"第1の剥離シート上に粘着剤層を形成して第1のシートを得る粘着剤層形成工程と、第2の剥離シート上、または、第2の剥離シート上に形成された剥離補助層上に高分子を含有する記録層を形成して第2のシートを得る記録層形成工程と、前記第1のシートの粘着剤層上に、前記第2のシートの記録層を貼り合わせることで、前記第1のシートに前記第2のシートを重ねた第3のシートを得る貼合工程と、を有する複数の記録層を備えた多層構造を有する光情報記録媒体を製造するための多層構造シートの製造方法であって、前記第2のシートを加熱する加熱工程を有することを特徴とする多層構造シートの製造方法。第1の剥離シート上に粘着剤層を形成して第1のシートを得る粘着剤層形成工程と、第2の剥離シート上、または、第2の剥離シート上に形成された剥離補助層上に高分子を含有する記録層を形成して第2のシートを得る記録層形成工程と、前記第1のシートの粘着剤層上に、前記第2のシートの記録層を貼り合わせることで、前記第1のシートに前記第2のシートを重ねた第3のシートを得る貼合工程と、を有する複数の記録層を備えた多層構造を有する光情報記録媒体を製造するための多層構造シートの製造方法であって、前記第3のシートを加熱する加熱工程を有することを特徴とする多層構造シートの製造方法。前記加熱工程中に、前記第2の剥離シートを取り除く剥離工程をさらに有することを特徴とする請求項2に記載の多層構造シートの製造方法。前記加熱工程の後、加熱された前記第2のシートを、室温より低い温度で冷却する冷却工程をさらに有していることを特徴とする請求項1に記載の多層構造シートの製造方法。前記加熱工程の後、加熱された前記第3のシートを、室温より低い温度で冷却する冷却工程をさらに有していることを特徴とする請求項2に記載の多層構造シートの製造方法。請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の多層構造シートの製造方法によって製造された多層構造シートを用いて製造されたことを特徴とする光情報記録媒体。しかしながら、特許文献2の多層構造シートであっても、記録層の材質によっては、剥離フィルムを剥離したときに、記録層にひび割れが生じることがあった。そこで、本発明は、記録層にひび割れが生じにくい多層構造シートの製造方法および光情報記録媒体を提供することを目的とする。前記した課題を解決するための本発明は、第1の剥離シート上に粘着剤層を形成して第1のシートを得る粘着剤層形成工程と、第2の剥離シート上、または、第2の剥離シート上に形成された剥離補助層上に高分子を含有する記録層を形成して第2のシートを得る記録層形成工程と、前記第1のシートの粘着剤層上に、前記第2のシートの記録層を貼り合わせることで、前記第1のシートに前記第2のシートを重ねた第3のシートを得る貼合工程と、を有する複数の記録層を備えた多層構造を有する光情報記録媒体を製造するための多層構造シートの製造方法であって、前記第2のシートを加熱する加熱工程を有することを特徴とする。また、前記した課題を解決するための本発明は、第1の剥離シート上に粘着剤層を形成して第1のシートを得る粘着剤層形成工程と、第2の剥離シート上、または、第2の剥離シート上に形成された剥離補助層上に高分子を含有する記録層を形成して第2のシートを得る記録層形成工程と、前記第1のシートの粘着剤層上に、前記第2のシートの記録層を貼り合わせることで、前記第1のシートに前記第2のシートを重ねた第3のシートを得る貼合工程と、を有する複数の記録層を備えた多層構造を有する光情報記録媒体を製造するための多層構造シートの製造方法であって、前記第3のシートを加熱する加熱工程を有することを特徴としてもよい。これらのような構成によると、第3のシートから第1の剥離シートまたは第2の剥離シートを取り除く際に、記録層にひび割れが生じにくい。そして、前記した第3のシートを加熱する加熱工程を有する多層構造シートの製造方法においては、前記加熱工程中に、前記第2の剥離シートを取り除く剥離工程をさらに有していてもよい。また、前記した第2のシートを加熱する加熱工程を有する多層構造シートの製造方法においては、前記加熱工程の後、加熱された前記第2のシートを、室温より低い温度で冷却する冷却工程をさらに有しているのが望ましい。このような構成によると、第2のシートから第2の剥離シートを取り除く際に、より記録層にひび割れが生じにくい。そして、前記した第3のシートを加熱する加熱工程を有する多層構造シートの製造方法においては、前記加熱工程の後、加熱された前記第3のシートを、室温より低い温度で冷却する冷却工程をさらに有しているのが望ましい。このような構成によると、第3のシートから第1の剥離シートまたは第2の剥離シートを取り除く際に、より記録層にひび割れが生じにくい。また、前記した課題を解決するための本発明は、上記した多層構造シートの製造方法によって製造された多層構造シートを用いて製造されたことを特徴とする光情報記録媒体である。本発明によれば、記録層を加熱することで、第1の剥離シートまたは第2の剥離シートを取り除く際に、記録層にひび割れが生じにくい。[第1実施形態]次に、本発明の第1実施形態について、図面を参照しながら説明する。図1に示すように、本発明の第1実施形態に係る光情報記録媒体10は、基板11と、複数の記録層14と、複数の中間層15と、カバー層16とを備えてなる。基板11は、支持板12とサーボ信号層13とから構成されている。支持板12は、記録層14などを支持するための支持体であり、一例としてポリカーボネートの円板などからなる。支持板12の材質や厚さは特に限定されない。サーボ信号層13は、記録層14および中間層15を支持板12に保持させるための粘着性または接着性の樹脂材料からなり、支持板12側の面に予め凹凸または屈折率の変化によりサーボ信号が記録された層である。