"1分子中に酸性基とエチレン性二重結合とを有するアルカリ可溶性樹脂A、黒色着色剤B、下式3で表される化合物からなる光重合開始剤C1、および下式4で表される化合物からなる光重合開始剤C2、を含むネガ型用感光性組成物であって、全固形分量に対する光重合開始剤C1と光重合開始剤C2との合計含有量の割合が3.5~7.0質量であり、かつ、該合計含有量に対する光重合開始剤C1の割合が5~15質量であることを特徴とするネガ型用感光性組成物。式3中、R1は、水素原子、炭素原子数1~12のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェノキシ基を示し、R2は、水素原子、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基、炭素原子数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンゾイル基、炭素原子数2~12のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のフェノキシカルボニル基を示し、R3は、炭素原子数1~12のアルキル基を示し、R4、R5、R6およびR7は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1~12のアルキル基、シクロアルカン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基、炭素原子数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンゾイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンジルカルボニル基、炭素原子数2~12のアルコキシカルボニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のフェノキシカルボニル基、炭素原子数1~20のアミド基またはニトロ基を示す。式4中、R8は、水素原子、炭素原子数1~12のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェノキシ基を示し、R9は、水素原子、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基、炭素原子数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンゾイル基、炭素原子数2~12のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のフェノキシカルボニル基を示す。架橋剤Dをさらに含み、該架橋剤Dが1分子中に2つ以上のエチレン性二重結合を有し、酸性基を有しない化合物である、請求項1に記載のネガ型用感光性組成物。熱硬化剤Iをさらに含み、該熱硬化剤Iが1分子中に2つ以上のエポキシ基を有する化合物である、請求項1または2に記載のネガ型用感光性組成物。撥インク剤Eをさらに含む、請求項1~3のいずれか一項に記載のネガ型用感光性組成物。前記撥インク剤Eが、1分子中に下式1で表される基または下式2で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有する撥インク剤Eである、請求項4に記載のネガ型用感光性組成物。-CFXRf1式1中、Xは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Rfはエーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素原子数20以下のアルキル基、またはフッ素原子を示す。-SiR10R11On-SiR12R13R142式2中、R10、R11、R12およびR13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、R14は水素原子または炭素原子数1~10のエーテル性酸素原子または窒素原子を含んでいてもよいアルキル基を示し、nは1~200の整数を示す。支持基板上に区画を設けるために形成される隔壁であって、請求項1~5のいずれか一項に記載のネガ型用感光性樹脂組成物の硬化膜からなる隔壁。請求項6に記載の隔壁からなるブラックマトリックス。前記隔壁と同時に形成される該隔壁の膜厚方向に貫通する貫通孔を有し、該貫通孔における水平方向の最大孔径が20μm以下であり、最小孔径が1μm以上である請求項7に記載のブラックマトリックス。支持基板上に形成される、複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを有するカラーフィルタであって、前記隔壁が請求項7または8に記載のブラックマトリックスからなることを特徴とする、カラーフィルタ。TFTアレイ基板上に請求項9に記載のカラーフィルタを有する液晶表示素子。本発明者らの知見によれば、微小なコンタクトホールを有するブラックマトリックスを製造するには、該製造に用いるネガ型用感光性樹脂組成物の光硬化感度を低下させ、フォトマスク開口部からの漏れ光による光硬化を抑える必要がある。このために、ブラックマトリックス製造時の露光量を低減する、用いる組成物中の光重合開始剤の使用量を低減する、光硬化感度の低い光重合開始剤を使用する等の方法が考えられる。光重合開始剤の使用量を低減する場合、露光時の硬化不足によって引き起こされる、現像によるブラックマトリックスパターンの消失、さらには、撥インク剤を含有する場合に得られるブラックマトリックスの撥インク性が不充分になるという問題があった。露光量を低減する場合、上記撥インク性がより顕著に不充分になった。硬化促進のために露光量を増やすと、微小なコンタクトホールの形成が困難になった。光硬化感度の低い光重合開始剤として、例えば、後述の式4で表される化合物からなる光重合開始剤を多量に使用した場合、用いる組成物が含有する黒色着色剤等の顔料のアルカリ水溶液への分散性を悪化させ、アルカリ現像時に顔料が沈降し、フィルタの目詰まりを引き起こすといった不具合があり、量産性に課題があった。つまり、隔壁特にブラックマトリックスの製造において、微小なコンタクトホールの形成と、所望の形状の隔壁ブラックマトリックパターンの形成、さらに、撥インク剤を含有する場合の隔壁ブラックマトリックスへの充分な撥インク性の付与はトレードオフの関係にあり、両立が困難であった。本発明者らの知見によれば、特許文献2に記載の組成物を用いて、上述の手段を試みたところ、微小なコンタクトホールを形成するのは困難であった。本発明は、これを用いて隔壁を製造する際に、微細なラインパターンの隔壁の形成と隔壁への微小なコンタクトホールの形成の両立が可能なネガ型用感光性組成物、およびこれを用いた隔壁およびブラックマトリックスの提供を目的とする。また、本発明は、このようなブラックマトリックスを有することで、低消費電力で明るいBOA型の液晶表示素子が製造可能なカラーフィルタおよびこれを有する液晶表示素子の提供を目的とする。本発明は、以下の[1]~[10]である。[1]1分子中に酸性基とエチレン性二重結合とを有するアルカリ可溶性樹脂A、黒色着色剤B、下式3で表される化合物からなる光重合開始剤C1、および下式4で表される化合物からなる光重合開始剤C2、を含むネガ型用感光性組成物であって、全固形分量に対する光重合開始剤C1と光重合開始剤C2との合計含有量の割合が3.5~7.0質量であり、かつ、該合計含有量に対する光重合開始剤C1の割合が5~15質量であることを特徴とするネガ型用感光性組成物。式3中、R1は、水素原子、炭素原子数1~12のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェノキシ基を示し、R2は、水素原子、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基、炭素原子数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンゾイル基、炭素原子数2~12のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のフェノキシカルボニル基を示し、R3は、炭素原子数1~12のアルキル基を示し、R4、R5、R6およびR7は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1~12のアルキル基、シクロアルカン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基、炭素原子数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンゾイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンジルカルボニル基、炭素原子数2~12のアルコキシカルボニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のフェノキシカルボニル基、炭素原子数1~20のアミド基またはニトロ基を示す。式4中、R8は、水素原子、炭素原子数1~12のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェノキシ基を示し、R9は、水素原子、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基、炭素原子数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンゾイル基、炭素原子数2~12のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のフェノキシカルボニル基を示す。[2]架橋剤Dをさらに含み、該架橋剤Dが1分子中に2つ以上のエチレン性二重結合を有し、酸性基を有しない化合物である、[1]のネガ型用感光性組成物。[3]熱硬化剤Iをさらに含み、該熱硬化剤Iが1分子中に2つ以上のエポキシ基を有する化合物である、[1]または[2]のネガ型用感光性組成物。[4]撥インク剤Eをさらに含む、[1]~[3]のいずれかのネガ型用感光性組成物。[5]前記撥インク剤Eが、1分子中に下式1で表される基または下式2で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有する撥インク剤Eである、[4]のネガ型用感光性組成物。-CFXRf1式1中、Xは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Rfはエーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素原子数20以下のアルキル基、またはフッ素原子を示す。-SiR10R11On-SiR12R13R142式2中、R10、R11、R12およびR13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、R14は水素原子または炭素原子数1~10のエーテル性酸素原子または窒素原子を含んでいてもよいアルキル基を示し、nは1~200の整数を示す。[6]支持基板上に区画を設けるために形成される隔壁であって、[1]~[5]のいずれかのネガ型用感光性樹脂組成物の硬化膜からなる隔壁。[7]前記[6]の隔壁からなるブラックマトリックス。[8]前記隔壁と同時に形成される該隔壁の膜厚方向に貫通する貫通孔を有し、該貫通孔における水平方向の最大孔径が20μm以下であり、最小孔径が1μm以上である[7]のブラックマトリックス。[9]支持基板上に形成される、複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを有するカラーフィルタであって、前記隔壁が[7]または[8]のブラックマトリックスからなることを特徴とする、カラーフィルタ。[10]TFTアレイ基板上に[9]のカラーフィルタを有する液晶表示素子。本発明のネガ型用感光性組成物によれば、微細なラインパターンと微小なコンタクトホールを有する隔壁およびブラックマトリックスを製造することができる。また、本発明によれば、このようなブラックマトリックスを有することで、低消費電力で明るいBOA型の液晶表示素子が作製可能なカラーフィルタおよびこれを有する液晶表示素子が提供できる。本明細書における酸価とは、試料1g中の樹脂酸等を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいい、JISK0070の測定方法に準じて測定することができる値である。単位はmgKOH/gである。本明細書におけるメタアクリロイル...とは、メタアクリロイル...とアクリロイル...の総称である。メタアクリル酸、メタアクリレート、メタアクリルアミド、メタアリル...、メタアクリル樹脂もこれと同様である。本明細書における式1で表される基を、基1という。他の基も同様である。本明細書における式11で表される単量体を、単量体11という。他の単量体も同様である。本明細書における全固形分とは、ネガ型用感光性組成物が含有する成分のうち、隔壁形成成分をいい、溶媒F等の隔壁形成過程における加熱等により揮発する揮発性成分以外の全成分を示す。全固形分の量は仕込み量より計算できる。分析する場合には、ネガ型用感光性樹脂組成物を160°Cで10分間加熱して溶媒を除去する。残存物が全固体分である。本明細書においては、ネガ型用感光性組成物を塗布した膜を塗膜、それを乾燥させた状態を膜、さらに、それを硬化させて得られる膜を硬化膜という。本明細書において、隔壁の表面は、隔壁の上面のみを示す用語として用いる。したがって、隔壁の表面には、隔壁の側面は含まれない。本明細書におけるインクとは、乾燥硬化した後に、例えば光学的、電気的に機能を有する液体を総称するものであり、従来から用いられている着色材料に限定されるものではない。また、上記インクを注入して形成される画素についても同様に、隔壁で仕切られたそれぞれに光学的、電気的機能を有する区分を表すものとして用いられる。本明細書における撥インク性とは、上記インクをはじくために、撥水性と撥油性の両方を適度に有する性質をいい、例えば、後述の方法で評価できる。本明細書においてコンタクトホールとは、隔壁またはブラックマトリックスの膜厚方向に素子と電極を接続するために設けられる貫通孔をいう。微小なコンタクトホールの、微小とは、該コンタクトホールを構成する貫通孔における水平方向の最大孔径が概ね20μm以下のサイズをいう。