"下記式[1]又は[2]で表されることを特徴とする重合性化合物。式中、n1及びn2はそれぞれ独立に3~10の整数を表し、mは3~10の整数を表す。下記式[1]及び[2]で表される重合性化合物から選ばれる少なくとも1種と、液晶性化合物とを含有することを特徴とする重合性液晶組成物。式中、n1及びn2はそれぞれ独立に3~10の整数を表し、mは3~10の整数を表す。上記液晶性化合物が、重合性基を有する液晶性化合物である請求項2に記載の重合性液晶組成物。上記重合性基を有する液晶性化合物が、下記式[3]及び/又は[4]で表される重合性基を有する化合物である請求項3に記載の重合性液晶組成物。式中、破線は結合手を表す。上記重合性基を有する液晶性化合物が、下記式[5]及び[6]で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項3又は4に記載の重合性液晶組成物。式中、M1、M2及びM3はそれぞれ独立に下記式[3]又は[4]式中、破線は結合手を表す。で表される基である。Xはフッ素原子、シアノ基又は炭素数が4~8の1価炭化水素基である。f1及びf2はそれぞれ独立に2~9の整数を表し、gは2~9の整数を表す。請求項2~5のいずれか1項に記載の重合性液晶組成物から得られる重合体。請求項2~5のいずれか1項に記載の重合性液晶組成物から得られる被膜。請求項2~5のいずれか1項に記載の重合性液晶組成物から得られる配向フィルム。請求項6に記載の重合体又は請求項8に記載の配向フィルムを備える光学部材。本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、α-メチレン-γ-ブチロラクトン部位及びベンゾフェノン部位を有する所定の重合性化合物、高い光学異方性を有するとともに高い耐薬品性を示す重合体フィルムを与え得る、上記重合性化合物を含む重合性液晶組成物並びに該重合性液晶組成物から得られる重合体及び配向フィルムを提供することを目的とする。本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、α-メチレン-γ-ブチロラクトン部位及びベンゾフェノン部位を有する所定の重合性化合物が、重合性に優れるとともに安定な重合性液晶組成物を与えること、並びにその重合性液晶組成物から得られる重合体やフィルムが、高い光学異方性と高い耐薬品性を有することを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、1.下記式[1]又は[2]で表されることを特徴とする重合性化合物、式中、n1及びn2はそれぞれ独立に3~10の整数を表し、mは3~10の整数を表す。2.下記式[1]及び[2]で表される重合性化合物から選ばれる少なくとも1種と、液晶性化合物とを含有することを特徴とする重合性液晶組成物、式中、n1及びn2はそれぞれ独立に3~10の整数を表し、mは3~10の整数を表す。3.上記液晶性化合物が、重合性基を有する液晶性化合物である2の重合性液晶組成物、4.上記重合性基を有する液晶性化合物が、下記式[3]及び/又は[4]で表される重合性基を有する化合物である3の重合性液晶組成物、式中、破線は結合手を表す。5.上記重合性基を有する液晶性化合物が、下記式[5]及び[6]で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である3又は4の重合性液晶組成物、式中、M1、M2及びM3はそれぞれ独立に下記式[3]又は[4]式中、破線は結合手を表す。で表される基である。Xはフッ素原子、シアノ基又は炭素数が4~8の1価炭化水素基である。f1及びf2はそれぞれ独立に2~9の整数を表し、gは2~9の整数を表す。6.2~5のいずれかの重合性液晶組成物から得られる重合体、7.2~5のいずれかの重合性液晶組成物から得られる被膜、8.2~5のいずれかの重合性液晶組成物から得られる配向フィルム、9.6の重合体又は8の配向フィルムを備える光学部材を提供する。本発明の重合性化合物を含有する重合性液晶組成物は、高い光学異方性と高い耐薬品性を示す重合体を与える。本発明の重合性化合物を含有する重合性液晶組成物から得られたフィルムは、配向の乱れが見られず、ヘイズ値が低い。更に、本発明の重合性化合物を添加することにより、液晶組成物の重合性が向上する。また、本発明の重合性化合物を添加した液晶組成物から得られたフィルムは、配向の乱れが見られない。したがって、本発明の重合性化合物を含む重合性液晶組成物から得られる重合体は、偏光板や位相差板等の光学異方性フィルムとして利用可能であり、特に空気中で、フォトリソグラフィーを用いてパターンを形成するための利用に好適である。以下、本発明を更に詳しく説明する。なお、本明細書において、重合性液晶化合物とは、分子中にアクリル基やα-メチレンラクトン環等の重合性基を有し、かつ、液晶相を呈する化合物を意味する。液晶組成物とは、液晶相を呈する特性を有する組成物を意味する。液晶性とは、液晶相を呈することを意味する。[重合性化合物]本発明の重合性化合物は、下記式[1]又は[2]で表される。式中、n1及びn2はそれぞれ独立に3~10の整数を表し、mは3~10の整数を表す。式[1]又は[2]で表される重合性化合物は、ベンゾフェノン部位及びα-メチレン-γ-ブチロラクトン部位を有する化合物である。α-メチレン-γ-ブチロラクトンは、重合性基を有するα-アルキリデン-γ-ブチロラクトンの中でも立体障害による影響が少なく、高い重合性を有するという非常に優れた効果を発揮し得る。そして、この化合物を用いて得られる重合体に高いガラス転移点Tgや耐熱性を付与するために有効である。式[1]又は[2]で表される重合性化合物のベンゾフェノン部位は、光重合の増感部位であり、光により二量化反応を行い、架橋した重合体が得られる。そこで、本発明の重合性化合物を用いることにより、材料の感度の向上が得られる。式[1]又は[2]中、メチレン基の繰り返し部位は、いわゆるスペーサ部と呼ばれる部位である。ここで、n1、n2及びmは、メチレン基の繰り返し数を表し、それぞれ独立に3~10の整数であるが、好ましくは4~6の整数である。上記重合性化合物の例として、下記式1~29で表される化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。[重合性化合物の合成]本発明の重合性化合物は、有機合成化学における手法を組み合わせることによって合成することができ、その合成法は特に限定されない。