被検体が配置される空間に静磁場を形成する静磁場形成手段と、前記被検体に傾斜磁場を印加する傾斜磁場印加手段と、複数のチャンネルを持つ送信コイルを有し、前記被検体に高周波磁場を印加する高周波磁場印加手段と、前記被検体から発生する核磁気共鳴信号を受信する信号受信手段と、所定の撮影シーケンスに従って、前記傾斜磁場印加手段、前記高周波磁場印加手段および前記信号受信手段の動作を制御して計測を行う計測制御手段と、前記送信コイルの送信感度分布の不均一を補正するよう、前記各チャンネルから印加する高周波パルスの、チャンネル間の位相差および振幅比を算出する送信感度シミング準備手段と、を備える磁気共鳴イメージング装置であって、前記送信感度シミング準備手段は、前記送信コイルのチャンネル毎に、プリパルスを付加した撮像シーケンスを、前記プリパルスを異なるフリップ角で印加しながら繰り返し実行し、前記プリパルスのフリップ角毎の複数の再構成画像を取得する送信感度計測手段と、前記送信コイルのチャンネル毎に、前記複数の再構成画像から基準画像を決定し、当該基準画像以外の各再構成画像との差分画像を算出し、算出した差分画像を用いて送信感度分布を算出する送信感度分布算出手段と、前記算出した送信感度分布に基づいて、前記送信コイルの各チャンネルに送信する高周波パルスのチャンネル間位相差および振幅比を、それぞれ算出する位相差振幅比算出手段と、前記算出した位相差および振幅比を、前記計測制御手段に設定する位相差振幅比設定手段と、を備え、前記計測制御手段は、前記高周波磁場印加手段が前記送信コイルの各チャンネルそれぞれから、前記設定された位相差および振幅比で高周波パルスを印加するよう制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項1記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記送信感度計測手段は、前記撮像シーケンスを少なくとも3回繰り返し実行し、前記送信感度分布算出手段は、前記算出した差分画像同士をさらに除算し、当該除算結果を用いて前記送信感度分布を算出することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項1記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記プリパルスのフリップ角は、0度を含むことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項3記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記プリパルスのフリップ角は、さらに、0度以外の第一の角度、前記第一の角度の2倍の角度を含むことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項3記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記送信感度計測手段は、前記撮像シーケンスを少なくとも4回繰り返し実行し、前記プリパルスのフリップ角は、0度以外で互いのフリップ角の関係が一方の2倍となるフリップ角のペアを2組以上含むことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項5記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記送信感度分布算出手段は、前記差分画像の画素毎の信号強度に基づいて、当該画素の送信感度の範囲を決定し、決定した範囲に応じて送信感度分布を算出する再構成画像を決定することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項3記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記送信感度分布算出手段は、前記フリップ角を0度に設定して実行された撮影シーケンスで取得された再構成画像を前記基準画像とすることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項1記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記静磁場の不均一を補正する静磁場シミング手段をさらに備え、前記送信感度シミング準備手段は、前記静磁場シミング手段により前記静磁場の不均一が補正された状態で、前記送信感度分布の不均一を補正することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項8記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記送信感度分布算出手段は、静磁場の不均一による送信感度分布への影響を補正値として算出する補正値算出手段をさらに備え、前記送信感度分布算出手段は、前記補正値算出手段が算出した補正値をさらに用い、前記送信感度分布を算出することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項9記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記補正値算出手段は、前記静磁場シミング手段による補正後の静磁場分布と印加するプリパルスの送信帯域とから前記補正値を算出することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。静磁場空間に配置された被検体に高周波パルスを印加する、磁気共鳴イメージング装置の送信コイルの複数のチャンネルの送信感度分布を算出する送信感度分布算出方法であって、前記チャンネル毎に、プリパルスを付加した撮像シーケンスを、前記プリパルスを異なるフリップ角で印加しながら繰り返し実行し、前記プリパルスのフリップ角毎の複数の再構成画像を取得する送信感度計測ステップと、前記チャンネル毎に、前記複数の再構成画像から基準画像を決定し、当該基準画像以外の各再構成画像との差分画像を算出し、算出した差分画像を用いて送信感度分布を算出する送信感度分布算出ステップと、を備えることを特徴とする送信感度分布算出方法。非特許文献1に開示の技術では、画像信号に対する縦緩和時間の影響を除去するため、TRRFパルスの送信間隔である繰り返し時間を5秒程度の長い間隔に設定する必要がある。これにより、単純な計算式によりB1分布を計算することが可能となるが、計測時間が長くなる。非特許文献2および特許文献2に開示の技術によれば、緩和時間がフィッティングで使用する関数に含まれるため、その影響を除去する必要がなく、短いTRでの計測が可能となる。