ガスバリアフィルム、接着層、ナイロンフィルム、接着層およびヒートシール性樹脂フィルムがこの順で積層された加圧加熱殺菌用包装材料であって、前記ガスバリアフィルムが、プラズマにより処理を施されたプラスチックフィルム上に蒸着手段を用いた蒸着法によりセラミック層を形成させてなり、その際、前記蒸着手段とは別に高密度プラズマを発生させる手段を併せて用いることを特徴とする加圧加熱殺菌用包装材料。前記高密度プラズマを発生させる手段として、ICPプラズマ、ヘリコン波プラズマ、マイクロ波プラズマ、ホロカソード放電の何れか1つを用いることを特徴とする請求項1に記載の加圧加熱殺菌用包装材料。前記プラスチックフィルムが、交流電圧が印加されたロール電極に搬送されながら前記プラズマによる処理が行われることを特徴とする請求項1または2記載の加圧加熱殺菌用包装材料。前記プラスチックフィルムのプラズマによる処理と、蒸着手段を用いた蒸着法によりセラミック層を形成させる工程とが、インラインにより連続的に行われることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の加圧加熱殺菌用包装材料。前記セラミック層と前記ナイロンフィルムとの間に、オーバーコート層を形成させてなることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の加圧加熱殺菌用包装材料。前記蒸着法が、電子ビーム蒸着法、抵抗加熱法または高周波誘導加熱法であることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の加圧加熱殺菌用包装材料。前記セラミック層が、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸窒化珪素膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸窒化アルミニウム膜、酸化マグネシウム膜の何れか1つからなる請求項1~6のいずれかに記載の加圧加熱殺菌用包装材料。ガスバリアフィルム、接着層、ナイロンフィルム、接着層およびヒートシール性樹脂フィルムをこの順で積層する加圧加熱殺菌用包装材料の製造方法であって、前記ガスバリアフィルムが、プラズマにより処理を施されたプラスチックフィルム上に蒸着手段を用いた蒸着法によりセラミック層を形成させてなり、その際、前記蒸着手段とは別に高密度プラズマを発生させる手段を併せて用いることを特徴とする加圧加熱殺菌用包装材料の製造方法。しかしながら、この手法では材料の蒸発とプラズマによる活性化が同時に行えるため煩雑さは少なく、装置コスト的に有利である反面、材料の蒸発速度とプラズマ密度とが一義的に決定してしまい、材料の蒸発速度と活性化するためのプラズマ密度を自由に決定できないという問題点があった。このため、成膜速度に対するガスバリア性が自由に設定することが困難であるという問題があった。また、ガスバリア性を発現出来たとしても、基材に対するガスバリア膜の密着強度が、軟包装材料用のガスバリアフィルムの要求値を満たすことはなく、レトルト食品用の耐久性を満たす密着層としては、ウェットコート法などにより、別途アンカー層を設ける必要があり、コストが上がってしまう問題があった。本発明は、上記の問題点に鑑み、ガスバリアフィルムを形成するにあたり、材料の蒸発速度とプラズマ密度を自由に設定し、成膜速度に対するガスバリア性を自由に設定出来、得られたガスバリアフィルムを用いることにより、高い酸素、水蒸気バリア性を保持し、同時に高い基材密着性を有する加熱殺菌用包装材料およびその製造方法を提供することを目的とする。この課題を解決するため、請求項1に記載の発明は、ガスバリアフィルム、接着層、ナイロンフィルム、接着層およびヒートシール性樹脂フィルムがこの順で積層された加圧加熱殺菌用包装材料であって、前記ガスバリアフィルムが、プラズマにより処理を施されたプラスチックフィルム上に蒸着手段を用いた蒸着法によりセラミック層を形成させてなり、その際、前記蒸着手段とは別に高密度プラズマを発生させる手段を併せて用いることを特徴とする加圧加熱殺菌用包装材料である。請求項2に記載の発明は、前記高密度プラズマを発生させる手段として、ICPプラズマ、ヘリコン波プラズマ、マイクロ波プラズマ、ホロカソード放電の何れか1つを用いることを特徴とする請求項1に記載の加圧加熱殺菌用包装材料である。請求項3に記載の発明は、前記プラスチックフィルムが、交流電圧が印加されたロール電極に搬送されながら前記プラズマによる処理が行われることを特徴とする請求項1または2記載の加圧加熱殺菌用包装材料である。