"フレキシブル基板6a、6b上に水蒸気バリア層14を製造する方法であって、処理空間5内で前記基板上に無機層を堆積させることを含み、前記処理空間5は大気圧グロー放電プラズマを発生させる少なくとも2つの電極2、3間に形成され、前記バリア層14が少なくとも3つの連続する無機層堆積によって前記基板6a、6b上に形成され、各無機層の堆積が最大150nmの厚さであることを特徴とする前記方法。堆積した各無機層が50nmよりも厚い、例えば60nmまたは100nmよりも厚い、請求項1に記載の方法。前記少なくとも3つの無機層堆積が各々個別の処理空間5、5’、5’’、5’’’内で行われる、請求項1または2に記載の方法。前記少なくとも3つの無機層堆積のうち2つが同じ処理空間5’’’内で行われる、請求項1、2または3に記載の方法。前記少なくとも3つの無機層のうちの2つ、3つまたは全てが同じ材料で形成される、請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。ガス雰囲気が各処理空間5に供給され、前記ガス雰囲気が4~25の酸素、例えば6~21の酸素を含む、請求項1~5のいずれか1項に記載の方法。多層積層構造体12を製造することをさらに含み、前記構造体12が順に基板6a、バリア層14、接着層15、バリア層14、基板6bを含み、バリア層を有する2つの基板6a、6bを、前記バリア層14の対向面間に接着層15を挟んで積層することによって前記多層積層構造体12を得る、請求項1~6のいずれか1項に記載の方法。少なくとも2つの多層積層構造体12を、追加的接着層16を間に挟んで積層することをさらに含む、請求項7に記載の方法。前記2つの基板6a、6bがロールに供給されて、連続的なプロセスで前記多層積層構造体12を得る、請求項7または8に記載の方法。前記2つの基板6a、6bが同時に処理される、請求項7~9のいずれか1項に記載の方法。前記2つの基板6a、6bが同じ処理空間で処理される、請求項7~10のいずれか1項に記載の方法。請求項1~6のいずれか1項に記載の方法によって作成される、ロールツーロールroll-to-roll式用途に使用するための被処理基板ロール。請求項6~10のいずれか1項に係り製造された多層積層構造体を含む、PVバックシートまたはフロントシート用途のための多層構造体ロール。請求項12または13に記載のロールの一部を含む装置。薄いフレキシブル基板材料、すなわちPVセルまたはPVモジュール用バックシートまたはフロントシートの製造及び商品化技術においては、良好なバリア性、取り扱い性の良さ、欠陥のないこと等の優れた特性を示し、より高い費用対効果およびより簡易な工程が求められている。本発明の第1の態様において、フレキシブル基板上にバリア層、特に水蒸気バリア層を製造する方法が提供される。前記方法は、処理空間内で前記基板上に無機層を堆積させることを含み、前記処理空間は、大気圧グロー放電プラズマを発生させるための少なくとも2つの電極間に形成される。前記バリア層は、基板上に少なくとも3つの無機層を順に堆積させることによって形成され、前記堆積した無機層の各々は、厚さが最大150nmであることを特徴とする。前記少なくとも3つの連続する無機層堆積は、全て同じ処理空間で、または少なくとも2つの個別の処理空間で行なうことができる。例えば、無機層の堆積毎に1つの処理空間が提供されてもよい。前記少なくとも3つの無機層の各々は、実質的に同じ材料で例えば、処理空間の各々において実質的に同じ前駆体ガス組成物を使用することによって形成することができる。しかしながら、前記少なくとも3つの無機層はそれぞれ、2つ、3つ、またはそれ以上の異なる材料を使用して例えば、異なる処理空間でそれぞれ異なる前駆体ガス組成物を使用することによって形成することもできる。本発明は、優れたウェブハンドリング性を有するフレキシブル多層材料を製造するための効果的、効率的且つ安価なプロセスを提供する。さらに本発明は、PVセルまたはPVモジュール用バックシートまたはフロントシートとして特に使用される優れた多層積層体を提供する。さらなる実施形態において、堆積した各層は、50nmよりも厚く、例えば、60nmまたは100nmよりも厚い。これにより、WVTR等の所定の特性を達成するに十分なバリア層の全体的厚さを効率的に達成することができる。ある特定の実施形態において、前記少なくとも3つの連続する層堆積は、個別の処理空間で行われる。各処理空間内の作業条件を最適化することができる。さらなる実施形態では、前記少なくとも3つの連続する層の堆積のうち2つが同じ処理空間で行われる。これにより、処理全体が非常に効率的になり、特に連続的ウェブまたはフィルムの形態の基板を処理する場合に使用してよい。さらに1つの実施形態で、ガス雰囲気が各処理空間に供給される。前記ガス雰囲気は、4~25の酸素、例えば、6~21の酸素を含む。