対象面に対して画像を投影する画像投影部と、前記対象面を撮像する撮像部と、前記対象面に設定された検出エリアでの対象物の座標情報を求める座標演算部と、を含み、前記座標演算部は、前記撮像部からの撮像画像から得られるカメラ座標系での奥行き特定情報に基づいて、前記対象物の座標情報を求めることを特徴とする投写型表示装置。請求項1において、前記対象面に直交する座標軸をZ座標軸とし、前記撮像部の撮像方向が前記対象面に対して斜め方向となる場合に、前記座標演算部は、前記奥行き特定情報に基づいて、前記対象物のZ座標情報を求めることを特徴とする投写型表示装置。請求項2において、前記Z座標軸に直交する座標軸をX座標軸、Y座標軸とした場合に、前記座標演算部は、前記奥行き特定情報に基づいて、前記対象物のX座標情報及びY座標情報の少なくとも一方の補正処理を行うことを特徴とする投写型表示装置。請求項3において、前記座標演算部は、前記対象物の前記Z座標情報により表される値Zが、Z>0の場合に前記補正処理を行うことを特徴とする投写型表示装置。請求項3において、前記座標演算部は、前記対象物の前記Z座標情報により表される値Zが0の場合に前記補正処理をスキップすることを特徴とする投写型表示装置。請求項1において、前記対象面に直交する座標軸をZ座標軸とし、前記Z座標軸に直交する座標軸をX座標軸、Y座標軸とし、前記撮像部の撮像方向が前記対象面に沿った方向となる場合に、前記座標演算部は、前記奥行き特定情報に基づいて、前記対象物のY座標情報を求めることを特徴とする投写型表示装置。請求項6において、前記撮像部の光軸方向に沿った座標軸を前記カメラ座標系のZ座標軸とし、前記カメラ座標系のZ座標軸に直交する座標軸を前記カメラ座標系のX座標軸、Y座標軸とした場合に、前記座標演算部は、前記カメラ座標系でのX座標情報に基づいて、前記検出エリアでのX座標情報を求め、前記カメラ座標系でのY座標情報に基づいて、前記検出エリアでのZ座標情報を求めることを特徴とする投写型表示装置。請求項1乃至7のいずれかにおいて、前記撮像部は、複数のカメラを有し、前記座標演算部は、前記複数のカメラから取得された複数の撮像画像情報の視差情報に基づいて得られた前記奥行き特定情報により、前記対象物の前記座標情報を求めることを特徴とする投写型表示装置。請求項1乃至7のいずれかにおいて、前記撮像部は、デプスカメラを有し、前記座標演算部は、前記デプスカメラにより得られた前記奥行き特定情報に基づいて、前記対象物の前記座標情報を求めることを特徴とする投写型表示装置。請求項1乃至9のいずれかに記載の投写型表示装置と、前記投写型表示装置からの座標検出情報に基づいて処理を行う情報処理装置と、を含むことを特徴とする情報処理システム。近年、表示画像を表示し、当該表示画像とオブジェクト対象物との連携によりユーザーインターフェースを形成するシステムの要求が高まっている。例えば表示画像上の任意のマークをさわることにより、表示画像が切り替わる等の処理が行われる。そのため、このようなシステムでは対象物の位置検出手法が重要となってくる。また、撮像装置により取得した撮像画像に対して画像処理を行う手法が、精度の高い位置検出手法として知られている。しかしながら、表示面が大きい場合の画像の表示手段として想定されうる投写型表示装置プロジェクターと、撮像画像を取得する撮像装置との関係については特に考慮されていない。本発明の幾つかの態様によれば、表示画像を投影するとともに、撮像画像を取得することで、対象物の位置情報を検出することが可能な投写型表示装置及び情報処理システム等を提供することができる。本発明の一態様は、対象面に対して画像を投影する画像投影部と、前記対象面を撮像する撮像部と、前記対象面に設定された検出エリアでの対象物の座標情報を求める座標演算部と、を含み、前記座標演算部は、前記撮像部からの撮像画像から得られるカメラ座標系での奥行き特定情報に基づいて、前記対象物の座標情報を求める投写型表示装置に関係する。本発明の一態様では、対象面に対して画像を投影するとともに、対象面を撮像し、撮像画像から対象物の座標情報を求める。よって、画像の投影と対象物の位置情報の検出の両方の処理を行うことができるため、投影した表示画像と対象物とを連動させたユーザーインターフェースを形成すること等が可能になる。また、本発明の一態様では、前記対象面に直交する座標軸をZ座標軸とし、前記撮像部の撮像方向が前記対象面に対して斜め方向となる場合に、前記座標演算部は、前記奥行き特定情報に基づいて、前記対象物のZ座標情報を求めてもよい。これにより、奥行き特定情報に基づいて、対象物のZ座標情報例えば、対象面に対して直交する方向の軸における座標情報を求めることが可能になる。また、本発明の一態様では、前記Z座標軸に直交する座標軸をX座標軸、Y座標軸とした場合に、前記座標演算部は、前記奥行き特定情報に基づいて、前記対象物のX座標情報及びY座標情報の少なくとも一方の補正処理を行ってもよい。これにより、奥行き特定情報に基づいて、対象物のX座標情報及びY座標情報の少なくとも一方の補正処理を行い、より適切な対象物の座標情報を求めること等が可能になる。また、本発明の一態様では、前記座標演算部は、前記対象物の前記Z座標情報により表される値Zが、Z>0の場合に前記補正処理を行ってもよい。これにより、対象物が対象面に対して浮いている状況でのX座標情報又はY座標情報の真の値からのずれを補正することが可能になる。また、本発明の一態様では、前記座標演算部は、前記対象物の前記Z座標情報により表される値Zが0の場合に前記補正処理をスキップしてもよい。これにより、対象物が対象面に触れている状況では、不要な補正処理をスキップし処理負荷の軽減を図ることが可能になる。また、本発明の一態様では、前記対象面に直交する座標軸をZ座標軸とし、前記Z座標軸に直交する座標軸をX座標軸、Y座標軸とし、前記撮像部の撮像方向が前記対象面に沿った方向となる場合に、前記座標演算部は、前記奥行き特定情報に基づいて、前記対象物のY座標情報を求めてもよい。これにより、奥行き特定情報に基づいて、対象物のY座標情報例えば、対象面に沿った方向の軸における座標情報を求めることが可能になる。また、本発明の一態様では、前記撮像部の光軸方向に沿った座標軸を前記カメラ座標系のZ座標軸とし、前記カメラ座標系のZ座標軸に直交する座標軸を前記カメラ座標系のX座標軸、Y座標軸とした場合に、前記座標演算部は、前記カメラ座標系でのX座標情報に基づいて、前記検出エリアでのX座標情報を求め、前記カメラ座標系でのY座標情報に基づいて、前記検出エリアでのZ座標情報を求めてもよい。これにより、カメラ座標系でのX座標情報から、検出エリアでのX座標情報を求め、カメラ座標系でのY座標情報から、検出エリアでのZ座標情報を求めることができる。