液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、前記画素部の前記複数の開口部内に、前記遮光層と略同一膜厚のオーバーコート膜が形成され、前記画素部及び前記額縁部の前記遮光層上に当該オーバーコート膜が形成されずに、前記遮光層及び前記オーバーコート膜が形成された前記基板の表面が略平坦化されており、前記画素部及び前記額縁部の前記遮光層上に複数の柱状スペーサが形成された液晶表示装置。前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に第2のオーバーコート膜が形成され、当該第2のオーバーコート膜上に複数の柱状スペーサが形成された請求項1に記載の液晶表示装置。液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部に複数の柱状スペーサが形成されており、前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをa、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをbとしたとき、a>bであり、前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部には、前記遮光層上及び前記遮光層の前記複数の開口部内にオーバーコート膜が形成され、前記額縁部の前記柱状スペーサの形成領域にはオーバーコート膜が形成されておらず、前記額縁部において前記遮光層上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差がa-bより小さい液晶表示装置。前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚がa-bに略等しい請求項3に記載の液晶表示装置。液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に複数の柱状スペーサが形成されており、前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをa、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをbとしたとき、a>bであり、前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部にオーバーコート膜が形成されており、前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd1、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd2としたとき、d1>d2であり、前記遮光層が形成された前記基板又は当該基板と対向する基板に、前記画素部の前記柱状スペーサの形成位置に、前記額縁部と前記画素部のセルギャップの差をad1-bd2より小さく調整する膜厚調整膜が形成された液晶表示装置。前記膜厚調整膜の膜厚が、ad1-bd2に略等しい請求項5に記載の液晶表示装置。液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に複数の柱状スペーサが形成されており、前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをa、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをbとしたとき、a>bであり、前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部に感光性レジストを用いてオーバーコート膜が形成されており、前記オーバーコート膜形成時に前記額縁部と前記画素部を同一露光条件で露光したときの前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd1、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd2としたとき、d1>d2であり、前記額縁部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差がad1-bd2より小さくなるよう、前記オーバーコート膜形成時の前記額縁部と前記画素部の露光条件を変えて、前記オーバーコート膜の前記額縁部と前記画素部の膜厚が調整された液晶表示装置。液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部にオーバーコート膜が形成され、前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に感光性レジストを用いて複数の柱状スペーサが形成されており、前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd1、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd2としたとき、d1>d2であり、前記柱状スペーサ形成時に前記額縁部と前記画素部を同一露光条件で露光したときの前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをa、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをbとしたとき、a>bであり、前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記額縁部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差がad1-bd2より小さくなるよう、前記柱状スペーサ形成時の前記額縁部と前記画素部の露光条件を変えて、前記柱状スペーサの前記額縁部と前記画素部の高さが調整された液晶表示装置。