複数のヒータランプが並列配置されるとともに、各ヒータランプは、発光管の内部に軸方向に分割された複数のフィラメントを有するとともに、この複数のフィラメントに対してそれぞれ独立して給電できる給電装置を有する熱処理装置において、前記給電装置は、前記各ヒータランプの複数のフィラメントのうち、端部フィラメントに給電して当該フィラメントを発光させた後に、中央フィラメントに給電して当該フィラメントを発光させるように制御することを特徴とする熱処理装置。前記給電装置は、前記端部フィラメントに対応したワークの照射領域の加熱温度Tbが熱反応温度Tsに到達する昇温時間T1が、前記中央フィラメントに対応したワークの照射領域の加熱温度Taが熱反応温度Tsに到達する昇温時間T2よりも大きい関係にあって、前記端部フィラメントに対応した照射領域と、中央フィラメントに対応した照射領域との、熱反応温度以上の温度領域にいる反応時間帯が一致するように、前記端部フィラメントおよび中央フィラメントの点灯開始時間が制御されることを特徴とする請求項1の熱処理装置。前記端部フィラメントに対応した照射領域の加熱温度Tbと、前記中央フィラメントに対応した照射領域の加熱温度Taが、同じタイミングで熱反応温度Tsに到達するように制御されていることを特徴とする請求項2に記載の熱処理装置。前記端部フィラメントに対応した照射領域の加熱温度Tbと、前記中央フィラメントに対応した照射領域の加熱温度Taが、熱反応温度Ts以上の所定の最高温度Thに、同じタイミングで到達するように制御されていることを特徴とする請求項2に記載の熱処理装置。前記並列配置された複数のヒータランプは、中央ランプ群とその両側に配置された端部ランプ群とに区分けされ、該両ランプ群を点灯させる給電装置とを備えるとともに、前記給電装置は、前記端部ランプ群を構成するヒータランプを点灯した後に、前記中央ランプ群を構成するヒーラランプを点灯するよう制御することを特徴とする請求項1の熱処理装置。前記ヒータランプは、並列配置された第1のヒータランプ群と、該第1のヒータランプ群と直交する方向に並列配置された第2のヒータランプ群が、井桁状に重ねて配置されていることを特徴とする請求項1の熱処理装置。この発明が解決しようとする課題は、複数の棒状ヒータランプが並列配置されるとともに、該ヒータランプを点灯制御する給電装置を備えた熱処理装置において、ヒータランプとして発光管内に軸方向に分割された複数のフィラメントを有し、この複数のフィラメントに対してそれぞれ独立して給電できる給電装置を有するランプを用いて、それ以外の余計な部材を使うことなく、簡単な制御によって、ワーク表面を均一加熱できるようにすることである。上記課題を解決するために、この発明に係る熱処理装置は、前記給電装置は、前記各ヒータランプの複数のフィラメントのうち、端部フィラメントに給電して当該フィラメントを発光させた後に、中央フィラメントに給電して当該フィラメントを発光させるように制御することを特徴とする。また、前記給電装置は、前記端部フィラメントに対応したワークの照射領域の加熱温度Tbがワーク反応温度Tsに到達する昇温時間T1が、前記中央フィラメントに対応したワークの照射領域の加熱温度Taが熱反応温度Tsに到達する昇温時間T2よりも大きい関係にあって、前記端部フィラメントに対応した照射領域と、中央フィラメントに対応した照射領域との、熱反応温度以上の温度領域にいる反応時間帯が一致するように、前記端部フィラメントおよび中央フィラメントの発光開始時間が制御されることを特徴とする。また、前記端部フィラメントに対応した照射領域の加熱温度Tbと、前記中央フィラメントに対応した照射領域の加熱温度Taが、同じタイミングで熱反応温度Tsに到達するように制御されていることを特徴とする。また、前記端部フィラメントに対応した照射領域の加熱温度Tbと、前記中央フィラメントに対応した照射領域の加熱温度Taが、熱反応温度Ts以上の所定の最高温度Thに、同じタイミングで到達するように制御されていることを特徴とする。また、前記並列配置された複数のヒータランプは、中央ランプ群とその両側に配置された端部ランプ群とに区分けされ、該両ランプ群を点灯させる給電装置とを備えるとともに、前記給電装置は、前記端部ランプ群を構成するヒータランプを点灯した後に、前記中央ランプ群を構成するヒーラランプを点灯するよう制御することを特徴とする。また、前記ヒータランプは、並列配置された第1のヒータランプ群と、該第1のヒータランプ群と直交する方向に並列配置された第2のヒータランプ群が、井桁状に重ねて配置されていることを特徴とする。この発明の熱処理装置によれば、まず、並列配置された各ヒータランプの端部フィラメントを先に発光させて、その後に中央フィラメントを発光させることにより、昇温速度の遅いワーク周辺に対応したフィラメントを先に発光させ、昇温速度の速いワーク中央に対応したフィラメントを後に発光させることになるので、目的とするワークの熱処理が始まる所定の熱反応温度以上の温度領域にある反応時間帯をワーク表面全領域で一致させることができて、その処理が均一になされるという効果を奏する。