ここでのサーボ信号は、記録時および再生時のフォーカスの基準面であることを記録再生装置が認識できるように予め設定された信号である。所定の記録層14に焦点を合わせる場合には、この基準面からの距離や、界面の数を考慮して焦点を制御する。また、記録時および再生時に円周方向に並んだ記録スポットのトラックに正確にレーザ光を照射できるようにトラッキング用のサーボ信号または溝を設けておくとよい。なお、サーボ信号層13の有無は任意である。記録層14は、情報が光学的に記録される感光材料からなる層であり、本実施形態においては、高分子バインダーと、当該高分子バインダーに分散された色素とを有してなる。記録層14は、記録光を照射すると、色素が記録光を吸収して発生する熱により高分子バインダーが変形し、中間層15との界面18に、中間層15に向かう凸形状が形成されることで情報が記録される。より詳しくは、後述するように、中央が記録層14から中間層15に向かうように凸形状となり、この凸形状の周囲が、中間層15から記録層14に向かうように凹形状記録層14を基準に見てが形成される。このため、記録層14は、従来の高分子バインダーと色素を含む記録層に比較して厚く形成されており、一層の記録層14は、50nm~20μm、望ましくは100nm~15μm、より望ましくは200nm~10μmで形成されている。厚さが50nmより小さい場合には、公知の技術のように、記録層14と中間層15の界面18が記録層14を基準に見て凹形状に変形するが、厚さが50nm以上であることで、記録した箇所の中央が凸となるように変形する。記録層14は、例えば、2~100層程度設けられる。光情報記録媒体10の記憶容量を大きくするため、記録層14は多い方が望ましく、例えば10層以上であるのが望ましい。また、記録層14は、記録の前後において、屈折率が変化してもよいし、変化しなくてもよい。記録層14は、記録光に対する吸収率1光子吸収率が1層当たり5以下であるのが望ましい。また、この吸収率は2以下であるのがより望ましく、1以下であるのがさらに好ましい。例えば、最も奥側の記録層14に到達する記録光の強度が照射した記録光の強度の50以上であることを条件とすると、30層の記録層を実現するためには、記録層1層当たりの吸収率が2以下である必要があり、50層の記録層を実現するためには、記録層1層当たりの吸収率が1以下である必要があるからである。また、吸収率が高いと、記録層14を加熱しすぎることで、界面18に凸形状を形成しにくくなるからである。記録層14の形成方法は、特に限定されないが、色素材料と高分子バインダーを溶媒に溶解させた液をスピンコートやブレードコートによりして形成することができる。このときの溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、メチルエチルケトンMEK、アセトン、メチルイソブチルケトンMIBK、トルエン、ヘキサンなどを用いることができる。記録層14に用いる高分子バインダーとしては、ポリ酢酸ビニルPVAc、ポリメチルメタクリレートPMMA、ポリエチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリベンジルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリカーボネートPC、ポリスチレンPS、ポリ塩化ビニルPVC、ポリビニルアルコールPVA、ポリ安息香酸ビニル、ポリピバル酸ビニル、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレートなどを用いることができる。記録層14に用いる、上記記録光を吸収する色素としては、例えば、ヒートモード型記録材料として従来用いられていた色素1光子吸収色素を用いることができる。例えば、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、アゾ金属錯体化合物、メチン色素シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素を用いることができる。また、多層の記録層を有する記録媒体において記録再生時における隣接記録層への影響を最小限にするためには、前記記録光を吸収する色素として、多光子吸収色素を含むことが望ましく、多光子吸収色素は、例えば、読出光の波長に線形吸収帯を持たない2光子吸収化合物であることが好ましい。2光子吸収化合物としては、読出光の波長に線形吸収帯を持たないものであれば、特に限定されないが、例えば、下記一般式1で表される構造を有する化合物が挙げられる。一般式1中、XおよびYはハメットのシグマパラ値σp値が共にゼロ以上の値を有する置換基を表し、同一でもそれぞれ異なってもよく、nは1~4の整数を表し、Rは置換基を表し、同一でもそれぞれ異なってもよく、mは0~4の整数を表す。一般式1中、XおよびYはハメット式におけるσp値が正の値を取るもの、所謂電子吸引性の基を指し、好ましくは例えばトリフルオロメチル基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、などが挙げられ、より好ましくはトリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、アシルオキシ基、またはアルコキシカルボニル基であり、最も好ましくはシアノ基、ベンゾイル基である。これらの置換基のうち、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、およびアルコキシカルボニル基は、溶媒への溶解性の付与等の他、様々な目的で、更に置換基を有してもよく、置換基としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、などが挙げられる。