伝導性高分子で構成された下部電極パターン部及び前記下部電極パターン部に連結された下部電極配線部が形成された下部基板;前記下部基板の上側に配置され、対向面に伝導性高分子で構成された上部電極パターン部及び前記上部電極パターン部に連結された上部電極配線部が形成された上部基板;前記下部基板と前記上部基板との間に配置され、内側に開口部が形成されたスペーサー;及び前記下部電極パターン部または前記上部電極パターン部のうち何れか一つ以上をカバーし、前記伝導性高分子より仕事関数が小さい物質で構成された表面改質層;を含む抵抗膜式タッチスクリーン。前記伝導性高分子は、ポリチオフェン系、ポリピロール系、ポリアニリン系、ポリアセチレン系、ポリフェニレン系のうち何れか一つであることを特徴とする請求項1に記載の抵抗膜式タッチスクリーン。前記表面改質層は、フッ化セシウムCsF、炭酸セシウムCs2Co3または炭酸カリウムK2CO3のうち何れか一つで構成されたことを特徴とする請求項1に記載の抵抗膜式タッチスクリーン。上部基板の上側に結合されたウインドーをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の抵抗膜式タッチスクリーン。前記スペーサーは両面接着シートで構成されたことを特徴とする請求項1に記載の抵抗膜式タッチスクリーン。前記下部電極パターン部は第1方向に延長された形状の複数の下部電極パターンを含み、前記複数の下部電極パターンは第2方向に配列され、前記上部電極パターン部は第2方向に延長された形状の複数の上部電極パターンを含み、前記複数の上部電極パターンは第1方向に配列されたことを特徴とする請求項1に記載の抵抗膜式タッチスクリーン。本発明は、上述のような問題点を解決するために導き出されたものであり、電極パターンをカバーし、伝導性高分子より仕事関数が小さい物質で構成された表面改質層をさらに含むことにより、低い電圧と低い外圧によってもタッチ感度を向上させることができる抵抗膜式タッチスクリーンを提案することを目的とする。本発明は、抵抗膜式タッチスクリーンに関し、伝導性高分子で構成された下部電極パターン部及び前記下部電極パターン部に連結された下部電極配線部が形成された下部基板、前記下部基板の上側に配置され、対向面に伝導性高分子で構成された上部電極パターン部及び前記上部電極パターン部に連結された上部電極配線部が形成された上部基板、前記下部基板と前記上部基板との間に配置され、内側に開口部が形成されたスペーサー、及び前記下部電極パターン部または前記上部電極パターン部のうち何れか一つ以上をカバーし、前記伝導性高分子より仕事関数が小さい物質で構成された表面改質層を含む。また、本発明の前記伝導性高分子は、ポリチオフェン系、ポリピロール系、ポリアニリン系、ポリアセチレン系、ポリフェニレン系のうち何れか一つであることを特徴とする。また、本発明の前記表面改質層は、フッ化セシウムCsF、炭酸セシウムCs2Co3または炭酸カリウムK2CO3のうち何れか一つで構成されたことを特徴とする。また、本発明は前記上部基板の上側に結合されたウインドーをさらに含むことを特徴とする。また、本発明の前記スペーサーは両面接着シートで構成されたことを特徴とする。また、本発明の前記下部電極パターン部は第1方向に延長された形状の複数の下部電極パターンを含み、前記複数の下部電極パターンは第2方向に配列され、前記上部電極パターン部は第2方向に延長された形状の複数の上部電極パターンを含み、前記複数の上部電極パターンは第1方向に配列されたことを特徴とする。本発明の特徴及び利点は、添付図面に基づいた以下の詳細な説明によってさらに明らかになるであろう。本発明の詳細な説明に先立ち、本明細書及び請求範囲に用いられた用語や単語は通常的かつ辞書的な意味に解釈されてはならず、発明者が自らの発明を最善の方法で説明するために用語の概念を適切に定義することができるという原則にしたがって本発明の技術的思想にかなう意味と概念に解釈されるべきである。本発明による抵抗膜式タッチスクリーンは、電極パターン部を構成する伝導性高分子より仕事関数が小さい物質で構成された表面改質層をさらに含むことにより、低い電圧と低い外圧によってもタッチ感度を向上させることができる。また、表面改質層はエアギャップに侵透した水分から電極パターン部を保護し、電極パターン部の面抵抗を一定に維持させることにより、タッチスクリーンの信頼性を向上させることができる。本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は添付図面に係わる以下の詳細な説明および好ましい実施形態によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、本発明の説明において、係わる公知技術に対する具体的な説明が本発明の要旨を不必要にぼかす可能性があると判断される場合は、その詳細な説明を省略する。