電極であって、チタン、タンタルまたはニオブを主要割合として有するバルブメタルに基づく電気伝導性基板、ならびに50molまでの貴金属酸化物もしくは貴金属混合酸化物および少なくとも50molの酸化チタンを含んで成る電気触媒的に活性なコーティングを含んで成り、該コーティングはX線回折図CuKα照射において、共に線形バックグラウンドを差引いた後において、最も強いアナターゼ反射の信号高さの、最も強いルチル反射の信号高さに対する比率によって決定される最小割合のアナターゼ構造の酸化物を含んで成り、該比率が少なくとも06である電極。貴金属酸化物が、ルテニウム、イリジウム、白金、金、ロジウム、パラジウム、銀、レニウムおよびそれらの混合物から成る群から選ばれた金属の酸化物である、請求項1に記載の電極。貴金属酸化物がルテニウムまたはイリジウムの酸化物である、請求項2に記載の電極。電気触媒的に活性な層が10~50molの貴金属酸化物または貴金属混合酸化物を含んで成る、請求項1に記載の電極。電気触媒的に活性な層が15~50molの貴金属酸化物または貴金属混合酸化物を含んで成る、請求項4に記載の電極。酸化チタンの割合が50~90molの範囲にある、請求項1~5のいずれか1つに記載の電極。酸化チタンの割合が50~85molの範囲にある、請求項6に記載の電極。方法であって、貴金属塩を有機溶媒に溶解し、可溶性チタン化合物を有機及び/または水性溶液中に添加し、溶液を混合し、貴金属塩を水、水性の酸またはそれらの混合物で加水分解し、溶液を1以上の段階で電気伝導性基板に適用し、溶媒を除去し、250°Cを超えない温度で、10~100barの圧力下、水蒸気および随意に低級アルコールの存在下に熱的に後処理し、ならびに300°Cを超える温度で酸素含有ガスの存在下に焼成して、電気伝導性基板上に電気触媒的に活性なコーティングを有する電極を形成する工程を有して成る方法。可溶性チタン化合物がTi4である、請求項8に記載の方法。水性の酸が、酢酸、プロピオン酸、HCL、HNO3およびそれらの混合物から成る群から選択される、請求項8に記載の方法。熱的後処理が100~250°Cの温度で実施される、請求項8に記載の方法。焼成が400~600°Cの温度で実施される、請求項8に記載の方法。焼成が450~550°Cの温度で実施される、請求項12に記載の方法。貴金属塩が貴金属の塩化物、硝酸塩、アルコキシド、アセチルアセトナートおよびそれらの混合物から成る群から選択される、請求項8に記載の方法。貴金属塩が貴金属塩化物である、請求項14に記載の方法。有機溶媒が少なくとも1つのC1~C8アルコールである、請求項8に記載の方法。有機溶媒が、メタノール、nプロパノール、iプロパノール、nブタノール、tブタノールおよびそれらの混合物から成る群から選択される、請求項16に記載の方法。請求項8に記載の方法で得られる電極。請求項1に記載の電極をアノードとして含んで成る電解槽。比率が少なくとも1である、請求項1に記載の電極。本発明は塩素の電解製造用の電極コーティングの製造に関するものであって、該コーティングは貴金属酸化物成分および特別のアナターゼ最小分率を持つアナターゼ-ルチル混合物を含んで成る。一つの特別の電極は、コーティングがアナターゼ構造のある割合を含むことによって特徴づけられるが、その構造は、それぞれの場合において線形バックグランドを差し引いた後において、X線回折図CuKα照射における最強のアナターゼ反射101反射のピーク高さが、X線回折図における最強のルチル反射110反射の高さの少なくとも60を有することで特徴づけられる。組成および電極コーティングのミクロ構造の影響の特定の調整は、例えば、2段階法によって達成される。この2段階法において、熱的に安定化されおよび非晶質の出発相は、ゾル-ゲル操作で製造されるが、最初にソルボサーマル処理solvothermaltreatmentにおいて結晶化され、次いで熱的後処理によって結晶化される。ここで云うアナターゼ構造を持つ物質とは、アナターゼ型構造を持つ如何なる物質を云う。