フュージョンプロセス又はフロートプロセスにより形成されたガラス部品を処理する方法であって、前記ガラス部品を取得する工程と、前記ガラス部品を第1の温度で加熱する工程と、所定の時間前記第1の温度を維持する工程と、制御された冷却プロセスを用いて前記ガラス部品を第2の温度へと冷却する工程と、を少なくとも含む、前記ガラス部品をアニーリングする工程と、前記ガラス部品に含まれるイオンと化学強化浴に含まれるイオンとの間でのイオン交換を促進する工程を含む、前記ガラス部品を化学強化する工程と、を含むことを特徴とする方法。前記ガラス部品をアニーリングする工程が、前記制御された冷却プロセスの後に、制御されていない冷却プロセスを用いて前記ガラス部品を第3の温度へと冷却する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。前記第3の温度が周囲温度であることを特徴とする、請求項2に記載の方法。前記ガラス部品は前記フロートプロセスにより形成されたアルミノケイ酸ガラス部品であり、前記第1の温度はおよそ540°Cとおよそ550°Cとの間の範囲にあることを特徴とする、請求項1乃至3の何れか1項に記載の方法。前記ガラス部品を前記第1の温度で加熱する工程が、およそ1時間からおよそ5時間の間の長さの時間、前記第1の温度を維持する工程を含むことを特徴とする、請求項4に記載の方法。前記第2の温度が、前記第1の温度より低く、およそ100°Cとおよそ150°Cとの間であって、前記制御された冷却プロセスが、前記ガラス部品を実質的に一定の速度で冷却するように構成されていることを特徴とする、請求項5に記載の方法。前記実質的に一定の速度が、1分当たりおよそ0.5°Cであることを特徴とする、請求項6に記載の方法。前記ガラス部品を前記第2の温度に冷却する工程が、前記ガラス部品をたかだかおよそ5時間冷却する工程を含むことを特徴とする、請求項6に記載の方法。前記ガラスは固定された時間の間前記第1の温度に保たれ、前記第1の温度は前記ガラスの歪温度のおよそ95とおよそ105との間の範囲にあることを特徴とする、請求項1乃至3の何れか1項に記載の方法。フュージョンプロセス又はフロートプロセスにより形成されたガラスシートを処理する方法であって、前記ガラスシートを取得する工程と、前記ガラスシートを第1の温度で加熱する工程と、制御された冷却プロセスを用いて前記ガラスシートを第2の温度へと冷却する工程と、を少なくとも含む、前記ガラスシートをアニーリングする工程と、前記ガラスシートからガラス部品を作製する工程を含む、前記ガラスシートを機械加工する工程と、前記ガラス部品に含まれるイオンと化学強化浴に含まれるイオンとの間でのイオン交換を促進する工程を含む、前記ガラス部品を化学強化する工程と、を含むことを特徴とする方法。前記ガラスシートをアニーリングする工程が、前記制御された冷却プロセスの後に、制御されていない冷却プロセスを用いて前記ガラスシートを第3の温度へと冷却する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項10に記載の方法。前記第3の温度が周囲温度であることを特徴とする、請求項11に記載の方法。前記ガラスシートは前記フュージョンプロセスにより形成されたアルミノケイ酸ガラスシートであり、前記第1の温度はおよそ500°Cとおよそ600°Cとの間の範囲にあることを特徴とする、請求項10に記載の方法。前記ガラスシートは前記フュージョンプロセスにより形成されたアルミノケイ酸ガラスシートであり、前記第1の温度はおよそ540°Cとおよそ550°Cとの間の範囲にあることを特徴とする、請求項10乃至13の何れか1項に記載の方法。前記ガラスシートを前記第1の温度で加熱する工程が、およそ1時間からおよそ5時間の間の長さの時間、前記第1の温度を維持する工程を含むことを特徴とする、請求項14に記載の方法。前記第2の温度が、前記第1の温度より低く、およそ100°Cとおよそ150°Cとの間であって、前記制御された冷却プロセスが、前記ガラスシートを実質的に一定の速度で冷却するように構成されていることを特徴とする、請求項15に記載の方法。前記実質的に一定の速度が、1分当たりおよそ0.5°Cであることを特徴とする、請求項16に記載の方法。