ボディコントワリング装置であって、対象の身体の少なくとも一部を収容するべく動作可能な少なくとも1つの身体収容表面と、コントローラと、RFエネルギー源と、前記身体収容表面に取り外し可能に接続された少なくとも1つのエネルギー送達モジュラーコンポーネントであって、前記コントローラ及び前記RFエネルギー源と通信し、及び、被トリートメント組織のセグメントにわたり掃引組織加熱波効果をもたらすべく動作可能な少なくとも1つのRF送達電極を有するエネルギー送達モジュラーコンポーネントとを含む装置。前記装置はさらに、温度センサ、圧力センサ、インピーダンスセンサからなる群から選択される少なくとも1つのセンサと、タイマーとを含み、前記コントローラは、所定のトリートメントプロトコルに応じて前記センサ及びタイマーと通信し、これらから受け取ったデータをデータベースに格納し、並びに、前記エネルギー送達モジュラーコンポーネントに関連するトリートメントパラメータをモニタするべく動作可能である、請求項1に記載の装置。前記身体収容表面及びエネルギー送達モジュラーコンポーネントの少なくとも1つは固定されている、請求項1に記載の装置。前記効果は、直線及び回転掃引組織加熱波効果の少なくとも1つである、請求項1に記載の装置。前記エネルギー送達モジュラーコンポーネントはさらに、被トリートメント組織のセグメントを加熱する可視及び赤外範囲の少なくとも1つの光を放出するべく動作可能な少なくとも1つの発光素子を含む、請求項1に記載の装置。前記トリートメントパラメータは、温度、圧力、並びにRF電圧及び周波数からなる群から選択される少なくとも1つのパラメータである、請求項2に記載の装置。前記身体収容表面及び/又は前記エネルギー送達モジュラーコンポーネントは、これに接触する前記対象の身体の前記一部に機械エネルギーを適用するべく動作可能であり、前記コントローラはまた、適用された前記機械エネルギーをモニタかつ制御するべく動作可能である、請求項1に記載の装置。前記身体収容表面は、身体マッサージユニット、ポータブル振動適用クッション、身体サポートアクセサリ、スポーツ衣料、ウェスト引き締めマッサージベルト、及びトレッドミルの少なくとも1つと関連付けられる、請求項1に記載の装置。前記モジュラーコンポーネントは使い捨て可能である、請求項1に記載の装置。前記モジュラーコンポーネントはさらに、RFエネルギー、光エネルギー、機械エネルギーからなる群から選択される少なくとも1つのタイプのエネルギーを前記身体に適用するべく動作可能な複数の離間適用素子の所定パターンを1つの表面に有する少なくとも1つのキャリアを含む、請求項1に記載の装置。前記RF送達電極により前記身体に適用される前記RFエネルギーは、適用されるトリートメントのタイプ及び被トリートメント身体の部分に応じて1Wから40Wの範囲にある、請求項1に記載の装置。前記装置コントローラはさらに、ユーザ情報、好み及び設定、並びに以前のトリートメントセッションから受け取られたデータに関する情報の入力を可能とする少なくとも1つの自動及び手動入力機能を含む、請求項1に記載の装置。前記自動入力機能は、センサ及びタイマーの少なくとも1つから受け取られた情報の自動入力を可能とする、請求項12に記載の装置。前記コントローラはさらに、前記所定のトリートメントプロトコルに応じて美容トリートメントパラメータを調整することと、センサ及びタイマーの少なくとも1つから入力された情報に関連して美容トリートメントパラメータを調整することと、所定のトリートメントパラメータ及びトリートメント継続時間の少なくとも1つに応じてトリートメント適用を終了及び再開することと、所定のトリートメントプロトコルに応じて前記トリートメントパラメータからの逸脱に関してユーザに警告することと、使い捨て可能モジュラーコンポーネント交換時期警告をユーザに与えることとの機能の少なくとも1つを実行するべく動作可能である、請求項1に記載の装置。前記コントローラはさらに、組織の過熱を防止するべくトリートメント継続時間を制限することと、前記エネルギー送達モジュラーコンポーネントの使用時間を制限することと、使い捨て可能モジュラーコンポーネントの交換時期警告を与えることと、所定の使用回数又は最大許容使用継続時間に従うことと、前記コントローラに使用回数、使用継続時間、及び使用日のような使用データを前記コントローラに与えることとを行うべく動作可能である、請求項1に記載の装置。