"通風路に間隔を設けて配置され、前記通風路を流れる処理対象ガスが通過する多数の貫通孔を有する複数のハニカム構造体と、前記複数のハニカム構造体のうち隣り合う複数のハニカム構造体を1群のハニカム構造体群とし、このハニカム構造体群の両端に位置するハニカム構造体の両端に位置するハニカム構造体の外側に配置された第1および第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に高電圧を印加し前記ハニカム構造体の貫通孔および前記ハニカム構造体間の空間にプラズマを発生させる高電圧源とを備えたガス処理ユニットを前記通風路の入口から出口への処理対象ガスの通過方向に沿って1以上備えたガス処理装置において、最上流に位置する前記ガス処理ユニットの上流側から水分を供給する水分供給手段と、前記水分供給手段が供給する水分の供給量を制御する制御手段と、前記処理対象ガスの現在の状態量を検出する状態量検出手段とを備え、前記制御手段は、前記状態量検出手段によって検出された前記処理対象ガスの現在の状態量に応じて前記水分供給手段が供給する水分の供給量を制御することを特徴とするガス処理装置。請求項1に記載されたガス処理装置において、前記状態量検出手段は、前記処理対象ガスの現在の状態量として流量または流速を検出することを特徴とするガス処理装置。請求項1に記載されたガス処理装置において、前記状態量検出手段は、前記処理対象ガスの現在の状態量として濃度を検出することを特徴とするガス処理装置。しかしながら、図6に示したガス処理装置では、次のような問題を有する。このガス処理装置において、処理対象ガスGS中の水分湿度に着目すると、処理対象ガスGSは上流側のハニカム構造体8から下流側のハニカム構造体8に向かって流れて行く過程で、各ハニカム構造体8で発生したプラズマ放電によって処理を受けるが、処理を受ける度に処理対象ガスGS中に含まれる水分が消費されるので、処理対象ガスGSは上流側から下流側にかけて湿度が低下した状態となる。また、ハニカム構造体8の内部のでプラズマの発生状態は処理対象ガスGS中の水分が多いほど活発に行われ、水分が少なくなると抑制される特性がある。このため、第1のハニカム構造体群8A側を第1のガス処理ユニットGU1とし、第2のハニカム構造体群8B側を第2のガス処理ユニットGU2とした場合、仮に全てのハニカム構造体8の特性が同じであっても、第1のガス処理ユニットGU1よりも第2のガス処理ユニットGU2の方がプラズマの発生量が小さく、ガス処理能力が落ちる。図6には、ガス処理ユニットGUを2つとした例が示されているが、ガス処理ユニットがさらに設けられているものとすれば、下流側へ配置されるガス処理ユニットほどプラズマの発生量が小さく、ガス処理能力が落ちて行く。複数のガス処理ユニットのガス処理能力に大きな格差があると、ガス処理能力が過剰なガス処理ユニットとガス処理能力が不足するガス処理ユニットとが存在するということになり、全体としてのガス処理効率が落ちるとともにオゾンの発生の度合いも高まり、望ましくない。なお、特許文献4には、金属電極とハニカム電極との間の空間へ加湿装置によって水分を送り込むことにより、処理対象ガス中の水分濃度を高め、プラズマ放電を活性化させてガス浄化能力を高めるようにしたガス浄化装置が示されている。しかしかながら、この特許文献4に示された技術を図6に示したガス処理装置に適用した場合、加湿装置によって送り込む水分量を制御していないので、処理対象ガスの流量やガス濃度が変動したり、変更された場合に、ガス処理ユニットのガス処理能力を適切なレベルに修正することができない。その結果、供給する水分量が過少であればプラズマ放電の発生状況が不充分でガス処理能力が不足する一方、供給する水分量が過多であれば放電が激しくなり火花放電のような異常放電が発生したり、放電によって発生するオゾン量も大となる。本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、処理対象ガスの流量流速や濃度などの状態量が変動したり、変更された場合でも、ガス処理ユニットのガス処理能力を適切な状態とし、ガス処理能力の過剰、不足によって生じる問題を緩和することが可能なガス処理装置を提供することにある。このような目的を達成するために本発明は、通風路に間隔を設けて配置され、通風路を流れる処理対象ガスが通過する多数の貫通孔を有する複数のハニカム構造体と、複数のハニカム構造体のうち隣り合う複数のハニカム構造体を1群のハニカム構造体群とし、このハニカム構造体群の両端に位置するハニカム構造体の両端に位置するハニカム構造体の外側に配置された第1および第2の電極と、第1の電極と第2の電極との間に高電圧を印加しハニカム構造体の貫通孔およびハニカム構造体間の空間にプラズマを発生させる高電圧源とを備えたガス処理ユニットを通風路の入口から出口への処理対象ガスの通過方向に沿って1以上備えたガス処理装置において、最上流に位置するガス処理ユニットの上流側から水分を供給する水分供給手段と、水分供給手段が供給する水分の供給量を制御する制御手段と、処理対象ガスの現在の状態量を検出する状態量検出手段とを備え、制御手段は、状態量検出手段によって検出された処理対象ガスの現在の状態量に応じて水分供給手段が供給する水分の供給量を制御することを特徴とする。