ワークを支持するテーブルと、前記テーブルの移動を案内する第1ガイド部と、前記第1ガイド部につなぎ合わされており、前記テーブルの移動経路を延長する第2ガイド部と、つなぎ合わされた前記第1ガイド部と前記第2ガイド部との間の精度を監視する監視装置と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。前記監視装置は、前記第1ガイド部及び前記第2ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出した結果に基づいて、前記第1ガイド部と前記第2ガイド部との間の精度を監視する、ことを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。前記監視装置は、前記第1ガイド部及び前記第2ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出する検出装置を有する、ことを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。前記検出装置は、前記第1ガイド部及び前記第2ガイド部の一方に対する他方の相対的な段差を検出する第1センサーと、前記第1ガイド部及び前記第2ガイド部の一方に対する他方の相対的な傾きを検出する第2センサーと、を有する、ことを特徴とする請求項3に記載のステージ装置。請求項1乃至4のいずれか一項に記載のステージ装置と、前記テーブルに支持された前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する、ことを特徴とする処理装置。前記処理部は、前記第1ガイド部よりも前記第2ガイド部側に設けられており、前記ステージ装置は、ワークを支持する第2テーブルと、前記第2ガイド部の前記第1ガイド部側とは反対側で前記第2ガイド部につなぎ合わされており、前記第2ガイド部の前記第1ガイド部側とは反対側から前記第2ガイド部に前記第2テーブルを案内する第3ガイド部と、つなぎ合わされた前記第2ガイド部と前記第3ガイド部との間の精度を監視する第2監視装置と、を有する、ことを特徴とする請求項5に記載の処理装置。上記特許文献1によれば、複数の構成体をつなぎ合わせ結合させることによって、1つのステージ装置が組み立てられている。このような分割構造を採用するステージ装置では、複数の構成体に分割できるので、同じ大きさのステージ装置を一体で構成以下、一体構造と呼ぶする場合に比較して、ステージ装置を輸送しやすくすることができる。しかしながら、分割構造を採用するステージ装置では、複数の構成体の結合によって構成されるため、一体構造に比較して、構成体同士間の精度が変化しやすい。構成体同士間の精度が変化すると、ワークに対する処理精度が低下することが考えられる。このように、従来のステージ装置では、ワークに対する処理精度を維持することが困難であるという課題がある。本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。[適用例1]ワークを支持するテーブルと、前記テーブルの移動を案内する第1ガイド部と、前記第1ガイド部につなぎ合わされており、前記テーブルの移動経路を延長する第2ガイド部と、つなぎ合わされた前記第1ガイド部と前記第2ガイド部との間の精度を監視する監視装置と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。この適用例のステージ装置は、テーブルと、第1ガイド部と、第2ガイド部と、監視装置と、を有する。テーブルは、ワークを支持する。第1ガイド部は、テーブルの移動を案内する。第2ガイド部は、第1ガイド部につなぎ合わされている。第2ガイド部は、テーブルの移動経路を延長する。監視装置は、つなぎ合わされた第1ガイド部と第2ガイド部との間の精度を監視する。このステージ装置では、監視装置が設けられているので、例えば、第1ガイド部と第2ガイド部との間の精度が許容範囲を超えて変化したことを監視することができる。これにより、ワークに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークに対する処理精度を維持しやすくすることができる。[適用例2]上記のステージ装置であって、前記監視装置は、前記第1ガイド部及び前記第2ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出した結果に基づいて、前記第1ガイド部と前記第2ガイド部との間の精度を監視する、ことを特徴とするステージ装置。この適用例では、第1ガイド部及び第2ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出した結果に基づいて、第1ガイド部と第2ガイド部との間の精度を監視することができる。