"トリメチルシラン処理層を含む、耐摩耗性コーティング。前記層が、分解したジメチルシランの成分を含む、請求項1に記載のコーティング。前記層が、分解したジメチルシランの酸化された成分を含む、請求項1に記載のコーティング。前記層が、分解したジメチルシランの官能化された成分を含む、請求項3に記載のコーティング。前記層が、ケイ素、酸素および炭素の濃度が実質的に安定している領域を有する、請求項1に記載のコーティング。前記コーティングが、化学蒸着法によって形成され、ここで該化学蒸着法は:化学蒸着チャンバー中で基材を製造すること;化学蒸着チャンバー中でジメチルシランを熱分解すること;基材上に分解したジメチルシランの成分を堆積させること;および、トリメチルシランの存在下で基材を加熱することによって、基材の少なくとも表面を処理すること、を含む、請求項1に記載のコーティング。前記熱分解した成分を酸化試薬で酸化することをさらに含む、請求項6に記載のコーティング。前記酸化試薬が、空気を含む、請求項7に記載のコーティング。前記空気が、ゼロ空気zeroairである、請求項8に記載のコーティング。前記酸化試薬が、窒素を含む、請求項7に記載のコーティング。前記酸化試薬が、水を含む、請求項7に記載のコーティング。前記酸化試薬が、空気、および、水を含む、請求項7に記載のコーティング。前記コーティングが、約13×10-5mm3/Nm~約0.5×10-5mm3/Nmの耐摩耗性を有する、請求項1に記載のコーティング。前記コーティングが、約0.58~約0.05の摩擦係数を有する、請求項1に記載のコーティング。物品の表面摩耗を減らすために物品の少なくとも1つの表面に適用される耐摩耗性コーティングであって、該コーティングは、約13×10-5mm3/Nm~約0.5×10-5mm3/Nmの耐摩耗性を有する、上記耐摩耗性コーティング。耐摩耗性コーティングを有する物品であって、ここで該耐摩耗性コーティングは、トリメチルシラン処理層を含み、物品の少なくとも1つの表面に適用される、上記物品。前記物品が、第二の物品と往復運動で接触している、請求項16に記載の物品。前記物品が、ピストンのヘッド、または、ピストンのシリンダーである、請求項17に記載の物品。前記物品が、流体の通路を定める流体が接触する表面を含み、ここで該流体が接触する表面に、前記耐摩耗性コーティングが適用される、請求項16に記載の物品。前記物品が、掘削用具である、請求項16に記載の物品。前記耐摩耗性コーティングが、ジメチルシランの熱分解による化学蒸着法によって適用される、請求項16に記載の物品。分解した前記ジメチルシランの成分が、トリメチルシラン処理前に酸化される、請求項21に記載の物品。分解した前記ジメチルシランの成分が、官能化される、請求項22に記載の物品。前記耐摩耗性コーティングが、約100nm~約10,000nmの厚さを有する、請求項16に記載の物品。前記耐摩耗性コーティングが、約13×10-5mm3/Nm~約0.5×10-5mm3/Nmの耐摩耗性を有する、請求項16に記載の物品。前記耐摩耗性コーティングが、約0.58~約0.05の摩擦係数を有する、請求項16に記載の物品。前記耐摩耗性コーティングが、物品の動く表面に適用される、請求項16に記載の物品。前記耐摩耗性コーティングが、物品の静止している表面に適用される、請求項16に記載の物品。前記耐摩耗性コーティングが適用される物品の表面が、金属、セラミック、ガラスおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される材料で構築される、請求項16に記載の物品。前記耐摩耗性コーティングが、約100nm~約10,000nmの範囲の厚さ、約13×10-5mm3/Nm~約0.5×10-5mm3/Nmの範囲の耐摩耗性、および、約0.58~約0.05の摩擦係数を有する、請求項16に記載の物品。物品のコーティング方法であって、該方法は:基材を提供すること;基材の表面に約600°C未満の温度で耐摩耗性コーティングを適用すること;三官能性オルガノシランの存在下で基材を加熱することによって、基材の少なくとも表面を処理すること、を含む、上記方法。前記提供する工程が、化学蒸着チャンバー中で基材を製造することを含む、請求項31に記載の方法。前記適用する工程が、熱化学蒸着法によって耐摩耗性コーティングを堆積させることを含む、請求項32に記載の方法。前記堆積させる工程が、ジメチルシランを分解して、分解したジメチルシランの成分を基材の表面上に堆積させることを含む、請求項33に記載の方法。前記耐摩耗性コーティングを酸化することをさらに含む、請求項31に記載の方法。前記酸化工程が、空気、水、亜酸化窒素およびそれらの組み合わせからなる群より選択される酸化試薬の存在下で耐摩耗性コーティングを酸化することを含む、請求項35に記載の方法。前記耐摩耗性コーティングを官能化することをさらに含む、請求項36に記載の方法。前記官能化する工程が、酸化工程の後に行われる、請求項37に記載の方法。前記官能化工程が、処理工程の後に行われる、請求項37に記載の方法。前記三官能性オルガノシランが、トリメチルシランである、請求項31に記載の方法。前記適用する工程が、約100nm~約10,000nmの範囲の厚さに適用することを含む、請求項31に記載の方法。前記処理工程が、約300°C~600°Cの範囲温度で加熱することを含む、請求項31に記載の方法。前記処理工程が、約5~100psiaの範囲の圧力で起こる、請求項42に記載の方法。前記耐摩耗性コーティングが、自然発火性ではない材料を用いて適用される、請求項31に記載の方法。前記提供する工程が、ガラス、金属またはセラミック基材を提供することを含む、請求項31に記載の方法。0009従って、既知のシステムに関連する上記の欠点やその他の欠点のうちいくつかまたは全てを克服することができる、現行の耐摩耗性コーティングの改良が望ましいと思われる。0010本発明の開示の代表的な実施態様は、トリメチルシラン処理層を含む耐摩耗性コーティングに関する。0011本発明の開示のその他の代表的な実施態様は、トリメチルシラン処理層を含む表面を有する物品に関する。0012本発明の開示のその他の代表的な実施態様は、物品に耐摩耗性コーティングを適用し、続いて三官能性オルガノシランで処理する方法に関する。0013いくつかの実施態様において、本耐摩耗性コーティングは化学蒸着法によって堆積される。0014いくつかの実施態様において、三官能性オルガノシランは、トリメチルシランである。0015いくつかの実施態様において、本耐摩耗性コーティングは、三官能性オルガノシランでの処理に加えて、酸化および/または官能化される。0016本発明の実施態様の利点は、基材表面に、ケイ素、炭素および水素などのこれまで利用できなかった分子を適用できることである。