"ゴムブレンド物であって、a第一のニトリルゴムであって、多くとも50000g/molの重量平均分子量Mwを有し、かつi少なくとも1種の共役ジエン、少なくとも1種のα,β-不飽和ニトリル、および任意選択的に1種または複数のさらなる共重合性モノマーから誘導された繰り返し単位、およびii一般式I、II、III、IV、またはVの、一つまたは複数の構造要素、を含む第一のニトリルゴム、[式中、Zは、H、直鎖状もしくは分岐状で、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のアルキル残基、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アミノ、アミド、ヒドロキシイミノ、カルバモイル、アルコキシカルボニル、F、Cl、Br、I、ヒドロキシル、ホスホナト、ホスフィナト、アルキルチオ、アリールチオ、スルファニル、チオカルボキシル、スルフィニル、スルホノ、スルフィノ、スルフェノ、スルホン酸、スルファモイル、シリル、シリルオキシ、ニトリル、カルボニル、カルボキシル、オキシカルボニル、オキシスルホニル、オキソ、チオキソ、ボレート、セレネート、エポキシ、シアネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート、またはイソシアニドであり、Rは、am≠0であるならば、残基Zと同じ定義を有しており、bm=0であるならば、H、直鎖状もしくは分岐状で、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のアルキル残基、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アミノ、アミド、カルバモイル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、スルファニル、チオカルボキシル、スルフィニル、スルホノ、スルフィノ、スルフェノ、スルホン酸、スルファモイル、カルボニル、カルボキシル、オキシカルボニル、オキシスルホニル、オキソ、チオキソ、エポキシ、シアネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート、またはイソシアニドであり、Mは、共役もしくは非共役ジエン、アルキンおよびビニル化合物を含む1種または複数のモノ-もしくはポリ-不飽和のモノマーの繰り返し単位を表すか、または、ポリエーテル、より詳しくはポリアルキレングリコールエーテルおよびポリアルキレンオキシド、ポリシロキサン、ポリオール、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイソシアネート、多糖類、ポリエステル、またはポリアミドを含むポリマーをもたらす構造要素を表し、nとmは、同様であっても異なっていてもよく、それぞれ0~10000の範囲であり、tは、n=0であるならば0または1であり、n≠0であるならば1であり、かつXは、CZ2、NZ、PZ、P=OZ、O、S、S=OまたはS=O2であるが、これらの残基の中のZが、先に述べたものと同じ定義を有していることも可能である]ならびにb前記第一のニトリルゴムとは異なる第二のニトリルゴムであって、b-i少なくとも1種の共役ジエン、少なくとも1種のα,β-不飽和ニトリル、および任意選択的に1種または複数のさらなる共重合性モノマーから誘導された繰り返し単位を含み、かつb-ii50000g/molよりも大きい重量平均分子量Mwおよび20~150の範囲のムーニー粘度ML14、100°Cを有する、第二のニトリルゴムを含む、ゴムブレンド物。前記第一のニトリルゴムaの前記構造要素中の前記残基ZおよびRのそれぞれが、好ましくは、Zに適用された定義のすべてを採用することが可能な1種または複数の置換基によって、より好ましくは、フルオロ、クロロ、ブロモもしくはヨード、アルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、アミド、カルバモイル、カルボニル、カルボキシル、オキシカルボニル、オキシスルホニル、およびエポキシからなる群より選択される1種または複数の置換基によって、単一もしくは複数の置換をされている、請求項1に記載のゴムブレンド物。前記第一のニトリルゴムaが、一般的構造要素iiとして、一般式VIb-1およびVIb-2のものを含む、請求項1に記載のゴムブレンド物。[式中、Zは、請求項1に与えられた定義を有し、かつRは、請求項1に与えられた定義を有するが、ただしRが、前記非水素化もしくは水素化ニトリルゴムにおいて隣接する結合原子に対する結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している]Rが、前記第一のニトリルゴムaにおいて隣接する原子に対する結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという条件下で、Rが代わりに、-直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-ヘテロアリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-ヘテロアラルキル残基、極めて好ましくはベンジル、フェニルエチル、または1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩、である、請求項3に記載のゴムブレンド物。前記第一のニトリルゴムaが、一般的構造要素iiとして、式IIIのもの、および一般式II’および/またはI’のものを含む、請求項1に記載のゴムブレンド物。[式中、Zは、請求項1の記載と同じ定義を有し、かつRは、請求項1において、m=0であるケースbにおける記載と同じ定義を有し、かつRとZは同様であっても異なっていてもよいが、ただし、それぞれの場合において、RおよびZが、前記ニトリルゴム中のそれぞれ隣接した原子に対するそれらの結合のホモリティック開裂の後に、それぞれ、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成する]RとZは同様であっても異なっていてもよいが、ただしRおよびZが、前記第一のニトリルゴムa中のそれぞれ隣接した原子に対する結合のホモリティック開裂の後に、それぞれ、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成し、RおよびZが、-直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-ヘテロアリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-ヘテロアラルキル残基、極めて好ましくはベンジル、フェニルエチル、または1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩、である、請求項5に記載のゴムブレンド物。前記第一のニトリルゴムaが、一般的構造要素iiとして、一般式VIc-1およびVIc-2のものを含む、請求項1に記載のゴムブレンド物。[式中、Zは、請求項1に与えられた定義を有し、かつRは、請求項1に与えられた定義を有するが、ただしRが、前記ニトリルゴムにおいて隣接する原子に対する結合のホモリティック開裂の後に、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している]Rが、前記第一のニトリルゴムaにおいて隣接する原子に対するホモリティック開裂の後に、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという条件下で、Rが、-直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-ヘテロアリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-ヘテロアラルキル残基、極めて好ましくはベンジル、フェニルエチル、または1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩、である、請求項7に記載のゴムブレンド物。前記第一のニトリルゴムaが、1.0~2.9、好ましくは1.1~2.8、より好ましくは1.15~2.7、特には1.2~2.6の範囲の多分散性指数を有する、請求項1に記載のゴムブレンド物。前記第一のニトリルゴムaが、45000g/mol以下、好ましくは40000g/mol以下、より好ましくは35000g/mol以下、極めて好ましくは30000g/mol以下、特に好ましくは25000g/mol以下の重量平均分子量Mwを有する、請求項1に記載のゴムブレンド物。前記第二のニトリルゴムbが、25~140の範囲のムーニー粘度ML14、100°Cを有する、請求項1に記載のゴムブレンド物。前記第二のニトリルゴムbが、1.0~8.0、好ましくは1.5~7、より好ましくは2~6の範囲の多分散性指数を有する、請求項1に記載のゴムブレンド物。前記第一のニトリルゴムaが、少なくとも1種の有機溶媒および少なくとも1種の重合調節剤の存在下に、少なくとも1種の共役ジエン、少なくとも1種のα,β-不飽和ニトリル、および任意選択的に1種または複数のさらなる共重合性モノマーをフリーラジカル重合させ、任意選択的に次いで、水素化させて水素化ニトリルゴムを形成させることによって得ることが可能であり、重合調節剤として、一般構造式VIの少なくとも1種の化合物を使用する、請求項1に記載のゴムブレンド物。[式中、Zは、H、直鎖状もしくは分岐状で、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のアルキル残基、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アミノ、アミド、ヒドロキシイミノ、カルバモイル、アルコキシカルボニル、F、Cl、Br、I、ヒドロキシル、ホスホナト、ホスフィナト、アルキルチオ、アリールチオ、スルファニル、チオカルボキシル、スルフィニル、スルホノ、スルフィノ、スルフェノ、スルホン酸、スルファモイル、シリル、シリルオキシ、ニトリル、カルボニル、カルボキシル、オキシカルボニル、オキシスルホニル、オキソ、チオキソ、ボレート、セレネート、エポキシ、シアネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート、またはイソシアニドであり、Rは、am≠0であるならば、残基Zと同じ定義を有していてよく、bm=0であるならば、H、直鎖状もしくは分岐状で、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のアルキル残基、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アミノ、アミド、カルバモイル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、スルファニル、チオカルボキシル、スルフィニル、スルホノ、スルフィノ、スルフェノ、スルホン酸、スルファモイル、カルボニル、カルボキシル、オキシカルボニル、オキシスルホニル、オキソ、チオキソ、エポキシ、シアネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート、またはイソシアニドであり、Mは、共役もしくは非共役ジエン、アルキンおよびビニル化合物を含む1種または複数のモノ-もしくはポリ-不飽和のモノマーの繰り返し単位を表すか、または、ポリエーテル、より詳しくはポリアルキレングリコールエーテルおよびポリアルキレンオキシド、ポリシロキサン、ポリオール、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイソシアネート、多糖類、ポリエステル、もしくはポリアミドを含むポリマーをもたらす構造要素を表し、nとmは、同様であっても異なっていてもよく、それぞれ0~10000の範囲であり、tは、n=0であるならば0または1であり、n≠0であるならば1であり、かつXは、CZ2、NZ、PZ、P=OZ、O、S、S=OまたはS=O2であるが、これらの残基の中のZが、式VIについて先に述べたものと同じ定義を有していてもよい]請求項1~13のいずれかに記載のゴムブレンド物、少なくとも1種の架橋剤、任意選択的に少なくとも1種の充填剤、および任意選択的に1種または複数のさらなるゴム添加剤を含む、加硫可能な混合物。好ましくは少なくとも1種の架橋剤を添加するか、または光化学的活性化によって、請求項14に記載の前記加硫可能な混合物を架橋させることを特徴とする、加硫物を製造するための方法。請求項15に記載の方法によって得ることが可能な加硫物、好ましくは成形物。先に概説した背景にかんがみ、本発明の目的は、一方では、加硫において容易かつ迅速に加工することが可能であり、さらにそれと同時に、良好な加硫特性を示し、優れた機械的、物理的および/または動的性質を有する加硫物が得られる、ニトリルゴムをベースとする新規な加硫可能な混合物を提供することであった。驚くべきことには、この目的は、2種の異なったニトリルゴム新規なゴムブレンド物の手段によって達成されることが見出されたが、その2種のニトリルゴムの内の1種は、特に低い重量平均分子量と、特定の構造要素とを特徴としている。