3-zこれは、例えば、鉄、ニオブ、ランタン、クロム又は他のドープ化合物などのドナー又はアクセプターで、ドープされていてもよく、されていなくてもよいからなる群から選択される。これらのセラミック化合物は、良好なガス流を示し、かつさらに酸素に関して優れた選択性を持つ。詳細には、この成分を含む膜の上流側で空気が加圧される場合には、それは酸素のみを通すものとなる。それにより酸素を100までの純度で生成することを可能にする。本発明のさらなる好ましい実施態様では、前記基板の1方又は両方にカバーが設けられる。これに関して前記カバー層は好ましくはシリコン窒化物又はガラスで形成され得る。このことは特に、前記膜中に存在する成分が前記基板内に存在する成分と反応することを防止し得る。詳細には、前記膜の好適な成分としてバリウムが、前記基板の好適な成分としてのシリコンとの反応が阻害され得る。加えて、前記基板の側が前記膜の反対側に位置するばあい、前記カバーは、前記基板のポアを望ましいように形成又は形状化することを助けることができ、これにより例えばマスクとして作用し得る。特に前記カバーは緻密又は多孔性であり、任意の堆積技術により、例えば熱酸化の技術により適用され得る。シリコン窒化物は、任意の堆積技術、例えば化学蒸着により適用され得る。ガラス層は、例えばスピンオンガラス層である。本発明のさらなる好ましい実施態様では、バリア層が、前記膜及び前記カバー層の間に設けられる。このバリア層は好ましくは、シリコン酸化物、チタン酸化物、マグネシウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸ジルコニウム、アルミニウム酸化物及びタンタル酸化物又はこれらの任意の組み合わせからなる群から選択される材料を含む。前記バリア層は、任意の堆積方法が適用され、例えば酸化物の反応性スパッタリング、又は金属のスパッタリング続いて熱酸化、スピンオン、又は化学蒸着方法などである。これは、前記膜及びカバー層の材料が形成される材料がお互いにある程度相互作用する場合、前記カバー層及び前記膜の間の中間層として作用し得る。本発明のさらなる実施態様では、空気ブロアが前記膜ユニットの上流に設けられる。このことで、ガス流が前記電極ユニットに移送されかつ従って膜ユニットへ移送されることを改善することを可能にする。本発明による装置に効率は従って改善される。本発明のさらなる好ましい実施態様では、加熱装置、特に熱交換装置が前記膜ユニットの上流に設けられる。加熱装置は、酸素含有ガスを前加熱し、それによりプラズマにより前記酸素含有ガスへ導入されるべき熱エネルギーを低減させることができる。熱交換装置を設けることで、熱交換装置はそれにより、酸素欠乏ガスの熱を使用し、分離サイクルの後前記膜ユニットを出ることができる。本発明による操作に必要とされるエネルギー入力は従って、低減され得る。本発明のさらなる好ましい実施態様では、冷却装置が前記膜ユニットの下流に設けられる。これは、生成される酸素を直接使用され得る温度に冷却する。これに関して、特に好ましく、本発明による装置をオンデマンド、又はインシチュでそれぞれ使用することが可能になる。前記冷却装置は、それにより、前記プラズマ生成ユニットの上流に設けられる熱交換装置へ接続され得る。このことは、特に、本発明による装置を費用節約的に操作することを可能にする。本発明はさらに、酸素含有ガスから酸素を分離する方法に関し、前記方法は:本発明による装置を準備し、前記電極ユニットが、酸素含有ガスに流体流通し、少なくとも1つの回転可能な電極ウィングを回転し、及び前記電極、及び前記少なくとも1つの回転可能な電極ウィングに電圧を供給し、前記多孔性基板のポア内でプラズマを生成することを含む。本発明による前記方法は、本発明による装置に関して説明したと同様の利点を提供する。本発明の好ましい実施態様では、≧1000Wから≦350W350W以上1000W以下の電力がプラズマ生成のために使用される。この電力は、前記ポア内で十分プラズマを生成するために十分であり、それによりエネルギーを節約することとなる。これは、本発明の方法を、家庭介護応用においても適用可能なものとする。本発明のさらなる好ましい実施態様では、1分当たり≧1リットル1リットル以上の酸素フラックスが使用される。このフラックスは、たいていの応用のため、例えば治療応用などに十分使用可能なものであり、十分である。本発明のこれらの及びその他の側面は以下の説明及び図面を参照することでより明らかとなる。図1で、本発明による装置10が模式的に示される。