0017本発明の実施態様のその他の利点は、CVDによって予めジメチルシランコーティングが適用された基材を、トリメチルシランまたはその他の三官能性オルガノシランで処理することにより、不活性、耐食性、疎水性、pH耐性、耐摩耗性および硬度のうち1つまたはそれより多くにおいて、このようなコーティングの酸化および/または官能化されているが未処理のタイプのものに比べて改善をもたらし得ることである。0018その他の利点は、上記処理を使用して、コーティングを抗スティクション性antistictionおよび抗コーキングanticoking特性に関して調節できる点である。0019本発明の実施態様のその他の利点は、改善された耐摩耗性を有する耐摩耗性コーティングを達成できる点である。0020本明細書において本発明の実施態様のさらなる形態を開示する。当業者は、以下の図面および詳細な説明から、上記で考察したような特徴、加えてその他の本願の特徴および利点を認識し理解できるものと思われる。0039従来技術の欠点がないコーティング、コーティングされた物品、および、コーティング方法を提供する。例えば、本コーティング、物品および方法の実施態様において、ケイ素、炭素および水素などの分子の利用が可能である。一実施態様において、本方法は、余分な金属触媒を利用しないで使用することが可能であり、余分な触媒活性が残留しないように使用することが可能であり、および、それらを組み合わせて使用することが可能である。一実施態様において、本方法は、不活性、耐化学腐食性および/または他の望ましい特性を実質的に低減させることなく硬度を高める。本開示に従って形成された典型的なコーティングによれば、官能性、不活性、調節可能性tailorability、疎水性、抗腐食性および/または抗スティクション性、硬度、耐摩耗性またはそれらの組み合わせを改変することが可能である。0040本コーティングは、主として化学蒸着で行われることを目的としており、ここで化学蒸着は、通常ただし必ずしもその限りではないが、プラズマを使用した方法ではなく、熱を適用することによってなされる。さらに当然のことながら、600°Cを超えないCVD以外の適用方法も使用することができる。0041さらなる実施態様によれば、本コーティングは、トリメチルシランで処理されてもよい。一実施態様において、本コーティングは、酸化された後トリメチルシランで処理されてもよい。トリメチルシラン処理により、未処理の酸化および/または官能化コーティングに、不活性、耐食性、疎水性、pH耐性、耐摩耗性および硬度、ならびにそれらの組み合わせにおいて改善をもたらすことができる。加えて、または、その代わりに、本コーティングは、抗スティクション性および抗コーキング特性に関しても調節が可能である。0042トリメチルシランは、ジメチルシランよりもコストが低く、且つ利用可能性が高いにもかかわらず、これまで化学蒸着法にとっては望ましくないと考えられてきた。一般的には、トリメチルシランを使用すると、例えば比較的高い分解温度これは、標的とする基材の冶金学的性質に悪影響を与える可能性があるなどの望ましくない特性が生じると予想され、さらにそれが堆積時間が長期化につながると予想され、それによって生産処理能力に影響が出ると考えられてきた。0043図1を参照すると、代表的な実施態様に係る基材100は、基材100に望ましい表面作用を付与する層102を制御しながら堆積させることによって達成された改善された表面特性を有する表面105、コーティング101、物品103、または、それらの組み合わせを含んでいてもよい。コーティング101は、化学蒸着例えばカルボシランを形成する場合はジメチルシランの化学蒸着、それに続いて酸化例えばカルボキシシランを形成する場合は空気酸化、および/または、官能化例えば、官能化カルボキシシランを形成する場合はヒドロシランでの官能化によって形成される。0044上述の望ましい表面作用を付与すると、層102および/またはコーティング101が基材100の表面105に拡散することにより表面105の性能を改善することができる。層102は、あらゆる適切な基材に適用することができる。例えば基材100は、金属基材第一鉄の基材、または、鉄を含まない基材、ガラス基材、または、セラミック基材であってもよい。0045代表的な実施態様において、層102は、ジメチルシランの熱分解によって形成される。ジメチルシランが熱分解されることによって、層102に、活性部位となり得るケイ素、炭素および水素原子などの分子が包含される。このような層102中の分子は、第一の部分104と第二の部分106とを含んでいてもよい。一般的に、第一の部分104と第二の部分106とを空間的に分割することは不可能である例えば、第一の部分104および第二の部分106は、層102上に堆積された分子に応じて性質が決まり、これらの分子が層102全体にわたって点在している可能性がある。さらにその上、第一および第二という用語が使用される場合、これら二つの部分が、何らかの連続性を有する量の差、サイズの差またはその他の区別を有することを意味するわけでなない。そうではなく、第一および第二という用語は、これら二つの部分の分子の構成を区別するために用いられる。例えば、一実施態様において、第一の部分104はケイ素を含み、第二の部分106は炭素を含む。一実施態様において、第一の部分104および第二の部分106は層102全体にランダムに結合している。0046図2は、代表的な実施態様に係る基材100への層102および/またはコーティング101の拡散を説明する図である。予め選択された表面にジメチルシランを適用することにより、非拡散コーティングに比べて改善された耐薬品性、改善された不活性、および、改善された付着力が得られた。図2は、炭素を含む第一の部分104とケイ素を含む第二の部分106とを有する層102について示された図である。具体的に言えば、図2は、層102のオージェ電子分光測定により、基材100および/または物品103中の層102の組成を示したものである。0047一実施態様において、ジメチルシランは熱分解し、15時間にわたりアモルファスカルボシランとして堆積される。この実施態様において、層102は、約130ナノメートルの厚さを有し、拡散領域108部分を含んでおり、ここでこの拡散領域108部分は、O濃度の増加とCおよびSi濃度の減少に基づいて例えば少なくとも4つの因子によって確認可能である。層102の範囲は、約0.1マイクロメーター~約3.0マイクロメーターであってもよい。拡散領域108は、約5ナノメートル~500ナノメートルであってもよい。一実施態様において、拡散領域108は、約20ナノメートルである。当然のことながら、オージェ電子分光法による拡散層の正確な測定は、基材およびコーティングの表面粗さで相殺される可能性がある。それゆえに、オージェ電子分光法で測定されたような拡散領域は、絶対測定ではなく、上記プロセスによる拡散メカニズムを表示したものである。