"ウェブ材料の製造方法であって、ウェブ材料を、輸送システムにより、製造プロセスのマイクロ複製ステーションを通して搬送する工程と、前記マイクロ複製ステーションにより、前記ウェブ材料上にマイクロ複製レンズのパターンを形成する工程と、前記マイクロ複製レンズのパターンを形成した後、前記ウェブ材料の前記マイクロ複製レンズからの光の角度分布を検出し、前記マイクロ複製レンズからの前記光の前記角度分布の分析に基づいて、前記ウェブの整合誤差を測定する工程と、を含む、方法。前記測定された整合誤差に基づいて、前記輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程を更に含む、請求項1に記載の方法。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記マイクロ複製ステーションに搬送されているときに、前記ウェブ材料のクロスウェブ位置を調整することを含む、請求項2に記載の方法。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記マイクロ複製ステーションに搬送されているときに、前記ウェブ材料のダウンウェブ位置を調整することを含む、請求項2に記載の方法。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記マイクロ複製ステーションに搬送されているときに、前記ウェブ材料のクロスウェブ位置及びダウンウェブ位置の両方を調整することを含む、請求項2に記載の方法。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記マイクロ複製ステーションに搬送されているときに、前記ウェブ材料の張力を調整することを含む、請求項2に記載の方法。前記調整されたプロセス制御パラメーターを、推奨される調整として操作者に表示する工程を更に含む、請求項2に記載の方法。前記整合誤差をデータベース内に記録する工程を更に含む、請求項1に記載の方法。前記整合誤差が閾値を越えた場合、前記ウェブ材料をマーキングする工程を更に含む、請求項1に記載の方法。第2のマイクロ複製ステーションにより、前記ウェブ材料上にマイクロ複製フィーチャのパターンを形成する工程を更に含み、前記マイクロ複製レンズが、前記第1のマイクロ複製ステーションにより、クロスウェブ方向において前記ウェブ材料の第1の表面上に反復するように形成され、前記マイクロ複製フィーチャが、前記第2のマイクロ複製ステーションにより、クロスウェブ方向において、マイクロ複製レンズの前記パターンに対向して、前記ウェブ材料の反対側の表面上に反復するように形成される、請求項1に記載の方法。前記マイクロ複製レンズからの前記光の角度分布を検出する工程が、前記反対側の表面上の測定範囲内の前記マイクロ複製フィーチャの組を照射して、光を前記マイクロ複製フィーチャの組と、前記ウェブ材料の前記第1の表面上の前記マイクロ複製レンズの組とを通して照射する工程と、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記光の前記角度分布を検出する工程と、を含む、請求項10に記載の方法。マイクロ複製フィーチャのパターンを形成する工程が、マイクロ複製プリズムのパターンを形成する工程を含む、請求項10に記載の方法。前記整合誤差が、前記測定範囲内の前記マイクロ複製レンズの組と前記マイクロ複製プリズムの組との間の予想された整合からの誤差を表す、請求項12に記載の方法。前記マイクロ複製レンズからの前記光の角度分布を検出し、整合誤差を測定する工程が、前記反対側の表面上の測定範囲内の前記マイクロ複製フィーチャの組を光源で照射して、光を前記マイクロ複製フィーチャの組と、前記ウェブ材料の前記第1の表面上の前記マイクロ複製レンズの組とを通して照射することと、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記光源からの前記光の角度分布を検出することと、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記光源からの前記光の角度分布の分析に基づいて、前記測定範囲に関連した整合誤差を測定することと、を含む、請求項10に記載の方法。前記マイクロ複製レンズからの前記光の角度分布を検出し、整合誤差を測定する工程が、前記反対側の表面上の測定範囲内の前記マイクロ複製フィーチャの組を第1の光源及び第2の光源で照射して、光を前記マイクロ複製フィーチャの組と、前記ウェブ材料の前記第1の表面上の前記マイクロ複製レンズの組とを通して照射することと、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記第1の光源からの前記光の角度分布を検出することと、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記第2の光源からの前記光の角度分布を検出することと、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記第1の光源からの前記光の前記角度分布と、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記第2の光源からの前記光の前記角度分布との比較に基づいて、前記測定範囲に関連した整合誤差を測定することと、を含む、請求項10に記載の方法。前記整合誤差が、前記測定範囲内の前記マイクロ複製レンズの組と前記マイクロ複製プリズムの組との間の予想された整合からの誤差を表す、請求項15に記載の方法。前記整合誤差が、サブミクロンの整合分解能を提供する、請求項15に記載の方法。前記マイクロ複製レンズからの前記光の角度分布を検出し、整合誤差を測定する工程が、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記第1の光源からの前記光の前記角度分布に基づいて、第1の1次元投影を構成することと、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記第2の光源からの前記光の前記角度分布に基づいて、第2の1次元投影を構成することと、前記第1の1次元投影と前記第2の1次元投影との交差地点を測定する工程であって、前記交差地点が、前記第1の1次元投影と第2の1次元投影とが前記ウェブ材料のクロスウェブ方向に関して重なり合う角度位置を特定することと、を含む、請求項15に記載の方法。第2の測定範囲内の前記マイクロ複製フィーチャの第2の組を第3の光源及び第4の光源で照射して、光を前記マイクロ複製フィーチャの第2の組と、前記ウェブ材料の前記第1の表面上の前記マイクロ複製レンズの第2の組とを通して照射する工程と、前記マイクロ複製レンズの第2の組により放射された前記第3の光源からの前記光の角度分布を検出する工程と、前記マイクロ複製レンズの第2により放射された前記第4の光源からの前記光の角度分布を検出する工程と、前記マイクロ複製レンズの第2の組により放射された前記第3の光源からの前記光の角度分布と、前記マイクロ複製レンズの第2の組により放射された前記第4の光源からの前記光の角度分布との比較に基づいて、前記第2の測定範囲に関連した整合誤差を測定する工程と、を含む、請求項15に記載の方法。前記測定範囲に関連した前記整合誤差と、前記第2の測定範囲に関連した前記第2の整合誤差とに基づいて、プロセス制御パラメーターを調整する工程を更に含む、請求項19に記載の方法。前記測定範囲に関連した前記整合誤差と、前記第2の測定範囲に関連した前記第2の整合誤差との間の相対的な差異を計算する工程と、前記算出された相対的な差異に基づいて、前記ウェブ材料が前記マイクロ複製ステーションに搬送されているときに、前記ウェブ材料の張力又は歪みを制御する工程と、を更に含む、請求項19に記載の方法。前記ウェブ材料上に印刷フィーチャをイメージングする工程と、測定範囲内の前記印刷フィーチャの組を照射して、前記印刷フィーチャからの光を前記マイクロ複製レンズの組を通して照射する工程と、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記光の前記角度分布を検出する工程と、前記マイクロ複製レンズにより放射された前記光の前記角度分布に基づいて、前記印刷フィーチャと前記マイクロ複製レンズとの間の整合誤差を測定する工程と、前記測定された整合誤差に基づいて、前記ウェブ材料の次のイメージングを制御する工程と、を更に含む、請求項1に記載の方法。前記ウェブ材料上に前記マイクロ複製レンズのパターンを形成する工程が、前記ウェブ材料の第1の表面上に前記マイクロ複製レンズのパターンを形成する工程を含み、前記方法が、前記マイクロ複製レンズにより放射された前記光の前記角度分布に基づいて、前記整合誤差を、前記マイクロ複製レンズと、前記第1の面の反対側の前記ウェブ材料の第2の面上にマイクロ複製フィーチャのパターンを形成するためのマイクロ複製ツールのフィーチャとの間の整合誤差として測定することと、前記測定された整合誤差に基づいて、前記マイクロ複製ツールに対する前記ウェブ材料の相対的な位置を制御することと、を更に含む、請求項1に記載の方法。前記整合誤差がサブミクロン整合分解能を提供する、請求項1に記載の方法。前記測定された整合に基づいて、変換器具をクロスウェブ方向において前記ウェブ材料に対して自動的に位置決めして、前記ウェブ材料の前記マイクロ複製フィーチャの前記整合が規定の許容限界内にある前記ウェブ材料の範囲に前記変換機器を配置する工程と、前記変換器具により、前記ウェブ材料の前記マイクロ複製フィーチャの前記整合が前記規定の許容限界内にある前記ウェブ材料の前記範囲を用いて、前記ウェブを製品に変換する工程と、を更に含む、請求項1に記載の方法。前記変換器具を自動的に位置決めする工程が、前記変換器具又は前記ウェブを前記クロスウェブ方向にて移動して、前記ウェブ材料の前記マイクロ複製フィーチャの前記整合が前記許容限界内にある前記ウェブ材料の範囲から製品を切断する工程を含む、請求項1に記載の方法。製造システムであって、ウェブ材料上にマイクロ複製レンズのパターンを形成するマイクロ複製ステーションと、前記マイクロ複製ステーションを通して前記ウェブ材料を搬送する輸送システムと、前記ウェブ材料上の測定範囲を照射し、前記測定範囲内の前記マイクロ複製レンズの組から出る光の角度分布を検出する感知システムと、前記検出された角度分布に基づいて、前記ウェブの整合誤差を測定する制御システムと、を備える製造システム。