[適用例3]上記のステージ装置であって、前記監視装置は、前記第1ガイド部及び前記第2ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出する検出装置を有する、ことを特徴とするステージ装置。この適用例では、検出装置によって、第1ガイド部及び第2ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出することができる。[適用例4]上記のステージ装置であって、前記検出装置は、前記第1ガイド部及び前記第2ガイド部の一方に対する他方の相対的な段差を検出する第1センサーと、前記第1ガイド部及び前記第2ガイド部の一方に対する他方の相対的な傾きを検出する第2センサーと、を有する、ことを特徴とするステージ装置。この適用例では、第1センサーと第2センサーとによって、第1ガイド部及び第2ガイド部の一方に対する他方の相対的な段差と相対的な傾きとを検出することができ、最少の構成により、高精度で第1ガイド部と第2ガイド部との間の精度を監視することができる。[適用例5]上記のステージ装置と、前記テーブルに支持された前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する、ことを特徴とする処理装置。この適用例の処理装置は、第1ガイド部と第2ガイド部との間の精度を監視することができるステージ装置と、テーブルに支持されたワークに対して処理を施す処理部と、を有する。これにより、ワークに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークに対する処理精度を維持しやすくすることができる。[適用例6]上記の処理装置であって、前記処理部は、前記第1ガイド部よりも前記第2ガイド部側に設けられており、前記ステージ装置は、ワークを支持する第2テーブルと、前記第2ガイド部の前記第1ガイド部側とは反対側で前記第2ガイド部につなぎ合わされており、前記第2ガイド部の前記第1ガイド部側とは反対側から前記第2ガイド部に前記第2テーブルを案内する第3ガイド部と、つなぎ合わされた前記第2ガイド部と前記第3ガイド部との間の精度を監視する第2監視装置と、を有する、ことを特徴とする処理装置。この適用例では、処理部は、第1ガイド部よりも第2ガイド部側に設けられている。また、この適用例では、ステージ装置は、第2テーブルと、第3ガイド部と、第2監視装置と、を有する。第2テーブルは、ワークを支持する。第3ガイド部は、第2ガイド部の第1ガイド部側とは反対側で第2ガイド部につなぎ合わされている。第3ガイド部は、第2ガイド部の第1ガイド部側とは反対側から第2ガイド部に第2テーブルを案内する。第2監視装置は、つなぎ合わされた第2ガイド部と第3ガイド部との間の精度を監視する。このステージ装置では、第2監視装置が設けられているので、例えば、第2ガイド部と第3ガイド部との間の精度が許容範囲を超えて変化したことを監視することができる。これにより、この処理装置では、第2テーブルに支持されたワークに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークに対する処理精度を維持しやすくすることができる。また、このステージ装置では、第1ガイド部及び第3ガイド部のそれぞれが第2ガイド部につなぎ合わされている。テーブルは、第1ガイド部と第2ガイド部との間を往来することができる。また、第2テーブルは、第3ガイド部と第2ガイド部との間を往来することができる。これにより、例えば、テーブル及び第2テーブルのうちの一方に支持されているワークが処理部によって処理されている間に、テーブル及び第2テーブルのうちの他方に新たなワークをセットすることができる。この結果、この処理装置では、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。図面を参照しながら、液滴吐出装置を例に、実施形態について説明する。なお、各図面において、それぞれの構成を認識可能な程度の大きさにするために、構成や部材の縮尺が異なっていることがある。本実施形態における液滴吐出装置1は、概略の構成を示す斜視図である図1に示すように、ワーク搬送装置3と、キャリッジ7と、キャリッジ搬送装置11と、を有している。キャリッジ7には、ヘッドユニット18が設けられている。液滴吐出装置1では、ヘッドユニット18と基板などのワークWとの平面視での相対位置を変化させつつ、ヘッドユニット18から液状体を液滴として吐出させることによって、ワークWに液状体で所望のパターンを描画記録することができる。つまり、液滴吐出装置1は、ワークWに描画記録処理を施す処理装置の1つである。なお、図中のY方向はワークWの移動方向を示し、X方向は平面視でY方向とは直交する方向を示している。また、X方向及びY方向によって規定されるXY平面と直交する方向は、Z方向として規定される。