請求項4に記載の発明は、前記プラスチックフィルムのプラズマによる処理と、蒸着手段を用いた蒸着法によりセラミック層を形成させる工程とが、インラインにより連続的に行われることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の加圧加熱殺菌用包装材料である。請求項5に記載の発明は、前記セラミック層と前記ナイロンフィルムとの間に、オーバーコート層を形成させてなることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の加圧加熱殺菌用包装材料である。請求項6に記載の発明は、前記蒸着法が、電子ビーム蒸着法、抵抗加熱法または高周波誘導加熱法であることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の加圧加熱殺菌用包装材料である。請求項7に記載の発明は、前記セラミック層が、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸窒化珪素膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸窒化アルミニウム膜、酸化マグネシウム膜の何れか1つからなる請求項1~6のいずれかに記載の加圧加熱殺菌用包装材料である。請求項8に記載の発明は、ガスバリアフィルム、接着層、ナイロンフィルム、接着層およびヒートシール性樹脂フィルムをこの順で積層する加圧加熱殺菌用包装材料の製造方法であって、前記ガスバリアフィルムが、プラズマにより処理を施されたプラスチックフィルム上に蒸着手段を用いた蒸着法によりセラミック層を形成させてなり、その際、前記蒸着手段とは別に高密度プラズマを発生させる手段を併せて用いることを特徴とする加圧加熱殺菌用包装材料の製造方法である。本発明の加圧加熱殺菌用包装材料およびその製造方法は、ガスバリアフィルム、接着層、ナイロンフィルム、接着層およびヒートシール性樹脂をこの順で積層し、前記ガスバリアフィルムが、プラスチックフィルム上に蒸着手段を用いた蒸着法によりセラミック層を形成してなり、その際、前記蒸着手段とは別に高密度プラズマを発生させる手段を併せて用いることを特徴としているので、ガスバリアフィルムを形成するにあたり、材料の蒸発速度とプラズマ密度を自由に設定し、成膜速度に対するガスバリア性を自由に設定出来、得られたガスバリアフィルムを用いることにより、高い酸素、水蒸気バリア性を保持し、同時に高い基材密着性を有する加熱殺菌用包装材料を提供できる。以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。図1は、本発明の加熱殺菌用包装材料の一実施形態を示した構成図断面図である。プラスチックフィルム10の上に、セラミック層11、更にオーバーコート層12が成膜され、このオーバーコート層12側にナイロンフィルム14を、接着層13を介しラミネートし、またナイロンフィルム14に対し、接着層15を介しヒートシール性樹脂フィルム16をラミネートした構成である。プラスチックフィルム10は、特に限定されるものではなく公知のものを使用することができる。例えばポリオレフィン系ポリエチレン、ポリプロピレン等、ポリエステル系ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等、ポリアミド系ナイロン-6、ナイロン-66等、ポリスチレン、エチレンビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネイト、ポリエーテルスルホン、アクリル、セルロース系トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等などが挙げられるが特に限定されない。実際的には、用途や要求物性により適宜選定をすることが望ましく、限定をする例ではないが医療用品、薬品、食品等の包装には、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ナイロンなどがコスト的に用いやすい。また、プラスチックフィルムの厚みは限定するものではないが、用途に応じて、6μmから200μm程度が使用しやすい。また、バリアフィルム作製のためのプラスチックフィルム表面には、プラスチックフィルムが通るロール電極を陰極として、周波数10kHz~1MHzの交流電圧を印加し、Ar、He、Kr、N2、O2、およびそれらの混合ガス等のプラズマ処理を施す。セラミック層11としては、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸窒化珪素膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸窒化アルミニウム膜、酸化マグネシウム膜が挙げられる。