前記制御システムが、前記検出された角度分布に基づいて、前記輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する、請求項27に記載の製造システム。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記マイクロ複製ステーションに搬送されているときに、前記ウェブ材料のクロスウェブ位置を調整することを含む、請求項28に記載の製造システム。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記マイクロ複製ステーションに搬送されているときに、前記ウェブ材料のダウンウェブ位置を調整することを含む、請求項28に記載の製造システム。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記マイクロ複製ステーションに搬送されているときに、前記ウェブ材料のクロスウェブ位置及びダウンウェブ位置の両方を調整することを含む、請求項28に記載の製造システム。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記マイクロ複製ステーションに搬送されているときに、前記ウェブ材料の張力を調整する工程を含む、請求項28に記載の製造システム。前記調整されたプロセス制御パラメーターを、推奨される調整として操作者に表示する工程を更に含む、請求項28に記載の製造システム。前記整合誤差を格納するためのデータベースを更に含む、請求項27に記載の製造システム。前記整合誤差が所定の許容値を越えた場合、前記ウェブ材料上に誤差表示をマークするマーキング構成要素を更に含む、請求項27に記載の製造システム。前記ウェブ材料上にマイクロ複製フィーチャのパターンを形成する第2のマイクロ複製ステーションであって、前記ウェブ材料の第1の表面上に前記マイクロ複製レンズが形成され、前記マイクロ複製フィーチャが、マイクロ複製レンズの前記パターンの反対側の前記ウェブ材料の反対の表面上に形成され、前記マイクロ複製フィーチャが、第2の周期に従って、前記ウェブ材料の前記反対側の表面上にてクロスウェブ方向に反復するように形成される、第2のマイクロ複製ステーションを更に含む、請求項27に記載の製造システム。前記感知システムが、前記反対側の表面上の前記測定範囲内の前記マイクロ複製フィーチャの前記組を照射して、光を前記マイクロ複製フィーチャの組と、前記ウェブ材料の前記第1の表面上の前記マイクロ複製レンズの組とを通して照射する、光源の組と、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記光の前記角度分布を記録するセンサと、を含む、請求項27に記載の製造システム。前記マイクロ複製フィーチャのパターンが、マイクロ複製プリズムのパターンを含む、請求項27に記載の製造システム。前記光源の組が、第1の光源及び第2の光源を含み、前記アレイセンサが、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記第1の光源からの前記光の角度分布と、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記第2の光源からの前記光の角度分布とを記録し、前記感知システムが、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記第1の光源からの前記光の前記角度分布と、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記第2の光源からの前記光の前記角度分布との比較に基づいて、前記測定範囲に関連した前記整合誤差を測定し、前記整合誤差が、前記測定範囲の前記マイクロ複製レンズの組と前記マイクロ複製リズムの組との間の整合誤差を表す、請求項38に記載の製造システム。前記第1の感知システムのクロスウェブに配置された第2の感知システムを更に備え、前記第2の感知システムが、前記ウェブ材料上の第2の測定範囲を照射し、前記第2の測定範囲内の前記マイクロ複製レンズの組から出る光の角度分布を検出する、請求項39に記載の製造システム。前記制御システムが、前記第1の測定範囲に関連した前記整合誤差と、前記第2の測定範囲に関連した前記第2の整合誤差とに基づいて、プロセス制御パラメーターを調整する、請求項39に記載の製造システム。前記制御システムが、前記第1の測定範囲に関連した前記整合誤差と、前記第2の測定範囲に関連した前記整合誤差との間の相対的な差異を計算し、前記算出された相対的な差異に基づいて前記プロセス制御パラメーターを調整して、前記ウェブ材料の張力又は歪みの少なくとも一方を制御する、請求項39に記載の製造システム。前記ウェブ材料上に印刷フィーチャをイメージングするエネルギー源であって、前記感知システムが、測定範囲内の前記印刷フィーチャの組を照射して、光を前記印刷フィーチャから前記マイクロ複製レンズの組を通して照射させ、前記マイクロ複製レンズの組により放射された前記光の前記角度分布を検出し、前記感知システムが、前記マイクロ複製レンズにより放射された前記光の前記角度分布に基づいて、前記印刷フィーチャと前記マイクロ複製レンズとの間の整合誤差を測定する、エネルギー源を更に含む、請求項27に記載の製造システム。前記制御システムが、前記測定された整合誤差に基づいて、前記ウェブ材料の次のイメージングを制御する、請求項42に記載の製造システム。前記第1のステーション及び第2のステーションが、単一ステーションにて適用される第1の及び第2のパターン形成ツールを含む、請求項27に記載の製造システム。前記ウェブ材料を製品に変換する変換器具であって、前記制御システムが、前記変換器具を前記測定された整合に基づいてクロスウェブ方向において前記ウェブ材料に対して自動的に位置決めして、前記ウェブ材料の前記マイクロ複製フィーチャの前記整合が規定の許容限界内にある前記ウェブ材料の範囲に前記変換機器を配置し、前記変換器具が、前記ウェブ材料の前記マイクロ複製フィーチャの前記整合が前記規定の許容限界内にある前記ウェブ材料の前記範囲を用いて、前記ウェブを製品に変換する、変換器具を更に備える、請求項27に記載の製造システム。前記変換器具が、前記制御システムからの信号に応答して前記クロスウェブ方向にて移動して、前記ウェブ材料の前記マイクロ複製フィーチャの前記整合が前記許容限界内にある前記ウェブの範囲から製品を切断する、請求項46に記載の製造システム。前記制御システムが、前記ウェブを前記変換器具に対して前記クロスウェブ方向に移動して、前記ウェブ材料の前記マイクロ複製フィーチャが前記許容限界内にある前記ウェブの範囲から製品を切断する、請求項46に記載の製造システム。ウェブ材料の製造方法であって、ウェブ材料を、輸送システムにより、製造プロセスの第1のパターン形成ツールと第2のパターン形成ツールとの間に搬送する工程と、前記第1のパターン形成ツールにより、前記ウェブ材料上に第1のパターンを形成する工程と、前記第2のパターン形成ツールにより、前記ウェブ材料上に第2のパターンを形成する工程と、前記第1及び第2のパターンを形成した後、前記第1のパターンのフィーチャと、前記第2のパターンのフィーチャとの間の相対的な距離を検出する工程と、前記第1のパターンの前記フィーチャと、前記第2のパターンの前記フィーチャとの間の前記相対的な距離に基づいて、前記輸送システム内の前記ウェブ材料の整合を検出する工程と、を含む、方法。前記検出された相対的な距離を、予想された相対的な距離と比較する工程と、前記検出された相対的な距離と前記予想された相対的な距離との間の差異が所定の許容値を越える場合、前記ウェブ材料上に誤差表示をマーキングする工程と、を更に含む、請求項49に記載の方法。前記第1のパターンが、第1の距離で離間する2つの線を有する基準マークを含み、前記第2のパターンが、第2の距離で離間する2つの線を有する基準マークを含む、請求項49に記載の方法。前記検出された相対的な距離に基づいて、前記ウェブ輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程を更に含む、請求項49に記載の方法。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記第1及び第2のパターン形成ステーションの一方に搬送されているときに、前記ウェブ材料のクロスウェブ位置を調整することを含む、請求項52に記載の方法。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記第1及び第2のパターン形成ステーションの一方に搬送されているときに、前記ウェブ材料のダウンウェブ位置を調整する工程を含む、請求項52に記載の方法。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、前記ウェブ材料が前記第1及び第2のパターン形成ステーションの一方に搬送されているときに、前記ウェブ材料のクロスウェブ位置及びダウンウェブ位置の両方を調整することを含む、請求項52に記載の方法。少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程が、i前記ウェブ材料が前記第1及び第2のパターン形成ステーションの一方に搬送されているときに、前記ウェブ材料のクロスウェブ位置を調整すること、ii前記ウェブ材料が前記第1及び第2のパターン形成ステーションの一方に搬送されているときに、前記ウェブ材料のダウンウェブ位置を調整すること、並びにiii前記ウェブ材料が前記第1及び第2のパターン形成ステーションの一方に搬送されているときに、前記ウェブ材料の張力を調整すること、を同時に行うことを含む、請求項52に記載の方法。ウェブ材料の製造方法であって、ウェブ材料を、輸送システムにより、製造プロセスの複製ステーションを通して搬送する工程と、前記複製ステーションにより、前記ウェブ材料上に複製レンズのパターンを形成する工程と、前記複製レンズのパターンを形成した後、前記ウェブ材料の前記複製レンズからの光の角度分布を検出する工程と、前記検出された角度分布に基づいて、前記ウェブ輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程と、を含む、方法。ウェブ材料の製造方法であって、ウェブ材料を、輸送システムにより、製造プロセスのマイクロ複製ステーションを通して搬送する工程と、前記マイクロ複製ステーションにより、前記ウェブ材料の第1の表面上にマイクロ複製光学フィーチャを形成する工程と、前記マイクロ複製光学フィーチャを形成した後、前記ウェブ材料の前記マイクロ複製光学フィーチャからの光の角度分布を検出する工程と、前記検出された角度分布に基づいて、前記ウェブ輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程と、を含む、方法。