また、貫通孔における水平方向の最大孔径とは、貫通孔の水平断面のうちで最大面積を有する断面における長径をいい、最小孔径とは、貫通孔の水平断面のうちで最小面積を有する断面における短径をいう。以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本明細書において特に説明のない場合、は質量を表す。[アルカリ可溶性樹脂A]アルカリ可溶性樹脂Aは、1分子中に酸性基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹脂である。アルカリ可溶性樹脂Aが分子中にエチレン性二重結合を有することで、ネガ型用感光性組成物の露光部は、光重合開始剤から発生したラジカルにより重合して硬化する。このように硬化した露光部分はアルカリ現像液にて除去されない。また、アルカリ可溶性樹脂Aが分子中に酸性基を有することで、アルカリ現像液にて、硬化していないネガ型用感光性組成物の未露光部を選択的に除去することができる。その結果、隔壁を形成することができる。なお、アルカリ可溶性樹脂Aは実質的に、後述の撥インク剤Eを好ましく構成する化合物が有する基1または基2を含有しないことが好ましい。前記酸性基としては、特に制限されないが、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基およびリン酸基等が挙げられ、これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。前記エチレン性二重結合としては、特に制限されないが、メタアクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基およびビニルエーテル基等の付加重合性を有する二重結合が挙げられ、これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。なお、該付加重合性を有する二重結合基が有する水素原子の一部または全てが、アルキル基、好ましくはメチル基で置換されていてもよい。アルカリ可溶性樹脂Aとしては、特に限定されないが、酸性基を有する側鎖とエチレン性二重結合を有する側鎖とを有する樹脂A1-1、エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂A1-2、酸性基を有する側鎖とエチレン性二重結合を有する側鎖とを有する単量体A1-3等が挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。樹脂A1-1は、例えば、以下のiまたはiiの方法で合成できる。i側鎖に酸性基以外の反応性基、例えば、水酸基、エポキシ基等を有する単量体と、側鎖に酸性基を有する単量体とを共重合させ、反応性基を有する側鎖と、酸性基を有する側鎖を有する共重合体を得る。次いで、この共重合体と、上記反応性基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物を溶媒に溶解させて反応させる。または、側鎖に酸性基、例えばカルボキシル基等を有する単量体を共重合させた後、酸性基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物を反応後に酸性基が残る量、溶媒に溶解させて反応させる。ii上記iと同様の酸性基以外の反応性基を側鎖に有する単量体と、この反応性基に対して結合し得る官能基および保護されたエチレン性二重結合を有する化合物を溶媒に溶解させて反応させる。次いで、この単量体と側鎖に酸性基を有する単量体とを共重合させた後、エチレン性二重結合の保護を外す。または、側鎖に酸性基を有する単量体と、側鎖に保護されたエチレン性二重結合を有する単量体とを共重合させた後、エチレン性二重結合の保護を外す。これらのうちでも、本発明においてはiの方法が好ましく用いられる。以下、iの方法について具体的に説明する。水酸基を反応性基として有する単量体としては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、5-ヒドロキシペンチルメタアクリレート、6-ヒドロキシヘキシルメタアクリレート、4-ヒドロキシシクロヘキシルメタアクリレート、ネオペンチルグリコールモノメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、グリセリンモノメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、2-ヒドロキシエチルアリルエーテル、N-ヒドロキシメチルメタアクリルアミド、N,N-ビスヒドロキシメチルメタアクリルアミド等が挙げられる。水酸基を反応性基として有する単量体と共重合させる酸性基を有する単量体としては、特に限定されないが、後述のカルボキシル基を有する単量体の他に、リン酸基を有する単量体として、2-メタアクリロイルオキシエタンリン酸等が挙げられる。水酸基を反応性基として有する単量体と酸性基を有する単量体の共重合は、従来公知の方法で行うことができる。上記で得られた水酸基を有する側鎖と酸性基を有する側鎖を有する共重合体と反応させる、水酸基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物として、エチレン性二重結合を有する酸無水物、イソシアネート基とエチレン性二重結合とを有する化合物、塩化アシル基とエチレン性二重結合とを有する化合物等が挙げられる。エチレン性二重結合を有する酸無水物としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、メチル-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物、3,4,5,6-テトラヒドロフタル酸無水物、cis-1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物、2-ブテン-1-イルサクシニックアンハイドライド等が挙げられる。イソシアネート基とエチレン性二重結合とを有する化合物としては、2-メタアクリロイルオキシエチルイソシアネート、1,1-ビスメタアクリロイルオキシメチルエチルイソシアネート等が挙げられる。塩化アシル基とエチレン性二重結合とを有する化合物としては、メタアクリロイルクロライド等が挙げられる。エポキシ基を反応性基として有する単量体としては、グリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート等が挙げられる。エポキシ基を反応性基として有する単量体と共重合させる酸性基を有する単量体としては、上記水酸基を反応性基として有する単量体で説明したのと同様の単量体が使用でき、エポキシ基を反応性基として有する単量体と酸性基を有する単量体の共重合についても、従来公知の方法で行うことができる。上記で得られたエポキシ基を有する側鎖と酸性基を有する側鎖を有する共重合体と反応させる、エポキシ基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物として、カルボキシル基とエチレン性二重結合を有する化合物が挙げられる。該化合物の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸およびこれらの塩等が挙げられる。なお、ここで生じた水酸基とカルボン酸の脱水縮合部分が環状構造の一部をなす酸無水物とを反応させ、樹脂A1-1中にカルボキシル基を導入してもよい。カルボキシル基を反応性基として有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸およびこれらの塩等が挙げられる。なお、これらの単量体は上述した酸性基を有する単量体としても用いられる。カルボキシル基を反応性基として有する単量体を用いる場合、上記の通りこれを単独で共重合させる。得られたカルボキシル基を反応性基として有する共重合体と反応させる、カルボキシル基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物として、エポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物が挙げられる。該化合物としては、グリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート等が挙げられる。なお、この場合、カルボキシル基を有する共重合体と反応させる、カルボキシル基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物の量は、反応後に共重合体においてカルボキシル基が酸性基として側鎖に残る量とする。樹脂A1-2は、エポキシ樹脂と、後述するカルボキシル基とエチレン性二重結合とを有する化合物とを反応させた後に、多塩基性カルボン酸またはその無水物とを反応させることにより合成することができる。具体的には、エポキシ樹脂と、カルボキシル基とエチレン性二重結合を有する化合物とを反応させることにより、エポキシ樹脂にエチレン性二重結合が導入される。次に、エチレン性二重結合が導入されたエポキシ樹脂に多塩基性カルボン酸またはその無水物を反応させることにより、カルボキシル基を導入することができる。エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、下式A1-2aで表されるビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂、下式A1-2bで表されるエポキシ樹脂、下式A1-2cで表されるビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂等が挙げられる。式A1-2a中、vは、1~50であり、2~10が好ましい。またベンゼン環の水素原子はそれぞれ独立に、炭素原子数1~12のアルキル基、ハロゲン原子、または、一部の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基、で置換されていてもよい。式A1-2b中、R31、R32、R33およびR34は、それぞれ独立に、水素原子、塩素原子または炭素原子数が1~5のアルキル基であり、wは、0~10である。式A1-2c中、ベンゼン環の水素原子はそれぞれ独立に炭素原子数1~12のアルキル基、ハロゲン原子、または、一部の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基、で置換されていてもよい。uは、0~10である。なお、式A1-2a~A1-2cで表されるエポキシ樹脂と、カルボキシル基とエチレン性二重結合を有する化合物とを反応させた後に、多塩基性カルボン酸無水物を反応させる場合、多塩基性カルボン酸無水物として、ジカルボン酸無水物およびテトラカルボン酸二無水物の混合物を用いることが好ましい。ジカルボン酸無水物とテトラカルボン酸二無水物の比率を変化させることにより、分子量を制御することができる。カルボキシル基とエチレン性二重結合とを有する化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸およびこれらの塩等が好ましく、アクリル酸またはメタクリル酸が特に好ましい。樹脂A1-2は、市販品を使用することができる。市販品としては、いずれも商品名で、KAYARADPCR-1069、K-48C、CCR-1105、CCR-1115、CCR-1159H、CCR-1235、TCR-1025、TCR-1064H、TCR-1286H、ZAR-1535H、ZAR-2002、ZFR-1491H、ZFR-1492H、ZCR-1571H、ZCR-1569H、ZCR-1580H、ZCR-1581H、ZCR-1588H、ZCR-1642H、ZCR-1664H以上、日本化薬社製、EX1010ナガセケムテックス社製等が挙げられる。単量体A1-3としては、2,2,2-トリアクリロイルオキシメチルエチルフタル酸NKエステルCBX-1新中村化学工業社製等が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂Aとしては、現像時の塗膜剥離が抑制されて、高解像度のパターンを得ることができる点、ラインの直線性が良好である点、ポストベーク工程後の外観が維持され、平滑な塗膜表面が得られやすい点で、樹脂A1-2を用いることが好ましい。樹脂A1-2としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、式A1-2a~A1-2cで表されるエポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂が特に好ましい。アルカリ可溶性樹脂Aが1分子中に有するエチレン性二重結合の数は、平均3個以上が好ましく、6個以上が特に好ましい。エチレン性二重結合の数が上記範囲の下限値以上であると、露光部分と未露光部分とのアルカリ溶解度に差がつきやすく、より少ない露光量での微細なパターン形成が可能となる。アルカリ可溶性樹脂Aの質量平均分子量Mwは、1.5×103~30×103が好ましく、2×103~15×103が特に好ましい。また、数平均分子量Mnは、500~20×103が好ましく、1.0×103~10×103が特に好ましい。質量平均分子量Mwおよび数平均分子量Mnが上記範囲の下限値以上であると、露光時の硬化が充分であり、上記範囲の上限値以下であると、現像性が良好である。アルカリ可溶性樹脂Aの酸価は、10~300mgKOH/gが好ましく、30~150mgKOH/gが特に好ましい。酸価が上記範囲であると、ネガ型用感光性組成物の現像性が良好になる。ネガ型用感光性組成物に含まれるアルカリ可溶性樹脂Aは、1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。ネガ型用感光性組成物における全固形分中の感光性樹脂Aの含有割合は、5~80質量が好ましく、10~60質量が特に好ましい。含有割合が上記範囲であると、ネガ型用感光性組成物の現像性が良好である。[黒色着色剤B]本発明のネガ型用感光性組成物は黒色着色剤Bを含む。黒色着色剤Bとしては、カーボンブラック、アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、具体的には、C.I.ピグメントブラック1、6、7、12、20、31等が挙げられる。黒色着色剤Bとしては、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料、黄色顔料等の有機顔料や無機顔料の混合物を用いることもできる。有機顔料の具体例としては、C.I.