nは、より好ましくは2または3であり、最も好ましくは2である。nが5以上になるほど、線形吸収が長波長側に出てくるようになり、700nmよりも短波長の領域の記録光を用いての非共鳴2光子吸収記録ができなくなる。Rは置換基を表し、置換基としては、特に限定されず、具体的には、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、などが挙げられる。一般式1で表される構造を有する化合物の具体例としては、特に限定されないが、下記の化学構造式D-1~D-21の化合物を使用することができる。中間層15は、複数の記録層14の間、言い換えると、各記録層14の上下に隣接して設けられている。中間層15は、複数の記録層14の間で層間クロストーク隣接する記録層14間の信号の混じり合いが生じないように、記録層14同士の間隔を所定量空けるために設けられている。このため、中間層15の厚さは、3μm以上であり、一例として、本実施形態では10μmである。中間層15は、記録時および再生時のレーザ光の照射により変化しない材料が用いられる。また、中間層15は、記録光や読出光、再生光読出光の照射により発生する再生信号を含む光の損失を最小限にするため、記録光や読出光、再生光に対し、透明な樹脂からなることが望ましい。ここでの透明とは、吸収率が1以下であることをいう。また、中間層15は、粘着剤層であり、他の面への貼り付けを可能にする粘着性を有し、記録層14よりも軟らかいものである。例えば、中間層15は、そのガラス転位温度が記録層14のガラス転位温度よりも低いものである。このような構成は、記録層14の材料として用いることができる高分子バインダー樹脂や、中間層15の材料として用いることができる樹脂を適切に選択することにより実現することができる。このように、中間層15を記録層14よりも軟らかい構成とすることで、記録層14を記録光により加熱して膨脹させたときに、中間層15が変形しやすく、記録層14との界面18の変形を容易に起こさせることができる。中間層15は、記録層14の屈折率と異なる屈折率を有している。これにより、記録層14と中間層15との界面18においては、屈折率の急変による読出光の反射が可能となっている。中間層15は、記録層14と屈折率の差が適度に設けられているのがよい。具体的には、記録層14の屈折率をn1、中間層15の屈折率をn2として、0.001<n2-n1/n2n12<0.04を満たすのが望ましい。n2-n1/n2n12、つまり、反射率が0.001より大きいことで、界面18での反射光量を大きくして、情報の再生時に、S/N比を大きくすることができる。また、反射率が0.04より小さいことで、界面18での反射光量を適度な大きさに抑えて、記録時および再生時において記録再生光が大きな減衰を受けることなく深い記録層14に到達するのを可能にする。これにより、記録層14を多数設けて高容量化を図ることが可能となる。中間層15の屈折率n2は、一例としては、1.460である。記録層14の屈折率n1が1.565であるとすると、n2-n1/n2n12は、0.001205であり、前記した不等式を満たす。記録層14および中間層15の屈折率を調整するには、記録層14および中間層15に用いる材料の配合を調整するとよい。具体的には、記録層14の材料には、2光子吸収化合物などの色素が高分子バインダー中に混入されているので、色素または高分子バインダーの屈折率を適切に選択し、それぞれの配合比率を変更することによって屈折率を任意に調整することができる。また、高分子バインダーは、類似の基本構造を有していても重合度が異なると屈折率も変化するため、重合度が異なる高分子バインダーを用いたり、高分子バインダーの重合度を調整したりすることでも屈折率の調整が可能である。さらに、複数の高分子バインダーを配合することで調整することも可能である。また、屈折率調整剤無機微粒子等を添加して屈折率を調整することも可能である。中間層15の屈折率を調整する場合、中間層15の材料として用いることができる樹脂などのポリマー材料の重合度を調整することで、屈折率を調整することができる。また、中間層15として使用可能な材料を任意に配合して屈折率を調整したり、屈折率調整剤無機微粒子等を添加して調整したりすることも可能である。カバー層16は、記録層14および中間層15を保護するために設けられる層であり、記録再生光が透過可能な材料からなる。カバー層16は、数十μm~数mmの適宜な厚さで設けられる。以上のような光情報記録媒体10に、情報を記録再生する方法について説明する。所望の記録層14に情報を記録するとき、図2に示すように、その記録層14に、記録すべき情報に応じて出力が変調されたレーザ光記録光RBを照射する。記録層14が、多光子吸収化合物を記録色素として有する場合、このレーザ光には、ピークパワーを大きくできるパルスレーザ光を用いるとよい。そして、記録光RBの焦点の位置は、特に限定されないが、一例として、界面18付近とすることができる。記録光RBを照射すると、図2に示すように、記録光RBを照射した箇所の中心が記録層14から中間層15に向けて凸形状となる記録スポットMピットが形成される。記録スポットMは、詳細には、中央が凸部M1となり、この凸部M1の周囲が記録層14に向かうリング状の凹部M2となっている。凹部M2の最も深い部分の界面18変形前の界面18からの距離は、凸部M1の頂点の界面18変形前の界面18からの距離よりも小さい。すなわち、記録スポットMは、全体としては、およそ凸形状ということができる。この中央が凸形状となる記録スポットMの形成原理は明らかではないが、公知の記録方法として知られている、照射箇所の中央が凹形状となる記録方法における、凹形状の形成原理これも、推測として論じられているとの比較から、次のように推察される。