"干渉計であって、入力光から検査光及び参照光を導出し、第1経路に沿って前記検査光を導いて被験物体に接触させ、前記第1経路と異なる第2経路に沿って前記参照光を導くように配置された第1ビームスプリッタと、前記第1経路及び前記第2経路に配置され、前記検査光が前記被験物体に接触した後、前記参照光を検査光と合成するように構成された第2ビームスプリッタと、前記合成された検査光及び参照光を受光するように配置された検出器と、前記被験物体及び仮想参照面を前記検出器上に結像するように構成された対物レンズとを備え、前記仮想参照面は、前記第1ビームスプリッタと第2ビームスプリッタとの間の、前記検出器に対して光学的に共役な仮想面に対応する、干渉計。請求項1に記載の干渉計であって、前記被験物体を介した前記第1ビームスプリッタから前記第2ビームスプリッタまでの前記第1経路の光路長は、第1ビームスプリッタから第2ビームスプリッタまでの第2経路の光路長に実質的に等しい、干渉計。請求項1に記載の干渉計であって、更に、前記第2経路に配置され、第1ビームスプリッタから第2ビームスプリッタに向けて参照光を導くように構成された光学素子を備える、干渉計。請求項3に記載の干渉計であって、前記第1ビームスプリッタと前記第2ビームスプリッタとの間の前記検査光の光路長は、前記第1ビームスプリッタと、前記第2経路に配置された前記光学素子との間の前記参照光の光路長に実質的に等しい、干渉計。請求項3に記載の干渉計であって、前記第1ビームスプリッタと前記第2ビームスプリッタとの間の前記第1経路及び前記第2経路は、前記第2経路に配置された前記光学素子との組み合わせで、実質的に二等辺三角形に対応する幾何学的形状を画成する、干渉計。請求項1に記載の干渉計であって、前記検査光は、前記第1ビームスプリッタによって透過された入力光に対応し、前記参照光は、前記第1ビームスプリッタによって反射された入力光に対応する、干渉計。請求項1に記載の干渉計であって、更に、前記第1ビームスプリッタにおいて合成された光の経路に対応する調整チャネルを備え、前記合成された光は、前記第1経路又は前記第2経路に沿って、前記第2ビームスプリッタから前記第1ビームスプリッタに伝搬する、干渉計。請求項7に記載の干渉計であって、更に、前記調整チャネルに配置され、前記合成された光を検出する第2検出器を備える、干渉計。請求項1に記載の干渉計であって、更に、前記第1ビームスプリッタと前記第2ビームスプリッタとの間の前記第2経路に配置された第1補償光学素子を備え、前記第1補償光学素子は、前記検査光と前記参照光との間の光学材料内の光路長差を低減する、干渉計。請求項9に記載の干渉計であって、前記第1補償光学素子は、前記検出器における前記検査光と測定光との間の横方向の変位を低減するように構成されている、干渉計。請求項9に記載の干渉計であって、前記第1補償光学素子は、前記第2経路に対して傾斜した平行平面板である、干渉計。請求項9に記載の干渉計であって、更に、前記第1経路及び第2経路のうちの少なくとも一方に配置された1つ又は複数の追加の補償光学素子を備え、前記1つ又は複数の追加の補償光学素子は、前記検査光と前記参照光との間の光学材料内の前記光路長差を低減すること、及び前記検出器における前記検査光と測定光との間の横方向の変位を低減することのうちの少なくとも一方を実施する、干渉計。請求項1に記載の干渉計であって、更に、前記干渉計の動作中、前記入力光を供給するように構成された照明器を備える、干渉計。請求項13に記載の干渉計であって、前記照明器は、光源と、前記光源から光を受光し、前記光を前記第1ビームスプリッタに向けて導くように構成された1つ又は複数の光学素子とを含む、干渉計。請求項14に記載の干渉計であって、前記1つ又は複数の光学素子は、前記検査光が前記被験物体においてテレセントリックであるように構成されている、干渉計。請求項14に記載の干渉計であって、前記光源は、10nmより大きいスペクトル帯域幅を有する光を供給するように構成されている、干渉計。請求項14に記載の干渉計であって、前記光源は、発光ダイオードLEDを含む、干渉計。請求項1に記載の干渉計であって、前記第1ビームスプリッタ及び前記第2ビームスプリッタは、複数の平行平面光学素子を含む、干渉計。請求項1に記載の干渉計であって、前記干渉計は、視野内における前記被験物体の表面を前記検出器上に結像するように構成されており、前記視野は、10mm以上の寸法を有する、干渉計。請求項1に記載の干渉計であって、更に、前記検出器と通信する電子プロセッサを備え、動作中、前記電子プロセッサは、前記検出器における前記検査光と前記参照光との間の光路長差に関する干渉情報を含む信号を受信し、前記信号に基づき、前記被験物体に関する情報を決定する、干渉計。被験物体に関する情報を決定するための干渉法であって、第1光学素子において、入力光から検査光及び参照光を導出すること、第1経路に沿って前記検査光を導いて被験物体に接触させ、前記第1経路と異なる第2経路に沿って前記参照光を導くこと、前記検査光が前記被験物体に接触した後、第1光学素子と異なる第2光学素子において、前記参照光を前記検査光と合成すること、前記被験物体及び仮想参照面を検出器上に結像することを含み、前記仮想参照面は、前記第2経路における前記検出器での前記像に対して光学的に共役な前記第2経路における仮想面に対応する、方法。