"基板を一方向に搬送する搬送手段と、前記基板に対向して配置され、前記基板の面積よりも小さい面積の蒸着マスクと、蒸着材料を蒸発させて前記蒸着マスクに設けられた複数の開口パターンを介して前記基板の表面に蒸着し薄膜パターンを形成させる蒸着源と、を備えた蒸着装置であって、前記蒸着マスクは、前記基板の搬送方向と交差する方向の少なくとも一方端側の縁部領域に、一定形状の開口部を設けてアライメントマークを形成してなり、前記搬送方向と交差する方向に複数の受光エレメントを一直線に並べて備え、前記蒸着マスクのアライメントマークと、該アライメントマークに対応して前記搬送方向と交差する方向の少なくとも一方端側の前記基板の縁部領域に設けられた前記搬送方向に平行な細線状の追従マークとを同時に撮影して両マークの位置関係を検出可能にした撮像手段と、前記撮像手段で撮影して検出された前記両マークの位置関係に基づいて、前記基板の搬送中常時、前記基板と前記蒸着マスクとを前記蒸着マスクの面に平行な面内で相対的に移動させて前記基板と前記蒸着マスクとの位置ずれを補正するアライメント手段と、を備えたことを特徴とする蒸着装置。前記蒸着マスクには、前記搬送方向と平行な両端縁部領域に夫々前記アライメントマークが設けられ、前記基板には、前記搬送方向に平行な両端縁部領域に夫々前記追従マークが設けられ、前記各アライメントマーク及び前記各追従マークを撮影可能に1対の前記撮像手段を備え、前記アライメント手段は、前記各撮像手段で検出された前記アライメントマークと前記追従マークとの間の距離が互いに合致するように、前記基板と前記蒸着マスクとを相対的に前記搬送方向と交差する方向に移動し、同方向の位置ずれを補正する、ことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。前記各追従マークには、夫々一定間隔で交差する細線状の複数の角度調整用マークが設けられており、前記アライメント手段は、前記各撮像手段で撮影して検出された前記搬送方向両端に対応して位置する前記角度調整用マーク間の位置ずれ量に基づいて前記蒸着マスクと前記基板とを相対的に回動させ、回転方向の位置ずれを補正する、ことを特徴とする請求項2記載の蒸着装置。前記アライメントマークは、前記搬送方向に平行な2本の細線状開口部と、該2本の細線状開口部間にて前記搬送方向と斜めに交差する1本の斜線状開口部とを組み合わせた形態をなしていることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記基板は、透明な基板であり、前記撮像手段は、前記透明な基板を透過して前記追従マーク及び前記アライメントマークを撮影可能に配置された、ことを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記蒸着マスクと前記蒸着源との間に、前記蒸着マスクの前記アライメントマークの形成位置よりも内側にて前記複数の開口パターンを形成した中央領域の周縁部と、前記蒸着源の周縁部とをつなぐ筒状のフードをさらに設けたことを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の蒸着装置。しかし、このような従来の蒸着装置においては、基板と蒸着マスクとのアライメントを行なうアライメント手段が備えられていないので、基板を保持して搬送させる搬送手段の機械精度により、搬送中に基板がピッチング及びヨーイングした場合、この基板の動きに蒸着マスクを追従させることができなかった。したがって、基板の表面に蒸着形成される薄膜パターンの位置精度を向上することができなかった。そこで、本発明は、このような問題点に対処し、移動中の基板に対する薄膜パターンの形成位置精度を向上し得るようにした蒸着装置を提供することを目的とする。