"成分A重合性化合物及び成分B熱重合開始剤を含有する熱硬化性層を形成する熱硬化性層形成工程、25°C、1気圧下における酸素透過性が30ml/m2dayatm以下の酸素遮断フィルムを該熱硬化性層に積層する積層工程、及び、該熱硬化性層を熱硬化させる熱硬化工程を有することを特徴とするレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記酸素遮断フィルムがポリエステルフィルム、ナイロンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、及び、ポリアクリロニトリルフィルムよりなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記酸素遮断フィルムの厚さが10~300μmである、請求項1又は2に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記熱硬化性層が更に成分C光熱変換剤を含有する、請求項1~3のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記成分C光熱変換剤がカーボンブラックである、請求項4に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記熱硬化性層が更に成分D加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物を含有する、請求項1~5のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記熱硬化性層が更に成分Eバインダーポリマーを有する、請求項1~6のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記成分Eバインダーポリマーが非エラストマー性バインダーである、請求項7に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記熱硬化性層の前記酸素遮断フィルムと接する面とは反対面に接着剤を付与し、支持体を貼り合わせる工程を更に有する、請求項1~8のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記接着剤が光硬化性接着剤であり、該光硬化性接着剤を光により硬化させ、前記熱硬化性層と前記支持体とを接着する、請求項9に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記支持体が透明支持体である、請求項9又は10に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。本発明の目的は、レリーフ面の低層化、経時でのカール及びゴミの付着が軽減され、更に、版強度及び印刷性能に優れたレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法を提供することである。なお、レリーフ面の低層化とは、網点レリーフのエッジ部分が融解することにより、網点頂点部のレリーフ層の高さが、本来再現すべきレリーフ層の高さベタ部分の高さよりも低減する事象を意味する。低層化により、印刷濃度に影響を及ぼし、ハイライト部分の再現性が不足するという問題を生じる。本発明は、以下の<1>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>~<11>とともに以下に記載する。<1>成分A重合性化合物及び成分B熱重合開始剤を含有する熱硬化性層を形成する熱硬化性層形成工程、25°C、1気圧下における酸素透過性が30ml/m2dayatm以下の酸素遮断フィルムを該熱硬化性層に積層する積層工程、及び、該熱硬化性層を熱硬化させる熱硬化工程を有する、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<2>前記酸素遮断フィルムがポリエステルフィルム、ナイロンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、及び、ポリアクリロニトリルフィルムよりなる群から選択される少なくとも1種である、<1>に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<3>前記酸素遮断フィルムの厚さが10~300μmである、<1>又は<2>に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<4>前記熱硬化性層が更に成分C光熱変換剤を含有する、<1>~<3>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<5>前記成分C光熱変換剤がカーボンブラックである、<4>に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<6>前記熱硬化性層が更に成分D加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物を含有する、<1>~<5>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<7>前記熱硬化性層が更に成分Eバインダーポリマーを有する、<1>~<6>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<8>前記成分Eバインダーポリマーが非エラストマー性バインダーである、<7>に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<9>前記熱硬化性層Aの前記酸素遮断フィルムBと接する面とは反対面に接着剤を付与し、支持体を貼り合わせる工程を更に有する、<1>~<8>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<10>前記接着剤が光硬化性接着剤であり、該光硬化性接着剤を光により硬化させ、前記熱硬化性層と前記支持体とを接着する、<9>に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<11>前記支持体が透明基材である、<9>又は<10>に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。本発明によれば、レリーフ面の低層化、経時でのカール、ゴミの付着が改善され、更に版強度及び印刷性能に優れたレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法を提供することができた。本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版以下、単にフレキソ印刷版原版又は印刷版原版ともいう。の製造方法は、成分A重合性化合物及び成分B熱重合開始剤を含有する熱硬化性層を形成する熱硬化性層形成工程、25°C、1気圧下における酸素透過性が30ml/m2dayatm以下の酸素遮断フィルムを該熱硬化性層に積層する積層工程、及び、該熱硬化性層を熱硬化させる熱硬化工程をこの順で有することを特徴とする。なお、本発明において、数値範囲を表す下限~上限の記載は、下限以上、上限以下を表し、上限~下限の記載は、上限以下、下限以上を表す。すなわち、上限及び下限を含む数値範囲を表す。また、成分A重合性化合物等を単に成分A等ともいう。発明者は、鋭意検討した結果、重合性化合物及び熱重合開始剤を含有する熱硬化性組成物により構成されるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造において、熱硬化工程において硬化させても、化学的強化が十分に得られず、版強度が低下し、耐刷性の劣化を引き起こすだけでなく、乾燥温度時の弾性率が低く、ホットフローしやすくなり、膜厚が安定しないという問題を引き起こすことを発見した。また、乾燥工程時に空気と接している面以後、酸素遮断フィルム面と表記側に未反応重合性化合物が多く存在するため、この未反応重合性化合物が経時で反応することで、空気と接していない面との間で収縮率差が生じ、版が反り返り以後、カールと表記、版の保存性が悪くなることを見出した。更に、未反応重合性化合物が多く存在することで、酸素遮断フィルム面では粘稠性が残り、ゴミが付着し易く、精細な印刷ができなくなる、レーザー彫刻時に液状カスが飛散し彫刻機を汚してしまう、彫刻面が軟らかすぎる場合、印刷機のコンディションや、ユーザーの作業方法により印刷物に転写される網点の大きさが変化し、印刷品質が安定しない、などの問題も生じることを見出した。レーザー彫刻用フレキソ印刷版はレーザー照射時に発生する熱によりポリマーバインダーは熱分解することで彫刻される。また酸素遮断フィルム面における重合反応の進行が不十分である場合、彫刻時に到達する版温度における弾性率が低く、粘調性の高い液状物になり、レーザー照射間隔を狭く設定し高精細な彫刻をする際に、エッジ部の熱溶融が起こり、レリーフ面の低層化が起こり高精細な印刷ができなくなる問題も懸念される。本発明における作用機構は定かではないが以下のように推定される。重合反応速度の速い光重合反応では、重合開始剤から発生するラジカルが空気中に存在する酸素と接触することにより失活し、重合性化合物が反応阻害重合阻害を受けることが知られている。これまで、反応速度が緩やかな熱重合反応では問題とされることがなかったが、本発明者は、熱重合反応においても、酸素遮断フィルム面側では重合性化合物は反応が十分に進行せず、未反応重合化合物が多く存在することを見出した。本発明では、酸素遮断を目的として、熱硬化性組成物を塗布した後に、酸素遮断フィルムをラミネートすることで、重合開始剤から発生するラジカルと空気中に存在する酸素との接触を回避し、酸素遮断フィルム面側においても重合化合物が十分に反応させることができた。このことにより、酸素遮断フィルム面側と支持体側との間で収縮率差が無くなりカールが低減でき、機械的物性を強化、彫刻カスの粉末化、タック性の低下、印圧変化による網点太りの低下が実現できたと考えられる。また、酸素遮断フィルムと接する面とは反対面に接着剤を付与し、支持体を貼り合わせる場合、接着層と印刷版の接着性が弱く、長時間の印刷により剥がれが生じることがあった。本発明において、酸素遮断フィルムを積層して熱硬化させることにより、このような支持体とレリーフ層との剥がれも抑制されることを見出した。その作用機構は定かではないが、重合開始剤が支持体面側から酸素遮断フィルム面側に拡散することで、ラジカルの失活が生じ、支持体面側においても開始剤濃度が低くなり、反対面支持体面側においても、重合性化合物の反応率が低下するものと推測される。このように、重合性化合物の反応率が低い印刷版原版の支持体面側に接着層を塗布した際には、重合によって形成される架橋による可塑剤等の溶出が十分に抑制されず、接着層に可塑剤等が溶出し、接着層と原版が剥がれやすくなる問題が生じたものと考えられる。酸素遮断フィルムをラミネートすることで、版全体の重合反応が十分に進行し、密に形成された架橋構造により可塑剤の溶出を抑制し、接着層と原版が剥がれにくくなったと推測される。更に、支持体上に、塗布液を流涎する方法で製版すると、ホットフローによるエッジ部の膜厚低下が起こり、印刷版にする際には、膜厚が薄い部分は、切り捨てる必要があり、無駄があった。しかし、酸素遮断フィルムを貼ることにより、ホットフローを抑制でき、エッジ部の膜厚低下が無くなることが分かった。これは酸素遮断フィルムの表面張力により、熱硬化性組成物がホットフローを回避させたと考えられるが原因については定かではない。以上に述べたように、熱硬化性組成物を塗布した後に、酸素遮断フィルムをラミネート積層することで、経時でのカール、ゴミの付着、酸素遮断フィルム面の粘稠性が低減させることができ、更に版強度に優れたレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を製造することができる。なお、特許文献1~3には、カバーフィルムを使用することについては記載されているものの、熱硬化性層において、酸素遮断フィルムを積層した後に熱硬化させることについては記載されていない。また、熱硬化において生じる問題点について、記載されていない。以下の説明において、熱硬化性層をレリーフ形成層ともいう。本発明において、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、熱硬化性層レリーフ形成層を熱硬化させた架橋レリーフ層を有する。また、熱硬化性層は、成分A重合性化合物及び成分B熱重合開始剤を含有する。本発明において、熱硬化性層の形成に使用される、成分A重合性化合物及び成分B熱重合開始剤を含有する熱硬化性組成物をレーザー彫刻用組成物又は、本発明のレーザー彫刻用組成物とも呼ぶ。すなわち、本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、本発明のレーザー彫刻用組成物により形成された熱硬化性層レリーフ形成層を熱架橋した架橋レリーフ形成層を有する。なお、本発明においてレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版とは、レーザー彫刻用組成物からなる架橋性を有するレリーフ形成層が、熱により硬化された状態をいう。以下、熱硬化性層を構成する各成分について詳述する。成分A重合性化合物本発明において、熱硬化性層は、成分A重合性化合物を含有する。本発明おいて、重合性化合物としては、少なくとも一個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。本発明に使用される好ましい重合性化合物である、少なくとも一個のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定することなく用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などや、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能又は多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能又は、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基や、エポキシ基、等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリロイルオキシプロピルエーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4-シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等が挙げられる。