基板上の処理を要する被処理配線にレーザ光を出射することで処理を行う配線の修正装置であって、前記レーザ光の光軸と交差する方向のエネルギ分布を中心部が高く、辺縁部が低くなるように、レーザ光の透過量を調整する絞り部材を備えていることを特徴とする配線の修正装置。前記絞り部材は、一部にレーザ光を透過する開口を備えた遮光手段と、前記開口を透過したレーザ光の透過率を調整する光透過率調整手段とを備えている請求項1に記載の配線の修正装置。前記絞り部材は、少なくとも2種の異なる透過率の光透過率調整手段を備えている請求項2に記載の配線の修正装置。前記絞り部材は、前記遮光手段と前記光透過率調整手段とが独立して配置されている請求項2又は請求項3に記載の配線の修正装置。前記光透過率調整手段は、前記遮光手段よりも小さな開口を備えている請求項4に記載の配線の修正装置。前記光透過率調整手段は、開口の大きさを調整することができる請求項5に記載の配線の修正装置。前記遮光手段の開口の形状が異なる絞り部材を複数個備えている請求項1から請求項6のいずれかに記載の配線の修正装置。しかしながら、特開2010-102063号公報の方法では、1箇所の配線を切断するとき、レーザ光を複数回に分けて照射するので、それだけ、加工工数タクトタイムが多くなる。また、レーザ光を照射するごとに、アパーチャサイズを変更するので、このことからも加工工数が多くなる。これにより、液晶パネルの作製に手間と、時間がかかる。そこで本発明は、少ない回数のレーザ光の照射で、確実に配線の不良部分を正確に修正することができる配線の修正装置を提供することを目的とする。また、この配線の修正装置を用いることで、液晶パネルの歩留まり低下を抑制することを目的とする。本発明の発明者は、短時間にレーザ光を照射し、配線の処理切断処理を行うとき、光軸に直交する方向の中心部分が高く辺縁部が低いエネルギ分布のレーザ光を照射することで、配線のメタルが昇華しきれずに発生するバリの発生を抑える或いは低減できるとの知見を得た。そこで、上記目的を達成するために本発明は、基板上の処理を要する被処理配線にレーザ光を出射することで処理を行う配線の修正装置であって、前記レーザ光の光軸と交差する方向のエネルギ分布を中心部が高く、辺縁部が低くなるように、レーザ光の透過率を調整する絞り部材を備えていることを特徴とする。この構成によると、レーザ光の光軸と交差する方向の透過率を調整することで、前記レーザ光の光軸と直交する方向のエネルギ分布を、中心部が高く、辺縁部が低い分布とすることができる。上述したような、中心部が高く辺縁部が引くいエネルギ分布のレーザ光を用いることで、1回の短時間のレーザ光の照射レーザショットで、十分な配線の処理を行うことができるとともに、バリの発生を抑えることができる。1回のレーザショットで配線の処理を確実に行うことができるので、タクトタイムを増やすことなく、前記バリが他の基板、電子部品等の電極と接触してリークが発生するのを抑制することができる。上記構成において、前記絞り部材が一部にレーザ光を透過する開口を備えた遮光手段と、前記開口を透過したレーザ光の透過率を調整する光透過率調整手段とを備えているものであってもよい。なお、光透過率調整手段の透過率によって、レーザ光のエネルギ分布が決定されるものである。前記光透過率調整手段は、多数の小さな貫通孔が2次元配列されているものであってもよく、例えば光学フィルタのような入射光を一定の割合で吸収、散乱、反射等し、光の透過度合を調整する光学部材であってもよい。上記構成において、前記絞り部材が少なくとも2種の異なる透過率の光透過率調整手段を備えているものであってもよい。上記構成において、前記絞り部材は、前記遮光手段と前記光透過率調整手段とが、独立して配置されていてもよい。前記遮光手段と前記光透過率調整手段との組み合わせを換えることで、レーザ光の照射領域を変更できるとともに、そのときのエネルギ分布も任意に変更することができる。上記構成において、前記光透過率調整手段が、前記遮光手段よりも小さな開口を備えていてもよい。上記構成において、前記光透過率調整手段は、前記開口の大きさを調整することができる構成であってもよい。