"第1の金属酸化物粒子および第1の水溶性高分子を含有する高屈折層と、第2の金属酸化物粒子および第2の水溶性高分子を含有する低屈折層と、前記高屈折層と前記低屈折層との間に位置し、前記第1の金属酸化物粒子、前記第2の金属酸化物粒子、および第3の水溶性高分子を含有する混在層と、を有する積層ユニットを有し、前記低屈折層の屈折率は前記高屈折層の屈折率よりも0.1以上小さく、前記第1の金属酸化物粒子と前記第2の金属酸化物粒子とは異なる金属酸化物である、近赤外反射フィルム。前記混在層の厚みが、第1の金属酸化物粒子または第2の金属酸化物粒子の一方の金属酸化物粒子のみを含有する隣接層の最大金属酸化物含有率の75以上が存在する膜厚に対して5~50である、請求項1に記載の近赤外反射フィルム。前記混在層において、前記第1の金属酸化物粒子と前記第2の金属酸化物粒子との比率が連続的に変化する、請求項1または2に記載の近赤外反射フィルム。前記混在層は、前記高屈折層と前記低屈折層とを構成する塗布液を同時重層塗布することにより設けられる、請求項1~3のいずれか1項に記載の近赤外反射フィルム。前記高屈折層または前記低屈折層において、前記水溶性高分子と前記金属酸化物粒子との質量比水溶性高分子の質量/金属酸化物粒子の質量が0.3~10の範囲である、請求項1~4のいずれか1項に記載の赤外反射フィルム。前記積層ユニットは、光学膜厚が異なる複数の高屈折層および低屈折層が積層されて構成される、請求項1~5のいずれか1項に記載の赤外反射フィルム。請求項1~6のいずれか1項に記載の近赤外反射フィルムが基体の少なくとも一方の面に設けられたことを特徴とする近赤外反射体。第1の水溶性高分子および第1の金属酸化物粒子を含有する第1の塗布液と、第2の水溶性高分子および第2の金属酸化物粒子を含有する第2の塗布液とを同時重層塗布することにより、屈折率の異なる2つの層と、前記屈折率の異なる2つの層の間に位置する異なる金属酸化物粒子の比率が連続的に変化する混在層と、を形成することを有する、近赤外反射フィルムの製造方法。前記第1の塗布液および前記第2の塗布液の同時重層塗布からセットするまでの時間を5分以内にする、請求項8に記載の赤外反射フィルム。本発明の一形態によれば、第1の金属酸化物粒子および第1の水溶性高分子を含有する高屈折層と、第2の金属酸化物粒子および第2の水溶性高分子を含有する低屈折層と、前記高屈折層と前記低屈折層との間に位置し、前記第1の金属酸化物粒子、前記第2の金属酸化物粒子、および第3の水溶性高分子を含有する混在層と、を有する積層ユニットを有し、前記低屈折層の屈折率は前記高屈折層の屈折率よりも0.1以上小さく、前記第1の金属酸化物粒子と前記第2の金属酸化物粒子とは異なる金属酸化物である、近赤外反射フィルムが提供される。すなわち、本発明は、金属酸化物粒子および水溶性高分子を含有する、少なくとも2層の屈折率差が0.1以上である高屈折層と低屈折層の積層ユニットを含む近赤外線反射フィルムにおいて、高屈折層および低屈折層がそれぞれ異なる即ち屈折率の異なる異種の金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子を含有し、両層の間に、両層が含有する、異なる異種の金属酸化物粒子が混在した領域混在層が存在することを特徴とする。まず、添付した図面を参照しながら、本形態の近赤外反射フィルムの基本的な構成を説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態のみには制限されない。図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。図1は、本発明の一実施形態である近赤外反射フィルム以下、単にフィルムともいうの基本構成を示す概略図である。図1に示すように、本実施形態のフィルム1は、積層ユニット10を有する。積層ユニット10は、通常、フィルム支持体14上に形成される。すなわち、フィルム1は、積層ユニット10とフィルム支持体14とを有する。積層ユニット10は、低屈折層12と、高屈折層11と、低屈折層12および高屈折層11の間に位置する混在層13と、を有する。図1に示す実施形態においては、屈折率が互いに異なる2つの層低屈折層12、高屈折層11が交互に積層され、その2つの層の間に混在層13が配置されている。ただし、フィルム1はかような形態に制限されるわけではなく、屈折率の異なる3種類以上の層を積層した形態であってもよい。図1に示す形態では、低屈折層12/混在層13/高屈折層11の積層体が混在層13を介して6つ積層されて積層ユニット10が構成されている。ただし、本発明において積層ユニット10は、低屈折層12/混在層13/高屈折層11の積層体を少なくとも1つ含んでいればよく、低屈折層12/混在層13/高屈折層11の3層のみから構成されていてもよいし、低屈折層12/混在層13/高屈折層11の積層体を2~5つ、あるいは、7つ以上積層させて構成されていてもよい。本実施形態においては、全ての低屈折層12と高屈折層11とが混在層13を介して積層されているが、積層ユニット10は少なくとも1つの混在層13を有していればよく、積層ユニット10中に低屈折層12と高屈折層11とが直接隣接した部分が存在してもよい。本実施形態においては、積層ユニット10の2つの最外層にはそれぞれ低屈折層12と高屈折層13とが配置されている。ただし、積層ユニット10の2つの最外層は同一の層、すなわち、2つの最外層の両方を低屈折層12もしくは高屈折層11としてもよい。かかる場合には、低屈折層12/混在層13/高屈折層11を積層させた積層体の最外層に位置する低屈折層12または高屈折層11の上面に高屈折層11または低屈折層12をさらに積層させればよい。ただし、層構成としては、フィルム支持体14と隣接する、積層ユニット10の一方の最外層は低屈折層12であることが好ましく、より好ましくは、フィルム支持体14と隣接していない積層ユニット10の他方の最外層も低屈折層12である。以下、本発明の各構成要件について詳細に説明する。近赤外反射フィルム本発明の近赤外反射フィルムは、高分子フィルムに互いに屈折率が異なる膜低屈折層12、高屈折層11を積層させた多層膜積層ユニット10を有し、JISR3106-1998で示される可視光領域の透過率が50以上で、かつ、波長900nm~1400nmの領域に反射率40を超える領域を有する。そして、多層膜積層ユニット10は、高屈折層11と低屈折層12との間に、第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子を含有する混在層13を有する。フィルム支持体本発明に用いられるフィルム支持体14としては、種々の樹脂フィルムを用いることができ、ポリオレフィンフィルムポリエチレン、ポリプロピレン等、ポリエステルフィルムポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム以降ポリエステルと称すとしては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、2,7-ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシエトキシフェニルプロパン、ビス4-ヒドロキシフェニルスルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や2,6-ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや1,4-シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6-ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。本発明に用いられるフィルム支持体の厚みは、10~300μm、特に20~150μmであることが好ましい。また、本発明のフィルム支持体は、2枚重ねたものであっても良く、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。高屈折層、低屈折層高屈折層11は第1の金属酸化物粒子および第1の水溶性高分子を含有して構成され、低屈折層12は第2の金属酸化物粒子および第2水溶性高分子を含有して構成される。そして、第1の金属酸化物粒子と前記第2の金属酸化物粒子とは異なる金属酸化物である。すなわち、フィルム1は、高屈折層および低屈折層に、それぞれ異なる金属酸化物粒子を含有する。したがって、高屈折層は第1の金属酸化物粒子を含有し、第2の金属酸化物粒子を実質的に含有しない層を指し、低屈折層は第2の金属酸化物粒子を含有し、第1の金属酸化物粒子を実質的に含有しない層を指す。高屈折層は第2の金属酸化物粒子を全く含まないことが好ましいが、本発明の効果を損なわない範囲内で、第2の金属酸化物粒子を含みうる。同様に、低屈折層は第1の金属酸化物粒子を全く含まないことが好ましいが、本発明の効果を損なわない範囲内で、第1の金属酸化物粒子を含みうる。屈折率差本発明においては、少なくとも隣接した2層高屈折層11及び低屈折層12の屈折率差が0.1以上であり、好ましくは0.2以上であり、より好ましくは0.3以上であり、更に好ましくは0.45以上である。また、上限には特に制限はないが通常1.4以下である。なお、本発明においては、高屈折層11と低屈折層12との間に混在層13が存在するが、上記の隣接した高屈折層と低屈折層との屈折率差は、混在層13を介して隣接する高屈折層と低屈折層との屈折率差を示し、高屈折層の屈折率高屈折層の最大屈折率点と低屈折層の屈折率低屈折層の最低屈折率点の差をいうものとする。また、本発明の近赤外反射フィルムにおいては、高屈折層の好ましい屈折率としては1.70~2.50であり、より好ましくは1.80~2.20である。また、低屈折層の好ましい屈折率としては1.10~1.60であり、より好ましくは1.30~1.55である。高屈折層および低屈折層の屈折率は、第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子の種類や含有率を調整することによって制御されうる。なお、高屈折層および低屈折層の屈折率は後述する実施例に記載するように、高屈折層、低屈折層をそれぞれ単層で塗設したサンプルを作成し、分光光度計を用いて当該サンプルの可視光線反射率を測定することにより測定することができる。隣接した層界面での反射は、層間の屈折率差すなわち、高屈折層11及び低屈折層12の屈折率差に依存するのでこの屈折率差が大きいほど、反射率が高まる。また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、nd=波長/4、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御でき、反射率を上げることができる。ここで、nは屈折率、またdは層の物理膜厚、ndは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御出来る。波長900nm~1400nmにおいて、この関係を利用して、各層の膜厚を制御して、可視光の透過、近赤外光の反射を制御する。即ち、各層の屈折率、各層の膜厚、各層の積層のさせ方で、特定波長領域の反射率をアップさせる。なお、後述するように、高屈折層、低屈折層を同時重層して積層ユニットを作成する場合、高屈折層及び低屈折層の境界が混合領域混在層となり、高屈折層11と低屈折層12との層界面の位置が明瞭でない場合もあり得る。このように高屈折層11と低屈折層12との間にシャープな界面が存在しない場合であっても、高屈折層11と低屈折層12と混在層の各層の屈折率、各層の膜厚、各層の積層のさせ方を適切に設定することにより、上記のような反射特性の制御が可能となる。太陽直達光の入射スペクトルのうち赤外域が室内温度上昇に関係し、これを遮蔽することで室内温度の上昇を抑えることができる。