"ガス流にテラヘルツ放射線をテラヘルツ放射源から照射することと、前記ガス流の回転テラヘルツスペクトルを取得することと、前記ガス流中の水銀または水銀を含有する種の有無を判定することとを含む方法。前記テラヘルツ放射線の周波数が約0.1THzから約10THzである、請求項1に記載の方法。前記回転スペクトルが約0.1THzから約10THzの吸収を示す、請求項1に記載の方法。前記水銀が、前記ガス流中に存在するときは、Hg0種としてまたは有機水銀化合物として存在する、請求項1に記載の方法。前記水銀が、メチル水銀である有機水銀化合物として存在する、請求項4に記載の方法。前記ガス流が、化石燃料燃焼工程から生じる燃焼排気燃焼排気ガス流である、請求項1に記載の方法。前記ガス流が、石炭の燃焼から生じる燃焼排気燃焼排気ガス流である、請求項1に記載の方法。前記水銀の濃度が約150ppmから約1wtである、請求項1に記載の方法。前記ガス流中の水銀を定量化することをさらに含む、請求項1に記載の方法。超高速パルスレーザ発生器と、レーザパルスを前記超高速パルスレーザ発生器からビームスプリッタに伝送するように構成された第1の導管と、前記レーザパルスを参照ビームおよび励起ビームに分割するように構成されている前記ビームスプリッタと、前記参照ビームを時間遅延発生器に伝送する第2の導管と、前記励起ビームによる励起の際にTHz放射線を放射するように構成されたTHzエミッタに前記励起ビームを伝送する第3の導管と、前記THz放射線がそれを通って放射される燃焼排気燃焼排気ガス流中のサンプリング領域と、検出器と、増幅器とを備える装置。前記第1の導管、前記第2の導管、および前記第3の導管が光ファイバ製の導管である、請求項10に記載の装置。前記THzエミッタが、基板の表面上にリソグラフィで画定された高インピーダンスダイポールエミッタのアンテナ構造を含んだ直接ガス半導体を備える、請求項10に記載の装置。前記THzエミッタが、Ga、As、Al、In、Zn、Se、Te、Li、もしくはNb、またはそれらの任意の2つ以上の混合物、あるいはそれらの合金からなる、請求項12に記載の装置。前記THzエミッタが、GaAs、AlGaAs、InN、InAs、InGaAs、ZnSe、LiNbO3、GaBiAs、またはZnTeからなる、請求項12に記載の装置。前記燃焼排気燃焼排気ガス流をリアルタイムでモニタリングするように構成されている、請求項10に記載の装置。燃焼排気燃焼排気ガスの水銀濃度データを格納または表示するように構成されている、請求項10に記載の装置。前記データが時間関数として格納または表示される、請求項16に記載の装置。警報を発するように構成されている、請求項16に記載の装置。以下の詳細な説明では、その一部をなす添付の図面を参照する。図面では、文脈上異なる解釈を要する場合を除き、通常は、同様の記号は同様の構成要素とみなされる。詳細な説明、図面、および特許請求の範囲に記載された例示の実施形態は限定を意味するものではない。本明細書に提示する内容の精神または範囲から逸脱することなく、他の実施形態を利用してもよく、他の変更を行ってもよい。本技術は本明細書ではいくつかの例としても示されており、それらの例をいかなる形にも限定するものして解釈すべきではない。文脈上異なる解釈を要する場合を除き、本明細書では、用語水銀mercuryおよび水銀を含有する種mercury-containing種は、任意のタイプの水銀または水銀化合物イオンまたは共有結合を指し、さらに、当業者には理解されるように、任意の酸化状態の水銀を含む物質を含んでいる。この点において、水銀は、ゼロ酸化状態すなわち、金属水銀などのHg0または中性配位子に共有結合したHg0で存在してもよく、HgIまたはHgIIなどの酸化体で存在してもよい。水銀化合物の例には、これらに限定されないが、塩化水銀I、塩化水銀II、臭化水銀I、臭化水銀II、ヨウ化水銀I、ヨウ化水銀II、硫酸水銀I、硫酸水銀II、硝酸水銀I、酢酸水銀II、安息香酸水銀II、ヨウ素酸水銀II、シアン化水銀II、赤色酸化水銀IIおよび黄色酸化水銀IIが含まれる酸化水銀II、硫化水銀II、ならびに有機水銀化合物が含まれる。その有機水銀化合物には、これらに限定されないが、ジフェニル水銀II、酢酸フェニル水銀、水酸化フェニル水銀、ジメチル水銀II、臭化メチル水銀、塩化メチル水銀などが含まれる。用語水銀を含有する種mercury-containingspeiesにはさらに、一時的に形成されているか、分離不能であるか、またはそうではなく典型的な実験室環境で見られる温度および圧力で安定していないことがある種が含まれる。