"成分A酸分解性基及び架橋性基を有する樹脂と、成分B感放射線酸発生剤と、成分Cアミノ基を有さず、かつ環状カーボネート構造を2以上有する化合物とを含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。成分Cが、下記式1で表される化合物である、請求項1に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式1中、Lは2価以上のアルキレン基、2価以上のアリーレン基、エステル結合、エーテル結合、ウレタン結合、及び、ウレア結合よりなる群から選ばれた基又はこれらを2以上組み合わせた基を表し、mは0又は1を表し、nは1以上の整数を表す。前記Lが、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、及び、エーテル結合よりなる群から選ばれた基又はこれらを2以上組み合わせた基である、請求項1又は2に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分Cが、環状カーボネート構造を2つ有する化合物である、請求項1~3のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記mが0であり、かつ前記nが1である、請求項1~4のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分Cが、下記式2で表される化合物である、請求項1~4のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式2中、nは1~5の整数を表す。成分Aが、酸基を更に有する、請求項1~6のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分Aが、酸により分解しカルボキシル基を生成する酸分解性基、架橋性基及びカルボキシル基を有する樹脂である、請求項1~7のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分Aが、酸分解性基として、下記式a1-1又は式a1-2で表される構成単位を有する、請求項1~8のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記架橋性基が、オキセタニル基又はエポキシ基である、請求項1~9のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分Bが、オキシムスルホネート基を有する化合物である、請求項1~10のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分D塩基性化合物を更に含有する、請求項1~11のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分Aの含有量が、1~99重量、成分Bの含有量が、0.1~10重量、成分Cの含有量が、1~30重量、及び、成分Dの含有量が、0.001~2重量である、請求項12に記載のポジ型感光性樹脂組成物。1請求項1~13のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、3露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、4現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法。請求項14に記載の方法により形成された硬化膜。請求項1~13のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物に、光及び熱の少なくとも一方を付与して形成された硬化膜。層間絶縁膜である、請求項15又は16に記載の硬化膜。請求項15~17のいずれか1項に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。請求項15~17のいずれか1項に記載の硬化膜を具備する有機EL表示装置。下記式3で表されることを特徴とする多官能環状カーボネート化合物。式3中、Lはn1価のアリーレン基を表し、mは0又は1を表し、nは1~5の整数を表す。前記mが0であり、かつ前記nが1である、請求項20に記載の多官能環状カーボネート化合物。下記式4で表される化合物である、請求項20に記載の多官能環状カーボネート化合物。式4中、nは1~5の整数を表す。しかしながら、特許文献1~3において提案されている感光性樹脂組成物は、層間絶縁膜形成後に使用されるレジストの剥離液やN-メチルピロリドンNMPに対する耐性が高くないことから、液晶表示装置における表示不具合が起こりやすく、改善が求められていた。また、近年、装置が大型になるに従い、プロセスマージン、特にPEDPostExposureDelay特性が要求される。なお、PED特性とは、露光後に現像までの時間に対するパターンの形状安定性のことである。本発明の目的は、得られる硬化膜の剥離液やNMPに対する耐性が高く、PED特性に優れたポジ型感光性樹脂組成物、前記ポジ型感光性樹脂組成物を使用した硬化膜及びその製造方法、液晶表示装置、並びに、有機EL表示装置を提供することにある。また、本発明の目的は、新規な多官能環状カーボネート化合物を提供することにある。本発明の上記課題は、以下の<1>、<14>、<15>、<16>、<18>、<19>又は<20>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>~<13>、<17>、<21>及び<22>とともに以下に記載する。<1>成分A酸分解性基及び架橋性基を有する樹脂と、成分B感放射線酸発生剤と、成分Cアミノ基を有さず、かつ環状カーボネート構造を2以上有する化合物とを含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、<2>成分Cが、下記式1で表される化合物である、上記<1>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、式1中、Lは2価以上のアルキレン基、2価以上のアリーレン基、エステル結合、エーテル結合、ウレタン結合、及び、ウレア結合よりなる群から選ばれた基又はこれらを2以上組み合わせた基を表し、mは0又は1を表し、nは1以上の整数を表す。<3>前記Lが、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、及び、エーテル結合よりなる群から選ばれた基又はこれらを2以上組み合わせた基である、上記<1>又は<2>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<4>成分Cが、環状カーボネート構造を2つ有する化合物である、上記<1>~<3>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<5>前記mが0であり、かつ前記nが1である、上記<1>~<4>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<6>成分Cが、下記式2で表される化合物である、上記<1>~<4>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、式2中、nは1~5の整数を表す。<7>成分Aが、酸基を更に有する、上記<1>~<6>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<8>成分Aが、酸により分解しカルボキシル基を生成する酸分解性基、架橋性基及びカルボキシル基を有する樹脂である、上記<1>~<7>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<9>成分Aが、酸分解性基として、下記式a1-1又は式a1-2で表される構成単位を有する、上記<1>~<8>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<10>前記架橋性基が、オキセタニル基又はエポキシ基である、上記<1>~<9>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<11>成分Bが、オキシムスルホネート基を有する化合物である、上記<1>~<10>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<12>成分D塩基性化合物を更に含有する、上記<1>~<11>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<13>成分Aの含有量が、1~99重量、成分Bの含有量が、0.1~10重量、成分Cの含有量が、1~30重量、及び、成分Dの含有量が、0.001~2重量である、上記<12>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<14>1上記<1>~<13>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、3露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、4現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法、<15>上記<14>に記載の方法により形成された硬化膜、<16>上記<1>~<13>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物に、光及び熱の少なくとも一方を付与して形成された硬化膜、<17>層間絶縁膜である、上記<15>又は<16>に記載の硬化膜、<18>上記<15>~<17>のいずれか1つに記載の硬化膜を具備する液晶表示装置、<19>上記<15>~<17>のいずれか1つに記載の硬化膜を具備する有機EL表示装置、<20>下記式3で表されることを特徴とする多官能環状カーボネート化合物、式3中、Lはn1価のアリーレン基を表し、mは0又は1を表し、nは1~5の整数を表す。<21>前記mが0であり、かつ前記nが1である、上記<20>に記載の多官能環状カーボネート化合物、<22>下記式4で表される化合物である、上記<20>に記載の多官能環状カーボネート化合物。式4中、nは1~5の整数を表す。本発明によれば、得られる硬化膜の剥離液やNMPに対する耐性が高く、PED特性に優れたポジ型感光性樹脂組成物、前記ポジ型感光性樹脂組成物を使用した硬化膜及びその製造方法、液晶表示装置、並びに、有機EL表示装置を提供することができた。また、本発明によれば、新規な多官能環状カーボネート化合物を提供することができた。以下、本発明について詳細に説明する。なお、明細書中、下限~上限の記載は下限以上、上限以下を表し、上限~下限の記載は上限以下、下限以上を表す。すなわち、上限及び下限を含む数値範囲を表す。また、成分A酸分解性基及び架橋性基を有する樹脂等を単に成分A等ともいい、a1酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位等を単に構成単位a1等ともいう。また、アクリレート、メタクリレートの双方あるいはいずれかを指す場合メタアクリレートと、アクリル、メタクリルの双方あるいはいずれかを指す場合メタアクリルと、それぞれ記載することがある。ポジ型感光性樹脂組成物本発明のポジ型感光性樹脂組成物以下、単に感光性樹脂組成物ともいう。は、成分A酸分解性基及び架橋性基を有する樹脂と、成分B感放射線酸発生剤以下、単に開始剤ともいう。と、成分Cアミノ基を有さず、かつ環状カーボネート構造を2以上有する化合物とを含むことを特徴とする。本発明の感光性樹脂組成物は、ポジ型感光性樹脂組成物である。また、本発明の感光性樹脂組成物は、化学増幅型のポジ型感光性樹脂組成物化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、成分B感放射線酸発生剤として1,2-キノンジアジド化合物を含まない方が好ましい。1,2-キノンジアジド化合物は、逐次型光化学反応によりカルボキシ基を生成するが、その量子収率は必ず1以下である。これに対して、オキシムスルホネート化合物などは、活性光線に感応して生成する酸が保護された酸性基の脱保護に対して触媒として作用するので、1個の光量子の作用で生成した酸が、多数の脱保護反応に寄与し、量子収率は1を超え、例えば、10の数乗のような大きい値となり、いわゆる化学増幅の結果として、高感度が得られる。以下、感光性樹脂組成物を構成する各成分について説明する。なお、本明細書における基原子団の表記において、置換及び無置換を記していない表記は置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えばアルキル基とは、置換基を有さないアルキル基無置換アルキル基のみならず、置換基を有するアルキル基置換アルキル基をも包含するものである。また、本発明に使用する樹脂が有する構成単位を導入する方法は、重合法でもよく、高分子反応法でもよい。重合法では、所定の官能基を含有するモノマーを予め合成した後に、これらのモノマーを共重合する。高分子反応法では、重合反応を行った後に、得られた共重合体のモノマー単位に含まれる反応性基を利用して必要な官能基をモノマー単位中に導入する。成分A酸分解性基及び架橋性基を有する樹脂本発明の感光性樹脂組成物は、成分A酸分解性基及び架橋性基を有する樹脂を含有する。成分A酸分解性基及び架橋性基を有する樹脂としては、酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位と、架橋性基を有する構成単位とを有する樹脂であることが好ましい。本発明において酸分解性基とは、酸の存在下で分解することにより、該酸分解性基により保護されていた酸基を生成することが可能な官能基を意味する。酸分解性基が分解して生成する酸基としては、カルボキシ基又はフェノール性水酸基であることが好ましく、カルボキシ基であることがより好ましい。また、酸分解性基としては、酸基がアセタール又はケタールで保護された残基であることが好ましい。また、成分Aは、酸基を更に有することが好ましく、酸基を有する構成単位を更に有することがより好ましく、酸分解性基を有する構成単位、オキセタニル基又はエポキシ基を有する構成単位、及び、酸基を有する構成単位を有する樹脂であることが更に好ましい。成分Aは、アルカリ不溶性であり、かつ、分子内に有する酸分解性基が分解したときにアルカリ可溶性となる樹脂であることが好ましい。本発明において、成分Aがアルカリ可溶性であるとは、酸分解性基が分解された後の成分Aを含む溶液を基板上に塗布し、90°Cで2分間加熱することによって形成された塗膜厚さ3μmが示す、23°Cにおける0.4重量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が、0.01μm/秒以上であることを意味する。該アルカリ可溶性は、前記溶解速度が0.005μm/秒以上であることが好ましい。また、本発明において、成分Aがアルカリ不溶性であるとは、成分Aを含む溶液を基板上に塗布し、90°Cで2分間加熱することによって形成された塗膜厚さ3μmが示す、23°Cにおける0.4重量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が、0.01μm/秒未満であることを意味する。該アルカリ不溶性は、前記溶解速度が0.005μm/秒未満であることが好ましい。成分Aは、その全体がアルカリ不溶性に保たれる限り、酸性基の導入が排除されるものではない。成分Aに酸性基が導入される場合の例としては、例えば、後述する構成単位a3等を有する場合が挙げられる。また、成分Aは、アクリル系重合体であることが好ましい。