"シリンダーロールに直接描画によるホログラム母型版の製造方法であって、絵柄パターンに対して、2つに分岐した内の一つのレーザー光を照射し、その反射光と、分岐したもう一方のレーザー光とを干渉させてできる干渉縞や回折格子パターンのデータを、描画データに変換を行うデータ変換装置と、前記データ変換装置により変換された描画データをレーザービームとして出力する半導体レーザービーム高解像度描画装置と、を備え、前記半導体レーザービーム高解像度描画装置によって、前記描画データをシリンダー上の感光性樹脂塗膜に露光、照射する工程と、その後、現像工程、水洗工程、エッチング工程、水洗工程、メッキ工程そして水洗工程をこの順に行うことによって継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版が製造できることを特徴とするシームレスホログラム母型シリンダー版の製造方法。前記シリンダー上の感光性樹脂塗膜への前記半導体レーザービーム高解像度描画装置による描画解像度範囲が、100nm~1000nmであることを特徴とする請求項1に記載の継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版の製造方法。前記シリンダーの真円精度範囲が、60nm~300nmであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版の製造方法。前記シリンダーの回転パルス精度が、100nm単位で、500nmまでであることを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3のいずれかに記載の継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版の製造方法。シリンダーロールに直接描画によるホログラム母型版の製造装置であって、絵柄パターンに対して、2つに分岐した内の一つのレーザー光を照射し、その反射光と、分岐したもう一方のレーザー光とを干渉させてできる干渉縞や回折格子パターンのデータを、描画データに変換を行うデータ変換装置と、前記データ変換装置により変換された描画データをレーザービームとして出力する半導体レーザービーム高解像度描画装置と、を具備し、前記半導体レーザービーム高解像度描画装置によって、前記描画データをシリンダー上の感光性樹脂塗膜に露光、照射することを特徴とするシームレスホログラム母型シリンダー版の製造装置。請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の製造方法を用いて製造したことを特徴とする継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版。請求項6に記載の継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版によって、エンボスされたホログラム像を再現できる干渉縞または回折格子パターンの描画パターンのレリーフの形成されたことを特徴とするエンボスフイルム。本発明は、本発明は、高解像度、高精度のレーザー露光装置による継ぎ目のないシームレスなシリンダータイプのホログラム版の製造方法、製造装置を提供することを目的とする。本発明は、上記の問題点の解決に鑑みなされたものである。請求項1の発明は、シリンダーロールに直接描画によるホログラム母型版の製造方法であって、絵柄パターンに対して、2つに分岐した内の一つのレーザー光を照射し、その反射光と、分岐したもう一方のレーザー光とを干渉させてできる干渉縞や回折格子パターンのデータを、描画データに変換を行うデータ変換装置と、前記データ変換装置により変換された描画データをレーザービームとして出力する半導体レーザービーム高解像度描画装置とを備えるものである。そして、前記半導体レーザービーム高解像度描画装置によって、前記描画データをシリンダー上の感光性樹脂塗膜に露光、照射する工程と、その後、現像工程、水洗工程、エッチング工程、水洗工程、メッキ工程そして水洗工程をこの順に行うことによって継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版が製造できる製造方法である。請求項2の発明は、前記シリンダー上の感光性樹脂塗膜への前記半導体レーザービーム高解像度描画装置による描画解像度範囲が、100nm~1000nmであることを特徴とする請求項1に記載の継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版の製造方法である。請求項3の発明は、前記シリンダーの真円精度範囲が、60nm~300nmであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版の製造方法である。請求項4の発明は、前記シリンダーの回転パルス精度が、100nm単位で、500nmまでであることを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3のいずれかに記載の継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版の製造方法である。