本発明は、以下のものを含む新規なゴムブレンド物を提供する:a第一のニトリルゴムであって、多くとも50000g/molの重量平均分子量Mwを有し、かつa-i少なくとも1種の共役ジエン、少なくとも1種のα,β-不飽和ニトリル、および任意選択的に1種または複数のさらなる共重合性モノマーから誘導された繰り返し単位、およびa-ii一般式I、II、III、IV、またはVの、一つまたは複数の構造要素、を含む第一のニトリルゴム、[式中、Zは、H、直鎖状もしくは分岐状で、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のアルキル残基、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アミノ、アミド、ヒドロキシイミノ、カルバモイル、アルコキシカルボニル、F、Cl、Br、I、ヒドロキシル、ホスホナト、ホスフィナト、アルキルチオ、アリールチオ、スルファニル、チオカルボキシル、スルフィニル、スルホノ、スルフィノ、スルフェノ、スルホン酸、スルファモイル、シリル、シリルオキシ、ニトリル、カルボニル、カルボキシル、オキシカルボニル、オキシスルホニル、オキソ、チオキソ、ボレート、セレネート、エポキシ、シアネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート、またはイソシアニドであり、Rは、am≠0であるならば、残基Zと同じ定義を有していてよく、かつbm=0であるならば、H、直鎖状もしくは分岐状で、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のアルキル残基、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アミノ、アミド、カルバモイル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、スルファニル、チオカルボキシル、スルフィニル、スルホノ、スルフィノ、スルフェノ、スルホン酸、スルファモイル、カルボニル、カルボキシル、オキシカルボニル、オキシスルホニル、オキソ、チオキソ、エポキシ、シアネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート、またはイソシアニドであり、Mは、共役もしくは非共役ジエン、アルキンおよびビニル化合物を含む1種または複数のモノ-もしくはポリ-不飽和のモノマーの繰り返し単位を表すか、または、ポリエーテル、より詳しくはポリアルキレングリコールエーテルおよびポリアルキレンオキシド、ポリシロキサン、ポリオール、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイソシアネート、多糖類、ポリエステル、およびポリアミドを含むポリマーをもたらす構造要素を表し、nとmは、同様であっても異なっていてもよく、それぞれ0~10000の範囲であり、tは、n=0であるならば0または1であり、n≠0であるならば1であり、かつXは、CZ2、NZ、PZ、P=OZ、O、S、S=OまたはS=O2であるが、これらの残基の中のZが、先に述べたものと同じ定義を有していることも可能である]、ならびにb第一のニトリルゴムとは異なる第二のニトリルゴムであって、b-i少なくとも1種の共役ジエン、少なくとも1種のα,β-不飽和ニトリル、および任意選択的に1種または複数のさらなる共重合性モノマーから誘導された繰り返し単位を含み、かつb-ii50000g/molよりも大きい重量平均分子量Mwおよび20~150の範囲のムーニー粘度ML14、100°Cを有する、第二のニトリルゴム。本明細書の目的のためには、ニトリルゴムという用語は、広く解釈されるべきであって、ニトリルゴムのみではなく、水素化ニトリルゴムもまた包含されている。水素化ニトリルゴムに関連しては、~から誘導された繰り返し単位を含むニトリルゴムという上述の表現formulationは、したがって、共役ジエンに由来する繰り返し単位が、ポリマー中に最初は存在していたC=C二重結合のいくぶんかまたは全部が、重合の後で、水素化反応を受ける単位であるということを意味している。本明細書において置換されたという用語を使用した場合には、これは、指示された残基または原子の上の水素原子が、指示された基の一つによって置換されたということを意味しているが、ただし、指示された原子の原子価が過剰にならず、そして常にこの置換反応が安定な化合物をもたらすという条件下においてのみに限定される。第一のニトリルゴムaの本発明的使用が重要である。それはまず、少なくとも1種の有機溶媒および少なくとも1種の重合調節剤の存在下に、少なくとも1種の共役ジエン、少なくとも1種のα,β-不飽和ニトリル、および任意選択的に1種または複数のさらなる共重合性モノマーのフリーラジカル重合を行わせ、次いで水素化させて水素化ニトリルゴムを生成させることによって調製することができるが、重合調節剤として一般構造式VIの少なくとも1種の化合物を用いる。[式中、Zは、H、直鎖状もしくは分岐状で、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のアルキル残基、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アミノ、アミド、ヒドロキシイミノ、カルバモイル、アルコキシカルボニル、F、Cl、Br、I、ヒドロキシル、ホスホナト、ホスフィナト、アルキルチオ、アリールチオ、スルファニル、チオカルボキシル、スルフィニル、スルホノ、スルフィノ、スルフェノ、スルホン酸、スルファモイル、シリル、シリルオキシ、ニトリル、カルボニル、カルボキシル、オキシカルボニル、オキシスルホニル、オキソ、チオキソ、ボレート、セレネート、エポキシ、シアネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート、またはイソシアニドであり、Rは、am≠0であるならば、残基Zと同じ定義を有していてよく、かつbm=0であるならば、H、直鎖状もしくは分岐状で、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のアルキル残基、飽和、モノ-もしくはポリ-不飽和のカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アミノ、アミド、カルバモイル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、スルファニル、チオカルボキシル、スルフィニル、スルホノ、スルフィノ、スルフェノ、スルホン酸、スルファモイル、カルボニル、カルボキシル、オキシカルボニル、オキシスルホニル、オキソ、チオキソ、エポキシ、シアネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート、またはイソシアニドであり、Mは、共役もしくは非共役ジエン、アルキンおよびビニル化合物を含む1種または複数のモノ-もしくはポリ-不飽和のモノマーの繰り返し単位を表すか、または、ポリエーテル、より詳しくはポリアルキレングリコールエーテルおよびポリアルキレンオキシド、ポリシロキサン、ポリオール、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイソシアネート、多糖類、ポリエステル、およびポリアミドを含むポリマーをもたらす構造要素を表し、nとmは、同様であっても異なっていてもよく、それぞれ0~10000の範囲であり、tは、n=0であるならば0または1であり、n≠0であるならば1であり、かつXは、CZ2、NZ、PZ、P=OZ、O、S、S=OまたはS=O2であるが、これらの残基の中のZが、式VIについて先に述べたものと同じ定義を有していることも可能である]したがって、それらのニトリルゴムまたは水素化ニトリルゴムは、ポリマー主鎖中または末端基としていずれかに、一般式I、II、III、IV、またはVの一つまたは複数の構造要素を有している。それらはさらに、比較的低い重量平均分子量Mwを有している。上述の構造要素は、一般式VIに従った分子量調節剤にまで遡ることができる。50000g/mol以下の重量平均分子量を有し、そして主鎖中および/または上述の末端基の中に図示した構造要素を有するニトリルゴムおよび水素化ニトリルゴムaは、本発明においては有利に、顕著により高い粘度を有する慣用されるニトリルゴムおよび/または水素化ニトリルゴムbと混合されて、容易に加工され、良好な加硫特性を有するブレンド物を与えるだけでなく、引張応力、破断時伸び、ならびに50、100および300伸びにおける弾性率において良好な値を示す加硫物も与える。一つの理論に拘束されることなく言えば、その良好な架橋性は、おそらくは、その構造要素/末端基に帰することができるが、その理由は、それらが典型的な架橋剤、特に硫黄ベースのものと構造的に類似しているからである。したがって、第一のニトリルゴムを使用することで、十分な架橋密度を達成することができる。この場合においては、末端基を介しての架橋によって、加硫物中におけるルーズなポリマー鎖末端の数が減少し、その結果、たとえば動的性質のような物性が改良される。上述の重合調節剤化合物は公知であって、RAFT法と呼ばれていた。この方法は、各種のポリマーの合成においては既に使用されている国際公開第A-01/60792号パンフレット、米国特許第7,230,063B1号明細書、国際公開第A-2007/003782号パンフレット、米国特許出願公開第A-2008/0153982号明細書、国際公開第A-2005/061555号パンフレット。少なくとも1種の共役ジエン、少なくとも1種のα,β-不飽和ニトリル、および任意選択的に1種または複数のさらなる共重合性モノマーの繰り返し単位を有するニトリルゴムの重合のために、有機溶液中で一般式VIの化合物を使用するRAFT法を適用することの可能性は、現時点では未公開の出願において初めて記載された。この方法は、なかんずく、広く各種の分子量を有するニトリルゴムを調製することが可能であるばかりでなく、極めて狭い分子量分布から極めて広い分子量分布まで、特に2.0を大きく下回る多分散性指数からもわかるような極めて狭い分布を達成することも可能であることを特徴としている。第一のニトリルゴムaの調製:第一のニトリルゴムaの調製では、少なくとも1種の上述の一般式VIの重合調節剤を使用する。一般式VIの残基ZおよびRの中で記述された定義は、それぞれの場合において、単一もしくは複数の置換をされていてもよい。以下の残基は、単一もしくは複数の置換をされているのが好ましい:アルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、アミド、カルバモイル、ホスホナト、ホスフィナト、スルファニル、チオカルボキシル、スルフィニル、スルホノ、スルフィノ、スルフェノ、スルファモイル、シリル、シリルオキシ、カルボニル、カルボキシル、オキシカルボニル、オキシスルホニル、オキソ、チオキソ、ボレート、セレネート、およびエポキシ。次いで、適切な置換基としては、化学的に安定な化合物が形成されるならば、Zが採用することが可能なすべての定義が挙げられる。特に好適な置換基は、ハロゲン、好ましくはフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨード、ニトリルCN、およびカルボキシルである。一般式VIの中のZおよびRについて記述された定義には、記述された残基の塩もまた明らかに含まれるが、ただし、それらが化学的に可能であり、かつ安定である必要がある。それらは、たとえば、アンモニウム塩、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、または一般式VIの重合調節剤のプロトン化された形などであってよい。一般式VIにおけるZおよびRに与えられた定義にはさらに、有機金属残基も含まれるが、そのような例としては、その重合調節剤にグリニャール機能を与えるものが挙げられる。ZおよびRはさらに、対イオンとしてリチウム、亜鉛、スズ、アルミニウム、鉛、およびホウ素を有するカルボアニオンを表すか、またはそれらを含んでいてもよい。重合調節剤におけるさらなる可能性としては、リンカーを介し、残基Rによって固相または担持物質に結合させることも挙げられる。リンカーは、当業者には公知の、Wang酸、Sasrin酸、Rink酸、2-クロロトリチル、Mannich、SafetyCatch、Traceless,または感光性リンカーなどであってよい。好適な固相または担持物質の例としては、以下のものが挙げられる:シリカ、イオン交換樹脂、クレー、モンモリロナイト、架橋ポリスチレン、ポリスチレン上にグラフトさせたポリエチレングリコール、ポリアクリルアミドPepsyn、ポリエチレングリコール-アクリルアミドコポリマーPEGA、セルロース、綿、粒状化多孔質ガラスCPG=controlledporeglass細孔調節ガラス。たとえば、ロジウム、ルテニウム、チタン、白金、イリジウム、パラジウム、レニウム、ルテニウム、オスミウム、コバルト、鉄、または銅などの中心金属をベースとする有機金属錯体化合物のための配位子として、一般式VIの重合調節剤を機能させることもさらに可能である。上述の一般式VIにおいて残基Mとして定義されたものが、単一もしくは複数の置換をされていてもよい。したがって、Mは、モノ-もしくはポリ-不飽和のモノマー、好ましくは任意選択的に単一もしくは複数の置換をされた共役もしくは非共役ジエン、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキン、または任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたビニル化合物、たとえばフッ素化されたモノ-もしくはポリ-不飽和のビニル化合物などの一つまたは複数の繰り返し単位を表していてもよいし、そうでなければ、ポリエーテル、より詳しくはポリアルキレングリコールエーテルおよびポリアルキレンオキシド、ポリシロキサン、ポリオール、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイソシアネート、多糖類、ポリエステル、およびポリアミドを含む、置換もしくは非置換ポリマーから誘導された二価の構造要素を表していてもよい。したがって、これらの残基Mの背後には、モノマー性またはポリマー性の残基が存在していてもよい。以下のような一般式VIの重合調節剤を使用するのが好ましい:ZおよびRが、一般式VIについての上述の定義を有しており、かつ、n、mおよびtがいずれもゼロである。したがって、この好ましい重合調節剤は、一般的構造VIaを有している。[式中、残基ZおよびRは、先に述べた一般式VIについての定義のいずれかを有している]さらなる好ましい重合調節剤としては、トリチオカーボネートである、一般式VIbの重合調節剤を使用することも可能である。[式中、Zは、先に述べた一般式VIについての定義を有しており、Rは、先に述べた一般式VIでm=0であるケースbについての定義を有しているが、ただし、Rが、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している]この一般式VIbの特に好ましい重合調節剤は、以下の条件を有する一般式VIの重合調節剤から得られたものである:nおよびmが、それぞれ0であり、tが1であり、Xが硫黄であり、Zが、先に述べた一般式VIについての定義を有しており、かつRが、先に述べた一般式VIでm=0であるケースbについての定義を有しているが、ただし、Rが、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している。したがって、これら、一般式VIbの特に好ましい重合調節剤の場合には、所定の定義の文脈においてZとRが同一であるか異なっているかに依存して、トリチオカーボネートが対称であるか、または非対称となる。以下の一般式VIbの重合調節剤を使用するのが特に好ましい:Zが、先に述べた一般式VIについての定義を有しており、かつRが、以下のものであるただし、Rは、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成する:-直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-ヘテロアリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-ヘテロアラルキル残基、極めて好ましくはベンジル、フェニルエチル、または1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩。さらには、以下の一般式VIbの重合調節剤を使用するのがより特に好ましい:Zが、先に述べた一般式VIについての定義を有しているが、ただしこの場合も同様に、それらの定義に加えて、Rが、Z-S結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという、追加の制限を有している。その場合、そのトリチオカーボネート重合調節剤においては、両方の残基のRおよびZが、重合開始効果を有している。さらには、以下の一般式VIbの重合調節剤を使用するのが極めて特に好ましい:RとZが、同様であるかまたは異なっているが、ただし、RおよびZが、R-S結合またはZ-S結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成しており、それらが、以下のものである:-直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-ヘテロアリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-ヘテロアラルキル残基、極めて好ましくはベンジル、フェニルエチル、または1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル1-methyl-1-phenyleth-2-yl、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩。一般式VIb、そして以下の一般式VIc、VId、およびVIeで使用されているように、Rが、ホモリティック開裂の後に、二級もしくは三級のラジカルを形成しているという表現に関しては、以下の定義があてはまる。それらは、同様にして、Zが、Z-S結合のホモリティック開裂の後に、二級もしくは三級のラジカルを形成しているという、対応する表現にも同じようにあてはまるが、ここでその表現は、本明細書の文脈においては、Zに関連して使用される。一般式VIbにおいてさらには、それぞれ、以下の一般式VIc、VIdおよびVIeにおいて、Sに対する結合を形成する残基Rの中の原子が、R-S結合のホモリティック開裂で、三級と呼ばれるラジカルになる場合には、硫黄に対する結合は例外としてこの原子がそれに対して、少なくとも以下のように結合している:i単結合を介して三つの置換基、またはii単結合を介して一つの置換基および二重結合を介してのさらなる置換基、またはiii三重結合を介して一つの置換基、上述の置換基はいずれも、必然的に水素以外のものである。一般式VIb、VIc、VIdおよびVIeにおいて、Sに対する結合を形成する残基Rの中の原子が、R-S結合のホモリティック開裂で、前記原子に結合して二級とみなされるラジカルになる場合には、そこには以下のものが存在している:i単結合を介した二つの置換基が存在するか、またはii二重結合を介した一つの置換基が存在しているが、ここで、上述の置換基のすべてが、水素以外のものであり、かつ、さらに置換可能なものはいずれもHであることが必要である。R-SまたはZ-S結合のホモリティック開裂で三級と称されるラジカルが生成する残基RまたはZの例は、たとえば、tert-ブチル、シクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、および2-メチル-プロパンニトリル-2-イルである。R-SまたはZ-S結合のホモリティック開裂で二級と称されるラジカルが生成する残基RまたはZの例は、たとえば、sec-ブチル、イソプロピル、およびシクロアルキル、好ましくはシクロヘキシルである。後ほど式VIdで使用するような条件で、Zが、Z-S結合のホモリティック開裂の後に、一級ラジカルを形成するという効果に関しては、次の定義が適用される:一般式VIdの中のSに対する結合を生じる残基Zの中の原子が、Z-S結合のホモリティック開裂で、一級と呼ばれるラジカルを形成するのは、この原子がそれに対して、単結合を介して結合されているか、水素ではない置換基が無いか、1個以下の置換基を有しているときである。Z=Hの場合には、定義から、上述の条件が適合していると考える。Z-S結合のホモリティック開裂で、一級と呼ばれるラジカルを生じる残基Zの例としては、たとえば、H、直鎖状のC1~C20アルキル残基、OH、SH、SR、およびSに対する結合を作るC原子を超えて分岐を有するC2~C20アルキル残基が挙げられる。使用することが可能な、さらに好ましい重合調節剤は、ジチオエステルである、一般式VIcの重合調節剤である。[式中、Zは、先に述べた一般式VIについての定義を有しており、Rが、先に述べた一般式VIでm=0であるケースbについての定義を有しているが、ただし、Rが、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している]この一般式VIcの特に好ましい重合調節剤は、以下の条件を有する一般式VIの重合調節剤から得られたものである:nおよびmがそれぞれ0であり、tが1であり、XがCZ2であり、Zが、先に述べた一般式VIについての定義を有しており、かつRが、先に述べた一般式VIでm=0であるケースbについての定義を有しているが、ただし、Rが、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している。以下の一般式VIcの重合調節剤を使用するのが特に好ましい:Rが、以下のものであるただし、Rは、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成する:-直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和もしくは不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-ヘテロアリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-ヘテロアリールアルキル残基、極めて好ましくはC7-C25-ヘテロアリールアルキル残基、より詳しくはベンジル、フェニルエチル、もしくは1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩。また別な好ましい実施態様においては、非対称トリチオカーボネートである、一般式VIdの少なくとも1種の重合調節剤が使用される。[式中、Zは、先に述べた一般式VIについての定義を有しているが、ただし、Zが、S-Z結合のホモリティック開裂の後に、一級のラジカルを形成するという制限を有しており、かつRは、一般式VIにおけるZと同じ定義を有していてもよいが、ただし、Rが、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有しており、さらなる条件として、ZとRは、異なった定義を採用している]この一般式VIdの好ましい重合調節剤は、以下の条件を有する一般式VIの重合調節剤から得られたものである:nおよびmがそれぞれ0であり、tが1であり、Xが硫黄であり、Zが、先に述べた一般式VIについての定義を有しているが、ただし、Zが、S-Z結合のホモリティック開裂の後に、一級のラジカルを形成するという制限を有しており、かつRが、一般式VIにおけるZと同じ定義を有していてもよいが、ただし、Rが、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している。したがって、これらの特に好ましい一般式VIdの重合調節剤は、非対称のトリチオカーボネートである。以下のような、上述の一般式VIdの重合調節剤が特に好ましい:Zが、ただし、Zが、S-Z結合のホモリティック開裂の後で、一級のラジカルを有する、H、直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、極めて好ましくは相当するC1~C16アルキル残基、より詳しくはメチル、エチル、n-プロプ-1-イル、ブテ-2-エン-1-イル、n-ペンテ-1-イル、n-ヒキス-1-イル、もしくはn-ドデカン-1-イル、アラルキル、極めて好ましくはC7-C25-アラルキル、より詳しくはベンジル、アミノ、アミド、カルバモイル、ヒドロキシイミノ、アルコキシ、アリールオキシ、F、Cl、Br、I、ヒドロキシル、アルキルチオ、アリールチオ、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、シアネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート、イソシアニド、または上述の化合物の塩であり、かつRが、以下のものであるただし、Rは、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成する:-直鎖状、分岐状もしくは環状、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和もしくは不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-アリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-アラルキル残基、極めて好ましくはベンジル、フェニルエチル、または1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩。さらなる好ましい実施態様においては、ジチオエステルである、少なくとも1種の一般式VIeの重合調節剤を使用する。[式中、Zは、先に述べた一般式VIの定義のいずれかを有していてよく、かつRは、一般式VIにおけるZと同じ定義を有していてもよいが、ただし、Rが、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している]この一般式VIeの好ましい重合調節剤は、以下の条件を有する一般式VIの重合調節剤から得られたものである:nおよびmがそれぞれ0であり、tが1であり、XがCH2であり、Zが、先に述べた一般式VIについての定義を有しており、かつRが、一般式VIにおけるZと同じ定義を有していてもよいが、ただし、Rが、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している。以下のような、上述の一般式VIeの重合調節剤が特に好ましい:Rが、以下のものであるただし、Rは、S-R結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成する:-直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和もしくは不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-ヘテロアリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-ヘテロアリールアルキル残基、極めて好ましくはC7-C25-ヘテロアリールアルキル残基、より詳しくはベンジル、フェニルエチル、もしくは1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩。上述の重合調節剤はいずれも、従来技術から、当業者にはなじみのある方法により合成することができる。合成手順および調製の手引きに関するさらなる文献は、たとえば、Polymer,492008,1079~1131、ならびに本明細書において従来技術としてすでに引用されたすべての参考文献および特許に見出すことができる。多くの重合調節剤は、既に市販されている。フリーラジカル重合によって第一のニトリルゴムaを調製するための重合調節剤として特に好適なものとしては、以下のものが挙げられる:ドデシルプロパン酸トリチオカーボネートDoPAT、ジベンゾイルトリチオカーボネートDiBenT、クミルフェニルジチオアセテートCPDA、クミルジチオベンゾエート、フェニルエチルジチオベンゾエート、シアノイソプロピルジチオベンゾエート、2-シアノエチルジチオベンゾエート、2-シアノプロプ-2-イルジチオフェニルアセテート、2-シアノプロプ-2-イルジチオベンゾエート、S-チオベンゾイル-1H,1H,2-ケト-3-オキサ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカンチオール、およびS-チオベンゾイル-1-フェニル-2-ケト-3-オキサ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカンチオール。重合開始剤1モルあたり、5~3000molの重合調節剤を通常使用する。重合開始剤1モルあたり、20~2000molの重合調節剤を使用するのが好ましい。第一のニトリルゴムaを調製するための重合開始剤:第一のニトリルゴムaの調製法は、フリーラジカル重合である。重合を開始させる方法はそれほど重要ではなく、したがって、ペルオキシド系重合開始剤、アゾ重合開始剤、レドックス系、または光化学的開始が考えられる。これらの重合開始剤の内では、アゾ重合開始剤が好ましい。使用することが可能なアゾ重合開始剤としては、たとえば以下の化合物が挙げられる:2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス2-シアノ-2-ブタン、ジメチル2,2’-アゾビスジメチルイソブチレート、4,4’-アゾビス4-シアノペンタン酸、2-t-ブチルアゾ-2-シアノプロパン、2,2’-アゾビス[2-メチル-N-1,1-ビスヒドロキシメチル-2-ヒドロキシエチル]プロピオンアミド、2,2’-アゾビス[2-メチル-N-ヒドロキシエチル]プロピオンアミド、2,2’-アゾビスN,N-ジメチレンイソブチルアミジンジヒドロクロリド、2,2’-アゾビス2-アミジノプロパンジヒドロクロリド、2,2’-アゾビスN,N’-ジメチレンイソブチルアミン、2,2’-アゾビス2-メチル-N-[1,1-ビスヒドロキシメチル-2-ヒドロキシエチル]プロピオンアミド、2,2’-アゾビス2-メチル-N-[1,1-ビスヒドロキシメチルエチル]プロピオンアミド、2,2’-アゾビス[2-メチル-N-2-ヒドロキシエチルプロピオンアミド]、2,2’-アゾビスイソブチルアミドジハイドレート、2,2’-アゾビス2,2,4-トリメチルペンタン、2,2’-アゾビス2-メチルプロパン、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリル、2,2’-アゾビス[N-2-プロペニル-2-メチルプロピオンアミド、1-[1-シアノ-1-メチルエチルアゾ]ホルムアミド、2,2’-アゾビスN-ブチル-2-メチルプロピオンアミド、2,2’-アゾビスN-シクロヘキシル-2-メチルプロピオンアミド、および2,2’-アゾビス2,4,4-トリメチルペンタン。アゾ重合開始剤は、典型的には10-4~10-1mol/Lの量、好ましくは10-3~10-2mol/Lの量で使用する。使用する重合開始剤の量の、使用する重合調節剤の量に対する比率をバランスさせることによって、反応動力学のみならず、分子構造分子量、多分散性にも特別に影響を与えることに成功する。