"流動層反応器内に設けた原料ガスの分散装置を通じて前記原料ガスを前記流動層反応器に供給し、前記原料ガスを気相反応させる方法であって、前記分散装置の圧力損失が流動層の圧力損失に対して1.0倍未満である場合に、前記分散装置に不活性ガスを供給する工程を有する方法。前記分散装置の圧力損失が前記流動層の圧力損失に対して0.12~4.0倍である、請求項1記載の方法。前記分散装置における前記原料ガスの圧力損失が前記流動層の圧力損失に対して0.64倍以下である、請求項1又は2記載の方法。前記原料ガスは、プロピレン、イソブチレン、プロパン、イソブタン及び第3級ブチルアルコールからなる群より選ばれる少なくとも一種と、アンモニアとの混合ガスである、請求項1~3のいずれか1項記載の方法。しかしながら、本発明者の検討によると、特許文献1又は2に記載されたような分散性の改良方法は、流動層反応器の能力を最大限に発揮する運転、すなわち反応器の能力の上限程度に原料を供給して運転する場合にはある程度有効な方法であるものの、原料の流量を下げて運転する場合には十分な均一分散性を示さない。実際の化学プラントでは、流動層反応器を常に最大限の能力で稼動しているわけではなく、製品の需要やストック、原料や製品の価格等に応じて製造量を調整することが頻繁に行われており、生産量を落として運転する場合も、反応器内に原料を均一に分散させ、収率を高く維持したいという要求がある。生産量を低く設定している場合であっても高収率を維持することは、目的化合物以外の生成による機器の詰まり防止や、コスト増を避けるといった観点で大きな意味がある。本発明者は、原料ガスの分散装置を有する流動層反応器を用いて気相反応させる方法において、生産量を落として運転する場合に、分散装置の圧力損失が反応器流動層の圧力損失より小さくなるほどに原料の流量を下げてしまうと、原料ガスの分散性が悪化し、反応成績に問題が生ずることを見出した。しかしながら、分散装置の圧力損失が反応器流動層の圧力損失より小さくなるほど原料の流量を低くした場合でも原料ガスの分散性を良好に保持する方法は知られていない。本発明者は、上記事情に鑑み、流動層反応器の原料ガスの分散性に関し鋭意検討した結果、分散装置の圧力損失が反応器流動層の圧力損失より小さくなるほど原料ガスの供給量を減少させる場合には、原料ガスと合わせて不活性ガスも分散装置から供給することで、原料ガスの分散性を改善できることを見いだし本発明に到達した。すなわち、本発明は以下の通りである。[1]流動層反応器内に設けた原料ガスの分散装置を通じて前記原料ガスを前記流動層反応器に供給し、前記原料ガスを気相反応させる方法であって、前記分散装置の圧力損失が流動層の圧力損失に対して1.0倍未満である場合に、前記分散装置に不活性ガスを供給する工程を有する方法。[2]前記分散装置の圧力損失が前記流動層の圧力損失に対して0.12~4.0倍である、上記[1]記載の方法。[3]前記分散装置における前記原料ガスの圧力損失が前記流動層の圧力損失に対して0.64倍以下である、上記[1]又は[2]記載の方法。[4]前記原料ガスは、プロピレン、イソブチレン、プロパン、イソブタン及び第3級ブチルアルコールからなる群より選ばれる少なくとも一種と、アンモニアとの混合ガスである、上記[1]~[3]のいずれか記載の方法。本発明により、流動層反応器を使用した気相反応において、分散装置の圧力損失が反応器流動層の圧力損失よりも小さくなるような原料の流量に設定して運転した場合でも、原料ガスの分散性を良好に維持することができ、目的生成物の収率低下を防止できる。以下、本発明を実施するための形態以下、本実施形態という。について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。装置や部材の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。本実施形態の気相反応方法は、流動層反応器内に設けた原料ガスの分散装置を通じて前記原料ガスを前記流動層反応器に供給し、前記原料ガスを気相反応させる方法であって、前記分散装置の圧力損失が流動層の圧力損失に対して1.0倍未満である場合に、前記分散装置に不活性ガスを供給する工程を有する方法である。図1は、本実施形態の気相反応方法を実施しうる流動層反応装置の一例を概略的に示す。