まず、公知の記録方法についてみると、J.Appl.Phys623,1August1987によれば、記録光を記録材料に照射すると、図4aに示すように、記録材料の温度上昇により記録材料記録層14が膨脹する斜線部分は、加熱された範囲を示す。そして、図4bに示すように、膨脹した部分が表面張力により周囲に流出する。その後、温度が低下すると、図4cに示すように、膨脹していた記録材料が収縮して、照射箇所の周囲に流出した部分は、基準面記録層14の上面よりも高い位置に記録材料が残って凸形状となるが、中央部分は、材料の流出により基準面よりも低くなって凹形状となる。一方、本実施形態の光情報記録媒体では、記録光RBを照射すると、記録層14が熱膨張して、公知の記録方法と同様、図4aのように記録層14が突出する。しかし、本実施形態の場合、記録層14が比較的厚いため、記録層14の表面付近の粘度は公知の技術ほど低くならず、図4bの流出が起こらない。そのため、温度が下がることにより、膨脹した部分が収縮すると、図4aの形状から図2の形状のように変形して、中央に凸部M1が残り、凸部M1の周囲に凹部M2ができると考えられる。このようにして形成された記録スポットMは、図3に示すように連続波レーザで読出光OBを照射すると、記録層14の屈折率と第1中間層15Aの屈折率に差があることで、記録スポットMの周囲の前側界面18における反射光の強度と、記録スポットMにおける反射光の強度に差が生じるので、この変調により記録スポットMを検出することができる。このような光学的な検出のため、凸部M1は、変形する前の界面18に対して1~300nm程度突出しているのが望ましい。本実施形態においては、記録スポットMは、凸部M1の周囲に凹部M2が形成されているので、記録スポットMを読み取るための読出光OBを記録スポットMに当てると、凸部M1のみが有る場合に比較して、記録スポットMによる反射光の強度分布は凸部M1の中央からの距離に応じて急激に変化すると考えられ、高い変調度で読み取ることが可能である。なお、本発明の光情報記録媒体は、記録層14を凸形状に変形させて情報を記録するものでもよいし、凹形状に変形させて情報を記録するものでもよい。記録層14に記録した情報を消去する場合、記録層14を高分子バインダーのガラス転移温度付近の温度、望ましくは、ガラス転移点より高い温度に加熱することで、高分子バインダーの流動性が向上し、表面張力により界面18の変形がなくなって元の平面に戻ることで、その記録層14に記録された情報を消去することができる。このように情報を消去することで、記録層14への再度の記録繰り返し記録が可能である。この加熱の際には、記録層14に焦点を合わせるように連続波レーザを照射する方法を用いることができる。連続波レーザで加熱を行うことにより、記録層14中で連続した領域の情報をムラなく消去することが可能である。この連続波レーザは、情報の再生に用いるレーザを用いてもよいし、別のレーザを用いてもよい。いずれの場合にも、1光子吸収が可能な波長の光を発するレーザを用いるのが望ましい。また、記録層14の加熱により情報を消去する際には、光情報記録媒体10の全体を高分子バインダーのガラス転移温度より高い温度に加熱することで、すべての記録層14に記録された情報を一度に消去することができる。これにより、記録層14が有する色素の種類にかかわらず、簡易に光情報記録媒体の全体の情報を消去して初期化することができる。また、光情報記録媒体の廃棄の際にも、簡易に情報を抹消することができる。以上のように、本実施形態の光情報記録媒体10においては、界面18に、記録層14から中間層15に向かう凸形状による記録スポットMを形成して情報を記録することができる。この記録スポットMを形成するには、従来の凹形状を形成する場合のように、記録層14に高い流動性を与える必要がないため、その分、高感度で記録することができる。以上に本実施形態に係る光情報記録媒体10について説明したが、光情報記録媒体は、前記した実施形態に限定されることなく適宜変形して実施することが可能である。前記実施形態では、記録層14は、高分子バインダーと、高分子バインダーに分散された色素とを有していたが、本発明はこれに限定されず、記録層は、色素が結合された高分子を有してもよい。具体的には、記録層14は、下記の一般式2で示す構造を有した高分子を含有していてもよい。一般式2中、Yはハメットのシグマパラ値σp値が共にゼロ以上の値を有する置換基を表し、Xも同種の置換基を表す。XおよびYは同一種でもそれぞれ異なってもよく、nは1~4の整数を表し、R1、R2、R3は置換基を表し、同一種でもそれぞれ異なってもよく、lは1以上、mは0~4の整数を表す。以上のような光情報記録媒体10は、図5に示すような多層構造シート100を用いて製造することができる。多層構造シート100は、第1の剥離シートS1、中間層15、記録層14および第2の剥離シートS2を有している。具体的に、多層構造シート100は、中間層15と記録層14の2層構造を第1の剥離シートS1と第2の剥離シートS2で挟んだ構造をしている。第1の剥離シートS1と第2の剥離シートS2は、剥離剤が塗布されている面が中間層15と記録層14側に向いている。上記のような多層構造シート100は、次のような方法で製造することができる。まず、図6aに示すように、第1の剥離シートS1の剥離剤が塗布されている側の面上に中間層15を形成して、第1のシート110を得る粘着剤層形成工程。また、図6bに示すように、第2の剥離シートS2の剥離剤が塗布されている側の面上に、記録層14を形成して第2のシート120を得る記録層形成工程。