"式X[Y,Y’]2L2n式中、Xは、コバルト、ニッケル、銅のいずれかの二価イオンであり、YはCF3BF3イオン、Y’はCF3SO3イオンであり、Lは、44’―ビピリジンである。で表わされる単位構造を有した二次元平面格子積層型の基本構造を有する高分子金属錯体。請求項1に記載された高分子金属錯体を含むことを特徴とするガス吸着材。請求項2に記載のガス吸着材を用いてなる圧力スイング吸着方式ガス分離装置。しかしながら、非特許文献7ないし特許文献2に開示された金属錯体を用いたガス吸着材のガス吸着量も十分ではないという問題がある。具体的には、特許文献2によりCF3SO3イオンを含む錯体有するガス吸着材も、ガス吸着圧力が0.2相対圧でないとガスを吸着しない。本発明は、ガス吸着圧力が0.1相対圧以下であってもガス吸着を実行しうるガス吸着材を提供することにある。本発明者らは、上記の問題点を解決すべく、鋭意研究を積み重ねた結果、二次元平面格子積層の基本骨格を有し、金属イオンがコバルト、ニッケル、銅のいずれかの二価イオンであり、有機配位子がビピリジンであり、二種類以上の対イオンがCF3BF3イオンとCF3SO3イオンの組み合わせである場合には、ガス吸着圧力が0.1相対圧以下であってもガスを吸着する現象を発見した。本発明の要旨は以下のようになる。1式[XY,Y’2L2]n式中、Xは、コバルト、ニッケル、銅のいずれかの二価イオンであり、YはCF3BF3イオン、Y’はCF3SO3イオンであり、Lは、44’―ビピリジンである。で表わされる単位構造を有した二次元平面格子積層型の基本構造を有する高分子金属錯体。21に記載された高分子金属錯体を含むことを特徴とするガス吸着材。32に記載のガス吸着材を用いてなる圧力スイング吸着方式ガス分離装置。本発明の金属錯体を用いたガス吸着材を用いると、0.1相対圧以下の圧力であってもガスを吸着すると言う顕著な効果を奏する。本発明の高分子金属錯体は、ガスの吸脱着に関する特殊な性質を活用して各種用途に適用することができる。例えば、圧力スイング吸着方式以下PSA方式と略記のガス分離装置における吸着材に適用した場合にあっては、本発明のガス吸着材の特性を活かして、非常に効率良いガス分離が可能であるという顕著な効果を奏する。本発明の金属錯体を用いたガス吸着材をもちいると、圧力変化に要する時間を短縮でき、省エネルギーにも寄与するという顕著な効果を奏する。さらに、金属錯体を用いたガス吸着材をもちいるとガス分離装置の小型化にも寄与しうるため、高純度ガスを製品として販売する際のコスト競争力を高めることができることは勿論、自社工場内部で高純度ガスを用いる場合であっても、高純度ガスを必要とする設備に要するコストを削減できるため、結局最終製品の製造コストを削減するという顕著な効果を奏する。第1の発明第1の発明は、式[XY,Y’2L2]nで表わされる単位構造を有した二次元平面格子積層型の基本構造を有する高分子金属錯体であって、式中、Xはコバルト、ニッケル、銅のいずれかの二価イオンであり、Y及びY’は、YがCF3BF3イオン、Y’がCF3SO3イオンの対イオンから構成され、Lは有機配位子であって44’―ビピリジンである、高分子金属錯体である。CF3BF3イオン及びCF3SO3イオンのモル比は、好ましくは35:65~65:35、より好ましくは41:59~59:41、さらに好ましくは43:57~57:43、特に47:53~53:47である。基本的には1:1が好ましい。この高分子金属錯体は、金属イオンを交点とし、細長い形状の両末端に配位点を有する配位子が金属に配位することで、いわゆる2Dスクエアグリッド状の単層を形成しておりZawarotoko,M.J.,CrystalEngineering,21999,37、さらにこの単層が、層間のファンデルワールス力、π-π相互作用、金属イオンに配位した対イオン同士の相互作用等を仲立ちにして積層することで、3次元的な広がりを有する高分子金属錯体を形成している。