"基板上の有機膜層、及び前記有機膜層上にパターン形成されてなるフォトレジストマスクを有する被処理体に対して、下記第1及び第2のドライエッチング工程を行うことにより前記有機膜層にパターンを形成する工程を有するカラーフィルタの製造方法。1酸素とハロゲン化合物ガスとを含有する第1の混合ガスによりドライエッチングすることにより、前記基板の表面が露出しない範囲で前記有機膜層の一部を除去し、前記フォトレジストマスクのパターン様に前記有機膜層の除去部を形成する第1のドライエッチング工程、及び2前記第1のエッチング工程後、酸素と、前記酸素に対するガス流量比を前記第1のエッチング工程における前記ガス流量比よりも減少させたハロゲン化合物ガスと、H2、N2、CH4及びCOよりなる群から選択される少なくとも1種の第3のガスとを含有する第2の混合ガスにより8.0Pa以下の圧力下で、有機膜層下層の基板を露出させるまでドライエッチングする第2のドライエッチング工程であって、前記ハロゲン化合物ガスの流量が前記第2の混合ガスの全ガス流量の1.0未満である第2のドライエッチング工程。前記第2のエッチング工程のハロゲン化合物ガスの流量が、前記第2の混合ガスの全ガス流量の0.15以上である、請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。前記第2のエッチング工程が0.8~8.0Paの圧力下で行われる、請求項1又は2に記載のカラーフィルタの製造方法。前記第2のエッチング工程の後、更にオーバーエッチング工程を含む、請求項1~3のいずれか1項記載のカラーフィルタの製造方法。前記フォトレジストマスクにおけるパターン幅と、前記第1及び第2のドライエッチング工程後の有機膜層のパターン幅との差が0.2μm未満である、請求項1~4のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。前記基板の表面からドライエッチングされる量が、基板の厚み方向に対し0.05μm以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。残存する前記フォトレジストマスクを溶解除去により剥離する工程を更に有する請求項1~6のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。前記第1及び第2のドライエッチング工程を行うことにより前記有機膜層にパターンを形成する工程により形成されたパターンが第1の着色パターンであり、前記第1の着色パターンを形成した後、イ前記基板の第1の着色パターン形成面側に、第nn≧2の着色層を形成することによって第nの着色パターンを形成する工程ロ形成された前記第nの着色層及び前記第1の着色パターンをドライエッチング処理して、第n1n≧2の着色パターンを形成するための凹凸パターンを形成する第n1のパターン形成工程、及びハ前記基板の前記凹凸パターン形成面側に、第n1の着色層を形成することによって第n1の着色パターンを形成する工程前記イ、ロ及びハ工程のそれぞれ少なくとも1工程と、前記基板の前記第1の着色パターン形成面側に形成されたn層n≧2の着色層の着色パターン形成に寄与しない部分をフォトリソグラフィー又は平坦化処理により除去する工程とを更に有し、n1色の着色パターンからなるカラーフィルタを形成する、請求項1~7のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。請求項1~8のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ。本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、ドライエッチング時の基板ダメージ削れを抑制しつつ、圧力パラーメータの広い範囲で側壁堆積物の抑制でき、フォトレジストマスクのパターン幅に対するドライエッチング後の有機膜層のパターン幅の差パターン幅変換差を低減できるカラーフィルタの製造方法、及びそれにより製造されるカラーフィルタを提供することを目的とする。前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。1基板上の有機膜層、及び前記有機膜層上にパターン形成されてなるフォトレジストマスクを有する被処理体に対して、下記第1及び第2のドライエッチング工程を行うことにより前記有機膜層にパターンを形成する工程を有するカラーフィルタの製造方法。1酸素とハロゲン化合物ガスとを含有する第1の混合ガスによりドライエッチングすることにより8.0Pa以下の圧力下で、前記基板の表面が露出しない範囲で前記有機膜層の一部を除去し、前記フォトレジストマスクのパターン様に前記有機膜層の除去部を形成する第1のドライエッチング工程、及び2前記第1のエッチング工程後、酸素と、前記酸素に対するガス流量比を前記第1のエッチング工程における前記ガス流量比よりも減少させたハロゲン化合物ガスと、H2、N2、CH4及びCOよりなる群から選択される少なくとも1種の第3のガスとを含有する第2の混合ガスにより、有機膜層下層の基板を露出させるまでドライエッチングする第2のドライエッチング工程であって、前記ハロゲン化合物ガスの流量が前記第2の混合ガスの全ガス流量の1.0未満である第2のドライエッチング工程。2前記第2のエッチング工程のハロゲン化合物ガスの流量が、前記第2の混合ガスの全ガス流量の0.15以上である、1に記載のカラーフィルタの製造方法。3前記第2のエッチング工程が0.8~8.0Paの圧力下で行われる、1又は2に記載のカラーフィルタの製造方法。4前記第2のエッチング工程の後、更にオーバーエッチング工程を含む、1~3のいずれか1項記載のカラーフィルタの製造方法。5前記フォトレジストマスクにおけるパターン幅と、前記第1及び第2のドライエッチング工程後の有機膜層のパターン幅との差が0.2μm未満である、1~4のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。6前記基板の表面からドライエッチングされる量が、基板の厚み方向に対し0.05μm以下である、1~5のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。7残存する前記フォトレジストマスクを溶解除去により剥離する工程を更に有する1~6のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。8前記第1及び第2のドライエッチング工程を行うことにより前記有機膜層にパターンを形成する工程により形成されたパターンが第1の着色パターンであり、前記第1の着色パターンを形成した後、イ前記基板の第1の着色パターン形成面側に、第nn≧2の着色層を形成することによって第nの着色パターンを形成する工程ロ形成された前記第nの着色層及び前記第1の着色パターンをドライエッチング処理して、第n1n≧2の着色パターンを形成するための凹凸パターンを形成する第n1のパターン形成工程、及びハ前記基板の前記凹凸パターン形成面側に、第n1の着色層を形成することによって第n1の着色パターンを形成する工程前記イ、ロ及びハ工程のそれぞれ少なくとも1工程と、前記基板の前記第1の着色パターン形成面側に形成されたn層n≧2の着色層の着色パターン形成に寄与しない部分をフォトリソグラフィー又は平坦化処理により除去する工程とを更に有し、n1色の着色パターンからなるカラーフィルタを形成する、1~7のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。