一態様では、試料中の水銀を検出する装置が提供されている。その装置は各種の試料中の水銀を検出するのに使用でき、環境中に排出されるガス流は水銀の存在および量をモニタリングすることが重要であるタイプの試料の1つである。例示のガス流の1つは、燃焼排気ガス流である。例えば、装置は、化石燃料の燃焼、化石燃料の改質、または化石燃料のガス化に関連した燃焼排気ガス流中の水銀の検出に使用することができる。例示の一例では、石炭火力発電所に関連した燃焼排気ガス流である。その燃焼排気ガス流は廃棄物焼却炉に関連したものでよい。本明細書では、用語燃焼排気ガスまたは燃焼排気ガス流は、概略的に言うと、任意の種類の燃焼工程による排ガスを指しており、その燃焼工程には、これらに限定されないが、石炭、油、天然ガスなどの燃焼が含まれる。燃焼排気ガス流には、通常、CO、CO2、SO2、SO3、HCl、NOx例えば、NO、NO2、水などのガスが含まれる。装置は、時間領域分光法TDSを用いて試料をモニタリングするように構成されたテラヘルツTHz分光計を含む。電磁スペクトルのTHz領域は、本明細書では、電磁スペクトルのマイクロ波領域と赤外線IR領域との間にある0.1THzから10THzの周波数範囲として定義される。THz領域内では、透過率/吸収率の線形は、IR領域に比べて非常に単純化される傾向がある。これは、THz領域内のスペクトル吸収が、元来、純回転スペクトルであることに起因する。多くの場合に、これらスペクトルは少数の回転エネルギーパラメータで特徴付けることができる。したがって、より複雑な分子の特徴付けは、多くの場合、振動準位が併せて励起されるときよりも、純回転スペクトルの方が簡単である。本明細書では、吸収率は、通常、このようなスペクトルの測定からの報告値であるが、計器は通常透過率をモニタリングする。しかし、吸収率と透過率は、A=2-logT、として関連付けられ、ここでAは吸収率、Tは透過率である。したがって、吸収率対濃度のグラフは線形であり、透過率対濃度のグラフは対数である。装置は、試料中の水銀を検出する陽性対照positivecontrolとして使用することができ、水銀濃度に関する情報を提供することができる。THz領域では、水銀は、より複雑な振動のサインではなく、水銀および水銀化合物の比較的単純な回転スペクトルまたは並進スペクトルに依存することによって、より効率的にまたは正確に検出することができる。他の利点には、テラヘルツ時間領域分光法TTDSでアクセス可能な非常に広い帯域幅およびコヒーレントな検出によって自由度が大きいことが含まれ、そのため、プラズマ、フレーム、および他の難しい試料の遠赤外分光測定が可能になる。さらに、光路を不明瞭にすることを避けるように粒子を含有する試料例えば、燃焼ガスを予め濾過する必要がある場合がある従来のIRベースの分光法とは異なり、TTDSは、燃焼ガスに見られるような、エアロゾルおよび他の粒子で汚染されたガス状試料の直接かつほぼ同時の測定を可能にする。Uno,T.ら、Jpn.J.Appl.Phys.49、04DL172010参照。したがって、一部の実施形態では、テラヘルツ分光計は0.1から10THzテラヘルツの電磁スペクトルのテラヘルツ領域をモニタリングする。この領域は波数の観点から10から333.1cm-1と表してもよい。その領域をモニタリングすることはガス流中の水銀の有無を示し、定量曲線に基づいて、ガス流中の水銀の量に関する情報を提供することもできる。水銀は、Hg0非イオン系水銀またはHg有機化合物として存在してよく、その一例はメチル水銀[HgCH3]Xである。メチル水銀はメチル基がHgII原子に共有結合したイオン種である。Xで示す陰イオンは燃焼排気ガス中の任意の陰イオン種でよい。メチル水銀は、燃焼排気ガスの遷移変化を経るのと同様に、特定の陰イオンに関連しない電荷種として燃焼排気ガス中に所与のモーメントで存在することもできる。水銀がHg0として存在する場合は、検出は水銀の並進変化translationalchangeによって行われる。一実施形態では、Hg0に関連した吸収は0.1THzと5THzとの間で行われる。Hg有機化合物は、約0.1から約10THzのTHz放射線を吸収することが予期される。THz分光測定の感度は、光源の出力および検出器の能力に左右され、それらは両方とも機器の限度である。したがって、感度および検出できる水銀の量は計器によって異なる。しかし、一部の実施形態では、検出できる水銀の量はppmスケールの下限から数重量パーセントである。