上記目的を達成するために、本発明による蒸着装置は、基板を一方向に搬送する搬送手段と、前記基板に対向して配置され、前記基板の面積よりも小さい面積の蒸着マスクと、蒸着材料を蒸発させて前記蒸着マスクに設けられた複数の開口パターンを介して前記基板の表面に蒸着し薄膜パターンを形成させる蒸着源と、を備えた蒸着装置であって、前記蒸着マスクは、前記基板の搬送方向と交差する方向の少なくとも一方端側の縁部領域に、一定形状の開口部を設けてアライメントマークを形成してなり、前記搬送方向と交差する方向に複数の受光エレメントを一直線に並べて備え、前記蒸着マスクのアライメントマークと、該アライメントマークに対応して前記搬送方向と交差する方向の少なくとも一方端側の前記基板の縁部領域に設けられた前記搬送方向に平行な細線状の追従マークとを同時に撮影して両マークの位置関係を検出可能にした撮像手段と、前記撮像手段で撮影して検出された前記両マークの位置関係に基づいて、前記基板の搬送中常時、前記基板と前記蒸着マスクとを前記蒸着マスクの面に平行な面内で相対的に移動させて前記基板と前記蒸着マスクとの位置ずれを補正するアライメント手段と、を備えたものである。このような構成により、基板の搬送方向と交差する方向に複数の受光エレメントを一直線に並べて備えた撮像手段により、蒸着マスクの基板搬送方向と交差する方向の少なくとも一方端側の縁部領域に形成した一定形状の開口部からなるアライメントマークと、該アライメントマークに対応して基板搬送方向の少なくとも一方端側の基板の縁部領域に設けられた搬送方向に平行な細線状の追従マークとを同時に撮影し、アライメント手段により撮像手段で撮影して検出された上記両マークの位置関係に基づいて、基板の搬送中常時、基板と蒸着マスクとを蒸着マスクの面に平行な面内で相対的に移動させて基板と蒸着マスクとの位置ずれを補正しながら、蒸着源から蒸発した蒸着材料を蒸着マスクに設けられた複数の開口パターンを介して基板の表面に蒸着し、薄膜パターンを形成する。好ましくは、前記蒸着マスクには、前記搬送方向と平行な両端縁部領域に夫々前記アライメントマークが設けられ、前記基板には、前記搬送方向に平行な両端縁部領域に夫々前記追従マークが設けられ、前記各アライメントマーク及び前記各追従マークを撮影可能に1対の前記撮像手段を備え、前記アライメント手段は、前記各撮像手段で検出された前記アライメントマークと前記追従マークとの間の距離が互いに合致するように、前記基板と前記蒸着マスクとを相対的に前記搬送方向と交差する方向に移動し、同方向の位置ずれを補正するようにするのが望ましい。より好ましくは、前記各追従マークには、夫々一定間隔で交差する細線状の複数の角度調整用マークが設けられており、前記アライメント手段は、前記各撮像手段で撮影して検出された前記搬送方向両端に対応して位置する前記角度調整用マーク間の位置ずれ量に基づいて前記蒸着マスクと前記基板とを相対的に回動させ、回転方向の位置ずれを補正するようにするのが望ましい。この場合、前記アライメントマークは、前記搬送方向に平行な2本の細線状開口部と、該2本の細線状開口部間にて前記搬送方向と斜めに交差する1本の斜線状開口部とを組み合わせた形態をなしているのが望ましい。さらに、前記基板は、透明な基板であり、前記撮像手段は、前記透明な基板を透過して前記追従マーク及び前記アライメントマークを撮影可能に配置されているのが望ましい。そして、前記蒸着マスクと前記蒸着源との間に、前記蒸着マスクの前記アライメントマークの形成位置よりも内側にて前記複数の開口パターンを形成した中央領域の周縁部と、前記蒸着源の周縁部とをつなぐ筒状のフードをさらに設けるのが望ましい。本発明の蒸着装置によれば、撮像手段により撮影して得られた蒸着マスクに設けたアライメントマークと基板に設けた細線状の追従マークとの間の位置ずれ情報に基づいて基板又は蒸着マスクの位置を随時調整するようにしているので、搬送手段の機械精度により、搬送中に基板がピッチング及びヨーイングしても、基板の動きに蒸着マスクを追従させて蒸着することができる。したがって、移動中の基板に対しても薄膜パターンの形成位置精度を向上することができる。以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明による蒸着装置の実施形態の要部を示す正面図であり、図2は図1の左側面図である。この蒸着装置は、基板を一方向に搬送しながら基板よりも面積の小さい蒸着マスクを使用して薄膜パターンを蒸着形成するもので、真空室内に、搬送手段1と、基板ホルダー2と、蒸着マスク3と、蒸着源4と、撮像手段5と、アライメント手段6とを備えて構成されている。上記搬送手段1は、基板7を図1に示す矢印A方向に一定速度で搬送するもので、後述の基板ホルダー2を支持して矢印A方向に移動させる例えばリニアモータアクチュエータであり、レール8と可動部9とを備えて構成されている。