"位置決めデバイスに使用されるためのコントローラであって、前記位置決めデバイスの位置を示す位置信号を受信し、エラー信号を得るために前記位置信号を前記位置決めデバイスの所望の位置を示すセットポイント信号と比較し、変更されたエラー信号を得るために前記エラー信号の振幅成分および周波数成分に基づいて前記エラー信号を選択的に変更し、前記位置決めデバイスを制御するための制御信号を前記変更されたエラー信号に基づいて生成するように構成されたコントローラであり、本コントローラは、前記エラー信号を選択的に変更するための非線形のフィルタと、前記非線形のフィルタによって変更されたエラー信号が入力され、入力されたエラー信号に基づいて第1出力信号を生成するフィードバックコントローラと、前記セットポイント信号が入力され、入力されたセットポイント信号に基づいて第2出力信号を生成するフィードフォワードコントローラと、を備え、前記非線形のフィルタは、大きさが所定の範囲内にあるエラー信号に対する利得を、大きさが前記範囲外にあるエラー信号に対する値よりも低いある値に選択的に設定し、前記制御信号は前記第1出力信号に前記第2出力信号を加えることにより生成されるコントローラ。エラー信号を振幅に基づいて選択的に変更する前に周波数に基づいてフィルタリングするよう構成される請求項1に記載のコントローラ。対象を位置決めする位置決めデバイスであって、第1部分および第2部分を備え、前記第1部分は前記第2部分に対して移動可能であり、前記第2部分は前記対象を受け、当該位置決めデバイスはさらに、前記対象の位置を示す位置信号を生成する位置センサと、前記対象の位置を示す位置信号を受信し、エラー信号を得るために前記位置信号を前記対象の所望の位置を示すセットポイント信号と比較し、変更されたエラー信号を得るために前記エラー信号の振幅成分および周波数成分に基づいて前記エラー信号を選択的に変更し、前記位置決めデバイスを制御するための制御信号を前記変更されたエラー信号に基づいて生成するコントローラと、を備え、前記コントローラは、前記エラー信号を選択的に変更するための非線形のフィルタと、前記非線形のフィルタによって変更されたエラー信号が入力され、入力されたエラー信号に基づいて第1出力信号を生成するフィードバックコントローラと、前記セットポイント信号が入力され、入力されたセットポイント信号に基づいて第2出力信号を生成するフィードフォワードコントローラと、を備え、前記非線形のフィルタは、大きさが所定の範囲内にあるエラー信号に対する利得を、大きさが前記範囲外にあるエラー信号に対する値よりも低いある値に選択的に設定し、前記制御信号は前記第1出力信号に前記第2出力信号を加えることにより生成される位置決めデバイス。前記第1部分はロングストロークアクチュエータであり、前記第2部分はショートストロークアクチュエータである請求項3に記載の位置決めデバイス。前記コントローラは、エラー信号を振幅に基づいて選択的に変更する前に周波数に基づいてフィルタリングするよう構成される請求項3または4に記載の位置決めデバイス。放射ビームを調節する照明システムと、パターン形成された放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを付与することが可能なパターニングデバイスを支持するよう構成されたパターニングサポートと、基板を保持するよう構成された基板サポートと、前記基板のターゲット部分に前記パターン形成された放射ビームを投影する投影システムと、前記サポートのうちの少なくともひとつを位置決めする位置決めデバイスと、を備え、前記位置決めデバイスは、第1部分および第2部分を含み、前記第1部分は前記第2部分に対して移動可能であり、前記第2部分は前記サポートのうちの前記少なくともひとつを受け、前記位置決めデバイスはさらに、前記サポートのうちの前記少なくともひとつの位置を示す位置信号を生成する位置センサと、前記サポートのうちの前記少なくともひとつの位置を示す位置信号を受信し、エラー信号を得るために前記位置信号を前記サポートのうちの前記少なくともひとつの所望の位置を示すセットポイント信号と比較し、変更されたエラー信号を得るために前記エラー信号の振幅成分および周波数成分に基づいて前記エラー信号を選択的に変更し、前記位置決めデバイスを制御するための制御信号を前記変更されたエラー信号に基づいて生成するコントローラと、を含み、前記コントローラは、前記エラー信号を選択的に変更するための非線形のフィルタと、前記非線形のフィルタによって変更されたエラー信号が入力され、入力されたエラー信号に基づいて第1出力信号を生成するフィードバックコントローラと、前記セットポイント信号が入力され、入力されたセットポイント信号に基づいて第2出力信号を生成するフィードフォワードコントローラと、を備え、前記非線形のフィルタは、大きさが所定の範囲内にあるエラー信号に対する利得を、大きさが前記範囲外にあるエラー信号に対する値よりも低いある値に選択的に設定し、前記制御信号は前記第1出力信号に前記第2出力信号を加えることにより生成されるリソグラフィ装置。