それに応じて、一実施形態では、検出できる水銀の量は約1ppmから約10wtの範囲にあってよい。他の実施形態では、検出できる水銀の量は約150ppmから約1wtの範囲にあってよい。図を参照すると、水銀を検出する装置の概略図面が図1に示されている。装置100は超高速レーザシステム110に依存しており、その超高速レーザシステム110は持続時間約100fsフェムト秒、すなわち、10-13sの光パルス列120を生成する。パルスは電磁スペクトルの近赤外領域にある。一部の実施形態では、パルスは波長が約10cm-1から約300cm-1である。次いで、パルス列120は、ビームスプリッタ130によって励起ビーム140と参照ビーム150とに分割される。励起ビーム140はTHzエミッタ160に誘導され、参照ビーム150は時間遅延発生器190に誘導される。THzエミッタ160は、高インピーダンスダイポールエミッタのアンテナ構造がその表面上にリソグラフィで画定された直接ギャップ半導体を含む。高インピーダンスダイポールエミッタは、数十ボルトの直流バイアスである。フェムト秒fsパルス例えば、励起ビーム140が上記のバンドギャップ励起でアンテナ中の半導体材料を励起すると、THz周波数の電磁波145が発生する。次いで、こうした光生成波photo-generatedwave145は試料セル170を通して印加されたバイアス電場によって加速される。試料セル170中の試料と接触する際には、波145によって付与されたエネルギーの吸収が起きることも起きないこともあり、試料が曝露されるTHz周波数の電磁波146が、試料セル170を出て、電流増幅器200が信号を増幅させるTHz検出器180に入り、表示のためにプロセッサ210によってアナログ信号からデジタル信号に変換される。これらの波形を測定できる速度は、アナログ/デジタル変換の速度、必要な測定値の信号対雑音比、および機械式光遅延線190の速度を含む、いくつかの要因に応じて変わる。走査型光遅延線190ガルバノメトリックモータgalvanometricmotor上に搭載された逆反射体を用いると、THz波形は、信号対雑音が103を超えた状態でほんの数十ミリ秒以内に測定することができる。このように迅速にデータを取得すると、THzパルスに亘るフルスペクトルの帯域幅の高速の分析が可能になり、したがって、測定した帯域幅内の吸収のサインによってガスのリアルタイムの感知および同定が可能になる。本明細書では、用語リアルタイムreal-timeは、特定のタイミングの制約に基づいて1組の動作の出力または結果が生成されるように、その組の動作例えば、ガス流中の水銀の感知、同定、および/または定量化を実行することを指す。動作はリアルタイムで実行されるものとみなされるが、ある程度の検出可能遅延または待ち時間がある状態で動作の出力を生成できることが企図される。例えば、動作の入力が得られるのと同じ速度または事実上同じ速度で動作の出力が生成される場合に、ある動作をリアルタイムで実行することができる。別の例としては、約1分以内、約45秒以内、約30秒以内、約20秒以内、約10秒以内、約5秒以内、約1秒以内、約0.1秒以内、約0.01秒以内、または約0.001秒以内など、特定の応答時間の上限以内に動作の出力が生成される場合は、リアルタイムで動作を実行することができる。他の例としては、工程が実行されている間にその工程に影響を与えるかまたはそれを制御することができるように動作の出力が適時に生成される場合には、リアルタイムで動作を実行することができる。超高速レーザは、所望のパルス波長に応じた各種のレーザを含む。例えば、ErドープレーザまたはYbドープレーザを一部の例示的実施形態に従って使用することができる。他のレーザには、これらに限定されないが、Ti:サファイア利得スペクトル:650~1100nm、ローダミン6G色素;利得スペクトル:600~650nm、Cr:LiSAF利得スペクトル:800~1000nm、およびNd:ガラス利得スペクトル:1040~1070nmが含まれる。超高速レーザ超短パルスレーザとしても知られているは、持続時間がフェムト秒、ピコ秒、またはナノ秒のレーザ照射の超短パルスを放射する。用語、超高速レーザは、多くの場合、モード同期レーザに用いられるが、利得スイッチングも超短パルスを供給することができる。波145が吸収されるか吸収されないかに関しては、これは、試料内に含有されるもの、およびモニタリングされているTHz領域内で試料の成分が吸収するものがあるか否かに応じて変わる。