陽極処理対象物上に所望の特性を有するマークを作成する方法であって、プログラム可能なレーザパルスパラメータと前記陽極処理対象物上に流体とを有するレーザマーキングシステムを用意し、前記流体の存在下で前記所望の特性を有する前記マークを作成することに関連付けられた特定の前記レーザパルスパラメータを決定し、前記流体が前記陽極処理アルミニウム対象物上にある間に前記決定された特定のレーザパルスパラメータを使用して前記陽極処理対象物にマークを付けるように前記レーザマーキングシステムに指示し、それによって前記所望の特性を有する前記マークを作成する、方法。前記陽極処理対象物が陽極処理アルミニウムである、請求項1に記載の方法。前記所望の特性が、大きさ、形状、場所、色、及び光学密度を含む、請求項1に記載の方法。前記レーザパルスパラメータが、パルス幅、波長、パルスの数、パルス時間形状、パルスフルエンス、スポットサイズ、スポット形状、及び焦点を含む、請求項1に記載の方法。前記流体が水である、請求項1に記載の方法。前記流体が流れとして提供される、請求項1に記載の方法。前記流体の流れが、前記流体と前記レーザパルスとの間の関係性を維持するために前記対象物に対して移動される、請求項6に記載の方法。前記陽極処理対象物を染色し、任意選択で漂白することによって前記マークが作成される、請求項1に記載の方法。前記パルス幅が約1ピコ秒から約1000ナノ秒に及ぶ、請求項4に記載の方法。前記波長が約10.6ミクロンから約355ナノメートルに及ぶ、請求項4に記載の方法。前記パルスの数が1パルスから約10000パルスに及ぶ、請求項4に記載の方法。前記パルス時間形状がガウス形である、請求項4に記載の方法。前記パルス時間形状が調整される、請求項4に記載の方法。前記パルスフルエンスが1.0×106ジュール/cm2から10.0ジュール/cm2に及ぶ、請求項4に記載の方法。前記スポットサイズが約10ミクロンから約1000ミクロンに及ぶ、請求項4に記載の方法。前記スポット形状がガウス形又は整形済みのうちの一方である、請求項4に記載の方法。前記陽極処理アルミニウム試験片の前記表面上、前記表面上方、又は前記表面下方のうちの1つで前記焦点が合わせられる、請求項4に記載の方法。前記所望の光学密度が、およそL=40、a=5、及びb=10以下である、請求項3に記載の方法。前記所望の色が、白、黒、透明、灰色、黄褐色、又は金色のうちの1つである、請求項3に記載の方法。陽極処理対象物上で所望の特性を有するマークを作り出すように適合されたレーザマーキング装置であって、レーザパルスを生成可能なレーザと、前記レーザパルスを修正し、方向付けることが可能なレーザ光学系と、前記陽極処理アルミニウム試験片を保持及び位置決め可能なステージと、前記陽極処理試験片から熱を吸収可能な流体と、前記流体が前記陽極処理試験片から前記レーザパルスによって生じる熱を吸収する間に、所定のレーザパラメータにアクセスし、前記レーザ、前記レーザ光学系、及び前記ステージと協動して、前記所定のレーザパルスパラメータに従って前記レーザパルスを生成及び方向付け、前記陽極処理対象物に当て、それによって前記所望の特性を有する前記マークを作成可能なコントローラと、を備えた、レーザマーキング装置。前記陽極処理対象物が陽極処理アルミニウムである、請求項20に記載の装置。前記所望の特性が、大きさ、形状、場所、色、及び光学密度を含む、請求項20に記載の装置。前記レーザパルスパラメータが、パルス幅、波長、パルスの数、パルス時間形状、パルスフルエンス、スポットサイズ、スポット形状、及び焦点を含む、請求項20に記載の装置。前記流体が水である、請求項20に記載の装置。前記流体が流れとして提供される、請求項20に記載の装置。前記流体の流れが、前記流体と前記レーザパルスとの間の関係性を維持するために前記対象物に対して移動される、請求項25に記載の方法。前記陽極処理アルミニウム対象物を染色し、任意選択で漂白することによって前記マークが作成される、請求項20に記載の装置。前記パルス幅が約1ピコ秒から約1000ナノ秒に及ぶ、請求項23に記載の装置。前記波長が約10.6ミクロンから約355ナノメートルに及ぶ、請求項23に記載の装置。前記パルスの数が1パルスから約10000パルスに及ぶ、請求項23に記載の装置。前記パルス時間形状がガウス形である、請求項23に記載の装置。前記パルス時間形状が調整される、請求項23に記載の装置。前記パルスフルエンスが1.0×106ジュール/cm2から10.0ジュール/cm2に及ぶ、請求項23に記載の装置。前記スポットサイズが約10ミクロンから約1000ミクロンに及ぶ、請求項23に記載の装置。前記スポット形状がガウス形又は整形済みのうちの一方である、請求項23に記載の装置。前記陽極処理アルミニウム試験片の前記表面上、前記表面上方、又は前記表面下方のうちの1つで前記焦点が合わせられる、請求項23に記載の装置。