前記ガラスシートを前記第2の温度に冷却する工程が、前記ガラスシートをたかだかおよそ5時間冷却する工程を含むことを特徴とする、請求項14に記載の方法。前記ガラスシートを機械加工する工程が、前記ガラスシートをスクライビングする工程と、前記ガラスシートをブレーキングする工程と、前記ガラスシートを切断する工程と、を含む群から選択された少なくとも1つを含むことを特徴とする、請求項10乃至18の何れか1項に記載の方法。本発明は、ガラス部材の圧縮応力を改善する装置、システム及び方法に関する。ガラス部品に対して化学強化プロセスを適用する前にガラス部品をアニーリングすることにより、ガラス部品を化学強化することによって得られる圧縮応力が増加しうる。ガラス部品において大きい圧縮応力が得られることにより、改善した強度と、少なくともいくつかの信頼性の基準における改善した性能とが得られうる。ガラス部品をアニーリングすることは、高温にガラス部品を熱することと、少なくともガラス部品の表面、例えばおもて面、においてより大きい密度が達成されるように、ガラス部品をゆっくりと冷却することとを含む。ガラス部品の少なくとも表面において大きい密度が達成されると、続くイオン交換はより強いガラス部品を与えるだろう。ガラス部品がこの温度まで熱せられる高温はアニーリング温度、言い換えるとガラスが変形することなく応力を緩和しうる温度である。本発明の装置、システム、及び方法は、例えばハンドヘルド電子デバイス、例としては携帯電話、メディアプレーヤ、ユーザ入力デバイス例えばマウス、接触感知デバイス、携帯情報端末、リモートコントロール等のような比較的小さいフォームファクタの電子デバイスへと組み立てられるのに適したガラス部材のようなガラス部品の形成を可能とする。本発明の装置、システム、及び方法はまた、ポータブルコンピュータ、タブレットコンピュータ、ディスプレイ、モニタ、テレビ等のような他の比較的大きいフォームファクタの電子デバイスのためのガラスカバー又はディスプレイのためにも用いられうる。化学強化プロセスの前にアニーリングプロセスを用いてガラスを強化するという文脈において、実施形態が本明細書で説明される。以下の詳細な説明は説明のためのものにすぎず、どうあろうと限定することは意図されていない。他の実施形態も、自身のことを本開示の利益を得た当業者に対してたやすく示唆するだろう。添付の図面に例示されている実施例に対する詳細な言及がここでなされる。図面及び以下の詳細な説明にわたって、同一の又は同様の部品を参照するために、同じ参照指標が概して用いられるだろう。明確化のために、本明細書に記載の実施例の常套的な特徴は、全てが示され説明されるわけではない。もちろん、任意のこのような実際の実施例の開発においては、例えば適用例及び商売に関係する制約への適合のような開発者の特有の目標を達成するために、数多くの実施例特有の決定がなされる必要があり、これらの特有の目標は実施例ごとに異なり、かつ開発者ごとに異なることが理解されるだろう。さらに、このような開発上の努力は複雑かつ時間がかかるものであるかもしれないが、それでもなお、本開示の利益を得る当業者にとっては、定型的なエンジニアリングの試みであろうことが理解されるだろう。大量生産されたフロートガラス、及び例えばフュージョンプロセスガラスのような他の大量ガラスプロセスから得られたガラス、をアニーリングすることは、ガラスに対して、実質的にゆっくりとした冷却を要求することなく、ポットメルトガラスのようなゆっくりと冷却されたガラスの熱履歴と同様の熱履歴を与える。化学強化プロセスの前にガラスに対して適用されるアニーリングプロセスは、ガラス部品に適用されることもできるし、又はガラス部品がここから切断され又は別の方法で形成されるようなガラスシートに対して適用されることもできる。図1Aを参照して、ガラス部品が形成された後にガラス部品をアニーリングすることを含むガラス部品の強化プロセスを、また図1Bを参照して、ガラスシートからガラス部品を形成するのに先立ってガラスシートをアニーリングすることを含むガラス部品の強化プロセスを、説明する。図1Aは、本発明の実施形態に従ってガラス部品をアニーリングすることを含む、ガラス部品の強化方法を説明するプロセスフロー図である。ガラス部品の強化方法101は、ガラス部品が形成されるステップ105で開始される。