"第1の電極の表面を部分的に表面改質する表面改質工程と、電気機械変換膜を形成するための原料を含む塗布液を、前記第1の電極上の所定部分に選択的に塗布する塗布工程と、前記第1の電極上に塗布した塗布液の膜を乾燥させる乾燥工程と、前記乾燥させた塗布液の膜を熱分解して結晶化させる結晶化工程とを含み、少なくとも前記表面改質工程と前記塗布工程と前記乾燥工程とについては、その順番で複数回繰り返す電気機械変換膜の製造方法であって、前記表面改質工程の1回目は、前記第1の電極上にシランカップリング剤の膜を形成した後、前記シランカップリング剤の膜を部分的に除去する工程であることを特徴とする電気機械変換膜の製造方法。請求項1の電気機械変換膜の製造方法において、前記電気機械変換膜は金属酸化物を含み、前記第1の電極は貴金属を含み、前記表面改質工程2回目以降は、前記第1の電極上にチオール化合物の膜を形成した後、前記チオール化合物の膜を部分的に除去する工程であることを特徴とする電気機械変換膜の製造方法。請求項1又は2の電気機械変換膜の製造方法において、前記シランカップリング剤の膜の部分的な除去を、マスクを介した紫外線照射又はフォトリソグラフィエッチングにより行うことを特徴とする電気機械変換膜の製造方法。請求項1乃至3のいずれかの電気機械変換膜の製造方法において、前記シランカップリング剤は、加水分解性基と、アルキル基又はフッ素含有官能基とを有することを特徴とする電気機械変換膜の製造方法。請求項1乃至4のいずれかの電気機械変換膜の製造方法において、前記表面改質工程の1回目における前記シランカップリング剤の膜の形成前に、前記第1の電極の表面に対して酸素プラズマ処理を行う前処理工程を含むことを特徴とする電気機械変換膜の製造方法。基板上に第1の電極を形成し、請求項1乃至5のいずれかの電気機械変換膜の製造方法で前記第1の電極上に電気機械変換膜を形成し、該電気機械変換膜上に第2の電極を形成することを特徴とする電気機械変換素子の製造方法。請求項6の電気機械変換素子の製造方法により基板上に第1の電極と電気機械変換膜と第2の電極とを形成したことを特徴とする電気機械変換素子。請求項7の電気機械変換素子を備えたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。請求項8の液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。請求項8の液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴とする画像形成装置。しかしながら、上記引用文献3に記載されているようなチオール化合物を用いた表面改質を行う場合、次に示すように高コストになる場合がある。すなわち、上記チオール化合物は第1の電極下部電極として用いられる貴金属例えば白金との化学的な反応性に優れているので、その貴金属からなる第1の電極の表面に化学吸着し、しかも、その化学吸着したチオール化合物は比較的安定性が高く、紫外光に対しても耐性を有する。そのため、電気機械変換膜が形成されていない第1の電極の表面を部分的に改質する1回目の表面改質の工程において、第1の電極上に形成されたチオール化合物の膜を部分的に除去する際、紫外線照射を利用した比較的安価な装置や方法を用いることができず、チオール化合物の膜を確実に除去するために高コストの方法や装置を用いる必要がある。例えば、第1の電極が白金からなる電極である場合、その白金の電極上に化学吸着したチオール化合物の膜を部分的に除去するために、フォトリソグラフィーによりレジストパターンの形成と、レジストパターンを介したチオール化合物の膜及び白金電極の表面部分のエッチングと、レジストアッシングとが必要になり、高コストの原因となる。また、第1の電極が導電性酸化物からなる電極である場合、その導電性の酸化物にチオール化合物が吸着しないため、導電性酸化物の電極とチオール化合物との間に白金の膜を仲介させることが考えられる。この場合、チオール化合物の膜を部分的に除去する際に、その下地側の白金の膜も部分的に除去して導電性酸化物の電極の表面を露出させる必要がある。そのため、やはり、フォトリソグラフィーによりレジストパターンの形成と、レジストパターンを介したチオール化合物の膜及び白金電極の表面部分のエッチングと、レジストアッシングとが必要になり、高コストの原因となる。本発明は以上の問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、製造コストの低減を図りつつ所望のパターン及び膜厚の電気機械変換膜を簡易に形成することができる電気機械変換膜の製造方法、電気機械変換素子の製造方法、該製造方法により製造した電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び画像形成装置を提供することである。上記目的を達成するために、請求項1の発明は、第1の電極の表面を部分的に表面改質する表面改質工程と、電気機械変換膜を形成するための原料を含む塗布液を、前記第1の電極上の所定部分に選択的に塗布する塗布工程と、前記第1の電極上に塗布した塗布液の膜を乾燥させる乾燥工程と、前記乾燥させた塗布液の膜を熱分解して結晶化させる結晶化工程とを有し、少なくとも前記表面改質工程と前記塗布工程と前記乾燥工程とを、その順番で複数回繰り返す電気機械変換膜の製造方法であって、前記表面改質工程の1回目は、前記第1の電極上にシランカップリング剤の膜を形成した後、前記シランカップリング剤の膜を部分的に除去する工程であることを特徴とするものである。