そして、真空室内に往路及び復路を備えた閉ループに形成され、蒸着が終了した基板ホルダー2をスタート位置まで戻すことができるようになっている。上記搬送手段1に一端部2aが回動可能に支持されて基板ホルダー2が設けられている。この基板ホルダー2は、平坦な吸着面2bに基板7の裏面を静電吸着して保持するものであり、吸着面2bに直流電圧が印加可能に構成されている。そして、図示省略の載荷位置loadingpositionにおいて、図3aに示すように、吸着面2bが上を向くように矢印B方向に回動し、搬入ロボットによって真空室内に搬入された基板7を吸着面2bに受けて静電吸着した後、同図bに示すように矢印C方向に反転して吸着面2bが下を向くように回動し、基板7を後述の蒸着マスク3に対して対向させるようになっている。また、図示省略の除荷位置unloadingpositionにおいては、吸着面2bが上を向くように回動した後、基板7の静電吸着を解除して、搬出ロボットにより蒸着が終了した基板7を真空室外に搬出できるようになっている。なお、図3aにおいて符号10は、基板7の周縁領域に設けられた後述の追従マーク12と矢印Aで示す基板搬送方向以下X方向というとが平行となるように基板7を予め位置合わせするための二次元カメラであり、X軸に平行に2台が並べて配置されている。ここで使用する基板7は、図4に示すように、透明基板の表面にて中央領域7aに、蒸着形成しようとする薄膜パターンに対応したストライプ状の複数のパターン形成領域11が予め設定されており、上記ストライプ状のパターン形成領域11の長軸に平行な両端縁部領域7bには、夫々、上記パターン形成領域11の長軸に平行に例えば黒色レジストにより線状の追従マーク12が互いに一定距離はなれて平行にパターン形成されている。さらに、各追従マーク12には、夫々一定間隔で交差する短い線状の複数の角度調整用マーク13が同じく例えば黒色レジストによりパターン形成されている。そして、基板7は、上記基板ホルダー2に上記追従マーク12が矢印Aで示す基板7搬送方向に平行となるように保持される。上記基板ホルダー2と対向するように蒸着マスク3が設けられている。この蒸着マスク3は、基板7上に蒸着形成しようとする薄膜パターンのパターン形成領域11外の部分を遮蔽するためのもので、図5に示すように、基板7の面積よりも小さい面積を有する金属板の中央領域3aに、上記薄膜パターンに対応して貫通する複数の開口パターン14を薄膜パターンの配列ピッチと同じ配列ピッチで並べて形成したものである。より詳細には、蒸着マスク3は、X方向の長さが基板7の同方向の長さよりも短く、基板搬送方向と交差する方向以下Y方向というの長さが基板7の同方向の長さと同じかそれよりも長い短冊形状をなしている。そして、Y方向の両端縁部領域3bに、一定形状の開口部を設けて1対のアライメントマーク15が形成されている。なお、蒸着マスクは、熱膨張係数が10×10-6/°C以下の金属材料を使用するのが望ましく、好ましくは、熱膨張係数が2×10-6/°C以下のインバー又は1×10-6/°C以下のスーパーインバーが望ましい。上記1対のアライメントマーク15は、詳細には、夫々、図5に示すように、X方向に平行な2本の細線状開口部15aと、該2本の細線状開口部15a間にてX方向と斜めに交差する1本の斜線状開口部15bとを組み合わせたN字状の形をなしている。上記蒸着マスク3の下方には、該蒸着マスク3に対向して蒸着源4が設けられている。この蒸着源4は、基板7に形成しようとする薄膜パターンの蒸着材料を蒸発させるものであり、蒸着マスク3の長軸方向Y方向に長細い、上側を開口した箱状のルツボ16と、ルツボ16に収納された蒸着材料を加熱して蒸発させるヒータ17と、ルツボ16の開口を開閉するシャッタ18とを備えて構成されている。なお、本実施形態においては、シャッタ18を蒸着マスク3の下面に近接対向して配置した場合について示しているが、ルツボ16の開口に近接対向させて設けてもよい。そして、蒸着マスク3と蒸着源4との間には、図2に示すように、蒸着マスク3のアライメントマーク15の形成位置よりも内側にて複数の開口パターン14を形成した中央領域3aの周縁部と、ルツボ16の開口周縁部とをつなぐ筒状のフード19が設けられ、蒸着材料が上記中央領域3a外の周辺領域に飛散し、蒸着マスク3のアライメントマーク15を介して基板7に付着するのを防止している。