"被検面の形状を計測する面形状計測装置であって、光源からの光を参照光と被検光とに分割して、前記被検光を前記被検面に照射する計測ヘッドと、前記計測ヘッドを収納する収納部と、前記光源からの光を前記計測ヘッドへ入射させ、前記被検面に対する前記被検光の入射角度を変える変更部と、前記被検面で反射され前記計測ヘッドに戻ってくる前記被検光と、前記参照光との干渉光を検出する検出部と、前記計測ヘッドの位置を計測する位置計測部と、前記検出部の検出結果および前記位置計測部の計測結果を用いて前記被検面の形状を求める処理部とを備え、前記変更部は、前記光源からの光を前記計測ヘッドの収納部の外側から前記計測ヘッドに入射させ、前記光源からの光が前記計測ヘッドに入射する位置を変えることによって前記入射角度を変えることを特徴とする面形状計測装置。前記計測ヘッドの傾き角度を計測する傾き計測部を有し、前記処理部は、前記傾き計測部の計測結果も用いて前記被検面の形状を求めることを特徴とする請求項1に記載の面形状計測装置。前記計測部は、前記計測ヘッドに入射した後に前記計測ヘッド内の光学素子で反射された光を検出することによって前記傾き角度を計測することを特徴とする請求項2に記載の面形状計測装置。前記計測部は、前記計測ヘッドを支持する支持部材の複数箇所の位置を計測することによって前記傾き角度を計測することを特徴とする請求項2に記載の面形状計測装置。前記計測ヘッドからの光の集光点を基準点とし、前記検出部の検出結果を用いて、前記基準点と前記被検面との間の距離を求め、前記処理部は、前記基準点の座標をs,t,u、前記基準点から前記被検面までの距離をq、前記被検面上の点の座標をx,y,zとした場合、に基づいて前記被検面の形状を求めることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の面形状計測装置。前記計測ヘッドからの光の集光点を基準点とし、前記検出部の検出結果を用いて、前記被検面から前記基準点への法線の方位を求め、前記処理部は、前記基準点の座標をs,t,u、前記被検面から前記基準点への単位法線ベクトルをαβγ、前記被検面上の点の座標をx,y,z、q0を定数としたときに、に基いて前記被検面の形状を求めることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の面形状計測装置。光源からの光を参照光と被検光とに分割して、前記被検光を被検面に照射する計測ヘッドと、前記計測ヘッドを収納する収納部とを備える計測装置を用いて、前記被検面の形状を計測する面形状計測方法であって、前記光源からの光を前記計測ヘッドへ入射させ、前記被検面に対する前記被検光の入射角度を変える変更ステップと、前記被検面で反射され前記計測ヘッドに戻ってくる前記被検光と、前記参照光との干渉光を検出する検出ステップと、前記計測ヘッドの位置を計測する位置計測ステップと、前記検出ステップの検出結果および前記位置計測ステップの計測結果を用いて前記被検面の形状を求めるステップとを備え、前記変更ステップにおいて、前記光源からの光を前記計測ヘッドの収納部の外側から前記計測ヘッドに入射させ、前記光源からの光が前記計測ヘッドに入射する位置を変えることによって前記入射角度を変えることを特徴とする面形状計測方法。光学素子の製造方法であって、請求項1に記載の面形状計測装置を用いて前記光学素子の被検面の面形状を計測するステップと、該計測された面形状のデータを用いて、前記被検面を加工するステップとを有することを特徴とする製造方法。特許文献1に記載された装置では、微小開口から被検面に球面波を照射して、被検面からの反射光を検出することによって、被検面の形状を求めている。被検面に照射する光の照射範囲が広いと、被検面の法線方向に反射して微小開口を通して戻ってくる光以外の光がノイズの原因となるばかりでなく、光の利用効率に優れない。そのため、被検面に放射する光は、被検面の狭い範囲のみに照射するのが望ましい。