ここで、第1の剥離シートS1には、第1の剥離シートS1を剥離するときの力が第2の剥離シートS2を剥離するときの力よりも弱くなるような剥離性の高い剥離剤が塗布されている。なお、粘着剤層形成工程と記録層形成工程とは、順序を問わない。各層の形成方法は、特に限定されないが、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、バーコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などの塗布する方法を用いることができる。次に、第2のシート120を、オーブンなどに入れて加熱する加熱工程。この加熱工程における加熱は、予め実験によって求めた最適な温度および加熱時間で行う。なお、製造の効率を考慮すれば、加熱時間は、本発明の効果を得るために必要な最短の時間であるのがよい。また、加熱方法は、オーブンを使用するのに限られず、各層や各剥離シートに悪影響が出ない方法であれば、どの様な方法でもよい。その後、加熱工程において加熱した第2のシート120を室温下で冷却する。そして、図6cに示すように、この加熱冷却した第2のシート120の記録層14を、第1のシート110の中間層15上に、貼り合わせることで、第1のシート110に第2のシートを重ねた、図5に示すような多層構造シート第3のシート100を得る貼合工程。このようにして得られた多層構造シート100は、ロール状に巻かれて保管され、使用するときには、必要な分だけ引き出される。以上のような本実施形態の多層構造シート100の製造方法によれば、製造の工程で記録層14を加熱することで、多層構造シート100から第1の剥離シートS1または第2の剥離シートS2を取り除く際に、記録層14にひび割れが生じにくくなる。これは、加熱されることで、記録層14が軟化するためであると考えられる。また、加熱後、第1の剥離シートS1または第2の剥離シートS2を取り除くときまでに冷却されていることで、一度軟化した記録層14の材料が収縮し、圧縮の残留応力が生じるためであるとも考えられる。なお、前記実施形態では、加熱工程の後、第2のシート120を室温で冷却していたが、冷凍冷蔵庫等に入れることで、加熱された第2のシート120を室温より低い温度で冷却してもよい冷却工程。このように、加熱された第2のシート120を、室温より低い温度で冷却することで、第2のシート120から第2の剥離シートS2を取り除く際に、より記録層14にひび割れが生じにくくなる。次に、多層構造シート100を用いた光情報記録媒体10の製造方法の一例について説明する。まず、ロール状に巻かれた図5に示す多層構造シート100を引き出し、基板11の形状に合わせて打ち抜く。そして、図6dに示すように、この打ち抜かれた多層構造シート100から第1の剥離シートS1を取り除き、中間層15を露出させて、第4のシート130を得る。次に、図6eに示すように、第4のシート130の露出した中間層15を、基板11の上に貼る。そして、図6fに示すように、第2の剥離シートS2を取り除く。これにより、基板11上に、中間層15と記録層14が1層ずつ形成される。そして、さらに基板11上に設けられている最上層の記録層14にさらに第4のシート130を重ねる工程を繰り返し行う。最後に、最も上側の記録層14の上にカバー層16を形成することで、図1に示すような、複数の記録層14を備えた多層構造を有する光情報記録媒体10を製造することができる。この製造方法によれば、製造工程の中で、多層構造シート100から第1の剥離シートS1および第2の剥離シートS2を取り除いたときに、記録層14にひび割れが生じにくい。[第2実施形態]次に、本発明の第2実施形態について、図面を参照しながら説明する。第2実施形態は、中間層として第1中間層15Aと第2中間層15Bを有している形態である。なお、本実施形態では、前記した第1実施形態と同様の構成要素については、同一符号を付して、その説明を省略することとする。図7に示すように、光情報記録媒体10’は、基板11と、複数の記録層14と、複数の中間層15’第1中間層15Aおよび第2中間層15Bと、カバー層16とを備えてなる。1つ1層の中間層15’は、第1中間層15Aと、当該第1中間層15Aの図7における下側に隣接する第2中間層15Bとを備えている。第1中間層15Aは、記録層14に対し記録光の入射方向における下流側に隣接しており、第2中間層15Bは、記録層14に対し上流側に隣接している。第1中間層15Aは、第1実施形態の中間層15と同様な粘着剤層である。第2中間層15Bは、後述する多層構造シート200を用いて光情報記録媒体10’を製造する際に、記録層14に生じるひび割れを低減するために設けられた剥離補助層である。第2中間層15Bの材料としては、第1中間層15Aよりも硬い、つまり、ガラス転移温度が高い熱可塑性樹脂やエネルギー硬化型樹脂が好ましい。エネルギー硬化樹脂を用いる場合、材料を適度な厚さに塗布しやすく、また、すぐに固めることができるので、後述するような多層構造シート200の製造を容易にすることができる。また、エネルギー硬化樹脂を用いる場合には、紫外線硬化樹脂を採用するのが望ましい。このように、第2中間層15Bを紫外線硬化樹脂で形成することによって、扱いが容易な紫外線を当てることで、簡単に第2中間層15Bを硬化させることができるので、大面積の多層構造シートを製造するのに有利となる。本実施形態において、第2中間層15Bは、記録層14と同等の硬さ、または、記録層14よりも硬い構成とすることができる。具体的には、例えば、第2中間層15Bは、ガラス転位温度が記録層14のガラス転位温度以上のものとすることができる。このような構成は、記録層14の材料として用いることができる樹脂や、第2中間層15Bの材料として用いることができる樹脂を適切に選択することにより実現することができる。