このような液滴吐出装置1は、種々のワークWへの描画記録処理に適用され得る。液滴吐出装置1は、例えば、液晶表示パネル等に用いられるカラーフィルターの製造や、有機ELElectroLuminescence装置の製造などにも適用され得る。赤、緑及び青の3色のフィルターエレメントを有するカラーフィルターの場合、液滴吐出装置1は、例えば、基板に赤、緑及び青の各着色層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット18から各着色層に対応する各液体を、ワークWに液滴として吐出させることによって、ワークWに赤、緑及び青のそれぞれのフィルターエレメントのパターンが描画される。また、有機EL装置の製造では、例えば、赤、緑及び青の画素ごとに、各色に対応する機能層有機層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット18から各色の機能層に対応する各液状体を、ワークWに液滴として吐出されることによって、ワークWに赤、緑及び青のそれぞれの機能層のパターンが描画される。ここで、液滴吐出装置1の各構成について、詳細を説明する。ワーク搬送装置3は、図1に示すように、ベース部21と、ガイドレール23と、ガイドレール24と、ワークテーブル25と、ワークテーブル27と、を有している。ベース部21は、例えば石などの経時変化の小さい材料で構成されており、Y方向に沿って延びるように据えられている。ガイドレール23及びガイドレール24は、それぞれ、例えば石などの経時変化の小さい材料で構成されており、ベース部21の上面22上に配設されている。ガイドレール23及びガイドレール24は、それぞれ、Y方向に沿って延在している。ガイドレール23とガイドレール24とは、互いにX方向に隙間をあけた状態で並んでいる。ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、ガイドレール23及びガイドレール24を挟んでベース部21の上面22に対向した状態で設けられている。ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、ベース部21から浮いた状態でガイドレール23及びガイドレール24上に載置されている。つまり、ガイドレール23及びガイドレール24上には、ワークテーブル25とワークテーブル27とが並存している。ワークテーブル25とワークテーブル27とは、Y方向において、互いに対峙している。ワークテーブル25は、ワークWが載置される面である載置面25aを有している。ワークテーブル27は、ワークWが載置される面である載置面27aを有している。以下において、ワークテーブル25に載置されているワークWと、ワークテーブル27に載置されているワークWとを、互いに識別する場合に、ワークテーブル25に載置されているワークWがワークW1と表記され、ワークテーブル27に載置されているワークWがワークW2と表記される。載置面25a及び載置面27aは、それぞれ、ベース部21側とは反対側上側に向けられている。ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、ガイドレール23及びガイドレール24によってY方向に沿って案内され、ベース部21上をY方向に沿って往復移動可能に構成されている。ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、図示しない移動機構及び動力源によって、互いに独立して個別にY方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、ワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれをY方向に沿って移動させるための動力源として、ワーク搬送モーターが採用されている。ワーク搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。ワーク搬送モーターからの動力は、移動機構を介してワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれに伝達される。これにより、ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、ガイドレール23及びガイドレール24に沿って、すなわちY方向に沿って個別に往復移動することができる。つまり、ワーク搬送装置3は、ワークテーブル25の載置面25aに載置されたワークWを、Y方向に沿って往復移動させることができる。また、ワーク搬送装置3は、ワークテーブル27の載置面27aに載置されたワークWを、Y方向に沿って往復移動させることができる。