本発明におけるアクリル系重合体は、付加重合型の樹脂であり、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来するモノマー単位を含む重合体であり、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来するモノマー単位以外のモノマー単位、例えば、スチレン類に由来するモノマー単位やビニル化合物に由来するモノマー単位等を有していてもよい。成分Aは、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来するモノマー単位を、重合体における全モノマー単位に対し、50モル以上であることが好ましく、80モル以上であることがより好ましく、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来するモノマー単位のみからなる重合体であることが特に好ましい。なお、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来するモノマー単位をアクリル系モノマー単位ともいう。また、メタアクリル酸は、メタクリル酸及び/又はアクリル酸を意味するものとする。<酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1>成分Aは、酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1以下、単に構成単位a1ともいう。を有することが、感度の観点から好ましい。構成単位a1における酸基としては、カルボキシ基、及び、フェノール性水酸基が好ましく挙げられる。1-1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位1-1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位としては、後述の1-1-1、1-1-2に記載の構成単位に含まれるカルボキシ基が酸分解性基によって保護された残基を有する構成単位であることが好ましい。1-1-1カルボキシ基を有する構成単位カルボキシ基を有する構成単位としては、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和トリカルボン酸などの、分子中に少なくとも1個のカルボキシ基を有する不飽和カルボン酸等に由来する構成単位が挙げられる。不飽和モノカルボン酸としては、メタアクリル酸、クロトン酸、α-クロロアクリル酸、けい皮酸などが挙げられる。また、不飽和ジカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸などが挙げられる。不飽和多価カルボン酸は、その酸無水物であってもよく、具体的には、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などが挙げられる。また、不飽和多価カルボン酸は、多価カルボン酸のモノ2-メタアクリロイロキシアルキルエステルであってもよく、例えば、コハク酸モノ2-メタアクリロイロキシエチル、フタル酸モノ2-メタアクリロイロキシエチルなどが挙げられる。さらに、不飽和多価カルボン酸は、その両末端ジカルボキシポリマーのモノメタアクリレートであってもよく、例えば、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレートなどが挙げられる。また、不飽和カルボン酸としては、メタアクリル酸-2-カルボキシエチルエステル、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4-カルボキシスチレン等も用いることができる。中でも、現像性の観点から、カルボキシ基を有する構成単位を形成するためには、メタアクリル酸又は不飽和多価カルボン酸の無水物等を用いることが好ましく、メタアクリル酸を用いることがより好ましい。カルボキシ基を有する構成単位1-1-1は、1種単独で構成されていてもよいし、2種以上で構成されていてもよい。1-1-2エチレン性不飽和基と酸無水物残基とを共に有する構成単位エチレン性不飽和基と酸無水物残基とを共に有する構成単位1-1-2は、エチレン性不飽和基を有する構成単位中に存在する水酸基と、酸無水物と、を反応させて得られたモノマーに由来する単位であることが好ましい。酸無水物としては、公知のものが使用でき、具体的には、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸等の二塩基酸無水物;無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水物などの酸無水物が挙げられる。これらの中では、現像性の観点から、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、又は無水コハク酸、が好ましい。酸無水物の水酸基に対する反応率は、現像性の観点から、好ましくは10~100モル、より好ましくは30~100モルである。1-1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位とは、好ましくは前記1-1-1、前記1-1-2に記載の構成単位に含まれるカルボキシ基が酸分解性基によって保護された残基を有する構成単位である。酸分解性基としては、KrF用ポジ型レジスト、ArF用ポジ型レジストにおける酸分解性基として公知のものを使用でき、特に限定されない。酸分解性基としては、酸により比較的分解し易い基例えば、テトラヒドロピラニル基、エトキシエチル基等のアセタール系官能基や、酸により比較的分解し難い基例えば、t-ブチルエステル基、t-ブチルカーボネート基等のt-ブチル系官能基が知られている。構成単位1-1としては、カルボキシ基がアセタールで保護された残基、又は、カルボキシ基がケタールで保護された残基を有する構成単位が、感度やパターン形状、コンタクトホールの形成性の観点から好ましい。更に、酸分解性基の中でもカルボキシ基が式A1で表されるアセタール又はケタールで保護された残基であることが、感度の観点からより好ましい。なお、カルボキシ基が式A1で表されるアセタール又はケタールで保護された残基である場合、残基の全体としては、-C=O-O-CR1R2OR3の構造となっている。式A1中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、少なくともR1及びR2のいずれか一方が前記アルキル基、又は、アリール基であり、R3は、アルキル基、又は、アリール基を表し、R1又はR2とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよい。式A1中、R1、R2及びR3における、該アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数1~12であることが好ましく、炭素数1~6であることがより好ましく、炭素数1~4であることが更に好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、テキシル基2,3-ジメチル-2-ブチル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基等を挙げることができる。中でも、メチル基、エチル基が好ましい。環状アルキル基としては、炭素数3~12であることが好ましく、炭素数4~8であることがより好ましく、炭素数4~6であることが更に好ましい。環状アルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。中でも、単環状のものが好ましく、シクロヘキシル基がより好ましい。前記アルキル基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、炭素数6~20のアリール基、炭素数1~6のアルコキシ基が例示できる。置換基としてハロゲン原子を有する場合、R1、R2、R3はハロアルキル基となり、置換基としてアリール基を有する場合、R1、R2、R3はアラルキル基となる。アラルキル基としては、ベンジル基が好ましい。式A1中、R1、R2及びR3における該アリール基としては、炭素数6~12であることが好ましく、炭素数6~10であることがより好ましい。該アリール基は置換基を有していてもよく、該置換基としては炭素数1~6のアルキル基が好ましく例示できる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、1-ナフチル基等が例示でき、フェニル基が好ましい。また、式A1におけるR1、R2及びR3は互いに結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成することができる。R1とR2、R1とR3又はR2とR3が結合した場合の環構造としては、例えばシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、テトラヒドロフラニル基、アダマンチル基及びテトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。なお、式A1において、R1及びR2のいずれか一方が、水素原子又はメチル基であることが好ましい。式A1で表される残基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体は、市販のものを用いてもよいし、例えば特開2009-098616号公報の段落0025~0026に記載の方法等、公知の方法で合成したものを用いてもよい。カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位1-1としては、式A2で表される構成単位がより好ましい。式A2中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともR1及びR2のいずれか一方が前記アルキル基又はアリール基であり、R3は、アルキル基又はアリール基を表し、R1又はR2とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、R4は、水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合又はアリーレン基を表す。式A2中、R1~R3は、式A1におけるR1~R3と同様であり、好ましい範囲も同様である。式A2中、R1及びR2は、水素原子、又は、炭素数1~3のアルキル基が好ましく、水素原子、又は、メチル基が好ましい。R3は、直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数6以下のアルキル基、又は、炭素数7~10のアラルキル基が好ましく、エチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基がより好ましい。R1又はR2とR3とが連結した環状エーテルとしては、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基が好ましい。R4は、メチル基が好ましい。Xは単結合又はフェニレン基が好ましい。カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位1-1としては、下記式5で表される構成単位が更に好ましい。式5中、R1は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表し、L1はカルボニル基又はフェニレン基を表し、R21~R27はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。構成単位1-1の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Rは、水素原子又はメチル基を表す。構成単位1-1としては、カルボキシ基が式A3で表される第三級アルキル基で保護された残基であってもよい。アセタール又はケタールで保護された残基に比べると、感度は劣るが、保存安定性に優れるという点で好ましい。なお、カルボキシ基が式A3で表される第三級アルキル基で保護された残基である場合、残基の全体としては、-C=O-O-CR1R2R3の構造である。式A3中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表し、R1、R2及びR3のいずれか2つが互いに結合して環を形成していてもよい。式A3のR1~R3における、アルキル基、アリール基の具体例は、式A1におけるアルキル基、アリール基の具体例と同様である。式A3において、好ましい例としては、R1=R2=R3=メチル基の組み合わせや、R1=R2=メチル基でR3=ベンジル基の組み合わせが例示できる。1-2フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位1-2フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位としては、1-2-1フェノール性水酸基を有する構成単位を、酸分解性基によって保護した残基を有する構成単位が好ましい。1-2-1フェノール性水酸基を有する構成単位フェノール性水酸基を有する構成単位としては、ヒドロキシスチレン系構成単位やノボラック系の樹脂における構成単位が挙げられるが、これらの中ではα-メチルヒドロキシスチレンに由来する構成単位が透明性の観点から好ましい。フェノール性水酸基を有する構成単位の中でも、式A4で表される構成単位が透明性、感度の観点から好ましい。式A4中、R20は水素原子又はメチル基を表し、R21は単結合又は二価の連結基を表し、R22はそれぞれ独立にハロゲン原子又はアルキル基を表し、aは1~5の整数を表し、bは0~4の整数を表し、abは5以下である。R20はメチル基であることが好ましい。R21の二価の連結基としては炭素原子が主鎖に結合するエステル結合-COO-、アルキレン基が例示でき、直鎖又は分岐を有する炭素数1~6のアルキレン基が好ましい。-COO-である場合には、感度を向上させることができ、さらに硬化膜の透明性を向上させることができるので好ましい。中でも、R21が単結合、エステル結合であることが好ましい。また、前記二価の連結基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基等が挙げられる。また、aは1~5の整数を表すが、本発明の効果の観点や、製造が容易であるという点から、aは1又は2であることが好ましく、aが1であることがより好ましい。また、ベンゼン環における水酸基の結合位置は、R21と結合している炭素原子を基準1位としたとき、4位に結合していることが好ましい。R22はフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子又は炭素数1~5の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基である。中でも製造が容易であることから、塩素原子、臭素原子、メチル基又はエチル基であることが好ましい。1-2フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位は、1-2-1フェノール性水酸基を有する構成単位のフェノール性水酸基が、酸分解性基によって保護された残基を有する構成単位である。酸分解性基としては、前述したように、公知のものを使用でき、特に限定されない。フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基中でもフェノール性水酸基がアセタール又はケタールで保護された残基を有する構成単位であることが、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状、感光性樹脂組成物の保存安定性、コンタクトホールの形成性の観点から好ましい。