基材に塗布された感光性材料に光を照射する光源を有する露光ユニットと、前記基材が配置されるテーブルとを備え、前記光源から前記感光性材料に光が照射されるときに前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて前記光源の前記感光性材料に対する照射位置が変化され、前記感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光を前記光源から前記感光性材料に照射して3次元形状の構造体を形成するようにした露光装置。前記感光性材料として、露光された部分が現像されたときに前記構造体として残存するネガ型フォトレジストを用いた請求項1に記載の露光装置。前記感光性材料として、光の照射により酸を触媒とする反応によって露光された部分の現像液に対する溶解性が変化する化学増幅型フォトレジストを用いた請求項2に記載の露光装置。前記光源から光が照射されて露光された前記感光性材料に対して所定の時間加熱を行うようにした請求項3に記載の露光装置。前記光源から前記感光性材料に照射される光の照射強度を制御し、前記感光性材料の露光される面積が前記光源から出射された光の焦点における集光面積よりも小さくされるようにした請求項1に記載の露光装置。前記光源から前記感光性材料に照射される光の照射強度を制御し、前記感光性材料の露光される範囲が前記光源から出射された光の出射方向に沿って制御されるようにした請求項1に記載の露光装置。前記光源から前記感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長より長い波長の光が出射されて前記感光性材料に照射されるようにした請求項1に記載の露光装置。前記光源から前記感光性材料の有する最大吸収感度の100分の1の感度を与える波長の光が出射されて前記感光性材料に照射されるようにした請求項1に記載の露光装置。前記感光性材料が円筒形状または円柱形状に形成された請求項1に記載の露光装置。前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が前記感光性材料の軸方向へ移動して前記感光性材料に光が照射されるようにした請求項9に記載の露光装置。前記光源から出射された光が集光レンズによって集光されて前記感光性材料に照射され、前記集光レンズが前記光源から出射される光の出射方向へ移動可能とされた請求項1に記載の露光装置。テーブルに配置された基材に塗布された感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光が露光ユニットの光源から前記感光性材料に照射され、前記光源から前記感光性材料に光が照射されるときに前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて前記光源の前記感光性材料に対する照射位置が変化されて3次元形状に形成された構造体。しかし、上記した特許文献1に記載された露光装置においては、3次元形状の構造体の各部位の最小サイズが粉末材料の粒径に依存するため、粉末材料の粒径よりも小さな精度で構造体を形成することが出来ず、3次元形状を高い精度で形成することが出来ないという問題がある。また、従来の露光装置にあっては、感光性材料に対して最も効率よく光が吸収される波長以後、最大吸収波長とする。の光が照射されて露光が行われている。図8は、感光性材料aに最大吸収波長の光bを矢印A方向に走査して照射を行っている状態を示した模式図である。図9は、感光性材料aに最大吸収波長の光bの焦点cの位置を光bの照射方向へ移動させながら矢印A方向に走査して照射を行っている状態を示した模式図である。図8及び図9においては、感光性材料aの露光された部分をそれぞれ露光部d及び露光部eとして斜線で示している。このように最大吸収波長の光bを照射して露光を行うと、焦点c、c、が走査された近傍の部分以外の部分についても露光されてしまい、意図しない部分が露光されることになり、やはり3次元形状を高い精度で形成することが出来ない。そこで、本発明露光装置及び構造体は、上記した問題点を克服し、高い精度で3次元形状を形成することを課題とする。露光装置は、上記した課題を解決するために、基材に塗布された感光性材料に光を照射する光源を有する露光ユニットと、前記基材が配置されるテーブルとを備え、前記光源から前記感光性材料に光が照射されるときに前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて前記光源の前記感光性材料に対する照射位置が変化され、前記感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光を前記光源から前記感光性材料に照射して3次元形状の構造体を形成するようにしたものである。