THzエミッタは、リソグラフィでその表面にアンテナが画定された直接ギャップ半導体である。アンテナは、2つの金属電極のリソグラフィによるパターン成形によって半導体基板の表面上に生成される。それら2つの電極間にバイアスがかけられ、その材料に高電場領域が生じる。2つの電極の間のギャップにフェムト秒のレーザが集束すると、電子正孔対が生じる。これらの正孔対は本質的に光生成キャリアであり、これは、高電場領域に最後に注入され、それらが電子であるか正孔電荷化であるかに応じて反対方向に加速およびドリフトする。こうした移動の結果、空間電場が生じ、これがバイアス電場を遮る。光源がフェムト秒のレーザであるときは、過渡電流が2つの電極間に規則的なバーストで設定されて、電極がダイポールアンテナとして放射する。こうした現象はBergmann,N.W.ら、ProceedingsofSPIE、第4591巻2001にさらに詳細に説明されている。適切なTHzエミッタは半導体を含み、それは励起源によって励起されるときにTHz領域の電磁スペクトルの放射線を放射する。例示の物質には、それらに限定されるものではないが、とりわけGaAs、AlGaAs、InN、InAs、InGaAs、ZnSe、LiNbO3、GaBiAs、およびZnTeが含まれる。一実施形態では、図1に示すような装置は、燃焼排気ガス試料中の水銀を検出するように構成されている。図1に示すように、燃焼排気ガスは試料採取され、試料セル170中に含有される試料はTHzエミッタ160とTHz検出器180との間に配置することができる。こうした装置は、様々な試料採取時間または様々な試料採取間隔での検出を可能にすることができる。こうした装置のために、燃焼排気ガスは試料採取され、その試料は分光計に配置される。別の実施形態では、装置は、燃焼排気ガス流中の水銀をリアルタイムで検出するように構成されている。こうした実施形態では、装置は、試料セルの代わりに、燃焼排気ガス流内に配置された光ファイバ接続を用いることを除いて、図1に示す装置と同様である。したがって、パルスレーザ源による励起の後で、THzエミッタは、光ファイバに誘導される電磁波を放射し、そこで電磁波は燃焼排気ガス流に伝送される。燃焼排気ガス流中では、電磁波は、ガスの選択されたセグメントを通り、その後、受信光ファイバに再度伝送され、次いで、その光ファイバが電磁波をTHz検出器に伝送する。燃焼排気ガスをリアルタイムモニタリングするための装置が図2に示されている。図2は、超高速レーザシステム310が持続時間約100fsフェムト秒、すなわち10-13秒の光パルス列320を生成する装置300の概略図である。装置300に関して記載したパルスおよび波は少なくとも部分的に導管によって運ばれる。導管は、パルスをレーザシステム310から、燃焼排気ガス流を運ぶ煙道450に誘導する光ファイバケーブルでよい。パルスは電磁スペクトルの近赤外領域にある。次いで、パルス列320は、ビームスプリッタ330によって励起ビーム340および参照ビーム350に分割される。励起ビーム340はTHzエミッタ360に誘導され、参照ビーム350は時間遅延発生器390に誘導される。THzエミッタ360は上記で説明したような直接ギャップ半導体を含む。フェムト秒fsのパルス例えば、励起ビーム340が上記バンドギャップ励起でアンテナの半導体材料を励起すると、THz周波数の電磁波345が生じる。次いで、光生成波345は、加えられるバイアス電場によって加速され、試料領域370が設けられた煙道450に至る。試料領域370は、煙道を通って移動するときに燃焼排気ガスの適切なリアルタイムの資料採取を可能にする、決まった距離の隙間である。こうした距離は、ベンチスケールのTHz計器で使用される程度のものであるが、レーザまたはTHz信号が移動しなければならないさらに長い距離、およびこうした装置に付随する信号の損失を考慮に入れて長くしてもよい。参照ビーム350は煙道450を通して伝送することができ、ビームの条件は、試料領域370を通る通路を除いて両方のビームに関して同じである。試料領域370内の試料と接触する際には、波345によって付与されたエネルギーの吸収が起きることも起きないこともあり、試料が曝露されるTHz周波数の電磁波346が、試料領域370を出て、電流増幅器400が信号を増幅させるTHz検出器380に入り、そこで、表示のためにプロセッサ410によってアナログ信号からデジタル信号に変換される。別の実施形態では、その装置の構成は、時間など、別の変数の関数としてガス例えば、燃焼排気ガス中の水銀の濃度に関するデータを格納または表示するようになっている。