"セルロースエステルを有する光学フィルムにおいて、下記一般式1で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。式中、Xは酸素原子もしくは硫黄原子を表し、Lは単結合、R3N、CO、O、S、SO2、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基から選ばれる2価の連結基を表し、Aはアリール基、シクロアルキル基、複素環基を表し、R1は置換基を表し、R2は水素原子、アルキル基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、カルバモイル基、アミド基、シアノ基、アルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールチオ基を表し、R3は水素原子、アルキル基、アリール基を表し、mは1~5の整数を表し、nは0~4の整数を表す。前記一般式1で表される化合物が下記一般式2で表される化合物であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。式中、Xは酸素原子もしくは硫黄原子を表し、Aはフェニル基、シクロアルキル基、複素環基を表し、R1、は置換基を表し、R4、R5は水素原子または置換基を表し、R2はアルキル基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アミノ基、カルバモイル基、アミド基、シアノ基、アルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールチオ基を表し、mは1~5の整数を表し、nは0~4の整数を表す。前記セルロースエステルが、下記式aおよびbを同時に満たすことを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルム。式a1.5≦XY≦2.5式b0≦Y≦1.5式中、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基またはブチリル基、もしくはその混合物の置換度を表す。前記光学フィルムの膜厚が、20~60μmであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の光学フィルム。下記式で表されるリターデーションRoが20~150nm、Rthが70~300nmであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の光学フィルム。式IRo=nx-ny×d式IIRth={nxny/2-nz}×d但し、nxは、光学フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向xにおける屈折率を表し、nyは光学フィルムの面内方向において、前記方向xと直交する方向yにおける屈折率を表し、nzは、光学フィルムの厚み方向zにおける屈折率を表し、dnmは光学フィルムの厚みを表す。請求項1から5のいずれか1項に記載の光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。請求項6に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に有することを特徴とする液晶表示装置。本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、高いリターデーション発現性を有し、ブリードアウト特性、スリッティング特性、耐光性、耐湿熱性が良好な光学フィルムを提供することにある。更には、該光学フィルムを用いて良好な耐光性、耐湿熱性を有し、正面コントラストムラ、視野角劣化に優れる偏光板及び液晶表示装置を提供することにある。本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。1.セルロースエステルを有する光学フィルムにおいて、下記一般式1で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。式中、Xは酸素原子もしくは硫黄原子を表し、Lは単結合、R3N、CO、O、S、SO2、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基から選ばれる2価の連結基を表し、Aはアリール基、シクロアルキル基、複素環基を表し、R1は置換基を表し、R2は水素原子、アルキル基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、カルバモイル基、アミド基、シアノ基、アルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールチオ基を表し、R3は水素原子、アルキル基、アリール基を表し、mは1~5の整数を表し、nは0~4の整数を表す。2.前記一般式1で表される化合物が下記一般式2で表される化合物であることを特徴とする前記1に記載の光学フィルム。式中、Xは酸素原子もしくは硫黄原子を表し、Aはフェニル基、シクロアルキル基、複素環基を表し、R1、は置換基を表し、R4、R5は水素原子または置換基を表し、R2はアルキル基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アミノ基、カルバモイル基、アミド基、シアノ基、アルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリールチオ基を表し、mは1~5の整数を表し、nは0~4の整数を表す。3.前記セルロースエステルが、下記式aおよびbを同時に満たすことを特徴とする前記1または2に記載の光学フィルム。式a1.5≦XY≦2.5式b0≦Y≦1.5式中、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基またはブチリル基、もしくはその混合物の置換度を表す。4.前記光学フィルムの膜厚が、20~60μmであることを特徴とする前記1から3のいずれか1項に記載の光学フィルム。5.下記式で表されるリターデーションRoが20~150nm、Rthが70~300nmであることを特徴とする前記1から4のいずれか1項に記載の光学フィルム。式IRo=nx-ny×d式IIRth={nxny/2-nz}×d但し、nxは、光学フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向xにおける屈折率を表し、nyは光学フィルムの面内方向において、前記方向xと直交する方向yにおける屈折率を表し、nzは、光学フィルムの厚み方向zにおける屈折率を表し、dnmは光学フィルムの厚みを表す。6.前記1から5のいずれか1項に記載の光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。7.前記6に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に有することを特徴とする液晶表示装置。本発明により、高いリターデーション発現性を有し、ブリードアウト特性、スリッティング特性、耐光性、耐湿熱性が良好な光学フィルムを提供することができた。更には、該光学フィルムを用いて良好な耐光性、耐熱湿性を有し、正面コントラストムラ、視野角劣化に優れる偏光板及び液晶表示装置を提供することができた。以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明者らは、上記課題を解決することができるリターデーション発現剤を含むセルロースエステルを含有する光学フィルムについて鋭意検討した結果、本発明に係るベンゾチアゾール化合物またはベンゾオキサゾール化合物を用いることにより、高いリターデーション発現性を有し、ブリードアウト特性、スリッティング特性、耐光性、耐湿熱性が良好な光学フィルムが得られることを見出した。また、得られた光学フィルムを使用すると、良好な耐光性、耐熱湿性を有し、正面コントラストムラ、視野角劣化に優れる偏光板及び液晶表示装置が得られることを見出した。その詳しい理由は解明されていないが、おそらくは特定の連結基を用いて置換基を導入することにより高いリターデーション発現性を有し、特定の置換基を導入することでセルロースエステルとの親和性が高くなり、ブリードアウトや耐熱性が向上するものと考えられる。詳しくは、特定の置換基と連結基を有したベンゾチアゾール化合物またはベンゾオキサゾール化合物をリターデーション発現剤として使用した場合に、上記課題が解決できることを見出し、本発明に至った次第である。<一般式1で表される化合物>最初に本発明に係る前記一般式1で表される化合物について説明する。前記一般式1において、Xは酸素原子もしくは硫黄原子を表す。前記一般式1において、Lは単結合、R3N、CO、O、S、SO2、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基から選ばれる2価の連結基を表す。上記の基を用いることで高いリターデーション上昇能を付与できる。中でも、リターデーション上昇能の観点から、単結合、R3N、CO、アルケニレン基、アルキニレン基が好ましく、単結合、R3N、アルケニレン基がさらに好ましく、アルケニレン基が特に好ましい。前記一般式1におけるLとして用いられるR3N中のR3は、水素原子、アルキル基、アリール基を表し、セルロースエステルとの相溶性の観点から、水素原子、炭素数1~10の直鎖または分岐のアルキル基、フェニル基が好ましく、水素原子、炭素数1~10の直鎖または分岐のアルキル基がさらに好ましく、水素原子が特に好ましい。前記一般式1におけるLとして用いられるアルキレン基としては、直鎖のアルキレン基でも分岐のアルキレン基でもよい。相溶性の観点から炭素数1~10の直鎖もしくは分岐のアルキレン基が好ましく、炭素数2~6の直鎖もしくは分岐のアルキレン基がさらに好ましい。前記一般式1におけるLとして用いられるアルケニレン基としては、リターデーション上昇能の観点から炭素数2~6のアルケニレン基が好ましく、ビニレン基が特に好ましい。前記一般式1におけるLとして用いられるアルキニレン基としては、溶解性とリターデーション上昇能の観点から炭素数2~6のアルキニレン基が好ましく、アセチレン基が特に好ましい。前記一般式1におけるLは後述する前記一般式1におけるR1で表される置換基でさらに置換されていても良い。前記一般式1におけるAはアリール基、シクロアルキル基、複素環基を表し、溶解性及びリターデーション上昇能の観点からアリール基、複素環基が好ましく、アリール基がさらに好ましい。前記一般式1におけるAとして用いられるアリール基はフェニル基、ナフチル基が好ましく、溶解性の観点からフェニル基がさらに好ましい。