本発明の高分子金属錯体は多孔体であるため、水やアルコールやエーテルなどの有機分子にふれると孔内に水や有機溶媒を含有し、あるいは場合によっては金属イオンと配位子の間に水や有機溶媒の挿入を受け、たとえば[XY2L2Zm]nただし、式中は対イオン、Lは有機配位子を示す。Zは水、アルコール、エーテルなどの有機分子を示し、mは05以上であるような複合錯体に変化する場合がある。しかしこれらの複合錯体中の水やアルコール、エーテルなどの有機分子は、高分子金属錯体に弱く結合しているだけであり、ガス吸着材として利用する際の減圧乾燥などの前処理によって除かれ、元の[XY,Y’2L2]nで表される錯体に戻る。そのため、[XY,Y’2L2Zm]nで表されるような錯体であっても、本質的には本発明の高分子金属錯体と同一物と見なすことができる。本発明の高分子金属錯体の対イオンは、二次元積層構造の層と層の間に存在し、層間をつなぎ止める働きをしていると考えられるが、対イオンが単一の場合に比べ、2種類の対イオンが混合して存在するので、イオンの大きさが異なることから、結晶格子に歪みが生じる等して、層間相互作用が低下していると考えられる。図1に、従来の高分子金属錯体の構造を模式的に示す。金属イオン1、1’が配位した二価の金属イオン2に44’―ビピリジンからなる二価の有機配位子3が配位して層状の平面構造を形成している。金属イオン1、1’は平面構造に対してある角度で配向している。図2を参照して高分子金属錯体の積層の様態について述べる。図2のは斜め上から見た図、は真上から見た図、は真横から見た図である。実際は無限に連鎖する格子が積層した物質であるが、4格子分のみ抜き書きし、さらに一層分のみ抜き書きしている。球で示された金属イオン1つに対し、棒で示された配位子4個が連結されている。さらに金属イオンには円錐で示された対イオンが2個連結されている。図3に、図2に示した高分子金属錯体の積層の二層分の態様を示す。図3のは斜め上から見た図、は真上から見た図、は真横から見た図である。このように、図3は二層ではあるが、平面構造が積層した構造を示している。図4に、本発明の高分子金属錯体の構造を模式的に示す。本発明の高分子金属錯体の場合には、1つの高分子金属錯体に二種類の金属イオン1、1’を含むので、二価の金属イオン2に44’―ビピリジンからなる二価の有機配位子3が配位して層状の平面構造において、その二価の金属イオン2に二種類の金属イオン1、1’が配位している。そのため、金属イオン1、1’が二種類混在して、層同士の重なりが粗となり、層同士の相互作用が弱く、結果として低圧でガスが吸着されやすいと推定される。これに対して、図1に示した従来材料の構造では、金属イオンに連結される対イオンが同一であり、層の重なりが緻密であり、層同士の相互作用が強いと考えられる。ガス吸着効果上記のように、本発明の高分子金属錯体の対イオンは、2種類であってイオンの大きさが異なることから、結晶格子に歪みが生じる等して、層間相互作用が低下しているために、ガスの吸収圧力が低下すると考えられる。図5を参照すると、ガス吸着圧力と吸着量は、吸着等温線と呼ばれるグラフにて表示される。横軸はガス圧力相対値、縦軸は吸着材mg当たりのガス吸着量である。図5の例では、矢印の点から高圧部でガス吸着量が増加しているガスが吸着されている。ここで、ガス圧力の相対値とは、その温度におけるガスの飽和蒸気圧に対する実圧力の比であり、P0で表される。たとえば、あるガスの0度における飽和蒸気圧が1気圧の時、容器内のそのガスの圧力が0度で07気圧であれば、相対圧P0=0.7と表記される。図6に、本発明の実施例1で製造したガス吸着材に於ける窒素ガス吸脱着曲線77Kにて測定を示す。横軸は相対圧力、縦軸はガス吸着量吸着材当たりのガス吸着量従来のガス吸着材比較例3で製造したガス吸着材に於ける窒素ガス吸脱着曲線77Kにて測定を示すが、横軸は相対圧力、縦軸はガス吸着量吸着材当たりのガス吸着量bpy2]n式中、bpyは4、4’ビピリジンを表す。が例示できる。本発明のガス吸着材以下吸着材Aは単独で吸着材として使用してもよいし、他の吸着材と複合化して使用してもよい。