式の化合物式中、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20またはC6~14であり、これらすべては置換されていてもよく、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20、C6~14、C5~14、OC1~20、OC6~14、OCH2C6~14であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいはR3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、任意の置換基は、ハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールであり、かつR7は、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールである。R1およびR2が独立してまたは同時に、C1~10、C2~10、C2~10、C3~10またはC6~10であり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項1記載の化合物。R1およびR2が独立してまたは同時に、C1~6、C2~6、C2~6、C3~6またはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項2記載の化合物。R1およびR2が独立してまたは同時に、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項3記載の化合物。R1およびR2が独立してまたは同時にメチル、エチルまたはプロピルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項4記載の化合物。R1およびR2が同時にメチルである、請求項5記載の化合物。R3およびR4が独立してまたは同時に、C1~10、C2~10、C2~10、C3~10、C6~10、C5~10、OC1~10、OC6~10、OCH2C6~10であり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項1~6のいずれか一項記載の化合物。R3およびR4が独立してまたは同時に、C1~6、C2~6、C2~6、C3~6、フェニル、C5~6、OC1~6、Oフェニル、OCH2フェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項7記載の化合物。R3およびR4が独立してまたは同時に、フェニル、トリル、アニシル、キシリル、35ジメチル4メトキシフェニル、35ジtertブチル4メトキシフェニルまたは35ビスフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項8記載の化合物。R3およびR4が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4~14個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系およびまたは芳香環系を形成し、かつ単環式または二環式の該環系中の1個または複数の炭素原子が、O、S、N、NHおよびNC1~4アルキルより選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよい、請求項1記載の化合物。R3およびR4が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4~10個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系およびまたは芳香環系を形成する、請求項10記載の化合物。前記任意の置換基が、ハロ、OH、NH2、NHR5、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数であり、R5、R6およびR7が同時にまたは独立して、フルオロ置換C1~4アルキル、C1~4アルキル、C2~4アルケニル、フェニルおよびC1~4アルキレンフェニルより選択される、請求項1~11のいずれか一項記載の化合物。R5、R6およびR7が同時にまたは独立してメチル、ベンジルおよびフェニルより選択される、請求項12記載の化合物。式Aの化合物式中、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20またはC6~14であり、これらすべては置換されていてもよく、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20、C6~14、C5~14、OC1~20、OC6~14、OCH2C6~14であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいはR3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、任意の置換基は、ハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールであり、R7は、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールであり、かつXはハロである。R1およびR2が独立してまたは同時に、C1~10、C2~10、C2~10、C3~10またはC6~10であり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項14記載の化合物。R1およびR2が独立してまたは同時に、C1~6、C2~6、C2~6、C3~6またはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項15記載の化合物。R1およびR2が独立してまたは同時に、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたはフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項16記載の化合物。R1およびR2が独立してまたは同時にメチル、エチルまたはプロピルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項17記載の化合物。R1およびR2がメチルである、請求項18記載の化合物。R3およびR4が独立してまたは同時に、C1~10、C2~10、C2~10、C3~10、C6~10、C5~10、OC1~10、OC6~10、OCH2C6~10であり、これらすべてが置換されていてもよいか、あるいはR3およびR4が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4~14個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系およびまたは芳香環系を形成し、かつ単環式または二環式の該環系中の1個または複数の炭素原子が、O、S、N、NHおよびNC1~4アルキルより選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよい、請求項14~19のいずれか一項記載の化合物。R3およびR4が独立してまたは同時に、C1~6、C2~6、C2~6、C3~6、フェニル、C5~6、OC1~6、Oフェニル、OCH2フェニルであり、これらすべてが置換されていてもよいか、あるいはR3およびR4が、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4~10個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系およびまたは芳香環系を形成する、請求項20記載の化合物。R3およびR4が独立してまたは同時に、フェニル、トリル、アニシル、キシリル、35ジメチル4メトキシフェニル、35ジtertブチル4メトキシフェニルまたは35ビスフェニルであり、これらすべてが置換されていてもよい、請求項21記載の化合物。前記任意の置換基が、ハロ、OH、NH2、NHR5、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数であり、R5、R6およびR7が同時にまたは独立して、フルオロ置換C1~4アルキル、C1~4アルキル、C2~4アルケニルまたはフェニルである、請求項14~22のいずれか一項記載の化合物。XがF、Cl、BrまたはIである、請求項14~23のいずれか一項記載の化合物。R1~R4が請求項1~11のいずれか一項で定義される、式の化合物と、Nハロスクシンイミドを接触させて、R1~R4およびXが請求項1~11のいずれか一項で定義される、式の化合物を提供する工程を含む、請求項14~24のいずれか一項で定義される式の化合物を調製するための方法。