ガラス部品の形成は、フロートプロセス又はフュージョンプロセスを用いることを含んでもよい。当業者には理解されるであろうように、フロートプロセスは一般的に、溶融ガラスを例えばスズのような溶融金属の表面に浮かべさせ、溶融ガラスを冷却することを伴う。フュージョンプロセスは一般的に、原材料を混合して、溶融ガラスを生成するように溶融され調節されるガラス組成物とすることを伴う。溶融ガラスは、トラフ樋の両側から均等に流れるまでトラフへと供給される。ガラスは再結合し、すなわち融合フュージョンし、連続した平らなガラスシートを形成するように下方へ引っ張られ、溶融ガラスのあふれオーバーフロートラフから空気中へとガラスシートが形成される。フロートプロセス又はフュージョンプロセスが、ガラス部品が得られるガラス部品の形成につながるのであれば、ガラス部品の形成はガラスシートの機械加工machiningを含んでいてもよい。ガラスシートの機械加工は、ガラスシートから得られたガラス部品のスクライビング、ブレーキング、切断、研削及び研磨を含むがこれらには限定されないうちの少なくとも1つを含んでいてもよい。ステップ105でガラス部品が形成された後で、ステップ109でガラス部品はアニーリングされる。ガラス部品のアニーリングは、一般的に、ガラス部品を第1の時間の間比較的高い温度にさらし、ガラス部品を第2の時間の間制御された冷却にさらし、ガラス部品を第3の時間の間空冷させることを含む。アニーリングに関連する例えば時間及び温度のようなパラメータは、図4に関係して以下に議論されるように、任意の数の要因に基づいて決定されうる。しかしながら、一般的に、アニーリングに関連するパラメータは、ガラス部品の組成及びガラス部品の形成において用いられる技術に依存するだろう。例えば、アルミノケイ酸ガラスからフュージョンによりガラス部品が形成される場合に用いられるパラメータは、ソーダライムガラスからフロートによりガラス部品が形成される場合に用いられるパラメータとは異なるだろう。ガラス部品の寸法もまた、アニーリングに関連するパラメータの決定における要因となるだろう。ガラス部品がアニーリングされると、ステップ113で、ガラス部品の表面は機械加工されてもよい。ガラス部品の表面の機械加工は、アニーリングと化学強化とのうちの少なくとも一方によって表面上に残された欠陥を実質的に取り除くためにガラスを研磨することを含んでもよい。ステップ117で、ガラスに対して化学強化が行われる。一般的に、ガラス部品の化学強化は、イオン交換浴中にガラス部品を置く、例えば浸すことを含む。イオン交換浴の成分、並びに浴の温度及びガラス部品が浴にさらされる時間は、ガラス部品の大きさ、ガラス部品の組成、及びガラス部品において望まれる圧縮応力を含むがこれらには限定されないうちの少なくとも1つを含む要因に依存して変化するだろう。ガラス部品が化学強化されると、ガラス部品を強化する方法は完了する。上述したように、ガラス部品をアニーリングする代わりに、ガラスシートからガラス部品が形成されるのに先立ってガラスシートがアニーリングされてもよい。図1Bは、本発明の一実施形態に従う、アニーリングされたガラスシートからガラス部品を形成することを含む、強化されたガラス部品を作成する方法を説明するプロセス流れ図である。強化されたガラス部品を作成する方法121は、ガラスシート又はマザーシートが形成されるステップ123で始まる。一実施形態において、ガラスシートはフュージョンプロセスを用いて形成されたアルミノケイ酸ガラスシートであってもよい。他の実施形態において、ガラスシートはフロートプロセスを用いて形成されたソーダライムガラスであってもよい。プロセスフローはステップ123からステップ125へと移動し、ここでガラスシートはアニーリングされる。ガラスシートは、典型的には、続いてガラスシートから形成されるガラス部品よりもサイズが大きい。ガラスシートをアニーリングすることは、一般的に、ガラスシートを熱することと、ガラスシートを制御された冷却にさらすことと、ガラスシートを第2の冷却フェーズ、例えば空冷にさらすことと、を含む。ガラスシートがアニーリングされた後で、ステップ129においてガラスシートはガラス部品を作製するために機械加工される。