"[A]A1不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物と、A2エポキシ基含有不飽和化合物とを共重合してなるアルカリ可溶性樹脂、[B]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤、並びに[D]下記式1で表される化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。式1中、Aは、窒素原子又はリン原子である。R1~R4は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~18のアリール基、又は炭素数7~30のアラルキル基である。X-は、1価の陰イオンである。但し、上記アルキル基、アリール基及びアラルキル基が有する水素原子の一部又は全部は、置換基で置換されていてもよい。層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜形成用である請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物。請求項2に記載の感放射線性樹脂組成物から形成される層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜。請求項3に記載の硬化膜と、この硬化膜上に積層され、液晶配向剤により形成される配向膜とを備えるカラーフィルタ。上記液晶配向剤が、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤、又は光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤である請求項4に記載のカラーフィルタ。1請求項2に記載の感放射線性樹脂組成物を基板に塗布し、塗膜を形成する工程、2上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び4上記現像された塗膜を焼成する工程を有する硬化膜の形成方法。上記工程4の焼成温度が200°C以下である請求項6に記載の硬化膜の形成方法。5上記工程4で焼成された塗膜上に液晶配向剤を塗布し、200°C以下の加熱により配向膜を形成する工程をさらに有するカラーフィルタの形成方法。本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は保存安定性と短時間での低温焼成とを両立し、かつ十分な解像度、放射線感度及び現像性を有する感放射線性樹脂組成物、密着性、耐光性、耐熱性、耐薬品性、透過率、平坦性、電圧保持率、及び寸法安定性に優れる硬化膜、この硬化膜の形成方法、並びに耐熱性、耐薬品性、電圧保持率等に優れるカラーフィルタを提供することである。上記課題を解決するためになされた発明は、[A]A1不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物以下、A1化合物とも称すると、A2エポキシ基含有不飽和化合物以下、A2化合物とも称するとを共重合してなるアルカリ可溶性樹脂以下、[A]アルカリ可溶性樹脂とも称する、[B]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物以下、[B]重合性化合物とも称する、[C]感放射線性重合開始剤、並びに[D]下記式1で表される化合物以下、[D]化合物とも称するを含有する感放射線性樹脂組成物である。式1中、Aは、窒素原子又はリン原子である。R1~R4は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~18のアリール基、又は炭素数7~30のアラルキル基である。X-は、1価の陰イオンである。但し、上記アルキル基、アリール基及びアラルキル基が有する水素原子の一部又は全部は、置換基で置換されていてもよい。当該感放射線性樹脂組成物は、[A]アルカリ可溶性樹脂、[B]重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤及び[D]化合物を含有する。感放射線性材料である当該感放射線性樹脂組成物は、感放射線性を利用した露光現像によって容易に微細かつ精巧なパターンを形成でき、かつ充分な解像度及び放射線感度を有する。また、当該感放射線性樹脂組成物は、[C]感放射線性重合開始剤を含有することで、低露光量の場合であっても耐熱性等の硬化膜の要求特性を向上できる。さらに、当該感放射線性樹脂組成物は、[D]化合物を含有することで効果的な硬化触媒として作用し、当該感放射線性樹脂組成物の保存安定性と低温焼成における硬化膜の硬化促進とを高いレベルで両立できる。当該感放射線性樹脂組成物は、層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜形成用であることが好ましく、また、本発明には層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜が好適に含まれる。当該感放射線性樹脂組成物から形成される層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜は、密着性、耐光性、耐熱性、耐薬品性、透過率、平坦性、電圧保持率及び寸法安定性に優れる。本発明のカラーフィルタは、当該硬化膜と、この硬化膜上に積層され、液晶配向剤により形成される配向膜とを備える。本発明のカラーフィルタは、耐熱性、耐薬品性、電圧保持率等に優れる。上記液晶配向剤は、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤、又は光配向性基を有さないポリイミドを含む液晶配向剤であることが好ましい。本発明の硬化膜の形成方法は、1当該感放射線性樹脂組成物を基板に塗布し、塗膜を形成する工程、2上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び4上記現像された塗膜を焼成する工程を有する。本発明の形成方法によると、密着性、耐光性、耐熱性、耐薬品性、透過率、平坦性、電圧保持率及び寸法安定性をバランス良く満足する硬化膜を形成できる。上記工程4の焼成温度としては、200°C以下が好ましい。当該感放射線性樹脂組成物は、上述のように硬化促進剤としての[D]化合物を含有するため、低温焼成を実現でき低温焼成が望まれるフレキシブルディスプレイ等に用いられる層間絶縁膜、保護膜、スペーサー等の硬化膜の形成材料として好適である。本発明のカラーフィルタの形成方法は、5上記工程4で焼成された塗膜上に液晶配向剤を塗布し、200°C以下の加熱により配向膜を形成する工程をさらに有する。当該形成方法が、上記工程5をさらに有することで、液晶配向用の配向膜を備えるカラーフィルタを形成することができる。なお、本明細書にいう焼成とは、層間絶縁膜、保護膜及びスペーサー等の硬化膜に要求される表面硬度が得られるまで加熱することを意味する。また、感放射線性樹脂組成物の放射線とは、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線、荷電粒子線等を含む概念である。以上説明したように、本発明の感放射線性樹脂組成物は、容易に微細かつ精巧なパターンを形成でき、保存安定性と短時間での低温焼成とを両立し、かつ十分な解像度、放射線感度及び現像性を有する。また、当該感放射線性樹脂組成物から形成される硬化膜は、その要求特性である密着性、耐光性、耐熱性、耐薬品性、透過率、平坦性、電圧保持率、寸法安定性等に優れる。従って、当該感放射線性樹脂組成物は、低温焼成が望まれるフレキシブルディスプレイ等に用いられる層間絶縁膜、保護膜、スペーサー等の硬化膜の形成材料として好適である。また、配向膜が形成された当該硬化膜を備えるカラーフィルタは、耐熱性、耐薬品性、電圧保持率等に優れる。<感放射線性樹脂組成物>本発明の感放射線性樹脂組成物は、[A]アルカリ可溶性樹脂、[B]重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤及び[D]化合物を含有する。また、当該感放射線性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限り任意成分を含有してもよい。以下、各成分を詳述する。<[A]アルカリ可溶性樹脂>[A]アルカリ可溶性樹脂は、溶媒中で重合開始剤の存在下、A1化合物及びA2化合物をラジカル重合することによって合成できる。また、[A]アルカリ可溶性樹脂の製造においては、A1化合物及びA2化合物と共に、A3化合物として上記A1及びA2以外の不飽和化合物をラジカル共重合してもよい。以下、各化合物を詳述する。なお、各化合物は2種以上を併用してもよい。[A1化合物]A1化合物としては、例えば不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸の無水物、多価カルボン酸のモノ[メタアクリロイルオキシアルキル]エステル、両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノメタアクリレート、カルボキシル基を有する不飽和多環式化合物及びその無水物等が挙げられる。不飽和モノカルボン酸としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等が挙げられる。不飽和ジカルボン酸としては、例えばマレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等が挙げられる。不飽和ジカルボン酸の無水物としては、例えば上記ジカルボン酸として例示した化合物の無水物等が挙げられる。多価カルボン酸のモノ[メタアクリロイルオキシアルキル]エステルとしては、例えばコハク酸モノ2-メタアクリロイルオキシエチル、フタル酸モノ2-メタアクリロイルオキシエチル等が挙げられる。両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノメタアクリレートとしては、例えばω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有する不飽和多環式化合物及びその無水物としては、例えば5-カルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-6-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-6-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン無水物等が挙げられる。これらのうち、モノカルボン酸、ジカルボン酸の無水物が好ましく、メタアクリル酸、無水マレイン酸が、共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性及び入手の容易性からより好ましい。[A]アルカリ可溶性樹脂におけるA1化合物に由来する構造単位の含有割合としては、全構造単位に対して、好ましくは5モル~40モル、より好ましくは5モル~25モルである。