そこで、その球面波の一部に相当する細い光線束を被検面に照射し、光線束移動機構により被検面上の球面波が入射する領域をその細い光線束で走査することが考えられる。しかし、その細い光線束を走査するには、何らかの光学素子等を移動させるための駆動機構が必要となる。その駆動機構を計測ヘッド内に設けると、その駆動源の発熱によって計測ヘッド内の光学素子の温度変化または空気揺らぎにより、計測誤差の要因となり、計測精度を悪化させるという問題を生ずる。そこで、本発明は、上記の課題認識を契機としてなされたものであり、被検面の形状を高精度に計測することができる面形状計測装置を提供することを目的とする。本発明の1つの側面は、被検面の形状を計測する面形状計測装置であって、光源からの光を参照光と被検光とに分割して、前記被検光を前記被検面に照射する計測ヘッドと、前記計測ヘッドを収納する収納部と、前記光源からの光を前記計測ヘッドへ入射させ、前記被検面に対する前記被検光の入射角度を変える変更部と、前記被検面で反射され前記計測ヘッドに戻ってくる前記被検光と、前記参照光との干渉光を検出する検出部と、前記計測ヘッドの位置を計測する位置計測部と、前記検出部の検出結果および前記位置計測部の計測結果を用いて前記被検面の形状を求める処理部とを備え、前記変更部は、前記光源からの光を前記計測ヘッドの収納部の外側から前記計測ヘッドに入射させ、前記光源からの光が前記計測ヘッドに入射する位置を変えることによって前記入射角度を変えることを特徴とする。本発明によれば、被検面の形状を高精度に計測することができる。以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。本発明に係る面形状計測装置は、例えば、カメラ、複写機、望遠鏡、露光装置などに用いられるレンズ、ミラー、金型などの物体の滑らかに連続した面形状を計測するために好適である。まず、面形状計測装置の基本原理について説明する。図1に、被検面10に対して移動可能な計測ヘッド110を用いて被検面10の面形状を計測する場合の図を示す。説明を簡単にするため、計測ヘッド110は球面波を放射し、その球面波の中心を基準点Fとする場合を示している。基準点は計測ヘッドに対して定められた位置にあり、計測ヘッドの位置を後述の位置計測部を用いて計測することにより、基準点の位置が検出される。s,t,uは、計測ヘッド110から放射される球面波の中心すなわち基準点Fの座標である。点Cは点Fs,t,uを中心とする球面波が被検面10において反射して基準点Fに戻っていく、被検面10上の点であり、点Cの座標をx,y,zとする。qは、点Cと点Fとの間の距離であり、点Fから被検面10へ引いた垂線の長さでもある。n=α,β,γは、被検面10の点Cにおける単位法線ベクトルである。面形状計測装置は、計測ヘッド110を走査しながら基準点Fの位置座標と距離qを計測し、その結果から被検面10上の点Cの座標群、即ち、面形状を決定する。点Cx,y,zは、点Fs,t,uを中心とする半径qの球面上にあるから、式1が成り立つ。ここで、式1の両辺を、s,t,uで偏微分すると、式2が得られる。単位法線ベクトルの性質により、α=∂q/∂s、β=∂q/∂t、γ=∂q/∂uであるから、式2は、式3、4のようにベクトル形式で表現することができる。式4を使うことにより、計測ヘッド110の基準点Fの位置s,t,uと、距離qとから、単位法線ベクトルαβγが得られる。それを式3に代入することにより、被検面10上の点Cの座標群xyz、即ち被検面10の面形状を求めることができる。したがって、計測ヘッド110の基準点Fの位置と距離qとを計測することにより被検面10の面形状を求めることができる。なお、離散的な計測データの処理においては、偏分は差分として扱われるので、式4は、差分形式である式5と等価である。また、面形状計測装置は、計測ヘッド110を走査しながら点Fの座標と、単位法線ベクトルn=α,β,γを計測し、その結果から被検面10上の点Cx,y,zの座標群、即ち、面形状を決定してもよい。式4は、積分形式で式6として表すことができる。