"透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理を施した後、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、前記ホログラムレリーフに接するように設けられたフォトクロミック薄膜層、粘着層を設けたことを特徴とするホログラムラベル。前記フォトクロミック薄膜層が、前記ホログラムレリーフを形成する凹凸に追従して均一な厚さで形成されていることを特徴とする請求項1に記載のホログラムラベル。前記フォトクロミック薄膜層の厚さが、0.01μm以上0.5μm以下であることを特徴とする請求項2に記載のホログラムラベル。前記表面活性化処理は、光処理、又は物理的処理であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のホログラムラベル。前記パターンは、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のホログラムラベル。本発明は、ホログラムラベルであるものの、そのホログラム再生像を通常照明下においては視認できず、外観上、単なる無色透明乃至は白色のラベルとしか認識できないラベル、もしくは、ある色調のホログラムラベルとしか認識できないラベルであって、ホログラムラベルを被貼着体に貼着する際には、問題なく貼着可能であって、その被貼着体からホログラムラベルを不正に剥そうとすると、ラベル基材のみが剥がれ、その剥した痕跡として、被貼着体側に残ったものそのものに、例えば開と封の文字が、窪み状の文字として出現し、この段階で、このラベルがいわゆる脆性ラベルであることが判明する。さらに、この残ったものを、所定の照明光によって照明すると、開封等の文字状の欠けを含んだ発色もしくは変色したホログラム再生像が浮き上がるホログラムラベルを提供する。すなわち、本発明は、上記従来の問題点に鑑み為されたものであり、その目的とするところは、不正な剥離行為によるシールの貼り替えを確実に発見することが可能で、しかも、ホログラムの存在や、部分的に脆性破壊する層の存在を発見しにくい、いわば、隠しホログラム脆性シールを提供することにある。上記の課題を解決するために、本発明のホログラムラベルの第1の態様は、透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理を施した後、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、前記ホログラムレリーフに接するように設けられたフォトクロミック薄膜層、粘着層を設けたことを特徴とするものである。上記第1の態様のホログラムラベルによれば、透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理を施した後、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、前記ホログラムレリーフに接するように設けられたフォトクロミック薄膜層、粘着層を設けたことを特徴とするホログラムラベルを提供することができ、外観上は、ホログラムの無い通常の脆性ラベル、もしくは、所定の色調を呈するホログラムラベルのように見えながら、不正行為が行われたことを容易に判定可能な、ホログラムラベルを提供できる。本発明のホログラムラベルの第2の態様は、前記フォトクロミック薄膜層が、前記ホログラムレリーフを形成する凹凸に追従して均一な厚さで形成されていることを特徴とするものである。上記第2の態様のホログラムラベルによれば、前記フォトクロミック薄膜層が、前記ホログラムレリーフを形成する凹凸に追従して均一な厚さで形成されていることを特徴とする第1の態様に記載のホログラムラベルを提供することができ、第1の態様の特徴に加えて、より鮮明なホログラム再生像を出現させることが可能な、ホログラムラベルを提供できる。本発明のホログラムラベルの第3の態様は、前記フォトクロミック薄膜層の厚さが、0.01μm以上0.5μm以下であることを特徴とするものである。上記第3の態様のホログラムラベルによれば、前記フォトクロミック薄膜層の厚さが、0.01μm以上0.5μm以下であることを特徴とする第2の態様に記載のホログラムラベルを提供することができ、第2の態様の特徴に加えて、著しく鮮明なホログラム再生像を出現させることが可能な、ホログラムラベルを提供できる。本発明のホログラムラベルの第4の態様は、前記表面活性化処理が、光処理、又は物理的処理であることを特徴とするものである。上記第4の態様のホログラムラベルによれば、前記表面活性化処理が、光処理、又は物理的処理であることを特徴とする第1から第3の態様のいずれか一つの態様に記載のホログラムラベルを提供することができ、その態様の特徴に加えて、より脆性破壊し易く、且つ、脆性破壊する層の存在をより発見し難い、ホログラムラベルを提供できる。本発明のホログラムラベルの第5の態様は、前記パターンが、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とするものである。上記第5の態様のホログラムラベルによれば、前記パターンが、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とする第1から第4の態様のいずれか一つの態様に記載のホログラムラベルを提供することができ、その態様の特徴に加えて、さらに脆性破壊し易く、且つ、脆性破壊する層の存在をさらに発見し難い、ホログラムラベルを提供できる。すなわち、本発明のホログラムラベルは、透明基材の一方の面に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、フォトクロミック薄膜層、粘着層がこの順序で形成され、上記したホログラムラベルの用途において、所望の被貼着体の一部や、封筒等の封緘部分等に貼着される。このホログラムラベルを、その被貼着体、もしくは、封緘部分から、貼付した痕跡を残さず、ホログラムラベルも完全な元の状態で剥して、不正に準備した別の被貼着体に貼り替えたり、封筒や箱を開封して内容物を取り替えた後、あたかも、その被貼着体や封筒や箱の内容物が本物であると主張したり、逆に、真正なホログラムラベルを剥したものは、本物でないとして、その価値を低下させるなどの不正を防止するためには、ホログラムラベルの基材及びホログラム形成層そのものが破断することが望ましいが、ホログラムラベルの基材及び、ホログラム形成層の破断強度は、非常に大きく、ラベルとしての粘着力等JISZ0237で規定する180°剥離試験にて、0.1~1.0kg/25mm幅。では、それらの層を100破断させることは困難である。そのため、透明基材とホログラム形成層との間の剥離強度を小さく抑え、且つ、透明基材の一方の面を所望のパターン状に表面活性化処理して、透明基材とホログラム形成層との接着性を部分的その表面活性化処理した領域のみという意味。に向上させ、0.5kg/25mm幅以上、3.0kg/25mm幅以下の剥離強度JISZ0237で規定する180°剥離試験にて。とし、その他の領域については、ホログラム形成層との接着性をその強度より小さいままに抑えるか、さらには、その小さい強度をさらに小さくするため表面不活性化処理を行う。そのパターンとしては、視認可能な大きさや形状を有する、文字、図形、記号等、そのパターンが可視化されたときに、容易に視認可能な表示となるものであればいずれも使用でき、代表的には、ラベルを剥離した証拠を示すという意味で、開封の文字表示を出現させるため、開と封の文字の画線部領域のみを表面活性化処理するか、さらには、その表面活性化処理に加えて、その画線部以外の領域を表面不活性化処理する。この表面活性化処理、すなわち、濡れ性を非常に高める処理や、表面に官能基を創り出す処理等には、炭酸ガスレーザー照射、遠赤外線炭酸ガスレーザー照射、172nm真空紫外線VUV、エキシマ光照射、酸素増感エキシマ光照射、オープンプラズマ処理、コロナ処理、電子線照射処理等の透明基材最表面の化学結合エネルギーよりも大きいエネルギー例えば、7.2eV以上。により、透明基材最表面の化学結合を切断し、または、172nmの真空紫外線等のように、大気中の酸素に吸収されてオゾンまたは直接励起酸素を発生し、この接触により官能基を生成する等の物理的処理等を用いて、透明基材の最表面のみを表面活性化処理表面張力が大きくなることを意味する。し、もしくは、酸化剤等薬品による表面処理、プライマー処理、シランカップリング処理等の化学的処理、アルゴンビームエッチング、エッチング液、さらにはサンドブラスト加工等の物理的な租面形成処理等を用いることができる。そして、表面不活性化処理としては、透明基材上、もしくは、上記の表面活性化処理面の所定の部分のみを精度よく表面不活性化処理する必要があり、透明基材上に直接表面不活性化処理を行う方法、例えば、熱硬化性樹脂や、硬化剤を添加した樹脂からなる透明基材を用いて、その最表面の一部を赤外線加熱等により完全硬化させて、未反応成分を解消したり、離型成分を含む樹脂の部分加熱や部分硬化により、その離形成分を最表面にブリードする方法等、または、まず、透明基材の最表面全体に上記した表面活性化処理を施し、その後、活性化した透明基材の最表面の一部領域に、その最表面のみを部分的に溶解する、もしくは、その最表面の活性化した官能基と反応して官能基の活性を解消する、溶剤類、例えば、ケトン類メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等。、アルコール類メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等、さらにはその水溶液。、芳香族類ベンゼン、トルエン、キシレン等。、エステル類、エーテル類テトラヒドロフラン等。等、または、これらの透明基材とはそもそも接着し難い、界面張力の小さい樹脂、例えば、シリコーン樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂や、これらのフッ化炭化水素基、有機珪素基を含む樹脂等を、活版印刷方式やインクジェット方式を用いて、表面活性化処理面への接触を避けて、上記した所望のパターン状に部分形成する方法等により、高い精度でパターン状に表面不活性化処理する。この際、透明基材表面の光学的な特性透明基材に付着したものを含んだ特性とし、光学的透明性、屈折率分布や、光を反射する界面形状等。に変化を与えないことが望ましく、溶剤等は揮発することで、また、樹脂等はあくまで表面改質の目的であって乾燥後の形成厚さが光の波長の1/2~1/10程度となることが望ましい。もちろん、これらを併用することも好適である。そして、このホログラムラベルを剥そうとして透明基材を被貼着体から持ち上げた際、表面活性化処理を施していない部分、または、表面不活性化処理した部分において、その透明基材とホログラム形成層との間で容易に剥離が起こり、表面活性化処理した部分においては、透明基材側にホログラム形成層が付着したままとなって、表面不活性化処理した部分と表面活性化処理を施していない部分との境界、または、表面不活性化処理した部分と表面不活性化処理した部分との境界において、ホログラム形成層に強いせん断力ホログラム形成層を破断しようとする力。ホログラム形成層が破断する際に加えていた力が破断強度となる。が働くこととなる。このホログラム形成層上に、そのホログラムレリーフに接するように、さらには、ホログラムレリーフを形成する凹凸に追従して均一な厚さで、フォトクロミック薄膜層が設けられているが、このフォトクロミック薄膜層は非常に薄い層であり、且つ、フォトクロミック材料を多く含んでいるため、フォトクロミック薄膜層の破断強度は非常に小さく、ホログラム形成層の破断とともに容易に破断する。