91~8のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ。本発明のカラーフィルタの製造方法によれば、ドライエッチング時の基板ダメージ削れを抑制しつつ、圧力パラーメータの広い範囲で側壁堆積物の抑制でき、フォトレジストマスクのパターン幅に対するドライエッチング後の有機膜層のパターン幅の差パターン幅変換差が低減できる。本発明のカラーフィルタは、前記製造方法により得られるので、画素のパターン寸法の精度が高く、基板ダメージが小さい。本明細書に於ける基原子団の表記に於いて、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、アルキル基とは、置換基を有さないアルキル基無置換アルキル基のみならず、置換基を有するアルキル基置換アルキル基をも包含するものである。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において~を用いて表される数値範囲は、~の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。なお、本明細書において、メタアクリレートはアクリレート及びメタアクリレートを表し、メタアクリルはアクリル及びメタアクリルを表し、メタアクリロイルは、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。また、本明細書中において、単量体とモノマーとは同義である。本発明における単量体は、オリゴマー及びポリマーと区別され、質量平均分子量が2,000未満の化合物をいう。本明細書中において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性基とは、重合反応に関与する基を言う。<カラーフィルタの製造方法>本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上の有機膜層、及び前記有機膜層上にパターン形成されてなるフォトレジストマスクを有する被処理体に対して、下記第1及び第2のドライエッチング工程を行うことにより前記有機膜層にパターンを形成する工程を有する。1酸素とハロゲン化合物ガスとを含有する第1の混合ガスによりドライエッチングすることにより、前記基板の表面が露出しない範囲で前記有機膜層の一部を除去し、前記フォトレジストマスクのパターン様に前記有機膜層の除去部を形成する第1のドライエッチング工程、及び2前記第1のエッチング工程後、酸素と、前記酸素に対するガス流量比を前記第1のエッチング工程における前記ガス流量比よりも減少させたハロゲン化合物ガスと、H2、N2、CH4及びCOよりなる群から選択される少なくとも1種の第3のガスとを含有する第2の混合ガスにより8.0Pa以下の圧力下で、有機膜層下層の基板を露出させるまでドライエッチングする第2のドライエッチング工程であって、前記ハロゲン化合物ガスの流量が前記第2の混合ガスの全ガス流量の1.0未満である第2のドライエッチング工程。本発明のカラーフィルタの製造方法は、所望のパターン厚み、色相及び色濃度を確保することができ、特に、例えば厚みが1μm以下及び/又は画素パターンサイズが2μm以下例えば0.5~2.0μmとなるような微小サイズが求められる固体撮像素子用のカラーフィルタを製造するのに有効である。-有機膜層の形成-本発明における有機膜層は、例えば、後述する硬化性組成物を後述する基板に塗布し、乾燥して形成することができる。具体的には、例えば、硬化性組成物を、基板上に回転塗布等の塗布方法により塗布して形成することができる。有機膜層の具体的な厚さとしては、0.005μm~0.9μmが好ましく、0.05μm~0.8μmが好ましく、0.1μm~0.7μmで作製されることが更に好ましい。本発明における有機膜層の形成は、加熱工程ポストベーク工程であってもよいを更に含むことが好ましい。具体的に前記有機膜層は、硬化性組成物を基板に塗布して塗布膜を形成した後、加熱工程により、該塗布膜を熱硬化させて形成することができる。前記加熱工程は塗布後の乾燥と同時であってもよく、また塗布乾燥後に別途熱硬化の工程を設けてもよい。前記加熱工程は、オーブン、ホットプレートなど公知の加熱手段を用い、好ましくは130°C~300°C、更に好ましくは150°C~280°C、特に好ましくは170°C~260°Cの条件下で、好ましくは10秒~3時間、更に好ましくは30秒~2時間、特に好ましくは60秒~60分の範囲で行なうことができる。但し、製造を考慮すると硬化に要する時間は短時間であるほど好ましい。更に本発明の有機膜層としては着色剤を含有しない、いわゆる透明着色層でもよい。具体的には硬化性組成物の着色剤を含有しない組成で構成することができる。-フォトレジストマスク形成-フォトレジストマスクの形成としては、図1に示すように、基板1上の有機膜層2の上にフォトレジストマスク3を形成する。具体的には、有機膜層2上にポジ又はネガ型の感光性樹脂組成物を塗布し、これを乾燥させることによりフォトレジスト層図示せずを形成する。次いで、このフォトレジスト層を露光、現像することによりパターン形成を行い、フォトレジストマスク3を形成する。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。また、露光後の加熱処理PEB、現像後の加熱処理ポストベーク処理を実施する形態が好ましい。フォトレジスト層としては、例えば、ポジ型の感光性樹脂組成物が用いられる。このポジ型の感光性樹脂組成物としては、紫外線g線、h線、i線、エキシマーレーザー等を含む遠紫外線、電子線、イオンビームおよびX線等の放射線に感応するポジ型フォトレジスト用に好適なポジ型レジスト組成物が使用できる。放射線のうち、g線、h線、i線が好ましく、中でもi線が好ましい。具体的には、ポジ型の感光性樹脂組成物として、キノンジアジド化合物及びアルカリ可溶性樹脂を含有する組成物が好ましい。キノンジアジド化合物及びアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型の感光性樹脂組成物は、500nm以下の波長の光照射によりキノンジアジド基が分解してカルボキシル基を生じ、結果としてアルカリ不溶状態からアルカリ可溶性になることを利用するものである。このポジ型フォトレジストマスクは解像力が著しく優れているので、ICやLSI等の集積回路の作製に用いられている。キノンジアジド化合物としては、ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。フォトレジストマスクの厚みとしては、0.1~3μmが好ましく、0.2~2.5μmが好ましく、0.3~2μmが更に好ましい。ドライエッチン時のマスク性を損なうことのない膜厚で、極力薄膜化することで、パターニング時の解像力を向上させることができる。上記フォトレジストマスク3の形成により有機膜層露出部5が形成される。