被加熱物を収納する加熱室と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生手段と、マイクロ波を伝送する導波手段と、前記加熱室内にマイクロ波を放射するマイクロ波放射部を有しており、前記導波手段のH面磁界面に対して前記マイクロ波放射部に傾斜を施すことにより、前記加熱室内に放射するマイクロ波の指向性を調整することを特徴とするマイクロ波加熱装置。前記マイクロ波放射部の中心を通り、前記導波手段内のマイクロ波の電界方向に平行かつ伝送方向に垂直な面をとった場合に、この面に対して前記マイクロ波放射部の形状が面対称でないことを特徴とする請求項1に記載のマイクロ波加熱装置。前記マイクロ波放射部の中心を通り、前記導波手段内のマイクロ波の電界方向および伝送方向に平行な面をとった場合に、この面に対して前記マイクロ波放射部の形状が面対称でないことを特徴とする請求項1に記載のマイクロ波加熱装置。前記マイクロ波放射部を複数有することを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置。前記導波手段の伝送方向の中心軸が前記加熱室の内壁の中心を通らないことを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置。前記マイクロ波放射部が、円偏波を放射する形状となっていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置。前記マイクロ波放射部にR面取り加工またはC面取り加工を施した請求項1~6のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置。しかしながら、前記従来の構成の電子レンジのようなマイクロ波加熱装置では、なるべく簡易的な構造で、被加熱物を効率良く、ムラ無く加熱することが求められているが、これまで提案されていた構造では種々の問題があった。また、マイクロ波加熱装置、特に電子レンジは、高出力化の技術開発が進み、国内では定格高周波出力1000Wが商品化されている。マイクロ波加熱装置は、熱伝導によって食品を加熱するのではなく、誘電加熱を用いて直接食品を加熱できる利便性が商品の大きな特徴であるが、加熱ムラが未解決の中での高出力化は加熱ムラの問題をより顕在化させることになる。従来のマイクロ波加熱装置が抱える構造上の問題としては、下記の3点のことが挙げられる。1点目は、加熱ムラを低減するためにテーブルまたはアンテナを回転させる機構を必要としており、このため回転スペースおよびテーブルまたはアンテナを回転させるモータなどの設置スペースを確保しなければならず、マイクロ波加熱装置の小型化を阻害していたことである。2点目は、テーブルまたはアンテナを安定的に回転させるために、該回転アンテナを加熱室の上部又は下部に設ける必要があり、構造が制限されていたことである。3点目は、水蒸気加熱や熱風加熱などの種々の加熱機能を有する電子レンジの登場により、電子レンジの筐体内部に多くの構成部品が必要となることおよび、筐体内部の制御部品などの発熱量が多いため、十分な冷却性能を実現するために風路を確保する必要となり、導波手段およびマイクロ波放射部の設置位置が制限されるため、加熱室内のマイクロ波分布が不均一になってしまうことである。マイクロ波加熱装置におけるマイクロ波照射室であるアプリケータ内にテーブルまたは位相器の回転機構などを設置することは信頼性を下げる。よって、これら機構を不要とするマイクロ波加熱装置が要求されている。また、マイクロ波加熱による被加熱物の加熱ムラの低減と共に、コストダウンおよび給電部の省スペース化を図った特許文献2に記載されているような、円偏波を加熱室内部に放射する単一のマイクロ波放射部を有したマイクロ波加熱装置については、回転機構を有していないという利点はあるが、マイクロ波による十分な均一加熱が実現されていないことが課題である。本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、回転機構を用いないで、被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることができるマイクロ波加熱装置を提供することを目的とする。また、筐体内部の構成部品により設置位置が制限され、導波手段が加熱室の内壁の中心に対して非対称に設置された場合でも、被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることができるマイクロ波加熱装置を提供することを目的とする。