第2のマイクロ複製ステーションにより、マイクロ複製レンズの前記パターンに対向して、前記ウェブ材料の反対側の表面上の前記ウェブ材料の第2の表面上に、マイクロ複製フィーチャを形成する工程と、前記検出された角度分布に基づいて、前記ウェブ材料の前記第1の表面上の前記マイクロ複製光学フィーチャが、前記第2の表面上の前記マイクロ複製フィーチャと予想された位置合わせにあるか否かを測定する工程と、を更に含む、請求項58に記載の方法。第2のマイクロ複製ステーションにより、前記マイクロ複製レンズのパターンに対向して、前記ウェブ材料の反対側の表面上の前記ウェブ材料の第2の表面上に、マイクロ複製フィーチャを形成する工程と、前記検出された角度分布に基づいて、前記ウェブ材料の前記第1の表面上の前記マイクロ複製光学フィーチャが、前記第2の表面に前記マイクロ複製フィーチャを形成するための前記第2のマイクロ複製ステーションのフィーチャと予想された位置合わせにあるか否かを測定する工程と、を更に含む、請求項58に記載の方法。ウェブ材料の製造方法であって、ウェブ材料を、輸送システムにより、製造プロセスのプロセス構成要素に搬送する工程であって、前記ウェブ材料が、前記ウェブ材料の第1の表面上に形成された光学フィーチャを含む、工程と、前記ウェブ材料の前記第1の表面上の前記光学フィーチャが、前記プロセス構成要素の焦点合わせ要素の焦点面内に配置されるように前記光学フィーチャが前記プロセス構成要素の前記焦点合わせ要素と整合される際に、前記ウェブ材料の前記光学フィーチャからの光の角度分布を検出する工程と、前記検出された角度分布に基づいて、前記ウェブ材料の前記第1の表面上の前記光学フィーチャが前記プロセス構成要素の前記焦点合わせ要素と予想された整合にあるか否かを測定する工程と、前記測定に基づいて、前記ウェブ輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程と、を含む、方法。前記プロセス構成要素により、前記ウェブ材料上にフィーチャの第2の組を形成する工程を更に含む、請求項61に記載の方法。前記プロセス構成要素の前記焦点合わせ要素が、凹面鏡である、請求項61に記載の方法。前記プロセス構成要素が、前記焦点合わせ要素により前記ウェブ上にフィーチャの前記第2の組を形成するためのマイクロ複製ステーションか、前記焦点合わせを有し前記ウェブを誘導するための誘導ロールか、前記ウェブの張力を調整するための精密張力制御要素か、又は前記焦点合わせ要素によりフィーチャの前記第2の組を印刷するための印刷ステーションを含む、請求項61に記載の方法。一般に、本書類は、ウェブフィーチャ整合のための高分解能計測及びフィードバックを提供する技術について記載する。この技術は、マイクロメートルのサイズ等級を有するマイクロ複製構造を含むように製造されるウェブ材料に特に有用であり得る。この技術は、マイクロメートル及びサブミクロンフィーチャの相対的な位置に関する正確なオンライン計測を提供する。データは、側方及び長手方向制御システムに供給されて、ウェブのマイクロ構造化フィーチャの整合を制御するためのリアルタイムのサブミクロン補正を提供することができる。一例では、この技術は、マイクロレンズ、即ち数十~数百マイクロメートルのオーダーの直径を有するレンズのアレイを含むように製造されるウェブ材料に適用される。マイクロレンズは、例えば光角度制御フィルム、インテグラルイメージングフィルム、光抽出アレイ、生物医学センサ、CCD及びCMOSアレイセンサ、並びに太陽電池アレイ等の場合のように、消費者に供給される製品の一体的部分であってもよい。別の例では、マイクロレンズは、消費者製品に使用されないウェブ部分上に例えば、縁に導入及び製造されて、サブミクロンプロセス制御用の機構を提供する。本明細書に記載するように、この技術は、アレイセンサ例えば、CCDカメラを使用して、1つ以上の光源により照射された際にマイクロレンズから放射された光の角度分布を記録し得る。測定システム又は制御システムは、マイクロレンズを離れる光の角度分布を監視し、レンズの焦点面内に存在する配光に影響を与える、レンズとフィーチャとの間の相対的な位置即ち、位置合わせを正確に測定し得る。サブミクロン整合の場合、これは数十マイクロメートルのオーダーの特有のピッチ及び半径を有するマイクロレンズのアレイを使用して達成され得る。一面では、この技術により、ウェブ材料のフィーチャ間の相対的な位置合わせを角度分布に転換することができ、該角度分布を予想された角度分布と比較し得る。本明細書に記載した技術は、画像ベースの位置決めシステムを使用して、撮像されたウェブ上の基準マークに基づいてウェブ位置を測定する製造システムと比較して、利点を提供し得る。そのようなシステムの位置分解能は、システムの対物レンズシステムと入射光の波長との回折限界により物理的に制限される。加えて、そのような高分解能対物レンズは、非常に小さい被写界深度を有するため、単一のセンサがウェブの両面に亘って焦点を維持することが困難である。また、そのようなシステムは、多くの場合、移動するウェブに生じる自然の深さ変動の存在下で焦点を維持するための高速自動焦点の形態を必要とする。一実施形態において、製造システムは、ウェブ材料上にマイクロ複製レンズのパターンを形成するマイクロ複製ステーションと、マイクロ複製ステーションを通してウェブ材料を搬送する輸送システムと、ウェブ材料上の測定範囲を照射し、第1の測定範囲内のマイクロレンズの組を出る光の角度分布を検出する感知システムと、検出された角度分布に基づいて輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する制御システムと、を備える。別の実施形態では、方法は、ウェブ材料を、輸送システムにより、製造プロセスのマイクロ複製ステーションを通して搬送する工程と、マイクロ複製ステーションにより、ウェブ材料上にマイクロ複製レンズのパターンを形成する工程と、を含む。本方法は、マイクロ複製レンズのパターンを形成した後、ウェブ材料のマイクロレンズからの光の角度分布を検出し、検出された角度分布に基づいて輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程と、を更に含む。更なる実施形態では、方法は、ウェブ材料を、輸送システムにより、製造プロセスの第1のパターン形成ツールと第2のパターン形成ツールとの間で搬送する工程と、第1のパターン形成ツールにより、ウェブ材料上に第1のパターンを形成する工程と、第2のパターン形成ツールにより、ウェブ材料上に第2のパターンを形成する工程と、を含む。本方法は、第1及び第2のパターンを形成した後、第1のパターンのフィーチャと第2のパターンのフィーチャとの間の相対的な距離を検出する工程と、検出された相対的な距離に基づいて、ウェブ輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程と、を含む。更なる別の実施形態では、方法は、ウェブ材料を、輸送システムにより、製造プロセスの複製ステーションを通して搬送する工程と、複製ステーションにより、ウェブ材料上に複製レンズのパターンを形成する工程と、を含む。本方法は、複製レンズのパターンを形成した後、ウェブ材料の複製レンズからの光の角度分布を検出する工程と、検出された角度分布に基づいてウェブ輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程と、を含む。更なる実施形態では、方法は、ウェブ材料を、輸送システムにより、製造プロセスのマイクロ複製ステーションを通して搬送する工程と、マイクロ複製ステーションによりウェブ材料の第1の表面上にマイクロ複製光学フィーチャを形成する工程と、を含む。本方法は、マイクロ複製光学フィーチャを形成した後、ウェブ材料のマイクロ複製光学フィーチャからの光の角度分布を検出する工程と、検出された角度分布に基づいてウェブ輸送システムの少なくとも1つのプロセス制御パラメーターを調整する工程と、を含む。本発明の1つ以上の実施形態の詳細を添付図面及び以下の説明に示す。本発明の他の特徴、目的、及び利点は、説明及び図面、並びに特許請求の範囲から明らかとなるであろう。図1は、本発明の原理に従って作動するウェブベースの製造システム10の一部分を示すブロック図である。この特定の例では、ウェブ輸送システムのセグメントが示され、前記セグメントは、多数の駆動ローラーとアイドラーローラーとを含んで、ウェブ輸送システムを通してウェブ材料12を移動する。この例では、ウェブベースの製造システム10は、2つのマイクロ複製ツール14A、14B集合的にツール14を含む。マイクロ複製ツールは、マイクロ構造を有するウェブ材料12を生成し、該マイクロ構造は、例えばダウンウェブ方向に連続して延びてもよいか、又はツールの回転に伴って単に反復するいくつかの他の2次元2Dパターンを形成してもよい。そのような構成は、例えば、マイクロメートルのサイズ等級を有するマイクロ複製構造を含ませるためのウェブ材料12の製造に有用であり得る。一例において、ウェブ材料12は、材料の上面及び下面の両面上に、対向するマイクロ構造パターンを有する、両面フィルムとして形成される。この例では、マイクロ構造のパターンのそれぞれは、クロスウェブ方向に、対応するピッチ又は周期性を有するように形成される。換言すれば、マイクロ複製パターンは、クロスウェブ方向において、規定の間隔に従って反復されるように構成される。また、ウェブ材料12の異なる面上の対向するマイクロ構造パターンは、クロスウェブ方向において、異なるピッチ又は周期性にて形成されてもよい。更に、対向するパターンの個々のフィーチャが、1つ以上のクロスウェブ位置において、マイクロレンズの軸線に対して既知の所望の整合を有するように、対向するマイクロ複製パターンがウェブ材料12上に配置される。更なる態様では、マイクロ複製パターンは、ウェブ位置の関数として均一に離間されなくてもよい。2Dマイクロ構造アレイの場合等の別の態様では、マイクロ構造の対向するパターンは、対向するパターンの個々のフィーチャがダウンウェブ及びクロスウェブ方向の両方において整合するように、ウェブ材料12上に配置される。例示の一実施形態では、ウェブ材料12は、一方の表面上に対称的なプリズムのマイクロ複製パターンを有し、他方の表面上に円柱レンズのマイクロ複製パターンを有するように製造される。