"希土類含有添加物を水処理システム内に含まれる堆積物に接触させて、堆積物の除去、堆積物の堆積の抑制またはその両方を行う工程を備える方法。堆積物は水処理システムの構成要素に付着している請求項1に記載の方法。前記接触によって、表面に付着した堆積物の少なくとも一部が除去される請求項2に記載の方法。堆積物はストラバイトを含む請求項1に記載の方法。ストラバイトの少なくとも一部は水処理システムから除去される請求項4に記載の方法。堆積物は、水に懸濁されている堆積物粒子を含む請求項1に記載の方法。堆積物粒子は、平均の粒子サイズを有する請求項6に記載の方法。堆積物粒子の少なくとも一部は水処理システムから除去される請求項7に記載の方法。希土類含有添加物を堆積物に接触させることによって、平均粒子サイズの増加が実質的に抑制される請求項7に記載の方法。希土類含有添加物は、水溶性希土類含有組成物を含む請求項1に記載の方法。水溶性希土類含有組成物は、3価酸化状態と、4価酸化状態と、3価酸化状態及び4価酸化状態の混合した状態とのうちの1つを含む請求項10に記載の方法。水溶性希土類含有組成物は、3価酸化状態を有する希土類を含む請求項10に記載の方法。水溶性希土類含有組成物は、セリウムを含む請求項10に記載の方法。前記接触は、水処理システムにおいて発生し、希土類含有添加物を堆積物に接触させることによって含堆積物希土類組成物が形成され、前記方法は、含堆積物希土類組成物を水処理システムから除去する工程をさらに備える、請求項1に記載の方法。含堆積物希土類組成物は、実質的に水に不溶である請求項14に記載の方法。水処理システムにおいて、希土類含有添加物を堆積物に接触させて、含堆積物希土類組成物を形成するとともに、堆積物の水処理システムからの除去、水処理システムにおけるさらなる堆積物の形成の抑制またはその両方を行う工程を備える方法。堆積物は水処理システムの構成要素に付着している請求項16に記載の方法。前記接触によって、構成要素に付着した堆積物の少なくとも一部が除去される請求項17に記載の方法。堆積物はストラバイトを含み、含堆積物希土類物質はリン酸塩を含む、請求項16に記載の方法。ストラバイトが水処理システムの構成要素に付着しており、希土類含有添加物を堆積物に接触させることによって、ストラバイトの少なくとも一部が除去される請求項19に記載の方法。堆積物は、水に懸濁されている堆積物粒子を含む請求項16に記載の方法。堆積物粒子は、平均の粒子サイズを有する請求項21に記載の方法。希土類含有添加物を堆積物に接触させることによって、水処理システムから堆積物粒子の少なくとも一部が除去される請求項22に記載の方法。希土類含有添加物を堆積物に接触させることによって、平均の粒子サイズの増加が実質的に抑制される請求項22に記載の方法。希土類含有添加物は、水溶性希土類含有組成物を含む請求項16に記載の方法。水溶性希土類含有組成物は、3価酸化状態と、4価酸化状態と、3価酸化状態及び4価酸化状態の混合した状態とのうちの1つを有する希土類を含む請求項25に記載の方法。水溶性希土類含有組成物は、3価酸化状態を有する希土類を含む請求項25に記載の方法。水溶性希土類含有組成物は、セリウムを含む請求項25に記載の方法。含堆積物希土類組成物を水処理システムから除去する工程をさらに備える、請求項16に記載の方法。含堆積物希土類組成物は、実質的に水に不溶である請求項16に記載の方法。ストラバイトを含む水処理システムを希土類含有添加物に接触させて、ストラバイトの成分を含む希土類組成物を形成するとともに、水処理システムからのストラバイトの除去、水処理システムにおけるさらなるストラバイトの形成の抑制またはその両方を行う工程を備える方法。ストラバイトは水処理システムの構成要素に付着している請求項31に記載の方法。前記接触によって、水処理システムの構成要素に付着したストラバイトの少なくとも一部が除去される請求項32に記載の方法。ストラバイトの成分はリン酸塩である請求項31に記載の方法。ストラバイトは、水に懸濁されている堆積物粒子を含む請求項31に記載の方法。ストラバイト粒子は、平均の粒子サイズを有する請求項35に記載の方法。ストラバイト粒子の少なくとも一部は水処理システムから除去される請求項36に記載の方法。前記接触によって、平均の粒子サイズの増加が実質的に抑制される請求項36に記載の方法。希土類含有添加物は、水溶性希土類含有組成物である請求項31に記載の方法。水溶性希土類含有組成物は、3価酸化状態、4価酸化状態、又は3価酸化状態及び4価酸化状態の混合した状態を有する希土類を含む請求項39に記載の方法。水溶性希土類含有組成物は、3価酸化状態を有する希土類を含む請求項39に記載の方法。水溶性希土類含有組成物は、セリウムを含む請求項39に記載の方法。ストラバイトの成分を含む希土類組成物を水処理システムから除去する工程をさらに備える、請求項31に記載の方法。ストラバイトの成分を含む希土類含有組成物は、実質的に水に不溶である請求項31に記載の方法。a水処理システムの構成要素に堆積物が付着している含堆積物水処理システムと、b希土類含有添加物を収容する入力部であって、希土類含有添加物を堆積物に接触させて、含堆積物希土類組成物を形成し、水処理システムの構成要素に付着した堆積物を実質的に除去する、入力部と、c含堆積物希土類組成物を排出し、含堆積物付着した堆積物が実質的にない、無堆積物水処理システムを形成する動作部と、を含むシステム。堆積物の形成を減少させるための水及び/又は水処理システムの処理方法が求められる。このようなニーズ及びその他のニーズは、本開示の様々な実施形態及び構成によって取り組まれている。本開示は、一般的に水及び/又は水処理システムの堆積及び/又はスケール傾向を減らすための水及び/又は水処理システムの処理方法に関する。より具体的に、本開示は、水及び/又は水処理システムの堆積及び/又はスケール傾向を減少させるために、水及び/又は水処理システムを1つ以上の希土類で処理する方法に関する。一部の実施形態は方法に関する。前記方法は、希土類含有添加物を水処理システム内に含有された堆積物に接触させて堆積物を除去すること、及び/又は堆積物の堆積を抑制することを含む。希土類含有添加物の接触は、水処理システムにおいて発生するのが好ましい。また、希土類含有添加物を堆積物に接触させて、含堆積物希土類の組成物を形成する。好ましくは、前記方法は更に、前記水処理システムから含堆積物希土類の組成物を除去するステップを含む。一部の実施形態は、水処理システムにおいて希土類含有添加物を堆積物に接触させて、含堆積物希土類の組成物を形成し、水処理システムから堆積物を除去こと及び/又は水処理システムにおける堆積物の形成を抑制することを含む。好ましくは、一部の実施形態は、水処理システムから含堆積物希土類の組成物を除去することを含む。好ましくは、堆積物は、水処理システムの構成要素に付着する、及び/又は水において懸濁された堆積物粒子の形態である。より好ましくは、堆積物は、ストラバイトである。希土類含有添加物によって、好ましくは希土類含有添加物を堆積物に接触させることによって、水処理システムから少なくとも一部のストラバイトが除去される。堆積物粒子について、堆積物粒子は、平均粒子サイズを有する。希土類含有添加物を堆積物に接触させ、実質的に平均粒子サイズの増加を抑制させるのが好ましい。より好ましくは、希土類含有添加物を堆積物に接触させ、水処理システムから少なくとも一部の堆積物粒子を除去する。水処理システムの構成要素に付着した堆積物について、希土類含有添加物を堆積物に接触させ、水処理システムの構成要素に付着した少なくとも一部の堆積物を除去するのが好ましい。含堆積物希土類の組成物について、含堆積物希土類の組成物は、リン酸塩を含むのが好ましい。含堆積物希土類の組成物は、実質的に水において不溶性である。一部の実施形態は、ストラバイトを含んだ水処理システムを希土類含有添加物に接触させ、ストラバイトの成分を含んだ希土類の組成物を形成して、水処理システムからストラバイトを除去する及び/又は水処理システム内で多くのストラバイトの形成を抑制する。好ましくは、ストラバイトは、水処理システムの構成要素に付着する及び/又は水において懸濁された粒子の形態である。ストラバイト粒子は、平均粒子サイズを有する。希土類含有添加物をストラバイトの成分に接触させ、実質的に平均粒子サイズの増加を抑制するのが好ましく、より好ましくは、水処理システムからストラバイト粒子の少なくとも一部を除去する。水処理システムの構成要素に付着したストラバイトについて、希土類含有添加物をストラバイトの成分に接触させることによって、水処理システムの構成要素に付着した少なくとも一部のストラバイトを除去する。ストラバイトの成分を含んだ希土類の組成物は、実質的に水において不溶性である。好ましくは、水処理システムからストラバイトの成分を含んだ希土類の組成物を除去することを含む。一部の実施形態はシステムを含む。前記システムは、含堆積物水処理システムであって、水処理システムの構成要素に付着した堆積物を含む含堆積物水処理システムと、希土類含有添加物を収容する入力部と、及び含堆積物希土類の組成物を排出し、堆積物が実質的に付着していない、無堆積物水処理システムを形成する動作部とを含む。好ましくは、希土類含有添加物は、堆積物に接触され、含堆積物希土類の組成物を形成して、水処理システムの構成要素に付着した堆積物を実質的に除去する。一部の実施形態において、希土類含有添加物は、水溶性希土類含有の組成物を含む。希土類含有及び/又は水溶性希土類含有の組成物は、好ましくは3価酸化状態、4価酸化状態、又は3価と4価酸化状態の混合物を有する希土類のうち1つを含む。好ましくは、希土類含有及び/又は水溶性希土類含有の組成物はセリウムを含む。水とは、任意の水性組成物を意味する。水は、任意の天然及び/又は産業的水源から発生し得る。このような水の非限定的な例は、飲用水、携帯用水、レクリエーション用水、製造工程から誘導された水、廃水、プール水、温泉水、冷却水、ボイラ用水、処理用水、都市用水、汚水、農業用水、地下水、発電所用水、修復用水、混合用水、及びこれらの組み合わせである。水処理システムは、水性組成物を含有、運搬、操作、物理的に変形、化学的に処理、機械的に処理、浄化、生成、及び形成する、水性組成物を1つ以上の水で処理、混合及び/又は共混合する任意のシステム、及びこれらの組み合わせを意味する。水及び水処理システムは、置き換え可能に用いられる。すなわち、水は水処理システムを意味するために用いられ、水処理システムは水を意味するために用いられ得る。堆積及び/又は堆積物は、水処理システムに結合された物質例えば、水処理システムの1つ以上の構成要素に付着したスケール、及び/又は水に含有された物質例えば、懸濁又は溶解された物質を意味する。本願において、スケール及び堆積は交互に用いられる。ストラバイトは、堆積物の非限定的な例である。また、ストラバイトの非限定的な例について、前記堆積及び堆積物は、水処理システムの構成要素に付着したスケール例えば、ストラバイトNH4MgPO4スケール、水において懸濁された粒子例えば、懸濁されたストラバイト粒子、及び水において溶解された状態の堆積物例えば、分解され、溶解されたアンモニウムNH4、マグネシウムMg2、及びリン酸塩PO43-イオン形態の溶解された状態のストラバイトのうち1つ以上を意味する。さらに、堆積物は、無機物、鉱物、有機物、生体物質、又はこれらの組み合わせであってよい。生体物質を含有した堆積物は、制限ではなく、バクテリア、藻類、真菌、カビ、ウイルス、及びその他の微生物が挙げられる。無機物、有機物、及び鉱物堆積物の非限定的な例は、一般的に、ヒ酸塩、亜ヒ酸塩、硫酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩、リン酸水素バリウムBaHPO4、ピロリン酸バリウムBa2P2O7、リン酸ビスマスBiPO4、リン酸カドミウムCd3PO42、リン酸一カルシウムCaH2PO42、リン酸二カルシウムCaHPO4、リン酸カルシウムCa3PO42、リン酸水素鉛PbHPO4、リン酸リチウムLi3PO4、リン酸マグネシウムMg3PO42、リン酸ニッケルNi2P2O7、リン酸タリウムTl3PO4、ヒ酸バリウムBa3ASO42、ヒ酸ビスマスBiAsO4、ヒ酸カドミウムCd3AsO42、ヒ酸カルシウムCa3AsO42、ヒ酸鉄FeAsO4、ストラバイトNH4MgPO4、及びこれらの組み合わせを含む。水処理システム構成要素は、水を処理及び/又は取り扱う1つ以上のユニット操作及び/又は装置の一部例えば、貯蔵タンク、反応器、清浄器、処理容器又はユニット、混合容器又は素子、洗浄回路、析出容器、分離容器又はユニット、堆積槽又は容器、貯蔵所、ポンプ、通気装置、冷却塔、熱交換器、価値、ボイラ、濾過装置、固液及び/又は気液分離器、ノズル、テンダーなど、前記ユニット操作及び/又は装置を相互接続した導管例えば、配管、ホース、導水管、送水路、排水路など、及び導管によって運搬された水を意味する。スケール傾向は、堆積を形成する、一般的に、水において懸濁されたスケール及び/又は粒子を形成する水の特徴及び/又は潜在力を意味する。アルカリ土類及び/又は2族金属は、ベリリウムBe、マグネシウムMg、カルシウムCa、ストロンチウムSr、バリウムBa、及びラジウムRaのうち1つ以上を意味する。ニクトゲン及び/又は15族は、窒素N、リンP、ヒ素As、アンチモンSb、及びビスマスBiのうち1つ以上を意味する。ハロゲンは、IUPAC周期律表17族以前はVII、VIIAのうちの非金属元素であり、フッ素F、塩素Cl、臭素Br、ヨウ素I、及びアスタチンAtを含む。暫定的に系統名でウンウンセプチウムと呼ばれていた人工的に形成された元素番号117は、ハロゲンであってもよい。