"AビスフェノールA型エポキシ樹脂とアクリル酸との反応生成物と、B式1式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、aは0~4の整数を表す。で表される化合物と、C式2及び式3式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、R3は水素原子又は炭素数1~8の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、mnは1~23の整数を表す。からなる群から選択される少なくとも1種類と、D光重合開始剤とを含むことを特徴とする光学材料用樹脂組成物。さらに、前記A~C成分以外のEメタアクリレート化合物を含む請求項1に記載の光学材料用樹脂組成物。さらに、Fリチウム塩系導電剤及びイオン性液体からなる群から選択される少なくとも1種以上の導電剤を含む請求項1又は2に記載の光学材料用樹脂組成物。屈折率が25°Cで1.55以上である請求項1~3のいずれか1つに記載の光学材料用樹脂組成物。請求項1~4のいずれか1つに記載の光学材料用樹脂組成物により得られる成形体。本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、光学用途に用いられる光学シート等に必要とされる種々の特性のバランスが図られた光学材料用樹脂組成物及び成形体を提供することを目的とする。本発明の光学材料用樹脂組成物は、AビスフェノールA型エポキシ樹脂とアクリル酸との反応生成物と、B式1式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、aは0~4の整数を表す。で表される化合物と、C式2及び式3式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、R3は水素原子又は炭素数1~8の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、mnは1~23の整数を表すからなる群から選択される少なくとも1種類と、D光重合開始剤とを含むことを特徴とする。このような光学材料用樹脂組成物では、さらに、前記A~C成分以外のEメタアクリレート化合物を含むことが好ましい。さらに、Fリチウム塩系導電剤及びイオン性液体からなる群から選択される少なくとも1種以上の導電剤を含むことが好ましい。屈折率が25°Cで1.55以上であることが好ましい。本発明の成形体は、上述した光学材料用樹脂組成物によって得られることを特徴とする。本発明の光学材料用樹脂組成物によれば、光学用途に用いられる光学シート等に必要とされる種々の特性のバランスを図ることができ、光学部材として高性能な成形体を提供することができる。本発明の光学材料用樹脂組成物は、主として、上述したA~D成分を含んで構成される。なお、本明細書においては、メタアクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの双方を意味する。A成分A成分は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とメタアクリル酸との反応生成物である。このような反応生成物としては、例えば、以下の式2の化合物が挙げられる。式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、nは、特に限定されないが、1~10程度が挙げられる。ビスフェノールA型エポキシ樹脂とメタアクリル酸との反応は、当該分野で公知の方法のいずれを利用して行ってもよい。この化合物は、ベース樹脂として用いられ、比較的粘度が高く、屈折率が高い。特に、分子量が大きくなるとその粘度が高くなる傾向がある。また、分子量が大きくなると、分子量あたりのアクリロイル基の含有量が小さくなるために、硬度が低くなる傾向がある。よって、この化合物の数平均分子量ゲルパーミエーションクロマトグラフによるポリスチレン換算値は、例えば、400~5000程度が挙げられ、1000~3000程度が好ましい。本発明の光学材料用樹脂組成物においては、A成分の含有量は、得ようとする特性のバランスによって適宜調整することができるが、A~C成分の総重量に対して5~70重量程度が好ましく、10~40重量程度がより好ましい。B成分B成分である式1で表される化合物としては、具体的には、等が挙げられる。なかでも、o位置換体であるフェニルフェノキシエチルメタアクリレート化合物が好ましく、特に、式B-1の化合物がより好ましい。これらの化合物は、ベース樹脂の希釈剤として用いられ、粘度が低く、屈折率が比較的高い。また、これらの化合物を用いることにより、ベース樹脂に対して、意外にも、これら樹脂組成物の成形体自体に外力が付加されて形状が変化したとしても、自己形状を復元し得る復元性に優れることが新たに見出された。本発明の光学材料用樹脂組成物においては、B成分の含有量は、得ようとする特性のバランスによって適宜調整することができるが、A~C成分の総重量に対して10~90重量程度が好ましく、30~75重量程度がより好ましい。C成分C成分としては、ポリエチレングリコールモノアクリレート化合物、モノアルコキシポリエチレングリコールモノメタアクリレート化合物、ポリエチレングリコールジメタアクリレート化合物、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、モノアルコキシポリプロピレングリコールモノメタアクリレート化合物及びポリプロピレングリコールジメタアクリレート化合物からなる群から選択される少なくとも1種以上が挙げられる。つまり、以下の式2及び式3のいずれかの化合物が挙げられる。式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、R3は水素原子又は炭素数1~8の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、mnは1~23の整数を表す。