そして、第2中間層15Bは、記録層14の屈折率と略同一である屈折率を有している。ここで、記録層14と第2中間層15Bの界面18Bでの反射率は、記録層14と第1中間層15Aの界面18Aでの反射率よりも十分に小さいことが望ましい。以上のような光情報記録媒体10’は、図8に示すような多層構造シート200を用いて製造することができる。多層構造シート200は、第1の剥離シートS1、第2の剥離シートS2、記録層14、第1中間層15Aおよび第2中間層15Bを有している。具体的に、多層構造シート200は、記録層14を第1中間層15Aと第2中間層15Bで挟んだ3層構造を第1の剥離シートS1と第2の剥離シートS2で挟んだ構造を有している。第1の剥離シートS1は、剥離剤が塗布されている面が第1中間層15Aに向いており、第2の剥離シートS2は、剥離剤が塗布されている面が第2中間層15Bに向いている。次に、多層構造シート200の製造方法と、多層構造シート200を用いた光情報記録媒体10’の製造方法について説明する。まず、図9aに示すように、第1の剥離シートS1の剥離剤が塗布されている側の面上に第1中間層15Aを形成して、第1のシート210を得る粘着剤層形成工程。また、図9bに示すように、第2の剥離シートS2の剥離剤が塗布されている側の面上に、第2中間層15Bを形成する。さらに、図9cに示すように、第2の剥離シートS2上に形成された第2中間層15Bの上に、記録層14を形成し、第2のシート220を得る記録層形成工程。そして、第1のシート210の第1中間層15A上に、第2のシート220の記録層14を貼り合わせることで、第1のシート210に第2のシート220を重ねた、図8に示すような多層構造シート第3のシート200を得る貼合工程。次に、多層構造シート200を、オーブンなどに入れて加熱する加熱工程。そして、この加熱工程中に、図10aに示すように、第2の剥離シートS2を取り除き剥離工程、第2中間層15Bが露出した第4のシート230多層構造シートを得る。そして、第4のシート230を、室温下で冷却した後、基板11の形状に合わせて打ち抜く。次に、打ち抜かれた第4のシート230を、図10bに示すように、第1ステージT1上に、第1の剥離シートS1を上にして載せ、減圧により、第1ステージT1に吸着させる。この状態で、図10cに示すように、第4のシート230から第1の剥離シートS1を取り除く。そして、図10dに示すように、減圧により第2ステージT2に吸着された基板11と、第1ステージT1上の第4のシート230を重ね合わせた後、第1ステージT1の下に設けられているローラRを転がして、第1中間層15Aと基板11を圧着させる。この後、第1ステージT1側の減圧を解除することにより、第2中間層15Bを第1ステージT1から離す。そして、この第2中間層15Bに対し、上記した方法と同様の方法で第4のシート230を貼り重ねていく。最後に、最上層に位置する第2中間層15Bの上に、カバー層16を形成することで、光情報記録媒体10’が得られる。以上のような多層構造シート200の製造方法であっても、第1実施形態と同様に、多層構造シート200から第2の剥離シートS2を取り除いた際に、記録層14にひび割れが生じにくくなる。これは、記録層14が加熱されて軟化している状態で、第2の剥離シートS2を取り除くためであると考えられる。また、多層構造シート200から第1の剥離シートS1を取り除いた際にも、第1実施形態と同様に、記録層14にひび割れが生じにくい。そして、本実施形態の製造方法によれば、第2の剥離シートS2と記録層14の間には、第2中間層15Bが設けられているので、第2の剥離シートS2を取り除く際に、さらに記録層14にひび割れが生じにくい。なお、前記実施形態では、加熱工程中に、多層構造シート200から第2の剥離シートS2を取り除いていたが、加熱工程後、多層構造シート200を室温または室温以下で冷却してから、多層構造シート200から第2の剥離シートS2を取り除いてもよい。次に、異なる製造方法ごとに記録層のひび割れが生じるか否かを確認した実験について説明する。<実験1>1.材料1記録層材料記録層材料としては、高分子バインダーに、色素を分散させたものを用いた。色素下記化合物A高分子バインダーポリメチルメタクリレートPMMAシグマアルドリッチジャパン株式会社製2粘着剤層材料粘着剤層材料として、DA-3010日立化成工業株式会社製を用いた。3剥離シート剥離シートとして、クリーンセパHY-US20東山フイルム株式会社製を用いた。2.多層構造シートの作製方法各実施例における、多層構造シートの作製方法は以下の通りである。1記録層溶液の作製溶媒2-ブタノン和光純薬工業株式会社製と記録層材料を混合し、1時間撹拌溶解することで、記録層溶液を作製した。2多層構造シートの作製厚さ1mm、直径12cmのガラス基板をスピンコーターミカサ株式会社製に設置し、その上に、直径12cmに打ち抜いた剥離シートを、剥離剤が塗布されている面を上にして固定した。次に、剥離シート上に、記録層溶液1mLを塗布し、スピンコーターを600rpmにて1分間回転させた。その後、記録層を乾燥させ、記録層を形成した。これにより得られたシートを、所定温度図11に示す加熱温度を参照に保ったオーブンの中に30分間入れて加熱した後、オーブンから取り出し、室温25°Cにて30分間冷却した。なお、図11において、加熱なしと記載されているものに関しては、加熱を行わず、冷却なしと記載されているものに関しては、冷却を行っていない。また、新たに用意した剥離シートの剥離剤が塗布されている面に、粘着剤層材料を塗布し、剥離シート上に粘着剤層を形成した。そして、得られたシートを直径12cmに打ち抜いた。そして、上記のように作製した2つのシートを、記録層と粘着剤層が重なり合うように貼り合わせた。