よって、撮像部の撮像方向が対象面に対して斜めに設定される場合に比べて、座標変換処理を簡単化すること等が可能になる。また、本発明の一態様では、前記撮像部は、複数のカメラを有し、前記座標演算部は、前記複数のカメラから取得された複数の撮像画像情報の視差情報に基づいて得られた前記奥行き特定情報により、前記対象物の前記座標情報を求めてもよい。これにより、複数のカメラにより複数の撮像画像を取得し、取得した複数の撮像画像の視差情報に基づいて奥行き特定情報を取得すること等が可能になる。また、本発明の一態様では、前記撮像部は、デプスカメラを有し、前記座標演算部は、前記デプスカメラにより得られた前記奥行き特定情報に基づいて、前記対象物の前記座標情報を求めてもよい。これにより、2眼等の複数のカメラを有する撮像装置を用いずに、奥行き特定情報を取得すること等が可能になる。また、本発明の他の態様は、上述の投写型表示装置と、前記投写型表示装置からの座標検出情報に基づいて処理を行う情報処理装置と、を含む情報処理システムに関係する。以下、本実施形態について説明する。なお、以下に説明する本実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また本実施形態で説明される構成の全てが、本発明の必須構成要件であるとは限らない。1.本実施形態の手法まず、本実施形態の手法について説明する。表示画像を表示し、当該表示画像とオブジェクト対象物との連携によりユーザーインターフェースを形成するシステムが知られている。これは例えば、鉄道乗車券の券売機や、銀行のATM等において用いられており、これらは液晶パネル等の表示装置と、タッチパネルによる対象物ユーザの指等の位置検出装置から構成される。しかしながら、電子黒板やデジタルサイネージ等においては、上述した例に比べて表示画像を表示する対象面が大きい。そのため、液晶パネル等の表示装置ではなく、投写型表示装置プロジェクターを用いることが想定される。その場合、投写型表示装置と位置検出装置とを別々に設けるのではなく、位置検出装置を投写型表示装置に搭載することが考えられる。そのようにすることで、省スペース化が実現でき、また、システム全体の設置、運用等が容易になる。ここでは、具体的な位置検出手法として、撮像装置による撮像画像の画像処理を用いる。例えば、検出対象となる対象物OBをテンプレートとして保持しておき、テンプレートマッチング処理を行うことで画像上での対象物OBの位置座標情報を取得する。そのため、撮像装置が実空間のどの範囲を撮像しているかということがわかっていれば、実空間における位置情報を取得することができる。つまり、本出願人は以下の手法を提案する。本実施形態に係る投写型表示装置PRは、後述する図1に示すように、表示画像を投影する画像投影部600の他に、撮像画像を取得する撮像部500と、撮像画像に基づいて対象物OBの座標情報を取得する座標演算部430とを含む。これにより、表示画像を投影するとともに、撮像画像から対象物OBの座標情報を取得することができる。そのため、例えば、表示画像と対象物OBとを連携させたユーザーインターフェースを形成すること等が可能になる。以下、具体的な実施形態について説明する。なお、本実施形態は撮像画像の画像処理による位置検出に関するものであるが、ここでは画像処理による位置検出に加え、光学式位置検出装置100を併用する実施形態を例としてあげる。なぜなら、画像処理による位置検出は処理負荷が重く、広い領域例えば電子黒板の表示面等をXGA程度の高精度で処理を行うことはコスト或いは処理時間の観点から現実的でないからである。具体的には、まず光学式位置検出装置100を用いて、対象物OBの概略的な位置初期座標情報を取得しておいて、その概略位置により特定される範囲に対して撮像装置による撮像画像を用いて画像処理を行う。このようにすれば、撮像画像の演算処理量、演算処理時間を抑えることが可能になり、コスト、応答速度ともに実用的なものにすることができる。ただし、以下の説明はあくまで例示であり、光学式位置検出装置100を用いずに位置検出処理を行ってもよいことは言うまでもない。以下、第1の実施形態と、第2の実施形態に分けて説明する。第1の実施形態では、投写型表示装置PRに搭載される撮像装置撮像部500の光軸方向が、対象面20に対して斜めになる場合について説明する。また、第2の実施形態では、投写型表示装置PRに搭載される撮像装置撮像部500の光軸方向が、対象面20に沿う方向になる場合について説明する。各実施形態においては、まず、光学式位置検出装置100と投写型表示装置PRを連動させた位置検出手法について説明する。具体的には、システム構成例、撮像装置の構成、初期座標情報の取得と処理対象範囲の設定手法、最終座標情報の取得手法の順に説明していく。撮像装置の構成のところで、各実施形態における撮像部500の対象面20に対する位置と方向について詳しく述べる。最後に、本実施形態の具体例で用いることができる光学式位置検出装置100の構成例について説明する。2.第1の実施形態2.1システム構成例図1に本実施形態の投写型表示装置PRの構成例を示す。本実施形態の投写型表示装置PRは、撮像部500と、光学式位置検出装置100からの処理機座標情報を取得する座標情報取得部410と、撮像部500からの撮像画像を取得する撮像画像取得部420と、座標演算処理を行う座標演算部430と、画像投影部600と、を含む。座標演算部430は、奥行き特定情報取得部431と、補正部433と、座標変換部435と、を含む。奥行き特定情報取得部431は、座標情報取得部410からの初期座標情報に基づいて、画像処理を行う対象となる範囲を限定した上で、撮像画像から奥行き特定情報を取得する。補正部433は、奥行き特定情報に基づいてX座標情報及びY座標情報の少なくとも一方の補正処理を行う。座標変換部435は、座標変換を行うことで、斜めからの撮像により歪みが生じた撮像画像の変換処理を行う。光学式位置検出装置100は座標情報取得部410に接続される。撮像部500は撮像画像取得部420に接続される。座標情報取得部410と、撮像画像取得部420は、奥行き特定情報取得部431に接続される。奥行き特定情報取得部431は、補正部433に接続される。補正部433は、座標変換部435に接続される。2.2撮像装置の構成次に、本実施形態における撮像装置の構成について説明する。図2に示したように、本実施形態においては、対象面20スクリーンに対して表示画像を投影する投写型表示装置PRプロジェクターに撮像装置が搭載される。また、本実施形態における撮像装置は、奥行き特定情報を取得可能な構成を取る必要がある。