前記第1部分はロングストロークアクチュエータであり、前記第2部分はショートストロークアクチュエータである請求項6に記載のリソグラフィ装置。前記コントローラは、エラー信号を振幅に基づいて選択的に変更する前に周波数に基づいてフィルタリングするよう構成される請求項6または7に記載のリソグラフィ装置。しかしながら、これではエラー信号に存在しうるノイズを増幅することになるかもしれない。ノイズ増幅への感度がより低い可変利得コントローラの提供が望まれている。本発明のある態様によると、位置決めデバイスのためのコントローラが提供される。このコントローラは、位置決めデバイスの位置を示す位置信号を受信し、エラー信号を得るために位置信号を位置決めデバイスの所望の位置を示すセットポイント信号と比較し、変更されたエラー信号を得るためにエラー信号の振幅成分および周波数成分の両方に基づいてエラー信号を選択的に変更し、位置決めデバイスを制御するための制御信号を変更されたエラー信号に基づいて生成する。本発明の別の態様によると、位置決めデバイスを制御する方法が提供される。この方法は、位置決めデバイスの位置を示す位置信号を受信することと、エラー信号を得るために位置信号を位置決めデバイスの所望の位置を示すセットポイント信号と比較することと、変更されたエラー信号を得るためにエラー信号の振幅成分および周波数成分の両方に基づいてエラー信号を選択的に変更することと、位置決めデバイスを制御するための制御信号を変更されたエラー信号に基づいて生成することと、を含む。さらに別の態様によると、対象を位置決めするための位置決めデバイスが提供される。この位置決めデバイスは、第1部分および第2部分を含み、第1部分は第2部分に対して移動可能であり、第2部分は対象を受ける。位置決めデバイスはさらに、対象の位置を示す位置信号を生成する位置センサと、対象の位置を示す位置信号を受信し、エラー信号を得るために位置信号を対象の所望の位置を示すセットポイント信号と比較し、変更されたエラー信号を得るためにエラー信号の振幅成分および周波数成分の両方に基づいてエラー信号を選択的に変更し、位置決めデバイスを制御するための制御信号を変更されたエラー信号に基づいて生成するコントローラと、を含む。本発明の実施の形態は、例示のみを目的として添付の模式的な図面を参照して説明される。図面では、対応する参照番号は、対応する要素を示す。図1は、本発明のひとつの実施の形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す。この装置は、放射ビームB例えば、紫外線UV放射や他の適切な放射を調整する照明システムイルミネータILと、パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するよう構成され、少なくともひとつのステータおよびムーバを含む第1位置決めデバイスPMに接続されたパターニングデバイスサポートもしくは支持構造例えばマスクテーブルMTと、を含む。第1位置決めデバイスPMは、パターニングデバイスをあるパラメータに従って正確に位置決めする。この装置は、基板例えばレジストコートウェーハWを保持するよう構成され、少なくともひとつのステータおよびムーバを含む第2位置決めデバイスPWに接続された基板テーブル例えばウェーハテーブルWTもしくは基板サポートを含む。第2位置決めデバイスPWは、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするよう構成される。この装置はさらに、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを、基板Wの目標部分C例えばひとつもしくは複数のダイを含む上に投影する投影システムたとえば屈折投影レンズシステムPSを含む。照明システムは、放射ビームを方向付け、成形し、あるいは制御するために、屈折光学素子、反射光学素子、磁気光学素子、電磁気光学素子、静電光学素子、あるいはこれらの任意の組み合わせなどの様々な種類の光学素子を含んでもよい。パターニングデバイスサポートもしくは支持構造は、パターニングデバイスの配向、リソグラフィ装置の設計および他の条件、たとえばパターニングデバイスが真空環境中で保持されているか否か等に応じた方法でパターニングデバイスを保持している。パターニングデバイスサポートもしくは支持構造においてはパターニングデバイスを保持するために、機械的固定、真空固定、静電固定、または他の固定用技術が用いられる。パターニングデバイスサポートもしくは支持構造は、例えば必要に応じて固定または移動させることができるフレームまたはテーブルであってもよい。パターニングデバイスサポートもしくは支持構造は、パターニングデバイスを例えば投影システムに対して所望の位置に確実に配置することができる。