層102のC:Si:Oの組成比は、約1:0.95:0.12である。それに対して、化学蒸着チャンバーに導入されるジメチルシランのC:Siの組成比は、約2:1である。CHXX=0~3部分は保持されて、Si-C結合は壊れると考えられ、従ってこれは、層102がSi-C結合の無定形な配列を含むことを示す。無定形な配列は、例えば基材100に引張力または圧縮力がかかった際の亀裂または剥落の減少、および/または、付着力の増加といったさらなる利点を提供する。一実施態様において、より厚い層を得るため、または、望ましい特性を得るために、多層のコーティング101または類似のコーティングが堆積される。0048図3は、官能化層110を有する代表的な実施態様を示す。官能化層110は、シリコンハイドライド部分と不飽和炭化水素例えば、式:H2C=CH-R、および/または、HC≡C-Rで示されるものとを熱反応させることによって形成され、層102の第一の部分104の全部または一部に結合したR-基を含み、ここでR-基は、1種またはそれより多くの不飽和炭化水素基を有するあらゆる適切な有機試薬によって形成することもできる。R-基は、炭化水素、置換炭化水素例えば、ハロゲン化炭化水素、カルボニル、カルボキシル、エステル、エーテル、アミン、アミド、スルホン酸、有機金属錯体、および/または、エポキシドによって形成することもできる。0049図4は、層102を形成するための典型的な化学蒸着法200を示しており、この方法は、基材を製造する工程工程202、および、ジメチルシランを熱分解する工程工程204を含む。基材を製造する工程工程202は、あらゆる適切な処理方法によって行うことができる。例えば図5を参照すれば、基材を製造する工程工程202は、化学蒸着チャンバー中で基材を単離する工程下位工程208、基材を予熱する工程下位工程210、チャンバーを不活性ガスでフラッシングする工程下位工程212、および、チャンバーを排気する工程下位工程214を含んでいてもよい。0050基材を単離する工程下位工程208は、チャンバー内で、不活性雰囲気中で行われる。チャンバー内のガスフローおよび/または真空を維持することにより、制御された雰囲気を達成することができる。基材表面から水分を脱着させ残存した汚染物質を除去するために、熱源によってチャンバー中の温度を制御してもよい下位工程210。例えば、処理しようとする表面を、管類が連結された化学蒸着チャンバー内に含ませて、化学蒸着チャンバーにガスフローが出入りできるようにしてもよい。このようなチャンバーは、複数のガスストリームを提供したり除去したりできるように設計された複数の制御された注入口および排出口を含んでいてもよい。1つまたはそれより多くの排出管に、真空室vacuumが連結されていてもよい。0051基材の清浄度に応じて、基材は、約100°Cより高い温度、約1気圧未満の圧力で、数分~約15時間加熱する工程下位工程210によって製造してもよい。加熱温度は、一般的に、基材100の特性に相応した温度である。一実施態様において、時間は、約0.5~約15時間である。その他の実施態様において、基材は、約450°Cで約2時間加熱される。真空中でチャンバーを調整した後、不活性ガスでチャンバーを選択的にフラッシングし下位工程212、排気してもよい下位工程214。0052方法200は、ジメチルシランを熱分解する工程工程204を含む。一般的に、ジメチルシランは、需要が低いため入手が容易ではない。ジメチルシランは、炭素を含み、シランよりもかなり高価であるため、ある種の化学蒸着用途において望ましくないとみなされてきた。シラン、および、ジメチルシラン、メチルシランのモノメチル類似体はいずれも自然発火性であり、空気中で爆発する可能性がある。ジメチルシランは、可燃性ではあるが、自然発火性ではない。従って、ジメチルシランを使用することによって、安全性に関するリスクを減らすことができる。加えて、ジメチルシランを使用すればコーティングの不活性および/または耐薬品性を得ることができ、それによって基材表面を保護することができる。0053図6を参照すると、ジメチルシランの熱分解工程204は、ジメチルシランを分解するのに十分な所定の圧力および温度でチャンバーにジメチルシランを導入する工程下位工程216、分解で生じた成分を、所定の厚さになるように所定の時間、基材100に堆積させる工程下位工程217、基材をコーティングする工程下位工程218、および/または、ジメチルシランのチャンバーをパージする工程下位工程220を含む。米国特許第6,444,326号その全体を参照により本明細書に組み入れるで説明されているように、典型的なプロセス条件としては、約0.01psia~約200psiaの圧力が挙げられる。温度は、約200°C~600°Cであってもよい。時間は、約10分間~約24時間であってもよい。0054一実施態様において、導入されるジメチルシラン下位工程216は、ジメチルシランをガス状で含む。一実施態様において、基材は、約1.0psia~約100psiaの圧力および約300°C~600°Cの温度で、約30分~約24時間、ジメチルシランガスに晒される。代表的な実施態様において、基材100は、ジメチルシランガスに、約400°C~約500°Cの温度で約15時間晒される。ジメチルシランガスの圧力は、約5psia~約40psiaであってもよい。0055続いてジメチルシランは、H、C、Siおよびそれらの組み合わせなどの分子レベルの断片に熱的に解離され、これらの成分が基材100に堆積されることにより下位工程217、ジメチルシランの分解の結果生じたケイ素、炭素および水素などの物質でコーティング100が形成される下位工程218。ジメチルシランガスは、減圧下で反応チャンバーに導入してもよいし、または、分圧希釈剤pressuredilutantとして、例えば窒素、ヘリウムおよび/またはアルゴンなどの不活性ガスと共に導入してもよい。理論にこだわるつもりはないが、ジメチルシランが熱分解してカルボシリルフラグメントが形成され、これが再度組み合わされて基材表面に結合すると考えられる。基材表面上、加えてチャンバーの露出した表面上において、得られたコーティングは、炭素、ケイ素および水素を有するアモルファスカルボシランを含むと考えられる。また堆積された物質は、オージェ電子分光法の深さプロファイルで図示されているように図2、拡散領域108基材100の表面105にも放散しており、すなわちこれは、基材100への付着の様式を裏付けるものである。続いてチャンバーは、ジメチルシラン、および、揮発性の堆積されていないカルボシリルフラグメントでパージしてもよい下位工程220。より厚い堆積層が望ましい場合、堆積条件を変化させる。これは、温度、圧力、時間またはそれらの組み合わせを変化させることによって達成される。また、工程204を繰り返して適用して多層にしてもよい。