ピグメントブルー15:6、ピグメントレッド254、ピグメントグリーン36、ピグメントイエロー150、アゾメチン系顔料等が挙げられる。黒色着色剤Bとしては、電気特性の点から有機顔料が好ましく、価格および遮光性の点からはカーボンブラックが好ましい。カーボンブラックは樹脂等で表面処理されているのが好ましく、また、色調を調整するため、青色顔料や紫色顔料を併用することができる。有機顔料としては、ブラックマトリックスの形状の観点から、BET法による比表面積が50~200m2/gであるものが好ましい。比表面積が50m2/g以上であると、ブラックマトリックス形状が劣化しにくい。200m2/g以下であると、有機顔料に分散助剤が過度に吸着することなく、諸物性を発現させるために多量の分散助剤を配合する必要がなくなる。また、有機顔料の透過型電子顕微鏡観察による平均1次粒子径は、20~150nmであることが好ましい。平均1次粒子径が20nm以上であると、ネガ型用感光性組成物で高濃度に分散でき、経時安定性の良好なネガ型用感光性組成物が得られやすい。150nm以下であると、ブラックマトリックス形状が劣化しにくい。また、透過型電子顕微鏡観察による平均2次粒子径としては、80~200nmが好ましい。ネガ型用感光性組成物における全固形分中の黒色着色剤Bの含有割合は、20~65質量が好ましく、25~60質量がより好ましく、30~55質量が特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、得られる隔壁の光の遮光性を示す値である光学濃度が充分になる。上記範囲の上限値以下であると、ネガ型用感光性組成物の硬化性が良好になり、良好な外観の硬化膜が得られ、撥インク性も良好になる。黒色着色剤Bのネガ型用感光性組成物における分散性を向上するためには、高分子分散剤を含有させることが好ましい。該高分子分散剤は、黒色着色剤Bへの親和性の点から、塩基性官能基を有する化合物が好ましい。該塩基性官能基として、1級、2級もしくは3級アミノ基を有すると、特に分散性に優れる。高分子分散剤としては、ウレタン系、ポリイミド系、アルキッド系、エポキシ系、不飽和ポリエステル系、メラミン系、フェノール系、アクリル系、塩化ビニル系、塩化ビニル酢酸ビニル系共重合体系、ポリアミド系、ポリカーボネート系等の化合物が挙げられる。中でも特にウレタン系、ポリエステル系の化合物が好ましい。高分子分散剤の使用量は、黒色着色剤Bに対して5~30重量が好ましく、10~25重量が特に好ましい。使用量が上記範囲の下限値以上であると、黒色着色剤Bの分散が良好になり、上記範囲の上限値以下であると、現像性が良好になる。[光重合開始剤C]本発明のネガ型用感光性組成物は、光重合開始剤Cとして、下式3で表される化合物からなる光重合開始剤C1と、下式4で表される化合物からなる光重合開始剤C2とを含む。ネガ型用感光性組成物における全固形分量に対する光重合開始剤C1と光重合開始剤C2の合計含有量の割合は3.5~7.0質量である。該合計含有量の割合は、3.5~6.8質量が好ましく、3.6~6.0質量がより好ましく、3.7~5.5質量が特に好ましい。該合計含有量の割合が上記範囲であると、ネガ型用感光性組成物の硬化性が良好で、塗膜形成後、露光工程および現像工程を経て得られる隔壁やブラックマトリックスにおいてラインパターンや線幅を露光時のマスクパターンに近い形状に形成することができ、微小なコンタクトホールの形成も可能となる。また、該合計含有量の割合が上記範囲であると、ネガ型用感光性組成物が撥インク剤Eを含有する場合に、充分な撥インク性の付与も可能である。さらに、アルカリ水溶液への黒色着色剤B等の顔料の溶解性を阻害することがない。ネガ型用感光性組成物における光重合開始剤C1と光重合開始剤C2の合計含有量に対する光重合開始剤C1の割合は5~15質量である。該合計含有量に対する光重合開始剤C1の割合は、6~13質量が好ましく、7~12質量が特に好ましい。該合計含有量に対する光重合開始剤C1の割合が上記範囲であると、ネガ型用感光性組成物の硬化性が良好で、塗膜形成後、露光工程および現像工程を経て得られる隔壁やブラックマトリックスにおいてラインパターンや線幅を露光時のマスクパターンに近い形状に形成することができ、微小なコンタクトホールの形成も可能となる。また、該合計含有量に対する光重合開始剤C1の割合が上記範囲であると、ネガ型用感光性組成物が撥インク剤Eを含有する場合に、充分な撥インク性の付与も可能である。さらに、アルカリ水溶液への黒色着色剤B等の顔料の溶解性を阻害することがない。ネガ型用感光性組成物における全固形分中の光重合開始剤C1の含有割合は、0.1~5質量が好ましく、0.3~0.5質量がより好ましく、0.35~0.45質量が特に好ましい。また、ネガ型用感光性組成物における全固形分中の光重合開始剤C2の含有割合は、3~7質量が好ましく、3~6.5質量が特に好ましい。本発明のネガ型用感光性組成物を用いれば、隔壁ブラックマトリックスを製造する場合に、隔壁ブラックマトリックスをマスクパターンに近い微細ラインに形成しつつ、同時に、隔壁ブラックマトリックスへの微小なコンタクトホールの形成と、さらには、ネガ型用感光性組成物が撥インク剤Eを含有する場合に、充分な撥インク性の付与が達成できる。このような効果が得られる理由は定かではないが、上記効果は、光重合開始剤C1および光重合開始剤C2が光重合開始剤の中でも比較的感度が高く、光重合開始剤C1は光重合開始剤C2よりもより感度が高いという特徴によるものと考えられる。ここで、ネガ型用感光性組成物を塗膜とし乾燥させた膜にマスクパターンをして露光し現像することで、上記ブラックマトリックスが製造され、その過程においてブラックマトリックスへのコンタクトホールの形成と、任意に行われる撥インク性の付与が同時に行われるが、コンタクトホールの形成については膜内部の光反応性、撥インク性の付与については膜表面の光反応性の影響を受ける。さらに、ブラックマトリクス製造用の膜では光透過性が低いために、膜側から露光した場合、膜表面付近よりも基板付近では光反応性が不充分となることがあり、その場合には、現像時にパターンが溶解し消失してしまう。まず、膜表面の光反応性については、酸素による光反応阻害があるため、光重合開始剤C1および光重合開始剤C2ともに反応性の差は小さい。一方、膜内部の光反応性については、光重合開始剤C1は光重合開始剤C2よりも反応性感度が高いことから、光重合開始剤C2を使用した方が撥インク性の付与と微小なコンタクトホールの形成には好ましい。しかしながら、光重合開始剤C2のみを使用した場合には、透過光量の不足による膜内部の反応性不足を要因として現像時にパターンの消失が引き起こされる。本発明においては、この現像時のパターン消失を防止する目的で、光重合開始剤C2に光重合開始剤C1を少量加えることにより、膜内部の反応性を補い、上記微細なラインパターンを有する隔壁の形成および隔壁への微小なコンタクトホールの形成、さらには、ネガ型用感光性組成物が撥インク剤Eを含有する場合に、充分な撥インク性の付与を同時に達成することを可能とした。本発明のネガ型用感光性組成物においては、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、1,4-ブタノールビス3-メルカプトブチレート、トリス2-メルカプトプロパノイルオキシエチルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトブチレート等のチオール化合物を光重合開始剤C1および光重合開始剤C2と共に用いてもよい。これにより増感効果を発現することがある。光重合開始剤C1光重合開始剤C1は、下式3で表されるO-アシルオキシム系化合物からなる。式3中、R1は、水素原子、炭素原子数1~12のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェノキシ基を示し、R2は、水素原子、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基、炭素原子数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンゾイル基、炭素原子数2~12のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のフェノキシカルボニル基を示し、R3は、炭素原子数1~12のアルキル基を示し、R4、R5、R6およびR7は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1~12のアルキル基、シクロアルカン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基、炭素原子数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンゾイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンジルカルボニル基、炭素原子数2~12のアルコキシカルボニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のフェノキシカルボニル基、炭素原子数1~20のアミド基またはニトロ基を示す。R1としては、炭素原子数1~10のアルキル基、または、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~12のフェニル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、フェニル基等が挙げられる。炭素原子数1~4のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1~2のアルキル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。R2としては、炭素原子数1~10のアルキル基、または、炭素原子数2~5のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等が挙げられる。炭素原子数1~6のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1~3のアルキル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。R3としては、炭素原子数1~8のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。炭素原子数2~6のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。R4、R6およびR7としては、水素原子が好ましい。R5としては、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンゾイル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンジルカルボニル基が好ましく、ベンゾイル基、2-メチルベンゾイル基、2-メチル-4-テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル基、2-メチル-5-テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル基、2-メチル-5-テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、1,3,5トリメチルベンジルカルボニル基が特に好ましい。光重合開始剤C1の具体例としては、式3において、R1~R7がそれぞれ以下の基である化合物3-1~3-10等を挙げることができる。R1:フェニル基、R2:オクチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:ベンゾイル基である化合物3-1、R1:メチル基、R2:オクチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:ベンゾイル基である化合物3-2、R1:メチル基、R2:ブチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:ベンゾイル基である化合物3-3、R1:メチル基、R2:ヘプチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:ベンゾイル基である化合物3-4、R1:フェニル基、R2:オクチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:2-メチルベンゾイル基である化合物3-5、R1:メチル基、R2:オクチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:2-メチルベンゾイル基である化合物3-6、R1:メチル基、R2:メチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:2-メチルベンゾイル基である化合物3-7、R1:メチル基、R2:メチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:2-メチル-4-テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル基である化合物3-8、R1:メチル基、R2:メチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:2-メチル-5-テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル基である化合物3-9、R1:メチル基、R2:メチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:2-メチル-5-テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル基である化合物3-10光重合開始剤C1は市販品を使用することができる。市販品としては、いずれも商品名で、IRGACUREOXE02BASF社製:上記化合物3-7に相当する。、アデカオプトマーN-1919、アデカクルーズNCI-831、NCI-930に相当する。以上、ADEKA社製等が挙げられる。光重合開始剤C2光重合開始剤C2は、下式4で表される化合物からなる。