ディスク面におけるグルーブおよびランドからなる溝構造またはピットが設けられた構造を有するトラック領域に固定化された生体高分子が結合している標識用ビーズを、光学的読み取り手段によって数量を計測するための試料分析用ディスクにおいて、前記溝構造または前記ピットとして構成される凹部を構成する面と凸部を構成する面が異なる表面粗さであることを特徴とする、試料分析用ディスク。前記凹部を構成する面と前記凸部を構成する面に対して、いずれか一方の面を親水性のある表面粗さとし、他方の面を撥水性のある表面粗さとすることを特徴とする、請求項1に記載の試料分析用ディスク。前記凹部を構成する面と前記凸部を構成する面において親水性のある表面荒さとしたいずれか一方の面のみに、前記標識用ビーズが固定化されていることを特徴とする、請求項2に記載の試料分析用ディスク。前記標識用ビーズの直径Rと、前記グルーブまたはピットの幅Wとの比率R/Wが、0.6≦R/W<1.0の関係を満たすことを特徴とする、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の試料分析用ディスク。前記グルーブまたはピットの幅Wと、前記試料分析用ディスクの半径方向において隣接するグルーブまたはピットとの周期Tとの比率W/Tが、0.65≦W/Tの関係を満たすことを特徴とする、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の試料分析用ディスク。特許文献1および特許文献2には、多検体を同時に検査が可能というマイクロプレートの利点と、短い時間で検査結果が得られる分析用チップの利点を合わせた特徴を持つ分析デバイスとして、円盤型の分析デバイスが提案されている。具体的には、円盤状のデバイスに複数のマイクロチャネル構造を設け、試料に含まれる物質を反応させるための固相物質が流路の一部に充填されている。蛍光色素等の標識をレーザにより励起して得られる蛍光の強度を光検出器によって検出することにより測定が行われる。また特許文献3には、ディスクを使用した方法で、光ディスクの構造を利用した方法が開示されている。光ディスクのトラック形状が形成されている面と同一の面に生体試料や粒子を付着させ、光ピックアップを用いて信号の変化を検出する方法が示されている。特許文献1および特許文献2の方法は、ディスク上に設けられた流路に試料を展開し試薬と反応した結果を蛍光強度や吸光度の変化として検出し、試料に含まれる抗原や抗体の量を測定している。検出方法としてはウェルプレートを用いた方法と原理的に同じであり、溶液中に含まれる標識物質の濃度を蛍光や吸光度で測定している。そのため、定量的な測定が出来る濃度範囲が狭く、濃度の高い試料については数段階に希釈した複数のサンプルを用意する必要があった。一方、低濃度の試料を感度良く検出する方法として特許文献3では光ディスクのフォーカス面にラッテックスビーズや磁気ビーズを結合させて検出する方法が示されているが、光ディスクのフォーカス面には一般的にトラッキング信号を得るためのグルーブまたはピットのような凹凸構造が設けてあり、その凹凸構造の凹部分もしくは凸部分のどちらか一方にのみ標識用ビーズが載置されないとトラッキング信号を乱したり、隣接トラックでのクロストークが発生したりするなど、試料の定量性に問題を与えてしまう。本発明はこのような問題点に鑑みなされたものであり、分析する試料に含まれる抗原や抗体を高い精度で検出が可能な、試料分析用ディスクを提供することを目的とする。上記目的を達成するために、第1の発明に係る試料分析用ディスク100は、ディスク面におけるグルーブ107およびランド108からなる溝構造またはピット109が設けられた構造を有するトラック領域105に固定化された生体高分子が結合している標識用ビーズ110を、光学的読み取り手段によって数量を計測するための試料分析用ディスク100において、前記溝構造または前記ピット109として構成される凹部120を構成する面と凸部121を構成する面が異なる表面粗さであることを特徴とする。第2の発明に係る試料分析用ディスク100は、第1の発明において、前記凹部120を構成する面と前記凸部121を構成する面に対して、いずれか一方の面を親水性のある表面粗さとし、他方の面を撥水性のある表面粗さとすることを特徴とする。第3の発明に係る試料分析用ディスク100は、第2の発明において、前記凹部120を構成する面と前記凸部121を構成する面において親水性のある表面荒さとしたいずれか一方の面のみに、前記標識用ビーズ110が固定化されていることを特徴とする。第4の発明に係る試料分析用ディスク100は、第1から第3のいずれか1の発明において、前記標識用ビーズ110の直径Rと、前記グルーブ107またはピット109の幅Wとの比率R/Wが、0.6≦R/W<1.0の関係を満たすことを特徴とする。