従って、非特許文献1に開示の手法より高速にB1分布を計算できる。しかし、算出精度が撮影する画像枚数に依存するとともに煩雑な計算が必要となる。非特許文献3に開示の技術によれば、B1分布算出の基礎となる画像信号の強度変化の周期はプリパルスのフリップ角にのみ依存し、その後に実行されるパルスシーケンスの影響を受けない。このため、TRの短いパルスシーケンスを用いることにより、非特許文献1に開示の手法より高速にB1分布を計算できる。しかし、非特許文献2および特許文献2に開示の手法と同様、算出精度が、撮影する画像枚数に依存するとともに煩雑な計算が必要となる。従って、精度良くB1分布を算出しようとすると時間がかかり、高速に算出しようとすると、精度が低下する。限られた検査時間内に精度よくB1分布を算出できないと、適切なRFシミングもできず、B1分布の不均一を補正できず、画質の低下を招く。本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、短時間に高い精度でB1分布を算出し、高品質の画像を得る技術を提供することを目的とする。本発明は、複数チャンネルを持つRFコイルを用いて電磁波を照射するRFシミングにおいて、各チャンネルに与えるRFパルスのチャンネル間位相差および振幅比を計算するために必要な送信感度分布を、複数の再構成画像間の差分画像の絶対値を用いて算出する。複数の再構成画像は、それぞれ、異なるフリップ角でプリパルスを印加後に撮影シーケンス実行することにより得る。差分画像は、例えば、最小のフリップ角で得られた画像を基準画像とし、基準画像との間で作成する。なお、さらに得られた複数の差分画像どうしを除算し、その結果から送信感度分布を作成してもよい。具体的には、被検体が配置される空間に静磁場を形成する静磁場形成手段と、前記被検体に傾斜磁場を印加する傾斜磁場印加手段と、複数のチャンネルを持つ送信コイルを有し、前記被検体に高周波磁場を印加する高周波磁場印加手段と、前記被検体から発生する核磁気共鳴信号を受信する信号受信手段と、所定の撮影シーケンスに従って、前記傾斜磁場印加手段、前記高周波磁場印加手段および前記信号受信手段の動作を制御して計測を行う計測制御手段と、前記送信コイルの送信感度分布の不均一を補正するよう、前記各チャンネルから印加する高周波パルスの、チャンネル間の位相差および振幅比を算出する送信感度シミング準備手段と、を備える磁気共鳴イメージング装置であって、前記送信感度シミング準備手段は、前記送信コイルのチャンネル毎に、プリパルスを付加した撮像シーケンスを、前記プリパルスを異なるフリップ角で印加しながら繰り返し実行し、前記プリパルスのフリップ角毎の複数の再構成画像を取得する送信感度計測手段と、前記送信コイルのチャンネル毎に、前記複数の再構成画像から基準画像を決定し、当該基準画像以外の各再構成画像との差分画像を算出し、算出した差分画像を用いて送信感度分布を算出する送信感度分布算出手段と、前記算出した送信感度分布に基づいて、前記送信コイルの各チャンネルに送信する高周波パルスのチャンネル間位相差および振幅比を、それぞれ算出する位相差振幅比算出手段と、前記算出した位相差および振幅比を、前記計測制御手段に設定する位相差振幅比設定手段と、を備え、前記計測制御手段は、前記高周波磁場印加手段が前記送信コイルの各チャンネルそれぞれから、前記設定された位相差および振幅比で高周波パルスを印加するよう制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置を提供する。また、静磁場空間に配置された被検体に高周波パルスを印加する、磁気共鳴イメージング装置の送信コイルの複数のチャンネルの送信感度分布を算出する送信感度分布算出方法であって、前記チャンネル毎に、プリパルスを付加した撮像シーケンスを、前記プリパルスを異なるフリップ角で印加しながら繰り返し実行し、前記プリパルスのフリップ角毎の複数の再構成画像を取得する送信感度計測ステップと、前記チャンネル毎に、前記複数の再構成画像から基準画像を決定し、当該基準画像以外の各再構成画像との差分画像を算出し、算出した差分画像を用いて送信感度分布を算出する送信感度分布算出ステップと、を備えることを特徴とする送信感度分布算出方法を提供する。本発明によれば、短時間に高い精度でB1分布を算出でき、高品質の画像を得ることができる。<<第一の実施形態>>以下、本発明を適用する第一の実施形態について説明する。なお、これにより本発明が限定されるものではない。また、本発明の実施形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。図1は、本実施形態の磁気共鳴イメージングMRI装置100の典型的な構成を説明するためのブロック図である。このMRI装置は、マグネット101と、傾斜磁場コイル102と、送信用RFコイル送信コイル103と、受信用RFコイル受信コイル104と、シーケンサ110と、傾斜磁場電源112と、高周波パルス発生器113と、受信器114と、情報処理装置120と、記憶装置121と、表示装置122と、入力装置123と、寝台140と、を備える。さらに、静磁場均一同を調整する必要がある場合、シムコイル105とシム電源115とを備える。マグネット101は、被検体130が置かれる空間に静磁場B0を形成する。被検体130は、寝台テーブル140上に配置される。マグネット101は、MRI装置の構造に応じて、種々の形態のものが採用される。傾斜磁場コイル102は、互いに直交する3方向の傾斜磁場を与える。傾斜磁場は、スライス選択、位相エンコード、周波数エンコードなどの位置情報を核磁気共鳴信号に与える。傾斜磁場コイル102は、傾斜磁場電源112により駆動される。また、シムコイル105は、複数のチャンネルからなり、シム電源115により電流が供給され、駆動される。送信コイル103は、被検体130に対し高周波磁場を印加する。送信コイル103に送信するRFパルスは、高周波パルス発生器113により生成され、静磁場中に置かれた被検体130に高周波磁場を印加する。本実施形態では、送信コイル103は、送信するRFパルスの位相と振幅とを独立に制御可能な複数のチャンネル150で構成される。各チャンネル150に送信されるRFパルスの位相および振幅はシーケンサ110により制御される。以下、本実施形態では、送信コイル103は、m個のチャンネル150から構成されるものとして、説明する。なお、送信コイル103を構成するチャンネル150の数は限定されない。受信コイル104は、被検体130から発生する核磁気共鳴信号を受信する。受信器114は、受信コイル104で受信した核磁気共鳴信号を検波する。