前記コントローラはさらに、インターネットと通信することと、前記インターネットから情報を受け取ることと、受け取られた前記情報に応じて美容トリートメントパラメータを調整することとを行うべく動作可能である、請求項1に記載の装置。前記RFエネルギー源は、使い捨て可能エネルギー源及び充電可能エネルギー源の少なくとも1つである、請求項1に記載の装置。ボディコントワリング装置のための使い捨て可能エネルギー送達モジュラーコンポーネントであって、対象の身体の少なくとも一部を収容するべく動作可能な少なくとも1つの身体収容接触表面と、前記身体収容接触表面に取り付けられた少なくとも1つのRFエネルギー送達電極であって、前記対象の身体の前記少なくとも一部にRFエネルギーを適用し、及び、被トリートメント組織のセグメントにわたり掃引組織加熱波効果をもたらすべく動作可能な少なくとも1つのRFエネルギー送達電極と、前記対象の身体の前記少なくとも一部に機械エネルギーを伝達するべく動作可能な少なくとも1つの機械エネルギー送達素子と少なくとも1つのセンサとを含むコンポーネント。美容トリートメントの方法であって、使い捨て可能エネルギー送達コンポーネントを身体のセグメントに結合することと、前記エネルギー送達コンポーネントを使用して、被トリートメント組織のセグメントにわたり少なくとも1つのタイプのエネルギーを適用し、及び、掃引組織加熱波効果をもたらすことと、前記エネルギーの少なくとも1つによりもたらされた効果の少なくとも1つを感知してフィードバックを与えることと、前記フィードバック及び所定のトリートメントプロトコルに応じて、前記身体のセグメントに適用される前記エネルギーの少なくとも1つのタイプ、及びトリートメントパラメータを変更することとを含む方法。前記効果は、直線及び回転掃引組織加熱波効果の少なくとも1つである、請求項19に記載の方法。前記エネルギーのタイプは、RFエネルギー、光エネルギー、機械エネルギーからなる群から選択される、請求項19に記載の方法。前記身体に適用される前記RFエネルギーは、適用されるトリートメントのタイプ及び被トリートメント身体の部分に応じて1Wから40Wの範囲にある、請求項19に記載の方法。前記フィードバックは、温度、圧力、及びインピーダンスからなる群から選択される少なくとも1つのタイプのフィードバックである、請求項19に記載の方法。前記トリートメントパラメータは、温度、圧力、並びにRF電圧及び周波数からなる群から選択される少なくとも1つのタイプのパラメータである、請求項19に記載の方法。振動エネルギーを与えることをさらに含む、請求項19に記載の方法。所定のトリートメントパラメータ及びトリートメント継続時間の少なくとも1つに応じてトリートメント適用を終了及び再開することと、所定のトリートメントプロトコルに応じて前記トリートメントパラメータからの逸脱に関してユーザに警告することと、所定の使用回数又は最大許容使用継続時間に基づいて、使い捨て可能モジュラーコンポーネント交換時期をユーザに与えることと、組織の過熱を防止するべくトリートメント継続時間を制限することと、使い捨て可能エネルギー送達モジュラーコンポーネントの使用時間を制限することと、使用回数、使用継続時間、及び使用日のような使用データを収集及び格納することとをさらに含む、請求項19に記載の方法。本開示の目的として、以下で使用される用語カフは、肢又は胴のような身体部分の周囲を部分的に又は全体的に取り囲むべく動作可能なベルト状のバンドを意味する。ここで図1A及び1Bを参照すると、本方法及び装置の複数実施例が簡略的に示される。図1Aは、身体収容表面102と、これに一体的に取り付けられた一以上のエネルギー送達モジュラーコンポーネント104とを有するシート100を示す。代替的に、身体収容表面102は、取り外し可能な取り付けシステム例えば、3Mスコッチ登録商標のフックループテープ又は取り付けクリップを使用して、一以上のエネルギー送達モジュラーコンポーネント104と独立して又は一緒に、マッサージリクライナのような1つの家具に取り外し可能に取り付けられる。