シート形成方法であって、第1のシートの高さの第1の領域の中の融液の表面上で材料のシートを形成するように、前記材料の前記融液を冷却するステップと、前記シートを第2の領域へ平行移動させるステップであって、前記シートは前記第1のシートの高さより高い第2のシートの高さを有するステップと、前記シートを前記融液から分離するステップと、を含む、シート形成方法。前記材料は、シリコン又はシリコンとゲルマニウムである、請求項1に記載の方法。前記融液及び前記シートを流すステップを、さらに含む、請求項1に記載の方法。前記分離するステップ後に、流体力又は機械力のうちの少なくとも1つを用いて、前記第2のシートの高さで、前記シートを支持するステップを、さらに含む、請求項1に記載の方法。シート形成方法であって、種ウエーハを材料の融液に挿入するステップであって、前記融液は、前記融液を含む容器のエッジより高い第1の高さの表面を有するステップと、前記融液の中の前記種ウエーハを冷却プレートに近接する領域へ平行移動させるステップと、前記融液の前記表面を前記第1の高さより低い第2の高さへ下げるステップと、前記領域の中の前記種ウエーハを用いて、前記融液上で前記材料のシートを形成するステップと、前記シート及び前記種ウエーハを平行移動させるステップと、前記シートを前記融液から前記容器のエッジで分離するステップと、を含む、シート形成方法。前記材料は、シリコン又はシリコンとゲルマニウムである、請求項5に記載の方法。前記融液及び前記シートを流すステップを、さらに含む、請求項5に記載の方法。前記シートは、前記領域に近接の第1のシートの高さを有し、かつ、前記分離するステップ後に、前記第1のシートの高さより高い第2のシートの高さを有する、請求項5に記載の方法。前記分離するステップ後に、流体力又は機械力のうちの少なくとも1つを用いて、前記第2のシートの高さで、前記シートを支持するステップを、さらに含む、請求項8に記載の方法。シート形成方法であって、種ウエーハを材料の融液に挿入するステップであって、前記融液は、前記融液を含む容器のエッジ以下の第1の高さの表面を有するステップと、前記種ウエーハを冷却プレートに近接する領域へ平行移動させるステップと、前記種ウエーハを用いて、前記融液上で前記材料のシートを形成するステップであって、前記シートは前記領域に近接の第1のシートの高さを有するステップと、前記シート及び前記種ウエーハを平行移動させるステップと、前記シートを前記融液から分離するステップと、を含み、前記シートは、前記分離するステップ後に、前記第1のシートの高さより高い第2のシートの高さを有する、シート形成方法。前記材料は、シリコン又はシリコンとゲルマニウムである、請求項10に記載の方法。前記融液及び前記シートを流すステップを、さらに含む、請求項10に記載の方法。前記分離するステップ後に、流体力又は機械力のうちの少なくとも1つを用いて、前記第2のシートの高さで、前記シートを支持するステップを、さらに含む、請求項10に記載の方法。前記形成するステップ前に、前記表面を、前記第1の高さより高い第2の高さへ持ち上げるステップを、さらに含む、請求項10に記載の方法。前記種ウエーハを持ち上げるステップを、さらに含み、それによって前記シートを持ち上げる、請求項10に記載の方法。前記平行移動させるステップは、前記融液の中の前記種ウエーハを平行移動させるステップを、含む、請求項10に記載の方法。融液から物理的に引っ張り出したシリコンの水平なリボンをテストした。一方法では、ロッドに取り付けた種結晶を融液中に挿入し、ロッド及び得られるシートを、るつぼのエッジから低角度で引っ張る。角度、表面張力及び融解レベルは、融液がるつぼからこぼれないように、バランスを取る。しかしながら、そのような引っ張りプロセスを開始し、そして制御することは困難である。第一に、重力とるつぼのエッジに形成されるメニスカスの表面張力とのバランスを取るための、傾斜角度の調整は困難である。第二に、シートと融液との間の分離点でのリボンに沿う温度勾配は、冷却プレートが、この分離点に近い場合、結晶中に転位を生じさせる。