液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成され、前記画素部の前記遮光層上及び前記複数の開口部内に色材層が形成されたカラー液晶表示装置であって、前記額縁部の前記遮光層上の少なくとも一部に前記色材層が形成され、前記額縁部の前記遮光層上の前記色材層の膜厚をc1、前記画素部の前記遮光層上の前記色材層の膜厚をc2としたとき、c1>c2であり、前記遮光層及び前記色材層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部にオーバーコート膜及び複数の柱状スペーサが形成されており、前記額縁部の前記色材層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd1、前記画素部の前記色材層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd2とし、前記額縁部の前記色材層及び前記オーバーコート膜上の前記柱状スペーサの高さをa、前記画素部の前記色材層及び前記オーバーコート膜上の前記柱状スペーサの高さをbとしたとき、前記遮光層及び前記色材層が形成された前記基板、又は当該基板と対向する基板に、前記画素部の前記遮光層上に、前記額縁部と前記画素部のセルギャップの差をad1c1-bd2c2より小さく調整する膜厚調整膜が形成された液晶表示装置。特許文献1~3には、BM段差に起因する画素部及び額縁部間でのOC膜の厚みの不均一性に対する対策として、ハーフトーンマスク技術を用いて、画素部と額縁部とで、柱状スペーサの径、密度、あるいは高さを変える方法が提案されている特許文献1の請求項1等、特許文献2の請求項4等、特許文献3の請求項5等。然しながら、上記特許文献においては、OC膜の厚みの不均一の発生により、更に上層に樹脂を塗布して形成される柱状スペーサの高さに違いが生ずる点が考慮されておらず、セルギャップの均一化としては不充分である。本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、BM段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上された液晶表示装置を提供することを目的としている。本発明の第1の液晶表示装置は、液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、前記画素部の前記複数の開口部内に、前記遮光層と略同一膜厚のオーバーコート膜が形成され、前記画素部及び前記額縁部の前記遮光層上に当該オーバーコート膜が形成されずに、前記遮光層及び前記オーバーコート膜が形成された前記基板の表面が略平坦化されており、前記画素部及び前記額縁部の前記遮光層上に複数の柱状スペーサが形成されたものである。本明細書において、2つの層の膜厚が略同一であるとは、2つの層の平均的な膜厚の差が±5以内であると定義する。略平坦化されているとは、最大厚みと最小厚みとの差が±5以内であると定義する。本発明の第1の液晶表示装置において、前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に第2のオーバーコート膜が形成され、当該第2のオーバーコート膜上に複数の柱状スペーサが形成された構成でもよい。本発明の第2の液晶表示装置は、液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部に複数の柱状スペーサが形成されており、前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをa、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをbとしたとき、a>bであり、前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部には、前記遮光層上及び前記遮光層の前記複数の開口部内にオーバーコート膜が形成され、前記額縁部の前記柱状スペーサの形成領域にはオーバーコート膜が形成されておらず、前記額縁部において前記遮光層上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差がa-bより小さいものである。