ガラスシートを機械加工することは、ガラスシートからのガラス部品のスクライビング、ブレーキング、切断、研削及び研磨を含むがこれらには限定されないもの含む。アニーリングがいくらかの応力をガラスシートから取り除くために、アニーリングされたガラスシートの機械加工は、アニーリングされていないガラスシートの機械加工よりも複雑ではないだろう。ガラス部品を形成するようにガラスシートが機械加工されると、プロセスフローはステップ129からステップ133へと移動し、ここではガラス部品に対して化学強化が行われる。ガラス部品を化学強化すると、強化されたガラス部品を作製する方法は完了する。図2は、本発明の一実施形態に従う、ガラスを強化するプロセス全体の図式表現である。ガラス部品であってもガラスシートであってもよいガラス204は、アニーリングオーブン208、又はより一般的にはアニーリング環境へと供給される。アニーリングオーブン208は、ガラス204が熱せられる所望の温度を維持し、制御された冷却へとガラス204をさらすように構成されている。一実施形態において、アニーリングオーブン208中でガラス204が制御された冷却にさらされた後で、例えばコンベヤーベルトによって、ガラス204は、空気中で又は実質的に制御されていない環境中でガラス204が冷えることを可能とする冷却装置212に供給される。しかしながら、空気中での冷却が代わりにアニーリングオーブン208中で起こってもよいことが理解されるべきである。空冷が完了すると、アニーリングされたガラス204が実質的に形成される。アニーリングされたガラス204は、化学強化プロセス216を受ける。ガラス204がガラスシートである場合、アニーリングされたガラス204が、化学強化プロセス216にさらされる前にガラス部品を形成するように機械加工されてもよいことが理解されるべきである。一般的に、化学強化プロセス216により、アニーリングされたガラス204の表面とイオン交換浴との間でイオンが交換される。イオン交換浴は典型的にカリウムを含み、イオン交換浴中のカリウムイオンはアニーリングされたガラス204の中のナトリウムイオンとのイオン交換に関わるだろう。化学強化プロセス216は、実質的にアニーリングされたガラス204を強化し、アニーリングされたガラス204の強度の向上につながる。化学強化されたアニーリングされたガラス204は、アニーリングされていない化学強化されたガラス不図示と比べてより大きい圧縮応力を有する。次に図3A及び3Bを参照して、アニーリングされたガラスの化学強化が説明される。図3Aは、本発明の一実施形態に従う、時刻t1において化学強化浴へと導入された、アニーリングされたガラス部品を表す。時刻t1において、アニーリングされたガラス304は、化学強化浴316、例えばカリウムを含むイオン交換浴、へと導入される。アニーリングされたガラス304は、ガラス部品の形をとっていてもよいし、ガラスシートの形をとっていてもよい。アニーリングされたガラス304が化学強化浴36に導入されると、イオン交換プロセスが時刻t2に開始するだろう。図3Bは、本発明の一実施形態に従う、時刻t2においてイオン交換プロセスを行っている、アニーリングされたガラス部材304を表す。アニーリングされたガラス304が化学強化浴316に実質的に浸された時に、化学強化浴316中のカリウムイオンと、アニーリングされたガラス304中のナトリウムイオン、より詳細にはアニーリングされたガラス304の表面又は表面付近に位置するナトリウムイオンとの間での、イオン交換が起こる。イオン交換は、アニーリングされたガラス304上の、強化された表面320又はおもて面を生み出す。一実施形態において、表面320は、化学強化されたがアニーリングされていないガラス片不図示の表面よりも、大きい圧縮応力を有する。例として、アニーリングされたガラス304がフロートプロセスを用いて作製される場合、アニーリングされたガラス304は、アニーリングされていないフロートガラス片において達成可能なものより大きい圧縮応力を有し、アニーリングされたガラス304の圧縮応力は、比較用のゆっくりと冷却されたガラス片に関連する圧縮応力に近づく。ゆっくりと冷却されたガラスの一つの例は、ポットメルトガラスである。強化された表面320に関連する厚さ又は深さは、大きく変化しうる。