そのため、図2に示したように2つの撮像部500-1及び500-2が所定の距離だけ離れた位置に設けられ、視差情報或いはステレオ画像を取得することが可能な形態となる。それぞれの撮像部で取得される撮像画像の例を、図3A及び図3Bに示す。或いは2眼の撮像装置を用いずに、Time-of-flight方式等により奥行き情報を持った画像を取得可能な撮像装置を用いてもよい。次に、撮像部500の対象面20に対する位置と方向、及び対象面20に対して設定される座標系と撮像部500に対して設定される座標系について図4に示す。図4に示したように、投写型表示装置PRは、対象面20に対して前上方に設けられる。それとともに、投写型表示装置PRに搭載される撮像部500も、対象面20に対して前上方に設けられ、対象面に対して斜め方向に設置されることになる。これにより、撮像画像における対象面20の画像は図5Aに示したように歪むことになり、後述するように座標変換による歪み解消処理が必要となる。2.3初期座標情報の取得と処理対象範囲の設定本実施形態の手法においては、まず、光学式位置検出装置100を用いて、初期座標情報を取得する。例えば本実施形態においては、後述するような光学式位置検出装置100を用いて、対象物OBのX座標情報及びY座標情報を取得する。ここで、光学式位置検出装置100は、対象面20スクリーンに対して取り付けられてもよいし、投写型表示装置PRに取り付けられてもよい。そして、取得したX座標情報及びY座標情報を対象物OBの初期座標情報とする。この初期座標情報により特定される範囲を、撮像装置による位置検出を行う際の処理対象範囲とする。このようにして、例えば図6に示すように、撮像装置により得られた撮像画像に対する画像処理の対象範囲を、撮像画像全体図6のC2に対応よりも狭い範囲図6のC1に対応に限定することが可能となる。そのため、光学式検出手法等に比べて処理負荷の重い画像処理による検出手法を、現実的な処理時間、コストで実現することが可能になる。初期座標情報から、画像処理の処理対象範囲を特定する手法は種々考えられる。通常は、初期座標情報を含む範囲を設定すればよい。その際には、光学式位置検出装置による座標情報の誤差等が問題にならない程度に広く、かつ、処理負荷が重くなりすぎない程度に狭い領域を指定する。また、図7Aのように対象物OBが対象面20に触れていないような状況では、光学式位置検出装置による初期座標情報はA1に対応する座標となる。それに対して、撮像画像においては、あたかもA2の位置に対象物OBがあるように見える。つまり、撮像画像上では、初期座標情報に対してΔYだけY座標情報がずれることになる。よって、画像処理の処理対象範囲は、ΔYのずれを考慮して中心又は大きさ等を決定する必要がある点に留意する。2.4最終座標情報の取得次に、初期座標情報に基づいて画像処理の処理対象範囲が適切に設定された後に、撮像画像に対する画像処理により、対象物OBの最終座標情報を求める手法について説明する。なお、撮像装置は対象面全面を撮影するものとする。つまり、ここでは処理対象範囲を撮影するものではなく、全面を撮影した上で処理対象範囲のデータを取り込むことになるが、手法はこれに限定されるものではない。2.4.1Z座標情報に基づく補正まずは、撮像画像上での対象物OBの座標を求める。これは、公知の画像処理手法を用いればよい。例えば、対象物OBをテンプレートとしてテンプレートマッチング処理等を行う。これにより、撮像画像上でのX座標情報及びY座標情報を取得することができる。それとともに、Z座標情報を取得する。ここではまず、撮像装置のキャリブレーションを事前に行っておくものとする。ここでのキャリブレーションとは、図7AにおけるΔZ=0つまり図7Bのように対象面20に接している場合に、2つの撮像部図2の500-1及び500-2が取得する撮像画像において、対象物OBの位置が同一になるように設定しておく。つまり、図3Bにおいて、2つの撮像部の位置の違いに基づく視差画像のずれを表すδはΔZが0の時には0となり、ΔZが大きくなるほど大きくなるように設定されることになる。ここで、適切な係数AAは撮像装置の設計やキャリブレーション等により決定されるを設定すれば、ΔZの値は下式1により表される。ΔZ=Aδ1よって、δ=0の場合には、ΔZ=0となり、対象物OBが対象面20に触れていると判定することができる。この場合図7Bのような状態であるため、撮像画像によって得られたX座標情報及びY座標情報は、そのまま真のX座標情報及びY座標情報として用いることができる。それに対して、δ≠0の場合には、ΔZは上式1により求められる0でない値となる。その場合、図7Aのような状態となっているため、Y座標情報は真のY座標情報に比べてΔYだけずれていることになる。このとき、撮像装置及び撮像装置を搭載した投写型表示装置PRの設置位置と方向から、対象面20と撮像装置の光軸方向D1ここではPRの投射方向とほぼ一致するものとするが、これに限定されるものではないとのなす角度θは既知である。よって図よりΔYの値は下式2により求めることができる。ΔY=ΔZ/tanθ2よって、撮像画像から得られたY座標情報を上式2のΔYだけ補正した値が、真のY座標情報となる。なお、この場合X座標情報についての補正は必要ない。今回の座標設定においては、対象物OBが対象面20から浮いていようが触れていようが、X軸方向での位置に変化はないからである。もちろん座標系の設定によってはX座標情報について補正の必要が生じる場合があることは言うまでもない。2.4.2座標変換次に、撮像画像により得られたX座標情報、Y座標情報について、座標変換を行う。なぜなら、本実施形態における撮像画像は、図2のような位置から対象面20を撮像した画像であるため、図5Aに示したように、画像が歪んでしまっているためである。上述してきた撮像部500に対して設定されるX座標情報及びY座標情報は、あくまで、撮像画像上での座標情報であって、画像の歪みの分、実空間における座標情報とは一致しない。そのため、座標変換射影変換を行うことにより、歪みを解消し、実空間における適切な座標情報を求める必要がある。なお、撮像部500に対して設定される座標系及び対象面20に対して設定される座標系は図4に示した通りである。一般的な座標変換である射影変換の式を下式3に示す。下式3において、x’、y’が変換後の座標を表し、x、yが変換前の座標を表すものとする。各hは任意の係数である。射影変換を施した例を図8に示す。射影変換を行うことで、任意の四角形を別の任意の四角形に移すことが可能となる。つまり、図8に示したように、歪んだ撮像画像を歪みのない状態に戻すことができる。この際、係数hについては、キャリブレーション等により求めてもよい。