液体が噴射されるノズル開口に通じる流路を有する流路形成部材を備える液体噴射ヘッドの製造方法であって、前記流路形成部材の一部を構成し、プレート状の第1部材の酸化膜を含む第1面に対して、真空中においてイオン及び中性原子の少なくとも一方を照射する工程と、前記流路形成部材の一部を構成し、プレート状の第2部材の酸化膜を含む第2面に対して、真空中においてイオン及び中性原子の少なくとも一方を照射する工程と、真空中において前記第1面と前記第2面とを接触させた状態で前記第1部材に前記第2部材を押し付けて前記第1部材と前記第2部材とを接合する工程と、を有する液体噴射ヘッドの製造方法。前記第1面の酸化膜と前記第2面の酸化膜とは異なる種類である請求項1に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。前記第1面の酸化膜は二酸化珪素膜であり、前記第2面の酸化膜はタンタルオキサイド膜である請求項2に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。前記第1面の酸化膜と前記第2面の酸化膜とは同じ種類である請求項1に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。前記第1面の酸化膜及び前記第2面の酸化膜は、二酸化珪素膜及びタンタルオキサイド膜のいずれか一方である請求項4に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。前記第1部材は二酸化珪素を含み、前記第1部材上にタンタルオキサイド膜を形成する工程を有し、前記第1面は、前記タンタルオキサイド膜の表面を含み、前記タンタルオキサイド膜の表面に前記イオン及び前記中性原子の少なくとも一方を照射する請求項1に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。前記第2部材は二酸化珪素を含み、前記第2部材上にタンタルオキサイド膜を形成する工程を有し、前記第2面は、前記タンタルオキサイド膜の表面を含み、前記タンタルオキサイド膜の表面に前記イオン及び前記中性原子の少なくとも一方を照射する請求項1に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。前記液体噴射ヘッドは、液体が噴射されるノズル開口が形成されたノズルプレートと、前記ノズルプレートと接合され、前記ノズル開口に連通する連通孔を有する連通板と、前記連通板と接合され、前記連通孔を介して前記ノズル開口に連通する圧力発生室が設けられた流路形成基板と、前記流路形成基板上に配置された振動板と、前記圧力発生室に対応するように前記振動板上に配置された圧電素子と、を有し、前記第1部材は、前記連通板であり、前記第2部材は、前記ノズルプレート及び前記流路形成基板の少なくとも一方である請求項1~7のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。流路形成部材を構成する複数の部材どうしを接着剤を使って接合する場合、例えば液体噴射ヘッドの振動板等、液体噴射ヘッドの望まれない部位に接着剤が流れてしまう可能性がある。また、接着剤がインクの種類によってはアタックされる可能性があり、十分な接合強度を得られない可能性がある。その結果、液体噴射ヘッドの性能が低下する可能性がある。また、接着剤を使って部材どうしを接合する工程において、接着剤が硬化するまで部材どうしの位置がずれないように長時間固定し続ける必要があり、生産性が低下する可能性がある。本発明の態様は、液体噴射ヘッドの性能の低下を抑制でき、生産性の低下を抑制できる液体噴射ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。本発明の一態様に従えば、液体が噴射されるノズル開口に通じる流路を有する流路形成部材を備える液体噴射ヘッドの製造方法であって、前記流路形成部材の一部を構成し、プレート状の第1部材の酸化膜を含む第1面に対して、真空中においてイオン及び中性原子の少なくとも一方を照射する工程と、前記流路形成部材の一部を構成し、プレート状の第2部材の酸化膜を含む第2面に対して、真空中においてイオン及び中性原子の少なくとも一方を照射する工程と、真空中において前記第1面と前記第2面とを接触させた状態で前記第1部材に前記第2部材を押し付けて前記第1部材と前記第2部材とを接合する工程と、を有する液体噴射ヘッドの製造方法が提供される。本発明の一態様によれば、酸化膜を含む第1部材の第1面に、真空中においてイオン及び中性原子の少なくとも一方を照射することによって、例えば第1面の汚染物が除去されるとともに、その第1面が活性化される。同様に、酸化膜を含む第2部材の第2面に、真空中においてイオン及び中性原子の少なくとも一方を照射することによって、例えば第2面の汚染物が除去されるとともに、その第2面が活性化される。それら第1面と第2面とを接触させた状態で、第1部材に第2部材を押し付ける加圧することによって、第1部材と第2部材とは良好に接続される。