3.評価方法[記録層材料のガラス転移温度測定]多層構造シートの加熱温度の目安とするために、記録層材料のガラス転移温度Tgを測定した。DSC6200RSeikoInstrumentsInc.製を用いてSUS製密閉セルに記録層材料を密閉し、-100°Cから100°Cまでの範囲において、10°C/分で昇温して1回目のガラス転移温度を求めた。さらに100°Cから-100°Cまで50°C/分で降温した後に-100°Cから100°Cまでの範囲において10°C/分で昇温して2回目のガラス転移温度を求めた。この点をガラス転移温度とした。[記録層のひび割れの観察]室温下において記録層に付着している剥離シートを取り除き、露出した記録層表面を、共焦点レーザー顕微鏡OLS-3000島津製作所製を用いて観察した。なお、剥離シートは、記録層から剥離した端部を、約180°折り返して、多層構造シートの表面に沿って引っ張って取り除いた。4.結果[記録層材料のガラス転移温度]実験1で用いた記録層材料のガラス転移温度は、62°Cであった。[記録層のひび割れ]図11に示すように、記録層を様々な温度で加熱したところ、加熱温度が50°C以下である場合比較例1-1~1-3、記録層にひび割れが生じていたが、加熱温度が60°C以上である場合実施例1-1~1-4、記録層にひび割れが生じていないことが確認できた。これにより、一定以上の温度で記録層を加熱することで、剥離シートを取り除いた際に、記録層にひび割れが生じるのを防止することができることがわかった。<実験2>実験2では、実験1とは異なる記録層材料を用いて多層構造シートを作製し、色素が結合された高分子を記録層材料として用いても、記録層を加熱することで記録層のひび割れを防止することができるかどうかを検討した。1.材料1記録層材料記録層材料としては、下記の化合物Bを用いた。2粘着剤層材料、剥離シート粘着剤層材料および剥離シートは、実験1と同じものを用いた。2.多層構造シートの作製方法各実施例における、多層構造シートの作製方法は以下の通りである。1記録層溶液の作製溶媒2-ブタノン和光純薬工業株式会社製と記録層材料を混合し、1時間撹拌溶解させて、記録層溶液を作製した。2多層構造シートの作製各実施例における多層構造シートの作製は、実験1における多層構造シートの作製方法と同様の方法で行った。3.評価方法[記録層材料のガラス転移温度測定]記録層材料のガラス転移温度測定は、実験1における評価方法と同様の方法で行った。[記録層のひび割れの観察]各実施例および各比較例における記録層のひび割れの観察は、実験1における評価方法と同様の方法で行った。なお、実施例2-2においては、記録層の加熱後、オーブンの中に入れた状態で剥離シートを取り除いた。4.結果[記録層材料のガラス転移温度]実験2で用いた記録層材料のガラス転移温度は、42°Cであった。[記録層のひび割れ]図11に示すように、記録層を様々な温度で加熱したところ、加熱温度が60°C以下である場合比較例2-1~2-4、記録層にひび割れが生じていたが、加熱温度が70°C以上である場合実施例2-1~2-4、記録層にひび割れが生じていないことが確認できた。これにより、色素が結合された高分子を記録層材料を用いても、一定以上の温度で記録層を加熱することで、剥離シートを取り除いた際に、記録層にひび割れが生じるのを防止することができることが確認できた。また、実施例2-2においては、記録層の加熱後、冷却を行わず、オーブンに入れた状態のまま剥離シートを取り除いたが、この場合においても、記録層にひび割れは生じしていなかった。これにより、記録層の加熱後には、必ずしも冷却する必要はなく、加熱中に剥離シートを取り除いてもよいことがわかった。<実験3>実験3では、記録層の加熱温度を一定にし、加熱後の冷却温度を変えた場合と、多層構造シートに剥離補助層を設けた場合とで、実験を行い、剥離シートを取り除いた際に、より記録層にひび割れが生じにくい条件について検討した。1記録層材料記録層材料としては、下記の化合物Cを用いた。2粘着剤層材料、剥離シート粘着剤層材料および剥離シートは、実験1と同じものを用いた。3剥離補助層材料剥離補助層材料としては、紫外線硬化樹脂SD-640DIC株式会社製を用いた。2.多層構造シートの作製方法各実施例における、多層構造シートの作製方法は以下の通りである。1記録層溶液の作製溶媒2-ブタノン和光純薬工業株式会社製と記録層材料を混合し、1時間撹拌溶解させて、記録層溶液を作製した。2多層構造シートの作製2-1実施例3-1実施例3-1における多層構造シートは、実験1における多層構造シートの作成方法と同様の方法で作製した。2―2実施例3-2厚さ1mm、直径12cmのガラス基板をスピンコーターミカサ株式会社製に設置し、その上に、直径12cmに打ち抜いた剥離シートを、剥離剤が塗布されている面を上にして固定した。次に、剥離シート上に、記録層溶液1mLを塗布し、スピンコーターを600rpmにて1分間回転させた。その後、記録層を乾燥させ、記録層を形成した。これにより得られたシートを、100°Cに保ったオーブンの中に30分間入れて加熱した後、オーブンから取り出し、冷凍冷蔵庫-20°C、CT-3213日本フリーザー株式会社製に入れて30分間冷却した。また、新たに用意した剥離シートの剥離剤が塗布されている面に、粘着剤層材料を塗布し、剥離シート上に粘着剤層を形成した。そして、得られたシートを直径12cmに打ち抜いた。そして、上記のように作製した2つのシートを、記録層と粘着剤層が重なり合うように貼り合わせた。2-3実施例3-3厚さ1mm、直径12cmのガラス基板をスピンコーターミカサ株式会社製に設置し、その上に、直径12cmに打ち抜いた剥離シートを、剥離剤が塗布されている面を上にして固定した。