検査面の特性を測定するための干渉計であって、a干渉計キャビティを画成する光学系であって、入力光を検査光及び参照光に分離するように配置された第1ビームスプリッティング光学部品と、前記検査面に前記検査光を透過し、前記検査面から再び前記検査光を受光し、その後、前記検査光を前記参照光と再合成するように配置された第2ビームスプリッティング光学部品と、第1光学部品から第2光学部品に前記参照光を導くように配置された第3光学部品とを含み、前記干渉計キャビティが、前記第2光学部品と前記第3光学部品との間の前記参照光の経路に沿って配置された仮想参照面を画成する、前記光学系と、b前記再合成された検査光及び参照光を受光するように配置された撮像チャネルであって、撮像検出器と、前記検査面及び前記仮想参照面を前記検出器に結像するように構成された少なくとも1つの撮像要素とを含む、前記撮像チャネルとを備える、干渉計。滑らかなサンプルのトポグラフィ検査のための堅牢で生産に適した計測ツールの場合、とりわけ、1サンプルへの検査光の垂直入射を呈し、2広がりを有し、空間的にインコヒーレントな光源からの広帯域白色光に最大コントラストを与え、3数十mmの範囲での大きな測定領域に対して、小型で安定した幾何学的形状で単純な平行平面板を用いる、仮想参照面を備えた干渉計の構成を有することが望ましい。本開示は、サンプルのトポグラフィ検査のための仮想参照面を備える干渉計を提示し、干渉計において、干渉像検出器と共役な物理的な光学面が存在しない。これによって、干渉計システムの較正要件が大きく低減され、また、サブオングストローム範囲の粗さやうねりを有する超円滑面のトポグラフィ測定が可能になる。干渉計キャビティは、小型で安定した三角形構成を有し、この場合、三角形は、実質的に二等辺三角形である。干渉計は、広がりを有し、空間的にインコヒーレントな光源に対して完全に補償され、更に、キャビティに2つの追加のウィンドウを用いることによって広帯域の白色光動作に対して補償される。平行平面板の三角形構成における2つの追加ウィンドウを用いることにより、広帯域白色光動作が補償される。干渉計の一体化された調整チャネルにより、キャビティ並びに検査面位置を調整して測定における良好な干渉縞コントラストを得ることができるが、これとは異なり、極めて局所的な干渉縞を生成する空間的及び時間的にインコヒーレントな光源を備えた干渉計では、極めて困難で厄介なことになり得る。更に、幾つかの態様では、干渉計キャビティの調整は、他の補助手段無しで三角形キャビティにおいて2つの反対方向に伝播するビームを有する調整チャネルを用いて、簡略化し得る。キャビティは、平行平面光学構成要素を用いるが、これらは、極めて高い面精度及び平行度で経済的に製造し得る。検査面から干渉像検出器までの撮像経路は、いずれのキャビティ光学部品も通過しないが、そうでない場合には、像に収差がもたらされ、また、トポグラフィマップの空間解像度が低下する可能性がある。本開示は、検査面の特性を測定するための撮像干渉計であって、検査面に対する場合を除き、いずれの光学構成要素の焦点も合っておらず、また、干渉計キャビティの光学的構成が実質的に二等辺三角形である撮像干渉計をカバーする。本開示は、更に、検査面の特性を測定するための撮像干渉計であって、検査面に対する場合を除き、いずれの光学構成要素の焦点も合っておらず、また、撮像システムから独立している一体的な調整システムが、光学構成要素の位置を調整し測定性能を改善し得る撮像干渉計をカバーする。本開示は、更に、検査面の特性を測定するための撮像干渉計であって、検査面に対する場合を除き、いずれの光学構成要素の焦点も合っておらず、また、干渉計キャビティの光学的構成が実質的に二等辺三角形であり、更に、光学システムが、広がりを有し空間的にインコヒーレント、スペクトル的に広帯域の約10nmの帯域幅より広い照明に適合する撮像干渉計をカバーする。本発明の様々な態様は、次のようにまとめられる。一般的に、一態様において、本開示は、検査面の特性を測定するための撮像干渉計を特徴とする。本干渉計は、干渉計キャビティを画成する光学系であって、入力光を検査光及び参照光に分離するように配置された第1ビームスプリッティング光学部品と、検査光を検査面に透過させ、検査面から検査光を再度受光し、その後、検査光を参照光と再合成するように配置された第2ビームスプリッティング光学部品と、参照光を第1光学部品から第2光学部品に導くように配置された第3光学部品とを有する光学系を備える。干渉計キャビティは、第2光学部品と第3光学部品との間の参照光の経路に沿って配置された仮想参照面を画成する。干渉計は、更に、再合成された検査光及び参照光を受光するように配置された撮像チャネルであって、撮像検出器と、検査面及び仮想参照面を検出器上に結像するように構成された少なくとも1つの撮像要素とを含む撮像チャネルを備える。