一般に、ウェブ材料12は、協働して複数の光学フィーチャを形成するマイクロ複製パターンを有する可撓性又は非可撓性の任意の基材であってもよい。各フィーチャの性能は、各レンズを形成している対向するフィーチャの整合の関数であるため、レンズフィーチャの精密な整合、つまり位置合わせが好ましい場合がある。マイクロ複製パターンは、例えば光角度制御ディスプレーフィルム、インテグラルイメージングフィルム、光抽出アレイ及び太陽電池アレイ等の場合のように、顧客に供給される製品の一体的部分であってもよい。別の例では、ツール14は、顧客製品に使用されないウェブ材料12の一部分上に例えば、ウェブの縁にマイクロ複製パターンの1つ以上を形成して、制御システム20及び感知システム25によるサブミクロンプロセス制御用の機構を提供する。マイクロ複製構造を有する両面物品を形成するための例示の技術の更なる詳細は、それぞれの全開示が参照により本明細書に組み込まれる米国特許第7,224,529号及び同第7,417,798号に記載されている。本明細書に記載した技術によれば、感知システム25は、ツール14A、14Bにより形成されたフィーチャの相対的な位置の正確なオンライン計測を提供する。本明細書に記載するように、感知システム25は、1つ以上の光源により照射された際にウェブ材料12のマイクロレンズにより生成された光線の角度分布を記録するアレイセンサ例えば、CCDカメラを含んでもよい。一態様において、制御システム20は、光源のそれぞれに関して、マイクロレンズを離れる光の角度分布を監視して、レンズと、レンズの焦点面内に存在しかつ配光に影響を与えるウェブ材料12上の他のマイクロフィーチャと、の間の相対的な位置を正確に測定する。別の態様では、制御システム20は、マイクロレンズを離れる光の角度分布を監視して、ツール14Bによるマイクロ構造の組の形成中、レンズとツール14Bとの間の相対的な位置を測定する。この例では、測定は、概して、透過感知形態ではなく反射感知形態を必要とするが、概念は類似している。この態様は、図9Bに関連して更に論じられる。サブミクロン整合は、数十マイクロメートルのオーダーの特有のピッチ及び半径を有するマイクロレンズのアレイを使用して達成され得る。センサにより感知された角度信号は、感知システム25の測定システム図1に示さずにより位置信号22に変換されてもよい。感知システム25からの位置信号22は、制御システム20に供給されて、ツール14の一方又は両方を通したウェブ材料12の輸送の誘導及び張力制御のためのリアルタイムのサブミクロン補正を提供する。即ち、ウェブベースの製造システムの制御システム20は、感知システム24から信号22を受信し、前記信号22は、ツール14Bにより形成されたマイクロフィーチャに対するツール14Aにより形成されたマイクロフィーチャの相対的な位置をサブミクロン精度で示す。制御システム20は、相対的位置信号22を処理し、ウェブ材料がツール14及びウェブ製造システム10を通して連続して流れているときに、リアルタイムのウェブ材料12の所定のプロセス制御パラメーターをリアルタイムで測定する。いくつかの例では、感知システム25は、所定の時間においてウェブ材料12の2つ以上の位置に関する位置信号22を感知し、制御システムはこれらのデータからウェブの歪み及び張力を監視するのに使用し得る位置信号を算出する。例えば、制御システム10は、信号22を処理して、ウェブ材料12内のウェブ張力の閉ループ制御を提供し、又はウェブ材料12の異なるマイクロ複製フィーチャのリアルタイムでのサブミクロン整合を正確に維持し得る。様々な態様において、感知した角度分布データは、感知システム25の測定システムにより、ホストコンピューターにより、センサにおいて、又は遠隔設置された計算デバイスにおいて、位置信号に変換され得る。図1に示すように、感知システム25は、ツール14の下流に位置していてもよいが、ウェブ材料12が第1のツール14Aから、マイクロフィーチャ、即ちこの例ではマイクロレンズである、第2の層が形成される第2のツール14Bへと様々なステージを通して輸送されるときに、位置制御のために使用されてもよい。ウェブ材料12のマイクロフィーチャの複数の層の相対的な位置合わせ及び整合が、第2の組が第2のツール14Bにより形成される際に固定されているため、感知システム25の上流において位置及び張力制御を達成することができ、したがって、ツール14Bの下流かつ感知システム25の上流にて生じ得る任意の張力又は位置の変動による影響を受けない。ツール14A、14Bは、一般に、ウェブ上にフィーチャを形成するための、又はさもなくばウェブの輸送を制御するための、焦点合わせ要素を有するプロセス構成要素を表す。プロセス構成要素の他の例は、透過光若しくは反射光を感知してウェブを誘導する焦点合わせ要素を有する誘導ロールか、又は焦点合わせ要素によりフィーチャの組を印刷する印刷ステーションを含む。別の態様では、感知システム25は、ツール14Bに配置されて、マイクロレンズの層と、マイクロ構造を形成するためのツール14Bのフィーチャとの相対的な位置合わせ及び整合を測定してもよい。これにより、リアルタイムでのより即時的なプロセス制御パラメーターの調整が可能となる。いくつかの実施形態において、ツール14は単一のステーションに位置していてもよいが、別の実施形態では、ツール14は分離したステーションに位置していてもよい。概してツール14の観点から記載したが、マイクロ複製フィーチャは、硬化、エンボス加工、押出、積層、成型、又は他のプロセス等の多様なプロセスによりウェブ材料上に形成され得る。例えば、感知システム25により提供される相対的な位置信号22に基づいて、制御システム20は、様々なアクチュエーター制御信号30を出力して、ウェブ製造システム10の1つ以上の輸送要素を変更する。例えば、制御システム20は、アクチュエーター制御信号30を出力して、輸送システムの1つ以上のローラーの駆動モーター図示せずを制御してもよい。別の例として、制御システム20は、サブミクロン精度まで位置合わせされ得る1つ以上の側方ステージにアクチュエーター制御信号を提供してもよく、アクチュエーターは、ツール14に対するウェブ材料12の位置を調整するための圧電素子、リニアモーター、ボイスコイル、又は他の装置であってもよい。マイクロ複製構造を有する両面物品の整合に使用し得る例示の技術の更なる詳細は、全内容が参照により本明細書に組み込まれる、Methodandapparatusforcontrollingamovingwebと題された米国特許第7,296,717号に記載されている。制御システム20は、例えば、駆動ローラーのうちの1つ以上の位置、速度、及び/又はトルクを制御して、ウェブ張力又は歪みを制御してもよい。同様に、制御システム20は、アクチュエーター制御信号30を出力してローラー間の距離を変更し、ウェブ歪み又は張力を変更してもよい。ウェブ張力を制御するための例示の技術は、全内容が参照により本明細書に組み込まれる米国特許第6,985,789号に記載されている。別の例として、制御システム20は、ツール14のうちの1つ以上の温度を調整してもよい。別の例として、制御システム20により測定された現在のウェブ張力値又は現在のツール14の整合等の算出されたプロセス制御パラメーターを操作者34に表示して、操作者がウェブベースの製造システム10の作動パラメーターを変更することを可能にしてもよい。このようにして、制御システム20は、信号22により表される、異なるマイクロフィーチャの相対的な位置を監視し、この信号に基づいて、ウェブ輸送システムのリアルタイム制御においてフィードバックデータとして使用するためのプロセス制御パラメーターを算出し得る。角度信号から誘導された相対的な位置データにより提供されるサブミクロン精度に応答して、ウェブベースの製造システム10に関連した他の周知のシステムパラメーターが制御され得る。そのようなものとして、上記のシステムは、いくつかの実施形態では、それらのシステム内での任意の他の用途に使用される、ウェブ材料12の張力又は弾性率等の観察されたウェブパラメーターに関する値を生成するシステムと見なすことができる。例示の一実施形態では、制御システム20は、ウェブ輸送制御装置として使用される、ソフトウェアを実行する汎用プログラム可能コンピューターである。制御システム20は、典型的には、ソフトウェア命令を実行するための1つ以上のプログラム可能プロセッサ、メモリ例えば、RAM、1つ以上の大容量記憶装置例えば、ハードドライブ、フラッシュメモリ、及び外部装置と通信するための様々なインターフェイスモジュールを含む。制御システム20内で実行するオペレーティングシステムは、プログラムコード形態のソフトウェア命令の実行のための手段を提供してもよい。図2は、ウェブ材料12からの例示の角度転向フィルム製品の断面図である。この例では、ウェブ材料12は、ツール14Aによって基材42の下面上に被覆されたマイクロプリズムマイクロプリズム40を含むマイクロプリズムアレイを含む。加えて、ウェブ材料12は、ツール14Bによって基材42の上面上に被覆されたマイクロレンズマイクロレンズ44を含むマイクロレンズアレイを含む。図の3部は、マイクロプリズム40A~40Cの位置が、ウェブ上の代表的な位置において、マイクロレンズ44A~44Cの位置に対してシフトし得ることを示す。このシフトは、生じたプロセスの変動に関連した整合の変動の結果であり得るか、又は整合のずれは、実際には所望の製品構造の一部であり得る。ツール14は、これらのマイクロ構造アレイ要素が下面及び上面の両面上で連続的に反復するように形成する。これらのフィーチャは、レンズが屈折力をクロスウェブ方向のみに関して有するか、又はこれらのレンズが2次元、即ちダウンウェブ及びクロスウェブの両方において屈折活性を有するレンズであってもよいように、ダウンウェブ方向に連続的に延びてもよい。後者は、多くの場合、2次元レンズアレイと称される。図示した例では、マイクロレンズアレイの各マイクロレンズ40は、1~1500マイクロメートルの範囲内、好ましくは数十~数百マイクロメートルの範囲内のレンズ曲率半径にて形成され、マイクロプリズムアレイの各マイクロプリズム44は、マイクロプリズム先端の高さが名目上マイクロレンズの焦点にあるように形成される。一般に、整合測定の分解能は、光学フィーチャのサイズに応じて定められるであろう。マイクロレンズ44及びマイクロプリズム40は、角度転向フィルムとして適用された際に所定の視覚効果を提供するように、クロスウェブ方向におけるサブミクロン位置合わせを有して形成される。また、マイクロフィーチャ即ち、マイクロレンズ及びマイクロプリズムアレイのクロスウェブピッチ又は周期性は、時にはナノメートルレベルの精度を有して注意深く制御される必要があり、対向するフィーチャに関して常に同一である必要はなく、またウェブ上の異なる位置にて同一でなくてもよい。