上記蒸着マスク3の両端縁部領域3aの上方には、夫々撮像手段5が設けられている。この撮像手段5は、基板7のX軸に平行な両端縁部領域7bを透過して基板7の表面に設けられた追従マーク12及び角度調整用マーク13と、蒸着マスク3に設けられたアライメントマーク15とを同時に撮影するものであり、Y方向に複数の受光エレメントを一直線に並べて備えたラインカメラである。なお、撮像手段5の撮影領域を照明可能に図示省略の落射照明が設けられている。上記蒸着マスク3をマスクの面に平行なXY平面内を微動及び回動可能にアライメント手段6が設けられている。このアライメント手段6は、撮像手段5で撮影して検出されたアライメントマーク15及び追従マーク12の位置関係に基づいて、基板7の搬送中常時、蒸着マスク3をXY平面内にてY方向に移動させて基板7と蒸着マスク3との位置ずれを補正すると共に、撮像手段5で撮影して検出された、Y方向両端に互いに対応して位置する角度調整用マーク13間の位置ずれ量に基づいて蒸着マスク3を回動させ、該基板7の角度ずれを補正するもので、図5に矢印u,v,wで示す蒸着マスク3の短辺の両端位置の作用点及び長辺の中心位置の作用点に対して蒸着マスク3の面に平行な力を加えるアクチュエータを備えている。この場合、矢印u,vの作用点に対する各押し込み量又は引き出し量を調整することにより、蒸着マスク3をXY平面内をY方向に移動させたり回動させたりすることができ、矢印wの作用点に対する押し込み量又は引き出し量を調整することにより、蒸着マスク3をX方向に移動することができる。また、アライメント手段6は、蒸着マスク3の中央領域3aに対応して貫通する開口部を形成し、蒸着マスク3を基板7面に対して100μm程度のギャップを介して近接対向させて保持する蒸着マスク3のマスクホルダーの役目も果たしている。次に、このように構成された蒸着装置の動作について説明する。初期状態においては、基板ホルダー2は、図3aに示すように、載荷位置で吸着面2bを上向きにして基板7が搬入されるまで待機している。続いて、基板7が搬入ロボットによって搬入されて基板ホルダー2の吸着面2b上に位置づけられる。この状態で基板7の縁部領域7bに設けられた追従マーク12がX軸に平行に並べられた2台の2次元カメラ10により撮像され、両カメラで検出された追従マーク12が1直線につながるように基板7の角度が調整される。それが終了すると、基板ホルダー2の吸着面2bに直流電圧が印加され、基板7はその裏面が基板ホルダー2の吸着面2bに静電吸着されて基板ホルダー2に保持される。次いで、基板ホルダー2は、図3bに示すように、搬送手段1に支持された一端部2a側を中心に180度回動して基板7の表面を下向きにする。同時に、搬送手段1が起動して基板7の搬送が開始される。基板7が搬送手段1の往路を搬送されて撮像手段5の下側に達すると、撮像手段5により、基板7のX方向に平行な両端縁部領域7bを透過して基板7の表面に設けられた追従マーク12及び角度調整用マーク13と蒸着マスク3に設けられたアライメントマーク15とが同時に撮影される。ここで、基板7と蒸着マスク3との位置合わせについて説明する。ラインカメラからなる撮像手段5を使用して落射照明により基板7の追従マーク12及び角度調整用マーク13並びに蒸着マスク3のアライメントマーク15を撮影すると、黒色パターンからなる追従マーク12及び角度調整用マーク13は、図6aに示すように夫々一つの黒点及び黒い細線として検出される。なお、同図aは、角度調整用マーク13を検出した状態を示す。また、アライメントマーク15は、開口部により形成されているため、同図aに示すように照明光が透過して3つの黒点として検出され、アライメントマーク15の周辺は照明光が反射されて明部として検出される。さらに、各マークの検出結果を時間経過で示すと同図bに示すようにアライメントマーク15は3本の平行な黒い直線として表わされ、追従マーク12は黒い直線として、角度調整用マーク13は追従マーク12の黒い直線に一定間隔で交差する黒い細線として表わされる。初期状態においては、撮像手段5の撮影画像に基づいて検出されたアライメントマーク15の3つの黒点間の距離L1,L2図6a参照が蒸着マスク3のX方向の中心軸に対して左右2つのアライメントマーク15で共に合致するように、アライメント手段6を駆動して蒸着マスク3の図5に矢印u,v,wで示す作用点に力が作用され、蒸着マスク3が移動されて上記2つのアライメントマーク15の中心を結ぶ中心線と撮像手段5の長手中心軸とが合致されている。