実施形態には、以下の特徴の1つ又は複数を含み得る。例えば、第1と第2光学部品との間の検査光の光学的距離は、第1と第3光学部品との間の参照光の光学的距離に実質的に等しい。幾つかの実施形態において、第1、第2、及び第3光学部品によって画成された干渉計キャビティは、実質的に二等辺三角形に対応する幾何学的形状を有する。幾つかの実施形態において、第1光学部品は、更に、入力光を第1及び第2調整ビームに分離し、干渉計キャビティを画成する光学系は、調整ビームが干渉計キャビティを互いに反対方向に伝搬するように導き、その後、第1光学部品は、調整ビームを再合成する。第1調整ビームは、最初、検査光経路に沿って進み、その後、第2光学部品及び第3光学部品によって反射され再度第1光学部品に戻り、第2調整ビームは、最初、参照光経路に沿って進み、その後、第2光学部品によって反射され第1光学部品に戻る。幾つかの実施例では、干渉計には、更に、調整チャネルが含まれるが、この調整チャネルには、調整検出器と、第1光学部品からの再合成された調整ビームを受光し、また、それらを調整検出器に導くように構成された少なくとも1つの撮像要素と、が含まれる。幾つかの実施形態において、干渉計には、更に、参照光経路に沿って干渉計キャビティに配置された第1補償板が含まれる。第1補償板は、検査光及び参照光のガラスにおける光路長を実質的に等しくするように構成し得る。幾つかの実施例では、干渉計には、更に、配置された第2及び第3補償板であって、参照光経路に沿って配置された第2補償板と、測定光経路に沿って配置された第3補償板と、が含まれる。第2及び第3補償板は、測定光と参照光が第2光学部品によって再合成される時、測定光と参照光との間の横方向の変位を実質的に最小にするように構成し得る。幾つかの実施形態において、干渉計には、更に、入力光を供給する照明器が含まれる。幾つかの実施例では、照明器には、入力光の光を供給する光源と、光源からの光を受光して、入力光を干渉計キャビティ側に導く1つ又は複数の撮像光学部品と、が含まれる。幾つかの実施例では、照明器には、更に、光源のための開口絞りが含まれ、撮像光学部品の内の少なくとも1つが、光源からの光を撮像して開口絞りを満たす。また、撮像光学部品の内の少なくとも他の1つが、開口絞りが検査面用のテレセントリック照明光源を画成するように、開口絞りからの光を干渉計キャビティに導く。入力光は、10nmより大きいスペクトル帯域幅を有し得る。幾つかの実施例では、干渉計には、更に、干渉計キャビティの検査光及び参照光経路に各々少なくとも1つの補償板が含まれる。補償板は、測定光と参照光が第2光学部品によって再合成される時、入力光のスペクトル帯域幅において、測定光と参照光との間の横方向の変位を実質的に最小にするように構成し得る。幾つかの実施例では、照明器は、入力光に調整可能な帯域幅を与えるように構成される。光源は、発光ダイオードLEDであってよい。幾つかの実施形態において、第1及び第2光学部品は、平行平面ビームスプリッタである。第3光学部品は、鏡であってよい。一般的に、更なる態様において、本発明は、干渉計であって、入力光から検査光及び参照光を導出し、被験物体に接触するように第1経路に沿って検査光を導き、また、第1経路と異なる第2経路に沿って参照光を導くように配置された第1ビームスプリッタと、第1及び第2経路に配置され、検査光が被験物体に接触した後、参照光と検査光とを合成するように構成された第2ビームスプリッタと、合成された検査光及び参照光を受光するように配置された検出器と、被験物体及び仮想参照面を検出器上に結像するように構成された対物レンズとを備え、仮想参照面が、第1と第2ビームスプリッタとの間の、検出器に光学的に共役な仮想面に対応する、干渉計を特徴とする。干渉計の実施形態には、以下の特徴及び/又は他の態様の特徴の1つ又は複数を含み得る。例えば、第1ビームスプリッタから被験物体を介した第2ビームスプリッタまでの第1経路の光路長は、第1ビームスプリッタから第2ビームスプリッタまでの第2経路の光路長に実質的に等しくてよい。干渉計には、第2経路に配置され、また、第1ビームスプリッタから第2ビームスプリッタ側に参照光を導くように構成された光学素子を含み得る。第1と第2ビームスプリッタとの間の検査光の光路長は、第1ビームスプリッタと第2経路に配置された光学素子との間の参照光の光路長に実質的に等しい。第1と第2ビームスプリッタとの間の第1及び第2経路は、第2経路に配置された光学素子と組み合わせて、実質的に二等辺三角形に対応する幾何学的形状を画成し得る。検査光は、第1ビームスプリッタによって透過された入力光に対応し、また、参照光は、第1ビームスプリッタによって反射された入力光に対応し得る。干渉計には、第1ビームスプリッタにおいて合成された光の経路に対応する調整チャネルを含み得るが、この場合、合成された光は、第1又は第2経路に沿って第2ビームスプリッタから第1ビームスプリッタに伝搬する。干渉計には、合成された光を検出するために調整チャネルに配置された第2検出器を含み得る。