ハロゲン化物化合物は、化合物の一部に、少なくとも1つのハロゲン原子を有し、化合物の他の部分に、ハロゲンよりも小さな電気陰性又は大きな電気陽性である元素又はラジカルを有する化合物である。ハロゲン化物化合物は、一般的に、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、又はアスタチン化物化合物である。多数の塩は、ハロゲン化物アニオンを有するハロゲン化物である。ハロゲン化物アニオンは、負電荷を帯びるハロゲン原子である。ハロゲン化物アニオンは、フッ化物F-、塩化物Cl-、臭化物Br-、ヨウ化物I-、及びアスタチン化物Ar-である。吸収は、吸着と区別され、1つの物質が内部構造へ浸透することを意味する。吸着は、原子、イオン、分子、多原子イオン、又はその他の気体若しくは液体物質の、吸着剤と呼ばれる別の物質表面に対する付着を意味する。一般的に、吸着引力は、共有結合などのイオン力、又はファンデルワールス力及び/又はロンドン力などの静電気力であってよい。収着sorbは、吸着、吸収、又は吸着と吸収の両方を意味する。組成物は、1つ以上の原子からなる1つ以上の化学ユニット、例えば、分子、多原子イオン、化学的化合物、配位錯体、配位化合物などを意味する。理解されるように、組成物は、多様な形態の結合及び/又は力、例えば、共有結合、金属結合、配位結合、イオン結合、水素結合、静電気力例えば、ファンデルワールス力及びロンドン力などによって保持できる。懸濁液は、液体連続相において分散した粒子形態の異質的な固体の混合物を意味する。懸濁液において固体粒子を連続した液相に分散させる。コロイドは、一般に重力によって連続した液相から堆積されない固体粒子を含む懸濁液を意味する。下記において用いられているように、懸濁液、コロイド、又はスラリーは、連続液相において分散及び/又は懸濁された1つ以上の物質を意味するために置き換え可能に用いられる。凝集及び集合は、1つ以上の物質を塊に集合させることによって形成された組成物を意味する。バインダは、凝集した物質を結合させる1つ以上の物質を意味する。結合剤は、一般的に、固体、半固体、又は液体である。バインダの非限定的な例は、ポリマー材料、タール、ピッチ、アスファルト、ワックス、セメント、水、溶液、分散液、粉末、ケイ酸塩、ゲル、オイル、アルコール、粘土、澱粉、ケイ酸塩、酸、糖液、ライム、及びリグノスルホン酸オイル、炭化水素、グリセリン、ステアレート、ポリマー、ワックス、又はこれらの組み合わせが挙げられる。バインダは、凝集した物質と化学的に反応することもあれば、反応しないこともある。化学反応の非限定的な例は、水素化/脱水素化、金属イオン反応、析出/ゲル化反応、及び表面電荷改質が挙げられる。不溶性は、水に存在及び/又は残留し、装置、例えばカラムに保有することができるか、又は物理的手段、例えば、濾過を用いてバッチ反応から容易に回収される物質を意味する。不溶性物質は、数週若しくは数ヶ月にかけて質量損失なく、水に持続した露出が可能でなければならない。一般的に、質量のわずかな損失とは、水に持続して露出された後に、不溶性物質の約5質量損失未満を意味する。酸化剤は、物質から1つ以上の電子を移動する及び/又は電子の除去を助ける化学的物質及び/又は物理的処理を意味する。除去される1つ以上の電子を有する物質が酸化される。物理的処理について、物理的な処理が酸化される物質から1つ以上の電子を除去する及び/又は電子の除去を助けることができる。例えば、電磁エネルギーと酸化される物質との相互作用が実質的に酸化される物質から1つ以上の電子を除去するのに十分な場合、酸化される物質は、電磁エネルギーによって酸化され得る。一方、電磁エネルギーと酸化される物質との相互作用が、1つ以上の電子を除去するのに十分ではないが、電子を高エネルギー状態に励起するのに十分である場合もあり、その場合、励起状態の電子は、化学物質、熱エネルギーなどのうち1つ以上によって容易に除去され得る。オキシアニオン及び/又はオキソアニオンは、一般式AxOyz-の化学的化合物であるAは酸素以外の化学元素を示し、Oは酸素元素を示し、x、y及びzは実数を示す。化学汚染物としてオキシアニオンを有する実施形態において、Aは、金属、メタロイド、及び/又は非金属元素を示す。金属系オキシアニオンとしては、クロム酸塩、タングステン酸塩、モリブデン酸塩、アルミン酸塩、ジルコン酸塩などが挙げられる。メタロイド系オキシアニオンとしては、ヒ酸塩、亜ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ゲルマニウム酸塩、ケイ酸塩などが挙げられる。非金属系オキシアニオンとしては、リン酸塩、セレン酸塩、硫酸塩などが挙げられる。リン酸塩とは、PO4リン酸塩構造単位単独で形成された、又は線状鎖又は環状環構造を形成するために酸素原子を共有することによって共に結合された、リン含有オキシアニオンを意味する。リン酸の非限定的な例は、PO43-リン酸塩と、P3O105-三リン酸塩と、PnO3nn2-ポリリン酸塩と、P3O93-環状トリメタリン酸塩と、アデノシン二リン酸ADPHと、グアノシン5’-二リン酸3’-二リン酸ppGppと、トリメタリン酸塩と、ヘキサメタリン酸塩と、HPO32-リン酸塩と、H2P2O52-ピロ亜リン酸塩と、H2PO2-次亜リン酸塩と、これらの塩、酸、エステル、アニオン及び有機リン酸形態の1つ以上と、これらの混合物が挙げられる。析出は、不溶性種の形態の堆積物の除去だけではなく、希土類含有集合体、希土類組成物、希土類含有粒子及び/又は希土類含有添加物及び/又は、希土類組成物、添加物及び/又は粒子を含んだ希土類上若しくはその内部における堆積物の不動化を意味する。例えば、析出は、希土類含有集合体、希土類組成物、希土類含有粒子、希土類含有添加物及び/又は、希土類組成物、添加物及び/又は粒子などを含んだ希土類による堆積物の吸着及び吸収などの工程を含む。希土類は、イットリウム、スカンジウム、ランタン、セリウム、プラセオジミウム、ネオジミウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、及びルテチウムのうち1つ以上を意味する。理解されるように、ランタン、セリウム、プラセオジミウム、ネオジミウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、及びルテチウムはランタノイドとして公知である。希土類含有組成物、希土類含有添加物、及び希土類含有粒子は、非組成的に変更された希土類含有鉱物以外の希土類を含んだ任意の組成物を意味する。すなわち、本願において、希土類含有組成物、希土類含有添加物、及び希土類含有粒子は、粉砕された自然発生の希土類含有鉱物を除く。しかし、本願において、希土類含有組成物、希土類含有添加物、及び希土類含有粒子は、鉱物の希土類含有部分の化学組成及び/又は化学構造が組成的に変更された希土類含有鉱物を含む。より具体的に、粉砕された自然発生のバストネサイトは、希土類含有組成物及び/又は希土類含有添加物としてみなされない。しかし、自然発生のバストネサイトの化学的変形によって製造された希土類含有組成物又は合成的に製造されたバストネサイトは、希土類含有組成物及び/又は希土類含有添加物としてみなされる。一適用において、希土類及び/又は希土類含有組成物及び/又は添加物は、自然発生の鉱物ではなく、合成的に製造されたものである。例示の自然発生の希土類含有鉱物は、バストネサイト炭酸塩-フッ化鉱物及びモナザイトを含む。他の自然発生の希土類含有鉱物は、エシナイト、褐簾石、アパタイト、ブリトライト、ブルッカイト、セライト、フッ素化セライト、ホタル石、ガドリン石、パリサイト、スティルウェライト、シンチサイト、チタン石、ゼノタイム、ジルコン、及びジルコノライトが挙げられる。例示のウラン鉱物は、閃ウラン鉱UO2、ピッチブレンド混合酸化物、一般的にU3O8、ブランネル石ウラン、希土類、鉄、及びチタンの複合酸化物、コフィン石ウランケイ酸塩、カルノー石、リン灰ウラン石、デービド鉱、ゴム石、リンドウウラン石、及びウラノフェンが挙げられる。一形態において、希土類含有組成物は実質的に、周期律表1、2、4-15、又は17族の1つ以上の元素、放射性種、例えば、ウラン、硫黄、セレン、テルル、及びポロニウムが含まれない。希土類及び希土類含有組成物は、1つの形態と複数の形態との両方を意味する。より具体的に、希土類は、1つの希土類及び/又は複数の希土類の組み合わせ及び/又は混合物を意味し、希土類含有組成物は、1つの希土類を含んだ1つの組成物及び/又は、1つ以上の希土類を含む数個の希土類含有組成物及び/又は1つ以上の希土類を含んだ1つの組成物の混合物を意味する。化学的変形は、化学反応によって物質の少なくとも一部の化学的組成を変形させる方法を意味する。化学的変形は物理的変形とは異なる。物理的変形は、化学的組成を化学的に変形させる方法ではなく、粒子サイズ又は形状といった物理的特性を変形させる方法を意味する。溶解性は流体、例えば、水又はその他の溶媒において容易に溶解する物質を意味する。本開示の目的で、溶解性物質の溶解は、必ず数日でなく数分の時間の尺度で発生すると予想される。溶解性物質としてみなされる物質については、物質/組成物は、物質が5g/L以上溶解され、安定した流体において有意に高い溶解性を有する必要がある。除去、除去する、又は除去することは、水及び/又は水処理システムにおいて含有された堆積物の収着、析出、転換、及びこれらの組み合わせを含む。流体は、液体、気体、又は両方を意味する。表面積は、任意の適した表面積測定法によって決定された物質及び/又は基質の表面積を意味する。好ましくは、表面積は、物質及び/又は基質の特定の面積を決定するために、任意の適したBETBrunauer-Emmett-Teller分析法によって決定される。細孔容積及び細孔サイズは、各々任意の適した測定法によって決定された細孔容積及び細孔サイズを意味する。好ましくは、細孔サイズ及び細孔容積は、細孔サイズ及び容積を決定するための任意の適したバレットジョイナーハレンダ法によって決定される。また、本願において、細孔サイズ及び細孔径は、置き換え可能に用いられ得ることが分かる。水において含有されたは、水内において懸濁及び/又は溶解された物質を意味する。懸濁された物質は、実質的に水において不溶性であり、溶解された物質は、実質的に水において溶解性である。水は、一般的に溶解された物質にとって溶媒である。また、水は、一般的に不溶性物質にとっては溶媒ではない。懸濁された物質は、粒子サイズを有する。本願において、a又はanの個体は、1つ以上の個体を意味する。このように、a又はan、1つ以上、及び少なくとも1つは、本願において置き換え可能に用いられ得る。また、含む、含有する、及び有するも同様に、置き換え可能に用いられ得ることに留意しなければならない。本願において、少なくとも1つ、1つ以上、及び及び/又はは、実施において接続的で選言的な開放表現である。例えば、A、B及びCの少なくとも1つ、A、B又はCの少なくとも1つ、A、B及びCのうち1つ以上、A、B又はCのうち1つ以上、及びA、B及び/又はCという表現は、Aのみ、Bのみ、Cのみ、AとBとの組み合わせ、AとCとの組み合わせ、BとCとの組み合わせ、又はA、B及びCの組み合わせを意味する。上記内容は、本開示の簡単な要約であって、本開示の一部の形態の理解をもたらすものである。本要約は、本開示及びその様々な実施形態の広範な又は包括的な概説ではない。本開示の核心又は主要素を確認する、あるいは本開示の範囲を詳述するものではなく、下記に示したより詳細な説明に対する導入として、本開示の選択的な概念を簡単に示したものである。理解されるように、本開示のその他の実施形態は、上述又は後述する1つ以上の特徴を単独又は組み合わせて用いることができる。[概要]本開示は、水溶性及び不溶性希土類及び希土類含有添加物を用いて、水及び/又は水処理システムから堆積物の堆積を除去及び/又は抑制し、すなわち、水のスケール傾向を減少させることに関する。堆積物は、水処理システムにおいて1つ以上の構成要素に付着したスケール、水において懸濁された粒子、及び堆積物の溶解形態のうち1つ以上である。堆積物の溶解形態は、堆積物を含む分解された溶解イオン成分を含むことができる。堆積物の溶解イオン成分は、一般的に1つ以上のアニオン成分及び1つ以上のカチオン成分を含む。好ましくは、1つ以上のアニオン成分のうち少なくとも1つは、オキシアニオンを含む。一構成において、堆積物はストラバイトである。ストラバイトは、水処理システムの1つ以上の構成要素に付着したストラバイトスケール、水において懸濁されたストラバイト粒子、及び/又は水において溶解されたストラバイト形態であってよい。溶解されたストラバイトは、アンモニウムカチオンNH4、マグネシウムカチオンMg2、及びリン酸アニオンPO43-を含む。ストラバイトスケール及び/又は粒子は、実質的に不溶性NH4MgSO4を含む。アンモニウム、マグネシウム、及びリン酸塩のモル比は、1:1:1モル比であってもよく、1:1:1モル比でなくてもよい。[堆積物]堆積物は、フッ化物、亜ヒ酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩、ニクトゲン15族オキシアニオン、ケイ酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ベリリウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、及びマグネシウムのうち1つ以上を含む。堆積物は、水処理システムの1つ以上の構成要素に付着したスケール、水連続相において懸濁された固体、実質的に分解された溶解状態のイオン、又はこれらの組み合わせの形態であってよい。