"アルコールの生成物への転化のプロセスにおいて使用される方法であって、第一のアルコールを含む組成物を触媒組成物と接触させる工程を含み、前記触媒組成物がiFe、Ru、Osを含む群の1つ以上から選択される第8族遷移金属の源;iiR1、R2、及びR3が同一又は異なっており、R1、R2、及びR3の1つ以上がヘテロ原子置換炭化水素基を含んでいる、式PR1R2R3のホスフィンリガンド;及びiii塩基を含む方法。式PR1R2R3の前記ホスフィンリガンドが第8族金属に対して多座配位性リガンドである、請求項1に記載の方法。前記ヘテロ原子が、O、S、N、及びPを含む群から選択される1つ以上を含む、請求項1又は請求項2に記載の方法。前記ヘテロ原子がN及びPを含む群から選択される1つ以上を含む、請求項3に記載の方法。R1、R2、及びR3の1つのみがヘテロ原子置換炭化水素基を含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。前記ホスフィンリガンドが、第8族金属に対して二座配位性リガンドを含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。前記ホスフィンリガンドが、ジホスフィン基-[P{リンク}P]-を含み、式中、結合基{リンク}が、2より少ない原子を含む骨格を有する、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。前記ホスフィンリガンドが、式R1R2P{リンク}PR6R7を有し、式中、R1、R2、R6、及びR7が同一又は異なっており、{リンク}がホスフィン基間の直接結合であるか、又は{リンク}がホスフィン基を結合する単一の原子を含む基である、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。前記ホスフィンリガンドが、R1R2PCH2PR6R7及びR1R2PNRPR6R7から選択される式を有するジホスフィンリガンドを含み、式中、R1、R2、R6、及びR7が同一又は異なっている、請求項1~8のいずれか一項に記載方法。R1及びR2が同一であり、及び/又はR6及びR7が同一である、請求項8又は請求項9に記載の方法。R1、R2、R6、及びR7が、水素、炭化水素基、及びヘテロ原子置換炭化水素基から独立に選択される、請求項8~10のいずれか一項に記載の方法。前記ホスフィンリガンドが、R2PCH2PR2及びR2PNRPR2から選択される式を有する、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。Rが、水素、炭化水素基、及びヘテロ原子置換炭化水素基から選択される、請求項12に記載の方法。Rが、Phフェニル基、Meメチル、Et、エチル、Prイソ又はノルマルのプロピル、tBu、tert-ブチル、ベンジル、トルイルオルト、メタ、又はパラ、アニシルオルト、メタ、又はパラ、又はPhOフェノキシから選択される、請求項13に記載の方法。前記触媒が、式R1R2P{リンク}NR6R7を有するホスフィンリガンドを含み、式中、R1、R2、R6、及びR7が同一又は異なっており、{リンク}がホスフィン基と窒素ドナー基との間の直接結合である、請求項1~14のいずれか一項に記載の方法。前記触媒が、R1R2PCR2nNR6R7から選択される式を有するP~Nリガンドを含むホスフィンリガンドを含み、式中、R1、R2、R6、及びR7が同一又は異なっており、nが、1、2、3、又は4である、請求項1~15のいずれか一項に記載の方法。R1及びR2が同一であり、及び/又はR6及びR7が同一である、請求項15又は請求項16に記載の方法。R1、R2、R6、及びR7が、水素、炭化水素基、及びヘテロ原子置換炭化水素基から独立に選択される、請求項8~10のいずれか一項に記載の方法。Rが、水素、炭化水素基、及びヘテロ原子置換炭化水素基から選択される、請求項16~18のいずれか一項に記載の方法。転化プロセスが0.1MPa未満の水素分圧で実施される、請求項1~19のいずれか一項に記載の方法。アルコールの生成物への転化の方法であって、第一のアルコールを含む組成物を触媒組成物と接触させる工程を含み、前記触媒組成物がiFe、Ru、Osを含む群の1つ以上から選択される第8族遷移金属の源;iiR1、R2、及びR3が同一又は異なっている、式PR1R2R3のホスフィンリガンド;及びiii塩基を含む方法であって、転化が0.1MPa未満の水素分圧で実施される方法。前記水素分圧が0.05MPa未満である、請求項20又は請求項21に記載の方法。前記リガンドが、第8族金属に対して単座配位性である、請求項20~22のいずれか一項に記載の方法。第8族金属に対して多座配位性であるリガンドを含む、請求項20~23のいずれか一項に記載の方法。