"PSA方式の液晶表示素子における液晶配向膜形成用の液晶配向剤であって、[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサン[B]主鎖に光配向性基を有する重合体、並びに[C]分解型光配向性を有するポリアミック酸及び/又はポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体を含有することを特徴とする液晶配向剤。上記液晶表示素子が横電界方式である請求項1に記載の液晶配向剤。[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサンが、下記式A1’で表される基及び下記式A2’で表される基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有する請求項1又は請求項2に記載の液晶配向剤。式A1’中、Rは水素原子、炭素数1~3のアルキル基、フッ素原子又はシアノ基である。R1はフェニレン基又はシクロヘキシレン基である。但し、上記フェニレン基又はシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部はフッ素原子又はシアノ基で置換されてもよい。R2は単結合、メチレン基、炭素数2若しくは3のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、-CH=CH-又は-NH-である。aは0~3の整数である。但し、aが2又は3である場合、複数のR1及びR2はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R3はフッ素原子又はシアノ基である。bは0~4の整数である。但し、bが2以上である場合、複数のR3は同一でも異なっていてもよい。は結合手である。式A2’中、R’は水素原子、炭素数1~3のアルキル基、フッ素原子又はシアノ基である。R4はフェニレン基又はシクロヘキシレン基である。但し、上記フェニレン基又はシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部はフッ素原子又はシアノ基で置換されてもよい。R5は単結合、メチレン基、炭素数2若しくは3のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、-OCO-又は-NH-である。cは1~3の整数である。但し、cが2又は3である場合、複数のR4及びR5はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R6はフッ素原子又はシアノ基である。dは0~4の整数である。但し、dが2以上である場合、複数のR6は同一でも異なっていてもよい。R7は酸素原子、-COO-又は-OCO-である。R8は2価の芳香族基、2価の脂環式基、2価の複素環式基又は2価の縮合環式基である。eは0~3の整数である。但し、eが2以上である場合、複数のR7及びR8は同一でも異なっていてもよい。R9は単結合、-OCO-CH2f-又は-O-CH2g-である。はR8と結合する部位を示す。f及びgはそれぞれ独立して1~10の整数である。は結合手である。[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサンが、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、下記式A1で表される化合物及び下記式A2で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物との反応生成物である請求項1、請求項2又は請求項3に記載の液晶配向剤。式A1中、R、R1~R3、a及びbは上記式A1’と同義である。式A2中、R’、R4~R9及びc~eは上記式A2’と同義である。[B]主鎖に光配向性基を有する重合体が、下記式1で表される構造を有する請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の液晶配向剤。式1中、R10はそれぞれ独立して炭素数1~4のアルキル基、水酸基、ハロゲン原子又はシアノ基である。m及びnはそれぞれ独立して、0~4の整数である。但し、m及びnがそれぞれ2以上である場合、複数のR10は同一でも異なっていてもよい。は結合手である。[C]分解型光配向性を有するポリアミック酸及び/又はポリイミドが、ビシクロ[2.2.2]オクテン骨格又はシクロブタン骨格を有する請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の液晶配向剤。[D]光配向性基を有しないポリアミック酸及び光配向性基を有しないポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体をさらに含有する請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の液晶配向剤。請求項1~7のいずれか1項に記載の液晶配向剤により形成される液晶配向膜。対向配置される一対の基板と、上記両基板間に配設される液晶層と、上記両基板のうちの少なくとも一の基板の内面側に上記液晶層と接触するように配設される液晶配向膜とを備え、上記液晶層が、重合可能なモノマーを含有する液晶組成物を上記両基板間に注入し、上記モノマーを重合させる工程により形成される液晶表示素子であって、上記液晶配向膜が、[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサン[B]主鎖に光配向性基を有する重合体、並びに[C]分解型光配向性を有するポリアミック酸及び/又はポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体を含有する液晶配向剤から形成されることを特徴とする液晶表示素子。上記モノマーを重合させる工程において、電圧を印加しない請求項9に記載の液晶表示素子。上記モノマーを重合させる工程において、電圧を印加する請求項9に記載の液晶表示素子。上記モノマーを重合させる工程において、偏光紫外線を照射する請求項9、請求項10又は請求項11に記載の液晶表示素子。上記液晶層を形成する液晶のプレチルト角が10°以下である請求項9から請求項12のいずれか1項に記載の液晶表示素子。横電界方式である請求項9から請求項13のいずれか1項に記載の液晶表示素子。本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、PSA方式の液晶表示素子において、液晶配向性に優れ、長時間の連続駆動後、特に長時間光に曝された場合における電気特性の劣化を抑制することができる液晶配向剤を提供することを課題とする。特にIPSモード、FFSFringeFieldSwitchingモードといった横電界方式の液晶表示素子において上記課題を達成できるような液晶配向剤、それを用いて形成される液晶配向膜及び液晶表示素子を提供することを課題とする。上記課題を解決するためになされた発明は、PSA方式の液晶表示素子における液晶配向膜形成用の液晶配向剤であって、[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサン以下、[A]ポリオルガノシロキサンともいう[B]主鎖に光配向性基を有する重合体以下、[B]重合体ともいう、並びに[C]分解型光配向性を有するポリアミック酸及び/又はポリイミド以下、[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドともいうからなる群より選択される少なくとも1種の重合体を含有することを特徴とする液晶配向剤である。当該液晶配向剤は、上記特定の重合体を含有することで、PSA方式の液晶表示素子において、液晶配向性に優れると共に、長時間の連続駆動による電気特性の劣化を抑制することができる。上記液晶表示素子は横電界方式であることが好ましい。当該液晶配向剤は、横電界方式の液晶表示素子に用いると、上記発明の効果をより顕著に奏することができる。[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサンは、下記式A1’で表される基及び下記式A2’で表される基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有することが好ましい。式A1’中、Rは水素原子、炭素数1~3のアルキル基、フッ素原子又はシアノ基である。R1はフェニレン基又はシクロヘキシレン基である。但し、上記フェニレン基又はシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部はフッ素原子又はシアノ基で置換されてもよい。R2は単結合、メチレン基、炭素数2若しくは3のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、-CH=CH-又は-NH-である。aは0~3の整数である。但し、aが2又は3である場合、複数のR1及びR2はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R3はフッ素原子又はシアノ基である。bは0~4の整数である。但し、bが2以上の場合、複数のR3は同一でも異なっていてもよい。は結合手である。式A2’中、R’は水素原子、炭素数1~3のアルキル基、フッ素原子又はシアノ基である。R4はフェニレン基又はシクロヘキシレン基である。但し、上記フェニレン基又はシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部はフッ素原子又はシアノ基で置換されてもよい。R5は単結合、メチレン基、炭素数2若しくは3のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、-OCO-又は-NH-である。cは1~3の整数である。但し、cが2又は3である場合、複数のR4及びR5はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R6はフッ素原子又はシアノ基である。dは0~4の整数である。但し、dが2以上の場合、複数のR6は同一でも異なっていてもよい。R7は酸素原子、-COO-又は-OCO-である。R8は2価の芳香族基、2価の脂環式基、2価の複素環式基又は2価の縮合環式基である。eは0~3の整数である。但し、eが2以上の場合、複数のR7及びR8は同一でも異なっていてもよい。R9は単結合、-OCO-CH2f-又は-O-CH2g-である。はR8と結合する部位を示す。f及びgはそれぞれ独立して1~10の整数である。は結合手である。当該液晶配向剤は、上記特定の基を有する重合体を含有することで、PSA方式の液晶表示素子において、液晶配向性に優れると共に、長時間の連続駆動による電気特性の劣化をより抑制することができる。[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサンは、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、下記式A1で表される化合物及び下記式A2で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物との反応生成物であることが好ましい。式A1中、R、R1~R3、a及びbは上記式A1’と同義である。式A2中、R’、R4~R9及びc~eは上記式A2’と同義である。[A]ポリオルガノシロキサンが、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式A1で表される化合物及び上記式A2で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物との反応生成物であることで、当該液晶配向剤は、PSA方式の液晶表示素子において、液晶配向性に優れると共に、長時間の連続駆動による電気特性の劣化をさらに抑制することができる。[B]主鎖に光配向性基を有する重合体は、下記式1で表される構造を有することが好ましい。式1中、R10はそれぞれ独立して炭素数1~4のアルキル基、水酸基、ハロゲン原子又はシアノ基である。m及びnはそれぞれ独立して0~4の整数である。但し、m及びnがそれぞれ2以上である場合、複数のR10は同一でも異なっていてもよい。は結合手である。[B]重合体が、上記特定の構造を有することで、当該液晶配向剤は、PSA方式の液晶表示素子において、液晶配向性により優れると共に、長時間の連続駆動による電気特性の劣化をさらに抑制することができる。[C]分解型光配向性を有するポリアミック酸及び/又はポリイミドは、ビシクロ[2.2.2]オクテン骨格又はシクロブタン骨格を有することが好ましい。[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドが、上記特定の骨格を有することで、当該液晶配向剤は、液晶配向性にさらに優れると共に、長時間の連続駆動による電気特性の劣化をさらに抑制することができる。当該液晶配向剤は、[D]光配向性基を有しないポリアミック酸及び光配向性基を有しないポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体以下、[D]重合体ともいうをさらに含有することが好ましい。当該液晶配向剤が、[D]重合体をさらに含有することで、長時間の連続駆動による電気特性の劣化をより効果的に抑制することができる。本発明の液晶配向膜は、当該液晶配向剤により形成される。当該液晶配向膜は、当該液晶配向剤により形成されるため、液晶配向性に優れると共に、長時間の連続駆動による電気特性の劣化を起こし難い。本発明の液晶表示素子は、対向配置される一対の基板と、上記両基板間に配設される液晶層と、上記両基板のうちの少なくとも一の基板の内面側に上記液晶層と接触するように配設される液晶配向膜とを備え、上記液晶層が、重合可能なモノマーを含有する液晶組成物を上記両基板間に注入し、上記モノマーを重合させる工程により形成される液晶表示素子であって、上記液晶配向膜が、[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサン[B]主鎖に光配向性基を有する重合体、並びに[C]分解型光配向性を有するポリアミック酸及び/又はポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体を含有する液晶配向剤から形成されることを特徴とする。当該液晶表示素子は、当該液晶配向剤を用いて形成される液晶配向膜を備えるPSA方式の液晶表示素子であるため、液晶配向性に優れると共に、長時間の連続駆動による電気特性の劣化を起こし難い。上記モノマーを重合させる工程において、電圧を印加しないことが好ましい。上記モノマーを重合させる工程において、電圧を印加してもよい。上記モノマーを重合させる工程において、偏光紫外線を照射することが好ましい。当該液晶表示素子は、偏光紫外線を照射して上記モノマーを重合させることにより、液晶配向性を向上させることができる。上記液晶層を形成する液晶のプレチルト角は10°以下であることが好ましい。電界方式の液晶パネルにおいてプレチルト角を小さくすると、コントラストが良好となる。当該液晶表示素子は、横電界方式であることが好ましい。当該液晶配向剤から形成される液晶配向膜は、IPSモード、FFSモード等の横電界方式の液晶表示素子に適用した場合に、特に長時間の連続駆動による電気特性の劣化を起こし難い。そのため、当該液晶配向剤から形成される液晶配向膜を備える当該液晶表示素子は、横電界方式に好適に用いられる。本発明の液晶配向剤は、PSA方式の液晶表示素子、特に横電界方式IPSモード、FFSモードの液晶表示素子に適用した場合に、液晶配向性に優れ、長時間の連続駆動後、特に長時間光に曝された場合における電気特性の劣化を起こし難い液晶配向膜を形成することができる。<液晶配向剤>本発明の液晶配向剤は、PSA方式の液晶表示素子における液晶配向膜形成用の液晶配向剤であって、[A]ポリオルガノシロキサン[B]重合体、及び[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体を含有する。また、当該液晶配向剤は、上記成分以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の成分を含有することができる。以下、各成分について詳述する。<[A]ポリオルガノシロキサン>[A]ポリオルガノシロキサンとしては、光配向性基を有するポリオルガノシロキサンであれば特に限定されず、公知のものを用いることができるが、上記式A1’で表される基及びA2’で表される基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有することが好ましい。上記式A1’中、Rは水素原子、炭素数1~3のアルキル基、フッ素原子又はシアノ基である。R1はフェニレン基又はシクロヘキシレン基である。但し、上記フェニレン基又はシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部はフッ素原子又はシアノ基で置換されてもよい。R2は単結合、メチレン基、炭素数2若しくは3のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、-CH=CH-又は-NH-である。aは0~3の整数である。但し、aが2又は3である場合、複数のR1及びR2はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R3はフッ素原子又はシアノ基である。bは0~4の整数である。但し、bが2以上の場合、複数のR3は同一でも異なっていてもよい。は結合手である。式A2’中、R’は水素原子、炭素数1~3のアルキル基、フッ素原子又はシアノ基である。R4はフェニレン基又はシクロヘキシレン基である。但し、上記フェニレン基又はシクロヘキシレン基の水素原子の一部又は全部はフッ素原子又はシアノ基で置換されてもよい。R5は単結合、メチレン基、炭素数2若しくは3のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、-OCO-又は-NH-である。cは1~3の整数である。但し、cが2又は3である場合、複数のR4及びR5はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R6はフッ素原子又はシアノ基である。dは0~4の整数である。但し、dが2以上の場合、複数のR6は同一でも異なっていてもよい。R7は酸素原子、-COO-又は-OCO-である。R8は2価の芳香族基、2価の脂環式基、2価の複素環式基又は2価の縮合環式基である。eは0~3の整数である。但し、eが2以上の場合、複数のR7及びR8は同一でも異なっていてもよい。R9は単結合、-OCO-CH2f-又は-O-CH2g-である。はR8と結合する部位を示す。f及びgはそれぞれ独立して1~10の整数である。は結合手である。上記式A1’におけるR及び上記式A2’におけるR’の炭素数1~3のアルキル基としては、それぞれ、メチル基、エチル基又はn-プロピル基が好ましい。