"光誘発熱現像性フィルムであって:第一の屈折率を有するポリマーマトリックスと;前記ポリマーマトリックスと相溶性があり、前記第一の屈折率と異なる第二の屈折率を有する少なくとも1種のモノマーと;プロカタリストと;コカタリストとを含み、前記コカタリストは、化学線の照射に伴い、前記プロカタリストを潜在活性形態に変換し、前記潜在活性形態は、第一の温度での加熱に伴い、活性形態に変換する光誘発熱現像性フィルム。前記プロカタリストは、前記第一の温度よりも高い第二の温度への加熱に伴い、前記化学線の照射なしに、活性形態に変換する請求項1に記載の光誘発熱現像性フィルム。更に少なくとも1種の酸化防止剤を含む請求項1に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記ポリマーマトリックスはホモポリマー、コポリマーおよび三元重合体のうちの一つである請求項1に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記ポリマーマトリックスは第一の繰り返し単位と第二の繰り返し単位とを含む請求項1に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記第一の繰り返し単位はアルキルノルボルネンの繰り返し単位を含み、前記第二の繰り返し単位はノルボルネン系の繰り返し単位を含む請求項5に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含み、前記ノルボルネン系の繰り返し単位はジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含む請求項6に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返単位を含み、前記ノルボルネン系の繰り返し単位はベンジルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項6に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返単位を含み、前記ノルボルネン系の繰り返し単位はフェニルエチルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項6に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記少なくとも1種類のモノマーは少なくとも1種類のノルボルネン系モノマーを含む請求項1に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記少なくとも1種類のノルボルネン系モノマーはアルキルペンダントグループを有するノルボルネン系モノマーを含む請求項10に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記少なくとも1種類のノルボルネン系モノマーはヘキシルノルボルネンおよびビスノルボルネンメトキシジメチルシランを含む請求項10に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記ポリマーマトリックスはヘキシルノルボルネンの繰り返し単位およびジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含む請求項11に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記少なくとも1種類のモノマーは架橋モノマーを含む請求項1に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記架橋モノマーはノルボルネン系架橋モノマーを含む請求項14に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記コカタリストは光開始剤を含む請求項1に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記光開始剤は、化学線の照射に伴い、カチオンと弱配位アニオンとを生じるカチオン性光開始剤を含み、前記プロカタリストは前記弱配位アニオンと関連して前記潜在活性形態に変換される請求項16に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記プロカタリストは式32Pd2で表され、式中、E3は第15族の中性電子ドナー配位子であり、Eは周期律表の第15族から選択される元素であり、E3中のRは、水素、その同位体およびハイドロカルビルを含む部位のうちの一つであり、Qはカルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子である請求項2に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記プロカタリストは式3aPdbpWCArで表され、式中、E3は第15族の中性電子ドナー配位子であり、Eは周期律表の第15族から選択される元素であり、Rは水素、その同位体、およびアニオン性ハイドロカルビルを含む部位の一つであり、Qはカルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子であり、LBはルイス塩基であり、WCAは弱配位アニオンであり、aは1,2又は3の整数であり、bは0,1又は2の整数であり、aとbの合計は1,2又は3の整数であり、pおよびrはパラジウムカチオンと弱配位アニオンが上記式3aPdbpWCArの構造において電荷のバランスをとる数を表す請求項2に記載の光誘発熱現像性フィルム。pおよびrはそれぞれ1および2の整数から選択される請求項19に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記ポリマーマトリックスは繰り返し単位を含み、前記繰り返し単位の少なくとも一部はそれぞれ脱離性ペンダントグループを含み、前記脱離性ペンダントグループの少なくとも一部は、前記化学線の照射および前記第二の温度での加熱の結果として、前記ポリマーマトリックスから脱離して前記光誘発熱現像性フィルムから除去され、これによって前記第一の屈折率が変化する請求項1に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記脱離性ペンダントグループはO、SiフェニルおよびOSiからなる群から選択される請求項21に記載の光誘発熱現像性フィルム。さらに増感剤を含む請求項1に記載の光誘発熱現像性フィルム。第一の屈折率を有し、脱離性ペンダントグループを含むポリマーマトリックスと、化学線の照射に伴ってカチオンと弱配位アニオンとを生じる光開始剤とを含む光誘発熱現像性フィルム更に少なくとも1種類の酸化防止剤を含む請求項24に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記ポリマーマトリックスはホモポリマー、コポリマーおよび三元重合体のうちの一つを含む請求項24に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記ポリマーマトリックスは第一の繰り返し単位と第二の繰り返し単位とを含む請求項24に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記第一の繰り返し単位はアルキルノルボルネン系の繰り返し単位を含み、前記第二の繰り返し単位はノルボルネン系の繰り返し単位を含む請求項27に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記アルキルノルボルネン系の繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含み、前記ノルボルネン系の繰り返し単位はジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含む請求項28に記載の光誘発熱現像性フィルム。さらにプロカタリストと、前記ポリマーマトリックスと相溶性のある少なくとも1種類のモノマーとを含む請求項24に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記プロカタリストは前記弱配位アニオンと関連して潜在活性形態に変換され、十分な熱の適用に伴って活性形態に変換され、前記活性形態の前記プロカタリストは前記少なくとも1種類のモノマーを重合する請求項30に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記少なくとも1種類のモノマーは少なくとも1種類のノルボルネン系モノマーを含む請求項30に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記少なくとも1種類のノルボルネン系モノマーはヘキシルノルボルネンおよびビスノルボルネンメトキシジメチルシランを含む請求項32に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記ポリマーマトリックスはヘキシルノルボルネンの繰り返し単位およびジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含む請求項33に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記少なくとも1種類のノルボルネン系モノマーはアルキルペンダントグループを有するノルボルネン系モノマーを含む請求項32に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記少なくとも1種類のモノマーはノルボルネン系架橋モノマーを含む請求項30に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記プロカタリストは式32Pd2で表され、式中、E3は第15族の中性電子ドナー配位子であり、Eは周期律表の第15族から選択される元素であり、E3中のRは水素、その同位体およびハイドロカルビルを含む部位の一つであり、Qはカルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子である請求項30に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記プロカタリストは式3aPdbpWCArで表され、式中、E3は第15族の中性電子ドナー配位子であり、Eは第15族の元素であり、Rは水素、その同位体、およびアニオン性ハイドロカルビルを含む部位の一つであり、Qはカルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子であり、LBはルイス塩基であり、WCAは弱配位アニオンであり、aは1,2又は3の整数であり、bは0,1又は2の整数であり、aとbの合計は1,2又は3であり、pおよびrはパラジウムカチオンと弱配位アニオンが上記式3aPdbpWCArの構造にて電荷のバランスをとる数を表す請求項30に記載の光誘発熱現像性フィルム。pおよびrはそれぞれ1および2の整数から選択される請求項38に記載の光誘発熱現像性フィルム。前記脱離性ペンダントグループはO、SiフェニルおよびOSiからなる群から選択される少なくとも1種類の成分を含む請求項24に記載の光誘発熱現像性フィルム。さらに増感剤を含む請求項24に記載の光誘発熱現像性フィルム。第一の部分と前記第一の部分の横に隣接する第二の部分とを有する材料を含み、前記第一の部分は第一の屈折率を有する第一のノルボルネン系ポリマー材料を含み、前記第二の部分は前記第一の屈折率よりも低い第二の屈折率を有する第二のノルボルネン系ポリマー材料を含む光導波路。前記第一の部分は光導波路のコア部分を含み、前記第二の部分は光導波路のクラッド部分を含む請求項42に記載の光導波路。前記第一および第二のノルボルネン系材料はアルキルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項42に記載の光導波路。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項44に記載の光導波路。前記第一および第二のノルボルネン系材料は第一のノルボルネン系の繰り返し単位と第二のノルボルネン系の繰り返し単位とを含む請求項42に記載の光導波路。前記第一のノルボルネン系の繰り返し単位はアルキルノルボルネンの繰り返し単位を含み、前記第二のノルボルネン系の繰り返し単位はノルボルネン系の繰り返し単位を含む請求項46に記載の光導波路。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含み、前記ノルボルネン系の繰り返し単位はジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含む請求項47に記載の光導波路。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含み、前記ノルボルネン系の繰り返し単位はベンジルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項47に記載の光導波路。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返単位を含み、前記ノルボルネン系の繰り返し単位はフェニルエチルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項47に記載の光導波路。更に前記材料層に上下に隣接して配置されるクラッド層を含む請求項43に記載の光導波路。前記材料層の前記光導波路のクラッド部分および前記クラッド層は前記材料の層の前記光導波路のコア部分を取り囲み、前記クラッド層は第三のノルボルネン系ポリマー材料を含む請求項51に記載の光導波路。前記第三のノルボルネン系材料はアルキルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項52に記載の光導波路。