堆積物の形態は、温度、圧力、pH値、気体含有量、及び水の流れ特性によって異なることがある。同様に、堆積物の形態は、水処理の条件、例えば温度、温度変化率、蒸発率、圧力変化圧力増加率又は減少率を含む、異なる構成成分を有する水の混合度、流速、水に施された処理による水構成成分の変化、又はその任意の組み合わせによって異なるが、これらに限定されない。堆積物の非限定的な例は、ヒ酸塩例えば、H2AsO41-、HAsO42-、AsO43-、亜ヒ酸塩例えば、H2AsO31-、HAsO32-、及びAsO33-、硫酸塩例えば、HSO4-及び/又はSO42-、炭酸塩例えば、HCO31-及び/又はCO32-、シュウ酸塩例えば、HCOO21-及び/又はCOO22-、ケイ酸塩例えば、H3SiO41-、H2SiO42-、HSiO43-、SiO44-Si2O76-、SinO3n2n-、Si4nO11n6n-、及びSi2nO5n2n-アニオン、ここで、nは正の実数である、及びリン酸塩例えばH2PO41-、HPO42-、及びPO43-である。ヒ酸塩堆積物は、バリウム、ビスマス、カドミウム、カルシウム、鉄、コバルト、銅、銀、ストロンチウム、亜鉛、鉛、水銀、ニッケル、ベリリウム、タリウム、マグネシウム、アルミニウム、及びマンガンの少なくとも1つに結合された、及び/又は溶液相のH2AsO41-、HAsO42-、AsO43-アニオンを含むことができる。亜ヒ酸塩堆積物は、バリウム、ビスマス、カドミウム、カルシウム、鉄、コバルト、銅、銀、ストロンチウム、鉛、水銀、ニッケル、ベリリウム、タリウム、亜鉛、マグネシウム、アルミニウム、及びマンガンの少なくとも1つに結合された、及び/又は溶液相のH2AsO31-、HAsO32-及びAsO33-アニオンを含むことができる。硫酸塩堆積物は、バリウム、ビスマス、カドミウム、カルシウム、鉄、コバルト、銅、銀、ストロンチウム、亜鉛、鉛、水銀、ニッケル、ベリリウム、タリウム、マグネシウム、アルミニウム、及びマンガンの少なくとも1つに結合された、及び/又は溶液相のHSO4-及び/又はSO42-アニオンを含むことができる。炭酸塩堆積物は、バリウム、ビスマス、カドミウム、カルシウム、鉄、コバルト、銅、銀、ストロンチウム、亜鉛、鉛、水銀、ニッケル、ベリリウム、タリウム、マグネシウム、アルミニウム、及びマンガンの少なくとも1つに結合された、及び/又は溶液相のHCO31-及び/又はCO32-アニオンを含むことができる。シュウ酸塩堆積物は、バリウム、ビスマス、カドミウム、カルシウム、鉄、コバルト、銅、銀、ストロンチウム、鉛、水銀、ニッケル、ベリリウム、タリウム、亜鉛、マグネシウム、アルミニウム、及びマンガンの少なくとも1つに結合された、及び/又は溶液相のHCOO21-及び/又はCOO22-アニオンを含むことができる。ケイ酸塩堆積物は、蛇紋石、錐輝石、ガイロライト、ゲーレナイト、ケイ酸塩、石英、クリストバライト、曹灰針石、ゾノトライト、アルミノケイ酸塩、方沸石、カンクリナイト、ネオライトのうち1つとして、及び/又は溶液相のH3SiO41-、H2SiO42-、HSiO43-、SiO44-、Si2O76-、SinO3n2n-、Si4nO11n6n-、及びSi2nO5n2n-アニオンを含むnは正の実数である。リン酸塩堆積物は、ストラバイト及びヒドロキシアパタイトのうち1つとして、及び/又は溶液相のH2PO41-、HPO42-及びΡΟ43-アニオン、及びこれらの類似体を含むことができる。また、本願において、リン酸塩とは、線状鎖又は環状環構造を形成するために、酸素原子を共有することによって共に結合された、或いはPO4リン酸塩構造単位単独で形成されたオキシアニオンを意味する。リン酸塩の非限定的な例は、PO43-リン酸塩、P3O105-三リン酸塩、PnO3nn2-ポリリン酸塩、P3O93-環状トリメタリン酸塩、トリメタリン酸塩、ヘキサメタリン酸塩、HPO32-リン酸塩、H2P2O52-ピロ亜リン酸塩、H2PO2-次亜リン酸塩、これらの溶液形態、不溶性形態、酸のうち1つ、又はこれらの組み合わせである。一部の実施形態において、ケイ酸及び/又はリン酸アニオンは、バリウム、ビスマス、カドミウム、カルシウム、鉄、コバルト、銅、銀、ストロンチウム、鉛、水銀、ニッケル、ベリリウム、タリウム、亜鉛、マグネシウム、アルミニウム、及びマンガンの少なくとも1つに結合されることが分かる。好ましくは、前記堆積物は、下記のうち1つ以上を含むことができる。リン酸水素バリウムBaHPO4、ピロリン酸バリウムBa2P2O7、リン酸ビスマスBiPO4、リン酸カドミウムCd3PO42、リン酸一カルシウムCaH2PO42、リン酸二カルシウムCaHPO4、リン酸カルシウムCa3PO42、リン酸水素鉛PbHPO4、リン酸リチウムLi3PO4、リン酸マグネシウムMg3PO42、リン酸ニッケルNi2P2O7、リン酸タリウムTl3PO4、ヒ酸バリウムBa3ASO42、ヒ酸ビスマスBiAsO4、ヒ酸カドミウムCd3AsO42、ヒ酸カルシウムCa3AsO42、ヒ酸鉄FeAsO4、ストラバイトNH4MgPO4、及びこれらの組み合わせを含む。より好ましくは、前記堆積物は、ストラバイトNH4MgPO4を含む。一部の構成において、前記堆積物は、水処理システムの1つ以上の構成要素に付着したスケール形態である。前記構成要素は、水処理システムの貯蔵タンク、貯蔵所、ポンプ、通気装置、冷却塔、熱交換器、価値、ボイラ、濾過装置、固液及び/又は気液分離器、ノズル、テンダー、配管、ホース、導水管、送水路、排水路などを含むことができる。他の構成において、堆積物は、水に懸濁された粒子形態であってよい。また他の構成において、堆積物は、溶解された形態であってよく、すなわち堆積物は、水において溶解されたアニオン及びカチオンの形態である。前記アニオンは、堆積物のアニオン成分を含み、カチオンは、堆積物のカチオン成分を含む。一部の実施形態において、前記堆積物は生体物質を含む。好ましくは、堆積物は、バクテリア、藻類、真菌、カビ、ウイルス、又はこれらの組み合わせのうち1つ以上を含む。[水及び水処理システム]水は、任意の水及び/又は水処理システムであってよい。水処理システムは、水を処理及び/又は運搬するために使用及び/又は設計された任意のシステムであってよい。適した水の非限定的な例は、レクリエーション用水例えば、プール、温泉、及び風呂が挙げられるが、これらに限定されない、都市用水例えば、都市用及び農業用飲用、非携帯用水、廃水例えば、汚水、産業廃水、鉱業用水、飲用水、井戸水、天然及び人工体水分などである。適した水処理システムの非限定的な例は、プール水処理システム例えば、プール濾過、加熱/冷却、及び濾過システム、風呂水処理システム例えば、風呂水濾過、加熱、及び浄化システム、温泉水処理システム例えば、温泉水濾過、加熱/冷却、及び浄化システム、都市用水システム例えば、都市用揚水、濾過、浄化、貯蔵、及び送水システム、廃水システム例えば、廃水揚水、貯蔵、濾過、浄化、送水、及び排水システム、鉱業用水処理システム例えば、湿式冶金工程及び冶金法工程用水の浄化及び排水、井戸水処理システム例えば、携帯用水井戸、農業用水井戸、鉱業用水井戸、及び廃水井戸、及びこれらの組み合わせである。一般的に、水はpH値を有する。処理される水のpH値は異なる。一般的に処理される水のpHは、約pH0から約pH14であり、より一般的に処理される水のpHは、約pH1から約pH13であり、さらに一般的に処理される水のpHは、約pH2から約pH12であり、またさらに一般的に処理される水のpHは、約pH3から約pH11であり、さらに一般的に処理される水のpHは、約pH4から約pH10であり、さらに一般的に処理される水のpHは、約pH5から約pH9であり、またさらに一般的に処理される水のpHは、約pH6から約pH8である。一部の構成において、水のpHは、一般的に約pH0であり、より一般的には水のpH値は、約pH1であり、さらに一般的には水のpH値は、約pH2であり、さらに一般的には水のpH値は、約pH3であり、またさらに一般的には水のpH値は、約pH4であり、さらに一般的には水のpH値は、約pH5であり、さらに一般的には水のpH値は、約pH6であり、さらに一般的には水のpH値は、約pH7であり、またさらに一般的には水のpH値は、約pH8であり、さらに一般的には水のpH値は、約pH9であり、さらに一般的には水のpH値は、約pH10であり、さらに一般的には水のpH値は、約pH11であり、さらに一般的には水のpH値は、約pH12であり、さらに一般的には水のpH値は、約pH13であり、またさらに一般的には水のpH値は、約pH14である。一般的に水は温度を有する。処理される水の温度は、水及び/又は水処理システムによって異なる。一般的に、水の温度は約周囲温度である。一般的に周囲温度は、-5°Cから約50°C、より一般的に約0°Cから約45°C、さらに一般的に約5°Cから約40°C、またさらに一般的に約10°Cから約35°Cである。水処理システムは、水を加熱及び/又は冷却する操作及び選択的処理ユニットを含んでもよいことが分かる。一部の構成において、水は一般的に少なくとも約20°C、より一般的に少なくとも約25°C、さらに一般的に少なくとも約30°C、さらに一般的に少なくとも約35°C、さらに一般的に少なくとも約40°C、さらに一般的に少なくとも約45°C、さらに一般的に少なくとも約50°C、さらに一般的に少なくとも約60°C、さらに一般的に少なくとも約70°C、さらに一般的に少なくとも約80°C、さらに一般的に少なくとも約90°C、さらに一般的に少なくとも約100°C、さらに一般的に少なくとも約110°C、さらに一般的に少なくとも約120°C、さらに一般的に少なくとも約140°C、さらに一般的に少なくとも約150°C、またさらに一般的に少なくとも約200°Cであるように加熱され得る。一部の構成において、水は一般的に約110°C以下、より一般的に約100°C以下、さらに一般的に約90°C以下、さらに一般的に約80°C以下、さらに一般的に約70°C以下、さらに一般的に約60°C以下、さらに一般的に約50°C以下、さらに一般的に約45°C以下、さらに一般的に約40°C以下、さらに一般的に約35°C以下、さらに一般的に約30°C以下、さらに一般的に約25°C以下、さらに一般的に約20°C以下、さらに一般的に約15°C以下、さらに一般的に約10°C以下、さらに一般的に約5°C以下、またさらに一般的に約0°C以下であるように冷却できる。[希土類及び希土類含有添加物]希土類含有添加物は、希土類及び/又は希土類含有組成物を含む。希土類含有添加物は、全部ではなくても、実質的に水及び/又は水処理システムから堆積物の堆積を抑制及び/又は堆積物を除去することができる。すなわち、希土類含有添加物は、実質的に水のスケール傾向を減少させることができる。希土類含有添加物内における希土類及び/又は希土類含有組成物は、元素、イオン、又は複合形態の希土類であってよい。希土類及び/又は希土類含有組成物は、水などの溶媒において溶解できる、或いはナノ粒子、ナノ粒子よりも大きな粒子、集合体又は凝集体、又はこれらの組み合わせ又は混合物の形で溶解できる。希土類及び/又は希土類含有組成物は、担持できる、又は担持できない。希土類及び/又は希土類含有組成物は、1つ以上の希土類を含むことができる。希土類は、同じ又は異なる価数及び/又は酸化状態及び/又は個数であってよい。希土類は、異なる希土類、例えばイットリウム、スカンジウム、セリウム、ランタン、プラセオジミウム、及びネオジミウムの2つ以上の混合物であってよい。希土類及び/又は希土類含有組成物は、一般的にセリウムIII及び/又はIVを含み、水溶性セリウムIII塩がより一般的である。希土類含有添加物を含んだ希土類含有組成物は、水溶性又は水不溶性であってよい。一般的に、希土類含有組成物は、3価酸化状態、4価酸化状態、又は3価と4価酸化状態の混合物を有する1つ以上の希土類を含む。例えば、水溶性希土類含有組成物の混合物は、3価酸化状態を有する第1希土類、及び4価酸化状態を有する第2希土類含むことができる。第1及び第2希土類の有する原子個数は、同じでも、異なってもよい。一部の実施形態において、第1及び第2希土類は同じで、セリウムを含む。より具体的に、第1希土類はセリウムIIIを含み、第2希土類はセリウムIVを含む。多数の適用において、セリウムは、主に水溶性セリウムIII塩の形で存在し、残存セリウムは、セリウム酸化物、実質的に水不溶性セリウム組成物として存在する。一部の適用において、水溶性セリウム組成物は、塩化セリウムIII、CeCl3-を含む。好ましい実施形態において、希土類含有添加物は、実質的に塩化セリウムIIIを含み、より好ましくは塩化セリウムIIIの水溶液である。3価及び4価酸化状態の混合物を有する希土類含有添加物について、一般的に少なくとも一部の希土類は、3価酸化状態を有し、より一般的に少なくともほとんどの希土類は、3価酸化状態を有し、より一般的に少なくとも約75wt.希土類は、3価酸化状態を有し、さらに一般的に少なくとも約90wt.の希土類は、3価酸化状態を有し、またさらに一般的に少なくとも約98wt.の希土類は、3酸化状態を有する。希土類含有添加物は、一般的に少なくとも約1ppm、より一般的に少なくとも約10ppm、さらに一般的に少なくとも約100ppm酸化セリウムIVを含む。一部の実施形態において、希土類含有添加物は、酸化セリウムで算出された、少なくとも約0.0001wt.セリウムIV、一般的に少なくとも約0.001wt.セリウムIV、より一般的に少なくとも約0.01wt.セリウムIVを含む。また、一部の実施形態において、希土類含有添加物は、一般的に少なくとも約250,000pmセリウムIII、より一般的に少なくとも約100,000ppmセリウムIII、さらに一般的に少なくとも約20,000ppmセリウムIIIを有する。