前記所望の光学密度が、およそL=40、a=5、及びb=10以下である、請求項22に記載の装置。前記所望の色が、白、黒、透明、灰色、黄褐色、又は金色のうちの1つである、請求項22に記載の装置。前記陽極処理アルミニウム対象物を染色し、選択的に漂白することによって前記マークが作成される、請求項20に記載の装置。前記レーザパラメータが、画像を形成するために変化する光学密度の所望のパターンで前記陽極処理アルミニウム対象物上に前記マークを作成するために選択される、請求項20に記載の装置。着色された陽極酸化が、前記陽極酸化を露光するためにフォトレジスト層を選択的に除去し、染色し、前記露光され、染色された陽極酸化を選択的に漂白することによって前記画像上に適用され、それによってカラー画像を作り出す、請求項20に記載の装置。本発明の態様では、陽極処理アルミニウム対象物に多様な光学密度及び色の可視マークで、永続的に、選択可能に、予測可能に、且つ繰り返し可能にマークを付ける。これらのマークがアルミニウムの表面上又は表面近くに現れ、表面とマークの双方を保護するために、陽極酸化層を実質的にそのまま残すことは好都合である。こうして作られるマークは、陽極酸化を形成する酸化物層の下のアルミニウムの表面で又は表面上で作られるため、層間マークと呼ばれる。理想的には、マークを保護するとともに、互いに隣接するマークのある領域とマークのない領域との間で機械的に接する表面を提供するために、酸化物は、マーキングの後もそのまま残る。さらに、これらのマークは、確実に且つ繰り返し可能に作り出すことができる必要があり、これは、特定の色や光学密度のマークが必要とされる場合、陽極処理アルミニウムがレーザ処理システムによって処理されるときに所望の結果を生じさせるレーザパラメータのセットが既知であることを意味している。レーザ処理システムを用いて作成されたそのようなマークが不可視であることも考えられる。この態様においては、レーザ処理システムは、通常の表示条件下では不可視であるが、他の条件下、例えば紫外線光に照射されるときには可視になるマークを作成する。盗難防止マーキングあるいはその他の特別なマークを提供するためにこれらのマークを使用することが考えられる。本発明の実施形態は、陽極処理アルミニウム対象物にマークを付けるために適合したレーザ処理システムを使用する。陽極処理アルミニウム対象物にマークを付けるように適応可能な例示的なレーザ処理システムは、オレゴン州、97229、ポートランドのエレクトロサイエンティフィックインダストリーズインコーポレーテッドによって製造されるESIMM5330マイクロマシニングシステムである。このシステムは、532nm波長に第2高調波が二倍にされ、パルス繰り返し率が30KHzで平均電力が5.7Wのダイオード励起Qスイッチ固体レーザを利用するマイクロマシニングシステムである。陽極処理アルミニウム対象物にマークを付けるように適応可能な他の例示的なレーザ処理システムは、やはりオレゴン州、97229、ポートランドのエレクトロサイエンティフィックインダストリーズインコーポレーテッドによって製造されるESIML5900マイクロマシニングシステムである。このシステムは、パルス繰り返し率が5MHzまで、約355nmUVから約1064nmIRの波長を発するように構成可能な固体ダイオード励起レーザを利用している。どちらのシステムも、本明細書に開示される方法に従って、陽極処理アルミニウム表面で確実に且つ繰り返し可能にマークを作り出すために適切なレーザ、レーザ光学系、パーツ処理装置、及び制御ソフトウェアを付加することにより適応できる。これらの変型は、所望の色及び光学密度で所望のマークを作成するために、レーザ処理システムが、適切に位置決めされ保持された陽極処理アルミニウム対象物上の所望の場所に、適切なレーザパラメータのレーザパルスを所望の速度及びピッチで方向付けることを可能にする。そのような適合システムの図が図1に示されている。図1は、本発明の実施形態に従って対象物にマークを付けるために適合したESIMM5330マイクロマシニングシステムの図を示す。この適応例は、レーザ10を含み、このレーザ10は、本発明の実施形態では、1064nm波長で動作するダイオード励起Nd:YVO4固体レーザ、つまりドイツ連邦共和国カイザースラウテルンのLumeraLaserGmbHによって製造されるモデルRapidである。オプションとして、このレーザは、任ソリッドステート高調波周波数発生器を使用して周波数を倍にして波長が532nmに下げられ、あるいは三倍にして約355nmに下げられ、それによってそれぞれ可視緑又は紫外線UVのレーザパルスが生じる。このレーザ10は、6ワットの連続電力を生じるように定格され、最大パルス繰り返し率が1000KHzである。このレーザ10は、コントローラ20と協動して1ピコ秒から1000ナノ秒の持続時間のレーザパルス12を生じさせる。