元スパッタ面と、元非スパッタ面とを有する使用済みスパッタ材と、前記使用済みスパッタ材の元スパッタ面に一体に形成される充填層と、前記使用済みスパッタ材の元非スパッタ面からなる新スパッタ面とを有することを特徴とする再製スパッタリングターゲット。前記充填層は、前記使用済スパッタ材と同様の材料からなり、前記元スパッタ面と充填層との間に材料微細構造の異なる不連続面が形成され、前記材料微細構造は、化合物の組成、結晶粒度、多孔率、及びその組み合わせからなる群より選択されるものであることを特徴とすることを特徴とする請求項1に記載の再製スパッタリングターゲット。前記充填層は、前記使用済スパッタ材と異なり、該使用済スパッタ材の熱伝導率より高い熱伝導率を有する材料からなり、前記元スパッタ面と前記充填層との間に形成される不連続面は、材料組成が異なることを特徴とする請求項1に記載の再製スパッタリングターゲット。しかしながら、上記従来技術には、以下のような問題を有する。従来技術は何れも、使用済みスパッタ材に新たな材料を充填させ、該使用済みスパッタ材と同様の性質を有する新たに充填された材料をスパッタ部とする新たなスパッタリングターゲットを製造するものであるので、該新品のスパッタリングターゲットを製造する時、使用済みスパッタ材を製造するための工程を施さなくてはならなかった。更に、上記従来技術は、スパッタリングターゲットを再製するたびに、前記使用済みスパッタ材に高温又は高圧の工程を繰り返し行うが、何度もの焼結や熱間等方圧加圧などの工程は、使用済みスパッタ材に影響を与え、その材料性質を変化させてしまうので、薄膜蒸着の品質にも悪影響を及ぼす恐れがある。即ち、従来技術によれば、使用者はスパッタリングターゲットを再製するよりも、60~75の残留材料を有するものであっても、薄膜蒸着の品質に悪影響を与えてしまう使用済みスパッタ材をリサイクルせずに廃棄してしまう。そこで、出願されたのが本発明であって、従来技術における、使用済みスパッタ材の残留材料を十分にリサイクルすることができないといった問題を解決すべく、再生処理された使用済みスパッタ材をリサイクルすることができる再製スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供することを目的としている。本願の請求項1の発明は、元スパッタ面と、元非スパッタ面とを有する使用済みスパッタ材と、前記使用済みスパッタ材の元スパッタ面に一体に形成される充填層と、前記使用済みスパッタ材の元非スパッタ面からなる新スパッタ面とを有することを特徴とする再製スパッタリングターゲット、を提供する。本願の請求項2の発明は、前記充填層は前記使用済スパッタ材と同様な材料からなり、前記元スパッタ面と前記充填層との間に材料微細構造の差異による不連続面が形成され、前記材料微細構造は、化合物の組成、結晶粒度、多孔率、及びその組み合わせからなる群より選択されるものであることを特徴とする請求項1に記載の再製スパッタリングターゲット、を提供する。本願の請求項3の発明は、前記充填層は前記使用済スパッタ材と異なり、前記使用済スパッタ材の熱伝導率より高い熱伝導率を有する材料からなるものであり、前記元スパッタ面と前記充填層との間に形成される不連続面は材料組成の差異によるものであることを特徴とする請求項1に記載の再製スパッタリングターゲット、を提供する。本発明に係る再製スパッタリングターゲット及びその製造方法は、使用済みスパッタ材の元スパッタ面に充填層を形成させることにより、使用済みスパッタ材の元非スパッタ面を新スパッタ面とする再製スパッタリングターゲットを提供するものであることから、該使用済みスパッタ材の元非スパッタ面を新たなスパッタ面として使用することができるので、該使用済みスパッタ材を十分に利用することができる。また、本発明の技術では、回収した使用済みスパッタ材を再製スパッタリングターゲットのスパッタ部として使用することから、該使用済みスパッタ材は、高温高圧の工程を繰り返される前に消耗してしまうので、該使用済みスパッタ材の材料性質の変化を防ぐことができ、これにより、使用済みスパッタ材を回収して使用しても、薄膜蒸着工程の品質を維持することができる。以下、添付図面を参照して本発明の好適な実施の形態を詳細に説明する。図1に示すように、本発明に係る再製スパッタリングターゲットは、新しい材料からなり、使用後に初めて回収された使用済みスパッタ材1と、充填層2とを有するものである。前記使用済みスパッタ材1は、元スパッタ面10と、該元スパッタ面10の反対側に位置する元非スパッタ面11とを有する。尚、使用済みスパッタ材1は、厚さの最小値が前記再製スパッタリングターゲットにおける予定するエロージョンの深度より大きいことが好ましい。再製スパッタリングターゲットは、前記充填層2が前記使用済みスパッタ材1の元スパッタ面10に一体に形成されることにより構成され、該再製スパッタリングターゲットには、該使用済みスパッタ材の元非スパッタ面からなる新スパッタ面を有する。尚、前記充填層2は、前記使用済スパッタ材1と同様の材料からなるものであってもよく、或いは、使用済スパッタ材1と異なる材料からなるものであってもよい。また、前記充填層2は、前記使用済スパッタ材1と異なり、該使用済スパッタ材1の熱伝導率より高い熱伝導率を有する材料からなるものであってもよい。更に、前記元スパッタ面と前記充填層との間に形成される不連続面は、材料組成が異なるものであることが好ましいが、例えば、化合物の組成、結晶粒度、多孔率、またはその組み合わせである材料微細構造が異なるものであってもよい。図2に示すように、本発明に係る再製スパッタリングターゲットの製造方法は、元スパッタ面10と、元非スパッタ面11とを有する使用済みスパッタ材1を提供するステップと、前記使用済みスパッタ材1の元スパッタ面10に一体に充填層2を形成させるように、前記使用済みスパッタ材1の元スパッタ面10に材料を充填させることにより、再製スパッタ材を形成させるステップと、前記再製スパッタ材の厚さが所定の寸法となるように、前記再製スパッタ材の充填層2に加工を施すことにより、該再製スパッタ材を、前記使用済みスパッタ材1の元非スパッタ面11からなる新スパッタ面を有する再製スパッタリングターゲットに形成させるステップとを有するものである。尚、前記使用済みスパッタ材1は、新しい材料からなり、使用後に回収されるものであり、その厚さの最小値は、前記再製スパッタリングターゲットにおける予定エロージョンの深度より大きいものであることが好ましい。また、前記使用済みスパッタ材1の元スパッタ面10に一体に充填層2を形成させる手段は、プラズマ溶射、電気アーク溶射、火炎溶射、またはコールドスプレーであってもよく、前記材料を該使用済みスパッタ材1の元スパッタ面10に充填させるために加熱を行う時は、加熱温度を該使用済みスパッタ材の焼結温度未満にしなければならない。また、前記再製スパッタ材を形成させるステップの後に、該使用済みスパッタ材1の表面の汚染物を取り除く表面処理を行うステップを追加してもかまわない。上述したように、本発明に係る再製スパッタリングターゲットの製造方法は、提供された使用済みスパッタ材の元非スパッタ面を、先ず背面プレートに溶接し、該背面プレートに支持される使用済みスパッタ材の元スパッタ面に、前記材料を充填させた後、前記使用済みスパッタ材と背面プレートとを分離させるといった手法で行わってもよい。