"応力履歴を記録するための応力履歴記録方法であって、機械的な外力に応じて発光する応力発光材料を含む発光部、および上記発光部からの発光によって生じた光反応の履歴を記録する記録部を備えた応力履歴記録媒体を計測対象物に貼り付ける第一の工程と、計測期間中に上記計測対象物において応力及び歪みが生じた場合に、上記発光部において生じる応力発光の履歴を上記記録部にて記録する第二の工程とを含み、ある応力閾値に一致する応力が与えられた時の上記発光部の応力発光の強度が、上記第一の工程の前に行われる応力発光調整処理によって、それ以下の光強度に対して上記記録部が相反則不軌を示すようになる感光閾値に一致させられていることを特徴とする応力履歴記録方法。上記応力発光調整処理は、上記発光部に対して、加熱、荷重、および光の少なくとも一つを与える処理であることを特徴とする請求項1に記載の応力履歴記録方法。上記計測対象物における応力集中箇所を記録することを特徴とする請求項1または2に記載の応力履歴記録方法。応力履歴を記録するための応力履歴記録システムであって、機械的な外力に応じて発光する応力発光材料を含む発光部、および上記発光部からの発光によって生じた光反応の履歴を記録する記録部を備えており、ある応力閾値以上の応力によって生じる応力発光を選択的に記録するために、上記応力閾値に一致する応力が与えられた時の上記発光部の応力発光の強度が、それ以下の光強度に対して上記記録部が相反則不軌を示すようになる感光閾値に一致させられていることを特徴とする応力履歴記録システム。上記特許文献9に示すような応力履歴記録システムの応用として、例えば、地震や予期しない事故などの際、破壊などの危険に繋がる応力ひずみが発生しているかどうかの確認に用いることが考えられる。上記応用においては、そのような応力ひずみが発生していないことが確認できれば、構造物等がその後も安全に使用可能であることが把握できる。但し、建物等の構造物では、温度等の環境変動や、周囲で発生する振動などによる応力ひずみは恒常的に発生している。これらの応力ひずみの殆どは、破壊などの危険に繋がることのない微小なものである。しかしながら、このような微小な応力ひずみまでが応力履歴として記録されると、全ての応力履歴の記録の中から破壊などの危険に繋がる応力ひずみを分離することが困難になるといった問題がある。本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、応力発光体から得られる発光を一定期間積算記録する時に、所定値以上の応力によって発生した応力発光を選択的に記録することのできる応力履歴記録システムを提供することにある。本発明の応力履歴記録方法は、上記の課題を解決するために、応力履歴を記録するための応力履歴記録方法であって、機械的な外力に応じて発光する応力発光材料を含む発光部、および上記発光部からの発光によって生じた光反応の履歴を記録する記録部を備えた応力履歴記録媒体を計測対象物に貼り付ける第一の工程と、計測期間中に上記計測対象物において応力及び歪みが生じた場合に、上記発光部において生じる応力発光の履歴を上記記録部にて記録する第二の工程とを含み、ある応力閾値に一致する応力が与えられた時の上記発光部の応力発光の強度が、上記第一の工程の前に行われる応力発光調整処理によって、それ以下の光強度に対して上記記録部が相反則不軌を示すようになる感光閾値に一致させられていることを特徴としている。上記の構成によれば、上記発光部が機械的な外力に応じて発光した場合、その応力発光は上記記録部において記録される。また、上記記録部は、上記発光部からの発光によって生じた光反応の履歴を記録するものであるため、一定時間内に発生した応力の総和を応力履歴として記録することができる。さらに、上記応力閾値に一致する応力が与えられた時の上記発光部の応力発光の強度が、上記記録部が相反則不軌を示すようになる感光閾値に一致させられている。このため、上記記録部においては、上記応力閾値以上の応力に対応する応力発光のみを選択的に記録することができる。また、上記応力履歴記録方法では、上記応力発光調整処理は、上記発光部に対して、加熱、荷重、および光の少なくとも一つを与える処理である構成とすることができる。上記の方法によって、上記応力閾値に一致する応力が与えられた時の上記発光部の応力発光の強度を、上記記録部が相反則不軌を示すようになる感光閾値に一致させることが可能となる。また、上記応力履歴記録方法は、上記計測対象物における応力集中箇所を記録する構成とすることができる。