ヘッドユニット18は、キャリッジ7を図1中のA視方向に見たときの正面図である図2に示すように、ヘッドプレート31と、吐出ヘッド33と、を有している。吐出ヘッド33は、底面図である図3に示すように、ノズル面35を有している。ノズル面35には、複数のノズル37が形成されている。なお、図3では、ノズル37をわかりやすく示すため、ノズル37が誇張され、且つノズル37の個数が減じられている。吐出ヘッド33において、複数のノズル37は、Y方向に沿って配列するノズル列39を構成している。ノズル列39において、複数のノズル37は、Y方向に沿って所定のノズル間隔Pで形成されている。吐出ヘッド33は、図2中のB-B線における断面図である図4に示すように、ノズルプレート46と、キャビティープレート47と、振動板48と、複数の駆動素子49と、を有している。本実施形態では駆動素子49として、縦振動型の圧電素子が採用されている。ノズルプレート46は、ノズル面35を有している。複数のノズル37は、ノズルプレート46に設けられている。キャビティープレート47は、ノズルプレート46のノズル面35とは反対側の面に設けられている。キャビティープレート47には、複数のキャビティー51が形成されている。各キャビティー51は、各ノズル37に対応して設けられており、対応する各ノズル37に連通している。各キャビティー51には、図示しないタンクから機能液53が供給される。振動板48は、キャビティープレート47のノズルプレート46側とは反対側の面に設けられている。振動板48は、Z方向に振動縦振動することによって、キャビティー51内の容積を拡大したり、縮小したりする。複数の駆動素子49は、それぞれ、振動板48のキャビティープレート47側とは反対側の面に設けられている。各駆動素子49は、各キャビティー51に対応して設けられており、振動板48を挟んで各キャビティー51に対向している。各駆動素子49は、駆動信号に基づいて、伸長する。これにより、振動板48がキャビティー51内の容積を縮小させる。このとき、キャビティー51内の機能液53に圧力が付与される。その結果、ノズル37から、機能液53が液滴55として吐出される。吐出ヘッド33による液滴55の吐出法は、インクジェット法の1つである。インクジェット法は、塗布法の1つである。上記の構成を有する吐出ヘッド33は、図2に示すように、ノズル面35がヘッドプレート31から突出した状態で、ヘッドプレート31に支持されている。キャリッジ7は、図2に示すように、ヘッドユニット18を支持している。ここで、ヘッドユニット18は、ノズル面35がZ方向の下方に向けられた状態でキャリッジ7に支持されている。上記により、ワークWには、吐出ヘッド33から機能液53が塗布され得る。なお、本実施形態では、駆動素子49として、縦振動型の圧電素子が採用されているが、機能液53に圧力を付与するための駆動素子49は、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子も採用され得る。また、駆動素子49としては、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズルから液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなども採用され得る。さらに、発熱体を用いてノズル内に泡を発生させ、その泡によって機能液に圧力を付与する構成も採用され得る。キャリッジ搬送装置11は、図1に示すように、架台61と、ガイドレール63と、を有している。架台61は、X方向に延在しており、ワーク搬送装置3をX方向にまたいでいる。架台61は、ワークテーブル25のベース部21側とは反対側で、ワーク搬送装置3に対向している。架台61は、一対の支柱67によって支持されている。一対の支柱67は、ベース部21を挟んでX方向に互いに対峙する位置に設けられている。なお、以下においては、一対の支柱67のそれぞれを識別する場合に、支柱67a及び支柱67bという表記が用いられる。支柱67a及び支柱67bは、それぞれ、ワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれよりもZ方向の上方に突出している。これにより、架台61とワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。ガイドレール63は、架台61のベース部21側に設けられている。ガイドレール63は、X方向に沿って延在しており、架台61のX方向における幅にわたって設けられている。前述したキャリッジ7は、ガイドレール63に支持されている。キャリッジ7がガイドレール63に支持された状態において、吐出ヘッド33のノズル面35は、Z方向においてワークテーブル25及びワークテーブル27側に向いている。キャリッジ7は、ガイドレール63によってX方向に沿って案内され、X方向に往復動可能な状態でガイドレール63に支持されている。