本発明の実施形態を使用すれば、50nm/秒を上回る、例えば200nm/秒の堆積率を提供することが可能であり、その結果、非常に効率的で費用対効果のある製造プロセスが得られる。またさらなる実施形態において、前記方法が多層積層構造体を製造することをさらに含み、前記構造体が順に基板、バリア層、接着層、バリア層、基板を含み、バリア層を有する2つの基板を前記バリア層の対向面間に接着層を挟んで積層することによって、前記多層積層構造体が得られる。少なくとも3つの処理空間を介して2つの基板を処理し、次にその2つの基板を積層することによって、非常に効率的な製造プロセスが得られ、その結果、良好なバリア性を有する多層積層構造体が得られる。また、前記3つの処理空間を2つの基板が同時に使用する場合、より均一な基板処理が達成される。さらに1つの実施形態において、前記方法は、少なくとも2つの多層積層構造体を、追加的接着層を間に挟んで積層することをさらに含む。多層積層構造体をさらに積層することによって、WVTR特性をよりいっそう向上させることが可能である。さらに1つの実施形態では、前記2つの基板をロールに供給して、連続的なプロセスで前記多層積層構造体を得る。例えば、前記基板をシートとして供給して、連続的なプロセスで前記多層積層構造体を得る。例えば、前記基板は所定の幅の2つのロールから供給されてもよく、その積層構造体が受け取りロールreceivingrollに巻き取られてもよい。この2ロールツー1ロールtworolls-to-onerollプロセスは、被処理面を対向させた2つの被処理基板を1つのロールに積層し接着剤を使用して接着することによって、多層積層構造体の連続製造には非常に効率的である。さらに1つの実施形態において、前記方法は、前記2つの基板を少なくとも3つの処理空間を介して同時に処理することを含む。この結果、製造プロセスがなおいっそう均一かつ効率的となる。よりさらなる1つの実施形態では、前記2つの基板は、同じ処理空間で処理される。さらに1つの態様において、本発明は、フレキシブルで耐湿性のある多層積層構造体を含むPVもしくは太陽セルまたはモジュール用の保護バックシートまたはフロントシート、およびそれを使用したPVバッテリーモジュールに関する。例えば、本発明の実施形態のいずれか1つに係る前記方法によって作成される、ロールツーロールroll-to-roll式用途に使用するための被処理基板ロール、または、多層積層構造体を含む、PVバックシートもしくはフロントシート用途のための多層構造体ロールが提供される。さらに、そのようなロールの一部を含むデバイスPVセルまたはPVモジュール等が提供される。前記デバイスにおいて、被処理基板または多層積層構造体が、フレキシブルな保護バックシートまたはフロントシートとして使用される。さらに1つの実施形態において、前記基板は有機樹脂フィルムである。このような有機樹脂フィルムポリマー材からなるの例として、下記に限定されないが、PENポリエチレンナフタレート、PETポリエチレンテレフタレート、PCポリカーボネート、COP環状オレフィンポリマー、COC環状オレフィンコポリマー等が挙げられる。他の実施形態では、基板として、エチレン/ビニルアセテートコポリマーEVAまたはポリビニルブチラールPVBを使用する。これら基板の厚さは、20μm~800μm、例えば50μmまたは200μmであり得る。さらに1つの実施形態において、前記対向面を処理する工程は、少なくとも90のデューティサイクルで実施され、また別の実施形態では、100のデューティサイクルで実施される。これによって、前記基板上に前記無機層を堆積させる際、粉塵の形成が効果的に低減される。さらに1つの実施形態では、大気圧グロー放電を、前記少なくとも3つの処理空間の前記2つの電極すなわち電極対に接続された少なくとも1つの動的に整合された電源から電力を供給することによって発生させる。図1は、本発明の実施形態が適用され得る、簡略化された例示的プラズマ装置10の概略図を示す。本発明の実施形態に係るプラズマ装置10は、少なくとも3つの処理空間5、5’、5’’を含むが、図1では、簡略化のため、1つの処理空間5として示されている。各処理空間5は、エンクロージャ囲い7図1には示されていない内の処理チャンバーであるか、または図1に示されているようなオープン構造の処理空間5であってもよい。2つの曲面電極2,3、例えば円筒形状の電極2,3が設けられる。一般に、前記電極対、すなわち電極2、3は、処理空間5において大気圧でグロー放電を発生かつ持続可能にするため誘電体バリアを備える。2つの基板6a、6bが、ソースロール4から処理空間5を介して給送される例えば、基板6a、6bの表面に層を堆積させるため、または次の処理に備えて基板6a、6bの表面処理を行うため。ガイディングまたはテンションローラー8を設けて、確実に基板6a、6bが電極2、3の表面でしっかりと保持されるようにする。図1に示す方式では、得られた被処理基板6a’、6b’が次に積層装置23で結合される。