本明細書におけるレチクルまたはマスクという用語の使用はすべて、より一般的なパターニングデバイスという用語の同義語とみなすことができる。本明細書に使用されているパターニングデバイスという用語は、放射ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板の目標部分にパターンを生成するべく使用することができる任意のデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。放射ビームに付与されるパターンは、たとえばそのパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含んでいる場合、基板の目標部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。放射ビームに付与されるパターンは、通常、目標部分に生成されるデバイス、たとえば集積回路などのデバイス中の特定の機能層に対応している。パターニングデバイスは透過型であっても反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、例えばマスクやプログラマブルミラーアレイ、プログラマブルLCDパネルなどがある。マスクはリソグラフィの分野では周知であり、バイナリマスクやレベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク、更に各種のハイブリッド型マスクが含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例としては、小型のミラーがマトリックス状に配列され、各ミラーが入射してくる放射ビームを異なる方向に反射するように個別に傾斜されるというものがある。これらの傾斜ミラーにより、マトリックス状ミラーで反射された放射ビームにパターンが付与されることになる。本明細書に使用されている投影システムという用語は、たとえば使用する露光放射に適した、もしくは液浸液の使用または真空の使用などの他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系、磁気光学系、電磁気光学系、静電光学系、またはそれらの任意の組合せを含む任意の種類の投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における投影レンズという用語の使用はすべて、より一般的な投影システムという用語の同義語とみなすことができる。本明細書に示されるように、本装置は透過型たとえば透過マスクを用いるである。あるいはまた、本装置は反射型たとえば、上述した種類のプログラマブルミラーアレイを用いた、あるいは反射マスクを用いたであってもよい。リソグラフィ装置は2つ以上2つの場合にはデュアルステージと呼ばれるの基板テーブルもしくは基板サポートおよび/または2つ以上のマスクテーブルもしくはマスクサポートを備えてもよい。このような多重ステージ型の装置においては追加されたテーブルは並行して使用されるか、あるいは1以上のテーブルで露光が行われている間に他の1以上のテーブルで準備工程を実行するようにしてもよい。また、リソグラフィ装置は、基板の少なくとも一部が比較的屈折率の大きい液体、たとえば水で覆われ、それにより投影システムと基板の間の空間が充填されるタイプの装置であってもよい。液浸液体はリソグラフィ装置の他の空間、例えばマスクと投影システムとの間に導入されてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を大きくするために使用されうる。本明細書に使用されている液浸という用語は、基板などの構造を液体中に浸すべきであることを意味しているのではなく、単に、露光の間、投影システムと基板の間に液体が置かれることを意味しているにすぎない。図1を参照すると、イルミネータILは、放射源SOから放射ビームを受け取っている。例えば放射源がエキシマレーザである場合、放射源およびリソグラフィ装置は、個別の構成要素にすることができる。このような場合、放射ビームは、たとえば適切な誘導ミラーおよび/またはビームエキスパンダを備えたビーム搬送系BDを使用して放射源SOからイルミネータILへ受け渡される。それ以外のたとえば放射源が水銀灯などの場合、放射源はリソグラフィ装置に一体に構成されていてもよい。放射源SOおよびイルミネータILは、またビーム搬送系BDが必要とされる場合にはこれも合わせて、放射システムと称される。イルミネータILは、放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタADを備えてもよい。一般には、イルミネータの瞳平面における強度分布の少なくとも半径方向外径および/または内径通常それぞれシグマ-アウタσ-outer、シグマ-インナσ-innerと呼ばれるが調整される。