本発明の第3の液晶表示装置は、液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に複数の柱状スペーサが形成されており、前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをa、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをbとしたとき、a>bであり、前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部にオーバーコート膜が形成されており、前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd1、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd2としたとき、d1>d2であり、前記遮光層が形成された前記基板又は当該基板と対向する基板に、前記画素部の前記柱状スペーサの形成位置に、前記額縁部と前記画素部のセルギャップの差をad1-bd2より小さく調整する膜厚調整膜が形成されたものである。本発明の第4の液晶表示装置は、液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に複数の柱状スペーサが形成されており、前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをa、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをbとしたとき、a>bであり、前記遮光層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部に感光性レジストを用いてオーバーコート膜が形成されており、前記オーバーコート膜形成時に前記額縁部と前記画素部を同一露光条件で露光したときの前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd1、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd2としたとき、d1>d2であり、前記額縁部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差がad1-bd2より小さくなるよう、前記オーバーコート膜形成時の前記額縁部と前記画素部の露光条件を変えて、前記オーバーコート膜の前記額縁部と前記画素部の膜厚が調整されたものである。本発明の第5の液晶表示装置は、液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成されたモノクロ液晶表示装置であって、前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部にオーバーコート膜が形成され、前記遮光層が形成された前記基板の前記額縁部と前記画素部に感光性レジストを用いて複数の柱状スペーサが形成されており、前記額縁部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd1、前記画素部の前記遮光層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd2としたとき、d1>d2であり、前記柱状スペーサ形成時に前記額縁部と前記画素部を同一露光条件で露光したときの前記額縁部の前記柱状スペーサの高さをa、前記画素部の前記柱状スペーサの高さをbとしたとき、a>bであり、前記画素部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置と、前記額縁部において前記遮光層及び前記オーバーコート膜上に形成された前記柱状スペーサの頂点高さ位置との差がad1-bd2より小さくなるよう、前記柱状スペーサ形成時の前記額縁部と前記画素部の露光条件を変えて、前記柱状スペーサの前記額縁部と前記画素部の高さが調整されたものである。本発明の第6の液晶表示装置は、液晶層と当該液晶層を挟持して対向配置された一対の基板とを備え、平面視、複数の画素がマトリックス状に配置され、表示領域を含む画素部と、当該画素部の外側に形成された非表示領域である額縁部とを有し、前記一対の基板のうち一方の基板には、前記画素部及び前記額縁部に形成され、前記画素部に複数の開口部を有し、前記額縁部に開口部を有さず、前記画素部の隣接する前記画素間及び前記額縁部を遮光する遮光層が形成され、前記画素部の前記遮光層上及び前記複数の開口部内に色材層が形成されたカラー液晶表示装置であって、前記額縁部の前記遮光層上の少なくとも一部に前記色材層が形成され、前記額縁部の前記遮光層上の前記色材層の膜厚をc1、前記画素部の前記遮光層上の前記色材層の膜厚をc2としたとき、c1>c2であり、前記遮光層及び前記色材層が形成された前記基板の前記画素部及び前記額縁部にオーバーコート膜及び複数の柱状スペーサが形成されており、前記額縁部の前記色材層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd1、前記画素部の前記色材層上の前記オーバーコート膜の膜厚をd2とし、前記額縁部の前記色材層及び前記オーバーコート膜上の前記柱状スペーサの高さをa、前記画素部の前記色材層及び前記オーバーコート膜上の前記柱状スペーサの高さをbとしたとき、前記遮光層及び前記色材層が形成された前記基板、又は当該基板と対向する基板に、前記画素部の前記遮光層上に、前記額縁部と前記画素部のセルギャップの差をad1c1-bd2c2より小さく調整する膜厚調整膜が形成されたものである。