アルキル基としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、sec-ブチル、n-ペンチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、2-エチルプロピル、n-ヘキシル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、2-エチルブチル、3-エチルブチル等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの化合物では、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイドの付加モル数が大きくなると、柔軟性及び/又は復元性が向上する傾向がある。従って、上述したmnは、4~23程度がより好ましい。本発明の光学材料用樹脂組成物においては、C成分の含有量は、得ようとする特性のバランスによって適宜調整することができるが、A~C成分の総重量に対して5~60重量程度が好ましく、10~50重量程度がより好ましい。D成分光重合開始剤Dは、紫外線等の活性エネルギー線でラジカルを発生する重合性の開始剤である。このような光重合開始剤Dとしては、特に限定されることなく、当該分野で公知のいずれをも使用することができる。例えば、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、2,4,6-トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。D成分の含有量は、A~C成分100重量部に対して0.1~10重量部程度が好ましく、1~6重量部程度がより好まししい。E成分本発明の光学材料用樹脂組成物には、さらに、A~C成分以外のEメタアクリレート化合物を含んでいてもよい。このような化合物Eとしては、単官能又は2以上の多官能メタアクリレートが挙げられる。単官能メタアクリレートとしては、例えば、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、n-ペンチルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、n-オクチルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、モルホリンメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノメタアクリレート、トリエチレングリコールモノメタアクリレート、ジプロピレングリコールモノメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、2-ブトキシエチルメタアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、2-2-エトキシエトキシエチルメタアクリレート、エトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、4-ノニルフェノキシエチレングリコールメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、シクロヘキシルメチルメタアクリレート、シクロヘキシルエチルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンタニロキシエチルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンテニロキシエチルメタアクリレート、o-フェニルフェノキシエチルメタアクリレート、エトキシ化O-フェニルフェノールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルオキシアクリレート等が挙げられる。二官能メタアクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ブチレングリコールジメタアクリレート、テトラブチレングリコールジメタアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物のジメタアクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物のジメタアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジメタアクリレート、ジシクロペンタニルジメタアクリレート、グリセロールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エステルジメタアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、テトラブロモビスフェノールAジメタアクリレート、ヒドロピバルアルデヒド変性トリメチロールプロパンジメタアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールジメタアクリレート9,9-ビス4-アクリロキシエトキシフェニル-フルオレン等の特開2010-248358号公報に記載されているフルオレン骨格を有するジメタアクリレート等が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。E成分の含有量は、A~C及びE成分の総重量に対して、5~40重量程度が好ましく、10~25重量程度がより好ましい。F成分本発明の光学材料用樹脂組成物には、さらに、Fリチウム塩系導電剤及びイオン性液体からなる群から選択される少なくとも1種以上の導電剤を含んでいてもよい。リチウム塩系の化合物であって、イオン性液体の特性を有するものも本発明における導電剤に包含される。また、これらの化合物の電気伝導度は、例えば、10-5s/cm程度以上のものが適している。リチウム塩系の化合物としては、例えば、LiNCF3SO22、LiNSO2C2F52、LiCF3SO23C、LiCF3SO3、LiPF6、LiBF4、LiClO4、LiAsF6、LiAlCl4、LiSbF6、LiSCN、LiCF3CO2、LiCF3SO22、LiB10Cl10、低級脂肪族カルボン酸リチウム、LiCl、LiBr、LiI、四フェニルホウ酸リチウム等が挙げられる。イオン性液体としては、常温で液体として存在し、陽イオン及び陰イオンの対で存在する塩を意味し、特に限定されず、いずれのイオン性液体でも用いることができる。例えば、陽イオンとして、イミダゾリウム類、ピリジニウム類、ピラゾリウム類、4級アンモニウム類等が挙げられる。陰イオンとして、パーフルオロアルキルスルホン酸、ビスパーフルオロアルキルスルホンイミド、トリスパーフルオロアルキルスルホンメチド、PF6-、BF4-等が挙げられる。