上記式A1’におけるR1及び上記式A2’におけるR4のフェニレン基及びシクロへキシレン基は、それぞれ、1,4-フェニレン基又は1,4-シクロへキシレン基であることが好ましい。上記式A1’におけるR2としては、単結合、酸素原子又は-CH=CH-であることが好ましい。上記式A2’におけるR8の2価の芳香族基としては、例えば1,4-フェニレン基又は4,4’-ビフェニレン基等が挙げられる。2価の脂環式基としては、例えば1,4-シクロへキシレン基、4,4’-ビシクロヘキシレン基等が挙げられる。2価の複素環式基としては、例えばフラン-2,5-ジイル基、チオフェン-2,5-ジイル基、2,2’-ビチオフェン-5,5’-ジイル基等が挙げられる。2価の縮合環式基としては、例えばアントラキノン-2,6-ジイル基、ナフタレン-1,4-ジイル基、ナフタレン-1,5-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、ナフタレン-2,7-ジイル基、アントラセン-9,10-ジイル基、カルバゾール-3,6-ジイル基、ジベンゾチオフェン-2,8-ジイル基等が挙げられる。上記式A2’におけるeは0であることが好ましい。本発明の液晶配向剤に含有される[A]ポリオルガノシロキサンが有する基の具体例としては、上記式A1’で表される基として、例えば下記式で表される基等が挙げられる。但し、上記式において、は結合手であることを示す。上記式A2’で表される基としては、例えば下記式で表される基等が挙げられる。但し、上記式において、は結合手であることを示す。本発明の液晶配向剤に含有される[A]ポリオルガノシロキサンにおける上記式A1’で表される基及び上記式A2’で表される基の含有割合の合計は、0.2ミリモル/g-ポリマー以上6ミリモル/g-ポリマー以下であることが好ましく、0.3ミリモル/g-ポリマー以上5ミリモル/g-ポリマー以下であることがより好ましい。本発明の液晶配向剤に含有される[A]ポリオルガノシロキサンは、上記式A1’で表される基及び上記式A2’で表される基の他に、さらにエポキシ基を有することが好ましい。この場合、[A]ポリオルガノシロキサンのエポキシ当量は、150g/モル以上が好ましく、200g/モル以上10,000g/モル以下がより好ましく、200g/モル以上2,000g/モル以下がさらに好ましい。このような割合のエポキシ当量の[A]ポリオルガノシロキサンを用いることにより、本発明の液晶配向剤は、保存安定性を損なうことなく、液晶配向性により優れ、残像特性に優れる液晶配向膜を形成しうることとなり好ましい。本発明の液晶配向剤に含有される[A]ポリオルガノシロキサンのゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、1,000以上200,000以下が好ましく、2,000以上100,000以下がより好ましく、3,000以上30,000以下がさらに好ましい。<[A]ポリオルガノシロキサンの合成>本発明の液晶配向剤に含有される[A]ポリオルガノシロキサンの合成方法としては、上述のような重合体を合成できる方法である限り、どのような方法でもよい。本発明の液晶配向剤に含有される[A]ポリオルガノシロキサンの合成方法としては、例えば上記式A1’で表される基及び上記式A2’で表される基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有する加水分解性シラン化合物、又は上記加水分解性シラン化合物とその他の加水分解性シラン化合物との混合物を加水分解及び縮合する方法;エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式A1で表される化合物及び上記式A2で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物とを反応させる方法等が挙げられる。上記式A1中、R、R1~R3、a及びbは上記式A1’と同義である。式A2中、R’、R4~R9及びc~eは上記式A2’と同義である。これらの合成方法のうち、原料化合物の合成の容易性、反応の容易性等の観点から、後者の方法によることが好ましい。以下、本発明の液晶配向剤に含有される[A]ポリオルガノシロキサンを合成するための好ましい方法である、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式A1で表される化合物及び上記式A2で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物との反応方法について説明する。[エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン]エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンにおけるエポキシ基は、酸化エチレン骨格又は1,2-エポキシシクロアルカン骨格が、直接に、又は途中が酸素原子によって中断されていてもよいアルキレンを介して、ケイ素原子に結合している基エポキシ基を有する基に含まれるものとしてポリオルガノシロキサン中に存在することが好ましい。このようなエポキシ基を有する基としては、例えば下記式EP-1、EP-2で表される基等が挙げられる。上記式EP-1及びEP-2中、は結合手であることを示す。エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのエポキシ当量は、100g/モル以上10,000g/モル以下が好ましく、150g/モル以上1,000g/モル以下がより好ましい。エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、500以上100,000以下であることが好ましく、1,000以上10,000以下であることがより好ましく、1,000以上5,000以下であることがさらに好ましい。このような、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは、例えばエポキシ基を有するシラン化合物、又はエポキシ基を有するシラン化合物と他のシラン化合物の混合物を、好ましくは適当な有機溶媒、水及び触媒の存在下において加水分解及び縮合することにより合成することができる。上記エポキシ基を有するシラン化合物としては、例えば3-グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシジロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシジロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3-グリシジロキシプロピルジメチルエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン等が挙げられる。上記他のシラン化合物としては、例えばテトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-i-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、トリクロロシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ-n-プロポキシシラン、トリ-i-プロポキシシラン、トリ-n-ブトキシシラン、トリ-sec-ブトキシシラン、フルオロトリクロロシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ-n-プロポキシシラン、フルオロトリ-i-プロポキシシラン、フルオロトリ-n-ブトキシシラン、フルオロトリ-sec-ブトキシシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ-n-プロポキシシラン、メチルトリ-i-プロポキシシラン、メチルトリ-n-ブトキシシラン、メチルトリ-sec-ブトキシシラン、2-トリフルオロメチルエチルトリクロロシシラン、2-トリフルオロメチルエチルトリメトキシシラン、2-トリフルオロメチルエチルトリエトキシシラン、2-トリフルオロメチルエチルトリ-n-プロポキシシラン、2-トリフルオロメチルエチルトリ-i-プロポキシシラン、2-トリフルオロメチルエチルトリ-n-ブトキシシラン、2-トリフルオロメチルエチルトリ-sec-ブトキシシラン、2-パーフルオロ-n-ヘキシルエチルトリクロロシラン、2-パーフルオロ-n-ヘキシルエチルトリメトキシシラン、2-パーフルオロ-n-ヘキシルエチルトリエトキシシラン、2-パーフルオロ-n-ヘキシルエチルトリ-n-プロポキシシラン、2-パーフルオロ-n-ヘキシルエチルトリ-i-プロポキシシラン、2-パーフルオロ-n-ヘキシルエチルトリ-n-ブトキシシラン、2-パーフルオロ-n-ヘキシルエチルトリ-sec-ブトキシシラン、2-パーフルオロ-n-オクチルエチルトリクロロシラン、2-パーフルオロ-n-オクチルエチルトリメトキシシラン、2-パーフルオロ-n-オクチルエチルトリエトキシシラン、2-パーフルオロ-n-オクチルエチルトリ-n-プロポキシシラン、2-パーフルオロ-n-オクチルエチルトリ-i-プロポキシシラン、2-パーフルオロ-n-オクチルエチルトリ-n-ブトキシシラン、2-パーフルオロ-n-オクチルエチルトリ-sec-ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリクロロシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ-n-プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ-i-プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ-n-ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ-sec-ブトキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルトリクロロシラン、3-メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルトリ-n-プロポキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルトリ-i-プロポキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルトリ-n-ブトキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルトリ-sec-ブトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリクロロシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリ-n-プロポキシシラン、3-メルカプトプロピルトリ-i-プロポキシシラン、3-メルカプトプロピルトリ-n-ブトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリ-sec-ブトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ-n-プロポキシシラン、ビニルトリ-i-プロポキシシラン、ビニルトリ-n-ブトキシシラン、ビニルトリ-sec-ブトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリ-n-プロポキシシラン、アリルトリ-i-プロポキシシラン、アリルトリ-n-ブトキシシラン、アリルトリ-sec-ブトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ-n-プロポキシシラン、フェニルトリ-i-プロポキシシラン、フェニルトリ-n-ブトキシシラン、フェニルトリ-sec-ブトキシシラン、メチルジクロロシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジ-n-プロポキシシラン、メチルジ-i-プロポキシシラン、メチルジ-n-ブトキシシラン、メチルジ-sec-ブトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ-n-プロポキシシラン、ジメチルジ-i-プロポキシシラン、ジメチルジ-n-ブトキシシラン、ジメチルジ-sec-ブトキシシラン、メチル2-パーフルオロ-n-オクチルエチルジクロロシラン、メチル2-パーフルオロ-n-オクチルエチルジメトキシシラン、メチル2-パーフルオロ-n-オクチルエチルジエメトキシシラン、メチル2-パーフルオロ-n-オクチルエチルジ-n-プロポキシシラン、メチル2-パーフルオロ-n-オクチルエチルジ-i-プロポキシシラン、メチル2-パーフルオロ-n-オクチルエチルジ-n-ブトキシシラン、メチル2-パーフルオロ-n-オクチルエチルジ-sec-ブトキシシラン、メチル3-メルカプトプロピルジクロロシラン、メチル3-メルカプトプロピルジメトキシシラン、メチル3-メルカプトプロピルジエトキシシラン、メチル3-メルカプトプロピルジ-n-プロポキシシラン、メチル3-メルカプトプロピルジ-i-プロポキシシラン、メチル3-メルカプトプロピルジ-n-ブトキシシラン、メチル3-メルカプトプロピルジ-sec-ブトキシシラン、メチルビニルジクロロシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、メチルビニルジ-n-プロポキシシラン、メチルビニルジ-i-プロポキシシラン、メチルビニルジ-n-ブトキシシラン、メチルビニルジ-sec-ブトキシシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジビニルジ-n-プロポキシシラン、ジビニルジ-i-プロポキシシラン、ジビニルジ-n-ブトキシシラン、ジビニルジ-sec-ブトキシシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジ-n-プロポキシシラン、ジフェニルジ-i-プロポキシシラン、ジフェニルジ-n-ブトキシシラン、ジフェニルジ-sec-ブトキシシラン、クロロジメチルシラン、メトキシジメチルシラン、エトキシジメチルシラン、クロロトリメチルシラン、ブロモトリメチルシラン、ヨードトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、n-プロポキシトリメチルシラン、i-プロポキシトリメチルシラン、n-ブトキシトリメチルシラン、sec-ブトキシトリメチルシラン、t-ブトキシトリメチルシラン、クロロビニルジメチルシラン、メトキシビニルジメチルシラン、エトキシビニルジメチルシラン、クロロメチルジフェニルシラン、メトキシメチルジフェニルシラン、エトキシメチルジフェニルシラン等のケイ素原子を1個有するシラン化合物等が挙げられる。また、商品名で、例えばKC-89、KC-89S、X-21-3153、X-21-5841、X-21-5842、X-21-5843、X-21-5844、X-21-5845、X-21-5846、X-21-5847、X-21-5848、X-22-160AS、X-22-170B、X-22-170BX、X-22-170D、X-22-170DX、X-22-176B、X-22-176D、X-22-176DX、X-22-176F、X-40-2308、X-40-2651、X-40-2655A、X-40-2671、X-40-2672、X-40-9220、X-40-9225、X-40-9227、X-40-9246、X-40-9247、X-40-9250、X-40-9323、X-41-1053、X-41-1056、X-41-1805、X-41-1810、KF6001、KF6002、KF6003、KR212、KR-213、KR-217、KR220L、KR242A、KR271、KR282、KR300、KR311、KR401N、KR500、KR510、KR5206、KR5230、KR5235、KR9218、KR9706以上、信越化学工業社製;グラスレジン昭和電工社製;SH804、SH805、SH806A、SH840、SR2400、SR2402、SR2405、SR2406、SR2410、SR2411、SR2416、SR2420以上、東レダウコーニング社製;FZ3711、FZ3722以上、日本ユニカー社製;DMS-S12、DMS-S15、DMS-S21、DMS-S27、DMS-S31、DMS-S32、DMS-S33、DMS-S35、DMS-S38、DMS-S42、DMS-S45、DMS-S51、DMS-227、PSD-0332、PDS-1615、PDS-9931、XMS-5025以上、チッソ社製;メチルシリケートMS51、メチルシリケートMS56以上、三菱化学社製;エチルシリケート28、エチルシリケート40、エチルシリケート48以上、コルコート社製;GR100、GR650、GR908、GR950以上、昭和電工社製等の部分縮合物が挙げられる。エポキシ基を有するシラン化合物及び他のシラン化合物は、それぞれ1種単独で用いてもよいし、2種以上を使用してもよい。他のシラン化合物としては、上記のうち、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン及びジメチルジエトキシシランよりなる群から選択される1種以上を使用することが好ましい。本発明におけるエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成するにあたっては、エポキシ基を有するシラン化合物と他のシラン化合物との使用割合を、得られるポリオルガノシロキサンのエポキシ当量が上記の好ましい範囲になるように調製して設定することが好ましい。エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成するにあたって使用することのできる有機溶媒としては、例えば炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒等が挙げられる。上記炭化水素系溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。上記ケトン系溶媒としては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn-アミルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。上記エステル系溶媒としては、例えば酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸i-アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート、乳酸エチル等が挙げられる。上記エーテル系溶媒としては、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる。上記アルコール系溶媒としては、例えば1-ヘキサノール、4-メチル-2-ペンタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル等が挙げられる。