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項53に記載の光導波路。前記第三のノルボルネン系ポリマー材料はエポキシペンダントグループを有するノルボルネン系の繰り返し単位を含む請求項52に記載の光導波路。第一の屈折率を有し、ポリマーマトリックス、前記ポリマーマトリックスと相溶性のある少なくとも1種類のモノマー、プロカタリストおよびコカタリストを含む第一の材料層を用意しここで、前記ポリマーマトリックスおよび前記少なくとも1種類のモノマーは異なる屈折率を有し、前記コカタリストは、化学線の照射に伴い、前記プロカタリストを潜在活性形態に変換し、前記潜在活性形態は、第一の温度での加熱に伴い、活性形態に変換される;前記第一の材料層の第一の部分に前記化学線を選択的に照射し;前記第一の材料層を前記第一の温度で第一の加熱を行い、前記第一の屈折率を第二の屈折率に変換する光導波路の形成方法。前記プロカタリストは、前記第一の温度よりも高い第二の温度での加熱に伴い、前記化学線の照射なしに、活性形態に変換する請求項56に記載の方法。前記コカタリストは、化学線の照射に伴い、カチオンと弱配位アニオンとを生じる光開始剤を含み、前記プロカタリストは前記弱配位アニオンと関連して前記潜在活性形態に変換される請求項56に記載の方法。前記少なくとも1種類のモノマーは少なくとも1種類のノルボルネン系モノマーを含む請求項56に記載の方法。更に、前記第一の材料層の上に第二の材料層を用意する工程を含み、前記第二の材料層は前記第二の屈折率と異なる第三の屈折率を有する請求項56に記載の方法。前記第二の材料層はポリマーマトリックス、前記第二の材料の前記ポリマーマトリックスと相溶性のある少なくとも1種類のモノマー、プロカタリストおよびコカタリストを含み、前記第二の材料層の前記コカタリストは、化学線の照射に伴い、前記第二の材料層の前記プロカタリストを潜在活性形態に変換し、前記第二の材料層の前記プロカタリストは、第一の温度での加熱に伴って、活性形態に変換され、前記活性形態にある前記第二の材料層の前記プロカタリストは前記第二の材料の前記少なくとも1種類のモノマーを重合する請求項60に記載の方法。前記第二の材料の前記コカタリストは、前記化学線の照射に伴って、カチオンと弱配位アニオンとを生じる光開始剤を含み、前記第二の材料層の前記プロカタリストは前記第二の材料層の前記弱配位アニオンと関連して前記潜在活性形態に変換される請求項61に記載の方法。前記第二の材料層の前記ポリマーマトリックスは、エポキシペンダントグループを有するノルボルネン系の繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーを含む請求項61に記載の方法。更に、前記第一の材料層を前記第二の温度で第二の加熱を行う工程を含む請求項57に記載の方法。前記第一の材料層を、前記第二の温度よりも少なくとも20°C高い第三の温度で第三の加熱を行う請求項64に記載の方法。前記ポリマーマトリックスはノルボルネン系ポリマーである請求項56に記載の方法。前記ポリマーマトリックスは第一の繰り返し単位と第二の繰り返し単位とを含む請求項56に記載の方法。前記第一の繰り返し単位はアルキルノルボルネンの繰り返し単位を含み、前記第二の繰り返し単位はノルボルネン系の繰り返し単位を含む請求項67に記載の方法。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含み、前記ノルボルネン系の繰り返し単位はジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含む請求項68に記載の方法。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返単位を含み、前記ノルボルネン系の繰り返し単位はベンジルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項68に記載の方法。前記アルキルノルボルネンの繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返単位を含み、前記ノルボルネン系の繰り返し単位はフェニルエチルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項68に記載の方法。前記プロカタリストは式32Pd2で表され、式中、E3は第15族の中性電子ドナー配位子であり、Eは周期律表の第15族から選択される元素であり、E3中のRは水素、その同位体およびハイドロカルビルを含む部位の一つであり、Qはカルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子である請求項56に記載の方法。前記プロカタリストは式3aPdbpWCArで表され、式中、E3は第15族の中性電子ドナー配位子であり、Eは第15族の元素であり、Rは水素、その同位体およびアニオン性ハイドロカルビルを含む部位の一つであり、Qはカルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子であり、LBはルイス塩基であり、WCAは弱配位アニオンであり、aは1,2又は3の整数であり、bは0,1又は2の整数であり、aとbの合計は1,2又は3であり、pおよびrはパラジウムカチオンと弱配位アニオンが上記式3aPdbpWCArの構造において電荷のバランスをとる数を表す請求項56に記載の方法。pおよびrはそれぞれ1および2の整数から選択される請求項73に記載の方法。前記第一の屈折率は前記第二の屈折率よりも高く、前記第一の材料層の前記第一の部分は少なくとも1つのクラッド部分を含む請求項56に記載の方法。前記第一の屈折率は前記第二の屈折率よりも低く、前記第一の材料層の前記第一の部分は少なくとも1つのコア部分を含む請求項56に記載の方法。前記少なくとも1種類のモノマーは架橋モノマーを含む請求項56に記載の方法。前記架橋モノマーはノルボルネン系架橋モノマーを含む請求項77に記載の方法。前記第一の材料層は更に酸化防止剤を含む請求項56に記載の方法。前記第一の材料層は更に増感剤を含む請求項56に記載の方法。前記化学線は約200~450nmのピーク波長を有する請求項56に記載の方法。前記照射の工程は、前記第一の材料層の前記第一の部分に、約1~9Jcm2の照射量で、前記化学線を照射する工程を含む請求項56に記載の方法。前記ポリマーマトリックスは、前記照射と第一の加熱の結果として、前記ポリマーマトリックスから少なくとも部分的に脱離して前記第一の材料層から除去される脱離性ペンダントグループを含む請求項56に記載の方法。前記脱離性ペンダントグループはO、SiフェニルおよびOSiからなる群から選択される少なくとも1成分を含む請求項83に記載の方法。前記ポリマーマトリックスはジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含む請求項56に記載の方法。前記ポリマーマトリックスはヘキシルノルボルネンの繰り返し単位とジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位とを含む請求項56に記載の方法。前記第二の材料層はポリマーマトリックスと、化学線照射に伴ってカチオンおよび弱配位アニオンを生じる光開始剤とを含む請求項60に記載の方法。前記第二の材料層は、さらに前記第二の材料層の前記ポリマーマトリックスと相溶性のある少なくとも1種類のモノマーと;前記弱配位アニオンと関連して潜在活性形態に変換され、且つ前記第一の加熱に伴って前記第二の材料層の前記少なくとも1種類のモノマーを重合するプロカタリストと;を含む請求項87に記載の方法。前記照射の工程は前記第一の材料層をマスクエレメントでマスクする工程を含み、このマスクエレメントは、前記第一の材料層のうちの化学線に晒される前記第一の部分に対応する非マスク部分を有している請求項56に記載の方法。少なくとも1個のクラッド部分と横に隣接する少なくとも1個のコア部分とを含む導波路層を含む光導波路であって、前記少なくとも1個の横に隣接するコア部分は第一のポリマー材料を含み、この第一のポリマー材料は第一の繰り返し単位を含み、前記第一の繰り返し単位のそれぞれは脱離性ペンダントグループを有しており、前記少なくとも1個のクラッド部分は前記第一のポリマー材料を含み、前記脱離性ペンダントグループは、少なくとも部分的に、前記第一の繰り返し単位の少なくとも一部が欠落しており、前記少なくとも1個の横に隣接するコア部分の第一の屈折率は前記少なくとも1個のクラッド部分の第二の屈折率よりも高くなっている光導波路。前記第一のポリマー材料はノルボルネン系ポリマーである請求項90に記載の光導波路。前記第一のポリマー材料は更に第二の繰り返し単位を含む請求項90に記載の光導波路。前記第一の繰り返し単位はジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含み、前記第二の繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含む請求項92に記載の光導波路。前記第一のポリマー材料は更に少なくとも1種類のモノマーに由来する繰り返し単位を含み、前記少なくとも1種類のモノマーは前記第一のポリマー材料の屈折率よりも低い屈折率を有しており、前記少なくとも1個のクラッド部分は、前記少なくとも1種類のモノマーに由来する前記繰り返し単位の濃度が、前記少なくとも1個の横に隣接するコア部分よりも、高くなっている請求項90に記載の光導波路。前記少なくとも1種類のモノマーはノルボルネン系モノマーである請求項94に記載の光導波路。前記少なくとも1種類のモノマーは架橋モノマーである請求項94に記載の光導波路。前記架橋モノマーはノルボルネン系架橋モノマーを含む請求項96に記載の導波路。前記第一のポリマー材料はホモポリマー、コポリマーおよび三元重合体のうちの一つを含む請求項90に記載の光導波路。前記光導波路はさらにプロカタリストおよびその残渣の少なくとも1個を含んでいる請求項90に記載の光導波路。前記プロカタリストは式32Pd2で表され、式中、E3は第15族の中性電子ドナー配位子であり、Eは周期律表の第15族から選択される元素であり、E3中のRは水素、その同位体およびハイドロカルビルを含む部位の一つであり、Qはカルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子である請求項99に記載の光導波路。前記プロカタリストは式3aPdbpWCArで表され、式中、E3は第15族の中性電子ドナー配位子であり、Eは周期律表の第15族から選択される元素であり、Rは水素、その同位体およびアニオン性ハイドロカルビルを含む部位の一つであり、Qはカルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子であり、LBはルイス塩基であり、WCAは弱配位アニオンであり、aは1,2又は3の整数であり、bは0,1又は2の整数であり、aとbの合計は1,2又は3であり、pおよびrはパラジウムカチオンと弱配位アニオンが上記式3aPdbpWCArの構造において電荷のバランスをとる数を表す請求項99に記載の光導波路。pおよびrはそれぞれ1および2の整数から選択される請求項101に記載の光導波路。さらに酸化防止剤を含む請求項90に記載の光導波路。前記脱離性ペンダントグループはO、SiフェニルおよびOSiからなる群から選択される少なくとも1種類の成分を含む請求項90に記載の光導波路。さらに前記導波路層の上に配置されたクラッド層を含む請求項90に記載の光導波路。前記クラッド層はノルボルネン系ポリマーを含む請求項105に記載の光導波路。更に前記光導波路層を支持する基板を含む請求項90に記載の光導波路。第一の屈折率を有するフィルムを用意しここで、前記フィルムは、ポリマーマトリックスおよび光開始剤を含み、前記ポリマーマトリックスは少なくとも一部が脱離性ペンダントグループを有する繰り返し単位を含み、前記光開始剤は化学線の照射に伴いカチオンと弱配位アニオンとを生じる;前記フィルムの第一の部分に前記化学線を選択的に照射し;前記フィルムを第一の温度で加熱し、前記繰り返し単位の少なくとも一部の前記脱離性ペンダントグループは、前記照射および加熱の結果として、少なくとも部分的に脱離して前記第一の部分から除去され、これによって前記第一の屈折率を第二の屈折率に変化させる光導波路の形成方法。前記繰り返し単位はノルボルネン系の繰り返し単位である請求項108に記載の方法。前記ノルボルネン系の繰り返し単位はヘキシルノルボルネンの繰り返し単位および/またはジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランの繰り返し単位を含む請求項109に記載の方法。前記フィルムは、さらに、少なくとも1種類のモノマーとプロカタリストとを含み、前記プロカタリストは前記弱配位アニオンと関連して潜在活性形態に変換され、前記第一の温度での加熱に伴って活性形態に変換され、前記活性形態の前記プロカタリストは前記少なくとも1種類のモノマーを重合する請求項108の方法。前記少なくとも1種類のモノマーはノルボルネン系モノマーを含む請求項111に記載の方法。前記少なくとも1種類のモノマーは架橋モノマーを含む請求項111に記載の方法。前記架橋モノマーはノルボルネン系架橋モノマーを含む請求項113に記載の方法。前記プロカタリストは、前記第一の温度よりも高い第二の温度への加熱に伴い、前記化学線の照射なしに、活性形態に変換される請求項111に記載の方法。さらに、前記フィルムを前記第二の温度に加熱する工程を含む請求項115に記載の方法。さらに、前記フィルムを、前記第二の温度よりも少なくとも20°C高い第三の温度に加熱する工程を含む請求項116に記載の方法。前記フィルムは更に酸化防止剤を含む請求項108に記載の方法。前記プロカタリストは式32Pd2で表され、式中、E3は第15族の中性電子ドナー配位子であり、Eは周期律表の第15族から選択される元素であり、E3中のRは水素、その同位体およびハイドロカルビルを含む部位の一つであり、Qはカルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子である請求項111に記載の方法。