第5の発明に係る試料分析用ディスク100は、第1から第4のいずれか1の発明において、前記グルーブ107またはピット109の幅Wと、前記試料分析用ディスク100の半径方向において隣接するグルーブ107またはピット109との周期Tとの比率W/Tが、0.65≦W/Tの関係を満たすことを特徴とする。本発明の試料分析用ディスクによれば、光ディスクの情報を再生する光学ピックアップと同様の構成で検出が可能であり、装置の小型化、低価格化が可能となるとともに、分析する試料に含まれる抗原や抗体を高い精度で測定することができる。図1は、本発明における試料分析用ディスク100を光学的に読み取り、抗体や抗原の検出を行う読み取り装置1の構成ブロック図である。読み取り装置1の構成は、データやコンテンツ情報が記録された光ディスクを読み取る装置と同一の構成である。読み取り装置1は、スピンドルモータ2、対物レンズ3、アクチュエータ4、ビームスプリッタ5、レーザ発振器6、コリメータレンズ7、集光レンズ8、光検出部9、制御部10を備える。制御部10は、回転制御部11、計測部12、フォーカストラッキング制御部13を備える。読み取り装置1の構成は、上記以外にも必要に応じて他の要素を備えてもよい。スピンドルモータ2は、回転制御部11の制御によって試料分析用ディスク100を所定の回転速度で回転させる。対物レンズ3は、例えば開口数NAが0.85の対物レンズであり、レーザ発振器6から出力されたレーザ光を、試料分析用ディスク100の読み取り面に集光させる。アクチュエータ4は、フォーカストラッキング制御部13の制御によって、レーザ発振器6から出力されたレーザ光を、試料分析用ディスク100の読み取り面に集光させるための調整を行う、例えば2軸のアクチュエータである。ビームスプリッタ5は、レーザ発振器6から出力されたレーザ光を対物レンズ3の方向に反射させるとともに、試料分析用ディスク100からの反射光を光検出部9に導く。レーザ発振器6は、例えばBlurayBDディスクの再生用と同一の波長405nmの半導体レーザ発振器である。コリメータレンズ7は、レーザ発振器6から出力されたレーザ光を並行な光束とする。集光レンズ8は、ビームスプリッタ5より導かれた光を光検出部9に導く。光検出部9は、フォトダイオードであり、試料分析用ディスク100から反射された光の光量に対応する検出信号を計測部12およびフォーカストラッキング制御部13に出力する。制御部10は、例えばCPUCentralProcessingUnitやDSPDigitalSignalProcessorにより構成され、図示しない記憶部等を備える。制御部10は、図示しない操作部による操作に応じた各種制御、光検出部9により出力された検出信号に基づく各種制御等を行う。上記各種制御のうち、本発明の説明に必要な制御として、回転制御部11による制御、計測部12による制御、フォーカストラッキング制御部13による制御がある。回転制御部11、計測部12、フォーカストラッキング制御部13は、制御部10における処理やプログラム等によって実現される。回転制御部11は、スピンドルモータ2を制御し、試料分析用ディスク100を所定の回転数で回転させる。計測部12は、光検出部9により出力された検出信号よりRF信号を生成し、生成したRF信号によりグルーブ107やピット109上に固定化された標識用ビーズ110を計数する。フォーカストラッキング制御部13は、光検出部9により出力された検出信号よりFEフォーカスエラー信号やTEトラッキングエラー信号を生成し、生成した各信号の値によって、アクチュエータ4等を制御し、試料分析用ディスク100の読み取り面に集光させる制御や、トラックに追従させる制御を行う。次に、本発明の試料分析用ディスク100の構造について、図2から図4を用いて説明する。図2は、本発明に係る試料分析用ディスク100の概念図である。試料分析用ディスク100は、例えばCDCompactDiscやDVDDigitalVersatileDisc等と同じ直径の円盤形状であり、素材もポリカーボネートなど同様な素材を用いる。試料分析用ディスク100は、内周側に複数の注入孔101を、試料分析用ディスク100の中心に対して回転対称に備えられる。注入孔101は、試料を滴下させるための孔であり、その容積は検査に必要な試料を計量する大きさになっている。また、注入孔101の各々からは滴下された試料が流れる流路102が、試料分析用ディスク100の中心から見て放射状に備えられる。さらに、流路102の各々に接続され、試料分析用ディスク100の外周部に位置する検出領域104が備えられる。また、流路102の一部には、試料に含まれる特定の抗原に対して結合する抗体が修飾された標識用ビーズ110が規定量充填されているビーズ充填部103が備えられる。