第三に、融液上のシートの傾斜により、凍結先端部に応力をもたらし得る。この凍結先端部は、シートが最も薄く、最も壊れやすい所であるため、シート内に転位又は破損が生じ得る。第四に、低角度を得るために、複雑な引っ張り装置を必要とする。シートは、融液をこぼさずに、融液の表面から取り出さなければならない。従って、シートの下側と融液との間のメニスカスは、安定したままとするか又は容器に付着したままとしなければならない。これまでは、メニスカスの安定性を維持するために、メニスカスの融液側における圧力を低減させていた。一例では、ローアングルシリコンシートLowAngleSiliconSheetLASS方法は、シートを小さい角度に傾斜させて、融液上に引っ張りあげた。これは、融液内に大気圧に対し負圧を生成し、メニスカス間に圧力を与えた。別の例では、融液はスピルウェイspillwayのエッジを越えて流れ得る。スピルウェイのネイプnapeにおける流体の滴りは、メニスカスを安定させるように、融液内に負圧を与える。しかしながら、融液からシートを取り出す改善方法、特に、局所的な圧力で融液からシートを取り出す改善方法に対する技術のニーズがある。本発明の第1の態様によれば、シート形成方法が提供される。シート形成方法は、融液の表面上で材料のシートを形成するように、材料の融液を冷却するステップを含む。第1のシートの高さの第1の領域の中でシートを形成する。シートが第1のシートの高さより高い第2のシートの高さを有するように、シートを第2の領域へ平行移動させる。シートを融液から分離する。本発明の第2の態様により、シート形成方法を提供する。シート形成方法は、種ウエーハを材料の融液に挿入するステップを含む。融液は、融液を含む器のエッジより高い第1の高さの表面を有する。種ウエーハを融液の中で冷却プレートに近接する領域へ平行移動させる。融液の表面を第1の高さより低い第2の高さへ下げる。この領域の中の種ウエーハを用いて、融液上で材料のシートを形成する。シート及び種ウエーハを平行移動させ、シートを融液から容器のエッジで分離する。本発明の第3の態様により、シート形成方法を提供する。シート形成方法は、種ウエーハを材料の融液に挿入するステップを含む。融液は、融液を含む容器のエッジ以下の第1の高さの表面を有する。種ウエーハを冷却プレートに近接する領域へ平行移動させる。種ウエーハを用いて、融液上で材料のシートを形成する。シートはこの領域に近接の第1の高さを有する。シート及び種ウエーハを平行移動させ、シートを融液から分離する。シートは、分離するステップ後に、第1のシートの高さより高い第2のシートの高さを有する。本発明をより良く理解するために、以下に、添付の図面を参照して説明する。本装置及び方法の実施形態を太陽電池に関連して本明細書で説明する。しかしながら、これらは、また、例えば、集積回路、フラットパネル、LED又は当業者に既知の他の基板を製造するために、用いることができる。さらに、本明細書では、融液をシリコンとして説明するが、融液は、ゲルマニウム、シリコン及びゲルマニウム、ガリウム、窒化ガリウム、他の半導体材料又は当業者に既知の他の材料を含むことができる。従って、本発明は、以下に説明する特定の実施形態に限定されない。図1は、シートを融液から分離する装置の実施形態の側断面図である。シート形成装置21は、容器16を有する。容器16は、例えば、タングステン、窒化ホウ素、窒化アルミ二ウム、モリブデン、黒鉛、炭化ケイ素又は石英とすることができる。容器16は、融液10を収容できるように構成されている。この融液10は、シリコンとすることができる。シート13は融液10の上に形成される。一例では、シート13は、融液10内に、少なくとも部分的に浮かぶ。図1では、シート13は、融液10中に浮いているように例示してあるが、シート13は、融液10中に少なくとも部分的に沈むか、又は、融液10の表面に浮かんだりする。シート13が位置付けられる深さは、シート13と融液10との相対密度に部分的に基づく。