そして、このフォトクロミック薄膜層上に設けられている粘着層も、その破断強度はホログラム形成層より小さく、ホログラム形成層の破断とともに、破断するか、もしくは、粘着層内において凝集破壊粘着層が上下に分断されることを意味する。を生じることとなる。すなわち、開封の文字状に表面活性化処理等を施した場合、開封の文字の領域に対応する部分のホログラム形成層、フォトクロミック薄膜層、及び粘着層のみが、透明基材に付着し以下、透明基材側残部ともいう。、開封の文字以外の領域に対応する部分ではそれらの層は透明基材に付着しないで、透明基材が剥離され、被貼着体側には、ホログラム形成層、フォトクロミック薄膜層、及び粘着層が、開封の文字状に欠けた状態文字状の窪みが発生した状態、もしくは、文字状の穴が開いた状態。以下、被貼着体側残部ともいう。で残されることとなる。また、表面活性化処理部分の領域の大きさ面積と、それ以外の領域表面不活性化処理部分の領域を含む。の大きさ面積とを比較すると、この例もそうであるが、表面活性化処理部分の領域の大きさより、それ以外の領域の大きさの方が相対的に大きくなる場合が多いことから、この透明基材とホログラム形成層の界面での剥離を助長する効果も有する。そして、この被貼着体上の被貼着体側残部に、所定の波長の紫外線等を当てると、フォトクロミック材料が発色もしくは変色し、その発光波長によるホログラム再生像が出現する。この場合、ホログラム再生像は、開封の文字により遮られた状態として観察される。そもそも、ホログラム再生像はその再生の原理から非常に冗長性が高いため、この遮断表面活性化処理領域の幅、すなわち、開封の文字の線幅だけ、ホログラムレリーフ及びフォトクロミック薄膜層が取り除かれているため、この領域からホログラム再生に寄与する光が放射されないことを意味し、あたかも、ホログラム再生像の上から、開封の文字状の遮蔽物をかぶせて、ホログラム再生像を結像する光の進路を遮断したように見えることを意味する。を明確に視認できるようにするため、そのホログラムレリーフの干渉縞の周期0.5μm~2μmの200倍~5000倍、より好適には、500倍~2000倍とする。この遮断が、200倍未満であると、ホログラムの冗長性からホログラム再生像が強く再現されて遮断が弱まってその存在を視認し難くなり、この遮断が5000倍を超えると、表面活性化処理した部分の領域の面積が大きくなって個々の線幅が大きくなり、結果として全体の面積も大きくなることを意味する。、透明基材そのものが剥離しにくくなったり、ホログラムラベル全体が何らの破断も生じずそのまま剥離できてしまう等の不具合が発生する。透明基材を剥離した際の遮断文字等。の鮮明さは、500倍~2000倍が最も良好となる。これに対し、表面活性化処理していない面、乃至は表面不活性化処理面は、その剥離強度を、0.01kg/25mm幅以上0.1kg/25mm幅以下として、ホログラムラベルを剥そうとすると、どのように工夫しても、必ず、透明基材がホログラム形成層からスムースに剥がれるものとし、透明基材を剥離した際、ホログラム形成面の最表面がほぼ鏡面となって剥離痕等が残らないことを意味する。、その部分からは、その下にあるホログラム再生像を鮮明に視認することができるものとする。上記した印刷手法を用いる表面不活性化処理は、非常に鮮明なパターンを形成可能であり、且つ、表面不活性化処理面と表面活性化処理面との接着強度差を非常に大きくすることができるため、破断する境界線をより明確なものとすることができる。もちろん、これらの表面活性化処理及び表面不活性化処理を用いたパターン状処理は、光学的に透明であって、ホログラムラベルを観察した際、そのパターン境界を視認することができず、レーザー等で照明してもその透明性その連続性。を維持している。この表面活性化処理の中でも、レーザー照射等の光処理、又はプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材の処理面に凹凸が発生せず、鏡面を維持していること、表面活性化処理の位置精度を高くすることが可能であること、及び、表面不活性化処理による表面不活性化処理効果が大きいことから、特に望ましく、また光学的透明性にも優れる。さらに、上記したパターン内を均一に表面活性化処理することに替えて、そのパターンを微細なパターンの集合により構成する、すなわち、そのパターン内を、より微細なパターン、例えば、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細なパターンの集合体とし、その微細なパターンの部分のみを表面活性化処理することで、破断する境界線すなわち、破断する機会を増やし、破断をより効率的に発生させることができるようになり、透明基材を剥離した際のホログラム形成層等の破断性、そして、併せて、フォトクロミック薄膜層の破断性を向上することができる。例えば、網点形状の場合には、その網点の中を表面活性化処理し、網点と網点の間の領域は、表面活性化処理せず、または、表面不活性化処理し、市松模様状の場合には、升目で一様に区切り、その一つ飛ばしの升目の部分のみ、表面活性化処理し、それ以外の升目は、表面活性化処理しないか、もしくは、表面不活性化処理して、透明基材とホログラム形成層との界面の剥離強度に微細な網点状や微細な市松模様状の強弱を付与することで、破断性を向上させる。このため、微細なパターンの個々の大きさ市松模様であれば、その一つのマスの大きさを意味する。は、50μm~1mmとする。微細なパターンの個々の大きさが、1mmより大きいと、破断性を向上させる効果が低下し、50μm未満とすると、表面活性化処理の個々の領域が小さくなりすぎて、上記した方法による、十分な表面活性化処理ができなくなる。この表面活性化処理を施す範囲は、ホログラム形成層全体に渡って施すこともできるが、この表面活性化処理の目的が不正行為の判定であるため、ホログラムラベルの所定の一部範囲1/10~1/25の範囲。に限定して施すことも、ホログラムラベルを被貼着体に貼着した状態で、そのような処理が存在することをさらに秘匿する意味で好適である。さらに、ホログラムの冗長性を遮断する目的を考慮すると、パターンは均一に設けることが望ましいが、ホログラム画像再生時のもう一つの特徴である、50μm~300μm幅の微細な光回折性の帯でホログラムを寸断すると、光回折性の帯とホログラムの帯が一対となって縞を構成し、それぞれの帯から回折する光の干渉効果により、ホログラム画像の再生を阻害する効果が発生する現象を用いて、ホログラム再生を遮断するためには、微細なパターンの大きさを、50μm~300μm幅であって、長さも同様とすることが望ましい。本発明の場合は、この微細な光回折性の帯に相当する部分は、光散乱性の帯となる。例えば、網点の直径、市松模様の一つの正方形の一辺の長さ、さらには、ランダムパターンの個々の領域の幅等を、この大きさとする。透明基材剥離時、ホログラム再生に寄与する領域とホログラム再生に寄与しない領域とが、交互に上記した大きさで形成されることで、1つのホログラム再生領域とそれに隣接する1つのホログラム再生しない領域が、上記した微細な縞を形成し、この縞が繰り返し存在することで、ホログラム画像の再生を阻害し、単なる虹色の領域として視認されることになる。従って、この場合は、例えば、虹色の開封文字が観察される。本発明で使用される透明基材には、厚みを薄くすることが可能であって、機械的強度や、ホログラムラベルを製造する際の加工に耐える耐溶剤性および耐熱性を有するものが好ましい。使用目的にもよるので、限定されるものではないが、5~250μm厚さのフィルム状もしくはシート状のプラスチックを用いる。透明基材の上に形成される、ホログラム形成層を構成する、透明な樹脂材料としては、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができ、グラビアコーティング方式等の各種コーティング方式や、オフセット印刷方式、スクリーン印刷方式等の各種印刷方式を用いて、5μm~50μm厚さのホログラム形成層を形成する。上記の透明な樹脂材料を用いてホログラム形成層を形成するには、感光性樹脂材料にホログラムの干渉露光を行なって現像することによって直接的に形成することもできるが、予め作成したレリーフホログラムもしくはその複製物、またはそれらのメッキ型等を複製用型として用い、その型面を上記の樹脂材料の層に押し付けることにより、賦型を行なうのがよい。熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、型面に未硬化の樹脂を密着させたまま、加熱もしくは電離放射線照射により、硬化を行わせ、硬化後に剥離することによって、硬化した透明な樹脂材料からなる層の片面にレリーフホログラムの微細凹凸を形成することができる。なお、同様な方法によりパターン状に形成して模様状とした回折格子を有する回折格子形成層も光回折構造として使用できる。レリーフホログラムは、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラムなどのレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラムなどの白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラムCGH、ホログラフィック回折格子などがある。また、マシンリーダブルホログラムのように、その再生光を受光部でデータに変換し所定の情報として伝達したり、真偽判定を行うものであってもよい。特に、所定の色調を呈しているフォトクロミック薄膜層により、その色調のホログラム再生像を視認できている場合には、その色調のホログラム再生像の再生方向を通常照明光の入射角度に対して、一般的に視認する際の観察角度入射角度に対して30度~60度の方向に設定しておき、変色後の観察可能角度が再生方向の変化により、その角度範囲外とすることも、その偽造防止性を高める意味で好適である。微細な凹凸を精密に作成するため、光学的な方法だけでなく、電子線描画装置を用いて、精密に設計されたレリーフ構造を作り出し、より精密で複雑な再生光を作り出すものであってもよい。このレリーフ形状は、ホログラムを再現もしくは再生する光もしくは光源の波長域と、再現もしくは再生する方向、及び強度によってその凹凸のピッチや、深さ、もしくは特定の周期的形状が設計される。凹凸のピッチ周期は再現もしくは再生角度に依存するが、通常0.1μm~数μmであり、凹凸の深さは、再現もしくは再生強度に大きな影響を与える要素であるが、通常0.1μm~1μmである。ホログラムレリーフは、位相ホログラムとしての位相差をレリーフ形状凹凸形状を意味する。に現しているが、この位相差を有するレリーフ形状に接するように設けられフォトクロミック薄膜層の一方の面がそのレリーフ形状に沿って設けられ、または、レリーフ形状に追従して均一な厚さで、フォトクロミック薄膜層が設けられることにより、フォトクロミック薄膜層が発する発光が、上記位相差を含んで、または、有して発することになる。フォトクロミック薄膜層は、透明性を有しているか、もしくは、白色フォトクロミック材料表面の光散乱性により、白色と視認されることを意味する。であるため、フォトクロミック薄膜層を発光させる照明光以外の照明光の下では、単なる透明なラベル、もしくは、白色ラベルとして視認される。そのため、上記した種々のホログラムラベルの用途においては、その用途に適合する文字や絵柄等の印刷層を、ホログラムラベルを構成する各層の上下、特には、透明基材とホログラム形成層との間に設けることが好適である。また、フォトクロミック薄膜層が既にある色調を呈している有色の状態を意味する。