本発明では、第1の電極の表面を部分的に表面改質する表面改質工程と、電気機械変換膜を形成するための原料を含む塗布液を、第1の電極上の所定部分に選択的に塗布する塗布工程と、第1の電極上に塗布した塗布液の膜を乾燥させる乾燥工程と、乾燥させた塗布液の膜を熱分解して結晶化させる結晶化工程とを有する。これら4工程のうち少なくとも表面改質工程と塗布工程と乾燥工程とについては、その順番で複数回繰り返すことにより、所定のパターン及び膜厚の電気機械変換膜を形成することができる。更に、複数回繰り返す表面改質工程の1回目が、第1の電極上にシランカップリング剤の膜を形成した後、そのシランカップリング剤の膜を部分的に除去する工程である。このシランカップリング剤の膜は、第1の電極の材質が有機物及び無機物のいずれであっても第1の電極に吸着することができるとともに、紫外線の照射によって部分的に除去することができる。従って、シランカップリング剤の膜を残したい部分については、第1の電極との吸着性及び塗布液に対する疎水性撥水性を維持し、塗布液が確実に塗布されないようにすることができる。一方、シランカップリング剤の膜を除去したい部分については、紫外線照射を利用した比較的安価な装置や方法を用いて容易に除去し、塗布液に対する親水性を持たせ、塗布液が確実に塗布されるようにすることができる。よって、本発明によれば、製造コストの低減を図りつつ所望のパターン及び膜厚の電気機械変換膜を簡易に形成することができるという効果を奏する。以下、本発明の実施形態について説明する。なお、本実施形態では、圧電定数d31の変形を利用した横振動ベンドモード型の圧電材料からなる電気機械変換膜を有する電気機械変換素子を例として説明するが、本発明は、この型の電気機械変換膜に限定されることなく適用可能である。電気機械変換膜がPZT膜の場合、酢酸鉛三水和物、イソプロポキシドチタン、ノルマルブトキシドジルコニウムを出発材料として合成したPZT前駆体溶液を用いることができる。酢酸鉛の結晶水はメトキシエタノールに溶解した後、脱水する。化学量論的組成に対し鉛量を10モル過剰にしてある。これは熱処理中のいわゆる鉛抜けによる結晶性低下を防ぐためである。イソプロポキシドチタン、ノルマルブトキシドジルコニウムをメトキシエタノールに溶解し、アルコール交換反応、エステル化反応を進め、上記酢酸鉛を溶解したメトキシエタノール溶液と均一に混合することによりPZT前駆体溶液を合成することができる。このPZT前駆体溶液のPZT濃度は例えば0.1モル/リットルにする。また、電気機械変換膜がPZT膜の場合のPZT前駆体溶液は、非特許文献1に記載されている、酢酸鉛、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキシド化合物を出発材料にし、共通溶媒としてメトキシエタノールに溶解させ、均一溶液として得るようにしてもよい。なお、上記PZT前駆体溶液はゾルゲル液とも呼ばれる。PZTとは、ジルコン酸鉛PbZrO3とチタン酸鉛PbTiO3の固溶体で、その比率により特性が異なる。一般的に優れた圧電特性を示す組成はPbZrO3とPbTiO3の比率が53:47の割合で、化学式で示すとPbZr0.53,Ti0.47O3、一般にPZT53/47と示される。酢酸鉛、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキシド化合物の出発材料は、この化学式に従って秤量される。金属アルコキシド化合物は大気中の水分により容易に加水分解してしまうので、前駆体溶液に安定剤としてアセチルアセトン、酢酸、ジエタノールアミンなどの安定化剤を適量、添加してもよい。PZT以外の複合酸化物としてはチタン酸バリウムなどが挙げられ、この場合はバリウムアルコキシド、チタンアルコキシド化合物を出発材料にし、共通溶媒に溶解させることでチタン酸バリウム前駆体溶液を作製することも可能である。これら材料は一般式ABO3で記述され、A=Pb、Ba、Sr、B=Ti、Zr、Sn、Ni、Zn、Mg、Nbを主成分とする複合酸化物が該当する。その具体的な記述としてPb1-x,BaZr,TiO3、Pb1-x,SrZr,TiO3、が挙げられる。これらはAサイトのPbを一部BaやSrで置換した場合である。このような置換は2価の元素であれば可能であり、その効果は熱処理中の鉛の蒸発による特性劣化を低減させる作用を示す。また、下地となる基板上の第1の電極の表面に電気機械変換膜としてのパターン化したPZT膜を得る場合、上記溶液を塗布液としてスピンコートなどの溶液塗布方式や液滴吐出方式などで塗布することにより塗膜を形成し、溶媒乾燥、熱分解、結晶化の各々の熱処理を施すことでパターン化したPZT膜が得られる。塗膜から結晶化膜への変態には体積収縮が伴うので、クラックフリーな膜を得るには一度の工程で100[nm]以下の膜厚が得られるように前駆体濃度を調整する必要がある。また、前駆体濃度は、電気機械変換膜の成膜面積とPZT前駆体溶液の塗布量との関係から適正化するように調整するのが好ましい。また、液滴吐出装置の電気機械変換素子として用いる場合、このPZT膜の膜厚は1[μm]~2[μm]が要求される。この膜厚を得るには十数回、工程を繰り返すことになる。更に、ゾルゲル法によるパターン化した電気機械変換層の形成の場合には、下地となる基板の電極表面の濡れ性を制御したPZT前駆体溶液の塗り分けをする。