半導体基板上に複数の光電変換素子を平面配置した固体撮像素子画素部の受光面側に、光電変換素子の各々に1対1に対応してマイクロレンズを受光有効領域に備えた固体撮像素子において、受光有効領域に隣接する周辺領域に、受光有効領域を取り囲むように複数の凸状体をマイクロレンズと同一の材料で設け、マイクロレンズと凸状体の表面を均一に覆う反射防止膜を形成したことを特徴とする固体撮像素子。前記凸状体が、受光有効領域に備えたマイクロレンズと同一形状であることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像素子。前記反射防止膜が、屈折率がマイクロレンズより小さい単層反射防止膜であることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像素子。前記反射防止膜が、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した2層以上の多層反射防止膜であることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像素子。前記反射防止膜が、二酸化珪素を含むことを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の固体撮像素子。図3に模式的に示した断面構造を有する固体撮像素子において、マイクロレンズ7の表面に設ける反射防止膜8は、一般にマイクロレンズ形成樹脂である有機材料上に、マイクロレンズ形成樹脂より屈折率の小さい二酸化珪素等の無機材料の薄層を形成することにより、表面反射率を低減することができる。しかし、積層された両層の熱膨張係数が異なることや、無機材料成膜時の膜に内在するストレス等が原因となって、マイクロレンズ表面に形成した反射防止膜にクラックが発生することがあり、均一に高透過率の性能を維持したいマイクロレンズの性能が損なわれ、固体撮像素子の不具合となる。本発明は、前記の問題点に鑑みて提案するものであり、本発明が解決しようとする課題は、固体撮像素子に設けるマイクロレンズの高透過率化を目的としてマイクロレンズ表面に形成する反射防止膜に、クラックによる欠陥が発生しない、高感度の固体撮像素子の構造を提供することである。上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、半導体基板上に複数の光電変換素子を平面配置した固体撮像素子画素部の受光面側に、光電変換素子の各々に1対1に対応してマイクロレンズを受光有効領域に備えた固体撮像素子において、受光有効領域に隣接する周辺領域に、受光有効領域を取り囲むように複数の凸状体をマイクロレンズと同一の材料で設け、マイクロレンズと凸状体の表面を均一に覆う反射防止膜を形成したことを特徴とする固体撮像素子である。また、請求項2に記載の発明は、前記凸状体が、受光有効領域に備えたマイクロレンズと同一形状であることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像素子である。また、請求項3に記載の発明は、前記反射防止膜が、屈折率がマイクロレンズより小さい単層反射防止膜であることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像素子である。また、請求項4に記載の発明は、前記反射防止膜が、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した2層以上の多層反射防止膜であることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像素子である。また、請求項5に記載の発明は、前記反射防止膜が、二酸化珪素を含むことを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の固体撮像素子である。本発明は、受光有効領域に隣接する周辺領域に、受光有効領域を取り囲むように複数の凸状体をマイクロレンズと同一の材料で設け、マイクロレンズと凸状体の表面を均一に覆う反射防止膜を形成するので、クラックによる欠陥が発生しない反射防止膜をマイクロレンズ表面に形成でき、均一に高透過率の性能を維持するマイクロレンズを設けて、高感度の固体撮像素子を容易に提供することができる。