日本工業規格JISR3106に記載された重価係数をもとに赤外の最短波長760nmから最長波長3200nmまでの累積エネルギー比率をみてみると、波長760nmから最長波長3200nmまでの赤外全域の総エネルギーを100としたときの、760nmから各波長までの累積エネルギーをみると、760から1300nmのエネルギー合計が赤外域全体の約75を占めている。従って、1300nmまでの波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による省エネルギー効果がもっとも効率がよい。この近赤外域760~1300nmの反射率を最大ピーク値で約80以上にすると体感温度の低下が官能評価により得られる。たとえば8月の午前中の南東方法を向く窓際での体感温度が近赤外域の反射率を最大ピーク値で約80にまで遮蔽したとき明確な差がでた。このような機能を発現するのに必要となる多層膜構造を光学シミュレーションFTGSoftwareAssociatesFilmDESIGNVersion2.23.3700で求めた結果、屈折率が1.9以上、望ましくは2.0以上である高屈折層を利用し、高屈折層と低屈折層とを合計6層以上積層した場合に優れた特性が得られることがわかっている。例えば、高屈折層と低屈折層屈折率=1.35とを交互に8層積層したモデルのシミュレーション結果をみると、高屈折層の屈折率が1.8では反射率が70にも達しないが、1.9になると約80の反射率が得られる。また、高屈折層屈折率=2.2と低屈折層屈折率=1.35を交互に積層したモデルでは、積層数が4では反射率が60にも達していないが、6層になると約80の反射率が得られる。このように光学膜厚を変化させることで反射する光の波長をコントロール出来るので、前記高屈折層と低屈折層を交互に積層させたユニットにおいて、高屈折層と低屈折層の光学膜厚が異なるユニットを複数のセット積層した構成とすることで、反射する光の範囲を広げて、近赤外のみでなく、赤外又可視光領域の一部までを反射する赤外反射フィルムとすることができる。即ち、本発明の一実施形態において、積層ユニットは、光学膜厚が異なる複数の高屈折層および低屈折層が積層されて構成される。例えば、光学膜厚違いの積層体を3セット積層することで赤外反射域が太ることで、日射遮蔽効果を高めることが出来る。光学膜厚を変化させるには各層の塗布厚みを変化させればよい。これにより、前記最高屈折率点及び最低屈折率点間の距離が変化すると共に光学膜厚も変化する。混在層本発明においては上記のような高屈折層と低屈折層との交互積層体からなる基本構成を採りつつも、混在層混在領域13が、高屈折層11と低屈折層12との間に存在することを特徴としている。これにより、例えば、曲面加工を行ったときに等、面内での屈折率ムラに起因する干渉ムラ虹彩ムラ等を軽減することができる。混在層13は第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子、および第3の水溶性高分子を含有して構成される。混在領域混在層は、異なった金属酸化物微粒子第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子同士の比率が複数段階で変化していることが好ましい。すなわち、混在層は、第1の金属酸化物粒子と第2の金属酸化物粒子との比率が異なる複数の層を含みうる。これにより、第1の金属酸化物粒子の比率濃度および第2の金属酸化物粒子の比率濃度を混在層の厚さ方向に段階的に増加または減少させることができる。更に好ましくは、前記異なる金属酸化物粒子が混在する混在層混在領域において、金属酸化物粒子の比率、すなわち、前記第1の金属酸化物粒子と前記第2の金属酸化物粒子との比率が連続的に変化していることである。高屈折層と低屈折層との間に金属酸化物粒子の比率が連続的に変化した混在層を設けることにより、広範囲の赤外反射域と可視光域の高次反射を防止し、さらに膜はがれ等の耐久性を向上した安価な赤外反射フィルムおよび赤外反射フィルムを少なくとも一方の面に設けた赤外反射体を得ることができる。従来から、屈折率の異なる層を交互積層し光学膜厚を調整することで、赤外線を反射するように設計できることは知られている。しかし、屈折率の異なる層を交互積層したのみでは、可視光領域に高次の反射を示し、色のついたフィルムになってしまうおそれがある。これを防止する方法として、例えば、高屈折層A屈折率nA及び低屈折層C屈折率nCからなる交互積層ユニットによって赤外反射フィルムを構成する場合、屈折率の関係がnB=nAnC0.5の関係を持つ屈折率の異なる層Bを前記高屈折層A及び低屈折層Cとともに、ABCBの順でこれを交互積層し、さらに各層の光学膜厚の比率がA1/3、B1/6、C1/3になるように設定した交互積層ユニットを有するポリマーフィルムの積層体が開示されている例えば、特許第3067863号公報など。本発明は、基本的にはこのような構成を採りつつも、高屈折層と低屈折層が入れ子状態になり、即ち、それぞれの層を構成する高屈折率材料と低屈折率材料の存在量が入れ子状態になっており、高屈折率領域と低屈折率領域の間に前記高屈折層と低屈折層が混合した混合領域混在層を設けたことを特徴とするものである。金属酸化物粒子の比率が連続的に変化した混在層は、後述するような高屈折層と前記低屈折層とを構成する塗布液を同時重層塗布する方法によって製造することができ、高屈折層、低屈折層を同時重層して積層ユニットを作成する場合、高屈折層及び低屈折層の境界が混合領域混在層となる。高屈折層塗布液と低屈折層塗布液を同時重層塗布すると、セットまでの時間において、各塗布液構成成分高屈折率材料と低屈折率材料が混じり合い、結果として界面に高屈折率材料第1の金属酸化物粒子と低屈折率材料第2の金属酸化物粒子が混じり合い、入れ子状態となって、この比率が連続的に変化する混合領域が形成する。具体的には、高屈折層塗布液A屈折率nA及び低屈折層塗布液C屈折率nCを用いて交互積層を同時重層塗布により形成すると、それぞれの層が混合した領域混在層中に、平均で屈折率が略nB=nAnC0.5の関係となるよう屈折率が連続的に変化する領域前記層Bに相当するを形成する。これらの混在層の屈折率の膜厚方向のプロファイルは、それぞれの層が混合し屈折率が交互に連続的に変化する構造の中で、最大屈折率に対して屈折率が2/3×nA-nCnCの値になる位置が最大屈折率から最小屈折率までの幅層厚に対して最大屈折率点から0.9/3~1.1/3の範囲にあるよう、また、最小屈折率の1/3×nA-nCnC倍になる位置が最大屈折率から最小屈折率までの幅層厚に対して最小屈折率点から0.9/3~1.1/3の範囲にあるよう連続した屈折率プロファイルをもつことが好ましい。このような連続的な屈折率の変化を持たせることで、前記の交互積層構造に相当させると共に、また、屈折率が段階的変化ではなく、連続的、かつなめらかに変化することで、赤外反射波長領域に近いサイドバンド領域の反射も抑えることが出来る赤外反射フィルムが得られる。混在層の屈折率プロファイルはサインカーブを示すのが好ましい。したがって、積層ユニット10は、前記の如く、高屈折層A、及び低屈折層Cと略nB=nAnC0.5の関係となる中間の屈折率を有する層Bを前記高屈折層A及び低屈折層Cとともに、ABCBの順で各層が明確に交互積層されたものではなく、高屈折層塗布液と低屈折層塗布液を同時重層することによって、高屈折層高屈折領域から低屈折層低屈折領域へとその混合領域混在層において屈折率が連続的に変化する構造を有する積層体であることが好ましい。本発明に係るこれらの構成は、高屈折層塗布液と、低屈折層塗布液とを同時重層塗布することで得ることができ、生産性もよく、大面積で生産可能であり、また、サイドバンドに起因する反射も減らすことが出来且つ高次反射に起因する着色も抑え可視光透過率を低減することができ、好ましい。同時重層塗布による前記高屈折層と低屈折層の混合領域混在層を形成した積層ユニットにおいて、前記屈折率プロファイルは、これらの積層膜における膜厚方向での金属酸化物濃度プロファイルを測定することで知ることができる。すなわち、積層膜の膜厚方向での金属酸化物濃度プロファイルから組成によって屈折率に換算することができる。積層膜の金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、XPS表面分析装置を用いて、最表面を0nmとして、0.5nm/minの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで観測することが出来る。また、積層膜を切断して切断面をXPS表面分析装置で原子組成比を測定することで見ることも可能である。混合領域において金属酸化物の濃度が不連続に変化している場合には電子顕微鏡TEMによる断層写真により境界を把握することができる。XPS表面分析装置としては、特に限定なく、いかなる機種も使用することができるが、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB-200Rを用いた。X線アノードにはMgを用い、出力600W加速電圧15kV、エミッション電流40mAで測定する。異なる金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子が混在する領域混在層13の厚みは、第1の金属酸化物粒子または第2の金属酸化物粒子の一方の金属酸化物粒子のみを含有する隣接した層高屈折層11または低屈折層12の最大金属酸化物含有率の75以上が存在する膜厚に対して5~50であることが好ましく、より好ましくは10~30の範囲である。干渉ムラ軽減効果を得るためには、混在領域の厚みは5以上必要であり、また、充分な近赤外反射効果を得るため50以下であることが好ましい。図2で、これを説明する。図2は、交互積層された例えば低屈折層12である二酸化ケイ素含有層と、高屈折層11である二酸化チタン含有層と、両層の間に存在する金属酸化物粒子の比率が連続的に変化している二酸化ケイ素および二酸化チタンが混在する領域について、金属酸化物粒子数量縦軸と、膜厚横軸の関係をモデル的に示したグラフである。図2は、図1の領域20の厚さ方向における金属酸化物粒子数量の変化をプロットしたものに相当する。図2において、二酸化ケイ素含有層と二酸化チタン含有層との間には、二酸化ケイ素と二酸化チタンの両者の混合領域があり、これは図2で、c、d間、膜厚横軸で0.35~0.4の間であり厚みとしては0.05になる。図2において、膜厚横軸が0.1~0.3の領域は、一方の金属酸化物この場合SiO2の粒子数が3となっており、二酸化ケイ素含有層における金属酸化物SiO2の含有率が最大となっている。すなわち、図2において、二酸化ケイ素含有層の最大金属酸化物含有率は3であり、二酸化ケイ素含有層における金属酸化物SiO2の含有率が3×0.75=2.25となる膜厚横軸で0.075aと0.325の部分bが、一方の金属酸化物この場合SiO2の含有率が最大金属酸化物含有率の75となる領域である。よって、この場合、二酸化ケイ素含有層において、最大金属酸化物含有率の75以上が存在する膜厚は、図2でa、b間にあたる膜厚、即ち、0.075~0.325の間となる。なお、0.35の部分は一方の金属酸化物すなわち、SiO2しか含有していないが75未満なので該当しない。この場合、最大金属酸化物この場合二酸化ケイ素含有率の75以上が存在する膜厚としては、従って0.25である。上述したように、二酸化ケイ素と二酸化チタンの両者の混合領域の厚み図2のc、d間は0.05であるので、この場合、最大金属酸化物含有率の75以上が存在する膜厚である前記0.25に対しては、比率は20になる。交互積層された高屈折層と低屈折層に加え両者間にこのような混在領域混在層を持つことを本発明は特徴とする。金属酸化物粒子本発明の金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子は、上記低屈折層、または高屈折層、さらには混在層を構成するときに用いられる。