0056層102を形成する際に図1および2を参照してさらに説明されたように、追加の工程を行ってもよい。一実施態様において、以下の図7でさらに図示されているように、層102が続いて官能化され工程206、官能化層110が形成される。一実施態様において、以下の図8でさらに図説されているように、層102例えばアモルファスカルボシランが酸化されると工程205、初めに酸化された層802例えばアモルファスカルボキシシランが形成される。一実施態様において、以下の図9でさらに図説されているように、官能化層110例えば官能化アモルファスカルボシランが水で酸化されると、官能化後に酸化された層804例えば官能化されたアモルファスカルボキシシランが形成される。一実施態様において、酸化層802が官能化されると、酸化後に官能化された層が形成される示さず。本明細書で用いられる用語酸化層は、概して、初めに酸化された層802、官能化後に酸化された層804、および、酸化後に官能化された層示さずのいずれか1つまたはそれより多くを意味する。0057一実施態様において、方法200はさらに、図3を参照しながら上記で簡単に述べたように、基材100の層102を官能化して、官能化層110を形成する工程工程206を含む。図7を参照すると、基材100の層102を官能化する工程工程206は、最初のカルボシランの堆積の後に残存したシリコンハイドライド部分と反応させることによって行ってもよい工程204。基材上にカルボシランを堆積させた後工程204、このシステムを不活性ガスでパージしこれは、下位工程220のパージであってもよいし、または、別のパージ工程であってもよい、ここで反応チャンバーを、所定の官能化温度に設定してもよい下位工程232。このようなパージにより、ガス状のカルボシラン部分および/または基材表面に結合していない未反応のジメチルシラン部分が除去される。パージおよび温度設定の後下位工程232、チャンバーを排気する下位工程234。0058続いてチャンバーに、所定のチャンバー内の温度および圧力で結合剤を導入する下位工程236。一実施態様において、熱を駆動力として用いて、結合試薬が、カルボシリル表面と反応して、シリコンハイドライド部分を介してそこに結合する。結合剤の例は、エチレン、プロピレン、および、置換された不飽和有機分子である。シリコンハイドライドの残留した部分は、加熱条件下で例えば約400°CでH2C=C-R、および/または、HC≡C-Rと反応してもよい。R-基は、炭化水素、置換炭化水素例えばハロゲン化炭化水素、カルボニル、カルボキシル、エステル、エーテル、アミン、アミド、スルホン酸、有機金属錯体、および/または、エポキシドによって形成することもできる。0059一実施態様において、結合剤分子は続いて、基材に結合する下位工程240。このようなコーティングは、R-基との炭素-ケイ素共有結合を含む可能性がある。R-基を修飾することにより、表面の特性を調節することができる。例えば、R-基を修飾して、表面の疎水性を調節することができる。表面の疎水性を調節するためには、R-基は、フッ素化炭化水素であってもよい。フッ素化炭化水素は、疎水性および/または疎油性oleophobic表面を形成することができる。加えて、または、その代わりに、R-基は、触媒性または殺菌性の特性を付与する有機金属化合物の置換基を含んでいてもよい。理論にこだわるつもりはないが、シリコンハイドライド部分は、ヒドロシリル化メカニズムによって不飽和炭化水素基と熱反応し、コーティングされた基材の表面に共有結合することができると考えられる。このようにして形成された反応チャンバー内の全ての露出した表面上にコーティングは、R-基と炭素、ケイ素および水素部分とを含む共有結合したR-基を含む。0060一実施態様において、方法200はさらに、上記で簡単に説明したような基材100の層102を酸化する工程工程205を含む。所定の酸化条件下で層102に活性酸素種を供与することができるあらゆる適切な化学種に晒すことにより、層102は酸化されて、酸化された層上記参照が形成される。このような化学種としては、例えば、水、酸素、空気、亜酸化窒素、オゾン、過酸化物、および、それらの組み合わせが挙げられる。一般的に、酸化は、コーティング101の大部分に影響を与えるバルク反応である。このような酸化は、チャンバー内の温度、チャンバー内での曝露時間、希釈ガスのタイプおよび/または量、圧力、および/または、その他の適切なプロセス条件を増加または減少させることにより制御することができる。酸化を制御することにより、酸化の量および/または深さを増加または減少させることができ、従って表面の耐摩耗性および/または硬度を増加または減少させることができる。一実施態様において、層102は、水に晒される例えば、不活性ガス中で、約100~200psiaの圧力で約450°Cで約2時間。一実施態様において、官能化層110は、水に晒される例えば、不活性ガス中で、約100~200psiaの圧力で約450°Cで約2時間。0061このような酸化は、第一鉄の金属表面、鉄を含まない金属表面および/またはガラス表面上の、カルボシランおよび官能化カルボシランベースの、酸化制御による化学蒸着法によって得られた物質の硬度および/または耐摩耗性を改善する。一実施態様において、図8を参照すると、層102は、カルボシランのアモルファス層であり、ここで層102は酸化されて、初めに酸化された層802としてカルボキシシランのアモルファス層が形成される。一実施態様において、図9を参照すると、官能化層110は、官能化カルボシランのアモルファス層であり、ここで官能化層110は酸化されて、官能化後に酸化された層804として官能化カルボキシシランのアモルファスの表面が形成される。0062一実施態様において、酸化工程工程205は、亜酸化窒素N2Oを用いて行われる。具体的に言えば、N2Oは、カルボシランでコーティングされたサンプルを含む容器中で、加熱下例えば約450°Cで、純粋なN2Oの所定圧力で、適用される。この実施態様において、酸化工程工程205で過剰な酸化が行われると、過剰な酸化により、接触角が約60°になり、N-H、Si-OHおよび/またはC-OH基の量が増加し、比較的弱い耐スクラッチ性が得られ、耐酸性/耐食性が増加する。0063一実施態様において、酸化工程工程205は、オゾンを用いて行われる。この実施態様において、酸化工程工程205は、耐摩耗性を低下させ、耐薬品性を低下させ、耐スクラッチ性を低下させ、硬度を低下させ、および、耐酸性/耐食性を増加させる。0064一実施態様において、酸化工程工程205は、酸化試薬として水単独を例えば約450°Cの温度で用いて行われる。この実施態様において、酸化工程工程205により、Siウェーハにおける接触角が約86.6°になり、摩擦が酸化試薬として空気および水を用いた場合と比較して小さくなり、耐摩耗性が例えば酸化試薬として空気と水を用いた場合と比較して低くなり、Si-O-Si基が形成される図10で説明されているように、995.2cm-1における水で官能化されていないピークと比較した1026.9cm-1におけるSi-O-Siピークの成長によって示されている通り。