一例では、シート13の僅か10が、融液10の表面から突き出る。融液10は、シート形成装置21内で循環させることができる。この容器16は、少なくとも1つの流路17を画定する。この流路17は融液10を保持するように構成され、融液10は流路17の第1の点18から第2の点19へ流れる。融液10は、例えば、圧力差、重力、ポンプ又は他の移送方法により、流すことができる。次に、融液10はスピルウェイ12を越えて流れる。このスピルウェイ12は、斜面、堰、出っ張り、小さな堰堤又は隅部とすることができるが、図1に例示の実施形態に限定されない。スピルウェイ12は、シート13を融液10から分離することを可能にする任意の形状とすることができる。特定の一実施形態では、容器16は、約1685Kより少し高い温度に維持することができる。シリコンの場合、1685Kは、凍結温度又は界面温度を表す。容器16の温度を融液10の凍結温度より少し高い温度に維持することにより、冷却プレート14は、放射冷却を利用して、融液10の上又は中におけるシート13の所望の凍結速度を得るように、機能することができる。この特定の実施形態の冷却プレート14は、単一のセグメント又はセクションから成るが、多数のセグメント又はセクションを含むこともできる。流路17の底部は、融液10の溶融温度以上で加熱し、界面における融液10に僅かな垂直温度勾配を生成して、構成上の過冷却や、シート13上にデンドライト又は分岐突起を形成するのを防ぐことができる。しかしながら、容器16は、融液10の溶融温度を超える任意の温度とすることができる。これにより、融液10が容器16の上で凝固するのを防ぐ。シート形成装置21は、このシート形成装置21を少なくとも部分的に又は全体的に包囲体内に入れることにより、融液10の凍結温度より少し高い温度に維持することができる。包囲体がシート形成装置21を融液10の凍結温度より上の温度に維持する場合には、シート形成装置21を加熱する必要性を回避する又は減らすことができ、包囲体の中又は周囲のヒーターは熱損失を補うことができる。この包囲体は、異方性伝導率で等温にすることができる。別の特定の実施形態では、ヒーターを包囲体の上又は中に配置しないで、むしろ、シート形成装置21の中に配置する。一例では、容器16の種々の領域は、ヒーターを容器16内に組み込み、マルチゾーン温度制御を用いることにより、種々の温度に加熱することができる。包囲体は、シート形成装置21が配置される環境を制御することができる。特定の実施形態では、包囲体は不活性ガスを含む。この不活性ガスは、融液10の凍結温度より高い温度に維持することができる。不活性ガスは、シート13の形成中に構成上の不安定性を引き起こし得る溶質が融液10中に加えられるのを減らすことができる。冷却プレート14は、シート13を融液10の上に形成し得るようにするように熱除去を可能にする。冷却プレート14は、この冷却プレート14の温度を融液10の凍結温度より低く下げた場合、シート13を融液10の上又は中で凍結させることができる。この冷却プレート14は、放射冷却を利用することができ、例えば、黒鉛、石英又は炭化ケイ素から作ることができる。シート13の形成の間に融液10への外乱を低減させて、シート13の欠陥を防ぐことができる。融液10の表面上のシート13又は融液10上に浮いているシート13を冷却することにより、比較的大きなシート13の引き出し速度を保ちながら、融解潜熱をゆっくりと広範囲にわたって取り出すことができる。シート13が融液10上に形成されたら、シート13をスピルウェイ12を用いて融液10から分離する。融液10は流路17の第1の点18から第2の点19へ流れる。シート13は融液10と一緒に流れる。このシート13の移送は連続動作とすることができる。一例では、シート13は、融液10が流れるのとほぼ同じ速度で流れる。従って、シート13は、融液10に対しては静止したままで、形成し、移送することができる。スピルウェイ12の形状又は配向は、融液10又はシート13の速度プロファイルを変えるために、変更することができる。