下地基板の電極表面の濡れ性を制御する方法としては、自己組織化単分子膜SAM:Selfassembledmonolayer膜}を利用する方法がある。この方法は、例えば非特許文献2に示されているアルカンチオールなどの材料が特定金属などの上に自己配列する現象を利用したものである。SAM膜の代表的な材料として、アルカンチオールなどのチオール化合物と、シランカップリング剤とがある。これらのチオール化合物及びシランカップリング剤はそれぞれ以下に示すような特徴を持っており、用途によって使い分ける必要性がある。<チオール化合物>チオール基が貴金属と反応し化学吸着する。吸着したものは、比較的安定性が高い。耐UV性紫外光に対する耐性がある。吸湿による劣化現象がある。膜厚はサブミクロンオーダーである。<シランカップリング剤>反応性官能基と加水分解性基を有しており、有機物と無機物の両者に吸着することが可能。加水分解性基側にクロロシラン基、アルキシシラン基等の反応基を有するシランカップリング剤は、無機物表面上のヒドロキシ基との反応により吸着する。加水分解性基で無機物吸着し、反応性官能基がアルキル基またはフッ素含有している場合は、撥水性を示す。例えば、加水分解性基がトリクロロシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシランであり、反応性官能基が、オクチル、オクタデシル、フルオロ系の各組み合わせのシランカップリング剤は、無機物吸着し、撥水性を示す。特に、フェニルトリクロロシランやオクタデシルトリメトキシシラン等の感紫外線シランカップリング剤は、基板表面に成膜された場合は撥水性を示すが、紫外線照射により置換基またはC-C結合、C-H結合が分解し、基板表面にシラノール基が形成され、基板表面が親水化する。本実施形態では、チオール化合物が貴金属のみに吸着することとシランカップリング剤がUV分解紫外線で分解することの特徴を用いて下地基板の電極表面の濡れ性を制御し、塗布液としてのPZT前駆体溶液に対する疎水領域撥水領域及び親水領域部のパターニングを行っている。第1の電極である下部電極として用いられる材料は、耐熱性かつヒドロキシル基の吸着性を有し、アルカンチオールとの反応によりチオール化合物の単分子膜以下、チオール膜という。を形成する金属が選ばれる。銅や銀は、その表面にチオール膜を形成することができるが、大気下での500[°C]以上の熱処理により、それらの金属は変質してしまうので、用いることはできない。金は、耐熱性及びヒドロキシル基の吸着性の両条件を満たすものの、積層するPZT膜の結晶化に不利に働くので使えない。本実施形態の下部電極第1の電極として用いる材料としては、白金、ロジウム、ルテニウム、イリジウムの単金属や白金-ロジウムなどの白金を主成分とした他の白金族元素との合金材料が有効である。以下、これらの単金属及び合金材料を白金族金属という。基板上の白金族金属の表面にチオール膜を形成した場合、SAM膜上はアルキル基が配置しているので、疎水性になる。このSAM膜は、例えば周知のフォトリソグラフィエッチングにより、フォトレジストを用いてパターニングすることができる。レジスト剥離後も、パターン化SAM膜は残っているので、この部位は疎水性になっている。一方、SAM膜が除去された部位は白金表面が露出しているため、親水性になっている。この表面エネルギーのコントラストを利用してPZT前駆体溶液の塗り分けをすることができる。本実施形態では、上記SAM膜を、PZT前駆体溶液を塗布しない領域に選択的に形成した後、スピンコートなどの溶液塗布方式でPZT前駆体溶液を選択的に塗布したり、PZT前駆体溶液の消費量を低減することができる液滴吐出方式による塗工インクジェット塗工でPZT前駆体溶液を選択的に塗布したりしている。シリコン基板上に配置する振動板は厚さ数ミクロンでシリコン酸化膜や窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、およびこれら各膜を積層した膜でもよい。また、熱膨張差を考慮した酸化アルミニウム膜、ジルコニア膜などのセラミック膜でもよい。これら材料は絶縁体である。また、下部電極は電気機械変換素子に信号を入力する際の共通電極として電気的接続をするので、その下に位置する振動板としては、絶縁体を用いるか、若しくは導体であれば絶縁処理を施して用いることになる。この振動板をシリコン系絶縁膜で形成する場合は熱酸化膜やCVD堆積膜を用いることができる。また、振動板を金属酸化膜で形成する場合はスパッタリング法で成膜することができる。上記振動板の上に白金族金属からなる下部電極を配置する場合は、電気機械変換膜の密着力を強めるために、下部電極と電気機械変換膜との間に密着層を設けるのが好ましい。この密着層の材料としては、チタン、タンタル、酸化チタン、酸化タンタル、窒化チタン、窒化タンタルやこれら積層膜が有効である。これに対し、上記振動板の上に導電性酸化物膜からなる下部電極を配置する場合は、振動板が同じ酸化物シリコン酸化物であるため、上記密着層を設けなくても電気機械変換膜の十分な密着力が得られる。図1A~Dは、本発明の一実施形態に係る電気機械変換膜の形成を伴う電気機械変換素子の製造方法における1回目の表面改質工程の一例を示す説明図である。まず、図1Aに示すシリコンウェハからなる基板11の表面に熱酸化膜膜厚:1[μm]を形成し、密着層としてチタン膜膜厚:50[nm]をスパッタで成膜する。引き続き、下部電極として白金族金属からなる白金膜膜厚:200[nm]をスパッタで成膜する。