本発明の目的にとってのソルボサーマル処理とは、常圧に比しての高められた圧力および室温に比して高められた温度での処理である。先行技術と対照的に、ここで記述される方法は、塩素製造における直接的な効率増強に導くより高いアナターゼ割合fractionを持つコーティングを提供する。この目的にとって、非晶質の出発混合物を結晶化させるために、250°Cを超えない処理温度、好ましくは100~250°Cの範囲の温度、および1~10MPaの処理圧力を有するソルボサーマル法が適切であると判明した。本発明は、バルブ金属、より具体的にはチタン、タンタルまたはニオブを主要割合で有するチタン、タンタル、ニオブまたはそれらの任意の合金並びに40molまでの貴金属酸化物もしくは貴金属混合酸化物および少なくとも60molの酸化チタンでコーティングされた電気触媒的に活性なコーティングに基づく少なくとも電気伝導性基板から成る電極を提供するものであって、該コーティングはアナターゼ構造の酸化物の最小割合を含み、該最小割合は、それぞれにおいて線形バックグランドを差し引いた後のX線回折図CuKα照射における最強のアナターゼ反射反射ピーク高さの、同じX線回折図における最強のルチル反射反射ピーク高さに対する比率によって決定され、該比率は少なくとも06、好ましくは少なくとも1の値を持つ。貴金属酸化物がルテニウム、イリジウム、白金、金、ロジウム、パラジウム、銀、レニウムから成る群から選ばれた1以上の金属の酸化物であることを特徴とする電極が好ましい。ルテニウムまたはイリジウムの酸化物が貴金属酸化物としての使用に特に好ましい。好ましくは、電気触媒的に活性な層は10~50molの、より好ましくは15~50molの貴金属酸化物または貴金属混合酸化物を含む。電極の好ましい実施態様としては、チタン酸化物成分の割合は50~90molの範囲、好ましくは50~85molの範囲にある。本発明は更に、電気伝導性基板上に電気触媒的に活性なコーティングを有する電極を製造する方法提供する。より具体的には、上記の貴金属電極の製造方法であって、以下の工程を有する:貴金属塩、より具体的には貴金属塩化物を水性溶媒に溶解し、有機及び/又は水性溶媒中に可溶性チタン化合物、より具体的にはTi4を添加し、溶液を混合し、水及び/又は水性酸、より具体的には酢酸、プロピオン酸、HClまたはHNO3を用いて加水分解し、該溶液を電気的に伝導性の物質に1以上の段階で適用し、溶媒を除去し、250°Cを超えない温度で、好ましくは100~250°Cの温度および10~100barの圧力で、水蒸気の存在下、随意に低級アルコールの存在下に生成層を熱的に後処理し、それに続いて、得られた層を酸素含有ガスの存在下に300°Cを超える温度で、好ましくは400~600°C、より好ましくは450°C~550°Cの温度で焼成する工程。本発明の方法は、例えば、15~40molの貴金属成分例えば、RuO2またはRuO2IrO2混合物および主要割合でアナターゼ構造を有するTiO2相から成る電気触媒的に活性な層を提供する。主要割合のアナターゼ構造は、各ケースにおいて線形バックグランドを差引いた後の、X線回折図中のアナターゼ構造反射の最強反射の高さをルチル構造反射の最強反射の高さで割った値が06以上のときに存在する。コーティング溶液は例えばゾルゲル法を経由して得ることができ、用いる前駆体の塩は、好ましくは、前記貴金属の塩化物、硝酸塩、アルコキシドまたはアセチルアセトネートであり、それら前駆体の塩をC1~C8アルコール、より具体的にはメタノール、n-プロパノール、i-プロパノール、n-ブタノールまたはt-ブタノールから選択される溶媒中に撹拌および超音波処理下に溶解する。出発物質が自然に加水分解し縮合することを避けるために、アセチルアセトンまたは4ヒドロキシ4メチル2ペンタノンの様な錯化剤を添加する。水及び/又は酢酸、プロピオン酸、HClまたはHNO3の様な酸を前駆体の加水分解および縮合のために添加する。この様にして調製した溶液が、例えばチタン、タンタル及びニオブまたはそれらの合金の様な電気伝導性基板のコーティングに用いられる。