図1は、本発明の好ましい実施形態による抵抗膜式タッチスクリーンを概略的に図示した断面図であり、図2は、図1に採用される抵抗膜式タッチスクリーンの構成を説明するために図示した分解斜視図であり、図3は、電極パターン部と表面改質層の仕事関数を簡略に図示したグラフである。以下、これを参照して本実施形態による抵抗膜式タッチスクリーン以下、タッチスクリーンを説明する。本実施形態による抵抗膜式タッチスクリーン100以下、タッチスクリーンは、図1及び図2に図示されたように、伝導性高分子で構成された電極パターン部120、150と電極配線部130、160とが形成された二つの基板が、スペーサー170によって対向するように結合されている。そして、前記電極パターン部120、150のうち何れか一つ以上をカバーし、伝導性高分子より仕事関数が小さい物質で構成された表面改質層180を含む。図1及び図2にはアナログ抵抗膜式タッチスクリーンを例示的に図示しており、このようなタッチスクリーン100は、画像が通過する活性領域に膜形状の電極パターン部120、150一般的に、抵抗膜というが形成され、活性領域を囲む非活性領域には、二つの電極配線で構成された電極配線部130、160が下部基板110と上部基板140に形成される。下部基板110と上部基板140は透明な部材であり、ガラス基板、フィルム基板、繊維基板、紙基板が用いられることができ、このうちフィルム基板は、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリメチルメタクリレートPMMA、ポリプロピレンPP、ポリエチレンPE、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリカーボネートPC、ポリエーテルスルフォンPES、ポリイミドPI、ポリビニルアルコールPVA、環状オレフィン共重合体COC、スチレン重合体などで構成されることができ、特に限定されない。上部基板140はポリエチレンテレフタレートPETが採用されることが一般的であり、下部基板110は必要に応じてガラス基板が採用されることができる。そして、下部基板110の上面と上部基板140の下面に形成された膜形状の電極パターン部120、150は対向するように形成される。膜形状の電極パターン部120、150は、伝導性高分子溶液を基板に塗布した後乾燥する方式によって形成されたり、印刷する方式によって形成されることができる。この際、電極パターン部120、150は伝導性高分子で構成されることができ、伝導性高分子は有機系化合物で、ポリチオフェン系、ポリピロール系、ポリアニリン系、ポリアセチレン系、ポリフェニレン系などが採用されることができ、特にポリチオフェン系のうちでもPEDOT/PSS化合物の場合がもっとも好ましく、前記有機系化合物のうち1種以上を混合して用いることができる。また、カーボンナノチューブなどをさらに混合すると、導電性を高めることができる。このような伝導性高分子は、従来の金属酸化物に比べて製造単価が安く、大量生産が可能である長所がある。下部基板110と上部基板140の非活性領域には、膜形状の電極パターン部120、150と連結された電極配線部130、160が形成される。このような電極配線部130、160は抵抗が低い金属特に、銀ペーストで構成され、下部電極配線部130と上部電極配線部160は互いに交差する方向性を有する。図1及び図2に図示されたように、4線式タッチスクリーンの場合、下部電極配線部130は電極パターン部120の両側で通電され、上部電極配線部160は下部電極配線と交差する方向に上部電極パターン部150と通電され、外部接触による電圧変化を制御部に伝達する。このような電極配線部130、160は、フォトリソグラフィ方式、インクジェット印刷方式、グラビア印刷方式などによって形成されることができる。スペーサー170は、外圧によって上部基板140が曲がって上部電極パターン部150が下部電極パターン部120に接触することができるように、開口部が形成された形状を有する。このようなスペーサー170は、プラスチック樹脂で成形した後別途の接着剤を用いて上部基板140と下部基板110を結合することもできるが、製造の容易性を考慮して、両面接着シートで構成されることが好ましい。そして、本発明によるタッチスクリーン100は、電極パターン部120、150のうち何れか一つ以上をカバーし、伝導性高分子より仕事関数が小さい物質で構成された表面改質層180を含む。原子内の電子は位置によってエネルギーが異なって、核に近いほどエネルギーが低い。低いエネルギー準位から電子が満たされていく時、全ての電子が満たされた時の最高の準位フェルミ準位と物質外部の電位との間を電子1個が移動する時に必要なエネルギーの差を仕事関数という。通常、eV電子ボルトで示し、1eVは電子が1Vの電位差を移動する時に必要な仕事またはエネルギーである。図3に図示されたように、表面改質層180の電位EBと外部の電位EAの間を電子が移動するのに必要な仕事関数WBは、伝導性高分子で構成された電極パターンの電位EPと外部の電位EAの間の仕事関数WPより小さいことが分かる。