"マスクを介して被露光材としての基板に露光光を照射して、基板ステージに保持された前記基板に前記マスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記基板を保持するアーム部を有し、前記基板が供給される供給位置から前記露光装置の前記基板ステージに前記基板を搬送する基板搬入装置と、前記露光装置と、前記基板搬入装置と、を制御する制御部と、を備える露光ユニットであって、前記供給位置に供給された前記基板の位置情報を検出するセンサを備え、前記制御部は、前記センサの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、前記ズレ量に基づいて、前記アーム部を前記供給位置から前記基板ステージに移動しながら、前記基板を前記基準位置にプリアライメントすることを特徴とする露光ユニット。前記基板搬入装置のアーム部を、X,Y,φ方向に変位させることによって、前記基板を前記基準位置にプリアライメントすることを特徴とする請求項1に記載の露光ユニット。前記基板搬入装置のアーム部を、φ方向に変位させ、さらに、前記基板ステージを、X,Y方向に変位させることによって、前記基板を前記基準位置にプリアライメントすることを特徴とする請求項1に記載の露光ユニット。前記基板搬入装置のアーム部を、X,Y,φ方向に変位させ、さらに、前記基板ステージは、X,Y方向に変位させることによって、前記基板を前記基準位置にプリアライメントすることを特徴とする請求項1に記載の露光ユニット。前記センサは、前記基板搬入装置、又は前記供給位置において前記基板を支持する基板支持部に設けられることを特徴とする請求項1~4の何れか1項に記載の露光ユニット。しかしながら、特許文献1によると、基板を精度よく基板ステージに搭載するため、露光装置の直前にプリアライメント装置を設置し、このプリアライメント装置でプリアライメントされた基板をロボットが受け取って基板ステージに受け渡していた。従って、プリアライメント装置やロボットの据え付け精度、組立精度が基板ステージへの基板搭載精度に影響を及ぼす問題があった。また、プリアライメントは、基板のマークを検出することで行われており、当該マークを予め基板に設ける必要がある。また、特許文献2には、基板のアライメントについて記載がされていない。さらに、特許文献3によると、レチクルステージ上においてレチクルのアライメントを行うように構成しているので、レチクルをレチクルステージに移動する過程ではアライメントを行うことができず、位置合わせに時間がかかることがあった。また、特許文献1と同様、プリアライメントは、レチクルのマークを検出することで行われているので、レチクルに予めマークを設ける必要がある。本発明は、前述した課題を鑑みてなされたものであり、その目的は、専用のプリアライメント装置を設けることなく、短時間で且つ精度良く基板を基板ステージに搭載して、タクトタイムを短縮することができる露光ユニットを提供することにある。本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。1マスクを介して被露光材としての基板に露光光を照射して、基板ステージに保持された前記基板に前記マスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記基板を保持するアーム部を有し、前記基板が供給される供給位置から前記露光装置の前記基板ステージに前記基板を搬送する基板搬入装置と、前記露光装置と、前記基板搬入装置と、を制御する制御部と、を備える露光ユニットであって、前記供給位置に供給された前記基板の位置情報を検出するセンサを備え、前記制御部は、前記センサの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、前記ズレ量に基づいて、前記アーム部を前記供給位置から前記基板ステージに移動しながら、前記基板を前記基準位置にプリアライメントすることを特徴とする露光ユニット。2前記基板搬入装置のアーム部を、X,Y,φ方向に変位させることによって、前記基板を前記基準位置にプリアライメントすることを特徴とする1に記載の露光ユニット。3前記基板搬入装置のアーム部を、φ方向に変位させ、さらに、前記基板ステージを、X,Y方向に変位させることによって、前記基板を前記基準位置にプリアライメントすることを特徴とする1に記載の露光ユニット。4前記基板搬入装置のアーム部を、X,Y,φ方向に変位させ、さらに、前記基板ステージは、X,Y方向に変位させることによって、前記基板を前記基準位置にプリアライメントすることを特徴とする1に記載の露光ユニット。5前記センサは、前記基板搬入装置、又は前記供給位置において前記基板を支持する基板支持部に設けられることを特徴とする1~4の何れか1つに記載の露光ユニット。