個別に制御可能な光学素子のアレイであって、各素子が所望の照明モードを形成するために選択可能な複数の向きの間を移動可能である光学素子のアレイと、前記素子の1つ以上の向きを制御するコントローラであって、前記1つ又は複数の素子に入射する放射バーストによって前記1つ又は複数の素子に加えられる力を少なくとも部分的に補償する力を前記1つ又は複数の素子に加えるように構成されたコントローラとを備える照明システム。前記コントローラが、前記放射バーストによって前記1つ又は複数の素子に加えられる力と実質的に同期する力を加えるように構成される、請求項1に記載の照明システム。前記コントローラが、トリガ信号に応答して前記1つ又は複数の素子に力を加えるように構成される、請求項1又は2に記載の照明システム。光検出器をさらに備え、前記光検出器が、放射バーストを受光すると前記トリガ信号を生成するように構成される、請求項3に記載の照明システム。前記コントローラが、前記放射バーストが1つ又は複数の素子に入射する前に前記1つ又は複数の素子に力を加えて、前記1つ又は複数の素子がそこから所望の向きへ移動するオフセットされた向きへ前記放射バーストによって加えられた力によって前記1つ又は複数の素子を移動させるように構成される、請求項1に記載の照明システム。前記コントローラが、前記放射バーストが前記1つ又は複数の素子に入射する時に前記1つ又は複数の素子の向きをモニタするように構成され、また前記放射バーストが前記1つ又は複数の素子に入射していない時に前記1つ又は複数の素子の向きをモニタしないように構成される、請求項1から5のいずれかに記載の照明システム。請求項1から6のいずれかに記載の照明システムを備えるリソグラフィ装置であって、前記照明システムから送達された前記放射ビームを所望のパターンに従ってパターニングするように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成された支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記基板のターゲット部分上に前記パターン付ビームを投影するように構成された投影システムとをさらに備えるリソグラフィ装置。前記リソグラフィ装置が放射源による放射バーストの生成をトリガする信号を生成するように構成された放射源制御電子回路を含み、前記コントローラがこの信号を前記トリガ信号として使用する、請求項3及び7に記載のリソグラフィ装置。個別に制御可能な光学素子のアレイであって、各素子が所望の照明モードを形成するために選択可能な複数の向きの間を移動可能である光学素子のアレイと、1つ又は複数の素子の向きを制御するコントローラであって、前記コントローラが、放射バーストが1つ又は複数の素子に入射する前に前記1つ又は複数の素子をオフセットされた向きへ移動させるように構成され、前記オフセットされた向きが、前記放射バーストによって加えられた力が前記1つ又は複数の素子を所望の向きに移動させるように選択されるコントローラとを備える照明システム。前記コントローラが、前記放射バースト中に前記1つ又は複数の素子を前記所望の向きに保持し、前記放射バーストが終了した後に前記1つ又は複数の素子を前記オフセットされた向きに戻すように構成される、請求項9に記載の照明システム。照明システムの所望の照明モードを選択する方法であって、個別に制御可能な光学素子のアレイの素子を所望の照明モードに対応する向きへ移動させるステップと、放射バーストによって1つ又は複数の素子に加えられる力を少なくとも部分的に補償する力を前記1つ又は複数の素子に加えるステップとを含む方法。前記放射バーストによって前記1つ又は複数の素子に加えられる力に実質的に同期して前記補償力が前記1つ又は複数の素子に加えられる、請求項11に記載の方法。前記放射バーストが前記1つ又は複数の素子に入射する前に前記補償力が前記1つ又は複数の素子に加えられ、前記1つ又は複数の素子がそこから所望の向きへ移動するオフセットされた向きへ前記放射バーストによって加えられた力によって前記1つ又は複数の素子を移動させる、請求項11に記載の方法。個別に制御可能な光学素子のアレイを備え、各素子が、所望の照明モードを形成するために選択可能な複数の向きの間を移動可能であり、前記素子の1つ以上がイオン化ガスによって取り囲まれる照明システム。照明システムの所望の照明モードを選択する方法であって、個別に制御可能な光学素子のアレイの素子を前記所望の照明モードに対応する向きへ移動させるステップを含み、前記素子がイオン化ガスによって取り囲まれる方法。0005例えば従来技術のリソグラフィ装置と比較して耐久性が改善されたビームの空間強度分布を制御することができる照明システム及びリソグラフィ装置を提供することが望ましい。0006一態様によれば、照明システムが提供される。この照明システムは、個別に制御可能な光学素子のアレイであって、各素子が所望の照明モードを形成するために選択可能な複数の向きの間を移動可能である光学素子のアレイと、素子の1つ以上の向きを制御するコントローラであって、1つ又は複数の素子に入射する放射バーストによって1つ又は複数の素子に加えられる力を少なくとも部分的に補償する力を1つ又は複数の素子に加えるように構成されたコントローラとを備える。0007一態様によれば、照明システムが提供される。