"露光光を出射する光源と、この光源からの露光光が入射され基板に露光するパターンが形成されたマスクと、前記基板と前記マスクとの間に設けられこのマスクを透過した露光光が入射されて前記基板に前記パターンの正立等倍像を結像させる第1のマイクロレンズアレイと、を有する露光装置の前記マスクと前記基板とを相対的位置合わせする露光装置用のアライメント装置において、前記基板に設けられた基板アライメントマークと前記マスクに設けられたマスクアライメントマークに、前記マスクの上方からアライメント用の光を照射するアライメント光源と、前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとの間に配置され、前記基板アライメントマークから反射した反射光を前記マスク上に正立等倍像として結像させる第2のマイクロレンズアレイと、前記基板アライメントマークの反射光と前記マスクアライメントマークの反射光とを前記マスク側から検出するカメラと、このカメラにより検出される前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとが一致するように、前記マスク及び/又は前記基板の位置を調節する制御装置と、を有することを特徴とする露光装置用のアライメント装置。露光光を出射する光源と、この光源からの露光光が入射され基板に露光するパターンが形成されたマスクと、前記基板と前記マスクとの間に設けられこのマスクを透過した露光光が入射されて前記基板に前記パターンの正立等倍像を結像させる第1のマイクロレンズアレイと、を有する露光装置の前記マスクと前記基板とを相対的位置合わせする露光装置用のアライメント装置において、前記基板に設けられた基板アライメントマークと前記マスクに設けられたマスクアライメントマークに、前記基板の下方からアライメント用の光を照射するアライメント光源と、前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとの間に配置され、前記マスクアライメントマークから反射した反射光を前記基板上に正立等倍像として結像させる第2のマイクロレンズアレイと、前記基板アライメントマークの反射光と前記マスクアライメントマークの反射光とを前記基板側から検出するカメラと、このカメラにより検出される前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとが一致するように、前記マスク及び/又は前記基板の位置を調節する制御装置と、を有することを特徴とする露光装置用のアライメント装置。前記第1のマイクロレンズアレイと前記第2のマイクロレンズアレイとは、1枚の共有マイクロレンズアレイにより構成され、前記アライメント用の光は前記共有マイクロレンズアレイを前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとの間に移動させた状態で照射されることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置用のアライメント装置。前記第1のマイクロレンズアレイと前記第2のマイクロレンズアレイとは、露光光が照射される露光位置と、アライメント光が照射されるアライメント位置とを包含する1枚の共有マイクロレンズアレイにより構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置用のアライメント装置。前記第1のマイクロレンズアレイと前記第2のマイクロレンズアレイとは、別体で構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置用のアライメント装置。前記基板アライメントマーク及び前記マスクアライメントマークの一方が、枠状をなし、他方がアライメント時に前記枠の中心に位置する矩形状をなすことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光装置用のアライメント装置。前記アライメント光源は、前記カメラが検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光装置用のアライメント装置。前記アライメント光源と、前記カメラとは、別体であり、前記アライメント光源からの光の光軸と、前記カメラにて検出される反射光の光軸とは、同軸ではないことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光装置用のアライメント装置。