なお、平面視で、キャリッジ7がワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれに重なっている状態において、ノズル面35と載置面25a及び載置面27aのそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。キャリッジ7は、図示しない移動機構及び動力源によって、X方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ7をX方向に沿って移動させるための動力源として、図示しないキャリッジ搬送モーターが採用されている。キャリッジ搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。キャリッジ搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ7に伝達される。これにより、キャリッジ7は、ガイドレール63に沿って、すなわちX方向に沿って往復移動することができる。つまり、キャリッジ搬送装置11は、キャリッジ7に支持されたヘッドユニット18を、X方向に沿って往復移動させることができる。ワーク搬送装置3について、詳細を説明する。本実施形態では、ワーク搬送装置3は、図5に示すように、Y方向に沿って、第1待機領域71と、処理領域73と、第2待機領域75と、に区分される。ベース部21並びにガイドレール23及びガイドレール24は、それぞれ、継ぎ目77及び継ぎ目79を介して分割可能に構成されている。第1待機領域71と処理領域73とは、継ぎ目77を境に区分される。また、処理領域73と第2待機領域75とは、継ぎ目79を境に区分される。ベース部21は、第1ベース部21aと、第2ベース部21bと、第3ベース部21cと、に分割可能に構成されている。第1ベース部21aと第2ベース部21bとは、継ぎ目77を境に互いに分割され得る。また、第2ベース部21bと第3ベース部21cとは、継ぎ目79を境に互いに分割され得る。つまり、第1ベース部21aと第2ベース部21bとは、継ぎ目77を介して互いにつなぎ合わされている。また、第2ベース部21bと第3ベース部21cとは、継ぎ目79を介して互いにつなぎ合わされている。本実施形態では、第2ベース部21bが、第1ベース部21aと第3ベース部21cとによってY方向に挟持されている。なお、第1ベース部21aが第1待機領域71に対応し、第2ベース部21bが処理領域73に対応し、第3ベース部21cが第2待機領域75に対応している。ここで、キャリッジ搬送装置11の架台61は、図1に示すように、第2ベース部21bをX方向にまたいでいる。つまり、吐出ヘッド33は、処理領域73において、ワークテーブル25の載置面25aや、ワークテーブル27の載置面27aに対向し得る。ガイドレール23は、図5に示すように、第1ガイドレール23aと、第2ガイドレール23bと、第3ガイドレール23cと、に分割可能に構成されている。ガイドレール24も、第1ガイドレール24aと、第2ガイドレール24bと、第3ガイドレール24cと、に分割可能に構成されている。本実施形態では、第1ガイドレール23a及び第1ガイドレール24aが、第1待機領域71に対応している。第2ガイドレール23b及び第2ガイドレール24bが、処理領域73に対応し、第3ガイドレール23c及び第3ガイドレール24cが、第2待機領域75に対応している。第1ガイドレール23aと第2ガイドレール23bとは、継ぎ目77を介して互いにつなぎ合わされている。第2ガイドレール23bと第3ガイドレール23cとは、継ぎ目79を介して互いにつなぎ合わされている。また、第1ガイドレール24aと第2ガイドレール24bとは、継ぎ目77を介して互いにつなぎ合わされている。第2ガイドレール24bと第3ガイドレール24cとは、継ぎ目79を介して互いにつなぎ合わされている。本実施形態では、第1ベース部21a並びに第1ガイドレール23a及び第1ガイドレール24aが、第1ガイド部81を構成する。第2ベース部21b並びに第2ガイドレール23b及び第2ガイドレール24bが、第2ガイド部82を構成する。また、第3ベース部21c並びに第3ガイドレール23c及び第3ガイドレール24cが、第3ガイド部83を構成する。なお、第1ガイド部81が第1待機領域71に対応し、第2ガイド部82が処理領域73に対応し、第3ガイド部83が第2待機領域75に対応している。本実施形態では、ワークテーブル25は、第1待機領域71と処理領域73とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第1待機領域71と処理領域73とを含めた領域が、ワークテーブル25の可動領域として設定されている。