このように、本発明の一態様によれば、接着剤を用いることなく、第1部材と第2部材とを接合できるため、接着剤を使って接合することに伴う不具合の発生を抑制できる。したがって、液体噴射ヘッドの性能の低下を抑制でき、生産性の低下を抑制できる。前記第1面の酸化膜と前記第2面の酸化膜とは異なる種類でもよい。例えば、前記第1面の酸化膜は二酸化珪素膜であり、前記第2面の酸化膜はタンタルオキサイド膜でもよい。前記第1面の酸化膜と前記第2面の酸化膜とは同じ種類でもよい。例えば、第1面の酸化膜及び2面の酸化膜が二酸化珪素膜でもよいし、第1面の酸化膜及び2面の酸化膜がタンタルオキサイド膜でもよい。また、第1部材の基材母材が二酸化珪素を含む場合、第1部材上にタンタルオキサイド膜を形成した後、そのタンタルオキサイド膜を含む第1面にイオン及び中性原子の少なくとも一方を照射してもよい。また、第2部材の基材母材が二酸化珪素を含む場合、第2部材上にタンタルオキサイド膜を形成した後、そのタンタルオキサイド膜を含む第2面にイオン及び中性原子の少なくとも一方を照射してもよい。前記液体噴射ヘッドは、液体が噴射されるノズル開口が形成されたノズルプレートと、前記ノズルプレートと接合され、前記ノズル開口に連通する連通孔を有する連通板と、前記連通板と接合され、前記連通孔を介して前記ノズル開口に連通する圧力発生室が設けられた流路形成基板と、前記流路形成基板上に配置された振動板と、前記圧力発生室に対応するように前記振動板上に配置された圧電素子と、を有する場合、前記第1部材は、前記連通板であり、前記第2部材は、前記ノズルプレート及び前記流路形成基板の少なくとも一方でもよい。これにより、液体噴射ヘッドの流路形成部材を生産性良く製造できる。以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。図1は、本実施形態に係る液体噴射ヘッドの一例を示す分解斜視図である。図2は、図1の平面図である。図3は、図2のA-A’断面図である。液体噴射ヘッドIJは、例えばインクジェット式記録ヘッドとして使用される。図1、図2、及び図3に示すように、液体噴射ヘッドIJは、液体インク、液滴が噴射されるノズル開口26に通じる流路を有する流路形成部材200を備えている。本実施形態において、流路形成部材200は、液体インク、液滴が噴射されるノズル開口26が形成されたノズルプレート25と、ノズルプレート25と接合され、ノズル開口26に連通する連通孔21を有する連通板20と、連通板20と接合され、連通孔21を介してノズル開口26に連通する圧力発生室12が設けられた流路形成基板10とを含む。また、液体噴射ヘッドIJは、流路形成基板10上に配置された振動板34と、圧力発生室12に対応するように振動板34上に配置された圧電素子300とを有する。流路形成基板10は、本実施形態では面方位110のシリコン単結晶基板からなり、その一方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリコンからなる、厚さ1~2μmの弾性膜50が形成されている。流路形成基板10には、複数の圧力発生室12がその幅方向に並設されている。また、流路形成基板10の圧力発生室12の長手方向外側の領域にはリザーバ部13が形成され、リザーバ部13と各圧力発生室12とが、各圧力発生室12毎に設けられたインク供給路14を介して連通されている。圧力発生室12、リザーバ部13、及びインク供給路14は、流路形成部材200に形成され、液体インクが流れる流路を構成する。なお、圧力発生室12、リザーバ部13、及びインク供給路14は、流路形成基板10を厚さ方向に貫通して設けられている。また、インク供給路14は、圧力発生室12よりも狭い幅で形成されており、リザーバ部13から圧力発生室12に流入するインクの流路抵抗を一定に保持している。流路形成基板10の開口面側には、各圧力発生室12のインク供給路14とは反対側の端部近傍と後述するノズル開口とを連通するノズル連通孔21を有する連通板20が接合されている。また、連通板20には、流路形成基板10のリザーバ部13に対向する領域に、厚さ方向に貫通する連通部22が形成され、この連通部22は流路形成基板10のリザーバ部13と連通している。そして、これらリザーバ部13と連通部22とが、各圧力発生室12の共通のインク室であるリザーバ100を構成する。連通孔21、連通部22及びリザーバ部13を含むリザーバ100は、流路形成部材200に形成され、液体インクが流れる流路を構成する。さらに、この連通板20には、各圧力発生室12に対応するノズル開口26が穿設されたノズルプレート25が接合されている。一方、このような流路形成基板10の開口面とは反対側には、上述したように、厚さが例えば約1.0μmの弾性膜50が形成され、この弾性膜50上には、厚さが例えば、約0.4μmの絶縁体膜55が形成されている。