従って、露光装置にあっては、感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光が照射位置を変化されながら照射されて感光性材料が3次元形状の構造体として形成される。上記した露光装置にあっては、前記感光性材料として、露光された部分が現像されたときに前記構造体として残存するネガ型フォトレジストを用いることが望ましい。感光性材料としてネガ型フォトレジストを用いることにより、感光性材料の露光された部分が現像されて構造体として形成される。上記した露光装置にあっては、前記感光性材料として、光の照射により酸を触媒とする反応によって露光された部分の現像液に対する溶解性が変化する化学増幅型フォトレジストを用いることが望ましい。感光性材料として化学増幅型フォトレジストを用いることにより、感光性材料の露光された部分の現像液に対する溶解性が加熱によって大きく低下される。上記した露光装置にあっては、前記光源から光が照射されて露光された前記感光性材料に対して所定の時間加熱を行うようにすることが望ましい。光源から光が照射されて露光された感光性材料に対して所定の時間加熱を行うことにより、感光性材料の露光された部分の現像液に対する溶解性が低下される。上記した露光装置にあっては、前記光源から前記感光性材料に照射される光の照射強度を制御し、前記感光性材料の露光される面積が前記光源から出射された光の焦点における集光面積よりも小さくされるようすることが望ましい。光源から感光性材料に照射される光の照射強度を制御し、感光性材料の露光される面積が光源から出射された光の焦点における集光面積よりも小さくされることにより、光の焦点の中心から特定の範囲が露光される。上記した露光装置にあっては、前記光源から前記感光性材料に照射される光の照射強度を制御し、前記感光性材料の露光される範囲が前記光源から出射された光の出射方向に沿って制御されるようすることが望ましい。光源から感光性材料に照射される光の照射強度を制御し、感光性材料の露光される範囲が光源から出射された光の出射方向に沿って制御されることにより、感光性材料が光の出射方向において露光される。上記した露光装置にあっては、前記光源から前記感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長より長い波長の光が出射されて前記感光性材料に照射されることが望ましい。光源から感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長より長い波長の光が出射されて感光性材料に照射されることにより、感光性材料に最大吸収感度を与える波長よりも長い波長の光が照射されて露光される。上記した露光装置にあっては、前記光源から前記感光性材料の有する最大吸収感度の100分の1の感度を与える波長の光が出射されて前記感光性材料に照射されることが望ましい。光源から感光性材料の有する最大吸収感度の100分の1の感度を与える波長の光が出射されて感光性材料に照射されることにより、高い精度で3次元形状を形成するための最適な波長の光が感光性材料に照射される。上記した露光装置にあっては、前記感光性材料が円筒形状及び円柱形状に形成されることが望ましい。感光性材料が円筒形状及び円柱形状に形成されることにより、円筒形状及び円柱形状に3次元形状の構造体が形成される。上記した露光装置にあっては、前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が前記感光性材料の軸方向へ移動して前記感光性材料に光が照射されることが望ましい。光源または感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が感光性材料の軸方向へ移動して感光性材料に光が照射されることにより、円筒形状及び円柱形状の感光性材料に光が照射されて露光される。上記した露光装置にあっては、前記光源から出射された光が集光レンズによって集光されて前記感光性材料に照射され、前記集光レンズが前記光源から出射される光の出射方向へ移動可能とされることが望ましい。