上記の目的で使用される金属酸化物としては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズ、等を挙げることができる。中でも、金属酸化物粒子として、二酸化チタン、二酸化ケイ素、及びアルミナから選ばれた固体微粒子を用いることが好ましい。アルミナまたはアルミナ水和物は、結晶性であっても非晶質であってもよく、また不定形粒子、球状粒子、針状粒子など任意の形状のものを使用することができる。第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子はそれぞれ1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、高屈折層に含まれる第1の金属酸化物粒子と低屈折層に含まれる第2の金属酸化物粒子とは異なる金属酸化物である必要がある。ただし、第1の金属酸化物粒子および/または第2の金属酸化物粒子が2種類以上の金属酸化物を含む場合、少なくとも1つの金属酸化物が第2の金属酸化物の少なくとも1つと異なっていればよい。すなわち、例えば、第1の金属酸化物粒子が二酸化チタンおよびアルミナを含み、第2の金属酸化物粒子が二酸化ケイ素およびアルミナを含む形態も本発明に含まれる。また、第1の金属酸化物粒子および/または第2の金属酸化物粒子が2種類以上の金属酸化物を含む場合の、高屈折層または低屈折層の最大金属酸化物含有率とは、高屈折層または低屈折層に含まれる金属酸化物の合計量から算出するものとする。金属酸化物粒子の平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折層低屈折層、高屈折層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値個数平均として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。金属酸化物粒子は、その粒径が100nm以下であり、4~50nm、より好ましくは4~30nmであることが好ましい。金属酸化物微粒子は、水溶性ポリマーと混合する前の微粒子分散液が一次粒子まで分散された状態であるのが好ましい。金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子の種類、含有率は、高屈折層および低屈折層の所望の屈折率が得られるよう適宜決定すればよい。中でも、高屈折層に含有される第1の金属酸化物粒子としては、TiO2、ZnO、ZrO2が好ましく、高屈折層を形成するための後述の金属酸化物粒子含有組成物の安定性の観点ではTiO2二酸化チタンゾルがより好ましい。また、TiO2の中でも特にアナターゼ型よりルチル型の方が、触媒活性が低いために高屈折層や隣接した層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高いことから好ましい。二酸化チタン二酸化チタンゾルの製造方法ルチル型微粒子二酸化チタンの製造方法における第1の工程は、二酸化チタン水和物をアルカリ金属の水酸化物及びアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される少なくとも1種の塩基性化合物で処理する工程工程1である。二酸化チタン水和物は、硫酸チタン、塩化チタン等の水溶性チタン化合物の加水分解によって得ることができる。加水分解の方法は特に限定されず、公知の方法を適用することができる。中でも、硫酸チタンの熱加水分解によって得られたものであることが好ましい。上記工程1は、例えば、上記二酸化チタン水和物の水性懸濁液に、上記塩基性化合物を添加し、所定温度の条件下において、所定時間処理する反応させることにより行うことができる。上記二酸化チタン水和物を水性懸濁液とする方法は特に限定されず、水に上記二酸化チタン水和物を添加して攪拌することによって行うことができる。懸濁液の濃度は特に限定されないが、例えば、TiO2濃度が懸濁液中に30~150g/Lとなる濃度であることが好ましい。上記範囲内とすることによって、反応処理を効率よく進行させることができる。上記工程1において使用するアルカリ金属の水酸化物及びアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される少なくとも1種の塩基性化合物としては特に限定されず、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等を挙げることができる。上記工程1における上記塩基性化合物の添加量は、反応処理懸濁液中の塩基性化合物濃度で30~300g/Lであることが好ましい。上記工程1は、60~120°Cの反応処理温度で行うことが好ましい。反応処理時間は、反応処理温度によって異なるが、2~10時間であることが好ましい。反応処理は、二酸化チタン水和物の懸濁液に、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムの水溶液を添加することによって行うことが好ましい。反応処理後、反応処理混合物を冷却し、必要に応じて塩酸等の無機酸で中和した後、濾過、水洗することによって微粒子二酸化チタン水和物を得ることができる。また、第2の工程工程2として、工程1によって得られた化合物をカルボン酸基含有化合物及び無機酸で処理してもよい。ルチル型微粒子二酸化チタンの製造において上記工程1によって得られた化合物を無機酸で処理する方法は公知の方法であるが、無機酸に加えてまたは無機酸に代えてカルボン酸基含有化合物を使用して、粒子径を調整することができる。上記カルボン酸基含有化合物は、-COOH基を有する有機化合物である。上記カルボン酸基含有化合物としては、2以上、より好ましくは2以上4以下のカルボン酸基を有するポリカルボン酸であることが好ましい。上記ポリカルボン酸は、金属原子への配位能を有することから、配位によって微粒子間の凝集を抑制し、これによって好適にルチル型微粒子二酸化チタンを得ることができるものと推測される。上記カルボン酸基含有化合物としては特に限定されず、例えば、蓚酸、マロン酸、琥珀酸、グルタル酸、アジピン酸、プロピルマロン酸、マレイン酸等のジカルボン酸;リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等のヒドロキシ多価カルボン酸;フタル酸、イソフタル酸、ヘミメリト酸、トリメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸;エチレンジアミン四酢酸等を挙げることができる。これらの中から、2種以上の化合物を同時に併用するものであってもよい。なお、上記カルボン酸基含有化合物の全部又は一部は、-COOH基を有する有機化合物の中和物例えば、-COONa基等を有する有機化合物であってもよい。上記無機酸としては特に限定されず、例えば、塩酸、硫酸、硝酸等を挙げることができる。上記無機酸は、反応処理用液中の濃度が0.5~2.5モル/L、より好ましくは0.8~1.4モル/Lになるように加えるとよい。上記工程2は、上記工程1によって得られた化合物を純水中に懸濁させ、攪拌下、必要に応じて加熱して行うことが好ましい。カルボン酸基含有化合物及び無機酸の添加は同時であっても順次添加するものであってもよいが、順次添加することが好ましい。カルボン酸基含有化合物及び無機酸の両方を添加する場合、添加は、カルボン酸基含有化合物添加後に無機酸を添加するものであっても、無機酸添加後にカルボン酸基含有化合物を添加するものであってもよい。例えば、上記工程1によって得られた化合物の懸濁液中にカルボキシル基含有化合物を添加し、加熱を開始し、液温が60°C以上、好ましくは90°C以上になったところで無機酸を添加し、液温を維持しつつ、好ましくは15分~5時間、より好ましくは2~3時間攪拌する方法方法1;上記工程1によって得られた化合物の懸濁液中を加熱し、液温が60°C以上、好ましくは90°C以上になったところで無機酸を添加し、無機酸添加から10~15分後にカルボン酸基含有化合物を添加し、液温を維持しつつ、好ましくは15分~5時間、より好ましくは2~3時間攪拌する方法方法2等を挙げることができる。これらの方法によって行うことにより、好適な微粒子状のルチル型二酸化チタンを得ることができる。上記工程2を上記方法1によって行う場合、上記カルボン酸基含有化合物は、TiO2100モルに対し0.25~1.5モル使用するものであることが好ましく、0.4~0.8モルの割合で使用することがより好ましい。カルボン酸基含有化合物の添加量が0.25モルより少ない場合は粒子成長が進んでしまい目的とする粒子サイズの粒子が得られないおそれがあり、カルボン酸基含有化合物の添加量が1.5モルより多い場合は粒子のルチル化が進まずアナタースの粒子ができてしまうおそれがある。上記工程2を上記方法2によって行う場合、上記カルボン酸基含有化合物は、TiO2100モルに対し1.6~4.0モル使用するものであることが好ましく、2.0~2.4モルの割合で使用することがより好ましい。カルボン酸基含有化合物の添加量が1.6モルより少ない場合は粒子成長が進んでしまい目的とする粒子サイズの粒子が得られないおそれがあり、カルボン酸基含有化合物の添加量が4.0モルより多い場合は粒子のルチル化が進まずアナタースの粒子ができてしまうおそれがあり、カルボン酸基含有化合物の添加量が4.0モルを超えても効果は良好なものとならず、経済的に不利である。また、上記カルボン酸基含有化合物の添加を無機酸添加から10分未満で行うと、ルチル化が進まず、アナタース型の粒子ができてしまうおそれがあり、無機酸添加から15分を超えて行うと、粒子成長が進みすぎ、目的とする粒子サイズの粒子が得られない場合がある。上記工程2においては、反応処理終了後冷却し、更にpH5.0~pH10.0になるように中和することが好ましい。上記中和は、水酸化ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ性化合物によって行うことができる。中和後に濾過、水洗することによって目的のルチル型微粒子二酸化チタンを分離することができる。また、二酸化チタン微粒子の製造方法として、酸化チタン-物性と応用技術清野学pp255~2582000年技報堂出版株式会社等に記載の公知の方法を用いることができる。二酸化チタン微粒子の好ましい一次粒子径は、5nm~35nmであり、より好ましくは6nm~10nmである。また、低屈折層においては、第2の金属酸化物粒子として二酸化ケイ素シリカを用いることが好ましく、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることが特に好ましい。二酸化ケイ素本発明で用いることのできる二酸化ケイ素シリカとしては、通常の湿式法で合成されたシリカ、コロイダルシリカ或いは気相法で合成されたシリカ気相法微粒子シリカ等が好ましく用いられる。本発明において特に好ましく用いられる微粒子シリカとしては、コロイダルシリカまたは気相法で合成された微粒子シリカ気相法微粒子シリカが好ましい。上記気相法微粒子シリカの場合、一次粒子の状態で分散された金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒径塗設前の分散液状態での粒径は、100nm以下のものが好ましく、より好ましくは4~50nm、最も好ましくは4~20nmである。一次粒子の平均粒径が4~20nmである気相法により合成されたシリカ気相法微粒子シリカとしては、例えば、日本アエロジル社製のアエロジルが市販されている。この気相法微粒子シリカは、水中に、例えば、三田村理研工業株式会社製のジェットストリームインダクターミキサーなどにより、容易に吸引分散することで、比較的容易に一次粒子まで分散することができる。