以下、図面に従って、本発明を実施するための形態について説明する。図1は、本発明の固体撮像素子の構造の一例を説明するための模式断面図である。本発明は、半導体基板2上に複数の光電変換素子3を平面配置した固体撮像素子1の画素部の受光面側に、光電変換素子3の各々に1対1に対応してマイクロレンズ7を受光有効領域Aに備えた固体撮像素子において、受光有効領域Aに隣接する周辺領域Bに、受光有効領域Aを平面上で取り囲むように複数の凸状体72をマイクロレンズと同一の材料で設け、マイクロレンズと凸状体の表面を均一に覆う反射防止膜8を形成したことを特徴とする固体撮像素子1である。以下、カラー固体撮像素子の例に従って、具体的に説明する。カラー固体撮像素子1は、半導体基板2上に規則的に設けた複数の光電変換素子3を平面配置した固体撮像素子画素部の受光面側表面4に、透明平坦化層5を介して、複数色を繰り返し配列する着色透明画素パターン6を複数の光電変換素子3に1対1に対応させて設け、さらに第二の透明平坦化層51により着色透明画素パターン6を配列した平面上の平坦化を行った後に、上記のマイクロレンズ7を設けてなる。透明平坦化層5としては、例えば、無色透明なアクリル樹脂溶液を0.1μm程度の厚さで均一に回転塗布し、熱処理して硬化する。着色透明画素パターン6は、所定の分光透過率特性を有する特定の色の顔料等の色素成分とアルカリ可溶性樹脂を含む感光性材料を、前記透明平坦化層上に回転塗布し、露光、現像工程を含む一連のフォトリソグラフィー法によりパターン形成し、熱硬化して種々の耐性を得る。上記の着色透明画素パターン形成工程を異なる色についても同様に繰り返すことにより、必要な複数色からなる着色透明画素パターンの繰り返し配列を得ることができる。なお、受光有効領域Aに隣接する周辺領域を示す矢印Bの領域においては、光電変換素子3が不要の領域であって、隣接する着色透明画素パターン6に代えて、同等の高さ空間を層として物理的に埋める充填層61を設ける。充填層61には、複数色の着色透明画素パターンを作る材料の内の1色を充てて、該色のパターンと同時形成することができる。着色透明画素パターンは、色によって、必要な分光透過率を得るための厚さに差が生じ易い。そこで、透明平坦化層5より平坦化効果を大きくするために充分に厚い層で、透明平坦化層5と同様の材料を、着色透明画素パターン上に塗布、熱処理して、第二の透明平坦化層51を形成することが好ましい。上記平坦化がなされた表面の内、受光有効領域Aには、所定の形状に設計されたマイクロレンズ7を光電変換素子3の各々に対応した平面上の各位置に設ける。また、受光有効領域Aに隣接する周辺領域Bに、受光有効領域Aを平面上で取り囲むように複数の凸状体72をマイクロレンズ7と同一の材料で設ける。なお、周辺領域Bに設ける凸状体72をどのように配置するかは、図示していないが、多様に変化する。例えば、周辺領域Bに設ける各種マーク類や電極端子や断裁線等のパターンの配置により、該パターンを避ける位置に凸状体を設ける。しかし、周辺領域Bの中でも、受光有効領域Aに隣接する受光有効領域Aの特に近傍の領域には、前記各種マーク類や電極端子や断裁線等のパターンの配置を行わないことは設計上妥当であるので、本発明の凸状体72を受光有効領域Aを取り囲むように設けることができる。本発明は、受光有効領域Aに設けるマイクロレンズ7と、周辺領域Bに設ける凸状体72とを、同一材料で設けることを特徴としている。同一材料で設けるマイクロレンズと凸状体の形成は、同時に形成することが合理的であり、形成方法としては、従来よりマイクロレンズの形成方法として実施された前述の2方式が可能である。すなわち、マイクロレンズの素材となるアクリル系感光性樹脂をフォトリソグラフィー法により選択的にパターン形成した後に、材料の熱リフロー性を利用してレンズ形状を作るフローレンズタイプや、マイクロレンズの素材となるアクリル透明樹脂の平坦層の上に、アルカリ可溶性と感光性と熱リフロー性を有するレジスト材料を用いてフォトリソグラフィー法と熱リフローによりレンズ母型を形成し、ドライエッチング法によりレンズ母型の形状をアクリル透明樹脂層に転写する転写タイプが、いずれも可能である。