"セルロース樹脂を溶解する重合性成分A1を5質量以上75質量以下含む重合性化合物A、屈折率が1.50以下である粒子B及びセルロース樹脂を溶解する溶剤成分D1を5質量以上60質量未満含む溶剤Dを含有する硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程を含む、反射防止用積層体の製造方法ここでセルロース樹脂を溶解する重合性成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを6gの該成分に25°Cで2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1以上である成分をいい、セルロース樹脂を溶解する溶剤成分とは、同フィルムの質量減少率が4以上である成分をいう。。2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、N-ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種である重合性成分A1を5質量以上75質量以下含む重合性化合物A、屈折率が1.50以下である粒子B及びセルロース樹脂を溶解する溶剤成分D1を5質量以上60質量未満含む溶剤Dを含有する硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程を含む、反射防止用積層体の製造方法ここでセルロース樹脂を溶解する溶剤成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを6gの該成分に25°Cで2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が4以上である成分をいう。。請求項1または請求項2において、前記D1成分は、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、アセチルアセトンおよびジアセトンアルコールから選択される少なくとも1種である、反射防止用積層体の製造方法。セルロース樹脂を溶解する重合性成分A1を5質量以上75質量以下含む重合性化合物A、屈折率が1.50以下である粒子B及びセルロース樹脂を溶解する溶剤成分D1を5質量以上60質量未満含む溶剤Dを含有する、反射防止用積層体を製造するために用いられる硬化性組成物ここでセルロース樹脂を溶解する重合性成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを6gの該成分に25°Cで2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1以上である成分をいい、セルロース樹脂を溶解する溶剤成分とは、同フィルムの質量減少率が4以上である成分をいう。。2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、N-ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種である重合性成分A1を5質量以上75質量以下含む重合性化合物A、屈折率が1.50以下である粒子B及びセルロース樹脂を溶解する溶剤成分D1を5質量以上60質量未満含む溶剤Dを含有する、反射防止用積層体を製造するために用いられる硬化性組成物ここでセルロース樹脂を溶解する溶剤成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを6gの該成分に25°Cで2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が4以上である成分をいう。。請求項4または請求項5において、前記D1成分は、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、アセチルアセトンおよびジアセトンアルコールから選択される少なくとも1種である、硬化性組成物。セルロース樹脂からなる基材と、前記セルロース樹脂とアクリル系樹脂とを含有する第一の層と、屈折率が1.50以下である粒子Bとバインダー樹脂とを含有する第二の層と、をこの順番で備える、反射防止用積層体。請求項7において、前記第二の層は、さらに前記セルロース樹脂を含有する、反射防止用積層体。請求項7または請求項8において、前記アクリル系樹脂は、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、N-ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種の重合性成分A1を含む重合性組成物の重合物である、反射防止用積層体。請求項7ないし請求項9のいずれか一項において、前記粒子Bが中空シリカ粒子である、反射防止用積層体。請求項7ないし請求項10のいずれか一項において、前記バインダー樹脂は、多官能のメタアクリルエステル化合物若しくは多官能のビニル化合物またはこれらの両方を含有する重合性化合物の重合物である、反射防止用積層体。しかしながら、従来の方法では、シリカ粒子の偏在性が不安定で十分な反射防止性が得られないばかりでなく、硬化膜表面の耐擦傷性に優れないという問題があった。そこで、上記の問題を解決するため、本願発明者らは、特願2010-263407号において、低屈折率性および耐擦傷性に優れ、かつ低ヘイズの硬化膜を一度の塗布工程で形成できる硬化性組成物を提案した。ところが、その硬化性組成物を基材に塗布した後、その塗布された膜中に含まれる粒子を偏在化させるのに時間を要するという課題が残されていた。この粒子の偏在化に要する時間を短縮することができれば、さらなる生産性の向上が期待できる。そこで、本発明に係る幾つかの態様は、上記課題を解決することで、低屈折率性および耐擦傷性に優れ、かつ低ヘイズの硬化膜を形成できると共に、粒子の偏在化に要する時間を短縮できる硬化性組成物、あるいは該硬化膜を有する反射防止用積層体ならびにその製造方法を提供するものである。本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することができる。[適用例1]本発明に係る反射防止用積層体の製造方法の一態様は、セルロース樹脂を溶解する重合性成分A1を5質量以上75質量以下含む重合性化合物A、屈折率が1.50以下である粒子B及びセルロース樹脂を溶解する溶剤成分D1を5質量以上60質量未満含む溶剤Dを含有する硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程を含むことを特徴とする。