前記一般式1におけるAとして用いられるシクロアルキル基としては、相溶性の観点から炭素数4~10のシクロアルキル基が好ましく、炭素数5~8のシクロアルキル基がさらに好ましく、シクロヘキシル基が特に好ましい。前記一般式1におけるAとして用いられる複素環基は、5員もしくは6員の複素環基であり、ピリジル基、ピリミジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基が好ましい。前記一般式1におけるAは後述する前記一般式1におけるR1で表される置換基と同様の基でさらに置換されていても良い。前記一般式1におけるR1は置換基を表し、置換基としては、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等、シクロアルキル基例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等、アリール基例えば、フェニル基、ナフチル基等、アシルアミノ基例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等、アルキルチオ基例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等、アリールチオ基例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等、アルケニル基例えば、ビニル基、2-プロペニル基、3-ブテニル基、1-メチル-3-プロペニル基、3-ペンテニル基、1-メチル-3-ブテニル基、4-ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、スチリル基等、ハロゲン原子例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等、アルキニル基例えば、プロパルギル基等、アルキルスルホニル基例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等、アリールスルホニル基例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等、アルキルスルフィニル基例えば、メチルスルフィニル基等、アリールスルフィニル基例えば、フェニルスルフィニル基等、ホスホノ基、アシル基例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等、カルバモイル基例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基等、スルファモイル基例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2-ピリジルアミノスルホニル基等、スルホンアミド基例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等、シアノ基、アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等、アリールオキシ基例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等、シロキシ基、アシルオキシ基例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2-エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等、アニリノ基例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、2-ピリジルアミノ基等、イミド基、ウレイド基例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2-ピリジルアミノウレイド基等、アルコキシカルボニルアミノ基例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等、アルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等、アリールオキシカルボニル基例えば、フェノキシカルボニル基等、カルバメート基例えば、メチルカルバメート基、フェニルカルバメート基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基の各基を表す。これらの置換基はさらに同様の基で置換されていても良い。前記一般式1において同一のベンゾアゾールユニットが分子内に2つ以上存在する多量体例えば、後述する比較化合物B-005及びB-006等を形成することはできない。このような多量体を形成すると溶解性が著しく低下する。前記一般式1におけるR1に、上記に記載した置換基を導入することで溶解性及び相溶性を損なうことなくリターデーション上昇能を向上することができる。前記一般式1におけるR1は隣り合うR1同士で環を形成することも可能であるが、溶解性の観点からAは単環であることが好ましい。前記一般式1におけるR1として好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルバメート基でありアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルバメート基がさらに好ましく、アルコキシ基、アシルオキシ基、カルバメート基が特に好ましい。これらの基を導入することで溶解性を損なうことなく高いリターデーション上昇能を付与することができる。前記一般式1におけるR2は、水素原子、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等、アリールオキシ基例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等、アシル基例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等、アルキルオキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等、アリールオキシカルボニル基例えば、フェニルオキシカルボニル基等、アミノ基、カルバモイル基例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基等、アミド基、シアノ基、アルケニル基例えば、ビニル基、2-プロペニル基、3-ブテニル基、1-メチル-3-プロペニル基、3-ペンテニル基、1-メチル-3-ブテニル基、4-ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、スチリル基等、アルキニル基例えば、プロパルギル基等、アルキルチオ基例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等、アリールチオ基例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等を表し、前述したR1で表される置換基でさらに置換されても良い。また、前記一般式1におけるR2が複数の場合、R2は異なっていても良い。前記一般式1におけるR2として溶解性及びセルロースエステルに対する相溶性の観点から、好ましくは水素原子、アルキル基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、アミド基が好ましく、水素原子、アルキル基がさらに好ましい。前記一般式2におけるR4、R5は水素原子または置換基を表し、置換基としては前記一般式1におけるR1で表される置換基と同じ基を挙げることができる。前記一般式2におけるR4、R5として、水素原子、アルキル基、シアノ基、カルボニル基が好ましく、水素原子がさらに好ましい。前記一般式1におけるR1及びR2は任意の位置で結合して良い。前記一般式1におけるR1およびR2が置換しない結合可能な箇所には水素原子がそれぞれ置換する。前記一般式1におけるmは1~5の整数を表し、好ましくは1~3でありさらに好ましくは1~2である。mが1以上の場合にリターデーション上昇能が飛躍的に向上する。前記一般式1におけるnは0~4の整数を表し、好ましくは0~2であり、さらに好ましくは0~1である。nが0~2の場合は溶解性が向上し、nが0~1の場合にさらに溶解性が向上する。前記一般式1におけるn及びmが2以上の整数の場合、複数のR1およびR2はそれぞれ異なっていても同一でも良い。<一般式2で表される化合物>本発明に係る前記一般式2で表される化合物について説明する。前記一般式2は、前記一般式1におけるLがビニレン基である化合物であり、ビニレン基にすることでリターデーション上昇能がさらに向上する。前記一般式2において、Xは酸素原子もしくは硫黄原子を表す。前記一般式2におけるA、R1、R2は一般式1で表されるA及びR1、R2と同じ基であり、好ましい置換基も同じである。前記一般式2におけるm及びnは一般式1で表されるm及びnと同じであり、好ましい数値も同じである。前記一般式2におけるR4及びR5は前記一般式1におけるR1と同じ基であり、好ましい置換基も同じである。以下に前記一般式1で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。合成例本発明に係る一般式1で表される化合物の合成法は一般的な方法で合成可能である。以下に例示化合物の合成例を記す。例示化合物A-013の合成トルエン30ml中に5.42gの3,4,5-トリメトキシ安息香酸クロライドを加えて5°Cで撹拌した。この溶液中に2-アミノチオフェノール2.95gを少しずつ滴下した。滴下終了後に室温まで昇温して5時間撹拌し、その後120°Cに加熱、撹拌して1時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却して酢酸エチル50ml、飽和炭酸水素ナトリウム溶液30mlを加えて析出している不溶物をろ過した。ろ液の有機層を分離し、純水で分液後に溶媒を減圧濃縮した。残さにメタノール30ml、酢酸エチルを30ml加えて加熱、還流を1時間行った。室温まで冷却し、2時間撹拌後に析出した固体をろ過した。ろ過した固体をメタノール/酢酸エチル=1/1の溶液で洗浄した後に乾燥して例示化合物A-013を4.52g得た。得られた例示化合物A-013はNMR及びマススペクトルで分子構造を同定した。例示化合物A-043の合成ジメチルスルホキシド70ml中に2-メチルベンゾチアゾール5.00g、4-メトキシベンズアルデヒド5.32gを加えて室温で撹拌した。ナトリウムメトキシド2.42gを少しずつ加えて室温で2時間撹拌した。トルエン100ml及び1NHCl100mlを加えて撹拌した。水層を除去して純水で分液した後に有機層を減圧留去した。トルエン50mlを加えて加熱後に室温まで冷却し、析出している固体をろ過した。