α-メチレン-γ-ブチロラクトン構造を有する化合物は、例えば、Talaga等PTalaga,MSchaeffer,CBenezraandJLStampf,Synthesis,530が提案する手法を用いて合成することができる。この手法は、下記合成スキームA1で表されるように、SnCl2を用いて2-ブロモメチルアクリル酸2propenoicacidと、アルデヒド又はケトンとを反応させる方法である。なお、2-ブロモメチルアクリル酸は、Ramarajan等が提案する方法で得ることができるKRamarajan,KKamalingam,DJODonnellandKDBerlin,OrganicSynthesis,vol61,pp5659。式中、Rは1価の有機基を表す。THFはテトラヒドロフランを表す。Amberlyst登録商標15は、ロームエンドハース社製イオン交換樹脂である。また、SnCl2を用いた2-ブロモメチルアクリル酸の反応では、アルデヒド又はケトンの代わりに対応するアセタール又はケタールとの反応によりα-メチレン-γ-ブチロラクトン構造を得ることもできる。上記アセタール又はケタールとして、ジメチルアセタール基、ジエチルアセタール基、1,3-ジオキサン基、1,3-ジオキソラン基等を有する化合物が挙げられる。アセタール又はケタールを用いた場合の合成法を下記スキームA2に示す。式中、Rは上記と同じ。破線は結合手を表す。上記合成スキームA1又はA2の手法を応用した下記合成スキームBの手法により、式[1]又は[2]で表される化合物の中間体を合成することができる。式中、nは上記と同じ。PCCはピリジニウムクロロクロマートを表す。式[1]で表される重合性化合物は、下記合成スキームCにしたがって合成できる。式中、nは上記と同じ。DCCはジシクロヘキシルカルボジイミドを、DMAPはN,N-ジメチル-4-アミノピリジンを表す。式[2]においてn=mの場合、式[2]で表される化合物は、下記合成スキームDにしたがって合成できる。式中、nは上記と同じ。式[2]においてn≠mの場合、式[2]で表される化合物は、下記合成スキームEにしたがって合成できる。式中、n及びmは上記と同じ。[重合性液晶組成物]本発明に係る重合性液晶組成物は、上記式[1]及び[2]で表される重合性化合物から選ばれる少なくとも1種と、液晶構造部位を有する化合物以下、特定化合物と称すとを混合することによって得られる。混合する特定化合物は、1種単独でも複数種を組み合わせて用いることもできる。上記特定化合物は、液晶性を呈する化合物液晶性化合物であることが必要である。上記特定化合物は、アクリル基やラクトン環等の重合性基を有していてもよいし、有していなくてもよい。重合性基を有する場合、上記特定化合物は、単官能性であっても多官能性であってもよい。上記特定化合物が有してもよい重合性基としては、下記式[3]又は[4]で表される基が挙げられる。式中、破線は結合手を表す。上記重合性基を有する特定化合物としては、特に下記式[5]又は[6]で表される化合物が好ましい。式中、M1、M2及びM3はそれぞれ独立に上記式[3]又は[4]で表される基である。Xはフッ素原子、シアノ基又は炭素数が4~8の1価炭化水素基である。f1及びf2はそれぞれ独立に2~9の整数を表し、gは2~9の整数を表す。特定化合物の配合割合は特に限定されるものではないが、上記式[1]及び/又は[2]で表される重合性化合物100質量部に対して900~200質量部が好ましく、より好ましくは400~200質量部である。上記特定化合物の具体例として、下記式30~120で表される化合物、ネマチック液晶、強誘電性液晶、市販の液晶組成物等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。本発明の重合性液晶組成物には、その重合反応性を向上させる目的として、光重合開始剤、熱重合開始剤、増感剤等を添加することもできる。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン類、ベンジルジメチルケタール等のベンジルケタール類等が挙げられる。上記光重合開始剤は、1種単独でも複数種を組み合わせて用いることもできる。光重合開始剤の添加量は、式[1]及び/又は[2]で表される重合性化合物と重合性基を有する特定化合物との合計量の100質量部に対して、5質量部以下が好ましく、より好ましくは0.5~2.0質量部である。熱重合開始剤としては、例えば、2,2-アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。熱重合開始剤は1種単独でも複数種を組み合わせて用いることもでき、その添加量は、式[1]及び/又は[2]で表される重合性化合物と重合性基を有する特定化合物との合計100質量部に対して、5質量部以下が好ましく、より好ましくは0.5~2.0質量部である。なお、上記光重合開始剤は、熱重合開始剤のうち少なくとも1種と組み合わせて用いることができる。本発明の重合性液晶組成物には、その保存安定性を向上させる目的で、安定剤を添加してもよい。安定剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル等のヒドロキノンモノアルキルエーテル類、4-t-ブチルカテコール等が挙げられる。安定剤は1種単独でも複数種を組み合わせて用いることもでき、その添加量は、式[1]及び/又は[2]で表される重合性化合物と重合性基を有する特定化合物との合計100質量部に対して、0.1質量部以下が好ましい。また、本発明の重合性液晶組成物には、基板との密着性を向上させる目的で、密着促進剤を添加してもよい。密着促進剤としては、トリメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン等のクロロシラン類;トリメチルメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルビニルエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類;ヘキサメチルジシラザン、N,N-ビストリメチルシリルウレア、ジメチルトリメチルシリルアミン、トリメチルシリルイミダゾール等のシラザン類;ビニルトリクロロシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-N-ピペリジニルプロピルトリメトキシシラン等のシラン類;ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、インダゾール、イミダゾール、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、ウラゾール、チオウラシル、メルカプトイミダゾール、メルカプトピリミジン等の複素環状化合物;1,1-ジメチルウレア、1,3-ジメチルウレア等の尿素化合物、チオ尿素化合物等が挙げられる。