一形態において、希土類含有添加物は水溶性であり、一般的に3価酸化状態を有する1つ以上の希土類、例えばセリウム及び/又はランタンを含む。適した水溶性希土類含有組成物の非限定的な例は、希土類ハロゲン化物、希土類硝酸塩、希土類硫酸塩、希土類シュウ酸塩、希土類過塩素酸塩、希土類炭酸塩、及びこれらの混合物を含む。一部の形態において、水溶性セリウム含有添加物は、セリウム以外に他の3価の希土類例えば、ランタン、ネオジミウム、プラセオジミウム、及びサマリウムのうち1つ以上を含有する。セリウムIIIの他の3価希土類に対するモル比は、一般的に少なくとも約1:1、より一般的に少なくとも約10:1、より一般的に少なくとも約15:1、より一般的に少なくとも約20:1、より一般的に少なくとも約25:1、より一般的に少なくとも約30:1、より一般的に少なくとも約35:1、より一般的に少なくとも約40:1、より一般的に少なくとも約45:1、より一般的に少なくとも約50:1である。一部の形態において、水溶性セリウム含有添加物は、セリウム以外にランタン、ネオジミウム、プラセオジミウム、及びサマリウムのうち1つ以上を含む。水溶性希土類含有添加物は、一般的にランタン、ネオジミウム、プラセオジミウム、及びサマリウムのうち1つ以上の少なくとも約0.01wt.を含む。水溶性希土類含有添加物は、一般的に乾燥量基準で約10wt.La以下、より一般的に約9wt.La以下、さらに一般的に約8wt.La以下、さらに一般的に約7wt.La以下、さらに一般的に約6wt.La以下、さらに一般的に約5wt.La以下、さらに一般的に約4wt.La以下、さらに一般的に約3wt.La以下、さらに一般的に約2wt.La以下、さらに一般的に約1wt.La以下、さらに一般的に約0.5wt.La以下、さらに一般的に約0.1wt.La以下である。水溶性希土類含有添加物は、一般的に乾燥量基準で約8wt.Nd以下、より一般的に約7wt.Nd以下、さらに一般的に約6wt.Nd以下、さらに一般的に約5wt.Nd以下、さらに一般的に約4wt.Nd以下、さらに一般的に約3wt.Nd以下、さらに一般的に約2wt.Nd以下、さらに一般的に約1wt.Nd以下、さらに一般的に約0.5wt.Nd以下、さらに一般的に約0.1wt.Nd以下である。水溶性希土類含有添加物は、一般的に乾燥量基準で約5wt.Pr以下、より一般的に約4wt.Pr以下、さらに一般的に約3wt.Pr以下、さらに一般的に約2.5wt.Pr以下、さらに一般的に約2.0wt.Pr以下、さらに一般的に約1.5wt.Pr以下、さらに一般的に約1.0wt.Pr以下、さらに一般的に約0.5wt.Pr以下、さらに一般的に約0.4wt.Pr以下、さらに一般的に約0.3wt.Pr以下、さらに一般的に約0.2wt.Pr以下、さらに一般的に約0.1wt.Pr以下である。水溶性希土類含有添加物は、一般的に乾燥量基準で約3wt.Sm以下、より一般的に約2.5wt.Sm以下、さらに一般的に約2.0wt.Sm以下、さらに一般的に約1.5wt.Sm以下、さらに一般的に約1.0wt.Sm以下、さらに一般的に約0.5wt.Sm以下、さらに一般的に約0.4wt.Sm以下、さらに一般的に約0.3wt.Sm以下、さらに一般的に約0.2wt.Sm以下、さらに一般的に約0.1wt.Sm以下、さらに一般的に約0.05wt.Sm以下、さらに一般的に約0.01wt.Sm以下である。一部の形態において、水溶性ランタン含有添加物は、ランタン以外に他の3価希土類セリウム、ネオジミウム、プラセオジミウム、及びサマリウムのうち1つ以上を含むを含む。ランタンIIIの他の3価希土類に対するモル比は、一般的に少なくとも約1:1、より一般的に少なくとも約10:1、より一般的に少なくとも約15:1、より一般的に少なくとも約20:1、より一般的に少なくとも約25:1、より一般的に少なくとも約30:1、より一般的に少なくとも約35:1、より一般的に少なくとも約40:1、より一般的に少なくとも約45:1、より一般的に少なくとも約50:1である。一部の形態において、水溶性希土類含有添加物は、1つ以上の窒素含有物質を含む。1つ以上の窒素含有物質は、一般的にアンモニア、アンモニウム含有組成物、第1級アミン、第2級アミン、第3級アミン、アミド、環状アミン、環状アミド、多環アミン、多環アミド、及びこれらの組み合わせのうち1つ以上を含む。窒素含有物質は、一般的に水溶性希土類含有添加物の約1ppm未満、約5ppm未満、約10ppm未満、約25ppm未満、約50ppm未満、約100ppm未満、約200ppm未満、約500ppm未満、約750ppm未満、又は約1000ppm未満である。一般的に、希土類含有添加物は、水溶性セリウムIII及び/又はランタンIII組成物を含む。より一般的に、水溶性希土類含有添加物は、塩化セリウムIIIを含む。希土類含有添加物は、一般的に液体において溶解する。一部の形態において、希土類含有添加物は、本質的に水溶性セリウムIII塩、例えば、塩化セリウムIII、臭化セリウムIII、ヨウ化セリウムIII、アスタチン化セリウムIII、過ハロゲン化セリウム、炭酸セリウムIII、硝酸セリウムIII、硫酸セリウムIII、シュウ酸セリウムIII、及びこれらの混合物からなる。このような形態において希土類は、一般的に主にセリウムIIIであり、より一般的に希土類含有添加物の希土類含有量の少なくとも約75モルはセリウムIIIであり、すなわち希土類含有添加物の希土類含有量の約25モル以下は、セリウムIII以外の希土類を含む。より一般的に、このような形態において希土類は、主に少なくとも約80モルセリウムIII、より一般的に少なくとも約85モルセリウムIII、さらに一般的に少なくとも約90モルセリウムIII、さらに一般的に少なくとも約95モルセリウムIIIである。3価及び4価酸化状態の混合物を有する希土類含有添加物について、少なくとも一部の希土類は、3価酸化状態を有し、より一般的に少なくともほとんどの希土類は、3価酸化状態を有し、より一般的に少なくとも約75wt.の希土類は、3価酸化状態を有し、さらに一般的に少なくとも約90wt.の希土類は、3価酸化状態を有し、またさらに一般的に少なくとも約98wt.の希土類は、3酸化状態を有する。希土類含有添加物は、一般的に少なくとも約1ppm、より一般的に少なくとも約10ppm、さらに一般的に少なくとも約100ppm酸化セリウムIVを含む。一部の実施形態において、希土類含有添加物は、酸化セリウムで算出された、少なくとも約0.0001wt.セリウムIV、一般的に少なくとも約0.001wt.セリウムIV、より一般的に少なくとも約0.01wt.セリウムIVを含む。また、一部の実施形態において、希土類含有添加物は、一般的に少なくとも約250,000pmセリウムIII、より一般的に少なくとも約100,000ppmセリウムIII、さらに一般的に少なくとも約20,000ppmセリウムIIIを有する。また他の形態において、希土類含有添加物は、少なくとも一部の水溶性セリウムIV塩、例えば硫酸セリウムIV例えば、硫酸セリウムアンモニウム及び硫酸セリウム、硝酸セリウムIV例えば、硝酸セリウムアンモニウム、オキシ水酸化セリウムIV、水和酸化セリウムIV、及びこれらの混合物を含む。このような形態において、セリウムIV含有量は、希土類含有添加物の希土類の総含有量を基に、一般的に約75モルセリウムIV以下、より一般的に約50モルセリウムIV以下、さらに一般的に約40モルセリウムIV以下、さらに一般的に約30モルセリウムIV以下、さらに一般的に約25モルセリウムIV以下、さらに一般的に約20モルセリウムIV以下、さらに一般的に約15モルセリウムIV以下、さらに一般的に約10モルセリウムIV以下、さらに一般的に約5モルセリウムIV以下、またさらに一般的に約2モルセリウムIV以下である。希土類としてセリウムIVを有する希土類含有添加物は、100モルセリウムIVであり、セリウムIVを含まない希土類含有添加物は、0モルセリウムIVであることが分かる。一部の実施形態において、希土類含有添加物は、希土類及び/又は希土類含有組成物の実質的に分解された溶解形態を含有した水溶液と、少なくとも一部の水溶性セリウムIIIを含有する希土類及び/又は希土類含有組成物の自由流動顆粒、粉末、粒子及び/又は粒子と、実質的にバインダを含有せずに少なくとも一部の水溶性セリウムIIIを含有する希土類及び/又は希土類含有組成物の自由流動集合顆粒、粉末、粒子及び/又は粒子と、集合及び/又は非集合の形態でバインダ、及び希土類及び/又は希土類含有組成物を含み、少なくとも一部の水溶性セリウムIIIを含有する自由流動凝集顆粒、粉末、粒子及び/又は粒子と、少なくとも一部の水溶性セリウムIIIを含有し、基板に担持された希土類及び/又は希土類含有組成物と、これらの組み合わせのうち1つの形態であってよい。前記実施形態について、希土類含有添加物は、異なる希土類及び/又は希土類酸化状態を有する水溶性希土類含有組成物の混合物を含むことができる。異なる希土類酸化状態を用いて、水及び/又は水処理システムから全堆積物の一部又は全部を除去すること、及び/又は水処理システムにおいて堆積物の堆積を抑制することによって、水のスケール傾向を減少させることができる。また他の形態において、希土類含有添加物は、本質的に、水不溶性セリウムIV組成物、特に、酸化セリウムIV及び/又は、その他の希土類例えば、ランタン、プラセオジミウム、イットリウム、スカンジウム、ネオジミウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、及びルテチウムのうち1つ以上、これらに限定されないと組み合わせた酸化セリウムIVからなる。このような形態において希土類は、一般的に主に酸化セリウムIVであり、より一般的に希土類含有添加物の希土類含有量の少なくとも約75モルは、酸化セリウムCeO2の形で存在するセリウムIV、より一般的に少なくとも約80モルセリウムIV、より一般的に少なくとも約85モルセリウムIV、より一般的に少なくとも約90モルセリウムIV、さらに一般的に少なくとも約95モルセリウムIVである。一部の実施形態において、水不溶性希土類含有添加物は、粒子のコロイド、懸濁液、又はスラリーの形であってよい。粒子は、一般的に約1nm未満、より一般的に約1nmから約1,000nm、より一般的に約1ミクロンから約1,000ミクロン、さらに一般的に少なくとも約1,000ミクロンの平均粒子サイズであってよい。一部の実施形態において、希土類含有添加物は、少なくとも約1m2/g、好ましくは少なくとも約70m2/gの表面積を有することができる。他の実施形態において、水不溶性希土類含有添加物は、好ましくは約25m2/gから約500m2/g、より好ましくは約100m2/gから約250m2/gの表面積を有することができる。一適用において、希土類含有添加物は、自然発生の鉱物ではなく、合成製造されたものである。例示の自然発生の希土類含有鉱物は、バストネサイト炭酸塩-フッ化鉱物及びモナザイトを含む。他の自然発生の希土類含有鉱物は、エシナイト、褐簾石、アパタイト、ブリトライト、ブルッカイト、セライト、フッ素化セライト、ホタル石、ガドリン石、パリサイト、スティルウェライト、シンチサイト、チタン石、ゼノタイム、ジルコン、及びジルコノライトが挙げられる。例示のウラン鉱物は、閃ウラン鉱UO2、ピッチブレンド混合酸化物、一般的にU3O8、ブランネル石ウラン、希土類、鉄、及びチタンの複合酸化物、コフィン石ウランケイ酸塩、カルノー石、リン灰ウラン石、デービド鉱、ゴム石、リンドウウラン石、及びウラノフェンが挙げられる。一形態において、希土類及び/又は希土類含有添加物は、実質的に周期律表1、2、4-15、又は17族の1つ以上の元素、放射性種、例えば、ウラン、硫黄、セレン、テルル、及びポロニウムが含まれない。希土類及び/又は希土類含有添加物は、顆粒、粉末、結晶、結晶質、粒子及び粒子の形態、好ましくは自由流動顆粒、粉末及び粒子の形態であってよい。より好ましくは、希土類含有添加物は、結晶又は結晶質を含む。一般的に、希土類含有結晶又は結晶質は、ナノ結晶、ナノ結晶質、及び/又はナノ結晶質領域を含む。自由流動顆粒、粉末、及び/又は粒子の形態の希土類含有添加物は、少なくとも約0.5nmから少なくとも約1μmまでの平均粒子サイズ、中央粒子サイズ、及び/又はP90粒子サイズを有することができる。より一般的に、希土類含有添加物は、少なくとも約1nm、一部の場合には少なくとも約5nm、その他の場合には少なくとも約10nm、さらに他の場合には少なくとも約25nm、さらに他の場合には少なくとも約50nmの平均粒子サイズ、中央粒子サイズ及び/又はP90粒子サイズを有する。その他の実施形態において、希土類含有添加物は、約50nmから約500ミクロン、さらに他の実施形態において約50nmから約500nmの平均粒子サイズ、中央粒子サイズ、及び/又はP90粒子サイズを有する。希土類含有添加物は、一般的に少なくとも約75wt.、より一般的に少なくとも約80wt.、より一般的に少なくとも約85wt.、より一般的に少なくとも約90wt.、より一般的に少なくとも約95wt.、さらに一般的に少なくとも約99wt.希土類化合物であり、残りは希土類を含まない化合物及び/又は物質である。また、希土類含有添加物は、バインダを含有する、又は含有しない凝集及び/又は集合された希土類含有顆粒、粉末、粒子及び/又は粒子を含むことができる。希土類含有集合体及び/又は凝集体は、押出、成形、焼成、焼結、及び圧縮のうち1つに以上よって形成できる。