この照明システムは、個別に制御可能な光学素子のアレイであって、各素子が所望の照明モードを形成するために選択可能な複数の向きの間を移動可能である光学素子のアレイと、1つ又は複数の素子の向きを制御するコントローラであって、該コントローラが、放射バーストが1つ又は複数の素子に入射する前に1つ又は複数の素子をオフセットされた向きへ移動させるように構成され、オフセットされた向きが、放射バーストによって加えられた力が1つ又は複数の素子を所望の向きに移動させるように選択されるコントローラとを備える。0008一態様によれば、照明システムの所望の照明モードを選択する方法が提供される。この方法は、個別に制御可能な光学素子のアレイの素子を所望の照明モードに対応する向きへ移動させるステップと、放射バーストによって1つ又は複数の素子に加えられる力を少なくとも部分的に補償する力を1つ又は複数の素子に加えるステップとを含む。0009一態様によれば、照明システムが提供される。この照明システムは、個別に制御可能な光学素子のアレイを備え、各素子は、所望の照明モードを形成するために選択可能な複数の向きの間を移動可能であり、素子の1つ以上はイオン化ガスによって取り囲まれる。0010一態様によれば、照明システムの所望の照明モードを選択する方法が提供される。この方法は、個別に制御可能な光学素子のアレイの素子を所望の照明モードに対応する向きへ移動させるステップを含み、素子はイオン化ガスによって取り囲まれる。0015図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、0016放射ビームB例えばUV放射又はDUV放射を調節するように構成された照明システムイルミネータとしても知られるILと、0017パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造例えばマスクテーブルMTと、0018基板例えばレジストコートウェーハWを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル例えばウェーハテーブルWTと、0019パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C例えば1つ又は複数のダイを含むに投影するように構成された投影システム例えば屈折投影レンズシステムPSとを含む。0020照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組合せなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。0021支持構造は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。この支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。支持構造は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書においてレチクル又はマスクという用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語であるパターニングデバイスと同義と見なすことができる。0022本明細書において使用するパターニングデバイスという用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。0023パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルLCDパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。0024本明細書において使用する投影システムという用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において投影レンズという用語を使用した場合、これはさらに一般的な投影システムという用語と同義と見なすことができる。0025本明細書で示すように、本装置は透過タイプである例えば透過マスクを使用する。あるいは、装置は反射タイプでもよい例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する。0026リソグラフィ装置は、2つデュアルステージ又はそれ以上の基板テーブル及び/又は2つ以上の支持構造を有するタイプでよい。このようなマルチステージ機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、1つ又は複数の他のテーブルを露光に使用している間に1つ又は複数のテーブルで予備工程を実行することができる。0027リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で周知である。本明細書で使用する液浸という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。0028図1を参照すると、照明システムILは放射源SOから放射ビームを受ける。