本発明によれば、BM段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上された液晶表示装置を提供することができる。実施形態1図面を参照して、本発明に係る実施形態1の液晶表示装置について説明する。本実施形態では、スイッチング素子として薄膜トランジスタTFTを用いた透過型のアクティブマトリックス型液晶表示装置を例として、説明する以降の実施形態でも同様。本実施形態の液晶表示装置は、モノクロ単色液晶表示装置である。図1は液晶表示装置の全体概略断面図である。図2は対向基板の要部断面図である。図3A~図3Cは対向基板の製造工程図である。各図における各構成要素の位置及び縮尺等は便宜上のものであり、実際のものとは適宜異ならせて、簡略化してある他の実施形態についても同様。図1に示すように、本実施形態の液晶表示装置100は、液晶層20と、液晶層20を挟持して対向配置されたTFTアレイ基板1と対向基板2とからなる液晶セル3を備えている。TFTアレイ基板1は、ガラス基板等の透光性を有する絶縁性基板11と、この液晶層20側の内面に平面視マトリックス状に形成された複数の画素電極12と、これら複数の画素電極12のスイッチング素子である複数のTFT13とを備え、液晶層20側の最表面に図示しない配向膜を備えている。図中、符号14は画素電極12とTFT13との間に形成された絶縁膜を模式的に示している。TFTアレイ基板1は、TFT13に接続されたソース線及びゲート線、及びこれらの配線に接続された引廻し配線等の各種配線など、TFTアレイ基板に必要な要素が形成されているが、ここでは図示を簡略化してある。液晶表示装置100において、複数の画素電極12及び複数の画素スイッチング素子TFT13が形成された領域が画素部Pであり、その外側の領域が額縁部Fである。画素部Pは表示領域を含んでおり、画素部Pの周縁部は一部非表示領域とされる場合もある。額縁部Fは非表示領域である。対向基板2は、ガラス基板等の透光性を有する絶縁性基板30と、この液晶層20側の内面に形成された遮光層BM40と、OC膜オーバーコート膜、平坦化膜51と、共通電極60とを備え、液晶層20側の最表面に図示しない配向膜を備えている。BM40は画素部P及び額縁部Fの双方に形成されており、画素部Pの隣接する画素間及び額縁部Fを遮光する層である。BM40は、画素部Pに複数の開口部画素開口部40Hを有し、額縁部Fには開口部40Hを有していない。本実施形態において、BM40はアクリル系樹脂などに黒色顔料を分散させた樹脂BMからなり、1~2μm程度の膜厚で形成されている。BM40はCr等の遮光性金属によって形成することもできる。TFTアレイ基板1と対向基板2間の周縁部にはシール材80が形成され、この内部に液晶層20が封入されている。図2に示すように、対向基板2の配向膜上には、画素部Pと額縁部Fの双方のBM40の形成領域に、複数の樹脂製の柱状スペーサ21が形成されている。複数の柱状スペーサ21は、液晶層20内、すなわちTFTアレイ基板1の配向膜と対向基板2の配向膜との間に形成されている。TFTアレイ基板1と対向基板2の外面液晶層20側と反対の面にはそれぞれ、偏光板71、72及び図示しない位相差補償素子が取り付けられている。TFTアレイ基板1の額縁部Fには外部接続端子90が設けられており、FFCフレキシブルフラットケーブルを介して、制御基板92が接続されている。液晶セル3の視認側と反対側にはバックライトが設けられている図示略。図1及び図2に示すように、本実施形態において、画素部PのBM40の複数の開口部40H内に、BMと略同一膜厚のOC膜51が形成され、画素部P及び額縁部FのBM40上にOC膜51が形成されずに、BM40及びOC膜51が形成された対向基板2の表面が略平坦化されており、画素部P及び額縁部FのBM40上に複数の柱状スペーサ21が形成されている。OC膜51の材料としては特に制限されず、一般的なカラーフィルタ基板に用いられるOC膜でもよいし、透光性を有するアクリル樹脂等でもよい。OC膜51の材料としては、パターニング形成が容易となる様に、色材層等と同様の感光性樹脂であることが望ましい。OC膜51の材料は、色材層と同様の着色材料でもよく、色材層と主成分が同じで顔料を含まない非着色材料でもよい。本実施形態において、表面が略平坦化されたBM40とOC膜51上に配向膜図示略が形成されており、この上に、複数の柱状スペーサ21が形成されている。複数の柱状スペーサ21は、画素部P及び額縁部FのBM40の形成領域に形成されている。本実施形態では、BM40の複数の開口部40HがOC膜51により埋められて、略平坦化された対向基板2に、複数の柱状スペーサ21が形成されている。BM40の複数の開口部40H内にのみOC膜51を形成して略平坦化した対向基板2上に柱状スペーサ形成用樹脂を塗布することから、樹脂塗布ムラが抑制され、これによって柱状スペーサ21の高さにばらつきが生じることが抑制される。本実施形態では、柱状スペーサ21は画素部Pと額縁部Fで高さの差がない下地上に形成されるため、画素部Pと額縁部Fで柱状スペーサ21の高さが略均一となり、周辺セルギャップムラが抑制される。本実施形態ではまた、配向膜が表面が略平坦化されたBM40及びOC膜51上に形成され、その平坦性が高くなるため、その配向処理であるラビング処理を略均一に行うことができ、配向不良の発生が低減され、表示品質が向上するという効果も得られる。柱状スペーサ21の下地の平坦性が高い程、上記効果がより高まることは明らかである。