場合には、通常の室内照明光の下で、その色調によるホログラムラベルとして視認できるため、ある色調と同一の色色の三要素である色相色彩明度が実質的に一致することを意味する。を呈する真正等のそのホログラムラベルが本物であることを意味する文字や図柄等印刷層を、ホログラムラベルを構成する各層の上下、特には、透明基材とホログラム形成層との間に設けることが好適である。これにより、フォトクロミック薄膜層に対して所定の励起光を照射し、所定の励起光による変色をさせた際に、その真正等の文字が浮き上がるようにすることができる。この場合における同一の色の範囲は、色差、例えば、Lab色度図LAB表色系における△E{=△a2△b2△L212}で表される色差において、△Eが、0.5以下となることを意味する。国際照明委員会CIEが提唱する表色系には、その他RGB系、XYZ系Yxy系、UVW系Luv系等があるが、これらは相関しており、容易に換算が可能であって、その換算値を用いることもできる。そして、色の変化は、この△Eが0.5を超えると差があるものとして認識されSLIGHT:差がわずかに感じられる。、1.5を超えると明確にその違いを視認できるNOTICEABLE:差がかなり感じられる。。このような通常のデザインを有する通常のラベルもしくは、ある色調を呈するホログラムラベルとしか視認されないラベルが、所定の励起光により発色もしくは変色して、その発色波長、乃至は変色波長のホログラム再生像を出現する。ここで、ホログラム再生像が出現する原理について以下に説明する。フォトクロミック薄膜層が発色もしくは変色により呈する光は、レリーフホログラムを再生する場合に生じるホログラム再生の元となるホイヘンスの2次波に対し、本発明のホログラムラベルの場合において、この2次波に相当するものが、ホログラムレリーフ面に配されたフォトクロミック薄膜の呈する色調以後、発した色、もしくは、変色した色からでる光を便宜上まとめて、発色光、又は発光光とも表現する。であり、この発色光がその役目を担い、ホログラム画像に対応した回折格子群を含むホログラムレリーフが有する位相差を含んで発色光を観察者側に発するものである。この発色光が、ホログラムレリーフ面上の空間において干渉現象を起こし、その結果、所定の方向に所定のホログラム再生像を発現する。フォトクロミック薄膜が、その色調を変化させる様子を、フォトクロミック分子ポテンシャル曲線図1参照。を用いて、以下に説明する。フォトクロミック分子Aは、ある波長λの光照射によってエネルギーを得て、励起状態の分子Aになる。STEP1このとき、励起状態となったフォトクロミック分子Aは分子内反応、例えば、cis-trance異性化反応や、閉環開環反応、酸化還元反応、水素移動による互変異性等を起こして、その分子の幾何構造や、電子構造を変化させる。この変化によって、フォトクロミック分子Aは、フォトクロミック分子Aとは違った波長の光λ′を吸収するフォトクロミック分子Bへと変化する。そして、フォトクロミック分子Bは、その吸収波長λ′の光の吸収STEP2、もしくは、熱エネルギーを吸収STEP3して、再び、フォトクロミック分子Aへと戻る。そしてこのSTEP1~STEP3を繰り返すことが可能である。このとき、フォトクロミック分子Bからフォトクロミック分子Aへの熱戻りのしやすさは、その基底状態ポテンシャルエネルギー△E図1:STEP3の大きさに依存することになる。熱戻りがしにくい、つまり△Eが極端に大きければ暗所に保存しておけばそのまま着色体を維持し続けることになる。このようなフォトクロミック分子は、これを光のみに依存するという意味でP型という。逆に、光が当たらなくなって、すみやかに脱色、もしくは、元の色調に戻る場合には、△Eは比較的小さい。このようなフォトクロミック分子は熱依存性があるという意味で、T型という。すなわち、フォトクロミック薄膜は、あるときはフォトクロミック分子Aで構成され、あるときは、フォトクロミック分子Bで構成されていることになる。フォトクロミック分子Aもしくは、Bはそれぞれ特徴のある光吸収曲線を有しており、フォトクロミック分子Aは波長λにおいて、フォトクロミック分子Bは波長λ ́において大きな吸収曲線部分を持つ。一例として、フォトクロミック分子Aにおける波長λが、紫外線領域にある場合、フォトクロミック分子Aは、無色透明であって、励起状態Aを経て、フォトクロミック分子Bに変化して初めて、可視光領域にある特定の波長これが波長λ ́の場合もある。を中心とする光の吸収により、特定の色調を呈するようになる。この色調を呈する状況は、フォトクロミック分子Bが、可視光領域において所定の光吸収曲線を有しており、このフォトクロミック分子Bに白色光を当てた際に、特定の波長を含む所定の波長領域の光を吸収し、吸収されなかった波長領域の光が発散光として、フォトクロミック分子Bからなるホロクロミック薄膜層から発することになる。この例によるホログラムラベルにおいては、フォトクロミック分子Bから発する発散光が、上記したホイヘンスの2次波の役割を担うことになる。従って、フォトクロミック薄膜層がフォトクロミック分子Aで構成されているときには、このフォトクロミック薄膜層が無色透明であって、その位置にホログラムがあるとは認識できず、そのフォトクロミック薄膜層の背景にあるものが見えているが、波長λの照明光をフォトクロミック薄膜層に当てることにより、フォトクロミック薄膜層が上記した波長領域の光を発散し、その発散光の干渉により、その発散光の色調によるホログラムが空中に浮かんで見えることになる。この発散光の色調によるホログラム再生像は、フォトクロミック薄膜層が、上記したP型である場合には、その色調をしばらく維持し、徐々に消色し、また、フォトクロミック薄膜層が、上記したT型である場合には、比較的すみやかに色調が消色し、再び、無色透明となる。また、フォトクロミック分子A、Bがいずれも可視領域の色調を呈する場合には、ホログラム再生像の色調が変わる現象が現れることになる。本発明のホログラムラベルのこのような効果を意匠性ととらえて、鑑賞用途に採用してもよい。また、T型の中でも、その消色の速さを非常に早いものとして、波長λの照明をはずすと同時に消色するように設計し、ホログラム真正性判定者が、ホログラムラベルもしくはホログラムラベル貼着物保持者から、そのホログラムラベルもしくはホログラムラベル貼着物を預かり、素早く波長λの照明を僅かな時間照射し、その瞬間に、上記した発色光によるホログラム再生像を視認して、真正であることを確認し、その後、すみやかに、そのホログラムラベルもしくはホログラムラベル貼着物を、その保持者に返却するなど、その真正性判定を、その保持者に気づかれずにに行うことを可能とすることもできる。この場合には、消色の速さを、発色強度発色濃度の半減期で表現して、その半減期が、0.1秒~数秒となるように設計する必要がある。こうすることで、波長λの光を照射すると、速やかに上記した変化が生じ、フォトクロミック分子Bの色調のホログラム再生像が現れ、波長λの光の照射を止めると、速やかに無色透明となる、真正性判定に優れるホログラムラベルを提供することができる。もちろん、波長λの光を照射後、発色を確認し、速やかに波長λ ́の光を照射して消色するような判定システムを用いることも好適である。次に、ホログラフィの原理について説明する。物体がコヒーレント光で照明され,物体から回折された光が記録媒体の第3項は物体の複素振幅分布を含んでいる。5、6を2に代入すると、Ix,y=|Fx,y|2|Rx,y|22Ax,yrx,yCOS2παx-φx,y7となる.物体波と参照波が干渉して干渉縞を形成していることがわかる。このように、物体波に参照波を重ね合わせて干渉記録し、物体の位相情報を欠落させずに記録する方法がホログラフィである。7を記録したものがホログラムと呼ばれる。ホログラムの振幅透過率もしくは振幅反射率が、記録した強度分布Ix,yに比例し、Tx,y=τIx,y8とかけるとする。このホログラムに、記録したときに用いた参照波を所定の角度であてると、ホログラムを透過もしくは反射してきた波面は、Tx,yRx,y=τ|Fx,y|2|Rx,y|2τFx,y|Rx,y|2τFx,yR2x,y9とあらわすことが出来る.この第2項はτFx,y|Rx,y|2=τAx,yr2x,yEXPiφx,y10第3項は、τFx,yR2x,y=τAx,yr2x,yEXP-iφx,y2πiα11とかける。このことから、9の第1項は、照明光と同じ方向にホログラムを突き抜ける光束もしくは正反射する光束であり、第2項は、より、物体光に比例した振幅を持つ光波であることがわかり、第3項は、より、物体波と共役な位相分布を持ち、2θの方向に伝播する光波であることがわかる。このようにして,ホログラフィの技術を使うと複素振幅分布を記録して再生することが出来る。本発明の場合は、ホログラムの振幅透過率もしくは振幅反射率が、記録した強度分布に比例し、8の式で表されてはいるものの、このホログラムに、記録したときに用いた参照波を所定の角度であてるのではなく、8の振幅透過率もしくは振幅反射率と同様の空間的な分布を持つ発光波がこのホログラムから発せられることになる。従って、参照光にホログラムに記録された位相項を付与するという従来のホログラム再生の原理によらず、既にホログラムに記録されている位相項を保持して発光波を放射するものである。従って、理論上は、物体の位相差を含む空間関数を持つ3次元の連続曲面状の発光面を有し、その1曲面から光が放射されることになる。従来のホログラム再生原理を透過タイプについて、単純化して説明すると、参照光としての平行光をホログラムにあてた際、遮蔽部分では、平行光が遮蔽され、透過部分からのみその平行光を透過し、透過部分と遮蔽部分との境界において回折が起こり、物体の持つ位相項を受け取り、ホログラムを透過した成分全体が重ね合わさり、それがホログラム再生光となって観察者の目に届くものである。本発明の場合は、上記した参照光としての平行光が存在せず、ホログラムレリーフに接するように設けられた発光面での発光時変色により色が発することも発光と捉え、ホログラム原理の説明をする場合においては、敢えてこの発光という言葉に集約して使用する。、その放射光が物体の位相項を保持しており、その放射光同士の干渉現象により、ホログラム再生がなされるものである。時間的且つ空間的コヒーレンス性を持たない放射光同士の干渉効果は、レーザー光のような十分な干渉を生じないが、低コヒーレント光でホログラムを照明した際と同様のレベルでホログラム再生が行われる。例示すれば、レーザー光のような特別な光源による照明を用いず、一般家庭や、一般的な事務所等において用いられている蛍光灯のような、人工的に発生させた自然光によっても、ホログラムを再生させることが十分可能である。但し、人工的に発生させた自然光であっても、その光源の大きさが、点光源であるか、線状であるか。もしくは平面状であるかによっても、また、その発光波長が、単色光であるか否か、さらには、その発光曲線の半値幅が狭いか否か等によって、そのホログラム再生像の鮮明さは大きく左右されることになる。以上のような原理によるホログラム再生であるため、ホログラム撮影時の参照光は平行光であることが好ましく複雑な参照光を再現できないため。、もしくは、回折格子により表現されたホログラム回折格子は、物体光、参照光とも平行光である。であることが好ましく、さらに、回折格子は計算機ホログラム等、電子線描画により形成したものが精密であり、好適である。さらに、上記の理由から、ホログラム再生像をより鮮明にするためには、放射光に、時間的若しくは空間的なコヒーレンス性に類する特性を付与することが必要であり、例えば、発光する層の厚さを薄いものとしたり、発光波長の幅を狭くすることが望ましい。さらに、励起光源も小さい形状であることが好ましく、スポット形状等が特に好適である。