このような化合物としては、例えば、1,3-エチルメチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、エチルメチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド、1-ヘキサデシル-3-メチルイミダゾリウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド;1,3-エチルメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1,3-エチルメチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、1-デシル-3-メチルイミダゾリウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド、1-ドデシル-3-メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート;1-エチルピリジニウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、1-ブチルピリジニウムビストリフルオロエタンスルホンイミド、N,N-ジエチル-N-メチル-N-2-メトキシエチルアンモニウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド、NNNN-テトラヘキシルアンモニウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド;1-エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、N,N-ジエチル-N-メチル-N-2-メトキシエチルアンモニウムテトラフルオロボレート、;1-エチルピリジニウムヘキサフルオロフォスフェート、N,N-ジエチル-N-メチル-N-2-メトキシエチルアンモニウムヘキサフルオロフォスフェート;1-メチルピラゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、1-メチルピラゾリウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド、3-メチルピラゾリウムヘキサフルオロフォスフェート等が挙げられる。これら以外にも、例えば、特開2006-70120号、特開2007-70420号公報に記載されている当該分野で公知のイオン性液体を用いてもよい。なかでも、表面抵抗値を下げる効果が大きいため、陽イオンがリチウムイオンであるもの、さらに、陽イオンがリチウムイオンであり、かつ、ビスパーフルオロアルキルスルホンイミドアルキルの炭素数は、例えば、1~6程度が好ましく、例えば、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド及びリチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド等がより好ましい。これらは、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。F成分の含有量は、A~C及び成分の総重量に対して0.1~8重量程度が好ましく、0.5~5重量程度がより好ましい。本発明の光学材料用樹脂組成物は、重合開始剤、希釈剤、金属酸化物微粒子、レベリング剤及び潤滑性付与剤、その他の添加剤等がさらに含有されていてもよい。重合開始剤は、特に限定されないが、活性エネルギー線によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。例えば、ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、1-フェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、ベンゾフェノン、2-メチル[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノ-1-プロパノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、4-2-アクリロイルオキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、4-2-メタクリロイルオキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1、2-ヒドロキシ-1-4-4-2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオニル-ベンジル-フェニル-2-メチルプロパン-1-オン、オリゴ2-ヒドロキシ-2-メチル-1-4-1-メチルビニルフェニルプロパノン、1-4-4-ベンゾイルフェニルスルフォニルフェニル-2-メチル-2-4-メチルフェニルスルフォニルプロパン-1-オンが挙げられる。希釈剤としては、アルキレングリコールのモノアルキルエーテル類、アルキルアルコール類、アルキレングリコールモノアルキルアルコールのアルキルカルボン酸エステル類、ケトン類、アルキルアルコールのアルキルカルボン酸エステル類等が挙げられる。これらは、例えば、特開2004-43790号に記載のものが例示される。金属酸化物微粒子としては、特に限定されるものではなく、粒子径が5nm~50nmのものを使用することが適しており、なかでも、10nm~20nmが好ましい。これにより、樹脂組成物の屈折率を調整することが可能となる。金属酸化物微粒子としては、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、五酸化アンチモン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、酸化第二鉄、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化マンガン、酸化ホロミウム、酸化銅、酸化ビスマス、酸化コバルト、四三酸化コバルト、四三酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ランタン、酸化プラセオジム、酸化ネオジム、酸化サマリウム、酸化ユウロビウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビウム、酸化ジスプロシウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム、酸化スカンジウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化イリジウム、酸化ロジウム、酸化ルテニウム及びこれらを結合させた複合酸化物が挙げられる。