融液10はスピルウェイ12の箇所でシート13から分離される。一実施形態では、融液10の流れは、融液10をスピルウェイ12を越えて移送し、またその流れの少なくとも一部が、シート13をスピルウェイ12を越えて移送させることができる。これは、外部応力がシート13に全くかからないため、シート13の破損を最小限にするが、又は、防ぐことができる。もちろん、シート13は、引っ張るか、又は、いくらかの外力を加えることもできる。この特定の実施形態では、融液10は、シート13から離れて、スピルウェイ12を越えて流れる。シート13への熱衝撃をなくすために、スピルウェイ12は冷却しないようにする。一実施形態では、スピルウェイ12での分離は、等温に近い状態で行う。一実施形態では、シート13は、スピルウェイ12を越えて真っすぐに進む傾向にある。このシート13は、破損を防ぐために、いくつかの例では、スピルウェイ12を越えて進んだ後に、支持するのがよい。もちろん、冷却プレート14の長さにわたる種々の冷却温度、融液10の種々の流速やシート13の引っ張り速度、シート形成装置21の様々な部分の長さ、又は、シート形成装置21内のタイミングは、プロセス制御のために用いることができる。融液10がシリコンである場合、シート13は、シート形成装置21を用いることにより、多結晶の又は単結晶のシートとなり得る。図1は、シート13を融液10から形成することができるシート形成装置の一例に過ぎない。シート13を水平に成長させる他の装置又は方法も可能である。本明細書で説明する実施形態は、任意のシート13を水平に成長させる装置又は方法に適用することができる。従って、本明細書で説明する実施形態は、図1の特定の実施形態だけに限定されない。例えば、図2は、シートを融液から分離する装置の第2の実施形態の側断面図である。シート形成装置31において、融液10は容器16内に収容されている。シート13は、冷却プレート14による形成後に、融液10から引っ張り出される。図2では水平であるが、シート13は、融液10に対してある角度を成すこともできる。図1~2の実施形態では、融液10は、例えばシート形成装置21又は31の側面の周りと云ったような、シート形成装置21又は31の周りを循環させることができる。もちろん、融液10は、シート13の形成プロセスの一部又は全ての期間中、静止させることもできる。本明細書に開示した実施形態は、融液の静水圧を低減し、メニスカスを安定させる。シートが融液において形成されるような領域で、シートを融液内に水平に保つ間に、シートの弾性及び浮力の両方の特性を安定化のために用いる。これは、シートを上向きに傾斜させるのとは対照的に、シートを水平に浮かせるため、LASSに対して有利であり、主要な成長エッジでの圧力を避ける。さらに、弾性力及び浮力を用いることにより、シート形成領域を、メニスカスの安定化領域の上流の距離と関係なく、最適化することを可能にする。この最適化は、冷却プレート又は任意の加熱システムのような熱環境を調整することを含む。最後に、弾性及び浮力を用いることにより、複雑な角度制御の必要性を避ける。本明細書に開示した実施形態は、融液の流れを必要としないか、又は、特定の時間だけに融液が流れるため、融液が流れる前に、初期結晶化が発生し得る。これは種結晶の種付けを簡単にする。さらに、融液の流れは、メニスカスの安定化と関係なく、調整することができる。複雑なガスジェット制御も避けられる。液体が気体と接触すると、メニスカス界面が形成される。この界面はヤング-ラプラス方程式に従う。二次元において、その方程式はの形になる。ここで、ΔPは界面間の圧力差、σは液体の表面張力、及び、Rは表面の曲率半径である。メニスカスの曲率半径は、メニスカスを表すラインの一次導関数及び二次導関数に関して表すことができる。図3は、シートをるつぼに接合するメニスカスの側断面図である。メニスカス27を間の圧力差は、重力ρgyによる融液10の静水圧に起因する。従って、ヤング-ラプラス方程式は、二階微分方程式になる。