本発明で好ましく用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、このコロイダルシリカをインクジェット記録用紙に使用することは、例えば、特開昭57-14091号公報、同60-219083号公報、同60-219084号公報、同61-20792号公報、同61-188183号公報、同63-17807号公報、特開平4-93284号公報、同5-278324号公報、同6-92011号公報、同6-183134号公報、同6-297830号公報、同7-81214号公報、同7-101142号公報、同7-179029号公報、同7-137431号公報、及び国際特許公開WO94/26530号公報などに記載されている。コロイダルシリカの好ましい平均粒子径は通常は5~100nmであるが特に5~30nmの平均粒子径が好ましい。気相法により合成されたシリカ気相法微粒子シリカ及びコロイダルシリカは、その表面をカチオン変成されたものであってもよく、また、Al、Ca、Mg及びBa等で処理された物であってもよい。また、本発明においては、コロイダルシリカ複合エマルジョンも低屈折層において、金属酸化物として用いることができる。本発明に好ましく用いられるコロイダルシリカ複合エマルジョンは、粒子の中心部が重合体或いは共重合体等を主成分としてなり、特開昭59-71316号公報、特開昭60-127371号公報に記載されているコロイダルシリカの存在下でエチレン性不飽和結合を有するモノマーを従来公知の乳化重合法で重合して得られる。該複合体エマルジョンに適用されるコロイダルシリカの粒子径としては40nm未満のものが好ましい。この複合エマルジョンの調製に用いられるコロイダルシリカとしては、通常2~100μmの一次粒子のものが挙げられる。エチレン性モノマーとしては、例えば炭素数が1~18個のアルキル基、アリール基、或いはアリル基を有するメタアクリル酸エステル、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、エチレン、ブタジエン等のラテックス業界で公知の材料が挙げられ、必要に応じて更にコロイダルシリカとの相溶性をより良くするためにビニルトリメトオキシシラン、ビニルトリエトオキシシラン、γ-メタクリロオキシプロピルトリメトオキシシラン等の如きビニルシランが、また、エマルジョンの分散安定にメタアクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のアニオン性モノマーが助剤的に使われる。なお、エチレン性モノマーは必要に応じて2種類以上を併用することができる。また、乳化重合におけるエチレン性モノマー/コロイダルシリカの比率は固形分比率で100/1~200であることが好ましい。本発明に使用されるコロイダルシリカ複合体エマルジョンの中でより好ましいものとしては、ガラス転移点が-30~30°Cの範囲のものが挙げられる。また、組成的に好ましいものとしては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等のエチレン性モノマーが挙げられ、特に好ましいものとしてはメタアクリル酸エステルとスチレンの共重合体、メタアクリル酸アルキルエステルとメタアクリル酸アラルキルエステルの共重合体、メタアクリル酸アルキルエステルとメタアクリル酸アリールエステル共重合体が挙げられる。乳化重合で使われる乳化剤としては、例えばアルキルアリルポリエーテルスルホン酸ソーダ塩、ラウリルスルホン酸ソーダ塩、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ塩、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル硝酸ソーダ塩、アルキルアリルスルホサクシネートソーダ塩、スルホプロピルマレイン酸モノアルキルエステルソーダ塩等が挙げられる。好ましい粒子径は1次粒子で10nm以下、また二次粒子で30nm以下であり、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる。水溶性高分子本発明に係る屈折層低屈折層12、高屈折層11、および混在領域混在層13においては、バインダーとしてポリビニルアルコール等の合成高分子、ゼラチン、増粘多糖類、無機ポリマー等からなる群から選択される少なくとも1種の水溶性高分子第1の水溶性高分子、第2の水溶性高分子、第3の水溶性高分子を用いることができる。中でも、後述する同時重層によりフィルムを形成する場合には、水溶性高分子第1の水溶性高分子、第2の水溶性高分子、第3の水溶性高分子としてゼラチンを使用することが好ましい。高屈折層11に含まれる第1の水溶性高分子、低屈折層12に含まれる第2の水溶性高分子、混在層13に含まれる第3の水溶性高分子は同一であってもよいし、異なっていてもよい。本明細書において、水溶性高分子とは、該水溶性高分子が最も溶解する温度で、0.5質量の濃度で水に溶解させた際、G2ガラスフィルタ最大細孔40~50μmで濾過した場合に濾別される不溶物の質量が、加えた該水溶性高分子の50質量以内であるものをいう。合成高分子本発明に適用可能な合成高分子としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸-アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム-アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル-アクリル酸エステル共重合体、若しくはアクリル酸-アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂、スチレン-アクリル酸共重合体、スチレン-メタクリル酸共重合体、スチレン-メタクリル酸-アクリル酸エステル共重合体、スチレン-α-メチルスチレン-アクリル酸共重合体、若しくはスチレン-α-メチルスチレン-アクリル酸-アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン-スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン-2-ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン-2-ヒドロキシエチルアクリレート-スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン-マレイン酸共重合体、スチレン-無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン-アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン-マレイン酸共重合体、酢酸ビニル-マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル-クロトン酸共重合体、酢酸ビニル-アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体及びそれらの塩が挙げられる。これらの中で、特に好ましい例としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン類及びそれを含有する共重合体が挙げられる。水溶性高分子の重量平均分子量は、1,000以上200,000以下が好ましい。更には、3,000以上40,000以下がより好ましい。本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCを用いて測定した値を採用する。本発明で好ましく用いられるポリビニルアルコールには、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールやアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が1,000以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が1,500~5,000のものが好ましく用いられる。また、ケン化度は、70~100のものが好ましく、80~99.5のものが特に好ましい。カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61-10483号に記載されているような、第一~三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル-2-アクリルアミド-2,2-ジメチルエチルアンモニウムクロライド、トリメチル-3-アクリルアミド-3,3-ジメチルプロピルアンモニウムクロライド、N-ビニルイミダゾール、N-ビニル-2-メチルイミダゾール、N-3-ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル-2-メタクリルアミドプロピルアンモニウムクロライド、N-1,1-ジメチル-3-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1~10モル、好ましくは0.2~5モルである。アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1-206088号に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61-237681号および同63-307979号に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体及び特開平7-285265号に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7-9758号に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8-25795号に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体等が挙げられる。ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違いなど二種類以上を併用することもできる。ゼラチン本発明に適用可能なゼラチン水膨潤性高分子としては、石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラチンを使用してもよく、さらにゼラチンの加水分解物、ゼラチンの酵素分解物を用いることもできる。これらの水膨潤性高分子は、単独で用いても複数の種類を用いても良い。増粘多糖類本発明で用いることのできる増粘多糖類としては、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類及び合成複合多糖類に挙げることができ、これら多糖類の詳細については、生化学事典第2版,東京化学同人出版、食品工業第31巻198821頁等を参照することができる。本発明でいう増粘多糖類とは、糖類の重合体であり分子内に水素結合基を多数有するもので、温度により分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きな特性を備えた多糖類であり、さらに金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こすものであり、その粘度上昇幅は、添加することにより40°Cにおける粘度が1.0mPas以上の上昇を生じる多糖類であり、好ましくは5.0mPas以上であり、更に好ましくは10.0mPas以上の粘度上昇能を備えた多糖類である。