図1は本発明の熱処理装置1の全体上面図で、複数の棒状のヒータランプ2、2が、ワークWの上方でこれと対向するように並列配置されている。各ヒータランプ2は、石英ガラスなどの光透過性材料からなる発光管3内部にフィラメント4を有するフィラメントランプである。前記ヒータランプ2の詳細構造が図3に示されている。発光管3内には、軸方向に分割された複数のフィラメント4a、4bを有し、この複数のフィラメント4は、発光管3の両端の封止部5で金属箔6に接続され、外部リード7を介して図示しない給電装置に接続される。このとき、前記各フィラメント4a、4bは、個別の給電装置に接続され、それぞれ独立して給電される。なお、このようなフィラメントランプは本出願人に係る特開2006-279008号公報や特開2009-238552号公報にその詳細が開示されている。そして、本発明においては、前記フィラメント4は、管軸方向の中央部に位置する中央フィラメント4aと、その両端に位置する端部フィラメント4b、4bとに区分けされて別個に制御され、中央部フィラメント4aは通電させないで、端部フィラメント4b、4bは通電するという制御が可能となる。前記発光管3の内部には、臭素などのハロゲンガスが封入されており、いわゆるハロゲンサイクルを行っている。このヒータランプ2の数値例をあげると、長さ300mm、外径φ13mm、定格電力2000Wである。そして、中央フィラメント4aの長さは200mmであり、端部フィラメントの長さは50mmである。なお、上記先願にも記載されているように、前記フィラメント4の数は3つに限られずそれ以上であってもよく、その場合、中央フィラメント4aや端部フィラメント4bの数はワークとの関係で適宜に選択して区分けすればよい。図2に示されるように、ヒータランプ2、2の上方には反射鏡8が設けられ、前記ヒータランプ2の中央フィラメント4aおよび端部フィラメント4b、4bは給電装置9によって発光制御される。そして、ヒータランプ2の下方にはステージ10上に載置された例えば、半導体ウエハなどのワークWが対向して配置されていて、該ステージ10には温度センサーが取り付けられており、給電装置9にフィードバックされる。なお、ワークWが4角形状である場合には、各ヒータランプ2の中央フィラント4aの長さは一様であってよいし、また、図示のように、ワークWが円形状の場合には、中央フィラメント4aの長さを各ヒータランプ2によってワーク形状に合わせて変化させるようにしてもよい。上記各ヒータランプ2の中央フィラメント4aと端部フィラメント4b、4bは給電装置9によって、図4、5に示すように点灯を制御される。図4、5の縦軸はワークWの表面温度°Cを表し、横軸は時間秒を表す。また、図6は従来例の点灯パターンであって、まず当該従来例の点灯パターンを説明する。すべてのランプが同時に点灯を開始し、温度が上昇していくが、ワークの端部領域では、その昇温速度Tbは、中央部領域の昇温速度Taよりも遅いため、ワークが熱反応する熱反応温度Tsに到達する時間T1、T2に差ができる。そして、その後所定の時間経過後にランプを同時に消灯すると、ワークの温度は降下していくが、熱反応温度Tsまで降下する時間にも大きな開きができ、その結果、ワークの中央部領域と端部領域が熱反応温度Ts以上の温度領域にある反応時間帯Δta、Δtbに大きな差ができてしまう。上記熱反応温度や反応時間は、ワークの材質や求める処理によって決定されるものであるが、端部領域側の時間Δtbに合わせて点灯パターンを設定すると、中央部領域の時間Δtaが長すぎて、中央部領域の反応に前述のような不具合が生じるし、中央部領域側の反応時間Δtaに合わせて設定すると、端部領域の反応時間Δtbの時間が短すぎて反応が十分に行われず、その結果、ワークの全表面での反応にむらが生じるという不具合が生じる。これに対して本発明では、図4、図5に示すように、各フィラメントランプの中央フィラメントと端部フィラメントの発光開始時間を調整して、ワーク中央部領域と端部領域が熱反応時間以上の温度領域にいる反応時間帯をほぼ一致させるようにしている。図4は、ワークの中央部領域が熱反応温度Tsに到達する時間t3と、端部領域が到達する時間t5とが一致するように各フィラメントの発光を制御するものである。すなわち、先ず、端部フィラメント4bが時間t1に発光し、それより遅れて、時間Δt1経過後に、中央フィラメント4aが発光する。これらフィラメント4a、4bの発光により、ワークの中央領域と端部領域はそれぞれ昇温していくが、その昇温速度TaTbには差があり、それぞれ時間t3と時間t5に熱反応温度Tsに到達する。そして、これらの時間t3とt5とが一致するように、前記発光開始時間t1、t2が調整制御される。そして、中央フィラメント4aと端部フィラメント4bは、それぞれ所定の時間数秒経過後に通電を遮断されて消灯される。この間、ワークの中央部領域および端部領域の温度は所定の最高温度Thに到達した後に、フィラメントが消灯されて下降して、それぞれ、時間t4および時間t6において熱反応温度Tsに至る。