メタクリル酸エステルとしては、ジエチレングリコールジメタクリレート、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3-ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビスp-3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシフェニルジメチルメタン、ビス-p-メタクリルオキシエトキシフェニルジメチルメタン、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート等が挙げられる。イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3-ブタンジオールジイタコネート、1,4-ブタンオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等が挙げられる。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等が挙げられる。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等が挙げられる。その他のエステルの例として、例えば、特公昭46-27926号、特公昭51-47334号、特開昭57-196231号各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59-5240号、特開昭59-5241号、特開平2-226149号各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1-165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス-アクリルアミド、メチレンビス-メタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-アクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54-21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式Iで示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。CH2=CRCOOCH2CHROHIただし、R及びRは、H又はCH3を示す。また、特開昭51-37193号、特公平2-322号、特公平2-16765号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号、特公昭56-17654号、特公昭62-39417号、特公昭62-39418号各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63-277653号、特開昭63-260909号、特開平1-105238号各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する重合性化合物類を用いることによっては、非常に硬化速度に優れたレーザー彫刻用組成物を得ることができる。その他の例としては、特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とメタアクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46-43946号、特公平1-40337号、特公平1-40336号各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2-25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61-22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol20、No.7、300~308ページ1984年に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。硬化速度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数異なる重合性基例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物のものを併用することで、硬化性と強度の両方を調節する方法も有効である。重合性化合物は、レーザー彫刻用組成物の全固形分の重量に対して、好ましくは2重量~90重量、より好ましくは5重量~85重量、更に好ましくは5~30重量の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。なお、レーザー彫刻用組成物の全固形分とは、溶媒を除く成分を意味する。成分B熱重合開始剤本発明において、熱硬化性層は成分B熱重合開始剤を含有する。熱重合開始剤は当業者間で公知のものを制限なく使用することができる。以下、好ましい熱重合開始剤であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。本発明において、好ましいラジカル重合開始剤としては、a芳香族ケトン類、bオニウム塩化合物、c有機過酸化物、dチオ化合物、eヘキサアリールビイミダゾール化合物、fケトオキシムエステル化合物、gボレート化合物、hアジニウム化合物、iメタロセン化合物、j活性エステル化合物、k炭素ハロゲン結合を有する化合物、lアゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記a~lの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明においては、彫刻感度と、フレキソ印刷版原版のレリーフ形成層に適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、c有機過酸化物及びlアゾ系化合物がより好ましく、c有機過酸化物が特に好ましい。前記a芳香族ケトン類、bオニウム塩化合物、dチオ化合物、eヘキサアリールビイミダゾール化合物、fケトオキシムエステル化合物、gボレート化合物、hアジニウム化合物、iメタロセン化合物、j活性エステル化合物、及びk炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、特開2008-63554号公報の段落0074~0118に挙げられている化合物を好ましく用いることができる。また、c有機過酸化物及びlアゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。c有機過酸化物本発明に用いうるラジカル重合開始剤として好ましいc有機過酸化物としては、3,3’,4,4’-テトラターシャリーブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラターシャリーアミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラターシャリーヘキシルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラターシャリーオクチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラクミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラp-イソプロピルクミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、ジターシャリーブチルジパーオキシイソフタレート、ターシャリーブチルパーオキシベンゾエートなどの過酸化エステル系が好ましい。lアゾ系化合物本発明に用いうるラジカル重合開始剤として好ましいlアゾ系化合物としては、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビスプロピオニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリル、2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、4,4’-アゾビス4-シアノ吉草酸、2,2’-アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’-アゾビス2-メチルプロピオンアミドオキシム、2,2’-アゾビス[2-2-イミダゾリン-2-イルプロパン]、2,2’-アゾビス{2-メチル-N-[1,1-ビスヒドロキシメチル-2-ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’-アゾビス[2-メチル-N-2-ヒドロキシエチルプロピオンアミド]、2,2’-アゾビスN-ブチル-2-メチルプロピオンアミド、2,2’-アゾビスN-シクロヘキシル-2-メチルプロピオンアミド、2,2’-アゾビス[N-2-プロペニル-2-メチルプロピオンアミド]、2,2’-アゾビス2,4,4-トリメチルペンタン等を挙げることができる。本発明における熱重合開始剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。熱重合開始剤の含有量は、レーザー彫刻用組成物の全重量に対し0.001重量以上15重量以下が好ましく、0.002重量以上10重量以下がより好ましい。熱重合開始剤の含有量を0.001重量以上とすることで、これを添加した効果が得られ、架橋性レリーフ形成層の架橋が速やかに行われる。また、含有量を15重量以下とすることで他成分が不足することがなくフレキソ印刷版として使用するに足る耐刷性が得られるためである。成分C光熱変換剤本発明において、熱硬化性層は、更に成分C光熱変換剤を含有することが好ましい。成分C光熱変換剤は、700nm以上1,300nm以下に極大吸収波長を有することが好ましい。本発明において、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、700nm以上1,300nm以下の赤外線を発するレーザーYAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等を光源としてレーザー彫刻に用いる場合に、赤外線吸収剤として成分Cが用いられることが好ましい。成分Cは、前記レーザー光を吸収し、発熱して印刷版原版の架橋レリーフ形成層の熱分解を促進し、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版のレーザー彫刻における感度を向上させると考えられる。成分Cの具体的化合物として、波長700nm以上1,300nm以下に吸収極大を有していることが好ましく、染料又は顔料が特に好ましく挙げられる。染料としては、市販の染料及び例えば染料便覧有機合成化学協会編集、昭和45年刊等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。好ましい染料としては、例えば、特開昭58-125246号、特開昭59-84356号、特開昭59-202829号、特開昭60-78787号等の各公報に記載されているシアニン染料、特開昭58-173696号、特開昭58-181690号、特開昭58-194595号等の各公報に記載されているメチン染料、特開昭58-112793号、特開昭58-224793号、特開昭59-48187号、特開昭59-73996号、特開昭60-52940号、特開昭60-63744号等の各公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭58-112792号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾチオピリリウム塩、特開昭57-142645号公報米国特許第4,327,169号明細書記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58-181051号、同58-220143号、同59-41363号、同59-84248号、同59-84249号、同59-146063号、同59-146061号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59-216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5-13514号公報、同5-19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式I、IIとして記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。また、本発明の成分Cの好ましい他の例としては、特開2002-278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。これらの染料のうち好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましい。本発明において、好適に用いることのできるシアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落0017~0019、特開2002-40638号公報の段落0012~0038、特開2002-23360号公報の段落0012~0023に記載されたものを挙げることができる。下記式d又は式eで表される色素が光熱変換性の観点から好ましい。式d中、R29ないしR32は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に0ないし4の整数を示す。R29とR30、又はR31とR32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び/又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34と結合して環を形成してもよく、更に、R33或いはR34が複数存在する場合に、R33同士或いはR34同士は互いに結合して環を形成してもよい。X2及びX3は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、X2及びX3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Zcは対アニオンを示す。ただし、式dで示される色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZcは必要ない。