"一般式1で表される化合物と、一般式2-1で表される化合物、一般式2-2で表される化合物及び置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体2-3からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物2とを含むことを特徴とする光配向膜用組成物。1式中、R1及びR2は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、-OR5ただしR5は、炭素原子数1~6のアルキル基、炭素原子数3~6のシクロアルキル基又は炭素原子数1~6のアルコキシ基で置換された炭素原子数1~6のアルキル基を表す、炭素原子数1~4のヒドロキシルアルキル基、-CONR6R7ただしR6及びR7は、各々独立して水素原子又は炭素原子数1~6のアルキル基を表す又はメトキシカルボニル基を表し、R3及びR4は各々独立して、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基又はヒドロキシル基を表す。2-1一般式2-1中、R11及びR12は各々独立して、ヒドロキシル基、又はメタアクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表し、X11は、R11がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、R11が重合性官能基の場合、-A1-B1m-で表される連結基を表し、X12は、R12がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、R12が重合性官能基の場合、-A2-B2n-で表される連結基を表す。ここで、A1はR11に結合するものとし、A2はR12に結合するものとする。A1及びA2は各々独立して単結合又は二価の炭化水素基を表し、B1及びB2は各々独立して単結合、-O-、-CO-O-、-O-CO-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-又は-O-CO-NH-を表す。m及びnは各々独立して1~4の整数を表す。但し、m又はnが2以上のとき、複数あるA1、B1、A2及びB2は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのB1又はB2の間に挟まれたA1又はA2は、単結合ではないものとする。R13及びR14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、-OR17ただしR17は、炭素原子数1~6のアルキル基、炭素原子数3~6のシクロアルキル基又は炭素原子数1~6のアルコキシ基で置換された炭素原子数1~6のアルキル基を表す、炭素原子数1~4のヒドロキシルアルキル基又は-CONR18R19R18及びR19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数1~6のアルキル基を表す又はメトキシカルボニル基を表す。R15及びR16は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。2-2一般式2-2中、R21及びR22は各々独立して、水素原子、炭素原子数1~6のアルキル基又は炭素原子数1~6のアルコキシ基を表し、A11及びA12は各々独立して、置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するナフタレン環、又は置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するベンゼン環を表す。前記一般式1で表される化合物と、前記化合物2との比率が、1:0.1~1:10の範囲である請求項1に記載の光配向膜用組成物。液晶配向膜上に作成した重合性液晶組成物の膜を配向させた状態で重合させて得られる光学異方体であって、該液晶配向膜が、請求項1に記載の光配向膜用組成物の膜を配向させて得られたものであることを特徴とする光学異方体。発明が解決しようとする課題は、感度が高く、高温による劣化等のない光学異方体を与えるような光配向膜用組成物を提供することにある。本発明者らは、前記構造式で表されるような感度の高い化合物に、特定の化合物を添加した光配向膜用組成物が上記課題を解決できることを見いだした。即ち本発明は、一般式1で表される化合物と、一般式2-1で表される化合物、一般式2-2で表される化合物、及び置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体2-3からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物2と含む光配向膜用組成物を提供する。1式中、R1及びR2は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、-OR5ただしR5は、炭素原子数1~6のアルキル基、炭素原子数3~6のシクロアルキル基又は炭素原子数1~6のアルコキシ基で置換された炭素原子数1~6のアルキル基を表す、炭素原子数1~4のヒドロキシルアルキル基、-CONR6R7ただしR6及びR7は、各々独立して水素原子又は炭素原子数1~6のアルキル基を表す又はメトキシカルボニル基を表し、R3及びR4は各々独立して、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基又はヒドロキシル基を表す。