検波の基準とする核磁気共鳴周波数はシーケンサ110によりセットされる。検波された核磁気共鳴信号は、情報処理装置120に送られる。なお、本実施形態では送信コイル103と受信コイル104とに別個のものを用いる場合を例にあげて説明するが、送信コイル103と受信コイル104との機能を兼用する1つのコイルで構成してもよい。シーケンサ110は、傾斜磁場電源112、高周波パルス発生器113及び受信器114の動作を制御し、傾斜磁場、高周波磁場の印加および核磁気共鳴信号の受信のタイミング、印加量等を制御する。タイミングの制御は、撮影方法によって予め設定されているパルスシーケンスと呼ばれるタイムチャートに従って情報処理装置120からの指示に従って行われる。パルスシーケンスは、予め、記憶装置121に記憶される。また、使用するパルスシーケンスの選択、それぞれの印加量等の詳細な条件は、予め記憶装置121に設定される。設定は、情報処理装置120により、または、ユーザにより入力装置123を介してなされる。また、静磁場均一度調整時は、シーケンサ110は、各シムコイルに流れる電流を制御する。すなわち、シーケンサ110は、シム電源115に命令を送り、静磁場不均一を補正するような付加的な磁場をシムコイル105に発生させる。情報処理装置120は、パルスシーケンスおよびユーザからの指示に従って、シーケンサ110に指令を出力し、撮影を実行する。また、受信器114を介して得た核磁気共鳴信号に対して様々な演算処理を行ない、画像を再構成する。さらに、再構成した画像から送信コイル103の送信感度の不均一を補正するパラメータを算出する。情報処理装置120には、受信器114、シーケンサ110、記憶装置121、表示装置122、入力装置123などが接続される。表示装置122は、生成したスペクトル情報や画像情報をユーザに表示するインタフェースである。入力装置123は、計測条件や演算処理に必要な条件、パラメータ等をユーザが入力するためのインタフェースである。記憶装置121には、情報処理装置120が生成した再構成画像を含む各種の情報、入力装置123を介して入力された情報等、パルスシーケンス等が必要に応じて記録される。なお、情報処理装置120は、CPUとメモリとを備える。情報処理装置120の各種の機能は、記憶装置121等に格納されたプログラムをCPUがメモリにロードして実行することにより実現される。本実施形態の情報処理装置120は、前述のように、MRI装置100の各部を制御して、静磁場および送信感度の不均一を補正し、本撮影を実行する。本実施形態の情報処理装置120は、これを実現するため、図2に示すように、参照計測を実行する参照計測部210と、静磁場シミングを行う静磁場シミング部220と、RFシミングのためのパラメータを算出し、シーケンサ110に設定するRFシミング準備部230と、本撮影を実行する本撮影部240と、本撮影で得られた核磁気共鳴信号を画像再構成し表示装置122に表示する表示処理部250とを備える。まず、上記各部による撮影時の処理の流れの概略を説明し、その後、各部による処理の詳細を説明する。図3は、本実施形態のMRI装置100における、被検体130を撮像する際の撮影処理の処理フローである。撮影処理は、ユーザからの撮影開始の指示、または、予め登録されたプログラムに従って開始される。検査開始の指示を受け付けると、まず、参照計測部210は、撮影準備のための参照スキャンを実行するステップS1101。次に、静磁場シミング部220は、静磁場B0シミングのための計測を行い、B0分布を計算し、静磁場不均一を補正するシム電流値を調整する静磁場シミング処理;ステップS1102。次に、RFシミング準備部230は、送信感度B1分布算出のための計測を行い、B1分布を計算し、送信感度を補正するためのパラメータを算出し、シーケンサ110に設定するRFシミング準備処理;ステップS1103。ここでは、各チャンネル150に与えるRFパルスのチャンネル間位相差および振幅比以後、位相差および振幅比を決定し、シーケンサ110に設定する。そして、本撮影部240は、検査目的に応じて本撮影を実行するステップS1104。このとき、シーケンサ110は、RFシミング準備部230が設定した位相差および振幅比を保ち、各チャンネル150にRFパルスを送信するよう、高周波パルス発生器113に指示を行う。表示処理部250は、本撮影により得られた再構成画像を表示装置122に表示するステップS1105。なお、上記撮影処理は、被検体130が変わる毎に、また、同一被検体130であっても、撮影対象部位が変更される毎に繰り返される。以下、図3の撮影処理の各処理の詳細を説明する。参照計測部210は、ステップS1101の参照スキャンとして、プリスキャン、スカウトスキャンなどを実行する。プリスキャンは、中心周波数、RFパルスの照射パワーおよび受信ゲインの調整を目的として実行される。スカウトスキャンは、被検体130の位置の同定を目的として実行される。参照計測部210は、所定のパルスシーケンスに従ってシーケンサ110に指示を出し、各参照スキャンを実行する。なお、これらの情報が既に取得済みである場合は、この参照スキャンは行わなくてもよい。この場合、参照計測部210は備えなくてもよい。次に、ステップS1102における静磁場シミング部220による、静磁場B0シミング処理について説明する。静磁場シミング部220は、静磁場不均一を補正するよう、シムコイル105に供給する電流値を決定する。計算された電流値はシーケンサ110に受け渡され、シーケンサ110からの指示に従って、シム電源115から出力される。シム電源115から供給される電流に従ってシムコイル105が磁場を発生することにより、静磁場B0不均一は補正される。なお、静磁場に不均一がない場合は、この静磁場シミング処理は行わなくてもよい。この場合、静磁場シミング部220は備えなくてもよい。上記電流値を決定するため、静磁場シミング部220は、まず、静磁場分布B0分布を計測する。B0分布計測のため、静磁場シミング部220は、エコー時間TEの異なる2つのGrEグラディエントエコー系のパルスシーケンスによる計測を実行する。この計測は、予め保持されるGrE系のパルスシーケンスに従って、静磁場シミング部220がシーケンサ110に指示を出すことにより実行される。そして、静磁場シミング部220は、各パルスシーケンスにより得られた核磁気共鳴信号から、それぞれ画像を再構成する。次に、静磁場シミング部220は、得られた2つの再構成画像間の位相差を計算する。そして、静磁場シミング部220は、得られた位相差を用い、静磁場分布偏り静磁場不均一ΔB0の分布を作成する。静磁場不均一ΔB0は、画像間の位相差ΔΦ、TEの時間差ΔTおよび核磁気回転比γを用い、以下の式1で表わされる。