前記プロカタリストは式3aPdbpWCArで表され、式中、E3は第15族の中性電子ドナー配位子であり、Eは周期律表の第15族から選択される元素であり、Rは水素、その同位体、およびアニオン性ハイドロカルビルを含む部位の一つであり、Qはカルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子であり、LBはルイス塩基であり、WCAは弱配位アニオンであり、aは1,2又は3の整数であり、bは0,1又は2の整数であり、aとbの合計は1,2又は3であり、pおよびrはパラジウムカチオンと弱配位アニオンが上記式3aPdbpWCArの構造において電荷のバランスをとる数を表す請求項111に記載の方法。pおよびrはそれぞれ1および2の整数から選択される請求項120に記載の方法。前記化学線は約200~450nmのピーク波長を有する請求項108に記載の方法。前記照射の工程は、前記フィルムの前記第一の部分に、約1~9Jcm2の照射量で照射する工程を含む請求項108に記載の方法。前記脱離性ペンダントグループはO、SiフェニルおよびOSiからなる群から選択される少なくとも1成分を含む請求項108に記載の方法。さらに前記フィルムの上に第二のフィルムを用意する工程を含み、前記第二のフィルムはポリマーマトリックスおよび光開始剤を含み、前記第二のフィルムの前記ポリマーマトリックスは少なくともその一部が脱離性ペンダントグループを有する繰り返し単位を含み、前記第二のフィルムの前記光開始剤は、化学線の照射に伴って、カチオンと弱配位アニオンとを生じる請求項108に記載の方法。前記脱離性ペンダントグループはO、SiフェニルおよびOSiからなる群から選択される少なくとも1成分を含む請求項125に記載の方法。前記第一の部分は前記光導波路構造のクラッド部分を含む請求項108に記載の方法。前記照射の工程は、前記第一の部分に対応する非マスク部分を有するマスクエレメントで前記フィルムをマスクする工程を含む請求項108に記載の方法。前記フィルムは更に増感剤を含む請求項108に記載の方法。実施例C1Pd232の調製0089漏斗を装備した窒素充填フラスコに、P3のCH2Cl2溶液を、Pd2とCH2Cl2からなる78°Cの攪拌した赤茶色懸濁液に滴下した。この懸濁液は徐々に黄緑色の溶液に透き通り、その後、室温に暖め、2時間攪拌した。その後、045μmのフィルターでろ過した。ろ液を10mLに濃縮し、そしてヘキサン20mLを加えると黄色の固体が得られた。これをろ過し空気中、ヘキサンで洗浄し、真空乾燥させた。収率は10937gであった。NMRデータは次のようになった。1HNMR13717721231PNMR329。実施例C2Pd232の調製0090漏斗を装備した2口丸底フラスコで、Pd2とCH2Cl2からなる赤茶色懸濁液を78°Cで攪拌した。漏斗に、P3のCH2Cl2溶液を入れ、そして、15分かけて上記攪拌懸濁液に滴下した。その結果、徐々に赤褐色から黄色に変化した。78°Cで1時間攪拌した後、懸濁液を室温に温め、さらに2時間攪拌して、ヘキサン20mLで希釈した。次に、この黄色の固体を空気中でろ過し、ペンタンで洗浄し、真空乾燥させた。2次収集物はろ液を0°Cに冷却して分離し、上記同様に洗浄して乾燥させた。収率は1542gであった。NMRのデータは次のようになった。1HNMR11813216918018420031PNMR212。実施例C3transPd232の調製0091Pd2をシュレンカーフラスコ中でCH2Cl2に分散させ、フラスコの内容物を78oCに冷却し攪拌させた。この溶液にP3のCH2Cl2溶液を注射器で加え、78oCで1時間そして室温で2時間、攪拌した。ヘキサンを反応混合液に加え、表題の黄色の固体の複合体を得た。その固体をろ過し、ヘキサンで洗浄し、減圧下で乾燥させた。ろ液から溶媒を除去し、オレンジ色の固体を得、これを次にCHCl3ヘキサン混合液に溶解し、得られた溶液をドラフト内で蒸発させて表記の複合体をさらに得た。全収率は2039gであった。C46H84O4P2Pdとして計算するとCは6354でHは974である。実施例C4Pd232の調製0092窒素充填フラスコに、Pd2のCH2Cl2の赤褐色懸濁液を78°Cで攪拌した。カニューレで、P3をCH2Cl2に溶解して上記懸濁液に10分かけて滴下した。その結果、徐々に赤褐色から黄色に変化した。懸濁液を室温に温め、さらに1時間攪拌した。溶媒を濃縮してヘキサンを加えると黄色の固体が得られた。それを空気中でろ過し、ヘキサンで洗浄し、真空乾燥させた。2次収集物はろ液を0°Cに冷却して分離し、実施例3と同様に、ろ過し、洗浄し、乾燥させた。収率は488gであった。NMRのデータは次のようになった:1HNMR15215616717217418518919619920320931PNMR224。ポリマー実施例P1P6、P8およびP90093実施例P1P6、P8およびP9は、本発明に従って使用されるマトリックスポリマーとして有用なノルボルネン系ポリマーの合成を示す。実施例P1ヘキシルノルボルネンジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランコポリマーの合成0094HxNBdiPhNB1ヘキセンおよびトルエンを250mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで120°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd2テトラキスボレートおよびNNジメチルアニリニウムテトラキスボレートを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を120°Cで6時間維持した。勢いよく攪拌された混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体はろ過して集め、80°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は120gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒中でGPCにより測定すると、Mw16196およびMn8448であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、5446HxNBdiPhNBであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15569であり、TMモードで15555であった。乾燥させた共重合体を十分なメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。実施例P2ヘキシルノルボルネンフェネチルノルボルネンコポリマーの合成0095HxNB、フェニルエチルノルボルネン1ヘキセンおよびトルエンを250mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで120°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を120°Cで1時間維持した。室温に冷却した後、反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体はろ過して集め、80°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥された共重合体をメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。乾燥後の重量は80gであった。ポリマーの分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw127332およびMn39206であった。ポリマーの組成を1HNMRで測定すると、1HNMRHxNBPENB2278であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、5446=HxNBdiPhNBであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15601であり、TMモードで15585であった。乾燥させた共重合体を十分なメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。実施例P3HxNBdiPhNBコポリマーの合成0096HxNBdiPhNB1ヘキセンおよびトルエンを秤量し、250mLのシーラムボトルに入れて、オイルバスで80°Cに加熱した。この溶液にPd1446およびDANFABAを添加した。ノルボルネンモノマー/Pd1446/DANFABAの比率は25K/1/1であった。混合物を80°Cで7時間維持し、その後、20mLのアセトニトリルを加えてPd触媒の活性を消失させた。その後、反応混合物にメタノールを滴下するとポリマーが沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、65°Cのオーブンで真空で乾燥させた。この共重合体をメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。乾燥後の重量は198gであった。このポリマーの分子量をポリスチレンを使用したTHFでGPC法で測定すると、Mw86186およびMn21602であった。ポリマーのHxN2B/diPhNB比率は1HNMRで測定され、HxNBdiPhNB4654であった。このポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定すると、波長633nmで、TEモードで15569であり、TMモードで15556であった。ポリマーの熱機械分析TMA測定に基づくTgは203°Cであった。乾燥させた共重合体を十分なメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。実施例P4HxNBdiPhNBコポリマーの合成0097HxNBdiPhNB1ヘキセンandトルエンを250mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを添加した。添加後、得られた溶液を80°Cで6時間維持した。その後、20mLのアセトニトリルを加えてPd触媒の活性を消失させた。その後、反応混合物にメタノールを滴下するとポリマーが沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、65°Cのオーブンで真空で乾燥させた。この共重合体をメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。共重合体の分子量をポリスチレンを使用してTHFでGPC法で測定すると、Mw20586およびMn11613であった。ポリマーのHxNB/diPhNB比率を1HNMRで測定すると、HxNBdiPhNB6040であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、5446=HxNBdiPhNBであった。ポリマーの屈折率はプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15547であり、TMモードで15540であった。乾燥させた共重合体を十分なメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。実施例P5ヘキシルノルボルネンジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランコポリマーの合成0098HxNBdiPhNB1ヘキセンおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、添加した。添加後、得られた溶液を80°Cで6時間維持した。勢いよく攪拌された混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は193gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw58749およびMn18177であった。ポリマーの組成を1HNMRで測定すると、HxNBdiPhNB=5347であった。このポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定すると、波長633nmで、TEモードで15572であり、TMモードで15558であった。乾燥させた共重合体を十分なメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。実施例P6ブチルノルボルネンジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランコポリマーの合成0099ブチルノルボルネンdiPhNB1ヘキセンおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、添加した。添加後、得られた溶液を80°Cで2時間維持した。勢いよく攪拌した混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は75gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw32665およびMn19705であった。ポリマーの組成を1HNMRで測定すると、HxNBdiPhNB=2872であった。このポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定すると、波長633nmで、TEモードで15785であり、TMモードで15771であった。乾燥させた共重合体を十分なメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。