図1及び図2中、BM40とOC膜51は膜厚が完全に一致し、これらの表面が完全に平坦化されている場合について図示してある。ただし、BM40とOC膜51は、一般的なカラーフィルタ基板のBM及び色材層と同様に、BMの画素開口部をBMとほぼ同じ膜厚のOC膜で埋めている程度の平坦性があればよい。即ち、BM40とOC膜51は、感光性樹脂の塗布とパターニングを繰り返してBMと色材層を順次形成する一般的なカラーフィルタ基板の製造の過程で形成されるBMと色材層の厚みの差程度の厚みの差を有していてもよい。一般的なカラーフィルタ基板のBM及び色材層と同様に、互いに隣接するBM40とOC膜51の境界近傍部分は、これらの層が多少重なり合って、多少の凹凸が形成されていてもよい。一般的なカラーフィルタ基板のBM及び色材層で許容される程度に平坦化されていれば、セルギャップの均一性として充分であり、良好な表示品質が得られる。互いに隣接するBM40とOC膜51の境界近傍部分に多少の凹凸が形成される場合、別途研磨などの平坦化工程を追加して、平坦化しても構わない。略同一膜厚及び略平坦化の具体的な定義については、前述の記載を参照されたい。次に、図3A~図3Cを参照して、対向基板2の製造方法の一例について説明する。図3Aに示すように、公知方法に従って、ガラス等の基板30上に、画素部Pに複数の開口部40Hを有し、額縁部Fに開口部40Hを有さない樹脂製のBM40をパターニング形成する。次に同図に示すように、BM40を形成した基板30上に、OC膜51となる感光性樹脂51Rをスピンコート法などにより塗布する。次に図3Bに示すように、BM40の形成領域の感光性樹脂51Rを選択的に除去する。例えば、感光性樹脂51Rがポジ型の場合、BM40の形成領域の感光性樹脂51Rのみを感光し、その後、感光性樹脂51Rを現像することにより、BM40の形成領域の感光性樹脂51Rを選択的に除去することができる。以上の工程後に、BM40の複数の開口部40Hを埋めるOC膜51が形成される。次に、BM40の複数の開口部40HがOC膜51で埋められ、表面が略平坦化された基板30上に、配向膜の塗布形成、及びラビング処理を行う図示略。次に図3Cに示すように、表面が略平坦化された基板30上に、柱状スペーサ21となる感光性樹脂21Rをスピンコート法などにより塗布する。下地が略平坦化されているので、画素部P及び額縁部Fに塗布される感光性樹脂21Rの厚みは略均一となる。その後、感光性樹脂21Rの露光及び現像を実施して、図2に示した対向基板2が製造される。以上説明したように、本実施形態によれば、BM段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置100を提供することができる。実施形態2図面を参照して、本発明に係る実施形態2の液晶表示装置について説明する。本実施形態の液晶表示装置は、実施形態1と同様、モノクロ単色液晶表示装置である。図4は対向基板の要部断面図である。本実施形態の基本的な構成は実施形態1と同様であり、実施形態1と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態1と同様であり、実施形態1とは対向基板の構成のみが異なっている。本実施形態の液晶表示装置の対向基板4は、実施形態1と同様、画素部P及び額縁部Fに形成され、画素部Pに複数の開口部40Hを有し、額縁部Fに開口部40Hを有さず、画素部Pの隣接する画素間及び額縁部Fを遮光するBM40を備え、画素部Pの複数の開口部40H内に、BM40と略同一膜厚のOC膜51が形成され、画素部P及び額縁部FのBM40上にOC膜51が形成されずに、BM40及びOC膜51が形成された基板の表面が略平坦化されている。対向基板4ではさらに、表面が略平坦化されたBM40及びOC膜51上に、第2のOC膜52が形成され、第2のOC膜52上に配向膜図示略が形成され、その上に、複数の柱状スペーサ21が形成されている。本実施形態では、BM40及びOC膜51によって概ね平坦化された基板30上にさらに第2のOC膜52を形成しているので、実施形態1よりも基板表面の平坦性がより一層高められ、柱状スペーサ形成用樹脂膜の膜厚ばらつきがより低減されて、画素部Pと額縁部Fにおける柱状スペーサ21の高さがより均一となり、周辺セルギャップムラがより低減される。さらに本実施形態では、BM40が第2のOC膜52で被覆されるので、BM40からの液晶層20等の他の層への汚染を防ぐことができ、焼付きなどの表示不良を防ぐことができる効果も得られる。以上説明したように、本実施形態によっても、BM段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。実施形態3図面を参照して、本発明に係る実施形態3の液晶表示装置について説明する。本実施形態の液晶表示装置は、実施形態1と同様、モノクロ単色液晶表示装置である。図5は対向基板の要部断面図である。本実施形態の基本的な構成は実施形態1と同様であり、実施形態1と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態1と同様であり、実施形態1とは対向基板の構成のみが異なっている。本実施形態の液晶表示装置の対向基板5は、実施形態1と同様、画素部P及び額縁部Fに形成され、画素部Pに複数の開口部40Hを有し、額縁部Fに開口部40Hを有さず、画素部Pの隣接する画素間及び額縁部Fを遮光するBM40を備えている。