微粒子または糸状物質からなる被処理物の表面にプラズマを接触させてプラズマ処理を施す表面処理方法において、処理容器の内部にプラズマを導入することにより、前記処理容器の内部の所定領域を前記プラズマで満たし、前記プラズマによって所定領域が満たされた状態の前記処理容器の内部へ前記被処理物を導入し、前記処理容器の内部へ前記プラズマを導入し続けるとともに、当該前記プラズマの流れにより、前記被処理物と前記プラズマとの混合体を攪拌しながら前記被処理物の表面に前記プラズマを接触させてプラズマ処理を施すことを特徴とする表面処理方法。前記処理容器の内部に前記プラズマによって分解可能な物質を含む添加ガスを導入し、前記物質を前記プラズマによって分解し、前記被処理物の表面に接触させて、前記物質の特性に応じた処理を前記被処理物の表面に施すことを特徴とする請求項1に記載の表面処理方法。前記被処理物の前記処理容器の内部への導入は、前記処理容器の内部に導入される前記プラズマの流れによって前記被処理物を搬送して行われることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表面処理方法。前記処理容器の内部に導入された前記プラズマの流れは、前記処理容器の内壁に沿って渦を巻く旋回流とされ、前記旋回流によって生じた遠心力により、前記混合体から前記被処理物を分離することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の表面処理方法。被処理物の表面にプラズマを接触させて、前記被処理物の表面にプラズマ処理を施す表面処理装置であって、プラズマ生成用ガスに対して放電することによりプラズマを生成するプラズマ生成部と、内部にプラズマおよび被処理物を導入して、前記被処理物の表面にプラズマを接触させてプラズマ処理を施すプラズマ処理部と、前記プラズマ処理部の内部に対し、前記プラズマ生成部で生成したプラズマを導入するプラズマ導入部とを備え、前記プラズマ導入部が、前記プラズマ処理部の内部に導入された前記プラズマと前記被処理物との混合体を攪拌するようにプラズマを導入可能に形成されていることを特徴とする表面処理装置。前記プラズマ導入部には、前記プラズマ導入部を流れる前記プラズマに対して前記被処理物を投入し、前記プラズマと前記被処理物の混合体とするための被処理物投入部が設けられていることを特徴とする請求項5に記載の表面処理装置。前記プラズマ処理部には、前記プラズマによって分解可能な物質が含まれる添加ガスを導入する添加ガス導入部が設けられていることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の表面処理装置。前記プラズマ処理部は、円筒状の円筒部と前記円筒部の下方端に一体として形成されたすり鉢状の円錐部とを有し、前記円筒部の側壁には、前記プラズマの流れによって前記混合体を前記プラズマ処理部の内部へ導入する前記プラズマ導入部としての1つまたは複数の導入口が設けられ、前記導入口から前記プラズマ処理部の内部に対して導入される前記混合体の導入方向が、前記プラズマ処理部の内面に沿って前記円筒部および前記円錐部の中心軸回りに旋回する方向とされるように前記導入口が形成されていることを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれか1項に記載の用いた表面処理装置。前記円筒部の上方端には、前記プラズマ処理後の前記プラズマ処理部内の気体を排気するための排気口が形成されていることを特徴とする請求項8に記載の表面処理装置。前記プラズマ処理部は、長尺状の円管部を有し、前記円管部の一端は、前記混合体を導入するための前記プラズマ導入部としての導入口とされていることを特徴とする請求項5に記載の表面処理装置。前記円管部の側壁には、前記混合体を導入する前記第プラズマ導入部としての1つまたは複数の導入口が形成されていることを特徴とする請求項10に記載の表面処理装置。しかし、粉体は表面積が大きく、均一に表面処理を施すためには、粉体の表面に対してまんべんなくプラズマが接触することが必要となり、特許文献1に記載の処理方法では、粉体が密集してしまうと均一な表面処理を施すことが困難である。