これらのレーザパルス12は、ガウス形であってもよく、あるいは所望のマーキングを可能にするためにレーザ光学系14によって特別に整形又は調整されていてもよい。レーザ光学系14は、コントローラ20と協動して、対象物18の上又は近くにレーザスポット16を形成するようにレーザパルス12を方向付ける。対象物18は、コントローラ20及びレーザ光学系14と協動して複合ビーム位置決め機能を提供する運動制御要素を含むステージ22の上に固定される。複合ビーム位置決めは、ステージ22、レーザスポット16、又はそれら両方の運動によって誘発される相対的な運動を補償するために、レーザ光学系14内のステアリング要素をコントローラ20に方向付けさせることで、対象物18がレーザスポット16に対して相対運動する間に、対象物18上に形状をマークする能力である。レーザパルス12も、対象物18の上又は近くでレーザスポット16を形成するように方向付けられるので、コントローラ20と協動してレーザ光学系14によって整形される。レーザ光学系14は、レーザパルス12の空間形状を方向付け、この空間形状はガウス形であってもよく、あるいは特別に整形されていてもよい。例えば、マークが施される対象物に当てる、スポット全体で均等な放射線量を有するレーザパルス12を送る最上層の空間プロファイルを使用してもよい。このような特別に整形された空間プロファイルを、回折光学素子を使用して作成してもよい。レーザパルス12は、レーザ光学系14の電子光学素子、操作可能なミラー素子、又は検流計素子によって閉鎖されていても、あるいは方向付けられていてもよい。レーザスポット16とは、レーザパルス12によって形成されるレーザビームの焦点をいう。上述したように、レーザスポット16でのレーザエネルギーの分散は、レーザ光学系14に依存する。さらに、レーザ光学系14は、レーザスポット16の焦点深度、つまり測定平面が焦点面から離れていくにつれてどれほど速くスポットが焦点から外れるのかを制御する。コントローラ20は、焦点の深度を制御することによって、高い精度で繰り返し可能に、対象物18の表面で又は表面近くのどちらかにレーザスポット16を位置決めするためにレーザ光学系14及びステージ22を方向付けることができる。焦点を対象物の表面の上方又は下方に位置決めすることによってマークを作ることで、レーザビームは、指定された量だけ焦点がずれ、それによってレーザパルスによって照射される領域が増加し、表面でのレーザフルエンスが減少する。ビームウェストの幾何学形状は既知であるので、対象物の実際の表面の上方又は下方に正確に焦点を位置決めすることにより、スポットの大きさ及びフルエンスに対する追加の精密制御が提供される。図2は、流体の流れがない、1ナノ秒パルスよりも大きいパルスの従来技術レーザを用いて陽極処理アルミニウム30上に作成されたマークを示す顕微鏡写真である。陽極酸化は、マーク領域34に亀裂32の明確な印、すなわち好ましくない結果を示している。図3は、ピコ秒レーザで作られた同種の陽極処理アルミニウム36上の同じ色及び光学密度の亀裂のないマーク38を示している。ピコ秒レーザは、酸化物層に損傷を引き起こさずに、商業的に望ましい黒で陽極処理アルミニウム対象物にマークを付ける。商業的に受け入れられる黒は、L=40、a=5、及びb=10以下のCIE色度を有するマークとして定義される。ピコ秒レーザを使用するもう1つの優位点は、ピコ秒レーザが、従来技術のフェムト秒レーザよりもはるかに安価であり、保守の必要性がはるかに少なく、典型的にははるかに長い操作寿命を有する点にある。さらに、本発明の態様は、商業的に望ましいマークを作成するために、陽極酸化の前にアルミニウム表面のクリーニングを必要としない。本発明の実施形態は、陽極酸化された陽極処理アルミニウム上でマーキングを行う。層間マーキングが生じるためには、Eをレーザパルスエネルギー、sをレーザスポット領域とすると、F=E/sで定義されるレーザフルエンスは、Fuを基板/コーティング界面、つまりこの場合ではアルミニウム/酸化アルミニウムのレーザ修正閾値、Fsを表面層、つまり陽極酸化の損傷閾値とすると、Fu<F<Fsを満たさなくてはならない。Fu及びFsは、実験によって得られ、基板及び表面層が損傷を受け始める選択されたレーザのフルエンスを表している。10psパルスの場合、我々の実験では、Alに対するFuは、ps緑の場合~0.13J/cm2であり、psIRの場合~0.2J/cm2であり、Fsは、ps緑の場合~0.18J/cm2であり、psIRの場合~1J/cm2である。これらの値の間でレーザフルエンスを変えることにより、異なる色及び光学密度のマークが作成される。異なるパルス持続時間及びレーザ波長は、それぞれ対応するFu及びFsの値を有するであろう。与えられた組のレーザパラメータ及び陽極処理対象物に対する実際の閾値は実験で決定される。