流動層反応器1は、円筒縦型であり、下端の開口部に酸素含有ガスの導入管2が接続されており、側面に原料ガス導入管4が貫通しており、上端の反応ガス流出管8から反応により生成したガスが流出するようになっている。反応器1内には触媒が流動して反応を進行させる触媒層9があり、触媒層9から舞い上がった触媒はサイクロン7によって回収されて触媒層9に戻される。触媒層9を縦断するように複数の除熱管又は加熱管6が設けられており、発熱反応の場合、除熱管6で反応熱を吸収し、吸熱反応の場合、加熱管6によって反応に必要な熱が供給される。原料ガス導入管4の内端には、ガスの分散装置5が接続されており、原料ガスは分散装置5を通じて反応器1内に供給される。分散装置5は原料ガス導入管4に接続される供給管と、その下端に水平に保持され、下面に複数のノズルを有するマニホールドとからなる。分散装置5のマニホールドは断面円形の反応器1内で格子状又は放射状に分岐しているので、原料ガスBは反応器1の断面方向に分散し、各ノズルから反応器1の下方に噴出される。原料ガス分散装置5は、反応器1断面に渡り均一にガスを噴出できるものであれば、形式は問わない。原料ガス分散装置5としては、原料ガスを噴出するノズルが、等間隔又は単位断面積当たり同数個設置されていることが好ましく、各ノズルの流量をより均一化する目的で、各ノズルにオリフィス部を設けることがより好ましい。気相反応が酸化反応の場合、空気等の酸素含有ガス又は酸素ガスAを反応器に供給するが、供給導管内等での異常な酸化反応進行や爆発を防止する観点で、他の原料ガスと予混合せず、単独で供給する。酸素含有ガスAは、導入管2を経て、分散板3から反応器1内に分散される。分散板3の上端と原料ガス分散装置5の下端の距離は、酸素含有ガスと原料ガスの良好な混合を達成する観点から、25mm~500mmが好ましく、50mm~350mmがより好ましい。図1に示す例では、酸素含有ガスAは分散板3を通じて反応器1内に供給されるが、分岐した分散管が導入管2に取り付けられ、分散管を通じて供給されてもよい。酸素含有ガスを使用しない場合は、分散板3を省略することができる。分散装置5のノズルは下に開口しているので原料ガスBはノズルから下に向けて噴出し、酸素含有ガスAは導入管2を経て分散板3の下から上に噴出するので、両ガスは触媒層9で接触し、反応が進行する。原料ガスB及び酸素含有ガスAの触媒層9における反応が効率よく進行するように、分散装置5及び分散板3は、それぞれ原料ガスB及び酸素含有ガスAを反応器1内に均一分散する目的で設定及び設置される。流動層反応においては、原料ガスB及び酸素含有ガスAを均一に分散させることで、反応器1内部での反応の進行率を均整化でき、それにより生じる反応熱の制御が容易となる。特に原料ガスBの均一分散は重要で、仮に原料ガスBの不均一な分散が生じる場合は、目的とする反応生成物の収率が悪化するばかりでなく、局部的な発熱等の異常現象が起こるおそれがある。ガス分散装置5は、反応器断面に渡り原料ガスを均一に噴出させるよう設定される。ガスの良好な分散性を確保する観点から、ガス分散装置5に特定の原料ガス流量を通じて反応を続ける時には、該分散装置の圧力損失を流動層の圧力損失の1.0~4.0倍間の任意の値をとるようガス分散装置5の流量設定を行うことが好ましい。分散装置5の圧力損失が流動層の圧力損失に対して1.0倍未満である場合には、分散装置5に不活性ガスを供給することにより分散装置と流動層の圧力損失比を上げて、1.0~4.0倍の間に調整する。但し、反応のスタートアップやシャットダウンの少なくとも一部の過程においては、ガス分散装置5における原料ガス流量を低く設定し、分散装置5の圧力損失を流動層の圧力損失に対して1.0倍未満にする。この間、具体的には分散装置5の圧力損失が流動層の圧力損失に対して0.12倍以上1.0倍未満の場合においても、分散装置5内への触媒の逆流を防止する観点から分散装置5から不活性ガスを供給するのが好ましい。ここで、下記式1を用いて、ガス分散装置5の流量設定方法について説明する。[P0-P1]/[P1-P2]=C11P0:圧力計10における圧力P1:圧力計11における圧力P2:圧力計12における圧力P0は、原料ガスBのガス分散装置5入口に設置された圧力計10で測定される圧力を示し、P1は、反応器1内のガス分散装置5と空気分散板3の間の圧力を示す。