密着促進剤は1種単独でも複数種を組み合わせて用いることもでき、その添加量は、式[1]及び/又は[2]で表される重合性化合物と重合性基を有する特定化合物との合計100質量部に対して、1質量部以下が好ましい。更に、本発明の重合性液晶組成物には、粘度調整等を目的として有機溶媒を添加することもできる。この場合、有機溶媒を含有した状態では液晶性を呈しなくても構わない。有機溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン等の極性溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類;3-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、2-エトキシプロピオン酸エチル等のアルコキシエステル類;エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等のグリコールジアルキルエーテル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のジグリコールジアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル等のジグリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート、エチルセロソルブアセテート等のグリコールモノアルキルエーテルエステル類;シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン等のケトン類等を挙げることができる。これらの中でも地球環境、作業環境等への安全性観点からプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等が好ましい。これらの有機溶媒は、1種単独でも2種以上を組み合わせて用いることもできる。なお、有機溶媒の使用量は、重合性液晶組成物中、60~95質量程度とすることが好適である。また、本発明の重合性液晶組成物には、基板との親和性を向上させる目的で、界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、特に限定されないが、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が挙げられ、基板との親和性改善効果の高いフッ素系界面活性剤が好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例としては以下、商品名、エフトップEF301、EF303、EF352株トーケムプロダクツ製、メガファックF171、F173、R-30大日本インキ化学工業株製、フロラードFC430、FC431住友スリーエム株製、アサヒガードAG710、サーフロンS-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106旭硝子株製等が挙げられるが、これらに限定されない。なお、界面活性剤は、1種単独でも複数種を組み合わせて用いることもできる。本発明の重合性液晶組成物の好適例としては、式[1]及び[2]で表される重合性化合物から選ばれる少なくとも1種を100質量部、特定化合物400~200質量部及び光開始剤5質量部以下からなる液晶組成物等が挙げられる。以上説明した重合性液晶組成物は、配向性被膜形成用の組成物や塗布液として好適に利用できる。本発明の重合性液晶組成物の調製方法は特に限定されず、重合性液晶組成物を構成する各成分を一度に混合してもよいし、順次混合してもよい。順次混合する際における各成分の添加順序は任意である。なお、1つの成分として複数種の化合物を使用する場合は、予めそれらを混合した混合物とその他の成分とを混合してもよく、それぞれ別個にその他の成分と混合してもよい。本発明の重合性液晶組成物は、光学異方体を製造する際に、液晶状態での光重合において意図しない熱重合の誘起を避け、分子の均一な配向状態の固定を容易にするために、室温20~40°C、以下同様において安定な液晶相を示すことが好ましい。また、重合性液晶組成物が有機溶媒を含有する場合は、溶媒を除去した際に室温において、安定な液晶相を示すことが好ましい。[重合体及びフィルム]上記重合性液晶組成物に対し、光照射や加熱処理することで重合体が得られる。また、2枚の基板間に重合性液晶組成物を挟持した状態で、又は基板に重合性液晶組成物をスピンコートやキャスト法等により塗布した状態で、光照射処理することで、フィルムが得られる。上記基板としては、ガラス、石英、プラスチックシート、カラーフィルタ、トリアセチルセルロースTAC等のプラスチックフィルム等を用いることができる。なお、2枚の基板うち、一方の基板として、ITO等の機能性薄膜が形成されたガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム、及びステンレススチール、クロム、アルミ等の金属をめっき又は蒸着したベルトやドラムを使用することも可能である。使用する基板には、得られるフィルムの配向性を向上させる目的で、配向処理を施すことが好ましい。配向処理の方法としては、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリビニルシンナメート等を含有する配向材を塗布し、ラビング又は偏光紫外線を照射して配向処理する方法、二酸化ケイ素の斜法蒸着膜を形成する方法、LB膜を形成する方法等の公知の方法から適宜選択して用いることができる。2枚の基板間に重合性液晶組成物を挟持する方法では、スペーサ等によって2枚の基板間に空隙を形成したセルを作製し、毛細管現象を利用する方法や、セルの空隙を減圧する等の方法で重合性液晶組成物をセルに注入した後、光を照射してこれを重合する。また、より簡便な方法としては、スペーサ等を設けた基板上に、重合性液晶組成物を載せ、もう一方の基板をその上から重ねてセルを作製し、光を照射してこれを重合する方法もある。