メタノールで固体を洗浄して乾燥することで例示化合物A-043を4.11g得た。得られた例示化合物A-043はNMR及びマススペクトルで分子構造を同定した。例示化合物A-085の合成ジメチルスルホキシド70ml中に2-メチルベンゾオキサゾール5.00g、4-メトキシベンズアルデヒド5.62gを加えて室温で撹拌した。ナトリウムメトキシド2.56gを少しずつ加えて室温で2時間撹拌した。トルエン100ml及び1NHCl100mlを加えて撹拌した。水層を除去して純水で分液した後に有機層を減圧留去した。トルエン50mlを加えて加熱後に室温まで冷却し、析出している固体をろ過した。メタノールで固体を洗浄して乾燥することで例示化合物A-085を5.33g得た。得られた例示化合物A-085はNMR及びマススペクトルで分子構造を同定した。例示化合物A-128の合成トルエン50mlに4-メトキシアニリン2.0gを加えて室温で撹拌した。2-クロロベンゾオキサゾール0.7mlを滴下して加熱還流した。30分後に100°Cに冷却した後に17時間反応した。反応終了後に室温まで冷却した後にろ過した。ろ過物をヘプタンで洗浄して乾燥することで1.33gの例示化合物A-128を得た。得られた例示化合物A-128はNMR及びマススペクトルで分子構造を同定した。例示化合物A-176の合成2-クロロ-6-メチルベンゾオキサゾール10.0g、3,4-ジメトキシチオフェノール10.0gと炭酸カリウム9.0g、を室温下、エタノール250ml中で72時間反応した。反応液をろ過後に溶媒を減圧留去した。酢酸エチルを加えて分液後に有機層を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒;酢酸エチル:ヘキサン=1:1により精製することで12.5gの例示化合物A-176を得た。得られた例示化合物A-176はNMR及びマススペクトルにより分子構造を同定した。例示化合物A-207の合成3,4-ジメトキシフェノール1.5gをアセトン20mlに溶解して5°Cに冷却して撹拌した。炭酸カリウム1.5gを加えた後に、5°Cに保ちながら2-クロロ-6-アセチルベンゾオキサゾール0.7mlを加えた。その後、室温まで昇温して20時間反応した。反応終了後にろ過し、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒;アセトン:ジクロロメタン=1:1により精製することで例示化合物A-207を1.15g得た。得られた例示化合物A-207はNMR及びマススペクトルにより分子構造を同定した。例示化合物A-240の合成テトラヒドロフラン40mlに6-ヘキシルベンゾオキサゾール1.50gを溶解して窒素雰囲気下で-75°Cに冷却した。n-BuLi1.8Minhexane7.5mlを10分間で滴下した。30分後にジエチルエーテル40mlに溶解したZnCl22.50gを加えた。反応液を0°Cに昇温し、45分後にCuI3.0gを加えて30分撹拌した後にテトラヒドロフラン20mlに溶解した3-メトキシ安息香酸クロライド3.0gを加えた。0°Cで45分間撹拌した後に酢酸エチルを800ml加えて12アンモニア水400mlと塩水200mlで洗浄した。有機層の溶媒を減圧留去した後にシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒;酢酸エチル:ヘキサン=1:20および再結晶酢酸エチル/ヘキサンにより精製してろ過することで例示化合物A-240を0.96g得た。得られた例示化合物A-240はNMR及びマススペクトルにより分子構造を同定した。例示化合物A-247の合成非特許文献JournalofMedicinalChemistry,2002,Vol.45,No.19,4294ページ、85行目の化合物41の合成法を参考にして例示化合物A-247を合成した。得られた例示化合物A-247はNMR及びマススペクトルにより分子構造を同定した。例示化合物A-250の合成ジメチルスルホキシド70ml中に2-メチルベンゾチアゾール5.00g、2-メトキシイソニコチンアルデヒド5.54gを加えて室温で撹拌した。ナトリウムメトキシド2.48gを少しずつ加えて室温で2時間撹拌した。トルエン100ml及び1NHCl100mlを加えて撹拌した。水層を除去して純水で分液した後に有機層を減圧留去した。トルエン50mlを加えて加熱後に室温まで冷却し、析出している固体をろ過した。メタノールで固体を洗浄して乾燥することで例示化合物A-250を4.37g得た。得られた例示化合物A-250はNMR及びマススペクトルで分子構造を同定した。例示化合物A-266の合成トルエン50mlに2-アミノ-5-メチルチアゾール2.0gを加えて室温で撹拌した。2-クロロベンゾオキサゾール0.7mlを滴下して加熱還流した。90分後に100°Cに冷却した後に15時間反応した。反応終了後に室温まで冷却した後にろ過した。ろ過物をヘプタン及びメタノールで洗浄して乾燥することで1.59gの例示化合物A-266を得た。得られた例示化合物A-266はNMR及びマススペクトルで分子構造を同定した。その他の化合物は上記合成方法及び下記文献に記載の合成方法を参考にして合成した。TheJournalofAmericanchemicalsociety,1941,Vol63,3192-3200、US2002/156081、US2008/194630A1、WO2008/129129号A1本発明に係る一般式1で表される化合物は、所望のリターデーションを付与するのに適宜量を調整して含有することができるが、添加量としてはセルロースエステルに対して、0.1~15質量含むことが好ましく、1~10質量含むことが好ましく、2~5質量含むことが特に好ましい。この範囲内であれば、本発明のセルロースエステルに十分なリターデーションを付与すると共に相溶性、ブリードアウト特性を良好に保つことができる。また本発明に係る光学フィルムは前記一般式1で表される化合物を少なくとも1種以上含有していれば良く、前記一般式1以外の化合物を併用してリターデーションを付与することもできる。<光学フィルム>次に、本発明の光学フィルムの詳細について説明する。本発明において光学フィルムとは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムのことであり、詳しくは液晶表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルム等を含む。本発明の光学フィルムの基材となるフィルムの樹脂としてはセルロースエステル系樹脂本発明では簡単に、セルロースエステルともいうが用いられるが、その他の併用可能な樹脂としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂ノルボルネン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂等等を挙げることができる。この中で、セルロースエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、環状オレフィン系樹脂の少なくとも一つの樹脂と併用して用いても良い。セルロースエステル以外の樹脂を使用する場合、含有量としては5~70質量が好ましい。本発明に係る光学フィルムは、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムに好ましく用いられる。位相差フィルムが偏光板保護フィルムを兼ねているのが好ましい。セルロースエステル本発明に係るセルロースエステルとしては特に限定されないが、炭素数2~22程度の直鎖または分岐のカルボン酸エステルであることが好ましく、これらのカルボン酸は環を形成してもよく、芳香族カルボン酸のエステルでもよい。なお、これらのカルボン酸は置換基を有してもよい。セルロースエステルとしては、特に炭素数が6以下の低級脂肪酸エステルであることが好ましい。好ましいセルロースエステルとして、具体的には、セルロースアセテートの他に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルが挙げられる。本発明に係る好ましいセルロースエステルとしては、下記式aおよびbを同時に満足するものが好ましい。式a2.0≦XY≦2.5式b0≦Y≦1.5式中、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基またはブチリル基、もしくはその混合物の置換度である。この中で特にセルロースアセテートY=0、及びセルロースアセテートプロピオネートY;プロピオニル基、Y>0が最も好ましく用いられる。セルロースアセテートプロピオネートとしては、1.0≦X≦2.4であり、0.1≦Y≦1.5、2.0≦XY≦2.5あることが好ましい。アシル基の置換度の測定方法はASTM-D817-96に準じて測定することができる。また、目的に叶う光学特性を得るために置換度の異なる樹脂を混合して用いても良い。混合比としては10:90~90:10質量比が好ましい。本発明に係るセルロースエステルの数平均分子量は、60000~300000の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に70000~200000のものが好ましく用いられる。セルロースエステルの重量平均分子量Mw、数平均分子量Mnは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCを用いて測定することができる。測定条件の一例は以下の通りであるが、これに限られることはなく、同等の測定方法を用いることも可能である。溶媒:メチレンクロライドカラム:ShodexK806、K805、K803G昭和電工株製を3本接続して使用するカラム温度:25°C試料濃度:0.1質量検出器:RIModel504GLサイエンス社製ポンプ:L6000日立製作所株製流量:1.0ml/min校正曲線:標準ポリスチレンSTKstandardポリスチレン東ソー株製Mw=1000000~500の13サンプルによる校正曲線を使用する。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。本発明に係るセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。本発明に用いられるセルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステルは、公知の方法により製造することができる。具体的には特開平10-45804号に記載の方法を参考にして合成することができる。