試料分析用ディスク100は、ディスク上で抗原、抗体、標識用ビーズ110などの試料の反応操作を施すエリアを設けるために、MEMS等のプロセスを利用し、流路102を設けることも可能である。さらに、試料分析用ディスク100の外周部には、検出領域104を含むように、光ディスクの信号面と同様の構造である、スパイラル状のグルーブ107またはピット109が形成されるトラック領域105が備えられる。トラック領域105にグルーブ107が形成されていることにより、試料分析用ディスク100の読み取り面には、図3Aに示すように、溝となるグルーブ107とランド108とが存在する。また、トラック領域105にピット109が形成されている場合は、図3Bに示すように、スパイラル状にピット109が形成されている。このため、図3Aにおいては、グルーブ107が凹部120であり、ランド108が凸部121である。また、図3Bにおいては、ピット109が凹部120であり、ピット109以外が凸部121となる。図4は、試料分析用ディスク100の断面構造と標識用ビーズ110の読み取り状態を表した模式図である。試料分析用ディスク100の内周側には、深さ100μmから500μmの流路102が形成されており、分析対象の試料が通過する流路102の一部に特定の抗体が修飾された標識用ビーズ110が充填されているビーズ充填部103が備えられる。抗原-抗体反応は溶液中で抗原と抗体が接触することで反応し標識用ビーズ110と分析対象の抗原が結合する。一般にイムノアッセイで対象としている抗原の溶液中の濃度は非常に薄い。そのため流路102の大きさを小さくし、狭い領域に多くの標識用ビーズ110を充填し反応効率を上げることで短時間に標識用ビーズ110と結合するようにする。ビーズ充填部103において試料と反応した標識用ビーズ110は試料分析用ディスク100の回転による遠心力でさらに外側の領域に流れ検出領域104に展開される。検出領域104は光ディスクと同様にグルーブ107やピット109が設けられている。BDの場合、厚さ0.1mmの保護層106を通して信号を読み取るように規格が定められている。一般的なBD用光ピックアップの対物レンズ3は、保護層106までの距離作動距離が0.3mmから0.4mm程度で設計されているものが多い。よって、装置の設計余裕を考慮すると流路102の深さに対して検出領域104で試料が展開される厚さ方向のスペースは薄くすることが好ましい。また標識用ビーズ110を1個ずつ計数するために、流路102に充填されている標識用ビーズ110が厚さ方向に重ならない十分な面積となる必要がある。検出領域104の面積は、流路102に充填された標識用ビーズ110の個数と標識用ビーズ110の直径から決まる面積を掛けた面積よりも、グルーブ107もしくはピット109の面積が大きくなるように作られている。標識用ビーズ110に磁気ビーズを使用した場合には、磁気によりグルーブ107やピット109の形成された面に標識用ビーズ110を誘導することで反応時間を短縮することも出来る。試料分析用ディスク100の構造がグルーブ構造の場合、検出領域104に捕捉されている標識用ビーズ110の位置を、対物レンズ3により集光されたスポット光が通過した場合、反射した反射光の位相が変化し、光検出部9で得られる検出信号の光量が変化する。標識用ビーズ110の直径がBDの最短ピット長とほぼ等しい場合、トラック上に標識用ビーズ110が1個から検出することが出来る。標識用ビーズ110を検出した位置は試料分析用ディスク100の検出領域104、すなわちグルーブ107やピット109を持つ部分で流路102と接続していない部分に、予めアドレス信号として記録しておくことで半径方向とトラック方向の情報を得ることが出来る。その他の方法として、グルーブ構造の場合はグルーブ107をカッティングする際にディスクの半径方向にうねりを生じるように試料分析用ディスク100を製作し、その変動をTE信号から検出して、周波数からディスク上のアドレスを計算する方法であるウォブル検出を利用しても良い。また、信号面にBD―RやBD-RWのような記録型または追記型のディスクと同様な相変化材料や色素材料を用いることで情報を追記することも可能である。例えば滴下した試料のIDナンバーを追記することで、装置から一旦試料分析用ディスク100を取り出し、再び分析のために装置で読み取る場合の試料の特定に利用する。また、すでに利用済みの試料分析用ディスク100に誤って別の試料を滴下してしまうことを防止することが出来る。次に、本発明の試料分析用ディスク100を用いた、分析用試料の分析について、図5および図6に基づき説明する。注入孔101より試料が注入され、読み取り装置1によって試料分析用ディスク100を回転させると滴下された試料は遠心力により抗原-抗体反応のための流路102に導かれる。流路102につながる部分には試料に含まれる特定の抗原に対して結合する抗体が修飾された標識用ビーズ110が規定量充填されている。