"下記式1にて表される光反応性基含有ジカルボン酸無水物を用いて末端アミノ基を修飾させたことを特徴とするポリアミック酸、ポリアミック酸エステルまたはポリイミド。式1中、Zは光反応性基を表す。光反応性基含有ジカルボン酸無水物のZが下記式A~Gのいずれかで表される光反応性基である請求項1記載のポリアミック酸、ポリアミック酸エステルまたはポリイミド。式中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロアルキル基、炭素数2~20のシアノアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のハロアルコキシ基または炭素数2~20のシアノアルコキシ基を表し、破線が結合手を表す。光反応性基含有ジカルボン酸無水物が下記式2~5のいずれかで表される請求項1記載のポリアミック酸、ポリアミック酸エステルまたはポリイミド。請求項1~3のいずれか1項に記載のポリアミック酸、ポリアミック酸エステルおよびポリイミドから選ばれる1種または2種以上を含有する液晶配向処理剤。請求項4記載の液晶配向処理剤を用いて得られる液晶配向膜。請求項5記載の液晶配向膜を具備した液晶表示素子。式2~5のいずれかで表される光反応性基含有ジカルボン酸無水物。下記式6]式6中、Zは光反応性基を表す。で表されるヒドロキシ化合物と下記式7式中、Xは、ハロゲン原子を表す。で表される無水トリメリット酸ハライドとを、塩基の存在下で反応させることを特徴とする下記式1式1中、Zは光反応性基を表す。で表される光反応性基含有ジカルボン酸無水物の製造法。Zが下記の式A~Gのいずれかで表される請求項8記載の製造法。式中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロアルキル基、炭素数2~20のシアノアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のハロアルコキシ基または炭素数2~20のシアノアルコキシ基を表し、破線が結合手を表す。式1で表されるジカルボン酸無水物が式2~5のいずれかで表される請求項8記載の製造法。本発明は、上記の事情に鑑みなされたものであって、その課題はプレチルトのコントロールができ、かつ、バックライトなどによるストレス下においても劣化が起こり難い液晶配向膜を得ることができる新規ジカルボン酸無水物、それを用いたポリアミック酸、ポリアミック酸エステルおよびポリイミド、それらの1種または2種以上を含有する液晶配向剤、当該液晶配向剤から得られる液晶配向膜、当該液晶配向膜を有する液晶表示素子、及び当該液晶配向膜を形成するための液晶配向処理剤を提供することにある。本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、ある種のジカルボン酸無水物を用いてポリアミック酸、ポリアミック酸エステルおよびポリイミドを末端修飾することにより、上記問題点を解決できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、1.下記式[1にて表される光反応性基含有ジカルボン酸無水物を用いて末端アミノ基を修飾させたことを特徴とするポリアミック酸、ポリアミック酸エステルまたはポリイミド、式1中、Zは光反応性基を表す。2.光反応性基含有ジカルボン酸無水物のZが下記式A~Gのいずれかで表される光反応性基である上記1記載のポリアミック酸、ポリアミック酸エステルまたはポリイミド、式中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロアルキル基、炭素数2~20のシアノアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のハロアルコキシ基または炭素数2~20のシアノアルコキシ基を表し、破線が結合手を表す。3.光反応性基含有ジカルボン酸無水物が下記式2~5のいずれかで表される上記1記載のポリアミック酸、ポリアミック酸エステルまたはポリイミド、4.上記1~3のいずれかに記載のポリアミック酸、ポリアミック酸エステルおよびポリイミドから選ばれる1種または2種以上を含有する液晶配向処理剤、5.上記4記載の液晶配向処理剤を用いて得られる液晶配向膜、6.上記5記載の液晶配向膜を具備した液晶表示素子、7.式2~5のいずれかで表される光反応性基含有ジカルボン酸無水物、8.下記式6式6中、Zは光反応性基を表す。で表されるヒドロキシ化合物と下記式7式中、Xは、ハロゲン原子を表す。で表される無水トリメリット酸ハライドとを、塩基の存在下で反応させることを特徴とする下記式1式1中、Zは光反応性基を表す。で表される光反応性基含有ジカルボン酸無水物の製造法。9.Zが下記の式A~Gのいずれかで表される上記8記載の製造法、式中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロアルキル基、炭素数2~20のシアノアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のハロアルコキシ基または炭素数2~20のシアノアルコキシ基を表し、破線が結合手を表す。10.式1で表されるジカルボン酸無水物が式2~5のいずれかで表される上記8記載の製造法、である。本発明の光反応性基含有ジカルボン酸無水物で修飾したポリアミック酸、ポリアミック酸エステルおよびポリイミドは、プレチルト角の付与が可能で、かつバックライトなどによるストレス下においても劣化が生じ難い液晶配向膜を得るための液晶配向剤、およびコントラストの低下や焼き付きの起こりにくい液晶表示素子を得ることが出来る。以下、本発明について述べる。光反応性基含有ジカルボン酸無水物本発明における光反応性基含有ジカルボン酸無水物の具体的な形態を述べる。本発明の光反応性基含有ジカルボン酸無水物は下記式1にて表される。式1中、Zは光反応性基を表す。ここで挙げる光反応性基Zとは、例えば光で励起し、蛍光りん光放射、シスートランス異性化、二量化反応などが起こりうる基であり、そのZの例として下記式A~Gのようなフェニルアゾベンゼンやカルコン、クマリン、シンナモイル、スチルベンなどが挙げられる。式中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロアルキル基、炭素数2~20のシアノアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のハロアルコキシ基または炭素数2~20のシアノアルコキシ基を表し、破線が結合手を表す。以下、本発明についてさらに詳しく説明する。なお、以下において、nはノルマルを、iはイソを、sはセカンダリーを、tはターシャリーを、cはシクロをそれぞれ表す。上記一般式A~G中、R1、R2において、炭素数1~20のアルキル基やアルコキシ基としては、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、より大きなプレチルト角を得る目的であれば、炭素数2~20のアルキル基が好ましいが、合成のしやすさの観点ではR1、R2は無置換、あるいは炭素数1~5のアルキル基またはアルコキシ基が好ましい。合成法に関しては、特に限定はしないが以下のような手法にて合成することが出来る。下記一般式6で表されるようなヒドロキシ基と光反応性基Zとを有する化合物Z-OHと、下記一般式7で表される無水トリメリット酸ハライドとを、塩基の存在下で反応させることで得ることが出来る式中、Zは光反応性基を表す。式中、Xは、ハロゲン原子を表す。式7中のXとしては、例えば塩素、臭素、ヨウ素などがあげられ、Xが塩素のものは、市販の無水トリメリット酸クロライドがそのまま使用できる。その使用量は、化合物Z-OHに対し、1.0~1.5モル倍が好ましく、1.0~1.2モル倍がより好ましい。化合物Z-OHとトリメリット酸ハライドとを反応させる際、塩基を触媒として用いると反応が速やかに進むため好ましい。使用される塩基の例としては、トリエチルアミン、トリプロピルアミン及びピリジン等の有機塩基または炭酸リチウム、炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等を用いることができるが、特には、トリエチルアミンが好ましい。その使用量は、化合物Z-OHに対し、1.0~1.5モル倍が好ましく、1.0~1.2モル倍がより好ましい。反応溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミドDMF、テトラヒドロフランTHF及び1,4-ジオキサン等が好ましい。それらの使用量は、化合物Z-OHに対し3~50質量倍が好ましく、5~30質量倍がより好ましい。反応温度は、-30~150°C程度であるが、0~120°Cが好ましい。反応後は、ろ過により得られた固体を、水と酢酸エチルで加温洗浄し更に減圧乾燥することにより目的物が得られる。更に、これをDMFでの再結晶化によって精製することもできる。また、化合物Z-OHがシンナメート化合物の場合は、反応物をろ過後、ろ液を濃縮してから、その残渣にアセトニトリルを加えて加温洗浄後減圧乾燥することにより、目的物が得られる。本反応は、常圧または加圧下で行うことができ、また回分式でも連続式でもよい。[末端修飾ポリアミック酸、ポリイミド本発明の光反応性基含有ジカルボン酸無水物は、アミノ基に対し反応性を持っているため、例えばポリマー末端アミノ基が過剰となるようなポリアミック酸またはポリアミック酸エステルのようなポリマーに本発明の光反応性基含有ジカルボン酸無水物を加えることで、ポリマー末端が化学修飾されたポリアミック酸誘導体を得ることが出来る。また、ポリアミック酸を適当な脱水剤の存在下で脱水閉環させることによりポリイミドが得られる。例えば、無水酢酸とピリジンを共存させることにより化学イミドを行うことが出来るが、その際に末端のアミノ基が無水酢酸と反応してしまいアセチルアミド末端となってしまう。アセチルアミド末端の場合、液晶配向膜特性に大きなメリットをもたらさないことがわかっている。