ここで、上記白金膜に対して疎水処理撥水処理を実施するために、シランカップリング剤としてフェニルトリクロロシランを用いた濃度が0.01[モル/リットル]の溶液溶媒:エタノールを作成して用意しておく。以下、このシランカップリング剤からなる溶液をSAM溶液といい、シランカップリング剤による疎水処理撥水処理をシランカップリング剤処理という。次に、下部電極としての白金膜に対してSAM溶液を用いたシランカップリング剤処理に先立つ前処理として、酸素プラズマ処理を行う。この酸素プラズマ処理は、PEモード化学的処理の場合は、高周波出力電力RFPowerを200[W]以上に設定し、且つ5分以上の処理時間を必要とする。これは、白金が化学的に安定な物質のため、十分なエネルギーを与える必要があるためである。図2a、b及びcはそれぞれ、上記酸素プラズマ処理を1分、3分及び5分ずつ行った後の白金Ptの表面をX線光電子分光分析法XPS:XrayPhotoelectronSpectroscopyで分析したXPS分析結果を示すグラフである。図中の横軸は照射X線のエネルギーと光電子のエネルギーから算出した測定対象原子白金の内殻電子の束縛エネルギー[eV]であり、縦軸は単位時間1秒あたりに観測された光電子の個数[countssec]である。図2a及びbに示すように酸素プラズマ処理の時間が1分及び3分の場合は、白金の酸化物PtOx等に対応するエネルギー範囲における測定カウント値の上昇が小さく、白金はほとんど酸化されていないことがわかる。これに対し、図2cに示すように酸素プラズマ処理の時間が5分の場合は、白金の酸化物PtOx等に対応するエネルギー範囲における測定カウント値が大きく上昇し、白金が酸化されていることがわかる。なお、シランカップリング剤処理の前処理として酸素プラズマ処理を用いたが、表面処理用の装置例えば、大気圧プラズマ装置、UVオゾン装置等を用いた処理でも同様の結果になる。以上の前処理を済ませた後、シランカップリング剤処理を行う。より具体的には、例えば基板11をSAM溶液に5分間浸漬させ、その後、基板11をエタノールで洗浄して乾燥させる。このシランカップリング剤処理後の疎水性撥水性は、純水の接触角の測定で評価することができる。シランカッブリング剤の単分子膜以下シランカップリング剤皮膜という。12上での純水の接触角を測定したところ105°であり、疎水性撥水性を示した。一方、シランカップリング剤処理を行う前の白金スパッタ膜上での純水の接触角を測定したところ5°以下完全濡れであった。以上のように、SAM溶液への浸漬により、白金スパッタ膜上の親水性を疎水性撥水性に改質するシランカップリング剤処理がなされたことがわかった。次に、上記シランカップリング剤処理によってシランカップリング剤皮膜12を形成した基板11図1B参照に対して、疎水領域撥水領域及び親水領域のパターニングを実施する。なお、図1の例は、メタルマスク13を介した紫外線照射によりシランカップリング剤皮膜12を部分的に除去する例である図1C参照。メタルマスク13を介して紫外線を照射することにより、図1Dに示すように、未露光部にはシランカップリング剤皮膜12が残り、露光部ではシランカップリング剤皮膜12が消失する。この露光では、紫外線が例えば5秒以上の照射時間だけ照射される。紫外線の露光によってシランカップリング剤皮膜12が除去された領域に対する純水の接触角を測定したところ、5°以下となり親水領域完全濡れになっていた。このように親水領域になったのは、シランカップリング剤皮膜12が分解され、基板11上の白金膜の表面上から消失したことを意味する。以上のシランカップリング剤皮膜12のパターニングにより基板11上に疎水領域撥水領域及び親水領域のパターニングを実施することができる。図3A’~D’は、本実施形態に係る電気機械変換膜の形成を伴う電気機械変換素子の製造方法における1回目の表面改質工程の他の例を示す説明図である。図3の例は、疎水領域撥水領域及び親水領域のパターニングにフォトリソグラフィエッチングを用いた例である。この例では、図1の場合と同様な前処理及びシランカップリング剤処理を行い図3A’及びB’参照。その後、フォトレジスト例えば、東京応化社製フォトレジスト,TSMR8800をスピンコート法で成膜し、通常のフォトリソグラフィーでレジストパターン14を形成し図3C’参照、酸素プラズマ処理を行って露出部のシランカップリング剤皮膜12を部分的に除去する。シランカップリング剤皮膜12のパターニング処理後に残った残渣レジストは例えばアセトンにて溶解除去する図3D’参照。なお、図3の表面改質工程を行った場合について前述と同様な水の接触角の評価を行ったところ、シランカップリング剤皮膜12が除去された親水領域の表面では5°以下完全濡れであった。一方、レジストでカバーされていた領域すなわちシランカップリング剤皮膜12が残っている疎水領域の表面では92.4°であった。以上のように、シランカップリング剤皮膜12のパターン化がなされたことが確認された。図4D~F及びD’~F’は、本実施形態に係る電気機械変換膜の形成を伴う電気機械変換素子の製造方法における1回目の表面改質工程が終了した後の工程の一例を示す説明図である。図4Dに示すシランカップリング剤を用いた1回目の表面改質工程が終了した後、撥水親水領域のパターニングをされた基板に対して、電気機械変換膜を形成する。本実施形態では、電気機械変換膜としてPZT53/47の膜を成膜する。電気機械変換膜の形成に用いる塗布液としてのPZT前駆体溶液は、例えば、出発材料に酢酸鉛三水和物、イソプロポキシドチタン、イソプロポキシドジルコニウムを用いて合成する。