これらのうち非水溶性の溶媒が好ましい。これらの有機溶媒は、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。有機溶媒の使用量は、シラン化合物の合計100質量部に対して、10質量部以上10,000質量部以下が好ましく、50質量部以上1,000質量部以下がより好ましい。なお、ここで、シラン化合物の合計とは、エポキシ基を有するシラン化合物と任意的に用いられる他のシラン化合物との合計をいう。エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成する際の水の使用量は、シラン化合物の合計1モルに対して、0.5モル以上100モル以下が好ましく、1モル以上30モル以下がより好ましい。上記触媒としては、例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物等が挙げられる。これらのうち、アルカリ金属化合物又は有機塩基が好ましい。アルカリ金属化合物又は有機塩基を触媒として用いることにより、エポキシ基の開環等の副反応を生じることなく、高い加水分解及び縮合速度で目的とするポリオルガノシロキサンを得ることができるため、生産安定性に優れることとなり好ましい。また、触媒としてアルカリ金属化合物又は有機塩基を用いて合成されたエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと桂皮酸誘導体との反応物を含有する本発明の液晶配向剤は、保存安定性が極めて優れるため好都合である。その理由は、非特許文献1ChemicalReviews,95,p14091995に指摘されているように、加水分解、縮合反応において触媒としてアルカリ金属化合物又は有機塩基を用いると、ランダム構造、はしご型構造又はかご型構造が形成され、シラノール基の含有割合が少ないポリオルガノシロキサンが得られるためではないかと推察される。シラノール基の含有割合が少ないのでシラノール基同士の縮合反応が抑えられ、さらに本発明の液晶配向剤が後述の他の重合体を含有するものである場合にはシラノール基と他の重合体との縮合反応が抑えられるため、保存安定性に優れる結果になるものと推察される。なかでも、有機塩基がより好ましい。有機塩基の使用量は、有機塩基の種類、温度等の反応条件等により異なり、適宜に設定されるべきであるが、例えばシラン化合物の合計1モルに対して0.01モル以上3モル以下が好ましく、0.05モル以上1モル以下がより好ましい。上記アルカリ金属化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド等が挙げられる。上記有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロール等の1~2級有機アミン;トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセン等の3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の4級の有機アミン等が挙げられる。これらの有機塩基のうち、トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン等の3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の4級の有機アミンが好ましい。エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成する際の加水分解及び縮合反応は、エポキシ基を有するシラン化合物と必要に応じて他のシラン化合物とを有機溶媒に溶解し、この溶液を有機塩基及び水と混合して、例えば油浴等の適当な加熱装置を用いて加熱することによって実施することが好ましい。上記加水分解及び縮合反応の際の加熱温度としては、130°C以下が好ましく、40°C以上100°C以下がより好ましい。加熱時間としては、0.5時間~12時間が好ましく、1時間~8時間がより好ましい。なお、加熱中は、混合液を撹拌してもよいし、撹拌しなくてもよく、あるいは混合液を還流下に置いてもよい。反応終了後、反応混合物から分離した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。この洗浄に際しては、少量の塩を含む水、例えば0.2質量程度の硝酸アンモニウム水溶液等で洗浄することにより、洗浄操作が容易になる点で好ましい。洗浄は洗浄後の水層が中性になるまで行い、その後有機溶媒層を、必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシーブス等の適当な乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを得ることができる。本発明においては、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンとして市販されているものを用いてもよい。このような市販品としては、例えばDMS-E01,DMS-E12、DMS-E21,EMS-32以上、チッソ社製等が挙げられる。[上記式A1で表される化合物及び上記式A2で表される化合物]上記式A1及びA2のそれぞれで表される化合物の具体例としては、上記式A1’及びA2’のそれぞれで表される基として上記に例示した基の結合手に水素原子を結合してなるカルボン酸を挙げることができる。[[A]ポリオルガノシロキサンの合成方法][A]ポリオルガノシロキサンは、上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式A1で表される化合物及び上記式A2で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物とを、好ましくは触媒及び有機溶媒の存在下に反応させることにより、容易に得ることができる。上記反応における上記式A1で表される化合物及び上記式A2で表される化合物の使用量としては、その合計が、ポリオルガノシロキサンの有するエポキシ基1モルに対して、0.001モル~10モルが好ましく、0.01モル~5モルがより好ましく、0.05モル~2モルがさらに好ましく、0.05モル~0.8モルが特に好ましい。上記触媒としては、有機塩基、又はエポキシ化合物と酸無水物との反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物を用いることができる。上記有機塩基については、上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成の際に使用する有機塩基についての説明を適用することができる。上記硬化促進剤としては、例えばベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリスジメチルアミノメチルフェノール、シクロヘキシルジメチルアミン、トリエタノールアミンの如き3級アミン;2-メチルイミダゾール、2-n-ヘプチルイミダゾール、2-n-ウンデシルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-フェニルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-2-シアノエチル-2-メチルイミダゾール、1-2-シアノエチル-2-n-ウンデシルイミダゾール、1-2-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-2-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、1-2-シアノエチル-2-フェニル-4,5-ジ2’-シアノエトキシメチルイミダゾール、1-2-シアノエチル-2-n-ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1-2-シアノエチル-2-フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1-2-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾリウムトリメリテート、2,4-ジアミノ-6-2’-メチルイミダゾリル-1’エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-2’-n-ウンデシルイミダゾリルエチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-2’-エチル-4’-メチルイミダゾリル-1’エチル-s-トリアジン、2-メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2-フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2,4-ジアミノ-6-2’-メチルイミダゾリル-1’エチル-s-トリアジンのイソシアヌル酸付加物等のイミダゾール化合物;ジフェニルフォスフィン、トリフェニルフォスフィン、亜リン酸トリフェニル等の有機リン化合物;ベンジルトリフェニルフォスフォニウムクロライド、テトラ-n-ブチルフォスフォニウムブロマイド、メチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、n-ブチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、テトラフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムヨーダイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムアセテート、テトラ-n-ブチルフォスフォニウム、o,o-ジエチルフォスフォロジチオネート、テトラ-n-ブチルフォスフォニウムベンゾトリアゾレート、テトラ-n-ブチルフォスフォニウムテトラフルオロボレート、テトラ-n-ブチルフォスフォニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルフォスフォニウムテトラフェニルボレート等の4級フォスフォニウム塩;1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7、その有機酸塩等のジアザビシクロアルケン;オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体等の有機金属化合物;テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ-n-ブチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩;三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニル等のホウ素化合物;塩化亜鉛、塩化第二錫等の金属ハロゲン化合物;ジシアンジアミド、アミン等とエポキシ樹脂との付加物等のアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性硬化促進剤;上記イミダゾール化合物、有機リン化合物、4級フォスフォニウム塩等の硬化促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤;アミン塩型潜在性硬化促進剤;ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩等の高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等の潜在性硬化促進剤等が挙げられる。これらのうちテトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ-n-ブチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩が好ましい。上記触媒の使用量としては、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン100質量部に対して100質量部以下が好ましく、0.01質量部以上100質量部以下がより好ましく、0.1質量部以上20質量部以下がさらに好ましい。エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式A1で表される化合物及び上記式A2で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物との反応は、必要に応じて有機溶剤の存在下に行うことができる。上記有機溶媒としては、例えば炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、アルコール系溶媒等を挙げることができる。これらのうち、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒が、原料及び生成物の溶解性並びに生成物の精製のし易さの観点から好ましい。溶媒は固形分濃度反応溶液中の溶媒以外の成分の質量が溶液の全質量に占める割合が、0.1質量以上となる割合で使用することが好ましく、5質量~50質量の割合で使用することがより好ましい。上記反応における温度としては、0~200°Cが好ましく、50~150°Cがより好ましい。反応時間としては、0.1~50時間が好ましく、0.5~20時間がより好ましい。この[A]ポリオルガノシロキサンの合成方法は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの有するエポキシの開環付加によって上記式A1’及びA2’のそれぞれで表される基よりなる群から選択される少なくとも1種の基を導入する方法である。この合成方法は簡便であり、しかも上記式A1’及びA2’のそれぞれで表される基よりなる群から選択される少なくとも1種の基の導入率を高くすることができる点で極めて好適な方法である。<[B]重合体>[B]重合体としては、主鎖に光配向性基を有する重合体である限り公知のものを用いることができるが、上記式1で表される構造以下、構造1ともいうを有する重合体以下、特定重合体ともいうであることが好ましい。以下に、特定重合体について説明する。<特定重合体>上記式1中、R10はそれぞれ独立して、炭素数1~4のアルキル基、水酸基、ハロゲン原子又はシアノ基である。aはそれぞれ独立して、0~4の整数である。は結合手である。上記式1におけるR10としては、炭素数1~4のアルキル基又はハロゲン原子であることが好ましく、メチル基又はフッ素原子であることがより好ましい。aは、0~2であることが好ましく、0又は1であることがより好ましい。本発明における特定重合体は、上記構造1のほかに、メチレン基又は炭素数2~12のアルキレン基を含む構造以下、構造2ともいうをさらに有することが好ましい。但し、このアルキレン基は、アルキレン基の末端以外に位置するメチレン基及びジアルキルメチレン基のうちの1つ以上が、酸素原子、エステル結合、炭素数5~10の2価の脂環式基、炭素数6~24のアリーレン基、ジアルキルシリレン基又はケイ素原子数2~10のジアルキルシロキシレン基によって置換されていてもよい。特定重合体がこのような構造をさらに有することによって、かかる特定重合体を含有する液晶配向剤から形成される液晶配向膜に適当な柔軟性が付与され、その結果、良好な液晶配向性を示すこととなる。上記構造2としては、炭素数2~12のアルキレン基からなる構造が好ましい。上記炭素数5~10の2価の脂環式基としては、例えば1,4-シクロへキシレン基等が挙げられる。上記炭素数6~24のアリーレン基としては、例えば1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基等が挙げられる。上記ケイ素原子数2~10のジアルキルシロキシレン基としては、例えば下記式で表される基等が挙げられる。上記式中、bは、それぞれ独立して、1~8の整数である。cは、1~9の整数である。は結合手であることを示す。上記構造2としては、例えば1,2-エチレン基、1,4-ブチレン基、1,6-へキシレン基、1,8-オクチレン基、1,10-デシレン基、1,12-ドデシレン基及び下記式で表される基からなる構造等が挙げられる。上記式中、は結合手であることを示す。特定重合体における上記構造1の含有割合は、5×10-4モル/g~4×10-3モル/gであることが好ましく、1×10-3モル/g~3.5×10-3モル/gであることがより好ましく、1.5×10-3モル/g~3×10-3モル/gであることがさらに好ましい。特定重合体における上記構造2の含有割合は、6×10-3モル/g以下であることが好ましく、1×10-3モル/g~6×10-3モル/gであることがより好ましく、1.5×10-3モル/g~4×10-3モル/gであることがさらに好ましい。特定重合体における構造1及び2は、それぞれ、重合体の主鎖、側鎖及び末端から選択される1つ以上の場所に位置することができるが、重合体の主鎖に位置することが、形成される液晶配向膜のプレチルト角を小さくすることができる点で好ましい。本発明における特定重合体の主骨格としては、例えばポリオルガノシロキサン、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリスチレン-フェニルマレイミド誘導体、ポリメタアクリレート、多官能カルボン酸と多官能エポキシ化合物との反応物等が挙げられる。これらのうち、多官能カルボン酸と多官能エポキシ化合物との反応物であることが好ましい。本発明における特定重合体としての多官能カルボン酸と多官能エポキシ化合物との反応物は、上記構造1を有するものである限りどのような方法によって製造されたものであってもよいが、ジエポキシ化合物を含む多官能エポキシ化合物と、構造1を有するジカルボン酸を含む多官能カルボン酸との反応生成物であることが、製造方法の簡便性及び特定重合体の単離精製が容易であるとの観点から好ましい。以下、本発明における好ましい特定重合体の製造方法について詳説する。<特定重合体の合成方法>[多官能エポキシ化合物]本発明における好ましい特定重合体を製造するために使用される多官能エポキシ化合物は、ジエポキシ化合物を含む。このジエポキシ化合物とは、2つのエポキシ基を有する化合物であり、この2つのエポキシ基が結合されてなる化合物であってもよく、2つのエポキシ基のほかに上記構造2をさらに有する化合物であってもよい。ジエポキシ化合物は、2つのエポキシ基のほかに上記構造2をさらに有する化合物を用いることにより、得られる特定重合体が構造1に加えて構造2をも有するものとなり好ましい。かかるジエポキシ化合物としては、例えば2つのエポキシ基が結合されてなる化合物として下記式DE-1で表される化合物等が挙げられる。また、2つのエポキシ基のほかに上記構造2を有する化合物としては、例えば下記式DE-2~DE-11のそれぞれで表される化合物等が、挙げられる。なお、ジエポキシ化合物は、1種のみを単独で使用してもよく、2種以上を混合して用いてもよい。