放射源及びリソグラフィ装置は、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び/又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムBDの助けにより、放射源SOから照明システムILへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源SO及び照明システムILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDとともに放射システムと呼ぶことができる。0029照明システムILは、放射ビームの角度強度分布を修正するように構成される装置を備えていてもよい以下に詳述する。また、照明システムILは、インテグレータ及びコンデンサなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。照明システムを用いて放射ビームを調節し、その断面に所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。0030放射ビームBは、支持構造例えば、マスクテーブルMT上に保持されたパターニングデバイス例えば、マスクMAに入射し、パターニングデバイスMAによってパターニングされる。パターニングデバイスMAを横断した放射ビームBは、投影システムPSを通過し、投影システムPSは、ビームを基板Wのターゲット部分C上に合焦させる。第2のポジショナPWと位置センサIF例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサの助けを借りて、基板テーブルWTは、例えば、様々なターゲット部分Cを放射ビームBの経路に位置決めできるように正確に移動できる。同様に、第1のポジショナPMと別の位置センサ図1には明示されていないを用いて、マスクライブラリからの機械的な取り出し後又はスキャン中などに放射ビームBの経路に対してパターニングデバイスMAを正確に位置決めできる。一般に、支持構造MTの移動は、第1のポジショナPMの部分を形成するロングストロークモジュール粗動位置決め及びショートストロークモジュール微動位置決めの助けにより実現できる。同様に、基板テーブルWTの移動は、第2のポジショナPWの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを用いて実現できる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、支持構造MTをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定してもよい。パターニングデバイスMA及び基板Wは、パターニングデバイスアライメントマークM1、M2及び基板アライメントマークP1、P2を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分Cの間の空間に位置してもよいスクライブレーンアライメントマークとして周知である。同様に、パターニングデバイスMA上に複数のダイを設ける状況では、パターニングデバイスアライメントマークをダイ間に配置してもよい。0031図示のリソグラフィ装置は、以下のモードのうち少なくとも1つにて使用可能である。1.ステップモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影されるすなわち単一静的露光。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。2.スキャンモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影されるすなわち単一動的露光。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大縮小及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分Cの非スキャン方向における幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分Cのスキャン方向における高さが決まる。3.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。0032上述した使用モードの組合せ及び/又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。0033図2は、照明システムILの一部を形成する装置の概略図である。この装置は、マイクロレンズアレイ13と、個別に制御可能な反射素子以後、ミラーと呼ぶのアレイ15と、光学系16とを備える。動作時に、放射ビームBは、マイクロレンズアレイ13を通過し、マイクロレンズアレイ13は放射ビームを複数の個別に平行化された放射サブビームに分離し、各々の放射サブビームは個別に制御可能なミラーのアレイ15の別々の反射ミラー15a~eに入射する。0034図2は、第1のミラー15aに入射する第1の放射サブビームを示す。個別に制御可能なミラーのアレイ15のその他のミラー15b~eと同様に、ミラー15aは、光学系16光学系は、例えば、合焦レンズを備えていてもよいを介して中間面17にサブビームを反射させる、中間面17は、例えば、リソグラフィ装置の二次放射源としての役割を果たす照明システムの瞳面であってもよい。その他のミラー15b~eは、再誘導光学系16を介して他のサブビームを平面17の他の領域へ反射する。