本発明によるタッチスクリーンは、下部電極パターン部120と上部電極パターン部150の間に電子が移動するにおいて、表面改質層180に電子が移動した後、電極パターン部120、150に移動するため、仕事関数を減少させることができて、こりによって入力電圧を減少させることができ、外圧の強度を減少させることができる。このような表面改質層180は、フッ化セシウムCsF、炭酸セシウムCs2Co3または炭酸カリウムK2CO3のうち何れか一つで構成されることが好ましいが、これに限定されず、伝導性高分子より仕事関数が小さい物質で構成されることにより、本発明の目的を果たすことができる。一方、図1及び図2には図示されていないが、タッチスクリーンの誤作動を防止するために、エポキシ、アクリル樹脂などの絶縁性合成樹脂からなったドットスペーサーdotspacerが電極パターン部150または表面改質層180上に形成されることもできる。また、本発明によるタッチスクリーン100は、図1及び図2に図示されたように、上部基板140の上側に形成されたウインドー190をさらに含むことができる。ウインドー190はタッチスクリーン100を保護し、入力手段が接触する接触面を提供する。このようなウインドー190は、耐久性及び透明性が優れるフィルム基板特に、ポリメチルメタクリレートPMMA、ポリカーボネートPCまたはガラス基板特に、強化ガラスが採用されることができる。このようなウインドー190は、OCAのような透明な接着剤Aによって抵抗膜式タッチスクリーンの上部基板140に結合される。そして、図1及び図2には図示されていないが、ウインドー190の上面または下面の外側領域には、遮蔽膜が形成されることができる。電極配線部130、160が銀ペーストのような金属で構成される場合、外部で電極配線部130、160が認識される可能性があるため、これを防止するためである。このような遮蔽膜は例えば、ブラックインクのように明度の低いインクをウインドー190の下面の外側領域に印刷することによって形成されることができる。本発明のまた他のタッチスクリーン100 ́は図4に図示されたように、表面改質層1801、1802が下部電極パターン部120と上部電極パターン部150夫々をカバーするように形成されることもできる。この際、表面改質層180は伝導性高分子で構成された電極パターン部120、150をカバーし、仕事関数を低める機能の他に、エアギャップGに侵透した水分から電極パターン部120、150を保護する機能を遂行する。抵抗膜式タッチスクリーンのエアギャップGに侵透した水分は、伝導性高分子で構成された電極パターン部120、150の変性を誘発する。特に、伝導性高分子は水分によって面抵抗が変化されるという問題点を有する。本発明は電極パターン部120、150をカバーする表面改質層180を含んで、エアギャップGに侵透した水分が電極パターン部120、150に直接接触することができないようにすることにより、電極パターン部120、150の変性を最小化することができる長所を有する。本発明のまた他の実施形態によるタッチスクリーン100′′は図5に図示されたように、デジタル抵抗膜式タッチスクリーンに構成されることもできる。デジタル抵抗膜式タッチスクリーンは、アナログ抵抗膜式タッチスクリーンが膜形状の電極パターン部120、150を含むことと異なって、パターニングされた複数の電極パターンを含み、これによって電極配線の数も増加する。下部電極パターン部120 ́は第1方向に延長された形状の複数の下部電極パターンを含み、複数の下部電極パターンは第2方向に配列されて、上部電極パターン部150 ́は第2方向に延長された形状の複数の上部電極パターンを含み、複数の上部電極パターンは第1方向に配列される。この際、第1方向はX方向、Y方向または対角線方向になることができ、第2方向は第1方向と交差する方向に定義される。特に、第1方向と第2方向は直交する方向性を有することがさらに好ましい。デジタル抵抗膜式タッチスクリーン100′′は、複数の電極パターンを含んで、多点がタッチされた場合、電極パターン夫々で変化される電圧の変化を測定して座標情報を獲得することができる長所がある。このようなデジタル抵抗膜式タッチスクリーンの座標情報の獲得方法は公知された技術であるため、詳細な説明は省略する。デジタル抵抗膜式タッチスクリーン100′′も電極パターンの上部を表面改質層180がカバーするため、電子が移動するにおいて、仕事関数が低い表面改質層180を経るようになるため、低い入力電圧でも電子の移動が容易になる。図5には表面改質層180が下部電極パターン部120 ́のみをカバーするように図示されているが、図4に図示されたように上部電極パターン部150 ́をさらにカバーするように形成されることもできる。一方、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の思想及び範囲を外れずに多様に修正及び変形が出来るということは当技術分野で通常の知識を有する者には明白である。従って、このような変形例または修正例は本発明の特許請求範囲に属するというべきであろう。