また、近年、繊維の表面に対して特殊な処理を施したいという要望があり、繊維のような表面形状が複雑で表面積が大きな被処理物を処理する際には、プラズマに長時間に亘って接触させることが必要となる。そこで、本発明においては、粉体などの微粒子または繊維などの糸状物質からなる被処理物の表面に対して、効率よく均一な表面処理を施す表面処理方法および表面処理装置を提供することを目的とする。上記課題を解決するべく、本発明の第1の表面処理方法は、微粒子または糸状物質からなる被処理物の表面にプラズマを接触させてプラズマ処理を施す表面処理方法において、処理容器の内部にプラズマを導入することにより、前記処理容器の内部の所定領域を前記プラズマで満たし、前記プラズマによって所定領域が満たされた状態の前記処理容器の内部へ前記被処理物を導入し、前記処理容器の内部へ前記プラズマを導入し続けるとともに、当該前記プラズマの流れにより、前記被処理物と前記プラズマとの混合体を攪拌しながら前記被処理物の表面に前記プラズマを接触させてプラズマ処理を施すことを特徴とする。このような、本発明の第1の表面処理方法によれば、プラズマが導入し続けられることにより、処理容器の内部のプラズマの密度が低くなるのを防止することができるとともに、被処理物とプラズマとの混合体を攪拌するようにされているので、高密度のプラズマと被処理物とを被処理物の表面に対して満遍なく接触させて、高速に均一な表面処理を施すことを可能とする。本発明の第2の表面処理方法は、前記処理容器の内部に前記プラズマによって分解可能な物質を含む添加ガスを導入し、前記物質を前記プラズマによって分解し、前記被処理物の表面に接触させて、前記物質の特性に応じた処理を前記被処理物の表面に施すことを特徴とする。このような、本発明の第2の表面処理方法によれば、例えば、プラズマによって物質をイオンに分解し、被処理物に対して当該イオンを接触させることにより、微粒子または糸状物質からなる被処理物に対して、所望の表面修飾やCVDを行うことができ、特殊な表面処理を施した被処理物を容易に製造することを可能とする。本発明の第3の表面処理方法は、前記被処理物の前記処理容器の内部への導入は、前記処理容器の内部に導入される前記プラズマの流れによって前記被処理物を搬送して行われることを特徴とする。このような、本発明の第3の表面処理方法によれば、被処理物をプラズマの流れによって処理容器の内部に搬送するので、被処理物同士が固まった状態で処理容器の内部に導入されることを防止することができ、微粒子または糸状物質からなる被処理物の1粒1粒または1本1本の表面に対して、均一にプラズマを接触させてプラズマ処理を施すことを可能とする。本発明の第4の表面処理方法は、前記処理容器の内部に導入された前記プラズマおよび前記第2のプラズマの流れは、前記処理容器の内壁に沿って渦を巻く旋回流とされ、前記旋回流によって生じた遠心力により、前記混合体から前記被処理物を分離することを特徴とする。このような、本発明の第4の表面処理方法によれば、プラズマの旋回流によって生じた遠心力により、混合体から被処理物を分離するようにされているので、処理後の被処理物が処理容器の内部に分散するのを防止して、被処理物のみを容易に取り出すことを可能とする。本発明の第1の表面処理装置は、被処理物の表面にプラズマを接触させて、前記被処理物の表面にプラズマ処理を施す表面処理装置であって、プラズマ生成用ガスに対して放電することによりプラズマを生成するプラズマ生成部と、内部にプラズマおよび被処理物を導入して、前記被処理物の表面にプラズマを接触させてプラズマ処理を施すプラズマ処理部と、前記プラズマ処理部の内部に対し、前記プラズマ生成部で生成したプラズマを導入するプラズマ導入部とを備え、前記プラズマ導入部が、前記プラズマ処理部の内部に導入された前記プラズマと前記被処理物との混合体を攪拌するようにプラズマを導入可能に形成されていることを特徴とする。このような、本発明の第1の表面処理装置によれば、プラズマ導入部が、プラズマ処理部の内部に導入されたプラズマと被処理物との混合体を攪拌するようにプラズマを導入可能に形成されているので、プラズマ処理部の内部において、当該混合体を攪拌して、均一にプラズマ処理が施された被処理物を容易に製造することを可能とする。