使用することが可能なペルオキシド系重合開始剤としては、たとえば、以下のものが挙げられる:-O-O単位を含むペルオキソ化合物、過酸化水素、ペルオキソジスルフェート、ペルオキソジホスフェート、ヒドロペルオキシド、過酸、過酸エステル、過酸無水物、および二つの有機残基を有するペルオキシド。ペルオキソニ硫酸およびペルオキソニリン酸の塩としては、ナトリウム、カリウム、およびアンモニウム塩を使用することが可能である。好適なヒドロペルオキシドの例としては以下のものが挙げられる:t-ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ピナンヒドロペルオキシド、およびp-メンタンヒドロペルオキシド。好適な、二つの有機残基を有するペルオキシドとしては、以下のものが挙げられる:ジベンゾイルペルオキシド、2,4-ジクロロベンゾイルペルオキシド、2,5-ジメチルヘキサン-2,5-ジ-t-ブチルペルオキシド、ビスt-ブチルペルオキシイソプロピルベンゼン、t-ブチルクミルペルオキシド、ジ-t-ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、t-ブチルペルベンゾエート、t-ブチルペルアセテート、2,5-ジメチルヘキサン2,5-ジペルベンゾエート、t-ブチルペル-3,5,5-トリメチルヘキサノエート。p-メンタンヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、またはピナンヒドロペルオキシドを使用するのが好ましい。また別の実施態様においては、分解時間が長いアゾ重合開始剤またはペルオキシド系重合開始剤が使用される。この場合においては、選択された溶媒中におけるアゾ重合開始剤またはペルオキシド系重合開始剤それぞれの、70°C~200°C、好ましくは80°C~175°C、より好ましくは85°C~160°C、特に好ましくは85°C~150°Cの温度における半減期が、10時間または10時間を超えるように、重合開始剤を選択することが適切であることが見出されていた。次の構造式Ini-1~Ini-6のアゾ重合開始剤を使用するのが特に好ましい。式Ini-2およびIni-3の重合開始剤を使用するのがとりわけ好ましい。上述の構造式Ini-1~Ini-6のアゾ重合開始剤は、たとえば、WakoPureChemicalIndustries,Ltd.から市販されている。半減期の概念は、重合開始剤に関連する当業者にはなじみのあるものである。単なる一例であるが、ある溶媒中で特定の温度で10時間の半減期ということは、具体的には、そのような条件下では、10時間後にはその重合開始剤の半分が、分解されているということを意味している。比較的に高い分解温度を有する、上述の好ましい重合開始剤、とりわけ上述のアゾ重合開始剤を使用すると、比較的に高い平均分子量Mw分子量の重量平均およびMn分子量の数平均を有するニトリルゴムを合成することが可能であり、そのものは、それと同時に高い直鎖性でも特徴を有している。このことは、ISO289、パート12によるか、またはそれに代えてASTMD1646によって測定したムーニー緩和が相応に低いことからも実証される。使用可能なレドックス系は、酸化剤と還元剤とからなる下記の系である。酸化剤と還元剤の適切な量の選択は、当業者には十分になじみのあることである。レドックス系を使用する場合においては、鉄、コバルトまたはニッケルのような遷移金属化合物の塩を、適切な錯化剤たとえば、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸ナトリウム、さらにはリン酸三ナトリウムまたは二リン酸四カリウムと組み合わせてさらに使用することが一般的である。この状況において使用することが可能な酸化剤としては、たとえば、先にペルオキシド系重合開始剤のところで示したすべてのペルオキソ化合物が挙げられる。本発明の方法において使用することが可能な還元剤としては、たとえば以下のものが挙げられる:ホルムアルデヒドスルホキシル酸ナトリウム、ベンズアルデヒドスルホキシル酸ナトリウム、還元糖、アスコルビン酸、スルフェン酸塩、スルフィン酸塩、スルホキシル酸塩、亜ジチオン酸塩、亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩、二亜硫酸塩、糖類、尿素、チオ尿素、キサントゲン酸塩、チオキサントゲン酸塩、ヒドラジニウム塩、アミン、およびアミン誘導体たとえば、アニリン、ジメチルアニリン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、またはトリエタノールアミン。ホルムアルデヒドスルホキシル酸ナトリウムを使用するのが好ましい。フリーラジカル重合はさらに、以下に述べるように、光化学的に開始させてもよい。この目的のためには、反応混合物に光重合開始剤を添加し、適切な波長の光に暴露させることによってその光重合開始剤を励起させて、フリーラジカル重合を開始させる。この場合、フリーラジカル重合を最適に開始させるためには、その照射時間は、照射源の出力、照射源と反応容器との間の距離、そして照射面積に依存するということに注意するべきである。しかしながら、当業者にとっては、各種の一連の試験をすることによって、最適な照射時間を決めることは容易に可能である。適切な量の重合開始剤を選択することもまた当業者にとっては問題なく可能であって、それを使用して、重合の時間/転化率挙動を調節できる。使用することが可能な光化学的重合開始剤の例としては以下のものが挙げられる:ベンゾフェノン、2-メチルベンゾフェノン、3,4-ジメチルベンゾフェノン、3-メチルベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン、4,4’-ビス[2-1-プロペニルフェノキシ]ベンゾフェノン、4-ジエチルアミノベンゾフェノン、4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4-ベンゾイルビフェニル、4-ヒドロキシベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、ベンゾフェノン-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、アセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-4’-モルホリノブチルフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、2-ヒドロキシ-4’-2-ヒドロキシエトキシ-2-メチルプロピオフェノン、3’-ヒドロキシアセトフェノン、4’-エトキシアセトフェノン、4’-ヒドロキシアセトフェノン、4’-フェノキシアセトフェノン、4’-tert-ブチル-2’,6’-ジメチルアセトフェノン、2-メチル-4’-メチルチオ-2-モルホリノプロピオフェノン、ジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキシド、フェニルビス2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキシド、メチルベンゾイルホルメート、ベンゾイン、4,4’-ジメトキシベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、4,4’-ジメチルベンジル、ヘキサクロロシクロペンタジエン、またはそれらの組合せ。第一のニトリルゴムaを調製するための溶媒:第一のニトリルゴムaの調製は、有機溶媒の中で実施される。したがって、その反応系の中には、乳化重合の場合におけるような大量の水は存在しない。より少量の水、すなわち有機溶媒の量を基準にして5重量まで、好ましくは1重量までの量のオーダーの水がその反応系の中に存在していてもよい。重要なのは、生成してくるNBRポリマーの沈殿が起きないように、存在している水の量を低く維持するべきだということである。この時点で明確に宣言しておくが、本発明の方法は、乳化重合ではない。好適な有機溶媒の例としては、以下のものが挙げられる:ジメチルアセトアミド、モノクロロベンゼン、トルエン、酢酸エチル、1,4-ジオキサン、t-ブタノール、イソブチロニトリル、3-プロパノン、ジメチルカーボネート、4-メチルブタン-2-オン、およびメチルエチルケトン。15.5~26MPa1/2の間の範囲にあるHildebrand溶解パラメーターδを有する極性溶媒が好ましいδ=ΔHV-RT/Vm1/2[MPa1/2]Vm=モル体積;ΔHV=蒸発エンタルピー;R=理想気体定数。溶媒が適切かどうかにおいて重要なのは、生成したニトリルゴムが、通常、より低い範囲にあるその反応温度で、完全に溶液の中に留まっているべきであるということである。反応中に連鎖移動剤として妨害をするような溶媒、たとえば四塩化炭素、チオール、および、当業者にはそのタイプの溶媒であると公知のその他の溶媒を使用することはできない。2種以上の有機溶媒の混合物を使用することも、同様に可能である。上記の要件を満たし、アクリロニトリルの沸点よりも低い沸点を有する溶媒、たとえばメチルtert-ブチルエーテルMTBEを使用することもまた可能である。第一のニトリルゴムaの調製における重合温度:第一のニトリルゴムaの調製は、典型的には60°C~150°Cの範囲、好ましくは70°C~130°Cの範囲、より好ましくは80°C~120°Cの範囲、特に好ましくは90°C~110°Cの範囲の温度で実施される。選択された温度がさらに低いと、重合もそれ相応に遅くなる。顕著に高い温度では、使用した重合開始剤の分解が早すぎたり、RAFT剤が分解したりする可能性がある。ペルオキシド系重合開始剤を使用した場合には特に、ある種の条件下においては、その重合調節剤が酸化されてしまう可能性もある。第一のニトリルゴムaを形成させるための重合反応の実施:ペルオキソ化合物によるか、またはアゾ重合開始剤によって開始させた場合においては、その方法の実施では、典型的には、α,β-不飽和ニトリルおよび任意選択的に採用される他の共重合性モノマー、溶媒、重合開始剤、さらには1種または複数の重合調節剤を反応容器に仕込み、次いで1種また複数の共役ジエンを計量仕込みするようにする。次いで温度を上げることによって、重合を開始させる。レドックス系の手段による開始の場合においては、典型的には、酸化剤を、モノマーの内の一つと共に反応容器の中に計量仕込みする。次いで還元剤を添加することによって、重合を開始させる。コポリマー/ターポリマーの中におけるそれぞれのモノマーを特定の比率とするためには、計量添加において適切な調節たとえば、後の方で、より大量の個別のモノマー、より大量の重合開始剤の量、重合調節剤の量または溶媒を計量仕込みすることによるを実施するのが賢明であり、また当業者にはよく知られたことである。これらの遅れての計量添加は、連続的に実施しても、あるいは個別の割合として断続的に実施してもよい。モノマーもしくは重合開始剤の遅れての計量添加も同様に、連続的に実施しても、あるいは個別の割合として断続的に実施してもよい。適切な分子量に設定したり、所望の転化率を達成させたりする目的では、重合プロセスの一つの実施態様において、重合反応の過程の一つまたは複数の時点で、より多くの重合開始剤およびより多くの溶媒を、遅れて計量添加するのが適切であることが見出された。ニトリルゴムが乳化重合によって得られた場合の、任意選択的に水素化されるニトリルゴムに比較して、そのようにして得られた第一のニトリルゴムaおよびさらには、後述の水素化によって得られた水素化ニトリルゴムは、それらが完全に乳化剤フリーであり、また、乳化重合の後にニトリルゴムを沈殿させる目的でラテックスをコアグレートさせるのに一般的に使用される塩をまったく含まないという特徴を有している。水素化:上述の重合プロセスによって得ることが可能な第一のニトリルゴムaを直接水素化にかけることも可能であるが、そのような場合においては、従来技術において今日まで採用されているNBR乳化重合の場合にようにニトリルゴムを予め単離しておくといったことは必要ない。所望によっては、同一の反応器の中で水素化を実施してもよい。このことによって、実質的な単純化となり、そのために、HNBRの調製において、コスト的に有利となる。水素化は、均一系または不均一系の水素化触媒を使用して実施してよい。採用される触媒は、典型的にはロジウム、ルテニウム、またはチタンをベースとするものではあるが、白金、イリジウム、パラジウム、レニウム、ルテニウム、オスミウム、コバルト、または銅を、金属としてまたはその他のものとして、好ましくは金属化合物の形態で使用してもよいたとえば、米国特許第A3,700,637号明細書、独国特許出願公開第A2539132号明細書、欧州特許出願公開第A0134023号明細書、独国特許出願公開第A3541689号明細書、独国特許出願公開第A3540918号明細書、欧州特許出願公開第A0298386号明細書、独国特許出願公開第A3529252号明細書、独国特許出願公開第A3433392号明細書、米国特許第A4,464,515号明細書、および米国特許第A4,503,196号明細書を参照されたい。均一相における水素化のために好適な触媒および溶媒は、以下において記述するし、独国特許出願公開第A2539132号明細書および欧州特許出願公開第A0471250号明細書からも公知である。選択的水素化は、たとえば、ロジウム含有またはルテニウム含有触媒の存在下で達成することができる。たとえば、次の一般式の触媒を使用してよいが、R1mBlMXnここで、Mは、ルテニウムまたはロジウムであり、R1は、それぞれの場合で同一であっても異なっていてもよく、C1~C8アルキル基、C4~C8シクロアルキル基、C6~C15アリール基、またはC7~C15アラルキル基であり、Bは、リン、ヒ素、硫黄またはスルホキシド基S=Oであり、Xは水素またはアニオン、好ましくはハロゲン、より好ましくは塩素または臭素であり、lは2、3または4であり、mは2または3であり、かつnは1、2または3、好ましくは1または3である。好適な触媒は、トリストリフェニルホスフィンロジウムIクロリド、トリストリフェニルホスフィンロジウムIIIクロリド、およびトリスジメチルスルホキシドロジウムIIIクロリド、さらには式C6H53P4RhHのテトラキストリフェニルホスフィンロジウム水素化物および、そのトリフェニルホスフィンの一部または全部をトリシクロヘキシルホスフィンで置換したそれに対応する化合物である。触媒の使用量は少量でよい。その量を、ポリマーの重量を基準にして、0.01~1重量の範囲、好ましくは0.03~0.5重量の範囲、より好ましくは0.1~0.3重量の範囲とするのが好適である。典型的には、その触媒を助触媒と共に使用するのが賢明であるが、その助触媒は、式R1mBの配位子であり、ここでR1、mおよびBは、先に触媒について述べた定義を有する。好ましくは、mが3であり、Bがリンであり、残基R1は同一であっても異なっていてもよい。対象となっている助触媒は、トリアルキル、トリシクロアルキル、トリアリール、トリアラルキル、ジアリール-モノアルキル、ジアリール-モノシクロアルキル、ジアルキル-モノアリール、ジアルキル-モノシクロアルキル、ジシクロアルキル-モノアリール、またはジシクロアルキル-モノアリール残基を有しているのが好ましい。