本発明に適用可能な増粘多糖類としては、例えば、β1-4グルカン例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース等、ガラクタン例えば、アガロース、アガロペクチン等、ガラクトマンノグリカン例えば、ローカストビーンガム、グアラン等、キシログルカン例えば、タマリンドガム、タマリンドシードガム等、グルコマンノグリカン例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等、ガラクトグルコマンノグリカン例えば、針葉樹材由来グリカン、アラビノガラクトグリカン例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等、グルコラムノグリカン例えば、ジェランガム等、グリコサミノグリカン例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等、アルギン酸及びアルギン酸塩、寒天、κ-カラギーナン、λ-カラギーナン、ι-カラギーナン、ファーセレラン等の紅藻類に由来する天然高分子多糖類等が挙げられ、塗布液中に共存する金属酸化微粒子の分散安定性を低下させない観点から、好ましくは、その構成単位がカルボン酸基やスルホン酸基を有しないものが好ましい。その様な多糖類としては、例えば、L-アラビトース、D-リボース、2-デオキシリボース、D-キシロースなどのペントース、D-グルコース、D-フルクトース、D-マンノース、D-ガラクトースなどのヘキソースのみからなる多糖類であることが好ましい。具体的には、主鎖がグルコースであり、側鎖がキシロースであるキシログルカンとして知られるタマリンドシードガムや、主鎖がマンノースで側鎖がガラクトースであるガラクトマンナンとして知られるグアーガム、ローカストビーンガム、タラガムや、主鎖がガラクトースで側鎖がアラビノースであるアラビノガラクタンを好ましく使用することができる。本発明においては、更には、二種類以上の増粘多糖類を併用してもよい。増粘多糖類を含有する各屈折層低屈折層12、高屈折層11および混在領域混在層13中における含有量としては、5質量以上50質量以下が好ましく、10質量以上40質量以下がより好ましい。但し、他の水溶性高分子やエマルジョン樹脂等と併用する場合には、3質量以上含有すればよい。増粘多糖類が少ないと塗膜乾燥時に膜面が乱れて透明性が劣化する傾向が大きくなる。一方、含有量が50質量以下であれば、相対的な金属酸化物の含有量が適切となり、高屈折層と低屈折層の屈折率差を大きくすることが容易になる。無機ポリマー本発明で用いることのできる無機ポリマーとしては、ジルコニウム原子含有化合物あるいはアルミニウム原子含有化合物等の無機ポリマーが挙げられる。本発明に適用可能なジルコニウム原子を含む化合物は、酸化ジルコニウムを除くものであるが、その具体例としては、二フッ化ジルコニウム、三フッ化ジルコニウム、四フッ化ジルコニウム、ヘキサフルオロジルコニウム酸塩例えば、カリウム塩、ヘプタフルオロジルコニウム酸塩例えば、ナトリウム塩、カリウム塩やアンモニウム塩、オクタフルオロジルコニウム酸塩例えば、リチウム塩、フッ化酸化ジルコニウム、二塩化ジルコニウム、三塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウム、ヘキサクロロジルコニウム酸塩例えば、ナトリウム塩やカリウム塩、酸塩化ジルコニウム塩化ジルコニル、二臭化ジルコニウム、三臭化ジルコニウム、四臭化ジルコニウム、臭化酸化ジルコニウム、三ヨウ化ジルコニウム、四ヨウ化ジルコニウム、過酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、硫化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、p-トルエンスルホン酸ジルコニウム、硫酸ジルコニル、硫酸ジルコニルナトリウム、酸性硫酸ジルコニル三水和物、硫酸ジルコニウムカリウム、セレン酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、リン酸ジルコニウム、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニウム、酢酸ジルコニル、酢酸ジルコニルアンモニウム、乳酸ジルコニル、クエン酸ジルコニル、ステアリン酸ジルコニル、リン酸ジルコニル、シュウ酸ジルコニウム、ジルコニウムイソプロピレート、ジルコニウムブチレート、ジルコニウムアセチルアセトネート、アセチルアセトンジルコニウムブチレート、ステアリン酸ジルコニウムブチレート、ジルコニウムアセテート、ビスアセチルアセトナトジクロロジルコニウム、トリスアセチルアセトナトクロロジルコニウム等が挙げられる。これらの化合物の中でも、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニル、硝酸ジルコニル、酸塩化ジルコニル、乳酸ジルコニル、クエン酸ジルコニルが好ましく、特に、炭酸ジルコニルアンモニウム、酸塩化ジルコニル、酢酸ジルコニルが好ましい。上記化合物の具体的商品名としては、第一稀元素化学工業株式会社製の酢酸ジルコニルZA商品名や、第一稀元素化学工業株式会社製の酸塩化ジルコニル商品名等が挙げられる。ジルコニウム原子を含む化合物は、単独で用いても良いし、異なる2種類以上の化合物を併用してもよい。また、本発明で用いることのできる分子内にアルミニウム原子を含む化合物には、酸化アルミニウムは含まず、その具体例としては、フッ化アルミニウム、ヘキサフルオロアルミン酸例えば、カリウム塩、塩化アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム例えば、ポリ塩化アルミニウム、テトラクロロアルミン酸塩例えば、ナトリウム塩、臭化アルミニウム、テトラブロモアルミン酸塩例えば、カリウム塩、ヨウ化アルミニウム、アルミン酸塩例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、塩素酸アルミニウム、過塩素酸アルミニウム、チオシアン酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウムカリウムミョウバン、硫酸アンモニウムアルミニウムアンモニウムミョウバン、硫酸ナトリウムアルミニウム、燐酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、燐酸水素アルミニウム、炭酸アルミニウム、ポリ硫酸珪酸アルミニウム、ギ酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、蓚酸アルミニウム、アルミニウムイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセトネート等を挙げることができる。これらの中でも、塩化アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、塩基性硫酸珪酸アルミニウムが好ましく、塩基性塩化アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウムが最も好ましい。硬化剤本発明においては、バインダーである水溶性高分子を硬化させるため、硬化剤を使用することが好ましい。本発明に適用可能なる硬化剤としては、水溶性高分子と硬化反応を起こすものであれば特に制限はなく、一般的には水溶性高分子と反応し得る基を有する化合物あるいは水溶性高分子が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、水溶性高分子の種類に応じて適宜選択して用いられる。例えば、水溶性高分子がポリビニルアルコールの場合には、ホウ酸及びその塩が好ましい。ホウ酸またはその塩とは、ホウ素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびそれらの塩が挙げられる。硬化剤としてのホウ素原子を有するホウ酸およびその塩は、単独の水溶液でも、また、2種以上を混合して使用しても良い。特に好ましいのはホウ酸とホウ砂の混合水溶液である。ホウ酸とホウ砂の水溶液は、それぞれ比較的希薄水溶液でしか添加することが出来ないが両者を混合することで濃厚な水溶液にすることが出来、塗布液を濃縮化する事が出来る。また、添加する水溶液のpHを比較的自由にコントロールすることが出来る利点がある。この他にも公知のものが使用でき、硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ジグリシジルシクロヘキサン、N,N-ジグリシジル-4-グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等、アルデヒド系硬化剤ホルムアルデヒド、グリオキザール等、活性ハロゲン系硬化剤2,4-ジクロロ-4-ヒドロキシ-1,3,5-s-トリアジン等、活性ビニル系化合物1,3,5-トリス-アクリロイル-ヘキサヒドロ-s-トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等、アルミニウム明礬等が挙げられる。水溶性高分子がゼラチンの場合には、例えば、ビニルスルホン化合物、尿素-ホルマリン縮合物、メラニン-ホルマリン縮合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、活性オレフィン類、イソシアネート系化合物などの有機硬膜剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウムなどの無機多価金属塩類などを挙げることができる。水溶性高分子が増粘性多糖類の場合には、例えば、エポキシ系化合物、アルデヒド系化合物などを挙げることができる。上記硬化剤の総使用量は、上記水溶性高分子1g当たり1~600mgが好ましく、更には、上記水溶性高分子1g当たり100~600mgが好ましい。アミノ酸本発明に係る各屈折層低屈折層12、高屈折層11、および混在領域混在層13においては、更に、金属酸化物粒子の分散性を向上させる目的で、アミノ酸を添加してもよい。本発明でいうアミノ酸とは、同一分子内にアミノ基とカルボキシル基を有する化合物であり、α-、β-、γ-などいずれのタイプのアミノ酸でもよいが、等電点が6.5以下のアミノ酸であることが好ましい。アミノ酸には光学異性体が存在するものもあるが、本発明においては光学異性体による効果の差はなく、等電点が6.5以下のいずれの異性体も単独であるいはラセミ体で使用することができる。本発明に適用可能なアミノ酸に関する詳しい解説は、化学大辞典1縮刷版共立出版;昭和35年発行268頁~270頁の記載を参照することができる。本発明において、好ましいアミノ酸として、グリシン、アラニン、バリン、α-アミノ酪酸、γ-アミノ酪酸、β-アラニン、セリン、ε-アミノ-n-カプロン酸、ロイシン、ノルロイシン、フェニルアラニン、トレオニン、アスパラギン、アスパラギン酸、ヒスチジン、リジン、グルタミン、システイン、メチオニン、プロリン、ヒドロキシプロリン等を挙げることができ、水溶液として使用するためには、等電点における溶解度が、水100gに対し、3g以上が好ましく、たとえば、グリシン、アラニン、セリン、ヒスチジン、リジン、グルタミン、システイン、メチオニン、プロリン、ヒドロキシプロリンなどが好ましく用いられ、金属酸化物粒子が、バインダーと緩やかな水素結合を有する観点から、水酸基を有する、セリン、ヒドロキシプロリンを用いることがさらに好ましい。屈折層のその他の添加剤本発明に係る高屈折層および低屈折層ならびに混在領域混在層には、必要に応じて各種の添加剤を含有させることが出来る。