前記従来の課題を解決するために、本発明のマイクロ波加熱装置は、導波手段のH面に対してマイクロ波放射部に傾斜を施すことにより、加熱室内のマイクロ波分布を変化させることを可能とした。これによって、加熱室内のマイクロ波分布を変化させる制御因子が多くなり、筐体内部の構成部品により設置位置が制限され、導波手段が加熱室の内壁の中心に対して非対称に設置された場合でも、均一なマイクロ波加熱を実現し易くなる。さらに、複数のマイクロ波放射部を有したものである。一つのマイクロ波放射部から放射されるマイクロ波にはマイクロ波放射角があるため、単一のマイクロ波放射部で強く加熱できる範囲には限界がある。よって、マイクロ波放射部の数を調整することにより、広範囲の加熱室内のマイクロ波分布を調整し、より均一な加熱を実減するこが可能となる。また、各マイクロ波放射部の位置する導波手段内のマイクロ波の位相を調整することにより、各マイクロ波放射部から放射されるマイクロ波の相互干渉を利用して、単一のマイクロ波放射部では実現できないマイクロ波分布を得ることが可能となり、均一加熱を実現することが可能となる。また、円偏波を放射するマイクロ波放射部を有したものである。これによって、マイクロ波放射部から拡がりをもったマイクロ波が放射され、被加熱物へのマイクロ波の放射をより広い範囲で均一化することができる。特に、円偏波の周方向に対しての均一加熱が期待できる。また、円偏波を放射するマイクロ波放射部をスリットにより構成される形状としたものである。これによって、被加熱物の加熱ムラを低減するためのテーブルまたはアンテナを回転させる機構が不要となり信頼性の向上および給電部の小型化が可能となる。本発明によれば、加熱室内に設置した円偏波を放射するマイクロ波放射部に導波手段のH面に対して傾斜を施すことにより、筐体内部の構成部品により設置位置が制限され、導波手段が加熱室の内壁の中心に対して非対称に設置された場合でも、被加熱物の均一なマイクロ波加熱が実現できる。また、マイクロ波放射部をスリットにより構成される円偏波を放射する形状とすることにより、アンテナを回転させる機構、テーブルを回転させる機構および位相器などを設けなくても、被加熱物を均一にマイクロ波加熱することができ、給電部の小型化、信頼性の向上、コストダウンを図ることが可能となる。第1の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生手段と、マイクロ波を伝送する導波手段と、前記加熱室内にマイクロ波を放射するマイクロ波放射部を有しており、前記導波手段のH面磁界面に対して前記マイクロ波放射部に傾斜を施すことにより、前記加熱室内に放射するマイクロ波の指向性を調整するものである。これにより、加熱室内のマイクロ波分布を変化させる制御因子が多くなり、筐体内部の構成部品により設置位置が制限され、導波手段が加熱室の内壁の中心に対して非対称に設置された場合でも、均一なマイクロ波加熱を実現し易くなる。第2の発明は、特に、第1の発明において、前記マイクロ波放射部の中心を通り、前記導波手段内のマイクロ波の電界方向に平行かつ伝送方向に垂直な面をとった場合に、この面に対して前記マイクロ波放射部の形状が面対称でないこととするものである。第3の発明は、特に、第1の発明において、前記マイクロ波放射部の中心を通り、前記導波手段内のマイクロ波の電界方向および伝送方向に平行な面をとった場合に、この面に対して前記マイクロ波放射部の形状が面対称でないこととするものである。第4の発明は、特に、第1~3のいずれか1つの発明において、前記マイクロ波放射部を複数有することとするものである。第5の発明は、特に、第1~4のいずれか1つの発明において、前記導波手段の伝送方向の中心軸が前記加熱室の内壁の中心を通らないこととするものである。第6の発明は、特に、第1~5のいずれか1つの発明において、前記マイクロ波放射部が、円偏波を放射する形状となっていることとするものである。第7の発明は、特に、第1~6のいずれか1つの発明において、前記マイクロ波放射部にR面取り加工またはC面取り加工を施したこととするものである。以下、本発明に係るマイクロ波加熱装置の好適な実施の形態について、添付の図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施の形態のマイクロ波加熱装置においては電子レンジについて説明するが、電子レンジは例示であり、本発明のマイクロ波加熱装置は電子レンジに限定されるものではなく、誘電加熱を利用した加熱装置、生ゴミ処理機、あるいは半導体製造装置などのマイクロ波加熱装置を含むものである。