式4中、R8は、水素原子、炭素原子数1~12のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、炭素原子数2~5のアルケニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェノキシ基を示し、R9は、水素原子、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~8のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~20のフェニル基、炭素原子数2~20のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のベンゾイル基、炭素原子数2~12のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数7~20のフェノキシカルボニル基を示す。R8としては、炭素原子数1~10のアルキル基、または、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数6~12のフェニル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、フェニル基等が挙げられる。アルキル基としては炭素原子数1~4のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1~2のアルキル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。フェニル基も同様に好ましい。R9としては、炭素原子数1~10のアルキル基、または、炭素原子数2~5のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等が挙げられる。炭素原子数1~6のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、メチル基が特に好ましい。光重合開始剤C2は市販品を使用することができる。市販品としては、IRGACUREOXE01商品名、BASF社製:上記式4においてR8がフェニル基、R9がヘキシル基である化合物等が挙げられる。[架橋剤D]本発明のネガ型用感光性組成物は、ラジカル硬化を促進する任意成分として、架橋剤Dを含んでもよい。架橋剤Dとしては、1分子中に2つ以上のエチレン性二重結合を有し、酸性基を有しない化合物が好ましい。ネガ型用感光性組成物が架橋剤Dを含むことにより、露光時におけるネガ型用感光性組成物の硬化性が向上し、低い露光量でも隔壁を形成することができる。架橋剤Dとしては、ジエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、ε-カプロラクトン変性トリス-2-アクリロキシエチルイソシアヌレート、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、ウレタンアクリレート等が挙げられる。光反応性の点から多数のエチレン性二重結合を有することが好ましい。なお、これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。架橋剤Dとしては、市販品を使用することができる。市販品としては、KAYARADDPHA商品名、日本化薬社製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、NKエステルA-9530商品名、新中村化学工業社製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、NKエステA-9300商品名、新中村化学工業社製、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、NKエステルA-9300-1CL商品名、新中村化学工業社製、ε-カプロラクトン変性トリス-2-アクリロキシエチルイソシアヌレート、BANI-M商品名、丸善石油化学社製、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、BANI-X商品名、丸善石油化学社製、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド等が挙げられる。ウレタンアクリレートとしては、日本化薬社製のKAYARADUXシリーズが挙げられ、具体的商品名としては、UX-3204、UX-6101、UX-0937、DPHA-40H、UX-5000、UX-5002D-P20等が挙げられる。ネガ型用感光性組成物における全固形分中の架橋剤Dの含有割合は、1~60質量が好ましく、2~15質量が特に好ましい。上記範囲であると、ネガ型用感光性組成物のアルカリ現像性が良好となる。[撥インク剤E]撥インク剤Eは、必要に応じて、本発明のネガ型用感光性組成物に含有され、塗布膜の表面に偏在し、硬化膜表面に撥インク性の機能を与える化合物である。撥インク剤Eとしては、1分子中に下式1で表される基以下、基1ともいう。または下式2で表される基以下、基2ともいう。を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有する化合物が好ましい。-CFXRf1式1中、Xは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Rfはエーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素原子数20以下のアルキル基、またはフッ素原子を示す。-SiR10R11On-SiR12R13R142式2中、R10、R11、R12およびR13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、R14は水素原子または炭素原子数1~10のエーテル性酸素原子または窒素原子を含んでいてもよいアルキル基を示し、nは1~200の整数を示す。撥インク剤Eは、基1または基2を有する側鎖を有するため表面移行性を有し、ネガ型用感光性組成物の塗膜を加熱乾燥するときに塗膜表面近傍に移行する。よって、硬化膜からなる隔壁の表面は撥インク性を発現し、インクジェット法で注入されるインクはドット画素となる箇所からあふれ出ることがなく、隣接画素間での混色が起きにくい。また、撥インク剤Eはエチレン性二重結合を有する側鎖を有しているため、露光時に撥インク剤Eの硬化反応が生じ、隔壁表面に固定化されやすい。よって、露光現像後のポストベーク時に未反応の残存分子がドットにマイグレートしてドットを汚染することが起こりにくい。なお、側鎖とは、低分子量体の重合によって得られる鎖状の高分子量体における枝分かれ部のことである。基1または基2を有する側鎖は、重合反応によって直接形成しても、重合反応後の化学変換によって形成してもよい。また、エチレン性二重結合を有する側鎖は重合反応後の化学変換によって形成できる。基1中のRfが、エーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素原子数20以下のアルキル基である場合、前記アルキル基中の水素原子はフッ素原子以外の他のハロゲン原子に置換されていてもよく、他のハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。また、エーテル性酸素原子は、該アルキル基の炭素-炭素結合間に存在してもよく、該アルキル基の末端に存在してもよい。また該アルキル基の構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環を有する構造が挙げられ、直鎖構造が好ましい。基1としては、ペルフルオロアルキル基または水素原子1個を含むポリフルオロアルキル基であることが好ましく、ペルフルオロアルキル基が特に好ましいただし、前記アルキル基は、エーテル性酸素原子を有するものを含む。。これによりネガ型用感光性組成物から形成される隔壁は撥インク性が良好となる。また、基1の全炭素原子数は4~6が好ましい。これにより隔壁に充分な撥インク性が付与されるとともに、撥インク剤Eとネガ型用感光性組成物を構成する他の成分との相溶性が良好であり、ネガ型用感光性組成物を塗布し塗膜を形成したときに撥インク剤E同士が凝集することがなく、外観の良好な隔壁が形成できる。基1としては、全炭素原子数が4~6のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。基1の具体例としては、以下が挙げられる。-CF3、-CF2CF3、-CF2CHF2、-CF22CF3、-CF23CF3、-CF24CF3、-CF25CF3、-CF26CF3、-CF27CF3、-CF28CF3、-CF29CF3、-CF211CF3、-CF215CF3、-CFCF3OCF25CF3、-CF2OCF2CF2OpCF3pは1~8の整数、-CFCF3OCF2CFCF3OqC6F13qは1~4の整数、-CFCF3OCF2CFCF3OrC3F7rは1~5の整数。基2中のR10およびR11はシロキサン単位毎に同一でも異なっていてもよい。ネガ型用感光性組成物から形成される隔壁が優れた撥インク性を示すことから、R10およびR11は水素原子、炭素原子数1~10のアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基であることが好ましく、水素原子、メチル基、またはフェニル基であることがより好ましく、全てのシロキサン単位のR10およびR11がメチル基であることが特に好ましい。基2において、R12、R13およびR14はシロキサン結合の末端のケイ素原子に結合する基であり、R12およびR13としては、R10、R11と同様とすることができ、好ましい態様も同様である。また、R14が炭素原子数1~10のエーテル性酸素原子-O-または窒素原子-NR40-。R40は水素原子または炭素原子数が1~5のアルキル基である。を含んでいてもよいアルキル基である場合、炭素原子数1~5のアルキル基、エーテル性酸素原子を1個含む炭素原子数1~5のアルキル基等が好ましい。R14は水素原子または炭素原子数1~5のアルキル基であることが特に好ましい。nは1~200の整数が好ましく、2~100の整数が特に好ましい。基2の具体例としては、以下が挙げられる。-SiCH32On-SiCH32H、-SiCH32On-SiCH32CH3、-SiCH32On-SiCH32C2H5、-SiCH32On-SiCH32C3H7、-SiCH32On-SiCH32C4H9、-SiCH32On-SiCH32C5H10、-SiCH32On-SiCH32OH、-SiCH32On-SiCH32OCH3、-SiCH32On-SiCH32OC2H5、-SiC2H52On-SiCH32H、-SiC2H52On-SiC2H52H、-SiC2H52On-SiC2H52H、-SiC2H52On-SiC2H53、-SiC2H5CH3On-SiC2H52H。エチレン性二重結合としては、メタアクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基等の付加重合性を有する二重結合が挙げられ、これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。なお、該付加重合性基が有する水素原子の一部または全てが、アルキル基、好ましくはメチル基で置換されていてもよい。撥インク剤Eは、さらに酸性基を有する側鎖を有する重合体であることが好ましい。露光工程で硬化反応しなかった撥インク剤Eの一部の分子は、それらが酸性基を有する側鎖を有することにより、現像時に隔壁表面から洗い流され、隔壁内には固定化されなかった残存分子が残りにくい。したがってポストベーク工程の前段階でドットにマイグレートする可能性のある分子をより減らすことができ、ドットの親インク性をより高くすることができる。上記酸性基としては、カルボキシル基、フェノール性水酸基およびスルホン酸基等が挙げられ、これらは1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。酸性基を有する側鎖は、酸性基を有する単量体の重合反応によって形成してもよいし、重合反応後の化学変換によって形成してもよい。本発明に用いる、基1または基2を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有する撥インク剤Eは、後述する単量体a1または単量体a2と反応性基を有する単量体a3とを含む2種以上の単量体を共重合し、次いで、得られた共重合体と前記反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物z1とを反応させることにより製造できる。単量体a1は基1を有する単量体であり、下式11で表される単量体11が好ましい。CH2=CR21COO-Y-CFXRf11式11中、R21は水素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を示し、Yは単結合または炭素原子数1~6のフッ素原子を含まない2価の有機基を示し、Rfはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素原子数20以下の水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。単量体11において、-CFXRfの好ましい態様は、基1の好ましい態様と同様である。単量体11において、Yは、入手の容易さから、炭素原子数2~4のアルキレン基であることが好ましい。単量体11の例としては、以下が挙げられる。CH2=CR21COOR22CFXRfCH2=CR21COOR22NR23SO2CFXRfCH2=CR21COOR22NR23COCFXRfCH2=CR21COOCH2CHOHR24CFXRfここで、R21は水素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を示し、R22は炭素原子数1~6のアルキレン基を示し、R23は水素原子またはメチル基を示し、R24は単結合または炭素原子数1~4のアルキレン基を示し、Rfは上記と同じ意味を示す。R22の具体例としては、-CH2-、-CH2CH2-、-CHCH3-、-CH2CH2CH2-、-CCH32-、-CHCH2CH3-、-CH2CH2CH2CH2-、-CHCH2CH2CH3-、-CH2CH23CH2-、-CHCH2CHCH32-、等が挙げられる。R24の具体例としては、-CH2-、-CH2CH2-、-CHCH3-、-CH2CH2CH2-、-CCH32-、-CHCH2CH3-、-CH2CH2CH2CH2-、-CHCH2CH2CH3-、等が挙げられる。