本発明の第2の表面処理装置は、前記プラズマ導入部には、前記プラズマ導入部を流れる前記プラズマに対して前記被処理物を投入し、前記プラズマと前記被処理物の混合体とするための被処理物投入部が設けられていることを特徴とする。このような、本発明の第2の表面処理装置によれば、被処理物とプラズマとを混合体とするための被処理物投入部が設けられているので、プラズマ処理室の内部に導入されるプラズマの流れにによって被処理物を搬送して、容易に被処理物をプラズマ処理部に導入することを可能とする。本発明の第3の表面処理装置は、前記プラズマ処理部には、前記プラズマによって分解可能な物質が含まれる添加ガスを導入する添加ガス導入部が設けられていることを特徴とする。このような、本発明の第3の表面処理装置によれば、プラズマ処理部に添加ガスを導入する添加ガス導入部が設けられているので、例えば、被処理物の表面に表面修飾やCVDを行う場合に、添加ガスを導入して、被処理物の表面に対して所望の表面修飾やCVDを行うことを可能とする。本発明の第4の表面処理装置は、前記プラズマ処理部は、円筒状の円筒部と前記円筒部の下方端に一体として形成されたすり鉢状の円錐部とを有し、前記円筒部の側壁には、前記プラズマの流れによって前記混合体を前記プラズマ処理部の内部へ導入する前記プラズマ導入部としての1つまたは複数の導入口が設けられ、前記導入口から前記プラズマ処理部の内部に対して導入される前記混合体の導入方向が、前記プラズマ処理部の内面に沿って前記円筒部および前記円錐部の中心軸回りに旋回する方向とされるように前記導入口が形成されていることを特徴とする。このような、本発明の第4の表面処理装置によれば、プラズマ処理部の内部において、導入口から導入される混合体を攪拌することができ、微粒子または糸状物質からなる被処理物に対して効率よくプラズマを接触させて高速に均一なプラズマ処理を施すことを可能とする。本発明の第5の表面処理装置は、前記円筒部の上方端には、前記プラズマ処理後の前記プラズマ処理容器内の気体を排気するための排気口が形成されていることを特徴とする。このような、本発明の第5の表面処理装置によれば、一度処理に用いたプラズマを排気することができるので、プラズマ処理部の内部を常にプラズマの密度が高い状態を維持することが可能であるとともに、混合体から気体のみを分離して排出することができるので、再度、当該気体をプラズマを生成するためのガスとして再利用することができ、低コストなプラズマ処理を実現することが可能となる。本発明の第6の表面処理装置は、前記プラズマ処理部は、長尺状の円管部を有し、前記円管部の一端は、前記混合体を導入する前記プラズマ導入部としての導入口とされていることを特徴とする。このような、本発明の第6の表面処理装置によれば、長尺状の円管部とされたプラズマ処理部をプラズマで満たすと共に、プラズマ処理部の内部に対して、例えば、糸状物質とされた被処理物を連続して通すことにより、糸状物質の周面に満遍なくプラズマを接触させることができるので、糸状物質からなる被処理物に対しても容易に均一なプラズマ処理を施すことができる。本発明の第7の表面処理装置は、前記円管部の側壁には、前記混合体を導入するための前記プラズマ導入部としての1つまたは複数の導入口が形成されていることを特徴とする。このような、本発明の第7の表面処理装置によれば、円管部の側壁に複数の導入口を形成することにより、プラズマ処理部としての円管部の内部において、導入された混合体を攪拌することができるので、例えば、微粒子からなる被処理物に対してプラズマ処理を施す場合においても、微粒子の表面にプラズマを満遍なく接触させて、効率よく均一なプラズマ処理を施すことを可能とする。本発明の表面処理方法および表面処理装置によれば、粉体などの微粒子または繊維などの糸状物質からなる被処理物の表面に対して、効率よく均一な表面処理を施すことができる。具体的には、本発明の表面処理方法および表面処理装置によれば、微粒子または糸状物質からなる被処理物をプラズマで満たされたプラズマ処理部の内部において攪拌することによって、被処理物の表面にプラズマを満遍なく接触させて均一なプラズマ処理を施すことができる。本発明の表面処理方法および表面処理装置の詳しい実施形態を図1乃至図6を用いて以下に説明する。