ミラー15a~eの向きを調整してサブビームが入射する平面17内の場所を決定することで、平面17内のほとんどあらゆる空間強度分布を生成できる。したがって、ほとんどいかなる照明モードも形成でき、それによりリソグラフィ装置の処理の寛容度を向上させることができる。コントローラCT1を用いてミラー15a~eの向きを制御することができる。0035個別に制御可能なミラーのアレイ15は、図2では5つのミラー15a~eとして示されているが、実際はアレイ内にそれよりもはるかに多くのミラーを提供できる。個別に制御可能なミラーのアレイ15は、例えば、2次元アレイを備えていてもよい。ミラーのアレイ15は、例えば、100以上のミラーを備えていてもよく、例えば、1000以上のミラーを備えていてもよい。ミラーのアレイ15は、矩形であってもよい。0036マイクロレンズアレイ13は、別々のマイクロレンズが個別に制御可能なミラーのアレイ15の各ミラーに関連付けられるように構成できる。マイクロレンズアレイ13は、例えば、2次元アレイを備えていてもよい。マイクロレンズアレイ13は、例えば、100以上のマイクロレンズを備えていてもよく、例えば、1000以上のマイクロレンズを備えていてもよい。マイクロレンズアレイは矩形であってもよい。0037図3は、個別に制御可能なミラーのアレイの第1のアレイ15aの片側から見た概略図である他のミラー15b~eも同じ構成を有していてもよい。ミラー15aは、図3ではその一方だけを示す1対の脚20上に保持されている。ミラー15aは、両方向矢印で示すようにミラーの回転を可能にする旋回軸21を介して脚20に接続されている。第1及び第2の電極22、23以後、ミラー電極と呼ぶがミラー15aの下に提供されている。ミラー電極22、23と脚20の両方が基板25に固定されている。0038使用時に、コントローラCTIによってミラー電極22、23に電圧が印加される図2を参照。ミラー電極22、23に印加される電圧を用いてミラーの静電気の吸引力によってミラー15aの向きが制御される。例えば、第2のミラー電極23と比較して第1のミラー電極22により大きい電圧を提供すると、ミラー15aの左端部が第1のミラー電極側に引き付けられる。同様に、第1のミラー電極22と比較して第2のミラー電極23により大きい電圧を提供すると、ミラー15aの右端部が第2のミラー電極側に引き付けられる。このようにしてコントローラCT1は、ミラー電極22、23の電圧を制御することでミラー15aの向きを制御することができる。ミラー15aの向きは、ミラーが中間面17内の異なる所望の場所へ向けて放射サブビームを誘導し、様々な所望の照明モードに寄与するのに十分な精度で制御される。0039ミラー配向センサは、各ミラー15a~eに関連付けられている。ミラー配向センサは、例えば、ダイオードレーザと、基板25上に位置する光センサ図示せずとを備えてもよい。ダイオードレーザは、放射をミラーの背面上に誘導するように構成されてもよく、光センサは、反射した放射が基板で受光される場所を検出するように構成されてもよい。したがって、光センサからの出力は、ミラーの向きの表示を提供する。ダイオードレーザの代わりに、任意の好適な放射源を用いてもよい。ミラー配向センサは、任意の好適な配向測定装置を備えてもよい。0040配向センサの出力は、コントローラCT1によって受光され、それによりコントローラCT1にミラーの向きの表示を提供する。コントローラは、配向センサの出力に応答して1つ又は複数のミラー電極に提供される電圧を調整できる。配向センサ及びコントローラCT1は、サーボループを形成し、それを通してミラーを所望の向きへ動かし、所望の向きに保持するフィードバックが提供される。0041図3の説明を容易にするために、図3にはデカルト座標が含まれている。デカルト座標は、ミラー15a、基板25又はその他の任意のコンポーネントが特定の向きに保持されなければならないということを意味するものではない。0042デカルト座標を参照すると、旋回軸21によってミラー15aは、y軸を中心に回転することができる。ミラー15aを用いて照明モードを形成する際の柔軟性を提供するために、ミラーはx軸を中心に回転することもできる。x軸周りのミラーの回転は、ジンバル、又はx軸周りのミラーの回転を可能にするその他の任意の好適な支持体によって可能になる。そのような支持体は当技術分野で周知であるためここでは説明しない。本明細書では、図3に示すミラー15aは簡略化された概略的な形態で示され、本発明の実施形態で使用されるミラーは、図3に示すミラーとは大きく異なることが理解されよう。電極図示せずを用いてx軸周りのミラーの回転を制御することができる。0043リソグラフィ装置の動作中に、個別に制御可能なミラーのアレイ15のミラー15a~eの向きを選択して所望の照明モードに対応する中間面17内の放射ビームBの空間強度分布を提供できる。しかし、リソグラフィ装置によって使用される放射ビームBがバーストで提供される場合、その結果として1つ又は複数のミラー15a~eの向きが不安定になることがある。例えば、ミラーの1つ以上は放射ビームBのバーストによってその向きを変えられることがある。ミラー15a~eのこの運動は、中間面17内の放射ビームBの空間強度分布を変化させ、照明システムによって生成される照明モードを変化させることがある。照明モードの変化は、クリティカルディメンションなどのリソグラフィ装置の特性に有害な影響を与える、例えば、クリティカルディメンションを望ましくない方法で変化させることがある。