静磁場シミング部220は、式1を用いて、各画素の静磁場不均一を求め、静磁場不均一分布を作成する。そして、静磁場シミング部220は、これに基づいてシムコイル105に供給する電流値を算出する。計算された電流値はシーケンサ110に設定され、シーケンサ110からの指示に従って、シム電源115から出力される。なお、静磁場シミング部220は、さらに、補正後の静磁場不均一分布を計算にて算出するよう構成してもよい。また、補正前後の静磁場不均一分布を表示画像として構成し、表示装置122に表示してもよい。このように構成することにより、操作者がB0シミング処理による静磁場分布の変化を確認することができる。次に、ステップS1103のRFシミング準備部230によるRFシミング準備処理について説明する。RFシミング準備部230は、送信コイル103が撮影領域に形成する回転磁界の強度分布である送信感度分布B1分布を算出し、その不均一を補正するよう、各チャンネル150に送信するRFパルスのチャンネル間位相差および振幅比を算出し、シーケンサ110に設定する。これを実現するために、RFシミング準備部230は、図2に示すように、B1分布計測部231と、B1分布算出部232と、位相差振幅比算出部233と、位相差振幅比設定部234と、を備える。これらの機能により、算出した位相差及び振幅比がシーケンサ110に設定される。シーケンサ110は、以後の計測において、設定された位相差および振幅比でRFパルスを生成して各チャンネル150に送信するよう、高周波パルス発生器113に指示を出す。図4は、本実施形態のRFシミング準備部230の各部によるRFシミング準備処理の処理フローである。本図に示すように、まず、B1分布計測部231は、各チャンネル150のB1分布を算出するための計測B1分布計測を行い、再構成画像を取得するステップS1201。そして、B1分布算出部232は、得られた再構成画像を用い、チャンネル150毎のB1分布を算出するB1分布算出処理を行うステップS1202。そして、位相差振幅比算出部233は、得られたB1分布から各チャンネル150に送信するRFパルスの位相差および振幅比を算出する位相差振幅比算出処理を行うステップS1203。そして、位相差振幅比設定部234は、算出された各チャンネル150に送信するRFパルスのチャンネル間位相差および振幅比をシーケンサ110に設定するステップS1204。以下、各処理の詳細を説明する。まず、ステップS1201のB1分布計測部231によるB1分布計測を説明する。B1分布計測部231は、B1分布計測として、所定の撮影シーケンスを、それぞれフリップ角が異なるプリパルスを付加して複数回実行し、フリップ角毎に再構成画像を得る。このとき、少なくとも3種の異なるフリップ角を用いる。図5は、本実施形態のB1分布計測に用いるシーケンス300を説明するための図である。図中の横軸は時間軸を表わす。B1分布計測部231は、シーケンス300に従って、シーケンサ110に指示を出し、B1分布算出用の計測を実行する。シーケンス300は、一定の時間間隔306以下、TDで、n回nは3以上の整数繰り返されるセグメント301を備える。各セグメント301は、プリパルス302と撮影シーケンス303とを備える。プリパルス302は、任意のフリップ角に設定可能な一個のRFパルスプリパルスである。セグメント301の繰り返し毎に、プリパルス302のフリップ角を変化させる。以下、各回のフリップ角を、α0、α1、、αn-1とする。なお、プリパルス302の印加後には、横磁化を飽和させるための傾斜磁場を続けて印加する。ただし、プリパルス302印加時は、スライス選択傾斜磁場を印加しない。撮影シーケンス303は、特に種類は問わない。例えば、フリップ角を低く設定したGrE系のパルスシーケンスを用いる。撮影パラメータも任意に設定できる。各セグメント301において、プリパルス302の印加から、撮影シーケンス303においてk空間の中心の核磁気共鳴信号を計測するタイミング304までの時間間隔305をTIとする。本実施形態では、B1分布計測部231は、上述のように、異なるn種のフリップ角のプリパルス302を印加し、それぞれ画像再構成に必要な核磁気共鳴信号を取得し、n枚の再構成画像を得る。B1分布計測部231は、このシーケンス300によるB1分布計測を、m個のチャンネル150をそれぞれ単体で駆動させて、m回実行する。従って、B1分布計測部231は、本実施形態のB1分布計測により、n×m個の再構成画像を得る。次に、ステップS1202の、B1分布算出部232によるB1分布算出処理について説明する。図6に、B1分布算出部232によるB1分布算出処理の概略を示す。以下の処理は、チャンネル150毎に行われる。本図に示すように、B1分布算出部232は、まず、当該チャンネル150のB1分布計測で得られたn枚の再構成画像から基準画像を選択するステップS1301。基準画像は、いずれの再構成画像でもよいが、例えば、プリパルス302のフリップ角αが最小の画像が望ましい。次に、B1分布算出部232は、基準画像と残りのn-1枚の再構成画像それぞれとの差分画像を生成する差分処理を行うステップS1302。差分処理は、位相情報を含んだ複素画像データを用いて行う。そして、B1分布算出部232は、作成したn-1枚の差分画像を用いてB1分布を算出するステップS1303。B1分布の算出は、B1分布によって、フリップ角αに対する信号強度変化の周期が変化することを利用して各画素のB1値を算出することにより行う。以下、本実施形態のB1分布算出処理の詳細を説明する。まず、シーケンス300によるB1分布計測で取得する再構成画像の信号強度について説明する。ここでは、シーケンス300の所定のセグメント301で取得された再構成画像の一つの画素に着目し、説明する。このセグメント301で印加されるプリパルス302のフリップ角をα、撮影シーケンス303による信号強度の変化をSseqT1、T2、TR、TE、フリップ角等に依存する関数、画素に対応する撮影領域に存在するプロトンの縦緩和時間をT1、送信感度分布をB1、とすると、着目画素の信号強度Sαは、以下の式2で表される。そして、式2は、式2’のように変形できる。式2’より、フリップ角αに対する着目画素の信号強度Sαの変化の周期は、B1により変化する。図7に、式2’に基づきフリップ角αに対する着目画素の信号強度Sαをプロットした図を示す。横軸がプリパルス302のフリップ角FAα、縦軸が着目画素の信号強度Sαである。また、B1は、0.5、1.0、2.0とした。図中にプロットされている負の信号強度は、正の信号強度の位相からπ位相がずれた信号に相当する。