酢酸鉛の結晶水はメトキシエタノールに溶解後、脱水した。なお、酢酸鉛は化学量論的組成に対し鉛量を10[モル]過剰にしてある。これは熱処理中のいわゆる鉛抜けによる結晶性低下を防ぐためである。イソプロポキシドチタン及びイソプロポキシドジルコニウムをメトキシエタノールに溶解し、アルコール交換反応、エステル化反応を進め、上記酢酸鉛を溶解したメトキシエタノール溶液と混合することでPZT前駆体溶液を合成する。このPZT前駆体溶液におけるPZT前駆体の濃度は例えば0.1[モル/リットル]にする。ここで、上記PZT前駆体溶液の1回の塗布による成膜で得られる膜厚は例えば100[nm]が好ましく、PZT前駆体の濃度は成膜面積とPZT前駆体溶液の塗布量との関係から適正化される。従って、PZT前駆体溶液におけるPZT前駆体の濃度は上記例示した0.1[モル/リットル]に限定されるものではない。上記PZT前駆体溶液15は、上記シランカップリング剤処理によって疎水領域及び親水領域のパターニングが行われた基板11上の白金膜の表面図4D参照に、例えばスピンコート法で塗布される。ここで、疎水領域のシランカップリング剤被膜12の上ではスピン時の遠心力作用によりPZT前駆体溶液15の塗膜は形成されず、親水領域にのみにPZT前駆体溶液15の塗膜が形成される図4E参照。次に、第1の加熱工程乾燥工程として所定の乾燥温度例えば120[°C]で熱処理し、その後、第2の加熱工程熱分解工程として有機物を熱分解する所定の熱分解温度例えば500[°C]で熱処理を行う。これにより、図4Fに示すように所定膜厚例えば90[nm]の電気機械変換膜としてのPZT膜16を得ることができる。このとき、シランカップリング剤皮膜12が形成されて疎水領域であった面での水の接触角は5°以下であった。これは、上記第2の加熱工程熱分解工程における熱分解温度例えば500[°C]での熱処理によって、シランカップリング剤皮膜12が分解されたことを意味する。また、図5に示すように、この第2の加熱工程熱分解工程における熱処理により、前述の前処理酸素プラズマ処理で酸化されていた酸化白金が還元されて白金になっていることが、XPS分析より得られた。なお、前述の前処理で行った酸素プラズマ処理の効果は、主に四つの制御因子:1処理時間、2高周波出力電力RFPower、3電極間距離、4酸素流量によって変化する。図6は、制御因子として一番取り扱いやすい処理時間の条件1分、3分、5分を変えて酸素プラズマ処理の効果を調べた結果を示すグラフである。図6の中の記号■のデータに対応する左側の縦軸は、XPS分析結果から得られた酸素プラズマ処理後の酸化白金の比率[atm]である。また、記号●のデータに対応する右側の縦軸は、酸素プラズマ処理後にシランカップリング剤処理を加え、シランカップリング剤皮膜上で測定した純水の接触角である。この図6の結果から、酸素プラズマ処理の時間が長くなるほど、酸化白金の比率が高くなり、シランカップリング剤皮膜上での純水の接触角が大きくなること、すなわちシランカップリング剤皮膜上での疎水性が高まることがわかる。図4D’~F’に示す2回目以降の表面改質工程~PZT膜形成工程では、疎水領域及び親水領域のパターニングを行う表面改質工程にチオール化合物を用いた撥水処理を実施する。このチオール化合物を用いた撥水処理以下チオール処理という。とPZT膜形成との繰返しの工程は、以下の1~3の工程にように簡便化できる。1チオール化合物を用いたチオール膜は酸化物薄膜上には形成できない。従って、図4D’に示すように、1回目の表面改質工程~PZT膜形成工程でPZT膜16が形成されていない表面、すなわち白金膜が露出している表面のみにチオール膜17が形成される。22回目以降のPZT前駆体溶液15の塗布工程では、図4E’に示すように、チオール膜17がない親水性のPZT膜16の表面のみにPZT前駆体溶液15が塗布され、チオール膜17が形成された疎水性の白金膜の露出表面にはPZT前駆体溶液15が塗布されない。このPZT前駆体溶液15の塗り分け塗工を行った後、前述の熱処理乾燥及び熱分解を施すことにより、図4F’に示すように、膜厚が厚くなったPZT膜18が形成される。3図4D’~F’に示す上記2回目以降の表面改質工程~PZT膜形成工程を、所望の膜厚になるまで繰り返す。以上の1~3の工程により、膜厚が5[μm]程度のPZT膜まで形成することができる。上記2回目以降の表面改質工程~PZT膜形成工程のより具体的な実施例では、以下に示すようにPZT膜を形成することができた。まず、前述の1回目以降の表面改質工程~PZT膜形成工程が終了した基板11の表面をイソプロピルアルコールで洗浄した後、チオール化合物を用いたSAM溶液に基板11を浸漬する浸漬処理により、チオール膜SAM膜を形成した。ここで、PZT膜16上の純水の接触角は92.0°程度であるためチオール膜が形成されない。一方、PZT膜16のない白金膜が露出している表面部分では、純水の接触角が5°以下完全濡れであり、チオール膜が形成されるこのようにパターニングされたチオール膜が形成される。そして、このチオール膜のパターニングの後、PZT前駆体溶液15をスピンコート法で塗布することにより、PZT膜16のある表面部分のみに次のPZT前駆体溶液15の塗膜が形成された。この後、前述の熱処理120[°C]の乾燥及び500[°C]の熱分解を行うことにより、2度の重ね塗りがなされたPZT膜18を形成できた。この2度塗りのPZT膜18の膜厚は180[nm]であった。