この熱反応温度Ts以上の温度領域にある時間帯Δta、Δtbが反応時間である。また、図5は、ワークの中央部領域と端部領域の温度が、熱反応温度Ts以上の所定の最高温度Thに同時に到達するように制御するものである。先ず、端部フィラメント4bが時間t1に発光され、それより、時間Δt1経過後に、中央フィラメント4aが発光される。これらフィラメント4a、4bの発光により、ワークの中央部領域と端部領域はそれぞれ昇温していくが、その昇温速度TaTbには差があり、それぞれ時間t3と時間t5に熱反応温度Tsに到達する。この時点では両領域の熱反応温度Tsへの到達時間には若干の差があるが、両領域は更に昇温していき、最高温度Thにほぼ同じタイミングで到達する。この最高温度到達時間t7が一致するように、前記点灯開始時間t1、t2が調整制御される。その時点で、フィラメントは通電が遮断され消灯されてワーク温度は下降していき、それぞれ熱反応温度Tsまで降温するが、この熱反応温度Ts以上の温度領域にある時間帯Δta、Δtbが反応時間である。上記いずれの点灯パターンにおいても、中央フィラメント4aと端部フィラメント4bの発光開始時間をずらせ、昇温速度の遅いワークの端部領域に対応する端部フィラメント4bを先に発光させ、それより遅れて所定時間経過後にワークの中央部領域に対応する中央フィラメント4aを発光させるので、両領域が熱反応温度Ts以上の温度領域にある時間帯をほぼ一致させることができて、従来例との比較において、ワーク表面での温度均一性を格段に向上させることができる。なお、熱反応時間帯を一致させるという表記は、厳密な意味で一致させることを意味するものではなく、ワークの全表面での熱処理に実用上むらが生じないように、従来例との比較においてワークの中央部領域と端部領域が熱反応温度以上の温度領域にいる時間帯がほぼ一致していればよいものである。以上の実施例では、各ヒータランプ2、2は同時に中央フィラメント4aおよび端部フィラメント4bを点灯させるものを説明したが、図7には、これとは違ってヒータランプ毎に点灯タイミングが異なる変形例が示されている。図7においては、説明の便宜上、4本のヒータランプを表しているが、本数はこれに限られない。各々のヒータランプ1~4は、中央フィラメント4aとその両端に端部フィラメント4bを具備している。そして、これら複数本のヒータランプ1~4はその配列方向Pにおいてグループ分けされており、中央部に位置するランプ2とランプ3は中央ランプ群Aを構成し、その両端に位置するランプ1とランプ4はそれぞれ端部ランプ群Bを構成している。図8に示すように、給電装置9は、以下のステップにより各ランプを点灯させる。この点灯方式では、ヒータランプの中央フィラメントと端部フィラメンに点灯時間差をもうけ、更に、ランプ群ごとにも点灯時間差を設けたものである。ステップ1において、先ず端部ランプ群Bを構成するランプ1とランプ4の端部フィラメント4b、4bを点灯させる。次いで、ステップ2において、前記ランプ1とランプ4の中央フィラメント4aを点灯させるとともに、中央ランプ群Aを構成するランプ2とランプ3の端部フィラメント4b、4bを点灯させる。次いで、ステップ3において、中央ランプ群Aのランプ2とランプ3の中央フィラメント4a、4aを点灯させるものである。このような点灯方式を採用することにより、各ランプの管軸方向での温度均一性のみならず、ランプの並列配置方向における温度均一性も向上するものである。図9は更に別の実施例を示す。この実施例では、ワークWの上方に、第1のヒータランプ群Xと第2のヒータランプ群Yとが配置されている。図9Bに示されるように、第1ヒータランプ群Xは、ワークWの上方に複数のヒータランプ2、2が並列配置されており、第2ヒータランプ群Yのヒータランプ2、2は、前記第1ヒータランプ群Xの上方に、その管軸方向がこれと直交するように井桁状に並列配置されている。勿論、このヒータランプ2も、上記実施例と同様に、図3で示されるような、管軸方向に複数のフィラメントを有し、個別に給電されるものである。そして、前記第1ヒータランプ群Xおよび第2ヒータランプ群Yは、それぞれ、中央ランプ群Aと、その両側の端部ランプ群Bとに区分されている。上記構成において、図9には不図示の給電装置によって、第1ヒータランプ群Xと第2ヒータランプ群Yのそれぞれのランプ2の中央フィラメント4aと端部フィラメント4bを点灯制御して、ワーク表面でより精度の高い温度均一性が得られ、より精緻な加熱処理を達成できる。以上説明したように、本発明は、複数のフィラメントを有するとともに、この複数のフィラメントがそれぞれ独立して給電されるヒータランプを複数並列配置した熱処理装置において、ワークのうち昇温速度の遅い端部に対応する端部フィラメントを先に発光して、その後に昇温速度の速い中央部に対応する中央フィラメントを発光することで、ワークの全表面領域で熱反応温度に到達する時間的タイミングをほぼ同じにするので、その表面での熱反応処理が全領域で均一になされるものである。