マーキング中に流体の流れを使用する優位点は、流体の流れが損傷閾値Fsを上げ、それによって対象物にマークを付けるために、より高いエネルギーを使用でき、より高いスループット及びより幅広い範囲のマーキング密度を可能にする点にある。本発明の実施形態は、レーザスポットの場所をアルミニウム対象物の表面上の位置から、アルミニウムの表面から正確な距離だけ上方又は下方にある位置に調整することによって、アルミニウム対象物の表面でのレーザフルエンスを正確に制御する。図4は、レーザパルス焦点40及びその近傍でのビームウェストの図を示す。ビームウェストは、レーザパルスが沿って移動する光学軸44上でFWHM方法によって測定されるレーザパルスの空間エネルギー分布の直径である表面42によって表される。直径48は、レーザ処理システムが表面上方の距離A-Oでレーザパルスの焦点を合わせるときの、アルミニウムの表面上のレーザパルススポットサイズを表す。直径46は、レーザ処理システムが表面下方の距離O-Bでレーザパルスの焦点を合わせるときの、アルミニウムの表面上のレーザパルススポットサイズを表す。商業的に望ましい黒に加えて、グレースケール値で対象物にマークを付けることも役立つ。図5及び図6は、本発明の実施形態によって作られる陽極処理アルミニウム上に作られる一連のグレースケールマークを示す。マークの光学密度は、背景とほぼ区別不可能なものから完全な黒にまで及ぶ。本発明の態様に従って、各グレースケールマークは、CIE比色分析値の一意のトリプレットL、a、及びbによって識別できる。本発明の態様は、命令時に、所望の各グレースケール値を、陽極処理アルミニウム上に所望のグレースケール値マークを確実に且つ繰り返し可能に生じさせるレーザパラメータのセットに関連付ける。また、裸眼には区別不可能に見え得るマークが、幅広いスペクトルの可視光以外、例えば紫外線光で照射されるときに可視になることにも留意されたい。図5は、本発明の実施形態によって陽極処理アルミニウム70上に作られる黒いマーク60、62、64、及び66を示す。これらのマーク60、62、64、及び66は、L=40、a=5、及びb=10より小さいものから、それらを商業的に望ましいマークにする完全な透明にまで及ぶCIE色度を有する。これらのマークのもう1つの特徴は、それらは損傷を受けていない陽極酸化の真下にあるので、幅広い範囲の視角で均一の外観を有するという点である。従来技術の方法を使用して作られるマークは、陽極酸化層に対する損傷のために視角に応じて外観に幅広い変動を有する傾向がある。特に、従来技術のナノ秒パルスでマーキングするとき、暗いマークを作るほど十分なレーザパルスエネルギーを表面に適用することにより、陽極酸化に、マークの外観を視角とともに変化させる損傷が引き起こされる。本発明の態様によって作られるマークは、マークがどれほど暗いのかに関係なく陽極酸化に損傷を与えないし、それらは視角とともに外観も変化させない。これらの改善されたマークは、以下のレーザパラメータで作られた。マーク60、62、64、66の光学密度は、マークがないアルミニウムに対して実質的には目立たないもの60から完全な黒62にまで及ぶ。両極端の間のグレースケール光学密度64、66は、焦点を対象物により近づけ、フルエンスを上げ、それによってより暗いマークを作成することによって作成される。アルミニウムの表面上方の焦点の高さは、最も暗い光学密度マーク62の場合のゼロから変化し、図5の右から左へ各マーク64、66に対して500ミクロン増分で増加し、最も明るいマーク60の表面の5mm上方で終了する。焦点がアルミニウムの表面の4.5から1.5mm上方に位置する状態で作成されるマーク64が、黄褐色又は金色の色を示し、焦点が1mm以下の状態で作成されるマーク62及び66が灰色又は黒に見えることに留意されたい。通常のレーザ処理許容範囲内で他のレーザパラメータを維持することに加えて、作業面からのレーザ焦点距離でこの正確な制御を維持することにより、所望の色及び光学密度のレーザマークを、陽極処理アルミニウム上に作ることができる。さらに、最も暗いマークは、L=40、a=5、及びb=10よりも小さいCIE色度を示し、それを商業的に望ましい黒のマークにする。本発明の他の態様は、グレースケール以外の色のマークとピコ秒レーザパルスのパラメータとの間の関係性を決定する。グレースケール以外の色は、2つの異なる方法で陽極処理アルミニウム上に作り出すことができる。最初に、金色の色調を一連の光学密度で作り出すことができる。この色は、アルミニウムと酸化物コーティングとの間の界面で行われる変更によって作り出される。レーザパルスパラメータを注意深く選択することにより、酸化物コーティングに損傷を与えることなく所望の金色を作り出すことができる。また、図5は、本発明の態様によって作成される金色又は黄褐色の多様な陰影も示している。陽極処理アルミニウムのレーザマーキングは、IR波長レーザパルスを使用してアルミニウムにマークを付ける本発明の態様によっても達成できる。