その際、重合性液晶組成物は、流動化させたものを用いてもよいし、基板に載せてから加熱等により流動化させてもよいが、もう一方の基板を重ね合わせる前に、重合性液晶組成物を流動化させておく必要がある。重合性液晶組成物を塗布する方法では、重合性液晶組成物を塗布する工程と、光や熱によって重合させる工程の途中に、必要に応じてホットプレート等で加熱する工程を加えてもよい。この工程は、特に、有機溶媒を含有する重合性液晶組成物塗布液を用いる場合に、当該組成物から有機溶媒を除去する手段として有効である。上記のいずれの方法においても、重合性液晶組成物が液晶相を呈する状態で重合することで、配向した光学異方性を有するフィルムを得ることができる。隣り合うドメイン毎に異なる配向を有するマルチドメイン状態の重合体を得るためには、重合の工程でマルチドメイン化する方法や、基板をマルチドメイン化する方法が用いられる。重合の工程でマルチドメイン化する方法は、液晶状態の重合性液晶組成物に、マスクを介して紫外線を露光して重合したドメインを形成し、残りのドメインは、等方性液体状態で重合する方法等が挙げられる。また、基板をマルチドメイン化する方法は、基板に形成した配向材にマスクを介してラビングする方法や、マスクを介して紫外線を照射する方法等が挙げられる。これらの方法によれば、ラビングされたドメイン及び紫外線を照射したドメインが配向処理された部分で、その他が未処理部分であるマルチドメイン化された基板が得られる。このマルチドメイン化された基板上に形成された重合性液晶組成物は、配向材層の影響を受けてマルチドメイン化する。なお、上記配向処理方法のほかに、電場、磁場を利用する方法を用いてもよい。本発明の重合性液晶組成物から得られるフィルムは、光学異方性を有するため、偏光板や位相差板等に好適に用いることができる。以下、合成例、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例における各物性の測定法及び測定条件は、以下のとおりである。[1]NMR化合物を重水素化クロロホルムCDCl3又は重水素化ジメチルスルホキシドDMSO-d6に溶解し、核磁気共鳴装置300MHz、ジオール社製を用いて1H-NMRを測定した。[2]液晶相の観察液晶相の同定は、ホットステージMATS-2002S、東海ヒット社製上で試料を加熱し、偏光顕微鏡ニコン社製を用いて観察して行った。相転移温度はブルカーエイエックスエス社製示差走査熱分析装置DSC3100SRを用い、スキャンスピードScanRate10°C/分の条件で測定した。[3]ヘイズ値東京電色社製SpectralHazeMeterTC-1800Hを用いてフィルムのヘイズ値を測定した。[4]フィルムのリタデーション値リタデーション測定装置RETS-100、大塚電子株製を用いて波長590nmのリタデーション値を測定した。[合成例1]重合性液晶化合物E1の合成[1]中間体化合物A1の合成冷却管付き500mLナスフラスコに、4-シアノ-4-ヒドロキシビフェニル9.8g50.0mmol、3-ブロモ-1-プロパノール7.0g50.0mmol、炭酸カリウム13.8g100mmol、及びアセトン150mLを加えて混合物とし、温度64°Cで48時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧下で溶媒を留去し、黄色の湿潤固体を得た。その後、この固体と水140mLとを混合し、そこにジエチルエーテル100mLを加えて抽出した。抽出は3回行った。分液した有機層は、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し、ろ過した後に減圧下で溶媒を留去し、黄色の固体を得た。この固体をヘキサン/酢酸エチル=2/1の混合溶媒を用い、再結晶により精製し、白色の固体8.7gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が中間体化合物A1であることが確認された収率70。1HNMRδ209390420699752766[2]重合性液晶化合物E1の合成上記で得られた中間体化合物A112.0gをトリエチルアミン7.7mLと少量の2,6-ジ-tert-ブチル-p-クレゾールBHTと共にテトラヒドロフランTHF40mLに溶解させて室温にて攪拌し、水浴による冷却下、THF40mLに塩化アクリロイル4.6mLを溶解した溶液を15分間かけて滴下した。滴下後、30分間攪拌し、水浴を除去して室温に戻しながら終夜攪拌を続けて、析出したトリエチルアミン塩酸塩をろ過した。得られたろ液からTHFを約3/4留去して塩化メチレン50mLを添加し、その有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mL、0.5N塩酸50mL、及び飽和食塩水50mLにて順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して生成物を得た。エタノールによる再結晶後、重合性液晶化合物E16.0gを得た。1H-NMRの測定結果は、次のとおりであった。1HNMRδ:220410440581615641699755766[合成例2]重合性液晶化合物E2の合成[1]中間体化合物A2の合成冷却管付き100mLナスフラスコに、4-シアノ-4-ヒドロキシビフェニル5.0g25.6mmol、6-ブロモ-1-ヘキサノール4.6g25.6mmol、炭酸カリウム7.0g50mmol、及びアセトン50mLを加えて混合物とし、64°Cで24時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧下で溶媒を留去し、黄色の湿潤固体を得た。その後、この固体と水70mLとを混合し、ジエチルエーテル50mLを加えて抽出した。抽出は3回行った。分液した有機層は、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し、濾過した後に減圧下で溶媒を留去し、黄色の固体を得た。この固体を酢酸エチル3mLに溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィカラム:シリカゲル60,0.063-0.200mm,メルク社製、溶出液:へキサン/酢酸エチル=1/1により精製した。得られた溶液から溶媒を留去し、白色の固体6.9gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が中間体化合物A2であることが確認された収率91。