イオン液体を含有する溶液をエレクトロスプレー法により気相中又は真空中に放出させることを用いるイオンビーム発生方法において、エレクトロスプレー部となる細管に、前記イオン液体を含有する溶液に加えて、揮発性を有する別の液体をも供給し、両成分に起因するイオンや帯電液体を前記細管から放出することを特徴とするイオンビーム発生方法。前記細管は環状流路と環状流路の内側の流路とを備え、イオン液体を含有する溶液は環状流路から放出されるとともに、揮発性を有する別の液体は環状流路の内側の流路から放出するようにしたことを特徴とする請求項1記載のイオンビーム発生方法。前記イオン液体を含有する溶液、ならびに、前記揮発性を有する別の液体の供給流量をそれぞれ独立して制御することを特徴とする請求項1または2記載のイオンビーム発生方法。前記揮発性を有する別の液体としては、前記イオン液体を含有する溶液に対して溶解性が低く、層分離しやすい液体を用いることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項記載のイオンビーム発生方法。前記揮発性を有する別の液体としては、前記イオン液体を含有する溶液よりも表面張力が大きい液体を用いることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項記載のイオンビーム発生方法。前記揮発性を有する別の液体としては、酸性度の高い水溶液を用いることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項記載のイオンビーム発生方法。前記揮発性を有する別の液体としては、塩化ナトリウム、酢酸等の電解質を溶解させた溶液を用いることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項記載のイオンビーム発生方法。イオン液体を含有する溶液をエレクトロスプレー法により気相中又は真空中に放出させることを用いるイオンビーム発生装置において、エレクトロスプレー部となる細管に、前記イオン液体を含有する溶液を供給する供給手段と、揮発性を有する別の液体をも供給する供給手段とを備え、両成分に起因するイオンや帯電液体を前記細管から放出する機構を備えたことを特徴とするイオンビーム発生装置。前記細管は環状流路と、環状流路の内側の流路と備え、イオン液体を含有する溶液は細管の環状流路から放出されるとともに、揮発性を有する別の液体は内側の流路から放出することを特徴とする請求項8記載のイオンビーム発生装置。前記イオン液体を含有する溶液、ならびに、前記揮発性を有する別の液体の供給流量をそれぞれ独立して制御することを特徴とする請求項8または9記載のイオンビーム発生装置。前記揮発性を有する別の液体としては、前記イオン液体を含有する溶液に対して溶解性が低く、層分離しやすい液体を用いることを特徴とする請求項8~10のいずれか1項記載のイオンビーム発生装置。前記揮発性を有する別の液体としては、前記イオン液体を含有する溶液よりも表面張力が大きい液体を用いることを特徴とする請求項8~10のいずれか1項記載のイオンビーム発生装置。前記揮発性を有する別の液体としては、酸性度の高い水溶液を用いることを特徴とする請求項8~10のいずれか1項記載のイオンビーム発生装置。前記揮発性を有する別の液体としては、塩化ナトリウム、酢酸等の電解質を溶解させた溶液を用いることを特徴とする請求項8~10のいずれか1項記載のイオンビーム発生装置。一方、上記の本発明者等が発案したイオン液体を含有する溶液イオン液体の濃度が100の場合も含むをエレクトロスプレー法により気相中に放出させることを用いるイオンビーム発生方法ならびに発生装置においては、以下のような課題が存在することがわかった。1イオン液体は蒸気圧がほとんど無いため、真空中でも揮発しない。このため、真空容器中に蓄積してしまう。特に、イオン液体の濃度が100に近い条件の場合には、イオン液体の蓄積がより大きな問題となりうる。2イオン液体は、蒸気圧がほとんど無く、かつイオン導電性を持つため、真空中であっても安定なエレクトロスプレーが可能である。一方、水溶液等の蒸気圧が無視できない溶液の場合には、溶液の蒸発や凍結が問題となるため真空中での安定なエレクトロスプレーは困難である。このため、イオン液体に揮発性の液体を混合させた溶液を真空中でエレクトロスプレーさせる場合には、イオン液体が揮発性の溶液を包み込むような状態=層分離、つまり外側の真空に接する部分はイオン液体が保護層となり、内側には揮発性の溶液が存在するような条件にする必要がある。3二次イオン質量分析SIMSにおいては、二次イオンの生成量が多いことが重要である。特に、有機物や生体関連分子が分析試料の場合には、試料表面から分子構造を保持した状態で真空中に脱離させるだけでなく、電荷を有する状態=イオンとなっていることが必要となる。なお、有機分子等をソフトにイオン化するためには、プロトンH等を有機分子に付加するプロセスが有効であることが知られている。従って、二次イオン質量分析SIMSへの応用の観点からは、イオンビーム中にプロトンH等を多く含有させることが課題となる。上記1の課題を解決するために、本発明においては、不揮発性のイオン液体とは別に、揮発性を有する別の液体を同時に供給し、両成分からなるイオンビームを生成する。これにより、イオンビーム中におけるイオン液体の分量が低下することになる。結果として、真空中に蓄積するイオン液体の総量を低下させることができる。次に、上記2の課題を解決するために、本発明においては、イオン液体に揮発性の溶液を混合させた溶液を真空中でエレクトロスプレーをさせる場合には、イオン液体が揮発性の溶液を包み込むような状態とし、外側にイオン液体、内側に揮発性の溶液が存在するような条件となる必要がある。