筒状の外囲器と、前記外囲器の一方の端部に取り付けられて、前記外囲器の内部に電子ビームを照射する電子銃と、前記外囲器の他方の端部に取り付けられて、前記電子ビームの電子を捕捉するコレクタと、前記外囲器の内面に、前記外囲器の軸に平行に前記外囲器と一体に形成された複数の装荷素子と、前記外囲器の内部に、前記外囲器と同軸に配置される螺旋型伝送線路と、前記装荷素子と離隔して、前記螺旋型伝送線路の外周面と前記外囲器の内面の間に介在し、前記螺旋型伝送線路を前記外囲器から離隔して支持する3以上の支持体と、を備え、前記外囲器の内径と前記3以上の支持体が内接する円の外径とが、焼きばめの関係であるへリックス型進行波管。前記装荷素子は、前記外囲器とともに押し出し成型された、または、前記外囲器の内面に切削加工で形成された請求項1に記載のへリックス型進行波管。前記支持体は、前記外囲器の軸に平行な中心軸を有する円柱形状である請求項1または2に記載のへリックス型進行波管。4以上の前記支持体を備える請求項1ないし3のいずれか1項に記載のへリックス型進行波管。筒状の外囲器と、前記外囲器の内部に電子ビームを照射する電子銃と、前記電子ビームの電子を捕捉するコレクタと、前記外囲器の内部に前記外囲器と同軸に配置される螺旋型伝送線路と、前記螺旋型伝送線路の外周面と前記外囲器の内面の間に介在し、前記螺旋型伝送線路を前記外囲器から離隔して支持する3以上の支持体と、を備えるヘリックス型進行波管の製造方法であって、内径が、前記螺旋型伝送線路の外周面に接合された前記3以上の支持体が内接する円の外径と焼きばめの関係である前記外囲器、および、前記外囲器の内面に前記外囲器と一体に、前記外囲器の軸に平行な複数の装荷素子、を形成する外囲器形成工程と、前記螺旋型伝送線路の外周面に前記支持体を接合して接合体を形成する工程と、前記外囲器の中心軸と前記外囲器の内面の前記支持体を固定する位置との距離を、前記接合体の前記螺旋型伝送線路の中心軸から前記支持体の外面までの距離より大きく、前記外囲器を変形させる変形工程と、前記変形工程で変形させた前記外囲器に、前記接合体を、前記螺旋型伝送線路の中心軸と前記外囲器の中心軸が一致するように挿入する工程と、前記変形させた外囲器の中心軸と前記外囲器の内面の前記支持体を固定する位置との距離を、前記接合体の前記3以上の支持体が内接する円の外径と焼きばめの関係になる距離に復元する工程と、を備えるヘリックス型進行波管の製造方法。前記変形工程において、前記外囲器の温度を前記支持体の温度より高くして、前記外囲器の内径を前記螺旋型伝送線路に接合した前記支持体の外形より大きくする請求項5に記載のヘリックス型進行波管の製造方法。前記変形工程において、前記外囲器を弾性変形させて、前記外囲器の中心軸と前記外囲器の内面の前記支持体を固定する位置との距離を、前記螺旋型伝送線路の中心軸から前記支持体の外面までの距離より大きくする請求項5に記載のヘリックス型進行波管の製造方法。前記外囲器形成工程では、前記複数の装荷素子を外囲器とともに押し出し成型する、または、切削加工で形成する請求項5ないし7のいずれか1項に記載のヘリックス型進行波管の製造方法。外囲器から独立した構造のベインを進行波管内に組み立てる場合、ヘリックスおよびヘリックス支持体と共にベインを外囲器に挿入する方法がある。この方法でベインを組み立てる際にはベインとヘリックス支持体を接着剤によって接合した後に外囲器に挿入する。しかし、その方法では接着剤がベインとヘリックス支持体の間に毛細管現象により入り込むため、不要な隙間がベインとヘリックス支持体間に発生し組み立て精度を出すことが困難となる。特許文献1のヘリックス型進行波管では外囲器を外圧により変形させてベインを形成しているので、ベインとヘリックス支持体を接合して挿入する必要がない。しかし、外囲器を塑性変形しているので、外囲器の真円を保って加工することが困難である。外囲器の真円が保てないことによりヘリックス支持体と外囲器との嵌め合い精度が低く、ヘリックスと外囲器の中心軸を一致させる組立精度を出すことが困難である。本発明は上記のような問題点を解決するためになされたものであり、装荷素子およびヘリックスの組立精度を向上することを目的とする。本発明の第1の観点に係るヘリックス型進行波管は、筒状の外囲器、外囲器の一方の端部に取り付けられて、外囲器の内部に電子ビームを照射する電子銃、および、外囲器の他方の端部に取り付けられて、電子ビームの電子を捕捉するコレクタを備える。