光源から出射された光が集光レンズによって集光されて感光性材料に照射され、集光レンズが光源から出射される光の出射方向へ移動可能とされることにより、感光性材料に照射される光の焦点が光の出射方向に移動される。上記した構造体にあっては、テーブルに配置された基材に塗布された感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光が露光ユニットの光源から前記感光性材料に照射され、前記光源から前記感光性材料に光が照射されるときに前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて前記光源の前記感光性材料に対する照射位置が変化されて3次元形状に形成されたものである。従って、構造体にあっては、感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光が照射位置を変化されながら照射されて感光性材料が3次元形状に形成される。本技術露光装置は、基材に塗布された感光性材料に光を照射する光源を有する露光ユニットと、前記基材が配置されるテーブルとを備え、前記光源から前記感光性材料に光が照射されるときに前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて前記光源の前記感光性材料に対する照射位置が変化され、前記感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光を前記光源から前記感光性材料に照射して3次元形状の構造体を形成する。従って、感光性材料の所望の部分を選択的に露光することが出来、3次元形状の構造体を高い精度で形成することが出来る。請求項2に記載した技術にあっては、前記感光性材料として、露光された部分が現像されたときに前記構造体として残存するネガ型フォトレジストを用いている。従って、3次元形状に形成された構造体の強度の向上を図ることが出来る。請求項3に記載した技術にあっては、前記感光性材料として、光の照射により酸を触媒とする反応によって露光された部分の現像液に対する溶解性が変化する化学増幅型フォトレジストを用いる。従って、現像液による現像処理後において露光された部分が3次元形状の構造体として確実に残存し、成型精度の高い構造体を形成することが出来る。請求項4に記載した技術にあっては、前記光源から光が照射されて露光された前記感光性材料に対して所定の時間加熱を行うようにしている。従って、最大吸収波長からずれた波長の光で露光された感光性材料の現像液に対する溶解性を十分に低下させることが出来る。請求項5に記載した技術にあっては、前記光源から前記感光性材料に照射される光の照射強度を制御し、前記感光性材料の露光される面積が前記光源から出射された光の焦点における集光面積よりも小さくされるようにしている。従って、構造体をより一層高い精度で形成することが出来る。請求項6に記載した発明にあっては、前記光源から前記感光性材料に照射される光の照射強度を制御し、前記感光性材料の露光される範囲が前記光源から出射された光の出射方向に沿って制御されるようにしている。従って、中空形状を含む複雑な3次元形状に露光することが出来る。請求項7に記載した技術にあっては、前記光源から前記感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長より長い波長の光が出射されて前記感光性材料に照射されるようにしている。従って、最大吸収波長の光を出射する光源よりも安価な光源を用いることが出来るので、露光装置のコストの低減を図ることが出来る。請求項8に記載した技術にあっては、前記光源から前記感光性材料の有する最大吸収感度の100分の1の感度を与える波長の光が出射されて前記感光性材料に照射されるようにしている。従って、構造体を極めて高い精度で形成することが出来る。請求項9に記載した技術にあっては、前記感光性材料が円筒形状及び円柱形状に形成されている。従って、円筒形状もしくは円柱形状の感光性材料から微細なパターンを有する構造体を高い精度で形成することが出来る。請求項10に記載した技術にあっては、前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が前記感光性材料の軸方向へ移動して前記感光性材料に光が照射されるようにしている。従って、円筒形状もしくは円柱形状の感光性材料を高い精度で3次元形状に形成することが出来る。請求項11に記載した技術にあっては、前記光源から出射された光が集光レンズによって集光されて前記感光性材料に照射され、前記集光レンズが前記光源から出射される光の出射方向へ移動可能とされている。