好ましいZcは、レリーフ形成層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。本発明において、好適に用いることのできる式dで示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。式e中、R35~R50はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示し、これらの基に置換基が導入可能な場合は、置換基を有してもよい。Mは2つの水素原子、金属原子、ハロメタル基、又はオキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表の1族、2族、13族、14族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、及びバナジウムが好ましい。本発明において、好適に用いることのできる式eで示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックスC.I.便覧、最新顔料便覧日本顔料技術協会編、1977年刊、最新顔料応用技術CMC出版、1986年刊、印刷インキ技術CMC出版、1984年刊に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち特に好ましいものはカーボンブラックである。これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、金属石鹸の性質と応用幸書房、印刷インキ技術CMC出版、1984年刊及び最新顔料応用技術CMC出版、1986年刊に記載されている。更に、これらの光熱変換剤の熱分解温度がバインダーポリマーの熱分解温度同等以上という組み合わせ条件で使用する場合に更に彫刻感度が高くなる傾向であり好ましい。本願で用いられる光熱変換剤の具体例としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、インドリウム系色素、ベンズインドリウム系色素、ベンゾチアゾリウム系色素、キノリニウム系色素、顕色剤と反応させたフタリド化合物等を挙げることができる。全てのシアニン系色素が、前述した光吸収特性を有するものではない。置換基の種類及び分子内での位置、共役結合の数、対イオンの種類、色素分子の存在する周囲の環境などにより、光吸収特性が極めて大きく変化する。また、一般に市販されているレーザー色素、過飽和吸収色素、近赤外線吸収色素を使用することもできる。例えば、レーザー色素として、アメリカンダイソース社カナダ国の商標ADS740PP、ADS745HT、ADS760MP、ADS740WS、ADS765WS、ADS745HO、ADS790NH、ADS800NH、株林原生物化学研究所製の商標NK-3555、NK-3509、NK-3519を挙げることができる。また、近赤外線吸収色素として、アメリカンダイソース社カナダ国商標ADS775MI、ADS775MP、ADS775HI、ADS775PI、ADS775PP、ADS780MT、ADS780BP、ADS793EI、ADS798MI、ADS798MP、ADS800AT、ADS805PI、ADS805PP、ADS805PA、ADS805PF、ADS812MI、ADS815EI、ADS818HI、ADS818HT、ADS822MT、ADS830AT、ADS838MT、ADS840MT、ADS845BI、ADS905AM、ADS956BI、ADS1040T、ADS1040P、ADS1045P、ADS1050P、ADS1060A、ADS1065A、ADS1065P、ADS1100T、ADS1120F、ADS1120P、ADS780WS、ADS785WS、ADS790WS、ADS805WS、ADS820WS、ADS830WS、ADS850WS、ADS780HO、ADS810CO、ADS820HO、ADS821NH、ADS840NH、ADS880MC、ADS890MC、ADS920MC、山本化成株製、商標YKR-2200、YKR-2081、YKR-2900、YKR-2100、YKR-3071、有本化学工業株製、商標SDO-1000B、株林原生物化学研究所製、商標NK-3508、NKX-114を挙げることができる。ただし、これらのみに限定されるものではない。また、顕色剤と反応させたフタリド化合物は、特許第3271226号公報に記載されているものを用いることもできる。また、リン酸エステル金属化合物、例えば特開平6-345820号公報、国際公開第99/10354号パンフレットに記載のあるリン酸エステルと銅塩との複合体を用いることもできる。更に、近赤外線領域に光吸収特性を有する体積平均粒子径が好ましくは0.3μm以下、より好ましくは0.1μm以下、特に好ましくは0.08μm以下の微粒子を用いることもできる。例えば、酸化イットリウム、酸化錫及び/又は酸化インジウム、酸化銅、酸化鉄等の金属酸化物、或いは金、銀、パラジウム、白金等の金属などを挙げることもできる。更に、体積平均粒子径が5μm以下、より好ましくは1μm以下の、ガラス等の粒子中に銅、錫、インジウム、イットリウム、クロム、コバルト、チタン、ニッケル、バナジウム、希土類元素のイオン等の金属イオンを添加したものを用いることもできる。また、マイクロカプセル中に含有させることもできる。その場合、カプセルの体積平均粒子径は、10μm以下が好ましく、より好ましくは5μm以下、更に好ましくは1μm以下である。イオン交換体粒子に銅、錫、インジウム、イットリウム、希土類元素等の金属イオンを吸着させたものを用いることもできる。イオン交換体粒子としては、樹脂粒子であっても無機粒子であっても構わない。無機粒子としては、例えば非晶質リン酸ジルコニウム、非晶質ケイリン酸ジルコニウム、非晶質ヘキサメタリン酸ジルコニウム、層状リン酸ジルコニウム、網状リン酸ジルコニウム、タングステン酸ジルコニウム、ゼオライト等を挙げることができる。樹脂粒子としては、通常使用されているイオン交換樹脂、イオン交換セルロース等を挙げることができる。本発明における光熱変換剤としては、安定性、光熱変換効率の観点からカーボンブラックを特に好ましく挙げることができる。カーボンブラックは、レリーフ形成層を構成するレーザー彫刻用組成物中における分散安定性などに問題がない限り、ASTMにより分類される規格の製品以外でも、カラー用、ゴム用、乾電池用などの各種用途に通常使用されるいずれのカーボンブラックも好ましく使用可能である。ここでいうカーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなども包含される。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして、レーザー彫刻用組成物の調製に使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。本発明においては、比較的低い比表面積及び比較的低いDBP吸収を有するカーボンブラックや比表面積の大きい微細化されたカーボンブラックまでを使用することも可能である。好適なカーボンブラックの市販品の例としては、PrintexU登録商標、PrintexA登録商標又はSpezialschwarz4登録商標いずれもDegussa社製、シースト600ISAF-LS東海カーボン株製、旭70N-300、旭80N-220旭カーボン株製等が挙げられる。本発明においては、レーザー彫刻用組成物中での分散性の観点から、吸油量150ml/100g未満のカーボンブラックが好ましい。このようなカーボンブラックの選択については、例えば、カーボンブラック便覧カーボンブラック協会編、を参考にすることができる。カーボンブラックの吸油量が150ml/100g未満のものを用いるとレリーフ形成層中で良好な分散性が得られるため好ましい。一方、カーボンブラックの吸油量が150ml/100g以上のものを用いた場合には、レリーフ形成層用塗布液への分散性が悪くなる傾向があり、カーボンブラックの凝集が生じやすくなるため、感度の不均一などが生じ、好ましくない。また、凝集防止のため、塗布液作製時に、カーボンブラックの分散を強化する必要がある。成分Cを分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、ペイントシェーカー、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、最新顔料応用技術CMC出版、1986年刊に記載されている。成分Cの含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより異なるが、レーザー彫刻用組成物の固形分の全重量に対し0.1重量以上15重量以下の範囲であり、好ましくは0.1重量以上10重量以下、特に好ましくは0.1重量以上5重量以下の範囲である。成分Cの体積平均粒子径は、0.001μm以上10μm以下の範囲にあることが好ましく、0.05μm以上10μm以下の範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm以上7μm以下の範囲にあることが好ましい。成分Cの体積平均粒子径は、レーザー散乱式粒子径分布測定装置を用いて測定できる。成分D加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物本発明のレーザー彫刻用組成物に好ましく用いられる成分D加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物以下、適宜、成分Dと称する。における加水分解性シリル基とは、加水分解性を有するシリル基のことであり、加水分解性基としては、アルコキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アミド基、アセトキシ基、アミノ基、イソプロペノキシ基等を挙げることができる。シリル基は加水分解してシラノール基となり、シラノール基は脱水縮合してシロキサン結合が生成する。このような加水分解性シリル基又はシラノール基は下記式1で表されるものが好ましい。前記式1中、R1~R3の少なくともいずれか1つは、アルコキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アミド基、アセトキシ基、アミノ基、及び、イソプロペノキシ基よりなる群から選択される加水分解性基、又は、ヒドロキシル基を表す。残りのR1~R3はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は、1価の有機置換基例えば、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基を挙げることができる。を表す。前記式1中、ケイ素原子に結合する加水分解性基としては、特にアルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基がより好ましい。アルコキシ基としては、リンス性と耐刷性の観点から、炭素数1~30のアルコキシ基が好ましい。より好ましくは炭素数1~15のアルコキシ基、更に好ましくは炭素数1~5、特に好ましくは炭素数1~3のアルコキシ基、最も好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。また、ハロゲン原子としては、F原子、Cl原子、Br原子、I原子が挙げられ、合成のしやすさ及び安定性の観点で、好ましくはCl原子及びBr原子であり、より好ましくはCl原子である。本発明における成分Dは、前記式1で表される基を1つ以上有する化合物であることが好ましく、2つ以上有する化合物であることがより好ましい。特に加水分解性シリル基を2つ以上有する化合物が好ましく用いられる。すなわち、分子内に加水分解性基が結合したケイ素原子を2つ以上有する化合物が好ましく用いられる。成分D中に含まれる加水分解性基が結合したケイ素原子の数は、2以上6以下が好ましく、2又は3が最も好ましい。前記加水分解性基は1個のケイ素原子に1~4個の範囲で結合することができ、式1中における加水分解性基の総個数は2又は3の範囲であることが好ましい。特に3つの加水分解性基がケイ素原子に結合していることが好ましい。加水分解性基がケイ素原子に2個以上結合するときは、それらは互いに同一であっても、異なっていてもよい。好ましい前記アルコキシ基として、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、tert-ブトキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基などを挙げることができる。これらの各アルコキシ基を複数個組み合わせて用いてもよいし、異なるアルコキシ基を複数個組み合わせて用いてもよい。アルコキシ基の結合したアルコキシシリル基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリイソプロポキシシリル基、トリフェノキシシリル基などのトリアルコキシシリル基;ジメトキシメチルシリル基、ジエトキシメチルシリル基などのジアルコキシモノアルキルシリル基;メトキシジメチルシリル基、エトキシジメチルシリル基などのモノアルコキシジアルキルシリル基を挙げることができる。成分Dは、硫黄原子、エステル結合、ウレタン結合、エーテル結合、ウレア結合、又は、イミノ基を少なくとも有することが好ましい。中でも、成分Dは、架橋性の観点から、硫黄原子を含有することが好ましく、また、彫刻カスの除去性リンス性の観点から、アルカリ水で分解しやすいエステル結合、ウレタン結合、又は、エーテル結合特にオキシアルキレン基に含まれるエーテル結合を含有することが好ましい。硫黄原子を含有する成分Dは、加硫処理時に、加硫剤や加硫促進剤として機能し、共役ジエン単量体単位を含有する重合体の反応架橋を促進する。その結果、印刷版として必要なゴム弾性を発現させる。また、架橋レリーフ形成層及びレリーフ層の強度を向上させる。また、本発明における成分Dは、エチレン性不飽和結合を有していない化合物であることが好ましい。本発明における成分Dは、複数の前記式1で表される基が二価の連結基を介して結合している化合物が挙げられ、このような二価の連結基としては、効果の観点からスルフィド基-S-、イミノ基-NR-、ウレア基又は、ウレタン結合-OCONR-又は-NRCOO-を有する連結基が好ましい。なお、Rは水素原子又は置換基を表す。Rにおける置換基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、又は、アラルキル基が例示できる。成分Dの合成方法としては、特に制限はなく、公知の方法により合成することができる。一例として、上記特定構造を有する連結基を含む成分Dの代表的な合成方法を以下に示す。