請求項5の発明は、シリンダーロールに直接描画によるホログラム母型版の製造装置であって、絵柄パターンに対して、2つに分岐した内の一つのレーザー光を照射し、その反射光と、分岐したもう一方のレーザー光とを干渉させてできる干渉縞や回折格子パターンのデータを、描画データに変換を行うデータ変換装置と、前記データ変換装置により変換された描画データをレーザービームとして出力する半導体レーザービーム高解像度描画装置と、を備えるものである。そして、前記半導体レーザービーム高解像度描画装置によって、前記描画データをシリンダー上の感光性樹脂塗膜に露光、照射する工程と、その後、現像工程、水洗工程、エッチング工程、水洗工程、メッキ工程そして水洗工程をこの順に行うことによって継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版が製造できることを特徴とする製造装置である。請求項6の発明は、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の製造方法、または、請求項5に記載の製造装置によって、製造された継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版である。請求項7の発明は、請求項6に記載の継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版によってエンボスされたホログラム像を再現できる干渉縞または回折格子パターンの描画パターンのレリーフの形成されたことを特徴とするエンボスフイルムまたはシートである。本発明は、ホログラム像を再現できる回折格子パターンのデータを描画変換できる描画変換装置や高解像度、高精度のレーザー露光装置によって継ぎ目のないシームレスなシリンダータイプのホログラム版の製造方法、製造装置を提供するものである。請求項1の発明は、シリンダーロールに直接描画によるホログラム母型版の製造方法であって、ホログラム像を再現できる回折格子パターンのデータを、JEOL登録商標変換を行うデータ変換装置を用いて描画データに変換し、半導体レーザービーム高解像度描画装置にて、シリンダー上の感光性樹脂塗膜に露光、照射し、現像、水洗、エッチング、水洗、メッキそして水洗工程を経ることによって継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版を得ることができるという効果を有するものである。請求項2の発明は、前記シリンダー上の感光性樹脂塗膜への描画変換データによる前記半導体レーザービーム描画装置による照射描画によって、従来レベルの1000nmに比べて100nmの高解像度が得られるという効果を有するものである。請求項3の発明は、前記シリンダーの真円精度を、60nm~300nmの範囲にすることによって、描画ムラの発生が抑制できるという効果を有するものである。請求項4の発明は、前記シリンダーの回転パルス精度を、100nm単位で、500nmまでの範囲で制御することによって、描画位置ずれによるホログラムレリーフの乱れの発生を抑制できるという効果を有するものである。請求項5の発明は、シリンダーロールに直接描画によるホログラム母型版の製造装置であって、ホログラム像を再現できる回折格子パターンのデータを、JEOL登録商標変換を行うデータ変換装置と、前記半導体レーザービーム高解像度描画装置とを備え、前記半導体レーザービーム高解像度描画装置によって、前記シリンダー上に感光性樹脂塗膜を設けるものである。そして、前記半導体レーザービーム高解像度描画装置のレーザービームを用いた露光、照射工程と、その後の、現像工程、水洗工程、エッチング工程、水洗工程、メッキ工程そして水洗工程を行うシリンダー版の製造装置を用いることによって、高解像度で継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版が製造できるという効果を有するものである。請求項6の発明は、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の製造方法、または、請求項5に記載の製造装置によって、高解像度で継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版が製造できるという効果を有するものである。請求項7の発明は、請求項6に記載の継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版を用いることによって、ホログラム像を再現できる高い解像度の回折格子パターンのエンボスフイルムが得られるという効果を有するものである。本発明は、ホログラム像を再現できる回折格子パターンのデータを描画変換できる描画変換装置や高解像度、高精度のレーザー露光装置によって継ぎ目のないシームレスなシリンダータイプのホログラム版の製造方法、製造装置を提供するものである。本発明における、絵柄パターンに対して、2つに分岐した内の一つのレーザー光を照射し、その反射光と、分岐したもう一方のレーザー光とを干渉させてできる干渉縞や回折格子パターンのデータを、描画データに変換を行うデータ変換装置としては、JEOL登録商標変換を行うデータ変換装置を用いることができる。