この発明において、状態量検出手段は、処理対象ガスの現在の状態量を検出する。例えば、処理対象ガスの現在の状態量として流量流速を検出したり、濃度を検出したりする。制御手段は、検出された処理対象ガスの現在の状態量に応じて、水分供給手段が供給する水分の供給量を制御する。例えば、本発明において、処理対象ガスの流量流速が変動して増大した場合、水分の供給量を増加させると、ガス処理ユニットのガス処理能力を増大させることができ、ガス処理ユニットの処理能力の不足を回避することが可能となる。また、処理対象ガスの流量流速が変動して減少した場合、水分の供給量を減少させると、ガス処理ユニットのガス処理能力を低下させることができ、ガス処理ユニットの処理能力の過剰を回避することが可能となる。例えば、本発明において、処理対象ガスの濃度が変動して高濃度となった場合、水の供給量を増加させると、ガス処理ユニットのガス処理能力を増大させることができ、ガス処理ユニットの処理能力の不足を回避することが可能となる。また、処理対象ガスの濃度が変動して低濃度となった場合、水の供給量を減少させると、ガス処理ユニットのガス処理能力を低下させることができ、ガス処理ユニットの処理能力の過剰を回避することが可能となる。本発明によれば、処理対象ガスの現在の状態量を検出するようにし、この検出された処理対象ガスの現在の状態量に応じて水分の供給量を制御するようにしたので、処理対象ガスの流量流速や濃度などの状態量が変動したり、変更された場合でも、ガス処理ユニットのガス処理能力を適切な状態とし、ガス処理能力の過剰、不足によって生じる問題を緩和することが可能となる。以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1はこの発明に係るガス処理装置の一実施の形態の要部を示す図である。同図において、図6と同一符号は図6を参照して説明した構成要素と同一或いは同等構成要素を示し、その説明は省略する。この実施の形態においても、図6に示したガス処理装置と同様に、処理対象ガスGSの通過方向ダクト1の入口から出口への方向に方向に沿って、第1のガス処理ユニットGU1と第2のガス処理ユニットGU2をダクト1内に配置している。また、ガス処理ユニットGU1の第1の電極9と第2の電極10との間に導線12,13を介して高電圧源15-1からの高電圧V1を印加するようにし、ガス処理ユニットGU2の第1の電極10第2の電極11との間に導線13,14を介して高電圧源15-2からの高電圧V2V2>V1を印加するようにしている。また、ダクト1を流れる処理対象ガスGSに対して、この処理対象ガスGSの状態量後述を検出する状態量検出センサ19を設けている。また、ダクト1に対して、最上流に位置するガス処理ユニットGU1の上流側からダクト1内の空間に水分を供給する水分供給手段として、加湿装置17を設けている。この加湿装置17の加湿量は、すなわちダクト1内の空間への水分の供給量は、制御部18によって調整制御されるようになっている。制御部18は、プロセッサや記憶装置からなるハードウェアと、これらのハードウェアと協働して各種機能を実現させるプログラムとによって実現され、上述した加湿装置17における加湿量の調整機能を有している。以下、この制御部18が有する加湿量の調整機能について、図2および図3,図4に示すフローチャートを用いて説明する。ガス処理ユニットの消費電力に基づく加湿量の調整機能図2制御部18は、ガス処理ユニットGU1の高電圧源15-1が電極9,10間に印加している現在の電圧V1の値および電極9,10間に供給している現在の電流I1を検出しステップS101、この電圧V1,電流I1の値からガス処理ユニットGU1の現在の消費電力PW1を求めるステップS102。次に、制御部18は、ガス処理ユニットGU2の高電圧源15-2が電極10,11間に印加している現在の電圧V2の値および電極10,11間に供給している現在の電流I2を検出しステップS103、この電圧V2,電流I2の値からガス処理ユニットGU2の現在の消費電力PW2を求めるステップS104。そして、制御部18は、この求めたガス処理ユニットGU1の消費電力PW1とガス処理ユニットGU2の消費電力PW2とが等しくなるように、加湿装置17の加湿量を調整するステップS105。制御部18は、このステップS101~S105の処理動作を繰り返す。このガス処理装置では、下流側に位置するガス処理ユニットGU2の高電圧源15-2が印加する電圧V2の値が、上流側に位置するガス処理ユニットGU1の高電圧源15-1が印加する電圧V1の値よりも高くされている。