"一対の基板と、前記一対の基板に挟持された電気光学材料層と、を備え、前記一対の基板のうち一方の基板は、前記電気光学材料層とは反対側の第1面に凹部を有し、前記第1面は、表示領域における中央領域と平面的に重なる第1領域と、前記表示領域における前記第1領域の周囲である第2領域と、を有し、前記第1領域の凹部は、前記第2領域の凹部と比較して、単位面積当たりの表面積が大きいことを特徴とする電気光学パネル。請求項1に記載の電気光学パネルであって、前記第2領域から前記第1領域にいくに従って、単位面積当たりの表面積が増えることを特徴とする電気光学パネル。請求項1又は請求項2に記載の電気光学パネルであって、前記第1領域は、前記第2領域と比較して前記凹部の数量が多いことを特徴とする電気光学パネル。請求項1又は請求項2に記載の電気光学パネルであって、前記第1領域の凹部は、前記第2領域の凹部と比較して、前記凹部の深さが深いことを特徴とする電気光学パネル。請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の電気光学パネルであって、前記凹部は、溝又は窪みであることを特徴とする電気光学パネル。請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の電気光学パネルの前記第1面側にヒートシンクが配置されていることを特徴とする電気光学装置。請求項6に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。しかしながら、液晶パネルにおける表示領域の中央に光源光が強く入射することから、液晶パネルの裏面にヒートシンクを配置しただけでは、表示領域の中央領域とその周辺領域との間で、表示性能にばらつきが発生するという課題があった。本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。[適用例1]本適用例に係る電気光学パネルは、一対の基板と、前記一対の基板に挟持された電気光学材料層と、を備え、前記一対の基板のうち一方の基板は、前記電気光学材料層とは反対側の第1面に凹部を有し、前記第1面は、表示領域における中央領域と平面的に重なる第1領域と、前記表示領域における前記第1領域の周囲である第2領域と、を有し、前記第1領域の凹部は、前記第2領域の凹部と比較して、単位面積当たりの表面積が大きいことを特徴とする。この構成によれば、表示領域における第1領域としての中央領域の単位面積当たりの表面積を、第2領域である周辺領域より大きくするので、中央領域の放熱性を高めることが可能となり、例えば、中央領域に強い光が照射する場合でも、第1領域と第2領域との間で、蓄積する熱の量の差を小さくすることが可能となり、表示性能にばらつきが生じることを抑えることができる。その結果、電気光学パネル全体の表示品質を向上させることができる。[適用例2]上記適用例に係る電気光学パネルにおいて、前記第2領域から前記第1領域にいくに従って、単位面積当たりの表面積が増えることが好ましい。この構成によれば、第2領域である周辺領域から第1領域である中央領域にいくに従って除々に単位面積当たりの表面積を増やすので、例えば、電気光学パネルの中央に光源光が照射され、周囲との間で温度勾配があった場合であっても、電気光学パネル全体の表示性能を均一にすることができる。[適用例3]上記適用例に係る電気光学パネルにおいて、前記第1領域は、前記第2領域と比較して前記凹部の数量が多いことが好ましい。この構成によれば、第2領域より第1領域の凹部の数量が多いので、第1領域である中央領域の表面積を、第2領域である周辺領域の表面積より大きくすることが可能となり、中央領域の放熱性を高めることができる。[適用例4]上記適用例に係る電気光学パネルにおいて、前記第1領域の凹部は、前記第2領域の凹部と比較して、前記凹部の深さが深いことが好ましい。この構成によれば、第1領域の凹部の深さが深いので、第1領域である中央領域の表面積を、第2領域である周辺領域の表面積より大きくすることが可能となり、中央領域の放熱性を高めることができる。[適用例5]上記適用例に係る電気光学パネルにおいて、前記凹部は、溝又は窪みであることが好ましい。この構成によれば、第2領域と比較して、第1領域の溝の本数を増やしたり、窪みの数量を増やしたりすることにより、単位面積当たりの表面積を大きくすることが可能となり、第1領域である中央領域の放熱性を高めることができる。[適用例6]本適用例に係る電気光学装置は、上記に記載の電気光学パネルの前記第1面側にヒートシンクが配置されていることが好ましい。この構成によれば、凹部が形成された第1面側に、例えば、接着層などを介してヒートシンクが配置されているので、凹部とヒートシンク接着層などとの接触面積を増加させることが可能となり、電気光学パネルに蓄積した熱の放散性を高めることができる。[適用例7]本適用例に係る電子機器は、上記に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする。この構成によれば、上記した電気光学装置を備えるので、表示ムラが抑えられ表示品質が向上する電子機器を提供することができる。