干渉計には、第1と第2ビームスプリッタとの間の第2経路に配置された第1補償光学素子を含み得るが、この場合、第1補償光学素子は、検査光と参照光との間の光学材料内の光路長差を低減する。第1補償光学素子は、検出器における検査光と測定光との間の横方向の変位を低減するように構成し得る。第1補償光学素子は、第2経路に対して傾斜した平行平面板であってよい。干渉計には、第1及び/又は第2経路に配置された1つ又は複数の追加の補償光学素子を含み得るが、この場合、1つ又は複数の追加の補償光学素子は、検査光と参照光との間の光学材料内の光路長差を低減する及び/又は検出器における検査光と測定光との間の横方向の変位を低減する。干渉計には、干渉計の動作中、入力光を供給するように構成された照明器を含み得る。照明器には、光源と、光源から光を受光して、その光を第1ビームスプリッタ側に導くように構成された1つ又は複数の光学素子と、を含み得る。1つ又は複数の光学素子は、検査光が被験物体においてテレセントリックであるように構成し得る。光源は、10nmより広いスペクトル帯域幅を有する光を供給するように構成し得る。光源には、発光ダイオードLEDを含み得る。第1及び第2ビームスプリッタは、複数の平行平面光学素子を含み得る。干渉計は、10mm以上の寸法を有する視野内の被験物体の表面を検出器に結像するように構成し得る。干渉計には、検出器と通信可能な電子プロセッサを含み得るが、この場合、動作中、電子プロセッサは、検出器における検査光と参照光との間の光路長差に関する干渉計情報を含む信号を受信し、それらの信号に基づき、被験物体に関する情報を決定する。一般的に、他の態様において、本発明は、被験物体に関する情報を決定するための干渉法を特徴とする。本方法は、第1光学素子において入力光から検査光及び参照光を導出すること、検査光を第1経路に沿って導き被験物体に接触させ、また、参照光を第1経路と異なる第2経路に沿って導くこと、検査光が被験物体に接触した後、第1光学素子と異なる第2光学素子において、参照光を検査光と合成すること、被験物体及び仮想参照面を検出器上に結像することを含み、この場合、仮想参照面は、第2経路の検出器における像に光学的に共役な第2経路の仮想面に対応する。本方法の実施例には、他の態様について上述したいずれかの特徴を含み得る。1つ又は複数の実施形態の詳細については、添付図面及び以下の説明に記載する。図1において、例示的な干渉計システム1を示すが、本干渉計システム1には、4つの主要な組立品、即ち、干渉計キャビティ2、照明器3、撮像アーム4、及び調整チャネル5が含まれる。更に、検査対象面6Aを有する試験片6を示して、干渉試験一式が完成する。中央撮像束には、点線で示した光源撮像束7と、破線で示した被験物体撮像束8と、が含まれる。干渉計キャビティ2において、ビームスプリッタ9は、照明器3からの光を受光し、入射光の一部を参照光10として反射し、入射光の他の一部を検査光11として透過する。平行平面ビームスプリッタ9の第1面9Aでの反射後、参照光10は、平行平面補償器12及び13を通過して、折り返し鏡turnmirror14の面14Aで平行平面ビームスプリッタ15側へ反射され、参照光10はそれを通過する。ビームスプリッタ9を透過した後、検査光11は、平行平面補償器16及びビームスプリッタ15を通過して、検査面6aで反射され、ビームスプリッタ15へ再び導かれて、そこで、検査光11は、試験片と対向する面15Aで反射される。このようにして、参照光10及び検査光11は、ビームスプリッタ15で再合成され、両方の光が撮像アーム4に導かれる。干渉計キャビティ2には、透過又は反射に用いられる平行平面板9、12、13、15、及び16と、反射に用いられる平面折り返し鏡14と、が含まれる。通常、平行平面光学構成要素は、高速で費用対効果が大きい製造法を用いて、極めて高い面精度及び平行度に製作することができる。照明器3には、光源17と、光源17が開口絞り21に結像されるように、また、光源の像が開口絞りを満たすように、光源から干渉計キャビティ2にビームを伝達するレンズ18、19、及び20と、が含まれる。幾つかの実施例では、開口絞り21は、干渉計照明用の実効的な光源と見なし得る。また、開口絞り21は、レンズ20によって無限遠に結像され、検査面6aの照明がテレセントリックになる。視野絞り22は、検査光11を通して検査対象面6aに結像され、また、参照光を通して面27に結像される。光源17は、例えば、発光ダイオードLED又はハロゲンランプ等の広がりを有するインコヒーレントな非干渉性の光源である。オプションとして、光源の出力スペクトルを整形するスペクトルフィルタ23をビーム中に配置してよい。光源及びフィルタ処理に依存して、干渉計キャビティ2を照明するビームの波長スペクトルは、約1nm以下の帯域幅の狭帯域から数百ナノメートルの帯域幅の超広帯域までに及ぶ。例えば、アーク灯やレーザ装置等の他の光源を用いてもよい。場合によっては、光源は、中間拡散器と共に用いてよい。他の選択肢として又は追加的に、光源からの光は、干渉計にファイバ結合してもよい。