エネルギー送達モジュラーコンポーネント104は交換可能及び/又は使い捨て可能であり、ECGスナップタイプコネクタ、極細径同軸miniaturecoaxialMCタイプRFコネクタ、又は任意の適切な取り外し可能コネクタのような取り外し可能コネクタによって身体収容表面102に取り付けられる。身体収容表面102は、モジュラーコンポーネント104と通信する電源106を含むか又はこれに接続される。電源106は、RFエネルギー源であり及び/又はこれを含む。オプションとして及び代替的に、各モジュラーコンポーネント104が、RFエネルギー源であり及び/又はこれを含む電源図示せずに独立して接続される。モジュラーコンポーネント104に給電する電源は充電可能又は使い捨て可能である。身体収容表面102はまた、使い捨て可能な有窓シート図示せずを含む。これは、紙、織物、及び/若しくは布地、又は薄プラスチックシートから作られて各トリートメントセッションの後に交換される。使い捨て可能有窓シートの開窓は、被トリートメント身体部分の表面とエネルギー送達モジュラーコンポーネント104との接触を可能とするべくエネルギー送達モジュラーコンポーネント104の位置と重なる。エネルギー送達モジュラーコンポーネント104は、最小限に侵襲的及び/又は非侵襲的タイプの美容トリートメントを身体に適用するべく動作可能である。これは、RFエネルギー、光エネルギー、及び機械エネルギーのような、ただしこれらに限られないエネルギーの形態を含む。これらは以下に詳述される。オプションとして、エネルギー送達モジュラーコンポーネント104はまた、被トリートメント組織に振動エネルギーを送達する一以上の機械エネルギー送達素子108を含む。機械エネルギー素子108は、例えば振動ボールを含む。これは、被トリートメント局所エリアにおいて筋緊張、血液循環、及び脂肪組織代謝を一時的に増大させる。オプションとして、身体収容表面102はまた、被トリートメント組織に振動エネルギーを送達する一以上の機械エネルギー送達素子108を含む。モジュラーコンポーネント104は、コントローラ112に接続されてこれと通信する。コントローラ112は、タイマー及び時間制御カウンターユニットを含み、モジュラーコンポーネント104、身体収容表面102、及び電源106を制御するべく動作可能である。モジュラーコンポーネント104はまた、温度センサ、圧力センサ、及びインピーダンスセンサからなる群から選択される一以上のセンサ110を含む。オプションとして、身体収容表面102はまた、一以上のセンサ110を含む。センサ110は、コントローラ112にフィードバックを与える。当該フィードバックは、温度、圧力、及び組織インピーダンスからなる群から選択される一以上のトリートメントパラメータからなる。コントローラ112タイマーは、コントローラ112に時間情報の入力を与える。コントローラ112はまた、所定の美容トリートメントプロトコルに従って当該タイマーをアクティブに又はリセットするべく動作可能である。センサ110から受け取ったトリートメントパラメータ及び当該タイマーから受け取った時間情報に基づいて、及び所定の美容トリートメントプロトコルに応じて、コントローラ112は、以下の一以上の機能を実行するべく動作可能である:RF電圧及び周波数のような美容トリートメントパラメータの調整、トリートメント適用の終了及び再開、並びにトリートメントパラメータ及びトリートメント継続時間に関する情報についてのユーザへの警告。コントローラ112時間制御カウンターユニットは、当該タイマー、及びモジュラーコンポーネント104に配置されたRFID、並びに/又は身体収容表面102から、時間情報入力を受け取るべく動作可能である。これにより、所定のトリートメントプロトコルに応じて時間に関連する機能がモニタ及び制御される。かかる機能は、組織の過熱を防止するべくトリートメント継続時間を制限すること、使用時間を制限し、及び/又は、所定の使用回数若しくは最大許容継続使用の後の、使い捨て可能モジュラーコンポーネント104の交換時期警告を与えること、並びに、使用回数、使用継続時間、及び使用日のような使用データをコントローラ112に与えることを含む。コントローラ112は、時間制御カウンターユニットから受け取った情報をデータベースに格納するべく動作可能である。コントローラ112はまた、遠隔通信してインターネットから美容トリートメントプロトコル及びトリートメントパラメータ設定に関する情報を受け取り、受け取った情報に応じて美容トリートメントパラメータを調整するべく動作可能である。