ターゲット物質にレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光源装置であって、前記ターゲット物質に照射する前記レーザ光を出力するレーザ装置と、前記レーザ光の波面を調節する波面調節器と、前記ターゲット物質で反射された前記レーザ光を結像させる結像光学系と、結像された像を撮像する像検出器と、前記像に基づいて前記波面調節器を制御する制御部と、を備える極端紫外光生成装置。ターゲット物質に第1レーザ光を集光照射し、該第1レーザ光の照射によって拡散した前記ターゲット物質に第2レーザ光を集光照射して極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、前記第1レーザ光の光路と前記第2レーザ光の光路とを実質的に一致させる光路調節器と、前記第1レーザ光の光路上であって前記光路調節器よりも上流側に配置された波面調節器と、前記光路調節器によって実質的に一致させられた前記第1および第2レーザ光の光路上であって該光路調節器よりも下流側に配置された集光光学系と、を備える極端紫外光生成装置。前記ターゲット物質で反射され、前記集光光学系から前記波面調節器を通過した戻り光の像を取得する像検出器と、前記像検出器で取得された前記像に基づいて前記波面調節器を制御する制御部と、をさらに備える、請求項2記載の極端紫外光生成装置。前記像検出器は、前記ターゲット物質で反射しされ前記第1レーザ光の前記戻り光の像を取得する、請求項3記載の極端紫外光生成装置。前記第1レーザ光と実質的に同一の光路で前記波面調節器に上流側から入射する第3レーザ光を出力するレーザ装置をさらに備え、前記像検出器は、前記ターゲット物質で反射された前記第3レーザ光の前記戻り光の像を取得する、請求項3記載の極端紫外光生成装置。透過する光を減光する減衰部と、前記減衰部を前記第1レーザ光の光路に対して出し入れする移動部と、をさらに備え、前記像検出器は、前記減衰部が前記第1レーザ光の前記光路上に配置されている際に、前記所定領域のターゲット物質で反射した前記第1レーザ光の前記戻り光の像を取得する、請求項3記載の極端紫外光生成装置。前記制御部は、前記像検出部で検出された前記像に含まれる前記ターゲット物質の像の大きさが小さくなるように前記波面調節器を制御する、請求項3記載の極端紫外光生成装置。前記制御部は、前記像検出部で検出された前記像の画素値のピーク値が大きくなるように前記波面調節器を制御する、請求項3記載の極端紫外光生成装置。前記所定領域から前記集光光学系を介して前記波面調節器を通過した光のうち前記戻り光以外の光の光路を該戻り光の光路から分離するビームスプリッタと、前記ビームスプリッタで分離された前記戻り光以外の光を吸収するダンパと、をさらに備える、請求項3記載の極端紫外光生成装置。前記集光光学系は、前記第1および第2レーザ光を集光するように反射するミラーを含む、請求項2記載の極端紫外光生成装置。前記集光光学系は、前記第1および第2レーザ光を集光するレンズを含む、請求項2記載の極端紫外光生成装置。前記第1レーザ光の光路上であって前記波面調節器よりも上流側に配置され、前記第1レーザ光の断面プロファイル形状をより矩形に近い形状に変換するプロファイル調節部をさらに備える、請求項2記載の極端紫外光生成装置。第1レーザ光の光路と第2レーザ光の光路とを実質的に一致させる光路調節器と、前記第1レーザ光の光路上であって前記光路調節器よりも上流側に配置された波面調節器と、前記光路調節器によって実質的に一致させられた前記第1および第2レーザ光の光路上であって該光路調節器よりも下流側に配置された集光光学系とを備え、ターゲット物質に前記第1レーザ光を照射し、該第1レーザ光の照射によって広がった前記ターゲット物質に前記第2レーザ光を照射する極端紫外光生成装置の極端紫外光生成方法であって、前記所定領域のターゲット物質で反射され、前記集光光学系から前記波面調節器を通過した戻り光の像を取得し、取得された前記像に基づいて前記波面調節器を調節する、極端紫外光生成方法。