この態様は、2つの異なった方法でアルミニウムの表面でレーザフルエンスを変えることによって、異なるグレースケール密度のマークを作成する。上述したように、アルミニウムの表面の上方又は下方に焦点を位置決めすることによって表面のフルエンスを変えることによって、グレースケールを得ることができる。グレースケールを制御する第2の方法は、所望のパターンにマークを付けるときにバイトサイズ又は行ピッチを変更することによってアルミニウムの表面での総線量を変えることである。バイトサイズを変更するとは、レーザパルスビームがアルミニウムの表面を基準にして移動する速度を調整すること、もしくはパルス繰り返し率又は両方を変更し、アルミニウム上の連続レーザパルス衝撃部位間の距離に変更を生じさせることをいう。行ピッチを変えるとは、多様な程度の重複を達成するためにマークを付けられた行間の距離を調整することをいう。図6は、マーク72のアレイ付きのアルミニウム対象物74を示す。これらのマーク72は、6列及び4行のアレイで配列されている。6列は、0一番上の行から5mm一番下の行までのアルミニウムの表面上方の焦点の6つのZ高さを表す。4行は、上部から下部までの5ミクロン、10ミクロン、20ミクロン、及び50ミクロンのピッチを表す。図6から分かるように、焦点のZ高さを変えること、及びレーザパルスのピッチを変えることで、L=40、a=5、及びb=10より小さいCIEからほぼ透明なものまで、所望の光学密度のグレースケールを予測可能に生じさせ、それによって陽極処理アルミニウム上に商業的に望ましいマークを作り出すことができる。ピコ秒レーザパルスを使用して陽極処理アルミニウムに適用され得る2つ目のマーキングは、染色された陽極酸化の漂白によって引き起こされる色の対比における改変である。顕微鏡スケールでは、陽極酸化は多孔質であり、多くの種類の染料を容易に受け入れる。再び図3に戻ると、陽極処理アルミニウムの顕微鏡写真は、表面の多孔性の性質を示している。染色された陽極処理アルミニウムにマークを付けるために使用されるレーザパルスは、波長及びパルスエネルギーに応じて、それがアルミニウムにマークを付けるときに染料を漂白し、陽極酸化を透明にし、それによって真下のアルミニウム上のマークを明らかにする。フルエンスがより高いと、陽極酸化層の下で、上述した黒、グレースケール、又はカラーでアルミニウムを同時に染料漂白し、マーキングすることが可能である。エネルギーが少ないパルスは、陽極酸化染料を部分的に漂白し、それを半透明にし、それによって下にあるアルミニウムマークを部分的に着色する。最後に、より長い波長パルスが、陽極酸化を漂白せずに商業的に望ましい黒又はグレースケールの色でアルミニウムにマークを付けることができる。図7は、可視532nmレーザパルスで作られたマーク付きの染色された陽極処理アルミニウム対象物を示す。陽極酸化の染料が、レーザパルスにさらされた領域で漂白されていることに留意されたい。図8は、IR1064nmレーザパルスで作られたマーク付きの同種の染色された陽極処理アルミニウム対象物を示す。陽極酸化がIRレーザパルスによって漂白されておらず、したがって元の酸化物の透光性を超えた下のアルミニウムの色を明らかにしていないことに留意されたい。本発明の他の態様は、ピコ秒レーザを使用して着色された陽極酸化で陽極処理アルミニウムをレーザマーキングすることに関する。陽極酸化は、通常、多孔質の表面を形成するので、アルミニウムの外観を改変する染料が導入できる。これらの染料は、不透明又は半透明のどちらかである場合があり、これにより、量が変化する入射光がアルミニウムに到達し、陽極酸化を通して反射される。図7は、陽極酸化内のピンクの染料、及び本発明の態様に従って作り出されたマーク82のアレイのある陽極処理アルミニウム対象物80を示す。色は、真下のアルミニウムが、黄褐色の陰影から灰色、及び最終的には黒の一連のレーザマーキングされた色に対して本来の銀色を示していたので、酸化物層の染料を漂白することによって作成される。これらの陰影は、アルミニウムの表面でレーザパルスのフルエンスを変えることによって作成される。4行は、10ミクロンから50ミクロンのレーザパルスのピッチを変えることを表し、列は0.0mmから5.0mmに表面からの焦点距離を変えることを表す。全てのケースのこれらのレーザパラメータは、アルミニウムの上にある酸化物の染料を漂白し、アルミニウム上のマークが透けて見えることを可能にする。レーザマークの光学密度は、透明から、L=40、a=5、及びb=10よりも小さいCIE色度にまで及ぶ。これらのマークを作成するために使用されるレーザパラメータは、表3に示される。陽極酸化染料の漂白は、周波数に依存している。図7に示されるように、532nmのレーザパルスは、最低のフルエンスであっても陽極酸化染料を漂白する。