また、ワークテーブル27は、第2待機領域75と処理領域73とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第2待機領域75と処理領域73とを含めた領域が、ワークテーブル27の可動領域として設定されている。第1待機領域71では、ワークテーブル25に対するワークW1の給除材が行われる。ワークテーブル25は、第1待機領域71でワークW1の給材供給を受けてから、ワークW1を処理領域73に搬送する。処理領域73では、ワークテーブル25に載置されたワークW1に対して描画処理が施される。液滴吐出装置1では、描画処理によって、ワークWへのパターンの描画が行われる。液滴吐出装置1では、吐出ヘッド33をワークWに対向させた状態で、吐出ヘッド33とワークWとを相対的に往復移動させながら、吐出ヘッド33から液滴55を吐出させることによって、ワークWへのパターンの描画が行われる。描画処理が施されたワークW1は、ワークテーブル25によって、処理領域73から第1待機領域71に搬送される。ワークテーブル25によって第1待機領域71に搬送されたワークW1は、第1待機領域71において、ワークテーブル25から除材される。そして、ワークテーブル25には、新たなワークW1が給材される。他方で、第2待機領域75では、ワークテーブル27に対するワークW2の給除材が行われる。ワークテーブル27は、第2待機領域75でワークW2の給材供給を受けてから、ワークW2を処理領域73に搬送する。処理領域73では、ワークテーブル27に載置されたワークW2に対して描画処理が施される。描画処理が施されたワークW2は、ワークテーブル27によって、処理領域73から第2待機領域75に搬送される。ワークテーブル27によって第2待機領域75に搬送されたワークW2は、第2待機領域75において、ワークテーブル27から除材される。そして、ワークテーブル27には、新たなワークW2が給材される。なお、本実施形態では、ワークテーブル25及びワークテーブル27のいずれか一方に載置されたワークWに処理領域73で描画処理が施されている間に、ワークテーブル25及びワークテーブル27の他方に対するワークWの給除材が実施される。このため、本実施形態では、描画処理の効率を向上させやすくすることができる。また、本実施形態では、ベース部21並びにガイドレール23及びガイドレール24が、それぞれ、Y方向に沿って、第1待機領域71と処理領域73と第2待機領域75との領域ごとに複数の構成体に分割可能な分割構造が採用されている。このため、ベース部21並びにガイドレール23及びガイドレール24として、それぞれ、一体構造が採用されている場合に比較して、ワーク搬送装置3を輸送しやすくすることができる。他方で、本実施形態では、ベース部21並びにガイドレール23及びガイドレール24として、それぞれ、分割構造が採用されているので、一体構造に比較して、構成体同士間の精度が変化しやすいと考えられる。構成体同士間の精度が変化すると、ワークWに対する処理精度が低下することが考えられる。このようなことに対処するために、本実施形態では、ワーク搬送装置3に監視装置87及び監視装置89が設けられている。監視装置87は、第1ガイド部81と第2ガイド部82との間の精度の変化を監視する。監視装置89は、第3ガイド部83と第2ガイド部82との間の精度の変化を監視する。監視装置87及び監視装置89は、それぞれ、第1監視装置91と、第2監視装置93とを有している。監視装置87の第1監視装置91と、監視装置89の第1監視装置91とは、互いに同様の構成を有している。また、監視装置87の第2監視装置93と、監視装置89の第2監視装置93とも、互いに同様の構成を有している。以下において、監視装置87の第1監視装置91と、監視装置89の第1監視装置91とを識別する場合には、監視装置87の第1監視装置91が第1監視装置91aと表記され、監視装置89の第1監視装置91が第1監視装置91bと表記される。また、監視装置87の第2監視装置93と、監視装置89の第2監視装置93とを識別する場合には、監視装置87の第2監視装置93が第2監視装置93aと表記され、監視装置89の第2監視装置93が第2監視装置93bと表記される。第1監視装置91は、監視装置87を図5中のD視方向に見たときの側面図である図6に示すように、変位部95と、検出部96と、を有している。変位部95は、変位板97と、固定具98と、を有している。変位板97は、固定具98を介して第1ベース部21aに固定されている。変位板97は、被検出面97aを有している。変位部95では、被検出面97aがZ方向上方に向けられている。検出部96は、センサー101と、固定具102と、を有している。センサー101は、固定具102を介して第2ベース部21bに固定されている。センサー101は、Z方向下方に向けられている。なお、センサー101としては、例えば、レーザー変位計などの光学式センサーが採用され得る。