一方で、末端修飾されたポリアミック酸は、上記のような化学イミド化を行っても、アセチルアミド末端とならず、更なる機能を持ったポリイミドを得ることが出来る。本発明の光反応性基含有ジカルボン酸無水物を用いて末端修飾を行う場合、ポリアミック酸やポリアミック酸エステルの末端基がアミノ基過剰となる必要がある。従って、ポリアミック酸の重合の際に使用されるテトラカルボン酸二無水物の割合はジアミンよりも少ないことが好ましく、より好ましくはジアミン成分100モル部に対しテトラカルボン酸二無水物は80~99.5モル部が好ましい。特に好ましくは90~99モル部である。本発明の光反応性基含有ジカルボン酸無水物をポリアミック酸の末端アミノ基と反応させる際、反応の条件は特に限定はせず、末端アミノ基過剰ポリアミック酸に本発明の光反応性基含有ジカルボン酸無水物を加え室温でまたは加熱することで反応させることが出来る。必要に応じてピリジンのような有機塩基や炭酸リチウム、炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等を用いても良い。[ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド本発明のポリアミック酸は、ジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物との反応によって得られるポリアミック酸を、光反応性基含有ジカルボン酸無水物で末端修飾したものである。本発明のポリアミック酸エステルはジアミン成分とテトラカルボン酸ジエステルジクロリドを塩基存在下で反応させる、またはテトラカルボン酸ジエステルとジアミンを適当な縮合剤および塩基の存在下にて反応させることによって得られるポリアミック酸エステルを、光反応性基含有ジカルボン酸無水物で末端修飾したものである。本発明のポリイミドはこのポリアミック酸を脱水閉環させる、あるいはポリアミック酸エステルを加熱閉環させることにより得られるポリイミドである。かかるポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドのいずれも液晶配向膜を得るための重合体として有用である。使用されるジアミン成分においては特に限定されない。あえて、その具体例を挙げるとすれば以下の通りである。脂環式ジアミン類の例としては、1,4-ジアミノシクロヘキサン、1,3-ジアミノシクロヘキサン、4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルジシクロヘキシルアミン、イソホロンジアミン等が挙げられる。芳香族ジアミン類の例としては、o-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、2,4-ジアミノトルエン、2,5-ジアミノトルエン、3,5-ジアミノトルエン、1,4-ジアミノ-2-メトキシベンゼン、2,5-ジアミノ-p-キシレン、1,3-ジアミノ-4-クロロベンゼン、3,5-ジアミノ安息香酸、1,4-ジアミノ-2,5-ジクロロベンゼン、4,4’-ジアミノ-1,2-ジフェニルエタン、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジメチルビフェニル、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、3,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’―ジメチルジフェニルメタン、2,2’-ジアミノスチルベン、4,4’-ジアミノスチルベン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、1,3-ビス3-アミノフェノキシベンゼン、1,3-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、1,4-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、3,5-ビス4-アミノフェノキシ安息香酸、4,4’-ビス4-アミノフェノキシビベンジル、2,2-ビス4-アミノフェノキシメチルプロパン、2,2-ビス4-4-アミノフェノキシフェニルヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス4-4-アミノフェノキシフェニルプロパン、ビス4-3-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-4-アミノフェノキシフェニルスルホン、1,1-ビス4-アミノフェニルシクロヘキサン、α、α’-ビス4-アミノフェニル-1,4-ジイソプロピルベンゼン、9,9-ビス4-アミノフェニルフルオレン、2,2-ビス3-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス4-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルアミン、2,4-ジアミノジフェニルアミン、1,8-ジアミノナフタレン、1,5-ジアミノナフタレン、1,5-ジアミノアントラキノン、1,3-ジアミノピレン、1,6-ジアミノピレン、1,8―ジアミノピレン、2,7-ジアミノフルオレン、1,3-ビス4-アミノフェニルテトラメチルジシロキサン、ベンジジン、2,2’-ジメチルベンジジン、1,2-ビス4-アミノフェニルエタン、1,3-ビス4-アミノフェニルプロパン、1,4-ビス4-アミノフェニルブタン、1,5-ビス4-アミノフェニルペンタン、1,6-ビス4-アミノフェニルヘキサン、1,7-ビス4-アミノフェニルヘプタン、1,8-ビス4-アミノフェニルオクタン、1,9-ビス4-アミノフェニルノナン、1,10-ビス4-アミノフェニルデカン、1,3-ビス4-アミノフェノキシプロパン、1,4-ビス4-アミノフェノキシブタン、1,5-ビス4-アミノフェノキシペンタン、1,6-ビス4-アミノフェノキシヘキサン、1,7-ビス4-アミノフェノキシヘプタン、1,8-ビス4-アミノフェノキシオクタン、1,9-ビス4-アミノフェノキシノナン、1,10-ビス4-アミノフェノキシデカン、ジ4-アミノフェニルプロパン-1,3-ジオエート、ジ4-アミノフェニルブタン-1,4-ジオエート、ジ4-アミノフェニルペンタン-1,5-ジオエート、ジ4-アミノフェニルヘキサン-1,6-ジオエート、ジ4-アミノフェニルヘプタン-1,7-ジオエート、ジ4-アミノフェニルオクタン-1,8-ジオエート、ジ4-アミノフェニルノナン-1,9-ジオエート、ジ4-アミノフェニルデカン-1,10-ジオエート、1,3-ビス4-4-アミノフェノキシフェノキシプロパン、1,4-ビス4-4-アミノフェノキシフェノキシブタン、1,5-ビス4-4-アミノフェノキシフェノキシペンタン、1,6-ビス4-4-アミノフェノキシフェノキシヘキサン、1,7-ビス4-4-アミノフェノキシフェノキシヘプタン、1,8-ビス4-4-アミノフェノキシフェノキシオクタン、1,9-ビス4-4-アミノフェノキシフェノキシノナン、1,10-ビス4-4-アミノフェノキシフェノキシデカンなどが挙げられる。芳香族-脂肪族ジアミンの例としては、3-アミノベンジルアミン、4-アミノベンジルアミン、3-アミノ-N-メチルベンジルアミン、4-アミノ-N-メチルベンジルアミン、3-アミノフェネチルアミン、4-アミノフェネチルアミン、3-アミノ-N-メチルフェネチルアミン、4-アミノ-N-メチルフェネチルアミン、3-3-アミノプロピルアニリン、4-3-アミノプロピルアニリン、3-3-メチルアミノプロピルアニリン、4-3-メチルアミノプロピルアニリン、3-4-アミノブチルアニリン、4-4-アミノブチルアニリン、3-4-メチルアミノブチルアニリン、4-4-メチルアミノブチルアニリン、3-5-アミノペンチルアニリン、4-5-アミノペンチルアニリン、3-5-メチルアミノペンチルアニリン、4-5-メチルアミノペンチルアニリン、2-6-アミノナフチルメチルアミン、3-6-アミノナフチルメチルアミン、2-6-アミノナフチルエチルアミン、3-6-アミノナフチルエチルアミンなどが挙げられる。複素環式ジアミン類の例としては、2,6-ジアミノピリジン、2,4-ジアミノピリジン、2,4-ジアミノ-1,3,5-トリアジン、2,7-ジアミノジベンゾフラン、3,6-ジアミノカルバゾール、2,4-ジアミノ-6-イソプロピル-1,3,5-トリアジン、2,5-ビス4-アミノフェニル-1,3,4-オキサジアゾールなどが挙げられる。脂肪族ジアミン類の例としては、1,2-ジアミノエタン、1,3-ジアミノプロパン、1,4-ジアミノブタン、1,5-ジアミノペンタン、1,6-ジアミノヘキサン、1,7-ジアミノヘプタン、1,8-ジアミノオクタン、1,9-ジアミノノナン、1,10-ジアミノデカン、1,3-ジアミノ-2,2-ジメチルプロパン、1,6-ジアミノ-2,5-ジメチルヘキサン、1,7-ジアミノ-2,5-ジメチルヘプタン、1,7-ジアミノ-4,4-ジメチルヘプタン、1,7-ジアミノ-3-メチルヘプタン、1,9-ジアミノ-5-メチルヘプタン、1,12-ジアミノドデカン、1,18-ジアミノオクタデカン、1,2-ビス3-アミノプロポキシエタンなどが挙げられる。側鎖にアルキル基、フッ素含有アルキル基、芳香環、脂肪族環、複素環、並びにそれらからなる大環状置換体を有するジアミン化合物を併用してもよい。具体的には、下記の式DA-1~式DA-26で示されるジアミンを例示することができる。式DA-1から式DA-5中、R6但し、DA-3においてはRは、炭素数1~22のアルキル基又はフッ素含有アルキル基である。式DA-6から式DA-9中、S5は、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NHCO-、-CH2-、-O-、-CO-、又は-NH-を示し、R6は炭素数1~22のアルキル基又はフッ素含有アルキル基を示す。式DA-10及び式DA-11中、S6は、-O-、-OCH2-、-CH2O-、-COOCH2-、又は-CH2OCO-を示し、R7は炭素数1~22のアルキル基、アルコキシ基、フッ素含有アルキル基又はフッ素含有アルコキシ基である。