ニッケル含有溶液を、以下の3工程で構成された溶媒抽出工程で処理することを特徴とする硫酸ニッケルの製造方法。[溶媒抽出工程]第1工程:抽出剤濃度が15~30体積で含有する抽出溶媒と、ニッケル含有溶液とをpH6.0~7.0で接触させ、ニッケルを抽出してニッケル保持有機相を得る工程。第2工程:前記第1工程で得たニッケル保持有機相と、ニッケルを含有する洗浄液とを混合し、保持有機相に含有されるナトリウム、アンモニウムイオンを洗浄液に分離し、洗浄後ニッケル保持有機相を得る工程。第3工程:前記第2工程で得た洗浄後ニッケル保持有機相と、マグネシウム濃度/ニッケル濃度の比率が0.001~0.004の範囲にある組成の硫酸ニッケル溶液とを反応させ、ニッケル保持有機相中のニッケルと前記硫酸ニッケル溶液に含有する不純物とを置換させ、逆抽出後有機相と不純物分離後の硫酸ニッケル溶液を得る工程。前記溶媒抽出工程における抽出剤が、酸性燐酸エステル系抽出剤であることを特徴とする請求項1記載の高純度硫酸ニッケルの製造方法。前記第3工程における洗浄後ニッケル保持有機相に混合する硫酸ニッケル溶液のpHが2.8以上を維持し、有機相マグネシウム濃度/液相マグネシウム濃度比を1.0以上に制御することを特徴とする請求項1又は2に記載の高純度硫酸ニッケルの製造方法。前記第3工程におけるニッケル保持有機相Oと硫酸ニッケル溶液Aの液量の容積比O/Aが、2.0~5.0の範囲に維持されることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の高純度硫酸ニッケルの製造方法。前記第3工程における硫酸ニッケル溶液中のニッケル濃度が、100[g/L]以上に維持されるように、ニッケル保持有機相に添加する硫酸ニッケル溶液のニッケル濃度を調整することを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の高純度硫酸ニッケルの製造方法。このような状況に鑑み本発明は、酸性有機抽出剤を用いた溶媒抽出により高ニッケル濃度の硫酸ニッケル溶液を得る工程において、抽出剤の濃度と処理時のpH濃度を調整する事で、不純物、特にマグネシウム品位の低い高純度な硫酸ニッケルを得る溶媒抽出工程を提供するものである。このような課題を解決するための本発明の第1の発明は、ニッケルとコバルトを含有するニッケル含有溶液を、下記第1工程、第2工程、第3工程の3工程で構成された溶媒抽出工程により処理することで硫酸ニッケルを生成することを特徴とする硫酸ニッケルの製造方法である。[溶媒抽出工程]1第1工程抽出剤濃度が15~30体積で含有する抽出溶媒と、ニッケル含有溶液とをpH6.0~7.0で接触させ、ニッケルを抽出してニッケル保持有機相を得る工程。2第2工程第1工程で得たニッケル保持有機相と、ニッケルを含有する洗浄液とを混合し、保持有機相に含有されるナトリウム、アンモニウムイオンを洗浄液に分離し、洗浄後ニッケル保持有機相を得る工程。3第3工程第2工程で得た洗浄後ニッケル保持有機相と、マグネシウム濃度/ニッケル濃度の比率が0.001~0.004の範囲にある組成の硫酸ニッケル溶液とを反応させ、ニッケル保持有機相中のニッケルと、その硫酸ニッケル溶液に含有する不純物とを置換させ、逆抽出後有機相と不純物分離後の硫酸ニッケル溶液を得る工程。本発明の第2の発明は、第1の発明の溶媒抽出工程における、用いられる抽出剤が、酸性燐酸エステル系抽出剤であることを特徴とする高純度硫酸ニッケルの製造方法である。本発明の第3の発明は、第1及び第2の発明の第3工程におけるニッケル保持有機相に混合する硫酸ニッケル溶液のpHが、2.8以上を維持し、有機相マグネシウム濃度/液相マグネシウム濃度比を1.0以上に制御することを特徴とする高純度硫酸ニッケルの製造方法である。本発明の第4の発明は、第1から第3の発明の第3工程におけるニッケル保持有機相Oと硫酸ニッケル溶液Aの液量の容積比O/Aが、2.0~5.0の範囲に維持されることを特徴とする高純度硫酸ニッケルの製造方法である。本発明の第5の発明は、第1から第4の発明の第3工程における硫酸ニッケル溶液中のニッケル濃度が、100[g/L]以上に維持されるように、ニッケル保持有機相に添加する硫酸ニッケル溶液のニッケル濃度を調整することを特徴とする高純度硫酸ニッケルの製造方法である。本発明によれば、以下に示す工業上顕著な効果を奏するものである。