この例の積層装置23は、例えば接着剤塗布装置gluedispenser20および2つの加圧ローラー21,22を含む。その結果、積層された多層積層構造体12が得られる。1つの代替として、前記被処理基板6a’、6b’は、他のプロセスでさらに使用される半製品として例えばロールに保持される。図2aでは、本発明の実施形態を実施することができるプラズマ装置10の概略図が示されている。この場合、プラズマ装置は、3つの異なるエンクロージャ7、7’、7’’内に3つの個別の処理空間5,5’、5’’を備え、各処理空間5,5’、5’’には、図1を参照して記載されたものと全て同様に、電極対2、3;2’、3’;2’’、3’’が設けられる。プラズマ装置10中を基板6a、6bを適切にガイドするために、特定の位置にガイディングローラー8が設けられている。被処理基板6a’、6b’を積層装置23にそして次に、所望により設けられてもよい硬化要素24を介してガイドし、多層積層構造体12を提供するために、テンションローラー9が設けられている。図2aの例では、2つの基板6a、6bが、同じ処理空間5,5’、5’’を介して同時に給送されるが、これは必須ではない。図2bは、第1の基板6aが、所望により設けられてもよいエンクロージャ7’’’および電極対2’’’、3’’’を有する個別の処理空間5’’’で2回処理されるプラズマ装置10の代替の設定を示している。第2の基板6bは、図2aの実施形態と同様に、3つの処理空間5,5’、5’’内で連続的に処理される。第1の基板6aの第3処理は、処理空間5’’における第2の基板6bの第3処理と同時に行われる。本発明の実施形態の特徴は、基板6a、6bの各々が、連続的に少なくとも3つの同じまたは異なる処理空間5を介して給送されることである。各処理空間5,5’、5’’等において、無機層が厚さ5nm~最大150nmの範囲の無機バリア量で堆積する。さらなる例示的実施形態では、堆積した無機層の範囲は10nm~100nmである。5nm未満の堆積では、水蒸気透過率WVTR特性に優れているバリアにはならない。150nmを超える堆積は、例えば粉塵によって引き起こされる欠陥を生じさせやすい。本方法の少なくとも3つの処理空間5を介して基板6a、6bをガイドする実施形態の結果、堆積した無機層を共に有する2つの処理基板6a’、6b’が提供される。そこから前記少なくとも3つの連続的堆積の結果として、前記無機層は、最小限のWVTR等の望ましい特性に相応する厚さを有し、例えば、前記無機層全体の厚さは450nm以上である。前記電極2、3;2’、3’;2’’、3’’は、例えば取付軸および/またはベアリング配列を使用して回転動作ができるように取付けられてもよい。前記電極2、3;2’、3’;2’’、3’’は、自由に回転する、またはコントローラもしくは駆動装置そのようなものとして当業者に公知であるものを使用して特定の角速度で駆動されてもよい回転電極rollingelectrodes2、3;2’、3’;2’’、3’’として設けられてもよい。さらなる代替として、前記電極2、3は、平坦/環状か、環状/平坦か、または平坦/平坦である構成を有する電極対を使用して設けられてもよい。電極2、3はまた、複数のセグメントから形成されてもよい。前記基板6a、6bは、各ロール4から処理空間5に供給されてもよく、ガイディングローラー8を使用して処理空間5への基板6a、6bの連続給送が可能になる。被処理基板6a’、6b’は、例えば、積層装置23および硬化要素24を使用して多層積層構造体12の提供するためにさらに処理されるため、または保管用半製品として、処理空間5、5’、5’’等を出る。前記2つの基板6a、6bを少なくとも3つの同じ処理空間5、5’、5’’で同時処理することにより、各基板6a、6bのための個別処理プロセスを別々に用いる用途と比べて、よりいっそう均一で効果的なプラズマ処理が行われる。グロー放電プラズマの形成は、前記電極2、3;2’、3’;2’’、3’’に接続されたプラズマ制御装置11図1参照を使用して変位電流を制御すること動的整合によって誘導されてもよく、処理空間5における前記基板6a、6bの表面の均一な活性化につながる。プラズマ制御装置11は例えば、参照により本明細書に取り込まれる出願人の係属中の国際特許出願PCT/NL2006/050209および欧州特許出願EP-A-1381257、EP-A-1626613に記載されているように、電源および関連する制御回路を含む。別の1つの実施形態において、各電極対は、電極対2、3;電極対2’、3’、電極対2’’、3’’それぞれに対する専用の電力制御装置11,11’、11’’を有することが可能であり、前記電力制御装置の各々は、参照により本明細書に取り込まれる出願人の前記係属中の国際特許出願PCT/NL2006/050209および欧州特許出願EP-A-1381257、EP-A-1626613に記載されているように、電源および関連する制御回路を含む。