式DA-12から式DA-14中、S7は、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NHCO-、-COOCH2-、-CH2OCO-、-CH2O-、-OCH2-、又は-CH2-を示し、R8は炭素数1~22のアルキル基、アルコキシ基、フッ素含有アルキル基又はフッ素含有アルコキシ基である。式DA-15及び式DA-16中、S8は、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NHCO-、-COOCH2-、-CH2OCO-、-CH2O-、-OCH2-、-CH2-、-O-、又は-NH-を示し、R9はフッ素基、シアノ基、トリフルオロメタン基、ニトロ基、アゾ基、ホルミル基、アセチル基、アセトキシ基、又は水酸基である。式DA-17~DA-20中、R10は炭素数3~12のアルキル基であり、1,4-シクロへキシレンのシス-トランス異性は、それぞれトランス体である。また、以下のジアミンを併用しても良い。式DA-31中、mは0~3の整数であり、式DA34中、nは1~5の整数である。DA-27やDA-28は導入することにより電圧保持率VHRを向上させることができ、DA-29~[DA-34]は蓄積電荷の低減に効果があるため、好ましい。加えて、下記の式DA-35で示されるようなジアミノシロキサンなども挙げることができる。式DA-35中、mは、1から10の整数である。その他のジアミン化合物は、液晶配向膜とした際の液晶配向性、電圧保持特性、蓄積電荷などの特性に応じて、1種類または2種類以上を混合して使用することもできる。本発明のポリアミック酸を得るためにジアミン成分と反応させるテトラカルボン酸二無水物は特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。脂環式構造又は脂肪族構造を有するテトラカルボン酸二無水物としては、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-テトラメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,4,5-テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、3,4-ジカルボキシ-1-シクロヘキシルコハク酸二無水物、3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-1-ナフタレンコハク酸二無水物、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ3.3.0オクタン-2,4,6,8-テトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、シス-3,7-ジブチルシクロオクタ-1,5-ジエン-1,2,5,6-テトラカルボン酸二無水物、トリシクロ4.2.1.02,5ノナン-3,4,7,8-テトラカルボン酸-3,4:7,8-二無水物、ヘキサシクロ6.6.0.12,7.03,6.19,14.010,13ヘキサデカン-4,5,11,12-テトラカルボン酸-4,5:11,12-二無水物、4-2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレンー1,2-ジカルボン酸無水物などが挙げられる。更には、上記脂環式構造又は脂肪族構造を有するテトラカルボン酸二無水物に加えて、芳香族テトラカルボン酸二無水物を使用すると、液晶配向性が向上し、かつ液晶セルの蓄積電荷を低減させることができるので好ましい。芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス3,4-ジカルボキシフェニルエーテル二無水物、ビス3,4-ジカルボキシフェニルスルホン二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物などが挙げられる。本発明のポリアミック酸エステルを得るためにジアミン成分と反応させるテトラカルボン酸ジアルキルエステルは特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。脂肪族テトラカルボン酸ジエステルの具体的な例としては1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸ジアルキルエステル、1,2-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸ジアルキルエステル、1,3-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸ジアルキルエステル、1,2,3,4-テトラメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸ジアルキルエステル、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸ジアルキルエステル、2,3,4,5-テトラヒドロフランテトラカルボン酸ジアルキルエステル、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸ジアルキルエステル、3,4-ジカルボキシ-1-シクロヘキシルコハク酸ジアルキルエステル、3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-1-ナフタレンコハク酸ジアルキルエステル、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸ジアルキルエステル、ビシクロ3.3.0オクタン-2,4,6,8-テトラカルボン酸ジアルキルエステル、3,3’,4,4’-ジシクロヘキシルテトラカルボン酸ジアルキルエステル、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸ジアルキルエステル、シス-3,7-ジブチルシクロオクタ-1,5-ジエン-1,2,5,6-テトラカルボン酸ジアルキルエステル、トリシクロ4.2.1.02,5ノナン-3,4,7,8-テトラカルボン酸-3,4:7,8-ジアルキルエステル、ヘキサシクロ6.6.0.12,7.03,6.19,14.010,13ヘキサデカン-4,5,11,12-テトラカルボン酸-4,5:11,12-ジアルキルエステル、4-2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレンー1,2-ジカルボンジアルキルエステルなどが挙げられる。芳香族テトラカルボン酸ジアルキルエステルとしては、ピロメリット酸ジアルキルエステル、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸ジアルキルエステル、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸ジアルキルエステル、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸ジアルキルエステル、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジアルキルエステル、2,3,3’,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジアルキルエステル、ビス3,4-ジカルボキシフェニルエーテルジアルキルエステル、ビス3,4-ジカルボキシフェニルスルホンジアルキルエステル、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸ジアルキルエステル、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸ジアルキルエステルなどが挙げられる。本発明のポリアミドを得るためにジアミン成分と反応させるジカルボン酸は特に限定されない。ジカルボン酸またはその誘導体の脂肪族ジカルボン酸の具体例として、マロン酸、蓚酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ムコン酸、2-メチルアジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、2,2-ジメチルグルタル酸、3,3-ジエチルコハク酸、アゼライイン酸、セバシン酸およびスベリン酸等のジカルボン酸を挙げることができる。脂環式系のジカルボン酸としては、1,1-シクロプロパンジカルボン酸、1,2-シクロプロパンジカルボン酸、1,1-シクロブタンジカルボン酸、1,2-シクロブタンジカルボン酸、1,3-シクロブタンジカルボン酸、3,4-ジフェニル-1,2-シクロブタンジカルボン酸、2,4-ジフェニル-1,3-シクロブタンジカルボン酸、1-シクロブテン-1,2-ジカルボン酸、1-シクロブテン-3,4-ジカルボン酸、1,1-シクロペンタンジカルボン酸、1,2-シクロペンタンジカルボン酸、1,3-シクロペンタンジカルボン酸、1,1-シクロヘキサンジカルボン酸、1,2-シクロヘキサンジカルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-2-ノルボルネンジカルボン酸、ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸、ビシクロ2.2.2オクタン-1,4-ジカルボン酸、ビシクロ2.2.2オクタン-2,3-ジカルボン酸、2,5-ジオキソ-1,4-ビシクロ2.2.2オクタンジカルボン酸、1,3-アダマンタンジカルボン酸、4,8-ジオキソ-1,3-アダマンタンジカルボン酸、2,6-スピロ3.3ヘプタンジカルボン酸、1,3-アダマンタン二酢酸、カンファ-酸等を挙げることができる。