以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。なお、以下の形態において、例えば基板上にと記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、又は基板の上に他の構成物を介して配置される場合、又は基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。本実施形態では、電気光学装置の一つとして、薄膜トランジスターThinFilmTransistor:TFTを画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリックス型の液晶装置を例に挙げて説明する。この液晶装置は、例えば、投射型表示装置液晶プロジェクターの光変調素子液晶ライトバルブとして好適に用いることができるものである。<電気光学装置の構成>図1は、電気光学装置としての液晶装置の構成を示す分解斜視図である。以下、液晶装置の構成について、図1を参照しながら説明する。図1に示すように、液晶装置100は、液晶パネル200と、液晶パネル200を保持するフレーム300と、液晶パネル200に蓄積した熱を放散するためのヒートシンク400とを備えている。なお、本実施形態の液晶パネル200は、反射型の液晶パネルである。フレーム300には、液晶パネル200を嵌め込むための窪み301が設けられている。この窪み301の中央領域には、開口部302が設けられている。フレーム300は、投射型表示装置からの光入射光及び反射光が、開口部302を介して液晶パネル200の表示面に入反射できるように構成されている。具体的には、液晶パネル200の第1面としての非表示面200a側素子基板の裏面には、ヒートシンク400が配置されている。液晶パネル200の非表示面200aとヒートシンク400とは、接着材からなる接着層図示せずによって互いが接着されている。ヒートシンク400は、例えば、熱伝導率に優れたアルミニウムから構成されている。なお、ヒートシンク400は、例えば、フレーム300と共に液晶装置100を液晶プロジェクターなどの電子機器に実装するための実装ケースとしても機能する。また、液晶パネル200とフレーム300との間には、良好な熱伝導性を有する熱伝導部材図示せずが充填されている。そして、液晶パネル200で発生した熱は、ヒートシンク400に加えて、アルミニウムからなるフレーム300からも放散される。また、本実施形態では、液晶パネル200の非表示面200aには、複数の凹部溝部が設けられている。複数の凹部の構成についての詳細な説明は後述する。複数の凹部が設けられた液晶パネル200には、良好な熱伝導率を有する接着層を介して、ヒートシンク400が接着されている。<電気光学パネルの構成>図2は、電気光学パネルとしての液晶パネルの構造を示す模式平面図である。図3は、図2に示す液晶パネルのH-H’線に沿う模式断面図である。以下、液晶パネルの構造を、図1及び図2を参照しながら説明する。図2及び図3に示すように、液晶パネル200は、対向配置された素子基板10及び対向基板20と、これら一対の基板によって挟持された電気光学材料層としての液晶層15とを有する。素子基板10を構成する第1基板11、及び対向基板20を構成する第2基板12は、例えば、透明な石英基板やガラス基板などが用いられている。なお、第1基板11は、シリコン基板を用いるようにしてもよい。素子基板10は、対向基板20よりも一回り大きく形成されている。両基板10,20は、額縁状に配置されたシール材14を介して接合されている。そして、その隙間に、例えば、負の誘電異方性を有する液晶が封入されて液晶層15が構成されている。シール材14は、例えば、熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材14には、一対の基板10,20の間隔を一定に保持するためのスペーサー図示省略が混入されている。額縁状に配置されたシール材14の内側には、同じく額縁状に額縁遮光膜18が設けられている。額縁遮光膜18は、例えば、遮光性の金属あるいは金属酸化物などからなり、対向基板20側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜18の一部又は全部は、素子基板10側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。そして、額縁遮光膜18の内側が表示領域Eとなっている。表示領域Eには、マトリックス状に画素Pが複数配置されている。なお、図2では図示省略したが、表示領域Eにおいても複数の画素Pを平面的に区分する遮光部が設けられている。素子基板10の1辺部には、1辺部に沿ったシール材14との間にデータ線駆動回路22が設けられている。また、該1辺部に対向する他の1辺部に沿ったシール材14の内側に検査回路25が設けられている。更に、該1辺部と交差し互いに対向する他の2辺部に沿ったシール材14の内側には、走査線駆動回路24が設けられている。