前記凸状体の形状は、上述の各形成方法におけるフォトリソグラフィー法を利用する工程で、使用する露光用マスクのパターン設計を考慮することにより、各種の形状が可能であるが、受光有効領域に備えたマイクロレンズと同一形状とすることが、最も容易であり、かつ、後の工程でクラックによる欠陥が発生しない反射防止膜をマイクロレンズ上に設ける上でも最適である。また、本発明は、前述のように同一材料で設けたマイクロレンズ7と凸状体72の表面を、反射防止膜8で均一に覆うように形成する。マイクロレンズ7の表面に反射防止膜8を設けることのみによっても、マイクロレンズの表面反射による透過光量の減少を防ぐことができ、高感度の固体撮像素子を提供することができる。しかし、特に受光有効領域Aの端部付近のマイクロレンズ表面上の反射防止膜は、一般に使用される無機材料の成膜時の膜に内在するストレスの解放等が原因となって、クラックが発生しやすい。そこで、本発明では、受光有効領域Aに隣接する周辺領域Bに、受光有効領域Aを取り囲むように複数の凸状体をマイクロレンズと同一の材料で設け、マイクロレンズと凸状体の表面を均一に覆う反射防止膜8を形成することにより、受光有効領域Aの端部付近のマイクロレンズ表面上の反射防止膜が、反射防止膜8としての端部には該当しなくなり、ストレスの解放による緩和を生じる領域ではなくなるので、この領域でのクラックの発生を抑制できる。また、受光有効領域Aから隣接する周辺領域Bに、マイクロレンズ7と凸状体72の表面を連続する反射防止膜8は、前記2種類の下地の境界において、下地の形状が同一である方が、クラックの発生起因を与え難いので、凸状体72の形状をマイクロレンズ7の形状と同一にすることが最適である。なお、本発明では、周辺領域Bに設けた凸状体72の表面に形成した反射防止膜8でのクラック発生は防止できないが、受光有効領域Aの外での重大ではない欠陥に限定される。前記反射防止膜8は、無機材料の単層膜または多層膜で、真空蒸着法やスパッタリング法等の真空成膜技術を用いて形成できる。マイクロレンズの表面における光の表面反射率は、使用材料や製法により異なるが、例えば、従来のフローレンズタイプでは、屈折率1.60、転写タイプでは、屈折率1.55の光学特性により決まる表面反射率が、可視域平均値で、それぞれ約5.3、約4.7に得られていた。本発明の反射防止膜を単層膜で形成する場合には、反射防止膜の屈折率を、上記のマイクロレンズの屈折率より小さくすることにより、反射防止効果が得られる。例えば、屈折率1.46の二酸化珪素の単層薄膜をマイクロレンズの表面に形成すると、可視域平均の表面反射率で約3.5とすることができ、反射防止膜8を形成しない場合より表面反射率を低減できるので、高感度の固体撮像素子を提供することに寄与することができる。図4は、マイクロレンズ表面における光の分光反射率を、反射防止膜の有無により比較したグラフである。点線で示す従来のマイクロレンズ表面の分光反射率に較べて、二酸化珪素被膜をマイクロレンズ表面に0.1μmの厚さに形成した場合の、実線で示すマイクロレンズ表面の分光反射率は、可視光全域の波長に亘って、顕著に低下していることを示している。前記反射防止膜8は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した2層以上の多層反射防止膜であってもよい。ここで、高屈折率層としては、例えば、チタン、セリウム、タンタル、錫、インジウム、ジルコニウム、アルミニウム等の金属の酸化物、あるいはこれらの金属酸化物の混合物であり、屈折率が1.60以上のものである。また、低屈折率層としては、屈折率が1.60未満のもので、例えば、二酸化珪素を始めとする珪素系酸化物や、弗化マグネシウムの他、マグネシウム、ジルコニウム、アルミニウム等の金属の酸化物、あるいはこれらの金属酸化物の混合物が可能である。前記反射防止膜を構成する無機材料の単層膜または多層膜に用いる薄膜材料の中でも、特に、二酸化珪素は、低コスト、高品質の膜を従来の真空成膜技術により容易に得ることができ、薄膜の光学的特性や耐性についても、成膜方法との関連で最も良く知られている材料の一つであるので、本発明に用いる反射防止膜の構成材料に含むことが好ましい。