これらを蒸着する際に用いる蒸着材料としては、特に限定されるものではなく公知のものを使用することができる。例えば酸化珪素膜の場合、シリコンSi、一酸化珪素SiOや二酸化珪素SiO2、またはこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。また、上記の材料の蒸着時に、酸素などの反応性ガスを併用することにより、酸化珪素膜を得ても良い。セラミック層11の上に形成するオーバーコート層12としては、R1M-OR2ただしR1、R2は炭素数1~8の有機基、Mは金属原子で表される少なくとも一種以上の金属アルコキシドを原料とする組成を含む塗布膜をセラミック層11上に積層することが望ましい。MはSi、Al、Tiなどが望ましく、特にSiが望ましい。また他の水溶性高分子を混合しても差し支えない。ナイロンフィルム14としては、引き裂き方向に延伸した一軸延伸状態のナイロンフィルムでもよく、また芳香族系ポリアミドなどとのポリマーブレンドの2軸延伸状態のナイロンフィルムを用いてもよい。ヒートシール性樹脂フィルム16としては、従来から包装材料のシーラントとして用いられているものと同様の素材から構成することが出来、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、アイオノマー等を使用することが出来る。水蒸気、酸素バリア性を有したプラスチックフィルム10とナイロンフィルム14とは接着層13を介し、ラミネーションするが、接着層13の接着剤としてウレタン系の接着剤を用いることが好ましく、またラミネートする方法として、ドライラミネーション法、ノンソルベントラミネーション法、押出しラミネーション法、ニーラムラミネーション法などによりラミネーションすることが好ましい。ヒートシール樹脂フィルム16とナイロンフィルム14とは接着層15を介し、ラミネーションするが、接着層15の接着剤としてウレタン系の接着剤を用いることが好ましく、またラミネートする方法として、ドライラミネーション法、ノンソルベントラミネーション法、押出しラミネーション法、ニーラムラミネーション法などによりラミネーションすることが好ましい。図2は、本発明の加熱殺菌用包装材料における水蒸気、酸素バリア性を保持したガスバリアフィルムを作製する成膜装置の模式図の一例である。真空チャンバー20において、プラスチックフィルム21を、巻き出しローラー22にセットし、巻き出しローラー22よりメインドラム23を通過し、巻取りローラー24に巻き取られる。この際メインドラム23において、セラミック層をプラスチックフィルム21上に形成する。坩堝25に、セラミック層を成膜するための蒸着材料26を詰める。また、蒸着手段として、直進電子ビーム銃27が設置されている。また、反応性ガスを導入する手段として、反応性ガス導入パイプ30が成膜室に設置されている。電子ビームにより加熱された蒸着材料26は蒸気となりプラスチックフィルムに蒸着されるがこの際の蒸気を蒸着粒子28で示し、蒸着粒子をイオンプレーティングする高密度プラズマをプラズマ29として示してある。また、巻き出しローラー22より巻き出されたプラスチックフィルム21は、カソードローラー31を通過する。このカソードローラー31の対抗電極としてアノード32が設置されており、カソードローラー31とアノード32の間に、プラズマ34が発生する。この際、カソードローラー31には、周波数10kHz~1MHzの交流電圧を交流電源33により印加され、プラズマ34が発生する。この際、カソードローラー31とアノード32は、巻取り室37と隔壁35によって仕切られており、独自の気圧設定が可能である。また、プラズマ34を発生させるためのガスは、ガス導入配管36より導入される。このように本実施形態によれば、プラスチックフィルムのプラズマによる処理と、蒸着手段を用いた蒸着法によりセラミック層を形成させる工程とが、インラインにより連続的に行われる。図2において、蒸着材料26を過熱する手段として、直進電子ビーム銃27を設置し、電子ビーム蒸着法を示したが、蒸着手段としては、材料を詰めてある坩堝25に対し、抵抗加熱法または高周波誘導加熱法などを用いて加熱し、材料を蒸発させてもよい。電子ビーム蒸着法は、直進電子ビーム銃であっても、偏向電子ビーム銃であってもよいが、高い成膜速度を発現させるためには大電力の投入が可能なピアース式平面陰極形電子銃などが挙げられるが、これに限られるものではない。また抵抗加熱法は、材料を詰めた坩堝を直接抵抗加熱する方式であってもよいし、抵抗加熱部に金属のワイヤーをフィードするタイプの抵抗加熱方式であっても問題ない。