レベリング剤及び潤滑性付与剤としては、例えば、ポリオキシアルキレンとポリジメチルシロキサンとの共重合体、ポリオキシアルキレンとフルオロカーボンとの共重合体等が挙げられる。さらに、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルセバケート、テトラ1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸エステル等の1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル残基を有するヒンダードアミン系光安定剤、テトラキスメチレン-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネートメタン、n-オクチル-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、4,4’-チオビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール等のヒンダードフェノール系、あるいはジトリデシル-3,3’-チオジプロピオネート、ジラウリル-3,3’-チオジプロピオネート、ビス2-メチル-4-{3-n-アルキルC12またはC14チオプロピオニルオキシ}-5-t-ブチルフェニルスルフィド等の硫黄系等の3,5-ジーt-ブチル-4-ヒドロキシフェニル残基あるいは3-メチル-6-t-ブチルフェニル残基を有する酸化防止剤、亜リン酸エステル系の脱色剤、シリコーンオイル等の消泡剤、シランカップリング剤、難燃剤、充填剤、艶消し剤、光増感剤、紫外線吸収剤等の当該分野で公知の添加剤を配合してもよい。本発明の光学材料用樹脂組成物は、必要に応じて溶媒を含有してもよい。溶媒としては、アルコール類、グリコール類、脂肪族環状ケトン類、酢酸エステル類等が用いられる。アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-メトキシ-2-プロパノールが挙げられる。グリコール類としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルが挙げられる。脂肪族環状ケトン類としては、例えば、シクロヘキサノン、オルト、メタ、パラ-メチルシクロヘキサノン等が挙げられる。酢酸エステル類としては、例えば、酢酸エチル酢酸n-プロピル、酢酸n-ブチルが挙げられる。ソルベントナフサ、メチルエチルケトン等を用いてもよい。本発明の光学材料用樹脂組成物は、屈折率が25°Cで1.55以上であることが適しており、1.57以上であることが好ましい。屈折率は、例えば、アッベ屈折率計にて測定することができる。このような屈折率にすることにより、正面輝度等をより向上させることができる。なお、このような屈折率の調整は、例えば、原料成分の配合比により、任意に調整することができる。本発明の光学材料用樹脂組成物は、紫外線、放射線、赤外線、X線、電子線の活性エネルギー線、特に紫外線を照射することにより硬化させることができ、成形体を得ることができる。ここで、成形体としては、かならずしも特定の形状に成形加工したもののみならず、種々の形態を有するものが包含される。例えば、レンズと基材との間に光学材料用樹脂組成物を流し込み、活性エネルギー線を照射して硬化させ、特定の形状に成形したものも包含される。活性エネルギー線の光源としては、例えば、キセノンランプ、カーボンアーク、殺菌灯、紫外線用蛍光灯、複写用高圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、無電極ランプ、メタルハライドランプ、走査型又はカーテン型電子線加速路による電子線等を挙げることができる。このような光源を用いて硬化させる場合、活性エネルギー線照射量は300~3000mJ/cm2程度が適している。なお、樹脂組成物を十分に硬化させるために、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気中で紫外線等の活性エネルギー線を照射することが望ましい。本発明の成形体としては、プラスチックレンズ等のような成形物が挙げられる。成形物の作製法としては、ポリ塩化ビニル、エチレン酢酸ビニル共重合体等からなるガスケットと所望の形状の2つの鋳型の間に、樹脂組成物を注入した後、紫外線等の活性エネルギー線を照射して本発明の樹脂組成物を硬化させ、成形体を型より剥離する方法等が挙げられる。また、本発明の成形体は、フィルム状に成形してもよい。フィルムの形成は、当該分野で公知の方法、例えば、押し出し成形等、あるいは、適当な基材上に、上述した方法を用いて塗布膜を形成し、硬化させた後に基材を剥離する方法等が例示される。なお、後述するように、プリズムシート等の光学シートとする場合には、例えば、硬化後の厚みが0.01μm~10mm程度とすることが適しており、0.01~1000μm程度とすることが好ましく、0.01~100μm程度とすることがより好ましい。さらに、本発明の成形体は、基材に対する積層層として形成してもよい。具体的には、基材に、刷毛塗り、バーコーター、アプリケーター、ロールコーターあるいはローラーブラシ等により直接塗布する方法、エアースプレーまたはエアーレススプレー塗装機等によるスプレー塗布法、シャワーコーターまたはカーテンフローコーター等により流し塗りする方法フローコート、浸漬法、キャスティング法、スピンコート法を用いる方法などによって、積層することができる。基材としては、ポリウレタン樹脂、ポリエピスルフィド樹脂、ポリメチルメタクリレートPMMAのようなメタアクリル系重合体、アリル系重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ポリカーボネート、MS樹脂、環状ポリオレフィン等各種合成樹脂からなる基材が挙げられる。基材は、平板状、曲板状、フィルム状等のいずれの形状であってもよい。