-ドライエッチング工程-ドライエッチングとしては、フォトレジストマスクのパターン幅に対するドライエッチング後の有機膜層のパターン幅変換差を抑える観点、パターン断面をより矩形に近く形成する観点や基板へのダメージをより低減する観点から、図2に示すように、ハロゲン化合物ガスと酸素ガスO2とを含有する第1の混合ガスを用い有機膜層露出部5に対し、基板の表面が露出しない領域深さまでエッチングを行ない、前記有機膜層2の一部を除去し、前記フォトレジストマスク3のパターン様に前記有機膜層2の除去部6を形成する第1のエッチング工程、及びこの第1のエッチング工程の後に、図3に示すように酸素と、ハロゲン化合物ガスと、第3のガスとしてH2、N2、CH4及びCOからなる群より選択される少なくとも1種のガスとを含有する第2の混合ガスを用いて8.0Pa以下の圧力下で、基板が露出する領域7深さ付近までエッチングを行なう第2のエッチング工程を有する。第2のエッチング工程において、ハロゲン化合物ガスの前記酸素に対するガス流量比は、第1のエッチング工程における前記ガス流量比よりも減少させてなり、かつ第2のエッチング工程において、前記ハロゲン化合物ガスの流量が前記第2の混合ガスの全ガス流量の1.0未満である。第2のエッチング工程のハロゲン化合物ガスの流量の下限値として、前記第2の混合ガスの全ガス流量の0.15以上であることが好ましい。さらに、基板が露出した後にオーバーエッチング工程を含むことが好ましい。前記第1のエッチング工程で用いる第1の混合ガスとしては、被エッチング膜である有機膜層を矩形に加工する観点から、ハロゲン化合物ガス及び酸素ガスO2を含有する。ここで、ハロゲン化合物ガスとしては、ハロゲン原子を有する化合物の少なくとも1種からなるガスであることが好ましく、フッ素原子を有する化合物の少なくとも1種からなるガスであることがより好ましく、CF4、C4F8、C2F6、CHF3、SF6、C4F6などが挙げられる。第1のエッチング工程で用いる第1の混合ガスにおけるハロゲン化合物ガスと酸素ガスとのガス流量比は2/1~8/1とすることが好ましく、2/1~6/1であることがより好ましく、3/1~5/1であることが特に好ましい。また、第1のエッチング工程は、基板が露出しない領域までエッチングする形態にすることで、基板のダメージを回避することができる。また、前記第2のエッチング工程及び前記オーバーエッチング工程は、第1のエッチング工程でハロゲン化合物ガス及び酸素ガスを含有する第1の混合ガスにより基板が露出しない領域までエッチングを実施した後、基板のダメージ回避の観点から、第3のガスと酸素ガスの混合ガスに更にハロゲン化合物ガスが全ガス流量の1.0未満含有するガスを用いてエッチング処理を行なう。第2のエッチング工程において、ハロゲン化合物ガスの前記酸素に対するガス流量比を、第1のエッチング工程における前記ガス流量比よりも減少させることにより、基板がダメージを受けることなく有機膜層を効果的にエッチングすることができる。具体的には、第2のエッチング工程におけるハロゲン化合物ガスと酸素ガスとのガス流量比は1/30~1/1.5とすることが好ましく、1/20~1/2であることがより好ましく、1/15~1/2.5であることが特に好ましい。前記第2のエッチング工程における第2の混合ガスに前記特定の第3のガスを含有させることにより、理由は定かではないが、側壁堆積物デポ物を側壁に適度に付着して残存させることができ、これにより有機膜層の横方向のエッチングを抑制することができ、パターンの矩形性垂直性を向上させることができる。ここで、側壁堆積物とは、エッチング処理によって生成した窒化物もしくは酸窒化物のエッチング生成物で、基板露出部の周囲に形成された有機膜層の側壁に付着し堆積したものを意味する。以上から、本発明における第1及び2のドライエッチング工程により、理由は定かではないが、基板ダメージを抑制しつつ、パターン幅変換差を減少させることができる。上述の第1のエッチング工程は4.0Pa以下の圧力下で実施することが好ましく、2.0Pa以下で実施することがより好ましい。4.0Pa以下で実施することで、第1のエッチング工程でのパターンの矩形化をより確実に維持することができる。ここで、圧力はチャンバーの内部圧力をいう。第2のエッチング工程は、8.0Pa以下で実施する。8.0Pa以下の圧力下で実施することでフォトレジストマスク、有機膜層の横方向のエッチングを抑制することができ、結果としてフォトレジストマスクと有機膜層のパターン幅変換差を最小限に抑制、且つ側壁堆積物生成のコントロールをすることができる。第2のエッチング工程における圧力の下限値としては0.8Pa以上であることが好ましい。本発明において、第2のエッチング工程が0.8~6.0Paの圧力下で行われることが更に好ましい。第1のエッチング工程でのエッチング量と、第2のエッチング工程でのエッチング量との比率は、第1のエッチング工程でのエッチング処理による矩形性を損なわないように決定することが好ましい。なお、全エッチング量第1のエッチング工程でのエッチング量と第2のエッチング工程でのエッチング量との総和中における後者の比率は、0より大きく50以下である範囲が好ましく、10~20がより好ましい。エッチング量とは、被エッチング膜のエッチングにより消失した分の膜厚のことをいう。ドライエッチングは、下記手法により事前にエッチング条件を求めて行なうことが好ましい。a第1のドライエッチング工程におけるエッチングレートnm/minと、第2のドライエッチング工程におけるエッチングレートnm/minとをそれぞれ算出する。b第1のドライエッチング工程で所望の厚さをエッチングする時間と、第2のドライエッチング工程で所望の厚さをエッチングする時間とをそれぞれ算出する。c前記bで算出したエッチング時間に従って第1のドライエッチング工程を実施する。d前記bで算出したエッチング時間に従って第2のドライエッチング工程を実施する。あるいはエンドポイント検出でエッチング時間を決定し、決定したエッチング時間に従って第2のドライエッチング工程を実施してもよい。e前記c、dの合計時間に対してオーバーエッチング時間を算出し、オーバーエッチングを実施する。また、前記第2のエッチング工程の後、オーバーエッチング工程を含むことが好ましい。オーバーエッチング工程は、オーバーエッチング比率を設定して行なうことが好ましい。ただし基板露出を検出することができるエンドポイントディテクターにて基板露出を検出したのち、オーバーエッチングを実施することも可能である。オーバーエッチング比率は任意に設定できるが、フォトレジストマスクのエッチング耐性と被エッチングパターンの矩形性維持の観点から、エッチング工程におけるエッチング処理時間の30以下であることが好ましく、5~25であることがより好ましく、10~15であることが特に好ましい。また、オーバーエッチングは基板露出を検出することができるEPDエンドポイントディテクターを用いて実施してもよい。第2のエッチング中にEPDで基板露出を検出した後、更にエッチングを進行させて、予め設定したオーバーエッチング比率でエッチングを実施することでオーバーエッチングとすることができる。本発明によれば、具体的には、フォトレジストマスクにおけるパターン幅と、前記第1及び第2のドライエッチング工程後の有機膜層のパターン幅との差パターン幅変換差を0.2μm未満とすることができる。また、基板ダメージ基板の表面からドライエッチングされる量を基板の厚み方向に対し0.05μm以下とすることができる。-フォトレジストマスク除去工程-本発明のカラーフィルタの製造方法は、残存する前記フォトレジストマスクを溶解除去により剥離する工程を更に有することが好ましい。