0065その他の実施態様において、酸化工程工程205は、空気や水などの酸化試薬を用いて例えば約450°Cの温度で行われる。この実施態様において、酸化工程工程205で過剰な酸化が行われると、C-H基の量が例えば酸化試薬として水のみを用いた場合と比較して減少し、Si-C基の量が例えば酸化試薬として水のみを用いた場合と比較して減少し、および、Si-OH/C-OH基の量が例えば酸化試薬として水のみを用いた場合と比較して増加する。0066その他の実施態様において、酸化工程工程205は、空気単独を用いて行われる例えば約450°Cの温度で。この実施態様において、酸化工程工程205により、摩擦が少なくなり例えば酸化試薬として空気と水を用いた場合と比較して、耐摩耗性が増加し例えば酸化試薬として空気と水を用いた場合と比較して、および、Si-O-Si基が形成される。0067一実施態様において、層102は、所定の接触角を示し例えば約98.3°の前進接触角、官能化層110は、それよりも大きい接触角を示す例えば約100°の前進接触角。一実施態様において、層102は、所定の接触角を示し例えば約95.6°の前進接触角、官能化後に酸化された層804は、それよりも小さい接触角を示す例えば約65.9°の後退接触角。この実施態様において、酸化工程工程205により、Si-O-Si基が形成され、Si-H基の量が減少する例えば官能化層110と比較して。0068一実施態様において、酸化された層は、酸化されていない層102の摩擦係数例えば約0.97よりも低い摩擦係数例えば約0.84を有する。同様に、一実施態様において、酸化された層は、酸化されていない層102の摩耗率例えば4.73×10-4mm3/N/mよりも低い摩耗率例えば約6.75×10-5mm3/N/mを有する。0069図11は、酸化に水を用いた代表的な実施態様に係る基材100例えばステンレス鋼への酸化された層の拡散を説明する図である。具体的に言えば、図11は、オージェ電子分光法による、基材100、コーティング101および物品103中の酸化層の組成を示す。示した通り、酸化は、Si-O-Si結合を作るために酸化および除去を受けるSi-H部分、加えて、除去される一部のSi-Cおよび/または遊離の炭素種で説明される。一実施態様において、酸化層は、約1600オングストロームの厚さを有し、拡散領域108を含んでおり、ここでこの拡散領域108は、約250オングストロームであり、これはCおよびSi濃度の減少に基づいて確認可能である。酸化層の範囲は、約0.1マイクロメーター~約3,0マイクロメーターであってもよい。拡散領域108は、約5ナノメートル~500ナノメートルであってもよい。酸化層の組成は、約1.0:1.22:0.91C:Si:Oであり、元々基材100にある酸化物層のために酸素が増加している。0070また層102は、異なる酸化試薬の存在下で酸化されてもよい。一実施態様において、酸化試薬は、ゼロ空気zeroairである。本明細書で用いられる用語ゼロ空気は、総炭化水素量が約0.1ppm未満の大気の空気を意味する。一実施態様において、酸化試薬は、ガス状の試薬からなる。加工物質例えばジメチルシランおよび/または窒素は気相中でガス状で存在しているために、ガス状の酸化試薬を使用することにより、より簡単な製造のスケールアップ、より移動可能なプロセス、および、より経済的なプロセスが可能になる。0071従って、ジメチルシランは、本開示の実施態様に従って使用すれば化学蒸着法にとって多数の利点がある。加えて熱化学蒸着法によってジメチルシランを堆積させた材料は、式:H2C=CH-R、および/または、HC≡C-Rで示される不飽和炭化水素での表面の官能化に利用可能なSi-H部分を有する。一方、カルボシラン材料を酸化してカルボキシシラン材料にすることにより材料の硬度と耐摩耗性に劇的な改善がもたらされることは知られているが、不活性や抗腐食性といった望ましい品質が犠牲になる。0072さらに、本明細書に記載の酸化剤は多くの例において十分な性能を示し得るが、酸化試薬として水を使用すると、場合によっては様々な問題を示すこともある。圧力および腐食耐性という特性を達成するためには、必要なチャンバーのサイズと質量が極めて大きくなり、従って、安全上の危険が生じる可能性がある。チャンバーに水を安全に注入するには、かなりの冷却を要する。例えば、約300°Cよりも高温で稼動するチャンバーの場合、その系をまず約100°C未満に冷却する。これにより、資源製造に要するエネルギーおよび/または時間を消耗してしまう可能性がある。また、水は液体であるため、チャンバーへの水の正確な分配も複雑で費用がかかるものになる可能性がある。0073同様に、試薬として空気を使用する場合も、ある種の状況において様々な問題を示すこともある。このようにして形成されたコーティング済み材料には、分析やクロマトグラフィー用途において吸着を起こす-OH官能基が存在している可能性がある。このようにして形成された材料は、低周波で低インピーダンス値を示す可能性があり、これが劣った抗腐食性につながる。またこのようにして形成された材料は、水の接触角値が小さいか、または、高い親水性を示す可能性がある。0074より簡単に言えば、酸化試薬として空気を使用すると、コーティングの材料特性が損なわれる可能性がある。例えば、一実施態様において、コーティング101には、分析やクロマトグラフィー用途において吸着を起こす-OH官能基が存在している可能性がある。一実施態様において、コーティング101は、低周波で低インピーダンス値を示し、これが劣った抗腐食性につながる。一実施態様において、コーティング101は、接触角値が小さいか、または、高い親水性を有する。0075これらの特性は、空気を酸化試薬として使用することを望ましくないものにするようであるが、本発明者等は、図12に示される方法300などの代表的な実施態様によれば、堆積後にコーティング101またはコーティング101の一部をさらに処理することにより、ガス状の酸化試薬を使用する利点を維持しながら、改善された硬度および/または耐摩耗性を犠牲にすることなく劣った特性の作用を改善することができることを確認した。ただし、酸化試薬はこれまでに述べられたような代表的な実施態様に従って使用することもできる。0076図12を参照すると、一実施態様において、方法300は、処理層806を形成するために、基材100の層102を処理する工程例えば、基材100の層102の表面を加熱および/または修飾する工程工程207を含むさらに以下で図13を参照しながら説明される。方法300は、図4に示される方法200、および、このような処理工程工程207を含む。