本発明における多官能エポキシ化合物としては、上記ジエポキシ化合物と共に、その他の多官能エポキシ化合物を使用することができる。ここで使用することのできるその他の多官能エポキシ化合物は、好ましくは3つ以上のエポキシ基を有する化合物であり、より好ましくは3つ又は4つのエポキシ基を有する化合物であり、例えばトリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビスN,N-ジグリシジルアミノメチルシクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン等を好ましいものとして挙げることができる。なお、上記多官能エポキシ化合物としては、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。多官能エポキシ化合物におけるジエポキシ化合物の使用割合は、多官能エポキシ化合物の合計1モルに対して、0.5モルを超えることが好ましく、0.5モルを超え0.999モル以下がより好ましく、0.8モルを超え0.998モル以下がさらに好ましく、0.9モルを超え0.995モル以下であることが特に好ましい。このような使用割合とすることにより、本発明の効果を損ねることなく、形成される液晶配向膜の電気特性の耐光耐熱性をより向上することができる。[多官能カルボン酸]本発明における好ましい特定重合体を製造するために使用される多官能カルボン酸は、上記構造1の少なくとも1つ以上と2つのカルボキシル基とを有する化合物以下、ジカルボン酸ともいうを含むものである。このようなジカルボン酸としては、例えば下記式DC-1~DC-4で表される化合物等が挙げられる。なお、ジカルボン酸は、1種のみを単独で使用してもよく、2種以上を混合して用いてもよい。本発明における多官能カルボン酸としては、上記ジカルボン酸と共に、その他の多官能カルボン酸を使用することができる。ここで使用することのできるその他の多官能カルボン酸は、上記構造1を有さない多官能カルボン酸であり、好ましくは3つ以上のカルボキシル基を有する化合物であり、より好ましくは3つ又は4つのカルボキシル基を有する化合物である。このようなその他の多官能カルボン酸としては、例えばトリメリット酸、ピロメリット酸、1,3,5-トリス4-カルボキシフェニルベンゼン、1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸等を好ましいものとして挙げることができる。なお、その他の多官能カルボン酸は、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。多官能カルボン酸におけるジカルボン酸の使用割合は、多官能エポキシ化合物の合計1モルに対して、0.5モルを超えることが好ましく、0.5モルを超え0.999モル以下がより好ましく、0.8モルを超え0.998モル以下がさらに好ましく、0.9モルを超え0.995モル以下が特に好ましい。このような使用割合とすることにより、本発明の効果を損ねることなく、電気特性の耐光耐熱性をより向上することができる。[特定重合体の製造方法]本発明における好ましい特定重合体は、上記多官能エポキシ化合物と多官能カルボン酸とを、好ましくは適当な有機溶媒中で反応させることにより得ることができる。特定重合体の製造の際の多官能エポキシ化合物と多官能カルボン酸との使用割合は、多官能エポキシ化合物1モルに対する多官能カルボン酸の使用量として、0.8モル以上1.2モル以下とすることが好ましく、0.9以上1.1モル以下とすることがより好ましい。多官能エポキシ化合物と多官能カルボン酸との反応に際して使用できる有機溶媒としては、例えば脂肪族炭化水素、フェノール性溶媒、エーテル、エステル、ケトン、非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらのうち、フェノール性溶媒又は非プロトン性極性溶媒を使用することが、原料及び生成物の溶解性などの観点から好ましい。上記好ましい有機溶媒としては、例えばm-クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノール等のフェノール性溶媒;N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。有機溶媒は、固形分濃度反応溶液中の有機溶媒以外の成分の質量が溶液の全質量に占める割合が、5質量以上となる割合で使用されることが好ましく、10質量以上50質量以下となる割合で使用されることがより好ましい。多官能エポキシ化合物と多官能カルボン酸との反応は、必要に応じて触媒の存在下に行うことができる。かかる触媒としては、有機塩基のほか、エポキシ化合物と酸無水物との反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物を用いることができる。上記有機塩基としては、[A]ポリオルガノシロキサンの合成に用いられる有機塩基と同様の化合物が挙げられる。上記触媒の使用割合は、多官能エポキシ化合物及び多官能カルボン酸の合計100質量部に対して、30質量部以下とすることが好ましい。多官能エポキシ化合物と多官能カルボン酸との反応の温度としては、25°C以上200°C以下が好ましく、40°C以上180°C以下がより好ましい。また、反応時間としては、10分以上48時間以下が好ましく、1時間以上24時間以下がより好ましい。本発明における特定重合体の末端は、カルボキシル基であってもよく、エポキシ基であってもよく、あるいは加水分解などによって開環したエポキシ基であってもよい。本発明において特定重合体は、特に末端を修飾しなくてもそのまま配向剤の調製に供することができる。しかし、本発明の特定重合体の製造時又は製造後に例えば安息香酸等のモノカルボン酸又はベンジルグリシジルエーテル等のモノエポキシ化合物を添加して反応させることにより、末端を修飾した特定重合体とした上で配向剤の調製に供してもよい。<[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミド>当該液晶配向剤は、[C]分解型光配向性を有するポリアミック酸及び/又はポリイミドを含有する。ここで、分解型光配向性とは、偏光又は非偏光の紫外光を照射した際に、ポリマー主鎖又は側鎖が有する一部の構造において光開裂反応が生じ、それに伴い液晶配向機能を発現する性質を言う。上記光開裂反応が起こる条件としては、例えば照射する偏光又は非偏光の紫外光の波長が200nm以上300nm以下であり、その照射量が2,000J/m2以上であること等が挙げられる。なお、光開裂反応がより起こり易い条件としては、上記波長が220nm以上280nm以下であることが好ましく、254nmが特に好ましい。上記照射量としては、4,000J/m2以上が好ましく、6,000J/m2以上がより好ましく、8,000J/m2以上がさらに好ましい。[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドとしては公知のものを用いることができるが、上記ポリアミック酸が、下記式c-1~下記式c-4で表される構造単位のいずれかを有し、また、上記ポリイミドが下記式c-5又は下記式c-6で表される構造単位を有することが好ましい。上記式c-1~c-6中、Rc1及びRc2は、それぞれ独立して2価の有機基である。[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドにおけるポリアミック酸としては、ビシクロ[2.2.2]オクテン骨格又はシクロブタン骨格を有する重合体であることが好ましい。上記ポリアミック酸は、例えばビシクロ[2.2.2]オクテン骨格又はシクロブタン骨格を有するテトラカルボン酸二無水物と、ジアミン化合物を有機溶媒中で反応することにより合成できる。ビシクロ[2.2.2]オクテン骨格を有するテトラカルボン酸二無水物としては、例えばビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、7-メチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、7-エチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、7-n-プロピル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、7-n-ブチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、7-sec-ブチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、1-メチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、1-メチル-7-メチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、1-メチル-7-エチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、1-メチル-7-n-プロピル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、1-メチル-7-n-ブチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、1-メチル-7-sec-ブチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらのうち、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、1-メチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、7-メチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、1-メチル-7-メチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物が好ましく、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、7-メチル-ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物がより好ましく、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物がさらに好ましい。シクロブタン骨格を有するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらのうち、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物が好ましい。上記ポリアミック酸におけるビシクロ[2.2.2]オクテン骨格又はシクロブタン骨格を有するテトラカルボン酸二無水物とジアミンに由来するアミック酸構造単位の含有割合は、全重合体の全構造単位に対して、10モル以上が好ましく、30モル以上がより好ましく、50モル以上がさらに好ましい。[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドにおけるポリアミック酸を合成する際に用いられる他のテトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物、及びポリアミック酸の合成方法については、後述する他の重合体として示したポリアミック酸と同様にして得ることができる。[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドにおけるポリイミドは、上記ポリアミック酸の有するアミック酸構造を脱水閉環することにより合成することができ、後述する他の重合体として示したポリイミドと同様にして得ることができる。<その他の成分>当該液晶配向剤が含有してもよいその他の成分としては、例えば[A]~[C]以外の重合体以下、他の重合体ともいう、硬化剤、硬化触媒、硬化促進剤、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物ただし、[A]ポリオルガノシロキサンに該当するものを除く。以下、エポキシ化合物ともいう。、官能性シラン化合物ただし、[A]ポリオルガノシロキサンに該当するものを除く。、界面活性剤等が挙げられる。以下各成分について詳述する。[他の重合体]上記他の重合体は、本発明の液晶配向剤の溶液特性及び得られる液晶配向膜の電気特性をより改善するために使用することができる。かかる他の重合体としては、[D]光配向性基を有しないポリアミック酸及び光配向性基を有しないポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体、上記[A]ポリオルガノシロキサン以外のポリオルガノシロキサン以下、他のポリオルガノシロキサンともいうが好適に用いられる。また、これ以外に、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリスチレン-フェニルマレイミド誘導体、ポリメタアクリレート等を挙げることができる。以下、[D]重合体及び他のポリオルガノシロキサン及びについて説明する。[[D]重合体][D]重合体は、光配向性基を有しないポリアミック酸及び光配向性基を有しないポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体である。ポリアミック酸上記ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得ることができる。上記ポリアミック酸を合成するために用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-5-テトラヒドロ-2,5-ジオキソ-3-フラニル-ナフト[1,2-c]フラン-1,3-ジオン、1,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-8-メチル-5-テトラヒドロ-2,5-ジオキソ-3-フラニル-ナフト[1,2-c]フラン-1,3-ジオン、3-オキサビシクロ[3.2.1]オクタン-2,4-ジオン-6-スピロ-3’-テトラヒドロフラン-2’,5’-ジオン、5-2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フラニル-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、3,5,6-トリカルボキシ-2-カルボキシメチルノルボルナン-2:3,5:6-二無水物、2,4,6,8-テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン-2:3,5:6-二無水物、4,9-ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン-3,5,8,10-テトラオン等が挙げられる。上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物等が挙げられる。さらに、上記テトラカルボン酸二無水物に加えて、特願2009-157556号公報、特開2009-169224公報及び特開2008-20899号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。上記ポリアミック酸を合成するために用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、これらのうち、脂環式テトラカルボン酸二無水物を含むものであることが好ましく、さらに、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物及び1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物よりなる群から選択される少なくとも1種を含むものであることがより好ましく、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物を含むものであることがさらに好ましい。上記ポリアミック酸を合成するために用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物及び1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物よりなる群から選択される少なくとも1種を、全テトラカルボン酸二無水物に対して、10モル以上含むものであることが好ましく、20モル以上含むものであることがより好ましく、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物及び1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物よりなる群から選択される少なくとも1種のみからなるものであることがさらに好ましい。ポリアミック酸を合成するために用いられるジアミンとしては、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサン等が挙げられる。上記脂肪族ジアミンとしては、例えば1,1-メタキシリレンジアミン、1,3-プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等が挙げられる。上記脂環式ジアミンとして、例えば1,4-ジアミノシクロヘキサン、4,4’-メチレンビスシクロヘキシルアミン、1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサン等が挙げられる。