図4に示すように、フォトレジストマスク除去工程では、エッチング後に残存するフォトレジストマスクすなわちエッチングマスクを除去する。フォトレジストマスクの除去は、フォトレジストマスク上に剥離液又は溶剤を付与して、フォトレジストマスクを除去可能な状態にする工程と、フォトレジストマスクを洗浄水を用いて除去する工程とを含むことが好ましい。フォトレジストマスク上に剥離液又は溶剤を付与し、フォトレジストマスクを除去可能な状態にする工程としては、例えば、剥離液又は溶剤を少なくともフォトレジストマスク上に付与し、所定の時間停滞させてパドル現像する工程を挙げることができる。剥離液又は溶剤を停滞させる時間としては、特に制限はないが、数十秒から数分であることが好ましい。有機溶媒として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA、プロピレングリコールモノメチルエーテルPGME、シクロヘキサノン、3-エトキシプロピオン酸エチルEEP、酢酸ブチル、イソプロパノールIPA、アセトンなどから選ばれる1種もしくは、1種以上の混合液を使用することができる。有機溶媒はこれらに限定されるものではなく、半導体製造工場で運用されている公知の有機溶媒を使用することも可能である。剥離液として、一般には有機溶剤を含有するが、無機溶媒を更に含有してもよい。有機溶剤としては、例えば、1炭化水素系化合物、2ハロゲン化炭化水素系化合物、3アルコール系化合物、4エーテル又はアセタール系化合物、5ケトン又はアルデヒド系化合物、6エステル系化合物、7多価アルコール系化合物、8カルボン酸又はその酸無水物系化合物、9フェノール系化合物、10含窒素化合物、11含硫黄化合物、12含フッ素化合物が挙げられる。剥離液としては、含窒素化合物を含有することが好ましく、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物とを含むことがより好ましい。非環状含窒素化合物としては、水酸基を有する非環状含窒素化合物であることが好ましい。具体的には、例えば、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N-エチルエタノールアミン、N,N-ジブチルエタノールアミン、N-ブチルエタノールアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられ、好ましくはモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンであり、より好ましくはモノエタノールアミンである。また、環状含窒素化合物としては、イソキノリン、イミダゾール、N-エチルモルホリン、ε-カプロラクタム、キノリン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、α-ピコリン、β-ピコリン、γ-ピコリン、2-ピペコリン、3-ピペコリン、4-ピペコリン、ピペラジン、ピペリジン、ピラジン、ピリジン、ピロリジン、N-メチル-2-ピロリドン、N-フェニルモルホリン、2,4-ルチジン、2,6-ルチジンなどが挙げられる。更に本発明では、フォトレジストマスク剥離工程の後、有機膜層に吸収もしくは吸着された剥離液、有機溶媒を揮発させる工程を含むことが好ましい。揮発させる工程としては熱処理や脱揮処理を適用することができるが、好ましくはホットプレートやオーブン等での熱処理による脱水ベークを運用することが好ましい。本発明のカラーフィルタの製造方法においては、前記第1の有機層形成工程及び第1のパターン形成工程の後に、さらに、第2層目以降の着色層を形成してカラーフィルタアレイを構成することができる。そのような1つの態様として、本発明のカラーフィルタの製造方法は、前記第1及び第2のドライエッチング工程を行うことにより前記有機膜層にパターンを形成する工程により形成されたパターンが第1の着色パターンであり、前記第1の着色パターンを形成した後、イ前記基板の第1の着色パターン形成面側の凹部を埋めるように第nn≧2の着色層を形成することによって前記凹部を埋めた部分に第nの着色パターンを形成する工程ロ形成された前記第nの着色層及び前記第1の着色パターンをドライエッチング処理して、第n1n≧2の着色パターンを形成するための凹凸パターンを形成する第n1のパターン形成工程、及びハ前記基板の前記凹凸パターン形成面側の凹部を埋めるように第n1の着色層を形成することによって前記凹部を埋めた部分に第n1の着色パターンを形成する工程前記イ、ロ及びハ工程のそれぞれ少なくとも1工程と、前記基板の前記第1の着色パターン形成面側に形成されたn層n≧2の着色層の着色パターン形成に寄与しない部分前記各凹部を埋めた部分は各着色パターンを形成し着色パターン形成に寄与する部分ということができる。をフォトリソグラフィー又は平坦化処理により除去する工程とを更に有し、n1色の着色パターンからなるカラーフィルタを形成することが好ましい。ここで、平坦化処理としては、製造工程の簡略化や製造コストの観点から、全面をドライエッチングするエッチバック処理、又は全面を化学的機械的に研磨する化学的機械的研磨ChemicalMechanicalPolishing;CMP処理等の研磨処理などが挙げられる。前記第n1n≧2の着色パターンを形成するための凹凸パターンを形成する第n1のパターン形成工程ロのドライエッチング処理についても、本発明に係る前記第1及び第2のドライエッチング工程により行われることが好ましい。前記イ、ロ及びハ工程がそれぞれ1工程~3工程行われることすなわち、nが2~4であることが好ましく、前記イ、ロ及びハ工程がそれぞれ1又は2工程行われることすなわち、nが2又は3であることがより好ましく、前記イ、ロ及びハ工程がそれぞれ1工程行われることすなわち、nが2であることが更に好ましい。<基板>本発明における基板としては、特に制限はないが、例えば液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板、酸化膜、窒化シリコン等が挙げられる。また、これら基板と有機膜層の間には本発明の効果を損なわない限り中間層など他の層を設けても良い。<有機膜層>本発明における有機膜層は、本発明におけるカラーフィルタの画素の少なくとも1種を構成することができる。本発明における有機膜層は、着色剤を含有する硬化性組成物によって形成されることが好ましい。前記硬化性組成物としては、光硬化性組成物及び非感光性の熱硬化性組成物を挙げることができる。本発明における有機膜層は、分光特性の観点から、非感光性の熱硬化性組成物を用いて形成されることが好ましい。<硬化性組成物>着色剤含有熱硬化性組成物本発明においては、非感光性の熱硬化性組成物を用いて着色層を形成することができる。本発明における非感光性の着色剤含有熱硬化性組成物は、着色剤と、熱硬化性化合物とを含有することが好ましく、全固形分中の前記着色剤の含有量が50質量以上100質量未満であることが好ましい。-着色剤-本発明に用いることができる着色剤は、特に限定されず、従来公知の種々の染料や顔料を1種又は2種以上混合して用いることができる。本発明に用いることができる顔料としては、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を挙げることができる。