加えて、イルミネータILは、インテグレータINおよびコンデンサCOなどの種々の他の要素を備えてもよい。イルミネータは、ビーム断面における所望の均一性及び強度分布を得るべく放射ビームを調整するために用いられる。放射ビームBは、パターニングデバイスサポートもしくは支持構造例えば、マスクテーブルMTに保持されたパターニングデバイス例えば、マスクMAに入射して、当該パターニングデバイスによりパターンを付与される。パターニングデバイス例えば、マスクMAを透過した後、放射ビームBは、投影システムPSを通過する。投影システムPSは、ビームを基板Wの目標部分Cに合焦させる。第2位置決めデバイスPWと位置センサIF例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなどと第1コントローラにより基板テーブルWTは正確に移動され、例えば放射ビームBの経路に異なる複数の目標部分Cをそれぞれ位置決めするように移動される。同じように、第1位置決めデバイスPMともう1つの位置センサ図1には明確に示されていないと第2コントローラを用いて、例えばマスクライブラリから機械的に取り出した後、またはスキャン中に、パターニングデバイス例えば、マスクMAを放射ビームBの経路に対して正確に位置決めすることができる。通常、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTの移動は、第1位置決めデバイスPMの一部を形成しているロングストロークモジュール粗い位置決め用およびショートストロークモジュール精細な位置決め用を使用して実現することができる。同様に、基板テーブルWTもしくは基板サポートの移動は、第2位置決めデバイスPWの一部を形成しているロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTは、ショートストロークアクチュエータのみに接続され、あるいは固定される。パターニングデバイス例えば、マスクMAおよび基板Wは、マスクアライメントマークM1、M2および基板アライメントマークP1、P2を使用して整列させることができる。図では、基板アライメントマークは、には専用の目標部分を占有しているが、基板アライメントマークは、ターゲット部分間のスペースに配置されてもよいこのような基板アライメントマークは、スクライブラインアライメントマークとして知られている。同様に、複数のダイがパターニングデバイス例えば、マスクMA上に設けられる場合、ダイ間にマスクアライメントマークが配置されてもよい。図示の装置は、以下に示すモードのうちの少なくとも1つのモードで使用することができる。ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射で目標部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートおよび基板テーブルWTもしくは基板サポートは、実質的に静止状態とされるすなわち1回の静的な露光。そして基板テーブルWTもしくは基板サポートがX方向及び/またはY方向に移動されて、異なる目標部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズによって、1回の静的露光で結像される目標部分Cの寸法が制限されることになる。1.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートおよび基板テーブルWTもしくは基板サポートは、同期して走査されるすなわち1回の動的な露光。パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートに対する基板テーブルWTもしくは基板サポートの速度及び方向は、投影システムPSの拡大縮小特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが1回の動的露光での目標部分Cの非走査方向の幅を制限し、走査移動距離が目標部分の走査方向の長さを決定する。2.その他のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持するべくパターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートは、実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、基板テーブルWTもしくは基板サポートが移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、基板テーブルWTもしくは基板サポートが移動する毎に、あるいは連続する放射パルス間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。上述の使用モードの組み合わせかつ/または変形、もしくは全く異なった使用モードが使われてもよい。