従って、感光性材料における露光位置を任意に定めることが出来る。本技術構造体にあっては、テーブルに配置された基材に塗布された感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光が露光ユニットの光源から前記感光性材料に照射され、前記光源から前記感光性材料に光が照射されるときに前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて前記光源の前記感光性材料に対する照射位置が変化されて3次元形状に形成される。従って、感光性材料の所望の部分を選択的に露光することが出来、3次元形状の構造体を高い精度で形成することが出来る。以下に、図面を参照して、本技術を実施するための最良の形態以下、単に実施の形態と称する。について詳細に説明する。<露光装置の第1の実施の形態>先ず、本技術に係る露光装置の第1の実施の形態について説明する図1乃至図6参照。[感光性材料]3次元形状の構造体を形成する露光装置においては、構造体を形成するための材料として、フォトレジストと呼ばれる感光性材料が用いられる。フォトレジストとしては、例えば、光の照射露光により現像液に対する溶解性が変化するものが用いられている。このようなフォトレジストは、露光により分解され、または架橋反応が促進される等によって溶解性が変化するため、露光された部分露光部と露光されなかった部分との間で溶解性に差が生じる。フォトレジストには、露光部の溶解性が高くなるポジ型と、露光部の溶解性が低くなるネガ型とがある。例えば、ネガ型のフォトレジストを用いた場合には、露光装置によって露光された部分の溶解性が低くなるため、現像することにより露光されなかった部分が除去され、露光された部分が3次元形状の構造体として形成される。ネガ型のフォトレジストはポジ型のフォトレジストと比較して現像後の機械的強度に優れることが知られており、感光性材料としてネガ型のフォトレジストを用いることにより、3次元形状に形成された構造体の強度の向上を図ることが出来る。また、フォトレジストには、光を照射することにより酸を発生する光酸発生剤と光酸発生剤から発生した酸の作用により溶解性が変化する基材成分とを含有する化学増幅型フォトレジストがある。化学増幅型フォトレジストにおいては、露光によって架橋反応は生じず、露光によって酸が発生し、露光後に加熱されることにより酸を触媒として基材成分に架橋反応が生じて現像液に対する溶解性が大きく変化する。上記したようなフォトレジストを用いて3次元形状に形成された構造体は、例えば、ガラス基板の表面上に形成されるレンチキュラーレンズアレイなどの光学素子やシリコンウェハ基板の表面上に形成される機械要素部品MEMS:MicroElectroMechanicalSystemsとして用いることが可能である。以下に示す露光装置には感光性材料として、例えば、上記したネガ型の化学増幅型フォトレジストが用いられる。ネガ型の化学増幅型フォトレジストとしては、公知のものを使用することが出来るが、例えば、製品名SU-83005日本化薬株式会社製が使用される。但し、本技術の露光装置に用いられる感光性材料は、ネガ型の化学増幅型フォトレジストに限られることはなく、ポジ型の化学増幅型フォトレジストであってもよく、また、化学増幅型フォトレジスト以外の感光性材料であってもよい。[露光装置等の構成]露光装置1は露光ユニット2と基台3とスピンドル部4を備えている図1及び図2参照。露光装置1は信号出力部5と制御部6から出力される各信号に基づいて動作される。信号出力部5と制御部6は図示しない情報処理装置に備えられた記憶装置にプログラムとして設けられている。なお、上記には、信号出力部5と制御部6が露光装置1に対して外部から信号を送出する外部出力部として設けられた例を示したが、信号出力部5と制御部6は外部出力部として設けられる場合に限られることはなく、露光装置1の一部として設けられていてもよい。露光ユニット2は光源7と集光レンズ8と集光レンズ8を制御する図示しないボイスコイルモーターとを備えている。光源7からは、例えば、青色半導体レーザーが下方に向けて出射される。このレーザー光の波長は405nmである。なお、光源7としては、例えば、青色半導体レーザーと同等の波長の光を出射する紫外線ランプを用いることも可能である。光源7から出射される光の照射強度は信号出力部5から出力される信号に基づいて制御される。集光レンズ8は光源7から出射された光を集光する機能を有している。