圧力計12は、反応器1全長をLrとした場合、反応器下端から0.7Lr以上の上部に設置される圧力計で測定される反応器1内の圧力である。C1は定数で、1.0~4.0間の数値が好ましく、1.5~3.5がより好ましい。触媒が通常の流動をしている場合、例えば反応器内を上昇するガス速度が、反応器の有効断面積基準で30~90cm/sの場合、[P1-P2]を流動層の圧力損失と呼び、該流動層の圧力損失は触媒量に支配され、触媒内を流通するガス流量には依存せずほぼ一定である。一方、原料ガス分散装置5の圧力損失[P0-P1]は、原料ガス流量の増減により変化する。例えば、原料ガス流量が2倍となると、ガス分散装置の圧力損失はおよそ4倍となり、原料ガスが1/2倍となると、同圧力損失はおよそ1/4倍となる。ガス分散装置5の圧力損失と流動層の圧力損失が1式を満たす時の原料ガス流量を、原料ガス分散装置の設定流量と呼び、このときの原料ガス分散装置の圧力損失を設定圧力損失と呼ぶ。上述したように、1式のC1は1.0~4.0の数値範囲が好適であるため、設定流量、設定圧力損失には幅があり、選択の余地がある。但し、実際の機器設定では、C1を定めることにより、設定流量は、便宜上、一意に決められる。C1=1.0~4.0で計算される圧力損失を生じる原料ガス流量は、ガス分散装置流量範囲とも言う。上記1式で計算される幅を持った設定流量において、均一にガスを分散できる原料ガス分散装置であっても、原料ガスの供給量が設定流量の下限値以下、設定下限流量以下、F’とするとも言う。未満となるに伴って原料ガス分散装置の圧力損失が下限値以下、設定下限圧力損失以下、Fとするとも言う。未満となる場合には、分散性が悪化する。例えば、流動層反応装置の通常のスタートアップやシャットダウンの少なくとも一部の過程及び生産調整等による低負荷運転時に、設定下限流量、設定下限圧力損失未満での原料ガス分散装置の使用を余儀なくされ、この期間に原料ガス分散に悪影響が生じることが懸念される。すなわち、原料ガス導入管4から供給されるガスの量が設定下限流量未満となること等により、原料ガス分散装置の圧力損失が設定下限圧力損失未満である場合に、ガス分散の均一性が著しく悪化し易い。具体的には、分散装置の圧力損失と流動層の圧力損失の比である[P0-P1]/[P1-P2]=1.0である場合の、ガス分散装置5における圧力損失[P0-P1]を設定下限圧力損失Fとしたとき、ガス分散装置5における圧力損失がF未満となる場合にガスの分散性が悪くなり、0.64F以下であると分散性はさらに悪化する傾向にある。本実施形態の気相反応方法においては、上記分散性の問題を解決する手段として、原料ガス分散装置5を設定下限圧力損失F未満の流量で使用する場合、即ち、分散装置の圧力損失が流動層の圧力損失に対して1.0倍未満である場合に、流動層反応器1外側の原料ガス導入管4に不活性ガスDを不活性ガス導入管14から供給して、原料ガスBとともに流動層反応器内のガス分散装置5に供給する。不活性ガスとは、反応に関与しないガスであればその組成は限定されず、例えば、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等が挙げられる。中でも、経済的な観点で窒素ガスが好ましい。また、上記不活性ガスは単独で用いても、2種以上を併用してもよい。反応の進行率を均整化する観点から、原料ガス分散装置5のノズル各所から吹出されるガス量はほぼ同じに設定するのが好ましく、またノズル各所から吹出されるガス中の原料ガス濃度も均一化するのが好ましい。したがって、分散装置5に導入される前に原料ガス導入管4内に不活性ガス導入管14を接続するのが好ましい。不活性ガス導入管14には、不活性ガスの添加流量を測定できるように流量計が設置されていることが好ましい。なお、他方の導入管2から供給される酸素含有ガスAについても、流量を設定下限流量未満にした場合には分散性が悪化すると想定される。しかし、反応にもよるが酸化反応においては、酸素含有ガスAとして空気等の不活性ガスで希釈した酸素を供給するのが通常であるので、導入管2の流量は原料ガス導入管4に比べて一般的に大きい。従って、流量を調整しつつ分散性を確保する必要がある場合に、酸素含有ガスAの流量を設定下限流量未満まで減らしてそこに不活性ガスを供給するよりは、酸素含有ガスAの流量は設定流量内に保ちつつ、流量については原料ガスで調整し、分散装置から不活性ガスDを供給して分散性を保つのが合理的である。