"下記式1で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。式中のmは1または2であり、nは0または1である。R1は水素、または炭素数が1~18の炭化水素基、または炭素数1~3のアルコキシ基により置換された炭素数が1~4の炭化水素基である。R2はメチル基またはエチル基である。R3は-CH2-CH2-あるいは-CHCH3-で表される2価の基である。下記式2で表されるアルコキシシリル基含有化合物と、下記式3で表されるチオール化合物とを反応させてなる、請求項1に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。式中のnは0または1である。R2はメチル基またはエチル基である。式中のmは1または2である。R1は水素、または炭素数が1~18の炭化水素基、または炭素数1~3のアルコキシ基により置換された炭素数が1~4の炭化水素基である。請求項1または請求項2に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤。しかしながら、シランカップリング剤の多くは沸点が低く、高温塗工が必要な塗料に対しては、例えば100量部に対して10~20量部添加する必要があった。また、密着性向上効果も充分とは言えず、例えばチタン、ジルコニウム等の塩や、イミダゾール等のアミン、リン酸エステル、ウレタン樹脂、チオール化合物等の密着性助剤も同時に添加することによって、初めて密着性を達成できる場合も多かった。しかしながら、これら密着性助剤の配合は工程数が増加するだけではなく、塗料特性を損なわない密着性助剤種や添加量の最適化作業が必要であった。また、シランカップリング剤の多くはトリアルコキシシランと反応性基を結ぶ主骨格が炭素‐炭素結合により構成されており、その結合角も炭素-炭素の結合角に依存している。そのため、分子構造も炭素の結合角に依存しており、多岐の分子構造を取ることが難しいため、配向の形も限定されている。そこで、本発明は上記実状に鑑みて成し遂げられたものであり、その目的は、シリコン基板等への密着性向上効果に優れる新規なチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体と、これを用いた密着性向上剤を提供することにある。本発明者らは前記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有するチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体が、優れたシリコン基板等への密着性向上効果を有することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は次の1から3である。1下記式1で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。式中のmは1または2であり、nは0または1である。R1は水素、または炭素数が1~18の炭化水素基、または炭素数1~3のアルコキシ基により置換された炭素数が1~4の炭化水素基である。R2はメチル基またはエチル基である。R3は-CH2-CH2-あるいは-CHCH3-で表される2価の基である。2下記式2で表されるアルコキシシリル基含有化合物と下記式3で表されるチオール化合物とを反応させてなる、請求項1に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。式中のnは0または1である。R2はメチル基またはエチル基である。式中のmは1または2である。R1は水素、または炭素数が1~18の炭化水素基、または炭素数1~3のアルコキシ基により置換された炭素数が1~4の炭化水素基である。31または2に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤。チオールの結合角は炭素の結合角よりも大きいため、分子内にチオールエーテル基をもつ分子は炭素のみで結合している分子よりも多彩な構造を取ることができる。そのため本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、炭素のみ結合しているアルココキシシラン誘導体よりも基材への反応部位の配向が高まり密着性の向上が可能である。加えて、本発明は従来のシランカップリング剤に比べてチオエーテルの結合角が広いため分子構造に自由度が増し、密な分子配向を取ることができる。したがって、同分子量のものと比べると沸点が高く、且つ低揮発性となっている。そのため、例えば塗料に0.1~10重量という比較的少量添加するだけでも、密着性助剤の添加を必要とすることなく塗料に高いシリコン基板への密着性を付与することが可能である。また、本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法を用いれば、チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を収率良く簡便に得ることが可能である。加えて、チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は密着性の付与効果に優れているため、塗料などに密着性を付与する密着性向上剤として有用である。以下に、本発明について詳細に説明する。本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、下記式1で表される化合物である。式中のmは1または2であり、nは0または1である。R1は水素、または炭素数が1~18の炭化水素基、または炭素数1~3のアルコキシ基により置換された炭素数が1~4の炭化水素基である。R2はメチル基またはエチル基である。