前記Nハロスクシンイミドが、Nフルオロスクシンイミド、Nクロロスクシンイミド、NブロモスクシンイミドまたはNヨードスクシンイミドである、請求項25記載の方法。式の化合物を含有する、金属錯体。前記金属が触媒活性を有する、請求項27記載の金属錯体。前記金属が、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀または金である、請求項28記載の金属錯体。式RuX2を有し、式中、Xがハロであり、かつ配位子が任意の中性配位子である、金属錯体。前記中性配位子がpシメンまたはCODである、請求項30記載の金属錯体。RuCl2PhGarphosまたはRuCl2DMMGarphosである、請求項30または31記載の金属錯体。式RuX2を有し、式中、Xがハロであり、かつジアミンが任意のジアミノ配位子である、金属錯体。前記ジアミノ配位子がDPENまたはDAIPENである、請求項33記載の金属錯体。RuCl2PhGarphos、RuCl2PhGarphosDAIPEN、RuCl2キシリルGarphos、RuCl2キシリルGarphosDAIPEN、RuCl2DMMGarphosまたはRuCl2DMMGarphosDAIPENである、請求項33または34記載の金属錯体。式RhXを有し、式中、配位子が任意の中性配位子であり、かつXが任意のアニオン性配位子である、金属錯体。前記中性配位子がpシメンであり、かつXがBF4である、請求項36記載の金属錯体。RhPhGarphosBF4、RhキシリルGarphosBF4またはRhDMMGarphosBF4である、請求項36または37記載の金属錯体。触媒反応のための、式の化合物を含有する金属錯体の使用。水素化のための、式の化合物を含有する金属錯体の使用。式の化合物と、請求項1~13のいずれか一項記載の式の化合物を配位子として組み込んでいる金属錯体を、水素ガスの存在下で接触させる工程を含む、式の化合物の調製のための方法。式の化合物と、請求項1~13のいずれか一項記載の式の化合物を配位子として組み込んでいる金属錯体を、水素ガスの存在下で接触させる工程を含む、式の化合物の調製のための方法。式の化合物と、請求項1~13のいずれか一項記載の式の化合物を配位子として組み込んでいる金属錯体を、水素ガスの存在下で接触させる工程を含む、式の化合物の調製のための方法。式の化合物と、請求項1~13のいずれか一項記載の式の化合物を配位子として組み込んでいる金属錯体を、水素ガスの存在下で接触させる工程を含む、式の化合物の調製のための方法。開示の詳細な説明定義本明細書において使用されるC1~nという用語は、1個~n個の炭素原子を含有する直鎖およびまたは分岐鎖の飽和アルキル基を意味し、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、nブチル、sブチル、イソブチル、tブチル、22ジメチルブチル、nペンチル、2メチルペンチル、3メチルペンチル、4メチルペンチル、nヘキシルなどを含み、変数nは、アルキル基中の炭素原子の最大数を表す整数である。本明細書において使用されるC1~nという用語は、1個~n個の炭素原子および1個~3個の二重結合を含有する直鎖およびまたは分岐鎖の不飽和アルキル基を意味し、ビニル、アリル、2メチルプロパ1エニル、ブタ1エニル、ブタ2エニル、ブタ3エニル、2メチルブタ1エニル、2メチルペンタ1エニル、4メチルペンタ1エニル、4メチルペンタ2エニル、2メチルペンタ2エニル、4メチルペンタ13ジエニル、ヘキセン1イルなどを含み、変数nは、アルケニル基中の炭素原子の最大数を表す整数である。本明細書において使用されるC1~nという用語は、1個~n個の炭素原子および1個~3個の三重結合を含有する直鎖およびまたは分岐鎖の不飽和アルキル基を意味し、アセチレニル、プロピニル、ブタ1イニル、ブタ2イニル、ブタ3イニル、3メチルブタ1エニル、3メチルペンタ1イニル、4メチルペンタ1イニル、4メチルペンタ2イニル、ペンタ13ジイニル、ヘキシン1イルなどを含み、変数nは、アルキニル基中の炭素原子の最大数を表す整数である。本明細書において使用されるC3~nという用語は、3個~n個の炭素原子を含有する単環式、二環式または三環式の飽和炭素環式基を意味し、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロデシルなどを含む。本明細書において使用されるアリールという用語は、少なくとも1個の芳香環および6個~14個の炭素原子を含有する単環式、二環式または三環式の芳香環系を意味し、フェニル、ナフチル、アントラセニル、12ジヒドロナフチル、1234テトラヒドロナフチル、フルオレニル、インダニル、インデニルなどを含む。本明細書において使用されるヘテロアリールという用語は、1個または2個の芳香環および5個~14個の原子を含有し、別途指定されない限り、これらの原子のうち1個、2個、3個、4個または5個が、N、NH、N、OおよびSより独立して選択されるヘテロ成分である、単環式、二環式または三環式の環系を意味し、チエニル、フリル、ピロリル、ピリジル、インドリル、キノリル、イソキノリル、テトラヒドロキノリル、ベンゾフリル、ベンゾチエニルなどを含む。本明細書において使用されるハロという用語はハロゲンを意味し、クロロ、フルオロ、ブロモまたはヨードを含む。本明細書において使用されるフルオロ置換という用語は、言及される基の水素の少なくとも1個、例えばすべてがフッ素と置き換えられていることを意味する。上記の基のいずれかに付加される接尾辞エンは、その基が二価であること、すなわち2個の他の基の間に挿入されていることを意味する。本明細書において使用される環系という用語は、炭素含有環系を意味し、単環、縮合二環式および多環式環、架橋環、ならびにメタロセンを含む。指定されている場合、環中の炭素は、ヘテロ原子で置換されていてもよいかまたはヘテロ原子と置き換えられていてもよい。本開示の範囲を理解する上で、本明細書において使用される含むという用語およびその派生語は、記述される特徴、要素、構成要素、群、整数およびまたは段階の存在を指定する開放的な用語であるように意図されているが、記述されない他の特徴、要素、構成要素、群、整数およびまたは段階の存在を排除しない。上記は、含む、有するという用語およびそれらの派生語などの同様の意味を有する語にも当てはまる。最後に、本明細書において使用される実質的に、約およびおよそなどの程度に関する用語は、最終結果が著しく変化することがない、修飾された用語の妥当な偏差量を意味する。程度に関するこれらの用語は、この用語が修飾する語の意味を、修飾された用語の少なくとも±5の偏差が否定しない場合に、この偏差を含むものと解釈すべきである。本開示の化合物本開示は、金属触媒反応に有用であるビアリールジホスフィン配位子を作製するために使用することができる中間体モノホスフィン化合物に関する。したがって、本開示の一態様では、式Aの化合物が提供される式中、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20またはC6~14であり、これらすべては置換されていてもよく、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20、C6~14、C5~14、OC1~20、OC6~14、OCH2C6~14であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいはR3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、任意の置換基はハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールであり、R7は、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールであり、かつXはハロである。さらなる態様では、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~10、C2~10、C2~10、C3~10またはC6~10であり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~6、C2~6、C2~6、C3~6またはフェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R1およびR2は独立してまたは同時にメチル、エチル、プロピル、ブチルまたはフェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。さらなる態様では、R1およびR2は独立してまたは同時にメチル、エチルまたはプロピルであり、これらすべては置換されていてもよい。さらなる態様では、R1およびR2はメチルである。