"反応器内に水素分離膜mで隔てられた空間A,Bを備え、空間Aにアンモニア分解触媒xが配置された製造手段を用い、空間Aにアンモニアを供給但し、混合ガスの一部としてアンモニアを供給する場合を含むしてアンモニア分解触媒xによりアンモニアを分解し、該アンモニアの分解により生成した水素を、水素分離膜mを透過させて空間Bに流入させ、水素を回収することを特徴とする水素の製造方法。空間Aにアンモニア分解触媒xが充填された製造手段を用いることを特徴とする請求項1に記載の水素の製造方法。水素分離膜mからなる管体pを備え、該管体pの外側と内側のうち、いずれか一方の側がアンモニア分解触媒xが充填された空間Aを構成し、他方の側が空間Bを構成する製造手段を用いることを特徴とする請求項2に記載の水素の製造方法。水素分離膜mからなる管体pを備え、該管体pの外面と内面のうち、いずれか一方の面にアンモニア分解触媒のコーティング層xCが形成され、該コーティング層xCに面した管体pの外側又は内側が空間Aを構成し、コーティング層xCに面しない管体pの内側又は外側が空間Bを構成する製造手段を用いることを特徴とする請求項1に記載の水素の製造方法。水素分離膜mがPd系水素分離膜、シリカ系多孔質分離膜の中から選ばれる1種以上からなる製造手段を用いることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の水素の製造方法。反応器内に水素分離膜mで隔てられた空間A,Bを備えるとともに、空間Aにアンモニア分解触媒xが配置された装置であって、空間Aにアンモニアを供給する但し、混合ガスの一部としてアンモニアを供給する場合を含む手段と、空間Aからガスの一部を排出する手段と、空間Bから水素を排出する手段を有することを特徴とする水素の製造装置。空間Aにアンモニア分解触媒xが充填されることを特徴とする請求項6に記載の水素の製造装置。水素分離膜mからなる管体pを備え、該管体pの外側と内側のうち、いずれか一方の側がアンモニア分解触媒xが充填された空間Aを構成し、他方の側が空間Bを構成することを特徴とする請求項7に記載の水素の製造装置。水素分離膜mからなる管体pを備え、該管体pの外面と内面のうち、いずれか一方の面にアンモニア分解触媒のコーティング層xCが形成され、該コーティング層xCに面した管体pの外側又は内側が空間Aを構成し、コーティング層xCに面しない管体pの内側又は外側が空間Bを構成することを特徴とする請求項6に記載の水素の製造装置。水素分離膜mがPd系水素分離膜、シリカ系多孔質分離膜の中から選ばれる1種以上であることを特徴とする請求項6~9のいずれかに記載の水素の製造装置。アンモニア分解触媒例えば、特許文献1,2に示される触媒を用いた単純なアンモニア分解では、速度論的に優位な高活性の触媒を用いたとしても、熱力学的平衡制約は避けられない。また、アンモニアの分解生成ガスは、水素及び窒素の混合ガスであり、また、アンモニアの分解率が低位の場合には、アンモニア、水素及び窒素の混合ガスが生成ガスとして反応器より排出される。そのため、水素のみを回収するには、アンモニア、窒素の除去が必要である。具体的には、PSAなどの吸着分離装置やアンモニアストリッパー等の設備が必要となる。また、アンモニア分解率を高める方法として、分解温度を上げることが考えられるが、触媒寿命の短命化、反応器材質の高コスト化などが問題となる。したがって本発明の目的は、以上のような従来技術の課題を解決し、アンモニアの分解により水素を効率的且つ低コストに製造することができる水素の製造方法及び製造装置を提供することにある。本発明者らは、以上のような課題を解決すべく検討を重ねた結果、反応器内に水素分離膜で隔てられた2つの空間A,Bを設けて、空間Aにアンモニア分解触媒を設置し、空間A内に導入されたアンモニアの分解で生じた水素のみを水素分離膜を透過させて空間Bに流入させ、水素を回収するという新たな方法を創案した。この方法によれば、i空間Aにおいてアンモニア分解により生成した水素が速やかに水素分離膜mを透過して空間Bに移行するため、空間Aでのアンモニア分解反応を効果的に促進することができ、従来の単純なアンモニア分解による水素の製造方法に比較して、アンモニアを高効率に分解し、水素を回収することができる、ii水素分離膜mで隔てられた空間A,Bを備えた反応器を用いることで、アンモニア分解とアンモニア分解ガスからの水素の分離回収を同時に行うことができ、回収された水素は高純度であるため、別途精製等の操作を行う必要がない、iii従来法に比較してアンモニアを低温で分解することが可能となり、反応器の材質の面でも有利である、などの効果が得られる。