標識用ビーズ110は直径が100nmから1μm程度の大きさのポリマー粒子、または内部にフェライト等の磁性材料を含む磁気ビーズ等を用いる。また、金コロイドなどの金属微粒子やシリカビーズ等を用いることも可能である。標識用ビーズ110の直径は、標識用ビーズ110の直径は、検出に利用する光学系により最適な大きさが決定する。光学的解像限界dは使用するレーザの波長λと、対物レンズの開口数NAから、次式のように表すことができる。光学系を限定しなければこの範囲ではないが、現在一般に普及している光ディスクの中で、もっとも高解像度のものはBlu-rayDiscBDで波長405nmの半導体レーザの光を開口数NA0.85の対物レンズでディスク上にスポットを集光させることができる。BDの信号の最短ピット長は約150nmである。したがって、BDの光学系を利用する場合には、上記光学的解像限界dを表す式より、標識用ビーズの大きさは直径およそ120nm程度の大きさまで信号として検出することが出来る。既存の光ディスクのドライブ、特に光ピックアップに利用されている部品を利用することが出来れば、現在高額な分析装置と同等もしくはそれ以上の高精度な生体高分子が測定検出できる分析装置を非常に安価に製造することが出来るという利点がある。また、標識用ビーズ110の表面には試料に含まれる抗原200と特異的に結合する抗体210をあらかじめ結合させておく。抗体210の種類には様々なものがあり、例えばB型肝炎の検査の場合には血液中に含まれるHBs抗原と特異的に結合するHBsAgモノクローナル抗体を修飾しておく。修飾する抗体210の種類は検出する抗原200の種類にあわせ特異的に結合するものを選択する。流路102中で抗体210が修飾された標識用ビーズ110と試料が混合されると、試料に含まれる抗原200が標識用ビーズ110の表面に修飾された抗体210と結合し、標識用ビーズ110、抗体210、抗原200の複合物が形成される。この段階で溶液中には試料に含まれる抗原200の量に応じて、抗原200と抗体210が反応した複合物の標識用ビーズ110と、抗原200と反応していない標識用ビーズ110が一定の割合で存在している。さらに試料分析用ディスク100の遠心力により、流路102で反応した溶液を外周部の検出領域104に展開させる。検出領域104は、流路102の底面が接する面が、光ディスクの信号面と同様に、スパイラル状のグルーブ構造またはピット構造となっている。グルーブ構造の場合、グルーブ107の幅は標識として使用する標識用ビーズ110の直径とほぼ同じ幅になっている。また、ピット構造の場合は、各ピット109の幅が標識用ビーズ110の直径とほぼ同じ幅になっていることが好ましい。グルーブ107もしくはピット109の幅に対して、標識用ビーズ110の直径に小さく例えば半分以下の直径である場合、グルーブ107内に複数個の標識用ビーズ110が凝集して固定化され、試料を精度良く検出することが困難となってしまう。そのため、グルーブ107もしくはピット109の幅は、標識用ビーズ110の大きさと同じかそれ以下が好ましく、標識用ビーズ110が2個以上固定化しないためには、標識用ビーズ110の大きさは、グルーブ107もしくはピット109の幅に対して、最低でも半分以上である必要がある。好ましくは、標識用ビーズ110の直径大きさRと基板表面上の微細凹凸周期構造であるグルーブ107またはピット109の幅Wの比率R/Wが、以下の式に示される関係を満たす必要がある。反対に標識用ビーズ110の直径が、グルーブ107またはピット109の幅よりも大きい場合、標識用ビーズ110がグルーブ107またはピット109からはみ出す形となるため、トラッキング信号を乱したり、隣接トラックでのクロストークが発生したりするなど、試料の定量性に問題を与えてしまう。更には、例えばピペット等で試料を滴下させただけの場合、ランド108の部分にも標識用ビーズ110が固定化されてしまうため、クロストーク成分が発生して精度良く計測することが困難となってしまう。このため、ランド108に標識用ビーズ110が固定化されないような、ランド108とグルーブ107の幅の比率、もしくはピット109の幅についても配慮し、グルーブ107もしくはピット109の内部にのみ標識用ビーズ110が固定化される必要がある。良好なTE信号を得るためには、一般的にランドグルーブ比ランド108とグルーブ107の幅の比率は0.5程度が良いとされているが、トラッキング誤差信号を損ねない範囲内でランドグルーブ比が大きい方が好ましい。好ましくは、基板表面上の微細凹凸周期構造であるグルーブ107またはピット109の幅Wと、グルーブ107またはピット109の周期Tの比率W/Tが、以下の式の関係を満たす必要がある。