他方、IRレーザ波長は、大部分の半透明な染色の色に染料を漂白せずに、染色された陽極処理アルミニウム上にマークを作成する。図8は、IRレーザパルスで作られたマーク102付きのピンク染料の陽極処理アルミニウム対象物100を示す。マークは、半透明から黒にまで及び、焦点から表面までの距離を変更することと、ピッチを変更することの双方によってレーザフルエンスを改変することによって作られた。6列は、レーザパルスの焦点と、アルミニウムの表面との間の距離を5.5mm右からゼロ左に変更することを表している。4行は、レーザパルスピッチを10ミクロンから50ミクロンに変更することを表している。これらのマークを作成するために使用されるレーザパラメータは、表4に示される。陽極酸化染料の漂白とアルミニウムのマーキングと532nm緑レーザ波長の場合に表面切除を生じさせることとの関係性が図9に示される。パラメータが表1及び表3に示されるパラメータの範囲内にある532nm緑レーザパルスの場合、図8は、陽極酸化Fbを漂白し、陽極酸化Fuの下のアルミニウムにマークを付け、表面切除Fsするためのジュール/cm2単位のフルエンス閾値を示す。本発明の態様の場合、532nmレーザパルスは、値Fb=0.1J/cm2、Fu=0.13J/cm2、及びFs=0.18J/cm2を生じさせる。図10は、パラメータが表2及び表4に示されるパラメータの範囲内にある1064nmIRレーザパルスの場合のジュール/cm2単位のフルエンス閾値を示す。本発明の態様の場合、1064nmのレーザパルスのジュール/cm2単位のフルエンス閾値は、Fu=0.2J/cm2及びFs=1.0J/cm2である。IR波長レーザパルスは、レーザフルエンスが上にある陽極酸化に損傷を与えるほど十分に大きくなるまで陽極酸化を漂白し始めないので、陽極酸化を漂白するための閾値が入手できないことに留意されたい。Fb、Fu及びFsの正確な値が、使用される特定のレーザ及び光学系に依存することに留意されたい。それらは、マークを付けられ、後で使用するためにコントローラに記憶される所定の処理セットアップ及び対象物について実験的に決定されなければならない。本発明の他の実施形態では、適合したレーザ処理システムのプログラム可能な性質により、陽極処理アルミニウム対象物を商業的に望ましいマークでパターン状にマーキングすることが可能になる。図11に示されるように、この態様では、パターン110は、デジタル表現112に変換され、デジタル表現はリスト114に分解され、リスト114内の各エントリ116は、各場所に関連付けられた色及び光学密度とともに、1以上の場所の表現を含んでいる。リスト114はコントローラ20に記憶される。コントローラ20は、レーザパラメータをリスト114の各エントリ116に関連付け、レーザパラメータがレーザ10、光学系14、及び運動制御ステージ22にコマンドとして送信されるときに、レーザパラメータは、表面16上又はその近くでアルミニウム対象物18にレーザを当てる1以上のレーザパルス12を生成させる。これらのパルスが、所望の色及び光学密度のマークを作成する。マークが作成されるにつれて、リストに記憶される場所に従って、アルミニウム対象物18に対してレーザパルス12を移動することによって、所望の範囲の色及び光学密度のマークが、所望のパターンで陽極処理アルミニウムの表面に作られる。本発明の他の実施形態では、着色された陽極酸化が、追加の色及び光学密度を提示するために、以前にパターン化されたマークの上でパターン化される。この態様では、グレースケールパターンが、陽極処理アルミニウム対象物上に作成される。対象物は、次いでレーザパルスへの露光によって現像できるフォトレジストコーティングでコーティングされる。グレースケールパターン化され、フォトレジストコーティングされた対象物は、レーザ処理システムの中に入れられ、システムが、対象物にすでに適用されているパターンと位置合わせしてレーザパルスを適用できるように、整列される。使用されるフォトレジストは、ネガフォトレジストとして知られる種類であり、レーザ光線に露光される領域は除去され、露光されない領域は、続く処理の後も対象物上に留まる。残ったフォトレジストが、染料の導入から対象物の表面を保護する。一方、露光され、後に除去される陽極酸化の領域は、所望の色に染色される。この陽極酸化層は、光が陽極酸化を通過して下のパターンまで届き、陽極酸化を通して反射し返され、それによって選択された色及び光学密度でカラーパターンを作成できるようにするために、半透明となるように設計される。このカラー陽極酸化も、必要な場合、所望の透明度の所望の色を作成するために、本発明の他の態様によって開示される手法を使用して漂白できる。この色は、下にあるパターンの領域上に適用することもできれば、通常は10から400ミクロンの範囲で、レーザシステムの解像度の限界までポイントごとに適用することもできる。