上記2回目以降の表面改質工程~PZT膜形成工程チオール処理→PZT前駆体溶液15の選択塗布→120[°C]乾燥→500[°C]熱分解を6回繰り返し、540[nm]のPZT膜を得たのち、結晶化熱処理温度700[°C]をRTA急速熱処理にて行った。その結果、PZT膜にクラックなどの不良は生じなかった。さらに上記2回目以降の表面改質工程~PZT膜形成工程チオール処理→PZT前駆体溶液15の選択塗布→120[°C]乾燥→500[°C]熱分解を6回繰り返し行い、結晶化熱処理温度700[°C]を行った。その結果、PZT膜にクラックなどの不良は生じることなく、PZT膜の膜厚は1000[nm]に達した。上記膜厚が1000[nm]のパターン化したPZT膜に上部電極白金を成膜し、電気特性、電気-機械変換能圧電定数の評価を行った。その結果、図7のP分極-E電界強度のヒステリシス曲線が得られ、PZT膜の比誘電率は1220、誘電損失は0.02、残留分極は19.3[μC/cm2]、抗電界は36.5[kV/cm]であり、通常のセラミック焼結体と同等の特性を持つことがわかった。また、電気-機械変換能は電界印加による変形量をレーザードップラー振動計で計測し、シミュレーションによる合わせ込みから算出した。その圧電定数d31は-120[pm/V]となり、こちらもセラミック焼結体と同等の値であった。この値は液体吐出ヘッドに用いる圧電素子として十分設計できうる特性値である。一方、上記白金からなる上部電極第2に電極を配置せずに、PZT膜の更なる厚膜化を試みた。すなわち、表面改質工程、塗布工程、乾燥工程温度120[°C]及び熱分解工程温度500[°C]の6回繰り返しとその後の結晶化処理とを、10回繰り返した。その結果、合計膜厚が5[μm]のパターン化したPZT膜を、クラックなどの欠陥を伴わずに得ることができた。なお、上記上記2回目以降の表面改質工程~PZT膜形成工程の6回の繰り返しの例では、チオール処理とPZT前駆体溶液15の選択塗布と乾燥と熱分解とを複数回繰り返す場合について示したが、チオール処理とPZT前駆体溶液15の選択塗布と乾燥とを複数回繰り返すようにしてもよい。この場合は、チオール処理とPZT前駆体溶液15の選択塗布と乾燥とを複数回繰り返した後に、熱分解の処理と結晶化処理とが行われる。図8は、本発明の他の実施形態に係る電気機械変換膜の形成を伴う電気機械変換素子の製造方法に用いることができる液滴吐出装置の一例を示す説明図である。本実施形態では、上記白金からなる上部電極第2の電極の形成に図8に示す液滴吐出装置を用い、基板11の下部電極11a上に形成したPZT膜16上の必要な部分のみに液吐出ヘッドとしての白金インク吐出ヘッド250で白金材料を含む液白金インク251を塗布して乾燥させた。他の工程は前述の図1~7で説明した実施形態と同様に行った。白金材料を含む白金インクを塗布するときには、PZT前駆体溶液15を塗布したときと同様に接触角のコントラストを利用して塗布領域を規定した。上部電極は短絡を防止するためにPZT膜16のパターンより小さい領域に塗布する必要があるため、PZT膜16上にも撥水部疎水面を設ける必要がある。そのため、本実施形態では、前述のシランカップリング剤処理を実施し、基板11の全体にシランカップリング剤皮膜12を形成した。その後、メタルマスクを用いて、白金を形成しない部分に紫外線を照射し、シランカップリング剤皮膜12をパターンニングした。その後、液吐出ヘッド250で白金材料を含む白金インクの液滴251を吐出させて塗布を行い、着弾後の白金インクを120[°C]で乾燥処理した後に、最終的に250[°C]で焼結した。焼成後の白金からなる上部電極第2の電極の膜厚は0.5[μm]であり、比抵抗体積固有抵抗は5×10-6[Ωcm]であった。図9は、上記実施形態の製造方法で製造した電気機械変換素子PZT素子を用いて構成した液吐出ヘッド50の一構成例を示す概略構成図である。図示の例では、液室圧力室20aが形成される液室基板となるシリコン基板20上に、振動板30、密着層41及び下部電極第1の電極42を積層し、その下部電極第1の電極42上の所定部分に、上記簡便な製造方法により、バルクセラミックスと同等の性能を持つ電気機械変換素子PZT素子43及び上部電極44をパターン化して形成することができる。その後、シリコン基板20の裏面図中の下面からエッチング除去工程により液室21を形成し、ノズル孔21を有するノズル板22を接合することにより、液体吐出ヘッド50を作製することができる。なお、図中には液体供給手段、流路、流体抵抗についての記述は省略した。また、図8の液吐出ヘッド50は、図10に示すように複数個並べるように構成することもできる。図11は上記製造方法で製造した電気機械変換素子を用いることができる液滴吐出装置の一例である画像形成装置の一構成例を示す概略構成図である。また、図12は、同画像形成装置の概略透視斜視図である。なお、図示の画像形成装置は、上述した本実施形態に係る電気機械変換素子の製造方法によって製造された電気機械変換素子を具備する液滴吐出ヘッドを搭載したインクジェット記録装置100の例である。インクジェット記録装置100は、主に、記録装置本体の内部に主走査方向に移動可能なキャリッジ101と、キャリッジ101に搭載した本発明を実施して製造した液滴吐出ヘッドの一例であるインクジェットヘッドからなる記録ヘッド102と、記録ヘッド102へインクを供給するインクカートリッジ103とを含んで構成される印字機構部104を有している。