芳香族ジカルボン酸としては、o-フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、5-メチルイソフタル酸、5-tert-ブチルイソフタル酸、5-アミノイソフタル酸、5-ヒドロキシイソフタル酸、2,5-ジメチルテレフタル酸、テトラメチルテレフタル酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、2,5-ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、2,7-ナフタレンジカルボン酸、1,4-アントラセンジカルボン酸、1,4-アントラキノンジカルボン酸、2,5-ビフェニルジカルボン酸、4,4’-ビフェニルジカルボン酸、1,5-ビフェニレンジカルボン酸、4,4-ターフェニルジカルボン酸、4,4’-ジフェニルメタンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルエタンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルプロパンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルヘキサフルオロプロパンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4’-ビベンジルジカルボン酸、4,4’-スチルベンジカルボン酸、4,4’-トランジカルボン酸、4,4’-カルボニル二安息香酸、4,4’-スルホニル二安息香酸、4,4’-ジチオ二安息香酸、p-フェニレン二酢酸、3,3’-p-フェニレンジプロピオン酸、4-カルボキシ桂皮酸、p-フェニレンジアクリル酸、3,3’-4,4’-メチレンジ-p-フェニレンジプロピオン酸、4,4’-4,4’-オキシジ-p-フェニレンジプロピオン酸、4,4’-4,4’-オキシジ-p-フェニレン二酪酸、イソプロピリデンジ-p-フェニレンジオキシ二酪酸、ビスp-カルボキシフェニルジメチルシラン等のジカルボン酸を挙げることができる。複素環を含むジカルボン酸としては、1,5-9-オキソフルオレンジカルボン酸、3,4-フランジカルボン酸、4,5-チアゾールジカルボン酸、2-フェニル-4,5-チアゾールジカルボン酸、1,2,5-チアジアゾール-3,4-ジカルボン酸、1,2,5-オキサジアゾール-3,4-ジカルボン酸、2,3-ピリジンジカルボン酸、2,4-ピリジンジカルボン酸、2,5-ピリジンジカルボン酸、2,6-ピリジンジカルボン酸、3,4-ピリジンジカルボン酸、3,5-ピリジンジカルボン酸等を挙げることができる。上記の各種ジカルボン酸は酸ジハライドあるいは無水物の構造のものであってもよい。これらのジカルボン酸類は、特に直線的な構造のポリアミドを与えることが可能なジカルボン酸類であることが液晶分子の配向性を保つ上から好ましい。これらの中でも、テレフタル酸、イソテレフタル酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、4,4’-ビフェニルジカルボン酸、4,4’-ジフェニルメタンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルエタンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルプロパンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルヘキサフルオロプロパンジカルボン酸、2,2-ビスフェニルプロパンジカルボン酸、4、4-タ-フェニルジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、2,5-ピリジンジカルボン酸またはこれらの酸ジハライド等が好ましく用いられる。これらの化合物には異性体が存在するものもあるが、それらを含む混合物であってもよい。また、2種以上の化合物を併用してもよい。なお、本発明に使用するジカルボン酸類は、上記の例示化合物に限定されるものではない。テトラカルボン酸二無水物は、液晶配向膜にした際の液晶配向性、電圧保持特性、蓄積電荷などの特性に応じて、1種類または2種類以上併用することができる。テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分との反応により、ポリアミック酸を得るにあたっては、公知の合成手法を用いることができる。一般的にはテトラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを有機溶媒中で反応させる方法である。テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応は、有機溶媒中で比較的容易に進行し、かつ副生成物が発生しない点で有利である。テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応に用いる有機溶媒としては、生成したポリアミック酸が溶解するものであれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、N-エチル-2-ピロリドン、N-メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、γ-ブチロラクトン、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、ジペンテン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール-tert-ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、3-メチル-3-メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、n-へキサン、n-ペンタン、n-オクタン、ジエチルエーテル、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸メチルエチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸、3-メトキシプロピオン酸、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-エトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-ブトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミドなどが挙げられる。これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、ポリアミック酸を溶解させない溶媒であっても、生成したポリアミック酸が析出しない範囲で、上記溶媒に混合して使用してもよい。また、有機溶媒中の水分は重合反応を阻害し、さらには生成したポリアミック酸を加水分解させる原因となるので、有機溶媒はなるべく脱水乾燥させたものを用いることが好ましい。テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを有機溶媒中で反応させる際には、ジアミン成分を有機溶媒に分散あるいは溶解させた溶液を攪拌させ、テトラカルボン酸二無水物をそのまま、または有機溶媒に分散あるいは溶解させて添加する方法、逆にテトラカルボン酸二無水物を有機溶媒に分散あるいは溶解させた溶液にジアミン成分を添加する方法、テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを交互に添加する方法などが挙げられ、これらのいずれの方法を用いても良い。また、テトラカルボン酸二無水物またはジアミン成分が複数種の化合物からなる場合は、あらかじめ混合した状態で反応させても良く、個別に順次反応させても良く、さらに個別に反応させた低分子量体を混合反応させ高分子量体としても良い。その際の重合温度は-20°Cから150°Cの任意の温度を選択することができるが、好ましくは-5°Cから100°Cの範囲である。また、反応は任意の濃度で行うことができるが、濃度が低すぎると高分子量の重合体を得ることが難しくなり、濃度が高すぎると反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な攪拌が困難となるので、テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分の反応溶液中での合計濃度が、好ましくは1から50質量、より好ましくは5から30質量である。反応初期は高濃度で行い、その後、有機溶媒を追加することもできる。ポリアミック酸の重合反応においては、テトラカルボン酸二無水物の合計モル数と、ジアミン成分の合計モル数の比は0.8から1.2であることが好ましい。通常の重縮合反応同様、このモル比が1.0に近いほど生成するポリアミック酸の分子量は大きくなる。但し、上述の通り、本発明においては、ジアミン化合物の合計モル数の比が1.0以上であることが好ましい。本発明のポリイミドは、本発明のポリアミック酸を脱水閉環させて得られるポリイミドであり、液晶配向膜を得るための重合体として有用である。本発明のポリイミドにおいて、アミド酸基の脱水閉環率イミド化率は、必ずしも100である必要はなく、用途や目的に応じて任意に調整することができる。ポリイミドポリアミック酸をイミド化させる方法としては、ポリアミック酸の溶液をそのまま加熱する熱イミド化、ポリアミック酸の溶液に触媒を添加する触媒イミド化が挙げられる。ポリアミック酸を溶液中で熱イミド化させる場合の温度は、100°Cから400°C、好ましくは120°Cから250°Cであり、イミド化反応により生成する水を系外に除きながら行う方が好ましい。ポリアミック酸の触媒イミド化は、ポリアミック酸の溶液に、塩基性触媒と酸無水物とを添加し、-20から250°C、好ましくは0から180°Cで攪拌することにより行うことができる。塩基性触媒の量はアミド酸基の0.5から30モル倍、好ましくは2から20モル倍であり、酸無水物の量はアミド酸基の1から50モル倍、好ましくは3から30モル倍である。