この動作は、複数のカラーオーバーレイを作成するために繰り返すことができる。本発明の一態様では、陽極酸化カラーオーバーレイは、ベイヤーパターン等の多色オーバーレイグリッドで適用される。カラーオーバーレイグリッドと連動するようにグレースケールパターンを設計することによって、耐久性のある商業的に望ましいフルカラー画像が、陽極処理アルミニウム対象物上に作成できる。図12aから図12iは、2色用にこのカラーオーバーレイを作成するために使用される一連のステップを示す。図12aで、アルミニウム対象物118は、透明な陽極酸化層120及び本発明の他の態様に従って以前に付けられたマーク122を有する。ネガフォトレジスト124が、透明な陽極酸化120の表面に付けられる。図12bで、レーザパルス126が、フォトレジスト124の領域128、130を露光する。図12cで、露光されていないレジスト134がレジスト処理の後も残るが、露光されたレジストは除去され、処理されたレジスト層134にボイド132が残る。図12dは、陽極酸化が、処理されたレジスト層134のボイド132の下の色で染色されている部分136のあるベース陽極酸化層120を示す。損傷を受けていない処理済みのレジスト134は、処理されたレジスト134が除去される132以外に、陽極酸化のどこかに色がつかないようにする。図12eは、処理されたレジストの除去に続けて以前に付けられたマーク122に関連して色のついた陽極酸化136を有するベース陽極酸化120を含む対象物118を示す。図12fは、着色部分136及び第2のレジスト層138を含むベース陽極酸化120のある対象物118を示す。図12gは領域140を露呈状態にするためにレーザパルス142によって衝突されるこの第2のレジストの層138を示す。図12hは、除去されたレジスト140の下の陽極酸化を染色するための処理、及び残りのレジスト138の除去に続くベース陽極酸化120を含む対象物118を示す。これによって、着色された領域136、144のある損傷を受けていない陽極酸化層が、以前にマークが付けられた領域122の上に残る。図12iは、アルミニウム対象物の以前に陽極酸化され、染色された部分を任意選択で漂白し、追加の所望の色又は光学密度を生じさせるために使用されている以後のレーザパルス146を示す。本発明のこの態様によって説明される処理は、グレースケールパターン上に被せられている着色パターンを生じさせ、プログラム可能であるパターン内に広範囲の耐久性のある、商業的に望ましい色及び光学密度のマークを生み出す。本発明の他の実施形態では、見たときにフルカラー画像の外観を生じる特定のパターンで、陽極処理アルミニウム対象物上にカラー陽極酸化が作成され得る。この態様では、画像を表すパターンが、ここで述べられる手法を使用して表面に付けられる。カラー染料は、これらの染料が陽極酸化のベース層の中に導入される際に使用されるパターンがグレースケール表現をフルカラーに変換するように設計されている点を除き、図12aから図12iに示される方法により導入される。かかるパターンの一例としては、カラー陽極処理フィルターの真下のグレースケールマークに関係する光学密度の単一色に融合する赤、緑、及び青の素子を目で見て、それによってフルカラー画像又はパターンの外観を作成するように、パターン内に赤、緑及び青のフィルター素子を並置するベイヤーフィルター図示せずがある。レジストは、ネガレジスト又はポジレジストであってよく、レジストを露光するパターンは、回路又は半導体の用途で使用される等のマスクによって作成されてよく、あるいは電子手段によって直接的に書き込まれてもよく、インクジェット等の技術によって直接的に付着されてもよく、レーザによって直接的に切除されていてもよい。本発明の他の実施形態では、ノズル164及び流体供給部166を含む適合レーザマーキングシステム148が図13に示されている。図13は、ビームステアリング光学系154を通るレーザビーム経路152に沿って移動するレーザパルスを発するレーザ150を含む適合レーザマーキングシステム148を示し、ビームステアリング光学系154では、全てコントローラ160の制御下で、運動ステージ162上に固定される対象物158にレーザビームが当たるように方向付けられる。ノズル164には、流体供給部166によって流体が供給され、レーザ150が励起されてレーザビーム152に沿ってパルスを発しているとき又はそれに近いときに、レーザビーム152が当てられている場所又はその近くで、流体の流れ168を対象物158に方向付ける。実施形態によっては、コントローラ160の指揮下で、ノズル164、したがって流体の流れ168を対象物158に対して移動させ、それによって、レーザビーム152が当たる対象物158上の場所の近くに流体の流れ168を方向付ける運動制御装置170にノズル164が取り付けられる。