図1Bは、本方法及び装置の他実施例を示す。身体収容表面114がウェストカフ120の一部に一体的に取り付けられる。代替的に、身体収容表面114は、取り外し可能取り付けシステム層例えば、3Mスコッチ登録商標のフックループテープ又は取り付けクリップを使用して、ウェストカフ120に取り外し可能に取り付けられる。モジュラーコンポーネント104はコントローラ112に接続されて上述のようにこれと通信する。オプションとして、一以上の機械エネルギー素子108はまた、ウェストカフ120の一以上のモジュラーコンポーネント104及び/又は身体収容表面114に配置される。ウェストカフ120はまた、モジュラーコンポーネント104に給電する電源106を含む。電源は、スタンドアロンのユニット/モジュールであるか、又は、当該カフに又はカフを使用する人の肢に取り付けられるパウチで携行される。エネルギー送達モジュラーコンポーネント104は、独立して又はカフ120及び身体収容表面102に関連して、ポータブルのボディコントワリング装置を構成する。当該ポータブルのボディコントワリング装置は、例えば適切なキャリングケースで携行されて、非臨床環境において使用されるべく、並びに、オプションとして、例えばフィットネストレーニングマシン及びトレッドミルのような家、スパ、及びフィットネスルームの家具及びアクセサリでの一般的な使用に関連して使用されるべく動作可能である。ここで図2A、2B、及び2Cを参照すると、図1Bの実施例の3つのアプリケーション構成が簡略的に示される。図2Aは、ウェスト及び腹部エリアの美容周囲トリートメントにおけるウェストカフ120の使用を示す。このエリアの美容トリートメントは、脂肪低減、ウェストエリア痩身、セルライト低減、皮膚引き締め、及び皮膚リジュベネーションに寄与する。カフ120はまた、図2Bに示す脚の近位部分のような肢の近位部分及び/又は図2Cに示す腕の近位部分の美容周囲トリートメントのためのアプリケーション構成において使用されるように調整されて、脂肪低減、肢の痩身、並びに、皮膚引き締め及び皮膚リジュベネーションのようなたるんだ皮膚のトリートメントに寄与する。ここで図3A、3B、3C、3D、及び3Eを参照すると、本方法及び装置に係るエネルギー送達モジュラーコンポーネント104の電極構成の実施例について簡略的な平面図及び断面図が示される。図3Aに示すように、エネルギー送達モジュラーコンポーネント104は、キャリア300とこれに取り付けられた一以上のRF電極302とを含む。キャリア300は、剛性の、半剛性の、又は可撓性の材料から作られ、柔らかい織物があてられる。RF電極302はコントローラ112図1と通信し、コネクタ304を介してモジュラーコンポーネント104に接続された電源106から給電される。代替的に、エネルギー送達モジュラーコンポーネント104は、コネクタ304を介して間接的に身体収容表面102を通る電源106に接続される。モジュラーコンポーネント104はまた、コントローラ112図1と通信するべく動作可能な温度センサ、圧力センサ、及びインピーダンスセンサからなる群から選択される一以上のセンサ110を含む。コントローラ112は、センサ110から受け取った情報をデータベースに格納してRF電極302を制御するべく動作可能である。キャリア300はまた、剛性又は可撓性のプリント回路基板PCBを含む。これは、RF電極302、コネクタ304、及びセンサ106のようなモジュラーコンポーネント104要素間のすべての電気通信配線を収容する。エネルギー送達モジュラーコンポーネント104及び/又は身体収容表面102はまた、その使用を制御かつ制限するべくRFID図示せずのようなユーザ識別性能を含む。例えば、使い捨て可能コンポーネントの使用が、同じ使い捨てコンポーネントの繰り返し使用を防ぐ態様でRFIDに記録される。RFトリートメントエネルギーが一極、二極、及び多極モードで適用され、これに応じて電極302が構成される。RF電極302はまた、1Wから40Wの範囲であるがこれに限られないパワーレベルにおけるパルス又は連続形態でRFエネルギーを適用するべく動作可能である。