0044放射バーストによって引き起こされるミラー15a~eの向きの変化は、ミラーを中立の向き例えば、図3に示す基板25に平行な向きへ移動させることがある。これは、ミラー電極22、23の1つ以上に印加される電圧によって提供される利得が放射によって低減されるからである。0045ミラー15a~eのそのような向きの変化はランダムでなくてもよいその代わりに、例えば、中立の向きへの変化であってもよいため、放射バーストによって、照明システムILによって投影システムPS図1へ送達される放射ビームの強度の変化が引き起こされることがある。照明モードが照明システムILの瞳の開口率に近い有意の強度を有する場合、放射バーストによって引き起こされるミラー15a~eの1つ以上の運動によって普通は瞳に入射しない放射が瞳に入射することがある。これによって、照明システムIL図1によって投影システムPSへ送達される放射ビームBの強度が増大する。放射ビームBの増大した強度は、リソグラフィ装置のクリティカルディメンションの不要な変化に寄与することがある。0046ミラー15a~eの向きは、1つ又は複数のミラー配向センサによって提供されるフィードバックを用いてコントローラCT1によって制御される上に詳述した。しかし、コントローラCT1の応答速度は、放射バーストの前縁よりも大幅に遅く、したがって、ミラー15a~eの向きが放射バーストによって変えられる速度よりも遅い場合がある。したがって、ミラー15a~eは、放射バーストの前縁によって移動させられ、放射バーストの間、ある時間だけ元の向きに戻る。放射バーストは、例えば、50~100msの間継続でき、その時間に、ミラー15a~eは、コントローラCT1によって元の位置に戻される。0047放射ビームBのバーストによって引き起こされるミラー15a~eの不要な運動の問題は本発明の実施形態によって対処される。0048ある実施形態では、コントローラCT1は、放射バーストがミラーアレイ15に入射する時に、又は放射バーストがミラーアレイに入射する前にトリガ信号を受信する。図3を参照すると、コントローラCT1がトリガ信号を受信する時、コントローラCT1は、放射バーストによって1つ又は複数のミラーに加えられる力と大きさが等しく方向が逆の力をミラー15a~eの1つ以上に加える。この力は、ミラー電極の1つ以上に印加される電圧を変化させることで加えられる。放射バーストが1つ又は複数のミラー15a~eに入射すると、放射バーストによって加えられる力は、コントローラCT1によって加えられる力によって打ち消される。したがって、1つ又は複数のミラー15a~eは、依然として所望の向きにあり放射バーストによって偏向しない。0049本発明のある実施形態では、上記実施形態を使用しなかった場合と比較してより高精度に所望の照明モードを生成することができる。コントローラCT1は、放射バーストの効果を補償する力を1つ又は複数のミラー15a~eに加えるといってもよい。0050理想的な構成では、トリガ信号は、放射バーストと同期しており、したがって、コントローラCT1によって1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる力は、放射バーストによって1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる力を正確に打ち消す。同期が完全でない場合でも、放射バーストによって1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる力は部分的に補償されるので、依然として有益な効果が見られる。不完全な同期は実質的同期と呼ぶことができる。0051従来のリソグラフィ装置は、関連付けられた放射源SO図1を参照のためのトリガ信号を生成する放射源制御電子回路を含み、放射源にリソグラフィ装置が使用する放射ビームを提供させる。放射源SOは、例えば、レーザであってもよい。トリガ信号を用いて、リソグラフィ装置によって放射バーストが必要とされる時にのみレーザによって放射バーストが確実に生成されるようにする。これらの同じトリガ信号はコントローラCT1へ送信でき、また上記のように、トリガ信号を用いて、コントローラCT1がミラー15a~eの1つ以上に力を加えてレーザバーストの効果を補償させるようにトリガすることができる。トリガ信号は、コントローラCT1によって受信される前に、例えば遅延線などの遅延装置を用いて遅延させてもよい。遅延装置は、調整可能な遅延を提供してもよい。遅延は、コントローラによって1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる力と放射バーストによって1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる力との間に同期を提供するように選択できる。0052ある実施形態では、放射源制御電子回路から受信したトリガ信号に応答して1つ又は複数のミラー15a~eに力を加える代わりに、放射感応性検出器から受信したトリガ信号に応答して力が加えられる。放射感応性検出器は、例えば、ミラーアレイ15付近に位置してもよく、コントローラCT1に接続されてもよい。0053放射バーストが存在する場合に1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる力は実験的較正に基づいて決定できる。