次に、剥離シート上に、剥離補助層材料を3mL滴下し、スピンコーターを2000rpmにて30秒間回転させた。その後、4.2inch-SPIRALLAMPXenonCorporation社製を用いて、1回当たり0.5秒の照射時間となる紫外線を10回照射して、剥離補助層を硬化させた。そして、硬化した剥離補助層の上に、記録層溶液1mLを塗布し、スピンコーターを600rpmにて1分間回転させた。その後、記録層を乾燥させ、記録層を形成した。これにより得られたシートを、100°Cに保ったオーブンの中に30分間入れて加熱した後、オーブンから取り出し、室温25°Cにて30分間冷却した。また、新たに用意した剥離シートの剥離剤が塗布されている面に、粘着剤層材料を塗布し、剥離シート上に粘着剤層を形成した。そして、得られたシートを直径12cmに打ち抜いた。そして、上記のように作製した2つのシートを、記録層と粘着剤層が重なり合うように貼り合わせた。2-4比較例3-1厚さ1mm、直径12cmのガラス基板をスピンコーターミカサ株式会社製に設置し、その上に、直径12cmに打ち抜いた剥離シートを、剥離剤が塗布されている面を上にして固定した。次に、剥離シート上に、剥離補助層材料を3mL滴下し、スピンコーターを2000rpmにて30秒間回転させた。その後、4.2inch-SPIRALLAMPXenonCorporation社製を用いて、1回当たり0.5秒の照射時間となる紫外線を10回照射して、剥離補助層を硬化させた。そして、硬化した剥離補助層の上に、記録層溶液1mLを塗布し、スピンコーターを600rpmにて1分間回転させた。その後、記録層を乾燥させ、記録層を形成した。また、新たに用意した剥離シートの剥離剤が塗布されている面に、粘着剤層材料を塗布し、剥離シート上に粘着剤層を形成した。そして、得られたシートを直径12cmに打ち抜いた。そして、上記のように作製した2つのシートを、記録層と粘着剤層が重なり合うように貼り合わせた。3.評価方法[記録層材料のガラス転移温度測定]記録層材料のガラス転移温度測定は、実験1における評価方法と同様の方法で行った。[記録層のひび割れの観察]各実施例および比較例における記録層のひび割れの観察は、実験1における評価方法と同様の方法で行った。なお、実施例3-3と比較例3-1においては、剥離補助層に付着している剥離シートを取り除いて、記録層のひび割れを観察した。4.結果[記録層材料のガラス転移温度]実験3で用いた記録層材料のガラス転移温度は、54°Cであった。[記録層のひび割れ]図11に示すように、実施例3-1では、記録層に付着している剥離シートを取り除いた際に、記録層に若干のひび割れが生じた。しかし、このひび割れは、数μm程度のものであり、エラー訂正可能な範囲約100μm以下であるため、光情報記録媒体として利用するのには問題のないものであった。実施例3-1では、記録層に若干のひび割れが生じていたので、実施例3-2では、加熱後の冷却温度を室温以下-20°Cに設定した。その結果、実施例3-2では、記録層に付着している剥離シートを取り除いても、記録層にひび割れが生じなかった。また、実施例3-3において、多層構造シートを、記録層を剥離補助層と粘着剤層で挟む構成とし、実施例3-1と同じ条件で加熱冷却したところ、剥離補助層に付着している剥離シートを取り除いても、記録層にひび割れが生じなかった。一方、比較例3-1では、実施例3-3と同じ構造の多層構造シートを用いたが、加熱冷却を行わずに剥離補助層に付着している剥離シートを取り除いたところ、記録層にひび割れが生じた。<記録のテスト>次に、記録層に凸形状の変形を生じさせて光情報記録媒体に記録できることを確認した実験について説明する。1.記録材料1高分子バインダー高分子バインダーとしては、ポリメタクリル酸メチル19376SIGMA-ALDRICH社製を用いた。2色素色素としては、上記した化合物Aを用いた。2.記録媒体の作製2-ブタノン和光純薬株製を溶媒とし、上記の高分子バインダーと色素を混合し、1時間撹拌して溶解させ、記録層溶液を作製した。剥離シートクリーンセパHY-US20、東山フイルム株式会社製を、幅10cm、長さ20cm程度に裁断し、平滑なガラス板の上に設置し、記録層溶液をブレードコータによって手塗りし、乾燥させて記録層を形成した。2×3cm程度の粘着剤層DA-3010、日立化成工業株式会社製をスライドガラス基板に2回貼り付け、その上に、剥離シートに形成された記録層を向かい合わせにして貼り付けた。その後、剥離シートを剥離し、さらに、粘着剤層DA-3010を記録層の上に2回貼り合わせた。最後に、カバー層としてポリカーボネートフィルムピュアエースC110、帝人化成株式会社を貼り付けた。各層の膜厚は、MINICOMELECTRONICGAGETOKYOSEIMITSUで測定したところ、下記の通りであった。スライドガラス1000μmカバー層80μm粘着剤層1枚あたり各10μm記録層1μm3.記録の試験評価方法記録用レーザとして、波長522nmのパルスレーザを用い、ピークパワー36.8W、パルス幅10μsecで、記録層と粘着剤層の界面に記録を行った。そして、カバー層側の粘着剤層を剥がした上で、下記の原子間力顕微鏡AFMにより形状測定した。原子間力顕微鏡装置ナノサーチ顕微鏡OLS-3500オリンパス社製観察条件ダイナミックモード、走査範囲10μm、走査速度1Hz高アスペクト比プローブAR5NCHR20ナノワールド社製使用4.結果原子間力顕微鏡AFMにより形状測定した結果を3次元表示したのが図12である。図12に示すように、記録層と粘着剤層の界面において、粘着剤層に向けて突出する凸形状の突起が形成されていることが確認できた。なお、本実験では、剥離シートを剥離する前に、記録層を加熱していないが、加熱の有無は記録の可否に影響はないと考えられる。"