一般には、低いRFパワー設定が非臨床美容トリートメントアプリケーションで適用される一方、高いRFパワー設定がプロフェッショナルの監督下又は臨床美容トリートメントアプリケーションで適用される。例えば、非臨床美容トリートメントアプリケーション用のRFパワー設定は、1Wから20Wの範囲であるがこれに限られないのが一般的であり、7Wから15Wの範囲であるがこれに限られないのがさらに一般的である。プロフェッショナルの監督下又は美容臨床トリートメントアプリケーション用のRFパワー設定は、18Wから40Wの範囲であるがこれに限られないのが一般的であり、25Wから35Wの範囲であるがこれに限られないのがさらに一般的である。電極302により生成されたRFエネルギーが、脂肪低減、痩身、セルライト低減、皮膚引き締め、及び皮膚リジュベネーションからなる群から選択される一以上の美容トリートメントを適用するべく、並びに、血液循環及び脂肪細胞代謝を増大させて身体のコントワリングをするべく使用される。図3Aに示す構成は、モジュラーコンポーネント104の電極302の多極構成である。この構成における温度センサ310はサーミスタである。これは、RF美容トリートメントの適用中に組織温度をモニタするべく動作可能である。代替的に、センサ310は、コントローラ112と通信してモジュラーコンポーネント104電極302と被トリートメント組織表面との接触又は接触欠如に関する情報を伝えるべく動作可能な圧力センサである。コントローラ112は、一以上のモジュラーコンポーネント104電極302をアクティブ又はディアクティブにするか、又はセンサ110からの入力に応じて美容トリートメントパラメータを調整する。本方法及び装置の他実施例によれば、図3Bに示すように、モジュラーコンポーネント104は二極構成の電極302を含む。サーミスタのような温度センサ110が、電極302の各ペアの間に配置される。これは、RF美容トリートメントの適用中に組織温度をモニタするべく動作可能である。この実施例では、モジュラーコンポーネント104はまた、一以上の機械エネルギー送達素子108と、上述のような、モジュラーコンポーネント104電極302と被トリートメント組織表面との接触又は接触欠如をモニタするセンサ310とを含む。ここで図3Cを参照すると、本方法及び装置に係るエネルギー送達モジュラーコンポーネント104の他実施例が示される。この実施例では、キャリア300はまた、被トリートメント組織のセグメントを加熱するべく可視及び赤外IR範囲の光を放出するべく動作可能な発光素子306を含む。この実施例では、センサ310はサーミスタである。光源306とセンサ310の双方は、コントローラ112及び電源106と通信するべく動作可能である。オプションとして、発光素子306はLEDタイプの光源である。本方法及び装置のさらなる他実施例によれば、図3Dに示すように、RF電極302はまた、一以上の適用素子キャリア320を含む。これは、その一表面に複数のRF電圧適用素子322を、本明細書に参照として組み入れられる譲受人の国際公開第WO2009/072108号明細書に記載されている離間パターンで有する。代替的に、適用素子322は、LED、VCSEL、レーザダイオード等のような発光素子である。本方法及び装置のまたさらなる他実施例によれば、RF電極302は、複数の離間した突出導電素子図示せずを含む。これらは、複数の別個のかつ離れた位置において皮膚表面と接触して、例えば表皮のような皮膚の層に浸透するべく構成される。これは譲受人の米国特許出願第2006/0047281号明細書に記載され、その開示は本明細書に参照として組み入れられる。ここで図3Eを参照すると、矢印Xで示す方向から見た図3Aのエネルギー送達モジュラーコンポーネント104の他実施例の簡略的な側面図が示される。キャリア300は、エネルギー送達表面312に取り付けられた一以上の電極302を含む。表面312と反対側の取り付け表面314は、一以上のECGスナップタイプのコネクタ304を含む。これは、身体収容表面102上の対応するECGスナップタイプのコネクタレセプタクルに容易に接続可能である。コネクタ304取り付け表面314はまた、取り外し可能取り付けシステム層324例えば、3Mスコッチ登録商標のフックループテープ又は取り付けクリップで被覆される。モジュラーコンポーネント104はまたセンサ310を含む。