この微分方程式は、2つの境界条件を必要とする。メニスカス23は容器16の壁に留められ、従って、その位置はx=0に留まる。メニスカス23がシート13に付着するメニスカス23の他の端部では、メニスカス23は押さえつけられず、シート13と共に成す角度は、固体及び液体のシリコンと気体との間の表面エネルギーにより決定される。その融液と接触する固体シリコンの場合、接触角は、約11°とすることができる。従って、y0は、x=0及び他の端部での接触角に、特定される。容器16での最初の接触角及びシート13との接触点の位置は、次いで、微分方程式に対する解により決定される。図3は、右側のグラフに1つの解を示す。凸状の解は、11°の接触角を保持し、融液10が約1mmだけ容器16の壁の上にある間に、可能である。かりに融液10が容器16の壁の上に1mmより高かったなら、静水圧はメニスカス23を押し出し、接触角は>11°となり、メニスカス23は外側に動くであろう。これは、融液10が容器16のエッジを越えてあふれ出ることをもたらし得る。図4は、傾斜したシート用のメニスカス安定化の側断面図である。ここで、メニスカス23の凹形状は、大気圧Patmosに対しての負圧P1によりもたらされ、これは、シート13を持ち上げて、表面24のような融液10の表面に対して角度を成すことにより形成される。これは、シート13が、容器16の壁のエッジで、融液10の高さより低い高さのシート13の凝固最前部より高くなることを可能にする。しかしながら、この傾斜は、冷却プレート14により画定される凝固領域も持ち上げる。シート13の垂直位置は、引っ張り装置により制御することができる。冷却プレート14の位置及び長さは、少なくとも部分的に、角度及び高さにより決定される。この冷却プレート14は、容器16のエッジにごく接近している必要性が高い。図5は、融液の弾性及び浮力を用いるメニスカス安定化の側断面図である。弾性及び浮力により、シート13が、水平に引っ張られ、支持テーブル22により支持されることを可能にするが、支持テーブル22は、ガスベアリング又はガステーブルとすることができ、又は、ローラー又は当業者に既知の他の機構を有することができる。従って、支持テーブル22は、シート13を支持するために、流体力又は機械力を用いることができる。支持テーブル22は、表面24であり得る融液10の高さより上にあるが、シート13の融解の端部は、容器16内の融液10上に水平に維持される。シート13は、冷却プレート14に近接した第1の領域29で、第1のシートの高さ25を有し、融液10から分離後に、第1のシートの高さ25より高い第2のシートの高さ26を有する。この第2のシートの高さ26は他のどこかであり得るけれども、例えば、第2の領域30にあり得る。支持テーブル22は、シート13をこの第2のシートの高さ26で支持することができる。冷却プレート14の、容器16のエッジからの最小距離は、計算することができるが、表面24での融液10の高さに対する支持テーブル22の高さの制約は、避けることができる。この支持テーブル22は、一例では、上曲面又は部分的な上曲面を有し、メニスカス23の近くのシート13の曲率にマッチさせる。メニスカス23を安定させるために、負の静水圧を用いることができる。図6は、シリコン融液内のシリコンシートの側断面図である。シート13は融液10に接触する。図6に例示するシート13の右端は、y0水平点線により例示するで、少なくとも部分的に、融液10の表面の上に持ち上げられ、一方、シート13の左端は、自由であり、y0より下である。シート13の形状は、シート13への垂直力により決定され、垂直力は、重力の他に融液10の静水圧も含む。シート13が浮力点の上に持ち上げられる場合、部分的に浮力により、この静水圧は、上向きにかそれとも下向きにすることができる。シリコンの弾性は、シート13全体に沿う力により、シート13の形状が作用されるのを引き起こすことができる。この形状は、一例では、xの関数として垂直位置yで定義することができる。