2-1一般式2-1中、R11及びR12は各々独立して、ヒドロキシル基、又はメタアクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表し、X11は、R11がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、R11が重合性官能基の場合、-A1-B1m-で表される連結基を表し、X12は、R12がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、R12が重合性官能基の場合、-A2-B2n-で表される連結基を表す。ここで、A1はR11に結合するものとし、A2はR12に結合するものとする。A1及びA2は各々独立して単結合又は二価の炭化水素基を表し、B1及びB2は各々独立して単結合、-O-、-CO-O-、-O-CO-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-又は-O-CO-NH-を表す。m及びnは各々独立して1~4の整数を表す。但し、m又はnが2以上のとき、複数あるA1、B1、A2及びB2は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのB1又はB2の間に挟まれたA1又はA2は、単結合ではないものとする。R13及びR14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、-OR17ただしR17は、炭素原子数1~6のアルキル基、炭素原子数3~6のシクロアルキル基又は炭素原子数1~6のアルコキシ基で置換された炭素原子数1~6のアルキル基を表す、炭素原子数1~4のヒドロキシルアルキル基又は-CONR18R19R18及びR19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数1~6のアルキル基を表す又はメトキシカルボニル基を表す。R15及びR16は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。2-2一般式2-2中、R21及びR22は各々独立して、水素原子、炭素原子数1~6のアルキル基又は炭素原子数1~6のアルコキシ基を表し、A11及びA12は各々独立して、置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するナフタレン環、又は置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するベンゼン環を表す。また、本発明は、液晶配向膜上に作成した重合性液晶組成物の膜を配向させた状態で重合させて得られる光学異方体であって、該液晶配向膜が、前記記載の光配向膜用組成物の膜を配向させて得られた光学異方体を提供する。本発明の光配向膜用組成物を使用することで、感度が高く、且つ、セル製造過程で使用するような接着部材、あるいは、接着部材、重合性液晶組成物溶液、配向膜溶液等に使用する有機溶剤に侵されることのない光配向膜及び該光配向膜を使用した、有機溶剤等に侵されることのない光学異方体が得られる。1一般式1で表される化合物一般式1において、R1及びR2は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、-OR5ただしR5は、炭素原子数1~6の低級アルキル基、炭素原子数3~6のシクロアルキル基又は炭素原子数1~6の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数1~6の低級アルキル基を表す、炭素原子数1~4のヒドロキシアルキル基又は-CONR6R7R6及びR7は、各々独立して水素原子又は炭素原子数1~6の低級アルキル基を表す又はメトキシカルボニル基を表す。但し、カルボキシル基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子や塩素原子が挙げられる。ハロゲン化メチル基としては、トリクロロメチル基やトリフルオロメチル基が挙げられる。ハロゲン化メトキシ基としては、クロロメトキシ基やトリフルオロメトキシ基等が挙げられる。R5の炭素原子数1~6の低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、1-メチルエチル基等が挙げられる。R5で表される炭素原子数1~6の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数1~6の低級アルキル気としては、メトキシメチル基、1-エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。炭素原子数1~4のヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、3-ヒドロキシプロピル基、1-ヒドロキシブチル基等が挙げられる。