原料ガスBと不活性ガスDを予め混合できるように、原料ガス導入管4内にオリフィス板15を設置するのが好ましい。導入管4の内径をDとした場合、原料ガスBと不活性ガスDとを効率的に混合する観点で、オリフィス板15の開口径は、0.1D~0.8Dであることが好ましい。オリフィス板15は、ガスを良好に混合する観点から、不活性ガスDの混合位置の2D以上下流から反応器1の入口までの位置に設置されることが好ましい。原料ガス分散装置5の分散性能を把握する観点から、圧力計10は、分散装置5に通じる全ガスの圧力を測定できる位置に設置されることが好ましい。また安定した圧力を測定できるよう、不活性ガス混合部から2D以上下流かつオリフィス板15から2D以上離れた所で反応器1入口までの間に設置されることが好ましい。原料ガス分散装置に通じる原料ガスと不活性ガスの合計流量は、ガス分散装置内への触媒の逆流を防止する観点から、0.35F’以上とするのが好ましい。なお、この場合0.35F’の場合のガス分散装置における圧力損失は設定下限圧力損失Fの0.12倍に相当する。原料ガス分散装置に通じる原料ガス及び不活性ガスの合計流量の上限は、原料ガス分散装置の圧力損失が過大となって、原料ガスを供給する装置図示せずの制御に支障をきたすのを防ぐ観点から、4.0F’以下とするのが好ましい。また、不活性ガスの流量は、0.10F’~3.0F’が好ましく、0.20F’~2.0F’がより好ましく、0.30F’~1.0F’がさらに好ましい。原料ガスの流量は、0.80F’以下が好ましく、より好ましくは0.01F’~0.75F’、さらに好ましくは0.10F’~0.70F’である。酸化反応では、分散板3から酸素含有ガスAが導入される。酸素含有ガスAの反応器1への導入量は、目的とする生成物を高収率で得るため、原料ガスBとのモル比a/bが、最高収率を期待できる予め実験等で求められている最適モル比になるよう制御が行われることが好ましい。ここで、aは酸素含有ガスAに含まれる酸素のモル数を示し、bは原料ガスBのモル数を示す。原料ガスBが2種類以上の混合物からなる場合、a/b1、b2/b1、b3/b1等々、原料ガスB中の1つの原料のモル数b1とaとの比、b1と他原料のモル数b2、b3との比が最適となるよう制御されることが好ましい。モル比a/bを最適にするとは、原料ガスBの増減に応じて、酸素含有ガスAの流量を比例制御するということである。なお、不活性ガスDは反応に関与しないので、上記モル比計算には関与しない。分散板3は、反応器断面に亘り酸素含有ガスAを均一に噴出させるよう設定される。ガスの良好な分散性を確保するためには、分散板3に酸素含有ガスAを通じて使用する時に、該分散板の圧力損失を流動層の圧力損失の0.50~2.5倍間の任意の値をとるよう分散板3の流量設定を行うことが好ましい。ここで、下記式2を用いて、分散板3の流量設定方法について説明する。[P3-P1]/[P1-P2]=C22P3:圧力計13における圧力P3は、分散板下部に設置された圧力計13で測定される圧力を示す。C2は定数で、0.50~2.5間の数値が好ましく、0.70~2.0がより好ましい。反応器の使用開始に際し、酸素含有ガスAは、原料ガスBに先立って、反応器に導入される。原料ガスB導入時までに、酸素含有ガスAの流量を、式2におけるC2の下限以上の流量に上げ、分散板3のガス分散性を確保しておくことが好ましい。不活性ガスDの分散装置5への導入は、原料ガスB導入前、かつ反応器1への触媒導入前に行う。その後に原料ガスBの導入を開始し、徐々に原料ガスBの流量を上げる。原料ガスB導入の増加に伴い、両者のモル比a/bが最高反応成績を期待できる値となったら、その時点での供給量を保持させるか、又は、必要に応じてモル比a/bを維持するよう酸素含有ガスA及び原料ガスBの両者をさらに増加させる。気相反応により生成した反応生成ガスCは、反応ガス流出管8から取り出される。