例えば、特開昭57-74193号公報、同57-87988号公報及び同62-261476号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭57-74192号、同57-87989号公報、同60-72785号公報、同61-146591号公報、特開平1-95091号公報及び同3-13376号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭59-42993号公報、同59-52689号公報、同62-280069号公報、同61-242871号公報および特開平4-219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有させることもできる。フィルムの製造方法本発明の近赤外反射フィルムは、高屈折層11、低屈折層12、混在層13を含む各構成層を、各々単独にあるいは同時に、公知の塗布方式から適宜選択して、支持体上に塗布、乾燥して製造することができる。塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第2,761,419号、同第2,761,791号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。上述したように、混在領域混在層は、異なった金属酸化物微粒子第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子同士の比率が複数段階で変化することが好ましく、連続的に変化することがより好ましい。従って、混在領域混在層の形成は、高屈折層と低屈折層の二つの層の混合比率を変えて徐々に変化するように塗布液を作製し、これを、上記塗布方法を用いて、多層塗布する方法で得ることができる。重層塗布しかしながら、高屈折層、低屈折層を含む複数の構成層を、公知の塗布方式から適宜選択して、支持体上に水系で同時重層塗布した後、セット、乾燥して製造することがより好ましい。すなわち、本発明の他の一形態によれば、第1の水溶性高分子および第1の金属酸化物粒子を含有する第1の塗布液と、第2の水溶性高分子および第2の金属酸化物粒子を含有する第2の塗布液とを同時重層塗布することにより、屈折率の異なる2つの層と、前記屈折率の異なる2つの層の間に位置する異なる金属酸化物粒子の比率が連続的に変化する混在層と、を形成することを有する、近赤外反射フィルムの製造方法が提供される。高屈折層と低屈折層を同時重層塗布することにより、前記高屈折層と低屈折層の間に、前記高屈折層と低屈折層との混合領域混在層を設けることができ、高屈折領域から低屈折領域へと屈折率を混合領域混在層において連続的に変化させることができる。本形態においては、重層塗布により積層体を形成するため、各層塗布液において前記水溶性高分子と金属酸化物粒子との質量比F/Bが0.3~20の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.3~10の範囲であり、さらに好ましくは0.5~10の範囲であり、特に好ましくは1.0~10の範囲であり、最も好ましくは0.5~5の範囲である。また、各層塗布液において水溶性高分子の好ましい塗布液濃度は0.3~3質量、より好ましくは0.35~2質量である。同時重層により、各塗布液がセットするまでの間に各層境界において混合がある程度生じ、前記混在領域が形成すると思われる。ただし、本メカニズム以外で混在層混在領域が形成されたとしても、そのことにより本発明の技術的範囲は何ら影響を受けることはない。ここでセットとは、例えば、冷風等を塗膜に当てて温度を下げるなどの手段により、塗膜組成物の粘度を高め、各層間及び各層内の物質流動性を低下させる工程のことを意味する。具体的には、塗布からセットまでの時間セット時間は、冷風を塗布膜に表面から当てて、表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった時間を言うものとする。冷風を用いる場合の温度条件セット時の冷風温度としては、25°C以下が好ましく、15°C以下であることがより好ましく、10°C以下であることが更に好ましい。また、1°C以上であることが好ましく、5°C以上であることがより好ましい。また、塗布膜が冷風に晒される時間は、塗布搬送速度にも依るが、10秒以上120秒以下であることが好ましい。高屈折層と低屈折層の同時重層塗布からゾルゲル転移してセットするまでの時間、すなわち、前記第1の塗布液および前記第2の塗布液の同時重層塗布からセットするまでの時間を5分以内、好ましくは2分以内にすることが好ましい。また、45秒以上の時間をとることが好ましい。前記のような、光学膜厚の比率がA1/3、B1/6、C1/3の場合に相当するように、即ち、最大屈折率に対して屈折率が2/3の値になる位置が最大屈折率から最小屈折率までの幅層厚に対して最大屈折率点から0.9/3~1.1/3の範囲にあるよう、また、最小屈折率の1.3倍になる位置が最大屈折率から最小屈折率までの幅層厚に対して最小屈折率点から0.9/3~1.1/3の範囲にあるよう積層膜に屈折率プロファイルをもたせるためである。セットまでの時間が短すぎると好ましい成分の混合が起こらない。また、セット時間が長くなると層混合が進み必要とされる屈折率差が得られなくなる。セット時間は、水溶性高分子、増粘多糖類、硬化剤等の成分濃度や、金属酸化物粒子の濃度等により粘度等を調整することで調整できる。これによって、混在層混在領域の厚みを前記範囲に調整できる。同時重層塗布を行う際の各塗布液の塗布時における粘度としては、スライドビード塗布方式を用いる場合には、5~100mPasの範囲が好ましく、さらに好ましくは10~50mPasの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、5~1200mPasの範囲が好ましく、さらに好ましくは25~500mPasの範囲である。また、塗布液の15°Cにおける粘度としては、100mPas以上が好ましく、100~30,000mPasがより好ましく、さらに好ましくは3,000~30,000mPasであり、最も好ましいのは10,000~30,000mPasである。塗布および乾燥方法としては、塗布液を30°C以上に加温して、塗布を行った後、形成した塗膜の温度を1~15°Cに一旦冷却し、10°C以上で乾燥することが好ましく、より好ましくは、乾燥条件として、湿球温度5~50°C、膜面温度10~50°Cの範囲の条件で行うことである。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜均一性の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。近赤外反射フィルムを保管する際には、本発明に係る近赤外反射フィルムは、オーバーコートして乾燥した後、ロールに保管したまま、あるいはシート状に断裁した後、保管することが好ましい。30°C以上で一定時間、例えば、1日~1ヶ月間保管すると、塗布ムラの軽減に役立つ。好ましい保管条件は、30~50°Cで1~30日である。近赤外反射フィルムの応用本発明の近赤外反射フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備基体に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。特に、本発明に係る近赤外反射フィルムは、直接もしくは接着剤接着層を介してガラスもしくはガラス代替樹脂等の基体に貼合されて好適に使用されうる。本発明に係る近赤外反射フィルムを用いることにより、曲面に加工されても干渉ムラ虹彩ムラの発生がない。接着剤接着層は、窓ガラスなどに貼り合わせたとき、近赤外反射フィルムが日光熱線入射面側にあるように設置する。また近赤外反射フィルムを窓ガラスと基材との間に挟持すると、水分等周囲ガスから封止でき耐久性に好ましい。本発明の近赤外反射フィルムを屋外や車の外側外貼り用に設置しても環境耐久性があって好ましい。本発明に適用可能な接着剤接着層としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系及びエマルジョン系の中で溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン-酢酸ビニル共重合体系樹脂を接着剤接着層として用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール積水化学工業社製、三菱モンサント社製等、エチレン-酢酸ビニル共重合体デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン、変性エチレン-酢酸ビニル共重合体東ソー社製、メルセンG等である。なお、接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。なお、実施例において、部の表示を用いるが、特に断りがない限り質量、質量部を表す。<試料1-1~1-16>《試料1-1の作製》高屈折層用塗布液1-1の調製純水の10.3部に、1.0質量のタマリンドシードガムを130部と、ポリビニルアルコールPVA217、クラレ社製、重量平均分子量:8万の5.0質量溶液の10.3部と、14.8質量のピコリン酸水溶液を17.3部と、ホウ酸の5.5質量水溶液の2.58部とを、それぞれ添加、混合した後、下記二酸化チタン分散液1の38.2部を添加、混合して、最後に純水で223部に仕上げて、高屈折層用塗布液1-1を調製した。二酸化チタン分散液1の調製体積平均粒径が35nmのルチル型二酸化チタン微粒子を含む20.0質量二酸化チタンゾルの28.9部と、14.8質量のピコリン酸水溶液を5.41部と、水酸化リチウムの2.1質量水溶液の3.92部とを、混合、分散して、二酸化チタン分散液1を調製した。低屈折層用塗布液1-1の調製ポリ塩化アルミニウム多木化学製、タキバイン1500の23.5質量水溶液を9.18部と、コロイダルシリカ日産化学社製、スノーテックスOS、平均粒子径:10nmの10質量水溶液を510部と、ホウ酸の5.5質量水溶液の103.4部と、水酸化リチウムの2.1質量水溶液の4.75部とを、混合、分散し、純水で1000部に仕上げて、二酸化ケイ素分散液1を調製した。次いで、17.6部の純水に、1.0質量のタマリンドシードガム水溶液の26.2部と、ポリビニルアルコールPVA217、クラレ社製、重量平均分子量:8万の5.0質量溶液の3.43部と、2.1質量のピコリン酸水溶液を0.06部とを添加、混合した後、上記二酸化ケイ素分散液1の96.5部を添加、混合し、最後に純水で150部に仕上げて、低屈折層用塗布液1-1を調製した。混在領域塗布液1-1の調製上記高屈折層塗布液1-1と低屈折層塗布液1-1を1:1の比率で混合し、混在領域塗布液1-1を調製した。低屈折層1-1の形成上記調製した低屈折層用塗布液1-1を45°Cに保温しながら、45°Cに加温した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、乾燥膜厚が175nmとなる条件で、ワイヤーバーを用いて塗布し、次いで、膜面が15°C以下となる条件で冷風を1分間吹き付けてセットさせた後、80°Cの温風を吹き付けて乾燥させて、低屈折層1-1を形成した。混在層混在領域の形成次いで、混在領域塗布液1-1を45°Cに保温しながら、45°Cに加温した上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの低屈折層1-1上に、乾燥膜厚が5.4nmとなる条件で、ワイヤーバーを用いて塗布し、次いで、膜面が15°C以下となる条件で冷風を1分間吹き付けてセットさせた後、80°Cの温風を吹き付けて乾燥させて、混在層混在領域1を形成した。高屈折層1-1の形成さらに、高屈折層用塗布液1-1を45°Cに保温しながら、45°Cに加温した上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの混在領域1上に、乾燥膜厚が135nmとなる条件で、ワイヤーバーを用いて塗布し、次いで、膜面が15°C以下となる条件で冷風を1分間吹き付けてセットさせた後、80°Cの温風を吹き付けて乾燥させて、高屈折層1-1を形成した。