これらの物質は異なる形状、例えば、シート、ワイヤまたはネットの形状で存在することができる。存在する如何なる酸化物層も除去し、および基材表面積の拡大を通してコーティングの機械的結合強度を達成するために、基材の機械的、化学的または電気化学的処理がおそらく要求される。コーティング溶液は、浸漬、スピンコーティング、散布、浸漬もしくは刷毛塗りの様な方法を用いて適用される。そこから得られる層は空気乾燥され、次に100~250°Cで熱的に安定化される。前述の工程を多段階繰り返すことにより、より厚い層が得られる。熱的安定化の後に、コーティングは非晶質構造を示し、この非晶質構造は本発明の方法によって結晶化される。ソルボサーマル法は例えば、気密に封止され及び加熱された鉄鋼シリンダー中で実施される。必要な処理圧力は鋼鉄シリンダー中のテフロン登録商標内管中にある蒸発可能な液体によって達成される。処理圧力は液体の量および適用温度によって設定される。水、溶媒または希釈ゾル溶液が液体として用いられる。封止された鋼鉄シリンダーを、例えば10°Cminの速度で150~200°Cまで3~24時間加熱する。この加熱で鋼鉄シリンダー中が1~10MPaの圧力に高まる。コーティングされたサンプルを室温まで冷却した後に、300°Cを超える温度で、好ましくは400~600°C、好ましくは450°C~550°Cで1~2時間、熱的後処理を実施する。次に、塩素発生を特性づけるために、形成された電極を用いて電気化学的試験例えばサイクリックボルタメトリーを実施することができる。その様な試験過程において、熱的後処理はその様な電極が既知の電極に対して機能上の明確な改良を提供することが見出された。例示的実施態様が示すように、ソルボサーマル予備処理されたサンプルは、純粋な熱処理されたサンプルに対して明らかに高い電気触媒的活性を示した。本発明は更に、本発明による電極を、塩素の電解製造における水性食塩もしくは塩酸溶液の電解槽アノードとして用いることを提供する。本発明は更に、食塩もしくは塩化水素を含んで成る溶液の電気分解のための電解槽を提供するものであって、該電解槽は本発明による電極をアノードとして備えることを特徴とする。本発明を以下の例示的実施態様に沿って説明するが、しかしながら、それらの実施態様は本発明を限定するものではない。図1は、例におけるソルボサーマル予備処理されたサンプルのX線回折図を示す。記号は以下の通りである:A:アナターゼ構造型の相の反射R:ルチル構造型の相の反射上記全ての参照は引用によってその全てを有益な目的のために取り込まれる。本発明を具体化するある種の特定の構造が示され記述されるが、多様な変形および部分の再配列が、底流にある発明概念の精神および範囲から外れることなく為し得ることが当業者には明白であろう。例1直径15mm厚さ:2mmのチタン円板を研磨し、次いで10シュウ酸中で80°Cで2時間エッチングする。その後、円板を酸から外して2プロパノールで洗浄する。円板を窒素気流下で乾燥する。ゾル溶液の第1成分溶液Aを調製するために、1685mgのRuCl3xH2Oを6mlの2プロパノールに溶解して12時間撹拌する。溶液Bを、予め752mlの2プロパノールに溶解した3331μlのTi4および5615μlの4ヒドロキシ4メチル2ペンタノンから調製する。均一化は30分間撹拌することによる。溶液AおよびBを超音波下に合わせる。その結果、透明な溶液が得られる。その後、129μlの酢酸および27μlの脱イオン水を加水分解のために添加する。得られる混合物を室温で12時間撹拌する。この混合物をコーティング溶液として使用する前に、それを2667mlの2プロパノールで希釈する。この溶液の50μlを上記チタン円板上に滴下し、空気乾燥する。この操作を、4回の適用塗布後毎に200°Cで10分間の熱安定化を行いつつ24回繰り返す。結果として40molRuO2および60molTiO2の化学組成を持つ非晶質コーティングを得る。これは103gm2のルテニウム担持に対応する。