連結基としてスルフィド基を有し、かつ加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物の合成法連結基としてスルフィド基を有する成分D以下、適宜、スルフィド連結基含有成分Dと称する。の合成法は特には限定されないが、具体的には、例えば、ハロゲン化炭化水素基を有する成分Dと硫化アルカリの反応、メルカプト基を有する成分Dとハロゲン化炭化水素の反応、メルカプト基を有する成分Dとハロゲン化炭化水素基を有する成分Dの反応、ハロゲン化炭化水素基を有する成分Dとメルカプタン類の反応、エチレン性不飽和二重結合を有する成分Dとメルカプタン類の反応、エチレン性不飽和二重結合を有する成分Dとメルカプト基を有する成分Dの反応、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物とメルカプト基を有する成分Dの反応、ケトン類とメルカプト基を有する成分Dの反応、ジアゾニウム塩とメルカプト基を有する成分Dの反応、メルカプト基を有する成分Dとオキシラン類との反応、メルカプト基を有する成分Dとオキシラン基を有する成分Dの反応、及び、メルカプタン類とオキシラン基を有する成分Dの反応、メルカプト基を有する成分Dとアジリジン類との反応等の合成方法が例示できる。連結基としてイミノ基を有し、かつ加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物の合成法連結基としてイミノ基を有する成分D以下、適宜、イミノ連結基含有成分Dと称する。の合成法は特には限定されないが、具体的には、例えば、アミノ基を有する成分Dとハロゲン化炭化水素の反応、アミノ基を有する成分Dとハロゲン化炭化水素基を有する成分Dの反応、ハロゲン化炭化水素基を有する成分Dとアミン類の反応、アミノ基を有する成分Dとオキシラン類との反応、アミノ基を有する成分Dとオキシラン基を有する成分Dの反応、アミン類とオキシラン基を有する成分Dの反応、アミノ基を有する成分Dとアジリジン類との反応、エチレン性不飽和二重結合を有する成分Dとアミン類の反応、エチレン性不飽和二重結合を有する成分Dとアミノ基を有する成分Dの反応、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物とアミノ基を有する成分Dの反応、アセチレン性不飽和三重結合を有する化合物とアミノ基を有する成分Dの反応、イミン性不飽和二重結合を有する成分Dと有機アルカリ金属化合物の反応、イミン性不飽和二重結合を有する成分Dと有機アルカリ土類金属化合物の反応、及び、カルボニル化合物とアミノ基を有する成分Dの反応等の合成方法が例示できる。<連結基としてウレア結合を有し、かつ加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物の合成法>連結基としてウレア基を有する成分D以下、適宜、ウレア連結基含有成分Dと称する。の合成法は特には限定されないが、具体的には、例えば、アミノ基を有する成分Dとイソシアン酸エステル類の反応、アミノ基を有する成分Dとイソシアン酸エステルを有する成分Dの反応、及び、アミン類とイソシアン酸エステルを有する成分Dの反応等の合成方法が例示できる。成分Dとしては、下記式A-1又は式A-2で表される化合物であることが好ましい。式A-1及び式A-2中、RBはエステル結合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、又は、イミノ基を表し、L1はn価の連結基を表し、L2は二価の連結基を表し、Ls1はm価の連結基を表し、L3は二価の連結基を表し、n及びmはそれぞれ独立に1以上の整数を表し、R1~R3はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は、一価の有機置換基を表す。ただし、R1~R3の少なくともいずれか1つは、アルコキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アミド基、アセトキシ基、アミノ基、及び、イソプロペノキシ基よりなる群から選択される加水分解性基、又は、ヒドロキシル基を表す。前記式A-1及び式A-2におけるR1~R3は、前記式1におけるR1~R3と同義であり、好ましい範囲も同様である。前記RBは、リンス性及び膜強度の観点から、エステル結合又はウレタン結合であることが好ましく、エステル結合であることがより好ましい。前記L1~L3における二価又はn価の連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子から構成された基であることが好ましく、炭素原子、水素原子、酸素原子及び硫黄原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子から構成された基であることがより好ましい。前記L1~L3の炭素数は、2~60であることが好ましく、2~30であることがより好ましい。前記Ls1におけるm価の連結基は、硫黄原子と、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子とから構成された基であることが好ましく、アルキレン基、又は、アルキレン基、スルフィド基及びイミノ基を2以上組み合わせた基であることがより好ましい。前記Ls1の炭素数は、2~60であることが好ましく、6~30であることがより好ましい。前記n及びmはそれぞれ独立に、1~10の整数であることが好ましく、2~10の整数であることがより好ましく、2~6の整数であることが更に好ましく、2であることが特に好ましい。L1のn価の連結基及び/又はL2の二価の連結基、又は、L3の二価の連結基は、彫刻カスの除去性リンス性の観点から、エーテル結合を有することが好ましく、オキシアルキレン基に含まれるエーテル結合を有することがより好ましい。式A-1又は式A-2で表される化合物の中でも、架橋性等の観点から、式A-1において、L1のn価の連結基及び/又はL2の二価の連結基が硫黄原子を有する基であることが好ましい。本発明に適用しうる成分Dの具体例を以下に示す。例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、ジメトキシ-3-メルカプトプロピルメチルシラン、2-2-アミノエチルチオエチルジエトキシメチルシラン、3-2-アセトキシエチルチオプロピルジメトキシメチルシラン、2-2-アミノエチルチオエチルトリエトキシシラン、ジメトキシメチル-3-3-フェノキシプロピルチオプロピルシラン、ビストリエトキシシリルプロピルジスルフィド、ビストリエトキシシリルプロピルテトラスルフィド、1,4-ビストリエトキシシリルベンゼン、ビストリエトキシシリルエタン、1,6-ビストリメトキシシリルヘキサン、1,8-ビストリエトキシシリルオクタン、1,2-ビストリメトキシシリルデカン、ビストリエトキシシリルプロピルアミン、ビストリメトキシシリルプロピルウレア、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、トリメチルシラノール、ジフェニルシランジオール、トリフェニルシラノール等を挙げることができる。その他にも、以下に示す化合物が好ましいものとして挙げられるが、本発明はこれらの化合物に制限されるものではない。前記各式中、Rは以下の構造から選択される部分構造を表す。分子内に複数のR及びR1が存在する場合、これらは互いに同じでも異なっていてもよく、合成適性上は、同一であることが好ましい。前記各式中、Rは以下に示す部分構造を表す。R1は前記したものと同義である。分子内に複数のR及びR1が存在する場合、これらは互いに同じでも異なっていてもよく、合成適性上は、同一であることが好ましい。成分Dは、適宜合成して得ることも可能であるが、市販品を用いることがコストの面から好ましい。成分Dとしては、例えば、信越化学工業株、東レダウコーニング株、モメンティブパフォーマンスマテリアルズ株、チッソ株等から市販されているシラン製品、シランカップリング剤などの市販品がこれに相当するため、本発明のレーザー彫刻用組成物に、これら市販品を、目的に応じて適宜選択して使用してもよい。本発明における成分Dとして、加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物を1種用いて得られた部分加水分解縮合物、又は、2種以上用いて得られた部分共加水分解縮合物を用いることができる。以下、これらの化合物を部分共加水分解縮合物と称することがある。部分共加水分解縮合物前駆体としてのシラン化合物の中でも、汎用性、コスト面、膜の相溶性の観点から、ケイ素上の置換基としてメチル基及びフェニル基から選択される置換基を有するシラン化合物であることが好ましく、具体的には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランが好ましい前駆体として例示される。この場合、部分共加水分解縮合物としては、上記したようなシラン化合物の2量体シラン化合物2モルに水1モルを作用させてアルコール2モルを脱離させ、ジシロキサン単位としたもの~100量体、好ましくは2~50量体、更に好ましくは2~30量体としたものが好適に使用できるし、2種以上のシラン化合物を原料とする部分共加水分解縮合物を使用することも可能である。なお、このような部分共加水分解縮合物は、シリコーンアルコキシオリゴマーとして市販されているものを使用してもよく例えば、信越化学工業株などから市販されている。、また、常法に基づき、加水分解性シラン化合物に対し当量未満の加水分解水を反応させた後に、アルコール、塩酸等の副生物を除去することによって製造したものを使用してもよい。製造に際しては、前駆体となる原料の加水分解性シラン化合物として、例えば、上記したようなアルコキシシラン類やアシロキシシラン類を使用する場合は、塩酸、硫酸等の酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、トリエチルアミン等のアルカリ性有機物質等を反応触媒として部分加水分解縮合すればよく、クロロシラン類から直接製造する場合には、副生する塩酸を触媒として水及びアルコールを反応させればよい。本発明のレーザー彫刻用組成物における成分Dは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。本発明のレーザー彫刻用組成物中に含まれる成分Dの含有量は、固形分換算で、0.1~80重量の範囲であることが好ましく、より好ましくは1~40重量の範囲であり、最も好ましくは5~30重量の範囲である。成分Eバインダーポリマー本発明のレーザー彫刻用組成物は、成分Eバインダーポリマーを含有することが好ましい。バインダーポリマーは、重量平均分子量500~1,000,000の結着樹脂であることが好ましく、特に制限されないが、一般的な高分子化合物を適宜選択し、1種を単独使用するか、又は、2種以上を併用することができ、特にレーザー彫刻性、インキ受与性、彫刻カス分散性などの種々の性能を考慮して選択することが好ましい。バインダーポリマーとしては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマーなどから選択して用いることができる。例えば、レーザー彫刻感度の観点からは、露光或いは加熱により熱分解する部分構造を含むポリマーが好ましい。このようなポリマーは、特開2008-163081号公報の段落0038に記載されているものが好ましく挙げられる。また、例えば、柔軟で可撓性を有する膜形成が目的とされる場合には、軟質樹脂や熱可塑性エラストマーが選択される。特開2008-163081号公報の段落0039~0040に詳述されている。更に、レーザー彫刻用組成物の調製の容易性、得られたフレキソ印刷版における油性インクに対する耐性向上の観点から、親水性又は親アルコール性ポリマーを使用することが好ましい。親水性ポリマーとしては、特開2008-163081号公報の段落0041に詳述されているものを使用することができる。本発明において、バインダーポリマーは、彫刻形状及びリンス性の観点においてバインダーポリマーとしてエラストマーバインダーよりも非エラストマー性バインダーの方が好ましい。ここで、非エラストマー性バインダーとは、ガラス転移温度Tgが20°C以上であるバインダーポリマーを意味する。なお、複数のガラス転移温度を有する場合、全てのガラス転移温度が20°C以上である。即ち、エラストマーとは、一般的に、ガラス転移温度が常温以下のポリマーであるとして学術的に定義されている科学大辞典第2版、編者国際科学振興財団、発行丸善株、P154参照。従って、非エラストマーとはガラス転移温度が常温を超える温度であるポリマーを指す。バインダーポリマーのガラス転移温度の上限には制限はないが、200°C以下であることが取り扱い性の観点から好ましく、25°C以上120°C以下であることがより好ましい。加えて、加熱や露光により硬化させ、強度を向上させる目的に使用する場合には、分子内に、ヒドロキシル基、アルコキシ基、加水分解性シリル基及びシラノール基、エチレン性不飽和結合などを有するポリマーが好ましく用いられる。この反応性官能基は、ポリマー分子中のいずれかに存在すればよいが、鎖状ポリマーの側鎖に存在することが好ましい。このようなポリマーとしては、ビニル共重合体ポリビニルアルコールやポリビニルアセタールなどのビニルモノマーの共重合体及びその誘導体やアクリル樹脂ヒドロキシエチルメタアクリレートなどのアクリル系モノマーの共重合体及びその誘導体が好ましく例示できる。バインダーポリマーに反応性官能基を導入する方法は特に限定されず、反応性官能基を有する単量体を付加共重合又は重縮合する方法、反応性官能基に誘導可能な基を有するポリマーを合成した後、このポリマーを高分子反応により反応性官能基に誘導する方法が含まれる。バインダーポリマーとしては、ヒドロキシル基を有するバインダーポリマーE-1が好ましく用いられる。以下にE-1について説明する。E-1ヒドロキシル基を有するバインダーポリマー本発明のレーザー彫刻用組成物におけるバンインダーポリマーとしては、E-1ヒドロキシル基を有するバインダーポリマー以下、特定ポリマーともいう。が好ましい。この特定ポリマーは、水不溶であって、かつ、炭素数1~4のアルコールに可溶であることが好ましい。E-1として、水性インキ適性とUVインキ適性を両立しつつ、かつ彫刻感度が高く皮膜性も良好であるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版には、ポリビニルアセタール及びその誘導体、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂、及び、側鎖にヒドロキシル基を有するエポキシ樹脂等が好ましく挙げられる。