本発明の露光ユニットによれば、供給位置に供給された基板の位置情報を検出するセンサを備え、制御部は、センサの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、当該ズレ量に基づいて、アーム部を供給位置から基板ステージに移動させながら、基板を基準位置にプリアライメントする。したがって、基板搬入装置の据え付け精度や、組立精度に影響されることなく、基板を精度よくプリアライメントすることができる。また、専用のプリアライメント装置を備える必要がなく、プリアライメント装置の処理時間分だけタクトタイムを短縮することができると共に、プリアライメント装置の設置費用を抑制することができる。また、アーム部を供給位置から基板ステージに移動する過程で、基板を基準位置にプリアライメントするので、さらにタクトタイムを短縮することが可能となる。以下、本発明に係る露光ユニットの一実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。図1に示すように、一実施形態の露光ユニット1は、コーター81、ホットプレート82、及びコールドプレート83を備えた処理ユニット84と、露光装置PEと、搬出装置としてのコンベア86と、処理ユニット84、露光装置PE、及びコンベア86間で基板Wの受け渡しを行うロボット87と、露光ユニット1の各部を制御する制御部88と、を有する。なお、処理ユニット84及びコンベア86は、公知のものが適用される。また、図2及び図3に示すように、露光装置PEは、マスクMを保持するマスクステージ10と、基板被露光材Wを保持する基板ステージ20図1も参照と、パターン露光用の光を照射する照明光学系70と、を備えている。なお、基板Wは、マスクMに対向配置されており、このマスクMに描かれたパターンを露光転写すべく表面マスクMの対向面側に感光剤が塗布されている。マスクステージ10は、中央部に矩形形状の開口11aが形成されるマスクステージベース11と、マスクステージベース11の開口11aにX軸,Y軸,θ方向に移動可能に装着されるマスク保持部であるマスク保持枠12と、マスクステージベース11の上面に設けられ、マスク保持枠12をX軸,Y軸,θ方向に移動させて、マスクMの位置を調整するマスク駆動機構16と、を備える。マスクステージベース11は、装置ベース50上に立設される支柱51、及び支柱51の上端部に設けられるZ軸移動装置52によりZ軸方向に移動可能に支持され図3参照。、基板ステージ20の上方に配置される。図4に示すように、マスクステージベース11の開口11aの周縁部の上面には、平面ベアリング13が複数箇所配置されており、マスク保持枠12は、その上端外周縁部に設けられるフランジ12aを平面ベアリング13に載置している。これにより、マスク保持枠12は、マスクステージベース11の開口11aに所定のすき間を介して挿入されるので、このすき間分だけX軸,Y軸,θ方向に移動可能となる。また、マスク保持枠12の下面には、マスクMを保持するチャック部14が間座15を介して固定されている。このチャック部14には、マスクMのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の吸引ノズル14aが開設されており、マスクMは、吸引ノズル14aを介して図示しない真空式吸着装置によりチャック部14に着脱自在に保持される。また、チャック部14は、マスク保持枠12と共にマスクステージベース11に対してX軸,Y軸,θ方向に移動可能である。マスク駆動機構16は、マスク保持枠12のX軸方向に沿う一辺に取り付けられる2台のY軸方向駆動装置16yと、マスク保持枠12のY軸方向に沿う一辺に取り付けられる1台のX軸方向駆動装置16xと、を備える。Y軸方向駆動装置16yは、マスクステージベース11上に設置され、Y軸方向に伸縮するロッド16bを有する駆動用アクチュエータ例えば、電動アクチュエータ等16aと、ロッド16bの先端にピン支持機構16cを介して連結されるスライダ16dと、マスク保持枠12のX軸方向に沿う辺部に取り付けられ、スライダ16dを移動可能に取り付ける案内レール16eと、を備える。なお、X軸方向駆動装置16xも、Y軸方向駆動装置16yと同様の構成を有する。そして、マスク駆動機構16では、1台のX軸方向駆動装置16xを駆動させることによりマスク保持枠12をX軸方向に移動させ、2台のY軸方向駆動装置16yを同等に駆動させることによりマスク保持枠12をY軸方向に移動させる。また、2台のY軸方向駆動装置16yのどちらか一方を駆動することによりマスク保持枠12をθ方向に移動Z軸回りの回転させる。