複合化して使用する場合には、他の吸着材として吸着等温線と脱着等温線とが一致する挙動を示す吸着材Bと併用することで非常に優れた吸着特性を有するガス吸着材とすることができる。ここで吸着材Bとは、既知の活性炭やゼオライト等のガスの吸着性を有する多孔性材料であって、物理的吸着材、化学的吸着材、およびこれらが組み合わされてなる物理化学的吸着材を特に限定されず用いることができる。物理的吸着材とは、分子と分子との相互作用のような弱い力を用いて、被吸着分子を吸着する吸着材をいう。物理的吸着材としては、活性炭、シリカゲル、活性アルミナ、ゼオライト、クレー、超吸着性繊維、金属錯体が挙げられる。化学的吸着材とは、化学的な強固な結合によって、被吸着分子を吸着する吸着材をいう。化学的吸着材としては、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、過マンガン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、燐酸ナトリウム、活性化された金属が挙げられる。物理化学的吸着材とは、物理的吸着材および化学的吸着材の双方の吸着機構を備える吸着材をいう。これらの2種以上を組み合わせて用いてもよい。ただし、本発明の技術的範囲がこれらの具体例に限定されるものではない。吸着材Bの形状は特に限定されないが、一般的には、平均粒径500~5000μmの粉末状のものを用いる。吸着材Bとしては、製造コストやガス吸着性能を考慮すると活性炭が好ましい。活性炭は比較的安価である上、質量当たりのガス吸着量が多い。また、活性炭はガスの吸脱着に関するサイクル特性が悪く、吸脱着を繰り返すとガス吸着量が著しく減少する傾向がある。このため、従来においては、質量当たりのガス吸着量が多いにも拘わらず、ガス貯蔵装置やガス分離装置に用いることは困難であった。この点、本発明の吸着材Bとして用いた場合においては、活性炭の優れたガス吸着性能を充分に引き出すことができる。また、活性炭は比表面積が大きいほど吸着量が増加する傾向を有するため、活性炭の比表面積は1000m2/g以上であることが好ましい。また、使用する吸着材Bは、吸着させるガスに応じて適宜構造を制御されることが好ましい。例えば、活性炭に含まれる細孔は、細孔の大きさによって、スーパーミクロポア~0.8nm、ミクロポア0.8~2nm、メソポア2~50nm、マクロポア50nm~に分類できる。細孔の大きさによって吸着しやすいガスが異なり、多くのガスはミクロポアに吸着しやすい。従って、ガスを吸着の為には、ミクロポアの割合が大きくなるように活性炭の細孔分布を制御するとよい。本発明の吸着材Aと吸着材Bを複合化する場合は、吸着材Aは、吸着材Bを被覆するが、好ましくはクラックや不完全な被覆がなく、吸着材Bが外気に触れないように完全に被覆することが好ましい。しかしながら、多少のクラック等が存在していても、吸着材Bの自由なガス吸着を阻害し、吸着材Aによって被覆されている吸着材Bが低圧でガスを吸着するのであれば、本発明の技術的範囲に包含されるものである。好ましくは、吸着材Bに対して5~50体積の吸着材Aで吸着材Bを被覆する。また、吸着材Bを被覆する吸着材Aの厚みは吸着材Aの種類に応じて決定する必要があるが、吸着材Aが薄すぎると吸着材Bへのガス吸着特性を充分に制御できない恐れがある。一方、吸着材Aが厚すぎると、吸着材Bへのガス吸着が生じにくくなり、全体としてのガス吸着量が減少する恐れがある。これらを考慮すると、吸着材Aの平均厚みが10~100μmであることが好ましい。吸着材Aの厚みは、吸着材Aの使用量の調節によって制御できる。なお、吸着材Aの厚みは電子顕微鏡を用いて撮影された断面写真から算出することができる。吸着材AとBの複合化の方法としては、1吸着材Aが溶解している溶液中に、該溶液に溶解しない吸着材Bを添加し、その後、吸着材Aを結晶成長させることによって、吸着材B表面に吸着材Aを付着させる方法、2吸着材Aを含むスラリーを準備し、スラリーを吸着材B表面にコーティング乾燥させることによって、吸着材B表面に吸着材Aを付着させる方法、などを用いることができる。