実施例P8ヘキシルノルボルネンホモポリマーの合成0100HxNB1ヘキセンおよびトルエンを250mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、添加した。添加後、得られた溶液を80°Cで40分間維持した。勢いよく攪拌した混合物にメタノールを滴下するとホモポリマーが沈殿した。沈殿したホモポリマーをろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は58gであった。ホモポリマーの分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw121541およびMn59213であった。このポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定すると、波長633nmで、TEモードで15146であり、TMモードで15129であった。ポリマーの熱機械分析TMA測定に基づくTgは208°Cであった。乾燥させた共重合体を十分なメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。実施例P9ヘキシルノルボルネンジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランコポリマーの合成0101HxNB、diPhNBCAS376634343、1ヘキセンおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびNNジメチルアニリニウムテトラキスボレートを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、添加した。添加後、得られた溶液を80°Cで2時間維持した。勢いよく攪拌した混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は190gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw118000およびMn60000であった。ポリマーの組成を1HNMRで測定すると、HxNBdiPhNB=3268であった。このポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定すると、波長633nmで、TEモードで15695であり、TMモードで15681であった。乾燥させた共重合体はメシチレンに溶解して10wtのコポリマー溶液とした。実施例P11P340102実施例P11P34は本発明に従ったマトリックスポリマーとして有用なノルボルネン系ポリマーの合成を示す。実施例P11ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランホモポリマーP11の合成0103diPhNB、1ヘキセンおよびトルエンを250mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd2テトラキスボレートおよびNNジメチルアニリニウムテトラキスボレートを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで4時間維持した。勢いよく攪拌した混合物にメタノールを滴下するとホモポリマーが沈殿した。沈殿したホモポリマーをろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は150gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw91000およびMn44000であった。実施例P12ヘキシルノルボルネンジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランコポリマーの合成0104HxNB、diPhNB、1ヘキセンおよびトルエンを250mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd2テトラキスボレートおよびNNジメチルアニリニウムテトラキスボレートを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで35時間維持した。勢いよく攪拌した混合物にメタノールを滴下するとコポリマーが沈殿した。沈殿したコポリマーをろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は186gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw102000およびMn38000であった。コポリマーの組成を1HNMRで測定すると5446=HxNBdiPhNBであった。乾燥させた共重合体を十分なメシチレンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P13ブチルノルボルネンジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランコポリマーの合成0105ブチルノルボルネン、diPhNB、1ヘキセンおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで2時間維持した。勢いよく攪拌した混合物にメタノールを滴下するとコポリマーが沈殿した。沈殿したコポリマーをろ過して集め、60°Cのオーブンで真空乾燥させた。乾燥後の重量は75gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw32665およびMn19705であった。コポリマーの組成を1HNMRで測定すると2872HxNBdiPhNBであった。このポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定すると、波長633nmで、TEモードで15785であり、TMモードで15771であった。実施例P14ヘキシルノルボルネンジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランコポリマーの合成0106HxNB、diPhNB、1ヘキセンおよびトルエンを250mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで2時間維持した。勢いよく攪拌した混合物にメタノールを滴下するとコポリマーが沈殿した。沈殿したコポリマーをろ過して集め、60°Cのオーブンで真空乾燥させた。乾燥後の重量は77gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw82000およびMn40000であった。コポリマーの組成を1HNMRで測定すると8911HxNBdiPhNBであった。このポリマーの屈折率はプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15238であり、TMモードで15225であった。乾燥させた共重合体を十分なメシチレンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P15ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランホモポリマーの合成0107diPhNB、1ヘキセンおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで4時間維持した。勢いよく攪拌した混合物にメタノールを滴下するとホモポリマーが沈殿した。沈殿したホモポリマーをろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は2518gであった。ホモポリマーの分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw54000およびMn29000であった。得られたコポリマーの組成を1HNMRで測定するとdiPhNBホモポリマーであった。このポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定すると、波長633nmで、TEモードで15926であり、TMモードで15910であった。乾燥させたホモポリマーを十分なトルエンに溶解して30wtのホモポリマー溶液とした。実施例P16ブチルノルボルネンフェニルエチルノルボルネンコポリマーの合成0108BuNB、PENB、1ヘキセンおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで50分維持した。勢いよく攪拌された混合物にメタノールを滴下するとコポリマーが沈殿した。沈殿したコポリマーをろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は2360gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw73000およびMn28000であった。コポリマーの組成を1HNMRで測定すると1585=BuNBPENBコポリマーであった。このポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定すると、波長633nmで、TEモードで15684であり、TMモードで15657であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P17ヘキシルノルボルネンフェニルエチルノルボルネンコポリマーの合成0109HxNB、PENB、1ヘキセンおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで50分維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体はろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は2221gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw95000およびMn26000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR1783=HxNBPENBであった。ポリマーの屈折率はプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15477であり、TMモードで15454であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P18デシルノルボルネンフェニルエチルノルボルネンコポリマーの合成0110デシルノルボルネン、PENB、1ヘキセンおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで50分維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は1974gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw78000およびMn36000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR1981=DeNBPENBであった。ポリマーの屈折率はプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15640であり、TMモードで15622であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P19ベンジルノルボルネンホモポリマーの合成ベンジルノルボルネン、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで15時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下するとホモポリマーが沈殿した。沈殿したホモポリマーをろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は1507gであった。ホモポリマーの分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw46000およびMn28000であった。ホモポリマーの組成を1HNMRで測定すると、BzNBホモポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15778であり、TMモードで15757であった。乾燥させたホモポリマーを十分なトルエンに溶解して30wtのホモポリマー溶液とした。実施例P20ヘキシルノルボルネンベンジルノルボルネンコポリマーの合成0112HxNB、BzNB、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで15時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は1859gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw52000およびMn30000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR3565=HxNBBzNBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15597であり、TMモードで15579であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P21デシルノルボルネン/ベンジルノルボルネンコポリマーの合成0113DeNB、BzNB、1ヘキセンおよびトルエンを500mLのシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた溶液を80°Cで15時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は2073gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw64000およびMn31000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR2773=DeNBBzNBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15680であり、TMモードで15662であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P22ブチルノルボルネン/メチルグリシジルエーテルノルボルネンコポリマーの合成0114BuNB、メチルグリシジルエーテルノルボルネンおよびトルエンをシーラムボトルで混合し、オイルバスで80°Cに加熱して溶液を形成した。