幾つかの実施例では、複数のスペクトルフィルタ23と、選択されたフィルタをビーム中に動かすアクチュエータ/位置決め器と、を備えることによって、選択可能な光特性を備えた照明器を実現し得る。他の選択肢として又は追加的に、ビームスプリッタは、視野絞り22の前に用いて、2つの光源からのビームを合成することができ、この場合、2つの光源を交互にオン/オフ切り替えして、一方又は他方の光源を選択する。例えば、幾つかの実施例では、第1光源には、長波長通過スペクトルフィルタを備えた広帯域白色光LEDが含まれるのに対して、第2光源には、狭帯域光用の追加の干渉フィルタを備えた青色LEDが含まれる。従って、光の中心波長及び帯域幅は、試験片6に対して行われる測定の要件により切換えることができる。撮像アーム4において、参照光10及び検査光11は、撮像対物レンズ24によって干渉像検出器25に中継され、そこで、参照光10及び検査光11は、干渉して干渉縞を生成する。干渉像検出器25には、更に詳細に後述するように処理を行うためのコンピュータに対して、例えば、干渉像を検知してデジタル形式で送信するCCDカメラ等の電子カメラを含み得る。空間要件に依存して、折り曲げ鏡26を用いて試験片空間からビームの方向を変えてよい。検査対象面6Aに関する細目を細かく解像するために、面は、検査光において撮像対物レンズ24によって干渉像検出器25に結像される。検査面6Aから撮像対物レンズ24までの撮像経路は、どのキャビティ構成要素も通過しない。これとは異なり、非垂直入射角で平面板を通過すると、結像収差が持ち込まれて結像解像度が低下する。参照光中の面27は、これも対物レンズ24によって干渉像検出器25に結像されるが、折り返し鏡14とビームスプリッタ15との間に配置される。面27は、実際の物理的な面がこの位置に存在しないことから、仮想参照面と呼ばれる。カメラ上で検査面及び仮想参照面にピントが明瞭に合っている一方で、干渉計システム1の全ての実際の光学面は、焦点がずれてぼやけている。このぼけによって、干渉計光学系の高空間周波数誤差が、検査対象面のトポグラフィ測定において、減衰又は抑制され得る。このぼけは、光学面上の光源結像光束8の占有面積、例えば、ビームスプリッタ15の面15A上の面積28における面誤差の平均化としても解釈し得る。インコヒーレントな光源の空間的広がり、並びに干渉像検出器25によって検出された光のスペクトル幅は、干渉像検出器25において最良の干渉縞コントラストを得るための特別な指針になるW.H.Steel、干渉法Interferometry、CambridgeUniversityPress、Cambridge1967を参照のこと。本明細書においてその全体を引用参照する。その指針は、次のように述べることができる。a広帯域光の場合、参照光及び検査光の群光路長は、同じであること。狭帯域光の場合、両ビームの光路長は、少なくとも同じであること。b干渉像検出器上の点を干渉計の検査光及び参照光に沿って光源空間に結像する場合、光源空間における2つの像点の位置が同じであり、また、検査光及び参照光に沿った反射の数が同じであること。c項目bの結像の結像収差は、試験アーム及び参照アームの場合と同じであること。これらの指針が満たされていないと、干渉縞コントラストは、光源の広がり及びスペクトル幅に依存する割合で低下する。これらの指針に加えて、仮想参照面27は、最も近い実際の光学面から、これらの面の有益なピンぼけのために、できるだけ離しておくべきである。これらの指針全てを満足する最も単純な構成は、図1に示す例示的なキャビティ構成に対応するが、この場合、キャビティ三角形は、ほぼ二等辺三角形である。等しい脚を備えた二等辺三角形を有することは、ビームスプリッタ9の面9Aと折り返し鏡14の面14Aとの間の軸方向の光線に沿う幾何学的な距離が、ビームスプリッタ9の面9Aとビームスプリッタ15の面15Aとの間の軸方向の光線に沿う幾何学的な距離に等しいことを意味する。折り返し鏡14とビームスプリッタ15との間の三角形の第3辺は、検査光10及び参照光11がビームスプリッタ15の面15Aで交差するように、また、調整チャネル5の議論で更に後述するように、ビームずれを呈しないように、これらの構成要素を適切に角度調整することによって与えられる。ビームスプリッタ9及び補償器12のガラス厚が同じである限り、また、補償器13及び16のガラス厚が同じである限り、参照光及び検査光の空気経路並びにガラス経路は、キャビティ構成要素の適切な調整によって、同じにすることができる。適切な調整には、ビームスプリッタ9への入射角を補償器12への入射角に整合させること、また、補償器13及び16への入射角をビームスプリッタ15への入射角に整合させることが必要である。このことは、図2A及び2Bを参照すると良くわかるが、そこでは、検査光及び参照光が別個に示されており、また、全ての鏡面反射が展開されている。図2A及び2Bの要素付番は、図1の付番と一致する。図2Aは、検査光に沿う光源空間における点28Aへの干渉像検出器25上の点の再結像を示し、ここでは、鏡面反射が垂直線によって示されている。