第一のアルコールが触媒組成物と接触させられ、生成物が第二のアルコールを含み、前記第二のアルコールが好ましくは第一の転化されたアルコールより高級なアルコールである、請求項1~24のいずれか一項に記載の方法。前記第二のアルコールが一般式HC2H4nOHを有し、好ましくはn=2、3、又は4である、請求項1~25のいずれか一項に記載の方法。少なくとも80重量の生成物が一般式HC2H4nOHを有するアルコールを含み、好ましくはn=2である、請求項1~26のいずれか一項に記載の方法。前記転化生成物が10未満の分岐ヘキサノールを含む、請求項1~27のいずれか一項に記載の方法。前記第一アルコールがエタノールを含み、及び/又は前記生成物がブタノールを含む、請求項1~28のいずれか一項に記載の方法。第8族遷移金属がRuを含む、請求項1~29のいずれか一項に記載の方法。前記第8族金属が、式[MLn]mの種を含む錯体の成分であり、式中、Mが、Fe、Ru、Osを含む群の1つ以上から選択される第8族金属であり、Lがリガンドであり、nが1~8の整数であり、mが錯体の核性を表す整数であり、好ましくは、mは1~8、好ましくは1又は2の整数である、請求項1~30のいずれか一項に記載の方法。R1、R2、及び/又はR3が{CR42}xNR52、CR4xNP52、{NR4}yNP52を含む群の1つ以上から選択され、式中、R4及びR5が、H、炭化水素基、又はヘテロ原子置換炭化水素基から独立に選択される、請求項1~31のいずれか一項に記載の方法。前記塩基が5を超えるpKaを有する、請求項1~32のいずれか一項に記載の方法。アルコールの転化の前に、第8族遷移金属とホスフィンリガンドを反応させて、触媒錯体を形成する工程をさらに含む、請求項1~33のいずれか一項に記載の方法。第一のアルコールを第二のアルコールに転化する方法であって、第一のアルコールを含む組成物を触媒組成物と接触させる工程を含み、前記触媒組成物がiFe、Ru、Osを含む群の1つ以上から選択される第8族遷移金属の源;iiR1、R2、及びR3が同一又は異なっており、R1、R2、及びR3の1つ以上がヘテロ原子置換炭化水素基を含む、式PR1R2R3のホスフィンリガンド;を含み、第二のアルコールの純度が少なくとも80である方法。iFe、Ru、Osを含む群の1つ以上から選択される第8族遷移金属の源;iiR1、R2、及びR3が同一又は異なっており、R1、R2、及びR3の1つ以上がヘテロ原子置換炭化水素基を含む、式PR1R2R3のホスフィンリガンド;及びiii塩基を含む触媒組成物。前記第8族金属がRuを含む、請求項36に記載の触媒組成物。前記ホスフィンリガンドが、第8族遷移金属と共に多座配位性リガンド錯体を形成する、請求項36又は請求項37に記載の触媒組成物。前記ホスフィンリガンドが、第8族金属に対して二座配位性リガンドを形成しうる、請求項38に記載の触媒組成物。前記ヘテロ原子が、O、S、N、及びPを含む群から選択される1つ以上を含む、請求項38又は請求項39に記載の触媒組成物。前記ヘテロ原子が、N及びPを含む群から選択される1つ以上を含む、請求項40に記載の触媒組成物。R1、R2、及びR3の1つのみがヘテロ原子置換炭化水素基を含む、請求項36~41のいずれか一項に記載の触媒組成物。前記ホスフィンリガンドが式R1R2P{リンク}PR6R7を有し、式中、R1、R2、R6、及びR7が同一又は異なっており、かつ、{リンク}がホスフィン基間の直接結合であるか、又は{リンク}がホスフィン基を結合する単一の原子を含む基である、請求項36~42のいずれか一項に記載の触媒組成物。前記ホスフィンリガンドが、R1R2PCH2PR6R7及びR1R2PNRPR6R7から選択される式を有するジホスフィンリガンドを含み、式中、R1、R2、R6、及びR7が同一又は異なっている、請求項36~43のいずれか一項に記載の触媒。R1及びR2が同一であり、及び/又はR6及びR7が同一である、請求項43又は請求項44に記載の触媒組成物。R1、R2、R6、及びR7が、水素、炭化水素基、及びヘテロ原子置換炭化水素基から独立に選択される、請求項43~45のいずれか一項に記載の触媒組成物。前記ホスフィンリガンドが、R2PCH2PR2及びR2PNRPR2から選択される式を有する、請求項36~46のいずれか一項に記載の触媒組成物。Rが、水素、炭化水素基、及びヘテロ原子置換炭化水素基から選択される、請求項47に記載の触媒組成物。前記触媒が、式R1R2P{リンク}NR6R7を有するホスフィンリガンドを含み、式中、R1、R2、R6、及びR7が同一又は異なっており、かつ、{リンク}がホスフィン基と窒素ドナー基との間の直接結合である、請求項36~48のいずれか一項に記載の触媒組成物。前記触媒が、R1R2PCR2nNR6R7から選択される式を有するP~Nリガンドを含むホスフィンリガンドを含み、式中、R1、R2、R6、及びR7が同一又は異なっており、nが1、2、3、又は4である、請求項36~49のいずれか一項に記載の触媒組成物。