イオン交換プロセスの長さとともに、アニーリングされたガラス304の厚さは、強化された表面320の厚さに影響を与える要因の一つである。一実施形態において、アニーリングされたガラス304の厚さは、およそ3ミリメートル以下、例としては1ミリメートル以下でありうる。強化された表面層の深さは、約0.045ミリメートルと0.60ミリメートルとの間でありうる。上述のように、アニーリングプロセスに関連するパラメータは大きく変化しうる。一実施形態において、アニーリングプロセスに関連するパラメータは、続く化学強化を通して、ガラスシート又はガラス部品において、所与の、例えば所望の、圧縮応力を達成するために適切なように修正されうる。結果として、より短いサイクル時間と、化学強化プロセスにおいて用いられる強化浴の化学薬品のより回数の少ない交換と、の少なくとも一方が達成されてもよく、こうして化学強化プロセスに関連する費用が削減される。図4は、本発明の一実施形態に従う、化学強化されるアニーリングされたガラスを生産するアニーリングプロセスにおいて用いられるパラメータを決定する方法を説明するプロセス流れ図である。アニーリングプロセスにおいて用いられるパラメータを決定する方法401は、アニーリングされるガラスの組成及びガラスを形成するために用いられるプロセスが特定されるステップ405において開始する。ガラスの組成及びガラスを形成するために用いられるプロセスが特定されると、ステップ409においてガラスについての歪点が決定される。一実施形態においては、ガラスの軟化点がまた決定される。ガラスについての歪点が決定された後で、プロセスフローはステップ413に移動し、ここではガラスについてのアニーリング温度が決定される。ガラスについてのアニーリング温度、例えばアニーリングプロセス中にガラスが熱せられる最も高い温度は、ガラスの歪点に関連する温度よりも少し低くてもよく、又は歪点に関連する温度と軟化点に関連する温度との間の範囲に入ってもよい。一実施形態において、フュージョンプロセスを用いて形成されたアルミノケイ酸ガラスについては、ガラスの歪点に関連する温度、すなわち歪温度はおよそ556°Cであり、アニーリング温度はおよそ540°Cとおよそ550°Cとの間であってもよい。ステップ417において、選択されたアニーリング温度でガラスを熱する時間の長さが決定される。一般的に、ガラスは実質的にどんな長さの時間アニーリングされてもよい。一実施形態において、ガラスは最大でおよそ4時間までアニーリングされる。およそ1時間より長くおよそ4時間までの時間の間およそ540°Cのアニーリング温度でアニーリングされたガラスは、アニーリングされていないガラスと比べて、化学強化された後により高い強度を有することが観察された。およそ4時間の間およそ550°Cのアニーリング温度でアニーリングされたガラスは、化学強化プロセスの後に、ポットメルトガラスの強度に近い強度を有することがまた観察された。ガラスを熱する時間の長さが決定されると、ステップ421において、制御された冷却の速度と、制御された冷却の目標温度とが決定される。制御された冷却の時間の長さもまた、決定されてもよい。例えば、制御された冷却の速度はおよそ1分あたり1/2°Cであってもよく、制御された冷却が、ガラス内で到達したピーク温度から全体でおよそ150°Cの冷却のために、およそ5時間にわたって起こってもよい。ステップ425において、制御された冷却の後のガラスの空冷時間の長さが決定される。この時間の長さは変化してもよく、制御された冷却の終了の際に達成される温度と、ガラス部品の厚さと、冷却環境とのうちの少なくとも1つに、少なくとも部分的に依存するだろう。一実施形態においては、ガラスが室温に到達した際に、ガラスは十分に冷却され、化学強化の用意ができたものと考えられてもよい。ガラスの空冷時間の長さが決定された後で、アニーリングプロセスにおいて用いられるパラメータを決定する方法は完了する。図5は、本発明の一実施形態に従う、2つの例示的なアニーリングプロファイルの図式表現である。第1のプロファイル530及び第2のプロファイル534は、説明の目的で提供されたものであり、一定の比例に応じて描かれてはいないことを理解すべきである。