放射バーストが存在する場合の1つ又は複数のミラー15a~eの挙動は再現性が高い。実験的較正は、例えば、1つ又は複数のミラー15a~eに入射する放射バーストの強度の関数として1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる力を測定するステップを含んでもよい。加えられた力は、放射バーストによって引き起こされるミラーの回転を測定することで間接的に測定できる。ある範囲の強度値について較正を実行できる。コントローラCT1は、較正値の間の補間を使用できる。較正は、異なる照明モードについて実行できる。1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる力を、例えばカルマンフィルタを用いてリソグラフィ装置の動作中にモニタして修正できる。0054本発明の上記実施形態は、ミラー15a~eに加えられる力のフィードフォワード補正を提供すると考えてもよい。0055本発明のある実施形態では、1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる力のフィードフォワード補正を提供する代わりに、1つ又は複数のミラー15a~eを移動して放射バーストがそこに入射する前に向きをオフセットする。オフセットされた向きは、1つ又は複数のミラー15a~eに放射バーストが入射する時に、放射バーストが1つ又は複数のミラー15a~eを所望の向きに移動させる向きである。1つ又は複数のミラー15a~eは、それによって放射バーストが存在する場合に所望の照明モードを提供する。0056本発明のこの実施形態は、コントローラCT1が1つ又は複数のミラー15a~eを維持しようとする向きである設定点の観点から説明できる。所与のミラーの第1の設定点は、そのミラーの所望の向き以後、所望の設定点と呼ぶである。ミラーの第2の設定点は、放射バーストによって引き起こされるミラーの移動に等しい量だけ逆方向に所望の向きから変位した向き以後、オフセットされた設定点と呼ぶである。0057リソグラフィ装置の動作中に、放射がミラーに入射していない時にミラーを設定点に保持できる。放射バーストがミラーに入射する時には、それによってミラーは所望の向きへ移動する。放射バーストがミラーに入射する時には、コントローラCT1は、オフセットされた設定点の印加から所望の設定点の印加へ切り替える。コントローラCT1は、放射バーストの間にミラーを所望の向きに保持し、放射バーストの間にミラーをオフセットされた向きへ移動することはない。放射バーストが終了すると、コントローラCT1は所望の設定点の印加からオフセットされた設定点の印加へ切り替える。このようにしてミラーは、オフセットされた向きへ移動して次の放射バーストの入射に備える。0058本発明のこの実施形態を設定点に関して説明してきたが、力に関して理解することもできる。例えば、ミラーに放射が入射していない時には、力がミラーに加わり、ミラーはオフセットされた設定点へ移動する。この力は、ミラーを所望の位置へ移動させるのに必要な力と、放射バーストによってミラーに加えられる力に等しく符号が逆の力の総計に実質的に等価である。ミラーに放射バーストが入射する時には実質的に同じ力がミラーに加えられるので、ミラーは所望の向きに保持される。0059オフセットされた設定点の位置は、実験的較正に基づいて決定できる。上記のように、放射バーストがある時の1つ又は複数のミラー15a~eの挙動は極めて再現可能である。実験的較正は、例えば、1つ又は複数のミラー15a~eに入射する放射バーストの強度の関数としての1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる向きの変化を測定するステップを含んでもよい。ある範囲の強度値について較正を実行できる。コントローラCT1は、較正値の間の補間を使用できる。較正は、異なる照明モードについても実行できる。0060オフセットされた設定点の位置をリソグラフィ装置の動作中にモニタして修正できる。例えば、放射バーストによって引き起こされるミラーの運動をミラー配向センサを用いて測定できる。この運動が、所望の設定点とオフセットされた設定点との差と比較される。比較で差が明らかになると、それに従ってオフセットされた設定点は修正される。この比較と調整は放射バーストごとに実行してもよく、又はそれより少ない頻度で実行してもよい。0061コントローラCT1は、トリガ信号に応答して所望の設定点を印加する処理とオフセットされた設定点を印加する処理とを切り替えることができる。トリガ信号は、例えば、放射源制御電子回路によって、放射感応性検出器によって、又はその他の任意の好適な手段によって生成可能である。トリガ信号のタイミングの精度は、本発明のフィードフォワード実施形態の場合よりも低くてもよい。トリガ信号は、例えば、コントローラの応答よりも高速でコントローラCT1をオフセットされた設定点から所望の設定点へ切り替えることが可能な精度であってもよい。言い換えれば、放射バーストが1つ又は複数のミラー15a~eに入射する時には、コントローラの設定点はオフセットされた設定点から所望の設定点へ切り替えられ、次に、コントローラは、1つ又は複数のミラー15a~eをオフセットされた設定点へ移動させる。