本実施形態では、額縁部Fの柱状スペーサ21の高さをa、画素部Pの柱状スペーサ21の高さをbとしたとき、a>bである。画素部Pと額縁部Fの柱状スペーサ21の高さの差は、BM段差に起因した柱状スペーサ形成用樹脂膜の塗布ムラによるものである。本実施形態において、BM40が形成された対向基板5の画素部Pには、BM40上及びBM40の複数の開口部40H内にOC膜51が形成され、額縁部Fの柱状スペーサ21の形成領域にはOC膜51が形成されていない。本実施形態では、画素部Pに形成するOC膜51の膜厚を調整することで、額縁部FにおいてBM40上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置と、画素部PにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置との差Δdがa-bより小さく調整されている。画素部PのBM40上では、開口部40Hに流入する樹脂によって比較的薄いOC膜51が形成されることから、画素部Pと額縁部Fの柱状スペーサ21の高さの差を画素部Pに形成したOC膜51で調整することができる。画素部PのBM40上のOC膜51の膜厚をa-bに略等しくして、Δd≒0となるように調整することが最も好ましい。本実施形態によっても、BM段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。実施形態4図面を参照して、本発明に係る実施形態4の液晶表示装置について説明する。本実施形態の液晶表示装置は、実施形態1と同様、モノクロ単色液晶表示装置である。図6は対向基板の要部断面図である。本実施形態の基本的な構成は実施形態1と同様であり、実施形態1と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態1と同様であり、実施形態1とは対向基板の構成のみが異なっている。本実施形態の液晶表示装置の対向基板6は、実施形態1と同様、画素部P及び額縁部Fに形成され、画素部Pに複数の開口部40Hを有し、額縁部Fに開口部40Hを有さず、画素部Pの隣接する画素間及び額縁部Fを遮光するBM40を備えている。本実施形態では、額縁部Fの柱状スペーサ21の高さをa、画素部Pの柱状スペーサ21の高さをbとしたとき、a>bである。画素部Pと額縁部Fの柱状スペーサ21の高さの差は、BM段差に起因した柱状スペーサ形成用樹脂膜の塗布ムラによるものである。本実施形態では、BM40が形成された対向基板6の画素部P及び額縁部FにOC膜51が形成されており、額縁部FのBM40上のOC膜51の膜厚をd1、画素部PのBM40上のOC膜51の膜厚をd2としたとき、d1>d2である。画素部Pと額縁部FのOC膜51の膜厚の差は、BM段差に起因したOC膜51の塗布ムラによるものである。BM40が形成された対向基板6には、画素部Pの柱状スペーサ21の形成位置に、額縁部Fと画素部Pのセルギャップの差をad1-bd2より小さく調整する膜厚調整膜53が形成されている。膜厚調整膜53は、OC膜51と同様の材料、又はその他の任意の材料により形成できる。膜厚調整膜53の膜厚をad1-bd2に略等しくし、額縁部Fと画素部Pのセルギャップの差をほぼ0にすることが最も好ましい。本実施形態によっても、BM段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。画素部PのBM40上のOC膜51の膜厚は比較的薄くなるが、本実施形態では、その上に膜厚調整膜53が形成されるので、画素部PのBM40がOC膜51と膜厚調整膜53によって被覆され、BM40から他の層への汚染が抑制され、焼付きなどの表示不良を防ぐことができるという効果も得られる。実施形態5図面を参照して、本発明に係る実施形態5の液晶表示装置について説明する。本実施形態の液晶表示装置は、実施形態1と同様、モノクロ単色液晶表示装置である。図7は対向基板の要部断面図である。本実施形態の基本的な構成は実施形態1と同様であり、実施形態1と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態1と同様であり、実施形態1とは対向基板の構成のみが異なっている。本実施形態の液晶表示装置の対向基板7は、実施形態1と同様、画素部P及び額縁部Fに形成され、画素部Pに複数の開口部40Hを有し、額縁部Fに開口部40Hを有さず、画素部Pの隣接する画素間及び額縁部Fを遮光するBM40を備えている。本実施形態では、額縁部Fの柱状スペーサ21の高さをa、画素部Pの柱状スペーサ21の高さをbとしたとき、a>bである。画素部Pと額縁部Fの柱状スペーサ21の高さの差は、BM段差に起因した柱状スペーサ形成用樹脂膜の塗布ムラによるものである。本実施形態では、BM40が形成された対向基板7の画素部P及び額縁部Fに感光性レジストを用いてOC膜51が形成されている。本実施形態において、OC膜51形成時に額縁部Fと画素部Pを同一露光条件で露光したときの額縁部FのBM40上のOC膜51の膜厚をd1、画素部PのBM40上のOC膜51の膜厚をd2としたとき、d1>d2である。