単量体11の具体例としては、2-パーフルオロヘキシルエチルメタアクリレート、2-パーフルオロブチルエチルメタアクリレート等が挙げられる。単量体11は1種を用いてもよく、2種以上を併用してもよい。単量体a2は基2を有する単量体であり、下式21で表される単量体21が好ましい。CH2=CR25COO-Z-SiR10R11On-SiR12R13R1421式21中、R25は水素原子またはメチル基を示し、Zは単結合または炭素原子数1~6の2価の有機基を示し、R10、R11、R12およびR13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、R14は水素原子または炭素原子数1~10のエーテル性酸素原子または窒素原子-NR41-。R41は水素原子または炭素原子数が1~5のアルキル基である。を含んでいてもよいアルキル基を示し、nは1~200の整数を示す。単量体21において、R10、R11、R12、R13、R14、nの好ましい態様は、基2の好ましい態様と同様である。Zは炭素原子数1~6の2価のアルキル基が好ましい。具体例としては下記が挙げられる。-CH2-、-CH2CH2-、-CHCH3-、-CH2CH2CH2-、-CCH32-、-CHCH2CH3-、-CH2CH2CH2CH2-、-CHCH2CH2CH3-、-CH2CH23CH2-、-CHCH2CHCH32-等。上記単量体21は1種を用いてもよく、2種以上を併用してもよい。単量体a3は反応性基を有する単量体であり、水酸基を有する単量体、エチレン性二重結合を有する酸無水物単量体、カルボキシル基を有する単量体、エポキシ基を有する単量体等が挙げられる。反応性基としてはすなわち、水酸基、エチレン性二重結合、カルボキシル基、エポキシ基が挙げられる。なお、単量体a3は、基1および基2を実質的に含まないことが好ましい。水酸基を有する単量体の具体例としては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、5-ヒドロキシペンチルメタアクリレート、6-ヒドロキシヘキシルメタアクリレート、4-ヒドロキシシクロヘキシルメタアクリレート、ネオペンチルグリコールモノメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、グリセリンモノメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、2-ヒドロキシエチルアリルエーテル、N-ヒドロキシメチルメタアクリルアミド、N,N-ビスヒドロキシメチルメタアクリルアミド等が挙げられる。さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、CH2=CHOCH2C6H10CH2OC2H4OhHここで、hは1~100の整数、以下同じ。、CH2=CHOC4H8OC2H4OhH、CH2=CHCOOC2H4OC2H4OhH、CH2=CCH3COOC2H4OC2H4OhH、CH2=CHCOOC2H4OC2H4OiC3H6OgHここで、iは0~100の整数であり、gは1~100の整数であり、mjは1~100である。以下同じ。、CH2=CCH3COOC2H4OC2H4OiC3H6OgH等が挙げられる。エチレン性二重結合を有する酸無水物単量体の具体例としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸、無水3,4,5,6-テトラヒドロフタル酸、無水cis-1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸、2-ブテン-1-イルサクシニックアンハイドライド等が挙げられる。カルボキシル基を有する単量体の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。エポキシ基を有する単量体の具体例としては、グリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられる。単量体a3としては、末端に水酸基を有する化合物が好ましく、末端に水酸基を有するメタアクリレートがより好ましく、2-ヒドロキシエチルメタアクリレートが特に好ましい。化合物z1としては、単量体a3が有する反応性基に合わせて選択される。反応性基と化合物z1との組み合わせは以下が挙げられる。1反応性基としての水酸基に対し、化合物z1としてのエチレン性二重結合を有する酸無水物、2反応性基としての水酸基に対し、化合物z1としてのイソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物、3反応性基としての水酸基に対し、化合物z1としての塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物、4反応性基としての酸無水物に対し、化合物z1としての水酸基とエチレン性二重結合を有する化合物、5反応性基としてのカルボキシル基に対し、化合物z1としてのエポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物、6反応性基としてのエポキシ基に対し、化合物z1としてのカルボキシル基とエチレン性二重結合を有する化合物。化合物z1としてのエチレン性二重結合を有する酸無水物の具体例としては、上記した例が挙げられる。化合物z1としてのイソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、2-メタアクリロイルオキシエチルイソシアネート、1,1-ビスメタアクリロイルオキシメチルエチルイソシアネートが挙げられる。化合物z1としての塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、メタアクリロイルクロライドが挙げられる。化合物z1としての水酸基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記した水酸基を有する単量体の例が挙げられる。化合物z1としてのエポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記したエポキシ基を有する単量体の例が挙げられる。化合物z1としてのカルボキシル基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記したカルボキシル基を有する単量体の例が挙げられる。上記の組み合わせとしては、2の組み合わせが好ましく、化合物z1として1,1-ビスメタアクリロイルオキシメチルエチルイソシアネートを用いることが特に好ましい。該組み合わせにすることで、撥インク剤Eは側鎖1つにつきエチレン性二重結合を2つ以上有する側鎖を有することとなり、撥インク剤Eの隔壁表面への固定化が優れ、撥インク性に優れた隔壁が得られるからである。撥インク剤Eが酸性基を有する側鎖を有する場合は、単量体a1~a3とともに酸性基を有する単量体a4を共重合させることが好ましい。酸性基を有する単量体a4としては、カルボキシル基を有する単量体、フェノール性水酸基を有する単量体、スルホン酸基を有する単量体等が挙げられる。カルボキシル基を有する単量体としては、上記単量体a3において例示したのと同様の単量体が挙げられる。酸性基を有する単量体a4としてカルボキシル基を有する単量体を用い、上記反応性基を有する単量体a3としてもカルボキシル基を有する単量体を用いるときは、最終的にエチレン性二重結合が導入されず、カルボキシル基として残るものを単量体a4とみなすこととする。フェノール性水酸基を有する単量体としては、o-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレン、p-ヒドロキシスチレン等が挙げられる。またこれらのベンゼン環の1個以上の水素原子が、メチル基、エチル基、n-ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、n-ブトキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基の1個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基に置換された化合物等が挙げられる。スルホン酸基を有する単量体としては、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、メタアリルスルホン酸、2-ヒドロキシ-3-メタアリルオキシプロパンスルホン酸、メタアクリル酸-2-スルホエチル、メタアクリル酸-2-スルホプロピル、2-ヒドロキシ-3-メタアクリロキシプロパンスルホン酸、2-メタアクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸が挙げられる。本発明における重合に用いる単量体としては、単量体a1~a4以外のその他の単量体a5を用いてもよい。その他の単量体a5としては、ポリオキシアルキレン基を有する下式12で表される化合物12または下式13で表される化合物13であることが好ましい。これらは1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。CH2=CR26-COO-W-R27OmR28OjR29...12CH2=CR26-O-W-R27OmR28OjR29...13。式12および式13中、R26は、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数7~20のアリール基で置換されたアルキル基、炭素原子数6~20のアリール基、または炭素原子数3~20のシクロアルキル基である。Wは、単結合または炭素原子数が1~10のフッ素原子を有さない2価の有機基である。R27およびR28は、それぞれ独立して炭素原子数2~4のアルキレン基を、R29は、水素原子、または、一部の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素原子数1~10のアルキル基を、mは0~100、jは0~100の整数をそれぞれ示し、mjは4~100である。式12および式13において、R27およびR28は、それぞれ独立して炭素原子数2~4のアルキレン基であるが、アルキレン基の構造は、直鎖構造であっても分岐構造であってもよい。R27およびR28は同一であっても、異なってもよい。このようなR27およびR28のうちでも、両者がそれぞれ独立して-CH2CH2-または-C3H6-である、もしくは-CH2CH2-と-C4H8-の組み合わせであることが好ましく、両者が-CH2CH2-である、または、-CH2CH2-と-CH2CHCH3-の組み合わせであることが特に好ましい。式12および式13中、mは0~100、jは0~100の整数であるが、mとjはそれぞれ0~50であることが好ましく、0~30であることが特に好ましい。また、mjは、4~100の整数であるが、6~50の整数が好ましく、8~30の整数が特に好ましい。mjが上記範囲の下限値以上であると、現像工程の後に高圧水を使用したジェットリンス工程を行った場合、撥インク性が低下しにくい。さらに、残膜が発生しにくい。mjが上記範囲の上限値以下であると、ポストベーク時に開口部に撥インク剤Eがマイグレートすることなく、隔壁間開口部の親インク性が充分になり、インクジェット法を用いてインクを塗布したとき、開口部にインクが充分に濡れ拡がる。式12および式13は化合物12および化合物13が、m個のR27O単位とj個のR28O単位を有することを示すものであって、R27O単位とR28O単位の結合の順番については特に制限されるものではない。つまり、化合物12および化合物13において、m個のR27O単位とj個のR28O単位は、例えば、交互に、またはランダムに、もしくはブロックで結合していてもよい。式12および式13において、R29が、一部の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素原子数1~10のアルキル基である場合、その構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、部分的に環を有する構造等であってもよい。また、置換基として具体的には、カルボキシル基、水酸基、炭素原子数1~5のアルコキシ基等が挙げられる。本発明においては、式12および式13中のR29として、炭素原子数1~5の直鎖、非置換のアルキル基が好ましく、メチル基およびエチル基が特に好ましい。式12および式13における、R27OおよびR28Oの具体例としては、-CH2C6H10CH2O-式中C6H10は、シクロヘキシレン基である。、-CH2O-、-CH2CH2O-、-CHCH3O-、-CH2CH2CH2O-、-CCH32O-、-CHCH2CH3O-、-CH2CH2CH2CH2O-、-CHCH2CH2CH3O-、-CH2CH23CH2O-、-CHCH2CHCH32O-等が挙げられる。-R27OmR28OjR29の具体例としては、R27OおよびR28Oがともに、上に例示したオキシアルキレン基から選ばれ、mjが4~100であり、かつR29がCH3である基が挙げられる。上記式12および式13において、Wが示す基のうちでも、炭素原子数が1~10のフッ素原子を有しない2価の有機基であるWとして、R27O、R28O以外の直鎖構造、分岐構造、環構造、部分的に環を有する構造の炭素原子数が1~10のオキシアルキレン基、単結合等が挙げられる。オキシアルキレン基として具体的には、CH2C6H10CH2O式中C6H10は、シクロヘキシレン基である。、CH2O、CH2CH2O、CHCH3O、CH2CH2CH2O、CCH32O、CHCH2CH3O、CH2CH2CH2CH2O、CHCH2CH2CH3O、CH2CH23CH2O、CHCH2CHCH32O等が挙げられる。これらのうちでも、化合物12および13におけるWとしては、入手の容易さから、炭素原子数が2~4のオキシアルキレン基が好ましい。化合物12および化合物13においては、上記R26が示す基のうちでも、水素原子、塩素原子、メチル基、フェニル基、ベンジル基等が好ましく、水素原子、塩素原子、またはメチル基がより好ましい。化合物12としては、CH2=CHCOOCH2CH2OmR29、CH2=CCH3COOCH2CH2OmR29、CH2=CHCOOCH2CH2OmC3H6OjR29、CH2=CCH3COOCH2CH2OmC3H6OjR29、CH2=CHCOOC2H4OmC4H8OjR29が好ましい。