外囲器の内面には、外囲器の軸に平行に外囲器と一体に複数の装荷素子が形成される。外囲器の内部には、螺旋型伝送線路が外囲器と同軸に配置される。螺旋型伝送線路は、装荷素子と離隔して、螺旋型伝送線路の外周面と外囲器の内面の間に介在する3以上の支持体で、外囲器から離隔して支持される。そして、外囲器の内径と3以上の支持体が内接する円の外径とが、焼きばめの関係である。本発明によれば、装荷素子とヘリックス支持体間に接着剤が入り込むことがなく、ヘリックス支持体と外囲器の間の組立精度が向上する。その結果、装荷素子およびヘリックスの組立精度が向上する。以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して詳細に説明する。なお図中、同一または同等の部分には同一の符号を付す。実施の形態1図1は、本発明の実施の形態に係るヘリックス型進行波管の構成を示す断面図である。ヘリックス型進行波管10は、電子銃1、外囲器9、螺旋型伝送線路以下、ヘリックスという4およびコレクタ7を備える。外囲器9には、入力窓5と出力窓6が形成されている。外囲器9の外側に、リング状の永久磁石2とポールピース3が、外囲器9の軸方向に交互に配置される。ヘリックス4は、ヘリックス支持体8以下、支持体8と略す場合があるによって、外囲器9の内部に外囲器9と中心軸が一致するように、外囲器9から離隔して支持される。入力窓5から電磁波が入力され、ヘリックス型進行波管10で増幅されて、出力窓6から出力される。ヘリックス4は、例えば、タングステンで形成され、その表面が金で被覆される。ヘリックス4を支持固定しているヘリックス支持体8は、例えば、Al203、BN、AlN、BeO等の誘電体で形成される。ヘリックス4および支持体8を収納する外囲器9は、例えばFeまたはCuNi等の金属で形成され、その内部は真空に維持される。電子銃1から照射された電子ビームの電子は、コレクタ7で捕捉される。図2は、図1のA-A断面から電子銃1側を見た斜視図である。図1には示されていないが、ヘリックス支持体8を挟むように、ベイン装荷素子14が配置されている。図3は、本発明の実施の形態1に係るヘリックス型進行波管の断面図である。図3は、図1の線分A-Aで示すヘリックス4がある部分における外囲器9内部の断面を示す。ベイン14は押出成型又は切削加工などにより外囲器9の内側に、外囲器9の中心軸に平行に形成される。図3に示す例では、ヘリックス4を支持するヘリックス支持体8が、外囲器9の中心軸に直行する断面で、120°の間隔で設けられている。ヘリックス支持体8は、外囲器9の内面とヘリックス4の外周面の間に介在し、ヘリックス4を外囲器9から離隔して支持する。また、ベイン14は外囲器9より内面に張り出す形であるがヘリックス4からは完全に離れているため、ヘリックス4と外囲器9の間は絶縁が保たれる。図4は、図3のヘリックス型進行波管における外囲器単体の断面図である。ベイン14の仮想径15の中心は、ヘリックス4の中心と一致することが望ましい。図5は、図3のヘリックス型進行波管におけるヘリックスおよびヘリックス支持体の断面図である。ヘリックス支持体8の仮想径16は、ヘリックス4の中心軸に直交する断面において、ヘリックス4の外周面に接合する複数のヘリックス支持体8が内接する円の直径である。ヘリックス支持体8の仮想径16と外囲器9の内径は呼び寸法が同じである。ヘリックス型進行波管10は、以下のように作用する。図1に示すヘリックス型進行波管10おいて、電子銃1で電子ビームが生成され、電子ビームが外囲器9の中心軸の方向に照射される。発生した電子ビームは永久磁石2およびポールピース3によって一定の径に保たれてヘリックス4内を進む。入力窓5からは電磁波が入力されヘリックス4を伝播する。ヘリックス4上の電磁波のヘリックス4の中心軸方向の速度と、ヘリックス4の中を通る電子ビームの速度をほぼ同じにすることにより、相互作用を繰り返しながらエネルギー増幅を行う。電磁波はヘリックス4を伝播する間に電子ビームと相互作用を行い増幅されて出力窓6より出力される。電子ビームの電子はヘリックス4内を通過した後、コレクタ7にて捕捉される。上術の電磁波増幅を安定して行うためには、外囲器9およびベイン14の径の中心を電子ビームが偏心せずに通ることが必要となる。