1HNMRδ:126169337403706769785[2]中間体化合物B2の合成次に、冷却管付き200mL三口フラスコにピリジニウムクロロクロマートPCC2.2g10.0mmol及びCH2Cl230.0mLを加えて攪拌混合した状態で、上記で得られた中間体化合物A22.95g10.0mmolをCH2Cl250.0mLに溶解した溶液を滴下し、40°Cで0.5時間更に攪拌した。その後、フラスコの壁に付着したオイル状物を除いた溶液に、ジエチルエーテル90mLを加えて減圧濾過した後、減圧下で溶媒を留去して、濃緑色の湿潤な固体を得た。この固体を酢酸エチル3mLに溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィカラム:シリカゲル60,0.063-0.200mm,メルク社製、溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=1/1で精製した。得られた溶液の溶媒を留去して、無色の固体2.8gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、この無色の固体が中間体化合物B2であることが確認された収率93。1HNMRδ:184250402699753791980[3]重合性液晶化合物E2の合成最後に、冷却管付き50mLナスフラスコに、上記で得られた中間体化合物B23.0g10.0mmol、2-ブロモメチルアクリル酸1.65g10.0mmol、Amberlyst登録商標15を1.6g、THF16.0mL、塩化スズII1.9g10.0mmol、及び純水4.0mLを加えて混合物とし、70°Cで7時間攪拌して反応させた。反応終了後、反応液を減圧濾過して純水30mLと混合し、そこにジエチルエーテル50mLを加えて抽出した。抽出は3回行った。抽出後の有機層に、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し、減圧濾過した後の溶液から溶媒を留去し黄色固体を得た。この固体を酢酸エチル2mLに溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィカラム:シリカゲル60,0.063-0.200mm,メルク社製、溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=2/1により精製した。得られた溶液の溶媒を留去して、白色の固体1.5gを得た。NMRで測定した結果から、この白色の固体が目的の重合性液晶化合物E2であることが確認された収率41。1H-NMRの測定結果は、次のとおりであった。1HNMRδ:157185260305401454563623700752768また、この重合性液晶化合物E2の液晶性を観察した結果、84°Cで等方性液体状態となり、降温時に61°Cで液晶相ネマチック相へ相転移した。[合成例3]重合性液晶化合物E3の合成[1]中間体化合物A3の合成冷却管付き200mLナスフラスコに、4-ヒドロキシ安息香酸メチル7.61g50.0mmol、6-ブロモ-1-ヘキサノール9.1g50.0mmol、炭酸カリウム13.8g100mmol、及びアセトン70mLを加えて混合物とし、温度64°Cで24時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、反応液を減圧ろ過して減圧下で溶媒を留去し、黄色の湿潤固体を得た。この固体を、シリカゲルカラムクロマトグラフィカラム:シリカゲル60,0.063-0.200mm,メルク社製、溶出液:へキサン/酢酸エチル=1/1により精製した。得られた溶液から溶媒を留去し、白色の固体11.3gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が中間体化合物A3であることが確認された収率90。1HNMRδ1317367388403691799[2]中間体化合物B3の合成次に、冷却管付き100mL三口フラスコにPCC2.2g10.0mmol、及びCH2Cl215.0mLを入れて攪拌混合した状態で、上記と同様にして得られた中間体化合物A32.5g10.0mmolをCH2Cl215.0mLに溶解した溶液を滴下し、室温で6時間更に攪拌した。その後、フラスコの壁に付着したオイル状物を除いた溶液に、ジエチルエーテル90mLを加えて減圧濾過した後、減圧下で溶媒を留去して、濃緑色の湿潤な固体を得た。この固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィカラム:シリカゲル60,0.063-0.200mm,メルク社製、溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=2/1で精製した。得られた溶液の溶媒を留去して、無色の固体1.3gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、この無色の固体が中間体化合物B3であることが確認された収率50。1HNMRδ1318249388399687799978[3]中間体化合物C3の合成次に、冷却管付き50mLナスフラスコに、上記で得られた中間体化合物B31.25g5.0mmol、2-ブロモメチルアクリル酸0.83g5.0mmol、Amberlyst登録商標15を0.8g、THF8.0mL、塩化スズII0.95g5.0mmol、及び純水2.0mLを加えて混合物とし、温度70°Cで5時間攪拌して反応させた。反応終了後、反応液を減圧ろ過して純水40mLと混合し、そこにジエチルエーテル50mLを加えて抽出した。抽出は3回行った。抽出後の有機層に、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し、減圧濾過した後の溶液から溶媒を留去し、無色固体1.5gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、この無色固体が中間体化合物C3であることが確認された収率94。1HNMRδ1318262304381405454570601703789[4]中間体化合物D3の合成冷却管付き100mLナスフラスコに、エタノール35mL、上記で得られた中間体化合物C31.5g4.7mmol、及び10水酸化ナトリウム水溶液5mLを加えて混合物とし、温度85°Cで3時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、500mLのビーカーに水300mLと反応液とを加えて、30分間室温で攪拌した後、10塩酸5mLを滴下した後、ろ過して白色固体1.3gを得た。