本発明はさらに、水蒸気に対する優れたバリアを与えかつ欠陥の無い多層積層構造体12を製造する方法に関する。さらにまた本発明は、水蒸気等に対するバリア性に優れた厚い堆積バリアを有するPVセルまたはPVバッテリーモジュール用の被処理基板6a’、6b’または多層積層構造体12によって形成された無欠陥の保護バックシートに関する。大気プラズマ装置10を、フレキシブル基板6a、6b上に厚いバリア層を作成するため、すなわち、例えば厚さ450nm、600nm、700nm、または1000nmのバリア層をフレキシブル基板6a、6b上に作成するために使用すると、これまではクラック無しにはできなかった。驚くべきことに、少なくとも3つの処理空間5、5’、5’’を介して2つの基板6a、6bを同時に供給するこの新たな方法を用いると、フレキシブル基板6a、6b上に、クラック無しで且つ良好なバリア性を有する、例えば450nm、600nm、700nm、800nm、900nmまたは1000nmの欠陥のない無機バリア層を作成できることが驚くべきことに分かった。このようなバリア性は、堆積が、1つの処理空間を介し例えば、基板ライン速度を少なくとも3倍低速にして且つ十分な強度を持って行われた場合には得られなかった。被処理基板6a、6bの積層工程後、結果として非常に良好なバリア性を有し且つロール形状での取り扱いが完璧に可能な多層積層製品12が得られる。バリアフィルムの水蒸気透過率を定量化するために、MoconAquatranを使用する本装置は、最小検出限界が510-4g/m2日であるクーロメトリックセル電気化学セルを使用する。この方法で、当業者に公知のIR吸収を利用する透過測定よりも高感度で正確な透過率評価が得られる。測定条件は、10°C~40°C、相対湿度が通常60~90の範囲で変更可能ある。処理空間5内に、少なくとも1つのガス供給装置図示されないから、前駆体を含む、ガスの組み合わせが導入されてもよい。ガス供給装置は、当業者に公知であるような、貯留部、供給部および混合部を備えていてもよい。その目的は、前駆体を処理空間5内で化合物または化学元素に分解して2つの基板6a、6bの表面に堆積させることである。各々異なる処理空間5内に異なる前駆体を導入すると有利な場合もあるが、PV用途におけるバックシートとしてのシートの場合、1つの前駆体を導入することが好ましく、結果的に全く同一の堆積組成物が得られる。一般に、ガスの組み合わせは、処理空間5において、前駆体の他に例えば酸素等の活性ガスおよび不活性ガス混合体を含む。1つの実施形態において、このガス組み合わせは、活性ガスとして酸素を4~25の範囲で含む。別の実施形態では、前記組み合わせに、酸素を6~21の範囲で使用してもよい。別の実施形態で、ガス混合体として空気が使用される。電源オン時間をこれらのパルス化例の電源オン時間と電源オフ時間の合計で割ったものとして定義されるデューティサイクルは大きく、典型的には90以上の範囲で、さらにより好ましくは100である。他の電極対から独立した電源を有してもよい各電極対2、3用の一または複数の電源は、幅広い周波数を提供する電源であることができる。例えば、オン時間の間に、低周波数f=10kHz~450kHzの電気信号を提供することができる。また、例えば、f=450kHz~30MHzの高周波数の電気信号を提供することもできる。さらに、450kHz~1MHzまたは1MHz~20MHz等の様な他の周波数を提供することもできる。一般に、ガス組成物の前駆体濃度が2ppm~500ppmおよび、例えば気相の酸素濃度が0.01以上、例えば2、且つ25未満、例えば10であれば、良好な結果が得られる。本発明において反応性ガスとして酸素には多くの利点があるが、例えば水素、二酸化炭素、アンモニア、窒素酸化物等の他の反応性ガスを使用してもよい。処理空間毎に異なるガス組成物を使用することが有利な場合もある。本発明では、前駆体は以下から選択されることが可能であるしかしこれらに限定されない:WCO6、NiCO4、MoCO6、Co2CO8、Rh4CO12、Re2CO10、CrCO6、またはRu3CO12、タンタルエトキシドTaOC2H55、テトラジメチルアミノチタンすなわちTDMAT、SiH4CH4、B2H6またはBCl3、WF6、TiCl4、GeH4、Ge2H6Si2H6GeH33SiH、GeH32SiH2、ヘキサメチルジシロキサンHMDSO、テトラメチルジシロキサンTMDSO、1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタンシロキサン、テトラエトキシシランTEOS、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-ブチルトリメトキシシラン、i-ブチルトリメトキシシラン、n-ヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アミノメチルトリメチルシラン、