一形態において、希土類含有添加物は、バインダ及び希土類含有粒子を含んだ自由流動、希土類含有凝集体である。好ましくは、希土類含有粒子は、粉末形態であって、集合されたナノ結晶質領域を有する。希土類含有集合体及び/又は凝集体は、顆粒、ビーズ、ペレット、粉末、繊維の形態、又は類似した形態であってよい。ほとんどの適用において、希土類含有凝集体及び/又は集合体は、一般的に少なくとも約1μm、より一般的に少なくとも約5μm、より一般的に少なくとも約10μm、さらに一般的に少なくとも約25μmの平均粒子サイズ、中央粒子サイズ又はP90粒子サイズを有する。他の適用において、希土類含有凝集体又は集合体は、約100ミクロンから約5,000ミクロンの平均粒子サイズ、中央粒子サイズ又はP90粒子サイズ分布と、約200ミクロンから約2,500ミクロンの平均粒子サイズ、中央粒子サイズ又はP90粒子サイズ分布と、約250ミクロンから約2,500ミクロンの平均粒子サイズ、中央粒子サイズ又はP90粒子サイズ分布と、約300ミクロンから約500ミクロンの平均粒子サイズ、中央粒子サイズ又はP90粒子サイズ分布を有する。さらに他の適用において、凝集体及び/又は集合体は、少なくとも約100nm、具体的には少なくとも約250nm、より具体的には少なくとも約500nm、さらに具体的には少なくとも約1μm、さらに具体的には少なくとも約0.5nmの平均粒子サイズ、中央粒子サイズ又はP90粒子サイズを有し、凝集体及び/又は集合体の平均粒子サイズ、中央粒子サイズ又はP90粒子サイズは、少なくとも約1ミクロンまでであってよい。具体的に、単独、及び/又は凝集体及び/又は集合体形態の希土類含有粒子は、一部の場合には少なくとも約5m2/g、他の場合には少なくとも約10m2/g、他の場合には少なくとも約70m2/g、さらに他の場合には少なくとも約85m2/g、さらに他の場合には少なくとも約100m2/g、さらに他の場合には少なくとも約115m2/g、さらに他の場合には少なくとも約125m2/g、さらに他の場合には少なくとも約150m2/g、さらに他の場合には少なくとも300m2/g、さらに他の場合には少なくとも約400m2/gの表面積を有することができる。一部の構成において、単独、及び/又は凝集体又は集合体形態の希土類含有粒子は、一般的に約50m2/gから約500m2/g、より一般的に約110m2/gから約250m2/gの表面積を有することができる。一形態において、希土類含有凝集体及び/又は集合体は、不溶性希土類含有組成物及び水溶性希土類含有組成物を含む。一般的に、不溶性希土類含有組成物は、酸化セリウムIII、酸化セリウムIV、及びこれらの混合物を含む。水溶性希土類含有組成物は、一般的にセリウムIII、セリウムIV、及びランタンIII塩の1つ以上である。炭酸セリウムIII、塩化セリウムIII、臭化セリウムIII、ヨウ化セリウムIII、アスタチン化セリウムIII、硝酸セリウムIII、硫酸セリウムIII、シュウ酸セリウムIII、及び過塩素酸セリウムIIIは、水溶性セリウムIII塩の非限定的な例である。水溶性セリウムIV塩の非限定的な例は、硫酸セリウムアンモニウムIV、酢酸セリウムIV、塩化セリウムIV、臭化セリウムIV、ヨウ化セリウムIV、アスタチン化セリウムIV、シュウ酸セリウムIV、過塩素酸セリウムIV、及び硫酸セリウムIVである。炭酸ランタンIII、塩化ランタンIII、臭化ランタンIII、ヨウ化ランタンIII、アスタチン化ランタンIII、硝酸ランタンIII、硫酸ランタンIII、シュウ酸ランタンIII、酸化ランタンIII、及び過塩素酸ランタンIIIは、水溶性ランタン塩の非限定的な例である。バインダは、熱硬化性ポリマー、熱可塑性ポリマー、弾性ポリマー、セルロースポリマー、及びガラスからなる群から選ばれた1つ以上のポリマーを含むことができる。バインダは、昇温時に軟化して粘着性tacky状態になり、冷却時に硬化できる重合性及び/又は熱可塑性物質を含む。バインダを形成するポリマーは、乾燥粉末及び/又はペレット形態、又は水性乳液及び/又は懸濁液の形態であってよい。また、バインダを形成するポリマーは、乳液、懸濁液又は分散液の形で提供され得る。希土類含有凝集体及び/又は集合体組成物は、希土類含有凝集体及び/又は集合体を製造及び/又は使用する工程によって異なってもよい。一般的に、希土類含有凝集体は、10.01wt.超過、より一般的に約85wt.超過、さらに一般的に約90wt.超過、さらに一般的に約92wt.超過、さらに一般的に約95wt.から約96.5wt.の希土類含有粒子を含み、残りは主にバインダである。言い換えれば、バインダは、約15wt未満の集合体、一部の場合には約10wt未満、また他の場合には約8wt未満、さらに他の場合には約5wt未満、さらに他の場合には約3.5wt未満の集合体であってよい。他の形態において、希土類含有添加剤は、基板上に担持またはコーティングされた、又は基板に含まれた希土類含有組成物を含む。好ましくは、希土類含有組成物は、粒子の形である。希土類含有粒子は、例えば、バインダを含有して、又は含有しないで、基板上に担持又はコーティングすることができる。バインダは、任意の適したバインダ、例えば本願に開示されたものであってよい。適した基板は、所望の形状及び物理的寸法を有する多孔性及び流体透過性固体を含むことができる。例えば、基板は、焼結されたセラミック、焼結された金属、微細孔炭素、ガラス繊維、セルロース繊維、アルミナ、ガンマアルミナ、活性アルミナ、酸化アルミナ、不安定アニオンを含有した金属酸化物、結晶質アルミノケイ酸塩、例えば、ゼオライト、非晶質シリカアルミナ、イオン交換樹脂、粘土、硫酸第二鉄、多孔性セラミックなどであってよい。このような基板は、シリンダ及びトロイドを含んだ多様な形状のスクリーン、チューブ、ハニカム構造、モノリス及びブロックでメッシュ状であってよい。このような基板の構造は、適用に応じて異なるが、織布基板、不織布基板、多孔性膜、フィルタ、繊維、織物、又はその他の流体透過性構造を含むことができる。希土類含有添加物をフィルタブロック又はモノリスに含め、又はコーティングして、フィルタ、例えば直交流型フィルタに使用することができる。希土類及び/又は希土類含有添加物は、基板にコーティングされた又は含まれた粒子の形であってよく、又は基板においてカチオンにイオン置換され得る。一般的に、希土類コーティングの基板は、少なくとも約0.1wt、より一般的に1wt、より一般的に少なくとも約5wt、より一般的に少なくとも約10wt、より一般的に少なくとも約15wt、より一般的に少なくとも約20wt、より一般的に少なくとも約25wt、より一般的に少なくとも約30wt、より一般的に少なくとも約35wt、より一般的に少なくとも約40wt、より一般的に少なくとも約45wt、より一般的に少なくとも約50wtの希土類及び/又は希土類含有組成物を含む。一般的に、希土類コーティングの基板は、約95wt以下、より一般的に約90wt以下、より一般的に約85wt以下、より一般的に約80wt以下、より一般的に約75wt以下、より一般的に約70wt以下、さらに一般的に約65wt以下の希土類及び/又は希土類含有組成物を含む。バインダ又は基板のいずれかを含有して希土類含有添加物を形成した形態が適用によって好ましい場合もあるが、このような形態の形成が必ずしも必要ではないことに留意しなければならない。一部の実施形態において、不溶性希土類添加物を含んだ濾過装置は、堆積物を除去することができる。フィルタは、ポリマー材料を含んだマトリックスに担持された又は含有された二酸化セリウムを含むことができ、例えば、フッ化炭素含有ポリマー及び/又はアクリル酸ポリマーを含むが、これらに限定されない。より一般的に、希土類添加物は、セリウム4、より一般的に二酸化セリウムを含む。[堆積物の除去/抑制方法]希土類含有添加物は、水及び/又は水処理システムから堆積物の堆積を除去及び/又は抑制することができる。任意の理論によって限定されることは望まないが、希土類含有添加物は、複数の可能なメカニズムによって、水及び/又は水処理システムから堆積物の堆積を除去及び/又は抑制することができる。一部の実施形態によって、希土類含有添加物を水及び/又は水処理システムに含有された堆積物に接触させる。希土類含有添加物は、水溶性希土類含有組成物、水不溶性希土類含有組成物、又は水溶性及び水不溶性希土類含有組成物の混合物を含むことができる。好ましくは、希土類含有添加物は、1つ以上の水溶性希土類含有組成物を含む。より好ましくは、少なくとも1つの水溶性希土類含有組成物は、塩化セリウムIII及び/又は塩化ランタンIIIを含む。一部の実施形態によって、希土類含有添加物を堆積物に接触させ、水及び/又は水処理システムから堆積物の堆積を抑制し、及び/又は堆積物の、ほとんどではないが、少なくとも一部を除去する。一部の構成において、希土類含有添加物を堆積物に接触させて、含堆積物希土類組成物を形成する。一般的に、希土類含有組成物は、希土類3価カチオンを含む。より一般的に、希土類3価カチオンは、セリウム3、ランタン3価、及びプラセオジミウム3価のうち1つ以上である。好ましくは、希土類3価カチオンは、分解された溶解状態である。より好ましくは、希土類3価カチオンは、水溶液において溶解する。一部の実施形態によって、堆積物は、アニオン、好ましくはオキシアニオンを含む。より好ましくは、堆積物は、周期律表15族から選ばれた元素のオキシアニオンを含む。また、15族の一般的アニオンは、窒素、リン、ヒ素、アンチモン、ビスマス、及びこれらの混合物のオキシアニオンである。より一般的な15族のアニオンは、リン酸塩、ヒ酸塩、亜ヒ酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩、及びこれらの混合物を含んだオキシアニオンである。任意の理論によって限定されることは望まないが、希土類含有添加物による収着すなわち、吸着、吸収、及び/又は析出で、水及び/又は水処理システムにおける堆積物から堆積物アニオンを除去及び/又は抑制することが分かる。より具体的に、含堆積物希土類組成物、好ましくは実質的に含不溶性堆積物希土類組成物として15族オキシアニオンを水及び/又は水処理システムから除去する。好ましくは、含不溶性堆積物希土類組成物は、希土類3価カチオン及びオキシアニオンを含む。より好ましくは、含不溶性堆積物希土類組成物は、セリウム3及びオキシアニオンを含む。含堆積物希土類組成物は、希土類:オキシアニオンの割合を有することができる。希土類:オキシアニオンの割合は、変化することがある。理論及び/又は例によって制限されることは望まないが、1未満の希土類:オキシアニオンの割合を有する含堆積物希土類組成物は、1以上の希土類:オキシアニオンの割合を有する希土類よりも大きなオキシアニオンのモル除去能力を有する。希土類:オキシアニオンの割合は水のpH値に応じて変化すると分かる。一部の実施形態において、水のpH値の増加に従って希土類:オキシアニオンの割合が増加する。一部の実施形態において、水のpH値の減少に従って希土類:オキシアニオンの割合が減少する。他の実施形態において、希土類:オキシアニオンの割合は、実質的に水のpH値の範囲を超えて変化しない。一部の実施形態において、約pH-2以下、約pH-1超過、約pH0超過、約pH1超過、約pH2超過、約pH3超過、約pH4超過、約pH5超過、約pH6超過、約pH7超過、約pH8超過、約pH9超過、約pH10超過、約pH11超過、約pH12超過、約pH13超過、又は約pH14超過した水のpHにおいて、希土類:オキシアニオンの割合は約0.1以下、希土類:オキシアニオンの割合は約0.2以下、希土類:オキシアニオンの割合は約0.3以下、希土類:オキシアニオンの割合は約0.4以下、希土類:オキシアニオンの割合は約0.5以下、希土類:オキシアニオンの割合は約0.6以下、希土類:オキシアニオンの割合は約0.7以下、希土類:オキシアニオンの割合は約0.8以下、希土類:オキシアニオンの割合は約0.9以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.0以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.1以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.2以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.3以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.4以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.5以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.6以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.7以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.8以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.9以下、希土類:オキシアニオンの割合は約1.9以下、又は希土類:オキシアニオンの割合は約2.0以下である。一部の実施形態において、水相3価希土類を形成する希土類含有添加物を有することが好ましい。例えば、水相希土類3を有することは、希土類3溶液相の収着及び/又は析出の化学作用を用いるための機会を提供する。例えば、オキシアニオンと不溶性希土類3組成物の形成が挙げられるが、これらに限定されない。