ただし、q0は積分定数である。したがって、計測ヘッド110の基準点Fの位置s,t,uと、点Cから基準点Fへ向けての単位法線ベクトルαβγとから、式6により距離qが得られる。求められた距離qを式3に代入することによって、被検面10上の点Cの座標群xyz、即ち被検面10の面形状を求めることができる。このように、面形状計測装置は、基準点と被検面との間の距離、または、被検面から基準点への法線の方位を計測する第2計測部を有する。上述のように、被検面に照射する光は、被検面の狭い範囲のみに照射するのが望ましい。そこで、本実施形態では、その球面波の一部に相当する細い光線束を被検面に照射し、光線束移動機構により被検面上の球面波が入射する領域をその細い光線束で走査する。しかし、その細い光線束を走査するには、何らかの光学素子等を移動させるための駆動機構が必要となる。その駆動機構を計測ヘッド内に設けると、その駆動源の発熱によって計測ヘッド内の光学素子の温度変化または空気揺らぎにより、計測誤差の要因となり、計測精度を悪化させるという問題を生ずる。そのため、本実施形態では、駆動機構を計測ヘッドから離して別体に設けて、駆動源の発熱による影響を避ける構造とする。ただし、光線束移動機構と計測ヘッドが離れると、光線束移動機構と計測ヘッドの支持部材の振れにより、光線束移動機構を通過した光線束が計測ヘッドへ一定の入射角で入射せず、ズレが起こり、計測誤差要因となるという問題がある。そのため、本実施形態では、計測ヘッドと光線束移動機構とを離して別体に設け、計測ヘッドの傾き角を検出し、計測誤差が生じないように、傾き角による基準点の位置変化を補正する。図2は、第1実施例における面形状計測装置の概略構成の断面図である。図2aは正面図、図2bは側面図である。図2aは図2bにおけるBB ́断面図、図2bは図2aにおけるAA ́断面図である。本実施形態に係る面形状計測装置は、ベース定盤101と、ベース定盤101によって支持された基準フレーム102と、基準フレーム102に取り付けられた基準平面ミラー103~105とを備えている。基準平面ミラー103は計測ヘッド110のx位置を計測するためのミラーである。基準平面ミラー104は計測ヘッド110のy位置を計測するためのミラーである。基準平面ミラー105は計測ヘッド110のz位置を計測するためのミラーである。ベース定盤101によって支持されたワークホルダー106は、被検面10を有する被検物を保持する。面形状計測装置は、更に、計測ヘッド110を走査する走査機構として、Xスライド107支持部材、Yスライド108支持部材、Zスライド109支持部材を含むXYZステージ機構を備えている。計測ヘッド110は、計測ヘッドを収納する筺体収納部を介してZスライド109に支持されている。Zスライド109は支持点119でXスライド107で支持され、不図示の駆動機構によりz軸方向に駆動される。Xスライド107は、Yスライド108に搭載されており、不図示の駆動機構によりx軸方向に駆動される。Yスライド108は、ベース定盤101に搭載されており、不図示の駆動機構によりy軸方向に駆動される。これにより、計測ヘッド110と被検面10との相対位置は3次元で変更可能である。ヘテロダイン干渉測長のための2周波数発振レーザー1から射出された光は、偏波面保存ファイバー2により、ファイバー入力コリメータ3に導光される。コリメータ3より出射された光は、Yスライド108に取り付けられたミラー80、Xスライド107に取り付けられたミラー81、ミラー82不図示、83、84で反射される。ミラー84で反射された光は、Zスライド109に取り付けられたミラー85、86で反射され、Zスライド109に取り付けられた無偏光ビームスプリッタ87、88によりレーザー干渉計116、117、118へ導光される。ここで、レーザー干渉計116、117、118は、計測ヘッド110のx位置、y位置、z位置の計測用の干渉計位置計測部である。