複数の棒状ヒータランプが並列配置されるとともに、該ヒータランプを点灯制御する制御部を備えた熱処理装置において、前記ヒータランプは、中央ランプ群と、その両側に配置された端部ランプ群とに区分けされ、前記制御部は、前記端部ランプ群を構成するヒータランプを点灯した後に、前記中央ランプ群を構成するヒータランプを点灯するよう制御することを特徴とする熱処理装置。前記制御部は、前記端部ランプ群に対応したワークの照射領域の加熱温度Tbが熱反応温度Tsに到達する昇温時間T1が、前記中央ランプ群に対応したワークの照射領域の加熱温度Taが熱反応温度Tsに到達する昇温時間T2よりも大きい関係にあって、前記端部ランプ群に対応した照射領域と、中央ランプ群に対応した照射領域との、熱反応温度以上の温度領域にいる反応時間帯が一致するように、両ランプ群の点灯開始時間が制御されていることを特徴とする請求項1に記載の熱処理装置。前記端部ランプ群に対応した照射領域の加熱温度Tbと、前記中央ランプ群に対応した照射領域の加熱温度Taが、同じタイミングで熱反応温度Tsに到達するように制御されていることを特徴とする請求項2に記載の熱処理装置。前記端部ランプ群に対応した照射領域の加熱温度Tbと、前記中央ランプ群に対応した照射領域の加熱温度Taが、熱反応温度Ts以上の所定の最高温度Thに、同じタイミングで到達するように制御されていることを特徴とする請求項2に記載の熱処理装置。前記ヒータランプは、並列配置された第1のヒータランプ群と、該第1のヒータランプ群と直交する方向に並列配置された第2のヒータランプ群が、井桁状に重ねて配置されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の熱処理装置。この発明が解決しようとする課題は、複数の棒状ヒータランプが並列配置されるとともに、該ヒータランプを点灯制御する制御部を備えた熱処理装置において、余計な部材を使うことなく、簡単な制御によって、ワーク表面を均一加熱できるようにすることである。上記課題を解決するために、この発明に係る熱処理装置は、前記複数のヒータランプを、中央ランプ群と、その両側に配置された端部ランプ群とに区分けし、前記制御部は、前記端部ランプ群を構成するヒータランプを点灯した後に、前記中央ランプ群を構成するヒータランプを点灯するよう制御することを特徴とする。また、前記端部ランプ群に対応した照射領域の加熱温度Tbがワーク反応温度Tsに到達する昇温時間T1が、前記中央ランプ群に対応したワークの照射領域の加熱温度Taが熱反応温度Tsに到達する昇温時間T2よりも大きい関係にあって、前記制御部は、前記端部ランプ群に対応した照射領域と、中央ランプ群に対応した照射領域との、熱反応温度以上の温度領域にいる反応時間帯が一致するように、両ランプ群の点灯開始時間が制御されることを特徴とする。また、前記端部ランプ群に対応した照射領域の加熱温度Tbと、中央ランプ群に対応したワークの照射領域の加熱温度Taが、同じタイミングにて、熱反応温度Tsに到達するように、両ランプ群の点灯開始時間が制御されることを特徴とする。また、前記端部ランプ群に対応した照射領域の加熱温度Tbと、前記中央ランプ群に対応した照射領域の加熱温度Taが、熱反応温度Ts以上の所定の最高温度Thに、同じタイミングで到達するように制御されていることを特徴とする。また、前記ヒータランプは、並列配置された第1のヒータランプ群と、該第1のヒータランプ群と直交する方向に並列配置された第2のヒータランプ群が、井桁状に重ねて配置されていることを特徴とする。この発明の熱処理装置によれば、まず、端部ランプ群を構成するヒータランプを先に点灯させて、その後に中央ランプ群を点灯させることにより、昇温速度の遅いワーク周辺に対応したヒータランプを先に点灯させ、昇温速度の速いワーク中央に対応したヒータランプを後に点灯させることになるので、目的とするワークの熱処理が始まる所定の熱反応温度以上の温度領域にある反応時間帯をワーク表面全領域で一致させることができて、その処理が均一になされるという効果を奏する。