更に、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基の中でもフェノール性水酸基が式A1で表されるアセタール又はケタールで保護された残基であることが、感度の観点からより好ましい。この場合、残基の全体としては、-Ar-O-CR1R2OR3の構造となっている。なお、Arはアリーレン基を表す。フェノール性水酸基のアセタールエステル構造の好ましい例としては、R1=R2=R3=メチル基やR1=R2=メチル基でR3=ベンジル基の組み合わせが例示できる。また、フェノール性水酸基がアセタール又はケタールで保護された残基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、ヒドロキシスチレンの1-アルコキシアルキル保護体、ヒドロキシスチレンのテトラヒドロピラニル保護体、α-メチル-ヒドロキシスチレンの1-アルコキシアルキル保護体、α-メチル-ヒドロキシスチレンのテトラヒドロピラニル保護体、α-メチル-ヒドロキシスチレンのテトラヒドロフラニル保護体、4-ヒドロキシフェニルメタクリレートの1-アルコキシアルキル保護体、4-ヒドロキシフェニルメタクリレートのテトラヒドロピラニル保護体、4-ヒドロキシフェニルメタクリレートのテトラヒドロフラニル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸1-メタクリロイルオキシメチルエステルの1-アルコキシアルキル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸1-メタクリロイルオキシメチルエステルのテトラヒドロピラニル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸1-メタクリロイルオキシメチルエステルのテトラヒドロフラニル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸2-メタクリロイルオキシエチルエステルの1-アルコキシアルキル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸2-メタクリロイルオキシエチルエステルのテトラヒドロピラニル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸2-メタクリロイルオキシエチルエステルのテトラヒドロフラニル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシプロピルエステルの1-アルコキシアルキル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシプロピルエステルのテトラヒドロピラニル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシプロピルエステルのテトラヒドロフラニル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシ-2-ヒドロキシプロピルエステルの1-アルコキシアルキル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシ-2-ヒドロキシプロピルエステルのテトラヒドロピラニル保護体、4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシ-2-ヒドロキシプロピルエステルのテトラヒドロフラニル保護体などが挙げられる。これらの中で、α-メチル-ヒドロキシスチレンの1-アルコキシアルキル保護体が好ましい。フェノール性水酸基のアセタール保護基及びケタール保護基の具体例としては、1-アルコキシアルキル基が挙げられ、例えば、1-エトキシエチル基、1-メトキシエチル基、1-n-ブトキシエチル基、1-イソブトキシエチル基、1-2-クロルエトキシエチル基、1-2-エチルヘキシルオキシエチル基、1-n-プロポキシエチル基、1-シクロヘキシルオキシエチル基、1-2-シクロヘキシルエトキシエチル基、1-ベンジルオキシエチル基などを挙げることができ、中でも1-エトキシエチル基が好ましい。これらは1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。構成単位1-2を形成するために用いられるラジカル重合性単量体は、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いることもできる。例えば、フェノール性水酸基を有する化合物を酸触媒の存在下でビニルエーテルと反応させることにより合成することができる。上記の合成はフェノール性水酸基を有するモノマーをその他のモノマーと予め共重合させておき、その後に酸触媒の存在下でビニルエーテルと反応させてもよい。構成単位1-2の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、Rは、水素原子又はメチル基を表す。カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位は、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位に比べると、現像が速い。よって、速く現像したい場合にはカルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位が好ましい。逆に現像を遅くしたい場合にはフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を用いることが好ましい。また、これらの中でも、成分Aは、酸分解性基として、下記式a1-1又は式a1-2で表される構成単位を有することが特に好ましい。成分Aを構成する全モノマー単位中、構成単位a1を形成するモノマー単位の含有率は、10~80モルが好ましく、30~80モルがより好ましい。<架橋性基を有する構成単位a2>成分Aは、架橋性基を有する構成単位a2以下、構成単位a2ともいう。を含有することが好ましい。架橋性基としては、エポキシ基及び/又はオキセタニル基であることが好ましい。すなわち、成分Aは、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位を有することが好ましい。前記エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位としては、脂環エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位であることが好ましく、オキセタニル基を有する構成単位であることがより好ましい。脂環エポキシ基は、脂肪族環とエポキシ環とが縮合環を形成している基であり、具体的には例えば、3,4-エポキシシクロヘキシル基、2,3-エポキシシクロヘキシル基、2,3-エポキシシクロペンチル基等が好ましく挙げられる。オキセタニル基を有する基としては、オキセタン環を有していれば、特に制限はないが、3-エチルオキセタン-3-イルメチル基が好ましく例示できる。エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位は、1つの構成単位中にエポキシ基又はオキセタニル基を少なくとも1つ有していればよく、1つ以上のエポキシ基及び1つ以上オキセタニル基、2つ以上のエポキシ基、又は、2つ以上のオキセタニル基を有していてもよく、特に限定されないが、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を合計1~3つ有することが好ましく、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を合計1又は2つ有することがより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基を1つ有することが更に好ましい。エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第4168443号公報の段落0031~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられる。オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、例えば、特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルなどを挙げることができる。エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。これらのモノマーの中で、更に好ましいものとしては、特許第4168443号公報の段落0034~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物及び特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルであり、特に好ましいものとしては特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルである。これらの中でも好ましいものは、アクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルであり、最も好ましいものはアクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルである。これらのモノマー単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。構成単位a2の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。成分Aを構成する全モノマー単位中、架橋性基を有する構成単位a2を形成するモノマー単位の含有率は、10~80モルが好ましく、15~70モルが更に好ましく、20~65モルが特に好ましい。上記の割合で含有させることにより、硬化膜の物性が良好となる。<酸基を有する構成単位a3>成分Aは、酸基を有する構成単位a3以下、構成単位a3ともいう。を含有することが好ましい。酸基としては、カルボキシ基、カルボン酸無水物残基及び/又はフェノール性水酸基であることが好ましく、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基であることがより好ましく、カルボキシ基であることが更に好ましい。成分Aは、成分Aがアルカリ可溶性にならない範囲で、カルボキシ基、カルボン酸無水物残基及び/又はフェノール性水酸基を有する構成単位を含有することが好ましく、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する構成単位を含有することがより好ましく、カルボキシ基を有する構成単位ことが更に好ましい。カルボキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸を好ましいものとして挙げることができる。また、カルボン酸無水物残基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸等を好ましいものとして挙げることができる。フェノール性水酸基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、p-ヒドロキシスチレン、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物等を好ましいものとして挙げることができる。これらの中でも、メタクリル酸、アクリル酸、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物が更に好ましく、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物が特に好ましい。これらの構成単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。構成単位a3の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。成分Aを構成する全モノマー単位中、酸基を有する構成単位a3を形成するモノマー単位の含有率は、1~25モルが好ましく、2~25モルが更に好ましく、3~20モルが特に好ましい。上記の割合で含有させることにより、高感度が得られ、また、現像性も良好となる。<その他の構成単位a4>成分Aは、本発明の効果を妨げない範囲で、前記構成単位a1~a3以外の構成単位a4以下、構成単位a4ともいう。を含有してもよい。構成単位a4を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、特開2004-264623号公報の段落0021~0024に記載の化合物を挙げることができるただし、前記a1~a3のモノマー単位を除く。。これらの中でも、メタアクリル酸ジシクロペンタニル、メタアクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘキシルのような脂環構造含有のメタアクリル酸エステル類、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル、スチレン等を好ましい例示できる。これらの中でも、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチルをより好ましく例示できる。これらの構成単位a4は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。成分Aを構成する全モノマー単位中、成分Aが構成単位a4を有する場合における構成単位a4を形成するモノマー単位の含有率は、1~50モルが好ましく、5~40モルが更に好ましく、5~30モルが特に好ましい。成分Aの重量平均分子量は、1,000~100,000であることが好ましく、2,000~50,000であることがより好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCによるポリスチレン換算重量平均分子量であることが好ましい。また、成分Aの合成法についても、様々な方法が知られているが、一例を挙げると、少なくとも構成単位a1、構成単位a2及び構成単位a3を形成するために用いられるラジカル重合性単量体を含むラジカル重合性単量体混合物を有機溶剤中、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。また、α-メチルスチレンダイマーやチオール化合物等の連鎖移動剤を重合時に使用してもよい。本発明の感光性樹脂組成物は、成分Aを1種単独又は2種類以上を組み合わせて含有することができる。本発明の感光性樹脂組成物中の成分Aの含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、1~99重量であることが好ましく、1~97重量であることがより好ましく、1~95重量であることが更に好ましく、1~70重量であることが特に好ましい。含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となる。なお、感光性樹脂組成物の固形分量とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量を表す。なお、本発明の感光性樹脂組成物中では、本発明の効果を妨げない範囲で成分A以外の樹脂を併用してもよい。ただし、成分A以外の樹脂の含有量は、現像性の観点から成分Aの含有量より少ない方が好ましい。