R6及びR7で表される炭素原子数1~6のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、1-メチルエチル基等が挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメチル基、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、シアノ基が好ましく、カルボキシル基、ヒドロキシメチル基又はトリフルオロメチル基は良好な配向性が得られる点で特に好ましい。また、R1及びR2は、4,4‘-ビスフェニルアゾビフェニル骨格の両端のフェニレン基の、アゾ基からみてメタ位に置換していると、優れた光配向性が得られ、特に好ましい。R3及びR4は各々独立して、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基又はヒドロキシ基を表す。但し、カルボキシル基、スルホ基は、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属と塩を形成していても良い。これらR3及びR4は、4,4’-ビスフェニルアゾビフェニル骨格の2、2’位に置換していると、優れた光配向性が得られ、特に好ましい。一般式1におけるR3及びR4は、光配向性能やその他の特性に最も影響を与える部位であると推定され、R3及びR4に導入しうる置換基の種類や組合せにより、様々な特性が得られる。前記R3及びR4がカルボキシル基又はその塩、スルホ基又はその塩であると、ガラスやITOなどの透明電極に対して親和性が高く、基板表面に均一に光配向膜を形成することができるため好ましい。前記一般式1で表される化合物は、単体でも、一般式1で表される化合物の範囲内のR1~R4が各々異なる化合物を複数混合して使用してもよい。前記一般式1で表される化合物と、一般式2-1で表される化合物、一般式2-2で表される化合物及び置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体2-3からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物2と併用して使用することで、感度を維持しつつ、耐熱性に優れる光配向膜を得ることができる。一般式1で表される化合物としては、特に一般式1におけるR3及びR4がスルホ基またはそのアルカリ金属塩である化合物であると、基板表面に均一で、感度が高く、且つ耐熱性に優れる光配向膜を得ることができなお好ましい。更に、一般式1におけるR1及びR2がカルボキシル基またはそのアルカリ金属塩、ヒドロキシメチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、カルボキシル基またはそのアルカリ金属塩又はヒドロキシメチル基が更に好ましく、カルボキシル基またはそのアルカリ金属塩が特に好ましい。化合物2一般式2-1で表される化合物2-1一般式2-1中、R11及びR12は各々独立して、ヒドロキシ、又はメタアクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表す。X11は、R11がヒドロキシ基の場合、単結合を表し、R11が重合性官能基の場合、-A1-B1m-で表される連結基を表し、X12は、R12がヒドロキシ基の場合、単結合を表し、R12が重合性官能基の場合、-A2-B2n-で表される連結基を表す。ここで、A1はR11に結合するものとし、A2はR12に結合するものとする。A1及びA2は各々独立して単結合又は二価の炭化水素基を表し、B1及びB2は各々独立して単結合、-O-、-CO-O-、-O-CO-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-又は-O-CO-NH-を表す。m及びnは各々独立して0~4の整数を表す。但し、m又はnが2以上のとき、複数あるA1、B1,A2及びB2は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのB1又はB2の間に挟まれたA1又はA2は、単結合ではないものとする。R13及びR14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、-OR17ただしR17は、炭素原子数1~6の低級アルキル基、炭素原子数3~6のシクロアルキル基又は炭素原子数1~6の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数1~6の低級アルキル基を表す、炭素原子数1~4のヒドロキシアルキル基又は-CONR18R19R18及びR19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数1~6の低級アルキル基を表す又はメトキシカルボニル基を表す。但し、カルボキシル基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。R15及びR16は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。一般式2-1の化合物のうち、R11及びR12がヒドロキシ基であり、R13及びR14が炭素原子数1~4のヒドロキシアルキル基である化合物が好ましく、R11及びR12がヒドロキシ基であり、R13及びR14がヒドロキシメチル基である化合物が特に好ましい。