ソルボサーマル処理は、30mlのコーティング溶液を入れた250mlテフロン登録商標内挿管を持った上記鋼鉄オートクレーブ中で実施される。コーティングされたサンプルをガラス容器中に入れ、該ガラス容器をテフロン登録商標内挿管中に入れる。密封したオートクレーブを10°Cminで150°Cに加熱し、150°Cで24時間放置する。室温に冷却後、コーティングされた基板を空気中、450°Cで1時間、熱的に後処理する。ソルボサーマル予備処理なしの対照サンプルは、単に、空気中、450°Cで1時間の熱処理をするだけである。相分析はX線回折計により行う。図1はソルボサーマル予備処理を伴ったサンプルのX線回折図を示す。コーティングがアナターゼ構造を優先的に含むことが明らかである。線形バックグランドを差引いた後、X線回折図におけるアナターゼ構造反射の最強反射高さの、ルチル構造反射の最強反射高さに対する比率が396である。ソルボサーマル予備処理なしでは、ルチル相が生ずるのみである。塩素発生に対する電気触媒活性をクロノアンペロメトリーchronoamperometry参照電極:AgAgCl35mollNaClpH3T25°Cを用いて検討した。1kAm2の電流密度を適用して、電圧を決定した。観測された電圧は、ソルボサーマル予備処理サンプルに対して118V、純粋に熱処理されたサンプルに対して132Vである。例2チタン基板を例1と同様に処理する。ゾル溶液の第1成分溶液Aを調製するために、1053mgのRuCl3H2Oを488mlの2プロパノール中に溶解し、12時間撹拌する。溶液Bを、752mlの2プロパノールに予め溶解した3331μlのTi4および5615μlの4ヒドロキシ4メチル2ペンタノンから調製する。均一化は30分間の撹拌による。超音波下に溶液AおよびBを混合する。結果は、透明溶液となる。その後、129μlの酢酸および27μlの脱イオン水を加水分解のために添加する。得られる混合物を室温で12時間撹拌する。この溶液をコーティング溶液として使用する前に、この溶液を2667mlの2プロパノールで希釈する。この溶液の50μlを上記のチタン板上に滴下し、続いて空気乾燥する。この操作を、4回の適用塗布後毎に100°Cで10分間の熱安定化を伴って24回繰り返す。結果として25molRuO2および75molTiO2の化学組成を持つ非晶質コーティングを得る。これは64g/m2のルテニウム担持に対応する。ソルボサーマル予備処理および熱的後処理を例1に記述された様に実施する。ソルボサーマル予備処理なしの対照サンプルは、単に空気中、450°Cで1時間の熱処理をするだけである。相分析はX線回折計により行う。ソルボサーマル予備処理なしのサンプルのX線回折図から、優勢なルチル含量を持つルチル‐アナターゼ構造混合物の存在が明らかである。線形バックグランドを差引いた後、X線回折図におけるアナターゼ構造反射の最強反射高さの、ルチル構造反射の最強反射高さに対する比率は018である。ソルボサーマル予備処理サンプルのX線回折図はコーティングがアナターゼ構造を優勢的に含むことを示している。線形バックグランドを差引いた後、X線回折図におけるアナターゼ構造反射の最強反射高さの、ルチル構造反射の最強反射高さに対する比率は181である。塩素発生に対する電気触媒活性をクロノアンペロメトリー参照電極:AgAgCl35mollNaClpH3T25°Cを用いて検討した。1kA/m2の電流密度を適用して、電圧を決定した。観測された電圧は、ソルボサーマル予備処理サンプルに対して123V、純粋に熱処理されたサンプルに対して142Vである。例3チタン基板を例1と同様に処理する。ゾル溶液の第1成分溶液Aを調製するために、1053mgのRuCl3H2Oを488mlの2プロパノール中に溶解し、12時間撹拌する。溶液Bを、752mlの2プロパノールに予め溶解した3331μlのTi4および5615μlの4ヒドロキシ4メチル2ペンタノンから調製する。均一化は30分間の撹拌による。超音波下に溶液AおよびBを混合する。結果は、透明溶液となる。