助触媒の例は、たとえば米国特許第A4,631,315号明細書に見出される。好適な助触媒は、トリフェニルホスフィンである。助触媒は、水素化されるニトリルゴムの重量を基準にして、0.3~5重量の範囲、好ましくは0.5~4重量の範囲の量で使用するのが好ましい。ロジウム含有触媒の助触媒に対する重量比は、水素化されるニトリルゴム100重量部を基準にして、好ましくは1:3~1:55の範囲、より好ましくは1:5~1:45の範囲であり、また、助触媒を、水素化されるニトリルゴム100重量部あたり、適切には0.1~33重量部、好ましくは0.5~20、極めて好ましくは1~5重量部、特には2重量部よりは多いが5重量部未満の助触媒を使用する。この水素化の実施は、米国特許第A6,683,136号明細書からも、当業者には周知である。それは、典型的には、トルエンまたはモノクロロベンゼンのような溶媒の中で、100~150°Cの範囲の温度と50~150バールの範囲の圧力で2~10時間かけて、水素化されるニトリルゴムに水素を作用させることによって達成される。本発明の目的のための水素化とは、元々のニトリルゴムの中に存在していた二重結合を、少なくとも50、好ましくは70~100、特に好ましくは80~100、特別には90~100の程度にまで反応させることと理解されたい。不均一系触媒を使用するならば、それは、典型的にはパラジウムをベースとする担持触媒であって、たとえば木炭、シリカ、炭酸カルシウム、または硫酸バリウムの上に担持されている。RAFT重合調節剤の手段によって、得られるポリマーの分子量を調節することが容易となるために、低分子量かつ低ムーニー粘度のNBR反応生成物および、さらには下流側の追加の水素化を用いた、HNBR生成物も同様にを調製することが可能であり、HNBRの場合におけるような、水素化の前にさらなるプロセス工程において、その分子量をたとえば、素練り、化学分解またはメタセシスによって意図的に低下させることを自動的に実施する必要はない。言うまでもないことであるが、所望により、このタイプのさらなる分子量の低減を、特にメタセシスによって起こさせてもよいが、それについては、たとえば国際公開第A-02/100941号パンフレット、さらには国際公開第A-02/100905号パンフレットから当業者には公知である。第一のニトリルゴムa:第一のニトリルゴムaは、多くとも50000g/mol、好ましくは多くとも45000g/mol、極めて好ましくは多くとも40000g/mol、特に好ましくは多くとも35000g/mol、より特には多くとも30000g/mol、最も特には多くとも25000g/molの重量平均分子量Mwを有している。第一のニトリルゴムaはさらに、一般式I、II、III、IV、またはVの一つまたは複数の構造要素を有しているが、基としてのZおよびRについて先に記述された定義が、それぞれの場合において、単一または複数の置換を受けていてもよい。この点に関しては、一般式VIの場合にZおよびRについてなされたコメントが同様に適用される。さらに、ZおよびRのためのある種の定義を含めることに関して一般式VIについてなされたコメント記述された残基塩の形、有機金属錯体化合物のための配位子そして有機金属塩の形、およびリンカーを介しての固相または担持物質への結合は、一般的構造要素I~VにおけるZおよびRにも同様に適用される。さらに、Mの背後に横たわる定義の任意の置換に関して一般式VIについてなされたコメントも、一般的構造要素I、II、IV、およびVにも同様に適用される。本発明のゴムブレンド物の一つの実施態様においては、構造要素iiとして、一般式VIb-1およびVIb-2のものを有する第一のニトリルゴムaが使用される。[式中、Zが、先に述べた一般式Iについての定義を有しており、かつRが、先に述べた一般式Iについての定義を有しているが、ただし、Rが、ニトリルゴムにおいて隣接する結合原子に対する結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している]ここでは、ZとRが異なっているのが特に適していることが判明した。これらの構造要素は、ニトリルゴムの中の末端基として存在しており、一般式VIbの好ましい重合調節剤を使用したときに生成する。好ましい第一の非水素化もしくは水素化ニトリルゴムaは、一般的構造要素iiとして末端基VIb-1およびVIb-2を含むものであって、ここでRが以下のものであるただし、Rが、次にある結合原子に対する結合のホモリティック開裂の後に、代わりに、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成する:-直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-ヘテロアリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-ヘテロアラルキル残基、極めて好ましくはベンジル、フェニルエチル、または1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩。さらに好ましい第一の非水素化もしくは水素化ニトリルゴムaは、一般的構造要素iiとして、式iiiのものならびに一般式II’および/または一般式I’を有しているものである。[式中、Zは、一般式Iにおける同じ定義を有していてよく、かつ、Rは、一般式IIでm=0の場合と同じ定義を有していてよく、かつRとZは同様であっても異なっていてもよいが、ただし、それぞれの場合において、RおよびZが、任意選択的に水素化されるニトリルゴム中のそれぞれ隣接した原子に対するそれらの結合のホモリティック開裂の後に、それぞれ、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成する]上述の一般的構造要素IIを有する非水素化もしくは水素化の第一のニトリルゴムaは、重合調節剤として一般構造式VIbの化合物を使用した場合に得られるが、その式の中でZは、一般式VIの場合と同じ定義を有し、かつRは、先に述べた一般式VIでm=0であるケースbについての定義を有していて、RとZは同様であっても異なっていてもよいが、ただし、RおよびZは、重合調節剤における最も近い硫黄に対するそれらの結合のホモリティック開裂の後に、それぞれが、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成する。構造要素iiとしては、要素IIIおよびII’および/またはI’を含む非水素化もしくは水素化ニトリルゴムaが特に好ましいが、ここで、RとZは、同様であっても異なっていてもよいが、ただし、RおよびZが、それぞれ隣接した結合原子に対するホモリティック開裂の後に、それぞれ二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成し、それは、以下のものである:-直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-ヘテロアリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-ヘテロアラルキル残基、極めて好ましくはベンジル、フェニルエチル、または1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩。構造要素iiとして、一般式VIc-1およびVIc-2のものを含む非水素化もしくは水素化された第一のニトリルゴムaが好ましい。[式中、Zは、先に述べた一般式Iについての定義を有しており、Rは、先に述べた一般式IIについての定義を有しているが、ただし、Rが、非水素化もしくは水素化ニトリルゴムにおいて隣接する原子に対する結合のホモリティック開裂の後に、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成するという制限を有している]これらの構造要素は、任意選択的に水素化されるニトリルゴムの中の末端基として存在しており、一般式VIcの好ましい重合調節剤を採用したときに形成される。構造要素iiとしては、以下のような一般式VIc-1およびVIc-2のものを含む非水素化もしくは水素化されたニトリルゴムaが好ましい:Rは、以下のものであるただしRが、非水素化もしくは水素化ニトリルゴム中の次の原子に対する結合のホモリティック開裂の後に、二級、三級もしくは芳香族的に安定化されたラジカルを形成する:-直鎖状もしくは分岐状で、飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたアルキル残基、好ましくはC3~C20-アルキル残基に相当するもの、より詳しくはsec-ブチル、tert-ブチル、イソプロピル、1-ブテン-3-イル、2-クロロ-1-ブテン-2-イル、プロピオン酸-2-イル、プロピオニトリル-2-イル、2-メチルプロパンニトリル-2-イル、2-メチルプロピオン酸-2-イル、または1H,1H,2-ケト-3-オキソ-4H,4H,5H,5H-ペルフルオロウンデカニル、または-飽和またはモノ-もしくはポリ-不飽和の、任意選択的に単一もしくは複数の置換をされたカルボシクリルもしくはヘテロシクリル残基、より詳しくはシクロヘキシル、クミル、またはシクロヘキサン-1-ニトリル-1-イル、-ヘテロアリール残基、極めて好ましくはC6~C24-ヘテロアリール残基、より詳しくはフェニル、ピリジニル、またはアントラセニル、-ヘテロアラルキル残基、極めて好ましくはベンジル、フェニルエチル、または1-メチル-1-フェニルエテ-2-イル、または-チオカルボキシル、カルボニル、カルボキシル、オキソ、チオキソ、エポキシ、ならびに上述の化合物の塩。ニトリルゴムを構成しているモノマー、すなわち、共役ジエン、α,β-不飽和ニトリル、およびさらなるターモノマーについての下記の定義は、本発明のブレンド物の第一および第二のニトリルゴムにも同様に適用される。ニトリルゴム中の共役ジエンは、いかなるタイプのものであってもよい。C4~C6共役ジエンを使用するのが好ましい。1,2-ブタジエン、1,3-ブタジエン、イソプレン、2,3-ジメチルブタジエン、ピペリレン、またはそれらの混合物が特に好ましい。1,3-ブタジエンおよびイソプレンまたはそれらの混合物がさらに特に好ましい。1,3-ブタジエンがとりわけ好ましい。α,β-不飽和ニトリルとしては、任意の公知のα,β-不飽和ニトリルを使用することができるが、C3~C5α,β-不飽和ニトリル、たとえば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリルまたはそれらの混合物が好ましい。アクリロニトリルが特に好ましい。一つの特に好ましいニトリルゴムは、アクリロニトリルおよび1,3-ブタジエンの繰り返し単位を有している。さらなる共重合性ターモノマーとしては、たとえば以下のものを使用することが可能である:芳香族ビニルモノマー、好ましくはスチレン、α-メチルスチレンおよびビニルピリジン、フッ素含有ビニルモノマー、好ましくはフルオロエチルビニルエーテル、フルオロプロピルビニルエーテル、o-フルオロメチルスチレン、ビニルペンタフルオロベンソエート、ジフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレン、またはそうでなければ共重合性老化防止性モノマー、好ましくはN-4-アニリノフェニルアクリルアミド、N-4-アニリノフェニルメタクリルアミド、N-4-アニリノフェニルシンナミド、N-4-アニリノフェニルクロトンアミド、N-フェニル-4-3-ビニルベンジルオキシアニリン、およびN-フェニル-4-4-ビニルベンジルオキシアニリン、さらには非共役ジエン、たとえば4-シアノシクロヘキセンおよび4-ビニルシクロヘキセン、あるいは他のアルキン、たとえば1-もしくは2-ブチン。別な方法として、さらなる共重合性ターモノマーとして、カルボキシル基を含む共重合性ターモノマーを使用することも可能であるが、その例としては以下のものが挙げられる:α,β-不飽和モノカルボン酸、それらのエステル、α,β-不飽和ジカルボン酸、それらのモノエステルもしくはジエステル、またはそれらに対応する酸無水物もしくはアミド。α,β-不飽和モノカルボン酸としては、好ましくは、アクリル酸およびメタクリル酸を使用することが可能である。α,β-不飽和モノカルボン酸のエステル、好ましくはそれらのアルキルエステルおよびアルコキシアルキルエステルを採用することもまた可能である。α,β-不飽和モノカルボン酸のアルキルエステル、とりわけC1~C18アルキルエステルが好ましい。特に好ましいのは以下のものである:アクリル酸もしくはメタクリル酸のアルキルエステル、とりわけC1~C18アルキルエステル、より詳しくは、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸tert-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸n-ドデシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、およびメタクリル酸2-エチルヘキシル。α,β-不飽和モノカルボン酸のアルコキシアルキルエステルもまた好ましく、より好ましくはアクリル酸もしくはメタクリル酸のアルコキシアルキルエステル、より好ましくはアクリル酸もしくはメタクリル酸のC2~C12アルコキシアルキルエステル、極めて好ましくはアクリル酸メトキシメチル,メタアクリル酸メトキシエチル,メタアクリル酸エトキシエチル、およびメタアクリル酸メトキシメチル。アルキルエステル、たとえば上に挙げたようなものと、アルコキシアルキルエステル、たとえば上に挙げた形態のものとの混合物を使用してもよい。その中のシアノアルキル基のC原子の数が2~12である、アクリル酸シアノアルキルおよびメタクリル酸シアノアルキル、好ましくはアクリル酸α-シアノエチル、アクリル酸β-シアノエチル、およびメタクリル酸シアノブチルを使用してもよい。その中のヒドロキシアルキル基のC原子の数が1~12である、アクリル酸ヒドロキシアルキルおよびメタクリル酸ヒドロキシアルキル、好ましくはアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸2-ヒドロキシエチルおよびアクリル酸3-ヒドロキシプロピルを使用してもよく、さらには、フッ素置換ベンジル基含有アクリレートまたはメタクリレート、好ましくはアクリル酸フルオロベンジルおよびメタクリル酸フルオロベンジルを使用してもよい。フルオロアルキル基を含むアクリレートおよびメタクリレート、好ましくはアクリル酸トリフルオロエチルおよびメタクリル酸テトラフルオロプロピルを使用してもよい。アミノ基を含むα,β-不飽和カルボン酸エステル、たとえばアクリル酸ジメチルアミノメチルおよびアクリル酸ジエチルアミノエチルを使用してもよい。その他の共重合性モノマーとしては、さらに、α,β-不飽和ジカルボン酸、好ましくはマレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、およびメサコン酸を使用することもまた可能である。