E-1は、ガラス転移温度Tgが20°C以上であることが好ましい。成分Cすなわち光熱変換剤と組み合わせた場合に、バインダーポリマーのガラス転移温度Tgを20°C以上とすることにより、彫刻感度が向上する。このようなガラス転移温度を有するバインダーポリマーを以下、非エラストマーともいう。バインダーポリマーのガラス転移温度の上限には制限はないが、200°C以下であることが取り扱い性の観点から好ましく、25°C以上120°C以下であることがより好ましい。ガラス転移温度が室温20°C以上のポリマーを用いる場合、特定ポリマーは常温ではガラス状態をとるが、このためゴム状態をとる場合に比較して、熱的な分子運動はかなり抑制された状態にある。レーザー彫刻においては、レーザー照射時に、赤外線レーザーが付与する熱に加え、成分C光熱変換剤の機能により発生した熱が、周囲に存在する特定ポリマーに伝達され、これが熱分解、消散して、結果的に彫刻されて凹部が形成されると推定される。特定ポリマーを用いた場合、特定ポリマーの熱的な分子運動が抑制された状態の中に光熱変換剤が存在すると特定ポリマーへの熱伝達と熱分解が効果的に起こるものと考えられ、このような効果によって彫刻感度が更に増大したものと推定される。本発明において好ましく用いられる非エラストマーであるポリマーの具体例を以下に挙げる。1ポリビニルアセタール及びその誘導体ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールポリ酢酸ビニルを鹸化して得られる。を環状アセタール化することにより得られる化合物である。また、ポリビニルアセタール誘導体は、前記ポリビニルアセタールを変性したり、他の共重合成分を加えたものである。ポリビニルアセタール誘導体中のアセタール含量原料の酢酸ビニルモノマーの総モル数を100とし、アセタール化されるビニルアルコール単位のモルは、30~90が好ましく、50~85がより好ましく、55~78が特に好ましい。ポリビニルアセタール誘導体中のビニルアルコール単位としては、原料の酢酸ビニルモノマーの総モル数に対して、10~70モルが好ましく、15~50モルがより好ましく、22~45モルが特に好ましい。また、ポリビニルアセタールは、その他の成分として、酢酸ビニル単位を有していてもよく、その含量としては0.01~20モルが好ましく、0.1~10モルが更に好ましい。ポリビニルアセタール誘導体は、更に、その他の共重合単位を有していてもよい。ポリビニルアセタールとしては、ポリビニルブチラール、ポリビニルプロピラール、ポリビニルエチラール、ポリビニルメチラールなどが挙げられる。中でも、ポリビニルブチラール誘導体PVBが好ましい。ポリビニルブチラールは、通常、ポリビニルアルコールをブチラール化して得られるポリマーである。また、ポリビニルブチラール誘導体を用いてもよい。ポリビニルブチラール誘導体の例として、水酸基の少なくとも一部をカルボキシル基等の酸基に変性した酸変性PVB、水酸基の一部をメタアクリロイル基に変性した変性PVB、水酸基の少なくとも一部をアミノ基に変性した変性PVB、水酸基の少なくとも一部にエチレングリコールやプロピレングリコール及びこれらの複量体を導入した変性PVB等が挙げられる。ポリビニルアセタールの分子量としては、彫刻感度と皮膜性のバランスを保つ観点で、重量平均分子量として5,000~800,000であることが好ましく、8,000~500,000であることがより好ましい。更に、彫刻カスのリンス性向上の観点からは、50,000~300,000であることが特に好ましい。以下、ポリビニルアセタールの特に好ましい例として、ポリビニルブチラールPVB及びその誘導体を挙げて説明するが、これに限定されない。ポリビニルブチラールの構造は、以下に示す通りであり、これらの構成単位を含んで構成される。上記式中、l、m及びnは上記式中のそれぞれの繰返し単位のポリビニルブチラール中における含有量モルを表し、lmn=100の関係を満たす。ポリビニルブチラール及びその誘導体中のブチラール含量上記式中におけるlの値は、30~90モルが好ましく、40~85モルがより好ましく、45~78モルが特に好ましい。彫刻感度と皮膜性とのバランスの観点から、ポリビニルブチラール及びその誘導体の重量平均分子量は、5,000~800,000が好ましく、8,000~500,000がより好ましく、彫刻カスのリンス性向上の観点からは、50,000~300,000が特に好ましい。PVBの誘導体としては、市販品としても入手可能であり、その好ましい具体例としては、アルコール溶解性特にエタノールの観点で、積水化学工業株製のエスレックBシリーズ、エスレックKKSシリーズ、電気化学工業株製のデンカブチラールが好ましい。更に好ましくは、アルコール溶解性特にエタノールの観点で積水化学工業株製のエスレックBシリーズと電気化学工業株製のデンカブチラールである。これらのうち、特に好ましい市販品を、上記式中の、l、m、及びnの値と、分子量とともに以下に示す。積水化学工業株製のエスレックBシリーズでは、BL-1l=61、m=3、n=36重量平均分子量1.9万、BL-1Hl=67、m=3、n=30重量平均分子量2.0万、BL-2l=61、m=3、n=36重量平均分子量約2.7万、BL-5l=75、m=4、n=21重量平均分子量3.2万、BL-Sl=74、m=4、n=22重量平均分子量2.3万、BM-Sl=73、m=5、n=22重量平均分子量5.3万、BH-Sl=73、m=5、n=22重量平均分子量6.6万が、また、電気化学工業株製のデンカブチラールシリーズでは3000-1l=71、m=1、n=28重量平均分子量7.4万、3000-2l=71、m=1、n=28重量平均分子量9.0万、3000-4l=71、m=1、n=28重量平均分子量11.7万、4000-2l=71、m=1、n=28重量平均分子量15.2万、6000-Cl=64、m=1、n=35重量平均分子量30.8万、6000-EPl=56、m=15、n=29重量平均分子量38.1万、6000-CSl=74、m=1、n=25重量平均分子量32.2万、6000-ASl=73、m=1、n=26重量平均分子量24.2万が、それぞれ挙げられる。PVB誘導体を特定ポリマーとして用いてレリーフ形成層を製膜する際には、溶剤に溶かした溶液をキャストし乾燥させる方法が、膜表面の平滑性の観点で好ましい。2アクリル樹脂特定ポリマーとして用いることができるアクリル樹脂としては、公知のアクリル単量体を用いて得るアクリル樹脂であって、分子内にヒドロキシル基を有するものであればよい。ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂の合成に用いられるアクリル単量体としては、例えばメタアクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類メタアクリルアミド類であって分子内にヒドロキシル基を有するものが好ましい。この様な単量体の具体例としては例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート等が挙げられる。なお、本発明において、メタアクリルとは、アクリル及びメタアクリルのいずれか一方、又は、その両方を含む語であり、メタアクリレートとは、アクリル及びメタアクリルのいずれか一方、又は、その両方を含む語である。また、アクリル樹脂としては、上記ヒドロキシル基を有するアクリル単量体以外のアクリル単量体を共重合成分として含むこともできる。このようなアクリル単量体としては、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、アセトキシエチルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、2-2-メトキシエトキシエチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルメタアクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルメタアクリレート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、エチレングリコールとプロピレングリコールとの共重合体のモノメチルエーテルメタアクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルメタアクリレート、N,N-ジエチルアミノエチルメタアクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピルメタアクリレート等が挙げられる。更に、ウレタン基やウレア基を有するアクリル単量体を含んで構成される変性アクリル樹脂も好ましく使用することができる。これらの中でも、水性インキ耐性の観点で、ラウリルメタアクリレートなどのアルキルメタアクリレート類、t-ブチルシクロヘキシルメタクリレートなど脂肪族環状構造を有するメタアクリレート類が特に好ましい。3ノボラック樹脂また、特定ポリマーとして、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂であるノボラック樹脂を用いることができる。好ましいノボラック樹脂としては、例えばフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m-クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、p-クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、o-クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m-/p-混合クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール/クレゾールm-,p-,o-又はm-/p-,m-/o-,o-/p-混合のいずれでもよい。の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂などが挙げられる。これらのノボラック樹脂は、重量平均分子量が800~200,000で、数平均分子量が400~60,000のものが好ましい。特定ポリマーとして、ヒドロキシル基を側鎖に有するエポキシ樹脂を用いることも可能である。好ましい具体例としては、ビスフェノールAとエピクロヒドリンの付加物を原料モノマーとして重合して得られるエポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は、重量平均分子量が800~200,000であり、かつ、数平均分子量が400~60,000のものが好ましい。特定ポリマーの中でも、レリーフ形成層としたときのリンス性及び耐刷性の観点でポリビニルブチラール誘導体が特に好ましい。本発明における特定ポリマーに含まれるヒドロキシル基の含有量は、前記いずれの態様のポリマーにおいても、0.1~15mmol/gであることが好ましく、0.5~7mmol/gであることがより好ましい。レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版には、上記特定ポリマーに加え、ヒドロキシル基を有しないポリマーなど特定ポリマーに包含されない公知のポリマーを単独使用又は上記の特定ポリマーと併用することができる。以下、このようなポリマーを一般ポリマーともいう。一般ポリマーは、前記特定ポリマーとともに、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版に含有される主成分を構成するものであり、特定ポリマーに包含されない一般的な高分子化合物を適宜選択し、1種又は2種以上を使用することができる。特に、レリーフ形成版原版を印刷版原版に用いる際は、レーザー彫刻性、インキ受与性、彫刻カス分散性などの種々の性能を考慮してバインダーポリマーを選択することが必要である。一般ポリマーとしては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレアポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、アクリル樹脂、アセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマーなどから選択して用いることができる。例えば、レーザー彫刻感度の観点からは、露光或いは加熱により熱分解する部分構造を含むポリマーが好ましい。このようなポリマーは、特開2008-163081号公報の段落0038に記載されているものが好ましく挙げられる。また、例えば、柔軟で可撓性を有する膜形成が目的とされる場合には、軟質樹脂や熱可塑性エラストマーが選択される。特開2008-163081号公報の段落0039~0040に詳述されている。更に、レーザー彫刻用組成物の調製の容易性、得られたフレキソ印刷版における油性インクに対する耐性向上の観点から、親水性又は親アルコール性ポリマーを使用することが好ましい。親水性ポリマーとしては、特開2008-163081号公報の段落0041に詳述されているものを使用することができる。本発明のレーザー彫刻用組成物には、成分Eを1種のみ用いてもよく、2種以上を併用してもよい。本発明のレーザー彫刻用組成物における成分Eの含有量は、塗膜の形態保持性と耐水性と彫刻感度をバランスよく満足する観点で、本発明のレーザー彫刻用組成物の全重量に対し、2~95重量であることが好ましく、5~80重量であることがより好ましく、10~60重量であることが特に好ましい。成分Fアルコール交換反応触媒本発明のレーザー彫刻用組成物が成分Dを含有する場合、成分Dと特定バインダーポリマーとの反応を促進するため、成分Fアルコール交換反応触媒を含有することが好ましい。アルコール交換反応触媒は、一般に用いられる反応触媒であれば、限定なく適用できる。以下、代表的なアルコール交換反応触媒である酸或いは塩基性触媒、及び、金属錯体触媒について順次説明する。-酸或いは塩基性触媒-触媒としては、酸或いは塩基性化合物をそのまま用いるか、或いは水又は有機溶剤などの溶媒に溶解させた状態のもの以下、それぞれ酸性触媒、塩基性触媒と称する。を用いる。溶媒に溶解させる際の濃度については特に限定はなく、用いる酸、或いは塩基性化合物の特性、触媒の所望の含有量などに応じて適宜選択すればよい。酸性触媒或いは塩基性触媒の種類は特に限定されないが、具体的には、酸性触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン酸、そのRCOOHで表される構造式のRを他元素又は置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸、リン酸などが挙げられ、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。