変位部95と検出部96とは、継ぎ目77越しに、互いに対向して設けられている。第1監視装置91では、センサー101と変位板97の被検出面97aとが互いに対向している。なお、変位部95と第2ガイド部82とは、互いに干渉していない。また、検出部96と第1ガイド部81とも、互いに干渉していない。上記の構成により、センサー101は、被検出面97aのZ方向における変位を検出することができる。これにより、第1ガイド部81と第2ガイド部82との間のZ方向におけるずれ段差を検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第1ガイド部81と第2ガイド部82との間のZ方向における精度の変化を監視することができる。第2監視装置93は、変位部103と、検出部104と、を有している。変位部103は、第1ベース部21aの上面22に設けられている。変位部103は、架台105と、ころ106と、変位板107と、を有している。架台105は、ころ106を介して第1ベース部21aの上面22に設けられている。ころ106は、上面22に設けられたころ106aと、架台105を挟んでころ106aに対峙するころ106bと、を有している。ころ106は、架台105を回動可能に支持している。架台105は、ころ106aを中心に回動可能に構成されている。なお、架台105と上面22との間には隙間が設けられている。変位板107は、架台105上に設けられており、被検出面107aを有している。変位部103では、被検出面107aがY方向において第2ガイド部82側に向けられている。検出部104は、第2ベース部21bの上面22に設けられている。検出部104は、ころ106と、架台108と、センサー109と、を有している。検出部104のころ106は、変位部103のころ106と同様であるので説明を省略する。検出部104のころ106は、架台108を回動可能に支持している。架台108は、ころ106aを中心に回動可能に構成されている。なお、架台108と上面22との間には隙間が設けられている。センサー109は、架台108上に設けられており、第1ガイド部81側に向けられている。センサー109としては、例えば、レーザー変位計などの光学式センサーが採用され得る。変位部103と検出部104とは、継ぎ目77を挟んで、Y方向に互いに対向して設けられている。第2監視装置93では、センサー109と変位板107の被検出面107aとが互いに対向している。上記の構成により、センサー109は、被検出面107aの傾きを検出することができる。これにより、第1ガイド部81と第2ガイド部82との間の傾きによるずれを検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第1ガイド部81と第2ガイド部82との間の傾きに対する精度の変化を監視することができる。また、第2監視装置93の変位部103と検出部104とは、第1ガイド部81と第2ガイド部82の延在方向であるY方向で対向するように設けられているので、第1ガイド部81と第2ガイド部82との間の傾きを高精度で検出することができる。そして、前述の第1監視装置91によるZ方向の段差検出と組み合わせることで、第1ガイド部81と第2ガイド部82の経時的な相対変位を、最少の構成でかつ高精度で検出することが可能となっているのである。監視装置89における第1監視装置91bは、図7に示すように、監視装置87における第1監視装置91a図6と同様の構成を有している。また、監視装置89における第2監視装置93bは、監視装置87における第2監視装置93aと同様の構成を有している。このため、以下においては、第1監視装置91b及び第2監視装置93bの構成に関する詳細な説明を省略する。図7に示すように、第1監視装置91bでは、変位板97は、固定具98を介して第3ベース部21cに固定されている。そして、変位部95と検出部96とは、継ぎ目79越しに、互いに対向して設けられている。第1監視装置91bにおいても、センサー101と変位板97の被検出面97aとが互いに対向している。上記の構成により、センサー101は、被検出面97aのZ方向における変位を検出することができる。これにより、第3ガイド部83と第2ガイド部82との間のZ方向におけるずれを検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第3ガイド部83と第2ガイド部82との間のZ方向における精度の変化を監視することができる。第2監視装置93bでは、変位部103は、第3ベース部21cの上面22に設けられている。第2監視装置93bにおいても、変位板107の被検出面107aがY方向において第2ガイド部82側に向けられている。第2監視装置93bでは、検出部104のセンサー109が、第3ガイド部83側に向けられている。