次に、冷却管付き50mLナスフラスコに、得られた白色固体1.1g、Amberlyst登録商標15を1.0g、及びテトラヒドロフラン20.0mLを加えて混合物とし、温度70°Cで5時間攪拌して反応させた。反応終了後、反応液を減圧濾過した後の溶液から溶媒を留去し黄色固体を得た。この黄色固体を再結晶ヘキサン/酢酸エチル=1/1で精製した後、白色固体0.9gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が中間体化合物D3であることが確認された収率71。1HNMRδ1218260309404455569602699788125[5]化合物P3の合成3-ブロモ-1-プロパノール19.2g138.0mmolをトリエチルアミン18.9mLと少量のBHTと共にTHF100mLに溶解させて室温にて攪拌し、水浴による冷却下、THF50mLに溶解した12.2mL150mmolの塩化アクリロイルを15分間かけて滴下して30分間攪拌し、水浴を除去して室温に戻しながら終夜攪拌を続けた。析出したTEA塩酸塩をろ過し、そのろ液よりTHFを留去してジエチルエーテル100mLを添加し、その有機層を順次各80mL飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、0.5N塩酸、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して化合物P318.2gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。1HNMRδ220345433584613644[6]中間体化合物G3の合成冷却官付き500mLのナスフラスコに、4-ヒドロキシ-4-ビフェノール17.6g94.3mmol、化合物P318.2g94.3mmol、炭酸カリウム24.0g190mmol、アセトン250mLを加えて混合物とし、温度54°Cで20時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、反応液を減圧ろ過して減圧下で溶媒を留去し黄色の湿潤固体を得た。この固体を、カラムクロマトグラフィーカラム:シリカゲル60,0.063-0.200mm,メルク社製、溶出液:へキサン/酢酸エチル=2/1により精製した。ここで得られた溶液から溶媒を留去し、白色の固体6.1gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が中間体化合物G3であることが確認された収率22。1HNMRδ221413440499587615640687699746[7]重合性液晶化合物E3の合成中間体化合物D36.1g20.0mmol、中間体化合物G36.0g20.0mmol、N,N-ジメチル-4-アミノピリジンDMAP0.08g及び少量のBHTを室温にて攪拌下、塩化メチレン10mLに懸濁させ、それに塩化メチレン20mLに溶解させたジシクロヘキシルカルボジイミドDCC4.7g23.0mmolを加えて終夜攪拌後、析出したDCCウレアをろ別し、そのろ液を順次各60mLの0.5N塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水にて2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、エタノールによる再結晶操作で、重合性液晶化合物E38.8gを得た収率75。1H-NMRの測定結果は、次のとおりであった。1HNMRδ:153181220260307406412440454563585610624642697725754759817重合性液晶化合物E3の液晶相を観察した結果、昇温時、温度109°CでスメックチックX相に相転移し、温度144°Cでネマチック相に相転移し、温度168°Cで等方性液体状態となった。[実施例1]重合性化合物Z1の合成中間体化合物D36.1g20.0mmol、4-ヒドロキシベンゾフェノン4.0g20.0mmol、DMAP0.1g、及び少量のBHTを室温にて攪拌下、塩化メチレン80mLに懸濁させ、それにDCC5.2g25.0mmolを加えて終夜攪拌した。析出したDCCウレアをろ別し、そのろ液を、0.5N塩酸50mL、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mL、飽和食塩水100mLにて順次2回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、黄色固体を得た。この固体を再結晶エタノールで精製し、目的の重合性化合物Z17.2gを得た収率74。1H-NMRの測定結果は、次のとおりであった。1HNMRδ140195258307407455564625699735748761782792817[実施例2]重合性化合物Z2の合成中間体化合物D36.1g20.0mmol、4,4-ジヒドロキシベンゾフェノン2.1g10.0mmol、DMAP0.1g、及び少量のBHTを室温にて攪拌下、塩化メチレン80mLに懸濁させ、それにDCC5.2g24.0mmolを加えて終夜攪拌した。析出したDCCウレアをろ別し、そのろ液を、0.5N塩酸50mL、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mL、飽和食塩水100mLにて順次2回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、黄色固体を得た。この固体をエタノールを用いた再結晶により精製し、白色の固体6.2gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。NMRで測定した結果から、この白色の固体が重合性化合物Z2であることが確認された収率79。1H-NMRの測定結果は、次のとおりであった。1HNMRδ145195258307405454564624698732791,818[実施例3~6、比較例1]重合性液晶組成物の調製及び重合物フィルムの評価以下の実施例及び比較例で使用した化合物は下記のとおりである。また、実施例3~6及び比較例1で調製した組成物の組成をまとめて表1に示す。