本発明の表面処理方法は、粉末などの微粒子または繊維などの糸状物質からなる被処理物の表面にプラズマを接触させてプラズマ処理を施す表面処理方法であり、処理容器の内部にプラズマを導入して、処理容器の内部の所定量域をプラズマで満たすと共に、処理容器の内部に被処理物を導入する。同時に、処理容器の内部にプラズマを導入し続けて、プラズマの流れにより、被処理物とプラズマとの混合体を攪拌しながら被処理物の表面にプラズマを接触させてプラズマ処理を施すようにされている。また、本発明のプラズマ処理方法は、プラズマによって分解が可能な添加ガスを処理容器の内部に導入して、添加ガスに含まれる物質をプラズマによって分解し、分解された物質を被処理物の表面に接触させて、物質の特性に応じた表面修飾またはCVDを施すようにされている。また、このような表面修飾またはCVDにおいては、添加ガスに含まれる物質をプラズマによって分解された気体に限らず、当該物質がプラズマによって活性化された気体や当該物質がプラズマと化学反応を起こして異なる性質とされた気体などを被処理物に接触させて施すようにしてもよい。さらに、処理容器の内部に導入されたプラズマの流れが、処理容器の内壁に沿って渦を巻く旋回流とされ、旋回流によって生じた遠心力によって、プラズマと被処理物との混合体から被処理物を分離するようにされている。このような、本発明の表面処理方法とすることにより、微粒子および糸状物質からなる被処理物を、プラズマの流れによって分散させるので、被処理物の表面に満遍なくプラズマを接触させて、被処理物の表面に対して均一にプラズマ処理を施すことができるとともに、添加ガスを導入することによって、被処理物の表面に特殊な表面修飾やCVDを施すことを可能とする。さらに、プラズマが処理容器の内部において旋回流とされることにより、混合体から容易に被処理物を分離することができる。本発明の表面処理方法を用いた本発明の表面処理装置について以下に説明する。本発明の表面処理装置1は、図1に示すように、プラズマ生成用ガスに対して放電することにより、プラズマを生成するプラズマ生成部2と、内部にプラズマおよび被処理物を導入して、被処理物の表面にプラズマを接触させてプラズマ処理を施す処理容器としてのプラズマ処理部3と、プラズマ処理部3の内部に対して、プラズマを導入するプラズマ導入部4とを備え、プラズマ導入部4が、プラズマと被処理物との混合体を攪拌するようにしてプラズマ処理部3の内部へプラズマを導入可能に形成されている。プラズマ処理部3内の圧力は、プラズマ生成部2内の圧力と等圧もしくは若干低い圧力とされている。例えば、プラズマ生成部2内の圧力が大気圧とすれば、プラズマ処理部3内の圧力は大気圧もしくは大気圧より若干低い圧力とされる。このような、本発明の表面処理装置1とすることにより、プラズマ導入部4が、プラズマ処理部3の内部に導入されたプラズマと被処理物との混合体を攪拌するようにプラズマを導入可能に形成されているので、プラズマ処理部3の内部において、当該混合体を攪拌して、被処理物の表面に対して、容易に均一なプラズマ処理を施すことを可能とする。また、図2に示すように、プラズマ導入部4には、プラズマ導入部4を流れるプラズマに対して被処理物Wを投入し、プラズマと被処理物Wとの混合体とするための被処理物投入部4aを設けてもよい。さらに、プラズマ処理部3には、プラズマによって分解が可能な物質を含む添加ガスGを導入するための添加ガス導入部5を設けてもよい。このような、本発明の表面処理装置1とすることにより、プラズマの流れによって被処理物Wをスムーズにプラズマ処理部3の内部に導入することができる。また、添加ガス導入部5から添加ガスGを導入することにより、添加ガスGに含まれる物質をプラズマで分解し、被処理物に接触させることにより、被処理物の表面に所望の表面修飾やCDVを施すことができる。なお、図3に示すように、複数のプラズマ生成部2において生成したプラズマをプラズマ処理部3に導入されるようにして目的のプラズマ処理を施すようにしてもよい。