積層体の形成低屈折層1-1/混在層1/高屈折層1-1上に、同様にして低屈折層1-1/混在層1/高屈折層1-1から構成されるユニットを更に5ユニット積層し、合計6ユニット18層から構成された交互積層膜を形成した後、最上層にさらに低屈折層1-1を積層した近赤外反射フィルムである試料1-1を作製した。《試料1-2の作製》試料1-1において、混在層混在領域の乾燥膜厚が6.75nmとなる条件で混在領域を形成した以外は同様に、近赤外反射フィルムである試料1-2を作製した。《試料1-3の作製》試料1-1において、混在層混在領域を、低屈折層用塗布液1-1と高屈折層用塗布液1-1を混合比率2:1と1:2でそれぞれ混合した塗布液を、この順でそれぞれ6.75nmの乾燥膜厚となるよう2層で塗布乾燥し形成した以外は同様にして、近赤外反射フィルムである試料1-3を作製した。《試料1-4の作製》試料1-1において、混在層混在領域を、低屈折層用塗布液1-1と高屈折層用塗布液1-1を混合比率4:1、3:1、2:1、1:2、1:3、1:4でそれぞれ混合した塗布液を、この順でそれぞれ6.75nmの乾燥膜厚となるよう6層、それぞれ塗布乾燥し形成した以外は同様にして、近赤外反射フィルムである試料1-4を作製した。《試料1-5の作製》試料1-1において、混在層混在領域を、低屈折層用塗布液1-1と高屈折層用塗布液1-1を混合比率5:1、4:1、3:1、2:1、1.5:1、1:1.5、1:2、1:3、1:4、1:5でそれぞれ混合した塗布液を、この順で、それぞれ6.75nmの乾燥膜厚となるよう10層、それぞれ塗布乾燥し形成した以外は同様にして、近赤外反射フィルムである試料1-5を作製した。《試料1-6の作製》試料1-1において、混在層混在領域を、低屈折層用塗布液1-1と高屈折層用塗布液1-1を混合比率5:1、4:1、3:1、2:1、1.5:1、1:1、1:1.5、1:2、1:3、1:4、1:5でそれぞれ混合した塗布液を、この順で、それぞれ6.38nmの乾燥膜厚となるよう11層、それぞれ塗布乾燥し形成した以外は同様にして、近赤外反射フィルムである試料1-6を作製した。《試料1-7の作製》試料1-1において、混在層混在領域を、低屈折層用塗布液1-1と高屈折層用塗布液1-1を混合比率3:1、2:1、1:2、1:3でそれぞれ混合した塗布液を、この順でそれぞれ6.75nmの乾燥膜厚となるよう4層、それぞれ塗布乾燥し形成した以外は同様にして、近赤外反射フィルムである試料1-7を作製した。《試料1-8の作製》試料1-7において、高屈折層用塗布液1-1を、高屈折層用塗布液のポリビニルアルコールPVA217、クラレ社製、重量平均分子量:8万を、PACポリ塩化アルミニウム多木化学製、タキバイン1500に変えた高屈折層11とした以外は同様にして近赤外反射フィルムである試料1-8を作製した。《試料1-9の作製》試料1-7において、高屈折層用塗布液1-1のタマリンドシードガム及びポリビニルアルコールを、また低屈折層用塗布液1-1のタマリンドシードガム及びポリビニルアルコールPVA217およびPACポリ塩化アルミニウム多木化学製、タキバイン1500を、それぞれ全て酸処理ゼラチンに変え、高屈折層用塗布液1-3、低屈折層用塗布液1-2として用いた以外は同様にして高屈折層1-3および低屈折層1-2から構成される近赤外反射フィルムである試料1-9を作製した。《試料1-10の作製》試料1-7において、高屈折層用塗布液1-1を、高屈折層用塗布液のタマリンドシードガムをポリビニルアルコールPVA203、クラレ社製に代えた高屈折層用塗布液1-4に、また低屈折層塗布液のPACポリ塩化アルミニウム及びタマリンドシードガムを、ポリビニルアルコールPVA203、クラレ社製に代えた低屈折層用塗布液1-3とそれぞれ変えた以外は同様にして高屈折層1-1および低屈折層1-3から構成される近赤外反射フィルムである試料1-10を作製した。《試料1-11の作製》試料1-7において、高屈折層塗布液の二酸化チタン分散液1に代えて、同様にして酸化ジルコニウムゾルから調製した酸化ジルコニウム分散液を用いることで形成した高屈折層1-5とした以外は同様にして、近赤外反射フィルムである試料1-11を作製した。《試料1-12の作製》低屈折層1-1と高屈折層1-1をこの層順で計12層、同時重層を行って、近赤外反射フィルムである試料1-12を作製した。重層塗布には、スライドホッパー塗布装置を用い、前記の低屈折層用塗布液1-1及び高屈折層用塗布液1-1を45°Cに保温しながら、45°Cに加温した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、それぞれ交互に6層ずつ、同時重層塗布を行った。塗布直後、5°Cの冷風を吹き付けてセットさせた。このとき、表面を指でふれても指に何もつかなくなるまでの時間セット時間は5分であった。セット完了後、80°Cの温風を吹き付けて乾燥させて、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、低屈折層1-1乾燥膜厚:175nm、混在層乾燥膜厚:27nm、および高屈折層1-1乾燥膜厚:135nmが積層された積層体合計層数23層を有する近赤外反射フィルムを作成した。なお、層間の混合領域混合層の確認および膜厚の測定は、積層膜を切断して切断面をXPS表面分析装置で高屈折率材料TiO2と低屈折率材料SiO2の存在量を測定することで行った。《試料1-13の作製》試料1-1において、混在層混在領域の塗布を行わず、低屈折層と高屈折層のみで構成したものを作製した。近赤外反射フィルムである試料1-13を作製した。《試料1-14の作製》厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、特開2007-148330号公報実施例1に記載のスパッタ成膜装置を用いる方法により二酸化チタンTiO2膜厚さ105nmを高屈折層1-6として、また、二酸化ケイ素SiO2膜厚さ175nmを低屈折層1-4として順次作製し、更に、二酸化チタンTiO2膜厚さ105nm、二酸化ケイ素SiO2膜厚さ175nm、二酸化チタンTiO2膜厚さ105nmを順次積層し、近赤外反射フィルムである試料1-14を作製した。《試料1-15の作製》特開2004-123766号公報に記載の方法により近赤外反射フィルムである試料1-15を作製した。高屈折層1-7の形成イソプロピルアルコール和光純薬、試薬特級を100質量部、ピリジン和光純薬、試薬特級を3質量部、エチルシリケート溶液コルコート社製、HAS-1、有効成分30質量を5質量部、ルチル型二酸化チタン微粒子石原産業社製、TTO-55を10質量部、それぞれ配合した後、ボールミルにて4時間分散させ、分散粒子径がD50で20nmに達したのを確認した後、紫外線硬化バインダー信越化学工業製X-12-2400、有効成分30質量を1.5質量部、触媒信越化学工業製DX-2400を0.15質量部配合し、ボールミルにて1時間分散させ、分散粒子径がD50で16nmに達したのを確認し、これを高屈折率塗布液とした。これを厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムPETフィルムともいうに、バーコーターNo.08を用いて、乾燥後の膜厚が100nmになるように塗布し、100°Cで乾燥した後、紫外線を照射照度200~450mW/cm2して硬化させ、高屈折層1-7を形成した。高屈折層1-7の屈折率は、2.17であった。低屈折層1-5の形成粒子径が10~20nm平均粒子径15nmのシリカゾル日産化学工業製IPA-ST1質量部、溶媒としてイソプロピルアルコール和光純薬製試薬特級を10質量部、バインダーとして紫外線硬化バインダー信越化学工業製X-12-2400を5質量部、触媒信越化学工業製DX-24000.6部を配合し、スターラーで攪拌して低屈折層塗布液を得た。シリカゾル屈折率1.45の一次粒子径はほぼ揃っており、また分散粒子径D50が45nmのスラリーを得た。次いで、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に高屈折層1-7を形成した試料の高屈折層1-7上に、上記調製した低屈折層塗布液をバーコーターNo.08を用いて、乾燥後の膜厚が100nmになるように塗布し、100°Cで乾燥した後、紫外線を照射照度200~450mW/cm2して硬化させ、低屈折層1-5を形成した。形成した低屈折層1-5の屈折率は1.35であった。積層体の形成更に、高屈折層1-7と低屈折層1-5を交互に3層ずつ積層し、合計が8層の近赤外反射フィルムである試料1-15を作製した。《試料1-16の作製》特表2004-503402号公報に記載の方法により多層ポリマーミラーフィルムを作製した。即ち、第1のポリマーの3M製coPEN90PEN/10PET高屈折層1-8と第2のポリマーのIneosAcrylics製PMMACP71低屈折層1-6の224層の交互微細層から厚さ2ミル0.005cmの多層ポリマーIRミラーフィルムを作製した。このフィルムは、多層スタックの外部のcoPENスキン層とPBL内部層も含んだ。スキンとPBLの全体の厚さは、全フィルム構造体の約37であった。このフィルムを最初に長手方向延伸機を使用し延伸比約3.3:1でMD方向に延伸し、次にテンターを使用して延伸比約4.0:1でTD方向に延伸した。テンターの温度は、予備加熱ゾーン135°C、延伸ゾーン138°C、および冷却ゾーン49°Cであった。ヒートセットゾーンの滞留時間は約10秒間であった。近赤外反射フィルムである試料1-16を作製した。[評価]作製した近赤外反射フィルム試料1-1~1-16について評価した。各層の屈折率の測定基材上に屈折率を測定する対象層高屈折層、低屈折層をそれぞれ単層で塗設したサンプルを作成し、下記の方法に従って、各高屈折層及び低屈折層の屈折率を求めた。分光光度計として、U-4000型日立製作所社製を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理したのち、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域400nm~700nmの反射率の測定結果より屈折率を求めた。屈折率ムラの評価上記作製した近赤外反射フィルム試料1-1~1-16をそれぞれ10cm×10cmに裁断した後、縦横に2cm間隔で印を付けて、5×5の計25ブロックを形成し、近赤外反射フィルムの正面観察と、斜め45度から観察して、面内での屈折率ムラに起因する干渉ムラ虹彩ムラの有無を観察し、下記の基準に従って面内での屈折率ムラ耐性を評価した。5:25ブロック全てで、干渉ムラの発生が認められない4:25ブロック中、1ブロックで弱い干渉ムラの発生が認められる3:25ブロック中、2~5ブロックの範囲で干渉ムラの発生が認められる2:25ブロック中、6~10ブロックの範囲で干渉ムラの発生が認められる1:25ブロック中、11ブロック以上で強い干渉ムラの発生が認められる近赤外透過率の測定上記分光光度計積分球使用、日立製作所社製、U-4000型を用いて透過率を測定した。近赤外透過率として1200nmにおける透過率の値を用いた。値が小さいほど近赤外反射能に優れることを示している。評価結果を以下に示す。表1で厚み比率とは、異なる金属酸化物粒子が混在する領域混在層の、どちらか一方の金属酸化物粒子のみ含有する隣接層高屈折層または低屈折層の最大金属酸化物含有率の75以上が存在する膜厚に対する膜厚比である。本発明の構成を有するものはいずれも干渉ムラの発生が比較のフィルムに比べ向上していることが分かる。<試料2-1~2-16>高屈折層塗布液2-1の調製20.0質量酸化チタンゾル体積平均粒径35nm、ルチル型酸化チタン粒子15.2gに、5.0質量の酸処理ゼラチン水溶液225gを撹拌しながら徐々に添加、混合した。