[実施例3]重合性液晶化合物E1120mg、重合性液晶化合物E290mg、重合性液晶化合物E360mg、重合性化合物Z130mg、光重合開始剤であるチバガイギー社製イルガキュア369商品名4mg、及び界面活性剤であるR-30大日本インキ化学工業社製0.6mgをシクロヘキサノン0.70gに溶解し、重合性液晶組成物を得た。この重合性液晶組成物を、液晶配向膜付基板の液晶配向膜面にスピンコート1,000rpm、20秒間により塗布し、温度100°Cのホットプレート上で60秒間プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上の重合性組成物は液晶状態であった。ここで用いた液晶配向膜付基板は、ITO付ガラス基板のITO面に、液晶配向剤日産化学工業社製SE-1410をスピンコートにより塗布し、温度230°Cで焼成して厚さ100nmの薄膜を形成した後、ラビング処理を施したものである。次に、液晶配向膜付基板に形成された塗膜に、空気中で、メタルハライドランプを用いて2,000mJ/cm2の強さの光を照射して重合性液晶組成物を重合させた。得られたフィルムは、膜厚が1.9μmであり、偏光顕微鏡でそれを観察したところ、フィルムが基板面に水平配向していることを確認した。そして、そのリタデーション値は288nmΔnd1であり、ヘイズ値は0.16であった。このフィルムを160°Cのホットプレート上で30分間加熱したところ、リタデーション値は240nmΔnd2であり、ヘイズ値は0.08であった。更に、160°C,30分間加熱後のフィルムを、200°Cのホットプレート上で1時間加熱したところ、リタデーション値は207nmΔnd3であり、ヘイズ値は0.09であった。[実施例4]重合性液晶化合物E190mg、重合性液晶化合物E290mg、重合性液晶化合物E360mg、重合性化合物Z160mg、光重合開始剤であるチバガイギー社製イルガキュア369商品名4mg、及び界面活性剤であるR-30大日本インキ化学工業社製0.6mgをシクロヘキサノン0.70gに溶解し、重合性液晶組成物を得た。この重合性液晶組成物を、液晶配向膜付基板の液晶配向膜面にスピンコート1,000rpm、20秒間により塗布し、温度100°Cのホットプレート上で60秒間プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上の重合性組成物は液晶状態であった。ここで用いた液晶配向膜付基板は、ITO付ガラス基板のITO面に、液晶配向剤日産化学工業社製SE-1410をスピンコートにより塗布し、温度230°Cで焼成して厚さ100nmの薄膜を形成した後、ラビング処理を施したものである。次に、液晶配向膜付基板に形成された塗膜に、空気中で、メタルハライドランプを用いて2,000mJ/cm2の強さの光を照射して重合性液晶組成物を重合させた。得られたフィルムは、膜厚が1.9μmであり、偏光顕微鏡でそれを観察したところ、フィルムが基板面に水平配向していることを確認した。そして、そのリタデーション値Δnd1は267nmであり、ヘイズ値は0.08であった。このフィルムを160°Cのホットプレート上で30分間加熱したところ、リタデーション値Δnd2は233nmであり、ヘイズ値は0.16であった。更に、160°C,30分間加熱後のフィルムを、200°Cのホットプレート上で1時間加熱したところ、リタデーション値Δnd3は203nmであり、ヘイズ値は0.09であった。[実施例5]重合性液晶化合物E190mg、重合性液晶化合物E260mg、重合性液晶化合物E360mg、重合性化合物Z190mg、光重合開始剤であるチバガイギー社製イルガキュア369商品名4mg、及び界面活性剤であるR-30大日本インキ化学工業社製0.6mgをシクロヘキサノン0.70gに溶解し、重合性液晶組成物を得た。この重合性液晶組成物を、液晶配向膜付基板の液晶配向膜面にスピンコート1,000rpm、20秒間により塗布し、温度100°Cのホットプレート上で60秒間プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上の重合性組成物は液晶状態であった。ここで用いた液晶配向膜付基板は、ITO付ガラス基板のITO面に、液晶配向剤日産化学工業社製SE-1410をスピンコートにより塗布し、温度230°Cで焼成して厚さ100nmの薄膜を形成した後、ラビング処理を施したものである。次に、液晶配向膜付基板に形成された塗膜に、空気中で、メタルハライドランプを用いて2,000mJ/cm2の強さの光を照射して重合性液晶組成物を重合させた。得られたフィルムは、膜厚が1.9μmであり、偏光顕微鏡でそれを観察したところ、フィルムが基板面に水平配向していることを確認した。そして、そのリタデーション値Δnd1は255nmであり、ヘイズ値は0.08であった。このフィルムを160°Cのホットプレート上で30分間加熱したところ、リタデーション値Δnd2は228nmであり、ヘイズ値は0.08であった。更に、160°C,30分間加熱後のフィルムを、200°Cのホットプレート上で1時間加熱したところ、リタデーション値Δnd3は204nmであり、ヘイズ値は0.08であった。[実施例6]重合性液晶化合物E190mg、重合性液晶化合物E290mg、重合性液晶化合物E360mg、重合性化合物Z260mg、光重合開始剤であるチバガイギー社製イルガキュア369商品名4mg、及び界面活性剤であるR-30大日本インキ化学工業社製0.6mgをシクロヘキサノン0.70gに溶解し、重合性液晶組成物を得た。この重合性液晶組成物を、液晶配向膜付基板の液晶配向膜面にスピンコート1000rpm、20秒間により塗布し、温度100°Cのホットプレート上で60秒間プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上の重合性組成物は液晶状態であった。ここで用いた液晶配向膜付基板は、ITO付ガラス基板のITO面に、液晶配向剤日産化学工業社製SE-1410をスピンコートにより塗布し、温度230°Cで焼成して厚さ100nmの薄膜を形成した後、ラビング処理を施したものである。次に、液晶配向膜付基板に形成された塗膜に、空気中で、メタルハライドランプを用いて2,000mJ/cm2の強さの光を照射して重合性液晶組成物を重合させた。得られたフィルムは、膜厚が1.8μmであり、偏光顕微鏡でそれを観察したところ、フィルムが基板面に水平配向していることを確認した。そして、そのリタデーション値は267nmΔnd1であり、ヘイズ値は0.08であった。このフィルムを160°Cのホットプレート上で30分間加熱したところ、リタデーション値は245nmΔnd2であり、ヘイズ値は0.08であった。