他の実施形態では、対象物158の表面をレーザ機械加工中に流体に浸すことができ、これによりレーザビーム152と連動してノズル164を移動させる必要がなくなる。流体の流れ168は、対象物の表面を冷却し、対象物158上の場所に適用できるフルエンスの量を増加させる。これによって、マークが付けられている特定の陽極処理アルミニウム対象物のためのFsが増加し、したがってアルミニウムと酸化物との間の界面でアルミニウムの表面を改変するためにより多くのフルエンスを使用できるようになるだけではなく、より大きなフルエンス、そしてより大きなスループットが可能になる。本実施形態では、流体として水が使用されるが、空気又は窒素又はアルゴン等の他の気体又は他の流体も使用できるだろう。表面上での流体の流れの目的は、陽極酸化の温度が、重大な損傷が開始する温度に達しないようにすることである。与えられたレーザパラメータに対して適切に温度を低くする流量は、実験的に決定され、使用される流体及び陽極酸化及び金属対象物の伝熱関連の特性に応じて異なる。レーザマーキングが発生している間に、どのようにして流体が対象物の表面に送達されるのかは、使用される流体による。流体の流れが、空気又は不活性ガス等の相対的に高速の流体の小さな流れである場合、流体の流れ168及びレーザビーム経路152の整列を維持するためにノズル164をビームステアリング光学系154に機械的に結合しなければならない場合がある。水などの流体の場合、対象物の表面は浸っていてもよく、それによって対象物158がレーザマーキングされている間にノズル164を動かすことを必要とせずに大きな領域に熱保護を提供する。この冷却効果によって、マークを作成するために使用されるレーザパラメータは、より強烈なカラーマーキング、より大きな陽極酸化漂白、及び熱応力によって引き起こされる陽極酸化に対する損傷を制限しながらのスループットの増加を可能にするように変化できる。図14aは、染色された陽極酸化182のある陽極処理対象物180を示す。陽極酸化の部分はレーザ漂白されており184、その結果、陽極酸化186の亀裂が生じている。使用されるレーザパラメータは、表5に示される。図14aで、染色された陽極酸化は、表5に示されるレーザパラメータを使用して漂白される。本実施形態では、高出力、レーザの安定した動作、及び良好なシステムスループットを提供するマーキング速度を生じさせるレーザパラメータが選択される。次いで、焦点高さが、レーザフルエンスに対する細かな制御を提供するために調整される。この場合、陽極酸化を漂白するために0.38J/cm2のレーザフルエンスが使用され、それは望ましくない亀裂186も生じさせる。この特定のサンプルの場合、0.13J/cm2を超える全てのフルエンスは陽極酸化の亀裂を生じさせる。したがって、この特定のサンプルの場合、陽極酸化は、陽極酸化にひびを入れることなく効率的に漂白することはできない。図14bは、やはり表5に示されるレーザパラメータを使用して陽極酸化を漂白するために、本発明の実施形態を利用した結果を示す。陽極酸化された対象物190は染色され192、一部分192は流体の存在下で漂白されている。0.25J/cm2のレーザフルエンスを使用して漂白されているにも関わらず、このサンプルでは亀裂が見えないことに留意されたい。亀裂は、レーザ漂白中に2~3mmの水で対象物を浸すことによって防がれた。本発明の実施形態によって有利に利用され得るレーザパラメータは、IRからUVまで、つまりより具体的には約10.6ミクロンから約355nmまでに及ぶ波長でレーザを使用することを含む。レーザは、1Wから100W、又はより好ましくは1Wから12Wの範囲内にある2Wで動作する。パルス持続時間は、1psから1000ns、又はより好ましくは1psから200nsに及ぶ。レーザ繰り返し率は、1KHzから100MHz、又はより好ましくは10KHzから1MHzの範囲内にある。レーザフルエンスは、約0.1×106J/cm2から100.0J/cm2、又はより具体的には1.0×102J/cm2から10.0J/cm2に及ぶ。レーザビームが、マークが付けられている対象物に関して移動する速度は、1mm/秒から10m/秒、又はより好ましくは100mm/秒から1m/秒に及ぶ。対象物の表面上のレーザパルスの隣接する行の間のピッチつまり間隔は、1ミクロンから1000ミクロン、又はより好ましくは10ミクロンから100ミクロンに及ぶ。対象物の表面で測定されるレーザパルスのスポットサイズは、10ミクロンから1000ミクロン、又はより好ましくは50ミクロンから500ミクロンに及ぶ。レーザパルスの対象物の表面に対する焦点の場所は、-10mから10mm、又はより具体的には0から5mmに及ぶ。本発明の根本的な原理から逸脱することなく、本発明の上述された実施形態の詳細に多くの変更が加えられてよいことが、当業者にとって明らかになるだろう。したがって、本発明の範囲は、以下の特許請求の範囲によって画定されるべきである。