ジメチルジメチルアミノシラン、ジメチルアミノトリメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、ジエチルアミノジメチルシラン、1-トリメチルシリルピロール、1-トリメチルシリルピロリジン、イソプロピルアミノメチルトリメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、アニリノトリメチルシラン、2-ピペリジノエチルトリメチルシラン、3-ブチルアミノプロピルトリメチルシラン、3-ピペリジノプロピルトリメチルシラン、ビスジメチルアミノメチルシラン、1-トリメチルシリルイミダゾール、ビスエチルアミノジメチルシラン、ビスブチルアミノジメチルシラン、2-アミノエチルアミノメチルジメチルフェニルシラン、3-4-メチルピペラジノプロピルトリメチルシラン、ジメチルフェニルピペラジノメチルシラン、ブチルジメチル-3-ピペラジノプロピルシラン、ジアニリノジメチルシラン、ビスジメチルアミノジフェニルシラン、1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、1,3-ビスクロロメチル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、ジブチルスズジアセテート、アルミニウムイソプロポキシド、トリス2,4-ペンタジオナトアルミニウム、ジブチルジエトキシスズ、ブチルスズトリス2,4-ペンタンジオナト、テトラエトキシスズ、メチルトリエトキシスズ、ジエチルジエトキシスズ、トリイソプロピルエトキシスズ、エチルエトキシスズ、メチルメトキシスズ、イソプロピルイソプロポキシスズ、テトラブトキシスズ、ジエトキシスズ、ジメトキシスズ、ジイソプロポキシスズ、ジブトキシスズ、ジブチリロキシスズ、ジエチルスズ、テトラブチルスズ、ビス2,4-ペンタンジオナトスズ、エチルスズアセトアセトナート、エトキシスズ2,4-ペンタンジオナト、ジメチルスズ2,4-ペンタンジオナト、ジアセトメチルアセタートスズ、ジアセトキシスズ、ジブトキシジアセトキシスズ、ジアセトキシスズジアセトアセトナート、水素化スズ、二塩化スズ、四塩化スズ、トリエトキシチタン、トリメトキシチタン、トリイソプロポキシチタン、トリブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、メチルジメトキシチタン、エチルトリエトキシチタン、メチルトリプロポキシチタン、トリエチルチタン、トリイソプロピルチタン、トリブチルチタン、テトラエチルチタン、テトライソプロピルチタン、テトラブチルチタン、テトラジメチルアミノチタン、ジ2,4-ペンタンジオナトジメチルチタン、トリ2,4-ペンタンジオナトエチルチタン、トリス2,4-ペンタンジオナトチタン、トリスアセトメチルアセタートチタン、トリアセトキシチタン、ジプロポキシプロピオニロキシチタン、ジブチリロキシチタン、水素化一チタン、水素化二チタン、トリクロロチタン、テトラクロロチタン、テトラエチルシラン、テトラメチルシラン、テトライソプロピルシラン、テトラブチルシラン、テトライソプロポキシシラン、ジ2,4-ペンタンジオナトジエチルシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラハイドライドシラン、ヘキサハイドライドジシラン、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、イソプロポキシアルミニウム、トリス2,4-ペンタンジオナトニッケル、ビス2,4-ペンタンジオナトマンガン、イソプロポキシボロン、トリ-n-ブトキシアンチモン、トリ-n-ブチルアンチモン、ジ-n-ブチルビス2,4-ペンタンジオナトスズ、ジ-n-ブチルジアセトキシスズ、ジ-t-ブチルジアセトキシスズ、テトライソプロポキシスズ、ジ2,4-ペンタンジオナト亜鉛、およびこれらの組み合わせ。さらに、例えば、欧州特許出願EP-A-1351321または欧州特許出願EP-A-1371752に記載されている様な前駆体を使用することができる。本発明の実施形態において、大気圧グロー放電プラズマによって堆積される前駆体を含むプラズマガスは、例えば、連続的なロール状の2つの樹脂基板6a、6bに同時に接触させられる。図2aの実施形態に示されるように、少なくとも3つの処理空間5,5’、5’’が使用される。これらの工程の結果、前駆体および/または担体物質の消費が低減され、そのため、基板6a、6b上に使用される前駆体を含むプラズマガスがよりいっそう効率的に印加されるので、経済的および商業化的観点から利点がある。上記図1、図2a、図2bに関連して記載された実施形態は、同時に2つの樹脂ロール例えば、基板6a、6bと接触するプラズマガスを単に例証するものであり、本方法は、遠隔操作型プラズマ装置の使用および同時に2つの樹脂ロール6a、6b上に堆積される前駆体元素を含むプラズマガスの噴射も含んでいてもよいと理解され得る。