また、本発明は、以下の実施の形態の具体的な構成に限定されるものではなく、同様の技術的思想に基づく構成が本発明に含まれる。実施の形態1図1は、本発明の実施の形態1におけるマイクロ波加熱装置の横断面図である。図2は、本実施の形態1における加熱室101と導波手段103とマイクロ波放射部104と被加熱物105の位置関係を説明する図である。図3は、マイクロ波放射部104と導波手段103内に生じる定在波301の関係を矩形導波管内を用いて説明する図である。図4は、一般的な矩形導波管内に生じる電界401、磁界402、電流403の関係を説明するための図であり、マイクロ波放射部104が位置する定在波301の位相と直接波の指向性の説明に用いる。図5は、本実施の形態1のマイクロ波放射部104直下の磁界402の様子により加熱室101内に放射されるマイクロ波の指向性が変化することを説明するための図である。図1に示すように、本実施の形態のマイクロ波加熱装置である電子レンジは、被加熱物105を収納する加熱室101と、マイクロ波発生手段102と、マイクロ波発生手段102から供給されるマイクロ波を加熱室101へ伝送するための導波手段103と、加熱室101内にマイクロ波を放射するマイクロ波放射部104とを有している。なお、マイクロ波発生手段102にはマグネトロン、導波手段103には矩形導波管、マイクロ波放射部104には導波手段103に設けた開口部を用いることでこの構成を容易に実現できる。図2に示すように、加熱室101内にマイクロ波を放射する単数のマイクロ波放射部104を有しており、水平面に対して面積の広い被加熱物105をマイクロ波加熱する場合について説明を行なう。以上のように構成されたマイクロ波加熱装置について、以下その動作、作用を説明する。最初にマイクロ波加熱装置の概略動作について説明を行う。使用者により加熱室101内に被加熱物105が置かれ、加熱開始指示が行われると、マイクロ波加熱装置は、マイクロ波発生手段102であるマグネトロンから導波手段103内にマイクロ波を供給し、加熱室101と導波手段103とを接続しているマイクロ波放射部104を通じて、加熱室101内にマイクロ波を放射することで、マイクロ波加熱装置は被加熱物105の加熱を行なう。なお、本発明において、マイクロ波放射部104から放射され被加熱物105を直接加熱するマイクロ波を直接波と呼び、加熱室101の内壁で反射したマイクロ波を反射波と呼ぶ。また、矩形導波管を用いてマイクロ波発生装置であるマグネトロンから発生したマイクロ波を伝送し、導波管の伝送方向205には磁界402成分のみが存在して、電界401成分のない伝送モードであるH波TE波;電気的横波伝送TransverseElectricWaveにおけるTE10モードという伝送モードにより、マイクロ波が伝送されている場合を想定している。なお、TE10モード以外の伝送モードがマイクロ波加熱装置の導波手段103に適用されることは殆どない。なお、導波管の伝送および電界方向に対して直角方向204の寸法の上限および下限は、マイクロ波の周波数と、導波管の電界方向503の寸法によって決定される。次に、単数のマイクロ波放射部104によるマイクロ波加熱時に生ずる被加熱物105の加熱ムラについて説明する。指向性を持たないマイクロ波放射部104から放射されるマイクロ波により被加熱物105を加熱する場合、マイクロ波放射部104直上周辺が強く加熱される傾向がある。また、マイクロ波放射部104と被加熱物105間の距離が短い場合にも同様の傾向がある。よって、マイクロ波放射部104直上周辺だけではなく、その周囲にもマイクロ波が放射されるような指向性を持たせなければ、被加熱物105を均一にマイクロ波加熱することは困難である。特に図2示すような水平方向に面積の広い被加熱物105に関しては難しい。従来、このような課題を解決するために、マイクロ波放射部104が単一の場合は、テーブル、アンテナ、位相器の回転機構などを用いて機械的にマイクロ波を拡散させるなどの手段を講じなければならず、信頼性の低下、回転機構部においてマイクロ波の損失が多くなり、マイクロ波加熱の効率が低下するという課題を有している。また、上記の課題を解決するために、従来は、被加熱物105に対して上方からマイクロ波を放射する必要があったが、この場合、下方からマイクロ波を放射する場合と比較して、マイクロ波放射部104から放射され被加熱物105を直接加熱するマイクロ波を直接波が少なく、反射波が多くなるため被加熱物105以外でのマイクロ波の損失が多くなり加熱効率が低下するという課題を有している。