さらに、この絶縁体膜55上には、厚さが例えば、約0.2μmの下電極膜60と、厚さが例えば、約1.0μmの圧電体層70と、厚さが例えば、約0.05μmの上電極膜80とが積層形成されて、圧電素子300を構成している。ここで、圧電素子300は、下電極膜60、圧電体層70、及び上電極膜80を含む部分をいう。一般的には、圧電素子300の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極及び圧電体層70を各圧力発生室12毎にパターニングして構成する。そして、ここではパターニングされた何れか一方の電極及び圧電体層70から構成され、両電極への電圧の印加により圧電歪みが生じる部分を圧電体能動部という。本実施形態では、下電極膜60は圧電素子300の共通電極とし、上電極膜80を圧電素子300の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。何れの場合においても、各圧力発生室毎に圧電体能動部が形成されていることになる。また、ここでは、圧電素子300と当該圧電素子300の駆動により変位が生じる振動板とを合わせて圧電アクチュエータと称する。また、このような各圧電素子300を構成する上電極膜80には、例えば、金Au等からなるリード電極90が接続されており、このリード電極90は、圧力発生室12に対向する領域からその外側の領域まで延設され、その先端部が封止基板30の貫通孔33内に露出されている。また、流路形成基板10のリザーバ部13に対応する領域には、薄膜からなるコンプライアンス部材40が設けられて、リザーバ部13の一方の開口はこのコンプライアンス部材40によって封止されている。そして、このコンプライアンス部材40のリザーバ部13に対向する領域がコンプライアンス部41となっている。なお、コンプライアンス部41は、圧電素子300の駆動等によってリザーバ100内で圧力変化が生じた際に弾性変形することで圧力変化を吸収する。コンプライアンス部材40は、例えば、本実施形態では、振動板34及び圧電素子300を構成する層からなる。すなわち、流路形成基板10のリザーバ部13に対向する領域上には、弾性膜50、絶縁体膜55、下電極膜60、圧電体層70、及び上電極膜80が設けられ、これらの各層でリザーバ部13の開口が封止されてコンプライアンス部41が形成されている。なお、リザーバ部13に対向する領域の下電極膜60、圧電体層70、及び上電極膜80は、圧電素子300とは不連続となっている。また、リザーバ部13の開口縁部内側のコンプライアンス部材40には、リザーバ部13の中央部よりも膜厚の薄い薄膜部42が所定幅で設けられている。例えば、本実施形態では、コンプライアンス部41の中央部は、上記の5層で構成され、薄膜部42は、振動板34となる弾性膜50、絶縁体膜55及び下電極膜60で構成されている。また、薄膜部42は、リザーバ部13の開口縁部に沿って全周に亘って連続的に設けられている。この薄膜部42は、連続的に形成されていることが好ましいが、間欠的に設けられていてもよい。また、薄膜部42の外側には、少なくとも薄膜部42よりも膜厚の厚い厚膜部43が設けられている。そして、この厚膜部43はリザーバ部13の開口縁部の外側からリザーバ部13の開口領域に臨むように張り出して設けられていることが好ましい。例えば、本実施形態では、薄膜部42の外側に、コンプライアンス部41の中央部と同様に上記5層からなる厚膜部43を設け、その端面はリザーバ部13の開口領域に位置するようにした。なお、流路形成基板10の圧電素子300側の面には、圧電素子300に対向する領域に、圧電素子300の運動を阻害しない程度の空間を確保した状態で、その空間を密封可能な圧電素子保持部31を有する封止基板30が接合されている。また、この封止基板30には、リザーバ部13に対向する領域に、コンプライアンス部41の変形を妨げない程度の深さを有する凹部32が設けられている。封止基板30上には、例えば、二酸化珪素からなる絶縁膜35を介して例えば、金Auの配線膜36からなる配線パターン37が形成され、この配線パターン37上に圧電素子300を駆動するための駆動回路120が実装されている。なお、封止基板30の圧電素子保持部31と凹部32との間の領域には、封止基板30を厚さ方向に貫通する貫通孔33が設けられており、各圧電素子300から引き出されたリード電極90の先端部はこの貫通孔33内に露出されている。そして、この貫通孔33内に延設される接続配線130によって各リード電極90と駆動回路120とが接続されている。このような本実施形態の液体噴射ヘッドインクジェット式記録ヘッドIJでは、図示しない外部インク供給手段からインクを取り込み、リザーバ100からノズル開口26に至るまで内部をインクで満たした後、駆動回路120からの記録信号に従い、圧力発生室12に対応するそれぞれの下電極膜60と上電極膜80との間に電圧を印加し、弾性膜50、絶縁体膜55、下電極膜60及び圧電体層70をたわみ変形させることにより、各圧力発生室12内の圧力が高まりノズル開口26から液体インクが吐出する。