また、発光する層を励起する励起光と、変化後の発光波長との波長差は大きい方が望ましく、さらに、観察時、その励起光をフィルタリングして発色光のみを取り出したり、さらにそれを増幅することも有効である。励起光源として、紫外線、可視光線、電子線、X線等のエネルギー及び、場合に応じて、赤外線エネルギーを放射可能な光源を用いて、発光等をさせることができるが、ホログラム観察用さらには、ホログラム認証用に用いるためには、フォトクロミック薄膜に応じた光源を用いる必要があり、所定の強度、波長、さらには照明スポットのサイズを有する紫外線光源、可視光光源、場合により赤外光光源を用いることが好適である。これらの光源による照明により、ホログラムレリーフ面に接するように設けられたフォトクロミック薄膜層から、さらに言及すれば、そのフォトクロミック薄膜層に含まれるフォトクロミック分子等から個々に、照明光源の波長とは異なる波長の発光等が発現する。その発光等が、ホログラムレリーフと同一の空間的位相を含み、且つ、照明光源とは異なる波長発光波長。を有することから、ホログラムレリーフによる正反射光0次回折光方向や、照明光波長励起光波長による回折方向とは異なる方向、すなわち、発光波長による回折方向へホログラム像の再生が行われる。但し、このフォトクロミック薄膜層の厚さが、ホログラムレリーフとは無関係にそのホログラム面上に分布している場合には、その厚さ分布に起因する発光強度分布が、場合によっては、ホログラムを再生する光と不要な干渉を生じ、ホログラム再生像を不鮮明にする要因となり得る。この要因を排除するため、フォトクロミック薄膜層を、ホログラムレリーフを形成する凹凸に追従して均一な厚さで形成して、ホログラムレリーフ面のどの位置からも、同一の強度の発光が生じるようにし、ホログラム再生像の鮮明化を図る。本発明のホログラムラベルの照明光励起光として、可視光以外の紫外光や赤外光を使用した場合は、その光は観察者には見えず、あたかも照明光のないところからホログラム再生像が浮き上がっているように観察されるが、このホログラム再生像は、例え、照明光が、時間的空間的なコヒーレント性を有していても、結果として、励起発光というプロセスを経て発光するものであるため、その発光時の空間的なホログラムの位相を含んではいるとはいえ、その発色光同士の時間的及び空間的なコヒーレント性は小さく、ホログラム再生像は通常のレーザー再生レリーフホログラムのレーザー光による再生像より微弱であって且つ不鮮明となっている。もちろん、ビーム形状の回折光を観察するのみであれば、その色調と回折方向を確認することは容易であり、そのままでも真正性の判定に差し支えないが、このため、この微弱且つ不鮮明なホログラム再生像を観察者が認識しその存在を正確に判定可能とするために、フォトクロミック薄膜の発光性能を向上させ、且つ、回折角度を大きくとって波長―回折角依存性を強め、照明光回折角度と発光光回折角度の差を大きくし、さらには、フォトクロミック薄膜層を薄くして、フォトクロミック薄膜層厚さ方向のばらつきを抑え且つ均一なものとすることが必要となる。発光面が位相情報を含んでいるため、その空間的な形状を正確に再現するものとする。さらには、時間的なコヒーレント性を発現するため、光源として発光時間が1015sec以下のパルスレーザーで励起して、パルスとパルスの時間的間隔をA-B分子間遷移時間以上あけて照明することも好適である。これにより、一つの励起パルスによって生じた一つの発光の発光面が、次の励起パルスによって生じた発光面とは、互いに撹乱現象を起こさず、一つのパルスによって発現した一つの発光面によって生じるホログラフィックな干渉現象により、鮮明なホログラム再生像を観察することができるようになる。もちろん、単純に秒単位でON-OFFするストロボ状の光源を使用した場合でも、観察者には、連続して発光しているようにも見えるため、このような簡易な手段であっても目視で確認する場合には、上記した効果を十分得ることができる。フォトクロミック薄膜層は、フォトクロミック分子を樹脂に混入させたり、溶剤若しくは水に分散させたりしたフォトクロミック分子含有インキを、グラビア方式、オフセット方式、シルクスクリーン方式、ノズルコート方式さらにはインクジェット方式等でホログラムレリーフ上に形成することができる。このとき、インキ中のフォトクロミック分子の含有割合を調整する等により、形成したフォトクロミック薄膜層を、ホログラムレリーフを形成する凹凸に追従して均一な厚さで形成することができる。ホログラムレリーフの凹凸は例えれば、1μmレベルの周期で、深さ0.01μmレベルの凹凸を持つ、ゆるやかな曲線であって略平面と見做せるため、この略平面上に適宜な粘度0.1~10パスカル秒に調整し、インキの自重によるレベリング効果を発揮させることと、インキ中の固形分を10以下、さらには5以下とすることで、例えば、厚さ1μmに対して、そのばらつきを1/10以下に、さらには1/20以下に抑えることができる。ここで、フォトクロミック薄膜層を1μmオーダーとしたが、ホログラム再生像の鮮明度を向上させるためには、フォトクロミック薄膜層を離散的に設けることも好ましく、このために、フォトクロミック薄膜を形成する領域の単位サイズを1.0μm程度もしくはそれ以下、例えば0.01μm~0.5μm、より好適には、0.01~0.05μmとし、ホログラムレリーフ面内に均一に点在させることも好適である。そして、フォトクロミック薄膜層厚さ方向には、フォトクロミック分子、もしくは、フォトクロミック分子を吸着させた微粒子を単位として1~10分子もしくは1~10粒子で並んでいる状態とすることが好ましい。中でも、ノズルコート方式やインクジェット方式、さらには、化学蒸着等の物理的蒸着法では、樹脂を使用せず溶剤等とフォトクロミック分子や粒子のみで薄膜を形成可能であり、フォトクロミック薄膜層として非常に薄く形成フォトクロミック分子や粒子1~10分子等。することができるため好適である。その上にそれらのフォトクロミック薄膜を固定するために適宜な透明樹脂層を保護層として形成してもよい。ところで、フォトクロミック材料は、ホログラム記録材料や、光メモリ用記録材料そのものとして用いることは可能であり、そのような用途は既に公知であるが、これらは、フォトクロミック材料に直接ホログラフィックな記録干渉縞の記録を行うものであって、フォトクロミック材料に微細な明暗の記録を行うものである。この記録は、記録した領域のフォトクロミック分子に変化を与えない手法変化を与えない波長の光を照射するなど。を用いて、読み出されることになる。これに対して、本発明のホログラムラベルは、均一に形成したフォトクロミック薄膜層を全て同様に均一に照明し、均一な発色を生じさせるだけのものであって、ホログラム撮影光学系を組んでフォトクロミック薄膜層を露光するというような複雑な工程を必要とせず、フォトクロミック薄膜層そのものがその形状として保有している凹凸形状に、そのホログラム情報を担持させており、フォトクロミック薄膜層を均一に形成するだけでホログラム情報を取得するホログラム再生情報を獲得するという意味。ことができるという顕著な効果を有するものである。ホログラムレリーフは、周期1μm程度で、深さは、0.01μm、最大でも0.5μmの凹凸形状をしており、この凹部にのみフォトクロミック薄膜層を設けることで、ホログラムレリーフの周期に同調するかたちで、フォトクロミック薄膜層の有無、すなわち、発光の有無を設けることができる。ホログラムレリーフの凹部とは、ホログラムレリーフ上にフォトクロミック薄膜層を形成する際の凹部であって、通常の観察の仕方、すなわち、ホログラム形成層側から観察する場合には、凸部側となる。フォトクロミック薄膜層の有無を利用して発光強度分布を形成するためには、凹凸どちらかに部分的に形成すればよく、さらには、凹部全体をフォトクロミック薄膜層で埋めてもよく、もしくは、凹部の底の部分のほんの一部のみに形成してもよい。但し、その位相分布と形成する分布が同調する必要があるため、一部に形成する場合は、常に同一の位置に同一のフォトクロミック薄膜量を持って形成しなければならない。この量が、発光強度に比例するため。凹部に選択的にフォトクロミック薄膜層を形成する方法としては、溶剤等に分散した粒径の非常に小さい、フォトクロミック分子を含むか、その表面に吸着させた微粒子粒径が0.01μm等。樹脂を含まない。インキを使用して、ホログラムレリーフの上にインキ層を形成し、溶剤が揮発する間に、微粒子が自重で凸部から凹部へと移動するようにしても良い。また、規則的な回折格子を設け、その上に均一に設けたフォトクロミック薄膜層をフォトリソグラフィーを用いて、その規則的な回折格子に同調させて露光現像、エッチングすることにより、凹凸とフォトクロミック薄膜層を同調して設けることもできる。この方法によると、各凹部に点在するフォトクロミック薄膜層の厚さや大きさを制御可能であり、レリーフ面全体に、いわば均一に形成することができる。以上の手法により形成したものは、上記のホログラムの原理において説明した、発光放射光にホログラムレリーフの位相情報を含ませること、に加え、その位相情報に同調した振幅情報をさらに含ませるものである。従って、発光放射光に位相ホログラムと振幅ホログラムの両方のホログラム情報を含ませることができ、より鮮明なホログラムを得ることが可能となる。これにより、その意匠性及び真正性判定性を向上することができる。上記したホログラムの原理より、ホログラム再生像の鮮明度を高めるためには、フォトクロミック薄膜層の厚さは薄いことが望ましいが、薄くすればするほど、ホログラム再生時の発光強度が弱くなるため、フォトクロミック薄膜層厚さは、0.01μm以上1.0μm以下である必要があり、さらには、0.01μm以上0.5μm以下であることが好ましい。0.01μm未満最小粒径の粒子1個分では、発光強度が弱すぎて、光電子倍増管を用いて増幅したとしても、迷光等のノイズとの区別がつきにくく、1.0μmを超えると、発光強度は本発明の目的には十分な強度を得ることが可能であるが、厚さ方向に複数存在する粒子からの発光により、ホログラムレリーフの位相情報を担う曲面の位置がその厚み方向に複数存在することになり、結果としてホログラム再生像が不鮮明となる。これに対して、0.01μm以上として発光強度を確保し、0.5μm以下として、位相情報を担う曲面の位置を明確にして、ホログラム再生像を鮮明なものとする。このようなフォトクロミック薄膜層は、ホログラムラベルを不正に剥がした際に非常に破断しやすいことから、真正性の判定性をさらに向上することができる。このフォトクロミック薄膜層上、もしくは、フォトクロミック薄膜層が無い領域においては、ホログラム形成層に直接、粘着層を設け、本発明のホログラムラベルを形成することができる。粘着層に用い得る透明な樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリビニリデン、メチルセルロース、フッ素樹脂、メラミン樹脂、もしくは、この混合体等を適宜用いることができ、更に必要に応じて可塑剤、その他の添加剤を加えて使用することができる粘着剤を意味する。。これらの粘着剤は、適宜、溶剤や、水に溶解させ、グラビア印刷等のコーティング方式や、シルク印刷、さらには、無溶剤のホットメルト方式等を用いて、上記のレリーフホログラムのホログラムレリーフ上に、乾燥後の形成厚さ、5μm~50μmで、設けることができる。5μm未満では、ホログラムラベルを貼着する被貼着体との接着力接着強度、もしくは、剥離強度を意味する。が不十分であり、また、50μmを超えると、ホログラムラベルの取扱い適性に欠けるものとなる。上記した粘着層に用いる透明な樹脂は、フォトクロミック薄膜層やホログラム形成層との接着性の強いものを適宜選択する。また、粘着層には、光散乱性を有するもの、例えば、高屈折率である透明無機顔料微粒子二酸化チタン顔料:屈折率2.70、酸化鉄パール顔料:屈折率3.0など。