次に、図3に示すように、導波手段103内に定在波301が生じる原理は、導波手段103として矩形導波管を用いている場合、マイクロ波発生手段102から発生した進行波と導波管の終端202で反射した反射波が互いに干渉し、導波管内に定在波301が生じる。マイクロ波放射部104の位置する定在波301の位相によって、マイクロ波放射部104の有する指向性は変化する。指向性が変化する原理については以下で説明する。図4を用いて、一般的な矩形導波管内の定在波301における電界401磁界402電流403の関係について説明する。進行波は電界401と磁界402の方向は90°ずれており、位相は同一である。これに対し、定在波301は電界401と磁界402の方向は90°ずれており、位相はπ/2ずれている。よって、定在波301が発生している矩形導波管内の電界401と磁界402の関係は図4のようになる。これは、定在波301の場合は、進行波が導波管の終端202で反射する際に、電界401の位相が180°ずれることが主な原因である。なお、電流403は導波手段103の表面を磁界402に直交する方向に流れる。定在波301が発生している矩形導波管内の電界方向302に垂直な面にマイクロ波放射部104を設置した場合の、マイクロ波の指向性についての原理説明を行なう。図3に示すように導波管内の定在波301について、概腹位置303と概節位置304にマイクロ波放射部104が置かれた場合について考える。マイクロ波放射部104における電流403の伝送方向205成分と伝送および電界方向に対して直角方向204成分を考えた場合、概腹位置に置かれたマイクロ波放射部104における電流403には伝送および電界方向に対して直角方向204成分が多い。電流403の流れる方向と電界401が拡がる方向は同一であるので、放射されるマイクロ波は、伝送および電界方向に対して直角方向204に指向性を持つ。また、概節位置に置かれたマイクロ波放射部104における電流403には伝送方向205成分が多い。このため、放射されるマイクロ波は、伝送方向205に指向性を持つ。次に、導波手段103のH面磁界面502に対してマイクロ波放射部104に傾斜を施すことにより、加熱室101内に放射するマイクロ波の指向性を調整する方法について説明する。図5に示すように導波手段103のH面磁界面502に対してマイクロ波放射部104に傾斜がある場合、導波手段103内の磁界402もマイクロ波放射部104の形状に近い状態となる。マイクロ波放射部104の形状とマイクロ波放射部104直下の磁界402の様子との一致度は、傾斜角度などのマイクロ波放射部104の形状によって異なる。図5に示すような関係にマイクロ波放射部104の形状とマイクロ波放射部104直下の磁界402の様子がある場合、上記の矩形導波管内に生じる定在波301の位相とマイクロ波放射部104の位置の関係により指向性が生じる原理と同様に、マイクロ波が加熱室101内に放射される。よって、平板上のマイクロ波放射部104から放射されるマイクロ波と比較して、図5に示すような加熱室101側に凸とした凸形状のマイクロ波放射部104からは、広角化されたマイクロ波が放射させる。上記の技術を応用することにより、図2に示すような水平面に対して面積の広い被加熱物105を単数のマイクロ波放射部104により加熱する場合、本実施の形態で示したようにマイクロ波放射部104に凸形状等の傾斜を付けることにより、放射されるマイクロ波の指向性を変化させ、加熱室101内の被加熱物105の不均一なマイクロ波分布を改善することが可能となる。ここでは特に放射されるマイクロ波の指向性を広角化させることにより被加熱物105の不均一なマイクロ波分布の改善を図っている。実施の形態2図6は、本実施の形態における加熱室101と導波手段103とマイクロ波放射部104と被加熱物105の位置関係を説明する図である。図7は、本実施の形態のマイクロ波放射部104直下の磁界402の様子により加熱室101内に放射されるマイクロ波の指向性が変化することを説明するための図である。図6に示すように、加熱室101内にマイクロ波を放射する単数のマイクロ波放射部104を有しており、導波手段における伝送方向の中心軸203が導波手段103を設置した加熱室の内壁の中心201を通らない位置関係となっている構成として説明を行なう。