本発明による装置10は特に、酸素含有ガスから酸素を分離するために好適である。前記装置10は従って、酸素分離装置又は酸素濃縮装置それぞれの部分である。前記装置10は、例えば家庭介護応用において酸素治療用に特に好適である。しかし、前記装置10は、治療用に限定されるものではなく、さらに全ての種類の酸素生成のために好適である。さらなる例示的応用として、これは航空機内での酸素生成に好適である。本発明による装置10は膜ユニット12を含む。前記膜ユニット12は膜14を含む。前記膜14は好ましくは酸素分離膜である。この場合、目的は酸素を酸素含有ガスの残り成分と分離することであり、従って、酸素の流れ、有利には100純粋な酸素の流れを提供することである。これは矢印16で模式的に示される。たいていは、主に残留する成分は窒素であり、特に空気を酸素含有ガスとして使用する場合にはそうである。十分な分離結果を得るためには、従って、膜14は非常に緻密である。緻密膜14は特に、酸素に対して選択的に透過性であるが、特に窒素などの他のガスに対して厳密に又は少なくとも実質的に非透過性である。膜14は、純粋な酸素透過性膜か、又はイオン性-導電性混合膜のいずれかであり得る。一般に、酸素を前記膜14を通過させて移送するように力が供給される。これは電気的力であり得る。しかし好ましくは、酸素は、前記膜14を、前記膜の前記供給側と透過側との圧力差により通過させることである。前記膜有利には12はさらに、電極18を含み、これは以下明らかとなるプラズマの生成に好適になるように設計される。図1によれば、電極18は、前記膜14の供給側に配置される導電性層として形成されるか、又は言い換えると前記膜14の上流側で形成され得る。前記膜14はさらに、多孔性基板20で支持されている。多孔性基板20はポア22を含み、ポアは好ましくは前記基板20の全厚さを通過して進む連続チャンネルとして形成される。前記膜ユニット12の詳細な説明は以下図3から5に基づいて説明される。前記多孔性基板20は電極ユニット24に方向づけられている。この電極ユニット24は前記基板20に直接近接して設けられる。好ましくは、ディスク形状であり、少なくとも1つの回転可能な電極ウィング26及び前記電極ウィングの面内に空気ギャップ28を含む。しかし、最も好ましくは、前記電極24が、複数の回転可能な電極ウィング26及びそれらの間に設けられる空気ギャップ28を含むことである。好ましくは、少なくとも1つの電極ウィング26が少なくとも部分的に、白金、パラジウム、イリジウム又は金属酸化物、特にSrRuO3又はSrRhO3又はこれらの合金から形成される。これらの化合物は、特に、プラズマ形成で電極として作用するために好適である。加えて、これらの化合物は、前記プラズマで生成される高温度でもほとんどの酸素含有ガス中で安定である。前記少なくとも1つの電極ウィング26はそれにより、電極ウィング26の表面の導電性層を設けることで導電性となり得る。このことは、前記膜ユニット12へ方向づけられる側で好ましく実現され得る。前記層は従って、前記化合物の1つを含み得る。このことは、電極ウィング26が、好適な任意の材料から製造されることを可能にする。それにより導電性層は電極に特性を与える。このことは、本発明による装置10と同様にかかる回転可能な電極ウィング26を、費用節約的に製造することを可能にする。又は、電極ウィング26は、前記の前記材料で形成され得る。このことは特に前記電極ウィング26の製造を容易にする。前記回転可能な電極ウィング26表面と前記基板20との距離は、プラズマを着火して維持するための特に好ましい条件を持つように前記ポア22の直径よりも小さくするべきである。この理由で、加えて、前記回転可能な電極ウィング26表面と前記基板20との距離は、前記ポア22の長さ、例えば前記基板20の厚さよりも短くするべきである。加えて、前記ウィング26の導電性表面は、前記それぞれの空気ギャップ28の表面よりも大きくするべきである。電極ユニット24の平面図が図2に示される。図2によれば、電極ユニット24は、非限定的に4つの電極ウィング26と、従ってそれらの間に設けられる4つの空気ギャップ28を持つ。空気ギャップ28の後ろ側、従って電極ユニット24の後ろ側には、多孔性基板20が、そこに設けられるポア22と共に見ることができる。電極ウィング26は回転可能であることから、前記膜ユニット12のある領域はウィング26でカバーされるか、又は他の方法で空気ギャップ28を通って開口されている。