更に、160°C,30分間加熱後のフィルムを、200°Cのホットプレート上で1時間加熱したところ、リタデーション値は218nmΔnd3であり、ヘイズ値は0.08であった。[比較例1]重合性液晶化合物E1150mg、重合性液晶化合物E290mg、重合性液晶化合物E360mg、光重合開始剤であるチバガイギー社製イルガキュア369商品名4mg、及び界面活性剤であるR-30大日本インキ化学工業社製0.6mgをシクロヘキサノン0.70gに溶解し、重合性液晶組成物を得た。この重合性液晶組成物を、液晶配向膜付基板の液晶配向膜面にスピンコート1,000rpm、20秒間により塗布し、温度100°Cのホットプレート上で60秒間プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上の重合性組成物は液晶状態であった。ここで用いた液晶配向膜付基板は、ITO付ガラス基板のITO面に、液晶配向剤日産化学工業社製SE-1410をスピンコートにより塗布し、温度230°Cで焼成して厚さ100nmの薄膜を形成した後、ラビング処理を施したものである。次に、液晶配向膜付基板に形成された塗膜に、空気中で、メタルハライドランプを用いて2,000mJ/cm2の強さの光を照射して重合性液晶組成物を重合させた。得られたフィルムは、膜厚が1.9μmであり、偏光顕微鏡でそれを観察したところ、フィルムが基板面に水平配向していることを確認した。そして、そのリタデーション値は299nmΔnd1であり、ヘイズ値は0.09であった。このフィルムを160°Cのホットプレート上で30分間加熱したところ、リタデーション値は234nmΔnd2であり、ヘイズ値は0.08であった。更に、160°C,30分間加熱後のフィルムを、200°Cのホットプレート上で1時間加熱したところ、リタデーション値Δnd3は205nmであり、ヘイズ値は0.08であった。図1~5に上記フィルムのリタデーション値の角度依存性を示す。なお、図中、Angleは入射角を、NoBakeは露光のみで処理したことを、Ageingは160°Cで30分焼成したことを、BakeはAgeing後、更に200°Cで60分焼成したことを、それぞれ表す。実施例1~4図1~4と比較例1図5とを比較すると、図1~図4ではNoBakeとAgeingの線が近づくことがわかり、これより、重合性が向上しているということがわかった。また、図6に、重合性化合物Z1の添加量によるフィルムのΔndの熱安定性を示すグラフを示す。図6において、Stabilityは安定性を、BPGBLAdditionは重合性化合物Z1の添加量を、Ageingは160°Cで30分焼成したことを、BakeはAgeing後、更に200°Cで60分焼成したことを、それぞれ表す。ΔndStabilityは、Ageingの場合では、ΔndStability=Δnd2Δnd1×100にしたがって、Bakeの場合では、ΔndStability=Δnd3Δnd2×100にしたがって求めた。Δnd1、Δnd2及びΔnd3は、それぞれ、比較例1化合物Z1、0添加量、実施例3化合物Z1、10添加量、実施例4化合物Z1、20添加量、実施例5化合物Z1、30添加量で得られた値を用いた。図6より、化合物Z1の添加量が多いほど、AgeingのみでもBakeなみのリタデーションが得られることがわかり、これより、重合性が向上しているということがわかった。以上の結果をまとめて表2に示す。[実施例7、比較例2]膜減り評価[実施例7]実施例4で調製した重合性液晶組成物を、液晶配向膜付基板の液晶配向膜面にスピンコート1,000rpm、20秒間により塗布し、温度100°Cのホットプレート上で60秒間プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上の重合性組成物は液晶状態であった。ここで用いた液晶配向膜付基板は、ITO付ガラス基板のITO面に、液晶配向剤日産化学工業社製SE-1410をスピンコートにより塗布し、温度230°Cで焼成して厚さ100nmの薄膜を形成した後、ラビング処理を施したものである。次に、液晶配向膜付基板に形成された塗膜を、半分をマスクし、半分を空気中で、メタルハライドランプを用いて2,000mJ/cm2の強さの光を照射して重合性液晶組成物を重合させた後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEAを用いて20秒間、室温で現像を行い、PGMEAを用いて10秒間、室温でリンスを行った。その後、未露光部がなくなったことを確認した。現像後の露光部の膜厚は1.9μmであり、実施例4のフィルムの膜厚と比較したところ、膜厚の減少は認められなかった。すなわち、実施例のフィルムは高い耐薬品性を有していることが示された。また、偏光顕微鏡で現像後のフィルムを観察したところ、フィルムが基板面に水平配向していることを確認した。そして、そのリタデーション値は250nmであり、ヘイズ値は0.16であった。[比較例2]比較例1で調製した重合性液晶組成物を、液晶配向膜付基板の液晶配向膜面にスピンコート1,000rpm、20秒間により塗布し、温度100°Cのホットプレート上で60秒間プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上の重合性組成物は液晶状態であった。ここで用いた液晶配向膜付基板は、ITO付ガラス基板のITO面に、液晶配向剤日産化学工業社製SE-1410をスピンコートにより塗布し、温度230°Cで焼成して厚さ100nmの薄膜を形成した後、ラビング処理を施したものである。次に、液晶配向膜付基板に形成された塗膜を、半分をマスクし、半分を空気中で、メタルハライドランプを用いて2,000mJ/cm2の強さの光を照射して重合性液晶組成物を重合させた後、PGMEAを用いて20秒間、室温で現像を行い、PGMEAを用いて10秒間、室温でリンスを行った。その後、未露光部がなくなったことを確認した。現像後の露光部の膜厚は1.5μmであり、比較例1のフィルムの膜厚と比較したところ、膜厚は79まで減少していた。すなわち、比較例のフィルムは実施例のフィルムに比べて耐薬品性が劣っていることが示された。また、偏光顕微鏡で現像後のフィルムを観察したところ、フィルムが基板面に水平配向していることを確認した。そして、そのリタデーション値は221nmであり、ヘイズ値は3.6であった。パターン膜減り評価結果をまとめて表3に示す。"