この構成によると、前記開口の大きさを調整することができるので1つの絞り部材で複数種類のエネルギ分布のレーザ光を被処理配線に照射することが可能である。上述した、配線の修正装置で配線を修正する基板として、例えば、液晶パネルのアレイ基板、対向基板等を挙げることができる。また、これに限らず、本発明の配線の修正装置は小さな隙間をあけて対向配置される基板の配線の修正に好適である。本発明によると、不要な配線をレーザ光の照射で切断するとき、レーザ光を均一な強度でなく、中央が強く周囲が弱い強度分布を持たせることで、少ない加工工数で、確実に配線の不良部分を正確に修正することができる配線の修正装置を提供することを目的とする。また、この配線の修正装置を用いることで、液晶パネルの歩留まり低下を抑制することができる。以下に本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本発明にかかる配線の修正装置の説明を行う前に、配線を修正する液晶パネルについて説明する。液晶パネルについて図1は液晶パネルの断面図であり、図2は液晶パネルに用いられるアレイ基板の平面図であり、図3は図2に示すアレイ基板のIIIIII矢視断面図である。液晶パネル1は、複数個の画素11に分割されており、画素11ごとに、光の透過量を調整することで、画像を表示している。図1に示すように液晶パネル1は、アレイ基板2と、アレイ基板2と対向して配置された対向基板3と、アレイ基板2と対向基板3との間に充填される液晶材料を含む液晶層4とを含んでいる。図2に示すように、アレイ基板2は、ガラス基板20の液晶層4側に互いに直交するソース配線21及びゲート配線22、ゲート配線22と平行に配置される補助容量配線23、ソース配線21及びゲート配線22に接続された薄膜トランジスタ24スイッチング素子、画素11を構成する画素電極25、薄膜トランジスタ24のドレイン端子と画素電極25とを接続するドレイン配線26が設けられている。また、液晶材料の配列を整えるため、液晶層4側には配向膜27が形成されており、ガラス基板20の液晶層4と反対側に偏光板28が配置されている図3参照。薄膜トランジスタ24は、ソース電極241、ゲート電極242及びドレイン電極243を備えている。そして、ソース電極241はソース配線21と、ゲート電極242はゲート配線22とそしてドレイン電極243はドレイン配線26とそれぞれ接続されている。ドレイン配線26のドレイン電極243と反対側は、画素電極25の中心部分に接続されている。また、アレイ基板2と液晶層4を挟んで対向する対向基板3には、共通電極31、赤、緑、青RGBの各着色部が所定の配列で配置されたカラーフィルター32等が設けられている。なお、アレイ基板1同様、対向基板3にも配向膜33が設けられている。また、対向基板3の液晶層4と反対側に偏光板34が配置されている。液晶パネル1では、ゲート配線22には、パルス信号が供給されており、ゲート配線22にオン信号が入力されると、薄膜トランジスタ24のゲート電極242にオン信号が入力され、薄膜トランジスタ24がオンになる。薄膜トランジスタ24がオンのとき、ソース配線21にハイ電圧が供給されていると、ソース電極241とドレイン電極243との間に電流が流れる。これにより、ドレイン電極243に流れた電流はドレイン配線26を介して画素電極25に電流が流れ、画素電極25に電荷が蓄積される。画素電極25と共通電極31の間に電位差が形成され、すなわち、画素電極25と共通電極31との間に配置される液晶層4に電圧が印加される。これにより、液晶層4の液晶材料の向きが変化し、画素を通過する光の偏光方向が変化する。アレイ基板2に配置された偏光板28と対向基板3に配置された偏光板34とは偏光方向が一定の角度をなすように配置されており、液晶層4を通過する光の偏光方向を調整することで、偏光板28を通過した光が偏光板34を通過する光量を調整している。また、対向基板3にはカラーフィルター32が備えられており、光が対向基板3を通過するとき、RGBいずれかの波長の光に分光される。このようにして、画素11ごとに色、階調が調整された光が出射され、画像が形成される。アレイ基板の製造について次に、アレイ基板の製造について簡単に説明する。アレイ基板2に形成された配線、電極等は次のようにして作製される。