また、本発明の応力履歴記録システムは、上記の課題を解決するために、応力履歴を記録するための応力履歴記録システムであって、機械的な外力に応じて発光する応力発光材料を含む発光部、および上記発光部からの発光によって生じた光反応の履歴を記録する記録部を備えており、ある応力閾値以上の応力によって生じる応力発光を選択的に記録するために、上記応力閾値に一致する応力が与えられた時の上記発光部の応力発光の強度が、それ以下の光強度に対して上記記録部が相反則不軌を示すようになる感光閾値に一致させられていることを特徴としている。上記システムの構成においても、上記記録部において、上記応力閾値以上の応力に対応する応力発光のみを選択的に記録することができる。本発明の応力履歴記録方法および応力履歴記録システムでは、ある応力閾値以上の応力に対応する応力発光のみを選択的に記録することができるといった効果を奏する。以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。本実施形態に係る応力履歴記録媒体応力履歴記録システム10は、基本的な構造は特許文献9に示す応力履歴記録媒体と同じである。応力履歴記録媒体10は、機械的な外力に応じて発光する応力発光材料を含む発光部1、発光部1からの発光によって生じた光反応の履歴を記録する記録部2を備えている。また、発光部1と記録部2とは固定部3に固定されている。記録部2は、発光部1からの発光によって光反応を生じる光反応部を有している。本実施形態において、発光部1は固定部3上に固定されており、固定された発光部1を記録部2が被覆することにより、記録部2もまた固定部3に固定されている。尚、固定部3は、応力履歴記録媒体10によって応力履歴が計測される計測対象物であって良い。但し、上記構造は一例に過ぎず、本発明はこれに限定されるものではない。発光部1に含まれている応力発光材料は、特に限定されず、機械エネルギーにより発光するものであればよく、発光が歪みエネルギーに比例する特性を有する応力発光体は、定量性がよいのでより好ましい。記録部2において使用される光反応部を構成する材料は、発光部1からの発光の波長に応じて感光するものが適宜選択される。光反応により感光する物質としては、色素、無機フォトクロミック材料、有機フォトクロミック材料、写真用感光フィルムが挙げられるが、これらに限定されない。本明細書中で使用される場合、感光は、光や放射線X線などの作用を受けて物質が物理的変化および/または化学的変化を起こすことが意図される。色素は、発光の強度に比例して光反応を生じるものが好ましく、加えた応力の総和、歪み、エネルギーの総和を容易に記録するためには、色の変化が不可逆的である色素を用いることがより好ましい。好ましい色素としては、アゾベンゼン類、スピロピラン類、スピロオキサジン類、ジアリールエテン類、フルギド類、クロメン類、銀ナノ粒子銀イオン、金ナノ粒子球状、ロッド状、ナノプリズム三角系など、レチナール天然のフォトクロミック色素、および光退色性色素アゾ類、フルオレセイン類などが挙げられるが、これらに限定されない。固定部3は、応力履歴記録媒体10を適用する局面に応じて適宜選択され得るが、発光部1および記録部2を容易に固定し得る材料からなることが好ましい。応力履歴を記録することは、例えば、大型建造物の安全管理の場合、安全性の観点から非常に重要である。本実施形態に係る応力履歴記録媒体10は、上述した構成を有することにより、機械的な外力が付与された場合に、外力に応じて発光部1が発光し、その発光によって光反応部が光反応を生じて感光変色または脱色し、光反応部での感光の結果を応力履歴の記録として利用する。すなわち、応力履歴記録媒体10は、機械的なエネルギーにより発光する応力発光体と光反応により感光する物質とを組み合わせることにより、付与された機械エネルギーの情報を記録することができる。また、本発明を用いれば、応力履歴の記録を、記録手段における吸収スペクトルの変化として容易に検出することができる。なお、本明細書を読んだ当業者は、上記吸収スペクトルが可視領域に限定されず、検出すべき吸収スペクトルに応じて公知の検出器を採用すればよいことを、容易に理解する。本実施形態に係る応力履歴記録媒体10は、ある閾値以下、応力閾値以上の応力によって生じる応力発光を選択的に記録するために、以下の特徴点を有している。発光部1として使用される応力発光体には応力発光調整処理が施され、感光材料における低照度相反則不軌の領域を利用して応力発光の選択的記録を行う。すなわち、感光材料においては、ある強度以上の光が照射される場合には低照度相反則が成立し、該強度未満の光が照射される場合には低照度相反則不軌となるような光強度の閾値以下、感光閾値が存在する。低照度相反則が成立する領域では、感光材料への記録は照射された光子数光強度×照射時間に依存する照射された光子数が同じであれば、同じ記録状態となる。一方、低照度相反則不軌の領域では、その光は感光材料において記録されない、もしくは記録されにくい。