成分B感放射線酸発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分B感放射線酸発生剤を含有する。本発明で使用される感放射線酸発生剤としては、波長300nm以上、好ましくは波長300~450nmの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に制限されるものではない。また、波長300nm以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長300nm以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。本発明で使用される感放射線酸発生剤としては、pKaが4以下の酸を発生する感放射線酸発生剤が好ましく、pKaが3以下の酸を発生する感放射線酸発生剤がより好ましい。なお、pKaについては、公知の測定方法、公知の算出方法、及び/又は、文献値等により値を求めることができる。感放射線酸発生剤の例として、トリクロロメチル-s-トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、絶縁性の観点から、オキシムスルホネート化合物を用いることが好ましい。これら光酸発生剤は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。これらの具体例としては、以下が例示できる。トリクロロメチル-s-トリアジン類として、2-3-クロロフェニル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシフェニル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メチルチオフェニル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシ-β-スチリル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-ピペロニル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-フラン-2-イルエテニル]-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-5-メチルフラン-2-イルエテニル]-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニルエテニル]-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、又は、2-4-メトキシナフチル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン等;ジアリールヨードニウム塩類として、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、フェニル-4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、又は、フェニル-4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムp-トルエンスルホナート等;トリアリールスルホニウム塩類として、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、又は、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート等;第四級アンモニウム塩類として、テトラメチルアンモニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリスp-クロロフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス3-トリフルオロメチルフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリスp-クロロフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス3-トリフルオロメチルフェニルボレート等;ジアゾメタン誘導体として、ビスシクロヘキシルスルホニルジアゾメタン、ビスt-ブチルスルホニルジアゾメタン、ビスp-トルエンスルホニルジアゾメタン等;イミドスルホネート誘導体として、トリフルオロメチルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]-ヘプト-5-エン-ジカルボキシイミド、スクシンイミドトリフルオロメチルスルホネート、フタルイミドトリフルオロメチルスルホネート、N-ヒドロキシナフタルイミドメタンスルホネート、N-ヒドロキシ-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボキシイミドプロパンスルホネート等;オキシムスルホネート化合物として、以下に示す化合物。オキシムスルホネート化合物、すなわち、オキシムスルホネート残基を有する化合物としては、式B-1で表されるオキシムスルホネート残基を含有する化合物が好ましく例示できる。式B-1中、R5は、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、波線部分は、他の化学構造との結合位置を表す。いずれの基も置換されてもよく、R5におけるアルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でも環状でもよい。許容される置換基は、以下に説明する。R5のアルキル基としては、炭素数1~10の、直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が好ましい。R5のアルキル基は、炭素数6~11のアリール基、炭素数1~10のアルコキシ基、又は、シクロアルキル基7,7-ジメチル-2-オキソノルボルニル基などの有橋式脂環基を含む、好ましくはビシクロアルキル基等で置換されてもよい。R5のアリール基としては、炭素数6~11のアリール基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましい。R5のアリール基は、低級アルキル基、アルコキシ基あるいはハロゲン原子で置換されてもよい。R5におけるヘテロアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数4~30のヘテロアリール基が好ましい。R5におけるヘテロアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。R5におけるヘテロアリール基は、少なくとも1つの環が複素芳香環であればよく、例えば、複素芳香環とベンゼン環とが縮環していてもよい。R5におけるヘテロアリール基としては、置換基を有していてもよい、チオフェン環、ピロール環、チアゾール環、イミダゾール環、フラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾチアゾール環、及び、ベンゾイミダゾール環よりなる群から選ばれた環から1つの水素原子を除いた基が挙げられる。式B-1で表されるオキシムスルホネート残基を含有する上記化合物は、下記式B-2で表されるオキシムスルホネート化合物であることがより好ましい。式B-2中、R5は、式B-1におけるR5と同義であり、Xは、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、mは、0~3の整数を表し、mが2又は3であるとき、複数のXは同一でも異なっていてもよい。Xで表されるアルキル基としては、炭素原子数1~4の、直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。Xで表されるアルコキシ基としては、炭素原子数1~4の直鎖状又は分岐状アルコキシ基が好ましい。Xで表されるハロゲン原子としては、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。mは、0又は1が好ましい。式B-1中、mが1であり、Xがメチル基であり、Xの置換位置がオルト位であり、R5が炭素数1~10の直鎖状アルキル基、7,7-ジメチル-2-オキソノルボルニルメチル基、又はp-トリル基である化合物が特に好ましい。オキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記化合物i、化合物ii、化合物iii、化合物iv等が挙げられ、1種単独で使用したり、又は、2種類以上を併用することができる。化合物i~ivは、市販品として、入手することができる。また、他の種類のB光酸発生剤と組み合わせて使用することもできる。感放射線酸発生剤としては、式IIで表される感放射線酸発生剤であることも好ましい。式II中、R4Aは、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表し、Lは0~5の整数を表す。R3Aは、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基、炭素原子数1~5のハロゲン化アルキル基、炭素原子数1~5のハロゲン化アルコキシ基、Wで置換されていてもよいフェニル基、Wで置換されていてもよいナフチル基又はWで置換されていてもよいアントラニル基を表し、Wは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基、炭素原子数1~5のハロゲン化アルキル基又は炭素原子数1~5のハロゲン化アルコキシ基を表すものである。式IIにおけるR3Aとしては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-オクチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ-n-プロピル基、パーフルオロ-n-ブチル基、p-トリル基、4-クロロフェニル基又はペンタフルオロフェニル基が好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基又はp-トリル基であることが特に好ましい。R4Aで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好ましい。R4Aで表される炭素原子数1~4のアルキル基としては、メチル基又はエチル基が好ましい。R4Aで表される炭素原子数1~4のアルコキシ基としては、メトキシ基又はエトキシ基が好ましい。Lとしては、0~2が好ましく、0~1が特に好ましい。式IIで表される光酸発生剤に包含される化合物の好ましい態様としては、R3Aが、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基又は4-トリル基を表し、R4Aが水素原子またはメトキシ基を表し、Lが0~1の態様である。以下、式IIで表される感放射線酸発生剤に包含される化合物の特に好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。α-メチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR3A=メチル基、R4A=水素原子α-エチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR3A=エチル基、R4A=水素原子α-n-プロピルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR3A=n-プロピル基、R4A=水素原子α-n-ブチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR3A=n-ブチル基、R4A=水素原子α-4-トルエンスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR3A=4-トリル基、R4A=水素原子α-メチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR3A=メチル基、R4A=メトキシ基α-エチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR3A=エチル基、R4A=メトキシ基α-n-プロピルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR3A=n-プロピル基、R4A=メトキシ基α-n-ブチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR3A=n-ブチル基、R4A=メトキシ基α-4-トルエンスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR3A=4-トリル基、R4A=メトキシ基前記式B-1で表されるオキシムスルホネート残基を含有する化合物としては、式OS-1で表される化合物であることも好ましい。前記式OS-1中、R1は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表す。R2は、アルキル基、又は、アリール基を表す。Xは-O-、-S-、-NH-、-NR5-、-CH2-、-CR6H-、又は、-CR6R7-を表し、R5~R7はアルキル基、又は、アリール基を表す。R21~R24は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。R21~R24のうち2つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。R21~R24としては、水素原子、ハロゲン原子、及び、アルキル基が好ましく、また、R21~R24のうち少なくとも2つが互いに結合してアリール基を形成する態様もまた、好ましく挙げられる。中でも、R21~R24がいずれも水素原子である態様が感度の観点から好ましい。既述の官能基は、いずれも、更に置換基を有していてもよい。前記式OS-1で表される化合物は、下記式OS-2で表される化合物であることがより好ましい。前記式OS-2中、R1、R2、R21~R24は、それぞれ式OS-1におけるものと同義であり、好ましい例もまた同様である。これらの中でも、式OS-1及び式OS-2におけるR1がシアノ基、又は、アリール基である態様がより好ましく、式OS-2で表され、R1がシアノ基、フェニル基又はナフチル基である態様が最も好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムやベンゾチアゾール環の立体構造E,Z等についてはそれぞれ、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。以下に、本発明に好適に用いうる式OS-1で表される化合物の具体例例示化合物b-1~b-34を示すが、本発明はこれに限定されない。なお、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Bnはベンジル基を表し、Phはフェニル基を表す。上記化合物の中でも、感度と安定性との両立の観点から、b-9、b-16、b-31、b-33が好ましい。前記式B-1で表されるオキシムスルホネート残基を含有する化合物としては、式OS-3、式OS-4又は式OS-5で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。式OS-3~式OS-5中、R1はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、R6はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。