また、化合物13としては、CH2=CHOCH2C6H10CH2OCH2CH2OmR29、CH2=CHOCH24OCH2CH2OmR29が好ましい。式中、mおよびjは上記と同じ意味を示し、好ましい範囲も同様である。なお、C6H10は、シクロヘキシレン基である。C2H4、C3H6、C4H8は直鎖構造または分岐構造のいずれかである。式中のR29は、上記と同じ意味を示し、好ましい範囲は、炭素原子数1~10の直鎖、非置換のアルキル基、例えば、メチル基、水素原子等である。化合物12としては、市販品を用いることができる。化合物12の市販品としては、以下のものが挙げられる。ブレンマーPME-400商品名、日本油脂社製、CH2=CCH3COOCH2CH2OkCH3:式中のkは分子間の平均値を示し、kの値は約9である。以下、各市販品の分子式におけるk、m、jは全て分子間の平均値を示す。、ブレンマーPME-1000商品名、日本油脂社製、CH2=CCH3COOCH2CH2OkCH3:式中のkは分子間の平均値を示し、kの値は約23である。NKエステルM-230G:商品名、新中村化学社製、CH2=CCH3COOCH2CH2OkCH3:式中、kは約9である。、ニューフロンティアNFバイソマーPEM6E商品名、第一工業製薬社製、CH2=CCH3COOCH2CH2OkH:式中、kは約6である。、ライトエステル130A商品名、共栄社化学社製、CH2=CHCOOCH2CH2OkCH3:式中、kは約9である。、ブレンマーAE-400商品名、日本油脂社製、CH2=CHCOOCH2CH2OkH:式中、kは約10である。、ブレンマーPP-800商品名、日本油脂社製、CH2=CCH3COOC3H6OkH:式中、kは約13である。、ブレンマーAP-800商品名、日本油脂社製、CH2=CHCOOC3H6OkH:式中、kは約13である。、ブレンマー70PEP-350B商品名、日本油脂社製、CH2=CCH3COOC2H4OmC3H6OjH:式中、mは約5、jは約2である。、ブレンマー55PET-800商品名、日本油脂社製、CH2=CCH3COOC2H4OmC4H8OjH:式中、mは約10、jは約5である。。撥インク剤Eは、例えば、以下の方法によって合成できる。まず、所望の共重合体を得るための単量体を溶媒に溶解して加熱し、重合開始剤を加えて共重合させ、共重合体を得る。共重合反応においては、必要に応じて連鎖移動剤を存在させるのが好ましい。単量体、重合開始剤、溶媒および連鎖移動剤は連続して添加してもよい。前記溶媒としては、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類;アセトン、2-ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、2-ブトキシエタノール等のセルソルブ類;2-2-メトキシエトキシエタノール、2-2-エトキシエトキシエタノール、2-2-ブトキシエトキシエタノール等のカルビトール類;メチルアセテート、エチルアセテート、n-ブチルアセテート、エチルラクテート、n-ブチルラクテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、エチル-3-エトキシプロピオネート、シクロヘキサノールアセテート、乳酸ブチル、γ-ブチロラクトン、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、グリセリントリアセテート等のエステル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が挙げられる。重合開始剤としては、公知の有機過酸化物、無機過酸化物、アゾ化合物等が挙げられる。有機過酸化物、無機過酸化物は、還元剤と組み合わせて、レドックス系触媒として使用することもできる。有機過酸化物としては、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、イソブチリルパーオキシド、t-ブチルヒドロパーオキシド、t-ブチル-α-クミルパーオキシド等が挙げられる。無機過酸化物としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過酸化水素、過炭酸塩等が挙げられる。アゾ化合物としては、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’-アゾビス2-アミジノプロパン二塩酸塩等が挙げられる。また、アゾ系重合開始剤として、市販品のV-65商品名、和光純薬工業社製等を使用することも可能である。連鎖移動剤としては、n-ブチルメルカプタン、n-ドデシルメルカプタン、t-ブチルメルカプタン、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸2-エチルヘキシル、2-メルカプトエタノール等のメルカプタン類;クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素等のハロゲン化アルキルが挙げられる。撥インク剤Eが、1分子中に基1または基2を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有する化合物である場合、まず、上記の共重合反応により単量体a1または単量体a2と反応性基を有する単量体a3を共重合させる。次に、得られた共重合体と化合物z1とを反応させる。該反応には溶媒を用いるのが好ましい。溶媒は上述の共重合反応に用いる溶媒が用いられる。また、重合禁止剤を配合することが好ましい。重合禁止剤としては、例えば、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾールが挙げられる。また、触媒や中和剤を加えてもよい。例えば、水酸基を有する共重合体と、イソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物を反応させる場合、ジブチル錫ジラウレート等の錫化合物等を用いることができる。水酸基を有する共重合体と、塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物を反応させる場合、塩基性触媒を用いることができる。この場合、共重合させる単量体全質量に対する各単量体の好ましい割合は以下のとおりである。単量体a1または単量体a2の割合は20~80質量が好ましく、30~60質量が特に好ましい。該割合が上記範囲の下限値以上であると、硬化膜からなる隔壁の表面張力を低減でき、隔壁に高い撥インク性を付与できる。上記範囲の上限値以下であると、隔壁と基材との密着性が良好になる。単量体a3の割合は20~70質量が好ましく、30~50質量が特に好ましい。該範囲であると、エチレン性二重結合の導入による撥インク剤Eの隔壁への固定化および現像性が良好となる。撥インク剤Eが酸性基を有する側鎖を有する場合は、単量体a1~a3とともに酸性基を有する単量体a4を共重合させることで撥インク剤Eが得られる。単量体a4の割合は2~20質量が好ましく、4~12質量が特に好ましい。該範囲であると、露光工程で固定化されなかった残存分子が現像工程において隔壁から洗い流されやすい。その他の単量体a5を用いる場合には、その割合は70質量以下が好ましく、50質量以下が特に好ましい。該範囲であるとアルカリ溶解性、現像性が良好である。単量体の好ましい組み合わせは以下のとおりである。単量体a1:単量体a3:単量体a4:単量体a5=40~50質量:20~70質量:1~10質量:15~25質量。共重合体と化合物z1とは、[化合物z1の官能基]/[共重合体の反応性基]の当量比の値が0.5~2となるように仕込むことが好ましく、0.8~1.5が特に好ましい。当量比が上記範囲の下限値以上であると、撥インク剤Eの隔壁への固定化が良好となる。上記範囲の上限値以下であると、未反応の化合物z1が不純物として存在する量を低く抑えることができ、塗膜外観を良好に維持できる。なお、単量体a3と単量体a4の両方としてカルボキシル基を有する単量体を使用する場合は、撥インク剤Eの酸価が後述する範囲となるように、共重合体と化合物z1の仕込み量を調節すればよい。撥インク剤Eが基1を有する場合、撥インク剤Eにおけるフッ素原子の含有率は5~35質量が好ましく、10~35質量が特に好ましい。含有率が上記範囲の下限値以上であると、ネガ型用化合物より形成される隔壁の表面張力を低減でき、撥インク性に優れた隔壁が得られる。上記範囲の上限値以下であると、隔壁と基材との密着性が良好になる。撥インク剤Eが基2を有する場合、撥インク剤Eにおけるケイ素原子の含有率は0.1~25質量が好ましく、0.5~10質量が特に好ましい。含有率が上記範囲の下限値以上であると、ネガ型用化合物より形成される隔壁の表面張力を低減かつドット表示部へのインク転落性を向上させることができる。上記範囲の上限値以下であると、隔壁と基材との密着性が良好になる。撥インク剤Eがエチレン性二重結合を含む場合、その量は、1.0×10-3~5.0×10-3mol/gが好ましく、1.5×10-3~4.5×10-3mol/gが特に好ましい。上記範囲であると、撥インク剤Eの隔壁への固定化および現像性が良好となる。撥インク剤Eが酸性基を有する場合、その酸価は100mgKOH/g以下が好ましく、10~50mgKOH/gが特に好ましい。上記範囲であると、露光工程で固定化されなかった残存分子が現像工程において隔壁から洗い流されやすい。撥インク剤Eの数平均分子量Mnは、1500~50,000が好ましく、3000~50,000が特に好ましい。上記範囲であると、アルカリ溶解性および現像性が良好である。ネガ型用感光性組成物における全固形分中の撥インク剤Eの含有割合は、0.01~30質量が好ましく、0.05~20質量が特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、ネガ型用化合物より形成される隔壁の表面張力を低減でき、撥インク性に優れた隔壁が得られる。上記範囲の上限値以下であると、隔壁と基材との密着性が良好になる。本発明における撥インク剤Eは、基1を有する側鎖と基2を有する側鎖の両方を1分子中に有していてもよい。また本発明のネガ型用感光性組成物は、基1を有する側鎖を有する撥インク剤Eと、基2を有する側鎖を有する撥インク剤Eの両方を含んでいてもよい。これらの場合、ネガ型用感光性組成物から得られる隔壁は、高い撥インク性とドット表示部へのインク転落性を発現できる。[溶媒F]本発明のネガ型用感光性組成物は、必要に応じて溶媒Fを含有する。ネガ型用感光性組成物が溶媒Fを含むと、ネガ型用感光性組成物の粘度が低減するため、ネガ型用感光性組成物の基材上への塗布がしやすい。よって、均一なネガ型用感光性組成物の塗膜が形成できる。なお、ネガ型用感光性組成物が溶媒Fを含まない場合には、ネガ型用感光性組成物の塗膜が、ネガ型用感光性組成物の膜と同じものとなる。本発明のネガ型用感光性組成物が含有する溶媒Fは、ネガ型用感光性組成物が含有する上記アルカリ可溶性樹脂A、黒色着色剤B、光重合開始剤C1および光重合開始剤C2、必要に応じて架橋剤D、撥インク剤E、後述の熱硬化剤I、さらには後述する任意成分を均一に溶解または分散させて、隔壁が形成される基材へのネガ型用感光性組成物の塗布を均一かつ簡便にする機能を有し、かつこれら成分との反応性を有しないものであれば特に制限されないが、例えば、撥インク剤Eの合成時に使用した溶媒と同様の溶媒が使用できる。その他には、n-ブタン、n-ヘキサン等の鎖式炭化水素、シクロヘキサン等の環式飽和炭化水素、トルエン、キシレン、ベンジルアルコール等の芳香族炭化水素等が挙げられる。これらは1種を用いても2種以上を併用してもよい。ネガ型用感光性組成物に含まれる溶媒Fの含有割合は、ネガ型用感光性組成物の組成や用途等により異なるが、ネガ型用感光性組成物中、50~99質量で配合されるのが好ましく、60~95質量がより好ましく、65~90質量が特に好ましい。[微粒子G]ネガ型用感光性組成物は、必要に応じて、微粒子Gを含んでいてもよい。ネガ型用感光性組成物が微粒子Gを含むことにより、ネガ型用感光性組成物から得られる隔壁は熱垂れが防止された耐熱性に優れる隔壁となる。微粒子Gとしては、各種無機系、有機系の微粒子が使用可能であるが、塩基性高分子分散剤を吸着能の点から、マイナスに帯電しているものが好ましく用いられる。無機系としては、シリカ、ジルコニア、フッ化マグネシウム、スズドープ酸化インジウムITO、アンチモンドープ酸化スズATO等が挙げられる。有機系としては、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレートPMMA等が挙げられる。耐熱性を考慮すると、無機系微粒子が好ましく、入手容易性や分散安定性を考慮すると、シリカ、またはジルコニアが特に好ましい。さらに、ネガ型用感光性組成物の露光感度を考慮すると、微粒子Gは、露光時に照射される光を吸収しないことが好ましく、超高圧水銀灯の主発光波長であるi線365nm、h線405nm、g線436nmを吸収しないことが特に好ましい。微粒子Gの粒子径は、隔壁の表面平滑性が良好となることから、平均粒子径が1μm以下であることが好ましく、200nm以下が特に好ましい。ネガ型用感光性組成物における全固形分中の微粒子Gの含有割合は、3~20質量が好ましく、5~15質量がより好ましく、7~10質量が特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、ポストベークによる撥インク性の低下抑制効果があり、上記範囲の上限値以下であると、ネガ型用感光性組成物の液の安定性が良好になる。[シランカップリング剤H]ネガ型用感光性組成物は、必要に応じて、シランカップリング剤Hを含んでいてもよい。ネガ型用感光性組成物がシランカップリング剤Hを含むことで、ネガ型用感光性組成物から形成される硬化膜の基材密着性を向上させることができる。シランカップリング剤Hの具体例としては、テトラエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、ポリオキシアルキレン鎖含有トリエトキシシラン、イミダゾールシラン等が挙げられる。これらは1種を用いても2種以上を併用してもよい。ネガ型用感光性組成物における全固形分中のシランカップリング剤Hの含有割合は、0.1~20質量が好ましく、1~10質量が特に好ましい。上記範囲の下限値以上であると、ネガ型用感光性組成物から形成される硬化膜の基材密着性が向上し、上記範囲の上限値以下であると、撥インク性が良好である。[熱硬化剤I]ネガ型用感光性組成物は、必要に応じて、熱硬化剤Iを含んでいてもよい。