しかしながら、アライメントマーク1a,2aにより、基板1とマスク2との位置合わせをする場合、±1μm程度の高精度で基板1とマスク2とを位置合わせしようとすると、両アライメントマーク1a,2aを同一のカメラにより同時に観察する必要がある。即ち、異なるカメラで別々にアライメントマーク1a,2aを観察すると、両アライメントマーク1a,2aの相対的な位置を保証できない。特許文献1のような近接露光の場合は、マスクと基板とが200μm程度で近接しており、この間隔はカメラの焦点深度内に収まるので、マスクのアライメントマークと基板のアライメントマークとを同時にカメラで観察することが可能である。しかし、マイクロレンズアレイ3を使用した露光装置においては、基板1とマスク2との間にマイクロレンズアレイ3を介装する必要があるため、基板1とマスク2との間の距離、即ち、アライメントマーク1a,2a間の間隔Gは、5乃至15mm程度存在する。この5乃至15mmの間隔は、通常のカメラのレンズ系では、同時に観察することができない。なお、図11及び図12に示すように、基板1のアライメントマーク1aからの反射光と、マスク2のアライメントマーク2aからの反射光とで、光路差を設け、基板1のアライメントマーク1aとマスク2のアライメントマーク2aとのフォーカス差を補正することも考えられる。図11に示すように、基板1とマスク2との間のギャップGは5乃至15mmである。この場合に、視野とアライメント精度とを考慮すると、レンズ倍率は4倍程度が必要である。よって、アライメントのパターンギャップG=5~15mmは、カメラ側でみると、5~15mm×42=80~240mmに相当する。この80乃至240mmのフォーカス差を補正する必要がある。そこで、図12においては、光源20からの光をレンズ21で収束して反射鏡22により反射させ、レンズ23を介してビームスプリッタ17に入射させる。そして、ビームスプリッタ17からの光は、レンズ18及び19を経由してマスク2に入射し、マスク2のアライメントマーク2aで反射すると共に、基板1に入射し、基板1のアライメントマーク1aで反射する。これらのアライメントマーク1a、2aで反射した光は、ビームスプリッタ17に向かい、このビームスプリッタ17を透過した後、レンズ16,15を介して、ビームスプリッタ14に入射する。アライメントマーク1a,2aからの反射光は、ビームスプリッタ14で、ビームスプリッタ11に向かう光と、ミラー13に向かう光とに分離され、ミラー13に向かった光は、ミラー12により、ビームスプリッタ11に向かう。そして、ビームスプリッタ11にて、ビームスプリッタ14からの光はそのまま透過し、ミラー12からの光は反射して、カメラ10に向かう。このようにして、ビームスプリッタ14からミラー13,12を経由した光と、ビームスプリッタ14から直接到達した光とは、カメラ10により検出される。このとき、ビームスプリッタ14からミラー13までの光路と、ミラー13からミラー12までの光路と、ミラー12からビームスプリッタ11までの光路との総長が、ビームスプリッタ14からビームスプリッタ11に直接入射する光の光路の長さよりも、80乃至240mmのフォーカス差だけ長くなるように設定されている。従って、マスク2のアライメントマーク2aからの反射光であってミラー12,13を経由する光路を進行した光と、基板1のアライメントマーク1aからの反射光であってビームスプリッタ14から直接ビームスプリッタ11に入射する光路を進行した光とがいずれもカメラ10のCCD電荷結合素子に結像し、アライメントマーク1a,2aをカメラ10で同時に観察することができる。これにより、基板1とマスク2のアライメントマーク1a,2aのパターンのフォーカス差80乃至240mm相当を、別光路に分けて補正することができる。しかしながら、このように、フォーカス差を別光路で補正すると、各光路での光軸ずれが生じた場合に、アライメントマーク1a,2aの両パターンの相対位置がずれてしまうという問題点がある。このため、この方法では、アライメント精度が低下する。アライメント精度が低下すると、露光パターン精度も低下し、近時の高精細液晶パネルの露光にとって、致命的な問題となる。本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる露光装置用のアライメント装置を提供することを目的とする。