そして、額縁部FにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置と、画素部PにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置との差がad1-bd2より小さくなるよう、OC膜51形成時の額縁部Fと画素部Pの露光条件を変えて、OC膜51の額縁部Fと画素部Pの膜厚が調整されている。より具体的には、本実施形態において、額縁部FのBM40上のOC膜51の膜厚をd3、画素部PのBM40上のOC膜51の膜厚をd4としたとき、例えばd1≒d3の条件であれば、d4>d2となるよう、額縁部Fと画素部PのOC膜51の露光条件が変えられる。OC膜51の膜厚調整は、ハーフトーンマスクあるいはグレイトーンマスクなどの階調マスクを用いて露光することで、実施できる。好ましくは、額縁部FにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置と、画素部PにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置との差がad1-bd2より小さくなる条件を充足し、かつ、d3<d4となるよう、額縁部Fと画素部PのOC膜51の露光条件が変えられる。さらに、d4-d3をa-bに略等しくし、額縁部FにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置と、画素部PにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置との差をほぼ0にすることが最も好ましい。本実施形態によっても、BM段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。実施形態6図面を参照して、本発明に係る実施形態6の液晶表示装置について説明する。本実施形態の液晶表示装置は、実施形態1と同様、モノクロ単色液晶表示装置である。図8は対向基板の要部断面図である。本実施形態の基本的な構成は実施形態1と同様であり、実施形態1と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態1と同様であり、実施形態1とは対向基板の構成のみが異なっている。本実施形態の液晶表示装置の対向基板8は、実施形態1と同様、画素部P及び額縁部Fに形成され、画素部Pに複数の開口部40Hを有し、額縁部Fに開口部40Hを有さず、画素部Pの隣接する画素間及び額縁部Fを遮光するBM40を備えている。本実施形態において、BM40が形成された対向基板8の額縁部Fと画素部PにOC膜51が形成され、BM40が形成された対向基板8の額縁部Fと画素部Pに感光性レジストを用いて複数の柱状スペーサ21が形成されている。本実施形態において、額縁部FのBM40上のOC膜51の膜厚をd1、画素部PのBM40上のOC膜51の膜厚をd2としたとき、d1>d2である。画素部Pと額縁部FのOC膜51の膜厚の差は、BM段差に起因したOC膜51の塗布ムラによるものである。本実施形態において、柱状スペーサ21形成時に額縁部Fと画素部Pを同一露光条件で露光したときの額縁部Fの柱状スペーサ21の高さをa、画素部Pの柱状スペーサ21の高さをbとしたとき、a>bである。本実施形態では、画素部PにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置と、額縁部FにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置との差がad1-bd2より小さくなるよう、柱状スペーサ21形成時の額縁部Fと画素部Pの露光条件を変えて、柱状スペーサ21の額縁部Fと画素部Pの高さが調整されている。より具体的には、本実施形態において、額縁部FのBM40上の柱状スペーサ21の高さをx、画素部PのBM40上の柱状スペーサ21の高さをyとしたとき、例えばx≒aの条件であれば、y>bとなるよう、額縁部Fと画素部Pの柱状スペーサ21形成時の露光条件が変えられる。柱状スペーサ21の高さ調整は、ハーフトーンマスクあるいはグレイトーンマスクなどの階調マスクを用いて露光することで、実施できる。好ましくは、本実施形態において、額縁部FにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置と、画素部PにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置との差がad1-bd2より小さくなる条件を充足し、かつ、x<yとなるよう、額縁部Fと画素部PのOC膜51の露光条件が変えられる。さらに、y-xをd1-d2に略等しくし、額縁部FにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置と、画素部PにおいてBM40及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の頂点高さ位置との差をほぼ0にすることが最も好ましい。本実施形態によっても、BM段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。実施形態7図面を参照して、本発明に係る実施形態7の液晶表示装置について説明する。本実施形態の液晶表示装置は、実施形態1と同様、モノクロ単色液晶表示装置である。図9は液晶表示装置の要部断面図である。