[適用例2]本発明に係る反射防止用積層体の製造方法の一態様は、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、N-ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種である重合性成分A1を5質量以上75質量以下含む重合性化合物A、屈折率が1.50以下である粒子B及びセルロース樹脂を溶解する溶剤成分D1を5質量以上60質量未満含む溶剤Dを含有する硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程を含むことを特徴とする。[適用例3]適用例1または適用例2の反射防止用積層体の製造方法において、前記D1成分は、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、アセチルアセトンおよびジアセトンアルコールから選択される少なくとも1種であることができる。[適用例4]本発明に係る硬化性組成物の一態様は、反射防止用積層体を製造するために用いられる硬化性組成物であって、セルロース樹脂を溶解する重合性成分A1を5質量以上75質量以下含む重合性化合物A、屈折率が1.50以下である粒子B及びセルロース樹脂を溶解する溶剤成分D1を5質量以上60質量未満含む溶剤Dを含有することを特徴とする。[適用例5]本発明に係る硬化性組成物の一態様は、反射防止用積層体を製造するために用いられる硬化性組成物であって、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、N-ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種である重合性成分A1を5質量以上75質量以下含む重合性化合物A、屈折率が1.50以下である粒子B及びセルロース樹脂を溶解する溶剤成分D1を5質量以上60質量未満含む溶剤Dを含有することを特徴とする。[適用例6]適用例4または適用例5の硬化性組成物において、前記D1成分は、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、アセチルアセトンおよびジアセトンアルコールから選択される少なくとも1種であることができる。なお、上記の適用例において、セルロース樹脂を溶解する重合性成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを6gの該成分に25°Cで2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1以上である成分をいい、セルロース樹脂を溶解する溶剤成分とは、同フィルムの質量減少率が4以上である成分をいう。[適用例7]本発明に係る反射防止用積層体の一態様は、セルロース樹脂からなる基材と、前記セルロース樹脂とアクリル系樹脂とを含有する第一の層と、屈折率が1.50以下である粒子Bとバインダー樹脂とを含有する第二の層と、をこの順番で備えることを特徴とする。[適用例8]適用例7の反射防止用積層体において、前記第二の層は、さらに前記セルロース樹脂を含有することができる。[適用例9]適用例7または適用例8の反射防止用積層体において、前記アクリル系樹脂は、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、N-ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種の重合性成分A1を含む重合性組成物の重合物であることができる。[適用例10]適用例7ないし適用例9のいずれか一例の反射防止用積層体において、前記粒子Bが中空シリカ粒子であることができる。[適用例11]適用例7ないし適用例10のいずれか一例の反射防止用積層体において、前記バインダー樹脂は、多官能のメタアクリルエステル化合物若しくは多官能のビニル化合物またはこれらの両方を含有する重合性化合物の重合物であることができる。本発明に係る反射防止用積層体の製造方法によれば、硬化性組成物中にD1成分が含まれることで、A1成分が基材を構成するセルロース樹脂を溶解するよりも速く、D1成分がセルロース樹脂を溶解する傾向が発現する。そうすると、セルロース樹脂との親和性が低いB粒子は、セルロース樹脂基材に塗布したときの塗膜以下、硬化性組成物層という中のセルロース樹脂濃度が低い側すなわち、硬化性組成物層中のセルロース樹脂基材と反対側へ速やかに偏在化することができる。これにより、粒子の偏在化に要する時間を短縮することができるため、さらなる生産性の向上が期待できる。本発明に係る反射防止用積層体によれば、第二の層はB粒子が高密度に存在する層以下、低屈折率層ともいうとなり、セルロース樹脂基材と接触する第一の層はB粒子が実質的に存在しない層以下、ハードコート層ともいうとなるため、反射防止性、耐擦傷性および低ヘイズを兼ね備えることができる。以下、本発明に係る好適な実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は、下記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において実施される各種の変型例も含む。1.硬化性組成物本実施の形態に係る硬化性組成物は、A重合性化合物と、B屈折率が1.50以下である粒子と、D溶媒と、を含有する。以下、本実施の形態に係る硬化性組成物の各成分について詳細に説明する。なお、本明細書においてAないしDの各材料を、それぞれA成分ないしD成分と省略して記載することもある。1.1.A重合性化合物本実施の形態で用いられるA重合性化合物は、重合性を有する化合物であれば特に限定されないが、エチレン性不飽和基を有する化合物が好ましい。A重合性化合物は、基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物以下、A1成分ともいうと、A1成分以外の重合性化合物以下、A2成分ともいうと、に分類することができる。なお、本実施の形態に係る硬化性組成物中におけるA成分の含有量は、D溶媒を除く成分の合計を100質量としたときに、80~99質量が好ましく、90~98質量がさらに好ましい。A成分の含有量が上記範囲にあることにより、高硬度、反射防止性および耐擦傷性を兼ね備えた硬化膜を形成することができる。1.1.1.A1成分本実施の形態に係る硬化性組成物は、A1セルロース樹脂を溶解する重合性化合物を含有する。本発明においてセルロース樹脂を溶解する重合性化合物とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmの基材のセルロース樹脂フィルムの質量をa0gとし、このフィルムを室温環境下で6gの重合性化合物に2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥した後のフィルムの質量をa1gとしたときに、a0-a1/a0×100で表されるフィルムの質量減少率が1以上である重合性化合物のことをいう。本実施の形態に係る硬化性組成物がA1成分を含有していることにより、成膜する際に後述するB粒子の偏在化を引き起こして、高硬度、反射防止性および耐擦傷性を兼ね備えた反射防止用積層体を得ることができる。