前記式OS-3~OS-5中、R1におけるアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。前記式OS-3~OS-5中、R1におけるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。R1におけるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。R1におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基、フェノキシエチル基、メチルチオエチル基、フェニルチオエチル基、エトキシカルボニルエチル基、フェノキシカルボニルエチル基、ジメチルアミノカルボニルエチル基が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基が好ましい。また、前記式OS-3~OS-5中、R1におけるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数6~30のアリール基が好ましい。R1におけるアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。R1におけるアリール基としては、フェニル基、p-メチルフェニル基、p-クロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基、p-メチルチオフェニル基、p-フェニルチオフェニル基、p-エトキシカルボニルフェニル基、p-フェノキシカルボニルフェニル基、p-ジメチルアミノカルボニルフェニル基が挙げられる。これらの中でも、フェニル基、p-メチルフェニル基、p-クロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基が好ましい。また、前記式OS-3~OS-5中、R1におけるヘテロアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数4~30のヘテロアリール基が好ましい。R1におけるヘテロアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R1におけるヘテロアリール基は、少なくとも1つの環が複素芳香環であればよく、例えば、複素芳香環とベンゼン環とが縮環していてもよい。R1におけるヘテロアリール基としては、置換基を有していてもよい、チオフェン環、ピロール環、チアゾール環、イミダゾール環、フラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾチアゾール環、及び、ベンゾイミダゾール環よりなる群から選ばれた環から1つの水素原子を除いた基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R2は、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましい。前記式OS-3~OS-5中、化合物中に2以上存在するR2のうち、1つ又は2つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることが好ましく、1つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることがより好ましく、1つがアルキル基であり、かつ残りが水素原子であることが特に好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R2におけるアルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよい。R2におけるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基としては、前記R1におけるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基と同様の基が例示できる。R2におけるアルキル基としては、置換基を有してもよい総炭素数1~12のアルキル基であることが好ましく、置換基を有してもよい総炭素数1~6のアルキル基であることがより好ましい。R2におけるアルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、アリル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、パーフルオロヘキシル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、メトキシメチル基、ベンジル基、フェノキシエチル基、メチルチオエチル基、フェニルチオエチル基、エトキシカルボニルエチル基、フェノキシカルボニルエチル基、ジメチルアミノカルボニルエチル基が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、n-ヘキシル基、アリル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、メトキシメチル基、ベンジル基が好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、n-ヘキシル基がより好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。R2におけるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数6~30のアリール基であることが好ましい。R2におけるアリール基として具体的には、フェニル基、p-メチルフェニル基、o-クロロフェニル基、p-クロロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基、p-メチルチオフェニル基、p-フェニルチオフェニル基、p-エトキシカルボニルフェニル基、p-フェノキシカルボニルフェニル基、p-ジメチルアミノカルボニルフェニル基が挙げられる。これらの中でも、フェニル基、p-メチルフェニル基、o-クロロフェニル基、p-クロロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基が好ましい。R2におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中でも、塩素原子、臭素原子が好ましい。前記式OS-3~OS-5中、XはO又はSを表し、Oであることが好ましい。式OS-3~OS-5において、Xを環員として含む環は、5員環又は6員環である。前記式OS-3~OS-5中、nは1又は2を表し、XがOである場合、nは1であることが好ましく、また、XがSである場合、nは2であることが好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R6におけるアルキル基及びアルキルオキシ基は、置換基を有していてもよい。前記式OS-3~OS-5中、R6におけるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。R6におけるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。R6におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基、フェノキシエチル基、メチルチオエチル基、フェニルチオエチル基、エトキシカルボニルエチル基、フェノキシカルボニルエチル基、ジメチルアミノカルボニルエチル基が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基が好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R6におけるアルキルオキシ基としては、置換基を有してもよい総炭素数1~30のアルキルオキシ基であることが好ましい。R6におけるアルキルオキシ基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。R6におけるアルキルオキシ基としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、フェノキシエチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、エトキシエチルオキシ基、メチルチオエチルオキシ基、フェニルチオエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、フェノキシカルボニルエチルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルエチルオキシ基が挙げられる。これらの中でも、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、フェノキシエチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、又は、エトキシエチルオキシ基が好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R6におけるアミノスルホニル基としては、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、メチルフェニルアミノスルホニル基、アミノスルホニル基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R6におけるアルコキシスルホニル基としては、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、プロピルオキシスルホニル基、ブチルオキシスルホニル基が挙げられる。また、前記式OS-3~OS-5中、mは0~6の整数を表し、0~2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることが特に好ましい。また、前記式B-1で表されるオキシムスルホネート残基を含有する化合物は、下記式OS-6~OS-11のいずれかで表されるオキシムスルホネート化合物であることが特に好ましい。式OS-6~OS-11中、R1はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R7は、水素原子又は臭素原子を表し、R8は水素原子、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、R9は水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、R10は水素原子又はメチル基を表す。式OS-6~OS-11におけるR1は、前記式OS-3~OS-5におけるR1と同義であり、好ましい態様も同様である。式OS-6におけるR7は、水素原子又は臭素原子を表し、水素原子であることが好ましい。式OS-6~OS-11におけるR8は、水素原子、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~6のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。式OS-8及び式OS-9におけるR9は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、水素原子であることが好ましい。式OS-8~OS-11におけるR10は、水素原子又はメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムの立体構造E,Zについては、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。前記式OS-3~式OS-5で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記例示化合物が挙げられるが、本発明は、これらに限定されるものではない。本発明の感光性樹脂組成物において、成分Bは、成分A100重量部に対して、0.1~10重量部使用することが好ましく、0.5~10重量部使用することがより好ましい。また、本発明の感光性樹脂組成物において、成分Bは、感光性樹脂組成物の全固形分量に対して、0.1~10重量含有されることが好ましく、0.2~10重量含有されることがより好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、感放射線酸発生剤との組み合わせにおいて、その分解を促進させるために、増感剤を含有することが好ましい。増感剤は、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、感放射線酸発生剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより感放射線酸発生剤は化学変化を起こして分解し、酸を生成する。好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ350nmから450nm域のいずれかに吸収波長を有する化合物を挙げることができる。多核芳香族類例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン、9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ジエトキシアントラセン,3,7-ジメトキシアントラセン、9,10-ジプロピルオキシアントラセン、キサンテン類例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル、キサントン類例えば、キサントン、チオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、シアニン類例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン、メロシアニン類例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン、ローダシアニン類、オキソノール類、チアジン類例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー、アクリジン類例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン、アクリドン類例えば、アクリドン、10-ブチル-2-クロロアクリドン、アントラキノン類例えば、アントラキノン、スクアリウム類例えば、スクアリウム、スチリル類、ベーススチリル類例えば、2-[2-[4-ジメチルアミノフェニル]エテニル]ベンゾオキサゾール、クマリン類例えば、7-ジエチルアミノ4-メチルクマリン、7-ヒドロキシ4-メチルクマリン、2,3,6,7-テトラヒドロ-9-メチル-1H,5H,11H-[1]ベンゾピラノ[6,7,8-ij]キノリジン-11-ノン。これら増感剤の中でも、多核芳香族類、アクリドン類、スチリル類、ベーススチリル類、クマリン類が好ましく、多核芳香族類がより好ましい。多核芳香族類の中でもアントラセン誘導体が最も好ましい。成分Cアミノ基を有さず、かつ環状カーボネート構造を2以上有する化合物本発明の感光性樹脂組成物は、成分Cアミノ基を有さず、かつ環状カーボネート構造を2以上有する化合物を含有する。本発明の感光性樹脂組成物を硬化した硬化膜において、成分Cにおける環状カーボネート構造は、成分Aにおける架橋性基と同様、酸基と反応して架橋構造を形成するものと推定される。