層中でのアルコール交換反応を速やかに進行させる観点で、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、ピリジニウムp-トルエンスルホネート、リン酸、ホスホン酸、酢酸、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン、ヘキサメチレンテトラミンが好ましく、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、リン酸、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン、ヘキサメチレンテトラミンが特に好ましい。-金属錯体触媒-本発明においてアルコール交換反応触媒として用いられる金属錯体触媒は、好ましくは、周期律表の2、4、5及び13族よりなる群から選ばれる金属元素とβ-ジケトンアセチルアセトンなどが好ましい。、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸又はそのエステル、アミノアルコール、及び、エノール性活性水素化合物よりなる群から選ばれるオキソ又はヒドロキシ酸素化合物から構成されるものである。更に、構成金属元素の中では、Mg、Ca、St、Baなどの2族元素、Ti、Zrなどの4族元素、並びに、V、Nb及びTaなどの5族元素、Al、Gaなどの13族元素が好ましく、それぞれ触媒効果の優れた錯体を形成する。その中でも、Zr、Al又はTiから得られる錯体が優れており、好ましく、特にオルトチタン酸エチルなどが好ましく例示できる。これらは水系塗布液での安定性、及び、加熱乾燥時のゾルゲル反応でのゲル化促進効果に優れているが、中でも、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、ジアセチルアセトナトチタニウム錯塩、ジルコニウムトリスエチルアセトアセテートが特に好ましい。本発明のレーザー彫刻用組成物には、アルコール交換反応触媒を1種のみ用いてもよく、2種以上併用してもよい。レーザー彫刻用組成物におけるアルコール交換反応触媒の含有量は、水酸基を有する特定バインダーポリマーに対して、0.01~20重量であることが好ましく、0.1~10重量であることがより好ましい。その他の成分本発明のレーザー彫刻用組成物には、さらにその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましい添加剤に関し例示する。<重合禁止剤>本発明においては以上の基本成分の他にレーザー彫刻用組成物の製造中或いは保存中において重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加してもよい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、t-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4-チオビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-t―ブチルフェノール、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、レーザー彫刻用組成物の全重量に対して0.01重量以上10重量以下が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、平版印刷版原版とする場合、支持体等への塗布後の乾燥の過程でその感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、レーザー彫刻用組成物の全重量に対して0.5重量以上15重量以下が好ましい。<充填剤>充填剤としては有機化合物、無機化合物、或いはこれらの混合物のいずれでもよい。例えば、有機化合物としては、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、フラーレン、黒鉛などが挙げられる。無機化合物としては、シリカ、アルミナ、アルミニウム、炭酸カルシウムなどが挙げられる。<可塑剤>可塑剤は、レーザー彫刻用組成物を柔軟化する作用を有するものであり、バインダーポリマーに対して相溶性のよいものである必要がある。可塑剤としては例えばジエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、レーザー彫刻用組成物の固形分の全重量に対して60重量以下の添加量が好ましく、50重量以下がより好ましい。<着色剤>更に、レーザー彫刻用組成物の着色を目的として染料又は顔料等の着色剤を添加してもよい。これにより、画像部の視認性や、画像濃度測定機適性といった性質を向上させる事ができる。着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。着色剤の添加量はレーザー彫刻用組成物の全重量に対して0.5重量以上10重量以下が好ましい。<共増感剤>ある種の添加剤以後、共増感剤という。を用いることで、レーザー彫刻用組成物を光硬化させる際の感度を更に向上させることができる。これらの作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。即ち、光重合開始剤により開始される光反応とそれに引き続く重合反応の過程で生じる様々な中間活性種ラジカル、カチオンと、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。これらは、大きくは、i還元されて活性ラジカルを生成しうるもの、ii酸化されて活性ラジカルを生成しうるもの、iii活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、又は連鎖移動剤として作用するものに分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては通説がない場合も多い。本発明に使用しうる共増感剤としては、トリハロメチル-s-トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾールやジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、N-アルコキシピリジニウムアジニウム塩類、アルキルアート錯体、アルキルアミン化合物、α-置換メチルカルボニル化合物、2-メルカプトベンズチアゾール類、2-メルカプトベンゾオキサゾール類、2-メルカプトベンズイミダゾール類等が挙げられる。これらの共増感剤のより具体的な例は、例えば、特開平9-236913号公報中に、感度向上を目的とした添加剤として、多く記載されており、それらを本発明においても適用することができる。共増感剤は、単独で又は2種以上併用して用いることができる。使用量は重合性化合物100重量部に対し好ましくは0.05重量部以上100重量部以下、より好ましくは1重量部以上80重量部以下、更に好ましくは3重量部以上50重量部以下の範囲が適当である。<溶媒>本発明において、レーザー彫刻用組成物を調製する際に用いる溶媒は、主として非プロトン性の有機溶媒を用いることが好ましい。より具体的には、非プロトン性の有機溶媒/プロトン性有機溶媒=100/0~50/50重量比で用いることが好ましい。より好ましくは100/0~70/30、特に好ましくは100/0~90/10である。非プロトン性の有機溶媒の好ましい具体例は、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドである。プロトン性有機溶媒の好ましい具体例は、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、1-メトキシ-2-プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3-プロパンジオールである。また、使用する溶媒量は特に限定されないが、レーザー彫刻用組成物中の固形分量が30~95重量となるように使用することが好ましく、45~90重量がより好ましく、60~88重量が更に好ましい。酸素遮断フィルム以下に、本発明に使用される酸素遮断フィルムについて説明する。本発明において、酸素遮断フィルムは、25°C、1気圧下における酸素透過性が30ml/m2dayatm以下であることが好ましく、10ml/m2dayatm以下であることがより好ましく、5ml/m2dayatm以下であることが特に好ましい。酸素透過性は、JIS-K7126B及びASTM-D3985に記載の気体透過度試験方法に則り、モコン社製OX-TRAN2/21を用い、25°C60RHの環境下で酸素透過率ml/m2dayatmを測定する。酸素遮断フィルムの材質については、上記の酸素透過性の好ましい態様を満足する樹脂であれば特に限定されるものではないが、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリフッ化ビニルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ酢酸ビニルフィルム、ポリエステルフィルム、ナイロンフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、及びポリアクリロニトリルフィルムなどの樹脂を好ましく挙げることができ、より好ましくは、ポリエステルフィルム、ナイロンフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリアクリロニトリルフィルムが挙げることができ、特に好ましくは、ポリ塩化ビニリデンフィルムが挙げられる。酸素遮断フィルムの厚さに関しては、酸素遮断フィルムの材質にもよるが、薄すぎるとラミネートする際に皴がよってしまい、彫刻面状不良を引き起こし、厚すぎると取り扱いが不便になり、コスト高にもなるため、10μm以上300μm以下であることが好ましく、50μm以上200μm以下であることがより好ましい。フレキソ印刷版原版の製造方法本発明のフレキソ印刷版原版の製造方法は、成分A及び成分Bを含有する熱硬化性層を形成する熱硬化性層形成工程、酸素遮断フィルムを該熱硬化性層に積層する積層工程、及び、該熱硬化性層を熱硬化させる熱硬化工程をこの順で有することが好ましい。また、熱硬化性層の酸素遮断フィルムと接する面とは反対面に接着剤を付与し、支持体を貼り合わせる工程以下、支持体付与工程を更に有することが好ましい。以下、フレキソ印刷版原版の構成について説明した後、各工程について説明する。<レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版>本発明においてレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版とは、レーザー彫刻用組成物からなる熱硬化性を有するレリーフ形成層熱硬化性層が、熱により硬化された架橋レリーフ形成層を有するものである。本発明においてレリーフ形成層とは、熱硬化される前の状態の層をいい、すなわち、本発明のレーザー彫刻用組成物からなる層であり、必要に応じ、乾燥が行われていてもよい。架橋レリーフ形成層を有する印刷版原版をレーザー彫刻することによりフレキソ印刷版が作製される。本発明において架橋レリーフ形成層とは、前記レリーフ形成層を熱硬化により架橋した層をいう。前記の架橋は、熱により行われる。また、前記架橋はレーザー彫刻用組成物が硬化される反応であれば特に限定されず、成分A重合性化合物による重合反応や、成分D加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物と成分Eバインダーポリマーとの反応などによる架橋構造が例示できる。また、本発明においてレリーフ層とは、フレキソ印刷版におけるレーザーにより彫刻された層、すなわち、レーザー彫刻後の前記架橋レリーフ形成層をいう。本発明において、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、前記のような成分を含有するレーザー彫刻用組成物からなるレリーフ形成層熱硬化性層を有する。架橋レリーフ形成層は、支持体上に設けられることが好ましい。また、レリーフ形成層には、酸素遮断フィルムが積層ラミネートされる。更に、酸素遮断フィルムを剥離した後、保護フィルムを設けることもできる。レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、必要により更に、支持体と架橋レリーフ形成層との間に接着層を、また、架橋レリーフ形成層と酸素遮断フィルムとの間、又は架橋レリーフ形成層と保護フィルムとの間にスリップコート層を有していてもよい。[レリーフ形成層]レリーフ形成層は、前記のレーザー彫刻用組成物からなる層であり、熱により架橋する層である。レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版によるフレキソ印刷版の作製態様としては、レリーフ形成層を架橋させて架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版とした後、架橋レリーフ形成層硬質のレリーフ形成層をレーザー彫刻することによりレリーフ層を形成してフレキソ印刷版を作製する態様であることが好ましい。レリーフ形成層を架橋することにより、印刷時におけるレリーフ層の摩耗を防ぐことができ、また、レーザー彫刻後にシャープな形状のレリーフ層を有するフレキソ印刷版を得ることができる。レリーフ形成層は、レリーフ形成層用の前記の如き成分を有するレーザー彫刻用組成物を、シート状又はスリーブ状に成形することで形成することができる。レリーフ形成層は、通常、後述する支持体上に設けられるが、製版、印刷用の装置に備えられたシリンダーなどの部材表面に直接形成したり、そこに配置して固定化したりすることもでき、必ずしも支持体を必要としない。[支持体]本発明において、支持体は、可撓性を有し、かつ、寸法安定性に優れた材料が好ましく用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムPET、ポリエチレンナフタレートフィルムPEN、ポリブチレンテレフタレートフィルム、或いはポリカーボネートを好ましく挙げることができる。支持体の厚みは50μm以上350μm以下、好ましくは100μm以上250μm以下が原版の機械的特性、形状安定性或いは印刷版製版時の取り扱い性等から好ましい。また、必要により、支持体とレリーフ形成樹脂層との接着を向上させるために、この種の目的で従来から使用されている公知の接着剤を表面に設けることが好ましい。