例えば、最小のフリップ角をα0とし、フリップ角がこのα0のプリパルス302を印加して取得した画像を基準画像とする。この場合、残りの各再構成画像フリップ角αiiは、1≦i≦n-1を満たす整数毎の各差分画像の着目画素の信号強度Sαi-Sα0は、以下の式3で表される。図8aに、本実施形態のB1分布計測で得られたn枚の再構成画像の、着目画素の信号強度を、横軸をプリパルスのフリップ角FA、縦軸を信号強度Sαとした座標系にプロットした結果信号強度グラフ701を示す。ここでは、一例として、プリパルス302のフリップ角を10回変更し、10枚の再構成画像を得た場合を示す。また、図8bに、式3に従って得た、差分画像の着目画素の信号強度の絶対値を、同じく、横軸をプリパルスのフリップ角FA、縦軸を信号強度の絶対値|Sα―Sα0|とした座標系にプロットした結果702を示す。ここでは、αがα0の場合すなわち、|Sα0-Sα0|=0もプロットしてある。図8a、bに示されるように、差分画像の信号強度の絶対値の変化を示すプロット結果702の近似式が極大値を取るフリップ角のうち最小のフリップ角αminは、図8aに示す信号強度グラフ701の変化の半周期目のフリップ角に相当する。B1分布算出部232は、これを利用し、B1を算出する。具体的には、B1分布算出部232は、まず、図8bに示すプロット結果702から、差分画像の絶対値の変化の近似関数703を決定する。近似関数は、プロット結果702に対し、フィッティングを行うことにより、決定する。フィッティングは、例えば、区分毎に近似するスプラインフィッティングにより行う。なお、少なくとも3種の異なるフリップ角でセグメント301を繰り返すのは、このフィッティングにより近似関数703を得るためである。次に、B1分布算出部232は、決定した近似関数703における極大値704を算出する。そして、算出した極大値704の中でプリパルス302のフリップ角が最小となるフリップ角αminを算出する。そして、B1分布算出部232は、得られたαminを用い、着目画素のB1値を、以下の式4により算出する。B1分布算出部232は、各画素について、上記処理を行い、各画素のB1値を求め、B1分布とする。なお、B1分布の算出方法はこれに限らない。また、B1分布の算出は、上述のように、B1分布算出用の計測と同様にm個のチャンネル150ごとに行う。次に、上記ステップS1203の、位相差振幅比算出部233による位相差振幅比算出処理を説明する。位相差振幅比算出部233は、算出されたB1分布に基づき、各チャンネル150に送信するRFパルスのチャンネル間位相差および振幅比を算出する。算出は、例えば、最小二乗法を用いて行う。具体的には、理想のB1分布をm、各チャンネル150のB1分布をA、各チャンネル150におけるRFパルスの位相差および振幅比をxとすると、これらは、以下の式5に示す行列式の関係となる。ここで、理想のB1分布mの要素は全て同じ値とする。最小二乗法により、式5を満たすxの最適値を求める。そして、ステップS1204において、位相差振幅比設定部234は、位相差振幅比算出部233が求めた各チャンネル150に送信するRFパルスのチャンネル間位相差および振幅比を、シーケンサ110にセットする。シーケンサ110は、以降の撮影において、セットされた位相差および振幅比で、各チャンネル150にRFパルスを送信するよう高周波パルス発生器113に指示する。これにより、B1シミングがなされる。次に、ステップS1104における、本撮影部240による本撮影の実行について説明する。本撮影部240は、検査目的に応じて操作者により決定されるパルスシーケンスに従って、本撮影を実行する。このとき、シーケンサ110は、RFシミング準備部230が設定した位相差および振幅比で、各チャンネル150にRFパルスを送信するよう高周波パルス発生器113に指示を行う。そして、高周波パルス発生器113は、指示された位相差および振幅比で各RFパルスを生成し、チャンネル150それぞれから被検体130へ印加する。これにより、B1不均一を低減した画像を取得することができる。以上説明したように、本実施形態によれば、プリパルスを付加したパルスシーケンスをプリパルスのフリップ角を段階的に変えて実行することにより得た、複数枚の再構成画像の基準画像との差分画像を用いてB1分布を算出する。B1分布は、差分画像の信号強度の絶対値をフィッティングすることにより、信号強度の変化の周期を決定し、算出する。そして、差分画像の信号強度には、複素データの差分値を用いる。従って、本実施形態によれば、従来の関数フィッティングによるB1分布算出で必要な信号の折り返し処理が不要になるため、ノイズによる誤差を抑制でき、安定した高い精度でB1分布を算出できる。本実施形態によれば、高精度なB1分布を用いて各チャンネルに送信するRFパルスのチャンネル間位相差および振幅比を算出できるため、高精度なB1シミングが可能となる。従って、高い精度でB1補正がなされるため、高品質の画像を得ることができる。また、本実施形態によれば、B1分布算出の基礎となる画像信号の強度変化の周期はプリパルスのフリップ角にのみ依存し、その後の実行されるパルスシーケンスの影響を受けない。このため、TRの短いパルスシーケンスを用いることができる。従って、短時間に高い精度でB1分布を算出できる。従って、本実施形態によれば、短時間に高品質の画像を得ることができる。なお、上記実施形態では、プリパルス302のフリップ角として設定する角度を特に限定していないが、例えば、最小のフリップ角を0度としてもよい。この場合、基準画像も、プリパルスの302のフリップ角を0度としてセグメント301を実行した結果から再構成された画像を用いる。この場合の着目画素の信号強度は、以下の式6で表される。ここで、1-cosB1α>0であるため、式6を用いることで、絶対値を用いることなく、折り返し処理を行わない関数フィッティングにてB1分布を計算できる。従って、最小のフリップ角を0度とすることにより、本実施形態同様の効果を、より簡易な計算で得ることができる。<<第二の実施形態>>次に本発明を適用する第二の実施形態について説明する。本実施形態のMRI装置は基本的に第一の実施形態のMRI装置と同様の構成を有する。ただし、本実施形態では、RFシミング準備部がB1分布を算出する際、差分処理に加え、除算処理を行う。以下、本実施形態に関し、第一の実施形態と異なるRFシミング準備部によるRFシミング準備処理に主眼をおいて説明する。なお、本実施形態のRFシミング準備部230も、第一の実施形態同様、B1分布計測部231と、B1分布算出部232と、位相差振幅比算出部233と、位相差振幅比設定部234と、を備える。本実施形態のB1分布計測は、基本的に第一の実施形態と同様のシーケンス300を用いて行われる。