1二次電池の原料に用いることができるマグネシウム品位の低い硫酸ニッケルを得ることができる。2ニッケル酸化鉱石を酸浸出して得た酸性溶液からも高純度な硫酸ニッケルを直接得ることができる。3原料品位や操業負荷が変動しても得られる高純度硫酸ニッケル液中のMg/Ni濃度比を一定に維持し品質が安定する。4マグネシウム除去のための新たな設備が不要で、投資が圧縮できる。本発明は、ニッケルやマグネシウムを含有する硫化物からニッケル水素電池やリチウムイオン電池の原料として使用できる高純度な硫酸ニッケルを得るのに適した製造方法である。本発明では、ニッケルやマグネシウムを含有する酸性溶液を溶媒抽出によって分離する際に、使用する抽出剤に希釈剤を加えて18~30容量に希釈し、第3工程の操作pHを酸添加により行い、2.8以上のpHに制御し、かつ、第3工程に供する有機相/液相となる流量比を1.7以上に維持する事で、得られる硫酸ニッケル溶液のマグネシウム/ニッケル濃度比を0.0005以下に低減するものである。なお、マグネシウムと同時にコバルトも分離するので、ニッケルを含有する鉱石や、ニッケルとコバルトを含有する2次電池を処理する際、溶媒抽出工程を一つ設けておけば事足りる。一般に、酸性溶液から溶媒抽出を用いてニッケルとコバルトを分離する際には、酸性有機抽出剤が用いられることが多い。本発明の溶媒抽出工程は、図1に示すように具体的にはニッケル含有溶液酸性溶液からの硫酸ニッケルの製造における製造工程に含まれるもので、以下の3つの工程から構成される。図1は本発明の溶媒抽出工程を含むニッケル含有溶液酸性溶液からの硫酸ニッケルの製造工程を示す工程図である。[第1工程]第1工程では、抽出剤本体を15~30体積の濃度で含有するように希釈した抽出溶媒と、ニッケル、カルシウム、コバルト、マグネシウム、アンモニムイオンNH4、ナトリウム、塩化物イオンCl-などを含有する硫酸酸性溶液である粗硫酸ニッケル溶液図1中のニッケル含有溶液とを、pH6.0~7.0の範囲で接触させ、ニッケルを抽出してマグネシウム/ニッケル濃度比が0.002以下となるニッケル保持有機相を得る工程である。[第2工程]第2工程では、第1工程で得たニッケル保持有機相と、予めニッケルを含むニッケル含有洗浄液とを混合し、ニッケル保持有機相中に含有しているナトリウム、アンモニウムイオンを洗浄液中に移行し、ニッケルと分離する工程である。[第3工程]第3工程では、第2工程で得た洗浄後ニッケル保持有機相と、溶液中のマグネシウム/ニッケル濃度比が0.001~0.004の範囲である硫酸ニッケル溶液図1中のMg、Ni組成比制御硫酸ニッケル溶液とを混合し、ニッケル保持有機相中のニッケルと硫酸ニッケル溶液に含まれる不純物とを置換させる工程である。この第3工程での置換反応は、硫酸ニッケル溶液のpHを2.8以上に維持し、抽出剤濃度を15~30容量、好ましくは18~20容量の範囲に調整する。ここで、マグネシウムとニッケルの分離能を維持する為には、pH以外にもフリー抽出剤の濃度や有機相と水相の容積比率O/Aを最適化することが重要となる。さらに本発明では、プロセスで取り扱う液量を削減し装置規模を極小化するために多段向流型の溶媒抽出装置を用いると良い。抽出溶媒Oと高Co含有硫酸ニッケル溶液Aの液量の体積比O/Aは、有機溶媒の粘性を抑え分相性の良好な状態とするために、2.0~5.0、好ましくは2.0以上、4.0以下の範囲に維持することが良い。また、水相中のニッケル濃度が100[g/L]以上を維持するように、ニッケル保持有機相に添加するニッケル溶液のニッケル濃度を予め調整することが良い。上記の条件で操業することにより、硫酸ニッケル溶液中のマグネシウムとニッケルの濃度は、Mg/Ni=0.0005以下となるまで分離でき、マグネシウムの少ない高純度な硫酸ニッケルが得られる。なお、Mg/NiCo濃度比が管理範囲から外れた際には、マグネシウムを濃縮した液を払い出せば範囲内に調整できる。以下、実施例を用いて本発明を説明する。[溶媒抽出工程]溶媒抽出の抽出装置には、向流4段のミキサーセトラーを使用した。ミキサーセトラーのミキサー部の有効容量は1リットル、セトラー部の有効容量は10リットルとした。1段目のミキサーセトラーM/Sに有機相を、4段目のミキサーセトラーに水相をそれぞれ供給した。