本発明の実施の形態によると、示されたリソグラフィ装置はさらに、装置の位置決めデバイスのうちの少なくともひとつ、例えばポジショナPWもしくはPMのうちの少なくともひとつを制御するコントローラCUを含む。コントローラCUは、位置決めデバイスの位置を示す位置信号を受信し、エラー信号を得るために位置信号を位置決めデバイスの所望の位置を示すセットポイント信号と比較し、変更されたエラー信号を得るためにエラー信号の振幅成分および周波数成分の両方に基づいてエラー信号を選択的に変更し、変更されたエラー信号に基づいて位置決めデバイスを制御するための制御信号を生成する。例としては、コントローラは、エラー信号を、例えばエラー信号の振幅に基づいて選択的に変更する前に、エラー信号を周波数に基づいてフィルタリングしてもよい。そうすることにより、例えばエラー信号の選択的な変更によってもたらされうるノイズ増幅の影響は軽減されうる。ある実施の形態では、コントローラはエラー信号を選択的に変更するための帯域通過フィルタを含む。ある実施の形態では、コントローラはエラー信号を選択的に変更するための非線形のフィルタを含む。本発明の異なる実施の形態とさらなる詳細が以下の図において説明される。図2は、公称上制御された動作システムを模式的に示す一般的なブロック図である。基準命令rからe=r-yの関係を用いてサーボエラー信号eが構成される。ここでyは機械もしくはシステムPの出力を示す。エラー信号eは、セットポイントの擾乱rと力の擾乱fの観点で擾乱を排除することを目的としたフィードバックコントローラCfbへ入力される。加えて、図2は本発明の実施の形態が適用されるスキーム100を模式的に示す。スキーム100は、制御ループへ追加の利得を選択的に提供する。トラッキングの正確さを改善するために、フィードフォワードコントローラCffが加えられてもよい。本発明の実施の形態では、擾乱排除の改善を目的として、動作システムのためのハイブリッド制御設計が提案されている。これは、図3に示される可変利得制御スキーム100を適用することによって達成される。このスキーム100は、制御ループへ選択的に追加の利得を提供する。これは以下の手法により達成される:第1の過程F1では、エラー信号eを周波数に基づいてフィルタリングする。次の過程では、フィルタされたエラー信号に非線形な重み付けθを課す。そうすることによって、フィルタされたエラー信号が十分に大きいかそうでないかに基づいて、追加的なコントローラ利得を入れたり入れなかったりすることができる。続いて、閉ループの安定性を確保するために、周波数に基づいた第2のフィルタリングが重み付けされたエラー信号に対して行われる。ここで周波数に基づいた第2のフィルタリングは、フィルタリング関数F1の逆、つまりF1-1に実質的に相当する。そうすることにより、動的なコントローラ利得を導入できる。この動的なコントローラ利得は擾乱の排除と測定ノイズの感度との間で折り合いをつけるように使用されうる。エラー信号eがコントローラ帯域を十分下回る周波数での寄与を含む場合、サーボの性能はコントローラ利得が増えることによる恩恵を受けうる。一方で、コントローラ帯域を越えると、利得が増えることによって高周波ノイズが増幅されうる。信号をいつも監視して適切に振る舞うことによって、つまり上述のように動的な非線形のコントローラ利得を適用することによって、サーボの性能を著しく向上することができる。米国特許公開第2007/0236163号に開示された制御方法と比べると、ここで提案されているコントローラおよび制御方法は、単にエラー信号の大きさもしくは振幅に基づいて利得を調整するというよりむしろ、ある周波数領域もしくは範囲において可変のコントローラ利得を選択的に適用することを可能としており、この点は注意すべきである。改良されたコントローラおよび制御方法によると、高周波ノイズを多く伝送すること無しに、コントローラの低周波擾乱排除特性を向上することができる。つまり、性能を制限する振動が発生した場合、線形のコントローラには追加的なコントローラ利得が与えられる。この振動の発生は偶発的であるので、ノイズの増幅は限定的であり得る。米国特許公開第2007/0236163号に開示された方法と比較した場合の本制御方法のさらなる利点は、非線形な重み付け米国特許公開第2007/0236163号で説明されたようなのしきい値のなかに入る振幅を有する低頻度信号をよりよく抑制することができることである。周波数に基づいたそのフィルタリングがなければ、性能の向上につながりうるそのような抑制は起こりえない。本制御方法は、ハイブリッド制御方法とも称されうる。公称上の線形制御設計つまり、図2に示されるような制御の明細のうちスキーム100を除いたものと、追加的な非線形のコントローラつまり図3でさらに説明されるスキーム100と、を組み合わせたものであるからである。公称上の設計は、性能および強固な安定性の両方を目指す。