蒸着が開始されると、撮像手段5の撮影画像に基づいて検出されたアライメントマーク15の3つの黒点うち、真中の黒点と追従マーク12の黒点との間の距離L3,L4が計測される。この場合、上記距離L3,L4が異なるときには、アライメント手段6を駆動して該距離L3,L4が合致するように蒸着マスク3の図5に矢印u,vで示す作用点に同じ大きさの力が作用され、基板7のY方向への位置ずれが補正される。また、撮像手段5の撮影画像に基づいて検出される、基板7のX方向の中心線を挟んで左右に互いに対応して位置する角度調整用マーク13の検出時刻t1,t2が図7に示すように異なる場合には、基板7がX方向に対して角度θだけ傾いていることを示す。したがって、このときには、左右二つの角度調整用マーク13の検出時間差t2-t1と基板7の搬送速度から、2つの角度調整用マーク13のX方向の距離L5を演算し、該距離L5と予めメモリに保存された左右の追従マーク12間の距離L6とに基づいてθ=sin-1L5/L6を演算して基板7の傾き角度θを求める。そして、蒸着マスク3の図5に矢印u,vで示す作用点に対して互いに異なる大きさの力を作用し、蒸着マスク3を回転して蒸着マスク3のX方向に対する傾き角度が基板7の傾き角度θに合わされる。これにより、基板7と蒸着マスク3との間の相対的な回転方向の位置ずれが補正される。なお、基板7のY方向への位置ずれ補正及び基板7と蒸着マスク3との間の回転方向の位置ずれ補正は、蒸着実行中常時行われ、ピッチング及びヨーイングしながら移動する基板7に対して蒸着マスク3を追従させることができる。したがって、薄膜パターンを位置精度よく形成することができる。基板7が搬送されて蒸着マスク3の上方に達すると、蒸着源4のシャッタ18が一定時間開かれ、ルツボ16から蒸発した蒸着材料が蒸着マスク3の開口パターン14を介して基板7上に付着する。こうして、基板7を搬送しながら基板7全面に渡って蒸着が行われ、基板7上のパターン形成領域11にストライプ状の薄膜パターンが形成される。蒸着が終了した基板7は、搬送手段1によってさらに後方まで搬送され、除荷位置において停止する。そして、この除荷位置において、基板ホルダー2が図3aに示すように搬送手段1側の一端部2aを中心に矢印B方向に180度回動して基板7を上向きにし、この状態で吸着面2bに対する直流電圧の印加が解除される。その後、搬出ロボットによって基板7は、真空室外に搬出される。基板7が搬出されて空となった基板ホルダー2は、図3bに示すように搬送手段1側の一端部2aを中心に矢印C方向に回動して吸着面2bを下向きにした状態で搬送手段1の復路を通ってスタート位置まで戻され、再び、初期状態に戻る。なお、搬送手段1に複数の基板ホルダー2を備えて随時搬送できるように構成すれば、複数の基板7を連続的に搬送しながら蒸着をすることができ、蒸着工程のタクトを短縮することができる。また、上記実施形態においては、アライメントマーク15及び追従マーク12が夫々1対設けられている場合について説明したが、本発明はこれに限られず、アライメントマーク15及び追従マーク12は、X方向に平行な一方側の縁部領域に互いに対応して1つ設けられていてもよい。この場合、1台の撮像手段5によりアライメントマーク15と追従マーク12とを撮影し、両マークが一定の位置関係を有するようにアライメント手段6により蒸着マスク3をY方向に移動させればよい。これにより、Y方向に振れながら搬送される基板7に対して蒸着マスク3を位置合わせすることができる。さらに、上記実施形態においては、基板7と蒸着マスク3との位置合わせを蒸着マスク3側を移動させて行う場合について説明したが、本発明はこれに限られず、基板ホルダー2側を移動させてもよい。この場合、アライメント手段6は、基板ホルダー2側に備えられ、蒸着マスク3は別に設けた蒸着マスクのマスクホルダーに固定的に保持される。そして、上記実施形態においては、蒸着源4が一つの場合について説明したが、本発明はこれに限られず、一つの真空室内に複数種の蒸着源4及び対応する蒸着マスク3を基板7の搬送方向に並べて備えてもよい。これより、同一基板7上に1回の蒸着工程で複数種の薄膜パターンを形成することができる。"