さらに、大気圧グロー放電の使用により、複雑で高価な真空機器の使用が避けられ、製造プロセスがより簡単でより費用対効果の高いものになる。各基板6a、6b上への堆積の結果、無機層14が、例えば450nm以上の厚さで形成される。文献において、クラックを生じさせずにそのような堆積がフレキシブル基板6a、6b上になされたと記載されたことはない。本発明によって、堆積済み基板6a’、6b’を、光電池PVバックシートまたはフロントシート用途のための半製品または中間製品として使用することができる。少なくとも3つの個別の処理空間5を使用した結果、各処理空間5内の前駆体およびガス混合組成物は異なっていてもよく、したがって基板6a、6b上の堆積が異なるものになってもよい。各無機バリア層14は、本発明のさらなる1つの実施形態の積層工程前に、典型的には約0.005g/m2日の水蒸気透過率WVTRを示すであろう。図2a、2bに、本発明の1つの実施形態に係る積層プロセスを示す。無機バリア層6a’、6b’のペアが、積層装置23を使用して、互いに向かい合う無機バリア14側で接着層15により好適に結合または積層される。図3に示す実施形態では、多層積層構造体12が、まず、図1の実施形態と同様に少なくとも3つの処理空間5内で無機バリア層14を有する2つの基板6a’、6b’を形成することによって得られる。そして、その被処理基板6a’、6b’が2つの積層ローラー21,22図1参照に給送され、接着剤塗布装置20図1参照を使用して接着剤が基板6a’、6b’の無機層側に塗布される。積層ローラー21,22は、前記被処理基板6a’、6b’間の接着剤に熱または放射線を当てるために配置され、接着剤を硬化もしくは変化させて接着層15を形成する。その結果、優れた水蒸気バリアを有する多層積層構造体12が得られる。本発明の1つの特定の実施形態では、優れたバリア性が既に観察されたのは、1つの[樹脂層-有機]層積層組み合わせ体6aが、もう一つの無機-有機層積層組み合わせ体6bに対して、2つの対向面に相当する無機バリアコーティング14間に接着剤15を使用して接着される場合である。その結果、図3aの断面図に示すような以下の層類を含む多層積層構造体12が得られる:i有機樹脂基板6a;ii無機バリア14;iii接着剤15;iv無機バリア14およびv有機樹脂基板6b。また、基板6a、6bおよびバリア層14を各々含む半製品6a’、6b’も示されている。この特定の実施形態において、前記積層構造体は、0.001g/m2日未満の典型的な水蒸気透過率WVTRを示し得る。図3aに関連して上記で説明した2ロールツー1ロール作業2-rolls-to-1-rolloperationの結果として、別の個別の2ロールツー1ロール作業2roll-to-1rolloperation工程で開始基板ロールとして各々製造された多層積層構造体12を使用して、さらなる製品の多層積層構造体12を作成できることが十分理解され得る。この個別の構造体12は、図3bの断面図に示すように、追加的接着層16を使用して積層される。その結果、より厚くなった多層積層構造体12が、i[有機樹脂-無機バリア-接着剤-無機バリア-有機樹脂層-接着剤]n層およびii[有機樹脂-無機バリア-接着剤-無機バリア-有機樹脂層]、層を含んで作成されてもよい。前記層のnは、0より大きい整数である。その結果、これらの種類の多層積層構造体12に、なお一層良好なバリア性が観察され得る。前記無機バリア層14を結合するために塗布され得る接着剤15、16としては、全ての好適な熱可塑性ならびに弾塑性ポリマー類;紫外線や電子ビーム等の照射、加熱、化学開始剤またはこれらの組み合わせによって硬化可能なポリマー類;アクリル類、ウレタン類、エポキシド類、ポリオレフィン類、有機シリコン類その他の有機接着剤類または有機物含有接着剤類;および、揮発性の、もしくは噴霧、スパッタリング、鋳造、浸漬塗装等の他の手段で堆積させた有機化合物類、有機シリコン化合物類ならびに他の有機金属化合物類のプラズマ重合、オリゴマー化または硬化生成物類等が挙げられる。前記接着剤は、図3aの実施形態における無機バリア層14の2つの対向面を接着する接着層15、および図3bの実施形態における異なる多層積層構造体12の2つの基板6a、6bを接着する追加的接着層16を形成する。接着剤15、16は、好適には厚さが50nm~1000μm、好ましくは100nm~100μmであり得る。さらに、紫外線劣化防止のため、紫外線吸収剤または光安定剤ヒンダードアミン化合物等を前記接着剤に添加してもよい。多層積層構造体12は、下層または上層保護手段として、様々な装置に適用されてもよい。これらの多層の利用可能性としては、PVバッテリーセルまたはモジュールを覆うこれらの多層を利用してPVセルまたはPVバッテリーモジュールを保護することである。