前記電極ウィング26又は複数のウィング26はそれぞれ、少なくとも部分的に導電性であり、特に前記膜ユニット12の方向づけられている側でそうである。従って、前記電極ウィング26はプラズマ生成のための電極として作用する。詳細には、前記膜ユニット12の電極18と共に、前記回転可能な電極ウィング26は複数の小さいプラズマポンプを形成する。前記電極ユニット24は膜ユニット12の電極18と共に、その間にプラズマを生成する主要な対象物となり、これにより酸素含有ガスから酸素を分離するために酸素含有ガスを加熱し加圧する。図1を参照して、続いて酸素分離装置10は好ましい例示では次のように作用する。酸素含有ガス、特に空気が電極ユニット24に案内される。酸素含有ガスを電極ユニット24に案内するために、空気ブロワー30が前記電極ユニット24の上流に設けられる。空気ブロワー30は、電極ユニット24への酸素含有ガスの流れ又はその供給側をそれぞれ増加させる。空気ブロワー30の下流で、加えて、加熱装置32、特に熱交換装置が設けられる。加熱装置32は、装置10の電力効率を、前記酸素含有ガス、例えば空気を前加熱することで改善する。酸素含有ガスがその後電極ユニット24へ案内される。これは矢印24で模式的に示される。酸素分離ステップがその後実施され得る。酸素分離を達成するため、回転可能なウィング26が、前記膜ユニット12の前又は基板20の前でそれぞれ回転する。空気ギャップ28の領域で、新鮮な空気が電極ウィング26を通過し、又は電極ユニット24をそれぞれ通過し、膜ユニット12及びポア22内にそれぞれ案内されるが、これは矢印36で示される。この段階で、ガスは大気圧で存在し、即ち約1バールである。電極ウィング26及び膜ユニット12の電極18が図示されていないが電源に接続されている場合には、プラズマは着火され、前記ウィング26と電極18の間で、従って、前記ポア20内で生成される。これは矢印38で模式的に示される。一般に、プラズマを生成するためにむしろ小さいエネルギーで十分である。詳細には、≧100Wから≦350W300W以上1000W以下の電力入力が十分であり、これは最終的に≧1リットル/分1分あたり1リットル以上、特に1分当たり数リットルの程度の酸素流となるように温度及び膜の条件に依存する。この電力入力の範囲は家庭介護用に非常に好適なものでる。一般的に、しかし、生成されるプラズマにはいくつかのモードがある。特に、DCプラズマ、ACプラズマ、RFプラズマ、パルスプラズマなどが可能である。プラズマを与えることで温度が上昇する。ウィング26同様に空気ギャップ28が回転するということは、新鮮な空気で満たされるポア22が閉じ込められ、プラズマ生成の間前記ウィング26により、周囲に対して閉じかつ密閉されることである。前記膜ユニット22のポア22又は基板20内の酸素含有ガスは従って加熱され加圧される。例示的に、前記圧力は従って、プラズマにより生じる温度900Kまでガスの温度が増加することで1バールよりも高い値、特に3バールに増加され得る。加圧により、酸素含有ガスは膜14に対して押され、その結果酸素分離膜14を通過することで酸素が分離され、実質的に純粋な酸素の流れ16を形成することとなる。電極ウィング26が回転するということは、続いて次の段階で空気ギャップ28が回転されるということである。なおポア22内に存在する加圧及び、空気ギャップ28がそれぞれのポア22の前に位置する場合に短時間さらに生成するプラズマにより、酸素が欠乏したガスがポア22から移動する。このことは矢印44で模式的に示される。プラズマが消失する際にはウィング26はもはやこの領域にはなく、ポア22内の圧力下、特に<<1バール1バールよりずっと低いで形成される欠乏性ガスは冷却され、その結果ポア22内に新たな空気が吹き込まれることとなる。従って、追加のサイクルが次のウィング26又はウィングが1つだけの場合には同じウィング26で開始される。電極ユニット24、又は回転電極ウィング26は、それぞれ、ポア22内の加圧空気を保持し、同様にガス交換を実現するために使用される弁として作用し得る。それぞれのポア22内でのプラズマ生成の開始及び終点は従って、電極ユニット24の回転又は少なくとも1つのウィング26の回転によりそれぞれ定められる。しかし必要な場合、再発火パルスが加えられ得る。一般に、≧10kV/cm10kV/cm以上の電場強度がポア内でプラズマを再発火させるために使用されるべきである。この場合、ウィング26の表面は構造化され得る。詳細には、導電性材料の領域は、回転方向に非導電性材料の領域が続いてよい。