本発明に係る露光装置用のアライメント装置は、露光光を出射する光源と、この光源からの露光光が入射され基板に露光するパターンが形成されたマスクと、前記基板と前記マスクとの間に設けられこのマスクを透過した露光光が入射されて前記基板に前記パターンの正立等倍像を結像させる第1のマイクロレンズアレイと、を有する露光装置の前記マスクと前記基板とを相対的位置合わせする露光装置用のアライメント装置において、前記基板に設けられた基板アライメントマークと前記マスクに設けられたマスクアライメントマークに、前記マスクの上方からアライメント用の光を照射するアライメント光源と、前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとの間に配置され、前記基板アライメントマークから反射した反射光を前記マスク上に正立等倍像として結像させる第2のマイクロレンズアレイと、前記基板アライメントマークの反射光と前記マスクアライメントマークの反射光とを前記マスク側から検出するカメラと、このカメラにより検出される前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとが一致するように、前記マスク及び/又は前記基板の位置を調節する制御装置と、を有することを特徴とする。本発明に係る他の露光装置用のアライメント装置は、露光光を出射する光源と、この光源からの露光光が入射され基板に露光するパターンが形成されたマスクと、前記基板と前記マスクとの間に設けられこのマスクを透過した露光光が入射されて前記基板に前記パターンの正立等倍像を結像させる第1のマイクロレンズアレイと、を有する露光装置の前記マスクと前記基板とを相対的位置合わせする露光装置用のアライメント装置において、前記基板に設けられた基板アライメントマークと前記マスクに設けられたマスクアライメントマークに、前記基板の下方からアライメント用の光を照射するアライメント光源と、前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとの間に配置され、前記マスクアライメントマークから反射した反射光を前記基板上に正立等倍像として結像させる第2のマイクロレンズアレイと、前記基板アライメントマークの反射光と前記マスクアライメントマークの反射光とを前記基板側から検出するカメラと、このカメラにより検出される前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとが一致するように、前記マスク及び/又は前記基板の位置を調節する制御装置と、を有することを特徴とする。本発明に係る露光装置用のアライメント装置において、例えば、前記第1のマイクロレンズアレイと前記第2のマイクロレンズアレイとは、1枚の共有マイクロレンズアレイにより構成され、前記アライメント用の光は前記共有マイクロレンズアレイを前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとの間に移動させた状態で照射される。又は、前記第1のマイクロレンズアレイと前記第2のマイクロレンズアレイとは、露光光が照射される露光位置と、アライメント光が照射されるアライメント位置とを包含する1枚の共有マイクロレンズアレイにより構成されている。又は、前記第1のマイクロレンズアレイと前記第2のマイクロレンズアレイとは、別体で構成されている。また、本発明に係る露光装置用のアライメント装置においては、例えば、前記基板アライメントマーク及び前記マスクアライメントマークの一方が、枠状をなし、他方がアライメント時に前記枠の中心に位置する矩形状をなすように構成できる。前記アライメント光源は、例えば前記カメラが検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射するように構成できる。又は、前記アライメント光源と、前記カメラとは、別体であり、前記アライメント光源からの光の光軸と、前記カメラにて検出される反射光の光軸とは、同軸ではないように構成できる。本発明に係る露光装置用のアライメント装置は、アライメント光源によりマスクの上方からアライメント光をマスク及び基板に照射すると、このアライメント光はマスクを透過し、基板上に照射され、基板上の基板アライメントマークで反射した後、反射光は、第2のマイクロレンズアレイにより、マスク上に、基板アライメントマークの正立等倍像として結像する。よって、基板アライメントマーク及びマスクアライメントマークを、カメラにより、マスク上で検出することができ、基板とマスクとの間のギャップGに起因するカメラ側のフォーカス差が0となる。よって、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、カメラにより検出される両アライメントマーク同士の相対位置は変化せず、基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる。例えば、基板とマスクとのアライメントがとれているにも拘わらず、カメラにおいては、アライメントがとれていないと誤観察されたり、基板とマスクとのアライメントがとれていないにも拘わらず、カメラにおいては、アライメントがとれていると誤観察されることを防止できる。そして、本発明においては、制御装置は、カメラにより検出される基板アライメントマークとマスクアライメントマークとが一致するように、マスク及び/又は基板の位置を調節するので、基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる。本発明に係る他の露光装置用のアライメント装置は、アライメント光源により基板の下方からアライメント光を基板及びマスクに照射すると、基板が例えばPIポリイミド及びITOスズドープ酸化インジウム等の光透過性の材料からなる場合には、このアライメント光は基板を透過し、マスク上に照射され、マスク上のマスクアライメントマークで反射した後、反射光は、第2のマイクロレンズアレイにより、基板上に、マスクアライメントマークの正立等倍像として結像する。よって、基板アライメントマーク及びマスクアライメントマークを、カメラにより、基板上で検出することができ、基板とマスクとの間のギャップGに起因するカメラ側のフォーカス差が0となる。従って、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、カメラにより検出される両アライメントマーク同士の相対位置は変化せず、基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる。以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照して具体的に説明する。図1aは本発明の第1実施形態に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図1bは検出されるアライメントマークの相対的位置関係を示す図である。図1に示すように、本実施形態においては、アライメント装置が設けられる露光装置は、従来のマイクロレンズアレイを使用した露光装置と同様に、基板1とマスク3との間にマイクロレンズアレイ3が設けられており、露光光源8から出射された露光光をマスク2に形成されたパターンに透過させ、マイクロレンズアレイ3により、パターンの正立等倍像を基板上に結像させる。この露光装置において、アライメント装置は、基板1とマスク2との相対的位置合わせに使用される。本実施形態に係るアライメント装置には、マスク2の上方に、基板1に設けられた基板アライメントマーク1aとマスク2に設けられたマスクアライメントマーク2aに、マスク2の上方からアライメント用の光を照射するアライメント光源5が設けられている。図1に示すように、露光用の上記マイクロレンズアレイ3は、基板1とマスク2との相対的位置合わせの際には、基板アライメントマーク1aとマスクアライメントマーク2aとの間に移動され、1枚のマイクロレンズアレイ3を露光時とアライメント時で移動させて使用される。そして、アライメントの際には、マイクロレンズアレイ3により、基板アライメントマーク1aから反射した正立等倍像をマスク2上に結像させるように構成されている。また、マスク2の上方には、カメラ6が設けられており、マスクアライメントマーク2aから反射した反射光及びマスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの正立等倍像をカメラ6により検出するように構成されている。図1aに示すように、本実施形態においては、カメラ6は、例えば1焦点型の同軸落射式顕微鏡であり、アライメント光源5が内蔵されている。そして、アライメント光源5は、カメラ6が検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射するように構成されている。このアライメント光源5としては、レーザ光又は干渉フィルタを透過したランプ光を使用することができる。ランプ光源としては、例えばハロゲンランプを使用すれば、コストを低減でき、好ましい。なお、アライメント光源5は、カメラ6とは別体的に設けられていてもよい。アライメント光源5から出射された光は、例えば反射鏡及びビームスプリッタ等の光学系を介して、マスク2及び基板1に照射される。マスク2には、例えば枠状のマスクアライメントマーク2aが設けられており、基板1には、例えばマスクアライメントマーク2aよりも大きさが小さく、矩形の基板アライメントマーク1aが設けられている。そして、アライメント時に、基板1とマスク2とが所定の位置関係にあるときには、図1bに示すように、カメラ6により検出される基板アライメントマーク1aは、マスクアライメントマーク2aの中心に位置する。