これは、ビーム偏向方程式により説明される。この方程式では、Mはビーム又はシート13に沿う曲げモーメントであり、Vはビーム又はシート13に沿うせん断であり、qはビーム又はシート13に沿う力N/mの分布であり、Izは慣性の重心モーメントであり、Eは固体内の弾性率である。xでのシート13の曲率は、xでの曲げモーメントに依存し、その曲げモーメントは、xとシート13の端との間のシート13への分散した力を積分することにより決定される。この力は浮力を含むため、各点すなわち、形状でのシート13の垂直位置は、その形状について解くために、知らなければならない。これは、反復法又は緩和法により達成することができる。シート13の形状の多項式表現ypolyxを用いて、このプロセスを最初に行うことにより、yintegxを、積分を用いて解くことができる。多項式係数を変化させることにより、ypolyxとyintegxとの間の差を最小にする値を見出すことができ、これが解を生み出す。図7は、浮力を含むビーム偏向方程式の数値解を例示する。図7は、解の収束の他にシート13の出来上がった形状も示す。この計算では、シート13は、左側で水平に支持される。曲げモーメントは浮力の効果を積分し、従って、シート13は、それの浮く高さで水平になる。シリコンの密度は2.53g/cm2とし、シリコンの弾性率は1.4E11Paとした。シリコンの弾性及びシリコン融液10の浮力を利用することにより、シート13が融液10の表面の上にある間に、十分な持ち上げ力で、シート13を、容器のエッジを越えて引っ張り、運ぶことができる。これは、負圧を生じ、メニスカスを安定させる。シート13の自由端は、冷却プレートの下のような融液10の表面の上を水平に浮かぶことができる。従って、シート13は、正味の垂直力なしで、形成することができ、転位を低減することができる。冷却プレートは、任意に長くすることもでき、特定の速度で水平に引っ張る間に、シート13をゆっくりと下へ成長させることができる。これは、シート13への圧力も低減し、転位の数も低減する。特定のシート13の厚さに対して、融液10の中の最小のシート13の長さを計算することができる。300μmのシート13の厚さに対して、シート13は、長さ約32cmとすべきである。200μmのシート13の厚さに対して、シート13は、長さ約24cmとすべきである。150μmのシート13の厚さに対して、シート13は、長さ約20cmとすべきである。100μmのシート13の厚さに対して、シート13は、長さ約16cmとすべきである。最小のシート13の長さは、容器のエッジを越える持ち上げ高さに比較的影響を受けない。持ち上げが高くなればなるほど、シート13を下へそらす静水圧力は、ますます大きくなる。図8は、最小のシートの長さが、持ち上げ高さに影響を受けないことを例示する。従って、このプロセスの実施形態は、自動修正式とすることができる。特定の実施形態では、シートが、融液の表面の下に押し込まれることなく、結晶化又は凝固の間に、融液の表面に浮かんでいるように、持ち上げ高さを計算する。図9は、弾性及び浮力を用いるシートの初期形成のための第1の実施形態を例示する図である。種ウエーハ27を挿入する前に、石英であり得る容器16は、容器16のエッジの少し上の高さまで融液10で満たされており、融液10のメサを形成している。図9Aでは、この表面24は第1の高さを有する。融液10により形成されるこのメサの高さは、流出を防ぐために、容器16のエッジの上約1mmより低くすることができる。図9Bでは、種ウエーハ27を融液10に挿入する。これは、種ウエーハ27の上及び下の両方にメニスカスを形成する。図9Cでは、融液10の高さが下げられる。この表面24は第1の高さより低い第2の高さを有する。種ウエーハ27は、冷却プレート14の近くの、又は、真下の領域に平行移動される。図9Dでは、冷却プレート14の温度を下げることにより、シート13を形成し始める。シート13は種ウエーハ27に付いている。