ウェブ基材の各面上のフィーチャ間の精密な位置合わせを、サブミクロン許容度以内で維持することにより、容認可能な製品の生産量を増大させることができる。ウェブ材料10は、2つのマイクロ複製ステーション14間の輸送領域内で誘導され得る即ち、クロスウェブ方向において僅かにシフトするため、またそれぞれのステーションまで通じる多数の別個の張力ゾーンが存在し得ることを想定すると、マイクロレンズ44及びマイクロプリズム40の整合及びピッチの、ウェブ材料12の長さ及び幅に亘ったマイクロメートル又はサブミクロン制御さえ有することが望ましい。図3A~3Bは、光角度制御フィルム内に放出される代表的な光線を示す。任意の所定のレンズを離れる光の角度分布は、固定された入射角、固定されたプリズム頂角、及び固定されたレンズ曲率半径を仮定して、マイクロプリズム40の先端とマイクロレンズ44の光学軸との間の整合の関数である。フィルムからの角度分布は、ピッチを制御するための整合の関数であるため、ウェブを横切る位置において角度分布がどのように変動するかを測定し、それを位置内で生じる整合における変化と関連付けてもよい。規定の視角内でフィルムを通して観察者に表された画像の所定の視覚効果を形成するために、フィーチャの所望の整合はフィルムを横切る位置の関数であってもよい。したがって、例えば、図3Aに示すマイクロフィーチャは整合されており、これがフィルム上のいくつかの位置での所望の相対的な整合であると仮定してみよう。一方、図3Bは、対向するマイクロフィーチャ間のシフトを示し、このシフトは、図3Aの場合に測定された角度分布とは異なる角度分布をもたらすであろう。このシフトが、図3Bに示す整合が予想された位置で生じた場合、製品は容認できない性能を有する可能性があるが、この整合がフィルム上の異なる位置で生じた場合、これは所望の整合であり得る。整合がフィルム上の位置の関数として変動し得る場合、フィーチャが適切に整合されているか否かを測定するには、角度分布が測定されるフィルム上の位置を知る必要がある。かくして、この例では、角度データ出力を適切に解釈するために、センサのフィルム上の位置を知る必要がある。フィルムに対するセンサの位置を測定するための技術は、下記に記載されている。図4Aは、製造中にウェブ材料12上の既知の位置におけるマイクロレンズから来る角度分布を測定する感知システム25の例示の実施形態を示すブロック図である。感知システム25は、マイクロ構造化フィーチャの整合を制御するための制御システム20に位置信号22を提供する。粗位置決めシステム59は、製造ラインの静止座標系内に固定された位置基準フレームを提供し、センサ63は、その固定された座標フレーム内で製造プロセス中に生じ得るウェブ上の基準フィーチャ61の動作を追跡する。感知システム25の位置も固定された座標系内で既知であり、したがってセンサ25の位置はウェブ上の基準位置に対して常に既知である。粗位置決めシステム59の分解能は、一般に、対向する構造の相対的な整合における任意の周期性を分解するのに少なくとも十分である必要がある。大抵、必要な空間分解能は、マイクロ構造化製品の予想された角度分布の変化率により検出され、これは例えば0.1~1deg/mmの範囲内であってもよく、これは許容差の範囲であり、該範囲において、所定の角度出力がフィルムにより形成されると想定され、これは0.1~10mmの範囲内であってもよく、また感知システム25の角度分解能により測定され、これは0.01~0.1degのオーダーであってもよい。これらの数値の典型的な組み合わせに関して、粗位置決めシステム59による0.1mm分解能が概ね十分であるが、必要であれば、数マイクロメートル分解能を有するシステムが容易に入手可能である。一実施形態において、測定システム52は、レンズの後焦点面内の光強度分布が、レンズに入る波面の角度分布のフーリエ変換である、レンズの光学特性を利用する。一例では、アレイセンサ50例えば、CCDカメラが多要素レンズ54の焦点面に位置して、レンズに入る光線56A、56Bの角度分布を記録する。別の例では、単一要素センサが、時間の関数として角度の範囲に亘って走査して、レンズに入る光線56A、56Bの角度分布を記録し得る。一例では、レンズ54は、1mmのオーダーの測定スポットサイズを有する測定範囲57からのアレイセンサ50を横切る中程度の角度範囲例えば、±30°を同時に記録するように設計された多要素レンズである。図2の例示の製品では、マイクロレンズのピッチが30~100マイクロメートルの範囲内である場合、1mmのスポットサイズはおよそ10~33個のマイクロレンズ/マイクロプリズム対の照射をもたらすであろう。この場合、得られる角度分布は、個々のフィーチャの任意の1つに存在し得る異常に反応せず、マイクロフィーチャ全体の整合をより正確に表すであろう。明らかに、スポットサイズの選択は、位置による角度出力における全ての変動を除去するほど大きくなり得ないが、スポットサイズはまた、角度による全ての変動を完全に排除する程、小さい必要はない。得られた角度出力は、照射されたマイクロ構造からの角度分布に亘って統合される。スポットサイズは、入力ビームの焦点を合わせることによって、又は多要素レンズシステム54の視野を縮小することによって、必要に応じて調整されてもよい。図4Aの例では、2つの異なる光源60A、60Bがクロスウェブ方向において実質的に互いに対向して配置されて、ウェブ材料12の測定範囲57をそれぞれ光線62A及び62Bにより同時に照射する。一例では、2Dアレイセンサ50が光線56A及び56Bの、X軸クロスウェブ及びY軸ダウンウェブの両方に関する角度分布を同時に記録する。一実施形態において、クロストークを有することなく光源からの分布を同時に記録できるように、光源60A及び60Bは、関心対象領域を中心として僅かに例えば、数度回転されて、入射ビーム角度を配置する。この例では、これはウェブ材料12上の円柱マイクロレンズ44が光をY軸のみに関して屈折させるという事実を利用する。例えば図4Bは、アレイセンサ50により光源60に関して記録された得られた角度分布がアレイセンサ50の感知領域上で分離されるように、ソースビーム62A、62Bの入射方向がクロスウェブ方向に関して僅かに回転されていることを示す下面図である。これは捕捉光線をX及びY方向の両方にて分離することを可能にする。別の実施形態では、光線62A、62Bの唯1つのみを使用して、マイクロ複製レンズにより放射された光の角度分布を検出してもよい。単一の光線は角度分布の検出に十分であるが、第2の光源の加えることにより、システムの正確さ及び分解能が改善し得る。別の実施形態では、フィルムからの角度出力の範囲が波面センサにより測定可能な角度の範囲内にあることを条件として、波面感知システムを使用してフィルム上の多数の地点からの角度分布を同時に分析し得る。図5は、アレイセンサ50により捕捉された例示の角度分布データを示すグラフである。この例では、光源60Aからの光線62Aにより照射されたマイクロプリズム40及びマイクロレンズ44は、X軸からおよそ-6°~-18°の角度分布70Aを有する光線56Aを生成した。同様に、光源60Bからの光線62Bにより照射された同一のマイクロプリズム40及びマイクロレンズ44は、X軸からおよそ-4°~12°の角度分布70Bを有する光線56Bを生成した。図5の角度分布データは説明の容易さのために均一の強度を有するよう示されているが、他の角度分布データは非均一の強度分布を有し得る。光角度制御フィルム用途において、測定システム52は、アレイセンサ50により記録された角度分布を、画像加工アルゴリズムを使用して分析する。分析に基づいて、測定システム52は、収集光学collectionoptics及び入力ビームにより画定される直径1~2mmの測定範囲57内のプリズム先端とマイクロレンズの軸線との間の整合を示す位置信号22を生成する。図6Aは、測定システム52が光線56A、56Bの角度分布を分析する一方法を示すグラフ71である。この例では、測定システム52は、図5に示した角度分布70Aに関する2次元データから、1次元投影即ち、感知データの1次元を構成する。同様に、測定システム52は、角度分布70Bに関する2次元データから1次元投影を構成する。次に、測定システム52は、異なる感知システム25により使用された光源の間の任意の光学又はパワーの差異等の様々な要因に基づいて投影のデータ値を正規化する。図6Aは、0~1の範囲のデータ値を有する、正規化された2つの例示の投影72、74のグラフを示す。次に、測定システム52は、正規化データを分析して、2つの1次元投影72、74に関する交差地点75を同定し、ここで交差地点は、異なる光源からの2つの分布が交差する角度を表す。この分割角bisectorangleは、プリズムとレンズの整合がXの関数であるため、クロスウェブ位置Xに対して予想された挙動を有する。一実施形態において、測定システム25は、同定されたこの交差75地点の角度位置を位置信号22の形態で制御システム20に搬送する。図6Aの例は、角度投影に関する交差地点75が0度に位置する場合を示す。測定範囲57が、交差地点が0度に位置することが予想された製品の特定の位置と一致することが予想される場合、例えば、図2のマイクロレンズ44A及びマイクロプリズム40A、図6Aの例は、製品が適切な位置合わせにあることを示す。しかしながら、いくつかの製品では、マイクロフィーチャは、マイクロフィーチャの間隔が、例えばマイクロフィーチャ間の整合が製品の幅に亘ってシフトするようにクロスウェブ方向において作動ピッチ率differentialpitchrate周期性を有することによる等、製品上の位置に関連して変動するように特に形成され得る。そのような例では、予想された角度分布は、フィルム上の測定範囲57のクロスウェブ位置の関数である。そのような例では、上記に説明したように、ウェブ製造システム10は、粗粒coarsegrain位置決めシステム59図4を使用して、製品の位置に対する測定範囲57のクロスウェブ位置を追跡してもよい。一例では、粗粒ウェブ追跡センサを使用して、通常のウェブ誘導動作の結果としてウェブ材料が座標系内で前後に移動し得るときに、ウェブ材料12上の基準マーク61の動作を監視する。制御システム20は、この情報を使用して、測定範囲57の現在のクロスウェブ位置を測定する。この測定位置に基づいて、制御システム20は、光線56A、56Bのそれぞれに関する予想された角度分布と、一例では、正規化された1次元投影に関する予想された交差地点と、を測定し得る。