上記芳香族ジアミンとしては、例えばp-フェニレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、1,5-ジアミノナフタレン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、4,4’-ジアミノ-2,2’-ビストリフルオロメチルビフェニル、2,7-ジアミノフルオレン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]プロパン、9,9-ビス4-アミノフェニルフルオレン、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス4-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、4,4’-p-フェニレンジイソプロピリデンビスアニリン、4,4’-m-フェニレンジイソプロピリデンビスアニリン、1,4-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、4,4’-ビス4-アミノフェノキシビフェニル、2,6-ジアミノピリジン、3,4-ジアミノピリジン、2,4-ジアミノピリミジン、3,6-ジアミノアクリジン、3,6-ジアミノカルバゾール、N-メチル-3,6-ジアミノカルバゾール、N-エチル-3,6-ジアミノカルバゾール、N-フェニル-3,6-ジアミノカルバゾール、N,N’-ビス4-アミノフェニル-ベンジジン、N,N’-ビス4-アミノフェニル-N,N’-ジメチルベンジジン、1,4-ビス-4-アミノフェニル-ピペラジン、3,5-ジアミノ安息香酸、ドデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、ドデカノキシ-2,5-ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ-2,5-ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ-2,5-ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ-2,5-ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ-2,5-ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ-3,5-ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ-3,5-ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ-2,4-ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ-2,4-ジアミノベンゼン、3,5-ジアミノ安息香酸コレスタニル、3,5-ジアミノ安息香酸コレステニル、3,5-ジアミノ安息香酸ラノスタニル、3,6-ビス4-アミノベンゾイルオキシコレスタン、3,6-ビス4-アミノフェノキシコレスタン、4-4’-トリフルオロメトキシベンゾイロキシシクロヘキシル-3,5-ジアミノベンゾエート、4-4’-トリフルオロメチルベンゾイロキシシクロヘキシル-3,5-ジアミノベンゾエート、1,1-ビス4-アミノフェニルメチルフェニル-4-ブチルシクロヘキサン、1,1-ビス4-アミノフェニルメチルフェニル-4-ヘプチルシクロヘキサン、1,1-ビス4-アミノフェノキシメチルフェニル-4-ヘプチルシクロヘキサン、1,1-ビス4-アミノフェニルメチルフェニル-4-4-ヘプチルシクロヘキシルシクロヘキサン、下記式D-1で表される化合物等が挙げられる。上記式D-1中、XIは炭素数1~3のアルキル基、-O-、-COO-又は-OCO-である。但し、はジアミノフェニル基と結合する部位を示す。hは0又は1である。iは0~2の整数である。jは1~20の整数である。上記式D-1におけるXIは炭素数1~3のアルキル基、-O-又は-COO-であることが好ましい。上記式D-1における基CjH2j1-としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基、n-エイコシル基等が挙げられる。ジアミノフェニル基における2つのアミノ基は、他の基に対して2,4-位又は3,5-位にあることが好ましい。上記式D-1において、h及びiは同時には0にならないことが好ましい。上記式D-1で表される化合物の具体例としては、例えば下記式D-1-1~D-1-4で表される化合物等が挙げられる。上記ジアミノオルガノシロキサンとしては、例えば1,3-ビス3-アミノプロピル-テトラメチルジシロキサン等が挙げられる。ポリアミック酸を合成するために用いられるジアミンとしては、上記以外に、特願2009-157556号公報、特開2009-169224公報及び特開2008-20899号公報に記載のジアミンを用いることもできる。なお、これらのジアミンは単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンの使用割合は、ジアミン化合物に含まれるアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2~2当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは0.3~1.2当量となる割合である。ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において、好ましくは-20°C~150°C、より好ましくは0°C~100°Cの温度条件下において、好ましくは0.5時間~24時間、より好ましくは2時間~10時間行われる。ここで、有機溶媒としては、合成されるポリアミック酸を溶解できるものであれば特に制限はなく、例えばN-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等の非プロトン系極性溶媒;m-クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノール等のフェノール系溶媒等を挙げることができる。有機溶媒の使用量aは、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の総量bが反応溶液の全量abに対して好ましくは0.1質量~50質量、より好ましくは5質量~30質量となるような量である。以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。この反応溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリアミック酸を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸を脱水閉環してポリイミドとする場合には、上記反応溶液をそのまま脱水閉環反応に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで脱水閉環反応に供してもよく、又は単離したポリアミック酸を精製したうえで脱水閉環反応に供してもよい。ポリアミック酸の単離は、上記反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物を減圧下乾燥する方法、あるいは、反応溶液中の有機溶媒をエバポレーターで減圧留去する方法等により行うことができる。また、このポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解し、次いで貧溶媒で析出させる方法、あるいは、エバポレーターで減圧留去する工程を1回又は数回行う方法等により、ポリアミック酸を精製することができる。ポリイミド上記ポリイミドは、上記の如くして得られたポリアミック酸の有するアミック酸構造を脱水閉環することにより合成することができる。このとき、アミック酸構造の全部を脱水閉環して完全にイミド化してもよく、あるいはアミック酸構造のうちの一部のみを脱水閉環してアミック酸構造とイミド構造とが併存する部分イミド化物としてもよい。ポリアミック酸の脱水閉環は、iポリアミック酸を加熱する方法により、又はiiポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行うことができる。上記iのポリアミック酸を加熱する方法における反応温度は、好ましくは50°C~200°Cであり、より好ましくは60°C~170°Cである。反応温度が50°C未満では脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温度が200°Cを超えると得られるポリイミドの分子量が低下する場合がある。ポリアミック酸を加熱する方法における反応時間は、好ましくは0.5時間~48時間であり、より好ましくは2時間~20時間である。一方、上記iiのポリアミック酸の溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸構造単位の1モルに対して0.01モル~20モルとすることが好ましい。また、脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の3級アミンを用いることができる。しかし、これらに限定されるものではない。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.01モル~10モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は好ましくは0°C~180°C、より好ましくは10°C~150°Cであり、反応時間は好ましくは0.5時間~20時間であり、より好ましくは1時間~8時間である。上記方法iにおいて得られるポリイミドは、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、あるいは得られるポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。一方、上記方法iiにおいてはポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除くには、例えば溶媒置換等の方法を適用することができる。ポリイミドの単離、精製は、ポリアミック酸の単離、精製方法として上記したのと同様の操作を行うことにより行うことができる。他のポリオルガノシロキサン本発明における他のポリオルガノシロキサンは、上記の[A]ポリオルガノシロキサン以外のポリオルガノシロキサンである。かかる他のポリオルガノシロキサンは、例えばアルコキシシラン化合物及びハロゲン化シラン化合物よりなる群から選択される少なくとも1種のシラン化合物以下、原料シラン化合物ともいうを、好ましくは適当な有機溶媒中で、水及び触媒の存在下において加水分解及び縮合することにより合成することができる。ここで使用される原料シラン化合物としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-iso-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-tert-ブトキシシラン、テトラクロロシラン;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ-n-プロポキシシラン、メチルトリ-iso-プロポキシシラン、メチルトリ-n-ブトキシシラン、メチルトリ-sec-ブトキシシラン、メチルトリ-tert-ブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ-n-プロポキシシラン、エチルトリ-iso-プロポキシシラン、エチルトリ-n-ブトキシシラン、エチルトリ-sec-ブトキシシラン、エチルトリ-tert-ブトキシシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルクロロシラン等が挙げられる。これらのうちの1種以上を使用することが好ましく、特にテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン及びトリメチルエトキシシランよりなる群から選択される少なくとも1種を使用することが好ましい。本発明における他のポリオルガノシロキサンは、上記の如き原料シラン化合物を使用する他は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成方法として上記したところと同様にして合成することができる。他のポリオルガノシロキサンにつき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、1,000~100,000であることが好ましく、5,000~50,000であることがより好ましい。なお、[A]ポリシロキサン又は[B]重合体を含有する当該液晶配向剤においては、[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドの光開裂反応が起こらない条件で使用する場合には、実質的に分解型光配向性による発明の効果が得られないため、[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドを他の重合体として含有してもよい。他の重合体の使用割合本発明の液晶配向剤が、上述の[A]~[C]のうちの少なくとも1種と共に他の重合体を含有するものである場合、他の重合体の使用割合としては、[A]~[C]の合計100質量部に対して10,000質量部以下であることが好ましい。他の重合体のより好ましい使用割合は、他の重合体の種類により異なる。また、本発明の液晶配向剤が、[A]~[C]のうちの少なくとも1種、並びに[D]重合体を含有するものである場合における両者のより好ましい使用割合は、[A]~[C]の合計100質量部に対して[D]重合体の合計量が10~5,000質量部であり、100~2,000質量部であることが好ましい。さらに、本発明の液晶配向剤が、[A]~[C]のうちの少なくとも1種、及び他のポリオルガノシロキサンを含有するものである場合における両者のより好ましい使用割合は、[A]~[C]の合計100質量部に対して他のポリオルガノシロキサンの量が5~2,000質量部である。[硬化剤及び硬化触媒]上記硬化剤としては、エポキシ基を有する硬化性化合物又はエポキシ基を有する化合物を含有する硬化性組成物の硬化に一般に用いられている硬化剤を用いることができ、例えば多価アミン、多価カルボン酸無水物、多価カルボン酸を例示することができる。上記多価カルボン酸無水物としては、例えばシクロヘキサントリカルボン酸の無水物、その他の多価カルボン酸無水物等を挙げることができる。シクロヘキサントリカルボン酸無水物としては、例えばシクロヘキサン-1,3,4-トリカルボン酸-3,4-無水物、シクロヘキサン-1,3,5-トリカルボン酸-3,5-無水物、シクロヘキサン-1,2,3-トリカルボン酸-2,3-酸無水物等が挙げられる。その他の多価カルボン酸無水物としては、例えば4-メチルテトラヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、無水こはく酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水トリメリット酸、下記式CA-1で表される化合物及びポリアミック酸の合成に一般に用いられるテトラカルボン酸二無水物、α-テルピネン、アロオシメン等の共役二重結合を有する脂環式化合物と無水マレイン酸とのディールスアルダー反応生成物、これらの水素添加物等を挙げることができる。上記式CA-1中、kは1~20の整数である。上記硬化触媒としては、例えば6フッ化アンチモン化合物、6フッ化リン化合物、アルミニウムトリスアセチルアセトナート等が挙げられる。これらの触媒は加熱によりエポキシ基のカチオン重合を触媒することができる。上記硬化促進剤としては、例えばイミダゾール化合物;4級リン化合物;4級アミン化合物;1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7やその有機酸塩等のジアザビシクロアルケン;オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体等の有機金属化合物;三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニル等のホウ素化合物;塩化亜鉛、塩化第二錫等の金属ハロゲン化合物;ジシアンジアミド、アミンとエポキシ樹脂との付加物等のアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性硬化促進剤;4級フォスフォニウム塩等の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤;アミン塩型潜在性硬化促進剤;ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩等の高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等が挙げられる。[エポキシ化合物]上記エポキシ化合物は、形成される液晶配向膜の基板表面に対する接着性を向上させる観点から本発明の液晶配向剤に含有させることができる。かかるエポキシ化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、2,2-ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,3,5,6-テトラグリシジル-2,4-ヘキサンジオール、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビスN,N-ジグリシジルアミノメチルシクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、N,N,-ジグリシジル-ベンジルアミン、N,N-ジグリシジル-アミノメチルシクロヘキサンが好ましい。本発明の液晶配向剤がエポキシ化合物を含有する場合、その含有割合としては、上記の[A]~[C]と任意的に使用される他の重合体との合計100質量部に対して、好ましくは40質量部以下であり、より好ましくは0.1~30質量部である。なお、本発明の液晶配向剤がエポキシ化合物を含有する場合、その架橋反応を効率良く起こす目的で、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール等の塩基触媒を併用してもよい。[官能性シラン化合物]上記官能性シラン化合物は、得られる液晶配向膜の基板との接着性を向上する目的で使用することができる。官能性シラン化合物としては、例えば3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、2-アミノプロピルトリメトキシシラン、2-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N-エトキシカルボニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-エトキシカルボニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N-トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10-トリメトキシシリル-1,4,7-トリアザデカン、10-トリエトキシシリル-1,4,7-トリアザデカン、9-トリメトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、9-トリエトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、N-ベンジル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ベンジル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-ビスオキシエチレン-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ビスオキシエチレン-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等が挙げられる。