本発明のガス吸着材は、圧力スイング吸着方式以下PSA方式と略記のガス分離装置における吸着材として用いることができる。PSA方式のガス分離は、吸着材に対するガス圧力とガス吸着量との違いを利用することを原理とする。本発明のガス吸着材Aでは、ガスの選択性が高いという現象がみられる。このため酸素と窒素の混合ガスをガス吸着材一定圧以上で暴露して酸素と窒素の両方を吸着させ、ついで酸素を放出しないが窒素を放出するガス圧にガス圧を制御することで酸素ガスを放出することなく、窒素ガスのみを分離することが可能になる。すなわちガス分離性能は飛躍的に向上し、1回のPSA操作でコンタミネーションのない極めて高純度のガスを得ることも可能である。ただし、2サイクル以上のPSA操作を行うことを排除するものではない。本発明のガス分離装置は、上述のように圧力のスイング幅が小さくてすむため、ガス分離装置の大幅な小型化にも寄与する。また、圧力スイング幅が小さいため圧力変化に要する時間が短縮され、省エネルギーで、さらに高純度ガスの製造ランニングコストおよび設備の固定費を低減することができる。高純度ガスを製品として販売する際のコスト競争力を高めることができることは勿論、自社工場内部で高純度ガスを用いる場合であっても、高純度ガスを必要とする設備に要するコストを削減できるため、結局最終製品の製造コストを削減する効果を有する。実施例1トリフルオロメタンスルホン酸銅水溶液80mmolL、6.25mLにCF3BF3K塩3mmolを添加し、4、4’ビピリジンのアセトン溶液80mmolL、12.5mLをゆっくりと添加し、密栓をして30日間静置した。析出した青色固体を減圧濾過し、減圧乾燥し、青色の高分子金属錯体の結晶を得た。得られた結晶の組成および立体構造は、X線結晶構造解析により決定した。その結果、結晶データは以下であり、図6~7に示される構造を有していることが判明した。結晶データ:C2ca143979b151241c163512a9000b1084020g9000得られたガス吸着材の77Kでのガス吸着特性を調査した。測定には、BET自動吸着装置日本ベル株式会社製ベルソープ36及び同ベルミニIIを用いた。測定に先立って試料を383Kで3時間真空乾燥して、微量残存している可能性がある溶媒分子などを除去した。結果を表1に示す。また、このガス吸着材の77Kでの吸着等温泉を図6aに示す。図8a横軸は相対圧力、縦軸はガス吸着量吸着材g当たりのガス吸着量mlを示し、相対圧力0.02矢印で顕著なガス吸着が起きる。比較例1~3比較例1として、トリフルオロメタンスルホン酸銅水溶液80mmolL、6.25mLに換えてトリフルオロトリフルオロほう酸銅を用い、CF3BF3K塩3mmolを添加しないこと以外は、実施例1と同様にして、高分子金属錯体の結晶を得た。また、比較例2として、トリフルオロメタンスルホン酸銅水溶液80mmolL、6.25mLに換えてほうふっ化銅を用い、CF3BF3K塩3mmolを添加しないこと以外は、実施例1と同様にして、高分子金属錯体の結晶を得た。さらに、比較例3として、CF3BF3K塩3mmolを添加しないこと以外は、実施例1と同様にして、高分子金属錯体の結晶を得た。得られた結晶の組成および立体構造は、実施例1と同様にX線結晶構造解析により決定した。その結果を以下に示す。比較例1の結晶データ:P2c、a40060b15014c16459、a90b93916g90比較例2の結晶データ:A12n1、a18731b11072c13701A比較例3の結晶データ:Pbcn、a15319b16158c13688A高分子金属錯体の窒素及び酸素の吸着圧力を、実施例と同じ方法で測定した。結果を表1に示す。また、比較例3のガス吸着材の77Kでの吸着等温泉を図6bに示す。図6b横軸は相対圧力、縦軸はガス吸着量吸着材g当たりのガス吸着量mlを示し、相対圧力0.2矢印で顕著なガス吸着が起きる。"