すなわち、本発明の要旨は以下のとおりである。[1]反応器内に水素分離膜mで隔てられた空間A,Bを備え、空間Aにアンモニア分解触媒xが配置された製造手段を用い、空間Aにアンモニアを供給但し、混合ガスの一部としてアンモニアを供給する場合を含むしてアンモニア分解触媒xによりアンモニアを分解し、該アンモニアの分解により生成した水素を、水素分離膜mを透過させて空間Bに流入させ、水素を回収することを特徴とする水素の製造方法。[2]上記[1]の製造方法において、空間Aにアンモニア分解触媒xが充填された製造手段を用いることを特徴とする水素の製造方法。[3]上記[2]の製造方法において、水素分離膜mからなる管体pを備え、該管体pの外側と内側のうち、いずれか一方の側がアンモニア分解触媒xが充填された空間Aを構成し、他方の側が空間Bを構成する製造手段を用いることを特徴とする水素の製造方法。[4]上記[1]の製造方法において、水素分離膜mからなる管体pを備え、該管体pの外面と内面のうち、いずれか一方の面にアンモニア分解触媒のコーティング層xCが形成され、該コーティング層xCに面した管体pの外側又は内側が空間Aを構成し、コーティング層xCに面しない管体pの内側又は外側が空間Bを構成する製造手段を用いることを特徴とする水素の製造方法。[5]上記[1]~[4]のいずれかの製造方法において、水素分離膜mがPd系水素分離膜、シリカ系多孔質分離膜の中から選ばれる1種以上からなる製造手段を用いることを特徴とする水素の製造方法。[6]反応器内に水素分離膜mで隔てられた空間A,Bを備えるとともに、空間Aにアンモニア分解触媒xが配置された装置であって、空間Aにアンモニアを供給する但し、混合ガスの一部としてアンモニアを供給する場合を含む手段と、空間Aからガスの一部を排出する手段と、空間Bから水素を排出する手段を有することを特徴とする水素の製造装置。[7]上記[6]の製造装置において、空間Aにアンモニア分解触媒xが充填されることを特徴とする水素の製造装置。[8]上記[7]の製造装置において、水素分離膜mからなる管体pを備え、該管体pの外側と内側のうち、いずれか一方の側がアンモニア分解触媒xが充填された空間Aを構成し、他方の側が空間Bを構成することを特徴とする水素の製造装置。[9]上記[6]の製造装置において、水素分離膜mからなる管体pを備え、該管体pの外面と内面のうち、いずれか一方の面にアンモニア分解触媒のコーティング層xCが形成され、該コーティング層xCに面した管体pの外側又は内側が空間Aを構成し、コーティング層xCに面しない管体pの内側又は外側が空間Bを構成することを特徴とする水素の製造装置。[10]上記[6]~[9]のいずれかの製造装置において、水素分離膜mがPd系水素分離膜、シリカ系多孔質分離膜の中から選ばれる1種以上であることを特徴とする水素の製造装置。本発明によれば、空間Aにおいてアンモニア分解により生成した水素が速やかに水素分離膜mを透過して空間Bに移行するため、空間Aでのアンモニア分解反応を効果的に促進することができ、従来の単純なアンモニア分解による水素の製造方法に比較して、アンモニアを高効率に分解し、水素を回収することができる。しかも、水素分離膜mで隔てられた空間A,Bを備えた反応器を用いることで、アンモニア分解とアンモニア分解ガスからの水素の分離回収を同時に行うことができ、回収された水素は高純度であるため、別途精製等の操作を行う必要がない。さらに、従来法に比較してアンモニアを低温で分解することが可能となり、反応器の材質の面でも有利である。以上の点から、本発明によれば、アンモニアの分解により水素を効率的且つ低コストに製造することができる。本発明の水素の製造方法で用いる製造手段装置は、反応器内に水素分離膜m水素透過膜で隔てられた空間A,Bを備え、空間Aにアンモニア分解触媒xが配置されたものである。本発明では、このような製造手段を用い、アンモニア分解室である空間Aにアンモニアを供給但し、混合ガスの一部としてアンモニアを供給する場合を含むしてアンモニア分解触媒xによりアンモニアを分解し、このアンモニアの分解により生成した水素を、水素分離膜mを透過させて空間B水素分離回収室に流入させ、水素を回収する。ここで、水素分離膜とは、水素のみを透過し、他のガスを透過させない膜であり、その詳細は後述する。