まず、ガラス基板20上にスパッタリング法等の成膜方法で金属膜を成膜する。そして、金属膜の上から形成する配線パターンと同じ形状のレジストを形成した後、エッチング等の手法を用いて、金属膜を除去する。その後、レジストを除去することで配線、電極等が形成される。このような手順で配線、電極を形成するとき、配線パターニングが不十分で配線不良が発生することがある。図4に不要な配線を有するアレイ基板の平面図を示す。例えば、ガラス基板20上にソース配線21及びドレイン配線25を形成するとき、レジストが不完全であったり、エッチングの不良であったりして、図4に示すように、ソース配線21とドレイン配線26とを接続する配線以下、不要配線29とするが形成される場合がある。第1の実施形態不要配線を修正する本発明の配線の修正装置について図面を参照して説明する。まず、本発明の修正装置が出射するレーザ光について説明する。図5Aは図4に示す不要配線を本発明にかかる配線の修正装置で修正している状態の図であり、図5Bは図5Aで利用しているレーザ光のエネルギ分布を示す図である。図5Aに示すように、本発明にかかる配線の修正装置では、不要配線29にレーザ光Ltを照射レーザショットと称する場合があるし、不要配線29を構成するメタルを昇華させ、切断を行ものである。本発明者は、レーザ光Ltの光軸と直交する方向のエネルギ強度分布を、中央が高く、端部を低くし、配線の切断を行うことで、1回のレーザショットにおいて、レーザ光Ltを照射した周縁部で発生するバリ290が低減するとの知見を得た。そこで、本発明の配線の修正装置では、図5Bに示すようなエネルギ分布のレーザ光Ltを照射している。次に、本発明にかかる配線の修正装置で用いるレーザ光のエネルギ分布を調整する方法について図面を参照して説明する。図6は本発明にかかる配線の修正装置の概略図である。図6に示すように、配線の修正装置Rsは、修正を行う配線にレーザ光を照射し、レーザ光の熱で配線のメタルを昇華させて修正処理断線処理を行うものである。配線の修正装置Rsはレーザ光Ltを出射する光源Lsと、修正を行う配線が形成されている基板ここでは、アレイ基板2を固定するための固定台Sdと、光源Lsに近接して配置され、レーザ光Ltの出力エネルギを絞る絞り部材5とを備えている。ここで絞り部材5について説明する。図7は絞り部材のレーザ光が入射する側から見た図である。図7に示すように、絞り部材5は長方形板状の部材であり、中心部に開口が形成されたスリット部50遮光手段と、中心部の開口に形成され、貫通孔を複数個並べた長方形状の第1メッシュ部51光透過率調整手段と、第1メッシュ部51の周囲に形成され第1メッシュ部51の透過率よりも小さい透過率を持つように貫通孔を複数個並べた第2メッシュ部52とを備えている。このような絞り部材5にレーザ光が照射されると、レーザ光Ltはスリット部50で遮光され、第1メッシュ部51及び第2メッシュ部52が形成されている部分を通過する。このとき、レーザ光Ltは第1メッシュ部51及び第2メッシュ部52の透過率に基づいてエネルギが減少する。これにより、絞り部材5を通過したレーザ光Ltは、光軸と直交する方向のエネルギ分布は中央が高く端部が低い、例えば、図5Bに示すようなエネルギ分布となる。図6に示す配線の修正装置Rsでは絞り部材5を用いており、図5Bに示すレーザ光Ltを固定台Sdに固定された基板ここではアレイ基板2に向かって照射する。上述しているように、レーザ光Ltの光軸に直交する方向のエネルギ分布を、図5Bに示すように中心が高く端部が低い分布とすることで、1回のレーザショットで不要配線29を確実に修正するとともに、発生するバリの量を減らすことができる。このことから、不要配線を処理したアレイ基板2を用いる場合、バリによる共通電極と信号配線ソース配線21或いはドレイン配線26が導通状態になるリーク電流が発生するのを抑制することができる。これにより、アレイ基板21の製造時に不良品が発生するのを抑制することができ、液晶パネル1における画像の表示品位の低下を抑制する。また、1回のレーザショットで不要配線29を修正処理断線することができるので、作業工数タクトタイムを減らすことができる。