次に、液体噴射ヘッドIJの製造方法の一例について説明する。図4及び図5は、液体噴射ヘッドIJの製造方法の一例を示す模式図である。以下、液体噴射ヘッドIJのうち、流路形成部材200を製造する方法の一例について説明する。図4に示すように、流路形成部材200の一部を構成する連通板20、ノズルプレート25、及び流路形成基板10に対して、表面処理が行われる。なお、本実施形態において、連通板20、ノズルプレート25、及び流路形成基板10は、プレート状の部材である。連通板20は、流路形成基板10が接合される上面20Aと、上面20Aの反対方向を向き、ノズルプレート25が接合される下面20Bとを有する。ノズルプレート25は、連通板20が接合される上面25Aを有する。流路形成基板10は、連通板20が接合される下面10Bを有する。本実施形態において、上面20A、下面20B、上面25A、及び下面10Bは、高い平坦度を有する。また、本実施形態においては、連通板20、ノズルプレート25、及び流路形成基板10は、シリコンウエハから切り出された小片なプレート部材であるため、高い平坦度が維持される。本実施形態において、連通板20、ノズルプレート25、及び流路形成基板10のそれぞれは、二酸化珪素SiO2を含む。本実施形態においては、表面処理が実行される前に、連通板20上に、タンタルオキサイド膜TaOx膜を形成する工程が実行される。本実施形態において、連通板20の表面のうち、少なくとも上面20A及び下面20Bは、タンタルオキサイド膜の表面を含む。本実施形態においては、表面処理が実行される前に、流路形成基板10上に、タンタルオキサイド膜TaOx膜を形成する工程が実行される。本実施形態において、流路形成基板10の表面のうち、少なくとも下面10Bは、タンタルオキサイド膜の表面を含む。なお、本実施形態においては、ノズルプレート25には、タンタルオキサイド膜を形成する工程は実行されない。本実施形態において、ノズルプレート25の表面のうち、少なくとも上面25Aは、二酸化珪素膜SiO2膜を含む。なお、ノズルプレート25上に、タンタルオキサイド膜TaOx膜を形成する工程が実行されてもよい。タンタルオキサイド膜は、例えばインクに対して耐性を有する。図4に示すように、連通板20のタンタルオキサイド膜を含む上面20A及び下面20Bに対して、真空中においてイオン及び中性原子の少なくとも一方が照射される。また、流路形成基板10のタンタルオキサイド膜を含む下面10Bに対して、真空中においてイオン及び中性原子の少なくとも一方が照射される。また、ノズルプレート25の二酸化珪素膜を含む上面25Aに対して、真空中においてイオン及び中性原子の少なくとも一方が照射される。これにより、上面20A、下面20B、上面25A、及び下面10Bの汚染物が除去されるとともに、上面20A、下面20B、上面25A、及び下面10Bのそれぞれが活性化される。次に、真空中において、上面20Aと下面10Bとを接触させ、下面20Bと上面25Aとを接触させた状態で、連通板20に流路形成基板10を押し付ける加圧するとともに、連通板20にノズルプレート25を押し付ける加圧する。本実施形態においては、図5に示すように、加圧装置3000が有するベース部材301と、加圧部材302との間に、ノズルプレート25、連通板20、及び流路形成基板10が配置された状態で、ベース部材301と加圧部材302との間に挟まれる。これにより、ノズルプレート25、連通板20、及び流路形成基板10は、ベース部材301と加圧部材302とによって加圧される。以上により、例えば接着剤を用いることなく、連通板20と流路形成基板10とが接合され、連通板20とノズルプレート25とが接合される。なお、上述のイオン中性原子を照射する工程、及び接合する工程は、常温環境で実行可能である。なお、本実施形態においては、連通板20の上面20Aの酸化膜と流路形成基板10の下面10Bの酸化膜とは、同じ種類であることとした。すなわち、連通板20の上面20Aの酸化膜と流路形成基板10の下面10Bの酸化膜とは、それぞれタンタルオキサイド膜であることとした。なお、連通板20の上面20Aの酸化膜と流路形成基板10の下面10Bの酸化膜とが、それぞれ二酸化珪素膜でもよい。なお、連通板20の上面20Aの酸化膜と流路形成基板10の下面10Bの酸化膜とが異なる種類でもよい。例えば、連通板20の上面20Aの酸化膜を二酸化珪素膜とし、流路形成基板10の下面10Bの酸化膜をタンタルオキサイド膜としてもよい。連通板20の上面20Aの酸化膜をタンタルオキサイド膜とし、流路形成基板10の下面10Bの酸化膜を二酸化珪素膜としてもよい。なお、本実施形態においては、連通板20の下面20Bの酸化膜とノズルプレート25の上面25Aの酸化膜とは、異なる種類であることとした。すなわち、連通板20の下面20Bの酸化膜がタンタルオキサイド膜であり、ノズルプレート25の上面25Aの酸化膜が二酸化珪素膜であることとした。なお、連通板20の下面20Bの酸化膜が二酸化珪素膜であり、ノズルプレート25の上面25Aの酸化膜がタンタルオキサイド膜でもよい。