さらに、α,β-不飽和ジカルボン酸無水物、好ましくは無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、および無水メサコン酸を使用してもよい。さらに、α,β-不飽和ジカルボン酸のモノエステルまたはジエステルを使用することも可能である。これらのα,β-不飽和ジカルボン酸のモノエステルもしくはジエステルとしては、たとえば、アルキルエステル、好ましくはC1~C10アルキル、より詳しくはエチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、もしくはn-ヘキシルエステル;アルコキシアルキルエステル、好ましくはC2~C12アルコキシアルキル、より好ましくはC3~C8-アルコキシアルキル;ヒドロキシアルキル、好ましくはC1~C12ヒドロキシアルキル、より好ましくはC2~C8ヒドロキシアルキル;シクロアルキルエステル、好ましくはC5~C12シクロアルキル、より好ましくはC6~C12シクロアルキル;アルキルシクロアルキルエステル、好ましくはC6~C12アルキルシクロアルキル、より好ましくはC7~C10アルキルシクロアルキル;アリールエステル、好ましくはC6~C14アリールエステルが挙げられるが、これらのエステルはモノエステルまたはジエステルであり、また、ジエステルの場合には、そのエステルを混合エステルとすることも可能である。特に好ましいα,β-不飽和モノカルボン酸のアルキルエステルは、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸プロピル、メタアクリル酸n-ブチル、メタアクリル酸t-ブチル、メタアクリル酸ヘキシル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸オクチル、アクリル酸2-プロピルヘプチル、およびメタアクリル酸ラウリルである。アクリル酸n-ブチルを使用するのが、より好ましい。特に好ましいα,β-不飽和モノカルボン酸のアルコキシアルキルエステルは、メタアクリル酸メトキシエチル、メタアクリル酸エトキシエチル、およびメタアクリル酸メトキシメチルである。アクリル酸メトキシエチルを使用するのが、より好ましい。特に好ましいα,β-不飽和モノカルボン酸のヒドロキシアルキルエステルは、メタアクリル酸ヒドロキシエチル、メタアクリル酸ヒドロキシプロピル、およびメタアクリル酸ヒドロキシブチルである。使用されるその他のα,β-不飽和モノカルボン酸のエステルとしては、さらに、たとえば以下のものが挙げられる:ポリエチレングリコールメタアクリレート、ポリプロピレングリコールメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、エポキシメタアクリレート、N-2-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-2-ヒドロキシメチルアクリルアミド、およびウレタンメタアクリレート。α,β-不飽和ジカルボン酸モノエステルの例には、以下のものが包含される:マレイン酸モノアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル、およびマレイン酸モノ-n-ブチル;マレイン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノシクロペンチル、マレイン酸モノシクロヘキシル、およびマレイン酸モノシクロヘプチル;マレイン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノメチルシクロペンチル、およびマレイン酸モノエチルシクロヘキシル;マレイン酸モノアリールエステル、好ましくはマレイン酸モノフェニル;マレイン酸モノベンジルエステル、好ましくはマレイン酸モノベンジル;フマル酸モノアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピル、およびフマル酸モノ-n-ブチル;フマル酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノシクロペンチル、フマル酸モノシクロヘキシル、およびフマル酸モノシクロヘプチル;フマル酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノメチルシクロペンチル、およびフマル酸モノエチルシクロヘキシル;フマル酸モノアリールエステル、好ましくはフマル酸モノフェニル;フマル酸モノベンジルエステル、好ましくはフマル酸モノベンジル;シトラコン酸モノアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノメチル、シトラコン酸モノエチル、シトラコン酸モノプロピル、およびシトラコン酸モノ-n-ブチル;シトラコン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノシクロペンチル、シトラコン酸モノシクロヘキシル、およびシトラコン酸モノシクロヘプチル;シトラコン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノメチルシクロペンチル、およびシトラコン酸モノエチルシクロヘキシル;シトラコン酸モノアリールエステル、好ましくはシトラコン酸モノフェニル;シトラコン酸モノベンジルエステル、好ましくはシトラコン酸モノベンジル;イタコン酸モノアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノプロピル、およびイタコン酸モノ-n-ブチル;イタコン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノシクロペンチル、イタコン酸モノシクロヘキシル、およびイタコン酸モノシクロヘプチル;イタコン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノメチルシクロペンチル、およびイタコン酸モノエチルシクロヘキシル;イタコン酸モノアリールエステル、好ましくはイタコンモノフェニル;イタコン酸モノベンジルエステル、好ましくはイタコンモノベンジル;メサコン酸モノアルキルエステル、好ましくはメサコン酸モノエチルエステル。α,β-不飽和ジカルボン酸ジエステルとしては、上述のモノエステル基をベースとする類似のジエステルを使用することができ、それらのエステル基が、化学的に異なった基であってもよい。さらなる共重合性モノマーとして、1分子あたり二つ以上のオレフィン性二重結合を含むフリーラジカル的重合性化合物を使用することもさらに可能である。そのようなジもしくはポリ不飽和化合物の例としては以下のものが挙げられる:ポリオールのジもしくはポリ不飽和アクリレート、メタクリレートまたはイタコネート、たとえば、1,6-ヘキサンジオールジアクリレートHDODA、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレートEGDMA、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ブタン-1,4-ジオールジアクリレート、プロパン-1,2-ジオールジアクリレート、ブタン-1,3-ジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールエタンジアクリレート、トリメチロールエタンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートTMPTMA、グリセリルジアクリレートおよびトリアクリレート、ペンタエリスリトールジ-、トリ-、およびテトラ-アクリレートもしくはメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ-、ペンタ-およびヘキサ-アクリレートもしくはメタクリレートもしくはイタコネート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールヘキサメタクリレート、ジアクリレートもしくはジメタクリレート、または1,4-シクロヘキサンジオール、1,4-ジメチロールシクロヘキサン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、ポリエチレングリコール、または末端ヒドロキシル基を有するオリゴエステルもしくはオリゴウレタン。ポリ不飽和モノマーとしては、以下のものを使用することもまた可能である:アクリルアミド、たとえば、メチレンビスアクリルアミド、ヘキサメチレン-1,6-ビスアクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビスメタクリルアミドプロポキシエタン、またはアクリル酸2-アクリルアミドエチル。ポリ不飽和ビニル化合物およびアリル化合物の例としては以下のものが挙げられる:ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、フタル酸ジアリル、メタクリル酸アリル、マレイン酸ジアリル、トリアリルイソシアヌレート、またはリン酸トリアリル。本発明のゴムブレンド物の第一および第二のニトリルゴムのいずれについても、得られるNBRポリマーの中における共役ジエン対α,β-不飽和ニトリルの比率は、広い範囲で変化させることができる。共役ジエンの比率または合計は、ポリマー全体を基準にして、重量で、典型的には40~90の範囲、好ましくは50~85の範囲である。α,β-不飽和ニトリルの比率または合計は、ポリマー全体を基準にして、重量で、典型的には10~60、好ましくは15~50である。いずれの場合においても、モノマーの比率を合計したものが100重量となる。追加のモノマーは、その1種または複数のターモノマーの性質に応じて、ポリマー全体を基準にして0~40重量の量で存在させてよい。この場合、1種または複数の共役ジエンおよび/または1種または複数のα,β-不飽和ニトリルの相当する比率を、追加のモノマーの比率で置き換えるが、それぞれの場合において、全部のモノマーの比率を合計して100重量とする。それらのターモノマーが、三級ラジカルを形成するタイプのモノマーたとえば、メタクリル酸である場合には、それらを0~10重量の量で使用するのが適切であることが判った。追加のモノマーについて上に述べた、最大で40までという限度は、モノマーの全量を、反応の開始時または途中に重合バッチの中に計量仕込みするというシナリオ別の言い方をすれば、ランダムターポリマー系を製造する目的の場合にのみ、あてはまるということに注意されたい。言うまでもないことであるが、任意選択的に水素化されており、本発明に従って調製されたニトリルゴムには、そのポリマー主鎖および/またはその末端基の中に、1種または複数の重合調節剤の断片が含まれているという事実のために、それを、たとえば、ブロック系を生成させる目的のために適切なモノマーと反応させることによる、マクロ重合調節剤として採用すること、および任意の所望の量で採用することが可能である。それらのニトリルゴムのガラス転移温度は、-70°C~20°Cの範囲、好ましくは-60°C~10°Cの範囲に設定する。第一のニトリルゴムaを調製する場合においては、一般式VIのRAFT重合調節剤の存在下におけるフリーラジカル重合がリビング重合的な性質があるので、狭い分子量分布を有するニトリルゴムを得ることが可能である。1.0~2.9の範囲、好ましくは1.1~2.8の範囲、より好ましくは1.15~2.7の範囲、極めて好ましくは1.2~2.6の範囲、特に好ましくは1.25~2.5の範囲の多分散性指数を有するニトリルゴムを調製することができる。第二のニトリルゴムb:その繰り返し単位が第二のニトリルゴムbの中にも存在していてよいモノマーについては、すでに先に述べた。第二のニトリルゴムは、20~150の範囲、好ましくは25~140の範囲のムーニー粘度ML14、100°Cと、1.0~8.0の範囲、好ましくは1.5~7、より好ましくは2~6の範囲の多分散性指数とを有している。ムーニー粘度ML14、100°Cは、DIN53523/3またはASTMD1646に従い、剪断円板粘度計の手段により100°Cで求める。数平均分子量Mnおよび重量平均分子量Mwの形の分子量と、さらには多分散性指数Mw/Mnとは、DIN55672-1パート1:溶媒としてテトラヒドロフランTHFに従って、ゲル浸透クロマトグラフィーGPCの手段によって求める。同様のことが、第一のニトリルゴムaにもあてはまる。この種のタイプのニトリルゴムbは、市場で多種多様に入手することが可能であって、たとえばLanxessDeutschlandGmbHからPerbunan登録商標およびKrynac登録商標の商品名で入手できる。別な方法として、数十年にわたって文献に公知の方法、たとえば乳化重合によって、第二のニトリルゴムbを調製することもまた可能である。その調製方法が、厳密に規定される訳ではない。別な方法として、先に第一のニトリルゴムaに記述したような、有機溶液中、一般式VIのRAFT重合調節剤の存在下のラジカル重合プロセスによって、第二のニトリルゴムbを調製することもまた同様に可能である。しかしながら、そのような場合においては、注意深く、使用する重合開始剤、重合調節剤、および溶媒の量を調節し、そして重合条件を調節することによって、20~150の範囲、好ましくは25~140の範囲のムーニー粘度ML14、100°Cと、50000g/molよりも大きい重量平均分子量Mwとを有する第二のニトリルゴムbが得られるようにしなければならない。そのように合成するにしてもあるいは購入するにしても、ニトリルゴムbも同様に、先に第一のニトリルゴムaについて説明したような水素化にかけてもよい。別な方法として、重量平均分子量およびムーニー粘度に関する先に規定した条件に適合する広く各種の水素化ニトリルゴムが市場で入手可能であり、たとえば商品名Therban登録商標LanxessDeutschlandGmbH製、Zetpol登録商標ZeonCorporation製などがある。本発明によるブレンド物においては、両方のニトリルゴムを合計したものを基準にして、1~99重量の第一のニトリルゴムaと99~1重量の第二のニトリルゴムbとを使用することが可能である。両方のニトリルゴムを合計したものを基準にして、1~60重量の第一のニトリルゴムaと99~40重量の第二のニトリルゴムbとを使用するのが好ましい。両方のニトリルゴムを合計したものを基準にして、1~50重量の第一のニトリルゴムaと99~50重量の第二のニトリルゴムbとを使用するのが特に好ましい。両方のニトリルゴムを合計したものを基準にして、1~40重量の第一のニトリルゴムaと99~60重量の第二のニトリルゴムbとを使用するのが特別に好ましい。特には、両方のニトリルゴムを合計したものを基準にして、1~30重量の第一のニトリルゴムaと99~70重量の第二のニトリルゴムbとを使用する。本発明のゴムブレンド物においては、両方とも水素化されていないか、または両方とも水素化されているかのいずれかである、第一のニトリルゴムaと第一のニトリルゴムbとを相互に組み合わせるのが好ましい。