それぞれの領域のサイズにより、前記着火パルスは望ましい応用において調節され得る。例えば、着火電圧は、誘導領域又はストライプでそれぞれ生成され、一方プラズマ供給電圧は残る導電性表面で生成され得る。前記により、前記で電極ユニット24はガスポンプとして作用する。電極ウィング26の回転により異なるサイクルで作用するけれど、好ましくは前記作用サイクルの高周波数による酸素含有ガスの直接かつ連続する流れを生成し得る。サイズ同様にウィング26の数と共に、回転周波数が必要な応用に合せて調節され得る。これは約100Hz程度である。スイングプロセスは必ずしも必要ではなく、というのは窒素は膜14には吸着されず、それにより酸素に対する透過性条件をなんら制限しないからである。生成された酸素流を集めるために、チューブ40が前記膜ユニット12又は膜14にそれぞれ接続される。もちろん好ましくは、前記チューブ40は空気機密密閉され、全ての生成された酸素を望ましい応用に案内することを可能にするものである。ガスポンプがさらに、前記分離された酸素を望ましい応用に運ぶために前記チューブ40内に設けられる。加えて、膜14の下流に冷却装置42が設けられ、酸素の分離された流れを冷却するために設けられ得る。前記冷却装置42は、例えば前記チューブ40内に設けられるか、又は前記チューブ40と流体流通するように構成され得る。従って、酸素は、装置10が特に好ましい方法でインシチュプロセスで使用される場合には直接使用されることができ、又は酸素は好適な容器内に貯蔵され得る。生成された酸素の温度は、例えば医療用途、治療用などの望ましい用途で必要とされる温度に近く又は正確にその温度の範囲に調節され得る。冷却装置42は好ましくは、本発明による装置10の効率をさらに改善するために加熱装置32として熱交換装置と接続される。全ての部品はもちろん周囲空気に対して密閉され及び/又は適切な場合には対応するエネルギー源に接続され得る。加えて、適切な断熱材料が適切に設けられ得る。例えば、電極ユニット24は膜ユニット12と共に、効率改善のためにこれらの部品を熱絶縁するためのケース内に設けられ得る。図3から5を参照して、膜ユニットの異なる実施態様が記載される。図3では、膜ユニット12が模式的に示される。膜ユニット12はプラズマ着火及び維持のプロセスに寄与し、従って本発明の装置10のために本質的である。図3による膜ユニット12は、1つの本質的部品として膜14を含む。前記の通り、酸素含有ガスから酸素を分離するためには、膜14は緻密である。従って、これは酸素選択的透過性である。これらの性質を達成するためには、前記膜14は、無機酸化化合物から選択される固体セラミック膜であり得る。好ましくは膜14はペロブスカイト型又はフルオライト型結晶構造である。一例として、前記ペロブスカイト型は、Sr1-yBayCo1-xFexO3-zこれはドナー又はアクセプターでドープされていてもよく、ドープされていなくてもよく、及びLa1-ySryFe1-xCrxO3-zこれは、ニオブ、マグネシウム、チタン又はガリウムでドープされていてもよく、されていなくてもよい、Sr1-y-xBayLaxCo1-b-cFebCrcO3-zこれは、例えば、ニオブ、マグネシウム、チタン又はガリウムなどのドナー又はアクセプターで、ドープされていてもよく、されていなくてもよい、Ba1-xSrxTi03-zこれは、例えば、マンガン、鉄、クロム又は他のドープ化合物で、ドープされていてもよく、されていなくてもよい、及びPbZr1-xTixO3-zこれは、例えば、鉄、ニオブ、ランタン、クロム又は他のドープ化合物などのドナー又はアクセプターで、ドープされていてもよく、されていなくてもよいからなる群から選択される。好ましい例として、ペロブスカイト型材料は、Ba0.5Sr0.5Co0.5Fe0.2O3-δBSCFが非常に好適である。又は、例えば、Sr0.5Ba0.5Co0.8Fe0.2O3-x薄膜が使用され得る。このタイプの無機膜14の一般的性質は、室温では全てのガスに対して完全に非透過性であるが、高温度に加熱されると酸素分子を通過させることが可能になる、ということである。主に、ほんの小さなサイズの膜の要求を満たす700Kを超える温度が酸素流を達成するためには必要である。例えば前記BSCFと命名される材料は、例示的に説明すると、1275Kはで酸素13ml/cmとなり、この場合小さい膜厚で十分である。一般的に、膜14は、膜厚が0.1μmから50μmの範囲を持つことで十分であり得る。