R1及びR2が同一であり、及び/又はR6及びR7が同一である、請求項49又は請求項50に記載の触媒組成物。R1、R2、R6、及びR7が、水素、炭化水素基、及びヘテロ原子置換炭化水素基から独立に選択される、請求項49~51のいずれか一項に記載の触媒組成物。Rが、水素、炭化水素基、及びヘテロ原子置換炭化水素基から選択される、請求項50~52のいずれか一項に記載の触媒組成物。実施例の全てにおいて、手順は、特記されない限り、脱気及び乾燥した試薬等級の溶媒を使用して、不活性雰囲気下アルゴン又は窒素で実施した。触媒スクリーニング実験は、RadleysCarousel12ReactionStationClassicを使用して実施した。生成物分析は、FactorFourキャピラリーカラムVF-5msを使用してVarianSaturn2100TGC/MSで実施した。NMR分析は、ECP300MHz分光器で実施した。実施例1~21の一般的手順第8族金属源0.1mol、ホスフィンリガンド0.1mol又は、0.1molの予備形成された金属リガンド錯体、及び固体塩基5molを、不活性雰囲気下で、Radleys12セル反応容器用のスクリュートップガラスバイアル又は容量100m1の撹拌棒のついたParrステンレススチールオートクレーブに加えた。次いで、標準的なシュレン管技術を利用して、5mL85.63mmolのエタノールを、室温で激しく撹拌しながら加えた。次いで、反応容器を密封して、撹拌を続けたまま混合物を150°Cに4時間加熱した。この時間の間、反応容器の内圧は上昇するので、それぞれの場合で最終的な圧力は0.1~1MPaであった。冷却及び圧力解放により実験を停止した。転化は、加えたエタノールに対して、可能な最大のブタノール収量42.815mmolのパーセンテージとして記載する。GC/MS分析は、メタノールを希釈剤として実施し、メシチレンを基準として使用して較正した。実施例1ジクロロシメンルテニウムダイマー0.05mol、ビスジフェニルホスフィノメタン0.1mol、及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteRTMCeliteCorporation、USに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、99を超える選択性で24.1のブタノールへの転化を示した。形成されたブタノールは実質的に100ブタン-1-オールであった。選択性は、例えば、エタノール以外の生成物中の他の全成分に比べてブタノールのGCシグナルを積分することにより決定する。実施例2ジクロロシメンルテニウムダイマー0.05mol、1,2-ビスジフェニルホスフィノエタン0.1mol、及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、13.2の転化率、97の選択性を示した。実施例3ジクロロシメンルテニウムダイマー0.05mol、1,3-ビスジフェニルホスフィノプロパン0.1mol、及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cに撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、14.8の転化率、99超の選択率を示した。実施例4ジクロロシメンルテニウムダイマー0.05mol、1,3-ビスジフェニルホスフィノプロパン0.1mol、1,7-オクタジエン10mol、及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、15.2の転化率、99超の選択性を示した。実施例5ジクロロシメンルテニウムダイマー0.05mol、N-メチルビスジフェニルホスフィノアミン0.1mol、及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、10.5の転化率、80の選択性を示した。実施例6ジクロロシメンルテニウムダイマー0.05mol、1,3-ビスジフェニルホスフィノプロパン0.1mol、及び水酸化ナトリウム5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、0.9の転化率、95の選択性を示した。実施例7ジクロロシメンルテニウムダイマー0.05mol、1,3-ビスジフェニルホスフィノプロパン0.1mol、及び水酸化カリウム5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、8.9の転化率、99超の選択性を示した。実施例8ジクロロシメンルテニウムダイマー0.05mol、1,3-ビスジフェニルホスフィノプロパン0.1mol、及び炭酸セシウム5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、9.0の転化率、99超の選択性を示した。