本実施形態の流動層反応装置を用いる気相反応としては、例えば、プロパン及び/又はプロピレンを原料とする気相アンモ酸化であり、反応の生成物がアクリロニトリルである反応;n-ブタン、1-ブテン、2-ブテン、ブタジエン、ベンゼンからなる群から選ばれる1種以上を原料とする気相酸化であり、反応の生成物が無水マレイン酸である反応;i-ブテン及び/又はi-ブタンを原料とする気相アンモ酸化であり、反応の生成物がメタクリロニトリルである反応;o-キシレン及び/又はナフタレンを原料とする気相酸化であり、反応の生成物が無水フタル酸である反応;ヒドロキシ芳香族化合物およびアルキルアルコールを原料とする気相アルキル化であり、反応の生成物がオルト位アルキル化ヒドロキシ芳香族化合物である反応;具体例としてフェノール及びメタノールを原料とする気相アルキル化であり、反応の生成物が2,6-キシレノール及び/又はo-クレゾールである反応;メタン及び/又はメタノールを原料とする気相アンモ酸化であり、反応の生成物が青酸HCNである反応;エタン、エテン、エタノールからなる群から選ばれる1種以上を原料とする気相アンモ酸化であり、反応の生成物がアセトニトリルである反応が挙げられる。次に、実施例及び比較例を挙げて本実施形態をより具体的に説明するが、本実施形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例及び比較例における流動層反応器としては、その下部に原料ガスの分散管及び空気分散板を有し空気を使用しない反応では、空気分散板はない、反応熱の除去のための除熱管が内装され、反応温度を測定するための温度計、反応器上部に反応器から流出する反応ガス中の触媒を捕集するサイクロンを有しているものを用いた。計器、付属設備は通常の化学装置に使用されるものを用いた。反応生成物の収率は、反応ガスをサンプリングし、ガスクロマトグラフィーで測定した分析データから下式により計算した。アクリロニトリル収率=生成したアクリロニトリルのモル数/供給したプロピレンのモル数×100アクリロニトリル収率=生成したアクリロニトリルのモル数/供給したプロパンのモル数×100無水マレイン酸収率=生成した無水マレイン酸のモル数/供給したn-ブタンのモル数×100o-クレゾール収率=生成したo-クレゾールのモル数/供給したフェノールのモル数×1002,6-キシレノール収率=生成した2,6-キシレノールのモル数/供給したフェノールのモル数×100ガスクロマトグラフィーの測定機器及び測定条件は以下のとおりである。ガスクロマトグラフィー:島津GC-14Bカラム:Porapack-QS50~80Mesh検出器:FIDキャリヤーガス:窒素[製造例]プロピレン、アンモニア及び空気によるプロピレンのアンモ酸化反応を下記の通り行った。流動層反応装置は、図1に示されるものと同様であり、流動層反応器1は、内径8m、長さLr20mの縦型円筒型で、下から2mの位置に空気分散板3、その上にプロピレン及びアンモニア供給用の原料ガス分散管5を有していた。原料ガス分散管5は、原料ガス分散管の圧力損失/流動層圧力損失=1.8で設定され、設定流量=11500Nm3/h、設定下限流量=8570Nm3/hであった。反応器下から5mの高さの断面に8個、6mの高さの断面に4個ある温度計12個の平均値を反応温度とし、管理した。最初に、原料ガス分散管5に不活性ガス導入管14から窒素4000Nm3/hを流し、保持した。空気分散板3から加熱した空気を流動層反応器1に供給した。その後、流動層触媒を反応器1へ導入した。触媒は、粒径10~100μm、平均粒径55μmであるモリブデン-ビスマス-鉄系担持触媒を用い、静止層高で2.7mとなる分だけ充填した。[P1-P2]で示される流動層圧力損失は、0.27kg/cm2であり、設定圧力損失=0.486kg/cm2、設定下限圧力損失F=0.27kg/cm2であった。原料ガス分散管5からアンモニアの供給を開始した。アンモニア流量を徐々に上げ、規定流量に達した後、プロピレンの供給を該原料ガス分散管5から開始した。両原料ガスの合計流量は7500Nm3/hで、原料ガス分散管5への原料ガス流量が設定下限流量の87.5負荷であった。窒素を含めると134負荷であった。[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.486kg/cm2であり、設定下限圧力損失Fの1.8倍1.8Fであった。また、流動層圧力損失は、0.27kg/cm2のままであった。[比較例1]製造例と同様の方法でプロピレン、アンモニア及び空気によるプロピレンのアンモ酸化反応を開始した後、不活性ガス導入管14から原料ガス分散管5への窒素の供給を停止した。流動層圧力損失は、0.27kg/cm2のままであったが、[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.207kg/cm2に低下した。