また、装置本体の下方部には前方側から多数枚の用紙105を積載可能な給紙カセット106を抜き差し自在に装着することができ、また用紙105を手差しで給紙するための手差しトレイ107を開倒することができ、給紙カセット106或いは手差しトレイ107から給送される用紙105を取り込み、印字機構部104によって所要の画像を記録した後、後面側に装着された排紙トレイ108に排紙する。印字機構部104は、図示しない左右の側板に横架したガイド部材である主ガイドロッド109と従ガイドロッド110とでキャリッジ101を主走査方向に摺動自在に保持し、このキャリッジ101にはイエローY、シアンC、マゼンタM、ブラックBkの各色のインク滴を吐出する本発明に係る液滴吐出ヘッドの一例であるインクジェットヘッドからなる記録ヘッド102を複数のインク吐出口ノズルを主走査方向と交差する方向に配列し、インク滴吐出方向を下方に向けて装着している。また、キャリッジ101には記録ヘッド102に各色のインクを供給するための各インクカートリッジ103を交換可能に装着している。インクカートリッジ103は上方に大気と連通する大気口、下方には記録ヘッド102へインクを供給する供給口を、内部にはインクが充填された多孔質体を有しており、多孔質体の毛管力により記録ヘッド102へ供給されるインクをわずかな負圧に維持している。また、記録ヘッド102としてここでは各色のヘッドを用いているが、各色のインク滴を吐出するノズルを有する1個のヘッドでもよい。ここで、キャリッジ101は後方側用紙搬送方向下流側を主ガイドロッド109に摺動自在に嵌装し、前方側用紙搬送方向上流側を従ガイドロッド110に摺動自在に載置している。そして、このキャリッジ101を主走査方向に移動走査するため、図12に示すように、主走査モータ111で回転駆動される駆動プーリ112と従動プーリ113との間にタイミングベルト114を張装し、このタイミングベルト114をキャリッジ101に固定しており、主走査モータ111の正逆回転によりキャリッジ101が往復駆動される。一方、給紙カセット106にセットした用紙105を記録ヘッド102の下方側に搬送するために、給紙カセット106から用紙105を分離給装する給紙ローラ115及びフリクションパッド116と、用紙105を案内するガイド部材117と、給紙された用紙105を反転させて搬送する搬送ローラ118と、この搬送ローラ118の周面に押し付けられる搬送コロ119及び搬送ローラ118からの用紙105の送り出し角度を規定する先端コロ120とを設けている。搬送ローラ118は副走査モータ121によってギヤ列を介して回転駆動される。そして、キャリッジ101の主走査方向の移動範囲に対応して搬送ローラ118から送り出された用紙105を記録ヘッド102の下方側で案内する用紙ガイド部材である印写受け部材122を設けている。この印写受け部材122の用紙搬送方向下流側には、用紙105を排紙方向へ送り出すために回転駆動される搬送コロ123、拍車124を設け、さらに用紙105を排紙トレイ108に送り出す排紙ローラ125及び拍車126と、排紙経路を形成するガイド部材127,128とを配設している。記録時には、キャリッジ101を移動させながら画像信号に応じて記録ヘッド102を駆動することにより、停止している用紙105にインクを吐出して1行分を記録し、用紙105を所定量搬送後次の行の記録を行う。記録終了信号または、用紙105の後端が記録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を終了させ用紙105を排紙する。また、キャリッジ101の移動方向右端側の記録領域を外れた位置には、記録ヘッド102の吐出不良を回復するための回復装置129を配置している。回復装置129はキャップ手段と吸引手段とクリーニング手段を有している。キャリッジ101は印字待機中にはこの回復装置129側に移動されてキャッピング手段で記録ヘッド102をキャッピングされ、吐出口部を湿潤状態に保つことによりインク乾燥による吐出不良を防止する。また、記録途中などに記録と関係しないインクを吐出することにより、全ての吐出口のインク粘度を一定にし、安定した吐出性能を維持する。なお、本発明は上記実施形態や実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲内の記載であれば多種の変形や置換可能であることは言うまでもない。以上に説明したものは一例であり、本発明は、次の態様毎に特有の効果を奏する。態様A第1の電極の表面を部分的に表面改質する表面改質工程と、電気機械変換膜を形成するための原料を含む塗布液を、前記第1の電極上の所定部分に選択的に塗布する塗布工程と、前記第1の電極上に塗布した塗布液の膜を乾燥させる乾燥工程と、前記乾燥させた塗布液の膜を熱分解して結晶化させる結晶化工程とを含み、少なくとも前記表面改質工程と前記塗布工程と前記乾燥工程とについては、その順番で複数回繰り返す電気機械変換膜の製造方法であって、前記表面改質工程の1回目は、前記第1の電極上にシランカップリング剤の膜を形成した後、前記シランカップリング剤の膜を部分的に除去する工程である。これによれば、上記実施形態について説明したように、前記表面改質工程と塗布工程と乾燥工程と結晶化工程のうち、少なくとも表面改質工程と塗布工程と乾燥工程とについては、その順番で複数回繰り返すことにより、所定のパターン及び膜厚の電気機械変換膜を形成することができる。