A1化合物に由来する構造単位の含有割合を5モル~40モルとすることで、[A]アルカリ可溶性樹脂のアルカリ水溶液に対する溶解性を最適化すると共に放射線性感度、現像性及び解像度に優れた感放射線性樹脂組成物が得られる。[A2化合物]A2化合物はラジカル重合性を有するエポキシ基含有不飽和化合物である。エポキシ基としては、オキシラニル基1,2-エポキシ構造、オキセタニル基1,3-エポキシ構造が挙げられる。オキシラニル基を有する不飽和化合物としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロへキシルメタクリレート等が挙げられる。オキセタニル基を有する不飽和化合物としては、例えば3-アクリロイルオキシメチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-メチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-フェニルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-フェニルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン等のアクリル酸エステル;3-メタクリロイルオキシメチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-メチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-フェニルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-フェニルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン等のメタクリル酸エステル等が挙げられる。これらのうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメタクリレートが共重合反応性及び感放射線性樹脂組成物の寸法安定性の向上の観点から好ましい。[A]アルカリ可溶性樹脂におけるA2化合物に由来する構造単位の含有割合としては、全構造単位に対して、好ましくは10モル~80モル、より好ましくは15モル~60モルである。A2化合物に由来する構造単位の含有割合を10モル~80モルとすることにで、優れた耐薬品性を有する硬化膜を形成できる。[A3化合物]A3化合物は、A1化合物及びA2化合物以外の化合物であって、ラジカル重合性を有する不飽和化合物であれば特に制限されるものではない。A3化合物としては、例えばメタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、水酸基を有するメタクリル酸エステル、アクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物、マレイミド化合物、不飽和芳香族化合物、共役ジエン、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、下記式2で表される骨格をもつ不飽和化合物、下記式3で表されるフェノール性水酸基含有不飽和化合物、その他の不飽和化合物等が挙げられる。上記式2中、R5は、水素原子又はメチル基である。mは、1以上の整数である。上記式3中、R6は、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基である。R7~R11は、それぞれ独立して水素原子、ヒドロキシル基、又は炭素数1~4のアルキル基である。Yは、単結合、-COO-又は-CONH-である。pは、0~3の整数である。但し、R7~R11の少なくとも1つは、ヒドロキシル基である。上記メタクリル酸鎖状アルキルエステルとしては、例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、sec-ブチルメタクリレート、t-ブチルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、n-ラウリルメタクリレート、トリデシルメタクリレート、n-ステアリルメタクリレート等が挙げられる。メタクリル酸環状アルキルエステルとしては、例えばシクロヘキシルメタクリレート、2-メチルシクロヘキシルメタクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルメタクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート等が挙げられる。水酸基を有するメタクリル酸エステルとしては、例えばヒドロキシメチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、2,3-ジヒドロキシプロピルメタクリレート、2-メタクリロキシエチルグリコサイド、4-ヒドロキシフェニルメタクリレート等が挙げられる。アクリル酸環状アルキルエステルとしては、例えばシクロヘキシルアクリレート、2-メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート等が挙げられる。メタクリル酸アリールエステルとしては、例えばフェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等が挙げられる。アクリル酸アリールエステルとしては、例えばフェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等が挙げられる。不飽和ジカルボン酸ジエステルとしては、例えばマレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等が挙げられる。ビシクロ不飽和化合物としては、例えばビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジエトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-t-ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-フェノキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジt-ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジシクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-2’-ヒドロキシエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジ2’-ヒドロキシエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシ-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシ-5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシメチル-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン等が挙げられる。マレイミド化合物としては、例えばN-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-4-ヒドロキシフェニルマレイミド、N-4-ヒドロキシベンジルマレイミド、N-スクシンイミジル-3-マレイミドベンゾエート、N-スクシンイミジル-4-マレイミドブチレート、N-スクシンイミジル-6-マレイミドカプロエート、N-スクシンイミジル-3-マレイミドプロピオネート、N-9-アクリジニルマレイミド等が挙げられる。不飽和芳香族化合物としては、例えばスチレン、α-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、ビニルトルエン、p-メトキシスチレン等が挙げられる。共役ジエンとしては、例えば1,3-ブタジエン、イソプレン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン等が挙げられる。テトラヒドロフラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えばテトラヒドロフルフリルメタアクリレート、2-メタクリロイルオキシ-プロピオン酸テトラヒドロフルフリルエステル、3-メタアクリロイルオキシテトラヒドロフラン-2-オン等が挙げられる。フラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えば2-メチル-5-3-フリル-1-ペンテン-3-オン、フルフリルメタアクリレート、1-フラン-2-ブチル-3-エン-2-オン、1-フラン-2-ブチル-3-メトキシ-3-エン-2-オン、6-2-フリル-2-メチル-1-ヘキセン-3-オン、6-フラン-2-イル-ヘキシ-1-エン-3-オン、アクリル酸-2-フラン-2-イル-1-メチル-エチルエステル、6-2-フリル-6-メチル-1-ヘプテン-3-オン等が挙げられる。テトラヒドロピラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えばテトラヒドロピラン-2-イルメチルメタクリレート、2,6-ジメチル-8-テトラヒドロピラン-2-イルオキシ-オクト-1-エン-3-オン、2-メタクリル酸テトラヒドロピラン-2-イルエステル、1-テトラヒドロピラン-2-オキシ-ブチル-3-エン-2-オン等が挙げられる。ピラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えば4-1,4-ジオキサ-5-オキソ-6-ヘプテニル-6-メチル-2-ピラン、4-1,5-ジオキサ-6-オキソ-7-オクテニル-6-メチル-2-ピラン等が挙げられる。上記式2で表される骨格を含有する不飽和化合物としては、例えばポリエチレングリコールn=2~10モノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールn=2~10モノメタアクリレート等が挙げられる。上記式3で表されるフェノール性水酸基含有不飽和化合物としては、下記式4~8で表される化合物等が挙げられる。上記式4中、qは、1から3の整数である。R6~R11は、上記式3と同義である。上記式5中、R6~R11は、上記式3と同義である。上記式6中、rは、1から3の整数である。R6~R11は、上記式3と同義である。上記式7中、R6~R11は、上記式3と同義である。上記式8中、R6~R11は、上記式3と同義である。その他の不飽和化合物としては、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル等が挙げられる。