いずれの方式も高い成膜速度を発現できる装置の構成になっていることが必要である。材料を蒸着する際に、プラズマ源より高密度プラズマを発生させる。高い成膜速度により成膜する場合は、蒸着粒子の数が非常に多いため、高いプラズマ密度を発現できる方式で無い場合、蒸着粒子に比してプラズマ化している粒子数が少なく、膜質を向上させる変化を発現させることが困難である。このため、高いプラズマ密度を発現させる手段として、ICPプラズマ法、ヘリコン波プラズマ法、マイクロ波プラズマ法、ホロカソード放電法の何れかを用いることが最適である。また、本発明の加圧加熱殺菌用包装材料は、水蒸気透過度が1g/m2/day以下であることが好ましい。本発明の加圧加熱殺菌用包装材料は、高密度プラズマを用いてセラミック層を成膜したプラスチックフィルムを用いて構成しているため、水蒸気バリア性に優れている。さらに、本発明の加圧加熱殺菌用包装材料は、酸素透過度が1cc/m2/day以下であることが好ましい。本発明の加圧加熱殺菌用包装材料は、高密度プラズマを用いてセラミック層を成膜したプラスチックフィルムを用いて構成しているため、水蒸気バリア性に優れている。以下に、本発明の具体的な実施例を示す。<実施例1>図2に示す成膜装置を用いて、蒸着材料26としてアルミニウム塊を坩堝25に詰め、加熱手段として直進電子ビーム銃27を用い、100nm/secの成膜速度で蒸発させ、反応性ガス導入パイプ30より酸素ガスを導入し、反応性蒸着により酸化アルミニウム薄膜をプラスチックフィルム21に蒸着成膜する。この際、巻き出しローラー22から巻き取りローラー24に向かって流すプラスチックフィルム21として12μm厚のPETフィルムを用いた。プラスチックフィルム21は、カソードローラー31とアノード32の間で、ガス導入配管36より導入されたArガスにより発生したArプラズマ34により、表面処理を行われ、その後、メインドラム23を通過する際、物理膜厚20nmを成膜した。この際、電子ビーム蒸着と同時に、ホロカソードパイプにArガスを70sccm流し、投入電力10kWのホロカソードアーク放電を用いて活性化蒸着を行った。セラミック層が形成されたプラスチックフィルムのセラミック層上に、オーバーコート層をマイクログラビア法により形成し、水蒸気、酸素バリア性プラスチックフィルムを作製した。このプラスチックフィルムと厚さ70μmのナイロンフィルムを、ウレタン系接着剤を用いドライラミネーション法によりラミネーションした。また更にナイロンフィルム側にヒートシール樹脂として厚さ100μmのポリプロピレンフィルムを、ウレタン系接着剤を用いドライラミネーション法によりラミネーションし、加圧加熱殺菌用包装材料を作製した。<実施例2>図2に示す成膜装置を用いて、蒸着材料26としてアルミニウム塊を坩堝25に詰め、加熱手段として直進電子ビーム銃27を用い、100nm/secの成膜速度で蒸発させ、反応性ガス導入パイプ30より酸素ガスを導入し、反応性蒸着により酸化アルミニウム薄膜をプラスチックフィルム21に蒸着成膜する。この際、巻き出しローラー22から巻き取りローラー24に向かって流すプラスチックフィルム21として12μm厚のPETフィルムを用いた。プラスチックフィルム21は、カソードローラー31とアノード32の間で、ガス導入配管36より導入されたArガスにより発生したArプラズマ34により、表面処理を行われ、その後、メインドラム23を通過する際、物理膜厚20nmを成膜した。この際、電子ビーム蒸着と同時に周波数13.56MHz、投入電力10kWのICPプラズマを発生させ、活性化蒸着を行った。セラミック層が形成されたプラスチックフィルムのセラミック層上に、オーバーコート層をマイクログラビア法により形成し、水蒸気、酸素バリア性プラスチックフィルムを作製した。このプラスチックフィルムと厚さ70μmのナイロンフィルムを、ウレタン系接着剤を用いドライラミネーション法によりラミネーションした。また更にナイロンフィルム側にヒートシール樹脂として厚さ100μmのポリプロピレンフィルムを、ウレタン系接着剤を用いドライラミネーション法によりラミネーションし、加圧加熱殺菌用包装材料を作製した。<実施例3>図2に示す成膜装置を用いて、蒸着材料26としてアルミニウム塊を坩堝25に詰め、加熱手段として直進電子ビーム銃27を用い、100nm/secの成膜速度で蒸発させ、反応性ガス導入パイプ30より酸素ガスを導入し、反応性蒸着により酸化アルミニウム薄膜をプラスチックフィルム21に蒸着成膜する。この際、巻き出しローラー22から巻き取りローラー24に向かって流すプラスチックフィルム21として12μm厚のPETフィルムを用いた。