R3は-CH2-CH2-あるいは-CHCH3-で表される2価の基である。式1のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は多くの樹脂に相溶するため、幅広い用途に用いることが可能である。例えば、本チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を使用することで樹脂と無機材料の密着性を改善できるため、FRP繊維強化プラスチック、FRTP繊維強化熱可塑性プラスチック、レジンコンクリート、人造大理石、プラスチックマグネット、ゴムマグネット、磁気テープのような、無機材料と樹脂を組み合わせた複合材料用の密着性向上剤として有用である。特に、シリコン基板等の無機基材に各種塗料を塗工する際の密着性向上剤として好適である。<チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法>式1で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、下記式2で表されるアルコキシシリル基含有化合物以下、A成分ということがあると、下記式3で表されるチオール化合物以下、B成分ということがあるとを反応させることにより得ることができる。その際の反応はA成分の二重結合とB成分のチオール基の官能基比が1対1の付加反応である。式中のnは0または1である。R2はメチル基またはエチル基である。式中のmは1または2である。R1は水素、または炭素数が1~18の炭化水素基、また炭素数1~3のアルコキシ基により置換された炭素数が1~4の炭化水素基である。式2で表されるアルコキシシリル基含有化合物としては、例えば、n=0であるビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランや、n=1であるアリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシランを使用することができる。式1,3中のR1である炭素数が1~18の炭化水素基としては、例えばメチル基、ブチル基、オクチル基、オクタデシル基、2エチルヘキシル基などである。式1,3中のR1である炭素数1~3のアルコキシ基により置換された炭素数が1~4の炭化水素基としては、例えばメトキシメチル基、プロポキシメチル基、メトキシブチル基、プロポキシペンチル基などである。このようなR1を有する式3で表されるチオール化合物としては、例えば、m=1のものとしては、チオグリコール酸、メチルチオグリコール酸、ブチルチオグリコール酸、オクチルグリコール酸、オクタデシルチオグリコール酸、2-エチルヘキシルチオグリコール酸、メトキシメチルチオグリコール酸、プロポキシメチルチオグリコール酸、メトキシブチルチオグリコール酸、プロポキシブチルグリコール酸などである。m=2のものとしては、メルカプトプロピオン酸、メチル-3-メルカプトプロピオネート、ブチル-3-メルカプトプロピオネート、オクチル-3-メルカプトプロピオネート、オクタデシル-3-メルカプトプロピオネート、2-エチルヘキシル-3-メルカプトプロピオネート、メトキシメチル-3-メルカプトプロピオネート、プロポキシメチル-3-メルカプトプロピオネート、メトキシブチル-3-メルカプトプロピオネート、プロポキシブチル-3-メルカプトプロピオネートなどである。式3で表されるチオール化合物において、R1の炭素数が19以上の炭化水素基、または、炭素数が1~3のアルコキシ基により置換された炭素数が6以上の炭化水素基、または炭素数が4以上のアルコキシ基により置換された炭素数が2~5の炭化水素基では、立体障害大きくなるため本発明の密着性の向上効果が小さくなる。A成分とB成分とは、触媒またはラジカル発生剤の存在下で反応させることが好ましい。触媒やラジカル発生剤を添加すれば、より短時間で且つ高収率にて反応させることができるからである。触媒としては、アミン系の塩基性触媒が好ましく、一級、二級あるいは三級のアミン類、もしくはイミダゾール系化合物が使用できる。例えば一級アミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、エチレンジアミン等が挙げられる。二級アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、メチルエチルアミン、ジフェニルアミン等が挙げられる。三級アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリフェニルアミン、18-ジアザビシクロ540ウンデカ-アミノメチルフェノール等が挙げられる。イミダゾール系化合物としては、例えば1-メチルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、1,4-ジメチル-2-エチルイミダゾール、1-フェニルイミダゾール等のイミダゾール同族体、1-メチル-2-オキシメチルイミダゾール、1-メチル-2-オキシエチルイミダゾール等のアルキル誘導体、1-メチル-45-ニトロイミダゾール、1,2-ジメチルー54-アミノイミダゾール等のニトロおよびアミノ誘導体、ベンゾイミダゾール、1-メチルベンゾイミダゾール、1-メチル-ベンジルベンゾイミダゾール等が挙げられる。ラジカル発生剤としては、過酸化物もしくはアゾ化合物が好ましい。過酸化物として、例えば、過酸化ジベンゾイル、tertブチルペルオキシ-2-エチルヘキサノアート、ジラウロイルペルオキシドなどが挙げられる。アゾ化合物としては、例えばアゾビスイソ-ブチロニトリルや2、2‘-アゾビス2-メチルブタンニトリルなどが挙げられる。A成分とB成分とを反応させると、A成分の二重結合とB成分のチオール基とが、下記式4で表される反応式で反応する。