以上のことから、本発明にかかる配線の修正装置を用いることで、液晶パネルの製造工程におけるタクトタイムを削減することができるとともに、歩留まりの低下を抑制することができる。なお、本発明にかかる配線の修正装置Rsでは、複数種類の絞り部材5を配置し、修正する配線の形状大きさ、幅、厚さ等にあわせて最適なエネルギ分布のレーザ光Ltに調整できる絞り部材5を選択して用いるようにしてもよい。このように複数種類の絞り部材5を適切に選択することで、レーザ光のエネルギ分布を細かく調整することができ、配線の修正処理を確実に行うことが可能である。第2の実施形態本発明にかかる配線の修正装置の他の例について図面を参照して説明する。図8Aは本発明にかかる配線の修正装置の他の例に用いられる絞り部材のレーザ光の入射側から見た図であり、図8Bは図8Aに示す絞り部材を側方から見た図である。なお、本実施形態において、修正するアレイ基板及び修正に用いる配線の修正装置は第1の実施形態と同じであり、詳細な説明は省略する。図8A、図8Bに示すように、絞り部材6は、スリット60と、第1メッシュ部材61と、第2メッシュ部材62とを備えている。絞り部6では、レーザ光Ltの光源Ld側からスリット60、第1メッシュ部材61及び第2メッシュ部材62の順番でレーザ光Ltの光軸に沿って配列されている。スリット60には中心部に長方形状の貫通孔である開口600が形成されており、レーザ光Ltが開口600を通過することで、レーザ光Ltの照射断面が開口600と同じ形となる、すなわち、レーザ光Ltは照射面積が絞られる。スリット60を通過したレーザ光は、第1メッシュ部材61、第2メッシュ部材62を通過する。第1メッシュ部材61及び第2メッシュ部材62には、中央にスリット60の開口600よりも小さな開口610、620が形成されている。なお、絞り部材6では、第1メッシュ部材61の開口610が第2メッシュ部材62の開口620よりも大きい。そして、第1メッシュ部材61には、無数の貫通孔が左右に等間隔に並んで配置されている。また、第2メッシュ部材62にも、第1メッシュ部材61と同様に無数の貫通孔が左右に等間隔に並んで配置されている。なお、第1メッシュ部材61に入射したレーザ光に対する通過したレーザ光の割合透過率は、第2メッシュ部材62よりも高い。レーザ光Ltは第1メッシュ部材61を通過するとき、開口610及び貫通孔を通過し、その他の部分では遮断される。開口610に照射されたレーザ光はそのままの出力で通過するが、貫通孔が複数配置されている部分に照射されたレーザ光は部分的に遮光されるので出力エネルギが低減される。さらに、第2メッシュ部材62も同様に、開口620に照射されたレーザ光はそのままの出力で通過し、開口620以外の部分に照射されたレーザ光は出力エネルギがさらに低減される。以上のような構成の絞り部材6を用いることで、図5Bに示すような、中央が高く端部が低いエネルギ分布を有するレーザ光Ltを照射することができる。以上のことより、第1の実施形態と同様、1回のレーザショットで配線を確実に断線させることができるとともに、バリの発生を低減或いは抑制することができる。これにより、アレイ基板を製造するときのタクトタイムを減らすとともに、歩留まりが低下するのを抑制することができる。なお、スリット60、第1メッシュ部材61、第2メッシュ部材62をそれぞれ、複数種備えておき、修正する切断処理する配線ここでは、不要配線29の形状幅、厚さ、長さ等にあわせて、適宜選択するようにしてもよい。例えば、切断する配線の幅が大きいときは、開口600が大きいスリット60を選択する。また、配線が厚い場合、レーザ光Ltが照射される全ての部分で、配線のメタルを昇華することができる程度のエネルギを備え、なおかつ、バリの発生を抑えるなくすことができるエネルギ分布となるように、第1メッシュ部材61及び第2メッシュ部材62を選択すればよい。本実施形態において、第1メッシュ部材61及び第2メッシュ部材62を中央に開口が形成されているものとして説明しているが、これに限定されるものではなく、開口が形成されていないものを用いることも可能である。また、絞り部材6において、メッシュは1個であってもよく、3個以上であってもよい。