プラスチックフィルム21は、カソードローラー31とアノード32の間で、ガス導入配管36より導入されたArガスにより発生したArプラズマ34により、表面処理を行われ、その後、メインドラム23を通過する際、物理膜厚20nmを成膜した。この際、電子ビーム蒸着と同時に、周波数2.45GHz、投入電力6kWのマイクロ波プラズマを発生させ、活性化蒸着を行った。セラミック層が形成されたプラスチックフィルムのセラミック層上に、オーバーコート層をマイクログラビア法により形成し、水蒸気、酸素バリア性プラスチックフィルムを作製した。このプラスチックフィルムと厚さ70μmのナイロンフィルムを、ウレタン系接着剤を用いドライラミネーション法によりラミネーションした。また更にナイロンフィルム側にヒートシール樹脂として厚さ100μmのポリプロピレンフィルムを、ウレタン系接着剤を用いドライラミネーション法によりラミネーションし、加圧加熱殺菌用包装材料を作製した。<比較例1>図2に示す成膜装置を用いて、蒸着材料26としてアルミニウム塊を坩堝25に詰め、加熱手段として直進電子ビーム銃27を用い、100nm/secの成膜速度で蒸発させ、反応性ガス導入パイプ30より酸素ガスを導入し、反応性蒸着により酸化アルミニウム薄膜をプラスチックフィルム21に蒸着成膜する。この際、巻き出しローラー22から巻き取りローラー24に向かって流すプラスチックフィルム21として12μm厚のPETフィルムを用い、物理膜厚20nmを成膜した。セラミック層が形成されたプラスチックフィルムのセラミック層上に、オーバーコート層をマイクログラビア法により形成し、水蒸気、酸素バリア性プラスチックフィルムを作製した。このプラスチックフィルムと厚さ70μmのナイロンフィルムを、ウレタン系接着剤を用いドライラミネーション法によりラミネーションした。また更にナイロンフィルム側にヒートシール樹脂として厚さ100μmのポリプロピレンフィルムを、ウレタン系接着剤を用いドライラミネーション法によりラミネーションし、加圧加熱殺菌用包装材料を作製した。<比較例2>図2に示す成膜装置を用いて、蒸着材料26としてアルミニウム塊を坩堝25に詰め、加熱手段として直進電子ビーム銃27を用い、100nm/secの成膜速度で蒸発させ、反応性ガス導入パイプ30より酸素ガスを導入し、反応性蒸着により酸化アルミニウム薄膜をプラスチックフィルム21に蒸着成膜する。この際、巻き出しローラー22から巻き取りローラー24に向かって流すプラスチックフィルム21として12μm厚のPETフィルムを用い、物理膜厚20nmを成膜した。この際、電子ビーム蒸着と同時に、ホロカソードパイプにArガスを70sccm流し、投入電力10kWのホロカソードアーク放電を用いて活性化蒸着を行った。セラミック層が形成されたプラスチックフィルムのセラミック層上に、オーバーコート層をマイクログラビア法により形成し、水蒸気、酸素バリア性プラスチックフィルムを作製した。このプラスチックフィルムと厚さ70μmのナイロンフィルムを、ウレタン系接着剤を用いドライラミネーション法によりラミネーションした。また更にナイロンフィルム側にヒートシール樹脂として厚さ100μmのポリプロピレンフィルムを、ウレタン系接着剤を用いドライラミネーション法によりラミネーションし、加圧加熱殺菌用包装材料を作製した。作成したサンプルについて、水蒸気透過度及び酸素透過度を以下の方法で測定した。評価方法水蒸気透過度WVTRをMOCON法により測定した。用いた測定器はMOCONPERMATRAN3/33であり、40°C、90Rhにて測定し、酸素透過度OTRはMOCONOX-TRAN2/20により、23°C、0Rhにて測定した。また、作製した加圧加熱殺菌用包装材料をA4サイズに切り出し、水道水200ccを入れて、袋状に密閉して、121°Cで30分間レトルト殺菌処理を実施した。レトルト処理後、2時間以内に、15mm幅に切断したサンプルのガスバリアフィルムとナイロン間の180度剥離のラミネート強度を測定した。試験にはオリエンテック社製テンシロン万能試験機RTC-1250を用いた。また、剥離速度は、300mm/minとして、測定の際には測定部位を水で湿潤させながら行った。表1に実施例1、実施例2、実施例3、比較例1、比較例2で作成したサンプルの水蒸気透過度と酸素透過度を示す。表1の結果より、蒸着時に蒸着法とは別に高密度プラズマを用いてセラミック層を形成したプラスチックフィルムを用いて作製した加圧加熱殺菌用包装材料は、高密度プラズマを用いなかったプラスチックフィルムと比較し、高いガスバリア性を有する結果が得られた。また、カソードローラーによるプラズマ処理を行った場合と行わなかった場合では、行った場合のほうが高い密着性が発現した。