ハイブリッド制御は、公称上の制御設計に対応するダイナミクスと追加的な非線形のコントローラによるダイナミクスとの間の連続的な切り替えに関する。結果として、本発明によるハイブリッド制御設計のある形態は3つの機能を組み合わせる:その3つの機能とは、取り扱っているエラー信号から一時的に関心のある周波数成分を取り出すことによる監視、取り出されたエラー信号に対する非線形な重み付けによる選択、閉ループ安定性の結果を正しく保つためのループ整形である。以下のパラグラフでは、非線形の方策における異なった過程がより詳しく説明される。第1の過程では、エラー信号eに低い頻度で含まれる性能を制限する振動の周波数成分を一時的に取り出すことを目的として、監視関数にフィルタ構造F1が与えられる。実施の形態では、フィルタ構造F1sは、という形の単一ノッチフィルタ型の演算であってもよい。ここでβzとβpとは減衰係数を表し、βz>βpを満たす。また、ωzはゼロ周波数、ωpは極周波数であり、ωz=ωpを満たす。これらの周波数は、性能を制限する振動の周波数成分に合わせて決定できる。そうすることによって、フィルタされたエラー信号のなかにこの振動を観測したか否かを識別することができる。第2の過程では、フィルタされたエラー信号に対して振幅に基づく変更が行われる。これは追加的なフィードバックを適用するか否かの重み付けされた選択とも見ることができる。そのような選択は例えばデッドゾーン非線形性の形を取りうる。例としては、フィルタされたエラー信号は、それに演算θを課すことによって変更されうる。θは、によって与えられる。ここでδはデッドゾーン長さであり、|e1|はフィルタされたエラー信号e1の振幅を示す。取り出されたエラー応答のなかに性能を制限する振動が十分に存在する場合、追加的なコントローラ利得が演算θによって導入される。逆に、e1がそのような振動を含まない場合、追加的な利得は導入されない。これによりフィードバックによるノイズの余分な増幅を避けることができる。第3の過程では、第1の過程におけるフィルタリング演算が、少なくとも部分的には逆に行われる。これは例えば重み付けされたエラー信号にフィルタリング演算F1-1を適用することによって行われる。そうすることによって、閉ループシステムの安定性が維持されうる。オプションとして、閉ループの安定性を向上するために、ループ整形関数F2が導入されうる。そのようなループ整形関数F2は例えば、の形を取りうる。ここでαは安定性に制限された追加的な利得比であり、ωzはノッチフィルタのゼロブレイクポイント、ωpはノッチフィルタの極ブレイクポイントであり、ωz=ωpを満たす。βzとβpとは対応する減衰係数を表し、βz>βpを満たす。また、ωlpは2次の低域通過フィルタのブレイクポイントであり、βlpはその減衰係数である。結果として、説明されたコントローラもしくは制御方法は、性能を制限する振動の周波数成分に基づいて、その振動と他のものとを識別することを可能とする。それによって、厳格に性能に基づいたフィルタの動作であって、上述の振動を効果的に処理する動作が可能となる。例としては、ハイブリッド制御方法を用いた結果が、基板スキャナの基板ステージにおいて明らかにされうる。ウェーハスキャナの模式的な図が例えば図1に示される。図示された装置では、パターニングデバイスおよび基板の両方が2つの別の動作制御サブシステムの一部である。2つの動作制御サブシステムとはパターニングデバイスステージポジショナPMおよび基板ステージポジショナPWであり、そのそれぞれには一般的には2重ストローク手法が用いられる。ロングストロークは大きな範囲の速い動きに用いられ、ショートストロークは正確であるが小さな範囲のトラッキングに用いられる。ショートストロークステージは、例えば電磁アクチュエータを用いて6自由度で制御された浮遊体として表現されてもよい。ショートストローク基板ステージのZ方向についての単一入力単一出力線形フィードバック設計は、図2の単純化されたブロック図表示によって表されうる。伝達関数表示では、基板ステージは4次のモデルによって表されもしくは近似されうる。このモデルの正当性は例えば図4に示される。図4は、Z方向における測定された力学1を、4次のモデルの特性2と共に示すボード線図である。線形制御設計のもと、コントローラの閉ループ性能が基板上の5つの別個の位置において評価された。5つの位置とは、ウェーハの角にあたる4点、、、と、ウェーハの中心である。それぞれの位置において、同等のスキャンが行われた。図5は、基板上の異なる位置における同等のスキャンのもとでの、Z方向におけるフィルタされたエラー信号を時間の関数として示す。図5の4つのグラフのそれぞれは、角位置のうちのひとつでのエラー信号を、3として表示される中心位置でのエラー信号と共に示す。点線4は、与えられた加速度セットポイントを時間の関数として模式的に示す。示されるように、基板上の着目されている位置において大きな乖離を観測することができる。