すなわち前記描画データに変換を行うデータ変換装置としては、フォトマスク作成用の日本電子株式会社製の電子ビーム描画装置を用いる場合に一般的に用いられている描画データ変換装置JEOL登録商標変換を行うデータ変換装置が、本発明で用いる前記描画データに変換を行うデータ変換装置として使用できる。前記描画データに変換を行うデータ変換装置から出力される前記描画データを前記半導体レーザービーム高解像度描画装置に入力し、前記描画データをレーザービームとしてシリンダー上の感光性樹脂塗膜に出力し、露光、照射する工程によって、感光性樹脂塗膜上に前記描画データが焼き付けられ、その照射部分、照射パターンが、硬化状態となり、現像工程での現像液により、溶解除去されずに、シリンダー上に凸部パターンとして、残存するものである。レーザー直接描画法に用いられるレーザー光源としては、紫外から赤外領域の光を発振する種々のものが知られているが、画像露光に利用できるものとしては、出力、安定性、感光能力、及びコスト等の点から、UV固体レーザー350~380nm、青紫半導体レーザー390~430nm、アルゴンイオンレーザー488nm、FD-YAGレーザー532nm、及び近赤外半導体レーザー832nm、YAGレーザー1064nm等が有力視されている。しかし、例えば、波長488nmのアルゴンイオンレーザー、波長532nmのFD-YAGレーザーが実用化に先行しているが、これらは可視光に対する感度を持つ感光性レジスト材を用いる為、黄色灯下でのセーフライト性に劣り、赤色灯照明のような暗室環境下での作業が必要であるという制約がある。一方で、黄色灯照明のような明室環境下での作業が可能な、UVレーザー波長350~365nm程度。も実用化されつつあるが、高解像のパターンに対応出来ない30~50μmのライン/スペースが限界等の難点があり、未完成の状態となっている。他方、近年のレーザー技術の著しい進歩により、光源の寿命が長く10,000~20,000時間、ビーム径も10μm以下への絞り込みが可能となった、本発明においては、前記半導体レーザービーム高解像度描画装置に用いる半導体レーザーとしては、出力1mW~100Wの連続またはパルスタイプ、で発振波長は赤色~赤外のものや波長390~430nmの青紫半導体レーザーが使用できるものである。前記感光性樹脂としては、光重合型、化学増幅ネガ型、または化学増幅ポジ型の感光性樹脂組成物が使用できる。前記感光性樹脂組成物には、たとえば波長390~430nmの青紫半導体レーザーでの露光の際、該レーザー光を効率よく吸収して、各感光性樹脂組成物の画像形成能を発現させる為に、前記波長390~430nmに分光感度を持つ増感色素以下、単に増感色素ということがあるを含有することが好ましい。ここで分光感度を持つとは、例えば、後述する実施例に示した回折分光照射装置による方法において、画像を得る事が出来る事を意味する。かかる増感色素としては公知の増感色素から選ぶ事が出来るが、特に、ジアルキルアミノベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、アクリドン系化合物、イミダゾール/オキサゾール/チアゾール系化合物などが好ましい。またこれらの増感色素は複数を併用しても良い。前記感光性樹脂組成物のうち光重合型のものとしては、カルボキシル基を有するポリマー、エチレン性不飽和化合物、及び光重合開始剤を含有する組成物を挙げる事が出来る。前記カルボキシル基を有するポリマーとしては、アルカリ現像性等の面から、エチレン性不飽和カルボン酸に由来する構成繰返し単位を少なくとも含むカルボキシル基含有ビニル系樹脂、又はエポキシ樹脂のエチレン性不飽和カルボン酸付加体に多価カルボン酸もしくはその無水物が付加された、不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂であるのが好ましく、特に、エチレン性不飽和カルボン酸に由来する構成繰返し単位を少なくとも含むカルボキシル基含有ビニル系樹脂が好ましい。またこれらの2種以上の混合物を用いる事も出来る。本発明における前記現像工程において、前記レーザービームの照射を受けなかった部分、すなわち未露光部である感光性樹脂塗膜は、現像液により、溶解除去されるものであり、除去された前記未露光部は、銅メッキ面が露出した状態となるものである。前記感光性樹脂として、光重合型のものとしては、カルボキシル基を有するポリマーを用いた場合の現像液としては、水酸化ナトリウム水溶液などのアルカリ現像液が使用できるものである。これを用いることによって、未露光部分の前記感光性樹脂膜は溶解されて除去されるものである。前記現像工程の次に水洗工程があり、未露光部分の前記感光性樹脂膜は溶解されて除去されて、銅メッキ面が露出した部分に対してエッチング工程を行い凹部を形成するものである。エッチング工程におけるエッチング液いわゆる腐食液としては、銅メッキに対する腐食液としては、塩化第二鉄液を用いることができる。これにより、未露光部分の銅メッキ部分は、凹部となるものである。