塩基性触媒としてはピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミンなどを挙げることができ、中でもピリジンは反応を進行させるのに適度な塩基性を持つので好ましい。酸無水物としては、無水酢酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸などを挙げることができ、中でも無水酢酸を用いると反応終了後の精製が容易となるので好ましい。触媒イミド化によるイミド化率は、触媒量と反応温度、反応時間を調節することにより制御することができる。ポリアミック酸エステルポリアミック酸エステルを合成する方法としては、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドとジアミンとの反応や、テトラカルボン酸ジエステルとジアミンを適当な縮合剤、塩基の存在下にて反応させることによりポリイミドの前駆体の一種であるポリアミック酸エステルを得ることができる。または、予めポリアミック酸を重合し、高分子反応を利用してアミック酸中のカルボン酸をエステル化することでも得ることができる。具体的には、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドとジアミンとを塩基と有機溶剤の存在下で-20°C~150°C、好ましくは0°C~50°Cにおいて、30分~24時間、好ましくは1~4時間反応させることによって合成することができる。前記塩基には、ピリジン、トリエチルアミン、4-ジメチルアミノピリジンが使用できるが、反応が穏和に進行するためにピリジンが好ましい。塩基の添加量は、除去が容易な量で、かつ高分子量体が得やすいという観点から、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドに対して、2~4倍モルであることが好ましい。縮合剤存在下にて縮合重合を行なう場合、トリフェニルホスファイト、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩、N,N’-カルボニルジイミダゾール、ジメトキシ-1,3,5-トリアジニルメチルモルホリニウム、O-ベンゾトリアゾール-1-イル-N,N,N’,N’-テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、O-ベンゾトリアゾール-1-イル-N,N,N’,N’-テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート、2,3-ジヒドロ-2-チオキソ-3-ベンゾオキサゾリルホスホン酸ジフェニル、4-4,6-ジメトキシ-1,3,5-トリアジンー2-イル4-メトキシモルホリウムクロリドn-水和物などが使用できる。また、上記縮合剤を用いる方法において、ルイス酸を添加剤として加えることで反応が効率的に進行する。ルイス酸としては、塩化リチウム、臭化リチウムなどのハロゲン化リチウムが好ましい。ルイス酸の添加量は、テトラカルボン酸ジエステルに対して0.1~1.0倍モル量であることが好ましい。ポリアミック酸エステルの重合反応においては、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドまたはテトラカルボン酸ジエステルの合計モル数と、ジアミン成分の合計モル数の比は0.8から1.2であることが好ましい。通常の重縮合反応同様、このモル比が1.0に近いほど生成するポリアミック酸エステルの分子量は大きくなる。但し、上述の通り、本発明においては、ジアミン化合物の合計モル数の比が1.0以上であることが好ましい。上記の反応に用いる溶媒は、上記にて示したポリアミック酸を重合する際に用いられる溶媒で行なうことができるが、モノマーおよびポリマーの溶解性からN-メチル-2-ピロリドン、γ-ブチロラクトンが好ましく、これらは1種又は2種以上を混合して用いてもよい。合成時の濃度は、ポリマーの析出が起こりにくく、かつ高分子量体が得やすいという観点から、1~30質量が好ましく、5~20質量がより好ましい。また、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドの加水分解を防ぐため、ポリアミック酸エステルの合成に用いる溶媒はできるだけ脱水されている方が良く、窒素雰囲気中で、外気の混入を防ぐのが好ましい。ポリマーの回収ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミドの反応溶液から、生成したポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミドを回収する場合には、反応溶液を貧溶媒に投入して沈殿させれば良い。沈殿に用いる貧溶媒としてはメタノール、アセトン、ヘキサン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノール、トルエン、ベンゼン、水などを挙げることができる。貧溶媒に投入して沈殿させたポリマーは濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、有機溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を2から10回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の貧溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類、炭化水素などが挙げられ、これらの内から選ばれる3種類以上の貧溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるので好ましい。本発明の液晶配向処理剤に含有されるポリアミック酸及びポリイミドの分子量は、そこから得られる塗膜の強度及び、塗膜形成時の作業性、塗膜の均一性を考慮した場合、GPCGelPermeationChromatography法で測定した重量平均分子量で5,000から1,000,000とするのが好ましく、より好ましくは、10,000から150,000である。液晶配向処理剤本発明の液晶配向処理剤は、液晶配向膜を形成するための塗布液であり、樹脂被膜を形成するための樹脂成分が有機溶媒に溶解した溶液である。ここで、前記の樹脂成分は、上記した本発明の重合体から選ばれる少なくとも一種の重合体を含む樹脂成分である。その際、樹脂成分の含有量は1質量から20質量が好ましく、より好ましくは3質量から15質量、特に好ましくは3から10質量である。本発明において、前記の樹脂成分は、全てが本発明のポリアミック酸、ポリアミック酸エステルおよびポリイミドから選ばれる重合体であってもよく、本発明の重合体にそれ以外の他の重合体が混合されていてもよい。その際、樹脂成分中における本発明の重合体以外の他の重合体の含有量は0.5質量から15質量、好ましくは1質量から10質量である。かかる他の重合体は、例えば、本発明の光反応性基含有ジカルボン酸無水物によって末端修飾されていないポリアミック酸、ポリアミック酸エステルおよびポリイミドなどが挙げられる。本発明の液晶配向処理剤に用いる有機溶媒は、樹脂成分を溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、N-メチルカプロラクタム、2-ピロリドン、N-エチルピロリドン、N-ビニルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-エトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-ブトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、1,3-ジメチル-イミダゾリジノン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジグライム、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンなどが挙げられる。これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。本発明の液晶配向処理剤は、上記以外の成分を含有してもよい。その例としては、液晶配向処理剤を塗布した際の膜厚均一性や表面平滑性を向上させる溶媒や化合物、液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物などである。膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる溶媒貧溶媒の具体例としては次のものが挙げられる。例えば、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール-tert-ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、3-メチル-3-メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、1-ヘキサノール、n-へキサン、n-ペンタン、n-オクタン、ジエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸、3-メトキシプロピオン酸、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エトキシ-2-プロパノール、1-ブトキシ-2-プロパノール、1-フェノキシ-2-プロパノール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール-1-モノメチルエーテル-2-アセテート、プロピレングリコール-1-モノエチルエーテル-2-アセテート、ジプロピレングリコール、2-2-エトキシプロポキシプロパノール、乳酸メチルエステル、乳酸エチルエステル、乳酸n-プロピルエステル、乳酸n-ブチルエステル、乳酸イソアミルエステルなどの低表面張力を有する溶媒などが挙げられる。