B粒子の偏在化が発現する機構は明らかではないが、本実施の形態においては例えば次のように考えられる。本実施の形態に係る硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布した場合、A1成分がセルロース樹脂を溶解するため、セルロース樹脂が塗布された硬化性組成物中に溶出する。ここで、B粒子は溶出したセルロース樹脂との親和性に劣るため、硬化性組成物中でよりセルロース樹脂の濃度が低い側、すなわち、基材と反対側の界面に偏在すると推測される。これに対し、セルロース樹脂を溶解しない樹脂のみを含有する硬化性組成物では、セルロース樹脂が硬化性組成物中に溶出しないため、上記のようなB粒子の偏在は起きない。その結果、反射防止用積層体に十分な反射防止性や耐擦傷性を付与することができない。A1セルロース樹脂を溶解する重合性化合物としては、以下に例示するような、エチレン性不飽和基等の重合性基を1個有する化合物以下、単官能化合物というやエチレン性不飽和基等の重合性基を2個以上有する化合物以下、多官能化合物というが挙げられる。A1成分である単官能化合物としては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド等のフィルムの質量減少率が10以上である重合性化合物;γ-ブチロラクトンアクリレート、N-ビニルカプロラクタム等のフィルムの質量減少率が5以上10未満である重合性化合物;ヒドロキシプロピルメタアクリレート等のフィルムの質量減少率が1以上5未満である重合性化合物等が挙げられる。その他、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート等が挙げられる。A1成分である多官能化合物としては、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート等が挙げられる。これらの成分は、1種単独で用いてもよいし2種以上を混合して用いてもよい。A重合性化合物に占めるA1成分の含有量は、5質量以上75質量以下であり、好ましくは10質量以上50質量以下であり、より好ましくは10質量以上40質量以下である。なお、本明細書においてA成分とは、A1成分とA2成分とを合計したものをいう。A1成分が上記範囲で配合されることで、高硬度および高い耐擦傷性を有する硬化膜を得ることができるだけでなく、硬化膜中のセルロース樹脂基材と反対側にB粒子を偏在させることが容易となる。1.1.2.A2成分A2成分であるA1成分以外の重合性化合物は、硬化性組成物の成膜性ならびに硬化膜の硬度および耐擦傷性を高める目的で用いられる。A2成分としては、上記A1成分以外の単官能化合物や多官能化合物が挙げられる。これらのうち、架橋構造を形成することにより硬度および耐擦傷性に優れる硬化膜を形成することができる点で多官能化合物が好ましい。A2成分である多官能化合物としては、例えば、多官能のメタアクリルエステル化合物、多官能のビニル化合物、多官能のエポキシ化合物、多官能のアルコキシメチルアミン化合物が好ましく、多官能のメタアクリルエステル化合物、多官能のビニル化合物がより好ましい。多官能のメタアクリルエステル化合物としては、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、フッ化アダマンチルジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、イソボロニルアクリレート、ブチルアクリレート等が挙げられる。多官能のビニル化合物としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。多官能のエポキシ化合物としては、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等が挙げられる。多官能のアルコキシメチルアミン化合物としては、ヘキサメトキシメチル化メラミン、ヘキサブトキシメチル化メラミン、テトラメトキシメチル化グリコールウリル、テトラブトキシメチル化グリコールウリル等が挙げられる。また、A2成分は、本願発明の効果を損なわない程度に単官能のメタアクリルエステル化合物、単官能のビニル化合物、単官能のエポキシ化合物等を含んでもよい。A2成分中に含まれる多官能化合物の割合は、A2成分の全量を100質量としたときに、50~100質量であることが好ましく、80~100質量であることがより好ましく、100質量であることが特に好ましい。1.2.B粒子本実施の形態に係る硬化性組成物は、B屈折率が1.50以下である粒子を含有する。かかるB粒子が硬化膜の表面に偏在することにより低屈折率層を形成し、硬化膜に反射防止膜としての機能を付与することができる。また、B粒子が硬化膜の表面に偏在することで、硬化膜の硬度を高めて耐擦傷性を向上させたり、カールを小さくさせたりする効果も期待される。B粒子の屈折率は、1.50以下であり、好ましくは1.40以下であり、より好ましくは1.35以下、特に好ましくは1.30以下である。粒子の屈折率を1.50以下とすることにより、反射防止性に優れた硬化膜を得ることができる。また、粒子の屈折率は、空気の屈折率である1.00を下限として低いほど好ましいが、B粒子は屈折率が低くなるにつれて強度が低下するため、硬化膜の硬度や耐擦傷性も低下する。そのため、B粒子の屈折率の下限は1.20とすることが好ましい。本明細書中における屈折率とは、25°CにおけるNa-D線波長589nmの屈折率をいう。本明細書中における粒子の屈折率は、同一マトリックス中に、固形分中の粒子含量を、1質量、10質量、20質量とした組成物を成膜し、JISK7105ISO489に相当に従い、25°CにおけるNa-D線での屈折率を測定し、検量線法で計算した粒子含量100質量の値をいう。透過型電子顕微鏡により測定したB粒子の数平均粒子径は、好ましくは1~100nmであり、より好ましくは5~60nmである。なお、B粒子の数平均粒子径とは、1000個のB粒子を透過型電子顕微鏡により測定ないし算出して得られた数平均直径のことである。B粒子の数平均粒子径を上記範囲内とすることで、硬化膜の透明性と耐擦傷性とを両立させることが可能となる。なお、粒子の形状は、球状に限定されず不定形の形状であってもよい。B粒子としては、屈折率が1.50以下のものであれば特に限定されないが、例えば、中空シリカ粒子、中実シリカ粒子、中実の無機フッ化物粒子等が挙げられる。これらの粒子は、1種単独または2種以上混合して使用してもよい。ここで、中空粒子とは、外部への開口部を有しない空洞をその内部に1つ以上有する粒子をいう。一方、中実粒子とは、空洞や空孔を有しない粒子を意味し、例えば最終的に除去されるコアやポロジェンを使用せずに製造された粒子を例示することができる。