マスク2及び基板1に照射されたアライメント光は、夫々、各アライメントマーク1a,2aにより反射されて、カメラ6により検出されるように構成されている。図1aに示すように、カメラ6は、マスク2の位置を制御する制御装置9に接続されており、制御装置9は、カメラ6による検出結果によって、基板1とマスク2とのアライメントが必要な場合には、マスク2を移動させるように構成されている。例えば、カメラ6により検出される基板アライメントマーク1aの位置が枠状のマスクアライメントマーク2aの中心からずれている場合には、制御装置9は、基板アライメントマーク1aがマスクアライメントマーク2aの中心に位置するようにマスク2を移動させる。なお、図1aに二点鎖線で示すように、制御装置9は、例えば基板1が載置されるステージ等に接続され、基板1を移動させることにより、基板1とマスク2とのアライメントを行うように構成されていてもよい。又は、制御装置9は、基板1及びマスク2の双方を移動させることにより、基板1とマスク2とのアライメントを行うように構成されていてもよい。アライメントの際には、マスクアライメントマーク2aと基板アライメントマーク1aとの間のマイクロレンズアレイ3により、基板アライメントマーク1aにより反射された反射光は、マイクロレンズアレイ3を透過し、マスク2上には、基板アライメントマーク1aの正立等倍像が結像される。よって、基板1とマスク2との間には、実際には、5乃至15mmのギャップGが存在するが、このギャップGに起因するカメラ6側のフォーカス差が0となる。よって、カメラ6のセンサに対する距離が異なる基板1及びマスク2のアライメントマーク1a,2aをカメラ6に同時に結像させることができ、各アライメントマークを指標として、基板1とマスク2との位置を調整すれば、基板1とマスク2とのアライメントを高精度で行うことができる。また、カメラ側のフォーカス差を0にすることにより、図2aに示すように、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、アライメントマーク同士の相対位置は変化せず、極めて高いアライメント精度を得ることができる。次に、上述のごとく構成された本実施形態に係るアライメント装置の動作について説明する。マイクロレンズアレイ3は、露光時には、マスク2に設けられたパターン領域の下方に位置する。先ず、このマイクロレンズアレイ3が、図1における右方向に移動されて、基板アライメントマーク1aとマスクアライメントマーク2aとの間に移動される。次に、カメラ6に内蔵されたハロゲンランプ等のアライメント光源5からアライメント光を出射させる。このアライメント光は、例えば反射鏡及びビームスプリッタ等の光学系を介して、先ず、マスク2に照射される。マスク2に照射されたアライメント光は、マスクアライメントマーク2aにより反射される。一方、マスク2に透過されたアライメント光は、マスク2の下方に配置されたマイクロレンズアレイ3に透過され、基板1上に照射される。そして、基板アライメントマーク1aに反射された反射光は、マイクロレンズアレイ3を透過して、再度マスク2に入射され、マスク2上に基板アライメントマーク1aの正立等倍像が結像される。そして、各反射光は、カメラ6のセンサに入射され、マスクアライメントマーク2a及びマスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの正立等倍像が検出される。このように、本実施形態においては、マスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの正立等倍像をカメラ6により検出するため、基板1とマスク2との間には、実際には、5乃至15mmのギャップGが存在するが、カメラ6側では、このギャップGに起因するフォーカス差が0となる。そして、カメラ6により検出される基板及びマスクの各アライメントマーク1a,2aにより、基板1とマスク2とのアライメントを行う。例えば、カメラ6により検出される基板アライメントマーク1aの位置が枠状のマスクアライメントマーク2aの中心からずれている場合には、制御装置9により、基板アライメントマーク1aがマスクアライメントの中心に位置するようにマスク2を移動させて基板1とマスク2とのアライメントを行う。本実施形態においては、基板1とマスク2との間のギャップGに起因するカメラ6側のフォーカス差が0となるため、基板1及びマスク2のアライメントマーク1a,2aを指標として、基板1とマスク2とのアライメントを高精度で行うことができる。