グルーブ107またはピット109の深さは、TE信号の出力に最適な深さ一般的にはλ/8程度とするのが好ましいが、用いる標識用ビーズ110の大きさと出力検出信号の関係や、試料分析用ディスク100の表面におけるキズやゴミとの信号を区別するなどの観点から、最適な信号レベルが得られる深さにすればよく、この限りではない。これらの検出領域104には、標識用ビーズ110の表面に修飾したものと同じ種類の抗体210がシランカップリング等の方法で固定されている。検出領域104に展開された溶液に含まれている抗原200、すなわち流路102の中で抗体210が修飾された標識用ビーズ110と反応した複合物は、さらに検出領域104に固定されている抗体210と結合し、標識用ビーズ110、抗体210、抗原200、固相化抗体によるサンドイッチ型の複合物を形成し、検出領域104の基板上に固定化される。抗原200と反応していない標識用ビーズ110は、検出領域104にとどまらず、遠心力によりさらにディスク外周送られ、検出領域104の外に排出される。グルーブ107のみに固定化された標識用ビーズ110の反応速度を早めたり、検出精度を向上させるために、標識用ビーズ110の内部にフェライトなどの磁性体材料を用いて、試料分析用ディスク100の外部または内部より磁気操作を行うことも可能である。図5は試料分析用ディスク100上で、抗原200と抗体210が反応した後の複合物の構成を模式的に表した図である。図5Aは、ウェルプレートで行われるのと同様の抗原-抗体反応を利用したサンドイッチ法による原理により、試料に含まれる抗原200に計測可能な標識である標識用ビーズ110が付けられた状態で、検出領域104に固定されていることになる。サンドイッチ法は検出対象の絶対量に対して出力がリニアに得られることから定量測定が行いやすい方法として多く用いられている。固定化の方法はこれに限らず、競合法など他の方法を用いることも出来る。また、検出対象が抗原200ではなく抗体210の場合には、図5Bに示すように、抗体210に特異的に結合する抗原200を検出領域104に固定化しておき、二次抗体211により標識用ビーズ110を結合させる方法によって、抗原200の検出と同様にサンドイッチ法による測定を行うことが出来る。図6は、試料分析用ディスク100の半径方向に対して異なる抗体をつけた場合の検出領域104の説明をするものである。分析対象の試料に含まれる複数の抗原200A~200Cに対して特異的に結合するモノクローナル抗体212を試料分析用ディスク100のトラックを複数の領域に分けて固定してある。標識用ビーズ110には、複数の抗原に結合するポリクローナル抗体213が修飾されている。検出領域104に展開された標識用ビーズ110は、半径位置に応じて異なる抗原と反応し、グルーブ107またはピット109に結合する。通常、蛍光や酵素反応により複数の抗原を同時に検出するためには、複数の標識を利用して、蛍光波長の違いや発色の違いを検出しているが、その場合は複数の波長の光源や波長フィルターと光検出器の組み合わせが必要となる。図6に示した手法は、試料分析用ディスク100の半径位置をアドレスから得ることにより、同じ検出方法で複数の抗原をほぼ同時に計測することが出来る。さらに、複数の抗原の含まれる比率から、統計的に疾病の可能性を判定するような分析方法の場合にも、同一試料を同じ条件で測定することが出来、別々に計測した場合の誤差に比べ測定ばらつきを小さくすることが可能となる。次に、本発明の試料分析用ディスク100の製造方法について、図7Aから図7Gを用いて説明する。本発明の試料分析用ディスク100は、CD、DVDなどと類似の方法で作製される。先ず、図7Aに示すように、光学研磨が施され、洗浄し十分に乾燥させた円盤状の基板501に対し、マグネトロンスパッタ等により膜厚が10nm~100nm程度の無機レジスト膜502を成膜する。基板501としては、石英ガラス基板またはシリコンウエハー基板を使用することができる。特にシリコンウエハー基板は、半導体分野で使用されており、十分に研磨及び洗浄された状態で入手が可能であり、石英ガラスに比べ表面が平滑性と洗浄度とが高い。さらに、シリコンウエハー基板は導電性を有するため、スタンパを作製する際に別途導電膜を形成する必要が無いため好適である。次に、図7Bに示すように、基板501上に形成された無機レジスト膜502に対し、DVD等の既存の露光装置等で用いられるような波長400nm程度のレーザ光504を、開口数NAが0.9程度の対物レンズ505で集光させることによって入力情報信号に基づいて露光を行い、所望の潜像パターン503を形成する。次に、図7Cに示すように、基板501上の無機レジスト膜502に形成された潜像パターン503に対し現像を行い、潜像パターン503を除去しレジストパターン506を形成する。ここで、現像の際に用いられる現像液としては、主としてアルカリ性の現像液を用いる。