中空シリカ粒子は、公知の方法で製造したものを使用することができる。中空シリカ粒子は、その内部に空洞を有するため、中実シリカ粒子と比べてより低屈折率化することができる。中空シリカ粒子の市販品としては、例えば、日揮触媒化成株式会社製のJX1008SIV透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、屈折率1.29、固形分20質量、イソプロピルアルコール溶媒、JX1009SIV透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、屈折率1.29、固形分20質量、メチルイソブチルケトン溶媒等が挙げられる。中実シリカ粒子としては、公知のものを使用することができ、日産化学工業株式会社製の商品名メタノールシリカゾル、IPA-ST、MEK-ST、MEK-ST-S、MEK-ST-L、IPA-ZL、NBA-ST、XBA-ST、DMAC-ST、ST-UP、ST-OUP、ST-20、ST-40、ST-C、ST-N、ST-O、ST-50、ST-OL等の市販のコロイダルシリカ粒子を使用することができる。また、無機フッ化物粒子としては、フッ化アルミニウム粒子屈折率:1.38、フッ化カルシウム粒子屈折率:1.23~1.45、フッ化リチウム粒子屈折率:1.30、フッ化マグネシウム粒子屈折率1.38~1.40等が挙げられ、これらの中でもフッ化マグネシウム粒子が入手容易であり好ましい。フッ化マグネシウム粒子の市販品としては、日産化学工業株式会社製の商品名MFS-10Pが挙げられる。本実施の形態に用いられるB粒子は、表面改質剤で表面を変性されたものであってもよい。表面改質剤としては、重合性不飽和基および加水分解性シリル基を有する化合物以下、重合性表面改質剤ともいうを例示することができる。重合性表面改質剤の重合性不飽和基としては、ビニル基、メタアクリロイル基、エポキシ基等が挙げられる。本実施の形態に用いられる重合性表面改質剤は、メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の市販品を使用することもできるし、例えば、国際公開公報WO97/12942号公報に記載された化合物を用いることもできる。但し、本明細書において、重合性化合物とはA重合性化合物を指すものとし、重合性表面改質剤で改質する等により重合性基を有するB粒子は、重合性化合物には含まれないものとする。表面改質剤として、フッ素を含有する加水分解性シリル基を有する化合物以下、含フッ素表面改質剤ともいうを使用することもできる。なお、加水分解性シリル基とは、水と反応してシラノール基Si-OHを生成するものであって、例えば、ケイ素に1以上のメトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基等のアルコキシル基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子が結合したものをいう。含フッ素表面改質剤を使用することで、B粒子を効率よく偏在させることが可能となる。本実施の形態に用いられる含フッ素変性剤は、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等の市販品を使用することができる。また、アルキル基を有する表面改質剤や、シリコーン鎖を有する表面改質剤も、含フッ素表面改質剤と同様に使用することができる。上記の各種表面改質剤は1種を用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。本実施の形態に用いられるB粒子を変性粒子とするためには、B粒子と表面改質剤とを混合し、加水分解させることにより両者を結合させればよい。得られた変性粒子中の有機重合体成分、すなわち加水分解性シランの加水分解物および縮合物の割合は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼させた場合の重量減少の恒量値として、例えば空気中で室温から通常800°Cまでの熱重量分析により求めることができる。変性粒子への表面改質剤の結合量は、変性後のB粒子を100質量として、好ましくは0.01~40質量であり、より好ましくは0.1~30質量、特に好ましくは1~20質量である。B粒子に反応させる表面改質剤の量を上記範囲とすることで、組成物中におけるB粒子の分散性を向上させることができるだけでなく、得られる硬化膜の透明性や耐擦傷性を高める効果も期待できる。本実施の形態に係る硬化性組成物中において、B粒子の含有量の合計は、形成する硬化膜の膜厚に応じて適宜調整できるが、溶剤を除く成分の合計を100質量としたときに、0.1~10質量とすることが好ましい。具体的には、B粒子が低屈折率層の主成分となるため、B成分が偏在して形成された層の厚さが、50~200nmの範囲となるように配合すればよい。具体的な配合量は、例えば、硬化膜の膜厚が10μmの場合、溶剤を除く成分の合計を100質量としたときに、好ましくは0.4~1.2質量、より好ましくは0.5~1質量の範囲内である。硬化膜の膜厚が7μmの場合、好ましくは0.6~1.8質量、より好ましくは0.7~1.5質量であり、硬化膜の膜厚が3μmの場合、好ましくは1.2~4質量、より好ましくは1.5~3質量の範囲内である。B粒子の含有量の合計が上記範囲未満であると、反射防止性を発現するB粒子が高密度に存在する層低屈折率層を形成できない場合がある。一方、B粒子の含有量の合計が上記範囲を超えると、反射防止性を発現するB粒子が高密度に存在する層低屈折率層の厚さが大きくなりすぎて、反射率低減効果が発現しない場合がある。中空粒子および中実粒子を併用する場合、中空粒子および中実粒子の配合割合は、中空粒子:中実粒子=10:90~98:2質量比が好ましい。中空粒子および中実粒子の合計に対する中空粒子の割合が10未満では、十分な反射防止性能が得られない場合があり、中実粒子の割合が2未満では耐擦傷性が向上しない場合がある。上記の理由から、中空粒子:中実粒子=15:85~95:5がより好ましく、20:80~90:10が特に好ましい。1.3.C重合開始剤本実施の形態に係る硬化性組成物は、C重合開始剤を含有してもよい。このようなC重合開始剤としては、例えばA成分としてメタアクリルエステル化合物および/またはビニル化合物を含有する場合は、熱的に活性ラジカル種を発生させる化合物熱重合開始剤および放射線光照射により活性ラジカル種を発生させる化合物放射線光ラジカル重合開始剤等の汎用品を挙げることができる。また、A成分としてエポキシ化合物および/またはアルコキシメチルアミン化合物を含有する場合は、酸性化合物および放射線光照射により酸を発生させる化合物放射線光酸発生剤等の汎用品を挙げることができる。これらの中でも、放射線光重合開始剤が好ましい。