図9Eに例示するように、シート13を引っ張る時に、シート13の弾性は、シート13を融液10上で上へ持ち上げる。図9Fでは、シート13を、融液10から引き離し、又は、融液10から分離する。負圧は、シート13が容器16の壁を通過した後でさえ、メニスカスを安定させる。図9Gでは、シート13を融液10から除去し続ける。融液10の高さは、定常状態でメニスカスの安定性を確保するために、さらに、低くすることができる。特定の実施形態では、融液10は、図9Gで例示する時点で流れ始めることができるが、融液10は他の時点で流れ始めることもできる。冷却プレート14と容器16の壁との間の最小距離が維持される場合、シート13が、冷却プレート14の下で水平に浮く性質を維持する間に、融液10の高さを、シート13を引っ張る間中、下げることができる。これは、メニスカスの安定化を確保するために行うことができる。図9の実施形態では、種ウエーハ27の挿入又は支持テーブル22の高さ及び角度は、シート13のための種付け及び引っ張りプロセスの間に、調整する必要はない。図10は、弾性及び浮力を用いるシートの初期形成のための第2の実施形態を例示する。図10Aでは、容器16は、容器16の壁の頂部以下の高さまで融液10で満たされており、これにより、融液を流出する危険を低減する。図10Aでは、表面24は第1の高さを有する。図10Bでは、種ウエーハ27は、融液10の上で片持ち梁のようにされ、冷却プレート14の下にある。種ウエーハ27の端部は、種ウエーハ27が融解温度より低く冷却される前に、冷却プレート14の先頭エッジで融液10の上にある。図10Cでは、融液10の高さを上げて、表面24は第1の高さより高い第2の高さを有する。融液10の高さは、種ウエーハ27をぬらすまで上げることができ、これにより、種ウエーハ27を押し下げる。図10Dでは、冷却プレート14の温度を融液10の融解温度より低く下げることにより、シート13を形成し始める。種ウエーハ27を、シート13と共に、平行移動させ始めることができる。図10Eに示すように、シート13を引っ張る時に、種ウエーハ27の弾性は、シート13を上へ持ち上げる。図10Fでは、シート13を、融液10から引き離し、又は、融液10から分離する。負圧は、シート13が容器16の壁を通過した後でさえ、メニスカスを安定させる。図10Gでは、シート13を融液10から除去し続ける。融液10の高さは、定常状態でメニスカスの安定性を確保するために、さらに、低くすることができる。特定の実施形態では、融液10は、図10Gで例示する時点で流れ始めることができるが、融液10は他の時点で流れ始めることもできる。種ウエーハ27の厚さが約0.7mm300mmのエレクトロニクスグレードのウエーハに対応し得るである場合、種ウエーハ27は、20cmにわたる片持ち梁の垂下1mm未満を有する。種ウエーハ27が、まだ、融液10に接触しない場合に、方程式は、以下の最大偏位を生じるために、閉じた形式で解くことができる。次いで、例えば、石英のプランジャーを融液に挿入することにより、又は、もっと多くのシリコンを加えることにより、融液10の高さを上げることにより、融液10は種ウエーハ27と接触する。一旦、種ウエーハ27がぬれると、融液10は種ウエーハ27の下に引き込まれ、容器16の壁に付着するメニスカスを形成する。種ウエーハ27は融液10の高さの上にあるため、メニスカスでは減圧がある。凹形状を形成することができ、メニスカスの安定化を生じることができる。一旦、シート13の引っ張り又は移送が始まると、結晶化を安定させるために、融液10内の流れを始めることができる。特定の実施形態では、融液10は、全ての時点で流れることができ、融液10の高さを上げた後に、種ウエーハ27の平行移動を始めることができる。図11は、弾性及び浮力を用いるシートの初期形成のための第3の実施形態を例示する。図11Aでは、容器16は、容器16のエッジ以下の高さまで融液10で満たされている。図11Aでは、表面24は第1の高さを有する。