例えば、添加ガスGに含まれる物質が分解されにくい場合においては、図3に示すように、被処理物Wと一緒にプラズマ処理部3に導入されるプラズマと同一の物質または異なる物質からなる第2のプラズマをプラズマ処理部3の内部に導入するための第2プラズマ導入部6を設け、第2プラズマ導入部6を流れる第2のプラズマに対して、添加ガスGを導入する添加ガス導入部5を設けて、添加ガスGを第2のプラズマによってイオン化した状態でプラズマ処理部3に導入することにより、被処理物Wの表面に所望の表面修飾やCVDを施すことを可能とするとよい。この添加ガスGは、プラズマ生成部2からプラズマ処理部3に渡る範囲のいずれの位置から導入してもよい。本発明の表面処理装置1の詳しい実施形態について、図4乃至図7を用いて以下に説明する。まず、本発明の表面処理装置1の第1実施形態は、図4に示すように、プラズマ処理部3が、円筒状の円筒部7aと円筒部7aの下方端に一体として形成されたすり鉢状の円錐部7bとを有し、円筒部7aの側壁には、プラズマの流れによって混合体をプラズマ処理部3の内部へ導入するプラズマ導入部4としての導入口8が形成されている。この時、導入口8は、プラズマ処理部3の内部に対して導入される混合体の導入方向が、図4において方向Aとして示すように、プラズマ処理部3としての円筒部7aと円錐部7bの内面に沿って円筒部7aおよび円錐部7bの中心軸回りに旋回する方向とされるように形成されている。また、円筒部7aの上方端には、連続的に内部のガスを排気するための開閉可能な排気口9が形成されており、プラズマの流れによって円錐部7bの下方端に到達し、混合体から分離された処理後のプラズマを排気してプラズマ処理部3の内部のプラズマの密度が低くなるのを防止して、常にプラズマの密度を高く維持することができる。また、本実施形態のようなプラズマと被処理物Wとの混合体が旋回するプラズマ処理部3の形状とすることにより、混合体の気体成分と固体成分とを効率よく分離することができ、分離された気体成分を排気口9から取り出して、プラズマを生成するためのプラズマ生成用ガスとして再利用することができるので、低コストなプラズマ処理を実現することも可能とする。さらに、円錐部7bの下方端には、処理後の被処理物Wを導出するための開閉可能な被処理物導出口10が形成されており、被処理物Wを容易にプラズマ処理部3の内部から取り出すことができる。また、プラズマ生成部2において大気圧下でプラズマを生成する場合には、プラズマ処理部3の内部を、大気圧よりも若干低い気圧とすることにより、プラズマ処理部3の内部に導入されたプラズマの寿命を長くすることがきるとともに、プラズマがプラズマ処理部3の内部に入ってくる勢いが増して、旋回流をより効率よく発生させることができる。本発明の第1実施形態の表面処理装置1によれば、導入口8から導入されたプラズマは、円筒部7aおよび円錐部7bの内壁に沿って中心軸回りの旋回流となるので、旋回流のなかで混合体を攪拌して被処理物Wに対してプラズマを満遍なく接触させて均一なプラズマ処理を施すようにされている。さらに、旋回流が円錐部7bの下方に達すると、プラズマは、円錐部7bの下方端から円筒部7aの上方に向かって発生している上昇気流によって排気口9から排気され、混合体から分離された処理後の被処理物Wは、円錐部7bの下方端に堆積しているので、被処理物導出口10を開くことによって、プラズマ処理部3の外部へ導出するようにされている。このような、本発明の第1実施形態の表面処理装置1とすることにより、プラズマ処理部3の内部において、容易に旋回流を発生させて混合体を攪拌することができるので、微粒子または糸状物質からなる被処理物Wに対して効率よくプラズマを接触させて高速に均一なプラズマ処理を施すことを可能とする。さらに、円錐部7bの下方端において、混合体から処理後のプラズマと処理後の被処理物とを容易に分離することができる。また、本発明の表面処理装置1の第2実施形態は、図5に示すように、プラズマ処理部3が、長尺状の円管部7cを有し、円管部7cの一端部は、プラズマ生成部2から導入されたプラズマと被処理物Wとの混合体を導入するためのプラズマ導入部4としての第1導入口8aとされ、図示を省略した他端部は、混合体の導出部とされている。また、円管部7cの側壁には、混合体またはプラズマを導入するプラズマ導入部4としての1つまたは複数の第2導入口8bが形成されている。