また、本実施形態のB1分布計測においても、セグメント301を、各々プリパルス302のフリップ角を変えて、少なくとも3回繰り返す。これは、得られた再構成画像から差分画像を生成し、さらに、差分画像どうし、除算を行うためである。以下、セグメント301を3回繰り返す場合を例にあげて、本実施形態のRFシミング準備部230によるRFシミング準備処理を説明する。各回のプリパルス302のフリップ角を、それぞれ、α0、α1、α2とする。また、第一の実施形態同様、RFシミング準備処理に先立ち、静磁場シミング等が実行され、静磁場は均一な状態であると仮定する。まず、第一の実施形態のステップS1201同様、B1分布計測部231は、B1分布算出用の計測を行い、それぞれの結果から再構成画像を取得する。各フリップ角α0、α1、α2で得られた再構成画像の着目画素の信号強度をそれぞれSα0、Sα1、Sα2とする。次に、B1分布算出部232は、B1分布算出処理を行う。本実施形態のB1分布算出処理を、図9を用いて説明する。なお、図9は、本実施形態のB1分布算出部232による、B1分布算出処理の処理フローである。以下の処理は、チャンネル150毎に行われる。まず、B1分布算出部232は、第一の実施形態同様、まず、当該チャンネル150のB1分布計測で得られた複数の再構成画像から基準画像を選択するステップS1301。ここでは、3枚の再構成画像から、最小のフリップ角α0のプリパルス302を印加して取得した再構成画像を基準画像として選択する。本実施形態においても、基準画像は、いずれの再構成画像でもよいが、プリパルス302のフリップ角αが最小の画像が望ましい。基準画像を決定すると、B1分布算出部232は、第一の実施形態同様、基準画像と他の複数の再構成画像との差分画像を生成する差分処理を行うステップS1302。各差分画像の着目画素の信号強度は、式2より、以下の式7および8で表される。以下、着目画素の信号強度が式7で表される差分画像を、第一の差分画像、同、式8で表される差分画像を、第二の差分画像と呼ぶ。次に、B1分布算出部232は、第二の差分画像を第一の差分画像で除算し、除算画像を得る除算処理を行うステップS1313。なお、第一の差分画像を、第二の差分画像で除算してもよい。除算画像は、以下の式9で表される。そして、B1分布算出部232は、式9を用い、各画素のB1を計算する。式9は、式2において未知数であるSseqおよびT1が除去された非線形方程式である。従って、B1分布算出部232は、この非線形方程式を解き、各画素のB1値を算出する。このように、本実施形態では、フィッティング処理無しでB1を算出できる。B1分布算出部232は、各画素についてB1を算出し、B1分布を算出するステップS1314。以上の手順でB1分布を算出すると、位相差振幅比算出部233は、第一の実施形態のステップS1203同様、算出したB1分布を用い、位相差振幅比算出処理を行い、各チャンネル150に送信するRFパルスのチャンネル間位相差および振幅比を算出する。以上説明したように、本実施形態によれば、少なくとも3回、それぞれプリパルス302のフリップ角を変えてセグメント301を繰り返して得た結果の中から3つの画像を選択する。そして、それらの画像に対し上述の差分処理および除算処理を行うことで、式2において未知数であるSseqおよびT1を除去でき、式9に示すB1分布のみの関数を導出できる。従って、式9に示す非線形方程式を解くことでB1分布を算出でき、B1分布算出処理の計算処理が単純化できる。本実施形態では、フィッティング計算を行わないため、計算時間を短縮できるとともに結果の精度が向上する。従って、第一の実施形態で得られる効果に加え、より高い精度で高速にB1分布を得ることができ、得られる画像の品質も向上する。なお、本実施形態においても、第一の実施形態同様、基準画像を得るセグメント301のプリパルス302のフリップ角α0として、0度を選択してもよい。さらに、例えば、0度、90度、180度のように、α2をα1の2倍の値と設定してもよい。この場合、式9は、以下の式10のように変形できる。式10においてα1=αとすると、着目画素のB1は以下の式11で算出できる。このように、各セグメント301のプリパルス302のフリップ角を、0度、α、2α例えば、0度、90度、180度に設定すると、式11に示すように、三角関数の計算のみでB1分布を算出できる。従って、より、高速に、高精度にB1分布を得ることができる。これに伴い、より高い品質の画像を得ることができる。なお、本実施形態では、少なくとも3回、プリパルスのフリップ角を異なる値に設定してセグメント301を実行することにより、B1分布を算出できる。ただし、Nyquistの定理より、ある周波数を分離する場合、少なくとも1周期あたり2サンプルが必要となる。従って、精度良くB1分布を算出するためには、これを満たすよう各セグメント301のプリパルスのフリップ角を設定する。例えば、上述のように、プリパルス302のフリップ角を0度第一のフリップ角、α第二のフリップ角、2α第三のフリップ角の3種としてB1計測を実行し、B1分布を算出する場合、第二のフリップ角αは、以下の範囲から選択する。図10は、第二のフリップ角αの選択範囲を説明するための説明図である。本図には、B1=1.0の場合の、プリパルス302のフリップ角に対する着目画素の信号強度Sαの変化800をプロットする。上述のNyquistの定理より、任意のフリップ角αとその2倍のフリップ角2αで図中の信号強度の変化の周期を特定するためには、αは以下の式12を満たす必要がある。すなわち、図10のフリップ角の範囲8010<α≦πからαを選択する必要がある。ここで、フリップ角の範囲801は、信号強度変化800の12周期に相当する。例えば、第二のフリップ角αとして90度を選択する場合、B1が2.0以下の場合、式12を満たすため、信号強度の変化の周期を特定できる。しかし、B1がそれより大きい値となると、両フリップ角で信号強度変化の周期を特定できず、折りかえった値で算出される。従って、第二のフリップ角αとして90度を選択すると、算出できるB1値は2.0までである。式12より、第二フリップ角αを小さく設定すればするほど、算出できるB1値の上限が大きくなる。一方、0度に近いフリップ角の範囲802では、第二のフリップ角αにより得られる再構成画像と第三のフリップ角2αにより得られる再構成画像との信号強度の差が小さくなり、信号強度の差が画像の画像ノイズの大きさに近づくにともないノイズの影響により周波数の分離精度が低下する。以上のことから、第二フリップ角αを小さく設定するほど高いB1分布まで算出できるが、B1が低い値の算出精度が低下する。