本発明の光学フィルムには、セルロースエステル、及び前記一般式1で表される化合物に加えて、以下に説明する、糖エステル化合物、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、及び微粒子の少なくとも1つを添加することが好ましい。糖エステル化合物糖エステル化合物としては、例えば、ピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも1種を1個以上12個以下有しその構造のOH基のすべてもしくは一部をエステル化したエステル化合物が挙げられる。エステル化の割合としては、ピラノース構造またはフラノース構造内に存在するOH基の70以上であることが好ましい。本発明に用いられる糖エステル化合物の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、あるいはアラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、1F-フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースあるいはケストース挙げられる。この他、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。これらの化合物の中で、特にピラノース構造とフラノース構造を両方有する化合物が好ましい。例としてはスクロース、ケストース、ニストース、1F-フラクトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、更に好ましくは、スクロースである。ピラノース構造またはフラノース構造中のOH基のすべてもしくは一部をエステル化するのに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、酢酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができ、より、具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ-イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α-イソジュリル酸、クミン酸、α-トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、o-アニス酸、m-アニス酸、p-アニス酸、クレオソート酸、o-ホモサリチル酸、m-ホモサリチル酸、p-ホモサリチル酸、o-ピロカテク酸、β-レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、o-ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、o-ホモベラトルム酸、フタロン酸、p-クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。オリゴ糖のエステル化合物を、ピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも1種を1~12個を有する化合物として適用できる。オリゴ糖は、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造されるもので、本発明に適用できるオリゴ糖としては、例えば、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖が挙げられる。以下に、糖エステル化合物の一例を下記に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。モノペットSB:第一工業製薬社製モノペットSOA:第一工業製薬社製これらの糖エステル化合物の添加量としてはセルロースエステルに対して、0.5~30質量含むことが好ましく、特には、5~20質量含むことが好ましい。可塑剤本発明の光学フィルムは、可塑剤を含有させることができる。可塑剤としては特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。そのうち、可塑剤を2種以上用いる場合は、少なくとも1種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2~20価の脂肪族多価アルコールエステルである。本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式aで表される。一般式aRa-OHn但し、Raはn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、またはフェノール性水酸基を表す。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4-ブタントリオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3-メチルペンタン-1,3,5-トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1~32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は1~20であることが更に好ましく、1~10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基或いはエトキシ基などのアルコキシ基を1~3個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300~1500であることが好ましく、350~750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ-2-エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。多価カルボン酸エステル化合物としては、2価以上、好ましくは2価~20価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は2~20価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は3価~20価であることが好ましい。多価カルボン酸は次の一般式bで表される。一般式bRbCOOHmOHn但し、Rbはmn価の有機基、mは2以上の正の整数、nは0以上の整数、COOH基はカルボキシル基、OH基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す。好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような3価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。例えば炭素数1~32の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数1~20であることが更に好ましく、炭素数1~10であることが特に好ましい。また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールまたはその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコールまたはその誘導体なども好ましく用いることができる。多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性またはフェノール性の水酸基をモノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数1~32の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数1~20であることが更に好ましく、炭素数1~10であることが特に好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を2個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。多価カルボン酸エステル化合物の分子量は特に制限はないが、分子量300~1000の範囲であることが好ましく、350~750の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は一種類でも良いし、二種以上の混合であっても良い。本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物の酸価は1mgKOH/g以下であることが好ましく、0.2mgKOH/g以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによってリターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。酸価酸価とは、試料1g中に含まれる酸試料中に存在するカルボキシル基を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はJISK0070に準拠して測定したものである。特に好ましい多価カルボン酸エステル化合物の例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレートATEC、アセチルトリブチルシトレートATBC、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられる。ポリエステル系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するポリエステル系可塑剤を用いることができる。ポリエステル系可塑剤としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式cで表せる芳香族末端エステル系可塑剤を用いることができる。一般式cB-G-An-G-B式中、Bはベンゼンモノカルボン酸残基、Gは炭素数2~12のアルキレングリコール残基または炭素数6~12のアリールグリコール残基または炭素数が4~12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4~12のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数6~12のアリールジカルボン酸残基を表し、またnは1以上の整数を表す。一般式c中、Bで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とGで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Aで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。