この時、第2導入口8bは、第1実施形態の導入口8と同様に、導入する混合体の導入方向が、図5において方向Bとして示すように、プラズマ処理部3としての円管部7cの内面に沿って中心軸回りに旋回する方向とされるように形成されている。本発明の第2実施形態の表面処理装置1によれば、プラズマ処理部3の内部に対して、第1導入口8aから導入された混合体および第2導入口8bから導入された混合体またはプラズマは、円管部7cの内壁に沿って中心軸回りに旋回流とされているので、旋回流のなかで混合体を攪拌して、被処理物Wに対してプラズマを満遍なく接触させて均一なプラズマ処理を施すようにされている。また、旋回流によって、導出側とされている円管部7cの他端部方向へ混合体を搬送するようにされている。このような、本発明の第2実施形態の表面処理装置1とすることにより、プラズマ処理部3の内部において、容易に旋回流を発生させて混合体を攪拌することができるので、微粒子または糸状物質からなる被処理物Wに対して効率よくプラズマを接触させて高速に均一なプラズマ処理を施すことを可能とする。さらに、旋回流によって。円管部7cの他端部方向へ混合体を搬送するので、特に、被処理物Wとして長尺状の糸状物質を処理する場合において、プラズマの流れに乗せて流すようにしながらプラズマ処理を行うことによって、長尺状の糸状物質同士が絡まり合うことを防止することができる。さらに、本発明の表面処理装置1の第3実施形態は、図6に示すように、プラズマ処理部3の内部に対して、第2のプラズマまたは第2のプラズマおよび添加ガスGの混合物を導入するための第2プラズマ導入部6としての1つまたは複数のプラズマ供給口11を備えている。また、プラズマ供給口11は、プラズマ供給口11から導入される第2のプラズマまたは第2のプラズマおよび添加ガスGの混合物の導入方向が、図6において方向Cとして示すように、プラズマ処理部3の内壁に沿って中心軸回りに旋回する方向となるように形成されている。本発明の第3実施形態の表面処理装置1によれば、プラズマ供給口11からプラズマ処理部3の内部に導入された第2のプラズマまたは第2のプラズマおよび添加ガスGの混合物は、プラズマ処理部3の内壁に沿って旋回しながら進む旋回流となるようにされている。また、添加ガスGを導入する場合においては、第2のプラズマと添加ガスGとが接触することによって、添加ガスGの物質が第2のプラズマによって分解されるとともに、プラズマ処理部3の内部において、旋回しながら被処理物Wに対して接触し、被処理物Wの表面に当該物質の特性に応じた表面処理を施すようにされている。このような、本発明の第3実施形態の表面処理装置1とすることにより、プラズマ供給口11から導入された第2のプラズマまたは第2のプラズマおよび添加ガスGの混合物の旋回流によって、導入口8から導入された混合物が攪拌されながら旋回するのを補助することができる。また、プラズマ供給口11から第2のプラズマおよび添加ガスを導入する場合には、添加ガスGの物質の特性に応じた表面修飾やCVDを施すことができる。またさらに、本発明の表面処理装置1の第4実施形態は、図7に示すように、複数のプラズマ供給口11が、プラズマ処理部3の円筒部7aの円周方向に配置して設けるようにされている。このような、本発明の第4実施形態の表面処理装置1とすることにより、プラズマ処理部3の内部に発生した旋回流の回転力を大きくすることができるとともに、プラズマ処理部3の内部のプラズマ密度を高く保持することができるので、効率よく被処理物Wに高密度のプラズマを接触させて高速に均一なプラズマ処理を施すことを可能とする。また、本発明の表面処理装置1の第5実施形態は、図8に示すように、さらに複数のプラズマ供給口11が、プラズマ処理部3の円周部7aの中心軸と平行に配置して設けるようにされている。このような、本発明の第5実施形態の表面処理装置1とすることにより、プラズマ処理部3の上部に設けられた導入口8から導入された被処理物Wに対して、プラズマ処理部3の下部においても高密度のプラズマを接触させることができるので、表面処理に要する時間を短くすることを可能とする。なお、本発明の表面処理装置1は、第1実施形態乃至第5実施形態に限定されるものではなく、発明の特徴を損なわない範囲内において種々の変更が可能である。