"金属板表面に形成された皮膜の膜厚均一性を評価する膜厚均一性評価方法であって、グロー放電発光分光法を利用して金属板の構成元素の深さ方向のプロファイルを測定する測定ステップと、前記測定ステップにおいて測定されたプロファイルの形状を近似する関数を算出する算出ステップと、前記算出ステップにおいて算出された関数を用いて前記皮膜の膜厚均一性を評価する評価ステップと、を含むことを特徴とする膜厚均一性評価方法。前記関数は、Hill関数であり、前記評価ステップは、前記算出ステップにおいて算出されたHill関数のHill係数を用いて前記皮膜の膜厚均一性を評価するステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の膜厚均一性評価方法。前記評価ステップは、標準試料について算出された関数と評価対象の試料について算出された関数とを比較することによって、該評価対象の試料における前記皮膜の膜厚均一性を評価するステップを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の膜厚均一性評価方法。しかしながら、特許文献1記載の評価方法は、光の透過量を用いて皮膜の膜厚均一性を評価するものであるために、皮膜および基材が光を透過しない場合には、皮膜の膜厚均一性を評価することができない。また、特許文献2記載の評価方法は、数mm以上の広がりを有する膜厚分布しか測定することができない。すなわち、特許文献1,2記載の評価方法では、光を透過しない皮膜および基材であって、膜厚分布の広がりが100[μm]以下の目視できない範囲内にある皮膜の膜厚均一性を評価することができない。なお、このような問題点を解決するために、例えば機械研磨や収束イオンビーム法などを利用して断面観察用試料を作製し、光学顕微鏡や電子顕微鏡を利用して皮膜の膜厚均一性を評価する方法を用いることが考えられる。しかしながら、この方法では、試料の前処理に多くの労力および時間を要する上に、試料の部分領域における断面を観察して膜厚均一性を評価することになるために、評価結果が試料の全ての領域に適用できるとは限らない。一方、2次元で皮膜の膜厚分布を評価する方法として、電子プローブマイクロアナライザEPMAや走査電子顕微鏡SEMに付属している波長分散型X線分光器あるいはエネルギー分散型X線分光器を利用したX線分光法が知られている。このX線分光法を利用して皮膜の膜厚均一性を評価した場合、断面観察試料を作製する場合と比較して、試料の前処理に要する労力を大幅に削減することができる。しかしながら、X線分光法を利用して膜厚均一性を評価する場合には、1視野あたり数十分から数時間程度の測定時間が必要になるために、膜厚均一性の評価に多くの時間を要する。本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、光を透過しない皮膜および基材であって、膜厚分布の広がりが100[μm]以下の目視できない範囲内にある皮膜の膜厚均一性を簡便、且つ、迅速に評価可能な膜厚均一性評価方法を提供することにある。上記課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る膜厚均一性評価方法は、金属板表面に形成された皮膜の膜厚均一性を評価する膜厚均一性評価方法であって、グロー放電発光分光法を利用して金属板の構成元素の深さ方向のプロファイルを測定する測定ステップと、前記測定ステップにおいて測定されたプロファイルの形状を近似する関数を算出する算出ステップと、前記算出ステップにおいて算出された関数を用いて前記皮膜の膜厚均一性を評価する評価ステップと、を含むことを特徴とする。本発明に係る膜厚均一性評価方法は、上記の発明において、前記関数が、Hill関数であり、前記評価ステップが、前記算出ステップにおいて算出されたHill関数のHill係数を用いて前記皮膜の膜厚均一性を評価するステップを含むことを特徴とする。本発明に係る膜厚均一性評価方法は、上記の発明において、前記評価ステップが、標準試料について算出された関数と評価対象の試料について算出された関数とを比較することによって、該評価対象の試料における前記皮膜の膜厚均一性を評価するステップを含むことを特徴とする。本発明に係る膜厚均一性評価方法によれば、光を透過しない皮膜および基材であって、膜厚分布の広がりが100[μm]以下の目視できない範囲内にある皮膜の膜厚均一性を簡便、且つ、迅速に評価することができる。以下、図面を参照して、本発明に係る膜厚均一性評価方法について説明する。本発明の発明者らは、鋼板に形成された膜厚分布の度合いが異なる複数の皮膜についてグロー放電発光分光法GDSを用いた深さ方向分析を行った結果、鋼板の構成元素であるFeの深さ方向GDSプロファイル発光強度とスパッタ時間との関係の皮膜/鋼板界面に対応する領域の広がりが皮膜間で異なることを知見した。そして、本発明の発明者らは、Feの深さ方向GDSプロファイルの皮膜/鋼板界面に対応する領域の広がりを皮膜の膜厚均一性の評価指標として用いることによって、光を透過しない皮膜および基材であって、膜厚分布の広がりが100[μm]以下の目視できない範囲内にある皮膜の膜厚均一性を簡便、且つ、迅速に評価できることを見出した。具体的には、板厚1.2[mm]の鋼板SPCGJISG31412009を幅150[mm]および長さ300[mm]の大きさに切り出した鋼板試料表面に対してシリカと樹脂成分とから成る処理液をロールコーターで塗布し、熱風焼き付け炉によって焼き付け温度到達鋼板温度250[°C]で焼き付けた後、常温に放冷することによって、皮膜付着量0.5[g/m2]の皮膜を鋼板試料表面上に形成した。そして、このようにして作製した皮膜の膜厚分布をEPMA装置で評価した。EPMA装置は日本電子株製JXA-8100を用い、測定条件は以下の通りとした。