放射線光ラジカル重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始させられるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3-メチルアセトフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノ-プロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン-1,4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス-2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキシド、オリゴ2-ヒドロキシ-2-メチル-1-4-1-メチルビニルフェニルプロパノン等が挙げられる。放射線光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、BASFジャパン株式会社製のイルガキュア184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24-61、ダロキュア1116、1173、ルシリンTPO、8893;UCB社製のユベクリルP36;ランベルティ社製のエザキュアーKIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B等が挙げられる。熱ラジカル重合開始剤としては、加熱により分解してラジカルを発生して重合を開始するものであれば特に制限はなく、例えば、過酸化物、アゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、t-ブチル-パーオキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。放射線光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩類、ジアリールヨードニウム塩類の化合物を使用することができる。放射線光酸発生剤の市販品としては、サンアプロ社製のCPI-100P、101A等が挙げられる。本実施の形態に係る硬化性組成物中において、必要に応じて用いられるC重合開始剤の含有量は、溶媒を除く成分の合計を100質量としたときに、好ましくは0.01~15質量、より好ましくは0.1~8質量の範囲内である。上記の範囲で配合することで、より硬度および耐擦傷性の高い硬化膜が得られる。なお、C重合開始剤は複数種の化合物を併用することもできる。1.4.D溶媒本実施の形態に係る硬化性組成物は、D溶媒を含有する。D溶媒は、セルロース樹脂を溶解する溶剤以下、D1成分ともいうと、D1成分以外の溶剤以下、D2成分ともいうと、に分類することができる。本実施の形態に係る硬化性組成物において、D溶媒の含有量は、D溶媒を除く成分の合計を100質量部としたときに、50~10,000質量部の範囲内であることが好ましい。D溶媒の含有量は、塗布膜厚、硬化性組成物の粘度等を考慮して適宜決定することができる。例えば、本実施の形態に係る硬化性組成物を反射防止膜や被覆材として用いる場合の25°Cにおける粘度は、通常0.1~50,000mPa秒であり、好ましくは、0.5~10,000mPa秒である。1.4.1.D1成分本実施の形態に係る硬化性組成物は、D1セルロース樹脂を溶解する溶剤を含有する。本発明においてセルロース樹脂を溶解する溶剤とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmの基材のセルロース樹脂フィルムの質量をa0gとし、このフィルムを室温環境下で6gの溶剤に2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥した後のフィルムの質量をa1gとしたときに、a0-a1/a0×100で表されるフィルムの質量減少率が4以上100以下、好ましくは5以上40以下、より好ましくは5以上30以下である溶剤のことをいう。本実施の形態に係る硬化性組成物がD1成分を含有すると、A1成分が基材を構成するセルロース樹脂を溶解するよりも速く、D1成分がセルロース樹脂を溶解する傾向が発現する。そうすると、セルロース樹脂との親和性が低いB粒子は、硬化性組成物層中のセルロース樹脂濃度が低い側すなわち、硬化性組成物層中のセルロース樹脂基材と反対側へと速やかに偏在化することができる。これにより、粒子の偏在化に要する時間を短縮することができるため、さらなる生産性の向上が期待できる。一方、D溶剤としてD2成分のみを含有する硬化性組成物では、セルロース樹脂を溶解し得る成分がA1成分しか存在しないため、上述したような粒子の偏在化を促進させる効果は得られない。D1基材のセルロース樹脂を溶解する溶剤としては、例えば、ジメチルホルムアミド100、ジメチルアセトアミド100、N-メチルピロリドン100、アセト酢酸エチル100、アセト酢酸イソプロピル100、シクロペンタノン99、酢酸メチル99、アセトニルアセトン97、1,3-ジオキソラン96、シクロヘキサノン95、アセトン84、乳酸エチル64、メチルエチルケトン38、γ-ブチロラクトン29、酢酸エチル20、アセチルアセトン8、メチルプロピルケトン6、酢酸プロピル5、ジアセトンアルコール5等が挙げられる。なお、前記例示した溶剤の括弧内には、上述した定義により測定された質量減少率を併せて示しておいた。これらの成分は、1種単独で用いてもよいし2種以上を混合して用いてもよい。D溶剤に占めるD1成分の含有量は、5質量以上60質量未満であり、好ましくは5質量以上50質量以下であり、より好ましくは5質量以上40質量以下である。なお、本明細書においてD成分とは、D1成分とD2成分とを合計したものをいう。D1成分が上記範囲で配合されることにより、得られる硬化膜のヘイズ値が低減されると共に、硬化性組成物層中においてB粒子の偏在化に要する時間を短縮させることができる。D1成分が上記範囲を超えると、基材を構成するセルロース樹脂の溶解が促進されすぎて、得られる反射防止用積層体のヘイズ値が高くなる傾向が見られる。1.4.2.D2成分D1成分以外の溶剤であるD2成分は、塗布膜厚や、硬化性組成物の粘度等を調整する目的で使用される。D2成分としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;メチルイソブチルケトン等のケトン類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。1.5.その他の添加剤本実施の形態に係る硬化性組成物は、必要に応じて、粒子分散剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、老化防止剤、熱重合禁止剤、着色剤、レベリング剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、無機系充填材、有機系充填材、フィラー、濡れ性改良剤、塗面改良剤等を含有することができる。