1辺部と対向する他の1辺部のシール材14の内側には、2つの走査線駆動回路24を繋ぐ複数の配線図示せずが設けられている。これらデータ線駆動回路22、走査線駆動回路24に繋がる配線は、該1辺部に沿って配列した複数の外部接続端子41に接続されている。以降、1辺部に沿った方向をX方向とし、1辺部と交差し互いに対向する他の2辺部に沿った方向をY方向として説明する。図3に示すように、第1基板11の液晶層15側の表面には、画素Pごとに設けられた光反射性を有する画素電極27及びスイッチング素子としてのTFT30と、信号配線と、これらを覆う配向膜28とが形成されている。画素電極27は、例えば、アルミニウムなどの光反射性の材料により構成されており、画素毎に所定のパターンで島状に形成され、入射光を反射できるように設けられている。また、第1基板11の表面には、TFT30における半導体層に光が入射して光リーク電流が流れ、不適切なスイッチング動作となることを防ぐ遮光構造が採用されている。第2基板12の液晶層15側の表面には、額縁遮光膜18と、これを覆うように成膜された層間膜図示せずと、層間膜を覆うように設けられた光透過性を有する共通電極31と、共通電極31を覆う配向膜32とが設けられている。額縁遮光膜18は、図2に示すように、平面的に走査線駆動回路24や検査回路25と重なる位置において額縁状に設けられている。これにより、対向基板20側から入射する光を遮蔽して、これらの駆動回路を含む周辺回路の光による誤動作を防止する役目を果たしている。また、不必要な迷光が表示領域Eに入射しないように遮蔽して、表示領域Eの表示における高いコントラストを確保している。共通電極31は、例えば、ITOなどの透明導電膜からなり、層間膜を覆うと共に、図2に示すように、対向基板20の四隅に設けられた上下導通部26により素子基板10側の配線に電気的に接続されている。画素電極27を覆う配向膜28及び共通電極31を覆う配向膜32は、例えば、酸化シリコンSiO2などからなる無機配向膜によって構成されている。本実施形態では、例えば、負の誘電異方性を有する液晶分子が配向膜面に対してプレチルトを与えられて垂直配向するように、所定の方向に配向処理が施されたものである。また、本実施形態では、表示領域Eは実効的な表示がなされる表示領域と、表示領域を囲む周辺領域とを含むものである。周辺領域に配置された画素Pはダミー画素として扱われている。図4aは、素子基板の裏面ヒートシンクに対向する面の構造を示す模式平面図である。図4bは、図4aの素子基板のA-A’線に沿う模式断面図である。以下、素子基板の構造、特に裏面の構造について、図4を参照しながら説明する。図4に示すように、素子基板10を構成する第1基板11は、裏面11aヒートシンク400に対向する面に複数の凹部500が設けられている。凹部500は、例えば、格子状の溝である。具体的には、第1基板11の裏面11aにおける表示領域Eにおいて、第1領域としての中央領域51と、その周辺にある第2領域としての周辺領域52とによって、溝の密度が異なっている。このように、第1基板11の裏面11aに格子状の溝部501,502を形成することにより、溝部を形成しない場合と比較して、表面積を大きくすることが可能となる。更に、表示領域Eにおける中央領域51の第1溝部501の密度を、周辺領域52の第2溝部502の密度と比較して高くすることにより言い換えれば、格子状の第1溝部501を細かくすることにより、中央領域51の単位面積当たりの表面積を大きくすることができる。第1溝部501及び第2溝部502の形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いることによって形成することができる。これにより、液晶パネル200とヒートシンク400又はそれらを接続する接着層との接触面積が増加し、液晶パネル200の表示領域Eにおける中央領域51に蓄積された熱を放熱させやすくすることが可能となる。よって、例えば、液晶プロジェクターなどの光源光が、特に中央領域に強く照射したとしても、周辺領域52の温度と同程度の温度に近づけることが可能となり、その結果、表示ムラが発生することを抑えることができる。液晶パネル200に蓄積した熱は、良好な熱伝導率を有する接着層を介してヒートシンク400に迅速に伝えられ、効果的に放熱効果を得ることができる。<電子機器の構成>図5は、上記した電気光学装置としての液晶装置を備えた電子機器反射型の投射型表示装置:液晶プロジェクターの構成を示す模式図である。以下、電子機器の構成について、図5を参照しながら説明する。図5に示すように、本実施形態の電子機器としての液晶プロジェクター1500は、システム光軸Lに沿って配置された偏光照明装置1100と、3つのダイクロイックミラー1111,1112,1115と、2つの反射ミラー1113,1114と、3つの光変調素子としての反射型の液晶ライトバルブ1250,1260,1270と、クロスダイクロイックプリズム1206と、投射レンズ1207とを備えている。偏光照明装置1100は、ハロゲンランプなどの白色光源からなる光源としてのランプユニット1101と、インテグレーターレンズ1102と、偏光変換素子1103とから概略構成されている。