一実施態様において、このような酸化工程工程205、例えば初めに酸化された層802の酸化工程の後に、処理工程工程207が行われる。さらなる実施態様において、処理工程工程207の後に、官能化工程工程209が行われる。従って、一実施態様において、図13で説明されているように、酸化層、例えば空気酸化層805を処理することにより工程207、処理層806例えば、トリメチルシリルで処理したアモルファスカルボキシシラン層が形成される。0077図13および14を参照すると、処理層806は、ジメチルシランで形成された官能化層110および/または空気酸化層805よりも大きい耐摩耗性を有する可能性がある。そのようなものとして、方法300の一実施態様において、処理工程工程207は、耐摩耗性を高める。例えば、一実施態様において、処理層806は、ジメチルシランで形成された官能化層110と比べて耐摩耗性が約34倍改善した。処理層806例えば、空気酸化されたカルボキシシラン層は、例えばケイ素上の-OHヒドロキシル基シラノールと反応させることによって縮合反応例えばSi-Hシラン基との縮合反応させることによって形成してもよい。一実施態様において、処理工程工程207は以下の反応を含む:R3Si-OHH-SiR’3→R3Si-OSiR’3H2RおよびR’=有機性基0078処理層806例えば空気酸化されたカルボキシシラン層の表面特性は、R’基を修飾して変化させることによって、または、ヒドロキシル反応が可能な他の分子を用いることによって調節される。例えば、一実施態様において、このような調節により、硬度および耐摩耗性、不活性、電気化学的インピーダンス、接触角ならびにそれらの組み合わせを増加または減少させることによって、処理工程、分析、ガス、石油および半導体産業分野で使用するための適応性および耐久性を高める物理的な性能特性が得られる。R基は、炭化水素、置換炭化水素、カルボニル、カルボキシル、エステル、エーテル、アミン、アミド、スルホン酸、有機金属錯体、および/または、エポキシドによって形成することができる。理論にこだわるつもりはないが、シリコンハイドライドの部分は、ヒドロシリル化メカニズムによって不飽和炭化水素基と熱反応して、コーティングされた基材の表面と共有結合を形成することができると考えられる。一実施態様において、反応チャンバー内の全ての露出した表面上のコーティング101は、R基、ならびに炭素、ケイ素および水素部分を含む共有結合したR基を含む。0079図14は、代表的な実施態様に係る基材100例えばステンレス鋼への処理層806の拡散を説明する図である。具体的に言えば、図14は、オージェ電子分光法によって示された基材100および/または物品103中の処理層806の組成を示す。一実施態様において、処理工程207により、処理層806全体にわたり拡散層108に至るまで実質的に安定なSi、OおよびC濃度が得られる。この実施態様において、Si、OおよびC原子濃度は、それぞれ約40、35、および、20である。一実施態様において、処理層806は、約3500オングストロームの厚さを有し、約400オングストロームの拡散領域108を含み、この領域は、CおよびSi濃度の減少およびスパイク、続いてOの減少に基づいて確認可能である。処理層806の範囲は、約0.1マイクロメーター~約3.0マイクロメーターであってもよい。拡散領域108は、約5ナノメートル~500ナノメートルであってもよい。処理層806の組成は、約1.0:2.25:1.75C:Si:Oである。0080一実施態様において、処理工程工程207は、物品100、コーティング101、層102、官能化層110、空気酸化層805またはそれらの組み合わせをオルガノシラン試薬に晒すことを含む実施態様の一つにおいて、オルガノシラン試薬は、一般式:RR’RSi-H式中R、R’、Rはオルガノ官能基であるで示される三官能性オルガノシランである。オルガノ官能基の例は、アルキル、アリール、ハロゲン化アルキルおよびアリール、ケトン、アルデヒド、アシル、アルコール、エポキシ、および、ニトロ基を含む有機性基、ならびに有機金属化合物の官能基である。一実施態様において、オルガノシランは、トリメチルシランである。0081熱、曝露時間、希釈ガスおよび圧力は、処理工程工程207の程度に影響を与えるように調節される。このようにして処理工程工程207の程度を制御することにより、望ましい特性が付与される。一実施態様において、酸化層は、約300~600°Cの温度、約1~24時間、および、約5~100psiaの圧力、場合によっては約25psia、約27psia、約54psiaの圧力、または、それらの間のいずれか適切な範囲の圧力でオルガノシラン試薬に晒される。例えばアルゴンまたは窒素などの不活性希釈ガスは、反応を促進するように約1~100psiaの分圧で用いられる可能性がある。0082一実施態様において、空気酸化層805例えば、層102を空気酸化することによって形成されたジメチルシランベースのカルボキシシラン層は、トリメチルシランへの曝露例えば450°C、10時間、25psiaで処理される。この実施態様によれば、処理層806において、Si-OH官能基が図15を参照すれば、3411.8cm-1における空気酸化層805と比較して減少し、接触角の測定値が増加し例えば、脱イオン水の場合、反応前が約50.9°であったのに比べて、約99.1°、疎水性の存在が示され、優れたインピーダンスが示され例えば、約15.4Mオームの低周波Zlfで図16および17で示されるように、空気酸化層805のZlf=約7.27kオームからの増加、および/または、図18および19で示されるように、ナイキストプロットからの約0.072の末端ZR/Zl比で、ならびにそれらの組み合わせが示される。0083上記実施態様において、部材の表面の摩耗を防ぐのに十分な耐摩耗性を提供することが望ましく、ここでこのような表面の摩耗としては、コーティング101および/または層102が堆積される部材の摩耗滑ったり回転する動きにおける表面の摩耗、および、摩擦接触する本体の相対的な動きに対する抵抗が挙げられる。摩耗は、2つの表面または物質が、負荷がかかった状態で滑りまたは回転などの運動を受けるときに起こる。摩耗は、実質的には固体表面から物質が移動するプロセスであり、剥離、浸食、付着、表面の疲労および/または腐食によって引き起こされる可能性がある。図20および21に、摩耗が起こる用途の例を図説する。図20で示される用途において、2つの表面901および902が接触しており、往復運動の際にそれぞれ相対的に移動する。示された代表的な実施態様において、表面は、ピストンのヘッド903とシリンダー904上の表面であるが、あらゆる移動する部品の表面であってもよい。図21で示される用途において、表面910は移動する流体と接触する。