さらなる可能な実施形態は、PVセルまたはPVバッテリーモジュールのバックシート等保護シートとして、これらの多層積層体を使用することである。本発明に係る多層材料単数または複数の多層積層構造体12はまた、酸素および水蒸気に対し非透過性の透明材料を必要とすることが従来技術において公知である、液晶ディスプレイ等他の種類の装置に使用されてもよい。実施例1~11:全ての電極対2、3を独立して専用電源11に動的に整合させた。電力を継続的に各装置AC/800W/200kHzに供給した。各処理空間5における前駆体として、2ppmのTEOSを使用した。各処理空間のガス混合体は、O2/N2混合体を含有しており、実施例8、9、10および11を除いて、それぞれ10/90に調整される。実施例8では、各処理空間でそれぞれ6/94に調整されたO2/N2混合体を使用した。実施例9では、各処理空間でそれぞれ1/99に調整されたO2/N2混合体を使用した。実施例10および11は、各処理空間で普通の空気をガス混合体として使用した。また、各実施例において、処理空間5内の条件を同じものに保った。基板6a、6bとして、デュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅20cm/厚さ100μmを使用した。比較実施例1大気圧プラズマ装置10および1つの処理空間5を使用して図1に示すような電極設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させる。基板6a、6bのプラズマ放電に面する両側に、450nmのSiOx層14を堆積させる。欠陥としてのクラックが目で見える両基板から試料を回収する。また、両シートは、典型的に約1g/m2日のWVTRを有する。前記基板を互いに対向する面で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層した後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体には目で見えるクラックの欠陥があり、WVTRは約1g/m2日である。比較実施例2大気圧プラズマ装置10および2つの連続する処理空間を使用して図1に示すような設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させた結果、2つの基板に共に450nmのSiOxバリア層が形成される。処理空間の条件は比較実施例1と同じであったが、基板のライン速度は実施例1より100高かった。前記基板を互いに対向する面で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層した後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体には目に見える微細なクラックの欠陥があり、WVTRは約0.6g/m2日である。実施例3大気圧プラズマ装置10および3つの連続する処理空間を使用して図2aに示すような設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させた結果、2つの基板に共に450nmのSiOxバリア層が形成される。処理空間の条件は実施例1の条件と同じであったが、基板のライン速度は実施例1より200高かった。前記基板を互いに対向する面で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層した後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体にはクラックの欠陥は見られず、WVTRは約1.310-3g/m2日である。実施例44つの連続する処理空間を使用し大気圧プラズマ装置10を使用して基板が給送された以外は図2aに示すような設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させた結果、2つの基板に共に450nmのSiOxバリア層が形成される。処理空間の条件は実施例1の条件と同じであったが、基板のライン速度は実施例1より300高かった。前記基板を互いに対向する面で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層した後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体にはクラックの欠陥は見られず、WVTRは約9.610-4g/m2日である。実施例55つの連続する処理空間を使用し大気圧プラズマ装置10を使用して基板が給送された以外は図2aに示すような設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させた結果、2つの基板に共に450nmのSiOxバリア層が形成される。処理空間の条件は実施例1の条件と同じであったが、基板のライン速度は実施例1より400高かった。