この溶液にNi2のトルエン溶液を加えた。添加後、得られた溶液を室温で4時間維持した。トルエン溶液870gを反応溶液に加えた。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は1274gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw75000およびMn30000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR7822=BuNBAGENBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15162であり、TMモードで15157であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P23ヘキシルノルボルネン/メチルグリシジルエーテルノルボルネンコポリマーの合成0115HxNB、AGENB、トルエンをドライボックス内のシーラムボトルに加えた。この溶液を80°Cのオイルバス中で攪拌した。この溶液にNi2のトルエン溶液を加えた。添加後、得られた混合物を室温で4時間維持した。トルエン溶液870gを反応溶液に加えた。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は1378gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw78000およびMn33000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR7921=HxNBAGENBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15159であり、TMモードで15153であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P24デシルノルボルネン/メチルグリシジルエーテルノルボルネンコポリマーの合成0116DeNB、AGENBおよびトルエンをドライボックス内のシーラムボトルに加えた。この溶液を80°Cのオイルバス中で攪拌した。この溶液にNi2のトルエン溶液を加えた。添加後、得られた混合物を室温で4時間維持した。トルエン溶液870gを反応溶液に加えた。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は1700gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw75000およびMn30000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR7723=DeNBAGENBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15153であり、TMモードで15151であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P25ブチルノルボルネン/ノルボルネニルエチルトリメトキシシランコポリマーの合成0117BuNB、ノルボルネニルエチルトリメトキシシラン、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを、300mLのシーラムボトル内で混合し、オイルバスで80°Cで加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた混合物を80°Cで4時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は2260gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw20000およびMn13000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR919=BuNBTMSENBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15106であり、TMモードで15105であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P26ヘキシルノルボルネン/ノルボルネニルエチルトリメトキシシランコポリマーの合成0118HxNB、TMSENB、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを、300mLのシーラムボトル内で混合し、オイルバスで80°Cで加熱して溶液を形成した。この溶液にPd32テトラキスボレートを、濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた混合物を80°Cで4時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は330gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw53000およびMn33000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR937=HxNBTMSENBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15126であり、TMモードで15114であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P27デシルノルボルネン/ノルボルネニルエチルトリメトキシシランコポリマーの合成0119DeNB、TMSENB、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを、500mLのシーラムボトル内で混合し、オイルバスで80°Cで加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた混合物を80°Cで4時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は122gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw34000およびMn24000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR7723=DeNBTMSENBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15063であり、TMモードで15062であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P28ブチルノルボルネン/トリエトキシシリルノルボルネンコポリマーの合成0120BuNB、トリエトキシシリルノルボルネン、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを、500mLのシーラムボトル内で混合し、オイルバスで80°Cで加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1206を、濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた混合物を80°Cで9時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は2058gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw238000およびMn96000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、8515=BuNBTESNBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15061であり、TMモードで15041であった。ポリマーの熱機械分析TMA測定に基づくTgは276°Cであった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P29ヘキシルノルボルネン/トリエトキシシリルノルボルネンコポリマーの合成0121HxNB、TESNB、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを、500mLのシーラムボトル内で混合し、オイルバスで80°Cで加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446を、濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた混合物を80°Cで9時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は731gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw234000およびMn110000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、8317=HxNBTESNBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15053であり、TMモードで15042であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P30デシルノルボルネン/トリエトキシシリルノルボルネンコポリマーの合成0122DeNB、TESNB、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを、500mLのシーラムボトル内で混合し、オイルバスで80°Cで加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446を、濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた混合物を80°Cで9時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は1801gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw283000およびMn118000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、1HNMR8416=DeNBTESNBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15034であり、TMモードで15018であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P31ブチルノルボルネン/トリメトキシシリルノルボルネンコポリマーの合成0123BuNB、トリメトキシシリルノルボルネン、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを、500mLのシーラムボトル内で混合し、オイルバスで80°Cで加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた混合物を80°Cで4時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は155gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw48000およびMn27000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、4753=BuNBTMSNBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15093であり、TMモードで15089であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P32ヘキシルノルボルネン/トリメトキシシリルノルボルネンコポリマーの合成0124HxNB、TMSNB、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを、500mLのシーラムボトル内で混合し、オイルバスで80°Cで加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およぼDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた混合物を80°Cで4時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は177gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw55000およびMn27000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、4654=HxNBTMSNBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15081であり、TMモードで15078であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P33デシルノルボルネン/トリメトキシシリルノルボルネンコポリマーの合成0125DeNB、TMSNB、トリエチルシラン、エタノールおよびトルエンを、500mLのシーラムボトル内で混合し、オイルバスで80°Cで加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた混合物を80°Cで4時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は210gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw82000およびMn31000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、4654=DeNBTMSNBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15029であり、TMモードで15016であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。