実際の角度分布を検出し、予想された角度分布と比較し得る。実際の値と予想された値との間の差異を許容差と比較して、プロセスパラメーターに対する手動又は自動調整等の行動を取るべきか、又は制御システム20がマーキング構成要素にウェブ材料上に誤差表示をマークするように指示する必要があるかを、測定し得る。例えば、誤差表示は、マイクロ複製フィーチャ間の整合誤差alignmenterrorの位置及び量等の整合誤差に関する情報を記録するための、測定範囲内に作製若しくは印刷された物理的マークであってもよく、又はウェブの縁に沿って印刷された基準マークであってもよい。いくつかの場合では、制御システム20は、データベース又は他の非一時的なnontransitoryコンピューター可読媒体を含んで、測定された整合を記録する。別の実施形態では、測定システム52又は制御システム20は、図5の角度分布70A、70Bに関連した画像内の閾値化ブロブthresholdedblobからの位置情報を処理することにより、光線56A、56Bの角度分布を分析してもよい。更なる実施形態では、2つの光源からの投影データの交差地点を測定する代わりに、単一光源からの投影データを分析して、例えば曲線を投影データのプロファイルに適合させるか、又は画像の測定角度強度分布を予想されたパターンと比較してもよい。図6Bは、制御システム20が、通常のウェブ誘導及び感知システム25の位置に基づいて、測定範囲57の位置が、適切に整合された製品に関して5°の交差地点76を有する角度分布を生成することが予想されたことを測定する、一例を示すグラフである。しかしながら、図6Bに示すように、測定システム52は、実際の交差地点77を7°に検出する。制御システム20は、検出された交差地点77の予想された交差地点76からの角度逸脱81に基づいて、位置調整を計算し、例えば製品に関して予め設定されているピッチ情報を使用して微粒位置決め調整を行って、製品の片面上のフィーチャの位置を、反対側の面上のフィーチャに対して調整する。この位置調整は、例えばおよそマイクロメートル又はより適切に言えば、サブミクロンのオーダーであってもよい。代替的に、制御システム20は、手動調整のために、位置決め調整を操作者に出力する。このようにして、粗粒位置決めシステム59が典型的にはマイクロメートル又はサブミクロン距離のオーダーの整合を提供することができなくても、制御システムは、初期クロスウェブ位置情報を使用してウェブのマイクロフィーチャに関する予想された角度分布を測定する。プロセスの開始時に測定地点57の基準マーク61に対する相対的な位置を記録することにより、測定システム52は、ウェブ材料12の即座の位置に関する予想された角度分布を測定することができる。このことにより、システムは、検出された実際の角度分布を予想された角度分布と比較することにより、光の角度分布の分析に基づいて測定範囲に関連した整合誤差を測定することができる。実際の角度分布と予想された角度分布との比較を用いて整合誤差を測定し、整合誤差に基づいて、マイクロメートルの、いくつかの精度適用ではサブミクロンのオーダーの追加の微粒調整を行うことができる。例えば、光の予想された角度分布と光の実際の角度分布との間の検出された差異から測定された整合誤差に基づいて、ツール14Bによる第2のマイクロ複製フィーチャの適用前に、ウェブ材料12及び第2のツール14Bの相対的な位置決めを精密に調整することができる。一般に、調整は整合誤差に基づいてリアルタイムで行われて、マイクロ複製構造の側方位置合わせ、マイクロ複製構造のダウンウェブ位置合わせ、及びマイクロ複製構造の相対的なピッチの調整のいずれか又は全部が制御され得る。図7は、材料12上に印刷されるか、ないしは別の方法で形成されてもよい、例示の基準マークの一実施形態を示す図である。一例では、基準マークは、ウェブ上での物理的位置の正確な配置と独自の識別のために、ウェブ材料12の長さ、好ましくはウェブの売却される範囲の外部にわたって、規則的な間隔で配置される。図7に示す基準マークの実施形態では、基準マークは、1つ以上の位置調整マーク82、84及びバーコード80を有する。位置調整マーク82、84は、基準マーク読取機63及び粗位置決めシステム59が、クロスウェブ及びダウンウェブ方向の両方にてバーコード80の位置を正確に決めることを可能にする。バーコード80は、機械可読フォーマットで提供される情報を表す。バーコード80は、例えば各基準マークに関する独自の識別子をエンコードしてもよい。バーコード80は、他の情報、例えばマークを適用するときに使用された座標系に基づいた位置情報、マークがそこに適用されるウェブに関する識別子、ウェブの製造に使用された若しくは計画された生産ラインの指定、製造プロセスライン及び/又は製造工場にわたるウェブに関する経路を規定する経路情報、適用された材料を識別し、並びにウェブの順番及び範囲を識別する情報、プロセス中に測定された環境条件、ウェブのダウンストリームの処理に関する指示及び他の情報のホストなどをエンコードすることができる。一実施形態において、バーコード80は、インターリーブド2オブ5interleaved2of5コードに従ってもよい。一実施形態において、バーコード80は、0~999,999の範囲内の単純な整数を表してもよい。一実施形態において、ウェブ上に配置された各基準マークは、以前の基準マークよりも大きいものである。一実施形態において、基準マークは、インクジェットプリンタを用いてウェブに適用されてもよい。ウェブ上に基準マークを配置するプロセスは、その全体が参照により本明細書に組み込まれるFloederetal.、米国特許第7,542821号、Multi-unitprocessspatialsynchronizationofimageinspectionsystemsに更に詳細に記載されている。他の実施形態は、様々な他の方法における基準マークを表してもよい。例えば、データは、1Dバーコード、2Dバーコード、光学式文字読取装置OCR又は磁気的なエンコードによって示されてもよい。更に、他の実施形態は、インクジェット印刷、レーザー印刷を使用するか、又は機械的なラベルをウェブに固定することによって、基準マークをウェブに適用してもよい。基準マークを示す他の手段、並びに他の適用方法も使用されてもよい。再び図4Aを参照すると、粗粒位置決めシステム59は、基準マークを使用して粗粒電子位置データ65を算出及び出力し、ミリメートルのオーダーの、又はいくつかの実施形態では数十マイクロメートルのオーダーの精度を有する、製造システム10の座標系内での、位置データを提供してもよい。測定システム52は、この初期位置データ65を使用して、光源60A、60Bにより現在照射されているウェブ材料12のマイクロフィーチャに関する予想された角度分布を算出する。予想された角度分布に基づいて、測定システム52は、収集光学及び入力ビームにより画定された直径1~2mmの測定範囲57内でのプリズム先端とマイクロレンズの軸線との間の整合を示す位置信号22を生成する。位置信号22は、例えば、閉ループ制御を目的として誤差信号の形態をとってもよく、誤差信号は、任意の整合誤差を、例えば5マイクロメートル以内、1マイクロメートル以内等の±マイクロメートルの単位で、又はサブミクロン精度により搬送する。マイクロフィーチャの整合がクロスウェブ位置の関数として逸脱しない用途では、粗粒位置決めシステム59を使用する必要はない場合がある。測定システム52の整合の正確さは、マイクロフィーチャのサイズピッチ、マイクロレンズの半径、及び角度スペクトルを記録するのに使用されるアレイセンサ50の角度分解能の、関数である。測定システム52は、配光が、照射され、レンズ54により収集された測定容積内に存在する全構造に亘って平均されるため、ウェブ材料12上に形成されたマイクロ構造の反復性を利用することにより高いレベルの正確さを達成する。このようにして、測定システム52により分析される角度分布は、任意の所定のマイクロレンズ44内の小さい異常、又は任意の1つのマイクロフィーチャに関する、ウェブ材料12の焦点面側上に存在し得る局所欠陥に対して、比較的感度が低い。実験により、1024×1360画素を有するアレイカメラと、名目上0.03°/画素即ち、1360画素方向において約±20度の角度範囲を提供するフーリエレンズ設定とを使用して、名目上50~70μmのピッチ及び30~55μmの曲率半径を有するレンズ状マイクロレンズアレイに関する0.1μm以内の構造の整合を測定する能力が示されている。図8は、制御システム120が、張力/歪み制御の両方、並びにウェブ位置制御のために位置信号122A及び122Bを使用する、ウェブ製造システム100の別の実施形態を示す。ウェブベースの製造システム100は、多数のマイクロ複製ツール又はステーション図示せずを使用して、ダウンウェブ方向に連続して延びるマイクロ構造を有するようにウェブ材料112を生成し得る点で、図1のウェブ製造システム10と実質的に類似していてもよい。例として、ウェブ112は図8にて方向Yに移動し、クロスウェブ方向Xを有するとして示されている。この例では、製造システム100は、ツールにより形成されるサブミクロンフィーチャの相対的な位置、又はサブミクロンフィーチャと、追加のサブミクロンフィーチャを形成するためのツールとの相対的な位置の正確なリアルタイム測定値を提供する2つの感知システム125A、125Bを含む。各感知システム125A、125Bは、上述した感知システム25と実質的に類似し得る。この場合の感知システム125は、対応する測定範囲127A、127Bから受容した光の角度分布を示し、又は該角度分布に由来する信号122を提供する。上記に論じたように、感知ステーション125はツールの下流又はツールのうちの1つに配置されてもよいが、ウェブ材料がマイクロフィーチャ、例えばマイクロプリズム40の、第2の層のために第2のツール内に供給されるときに、ウェブ材料112の位置及び張力制御に使用され得る。第2のツールによりマイクロフィーチャの複数の層が形成された後に、マイクロフィーチャの複数の層の相対的な位置合わせが固定されているため、例えば上流位置における位置及び張力制御が達成されてもよく、したがって第2のツールの後かつ感知システム125の前に生じ得る張力又は位置の変動による影響を受けない。一例では、ウェブ材料112は、製品レーン129A及び製品レーン129B等の製品の多数のレーンを所有するように製造されてもよい。ウェブ材料112は、製品レーン129のそれぞれが図2に示した構造と一致する様式で形成されるように製造されてもよい。例えば、製品レーン129のそれぞれは、ウェブ材料112の上面上にマイクロレンズを有し、下面上にマイクロプリズムを有してもよい。