"スチレンスルホン酸のモノマー溶液、又はスチレンスルホン酸のピリジン塩、又は双方の混合物を有機溶剤中で製造する方法であって、前記溶液が、カチオン交換膜の製造に適しており、以下;aスチレンスルホネートの金属塩の第一懸濁液を前記有機溶剤中で形成する工程、bピリジニウム塩を、前記第一懸濁液に添加して、混合物懸濁液を形成する工程、c前記混合物懸濁液を反応させて、スチレンスルホン酸のモノマー溶液、又はスチレンスルホン酸のピリジン塩、又は双方の混合物を前記有機溶剤中で、金属塩の副生成物沈殿物を生じる条件下で形成する工程、d場合により、揮発性ピリジン副生成物及び他の揮発性種、例えば水を、前記溶液から、該有機溶剤の約5質量未満を揮発する条件下で除去する工程、並びにe反応溶液を、場合により副生成物沈殿物から分離した後に採取する工程を含む、前記方法。前記有機溶剤が、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン又はジメチルスルホキシドからなる群から選択される、請求項1に記載の方法。前記ピリジン塩が、塩化ピリジニウム、臭化ピリジニウム、フッ化ピリジニウム又はヨウ化ピリジニウムからなる群から選択される、請求項1に記載の方法。前記金属塩が、ナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウムからなる群から選択される、請求項1に記載の方法。塩の副生成物の沈澱後に、製造したモノマー溶液が、約50質量までのスルホネートイオンを含む、請求項1に記載の方法。塩の副生成物の沈澱後に、製造したモノマー溶液が、約70質量までのスルホネートイオンを含む、請求項1に記載の方法。ピリジニウムスチレンスルホネート含有率を、追加のモノマーの添加によって増加する、請求項1に記載の方法。カチオン交換膜を製造する方法であって、以下、aスチレンスルホネートの金属塩の第一懸濁液を前記有機溶剤中で形成し、bピリジニウム塩を、前記第一懸濁液に添加して、混合物懸濁液を形成し、c前記混合物懸濁液を反応させて、スチレンスルホン酸のモノマー溶液、又はスチレンスルホン酸のピリジン塩、又は双方の混合物を前記有機溶剤中で、金属塩の副生成物沈殿物を生じる条件下で形成し、d場合により、揮発性ピリジン副生成物及び他の揮発性種、例えば水を、前記溶液から、該有機溶剤の約5質量未満を揮発する条件下で除去し、並びにe反応溶液を、場合により副生成物沈殿物から分離した後に採取し、適した多孔質基材を選択し、それぞれ工程a~eを含む方法によって製造された、スチレンスルホン酸、又はスチレンスルホン酸のピリジン塩、又は双方の混合物、及び場合により、少なくとも1つの第二のモノマー、架橋モノマー、及び重合開始剤を含む溶液で基材の多孔質領域を飽和し、又は有機溶剤中で、工程a~eによって製造されたスチレンスルホン酸の1つ以上のモノマー、又はスチレンスルホン酸のピリジン塩、又は双方の混合物、中性モノマー、架橋モノマー、及び重合開始剤の溶液で基材の多孔質領域を飽和し、溶液で飽和した多孔質体積を残して、基材の表面から過剰な溶液を取り除き、熱、紫外線光、又は電離放射線の適用によって、場合により実質的に全ての酸素の不在で重合を開始して、実質的に基材の孔を完全に充填した架橋したイオン輸送ポリマーを形成することを含む、カチオン交換膜を製造する方法。前記多孔質支持体が、ポリプロピレン、高分子量ポリエチレン、超高分子量ポリエチレン又はポリフッ化ビニリデンを含む、請求項8に記載の方法。前記多孔質支持体の厚さが、約55ミクロンより大きく、かつ約155ミクロン未満である、請求項8に記載の方法。前記多孔質支持体の厚さが、約20ミクロンより大きく、かつ約55ミクロン未満である、請求項8に記載の方法。少なくとも1つの第二のモノマーが、2-スルホエチルメタクリレート2-SEM又は2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸AMPS又はアクリル酸である、請求項8に記載の方法。少なくとも1つの第二のモノマーが、スチレン、ビニルトルエン、4-メチルスチレン、t-ブチルスチレン、アルファ-メチルスチレン;メタクリル酸無水物、メタクリル酸、n-ビニル-2-ピロリドン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル-トリス-2-メトキシエトキシシラン、塩化ビニリデン,フッ化ビニリデン、ビニルメチルジメトキシシラン、2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート、マレイン酸無水物、グリシジルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、メチルメタクリレート、エポキシシクロヘキシル-POSS登録商標cagemixtureEP04080、グリシジル-POSS登録商標cagemixtureEP0409、メタクリルPOSS登録商標CageMixtureMA0735、AcryloPOSS登録商標CageMixtureMA0736、トリススルホン酸エチルPOSS登録商標SA1532、TrisulfonicAcidIsobutylPOSS登録商標SA1533からなる群から選択される、請求項8に記載の方法。前記架橋剤が、ジビニルベンゼン又はエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、イソブチレングリコールジメタクリレート、OctavinylPOSS登録商標OL1160、OctavinyldimethylsilyiPOSS登録商標OL1163、VinylPOSS登録商標MixtureOL1170、OctaVinylPOSS登録商標OL1160,TrisilabolethylPOSS登録商標SO1444、TrisilanolisobutylPOSS登録商標O1450、TrisilanolisooctylPOSS登録商標SO1455、OctasilanePOSS登録商標SH1310、OctahydroPOSS登録商標SH1311である、請求項8に記載の方法。前記重合開始剤が、有機ペルオキシド、2,2’-アゾビス[2,2-イミダゾリン-2-イル-プロパン]ジヒドロクロリド、a,a’-アゾイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス2-メチルプロピオアミニジンジヒドロクロリド、2,2’-アゾビス[2,2-イミダゾリン-2-イル-プロパン]、又はジメチル2,2’-アゾビス2-メチルプロピオネートからなる群から選択される、請求項8に記載の方法。"