実施例P34ヘキシルノルボルネン/ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン/ノルボルネニルエチルトリメトキシシランターポリマーの合成0126HxNB、diPhNB、TMSENB、1ヘキセンおよびトルエンを、500mLのシーラムボトル内で混合し、オイルバスで80°Cで加熱して溶液を形成した。この溶液にPd1446およびDANFABAを、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液の形態で、加えた。添加後、得られた混合物を80°Cで35時間維持した。勢いよく攪拌した反応混合物にメタノールを滴下すると共重合体が沈殿した。沈殿した共重合体をろ過して集め、60°Cのオーブンで真空で乾燥させた。乾燥後の重量は1026gであった。共重合体の分子量をTHF溶媒でGPCで測定すると、Mw105000およびMn54000であった。共重合体の組成を1HNMRで測定すると、38548=HxNBdiPhNBTMSENBコポリマーであった。ポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmで、TEモードで15586であり、TMモードで15572であった。乾燥させた共重合体を十分なトルエンに溶解して30wtのコポリマー溶液とした。上記のポリマーを表1に要約する。表1ワニス溶液実施例V1V13、V3848およびV63660128実施例V1V13、V3848およびV6366は、本発明の実施例による、マトリックスポリマー、ノルボルネン系モノマー、プロカタリスト、酸発生剤、任意成分の酸化防止剤および溶剤を含むワニス溶液の処方を示す。なお、下記のワニス溶液の各々は感光性材料を含んでいるので、イエローライトの下で溶液を調製した。実施例V1HxNBおよびビスノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量し、ガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のP1コポリマー溶液300gに、このモノマー酸化防止剤溶液30g、Pd22、RHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えて、ワニス溶液を形成した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V2SiXを秤量しガラス瓶にいれた。このSiXに、Irganox1076およびIrgafos168を加え、SiX溶液を得た。SiX溶液、Pd785ストック溶液、Rhodorsil2074ストック溶液およびP2コポリマー溶液を混合してワニス溶液V2を得た。コポリマー/モノマーの重量比は1/1であり、モノマー/Pd触媒/光酸発生剤PAGのモル比は25K/1/4であった。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V3HxNBおよびSiXを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。コポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液30g、Pd785、RHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えて、ワニス溶液V3を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V4コポリマー溶液300gを、15gのP3および15gのP4とした以外はV3と同様にしてワニス溶液V4を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V5コポリマー溶液300gを、20gのP3および10gのP4とした以外はV3と同様にしてワニス溶液V5を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V6コポリマー溶液300gを、30gのP3とした以外はV3と同様にしてワニス溶液V6を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V7HxNBおよびノルボルネニルエチルメトキシシランNorbornenylethyltrimethoxysilane、TMSENBCAS68245192を秤量し、ガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。表1に示すように、上記のように調製したコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液30g、Pd785RHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えて、ワニス溶液V7を形成した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V8HxNBおよびSiXを秤量し、ガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のように調製したコポリマー溶液183gに、モノマー酸化防止剤溶液306g、Pd785、RHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074およびメシチレン130gを加えてワニス溶液を得た。実施例V9HxNBおよびSiXを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のように調製したコポリマー溶液915gに、モノマー酸化防止剤溶液153g、Pd785、RHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074およびメシチレン0645gを加えてワニス溶液を得た。実施例V10HxNBおよびSiXを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のように調製したコポリマー溶液20gに、モノマー酸化防止剤溶液24g、Pd785、RHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074およびトルエン25gを加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V11HxNBおよびSiXを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のように調製したコポリマー溶液20gに、モノマー酸化防止剤溶液24g、Pd785、RHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074およびトルエン612gを加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を5ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V12HxNBおよびSiXを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のように調製したコポリマー溶液30gに、モノマー酸化防止剤溶液10g、Pd22、RHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074およびトルエン50gを加えてワニス溶液を得た。実施例V13HxNBおよびを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のように調製したコポリマー溶液30gに、モノマー酸化防止剤溶液20g、Pd22、TAG372R光酸発生剤およびトルエン100g加えてワニス溶液を得た。ワニス溶液13を4インチのSiO2コーティング板に注ぎ、乾燥フィルムを形成させた。ポリマーの熱機械分析TMA測定に基づくTgは251°Cであった。実施例V38HxNBおよびbisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記コポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液216g、Pd22、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V39HxNBおよびbisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記コポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液216g、Pd22、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V40HxNBおよびbisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液216g、Pd22、DBAおよびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V41HxNBおよびbisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液216g、Pd22、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V42HxNBおよびbisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液216g、Pd22、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V43HxNBおよびbisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液216g、Pd22、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V44bisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液144g、Pd322、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V45bisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のように調製したコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液144g、Pd322、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V46bisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液144g、Pd322、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V47HxNBを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液216g、Pd22、およびTAG372R光酸発生剤を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V48bisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液144g、Pd322、およびTAG372R光酸発生剤を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V63bisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液144g、Pd22、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V64トリメトキシシリルエチルノルボルネンおよびbisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液216g、Pd22、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V65トリメトキシシリルエチルノルボルネンおよびbisノルボルネンメトキシジメチルシランを秤量しガラス瓶にいれた。