すなわち分散装置の圧力損失は設定下限圧力損失Fの0.77倍0.77Fであった。反応温度が440°Cとなるよう、除熱管6を調整して温度制御を実施した。各流量条件及び反応成績は下記の通りであった。プロピレン流量:3641Nm3/hアンモニア流量:3859Nm3/h窒素流量:0Nm3/h空気流量:32767Nm3/hアクリロニトリル収率:80.4[実施例1]比較例1の反応の後、原料ガス分散管5に不活性ガス導入管14から窒素4000Nm3/hを流し、保持した。流動層圧力損失は、0.27kg/cm2のままであったが、[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.207kg/cm2から0.486kg/cm2に上昇した。すなわち分散装置の圧力損失は設定下限圧力損失Fの1.8倍1.8Fとなった。各流量条件及び反応成績は下記の通りであった。プロピレン流量:3641Nm3/hアンモニア流量:3859Nm3/h窒素流量:4000Nm3/h空気流量:32767Nm3/hアクリロニトリル収率:81.9CO及びCO2への反応が減少し、アクリロニトリル収率が向上した。プロピレン、アンモニア及び空気の流量を比例増加させ、プロピレン及びアンモニアの合計流量を11500Nm3/hとし、窒素を停止した。その他の条件は、上述と同様であった。流動層圧力損失は、0.27kg/cm2、および[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.486kg/cm2であり、設定下限圧力損失Fの1.8倍1.8Fであった。各流量条件及び反応成績は下記の通りであった。プロピレン流量:5583Nm3/hアンモニア流量:5917Nm3/h窒素流量:0Nm3/h空気流量:50243Nm3/hアクリロニトリル収率:81.8[比較例2]実施例1の反応の後、生産調整のためプロピレン、アンモニア及び空気の流量を減少させ表1に示す原料ガス流量としたが、不活性ガス導入管14から原料ガス分散管5へ窒素は供給しなかった。流動層圧力損失は、0.27kg/cm2のままであったが、[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.269kg/cm2であった。すなわち原料ガスによる圧力損失は設定下限圧力損失Fの0.996倍0.996Fであった。このときのアクリロニトリル収率は81.3であった。[実施例2]比較例2の反応の後、原料ガス分散管5に不活性ガス導入管14から窒素4000Nm3/hを流し、保持した。流動層圧力損失は、0.27kg/cm2のままであったが、[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.269kg/cm2から0.579kg/cm2に上昇した。すなわち原料ガスと窒素による圧力損失は設定下限圧力損失Fの2.1倍2.1Fとなった。このときのアクリロニトリル収率は81.9であった。CO及びCO2への反応が減少し、アクリロニトリル収率が向上した。[比較例3]実施例2の反応の後、生産調整のためプロピレン、アンモニア及び空気の流量を減少させ表1に示す原料ガス流量としたが、不活性ガス導入管14から原料ガス分散管5へ窒素は供給しなかった。流動層圧力損失は、0.27kg/cm2のままであったが、[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.16となり、設定下限圧力損失Fの0.59倍0.59Fであった。このときのアクリロニトリル収率は79.7であった。CO及びCO2への反応が増加し、アクリロニトリル収率が低下した。[実施例3~7]比較例3の反応の後、プロピレン、アンモニア及び空気の流量は変えないで、原料ガス分散管5に不活性ガス導入管14から窒素を表1に示す流量で流した。実施例3~7における流動層圧力損失は、いずれの場合も0.27kg/cm2のままであったが、[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、いずれの場合においても流動層圧力損失Fよりも大きく、[P0-P1]>Fであった。実施例3~7における反応成績は表1の通りであり、アクリロニトリル収率は81.7~81.9であった。