これは、装置10をコンパクトに形成し、さらに膜14を通じる高い酸素流を形成することを可能にする。加えて、薄膜を加熱するには必要な熱はより少なくなる。膜14は多孔性基板20で支持される。基板20は、例えばシリコン、ガラス、石英又は酸化アルミニウムから形成され得る。しかし、任意の全ての基板20、金属基板などもまた使用され得る。前記基板は厚さが、≧50μm≦1mm50μm以上で1mm以下、特に≧100μm≦650μm100μm以上で650μm以下である。このことは、基板20を安定させ、また、例えばポータブル家庭介護用途で使用される本発明による装置10をコンパクトなものにすることを可能にする。基板20内にポア22が形成され得る。詳細には、基板20はピラー46を持ち、これは前記膜14と制御されて接触するガスを導入するためのポア22として定められる連続チャンネルが基板20内に設けられることが好ましい。これは、例えば基板20をエッチング又はサンドブラストすることで実現され得る。一般的には、マイクロ加工が適用され得る。前記ピラー46は好ましくは、幅が50μmから≦1mm50μmから1mm以下、特には≧200μmから≦800μm200μm以上800μm以下であり、これにより良好な流れを持ち効率的に十分高い安定性が可能となる。基板20は好ましくは、5から90間、特には20から80の間の多孔度を持つ。これは、膜ユニット12を通る非常に高いガス流を可能にする。加えて、基板20はなお、膜ユニット12が不安定となることを防止するための十分大きなサイズで、なお十分なピラー46を含む。前記多孔度がそれにより十分に定められるチャンネルにより主に形成され得る場合であっても、前記定められるチャンネル即ちピラー46に続く基板内に定められる多孔度を設けることを可能にする。これは、基板材料など多孔度により、又は前記ピラー46の多孔度によりそれぞれ形成され得る。前記チャンネルは好適なプロセスで設けられるという事実により、それらは例えば前記膜14に、十分定められかつ十分定められ制御される空気流が接触することを可能にする。十分定められる又は定められるチャンネルはそれぞれ、従って、前記チャンネルの構造及びサイズが必要とされる要求により形状化されることを意味する。これらは従って、必要とされる要求により配置され適合化され得る。詳細には、それらは、幅≧30μmから≦5mm30μm以上5mm以下、特には≧100μmから≦800μm100μm以上800μm以下であり得る。しかし、前記チャンネル又はポア22それぞれが直径≧0.02mm直径が2mm以上であることが最も好ましい。本発明の装置10は従って、高いかつ十分定められるガスフラックスを可能にする効率的な酸素生成システムを形成し、及び薄膜14も扱うことができる安定したシステムを達成するために好適である。前記のようにプラズマを生成させるために、膜ユニット12は電極18を含む。図1及び3を参照して、電極18は、前記基板20と前記膜14との間に設けられる薄層48として形成される。電極48は、少なくとも部分的に、白金、チタン、及びイリジウム、又は金属酸化物、特にイリジウム酸化物、SrRuO3又はSrRhO3又は前記化合物の合金から形成され得る。しかし、他の電極も可能である。変更例として、基板20は直接膜14に接続されることができ、一方で前記電極18を形成する層48は前記膜14の下流側、即ち基板20の反対側に設けられ得る。電極18を形成する層48の正確な位置からは独立して、前記電極18が前記電極18と前記少なくとも1つの回転可能な電極ウィング26との間でプラズマを生成することが可能であることは重要であり、さらに、それが膜14を通じる酸素の流れを打ち消さないことが重要である。従って、基板20と膜14の間に設けられる場合には、前記ピラー46の領域にのみ位置されるか、又は前記ピラー46と膜14の間に設けられ、それによりポア22に接触する。従って、膜14を通る酸素流れを邪魔することはない。全体表面を超えて膜14の隣に設けられる場合、層48は好ましくは多孔性であり、これにより前層48を通る酸素の流れを邪魔しない。1つの変更実施例では、層48はガス流を可能にする孔を持つ。従って、これは例えば篩いとして設計され得る。膜14の透過性側での層48の配置についても同様である。層48は全体表面上に位置されることが主に好ましい。この場合、これは全体に、例えば篩い形状で設けられるか、又は多孔性であり、酸素に対して透過性であり得る。膜ユニット12のさらなる実施態様が図4に示される。図4を参照して、膜ユニット12はさらに、カバー層50、50’を基板20の一方側又は両方側に含む。