これらの貧溶媒は1種類でも複数種類を混合して用いてもよい。上記のような溶媒を用いる場合は、液晶配向処理剤に含まれる溶媒全体の5から80質量であることが好ましく、より好ましくは20から60質量である。膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤などが挙げられる。より具体的には、例えば、エフトップEF301、EF303、EF352トーケムプロダクツ社製登録商標、メガファックF171、F173、R-30大日本インキ社製登録商標、フロラードFC430、FC431住友スリーエム社製登録商標、アサヒガードAG710、サーフロンS-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106旭硝子社製登録商標などが挙げられる。これらの界面活性剤の使用割合は、液晶配向処理剤に含有される樹脂成分の100質量部に対して、好ましくは0.01から2質量部、より好ましくは0.01から1質量部である。液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、次に示す官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有化合物などが挙げられる。例えば、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、2-アミノプロピルトリメトキシシラン、2-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N-エトキシカルボニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-エトキシカルボニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N-トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10-トリメトキシシリル-1,4,7-トリアザデカン、10-トリエトキシシリル-1,4,7-トリアザデカン、9-トリメトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、9-トリエトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、N-ベンジル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ベンジル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-ビスオキシエチレン-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ビスオキシエチレン-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、2,2-ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,3,5,6-テトラグリシジル-2,4-ヘキサンジオール、N,N,N’,N’,-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビスN,N-ジグリシジルアミノメチルシクロヘキサン、N,N,N’,N’,-テトラグリシジル-4、4’-ジアミノジフェニルメタンなどが挙げられる。更に、基板と膜の密着性向上に加え、バックライトによる電気特性低下などを防ぐ目的で以下のようなフェノプラスト系の添加剤を導入しても良い。具体的なフェノプラスト系添加剤を以下に示すが、この構造に限定されない。基板との密着性を向上させる化合物を使用する場合、その使用量は、液晶配向処理剤に含有される樹脂成分の100質量部に対して0.1から30質量部であることが好ましく、より好ましくは1から20質量部である。使用量が0.1質量部未満であると密着性向上の効果は期待できず、30質量部よりも多くなると液晶の配向性が悪くなる場合がある。本発明の液晶配向処理剤には、上記の他、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的で、誘電体や導電物質、さらには、液晶配向膜にした際の膜の硬度や緻密度を高める目的の架橋性化合物を添加してもよい。液晶配向膜液晶表示素子本発明の液晶配向処理剤は、基板上に塗布、焼成した後、ラビング処理や光照射などで配向処理をして、又は垂直配向用途などでは配向処理無しで液晶配向膜として用いることができる。この際、用いる基板としては透明性の高い基板であれば特に限定されず、ガラス基板、若しくはアクリル基板やポリカーボネート基板などのプラスチック基板などを用いることができる。また、液晶駆動のためのITO電極などが形成された基板を用いることがプロセスの簡素化の観点から好ましい。また、反射型の液晶表示素子では片側の基板のみにならばシリコンウエハー等の不透明な物でも使用でき、この場合の電極はアルミ等の光を反射する材料も使用できる。液晶配向処理剤の塗布方法は特に限定されないが、工業的には、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェットなどで行う方法が一般的である。その他の塗布方法としては、ディップ、ロールコーター、スリットコーター、スピンナーなどがあり、目的に応じてこれらを用いてもよい。液晶配向処理剤を基板上に塗布した後の焼成は、ホットプレートなどの加熱手段により50から300°C、好ましくは80から250°Cで行い、溶媒を蒸発させて、塗膜を形成させることができる。焼成後に形成される塗膜の厚みは、厚すぎると液晶表示素子の消費電力の面で不利となり、薄すぎると液晶表示素子の信頼性が低下する場合があるので、好ましくは5から300nm、より好ましくは10から100nmである。液晶を水平配向や傾斜配向させる場合は、焼成後の塗膜をラビング又は偏光紫外線照射などで処理する。本発明の液晶表示素子は、上記した手法により本発明の液晶配向処理剤から液晶配向膜付き基板を得た後、公知の方法で液晶セルを作製し、液晶表示素子としたものである。液晶セル作製の一例を挙げるならば、液晶配向膜の形成された1対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサーを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、又は、スペーサーを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に基板を貼り合わせて封止を行う方法などが例示できる。このときのスペーサーの厚みは、好ましくは1から30μm、より好ましくは2から10μmである。以上のようにして、本発明の液晶配向処理剤を用いて作製された液晶表示素子は、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細の液晶テレビなどに好適に利用できる。以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明の解釈はこれらに限定されるものではない。尚、実施例で用いた分析法は以下の通りである。1質量分析MASS機種:AQTodJEOLイオン化法:DART測定範囲:mz100~100021HNMR機種:Varian社製NMRSystem400NB400MHz,測定溶媒:CDCl3、DMSO-d6標準物質:tetramethylsilaneTMS.3融点m.p.機種:微量融点測定装置MP-S3ヤナコ機器開発研究所社製実施例1TMPAの合成100mLの四つ口反応フラスコにフェニルアゾフェノール7.93g40mmol及びテトラヒドロフラン以下、THFと称する79g10質量倍を仕込み、氷浴で4°Cに冷却下にマグネティクスタラーで攪拌しながら無水トリメリット酸クロライドTAC8.82g42mmolを添加溶解させた。続いてトリエチルアミン4.86g48mmolを10分かけて滴下した。20°Cで10分攪拌すると沈殿が生成し、スラリーが強くなったので、THF35gを添加した。更に、50°Cで10分攪拌したが、スラリーが再び強くなりTHF30gを添加し50°Cで22時間攪拌し反応を停止させた。続いて、ろ過後THFで2回洗浄してから減圧乾燥すると橙色固体14.7gが得られた。この粗物に水50gを加えて80°Cで30分攪拌してから、氷冷しろ過水洗し、次いで120°C油浴で1時間30分減圧乾燥すると一次結晶の橙色固体9.0gY60m.p.:226~229°Cが得られた。一方、THFのろ液を濃縮減圧乾燥すると褐色固体7.7gが得られた。この粗物にアセトニトリル50gを加えて70°Cで30分攪拌してから、氷冷した後、ろ過アセトニトリル洗浄し、次いで120°C油浴で1時間30分減圧乾燥すると二次結晶の橙色固体3.4gY23m.p.:225~226°Cが得られた。これらの一次結晶と二次結晶はいずれも、MASS及び1HNMRから目的のトリメリティックアンハイドライドエステルTMPAであることを確認した。MASS37291HNMR758676647930803883058679実施例2TAOCの合成100mLの四つ口反応フラスコに2-ヒドロキシ-4’-カルコン4.49g20mmol及びTHF45g10質量倍を仕込み、氷浴で5°Cに冷却下にマグネティクスタラーで攪拌しながら無水トリメリット酸クロライドTAC4.20g21mmolを添加溶解させた。続いてトリエチルアミン2.43g24mmolを5分かけて滴下した。更に、25°Cで20時間攪拌し反応を停止させた。続いて、ろ過後THFで2回洗浄してから減圧乾燥すると白色固体8.7gが得られた。この粗物に水15gと酢酸エチル30gを加えて70°Cで30分攪拌してから、氷冷した後、ろ過、水と酢酸エチルで2回洗浄し、次いで120°C油浴で1時間30分減圧乾燥すると白色結晶5.68gY71m.p.:191~192°Cが得られた。この結晶は、MASS及び1HNMRから目的のトリメリティックアンハイドライドエステルTAOCであることを確認した。