を比較的多く混入させることが可能であって粘着層を通過する光は、ホログラム再生には寄与しないため。、これにより、フォトクロミック薄膜層を発色、または、変色させた際の、観察側とは反対の方向に進む光を乱反射させて減衰させることができるとともに、粘着層の粘性を抑制してホログラムラベルのブロッキングを防止でき、好適である。粘着層と、フォトクロミック薄膜層やホログラム形成層との180度剥離強度剥離強度測定は、JISZ-0237に準じ、剥離速度500mm/分とする。は、100g/25mm~3kg/25mm、特に、300g/25mm以上とすることが望ましい。100mm/25mm未満では、ホログラムラベルを被貼着体に貼着した後、ホログラムラベルを不正に剥がそうとした際に、被貼着体と粘着層との界面においての剥離が起こり易くなり、ホログラムラベル全体が容易に剥がれてしまい、不正行為を可能としてしまうこととなる。そして、不正防止という意味では、剥離強度は、大きいことが望ましいが、3kg/25mmを超えると、ラベル加工適性や、ラベル貼付適性に劣るものとなる。この外観上は単なるラベルとしか視認できないラベル、もしくは、所定の色調のホログラム再生像を有するラベルを、所望の被貼着体上の適宜な位置に貼付した後に、このラベルを不正者が不正に剥そうとすると、透明基材が容易に剥がれ、透明基材側に、透明基材側残部が残り、被貼着体側に被貼着体側残部が残って、開封等の文字が現れ、このラベルが脆性ラベルであったことが判明する。この段階で、不正者は、被貼着体側残部を溶剤等で除去するとその溶剤等で被貼着体表面を劣化させると考え、その被貼着体側残部を残したまま、元のラベル貼着状態を復元することを試みることとなる。もしくは、その所定の色調と同一の色調を呈する被貼着体側残部を、元の位置に位置合わせして重ね、元のラベル貼着状態を復元することを試みることとなる。すなわち、単なるラベルとしか視認できない場合には、偽のラベルとして、ホログラム形成層を有しない、通常の脆性ラベルを別途用意し、その偽のラベルの粘着層で、その被貼着体側残部の窪みもしくは穴を埋めるように、その偽のラベルをその被貼着体側残部上に貼着する。不正者は、この行為により、元のラベル貼着状態を復元できたとして、被貼着体を元にあった場所に戻して、不正行為を隠ぺいし得たと確信するが、被貼着体の真の所有者が、この偽のラベル状から、所定の波長の紫外線等の所定の照明光をあてると、被貼着体側残部に残っているフォトクロミック薄膜層が発光し、その発光波長によるホログラム再生像を発現し、しかも、そのホログラム再生像が、開封等の文字状に遮蔽された状態で現れることから、何らかの不正が行われたことを、容易、且つ、確実に判定することができる。もちろん、不正者が剥がした透明基材を使用して、新たな偽のラベルを作り出したとしても、そのラベルを同様の照明光の下に置くと、今度は、開封等の文字部分にのみホログラム再生像が出現し、不正行為の存在を示すこととなる。さらに、不正者がその剥がした透明基材そのものを使用して、元の状態を復元しようとして、偶然にも、被貼着体側残部の窪みの位置と、透明基材側残部の位置が合致したとしても、そのホログラムレリーフの位置は空間的にずれており厚さ方向のずれであり、1μmオーダーで位置合わせをすることは不可能である。、従って、ホログラム再生像の結像位置もずれを生じて、やはり、不正の存在を示すこととなる。また、不正者が、その剥がした透明基材を使用し、直接、被貼着体側残部の窪みの位置と、透明基材側残部の位置を合致するように貼り合わせることを試みたとしても、ホログラム形成層やフォトクロミック薄膜層の破断によるホログラムレリーフの劣化や、貼り合わせる際の空気の混入などにより、元の鮮明なホログラム再生像を得ることは、困難である。しかし、それでも、不正者が、その困難を克服して、通常の照明光の下において、その埋め合わせに成功したとしてもすなわち、通常照明光下において歪みなどの目立たないホログラム再生像を得ることができたとしても。、その復元したホログラムラベルに対して、所定の照明光源を用いて照射し、再生角度の異なる方向に、より強い輝度を持つホログラム再生像を再生させ所定の照明光源は、広範な波長域を持ち拡散光を放つ通常照明光より指向性が強く、且つ、使用するフォトクロミック薄膜層に適する波長域を用いているため、その変色を完結させることができる。、不正者には到底予測することができない、埋め合わせに起因する不具合を強調させることができ、真の所有者は、歪みや不鮮明さが強調されたホログラム再生像によって、その不正を容易に判別することができるものである。本発明によれば、透明基材に、表面活性化処理を施した後、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、フォトクロミック薄膜層、粘着層が設けられていることを特徴とするホログラムラベルを提供することができ、このホログラムラベルを、所望の被貼着体に貼着後、本来剥すことのないそのホログラムラベルを不正な目的のために剥そうとすると、その透明基材とホログラム形成層との界面で優先して剥離が発生し、その剥離した後には、不正行為であるというメッセージを表出し、さらに、所定の照明光によって照明すると、開封等の文字状の欠けや、歪みなどを含んだホログラム再生像が浮き上がって、不正が行われたか否かの判定を容易とすることができるホログラムラベルを提供することができる。以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。透明基材本発明のホログラムラベルで使用される透明基材1は、厚みを薄くすることが可能であって、機械的強度や、ホログラムラベルAを製造する際の処理や加工に適した耐溶剤性および耐熱性を有するものが好ましい。使用目的にもよるので、限定されるものではないが、フィルム状もしくはシート状のプラスチックが好ましい。図2参照。例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアリレート、トリアセチルセルロースTAC、ジアセチルセルロース、ポリエチレン/ビニルアルコール等の各種のプラスチックフィルムを例示することができる。透明基材1の一方の面に、パターン状に表面活性化処理を施して、表面活性化処理した部分2を設け、さらには、表面活性化処理した部分2以外の部分を表面不活性化処理して、表面活性化処理した部分2とそれ以外の部分における、透明基材1とホログラム形成層3との密着性の差、すなわち、剥離強度の差を大きくする。図2参照。透明基材1の厚さは、通常5~250μmであるが、ラベルとしての取り扱い適正から25~100μmとすることが望ましい。また、透明基材1の一方の面に、透明な樹脂をコーティングして、この透明な樹脂に上記処理を行い、上記した効果を持たせても良い。図示せず。この透明な樹脂には、上記した樹脂群に加え、下記するホログラム形成層2に用いられる樹脂を使用することができる。さらに、表面活性化処理した部分2とそれ以外、乃至は、表面不活性化処理した部分との剥離強度の差を拡大する目的で、透明基材1とホログラム形成層3との間、すなわち、ホログラム形成層3上に保護層として形成され、透明基材1との剥離性を有する透明な樹脂を設けてもよい。図示せず。この場合も、透明な樹脂としては、上記した樹脂群に加え、下記するホログラム形成層3に用いられる樹脂を、適宜、使用することができる。もちろん、環境影響を配慮して、透明な生分解性を有するプラスチックフィルム又はシートを使用することもでき、化学合成系として、ラクトン系樹脂:εーカプロラクトン、4-メチルカプロラクトン、355-トリメチルカプロラクトン、3,3,5―トリメチルカプロラクトン、βープロピオラクトン、γーブチロラクトン、δーバレロラクトン、エナントラクトンの単独重合体またはこれら2種以上のモノマーの共重合体、これらの混合物、ポリカプロラクトン、もしくは、ポリブチレンサクシネート系樹脂:ポリブチレンサクシネートアジペート、ポリブチレンサクシネートとポリカプロラクトンとの混合物、ポリブチレンサクシネートとポリブチレンサクシネートアジペートとの混合物、ポリブチレンサクシネートアジペートとポリ乳酸との混合物、もしくは、ポリ乳酸、ポリ乳酸とD-乳酸との混合物など、もしくは、低分子量脂肪族ジカルボン酸と低分子量脂肪族ジオールより合成したポリエステル樹脂、例えばコハク酸とブタンジオール、エチレングリコールとの組み合わせや、シュウ酸とネオペンチルグリコール、ブタンジオール、エチレングリコールとの組み合わせなど、変性ポリビニルアルコールと脂肪族ポリエステル樹脂と澱粉の混合物、低分子量脂肪族ポリエステルに脂肪族イソシアネートを添加して重合させたものが好適である。また、天然物系として、ゼラチンなどの動物性天然物質、セルロースなどの植物性天然物質など:澱粉脂肪酸エステル、澱粉キトナンセルロースなど、微生物生産系として、ポリヒドロキシブチレートや、ポリエステル系:炭素源として3-ヒドロキシプロピオン酸、4-ヒドロキシ酪酸、γ―ブチロラクトンをベースとするP3HB-CO―4HB、炭素源としてプロピオン酸、吉草酸をベースとしたP3HB-CO―3HVなどが好適である。表面活性化処理透明基材1の一方の面に対する表面活性化処理には、炭酸ガスレーザー照射、遠赤外線炭酸ガスレーザー照射、172nm真空紫外線VUV、エキシマ光照射、酸素増感エキシマ光照射、プラズマ処理、オープンプラズマ処理、コロナ処理、電子線照射処理等の透明基材1最表面の化学結合エネルギーよりも大きいフォトンエネルギー7.2eV、放電エネルギー、電子線エネルギー等により、透明基材1最表面の化学結合を切断し、又は、172nmの真空紫外線等のように、大気中の酸素に吸収されてオゾンまたは直接励起酸素を発生し、この接触により官能基を生成する等の物理的処理や、過マンガン酸塩、過酸化物等の酸化剤を塗布することによる透明基材表面の酸化処理、プライマーコーティング処理、ビニルエポキシメタクリキシアミノメルカプトアクリロキシイソシアネートスチリルアルコキシオリゴマータイプシランカップリング剤を用いた処理等の化学的処理、真空処理であるアルゴンビームエッチング処理、透明基材を部分的に溶解するエッチング液処理、さらには機械的に透明基材表面を削り取るサンドブラスト加工等の物理的な租面形成処理等を用いることができる。処理プロセスは図示せず。図2参照。この透明基材1の表面化活性化処理によって、透明基材1との接着性の弱い、すなわち、剥離強度の小さい樹脂に対しても、大きな剥離強度を得ることができる。以上の表面活性化処理を用いて、透明基材1の界面張力もしくは表面エネルギーを増大させる。ホログラム形成層3に用いる樹脂や、その形成方法によってその剥離強度は決まるため、界面張力値を一義的には指定できないが、その目安としては、60~80mN/mが好適である。ポリエチレンテレフタレート樹脂では、36mN/mが、60mN/mに増大し、ホログラム形成層としてのメラミン樹脂との剥離強度が0.4kg/25mm幅から2.1kg/25mm幅へと大きくなる。そのため、透明基材1の一方の面を表面活性化して、表面活性化処理した部分2における、透明基材1とその上に形成するホログラム形成層3との接着性を向上させ、0.5kg/25mm幅以上、3.0kg/25mm幅以下の強度JISZ0237で規定する180°剥離試験にて。とし、その表面活性化処理した部分2を視認可能な所望のパターン状として残し、その他の領域については表面不活性化処理を行う。このパターンは、文字、図形、記号等、視認可能な表示であればいずれも使用できるが、代表的には、ラベルを剥離した証拠を示すという意味で、開封等の文字表示をするため、開と封の2文字を縦、横に繰り返し展開したようなデザインを想定して、それらの文字の画線内に対応する透明基材1上の最表面部分を表面活性化処理して、表面活性化処理した部分2とする。