レーザー干渉計116、117、118で得られる干渉信号は、不図示の光ファイバーを通して信号処理ユニット7に送信される。Xスライド107、Yスライド108、Zスライド109は、XYZステージ制御ユニット8によって制御される。面形状計測装置は、当該面形状計測装置のxyz座標系の原点を定める原点ユニット121を備えている。原点ユニット121は、その内部に不図示の凹球面を有し、その球面の曲率中心が面形状計測装置のxyz座標系の原点とされている。図2aに示すコンピューター処理部9は、計測ヘッド110の走査経路を設定する機能、計測データ群を取得する機能、被検面10の面形状を3次元座標群として求める機能を含む。また、走査経路の座標を校正する機能、被検面10の面形状の計測結果を補正する機能を含む。コンピューター9は走査経路を表す座標群を生成し、XYZステージ機構の制御ユニット8は、その座標群に基づいて、XYZステージ機構における不図示の駆動機構を制御して計測ヘッド110を走査経路に沿って走査する。コンピューター9は、信号処理ユニット7を介して走査経路における計測ヘッド110からの距離情報qとレーザー干渉計116、117、118からの計測ヘッド110の位置情報を取得する。また、コリメータ219図3参照からの計測ヘッド110の傾斜情報傾き角度を取得し、これらを計測データ群として取得する。コンピューター9は、これらの計測データ群を用いた演算処理を行い、被検面10の面形状を3次元座標群として求めたり、走査経路の座標を校正したり、被検面10の面形状の計測結果を補正したりする。次に、計測ヘッド110と、計測ヘッド110とは別体に設けられた投受光部120を説明する。図3は、主に計測ヘッド110と投受光部120を示す概略断面図である。図3aは正面図、図3bは上面図である。なお、別体とは、投受光部120が、計測ヘッド110を収納する収納部の外側に設けられていることを意味し、例えば、計測ヘッド110と投受光部120とが別々の筺体内に設けられていることを含む。計測ヘッド110と投受光部120とはトワイマングリーン型の干渉計を構成している。レーザー光源4は、ヘテロダイン干渉測長のための2つの光線束これらは、偏光方向が互いに直交し、周波数が互いに僅かに異なるを同一光路上に出射する。また、レーザー光源4は計測ヘッド110に提供する2つの光線束の周波数差によるビートを含む基準ビート信号を生成し、信号処理ユニット7に送信する。レーザー光源4からの光は偏波面保存ファイバー5により、投受光部120に取り付けられたファイバー入力コリメータ6に導かれる。投受光部120は、投受光部120を収納する筺体収納部を介してZスライド109に取り付けられ、Zスライド109がXスライド107に支持されている支持点119近傍に備えられている。そのため、XYZ方向各駆動時にかかる応力によるZスライド109の変形に起因する投受光部120の位置および角度の変化が抑えられる。コリメータ6から出射された光線束は、投受光部120内の透明な平行平板201、202を透過する。平行平板201はx軸回り、平行平板202はz軸回りに回転可能であり、平行平板201、202はそれぞれモータ213、214によって回転される。平行平板201、202を回転させることで、レーザー光源4からの光をZ方向とX方向に平行シフトすることができる。つまり、コリメータ6から出射された光線束を走査することができる。このように、投受光部120は、平行平板201、202、モータ213、214を用いて計測ヘッド110に入射する光の入射位置を変えることができる。これにより被検面10に対する光の入射角度を変える。平行平板201、202、モータ213、214は該入射位置を変える変更部光線束移動機構を構成する。図示のように、計測ヘッド110と投受光部120とは別体に設けられている。平行平板202を透過した光は、Zスライド109のアーム先端に取り付けられた計測ヘッド110に導かれる。計測ヘッド110に入射した光は、ビームスプリッタ216により分割され、ビームスプリッタ216で反射した光はミラー217によって更に反射され、投受光部120に戻る。