これは、コネクタ304を介してコントローラ112図1と通信するべく動作可能なエネルギー送達表面312に取り付けられる。ここで図4を参照すると、本方法及び装置の他実施例に係るユーザインターフェイス400の簡略的な図が示される。ユーザインターフェイス400はモニタ402を含む。これは例えば、タッチスクリーンモニタ、アクションボタン404、インジケータ406である。ユーザはインターフェイス400を使用して、複数のトリートメントプロトコルから所定の選択肢を選択し及びトリートメントセッションを開始又は終了させる。ユーザインターフェイス400モニタ402はまた、トリートメントパラメータ、格納されたユーザ情報、好み及び設定、並びに以前のトリートメントセッションから受け取られかつ格納されたデータのような、コントローラ112図1データベースから取得した情報をユーザに提示する。ユーザインターフェイスは、コネクタ304を介して直接的に又はワイヤレス通信によりコントローラ112と通信する。ユーザインターフェイス400はまた、トリートメント開始及び終了の合図のような様々な聴覚信号を鳴らし、及びトリートメントパラメータからの逸脱を示す警告をするべく動作可能である。可聴信号の生成は、所定のトリートメントプロトコルに応じてコントローラ112により制御される。ここで図5A-5Eを参照すると、本方法及び装置の一実施例に係る、直線掃引加熱波効果を生成するRF電極の簡略的な平面図及び断面図が示される。図5A、5B、5C、5D、及び5Eはそれぞれ、軸X-Xに沿った断面図を伴う。図3Dに示すタイプの電極302は、キャリア320と、離間パターンの複数のRF電圧適用素子322とを含む。図5Aでは、素子322は、行a-f及び列a’-f’に沿ったアレイに配列される。コントローラ112図1は、所定のトリートメントプロトコルに応じてRF電極304の個々の素子322をアクティブ及びディアクティブにするべく動作可能である。図5Aに示すように、行a及びbの素子322の黒塗りで示された行a及びbのみがコントローラ112によりアクティブにされる。RF電流が、行aの素子322から被トリートメント組織を通って行bの素子322に流れ、その間にあって平行をなす、キャリア300上のエリア328aに対応する組織層326の直線領域324aを加熱する。図5Bに示すように、今度は行aがインアクティブにされて行b及びcがアクティブにされる。このときRF電流は、行bの素子322から被トリートメント組織を通って行cの素子322に流れる。組織層326の加熱された直線領域324aはこのとき冷却され、今度はキャリア300上のエリア328bに対応する隣接した直線領域324bが加熱される。図5Cにおいて、今度は行a及びbがインアクティブにされて行c及びdのみがアクティブにされる。このときRF電流は、行cの素子322から被トリートメント組織を通って行dの素子322に流れる。組織層326の加熱された直線領域324bはこのとき冷却され、今度はキャリア300上のエリア328cに対応する隣接した直線領域324cが加熱される。図5Dに示すように、今度は行a、b、及びcがインアクティブにされて行d及びeのみがアクティブにされる。このときRF電流は、行dの素子322から被トリートメント組織を通って行eの素子322に流れる。組織層326の加熱された直線領域324cはこのとき冷却され、今度はキャリア300上のエリア328dに対応する隣接した直線領域324dが加熱される。図5Eにおいて、今度は行a、b、c、及びdがインアクティブにされて行e及びfのみがアクティブにされる。このときRF電流は、行eの素子322から被トリートメント組織を通って行fの素子322に流れる。組織層326の加熱された直線領域324dはこのとき冷却され、今度はキャリア300上のエリア328eに対応する隣接した直線領域324eが加熱される。RFトリートメントにより、組織層326の加熱された直線領域324の進行の効果がもたらされる。これは、参照番号500が付された矢印で示される方向の、トリートメントプロトコルに応じた所定経路に沿って進行して、例えばカフ120又は電極302の物理的又は機械的な移動なしで直線掃引組織加熱波効果を生じさせる。以下に述べる掃引組織加熱波効果のすべての進行方向は、図面の平面に関して与えられる。なお、本装置は、いずれかの特定平面に限られず、任意の配向で動作可能である。