図2は、感光材料への照射光子量を横軸とし、感光材料における記録率を縦軸として、照射光子数-記録率曲線を示したグラフである。図2における各種条件は以下の通りである。記録対象:緑平面光源フィルター:0.0132感光材料:Fujiインスタントフィルム:EI3000評価方法:USB4000S-1、積算時間30ms、555nmの値を読む。例えば、図2において、照射輝度光強度2.9mcd/m2の場合と、0.77mcd/m2の場合とを比較すると、照射光子数-記録率曲線が互いにほぼ重なっている。すなわち、上記感光材料は、光強度が2.9~0.77mcd/m2の領域の照射光に対して相反則が成立していることがわかる。したがって、この領域の強度を有する光が応力発光体から照射されれば、感光材料はその発光を記録することになる。一方、本発明では、通常ではあまり使用しない、相反則が成立しない微弱光領域低照度相反則不軌の領域をも利用する。具体的には、0.12mcd/m2の光強度において、照射光子数-記録率曲線が右方向へ移動していることが確認できる。従って、上記応力閾値に一致する応力が与えられた時の応力発光の強度をこの程度まで減少制御すれば、相反則不軌による記録の抑制が可能である。上記応力発光調整処理では、上記応力閾値に一致する応力が与えられた時の応力発光の強度を、上記感光閾値にまで抑制する処理が行われる。これにより、応力閾値以下の応力は記録されずもしくは記録されにくく、応力閾値を超える応力のみを選択的に記録することができる。応力発光体における応力発光の強度は、応力発光体を暗所で待機させることで減少する。あるいは、応力発光体に対して、荷重ひずみ熱光等を与えることにより、加速的に減らすこともできる。尚、この時、上記応力発光体に対して、荷重、熱、および光の少なくとも一つを与えることで、応力発光の強度を減少させられると考えられる。以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこの実施例によって何ら限定されるものではない。本実施例1では、荷重により、予め応力発光調整応力発光強度の抑制を行った応力発光体を、応力履歴記録システムに組み入れることで、ある応力閾値以上の応力を選択的に記録できるシステムを作製した。具体的には、応力発光調整を行った応力発光体SUS430基板上に、応力発光シートを接着と、感光材料Fuji、インスタント写真用フィルム、FB-3000Bにより、応力履歴システムを作製した。上記応力発光調整としては、UV光0.7mW、355nmを1分照射した後、80度で1.5時間加熱処理、さらにその間に荷重処理0.4kN,1Hz,20秒間隔,300uSTを施した。ここで、1Hzは印加する荷重の周波数であり、300uSTは荷重により上記応力履歴システムの長さが0.03変形した事を意味している。ちなみに、上記ひずみは、十分、弾性変形範囲内で生じるものとなっている。尚、上記荷重は、直接的にはSUS430基板に与えられるものであり、SUS430基板のひずみを介して応力発光シートに応力を作用させる。また、SUS430基板には、上記荷重による応力集中を起こしやすくするため、予め亀裂の生じているものを用いた図3a参照。さらに、ここでのUV照射は、実験上、応力発光体の残光を最大状態にリセットするための処理であり、これ自体は応力発光の閾値に影響を与えるものではない。上記システムにおいて、応力発光体による応力発光を感光材料に30分間露光させて積算記録を行った。また、その際、荷重処理と同程度の荷重印加0.4kN,1Hz,20秒間隔、90回,300uSTを行った。しかしながら、この露光においては、亀裂への応力集中に由来する応力発光パターンは、全く記録されなかった図3b参照。尚、図3bにおいて、中央部分に記録されているのは、応力発光体の残光による記録である。残光とは、応力発光体において応力が作用していない状態で生じる発光であり、応力発光体には多少の相違はあるが残光が生じる。その後、さらに30分の露光を行い、その際、上記応力発光調整における荷重処理を上回る荷重1.4kN,1Hz,1140uSTを1度だけ印加した。その結果、初めて亀裂部への応力集中に由来する発光パターンが記録された図3c参照。従って、本実施例1では、熱や荷重処理を施した応力履歴記録システムは、小さな応力ひずみには反応せず全く記録されないが、ある閾値を越える大きな応力ひずみが一度でもあれば、その履歴が記録される閾値効果を有する事を証明した。尚、本発明は、閾値を越えたひずみ変形を記録するものであるが、実質的には材料が全体としてこの値を越えることは考えにくく、亀裂先端や金属疲労部等への応力集中箇所を記録するシステムであると言える。本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。"