表面活性化処理の中でも、レーザー照射等の光処理、又はプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材1の処理面に凹凸が発生せず、鏡面性を維持していること、及び、表面活性化処理による表面活性化効果が大きいことから、特に望ましく、また光学的透明性にも優れる。さらに、上記したパターン内を均一に表面活性化処理することに替えて、そのパターン内をより微細なパターン、例えば、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみ表面活性化処理する例えば、網点状に表面活性化処理することにより、パターン内の網点以外の部分は、表面活性化処理していない部分として残る。ことで、透明基材1を剥離した際のホログラム形成層3や、フォトクロミック薄膜層4を破断しようとする力の働き力の作用方向、その大きさ等。をより複雑化し、その破断性を向上させることができる。透明基材1の一方の面を全面表面活性化処理後に、上記したパターンを明暗反転した形状パターンをポジパターンとして、それを反転したネガパターンを意味する。に表面不活性化処理された部分を形成するためには、もしくは、透明基材1上に、直接、所望の形状を有する表面不活性化処理された部分を形成するためには、透明基材1の最表面のみを部分的に溶解する、もしくは、活性化した官能基と反応して官能基の活性を解消する、溶剤類、例えば、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、イソホロン、ジイソブチルケトン、等。、アルコール類メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-プロピルアルコール、イソブチルアルコール、n-ブチルアルコール等、さらにはその水溶液。、芳香族類ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベッソNo.100、ソルベッソNo.150、カクタスP-180等。、環状炭化水素類シクロヘキサン等、エステル類酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セルソルブ、エチルー3-エトキシプロピオネート等。、エーテル類テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、t-ブチルセロソルブ等。等をパターン状に活版印刷方式やインクジェット方式を用いて、表面活性化面への接触を避けてパターン形成し、透明基材1の活性化された最表面のみ透明基材1を厚さ方向に捉えたもの。と反応して、その部分のみを表面不活性化させる。図示せず。このとき、溶剤が瞬時に揮発せず、所定時間、透明基材表面に留まる必要があるため、その沸点は、60度以上200度以下、好適には、100度以上160度に調整する。この方法は、透明基材1の表面粗さに悪影響をほとんど与えず、その性質のみを変化させるという意味で特に好適である。または、透明基材1とはそもそも接着し難い、界面張力の小さい樹脂、例えば、シリコーン樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂や、これらのフッ化炭化水素基、有機珪素基を含む樹脂や、不揮発油リンシードオイル、ポピーオイル、ウォルナッツオイル等の乾性油、オリーブオイルや落花生油等の不乾性油、ゴマ油、ナタネ油等の半乾性油等を、活版印刷や、インクジェット印刷等により、上記した所望のパターン状に部分形成することで、高い精度でパターン状に表面不活性化処理する。図示せず。この際、その部分形成後に透明基材1上に光学的な変化を与えないことが望ましく、溶剤等は揮発することで、また、樹脂等はあくまで表面改質の目的であって乾燥後の形成厚さが光の波長の1/50~1/10程度となることが望ましい。もちろん、これらを併用することも好適である。この表面不活性化処理により、その表面不活性化処理した部分は、透明基材1とホログラム形成層3との剥離強度を、0.01kg/25mm幅以上0.1kg/25mm幅以下とでき、ホログラムラベルを剥そうとすると、どのように工夫しても、必ず、透明基材1とホログラム形成層3間に空隙が発生し、その部分においては、透明基材1のみ剥がれる。そして、透明基材1を完全に剥離すると、その表面不活性化処理した部分にあたるホログラム形成層3の最表面がほぼ鏡面となって、その部分からは、その下にあるホログラム再生像を鮮明に視認することができる。さらに、上記したパターン内をより微細なパターン、すなわち、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみ表面活性化処理することで、透明基材1を剥離した際の力の働き具合をより複雑化し、各層の破断性を向上することができる。微細なパターンの個々の大きさは、最小の大きさとしては、高精度な印刷方式を用いて50μmの大きさで、且つ、10μm程度の間隔を開けて設けることもでき、最大では、そのパターンを構成する線幅まで広げることもできる。このような微細なパターンの大きさの集合で、パターンを構成するには、もはや従来方式であるマスクを用いた直接表面活性化処理方式を用いることが難しくなることは明らかである。好適には、50μm~300μmの大きさの網点網点率は、30~70が好適。や、市松模様状正方形や、長方形、その他形状。に一つ飛ばしに不活性化処理したもの、さらには、規則的な処理が不要な回折現象を発生させることを回避するため、網点やその正方形や長方形の大きさを50μm~300μmの間で、ランダムに変化させたものを用いる。図示せず。ホログラム形成層本発明のホログラム形成層3を構成するための透明な樹脂材料としては、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。熱可塑性樹脂としてはアクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、もしくはポリスチレン樹脂等が、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、もしくはフェノール樹脂等が挙げられる。図2参照。これらの熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂は、1種もしくは2種以上を使用することができる。これらの樹脂の1種もしくは2種以上は、各種イソシアネート樹脂を用いて架橋させてもよいし、あるいは、各種の硬化触媒、例えば、ナフテン酸コバルト、もしくはナフテン酸亜鉛等の金属石鹸を配合するか、または、熱もしくは紫外線で重合を開始させるためのベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、もしくはジフェニルスルフィド等を配合しても良い。また、電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリル変性ポリエステル等を挙げることができ、このような電離放射線硬化性樹脂に架橋構造を導入するか、もしくは粘度を調整する目的で、単官能モノマーもしくは多官能モノマー、またはオリゴマー等を配合して用いてもよい。上記の樹脂材料を用いてホログラム形成層3を形成するには、感光性樹脂材料にホログラムの干渉露光を行なって現像することによって直接的に形成することもできるが、予め作成したレリーフホログラムもしくはその複製物、またはそれらのメッキ型等を複製用型として用い、その型面を上記の樹脂材料の層に押し付けることにより、賦型を行なうのがよい。熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、型面に未硬化の樹脂を密着させたまま、加熱もしくは電離放射線照射により、硬化を行わせ、硬化後に剥離することによって、硬化した透明な樹脂材料からなる層の片面にレリーフホログラムの微細凹凸を形成することができる。なお、同様な方法によりパターン状に形成して模様状とした回折格子を有する回折格子形成層も光回折構造として使用できる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラムなどのレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラムなどの白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラムCGH、ホログラフィック回折格子などがある。また、マシンリーダブルホログラムのように、その再生光を受光部でデータに変換し所定の情報として伝達したり、真偽判定を行うものであってもよい。微細な凹凸を精密に作成するため、光学的な方法だけでなく、電子線描画装置を用いて、精密に設計されたレリーフ構造を作り出し、より精密で複雑な再生光を作り出すものであってもよい。このレリーフ形状は、ホログラムを再現もしくは再生する光もしくは光源の波長域と、再現もしくは再生する方向、及び強度によってその凹凸のピッチや、深さ、もしくは特定の周期的形状が設計される。凹凸のピッチ周期は再現もしくは再生角度に依存するが、通常0.1μm~数μmであり、凹凸の深さは、再現もしくは再生強度に大きな影響を与える要素であるが、通常0.1μm~1μmである。単一回折格子のように、全く同一形状の凹凸の繰り返しであるものは、隣り合う凹凸が同じ形状であればある程、反射する光の干渉度合いが増しその強度が強くなり、最大値へと収束する。回折方向のぶれも最小となる。立体像のように、画像の個々の点が焦点に収束するものは、その焦点への収束精度が向上し、再現もしくは再生画像が鮮明となる。さらに、透明金属化合物薄膜の場合は、その薄膜の上下の面が、同一レリーフ形状であり且つ、その面と面の距離すなわち膜厚さが均一であればあるほど、再現もしくは再生強度が大きくなる。また、レリーフ面にホログラム画像の凹凸とは異なる周期、形状の凹凸が存在すると、それはホログラムもしくは回折格子の再現もしくは再生時のノイズとなり、画像を不鮮明にする要因となる。レリーフ形状を賦形複製ともいうする方法は、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型スタンパというとして用い、上記ホログラム形成層3上に、もしくは、下記するフォトクロミック薄膜層4上に、前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。形成するホログラムパターン一つのホログラム再生像を発現するホログラムレリーフを、一つのホログラムパターンという。は、単独でも、複数でもよい。また、ホログラムレリーフを形成する領域の形も、単独領域としても、複数領域としてもよい。上記の極微細な形状を精密に再現するため、また、複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小とするため、原版は金属を使用し、低温高圧下で複製を行う。原版は、Niなどの硬度の高い金属を用いる。光学的撮影もしくは、電子線描画などにより形成したガラスマスターなどの表面にCr、Ni薄膜を真空蒸着法、スパッタリングなどにより5~50nm形成後、Niなどを電着法電気めっき、無電解めっき、さらには複合めっきなどにより50~1000μm形成した後、金属を剥離することで作ることができる。高圧回転式の複製に用いるためには、このNi層の厚み精度を高くする必要があり、通常±10μm、好ましくは、±1μmとする。このため、裏面の研磨や、平坦化方法を用いてもよい。複製方式は、高圧とするため、平板式でなく、回転式を用い、線圧0.1トン/m~10トン/m、好ましくは、5トン/m以上とする。