本発明で使用されるポリエステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ1種または2種以上の混合物として使用することができる。本発明に用いることのできるポリエステル系可塑剤の炭素数2~12のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,2-プロパンジオール、2-メチル1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオールネオペンチルグリコール、2,2-ジエチル-1,3-プロパンジオール3,3-ジメチロールペンタン、2-n-ブチル-2-エチル-1,3プロパンジオール3,3-ジメチロールヘプタン、3-メチル-1,5-ペンタンジオール1,6-ヘキサンジオール、2,2,4-トリメチル1,3-ペンタンジオール、2-エチル1,3-ヘキサンジオール、2-メチル1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール、1,12-オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、1種または2種以上の混合物として使用される。特に炭素数2~12のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。また、上記芳香族末端エステルの炭素数4~12のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、1種または2種以上の混合物として使用できる。芳香族末端エステルの炭素数4~12のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ1種または2種以上の混合物として使用される。炭素数6~12のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、1,5-ナフタレンジカルボン酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸等がある。本発明で使用されるポリエステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは300~1500、より好ましくは400~1000の範囲が好適である。また、その酸価は、0.5mgKOH/g以下、水酸基価は25mgKOH/g以下、より好ましくは酸価0.3mgKOH/g以下、水酸基価は15mgKOH/g以下のものである。以下、本発明に用いることのできる芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示す。サンプルNo.1芳香族末端エステルサンプル反応容器にフタル酸410部、安息香酸610部、ジプロピレングリコール737部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.40部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の1価アルコールを還流させながら、酸価が2以下になるまで130~250°Cで加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで200~230°Cで1.33×104Pa~最終的に4×102Pa以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤を得た。粘度25°C、mPas;43400酸価;0.2サンプルNo.2芳香族末端エステルサンプル反応容器に、フタル酸410部、安息香酸610部、エチレングリコール341部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.35部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。粘度25°C、mPas;31000酸価;0.1サンプルNo.3芳香族末端エステルサンプル反応容器に、フタル酸410部、安息香酸610部、1,2-プロパンジオール418部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.35部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。粘度25°C、mPas;38000酸価;0.05サンプルNo.4芳香族末端エステルサンプル反応容器に、フタル酸410部、安息香酸610部、1,3-プロパンジオール418部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.35部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。粘度25°C、mPas;37000酸価;0.05アクリル系重合体本発明に係る光学フィルムは、可塑剤としてメタアクリル系重合体を含有することもできる。該メタアクリル系重合体は、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaを重合して得られた重量平均分子量500以上3000以下の重合体Yであることが好ましい。メタアクリル系重合体としては、少なくとも分子内に芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと、分子内に芳香環を有さず水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーXbとを共重合して得られた重量平均分子量3000以上30000以下の重合体X、及び芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaを重合して得られた重量平均分子量500以上3000以下の重合体Yであることがさらに好ましい。前記重合体Xは下記一般式Xで示され、前記重合体Yは下記一般式Yで示されることがさらに好ましい。一般式X-[CH2-C-Rc-CO2Rd]m-[CH2-C-Re-CO2Rf-OH-]n-[Xc]p-一般式YRy-[CH2-C-Rg-CO2Rh-OH-]k-[Yb]q-式中、Rc、Re、Rgは、HまたはCH3を表す。Rdは炭素数1~12のアルキル基、シクロアルキル基を表す。Rf、Rhは-CH2-、-C2H4-または-C3H6-を表す。RyはOH、Hまたは炭素数3以内のアルキル基を表す。Xcは、Xa、Xbに重合可能なモノマー単位を表す。Ybは、Yaに共重合可能なモノマー単位を表す。m、n、k、p及びqは、モル組成比を表す。ただしm≠0、n≠0、k≠0、mnp=100、kq=100である。これらの可塑剤の添加量としてはセルロースエステルに対して、0.5~30質量含むことが好ましく、特には、5~20質量含むことが好ましい。紫外線吸収剤本発明に係る光学フィルムは、紫外線吸収剤を含有することもできる。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が10以下であることが好ましく、より好ましくは5以下、更に好ましくは2以下である。本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。例えば、5-クロロ-2-3,5-ジ-sec-ブチル-2-ヒドロキシルフェニル-2H-ベンゾトリアゾール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-6-直鎖および側鎖ドデシル-4-メチルフェノール、2-ヒドロキシ-4-ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4-ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328、チヌビン928等のチヌビン類があり、これらはいずれもBASFジャパン社製の市販品であり好ましく使用できる。本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、である。この他、1,3,5-トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。本発明に係る光学フィルムは紫外線吸収剤を2種以上を含有することが好ましい。また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平6-148430号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、偏光板保護フィルムの乾燥膜厚が30~200μmの場合は、偏光板保護フィルムに対して0.5~10質量が好ましく、0.6~4質量が更に好ましい。酸化防止剤酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に液晶画像表示装置などが置かれた場合には、光学フィルムの劣化が起こる場合がある。酸化防止剤は、例えば、光学フィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により光学フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、光学フィルム中に含有させるのが好ましい。このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ペンタエリスリチル-テトラキス3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、トリエチレングリコール-ビス3-3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、1,6-ヘキサンジオール-ビス3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、2,4-ビス-n-オクチルチオ-6-4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルアニリノ-1,3,5-トリアジン、2,2-チオ-ジエチレンビス3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、オクタデシル-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、N,N′-ヘキサメチレンビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ヒドロシンナマミド、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルベンゼン、トリス-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル-イソシアヌレイト等を挙げることができる。