ハーフミラー216とミラー217の反射面はz軸回りに90度の角度をなすように設置されており、z軸回りには入射光と戻り光の平行が保たれる。x軸回りには、入射光線束に対して、計測ヘッド110の傾きに応じてその2倍の角度をなして反射光が戻るように構成されている。投受光部120に戻った光は、平行平板202とz軸回りに反対方向に同じ角度だけ回転するように構成された平行平板218によって、平行平板202によって平行シフトした方向に同じ量だけ戻される。平行平板202を透過した光は平行平板201に入射し、出射光が平行シフトしたのと同じ量だけ戻され、コリメータ219に入射する。コリメータ219はCCDなどの二次元撮像素子を有し、光が入射した位置や光の強度分布を検出することができる。二次元撮像素子で検出された信号を用いれば光の入射角度も求めることができる。上記構成により、コリメータ6を出射した光に対して、計測ヘッド110のx軸回りの傾き角を求めることができる。このように、計測ヘッド110は、計測ヘッド110の傾き角度を計測する傾き計測部を有する。一方、ビームスプリッタ216を透過した光は、偏光ビームスプリッタ203に入射する。偏光ビームスプリッタ203に入射した光のうちP成分が透過し、S成分が反射して、互いに直交する偏光方向をもつ直線偏光光に分かれる。偏光ビームスプリッタ203を透過した光参照光は参照面204側へ進み、偏光ビームスプリッタ203で反射した光被検光は被検面10側へ進む。参照面204へ進んだ光はλ/4板220で円偏光に変換されて参照面204で反射され、再びλ/4板220を透過して直線偏光に変換されて偏光ビームスプリッタ203に戻る。偏光ビームスプリッタ203に戻ってきた光は偏光ビームスプリッタ203に対してS成分の直線偏光となっているので、偏光ビームスプリッタ203で反射して反射プリズム205側へ進む。一方、偏光ビームスプリッタ203で反射して被検面10側へ進んだ光は、λ/4板209で円偏光に変換されて対物レンズ210に入射する。対物レンズ210に入射した光は、対物レンズ210の集光点211点Fを曲率中心とする球面波球面波の一部を構成し、被検面10で反射される。被検面10で反射した光のうち、被検面10の法線方向に反射して点Fに戻っていく光が被検光として対物レンズ210に再度入射し、λ/4板209へ戻る。λ/4板209へ戻ってきて、λ/4板209を透過した光は、偏光ビームスプリッタ203に対してP成分の直線偏光となっているので、透過して反射プリズム205側へ進む。参照面204で反射された参照光と被検面10で反射された被検光は干渉光となり、反射プリズム205およびミラー216、217により投受光部120に戻される。投受光部120へと戻された干渉光は、再び平行平板202、201を透過し、出射光が平行シフトされた量と同じ量だけ戻される。そして、集光レンズ206および遮蔽部材207の開口を経て、干渉信号検出ユニット208検出部に至り、測定ビート信号干渉信号が検出される。干渉信号検出ユニット208は、CCD等の二次元の光強度分布を検出できる光電変換素子を有する。干渉信号検出ユニット208で検出された信号検出結果は、不図示のケーブルを介して信号処理ユニット7に送信される。信号処理ユニット7において、レーザー光源4からの基準ビート信号と、干渉信号検出ユニット208からの測定ビート信号との周波数差を積分することにより、参照光参照面204と被検光被検面10との光路長差の変化が検出される。集光レンズ206の集光点は、対物レンズ210の集光点211点Fと共役な関係を有する。遮蔽部材207には開口が設けられ、集光レンズ206の集光点およびその近傍に集光してきた光のみを通過させる。これにより、被検面10で反射された光のうち被検面10の法線方向に反射して点Fに戻ってくる光のみが干渉信号検出ユニット208に入射する。そのため、参照光と被検光との光路長差の変化は、点Fからの光が反射して点Fに戻っていく被検面10上の反射位置点Cと、集光点211点Fとの光路長の変化と等価である。