これらのうち、粒子分散剤として、フッ素原子を含有する化合物、シロキサン鎖を有する化合物を使用することで、B粒子の偏在を促進し、塗膜の屈折率を低下させることができる。1.6.硬化性組成物の製造方法本実施の形態に係る硬化性組成物は、A重合性化合物、B粒子、D溶剤、必要に応じてC重合開始剤、その他の添加剤をそれぞれ添加して、室温または加熱条件下で混合することにより調製することができる。具体的には、ミキサー、ニーダー、ボールミル、三本ロール等の混合機を用いて調製することができる。但し、加熱条件下で混合する場合には、熱重合開始剤の分解温度以下で行うことが好ましい。2.反射防止用積層体およびその製造方法2.1.反射防止用積層体の製造方法本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法は、aセルロース樹脂を溶解する重合性成分A1を5質量以上75質量以下含む重合性化合物A、屈折率が1.50以下である粒子B及びセルロース樹脂を溶解する溶剤成分D1を5質量以上60質量未満含む溶剤Dを含有する硬化性組成物を準備する工程以下、工程aともいうと、b前記硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程以下、工程bともいうと、を含む。かかる反射防止用積層体の製造方法によれば、基材となるセルロース樹脂に前記硬化性組成物を一度塗布して硬化させることで、セルロース樹脂基材とは反対側にB粒子が偏在している硬化膜を形成することができる。これにより、反射防止性、耐擦傷性および低ヘイズを兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。また、硬化性組成物中にD1成分が含まれることで、A1成分が基材を構成するセルロース樹脂を溶解するよりも速く、D1成分がセルロース樹脂を溶解する傾向が発現する。そうすると、セルロース樹脂との親和性が低いB粒子は、硬化性組成物層中のセルロース樹脂濃度が低い側すなわち、硬化性組成物層中のセルロース樹脂基材と反対側へ速やかに偏在化することができる。これにより、粒子の偏在化に要する時間を短縮することができるため、さらなる生産性の向上が期待できる。以下、工程ごとに説明する。2.1.1.工程a工程aは、前述した硬化性組成物を準備する工程である。かかる硬化性組成物の構成や製造方法等は前述したとおりであるため、詳細な説明は省略する。2.1.2.工程b工程bは、工程aで準備された硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、乾燥させて硬化させる工程である。工程aで準備された硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布する方法は特に限定されず、例えばバーコート塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の公知の方法を用いることができる。前記の方法で塗布した後、溶剤等の揮発成分を乾燥させる。具体的には、前記硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布し、0~200°C、好ましくは20~150°C、より好ましくは20~120°Cで揮発成分を乾燥させる。200°Cを超える温度では、セルロース樹脂基材が変形したり、硬化性組成物層の硬化に寄与するバインダー成分が揮発することにより強度が低下することがある。乾燥の方法は、熱風式、ドラム式、赤外線式、誘導加熱式等が挙げられ、基材の大きさ、厚さにより適宜決定される。熱風式で加熱する場合、風速が速すぎるとB粒子の偏在性や塗膜の面観が損なわれることがあるため、熱風の風速は20m/秒以下であることが好ましく、5m/秒以下であることがより好ましい。工程aで準備された硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布すると、該硬化性組成物中に含まれるA1成分とセルロース樹脂基材中に含まれるセルロース樹脂とが相互作用して、硬化性組成物層中にセルロース樹脂が混入するか、またはセルロース樹脂基材にA1成分が浸透する場合がある。硬化性組成物層中にセルロース樹脂が混入しているか否かは、例えば、得られた硬化膜をラマン分光測定装置で測定し、前記セルロース樹脂が有する特定の官能基のピークを観測することにより判別することができる。硬化性組成物の硬化条件についても特に限定されるものではない。具体的には、前記硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布し、好ましくは0~200°Cで揮発成分を乾燥させた後、放射線および/または熱で硬化処理を行うことにより反射防止用積層体を形成することができる。熱で硬化させる場合の好ましい条件は、20~150°Cであり、10秒~24時間の範囲で行われる。放射線で硬化させる場合、紫外線または電子線を用いることが好ましい。紫外線の照射光量は、好ましくは0.01~10J/cm2であり、より好ましくは0.1~2J/cm2である。また、電子線の照射条件は、加圧電圧が10~300kV、電子密度が0.02~0.30mA/cm2、電子線照射量が1~10Mradである。なお、本発明に係る反射防止用積層体の製造方法は、製造例や実施例に記載された方法に限定されるものではない。例えばあらかじめA成分とD成分とを混合しておいたものをセルロース樹脂基材上に塗布し、さらにその上にA成分、B成分およびD成分を含む硬化性組成物を塗布してもよい。さらには、あらかじめA成分、D成分及びセルロース樹脂を混合しておいたものをセルロース樹脂基材上に塗布し、さらにその上にA成分、B成分およびD成分を含む硬化性組成物を塗布してもよい。2.2.反射防止用積層体図1は、本実施の形態に係る反射防止用積層体を模式的に示した断面図である。図1に示すように、本実施の形態に係る反射防止用積層体100は、基材となるセルロース樹脂基材10の上に上述した硬化性組成物を硬化させた硬化膜20が形成されており、硬化膜20中のセルロース樹脂基材とは反対側における粒子22の密度は硬化膜20中のセルロース樹脂基材側における粒子22の密度よりも高い。すなわち、硬化膜20中のセルロース樹脂基材と反対側には粒子22が相対的に高い密度で存在する第二の層26低屈折率層26ともいうが形成されており、硬化膜20中のセルロース樹脂基材側には粒子22が実質的に存在しない第一の層24ハードコート層24ともいうが形成されている。第一の層24と第二の層26の境界は、必ずしも明確である必要はないが、硬化膜20中の粒子22の大部分が第二の層26に集まり、第一の層24は実質的に粒子22を含まないことによって境界が明確であることが好ましい。粒子22が第二の層26に偏在することにより、第二の層26の屈折率は第一の層24の屈折率より低くなる。