設定点のこの変化は、放射バーストが1つ又は複数のミラー15a~eに入射する前に、又は放射バーストが1つ又は複数のミラー15a~eに入射する間に生起してもよい。0062ある実施形態では、1つ又は複数のミラー15a~eの向きは、放射バーストが1つ又は複数のミラー15a~eに入射する時にだけコントローラCT1によってモニタされる。放射バーストが1つ又は複数のミラー15a~eに入射する時には、1つ又は複数のミラー15a~eを所望の向きに保持するために放射バーストによって1つ又は複数のミラー15a~eに加えられる力が、1つ又は複数のミラー電極22、23に印加される電圧を決定する時にコントローラCT1によって考慮される。放射バーストが終了すると、コントローラCT1は1つ又は複数のミラー15a~eの向きのモニタを停止する。したがって、放射バーストによって引き起こされる回転が終了すると、コントローラは放射バーストがない状態で1つ又は複数のミラー15a~eを所望の向きに保持するためにミラー電極22、23の1つ以上に印加される電圧を変更することはない。その代わりに、1つ又は複数のミラー15a~eは、所望の向きから放射バーストによって引き起こされる回転を引いた向きに対応する向きへ移動するようにしていてもよい。1つ又は複数のミラー15a~eに次の放射バーストが入射すると、1つ又は複数のミラー15a~eは所望の向きに戻る。1つ又は複数のミラー15a~eは、放射バーストの間コントローラCT1によって所望の向きに保持される。0063放射バーストにミラーを移動させるメカニズムはまだ解明されていない。しかし、放射ビームのバーストの間にミラーアレイ15のミラー上に電荷が堆積し、放射ビームがミラーに入射する時に電荷が放出されるということが考えられる。電荷のこの放出によってミラーはその向きを変更する可能性があるミラーは静電気の吸引力で作動するため。0064ある実施形態では、放射バーストによって引き起こされる1つ又は複数のミラー15a~eの回転を解消又は低減するためにミラーアレイ15の環境が修正される。ある実施形態では、1つ又は複数のミラー15a~eは、イオン化ガス例えば、イオン化空気によって取り囲まれている。イオン化ガスは、1つ又は複数のミラー15a~e上の電荷の堆積を防止又は低減する。これによって放射バーストから生起する1つ又は複数のミラー15a~eの運動が低減又は解消される。本発明のこの実施形態を本発明の他の実施形態と併用することもできる。0065ミラーアレイ15の1つ又は複数のミラー15a~eをイオン化ガスで取り囲むことでミラーの向きの応答におけるドリフトを低減できる。このドリフトはミラーアレイ15のミラー上の電荷の堆積から発生し、ミラー電極の1つ以上に印加される電圧が一定であるとしてもこの電荷がミラーの向きを経時的に変化させる。ドリフトの低減は、ミラーアレイ15を用いた照明モードの形成の精度を上げるため有利である。さらに、より迅速に1つ又は複数のミラー15a~eを所望の向きに移動させることができる。これは、ミラー応答のドリフトによる向きのフィードフォワード補正が小さくなり、補正の実行速度が上がるためである。0066ミラーは静電気で作動するため、その静電気を帯びる性質は埃を吸引する結果を招く。ミラーアレイ15のミラーをイオン化ガスで取り囲むことで埃がミラーに吸着することを防止できる又はミラーへの埃の吸着を低減できる。0067以上、ミラーアレイに関して本発明の実施形態を説明してきたが、本発明は、個別に制御可能な光学素子例えば、反射型、屈折型又は回折型の任意の好適なアレイに適用可能である。0068本文ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書でウェーハ又はダイという用語を使用している場合、それぞれ、基板又はターゲット部分という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール、メトロロジーツール及び/又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板は、例えば多層ICを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。0069本明細書で使用される放射及びビームという用語は、紫外UV放射例えば、365nm、355nm、248nm、193nm、167nm若しくは126nmの波長又はこれら辺りの波長を有する、及びEUV放射例えば、約13.5nm以下の波長を有するを含めて、あらゆるタイプの電磁放射を網羅する。0070レンズという用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電気光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか一つ、又はその組合せを指すことができる。0071以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の1つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスクの形態をとることができる。0072上記の説明は例示的であり、限定的ではない。それ故、添付の特許請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。