化合物2一般式2-2で表される化合物2-2一般式2-2中、R21及びR22は各々独立して、水素原子、炭素原子数1~6のアルキル基あるいは炭素原子数1~6のアルコキシ基を表し、A11及びA12は各々独立して、置換基としてアミノ基及びスルホ基を有するナフタレン環、又は置換基としてアミノ基及びスルホ基を有するベンゼン環を表す。但しスルホ基はアルカリ金属と塩を形成していても良い。一般式2-2で表される化合物としては、R21及びR22が各々独立して、水素原子、メチル基、あるいはメトキシ基であるものが好ましい。化合物2置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体2-3置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体2-3において、置換基である水酸基の数は特に限定はないが、3~6が好ましく、6が最も好ましい。これらの、一般式2-1で表される化合物、一般式2-2で表される化合物及び置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体2-3からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物2は、前記一般式1で表される化合物と、前記化合物2との比率が、1:0.2~1:5の範囲となるように添加するのが好ましく、更に好ましくは1:0.5~1:2の範囲が好ましい。なお、前記一般式2で表される化合物は、単体でも、一般式2で表される化合物の範囲内の異なる化合物を複数混合して使用してもよい。前記一般式1で表される化合物の例としては、例えば下記構造の化合物が挙げられる。前記化合物2-1の例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。前記化合物2-2の例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。前記化合物置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体2-3の例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。一般式1で表される化合物は、水あるいは極性有機溶媒に高い溶解性を示し、かつガラス等に対して良好な親和性を示す。該化合物を水あるいは極性有機溶媒に溶解してなる光配向膜用組成物を、ガラス等の基板に塗布した後、水あるいは極性有機溶媒を除去するだけで、基板上に一様で、かつ安定な光配向膜用膜を形成することができる。本発明の光配向膜用組成物を使用した光配向膜は、光学異方体作成時に使用する重合性液晶組成物の液晶配向膜として、好適に使用することができる。溶剤本発明で使用する光配向膜用組成物は、塗布性を良好にする目的で、通常溶媒を使用する。溶媒に使用する溶剤としては、特に限定はないが、前記化合物が良好な溶解性を示す溶媒が使用する。例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-ブタンジオール等のジオール系溶剤、テトラヒドロフラン、2-メトキシエターノール、2-ブトキシエタノール、2-2-エトキシエトキシエタノール、2-2-ブトキシエトキシエタノール等のエーテル系溶剤、2-ピロリドン、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤、γ-ブチロラクトン、クロロベンゼン、ジメチルスルホキシド、等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、2種類以上混合して使用することもできる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、公知慣用の添加剤を添加してもよい。通常、固形分比が0.2質量以上となるように調製する。中でも0.5~10質量となるように調製することが好ましい。添加剤本発明で使用する光配向膜用組成物を均一に塗布し、膜厚の均一な光配向膜を得るために、汎用の添加剤を使用することもできる。例えば、レベリング剤、チキソ剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、表面処理剤、等の添加剤を液晶の配向能を著しく低下させない程度添加することができる。光配向膜、光配向膜を有する光学異方体あるいは光学素子の製造方法本発明の光配向膜用組成物を使用して光配向膜を得るには、該光配向膜用組成物を基板上に塗布乾燥した後に、紫外線、あるいは、可視光線等の異方性を有する光を照射し、一般式1で表される化合物を配向させる。塗布、基板本発明で使用する光配向膜用組成物を、基板上にスピンコーティング法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディッピング法等、公知慣用の方法によって塗布または印刷し、乾燥させることにより光配向膜用膜を得る。使用する基板は、液晶表示素子や光学異方体に通常用いられる基板であって、光配向膜用組成物溶液の塗布後の乾燥時、あるいは液晶素子製造時における加熱に耐えうる耐溶剤性と耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基板としては、ガラス基板、セラミックス基板、金属基板や高分子材料基板、等が挙げられる。