これにより、反射防止性に優れた反射防止用積層体を得ることができる。反射防止用積層体100は、反射防止性能に影響を及ぼさない範囲で、第二の層26のセルロース樹脂基材10と反対側に接して膜厚30nm以下の他の層を有していても構わない。なお、本発明において硬化膜とは、硬化性組成物を塗布および硬化して得られる膜をいい、塗布および硬化の過程において成分の加減があっても構わない。例えば、セルロース樹脂との親和性をさらに高めるため、硬化性組成物にさらにセルロース樹脂を添加してから塗布してもよい。粒子22が偏在する原因は必ずしも明らかではないが、A1成分および/またはD1成分がセルロース樹脂を溶解して、セルロース樹脂が硬化性組成物層中へ溶出するため、セルロース樹脂との親和性が低い粒子22が硬化性組成物層中のセルロース樹脂濃度が低い側すなわち、硬化性組成物層中のセルロース樹脂基材と反対側に偏在するようになると推定される。このような状態で硬化性組成物を硬化させることにより、硬化膜中のセルロース樹脂基材と反対側に粒子22が偏在した硬化膜20を形成することができる。第一の層24は、セルロース樹脂基材と接しているため、セルロース樹脂との親和性の高いA1成分の重合物これをアクリル系樹脂というを主成分とし、さらにA1成分及び/又はD1成分によって溶解された基材のセルロース樹脂を含有する層となる。一方、第二の層26は、セルロース樹脂との親和性に劣る粒子22及びA2成分の重合物これをバインダー樹脂というを主成分とする層となる。さらに、第二の層26は、A1成分及び/又はD1成分によって溶解されたセルロース樹脂量によっては、セルロース樹脂を含有する。一方、基材のセルロース樹脂を溶解しない重合性化合物のみを含有する硬化性組成物では、セルロース樹脂との相互作用がないため、硬化膜の表面にB粒子を偏在させることができず、硬化膜の反射防止機能が損なわれてしまう。以下、本実施の形態に係る反射防止用積層体の各層について説明する。2.2.1.セルロース樹脂基材本実施の形態に係る反射防止用積層体に用いられる基材は、セルロース樹脂基材である。基材としてセルロース樹脂を用いることにより、上述した硬化性組成物中に含まれるA1成分および/またはD1成分がセルロース樹脂を溶解または膨潤させることにより、粒子22が相対的に高い密度で存在する低屈折率層26を形成することができるものと考えられる。一方、セルロース樹脂以外の樹脂を基材として使用した場合には、上述したような作用効果を奏しない。本実施の形態において、セルロース樹脂基材とは、基材自体がセルロース樹脂で形成されていてもよいし、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート等の基材表面にセルロース樹脂層を有する基材であってもよい。ここで、基材として使用可能なセルロース樹脂としては、トリアセチルセルロースTAC、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。また、基材をセルロース樹脂とする反射防止用積層体は、カメラのレンズ部、テレビCRTの画面表示部、あるいは液晶表示装置における偏光子の保護フィルム等の広範なハードコートおよび/または反射防止膜の利用分野において、優れた耐擦傷性および反射防止効果を得ることができる。2.2.2.ハードコート層ハードコート層24は、前述した硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜20のセルロース樹脂基材10側に形成される、粒子22が実質的に存在しない領域から構成される。ハードコート層24の厚さは、特に限定されないが、好ましくは1~50μm、より好ましくは1~10μmである。ハードコート層24の厚さが1μm未満であると、硬度が不足する場合があり、一方、50μmを超えると、均質な膜を形成することが困難となったり、積層体のカールが大きくなり扱いづらくなる場合がある。ハードコート層の形成の際に、上述のとおりA1成分がセルロース樹脂を溶解するため、得られるハードコート層24はA成分の他にセルロース樹脂を含有する層となる。2.2.3.低屈折率層低屈折率層26は、上述した硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜20のセルロース樹脂基材10とは反対側に形成される、粒子22が相対的に高い密度で存在する領域から構成される。低屈折率層26の厚さは、特に限定されないが、好ましくは50~200nm、より好ましくは60~150nm、特に好ましくは80~120nmである。低屈折率層26の厚さを上記範囲内とすることで可視領域の波長において十分な反射防止効果を得ることができる。本実施の形態に係る反射防止用積層体100におけるハードコート層24と低屈性率層26との屈折率差は、0.05以上の値とすることが好ましい。この理由は、ハードコート層24と低屈折率層26との屈折率差が0.05未満の値であると、これらの反射防止膜での相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する場合があるからである。3.実施例以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。3.1.表面変性中実シリカ粒子の製造例3.1.1.粒子表面変性剤の製造乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン221質量部、ジブチル錫ジラウレート1質量部からなる溶液に対し、イソホロンジイソシアネート222質量部を撹拌しながら50°Cで1時間かけて滴下後、70°Cで3時間加熱攪拌した。これに新中村化学株式会社製のNKエステルA-TMM-3LM-Nペンタエリスリトールトリアクリレート60質量とペンタエリスリトールテトラアクリレート40質量とからなる。このうち反応に関与するのは、水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートのみである。549質量部を30°Cで1時間かけて滴下後、60°Cで10時間加熱攪拌することで重合性不飽和基を含む粒子変性剤Cb-1を得た。以上により、粒子変性剤Cb-1が773質量部得られたほか、反応に関与しなかったペンタエリスリトールテトラアクリレート220質量部が混在していた。3.1.2.表面変性中実シリカ粒子の製造前記3.1.1.粒子表面変性剤の製造で得られた粒子表面変性剤を含有する組成物Cb-18.7質量部、メチルエチルケトンMEKシリカゾル日産化学工業株式会社製、商品名MEK-ST数平均粒子径0.022μm、シリカ濃度3091.3質量部固形分27.4質量部、イソプロパノール0.2質量部およびイオン交換水0.1質量部の混合液を、80°C、3時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル1.4質量部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌して粒子分散液を得た。