つまり、対象面上の任意の点と、撮像画像上における対応する点との位置関係を求めることにより、射影変換の係数を設定することができる。このようにして求めた、座標変換後のX座標情報、Y座標情報及び、上述したZ座標情報ΔZが本実施形態の手法により求められる最終座標情報となる。以上の本実施形態では、図1に示したように、投写型表示装置PRは、対象面20に対して画像を投影する画像投影部600と、対象面20を撮像する撮像部500と、対象面20に設定された検出エリアでの対象物OBの座標情報を求める座標演算部430と、を含む。そして、座標演算部430は、撮像部500で取得した撮像画像から得られるカメラ座標系での奥行き特定情報に基づいて、対象物OBの座標情報を求める。これにより、表示画像を投影する投写型表示装置PRに撮像部500を搭載することができるため、表示画像の投影と、対象物OBの座標情報の取得の両方が可能になる。よって、表示画像と対象物OBの座標情報とを連動させたインターフェースを実現すること等ができる。ここでは特に、撮像部500はカメラ座標系における奥行き特定情報に基づいて対象物OBの座標情報を求める。これにより、対象物OBの3次元的な座標情報を求めることが可能になる。また、撮像部500の撮像方向光軸方向が、対象面20に対して斜め方向になる場合に、座標演算部430は、奥行き特定情報に基づいて対象物OBの検出エリア或いは対象面20に対して設定される座標系のZ座標情報を求めてもよい。検出エリアに対して設定される座標系のZ座標軸は、対象面に直交する座標軸とする。ここで、カメラ座標系とは、例えば図4に示したように撮像部500に対して設定される座標系のことであり、撮像部500の光軸方向をZ軸正方向とする。また、Z軸に垂直で、かつ、地面に対して水平な方向をX軸とし、X軸、Z軸に垂直な方向をY軸としている。ただし、座標系の設定方法はこれに限定されるものではない。また、最終的に求める対象物OBの座標情報とは、対象面20に設定された座標系における座標情報のことである。対象面20に設定された座標系は、例えば図4に示したように、対象面20の裏側から表側に向かい、かつ、対象面20に直交する方向をZ軸正方向とし、Z軸に直交し且つ地面に水平な軸をX軸とし、Z軸及びX軸に直交する軸をY軸とした座標系である。これにより、奥行き特定情報例えばカメラ座標系におけるZ座標情報等に基づいて、対象面20の座標系におけるZ座標情報を求めることが可能になる。具体的には、上述したように、ΔZを求める処理に相当する。また、座標演算部430は、奥行き特定情報に基づいて対象物OBのX座標情報及びY座標情報の少なくとも一方の補正処理を行ってもよい。具体的には、カメラ座標系での奥行き特定情報により求められた検出エリアでの座標系でのZ座標の値が、Z>0の場合は補正処理を行い、Z=0の場合は補正処理をスキップしてもよい。これにより、カメラ座標系での奥行き特定情報に基づいて、検出エリアでの座標系におけるX座標情報及びY座標情報の少なくとも一方の補正処理を行うことが可能になる。図7A、図7Bに示したように対象物OBが対象面20に接しているか浮いているかにより、処理が異なる。図7Aのように対象物OBが対象面20から浮いている場合には、撮像画像から得られるXY座標A1に比べて、実際のXY座標A2はΔYだけずれることになる。そのため、Z>0の場合には、このΔYだけY座標を補正する必要が生じる。それに対し、Z=0の場合には、ずれが生じないため補正も必要ない。なお、カメラ座標系から検出エリア座標系への座標変換処理は補正処理後に行われるものとするが、これに限定されるものではない。また、図2に示したように撮像部500は複数のカメラ500-1及び500-2を有し、座標演算部430は、複数のカメラから取得された複数の撮像画像の視差情報に基づいて得られた奥行き特定情報により、検出エリアでのZ座標情報を求めてもよい。ここで、視差とは、2観測地点での位置の違いにより対象点が見える方向が異なることを意味する。つまり、異なる位置に設けられた2つのカメラにより得られる2つの撮像画像においては、対象物OBの位置がずれることになり、ここでは視差情報とは当該画像のずれを表すものとする。これにより、複数のカメラを用いて取得した複数の撮像画像の視差情報に基づいて、検出エリアに設定された座標系でのZ座標情報を求めることが可能になる。具体的には図3A、図3B及び式1を用いて上述したように、対象物OBの撮像画像上での位置のずれδから検出エリアでの座標系におけるZ座標ΔZを求めることができる。なお、δから直接求められるのは、カメラ座標系におけるZ座標であるが、カメラ座標系から検出エリアでの座標系へのZ座標の値の変換は容易であり、そのための値も上式1の係数Aに含まれているものとする。また、撮像部500はデプスカメラを有し、座標演算部430は、デプスカメラにより得られた奥行き特定情報に基づいて検出エリアでの座標系におけるZ座標を求めてもよい。ここで、デプスカメラとは、例えばTime-of-flight方式等を用いたカメラが考えられる。これは、赤外光のパルス波或いはサインカーブ波を被写体に照射し、反射光の位相差を検出することで奥行き特定情報を取得するものである。これにより、上述した複数のカメラを用いた場合と同様に、奥行き特定情報を取得でき、検出エリアでの座標系におけるZ座標情報を求めることが可能になる。また、本実施形態は、上述してきた投写型表示装置PRと、投写型表示装置PRからの検出情報に基づいて処理を行う情報処理装置と、を含む情報処理システムに関係する。図9に、本実施形態の情報処理システムの構成例を示す。図9の構成例は、光学式位置検出装置100、情報処理装置30及び投写型表示装置PRを含む。情報処理装置30は、例えばパーソナルコンピューターPCなどであって、光学式位置検出装置100からの検出情報に基づいて処理を行う。光学式位置検出装置100と情報処理装置30とは、USBケーブルUSBCを介して電気的に接続される。投写型表示装置PRは、情報処理装置30からの画像データに基づいて、表示部対象面20に画像を表示する。ユーザーは、表示部に表示された画像を参照しながら、表示画像のアイコン等をポインティングすることで、情報処理装置30に対して必要な情報を入力することができる。なお、図9では、光学式位置検出装置100が表示部に取り付けられているが、他の場所に取り付けることもできる。例えば、光学式位置検出装置100を投写型表示装置PRに取り付けてもよいし、天井や壁などに取り付けてもよい。これにより、投写型表示装置PRプロジェクターにより画像を対象面20に投射した上で、投射した画像とユーザーの用いる対象物OBオブジェクトの連携によるユーザーインターフェースを実現することが可能になる。