また、加湿装置17の加湿量は一定ではなく、ガス処理ユニットGU1の消費電力PW1とガス処理ユニットGU2の消費電力PW2とが等しくなるように制御される。これにより、ガス処理ユニットGU1,GU2のプラズマの発生状況の格差が大幅に解消され、ガス処理ユニットGU1,GU2のガス処理能力が平準化され、ガス処理能力の過剰、不足によって生じる問題が緩和されるものとなる。処理対象ガスの状態量に基づく加湿量の調整機能制御部18は、状態量検出センサ19が検出する処理対象ガスGSの現在の状態量に基づいて、加湿装置17の加湿量を調整する。例1:状態量を流量流速とした場合図3先ず、例1として、状態量検出センサ19が検出する処理対象ガスGSの現在の状態量を流量流速とした場合について、図3に示すフローチャートを用いて説明する。制御部18は、状態量検出センサ19が検出する処理対象ガスGSの現在の流量流速が変化するとステップS201のYES、その変化が増大方向への変化であるのか減少方向への変化であるのかをチェックするステップS202。ここで、流量流速の変化が増大方向への変化であればステップS202の増大、制御部18は、加湿装置17の加湿量を増大させるステップS203。これにより、ガス処理ユニットGUGU1,GU2のガス処理能力が増大し、ガス処理ユニットGUGU1,GU2の処理能力の不足を回避することが可能となる。これに対し、流量流速の変化が減少方向への変化であればステップS202の減少、制御部18は、加湿装置17の加湿量を減少させるステップS204。これにより、ガス処理ユニットGUGU1,GU2のガス処理能力が低下し、ガス処理ユニットGUGU1,GU2の処理能力の過剰を回避することが可能となる。すなわち、処理能力が過剰となることによって、異常放電が発生したり、オゾンの発生量が増大することを回避することが可能となる。例2:状態量を濃度とした場合図4次に、例2として、状態量検出センサ19が検出する処理対象ガスGSの現在の状態量を濃度とした場合について、図4に示すフローチャートを用いて説明する。制御部18は、状態量検出センサ19が検出する処理対象ガスGSの現在の濃度が変化するとステップS301のYES、その変化が増大方向への変化であるのか減少方向への変化であるのかをチェックするステップS302。ここで、濃度の変化が増大方向への変化であればステップS302の増大、制御部18は、加湿装置17の加湿量を増大させるステップS303。これにより、ガス処理ユニットGUGU1,GU2のガス処理能力が増大し、ガス処理ユニットGUGU1,GU2の処理能力の不足を回避することが可能となる。これに対し、濃度の変化が減少方向への変化であればステップS302の減少、制御部18は、加湿装置17の加湿量を減少させるステップS304。これにより、ガス処理ユニットGUGU1,GU2のガス処理能力が低下し、ガス処理ユニットGUGU1,GU2の処理能力の過剰を回避することが可能となる。すなわち、処理能力が過剰となることによって、異常放電が発生したり、オゾンの発生量が増大することを回避することが可能となる。なお、上述した実施の形態では、状態量検出センサ19が検出する処理対象ガスGSの現在の状態量を流量流速や濃度としたが、状態量検出センサ19が検出する処理対象ガスGSの現在の状態量は流量流速や濃度に限られるものでないことは言うまでもない。また、上述した実施の形態において、電極10はガス処理ユニットGU1の第2の電極とガス処理ユニットGU2の第1の電極とを兼ねた共通電極とされているが、ガス処理ユニットGU1の第2の電極とガス処理ユニットGU2の第1の電極とを独立した電極とするようにしてもよい。また、上述した実施の形態において、ハニカム構造体8はオゾンを分解する触媒機能を備えたものとしてもよく、処理対象ガスGSの通過方向の下流位置にオゾンを分解する触媒を設けるようにしてもよい。また、上述した実施の形態では、ガス処理ユニットの数を2つとしたが、さらにその数を増やすようにしてもよい。また、ガス処理ユニット内のハニカム構造体の数は2つに限られるものではなく、さらにその数を増やしてもよい。また、ガス処理ユニットの数は必ずしも複数でなくてもよく、1つであっても構わない。ガス処理ユニットの数を増やす場合には、各ガス処理ユニットは、上流側から下流側に位置するガス処理ユニットほど、そのガス処理ユニットの高電圧源が印加する電圧の値を高くするようにする。また、各ガス処理ユニットの消費電力が等しくなるように、加湿装置の加湿量を調整するようにする。あるいは加湿装置の加湿量の調整に加えて、最上流に位置するガス処理ユニットの高電圧源が印加する電圧の値を調整するようにする。また、上述した実施の形態において、副生成物としてオゾンを大量に発生させ、オゾン発生器として転用するようにしてもよい。"