示された代表的な実施態様において、表面は、ガスおよび/または液体などの流体がその中を矢印912で示されるように流動するパイプ911の内部であるが、表面は、流体の動きと接触していればどの部分の表面であってもよい。0084適切な耐摩耗性を有していれば、表面の摩耗が低減されるため、効果的に部材の運転寿命を延ばすことができる。操作上の環境は一般的には複雑であるため、部材表面への化学的および物理的な劣化が防止されるようにコーティング101および/または層102を配合することが重要である。攻撃的な環境で作動する部材の適用例は、石油ガス産業で使用される掘削用具である。このような用具は高い負荷、高い速度および摩擦を受けるため、結果的に高温になる。これらの要因が、部材の表面の摩耗を引き起こす原因となる可能性がある。コーティング101および/または層102が有効になり得る攻撃を受けやすい環境または厳しい環境におけるその他の用途としては、これらに限定されないが、微粒子の流動および/または滑りによる摩耗を受けるシステムまたは部材が挙げられる。このような用途としては、これらに限定されないが、管類、フィッティング類、バルブ回転式、ボール、スライドなど、注入装置、ピストンリング、スライド式Oリング、シリンダー、調節器、混合システム、サンプリング器具、石油ガス産業、プロセスおよび分析機器で使用するための分析システム、内燃エンジン、半導体などが挙げられる。0085コーティング厚さは、コーティングしようとする部分の構造と要求される仕上げのタイプに応じて決められるが、開示された方法に従って作製された代表的な実施態様において、コーティング101または層102は、約100nm~約10,000nmの厚さを有し、または、より具体的には約200nm~約5,000nmの厚さを有し、または、さらにより具体的には約300nm~約1500nmの厚さを有する。耐摩耗性は、約13×10-5mm3/Nm~約0.5×10-5mm3/Nmの範囲であり、または、より具体的には、約9×10-5mm3/Nm~約1×10-5mm3/Nmの範囲であり、または、さらにより具体的には、約6.2×10-5mm3/Nm~約1.3×10-5mm3/Nmの範囲である。摩擦係数は、約0.58~約0.05の範囲であり、または、より具体的には、約0.5~約0.075の範囲であり、または、さらにより具体的には約0.38~約0.1の範囲である。0086本発明に従って適用されたコーティング101および/または層102は、合わさった表面の応力相互作用および変形特性によって引き起こされる剥離、接着および疲労などの摩耗に対する耐性を改善する。摩損また、引掻きscratching、ガウジングgougingまたはスコアリングscoringとも称されるは、物質がある表面から他のそれより硬い物質によって除去され、2つの表面間に屑の硬い粒子が残る場合に起こる。付着摩耗かじりまたはスカフィングと呼ばれることが多いは、加圧下で界面の粘着性の接合部分が互いに滑り合ったとき、それら2つの表面がかみ合うことにより起こる。標準圧力がかかると、表面の凸部における局所的な圧力が極めて高くなり、降伏応力を超えて表面の凸部を可塑的に変形させることが多い。疲労は、機械装置の定期的な動きが部材の表面に対する応力を引き起こす場合に起こる。これらの作用は、主として表面または表面下での応力の作用に基づいており、検討対象の表面が必ずしも物理的に直接接触していないこともある。2つの表面が互いに滑り合うと、表面からいくらか下方で最大の剪断応力が生じることにより微小なひび割れが入り、それが表面に拡がり、結果的に部材の不良が生じる。0087加えて、コーティング101および/または層102は、部材表面の固体と液体どちらもからの浸食および腐食に対する耐性を改善する。固体と液体どちらもからの浸食は、粒子が部材の表面に衝突したり流れが接触したりすることにより発生する。腐食摩耗において、接触している表面が環境と反応して、表面の凸部上に反応生成物が形成される。続いて、物質の接触相互作用におけるひび割れの形成および/または剥離の結果として反応生成物の摩滅が起こる。0088本発明に従って作製および適用されたコーティング101および/または層102は、コーティング101および/または層102の基材100への付着を強くすることから、コーティング102および/または層102の摩耗特性を改善する。コーティング101および/または層102は硬く、それが結合している基材100の表面にしっかりと付着する。それにより、基材100が晒されて摩耗および/または浸食を受ける攻撃的な環境または厳しい環境でコーティング101および/または層102を使用することが可能になる。図20に示される代表的な実施態様において、表面901、902のどちらかにコーティング101が適用されてもよい。あるいは表面901、902の両方にコーティングが適用されてもよい。図21に示される代表的な実施態様において、表面910にコーティング101が適用されてもよい。加えて、部品911を運搬中のダメージ等から保護するために、外面913にコーティング101が適用されていてもよい。実施例10089実施例1は、基材100に、2時間、8psiaのガスで、450°Cでジメチルシランを導入して層102を形成することを含む。この実施例1において、層102は、鏡面研磨した316枚のステンレス鋼のわずかに黄色の切り取り試片上でほぼ検出不可能であったすなわち、視覚的に確認することが極めて困難であった。測定したところ、堆積処理前の水の接触角データが約60°であることがわかった。ジメチルシランで堆積処理した後、接触角は約102°に増えた。層102は視覚的に確認できなかったが、そのデータから、表面105の層102上に有意な密度のカルボシリル材料が極めて薄く堆積されていることが示された。利用可能な分光分析技術でコーティングを検出するには感度が不十分であったため、層102の厚さは約100オングストロームと推測した。実施例20090実施例2は、基材100に、15時間、8psiaのガスで、450°Cでジメチルシランを導入して層102を形成することを含む。実施例2において、層102は、視覚的に確認できる光る虹状の色の列を有していた。測定したところ、鏡面仕上げした316個のステンレス鋼の表面、および、研磨されたシリコンウェーハ表面について約100°の脱イオン水平均接触角データが示された。FT-IRから、2950cm-1での測定値に基づきC-Hの存在、792cm-1での測定値に基づきSi-Cの存在、および、2102cm-1での測定値に基づきSi-H部分の存在が示された。層102の厚さは、スペクトロメーターにより約800オングストロームと測定された。オージェ電子分光法を利用して追加の測定も行われた。その測定から、層102においてSiおよびC原子濃度の増加が示された。この測定からさらに、SiおよびC原子濃度が拡散領域108に近づくに従って減少していることが示され、これは濃度Fe、CrおよびNi原子の増加によって説明される。