その際、位置検出システムによる検出情報の処理及び表示装置に表示する表示画像画像データの処理や制御等を情報処理装置により行うことができる。3.第2の実施形態3.1システム構成例図10に本実施形態の投写型表示装置の構成例を示す。システムの構成例は第1の実施形態に比べて、補正部433がなくなった構成となっている。また、座標変換部435は、座標変換を行う点では第1の実施形態と同様であるが、斜めからの撮像による歪みを解消するためではない点が異なる。その他の構成については第1の実施形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。3.2撮像装置の構成投写型表示装置PRに撮像部500が搭載される点、撮像部500は複数のカメラ500-1及び500-2から構成されてもよいし、Time-of-flight方式等により1つのカメラから構成されてもよい点については、第1の実施形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。次に、撮像部500の対象面20に対する位置と方向、及び対象面20に対して設定される座標系と撮像部500に対して設定される座標系について図11に示す。図11に示したように、投写型表示装置PRは、対象面20に対して前上方に設けられる。第1の実施形態と異なるのは、撮像部500の光軸方向が、対象面20に沿った方向に設定されるという点である。そのため、図11に示したように、カメラ座標系と、対象面20に設定された座標系とで、X軸方向が一致するだけでなく、カメラ座標系でのY軸と対象面20の座標系でのZ軸の方向が一致する。また、カメラ座標系でのZ軸と対象面20の座標系でのY軸の方向が一致することになる。これにより、第1の実施形態に比べて、座標変換処理を簡単化することが可能になる。3.3初期座標情報の取得と処理対象範囲の設定初期座標情報から処理対象範囲を限定する手法については、図6に示したように、第1の実施形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。3.4最終座標情報の取得次に、初期座標情報に基づいて画像処理の処理対象範囲が適切に設定された後に、撮像画像に対する画像処理により、対象物OBの最終座標情報を求める手法について説明する。なお、撮像装置は対象面全面を撮影するものとする。つまり、ここでは処理対象範囲を撮影するものではなく、全面を撮影した上で処理対象範囲のデータを取り込むことになるが、手法はこれに限定されるものではない。まずは、撮像画像上での対象物OBの座標を求める。これは、公知の画像処理手法を用いればよい。例えば、対象物OBをテンプレートとしてテンプレートマッチング処理等を行う。これにより、撮像画像上でのカメラ座標系でのX座標情報及びY座標情報を取得することができる。上述したように、カメラ座標系でのX座標情報は、そのまま対象面20の座標系でのX座標情報として用いることができる。また、それと同時に、カメラ座標系でのY座標情報は、対象面20の座標系でのZ座標情報として用いることができる。ただし、座標系の原点の違いによる変換処理は必要となり、当該変換処理は座標変換部435にて行う。それとともに、視差情報或いは視差情報に基づくステレオ画像から、Z座標情報を取得する。ステレオ画像の例を図12に示す。図12のように奥行き特定情報が輝度値の大小グレースケール画像の場合として表示されることになる。今、問題となるのは対象物の位置情報特にカメラ座標系におけるZ座標情報であるから、図12の例では、ユーザーの指先に相当するF1に示した位置の奥行き特定情報を、カメラ座標系におけるZ座標情報として取得すればよい。カメラ座標系におけるZ座標情報を取得した後は、当該Z座標情報を対象面20の座標系におけるY座標情報として用いればよい。原点の位置の違いによる変換処理が必要な点は上述した通りである。以上の本実施形態では、撮像部500の撮像方向が対象面20に沿った方向になる場合に、座標演算部430は、奥行き特定情報に基づいて、対象物のY座標情報を求める。Y座標軸は、対象面に直交する座標軸をZ座標軸とした場合に、Z座標軸に直交する座標軸である。ここで、奥行き特定情報とは、例えば、カメラ座標系におけるZ座標情報等であり、カメラ座標系とは、図11に示したように撮像部500に対して設定される座標系のことである。カメラ座標系では、撮像部500の光軸方向をZ軸正方向とし、ここでは、重力方向に沿う方向であるとする。また、Z軸に直交する平面に含まれ、対象面20に直交する軸をY軸とし、Z軸及びY軸に直交する軸をX軸とする。また、対象面20に設定される座標系は、例えば第1の実施形態と同様のものが考えられる。この場合、カメラ座標系と対象面20の座標系では、X軸の方向が一致するとともに、カメラ座標系のZ軸と対象面20の座標系のY軸の方向が一致する。また、カメラ座標系のY軸と対象面20の座標系のZ軸の方向が一致する。これにより、奥行き特定情報に基づいて、対象面20の座標系におけるY座標情報を求めることが可能になる。また、座標演算部430は、カメラ座標系でのX座標情報に基づいて、検出エリアでの座標系対象面20の座標系におけるX座標情報を求めてもよい。また、カメラ座標系でのY座標情報に基づいて、検出エリアでの座標系におけるZ座標情報を求めてもよい。これにより、対象面20の座標系におけるX座標情報及びZ座標情報を求めることが可能になる。上述したように、奥行き特定情報カメラ座標系のZ座標情報等から対象面20の座標系におけるY座標情報が求まることから、カメラ座標系での座標情報に基づいて、対象面20の座標系における3次元的な座標情報を求めることが可能になると言える。特に、上述したように、Y軸とZ軸という違いはあるものの、軸の方向は2つの座標系において一致するため、第1の実施形態に比べて座標変換処理が容易であるというメリットがある。4.光学式位置検出装置の構成例図13に、光学式位置検出装置100を用いた光学式検出システムの基本的な構成例を示す。図13の光学式位置検出装置100は、検出部200、処理部300、照射部EU及び受光部RUを含む。なお、本実施形態の光学式検出システムは図13の構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素に置き換えたり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。なお、光学式検出システムは、上述したように検出部200や処理部300を含む光学式位置検出装置100として実現される形態には限定されない。