図2Bは、開口絞り21を基準にして点28Aと同じ位置にある参照光の場合の像位置28Bを示す。また、両方の光の反射回数は、同じであることが分かる。また、平行平面板の数及びそれらの角度は、検査光及び参照光について同じであるが、それらの順序は異なる。平行平面板の軸方向の位置は、もたらされる収差量に影響を及ぼさないことから、結像収差も両ビームについて同じである。更に図2において分かるように、平行平面板への非垂直入射のために、各板において、横方向のビーム変位がある。1つの全体的な変位は、キャビティの調整によって補償され、光源空間において点28A及び28Bを一致させることができる。しかしながら、広帯域光の場合、ガラスの分散のために、光の波長に依存する横方向のビーム変位が生じる。翻って、これにより、光源空間における点28Aと28Bとの間の横方向の広がりが生じ、干渉像検出器25における干渉縞のコントラストが低下する。ビームスプリッタ15におけるビーム変位のスペクトル広がりは、逆方向に起こり、図示したように補償器13及び16によって除去される。従って、補償器13及び16によって、点28A及び28Bの位置は、全ての波長に対して一致する。スペクトル広がりが充分小さく干渉縞コントラストが良好な場合、補償器13及び16は除外してよい。実効的に同じ数の平行平面板が検査光及び参照光中にあり、また、二等辺三角形の2つの脚が等しい場合、検査光及び参照光の光路を一致させるには、折り返し鏡14の面14Aとビームスプリッタ15の面15Aとの間の軸方向の光線に沿う幾何学的な距離が、ビームスプリッタ15の面15Aと検査面6Aとの間の距離の2倍であることが必要である。これによって、仮想参照面27は、折り返し鏡14の面14Aとビームスプリッタ15の裏面との間の中心近傍に配置される。仮想参照面は、完全に中心に配置されず、ビームスプリッタ15における軸方向光線の幾何学的な長さの通常六分の一だけビームスプリッタ15側に近い。上述したキャビティ構成及び構成要素配置は、全ての構成要素の適切な位置決め及び調整によって良好な干渉縞コントラストを提供する。広がりを有する広帯域光源を備えた干渉計において、初期の調整は、干渉縞がまだ見えていない場合や必要な調整の種類や方向の兆候が無い場合、困難である。図1の調整チャネル5は、この種の干渉計のセットアップ及び動作のための有益な支援として設けられる。調整チャネル5には、レンズ29及び調整検出器30が含まれる。調整検出器30には、例えば、視覚による観察のための画面を含むことができ、または、モニタに表示し得る又はコンピュータにおいて処理し得る調整画像を取り込む電子カメラを含むことができる。干渉試験セットアップの調整は、2つのステップ行われる。まず、干渉計キャビティ2は、試験片が無い状態で、通常、機器の製造又は据え付け時に調整される。次に、試験片6が、通常の測定プロセスの一部として干渉計に調整される。第1ステップの場合、三角形キャビティを反対方向に伝播する2つのビームが、調整検出器30に導かれる。照明器からやって来ると、時計回りのCWビームは、ビームスプリッタ9及び補償器16によって透過され、ビームスプリッタ15の面15A及び折り返し鏡14の面14Aで反射され、補償器13及び12によって透過され、そして、最後にビームスプリッタ9によって再度透過されてレンズ29に至る。反時計回りのCCWビームは、ビームスプリッタ9の面9Aで反射され、補償器12及び13によって透過され、折り返し鏡14の面14A及びビームスプリッタ15の面15Aで反射され、補償器16によって透過され、最後にビームスプリッタ9の面9Aで再度反射されて調整レンズ29に至る。両方のビームが逆方向に同じ光路を伝搬することから、CW及びCCWビームは、レンズ29において平行であるが、横方向の変位を呈し得る。最初、構成要素が精確に調整されていない場合、調整検出器30は、レンズ29の後方焦点面から後ろに動かすことができ、これにより仮想参照面27、及び従って、照明器3の視野絞り22も調整検出器30に結像される。キャビティの1つの構成要素、例えば、折り返し鏡14又はビームスプリッタ15は、視野絞りの両方の像が調整検出器上で一致するまで、また、CWとCCWビームとの間のずれが大幅に低減されるまで、チップ/チルト、または位置を調整される。そして、調整検出器30は、レンズ29の後方焦点面に移動される。上記構成では、中程度のビームずれは、調整検出器30上の開口絞り21の像における干渉縞として目に見える。干渉縞は、ビームずれの極めて高感度な表れである。調整可能なキャビティ構成要素は、開口絞り像上の干渉縞が広がり、開口絞り像において均一な光レベルが得られるまで、細かく調整される。この調整により、第1調整ステップが完了する。この調整ステップは、試験片を適切に調整することによって干渉縞を実現し得ることを保証する。機器が充分に安定している場合、調整ステップは、繰り返す必要がない。干渉計への検査面6Aの調整の場合、最初に試験片6のチップ及びチルトを調整する必要がある。この調整の場合、検査面によって再度調整チャネル5へ反射されたビームが用いられる。