説明された実施形態において、第1のプロファイル530及び第2のプロファイル534は、ともに、同じプロセスを用いて形成された同じ種類のガラス、例えばフュージョンプロセスを用いて形成されたアルミノケイ酸ガラスに関連する。第1のプロファイル530はアニーリングされたガラス、例えばガラス部材、に関連する温度プロファイルである。第1のプロファイル530は、歪温度Tstrainよりも高いが軟化温度Tsoftよりも低いアニーリング温度T1を有する。一般的に、アニーリング温度T1は歪温度Tstrainのおよそ95パーセントとおよそ105パーセントとの間でありうる。第1のプロファイル530に示されるように、アニーリング温度T1は、温度がアニーリング温度T1まで上がった後で、任意の適切な時間だけ維持される。アニーリング温度T1を維持する適切な時間は、およそ1時間、およそ2時間、又はおよそ4時間であってもよいが、これらには限定されない。アニーリング温度T1は、区間530aで示されるように、ガラス部材における所望の質を達成するために必要な限り維持される。室温、例えば周囲温度からアニーリング温度T1へと温度が上昇するために必要とされる時間はおよそ2時間であってもよいが、時間は大きく変化してもよいことが理解されるべきである。ガラス部材における所望の質が達成されると、第1のプロファイル530は区間530bにおいて制御された冷却を示す。制御された冷却は、一実施形態においては、およそ5時間までの期間にわたって起こる。一実施形態において、制御された冷却は実質的に一定の速度、例えば1分あたりおよそ0.5°Cの速度でガラスを冷却するために用いられてもよい。このような実質的に一定の速度は、およそ100°Cからおよそ150°Cの間だけガラス部材の温度を冷やすために用いられてもよい。第1のプロファイル530の区間530cは、制御された冷却区間530bが終了した時である時刻tc1において開始する空冷期間を示す。制御された冷却区間530bは、一般的に、ガラスに関連する固定温度において終了することが理解されるべきである。例えば空冷のような二次冷却について必要とされる時間は、周囲温度、空気の流れ、及び環境における他の条件のうちの少なくとも1つに部分的に依存する。空冷期間は、一般的に、ガラス部材が室温に到達した時に終了する。第2のプロファイル534は、歪温度Tstrain及び軟化温度Tsoftの双方より低いアニーリング温度T2を有する。一実施形態において、歪温度Tstrainがおよそ556°Cである場合、アニーリング温度T2はおよそ540°Cとおよそ550°Cとの間でありうる。第2のプロファイル534に示されるように、アニーリング温度T2は、温度がアニーリング温度T2まで上がった後で、任意の適切な時間だけ維持される。アニーリング温度T2を維持する適切な時間は、およそ1時間、およそ2時間、又はおよそ4時間であってもよいが、これらには限定されない。アニーリング温度T2は、区間534aで示されるように、ガラス部材における所望の質を達成するために必要な限り維持される。一般的に、第2のプロファイル534に関連するアニーリング温度T2は、第1のプロファイル530に関連するアニーリング温度T1よりも低いため、アニーリング温度T2が維持される時間は、アニーリング温度T1が維持される時間よりも長い。すなわち、一般的に、実質的に同じレベルの強度を達成するためには、アニーリング温度がより低いほど、アニーリング温度はより長く維持される。ガラス部材において所望の質が達成された後で、第2のプロファイル534は区間534bにおける制御された冷却を示す。制御された冷却は、一実施形態においては、およそ5時間までの期間にわたって起こる。一実施形態において、制御された冷却の速度は、アニーリング温度とは実質的に独立している。それゆえ、特定のプロセスを用いて形成された特定の種類のガラスについて、異なるアニーリング温度が与えられてもよいにもかかわらず、アニーリング温度にかかわらず、制御された冷却の速度は実質的に同じであってもよい。第2のプロファイル534の区間534cは、制御された冷却区間534bが終了した時である時刻tc2に開始する空冷期間を示す。空冷期間は、一般的に、ガラス部材が室温に到達した時に終了する。一実施形態において、アニーリングプロセスに続く化学強化プロセスによって強化されたガラス部材又はガラス部品は、例えばハンドヘルド電子デバイスのような電子デバイスのカバー部又はディスプレイ画面でありうる。