また、マスク2上に基板アライメントマーク1aの正立等倍像を結像させるため、図2aに示すように、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、カメラ6により検出される基板及びマスクのアライメントマーク1a及び2aの相対位置は、図2bに示すように、アライメント光が基板1及びマスク2に垂直に照射される図1bの場合から変化せず、アライメント光の光軸の傾斜によりアライメント精度が低下することもない。以下、アライメント光の光軸が傾斜した場合における上記効果について、比較例と比較して詳細に説明する。図3は、本発明の比較例に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図4は本発明の比較例に係るアライメント装置において、アライメント光の光路を示す図である。図3及び図4に示すように、このアライメント装置は、2焦点型の同軸落射照明を使用したアライメント装置であり、例えば、長波長光を出射する第1の光源27と、短波長光を出射する第2の光源26とが設けられており、第1の光源27からの長波長光は、反射鏡29で反射した後、ビームスプリッタ28に向かい、第2の光源26からの短波長光がこのビームスプリッタ28で、第1の光源27からの長波長光と集合する。そして、これらの集合光は、レンズ30で収束された後、ビームスプリッタ24にて反射して、レンズ25を経た後、マスク2及び基板1に向かう。この集合光は、マスク2及び基板1にその面に垂直に入射し、マスク2のアライメントマーク2a及び基板1のアライメントマーク1aで反射して、入射光路と同一の光路を戻ってくる。この反射光は、ビームスプリッタ24を通過し、レンズ23,22と、フィルタ21を経て、カメラ20に入射する。よって、反射鏡29及びビームスプリッタ28が、第1及び第2の光源27,26から出射した長波長光と短波長光とを同一光路に集合させる第1の光学系を構成し、レンズ30、ビームスプリッタ24、レンズ25が、この第1の光学系からの集合光をマスク2及び基板1にそれらの面に垂直に照射する第2の光学系を構成し、レンズ25、ビームスプリッタ24、レンズ23、レンズ22が、マスク2及び基板1のアライメントマーク2a,1aで反射した反射光を第2の光学系と同一の光路を戻した後カメラ20まで導く第3の光学系を構成する。この比較例において、第1の光源27から例えば波長が670nmの赤色光を出射し、第2の光源26から例えば波長が405nmの青色光を出射すると、これらの光は、ビームスプリッタ28で集合した後、カメラ20まで同一光路を進行する。即ち、集合光は、図4に示すように、ビームスプリッタ24からマスク2及び基板1に向かい、このマスク2及び基板1に対し、その面に垂直に入射する。その後、マスク2のアライメントマーク及び基板1のアライメントマークで反射した集合光の反射光は、入射光と同一光路をとおり、ビームスプリッタ24を直進して、フィルタ21を透過し、カメラ20のセンサに入射する。このとき、集合光は同一レンズ25,23,22からなる光学系を通過するので、このような同一レンズの場合、青色光波長405nmは焦点距離が短く、赤色光波長670nmは焦点距離が長い。よって、レンズ25、23,22の光学定数等を適切に設定すれば、カメラ20のセンサに入射する光のうち、マスク2のアライメントマークで反射した光は、青色光の成分がカメラ20のセンサで合焦点となり、カメラ20からより遠い基板1のアライメントマークで反射した光は、赤色光の成分がカメラ20のセンサで合焦点となるようにすることができる。このように構成された比較例のアライメント装置において、基板1とマスク2との間のギャップGは5乃至15mm程度であるが、カメラ20に対する入射光のうち、赤色光と青色光とが異なる光路長を経てセンサに合焦点となるので、ギャップGの例えば5mmを吸収して、基板1及びマスク2の双方のアライメントマーク1a、2aをカメラ20のセンサ上でフォーカスすることができ、基板1上のアライメントパターンと、マスク2上のアライメントパターンとの双方をセンサにフォーカスさせて、同時に観察することができる。このように構成された比較例のアライメント装置においては、図5aに示すように、アライメント光が基板1及びマスク2に垂直に照射される場合には、図5bに示すように、所定のアライメント精度が得られる。しかし、図5cに示すように、アライメント光の光軸が傾斜した場合においては、反射光の光路が変化し、基板1とマスク2との間のギャップGにより、基板1とマスク2とが所定の位置関係にある場合においても、図5dに示すように、カメラ6側で検出するアライメントマーク1a,2aの位置がずれてしまう。