したがって、点Cと点Fとの距離qを検出することができる。なお、遮蔽部材207を集光レンズ206と干渉信号検出ユニット208との間に配置することにより、集光点211には部材を配置しないので、計測ヘッド110の走査範囲を広くすることができる。点Fs,t,uの座標は、レーザー干渉計116、117、118、及びコリメータ219を使って計測される。点Cx,y,zと点Fs,t,uとの距離qは、投受光部120及び計測ヘッド110を使って計測される。前述のとおり、被検面10上の点Cx,y,zは、式3、4、5のように表現することができる。計測ヘッド110を走査経路に沿って走査しながらレーザー干渉計116、117、118、及びコリメータ219によって点Fの位置を計測する。その計測とともに、投受光部120及び計測ヘッド110からなる距離計測系によって距離qを計測する。そして、式3、4、5に従って、被検面10上の点Cの座標群、即ち面形状を求めることができる。計測ヘッド110を走査経路に沿って走査しながら、レーザー干渉計116、117、118、及びコリメータ219によって点Fs,t,uの位置を計測する。その計測とともに、投受光部120及び計測ヘッド110からなる距離計測系によって距離qを計測することによって、次のような計測データ群が得られる。なお、添え字として付された1、2、、j、、Nは、データの番号を意味する。このデータ群のうち、j番目の計測点における単位法線ベクトルnj=αj,βj,γjを、次のようにして求めることができる。j番目の点の近傍に位置する計測点として、j番目の計測点を含めてk1個の計測点を選ぶ。このとき、k1個の計測点のうち少なくとも3点は同一直線上には並ばないように選ぶ。選んだ各計測点において、前述の式5の関係を適用して次の連立方程式が得られる。ただし、である。また、単位法線ベクトルの性質から、である。式6は、前記計測点の選び方により、2以上の独立な行を含む。したがって、式7の条件のもとに式6へ最小二乗法を適用して、j番目の計測点における単位法線ベクトルnj=αj,βj,γjを決定することができる。この結果を式3に適用することにより、j番目の計測点における被検面10の座標Cjxj,yj,zjが次のように定まる。これを各計測点について行うことにより、被検面10の面形状を表す座標点の集合を式12のように決定することができる。ここで、レーザー干渉計116、117、118、及びコリメータ219によって、計測ヘッド110の基準点Fs,t,uを計測する方法について説明する。通常、レーザー干渉計は、インクリメンタル型の測長計であるから、原点からの変位量を検出することにより位置を計測する。本実施形態では、原点を提供する構成として原点ユニット121が使用される。原点ユニット121により提供される面形状計測装置の原点に計測ヘッド110が放射する球面波の中心すなわち基準点Fを一致させ、そのときにレーザー干渉計116、117、118、及びコリメータ219によって提供される値を原点に対応する値とする。図4を参照してより詳細に説明すると、原点ユニット121に備えられている凹球面122の曲率中心が面形状計測装置の原点123である。この原点123と計測ヘッド110から放射される球面波の中心すなわち基準点Fとが一致したとき、凹球面122で反射された光線束が全て計測ヘッド110に戻るので、信号処理ユニット7に提供される測定ビート信号の振幅は最も強いものとなる。測定ビート信号の振幅が最大になる位置をもって、原点ユニット121により提供される面形状計測装置の原点と計測ヘッド110の基準点Fとが一致していると判断することができる。これにより、レーザー干渉計116、117、118の計測値が、基準点Fの座標s、t、uを与えることになる。ここで、計測ヘッド110の傾き角度を考慮した、基準点Fs、t、uの位置の求め方について、図5を使って説明する。対物レンズ210の光軸と入射光線束が平行である場合の集光位置を原点とし、装置座標のXYZ各軸に対応したstu座標を考える。