偏光照明装置1100から射出された偏光光束は、互いに直交して配置されたダイクロイックミラー1111とダイクロイックミラー1112とに入射する。光分離素子としてのダイクロイックミラー1111は、入射した偏光光束のうち赤色光Rを反射する。もう一方の光分離素子としてのダイクロイックミラー1112は、入射した偏光光束のうち緑色光Gと青色光Bとを反射する。反射した赤色光Rは反射ミラー1113により再び反射され、液晶ライトバルブ1250に入射する。一方、反射した緑色光Gと青色光Bとは反射ミラー1114により再び反射して光分離素子としてのダイクロイックミラー1115に入射する。ダイクロイックミラー1115は緑色光Gを反射し、青色光Bを透過する。反射した緑色光Gは液晶ライトバルブ1260に入射する。透過した青色光Bは液晶ライトバルブ1270に入射する。液晶ライトバルブ1250は、反射型の液晶パネル1251200と、反射型偏光素子としてのワイヤーグリッド偏光板1253とを備えている。液晶ライトバルブ1250は、ワイヤーグリッド偏光板1253によって反射した赤色光Rがクロスダイクロイックプリズム1206の入射面に垂直に入射するように配置されている。また、ワイヤーグリッド偏光板1253の偏光度を補う補助偏光板1254が液晶ライトバルブ1250における赤色光Rの入射側に配置され、もう1つの補助偏光板1255が赤色光Rの射出側においてクロスダイクロイックプリズム1206の入射面に沿って配置されている。なお、反射型偏光素子として偏光ビームスプリッターを用いた場合には、一対の補助偏光板1254,1255を省略することも可能である。このような反射型の液晶ライトバルブ1250の構成と各構成の配置は、他の反射型の液晶ライトバルブ1260,1270においても同じである。液晶ライトバルブ1250,1260,1270に入射した各色光は、画像情報に基づいて変調され、再びワイヤーグリッド偏光板1253,1263,1273を経由してクロスダイクロイックプリズム1206に入射する。クロスダイクロイックプリズム1206では、各色光が合成され、合成された光は投射レンズ1207によってスクリーン1300上に投射され、画像が拡大されて表示される。本実施形態では、液晶ライトバルブ1250,1260,1270における反射型の液晶パネル1251,1261,1271200として上記実施形態における液晶装置100が適用されている。このような液晶プロジェクター1500によれば、反射型の液晶装置100を液晶ライトバルブ1250,1260,1270に用いているので、表示領域Eの表示ムラが低減され高い表示品質を有する反射型の液晶プロジェクター1500を提供できる。以上詳述したように、本実施形態の液晶装置100、及び電子機器によれば、以下に示す効果が得られる。1本実施形態の液晶装置100によれば、第1基板11の裏面11aにおいて、中央領域51の第1溝部501の密度を、周辺領域52の第2溝部502の密度と比較して高くすることにより言い換えれば、格子状の第1溝部501を細かくすることにより、中央領域51の単位面積当たりの表面積を大きくすることができる。よって、液晶パネル200とヒートシンク400又はそれらを接続する接着層との接触面積が増加し、液晶パネル200の表示領域Eにおける中央領域51に蓄積された熱を放熱させやすくすることが可能となる。よって、例えば、液晶プロジェクターなどの光源光が、特に中央領域51に強く照射したとしても、周辺領域52の温度と同程度の温度に近づけることが可能となり蓄積する熱の量を均一にすることが可能となり、その結果、表示ムラが発生することを抑えることができる。加えて、表示領域E全体の表示品質を向上させることができる。2本実施形態の電子機器によれば、上記した液晶装置100を備えるので、表示ムラが抑えられ表示品質が向上する電子機器を提供することができる。なお、本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、本発明の技術範囲に含まれるものである。また、以下のような形態で実施することもできる。変形例1上記したように、第1基板11の裏面11aの表示領域Eにおいて、中央領域51とその周辺領域52との間で、格子状の溝部501,502の密度を変えることに限定されず、例えば、図6に示すようにしてもよい。図6aは、第1基板の裏面特に表示領域の構造を示す模式平面図である。図6bは、図6aの第1基板のA-A’線に沿う模式断面図である。図6に示す第1基板111は、裏面111aの表示領域Eにおいて中央から外側に向かって除々に格子状の溝部510の密度が低くなっている。言い換えれば、表示領域Eの中央に近くなる程、溝部510の間隔が狭くなっている。このように溝部510を設けることによって、例えば、液晶プロジェクターの光源光における強さの分布言い換えれば、熱の温度勾配に合わせて溝部510の密度を変えているので、表示領域Eの表示ムラをより抑えることができる。その結果、表示品質を向上させることができる。