そうすると、実際上、アライメントマーク2aとアライメントマーク1aとはその位置が一致しており、マスク2と基板1とはアライメントがとれているにも拘わらず、カメラ6においては、アライメントがとれていないと誤観察されてしまう。換言すれば、基板1とマスク2とでアライメントがとれていないにも拘わらず、カメラ6にて、アライメントマーク1aがアライメントマーク2aの中心にあるように観察されてしまうことが生じ、基板1とマスク2とがアライメントがとれていると誤観察されてしまう。これに対して、本実施形態においては、マイクロレンズアレイ3により、基板アライメントマーク1aの正立等倍像を、マスク2上に結像させるため、図2aに示すように、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、図2bに示すように、カメラ6により検出される基板及びマスクのアライメントマーク1a及び2aの相対位置は変化せず、極めて高いアライメント精度を得ることができる。また、上記比較例においては、波長が異なる2個のアライメント光源を設ける必要があり、構造及びアライメント方法が若干複雑であるが、本実施形態に係るアライメント装置においては、アライメント時には、露光用のマイクロレンズアレイ3を基板アライメントマーク1aとマスクアライメントマーク2aとの間に移動させるだけで、基板1とマスク2との間のギャップGに起因するカメラ6側のフォーカス差を0にして高いアライメント精度が得られ、アライメント光源も1個だけでよい。基板1とマスク2とのアライメント後には、マイクロレンズアレイ3は、図1における左方向に移動されて、マスク2に設けられたパターン領域の下方に移動され、その後、露光光が出射されて、マイクロレンズアレイ3によるスキャン露光が開始される。本実施形態においては、上記のように、高いアライメント精度が得られるため、スキャン露光における露光精度を極めて高く維持することができる。なお、本実施形態における基板及びマスクのアライメントマーク1a,2aの形状は、一例であり、各アライメントマーク1a,2aをカメラ6で検出して、基板1とマスク2とのアライメントを行うことができる限り、本発明は、アライメントマーク1a,2aの形状により限定されるものではない。また、本実施形態においては、アライメント光源5は、カメラ6に内蔵されており、カメラ6が検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射するように構成されている場合について説明したが、本発明においては、基板1及びマスク2の一方の正立等倍像を他方に結像させ、これをカメラ6により検出するため、アライメント光源5が出射する光の光軸は、カメラにて検出される反射光の光軸とが同軸でなくてもよい。次に、本発明の第2実施形態に係る露光装置用のアライメント装置について説明する。図6aは本発明の第2実施形態に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図6bは検出されるアライメントマークの相対的位置関係を示す図である。第1実施形態においては、露光用のマイクロレンズアレイ3を露光時とアライメント時とで移動させて、1枚のマイクロレンズアレイを露光用とアライメント用とで共用した場合を説明したが、図6に示すように、本実施形態においては、マイクロレンズアレイ3は、露光光が照射される露光位置と、アライメント光が照射されるアライメント位置とを包含する大きさで設けられている。その他の構成については、第1実施形態と同様である。本実施形態のように、1枚の共有マイクロレンズアレイ3を、露光位置とアライメント位置とを包含する大きさのマイクロレンズアレイで構成することにより、露光時とアライメント時とで、マイクロレンズアレイ3を移動させる必要がなくなる。その他の効果は、第1実施形態と同様である。次に、本発明の第3実施形態に係る露光装置用のアライメント装置について説明する。図7aは本発明の第3実施形態に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図7bは検出されるアライメントマークの相対的位置関係を示す図、図8a,bは図7に示す露光装置において、アライメント光の光路が傾斜した場合を示す図である。図7に示すように、本実施形態においては、マイクロレンズアレイは、露光用の第1のマイクロレンズアレイ3とアライメント用の第2のマイクロレンズアレイ7とが2枚設けられている。そして、第2のマイクロレンズアレイ7は、光学特性が第1のマイクロレンズアレイ3と同一である。その他の構成は、第1実施形態と同様である。