さらに、マスクステージベース11の上面には、図2に示すように、マスクMと基板Wとの対向面間のギャップを測定するギャップセンサ17と、チャック部14に保持されるマスクMの取り付け位置を確認するためのアライメントカメラ18と、が設けられる。これらギャップセンサ17及びアライメントカメラ18は、移動機構19を介してX軸,Y軸方向に移動可能に保持され、マスク保持枠12内に配置される。また、マスク保持枠12上には、図2に示すように、マスクステージベース11の開口11aのX軸方向の両端部に、マスクMの両端部を必要に応じて遮蔽するアパーチャブレード38が設けられる。このアパーチャブレード38は、モータ、ボールねじ、及びリニアガイド等からなるアパーチャブレード駆動機構39によりX軸方向に移動可能とされて、マスクMの両端部の遮蔽面積を調整する。なお、アパーチャブレード38は、開口11aのX軸方向の両端部だけでなく、開口11aのY軸方向の両端部に同様に設けられている。基板ステージ20は、図2及び図3に示すように、基板Wを保持する基板保持部21と、基板保持部21を装置ベース50に対してX軸,Y軸,Z軸方向に移動する基板駆動機構22と、を備える。基板保持部21は、図示しない真空吸着機構によって基板Wを着脱自在に保持する。基板駆動機構22は、基板保持部21の下方に、Y軸テーブル23、Y軸送り機構24、X軸テーブル25、X軸送り機構26、及びZ-チルト調整機構27と、を備える。Y軸送り機構24は、図3に示すように、リニアガイド28と送り駆動機構29とを備えて構成され、Y軸テーブル23の裏面に取り付けられたスライダ30が、装置ベース50上に延びる2本の案内レール31に転動体図示せずを介して跨架されると共に、モータ32とボールねじ装置33とによってY軸テーブル23を案内レール31に沿って駆動する。なお、X軸送り機構26もY軸送り機構24と同様の構成を有し、X軸テーブル25をY軸テーブル23に対してX方向に駆動する。また、Z-チルト調整機構27は、くさび状の移動体34,35と送り駆動機構36とを組み合わせてなる可動くさび機構をX方向の一端側に1台、他端側に2台配置することで構成される。なお、送り駆動機構29,36は、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよく、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよい。また、Zチルト調整機構27の設置数は任意である。これにより、基板駆動機構22は、基板保持部21をX方向及びY方向に送り駆動するとともに、マスクMと基板Wとの対向面間のギャップを微調整するように、基板保持部21をZ軸方向に微動且つチルト調整する。基板保持部21のX方向側部とY方向側部にはそれぞれバーミラー61,62が取り付けられ、また、装置ベース50のY方向端部とX方向端部には、計3台のレーザー干渉計63,64,65が設けられている。これにより、レーザー干渉計63,64,65からレーザー光をバーミラー61,62に照射し、バーミラー61、62により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー61,62により反射されたレーザー光との干渉を測定して基板ステージ20の位置を検出する。図3に示すように、照明光学系70は、複数の光源部を備えた光照射装置80と、光照射装置80から射出された光束が入射されるインテグレータレンズ74と、光照射装置80の光源部の点灯と消灯の切り替えを含む電圧制御可能な光学制御部76と、インテグレータレンズ74の出射面から出射された光路の向きを変える凹面鏡77と、光照射装置80とインテグレータレンズ74との間に配置されて照射された光を透過遮断するように開閉制御する露光制御用シャッター78と、を備える。図1に戻り、ロボット87は、コラム91に沿って上下移動すると共に、それぞれ不図示のサーボモータが配設されて互いに独立して駆動される第1及び第2アーム92,93と、第1アーム92の先端に複数のハンドフォーク94が平行して植設されたロボットハンド95と、から構成されるアーム部90を有する。そして、それぞれのサーボモータを制御部88で制御して作動させることにより、アーム部90のロボットハンド95を昇降、回転、及び移動させて、ロボットハンド95上に保持された基板Wを搬送する。具体的には、図5に示すように、ロボット87は、まず、供給位置としての処理ユニット84に供給された基板Wをロボットハンド95上に保持する。ここで、基板Wの供給位置において基板Wを支持する処理ユニット84の基板支持部不図示には、基板Wの位置情報を検出する3つのセンサ100a,100b,100cが配置されている。センサ100a,100bは、一直線上に配置され、センサ100cは、センサ100a,100bを結ぶ直線に対して直交する線上に配置されている。