高分子材料基板としては、セルロース誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ナイロン、ポリスチレン等を用いることができる。光配向膜用組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基板の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基板表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設けても良い。通常は、有機溶剤で希釈した溶液を塗布するので、塗布後は乾燥させ、光配向膜用膜を得る。光異性化工程前記方法により得た光配向膜用膜に、異方性を有する光を照射して液晶配向機能を付与以下、光異性化工程と略すして、光異性化した光配向膜用膜を作成する。光異性化工程で使用する、異方性を有する光としては、直線偏光や楕円偏光等の偏光、もしくは基板面に対して斜めの方向から非偏光があげられる。偏光は直線偏光、楕円偏光のいずれでも良いが、効率よく光配向を行うためには、消光比の高い直線偏光を用いることが好ましい。また、光照射装置において偏光を得るためには偏光フィルタ等を用いる必要があるので、膜面に照射される光強度が減少するといった欠点があるが、膜面に対して斜め方向から非偏光を照射する方法では、照射装置に偏光フィルタ等を必要とせず、大きな照射強度が得られ、光配向のための照射時間を短縮することができるという利点がある。このときの非偏光の入射角は基板法線に対して10°~80°の範囲が好ましく、照射面における照射エネルギーの均一性、得られるプレチルト角、配向効率等を考慮すると、20°~60°の範囲が更に好ましく、45°が最も好ましい。照射する光は、使用する化合物の光配向性基が吸収を有する波長領域の光であれば良い。例えば光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、アゾベンゼンのπ→π遷移による強い吸収がある、波長330~500nmの範囲の紫外線が特に好ましい。照射光の光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等の紫外光源、KrF、ArF等の紫外光レーザー、Arイオンレーザー等の可視光レーザー等が挙げられる。特に光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、365nmの紫外線の発光強度が特に大きい超高圧水銀ランプを有効に使用することができる。前記光源からの光を偏光フィルタやグラントムソン、グランテ-ラ-等の偏光プリズムを通すことで紫外線の直線偏光を得ることができる。また、偏光、非偏光のいずれを使用する場合でも、照射する光は、ほぼ平行光であることが特に好ましい。また、偏光を照射する際に、フォトマスクを使用すれば、光配向膜にパターン状に2以上の異なった方向に液晶配向能を生じさせることができる。具体的には、本発明の光配向膜用組成物を塗布乾燥した後に、基板にフォトマスクを被せて全面に偏光もしくは非偏光を照射し、パターン状に露光部分に液晶配向能を与える。必要に応じてこれを複数回繰り返すことで、複数方向に液晶配向能を生じさせることができる。さらに場合によっては、前記光異性化工程の後に光配向膜を冷却することもできる。冷却方法としては、光異性化した光配向膜用膜が冷却されればよく、例えば、コールドプレート、チャンバー、低温恒温器等、公知慣用の冷却装置で基板ごと冷却を行う。冷却条件としては、冷却温度が20°Cで1分以上であるが、冷却温度が20°Cよりも低い場合は、その限りではない。冷却温度としては、用いる溶剤の融点以上であればよいが、通常-40°C~20°Cの範囲が好ましい。液晶配向機能が向上した、より安定な光配向膜を得るには10°C以下が好ましく、冷却時間としては5分以上が好ましい。さらに冷却時間を短縮させるには冷却温度は5°C以下が好ましい。また、結露防止のため、冷却をする際に乾燥空気や窒素、アルゴン雰囲気下で行ってもよいし、乾燥空気や窒素等を基板に吹きかけながら冷却してもよい。光学異方体本発明の光配向膜用組成物を使用して光学異方体を得るには、前記記載の光配向膜上に重合性液晶を塗布し、配向させた状態で重合させる。重合性液晶組成物の重合操作は、光重合の場合は、前記光配向膜を作成する場合の重合操作と同様におこなえば良い。加熱による重合は、重合性液晶組成物が液晶相を示す温度又はそれより低温で行うことが好ましく、特に加熱によりラジカルを放出する熱重合開始剤を使用する場合にはその開裂温度が上記の温度域内にあるものを使用することが好ましい。また該熱重合開始剤と光重合開始剤とを併用する場合には上記の温度域の制限と共に光配向膜と重合性液晶膜の両層の重合速度が大きく異なることの無い様に重合温度と各々の開始剤を選択することが好ましい。加熱温度は、重合性液晶組成物の液晶相から等方相への転移温度にもよるが、熱による不均質な重合が誘起されてしまう温度よりも低い温度で行うことが好ましく、20°C~300°Cが好ましく、30°C~200°Cがさらに好ましく、30°C~120°Cが特に好ましい。