無機レジスト膜502としては、露光に使用するレーザ光504の波長における露光感度が高いタングステンWの酸化物が用いられる。タングステンWの酸化物の一種であるWO2は室温で安定であり、過熱することによりWO3となる。スパッタリング法で形成されたWO2はアモルファス構造であり、レーザ光504で露光されることにより加熱され結晶構造のWO3となることで、現像液に用いられるアルカリ溶液に可溶となる。次に、図7Dに示すように、基板501上に形成されたレジストパターン506をマスクとして、基板501の露出部をドライエッチングすることにより基板501に直接エッチングパターン507を形成する。エッチングガスとして、CF4、CHF3、C3F8、C4F8等のフルオロカーボン系ガスを用いることにより、レジストパターン504に対して基板501のエッチングレートを高くすることができ、選択比の大きなエッチングかできる。特に、基板501に石英ガラスを用いて、フロロカーボン系ガスとしてCHF3を用いたエッチングは、図7Dにおける下方向へのエッチングレートが、左右方向へのエッチングレート比べ大きな異方性エッチングを行うことができるため、円盤状の基板501のディスク半径方向におけるエッチングパターン507の断面形状は矩形に近い形となり、凹凸形状の側面は円盤状の基板501の板面に対して概ね直交した状態となる。更に、エッチングによって凹凸形状を形成するため、従来レジスト膜の膜厚で規定されていた凹凸形状の深さが、エッチング条件により制御可能であり、深い溝の形成も可能である。このエッチング工程で用いるフルオロカーボン系ガスに微量の水素ガスを添加することによりエッチングの際に生成されるラジカルポリマーの量を増やすことができ、凹凸構造の凹部120と凸部121で異なる表面粗さとすることが出来る。結果として、図7Dで示したエッチングパターン507の表面粗さを大きくすることができ、凹部120を凸部121よりも親水性のある表面粗さとすることが出来る。エッチング工程で添加する水素の量により表面粗さをコントロールすることができ、特に本実施例のように親水性のある表面粗さとする場合、10~20nm程の表面粗さが最適である。表面粗さが30nm以上となるとトラッキング信号および検出信号のノイズが増え測定精度に影響を与えてしまう。次に、図7Eに示すように、基板501上に形成されたレジストパターン506に対して、フロロカーボン系ガスを用いて、フロロカーボン系ガス雰囲気下で電圧を印加して等方的にレジストパターンのアッシングおよびトリミングを行い、レジストパターン506の除去、及び表面の粗度を低減し、入力情報信号に基づいたエッチングパターン507を有する円盤状の原盤508を得る。ここで、フロロカーボン系ガスとしては、CF4、CHF3、C3F8、C4F8等を用いる。特に、CF4は、等方性エッチングを行いやすいため、エッチングガスとして好適である。図7Fに示すように、円盤状の光ディスクの原盤508の凹凸形状が形成された面に対してスパッタリング法により厚さ50~200nmのNi膜を形成した後、電鋳法により、厚さ100~500μmのNiメッキ膜を形成することにより、原盤508に形成されているエッチングパターン507を転写して凸凹形状を有する円盤状のスタンパ509を作製する。スタンパ509に形成される凸凹形状は、原盤508に形成されているエッチングパターン507と凹凸が逆の関係になる。次に、図7gに示すように、凸凹形状を有する円盤状のスタンパ509を射出成型機図示せずに装着して、射出成型法により、内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かって入力情報信号に基づいたグルーブ107またはピット109が螺旋状に形成された凹凸形状を有する円盤状の試料分析用ディスク100を成形する。上記射出成形を繰り返すことにより、試料分析用ディスク100を大量に複製することができる。次に、本発明における試料分析用ディスク100を、本発明の製造方法に基づいて製造し、試料を分析した実施例について説明する。先ず、図7Aに示すように、表面研磨を施し洗浄及び乾燥を行った石英ガラスからなる基板501に対し、マグネトロンスパッ夕方式によりタングステンWの合金ターゲットを用いて、アルゴン44sccm、酸素6sccmを導入して反応性スパッタリングを行い、無機レジスト膜502として膜厚が50nmであるアモルファス構造の無機レジスト膜502を形成した。次に、図7Bに示すように、石英ガラス製の基板501上に形成されたアモルファス構造の無機レジスト膜502に対し、波長405nmの半導体レーザによるレーザ光504と、NA=0.90の対物レンズ505を有する回転一軸系の露光装置を用いて、線速度5.0m/sの速さで露光を行い、トラックピッチ320nmの等幅のグルーブ107とランド108が連続したパターンであるランドグルーブ形状の潜像パターン503を形成した。