次いで界面活性剤として、5.0質量の2-DB-500E日油株式会社製を0.43g添加し、純水で450mlに仕上げることで高屈折層用塗布液2-1を調製した。高屈折層塗布液2-2~2-10の調製高屈折層塗布液2-2~2-4は表の金属酸化物粒子/水溶性高分子比率F/Bになるように高屈折層塗布液2-1と同様に調製した。高屈折層塗布液2-5~2-7は表のF/Bになるように酸化チタンゾルとゼラチンGel水溶液を混合し、最後に純水で仕上げなかった以外は高屈折層塗布液2-1と同様に調製した。高屈折層塗布液2-8はTiO2をZrO2に置き換えた以外は高屈折層塗布液2-4と同様にして調製した。高屈折層塗布液2-9は高屈折層塗布液2-4の酸処理ゼラチン水溶液を同量のポリビニルアルコールPVA203とPVA217の1:1混合物に変えた以外は高屈折層塗布液2-4と同様にして調製した。高屈折層塗布液2-10は高屈折層塗布液2-4の酸処理ゼラチン水溶液を同量のポリビニルアルコールとタマリンドシードガムPVA/TG=1/2.5の割合で混合水溶液に変えた以外は高屈折層塗布液2-4と同様にして調製した。低屈折層塗布液2-1の調製21.4質量コロイダルシリカ平均粒子径:10nm14.2gに、5.0質量の酸処理ゼラチン水溶液330gと1.0質量のヒドロキシエチルセルロースHEC127gを撹拌しながら徐々に添加、混合した。次いで界面活性剤として、5.0質量の2-DB-500E日油株式会社製を0.64g添加し、純水で650mlに仕上げることで低屈折層用塗布液2-1を調製した。低屈折層塗布液2-2~2-9の調製低屈折層塗布液2-2~2-5は表1の金属酸化物粒子/水溶性高分子比率F/Bになるように低屈折層塗布液2-1と同様に調製した。低屈折層塗布液2-6、2-7は表1の金属酸化物粒子/水溶性高分子比率F/Bになるようにコロイダルシリカとゼラチン水溶液、HEC水溶液を混合し、最後に純水で仕上げなかった以外は低屈折層塗布液2-1と同様に調製した。低屈折層塗布液2-8は低屈折層塗布液2-4の酸処理ゼラチン水溶液を同量のポリビニルアルコールPVA203とPVA217の1:1混合物に変えた以外は低屈折層塗布液2-4と同様にして調製した。低屈折層塗布液2-9は低屈折層塗布液2-4の酸処理ゼラチン水溶液を同量のポリビニルアルコールとタマリンドシードガムPVA/TG=1/2.5の割合で混合水溶液に変えた以外は低屈折層塗布液2-4と同様にして調製した。《試料2-1の作製》16層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、前記の低屈折層用塗布液2-1及び高屈折層用塗布液2-1を45°Cに保温しながら、45°Cに加温した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム東洋紡製A4300:両面易接着層上に、それぞれ交互に8層ずつ、同時重層塗布を行った。各層の塗布液の流量は混合層ができないと仮定したときに乾燥時の膜厚が低屈折層は各層175nm、高屈折層は各層130nmになるように設定した。塗布直後、5°Cの冷風を吹き付けてセットさせた。このとき、表面を指でふれても指に何もつかなくなるまでの時間セット時間は5分だった。セット完了後、80°Cの温風を吹き付けて乾燥させて、試料2-1を作成した。《試料2-2~2-12の作製》試料2-2~2-7は各々高屈折層塗布液2-1を高屈折層塗布液2-2~2-7に、低屈折層塗布液2-1を低屈折層塗布液2-2~2-7に変更した以外は試料2-1と同様にして作成した。試料2-8はセット時の冷風温度を1°Cとした以外は試料2-1と同様にして作成した。試料2-9はセット時の冷風温度を15°Cとした以外は試料2-1と同様にして作成した。試料2-10は高屈折層塗布液2-4を高屈折層塗布液2-8に変更した以外は試料2-4と同様にして作成した。試料2-11は高屈折層塗布液2-4を高屈折層塗布液2-9に、低屈折層塗布液2-4を低屈折層塗布液2-8に変更した以外は試料2-4と同様にして作成した。試料2-12は高屈折層塗布液2-4を高屈折層塗布液2-10に、低屈折層塗布液2-4を低屈折層塗布液2-9に変更した以外は試料2-4と同様にして作成した。《試料2-13の作製》低屈折率塗布液2-4のみをポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布、セット、乾燥を行い、その上に高屈折層塗布液2-4を塗布、セット、乾燥し、さらにその上に低屈折率塗布液2-4を塗布、セット、乾燥し、この作業を交互に繰り返すことで、低屈折層および高屈折層をそれぞれ8層合計16層積層させた試料2-13を作成した。《試料2-14の作製》特許第3067863号公報記載のとおりに、3成分系多層光学干渉フィルムを作成し。これによって太陽光の赤外線を反射するみかけ上透明なフィルムを得た。同時押出されたフィルムは、以下の3つのポリマー成分を含む:成分Aは、1.57の屈折率と1.08の密度を有するスチレン-メチルメタクリレートコポリマーであり;成分Bは、1.53の屈折率と1.13の密度を有するメチルメタクリレート-スチレンコポリマーであり;そして成分Cは、1.49の屈折率と1.20の密度を有するポリメチルメタクリレートである。機械的特性を付与するためポリカーボネートのスキン層を、両方のフィルム表面上に設けた。この3成分フィルムを同時押出して、ABCBの繰り返し単位を有する165層フィルムとした。3成分フィードブロックは、成分Aに対しては42個のフィードスロットを、成分Bに対しては82個のフィードスロットを、そして成分Cに対しては41個のフィードスロットを有する。3つの個別の押出機が、それぞれのポリマー成分を、成分Aに関しては8.5kg/hr、成分Bに関しては9.0kg/hr、そして成分Cに関しては9.8kg/hrの割合にてフィードブロックに供給した。さらに、スキン層として、6.8kg/hrのポリカーボネートをフィルムの両表面上に同時押出した。約0.9ミル1mil=25.3995μmのフィルム厚さで1400ナノメーターにて強い一次反射率を示すよう、フィルムの引落率を調整し、成分Aの層厚さが148.6ナノメーター、成分Bの層厚さが76.3ナノメーター、及び成分Cの層厚さが156.6ナノメーターであるようなフィルムを得た。第1成分Aの光学的厚さ比fAは1/3であり、第2成分Bの光学的厚さ比fBは1/6であり、第3成分Cの光学的厚さ比fCは1/3であり、そしてnB=nAnC0。5である近赤外反射フィルム試料2-14を得た。《試料2-15の作製》厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム東洋紡製A4300:両面易接着層上に、特開2009-86659号公報記載の方法にて近赤外反射フィルムを作成した。分散液Aの調製ルチル型酸化チタン石原産業株式会社製TTO-55A、粒径30~50nm、水酸化アルミニウム表面処理品、屈折率2.6を109質量部、分散剤としてポリエチレンイミン系ブロックポリマーを11質量部、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA、和光純薬株式会社製180質量部を、直径0.5mmのジルコニアビーズ141質量部を用いてビーズミル分散機で24分間分散させた後、直径0.1mmのジルコニアビーズに切り替えてビーズミル分散機で147分間分散させることにより、分散液Aを得た。溶液Aの調製バインダー樹脂として4,4′-ビスβ-メタクリロイルオキシエチルチオジフェニルスルホン硬化後の屈折率1.65を50質量、重合開始剤として2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを0.25質量含有するPGMEA溶液を調製し、溶液Aとした。溶液Bの調製分散液Aと溶液Aの質量混合比1:7の混合液を調製し、溶液Bとした。溶液Cの調製溶液BとPGMEAの質量混合比1:2の混合液を調製し、溶液Cとした。熱線遮蔽膜Aの作成溶液Cを厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム東洋紡製A4300:両面易接着層上に、2ml滴下し、1000rpm、30秒の条件でスピンコーターミカサ株式会社製1H-D7により塗布した後、120°Cで10分間加熱した。その後、出力184W/cmの無電極水銀ランプフュージョンUVシステムズ社製を用いて積算光量2.8J/cm2の紫外線を照射することにより高屈折層Aを得た。高屈折層Aをコロナ放電処理信光電気計装株式会社製コロナ放電表面改質装置により表面改質した後、1質量のヒドロキシエチルセルロース東京化成工業株式会社製の水溶液を2ml滴下し、1分間室温で放置した後、500rpm、30秒のスピンコート条件で塗布した。塗布直後、すぐさま80°Cのホットプレートアズワン株式会社製HPD-3000上に試料を置いて10分間加熱することにより高屈折層Aの上に低屈折層を積層させた。更に、低屈折層の上に高屈折層Aを同様な操作により形成し、高屈折層/低屈折層/高屈折層の3層積層膜からなる近赤外反射フィルム試料2-15を作成した。[評価]作製した近赤外反射フィルム試料2-1~2-15について評価した。各層の屈折率、近赤外透過率の測定は試料1-1~1-16における評価と同様の方法を用いて行った。可視光透過率の測定上記分光光度計積分球使用、日立製作所社製、U-4000型を用い、各近赤外反射フィルムの300nm~2000nmの領域における透過率を測定した。可視光透過率は550nmにおける透過率の値を用いた。耐久性評価JISA5759:2008の耐候性試験方法に基づいて、JISB7753:2007に規定するサンシャインカーボンアーク灯式耐候性試験機を用いて促進耐光性試験を1000時間行った後のフィルムの状態を観察し、下記の基準に従って耐久性を評価した。通常条件の120分照射中に18分間水噴霧の条件で行った。◎:赤外反射フィルムの層間の膜はがれもフィルム表面の異常も観察されない○:赤外反射フィルムの層間に膜はがれは観察されないが、フィルム表面の縁部にわずかに浮き上がった部分が観察される△:赤外反射フィルムの層間に、膜はがれがわずかに観察され、フィルム表面もわずかに波立っている×:赤外反射フィルムの層間で膜はがれが発生し、フィルム表面にうねりが発生している以上について結果を表3に示す。表3の結果からわかるように、本願発明の同時重層により形成された赤外反射フィルム試料は赤外透過率が低く、可視光域に高次ピークがあらわれにくいため可視光透過率が高く、また水系重層塗布による膜付きが良くなるために、耐久性も良好である。なお、層間の混合領域混合層の確認および膜厚の測定は、積層膜を切断して切断面をXPS表面分析装置で高屈折率材料TiO2かZrO2と低屈折率材料SiO2の存在量を測定することで行った。この結果、本願発明の方法では、高屈折率材料と低屈折率材料の存在量が水準ごとに傾きは異なっていたが、いずれも入れ子状態で混合領域の存在が確認できた。《試料2-16の作製》上記試料2-4と同様にして、低屈折層、高屈折層の膜厚を1.38倍した層を各8層ずつ積層した第1のユニット低屈折層、混在層、高屈折層の合計層数31層と、第1のユニット上に試料2-4に対して膜厚を1.15倍した層を各8層積層した第2のユニット低屈折層、混在層、高屈折層の合計層数31層と、第2のユニット上にさらに試料4と同じ膜厚で各8層積層した第3のユニット低屈折層、混在層、高屈折層の合計層数31層のTotal93層の赤外反射フィルムを形成した。この赤外反射フィルムの各波長の反射率を測定したところ、可視光域に高次の反射ピークがなく近赤外から赤外域に広い範囲で反射領域をもつ図3のような反射性能をもつ赤外反射フィルムが得られたことがわかる。なお、本出願は、2010年10月27日に出願された日本国特許出願第2010-240511号および2010年12月9日に出願された日本国特許出願第2010-274489号に基づいており、その開示内容は参照により全体として引用されている。"