この粒子分散液を、限外濾過でメチルイソブチルケトンMIBKに溶剤溶解したのち濃縮することで無色透明の粒子B-1屈折率1.47のMIBK分散液を得た。アルミ皿に2g秤量後、120°Cのホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、35質量であった。このシリカ系粒子の透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径は、20nmであった。3.2.硬化性組成物の製造例紫外線を遮蔽した容器中において、中空シリカ粒子商品名JX-1009SIV、屈折率1.29、メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成株式会社製4.0質量部固形分として0.8質量部、上記製造例で製造した表面変性中実シリカ粒子B-10.57質量部固形分として0.2質量部、2-ヒドロキシエチルアクリレート商品名ライトエステルHOA、共栄社化学株式会社製26質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート商品名SR399E、サートマー社製20質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート商品名PET-30、日本化薬株式会社製30質量部、1,4-ブタンジオールジアクリレート商品名SR213、サートマー社製20質量部、2-メチル-1[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン商品名イルガキュア登録商標907、BASFジャパン株式会社製3質量部、サイラプレーンFM0725チッソ株式会社製0.1質量部、さらにシクロヘキサノン20質量部およびメチルイソブチルケトン80質量部を加えて室温で2時間撹拌することにより均一な硬化性組成物を得た。この溶液をアルミ皿に2g秤量後、175°Cのホットプレート上で30分間乾燥させ、秤量した後固形分含量を求めたところ、50質量であった。3.3.実施例1反射防止用積層体の作製前記3.2.硬化性組成物の製造で得られた硬化性組成物をトリアセチルセルロースフィルム上にバーコーターを用いて全体の硬化膜厚が約7μmとなるように塗布し、100°Cで30~60秒で乾燥後、窒素フロー下で高圧水銀灯300mJ/cm2を用いて硬化させて反射防止用積層体を得た。3.4.実施例2~16、比較例1~26表3~表7に示す成分を表3~表7に示す組成で配合した硬化性組成物を使用したこと以外は、実施例1と同様にして反射防止用積層体を得た。3.5.評価試験3.5.1.A重合性化合物のトリアセチルセルロースに対する溶解性まず、表3~表7に記載されているA重合性化合物のトリアセチルセルロースに対する溶解性について評価した。18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム商品名TDY-80UL、富士フイルム株式会社製の質量をa0gとし、このフィルムを25°Cで6gの重合性化合物に2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥した後のフィルムの質量をa1gとしたときに、a0-a1/a0×100で表されるフィルムの質量減少率を測定した。この質量減少率が1以上である場合には、重合性化合物がトリアセチルセルロースを溶解するものと判断し、1未満である場合には、重合性化合物がトリアセチルセルロースを溶解しないものと判断した。その結果を表1に示す。3.5.2.D溶剤のトリアセチルセルロースに対する溶解性まず、表3~表7に記載されているD溶剤のトリアセチルセルロースに対する溶解性について評価した。18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム商品名TDY-80UL、富士フイルム株式会社製の質量をa0gとし、このフィルムを25°Cで6gの溶剤に2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥した後のフィルムの質量をa1gとしたときに、a0-a1/a0×100で表されるフィルムの質量減少率を測定した。この質量減少率が4以上である場合には、溶剤がトリアセチルセルロースを溶解するものと判断し、4未満である場合には、溶剤がトリアセチルセルロースを溶解しないものと判断した。その結果を表2に示す。次に、実施例および比較例で得られた反射防止用積層体の下記項目について評価した。その結果を表3~表7に併せて示す。3.5.3.ヘイズ値須賀製作所株式会社製のカラーヘイズメーターを用い、ASTMD1003に従い、基材フィルム込みのヘイズ値を測定した。表3~表7において、ヘイズ値が0.4未満である場合には良好であるとして○と記載し、0.4以上である場合には不良であるとして×と記載した。3.5.4.粒子の偏在化に要する時間得られた反射防止用積層体の裏面に黒色のビニールテープYAMATO株式会社製を貼り、目視にて判断した。偏在による色ムラのない時間を粒子偏在化に要する時間秒として、表3~表7に併せて記載した。3.6.評価結果表3~表7の結果から、A重合性化合物と、B粒子と、D溶剤と、を含有し、A成分に占めるA1成分の含有量が5質量以上75質量以下であり、かつD成分に占めるD1成分の含有量が5質量以上60質量未満である硬化性組成物を用いた場合、B粒子の偏在化に要する時間が有意に短縮されると共に、得られる反射防止用積層体のヘイズ値も低く抑制されていることが判明した。さらに、実施例1~16および比較例1~26の全ての硬化膜において、断面をスライスしてハードコート層のラマン分光測定日本電子株式会社製、形式JRS-SYSTEM2000を使用を行った。その結果、実施例1~16および比較例1~26のハードコート層からは、トリアセチルセルロースのカルボニル基に由来する1740cm-1のピークが検出された。すなわち、実施例1~16および比較例1~26のハードコート層中には、基材のトリアセチルセルロースが混入していることが示された。なお、実施例1~16、比較例1~26の全てにおいて、硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側におけるB粒子の密度が硬化膜中のセルロース樹脂基材側におけるB粒子の密度より高く、硬化膜中のセルロース樹脂基材側にはB粒子が実質的に存在しなかった。本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的および効果が同一の構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。"