また、本発明で用いる支持体の表面に物理的、化学的処理を行うことにより、レリーフ形成層又は接着剤層との接着性を向上させることができる。物理的処理方法としては、サンドブラスト法、粒子を含有した液体を噴射するウエットブラスト法、コロナ放電処理法、プラズマ処理法、紫外線或いは真空紫外線照射法などを挙げることができる。また、化学的処理方法としては、強酸強アルカリ処理法、酸化剤処理法、カップリング剤処理法などである。[接着層]レリーフ形成層を支持体上に形成する場合、両者の間には、層間の接着力を強化する目的で接着層を設けてもよい。接着層に使用し得る材料接着剤としては、例えば、I.Skeist編、HandbookofAdhesives、第2版1977に記載のものを用いることができる。[保護フィルム、スリップコート層]レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面への傷や凹み防止の目的で、レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面に保護フィルムを設けてもよい。保護フィルムの厚さは、25~500μmが好ましく、50~200μmがより好ましい。保護フィルムは、例えば、PETのようなポリエステル系フィルム、PEポリエチレンやPPポリプロピレンのようなポリオレフィン系フィルムを用いることができる。またフィルムの表面はマット化されていてもよい。保護フィルムは、剥離可能であることが好ましい。保護フィルムや酸素遮断フィルムが剥離不可能な場合や、逆に架橋レリーフ形成層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロシキアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。これらの中で、粘着性の面から、鹸化度60~99モルの部分鹸化ポリビニルアルコール、アルキル基の炭素数が1~5のヒドロキシアルキルセルロース及びアルキルセルロースが特に好ましく用いられる。以下、フレキソ印刷版原版の製造方法について、それぞれの工程を詳述する。<熱硬化性層形成工程>レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版における熱硬化性層の形成は、特に限定されるものではないが、例えば、レーザー彫刻用組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用組成物から溶剤を除去した後に、エンドレスベルトや金属ドラム等の基体、又は支持体上に溶融押し出しする方法が挙げられる。或いは、レーザー彫刻用組成物を、基体又は支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥してレーザー彫刻用組成物から溶剤を除去する方法でもよい。本発明において、熱硬化性層をシート状、又は円筒状に成形する方法は、既存の樹脂の成形方法を用いることができる。例えば、注型法、ポンプや押し出し機等の機械で樹脂をノズルやダイスから押し出し、ブレードで厚みを合わせる、ロールによりカレンダー加工して厚みを合わせる方法等が例示できる。その際、樹脂の性能を落とさない範囲で加熱しながら成形を行うことも可能である。また、必要に応じて圧延処理、研削処理などを施してもよい。PETやニッケルなどの素材からなるバックフィルムといわれる支持体下敷きの上に成形される場合が多いが、直接印刷機のシリンダー上に成形する場合などもありうる。また、繊維強化プラスチックFRP製、プラスチック製或いは金属製の円筒状基体を用いることもできる。円筒状基体は軽量化のために一定厚みで中空のものを使用することができる。バックフィルム或いは円筒状基体の役割は、印刷版原版の寸法安定性を確保することである。従って、寸法安定性の高いものを選択する必要がある。材料の具体例としては、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビスマレイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンチオエーテル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂からなる液晶樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。また、これらの樹脂を積層して用いることもできる。例えば、厚み4.5μmの全芳香族ポリアミドフィルムの両面に厚み50μmのポリエチレンテレフタレートの層を積層したシート等でもよい。また、多孔質性のシート、例えば繊維を編んで形成したクロスや、不織布、フィルムに細孔を形成したもの等をバックフィルムとして用いることができる。バックフィルムとして多孔質性シートを用いる場合、レーザー彫刻用組成物を孔に含浸させた後に硬化させることで、レリーフ形成層とバックフィルムとが一体化するために高い接着性を得ることができる。クロス或いは不織布を形成する繊維としては、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、アルミナシリカ繊維、ホウ素繊維、高珪素繊維、チタン酸カリウム繊維、サファイア繊維などの無機系繊維、木綿、麻などの天然繊維、レーヨン、アセテート等の半合成繊維、ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリイミド、アラミド等の合成繊維を挙げることができる。また、バクテリアの生成するセルロースは、高結晶性ナノファイバーであり、薄くて寸法安定性の高い不織布を作製することのできる材料である。レーザー彫刻用印刷版原版のレリーフ形成層熱硬化性層の厚みは、その使用目的に応じて任意に設定して構わないが、印刷版として用いる場合には、好ましくは0.05mm以上10mm以下の範囲である。印刷版の耐刷性とレーザー彫刻のしやすさからより好ましくは0.1mm以上7mm以下の範囲である。場合によっては、組成の異なる材料を複数積層していても構わない。レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版のレリーフ形成層の厚みは、好ましくは0.0005mm以上10mm以下、より好ましくは0.005mm以上7mm以下である。複数の層からなる組み合わせとしては、例えば、最表面にYAGレーザー、ファイバーレーザー或いは半導体レーザー等の近赤外線領域に発振波長を有するレーザーを用いて彫刻することができる層を形成し、その層の下に炭酸ガスレーザー等の赤外線レーザー或いは可視紫外線レーザーを用いてレーザー彫刻できる層を形成することも可能である。このような方法でレーザー彫刻する場合、赤外線レーザーと近赤外線レーザーを搭載した別々のレーザー彫刻装置を用いて彫刻することもでき、また、赤外線レーザーと近赤外線レーザーの両方を搭載したレーザー彫刻装置を用いて行うことも可能である。<積層工程>熱硬化性層に酸素遮断フィルムを積層する方法としては、特に限定されないが、熱硬化性層と酸素遮断フィルムとの間に気体が入らないように密着して積層することが好ましい。レーザー彫刻用組成物を支持体表面又は版胴に流延又は塗布した後に、酸素遮断フィルムを積層し、オーブン中で乾燥させてもよく、酸素遮断フィルム上にレリーフ形成層を積層し、次いで支持体を積層する方法でもよく、特に限定されない。<熱硬化工程>本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法は、前記熱硬化性層を熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る熱硬化工程を含む。なお、熱硬化工程は、熱硬化性層と酸素遮断フィルムとが積層された状態で行う。加熱により、熱硬化性層レリーフ形成層を硬化架橋することができる熱硬化工程。熱により硬化を行うための加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。レリーフ形成層を熱架橋することで、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。<支持体付与工程>本発明において、熱硬化性層の前記酸素遮断フィルムと接する面とは反対面に接着剤を付与し、支持体を貼り合わせる工程支持体付与工程を有することが好ましい。支持体付与工程は、熱硬化工程の前に行うこともでき、熱硬化工程の後に行うこともできるが、熱硬化工程の後に行うことが好ましい。エンドレスベルト等の基体上に熱硬化性層を形成した場合に、支持体付与工程を有することが好ましい。使用する接着剤としては特に限定されず、光硬化性接着剤、熱硬化性接着剤、嫌気性接着剤等が例示される。これらの中でも、硬化反応の制御の容易性から、光硬化性接着剤であることが好ましい。光硬化性接着剤は、室温20°Cにおいて液状であっても固体状であってもよい。室温で液状である場合には、粘度が100Pas~10kPasであることが好ましく、より好ましくは500Pas~5kPasであり、更に好ましくは1kPas~5kPasである。上記の粘度範囲であると、接着剤を付与した際に液だれが抑制されるので好ましい。また、室温について固体状である場合には、光硬化性接着剤が軟化する温度まで加熱することが好ましい。また、溶剤に溶解させて塗布後、溶剤を乾燥除去することが好ましいが、無溶剤型のホットメルト光硬化性接着剤を加熱した状態で塗布してもよい。接着剤として光硬化性接着剤を使用する場合には、透明支持体を使用することが好ましい。透明支持体は光の透過率が高く、光硬化性接着剤を硬化させるために、支持体側から光照射することができ、少ない照射量で硬化反応を行うことができる。<その他の層>本発明では、支持体と樹脂製フィルム感光層以外の層との間、或いは樹脂製フィルムと架橋レリーフ形成層との間にクッション性を有する樹脂或いはゴムからなるクッション層を形成することができる。支持体と樹脂製フィルムとの間にクッション層を形成する場合、片面に接着剤層の付いたクッション層を、接着剤層側を円筒状支持体に向けて貼り付ける方法が簡便である。クッション層を貼り付けた後、表面を切削、研磨して整形することもできる。より簡便な方法は、液状光硬化性組成物を支持体上に一定厚みで塗布し、光を用いて硬化させクッション層を形成する方法である。クッション性を有するために、光硬化した硬化物の硬度が低いことが好ましい。また、該クッション層中に気泡を含むものであっても構わない。更に、クッション層の表面を切削、研磨等で整形することも可能であり、このようにして作製されたクッション層はシームレスクッション層として有用である。フレキソ印刷版及びその製版方法本発明において、フレキソ印刷版の製版方法は、本発明の製造方法により得られたフレキソ版原版をレーザー彫刻する彫刻工程、を含むことが好ましい。フレキソ印刷版は、熱硬化性層レリーフ形成層を硬化架橋及びレーザー彫刻して得られたレリーフ層を有するフレキソ印刷版であり、本発明のフレキソ印刷版の製版方法により製版されたフレキソ印刷版であることが好ましい。<レーザー彫刻の条件>レーザー彫刻においては、形成したい画像をデジタル型のデータとしてコンピューターを利用してレーザー装置を操作し、原版上にレリーフ画像を作成する。レーザー彫刻に用いるレーザーは、原版が吸収を有する波長を含むものであればどのようなものを用いてもよいが、彫刻を高速度で行うためには出力の高いものが望ましく、炭酸ガスレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー等の赤外線或いは近赤外線領域に発振波長を有するレーザーが好ましいものの一つである。また、紫外線領域に発振波長を有する紫外線レーザー、例えばエキシマレーザー、第3或いは第4高調波へ波長変換したYAGレーザー、銅蒸気レーザー等は、有機分子の結合を切断するアブレージョン加工が可能であり、微細加工に適する。フェムト秒レーザーなど極めて高い尖頭出力を有するレーザーを用いることもできる。また、レーザーは連続照射でも、パルス照射でもよい。レーザーによる彫刻は酸素含有ガス下、一般には空気存在下又は気流下に実施するが、炭酸ガス、窒素ガス下でも実施できる。彫刻終了後、フレキソ印刷版面にわずかに発生する粉末状又は液状の物質は適当な方法、例えば溶剤や界面活性剤の入った水等で洗いとる方法、高圧スプレー等により水系洗浄剤を照射する方法、高圧スチームを照射する方法などを用いて除去する洗浄工程リンス工程を有してもよい。本発明において、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版又はフレキソ印刷版は、印刷版用レリーフ画像の他、スタンプ印章、エンボス加工用のデザインロール、電子部品作成に用いられる絶縁体、抵抗体、導電体ペーストのパターニング用レリーフ画像、窯業製品の型材用レリーフ画像、広告表示板などのディスプレイ用レリーフ画像、各種成型品の原型母型など各種の用途に応用し利用できる。<レーザー彫刻後の表面処理>また、本発明の凹凸パターンを形成した円筒状印刷版のレリーフ表面に改質層を形成させることにより、印刷版表面のタックの低減、インク濡れ性の向上を行うこともできる。改質層としては、シランカップリング剤或いはチタンカップリング剤等の表面水酸基と反応する化合物で処理した被膜、或いは多孔質無機粒子を含有するポリマーフィルムを挙げることができる。広く用いられているシランカップリング剤は、基材の表面水酸基との反応性の高い官能基を分子内に有する化合物であり、そのような官能基とは、例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリクロロシリル基、ジエトキシシリル基、ジメトキシシリル基、ジモノクロロシリル基、モノエトキシシリル基、モノメトキシシリル基、モノクロロシリル基を挙げることができる。また、これらの官能基は分子内に少なくとも1つ以上存在し、基材の表面水酸基と反応することにより基材表面に固定化される。更にシランカップリング剤を構成する化合物は、分子内に反応性官能基としてアクリロイル基、メタクリロイル基、活性水素含有アミノ基、エポキシ基、ビニル基、パーフルオロアルキル基、及びメルカプト基から選ばれた少なくとも1個の官能基を有するもの、或いは長鎖アルキル基を有するものを用いることができる。表面に固定化したカップリング剤分子が特に重合性反応基を有する場合、表面への固定化後、光、熱、或いは電子線を照射し架橋させることにより、より強固な被膜とすることもできる。表面処理液は、上記のカップリング剤に、必要に応じ、水-アルコール、或いは酢酸水-アルコール混合液で希釈して調製する。処理液中のカップリング剤の濃度は、0.05重量以上10.0重量以下が好ましい。カップリング剤処理法について説明する。前記のカップリング剤を含む処理液を、印刷版原版、或いはレーザー彫刻後の印刷版表面に塗布して用いられる。