本開示の別の態様では、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~10、C2~10、C2~10、C3~10、C6~10、C5~10、OC1~10、OC6~10、OCH2C6~10であり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~6、C2~6、C2~6、C3~6、フェニル、C5~6、OC1~6、Oフェニル、OCH2フェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R3およびR4は独立してまたは同時に、フェニル、トリル、アニシル、キシリル、35ジメチル4メトキシフェニル、35ジtertブチル4メトキシフェニルまたは35ビスフェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4~14個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系およびまたは芳香環系を形成し、かつ単環式または二環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NHおよびNC1~4アルキルより選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよい。さらなる態様では、R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4~10個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系およびまたは芳香環系を形成する。別の態様では、任意の置換基は、ハロ、OH、NH2、NHR5、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数であり、R5、R6およびR7は同時にまたは独立して、フルオロ置換C1~4アルキル、C1~4アルキル、C2~4アルケニル、フェニルおよびC1~4アルキレンフェニル、具体的にはメチル、ベンジルおよびフェニルより選択される。別の態様では、XはF、Cl、BrまたはIである。別の態様では、XはClまたはBrである。本開示の別の態様では、式Bの化合物も提供される式中、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20またはC6~14であり、これらすべては置換されていてもよく、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20、C6~14、C5~14、OC1~20、OC6~14、OCH2C6~14であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいはR3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、任意の置換基はハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールであり、かつR7は、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールである。さらなる態様では、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~10、C2~10、C2~10、C3~10またはC6~10であり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~6、C2~6、C2~6、C3~6またはフェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R1およびR2は独立してまたは同時に、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたはフェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。さらなる態様では、R1およびR2は独立してまたは同時に、メチル、エチルまたはプロピルであり、これらすべては置換されていてもよい。さらなる態様では、R1およびR2はメチルである。本開示の別の態様では、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~10、C2~10、C2~10、C3~10、C6~10、C5~10、OC1~10、OC6~10、OCH2C6~10であり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~6、C2~6、C2~6、C3~6、フェニル、C5~6、OC1~6、Oフェニル、OCH2フェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R3およびR4は独立してまたは同時に、フェニル、トリル、アニシル、キシリル、35ジメチル4メトキシフェニル、35ジtertブチル4メトキシフェニルまたは35ビスフェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4~14個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系およびまたは芳香環系を形成し、かつ単環式または二環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NHおよびNC1~4アルキルより選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよい。さらなる態様では、R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4~10個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系およびまたは芳香環系を形成する。別の態様では、任意の置換基は、ハロ、OH、NH2、NHR5、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数であり、R5、R6およびR7は同時にまたは独立して、フルオロ置換C1~4アルキル、C1~4アルキル、C2~4アルケニル、フェニルおよびC1~4アルキレンフェニル、具体的にはメチル、ベンジルおよびフェニルより選択される。本開示の方法本開示はまた、式の化合物を作製するために後で用いられる式の化合物の作製のための方法に関する。特に、スキーム1に示す通り、式の化合物とNハロスクシンイミドとの間の反応が高収率の式の化合物を生じさせると決定された。スキーム1式中、R1~R4およびXは上記で定義された通りである。したがって、本開示は、式の化合物とNハロスクシンイミドを接触させて、式の化合物を提供する工程であって、式中、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20またはC6~14であり、これらすべては置換されていてもよく、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20、C6~14、C5~14、OC1~20、OC6~14、OCH2C6~14であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいはR3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ、単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、任意の置換基はハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールであり、R7は、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールであり、かつXはハロである、工程を含む、式の化合物を作製するための方法を含む。さらなる態様では、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~10、C2~10、C2~10、C3~10またはC6~10であり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R1およびR2は独立してまたは同時にC1~6、C2~6、C2~6、C3~6またはフェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R1およびR2は独立してまたは同時にメチル、エチル、プロピル、ブチルまたはフェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。さらなる態様では、R1およびR2は独立してまたは同時にメチル、エチルまたはプロピルであり、これらすべては置換されていてもよい。さらなる態様では、R1およびR2はメチルである。