空間Aにアンモニアを含む混合ガスを供給する場合、混合ガス中のアンモニア濃度に特別な制限はないが、アンモニアの分解により生成した水素が酸素と反応してH2Oを生成しないようにするため、極力酸素を含まないことが望ましい。また、触媒の被毒物質となる硫黄化合物やハロゲン化合物等も極力含まないことが望ましい。また、アンモニア分解を効果的に促進させるためには、空間Aへのアンモニアアンモニア含有ガスの場合を含むの供給及び同室からのガス排出主に未反応のアンモニアと分解生成ガスである窒素など、空間Bからの水素の排出を連続的に行うことが好ましい。すなわち、空間Aと空間Bにおいて、常時、ガスの供給排出が連続的になされるようにすることが好ましい。また、水素分離膜での水素透過速度は圧力差に依存することから、水素透過側の水素分圧を下げることで、アンモニア分解をさらに促進させることができる。したがって、空間Aアンモニア分解室よりも空間B水素分離回収室の圧力を低めに設定することが好ましい。アンモニア分解反応は、下記1式で示すように、22kcal/molの吸熱反応であり、分子が増加する反応である。したがって、高温低圧で反応が進行する。2NH3→N23H2ΔH=22kcalmol吸熱反応...アンモニア分解により水素、窒素が生成するが、分解に伴い生成系の水素分圧が増加する。アンモニアの熱力学的平衡分解率は、250°Cで87、300°Cで95、350°Cで98であるが、速度論的制約でそこまで分解率を上げることは難しい。そこで、生成系から水素を除去できれば、見掛け上平衡制約を緩和でき、アンモニア分解率の向上水素回収率向上が見込まれる。すなわち、本発明法では、空間Aアンモニア分解室においてアンモニア分解により生成した水素が速やかに水素分離膜mを透過して空間B水素分離回収室に移行するため、空間A内でのアンモニア分解反応を効果的に促進することができる。図1は、本発明の水素の製造装置反応器及び製造方法の一実施形態を、反応器を縦断面した状態で模式的に示す説明図である。この実施形態の製造装置は、反応器内に水素分離膜mで隔てられた空間A,Bを備えており、空間Aはアンモニア分解触媒xが充填されることで、アンモニア分解室を構成する。また、空間Bは、水素分離膜mを通じて空間Aから水素のみを透過させることで水素を分離回収する水素分離回収室を構成する。図示しないが、この反応器は、空間Aにアンモニアを供給する但し、混合ガスの一部としてアンモニアを供給する場合を含む手段であるガス供給口及びこれに接続されるガス供給管と、空間Aからガスの一部通常、未反応のアンモニアと分解生成ガスである窒素などを排出する手段であるガス排出口及びこれに接続されるガス排出管と、空間Bから水素を排出する手段であるガス排出口及びこれに接続されるガス排出管を有している。この実施形態では、所定温度に加熱された反応器の空間Aアンモニア分解室にアンモニアアンモニア含有ガスの場合を含む。以下、説明の便宜上、単にアンモニアという。が供給される。さきに述べたように、空間Aよりも空間Bの圧力が低く設定される。空間Aに供給されたアンモニアは、アンモニア分解触媒xにより水素と窒素に分解する。水素分離膜mは水素のみを透過するため、空間A内のガス分解生成ガスである水素と窒素、未反応のアンモニアなどのうち、水素だけが水素分離膜mを透過して空間Bに流入する。一方、水素分離膜mを透過する水素以外のガス主に未反応のアンモニアと分解生成ガスである窒素などは、ガス排出口およびガス排出管を通じて器外に排出される。空間Bに流入した水素は、ガス排出口およびガス排出管を通じて器外に排出され、製品として回収される。なお、空間Aにおけるアンモニアの供給及び分解後のガスの排出と、空間Bにおける水素の排出は連続的になされる。図2及び図3は、本発明の水素の製造装置反応器及び製造方法の他の実施形態を示すもので、図2は、反応器内の複数の管体pを水平断面した状態で模式的に示す説明図、図3は管体pの径方向の断面図である。この実施形態の製造装置は、反応器内に水素分離膜mからなる複数の管体pが適当な間隔で並列的に配置される。各管体pは、外面にアンモニア分解触媒のコーティング層xCが形成され、コーティング層xCに面した管体pの外側が空間Aアンモニア分解室を構成し、管体pの内側が空間B水素分離回収室を構成している。なお、コーティング層xC触媒層は、緻密膜ではなく、水素分子が透過することができる細孔が形成されている。このような実施形態でも、図1と同様に、空間Aアンモニア分解室と空間B水素分離回収室についてガスの供給排出を行う手段ガス供給口及びこれに接続されるガス供給管とガス排出口及びこれに接続されるガス排出管が設けられる。