これらのA3化合物のうち、メタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、マレイミド化合物、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、上記式2で表される骨格を有する不飽和化合物、上記式3で表されるフェノール性水酸基含有不飽和化合物、不飽和芳香族化合物、アクリル酸環状アルキルエステルが好ましく、スチレン、t-ブチルメタクリレート、n-ラウリルメタクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルメタクリレート、p-メトキシスチレン、2-メチルシクロヘキシルアクリレート、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、ポリエチレングリコールn=2~10モノメタアクリレート、3-メタアクリロイルオキシテトラヒドロフラン-2-オン、4-ヒドロキシベンジルメタアクリレート、4-ヒドロキシフェニルメタアクリレート、o-ヒドロキシスチレン、p-ヒドロキシスチレン、α-メチル-p-ヒドロキシスチレンが、共重合反応性及びアルカリ水溶液に対する溶解性の点からより好ましい。[A]アルカリ可溶性樹脂におけるA3化合物に由来する構造単位の含有割合としては、全構造単位に対して、好ましくは10モル~80モル、より好ましくは20モル~70モルである。A3化合物に由来する構造単位の含有割合を10モル~80モルとすることで、現像性及び形成される硬化物の耐薬品性に優れる感放射線性樹脂組成物が得られる。[A]アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量Mwとしては、2.0×103~1×105が好ましく、5.0×103~5.0×104がより好ましい。[A]アルカリ可溶性樹脂のMwを2.0×103~1.0×105とすることで、当該感放射線性樹脂組成物の放射線感度及び現像性を高めることができる。なお、本明細書における重合体のMw及び数平均分子量Mnは下記の条件によるゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにより測定した。装置:GPC-101昭和電工社カラム:GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803及びGPC-KF-804を結合移動相:テトラヒドロフランカラム温度:40°C流速:1.0mL/分試料濃度:1.0質量試料注入量:100μL検出器:示差屈折計標準物質:単分散ポリスチレン[A]アルカリ可溶性樹脂を合成するための重合反応に用いられる溶媒としては、例えばアルコール、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、ケトン、エステル等が挙げられる。アルコールとしては、例えばベンジルアルコール等;グリコールエーテルとしては、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等;エチレングリコールアルキルエーテルアセテートとしては例えばエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等;ジエチレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等;ジエチレングリコールジアルキルエーテルとしては、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等;ジプロピレングリコールジアルキルエーテルとしては、例えばジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルメチルエーテル等;プロピレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えばプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル等;プロピレングリコールアルキルエーテルアセテートとしては、例えばプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等;プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとしては、例えばプロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート等;ケトンとしては、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、メチルイソアミルケトン等;エステルとしては、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-エトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸ブチル、2-ブトキシプロピオン酸メチル、2-ブトキシプロピオン酸エチル、2-ブトキシプロピオン酸プロピル、2-ブトキシプロピオン酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸プロピル、3-エトキシプロピオン酸ブチル、3-プロポキシプロピオン酸メチル等が挙げられる。これらの溶媒のうち、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテートが好ましく、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがより好ましい。[A]アルカリ可溶性樹脂を合成するための重合反応に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できる。ラジカル重合開始剤としては、例えば2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、t-ブチルペルオキシピバレート、1,1’-ビス-t-ブチルペルオキシシクロヘキサン等の有機過酸化物及び過酸化水素が挙げられる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよい。[A]アルカリ可溶性樹脂を製造するための重合反応においては、分子量を調整するために、分子量調整剤を使用できる。分子量調整剤としては、例えばクロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類;n-ヘキシルメルカプタン、n-オクチルメルカプタン、n-ドデシルメルカプタン、t-ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類;ジメチルキサントゲンスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類;ターピノーレン、α-メチルスチレンダイマー等が挙げられる。<[B]重合性化合物>当該感放射線性樹脂組成物に含有される[B]重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物であれば特に限定されないが、例えばω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレート、エチレングリコールメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジメタアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-メタアクリロイロキシプロピルメタクリレート、2-2’-ビニロキシエトキシエチルメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリ2-メタアクリロイロキシエチルフォスフェート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート等の他、直鎖アルキレン基及び脂環式構造を有し、かつ2個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に1個以上の水酸基を有し、かつ3個~5個のメタアクリロイロキシ基を有する化合物とを反応させて得られるウレタンメタアクリレート化合物等が挙げられる。[B]重合性化合物の市販品としては、例えばアロニックスM-400、同M-402、同M-405、同M-450、同M-1310、同M-1600、同M-1960、同M-7100、同M-8030、同M-8060、同M-8100、同M-8530、同M-8560、同M-9050、アロニックスTO-1450、同TO-1382以上、東亞合成社;KAYARADDPHA、同DPCA-20、同DPCA-30、同DPCA-60、同DPCA-120、同MAX-3510以上、日本化薬社;ビスコート295、同300、同360、同GPT、同3PA、同400以上、大阪有機化学工業社;ウレタンアクリレート系化合物として、ニューフロンティアR-1150第一工業製薬社;KAYARADDPHA-40H、UX-5000以上、日本化薬社;UN-9000H根上工業社;アロニックスM-5300、同M-5600、同M-5700、M-210、同M-220、同M-240、同M-270、同M-6200、同M-305、同M-309、同M-310、同M-315以上、東亞合成社;KAYARADHDDA、KAYARADHX-220、同HX-620、同R-526、同R-167、同R-604、同R-684、同R-551、同R-712、UX-2201、UX-2301、UX-3204、UX-3301、UX-4101、UX-6101、UX-7101、UX-8101、UX-0937、MU-2100、MU-4001以上、日本化薬社;アートレジンUN-9000PEP、同UN-9200A、同UN-7600、同UN-333、同UN-1003、同UN-1255、同UN-6060PTM、同UN-6060P以上、根上工業社;SH-500Bビスコート260、同312、同335HP以上、大阪有機化学工業社等が挙げられる。[B]重合性化合物は、単独又は2種以上を混合して使用できる。当該感放射線性樹脂組成物における[B]重合性化合物の含有量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、20質量部~200質量部が好ましく、40質量部~160質量部がより好ましい。[B]重合性化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物は密着性に優れ、低露光量においても十分な硬度を有する硬化膜が得られる。<[C]感放射線性重合開始剤>当該感放射線性樹脂組成物に含有される[C]感放射線性重合開始剤は、放射線に感応して[B]重合性不飽和化合物の重合を開始しうる活性種を生じる成分である。このような[C]感放射線性重合開始剤としては、O-アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物等が挙げられる。なお、[C]感放射線性重合開始剤は2種以上を併用してもよい。