本開示の別の態様では、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~10、C2~10、C2~10、C3~10、C6~10、C5~10、OC1~10、OC6~10、OCH2C6~10であり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~6、C2~6、C2~6、C3~6、フェニル、C5~6、OC1~6、Oフェニル、OCH2フェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R3およびR4は独立してまたは同時に、フェニル、トリル、アニシル、キシリル、35ジメチル4メトキシフェニル、35ジtertブチル4メトキシフェニルまたは35ビスフェニルであり、これらすべては置換されていてもよい。別の態様では、R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4~14個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系およびまたは芳香環系を形成し、かつ単環式または二環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NHおよびNC1~4アルキルより選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよい。さらなる態様では、R3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4~10個の原子を有する置換されていてもよい単環式または二環式の飽和環系、不飽和環系およびまたは芳香環系を形成する。別の態様では、任意の置換基はハロ、OH、NH2、NHR5、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数であり、R5、R6およびR7は同時にまたは独立して、フルオロ置換C1~4アルキル、C1~4アルキル、C2~4アルケニル、フェニルおよびC1~4アルキレンフェニル、具体的にはメチル、ベンジルおよびフェニルより選択される。別の態様では、XはF、Cl、BrまたはIである。別の態様では、XはClまたはBrである。別の態様では、NハロスクシンイミドはNフルオロスクシンイミド、Nクロロスクシンイミド、NブロモスクシンイミドまたはNヨードスクシンイミドである。別の態様では、本方法を20°C~20°Cの温度で行う。本開示はまた、式のビアリールジホスフィン配位子を提供するために式の化合物のウルマンカップリングのための方法を提供する。したがって、本開示の一態様では、式の化合物と銅粉を接触させ、かつ式の化合物を単離する工程であって、式中、R1およびR2は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20またはC6~14であり、これらすべては置換されていてもよく、R3およびR4は独立してまたは同時に、C1~20、C2~20、C2~20、C3~20、C6~14、C5~14、OC1~20、OC6~14、OCH2C6~14であり、これらすべては置換されていてもよいか、あるいはR3およびR4は、一緒に連結されて、これらの基が結合しているリン原子を含む4個またはそれ以上の原子を有する置換されていてもよい単環式または多環式の環系を形成し、かつ、単環式または多環式の該環系中の1個または複数の炭素原子は、O、S、N、NR5、SiR5およびSiR5R6より選択されるヘテロ成分と置き換えられていてもよく、任意の置換基は、ハロ、OR5、NR5R6およびR7のうちの1つまたは複数より選択され、R5およびR6は同時にまたは独立して、H、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールであり、R7は、フルオロ置換C1~6アルキル、C1~6アルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニルまたはC6~14アリールであり、かつXはハロである、工程を含む、式のビアリールジホスフィン配位子の作製のための方法がある。別の態様では、式の化合物をDMFなどの不活性有機溶媒中で、例えばヨウ素で活性化された銅粉と共に約100°C~約200°Cの温度に加熱することでウルマンカップリング反応を行う。本開示の別の態様では、式の化合物を還元反応にさらに供して、上記のすべての定義を取り入れている式のビアリールジホスフィン配位子を作製する。一態様では、還元反応は、式の化合物とトリクロロシランを接触させてホスホネート成分をホスフィン成分に還元することを含む。別の態様では、式の化合物をそれらの個々のおよび異性体に分離する。本開示の別の態様では、35ジメトキシブロモベンゼンなどの容易に入手可能な出発原料から式の化合物を作製する。例えば、スキーム1は35ジメトキシブロモベンゼンからの式の化合物の合成を示す。別の態様では、スキーム2に示す通り、式の化合物の別の一般的合成が示される。式の化合物の金属錯体本開示はまた、式のビアリールジホスフィン配位子を組み込んでいる、遷移金属錯体などの金属錯体を提供する。式の化合物を組み込んでいる金属錯体は、種々のプロキラル基質の不斉水素化を含む種々の触媒プロセスにおいて有用である。一態様では、触媒反応としては水素化、移動水素化、ヒドロホルミル化、ヒドロシリル化、ヒドロホウ素化、ヒドロアミノ化、ヒドロビニル化、ヒドロアリール化、水和、異性化、酸化、エポキシ化、CC結合形成、CX結合形成、官能基相互変換、速度論的分割、動的速度論的分割、環化付加、ディールスアルダー反応、逆ディールスアルダー反応、シグマトロピー転位、電子環状反応、オレフィンメタセシス、重合、カルボニル化およびアジリジン化が挙げられるがそれに限定されない。一態様では、本開示の金属錯体は不斉水素化用触媒として使用される。さらなる態様では、不斉水素化は、少なくとも1個のCC、CNおよびまたはCO結合を有する基質の水素化を含む。別の態様では、少なくとも1個のCC、CNおよびまたはCO結合を含有する基質はプロキラルであり、水素化生成物はキラルであり、鏡像異性的に濃縮されており、鏡像体過剰率が少なくとも50、場合によっては80または90である。一態様では、式の化合物を組み込んでいる金属錯体は、単離されるか、あるいはインサイチューで生成される。別の態様では、式の化合物を含有する遷移金属錯体は、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金などの触媒活性を有する任意の金属を含む。別の態様では、金属はルテニウムまたはロジウムである。別の態様では、本開示の金属錯体は、式RuX2の化合物であり、式中、Xがハロであり、かつ配位子がpシメン、CODなどの任意の中性配位子である。別の態様では、金属錯体は、RuCl2PhGarphosまたはRuCl2DMMGarphosである。別の態様では、本開示の金属錯体は、式RuX2の化合物であり、式中、Xがハロであり、かつジアミンが、DPEN、DAIPENなどの任意のジアミノ配位子である。別の態様では、金属錯体は、RuCl2PhGarphos、RuCl2PhGarphosDAIPEN、RuCl2キシリルGarphos、RuCl2キシリルGarphosDAIPEN、RuCl2DMMGarphosまたはRuCl2DMMGarphosDAIPENである。別の態様では、本開示の金属錯体は、式RhXの化合物であり、式中、配位子がpシメン、CODなどの任意の中性配位子であり、かつXがBF4などの任意のアニオン性配位子である。別の態様では、金属錯体は、RhPhGarphosBF4、RhキシリルGarphosBF4またはRhDMMGarphosBF4である。上記態様では、Garphosは下記式を表す式中、Arはフェニル、キシリルまたは35ジメチル4メトキシフェニルを表す。別の態様では、式の化合物を含有する金属錯体も含まれる。別の態様では、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀または金などの金属は触媒活性を有する。本開示の別の態様では、水素化などの触媒反応のための式の化合物を含有する金属錯体の使用が含まれる。本開示の別の態様では、触媒反応が水素化である場合、水素化条件は塩基を任意で含む。例えば、塩基としては、DBU、アルカリもしくはアルカリ土類金属炭酸塩、酢酸ナトリウムもしくは酢酸カリウムなどのカルボン酸塩、またはアルコラートもしくは水酸化物塩などの有機非配位塩基が挙げられる。本開示の一態様では、塩基は、式2MおよびROMの化合物からなる群より選択されるアルコラートまたは水酸化物塩であり、Mはアルカリ土類金属であり、Mはアルカリ金属であり、Rは水素または直鎖もしくは分岐C1~20アルキル基を表す。本明細書において使用される標準的な水素化条件は、塩基ありまたはなしで場合によっては溶媒の存在下での基質と式、、、またはの金属錯体との混合物、ならびに、そのような混合物を選択される圧力および温度で、または選択される圧力および温度にて水素ガス雰囲気下で、水素供与体溶媒で次に処理することを典型的に含む。