この場合、複数の管体pの各一端及び各他端をそれぞれ共通のヘッダーに接続し、このヘッダーに管体p内側空間Bについてガスの排出を行う手段を設ければよい。この実施形態では、空間A管体pの外側にアンモニアが供給され、このアンモニアはアンモニア分解触媒xのコーティング層xCにより水素と窒素に分解する。さきに述べたように、空間Aよりも空間Bの圧力が低く設定される。水素分離膜mは水素のみを透過するため、管体pの外側を流れるガス分解生成ガスである水素と窒素、未反応のアンモニアなどのうち、水素だけが水素分離膜mを透過して管体pの内側の空間Bに流入する。一方、水素分離膜mを透過する水素以外のガス主に未反応のアンモニアと分解生成ガスである窒素などは、ガス排出口およびガス排出管を通じて器外に排出される。水素分離膜mを透過して空間Bである管体pの内側に流入した水素は、ガス排出口およびガス排出管を通じて器外に排出され、製品として回収される。また、他の実施形態としては、図2及び図3の実施形態とは逆に、水素分離膜mからなる管体pの内面にアンモニア分解触媒のコーティング層xCが形成され、コーティング層xCに面した管体pの内側が空間Aアンモニア分解室Aを構成し、管体pの外側が空間B水素分離回収室を構成するようにしてもよい。この場合も、図2及び図3の実施形態と同様に、空間A及空間Bにそれぞれガスの供給排出を行う手段が設けられる。この実施形態では、空間Aである管体pの内側にアンモニアが供給され、このアンモニアはアンモニア分解触媒のコーティング層xCにより水素と窒素に分解し、水素だけが水素分離膜mを透過して空間Bである管体pの外側に流入する。一方、水素分離膜mを透過する水素以外のガス主に未反応のアンモニアと分解生成ガスである窒素などは、管体pを通過した後、ガス排出口およびガス排出管を通じて器外に排出される。水素分離膜mを透過して空間Bである管体pの外側に流入した水素は、ガス排出口およびガス排出管を通じて器外に排出され、製品として回収される。さらに、図2及び図3のような水素分離膜mを利用した他の実施形態としては、管体pに触媒のコーティング層xCを設けるのではなく、管体pの外側と内側のいずれか一方にアンモニア分解触媒xを充填した構造としてもよい。図4は、その実施形態を反応器を水平断面した状態で模式的に示す説明図である。この実施形態では、アンモニア分解触媒xが充填された側が空間Aアンモニア分解室となり、図1の原理で水素が生成分離回収される。すなわち、図4の例では、管体pの外側が空間Aアンモニア分解室を、管体pの内側が空間B水素分離回収室を、それぞれ構成しているが、その逆でもよい。前記水素分離膜mとしては、Pd系水素分離膜、シリカ系多孔質分離膜などを用いることができる。Pd系水素分離膜は、Pb又はPd系合金を圧延などにより薄膜にしたものであり、Pd系合金としてはPdとAgの合金などが用いられる。また、シリカ系多孔質分離膜は、アルミナ等の多孔質支持体に、水素だけが透過できるような細孔を有するシリカ膜を形成したものであり、シリカ膜は、例えば、蒸着等によりシリカをコーティングした後、焼成等を施すことにより形成される。また、アルミナ等の多孔体にシリカ膜を形成させた後、Pd等の水素を透過する膜を無電解メッキ等のメッキにより形成させたものを用いることもできる。水素分離膜の水素透過性能は膜表面積に依存するので、例えば、波状或いは凹凸状に加工することで膜表面積を増加させた水素分離膜を用いることが好ましい。また、水素透過性能は膜厚みにも依存することから、加工可能な範囲で膜厚みを薄くすることが好ましい。また、多孔質緻密体の表面に水素分離膜をコーティングしたものを用いてもよい。水素分離膜をコーティングする方法としては、化学蒸着法、プリント法、メッキ法などが挙げられる。但し、アンモニア分解反応条件下で安定な水素分離膜であることが望ましい。アンモニア分解触媒としては、従来公知のアンモニア分解触媒を用いることができ、例えば、Ru,Pt等の貴金属元素、Ni,Fe,Co等の遷移金属系元素、モリブデン、タングステン、バナジウムの中から選ばれる1種以上を含有するものを用いることができる。また、アンモニア分解触媒の活性を高めるためのアルカリ、アルカリ土類等の助触媒を添加してもよく、Al2O3、SiO2等の担体に前記触媒元素及び助触媒を担持させるようにしてもよい。アンモニア分解温度は、使用する水素分離膜mの耐熱温度やアンモニア分解率水素回収などを考慮して決められるが、通常、300~500°Cであればよい。