基台3の内部には図示しないリニア駆動部と回転駆動部が配置されている。ボイスコイルモーターとリニア駆動部と回転駆動部はそれぞれ制御部6から出力される駆動信号によって動作される。スピンドル部4は上下方向に延びる回転軸4aと上下方向を向くテーブル4bとを有し、回転軸4aとテーブル4bが一体に回転される。テーブル4bは、図示しないチャック、例えば、静電チャックを有している。スピンドル部4はリニア駆動部の駆動動作により水平方向へ移動され、回転駆動部の駆動により回転軸4aの軸回り方向へ回転される。スピンドル部4の回転の開始及び停止、回転速度の制御などは制御部6から回転駆動部に対して入力される信号に基づいて行われる。また、スピンドル部4の移動距離及び速度の制御などは制御部6からリニア駆動部に入力される信号に基づいて行われる。スピンドル部4のテーブル4b上には、例えば、平板状の基材9が配置される。基材9上には感光性材料10が塗布される。基材9としては、例えば、円形のシリコンウェハや板ガラスなどが用いられる。基材9に感光性材料10を塗布する方法としては、公知の各種の方法、例えば、スピンコートやダイコートなどの各種の方法が用いられる。基材9はスピンドル部4の静電チャックによってテーブル4bに固定される。基材9はスピンドル部4の回転に伴って回転されると共にスピンドル部4の移動に伴って水平方向へ移動される。感光性材料10には光源7から出射されたレーザービーム11が集光レンズ8によって集光されて照射される。このとき感光性材料10の表面または内部にレーザービーム11の焦点12が形成される図2参照。感光性材料10に対する焦点12の位置はボイスコイルモーターが集光レンズ8をレーザービーム11の出射方向へ移動させることによって定められ、この焦点12の位置の制御は制御部6から出力される信号に基づいて連続的に行われる。上記のように、レーザービーム11を集光する集光レンズ8が光の出射方向に移動可能とされているため、集光レンズ8によって集光されて形成される焦点12を所望の位置に定めることが出来、感光性材料10における露光位置を任意に定めることが出来る。感光性材料10において光の吸収感度が最大とされる波長以後、最大吸収波長とする。は、例えば、365nmであるi線相当の短波長である。露光装置1においては最大吸収波長からずれた波長405nmのレーザービーム11が感光性材料10に照射される。感光性材料10にレーザービーム11が照射された場合には、光の吸収感度は最大吸収波長の光が照射された場合の吸収感度に比べて、例えば、約100分の1程度にされる。露光装置1にあっては、上記したように、最大吸収波長より長い波長の光のレーザービーム11が光源7から感光性材料10に照射されるようにしている。従って、光源7として、最大吸収波長の光を出射する短波長のレーザー光源よりも一般に安価である可視光域に近い波長のレーザー光源を用いることが出来るので、露光装置1のコストの低減を図ることが出来る。[露光装置の動作]以下に、露光装置1の動作について説明する図2乃至図6参照。先ず、露光ユニット2の光源7からレーザービーム11が出射され、出射されたレーザービーム11が集光レンズ8によって感光性材料10の表面または内部における所望の位置に集光される図2参照。感光性材料10としては、例えば、上記したように、ネガ型の化学増幅型フォトレジストが用いられている。図3は、レーザービーム11の焦点12の位置を基材9の上面に定め、矢印B方向に走査して露光を行っている状態を示した模式図である。図4は、レーザービーム11の焦点12の位置を感光性材料10の内部に定め、矢印B方向に走査して露光を行っている状態を示した模式図である。図3及び図4においては、それぞれ露光された部分である露光部13及び露光部13Aを斜線で示している。最大吸収波長からずれた波長のレーザービーム11が感光性材料10に照射されると、焦点12を中心とした特定の範囲、即ち、焦点12の近傍の範囲が露光されて露光部13及び露光部13Aが形成され図3及び図4参照、酸の発生する反応が促進される。また、レーザービーム11の波長が最大吸収波長からずれているので、上記した特定の範囲以外、即ち、焦点12から離れた範囲においては、酸が発生する反応が十分に生じないため露光されない。従って、感光性材料10のうち焦点12の近傍の範囲以外の部分は露光されず、焦点12を中心とした特定の範囲のみが選択的に露光される。また、レーザービーム11は集光レンズ8によって集光されているので、焦点12の中心付近ほど照射強度が高くされる。