この測定から、SiおよびC原子濃度は拡散領域108を超えた地点で漸近的にゼロに近づくことが示された。この測定からさらに、拡散領域108は、O原子濃度が増加していることに基づいて確認できることも示された堆積前の基材100の表面105上の表面酸化物のため。実施例30091実施例3は、基材100に、15時間、8psiaのガスで、450°Cでジメチルシランを導入して層102を形成すること、続いて基材100の層102を、不活性ガス中で、水で2時間、約100~200psiaのガス、450°Cで酸化して酸化層802を形成することを含む。実施例3は、望ましくない結果を示した。例えばFT-IRデータから、表面の修飾化学について官能基部分Si-OHまたはSi-Hの存在がまったく検出されなかった。酸化層802は、86.6°のSiウェーハ上の接触角、および、Si-O-Si基の存在を示した。実施例40092実施例4は、基材100に、15時間、8psiaのガスで、450°Cでジメチルシランを導入して層102を形成すること、続いて基材100の層102を、酸化試薬混合物で、2時間、約100~200psiaのガス、300°Cで酸化して酸化層805を形成することを含む。酸化試薬混合物は、空気および水を含む。実施例4は、望ましくない結果を示した。FT-IRデータによれば、酸化層805は過剰に酸化され、C-H基の減少実施例3と比較して、Si-C基の減少実施例3と比較して、および、Si-OH/C-OH基の増加実施例3と比較してを示した。実施例50093実施例5は、基材100に、15時間、8psiaのガスで、450°Cでジメチルシランを導入して層102を形成すること、続いて基材100上の層102を、空気で、2時間、約100~200psiaのガスで、300°Cで酸化して酸化層805を形成することを含む。実施例5で、FT-IRデータ幅広;3414cm-1で観察された有意なSi-OHの伸長部分を有する酸化されたカルボシラン材料を製造した。接触角は、脱イオン水の場合、50.9°と測定された。電気化学的インピーダンス分光分析で、低周波で、Zlf=約7.27kオームのインピーダンスが示された。この材料の耐摩耗性を、摩擦計CSMインスツルメンツCSMInstrumentsS/N18-343を用いて、標準的な100個のCr6ボールを3.00cm/秒の線速度で回転させて0.5Nの力をかけて解析したところ、4.141×10-3の摩耗mm3/Nmが示された。酸化層805は、より少ない摩擦実施例3と比較して、より多くの摩耗実施例3と比較して、および、Si-O-Si基の存在を示した。実施例60094実施例6は、実施例2で形成された層102をエチレンで官能化して官能化層110を形成することを含む。官能化層110は、98.3°の水の前進接触角、および、85.1°の水の後退接触角を示した。図10で示されるように、FT-IRデータから、Si-OSi基が存在しないこと1027cm-1における伸長部分に基づき、および、Si-H基の量の減少2091cm-1における伸長部分に基づきに基づいてほとんど酸化が起こらなかったことが示された。実施例70095実施例7は、実施例2で形成された層102をエチレンで官能化して官能化層110を形成することを含む。続いて、官能化層110を、チャンバーに添加された5mlの脱イオン水DIで酸化した。チャンバーを数回の窒素のフラッシングと軽度の真空に晒し、密封容器から空気を除去した。チャンバー中の温度を450°Cに約2時間保持し、その後室温に戻した。官能化層110を酸化したことにより官能化後に酸化された層804が形成され、この官能化後に酸化された層804の水の接触角データによれば、前進接触角は95.6°、および、後退接触角は65.9°であることが示された。図10で示されるように、FT-IRから、酸化により、実施例6で形成された官能化層110と比較して、Si-OSi基量の増加1027cm-1における伸長部分に基づき、および、Si-H基量の減少2091cm-1における伸長部分に基づきが示された。実施例80096実施例8は、層102ジメチルシランにトリメチルシランを15時間、8psiaのガスで、450°Cで導入することを含む。実施例8は、基材100上のコーティングが視覚的に確認できない、または、分光分析で測定できない、または、分子コーティングの存在を示す指標がまったくみられない例えば水の接触角値の有意な変化がないといった望ましくない結果を示した。実施例90097実施例9は、実施例5でトリメチルシランを用いて形成された酸化層805を処理して、処理層806を形成することを含む。具体的に言えば、材料を含む排気されたチャンバーに、450°C、25psiaでトリメチルシランを添加し、約10時間反応させた。得られたFT-IRデータから、Si-OH官能基の損失が示された図15を参照。接触角を測定したところ、脱イオン水の場合99.1°であり、これは、疎水性の存在を示唆している。電気化学的インピーダンスの分光分析から、低周波で15.4MオームのインピーダンスZlfが示された。また電気化学的インピーダンスの分光分析から、ボーデのプロットとナイキストプロットから0.072の末端のZR/Zl比も示された図16~19を参照。この材料の耐摩耗性を、摩擦計CSMインスツルメンツS/N18-343を用いて、標準的な100個のCr6ボールを3.00cm/秒の線速度で回転させて0.5Nの力をかけて解析したところ、1.225×10-4の摩耗mm3/Nmを示し、これは未処理の材料と比較して34倍の増加であった。0098本発明の所定の特徴および実施態様だけを示し説明したが、当業者にとっては、請求項に記載された主題の新規の教示および利点から著しく逸脱することなく、多くの改変および変更例えば、様々な要素のサイズ、寸法、構造、形状および比率、パラメーター値例えば温度、圧力など、マウントする配置、材料の使用、色、配置などのバリエーションを施すことが可能である。あらゆるプロセスまたは方法工程の順番または配置を、他の実施態様に従って変更または再配列させることが可能である。従って当然のことながら、添付の請求項は、このような全ての改変および変化が本発明の真の本質の範囲に含まれるようにすることを意図している。さらに、代表的な実施態様の簡潔な説明を示すために、実際に行われる実施の全ての特徴すなわち、目下考慮された本発明の実施の最良の形態に関連しない特徴、または、特許請求された発明を実施可能にすることに関連しない特徴を説明することはできない。当然のことながら、このような実際の実施の様々な開発において、あらゆる工学または設計案の場合と同様に、それぞれの実施に応じた固有の判断をなすことが可能である。このような開発努力は、複雑で時間がかかる場合があるが、この開示の利点を受ける当業者にとっては、余計な実験を要しない、慣例的な設計、組み立ておよび製造作業であると予想される。"