センサ100a,100b,100cは、例えば、レーザセンサ、光学式センサ、CCDカメラなど、基板Wの縁を検出可能なものであれば、任意のセンサが使用可能である。また、センサ100a,100bは、ロボットハンド95上に保持されて搬送される基板Wの一辺96の位置を検出し、センサ100cは、基板Wの一辺96と直交する他の一辺97の位置を検出することによって、基板Wの全体としての位置情報を検出する。そして、制御部88は、この検出結果と、予め制御部88の記憶部図示せずに記憶されている基板ステージ20上の所定の基準位置と、のズレ量を算出する。さらに、制御部88は、図6に示すように、当該ズレ量に基づいて、ロボット87のサーボモータを制御してアーム部90を処理ユニット84から基板ステージ20に移動させながら、より具体的には、アーム部90をX,Y,φ方向に変位させながら、ロボットハンド95上に載置された基板Wを、基板ステージ20上の所定の基準位置にプリアライメントする。そして、ロボット87は、上記基準位置においてマスクパターンが露光転写された基板Wを、露光装置PEからコンベア86へ搬送する。なお、ロボット87は、処理ユニット84から供給される基板Wを露光装置PEへ搬送する、少なくとも基板搬入装置としての機能を有するものであればよく、露光装置PEからコンベア86に搬送するロボットを、別途設けても良い。以上、説明したように、本実施形態の露光ユニット1によれば、供給位置としての処理ユニット84に供給された基板Wの位置情報を検出するセンサ100a,100b,100cを備え、制御部88は、センサ100a,100b,100cの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、当該ズレ量に基づいて、アーム部90を処理ユニット84から基板ステージ20に移動させながら、基板Wを基準位置にプリアライメントする。したがって、ロボット87の据え付け精度や、組立精度に影響されることなく、基板Wを精度よくプリアライメントすることができる。また、専用のプリアライメント装置を備える必要がなく、プリアライメント装置の処理時間分だけタクトタイムを短縮することができると共に、プリアライメント装置の設置費用を抑制することができる。また、アーム部90を処理ユニット84から基板ステージ20に移動する過程で、基板Wを基準位置にプリアライメントするので、さらにタクトタイムを短縮することが可能となる。なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものでなく、適宜、変更、改良等が可能である。例えば、図7に示すように、ロボット87のアーム部90に第2アーム93を設けず第1アーム92のみを設け、ロボット87のアーム部90をφ方向に変位させ、さらに、基板ステージ20を基板駆動機構22図2、3参照によってX,Y方向に変位させることによって、基板Wを基準位置にプリアライメントするように構成してもよい。また、図8に示すように、ロボット87のアーム部90をX,Y,φ方向に変位させ、さらに、基板ステージ20を基板駆動機構22によってX,Y方向に変位させることによって、基板Wを基準位置にプリアライメントするように構成してもよい。なお、ロボット87のアーム部90をX,Y方向に変位させ、さらに、基板ステージ20を基板駆動機構22によってφ方向に変位させることによって、基板Wを基準位置にプリアライメントするように構成してもよいが不図示、φ方向の変位は、ロボット87のアーム部90によって行う方が、プリアライメント精度が向上するので好ましい。また、上記実施形態においては、処理ユニット84に供給された基板Wの位置情報を検出するセンサ100a,100b,100cが処理ユニット84の基板支持部に設けられるとしたが、必ずしもこの構成に限定されず、センサをロボット87の任意の位置に設ける構成としてもよい。また、基板Wを所定の基準位置にプリアライメントする際、ギャップセンサ17やアライメントカメラ18、レーザー干渉計63,64,65図2参照。によって基板Wの位置情報を検出して、当該位置情報を制御部88にフィードバックするようにしてもよい。この場合、制御部88は、基板Wの位置情報と所定の基準位置とのズレ量をより正確に算出することができるので、基板Wをより精度よくプリアライメントすることが可能となる。また、これらギャップセンサ17、アライメントカメラ18、レーザー干渉計63,64,65とは別に、基板ステージ20やマスクステージ10に、基板Wの位置情報を検出する変位センサを配設することによって、当該位置情報を制御部88にフィードバックするようにしてもよい。なお、変位センサとしては、渦電流式、光学式、超音波式、接触式等が採用される。"