特に、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ペンタエリスリチル-テトラキス3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、トリエチレングリコール-ビス3-3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネートが好ましい。また、例えば、N,N′-ビス3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス2,4-ジ-t-ブチルフェニルフォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して質量割合で1ppm~1.0が好ましく、10~1000ppmが更に好ましい。微粒子本発明に係る光学フィルムは、滑り性を良くするために微粒子を含有することが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。また、有機化合物の微粒子も好ましく使用することができる。有機化合物の例としてはポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、アクリルスチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系粉末、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂、澱粉等の有機高分子化合物の粉砕分級物もあげられる。あるいは又懸濁重合法で合成した高分子化合物、スプレードライ法あるいは分散法等により球型にした高分子化合物、または無機化合物を用いることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。微粒子の一次粒子の平均粒径は5~400nmが好ましく、更に好ましいのは10~300nmである。これらは主に粒径0.05~0.3μmの二次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径100~400nmの粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。光学フィルム中のこれらの微粒子の含有量は0.01~1質量であることが好ましく、特に0.05~0.5質量が好ましい。共流延法による多層構成の光学フィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600以上日本アエロジル株製の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976およびR811以上日本アエロジル株製の商品名で市販されており、使用することができる。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂およびアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120および同240以上東芝シリコーン株製の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vが光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明に係る光学フィルムフィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が0.2~1.0であることが好ましい。各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子はろ過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤100質量部に対して1~10質量部で、より好ましくは、3~5質量部である。本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー東レエンジニアリング製、SWJ東レ静止型管内混合器Hi-Mixer等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。製造方法次に、本発明に係る光学フィルムの製造方法について説明する。本発明に係る光学フィルムは、溶液流延法で製造されたフィルムであっても溶融流延法で製造されたフィルムであっても好ましく用いることができる。本発明に係る光学フィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10~35質量が好ましく、更に好ましくは、15~25質量である。ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70~98質量であり、貧溶剤が2~30質量である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルの平均酢化度アセチル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースの酢酸エステルアセチル基置換度2.4、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステルアセチル基置換度2.8では貧溶剤となる。本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n-ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が0.01~2質量含有していることが好ましい。また、セルロースエステルの溶解に用いられる溶媒は、フィルム製膜工程で乾燥によりフィルムから除去された溶媒を回収し、これを再利用して用いられる。回収溶剤中に、セルロースエステルに添加されている添加剤、例えば可塑剤、紫外線吸収剤、ポリマー、モノマー成分などが微量含有されていることもあるが、これらが含まれていても好ましく再利用することができるし、必要であれば精製して再利用することもできる。上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を発現させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45~120°Cであり、60~110°Cがより好ましく、70°C~105°Cが更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。もしくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001~0.008mmの濾材がより好ましく、0.003~0.006mmの濾材が更に好ましい。濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン登録商標等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に光学フィルム等を置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点異物のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/cm2以下であり、更に好ましくは0~10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差差圧というの発現が小さく、好ましい。好ましい温度は45~120°Cであり、45~70°Cがより好ましく、45~55°Cであることが更に好ましい。濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。ここで、ドープの流延について説明する。流延キャスト工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1~4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は-50°C~溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度は0~40°Cであり、5~30°Cが更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。光学フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10~150質量が好ましく、更に好ましくは20~40質量または60~130質量であり、特に好ましくは、20~30質量または70~120質量である。本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。残留溶媒量質量={M-N/N}×100尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115°Cで1時間の加熱後の質量である。また、光学フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量以下であり、特に好ましくは0~0.01質量以下である。フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。本発明に係る光学フィルムを作製するためには、ウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向横方向に延伸を行うことが特に好ましい。剥離張力は300N/m以下で剥離することが好ましい。ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点から熱風で行うことが好ましい。ウェブの乾燥工程における乾燥温度は40~200°Cで段階的に高くしていくことが好ましい。光学フィルムの膜厚は、特に限定はされないが10~200μmが用いられる。特に膜厚は10~100μmであることが特に好ましい。更に好ましくは20~60μmである。この範囲であれば、フィルムの膜厚に依存する透湿度の改善と、本発明に係るリターデーション発現剤によるリターデーションの発現性が両立できるため好ましい。また、膜厚がこの範囲にあることでフィルムのスリッティング特性も良化するため好ましい。光学フィルムは、幅1~4mのものが用いられる。特に幅1.4~4mのものが好ましく用いられ、特に好ましくは1.6~3mである。4mを超えると搬送が困難となる。