更に、複数回繰り返す表面改質工程の1回目が、第1の電極上にシランカップリング剤の膜を形成した後、そのシランカップリング剤の膜を部分的に除去する工程である。このシランカップリング剤の膜は、第1の電極の材質が有機物及び無機物のいずれであっても第1の電極に吸着することができるとともに、紫外線の照射によって部分的に除去することができる。従って、シランカップリング剤の膜を残したい部分については、第1の電極との吸着性及び塗布液に対する疎水性撥水性を維持し、塗布液が確実に塗布されないようにすることができる。一方、シランカップリング剤の膜を除去したい部分については、紫外線照射を利用した比較的安価な装置や方法を用いて容易に除去し、塗布液に対する親水性を持たせ、塗布液が確実に塗布されるようにすることができる。よって、製造コストの低減を図りつつ所望のパターン及び膜厚の電気機械変換膜を簡易に形成することができる。態様B上記態様Aにおいて、前記電気機械変換膜は金属酸化物を含み、前記第1の電極は貴金属を含み、前記表面改質工程2回目以降は、前記第1の電極上にチオール化合物の膜を形成した後、前記チオール化合物の膜を部分的に除去する工程である。これによれば、上記実施形態について説明したように、チオール化合物は、1回目の表面改質工程と塗布工程と乾燥工程とにより形成された金属酸化物を含む電気機械変換膜に対して濡れにくい疎水性を示し、貴金属を含む第1の電極に対して濡れやすい親水性を示す。2回目以降の表面改質工程においては、このチオール化合物の特性を利用し、上記1回目の工程で電気機械変換膜が部分的に形成された第1の電極を、チオール化合物を含む液に浸漬するという簡単な作業により、所望のパターンの表面改質が可能になる。すなわち、上記1回目の工程で第1の電極上に電気機械変換膜が形成されている部分は、チオール化合物を含む液に浸漬してもチオール化合物の膜が形成されないので、塗布液に対する親水性を確実に持たせることができる。一方、上記1回目の工程で電気機械変換膜が形成されないで第1の電極が露出している部分は、チオール化合物を含む液に浸漬するとチオール化合物の膜が形成されるので、塗布液に対する疎水性を確実に持たせることができる。このようにチオール化合物を含む液に浸漬するという簡単な作業により、上記1回目の工程で電気機械変換膜が形成されないで第1の電極が露出している部分にのみチオール化合物の膜を形成して塗布液に対する疎水性を確実に持たせるように、所望のパターンの表面改質が可能になる。態様C上記態様A又は態様Bにおいて、前記シランカップリング剤の膜の部分的な除去を、マスクを介した紫外線照射又はフォトリソグラフィエッチングにより行う。これによれば、上記実施形態について説明したように、マスクを介した紫外線照射又はフォトリソグラフィエッチングにより、シランカップリング剤の膜を分解して部分的に除去し、疎水性の表面から親水性の表面に確実に変化させることができる。態様D上記態様A乃至態様Cのいずれかにおいて、前記シランカップリング剤は、加水分解性基と、アルキル基又はフッ素含有官能基とを有する。これによれば、上記実施形態について説明したように、表面改質対象の材質が無機物であっても加水分解性基により当該無機物の表面に対して吸着させることができる。更に、反応性官能基としてアルキル基又はフッ素含有官能基を有することにより、前記塗布液に対して疎水性撥水性を確実に示すことができる。態様E上記態様A乃至態様Dのいずれかにおいて、前記表面改質工程の1回目における前記シランカップリング剤の膜の形成前に、前記第1の電極の表面に対して酸素プラズマ処理を行う前処理工程を含む。これによれば、上記実施形態について説明したように、前記酸素プラズマ処理により第1の電極の表面を酸化し、その後に行うシランカップリング剤の膜を形成することによって第1の電極の表面を親水性から疎水性にする効果を高めることができる。態様F電気機械変換素子の製造方法であって、基板上に第1の電極を形成し、上記態様A乃至態様Eのいずれかの電気機械変換膜の製造方法で前記第1の電極上に電気機械変換膜を形成し、該電気機械変換膜上に第2の電極を形成する。これによれば、上記実施形態について説明したように、製造コストの低減を図りつつ所望のパターン及び膜厚の電気機械変換膜を有する電気機械変換素子を簡易に製造することができる。態様G電気機械変換素子であって、上記態様Fの電気機械変換素子の製造方法により基板上に第1の電極と電気機械変換膜と第2の電極とを形成したものである。これによれば、上記実施形態について説明したように、製造コストの低減を図りつつ簡易に製造された所望のパターン及び膜厚の電気機械変換膜を有する安価な電気機械変換素子を提供できる。態様H液滴吐出ヘッドであって、上記態様Gの電気機械変換素子を備える。これによれば、上記実施形態について説明したように、製造コストの低減を図りつつ簡易に製造された所望のパターン及び膜厚の電気機械変換膜を有する電気機械変換素子が組み込まれた安価な液滴吐出ヘッドを提供できる。態様I液滴吐出装置であって上記態様Hの液滴吐出ヘッドを備える。これによれば、上記実施形態について説明したように、製造コストの低減を図りつつ簡易に製造された所望のパターン及び膜厚の電気機械変換膜を有する電気機械変換素子が組み込まれた安価な液滴吐出装置を提供できる。態様J画像形成装置であって上記態様Hの液滴吐出ヘッドを備える。これによれば、上記実施形態について説明したように、製造コストの低減を図りつつ簡易に製造された所望のパターン及び膜厚の電気機械変換膜を有する電気機械変換素子が組み込まれた安価な画像形成装置を提供できる。"