なお、連通板20の下面20Bの酸化膜とノズルプレート25の上面25Aの酸化膜とが同じ種類でもよい。例えば、連通板20の下面20Bの酸化膜とノズルプレート25の上面25Aの酸化膜とが、それぞれタンタルオキサイド膜でもよいし、二酸化珪素膜でもよい。以上説明したように、本実施形態によれば、接着剤を用いることなく、連通板20と流路形成基板10とを接合でき、連通板20とノズルプレート25とを接合できるため、接着剤を使って接合することに伴う不具合の発生を抑制できる。したがって、液体噴射ヘッドIJの性能の低下を抑制でき、生産性の低下を抑制できる。なお、本実施形態においては、連通板20と流路形成基板10との接合加圧と、連通板20とノズルプレート25との接合加圧とを同時に行うこととしたが、連通板20と流路形成基板10との接合加圧を行った後、連通板20とノズルプレート25との接合加圧を行ってもよい。連通板20とノズルプレート25との接合加圧を行った後、連通板20と流路形成基板10との接合加圧を行ってもよい。なお、本実施形態においては、連通板20と流路形成基板10とを接合する場合、及び連通板20とノズルプレート25とを接合する場合に、イオン中性原子を照射することとしたが、連通板20と流路形成基板10とを接合する場合にのみ、イオン中性原子を照射する手法を用いてもよいし、連通板20とノズルプレート25とを接合する場合にのみ、イオン中性原子を照射する手法を用いてもよい。なお、本実施形態においては、液体噴射ヘッドIJが連通板20を備える構成としたが、連通板20を備えない構成の場合、流路形成基板10とノズルプレート25とを接合する場合に、イオン中性原子を照射する手法を用いてもよい。なお、上述した実施形態では、圧力発生室12に圧力変化を生じさせる圧力発生手段として、薄膜型の圧電素子300を有するアクチュエータ装置を用いて説明したが、特にこれに限定されず、例えば、グリーンシートを貼付する等の方法により形成される厚膜型のアクチュエータ装置や、圧電材料と電極形成材料とを交互に積層させて軸方向に伸縮させる縦振動型のアクチュエータ装置などを使用することができる。また、圧力発生手段として、圧力発生室内に発熱素子を配置して、発熱素子の発熱で発生するバブルによってノズル開口から液滴を吐出するものや、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズル開口から液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエータなどを使用することができる。なお、このようなインクジェット式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図6は、そのインクジェット式記録装置液体噴射装置の一例を示す概略図である。図6に示すように、インクジェット式記録ヘッドを有する記録ヘッドユニット1A及び1Bは、インク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット1A及び1Bを搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付けられたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられている。この記録ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物を吐出するものとしている。そして、駆動モータ6の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリッジ3に伝達されることで、記録ヘッドユニット1A及び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿って移動される。一方、装置本体4にはキャリッジ軸5に沿ってプラテン8が設けられており、図示しない給紙ローラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートSがプラテン8上を搬送されるようになっている。なお、上述した実施形態では、液体噴射ヘッドの一例としてインクジェット式記録ヘッドを挙げて説明したが、本発明は広く液体噴射ヘッド全般を対象としたものであり、インク以外の液体を噴射する液体噴射ヘッドの製造方法にも勿論適用することができる。その他の液体噴射ヘッドとしては、例えば、プリンタ等の画像記録装置に用いられる各種の記録ヘッド、液晶ディスプレー等のカラーフィルタの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ELディスプレー、FED電界放出ディスプレー等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオchip製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等が挙げられる。