種ウエーハ27は、種ホルダー28により保持され、種ホルダー28は、種ウエーハ27を下げて融液10に入れることができ、種ウエーハ27を他の方向に平行移動することができる。この場合、種ウエーハ27は、他の長さが可能であるけれども、冷却プレート14と長さが大体同じだけである。図11Aでは、種ウエーハ27を冷却プレート14の下で動かし、そこで、種ウエーハ27は融液10の温度より下で冷える。図11Bでは、次いで、種ウエーハ27を下げて融液10に入れ、図11Cでは、種ウエーハ27の水平方向の引っ張り又は移動を開始する。シート13が形成され、種ウエーハ27に付く。一例では、シート13の形成に役立つため、種ウエーハ27が融液10に接触した後、冷却プレート14の温度を下げることができる。種ホルダー28又は種ウエーハ27が容器16の壁に達する前に、図11Dに示すように、種ホルダー28を持ち上げ、次いで、種ウエーハ27及びシート13を上へ持ち上げる。この持ち上げは、シート13の真下に減圧を生成し、種ウエーハ27及びシート13が容器16の壁を通り越す時に、容器16の壁に形成されたメニスカスを安定させる。図11Eに示すように、シート13を引っ張る時に、種ウエーハ27の弾性は、シート13を上へ持ち上げる。図11Fでは、シート13を、融液10から引き離し、又は、融液10から分離する。負圧は、シート13が容器16の壁を通過した後でさえ、メニスカスを安定させる。図11Gでは、シート13を融液10から除去し続ける。融液10の高さは、定常状態でメニスカスの安定性を確保するために、さらに、低くすることができる。特定の実施形態では、融液10は、図11Gで例示する時点で流れ始めることができるが、別の実施形態では、融液10は、図11のプロセスの間中、流れていることができる。図9~11は、図1に例示するように、スピルウェイspillwayを用いないのに、代替の実施形態は、このスピルウェイを用いることができる。このような場合、融液はスピルウェイを越えて流れるが、メニスカスは、種ウエーハ又はシートと共に、なお形成する。この方法の実施形態は、シートの厚さに依存して、容器のエッジと冷却プレートとの間の最小距離を必要とし得る。次いで、シリコンの弾性及び浮力は、冷却プレートの下の結晶化から容器の壁にわたるメニスカスの安定化を分離する。結晶化又は凝固が生じる領域は、融液からの分離が生じる領域から、分離することができる。両方の領域は、最適化された熱的特性を有することができ、又は、他に影響を与えることのない、異なる熱的条件を有することができる。例えば、一方の領域では、凝固温度を最適化することができ、他方の領域では、等温に保つことができる。これは、融液を流出しない可能性があり、シートを水平方向に引っ張り又は平行移動することも可能にする。シートを水平方向に引っ張り又は平行移動することは、シートの先頭エッジでの圧力を避ける。融液又はシートの種付け、引っ張り又は移送の間に、角度の調整は必要ではない。シートは、正味の垂直圧力なしで、冷却プレートの下で、水平に浮かんでいることができ、これは、シートの品質を向上し、結晶内の転位を低減する。融液の流れの速度は、シートの引っ張り又は移送の速度とは無関係にすることができ、これは、結晶の初期形成プロセスの間に、融液の流れをゼロに設定することができる。これは、種付けプロセスを簡単にする。本発明は、本明細書に記載した特定の実施形態による範囲に限定すべきではない。実際に、本明細書に記載した実施形態に加えて、本発明の他の様々な実施形態及び変更は、前述の記載及び添付図面から当業者には明らかであろう。従って、そのような他の実施形態及び変更は、本発明の範囲内に入ることを意図している。さらに、本発明は、特定の目的のため、特定の環境で、特定の実施のコンテキストで、本明細書に記載したけれども、当業者は、その有用性がそれらに限定されず、本発明が、任意の数の目的のため、任意の数の環境で、有用に実施することができることを理解するであろう。従って、以下に記載の特許請求の範囲は、本明細書に記載されているように、本発明の全容及び精神に鑑みて解釈すべきである。