即ち、ビームスプリッタ9、補償器16、及びビームスプリッタ15によって透過され、検査面6Aによって反射され、再度ビームスプリッタ15及び補償器16によって透過され、そして、最後にビームスプリッタ9の面9Aによって反射され調整レンズ29に至る検査光が用いられる。また、検査光は、調整検出器上に開口絞り21の像を導く。検査面6Aのチップ及びチルトを調整する場合、この開口絞り像は、調整検出器上にも存在するCW又はCCWビームのいずれかのそれと合致させる。この調整は、検査光が干渉像検出器25において参照光に充分に平行であることを保証し、次の最後の調整ステップ後、干渉縞を観察することができる。次に、検査光11の光路長が参照光7の光路長と一致するように、検査光に沿った試験片の軸方向の位置を調整する。検査面6Aは、面6Aが最良の又はほぼ最良の干渉縞コントラストの位置にある時、干渉像検出器25に鮮明に結像されることから、試験片が合焦されるのに充分な構造を有する場合、干渉像検出器25上での試験片の像鮮明度を最適化することによって粗調整を実施できる。試験片が極めて滑らかであり、何らかの識別できる構造を示さない場合、視野絞り22は、例えば、小さい開口等の幾つかの目に見える特徴を含む調整視野絞り22Aで置き換えられる。視野絞りも適切な検査面位置に結像されることから、視野絞り像の像鮮明度は、滑らかな部位上での粗い軸方向の焦点の一部として最適化される。その後の軸方向位置の微調整では、調整視野絞り22Aが、標準の視野絞り22によって再度置き換えられ、また、試験片6が、干渉像検出器25上の干渉縞のコントラストが最適化されるまで、軸方向に移動される。こうして、干渉計1及び試験片6を含む全干渉試験構成の測定準備が整う。システムを調整するための追加の支援は、検査光11の光以外の光が調整検出器30及び干渉像検出器25に達するのを阻止するように参照光10中に配置し得るビームブロック31である。試験片6のチップ/チルト調整及び軸方向の粗調整時、参照光からの光を阻止すると、検査面からの戻り光が弱い又は散乱される場合、より良い調整信号を供給することができる。更に、参照光を阻止した状態では、干渉計は、干渉縞無しの検査面の標準的撮像にも用い得る。上述した干渉計の構成は、通常の顕微鏡のものより大きい測定領域に良好に適合する。一実施例において、干渉計には、検査面上の20mm×20mmの測定領域、0.025の結像開口数NA、及び検査面6Aとビームスプリッタ15の面15Aとの間の約76.2mmの距離を含み得る。折り返し鏡14の面14Aとビームスプリッタ15の裏面との間の間隔は、約146.6mmである。面14Aとビームスプリッタ15の裏面との間の中心からの仮想参照面27のオフセットは、約1.3mmである。キャビティにおける検査面6A又は仮想参照面27に最も近い光学面は、ビームスプリッタ15の裏面である。裏面上におけるわずかに楕円形の結像光束占有面積は、約3.6mm×3.9mmの広がりを有する。他の実施例も可能である。例えば、幾つかの実施例では、結像NA及び/又は測定領域は、より大きい又は小さい値に合わせられる。参照光の屈折角は90度として示すが、屈折角は、キャビティの略二等辺三角形を維持しつつ、変えることができる。或る実施例では、調整チャネル5は、追加のビームスプリッタを用いて、照明器3とキャビティ2との間で移動される。傾斜板による結像収差を無視又は補償し得る場合、撮像アーム4は、調整チャネル5の位置に配置し得る。更に、光学的構成は、部品の数を低減するために又は製造を簡素化するために再配置し得る。例えば、幾つかの実施例では、ビームスプリッタ9及び補償器12は、単一の要素に組み合わせることができる。干渉計システム1を組み込んだ例示的な測定システムを図3に示すが、この場合、要素付番は、図1の要素付番と一致する。干渉計システム1は、走査メカニズム34によって機器フレーム32に取り付けられる。走査メカニズム34は、図面の面において垂直な方向であるz方向の運きを制御する。走査メカニズム34は、制御コンピュータ35に接続され、また、これに限定するものではないが、圧電変換器を含み得る。試験片6は、調整可能な試験片ホルダ33上において検査光11中に置かれる。この試験片ホルダ33は、試験片のx、y、及びz位置並びにチップ及びチルトを調整することが可能であるが、ここで、x及びy方向は、図面の面に対して垂直な面にある。試験片の調整は、手動で又はコンピュータ35の制御下で実施し得る。調整がコンピュータ35の制御下で実施される場合、運動軸は、モータ駆動することが可能であり、この場合、試験片ホルダ33は、コンピュータ35から制御信号を受信する。干渉計システムにおける2つのカメラ、即ち、干渉像検出器25及び調整検出器30からの出力信号は、制御コンピュータに送信され、解析されて、ユーザに表示される。追加の制御ラインは、コンピュータ35を干渉計システムに接続し、例えば、照明器3における光レベル及びスペクトル選択の制御、照明器3における視野絞り22又は調整視野絞り22Aの選択、及び参照光ブロック31の制御等の補助機能の制御を行う。