焦点距離がfである対物レンズ210の光軸に対して、stu座標及び計測ヘッド110への入射光線束130に対して、計測ヘッド110がs軸回りに角度θs傾くと、角度θsはコリメータ219によって検出される。対物レンズ210は計測ヘッド110内に固定されているから、計測ヘッド110と同じ傾きとなる。計測ヘッド110及び対物レンズ210がstu座標原点を中心にs軸回りにθs回転した座標系をs’t’u’座標と定義する。計測ヘッド110に入射した光線束130は、計測ヘッド110内のミラー205で反射され、u軸となす角は2θsとなるから、対物レンズ210の光軸に対する入射角はθsとなる。対物レンズ210の光軸と対物レンズ210への入射光が平行である場合の集光点124に対して、入射光がθsだけ傾いて入射した時のt’方向への集光位置のズレ量δt’は次式で表される。対物レンズ210の光軸と対物レンズ210への入射光が平行である場合の集光点124の座標s、t、u又はs’、t’、u’に対して、入射光がθsだけ傾いて入射した時のs’t’u’座標上での集光点の座標はs’、t’δt’、u’となる。これをstu座標に座標変換が必要で、s軸回りの座標変換は次式で表わされる。以上から、stu座標上の集光点の座標は、となり、これが基準座標となる。次に、計測ヘッド110によって、計測ヘッド110から放射される球面波の中心点すなわち基準点Fと、基準点Fからの光が被検面10において法線方向に反射して基準点Fに戻っていく点Cとの距離qを計測する方法を説明する。計測ヘッド110も、インクリメンタル型の測長計を構成している。そこで、基準点Fと点Cとの距離qが分かっている状態で計測ヘッド110から提供される値が基準とされる。そして、その値からの変化量を変位量に換算することにより距離qを計測することができる。図6a、bを参照してより詳細に説明する。図6aは、基準点Fが被検面10上の点と一致するように計測ヘッド110を位置決めした状態を示している。このとき、距離qはゼロである。また、この状態において計測ヘッド110から放射される球面波は、頂点反射の状態いわゆるキャッツアイの状態で、被検面10により反射されるので、計測ヘッド110に戻る光線束が最も多い。したがって、信号処理ユニット7に提供される測定ビート信号の振幅は最も強いものとなる。測定ビート信号の振幅が最大になるときの計測値を基準点Fと点Cとの距離qの基準値Q0として決定することができる。図6bは、図6aの状態から、計測ヘッド110を走査して、他の位置へ移動させた状態を示している。前述の如く、計測ヘッド110は、基準点Fと点Cとの間の光路長の変化を計測する構成を有する。したがって、このときの読み値をQとすると、求める距離qはq=Q-Q0となる。以上のように、計測ヘッド110を走査しながら、計測ヘッド110の基準点Fの位置と、基準点Fから被検面10までの垂直距離qとを計測することにより、被検面10の面形状を計測することができる。なお、計測ヘッドプローブを走査して形状を計測する面形状計測装置においては、計測ヘッドが小型であり、軽量であることが望ましい。計測ヘッドが小型であることは、計測装置において計測ヘッドが占める空間を小さくし走査可能範囲を広くすることに寄与する。また、計測ヘッドが軽量であることは、計測ヘッドの移動により計測装置の構造体へ偏加重がかかることによる構造体の微小な変形を少なくし計測精度を安定化するために寄与する。そのため、本実施形態によれば、被検面で反射して点Fに戻ってくる光線束の角度方位、または、基準点Fと点Cとの距離qを検出するための検出器を計測ヘッドとは別に設けることによって、計測ヘッドの構成が簡素化される。ただし、基準点と被検面との間の距離を検出するための検出器、および、被検面から基準点への法線の方位を検出するための検出器を、投受光部120内または計測ヘッド110内に設けてもよい。更に、被検面に照射する光を、被検面の狭い範囲のみに照射するようにしたことよって、被検面で反射して点Fに戻る以外の光を減少させることができ、光の利用効率に優れる。