また、無機顔料であれ有機顔料であれ、高透過率であることが好ましいことを考慮すると、平均粒子径がなるべく小さい顔料の使用が好ましく、ハンドリング性をも考慮すると、上記顔料の平均粒子径は、0.01μm~0.1μmが好ましく、0.01μm~0.05μmがより好ましい。本願発明において好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。C.I.ピグメントイエロー11,24,108,109,110,138,139,150,151,154,167,180,185;C.I.ピグメントオレンジ36,71;C.I.ピグメントレッド122,150,171,175,177,209,224,242,254,255,264;C.I.ピグメントバイオレット19,23,32;C.I.ピグメントブルー15:1,15:3,15:6,16,22,60,66;C.I.ピグメントグリーン36,7,58;本発明において、着色剤が染料である場合には、組成物中に均一に溶解して非感光性の熱硬化性組成物を得ることができる。本発明における組成物を構成する着色剤として使用できる染料は、特に制限はなく、従来カラーフィルタ用として公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサテン系、フタロシアニン系、ペンゾピラン系、インジゴ系等の染料が使用できる。本発明における硬化性組成物の全固形分中の着色剤含有率は特に限定されるものではないが、好ましくは50質量以上100質量未満であり、55質量以上90質量以下がより好ましい。50質量以上とすることでカラーフィルタとして適度な色度を得ることができる。また、100質量未満とすることで硬化を充分に進めることができ、膜としての強度低下を抑制することができる。-熱硬化性化合物-本発明に使用可能な熱硬化性化合物としては、加熱により膜硬化を行えるものであれば特に限定はなく、例えば、熱硬化性官能基を有する化合物を用いることができる。前記熱硬化性化合物としては、例えば、エポキシ基、メチロール基、アルコキシメチル基およびアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも1つの基を有するものが好ましい。更に好ましい熱硬化性化合物としては、aエポキシ化合物、bメチロール基、アルコキシメチル基およびアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換された、メラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物またはウレア化合物、cメチロール基、アルコキシメチル基およびアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換された、フェノール化合物、ナフトール化合物またはヒドロキシアントラセン化合物、が挙げられる。中でも、前記熱硬化性化合物としては、多官能エポキシ化合物が特に好ましい。硬化性組成物中における前記熱硬化性化合物の総含有量としては、素材により異なるが、該硬化性組成物の全固形分質量に対して、0.1~50質量が好ましく、0.2~40質量がより好ましく、1~35質量が特に好ましい。-各種添加物-本発明における硬化性組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、各種添加物、例えば、バインダー、硬化剤、硬化触媒、溶剤、充填剤、前記以外の高分子化合物、重合性化合物、重合開始剤、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、分散剤、等を配合することができる。~バインダー~前記バインダーは、顔料分散液調製時に添加する場合が多く、アルカリ可溶性を必要とせず、有機溶剤に可溶で分散安定性と硬化性を保つ性能あればよい。前記バインダーとしては、線状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶であるものが好ましい。このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば、特開昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特開昭59-53836号、特開昭59-71048号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が挙げられ、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体が有用である。これら各種バインダーの中でも、耐熱性の観点からは、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点からは、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。前記アクリル系樹脂としては、ベンジルメタアクリレート、メタアクリル酸、ヒドロキシエチルメタアクリレート、メタアクリルアミド等から選ばれるモノマーからなる共重合体、例えばベンジルメタアクリレート/メタアクリル酸、ベンジルメタアクリレート/ベンジルメタアクリルアミドのような各共重合体、KSレジスト-106大阪有機化学工業株製、サイクロマーPシリーズダイセル化学工業株製等が好ましい。これらのバインダー中に前記着色剤を高濃度に分散させることで、下層等との密着性を付与でき、これらはスピンコート塗布面状にも寄与している。~硬化剤~本発明において、熱硬化性化合物として、エポキシ樹脂を使用する場合、硬化剤を添加することが好ましい。エポキシ樹脂の硬化剤は種類が非常に多く、性質、樹脂と硬化剤の混合物との可使時間、粘度、硬化温度、硬化時間、発熱などが使用する硬化剤の種類によって非常に異なるため、硬化剤の使用目的、使用条件、作業条件などによって適当な硬化剤を選ばねばならない。前記硬化剤に関しては垣内弘編エポキシ樹脂昇晃堂第5章に詳しく解説されている。前記硬化剤の例を挙げると以下のようになる。触媒的に作用するものとしては、第三アミン類、三フッ化ホウ素-アミンコンプレックス、エポキシ樹脂の官能基と化学量論的に反応するものとして、ポリアミン、酸無水物等;また、常温硬化のものとして、ジエチレントリアミン、ポリアミド樹脂、中温硬化のものの例としてジエチルアミノプロピルアミン、トリスジメチルアミノメチルフェノール;高温硬化の例として、無水フタル酸、メタフェニレンジアミン等がある。また化学構造別に見るとアミン類では、脂肪族ポリアミンとしてはジエチレントリアミン;芳香族ポリアミンとしてはメタフェニレンジアミン;第三アミンとしてはトリスジメチルアミノメチルフェノール;酸無水物としては無水フタル酸、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、三フッ化ホウ素-モノエチルアミンコンプレックス;合成樹脂初期縮合物としてはフェノール樹脂、その他ジシアンジアミド等が挙げられる。これら硬化剤は、加熱によりエポキシ基と反応し、重合することによって架橋密度が上がり硬化するものである。薄膜化のためには、バインダー、硬化剤とも極力少量の方が好ましく、特に硬化剤に関しては熱硬化性化合物に対して35質量以下、好ましくは30質量以下、さらに好ましくは25質量以下とすることが好ましい。