本実施形態においても、基板アライメントマーク1aの正立等倍像を、マスク2上に結像させることができ、基板1とマスク2との間の5乃至15mmのギャップGに起因するカメラ6側のフォーカス差を0とすることができ、第1実施形態と同様に、基板1とマスク2とのアライメントを高精度で行うことができる。また、図8に示すように、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、アライメントマーク同士の相対位置は変化せず、極めて高いアライメント精度を得ることができる。また、マイクロレンズアレイは、露光用のマイクロレンズアレイ3とアライメント用のマイクロレンズアレイとが別体で構成されていることにより、第2実施形態と同様に、露光時とアライメント時とで、マイクロレンズアレイ3を移動させる必要がなくなる。次に、本発明の第4実施形態に係る露光装置用のアライメント装置について説明する。図9aは本発明の第4実施形態に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図9bは検出されるアライメントマークの相対的位置関係を示す図である。図9に示すように、本実施形態においては、アライメント光源5及びカメラ6は、基板1の下方に配置されており、基板の下方からアライメント用の光を照射する。また、基板アライメントマーク1bが枠状をなし、マスクアライメントマーク2bは矩形状をなしている。本実施形態においては、露光対象の基板1は、例えばPIポリイミド及びITOスズドープ酸化インジウム等の光透過性の材料からなり、アライメント用の光は、基板1を透過して、マスク2に照射される。即ち、本実施形態においては、基板1が光透過性の材料からなる場合において、アライメント光の照射方向並びに基板1及びマスク2の各アライメントマーク1b,2bの形状が第1実施形態と異なり、その他の構成は、第1実施形態と同様である。本実施形態においても、露光用のマイクロレンズアレイ3は、基板1とマスク2との相対的位置合わせの際には、マスクアライメントマーク2bと基板アライメントマーク1bとの間に移動され、1枚のマイクロレンズアレイ3を露光時とアライメント時で移動させて使用される。そして、アライメントの際には、マイクロレンズアレイ3により、マスクアライメントマーク2bにより反射された反射光は、マイクロレンズアレイ3を透過し、基板1上にマスクアライメントマーク2bの正立等倍像が結像される。よって、基板1とマスク2との間には、5乃至15mmのギャップGが存在するが、このギャップGに起因するカメラ6側のフォーカス差が0となる。よって、本実施形態においても、上記第1乃至第3実施形態と同様に、基板1及びマスク2のアライメントマーク1b,2bを指標として、基板1とマスク2とのアライメントを高精度で行うことができる。例えば、カメラ6により検出される基板アライメントマーク1aの位置が枠状のマスクアライメントマーク2aの中心からずれている場合には、制御装置9により、基板アライメントマーク1aがマスクアライメントの中心に位置するようにマスク2を移動させて基板1とマスク2とのアライメントを行う。また、基板1上にマスクアライメントマーク2aの正立等倍像を結像させるため、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、カメラ6により検出される基板及びマスクのアライメントマーク1b及び2bの相対位置は、アライメント光が基板1及びマスク2に垂直に照射される場合から変化せず、極めて高いアライメント精度を得ることができる。なお、本実施形態においても、第2実施形態と同様に、マイクロレンズアレイ3を、露光光が照射される露光位置と、アライメント光が照射されるアライメント位置とを包含する大きさで設けることにより、露光時とアライメント時とで、マイクロレンズアレイ3を移動させる必要がなくなる。次に、本発明の第5実施形態に係る露光装置用のアライメント装置について説明する。10aは本発明の第5実施形態に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図10bは検出されるアライメントマークの相対的位置関係を示す図である。図10に示すように、本実施形態においては、第3実施形態と同様に、マイクロレンズアレイは、露光用の第1のマイクロレンズアレイ3とアライメント用の第2のマイクロレンズアレイ7とが2枚設けられている。そして、第2のマイクロレンズアレイ7は、光学特性が第1のマイクロレンズアレイ3と同一である。これにより、本実施形態においては、第2実施形態と同様に、露光時とアライメント時とで、マイクロレンズアレイ3を移動させる必要がなくなる。"