所望の生成物の収率を最適化するために温度、圧力、溶媒と試薬との比を例えば含む反応条件を変動させることは、十分に当業者の能力の範囲内である。本出願はまた、特定のキラル医薬品の前駆体であるキラル化合物の調製のための方法を提供する。そのような前駆体としては、アトルバスタチン、ロスバスタチン、アプレピタント、モンテルカストおよびデュロキセチンの調製用の化合物が挙げられるがそれに限定されない。例えば、1つの方法では、スキーム3に示す通り、ケトンである4クロロ3オキソブタン酸エチルの接触水素化によってキラルアルコールである4クロロ3ヒドロキシブタン酸エチルを調製する。4クロロ3ヒドロキシブタン酸エチルは、アトルバスタチン、ロスバスタチンおよび他のスタチンの合成用の前駆体であり、一態様では、水素化反応においてケトンである4クロロ3オキソブタン酸エチルから、式の化合物を組み込んでいる金属錯体を使用して合成される。別の態様では、スキーム4に示す通り、ケトンである1フェニルエタノンの接触水素化によってキラルアルコールである1フェニルエタノールを調製する。1フェニルエタノールは、アプレピタントの合成用の前駆体であり、一態様では、水素化反応においてケトンである1フェニルエタノンから、式の化合物を組み込んでいる金属錯体を使用して合成される。別の態様では、スキーム5に示す通り、対応するケトンの接触水素化によってキラルアルコールである2ビニルフェニル3ヒドロキシプロピル安息香酸メチルを調製する。2ビニルフェニル3ヒドロキシプロピル安息香酸メチルは、モンテルカストの合成用の前駆体であり、一態様では、水素化反応において対応するケトンから、式の化合物を組み込んでいる金属錯体を使用して合成される。別の態様では、スキーム6に示す通り、対応するケトンの接触水素化によってキラルアルコールである31プロパン1オールを調製する。31プロパン1オールは、デュロキセチンの合成用の前駆体であり、一態様では、水素化反応において対応するケトンから、式の化合物を組み込んでいる金属錯体を使用して合成される。以下の非限定的な実施例は本開示を例示するものである。ここで本開示を以下の実施例によってさらに詳細に説明し、温度は摂氏度で示され、略語は当技術分野における通常の意味を有する。別途記述されない限り、以後に記載のすべての手順は不活性雰囲気下で行った。すべての調製および操作はH2、N2またはAr雰囲気下で、乾燥無酸素溶媒中での標準的なシュレンク技術、真空ライン技術およびグローブボックス技術の使用によって行った。テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびヘキサンはナトリウムベンゾフェノンケチルから乾燥させかつ蒸留した。重水素化溶媒は活性化モレキュラーシーブ上で脱気しかつ乾燥させた。NMRスペクトルは300MHz分光計上で記録した。すべての31P化学シフトは外部基準としての85H3PO4に対して測定した。1Hおよび13C化学シフトは、部分重水素化溶媒ピークに対して測定されたが、テトラメチルシランに対して報告されている。実施例135ジメトキシフェニルホスホン酸ジエチルの調製1ブロモ35ジメトキシベンゼンのTHF溶液をマグネシウム、I2およびTHFと共にフラスコに加え、2時間還流させた。得られた明褐色溶液を別のフラスコに移し、78°Cに冷却した。THF中ホスホロクロリド酸ジエチルを78°Cで1時間以内に加えた。混合物を78°Cで1時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、室温で終夜攪拌した。ブラインを混合物に加え、それを30分間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチルおよびCH2Cl2で抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去した。残渣をシリカゲルパッドで精製した。溶媒を除去した後、純粋な生成物を淡黄色油状物として得た。実施例22ブロモ35ジメトキシフェニルホスホン酸ジエチルの調製35ジメトキシフェニルホスホン酸ジエチルのCH2Cl2溶液にNブロモスクシンイミドを0°Cで加えた。得られた懸濁液を0°Cで6時間攪拌した。Na2CO3を加えて反応液を反応停止させた。それを室温で30分間攪拌し、有機層を分離し、水層をCH2Cl2で抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粗生成物を淡黄色油状物として得た。それは次の工程用に十分に純粋であった。純粋な試料をクロマトグラフィーで得た。実施例34466テトラメトキシビフェニル22ジイルジホスホン酸テトラエチルの調製2ブロモ35ジメトキシフェニルホスホン酸ジエチルのDMF溶液に銅粉を加えた。懸濁液を140°Cで2時間攪拌した。DMFを減圧除去した。残渣をCHCl3と共に30分間攪拌した。それを濾過し、固体をCHCl3で洗浄した。一緒にした有機層をブライン中希NH4OH、次にブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それをシリカゲルパッドを通して濾過した。溶媒を濾液から除去して生成物を淡黄色固体として得て、これをCH2Cl2エーテルから再結晶させて純粋な生成物を無色結晶性固体として得た。実施例44466テトラメトキシビフェニル22ジイルジホスホン酸テトラエチルの分割4466テトラメトキシビフェニル22ジイルジホスホン酸テトラエチルをCH2Cl2に溶解させた。エーテル中LDBTA一水和物を加えた。別のエーテルをゆっくりと加えた。懸濁液を室温で1時間攪拌した。それを濾過して白色固体を得て、これをCH2Cl2に再溶解させ、エーテルを加えた。得られた懸濁液を1時間攪拌した。固体を濾取し、これをもう一度再結晶させて体DBTA複合体を得た。複合体をCH2Cl2に溶解させ、NaHCO3、ブラインで洗浄した。有機層をMgSO4で2時間乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して体鏡像異性体を無色固体として得た。α25D228°。一緒にした母液をNaHCO3で遊離させ、DDBTAで分解して体鏡像異性体を無色固体として得た。α25D230°。体696分、体49分。実施例54466テトラメトキシビフェニル22ジイルジホスホン酸ジクロリドの調製4466テトラメトキシビフェニル22ジイルジホスホン酸テトラエチルとDMFとの混合物に塩化チオニルを加えた。得られた混合物を80~90°Cで3時間攪拌した。すべての揮発物を減圧除去した。残渣をCH2Cl2ヘキサンから再結晶させて白色固体を得た。31PNMRδ3445。実施例64466テトラメトキシビフェニル22ジイルビスの調製4466テトラメトキシビフェニル22ジイルジホスホン酸ジクロリドのTHF溶液に臭化フェニルマグネシウムを78°Cで加えた。混合物を78°Cで1時間攪拌した後、それを室温にゆっくりと昇温させ、室温でさらに1時間攪拌した。NH4Clを加えた。有機層を分離し、水層をCH2Cl2で抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。溶媒を除去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。溶媒を除去して生成物を白色固体として得た。実施例74466テトラメトキシビフェニル22ジイルビスの調製4466テトラメトキシビフェニル22ジイルビスのトルエン懸濁液にHSiCl3を加えた。得られた混合物をAr下で20時間還流させた。それを室温に冷却し、NaOHを加え、得られた混合物を50°Cで30分間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それをシリカゲルパッドを通して濾過した。溶媒を除去して生成物を白色固体として得た。実施例84466テトラメトキシビフェニル22ジイルビスの調製実施例7で概説した手順を使用して4466テトラメトキシビフェニル22ジイルビスから4466テトラメトキシビフェニル22ジイルビスを調製した。実施例9ビスホスフィンオキシドの調製NaIおよび4466テトラメトキシビフェニル22ジイルジホスホン酸テトラエチルのCH3CN溶液にMe3SiClを加えた。得られた懸濁液を50°Cで2時間攪拌した。すべての揮発物を減圧除去した。乾燥CH2Cl2をDMF数滴と共に残渣に加えた後、塩化オキサリルを加えた。得られた混合物を40°Cで4時間攪拌した。それを濾過し、すべての揮発物を濾液から除去して四塩化物中間体を得て、これをTHFに溶解させた。それをドライアイス浴で冷却し、臭化マグネシウムを78°Cで加えた。得られた混合物を78°Cで05時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、1時間攪拌した。NH4Clおよび水を加えて反応液を反応停止させた。