情報処理装置例えばPC等により、検出部200や処理部300の機能が実現され、照射部EU及び受光部RUと、上記情報処理装置とが連動して動作することにより、光学式検出システムが実現されてもよい。検出部200は、照射光LTが対象物OBにより反射することによる反射光LRの受光結果に基づいて、対象物OBの対象物情報例えば、座標情報や反射率情報を検出する。具体的には例えば、検出部200は、対象物OBが検出されるエリアである検出エリアRDETがX-Y平面に沿ったエリアである場合に、少なくとも検出エリアRDETに存在する対象物OBのX座標情報及びY座標情報を検出する。なお、検出部200による座標情報の検出手法については、後述する。また、具体的には対象物OBの反射率に関する情報である反射率情報を検出する。検出エリアRDETとは、対象物OBが検出されるエリア領域であって、具体的には、例えば照射光LTが対象物OBに反射されることによる反射光LRを、受光部RUが受光して、対象物OBを検出することができるエリアである。より具体的には、受光部RUが反射光LRを受光して対象物OBを検出することが可能であって、かつ、その検出精度について、許容できる範囲の精度が確保できるエリアである。処理部300は、検出部200が検出した対象物情報に基づいて種々の処理を行う。照射部EUは、検出エリアRDETに対して照射光LTを出射する。後述するように、照射部EUは、LED発光ダイオード等の発光素子から成る光源部を含み、光源部が発光することで、例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線を出射する。受光部RUは、照射光LTが対象物OBにより反射することによる反射光LRを受光する。受光部RUは、複数の受光ユニットPDを含んでもよい。受光ユニットPDは、例えばフォトダイオードやフォトトランジスターなどを用いることができる。図14に、本実施形態の受光部RUの具体的な構成例を示す。図14の構成例では、受光部RUは受光ユニットPDを含む。受光ユニットPDは、入射光が入射する角度Y-Z平面上の角度を制限するためのスリット等入射光制限部が設けられ、検出エリアRDETに存在する対象物OBからの反射光LRを受光する。検出部200は、受光ユニットPDの受光結果に基づいて、X座標情報及びY座標情報を検出する。なお、照射部EUは、検出エリアRDETに対して照射光LTを出射する。また検出エリアRDETは、X-Y平面に沿ったエリアである。なお、図14の構成例は1つの受光ユニットで構成されるが、2つ以上の受光ユニットを含む構成としてもよい。図15A、図15Bに、スリットSLT入射光制限部を有する受光ユニットPDの構成例を示す。図15Aに示すように、受光素子PHDの前面にスリットSLTを設けて、入射する入射光を制限する。スリットSLTはX-Y平面に沿って設けられ、入射光が入射するZ方向の角度を制限することができる。すなわち受光ユニットPDは、スリットSLTのスリット幅で規定される所定の角度で入射する入射光を受光することができる。図15Bは、スリットSLTを有する受光ユニットの上から見た平面図である。例えばアルミニウム等の筐体ケース内に配線基板PWBが設けられ、この配線基板PWB上に受光素子PHDが実装される。図16に、本実施形態の照射部EUの詳細な構成例を示す。図16の構成例の照射部EUは、光源部LS1、LS2と、ライトガイドLGと、照射方向設定部LEを含む。また反射シートRSを含む。そして照射方向設定部LEは光学シートPS及びルーバーフィルムLFを含む。なお、本実施形態の照射部EUは、図16の構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素に置き換えたり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。光源部LS1、LS2は、光源光を出射するものであり、LED発光ダイオード等の発光素子を有する。この光源部LS1、LS2は例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線の光源光を放出する。即ち、光源部LS1、LS2が発光する光源光は、ユーザーの指やタッチペン等の対象物により効率的に反射される波長帯域の光や、外乱光となる環境光にあまり含まれない波長帯域の光であることが望ましい。具体的には、人体の表面での反射率が高い波長帯域の光である850nm付近の波長の赤外光や、環境光にあまり含まれない波長帯域の光である950nm付近の赤外光などである。光源部LS1は、図16のF1に示すようライトガイドLGの一端側に設けられる。また第2の光源部LS2は、F2に示すようにライトガイドLGの他端側に設けられる。そして光源部LS1が、ライトガイドLGの一端側F1の光入射面に対して光源光を出射することで、照射光LT1を出射し、第1の照射光強度分布LID1を対象物の検出エリアに形成設定する。一方、光源部LS2が、ライトガイドLGの他端側F2の光入射面に対して第2の光源光を出射することで、第2の照射光LT2を出射し、第1の照射光強度分布LID1とは強度分布が異なる第2の照射光強度分布LID2を検出エリアに形成する。このように照射部EUは、検出エリアRDETでの位置に応じて強度分布が異なる照射光を出射することができる。ライトガイドLG導光部材は、光源部LS1、LS2が発光した光源光を導光するものである。例えばライトガイドLGは、光源部LS1、LS2からの光源光を曲線状の導光経路に沿って導光し、その形状は曲線形状になっている。具体的には図16ではライトガイドLGは円弧形状になっている。なお図16ではライトガイドLGはその中心角が180度の円弧形状になっているが、中心角が180度よりも小さい円弧形状であってもよい。ライトガイドLGは、例えばアクリル樹脂やポリカーボネートなどの透明な樹脂部材等により形成される。ライトガイドLGの外周側及び内周側の少なくとも一方には、ライトガイドLGからの光源光の出光効率を調整するための加工が施されている。加工手法としては、例えば反射ドットを印刷するシルク印刷方式や、スタンパーやインジェクションで凹凸を付ける成型方式や、溝加工方式などの種々の手法を採用できる。プリズムシートPSとルーバーフィルムLFにより実現される照射方向設定部LEは、ライトガイドLGの外周側に設けられ、ライトガイドLGの外周側外周面から出射される光源光を受ける。そして曲線形状円弧形状のライトガイドLGの内周側から外周側へと向かう方向に照射方向が設定された照射光LT1、LT2を出射する。即ち、ライトガイドLGの外周側から出射される光源光の方向を、ライトガイドLGの例えば法線方向半径方向に沿った照射方向に設定規制する。