このように、本発明の光学材料用樹脂組成物は、任意な形状に硬化させることにより、例えば、プリズムレンズシート、非球面レンズ、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、眼鏡レンズ、液晶ディスプレイ用パネル及びカラーフィルター用保護膜、光ディスク用コーティング剤及び接着剤、光ファイバー用コア材及びクラッド材、光ファイバー接続用接着剤、光導波路用コア材及びクラッド材等の種々の物品に応用することが可能である。以下に、本発明の光学材料用樹脂組成物及び成形体の実施例により、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。合成例1:A成分1のエポキシアクリレート4つ口フラスコにエポキシ樹脂jER1001:三菱化学株製300g、メチルエチルケトン87.6g、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド2.4g、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.3g、及びアクリル酸47.9gを仕込み、攪拌機、温度計、コンデンサを装着した。その後、90~100°Cで15時間反応を行い、固形分濃度82.4、酸価3.5mgKOH/gのエポキシアクリレートのメチルエチルケトン溶液を得た。得られたエポキシアクリレートの数平均分子量は1450であった。合成例2:A成分2のエポキシアクリレート4つ口フラスコにエポキシ樹脂jER1004:三菱化学株製320g、メチルエチルケトン86.4g、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド2.4g、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.3g、及びアクリル酸25.6gを仕込み、攪拌機、温度計、コンデンサを装着した。その後、90~100°Cで15時間反応を行い、固形分濃度81.0、酸価3.6mgKOH/gのエポキシアクリレートのメチルエチルケトン溶液を得た。得られたエポキシアクリレートの数平均分子量は2770であった。合成例3:o-フェニルフェノキシエチルアクリレート成分B4つ口フラスコに3-フェノキシベンジルアルコール360g、アクリル酸160g、硫酸5g、トルエン300g、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.4g及びハイドロキノン0.02gを仕込み、攪拌機、温度計、コンデンサ、分水器を装着した。その後、100~120°Cで還流しながら理論脱水量を得るまで約5~6時間脱水エステル化反応を行った。続いて、反応液をアルカリ中和し、10食塩水で洗浄を行った。洗浄後、減圧濃縮によりトルエンを除去し、化合物を得た。この化合物をFT-IRで分析した結果、1727cm-1にエステル結合起因のカルボニルと692cm-2にアクリロイル基起因の二重結合の振動を確認した。また、1HNMRCDCl3を測定したところ、6.92-7.36ppm=9H、6.40-6.47ppm=1H、6.10-6.20ppm=1H、5.81-5.85ppm=1H、5.16ppm=2Hのピークが得られた。これにより、得られた化合物が標記化合物であることを確認した。この化合物の屈折率は25°Cで1.566であった。実施例及び比較例表1及び表2に示した成分を公知の方法によって混合して光学材料用樹脂組成物を得た。なお、表における成分の単位は重量部で表した。各樹脂組成物について、以下の評価を行った。ショアA硬度及び復元性については、光学材料用樹脂組成物を、硬化後の厚みが2mmになるように、内径28mmのポリプロピレン製容器に充填し、2000mJ/cm2の紫外線を照射させ、得られた成形体を用いて試験した。また、密着性及び表面抵抗率については、100μm易接着PETフィルム東洋紡績株製A-4300に、光学材料用樹脂組成物を膜厚20μmで塗工し、600mJ/cm2の紫外線を照射させて硬化させたものを用いて測定した。屈折率:光学材料用樹脂組成物の硬化前後において、アッベ屈折率計3T:株アタゴ製にて測定した。粘度:光学材料用樹脂組成物の硬化前において、ビスメトロン粘度計VDA2:芝浦システム株製にて測定した。ショアA硬度:デュロメータGS-706:株テクロック製にて測定した。復元性:ショアA硬度の測定時に生じるへこみが元に戻るまでの時間を測定し、その時間が、5分未満のものを○、5分以上10分未満のものを△、10分以上のものを×とした。密着性:硬化させた樹脂組成物について、JISK5400に準じた碁盤目セロハンテープ剥離試験を行い、碁盤目の剥離状態を観察し、0/100~100/100で評価した。表面抵抗率Ω/□:平板試料用電極SME-8311:東亜ディーケーケー株製を備えたデジタル絶縁計DSM-8103:東亜ディーケーケー株製にて測定した。なお、表1及び表2の成分は、以下のとおりである。A成分1:合成例1で得たエポキシアクリレートA成分2:合成例2で得たエポキシアクリレートB成分1:合成例3で得たo-フェニルフェノキシエチルアクリレートb成分1:商品名NKエステルA-LEN-10新中村化学工業株式会社製、エトキシ化O-フェニルフェノールアクリレートb成分2:商品名ライトアクリレートPO-A共栄社化学株式会社製、フェノキシエチルアクリレートb成分3:商品名ライトアクリレートBZ-A共栄社化学株式会社製、ベンジルオキシアクリレートC成分1:商品名ライトアクリレート130Anは約9共栄社化学株式会社製C成分2:商品名ライトアクリレート9EG-Anは約9共栄社化学株式会社製C成分3:商品名ライトアクリレート14EG-Anは約14共栄社化学株式会社製C成分4:商品名ブレンマーAP-400日油株式会社製C成分5:商品名NKエステルA-PTMG-65新中村工業株式会社製D成分:イルガキュア184ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン;チバスペシャルティ株式会社製E成分:9,9-ビス4-アクリロキシエトキシフェニル-フルオレンF成分:商品名IL-C3イオン性液体、広栄化学工業株式会社製表1及び表2から、実施例1~9は、比較例に対して、屈折率、粘度、ショアA硬度で評価される硬度及び復元性、密着性等におけるバランスを図ることができ、これらの特性の全てにおいて、意図する満足のいく結果を得ることができたことが確認された。"