任意の理論によって限定されることは望まないが、溶液相の希土類3は、実質的に水溶液において溶解し、希土類3イオンとして存在する。ヒ酸塩と3価希土類の強い相互作用は、不溶性希土類3とオキシアニオン組成物の形成の例である。3価希土類は、イットリウム3、ランタン3、セリウム3、プラセオジミウム3、サマリウム3、ユーロピウム3、ガドリニウム3、テルビウム3、ジスプロシウム3、ホルミウム3、エルビウム3、ツリウム3、イッテルビウム3、及びルテチウム3のうち1つ以上を含むことができる。好ましくは、3価希土類は、セリウム3を含む。一部の実施形態において、3価及び4価希土類を含んだ希土類含有添加物を有することが好ましい。より具体的に、セリウム3及びセリウム4を含んだセリウム含有添加物を有することが好ましい。例えば、溶液相セリウム3を有することは、セリウム3溶液相の収着及び/又は析出の化学作用を用いるための機会を提供する。例えば、オキシアニオンと不溶性セリウム3組成物の形成が挙げられるが、これらに限定されない。任意の理論によって限定されることは望まないが、溶液相のセリウム3は、実質的に水溶液において溶解し、セリウム3イオンとして存在する。ヒ酸塩と3価セリウムの強い相互作用は、不溶性セリウム3とオキシアニオン組成物の形成の例である。また、セリウム4含有組成物を有することは、セリウム4の収着及び酸化/還元の化学作用、例えば、セリウムの強い相互作用を用いて、実質的に含堆積物セリウムIV組成物を形成する機会を提供する。このような実質的な含堆積物セリウムIV組成物の非限定的な例は、亜ヒ酸セリウムIVである。セリウムIV含有組成物の一般的な非限定的な例は、二酸化セリウムIV、酸化セリウムIV、オキシ水酸化セリウムIV、水酸化セリウムIV、及び水和酸化セリウムIVである。また、希土類含有添加物内における希土類の酸化状態又は個数は、堆積物の除去及び/又は抑制の効能に著しい影響を及ぼす。例えば、セリウムIII及びセリウムIVは、堆積物を除去及び/又は抑制することができる格段に異なる性質又は能力を有することができる。セリウムIII及びセリウムIVはリン酸塩を除去することができるが、セリウムIV及び酸化セリウムIVは、一般的にセリウムIIIよりも、リン酸塩及び亜ヒ酸塩の除去に効率的である。例えば、セリウムIIIではなく、酸化セリウムIVは、亜ヒ酸塩を除去することができ、酸化セリウムIV及びセリウムIIIのいずれもヒ酸塩を除去することができるが、セリウムIIIは、酸化セリウムIVよりも一層強くヒ酸塩を保持する。多くの適用において、セリウムは、オキシアニオンを含んだ堆積物の堆積を除去及び/又は抑制するのに非常に効果的である。好ましい適用において、セリウムは、リン酸塩、ヒ酸塩、又は亜ヒ酸塩のうち1つ以上を含んだ堆積物の堆積を除去及び/又は抑制するのに非常に効果的である。任意の例によって制限されることは望まないが、例えば、リン酸セリウムIIICePO4は、1:1モル比であり、リン酸セリウムIVCe3PO44においてセリウム:PO43-のモル比は1:1.3である。また、セリウムIII:ヒ酸塩及び亜ヒ酸塩のモル比は1:1であり、セリウムIV:ヒ酸塩及び亜ヒ酸塩のモル比は1:1.3である。しかし、CeCl3から誘導された水溶性セリウムIIIをリン酸塩含有堆積物、ヒ酸塩含有堆積物、亜ヒ酸塩含有堆積物、アンチモン酸塩含有堆積物、ビスマス酸塩含有堆積物に接触させて、堆積物を含んだセリウム組成物形態の、含堆積物セリウム組成物を生成し、これは、セリウム:オキシアニオンの割合が約1:1.3から約1:2.6、より一般的に約1:1.3から約1:1、さらに一般的に約1:1.3から約1:1.5である析出物の形態である。オキシアニオンは、リン酸塩、ヒ酸塩、亜ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩のうち1つ、又はこれらのプロトン化形態のうち1つ、又はこれらの混合物を含むことが分かる。任意の理論に限定されることは望まないが、水溶性セリウムIII塩をリン酸塩含有水溶液に接触させることで形成された析出物は、CePO4及びCe3PO44の混合物であることが分かる。セリウムは、実質的に水溶性セリウム含有組成物又は実質的に水不溶性セリウム含有組成物であってよい。一部の実施形態において、水及び/又は水処理システムにおける水不溶性希土類に対する水溶性希土類のモル比は、一般的に約1:1以下、より一般的に約1:5×10-1以下、さらに一般的に1:1×10-1以下、さらに一般的に1:1×10-2以下、さらに一般的に1:1×10-3以下、さらに一般的に1:1×10-4以下、さらに一般的に1:1×10-5以下、さらに一般的に1:1×10-6以下である。水溶性及び水不溶性希土類は、同じ又は異なる希土類であってよい。また、モル比は、堆積物を含有しない、及び/又は堆積物に付着しない水溶性希土類及び水不溶性希土類を意味する。すなわち、モル比は、堆積物に付着及び/又は結合された希土類を含まない。一部の実施形態において、水及び/又は水処理システムにおける水溶性3価希土類REIIIの3価不溶性希土類REIVに対するモル比は、約1:1以下、より一般的に約1:5×10-1以下、さらに一般的に1:1×10-1以下、さらに一般的に1:1×10-2以下、さらに一般的に1:1×10-3以下、さらに一般的に1:1×10-4以下、さらに一般的に1:1×10-5以下、またさらに一般的に1:1×10-6以下である。水溶性3価希土類及び水不溶性4価不溶性希土類は、同じ又は異なる希土類であってよい。また、モル比は、堆積物を含有しない、及び/又は堆積物に付着しない3価水溶性希土類及び4価不溶性希土類を意味する。すなわち、モル比は、堆積物に付着及び/又は結合された希土類を含まない。一部の実施形態において、水及び/又は水処理システムにおいて含有されるセリウムIIIのセリウムIVに対するモル比は、一般的に約1:1以下、より一般的に約1:5×10-1以下、さらに一般的に1:1×10-1以下、さらに一般的に1:1×10-2以下、さらに一般的に1:1×10-3以下、さらに一般的に1:1×10-4以下、さらに一般的に1:1×10-5以下、さらに一般的に1:1×10-6以下である。一部の実施形態において、希土類含有組成物におけるセリウム3のセリウム4に対するモル比は、約1:1×10-7、より一般的に、約1:1×10-6、さらに一般的に約1:1×10-5、さらに一般的に約1:1×10-4、さらに一般的に約1:1×10-3、さらに一般的に約1:1×10-2、さらに一般的に約1:1×10-1、さらに一般的に約1:1である。一部の実施形態において、水及び/又は水処理システムにおいて含有されたセリウムIVのセリウムIIIに対するモル比は、一般的に約1:1以下、より一般的に約1:5×10-1以下、さらに一般的に約1:1×10-1以下、さらに一般的に約1:1×10-2以下、さらに一般的に約1:1×10-3以下、さらに一般的に約1:1×10-4以下、さらに一般的に約1:1×10-5以下、さらに一般的に約1:1×10-6以下である。一部の実施形態において、希土類含有組成物におけるセリウム4のセリウム3に対するモル比は、約1:1×10-7、より一般的に、約1:1X10-6、さらに一般的に約1:1×10-5、さらに一般的に約1:1×10-4、さらに一般的に約1:1×10-3、さらに一般的に約1:1×10-2、さらに一般的に約1:1×10-1、さらに一般的に約1:1である。さらに、セリウムIII及びセリウムIVのモル比は、CeIIIの溶解性及び不溶性形態と、CeIVの溶解性及び不溶性形態の任意の組み合わせに適用する。その他の希土類含有添加物形態において、希土類要件を減ずるために、非希土類金属又はメタロイドを含有するか、別に添加する。このような金属又はメタロイドは、鉄III、アルミニウムIII、カルシウムII、ジルコニウム及びハフニウム塩、及びこれらの混合物を含む。非希土類金属又はメタロイド塩は、希土類含有添加物を用いる前又はそれと同時に添加することができる。このような混合した添加物は、希土類含有添加物を単独で添加するよりも遥かに低い費用で可能となる。非限定的な例として、特定形態のリン酸塩例えば、リン酸アニオンは、非希土類金属又はメタロイドによって除去することができるが、その他の形態例えばトリポリリン酸塩は除去されない。一般的に非希土類金属又はメタロイドは、希土類にさらに大きく、より少なく、又はほぼ等しく影響を及ぼす特定の形態のリン酸塩を除去することができる。希土類金属の非希土類又はメタロイドに対するモル比は、約0.75モル希土類:1モルの非希土類金属又はメタロイド以下、より一般的に約0.50モル希土類:1モルの非希土類金属又はメタロイド以下、さらに一般的に約0.25モル希土類:1モルの非希土類金属又はメタロイド以下である。より具体的に、非希土類金属及び/又はメタロイドを用いて、堆積物の、ほとんど又は全部ではないものの、一部を除去することができ、希土類は、非希土類金属及び/又はメタロイドによって除去されない堆積物を除去することができる。一部の実施形態において、水溶性及び/又は水不溶性形態の希土類及び/又は希土類含有添加剤を、水に含有された堆積物及び/又は水処理システムの構成要素に付着した堆積物に接触させて、前記構成要素に付着した堆積物よりも安定した、及び/又は不溶性である含堆積物希土類組成物を形成し、水及び/又は成分から堆積物の、ほとんどではないとしても、少なくとも一部を除去することができる。一般的に、水溶性及び/又は水不溶性形態の希土類及び/又は希土類含有添加物を、水における堆積物及び/又は水処理システムの構成要素に付着した堆積物に接触させて、少なくとも約5wt.の堆積物、より一般的に少なくとも約10wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約15wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約20wt.、の堆積物、さらに一般的に少なくとも約25wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約30wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約40wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約50wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約60wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約70wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約75wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約80wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約85wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約90wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約95wt.の堆積物、さらに一般的に少なくとも約98wt.の堆積物、またさらに一般的に少なくとも約99wt.の堆積物を除去する。一般的に、水において懸濁された堆積物は、平均堆積物粒子サイズを有する粒子の形であってよく、構成要素に付着した堆積物は、平均堆積物厚を有することができる。任意の理論に限定されることは望まないが、希土類含有組成物を固体堆積物に接触させることにより、平均堆積物粒子サイズ及び/又は堆積物厚の増加を抑制することが分かる。一般的に、希土類含有組成物を固体堆積物に接触させて、平均堆積物粒子サイズ及び/又は堆積物厚の増加を、少なくとも約5、より一般的に少なくとも約10、さらに一般的に少なくとも約20、さらに一般的に少なくとも約25、さらに一般的に少なくとも約30、さらに一般的に少なくとも約40、さらに一般的に少なくとも約50、さらに一般的に少なくとも約60、さらに一般的に少なくとも約70、さらに一般的に少なくとも約75、さらに一般的に少なくとも約80、さらに一般的に少なくとも約85、さらに一般的に少なくとも約90、さらに一般的に少なくとも約95、さらに一般的に少なくとも約98、さらに一般的に少なくとも約99程度抑制する。抑制率は、希土類含有組成物を含有しないおよび含有しない水及び/又は水処理システムにおいて、所定の時間での平均堆積物粒子サイズ及び/又は堆積物厚の増加の比較を意味する。より具体的には、以下の通りである。希土類を含有しない増加は、希土類含有組成物を含有せずに、平均堆積物粒子サイズ及び/又は堆積物厚の増加を意味し、希土類を含有する増加は、希土類含有組成物に接触した後の平均堆積物粒子サイズ及び/又は堆積物厚の増加を意味する。一部の実施形態によって、希土類含有組成物を堆積物に接触させて、水処理システムの構成要素における堆積物の蓄積を抑制することができる。また、希土類含有組成物を堆積物に接触させて、a懸濁堆積物粒子サイズの増加の抑制と、b懸濁堆積物の凝集、集合、又は結合の抑制と、c水において含有された懸濁堆積物の1つ以上の成分を実質的に除去と、d懸濁堆積物粒子サイズの減少のうち1つ以上を行う。任意の理論に限定されることは望まないが、希土類含有組成物が堆積物と化学的に相互作用することが分かる。より具体的に、希土類含有組成物を堆積物に接触させることは、希土類含有組成物と堆積物の化学的相互作用を含むことができる。より具体的に、希土類含有組成物と堆積物との化学的相互作用によって含堆積物物質を形成する。