前記基板を互いに対向する面で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層した後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体にはクラックの欠陥は見られず、WVTRは約7.410-4g/m2日である。実施例66つの連続する処理空間を使用し大気圧プラズマ装置10を使用して基板が給送された以外は図2aに示すような設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させた結果、2つの基板に共に450nmのSiOxバリア層が形成される。処理空間の条件は実施例1の条件と同じであったが、基板のライン速度は実施例1より500高かった。前記基板を互いに対向する面で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層した後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体にはクラックの欠陥は見られず、WVTRは、MoconAquatranの検出限界を下回る510-4g/m2日未満であることが分かった。実施例74つの連続する処理空間を使用し大気圧プラズマ装置10を使用して基板が給送された以外は図2aに示すような設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させた結果、2つの基板に共に600nmのSiOxバリア層が形成される。処理空間の条件は実施例1の条件と同じであったが、基板のライン速度は実施例1より300高かった。前記基板を互いに無機バリアに面する側で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体にはクラックの欠陥は見られず、WVTRは9.610-4g/m2日である。実施例84つの連続する処理空間を使用し大気圧プラズマ装置10を使用して基板が給送された以外は図2aに示すような設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させた結果、2つの基板に共に600nmのSiOxバリア層が形成される。処理空間の条件は、全ての処理空間の酸素濃度を6に調整した以外は実施例7の条件と同じであった前記基板を互いに無機バリアに面する側で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体にはクラックの欠陥は見られず、WVTRは1.310-3g/m2日である。比較実施例94つの連続する処理空間を使用し大気圧プラズマ装置10を使用して基板が給送された以外は図2aに示すような設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させた結果、2つの基板に共に600nmのSiOxバリア層が形成される。処理空間の条件は、全ての処理空間の酸素濃度を2に調整した以外は実施例7の条件と同じであった前記基板を互いに無機バリアに面する側で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体には目で見えるクラックの欠陥が多少あり、WVTRは0.6g/m2日である。実施例106つの連続する処理空間を使用し大気圧プラズマ装置10を使用して基板が給送された以外は図2aに示すような設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させた結果、2つの基板に共に450nmのSiOxバリア層が形成される。処理空間の条件は実施例1の条件と同じであったが、基板のライン速度は実施例1より500高く、ガス混合体として空気を使用した。前記基板を互いに対向する面で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層した後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体にはクラックの欠陥は見られず、WVTRは、MoconAquatranの検出限界を下回る510-4g/m2日未満であることが分かった。実施例119つの連続する処理空間を使用し大気圧プラズマ装置10を使用して基板が給送された以外は図2aに示すような設定を使用し、2つのバリアフィルム14を同時に堆積させた結果、2つの基板に共に450nmのSiOxバリア層が形成される。処理空間の条件は実施例1の条件と同じであったが、基板のライン速度は実施例1より800高く、ガス混合体として空気を処理空間で使用した。前記基板を互いに対向する面で1つにまとめて10ミクロンの疎水性アクリレートで積層した後、紫外線硬化を行った。得られた多層積層体にはクラックの欠陥は見られず、WVTRは、MoconAquatranの検出限界を下回る510-4g/m2日未満であることが分かった。"