MASS39891HNMR735174307525758077007794819885528591実施例3ATOCの合成溶媒:THF100mLの四つ口反応フラスコに7-ヒドロキシクマリン4.86g30mmol及びTHF97g20質量倍を仕込み、氷浴で8°Cに冷却下にマグネティクスタラーで攪拌しながら無水トリメリット酸クロライドTAC6.63g31mmolを添加溶解させた。続いてトリエチルアミン3.64g36mmolを5分かけて滴下した。更に、20°Cで30分攪拌すると沈殿が生成し、スラリーが強くなったので、THF45gを添加した。更に、50で7時間攪拌し反応を停止させた。続いて、ろ過後THFで2回洗浄してから減圧乾燥すると白色固体13.5gが得られた。この粗物に水50gを加えて75°Cで30分攪拌すると乳白濁ゲル状物になり、氷冷した後、ろ過、減圧乾燥すると白色結晶9.36gが得られた。更にDMF40gを加えて加温後ろ過後アセトニトリルで3回洗浄してから、減圧乾燥すると白色固体2.85gY28m.p.:268~270°Cが得られた。この結晶は、MASS及び1HNMRから目的のアンハイドラストリメリティックアシドエステルATOCであることを確認した。MASS33691HNMR652873927450758078608127dJ96Hz1H8297833186418668実施例4ATOCの合成溶媒:DMF100mLの四つ口反応フラスコに7-ヒドロキシクマリン3.24g20mmol及びN,N-ジメチルホルムアミド以下、DMFと称する32g10質量倍を仕込み、氷浴で10°Cに冷却下にマグネティクスタラーで攪拌しながら無水トリメリット酸クロライドTAC4.63g22mmolを添加溶解させた。続いてトリエチルアミン2.63g26mmolを15分かけて滴下した。更に、20°Cで30分攪拌すると沈殿が生成し、スラリーが強くなったので、DMF15gを添加した。更に、40で7時間攪拌し反応を停止させた。続いて、ろ過後THFで2回洗浄してから減圧乾燥すると白色固体5.0gが得られた。この粗物に水15gと酢酸エチル30gを加えて70°Cで30分攪拌してから、氷冷した後、ろ過、水と酢酸エチルで2回洗浄し、次いで120°C油浴で1時間30分減圧乾燥すると白色結晶4.70gY70m.p.:250~255°Cが得られた。この結晶は、MASS及び1HNMRから目的のアンハイドラストリメリティックアシドエステルATOCであることを確認した。実施例5EATCの合成100mLの四つ口反応フラスコにエチル4-ヒドロキシ-3-メトキシシンナメート8.89g40mmol及びTHF89g10質量倍を仕込み、18°Cでマグネティクスタラーで攪拌しながら無水トリメリット酸クロライドTAC8.85g42mmolを添加溶解させた。続いて22~27°Cでトリエチルアミン4.85g48mmolを15分かけて滴下した。更に、45°Cで8時間攪拌した後20°Cで15時間攪拌し反応を停止させた。続いて、ろ過後THFで2回洗浄してから減圧乾燥すると白色固体5.9gが得られた。この固体はトリエチルアミン塩酸塩であった。そこで、ろ液を濃縮乾燥すると黄色固体16.7gが得られた。この粗物に水20gと酢酸エチル50gを加えて70°Cで30分攪拌してから、氷冷した後、水と酢酸エチルで2回洗浄してから80°Cで2時間減圧乾燥すると白色結晶9.82gY62m.p.:169~173°Cが得られた。この結晶は、MASS及び1HNMRから目的のエチル4--3-メトキシシンナメートEATCであることを確認した。MASS3971435108175001HNMR135638644284643772037677818387248825<液晶配向膜特性評価>ポリアミック酸、およびポリイミドの合成などに使用した化合物の略号は、以下のとおりである。<テトラカルボン酸二無水物>CBDA:1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物TDA:3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-1-ナフタレンコハク酸二無水物PMDA:ピロメリット酸二無水物<ジアミン>p-PDA:1,4-フェニレンジアミンDDM:4,4-ジアミノジフェニルメタンC18DAB:4-オクタデシルオキシ-1,3-ジアミノベンゼン<末端修飾化合物><有機溶媒>NMP:N-メチル-2-ピロリドンγ-BL:γ-ブチロラクトンBCS:ブチルセロソルブ<分子量の測定>重合反応により得られたポリマーの分子量は、該ポリマーをGPC常温ゲル浸透クロマトグラフィー装置によって測定し、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキシド換算値として数平均分子量と重量平均分子量を算出した。GPC装置:Shodex社製GPC-101カラム:Shodex社製KD803、KD805の直列カラム温度:50°C溶離液:N,N-ジメチルホルムアミド添加剤として、臭化リチウム-水和物LiBrH2Oが30mmol/L、リン酸無水結晶o-リン酸が30mmol/L、テトラヒドロフランTHFが10mL/L流速:1.0mL/分検量線作成用標準サンプル:東ソー社製TSK標準ポリエチレンオキサイド分子量約900,000、150,000、100,000、30,000、および、ポリマーラボラトリー社製ポリエチレングリコール分子量約12,000、4,000、1,000。<イミド化率の測定>合成例におけるポリイミドのイミド化率は次のようにして測定した。ポリイミド粉末20mgをNMRサンプル管草野科学社製NMRサンプリングチューブスタンダードに入れ、重水素化ジメチルスルホキシドDMSO-d6、0.05TMS混合品0.53mLを添加し、超音波をかけて完全に溶解させた。この溶液を日本電子データム株製NMR測定器JNW-ECA500にて500MHzのプロトンNMRを測定した。イミド化率は、イミド化前後で変化しない構造に由来するプロトンを基準プロトンとして決め、このプロトンのピーク積算値と、9.5~10.0ppm付近に現れるアミド酸のNH基に由来するプロトンピーク積算値とを用い以下の式によって求めた。イミド化率=1-αx/y×100上記式において、xはアミド酸のNH基由来のプロトンピーク積算値、yは基準プロトンのピーク積算値、αはポリアミック酸イミド化率が0の場合におけるアミド酸のNH基プロトン1個に対する基準プロトンの個数割合である。参考例1CBDA/DDMアミン末端過剰ポリアミック酸の重合メカニカルスターラーと窒素導入管を取り付けた200ml四口フラスコにDDM9.91g50.0mmol、脱水NMP107.3gを計り取り、窒素を流しながらDDMを完全に溶解させた後、水で冷やしながらCBDA9.02g46.0mmolをゆっくり加え、そのまま6時間反応させることにより、15質量のポリアミック酸溶液PAA-1を得た。PAA-1の分子量は9500/21400Mn/Mwであった。比較例1PAA-1を20.00g秤量し、NMP15.0gBCS15.0gを加えて希釈し、PAA-1が6質量、NMPが64質量、BCSが30質量の比較対象となる液晶配向処理剤配向剤―1を得た。実施例6TMPA修飾CBDA/DDMポリアミック酸の合成メカニカルスターラーと窒素導入管を取り付けた50ml四口フラスコにPAA-1を20.0g計り取り、TMPAMw:372.33g/molを0.38g1.03mmol:DDMに対し約0.10mol等量となるように加え、室温で24時間反応させることによりPAA-2を得た。この溶液にNMP15.0g、BCS15.0gを加えて希釈し、PAA-2が約6.0質量、NMPが64質量、BCSが30質量の本発明となる液晶配向処理剤配向剤-2を得た。実施例7TAOC修飾CBDA/DDMポリアミック酸の合成メカニカルスターラーと窒素導入管を取り付けた50ml四口フラスコにPAA-1を20.0g計り取り、TAOCMw:398.36g/molを0.43g1.03mmol:DDMに対し約0.10mol等量となるように加え、室温で24時間反応させることによりPAA-3を得た。この溶液にNMP15.0g、BCS15.0gを加えて希釈し、PAA-3が約6.0質量、NMPが64質量、BCSが30質量の本発明となる液晶配向処理剤配向剤-3を得た。実施例8ATOC修飾CBDA/DDMポリアミック酸の合成メカニカルスターラーと窒素導入管を取り付けた50ml四口フラスコにPAA-1を20.0g計り取り、ATOCMw:336.25g/molを0.35g1.03mmol:DDMに対し約0.10mol等量となるように加え、室温で24時間反応させることによりPAA-4を得た。この溶液にNMP15.0g、BCS15.0gを加えて希釈し、PAA-4が約6.0質量、NMPが64質量、BCSが30質量の本発明となる液晶配向処理剤配向剤-4を得た。実施例9EATC修飾CBDA/DDMポリアミック酸の合成メカニカルスターラーと窒素導入管を取り付けた50ml四口フラスコにPAA-1を20.0g計り取り、EATCMw:396.35g/molを0.41g1.03mmol:DDMに対し約0.10mol等量となるように加え、室温で24時間反応させることによりPAA-5を得た。この溶液にNMP15.0g、BCS15.0gを加えて希釈し、PAA-5が約6.0質量、NMPが64質量、BCSが30質量の本発明となる液晶配向処理剤配向剤-5を得た。参考例2TDA/p-PDA、C18DAB10アミン末端過剰ポリアミック酸の重合攪拌子と窒素導入管を取り付けた50ml枝つきナスフラスコにTDA4.50g15.0mmol、脱水NMP25.6gを計り取り、窒素を流しながらC18DAB1.88g5.00mmol、を加え40°Cで3時間反応させた。メカニカルスターラーと窒素導入管を取り付けた200ml四口フラスコにp-PDA4.87g45.0mmol、脱水NMP93.4gを計り取り、窒素を流しながらp-PDAを完全に溶解させた後、先に調製した反応溶液とTDA9.76g32.5mmolを水冷下でゆっくり加え、40°Cにて16時間反応させることにより、15質量のポリアミック酸溶液PAA-6を得た。