図6を参照して、本発明の一実施形態に従ってハンドヘルド電子デバイスが説明される。ハンドヘルド電子デバイス650は、例えば周縁部材のような、デバイス650の最外側、上面又は底面の一部又は全部を形成するようにデバイス650の周縁を少なくとも部分的に取り囲むように構成されたハウジング672を含んでもよい。デバイス650はまた、デバイス650の内部容積を実質的に取り囲むようにハウジング672と実質的に結合されるように構成されたカバー部678を含む。カバー部678は、アニーリング及び化学強化により達成された比較的高い圧縮強度を有する、例えばデバイス650のディスプレイ画面のようなガラス部材604を含んでもよい。一実施形態において、カバー部678は、ガラス部材604が保持されるベゼル又はフレーム680を含む。ハウジング672は、例えばリングを形成するように組み合わせられてもよい1以上の要素を含む、任意の適した形状を有しうる。ハウジング672は、電子デバイス部品が組み合わせられ保持されてもよい、内部容積を少なくとも部分的に取り囲んでもよい。ハウジング672の形状は内部容積の境界を実質的に規定してもよく、内部容積内に配置される部品の大きさ及び種類に基づいて決定されてもよい。ハウジング672は任意の適した大きさを有することができ、この大きさは任意の適切な基準に基づいて決定されてもよい。適切な基準は、美的又は工業的デザイン、構造的考慮、所望の機能のために必要な部品、及び製品デザインのうちの少なくとも1つを含んでいてもよいが、これらを含むものには限定されない。ハウジング672は任意の適した断面を有することができ、例えば一様でない断面及び一様な断面を含む。いくつかの実施形態においては、断面はハウジング672についての所望の構造的特性に基づいて選択されてもよい。例えば、ハウジング672の断面は、ハウジング672の高さがハウジング672の幅よりも実質的に大きいように、実質的に矩形であってもよい。このような断面形状は、圧縮、引張、及び曲げについての構造的な堅さを与えるだろう。いくつかの実施形態において、ハウジング672断面の寸法は、ハウジング672に格納される部品の寸法に対して相対的に決定されてもよい。いくつかの実施形態において、ハウジング672は特徴676を含んでもよい。特徴116は、一般的に、1以上の、開口、取っ手ノブ、伸長部、フランジ、面取り、又はデバイスの部品又は要素を受け入れる他の特徴を含んでいてもよい。ハウジング672の特徴676は、ハウジング672の任意の表面から伸び、例えば内部部品又は部品層を保持するために例えば内面から伸びる場合、又は外面から伸びる場合を含む。特に、ハウジング672は、デバイス650内にカード又はトレーを受け入れる細孔スロット又は開口不図示を含んでもよい。ハウジング672はまた、コネクタがここを通ってデバイス650の1以上の導電性ピンと係合することができるような、例えば30ピンコネクタのための、コネクタ開口不図示を含んでいてもよい。ハウジング672上の他の特徴676は、音声をユーザに提供するための開口、ユーザからの音声を受け取るための開口、音声コネクタ又は電源のための開口、及び音量コントロール又は無音スイッチのようなボタンを保持し実現するための特徴、のうちの少なくとも1つを含んでいてもよいが、これらを含むものには限定されない。本発明のいくつかの実施形態のみが説明されたが、本発明は、本発明の精神又は範囲を逸脱することなく、他の多くの特定の形で実現されてもよいことが理解されるべきである。例として、アニーリングされたガラス部品が化学強化浴にさらされる時間は大きく変化してもよく、アニーリングされたガラス部品の表面近傍のナトリウムイオンの濃度に依存してもよい。一実施形態において、アニーリングされたガラス部品は、およそ10時間まで化学強化浴にされられてもよい。アニーリングは非空気雰囲気中で起こってもよいことが理解されるべきである。例えば、アニーリングは制御された不活性気体環境中で起こってもよい。アニーリングはまた液体環境中で起こってもよい。ガラスのアニーリングが液体環境中で行われる場合、ガラスに対する、たわみと変形との少なくとも一方を引き起こす重力の効果が少なくなるだろう。