このため、焦点12の中心付近と外周付近との間で酸が発生する反応に差が生じる。上記した焦点12を中心とした特定の範囲のみが選択的に露光される場合よりもレーザービーム11の照射強度が低くなるように制御されると、集光レンズ8の回折限界によって定められる焦点12の集光面積よりも小さい範囲が露光される。図5は、レーザービーム11の焦点12の位置を出射方向に沿って移動させながら矢印B方向に走査して露光を行っている状態を示す模式図である。図6は、レーザービーム11の照射強度を制御しながら矢印B方向に走査して露光を行っている状態を示す模式図である。図5及び図6においては、それぞれ露光された部分である露光部13B及び露光部13Cを斜線で示している。レーザービーム11の焦点12の位置を移動させながら感光性材料10にレーザービーム11を照射することにより、感光性材料10のうち焦点12を中心とした特定の範囲、即ち、焦点12の近傍の範囲が所定の3次元形状の露光部13Bとして形成される図5参照。また、レーザービーム11の照射強度を変更しながら感光性材料10に照射することにより、露光される範囲がレーザービーム11の出射方向に沿って拡大または縮小され、所定の3次元形状の露光部13Cが形成される図6参照。このようにレーザービーム11の照射強度を制御しながら感光性材料10に照射することにより、中空形状を含む複雑な3次元形状の露光部を形成することが可能である。上記したように、感光性材料10には最大吸収波長からずれた波長のレーザービーム11が照射されるため、感光性材料10における光の吸収感度が低く、露光部1313A、13B、13Cの溶解性が十分には低下していない状態にある。なお、露光部1313A、13B、13Cを、以下の記載においては露光部13等とする。上記した感光性材料10に対する露光が行われると、続いて、図示しないクリーンオーブンによって露光部13等の架橋反応を生じさせて現像液に対する溶解性を低下させるための焼き締め処理PEB:PostExposureBakeが行われて感光性材料10が加熱される。焼き締め処理によって露光部13等における溶解性が十分に低下しないと、次に行われる現像工程において露光部13等が現像液によって溶解されてしまい、所望の形状を有する構造体を形成することが出来なくなるため、焼き締め処理における感光性材料10に対する加熱は露光部13等の溶解性を十分に低下させるのに十分な時間行われる。従って、焼き締め処理は、最大吸収波長からずれた波長のレーザービーム11が照射されたことにより溶解性の低下が不十分な状態で形成された露光部13等に関し、溶解性の低下を補完するために行われる処理である。露光部13等の溶解性を十分に低下させるために感光性材料10を加熱する時間は、感光性材料10に対して最大吸収波長の光が照射されて露光される場合に比し、例えば、4倍以上の時間である。上記した焼き締め処理によって露光部13等の溶解性が十分に低下される一方、感光性材料10のうち露光部13等以外の部分は溶解性が高くされたままである。このとき、上記したように、感光性材料10として化学増幅型フォトレジストが用いられているため、露光後の焼き締め処理における加熱により露光部13等の現像液に対する溶解性が大きく低下されている。上記したように、焼き締め処理において感光性材料10に対して所定の時間加熱を行うことにより、露光部13等の現像液に対する溶解性を十分に低下させることが出来る。焼き締め処理が行われると、続いて、現像液による現像処理が行われる。現像処理が行われると、溶解性が十分に低下した露光部13等は残存し、露光部13等以外の露光されなかった部分は現像液によって溶解されることにより基材9から除去される。露光部13等以外の露光されなかった部分が感光性材料10から除去されることにより、露光部13等が3次元形状の構造体として形成される。上記したように、感光性材料10として化学増幅型フォトレジストを用いることにより、加熱によって露光部13等の現像液に対する溶解性が大きく低下されている。従って、感光性材料10として化学増幅型フォトレジストを用いることにより、現像液による現像処理後において露光部13等が3次元形状の構造体として確実に残存し、成形精度の高い構造体を形成することが出来る。現像処理が行われると、続いて、追加加熱が行われる。追加加熱は3次元形状の構造体及び基材9に対して、例えば、100°C~150°Cの適切な温度の熱が加えられることにより行われる。構造体及び基材9に対して追加加熱が行われると、構造体及び基材9の表面に残留していた現像液などが除去される。