本発明はさらに、本発明のゴムブレンド物および少なくとも1種の架橋剤を含む加硫可能な混合物も提供する。一つの好ましい実施態様においては、その加硫可能な混合物が、少なくとも1種の充填剤をさらに含む。任意選択的に、このタイプの加硫可能な混合物が、当業者にはなじみのある、ゴムのための1種または複数の添加剤をさらに含んでいることも可能である。それらの添加剤としては、以下のものが挙げられる:老化防止剤、加硫戻り防止剤、光安定剤、オゾン保護剤、加工助剤、可塑剤、鉱油、粘着付与剤、発泡剤、染料、顔料、ワックス、樹脂、エクステンダー、有機酸、加硫遅延剤、金属酸化物、さらには、充填剤活性化剤たとえば、トリエタノールアミン、トリメチロールプロパン、ポリエチレングリコール、ヘキサントリオール、もしくは脂肪族トリアルコキシシラン、またはゴム産業において公知のその他の添加剤Ullmann’sEncyclopediaofIndustrialChemistry,VCHVerlagsgesellschaftmbH,D-69451,Weinheim,1993,Vol.A23,ChemicalsandAdditives,pp.366~417。好適な架橋剤としては、たとえば、以下のものが挙げられる:ペルオキシド系架橋剤たとえば、ビス2,4-ジクロロベンゾイルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ビス4-クロロベンゾイルペルオキシド、1,1-ビスt-ブチルペルオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、tert-ブチルペルベンゾエート、2,2-ビスt-ブチルペルオキシブテン、4,4-ジ-tert-ブチルペルオキシノニルバレレート、ジクミルペルオキシド、2,5-ジメチル-2,5-ジt-ブチルペルオキシヘキサン、tert-ブチルクミルペルオキシド、1,3-ビスt-ブチルペルオキシイソプロピルベンゼン、ジ-t-ブチルペルオキシド、および2,5-ジメチル-2,5-ジt-ブチルペルオキシヘキシ-3-イン。これらのペルオキシド系架橋剤に加えて、他の添加剤を同様に使用するのも有利となりうるが、それらは、架橋収率を向上させるために採用することができ、そのような添加剤の適切な例としては以下のものが挙げられる:トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリアリルトリメリテート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、アクリル酸亜鉛、二アクリル酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛、二メタクリル酸亜鉛、1,2-ポリブタジエン、またはN,N’-m-フェニレンジマレイミド。その1種または複数の架橋剤の全量は、任意選択的に水素化されるニトリルゴムを基準にして、典型的には1~20phrの範囲、好ましくは1.5~15phrの範囲、より好ましくは2~10phrの範囲である。架橋剤としては、元素状で、可溶性または不溶性の形態にある硫黄、または硫黄供与体を使用することもまた可能である。好適な硫黄供与体としては、たとえば以下のものを挙げることができる:ジモルホリルジスルフィドDTDM、2-モルホリノジチオベンゾチアゾールMBSS、カプロラクタムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドDPTT、およびテトラメチルチウラムジスルフィドTMTD。本発明の任意選択的に水素化されるニトリルゴムを硫黄加硫する場合においても同様に、架橋収率の向上に寄与することが可能な他の添加剤を使用することもできる。しかしながら、原則的には、硫黄または硫黄供与体のみを用いて架橋を起こさせるのがよい。逆に、本発明の任意選択的に水素化されるニトリルゴムの架橋を、上述の添加剤の存在下のみにおいて、別の言い方をすれば、元素の硫黄または硫黄供与体を添加することなく、起こさせてもよい。採用することが可能な、架橋収率を向上させるのに寄与する適切な添加剤の例としては以下のものが挙げられる:ジチオカルバミン酸塩、チウラム、チアゾール、スルフェンアミド、キサントゲン酸塩、グアニジン誘導体、カプロラクタム、およびチオ尿素誘導体。使用することが可能なジチオカルバミン酸塩としては、たとえば以下のものが挙げられる:ジメチルジチオカルバミン酸アンモニウム、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウムSDEC、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウムSDBC、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛ZDMC、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛ZDEC、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛ZDBC、エチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛ZEPC、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛ZBEC、ペンタメチレンジチオカルバミン酸亜鉛Z5MC、ジエチルジチオカルバミン酸テルル、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル、ジメチルジチオカルバミン酸ニッケル、およびジイソノニルジチオカルバミン酸亜鉛。使用することが可能なチウラムとしては、たとえば以下のものが挙げられる:テトラメチルチウラムジスルフィドTMTD、テトラメチルチウラムモノスルフィドTMTM、ジメチルジフェニルチウラムジスルフィド、テトラベンジルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、およびテトラエチルチウラムジスルフィドTETD。使用することが可能なチアゾールとしては、たとえば以下のものが挙げられる:2-メルカプトベンゾチアゾールMBT、ジベンゾチアジルジスルフィドMBTS、亜鉛メルカプトベンゾチアゾールZMBT、および銅2-メルカプトベンゾチアゾール。使用することが可能なスルフェンアミド誘導体としては、たとえば以下のものが挙げられる:N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアジルスルフェンアミドCBS、N-tert-ブチル-2-ベンゾチアジルスルフェンアミドTBBS、N,N’-ジシクロヘキシル-2-ベンゾチアジルスルフェンアミドDCBS、2-モルホリノチオベンゾチアゾールMBS、N-オキシジエチレンチオカルバミル-N-tert-ブチルスルフェンアミド、およびオキシジエチレンチオカルバミル-N-オキシエチレンスルフェンアミド。使用することが可能なキサントゲン酸塩としては、たとえば以下のものが挙げられる:ジブチルキサントゲン酸ナトリウム、イソプロピルジブチルキサントゲン酸亜鉛、およびジブチルキサントゲン酸亜鉛。使用することが可能なグアニジン誘導体としては、たとえば以下のものが挙げられる:ジフェニルグアニジンDPG、ジ-o-トリルグアニジンDOTG、およびo-トリルビグアニジンOTBG。使用することが可能なジチオリン酸塩としては、たとえば以下のものが挙げられる:ジアルキルジチオリン酸亜鉛アルキル残基の鎖長:C2~C16、ジアルキルジチオリン酸銅アルキル残基の鎖長:C2~C16、およびジチオホスホリルポリスルフィド。カプロラクタムとしては、たとえばジチオビスカプロラクタムを使用することができる。チオ尿素誘導体としては、たとえば以下のものを使用することができる:N,N’-ジフェニルチオ尿素DPTU、ジエチルチオ尿素DETU、およびエチレンチオ尿素ETU。同様に添加剤として好適なものとしては、たとえば以下のものが挙げられる:亜鉛ジアミンジイソシアネート、ヘキサメチレンテトラミン、1,3-ビスシトラコンイミドメチルベンゼン、および環状ジスルファン。前記添加剤、およびさらには架橋剤は、個別に使用することも、あるいは混合物中で使用することも可能である。ニトリルゴムを架橋するためには、以下の物質を使用するのが好ましい:硫黄、2-メルカプトベンゾチアゾール、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、ジアルキルジチオリン酸亜鉛、ジモルホリルジスルフィド、ジエチルジチオカルバミン酸テルル、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、およびジチオビスカプロラクタム。架橋剤および上述の添加剤は、それぞれの場合において、任意選択的に水素化されるニトリルゴムに対して、約0.05~10phr、好ましくは0.1~8phr、特に好ましくは0.5~5phrの量で使用してよいそれぞれの場合において、その活性物質を基準にして、個別に計量添加。本発明の硫黄架橋の場合においては、架橋剤および上述の添加剤に加えて、さらなる有機および/または無機物質も同様に使用してもよいが、そのような物質の例としては以下のものが挙げられる:酸化亜鉛、炭酸亜鉛、酸化鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、飽和もしくは不飽和の有機脂肪酸およびそれらの亜鉛塩、ポリアルコール、アミノアルコールたとえば、トリエタノールアミン、およびさらには、アミンたとえば、ジブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、シクロヘキシルエチルアミン、およびポリエーテルアミン。本発明の任意選択的に水素化されるニトリルゴムが、1種または複数のカルボキシル含有ターモノマーの繰り返し単位を有すゴムである場合には、ポリアミン架橋剤を使用し、好ましくは架橋性加硫促進剤の存在下に架橋を起こさせてもよい。ポリアミン架橋剤には制限はないが、ただし、12個以上のアミノ基を有する化合物であるか任意選択的に、塩の形態であってもよい、または2架橋反応の際に、インサイチューで、2個以上のアミノ基を形成する化合物を形成する化学種である必要がある。その中で少なくとも2個の水素原子がアミノ基で置換されているか、そうでなければヒドラジド構造後者は、C=ONHNH2の構造であるで置換されている、脂肪族または芳香族炭化水素化合物を使用するのが好ましい。このタイプのポリアミン架橋剤iiの例としては以下のものが挙げられる:脂肪族ポリアミン、好ましくはヘキサメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンカルバメート、テトラメチレンペンタアミン、ヘキサメチレンジアミン-シンナムアルデヒドアダクト、またはヘキサメチレンジアミンジベンゾエート;芳香族ポリアミン、好ましくは2,2-ビス4-4-アミノフェノキシフェニルプロパン、4,4’-メチレンジアニリン、m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、または4,4’-メチレンビスo-クロロアニリン;少なくとも二つのヒドラジド構造を有する化合物、好ましくはイソフタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、またはセバシン酸ジヒドラジド。ヘキサメチレンジアミンおよびヘキサメチレンジアミンカルバメートが特に好ましい。加硫可能な混合物の中におけるポリアミン架橋剤の量は、100重量部の任意選択的に水素化されるニトリルゴムを基準にして、典型的には0.2~20重量部の範囲、好ましくは1~15重量部の範囲、より好ましくは1.5~10重量部の範囲である。架橋性加硫促進剤としては、ポリアミン架橋剤と組み合わせて、当業者には公知の任意のもの、好ましくは塩基性の架橋性加硫促進剤を使用することが可能である。たとえば、テトラメチルグアニジン、テトラエチルグアニジン、ジフェニルグアニジン、ジ-o-トリルグアニジンDOTG、o-トリルビグアニジン、およびジカテコールホウ酸のジ-o-トリルグアニジン塩などが使用できる。アルデヒド-アミン架橋性加硫促進剤たとえば、n-ブチルアルデヒド-アニリンを使用してもよい。架橋性加硫促進剤として特に好ましいのは、少なくとも1種の2環式または多環式アミン塩基である。それらは、当業者には公知である。特に好適なのは、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデス-7-エンDBU、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネンDBN、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンDABCO、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デス-5-エンTBD、7-メチル-1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デス-5-エンMTBDである。この場合における架橋性加硫促進剤の量は、100重量部の任意選択的に水素化されるニトリルゴムを基準にして、典型的には0.5~10重量部、好ましくは1~7.5重量部、特に好ましくは2~5重量部の範囲である。本発明の任意選択的に水素化されるニトリルゴムをベースとする加硫可能な混合物は、原則的には、加硫開始遅延剤も含んでいてもよい。そのようなものとしては、シクロヘキシルチオフタルイミドCTP、N,N’-ジニトロソペンタメチレンテトラミンDNPT、無水フタル酸PTAおよびジフェニルニトロソアミンが挙げられる。シクロヘキシルチオフタルイミドCTPが好ましい。架橋剤または架橋剤の添加とは別に、本発明の任意選択的に水素化されるニトリルゴムには、慣用されるさらなるゴム添加剤を混合してもよい。使用することが可能な充填剤としては、たとえば以下のものを使用することができる:カーボンブラック、シリカ、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化カルシウム、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化鉄、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、珪藻土、タルク、カオリン、ベントナイト、カーボンナノチューブ、Teflon後者は粉体の形状にあるのが好ましい、またはケイ酸塩。好適な充填剤活性化剤としては、特に、たとえば以下のような有機シランが挙げられる:ビニルトリメチルオキシシラン、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス2-メトキシエトキシシラン、N-シクロヘキシル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、イソオクチルトリメトキシシラン、イソオクチルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、またはオクタデシルメチルジメトキシシラン。