なお、本発明において、導波手段における伝送方向の中心軸203が導波手段103を設置した加熱室101の内壁の中心201を通らない位置関係となっている構成をオフセンタと呼ぶ。図7に示すように、加熱室101内にマイクロ波を放射する単数のマイクロ波放射部104を有しており、オフセンタなど影響でマイクロ波加熱の弱領域601が生じている条件について説明を行なう。なお、図面において、実施の形態1と同一動作を示す部分は同一番号を付与している。また、本実施の形態2における基本的な動作は実施の形態1と同様であるとして、以下その動作、作用を説明する。次に、導波手段103と加熱室101の位置関係による、加熱室101内のマイクロ波分布の不均一性について説明する。本実施の形態では、オフセンタについて述べる。近年、マイクロ波加熱機能だけではなく、他の加熱方式水蒸気加熱、輻射加熱、熱風加熱などを有するマイクロ波加熱装置が登場している。このため、他の加熱機能の性能を確保するため、オフセンタとなる場合が多い。このため、導波手段103における伝送方向の中心軸203を対称軸にしてマイクロ波放射部104を配置したとしても加熱室101内に均一なマイクロ波分布を得ることは困難である。具体例としては、主に以下の2点が挙げられる。1点目は、水蒸気加熱機能を有する場合であり、水蒸気加熱機能を実現するために水タンク110、ポンプ111、ヒータ108、加熱室101内へ水蒸気を噴出する噴出口112などを加熱室101内外に設置する必要があることである。2点目は、輻射加熱機能を有する場合であり、上面または底面にヒータ108を設置する必要があることである。また、マイクロ波加熱装置の筐体内に設置されているインバータ、マグネトロン、制御基盤などからの発熱量は多く、十分に冷却をしなければ、正常な動作ができない部品または焼損する部品がある。よって、十分な冷却性能を確保するために冷却風路113の設置位置が優先され、オフセンタとなる場合が多い。以上のことより、マイクロ波放射部104から放射されるマイクロ波に指向性を持たせなければ、被加熱物105を均一にマイクロ波加熱することは困難である。従来は、マイクロ波放射部104が、単一または導波手段における伝送方向の中心軸203が対称軸となるように配置していたため、導波手段103がオフセンタの場合は、加熱室101内のマイクロ波分布が加熱室の内壁の中心201に対して非対称となり、被加熱物105を均一に加熱することができなかった。上記のオフセンタによる直接波反射波の不均一性によって加熱室101内にマイクロ波加熱の弱領域が生じて、被加熱物105の均一加熱が困難な場合に、上述の導波手段103のH面磁界面502に対してマイクロ波放射部104に傾斜を施すことにより、放射するマイクロ波の指向性を調整し、加熱室101内のマイクロ波分布を改善する方法の一例を説明する。図7に示すようにマイクロ波放射部104の形状をマイクロ波加熱の弱領域601の存在する方向に傾斜面が下がるように構成する。実施の形態1で説明した原理と同様に、このような形状にすることでマイクロ波放射部104直下の導波手段内のH面磁界面502が傾斜面の形状と近い様子となり、マイクロ波の放射方向501は傾斜面に対して垂直な方向となるので、マイクロ波加熱の弱領域601へ放射するマイクロ波量を増加させ、加熱室101内のマイクロ波分布の不均一さを改善することができる。つまり、マイクロ波放射部104の中心を通り、導波手段103内のマイクロ波の電界方向503に平行かつ伝送方向205に垂直な面をとった場合に、この面に対してマイクロ波放射部104の形状が面対称でない形状とすることにより、マイクロ波放射部104から放射されるマイクロ波の指向性を調整することが可能となり、マイクロ波加熱の弱領域601の存在による不均一なマイクロ波分布を改善することができる。実施の形態3図8は、本実施の形態における加熱室101と導波手段103とマイクロ波放射部104と被加熱物105の位置関係を説明する図である。図9は、本実施の形態のマイクロ波放射部104直下の磁界402の様子により加熱室101内に放射されるマイクロ波の指向性が変化することを説明するための図である。図8に示すように、加熱室101内にマイクロ波を放射する複数のマイクロ波放射部104および加熱室101内に内壁形状801、ドアガラス107有した構成として説明を行なう。なお、図面において、実施の形態1または実施の形態2と同一動作を示す部分は同一番号を付与している。また、実施の形態3における基本的な動作は実施の形態1および実施の形態2と同様であるとして、以下その動作、作用を説明する。