希土類含有組成物と堆積物との化学的相互作用は、実質的に水及び/又は水処理システムの構成要素から、蓄積された堆積物の、ほとんど又は全部ではないとしても、少なくとも一部を除去するほど十分強い。希土類含有組成物は、3価及び/又は4価酸化状態を有する任意の希土類含有組成物であってよい。好ましくは、希土類組成物は、水溶性希土類組成物を含む。より好ましくは、水溶性希土類組成物は、3価酸化状態を有する希土類を含む。3価希土類イオンは、堆積物と化学的に相互作用して、水及び/又は水処理システム内における堆積物の蓄積を除去及び/又は抑制することができる。好ましい3価希土類イオンは、ランタン3、セリウム3及びプラセオジミウム3、ネオジミウム3及びサマリウム3、又はこれらの組み合わせである。より好ましくは、ランタン3及びセリウム3である。実質的に分解された溶解状態のセリウム3がより好ましい。一部の実施形態において、希土類3価イオンと堆積物との化学的相互作用は、水処理システムの構成要素に付着した堆積物の、ほとんど又は全部ではないとしても、一部をその表面から除去するのに十分なほど実質的に強い。好ましくは、付着した堆積物の、ほとんど又は全部ではないとしても、少なくとも一部が、セリウム3、ランタン3、プラセオジミウム3、ネオジミウム3、サマリウム3、及びこれらの組み合わせのうち1つの水溶性形態を含んだ希土類含有組成物によって除去される。例えば、希土類イオン、具体的には、希土類カチオンのオキシアニオンに対する化学的相互作用は、オキシアニオンと周期律表の1、2、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、及び15族のカチオンの化学的相互作用に比べて大きい。より具体的に、希土類カチオンと、リン酸塩、炭酸塩、硫酸塩、ケイ酸塩、ヒ酸塩、又はこれらの混合物との化学的相互作用は、オキシアニオンと、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、アンモニウム、及びマグネシウムのうち1つ以上との化学的相互作用に比べて大きい。一部の実施形態において、希土類含有組成物を水処理システム内の構成要素における堆積物に含有されたオキシアニオンに接触させて、含堆積物組成物を形成し、構成要素から堆積物を除去及び/又は堆積物の堆積を抑制する。好ましくは、堆積物は、オキシアニオン含有物質を含む。任意の理論に限定されることは望まないが、含堆積物組成物の形成によって、堆積物から堆積物を含んだオキシアニオンを除去し、堆積物の付着した構成要素から堆積物を溶解及び/又は除去する。堆積物の堆積抑制について、水処理システムの構成要素に付着した堆積物における含堆積物組成物層の形成が、水処理システムの構成要素における堆積物の堆積を実質的に妨害、すなわち抑制することが分かる。含堆積物組成物は、希土類及び希土類オキシアニオン組成物形態のオキシアニオンすなわち、[希土類]x[オキシアニオン]y、x、yは正の実数であるを含む。好ましくは、希土類含有組成物は、希土類カチオンを含む。含堆積物組成物層は、連続又は不連続層であってよい。含堆積物組成物層は、約1Å未満から約100Å超過の厚さであってよい。好ましくは、含堆積物組成物及び/又は含堆積物組成物層は、セリウム、ランタン、プラセオジミウム、ネオジミウム、サマリウム、及びこれらの組み合わせのうち少なくとも1つを含む。含堆積物組成物及び/又は含堆積物組成物層を含む希土類は、3価酸化状態、4価酸化状態、又は3価及び4価酸化状態の混合物のうち1つを有することが好ましい。例えば、希土類イオンとリン酸塩非限定的な例としてオキシアニオンの化学的相互作用は、マグネシウム及びアンモニウムとリン酸塩の化学的相互作用に比べて大きい。任意の例に限定されることは望まないが、希土類カチオンとリン酸塩との化学的相互作用は、アンモニウム及びマグネシウムとストラバイトNH4MgSO4内のリン酸塩との化学的相互作用に比べて大きいことが分かる。このように、希土類イオンは、実質的にストラバイト堆積物の除去、ストラバイト堆積物の形成抑制及び/又は防止、ストラバイト堆積物の厚さ増加抑制及び/又は防止、及びこれらの組み合わせのうち1つ以上を個々なうことができる。希土類カチオンは、3価酸化状態、4価酸化状態を有するか又は3及び4酸化状態を有するカチオンの混合物を含む。一部の実施形態によって、希土類含有組成物を、水において溶解された堆積物に接触させることにより含堆積物組成物を形成して、水から堆積物を除去する、及び/又は水処理システムの構成要素における堆積物の堆積を抑制及び/又は防止する。また、一部の構成において、含堆積物組成物の形成は、実質的に水において溶解されたほとんどの堆積物を除去して、実質的に堆積物減少溶液を形成する。さらに、一部の構成において、含堆積物組成物の形成は、実質的に水処理システム内の構成要素において堆積物形成を抑制及び/又は防止する。好ましくは、堆積物は、オキシアニオン含有物質を含み、及び/又は含堆積物組成物は、希土類及び又は希土類オキシアニオン組成物形態のオキシアニオンを含む。一部の実施形態によって、堆積物は、水において懸濁された粒子の形である。粒子は、平均粒子サイズを有する。また、一部の構成において、希土類含有組成物を粒子に接触させて、含堆積物組成物を形成し、堆積物を粒子から除去して粒子を溶解し、粒子から堆積物を除去して粒子の平均粒子サイズを減少させ、及び/又は粒子において含堆積物組成物を形成して、粒子の平均粒子サイズの増加を抑制する。好ましくは、粒子は、オキシアニオン含有物質を含み、及び/又は含堆積物組成物は、希土類及び希土類オキシアニオン組成物形態のオキシアニオンを含む。任意の理論に限定されることは望まないが、含堆積物組成物の形成により、実質的に粒子から粒子を含んだオキシアニオンを除去して、粒子の平均粒子サイズを減少させ、及び/又は粒子を溶解させる。平均粒子サイズ増加の抑制について、粒子において含堆積物組成物層を形成して、粒子における堆積物の堆積を実質的に妨害し、すなわち抑制して粒子の平均粒子サイズを増加させることが分かる。含堆積物組成物層は、連続又は不連続であってよい。含堆積物組成物層は、約1Å未満から約100Å超過の厚さであってよい。好ましくは、含堆積物組成物及び/又は含堆積物組成物層は、セリウム、ランタン、プラセオジミウム、ネオジミウム、サマリウム、及びこれらの組み合わせのうち少なくとも1つを含む。含堆積物組成物及び/又は含堆積物組成物層を含んだ希土類は、3価酸化状態、4価酸化状態、又は3価及び4価酸化状態の混合物のうち1つを有することが好ましい。含堆積物組成物は、コロイド及び/又は懸濁液の形であってよい。含堆積物組成物は、水及び/又は水処理システムから任意の固液分離法によって除去することができる。適した固液分離工程の非限定的な例は、分類法増粘法を含む、濾過真空及び/又は加圧濾過、サイクロン液体遠心分離機を含む、浮遊法、沈殿法重力沈殿法、凝固法、凝集法、及びこれらの組み合わせである。希土類含有層は、連続又は不連続層であってよい。希土類含有層の厚さは、約1Å未満から約100Å超過の厚さであってよい。好ましくは、希土類含有層は、セリウム3価、ランタン3価、プラセオジミウム3価、及びこれらの組み合わせのうち少なくとも1つを含む。図1は、水及び/又は水処理システムから堆積物を除去する実施形態による方法100を示す。ステップ110において、希土類及び/又は希土類含有添加物を、堆積物に接触させる。一般的に、堆積物は、水処理システムを含んだ1つ以上の構成要素に付着したスケール、水において懸濁された粒子及び/又は水において溶解された堆積物形態のうち1つ以上である。希土類及び/又は希土類含有添加物は、本開示の1つ以上の実施形態に記載の希土類、希土類含有組成物及び/又は希土類含有添加物のうち1つ以上を含むことができる。選択的なステップ120において、希土類及び/又は希土類含有添加物を含み、第1酸化状態を有する第1希土類は、酸化剤に接触され、第1希土類を第2酸化状態に酸化させる。第1希土類の第2酸化状態は、第1酸化状態よりも大きいことが分かる。酸化剤は、前記記載の任意の酸化剤を含むことができる。好ましくは、第1希土類はセリウムを含む。より好ましくは、第1希土類の第1酸化状態は、3価酸化状態であり、第1希土類の第2酸化は、4価酸化状態である。一部の実施形態において、第1酸化状態を有する第1希土類は、水溶性希土類であり、第2酸化状態を有する第1希土類は、水不溶性希土類を含む。好ましくは、第2酸化状態を有する第1希土類は、不溶性希土類組成物を含み、例えば、希土類酸化物、希土類水酸化物、希土類オキシ水酸化物、希土類水和酸化物、希土類水和オキシ水酸化物、又はこれらの混合物を含むが、これらに限定されない。より好ましくは、第2酸化状態を有する第1希土類は、CeO2及びCeIVOHxH2OyzH2Oを含み、x、yは正の実数であり、x、yに結合されたヒドロキシル及び水は、CeIVに化学的に配位結合された配位結合間の集団個体であり、zに結合された水は、CeIVと化学的に配位結合されていない外部の水を示し、すなわち、水はCeIVのs、p、d、及び/又はf軌道の1つ以上に実質的に結合されない。一般的に、xは、約0から約8、より一般的に約0から約4であってよい。一般的に、yは、約0から約8、より一般的に約2から約4であってよい。一般的にzは、約0から約10、より一般的に約0から約6であってよい。選択的なステップ130において、酸化された希土類は、堆積物に接触される。酸化された希土類は、選択的なステップ120で形成された希土類又はステップ110で希土類である。任意の例に限定されることは望まないが、ステップ110における希土類及び/又は希土類含有添加物は、第1及び第2酸化状態の混合物を有する希土類を含むことができ、第1酸化状態が第2酸化状態よりも低い。ステップ130において、含堆積物希土類組成物堆積物-希土類組成物は、堆積物をステップ110及び/又は130において希土類及び/又は希土類含有添加物に接触させて形成され得る。ステップ150において、堆積物は、堆積物をステップ110及び/又は130において希土類及び/又は希土類含有添加物に接触させて、水及び/又は水処理システムにおける堆積物が除去及び/又は抑制される。ステップ130及び150は、実質的に同時又は任意の手順で連続して実施できる。例えば、含堆積物物質の形成により、水及び/又は水処理システムにおける堆積物の形成を除去及び/又は実質的に抑制することができる。選択的ステップ160において、含堆積物物質は、水及び/又は水処理システムから、任意の固液分離工程により除去することができる。液体分離工程は、分類法増粘法を含む、濾過真空及び/又は加圧濾過、サイクロン液体遠心分離機を含む、浮遊法、沈殿法重力沈殿法、凝固法、凝集法、及びこれらの組み合わせのうち1つであってよい。[実施例][実施例A]NH4MgPO46H2Oを含んだストラバイト粒子を、NH4MgPO46H2Oに対して0.8、1.0、1.2及び1.5CeCl3の、様々なモル比を有するCeCl3溶液において混合した。それぞれストラバイトの質量は約0.2gであり、CeCl3の濃度は約0.5モル/Lであった。また、約0.1Lの脱イオン水で約0.2gのストラバイトの対照群を製造した。各溶液のpH値を4.3±0.2に調整した。磁気攪拌子を用いて各試料溶液を攪拌した。少なくとも約16時間の攪拌後に、溶液から固体を濾過した。濾過された固体をX線回折法によって分析し、溶液はICP-MSで分析した。最終溶液のpH値は、約pH4.6ないし約pH8.0であった。この結果をテーブル1に示す。[実施例B]ストラバイト、NH4MgPO46H2O粒子を様々な希土類塩化物を含んだ約0.1L溶液において混合した。希土類塩化物溶液は、LaCl3、CeCl3、PrCl3及びNdCl3の約0.15mol/L溶液であった。それぞれの希土類塩化物溶液に添加されたストラバイトの質量は、約0.2gであり、希土類塩化物のストラバイトに対するモル比は、約1.0であった。希土類塩化物溶液のpH値は、約pH4.3±0.2に調整した。磁気攪拌子を用いて各試料溶液を攪拌した。少なくとも約16時間攪拌した後、溶液から固体を濾過した。濾過された固体をX線回折法によって分析し、溶液はICP-MSで分析した。最終溶液のpH値は、約pH4.6から約pH8.0であった。この結果をテーブル2に示す。[実施例C]実施例Cは、0.15mol/L酸性塩化第二鉄、FeCl3溶液の約0.1LにおいてストラバイトNH4MgPO46H2O粒子約0.2gを混合した対照群である。塩化第二鉄のストラバイトに対するモル比は、約1.0であり、溶液の最初pHは約pH2.5であった。対照溶液の最初pHは、塩化第二鉄を含まないストラバイトを溶解するのに十分な低さであった。磁気攪拌子を用いて対照溶液を攪拌した。少なくとも約16時間攪拌した後、対照溶液から固体を濾過した。濾過された固体をX線回折法によって分析し、対照溶液はICP-MSで分析した。最終溶液のpH値は、約pH2.3であった。この結果をテーブル3に示す。実施例A-Cは、ストラバイトが塩化第二鉄などのその他の除去物質よりも希土類含有組成物によってさらに効果的に除去できることを示す。[実施例D]一部の実施形態によって、有機化合物及び/又は金属、メタロイド及び非金属形態のオキシアニオンは、希土類含有組成物により水から除去することができる。実験を行って脱イオン水及びNSF標準水から有機物及び汚染物を除去したテーブル4参照。[実施例E]一連の実験を行い、実験は、CeIII状態において、溶解性セリウム塩の添加により、pH2未満の高濃度の廃棄流れからAsV状態のヒ素の析出物を具現した後、水酸化ナトリウムNaOH溶液でpH6~10の範囲で滴定した。