さらなる充填剤活性化剤としては、たとえば、トリエタノールアミンおよび74~10000g/molの分子量を有するエチレングリコールのような表面活性物質が挙げられる。充填剤活性化剤の量は、典型的には、100phrの任意選択的に水素化されるニトリルゴムを基準にして、0~10phrである。老化防止剤としては、文献から公知の、加硫可能な混合物の老化防止剤を添加することが可能である。それらの防止剤は、任意選択的に水素化されるニトリルゴム100phrあたり、典型的には約0~5phr、好ましくは0.5~3phrの量で使用する。好適なフェノール系老化防止剤としては、以下のものが挙げられる:アルキル化フェノール、スチレン化フェノール、立体障害フェノールたとえば、2,6-ジ-tert-ブチルフェノール、2,6-ジ-tert-ブチル-p-クレゾールBHT、2,6-ジ-tert-ブチル-4-エチルフェノール、エステル基を含む立体障害フェノール、チオエーテル含有の立体障害フェノール、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-tert-ブチルフェノールBPH、およびさらには立体障害チオビスフェノール。ニトリルゴムの変色がさほど重要ではない場合には、アミン系の老化防止剤も同様に使用されるが、その例は、ジアリール-p-フェニレンジアミンDTPD、オクチル化ジフェニルアミンODPA、フェニル-α-ナフチルアミンPAN、フェニル-β-ナフチルアミンPBNの混合物であるが、フェニレンジアミンをベースとしたものが好ましい。フェニレンジアミンの例としては、N-イソプロピル-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン、N-1,3-ジメチルブチル-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン6PPD、N-1,4-ジメチルペンチル-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン7PPD、およびN,N’-ビス-1,4-1,4-ジメチルペンチル-p-フェニレンジアミン77PDなどが挙げられる。その他の老化防止剤としては、ホスファイトたとえばトリスノニルフェニルホスファイト、重合2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリンTMQ、2-メルカプトベンズイミダゾールMBI、メチル-2-メルカプトベンズイミダゾールMMBI、亜鉛メチルメルカプトベンズイミダゾールZMMBIなどが挙げられる。ホスファイトは、一般的には、フェノール系老化防止剤と組み合わせた形で使用される。加硫をペルオキシド系で起こさせる場合には、とりわけTMQ、MBI、およびMMBIが使用される。離型剤としては、たとえば以下のものが考えられる:飽和もしくは部分的に不飽和な脂肪酸およびオレイン酸およびそれらの誘導体脂肪酸エステル、脂肪酸塩、脂肪族アルコール、脂肪酸アミドそれらは、混合物の構成成分として使用するのが好ましい、さらには、型表面に塗布することが可能な製品、たとえば、低分子質量シリコーン化合物をベースとする製品、フルオロポリマーをベースとする製品、およびフェノール樹脂をベースとする製品。混合物の一成分として、100phrの任意選択的に水素化されるニトリルゴムを基準にして、離型剤を、約0~10phr、好ましくは0.5~5phrの量で使用する。米国特許第A4,826,721号明細書の教示に従って、ガラスの補強材繊維を用いて補強することも可能であり、同様に、脂肪族および芳香族ポリアミドNylon登録商標、Aramid登録商標、ポリエステル、および天然繊維製品のコード、織布、繊維によっても補強される。本発明はさらに、上述の加硫可能な混合物を架橋させることを特徴とする、加硫物を製造するための方法も提供する。架橋は、典型的には、少なくとも1種の架橋剤によるか、そうでなければ光化学的な活性化によるかのいずれかで実施される。光化学的な活性化による架橋の場合においては、UV活性化剤として、当業者には典型的に公知な活性化剤を使用することが可能であるが、それらの例としては以下のものが挙げられる:ベンゾフェノン、2-メチルベンゾフェノン、3,4-ジメチルベンゾフェノン、3-メチルベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン、4,4’-ビス[2-1-プロペニルフェノキシ]ベンゾフェノン、4-ジエチルアミノベンゾフェノン、4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4-ベンゾイルビフェニル、4-ヒドロキシベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、ベンゾフェノン-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、アセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-4’-モルホリノブチルフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、2-ヒドロキシ-4’-2-ヒドロキシエトキシ-2-メチルプロピオフェノン、3’-ヒドロキシアセトフェノン、4’-エトキシアセトフェノン、4’-ヒドロキシアセトフェノン、4’-フェノキシアセトフェノン、4’-tert-ブチル-2’,6’-ジメチルアセトフェノン、2-メチル-4’-メチルチオ-2-モルホリノプロピオフェノン、ジフェニル2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキシド、フェニルビス2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキシド、メチルベンゾイルホルメート、ベンゾイン、4,4’-ジメトキシベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、4,4’-ジメチルベンジル、ヘキサクロロシクロペンタジエン、またはそれらの組合せ。加硫は、典型的には、好ましくは射出成形プロセスを採用した成形プロセスの一部として、起こさせる。したがって、本発明はさらに、上述の加硫プロセスによって得ることが可能な特定の成形物もまた提供する。製造することが可能な多くの成形物が存在しているが、それらの例としてはシール、キャップ、ホース、または膜などが挙げられる。例えば、以下のようなものを製造することが可能である:O-リングシール、フラットシール、ひだ付きガスケット、シーリングスリーブ、シーリングキャップ、ダスト保護キャップ、プラグシール、断熱ホースPVCの添加有りおよび無し、油冷却器ホース、空気取り入れホース、サーボ制御ホース、またはポンプのダイヤフラム。アクリロニトリル含量:アクリロニトリル含量を求めるために、本発明のニトリルゴムの窒素含量を、DIN53625に従ってケルダールKjeldahl法によって測定した。ガラス転移温度:ガラス転移温度、ならびにその開始点および終了点は、ASTME1356-03またはDIN11357-2に従って、示差走査熱量測定DSCの手段によって求める。分子量および多分散性指数:数平均分子量Mnおよび重量平均分子量Mwの形の分子量と、さらには多分散性指数Mw/Mnとは、DIN55672-1パート1:溶媒としてテトラヒドロフランTHFに従って、ゲル浸透クロマトグラフィーGPCの手段によって求めた。ゲル含量:不溶性画分ゲル含量と呼ばれているの測定は、室温でメチルエチルケトンMEK溶媒中、ポリマー濃度10g/Lでサンプルを22時間溶解させておいてから、25°Cで20000rpmの超遠心に1時間かけて行った。ムーニー粘度ムーニー粘度ML14、100°Cの値は、それぞれの場合において、DIN53523/3またはASTMD1646に従い、剪断円板粘度計の手段により100°Cで求める。MSRムーニー応力緩和は、それぞれの場合において、ISO289-4:2003Eに従い、剪断円板粘度計の手段により100°Cで求める。さらなる性質の測定:MDRにおける加硫プロファイルおよびそれに関連するデータは、ASTMD5289-95に従って、MonsantoMDR2000レオメーターで測定した。所定の温度における圧縮永久歪みは、DIN53517に従って測定した。ショアーA硬度は、ASTM-D2240-81に従って測定した。変形の関数としての応力を求めるための引張試験は、DIN53504またはASTMD412-80に従って実施した。使用したDoPAT重合調節剤ドデシルプロパン酸トリチオカーボネート、配合は以下に示すは、Macromolecules,2005,386,2191~2204に記載の調製プロセスに従って実験室で合成した。表1および6に列記したその他の化学薬品は、特定の会社には言及せず、化学薬品の取引により得た。実施例においては以下の物質を使用した:ACN:アクリロニトリル1,3-BD:1,3-ブタジエンDMAc:ジメチルアセトアミドDoPAT:ドデシルプロパン酸トリチオカーボネートEdenor登録商標C1898-100:ステアリン酸EvonikCognisからの市販製品Mahlschwefel90/95Chancel:硫黄SolvayDeutschlandGmbHからの市販製品MCB:モノクロロベンゼンNipol登録商標1312:ZeonChemicalsからの液状ニトリルゴム、アクリロニトリル含量;27~30、Brookfield粘度;20000~30000cPPerbunan3431VP:LanxessDeutschlandGmbHからのニトリルゴム、アクリロニトリル含量;34.7±1、ムーニー粘度;29RegalSRF/N772:カーボンブラックCabotCorporationからの市販製品VAm110:1,1’-アゾビスN-ブチル-2-メチルプロピオンアミドWakoPureChemicalIndustriesLtdV30:1-[1-シアノ-1-メチルエチルアゾ]ホルムアミドWakoPureChemicalIndustriesLtdVazo登録商標88:1,1’-アゾビスシクロヘキサンカルボニトリルDuPontからの市販製品Vulkacit登録商標NZ/EGC:N-tert-ブチルベンゾチアジルスルフェンアミドLANXESSDeutschlandGmbHからの市販製品Vulkanox登録商標BKF:2-[2-ヒドロキシ-5-メチル-3-tert-ブチルフェニルメチル]-4-メチル-6-tert-ブチル-フェノールLANXESSDeutschlandGmbHからの市販製品Vulkanox登録商標HS/LG:重合2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリンLANXESSDeutschlandGmbHからの市販製品ZinkweissRotsiegel:金属亜鉛から調製した化学的に純粋な酸化亜鉛、GrilloZinkoxidGmbHからの市販製品。I:液状ニトリルゴムNBRAの調製以下の一連の実施例で使用するニトリルゴムのNBRAは、基本配合に従って調製したが、それらの成分はすべて、モノマー混合物100重量部あたりの重量部で表示されている。化学式は、特定の重合条件も規定している。すべての装置は、1,3-ブタジエンと接触させるよりも前に、真空排気と窒素を用いたフラッシングを3回繰り返すことによって、酸素フリーの状態とする。Vazo登録商標88重合開始剤21.96g;90mmol、0.24phmに相当および324.90gの分子量調節剤DoPAT0.92mol、3.5phmに相当を13161gのモノクロロベンゼン142phmに相当の中に溶解させ、3466gのアクリロニトリル65.4mol、37phmに相当を添加し、窒素を用いて10分間かけてその溶液を脱気した。そのモノマー/重合開始剤溶液を反応器に移し、密閉し、真空排気/窒素を用いたフラッシングを3回繰り返すことによって酸素フリーの状態とした。3バールの加圧下、5826gの1,3-ブタジエン107.9mol、63phmに相当を計量仕込みし、100°Cに加熱することによって反応を開始させた。この温度に到達したところで、重合の開始とみなした。随時にサンプリングする方法で、転化率を重量分析して、重合の進行をモニターした。2時間の反応時間の後、42.74gの重合開始剤Vazo登録商標88175mmol、0.46phmに相当と774gのモノクロロベンゼンからなる溶液を、117g/時間の計量速度でその反応物に添加した。合計して9時間の重合時間の後、反応器を冷却して25°Cとし、過剰の1,3-ブタジエンおよびモノマー類を減圧下での蒸留により除去し、反応器を冷却してから、そのポリマーに、0.75phmのVulkanox登録商標BKFを安定剤として混合した。次いで、高真空下で、溶媒を除去した。52の転化率が達成された。そうして得られたニトリルゴムは、表1に示す性質を有していた。II:ニトリルゴムNBRAをベースとする加硫物の製造本発明実施例以下に記載の方法に従って、ニトリルゴムNBRAから出発して、加硫物V1~V3を製造した。この目的のために最初に調製した加硫可能な混合物の構成成分は、100部のゴムを基準としたものであって、表2に示す。混合物は、バンバリーミキサーの中で調製した。この目的のためには、ゴムのNBRAおよび表2に示したすべての添加剤を、最高温度120°Cで、合計4分間かけて混合した。この操作は、ゴムをミキサーに導入し、1分後にすべてのさらなる添加剤を添加し、さらに2分後に逆転工程を実施した。合計して4分経過してから、その混合物をミキサーから排出させた。次いでそのコンパウンディングした配合物を、温度150°Cで、60分かけて加硫した。III:本発明ではないブレンド物をベースとする加硫物の製造以下に記載の方法に従って、ニトリルゴムbPerbunan登録商標3431VPおよびNipol登録商標1312ニトリルゴムaから、加硫物V4~V7を製造した。混合物の構成成分は、100部のゴムを基準にして、表6に示した。混合物は、バンバリーミキサーの中で調製した。この目的のためには、ゴムのNipol登録商標1312および表6に示したすべての添加剤を、最高温度120°Cで、合計4分間かけて混合した。この操作は、ゴムをミキサーに導入し、1分後にすべてのさらなる添加剤を添加し、さらに2分後に逆転工程を実施した。合計して4分経過してから、その混合物をミキサーから排出させた。次いでそのコンパウンディングした配合物を、温度150°Cで、60分かけて加硫した。そのようにして得られた加硫物は、表7~9に示したような性質を有している。Nipol登録商標1312の比率が高くなるにつれて、それぞれの場合における最大トルクのレベルが低下する。液状ゴムのNipol登録商標1312の比率が比較的に高い場合、加硫物V4とV7を比較すると、引張強さが極めて低く、100伸びにおける弾性率も低いことがわかる。"