一方、第二フリップ角αを大きく設定するほどB1の低い値を精度よく算出できるが、算出できるB1の上限値が小さくなる。従って、第二フリップ角αは、予めB1がとり得る範囲を考慮して選択する。この関係を利用し、第二のフリップ角αとして採用する値を、予測されるB1の範囲に応じて決定するよう構成してもよい。この変形例の手法を以下説明する。ここでは、B1分布計測において、各回のプリパルス302のフリップ角を、0度を含み、0度以外で互いのフリップ角の関係が一方の2倍となるフリップ角のペアを2組以上含むよう設定し、セグメント301を、予め、少なくとも4回実行する。そして、所定の演算によりB1の範囲を特定し、それに応じて、0度とともに差分および除算に用いるフリップ角のペアを決定する。まず、作成される差分画像の中から異なる2つを選択し、選択した両差分画像の着目画素の信号強度の絶対値の大小により、所定のB1値以上か否かを判別し、B1の範囲を特定する。そして、所定のB1値以上と判別された場合、小さいフリップ角のペアを、差分および除算に用いるペアと決定する。所定のB1値より小さいと判別された場合は、大きいフリップ角のペアを、差分および除算に用いるペアと決定する。所定のB1値は、両絶対値が等しくなるB1値の中の最小の値を選択する。以下、具体的な例をあげて、RFシミング準備部230による、本変形例のRFシミング準備処理を説明する。ここでは、セグメントの繰り返し回数を4回とし、各回のプリパルス302のフリップ角を、それぞれ、0度、90度、180度、360度とする。上記フリップ角のペアは、90度と180度、180度と360度の2組である。まず、本実施形態のB1分布計測部231は、上記条件でB1分布計測を実行し、フリップ角毎の再構成画像を作成する。次に、B1分布算出部232は、プリパルス302のフリップ角が最小、すなわち、0度に設定して実行したセグメント301で取得した再構成画像を基準画像とし、それぞれ、差分画像を作成する。プリパルス302のフリップ角を0度、90度、180度、360度に設定して得た各再構成画像の着目画素の信号強度を、それぞれ、S0、S90、S180、S360とすると、作成される差分画像の、着目画素の信号強度の絶対値は、|S90-S0|、|S180-S0|、|S360-S0|となる。ここでは、|S90―S0|と|S360―S0|とを、B1値の範囲判定に用いる。ここで、B1=0.8のとき、D1=S90-S0は、D2=S360-S0と等しくなる。まず、|S90―S0|と|S360―S0|との大きさを比較する。その結果、|S90―S0|≧|S360―S0|の場合、B1≧0.8と推定できる。この場合、より大きい上限値を算出可能なα、すなわち、90度を第二のフリップ角αとし、第三のフリップ角2αは180度とする。そして、第一の差分画像S90―S0と第二の差分画像S180―S0とからB1分布を算出する。一方、|S90―S0|<|S360―S0|の場合、B1<0.8と推定できる。そこで、この場合、0度と180度と360度との組を採用し、第二の差分画像S180―S0と第三の差分画像S360―S0とからB1分布を算出する。上記のように、セグメント301を、上記条件で少なくとも4回実行し、得られた結果を用いてフリップ角のペアを決定する。ここで、B1の範囲を特定し、用いるフリップ角のペアを決定するにあたり、採用するペア以外のフリップ角で得られた再構成画像を用いてもよい。以下、具体例で説明する。ここでは、セグメント301の繰り返し回数を5回とし、各回のプリパルス302のフリップ角を、それぞれ、0度、90度、180度、270度、360度とする。上記フリップ角のペアは、90度と180度、180度と360度の2組である。まず、本実施形態のB1分布計測部231は、上記条件でB1分布計測を実行し、フリップ角毎の再構成画像を作成する。次に、B1分布算出部232は、プリパルス302のフリップ角が最小、すなわち、0度に設定して実行したセグメント301で取得した再構成画像を基準画像とし、それぞれ、差分画像を作成する。プリパルス302のフリップ角を0度、90度、180度、270度、360度に設定して得た各再構成画像の着目画素の信号強度を、それぞれ、S0、S90、S180、S270、S360とすると、作成される差分画像の、着目画素の信号強度の絶対値は、|S90-S0|、|S180-S0|、|S270-S0|、|S360-S0|となる。ここで、B1=1.0のとき、D1=S90-S0は、D2=S270-S0と等しくなる。すなわち、B1値1.0のとき、両差分画像の着目画素の信号強度が等しくなる。従って、ここでは、|S90―S0|と|S270―S0|とを、B1値の範囲判定に用いる。まず、|S90―S0|と|S270―S0|との大きさを比較する。そして、比較の結果、|S90―S0|≧|S270―S0|の場合、B1≧1.0と推定できる。従って、この場合、より大きい上限値を算出可能なα、すなわち、90度を第二のフリップ角αとする。すなわち、第三のフリップ角2αは180度とする。そして、第一の差分画像S90―S0と第二の差分画像S180―S0とからB1分布を算出する。一方、|S90―S0|<|S270―S0|の場合、B1<1.0と推定できる。そこで、この場合、0度と180度と360度との組を採用し、第二の差分画像S180―S0と第三の差分画像S360―S0とからB1分布を算出する。以上のように、本変形例によれば、得られた再構成画像の信号強度によりB1の範囲を推定し、推定範囲に適した再構成画像を用いてB1分布を計算する。これにより、B1に応じて最適なフリップ角のプリパルスにより得られた再構成画像を用いてB1分布を算出できる。従って、少ない計測回数で、高い精度でB1分布を算出できる。すなわち、より短時間に上記第二の実施形態と同様の精度でB1分布を算出できる。なお、第一の実施形態も同様に、各回のプリパルス302のフリップ角αを、0度を含み、0度以外で互いのフリップ角の関係が一方の2倍となるフリップ角のペアを2つ以上含むように設定して、セグメント301を4回以上実行し、B1の範囲に応じて、差分に用いるフリップ角のペアを決定するよう構成してもよい。上記各実施形態では、RFシミング準備処理の前に静磁場シミング処理を行い、静磁場の不均一を是正した状態でRFシミング準備処理を行うものとして説明している。しかし、静磁場シミング処理を行った場合であっても、静磁場の不均一が残る場合がある。そのような場合は、静磁場不均一による送信感度分布の補正処理を行うよう構成してもよい。本補正処理を以下に説明する。静磁場分布に不均一のある領域では、プリパルス302のように、傾斜磁場を印加しないで印加されるRFパルス非選択励起RFパルスは、静磁場不均一による周波数差と励起プロファイルとに応じて、その励起強度に差が生じる。