表面トポグラフィ測定の場合、検査面6Aと干渉計システム1との間の距離は、走査メカニズム34によって線形的に変えることができる。この動きの間、干渉像検出器25からの像データが、コンピュータ35に取り込まれ、データ処理されて表面マップが得られる。選択可能な光帯域幅を有する照明器3を備え完全に補償された干渉計システム1は、狭帯域光による位相シフトモードでデータを取り込むことが可能であり参照文献、例えば、K.Freischlad、C.L.Koliopoulos、デジタル位相計測のフーリエ記述Fourierdescriptionofdigitalphase-measuring、J.OpticalSocietyofAmericaA7,5421990、本明細書においてその全体を引用し参照する、また、広帯域光による白色光走査モードでデータを取り込むことが可能である参照文献、例えば、L.Deck、P.deGroot、走査白色光干渉法に基づく高速非接触プロファイラHigh-speednoncontactprofilerbasedonscanningwhite-lightinterferometry、AppliedOptics33,73341994、本明細書においてその全体を引用し参照する。また、白色光走査モードで取り込まれたデータは、表面トポグラフィばかりでなく、薄膜コーティングを有する検査面の膜特性を求めるためにも用い得る参照文献、例えば、米国特許No.7321431号明細書、本明細書においてその全体を引用し参照する。測定システムの異なる構成を実現することができる。z調整作動装置は、試験片ホルダ33内の代わりに、干渉計システム1が機器フレーム32に搭載される場所に配置されてもよい。他の選択肢として又は更に、走査メカニズム34は、機器フレームへの干渉計システム1の取り付け台の代わりに、試験片ホルダ33に配置されてもよい。短い走査の場合、折り返し鏡14は、走査アクチュエータに搭載できる。この場合、検査光と参照光との間の経路差は、干渉計システム1全体又は試験片6を動かすことなく変更される。一般的に、被験物体に関する情報は、コンピュータ又は電子プロセッサを含む他のハードウェアを用いて、干渉法データから決定し得る。一般的に、干渉法データの解析は、ソフトウェア、ハードウェア又は両者の組合せで実現し得る。これらの方法は、本明細書に述べた方法及び図に従って標準のプログラミング技法を用いて、コンピュータプログラムで実現し得る。プログラムコードは、入力データに適用され、本明細書に述べた機能が実施され、出力情報が生成される。出力情報は、ディスプレイモニタ等の1つ又は複数の出力装置に適用される。各プログラムは、高級手続き型言語又はオブジェクト指向プログラミング言語で実現され、コンピュータシステムと通信が可能である。しかしながら、プログラムは、望まれる場合、アセンブリ又は機械言語で実現し得る。いずれにせよ、言語は、コンパイラ又はインタープリタ言語であってよい。更に、プログラムは、その目的のために事前にプログラムされた専用の集積回路上で走らせることができる。そのような各コンピュータプログラムは、好適には、汎用又は専用のプログラム可能なコンピュータによって読み取り可能な記憶媒体又は装置例えば、ROM又は磁気ディスクに記憶され、その記憶媒体又は装置がコンピュータによって読み出されると、コンピュータを構成し動作させて、本明細書に述べた手順を実施させる。コンピュータプログラムは、更に、プログラム実行中、キャッシュ又は主記憶装置に常駐し得る。解析方法は、更に、コンピュータ判読可能記憶媒体として実現され、コンピュータプログラムで構成可能であり、この場合、そのように構成された記憶媒体によって、コンピュータが、特定の又は所定の方法で動作して、本明細書に述べた機能を実施する。実施形態は、被験物体に関する情報を求めるための干渉システム及び方法に関する。適切な干渉システム、電子処理システム、ソフトウェア、及び関連する処理アルゴリズムに関する追加の情報は、US-2005-0078318-A1、表題干渉計による表面解析のための方法とシステム及び関連応用例METHODSANDSYSTEMSFORINTERFEROMETRICANALYSISOFSURFACESANDRELATEDAPPLICATIONS、US-2004-0189999-A1、表題走査干渉法を用いた複雑な表面構造のプロファイリングPROFILINGCOMPLEXSURFACESTRUCTURESUSINGSCANNINGINTERFEROMETRY、及びUS-2004-0085544-A1、表題薄膜構造の特徴付けを含む、楕円偏光法、反射測定法、光波散乱計測のための干渉法INTERFEROMETRYMETHODFORELLIPSOMETRY,REFLECTOMETRY,ANDSCATTEROMETRYMEASUREMENTS,INCLUDINGCHARACTERIZATIONOFTHINFILMSTRUCTURESとして発行された共有米国特許出願に開示されており、これらの内容は、本明細書に引用参照する。他の実施形態は、以下の請求項の範囲内にある。"