レーザ光Ltの光軸と交差する断面におけるエネルギ分布を適切な分布とするようにメッシュの個数を決定することができる。しかしながら、レーザ光Ltはメッシュを通過するごとに全エネルギは減衰するので、可能な限り少ない方が好ましい。また、絞り部材6では、スリット60、第1メッシュ部材61及び第2メッシュ部材62の組み合わせを変えることで、レーザ光Ltのエネルギ分布を調整することができるので、より多くの形状の配線の修正処理を行うことができる。第3の実施形態本発明にかかる配線の修正装置の他の例について図面を参照して説明する。図9Aは本発明にかかる配線の修正装置のさらに他の例に用いられる絞り部材のレーザ光源側から見た図であり、図9Bは図9Aに示す絞り部材の側方から見た図であり、図10は図9A、図9Bに示す絞り部材を通過したレーザ光のエネルギ分布を示す図である。なお、本実施形態において、修正するアレイ基板及び修正に用いる配線の修正装置は第1の実施形態と同じであり、詳細な説明は省略する。図9Bに示すように、絞り部材7は、スリット70、第1メッシュ部材71及び第2メッシュ部材72を備えており、光源側より、スリット70、第1メッシュ部材71、第2メッシュ部材72の順に配置されている。スリット70は長方形状の開口700を備えている。なお、スリット70は第3の実施形態に示すスリット60と同じ構成を有しているので、詳細は省略する。図9A、図9Bに示すように、第1メッシュ部材71は、長方形状の開口710を備えている。また、第1メッシュ部材71は、貫通孔を2次元方向に等間隔に配列しているとともに第1の方向ここでは、開口710の長手方向に配置された一対の第1網状部711と、貫通孔を2次元方向に等間隔に配列しているとともに第1の方向と直交する第2の方向ここでは、開口710の短手方向に配置された一対の第2網状部712とを備えている。第1網状部711及び第2網状部712は照射されたレーザ光Ltの一部を透過させる部材である。一対の第1網状部711は互いに接近離間するように摺動可能であり、一対の第1網状部711を摺動させることで、開口710の大きさ長手方向の長さを変更することができる。同様に、一対の第2網状部712も互いに接近離間するように摺動可能であり、一対の第2網状部712を摺動させることで、開口710の大きさ短手方向の長さを変更することができる。第1網状部711及び第2網状部712を連動することで、開口710の形状長辺と短辺との比を変えることなく、大きさのみを変更させることも可能である。すなわち、一対の第1網状部711を接近させ、それと同時に、一対の第2網状部712を同時に接近させることで、開口710の形状を変えることなく、小面積にすることが可能である。同様に、一対の第1網状部711を離間させ、一対の第2網状部712を離間させることで、開口710の形状を換えることなく、大面積にすることが可能である。一対の第1網状部711が、同時に同じ量だけ接近又は離間するように配置され一対の第2網状部712が、同時に同じ量だけ接近又は離間するように配置されていることで、開口710は中心がずれることなく、面積が変化する。なお、第1メッシュ部材71の開口710はスリット70の開口700よりも小さい。これにより、スリット70の開口700を通過したレーザ光Ltが第1メッシュ部材71を通過するとき、辺縁部のエネルギが低減される。なお、一対の第1網状部711及び一対の第2網状部712の移動は従来よく知られた方法でなされており、詳細は省略する。図9A、図9Bに示すように、第2メッシュ部材72も第1メッシュ部材71と同じ構成を有している。すなわち、第1メッシュ部材72は、長方形状の開口720を備えている。また、第2メッシュ部材72は、貫通孔を2次元方向に等間隔に配列しているとともに第1の方向ここでは、開口720の長手方向に配置された一対の第1網状部721と、貫通孔を2次元方向に等間隔に配列しているとともに第1の方向と直交する第2の方向ここでは、開口720の短手方向に配置された一対の第2網状部722とを備えている。第1網状部721及び第2網状部722は照射されたレーザ光Ltの一部を透過させる部材である。