また例えば、重合性基がメタアクリロイル基である場合は、90°Cよりも低い温度で行うことが好ましい。本発明で使用する光重合開始剤は公知慣用のものが使用できる。320nm以下の紫外光で使用できる光重合開始剤としては1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンチバスペシャルティケミカルズ社製イルガキュア184、1-[4-2-ヒドロキシエトキシ-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オンメルク社製ダロキュア1173などが挙げられる。また、アゾベンゼン骨格が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤としては、例えば、特許第3016606号に記載の近赤外線吸収色素と有機ホウ素を組み合わせたもの等が挙げられる。その他の光重合開始剤としては、例えば、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オンメルク社製ダロキュア1116、2-メチル-1-[メチルチオフェニル]-2-モリホリノプロパン-1チバスペシャルティケミカルズ社製イルガキュア907。ベンジルメチルケタ-ルチバスペシャルティケミカルズ社製イルガキュア651。2,4-ジエチルチオキサントン日本化薬社製カヤキュアDETXとp-ジメチルアミノ安息香酸エチル日本化薬社製カヤキュアEPAとの混合物、イソプロピルチオキサントンワ-ドプレキンソップ社製カンタキュア-ITXとp-ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、アシルフォスフィンオキシドBASF社製ルシリンTPO、などが挙げられる。光重合開始剤の使用量は重合性液晶化合物に対して10質量以下が好ましく、0.5~5質量が特に好ましい。また、熱重合の際に使用する熱重合開始剤としては公知慣用のものが使用でき、例えば、メチルアセトアセテイトパ-オキサイド、キュメンハイドロパ-オキサイド、ベンゾイルパ-オキサイド、ビス4-t-ブチルシクロヘキシルパ-オキシジカ-ボネイト、t-ブチルパ-オキシベンゾエイト、メチルエチルケトンパ-オキサイド、1,1-ビスt-ヘキシルパ-オキシ3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、p-ペンタハイドロパ-オキサイド、t-ブチルハイドロパ-オキサイド、ジクミルパ-オキサイド、イソブチルパ-オキサイド、ジ3-メチル-3-メトキシブチルパ-オキシジカ-ボネイト、1,1-ビスt-ブチルパ-オキシシクロヘキサン等の有機過酸化物、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル等のアゾニトリル化合物、2,2’-アゾビス2-メチル-N-フェニルプロピオン-アミヂンジハイドロクロライド等のアゾアミヂン化合物、2,2’アゾビス{2-メチル-N-[1,1-ビスヒドロキシメチル-2-ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}等のアゾアミド化合物、2,2’アゾビス2,4,4-トリメチルペンタン等のアルキル化合物等を使用することができる。熱重合開始剤の使用量は重合性液晶化合物に対して10質量以下が好ましく、0.5~5質量が特に好ましい重合性液晶組成物本発明で使用する重合性液晶組成物は、単独又は他の液晶化合物との組成物において液晶性を示す、重合性基を有する化合物を含む液晶組成物である。例えば、HandbookofLiquidCrystalsD.Demus,J.W.Goodby,G.W.Gray,H.W.Spiess,V.Vill編集、Wiley-VCH社発行、1998年、季刊化学総説No.22、液晶の化学日本化学会編、1994年、あるいは、特開平7-294735号公報、特開平8-3111号公報、特開平8-29618号公報、特開平11-80090号公報、特開平11-148079号公報、特開2000-178233号公報、特開2002-308831号公報、特開2002-145830号公報に記載されているような、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、メタアクリロイル基、ビニルオキシ基、エポキシ基といった重合性官能基とを有する棒状重合性液晶化合物、あるいは特開2004-2373号公報、特開2004-99446号公報に記載されているようなマレイミド基を有する棒状重合性液晶化合物、あるいは特開2004-149522号公報に記載されているようなアリルエーテル基を有する棒状重号性液晶化合物、あるいは、例えば、HandbookofLiquidCrystalsD.Demus,J.W.Goodby,G.W.Gray,H.W.Spiess,V.Vill編集、Wiley-VCH社発行、1998年、季刊化学総説No.22、液晶の化学日本化学会編、1994年や、特開平07-146409号公報に記載されているディスコティック重合性化合物があげられる。中でも、重合性基を有する棒状液晶化合物が、液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。