アモルファス構造の無機レジスト膜502の露光された潜像パターン503の領域は結晶状態に変化する。レーザ光504の発光パターンを制御することにより、ピット形状やランダム変調信号などランドグルーブ形状以外の任意の潜像パターン503を形成することができる。次に、図7Cに示すように、石英ガラス製の基板501上に形成された潜像パターン503に対し、現像をおこなった。現像は、アルカリ性であるテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド溶液濃度2.38wtを現像液として用い、潜像パターン503が形成された石英ガラス製の基板501を室温で20分間液侵して、潜像パターン503を除去することによりレジストパターン506を形成した。次に、図7Dに示すように、石英ガラス製の基板501上に形成されたレジストパターン506をマスクとして、CHF3と水素ガスの混合ガスを用いて、石英ガラス製の基板501の露出部に対してドライエッチングを行なった。混合ガスにおける水素ガスの混合比分圧は0.1とした。ドライエッチングは、異方性を高めるため4Paの雰囲気下で100Wの電力を6分間印加することにより行ない、石英ガラス製の基板501にラインアンドスペース形状のエッチングパターン507を形成した。エッチングパターン507は、深さ140nmであり、グルーブ半値幅は220nmであった。次に、図7Dに示すように、石英ガラス製の基板501上に形成されたエッチングパターン507に対し、CF4ガスを用いてアッシングをおこなった。アッシングは、CF4と02との混合比5:2のガスを用い15Paの雰囲気下で70Wの電力を印加することによって行い、レジストパターン506の除去を行う。これによって、図7Eに示すエッチングパターン507を有する原盤508が形成された。次に、図7Fに示すように、原盤508上にスパッタリング法により厚さ150nmのNi膜を形成した後、電鋳法により、厚さ300μmのNiメッキ膜を形成することにより、原盤508に形成されているエッチングパターン507を転写してスタンパ509を作製した。次に、図7Gに示すように、スタンパ509を射出成型機に装着して、射出成型法により、内周から外周に向かって、螺旋状のランドグルーブ形状が形成された試料分析用ディスク100を成形した。成形された試料分析用ディスク100の形状は、厚さは1.1mmであり、トラックピッチが320nm、深さ140nmで、グルーブ半値幅は220nmであった。また、原子間力顕微鏡AFMによりグルーブ107およびランド108の表面粗さを測定したところ、グルーブ107の表面粗さは約16nm、ランド108の表面粗さは約3nmであった。次に、上記実施例で作製された試料分析用ディスク100上に、抗体となるビオチンを10μLピペットで滴下させた。次に、濃度100μg/mLの直径140nmの標識用ビーズ110の表面にビオチンを修飾させ、さらにビオチンに特異的に反応するアビジンを修飾させた溶媒1μLを基板上の10μLビオチンを滴下した場所にピペットで滴下させ、基板上でサンドイッチ抗原-抗体反応を行った後、未反応の標識用ビーズ110を純水で洗い流し、その後基板表面を乾燥させた。この試料分析用ディスク100を線速度5.0m/s一定で回転させながら、波長405nmの半導体レーザ光を0.35mWで発光し、NAが0.85の対物レンズ3で基板表面に集光させ、反射して戻ってきた光を光検出部9における4分割フォトダイオードで受光し、フォトダイオードの各成分の信号を制御してスパイラル状のグルーブ107にトラッキングをかけながら総和信号を観察した。標識用ビーズ110の計測カウント数は、100トラック分の合計をカウントした。その結果、標識用ビーズ110のカウント数は45685個であった。検出信号の一部分が例えば図8のように計測することができ、標識用ビーズ110の1個に対応する信号が標識用ビーズ110の存在しない信号レベルに対し、十分低い信号レベルとして検出することができ、その周波数成分を解析した結果、確かに標識用ビーズ110の1個分の直径である140nmと一致した。図8は、標識用ビーズ110を検出したときの検出電圧を表した図であり、例えば検出信号が平坦な部分Aは、標識用ビーズ110が検出されていない箇所であり、Bのように部分的に低い値をとる箇所は、標識用ビーズ110が検出された箇所である。このように、標識用ビーズ110を検出した信号を明確に特定することができる。次に、高濃度から低濃度の標識用ビーズ110のカウント精度を確認するため、上記実施例で用いた標識用ビーズ110の表面にビオチンを修飾させ、さらにビオチンに特異的に反応するアビジンを修飾させた溶媒の濃度に対し、100倍、10倍、1倍、1/10倍、1/100倍、1/1000倍の6種類の濃度の溶媒を用いる以外は上記実施例と同様の方法で標識用ビーズ110の個数をカウントした結果を表1に示す。