一対の第1網状部721は互いに接近離間するように摺動可能であり、一対の第1網状部721を摺動させることで、開口720の大きさ長手方向の長さを変更することができる。同様に、一対の第2網状部722も互いに接近離間するように摺動可能であり、一対の第2網状部722を摺動させることで、開口720の大きさ短手方向の長さを変更することができる。なお、第2メッシュ部材72の開口720は第1メッシュ部材71の開口710よりも小さい。これにより、第1メッシュ部材71の開口710を通過したレーザ光Ltが第2メッシュ部材72を通過するとき、辺縁部のエネルギが低減される。以上のような絞り部材7で、例えば、第1メッシュ部材71及び第2メッシュ部材72の開口710及び開口720を大きくすることで、図10に実線で示すエネルギ分布L1のレーザ光Ltを出射することができる。また、第1メッシュ部材71及び第2メッシュ部材72の開口710及び開口720を小さくすることで、図10に破線で示すエネルギ分布L2のレーザ光Ltを出射することができる。つまり、第1メッシュ部材71及び第2メッシュ部材72を調整することで、絞り部材7を透過したレーザ光のエネルギ分布を調整することが可能である。これにより、配線に照射するレーザ光のエネルギ分布を細かく調整することができる。なお、本実施形態では、第1メッシュ部材71及び第2メッシュ部材72を可動な部材としているが、どちらか一方のみが可動とされていてもよい。また、本実施形態では、第1メッシュ部材71の第1網状部711が互いに接近離間するように移動する一対の部材としているが、片方だけが動く構成であってもよいし、それぞれ独立して移動する構成であってもよい。また、第2網状部712、第2メッシュ部材72の第1網状部721及び第2網状部722も、第1メッシュ部材71の第1網状部711と同様、片方のみ稼働としてもよく、両方が独立して移動する構成であってもよい。このように、第1メッシュ部材71及び第2メッシュ部材72の各網状部が上述したように移動することで、開口の中心をずらすことが可能である。すなわち、レーザ光のエネルギ分布のピークを中心からずらすことが可能である。これにより、レーザ光のエネルギ分布を不要配線29の形状に適切に合わせることが可能である。第2の実施形態及び第3の実施形態において、第1メッシュ部材の透過率が第2メッシュ部材の透過率よりも大きいものを例としているが、それに限定されるものではなく、透過率が同じであってもよいし、第1メッシュ部材の透過率が第2メッシュ部材の透過率よりも小さいものとしてもよい。また、上述の各実施形態では、配線の修正を行う基板を液晶パネルに用いられるアレイ基板の配線を修正しているが、これに限定されるものではなく、対向基板に形成された配線を修正するものとしてもよい。また、上述の各実施形態において、第1メッシュ部第1メッシュ部材、第2メッシュ部第2メッシュ部材の2種の光透過率調整手段を備えているが、2種に限定されるものではない。また、光透過率調整手段として、孔が配列された板状のものとしているが、これに限定されるものではなく、透過時に光の一部を吸収するような膜状或いは板状のものであってもよい。レーザ光が透過するときにその透過率を適切に調整し、光軸に交差する方向のエネルギ分布とすることができる構成のものを広く採用することができる。上述の各実施形態において、レーザ光の透過率を調整するものとして、複数個の小さな貫通孔を2次元配列したものを利用しているが、これ以外にも、例えば、バンドパスフィルタのような入射光を一定の割合で吸収、散乱、反射等し、光の透過度合を調整する光学部材を用いてもよい。また、これら以外でも、レーザ光の透過率を調整できる構造の部材、光学素子等を広く採用することができる。上述の各実施形態では、絞り部材の開口が長方形状のものを例に説明しているが、これに限定されるものではなく、円形形状、多角形状の開口を有するものであってもよい。また、被処理配線である不要配線の形状、大きさに基づいて、開口の形状を選択するようにしてもよい。以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこの内容に限定されるものではない。また本発明の実施形態は、発明の趣旨を逸脱しない限り、種々の改変を加えることが可能である。