特に、ウェーハへの照射が起こる図示された定速度区間においてその乖離を観測できる。この区間がまさに、十分な性能が得られなければならい区間である。制御された基板ステージが位置依存の振る舞いを示すことは明らかである。エラー応答は、周波数、振幅および位相によって異なる。このことが、ハイブリッド制御手法を適用することの主たる動機である。ハイブリッドコントローラが性能の向上を達成しうることが図6に示される。線形の閉ループ条件図3の追加的な非線形のコントローラ100はまだ起動されていないのもと、と0,0の2つのスキャン位置を考える。図6の上段は、エラー信号eに課されたフィルタ演算F1の結果を、加速度セットポイントのスケールされた表示5と共に示す。ユーザ定義の値であるデッドゾーン長さδ=40nmは、点線6で示される。では、エラー信号は殆ど全て示された区域内に入る。一方では、エラー信号はこの区域を大きく越える。例えば式2で示されるような非線形のフィルタ演算θの結果が図の中段に示される。については、正弦波的な振る舞いの大部分は影響を受けないままになっていることが見て取れる。一方で、については、殆ど全ての無作為的な振動が取り除かれていることが見て取れる。その結果、全体としての非線形フィルタ演算は、では元のエラー信号eを大きく減少させるグラフ7対グラフ8。一方ででは、およそ同じ信号が示される。これにより、では高い利得のフィードバックのもとで擾乱の抑制を向上しうる手段が提供される。一方で同時に、におけるノイズの増幅を制限したままとすることができる。リソグラフィの照明プロセスにおいては、プロセスの性能は一般的にはエラー信号の移動平均フィルタリングMAおよびエラー信号に対する移動標準偏差MSDフィルタ演算によって評価される。MAおよびMSDは、オーバーレイおよびフェージングに関する照明プロセスの正確さを評価するために使用されうる。オーバーレイは位置の正確さを示す尺度となる。したがって、オーバーレイは過去のスキャン位置に新たにスキャンを行うことができる能力を示す尺度となる。サーボ制御測定に関して、オーバーレイは移動平均MAフィルタ動作によって部分的に評価される。フェージングは、画像の質に関する。つまりレンズあるいは投影システムからウェーハまでの経路上で光を合焦する能力に関する。フェージングに関する性能を評価するために移動標準偏差MSDが用いられうる。前に考慮された基板位置およびについて、MAおよびMSD基準を用いて表現された性能を達成する際の、ハイブリッド制御設計の影響が図7に示される。図7は、2つの位置およびでの、ハイブリッド制御方法を用いた、MAフィルタされたエラー信号およびMSDフィルタされたエラー信号グラフ9の時系列測定を示す。加えて、線形設計の2つの限界、つまりθ=0の低利得設計図7では灰色の破線10で示されるおよびθ=1の高利得設計図7では灰色の実線11で示される、についての結果が示される。図示されたスキャン区間では、の上段左方に見られる通り、非線形設計および高利得線形設計の両方が、移動平均MAフィルタされたエラーのピーク値を小さく保つという点で同等に良い性能を示す。これは、低利得線形設計と比較して、低頻度の擾乱をより排除できていることを示す。一方の下段右方に見られる通り、非線形設計および低利得線形設計の両方が同等に良い性能を示す。実際、それらは高利得線形設計よりも良い振る舞いを示す。したがって、高利得線形設計と比較して、高頻度のノイズに対する応答性が向上する。累積的なパワースペクトル密度解析に関して、図8は、ウェーハ上の着目された5つの位置についての結果を示す。線形の低利得灰色の破線12と、線形の高利得灰色の実線13と、非線形利得黒色の実線14と、が区別される。それぞれの着目された位置におけるハイブリッド制御設計が、エラー信号の二乗平均平方根の値の最小値を与える傾向にあることが見て取れる。総括すると、動作制御システムについて、ハイブリッド制御設計が提案された。これは同等のノイズ応答性を保ちつつ擾乱排除特性を改善することを目的としている。設計の鍵は安定性と性能とを区別することにある。非線形閉ループの安定性はループ整形フィルタの存在により保証される。一方で、安定性を変えない重み付けフィルタへの接続を導入することにより性能が向上する。工業的なウェーハスキャナの基板ステージに対してそのような手法が用いられると、位置依存の振る舞いが存在するなかで性能が改善される。基板上の別個のそして十分に分散した位置における測定により、ハイブリッド制御設計は高頻度のノイズを必要以上に伝達すること無しに、低頻度の擾乱の排除を改善することを示した。したがって、高利得線形コントローラに生来的に存在するその種の伝達は制限される。