また、本発明の感光性樹脂組成物は、成分Cがその分子内にアミノ基第一級、第二級及び第三級を有しないことにより、発生した酸がクエンチされないために、高感度のポジ型感光性組成物を得ることができ、かつ得られる硬化膜の剥離液やNMPに対する耐性が高く、感度及びPED特性に優れる。成分Cが有する環状カーボネート構造の数は、2以上であり、2~10であることが好ましく、2~6であることがより好ましく、2であることが特に好ましい。環状カーボネート構造の環員数としては、特に制限はないが、5又は6であることが好ましく、5であることがより好ましい。すなわち、成分Cは、5又は6員環の環状カーボネート構造を2以上有することが好ましく、5員環の環状カーボネート構造を2以上有することがより好ましい。また、成分Cは、下記式1で表される化合物であることが好ましい。式1中、Lは2価以上のアルキレン基、2価以上のアリーレン基、エステル結合、エーテル結合、ウレタン結合、及び、ウレア結合よりなる群から選ばれた基又はこれらを2以上組み合わせた基を表し、mは0又は1を表し、nは1以上の整数を表す。式1におけるLは、2価以上のアルキレン基、2価以上のアリーレン基、エステル結合、及び、エーテル結合よりなる群から選ばれた基又はこれらを2以上組み合わせた基であることが好ましく、2価以上のアルキレン基、2価以上のアリーレン基、又は、2価以上のアルキレン基、2価以上のアリーレン基、及び、エーテル結合よりなる群から選ばれた基を2以上組み合わせた基であることがより好ましく、2価以上のアリーレン基であることが更に好ましい。また、前記アルキレン基及びアリーレン基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、及び、ハロゲン原子が例示できる。式1におけるLの炭素数は、1~20であることが好ましく、1~10であることがより好ましく、2~6であることが更に好ましい。式1におけるnは、1~9の整数であることが好ましく、1~5の整数であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。また、成分Cは、前記mが0であり、かつ前記nが1である式1で表される化合物であるか、又は、下記式2で表される化合物であることがより好ましい。式2中、nは1~5の整数を表す。式2におけるnは、1~3の整数であることが好ましく、1であることが特に好ましい。また、式2におけるベンゼン環上の置換位置は特に制限はなく、任意の位置であればよい。成分Cの具体例として、下記C-1~C-17を好ましく例示できるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記化学式中、Meはメチル基を表す。これらの中でも、C-1~C-11及びC-15~C-17が好ましく、C-1~C-3及びC-15~C-17がより好ましく、C-1~C-3及びC-15が特に好ましい。成分Cは、本発明の感光性樹脂組成物に1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用することもできる。成分Cの含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~50重量であることが好ましく、0.2~40重量であることがより好ましく、1~30重量が最適である。上記範囲であると、形成された膜の十分な透明性が得られ、かつ、パターン形成時の優れた感度が発現される。成分D塩基性化合物本発明の感光性樹脂組成物は、成分D塩基性化合物を含有することが好ましい。成分D塩基性化合物としては化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。脂肪族アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、トリ-n-プロピルアミン、ジ-n-ペンチルアミン、トリ-n-ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミンなどが挙げられる。芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、ベンジルアミン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。複素環式アミンとしては、例えば、ピリジン、2-メチルピリジン、4-メチルピリジン、2-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2-フェニルピリジン、4-フェニルピリジン、N-メチル-4-フェニルピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、4-メチルイミダゾール、2-フェニルベンズイミダゾール、2,4,5-トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、8-オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、4-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン、1,8-ジアザビシクロ[5.3.0]-7-ウンデセンなどが挙げられる。第四級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ヘキシルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。カルボン酸の第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ-n-ブチルアンモニウムアセテート、テトラ-n-ブチルアンモニウムベンゾエートなどが挙げられる。本発明に用いることができる塩基性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよいが、2種以上を併用することが好ましく、2種を併用することがより好ましく、複素環式アミンを2種併用することが更に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物における成分D塩基性化合物の含有量は、成分A100重量部に対して、0.001~2重量部であることが好ましく、0.002~0.2重量部であることがより好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、成分Aの含有量が、1~99重量、成分Bの含有量が、0.1~10重量、成分Cの含有量が、1~30重量、及び、成分Dの含有量が、0.001~2重量であることが好ましい。また、本発明の感光性樹脂組成物は、感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、成分Aの含有量が、1~99重量、成分Bの含有量が、0.1~10重量、成分Cの含有量が、1~30重量、及び、成分Dの含有量が、0.001~2重量であることがより好ましい。成分E溶剤本発明の感光性樹脂組成物は、塗布性や膜形成性の観点から、成分E溶剤を含有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分である成分A~成分C、好ましい成分である成分D、並びに、更に後述の任意成分を、成分E溶剤に溶解した溶液として調製されることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に使用される成分E溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。本発明の感光性樹脂組成物に使用される成分E溶剤としては、例えば、アエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;イエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類;ウエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;エプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;オプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類;カプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;キジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類;クジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ケジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;コジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルメチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類;サジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;シ乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n-プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸n-ブチル、乳酸イソブチル、乳酸n-アミル、乳酸イソアミル等の乳酸エステル類;ス酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、酢酸n-アミル、酢酸イソアミル、酢酸n-ヘキシル、酢酸2-エチルヘキシル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n-プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸n-ブチル、プロピオン酸イソブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸エチル、酪酸n-プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n-ブチル、酪酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類;セヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチル酪酸エチル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、3-メチル-3-メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類;ソメチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル-n-ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、4-ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;タN-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;チγ-ブチロラクトン等のラクトン類等を挙げることができる。また、これらの溶剤に更に必要に応じて、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オクタノール、1-ノナール、ベンジルアルコール、アニソール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の溶剤を添加することもできる。これら溶剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物における成分E溶剤の含有量は、成分A100重量部当たり、50~3,000重量部であることが好ましく、100~2,000重量部であることがより好ましく、100~1,500重量部であることが更に好ましい。<その他の成分>本発明の感光性樹脂組成物には、成分A~成分Eの他に、必要に応じて、任意成分として、以下に述べる成分F界面活性剤、成分G酸化防止剤、成分H密着改良剤、成分I可塑剤、及び、成分J熱ラジカル発生剤、並びに、熱酸発生剤、紫外線吸収剤、増粘剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤などの公知の添加剤を加えることができる。成分F界面活性剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分F界面活性剤を含有することが好ましい。成分F界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系又は両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコーン系、フッ素系界面活性剤を挙げることができる。また、以下商品名で、KP信越化学工業株製、ポリフロー共栄社化学株製、エフトップJEMCO社製、メガファックDIC株製、フロラード住友スリーエム株製、アサヒガード、サーフロン旭硝子株製、PolyFoxOMNOVA社製等の各シリーズを挙げることができる。また、界面活性剤として、下記式F-1で表される構成単位A及び構成単位Bを含み、テトラヒドロフランTHFを溶媒とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwが1,000以上10,000以下である共重合体を好ましい例として挙げることができる。式F-1中、R1及びR3はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R4は水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは重合比を表す重量百分率であり、pは10重量以上80重量以下の数値を表し、qは20重量以上90重量以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、nは1以上10以下の整数を表す。前記Lは、下記式F-2で表される分岐アルキレン基であることが好ましい。式F-2におけるR5は、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数1以上3以下のアルキル基が好ましく、炭素数2又は3のアルキル基がより好ましい。pとqとの和pqは、pq=100、すなわち、100重量であることが好ましい。前記共重合体の重量平均分子量Mwは、1,500以上5,000以下がより好ましい。これらの界面活性剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物における成分F界面活性剤の添加量は、成分A100重量部に対して、10重量部以下であることが好ましく、0.01~10重量部であることがより好ましく、0.01~1重量部であることが更に好ましい。成分G酸化防止剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分G酸化防止剤を含有することが好ましい。成分G酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。成分G酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤が好ましい。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブAO-60株ADEKA製、アデカスタブAO-80株ADEKA製、イルガノックス1098チバジャパン株製が挙げられる。