さらに特開昭63-291922号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物とアミノ基を有するシラン化合物との反応物等を使用することができる。本発明の液晶配向剤が官能性シラン化合物を含有する場合、その含有割合としては、上記の[A]~[C]と任意的に使用される他の重合体との合計100質量部に対して、好ましくは50質量部以下であり、より好ましくは20質量部以下である。[界面活性剤]上記界面活性剤としては、例えばノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、含フッ素界面活性剤等を挙げることができる。本発明の液晶配向剤が界面活性剤を含有する場合、その含有割合としては、液晶配向剤の全体100質量部に対して、好ましくは10質量部以下であり、より好ましくは1質量部以下である。本発明のPSA方式の液晶表示素子における液晶配向膜形成用の液晶配向剤は、[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサン[B]主鎖に光配向性基を有する重合体、並びに[C]分解型光配向性を有するポリアミック酸及び/又はポリイミド、からなる群より選択される少なくとも1種の重合体を含有するものであるが、[A]ポリオルガノシロキサン及び[B]重合体からなる群より選択される少なくとも1種の重合体を含有することが好ましく、[A]ポリオルガノシロキサンを含有することがより好ましい。本発明の液晶配向剤は、さらに、[D]重合体を含有することが好ましく、その使用割合は[A]~[C]の重合体の固形分の合計を100質量部とした場合、10質量部~5,000質量部であり、100質量部~2,000質量部であることが好ましい。[溶媒]当該液晶配向剤は、好ましくは各成分が有機溶媒に溶解された溶液状の組成物として調製される。本発明の液晶配向剤を調製するために使用することのできる有機溶媒としては、液晶配向剤に含有される[A]~[C]の重合体及び任意的に使用される他の成分を溶解し、これらと反応しないものが好ましい。本発明の液晶配向剤に好ましく使用することのできる有機溶媒は、任意的に添加される他の重合体の種類により異なる。本発明の液晶配向剤が[A]ポリオルガノシロキサン、及び[D]重合体を含有するものである場合、用いられる有機溶剤としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして上記に例示した有機溶媒と同様の溶媒を挙げることができる。このとき、本発明のポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した貧溶媒を併用してもよい。これら有機溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。一方、本発明の液晶配向剤が、重合体として[A]ポリオルガノシロキサンのみを含有するものである場合、又は[A]ポリオルガノシロキサン及び他のポリオルガノシロキサンを含有するが、[D]重合体を含有しないものである場合における好ましい有機溶剤としては、1-エトキシ-2-プロパノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレンブリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルブチルセロソルブ、エチレングリコールモノアミルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコール、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピルカルビトール、ブチルカルビトール、酢酸n-プロピル、酢酸i-プロピル、酢酸n-ブチル、酢酸i-ブチル、酢酸sec-ブチル、酢酸n-ペンチル、酢酸sec-ペンチル、酢酸3-メトキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸2-エチルブチル、酢酸2-エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸n-ヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸オクチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル等が挙げられる。この中で好ましくは、酢酸n-プロピル、酢酸i-プロピル、酢酸n-ブチル、酢酸i-ブチル、酢酸sec-ブチル、酢酸n-ペンチル、酢酸sec-ペンチル等が挙げられる。本発明の液晶配向剤の調製に用いられる好ましい溶媒は、他の重合体の使用の有無及びその種類に従い、上記した有機溶媒の1種又は2種以上を組み合わせて得られるものであって、下記の好ましい固形分濃度において液晶配向剤に含有される各成分が析出せず、かつ液晶配向剤の表面張力が25~40mN/mの範囲となるものである。本発明の液晶配向剤の固形分濃度、すなわち液晶配向剤中の溶媒以外の全成分の質量が液晶配向剤の全質量に占める割合は、粘性、揮発性等を考慮して選択されるが、好ましくは1~10質量の範囲である。本発明の液晶配向剤は、基板表面に塗布され、液晶配向膜となる塗膜を形成するが、固形分濃度が1質量未満である場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得難い場合がある。一方、固形分濃度が10質量を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得難く、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性が不足する場合がある。特に好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に採用する方法によって異なる。例えばスピンナー法による場合には1.5~4.5質量の範囲が特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を3~9質量の範囲とし、それによって溶液粘度を12mPas~50mPasの範囲とするのが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を1~5質量の範囲とし、それによって溶液粘度を3mPas~15mPasの範囲とすることが特に好ましい。本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは、0°C~200°Cであり、より好ましくは0°C~40°Cである。<液晶配向膜>本発明の液晶配向膜は、PSA方式の液晶表示素子における液晶配向膜であり、例えば当該液晶配向剤を用いて光配向法により形成される。本発明の液晶配向膜は、特にIPSモード、FFSモードといった横電界方式の液晶表示素子に適用したときに、本発明の効果が最大限に発揮されることとなり好ましい。当該液晶配向膜を形成するには、基板上に、当該液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜に放射線を照射する工程を経る方法によることができる。ここで、本発明の液晶配向剤を、横電界方式の液晶セルを有する液晶表示素子に適用する場合には、片面に透明導電膜又は金属膜が櫛歯状にパターニングされた電極を有する基板と、電極が設けられていない対向基板とを一対とし、櫛歯状電極の形成面と、対向基板の片面とに、それぞれ本発明の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成する。上記の基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート等のプラスチックからなる透明基板等を用いることができる。上記透明導電膜としては、例えばIn2O3-SnO2からなるITO膜、SnO2からなるNESA登録商標膜等を用いることができる。上記金属膜としては、例えばクロム等の金属からなる膜を使用することができる。透明導電膜及び金属膜のパターニングには、例えばパターンなし透明導電膜を形成した後にフォトエッチング法、スパッタ法等によりパターンを形成する方法、透明導電膜を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法等によることができる。FFSモードの場合は、本発明の液晶表示素子における一対の基板のうちの1枚の液晶層側の面にはコモン電極、絶縁層、信号電極及び液晶配向膜がこの順で形成されている。上記コモン電極としては、例えば酸化スズSnO2からなるNESA膜米国PPG社登録商標、酸化インジウム-酸化スズIn2O3-SnO2からなるITO膜等を用いることができる。このコモン電極の形状としては、基板の一面に形成されたパターンを有さない、いわゆるベタ膜であることができ、あるいは任意のパターンを有するパターン状電極であってもよい。コモン電極の厚さとしては、10nm~200nmとすることが好ましく、20nm~100nmとすることがより好ましい。コモン電極は、基板上に公知の方法、例えばスパッタ法などによって形成することができる。上記絶縁層としては、例えば窒化ケイ素などからなるものであることができる。絶縁層の厚さとしては、100nm~1,000nmとすることが好ましく、150nm~750nmとすることがより好ましい。絶縁層は、コモン電極上に公知の方法、例えば化学気相蒸着法などによって形成することができる。上記信号電極は、上記のコモン電極と同様の材料からなることができる。信号電極は、例えば複数の櫛歯を有する櫛状電極であることができる。この櫛状電極の櫛歯のそれぞれは、例えば直線状、くの字状などの形状を有することができる。基板上への液晶配向剤の塗布に際して基板、導電膜又は電極と、塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板及び電極上に、予め官能性シラン化合物、チタネート等を塗布しておいてもよい。基板上への液晶配向剤の塗布は、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法、インクジェット印刷法等の適宜の塗布方法により行うことができ、次いで、塗布面を予備加熱プレベークし、次いで焼成ポストベークすることにより塗膜を形成する。プレベーク条件は、例えば40°C~120°Cにおいて0.1分~5分であり、ポストベーク条件は、好ましくは120°C~300°C、より好ましくは150°C~250°Cにおいて、好ましくは5分~200分、より好ましくは10分~100分である。ポストベーク後の塗膜の膜厚は、好ましくは0.001μm~1μmであり、より好ましくは0.005μm~0.5μmである。このようにして形成された塗膜に、直線偏光もしくは部分偏光された放射線又は無偏光の放射線を照射することにより、液晶配向能を付与する。ここで、放射線としては、例えば150nm~800nmの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができるが、200nm~400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。用いる放射線が直線偏光又は部分偏光している場合には、照射は基板面に垂直の方向から行っても、斜め方向から行ってもよく、また、これらを組み合わせて行ってもよい。無偏光の放射線を照射する場合には、照射の方向は斜め方向である必要がある。使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等を使用することができる。上記の好ましい波長領域の紫外線は、上記光源を、例えばフィルター、回折格子等と併用する手段等により得ることができる。[A]ポリオルガノシロキサンを含有する液晶配向剤の場合、露光には300~400nmの放射線を用いることが好ましい。上記放射線の照射量としては1J/m2以上10,000J/m2以下であり、10J/m2以上4,000J/m2以下が好ましい。[B]重合体を含有する液晶配向剤の場合、露光には300~400nmの放射線を用いることが好ましい。上記放射線の照射量としては、1J/m2以上20,000J/m2以下が好ましく、10J/m2以上10,000J/m2以下がより好ましい。[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドを含有する液晶配向剤の場合、露光には200~300nmの放射線を用いることが好ましい。上記放射線の照射量としては1J/m2以上20,000J/m2以下が好ましく、10J/m2以上10,000J/m2以下がより好ましい。<液晶表示素子>本発明の液晶表示素子は、対向配置される一対の基板と、上記両基板間に配設される液晶層と、上記両基板のうちの少なくとも一の基板の内面側に上記液晶層と接触するように配設される液晶配向膜とを備え、上記液晶層が、重合可能なモノマーを含有する液晶組成物を上記両基板間に注入し、上記モノマーを重合させる工程により形成される液晶表示素子であって、上記液晶配向膜が、[A]光配向性基を有するポリオルガノシロキサン[B]主鎖に光配向性基を有する重合体、並びに[C]分解型光配向性を有するポリアミック酸及び/又はポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体を含有する液晶配向剤から形成されることを特徴とする。当該液晶表示素子は、例えば以下のようにして製造することができる。先ず、上記のようにして液晶配向膜が形成された一対の基板を準備し、この一対の基板間に重合性液晶組成物が狭持された構成の液晶セルを製造する。本発明の重合性液晶組成物は液晶と重合性化合物の混合物からなり、例えば特開2009-102639号公報に記載の液晶混合物を例示する事ができる。液晶はポジ型液晶又はネガ型液晶からなる。このポジ型液晶又はネガ型液晶としては、棒状のポジ型液晶が好ましい。重合性化合物としては通常PSA方式の液晶表示素子に使用される公知のものを使用することができる。液晶層の厚さ信号電極と対向基板との距離としては、3~10μmとすることが好ましい。液晶セルを製造する方法としては、例えば以下の2つの方法等が挙げられる。第一の方法は、従来から知られている方法である。先ず、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙セルギャップを介して2枚の基板を対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に重合性液晶組成物を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造することができる。第二の方法は、ODFOneDropFill方式と呼ばれる手法である。液晶配向膜を形成した2枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに液晶配向膜面上に重合性液晶組成物を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造することができる。いずれの方法による場合でも、次いで、液晶セルを、用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去することが望ましい。次に、電圧を印加せずに、あるいは電圧を印加した状態で上記重合性液晶組成物を硬化重合させる工程を要する。横電界方式の液晶表示素子を製造する場合には、電圧を印加せずに重合性液晶組成物を硬化させることが好ましい。上記重合性液晶組成物の硬化方法としては、紫外線等を用いた光硬化や、熱付与による熱硬化を挙げることができる。光硬化の場合、非偏光を用いても偏光を用いてもよいが、非偏光を用いた場合には低照射で十分な硬化が起こるという特徴があり、偏光を用いた場合には得られる液晶表示素子の液晶配向性を向上させることができるという特徴がある。なお、光硬化の場合の照射量としては特に限定されないが、例えば非偏光の紫外線照射量として1,000mJ/cm2~5,000mJ/cm2が、偏光の紫外線照射量として5000mJ/cm2~10J/cm2が好ましい。また、電圧を印加した状態で硬化させる場合、重合の際の印加電圧は特に限定されないが、0.1V~20Vであり、2V~5Vであることが好ましい。上記液晶層を形成する液晶のプレチルト角は10°以下であることが好ましく、5°以下であることがより好ましい。ここで、プレチルト角とは、基板に対する液晶分子の傾斜角をいう。電界方式の液晶パネルにおいては、プレチルト角を小さくする程、コントラストが良好となる。そして、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより、本発明の液晶表示素子を得ることができる。ここで、液晶配向膜が形成された2枚の基板における、照射した直線偏光放射線の偏光方向のなす角度及びそれぞれの基板と偏光板との角度を適当に調整することにより、所望の液晶表示素子を得ることができる。上記シール剤としては、例えばスペーサーとしての酸化アルミニウム球及び硬化剤を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させたH膜と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、又はH膜そのものからなる偏光板等を挙げることができる。上述のように製造された本発明の液晶表示素子は、表示特性、電気特性等の諸性能に優れるものである。以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。以下の合成例における重量平均分子量は、それぞれ下記の条件のゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算値である。カラム:東ソー株製、TSKgelGRCXLII溶剤:テトラヒドロフラン温度:40°C圧力:68kgf/cm2なお、以下の合成例においては、原料化合物及び重合体の合成を下記の合成スケールで必要に応じて繰り返すことにより、以降の実施例における必要量を確保した。<[A]ポリオルガノシロキサンの合成>エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成例[合成例1]撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン100.0g、メチルイソブチルケトン500g及びトリエチルアミン10.0gを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水100gを滴下漏斗から30分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、80°Cで6時間反応を行った。反応終了後、有機層を取り出し、これを0.2質量硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒及び水を留去することにより、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンES-1を粘調な透明液体として得た。