本明細書ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、リソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用ガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどがある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書におけるウエーハあるいはダイという用語がそれぞれ基板あるいは目標部分という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。基板は露光前または露光後においてトラック典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置、メトロロジツール、及び/またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ICを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味する。ここでは特に光リソグラフィを本発明に係る実施の形態に適用したものを例として説明しているが、本発明は例えばインプリントリソグラフィなど文脈が許す限り他にも適用可能であり、光リソグラフィに限られるものではない。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが基板に生成されるパターンを決める。パターニングデバイスのトポグラフィが基板に塗布されているレジスト層に押し付けられ、電磁放射や熱、圧力、あるいはこれらの組み合わせによってレジストが硬化される。レジストが硬化されてから、パターニングデバイスは、パターンが生成されたレジストから外されて外部に移動される。本明細書において放射およびビームという用語は、紫外UV放射例えば約365nm、248nm、193nm、157nm、または126nmの波長を有するおよび極端紫外EUV放射例えば5nm-20nmの範囲の波長を有するを含むあらゆる種類の電磁放射、およびイオンビームや電子ビームなどの粒子線を示す。レンズという用語は、文脈が許す限り、屈折光学素子、反射光学素子、磁気的光学素子、電磁気的光学素子、静電的光学素子を含む1つまたは各種の光学素子の組み合わせを指し示すものであってもよい。本発明の具体的な実施の形態が上述のように説明されたが、本発明は上述の形式以外の形式でも実施可能であると理解されたい。上記では、本発明はリソグラフィ装置の実施の形態を参照して説明された。本発明は対象を位置決めするためのモータデバイスを含む別の種類の装置にも適用可能であることは当業者には明らかである。そのような別の種類の装置の例としては、磁気的もしくは光学的な記憶デバイスや、電子顕微鏡の結像ステージや、レーザカッターの磁気浮揚ステージがある。上記では、本発明は、本発明に係る位置決めデバイスの機能ブロックを示すブロック図を参照して説明された。これらの機能ブロックのうちのひとつもしくは複数がハードウエアとして実現されてもよいことは理解されるべきである。この場合、そのような機能ブロックの機能は個々のハードウエア部材によって実現される。また、これらの機能ブロックのうちのひとつもしくは複数はソフトウエアとして実現されうる。この場合、そのような機能ブロックの機能は、機械に読み取り可能な命令のひとつもしくは複数のシーケンスによって実現される。この命令は、本発明に係るコントローラの機能を実現するために、コンピュータシステムもしくは、例えばマイクロプロセッサ、マイクロコントローラなどのプログラマブルデバイスによって実行されてもよい。データ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気もしくは光学ディスクはそのようなソフトウエアを記憶保持してもよい。もしくは、そのようなソフトウエアが有線もしくは無線のいずれかによって適切な信号を通じて提供されてもよい。本明細書で使用されるaもしくはanは、ひとつもしくはそれ以上と定義される。本明細書で使用される複数という用語は、2つまたは2つ以上と定義される。本明細書で使用される別のという用語は、少なくとも第2またはそれ以上と定義される。本明細書で使用される含むおよび/または有するという用語は、含むつまり開放的言語と定義される。本明細書で使用される結合されたという用語は、接続されると定義されるが、必ずしも直接的ではなく、必ずしも機械的ではない。ソフトウエア、プログラム、コンピュータプログラムもしくはソフトウエアアプリケーションは、コンピュータシステム上で実行されるように設計された、サブルーチン、関数、手順、オブジェクトの操作、オブジェクトの実行、実行可能なアプリケーション、アプレット、サーブレット、ソースコード、オブジェクトコード、共有ライブラリ/ダイナミックロードライブラリおよび/または他の命令シーケンス、を含んでもよい。上述の記載は例示を目的としており、それに限定されるものではない。したがって下記の請求項の範囲から逸脱することなく記載された発明に変更を加えることができるということは、関連技術の当業者には明らかなことであろう。"