ここで図6Aから6Fを参照すると、本方法及び装置に係る図5Aから5Eの直線掃引波効果のいくつかの構成が示される。図6Aは、水平直線掃引組織加熱波効果を示す。これは、矢印600で示す方向において行aから行fへの垂直方向に移動する対応エリア328により組織層図示せずにもたらされ、以下に詳述される。この効果は、例えば行aからf、aからf、aからf等の一方向に、又は、例えば行aからf、fからa、aからf、fからa等の二方向に繰り返し進行する。図6Bは、垂直直線掃引組織加熱波効果を示す。これは、矢印600で示す方向において列a’から列f’への水平方向に移動する対応エリア328により組織層図示せずにもたらされる。この効果は、例えば列a’からf’、a’からf’、a’からf’等の一方向に、又は例えば列a’からf’、f’からa’、a’からf’、f’からa’等の二方向に繰り返す。図6Cから6Eは、対角直線掃引組織加熱波効果を示す。これは、矢印600で示す方向において角Wから角Zへの対角方向に移動する対応エリア328により組織層図示せずにもたらされる。この効果は、例えばWからZ、WからZ、WからZ等の一方向に、例えばWからZ、ZからW、WからZ、ZからW等の二方向に、又は、例えば角W、X、Y、及びZ間、WからZ、XからY、WからZ、XからY等の十字パターンに繰り返される。図6Fに示すように、対応エリア328により組織層図示せずにもたらされた対角直線掃引組織加熱波効果は、参照番号602で示す仮想点まわりに旋回する振り子進行パターンで、矢印600で示す前後方向に移動する。図6Gから6Jに示すように、RF電極302はまた、回転加熱掃引波効果をもたらす。これは、参照番号602で示す仮想点まわりに旋回し、矢印600で示す円方向において対応エリア328により組織層にもたらされる。図6G、6H、6I、及び6Jは、かかる回転加熱掃引波効果を、かかる回転効果の4つの選択された段階で示す。掃引波効果により、従来の電極よりも実質的に大きな組織セグメントに対する熱適用が可能となる。ここで図7Aから7Eを参照すると、本方法及び装置の一実施例に係る周囲回転加熱波効果を生成するRF電極302の簡略的な平面図が示される。図3Dに示すタイプの電極302は、キャリア320と、離間パターンの複数のRF電圧適用素子322とを含む。図7Aに示すように、外周沿いの素子322の4つのペア702、704、706、及び708、例えば行a及びf並びに列a’及びf’がコントローラ112図1によりアクティブにされる。これらは黒塗りで示される。図7Bは、周囲沿いの各ペア702、704、706、及び708の位置の時計方向におけるシフトを示す。図7Cは、周囲沿いの各ペア702、704、706、及び708の位置の、矢印700で示す時計方向における他のシフトを示す。図7Dは、周囲沿いの各ペア702、704、706、及び708の位置の、時計方向におけるさらなる他のシフトを示す。図7Eに示す段階では、連続シフトにより、矢印700で示す時計方向における組織加熱波の180度の周囲回転がもたらされる。ここで図8Aから8Cを参照すると、本方法及び装置の一実施例に係るエネルギー送達モジュラーコンポーネント104を横切る、図3Dに示すタイプのRF電極302による直線掃引加熱波効果の生成が平面図で示される。図8A-8Cでは、9つの電極302が3行及び3列a、b、及びcのアレイで配列される。図8Aにおいて、列aのコンポーネント104の電極302のみがアクティブにされて3つの垂直直線掃引組織加熱波効果がもたらされる。これらは、対応エリア828により組織層図示せずにもたらされる。なお、エリア828に対応する組織におけるエリアは熱対流に起因して径方向に拡張し、隣接する加熱エリアが合体してエリア830に対応する直線加熱組織エリアがもたらされる。上で詳述したようにコンポーネント104電極302をアクティブにすることで、矢印800で示す方向において列aから列cへの水平方向に移動する垂直直線掃引組織加熱波効果830がもたらされる。図8Bでは、列aのコンポーネント104がインアクティブにされて列aのコンポーネント104の電極302のみがアクティブにされる。図8Cでは、列bのコンポーネント104がインアクティブにされて列cのコンポーネント104の電極302のみがアクティブにされる。