複製用シリンダーは、その直径が小さいとレリーフの再現性が低下するため、複製シリンダー直径は大きい方が好ましく、通常、直径0.1m~2.0m、好ましくは、1.0m以上の弧を使用する。透明基材1上のホログラム形成層3をこの複製用シリンダーに沿って押し当て、裏面より金属製シリンダーにより上記圧力にて複製を実施する。複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小限とするためには、透明な基材1全体を加熱するのではなく、ホログラム形成層3面側の一部のみを加熱する方法が望ましい。通常60°C~110°Cに加熱する。さらには、裏面の金属製シリンダーを常温に保つ、もしくは冷却することで、さらにその精度を向上させることができる。フォトクロミック薄膜層本発明では、ホログラム形成層3のホログラムレリーフ面に、フォトクロミック薄膜層4を形成する。図2参照。このフォトクロミック薄膜層4に用いられる、フォトクロミック分子フォトクロミック材料としては、有機化合物系と、無機化合物系があり、有機化合物系としては、アゾベンゼン類cis-trance異性:ジメチルアミノアゾベンゼン類等、スピロピラン類分子内開環―閉環:スピロベンゾチオピランスピロセレナゾリノベンゾピランスピロベンゾセレナゾリノナフトオキサジン等、より具体的には、1,3,3-トリメチルインドリノ-6-ニトロベンゾピリロスピラン、1,3-ジヒドロ-8-メトキシ-1,3,3-トリメチル-6-ニトロスピロ2H-1-ベンゾピラン-2,2-2H-インドール、1,3,3-トリメチルインドリノベンゾピリロスピラン、1,3,3-トリメチルインドリノ-6-ブロモベンゾピリロスピラン、1,3,3-トリメチルインドリノ-8-メトキシベンゾピリロスピラン、1,3,3-トリメチルインドリノ-β-ナフトピリロスピラン等、スピロオキサジン類分子内開環―閉環:スピロキノオキサジン類、スピロナフトオキサジン類、スピロフェナントロオキサジン類、スピロビピリドオキサジン類等、分子内に窒素原子を含む複素環構造を有する化合物等赤紫~青色。着色が速やかに消色。、スピロペリミジン類:23ジヒドロ2スピロ48アミノナフタレン1オンペリミジン、23ジヒドロ2スピロ78イミノ78ジヒドロナフタレン1アミンペリミジン等、アリールエテン類:対称型ジアリールエテン、非対称型2,3-ジアリールマレイン酸無水物、非対称ジアリールペルフルオロシクロペンテン等、12ビス334455ヘキサフルオロ1シクロペンテン、12ビス2メチルベンゾbチオフェン3イル334455ヘキサフルオロ1シクロペンテン、23ビスマレイン酸無水物、23ビスマレイミド、cis12ジシアノ12ビスエテン等、より具体的には、発色波長:425nm、469nm、526nm、534nm、550nm、562nm、578nm、583nm、611nm、620nm、628nm、665nm、680nm、828nm等構造により、青色、緑色、黄色、赤色等に発色。、フルギド類:ジフェニルフルギド、トリフェニルフルギド等、クロメン類:6-モルホリノ-3,3-ビス3-フルオロ-4-メトキシフェニル-3H-ベンゾfクロメン、6-モルホリノ-3-4-メトキシフェニル-3-4-トリフルオロメトキシフェニル-3H-ベンゾfクロメン、6-ピペリジノ-3-メチル-3-2-ナフチル-3H-ベンゾfクロメン、6-ピペリジノ-3-メチル-3-フェニル-3H-ベンゾfクロメン、6-モルホリノ-3,3-ビス4-メトキシフェニル-3H-ベンゾfクロメン、6-ヘキサメチレンイミノ-3-メチル-3-4-メトキシフェニル-3H-ベンゾfクロメン、6-モルホリノ-3-2-フリル-3-メチル-3H-ベンゾfクロメン、6-モルホリノ-3-2-チエニル-3-メチル-3H-ベンゾfクロメン、6-モルホリノ-3-2-ベンゾフリル-3-メチル-3H-ベンゾfクロメン等橙色~黄色に発色。、シクロファン類:アントラセノファン、アントラセノナフタレノファン、アントラセノパラシクロファン等のアントラセン含有シクロファンやメタシクロファン等、カルコン13ジフェニル2プロペン1オン―フラビリウム系等、フルギミド化合物類:N-シアノメチル-6,7-ジヒドロ-4-メチル-2-フェニルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノメチル-6,7-ジヒドロ-2-4-メトキシフェニル-4-メチルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノ-6,7-ジヒドロ-4-メチル-2-フェニルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノ-6,7-ジヒドロ-4-メチルルスピロ5,6-ベンゾbフランジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノ-4-シクロプロピル-6,7-ジヒドロスピロ5,6-ベンゾbフランジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノ-6,7-ジヒドロ-4-メチルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノメチル-4-シクロプロピル-6,7-ジヒドロスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノメチル-4-シクロプロピル-6,7-ジヒドロ-2-4-メトキシフェニルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノメチル-4-シクロプロピル-6,7-ジヒドロ-2-フェニルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-3-シアノフェニル-6,7-ジヒドロ-4-メチル-2-4-メトキシフェニルスピロベンゾチオフェンカルボキシイミド-7,2-トリシクロ[3.3.1.137]デカン橙色~青色に発色。、チオインジゴ類cis-trance異性、サリチリデンアニリン類分子内水素移動:結晶タイプ。、ニトロベンジルピリジン類分子内水素移動:結晶タイプ。、テトラクロル-α-ケトジヒドロナフタリン類、ビストリフェニルイミダゾリル類、テトラフェニルヒドラジン類、ビアンスロン類、ピリジルシドノン類、アントラセン誘導体光二量化、メチレンブルー光酸化還元、トリフェニルメタン類イオン解離、ヘキサフェニルビイミダゾルラジカル解離、多環芳香族化合物酸素付加等、を用いることができる。特に、ジアリールエテン類を透明樹脂に分散させたもの、ジアリールエテン類の結晶化物は、物理特性、耐候性に優れる。また、無機化合物系としては、AgBr、AgCl、AgI、CuBr2、CuCl2、CuCl、CuI2、CuI、Ag単体、Cu単体等の中から選択した三成分系化合物等、銀ナノ粒子酸化チタン系等、を用いることができる。さらに、これらのフォトクロミック分子材料の中で、フォトクロミック分子Bとしての発光強度曲線波長を横軸として。が、可視領域において、一つのみのピークを持つものが好適であり、さらには、そのピークの半値幅が、10~50nmであるものが、より鮮明なホログラム再生像を与えるため好適である。形成方法としては、一般的印刷方法、コーティング方法等も用いることは可能であるが、より精密な薄膜を形成する方法として、回転塗布法、キャスト法、スクリーン印刷法、ブレードコーティング法、ロール塗布法、水面展開法、LBラングミュアブロジェット法等が挙げられ、ドライプロセスとしては真空蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着法等が挙げられる。特に、有機化合物系を均一に、且つ、分子レベルで薄膜形成するには、化学蒸着法が好適である。より具体的には、フォトクロミック分子を透明な樹脂に均一に分散した樹脂分散型のインキや、水又は溶剤にフォトクロミック分子を分散した溶媒分散型のインキを作製し、それらを用いて、印刷方式や、コーティング方式さらには、インクジェット方式等の種々の形成方法を用いて、ホログラム形成層3に、そのホログラムレリーフに接するように、また、追従するよう均一に、若しくは凹部に部分的に、フォトクロミック薄膜層4を形成することができる。また、ホログラム形成層3のホログラムレリーフ面上に、直接、フォトクロミック分子を化学蒸着法によりフォトクロミック薄膜層4を形成することも、そのホログラムレリーフ追従性や、その均一性から好適であるとともに、電子ビーム加熱真空蒸着法における高温の電子ビームや、スパッタリング法におけるアルゴン原子の衝突がなく、分子の構造を維持しやすいため好適である。また、ホログラム形成層3上にフォトクロミック薄膜層4を形成した後、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィー法により、回折格子パターンに位置合わせして露光、現像、不要部除去によりフォトレジストのパターンを回折格子パターンの凹部に同調させ、エッチングによりフォトクロミック薄膜層を除去して、凹部のみにフォトクロミック薄膜層を残すことができる。図示せず。逆に、ホログラム形成層3上にフォトレジスト層を形成し、回折格子パターンに位置合わせして露光、現像、不要部除去により、凸部にフォトレジストを残し、凹部を露出させて、この上にフォトクロミック薄膜層を形成後、凸部上のフォトレジストを除去すると同時に、その真上にあるフォトクロミック薄膜層を部分的に除去することにより、凹部のみにフォトクロミック薄膜層4を残すことができる。樹脂分散型のインキは、上記したフォトクロミック分子を、透明樹脂、例えば、熱可塑性樹脂としてはアクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、もしくはポリスチレン樹脂等が、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、もしくはフェノール樹脂等に混入し、2次凝集を少なくするように、ガラスビーズやスチールビーズを用いたボールミル、ニーダー、ロールミル等による混練りを十分行い、溶剤等で粘度調整をして、グラビア方式、オフセット方式、シルクスクリーン方式、カーテンコート方式、ノズルコート方式、さらには、インクジェット方式を適宜用いて均一な厚さに形成することができる。但し、フォトクロミック薄膜層4の厚さを、0.003μm以上1.0μm以下、さらには、0.01μm以上0.5μm以下とするためには、樹脂分散型インキの固形分を1~10とし、溶剤若しくは水を溶媒とした塗布膜が、例えば、5μmであったときに、溶媒を蒸発させた後の厚さフォトクロミック薄膜層の厚さがその1/10乃至は1/100となるようにし、0.5μm~0.05μmとする。溶媒分散型のインキは、樹脂成分を含まず、フォトクロミック分子と溶媒のみであるため、樹脂分散型よりフォトクロミック薄膜層4の厚さを薄くすることができる。溶媒としては、使用するフォトクロミック分子の極性に合わせ、水やアルコール系溶剤、若しくは、セルソルブ系、パラフィン系溶剤を用いて、フォトクロミック分子を溶解保持させ、攪拌しながらカーテンコート、ノズルコート等によりホログラム形成層3上に設けることができる。さらには、ホログラムレリーフ面を形成している透明樹脂層2に対して、溶解性を有する遅い揮発性の溶剤を数μm塗布しアクリル塩ビ酢ビ樹脂や、ポリエステル樹脂等に対するケトン系溶剤、例えばシクロヘキサノン等。この溶剤を非溶解性の溶剤で希釈して使用し、残留する成分を0.1μm以下にすることも可能である。、そのホログラムレリーフ面の最表面のみを溶解して、その最表面に粘着性を付与し、その上に、フォトクロミック分子を霧状として吹きかけて、その粘着性の面に接するフォトクロミック分子のみがホログラムレリーフ面上に残るようにするフォトクロミック薄膜層形成方法も好適である。