これにより、ライトガイドLGの内周側から外周側に向かう方向に、照射光LT1、LT2が放射状に出射されるようになる。このような照射光LT1、LT2の照射方向の設定は、照射方向設定部LEのプリズムシートPSやルーバーフィルムLFなどにより実現される。例えばプリズムシートPSは、ライトガイドLGの外周側から低視角で出射される光源光の方向を、法線方向側に立ち上げて、出光特性のピークが法線方向になるように設定する。またルーバーフィルムLFは、法線方向以外の方向の光低視角光を遮光カットする。このように本実施形態の照射部EUによれば、ライトガイドLGの両端に光源部LS1、LS2を設け、これらの光源部LS1、LS2を交互に点灯させることで、2つの照射光強度分布を形成することができる。すなわちライトガイドLGの一端側の強度が高くなる照射光強度分布LID1と、ライトガイドLGの他端側の強度が高くなる照射光強度分布LID2を交互に形成することができる。このような照射光強度分布LID1、LID2を形成し、これらの強度分布の照射光による対象物の反射光を受光することで、環境光などの外乱光の影響を最小限に抑えた、より精度の高い対象物の検出が可能になる。即ち、外乱光に含まれる赤外成分を相殺することが可能になり、この赤外成分が対象物の検出に及ぼす悪影響を最小限に抑えることが可能になる。5.光学式位置検出装置による座標検出手法図17A、図17Bは、本実施形態の光学式位置検出装置100による座標情報検出の手法を説明する図である。図17AのE1は、図16の照射光強度分布LID1において、照射光LT1の照射方向の角度と、その角度での照射光LT1の強度との関係を示す図である。図17AのE1では、照射方向が図17BのDD1の方向左方向である場合に強度が最も高くなる。一方、DD3の方向右方向である場合に強度が最も低くなり、DD2の方向ではその中間の強度になる。具体的には方向DD1から方向DD3への角度変化に対して照射光の強度は単調減少しており、例えばリニア直線的に変化している。なお図17Bでは、ライトガイドLGの円弧形状の中心位置が、照射部EUの配置位置PEになっている。また図17AのE2は、図16の照射光強度分布LID2において、照射光LT2の照射方向の角度と、その角度での照射光LT2の強度との関係を示す図である。図17AのE2では、照射方向が図17BのDD3の方向である場合に強度が最も高くなる。一方、DD1の方向である場合に強度が最も低くなり、DD2の方向ではその中間の強度になる。具体的には方向DD3から方向DD1への角度変化に対して照射光の強度は単調減少しており、例えばリニアに変化している。なお図17Aでは照射方向の角度と強度の関係はリニアな関係になっているが、本実施形態はこれに限定されず、例えば双曲線の関係等であってもよい。そして図17Bに示すように、角度φの方向DDBに対象物OBが存在したとする。すると、光源部LS1が発光することで照射光強度分布LID1を形成した場合E1の場合には、図17Aに示すように、DDB角度φの方向に存在する対象物OBの位置での強度はINTaになる。一方、光源部LS2が発光することで照射光強度分布LID2を形成した場合E2の場合には、DDBの方向に存在する対象物OBの位置での強度はINTbになる。従って、これらの強度INTa、INTbの関係を求めることで、対象物OBの位置する方向DDB角度φを特定できる。そして例えば後述する図18A、図18Bの手法により光学式位置検出装置の配置位置PEからの対象物OBの距離を求めれば、求められた距離と方向DDBとに基づいて対象物OBの位置を特定できる。或いは、後述する図19に示すように、照射部EUとして2個の照射ユニットEU1、EU2を設け、EU1、EU2の各照射ユニットに対する対象物OBの方向DDB1φ1、DDB2φ2を求めれば、これらの方向DDB1、DDB2と照射ユニットEU1、EU2間の距離DSとにより、対象物OBの位置を特定できる。このような強度INTa、INTbの関係を求めるために、本実施形態では、受光部RUが、照射光強度分布LID1を形成した際の対象物OBの反射光第1の反射光を受光する。この時の反射光の検出受光量をGaとした場合に、このGaが強度INTaに対応するようになる。また受光部RUが、照射光強度分布LID2を形成した際の対象物OBの反射光第2の反射光を受光する。この時の反射光の検出受光量をGbとした場合に、このGbが強度INTbに対応するようになる。従って、検出受光量GaとGbの関係が求まれば、強度INTa、INTbの関係が求まり、対象物OBの位置する方向DDBを求めることができる。例えば光源部LS1の制御量例えば電流量、変換係数、放出光量を、各々、Ia、k、Eaとする。また光源部LS2の制御量電流量、変換係数、放出光量を、各々、Ib、k、Ebとする。すると下式4、5が成立する。Ea=kIa4Eb=kIb5また光源部LS1からの光源光第1の光源光の減衰係数をfaとし、この光源光に対応する反射光第1の反射光の検出受光量をGaとする。また光源部LS2からの光源光第2の光源光の減衰係数をfbとし、この光源光に対応する反射光第2の反射光の検出受光量をGbとする。すると下式6、7が成立する。Ga=faEa=fakIa6Gb=fbEb=fbkIb7従って、検出受光量Ga、Gbの比は下式8のように表せる。Ga/Gb=fa/fbIa/Ib8ここでGa/Gbは、受光部RUでの受光結果から特定することができ、Ia/Ibは、照射部EUの制御量から特定することができる。そして図17Aの強度INTa、INTbと減衰係数fa、fbとは一意の関係にある。例えば減衰係数fa、fbが小さな値となり、減衰量が大きい場合は、強度INTa、INTbが小さいことを意味する。一方、減衰係数fa、fbが大きな値となり、減衰量が小さい場合は、強度INTa、INTbが大きいことを意味する。従って、上式8から減衰率の比fa/fbを求めることで、対象物の方向、位置等を求めることが可能になる。より具体的には、一方の制御量IaをImに固定し、検出受光量の比Ga/Gbが1になるように、他方の制御量Ibを制御する。例えば光源部LS1、LS2を逆相で交互に点灯させる制御を行い、検出受光量の波形を解析し、検出波形が観測されなくなるようにGa/Gb=1になるように、他方の制御量Ibを制御する。そして、この時の他方の制御量Ib=Imfa/fbから、減衰係数の比fa/fbを求めて、対象物の方向、位置等を求める。また下式9、10のように、Ga/Gb=1になると共に制御量IaとIbの和が一定になるように制御してもよい。Ga/Gb=19Im=IaIb10上式9、10を上式8に代入すると下式11が成立する。