したがってヘリックス4の組立精度を上げてヘリックス4の中心軸と外囲器9の中心軸を一致させることが必要となる。外囲器9、ヘリックス4およびヘリックス支持体8それぞれの加工精度が同じであっても、ヘリックスおよびヘリックス支持体8を、外囲器9に挿入して固定する方法によって、ヘリックス4の中心軸と外囲器9の中心軸の一致度が変化する。以下、ヘリックス4の組立精度を決定する、本実施の形態のヘリックス4およびヘリックス支持体8の挿入方法について説明する。外囲器9に挿入する前に、ヘリックス4の中心軸に直行する断面において120°の間隔で、ヘリックス4の外径に接着剤を用いてヘリックス支持体8を仮止めして接合体を構成する。ベイン14が外囲器9と一体に形成されているため、外囲器9への挿入部品はヘリックス4およびヘリックス支持体8のみである。接着剤等を用いて仮止めして支持体8と共にベイン14を挿入したり、支持体8を挿入する前に独立してベイン14を挿入する必要はない。本実施の形態では、図5に示すヘリックス支持体8の仮想径16と外囲器9の内径が焼きばめの関係になるように、外囲器9、ヘリックス4およびヘリックス支持体8の寸法を調整しておく。ここで焼きばめとは、しまりばめの一種であって、強圧入、焼きばめもしくは冷しばめのしめしろであるはめあいの種類をいう。例えば、穴外囲器の内径の公差域クラスがH6またはH7であって、軸接合体の仮想径16の公差域クラスがr5またはs6、t6、u6もしくはx6であるような場合をいう。ヘリックス4とヘリックス支持体8を仮止めした接合体を外囲器9に挿入するには、ヘリックス支持体8の仮想径16と外囲器9内径が同じであることから、外囲器9を高温にして熱膨張を利用して挿入する方法を用いることができる。図6は、実施の形態1に係る挿入過程の例を示す図である。図6は、外囲器9の温度をヘリックス4およびヘリックス支持体8の温度より高くして、挿入する場合を示す。外囲器9を高温に熱することで、外囲器9が常温と比較して膨張し外囲器9の内径が大きくなる。図6では、外囲器9の内径を誇張して描いている。実際には、仮想径16のヘリックス4および支持体8の接合体が通る大きさであればよい。外囲器9を高温に保持しておき、ヘリックス4および支持体8の接合体を、常温の外部環境から高温の外囲器9へ挿入する。挿入したのち、外囲器9とヘリックス4の中心軸が一致するように保持したまま、外囲器9の温度を常温に冷却する。その際ヘリックス支持体8の仮想径16は外囲器9内径と焼きばめの関係にあることから、外囲器9が常温に冷却されると、しめしろ分の圧力によりヘリックス支持体8と外囲器9が接合される。よってヘリックス支持体8と外囲器9の間に接着剤を使用せず接合することができる。外囲器9にヘリックス4および支持体8の接合体を挿入して固定したのち、永久磁石2およびポールピース3を外囲器9の周りに取り付け、入力窓5と出力窓6を形成する。そして、電子銃1およびコレクタ7を外囲器9の両端に取り付けて、ヘリックス型進行波管10の製造が完了する。外囲器9にヘリックス4および支持体8を固定したのちは、従来の製造方法によって組み立てることができる。図7は、実施の形態1に係る挿入過程の異なる例を示す図である。ヘリックス4および支持体8の接合体を外囲器9に挿入する別の方法として、常温にて外囲器9を弾性変形させて挿入する方法を用いることもできる。図7は、外囲器9を弾性変形させて、ヘリックス4およびヘリックス支持体8を挿入する場合を示す。外囲器9を弾性変形させて、外囲器9の中心軸と外囲器9の内面の支持体8を固定する位置との距離を、接合体におけるヘリックス4の中心軸から支持体8の外面までの距離より大きくする。例えば、図7に示すように、外囲器9の内面の支持体8を固定する位置の間で、外囲器9の外側から圧力を加えることによって、支持体8を固定する位置の間では中心軸からの距離を小さく、支持体8を固定する位置で中心軸からの距離を大きくするように変形する。こうして、ヘリックス4および支持体8の接合体が干渉せずに外囲器9に挿入可能となる隙間を確保する。図7では、変形する様子を誇張して描いているが、外囲器9の弾性変形の範囲で変形させる。弾性変形により外囲器9の隙間を確保している状態で、ヘリックス4および支持体8の接合体を、外囲器9へ挿入する。外囲器9の変形は弾性変形によるものであるため、外囲器9に加えている外力を除去すれば、外囲器9は元の形状に復元する。