有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して粗生成物を淡黄色固体として得て、これをシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。溶媒を除去して生成物を淡黄色固体として得た。実施例10ビスホスフィンの調製ビスホスフィンオキシドおよびトルエンの反応混合物にHSiCl3を加えた。混濁混合物を110°Cで終夜加熱した。それを室温に冷却し、NaOHをゆっくりと加え、30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、ショートシリカゲルパッドに通した。すべての溶媒を濾液から除去し、減圧乾燥させて生成物を白色固体として得た。実施例11ビスホスフィンの調製実施例10で概説した手順を使用してビスホスフィンからビスホスフィンを調製した。実施例12ビスホスフィンオキシドの調製NaIおよび4466テトラメトキシビフェニル22ジイルジホスホン酸テトラエチルのCH3CN溶液にMe3SiClを加えた。得られた懸濁液を50°Cで2時間攪拌した。すべての揮発物を減圧除去した。乾燥CH2Cl2をDMF数滴と共に残渣に加えた後、塩化オキサリルを加えた。得られた混合物を40°Cで4時間攪拌した。それを濾過し、すべての揮発物を濾液から除去して四塩化物中間体を得て、これをTHFに溶解させた。それをドライアイス浴で冷却し、臭化マグネシウムを78°Cで加えた。得られた混合物を78°Cで05時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、1時間攪拌した。NH4Clおよび水を加えて反応液を反応停止させた。有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して粗生成物を淡黄色固体として得て、これをシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。溶媒を除去して生成物を淡黄色固体として得た。実施例13ビスホスフィンの調製ビスホスフィンオキシドの試料をトルエンに溶解させ、HSiCl3を反応混合物に加えた。混濁混合物を透明になるまで攪拌しながら110°Cで加熱し、室温に冷却し、NaOHをゆっくりと加え、混合物を30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、ショートシリカゲルパッドに通し、溶媒を濾液から除去し、減圧乾燥させて生成物を白色固体として得た。実施例14ビスホスフィンの調製実施例13で概説した手順を使用してビスホスフィンからビスホスフィンを調製した。実施例15ビスフェニルホスフィンオキシドの調製NaIおよび4466テトラメトキシビフェニル22ジイルジホスホン酸テトラエチルのCH3CN溶液にMe3SiClを加えた。得られた混合物を50°Cで終夜攪拌した。すべての揮発物を減圧除去した。乾燥CH2Cl2を残渣に加え、DMF数滴を加えた後、塩化オキサリルを加えた。得られた混合物を40°Cで4時間攪拌した。すべての揮発物を濾液から除去して四塩化物中間体を得て、これをTHFに溶解させた。それをドライアイス浴で冷却し、臭化フェニルマグネシウムを78°Cで加えた。得られた混合物を78°Cで05時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、1時間攪拌した。NH4Clおよび水を加えて反応液を反応停止させた。有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して粗生成物を淡黄色固体として得て、これをシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。溶媒を除去して生成物を淡黄色固体として得た。実施例16ビスフェニルホスフィンの調製ビスフェニルホスフィンオキシドのトルエン溶液にHSiCl3を加えた。混合物を110°Cで36時間攪拌した。それを室温に冷却し、NaOHをゆっくりと加え、混合物を30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、ショートトシリカゲルパッドに通した。溶媒を濾液から除去し、減圧乾燥させて生成物を白色固体として得た。実施例17ビスフェニルホスフィンの調製実施例16で概説した手順を使用してビスフェニルホスフィンオキシドからビスフェニルホスフィンを調製した。実施例18ジフェニルホスフィンオキシドの調製THF中1ブロモ35ジメトキシベンゼンをマグネシウム、I2およびTHFと共にシュレンクフラスコに加えた。混合物を2時間還流させた。それを室温に冷却した。得られた明褐色溶液を別のフラスコに移し、それを78°Cに冷却した。THF中クロロジフェニルホスフィンを78°Cで加えた。混合物を78°Cで1時間攪拌した後、それを室温にゆっくりと昇温させ、室温で1時間攪拌した。得られた反応液に水を加えた後、H2O2を0°Cで滴下した。得られた混合物を30分間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層をNaHSO3およびブラインで徹底的に洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粘稠性油状物を得て、これを結晶化で精製して生成物を無色固体として得た。実施例19ジフェニルホスフィンオキシドの調製ジフェニルホスフィンオキシドのCH2Cl2溶液にNBSを0°Cで加えた。得られた懸濁液を0°Cで1時間攪拌した。Na2CO3を加えて反応液を反応停止させた。それを室温で30分間攪拌し、有機層を分離し、水層をCH2Cl2で抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粗生成物を淡黄色固体として得た。それは次の工程用に十分に純粋であった。純粋な試料をCH2Cl2ヘキサンからの結晶化によって得た。実施例20ビスの調製ジフェニルホスフィンオキシドのDMF溶液に銅粉を加えた。ヨウ素を加えた。得られた懸濁液を140°Cで2時間攪拌した。DMFを減圧除去した。残渣にCHCl3を加えた。それを30分間攪拌した。固体を濾過し、CHCl3で洗浄した。一緒にした濾液をブライン、ブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。固体を濾過し、CHCl3で洗浄した。溶媒を濾液から除去して粗生成物を帯黄白色固体として得て、これをCH2Cl2エーテルからの結晶化によって精製して純粋な生成物を無色固体として得た。実施例21ビスの分割ビスのCH2Cl2溶液にEt2O中LDBTA一水和物を加えた。別のEt2Oを混合物に加えた。得られた懸濁液を05時間攪拌した。固体を濾過し、エーテルで洗浄し、乾燥させて生成物を無色結晶性固体として得て、これを新たなCH2Cl2エーテルと共に1時間攪拌した。白色結晶性固体を濾過し、それを別の新たなCH2Cl2エーテルと共に1時間攪拌した。無色結晶性固体を濾過し、エーテルで洗浄し、減圧乾燥させて無色固体を得て、これをCH2Cl2に懸濁させ、NaHCO3で洗浄した。有機層をMgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去してGarPhosオキシドを無色固体として得た。α25D1152°。一緒にした母液をNaHCO3で中和して濃縮ホスフィンオキシドを得て、これをDDBTAによって分割した。エナンチオピュアな生成物をNaHCO3で遊離させて体鏡像異性体を無色結晶性固体として得た。α25D1146°。体955分、体588分。実施例22ビスホスフィンオキシドの調製THF中1ブロモ35ジメトキシベンゼンをTHF中マグネシウムおよびI2と共にフラスコに60°Cで加えた。添加が完了した後、混合物を2時間還流させた。それを室温に冷却した。得られた明褐色溶液を別のフラスコに移した。それを78°Cに冷却した。THF中クロロビスホスフィンを78°Cで1時間以内に滴下した。得られた混合物を78°Cで05時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、室温で30分間攪拌した。得られた反応液にH2Oを加えた後、H2O2を0°Cで滴下した。混合物を室温で05時間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層をブライン、NaHSO3で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去した。粘稠性残渣をCH2Cl2ヘキサンと共に1時間攪拌した。固体を濾取して生成物を無色固体として得た。実施例23ビスホスフィンオキシドの調製ビスホスフィンオキシドのCH2Cl2溶液にNBSを0°Cで加えた。得られた懸濁液を0°Cで1時間攪拌した。Na2CO3を加えて反応液を反応停止させた。それを室温で30分間攪拌し、有機層を分離した。水層をCH2Cl2で抽出した。