ネガ型用感光性組成物が熱硬化剤Iを含むことで、隔壁の耐熱性および耐透水性を向上させることができる。熱硬化剤Iとしては、アミノ樹脂、2個以上のエポキシ基を有する化合物、2個以上のヒドラジノ基を有する化合物、ポリカルボジイミド化合物、2個以上のオキサゾリン基を有する化合物、2個以上のアジリジン基を有する化合物、多価金属類、2個以上のメルカプト基を有する化合物、ポリイソシアネート化合物等が挙げられる。中でも、形成された隔壁の耐薬品性が向上する点から、アミノ樹脂、2個以上のエポキシ基を有する化合物または2個以上のオキサゾリン基を有する化合物が特に好ましい。ネガ型用感光性組成物における全固形分中の熱硬化剤Iの含有割合は、1~50質量が好ましく、1~30質量が特に好ましい。上記範囲であると、得られるネガ型用感光性組成物の現像性が良好となる。[リン酸化合物J]ネガ型用感光性組成物は、必要に応じて、リン酸化合物Jを含んでいてもよい。ネガ型用感光性組成物がリン酸化合物Jを含むことで、基材との密着性を向上させることができる。リン酸化合物しては、モノメタアクリロイルオキシエチルフォスフェート、ジメタアクリロイルオキシエチルフォスフェート、トリスメタアクリロイルオキシエチルフォスフェートなどが挙げられる。ネガ型用感光性組成物における全固形分中のリン酸化合物Jの含有割合は、0.1~10質量が好ましく、0.3~1質量が特に好ましい。上記範囲であると、得られるネガ型用感光性組成物から形成される硬化膜の基材との密着性が良好となる。[その他の添加剤]ネガ型用感光性組成物は、さらに必要に応じて、硬化促進剤、増粘剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、ハジキ防止剤、紫外線吸収剤等を使用することができる。[ネガ型用感光性組成物]本発明のネガ型用感光性組成物は、アルカリ可溶性樹脂A、黒色着色剤B、光重合開始剤C1および光重合開始剤C2を含有する。さらに、必要に応じて、架橋剤D、撥インク剤E、溶媒Fおよび熱硬化剤Iを含有する。さらに、上記の微粒子G、シランカップリング剤H、リン酸化合物Jおよびその他の添加剤を含有してもよい。ネガ型用感光性組成物は、通常のネガ型用感光性組成物と同様にフォトリソグラフィ等の材料として用いられ、得られた硬化膜は、通常のネガ型用感光性組成物の硬化膜が用いられる光学素子の部材として、使用することが可能である。ネガ型用感光性組成物の好ましい組み合わせ本発明のネガ型用感光性組成物は、用途や要求特性に合わせて組成と配合比を選択することが好ましい。本発明のネガ型用感光性組成物における各種配合成分の好ましい組成を以下に示す。アルカリ可溶性樹脂A:ビスフェノールA型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、上記式A1-2a~A1-2cで表されるエポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂から選ばれる少なくとも1つの樹脂であって、ネガ型用感光性組成物における全固形分中に10~60質量、黒色着色剤B:カーボンブラック、有機顔料から選ばれる少なくとも1つの着色剤であって、ネガ型用感光性組成物における全固形分中に20~65質量、光重合開始剤C1:式3で表されるO-アシルオキシム系化合物であって、ネガ型用感光性組成物における全固形分中に0.1~5質量、光重合開始剤C2:式4で表されるO-アシルオキシム系化合物であって、ネガ型用感光性組成物における全固形分中に3~7質量全固形分量に対する光重合開始剤C1と光重合開始剤C2の合計含有量の割合が3.5~7.0質量であり、かつ、該合計含有量に対する光重合開始剤C1の割合が5~15質量、架橋剤D:1分子中に2つ以上のエチレン性二重結合を有し、酸性基を有しない化合物であって、ネガ型用感光性組成物における全固形分中に2~15質量、撥インク剤E:1分子中に式1で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有する化合物から選ばれる少なくとも1つの撥インク剤であって、ネガ型用感光性組成物における全固形分中に0.01~30質量、溶媒F:水、2-プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ブチルアセテート、4-ブチロラクトン、シクロヘキサノンから選ばれる少なくとも1つの溶媒であって、ネガ型用感光性組成物中、50~99質量、熱硬化剤I:1分子中に2つ以上のエポキシ基を有する化合物であって、ネガ型用感光性組成物における全固形分中に1~30質量。[光学素子用隔壁およびその製造方法]本発明の隔壁は、支持基板上に区画を設けるために形成される隔壁であって、上記本発明のネガ型用感光性樹脂組成物の硬化膜からなる。本発明の隔壁は、光学素子の用途に好適に用いられ、上記ネガ型用感光性組成物が黒色着色剤Bを含有することから、得られる隔壁はブラックマトリックスとしての適用が可能である。本発明の隔壁は、例えば、支持基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有する光学素子用の隔壁に適用される。本発明のネガ型用感光性組成物を用いれば、マスクパターンに近い微細ラインに隔壁を形成することができ、同時に、隔壁にコンタクトホールが必要な場合には、微小なコンタクトホールの形成が可能である。さらに、ネガ型用感光性組成物が撥インク剤Eを含有する場合には、充分な撥インク性の付与も同時に達成できる。本発明のネガ型用感光性組成物を用いて本発明の光学素子用の隔壁ブラックマトリックスを製造する方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。本発明のネガ型用感光性組成物を上記支持基板上に塗布して塗膜を形成し塗膜形成工程、次いで、上記塗膜を乾燥して膜とし乾燥工程、次いで、上記膜の隔壁となる部分のみを露光して光硬化させ露光工程、次いで、上記光硬化した部分以外の塗膜を除去して上記塗膜の光硬化部分からなる隔壁を形成させ現像工程、次いで、必要に応じて上記形成された隔壁等をさらに熱硬化させるポストベーク工程ことにより、本発明の光学素子用の隔壁ブラックマトリックスが製造できる。また、現像工程とポストベーク工程の間に、上記形成された隔壁等をさらに光硬化させるポスト露光工程を入れてもよい。支持基板の材質は特に限定されるものではないが、各種ガラス板;ポリエステルポリエチレンテレフタレート等、ポリオレフィンポリエチレン、ポリプロピレン等、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリイミド、ポリメタアクリル樹脂等の熱可塑性プラスチックシート;エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂の硬化シート等を使用できる。特に、耐熱性の点からガラス板、ポリイミド等の耐熱性プラスチックが好ましい。また、ポスト露光を、隔壁が形成されていない裏面基板側から行うこともあるため、透明基板であることが好ましい。支持基板のネガ型用感光性組成物の塗布面は、塗布前に予めアルコール洗浄、紫外線/オゾン洗浄等で洗浄することが好ましい。また、BOA型のカラーフィルタのように隔壁ブラックマトリックスをTFTアレイ基板上に形成する場合には、支持基板上に予めTFTアレイ等の所定の部材が形成されたものを準備すればよい。塗膜形成工程塗布方法としては、膜厚が均一な塗膜が形成される方法であれば特に制限されず、スピンコート法、スプレー法、スリットコート法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法等、通常の塗膜形成に用いられる方法が挙げられる。塗膜の膜厚は最終的に得られる隔壁の高さとネガ型用感光性組成物の固形分濃度を勘案して決められる。塗膜の膜厚は、最終的に得られる隔壁の高さの500~2,000が好ましく、550~1,000が特に好ましい。塗膜の膜厚は03~100μmが好ましく、1~50μmが特に好ましい。乾燥工程上記塗膜形成工程で支持基板上に形成された塗膜を乾燥し、膜を得る。乾燥によって、塗膜を構成するネガ型用感光性組成物に含まれる溶媒を含む揮発成分が揮発、除去され、粘着性のない膜が得られる。また、ネガ型用感光性組成物が撥インク剤Eを含有する場合には、該撥インク剤Eが塗膜表面近傍に移行する。乾燥は、真空乾燥や加熱乾燥プリベークを行うことが好ましい。また、塗膜外観のムラを発生させず、効率よく乾燥させるために、真空乾燥と加熱乾燥を併用することがより好ましい。真空乾燥の条件は、各成分の種類、配合割合等によっても異なるが、500~10Paで10~300秒間行うことが好ましい。加熱乾燥は、支持基板とともに塗膜をホットプレート、オーブン等の加熱装置により、50~120°Cで10~2,000秒間行うことが好ましい。露光工程得られた膜の一部に所定パターンのマスクを介して露光を行う。露光部のネガ型用感光性組成物は硬化し、未露光部のネガ型用感光性組成物は硬化しない。照射する光としては、可視光、紫外線、遠紫外線、KrFエキシマレーザ、ArFエキシマレーザ、F2エキシマレーザ、Kr2エキシマレーザ、KrArエキシマレーザ、Ar2エキシマレーザ等のエキシマレーザ、X線、電子線等が挙げられる。波長100~600nmの光線が好ましく、300~500nmの範囲に分布を有する電磁波がより好ましく、i線365nm、h線405nmおよびg線436nmが特に好ましい。照射装置としては、公知の超高圧水銀灯等を用いることができる。露光量は、5~1,000mJ/cm2が好ましく、50~400mJ/cm2が特に好ましい。露光量が上記範囲の下限値以上であると、隔壁の硬化が充分である。上記範囲の上限値以下であると、高い解像度が得られる。現像工程現像液により現像し、未露光部分のネガ型用感光性組成物を除去する。現像液としては、無機アルカリ類、アミン類、アルコールアミン類、第4級アンモニウム塩等のアルカリ類を含むアルカリ水溶液を用いることができる。また現像液には、溶解性の向上や残渣除去のために、界面活性剤やアルコール等の有機溶媒を添加することができる。現像時間現像液に接触させる時間は、5~180秒間が好ましい。また現像方法は液盛り法、ディッピング法、シャワー法等が挙げられる。現像後、高圧水洗や流水洗浄を行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、支持基板上の水分を除去できる。ポスト露光工程次に、必要に応じてポスト露光を行ってもよい。ポスト露光は隔壁が形成されている表面、または隔壁が形成されていない裏面基板側のいずれから行ってもよい。また、表裏両面から露光してもよい。好ましい露光量としては、50mJ/cm2以上であり、よ200mJ/cm2以上がより好ましく、1,000mJ/cm2以上がさらに好ましく、2,000mJ/cm2以上が特に好ましい。照射する光としては、紫外線が好ましく、光源として、公知の超高圧水銀灯または高圧水銀灯等を用いることができる。これらの光源は隔壁の硬化に寄与する600nm以下の光を発光し、かつ、隔壁の酸化分解の原因となる200nm以下の光の発光が少ないため、好ましく用いられる。さらに水銀灯に用いられている石英管ガラスが200nm以下の光をカットする光学フィルタ機能を有することが好ましい。光源としては、低圧水銀灯を用いることもできる。ただし、低圧水銀灯は200nm以下の波長の発光強度も高く、オゾンの生成により隔壁の酸化分解が起こり易いため、多量の露光を行うことは好ましくない。露光量は500mJ/cm2以下であることが好ましく、300mJ/cm2以下が特に好ましい。ポストベーク工程続いて、隔壁を加熱することが好ましい。ホットプレート、オーブンなどの加熱装置により、5~90分間加熱処理をすることによって、隔壁および隔壁で区分された領域ドットとからなるパターンが形成される。加熱温度は150~250°Cが好ましく、180~250°Cが特に好ましい。加熱温度が上記範囲の下限値以上であると、隔壁の硬化が充分であり、充分な耐薬品性が得られ、その後のインクジェット塗布工程でインクを塗布した場合に、そのインクに含まれる溶媒により隔壁が膨潤したり、インクが滲んでしまうことがない。上記範囲の上限値以下であると、隔壁の熱分解が生じにくい。本発明のネガ型用感光性組成物から形成されるパターンは、隔壁の幅の平均が、100μm以下であることが好ましく、20μm以下であることが特に好ましい。また、隣接する隔壁間の距離ドットの幅の平均が、300μm以下であることが好ましく、100μm以下であることが特に好ましい。また、隔壁の高さの平均が、0.05~50μmであることが好ましく、0.2~10μmであることが特に好ましい。本発明の隔壁ブラックマトリックスを、カラーフィルタがTFTアレイ基板上に配置された、いわゆるBOA型のカラーフィルタに適用する場合、TFT等のスイッチング素子と画素電極を接続するために、隔壁ブラックマトリックスに、その膜厚方向に貫通した貫通孔をコンタクトホールとして形成する必要がある。コンタクトホールの形成は、上記露光工程で用いる所定パターンのマスクをコンタクトホールが形成可能なパターンに作製することで、行われる。コンタクトホールの大きさは、用いる光学素子の種類や設計によるが、本発明のネガ型用感光性組成物を用いれば、コンタクトホールとなる貫通孔において水平断面積が最大である断面の長径、すなわち最大孔径が20μm以下という微小なコンタクトホールの形成が可能である。したがって、本発明の隔壁ブラックマトリックスは、このような微小なコンタクトホールを必要とする光学素子用の隔壁ブラックマトリックスとして好適である。ここで、膜厚方向の貫通孔がコンタクトホールとして機能するために該貫通孔における水平方向の最小孔径は1μm以上であることが好ましく、2μm以上が特に好ましい。また、コンタクトホールを充分に微小なサイズとするためには、貫通孔の水平方向の最大孔径は20μm以下であることが好ましく、15μm以下が特に好ましい。なお、ネガ型用感光性組成物から形成される硬化膜の撥インク性は、PGMEAの接触角で見積もることができ、PGMEAの接触角は30度以上が好ましく、35度以上が特に好ましい。上記範囲であると、インクジェット塗布液が隣接画素内に溢れ出ることによる混色を防ぐのに充分な撥インク性となる。本発明の隔壁ブラックマトリックスが適用される光学素子としては、カラーフィルタ、有機EL表示素子等が挙げられる。特に、用いるマスクパターンに近い微細なラインパターンに隔壁を形成することができ、同時に、この微細な隔壁に微小なコンタクトホールを形成することが可能であることから、本発明のブラックマトリックスは、BOA型のカラーフィルタに好適に用いられる。