一般式In7O2OHOR12X4ROHx式中、R=C1~C15-アルキル、C1~C15-アルケニル、C1~C15-アルキニル、C1~C15-アルコキシアルキル、C6~C15-アリール又はC7~C15-アルコキシアリール、X=F、Cl、Br、I及びx=0~10で示されるハロゲン含有インジウムオキソアルコキシド。一般式In7μ4-O2μ2-OHμ1-OEt3μ2-OEt7μ3-OEt2μ1-Cl4により記載される、請求項1記載のインジウムオキソアルコキシド。請求項1又は2記載のインジウムオキソアルコキシドの製造方法であって、インジウムIIIハロゲン化物InX3、ナトリウムイソプロパノラート又はカリウムイソプロパノラート及びイソプロパノールを含む反応混合物Aを反応させ、好ましくはその間に生じた固体F1をろ別し、イソプロパノールで洗浄してイソプロパノール含有洗浄溶液Bを得て、イソプロパノール含有溶液A及び/又はBから前記イソプロパノールを除去して固体F2を得て、前記固体F2をアルコールROH中に吸収させて混合物Cを得て、好ましくは1回以上のろ過工程を実施し、かつ前記インジウムオキソアルコキシドを前記混合物Cから結晶化させることを特徴とする、請求項1又は2記載のインジウムオキソアルコキシドの製造方法。前記インジウムIIIハロゲン化物InX3がInCl3であり、かつ前記アルコールをCH3OH、HOCH2CH3、HOCH2CH2CH3、HOCHCH32、HOCH2CH2CH2CH3、HOCHCH3CH2CH3又はHOCCH33からなる群から選択する、請求項1記載のインジウムオキソアルコキシドの製造方法。酸化インジウム含有コーティングを製造するための、請求項1又は2記載のインジウムオキソアルコキシドの使用。酸化インジウム含有コーティングの製造を非水溶液からの析出により行う、請求項5記載のインジウムオキソアルコキシドの使用。液状コーティング組成物を製造するための、請求項1又は2記載のインジウムオキソアルコキシドの使用。電子部品を製造するため、特にトランジスタ、ディスプレイ、トランスポンダ、回路、ダイオード、センサ又は太陽電池を製造するための、請求項1又は2記載のインジウムオキソアルコキシドの使用。