このモノマー溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168を加え、モノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液300gに、モノマー酸化防止剤溶液216g、Pd22、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V66コポリマーP145gに、メシチレン20g、IRGANOX登録商標1076Ciba登録商標IRGAFOS登録商標168、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。表23および4は上記各ワニス溶液の組成の要約を示す。表2表3表4注:RはRhodorsil2074を使用したことを示し、TはTAG372Rを使用したことを示す。実施例V21V31、V5155、V61およびV62実施例V21V31、V5155、V61およびV62は、本発明の実施例によるマトリックスポリマー、酸発生剤、任意成分の酸化防止剤および溶剤を含むワニス溶液の処方を示す。なお、下記のワニス溶液の各々は感光性材料を含んでいるので、イエローライトの下で溶液を調製した。実施例V215gのコポリマーP12に20gのメシチレン、005gのIrganox1076、00125gのIrgafos168およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V225gのコポリマーP13に20gのメシチレン、005gのIrganox1076、00125gのIrgafos168およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V235gのコポリマーP14に20gのメシチレン、005gのIrganox1076および00125gのIrgafos168を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V2409gのホモポリマーP11に36gのメシチレン、90E3gのIrganox1076、23E3gのIrgafos168およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V2509gのホモポリマーP11に36gのメシチレン、90E3gのIrganox1076、23E3gのIrgafos168およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V2609gのホモポリマーP11に36gのメシチレン、90E3gのIrganox1076、23E3gのIrgafos168およびTAG372R光酸発生剤2オキソエチルスルフォニウムテトラキスボレート、CASNo193957549、日本国東京の東洋インキ製造社より入手を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V2709gのホモポリマーP11に36gのメシチレン、90E3gのIrganox1076、23E3gのIrgafos168およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V2809gのホモポリマーP11に36gのメシチレン、90E3gのIrganox1076、23E3gのIrgafos168およびTAG372R光酸発生剤2オキソエチルスルフォニウムテトラキスボレート、CASNo193957549、日本国東京の東洋インキ製造社より入手を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V2909gのホモポリマーP11に36gのメシチレン、90E3gのIrganox1076、23E3gのIrgafos168およびTAG372R光酸発生剤2オキソエチルスルフォニウムテトラキスボレート、CASNo193957549日本国東京の東洋インキ製造社より入手を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V3009gのホモポリマーP11に36gのメシチレン、90E3gのIrganox1076、23E3gのIrgafos168およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V3109gのホモポリマーP11に36gのメシチレン、90E3gのIrganox1076、23E3gのIrgafos168およびTAG372R光酸発生剤2オキソエチルスルフォニウムテトラキスボレート、CASNo193957549、日本国東京の東洋インキ製造社より入手を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V5140gのホモポリマーP15の溶液に、RHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR2074を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V5240gのホモポリマーP15の溶液に、TAG372R光酸発生剤を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V5340gのホモポリマーP15の溶液に、TAG371光酸発生剤を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V5440gのホモポリマーP15の溶液に、トリススルホニウムテトラキスボレート光酸発生剤TTBPSTPFPB、日本国東京の東洋合成工業株式会社より入手を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V5540gのホモポリマーP15の溶液に、NAI105光酸発生剤CAS85342627、日本国東京のみどり化学工業株式会社より入手を加えてワニス溶液を調製した。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターに通して使用に供した。実施例V61167gのコポリマーP24の溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168両方ともニューヨーク州タリータウンのCibaSpecialtyChemicalsCorporationから入手、およびRHODORSIL登録商標PHOTOINITIATOR207401g、メチレンクロライド05mL中を加えて、ワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。実施例V62167gのコポリマーP24の溶液に、2種類の酸化防止剤、即ちCiba登録商標IRGANOX登録商標1076およびCiba登録商標IRGAFOS登録商標168両方ともニューヨーク州タリータウンのCibaSpecialtyChemicalsCorporationから入手、およびTAG372R光酸発生剤2オキソエチルスルフォニウムテトラキスボレート、CASNo193957549日本国東京の東洋インキ製造株式会社より入手を加えて、ワニス溶液を得た。このワニス溶液を02ミクロンの細孔のフィルターでろ過して使用した。表5は上記ワニス溶液の組成の要約を示す。表5導波路実施例WG1WG5実施例WG1~WG5は、本発明に従った単層および三層の導波路構造の作製を示す。導波路を形成するための下記実施例において使用した各ワニス溶液は感光材料を含んでいるので、イエローライトの下で調製した。実施例WG1単層の導波路構造の調製適切にろ過したワニス溶液を、4のガラス板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定の厚さに広げた。その後、このコーティングされたガラス板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。フィルムにフォトマスクを通してUV光を照射し、次にオーブン中で85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分加熱した。導波路パターンは、第一の加熱後、目視できた。実施例WG2三層の導波路構造の調製ワニス溶液V8を厚さ250ミクロンのPETフィルム上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、ワニス溶液V9を第一の層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。最後に、ワニス溶液V8を第二の層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、このコーティングされたPETフィルムを、ホットプレート上に置き、50°Cで30分間加熱してトルエンを蒸発させて固体の積層フィルムを得た。このフィルムに、ポジ型フォトマスクを通してUV光を照射し、次に、ホットプレート上で45°Cで30分、続いて85°Cで30分間、さらに150°Cで60分間加熱した。45°Cのホットプレートに10分間置いた時点でフィルムに導波路パターンが目視できた。この導波路の伝播損失Propagationlossを、カットバック法で測定したところ、60dBcmであった。実施例WG3三層の導波路構造の調製ワニス溶液V11を厚さ250ミクロンのPETフィルム上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、ワニス溶液V10を第一の層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。最後に、ワニス溶液V11を第二の層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、このコーティングされたPETフィルムを、ホットプレート上に置き、50°Cで45分間加熱してトルエンを蒸発させて固体の積層フィルムを得た。このフィルムに、ポジ型フォトマスクを通してUV光を照射し、次に、オーブンで50°Cで30分、続いて85°Cで30分間、さらに150°Cで60分間加熱した。50°Cのオーブンに10分間置いた時点でフィルムに導波路パターンが目視できた。この導波路の伝播損失Propagationlossを、カットバック法で測定したところ、30dBcmであった。実施例WG4三層の導波路構造の調製ワニス溶液V13を厚さ250ミクロンのPETフィルム上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、ワニス溶液V12を第一の層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。最後に、ワニス溶液V13を第二の層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、このコーティングされたPETフィルムを、ホットプレート上に置き、50°Cで45分間加熱してトルエンを蒸発させて固体の積層フィルムを得た。このフィルムに、ポジ型フォトマスクを通してUV光を照射し、次に、オーブンで50°Cで30分、続いて85°Cで30分間、さらに150°Cで60分間加熱した。50°Cのオーブンに10分間置いた時点でフィルムに導波路パターンが目視できた。実施例WG5三層の導波路構造の調製Avatrel登録商標2000P溶液を4のガラス板上に注ぎ、スピンコーターで実質的に一定厚さに広げた。次に、これをホットプレートに置いて100°Cで10分間加熱し、これにフォトマスクなしでUV光を照射した。続いて、110°Cで15分間、その後160°Cで1時間硬化させた。次に、ワニス溶液V12を、硬化させたAvatrel2000P層の表面に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、このコーティングされたガラス板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。次の日、ワニス溶液V12から形成したこの固体フィルムに、フォトマスクを通してUV光を照射し、室温で30分間熟成させ、次に85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分間加熱した。導波路パターンは、85°Cで30分間加熱した時点で目視できた。次に、Avatrel2000P溶液をワニス溶液V12から形成された硬化層の表面に注ぎ、スピンコーターで実質的に一定厚さに広げた。このコーティングされたガラス板をホットプレートに置いて100°Cで10分間加熱し、これにフォトマスクなしでUV光を照射した。続いて、110°Cで15分間、その後160°Cで1時間硬化させた。導波路パターンは目視できたがフィルムの最上層のクラッド層が茶色になっていた。伝播損失の測定5種類のワニス溶液V3V7によって形成された各導波路の伝播損失は、カットバック法を使用して測定した。各導波路は実施例WG1に示す方法を使用して作製した単層の導波路であった。レーザーダイオードから発生させた光を、光ファイバーを通して、各ワニス溶液から形成した導波路のコアの第一の端部に入力した。導波路はある長さを有している。反対側の第二の端部からの出力を測定した。導波路は少なくとも2つの長さに短くカットバックされ、各長さの導波路に対して第二の端部での光出力を測定した。各測定での総光損失は下記である。総光損失10logここで、PnはP1、P2、...Pnの各長さの導波路の第二の端部での測定された出力であり、Poは、光ファイバーを導波路のコアの第一の端部に結合する前の光ファイバーの端部における光源の測定出力である。次に、総光損失は下記のチャート1のようにプロットされる。このデータの最も真っ直ぐな線が下記式によって表わされる。ymxbここで、mは伝播損失であり、bは結合損失である。グラフ1各ワニス溶液V3V7からの導波路に対するカットバック法による伝播損失の結果を下記の表6に示す。表6実施例WG11WG20実施例WG11WG20は、本発明に従った単層および三層の導波路構造の作製を示す。導波路を形成するための下記の実施例において使用した各ワニス溶液は感光性材料を含んでいるので、イエローライトの下で調製した。実施例WG11単層の導波路構造の調製ろ過したワニス溶液V24を、ガラス基板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定の厚さに広げた。