溶剤前記重合性液晶組成物に使用する溶剤としては、特に限定はないが、前記化合物が良好な溶解性を示す溶媒が使用できる。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、等のアミド系溶剤、γ-ブチロラクトン、クロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、2種類以上混合して使用することもできる。また、添加剤を添加することもできる。本発明の重合性液晶組成物は、重合性基を有していない液晶化合物を必要に応じて添加してもよい。しかし、添加量が多すぎると、得られた光学異方体から液晶化合物が溶出して積層部材を汚染する恐れがあり、加えて光学異方体の耐熱性が下がるおそれがあるので、添加する場合は、重合性液晶化合物全量に対して30質量以下とすることが好ましく、15質量以下がさらに好ましく、5質量以下が特に好ましい。本発明で使用する重合性液晶組成物は、重合性基を有するが重合性液晶化合物ではない化合物を添加することもできる。このような化合物としては、通常、この技術分野で重合性モノマーあるいは重合性オリゴマーとして認識されるものであれば特に制限なく使用することができる。添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物に対して、5質量以下であることが好ましく、3質量以下が更に好ましい。本発明で使用する重合性液晶組成物は、光学活性を有する化合物、すなわちキラル化合物を添加してもよい。該キラル化合物は、それ自体が液晶相を示す必要は無く、また、重合性基を有していても、有していなくても良い。また、キラル化合物の螺旋の向きは、重合体の使用用途によって適宜選択することができる。具体的には、例えば、キラル基としてコレステリル基を有するペラルゴン酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、キラル基として2-メチルブチル基を有するビーディーエイチ社製のCB-15、C-15、メルク社製のS-1082、チッソ社製のCM-19、CM-20、CM、キラル基として1-メチルヘプチル基を有するメルク社製のS-811、チッソ社製のCM-21、CM-22などを挙げることができる。キラル化合物を添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物の重合体の用途によるが、得られる重合体の厚みdを重合体中での螺旋ピッチPで除した値d/Pが0.1~100の範囲となる量を添加することが好ましく、0.1~20の範囲となる量がさらに好ましい。本発明で使用する重合性液晶組成物には、保存安定性を向上させるために安定剤を添加することもできる。安定剤として例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β-ナフチルアミン類、β-ナフトール類等が挙げられる。添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物に対して1質量以下であることが好ましく、0.5質量以下が特に好ましい。本発明の光学異方体を、例えば、偏光フィルムや配向膜の原料、印刷インキ、塗料、又は保護膜等の用途に利用する場合には、本発明で使用する重合性液晶組成物にはその目的に応じて、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、又は酸化チタン等の金属酸化物、などを添加してもよい。得られた光学異方体の耐溶剤特性や耐熱性の安定化のために、光学異方体を加熱エージング処理することもできる。この場合、前期重合性液晶膜のガラス転移点以上で加熱することが好ましい。通常は、50~300°Cが好ましく、80~240°Cがさらに好ましい、100~220°Cがさらに好ましい。本発明の光学異方体は、基板から剥離して単体で光学異方体として使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学異方体として使用することもできる。特に、他の部材を汚染し難いので、被積層基板として使用したり、他の基板に貼り合わせて使用したりするときに有用である。場合によっては、光学異方体を数層にわたり積層することもできる。その場合は前記工程を複数繰り返せばよく、光学異方体の積層体を形成することができる。以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部及びは質量基準である。光配向膜用組成物1の調製一般式1で表される化合物として式aで示される化合物1部、化合物2として式bで示される化合物1部をN-メチル-2-ピロリドンNMP48部に溶解させた後、2-ブトキシエタノールBC50部を加え溶液を作成した。得られた溶液を0.45μmのメンブランフィルターでろ過し、光配向膜用組成物1を得た。ab光配向膜用組成物2~14の調製一般式1で表される化合物、化合物2の種類、配合部を変更した以外は、光配向膜用組成物1と同様にして光配向膜用組成物2~14を得た。該組成は表1に示すとおりである。溶剤は全てN-メチル-2-ピロリドンNMPと2-ブトキシエタノールBCの1対1混合物である。化合物c~gの構造は以下のとおりである。