変形例2上記したように、第1基板11の裏面11aの表示領域Eにおいて、中央領域51とその周辺領域52との間で、格子状の凹部500の密度を変えることに限定されず、例えば、図7に示すようにしてもよい。図7aは、第1基板の裏面特に表示領域の構造を示す模式平面図である。図7bは、図7aの第1基板のA-A’線に沿う模式断面図である。図7に示す第1基板211は、裏面211aの表示領域Eにおいて中央領域51と周辺領域52とによって格子状の溝部600の深さが異なっている。中央領域51の溝部601の深さは、周辺領域52の溝部602の深さと比較して深くなっている。このように溝部600を設けることによって、中央領域51の単位面積当たりの表面積を、周辺領域52の単位面積当たりの表面積と比較して、多くすることができる。よって、液晶パネル200の中央領域51に蓄積された熱を放散しやすくすることが可能となり、液晶パネル200全体に亘って蓄積された熱の量を同程度にすることができる。これにより、表示領域Eの表示ムラを抑えることができ、その結果、表示品質を向上させることができる。変形例3上記したように、第1基板11の裏面11aの表示領域Eにおいて、中央領域51とその周辺領域52との間で、格子状の凹部500の密度を変えることに限定されず、例えば、図8に示すようにしてもよい。図8aは、第1基板の裏面特に表示領域の構造を示す模式平面図である。図8bは、図8aの第1基板のA-A’線に沿う模式断面図である。図8に示す第1基板311は、裏面311aの表示領域Eにおいて円形の凹部700窪みを設け、中央領域51と周辺領域52とによって、凹部700の数量を異ならせている。中央領域51の凹部701の数量は、周辺領域52の凹部702の数量と比較して多くなっている。このように凹部700701,702を設けることによって、中央領域51の単位面積当たりの表面積を、周辺領域52の単位面積当たりの表面積と比較して、多くすることができる。よって、液晶パネル200の中央領域51に蓄積された熱を放散しやすくすることが可能となり、液晶パネル200全体に亘って蓄積された熱の量を同程度にすることができる。また、円形の凹部700に限定されず、四角形やその他の形状の凹部にしてもよい。変形例4上記したように、第1基板11の裏面11aの表示領域Eにおいて、中央領域51とその周辺領域52との間で、格子状の凹部500の密度を変えることに限定されず、例えば、図9に示すようにしてもよい。図9aは、第1基板の裏面特に表示領域の構造を示す模式平面図である。図9bは、図9aの第1基板のA-A’線に沿う模式断面図である。図9に示す第1基板411は、裏面411aの表示領域Eにおいて細長い溝部800を設け、中央領域51と周辺領域52とによって、溝の本数を異ならせている。中央領域51の溝部801の本数は、周辺領域52の溝部802の本数と比較して多くなっている。このような溝部800を設けることによって、中央領域51の単位面積当たりの表面積を、周辺領域52の単位面積当たりの表面積と比較して、多くすることができる。よって、液晶パネル200の中央領域51に蓄積された熱を放散しやすくすることが可能となり、液晶パネル200全体に亘って蓄積された熱の量を同程度にすることができる。また、図7~図9に示す変形例は、図6に示す変形例のように、中央領域51から周辺領域52に向かって除々に深さ、凹部の数量、溝部の本数などを増減させることが望ましい。このようにすることにより、例えば、液晶パネル200を液晶プロジェクターに適用した際、光源光における強さの分布に合わせて放散性を変えることが可能となり、表示領域Eの表示ムラをより抑えることができる。その結果、表示品質を向上させることができる。変形例5上記したように、第1基板11の裏面11aの表示領域Eにおいて、中央領域51とその周辺領域52との間で、格子状の凹部500の密度を変えることに加えて、第1基板11とヒートシンク400とを固定する接着層の熱伝導性を、中央領域51と周辺領域52との間において変えるようにしてもよい。例えば、中央領域51に熱伝導性の高い接着層を配置し、周辺領域52に、中央領域51で配置した接着層より熱伝導性の低い接着層を配置するようにする。変形例6上記したように、電気光学装置として液晶装置100を例に説明したが、これに限定されず、例えば、有機ELElectroLuminessence装置、電気泳動装置などの表示装置にも適用することができる。また、プラズマディスプレイPDP、電界放出型ディスプレイFED、SED、デジタルマイクロミラーデバイスDMDにも適用可能である。変形例7上記したように、電子機器として液晶プロジェクター1500投射型表示装置を例に説明してきたが、これに限定されず、例えば、ビューワー、ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイなどに適用するようにしてもよい。また、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニター直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなどの各種電子機器、また、電子ペーパーなどの電気泳動装置等に適用するようにしてもよい。"