なお、式4においてXは水素原子またはメチル基を表し、ZはB成分のチオール基に結合する残基を表す。式4に示すように、A成分の二重結合を形成する2つの炭素のどちらもチオールのSと結合し得る。2つの生成物の生成比率は反応条件により異なり、例えばアミンなどの塩基触媒を反応系に添加した場合には生成物1が多く生成し、ラジカル発生剤を反応系に添加した場合には生成物2が多く生成する傾向にある。多くの場合、製造後のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は生成物1と2の混合物となっている。チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法においては、5°C以上の温度で反応させることができるが、6時間以内といった短時間で反応させるためには、アミンなどの塩基触媒やラジカル発生剤を反応系に添加し、60~80°Cで反応させることがより好ましい。チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法においては、無溶剤でも反応を進行させることができるが、低温で反応させる場合など、粘度を下げたい場合には溶剤を加えて反応させることもできる。その際には、アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しない溶剤、例えばアルコール類、ケトン類、エステル類または芳香族類が好ましい。アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しないアルコール類としては、炭素数が3以下で一級であるものが好ましく、また、沸点が反応温度よりも高いものが好ましい。温度範囲内においては反応温度が高いものがさらによい。また、アルコールとアルコキシシリル基が反応中にエステル交換を起こす可能性があり、目的生成物の収率低下が起こる恐れがあるため、収率低下を抑制するためR2OHの構造を持つものがよい。これらを満たす反応溶剤として例えば、メタノール、エタノール等が挙げられる。アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しないケトン類としては、沸点が反応温度よりも高いものが好ましい、また溶解性の観点から炭素数6以下のものが好ましい。これらを満たすものとして、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しないエステル類としては、沸点が反応温度よりも高いものが好ましい、また溶解性の観点から直鎖炭素数6以下のものが好ましい。これらを満たすものとして、例えば酢酸ブチル、酢酸エチル等が挙げられる。<密着性向上剤>チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、特にシリコン基板に対して高い密着性向上性能を有していることから、シリコン基板への密着性向上剤として用いることができる。チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤は、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセチレンなどの二重結合を有する化合物等に配合することによって、高い密着性向上効果を発揮することができる。チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤は、有効成分として樹脂に対し好ましくは0.1~30質量、より好ましくは0.1~10質量添加すると高い密着性を発揮することができる。以下に、本発明の実施例について具体的に説明する。本実施例および比較例で用いた試薬は、次の通りである。各チオールの25°Cにおける粘度は、東機産業株製のR型粘度計を用いて測定した。<アルコキシシリル基を有する化合物:A成分>A-1ビニルトリメトキシシラン。その構造を下記式に示す。A-2ビニルトリエトキシシラン。その構造を下記式に示す。A-3アリルトリメトキシシラン。その構造を下記式に示す。<チオール化合物:B成分>B-1βメルカプトプロピオン酸粘度8.4mPas。その構造を下記式に示す。B-2メチル3メルカプトプロピオネート粘度1.5mPas。その構造を下記式に示す。B-32-エチルヘキシル-3メルカプトプロピオネート粘度3.7mPas。その構造を下記式に示す。B-4メトキシブチル-3-メルカプトプロピオネート粘度3.6mPas。その構造を下記式に示す。B-5ステアリル-3-メルカプトプロピオネート常温固体。その構造を下記式に示す。セパラブルの4つ口フラスコに温度計と還流管を備え、内部を窒素雰囲気にした。この4つ口フラスコに、表1に示す組成に従いA成分とB成分を仕込み、A成分とB成分を100重量部としたとき1重量部の触媒1.8-ジアザビシクロ5、4、0ウンデカ-7-エン、和光純薬工業株製を添加した後、90°Cで12時間反応させ、実施例1~7を得た。実施例1~4、6および7における反応後の25°Cにおける粘度と実施例5の反応後の40°Cにおける粘度を表1に示す。なお、粘度は東機産業株製のR型粘度計を用いて測定した。得られた実施例1~7の粘度は、反応前のB成分と比較すると増粘していることからA成分と反応していることがわかる。<赤外線吸収スペクトル分析IR>得られた実施例1~7について、下記条件にて赤外線吸収スペクトル分析を行った。その結果を図1~7に示すと共に、代表的なIRピークを以下に示す。