本発明の製造装置は、内部に水素分離膜mとこれに隔てられた空間A,Bを有する反応器を備え、この反応器には上記反応温度を得るための加熱手段が付設される。この加熱手段は、通常、反応器の外側に付設され、反応容器内部を間接加熱する。加熱方式は、電気加熱、ガス燃焼加熱など任意である。但し、反応を円滑に進めるために、ホットスポットのないように均一に熱供給を行うことができる手段であることが好ましい。図5に示すような試験装置反応器を用い、本発明法の試験を実施した。反応器の内部は中央の水素分離膜mで2つの空間A,Bに仕切られ、一方の空間Aアンモニア分解室にアンモニア分解触媒xが充填されている。反応器を電気炉内に設置し、電気炉により反応温度を制御できるようにした。水素分離膜mとしては、市販の圧延法で作製されたPd-Ag膜膜厚:20mm,有効膜面積:3.78cm220×50mm,23mass-Agを使用した。アンモニア分解触媒xとしては、2massRuAl2O3ペレット触媒と、ニッケル系触媒である市販の12massNiAl2O3球状触媒を使用した。試験条件は、反応温度:350~500°C、NH3量:10~50mlmin、NH3同伴用Ar量:10~50mlmin、スイープ用Ar量:28~200mlmin、触媒量:1.25~5.0gWF:3733~11200gcatminmolNH3とした。圧力は空間ANH3供給側、空間BH2透過側ともに常圧とし、NH3供給側である空間Aにアンモニアとアルゴンマスフローで所定流量に設定を、H2透過側である空間Bにスイープ用アルゴンをそれぞれ供給し、これにより空間A,B間で水素分圧差を付け、水素を水素分離膜mを通じて空間A側から空間B側に透過させた。なお、比較例では、水素分離膜mを使用しないでアンモニア分解試験を行ったが、この試験は空間B水素透過側の出入口を塞いで行った。供給ガス流量は、特記していない限り、NH3量:30mlmin、NH3量:NH3同伴用Ar量=1:1、スイープ用Ar量:200mlmin、WF:3733gcatminmolNH3とした。水素収率と水素除去率は、下式により算出した。水素収率=実際の水素生成量NH3が100分解した場合の水素生成量100水素除去率=空間Bに透過した水素量空間Aで生成した水素量100図6に、本発明例と比較例において、アンモニア分解触媒として2massRuAl2O3ペレット触媒を用いた場合の試験結果反応温度と水素収率との関係を示す。これによれば、比較例の水素収率は、反応温度が450~500°Cでは約100となるが、400°Cでは約70、350°Cでは約30と低下している。一方、本発明例の水素収率は、比較例と比べて反応温度350°Cでは1.3倍、400°Cでは1.2倍向上しており、水素収率アンモニア分解率の向上が確認できる。そこで、本発明例として、アンモニア供給量を低下させるWFを増大とともに、スイープ用Ar量を変化させた試験を行った。その結果水素除去率と水素収率との関係を図7、図8に示す。図7の試験では、NH3量:10mlmin、反応温度:400°C、スイープ用Ar量:28mlmin,50mlmin,100mlmin,WF:11200gcatminmolNH3の条件とし、図8の試験では、NH3量:16.6mlmin、反応温度:400°C、スイープ用Ar量:28mlmin,50mlmin,100mlmin、WF:6747gcatminmolNH3の条件とした。水素除去率は、スイープ用Ar量28mlmin,50mlmin,100mlminにより変化させた。図7、図8に示した破線は、それぞれ本発明例と同じ条件NH3量、反応温度で行った比較例の水素収率である。比較例では、NH3量10mlminおよび16.6mlminにおける水素収率は、それぞれ65.1および66.0である。これに対して、本発明例では、いずれの条件においても水素収率の向上が見られる。また、水素収率は水素除去率の増大スイープ用Ar量の増加に伴って向上している。なお、NH3量が10mlminのときには図7、水素除去率77.7において水素収率は5割程度向上している。次に、本発明例と比較例において、触媒として12massNi/Al2O3球状触媒を用いて試験を行った。この試験では、反応温度:450°C、NH3量:10mlmin、スイープ用Ar量:50mlmin,100mlmin,120mlmin、WF:11200gcatminmolNH3とした。その結果水素除去率と水素収率との関係を図9に示す。これによれば、本発明例は水素収率が大きく向上し、比較例に較べて最大2.2倍にまで向上している。"