さらに、本発明はTFTアレイ基板上に本発明のカラーフィルタが形成された液晶表示素子を提供する。本発明のカラーフィルタは微細なラインパターンに微小なコンタクトホールが形成されたブラックマトリックスを採用していることから、このカラーフィルタをTFTアレイ基板上に有する液晶表示素子を用いれば、低消費電力で高輝度を両立した液晶表示装置が得られる。[カラーフィルタの製造方法]上記のように隔壁ブラックマトリックスを形成した後、隔壁で区分された領域内に、インクジェット法によりインクジェット装置を用いてインクを注入して画素を形成することで、カラーフィルタを製造できる。なお、本発明のカラーフィルタをTFTアレイ基板上に形成する場合には、上記の通り基板上に予め形成されたTFTアレイを具備する支持基板を用い、該基板上の所定位置に上記本発明の製造方法によってブラックマトリックスを形成した後、該基材上のブラックマトリックスで仕切られた領域にインクジェット法によりインクを注入して画素を形成すればよい。また、上記ブラックマトリックスが形成されたTFTアレイを有するまたは有しない支持基板においては、該ブラックマトリックスで仕切られた領域ドット内にインクを投入する前に、ドット内に露出した基板表面に、例えば、アルカリ水溶液による洗浄処理、UV洗浄処理、UVオゾン洗浄処理、エキシマ洗浄処理、コロナ放電処理、酸素プラズマ処理等の方法で親インク化処理が施されてもよい。インクジェット装置としては、特に限定されるものではないが、帯電したインクを連続的に噴射し磁場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等の各種の方法を用いた装置を用いることができる。画素の形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の公知のいずれの配列とすることも可能である。なお、本発明のカラーフィルタをTFTアレイ基板上に形成する場合には、上記ブラックマトリックスは、この画素の形状とTFTアレイ基材上のTFTアレイの位置関係を考慮して設定された所定の位置に所定の形状で形成される。インクは、主に着色成分とバインダー樹脂成分と溶剤とを含む。着色成分としては、耐熱性、耐光性等に優れた顔料および染料を用いることが好ましい。バインダー樹脂成分としては、透明で耐熱性に優れた樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。水性のインクは、溶剤として水および必要に応じて水溶性有機溶媒を含み、バインダー樹脂成分として水溶性樹脂または水分散性樹脂を含み、必要に応じて各種助剤を含む。また、油性のインクは、溶剤として有機溶剤を含み、バインダー樹脂成分として有機溶剤に可溶な樹脂を含みし、必要に応じて各種助剤を含む。なお、インクジェット法においては、上記インクジェット装置でドットにインクを注入した後、ドット内に形成されたインク層に対して、必要に応じて、乾燥、加熱硬化、紫外線硬化等の処理を行うことで画素が形成される。画素形成後、必要に応じて、保護膜層を形成する。保護膜層は表面平坦性を上げる目的と隔壁や画素部のインクからの溶出物が液晶層に到達するのを遮断する目的で形成することが好ましい。保護膜層を形成する場合は、事前に隔壁の撥インク性を除去することが好ましい。撥インク性を除去しない場合、オーバーコート用塗布液をはじき、均一な膜厚が得られないため好ましくない。隔壁の撥インク性を除去する方法としては、プラズマアッシング処理や光アッシング処理等が挙げられる。さらに必要に応じて、カラーフィルタを用いて製造される液晶パネル等の高品位化のためにフォトスペーサを隔壁上に形成することが好ましい。[有機EL表示素子の製造方法]隔壁を形成する前に、ガラス等の透明基板にスズドープ酸化インジウム錫ITO等の透明電極をスパッタ法等によって製膜し、必要に応じて所望のパターンに透明電極をエッチングする。次に、本発明のネガ型用感光性組成物を用いて隔壁を形成し、ドットの親インク化処理後、インクジェット法を用いてドットに正孔輸送材料、発光材料の溶液を順次塗布、乾燥して、正孔輸送層、発光層を形成する。その後アルミニウム等の電極を蒸着法等によって形成することによって、有機EL表示素子の画素が得られる。以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、例1~7は実施例、例11~17が比較例である。各測定は以下の方法で行った。[数平均分子量Mn]ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により、ポリスチレンを標準物質として測定した。[撥インク剤E中のフッ素原子の含有率、エチレン性二重結合の量、酸価]撥インク剤E中のフッ素原子の含有率は、1,4-ジトリフルオロメチルベンゼンを標準物質として、19FNMR測定により算出した。撥インク剤E中のエチレン性二重結合の量は、1,4-ジトリフルオロメチルベンゼンを標準物質として、1HNMR測定により算出した。撥インク剤E中の酸価mgKOH/gおよび1分子中のエチレン性二重結合の数は、原料である単量体の配合割合から算出した理論値である。合成例および実施例で用いた化合物の略語は以下の通りである。アルカリ可溶性樹脂AEX1010:上式A1-2bで表されるエポキシ樹脂にエチレン性二重結合と酸性基とを導入した樹脂ナガセケムテックス社製、商品名:EX-1010、質量平均分子量Mw:3,300、酸価:60mgKOH/g、固形分:70質量。ZCR1642:上式A1-2aで表されるビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂にエチレン性二重結合と酸性基とを導入した樹脂日本化薬社製、商品名:ZCR-1642H、質量平均分子量Mw:5,800、酸価:100mgKOH/g、固形分:70質量。黒色着色材BDINA:有機顔料のPGMEA分散液DIC株式会社製、商品名:DINA混色BM、固形分:19.5質量。光重合開始剤C1OXE02:エタノン1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム式3で表される化合物において、R1:メチル基、R2:メチル基、R3:エチル基、R4、R6、R7:水素原子、R5:2-メチルベンゾイル基で示される。BASF社製、商品名:OXE02。。光重合開始剤C2OXE01:1.2-オクタンジオン1-4-フェニルチオフェニル-2-0-ベンゾイルオキシム式4で表される化合物において、R8:フェニル基、R9:ヘキシル基で示される。BASF社製、商品名:OXE01。架橋剤DUX5002:多官能ウレタンアクリレートオリゴマー日本化薬社製、商品名:KAYARADUX-5002D-P20。撥インク剤Eの合成に用いた化合物MEK:2-ブタノン。C6FMA:CH2=CCH3COOCH2CH2CF26F単量体a1に該当する。。MAA:メタクリル酸単量体a4に該当する。。PME400:ブレンマーPME-400日本油脂社製、CH2=CCH3COOCH2CH2OkCH3、式中のkは分子間の平均値を示し、kの値は約9である。単量体a5の化合物12に該当する。。PME1000:ブレンマーPME-1000日本油脂社製、CH2=CCH3COOCH2CH2OkCH3:式中のkは分子間の平均値を示し、kの値は約23である。単量体a5の化合物12に該当する。。2-HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート単量体a3に該当する。。V-65:アゾ系重合開始剤和光純薬工業社製、商品名:V-65。AOI:2-アクリロイルオキシエチルイソシアネート昭和電工社製、商品名:カレンズAOI化合物z1に該当する。。DBTDL:ジブチル錫ジラウレート。BHT:2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール。溶媒FPGMEA:プロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセテート。熱硬化剤IXD1000:多官能エポキシ樹脂日本化薬社製、商品名:XD1000[合成例1:撥インク剤E-1の合成]撹拌機を備えた内容積2Lのオートクレーブに、MEK700g、C6FMA140g、MAA15g、PME40060g、2-HEMA85gおよび重合開始剤V-652gを仕込み、窒素ガス中で撹拌しながら、50°Cで24時間重合させ、粗共重合体を合成した。得られた粗共重合体の溶液をヘキサンに加えて再沈精製した後、真空乾燥し、共重合体1242gを得た。該共重合体1は、数平均分子量Mnが35,000、質量平均分子量Mwが91,000であった。エチレン性二重結合の導入温度計、撹拌機、加熱装置を備えた内容量300mLのガラス製フラスコに、共重合体140g、AOI12g、DBTDL0.05g、BHT0.2gおよびMEK130gを仕込み、撹拌しながら、40°Cで24時間反応させ、撥インク剤E-1の溶液を得た。得られた撥インク剤E-1のMEK溶液をヘプタンに加え再沈精製し、真空乾燥し、撥インク剤E-165.6gを得た。数平均分子量Mnは38,000であった。撥インク剤E-1の赤外分光分析を行ったところ、アクリロイル基のC=C伸縮振動に由来する吸収帯1,635cm-1、アクリロイル基のCH2面内変角振動に由来する吸収帯1,409cm-1、およびアクリロイル基のCH2面外変角振動に由来する吸収帯810cm-1が存在すること、またAOIのNCO伸縮振動に由来する吸収帯2,274cm-1が消失していたことから、撥インク剤E-1中にアクリロイル基が存在することが確認された。得られた撥インク剤E-1の数平均分子量Mn、フッ素原子の含有率、エチレン性二重結合の量C=C量、×10-3mol/g、酸価mgKOH/gを表1に示した。[合成例2:撥インク剤E-2の合成]共重合体1の合成において、原料の配合を表1のように変更した以外は同様の共重合反応により、共重合体2を得た。次に、撥インク剤E-1の合成において、原料の配合を表1のように変更した以外は同様の反応により、撥インク剤E-2を得た。得られた撥インク剤E-2の数平均分子量Mn、フッ素原子の含有率、エチレン性二重結合の量C=C量、×10-3mol/g、酸価mgKOH/gを表1に示した。[例1~7および11~17:ネガ型用感光性組成物の調製、隔壁の形成と評価]表2および表3に示す割合で、アルカリ可溶性樹脂A溶媒としてPGNEAを40質量含む。、黒色着色剤B溶媒としてPGMEAを80質量含む。、光重合開始剤C1、光重合開始剤C2、架橋剤D溶媒としてPGMEAを20質量含む。、撥インク剤E溶媒としてPGMEAを90質量含む。、熱硬化剤Iおよび溶媒FとしてPGMEAを配合して、ネガ型用感光性組成物を得た。ガラス基板上にスピンナーを用いてネガ型用感光性組成物を塗布し、塗膜を形成した塗膜形成工程。次に、100°C2分間ホットプレート上で乾燥し、膜厚3μmの膜を形成したガラス基板1を得た乾燥工程。次に、10μm×10mmの線状の開口部、および50μm×50μmの開口部の中央に直径20μmの遮光部を持つフォトマスクを通して、超高圧水銀灯を用いて、露光量がi線365nm基準で50mJ/cm2の光を照射した露光工程。次いで、未露光部分を無機アルカリタイプ現像液横浜油脂工業社製、商品名:セミクリーンDL-A4の10倍希釈水溶液に浸漬して現像し、未露光部を水により洗い流し、乾燥させた現像工程。次いで、ホットプレート上、220°Cで1時間加熱することにより、パターンが形成されたガラス基板2を得たポストベーク工程。これらについて、パターン形成性、現像性、撥インク性を以下に示す方法で測定、評価した。評価結果を表2および3に示す。ライン解像度上記ガラス基板2について、幅10μm、長さ10mmの線状のパターンが残ったものを○良好、残らなかったものを×不良としてパターンの有無を評価した。コンタクトホール解像度上記ガラス基板2について、隔壁上部における直径が20μmの円形の空孔が現像により底部において残渣等残らずに直径1μm以上で貫通したものを○良好、貫通しなかったものを×不良としてパターンの有無を評価した。現像液への溶解性上記ガラス基板1について、塗工したネガ型用感光性組成物を現像液に溶解し目視で沈殿物の有無を観察した。沈殿物が観察されなかったものを○良好、観察されたものを×不良と記載した。撥インク性撥インク性は、上記ガラス基板2上の硬化膜のPGMEAの接触角度により評価した。接触角とは、固体と液体が接触する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。この角度が大きいほど硬化膜の撥インク性が優れることを意味する。PGMEAの接触角35度以上を○良好、35度未満を×不良と表記した。表2より、本発明のネガ型用感光性組成物の現像液への溶解性は良好であり、該ネガ型用感光性組成物から微細な線幅のパターンが形成でき、特に微小なコンタクトホールの形成も可能であった。また、該ネガ型用感光性組成物から形成された硬化膜の撥インク性も良好であった。一方、表3において、全固形分中の光重合開始剤C1の含有量と光重合開始剤C2の含有量との合計割合が3.5質量以下であるネガ型用感光性組成物を用いた例11および13では、ライン解像度および撥インク性が不充分であった。ブラックマトリックス内部の光硬化性が不充分で、現像時にパターン下部が溶解するため、ライン解像度が不良であった。また、光重合開始剤の使用量が不充分であるために構造体表面の撥インク剤が充分に光反応せず、現像時に溶出したためである。表3において、全固形分中の光重合開始剤C1の含有量と光重合開始剤C2の含有量との合計割合が7質量以上であるネガ型用感光性組成物を用いた例15、16および17では、コンタクトホール解像度が不充分であった。これは、光重合開始剤の使用量が過剰なため未露光部の光硬化が生じるためである。光重合開始剤C1の含有量と光重合開始剤C2の含有量との合計に対する光重合開始剤C1の含有量の割合が5質量以下のネガ型用感光性組成物を用いた例12では、ライン解像度が不充分であった。また、ネガ型用感光性組成物の現像液への溶解性が不充分であった。これは、光重合開始剤C2を多量に含むことにより、顔料分散剤に吸着しアルカリ水溶液中での顔料の分散性を悪化させるためと推定している。光重合開始剤C1の含有量と光重合開始剤C2の含有量との合計に対する光重合開始剤C1の含有量の割合が15質量以上のネガ型用感光性組成物を用いた例14では、コンタクトホールの解像度が不充分であった。これは、開始剤全量に対する光重合開始剤C1量が過剰なために遮光部での光硬化が生じるためである。"