機種;日本分光株製FTIR600セル;KBr上に展開、分解;4cm-1、積算回数;32回実施例12947cm-1:57T、2843cm-1:52T、1739cm-1:72T、1712cm-1:67T、1437cm-1:37T、1360cm-1:76T、1192cm-1:68T、1086cm-1:79T、877cm-1:22T、822cm-1:57T実施例22947cm-1:23T、2841cm-1:22T、1739cm-1:32T、1437cm-1:16T、1360cm-1:14T、1194cm-1:28T、1086cm-1:36T、822cm-1:24T実施例32958cm-1:41T、2841cm-1:29T、1738cm-1:46T、1464cm-1:20T、1348cm-1:16T、1192cm-1:39T、1090cm-1:51T、1009cm-1:17T、806cm-1:30T実施例42943cm-1:45T、2841cm-1:40T、1736cm-1:63T、1464cm-1:23T、1354cm-1:27T、1279cm-1:32T、1244cm-1:40T、1192cm-1:57T、1086cm-1:71T、879cm-1:19T、825cm-1:43T実施例52924cm-1:69T、2852cm-1:58T、1738cm-1:52T、1468cm-1:26T、1350cm-1:17T、1242cm-1:29T、1192cm-1:41T、1090cm-1:58T、825cm-1:29T実施例62976cm-1:31T、2927cm-1:23T、1741cm-1:44T、1437cm-1:21T、1390cm-1:76T、1360cm-1:17T、1279cm-1:18T、1246cm-1:24T、1169cm-1:35T、1080cm-1:49T、960cm-1:30T、777cm-1:26T実施例72946cm-1:25T、2841cm-1:22T、1740cm-1:41T、1438cm-1:18T、1359cm-1:14T、1193cm-1:31T、1085cm-1:46T、816cm-1:28T上記赤外線吸収スペクトル分析の結果からも明らかなように、C=Cに由来する1600~1700cm-1のピークが観測されないことから、A-1、A-2およびA-3がそれぞれB-1~B-5と反応していることがわかる。<核磁気共鳴スペクトル分析NMR>また、実施例1~7について、下記条件にて核磁気共鳴スペクトル分析を行った。その結果を図8~14に示すと共に、各NMRスペクトルにおけるピークの帰属を下記に示す。なお、比較例1はNMR用の重溶剤に溶解しなかったため測定できなかった。機種;日本ブルカー株製、400MHz-Advance400、条件;積算回数16回溶媒;重クロロホルム実施例1a:3.4~3.6ppm、b:0.9~1.0ppm、c、d:2.6~2.8ppm、e:2.7~2.8ppm、f:3.5~3.6ppm実施例2a:3.6~3.7ppm、b:0.9~1.1ppm、c、d:2.6~2.7ppm、e:2.7~2.8ppm、f:3.5~3.6ppm実施例3a、e:0.8~1.0pm、b、c、d、f、g:1.1~1.4ppm、h:4.0~4.1ppm、h:0.9~1.0ppm、i、j:2.5~2.7ppm、k:2.7~2.8ppm、l:3.5~3.6ppm実施例4a:1.0~1.1ppm、b:3.4~3.5ppm、c:3.3~3.4ppm、d:1.7~1.8ppm、e:4.1~4.2ppm、f:0.9~1.0ppm、g、h:2.5~2.7ppm、i:2.7~2.8ppm、i:3.5~3.6ppm実施例5a:0.8~1.0ppm、b:1.2~1.4ppm、c:1.6~1.7ppm、d:4.0~4.2ppm、e:0.9~1.0ppm、f、g:2.5~2.7ppm、h:2.6~2.8ppm、i:3.5~3.6ppm実施例6a:3.6~3.7ppm、b:0.9~1.0ppm、c、d:2.5~2.7ppm、e:2.7~2.8ppm、f:3.6~3.8ppm、g:1.2~1.3ppm実施例7a:3.7~3.8ppm、b:0.7~0.8ppm、c、d:2.5~2.7ppm、e:2.7~2.8ppm、f:1.6~1.7ppm、g:3.5~3.6ppm図8~14及び上記の結果より、CH2=Cに由来する5.5~6.5ppmのピークが観測されないことから、A-1、A-2およびA-3がそれぞれB-1~B-5と反応していることが分る。<密着性評価>次に、上記実施例1~7を用いて密着性を評価した。さらに、反応前の上記A-1のみを用いた場合、反応前の上記B-1のみを使用した場合、デシルトリメトキシシラン信越シリコーン株製、C-1とするを使用した場合、及び密着性向上剤未使用の場合についても、密着性を評価した。密着性の評価対象としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂東都化成株製、YDPN638を使用した。当該エポキシ樹脂98質量に触媒イミダゾール型触媒:株アデカ製、EH-4344Sを2質量混合した混合物E-1とするへ、実施例1~7、A-1、B-1およびC-1を密着性向上剤として表2の配合量に従って配合した。当該組成物を単結晶シリコン基板株シリコンテクノロジー製、6inchベアシリコンウェーハN型にバーコーターで塗布し、150°C、1時間の条件で硬化させて樹脂成形物としての硬化膜を得た試料1~11。このようにして得られた試料1~11を温度121°C、相対湿度RH100で8時間処理した後、JISK5600-5-6に規定される塗膜の機械的性質-付着性クロスカット法試験法で評価を行った。これらの結果を表2に示す。なお、評価基準は次の通りである。○:全く剥離が無い×:少しでも剥離が発生している表2に示した結果より、実施例1~7の密着性向上剤を使用した試料1~7では全く剥離は見られず、密着性が良好であった。試料8,9は、チオエーテル形成前の化合物を用いており、いずれも剥離が生じて密着性は不良であった。試料10は、密着性向上剤の分子構造中にチオエーテル基を持たないため剥離が生じて密着性が不良であった。試料11は密着性向上材が無添加のため剥離が生じ密着性は不良であった。"