一緒にした有機層を水、ブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粗生成物を淡黄色固体として得た。これは次の工程用に十分に純粋であった。純粋な生成物をエーテルヘキサンからの結晶化によって得た。実施例24ビスホスフィンオキシドの調製ビスホスフィンオキシドのDMF懸濁液に銅粉を加えた。ヨウ素を加えた。得られた懸濁液を140°Cで2時間攪拌した。DMFを減圧除去した。残渣にCHCl3を加えた。それを30分間攪拌した。固体を濾過し、CHCl3で洗浄した。一緒にした濾液をブライン、ブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、固体をCHCl3で洗浄した。溶媒を濾液から除去して粗生成物を帯黄白色固体として得て、これをCH2Cl2エーテルと共に1時間攪拌した。固体を濾過し、減圧乾燥させて純粋な生成物を無色固体として得た。実施例25ビスホスフィンオキシドの分割ビスホスフィンオキシドのCH2Cl2溶液にEt2O中LDBTA一水和物を加えた。CCl4を加えた後、別のEt2Oを混合物に加えた。得られた混合物を1時間攪拌した。固体を濾過し、エーテルで洗浄し、乾燥させて生成物を無色結晶性固体として得て、これを新たなCH2Cl2と共に15分間攪拌した後、CCl4を加えて、混合物をさらに15分間攪拌した。エーテルを滴下した。得られた懸濁液をさらに40分間攪拌した。結晶性固体を濾過し、エーテルで洗浄し、減圧乾燥させて生成物を無色固体として得て、これをCH2Cl2に懸濁させ、NaHCO3で洗浄した。有機層をMgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して鏡像異性体の体を無色固体として得た。α25D1859°。一緒にした母液をNaHCO3で中和して濃縮ホスフィンオキシドを得て、これをDDBTAによって分割した。エナンチオピュアな複合体をNaHCO3で遊離させて体鏡像異性体を無色固体として得た。α25D1863°。595、1ml分、25°C、254nm。体1910分、体2590分。実施例26ビスホスフィンの調製ビスホスフィンオキシドのトルエン溶液にHSiCl3を加えた。得られた混合物をAr下、110°Cで終夜攪拌した。それを室温に冷却し、NaOHを0°Cでゆっくりと加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それをシリカゲルパッドを通して濾過した。溶媒を除去して生成物を白色固体として得た。実施例27ビスホスフィンの調製実施例26で概説した手順を使用してビスホスフィンからビスホスフィンを調製した。実施例28ビスホスフィンオキシドの調製THF中1ブロモ35ジメトキシベンゼンをTHF中マグネシウムおよびI2と共にフラスコに60°Cで加えた。添加が完了した後、混合物を2時間還流させた。それを室温に冷却した。得られた明褐色溶液を別のフラスコに移した。それを78°Cに冷却し、THF中クロロビスホスフィンを78°Cで1時間以内に滴下した。得られた混合物を78°Cで05時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、室温で30分間攪拌した。得られた反応混合物に水を加えた後、H2O2を0°Cで滴下した。混合物を室温で05時間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチルおよびCH2Cl2で抽出した。一緒にした有機層をブライン、NaHSO3で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去した。粘稠性残渣をCH2Cl2ヘキサンと共に1時間攪拌した。固体を濾取して生成物を無色固体として得た。実施例29ビスホスフィンオキシドの調製ビスホスフィンオキシドのCH2Cl2溶液にNBSを0°Cで加えた。得られた懸濁液を0°Cで1時間攪拌した。Na2CO3を加えて反応液を反応停止させた。それを室温で30分間攪拌し、有機層を分離し、水層をCH2Cl2で抽出した。一緒にした有機層を水、ブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粗生成物を淡黄色固体として得た。これは次の工程用に十分に純粋であった。純粋な生成物をシリカゲルクロマトグラフィーによって得た。実施例30ビスホスフィンオキシドの調製ビスホスフィンオキシドのDMF溶液に銅粉を加え、ヨウ素を加えた。得られた懸濁液を140°Cで2時間攪拌した。DMFを減圧除去した。残渣にCHCl3を加えた。それを30分間攪拌した。固体を濾過し、CHCl3で洗浄した。一緒にした濾液をブライン、ブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、固体をCHCl3で洗浄した。溶媒を濾液から除去して粗生成物を黄褐色固体として得た。それをエーテルヘキサンからの再結晶によって精製した。固体を濾過し、減圧乾燥させて純粋な生成物を淡褐色固体として得た。実施例31ビスホスフィンオキシドの分割ビスホスフィンオキシドのCH2Cl2溶液にEt2O中LDBTA一水和物を加えた。CCl4を加えた後、別のEt2Oを混合物に加えた。得られた混合物を05時間攪拌した。固体を濾取し、エーテルで洗浄し、乾燥させて生成物を無色結晶性固体として得て、これを新たなCH2Cl2CCl4Et2Oと共に40分間攪拌した。結晶性固体を濾過し、エーテルで洗浄し、減圧乾燥させて無色固体を得て、これをCH2Cl2に溶解させ、NaHCO3で洗浄した。有機層をMgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を濾液から除去して体鏡像異性体を無色固体として得た。α25D1506°。一緒にした母液をNaHCO3で遊離させて濃縮ホスフィンオキシドを得て、これを上記の通りDDBTAによって分割した。エナンチオピュアな複合体をNaHCO3で遊離させて体鏡像異性体を無色固体として得た。α25D1560°。892、1ml分、25°C、254nm。体158分、体229分。実施例32ビスホスフィンの調製ビスホスフィンオキシドのトルエン溶液にHSiCl3を加えた。得られた懸濁液をAr下、120°Cで6時間攪拌した。それを室温に冷却し、NaOHを0°Cでゆっくりと加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それをシリカゲルパッドを通して濾過し、CH2Cl2THFで洗浄した。溶媒を除去して生成物を白色固体として得た。実施例33ビスホスフィンの調製実施例32で概説した手順を使用してビスホスフィンオキシドからビスホスフィンを調製した。実施例34RuCl2触媒の調製の一般的手順RuCl22とジホスフィン配位子との混合物にエタノールCH2Cl2共溶媒を加えた。混合物を不活性雰囲気下で3~5時間還流させた。すべての揮発物を減圧除去した。CH2Cl2を加えて残渣を溶解させ、ヘキサンを加えてあらゆる不純物を析出させた。混合物を濾過し、濾液を濃縮して生成物を黄色固体として得た。収率80~85。RuCl2PhGarphosRuCl2DMMGarphos実施例35RuCl2触媒の調製の一般的手順ジホスフィン配位子とRuCl22との混合物にトルエンおよびDMFの共溶媒を加えた。得られた混合物を70°Cで2時間攪拌した。それを室温に冷却し、キラルジアミンを混合物に加えた。反応液を70°Cでさらに15時間攪拌した。すべての揮発物を減圧除去して生成物を黄褐色固体として得た。収率=95~99。RuCl2PhGarphosRuCl2PhGarphosDAIPENRuCl2キシリルGarphosRuCl2キシリルGarphosDAIPENこの触媒のX線結晶構造を図1に示す。RuCl2キシリルGarphosDAIPENRuCl2DMMGarphosRuCl2DMMGarphosDAIPEN実施例36RhBF4触媒の調製の一般的手順RhのTHF溶液にHBF4Et2OのTHF溶液を加えた。混合物を50°Cで1時間攪拌した。それを室温に冷却し、キラルジホスフィンを加えた。得られた橙色溶液を50°Cでさらに1時間攪拌した。すべての揮発物を減圧除去して粗生成物を橙色固体として得た。エーテルを残渣に加えた。懸濁液を室温で2時間攪拌した。それを濾過し、減圧乾燥させて純粋な生成物を橙色固体として得た。収率90~95。RhPhGarphosBF4RhキシリルGarphosBF4RhDMMGarphosBF4実施例37RuCl2を使用する4クロロアセト酢酸エチルの水素化アルゴン下、50mlオートクレーブ中で基質の溶液に触媒の塩化メチレン溶液を加えた。混合物を水素ガスで掃流し、所望の温度に加熱し、水素で加圧した。所望の時間攪拌後、オートクレーブを室温に冷却し、脱気した。転化をGCで評価した。生成物の試料をエチルエステルに変換し、エナンチオ選択性をGCを使用して決定した。実施例38RuCl2を触媒として使用する純粋ケトンの水素化ケトンの2プロパノール溶液を50mLシュレンクフラスコに加えた。