濃度に比例した計測結果が得られ、高濃度から低濃度まで非常に精度の高い計測結果が得られている。また、濃度1倍の結果が図8の計測結果とほぼ一致し、再現性も高いことが確認できた。次に、比較例1として標識用ビーズ110の直径が、グルーブ107の幅よりも大きい場合の例として、用いる標識用ビーズ110の直径を300nmとした以外は上記実施例と同様の方法で、標識用ビーズ110のカウントを行った。標識用ビーズ110の直径が大きく、隣接するトラックへのクロストーク成分の増加による影響により安定したトラッキングを取ることが困難で、標識用ビーズ110の個数をカウントすることができなかった。次に、比較例2として、標識用ビーズ110の直径が、グルーブ107の幅よりも小さい場合の例として、用いる標識用ビーズ110の直径を100nmとした以外は上記実施例と同様の方法で、標識用ビーズ110のカウントを行った。この場合、トラッキング信号は安定しており、標識用ビーズ110の個数をカウントすることができた。その結果を表2に示す。また、検出信号の一部分について、図9に示す。図9は、標識用ビーズ110を検出したときの検出電圧を表した図であり、例えば検出信号が平坦な部分Aは、標識用ビーズ110が検出されていない箇所であり、Bのように部分的に低い値をとる箇所は、標識用ビーズ110が検出された箇所であるが、Cのように不明瞭な信号も検出されている。これは、標識用ビーズ110が小さすぎるため、グルーブ107に対して複数の標識用ビーズ110が固定化されたり、グルーブ107の中心からオフセットした状態で標識用ビーズ110が固定化された結果によるもので、溶媒の濃度に比例した結果が得られず、高濃度から低濃度まで精度の高い結果を得ることはできなかった。次に、比較例3として、原盤作製工程でのエッチングガスをCHF3のみで行なうことによって、グルーブ107の表面粗さとランド108の表面粗さとをほぼ同一とした試料分析用ディスク100を作成し、同様に標識用ビーズ110を計測した。作製された試料分析用ディスク100は実施例1と同様の形状で、厚さは1.1mmであり、トラックピッチが320nm、深さ140nmで、グルーブ半値幅は220nmであった。原子間力顕微鏡AFMによりグルーブ107およびランド108の表面粗さを測定したところ、グルーブ107の表面粗さは約4nm、ランド108の表面粗さは約3nmであった。この試料分析用ディスク100用いて実施例と同様の方法で標識用ビーズ110のカウントを行なった結果を表3に示す。比較例3の結果としては、比較例2と同様に検出信号レベルが不均一であった。また、グルーブ107とランド108の表面粗さがほぼ同一であるため、グルーブ107だけでなくランド108にも標識用ビーズ110が載置されている。したがって、隣接するグルーブ107およびランド108によるクロストーク成分が増え、トラッキング信号が乱れる。さらに、標識用ビーズ110の存在しない信号レベルにとランド108に載置された標識用ビーズ110の信号レベルは区別がつかないため、実施例と比較すると、標識用ビーズ110の計測数は半分程度となってしまい、高濃度から低濃度までの試料の計測に対して、精度の高い結果を得ることは出来なかった。本発明の実施の形態は、その要旨を逸脱しない限り、様々に変更可能である。上記実施例においては、ビオチンとアビジンによる反応により低濃度から高濃度の免疫学的生体高分子の結合した標識用ビーズ110の個数をカウントした例を示したが、計測したい生体高分子の種類に応じて、例えばB型肝炎などの抗原とそれに対応する抗体を同様の形で用いることも可能である。さらに、抗原-抗体サンドイッチ法も同様に用いることが出来る。また、基板の面積的な制限の許す範囲で複数の種類の抗原-抗体反応をディスクの円周上のエリアを区分けして同時に行い、複数の種類の標識用ビーズ110のカウントを同時に計測することも可能である。また、用いられる抗原200、抗体210、標識用ビーズ110の種類と試料分析用ディスク100の表面における表面粗さや濡れ性などによっては、表紙起用ビーズ110と試料分析用ディスク100との密着性が悪く、抗原200や抗体210と反応した標識用ビーズ110が純水で洗い流されてしまい、濃度に比例した精度の高い検出が困難となる場合がある。このような場合、標識用ビーズ110の密着性を確保するため、試料分析用ディスク100の表面に薄膜を形成したり、シランカップリング剤の塗布やプラズマ処理などの表面処理を、基板表面上で抗原―抗体反応をさせる前に最適な条件化の下で実施することも可能である。また、隣接する凹部120と凸部121は、凹凸形状を構成する側面を共有しているが、この側面は凹部120または凸部121のいずれを構成するものとしてもよい。