その後、このガラス基板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。フィルムにフォトマスクを通してUV光を照射し、次にオーブン中で85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分加熱した。導波路パターンは、第一の加熱後、目視できた。実施例WG12単層の導波路構造の調製ろ過したワニス溶液V25を、4のSiO2コーティング板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定の厚さに広げた。その後、このコーティング板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。フィルムにフォトマスクを通してUV光を照射し、次にオーブン中で85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分加熱した。導波路パターンは、第一の加熱後、目視できた。実施例WG13単層の導波路構造の調製ろ過したワニス溶液V26を、4のSiO2コーティング板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定の厚さに広げた。その後、このコーティング板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。フィルムにフォトマスクを通してUV光を照射し、次にオーブン中で85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分加熱した。導波路パターンは、第一の加熱後、目視できた。実施例WG14単層の導波路構造の調製ろ過したワニス溶液V27を、4のSiO2コーティング板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定の厚さに広げた。その後、このコーティング板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。フィルムにフォトマスクを通してUV光を照射し、次にオーブン中で85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分加熱した。導波路パターンは、第一の加熱後、目視できた。実施例WG15単層の導波路構造の調製ろ過したワニス溶液V28を、4のSiO2コーティング板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定の厚さに広げた。その後、このコーティング板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。フィルムにフォトマスクを通してUV光を照射し、次にオーブン中で85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分加熱した。導波路パターンは、第一の加熱後、目視できた。実施例WG16単層の導波路構造の調製ろ過したワニス溶液V29を、4のSiO2コーティング板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定の厚さに広げた。その後、このコーティング板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。フィルムにフォトマスクを通してUV光を照射し、次にオーブン中で85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分加熱した。導波路パターンは、第一の加熱後、目視できた。実施例WG17単層の導波路構造の調製ろ過したワニス溶液V30を、4のSiO2コーティング板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定の厚さに広げた。その後、このコーティング板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。フィルムにフォトマスクを通してUV光を照射し、次にオーブン中で85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分加熱した。導波路パターンは、第一の加熱後、目視できた。実施例WG18単層の導波路構造の調製ろ過したワニス溶液V31を、4のSiO2コーティング板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定の厚さに広げた。その後、このコーティング板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。フィルムにフォトマスクを通してUV光を照射し、次にオーブン中で85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分加熱した。導波路パターンは、第一の加熱後、目視できた。実施例WG19三層の導波路構造の調製ワニス溶液V23を厚さ1mmのガラス板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、ワニス溶液V21を第一の層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。最後に、ワニス溶液V23を第二の層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、このコーティングガラス板を、ホットプレート上に置き、50°Cで30分間加熱してメシチレンを蒸発させて固体の積層フィルムを得た。。このフィルムに、ポジ型フォトマスクを通してUV光を照射し、次に、ホットプレート上で85°Cで30分、さらに150°Cで60分間加熱した。85°Cで30分間ホットプレートに置いた時点でフィルムに導波路パターンが目視できた。この導波路の伝播損失を、カットバック法で測定したところ、30dBcmであった。実施例WG20三層の導波路構造の調製ワニス溶液V23を厚さ1mmのガラス板上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、ワニス溶液V22を第一の層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。最後に、ワニス溶液V23を第二の層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。その後、このコーティングガラス板を、ホットプレート上に置き、50°Cで30分間加熱してメシチレンを蒸発させて固体の積層フィルムを得た。このフィルムに、ポジ型フォトマスクを通してUV光を照射し、次に、ホットプレート上で85°Cで30分、さらに150°Cで60分間加熱した。85°Cで30分間加熱した時点でフィルムに導波路パターンが目視できた。この導波路の伝播損失を、カットバック法で測定したところ、20dBcmであった。伝播損失の測定8種類のワニス溶液V24V31から形成された単層導波路、ならびに2種類のコア層用ワニス溶液V21V22と1種類のクラッド層用ワニス溶液V23から形成された三層導波路に関して、伝播損失を先に述べたのと同様にして測定した。単層導波路の伝播損失の結果を下記の表7に示す。また、三層導波路の伝播損失の結果を下記の表8に示す。表7表8実施例WG21単層の導波路構造の調製ろ過したワニス溶液38を、石英ガラス板の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定の厚さに広げた。その後、この石英ガラス板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。フィルムにフォトマスクを通してUV光を照射し、次にオーブン中で45°Cで30分間加熱し、次に85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分加熱した。導波路パターンは、第一の加熱後、目視できた。実施例WG2236本発明の実施例として、単層の導波路構造の実施例WG2236を作成した。実施例WG2236はワニス溶液と照射量を変更した点を除き、上記実施例WG21と同様にして作製した。表9は単層の導波路構造の実施例WG2136の伝播損失を示す。表9実施例WG51三層の導波路構造の調製ワニス溶液V61を4のガラス板上に注ぎ、スピンコーティングを使用して実質的に一定厚さに広げた。次に、それをホットプレート上に置いて100°Cで10分間加熱し、フォトマスクなしでUV光を照射し、その後110°Cで15分間および160°Cで1時間加熱した。次に、ワニス溶液V38を硬化させたV61層の上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。次に、このコーティングされたガラス板を換気されたレベルテーブルに一夜置いて溶剤を蒸発させ、実質的に乾燥した固体フィルムを形成した。次の日、ワニス溶液V38から形成したこの固体フィルムに、フォトマスクを通してUV光を照射し、45°Cで30分間熟成させたから、85°Cで30分間加熱し、さらに150°Cで60分間加熱した。導波路パターンは、85°Cで30分間加熱した時点で目視できた。次に、ワニス溶液V61の第二の部分をワニス溶液V38の硬化層の表面に注ぎ、スピンコーターで実質的に一定厚さに広げた。このコーティングされたガラス板をホットプレートに置いて100°Cで10分間加熱し、これにフォトマスクなしでUV光を照射した。続いて、110°Cで15分間、その後160°Cで1時間硬化させた。導波路パターンは目視できたがフィルムの最上層のクラッド層が茶色になっていた。実施例WG52単層の導波路フィルムWG21をガラス基板から剥離し、十分な水で洗浄し、45°Cで1時間オーブンで乾燥させた。ワニス溶液V61をPETフィルム上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。次に、それをホットプレート上に置いて45°Cで10分間加熱し、フォトマスクなしでUV光を照射した、最後に、このクラッドフィルムをナイフで2つに切り、PETフィルムから剥離した。WG21フィルムを上記の2つのクラッドフィルムの間に挟み、10MPaの圧力を掛けながらオーブン内で150°Cで1時間加熱した。この三層導波路の伝播損失を、カットバック法で測定したところ、008dBcmであった。コアとクラッドの間の接着力を90度剥離試験にて測定したところ、50gfcmであった。実施例WG53単層の導波路フィルムWG21をガラス基板から剥離し、十分な水で洗浄し、45°Cで1時間オーブンで乾燥させた。ワニス溶液V63をPETフィルム上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。次に、それをホットプレート上に置いて45°Cで10分間加熱し、フォトマスクなしでUV光を照射した、最後に、このクラッドフィルムをナイフで2つに切り、PETフィルムから剥離した。WG21フィルムを上記の2つのクラッドフィルムの間に挟み、10MPaの圧力を掛けながらオーブン内で150°Cで1時間加熱した。この三層導波路の伝播損失を、カットバック法で測定したところ、008dBcmであった。コアとクラッドの間の接着力を90度剥離試験にて測定したところ、60gfcmであった。実施例WG54単層の導波路フィルムWG21をガラス基板から剥離し、十分な水で洗浄し、45°Cで1時間オーブンで乾燥させた。ワニス溶液V64をPETフィルム上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。次に、それをホットプレート上に置いて45°Cで10分間加熱し、フォトマスクなしでUV光を照射した、最後に、このクラッドフィルムをナイフで2つに切り、PETフィルムから剥離した。WG21フィルムを上記の2つのクラッドフィルムの間に挟み、10MPaの圧力を掛けながらオーブン内で150°Cで1時間加熱した。この三層導波路の伝播損失を、カットバック法で測定したところ、008dBcmであった。コアとクラッドの間の接着力を90度剥離試験にて測定したところ、300gfcmであった。実施例WG55単層の導波路フィルムWG21をガラス基板から剥離し、十分な水で洗浄し、45°Cで1時間オーブンで乾燥させた。ワニス溶液V65をPETフィルム上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。次に、それをホットプレート上に置いて45°Cで10分間加熱し、フォトマスクなしでUV光を照射した、最後に、このクラッドフィルムをナイフで2つに切り、PETフィルムから剥離した。WG21フィルムを上記の2つのクラッドフィルムの間に挟み、10MPaの圧力を掛けながらオーブン内で150°Cで1時間加熱した。この三層導波路の伝播損失を、カットバック法で測定したところ、008dBcmであった。コアとクラッドの間の接着力を90度剥離試験にて測定したところ、200gfcmであった。実施例WG56単層の導波路フィルムWG32をガラス基板から剥離し、十分な水で洗浄し、45°Cで1時間オーブンで乾燥させた。ワニス溶液V66をPETフィルム上に注ぎ、ドクターブレードで実質的に一定厚さに広げた。次に、それをホットプレート上に置いて45°Cで10分間加熱し、フォトマスクなしでUV光を照射した、最後に、このクラッドフィルムをナイフで2つに切り、PETフィルムから剥離した。WG32フィルムを上記の2つのクラッドフィルムの間に挟み、10MPaの圧力を掛けながらオーブン内で150°Cで1時間加熱した。この三層導波路の伝播損失を、カットバック法で測定したところ、012dBcmであった。コアとクラッドの間の接着力を90度剥離試験にて測定したところ、50gfcmであった。本発明の実施例としてのノルボルネン系ポリマーおよび/またはノルボルネン系モノマーは優れた透明性と伝播損失を有する光導波路を与えることが分かる。表10および表11は導波路WG2~WG5、WG19~20およびWG51~56の要約を示す。表10表11"