O-アシルオキシム化合物としては、例えばエタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、1-9-エチル-6-ベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-オクタン-1-オンオキシム-O-アセテート、1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-エタン-1-オンオキシム-O-ベンゾエート、1-9-n-ブチル-6-2-エチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-エタン-1-オンオキシム-O-ベンゾエート、エタノン-1-[9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロフラニルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロピラニルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチル-5-テトラヒドロフラニルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-{2-メチル-4-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニルメトキシベンゾイル}-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム等が挙げられる。これらのうち、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-{2-メチル-4-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニルメトキシベンゾイル}-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシムが好ましい。アセトフェノン化合物としては、例えばα-アミノケトン化合物、α-ヒドロキシケトン化合物が挙げられる。α-アミノケトン化合物としては、例えば2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン等が挙げられる。α-ヒドロキシケトン化合物としては、例えば1-フェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-i-プロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられるこれらのアセトフェノン化合物のうちα-アミノケトン化合物が好ましく、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オンがより好ましい。ビイミダゾール化合物としては、例えば2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラキス4-エトキシカルボニルフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4,6-トリクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール等が挙げられる。これらのうち、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4,6-トリクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾールが好ましく2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾールがより好ましい。[C]感放射線性重合開始剤の市販品としては、例えば2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オンイルガキュア907、2-4-メチルベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オンイルガキュア379、1,2-オクタンジオン-1-[4-フェニルチオ-2-O-ベンゾイルオキシム]イルガキュアOXE01、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシムイルガキュアOXE02以上、チバスペシャルティーケミカルズ社等が挙げられる。当該感放射線性樹脂組成物における[C]感放射線性重合開始剤の含有量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、1質量部~40質量部が好ましく、5質量部~30質量部がより好ましい。[C]感放射線性重合開始剤の含有量を1質量部~40質量部とすることで、当該感放射線性樹脂組成物は、低露光量の場合でも高い硬度及び密着性を有する硬化膜を形成できる。<[D]化合物>当該感放射線性樹脂組成物が、[D]化合物を含有することで、[A]アルカリ可溶性樹脂が有するエポキシ基等への効果的な硬化触媒として作用し、当該感放射線性樹脂組成物の保存安定性と低温焼成における硬化膜の硬化促進とを高いレベルで両立できる。[D]化合物は、上記式1で表わされる化合物である。上記式1中、Aは、窒素原子又はリン原子である。R1~R4は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~18のアリール基、又は炭素数7~30のアラルキル基である。X-は、1価の陰イオンである。但し、上記アルキル基、アリール基及びアラルキル基が有する水素原子の一部又は全部は、置換基で置換されていてもよい。上記R1~R4で表される炭素数1~20のアルキル基としては、例えば直鎖状又は分岐状の、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ラウリル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。上記R1~R4で表される炭素数6~18のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。上記R1~R4で表される炭素数7~30のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。上記X-で表される1価の陰イオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、シアン化物イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、次亜塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、塩素酸イオン、過塩素酸イオン、過マンガン酸イオン、炭酸水素イオン、リン酸二水素イオン、硫化水素イオン、チオシアン酸イオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオン、テトラフルオロボレートイオン、テトラアリールボレートイオン、ヘキサフルオロアンチモネートイオン、ジシアナミドイオン等が挙げられる。Aが窒素原子である場合のアンモニウム塩としては、例えば塩化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ドデシルジメチルベンジルアンモニウム、塩化オクチルトリメチルアンモニウム、塩化デシルトリメチルアンモニウム、塩化ドデシルトリメチルアンモニウム、塩化テトラデシルトリメチルアンモニウム、塩化セチルトリメチルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ベンザルコニウム、臭化ベンザルコニウム、塩化ジデシルジメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム等が挙げられる。Aがリン原子である場合のホスホニウム塩としては、例えばテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラp-トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラp-エチルフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラp-メトキシフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラp-エトキシフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラp-tert-ブトキシフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラm-トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラm-メトキシフェニルボレート、トリp-トリルフェニルホスホニウムテトラp-トリルボレート、テトラp-トリルホスホニウムテトラp-トリルボレート、トリp-メトキシフェニルフェニルホスホニウムテトラp-トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、ブチルトリフェニルホスホニウムチオシアネート、メチルトリフェニルホスホニウムチオシアネート、p-トリルトリフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムジシアナミド、ブチルトリフェニルホスホニウムジシアナミド、メチルトリフェニルホスホニウムジシアナミド、p-トリルトリフェニルホスホニウムジシアナミド、ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p-クロロベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p-メチルベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p-メトキシベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、α-メチルベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナミルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、2-ヒドロキシ-5-ニトロベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、1-ナフチルメチルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、3-トリメチルシリル-4-トリメチルシロキシベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p-メトキシベンジルトリスp-クロロフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p-メトキシベンジルトリスp-メチルフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナミルトリスp-クロロフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p-メトキシベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、1-ピレニルメチル-トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、1-ピレニルメチル-ブチルジフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、9-アントラセニルメチル-トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、テトラブチルホスホニウムデカン塩、トリtert-ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、ジ-tert-ブチルメチルホスホニウムテトラフェニルボレート、p-トリルトリフェニルホスホニウムテトラp-トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフルオロボレート等が挙げられる。