I硫酸法による二酸化チタンの獲得の際のチタン含有出発材料を硫酸で蒸解する際に生じる不溶性の蒸解残留物及びII触媒活性である少なくとも1種の他の成分とを有する組成物。請求項1に記載の組成物において、i前記蒸解残留物は部分的に中和されていて、ii場合により前記蒸解残留物の不純物、特に中性塩は、部分的に洗い出されていて、及びiii場合により前記組成物はか焼されていることを特徴とする前記組成物。請求項1又は2に記載の組成物において、前記蒸解残留物の硫酸塩含有率は、前記蒸解残留物の固体含有率に対して、1.0~6.0質量、特に3.0~5.0質量であることを特徴とする前記組成物。請求項1から3までのいずれか1項に記載の組成物において、前記組成物のpH値は、1~5、特に1.5~3に調節されていることを特徴とする前記組成物。請求項1から4までのいずれか1項に記載の組成物において、前記組成物は、90質量未満、好ましくは80質量未満の固体含有率を有する濾過ケークの形で又は懸濁物の形で存在することを特徴とする前記組成物。請求項1から5までのいずれか1項に記載の組成物において、前記組成物は6~54質量のTi含有率を有する前記組成物。請求項1から6までのいずれか1項に記載の組成物において、前記組成物はか焼後に3~70m2/g、好ましくは3~50m2/g、特に好ましくは5~30m2/gのBET表面積を有する前記組成物。請求項1から7までのいずれか1項に記載の組成物において、前記組成物は、前記組成物の固体割合に対して、0.1~10質量、好ましくは0.5~3.0質量の硫酸塩含有率を有することを特徴とする前記組成物。請求項1から8までのいずれか1項に記載の組成物において、前記組成物は、X線粉末回折分析により2シータ=27.5°で測定したルチル主反射の強度は、X線粉末回折図の残りの全ての反射のうちの最も強い反射の強度の少なくとも10、好ましくは少なくとも30、特に好ましくは少なくとも80であることを特徴とする前記組成物。請求項1から9までのいずれか1項に記載の組成物において、前記組成物は、前記蒸解残留物中に含まれる二酸化チタンの他にアナターゼ型の付加的な二酸化チタンを含有し、蒸解残留物対付加的な二酸化チタンの質量比は50より大:50、好ましくは70より大:30であることを特徴とする前記組成物。請求項1から10までのいずれか1項に記載の組成物において、前記組成物は、前記組成物の固体含有率に対して、少なくとも0.05質量、好ましくは少なくとも0.5質量の成分IIを含有し、前記成分IIは、Pt、Pd、Rh、Ru、Au、Ag、Co、Cu、Ce、Ni、V、W、Mo、Sb、Bi、W、La、Y、Sc、Zr、Hf、Ta、Tb、Ce、Yb、Er及びSmからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含有することを特徴とする前記組成物。請求項11に記載の組成物において、前記組成物は、成分IIとして1つ又は複数のタングステン化合物及び/又はバナジウム化合物を含有し、前記組成物は、前記組成物の固体含有率に対して、WO3として計算して少なくとも1.0質量のタングステン、及び/又はV2O5として計算して少なくとも0.05質量のバナジウムを含有することを特徴とする前記組成物。請求項1から12までのいずれか1項に記載の組成物の製造方法において、前記方法は次の工程:aチタン含有出発材料を硫酸で蒸解して、固体含有の蒸解溶液を得る工程;b前記蒸解溶液中に含まれる固体を分離して、蒸解残留物とほぼ固体不含の蒸解溶液とを得る工程;c場合により、中和し、及び/又は不純物、特に中性塩を部分的に洗い出す工程;d蒸解残留物を、触媒活性である少なくとも1種の他の成分と混合する工程;及びe場合により、得られた混合物をか焼する工程を有する、前記方法。触媒として又は触媒の製造のための、請求項1から12までのいずれか1項に記載の組成物の使用。触媒の製造のための、硫酸法による二酸化チタンの獲得の際に硫酸を用いたチタン含有出発材料の蒸解において生じる不溶性の蒸解残留物の使用。請求項1から12までのいずれか1項に記載の組成物を含有する触媒又は触媒原料。形状安定性の触媒活性の固体において、i蒸解残留物又は請求項1から12までのいずれか1項記載の組成物を、結合剤、可塑剤及び場合により他の添加剤と混合し、こうして得られた組成物を、好ましくは押出により成形し、引き続きか焼するか、又はii蒸解残留物又は請求項1から12までのいずれか1項記載の組成物を、場合により結合剤、可塑剤及び/又は他の添加剤と一緒に、担体材料上に塗布し、引き続きか焼することにより得られる前記固体。