cdefg重合性液晶組成物LC-1の調整式hで示される化合物15部、式iで示される化合物15部をキシレン70部に溶解させた後、イルガキュア907チバスペシャリティケミカルズ株社製1.2部、式kで示されるアクリル共重合体0.3部を加え、溶液を得た。得られた溶液を0.45μmのメンブランフィルターでろ過し、重合性液晶組成物LC-1を得た。配向性の評価方法光学異方体の配向性は、外観目視及び偏光顕微鏡観察することにより、5段階で評価した。A:目視で均一な配向が得られており、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くないB:目視では均一な配向が得られているが、偏光顕微鏡観察での配向面積は90~100C:目視ではA、B程の配向は得られていないが、偏光顕微鏡観察での配向面積は60~90D:目視では無配向に近いが、偏光顕微鏡観察での配向面積は40~60E:目視では無配向で、偏光顕微鏡観察での配向面積も40以下耐熱性の評価方法耐熱性は230°C、4時間加熱前後の光学異方体のリタデーションを測定中央精機DI4RDし比較することにより評価した。加熱前のリタデーションをRe1nm、加熱後のリタデーションをRe2nmとし、加熱前のリタデーションに対する加熱後のリタデーションの比の百分率ReRe=Re2/Re1×100を耐熱性の指標とした。耐熱性が良いほうがリタデーションの変化が少ないのでReの値が大きいほうが耐熱性に優れるということになる。光学異方体としての評価実施例1光配向膜用組成物1をスピンコーターでガラス基板上に塗布し、100°Cで1分間乾燥した。このときの乾燥膜厚は20nmであった。次に超高圧水銀ランプに波長カットフィルター、バンドパスフィルター及び偏光フィルターを介して、波長365nm付近の可視紫外光照射強度:10mW/cm2の直線偏光でかつ平行光を、ガラス基板に対して垂直方向から照射し、配向させた。照射量は500mJ/cm2であった。得られた光配向膜上にスピンコーターで重合性液晶組成物LC-1を塗布し、80°Cで1分乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線を1J/cm2照射して、LC-1を重合させ、光学異方体を得た。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、光学異方体の耐熱性の評価結果はRe=70と耐熱性に優れていた。実施例2光配向膜用組成物として1の代わりに2を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=75と耐熱性に優れていた。実施例3光配向膜用組成物として1の代わりに3を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=69と耐熱性に優れていた。実施例4光配向膜用組成物として1の代わりに4を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=78と耐熱性に優れていた。実施例5光配向膜用組成物として1の代わりに5を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=68と耐熱性に優れていた。実施例6光配向膜用組成物として1の代わりに6を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=73と耐熱性に優れていた。実施例7光配向膜用組成物として1の代わりに7を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=69と耐熱性に優れていた。実施例8光配向膜用組成物として1の代わりに8を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=70と耐熱性に優れていた。実施例9光配向膜用組成物として1の代わりに9を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=65と耐熱性に優れていた。実施例10光配向膜用組成物として1の代わりに10を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=67と耐熱性に優れていた。実施例11光配向膜用組成物として1の代わりに11を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=70と耐熱性に優れていた。実施例12光配向膜用組成物として1の代わりに12を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=75と耐熱性に優れていた。実施例13光配向膜用組成物として1の代わりに13を使用した以外は実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はRe=70と耐熱性に優れていた。比較例1光配向膜用組成物として1の代わりに、光配向膜用組成物14を使用した以外は、実施例1と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はAであり、500mJ/cm2という少ない照射量で良配向を得ることがわかったが、この光学異方体の耐熱性の評価結果はRe=59であり、耐熱性に劣ることがわかった。"