次に、加熱室101内の内壁形状801などによる、加熱室101内のマイクロ波分布の不均一性について説明する。加熱室101内の内壁形状801は、非対称である場合が多く、誘電率の異なる多数の部品が取付けられている。具体例としては、主に以下の3点が挙げられる。1点目は、被加熱物105を取出すためのドア106およびドアガラス107が取付けてあることである。2点目は、被加熱物105を輻射加熱するために上面または底面にヒータ108が取付けてあることである。3点目は、被加熱物105を対流加熱するために背面裏側にヒータ108および対流ファン109を取付けるため、内壁形状801が複雑となっていることである。上記のように、加熱室101の内壁形状801が非対称または誘電率の異なる部品が取付けられていると、加熱室101の内壁で反射して被加熱物105を加熱する反射波による加熱が不均一となる。このように加熱室101内の内壁形状801、ドアガラス107などの影響による反射波の不均一性により、指向性のないマイクロ波放射部104を用いて、導波手段103の伝送および電界方向に対して直角方向204にマイクロ波加熱の弱領域601が生じる場合を考える。また、マイクロ波放射部104の数を増やし、各マイクロ波放射部の指向性を調整することで加熱室101内のマイクロ波分布を調整すれば、広範囲において、より均一な加熱を実現するこが可能となる。さらに、各マイクロ波放射部104から放射されるマイクロ波の指向性を調整すると供に、各マイクロ波放射部104から放射されるマイクロ波の相互干渉を利用して、単一のマイクロ波放射部104では実現できないマイクロ波分布を得ることが可能となる。なお、マイクロ波の相互干渉は、各マイクロ波放射部104から任意の点までの距離の差がマイクロ波の加熱室101内での波長の1/2の偶数倍0を含むの時、マイクロ波は強め合い、奇数倍の時は弱め合う。以上のことより、マイクロ波放射部104から放射されるマイクロ波に指向性を持たせなければ、被加熱物105を均一にマイクロ波加熱することは困難である。さらに、マイクロ波放射部104を複数設置し、マイクロ波放射部104に傾斜面を施すことによりマイクロ波分布の変化は大きくなる。上記の加熱室101内の内壁形状801などによる直接波反射波の不均一性によって加熱室101内にマイクロ波加熱の弱領域が生じて、被加熱物105の均一加熱が困難な場合に、上述の導波手段103のH面磁界面502に対してマイクロ波放射部104に傾斜を施すことにより、放射するマイクロ波の指向性を調整し、加熱室101内のマイクロ波分布を改善する方法の一例を説明する。図9に示すようにマイクロ波放射部104の形状をマイクロ波加熱の弱領域601の存在する方向に傾斜面が下がるように構成する。実施の形態1で説明した原理と同様に、このような形状にすることでマイクロ波放射部104直下の導波手段内のH面磁界面502が傾斜面の形状と近い様子となり、マイクロ波の放射方向501は傾斜面に対して垂直な方向となるので、マイクロ波加熱の弱領域601へ放射するマイクロ波量を増加させ、加熱室101内のマイクロ波分布の不均一さを改善することができる。つまり、マイクロ波放射部104の中心を通り、導波手段103内のマイクロ波の電界方向503および伝送方向205に平行な面をとった場合に、この面に対してマイクロ波放射部104の形状が面対称でない形状とすることにより、マイクロ波放射部104から放射されるマイクロ波の指向性を調整することが可能となり、マイクロ波加熱の弱領域601の存在による不均一なマイクロ波分布を改善することができる。実施の形態4図10は、本発明の実施の形態4におけるスリットにより構成される円偏波を放射するマイクロ波放射部104の形状の例を示した図である。図11は、効率よくマイクロ波を放射するための最良な形状を示した図である。本実施の形態において、実施の形態1~実施の形態3と同一動作を示す部分は同一番号を付与している。また、実施の形態4における基本的な動作および電磁界解析の条件は実施の形態1~実施の形態3と同様であるとして、以下その動作、作用を説明する。まず、円偏波の特徴および円偏波を用いたマイクロ波加熱の利点について説明する。円偏波とは、移動通信および衛星通信の分野で広く用いられている技術である。身近な使用例としては、ETCElectronicTollCollectionSystemノンストップ自動料金収受システムなどが挙げられる。