実施例92-メチルアリル1,5-シクロオクタジエンルテニウム0.1mol、ビスジフェニルホスフィノメタン0.1mol、及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、14.2の転化率、99超の選択性を示した。実施例10RuC13含水結晶0.1mol、ビスジフェニルホスフィノメタン0.1mol、及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、24.6の転化率、99超の選択性を示した。触媒予備形成された触媒、例えば、本発明の態様の実施例に使用できる触媒錯体のいくつかの合成を、例示のためにのみ説明する。予備形成された触媒の合成合成1-クロロp-シメンη2-ジフェニルホスフィノメタンκ2Pルテニウムの調製[RuCl2シメン]2をエタノール中の懸濁液として、やはりエタノール中の1.1当量のビスジフェニルホスフィノメタンの溶液に加えた。次いで、混合物を室温で16時間撹拌してから、反応物の体積を真空中で半分にし、次いで-20°Cで16時間冷却した。次いで、混合物を濾過して、沈殿した過剰なホスフィンを除き、ジエチルエーテルによりトリチュレートした。生成物の1H及び31PNMRによる分析は以下のとおりであった:1HNMRCDCl3:δ7.68-7.41m,20H、δ6.42d,2H,J=6.23Hz、δ6.34d,2H,J=6.23Hz、δ4.99dt,1H,J1=15.0Hz,J2=10.3Hz、δ4.57dt,1H,J1=15.0Hz,J2=12.82Hz、δ2.51セプテット,1H,J=6.96Hz、δ1.57s,3H、δ1.08d,6H,J=6.96Hz。31P{1H}NMRCD3OD:δ2.9s合成2-クロロp-シメンη2-N-メチル-ジフェニルホスフィノアミンκ2Pルテニウムの調製[RuCl2シメン]2を、エタノール中の懸濁液として、やはりエタノール中の1.1当量のN-メチル-ビスジフェニルホスフィノアミンの溶液に加えた。混合物を16時間還流してから、反応物の体積を真空中で半分にし、次いで-20°Cで16時間冷却した。次いで、混合物を濾過して、沈殿した過剰なホスフィンを除いただろう。化合物は分光学的に純粋であったため、さらなる精製は不要であった。生成物を1H及び31PNMRにより分析した。合成3-ジクロロp-シメントリフェニルホスフィンルテニウムの調製[RuCl2シメン]2を、エタノール中の懸濁液として、やはりエタノール中の7当量のトリフェニルホスフィンの溶液に加えた。混合物を16時間還流してから、反応物の体積を真空中で半分にし、濾過して過剰のホスフィンを除き、次いで-20°Cで16時間冷却しただろう。生成物は冷エタノールから結晶化し、ヘキサンで洗浄した。生成物を1HNMRCDCl3により分析した:δ7.83m,6H,PPh3、δ7.37m,9H,PPh3、δ5.20d,2H,J=6.23Hz、δ4.99d,2H,J=6.23Hz、δ2.86セプテット,1H,J=6.96Hz、δ1.87s,3H、δ1.10d,6H,J=6.96Hz。31PNMRCDC13δ24.8s合成4-[RuCl2ビスジフェニルホスフィノメタン2]の調製ビスジフェニルホスフィノメタン2.5当量のエタノール溶液に、RuCl3xH2Oの水溶液を、撹拌しながらゆっくりと加えた。反応混合物を3時間還流し、室温に放冷し、次いで黄色の沈殿物が現れるまで水で希釈した。沈殿物を濾過し、水及びヘキサンで洗浄し、真空下で乾燥させると黄色の固体を与えた;31PNMR162MHz,CDCl3δ-7.17;1HNMR400MHz,CDCl3δ7.41-7.14m,40H,芳香族CH、5.06t,2H,J=4.16Hz,CH2。予備形成された触媒を使用する実施例:実施例11クロロp-シメンη2-ジフェニルホスフィノメタン-κ2Pルテニウム0.1mol及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、44.7の転化率、99超の選択性を示した。実施例12クロロp-シメンη2-ジフェニルホスフィノメタン-κ2Pルテニウム0.1mol及びナトリウムエトキシド10molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、50の転化率、99超の選択性を示した。実施例13クロロp-シメンη2-N-メチル-ジフェニルホスフィノアミン-κ2Pルテニウム及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に4時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、28.6の転化率、99超の選択性を示した。