"担体中に造影剤を含む組成物の調製方法であって、ウエハー式電気脱塩EDI装置を用いた電気脱塩によって組成物を脱塩する段階を含む方法。造影剤が、非イオン性ヨウ素化モノマー化合物及び非イオン性ヨウ素化ダイマー化合物から選択されるMR造影剤又はX線造影剤である、請求項1記載の方法。造影剤が、イオヘキソール、イオジキサノール及びイオフォルミノールから選択される、請求項1又は請求項2記載の方法。電気脱塩段階が、造影剤の結晶化前又は結晶化後に実施される、請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の方法。造影剤がイオヘキソールであり、当該方法が、ウエハー式EDI装置を用いた電気脱塩によってイオヘキソールを含む粗組成物を脱塩する段階を含み、以下の逐次段階:1化合物A、塩、及びイオヘキソールを含む反応混合物である粗組成物中の塩分含有量をEDIで低減する段階と、2イオヘキソールを段階1の組成物から結晶化する段階とを含む、請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の方法。造影剤がイオジキサノールであり、当該方法が、ウエハー式EDI装置を用いた電気脱塩によってイオジキサノールを含む粗組成物を脱塩する段階を含み、以下の逐次段階:1化合物A、塩、及びイオジキサノールを含む反応混合物である粗組成物中の塩分含有量をEDIで低減する段階と、2脱塩後の1の組成物中の化合物Aを回収し、その後の二量化反応で再利用して、イオジキサノールを調製する段階と、3イオジキサノールを段階1の組成物から結晶化する段階とを含む、請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の方法。結晶化造影剤を、以下の追加のバルク処理段階:a結晶化造影剤を水に溶解する段階、b段階aからの組成物を精製する段階、及びc段階bからの組成物を乾燥する段階とに付す、請求項4乃至請求項6のいずれか1項記載の方法。精製段階bが、塩の電気脱塩による除去を含む、請求項7記載の方法。当該方法が実施された後の組成物中の塩分含有量が、造影剤含有量に比べて約1.0未満である、請求項1乃至請求項8のいずれか1項記載の方法。イオジキサノールを含む組成物の塩分含有量が、イオジキサノール含有量に比べて約0.7重量未満である、請求項9記載の方法。イオヘキソールを含む組成物の塩分含有量が、イオヘキソール含有量に比べて約0.02重量未満である、請求項9記載の方法。X線造影剤を調製する連続方法に含められる、請求項1乃至請求項11のいずれか1項記載の方法。濾過、イオン交換、及び電気透析EDから選択される方法による追加の精製及び/又は脱塩と組み合わせられる、請求項1乃至請求項12のいずれか1項記載の方法。EDI段階の前又は後に別個の段階でEDによる追加の脱塩を含む、請求項13記載の方法。脱塩を受ける造影剤を含む組成物が、造影剤を調製する方法からの側流又は廃流であり、少量の造影剤を含む、請求項1乃至請求項14のいずれか1項記載の方法。使用されるEDI装置が、イオン交換樹脂、膜、及びDC電圧を加えるための手段を含み、イオン交換樹脂が多孔質ウエハに成形されている、請求項1乃至請求項14のいずれか1項記載の方法。実施例1:イオジキサノールの調製及び精製5-アセトアミド-N,N’-ビス2,3-ジヒドロキシプロピル-2,4,6-トリヨードイソフタルアミド化合物A600kgとエピクロロヒドリン0.33当量を、アルコール溶媒中、水酸化ナトリウムの存在下にpH約11.9、15°Cで反応させる。イオジキサノールへの変換率約55が得られる。塩酸を添加すると、未反応の化合物Aの大部分が反応混合物から沈澱し、続いて濾過する。水性濾液には、約340kgのイオジキサノール、100kgの化合物A、及び20kgのイオヘキソールが含まれている。pHを測定して約4~6にする。NaCl含有量は、イオジキサノールに対して約12~14w/wである。次いで、溶液を膜濾過又は電気透析と続いてウエハー式EDIを使用した電気脱塩とにかけて、塩除去及び化合物Aの分別を行い、結晶化段階を含めて次の方法にすぐに使用できる水性方法溶液が得られる。実施例2:イオヘキソールの調製及び精製化合物Aをアルコール溶媒中、水酸化ナトリウムの存在下に3-クロロ-1,2-プロパンジオールでアルキル化し、塩酸で反応を終結させた後、以下の粗反応混合物が得られる:約3w/wNaCl3gのNaCl/100gのイオヘキソールを含む約40w/vのイオヘキソールHPLC純度約99面積のアルコール溶媒溶液、並びに微量の未反応の3-クロロ-1,2-プロパンジオール及び微量の酢酸ナトリウム。次いで、溶液をEDと続いてウエハー式EDIとにかけて、結晶化段階を含めて次の方法にすぐに使用できる水性方法溶液が得られる。実施例3:結晶化イオヘキソールのバルク処理イオヘキソールを結晶化した後、結晶化物を水に溶解する約40w/vイオヘキソール。最後に残った塩をこのバルク処理段階つや出し段階で除去する。塩分含有量をイオヘキソール含有量に比べて0.01w/w以下にするために、溶液をウエハー式EDIに付す。このバルク処理の後に、組成物をバルク濃縮及び乾燥に付す。実施例4:DTPA-BMA合成及び精製DTPAビス無水物と過剰のメチルアミン3当量を反応させて、DTPA-BMAを調製し、pHを約pH3に調整する。キレート剤とガドリニウムを用いて錯体を形成する前に、得られた溶液を、ウエハー式EDIを使用した電気脱塩にかけて、メチルアミン塩酸塩を除去する。"