当該感放射線性樹脂組成物における[D]化合物の含有量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.1質量部~10質量部が好ましく、0.2質量部~5質量部がより好ましい。[D]化合物の含有量を0.1質量部~10質量部とすることで、当該感放組成物の保存安定性と硬化膜の硬化促進とをより高いレベルで両立できる。<任意成分>当該感放射線性樹脂組成物は、[A]アルカリ可溶性樹脂、[B]重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤及び[D]化合物に加え、本発明の効果を損なわない範囲で必要に応じて[E]1分子中に2以上のオキシラニル基を有する化合物以下、[E]化合物とも称する、密着助剤、界面活性剤、保存安定剤、耐熱性向上剤等の任意成分を含有できる。これらの各任意成分は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。以下、各成分を詳述する。[[E]1分子中に2以上のオキシラニル基を有する化合物][E]一分子中に2以上のオキシラニル基を有する化合物は、得られる硬化膜の硬度をさらに向上するために添加できる。[E]化合物としては、例えば1分子内に2以上の3,4-エポキシシクロヘキシル基を有する化合物、他の[E]化合物等が挙げられる。1分子内に2以上の3,4-エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-3,4-エポキシシクロヘキシル-5,5-スピロ-3,4-エポキシシクロヘキサン-メタ-ジオキサン、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアジペート、ビス3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチルアジペート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシル-3’,4’-エポキシ-6’-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス3,4-エポキシシクロヘキサン、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ3,4-エポキシシクロヘキシルメチルエーテル、エチレンビス3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。他の[E]化合物としては、例えばビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル;1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル;フェノールノボラック型エポキシ樹脂;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂;ポリフェノール型エポキシ樹脂;環状脂肪族エポキシ樹脂;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル;高級脂肪酸のグリシジルエステル;エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。[E]化合物の市販品としては、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂として、エピコート1001、同1002、同1003、同1004、同1007、同1009、同1010、同828以上、ジャパンエポキシレジン社等;ビスフェノールF型エポキシ樹脂として、エピコート807ジャパンエポキシレジン社等;フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート152、同154、同157S65以上、ジャパンエポキシレジン社、EPPN201、同202以上、日本化薬社等;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、EOCN102、同103S、同104S、1020、1025、1027以上、日本化薬社、エピコート180S75ジャパンエポキシレジン社等;ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート1032H60、同XY-4000以上、ジャパンエポキシレジン社等;環状脂肪族エポキシ樹脂として、CY-175、同177、同179、アラルダイトCY-182、同192、184以上、チバスペシャルティケミカルズ社、ERL-4234、4299、4221、4206以上、U.C.C社、ショーダイン509昭和電工社、エピクロン200、同400以上、大日本インキ社、エピコート871、同872以上、ジャパンエポキシレジン社、ED-5661、同5662以上、セラニーズコーティング社等;脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト100MF共栄社化学社、エピオールTMP日本油脂社等が挙げられる。これらのうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ポリフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。[E]化合物の含有量としては、[A]共重合体100質量部に対して、50質量部以下が好ましく、2質量部~50質量部がより好ましく、5質量部~30質量部が特に好ましい。[E]化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、現像性を損なわずにスペーサー等の硬度をさらに向上できる。[密着助剤]密着助剤は、得られる層間絶縁膜、スペーサー又は保護膜等の硬化膜と基板との接着性をさらに向上させるために使用できる。このような密着助剤としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましく、例えばトリメトキシシリル安息香酸、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等が挙げられる。密着助剤の含有量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、20質量部以下が好ましく、15質量部以下がより好ましい。密着助剤の含有量が20質量部を超えると現像残りを生じやすくなる傾向がある。[界面活性剤]界面活性剤は、当該感放射線性樹脂組成物の塗膜形成性をより向上させるために使用できる。界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤及びその他の界面活性剤が挙げられる。上記フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基及び/又はフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましく、例えば1,1,2,2-テトラフロロ-n-オクチル1,1,2,2-テトラフロロ-n-プロピルエーテル、1,1,2,2-テトラフロロ-n-オクチルn-ヘキシルエーテル、ヘキサエチレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロ-n-ペンチルエーテル、オクタエチレングリコールジ1,1,2,2-テトラフロロ-n-ブチルエーテル、ヘキサプロピレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロ-n-ペンチルエーテル、オクタプロピレングリコールジ1,1,2,2-テトラフロロ-n-ブチルエーテル、パーフロロ-n-ドデカンスルホン酸ナトリウム、1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロ-n-デカン、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-デカフロロ-n-ドデカンや、フロロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フロロアルキルリン酸ナトリウム、フロロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキスフロロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フロロアルキルアンモニウムヨージド、フロロアルキルベタイン、他のフロロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフロロアルキルポリオキシエタノール、パーフロロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フロロアルキルエステル等が挙げられる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えばBM-1000、BM-1100以上、BMCHEMIE社、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183、同F178、同F191、同F471、同F476以上、大日本インキ化学工業社、フロラードFC-170C、同-171、同-430、同-431以上、住友スリーエム社、サーフロンS-112、同-113、同-131、同-141、同-145、同-382、サーフロンSC-101、同-102、同-103、同-104、同-105、同-106以上、旭硝子社、エフトップEF301、同303、同352以上、新秋田化成社、フタージェントFT-100、同-110、同-140A、同-150、同-250、同-251、同-300、同-310、同-400S、フタージェントFTX-218、同-251以上、ネオス社等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えばトーレシリコーンDC3PA、同DC7PA、同SH11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA、同SH-190、同SH-193、同SZ-6032、同SF-8428、同DC-57、同DC-190以上、東レダウコーニングシリコーン社、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452以上、GE東芝シリコーン社、オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業社等が挙げられる。