そこで、エレクトロスプレー部となる細管キャピラリーを環状流路を有するものとし、イオン液体を含有する溶液は環状流路の外側から供給し、揮発性を有する別の液体は内側の流路を通して供給するようにする。また、それぞれの供給流量も重要なパラメーターとなるため、供給流量を制御可能な構造とし、最適な条件でそれぞれの液体を供給する。さらに、揮発性を有する別の液体としては、イオン液体とは物性的に混合しにくい液体を用いる。次に、上記3の課題を解決するために、本発明においては、揮発性を有する別の液体に、プロトンHやナトリウムイオンNa等のイオンを含有させることで、エレクトロスプレーによって生成されるイオンビーム中にイオン付加反応に利用されうるプロトンHやナトリウムイオンNa等のイオンを含有させることができ、二次イオン質量分析SIMS中における試料分子のイオン化効率を高める。本発明により、以下のような効果が得られる。1イオンビーム中のイオン液体の含有量が低下し、これにより真空装置内部に蓄積するイオン液体の量を低減できる。2真空中であっても、イオン液体が保護層となって安定なエレクトロスプレーが可能となる。これにより、差動排気用の真空ポンプが不要となる。真空中でのエレクトロスプレーは、テーラーコーン先端からイオンビームを生成可能なため、集束性の良いイオンビームが生成可能となる。3二次イオン質量分析SIMS用の一次イオンビームとして利用する場合、イオンビームがプロトンH等を多量に内在することは大きな利点となる。なぜなら、分析試料表面にイオンビームが照射した際に、プロトン付加反応等のソフトなイオン化過程によってイオン化が促進されるため、結果として二次イオン量が増大するためである。以下、図面を参照して、本発明の実施形態となるイオンビーム発生装置の構成について説明する。実施例1図1は、本発明の一実施例の概略図である。図1において、一方の溶液供給ラインからはイオン液体を含有する溶液イオン液体の濃度が100の場合も含むが供給される。また、もう一方の溶液供給ラインからは、揮発性を有する別の液体が供給される。それらの液体は、金属細管の先端からエレクトロスプレー現象によって、両成分からなるイオンや帯電液滴として気相中真空中を含むに放出され、各種電極を通ることで加速されて高エネルギーのイオンビームが生成される。金属細管としては、例えば、材質はステンレス製で内径は30μm~100μm程度のものである。溶液供給ラインは、内径100μm程度のチューブであり、例えば、PEEKチューブである。溶液供給ラインには、図示しない溶液供給機構例えば、マイクロシリンジ等を有しており、それぞれの溶液を連続的に金属細管に供給する。なお、図1では、電源のプラス極性を金属細管に接続しており、正イオンビームを生成可能な構成となっているが、電圧の極性を逆にし、マイナス極性を金属細管に接続することで負イオンビームを生成することが可能となる。実施例2図2は、本発明の他の実施例の概略図である。エレクトロスプレー部となる細管キャピラリーは環状流路を有し、イオン液体を含有する溶液は環状流路の外側から供給され、揮発性を有する別の液体は内側の流路を通して供給される。供給された液体は、金属細管の先端からエレクトロスプレー現象によって帯電液滴として気相中真空中を含むに放出され、各種電極を通ることで加速されて高エネルギーのイオンビームが生成される。環状流路を有する細管は、例えば、材質はステンレス製であり、内側の細管は内径30μm程度、外径200~300μm程度、一方、外側の細管は内径500~1000μm程度、外径1000~2000μm程度のものである。環状流路の内側と外側の細管は、電気的に接続されており、電源から電圧が等しく印加される構造となっている。また、それぞれの流路に対する溶液供給ラインは、内径100μm程度のチューブであり、例えば、PEEKチューブである。溶液供給ラインには、図示しない溶液供給機構例えば、マイクロシリンジ等を有しており、それぞれの溶液を連続的に金属細管に供給する。なお、環状流路を有する細管の材質としては、ステンレスや白金などの金属以外に、ガラス製の細管を用いても良い。ただし、ガラス等の電気絶縁性の細管を用いる場合には、金ゴールド等のコーティングが表面に施され、電気導電性を有するものを使用する必要がある。実施例3図3は、本発明のさらに他の実施例の概略図である。基本的に、図2の実施例2と同じであるが、それぞれの溶液供給ラインには流量制御機構が設けてあり、連続およびパルス的にそれぞれの液体を供給可能となっている。流量制御機構として、例えば、0.01~10μL/min程度の速度で安定的に液体を供給できる送液ポンプが各溶液供給ラインに接続されている。各送液ポンプは、イオン源の運転状況に応じて調節される。特に、環状流路の内側流路用の送液ポンプは、連続的な送液だけでなく、パルス的な送液も可能なポンプを用いる。内側流路への送液をパルス的にすることにより、外側流路から供給されるイオン液体が内側から供給される揮発性の液体を効率的に包み込むことが可能となる。結果として、真空中においてエレクトロスプレーを実施する場合でも安定なイオンビームが生成される。上記実施例1~3における、揮発性を有する別の液体としては、水H2Oあるいは塩化ナトリウムNaClや酢酸CH3COOH等の電解質を溶解させた水溶液を用いることができる。そうすることにより、揮発性を有する別の液体中に、プロトンHやナトリウムイオンNa等のイオンを含有させれば、エレクトロスプレーによって生成されるイオンビーム中にイオン付加反応に利用されうるプロトンHやナトリウムイオンNa等のイオンを含有させることができ、二次イオン質量分析SIMS中における試料分子のイオン化効率を高める効果が得られる。