Ga/Gb=1=fa/fbIa/Ib=fa/fbIm-Ib/Ib11上式11より、Ibは下式12のように表される。Ib=fa/fafbIm12ここでα=fa/fafbとおくと、上式12は下式13のように表され、減衰係数の比fa/fbは、αを用いて下式14のように表される。Ib=αIm13fa/fb=α/1-α14従って、Ga/Gb=1になると共にIaとIbの和が一定値Imになるように制御すれば、そのときのIb、Imから上式13によりαを求め、求められたαを上式14に代入することで、減衰係数の比fa/fbを求めることができる。これにより、対象物の方向、位置等を求めることが可能になる。そしてGa/Gb=1になると共にIaとIbの和が一定になるように制御することで、外乱光の影響等を相殺することが可能になり、検出精度の向上を図れる。次に本実施形態の光学式検出システムを用いて対象物の座標情報を検出する手法の一例について説明する。図18Aは、光源部LS1、LS2の発光制御についての信号波形例である。信号SLS1は、光源部LS1の発光制御信号であり、信号SLS2は、光源部LS2の発光制御信号であり、これらの信号SLS1、SLS2は逆相の信号になっている。また信号SRCは受光信号である。例えば光源部LS1は、信号SLS1がHレベルの場合に点灯発光し、Lレベルの場合に消灯する。また光源部LS2は、信号SLS2がHレベルの場合に点灯発光し、Lレベルの場合に消灯する。従って図18Aの第1の期間T1では、光源部LS1と光源部LS2が交互に点灯するようになる。即ち光源部LS1が点灯している期間では、光源部LS2は消灯する。これにより図16に示すような照射光強度分布LID1が形成される。一方、光源部LS2が点灯している期間では、光源部LS1は消灯する。これにより図16に示すような照射光強度分布LID2が形成される。このように検出部200は、第1の期間T1において、光源部LS1と光源部LS2を交互に発光点灯させる制御を行う。そしてこの第1の期間T1において、光学式位置検出装置照射部から見た対象物の位置する方向が検出される。具体的には、例えば上述した式9、10のようにGa/Gb=1になると共に制御量IaとIbの和が一定になるような発光制御を、第1の期間T1において行う。そして図17Bに示すように対象物OBの位置する方向DDBを求める。例えば上式13、14から減衰係数の比fa/fbを求め、図17A、図17Bで説明した手法により対象物OBの位置する方向DDBを求める。そして第1の期間T1に続く第2の期間T2では、受光部RUでの受光結果に基づいて対象物OBまでの距離方向DDBに沿った方向での距離を検出する。そして、検出された距離と、対象物OBの方向DDBとに基づいて、対象物の位置を検出する。即ち図17Bにおいて、光学式位置検出装置の配置位置PEから対象物OBまでの距離と、対象物OBの位置する方向DDBを求めれば、対象物OBのX、Y座標位置を特定できる。このように、光源の点灯タイミングと受光タイミングの時間のずれから距離を求め、これと角度結果を併せることで、対象物OBの位置を特定できる。具体的には図18Aでは、発光制御信号SLS1、SLS2による光源部LS1、LS2の発光タイミングから、受光信号SRCがアクティブになるタイミング反射光を受光したタイミングまでの時間Δtを検出する。即ち、光源部LS1、LS2からの光が対象物OBに反射されて受光部RUで受光されるまでの時間Δtを検出する。この時間Δtを検出することで、光の速度は既知であるため、対象物OBまでの距離を検出できる。即ち、光の到達時間のずれ幅時間を測定し、光の速度から距離を求める。なお、光の速度はかなり速いため、電気信号だけでは単純な差分を求めて時間Δtを検出することが難しいという問題もある。このような問題を解決するためには、図18Bに示すように発光制御信号の変調を行うことが望ましい。ここで図18Bは、制御信号SLS1、SLS2の振幅により光の強度電流量を模式的に表している模式的な信号波形例である。具体的には図18Bでは、例えば公知の連続波変調のTOFTimeOfFlight方式で距離を検出する。この連続波変調TOF方式では、一定周期の連続波で強度変調した連続光を用いる。そして、強度変調された光を照射すると共に、反射光を、変調周期よりも短い時間間隔で複数回受光することで、反射光の波形を復調し、照射光と反射光との位相差を求めることで、距離を検出する。なお図18Bにおいて制御信号SLS1、SLS2のいずれか一方に対応する光のみを強度変調してもよい。また図18Bのようなクロック波形ではなく、連続的な三角波やSin波で変調した波形であってもよい。また、連続変調した光としてパルス光を用いるパルス変調のTOF方式で、距離を検出してもよい。距離検出手法の詳細については例えば特開2009-8537号などに開示されている。図19に、本実施形態の照射部EUの変形例を示す。図19では、照射部EUとして第1、第2の照射ユニットEU1、EU2が設けられる。これらの第1、第2の照射ユニットEU1、EU2は、対象物OBの検出エリアRDETの面に沿った方向において所与の距離DSだけ離れて配置される。即ち図13のX軸方向に沿って距離DSだけ離れて配置される。第1の照射ユニットEU1は、照射方向に応じて強度が異なる第1の照射光を放射状に出射する。第2の照射ユニットEU2は、照射方向に応じて強度が異なる第2の照射光を放射状に出射する。受光部RUは、第1の照射ユニットEU1からの第1の照射光が対象物OBに反射されることによる第1の反射光と、第2の照射ユニットEU2からの第2の照射光が対象物OBに反射されることによる第2の反射光を受光する。そして検出部200は、受光部RUでの受光結果に基づいて、対象物OBの位置POBを検出する。具体的には検出部200は、第1の反射光の受光結果に基づいて、第1の照射ユニットEU1に対する対象物OBの方向を第1の方向DDB1角度φ1として検出する。また第2の反射光の受光結果に基づいて、第2の照射ユニットEU2に対する対象物OBの方向を第2の方向DDB2角度φ2として検出する。そして検出された第1の方向DDB1φ1及び第2の方向DDB2φ2と、第1、第2の照射ユニットEU1、EU2の間の距離DSとに基づいて、対象物OBの位置POBを求める。図19の変形例によれば、図18A、図18Bのように光学式位置検出装置と対象物OBとの距離を求めなくても、対象物OBの位置POBを検出できるようになる。なお、以上のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また投写型表示装置、光学式位置検出装置等の構成、動作も本実施形態で説明したものに限定されず、種々の変形実施が可能である。