~硬化触媒~本発明において高い有機剤濃度を実現するためには、前記硬化剤との反応による硬化の他、主としてエポキシ基同士の反応による硬化が有効である。このため、硬化剤は用いず、硬化触媒を使用することもできる。前記硬化触媒の添加量としてはエポキシ当量が150~200程度のエポキシ樹脂に対して、質量基準で1/10~1/1000程度、好ましくは1/20~1/500程度さらに好ましくは1/30~1/250程度のわずかな量で硬化させることが可能である。~溶剤~本発明における硬化性組成物は各種溶剤に溶解された溶液として用いることができる。本発明における硬化性組成物に用いられるそれぞれの溶剤は、各成分の溶解性や硬化性組成物の塗布性を満足すれば基本的に特に限定されない。~分散剤~また、前記分散剤は顔料の分散性を向上させるために添加することができる。前記分散剤としては、公知のものを適宜選定して用いることができ、例えば、カチオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、高分子分散剤等が挙げられる。これらの分散剤としては、多くの種類の化合物が用いられるが、例えば、フタロシアニン誘導体市販品EFKA-745エフカ社製、ソルスパース5000日本ルーブリゾール社製;オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業株製、メタアクリル酸系共重合体ポリフローNo75、No90、No95共栄社化学株製、W001裕商株製等のカチオン系界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、パイオニンD-6315竹本油脂株等のノニオン系界面活性剤;W004、W005、W017裕商株製等のアニオン系界面活性剤;メガファックF781DIC社製等のフッ素系界面活性剤;BYK-2001BYK社製、EFKA-46、EFKA-47、EFKA-47EA、EFKAポリマー100、EFKAポリマー400、EFKAポリマー401、EFKAポリマー450以上森下産業株製、ディスパースエイド6、ディスパースエイド8、ディスパースエイド15、ディスパースエイド9100サンノプコ株製等の高分子分散剤;ソルスパース3000、5000、9000、12000、13240、13940、17000、20000、24000、26000、28000などの各種ソルスパース分散剤日本ルーブリゾール社製;アデカプルロニックL31、F38、L42、L44、L61、L64、F68、L72、P95、F77、P84、F87、P94、L101、P103、F108、L121、P-123旭電化株製およびイソネットS-20三洋化成株製が挙げられる。前記分散剤は、単独で用いてもよくまた2種以上組み合わせて用いてもよい。前記分散剤の本発明における着色熱硬化性組成物中の添加量は、通常顔料100質量部に対して0.1~50質量部程度が好ましい。~重合性化合物~本発明の硬化性組成物は、重合性化合物の少なくとも一種を含有することによって好適に構成することができる。重合性化合物は、硬化性組成物をネガ型に構成する場合に主として含まれる。上記重合性化合物として、具体的には、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られているものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの多量体などの化学的形態のいずれであってもよい。本発明における重合性化合物は一種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。より具体的には、モノマー及びそのプレポリマーの例としては、不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などやそのエステル類、アミド類、並びにこれらの多量体が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、及び不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類、並びにこれらの多量体である。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物や、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更に、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等のビニルベンゼン誘導体、ビニルエーテル、アリルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらの具体的な化合物としては、特開2009-288705号公報の段落番号0095~段落番号0108に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。また、前記重合性化合物としては、重合性モノマーとして、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で100°C以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物も好ましい。その例としては、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ヘキサンジオールメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリロイルオキシプロピルエーテル、トリアクリロイロキシエチルイソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後メタアクリレート化したもの、特公昭48-41708号、特公昭50-6034号、特開昭51-37193号各公報に記載されているようなウレタンメタアクリレート類、特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とメタアクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレート及びこれらの混合物を挙げることができる。多官能カルボン酸にグリシジルメタアクリレート等の環状エーテル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ得られる多官能メタアクリレートなども挙げることができる。また、その他の好ましい重合性化合物として、特開2010-160418号公報、特開2010-129825号公報、特許第4364216号公報等に記載される、フルオレン環を有し、エチレン性重合性基を2官能以上有する化合物、カルド樹脂も使用することが可能である。また、常圧下で100°C以上の沸点を有し、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和基を持つ化合物としては、特開2008-292970号公報の段落番号[0254]~[0257]に記載の化合物も好適である。上記のほか、下記一般式MO-1~MO-5で表される、ラジカル重合性モノマーも好適に用いることができる。なお、式中、Tがオキシアルキレン基の場合には、炭素原子側の末端がRに結合する。