本実施形態の基本的な構成は実施形態1と同様であり、実施形態1と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態4と同様であり、実施形態4とは膜厚調整膜をTFTアレイ基板に設けた点のみが異なっている。本実施形態の液晶表示装置の対向基板9は、実施形態1と同様、画素部P及び額縁部Fに形成され、画素部Pに複数の開口部40Hを有し、額縁部Fに開口部40Hを有さず、画素部Pの隣接する画素間及び額縁部Fを遮光するBM40を備えている。本実施形態では、額縁部Fの柱状スペーサ21の高さをa、画素部Pの柱状スペーサ21の高さをbとしたとき、a>bである。画素部Pと額縁部Fの柱状スペーサ21の高さの差は、BM段差に起因した柱状スペーサ形成用樹脂膜の塗布ムラによるものである。本実施形態では、BM40が形成された対向基板9の画素部P及び額縁部FにOC膜51が形成されており、額縁部FのBM40上のOC膜51の膜厚をd1、画素部PのBM40上のOC膜51の膜厚をd2としたとき、d1>d2である。画素部Pと額縁部FのOC膜51の膜厚の差は、BM段差に起因したOC膜51の塗布ムラによるものである。本実施形態では、TFTアレイ基板1に、画素部Pの柱状スペーサ21の形成位置に、額縁部Fと画素部Pのセルギャップの差をad1-bd2より小さく調整する膜厚調整膜54が形成されている。膜厚調整膜54は、OC膜51と同様の材料、又はその他の任意の材料により形成できる。膜厚調整膜54の膜厚をad1-bd2に略等しくし、額縁部Fと画素部Pのセルギャップの差をほぼ0にすることが最も好ましい。本実施形態によっても、BM段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたモノクロ液晶表示装置を提供することができる。実施形態8図面を参照して、本発明に係る実施形態8の液晶表示装置について説明する。本実施形態の液晶表示装置は、カラー液晶表示装置である。図10は対向基板の要部断面図である。本実施形態の基本的な構成は実施形態1と同様であり、実施形態1と同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置の全体構成は実施形態1と同様であり、実施形態1とは対向基板の構成のみが異なっている。本実施形態の液晶表示装置の対向基板9は、実施形態1と同様、画素部P及び額縁部Fに形成され、画素部Pに複数の開口部40Hを有し、額縁部Fに開口部40Hを有さず、画素部Pの隣接する画素間及び額縁部Fを遮光するBM40を備えている。本実施形態の液晶表示装置は、画素部PのBM40上及び複数の開口部40H内に色材層41が形成されたカラー液晶表示装置であり、額縁部FのBM40上の少なくとも一部に色材層41が形成されている。色材層41は例えば、赤R、緑G、及び青Bの3色の層である。本実施形態において、額縁部FのBM40上の色材層41の膜厚をc1、画素部PのBM40上の色材層41の膜厚をc2としたとき、c1>c2である。画素部Pと額縁部Fの色材層41の膜厚の差は、BM段差に起因した色材層41の塗布ムラによるものである。本実施形態では、BM40及び色材層41が形成された対向基板10の画素部P及び額縁部FにOC膜51及び複数の柱状スペーサ21が形成されている。本実施形態において、額縁部Fの色材層41上のOC膜51の膜厚をd1、画素部Pの色材層41上のOC膜51の膜厚をd2とし、額縁部Fの色材層41及びOC膜51上の柱状スペーサ21の高さをa、画素部Pの色材層41及びOC膜51上の柱状スペーサ21の高さをbとしたとき、対向基板10の画素部PのBM40の形成領域に、額縁部Fと画素部Pのセルギャップの差をad1c1-bd2c2より小さく調整する膜厚調整膜42が形成されている。膜厚調整膜54の膜厚をad1c1-bd2c2に略等しくし、額縁部Fと画素部Pのセルギャップの差をほぼ0にすることが最も好ましい。図示する例では、膜厚調整膜42は、色材層41上に形成された第2の色材層である。第2の色材層は表示に寄与しないので、下層の第1の色材層41と同色でもよいし、異なる層でもよい。本実施形態において、額縁部Fには、BM40及びOC膜51上に形成される柱状スペーサ21と、BM40、色材層41、及びOC膜51上に形成される柱状スペーサ21とがあるが、額縁部Fのセルギャップは、BM40、色材層41、及びOC膜51上に形成された柱状スペーサ21の高さに依存する。以上説明したように、本実施形態によれば、BM及び色材層の段差によるセルギャップの不均一性が低減され、表示品質が向上されたカラー液晶表示装置を提供することができる。膜厚調整膜42は、OC膜等の他の層によって形成することもでき、実施形態7のようにTFTアレイ基板1側に設けることもできる。本実施形態では、実施形態4、7をカラー液晶表示装置に適用した適用例について説明したが、実施形態3、5、6をカラー液晶表示装置に適用することもできる。この場合、実施形態3、5、6の設計に合わせて、画素部Pと額縁部Fの色材層41の膜厚の差を考慮して、BM40及び色材層41の段差によるセルギャップの不均一性を低減するようにすればよい。設計変更本発明は上記実施形態に限らず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、設計変更可能である。本発明は、透過型のTFT液晶表示装置のみならず、任意の表示方式の液晶表示装置に適用可能である。