排気してアルゴンを再充填した後、触媒と塩基との混合物を加えた。次に得られた混合物を、既にアルゴン雰囲気下に配置していた50mLオートクレーブに注入した。オートクレーブを水素ガスで加圧し、反応混合物を所望の温度で攪拌した。反応の進行をTLCでモニタリングした。反応の完了時点で溶媒を減圧除去し、ヘキサン酢酸エチルを使用するショートシリカゲルパッドを通して混合物を濾過した。次に溶媒を濾液から除去して生成物を得た。実施例39RuCl2を触媒として使用する1フェニルエタノンの水素化50mLオートクレーブ中にてケトンおよびKOtBuの2プロパノール中混合物を水素ガス下で5分間攪拌した。触媒の2プロパノール溶液をアルゴンで脱気した後、オートクレーブに注入した。次にこれを水素ガスで加圧し、反応混合物を所望の温度で攪拌した。反応の進行をTLCでモニタリングした。反応の完了時点で溶媒を減圧除去し、31ヘキサン酢酸エチルを使用するショートシリカゲルパッドを通して混合物を濾過した。次に溶媒を濾液から除去して生成物を得た。実施例402ビニルフェニル3オキソプロピル安息香酸メチルの水素化ステンレス鋼オートクレーブ中で基質、臭化テトラブチルアンモニウム、トルエンおよびNaOHを一緒にした。オートクレーブを封止し、水素ガスで繰り返し加圧および脱気して攪拌下でのオートクレーブ内の雰囲気の完全な交換を確実にした。触媒のストック溶液のアリコートをオートクレーブに加えた。次にオートクレーブを水素で3~5回加圧および脱気してあらゆる残留空気の雰囲気を掃流した。水素化を130Psi下、周囲温度で24時間行った。アリコートのNMR分析は完全な変換を明らかにした。HPLC用の純粋な試料をシリカゲルクロマトグラフィーで得た。エナンチオマー過剰率をHPLCで決定した。キラルカラムChiralpakASHカラム046cmx25cmHPLC条件カラム温度40°C2PrOHヘキサン1090、10ml分R異性体の保持時間178分、S異性体の保持時間224分、出発原料の保持時間135分。実施例41DTBMGarphosの調製ビスホスフィンオキシドの調製マグネシウムとヨウ素とのTHF中混合物にTHF中1ブロモ35ジメトキシベンゼンを加えた。添加が完了した後、混合物を1時間還流させた。それを室温に冷却した。得られた明褐色溶液を別のフラスコに移した。それを78°Cに冷却し、THF中クロロビスホスフィンを78°Cで滴下した。得られた混合物を78°Cで05時間攪拌した後、室温にゆっくりと昇温させ、室温で1時間攪拌した。得られた反応混合物に水を加えた後、H2O2を0°Cで滴下した。混合物を30分間攪拌した。有機層を分離し、水層を酢酸エチルおよびCH2Cl2で抽出した。一緒にした有機層をブライン、NaHSO3で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去した。粘稠性残渣をCH2Cl2およびエーテルに溶解させた後、ヘキサンを加えた。混合物を400mLに減圧濃縮した後、シード添加した。懸濁液を15時間攪拌し、得られた固体を濾取し、乾燥させて生成物を無色固体として得た。第2の産物を母液から収集した。収率=957。ビスホスフィンオキシドの調製ビスホスフィンオキシドのCH2Cl2溶液にNBSを0°Cで加えた。得られた懸濁液を0°Cで1時間攪拌した後、室温に昇温させ、4時間攪拌した。残留する出発原料がなくなるまでTLCで反応をモニタリングした。溶液を室温にて濃Na2CO3で洗浄した。有機層を分離し、MgSO4で乾燥させた。それを濾過し、溶媒を除去して粗生成物を得た。ヘキサンを加え、溶液を300mLに濃縮した。それは混濁し、白色固体が析出した。ヘキサンをさらに100mL加えた。懸濁液を室温で2時間攪拌した。それを濾過し、固体を減圧乾燥させて生成物を無色固体として得た。第2の産物を母液から得た。全体的収率909。ビスホスフィンオキシドの調製銅粉とビスホスフィンオキシドとのDMF中混合物にヨウ素を加えた。得られた懸濁液を140°Cで35時間攪拌した。それを濾過し、固体をDMFで洗浄した。一緒にした濾液を2L丸底フラスコに移し、水を加え、懸濁液を1時間攪拌した。それを濾過し、固体をCH2Cl2に溶解させ、NH4OH溶液、次に水で洗浄した。有機層をMgSO4で乾燥させた。それを濾過し、固体をCHCl3で洗浄した。溶媒を除去して粘稠性油状物を得て、これをエーテルヘキサンから結晶化させてカップリング生成物と脱臭素化生成物との混合物を得た。これを酢酸エチルヘキサンで洗浄して純粋な生成物を無色固体として得た。収量=328g。脱臭素化副生成物も回収した。ビスホスフィンオキシドの分割ビスホスフィンオキシドの試料をジエチルエーテルおよび酢酸エチルに懸濁させた。次にLDBTA一水和物を加えた。混合物を室温で攪拌したところ、それは透明から混濁に変化した。白色固体が析出した。酢酸エチルを加えた。懸濁液を1時間攪拌した。それを濾過し、固体を酢酸エチルで洗浄し、減圧乾燥させて生成物18gを得た。固体を懸濁させ、別の酢酸エチルエーテル中で1時間攪拌した。それを濾過し、固体を酢酸エチルで洗浄し、乾燥させて純粋なDTBMGarphosオキシドDBTA複合体を無色固体として得た。遊離DTBMGarphosオキシドを、Na2CO3溶液を使用して遊離させ、無色固体として単離した。収量=103g。母液から溶媒を除去し、固体のエーテルおよびEA中懸濁液にDBTAを加えた。それを数分間攪拌し、酢酸エチルをゆっくりと加えた。得られた懸濁液を終夜攪拌した。固体を濾過し、エーテルで洗浄した。それを乾燥させてDTBMGarphosオキシドDBTA複合体を無色固体として得て、これをCH2Cl2に溶解させ、Na2CO3溶液と共に攪拌して遊離ホスフィンを遊離させた。ワークアップによってDTBMGarphosオキシドを無色固体として得た。収量130g。α25D828°。ビスホスフィンの調製ビスホスフィンオキシドのトルエン溶液にHSiCl3を加えた。得られた懸濁液を100°Cで終夜攪拌した。それを室温に冷却し、NaOHを0°Cでゆっくりと加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。有機層を分離し、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を蒸発乾固させ、CH2Cl2を残渣に加えた。溶液をショートシリカゲルパッドを通して濾過した。パッドをCH2Cl2で洗浄した。濾液を一緒にし、溶媒を減圧除去して生成物を白色無色固体として得た。収量124g、979。ビスホスフィンの調製上記で概説した手順を使用してビスホスフィンオキシドからビスホスフィンを調製した。実施例42PtCl2PhGarphosの調製アルゴン充填フラスコ中でPtCl2およびPhGarphosを一緒にした。塩化メチレンをフラスコに加え、得られた淡黄色溶液をおよそ2時間攪拌した。次に溶液を減圧乾固させて淡黄色残渣を得た。収量0153g。実施例43Pd2PhGarphosの調製アルゴン充填フラスコ中でPd2およびPhGarphosを一緒にした。塩化メチレンをフラスコに加え、得られた橙褐色溶液をおよそ2時間攪拌した。次に溶液を減圧乾固させて橙色残渣を得た。収量0171g。実施例44Pd2PhGarphosの調製アルゴン充填フラスコ中でPd2およびPhGarphosを一緒にした。塩化メチレンをフラスコに加え、得られた黄褐色溶液をおよそ2時間攪拌した。次に溶液を減圧乾固させて黄橙色残渣を得た。収量0224g。実施例45鈴木宮浦カップリングの一般的手順アルゴンガス下でブロモベンゼン、フェニルボロン酸および炭酸カリウムの14ジオキサン溶媒中溶液に固体触媒を加えた。次に反応液を80°Cで16時間攪拌した。次に混合物を室温に冷却し、濾過し、減圧濃縮した。続いて残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。単離された生成物を1HNMR分光法で特性決定した。特性決定データ無色固体として単離。結果を表4に示す。好ましい例であると本開示において考えられるものを参照して本開示を説明してきたが、開示される例に本開示が限定されないと理解すべきである。逆に、本開示は、添付される特許請求の範囲の真意およびその範囲内に含まれる様々な修正および等価な構成を含むことが意図されている。すべての刊行物、特許および特許出願は、個々の刊行物、特許または特許出願が参照によりその全体が組み入れられるように具体的かつ個々に指示される場合と同程度に、その全体が参照により本明細書に組み入れられる。本出願におけるある用語が、参照により本明細書に組み入れられるある文献において異なって定義されることがわかる場合、本明細書に示される定義がその用語の定義としての役割を果たすものとする。表1RuCl2を使用する4クロロアセト酢酸エチルの水素化表2RuCl2を触媒として使用する純粋ケトンの水素化表3RuCl2を触媒として使用する1フェニルエタノンの水素化表4Pd2またはPd2を使用するフェニルベンゼンの作製のための鈴木宮浦カップリング