また、追加加熱により構造体の架橋反応がさらに進行され、構造体の基材9に対する密着性が向上する。さらに、構造体の機械的強度の向上が図られる。追加加熱が行われて機械的強度が向上すると、構造体を各種の装置に設けられる部品として使用することが可能となり、構造体を、例えば、上記したように、液晶ディスプレイに設けられるレンチキュラーレンズアレイなどの光学素子として用いることが出来る。なお、上記には、基材9上に構造体が形成される例を示したが、基材9と基材9上に形成された3次元形状とが合わせて構造体とされてもよい。<露光装置の第2の実施の形態>以下に、第2の実施の形態に係る露光装置1Aについて説明する図7参照。なお、以下に示す露光装置1Aは、上記した露光装置1と比較して、露光ユニットが移動されること及びスピンドル部が回転はされるが移動されないことのみが異なる。従って、第2の実施の形態に係る露光装置1Aについては、露光装置1と比較して異なる部分についてのみ詳細に説明をし、その他の部分については露光装置1における同様の部分に付した符号と同じ符号を付して露光装置1と重複する説明は省略する。[露光装置等の構成]露光装置1Aは、露光ユニット2Aと基台3Aとスピンドル部4Aとユニット支持部14を備えている。露光装置1Aは信号出力部5と制御部6から出力される各信号に基づいて動作される。露光ユニット2Aは光源7と集光レンズ8と集光レンズ8を制御するボイスコイルモーターとを備え、水平方向へレーザービーム11を出射する向きとされてユニット支持部14に垂直方向へ移動自在に支持されている。基台3Aの内部には図示しない回転駆動部が配置されている。スピンドル部4Aは回転軸4aとテーブル4bを有し、回転駆動部の駆動により回転軸4aの軸回り方向へ回転される。スピンドル部4Aのテーブル4b上には、例えば、円柱形状に形成されている石英ガラスなどのガラス材料とされる基材9Aが配置される。基材9Aの外周面には所定の厚さの感光性材料10Aが塗布され感光性材料10Aは円筒形状に形成されている。基材9Aは円柱の一方の面の中心が回転軸4aの中心と一致するようにテーブル4bに固定される。基材9Aはスピンドル部4Aの回転に伴って回転される。ユニット支持部14には図示しないリニア駆動部が配置されている。リニア駆動部は制御部6から出力される駆動信号によって動作される。露光ユニット2Aはリニア駆動部によって感光性材料10Aの軸方向へ移動される。なお、上記には、感光性材料10Aが円柱形状の基材9Aの外周面に塗布された円筒形状である例を示したが、感光性材料は、例えば、円板形状の基材の上面に塗布された円柱形状とされていてもよい。また、上記には、露光ユニット2Aが感光性材料10Aの軸方向へ移動される例を示したが、例えば、露光ユニットを固定した状態で配置し、基台3Aにリニア駆動部を配置してスピンドル部が感光性材料10Aの軸方向へ移動されるように構成することも可能である。[第2の実施の形態に係る露光装置の動作]以下に、露光装置1Aの動作について説明する。露光装置1Aにおいては、露光ユニット2Aの光源7から出射されたレーザービーム11が集光レンズ8によって集光されて感光性材料10Aの外周面に照射される。露光ユニット2Aはユニット支持部14によって基材9Aの軸方向へ移動され、基材9Aはスピンドル部4Aの回転に伴って回転され、感光性材料10Aにレーザービーム11が照射されることによって感光性材料10Aの所望の部分が露光される。次に、露光された感光性材料10Aに対して焼き締め処理が行われ、焼き締め処理が行われると、続いて、現像液によって感光性材料10Aに対して現像処理が行われて露光されなかった部分が除去され、基材9Aの外周面上に3次元形状の構造体が形成される。現像処理の後に追加加熱が行われ、構造体の機械的強度の向上が図られる。露光装置1Aにあっては、基材9Aが円筒形状または円柱形状に形成され、外周面上に感光性材料10Aが塗布されていることにより、例えば、シート状媒体に微細な配線パターンを形成するプリンテッドエレクトロニクス技術で用いられる印刷版胴に好適な円筒形状または円柱形状の外周面上に連続した微細なパターンを有する構造体を高い精度で形成することが出来る。また、露光装置1Aにあっては、露光ユニット2Aまたは感光性材料10Aが塗布された基材9Aの少なくとも一方が感光性材料10Aの軸方向へ移動して感光性材料10Aに光が照射されることにより、円筒形状もしくは円柱形状の感光性材料10Aを高い精度で3次元形状に形成することが出来る。