この方法によると、フォトクロミック薄膜層4がLB膜のように分子レベルの膜となり、ホログラムレリーフ面上にフォログラムレリーフの大きさに比較して均一に形成され、ホログラム形成層3側から励起光を当てた場合の発光面が、ホログラムレリーフ面と同一となる。いずれにしても、ホログラムレリーフの凹凸が非常に小さい為、フォトクロミック薄膜層4を均一厚さで、且つ、その中のフォトクロミック分子が均一な密度となるように、もしくは、ホログラムレリーフ面上に均一に部分形成の場合には形成してある部分同士が均一に形成するためには、フォトクロミック分子が凝集して2次粒子状とならないようにする必要があり、溶剤溶媒へ溶解する方法や、ナノ粒子の表面に吸着させて、ナノ粒子顔料として薄膜形成することが好適である。さらに、このような非常に薄いフォトクロミック薄膜層4を物理的に保護するために、上記した透明な樹脂を適宜な形成方法を用いて、1.0μm~3.0μmの厚さで設けてもよい。また、ホログラム形成層3、フォトクロミック薄膜層4、及び上記保護のための層の互いの屈折率差を、0.1以内、さらには、0.03以内とすることで、励起前における不要なホログラム再生像の出現を防ぎ、より偽造防止性を高めることが可能となる。粘着層粘着層5としては、従来公知の溶剤系及び水系のいずれの粘着剤、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル-アクリル共重合体、酢酸ビニル-塩化ビニル共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂や、天然ゴム、クロロプレンゴムなどのゴム系樹脂などが挙げられる。自然にやさしい材料構成とするために、特に、天然ゴムを主成分とするラテックス、それを変性したもの、特に天然ゴムにスチレン特にメタクリルさんメチルとをグラフト重合させて得た天然ゴムラテックス等の天然素材から作製されたものを用いても良い。粘着層5の塗工量は、約8~30g/m2固形分が一般的であり、従来公知の方法、すなわち、グラビアコート、ロールコート、コンマコートなどの方法で、塗布し乾燥して粘着層5を形成する。図2参照。また、粘着層5の粘着力は、フォトクロミック薄膜層4と粘着層5との剥離強度で、JISZ0237準拠の180°による剥離方法において、0.1~1kg程度の範囲にすることが望ましい。もちろん、それ以上の剥離強度を有していても、本発明の目的には適合している。以上の如き粘着剤の種類や、塗工量は、透明基材1、ホログラム形成層3及びフォトクロミック薄膜層4上に粘着剤層5を形成する際に、その剥離強度が上記範囲になるように、選択して使用することが好ましい。以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。なお、溶媒を除き、各層の各組成物は固形分換算の質量部である。実施例1透明基材1として、38μmのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その一方の面を、エキシマ社製エキシマUV03改質装置を用いて、波長172nmのエキシマ光を、タテヨコ10mm×10mmサイズで開封の文字を縦横連続して配置したデザインのそれらの文字の画線部内を画線部の線幅は、1000μm。、一文字毎にマスキングして、一様に照射して表面活性化処理し、パターン状に表面活性化処理された部分2を形成した。図2参照。その上に、メラミン樹脂からなるホログラム形成層3を形成した後透明基材1と、ホログラム形成層3との剥離強度:活性化処理面1.2kg/25mm幅、それ以外の部分300g/25mm幅に相当。、レーザ光学系を用いて撮影した意匠性の高いホログラムを備えたNi原版を用意し、上記したホログラム形成層3に、そのNi原版のレリーフ面を合わせて、回転式レリーフホログラム形成装置原版シリンダー径1.0m原版面温度100°C、加圧シリンダー径0.3m水冷式、圧力2トン/m、複製速度10m/分にてホログラムレリーフをホログラム形成層3上に形成した。これとは別に、表面平滑性の高い12μmポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用意し、この上に、下記組成の樹脂分散型のフォトクロミック分子含有インキフォトクロミック薄膜層4用インキ組成物を用いてグラビアリバースコーティング方式により、フォトクロミック薄膜層4を、コーティング時5.0μm厚さで、ホログラムレリーフに接するように形成し、その後、乾燥温度を徐々に上昇させる乾燥方式により、塗膜内のマイグレーションを抑制しつつ、乾燥して、0.8μm厚さとした。図示せず。この12μmポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムとフォトクロミック薄膜層4の積層シートを、そのフォトクロミック薄膜層4側を、上記のホログラム形成層3とが接するように重ね合わせ、ロールプレス温度80°C、ロール圧力1トン/m、搬送速度1.0m/分にて、フォトクロミック薄膜層4をホログラム形成層3上に転写形成した。転写プロセスは図示せず。この時のフォトクロミック薄膜層4は、ホログラム形成層3のホログラムレリーフに追従しており、且つ、均一な厚さを有していた。<フォトクロミック薄膜層4用インキ組成物>1,2-ビス2-メチルベンゾbチオフェン-3-イル―3,3,4,4,5,5-ヘキサフルオロ-1-シクロペンテン東京化成工業株式会社製結晶性材料B26290.5質量部ウレタン樹脂14.5質量部トルエン25質量部メチルエチルケトン30質量部酢酸エチル30質量部そのフォトクロミック薄膜層4上に、下記組成の接着剤層5用接着剤組成物をカーテンコート方式により、コーティングし乾燥して、接着剤層5を、20μmの厚さで形成し、実施例1のホログラムラベルAを作製した。<接着剤層5用接着剤組成物>酢酸ビニル-アクリル共重合体30質量部イソホロンジイソシアネート1質量部トルエン9質量部酢酸エチル40質量部メチルイソブチルケトン20質量部このホログラムラベルAを、封筒の封緘用に使用し、その封緘部分に貼着して、2kg荷重のローラーにて圧着。室内照明光の下で観察したところ、ホログラム再生像は観察されず図示せず。、さらに、このホログラムラベルAを、その封筒から剥がそうとしたところ、透明基材1が容易に剥がれ、その透明基材1側に、透明基材側残部が開と封の文字状にタテヨコに連続して付着していた。剥がれた透明基材6となる。図3参照。図3では、模式的に、開と封の文字を一つずつ描いてある。また、その封筒側には、開と封の文字状にタテヨコに連続した凹部が形成された被貼着体側残部が残っていた。被貼着体上に残った被貼着体側残部7となる。図3参照。図3では、同様に、開と封の文字を一つずつ描いてある。この剥がれた透明基材6を、365nm波長の光源8浜松ホトニクス製UVLEDモジュールLC―L2を用いて、照明したところ、この紫外線は目視では見えず、開と封の文字の画線部内透明基材側残部の位置。に、青色のホログラム再生像を視認することができた。剥がれた透明基材9となる。図4参照。また、この封筒の上の被貼着体側残部7を、同様に、365nm波長の光源10浜松ホトニクス製UVLEDモジュールLC―L2を用いて照明10したところ、被貼着体側残部上に青色のホログラム再生像を視認することができた。被貼着体側残部11となる。図4参照。その後、このラベルと同一サイズの別の一般的な透明粘着ラベルを用意し、この被貼着体側残部を覆うように貼着し、あたかも、元の状態と同様の外観を呈するように、同様のローラーを用いてその透明粘着ラベルを圧着した。その圧着した透明粘着ラベルの上から、上記の光源を用いて365nm波長の照明光で照明したところ、開と封の文字状の欠けを含む青色のホログラム再生像が出現しホログラム再生像そのものは、図示せず。、不正が行われたことを明確に判定することができた。このことから、ホログラムラベルAは、高い開封防止効果を有するものと思われた。実施例2実施例1と同様に形成したホログラム形成層3上に、フォトクロミック分子含有インキ下記フォトクロミック薄膜層4用インキ組成物をホログラムレリーフ上に形成する方式を、スピンコート方式とし、均一な塗膜厚さを2μmとし、乾燥後のフォトクロミック薄膜層4を0.04μm厚さで形成したこと以外は、実施例1と同様にして、実施例2のホログラムラベルAを作製した。図2参照。<フォトクロミック薄膜層4用インキ組成物>1,2-ビス2-メチルベンゾbチオフェン-3-イル―3,3,4,4,5,5-ヘキサフルオロ-1-シクロペンテン東京化成工業株式会社製結晶性材料B26290.5質量部ウレタン樹脂1.5質量部トルエン40質量部イソプロピルアルコール20質量部酢酸エチル38質量部このホログラムラベルAを実施例1と同様に観察したところ、青色のホログラム再生像を、より鮮明に確認することができ、開と封の文字状の欠けをより明確に判定することができたこと以外は、実施例1と同様に良好な結果を得た。図4参照。実施例3フォトクロミック分子として、2,3-ジヒドロ-2-スピロ-4’―8’-アミノナフタレン-1-’オンペリミジン東京化成工業株式会社製D3618を用いたこと以外は、実施例1と同様として、実施例3のホログラムラベルAを作製した。図2参照。励起照明光8または10として、オムロン社製UV-LEDを用いたこと以外は、実施例1と同様にして観察したところ、黄色から青色へ色調が変化し、実施例1より、鮮明で且つ発光強度の強いホログラム再生像を確認することができ、その歪みを確認できたこと以外は、実施例1と同様の良好な結果を得た。実施例4透明基材1上に、フォトクロミック薄膜層4の変色した色である青色と同一の色の印刷用インキを用いて、タテヨコ20mm×20mmサイズの封と緘の文字をオフセット印刷方式にて印刷したこと、及び、透明基材1上を、エキシマ社製エキシマUV03改質装置を用いて、波長172nmのエキシマ光を走査しながら照射してその全面を表面活性化処理した後、この上に、表面不活性化処理用溶剤組成物を用いたインクジェット方式を用いて、プリントし、透明基材1上の表面不活性化処理を、微細なパターン形状である、一辺が200μm程度の正方形からなる市松模様が、タテヨコ10mm×10mmサイズで開封の文字を縦横連続して配置したデザインのそれらの文字の画線部内を埋めるように形成して、表面不活性化処理した領域以外となる、表面活性化処理した領域2を、その画縁部内を、一辺が200μm程度の正方形からなる市松模様である微細なパターンの集合により構成されているものとなるように処理したこと以外は、実施例3と同様にして、実施例4のホログラムラベルAを得た。不活性化処理用溶剤組成物イソプロピルアルコール沸点83度20部トルエン沸点100度20部ブチルアルコール沸点117度30部メチルイソブチルケトン沸点115度30部実施例3と同様にして観察したところ、実施例3より、パターンの存在が判り難く、そして、ホログラムラベルAを剥がした際には、脆性破壊し易く、さらに、ホログラムラベルAを剥がした後の歪みを、封と緘の文字の色と比較することによって、非常に容易、且つ、明確に確認することができたこと以外は、実施例1と同様の良好な結果を得た。図示せず。比較例1表面活性化処理、または、表面不活性化処理を行なわず、ホログラム形成層も設けず、実施例1と同様にし、比較例1の透明なラベルを得た。このラベルを実施例1と同様に評価したところ、透明基材1が容易には剥がれず、粘着層5から剥離し、また、紫外線を照射したところ、ラベル全体が一様に発光を発したのみに留まった。従って、このラベルを丁寧に剥がせば、不正に剥すことが可能であって、しかも、貼り替え等の悪用も可能であると思われた。"