PAA-6の分子量は9200/21300Mn/Mwであった。比較例2TDA/p-PDA、C18DAB10ポリイミドの合成攪拌子を入れた100mlナスフラスコにPAA-6を30.0g計り取り、NMP45.0g、無水酢酸10.9g106.8mmol、ピリジン5.08g64.2mmolを加え、室温で30分攪拌後、40°Cで3時間反応させた。反応後、約10°Cほどに冷却したメタノール300mlに攪拌しながら反応溶液をゆっくり注ぎ、固体を析出させた。析出した固体を濾過にて回収し、更にメタノール200mlを用いて2回分散洗浄した後、100°Cにて12時間乾燥させ、ポリイミドSPI-1を得た。SPI-1の分子量は8900/19500Mn/Mwであり、イミド化率は84であった。攪拌子を入れた100mlナスフラスコにSPI-1を3.0g計り取り、γ-BLを34.5g加え、50°Cで16時間攪拌し溶解させ、更にγ-BLを12.5g加え、SPI-1が6質量、γ-BLが94質量のポリイミド溶液SPI-1Sを得た。実施例10TMPA修飾TDA/p-PDA、C18DAB10ポリイミドの合成攪拌子を入れた100mlナスフラスコにPAA-6を30.0g計り取り、TMPAMw:372.33g/molを0.40g1.07mmol:ジアミンに対し約0.10mol等量となるように加え、40°Cで6時間反応させたのち、NMPを45.0g、無水酢酸10.9g106.8mmol、ピリジン5.08g64.2mmolを加え、室温で30分攪拌後、40°Cで3時間反応させた。反応後、約10°Cほどに冷却したメタノール300mlに攪拌しながら反応溶液をゆっくり注ぎ、固体を析出させた。析出した固体を濾過にて回収し、更にメタノール200mlを用いて2回分散洗浄した後、100°Cにて12時間乾燥させ、ポリイミドSPI-2を得た。SPI-2の分子量は9000/19800Mn/Mwであり、イミド化率は84であった。攪拌子を入れた100mlナスフラスコにSPI-2を3.0g計り取り、γ-BLを34.5g加え、50°Cで16時間攪拌し溶解させ、更にγ-BLを12.5g加え、SPI-2が6質量、γ-BLが94質量のポリイミド溶液SPI-2Sを得た。実施例11TAOC修飾TDA/p-PDA、C18DAB10ポリイミドの合成攪拌子を入れた100mlナスフラスコにPAA-6を30.0g計り取り、TAOCMw:398.36g/molを0.44g1.07mmol:ジアミンに対し約0.10mol等量となるように加え、40°Cで6時間反応させたのち、NMPを45.0g、無水酢酸10.9g106.8mmol、ピリジン5.08g64.2mmolを加え、室温で30分攪拌後、40°Cで3時間反応させた。反応後、約10°Cほどに冷却したメタノール300mlに攪拌しながら反応溶液をゆっくり注ぎ、固体を析出させた。析出した固体を濾過にて回収し、更にメタノール200mlを用いて2回分散洗浄した後、100°Cにて12時間乾燥させ、ポリイミドSPI-3を得た。SPI-3の分子量は8900/19200Mn/Mwであり、イミド化率は86であった。攪拌子を入れた100mlナスフラスコにSPI-3を3.0g計り取り、γ-BLを34.5g加え、50°Cで16時間攪拌し溶解させ、更にγ-BLを12.5g加え、SPI-3が6質量、γ-BLが94質量のポリイミド溶液SPI-3Sを得た。実施例12ATOC修飾TDA/p-PDA、C18DAB10ポリイミドの合成攪拌子を入れた100mlナスフラスコにPAA-6を30.0g計り取り、ATOCMw:336.25g/molを0.36g1.07mmol:ジアミンに対し約0.10mol等量となるように加え、40°Cで6時間反応させたのち、NMPを45.0g、無水酢酸10.9g106.8mmol、ピリジン5.08g64.2mmolを加え、室温で30分攪拌後、40°Cで3時間反応させた。反応後、約10°Cほどに冷却したメタノール300mlに攪拌しながら反応溶液をゆっくり注ぎ、固体を析出させた。析出した固体を濾過にて回収し、更にメタノール200mlを用いて2回分散洗浄した後、100°Cにて12時間乾燥させ、ポリイミドSPI-4を得た。SPI-4の分子量は8800/19100Mn/Mwであり、イミド化率は85であった。攪拌子を入れた100mlナスフラスコにSPI-4を3.0g計り取り、γ-BLを34.5g加え、50°Cで16時間攪拌し溶解させ、更にγ-BLを12.5g加え、SPI-4が6質量、γ-BLが94質量のポリイミド溶液SPI-4Sを得た。実施例13EATC修飾TDA/p-PDA、C18DAB10ポリイミドの合成攪拌子を入れた100mlナスフラスコにPAA-6を30.0g計り取り、EATCMw:396.35g/molを0.42g1.07mmol:ジアミンに対し約0.10mol等量となるように加え、40°Cで6時間反応させたのち、NMPを45.0g、無水酢酸10.9g106.8mmol、ピリジン5.08g64.2mmolを加え、室温で30分攪拌後、40°Cで3時間反応させた。反応後、約10°Cほどに冷却したメタノール300mlに攪拌しながら反応溶液をゆっくり注ぎ、固体を析出させた。析出した固体を濾過にて回収し、更にメタノール200mlを用いて2回分散洗浄した後、100°Cにて12時間乾燥させ、ポリイミドSPI-5を得た。SPI-5の分子量は8800/19100Mn/Mwであり、イミド化率は85であった。攪拌子を入れた100mlナスフラスコにSPI-5を3.0g計り取り、γ-BLを34.5g加え、50°Cで16時間攪拌し溶解させ、更にγ-BLを12.5g加え、SPI-5が6質量、γ-BLが94質量のポリイミド溶液SPI-5Sを得た。参考例3CBDA43、PMDA50/DDM100ポリアミック酸の重合メカニカルスターラーと窒素導入管を取り付けた300ml四口フラスコにDDM19.83g100.0mmol、脱水NMP111.0g、γ-BL111.0を計り取り、窒素を流しながらDDMを完全に溶解させた後、水で冷やしながらPMDA10.91g50.0mmol、CBDA8.43g43.0mmolをゆっくり加え、そのまま6時間反応させることにより、15質量のポリアミック酸溶液PAA-7を得た。PAA-7の分子量は10100/21400Mn/Mwであった。攪拌子を入れた1LのナスフラスコにPAA-7を250.0gを計り取り、γ-BL281.3g、BCSを93.8gを加えて希釈し、PAA-10が6質量、NMPが17質量、γ-BLが62質量、BCSが15質量のポリアミック酸溶液PAA-7Sを得た。比較例3攪拌子を入れた300mlナスフラスコに比較例2で調製したポリイミド溶液SPI-1Sの40.0gと参考例3にて調製したポリアミック酸溶液PAA-7Sの160gとを加えて24時間攪拌し、SPI-1が1.2質量、PAA-7が4.8質量、NMPが14質量、γ―BL68質量、BCSが12質量の比較対象となる液晶配向処理剤配向剤―6を得た。実施例14ポリイミド溶液SPI-1Sの代わりにポリイミド溶液SPI-2Sを用いて比較例3と同様の操作を行い、本発明となる液晶配向処理剤配向剤-7を得た。実施例15ポリイミド溶液SPI-1Sの代わりにポリイミド溶液SPI-3Sを用いて比較例3と同様の操作を行い、本発明となる液晶配向処理剤配向剤-8を得た。実施例16ポリイミド溶液SPI-1Sの代わりにポリイミド溶液SPI-4Sを用いて比較例3と同様の操作を行い、本発明となる液晶配向処理剤配向剤-9を得た。実施例17ポリイミド溶液SPI-1Sの代わりにポリイミド溶液SPI-5Sを用いて比較例3と同様の操作を行い、本発明となる液晶配向処理剤配向剤-10を得た。<液晶セルの作製>実施例および比較例で調製した液晶配向処理剤について、以下のようにして液晶セルを作製した。液晶配向処理剤を透明電極付きガラス基板にスピンコートし、80°Cのホットプレート上で70秒間乾燥させた後、220°Cのホットプレート上で10分間焼成を行い、膜厚100nmの塗膜を形成させた。ラビングによる液晶配向処理について、この塗膜面をロール径120mmのラビング装置でレーヨン布吉川化工社製:YA-20Rを用いて、ロール回転数1000rpm、ロール進行速度50mm/sec、押し込み量0.3mmの条件でラビングし、液晶配向膜付き基板を得た。このように液晶配向処理を行なった液晶配向膜付き基板を2枚用意し、その1枚の液晶配向膜面上に6μmのスペーサーを散布した後、その上からシール剤を印刷し、もう1枚の基板を液晶配向膜面が向き合いラビング方向が直行するようにして張り合わせツイストネマティック液晶セル、シール剤を硬化させて空セルを作製した。この空セルに減圧注入法によって、ツイストネマティックセルにおいては液晶MLC-2003メルク社製を注入し、注入口を封止して、ツイストネマティック液晶セルを得た。作製した各液晶セルの物性の測定、および特性の評価の方法を以下に記述した。<プレチルト角測定>作製したツイストネマティック液晶セルを105°Cで5分間加熱した後、プレチルト角の測定と電圧保持率の測定を行った。プレチルト角はAXOMETORICS社製のAxoScanを用いて測定した。<バックライトエージング試験前後の電圧保持率VHR測定>作製したツイストネマティック液晶セルの電圧保持率の測定は、90°Cの温度下で4Vの電圧を60μs間印加し、16.67ms後の電圧を測定し、電圧がどのくらい保持できているかを電圧保持率として計算した。また、測定終了後、40inch型液晶TV用バックライトモジュール上に3週間放置し、電圧保持率測定を行い変化率を見積もった。なお、電圧保持率の測定には東陽テクニカ社製のVHR-1電圧保持率測定装置を使用し、エージング前後の変化率算出式は以下の通り行った変化率算出式VHR変化率=1-×100表1表2表3本発明の光反応性基含有ジカルボン酸無水物にてポリマー末端を修飾したものにおいては側鎖ジアミンと併用していないPAAであるにも関わらずプレチルト角が発現しており、本発明光反応性基含有ジカルボン酸無水物にはプレチルト角向上の効果が確認された。またVHRにおいては末端基を修飾したものにおいてはバックライトエージングにおけるVHRの低下率が抑制されており、バックライト耐性向上の効果が見られた。"