その状態では、ヘリックス支持体8の仮想径16は外囲器9内径と焼きばめの関係にあることから、しめしろ分の圧力によりヘリックス支持体8と外囲器9が接合される。以上のように、常温での挿入方法においても、ヘリックス支持体8と外囲器9の間に接着剤を使用せず接合することができる。図6または図7のいずれの挿入方法においても、ヘリックス支持体8と外囲器9のベイン14との接合で接着剤は使用されない。したがってヘリックス支持体8とベイン14の間に接着剤が入りこむことが無くなり、ヘリックス支持体8の浮き上がりに伴うヘリックス4の組立精度の悪化を防止できる。またベイン14は外囲器9成型の際に押出成型又は切削加工などで同時に成型するので、外側から押出し加工するなどベイン14を二次加工にて成型する過程で力が外囲器9にかかることがない。その結果、二次加工の際に生じるゆがみ、特性劣化を防ぐことになる。以上説明したように、本実施の形態によれば、ベイン14およびヘリックス4の組立精度が向上する。実施の形態2図8は、本発明の実施の形態2に係るヘリックス型進行波管の断面図である。実施の形態2のヘリックス型進行波管10は、4本のヘリックス支持体8を備える。実施の形態2では、4本の支持体8が等間隔に配置されるのに合わせて、ベイン14も支持体8の間の4カ所に配置される。実施の形態1では、ヘリックス4は3本のヘリックス支持体8によって支えられていたが、図8に示すように4本以上のヘリックス支持体8によって支えられていてもよい。ヘリックス4が4本以上のヘリックス支持体8によって支えられる場合においても、実施の形態1と同様に、ヘリックス支持体8の仮想径16と外囲器9の内径が焼きばめの関係になるように、外囲器9、ヘリックス4およびヘリックス支持体8の寸法を調整しておく。そして、外囲器9の高温膨張または弾性変形にてヘリックス4およヘリックス支持体8の組立を行う。よってベイン14と外囲器9の一体化によりヘリックス支持体8と外囲器9の接合に接着剤は不要となり、ヘリックス4の組立制度を向上できる。ヘリックス支持体8の数が多くなるにつれて、外囲器9の弾性変形によって隙間を確保することが困難になる。しかし、ヘリックス支持体8の数を多くすると、外囲器9の内径と支持体8の仮想径16の焼きばめの関係のしめしろの圧力でも、外囲器9およびヘリックス4の真円度が向上する。実施の形態3図9は、本発明の実施の形態3に係るヘリックス型進行波管の断面図である。実施の形態3では、ヘリックス支持体8に代わって、円柱形のヘリックス支持円柱18を用いる。それ以外は、実施の形態1と同様の構成である。実施の形態1では、ヘリックス4は直方体のヘリックス支持体8によって支えられていたが、図9に示すように円柱のヘリックス支持円柱18によって支えられていてもよい。実施の形態3でも、ヘリックス支持円柱18の仮想径16と外囲器9の内径が焼きばめの関係になるように、外囲器9、ヘリックス4およびヘリックス支持円柱18の寸法を調整しておく。そして、外囲器9の高温膨張または弾性変形にてヘリックス4およヘリックス支持円柱18の組立を行う。実施の形態3の構成でも、実施の形態1と同様の方法で、外囲器9にヘリックス4およびヘリックス支持円柱18を挿入して固定できる。直方体のヘリックス支持体8の場合、支持体8のヘリックス4に仮止めした位置と外囲器9の内面の固定位置のずれによって支持体8が傾くと、ヘリックス4の中心軸の位置が外囲器9の中心軸からずれる。ヘリックス支持円柱18の場合は、ヘリックス4に仮止めした位置と外囲器9の内面の固定位置のずれによってヘリックス支持円柱18が傾いても、ヘリックス4の外面と外囲器9の内面の距離は変化せず、ヘリックス4の中心軸の位置は保たれる図10は、実施の形態3に係るヘリックス型進行波管の異なる例を示す断面図である。図10に示すように円柱のヘリックス支持円柱18が4本以上であってもよい。図10の構成は、実施の形態2の構成で、ヘリックス支持体8をヘリックス支持円柱18に代えたものである。ヘリックス4が円柱形のヘリックス支持円柱18によって支えられている場合でも、実施の形態1と同様に外囲器9の高温膨張または弾性変形によって、ヘリックス4およびヘリックス支持円柱18の外囲器9への組立が可能である。実施の形態3でも、ベイン14と外囲器9の一体化によりヘリックス支持円柱18と外囲器9の接合に接着剤は不要となり、ヘリックス4の組立精度を向上できる。