成分G酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~6重量であることが好ましく、0.2~5重量であることがより好ましく、0.5~4重量であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時の感度も良好となる。また、酸化防止剤以外の添加剤として、高分子添加剤の新展開株日刊工業新聞社に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。成分H密着改良剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分H密着改良剤を含有してもよい。本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる成分H密着改良剤は、基材となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物である。具体的には、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。本発明で使用される成分H密着改良剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリアコキシシラン、γ-グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。これらのうち、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシランやγ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが更に好ましい。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらは基板との密着性の向上に有効であるとともに、基板とのテーパー角の調整にも有効である。本発明の感光性樹脂組成物における成分H密着改良剤の含有量は、成分A100重量部に対して、0.1~20重量部が好ましく、0.5~10重量部がより好ましい。成分I可塑剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分I可塑剤を含有してもよい。成分I可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリン、ジメチルグリセリンフタレート、酒石酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリアセチルグリセリンなどが挙げられる。本発明の感光性樹脂組成物における成分I可塑剤の添加量は、成分A100重量部に対して、0.1~30重量部であることが好ましく、1~10重量部であることがより好ましい。成分J熱ラジカル発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分J熱ラジカル発生剤を含んでいてもよく、前述の少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物のようなエチレン性不飽和化合物を含有する場合、成分J熱ラジカル発生剤を含有することが好ましい。本発明における熱ラジカル発生剤としては、公知の熱ラジカル発生剤を用いることができる。熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、重合性化合物の重合反応を開始又は促進させる化合物である。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する場合がある。好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物等が挙げられる。成分J熱ラジカル発生剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における成分J熱ラジカル発生剤の添加量は、膜物性向上の観点から、成分Aを100重量部としたとき、0.01~50重量部が好ましく、0.1~20重量部がより好ましく、0.5~10重量部であることが最も好ましい。硬化膜の形成方法次に、本発明の硬化膜の形成方法を説明する。本発明の硬化膜の形成方法は、以下の1~4の工程を含むことが好ましい。1本発明のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程2塗布された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、3露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、4現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、以下に各工程を順に説明する。1の塗布工程では、本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とする。また、本発明のポジ型感光性樹脂組成物が溶剤を含有する場合、本発明の硬化膜の形成方法は、1の塗布工程と3の露光工程との間に、塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程を含むことが好ましい。前記溶剤除去工程では、塗布された上記の膜から、減圧バキューム及び/又は加熱により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させる。2の露光工程では、得られた塗膜に波長300nm以上450nm以下の活性光線を照射する。この工程では、成分B感放射線酸発生剤が分解し酸が発生する。発生した酸の触媒作用により、成分Aに含まれる酸分解性基が分解されて、酸基が生成する。酸触媒の生成した領域において、上記の加水分解反応を加速させるために、必要に応じて、露光後加熱処理:PostExposureBake以下、PEBともいう。を行うことができる。PEBにより、酸分解性基からのカルボキシ基生成を促進させることができる。本発明における成分A中の酸分解性基は、酸分解の活性化エネルギーが低く、露光による酸発生剤由来の酸により容易に分解し、酸基を生じるため、必ずしもPEBを行うことなく、現像によりポジ画像を形成することもできる。なお、比較的低温でPEBを行うことにより、架橋反応を起こすことなく、酸分解性基の加水分解を促進することもできる。PEBを行う場合の温度は、30°C以上130°C以下であることが好ましく、40°C以上110°C以下がより好ましく、50°C以上80°C以下が特に好ましい。3の現像工程では、遊離した酸基を有する樹脂を、アルカリ性現像液を用いて現像する。アルカリ性現像液に溶解しやすい酸基を有する樹脂を含む組成物よりなる露光部領域を除去することにより、ポジ画像が形成する。4のポストベーク工程において、得られたポジ画像を加熱することにより、成分A中の酸分解性基を熱分解し酸基を生成させ、架橋性基と架橋させることにより、硬化膜を形成することができる。この加熱は、150°C以上の高温に加熱することが好ましく、180~250°Cに加熱することがより好ましく、200~250°Cに加熱することが特に好ましい。加熱時間は、加熱温度などにより適宜設定できるが、10~90分の範囲内とすることが好ましい。ポストベーク工程の前に活性光線、好ましくは紫外線を現像パターンに全面照射する工程を加えると、活性光線照射により発生する酸により架橋反応を促進することができる。次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法を具体的に説明する。<感光性樹脂組成物の調製方法>成分A~成分Cの必須成分を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解して感光性樹脂組成物を調製する。例えば、成分A~成分Cを、それぞれ予め成分E溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して樹脂組成物を調製することもできる。以上のように調製した樹脂組成物は、孔径0.2μmのフィルター等を用いてろ過した後に、使用に供することもできる。<塗布工程及び溶剤除去工程>樹脂組成物を、所定の基板に塗布し、減圧及び/又は加熱プリベークにより溶剤を除去することにより、所望の乾燥塗膜を形成することができる。前記の基板としては、例えば液晶表示素子の製造においては、偏光板、更に必要に応じてブラックマトリックス層、カラーフィルター層を設け、更に透明導電回路層を設けたガラス板などが例示できる。基板への塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法等の方法を用いることができる。中でもスリットコート法が大型基板に適するという観点で好ましい。ここで大型基板とは、各辺が1m以上の大きさの基板をいう。また、前記溶剤除去工程の加熱条件は、未露光部における成分A中の酸分解性基が分解して、成分Aをアルカリ現像液に可溶性としない範囲であり、各成分の種類や配合比によっても異なるが、好ましくは80~130°Cで30~120秒間程度である。<露光工程及び現像工程パターン形成方法>露光工程では、塗膜を設けた基板に所定のパターンを有するマスクを介して、活性光線を照射する。露光工程の後、必要に応じて加熱処理PEBを行った後、現像工程では、アルカリ性現像液を用いて露光部領域を除去して画像パターンを形成する。活性光線による露光には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、LED光源、エキシマレーザー発生装置などを用いることができ、g線436nm、i線365nm、h線405nmなどの波長300nm以上450nm以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。また、必要に応じて長波長カットフィルター、短波長カットフィルター、バンドパスフィルターのような分光フィルターを通して照射光を調整することもできる。現像工程で使用する現像液には、塩基性化合物を使用する。塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類;ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。現像液のpHは、好ましくは10.0~14.0である。現像時間は、好ましくは30~180秒間であり、また、現像の手法は液盛り法、ディップ法等のいずれでもよい。現像後は、流水洗浄を30~90秒間行い、所望のパターンを形成させることができる。<ポストベーク工程架橋工程>現像により得られた未露光領域に対応するパターンについて、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温度、例えば180~250°Cで所定の時間、例えばホットプレート上なら5~60分間、オーブンならば30~90分間、加熱処理をすることにより、成分Aにおける酸分解性基を分解して、酸基を発生させ、成分A中の架橋性基と反応して、架橋させることにより、耐熱性、硬度等に優れた保護膜や層間絶縁膜を形成することができる。また、加熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより透明性を向上させることもできる。なお、加熱処理に先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により再露光した後、ポストベークすること再露光/ポストベークにより未露光部分に存在する成分Bから酸を発生させ、架橋工程を促進する触媒として機能させることが好ましい。すなわち、本発明の硬化膜の形成方法は、現像工程とポストベーク工程との間に、活性光線により再露光する再露光工程を含むことが好ましい。再露光工程における露光は、前記露光工程と同様の手段により行えばよいが、前記再露光工程では、基板の本発明の感光性樹脂組成物により膜が形成された側に対し、全面露光を行うことが好ましい。再露光工程の好ましい露光量としては、100~1,000mJ/cm2である。本発明の感光性樹脂組成物により、絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜が得られる。本発明の感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜は、高い透明性を有し、硬化膜物性に優れるため、有機EL表示装置や液晶表示装置の用途に有用である。本発明の有機EL表示装置や液晶表示装置としては、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機EL表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。また、本発明の感光性樹脂組成物及び本発明の硬化膜は、前記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜や層間絶縁膜以外にも、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルター上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。図1は、有機EL表示装置の一例の構成概念図を示す。ボトムエミッション型の有機EL表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜4を有している。ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3が形成されている。絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmが絶縁膜3上に形成されている。配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。さらに、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上に平坦化層4が形成されている。平坦化膜4上には、ボトムエミッション型の有機EL素子が形成されている。すなわち、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5が、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成されている。また、第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8が形成されており、この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。さらに、図1には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られる。図2は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置10の一例を示す概念的断面図である。このカラー液晶表示装置10は、背面にバックライトユニット12を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた2枚のガラス基板14,15の間に配置されたすべての画素に対応するTFT16の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜17中に形成されたコンタクトホール18を通して、画素電極を形成するITO透明電極19が配線されている。ITO透明電極19の上には、液晶20の層とブラックマトリックスを配置したRGBカラーフィルター22が設けられている。多官能環状カーボネート化合物本発明の多官能環状カーボネート化合物は、下記式3で表されることを特徴とする。