図1は本発明の熱処理装置1の全体上面図で、複数の棒状のヒータランプ2、2が、ワークWの上方でこれと対向するように並列配置されている。各ヒータランプ2は、石英ガラスなどの光透過性材料からなる発光管3内部にフィラメント4を有するフィラメントランプである。この発光管3内部には、臭素などのハロゲンガスが封入されており、いわゆるハロゲンサイクルを行っている。このヒータランプ2の数値例をあげると、長さ300mm、外径φ13mm、定格電力2000Wである。これら複数のヒータランプ2、2は、ワークWの中央部に対応する中央ランプ群Aと、該中央ランプ群Aの両側に配置されて、ワークWの両端部に対応する端部ランプ群Bとに区分される。この実施例では、複数のヒータランプ2、2のうち、中央部に位置する5本が中央ランプ群Aを構成し、その両側に位置する2本ずつが端部ランプ群Bを構成しているが、これに限られず、ワークWの大きさとヒータランプ2の本数によって、その区分けは適宜な本数ずつに区分けされる。図2に示されるように、ヒータランプ2、2の上方には反射鏡5が設けられ、前記ヒータランプ2、2は制御部6によって点灯制御される。そして、ヒータランプ2の下方にはステージ7上に載置された例えば、半導体ウエハなどのワークWが対向して配置されていて、該ステージ7には温度センサーが取り付けられており、制御部6にフィードバックされる。上記ランプ群A、Bに属する各ヒータランプ2、2は制御部6によって図3、4に示すように、点灯を制御される。図3は、本発明の第1の点灯パターンを示し、図4は、第2の点灯パターンを示し、図3、4の縦軸はワークWの表面温度°Cを表し、横軸は時間秒を表す。また、図5は従来例の点灯パターンであって、まず当該従来例の点灯パターンを説明する。すべてのランプが同時に点灯を開始し、温度が上昇していくが、ワークの端部領域では、その昇温速度Tbは、中央部領域の昇温速度Taよりも遅いため、ワークが熱反応する熱反応温度Tsに到達する時間T1、T2に差ができる。そして、その後所定の時間経過後にランプを同時に消灯すると、ワークの温度は降下していくが、熱反応温度Tsまで降下する時間にも大きな開きができ、その結果、ワークの中央部領域と端部領域が熱反応温度Ts以上の温度領域にある反応時間帯Δta、Δtbに大きな差ができてしまう。上記熱反応温度や反応時間は、ワークの材質や求める処理によって決定されるものであるが、端部領域側の時間Δtbに合わせて点灯パターンを設定すると、中央部領域の時間Δtaが長すぎて、中央部領域の反応に前述のような不具合が生じるし、中央部領域側の反応時間Δtaに合わせて設定すると、端部領域の反応時間Δtbの時間が短すぎて反応が十分に行われず、その結果、ワークの全表面での反応にむらが生じるという不具合が生じる。これに対して本発明では、図3、図4に示すように、点灯開始時間を調整して、ワーク中央部領域と端部領域が熱反応時間以上の温度領域にいる反応時間帯をほぼ一致させるようにしている。図3は、ワークの中央部領域が熱反応温度Tsに到達する時間t3と、端部領域が到達する時間t5とが一致するように点灯を制御するものである。すなわち、先ず、端部ランプ群Bが時間t1に点灯され、それより、時間Δt1経過後に、中央ランプ群Aが点灯される。これらランプ群A、Bの点灯により、ワークの中央領域と端部領域はそれぞれ昇温していくが、その昇温速度TaTbには差があり、それぞれ時間t3と時間t5に熱反応温度Tsに到達する。そして、これらの時間t3とt5とが一致するように、前記点灯開始時間t1、t2が調整制御される。