その他の界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル;ポリオキシエチレン-n-オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン-n-ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル;ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート等のポリオキシエチレンジアルキルエステル等のノニオン系界面活性剤、メタアクリル酸系共重合体ポリフローNo.57、同No.95以上、共栄社化学社等が挙げられる。界面活性剤の含有量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、1.0質量部以下が好ましく、0.8質量部以下がより好ましい。界面活性剤の含有量が1.0質量部を超えると、膜ムラを生じやすくなる。[保存安定剤]保存安定剤としては、例えば硫黄、キノン類、ヒドロキノン類、ポリオキシ化合物、アミン、ニトロニトロソ化合物等が挙げられ、より具体的には、4-メトキシフェノール、N-ニトロソ-N-フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム等が挙げられる。保存安定剤の含有量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、3.0質量部以下が好ましく、1.0質量部以下がより好ましい。保存安定剤の含有量が3.0質量部を超えると、当該感放射線性樹脂組成物の感度が低下してパターン形状が劣化する場合がある。[耐熱性向上剤]耐熱性向上剤としては、例えばN-アルコキシメチルグリコールウリル化合物、N-アルコキシメチルメラミン化合物等が挙げられる。N-アルコキシメチルグリコールウリル化合物としては、例えばN,N’,N’’,N’’’-テトラメトキシメチルグリコールウリル、N,N’,N’’,N’’’-テトラエトキシメチルグリコールウリル、N,N’,N’’,N’’’-テトラn-プロポキシメチルグリコールウリル、N,N’,N’’,N’’’-テトラi-プロポキシメチルグリコールウリル、N,N’,N’’,N’’’-テトラn-ブトキシメチルグリコールウリル、N,N’,N’’,N’’’-テトラt-ブトキシメチルグリコールウリル等が挙げられる。これらのうち、N,N’,N’’,N’’’-テトラメトキシメチルグリコールウリルが好ましい。N-アルコキシメチルメラミン化合物としては、例えばN,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサメトキシメチルメラミン、N,N,N’,N’,N’’N’’-ヘキサエトキシメチルメラミン、N,N,N’,N’,N’’N’’ヘキサn-プロポキシメチルメラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサi-プロポキシメチルメラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサn-ブトキシメチルメラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサt-ブトキシメチルメラミン等が挙げられる。これらのうち、N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサメトキシメチルメラミンが好ましく、市販品としては、例えばニカラックN-2702、同MW-30M以上、三和ケミカル社等が挙げられる。耐熱性向上剤の含有量としては、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、50質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましい。耐熱性向上剤の含有量が50質量部を超えると、当該感放射線性樹脂組成物の感度が低下してパターン形状が劣化する場合がある。<感放射線性樹脂組成物の調製方法>当該感放射線性樹脂組成物は、[A]アルカリ可溶性樹脂、[B]重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤及び[D]化合物に加え、必要に応じて任意成分を所定の割合で混合することにより調製される。この感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。当該感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、[A]アルカリ可溶性樹脂、[B]重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤、[D]化合物及び任意成分を均一に溶解又は分散し、各成分と反応しないものが用いられる。このような溶媒としては、上述した[A]アルカリ可溶性樹脂を合成するために使用できる溶媒として例示したものと同様のものが挙げられる。溶媒は、単独で又は2種以上を混合して使用できる。各成分の溶解性、各成分との反応性、塗膜形成の容易性等の観点から、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ベンジルアルコール、3-メトキシブタノールが好ましい。さらに、上記溶媒とともに膜厚の面内均一性を高めるため、高沸点溶媒を併用できる。高沸点溶媒としては、例えばN-メチルピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、1-オクタノール、1-ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ-ブチロラクトン、炭酸プロピレン等が挙げられる。これらのうち、N-メチルピロリドン、γ-ブチロラクトン、N,N-ジメチルアセトアミドが好ましい。当該感放射線性樹脂組成物の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その含有量としては、全溶媒量に対して、50質量以下が好ましく、40質量以下がより好ましく、30質量以下が特に好ましい。高沸点溶媒の含有量が50質量以下の時、塗膜の膜厚均一性、感度及び残膜率が良好となる。当該感放射線性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、固形分濃度組成物溶液中に占める溶媒以外の成分は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意の濃度例えば5質量~50質量に設定できる。より好ましい固形分濃度としては、基板上への塗膜の形成方法により異なるが、これについては後述する。このようにして調製された組成物溶液については、孔径0.5μm程度のミリポアフィルタ等を用いて濾過した後、使用に供することができる。<硬化膜の形成方法>当該感放射線性樹脂組成物は、層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜形成用であることが好ましく、また、本発明には層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜が好適に含まれる。当該感放射線性樹脂組成物から形成される層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜は、密着性、耐光性、耐熱性、耐薬品性、透過率、平坦性、電圧保持率及び寸法安定性に優れる。本発明の硬化膜の形成方法は、1当該感放射線性樹脂組成物を基板に塗布し、塗膜を形成する工程、2上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び4上記現像された塗膜を焼成する工程を有する。本発明の形成方法によると、密着性、耐光性、耐熱性、耐薬品性、透過率、平坦性、電圧保持率、寸法安定性をバランス良く満足する硬化膜を形成できる。以下、各工程を詳述する。[工程1]本工程では、透明基板の片面に透明導電膜を形成し、この透明導電膜の上に当該感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する。透明基板としては、例えばソーダライムガラス、無アルカリガラス等のガラス基板、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックからなる樹脂基板等が挙げられる。透明基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズSnO2からなるNESA膜米国PPG社の登録商標、酸化インジウム-酸化スズIn2O3-SnO2からなるITO膜等が挙げられる。塗布法により塗膜を形成する場合、上記透明導電膜の上に当該感放射線性樹脂組成物の溶液を塗布した後、好ましくは塗布面を加熱プレベークすることにより、塗膜を形成することができる。塗布法に用いる組成物溶液の固形分濃度としては、5質量~50質量が好ましく、10質量~40質量がより好ましく、15質量~35質量が特に好ましい。当該感放射線性樹脂組成物の塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリット塗布法スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法が採用できる。これらのうち、スピンコート法又はスリット塗布法が好ましい。上記プレベークの条件としては、各成分の種類、配合割合等によって異なるが、70°C~120°Cが好ましく、1分~15分間程度である。塗膜のプレベーク後の膜厚は、0.5μm~10μmが好ましく、1.0μm~7.0μm程度がより好ましい。[工程2]本工程では、形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する。このとき、塗膜の一部にのみ照射する際には、例えば所定のパターンを有するフォトマスクを介して照射する方法によることができる。