その後、129μlの酢酸および27μlの脱イオン水を加水分解のために添加する。得られる混合物を室温で12時間撹拌する。この溶液をコーティング溶液として使用する前に、この溶液を2667mlの2プロパノールで希釈する。この溶液の50μlを上記のチタン板上に滴下し、続いて空気乾燥する。この操作を、4回の適用塗布後毎に250°Cで10分間の熱安定化を伴って24回繰り返す。結果として25molRuO2および75molTiO2の化学組成を持つ非晶質コーティングを得る。これは64g/m2のルテニウム担持に対応する。ソルボサーマル予備処理を例1に記述された様に、30mlのコーティング溶液375mMolを充填した250mlテフロン登録商標内挿管を持つ鋼鉄オートクレーブ中で実施する。コーティングされたサンプルをガラス容器中に入れ、該ガラス容器をテフロン登録商標内挿管中に入れる。密封したオートクレーブを10°Cminで150°Cに加熱し、150°Cで24時間放置する。室温に冷却後、コーティングされた基板を空気中、450°Cで1時間、熱的に後処理する。ソルボサーマル予備処理なしの対照サンプルは、単に空気中、450°Cで1時間の熱処理をするだけである。相分析はX線回折計により行う。ソルボサーマル予備処理なしのサンプルのX線回折図は、ルチル相のみが存在することを示す。ソルボサーマル予備処理されたサンプルのX線回折図は、コーティングがルチル相に加えてアナターゼ相を含んでいることを示す。線形バックグランドを差引いた後、X線回折図中のアナターゼ構造反射の最強反射高さの、ルチル構造反射の最強反射高さに対する比率は021である。塩素発生に対する電気触媒活性をクロノアンペロメトリー参照電極:AgAgCl35mollNaClpH3T25°Cを用いて検討した。1kA/m2の電流密度を適用して、電圧を決定した。観測された電圧は、ソルボサーマル予備処理サンプルに対して132V、純粋に熱処理されたサンプルに対して141Vである。例4チタン基板を例1と同様に処理する。ゾル溶液の第1成分溶液Aを調製するために、632mgのRuCl3H2Oを126mlの2プロパノール中に溶解し、12時間撹拌する。溶液Bを、111mlの2プロパノールに予め溶解した3775μlのTi4および5615μlの4ヒドロキシ4メチル2ペンタノンから調製する。均一化は30分間の撹拌による。超音波下に溶液AおよびBを混合する。結果は透明溶液となる。その後、129μlの酢酸および27μlの脱イオン水を加水分解のために添加する。得られる混合物を室温で12時間撹拌する。この溶液をコーティング溶液として使用する前に、この溶液を2667mlの2プロパノールで希釈する。この溶液の50μlを上記のチタン板上に滴下し、続いて空気乾燥する。この操作を、毎回の適用塗布後に200°Cで10分間の熱安定化を伴って8回繰り返す。結果として15molRuO2および85molTiO2の化学組成を持つ非晶質コーティングを得る。これは386g/m2のルテニウム担持に対応する。ソルボサーマル予備処理を、例1に記述された様に30mlのコーティング溶液375mMolを充填した250mlテフロン登録商標内挿管を持つ鋼鉄オートクレーブ中で実施する。コーティングされたサンプルをガラス容器中に入れ、ガラス容器をテフロン登録商標内挿管中に入れる。密封したオートクレーブを10°Cminで150°Cに加熱し、150°Cで3時間放置する。室温に冷却後、コーティングされた基板を空気中、250、300、350、400および450°Cで、各場合に10分間、熱的に後処理する。サンプルのX線回折図は、高い割合のルチル相を有するルチル‐アナターゼ混合相が存在することを明らかにする。線形バックグランドを差し引き後、X線回折図中のアナターゼ構造反射の最強反射高さの、ルチル構造反射の最強反射高さに対する比率は010である。塩素発生に対する電気触媒活性をクロノアンペロメトリー参照電極:AgAgCl35mollNaClpH3T25°Cを用いて検討した。127Vの電圧が見出された。