前記一般式において、nは0~14であり、mは1~8である。一分子内に複数存在するR、T、は、各々同一であっても、異なっていてもよい。上記一般式MO-1~MO-5で表されるラジカル重合性モノマーの各々において、複数のRの内の少なくとも1つは、-OC=OCH=CH2、又は、-OC=OCCH3=CH2で表される基を表す。上記一般式MO-1~MO-5で表される、ラジカル重合性モノマーの具体例としては、特開2007-269779号公報の段落番号0248~段落番号0251に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。また、特開平10-62986号公報において一般式1及び2としてその具体例と共に記載の、前記多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後にメタアクリレート化した化合物も、重合性化合物として用いることができる。中でも、重合性化合物としては、RP1040日本化薬株式会社製、ジペンタエリスリトールトリアクリレート市販品としてはKAYARADD-330;日本化薬株式会社製、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート市販品としてはKAYARADD-320;日本化薬株式会社製ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート市販品としてはKAYARADD-310;日本化薬株式会社製、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート市販品としてはKAYARADDPHA;日本化薬株式会社製、及びこれらのメタアクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。重合性化合物としては、多官能モノマーであって、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していても良い。従って、エチレン性化合物が、上記のように混合物である場合のように未反応のカルボキシル基を有するものであれば、これをそのまま利用することができるが、必要において、上述のエチレン性化合物のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を導入しても良い。この場合、使用される非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸が挙げられる。本発明において、酸価を有するモノマーとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであり、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び/又はジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、M-510、M-520などが挙げられる。これらのモノマーは1種を単独で用いても良いが、製造上、単一の化合物を用いることは難しいことから、2種以上を混合して用いても良い。また、必要に応じてモノマーとして酸基を有しない多官能モノマーと酸基を有する多官能モノマーを併用しても良い。酸基を有する多官能モノマーの好ましい酸価としては、0.1~40mg-KOH/gであり、特に好ましくは5~30mg-KOH/gである。多官能モノマーの酸価が低すぎると現像溶解特性が落ち、高すぎると製造や取扱いが困難になり光重合性能が落ち、画素の表面平滑性等の硬化性が劣るものとなる。従って、異なる酸基の多官能モノマーを2種以上併用する場合、或いは酸基を有しない多官能モノマーを併用する場合、全体の多官能モノマーとしての酸基が上記範囲に入るように調整することが必須である。また、重合性モノマーとして、カプロラクトン構造を有する多官能性単量体を含有することが好ましい。カプロラクトン構造を有する多官能性単量体としては、その分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、メタアクリル酸およびε-カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε-カプロラクトン変性多官能メタアクリレートを挙げることができる。なかでも下記式1で表されるカプロラクトン構造を有する多官能性単量体が好ましい。式中、6個のRは全てが下記式2で表される基であるか、または6個のRのうち1~5個が下記式2で表される基であり、残余が下記式3で表される基である。式中、R1は水素原子またはメチル基を示し、mは1または2の数を示し、は結合手であることを示す。式中、R1は水素原子またはメチル基を示し、は結合手であることを示す。このようなカプロラクトン構造を有する多官能性単量体は、例えば、日本化薬株からKAYARADDPCAシリーズとして市販されており、DPCA-20上記式1~3においてm=1、式2で表される基の数=2、R1が全て水素原子である化合物、DPCA-30同式、m=1、式2で表される基の数=3、R1が全て水素原子である化合物、DPCA-60同式、m=1、式2で表される基の数=6、R1が全て水素原子である化合物、DPCA-120同式においてm=2、式2で表される基の数=6、R1が全て水素原子である化合物等を挙げることができる。本発明において、カプロラクトン構造を有する多官能性単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。また、本発明における多官能モノマーとしては、下記一般式i又はiiで表される化合物の群から選択される少なくとも1種であることも好ましい。前記一般式i及びii中、Eは、各々独立に、-CH2yCH2O-、又は-CH2yCHCH3O-を表し、yは、各々独立に0~10の整数を表し、Xは、各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、水素原子、又はカルボキシル基を表す。前記一般式i中、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は3個又は4個であり、mは各々独立に0~10の整数を表し、各mの合計は0~40の整数である。但し、各mの合計が0の場合、Xのうちいずれか1つはカルボキシル基である。前記一般式ii中、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は5個又は6個であり、nは各々独立に0~10の整数を表し、各nの合計は0~60の整数である。但し、各nの合計が0の場合、Xのうちいずれか1つはカルボキシル基である。前記一般式i中、mは、0~6の整数が好ましく、0~4の整数がより好ましい。また、各mの合計は、2~40の整数が好ましく、2~16の整数がより好ましく、4~8の整数が特に好ましい。前記一般式ii中、nは、0~6の整数が好ましく、0~4の整数がより好ましい。また、各nの合計は、3~60の整数が好ましく、3~24の整数がより好ましく、6~12の整数が特に好ましい。また、一般式i又は一般式ii中の-CH2yCH2O-又は-CH2yCHCH3O-は、酸素原子側の末端がXに結合する形態が好ましい。前記一般式i又はiiで表される化合物は1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。