エッチング工程の後、水洗工程があるが、その後、エッチング工程の腐食によって、腐食されなかった露光部分は、レーザー光により前記感光性樹脂膜が重合して硬化しており、そのまま凸部形状を保持しているものである。エッチング工程、水洗工程の後に、クロムメッキ工程が行われ、凹凸銅メッキ面は、すべて凹凸クロムメッキ面となり、銅メッキ面より、表面硬度が高いものとなるものである。前記クロムメッキ工程の後、水洗工程を行い、本発明のシームレスホログラム母型シリンダー版が出来上がるものである。前記出来上がったシームレスホログラム母型シリンダー版をホログラムエンボス機にセットして、二軸延伸ポリプロピレン、二軸延伸ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂フイルムやトリアセチルセルロースフイルムやそれらの積層フイルムなどの上に、UV樹脂紫外線硬化性樹脂、たとえば、アクリルオリゴマーなどを塗布し、その塗布面に上記エンボス版にて、ホログラムレリーフパターンをエンボスして、エンボスフイルムが出来上がるものである。次に、前記エンボスフイルムに紫外線照射して、エンボス層を硬化させ、エンボス凹凸状態を固定状態にする。次に、上記エンボス凹凸面にアルミニウム蒸着を行い、アルミニウム蒸着層を設けて、ホログラム像を再現できる干渉縞または回折格子パターンの描画パターンのレリーフのエンボスフイルムが出来上がるものである。以下にシームレスシリンダー版作成の実施例を説明する。<実施例1>まず、図2のフロー図に示すように、絵画パターン作成装置10一般的なCADが使用できるによってできた絵画パターンにレーザー光を当て、反射光にもう一方のレーザー光を当ててできる干渉縞や回折格子パターンの作成装置11による干渉縞や回折格子パターンのデータを描画データに変換する描画データ変換装置12に入力し、次に、その出力である描画データを半導体レーザービーム描画装置13に入力する。図3のフロー図に示すように、金属シリンダーに銅メッキ工程20により銅メッキした図4のaに示すような銅メッキ層を設けけたシリンダー30に、光重合硬化型のカルボキシル基を有するポリマーである感光樹脂液を塗布し、図4のbに示すように、乾燥後の膜厚2~3μmの感光性樹脂膜31を設けた。前記感光性樹脂膜31に対して、前記半導体レーザービーム描画装置13により、近赤外半導体レーザー832nmを光源とし、220mJ/cm2のレーザー露光量により前記描画データを前記シリンダー上の前記感光性樹脂塗膜31に出力し、露光、照射され、前記感光性樹脂塗膜31上に前記描画データが焼き付けられ、図4のcに示すように、その照射部分、照射パターン32が、硬化状態となる。次の現像工程として、前記レーザービームの照射を受けなかった部分35、すなわち図4のcに示すように、未露光部35である感光性樹脂塗膜が現像液により、溶解除去されるものであり、除去された前記未露光部は、銅メッキ面が露出した状態となるものである。本発明における前記現像工程において、前記レーザービームの照射を受けなかった部分、すなわち未露光部である感光性樹脂塗膜は、炭酸カリウム水溶液などのアルカリ現像液により、溶解除去され、除去された前記未露光部は、銅メッキ面が露出した状態となった。前記現像工程の後、水洗工程として、スプレーで30秒間の水洗を行った。次のエッチング工程で、現像工程を経たシリンダーを塩化第二銅溶液に浸漬して、前記シリンダーの未露光部で、現像で感光性樹脂塗膜が溶解除去されて、図5のcに示すように、銅メッキ部分が露出した部分をエッチング腐食し、深度10~30μmの凹部33とした。上記エッチング工程で、前記レーザービームの照射を受けて、光重合して硬化した露光部32の感光性樹脂塗膜を水酸化ナトリウム水溶液などの強アルカリ水溶液に膨潤後、溶解させ剥離させた。そして、露光部32は、銅メッキ面が露出したが、エッチングはされていないので、前記未露光部35、すなわち凹部33と比較して、結果的に凸部となった。上記剥離工程で、凹凸の銅メッキ面のシリンダーが出来上がったが、このままでエンボス版として使用するには、硬度的にも、耐磨耗性、耐傷性においても、不十分であるので、クロムメッキ、水洗をして、前述の諸強度を高め、図6のbに示すように、本発明の継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版を作成した。前記クロムメッキ工程、水洗工程を経たシームレスホログラム母型シリンダー版を、ホログラムエンボス加工機にセットし、0PP二軸延伸ポリプロピレン/PET二軸延伸ポリエチレンテレフタレート/ACアクリル樹脂フイルム/TACトリアセチルセルロースフイルムの積層フイルムのTAC面へUV紫外線硬化樹脂を塗布した。その後、前記UV樹脂紫外線硬化性樹脂、たとえば、アクリルオリゴマーなどを塗布し、その塗布面に上記エンボス版にて、ホログラムレリーフパターンをエンボスして、エンボスフイルムが出来上がるものである。次に、前記エンボスフイルムに紫外線照射して、エンボス層を硬化させ、エンボス凹凸状態を固定状態にする。さらに、上記エンボス凹凸面にアルミニウム蒸着を行い、アルミニウム蒸着層を設けて、本発明のホログラム像を再現できる干渉縞または回折格子パターンの描画パターンのレリーフのエンボスフイルムが出来上がるものである。"