本発明の多官能環状カーボネート化合物は、新規な化合物であり、また、ポジ型感光性樹脂組成物の添加剤として有用である。式3中、Lはn1価のアリーレン基を表し、mは0又は1を表し、nは1~5の整数を表す。式3におけるnは、1~3の整数であることが好ましく、1であることが特に好ましい。式3におけるLは、n1価のフェニレン基又はn1価のナフチレン基であることが好ましく、n1価のフェニレン基であることがより好ましい。また、式3のLにおけるアリーレン基は、置換基を有していてもよいが、有していないことが好ましい。置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、及び、ハロゲン原子が例示できる。また、本発明の多官能環状カーボネート化合物は、前記mが0であり、かつ前記nが1である式3で表される化合物であるか、又は、下記式4で表される化合物であることがより好ましい。式4中、nは1~5の整数を表す。式4におけるnは、1~3の整数であることが好ましく、1であることが特に好ましい。また、式4におけるベンゼン環上の置換位置は特に制限はなく、任意の位置であればよい。成分Cの具体例として、下記C-1~C-3及びC-15~C-17を好ましく例示できるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記化学式中、Meはメチル基を表す。これらの中でも、C-1~C-3及びC-15が好ましい。次に、実施例により本発明を更に具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。以下の合成例で使用する各略号は、それぞれ以下の化合物を表す。NBMA:n-ブトキシメチルアクリルアミド東京化成工業株製MAA:メタクリル酸和光純薬工業株製MAEVE:1-エトキシエチルメタクリレート和光純薬工業株製MATHF:2-テトラヒドロフラニルメタクリレート合成品OXE-30:3-エチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート大阪有機化学工業株製HEMA:ヒドロキシエチルメタクリレート和光純薬工業株製V-65:2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル和光純薬工業株製V-601:ジメチル2,2’-アゾビス2-メチルプロピオネート和光純薬工業株製GMA:グリシジルメタクリレート和光純薬工業株製St:スチレン和光純薬工業株製DCPM:ジシクロペンタニルメタクリレートFA-511A、日立化成工業株製MMA:メチルメタクリレート和光純薬工業株製PGMEA:メトキシプロピルアセテート昭和電工株製HS-EDM:ハイソルブEDM東邦化学工業株製α-メチルスチレンダイマー和光純薬工業株製PHS:p-ヒドロキシスチレン合成品t-BuMA:t-ブチルメタクリレート和光純薬工業株製<MATHF2-テトラヒドロフラニルメタクリレートの合成>メタクリル酸86g、1モルを15°Cに冷却しておき、カンファースルホン酸4.6g,0.02モル添加した。その溶液に、2,3-ジヒドロフラン71g、1モル、1.0当量を滴下した。1時間撹拌した後に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液500mlを加え、酢酸エチル500mlで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物を濾過後40°C以下で減圧濃縮し、残渣の黄色油状物を減圧蒸留して沸点bp.54~56°C/3.5mmHg留分の2-テトラヒドロフラニルメタクリレートMATHF125gを無色油状物として得た収率80。<重合体A-1の合成>3つ口フラスコにPGMEA35.7gを入れ、窒素雰囲気下において90°Cに昇温した。その溶液にMAA1.72g、MATHF12.65g、OXE-3011.05g、HEMA5.20g、V-6013.47g、モノマーに対して3molをPGMEA35.7gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後2時間撹拌し、反応を終了させた。それにより重合体A-1を得た。重量平均分子量は15,000であった。<重合体A-2~A-14の合成>使用した各モノマー、開始剤、溶剤及びこれらの使用量を表1に記載のものに変更した以外は重合体A-1の合成と同様にして、重合体A-2~A-14をそれぞれ合成した。<重合体Q-1及びQ-2の合成>3つ口フラスコにHS-EDM37.4gを入れ、窒素雰囲気下において90°Cに昇温した。その溶液にMAA6.9g、MMA5.8g、St22.9g、NBMA14.1g、V-6018.28g、モノマーに対して8mol、α-メチルスチレンダイマー0.4gをHS-EDM37.4gに溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後2時間撹拌した。その溶液に更にV-6012.0g、モノマーに対して2molを添加し、更に2時間撹拌し、反応を終了させた。それにより重合体Q-1を得た。重量平均分子量は10,000であった。また、同様にして重合体Q-2を合成した。使用したモノマー種、溶剤及びこれらの使用量を表2に示した。なお、連鎖移動剤であるα-メチルスチレンダイマーは使用しなかった。なお、表1及び表2中の特に単位を付していない数値はmolを単位とした。開始剤の数値は、単量体成分を100molとした場合の、molである。固形分濃度は、下記式により算出した。また、V-601を用いた場合は、反応温度を90°C、V-65を用いた場合は反応温度を70°Cとした。モノマー重量/モノマー重量溶媒重量×100単位:重量<C-1の合成>グリセロール1,2-カルボナート5.9g,0.05molをアセトニトリル30mLに溶解させ、トリエチルアミン5.0g,0.05molを添加し、0°Cに冷却させた後にフタロイルクロリド5.1g,0.025molを滴下した。滴下終了後に室温まで昇温させ、2時間撹拌した。酢酸エチル500mL及び水500mLを添加し、有機層を抽出後、濃縮した。粗生成物を酢酸エチル/ヘキサンを用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに供すことにより目的物C-1を6.13g収率67単離した。1HNMRδ=441445457509519770780ColorlessOil<C-2、C-3、C-6、C-10及びC-15の合成>原料を変更した以外はC-1の合成と同様にして、C-2、C-3、C-6、C-10及びC-15をそれぞれ単離した。以下に各同定データの一例を示す。C-2:1HNMRδ=443453455470521529777823849WhitePowderC-3:1HNMRδ=440452456469522527809WhitePowderC-6:1HNMRδ=261420441453501509WhitePowderC-10:1HNMRδ=125151231419441452500509WhitePowderC-15::1HNMRδ=43944457503511WhitePowder実施例1~22及び比較例1~91感光性樹脂組成物溶液の調製下記表3に示す各成分を混合して均一な溶液とした後、0.2μmのポアサイズを有するポリテトラフルオロエチレン製フィルターを用いてろ過して、実施例1~22並びに比較例1~9の感光性樹脂組成物溶液をそれぞれ調製した。なお、表3中の添加量の単位は、重量部である。また、表3中の略号は以下の通りである。NQD:TAS-2001,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル化合物、東洋合成工業株製MX:ニカラックMX-270メトキシメチル架橋剤、株三和ケミカル製JER1:JER150S70エポキシ架橋剤、ジャパンエポキシレジン株製JER2:JER150S65エポキシ架橋剤、ジャパンエポキシレジン株製JER3:JER828エポキシ架橋剤、ジャパンエポキシレジン株製JER4:JER1002エポキシ架橋剤、ジャパンエポキシレジン株製W-1:メガファックF-554フッ素系界面活性剤、DIC株製P-1:下記構造のオキシムスルホネート合成品P-2:下記構造のオキシムスルホネートPAI-101、みどり化学株製P-3:下記構造のスルホニウムスルホネート合成品S-1:下記構造のジブトキシアントラセン川崎化成工業株社製H-1:下記構造の単官能環状カーボネートH-2:下記構造の単官能環状カーボネートH-3:特許第4044740号公報に記載の二官能カーボネートなお、上記式中、Meはメチル基を表し、OTsはOSO2C6H4-p-CH3を表し、Buはn-ブチル基を表す。2感度の評価シリコン酸化膜を有するシリコンウエハー上に感光性樹脂組成物溶液を回転塗布した後、95°Cで90秒間ホットプレート上においてプリベークして膜厚3μmの塗膜を形成した。次に、i線ステッパーキヤノン株製FPA-3000i5を用いて、所定のマスクを介して露光した。露光後、0.4重量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により23°Cで60秒間液盛り法により現像した後、超純水で1分間リンスした。これらの操作により10μmのラインアンドスペースを1:1で解像する時の最適露光量Eoptを感度とした。化学増幅型感光性樹脂組成物を使用した場合の感度は、100mJ/cm2より低露光量の場合に、高感度であるといえる。また、キノンジアジドを光酸発生剤として使用した場合は、200mJ/cm2より低露光量の場合に、高感度であるといえる。3耐薬品性剥離液耐性、NMP耐性の評価シリコン酸化膜を有するシリコンウエハー上に感光性樹脂組成物溶液を回転塗布した後、95°Cで90秒間ホットプレート上においてプリベークして膜厚3μmの塗膜を形成した。得られた塗膜にキヤノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプで積算照射量が200mJ/cm2照度:20mW/cm2となるように露光し、その後、この基板をオーブンにて230°Cで1時間加熱して硬化膜を得た。得られた硬化膜の膜厚T1を測定した。次に、この硬化膜が形成されたシリコンウエハーを25°Cに温度制御されたモノエタノールアミン/ジメチルスルホキシドDMSO=7/3混合液剥離液、又は、N-メチルピロリドンNMP中に30分間浸漬させた後、当該硬化膜の膜厚t1を測定し、浸漬による膜厚変化率{|t1-T1|/T1}×100を算出した。なお、変化率が5未満であれば、耐薬品性が良好であるといえる。4透明性及び耐熱透明性の評価上記の3耐溶剤性の評価において、シリコンウエハーの代わりにガラス基板コーニング1737コーニング社製を用いたこと以外は3と同様にしてガラス基板上に硬化膜を作製した。得られた硬化膜の最低光線透過率を分光光度計150-20型ダブルビーム株日立製作所製を用いて400nmの波長で測定した。また、上記で得られた硬化膜をオーブンにて230°Cで2時間更に加熱した後、最低光線透過率を上記と同様の方法で測定した。最低光線透過率の評価透明性及び耐熱透明性の評価を表4に示す。この値が100に近いほど、透明性及び耐熱透明性が良好であるといえる。5PED特性の評価PED特性とは、露光後に現像までの時間に対するパターンの形状安定性のことである。10μmのコンタクトホールを形成するためのマスクを介して、円状のパターンを切った。露光から現像までの引き置き時間を1分後と30分後に変化させ、マスクを介して円状のパターンを形成した以外は、前記感度の評価と同様に操作を行い、そのコンタクトホールの直径を比較した。この値が100に近いほど、PEDが良好であるといえる。1分後から30分後のコンタクトホール径の変動率=[1分後CH径μm]/[30分後CH径μm]×100実施例1~22及び比較例1~9における各評価結果を、表4に示す。なお、比較例9では、感度評価において十分硬化せず、PED特性を評価できなかった。実施例23薄膜トランジスターTFTを用いた有機EL表示装置を以下の方法で作製した図1参照。ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3を形成した。次に、この絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmを絶縁膜3上に形成した。この配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。更に、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上へ平坦化層4を形成した。絶縁膜3上への平坦化膜4の形成は、実施例1の感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク90°C×2分した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてi線365nmを45mJ/cm2照度20mW/cm2照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、230°Cで60分間の加熱処理を行った。該感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。さらに、配線2の平均段差は500nm、作製した平坦化膜4の膜厚は2,000nmであった。次に、得られた平坦化膜4上に、ボトムエミッション型の有機EL素子を形成した。まず、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5を、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ITOエッチャント用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液モノエタノールアミンとジメチルスルホキシドDMSOとの混合液を用いて該レジストパターンを剥離した。こうして得られた第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。次に、第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8を形成した。絶縁膜8には、実施例7の感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で形成した。この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。更に、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成した。得られた上記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。以上のようにして、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続してなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機EL表示装置であることが分かった。実施例24特許第3321003号公報の図1及び図2に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、層間絶縁膜として硬化膜17を以下のようにして形成し、実施例58の液晶表示装置を得た。すなわち、実施例1の感光性樹脂組成物を用い、上記実施例23における有機EL表示装置の平坦化膜4の形成方法と同様の方法で、層間絶縁膜として硬化膜17を形成した。得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることが分かった。"