照射に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線等が挙げられる。このうち波長が250nm~550nmの範囲にある放射線が好ましく、365nmの紫外線を含む放射線がより好ましい。放射線照射量露光量は、照射される放射線の波長365nmにおける強度を照度計OAImodel356、OpticalAssociatesInc.製により測定した値として、100J/m2~5,000J/m2が好ましく、200J/m2~3,000J/m2がより好ましい。当該感放射線性樹脂組成物は、従来知られている組成物と比較して放射線感度が高く、上記放射線照射量が750J/m2以下であっても所望の膜厚、良好な形状、優れた密着性及び高い硬度の層間絶縁膜、保護膜又はスペーサー等の硬化膜を得ることができる。[工程3]本工程では、放射線照射後の塗膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定のパターンを形成する。現像に使用される現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等のアルカリ性化合物の水溶液が挙げられる。上記アルカリ性化合物の水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒及び/又は界面活性剤を適当量添加してもよい。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー法等のいずれでもよく、現像時間は、常温で10秒~180秒間程度が好ましい。現像処理に続いて、例えば流水洗浄を30秒~90秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素で風乾することによって所望のパターンが得られる。[工程4]本工程では、得られたパターン状塗膜をホットプレート、オーブン等の適当な加熱装置により焼成ポストベークすることにより硬化膜を得る。焼成温度としては、100°C~200°Cが好ましく、150°C~180°Cがより好ましい。焼成時間としては、例えばホットプレート上では5分~30分間、オーブンでは30分~180分間が好ましい。当該感放射線性樹脂組成物は、上述のように[D]化合物を含有するため、かかる低い低温焼成を実現でき低温焼成が望まれるフレキシブルディスプレイ等に用いられる層間絶縁膜、保護膜、スペーサー等の硬化膜の形成材料として好適である。<カラーフィルタの形成方法>本発明のカラーフィルタは、当該硬化膜と、この硬化膜上に積層され、液晶配向剤により形成される配向膜とを備える。本発明のカラーフィルタは、耐熱性、耐薬品性、電圧保持率等に優れる。[工程5]本発明のカラーフィルタの形成方法は、5上記工程4で焼成された塗膜上に液晶配向剤を塗布し、200°C以下の加熱により配向膜を形成する工程をさらに有する。当該形成方法が、上記工程5をさらに有することで、液晶配向用の配向膜を備えるカラーフィルタを形成することができる。上記液晶配向剤は、光配向性基を有する感放射線性重合体以下、[F]感放射線性重合体とも称するを含む液晶配向剤、又は光配向性基を有さないポリイミド以下、[G]ポリイミドとも称するを含む液晶配向剤であることが好ましい。上記液晶配向剤の塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリット塗布法スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法が採用できる。これらのうち、スピンコート法又はスリット塗布法が好ましい。また、液晶配向剤を塗布した後、塗布面を加熱することにより、配向膜を形成することができる。上記液晶配向剤はいずれも、低温例えば200°C以下の加熱温度で配向膜を形成することができる。また、上記液晶配向剤は、本発明の効果を損なわない限り任意成分として、例えば硬化剤、硬化触媒、硬化促進剤、エポキシ化合物、官能性シラン化合物、界面活性剤、光増感剤等を含有してもよい。以下、[F]感放射線性重合体及び[G]ポリイミドについて詳述する。<[F]感放射線性重合体>[F]感放射線性重合体が有する光配向性基は、光照射により膜に異方性を付与する官能基であり、光異性化反応又は光二量化反応により膜に異方性が付与される。光配向性基としては、例えばアゾベンゼン、スチルベン、α-イミノ-β-ケトエステル、スピロピラン、スピロオキサジン、桂皮酸、カルコン、スチルバゾール、ベンジリデンフタルイミジン、クマリン、ジフェニルアセリレン及びアントラセンからなる群より選択される少なくとも1種の化合物に由来する構造を有する基が挙げられる。光配向性基としては、桂皮酸に由来する構造を有する基が好ましい。[F]感放射線性重合体としては、光配向性基が直接又は連結基を介して結合している重合体が好ましい。このような[F]感放射線性重合体としては、例えばポリアミック酸、ポリイミド等の重合体に光配向性基が結合した重合体等が挙げられる。また、[F]感放射線性重合体として、ポリアミック酸、ポリイミド及び他の重合体を有し、この他の重合体が光配向性基を有するものが挙げられる。他の重合体の基本骨格としては、例えばポリメタアクリル酸エステル、ポリメタアクリルアミド、ポリビニルエーテル、ポリオレフィン、ポリオルガノシロキサン等が挙げられる。[F]感放射線性重合体としては、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリオルガノシロキサンを基本骨格とする重合体が好ましく、ポリオルガノシロキサンがより好ましい。[F]感放射線性重合体は、例えば国際公開WO2009/025386号に記載された方法により合成することができる。<[G]ポリイミド>光配向性基を有さない[G]ポリイミドは、光配向性基を有さないポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより合成できる。上記ポリアミック酸は、例えば特開2010-97188号公報に記載の方法に従い、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより合成できる。[G]ポリイミドは、前駆体であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造の全てを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存する部分イミド化物であってもよい。[G]ポリイミドのイミド化率としては30以上が好ましく、50以上99以下がより好ましく、65以上99以下が特に好ましい。イミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数の合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。本発明には、液晶配向用の配向膜が形成された硬化膜を備えるカラーフィルタも好適に含まれる。当該カラーフィルタは、耐熱性、耐薬品性、電圧保持率等に優れる。このようなカラーフィルタ用の配向膜を形成する液晶配向剤としては、[F]感放射線性重合体を含有することが好ましい。以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例に本発明が限定的に解釈されるものではない。<[A]アルカリ可溶性樹脂の合成>[合成例1]冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きA1化合物としてのメタクリル酸16質量部、A2化合物としてのメタクリル酸グリシジル20質量部、並びにA3化合物としてのトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルメタクリレート16質量部、メチルメタクリレート38質量部及びスチレン10質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇し、この温度を4時間保持して重合することにより、共重合体A-1を含有する溶液を得た固形分濃度=34.4質量、Mw=8,000、Mw/Mn=2.3。なお、固形分濃度は共重合体溶液の全質量に占める共重合体質量の割合を意味する。[合成例2]冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル8質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル220質量部を仕込んだ。引き続きA1化合物としてのメタクリル酸20質量部、A2化合物としてのメタクリル酸グリシジル20質量部、並びにA3化合物としてのn-ラウリルメタクリレート30質量部及びスチレン30質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇し、この温度を5時間保持して重合することにより、共重合体A-2を含有する溶液を得た固形分濃度=31.9質量、Mw=8,000、Mw/Mn=2.3。[合成例3]冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル8質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル220質量部を仕込んだ。引き続きA1化合物としてのメタクリル酸20質量部、A2化合物としてのメタクリル酸グリシジル50質量部、A3化合物としてのトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルメタクリレート25質量部及びスチレン5質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇し、この温度を5時間保持して重合することにより、共重合体A-3を含有する溶液を得た固形分濃度=32.3質量、Mw=8,000、Mw/Mn=2.3。<感放射線性樹脂組成物の調製>実施例及び比較例で用いた各成分の詳細を以下に示す。