また、図2に示すように、製品レーン129のそれぞれは、図2のマイクロレンズ44A及びマイクロプリズム40Aにより示されるように、各製品の中心部のマイクロフィーチャが精密に整合されることが予想されるように形成されてもよい。別の例では、ウェブ材料112は、製品の異なる位置に2つの感知システム125A、125Bを有する、製品の単一レーンにて製造されてもよい。位置信号122A、122Bは感知システム25から制御システム120へ供給され、制御システム120は、例えばウェブ材料がマイクロ複製ツールを通して輸送される製造プロセスにおける上流の地点等で、ウェブ112内の張力に関するリアルタイム制御を提供する。図8の例では、感知システム125A、125Bは、光源の両方の対例えば、図3の光源60A、60Bに関する光の角度分布が0度にて交差すると予想される製品レーン129A、129B上の位置に測定範囲127A、127Bが対応するように、基準マーキングに対して配置される。しかしながら、いくつかの態様では、ウェブ誘導、即ちウェブ材料112のクロスウェブ位置におけるシフトの存在を明らかにするために基準マーキングを使用した場合でも、例えば、不正確な張力を原因として、またマイクロ複製フィーチャと、第2のマイクロ複製フィーチャを形成するためのツールのフィーチャとの間の不正確な位置合わせを原因として、感知システム125A及び/又は感知システム125Bの各光源から受容される光の角度分布に関する予想された交差地点からのシフトを検出する場合がある。上記に論じたように、この各測定範囲127A、127Bにおける角度分布の絶対的な変化は、検出され得る。光の予想された角度分布と光の測定角度分布との間の差異に基づいて、ツール14Bによる第2のマイクロ複製フィーチャの適用前に、ウェブ材料112及びツール14の相対的な位置決めを精密に調整することができる。2つのセンサが存在し、したがって2つの独立パラメーターを調整することができる。ダウンウェブ張力はクロスウェブ歪みを制御し、したがって測定された角度分布の間の差異と、対向するマイクロ構造の相対的な位置即ち整合とは、2つの測定値の平均又は合計を支配する。2つのセンサからの感知データの他の独立した組み合わせ、例えば単一のセンサからの角度出力及び2つの間の差異も使用し得る。いずれの場合でも、製品レーン単数又は複数に対する感知システムの配置に係わらず、光の予想された角度分布が感知システムの測定範囲に関して既知である限り、センサ125A及び125Bの位置が既知であることを条件として、実際の検出角度分布に基づいてツール14A又は14Bに対するウェブの側方又は長手方向の位置の動作が生じたか否かを検出することができるであろう。更に、第2のマイクロフィーチャを適用する前の、ウェブ材料112における不適切な張力も、マイクロフィーチャの不整合をもたらす場合もあり、この不整合は、次に、2つの光源からの光に関して検出された交差地点を、感知システム125のそれぞれにおいて変化させる。しかしながら、張力の変動は、各測定範囲127におけるマイクロフィーチャの相対的な整合の異なる変化として現れ、この相対的な変化は、張力誘導による整合誤差を、マイクロフィーチャの位置合わせの誤りにより生じた整合誤差から区別するのに使用し得る。例えば、ダウンウェブ方向Yの緊張に影響を与える張力の変動は、ウェブ材料12のクロスウェブ寸法Xに変化を生じさせる。片面上に硬化プリズムマイクロ構造を有する3mil76.2μmPETフィルムに関するクロスウェブ歪み係数の典型的な大きさは、1×10-5mm/mm/lbf2.25×10-6mm/mm/Nである。その結果、250mmのそのようなウェブを横切って作用する0.1lbf0.44Nの張力の変動は、0.25μmのクロスウェブ寸法変化即ち、増大された張力の変動に関するウェブ伸張を生じるであろう。第2の被覆ステーションによる加工前の、このようなプリズム被覆ウェブ材料112のクロスウェブのひずみは、測定範囲127A、127Bにおけるマイクロプリズム40とマイクロレンズ44図2との間の相対的な整合を、予想された整合から逸脱させるであろう。例えば、クロスウェブ寸法の0.25μmの変形は、適用されたマイクロレンズ44が製品レーン125Aの中央を外れた位置でマイクロプリズム40と整合するため、感知システム125Aにより記録される角度分布に関する交差地点を逸らすであろう。同様に、張力の変動を原因とするクロスウェブ寸法の0.25μmの変形は、感知システム125Bにより記録される角度分布に関する交差地点を、製品レーン125Bの中心を外れた位置に逸らすであろう。感知システム125A及び125Bにより記録される角度分布間の差異の取得は、伸張が集中する箇所とは無関係に、張力の調整の方法に関する情報を提供する。制御システム120は、感知システム125からの角度分布と、センサ間の距離と測定範囲127A、127Bにおけるウェブ材料120の予想された角度性能とにより構成される角度分布との間の差異を算出し、アクチュエーター制御信号130を出力して、測定された角度間の差異が、フィーチャ設計に関連した予想された角度差異と一致するまで、ウェブ製造システム100の輸送要素の1つ以上を変更する。別の例として、制御システム120は、例えば現在のウェブ張力値等の算出したプロセス制御パラメーターを操作者に表示して、操作者がウェブベースの製造システム100の操作パラメーターを変更することを可能にしてもよい。更なる例として、制御システム120は、検出角度分布を操作者に表示してもよく、又は角度分布間の差異を表示してもよい。一例では、制御システム120は、データを時間平均して、任意のロール振れにより生じる周期的変動を取り去り、それにより制御システム120は、張力を増大された分解能、例えば0.1lbf0.44Nに設定することができる。50μmのレンズピッチの場合、ピッチにおけるサブnmの変動を制御することができる。例えば、250.001mmの製品全体に亘るレンズフィーチャ上のクロスウェブ寸法の1μmの変化は、張力制御により分解可能である。これはさもなくば、50.0002μmの増大されたプリズムピッチを導入するであろう。その結果、この例では、この技術は、製品の全幅に亘って一定のピッチを仮定すると、ピッチに関して2オングストロームの正確さを達成する。適応技術及びフィードフォワード技術を使用して、任意のウェブ輸送プロセスに固有の周期的かつ反復可能な誤差構成要素を除去することもできる。上記に引用した正確さの数値は、図4Aに関連して上述したレンズ54等の、光線の角度分布を記録する感知システム125のレンズの焦点面にあるフィーチャに対応する。この正確さは、マイクロフィーチャがレンズの焦点面に存在しない場合、低下する可能性があり、これは例えばウェブ材料112が製造される際の大きい厚さ変動を原因とし得る。しかしながら、そのような変動は、ウェブ材料112の現在の厚さを測定し、対向するフィーチャ、例えばプリズム先端を離れる光の角度分布が既知であるか又は算出できる場合、補正できる。しかしながら、多くの場合、そのような数マイクロメートルのオーダーの厚さの変動全体に関する補正は、そのような変動が170μmのオーダーの例示の全体の厚さに鑑みて無視できるため、必要ない可能性がある。上記の例では、ウェブの片面上にレンズ状即ち1次元焦点合わせレンズを含み、他方の面上にプリズムマイクロ構造を含むウェブ製品に関連して本技術を記載した。整合構造に関する相対的な位置をフィードバックとして製造プロセスを制御するために使用することができるか、又はサンプルの品質制御試験のための品質測定法として使用することができる。例示を目的として、整合フィードバック及び張力制御を提供するための2つの感知システムを使用して実施形態を記載したが、この技術は一般化して、光学要素の焦点面に位置する任意の光活性構造のアレイに対する、任意の小型レンズアレイ又は他の光学要素1次元又は2次元焦点合わせ力を有するの整合を特徴付けることができる。いくつかの実施形態では、単一又は多数のパターンを含むウェブ用途において、走査又は再配置可能なセンサ位置を使用してもよい。図9Aは、本明細書に記載した技術が、バーチャル又はインテグラルイメージング用途に適用される別の実施形態を示す。ウェブ材料150は、マイクロレンズ156のレンズ状アレイの焦点面に位置する印刷/転写フィーチャ152を含むように製造されてもよい。そのような用途では、印刷/転写フィーチャ152は、典型的にはレンズ156のピッチと整合されて所定の視覚効果を形成し、表示する。本明細書に記載した技術を適用して、印刷/転写フィーチャ152とマイクロレンズ156のパターンとの位置合わせを制御することができる。この技術は、例えば球面又は非球面マイクロレンズアレイ等の2次元マイクロレンズアレイに拡大適用することができる。印刷又は転写フィーチャ152のパターンが、マイクロレンズアレイに対向する面に配置されている用途では、本明細書に記載した制御技術を使用して、各印刷フィーチャと対応する小型レンズ又は小型レンズとの間の位置合わせを測定することができる。これは、例えば、所定の特徴を有するように見える複合画像を形成する製品を、より正確に生成するのに有用であり得る。本明細書に記載した技術を用いて、高分解能印刷プロセスを使用して、レンズフィルムの裏面上にフィーチャを印刷してもよく、次に、印刷フィーチャ152を透過した又印刷フィーチャ152に吸収された光の角度分布を使用して、ウェブ材料のマイクロレンズに関連したフィーチャの位置合わせを測定してもよい。例えば、上記の記載と同様、印刷フィーチャとマイクロ-レンズとの間の整合における任意のクロスウェブ逸脱は、レンズを出る光の角度分布を生じる。本明細書に記載するように、印刷フィーチャ152及びマイクロ-レンズ156の位置合わせにおける任意の位置誤差を使用して、ウェブ材料が印刷ステージを通して輸送されているときに、ウェブ材料の位置及び/又は張力を制御することができる。代替的に、レンズ156との位置合わせを維持する際、この技術により測定された位置情報を代わりに又は付加的に使用して、イメージング機器例えば、レーザーを微細に制御してもよい。マイクロ複製レンズのパターンと位置合わせされた印刷材料を有するマイクロレンズシートsheetingを形成するための例示の技術の更なる詳細は、それぞれの全内容が参照により本明細書に組み込まれる、Sheetingwithcompositeimagethatfloatsと題された米国特許第7,336,422号、及びMicrolenssheetingwithfloatingimageusingashapememorymaterialと題された米国特許第7,586,685号に記載されている。