円偏波は、電界401の偏波面が電波の進行方向に対して時間に応じて回転するマイクロ波であり、円偏波を形成すると電界401の方向が時間に応じて変化し続けるので、加熱室101内に放射されるマイクロ波の放射角度も変化し続け、時間的に電界強度の大きさが変化しないという特徴を有している。前記の特徴により、従来のマイクロ波加熱装置に用いられている直線偏波によるマイクロ波加熱と比較して、広範囲にわたってマイクロ波が分散放射されて、被加熱物105を均一に加熱することができるようになる。特に、円偏波の周方向に対して均一加熱の傾向が強い。なお、円偏波は回転方向から右旋偏波CW:clockwiseと左旋偏波CCW:counterclockwiseの2種類に分類されるが、加熱性能に違いはない。よって、従来の直線偏波を用いたマイクロ波加熱装置によるマイクロ波加熱で問題とされていた、直接波と反射波の干渉によって生じる加熱室101内に定在波301を緩和することが可能となり、より均一なマイクロ波加熱を実現することができる。円偏波に対して、導波手段103内のマイクロ波は電界401および磁界402の振動方向が一定方向である直線偏波である。上記の直線偏波を加熱室101内に放射する従来のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波分布の不均一さを低減するために、被加熱物105を載置するテーブルを回転させる構造、導波手段103から加熱室101へマイクロ波を放射するアンテナを回転させる構造、または導波手段103内に位相器を設置しなければならなかった。しかし、テーブル、アンテナを回転させる機構および位相器を設置しても、加熱室101内において十分均一なマイクロ波加熱を実現するには不十分である。さらに、回転機構および位相器を設置することにより、マイクロ波加熱装置の構造の複雑化、構造の制限または信頼性の低下が問題となる。次に、円偏波を放射するマイクロ波放射部104の形状について説明する。特にここでは、スリットにより構成されるマイクロ波放射部104について述べる。マイクロ波放射部104の形状の例を、図10にマイクロ波放射部104a~104fとして示した。図10のように、マイクロ波放射部104がスリットにより構成されており、図11に示すように少なくとも1本のスリットの長辺1101をマイクロ波の伝送方向205に対して傾いた形状となっていれば良い。よって、図10のマイクロ波放射部104eおよびマイクロ波放射部104fのように交差していない形状や、図10のマイクロ波放射部104dのように3本のスリットにより構成されている形状でも良い。図10および図11に示すように、円偏波を放射するマイクロ波放射部104をスリットにより構成することで、回転体などの複雑な機構を用いることなしに、単純な構造で構成できるため、信頼性の向上および給電部の小型化が可能となる。なお、図11に示すように2本のスリットにより構成されている円偏波を放射するマイクロ波放射部104の最良な形状の条件としては以下の3点が挙げられる。1点目は、各スリットの長辺1101の長さは導波手段103内を伝送されているマイクロ波の管内波長の1/4以上であることである。2点目は、2本のスリットはお互いに直交していることおよび伝送方向205に対して各スリットの長辺1101が45°傾いていることである。3点目は、導波手段103の伝送方向205に平行かつマイクロ波放射部104の中心を通る直線を軸として、電界401の分布が軸対照とならないことである。例えば、特許文献2で示されているように、TE10モードでマイクロ波を伝送している場合においては、導波手段における伝送方向の中心軸203を対称軸として電界401が分布しているので、マイクロ波放射部104の形状が、導波手段における伝送方向の中心軸203に対して軸対照とならないように配置することが条件となる。次に、効率よくマイクロ波を加熱室101内に放射することができるスリットにより構成されている円偏波を放射するマイクロ波放射部104の形状について説明する。マイクロ波は、角や先端の尖った部分に集中する性質を有している。このため、例えば、2本のスリットを互いに交差させ、各スリットの長辺1101を導波手段103における伝送方向205に対して傾けた形状の交差部分周辺1104が尖った形状であると、マイクロ波による電界集中が生じ、加熱効率が低下する。また、スリット末端1105の角に同様の理由でマイクロ波による電界集中が生じ、加熱効率が低下する。よって、マイクロ波放射部104の角や先端の尖った部分にR面取り加工1102またはC面取り加工1103を施すことで、効率よくマイクロ波を加熱室101内に放射することができる。