式:式中、Rは、水素原子又はメチル基であるで表わされる、ビスナフタレンスルフィド系化合物。式:で表される11チオビスと、式:式中、Rは水素原子又はメチル基であり、Xはハロゲン原子、Rが水素原子の場合にはアクリルオキシ基又はRがメチル基の場合にはメタクリルオキシ基であるで表されるアクリル化剤と、塩基の存在下、溶媒中で反応させる工程を含む、式:式中、Rは、水素原子又はメチル基であるで表わされる、ビスナフタレンスルフィド系化合物の製造方法。しかしながら、製造上の困難さや製造コスト、化合物の溶解性低下による純度低下等により、より高屈折率のモノマーを開発し、高純度化するためには困難を伴う場合が多い。本発明の課題は、高屈折率を有するビスナフタレンスルフィド系化合物及びその製造方法を提供することにある。本発明は、1式:式中、Rは、水素原子又はメチル基であるで表わされる、ビスナフタレンスルフィド系化合物、並びに2式:で表される11チオビスと、式:式中、Rは水素原子又はメチル基であり、Xはハロゲン原子、Rが水素原子の場合にはアクリルオキシ基又はRがメチル基の場合にはメタクリルオキシ基であるで表されるアクリル化剤と、塩基の存在下、溶媒中で反応させる工程を含む、式:式中、Rは、水素原子又はメチル基であるで表わされる、ビスナフタレンスルフィド系化合物の製造方法に関する。本発明のビスナフタレンスルフィド系化合物は、高屈折率を有するという優れた効果を奏するものである。本発明のビスナフタレンスルフィド系化合物は、式:式中、Rは、水素原子又はメチル基であるで表される化合物であり、高い屈折率を有するという特長を有する。式で表されるビスナフタレンスルフィド系化合物は、式:で表される11チオビスと、式:式中、Rは水素原子又はメチル基であり、Xはハロゲン原子、Rが水素原子の場合にはアクリルオキシ基、又はRがメチル基の場合にはメタクリルオキシ基であるで表されるアクリル化剤と、塩基の存在下、溶媒中で反応させる工程を含む方法により得られる。式において、Rは、入手し易さの観点から、メチル基又は水素原子である。Xで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子があるが、これらの中では、コスト、反応性、工業的製造の際の取り扱いやすさ等の観点から、塩素原子が好ましい。従って、Xがハロゲン原子である場合、式で表されるアクリル化剤、即ちアクリル酸ハライド、アクリル酸クロリドが好ましい。また、式で表されるアクリル化剤は、アクリル酸の無水物又はメタクリル酸の無水物であってもよく、即ち、Xは、Rが水素原子の場合にはアクリルオキシ基、又はRがメチル基の場合にはメタクリルオキシ基であってもよい。なお、本明細書において、アクリルとは、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。式で表されるアクリル酸化剤の使用量は、式で表される11チオビス1モルに対して、経済性の観点から、18~36モルが好ましく、24~28モルがより好ましい。塩基としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン等が挙げられ、これらの中では、比較的低毒性で安価なトリエチルアミンが好ましい。塩基の使用量は、式で表される11チオビス1モルに対して、18~40モルが好ましく、26~30モルがより好ましい。溶媒としては、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、アセトン、クロロホルム、ジクロロメタン、NNジメチルホルムアミド、トルエン等の有機溶媒が挙げられ、これらの中では、式で表される11チオビスの溶解性の観点から、テトラヒドロフランが好ましい。溶媒の使用量は、式で表される11チオビスの1~20重量倍が好ましい。式で表される11チオビスと式で表されるアクリル化剤との反応は、例えば、溶媒中の、式で表される11チオビスと塩基に、アクリル酸ハライドを滴下することにより、行うことができる。この際、反応溶液の温度は、アクリル化剤の安定性の観点から、80°C以下に制御することが好ましい。アクリル化剤の滴下終了後、反応溶液を、滴下温度よりさらに20°C程度加熱することにより、反応の進行を促進することができる。反応の際の雰囲気は特に限定されず、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下であっても、大気中であってもよい。反応の進行及び終点は、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー等により確認することができる。反応終了後、水、ギ酸水溶液、炭酸ナトリウム水溶液等を用いて反応溶液を洗浄し、溶媒を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや再結晶等により、得られたビスナフタレンスルフィド系化合物を、単離、精製することができる。次に、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明は、かかる実施例のみに限定されるものではない。実施例1滴下ロート、温度計及びコンデンサーを設置した500mL容のフラスコ中で、窒素雰囲気下、11チオビス200g、トリエチルアミン178g及びテトラヒドロフラン227gを混合し、5~10°Cまで冷却した。反応液の温度を0~10°Cに保ちながらアクリル酸クロリド1478gを滴下した。アクリル酸クロリドを滴下終了後、反応液の温度を32°Cまで昇温し、反応終点まで熟成した。ガスクロマトグラフにより原料である11チオビスが消失した時点を反応終点とした。反応終了後、クロロホルム100gを加え、純水522g、3重量ギ酸水溶液20g、純水20g、3重量炭酸ナトリウム水溶液382g、純水200gの順で洗浄した。洗浄後の有機層をエバポレーターにて濃縮を行い、結晶を析出させた。析出した結晶を減圧濾過により取出し、褐色固体状のビススルフィドを得た。得られた生成物スルフィドを、質量分析、融点、1HNMR、13CNMRの測定により同定した。1HNMRスペクトルを図1に、13CNMRスペクトルを図2に示す。質量分析mz:55144197198300372426融点142°C1HNMR:872~862、783~772、752~741、714~707、603~586、559~54113CNMR:1636、1489、1345、1320、1318、1293、1283、1272、1265、1259、1235、1220得られたビススルフィドの屈折率を以下の方法により、測定した。ビススルフィドは固体のため、屈折率は溶媒にモノマーを溶解させ、溶液として測定した。ビススルフィド021gにジメチルホルムアミド061gを加えて溶解させ、26重量DMF溶液を調製した。この溶液の屈折率を測定すると14502であった。DMFの屈折率は14296であるため、下記計算式によりビススルフィドの屈折率を算出したところ、ビススルフィドは、163という非常に高い屈折率を有していた。