有機相には、官能基が2-エチルヘキシルホスホン酸モノ-2エチルヘキシルエステルからなる抽出剤商品名:PC88A、大八化学工業株式会社製を使用し、これをアルキルベンゼン系の希釈剤商品名:テクリーンN20、JX日鉱日石エネルギー株式会社製を用いて14~18容量に希釈した抽出溶媒をニッケル含有溶液と混合、洗浄して、ニッケルを20[g/L]、マグネシウムを[0.04g/L]の濃度に調製した混合有機溶媒図1中の洗浄後ニッケル保持有機相を有機相に用いた。さらに、有機相には、逆抽出工程でコバルトとカルシウムを分離して得た希釈用有機相を添加した。水相には、ニッケルを100[g/L]、コバルトを5~15[g/L]、カルシウムを0.6[g/L]、Mg/Ni比が0.004の組成である、pH5.5の粗硫酸ニッケル溶液図1中のMg、Ni組成比制御硫酸ニッケル溶液を用いた。1~3段目の抽出pHは4.1~5.6に、4段目のpHは2.0~2.8の範囲になるように、25重量の硫酸を用いて調整した。混合有機溶媒の給液量を195[ml/分]、希釈用有機溶媒の給液量を105[ml/分]、粗硫酸ニッケル水溶液の給液量を80~150[ml/分]に設定し、24時間連続運転した。その結果を図2、図3、図4に示す。図2は、第3工程における有機相および液相Mg濃度の関係を示す図で、4段目のM/SのpHを2.8以上に制御している。図3は、4段目M/Sにおける操作pHとMg分配の関係を示す図で、ただし抽出剤濃度を18volとして行っている。図4は、第3工程におけるO/Aと精製硫酸ニッケル溶液のMg濃度の関係を示す図で、精製硫酸ニッケル溶液Ni濃度を120[g/L]、抽出剤濃度18vol、4段目のpHを2.8の場合における結果である。図2からは、抽出剤濃度を18vol以上とする事で、第3工程のMg分配比を1以上とする事が可能であった。図3よりわかるように、第3工程における操作pHを2.8に維持する事で、マグネシウムの分配を1に維持できる。また図4より、第3工程においてはO/Aを2以上とする事により、液のMg/Ni比を0.0005以下に抑制できる。複数のミキサーセトラーを用いた多段向流形式にて、粗硫酸ニッケル溶液図1中のMg、Ni組成比制御硫酸ニッケル溶液と、ニッケル含有溶液よりニッケルを抽出した有機溶媒図1中の洗浄後ニッケル保持有機相/抽出溶媒:PC-88A:20vol、テクリーンN20:80volをO/A=3.3で混合しながら硫酸を用いて所定のpHに調整することで精製した後、静置し、分液して高純度硫酸ニッケル溶液を作製した。Mg/NiCo濃度比=0.0022の粗硫酸ニッケル溶液を出発原料とし、溶媒抽出工程を用いた精製により、Mg/Ni濃度比=0.0004の高純度硫酸ニッケル溶液が得られた。実施例1の結果を纏めて表1に示す。比較例1複数のミキサーセトラーを用いて多段向流形式にて、粗硫酸ニッケル溶液とニッケルを抽出した有機溶媒図1中の洗浄後ニッケル保持有機相/抽出溶媒:PC-88A:20vol、テクリーンN20:80volをO/A=3.5を維持しながら混合しつつ硫酸を用いて所定のpHに調整することで精製した後、静置して高純度硫酸ニッケル溶液を作製した。Mg/NiCo濃度比=0.00456の粗硫酸ニッケル溶液を出発原料とし、溶媒抽出工程を用いた精製により、Mg/Ni濃度比=0.00056の硫酸ニッケル溶液が得られた。比較例1の結果を表2に示す。実施例1では、Mg/NiCo濃度比が0.0017~0.0025という本発明の条件を満たす粗硫酸ニッケル溶液を溶媒抽出法で精製したので、Mg/Ni濃度比が0.0003~0.00050を満たす高純度硫酸ニッケル溶液が得られた。一方、比較例1では、Mg/NiCo濃度比が0.00456と本発明の条件を満たさない粗硫酸ニッケル溶液を用いたため、溶媒抽出工程で精製して得られた硫酸ニッケル溶液のMg/Ni比は0.00056にとどまった。比較例2複数のミキサーセトラーを用いて多段向流形式にて、実施例1と同じ粗硫酸ニッケル溶液と、ニッケルを抽出した有機溶媒図1中の洗浄後ニッケル保持有機相/抽出溶媒:PC-88A:20vol、テクリーンN20:80volをO/A=1.5を維持しながら混合しつつ硫酸を用いて所定のpHに調整することで精製した後、静置して高純度硫酸ニッケル溶液を作製した。Mg/NiCo濃度比=0.00215の粗硫酸ニッケル液を出発原料とし、溶媒抽出工程を用いた精製により、Mg/Ni濃度比が0.0065の硫酸ニッケル溶液が得られた。O/Aが2.0より低いために、良好なニッケル置換ができずに、Mg/Ni濃度比は実施例1よりも大きくなり、純度が大きく低下した。