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、1H-NMR分析を行なったところ、化学シフトδ=3.2ppm付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンES-1の粘度、Mw及びエポキシ当量を表1に示した。[合成例2~3]仕込み原料を表1に示すとおりとした以外は、合成例1と同様にしてエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンES-2及びES-3を、それぞれ粘調な透明液体として得た。これらのエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのMw及びエポキシ当量を表1に示した。なお、表1において、原料シラン化合物の略称は、それぞれ以下の意味である。ECETS:2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランMTMS:メチルトリメトキシシランPTMS:フェニルトリメトキシシラン上記式A1で表される化合物の合成例下記合成例4~7のようにして下記式A1-1~A1-4のそれぞれで表される化合物以下、それぞれ化合物A1-1、化合物A1-2、化合物A1-3及び化合物A1-4という。を合成した。[合成例4]冷却管を備えた500mLの三口フラスコに、4-ブロモジフェニルエーテル20g、酢酸パラジウム0.18g、トリス2-トリルホスフィン0.98g、トリエチルアミン32.4g及びジメチルアセトアミド135mLを仕込んで混合し、溶液とした。次にアクリル酸7gをシリンジを用いて上記溶液に加えて撹拌した後、120°Cで3時間、撹拌下に反応を行った。薄層クロマトグラフィーTLCにより反応の終了を確認した後、反応溶液を室温まで冷却した。不溶物をろ別した後、ろ液を1N塩酸300mL中に注ぎ、析出物を回収した。この析出物を酢酸エチル及びヘキサンからなる混合溶媒酢酸エチル:ヘキサン=1:1容積比から再結晶することにより、化合物A1-1を8.4g得た。[合成例5]冷却管を備えた300mLの三口フラスコに、4-フルオロフェニルボロン酸6.5g、4-ブロモけい皮酸10g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム2.7g、炭酸ナトリウム4g、テトラヒドロフラン80mL及び純水39mLを仕込んで混合した後、80°Cにおいて8時間撹拌下に反応を行った。反応の終了をTLCにより確認した後、反応混合物を室温まで冷却した。冷却後の反応混合物を1N塩酸200mL中に注ぎ、析出物を回収した。得られた析出物を酢酸エチルに溶解した溶液を、1N塩酸100mL、純水100mL及び飽和食塩水100mLにより順次に洗浄した、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去した。得られた固体を真空乾燥することにより、化合物A1-2を9g得た。[合成例6]冷却管を備えた200mLの三口フラスコに、4-フルオロスチレン3.6g、4-ブロモけい皮酸6g、酢酸パラジウム0.059g、トリス2-トリルホスフィン0.32g、トリエチルアミン11g及びジメチルアセトアミド50mLを仕込んで混合し、溶液とした。この溶液につき、120°Cで3時間撹拌して反応を行った。TLCにより反応の終了を確認した後、反応混合物を室温まで冷却し、不溶物をろ別した後、ろ液を1N塩酸300mLに注ぎ、析出物を回収した。この析出物を酢酸エチルから再結晶することにより、化合物A1-3を4.1g得た。[合成例7]冷却管を備えた200mLの三口フラスコに,4-ビニルビフェニル9.5g、4-ブロモけい皮酸10g、酢酸パラジウム0.099g、トリス2-トリルホスフィン0.54g、トリエチルアミン18g及びジメチルアセトアミド80mLを仕込んで混合し、溶液とした。この溶液を120°Cで3時間撹拌して反応を行った。TLCにより反応の終了を確認した後、反応混合物を室温まで冷却し、不溶物をろ別した後、ろ液を1N塩酸500mL中に注ぎ、析出物を回収した。この析出物をジメチルアセトアミド及びエタノールからなる混合溶媒ジメチルアセトアミド:エタノール=1:1容積比から再結晶することにより、化合物A1-4を11g得た。上記式A2で表される化合物の合成例下記合成例8及び9のようにして下記式A2-1及びA2-2のそれぞれで表される化合物以下、それぞれ化合物A2-1及び化合物A2-2という。を合成した。[合成例8]冷却管を備えた200mLの三口フラスコに、フェニルアクリレート10g、4-ブロモ安息香酸11.3g、酢酸パラジウム0.13g、トリス2-トリルホスフィン0.68g、トリエチルアミン23g及びジメチルアセトアミド100mLを仕込んで混合し、溶液とした。この溶液につき、120°Cにおいて3時間撹拌下に反応を行った。TLCで反応の終了を確認した後、反応混合物を室温まで冷却し、不溶物をろ別した後、ろ液を1N塩酸500mL中に注ぎ、沈殿物を回収した。この沈殿物を酢酸エチルから再結晶することにより、化合物A2-1を9.3g得た。[合成例9]滴下漏斗を備えた200mLの三口フラスコに、4-シクロヘキシルフェノール10g、トリエチルアミン6.3g及び脱水テトラヒドロフラン80mLを仕込んで混合した。これを氷浴で冷却し、滴下漏斗からアクリロイルクロリド5.7g及び脱水テトラヒドロフラン40mLからなる溶液を滴下した。滴下終了後、更に氷浴下で1時間撹拌した後、室温に戻して更に2時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を濾過し、生成した塩を除去した。ろ液に酢酸エチルを加えて得た有機層を水洗した後、減圧下に溶媒を除去し、乾固して、中間体であるアクリル酸4-シクロヘキシルフェニルを12.3g得た。次いで、冷却管を備えた100mLの三口フラスコに、上記で得たアクリル酸4-シクロヘキシルフェニルのうちの6g、2-フルオロ-4-ブロモ安息香酸5.7g、酢酸パラジウム0.06g、トリス2-トリルホスフィン0.32g、トリエチルアミン11g及びジメチルアセトアミド50mLを仕込んで混合し、溶液とした。この溶液につき、120°Cにおいて3時間撹拌下に反応を行った、TLCにより反応の終了を確認した後、反応混合物を室温まで冷却し、不溶物をろ別した後、ろ液を1N塩酸300mL中に注ぎ、生成した沈殿物を回収した。この沈殿物を酢酸エチルから再結晶することにより、化合物A2-2を3.4g得た。[A]ポリオルガノシロキサンの合成例[合成例10]100mLの三口フラスコに、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンES-19.3g、メチルイソブチルケトン26g、化合物A1-13g及びUCAT18X商品名。サンアプロ株製の4級アミン塩である。0.10gを仕込み、80°Cで12時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物をメタノールに投入して生成した沈殿物を回収し、これを酢酸エチルに溶解して溶液とし、該溶液を3回水洗した後、溶剤を留去することにより、[A]ポリオルガノシロキサンS-1を白色粉末として6.3g得た。この[A]ポリオルガノシロキサンS-1の重量平均分子量Mwは3,500であった。[合成例11]化合物A1-1の代わりに化合物A1-23gを用いた以外は、上記合成例10と同様にして、[A]ポリオルガノシロキサンS-2の白色粉末を7.0g得た。この[A]ポリオルガノシロキサンS-2の重量平均分子量Mwは4,900であった。[合成例12]化合物A1-1の代わりに化合物A1-34gを用いた以外は上記合成例10と同様にして、[A]ポリオルガノシロキサンS-3の白色粉末を10g得た。この[A]ポリオルガノシロキサンS-3の重量平均分子量Mwは5,000であった。[合成例13]化合物A1-1の代わりに化合物A1-44gを用いた以外は上記合成例10と同様にして、[A]ポリオルガノシロキサンS-4の白色粉末を10g得た。この[A]ポリオルガノシロキサンS-4の重量平均分子量Mwは4,200であった。[合成例14]エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンES-1の代わりにエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンES-210.5gを、化合物A1-1の代わりに化合物A2-13.35gを、それぞれ用いた以外は上記合成例10と同様にして、[A]ポリオルガノシロキサンS-5の白色粉末を7.0g得た。この[A]ポリオルガノシロキサンS-5の重量平均分子量Mwは5,500であった。[合成例15]エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンES-1の代わりにエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンES-311.4gを、化合物A1-1の代わりに化合物A2-24.6gを、それぞれ用いた以外は上記合成例10と同様にして、[A]ポリオルガノシロキサンS-6の白色粉末を9.6g得た。この[A]ポリオルガノシロキサンS-6の重量平均分子量Mwは7,400であった。<[B]重合体の合成>ジカルボン酸化合物下記式DC-1~DC-5で表されるジカルボン酸化合物以下、化合物DC-1~DC-5ともいうを用いた。以下に、化合物DC-1~DC-4の合成方法を示す。[合成例16]4-ヒドロキシ安息香酸13.8g100mmol、水酸化ナトリウム8g200mmol及び純水400mLを、滴下ロートを備えた1L三口フラスコに仕込み、氷浴で冷却した。ここにアクリル酸クロリド10.86g120mmolを含有するメチレンクロリド溶液120mL溶液を、滴下ロートから1.5時間かけて滴下した。滴下終了後、氷浴下で2時間撹拌した後、反応混合物の温度を室温に戻してさらに3時間撹拌して反応を行った。次いで反応混合物を再び氷浴した後、反応混合物の液性が酸性となるまで1規定の塩酸を滴下した。析出した固体を、吸引ロートを用いて回収し、エタノールから再結晶することにより、4-アクリロイロキシ安息香酸16gを得た。次に、不活性雰囲気下で、上記で得た4-アクリロイロキシ安息香酸5g、4-ブロモ安息香酸5.3g、酢酸パラジウム60mg、トリスo-トリルホスフィン0.32g、トリエチルアミン11g及びジメチルアセトアミド40mLを200mLフラスコ中で混合し、140°Cにおいて6時間撹拌下に反応を行った。反応混合物の温度を室温に戻した後、1規定塩酸200mLを加えた。析出した固体をろ取し、エタノールから再結晶を行うことにより、化合物DC-16gを得た。[合成例17]滴下ロートを備えた200mL三口フラスコに4-ヒドロキシジフェニルメタン10g、トリエチルアミン11g及びテトラヒドロフラン60mLを仕込んで溶液とした。この溶液を氷冷した後、ここにアクリル酸クロリド10gを含有するテトラヒドロフラン溶液50mLを、滴下ロートから滴下した。滴下終了後、氷浴下でさらに3時間撹拌下に反応を行った後、反応混合物を酢酸エチル及び水からなる混合溶媒で分液洗浄した。有機層を回収し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を留去することより、ビス4-アクリロイロキシフェニルメタン15gを得た。次に、不活性雰囲気下、上記で得たビス4-アクリロイロキシフェニルメタンの8g、4-ブロモ安息香酸10.5g、酢酸パラジウム120mg、トリスo-トリルホスフィン0.63g、トリエチルアミン21g及びジメチルアセトアミド90mLを300mLフラスコ中で混合し、140°Cにおいて6時間撹拌下に反応を行った。反応混合物の温度を室温に戻し、1規定塩酸500mLを加えた。析出した固体をろ取し、エタノールから再結晶を行うことにより、化合物DC-2を4g得た。[合成例18]滴下ロートを備えた300mL三口フラスコに、ヒドロキノン10g、トリエチルアミン20g及びテトラヒドロフラン100mLを仕込んで溶液とした。この溶液を氷冷し、ここにアクリル酸クロリド19gを含有するテトラヒドロフラン溶液90mLを滴下した。氷浴下でさらに3時間撹拌下に反応を行った後、得られた反応混合物を酢酸エチル及び水からなる混合溶媒で分液洗浄した。有機層を回収し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を留去することにより、1,4-ジアクリロイロキシベンゼン16gを得た。次に、不活性雰囲気下、上記で得た1,4-ジアクリロイロキシベンゼンの8g、4-ブロモ安息香酸15g、酢酸パラジウム165mg、トリスo-トリルホスフィン0.9g、トリエチルアミン30g及びジメチルアセトアミド130mLを500mLフラスコ中で混合し、140°Cにおいて6時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物の温度を室温に戻した後に1規定塩酸700mLを加えた。析出した固体をろ取し、エタノールから再結晶を行うことにより、化合物DC-38gを得た。[合成例19]4-ブロモ安息香酸の代わりに2-フルオロ-4-ブロモ安息香酸11.4gを使用した以外は合成例17と同様にして、化合物DC-43.5gを得た。ジエポキシ化合物下記式で表されるジエポキシ化合物を用いた。[B]重合体の合成[合成例20]50mLフラスコ中に、ジカルボン酸として上記化合物DC-13g0.01モル、ジエポキシ化合物として上記式DE-1で表される化合物0.83g0.01モル及び溶媒としてN-メチル-2-ピロリドン10gを仕込み、これを140°Cにおいて6時間攪拌して反応を行うことにより、特定重合体である重合体SP-1を含有する溶液を得た。この溶液に含有される重合体SP-1の重量平均分子量Mwは4,200であった。[合成例21~38]ジカルボン酸及びジエポキシ化合物として、それぞれ表2に記載のものを各0.01モルずつ使用した以外は合成例20と同様にして、[B]重合体SP-2~SP-18及びrp-1をそれぞれ含有する溶液を得た。なお、合成例28においては、ジエポキシ化合物として2種類の化合物を50モルずつ混合して使用した。各溶液に含有される重合体の分子量を表2に合わせて示した。<[C]成分の合成>ポリアミック酸の合成例[合成例39]シクロブタンテトラカルボン酸二無水物19.61g0.1モルと4,4’-ジアミノ-2,2’-ジメチルビフェニル21.23g0.1モルとをN-メチル-2-ピロリドン367.6gに溶解し、室温で6時間反応を行った。反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40°Cで15時間乾燥することにより、ポリアミック酸PA-1を35g得た。なお、偏光又は非偏光の紫外光を照射した際に、ポリマー主鎖又は側鎖が有する一部の構造において光開裂反応が生じ得る構造を有するポリアミック酸であっても、光開裂反応が起こらない条件で[A]ポリシロキサン又は[B]重合体と共に用いる場合には、他の重合体として分類される。[合成例40]2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物22.4g0.1モルとシクロヘキサンビスメチルアミン14.23g0.1モルとをN-メチル-2-ピロリドン329.3gに溶解し、60°Cで6時間反応を行った。反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40°Cで15時間乾燥することにより、[D]成分としてのポリアミック酸PA-2を32g得た。[合成例41]ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物0.1モル24.82gと2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]プロパン0.1モル41.05gをN-メチル-2-ピロリドン373.26gに溶解し、室温で6時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールと混合し、反応生成物を沈殿させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧下40°Cで15時間乾燥させてポリアミック酸X-1を65g収率98.7得た。[合成例42]ジアミン化合物をp-フェニレンジアミンとした以外は合成例41と同様にしてポリアミック酸重合体X-2を得た。[合成例43]ジアミン化合物を4,4’-ジアミノジフェニルエーテルとした以外は合成例41と同様にしてポリアミック酸重合体X-3を得た。[合成例44]1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物0.1モル19.61gと、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]プロパン0.1モル41.05gをN-メチル-2-ピロリドン343.74gに溶解し、室温で6時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールと混合し、反応生成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧下40°Cで15時間乾燥して、ポリアミック酸Y-1を60g収率98.9得た。[合成例45]ジアミン化合物をp-フェニレンジアミンとした以外は合成例44と同様にしてポリアミック酸重合体Y-2を得た。[合成例46]ジアミン化合物を4,4’-ジアミノジフェニルエーテルとした以外は合成例44と同様にしてポリアミック酸重合体Y-3を得た。[合成例47]1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物0.08モル15.71g、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物0.02モル4.48gと4,4’-ジアミノジフェニルエーテル0.1モル20.02gをN-メチル-2-ピロリドン227gに溶解し、室温で4時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールと混合し、反応生成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧下40°Cで15時間乾燥して、ポリアミック酸Y-4を36g得た。[合成例48]1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物0.05モル9.81g、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物0.05モル11.21gと4,4’-ジアミノジフェニルエーテル0.1モル20.02gをN-メチル-2-ピロリドン232gに溶解し、室温で4時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールと混合し、反応生成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧下40°Cで15時間乾燥して、ポリアミック酸Y-5を37g得た。