特に、一般式iiにおいて、6個のX全てがアクリロイル基である形態が好ましい。また、一般式i又はiiで表される化合物の特定モノマー中における全含有量としては、20質量以上が好ましく、50質量以上がより好ましい。前記一般式i又はiiで表される化合物は、従来公知の工程である、ペンタエリスリト-ル又はジペンタエリスリト-ルにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを開環付加反応により開環骨格を結合する工程と、開環骨格の末端水酸基に、例えばメタアクリロイルクロライドを反応させてメタアクリロイル基を導入する工程と、から合成することができる。各工程は良く知られた工程であり、当業者は容易に一般式i又はiiで表される化合物を合成することができる。前記一般式i、iiで表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び/又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。具体的には、下記式a~fで表される化合物以下、例示化合物a~fともいう。が挙げられ、中でも、例示化合物a、b、e、fが好ましい。一般式i、iiで表される特定モノマーの市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ鎖を4個有する4官能アクリレートであるSR-494、日本化薬株式会社製のペンチレンオキシ鎖を6個有する6官能アクリレートであるDPCA-60、イソブチレンオキシ鎖を3個有する3官能アクリレートであるTPA-330などが挙げられる。また、重合性化合物としては、特公昭48-41708号、特開昭51-37193号、特公平2-32293号、特公平2-16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号、特公昭56-17654号、特公昭62-39417号、特公昭62-39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、重合性化合物として、特開昭63-277653号、特開昭63-260909号、特開平1-105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、非常に感光スピードに優れた硬化性組成物を得ることができる。重合性化合物の市販品としては、ウレタンオリゴマーUAS-10、UAB-140山陽国策パルプ社製、UA-72000.49gモノマー1日本化薬製DPHA2.74gモノマー2日本化薬製RP10400.68g現像樹脂含有溶液ダイセル化学製サイクロマーP50質量3.42g界面活性剤ノニオン系界面活性剤パイオニンD-6315竹本油脂株0.18g溶媒PGMEA/EEP12.1g/16.5g第3層用BLUE組成物顔料分散液山陽色素製、顔料分散液51.2gBLUE顔料PB15:6/PV23=100/25質量比/分散剤/分散樹脂BYK社製BYK-2001/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体70/30モル比、Mw:30000分散剤/分散樹脂比率質量比=4/21固形分:19.5質量、顔料分の質量:14.1質量光感光性開始剤1.12gモノマー1東亜合成製アロニックスM-3053.51gモノマー2日本化薬製RP10401.17g現像樹脂含有溶液1ダイセル化学製サイクロマーP50質量1.14g現像樹脂含有溶液2メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、40質量、溶媒:PGMEA6.16g界面活性剤ノニオン系界面活性剤パイオニンD-6315竹本油脂株0.19g溶媒PGMEA/EEP14.29g/17.0g-第2層RED膜層形成-図5に示すように、GREENパターン11が形成された基板上に、第2の着色層となるRED組成物を回転塗布にて塗布した。膜厚はGREENパターンを有するSi基板上、REDパターン12を形成する領域での膜厚でプリベーク後0.6μmとした。詳細は下記に示す条件にて行った。-RED膜層形成-塗布、現像、ポストベーク装置:クリーントラックACT8東京エレクトロン社製露光装置:FPA3000i5キヤノン社製膜厚0.6μmプリベーク後露光300mJパターンサイズ1.0μm現像CD-2060富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製60秒パドル現像純水リンス30秒及びスピンドライ20秒/1000rpmポストベーク220°C×5分パターニング後を観察したところ、REDパターン12を形成すべき領域に1.0μmのREDパターン12が形成でき、剥がれは確認されなかった。また、膜厚はGREENパターン11と同じ0.5μmで形成できていた。-第3層BLUE膜層形成-図6に示すように、GREENパターン11が形成された基板上に、第3の着色層となるBLUE組成物を回転塗布にて塗布した。膜厚はGREEN11パターンを有するSi基板上、BLUEパターン13を形成する領域での膜厚でプリベーク後0.6μmとした。詳細は下記に示す条件にて行った。-BLUE膜層形成-塗布、現像、ポストベーク装置:クリーントラックACT8東京エレクトロン社製露光装置:FPA3000i5キャノン社製膜厚0.6μmプリベーク後露光450mJパターンサイズ1.0μm現像CD-2060富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製60秒パドル現像純水リンス30秒及びスピンドライ20秒/1000rpmポストベーク220°C×5分パターニング後を観察したところ、BLUEパターン13を形成すべき領域に1.0μmのBLUEパターン13が形成でき、剥がれは確認されなかった。また、膜厚はGREENパターン11と同じ0.5μmで形成できていた。本実施の形態では、RGB3色のBAYER配列のカラーフィルタアレイに限定されるものではなく、例えばRGB新規GREENなど、4色以上のカラーフィルタにも適用することができる。また本発明におけるドライエッチング条件は、第1のカラーフィルタの加工の範囲にとらわれるものではなく、例えば特開2009-31723号公報に於いての第3の着色パターンを形成する場合のエッチング加工にも適用することができる。本発明のカラーフィルタの製造方法及びそれにより得られるカラーフィルタは、液晶表示素子や固体撮像素子に適用することが可能であり、特に100万画素を超えるような高解像度のCCD素子やCMOS等に好適である。本発明のカラーフィルタの製造方法により得られるカラーフィルタは、例えば、CMOSを構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置されるカラーフィルタとして用いることが可能となる。また、上記実施例は、GREEN×2、RED×1、BLUE×1のBayer配列のカラーフィルタアレイについて詳細に説明したが、これらに限定されるものではなく、CYAN、MAGENTA、YELLOW、GREENの4色フィルタ、また透明ピクセルや半透過ピクセルを活用した新しい配列のカラーフィルタにも活用することができ、本発明の効果を同様に得ることができる。"