延伸操作、屈折率制御本発明に係る光学フィルムを製造する工程において、延伸操作により屈折率制御、即ちリターデーションの制御を行うことが好ましい。例えばフィルムの長手方向製膜方向及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次または同時に二軸延伸もしくは一軸延伸することができる。同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。互いに直交する二軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に0.8~1.5倍、幅方向に1.1~2.5倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に0.9~1.0倍、幅方向に1.2~2.0倍に範囲で行うことが好ましい。延伸温度は120°C~200°Cが好ましく、さらに好ましくは140°C~180°Cで延伸するのが好ましい。延伸時のフィルム中の残留溶媒は20~0が好ましく、さらに好ましくは15~0で延伸するのが好ましい。ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。なお、搬送方向と幅方向を同時に延伸しても、逐次延伸を行ってもよい。光学補償フィルム液晶ディスプレイは、異方性を持つ液晶材料や偏光板を使用するために正面から見た場合に良好な表示が得られても、斜めから見ると表示性能が低下するという視野角の問題があり、性能向上のためにも視野角補償板が必要である。平均的な屈折率分布はセルの厚み方向で大きく、面内方向でより小さいものとなっている。その為補償板としては、この異方性を相殺できるもので、膜厚方向の屈折率が面内方向より小さな屈折率を持つ、いわゆる負の一軸性構造を持つものが有効であり、本発明に係る光学フィルムはそのような機能を有する光学補償フィルムとしても利用出来る。本発明に係る光学フィルムをVAモードに使用する場合、セルの両側に1枚ずつ合計2枚使用する形態2枚型と、セルの上下のいずれか一方の側にのみ使用する形態1枚型のいずれに用いてもよい。本発明に係る光学フィルムは、前記式で表されるリターデーションRoが23°C、55RHの環境下で、波長が590nmにおいて20~150nmであることが好ましく、70nm~145nmがさらに好ましい。Rthは23°C、55RHの環境下で、波長が590nmにおいて70~300nmであることが好ましく、170nm~270nmがさらに好ましい。これらのリターデーション値は自動複屈折計KOBRA-21ADH王子計測機器を用いて測定することができる。本発明に係る光学フィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ1とするとθ1は-1°以上1°以下であることが好ましく、-0.5°以上0.5°以下であることがより好ましい。このθ1は配向角として定義でき、θ1の測定は、自動複屈折計KOBRA-21ADH王子計測機器を用いて行うことができる。θ1が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与でき、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与できる。物性本発明に係る光学フィルムの透湿度は、40°C、90RHで10~1200g/m224hが好ましい。透湿度はJISZ0208に記載の方法に従い測定することができる。本発明に係る光学フィルムは、破断伸度が10~80であることが好ましい。本発明に係る光学フィルムの可視光透過率は90以上であることが好ましく、93以上であることが更に好ましい。本発明に係る光学フィルムのヘイズは1未満であることが好ましく0~0.1であることが特に好ましい。また、本発明に係る光学フィルムにさらに液晶層や樹脂層を塗布したり、またそれをさらに延伸することにより、さらに広い範囲にわたる位相差値を得ることが出来る。<偏光板>本発明に係る光学フィルムは、本発明の偏光板、それを用いた本発明の液晶表示装置に使用することができる。本発明に係る光学フィルムは、偏光板保護フィルムの機能を兼ねたフィルムとされることが好ましく、その場合偏光板保護フィルムと別に位相差を有する光学フィルムを別途用意する必要がないため、液晶表示装置の厚みを薄く製造プロセスを簡略化することができる。本発明の液晶表示装置は、液晶セルの両方の面に、本発明に係る偏光板が粘着層を介して貼り合わされたものであることが好ましい。本発明に係る偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明に係る光学フィルムの偏光子側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には他の偏光板保護フィルムを貼合することができる。本発明に係る光学フィルムは液晶表示装置とされた際に、偏光子の液晶セル側に設けられることが好ましく、偏光子の外側のフィルムは従来の偏光板保護フィルムを用いることができる。例えば、従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム例えば、コニカミノルタタックKC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY-HA、KC8UX-RHA、KC8UXW-RHA-C、KC8UXW-RHA-NC、KC4UXW-RHA-NC、以上コニカミノルタオプト株製が好ましく用いられる。表示装置の表面側に用いられる偏光板保護フィルムには、防眩層あるいはクリアハードコート層のほか、反射防止層、帯電防止層、防汚層、バックコート層を有することが好ましい。偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光子の膜厚は5~30μmが好ましく、特に10~20μmであることが好ましい。<液晶表示装置>本発明の光学フィルムを用いた偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた本発明の液晶表示装置を作製することができる。本発明の光学フィルム、偏光板はSTN、TN、OCB、HAN、VAMVA、PVA、IPS、OCBなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。特にVAMVA、PVA型液晶表示装置に用いられることが好ましい。特に画面が30型以上の大画面の液晶表示装置であっても、光漏れによる黒表示時の着色を低減し、正面コントラストなど視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において部あるいはの表示を用いるが、特に断りがない限り質量部あるいは質量を表す。実施例1<光学フィルム101の作製>微粒子分散液1微粒子アエロジルR972V日本アエロジル株製11質量部エタノール88質量部以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。微粒子添加液1メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線株製のファインメットNFでろ過し、微粒子添加液1を調製した。メチレンクロライド101質量部微粒子分散液15質量部下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルAを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙株製の安積濾紙No.244を使用してろ過し、主ドープ液を調製した。主ドープ液の組成メチレンクロライド340質量部エタノール64質量部セルロースエステルA:置換度2.40のセルロースジアセテート表中DACと記載100質量部リターデーション発現剤:例示化合物A-0015.5質量部モノペットSB第一工業製薬社製6.5質量部微粒子添加液11質量部以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度34°C、1500mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30°Cに制御した。ステンレスベルト支持体上で、流延キャストしたフィルム中の残留溶媒量が75になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力130N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。剥離した光学フィルムを、140°Cの熱をかけながらテンターを用いて幅方向に20延伸した。延伸開始時の残留溶媒は15であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は130°Cで、搬送張力は100N/mとした。以上のようにして、乾燥膜厚40μmの光学フィルム101を得た。<光学フィルム102~190の作製>光学フィルム101の作製において、セルロースエステルの種類、あるいは例示化合物A-001に代わる添加剤及び添加量を表1、表2のように変更した以外は同様にして、光学フィルム102~190を作製した。なお、使用したセルロースエステルADACに代わるセルロースエステルの添加量は、セルロースエステルADACと同じ質量部とした。以下、実施例1で使用した使用した素材の詳細を下記に示す。セルロースエステルB:アセチル置換度1.56、プロピオニル置換度0.9、総アシル基置換度2.46であるセルロースアセテートプロピオネート表中CAPと記載セルロースエステルC:アセチル置換度2.87のセルローストリアセテート表中TACと記載また、比較化合物の構造は下記の通りである。《光学フィルムの評価》上記のようにして作製した各々の光学フィルム試料について、以下に記載した評価を行った。その結果を表1、表2に示す。相溶性評価光学フィルム101~190を作製する際の延伸前のフィルムを120°Cで15分乾燥させた後の延伸前のヘイズをヘイズ計1001DP型、日本電色工業株製を用いて測定した結果から、下記基準に従って評価を行った。A:ヘイズが0.5未満B:ヘイズが0.5~1.0未満表C:ヘイズが1.0~1.5未満D:ヘイズが1.5以上E:化合物が析出ここで、A、Bが実用上問題ないレベルと判断した。リターデーション値アッベ屈折率計4Tを用いてフィルム構成材料の平均屈折率を測定した。また、市販のマイクロメーターを用いてフィルムの厚さを測定した。自動複屈折計KOBRA-21ADH王子計測機器株製を用いて、23°C、55RHの環境下24時間放置したフィルムにおいて、同環境下、波長が590nmにおいてフィルムのリターデーション測定を行った。上述の平均屈折率と膜厚を下記式に入力し、面内リターデーションRo、厚み方向のリターデーションRthの値を求めた。