[まとめ]以上に記載した通り、露光装置1及び露光装置1Aにあっては、感光性材料10及び感光性材料10Aに最大吸収波長からずれた波長のレーザービーム11が照射される。従って、レーザービーム11の焦点12の近傍の部分のみが露光されるため、感光性材料10、10Aの所望の部分を選択的に露光することが出来、3次元形状の構造体を高い精度で形成することが出来る。また、感光性材料10及び感光性材料10Aにおける光の吸収感度が最大吸収波長の光の約100分の1になる波長のレーザービーム11は、高い精度で3次元形状を形成するための最適な波長の光であり、光の吸収感度が最大吸収波長の光の約100分の1になる波長のレーザービーム11を照射することにより、構造体を極めて高い精度で形成することが出来る。さらにまた、光源7から感光性材料10及び感光性材料10Aに照射されるレーザービーム11の照射強度を制御し、感光性材料10及び感光性材料10Aの露光される面積が焦点12における集光面積よりも小さくされるようにしていることにより、構造体をより一層高い精度で形成することが出来る。[本技術]なお、本技術は以下のような構成とすることが出来る。1基材に塗布された感光性材料に光を照射する光源を有する露光ユニットと、前記基材が配置されるテーブルとを備え、前記光源から前記感光性材料に光が照射されるときに前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて前記光源の前記感光性材料に対する照射位置が変化され、前記感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光を前記光源から前記感光性材料に照射して3次元形状の構造体を形成するようにした露光装置。2前記感光性材料として、露光された部分が現像されたときに前記構造体として残存するネガ型フォトレジストを用いた前記1に記載の露光装置。3前記感光性材料として、光の照射により酸を触媒とする反応によって露光された部分の現像液に対する溶解性が変化する化学増幅型フォトレジストを用いた前記1または前記2に記載の露光装置。4前記光源から光が照射されて露光された前記感光性材料に対して所定の時間加熱を行うようにした前記1から前記3の何れかに記載の露光装置。5前記光源から前記感光性材料に照射される光の照射強度を制御し、前記感光性材料の露光される面積が前記光源から出射された光の焦点における集光面積よりも小さくされるようにした前記1から前記4の何れかに記載の露光装置。6前記光源から前記感光性材料に照射される光の照射強度を制御し、前記感光性材料の露光される範囲が前記光源から出射された光の出射方向に沿って制御されるようにした前記1から前記5の何れかに記載の露光装置。7前記光源から前記感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長より長い波長の光が出射されて前記感光性材料に照射されるようにした前記1から前記6の何れかに記載の露光装置。8前記光源から前記感光性材料の有する最大吸収感度の100分の1の感度を与える波長の光が出射されて前記感光性材料に照射されるようにした前記1から前記7の何れかに記載の露光装置。9前記感光性材料が円筒形状及び円柱形状に形成された前記1から前記8の何れかに記載の露光装置。10前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が前記感光性材料の軸方向へ移動して前記感光性材料に光が照射されるようにした前記9に記載の露光装置。11前記光源から出射された光が集光レンズによって集光されて前記感光性材料に照射され、前記集光レンズが前記光源から出射される光の出射方向へ移動可能とされた前記1から前記10の何れかに記載の露光装置。12テーブルに配置された基材に塗布された感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光が露光ユニットの光源から前記感光性材料に照射され、前記光源から前記感光性材料に光が照射されるときに前記光源または前記感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて前記光源の前記感光性材料に対する照射位置が変化されて3次元形状に形成された構造体。上記した最良の形態において示した各部の具体的な形状及び構造は、何れも本技術を実施する際の具体化のほんの一例を示したにすぎず、これらによって本技術の技術的範囲が限定的に解釈されることがあってはならないものである。