そして、中央ランプ群Aと端部ランプ群Bは、それぞれ所定の時間数秒経過後に消灯される。この間、ワークの中央部領域および端部領域の温度は所定の最高温度Thに到達した後に、ランプが消灯されて下降して、それぞれ、時間t4および時間t6において熱反応温度Tsに至る。この熱反応温度Ts以上の温度領域にある時間帯Δta、Δtbが反応時間である。また、図4は、ワークの中央部領域と端部領域の温度が、熱反応温度Ts以上の所定の最高温度Thに同時に到達するように制御するものである。先ず、端部ランプ群Bが時間t1に点灯され、それより、時間Δt1経過後に、中央ランプ群Aが点灯される。これらランプ群A、Bの点灯により、ワークの中央部領域と端部領域はそれぞれ昇温していくが、その昇温速度TaTbには差があり、それぞれ時間t3と時間t5に熱反応温度Tsに到達する。この時点では両領域の熱反応温度Tsへの到達時間には若干の差があるが、両領域は更に昇温していき、最高温度Thにほぼ同じタイミングで到達する。この最高温度到達時間t7が一致するように、前記点灯開始時間t1、t2が調整制御される。その時点で、ランプは消灯されてワーク温度は下降していき、それぞれ熱反応温度Tsまで降温するが、この熱反応温度Ts以上の温度領域にある時間帯Δta、Δtbが反応時間である。上記いずれの点灯パターンにおいても、中央ランプ群Aと端部ランプ群Bの点灯開始時間をずらせ、昇温速度の遅いワークの端部領域に対応する端部ランプ群Bを先に点灯させ、所定時間経過後にワークの中央部領域に対応する中央ランプ群を点灯させるので、両領域が熱反応温度以上の温度領域にある時間帯をほぼ一致させることができて、従来例との比較において、ワーク表面での温度均一性を格段に向上させることができる。なお、熱反応時間帯を一致させるという表記は、厳密な意味で一致させることを意味するものではなく、ワークの全表面での熱処理に実用上むらが生じないように、従来例との比較においてワークの中央部領域と端部領域が熱反応温度以上の温度領域にいる時間帯がほぼ一致していればよいものである。このように、本発明は、同一のヒータランプを並列配置した熱処理装置において、ワークのうち昇温速度の遅い端部領域に対応する端部ランプ群を先に点灯して、その後に昇温速度の速い中央部領域に対応する中央ランプ群を点灯することで、ワークの全表面領域で熱反応温度以上の温度領域にいる熱反応時間帯をほぼ同じにすることができるので、その表面での熱反応処理が全領域で均一になされるものである。図6は本発明の他の実施例を示す。この実施例では、図6Aに示されるように、ワークWの上方に、第1のヒータランプ群Xと第2のヒータランプ群Yとが配置されている。そして、図6Bに示されるように、第1ヒータランプ群Xは、ワークWの上方に複数のヒータランプ2、2が並列配置されており、第2ヒータランプ群Yのヒータランプ2、2は、前記第1ヒータランプ群Xの上方に、その管軸方向がこれと直交するように井桁状に並列配置されている。そして、これらの第1ヒータランプ群Xおよび第2ヒータランプ群Yは、それぞれ、中央ランプ群Aと、その両側の端部ランプ群Bとに区分されている。上記構成において、図6には不図示の制御部によって、第1ヒータランプ群Xと第2ヒータランプ群Yのそれぞれの端部ランプ群B、Bを先ず点灯させ、その後、所定時間経過後に中央ランプ群A、Aを点灯させるものである。前記図1、2に示す実施例では、ワークW表面でのヒータランプの管軸方向の温度均一性は、ランプ2の長さをワークWより所定長だけ長くすることによって達成されるものであるが、図6に示す他の実施例においては、第1ヒータランプ群Xにおけるランプ管軸方向でのワークの温度均一性は、これと直交配置された第2ヒータランプ群Yによって達成されるものである。これによってワークWの全表面においてより精度の高い温度均一性が得られて、より精緻な加熱処理が達成できる。