この点で、カバー層50、50’は好ましくはシリコン窒化物又はガラスからなる。これは特に、膜14に含まれる成分と基板20に含まれる成分との反応を防止することを可能にする。詳細には、膜14の好適な成分としてのバリウムと、基板20の好適な成分としてのシリコンとの反応が防止される。加えて、基板20の側で、膜14と反対側に設けられる場合には、前記カバー層50’は、ポア22又はチャンネルそれぞれを望ましく形成又は形状化することをそれぞれを助け、それにより例えばマスクとして作用することができる。特に、カバー層50、50’は、任意の堆積技術、例えば熱酸化を適用され得る。シリコン窒化物層は、任意の堆積技術、例えば化学蒸着堆積が適用され得る。ガラス層は、例えばスピンオンガラス層であり得る。カバー層50、50’の厚さは、好ましくは、100nmと100μmの間、特に100nmと10μmとの間である。また図4に示されるように、電極8を形成する層48が前キャリア膜14の下流側に設けられ得る。しかし、電極層48は、同様に前キャリア膜14の上流側に設けることも可能である。この場合には、前キャリアカバー層50及び膜14の間、又はカバー層50及び基板20の間に設けられ得る。さらなる実施態様では、チタン酸化物などのバリア層が、前記カバー層50及び電極18との間に適用され得る。前記層48に関して前記のように、層48は層50同様に酸素の流れを打ち消すべきではない。従って、全表面に即ちポア22内に設けられる場合、それは多孔性であるか又は孔を含み、これにより酸素の膜14を通る適切な流れを可能にするべきである。膜ユニット12のさらなる実施態様が図5に示される。図5による実施態様は、図4による実施態様と類似する。しかし、図5によれば、膜ユニット12はさらに、バリア層52を前記膜14と前記カバー層50との間に含む。このバリア層52は好ましくは、シリコン酸化物、チタン酸化物、マグネシウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸ジルコン酸塩、アルミニウム酸化物及びタンタル酸化物又はこれらの組み合わせを含む群から選択される材料を含む。前記バリア層52は、任意の堆積方法で適用され、例えば酸化物のスパッタリング、金属のスパッタリングに続く熱酸化、又はスピンオン又は化学蒸着などである。これはまた、膜14及びカバー50の材料がそれぞれお互いにある程度相互作用し得る材料から形成される場合に、前記カバー層50と膜14との間の中間層として作用し得るものである。また、電極層48は、前記膜の上流側及び下流側の両側に設けられ得る。層48に関して前記したように、バリア層52のまた酸素の流れを打ち消すべきではない。従って、全表面上に、即ちポア22内に設けられる場合には、これは多孔性であるか、又は孔が設けられ、酸素の膜14の膜14を通る流れを可能にする。加えて、全ての実施態様において、さらに保護層が膜14上又は電極層48上にそれぞれ設けられ得る。この保護層は、例えば、膜14を機械的に保護し、及び従って、本発明の膜14の丈夫さを改善することができる。前記保護層は好ましくは、無機又は有機層から形成される。また、これは好ましくは孔を持つか、多孔性として形成され、これにより膜14を通る酸素の好適な流れを可能にする。さらに、それぞれの層、即ち電極層48、カバー層50、50’及び/又はバリア層52は、ピラー20内又はポア22内に、又はチャンネル内にそれぞれ設けられ、又はお互いに独立して両方に設けられ得る。ポア22内に設けられる場合は、酸素流れは打ち消されるべきではない。留意すべきことは、図3から5を参照して説明された全ての実施態様は、本発明の装置10で使用され得る、ということである。本発明は、図面及び前記記載に基づき詳細に説明されたけれど、かかる図示及び記載は、図示又は例示するものであり、なんらを制限するものではなく、本発明は開示された実施態様に限定されるべきではない、ということである。開示された実施態様の他の変更例は、図面、開示内容及び特許請求の範囲に基づき当業者により理解され実施され得るものである。特許請求の範囲において、用語含むは他の要素やステップを除外するものではなく、不定冠詞ひとつのは複数を除外するものではない。ある手段が相互に異なる従属請求項に記載されているという単なる事実は、これらの手段の組み合わせが有利に使用されない、ということを意味するものではない。請求項のカッコ内の参照番号は特許請求の範囲を限定するように解釈されるべきではない。