また、その細い光線束を走査する機構を計測ヘッドから離して設置したことで、対物レンズ、光学系の温度変化、空気揺らぎによる計測系のエラー要因を低減することができる。更に、光線束の走査を、平行平板を回転させることで行うようにしたことで、回転軸の振動等による平行平板の位置変化及び角度変化に起因する光線束の角度変化を生じることが無い。そして、光線束を走査する機構を計測ヘッドから離して設置したことによる誤差因子の増加が抑えられる。また、計測ヘッドの傾き角度を検出し、検出された角度を用いて被検面の面形状計測の基準位置に反映する。そのため、計測ヘッドと投受光部が離れていて計測ヘッド走査時の振動等による振れがあっても、計測精度の劣化を抑えることができる。つまり、被検面を高精度に計測することができる。次に、図7に基づいて本発明の第2実施形態の面形状計測装置について説明する。図7aは本実施形態における面形状計測装置の正面図、図7bは面形状計測装置のZスライド109の上面図である。第1実施形態の面形状計測装置では、計測ヘッドおよび投受光部を用いて計測ヘッド110の傾き角度を検出するようにしていた。本実施形態の面形状計測装置では、レーザー干渉計118に導光される光を分岐し、z方向の位置を2点複数箇所で検知することにより、計測ヘッド110について、基準面に対するx軸回りの角度を検出できるようにしている。図7aに示すミラー86で反射され、干渉計118へと導かれる光は、無偏光ビームスプリッタ126で分岐され、レーザー干渉計127へと導かれる。レーザー干渉計118、127により、基準平面ミラー105を基準としたz位置を検出することができる。レーザー干渉計118、127で得られる干渉信号は、不図示の光ファイバーを通して信号処理ユニット7に提供される。他に、第1実施形態との差異は、図3bで示したハーフミラー216、ミラー217、平行平板218およびコリメータ219が不要な点である。他の構成は第1実施形態と同様であるため、説明は省略する。上記構成により、第1実施形態と同様の効果が得られ、更に光学ヘッド110を小型軽量化することができる。また、このように構成することで、基準点211と被検面10との距離または方位の測定に供される測定光を途中で分岐しないため、測定光の利用効率が向上する。なお、角度計測器として専用の光源を有するオートコリメータを支持点119近傍に設置し、計測ヘッド110の傾き角度を検知するようにしても上記と同様の効果が得られる。また、第1実施形態および第2実施形態においては、計測ヘッド110のx軸回りの傾き角度のみを検知するようにしているが、y軸回り、z軸周りの傾き角度回転角も検知できるように構成し、面形状計測の基準位置に反映してもよい。この場合、図8に示すように、装置座標であるXYZ座標系に対応し、対物レンズの光軸と対物レンズへの入射光が平行であるときの対物レンズの集光点を原点とした座標系stuを定義する。計測ヘッドの、stu各軸の2軸乃至3軸の傾きが検出できれば、極座標系で対物レンズの光軸傾き及び入射光の傾きθと方位φが分かり、集光点のstu各軸のズレ量δs、δt、δuは、対物レンズの焦点距離をfとし、次のように表すことができる。以上から、sδs、tδt、uδuが基準座標となる。このように構成し、計測ヘッドの傾き角度を検出し、面形状計測の基準位置に反映することで、計測ヘッド走査時の振動等による計測ヘッドの振れがあっても、計測精度の劣化を抑えることができる。次に、上述の実施例に記載の面形状計測方法または装置を用いた光学素子の製造方法について説明する。まず、上述の実施例に記載の面形状計測方法または装置を用いて、光学素子レンズやミラーなどの被検面の面形状を計測する。そして、該計測された面形状のデータを用いて、当該被検面を所望の面形状に加工することにより光学素子を製造する。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。"