図9Bは、本明細書に記載した技術が適用されて、ウェブ材料上のマイクロ複製フィーチャと、レンズの焦点面においてウェブ材料と接触するツール又は精密アイドラーとの間の相対的な位置合わせを測定する、別の実施形態を示す。ウェブ材料160はマイクロレンズ166のレンズ状アレイを含んでもよく、マイクロレンズ166は、特定の瞬間において、ツール168のフィーチャ162例えば、マイクロプリズムを複製するための谷部が名目上レンズの焦点面に配置されるように、ウェブ材料160の対向する面上にマイクロプリズムを形成するためのツールと整合される。この整合において、マイクロレンズを通して反射された光線の角度分布を検出し、予想された角度分布と比較してもよい。この例は、上述したような透過形態ではなく反射形態に基づいている。この方法で、整合誤差を測定し、ウェブ材料160とツール168との相対的な位置を直ちに変化させるのに使用して、マイクロレンズとツール168のフィーチャとの間の整合を調整することができる。この例は、ウェブ構造がレンズ状アレイ166であり、ツール構造がマイクロプリズムであることを仮定した1次元型を記載しているが、これは2次元マイクロレンズアレイ及びツール168上の光学的に活性な他の構造の場合において容易に一般化することができ、それによりクロスウェブ及びダウンウェブ整合の両方が見分けられ、必要であれば対応することができる。図10は、ウェブ材料202がツール206Aと206Bとの間を通過する、ウェブベースの製造システム200の一部分の上面図を示すブロック図である。ツール206A及び206Bは、例えばパターン化ロールであってもよい。パターン又はフィーチャは、印刷、積層、エンボス加工、押出、硬化、又は他のプロセス等により、ツールからウェブに転写され得る。図10の例では、線210A、210B線210のパターン又はフィーチャがツール206Aの対応するフィーチャ204A、204Bによりウェブ202上に形成される。同様に、線212A-212B線212のパターン又はフィーチャがツール206Bの対応するフィーチャ208A、208Bによりウェブ202上に形成される。一例では、線210、212は、それぞれ約70~100マイクロメートルの幅を有する。線210、212は、上述した粗粒制御に使用される基準マーキングとして作用してもよい。一例では、ウェブ材料202は、既知の距離で離間する2つの線210を有してツール206Aを出る。線212の適用は、線212がツール206A上と比較して約500マイクロメートル互いに接近していることを除いて、ツール206B上で反復される。ウェブ材料202がツール206Bを出た後、1つ以上のセンサが、線の各組の間の距離を測定する。線の間の距離を分析し、予想された距離と比較し得る。いくつかの場合、正弦波形状のマーキングを使用してもよい。図11A~11Cは、システム200により線210、212をウェブ材料202に適用する際の3つの測定結果を示すブロック図である。図11Aは線210、212が完全な側方位置合わせ及び完全なピッチにある例を示す。線210、212の各対は、250マイクロメートル離間されていると予想される。図11Aに示すように、線210Aと212Aとは、線210B及び212Bと同様、250マイクロメートル離間している。図11Bは、線210、212が完全なピッチの一致を有するが、側方不整合を有する例を示す。図11Aに示すように、線210Aと212Aとは253マイクロメートル離間し、線210Bと212Bとは247マイクロメートル離間している。このことは、第2のツール206B上のウェブ材料202が3マイクロメートル右にシフトしていることを示すように制御システムにより解釈される。制御システムはこの情報を使用して、プロセス制御パラメーターを調整することによりシフトに関して補正する。図11Cは、線210、212が完全な位置合わせを有するが、ピッチの不完全な一致を有する例を示す。線210A、212A間及び線210B、212B間の距離は、253マイクロメートルの同一距離であるため、第2のツール206B上のウェブ材料202は、ツール206Aにより置かれた第1のパターンに関連して中心に置かれてる。しかしながら、ウェブ材料202は大きすぎる張力及び歪みを有するため、これはウェブ材料202をネックインさせ、線210Aと212Aとの間、及び線210Bと212Bとの間の距離が、予想された250マイクロメートルの距離と比較して短縮され、現在では第1のツール及び第2のツールからの線の間の間隙が大きすぎて、ピッチの不適切な一致を示している。制御システムはこの情報を使用して張力又は歪みを変化させて、両方の線の距離を予想された250マイクロメートルに戻す。例えば、第2のツール206Bの速度を第1のツール206Aに関連して調整することにより張力変化が達成され得る。ウェブ材料のクロスウェブ位置、ウェブ材料のダウンウェブ位置、及びウェブ材料に適用される張力/歪みは、基準線の間の距離の測定に基づいて、同時に調整されてもよい。この技術は、ウェブ歪みの分解能を劇的に改善し得る。例えば、この技術は、センサが1/10マイクロメートル例えば、0.1マイクロメートルまで分解し、7mmの視野を有することを可能にする。したがって、センサは、0.1/7000=14ppmの歪みを分解することができる。しかしながら、約350mm離間された2つのセンサを使用して、0.1/350=0.3ppm分解することができ、歪み分解能を劇的に向上させ、また側方及びダウンウェブ整合フィードバックを提供する。線210、212は、ウェブ材料202の同一の面上に形成されてもよいか、又はウェブ材料202の反対側の面上に形成されてもよい。ウェブ材料202の縁もまた、単独で及び基準線技術と組み合わせてウェブを案内するように使用することができ、また上述した所定の微細信号技術の基礎として使用し得る粗信号を提供することができる。いくつかの用途では、カラーカメラ及び白色光源を使用して、多色フィーチャの位置を同時に分析してもよい。2次元的に活性なレンズの使用により、ダウンウェブ及びクロスウェブ方向の両方におけるフィーチャの整合に関するフィードバックが可能となる。これはまた、例えば積層レンズ状製品内の2つのパターン間の方向整合の高い分解能を提供することができる。可撓性ソーラーアレイ用途、CCD及びCMOS小型レンズアレイ用途、及びLEDアレイ用の光抽出フィルムで使用されるもの等の、反射フィーチャを小型レンズアレイと整合する潜在性も存在する。反射要素から戻った後にレンズを透過する反射光の角度は、反射フィーチャがレンズの焦点面内にある限り、単に反射要素の位置の関数である。これは例えば可撓性ソーラーアレイ内の光受容体要素を上記の小型レンズと整合して、それらを特定の太陽の角度の範囲に関して最適化するのに有用であり得る。例示を目的として、マイクロ複製レンズの観点から記載したが、他のマイクロ複製光学フィーチャを使用して、光の角度分布を測定してもよい。例えば、フレネルレンズの小平面を形成するプリズムを使用してもよい。いくつかの例において、ウェブ材料の反対側の面のフィーチャ同士の間の位置合わせの測定に使用されるフィーチャは、ダウンウェブ方向において連続している必要はないが、連続的ではなく周期的に適用されて標本となり得る。精密なウェブ誘導及び張力制御用途には、反射配置も有用であり得る。マイクロレンズの基準の組1次元又は2次元的に活性がウェブのいずれかの面上に配置された場合、これらのフィーチャは、上記の図9Bのように、レンズの焦点面においてウェブ材料と接触するツール又は精密アイドラー上の反射フィーチャに関して誘導されてもよい。レンズの半径は、所定のウェブ厚さを有する製品に関して予め測定され得る。代替的に、ツールは、本質的に凹面鏡のように作用するフィーチャを有してもよく、かつ基準マークは、上述したパターンフィーチャのいずれかであってもよい。ウェブ幅を横切って2つのセンサを使用することにより、上述したように、精密なクロスウェブ寸法制御が可能となる。これはクロスウェブ寸法の変動及び張力制御に関するフィードバックのみでなく、精密なウェブ伸張の適用に関するフィードバックも提供し得る。同様の原理を使用して、硬化が起こる際の被覆フィルム又は成型フィーチャの収縮を監視することができる。また、2次元フィーチャを使用する場合、ダウンウェブ位置合わせも測定することができる。別の実施形態では、小型レンズアレイと、例えばLEDアレイ又は光ファイバーアレイに見出し得るような発光体のアレイとの間の、相対的な整合が測定される。この場合、発光体はレンズの焦点面アレイに配置されてもよく、レンズに関連した光源の相対的な位置は、レンズからの角度出力により測定されるであろう。一般に、パターン化ビームがフィルム面に照射され得た後、ビームのパターンに対するフィルムの位置を測定し得る。フィルムの、クロスウェブ及び/又はダウンウェブ寸法の精密測定は、多様な用途に有用であり得る。例としては、製版フィルムのオンライン寸法検証、マイクロウェルアレイと結合されるバイオセンサ用のレンズアレイ、光電気回路内の用途のための部品、並びに/又は複数の構成のデータストレージ、ディスプレイ及び回転フィルムが挙げられる。基準レンズアレイ構造は、使用される製品範囲の外部又は製品内の既知の位置において、それ自体が機能的製品構造の一部としてフィルム設計内に組み込まれてもよく、次に、これらのフィーチャの相対的な位置を使用して、ウェブプロセスにおいて整合及び/又は寸法正確さを確認してもよい。一実施形態において、ウェブ上のマイクロ複製フィーチャの相対的な整合をデータベース内に記録し、ウェブを製品に変換する間に使用してもよい。例えば、ウェブが本明細書に記載された検出システムを通して輸送されているときに、1つ以上のクロスウェブ位置における整合を検出及び記録してもよく、ウェブ全体に関するクロスウェブ整合情報のデータベースを作製してもよい。この整合情報を後に使用して、ウェブの製品への変換の制御に使用してもよい。即ち、転換システムは、クロスウェブ整合データを使用して、ウェブ材料のマイクロ複製フィーチャの整合が許容限界内にあるウェブの範囲から製品が切断されるように、変換器具又はウェブ、又は両方のいずれかをクロスウェブ方向に移動することによって、変換器具をクロスウェブ方向において自動的に配置することができる。変換システムは、この方法で、ウェブ材料が変換システムを通して内部へ輸送され、個々の製品に切断されているときに、クロスウェブ方向における整合範囲を追跡することにより、潜在的に生産量を増大させることができる。本発明の様々な実施形態について説明してきた。これらの及び他の実施形態は、以下の特許請求の範囲に含まれる。"