遅相軸の方向も同時に測定した。式IRo=nx-ny×d式IIRth={nxny/2-nz}×dただし、nxはフィルム面内の最大屈折率、nyはnxと直交方向の屈折率、nzはフィルム厚み方向の屈折率、dはフィルムの厚さnmを表す。スリッティング適性脆性は、以下に説明するスリッティング適性で評価した。油圧卓上プレス機に60°の摩耗させた上刃、90°の下刃を30μmの間隔になるようにして取り付けた後、両刃の間に各光学フィルムを置き、上刃の下降速度を6m/分で、幅90cm、長さ100cmの大きさの試料を100本連続して切り出した。裁断した試料の破断面を光学顕微鏡を用いて50倍で観察して、切れ味を比較した。バリや劈開、切断できない、切りくずの発生等何らかの不良が発生したフィルムの発生本数を数え、不良率を計算し、下記の基準に従って裁断性の評価を行った。A:不良率が2未満B:不良率が2~5未満C:不良率が5~10未満D:不良率が10以上ここで、A、Bが実用上問題ないレベルと判断した。ブリードアウト耐性耐久性は、以下に説明するブリードアウト耐性で評価した。光学フィルムを、80°C、90RHの高温高湿雰囲気下で1000時間放置後、光学フィルム表面のブリードアウト結晶析出の有無を目視観察を行い、下記基準に従って評価を行った。A:表面にブリードアウトの発生が全く認められないB:表面で、部分的なブリードアウトが僅かに認められるC:表面で、全面に亘りブリードアウトが僅かに認められるD:表面で、全面に亘り明確なブリードアウトが認められるここで、A、Bが実用上問題ないレベルと判断した。延伸後のヘイズ光学フィルム101~190をヘイズ計1001DP型、日本電色工業株製を用いて測定した結果から、下記基準に従って評価を行った。A:ヘイズが0.5未満B:ヘイズが0.5~1.0未満表C:ヘイズが1.0~1.5未満D:ヘイズが1.5以上E:化合物が析出ここで、A、Bが実用上問題ないレベルと判断した。表1、表2から明らかなように、本発明の光学フィルム101~179は比較の光学フィルム180~190に比べて、リターデーションの発現性に優れ、かつ相溶性ヘイズ、脆性スリッティング適性及び耐久性ブリードアウト耐性が良好な実用上優れた光学フィルムであることが分かる。また、比較化合物B-002、B-003、B-004を使用した光学フィルム181~光学フィルム183の結果から、本発明の目的を達成するためには、リターデーション発現剤の連結基Lと置換基R1に特定の基が必要であるといえる。また、光学フィルム176~光学フィルム179の結果から本発明における一般式2の構造は特にリターデーションの発現性に優れるため、添加量が少なくても高いリターデーション発現性を有し、かつ相溶性ヘイズ、脆性スリッティング適性及び耐久性ブリードアウト耐性が良好な実用上優れた光学フィルムであることが分かる。なお、リターデーション発現剤を含まない光学フィルム188~光学フィルム190は、リターデーション値が小さく、光学補償フィルムとしての機能を全く有さない。実施例2実施例1の光学フィルム101の作製で用いたドープ液を用い、表3のような膜厚になるように流延時のドープ液の流量を変化させた以外は実施例1と同様にして光学フィルム201~206作製し、実施例1と同様な評価を行った。表3から明らかなように、本発明の光学フィルム201~206はリターデーションの発現性に優れ、かつ脆性スリッティング適性及び耐久性ブリードアウト耐性に優れていることが分かる。更に、膜厚が20~60μmの範囲の202~205は特にその効果が高いことが分かる。実施例3<偏光板の作製>厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸温度110°C、延伸倍率5倍した。これをヨウ素0.071g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に55秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.1g、水100gからなる65°Cの水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光子を得た。次いで、下記工程1~5に従って偏光子と前記光学フィルム101~190、201~206と、裏面側にはコニカミノルタタックKC4UYコニカミノルタオプト株製セルロースエステルフィルムを貼り合わせて偏光板101~190及び偏光板201~206を作製した。工程1:60°Cの2モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に90秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化した光学フィルムを得た。工程2:前記偏光子を固形分2質量のポリビニルアルコール接着剤槽中に1~2秒浸漬した。工程3:工程2で偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理した光学フィルムの上にのせて配置した。工程4:工程3で積層した光学フィルム101~190、201~206と偏光子を裏面側セルロースエステルフィルムを圧力20~30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。工程5:80°Cの乾燥機中に工程4で作製した偏光子と光学フィルム101~190、201~206とコニカミノルタタックKC4UYとを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板101~190、201~206を作製した。《偏光板の評価》次に、以下のようにして偏光板の耐久性を評価した。結果を表4~表6に示す。耐光性強制劣化未処理試料の平行透過率H0と直行透過率H90を測定し、下式に従って偏光度を算出した。その後、各々の偏光板をサンシャインウェザーメーター500時間、UVカットフィルター無しの条件で強制劣化処理を施した後、再度、強制劣化処理後の平行透過率H0′と直行透過率H90′を測定し、下式に従って偏光度P0、P500を算出し、偏光度変化量を下記式により求めた。偏光度P0、P500の算出偏光度P0=H0-H90/H0H901/2×100偏光度P500=H0′-H90′/H0′H90′1/2×100偏光度変化量=P0-P500P0:強制劣化処理前の偏光度P500:強制劣化処理500時間後の偏光度以上のようにして求めた偏光度変化量を、以下の基準に則り判定し、耐光性の評価を行った。A:偏光度変化量が2未満B:偏光度変化量が2以上10未満C:偏光度変化量が10以上25未満D:偏光度変化量が25以上ここで、A、Bが実用上問題ないレベルと判断した。耐湿熱性上記の要領で得られた500mm×500mmの偏光板試料2枚を熱処理条件:80°C、90RHで100時間放置するし、直交状態にしたときの縦または横の中心線部分のどちらか大きい方の縁の白抜け部分の長さを測定して、辺の長さ500mmに対する比率を算出し、その比率に応じて下記のように判定した。縁の白抜けとは直交状態で光を通さない偏光板の縁の部分が光を通す状態になることで、目視で判定できる。偏光板の状態では縁の部分の表示が見えなくなる故障となる。A:縁の白抜けが5未満偏光板として問題ないレベルB:縁の白抜けが5以上10未満偏光板として問題ないレベルC:縁の白抜けが10以上20未満偏光板として何とか使えるレベルD:縁の白抜けが20以上偏光板として問題のあるレベルここで、A、Bが実用上問題ないレベルと判断した。表4~表6から明らかなように、本発明の偏光板101~179、201~206は比較の偏光板180~190に比べて、耐光性、耐湿熱性が良好な実用上優れた偏光板であることが分かる。また、比較化合物B-002、B-003、B-004を使用した偏光板181~183の結果から、本発明の目的を達成するためには、リターデーション発現剤の連結基Lと置換基R1に特定の基が必要であるといえる。実施例4<液晶表示装置の作製>視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。SONY製40型ディスプレイKLV-40J3000の予め貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板101~190、201~206をそれぞれ液晶セルのガラス面の両面に貼合した。その際、その偏光板の貼合の向きは、本発明の光学フィルムの面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置101~190、201~206を各々作製した。《液晶表示装置としての特性評価》上記のようにして作製した液晶表示装置について、以下に記載した評価を行った。その結果を表7~表9に示す。正面コントラストムラ23°C55RHの環境で、各々の液晶表示装置のバックライトを1週間連続点灯した後、測定を行った。測定にはELDIM社製EZ-Contrast160Dを用いて、液晶表示装置で白表示と黒表示の表示画面の法線方向からの輝度を測定し、その比を正面コントラストとした。正面コントラスト=表示装置の法線方向から測定した白表示の輝度/表示装置の法線方向から測定した黒表示の輝度液晶表示装置の任意の5点の正面コントラストを測定し、以下の基準にて評価した。A:正面コントラストが0~5未満のばらつきであり、ムラが小さいB:正面コントラストが5~10未満のばらつきであり、ムラがややあるC:正面コントラストが10以上のばらつきであり、ムラが大きいここで、A、Bが実用上問題ないレベルと判断した。視野角劣化23°C55RHの環境でELDIM社製EZ-Contrast160Dを用いて液晶表示装置の視野角測定を行った。続いて23°C20RH、更に23°C80RHの環境下で、作製した液晶表示装置の視野角を測定し下記基準にて評価した。最後に23°C55RHの環境でもう一度視野角測定を行い、前記測定の際の変化が可逆変動であることを確認した。尚、これらの測定は、液晶表示装置を当該環境に5時間置いてから測定を行った。A:視野角変動が認められないB:視野角変動がやや認められるC:視野角変動が認められるここで、A、Bが実用上問題ないレベルと判断した。表7~表9から明らかなように、本発明の偏光板101~179、201~206を用いた液晶表示装置101~179、201~206は、比較の偏光板180~190を用いた液晶表示装置180~190に対して、正面コントラストムラも良好で、湿度が変動する条件下でも視野角変動のない極めて安定な、耐久性の優れた液晶表示装置であることが分かる。また、比較化合物B-002、B-003、B-004を使用した液晶表示装置181~183の結果から、本発明の目的を達成するためには、リターデーション発現剤の連結基Lと置換基R1に本発明に係る基が必要であるといえる。"