実施例14[RuCl2ビスジフェニルホスフィノメタン2]及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと共に240時間150°Cで撹拌した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、10の転化率、94の選択性を示した。実施例15~18実施例15~18を以下の表に示す。実施例1に記載されたのと同じ方法に従ったが、二座配位性ホスフィンリガンドの替わりに、示されるN-Pリガンドを使用した。実施例19~20実施例19及び20を以下の表に示す。実施例1に記載されたのと同じ方法に従ったが、二座配位性ホスフィンリガンドの替わりに、示される三座配位性P-P-Pリガンドを使用した。低圧での実施例実施例21~24実施例21~24の一般的な手順:これらの実施例は、実施例11と同じ一般的な方法を利用して実施したが、反応を還流温度で還流冷却器を備えた丸底フラスコからなる開放系で実施した。実験の間の水素圧力は0.1MPa未満であり、基本的にゼロであった。これらの実施例は、優れた選択性及び良好な転化率が低い水素分圧で得られうることを示す実施例11を21に、13を22に、23を24に比較されたい。実施例24高圧での実施例23の比較例実施例11と同じ方法を利用して、ジクロロp-シメントリフェニルホスフィンルテニウム及びナトリウムエトキシド5molを、5mLのエタノール85.63mmolと4時間150°Cで撹拌した。0.4MPaの最終圧力を記録した。反応混合物をCeliteに通して濾過し、GC/MSにより分析した。GCトレースは、4.1の転化率、99超の選択性を示した。低級アルコールを高級アルコールに転化する例示的な工業プロセス本発明の態様を利用する、低級アルコールを高級アルコールに転化する商業プロセスは、例えば転化すべきアルコールの好ましい状態によって、多くの異なる方法で実現化できる。一例として、本発明の特徴を利用する工業プロセスは下記工程のいくつか又は全てを含むことがある:1触媒調製2原料前処理3反応4一次分離5気体処理及び再生使用6生成物精製1触媒調製触媒を、反応系の種類、並びに触媒調製、輸送、及び貯蔵の容易さによって、専門の供給者によりオフサイトで、又はオンサイトでのいずれかにより必要となったときに調製する。2アルコール原料前処理転化すべきアルコールを、反応の好ましい条件を得るために前処理でき、それは転化すべきアルコールにより変化する。前処理は、プロセスに有害な微量汚染物質の除去、及び/又は好ましい反応条件相、温度、及び圧力への加熱/冷却を含むことがある。3反応[R1]原料アルコール1及び調製された触媒2を反応器R1に供給する。反応セクションにおいて、転化すべきアルコールを、本発明の触媒と完全に接触させるが、触媒は固体でも液体の形態でもよい。水素及び/又は要求される圧力を維持するための他のガスに加え、追加の化学物質を加えて、反応を加速又は減速させることができる。反応器の設計は、触媒の形態、反応の相、及び熱を加える又は除く必要性に対して適切であろう。低級アルコールは、蒸気相の操作を好むか、又は反応温度で液相のままでいるために高圧を必要とするが、高級アルコールは液相の操作を好むか、又は反応温度での気化を可能にするのに低圧操作を必要とする。反応物と触媒との完全な混合は、自然に固体の触媒床を通る蒸気相反応物の流れによる、撹拌器の使用により機械的に、又は液体若しくは蒸気のジェット混合により水圧により実施できる。反応は、バッチ式でも、半バッチ式でも、連続式でもよい。4一次分離[D1]反応器を離れた物質は、一次分離器D1で一次分離を受け、未反応の原材料から要求される生成物複数可を分離するが、未反応の原材料は反応器D1に再生使用できる。この一次分離は、フラッシュ分離、蒸留、メンブレン、又は好適な技術の組み合わせを含む、いくつかの形態をとりうる。一次分離は、反応蒸留系における反応とも組み合わせることができる。5気体処理及び再生使用一次分離を離れた気相又は蒸気相にある未反応の原材料を処理して、反応器への再生使用のために、プロセスに有害な微量汚染物質を除去し、及び/又は適切な条件に加熱/冷却、及び/又は圧縮/ポンプ使用することができる。図1の例は、再生使用気体処理ユニット3及び圧縮機4を含む。6生成物精製[D2D3]一次分離器D1を離れた液相物質をさらに精製して、例えば、販売又は使用のための要求される仕様複数可での所望の生成物複数可生成物5反応器R1に再生使用するための未反応の原料及び/又は副生成物6さらなる処理又は廃棄するための、再生使用不可能な副生成物7を与えることができる。本発明の態様の特徴を、例示のためにのみ上記に説明してきたが、本発明の範囲内で変形が可能である。例えば、フィルター媒体は、他の適切な材料、例えば、他の珪藻土土類材料及び/又は他のフィルター材料を含んでよい。"