測定条件加速電圧:10[kV]入射電子電流:0.1[μA]プローブ径:最小サイズ1[μm]程度Dwell時間:50[ms]測定間隔:0.5[μm]測定点数:縦300[個]×横300[個]EPMA装置で皮膜の膜厚分布を評価したところ、皮膜構成元素であるSiのマッピング結果はほとんどの試料において図1aに示すようになり、皮膜の均一な膜厚分布が確認された。しかしながら、一部の試料ではSiのマッピング結果は図1bに示すようになり、皮膜の不均一な膜厚分布が確認された。そこで、各試料について試料の皮膜下にある鋼板素地の構成元素であるFeの深さ方向GDSプロファイルをGDS装置で評価した。その結果、図2に示すように、皮膜の膜厚分布が均一な試料から得られたFeの深さ方向GDSプロファイルP1の立ち上がりが、皮膜の膜厚分布が不均一な試料から得られたFeの深さ方向GDSプロファイルP2の立ち上がりよりも急峻であることが確認された。これは、皮膜の膜厚分布が不均一である場合、皮膜の膜厚が薄い部分と皮膜の膜厚が厚い部分とでは鋼板が露出するまでの時間が異なるために、Feの発光強度のばらつきが大きくなり、結果として、Feの深さ方向GDSプロファイルの立ち上がりが皮膜の膜厚が均一である場合に比べて緩慢になるためであると考えられる。従って、鋼板素地の構成元素の深さ方向GDSプロファイルの立ち上がりの急峻さを指標とすることによって、皮膜の膜厚均一性を評価することができる。なお、GDS装置としては、理学電機工業株製System3580を用い、直流モード,電極サイズφ4[mm],Arガス流量250[cc/min],電流20[mA]で測定した。また、測定に要した時間は、EPMA装置で75[分]程度であったのに対して、GDS装置では60[秒]となり、大幅に短縮することができる。次に、本発明の発明者らは、深さ方向GDSプロファイルの立ち上がりの急峻さを定量的に測定する方法について検討した。その結果、図3に示すように、深さ方向GDSプロファイルPは、Hill関数Fで近似できることを知見した。Hill関数はタンパク質や酵素の反応の近似式としてよく用いられている関数であり、以下に示す数式1のように表すことができる。以下に示す数式1中のパラメータHill係数は、深さ方向GDSプロファイルPの立ち上がりの急峻さを表す数値であり、その値が大きいほど、皮膜の膜厚分布が均一であるといえる。以上のことから、皮膜の膜厚均一性が高い標準試料から求められたHill係数と評価対象の試料から求められたHill係数とを比較することによって、評価対象の試料における皮膜の膜厚均一性を評価することができる。なお、上述の評価では、Hill関数を用いて皮膜の膜厚均一性を評価したが、例えばシグモイド関数などのHill関数以外の関数で深さ方向GDSプロファイルを近似し、Hill関数以外の関数で同様にして皮膜の膜厚均一性を評価してもよい。また、上述の評価では、関数の係数値を比較することによって皮膜の膜厚均一性を評価したが、算出された関数の積分値を用いて皮膜の膜厚均一性を評価してもよい。さらに、この場合、関数を算出しなくても深さ方向GDSプロファイルの強度の積算値を積分値の代わりとして求めるようにしてもよい。実施例板厚1.2[mm]の鋼板SPCGJISG31412009を幅150[mm]および長さ300[mm]の大きさに切り出した鋼板試料表面に対してシリカと樹脂成分とから成る処理液をロールコーターで塗布し、熱風焼き付け炉によって焼き付け温度到達鋼板温度250[°C]で焼き付けた後、常温に放冷することによって、皮膜付着量0.5[g/m2]の皮膜を鋼板試料表面上に形成した。そして、このようにして作製した皮膜付き鋼板から30mm角の小片を実施例の試料として切り出し、Feの深さ方向GDSプロファイルをGDS装置で評価した。GDS装置は理学電機工業株製System3580を用い、測定条件は以下の通りとした。また、測定されたFeの深さ方向GDSプロファイルをHill関数で近似し、近似されたHill関数のHill係数を皮膜の膜厚均一性の評価指標として算出した。測定条件測定モード:直流モード電極サイズ:φ4[mm]Arガス流量:250[cc/min]電流:20[mA]比較例板厚1.2[mm]の鋼板SPCGJISG31412009を幅150[mm]および長さ300[mm]の大きさに切り出した鋼板試料表面に対してシリカと樹脂成分とから成る処理液をロールコーターで塗布し、熱風焼き付け炉によって焼き付け温度到達鋼板温度250[°C]で焼き付けた後、常温に放冷することによって、皮膜付着量0.5[g/m2]の皮膜を鋼板試料表面上に形成した。そして、このようにして作製した皮膜付き鋼板から10mm角の小片を比較例の試料として切り出し、この比較例の試料の表面におけるSi強度分布をEPMA装置で評価した。EPMA装置は日本電子株製JXA-8100を用い、測定条件は以下の通りとした。また、測定されたSi強度分布からSi強度の標準偏差を皮膜の膜厚均一性の評価指標として算出した。測定条件加速電圧:10[kV]入射電子電流:0.1[μA]プローブ径:最小サイズ1[μm]程度Dwell時間:50[ms]測定間隔:0.5[μm]測定点数:縦300[個]×横300[個]評価表1に、皮膜の付着量とHill係数およびSi強度の標準偏差との関係を示す。また、図4にHill係数とSi強度の標準偏差との関係を示す。図4から明らかなように、Hill係数とSi強度の標準偏差とは相関関係にあり、Si強度の標準偏差が小さい、すなわち皮膜の膜厚均一性が高いほど、Hill係数は大きくなる。一方、Si強度の標準偏差が大きい、すなわち皮膜の膜厚均一性が低いほど、Hill係数が大きくなる。従って、Feの深さ方向GDSプロファイルをHill関数で近似したときのHill係数を用いることによって、皮膜の膜厚均一性を評価することができる。"