それゆえ、より高い温度、例えばアニーリングがアニーリングオーブン中で行われる場合に可能なものよりも高い温度でアニーリングを行うことが実行可能となるだろう。およそ同じ温度で終了するものとして、冷却プロファイルが図5に示されている。ある温度より下では、ガラスの特性は実質的に固定され、制御された冷却はもはや必要なくなる。しかしながら、ガラスの特性が実質的に固定される温度よりも低い温度までの制御された冷却が許されることが、理解されるべきである。一実施形態においては、固定された温度で終了する制御された冷却から直ちにガラス部品が取り出されて化学強化浴に置かれてもよい。すなわち、空冷期間が避けられてもよい。空冷又は制御されていない冷却プロセスを実質的に除くことにより、ガラス部品の強化の全体に関連する時間を減らすことができるだろう。さらに、空冷期間を避けることに加えて、化学強化プロセスに関連する加熱プロセス、例えば2時間の予熱ブロセスもまた、実質的に避けられてもよい。アニーリングされるガラス部品の大きさは、ガラス部品がその一部となる、例えばハンドヘルド電子デバイスのようなデバイスの要件に応じて、変化してもよい。一実施形態において、ガラス部品はおよそ113ミリメートル×およそ56ミリメートルの面積を有してもよい。ガラス部品の厚さは、およそ3ミリメートル以下、例えばおよそ1ミリメートルでありうる。ここから部品が得られるガラスシート又はマザーシートの大きさは、1以上の部品を供給しうる実質的に任意の大きさでありうる。例えば、およそ150ミリメートル×およそ50ミリメートルの面積を有するガラス部品が得られるガラスシートは、およそ700ミリメートル×およそ400ミリメートルの面積であってもよい。ガラスは、フュージョンプロセス又はフロートプロセスを用いて形成されるものとして説明されたが、ガラスはフュージョンプロセス又はフロートプロセスを用いて形成されたものに限られないことが理解されるべきである。すなわち、例えばスランプモールドされたガラス又は吹きガラスのような、急冷ステップを含む実質的に任意のプロセスを用いて形成されたガラスが、ガラスが比較的高い関連した圧縮応力を、すなわちアニーリングプロセスを実行しない場合に得られるであろう圧縮応力よりも相対的に高い圧縮応力を有するように、化学強化プロセスの前にアニーリングプロセスにさらされてもよい。概して、本発明の方法に関連するステップは大きく変化してもよい。本発明の精神又は範囲を逸脱することなく、工程は、追加され、除去され、変更され、組み合わせられ、及び順序を変えられうる。上述された本発明の様々な態様、特徴、実施形態、又は実施例は、単独で用いられてもよいし、様々な組み合わせで用いられてもよい。本明細書は多くの詳細を有しているが、これらは本開示又は特許請求されうる範囲に対する制限として解釈されるべきではなく、むしろ本開示の特定の実施形態に特有の特徴の説明として解釈されるべきである。別個の実施形態の文脈において説明された特定の特徴はまた、組み合わせて実現されてもよい。反対に、単一の実施形態の文脈で説明された様々な特徴はまた、複数の実施形態において別個に実現されてもよいし、任意の適切なサブコンビネーション部分的組み合わせにおいて実現されてもよい。また、特徴は特定の組み合わせにおいて働くものとして上述されたが、特許請求された組み合わせからの1以上の特徴が、いくつかの場合には組み合わせから除かれてもよいし、特許請求された組み合わせが、サブコンビネーション又はサブコンビネーションの変形へと導かれてもよい。一実施形態において、部品、プロセスのステップ、及びデータ構造のうちの少なくとも1つは、様々な種類のオペレーティングシステム、計算プラットフォーム、コンピュータプログラム、及び汎用機のうちの少なくとも1つを用いて実現されてもよい。加えて、例えば配線回路デバイス、フィールドプログラマブルゲートアレイFPGA、アプリケーション固有集積回路ASIC等のより汎用性の低いデバイスが、本明細書に開示された発明概念の範囲及び精神を逸脱することなく用いられうることを、当業者は認識するだろう。実施形態及び応用例が示され及び説明されたが、本開示の利益を得る当業者には、本明細書の発明概念から逸脱することなく、上述されたよりも多くのさらなる変形が可能であることが明らかであろう。