[合成例49]1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物0.03モル5.88g、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物0.07モル15.69gと4,4’-ジアミノジフェニルエーテル0.1モル20.02gをN-メチル-2-ピロリドン236gに溶解し、室温で4時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールと混合し、反応生成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧下40°Cで15時間乾燥して、ポリアミック酸Y-6を36g得た。[合成例50]2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物23.81g0.106モルと下記式で表される側鎖シンナメート構造を有するジアミン36.19g0.106モルとをN-メチル-2-ピロリドン150gに溶解し、40°Cで12時間反応を行った。反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40°Cで15時間乾燥することにより、ポリアミック酸rpa-1を51g得た。ポリイミドの合成例>[合成例51]上記ポリアミック酸PA-2のうちの17.5gをとり、これをN-メチル-2-ピロリドン232.5gに溶解し、さらにピリジン3.8g及び無水酢酸4.9gを添加して120°Cにおいて4時間脱水閉環反応を行った。反応終了後、反応混合液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物を回収し、メタノールで洗浄した後、減圧下で15時間乾燥することにより、ポリイミドPI-1を15g得た。<液晶配向剤の調製及び横電界方式液晶表示素子光配向IPSの製造>[A]ポリオルガノシロキサンを含有する液晶配向剤の調製、及びそれを用いた横電界方式液晶表示素子光配向IPSの製造[実施例1][A]ポリオルガノシロキサンS-1の100質量部と、ポリアミック酸PA-1の1,000質量部とを合わせ、これにN-メチル-2-ピロリドン及びブチルセロソルブを加えて、溶媒組成がN-メチル-2-ピロリドン:ブチルセロソルブ=50:50質量比、固形分濃度が3.0質量の溶液とした。この溶液を孔径0.2μmのフィルターで濾過することにより、液晶配向剤を調製した。なお、ポリアミック酸PA-1に対して313nmの輝線を含む偏光紫外線を300J/m2で照射する条件においては、光開裂反応は起こらないため、このような条件を用いる本実施例においてPA-1は、他の重合体に分類される。櫛歯状にパターニングされたクロムからなる2系統の金属電極を片面に有するガラス基板と電極が設けられていない対向ガラス基板とを一対とし、ガラス基板の電極を有する面と対向ガラス基板の一面とに、それぞれ上記で調製した液晶配向剤をスピンナーを用いて塗布し、80°Cのホットプレートで1分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換したオーブン中で200°Cで1時間加熱ポストベークして膜厚0.1μmの塗膜を形成した。上記ガラス基板上の電極パターン構成を示す概略図を図1に示した。この横電界方式液晶表示素子の有する2系統の導電膜パターン金属電極を、以下、それぞれ電極101及び電極102という。次いでこれら塗膜表面に、それぞれHg-Xeランプ及びグランテーラープリズムを用いて313nmの輝線を含む偏光紫外線300J/m2を、基板法線方向から照射して液晶配向膜を有する一対の基板を得た。上記基板のうちの1枚の液晶配向膜を有する面の外周に直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、1対の基板の液晶配向膜面を対向させ、偏光紫外線を照射した際の各基板の向きが逆になるように重ね合わせて圧着し、150°Cで1時間かけて接着剤を熱硬化した。次いで、液晶注入口より基板間の間隙に、メルク社製液晶、MLC-7028に下記式で示す重合性液晶を0.3wt添加した液晶混合物を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。その後、液晶注入時の流動配向を除くために、これを150°Cで加熱してから室温まで徐冷し、更に液晶セルの外側からUV光照射照射量:2,000mJ/cm2λ=365nmを実施した。次に基板の外側両面に、偏光板を、その偏光方向が互いに直交し、かつ、液晶配向膜の偏光紫外線の光軸の基板面への射影方向と直交するように貼り合わせることにより液晶表示素子を製造した。この液晶表示素子を下記に示す液晶配向性、焼き付き特性及びコントラストの評価に用いた。上記で調製した液晶配向剤をITO膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面上に、膜厚が0.1μmになるようにスピンナーを用いて塗布し、80°Cのホットプレートで1分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換したオーブン中で200°Cで1時間加熱ポストベークして膜厚0.1μmの塗膜を形成した。この薄膜表面に、それぞれHg-Xeランプ及びグランテーラープリズムを用いて313nmの輝線を含む偏光紫外線300J/m2を、基板法線方向から照射して液晶配向膜を有する一対の基板を得た。次に、上記光照射処理を行った一対の基板について、液晶配向膜を形成した面に直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した後、光照射方向が平行となるように基板を重ね合わせて圧着し、150°Cで1時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より基板間の間隙に、メルク社製液晶、MLC-7028に上記式で示す重合性液晶を0.3wt添加した液晶混合物を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。その後、液晶注入時の流動配向を除くために、これを150°Cで10分間加熱してから室温まで徐冷し、更に液晶セルの外側からUV光照射照射量:2,000mJ/cm2λ=365nmを実施した。次に基板の外側両面に、偏光板を、その偏光方向が互いに直交し、かつ、液晶配向膜の偏光紫外線の光軸の基板面への射影方向と直交するように貼り合わせることにより液晶表示素子を製造した。この液晶表示素子を下記に示す耐光性評価に用いた。[実施例2~12及び比較例1~4]実施例1において、[A]ポリオルガノシロキサン及び他の重合体としてそれぞれ表3に記載の種類及び量の重合体を使用した以外は上記実施例1と同様にして液晶配向剤を調製した以外は上記実施例1と同様にして液晶表示素子を製造した。[実施例13]液晶表示素子の製造の際に、液晶混合物に対して液晶セルの外側からUV光照射照射量:2,000mJ/cm2λ=365nmをする替わりに、偏光UV光照射10J/cm2λ=365nmをした以外は実施例1と同様にして液晶表示素子を製造した。<液晶表示素子の評価方法>上記で製造した各液晶表示素子につき、以下の方法により評価した。評価結果は表3に示した。なお、後述する各液晶表示素子についても、同様に以下の方法により評価を行った。評価結果はそれぞれ表4~8に示した。[液晶配向性の評価]上記で製造した液晶表示素子につき、5Vの電圧をONOFF印加解除したときの明暗の変化における異常ドメインの有無を光学顕微鏡により観察し、異常ドメインが全く観察されなかった場合を液晶配向性優A、異常ドメインがほぼ観察されなかった場合を液晶配向性良A、異常ドメインが複数箇所観察された場合を液晶配向性不良Bとして評価した。[焼き付き特性の評価]上記で製造した横電界方式液晶表示素子を25°C、1気圧の環境下におき、電極102には電圧をかけずに、電極101に交流電圧3.5Vと直流電圧5Vの合成電圧を2時間印加した。その直後、電極101及び電極102の双方に交流4Vの電圧を印加した。両電極に交流4Vの電圧を印加し始めた時点から電極101及び電極102の光透過性の差が目視で確認できなくなるまでの時間を測定した。この時間が20秒未満であった時の焼きつき特性を秀A、20秒以上60秒未満であった時の焼き付き特性を優B、60秒以上100秒未満であった時の焼き付き特性を良C、100秒以上150秒未満であった時の焼き付き特性を可D、そして150秒を超えた場合の焼き付き特性を不良Eとして評価した。[耐光性評価]上記で製造した各液晶表示素子を、カーボンアークを光源とするウェザーメーターで3000時間照射後のVHRを上記同様にして測定し5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率を測定。測定装置は株東陽テクニカ製VHR-1を使用、照射前の測定値と比べてVHR変化量が2以内のものを良好A、2~5以上のものを可B、5を超えるものを不可Cとして信頼性を判定した。[コントラスト評価]作製した液晶セルにおける配向不良に基づく光漏れの度合いを下記の様に評価することで、黒レベルを評価し、コントラスト評価の代替評価とした。まず、クロスニコル条件の偏光顕微鏡にて観察し、最も暗視野となる様に液晶セルを配置し、その像を写真撮影した。得られたデータを0.2mm角×25画素に区分けし、各画素の輝度を画像処理ソフトを用いて255階調に数値化した。各画素25画素の階調差が10以下となる場合をコントラストが優A、10~20の場合を良B、20~30の場合を可C、階調差が30より大きい場合を不良Dと評価した。表3に示されるように、[A]ポリオルガノシロキサンを含有する当該液晶配向剤を用いて形成した当該液晶配向膜を備えるIPSモードの液晶表示素子においては、液晶配向性を十分満足し、焼き付き特性、耐光性、コントラストに優れることがわかった。また、液晶混合物に偏光UVを照射した実施例13においては、液晶配向性がさらに向上することがわかった。従って、当該液晶表示素子は、液晶配向性を満足すると共に、長時間の連続駆動による電気特性の劣化を起こし難い。[B]重合体を含有する液晶配向剤の調製及びそれを用いた横電界方式液晶表示素子光配向IPSの製造[実施例14]特定重合体として上記SP-1100質量部にN-メチル-2-ピロリドン及びブチルセロソルブを加えて、溶媒組成がN-メチル-2-ピロリドン:ブチルセロソルブ=50:50質量比、固形分濃度が3.0質量の溶液とした。この溶液を孔径0.2μmのフィルターで濾過することにより、液晶配向剤を調製した。上記液晶配向剤を用いて、塗膜表面にそれぞれHg-Xeランプ及びグランテーラープリズムを用いて313nmの輝線を含む偏光紫外線10,000J/m2を、基板法線方向から照射した以外は上記実施例1と同様にして液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は表4にそれぞれ示した。[実施例15~31、38~39及び比較例5~6]上記実施例14において、重合体としてそれぞれ表4に記載の種類及び量の重合体を使用した以外は実施例14と同様にして液晶配向剤を調製し、液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は表4に示した。なお、比較例5においては特定重合体の代わりに他の重合体を用いた。[実施例32]本実施例においては、特定重合体と他の重合体とを混合して使用した。上記ポリアミック酸PA-1を含有する溶液を、これに含有されるポリアミック酸PA-1に換算して80質量部に相当する量だけとり、ここに上記特定重合体SP-1020質量部を加え、さらにN-メチル-2-ピロリドン及びブチルセロソルブを加えて、溶媒組成がN-メチル-2-ピロリドン:ブチルセロソルブ=50:50質量比、固形分濃度が3.0質量の溶液とした。この溶液を孔径0.2μmのフィルターで濾過することにより、液晶配向剤を調製した。さらに、この液晶配向剤を用いて液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は表4に示した。[実施例33~37]特定重合体及び他の重合体として、それぞれ表4に記載の種類及び量の重合体を使用したほかは実施例32と同様にして液晶配向剤を調製し、液晶表示素子を製造して評価した。なお、他の重合体は、いずれも表4に記載の種類の重合体を含有する溶液として液晶配向剤の調製に供した。他の重合体について表4に記載した量は、使用した重合体溶液に含有される他の重合体の量である。実施例34及び37では他の重合体をそれぞれ2種類ずつ用いた。表4に示されるように、[B]重合体を含有する当該液晶配向剤を用いて形成した当該液晶配向膜を備えるIPSモードの液晶表示素子においては、液晶配向性を十分満足し、焼き付き特性、耐光性、コントラストに優れることがわかった。従って、当該液晶表示素子は、液晶配向性を満足すると共に、長時間の連続駆動による電気特性の劣化を起こし難い。[C]成分を含有する液晶配向剤の調製及びそれを用いた横電界方式液晶表示素子光配向IPSの製造[実施例40]重合体として上記X-1100質量部にN-メチル-2-ピロリドン及びブチルセロソルブを加えて、溶媒組成がN-メチル-2-ピロリドン:ブチルセロソルブ=50:50質量比、固形分濃度が3.0質量の溶液とした。この溶液を孔径0.2μmのフィルターで濾過することにより、液晶配向剤を調製した。上記液晶配向剤を用いて、塗膜表面にそれぞれHg-Xeランプ及びグランテーラープリズムを用いて254nmの輝線を含む偏光紫外線10,000J/m2を、基板法線方向から照射した以外は上記実施例1と同様にして液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は表5にそれぞれ示した。[実施例41~48]重合体としてそれぞれ表5に記載の種類及び量の重合体を使用したほかは実施例40と同様にして液晶配向剤を調製し、液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は表5に示した。表5に示されるように、[C]ポリアミック酸及び/又はポリイミドを含有する当該液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜を備える当該液晶表示素子をIPSモードで用いた場合、液晶配向性を十分満足し、焼き付き特性、耐光性、コントラストに優れることがわかった。従って、当該液晶表示素子は、液晶配向性を十分満足すると共に、長時間の連続駆動による電気特性の劣化を起こし難い。<横電界方式液晶表示素子光配向FFSの製造>[実施例49]以下に示すように、本発明の光配向FFS液晶表示素子を製造してその動作確認を行った。図2に、実施例及び比較例で製造した光配向FFS液晶表示素子の構造を説明するための断面図を示した。この光配向FFS液晶表示素子は、コモン電極205、絶縁層206、信号電極204及び液晶配向膜202bがこの順で形成されたガラス基板201bと、液晶配向膜202aのみが形成された対向ガラス基板201aと、に液晶層203が挟持されてなる。この光配向FFS液晶表示素子の信号電極204は、直線状の櫛歯を有する櫛状電極である。コモン電極205はパターンを有さないベタ膜である。この液光配向FFS晶表示素子は、ガラス基板201a及び201bの外側両面に、それぞれ偏光板図示せずが配置されており、図2における下側のガラス基板201bの下方にバックライト図示せずを配置して、これと組み合わせて使用される。液晶配向膜の形成コモン電極、絶縁層及び信号電極がこの順で形成された基板の電極等形成面、並びにこれらが形成されていない対向基板の片面に、それぞれ、スピンナーを用いて実施例1で調製して用いた液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、該塗膜を80°Cにおいて1分間プレベークし、次いで200°Cにおいて1時間ポストベークを行うことにより、平均膜厚0.1μmの液晶配向膜を形成した。次いでこれら塗膜表面に、それぞれHg-Xeランプ及びグランテーラープリズムを用いて313nmの輝線を含む偏光紫外線300J/m2を、基板法線方向から照射して液晶配向膜を有する一対の基板を得た。液晶表示素子の製造上記のようにしてそれぞれ液晶配向膜が形成された一対の基板を、液晶配向膜面が相対するように厚さ10μmのスペーサーを介して対向配置した後、液晶注入口を残して側面をシールした。液晶注入口から、メルク社製液晶、MLC-7028に実施例1で示した重合性液晶を0.3wt添加した液晶混合物を充填した後、液晶注入口を封止した。その後、液晶注入時の流動配向を除くために、これを120°Cで10分間加熱してから室温まで徐冷し、更に液晶セルの外側からUV光照射照射量:2,000mJ/cm2λ=365nmを実施した。次いで、両基板の外側面にそれぞれ偏光板を貼付することにより、FFSモードの液晶表示素子を製造した。ここで、2枚の偏光板は、その偏光方向が互いに直交し、且つ信号電極の有する櫛歯の方向と平行又は垂直となるように貼付した。この液晶表示素子を下記に示す液晶配向性、焼き付き特性及びコントラストの評価に用いた。[実施例50~60及び比較例7~10]表6に記載の種類及び量の成分を含有する液晶配向剤を用いて液晶配向膜を形成した以外は、上記実施例48と同様にして、FFS液晶表示素子を作成し、評価を行った。結果を表6に合わせて示す。[実施例61]液晶表示素子の製造の際に、液晶混合物に対して液晶セルの外側からUV光照射照射量:2,000mJ/cm2λ=365nmをする替わりに、偏光UV光照射10J/cm2λ=365nmをした以外は実施例49と同様にして液晶表示素子を製造し、評価を行った。結果を表6に合わせて示す。[実施例62~87及び比較例11~12]液晶配向膜の形成の際に、表7に記載の種類及び量の成分を含有する液晶配向剤を用いたこと、313nmの輝線を含む偏光紫外線300J/m2を照射する代わりに、313nmの輝線を含む偏光紫外線10,000J/m2を照射したこと以外は、上記実施例49と同様の方法を用いてFFS液晶表示素子を作成し、評価を行った。結果を表7に合わせて示す。[実施例88~96]液晶配向膜の形成の際に、表8に記載の種類及び量の成分を含有する液晶配向剤を用いたこと、313nmの輝線を含む偏光紫外線300J/m2を照射する代わりに、254nmの輝線を含む偏光紫外線10,000J/m2を照射したこと以外は、上記実施例49と同様の方法を用いてFFS液晶表示素子を作成し、評価を行った。結果を表8に合わせて示す。表6~8に示す通り、当該液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜を備える液晶表示素子をFFSモードの横電界方式に用いた場合、液晶配向性を十分満足し、焼き付き特性及びコントラストに優れることがわかった。また、液晶混合物に偏光UVを照射した実施例61においては、液晶配向性がさらに向上することがわかった。従って、当該液晶表示素子は、FFSモードにおいても、液晶配向性を満足し、長時間の連続駆動による電気特性の劣化を起こし難い。"