第1試験において、0.07125mol/L溶液NaH2AsO4の33.5mLを含んだ溶液400mLをビーカにて室温で攪拌した。pHを、4.0mol/LのHNO3を添加して、約pH1.5に調整した後、1.05gのCeNO336H2Oを添加した。セリウムIII塩の添加時に任意の析出物又は色の変化は認められなかった。NaOH1.0mol/Lを攪拌された溶液に滴加して、pHを10.1とした。pHは、磁気攪拌下で1.5時間、10.2±0.2に保持した。反応後、溶液を攪拌プレートから取り出して、12~18時間沈降させた。上清液を注ぎ、Ce及びAsのICP-MS分析のために保管した。固体を0.4μmセルロース膜で濾過して、500~800mLの脱イオン水で十分に洗浄した。固体を風乾し、X線回折法で分析した。第2試験において、シミュレートした廃棄流れ溶液をAs1,200ppm、F650ppm、Fe120ppm、S80ppm、Si50ppm、Ca35ppm、Mg25ppm、Zn10ppm、及び10ppm未満のAl、K、及びCuを用いて製造した。前記溶液のpHは、濃縮されたHCl12.1mol/LでpH0.4まで滴定し、前記溶液を70°Cまで加熱した。CeCl36.3mL、1.194mol/L溶液を熱溶液に添加し、pHを、NaOH20wt.、6.2mol/Lを滴加することによって、徐々にpH7.5まで増加した。溶液を70°Cで磁気攪拌下にて1.5時間寝かし、pHを7.5±0.2で保持した。加熱器から前記溶液を移し、12~18時間沈殿させた。上清液を注ぎ、Ce及びAsのICP-MS分析のために保管した。析出された固体を遠心分離して、2回洗浄した後、0.4μmセルロース膜で濾過し、500~800mLの脱イオン水で十分に洗浄した。固体を風乾してX線回折法で分析した。第3試験において、低pH浸出試験により安定性に関して新規なCe-As化合物の固体粉末を試した。0.5gの新規なCe-As化合物を10mL酢酸塩溶液に添加して、pHをpH2.9又はpH5.0に調整した。容器を封止して、22±5°Cの周囲温度にて1分あたり30±2回転数で18±2時間回転した。必要な回転時間の後、前記溶液を、0.2ミクロンフィルタを介して濾過し、固体から浸出されるCe及びAsについてICP-MSで分析した。1ppm未満のAsはICP-MSで検出した。図2は、新規なCe-As化合物三方晶系CeAsO4H2Ox実験及びシミュレーションの両方及びガスパーライト実験及びシミュレーションの両方で示されるに関するX線回折法XRDの結果を比較する。図3は、三方晶系CeAsO4H2Ox実験及びシミュレーションの両方、三方晶系BiPO4H2O0.67シミュレーションに関するXRD結果を比較する。XRD結果は、析出された結晶質化合物が単斜晶系空間群においてモナザイト構造に結晶化したガスパーライトCeAsO4とは構造的に異なり、三方晶系BiPO4H2O0.67とは非常に類似することを示す。異なる酸化状態を有するCe及びAsが実験は、新規なCe-As化合物がCeIII状態のセリウム及びAsV状態のヒ素を必要とすることを証明する。強塩基、例えば水酸化ナトリウムへのpH滴定が必要であると思われる。炭酸塩ナトリウムへのpH滴定は、ガスパーライトと三方晶系CeAsO4H2Oxの組み合わせと、ガスパーライト公知の自然発生化合物とのいずれかを生成する。セリウム塩化物及びセリウム硝酸塩の使用は、新規な化合物の合成に成功したことを証明した。その他の金属種、例えばマグネシウム、アルミニウム、シリコン、カルシウム、鉄、銅、及び亜鉛の存在が新規な化合物の合成を抑制することは示していない。フッ化物の存在は、ヒ素除去と張り合って、不溶性CdF3析出物を生成する。ヒ素及びセリウムのみを含んだ溶液は、Ce:As原子比1:1が新規な化合物を形成するのに好ましく、過剰のセリウムを含有した溶液は、新規な化合物以外に酸化セリウムCeO2析出物を生成した。また、新規な化合物は、pH2.9及びpH5.0の溶液において、1ppm未満のヒ素溶解を必要とする浸出試験を行った場合に非常に安定したことを示すと思われる。[実施例F]モリコープ社Molycorp,Inc.製のマウンテンパスMountainPass設備から得られた15mLCeO2を7/8内径カラムに入れた。脱塩素化水及び3.5×104/mlのMS-2を含有した流入水600mlを、CeO2層を介して6ml/min、10ml/min及び20ml/minの流速で流した。一連の希釈及び被覆を、大膓菌宿主で寒天重層法を用いて、サンプリングの5分内に行い、37°Cで24時間培養した。これらの試料の結果をテーブル5に示す。MS-2含有溶液で処理されたCeO2層を洗浄した。約600mlの脱塩素化水及び2.0×106/mlのクレブシェラ菌Klebsiellaterrgenaの溶液を製造し、カラムを10ml/min、40ml/min及び80ml/minの流速で通過させた。クレブシェラは、IdexxQuantitrayを用いて定量化し、37°Cで24時間以上培養した。これらの試料の結果をテーブル6に示す。前記MS-2及びクレブシェラ菌の抗原接種を行ったCeO2層を増加された流速でMS-2の第2次抗原接種を試した。脱イオン水2.2×105/mlのMS-2及び1000mLの脱塩素化水の溶液を製造して、80ml/min、120ml/min及び200ml/minの流速で前記層を通過させた。一連の希釈及び被覆を、大膓菌宿主で寒天重層法を用いて、サンプリングの5分内に行い、37°Cで24時間培養した。これらの試料の結果をテーブル7に示す。[実施例G]40.00gのセリウムを2.02gのAsIII又は1.89gのAsVを含有した溶液1.00Lに添加した。懸濁液は、24時間コース約5回周期で振盪した。懸濁液は濾過し、濾液からヒ素濃度を測定した。AsIIIについて、ヒ素濃度を11ppmまで減少させた。AsVについて、ヒ素濃度は約1g/Lであり、pHを濃縮HClの3mLを添加して調整した。懸濁液は、0.45ミクロンのトラックエッチングされたポリカーボネート膜を有する真空フィルタを用いて濾過した。溶液のうちヒ素の最終又は残存濃度をICP-AESで測定した。固体を定量的に保持して、250mLのDI水において約15分間再懸濁した。洗浄懸濁液は、ヒ素分析の前に濾過し、濾過された固体を重量ボートに移して、ベンチトップで4時間放置した。濾過された固体の重量を測り、各試料が固体5g及び水分3.5g及び吸着された塩を含有するように算出された水分を考慮して8つ部分に分けた。それぞれの含ヒ素固体AsIII又はAsVの1つの試料の重量を測って、24時間乾燥オーブンに移した後、さらに重量を測って水分含有量を決定した。含ヒ素セリア試料の重量を測り、抽出溶液を含有した50mLの遠心分離チューブに移したテーブル8。前記溶液H2O2は除くは、20時間の接触時間を有するが、振盪によって間欠的に混合した。過酸化水素は、2時間含ヒ素固体に接触させて、50°Cまでマイクロ波で加熱して反応を促進した。8.5gの含ヒ素セリア試料を他の抽出試験と同じ期間、蒸留DI水45mLに添加した対照試料を製造した。第1抽出試験は、新たに製造された1NNaOH、45mLを用いた。ヒ素の放出可能性を上げるために、20NaOH溶液も分析した。競争反応を調べるために、10のシュウ酸、0.25Mのリン酸塩、及び1g/Lの炭酸塩を抽出溶液として用いた。還元経路を試すために、5gの含ヒ素セリアを0.1Mのアスコルビン酸45mLに添加した。また、酸化経路には30mLのDI水を添加した2mLの30H2O2を用いるものとしてみなされた。選ばれた脱離反応が発生するのに十分な経過時間後に、試料をそれぞれ遠心分離して、上清液を除去し、0.45ミクロンのシリンジフィルタを用いて濾過した。濾液からヒ素含有量を分析した。リトマス紙を用いて濾過された溶液の概略的なpHを得た。酸化還元変化に基づく反応から多くのヒ素放出が認められないため、放置した含ヒ素固体を15mLの1NNaOH及び10mLのDI水で1時間洗浄した後、さらに遠心分離して、濾過した後に分析した。このような脱離実験の結果をテーブル16に示す。つまり、AsIIIの脱離が小さな程度に生じたことが分かる。一方、AsV吸着は、pHに非常に敏感であり、pHが11又は12を超えて上昇すると、AsVを脱離させることができる。AsV吸着は、増加された濃度で存在した、その他の蜜に吸着したアニオンとの表面部位における競争にも敏感である。AsIIIをAsVに変質させるために、過酸化水素又は他の酸化剤を用いることは比較的に成功であり、H2O2で処理した後にpHをNaOHで増加させた場合に、多量のヒ素を回収した。しかし、NaOHを添加するまではヒ素がほとんど脱離しなかった。これは、塩基性pH水準又は塩基化がセリアによるAsV除去に対して干渉として作用することができることを示している。アスコルビン酸塩は、ロードされた媒体において著しい色変化を起こすため、セリア表面からAsIII又はAsVの除去に成功しなかった。これに対し、シュウ酸塩は、検出可能な量の吸着されたAsIII及びかなり多量のAsVを放出した。[ヒ素]テーブル8-9は、試験変数及び結果を示す。テーブル8:ヒ素脱離法の証明のために、酸化セリウム表面にヒ酸塩及び亜ヒ酸塩をロードしたもの。テーブル9:ヒ素脱離法の証明のために、酸化セリウム表面にヒ酸塩及び亜ヒ酸塩をロードしたもの。[実施例H]実施例Hは、水溶性セリウムIIIを酸化剤に接触させて、不溶性セリウムIVを形成したものである。酸化剤は、塩素を含有した水溶液である。塩化セリウムIIIから2つのセリウムIIIの水溶液を製造した。1つの溶液は、約1×10-3MのセリウムIIIであり、他の1つの水溶液は、約1×10-4MのセリウムIIIであった。約1×10-3MのセリウムIII溶液を、100ppm塩素を含有した水溶液に接触させて、約1×10-4MのセリウムIII溶液を、10ppm塩素を含有した水溶液に接触させた。それぞれのセリウムIII溶液をそれぞれの塩素溶液に後、濾過して濾液にX線回折法を行った。図4a-cは、セリウムIII含有溶液を塩素含有水溶液に接触した前後のX線回折パターンを示す。図4bは、酸化セリウムIV、CeO2を示すX線回折パターンである。すなわち、X線回折パターンは、約28、32.5、47及び56Cu-2シータでピークを含んでいた。すなわち、100ppmの塩素溶液は、実質的に1×10-3MセリウムIII溶液に含有されたセリウムIIIを実質的に酸化して、実質的に十分なセリウムIVを生成し、形成されたセリウムIVのX線回折、すなわちCeO2を示すX線回折パターンを得た。同様に、塩素溶液に接触する前に1×10-3M及び1×10-4MセリウムIIIを濾過して、得られた濾液をX線回折法によって分析した図4a及びd参照が、どちらのセリウムIII溶液は、検出可能な量のセリウムIVを含んでいない。図4dは、10ppm塩素溶液に接触した後に1×10-4MセリウムIII溶液から得られた濾液のX線回折パターンを示す。このX線回折パターンでは、約28、32.5、47及び56Cu-2シータでピークが存在しない。すなわち、酸化セリウムIVが形成されなかったか又は形成された酸化セリウムIVの量は、X線回折分析において微量水準以下である。すなわち、形成されたセリウムIVの量は、X線分析法順序の検出限度未満である。同様に、1×10-3M及び1×10-4MセリウムIII溶液の通気すなわち、溶液を介して空気注入は、検出可能な量の酸化セリウムIVを生成しなかった。本開示の多くの変形及び改質を用いることができる。本開示の1つ以上の実施形態は、別に又は組み合わせて用いることができる。すなわち、任意の実施形態は、単独で、又は全ての組み合わせ及び順列を用いることができる。本開示の特徴の一部を提供し、その他の特徴は提供しない。多様な実施形態、構造又は様相における本開示は、多様な実施形態、構造、様相、下部組み合わせ及び部分を含む、実質的に本願において説明し、開示したような、構成成分、方法、工程、システム及び/又は装置を含む。当業者は、本開示を理解した後に多様な実施形態、構造又は様相を作って用いる方法を理解するだろう。多様な実施形態、構造、及び様相において、本開示は、既存の装置又は方法で用いられたアイテムなしに、例えば性能改善、容易に達成及び/又は操作費用減少を含んだ、本願に記載及び/又は説明していないアイテムを含まず、多様な実施形態、構造又は様相の装置及び方法を提供する。前記考察は、説明するために提示したものである。本開示は本願に開示された形態に限定しない。前記発明を実施するための形態において、例えば、本開示を簡略化するために、1つ以上の実施形態、構造又は様相において本開示の多様な特徴が集められている。本開示の実施形態、構造又は様相の特徴は、前記以外に他の実施形態、構造又は様相と結合できる。本開示の方法は、任意の請求項及び/又は請求範囲の組み合わせがそれぞれの請求項において引用されたよりも多くの特徴を必要とする意図を反映したものとしては解釈されない。むしろ、次の請求範囲が反映するとき、発明の様相は、前記1つの実施形態、構造又は様相の全ての特徴よりも少なく存在する。このように、次の請求範囲は、それぞれ別の好ましい実施形態として記載した詳細な説明に含む。また、1つ以上の実施形態、構造、又は様相の説明及び特定の変形及び改質、その他の変形、組み合わせ及び改質が本開示の範囲内にあっても、例えば、本開示を理解した後に公知技術内にあり得る。代替的、相互交換可能な及び/又は同等な構造、機能、範囲又はステップが本願に開示されており、任意の特許性に公開的に従属しない、このように主張された代替的、相互交換可能な及び/又は装置構造、機能、範囲又はステップを含む許可された程度でまた他の実施形態、構造又は様相を含んだ権利を得るものとして意図される。"