カップリング剤処理液を塗布する方法に特に限定はなく、例えば浸漬法、スプレー法、ロールコート法、或いは刷毛塗り法等を適応することができる。また、被覆処理温度、被覆処理時間についても特に限定はないが、5°C以上60°C以下であることが好ましく、処理時間は0.1秒以上60秒以下であることが好ましい。更に樹脂版表面上の処理液層の乾燥を加熱下に行うことが好ましく、加熱温度としては50°C以上150°C以下が好ましい。カップリング剤で印刷版表面を処理する前に、キセノンエキシマランプ等の波長が200nm以下の真空紫外線領域の光を照射する方法、或いはプラズマ等の高エネルギー雰囲気に曝すことにより、印刷版表面に水酸基を発生させ高密度にカップリング剤を固定化することもできる。また、無機多孔質体粒子を含有する層が印刷版表面に露出している場合、プラズマ等の高エネルギー雰囲気下で処理し、表面の有機物層を若干エッチング除去することにより印刷版表面に微小な凹凸を形成させることができる。この処理により印刷版表面のタックを低減させること、及び表面に露出した無機多孔質体粒子がインクを吸収しやすくすることによりインク濡れ性が向上する効果も期待できる。本発明のフレキソ印刷版の製版方法では、彫刻工程に次いで、更に、必要に応じて下記リンス工程、乾燥工程、及び/又は、後架橋工程を含んでもよい。リンス工程:彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程。乾燥工程:彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。後架橋工程:彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。前記彫刻工程を経た後、彫刻表面に彫刻カスが付着しているため、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻されたレリーフ形成層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。更に、必要に応じてレリーフ形成層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。本発明に用いることができるリンス液のpHは、9以上であることが好ましく、10以上であることがより好ましく、11以上であることが更に好ましい。また、リンス液のpHは、14以下であることが好ましく、13.5以下であることがより好ましく、13.2以下であることが更に好ましく、12.5以下であることが特に好ましい。上記範囲であると、取り扱いが容易である。リンス液を上記のpH範囲とするために、適宜、酸及び/又は塩基を用いてpHを調整すればよく、使用する酸及び塩基は特に限定されない。本発明に用いることができるリンス液は、主成分として水を含有することが好ましい。また、リンス液は、水以外の溶剤として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶剤を含有していてもよい。リンス液は、界面活性剤を含有することが好ましい。本発明に用いることができる界面活性剤としては、彫刻カスの除去性、及び、フレキソ印刷版への影響を少なくする観点から、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物等のベタイン化合物両性界面活性剤が好ましく挙げられる。また、界面活性剤としては、公知のアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤等も挙げられる。更に、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、リンス液の全重量に対し、0.01~20重量であることが好ましく、0.05~10重量であることがより好ましい。以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例及び比較例において、特に断りのない限り、部は重量部を意味し、は重量を意味する。本実施例及び比較例において使用した成分A~成分Dの化合物を下記に示す。成分A:重合性化合物A-1:ジエチレングリコールジメタクリレート新中村化学工業株製A-2:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA新中村化学工業株製A-3:トリシクロデカンジメタノールジメタクリレートDCP新中村化学工業株製成分C:光熱変換剤C-1:カーボンブラック旭80N-220旭カーボン株製成分DD-1:3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシランKBE-503、信越化学工業株製D-2:ビストリエトキシシリルプロピルテトラスルフィドKBE-846、信越化学工業株製D-3:トリス3-トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレートX-12-965、信越化学工業株製酸素遮断フィルムとして使用したフィルムを下記に示す。ポリエステルフィルム膜厚:100μm:ルミラー100TF富士フイルム株製ポリエステルフィルム膜厚:50μm:ルミラーX42東レ株製ナイロンフィルム:スーパーニールSP-R-P三菱樹脂株製ポリアクリロニトリルフィルム:ゼクロン三井化学株製ポリ塩化ビニリデンフィルム:サランラップ旭化成株製実施例1~44、比較例1~14<レーザー彫刻用組成物の作製方法>デンカブチラール電気化学工業株製、Tg:68°Cを撹拌ヘラ及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に40重量部加え、可塑剤としてジエチレングリコールを20重量部、溶媒としてテトラヒドロフラン150重量部を入れ、撹拌しながら70°Cで120分間加熱しバインダーを溶解した。このバインダー分散液に重合開始剤としてパーブチルZt-ブチルパーオキシベンゾエート日油株製を0.005重量部、連鎖移動剤としてKBM802信越化学工業株製を3重量部、C-1カーボンブラック旭80N-220を5重量部、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン和光純薬工業株製を0.5重量部、更に下記表に記載の成分A重合性化合物、成分Dシランカップリング剤加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物をそれぞれ15重量部、6重量部加え、撹拌することでレーザー彫刻用組成物を得た。<レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の作製>レーザー彫刻用組成物をPET基板支持体上に流出しない程度に静かに流延し、下記表に記載の酸素遮断フィルムをレーザー彫刻用組成物と酸素遮断フィルムの間に空気が入らないように貼り、100°Cのオーブン中で5時間加熱し、溶媒の除去及び熱架橋した後に、レーザー彫刻してレリーフ層を形成することによりフレキソ印刷版を作製した。また、この際に酸素遮断フィルム側を酸素遮断フィルム面、PET基板側の面をPET面と以後記載する。実施例45~50、比較例15~17<レーザー彫刻用組成物の作製方法>デンカブチラール電気化学工業株製、Tg:68°Cを撹拌ヘラ及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に40重量部加え、可塑剤としてジエチレングリコールを20重量部、溶媒としてテトラヒドロフラン150重量部を入れ、撹拌しながら70°Cで120分間加熱しバインダーを溶解した。このバインダー分散液に重合開始剤としてパーブチルZt-ブチルパーオキシベンゾエート日油株製を0.005重量部、連鎖移動剤としてKBM802信越化学工業株製を3重量部、C-1カーボンブラック旭80N-220を5重量部、D-13-メタクリロキシプロピルトリエトキシシランを6重量部、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン和光純薬工業株製を0.5重量部、更に下記表に記載の成分A重合性化合物を15重量部加え、撹拌することでレーザー彫刻用組成物を得た。<レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の作製>レーザー彫刻用組成物をPET基板支持体上に流出しない程度に静かに流延し、下記表3に記載の酸素遮断フィルムをレーザー彫刻用組成物と酸素遮断フィルムの間に空気が入らないように貼り、100°Cのオーブン中で5時間加熱し、溶媒の除去及び熱架橋することでレリーフ層を形成することによりフレキソ印刷版原版を作製した。この印刷版原版のレリーフ層と支持体とを剥がし、支持体を剥がした面のレリーフ層の上に、アクリル系紫外線硬化性樹脂3003ThreeBond社製を流延し、剥がした支持体を紫外線硬化性樹脂と支持体の間に気泡が入らないように貼り、UV露光機としてアイグランテージアイグラフィックス社製を用いて、4kW、1分間の条件で露光することでレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を作製した。また、この際に酸素遮断フィルム側を酸素遮断フィルム面、PET基板側の面をPET面と以後記載する。測定、評価方法<酸素透過性測定>使用した酸素遮断フィルムをそのまま測定用のサンプルとして使用した。JIS-K7126B及びASTM-D3985に記載の気体透過度試験方法に則り、モコン社製OX-TRAN2/21を用い、25°C、60RHの環境下で酸素透過率ml/m2dayatmを測定した。<タック測定付着紙粉量測定>酸素遮断フィルムを剥離した後、2cm四方のフレキソ印刷原版の重量を計量し、バットに敷いた100セルロース紙粉細ZELATEXJAPAN社製に版の酸素遮断フィルム面側のみを押し付け、未着紙粉を振り払った後、フレキソ印刷原版の重量を計量し、付着した紙粉の重量を計量した。紙粉が少ない方がタック性が低く、ゴミがつきにくいことを示す。付着した紙粉の重量を表に記す。<カス飛散性測定>彫刻には炭酸ガスレーザー彫刻機HELIOS6010StorkPrints社製を用い、酸素遮断フィルム面を彫刻した。酸素遮断フィルムを剥離し、ドラムに張り付けた彫刻版の回転軌道上にPETを置き、遠心力により飛散した液状彫刻カスを採取し、PETに付着した液状彫刻カスの液滴面積を測定した。測定した液滴面積を下記表に記す。彫刻条件は、レーザー出力:500W、ドラム回転数:800cm/秒、レリーフ深度:0.30mm、に設定し、4cm四方のベタ部分を彫刻した。<版強度の測定>版強度は、ベタ部を砂時計型に型抜きした後、日本電産シンポ株製荷重試験機FGS-100TVを用いてにより版が破断する際に必要な単位面積当たりの荷重N/mm2を測定した。比較例1が破断した際に必要となる荷重を100とし、他の版の版強度を算出した。版強度をこの数値が大きいほど、版強度が優れることを意味する。下記表に結果を記す。<カール測定浮き上がり高さの測定>フレキソ印刷原版を2cm×6cmに型抜き、40°Cのオーブン内で120時間静置した後、原版の四隅と水平台の距離を測定した。下記表に結果を記す。<低層化測定ベタ部からの低層化距離の測定>酸素遮断フィルムを剥離したフレキソ印刷原版を炭酸ガスレーザー彫刻機により網点彫刻を行った後、ベタ彫刻部分の断面を超深度カラー3D形状測定顕微鏡VK9510株キーエンス製にて観察し、網点頂点部の高さと未彫刻部分の高さの差を測定した。網点頂点部の幅が10μmである10網点を彫刻した。炭酸ガスレーザー彫刻機はHELIOS6010StorkPrints社製を用いた。彫刻条件は、レーザー出力:500W、ドラム回転数:800cm/秒、レリーフ深度:0.15mm、に設定し、4cm四方のベタ部分を彫刻した。下記表に結果を記す。<ドットゲイン測定>網点頂点部の幅が10μmの20網点彫刻した版が印刷物とキスタッチする位置を0点位置とし、印刷物方向に40μm押し付けた状態以下、標準圧と表記及び、100μm押し付けた状態以下、強制圧と表記において、印刷を行い、印刷物に転写されたインキのシアン反射濃度を測定した。[強制圧時のシアン反射濃度]/[標準圧時のシアン反射濃度]の値を表に示す。[強制圧時のシアン反射濃度]/[標準圧時のシアン反射濃度]が1に近いほど、ドットゲインがなく、印刷性能に優れることを示す。フレキソ印刷原版を炭酸ガスレーザー彫刻機はHELIOS6010StorkPrints社製を用い、網点頂点部の幅が10μmである20網点を彫刻した後、彫刻カスを水で洗い流した。UVインキとしてTK社製UVフレキソ500を用い、日本製紙株製のオーロラコート紙に印刷を行った。印刷物に関してグレタグマクベス社製スペクトロアイを用いてシアン反射濃度を測定した。彫刻条件は、レーザー出力:500W、ドラム回転数:800cm/秒、レリーフ深度:0.30mmに設定した。<剥離力測定>剥離力は、酸素遮断フィルムを剥離した後、2cm×6cmにカットし、日本電産シンポ株製荷重試験機FGS-100TVを用いてにより印刷版原版と接着層が剥がれる際に必要な単位幅当たりの荷重N/cmを測定した。比較例15が破断した際に必要となる荷重を100とし、他の版の剥離力を算出した。剥離力とは、ラミネートした版の原版部と接着層を剥がすのに必要な力を示しており、剥離力が大きいほど、接着層と原版とが剥がれにくく、長時間の印刷に耐えられることを意味する。下記表3に結果を記す。上記の表の結果から、熱重合開始剤及び重合性化合物を含有する熱硬化性層と25°C、1気圧下における酸素透過性が30ml/m2dayatm以下の酸素遮断フィルムをラミネートし、該熱硬化性層を熱硬化させることを特徴とする製造方法により作製したレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、レリーフ面の低層化、経時でカール、ゴミの付着、酸素遮断フィルム面の粘稠性を低減させることができ、更に版強度及び印刷性能に優れていることが確認された。また、低層化を低減することができ、被印刷体にインキ転写して作製した画像のハイライト濃淡は良好であり、一方、比較例ではハイライトが不足していることを確認した。また、接着層と原版が剥がれると、版の交換の必要性があるが、接着層と原版とが剥がれにくくなることで、印刷時の版の横ズレが抑制でき、また、耐刷性が向上した。さらに、支持体上に、塗布液を流延する方法で製版すると、ホットフローによるエッジ部の膜厚低下が起こり、印刷版にする際には、膜厚が薄い部分は、切り捨てる必要があり、無駄があった。本発明では、酸素遮断フィルムを貼ることにより、ホットフローを抑制でき、エッジ部の膜厚低下が無くなることが分かった。これは酸素遮断フィルムの表面張力により、熱硬化性組成物がホットフローを回避させたと考えられるが原因については定かではない。"