なお、撮影パルスシーケンス301で用いられるRFパルスのように、RFパルスの送信と同時にスライス選択傾斜磁場が印加されるRFパルスの場合、静磁場不均一の影響はスライス方向の位置ずれとして現れ、励起強度の差としては現れない。上記B1分布計測のシーケンス300において、プリパルス302は非選択励起RFパルスであるため、静磁場不均一の影響による送信感度分布第二の送信感度分布rB0が発生する。ここで、第二の送信感度rB0について説明する。静磁場分布に不均一のある領域では、その不均一度ΔB0に応じて、RFパルスの励起プロファイルの中心周波数は、中心周波数からΔfだけずれる。ΔB0と中心周波数との差Δfは、以下の式13で表わされる。ここで、γは磁気回転比である。励起プロファイルの中心周波数がΔfだけずれると、励起強度に差が生じる。図11aにRFパルスの送信波形401の模式図を示す。また、図11bにRFパルスの励起プロファイル402の模式図を示す。図11aの403は時間軸、図11bの404は周波数軸を表す。励起プロファイル402は、送信波形401をフーリエ変換したものであり、その送信帯域405は、RFパルスの印加時間406によって決まる。励起プロファイル402の中心周波数f0407は、RFパルスの送信周波数に一致する。また、励起プロファイル402の縦軸は励起プロファイルの励起強度に相当する。従って、静磁場不均一度ΔB0によって生じる励起プロファイル402の中心周波数407からの周波数の差408に応じて、励起強度に差409が生じる。このとき、励起プロファイルの中心周波数における励起強度をP0、中心周波数と周波数差がΔfの周波数における励起強度をP1とすると、周波数差Δfを生じさせる不均一度ΔB0の領域に対応する画素の第二の送信感度rB0は以下の式14で表わされる。このような領域の画素の送信感度B1には、送信用RFコイルの送信感度不均一によって発生する第一の送信感度B1oと、RFパルスの励起プロファイルと静磁場の不均一によって発生する第二の送信感度rB0との成分が含まれる。すなわち、B1=B1o×rB0である。従って、本来算出すべき送信感度B1oは、B1をrB0で除算することにより得られる。なお、上記各実施形態は、静磁場の不均一が略解消した状態、すなわち、rB0=1.0、B1=B1oの場合である。RFシミング準備部230のB1分布算出部232は、まず、B0シミングにより不均一を補正後の静磁場分布を、中心周波数f0との周波数差Δfの分布に変換する。これは、上記式13を用いて行う。次に、B1分布算出部232は、プリパルス302で使用するRFパルスの励起プロファイルから、中心周波数における励起強度P0と周波数差Δfに応じた励起強度P1を算出する。励起強度P1の算出は、周波数差Δfと励起強度P1との関係をデータテーブルとして予め保持し、周波数差Δfに対応付けて保持される励起強度P1を抽出するよう構成してもよい。また、予め周波数差Δfを変数として励起強度P1を算出する関数を用意し、この関数を用いて算出するよう構成してもよい。その後、B1分布算出部232は、式14に従ってrB0を算出する。そして、上記各実施形態で算出した画素毎のB1を、rB0で除算し、B1oを算出する。この場合、位相差振幅比算出処理では、位相差振幅比算出部233は、B1の代わりに算出したB1oを用い、各チャンネル150が照射するRFパルスのチャンネル間位相差および振幅比を算出する。なお、上記各実施形態では、B1分布算出計測で使用する撮影シーケンス303は、任意のパルスシーケンスに設定することができる。ただし、EPIEchoplanarImagingやRSSGRFSpoiledSteadyStateAcquisitionwithRrewoundGradientEchoなどの高速撮影シーケンスであることが好ましい。これにより、撮影時間が短縮できるためである。また、TIは可能な限り短く設定し、撮影シーケンス303においてk空間の中心の核磁気共鳴信号は可能な限り早いタイミングで計測されることが好ましい、これは、撮影シーケンス303で取得する核磁気共鳴信号にプリパルス302の影響を大きく与えるためである。これにより、式2で表わされる画像の信号強度変化の振幅が大きくなり、B1分布計算の精度が向上する。また、上記各実施形態のMRI装置では、B1分布計測に用いるシーケンス300のプリパルス302として、上述のように非選択励起型のプリパルス302を用いる。このように、上記各実施形態では、プリパルス302が非選択励起型であるため、撮影シーケンス303には、マルチスライスの撮影も適用が可能である。また、逆に、プリパルス302として、スライス選択傾斜磁場を印加する選択励起型のプリパルスを用いるよう構成してもよい。この場合、用いるプリパルスは、任意のフリップ角に設定可能なRFパルスとし、横磁化飽和させるための傾斜磁場を続けて印加する。このように、用いるプリパルスを選択励起型にすることにより、静磁場不均一がある場合においても、静磁場不均一による送信感度分布の補正が必要ない。ただし、撮影シーケンス303はシングルスライスの撮影に限定される。この場合、複数スライスの撮影を行う場合は、プリパルス302も含めたセグメント301でのマルチスライス撮像構造を作る。一般に、TDを短く設定する方がB1分布計測にかかる時間が短縮し、好ましい。しかし、上記各実施形態のB1分布算出用の計測では、プリパルス302同士の干渉がないことを前提としている。すなわち、TD間で縦磁化が完全回復している状態を前提としている。このため、TDはある程度の長さが必要となる。上記各実施形態では、両者を勘案し、健常な生体内において全体のB1均一度に寄与するT1値から最適なTDを決定する。また、腹水などがある場合は全体のB1均一度に寄与するT1値が長くなるため、健常な生体で設定したTDより長く設定することが好ましい。このため、上記各実施形態のMRI装置において、参照スキャンのスカウト画像などで、腹水などのT1の長い組織が多く確認される場合、自動的にTDを長く設定するか、あるいは、推奨事項として操作者にTDを長めに設定することを促すよう構成してもよい。このように構成することにより、腹水などがある領域が撮影対象であっても、精度良くB1を算出できる。以上説明したように、上記各実施形態によれば、高速かつ高精度なB1分布を簡便に算出することができる。従って、画質を維持したまま、撮影時間を短縮できる。逆に、短時間に高品質の画像を得ることができる。すなわち、上記各実施形態によれば、B1分布を高速かつ簡便に計測できるため、画像ムラを抑制した検査を短時間で実行することができる。