<[B]重合性化合物>B-1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートB-2:多官能アクリレート化合物の混合物KAYARADDPHA-40H、日本化薬社B-3:1,9-ノナンジオールジアクリレートB-4:アロニックスM-5300東亞合成社<[C]感放射線性重合開始剤>C-1:エタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシムイルガキュアOXE02、チバスペシャルティーケミカルズ社C-2:1,2-オクタンジオン-1-[4-フェニルチオ-2-O-ベンゾイルオキシム]イルガキュアOXE01、チバスペシャルティーケミカルズ社C-3:2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オンイルガキュア907、チバスペシャルティーケミカルズ社C-4:2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オンイルガキュア379、チバスペシャルティーケミカルズ社<[D]化合物>D-1:塩化テトラメチルアンモニウムD-2:臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムD-3:テトラフェニルホスホニウムテトラp-トリルボレートD-4:ブチルトリフェニルホスホニウムチオシアネートD-5:テトラフェニルホスホニウムジシアナミドD-6:ブチルトリフェニルホスホニウムジシアナミドCD-1:トリエチルアミン<[E]化合物>E-1:フェノールノボラック型エポキシ樹脂エピコート152、ジャパンエポキシレジン社E-2:フェノールノボラック型エポキシ樹脂エピコート157S65、ジャパンエポキシレジン社[実施例1~19及び比較例1~4]表1に示す種類、含有量の各成分を混合し、さらに密着助剤γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5質量部、界面活性剤FTX-218、ネオス社0.5質量部、及び保存安定剤として4-メトキシフェノール0.5質量部を混合し、固形分濃度が30質量となるように、それぞれプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えた後、孔径0.5μmのミリポアフィルタでろ過することにより、各感放射線性樹脂組成物を調製した。なお、表1中の-は該当する成分を使用しなかったことを表す。<評価>調製した各感放射線性樹脂組成物を用いて以下の評価を実施した。結果を表2に示す。[解像度]無アルカリガラス基板上に、感放射線性樹脂組成物溶液をスピンナーにより塗布した後、100°Cのホットプレート上で2分間プレベークすることにより膜厚4.0μmの塗膜を形成した。次いで、得られた塗膜に直径6μm~15μmの範囲の異なる大きさの複数の丸状残しパターンを有するフォトマスクを介して高圧水銀ランプを用いて露光量を700J/m2として放射線照射を行った。その後、0.40質量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて25°Cで現像時間を変量として液盛り法により現像した後、純水洗浄を1分間行った。さらにオーブン中表1に記載の焼成温度及び焼成時間でポストベークすることによりパターン状硬化膜を形成した以下、硬化膜形成工程とも称する。この時、8μm以下のフォトマスクにおいて、パターンが形成されていれば、A良好とした。一方、8μm以下のフォトマスクにおいて、パターンが形成さていない、又は解像されていない場合はB不良と判断した。[現像性]上述の解像度評価で、露光量700J/m2において現像時間を40秒間に短縮した時、パターンが形成されている場合をA良好、残渣が生じている場合をB不良と判断した。[感度J/m2]直径15μmの丸状残しパターンを複数有するフォトマスクを使用し、露光量を変量した以外は、上記硬化膜形成工程と同様に操作して基板上に丸状残しパターンを形成した。丸状残しパターンの現像前と現像後の高さを、レーザー顕微鏡VK-8500、キーエンス社を用いて測定した。この値と下記式から残膜率を求めた。残膜率=現像後高さ/現像前高さ×100この残膜率が90以上になる最小の露光量を感度J/m2とした。露光量が750J/m2以下の場合、感度が良好と判断した。[密着性個]上述の解像度評価における現像工程にて、現像液を0.5質量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、現像時間を180秒間に変更し、8μm丸状のフォトマスクを介してパターンを形成した。100パターン中における、剥離しなかったパターンの数個をレーザー顕微鏡VK-8500、キーエンス社で観察した。[保存安定性]上記解像度と同様に操作して、調製直後の感放射線性樹脂組成物溶液の硬化膜を形成し膜厚を測定した下記式において、調製直後の膜厚と称する。また、5日間25°Cで感放射線性樹脂組成物溶液を保存し、5日後に同様に形成した硬化膜の膜厚を測定した下記式において、5日後の膜厚と称する。膜厚増加率を下記式から算出した。膜厚増加率=5日後の膜厚-調製直後の膜厚/調製直後の膜厚×100膜厚増加率が2以下の場合、A良好と、膜厚増加率が3以上の場合、B不良判断した。[耐光性]上記の硬化膜形成工程において、フォトマスクを介さず700J/m2の露光量で露光し、表1に記載の焼成温度及び焼成時間でポストベークすることにより得られた塗膜について、さらにUV照射装置UVX-02516S1JS01、ウシオ社にて130mWの照度で800,000J/m2照射し、膜減り量が2以下であればA良好、3以上であればB不良と判断した。[耐熱性]上記の硬化膜形成工程において、フォトマスクを介さず700J/m2の露光量で露光し、表1に記載の焼成温度及び焼成時間でポストベークすることにより得られた塗膜ついて、更にオーブン中230°Cで20分加熱する前後での膜厚を触針式膜厚測定機アルファステップIQ、KLAテンコール社で測定し、残膜率処理後膜厚/処理前膜厚×100を算出し、この残膜率を耐熱性とした。[耐薬品性]上記の硬化膜形成工程において、フォトマスクを介さず700J/m2の露光量で露光し、表1に記載の焼成温度及び焼成時間でポストベークすることにより得られた塗膜ついて、60°Cに加温した配向膜剥離液ケミクリーンTS-204三洋化成工業社中に15分浸漬し、水洗後、更にオーブン中、120°Cで15分乾燥させた。この処理前後の膜厚を触針式膜厚測定機アルファステップ社IQ、KLAテンコール社で測定し、残膜率処理後膜厚/処理前膜厚×100を算出し、この残膜率を耐薬品性とした。[透過率]上記の硬化膜形成工程において、フォトマスクを介さず700J/m2の露光量で露光し、表1に記載の焼成温度及び焼成時間でポストベークすることにより得られた塗膜ついて、波長400nmにおける透過率を、分光光度計150-20型ダブルビーム、日立製作所社を用いて透過率を測定した。このとき、透過率が90未満の場合に透明性が不良とした。[平坦性nm]SiO2ディップガラス基板上に、顔料系カラーレジストJCRRED689、JCRGREEN706及びCR8200B、以上JSR社を用いて、以下のように、赤、緑及び青の3色のストライプ状カラーフィルタを形成した。具体的には、スピンナーを用いて、上記カラーレジストの1色をSiO2ディップガラス基板に塗布し、ホットプレート上で90°C、150秒間プレベークして塗膜を形成した。その後、露光機CanonPLA501F、キヤノン社を用い、所定のパターンマスクを介して、ghi線波長436nm、405nm、365nmの強度比=2.7:2.5:4.8をi線換算で2,000J/m2の露光量にて照射し、次いで0.05質量水酸化カリウム水溶液を用いて現像し、超純水にて60秒間リンスした。続いて、更にオーブン中で230°Cにて30分間加熱処理することにより、単色のストライプ状カラーフィルタを形成した。この操作を3色につき繰り返すことにより、赤、緑及び青の3色のストライプ状カラーフィルタストライプ幅200μmを形成した。測定長2,000μm、測定範囲2,000μm角、測定方向を赤、緑、青方向のストライプライン短軸方向及び赤赤、緑緑、青青の同一色のストライプライン長軸方向の2方向とし、各方向につき測定点数n=5合計のn数は10にて、カラーフィルタ基板の表面の凹凸を、接触式膜厚測定装置アルファ-ステップ、ケーエルエーテンコール社で測定したところ、1.0μmであった。このカラーフィルタが形成された基板に、各感放射線性樹脂組成物をスピンナーにて塗布した後、ホットプレート上において90°Cにて5分間プレベークして保護膜を形成した後、更にクリーンオーブン中において表1に記載の焼成温度及び焼成時間でポストベークすることにより、カラーフィルタの上面からの膜厚が約2.0μmの保護膜を形成した。このように形成したカラーフィルタ上に保護膜を有する基板について、接触式膜厚測定装置アルファ-ステップ、ケーエルエーテンコール社にて、保護膜の表面の凹凸を測定した。この測定は、測定長2,000μm、測定範囲2,000μm角、測定方向を赤、緑、青方向のストライプライン短軸方向及び赤赤、緑緑、青青の同一色のストライプライン長軸方向の2方向とし、各方向につき測定点数n=5合計のn数は10で行い、各測定の最高部と最底部の高低差nmの10回の平均値を求め、保護膜の平坦化能平坦性を評価した。この値が210nm以下のとき、保護膜の平坦化能が良好と判断した。[電圧保持率]表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO2膜が形成され、さらにITOインジウム-酸化錫合金電極を所定形状に蒸着したソーダガラス基板上に、感放射線性樹脂組成物を、スピンコートした後、90°Cのクリーンオーブン内で10分間プレベークを行って、膜厚2.0μmの塗膜を形成した。次いで、フォトマスクを介さずに、塗膜に500J/m2の露光量で露光した。その後、この基板を23°Cの0.04質量の水酸化カリウム水溶液からなる現像液に1分間浸漬して、現像した後、超純水で洗浄して風乾し、さらに表1に記載の焼成温度及び焼成時間でポストベークを行い、塗膜を硬化させて、永久硬化膜を形成した。次いで、この画素を形成した基板とITO電極を所定形状に蒸着しただけの基板とを、0.8mmのガラスビーズを混合したシール剤で貼り合わせた後、メルク製液晶MLC6608を注入して、液晶セルを作製した。次いで、液晶セルを60°Cの恒温層に入れて、液晶セルの電圧保持率を液晶電圧保持率測定システムVHR-1A型、東陽テクニカ社により測定した。このときの印加電圧は5.5Vの方形波、測定周波数は60Hzである。ここで電圧保持率とは、16.7ミリ秒後の液晶セル電位差/0ミリ秒で印加した電圧の値である。液晶セルの電圧保持率が90以下であると、液晶セルは16.7ミリ秒の時間、印加電圧を所定レベルに保持できず、十分に液晶を配向させることができないことを意味し、残像等の焼き付きを起こすおそれが高い。[寸法安定性ppm/°C]上記の硬化膜形成工程において、フォトマスクを介さず700J/m2の露光量で露光し、表1に記載の焼成温度及び焼成時間でポストベークすることにより得られた塗膜ついて、温度可変装置を設けたエリプソメーターDVA-36LH、溝尻光学工業所により、窒素雰囲気下、測定時の昇温速度を10°C/分、測定温度範囲を20°C~200°Cとして、各測定温度における膜厚の変化量を測定して、温度に対してプロットし、その直線近似から傾きbを求め、下記式より線熱膨張係数aを求めた、ここで、Tは初期膜厚を示す。appm/°C=b/T線熱膨張係数が200ppm/°C以下の場合は、線熱膨張係数が低く、各焼成温度におけるポストベークでも十分な寸法安定性を有した硬化膜が作成されていると判断できる。表2の結果から実施例1~19の当該感放射線性樹脂組成物は比較例1~4の組成物と比べ、良好な解像度、現像性、感度、密着性及び保存安定性を有することがわかった。また、当該感放射線性樹脂組成物から形成された硬化膜は200°Cで以下の低温焼成で形成されたにも関わらず耐光性、耐熱性、耐薬品性、透過率、平坦性、電圧保持率及び寸法安定性に優れることがわかった。"