そして、第2監視装置93bの変位部103と検出部104とは、継ぎ目79を挟んで、Y方向に互いに対向して設けられている。第2監視装置93bにおいても、センサー109と変位板107の被検出面107aとが互いに対向している。上記の構成により、センサー109は、被検出面107aの傾きを検出することができる。これにより、第3ガイド部83と第2ガイド部82との間の傾きによるずれを検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第3ガイド部83と第2ガイド部82との間の傾きに対する精度の変化を監視することができる。また、第2監視装置93bの変位部103と検出部104とは、第3ガイド部83と第2ガイド部82の延在方向であるY方向で対向するように設けられているので、第3ガイド部83と第2ガイド部82との間の傾きを高精度で検出することができる。そして、前述の第1監視装置91bによるZ方向の段差検出と組み合わせることで、第3ガイド部83と第2ガイド部82の経時的な相対変位を、最少の構成でかつ高精度で検出することが可能となっているのである。本実施形態において、液滴吐出装置1が処理装置に対応し、ワーク搬送装置3がステージ装置に対応し、吐出ヘッド33が処理部に対応している。また、ワークテーブル25がテーブルに対応し、ワークテーブル27が第2テーブルに対応し、センサー101が第1センサーに対応し、センサー109が第2センサーに対応している。本実施形態では、ワーク搬送装置3のベース部21並びにガイドレール23及びガイドレール24に分割構造が採用されている。そして、このワーク搬送装置3には、監視装置87及び監視装置89が設けられている。監視装置87によって、第1ガイド部81と第2ガイド部82との間の精度を監視することができる。また、監視装置89によって、第3ガイド部83と第2ガイド部82との間の精度を監視することができる。これにより、第1ガイド部81と第2ガイド部82との間の精度が許容範囲を超えて変化したり、第3ガイド部83と第2ガイド部82との間の精度が許容範囲を超えて変化したりすることを監視することができる。これにより、ワークWに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークWに対する処理精度を維持しやすくすることができる。また、本実施形態では、第2監視装置93図6において、架台105や架台108を含む構成が採用されている。これにより、ベース部21の変形を検出しやすくすることができる。例えば、第2監視装置93から架台105や架台108を省略した構成では、図8aに示すように、変位板107とセンサー109との間で発生する小刻みなうねりを検出することができない場合がある。これは、変位板107とセンサー109との間でベース部21が変形していても、センサー109と被検出面107aとが互いに対向し得るためである。これに対し、本実施形態では、図8bに示すように、架台105や架台108によって、変位板107とセンサー109との間のベース部21の変形が、変位板107やセンサー109の姿勢に反映されやすい。これにより、変位板107とセンサー109との間のベース部21の変形を検出しやすくすることができる。この結果、ワークWに対する処理精度を一層維持しやすくすることができる。なお、本実施形態では、第1監視装置91a図6において、変位部95が第1ガイド部81に設けられ、検出部96が第2ガイド部82に設けられている。しかしながら、第1監視装置91aの構成は、これに限定されない。第1監視装置91aの構成としては、変位部95が第2ガイド部82に設けられ、検出部96が第1ガイド部81に設けられた構成も採用され得る。また、本実施形態では、第2監視装置93a図6において、変位部103が第1ガイド部81に設けられ、検出部104が第2ガイド部82に設けられている。しかしながら、第2監視装置93aの構成は、これに限定されない。第2監視装置93aの構成としては、変位部103が第2ガイド部82に設けられ、検出部104が第1ガイド部81に設けられた構成も採用され得る。また、本実施形態では、第1監視装置91b図7において、変位部95が第3ガイド部83に設けられ、検出部96が第2ガイド部82に設けられている。しかしながら、第1監視装置91bの構成は、これに限定されない。第1監視装置91bの構成としては、変位部95が第2ガイド部82に設けられ、検出部96が第3ガイド部83に設けられた構成も採用され得る。また、本実施形態では、第2監視装置93b図7において、変位部103が第3ガイド部83に設けられ、検出部104が第2ガイド部82に設けられている。しかしながら、第2監視装置93bの構成は、これに限定されない。第2監視装置93bの構成としては、変位部103が第2ガイド部82に設けられ、検出部104が第3ガイド部83に設けられた構成も採用され得る。