[比較例4]製造例と同様の流動層反応器1を用い、プロピレンのアンモ酸化反応を行う準備を開始したが、不活性ガス導入管14から原料ガス分散管5に窒素は流さなかった。空気分散板3から加熱した空気を流動層反応器1に供給した。その後、流動層触媒を反応器1へ導入した。触媒は、粒径10~100μm、平均粒径55μmであるモリブデン-ビスマス-鉄系担持触媒を用い、静止層高2.7mとなる分だけ充填した。原料ガス分散管5からアンモニアの供給を開始しようとしたが、アンモニアを流すことができなかった。反応器を停止し、原料ガス導入管4及び同分散管5の点検を行ったところ、流動層触媒が詰まっていた。[実施例8]製造例と同じ流動層反応装置1を用いてプロパン、アンモニア及び空気によるプロパンのアンモ酸化反応を下記の通り行った。最初に、原料ガス分散管5に不活性ガス導入管14から窒素4000Nm3/hを流し、保持した。空気分散板3から加熱した空気を反応器1に供給した。その後、流動層触媒を反応器1へ導入した。触媒は、粒径10~100μm、平均粒径55μmであるモリブデン-バナジウム系担持触媒を用い、静止層高で2.7mとなる分だけ充填した。[P1-P2]で示される流動層圧力損失は、0.27kg/cm2であり、設定圧力損失=0.486kg/cm2、設定下限圧力損失F=0.27kg/cm2であった。原料ガス分散管5からアンモニアの供給を開始した。アンモニア流量を徐々に上げ、規定流量に達した後、プロパンの供給を該原料ガス分散管5から開始した。両原料ガスの合計流量は、6829Nm3/hで、原料ガス分散管5への原料ガス流量が設定下限流量の79.7負荷であり、原料ガスと窒素の合計流量は126負荷であった。[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.431kg/cm2であり、設定下限圧力損失Fの1.6倍1.6Fであった。また、流動層圧力損失は、0.27kg/cm2のままであった。反応温度が440°Cとなるよう、除熱管6を調整して温度制御を実施した。各流量条件及びアクリロニトリル収率は下記の通りであった。プロパン流量:3449Nm3/hアンモニア流量:3380Nm3/h窒素流量:4000Nm3/h空気流量:51735Nm3/hアクリロニトリル収率:53.4窒素のみ流量を4671Nm3/hに上げ、他の反応条件は上記と同一とした。流動層圧力損失は、0.27kg/cm2のままであったが、[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.431から0.486kg/cm2に上昇した。すなわち原料ガスと窒素による圧力損失は設定下限圧力損失Fの1.8倍1.8Fとなった。アクリロニトリル収率は下記の通りであった。アクリロニトリル収率:53.5[比較例5]実施例8の状態から窒素を停止したこと以外は、実施例8に記載の条件で、気相反応を行った。流動層圧力損失は、0.27kg/cm2のままであったが、[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.171kg/cm2まで低下した。すなわち原料ガスによる圧力損失は設定下限圧力損失Fの0.6倍0.6Fとなった。プロパン流量:3449Nm3/hアンモニア流量:3380Nm3/h窒素流量:0Nm3/h空気流量:51735Nm3/hアクリロニトリル収率:50.9実施例8と比較してCO及びCO2への反応が増加し、アクリロニトリル収率が低下した。[実施例9]n-ブタン及び空気によるn-ブタンの酸化反応を下記の通り行った。反応器1は、内径6.8m、長さLr20mの縦型円筒型で、下から2mの位置に空気分散板3、その上にn-ブタン供給用の原料ガス分散管5を有していた。原料ガス分散管5は、原料ガス分散管の圧力損失/流動層圧力損失=1.8で設定され、設定流量=4696Nm3/h、設定下限流量=3500Nm3/hであった。反応器下から5mの高さの断面に4個、6mの高さの断面に4個ある温度計8個の平均値を反応温度とし、管理した。最初に、原料ガス分散管5に不活性ガス導入管14から窒素1000Nm3/hを流し、保持した。空気分散板3から加熱した空気を反応器1に供給した。その後、流動層触媒を反応器1へ導入した。触媒は、粒径10~100μm、平均粒径60μmであるバナジウム-リン系担持触媒を用い、静止層高で2.9mとなる分だけ充填した。