この逐次プロセスにより、垂直直線掃引組織加熱波効果がもたらされる。これは、矢印800で示す方向において列aから列cへの水平方向に移動する対応エリア828により、組織層図示せずにもたらされる。ここで図9Aから9Dを参照すると、本方法及び装置の一実施例に係る、図3Dに示すタイプのエネルギー送達モジュラーコンポーネント104のアレイによりもたらされる直線掃引組織加熱波効果が簡略的に示される。図9Aに示すように、複数のエネルギー送達モジュラーコンポーネント104が身体収容表面102に取り付けられる。上述のように、エネルギー送達モジュラーコンポーネント104が電源106に接続されて給電を受け、コントローラ112により制御される。エネルギー送達モジュラーコンポーネント104a、104b、104c、104d、104e、104f、104g、及び104hは二重線アレイに配置される。図9Aでは、モジュラーコンポーネント104a及び104eのみがアクティブにされ、これに接触する組織の、モジュラーコンポーネント104a及び104e上のエリア930に対応する直線領域が、上で詳述した直線態様でかつ矢印900で示す方向に加熱される。図9Bに示すように、今度はコンポーネント104a及び104eがインアクティブにされてコンポーネント104b及び104fのみがアクティブにされ、これに接触する組織が、上述した直線態様で、矢印900で示す方向において加熱される。図9Cにおいて、今度はコンポーネント104b及び104fがインアクティブにされてコンポーネント104c及び104gのみがアクティブにされ、これに接触する組織が、上述した直線態様で、矢印900で示す方向において加熱される。図9Dにおいて、今度はコンポーネント104c及び104gがインアクティブにされてコンポーネント104d及び104hのみがアクティブにされ、これに接触する組織が、上述した直線態様で、矢印900で示す方向において加熱される。これにより、垂直直線掃引組織加熱波効果がもたらされる。これは、矢印900で示す方向において被トリートメント組織に沿った水平方向に移動する。なお、垂直直線掃引組織加熱波効果はまた、上述のいずれのタイプのモジュラーコンポーネントによってももたらされ得る。ここで図10Aから10Eを参照すると、本方法及び装置の一実施例に係る身体収容表面102に取り付けられたエネルギー送達モジュラーコンポーネント104のアレイによりもたらされる直線及び回転掃引組織加熱波効果の複数の構成が示される。図10A及び10Bは、水平直線掃引組織加熱波効果を示す。これは、コンポーネント104a、104b、104c、及び104dから対応するコンポーネント104e、104f、104g、及び104hに向かって垂直方向に移動する。水平直線掃引組織加熱波効果は、上述の図6Aに詳細示す一方向又は二方向で繰り返される。図10Cに示すように、2つの水平直線掃引組織加熱波効果は、破線Xで示す仮想中心軸から離れる垂直方向に移動する。図10Dは、2つの水平直線掃引組織加熱波効果を示す。これは、破線Xで示す仮想中心軸に向かう垂直方向に移動する。図10Eは、身体収容表面102の周囲に沿って時計方向に進行する直線掃引組織加熱波効果の構成を示す。上述の構成のいずれもまた、上述の及び図10Fに示す回転掃引組織加熱波効果を使用できる。上述の構成のすべては、所定のトリートメントプロトコル、センサ110からのトリートメントパラメータの入力、タイマー、及び時間制御カウンターユニットに応じてコントローラ112により制御され、及び/又はインターフェイス400を使用して手動により構成される。上述のRFトリートメントにより、組織層の加熱直線領域の進行効果がもたらされる。これは、参照番号1000が付された矢印で示す方向においてトリートメントプロトコルに応じた所定経路に沿って進行し、例えばカフ120、身体収容表面102、及び/又は電極302の物理的又は機械的な移動なしで大きな組織セグメントを加熱する直線及び回転掃引組織加熱波効果をもたらす。当業者には本方法及び装置が具体的に図示され上述されたものに限られないことがわかる。むしろ、本発明の範囲は、上述の様々な特徴のコンビネーション及びサブコンビネーションの双方並びにその修正例及び変形例を含む。これらは、上述の記載を読むことで当業者に想起され、かつ、従来技術には存在しない。