[P1-P2]で示される流動層圧力損失は、0.29kg/cm2であり、設定圧力損失=0.522kg/cm2、設定下限圧力損失F=0.29kg/cm2であった。原料ガス分散管5からn-ブタンの供給を開始した。n-ブタンの流量は、2450Nm3/hで、原料ガス分散管の流量が設定下限流量の70.0負荷であり、原料ガスと窒素の合計流量は98.6負荷であった。[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.282kg/cm2であり、設定下限圧力損失Fの0.972倍0.972Fであった。また、流動層圧力損失は、0.29kg/cm2のままであった。反応温度が450°Cとなるよう、除熱管を調整して温度制御を実施した。各流量条件及び反応成績は下記の通りであった。n-ブタン流量:2450Nm3/h窒素流量:1000Nm3/h空気流量:58200Nm3/h無水マレイン酸収率:49.6[比較例6]実施例9の反応の後、窒素の供給のみを停止し、他の条件は同様とした。[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.142kg/cm2であり、設定下限圧力損失Fの0.49倍0.49Fであった。また、流動層圧力損失は、0.29kg/cm2のままであった。無水マレイン酸収率は、48.2となった。n-ブタン及び空気の流量を増加させ、他の条件は同様とした。[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.29kg/cm2であり、設定下限圧力損失Fの1.0倍1.0Fであった。また、流動層圧力損失は、0.29kg/cm2のままであった。各流量条件及び反応成績は下記の通りであった。n-ブタン流量:3500Nm3/h窒素流量:0Nm3/h空気流量:83100Nm3/h無水マレイン酸収率:49.5[実施例10]フェノール及びメタノールによるアルキル化反応を下記の通り行った。反応器1は、内径2m、長さLr20mの縦型円筒型で、下から3mの位置にフェノール及びメタノールの混合ガスを供給する原料ガス分散管5を有していた。原料ガス分散管5は、原料ガス分散管の圧力損失/流動層圧力損失=1.8で設定され、設定流量=6708Nm3/h、設定下限流量=5000Nm3/hであった。反応器下から5mの高さの断面に2個、6mの高さに断面に2個ある温度計4個の平均値を反応温度とし、管理した。最初に、原料ガス分散管5に不活性ガス導入管14から窒素2000Nm3/hを流し、保持した。触媒は、粒径10~100μm、平均粒径50μmである鉄-バナジウム系担持触媒を用い、静止層高で8mとなる分だけ充填した。[P1-P2]で示される流動層圧力損失は、0.80kg/cm2であり、設定圧力損失=1.44kg/cm2、設定下限圧力損失F=0.80kg/cm2であった。原料ガス分散管5からフェノール及びメタノール混合ガスの供給を開始した。該混合ガスの流量は、3000Nm3/hで、原料ガス分散管の流量が設定下限流量の60.0負荷であり、原料ガスと窒素の合計流量は100負荷であった。[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.80kg/cm2であり、設定下限圧力損失Fの1.0倍1.0Fであった。また、流動層圧力損失は、0.80kg/cm2のままであった。反応温度が330°Cとなるよう、除熱管を調整して温度制御を実施した。各流量条件及び反応成績は下記の通りであった。フェノール、メタノール合計流量:3000Nm3/h窒素流量:2000Nm3/ho-クレゾール、2,6-キシレノール合計収率:93.8[比較例7]実施例10の反応の後、窒素の供給のみを停止し、他の条件は同様とした。[P0-P1]で示される分散装置の圧力損失は、0.288kg/cm2であり、設定下限圧力損失Fの0.36倍0.36Fであった。また、流動層圧力損失は、0.80kg/cm2のままであった。o-クレゾール、2,6-キシレノール合計収率は、90.1となった。本出願は、2010年1月25日に日本国特許庁へ出願された日本特許出願特願2010-013265に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。"