装置は、こうしたデータをコンピュータまたは図1および図2に示すようなプロセッサで格納または表示するように構成することができ、コンピュータは任意選択でユーザインターフェースを構成する。例えば、上記で説明したリアルタイムモニタリング装置はさらにコンピュータワークステーションを含むことができ、そのコンピュータワークステーションの構成は、その装置でリアルタイムに得た水銀濃度のデータを格納するようになっている。こうしたリアルタイムの濃度データは、ユーザにグラフの形態で提示する例えば、コンピュータワークステーションのユーザインターフェースを通して表示することができ、そのため、ユーザはある期間の水銀の放出の変化をモニタリングすることができる。その装置はさらに、水銀濃度が所定の濃度から外れるかもしくはそれに達するか、または濃度の所定の変化速度から外れるかもしくはそれに達するときに通知または警報を発するように適合されてもよい。こうした通知または警報は、音響式または視覚のアラーム、電子メールメッセージ、テキストメッセージなど、様々な形態であってよい。例えば、石炭火力発電所については、このように説明したその装置の実施形態は、燃焼排気ガス中の水銀の濃度が許容できるレベルを超えるに自動式の通知を技術者または環境健康安全職員に発することができる。当業者には理解されるように、装置のプロセッサまたはそれに対して構成されるコンピュータワークステーションは、ガス流中の水銀の発生および/または放出に関係する他のシステムと動作可能に連絡するように構成することができ、そのため、水銀の発生および/または放出にリアルタイムで影響を及ぼすかまたはそれを制御することができる。例えば、装置によって判定される水銀の濃度の上昇に応答して、石炭の燃焼速度を自動的に低下させることができる。別の態様では、テラヘルツ時間領域分光法TTDSに基づいた水銀ガスおよびガス混合物を検出および同定する方法が提供される。その方法は、ガス流中の水銀の総含有量をリアルタイムで判定して特定の工程から環境に排気されるガスに関する非常に重要な情報を得ることに利用することができる。その方法は、0.1から10THzの領域の吸収率についてTTDSを用いて試料をモニタリングすること、および吸収率を1つまたは複数の期待値と比較することを含む。THz領域のスペクトル吸収率は回転現象に関連している。検出されている種がダイポールモーメントを有する場合、および二原子分子の回転中に分極率が変化する場合に、回転スペクトルが許容される。したがって、以下の数式を用いて所与の種に関するTHz領域の吸収率の最大値を予想することができる:この数式では、剛体ロータとして扱われる二原子分子A-Bのエネルギーレベルは量子数Jで与えられる。この数式では、Δvは回転線の間隔であり、Bは回転定数であり、Iは換算質量μおよび結合距離に関する分子の慣性モーメントであり、Dは遠心力歪定数cm-1であり分子の剛性および分子の他のパラメータに応じて変わる値を有する。したがって、上記で説明した水銀種を含む対象の任意の所与の種に関して、THzスペクトルの吸収率のシフトは、未知の試料中にその特定の種が存在することを示す。上記で説明した水銀種を含む検出対象の任意の所与の種に関して、濃度対吸収曲線を、その種の既知の濃度を有する試料を用いて用意することができる。濃度曲線が用意されると、それらを用いて対象の種を同定しそれが存在する濃度を定量化することができる。シフトおよび濃度の判定の点から、未知の濃度の未知の水銀化合物を有するガス状の試料は、説明した方法を用いて同定および定量化することができる。こうした水銀化合物は個別にまたは一括して定量化することができる。ガス状の試料が化石燃料の燃焼動作から生じるリアルタイムの排ガス試料である場合は、燃焼排気ガス流中の水銀化合物をリアルタイムで同定および定量化し、変化をモニタリングするために本方法を用いることができる。こうした変化は、燃料の質のばらつきおよび燃焼効率を示すことができ、放出された水銀の環境への影響の可能性をモニタリングするために使用することができる。放出された水銀の環境への影響を単にモニタリングすることに加えて、ガス流中の水銀化合物のリアルタイムの同定および定量化により、水銀低減システムの工程間の最適化が可能になり、それにより、環境に放出される水銀の量が削減される。現在では、石炭火力発電所の燃焼排気ガス流からの水銀の除去または削減は、通常、粉末の炭素吸収剤例えば、活性炭をガス流中に直接注入してその炭素吸収剤で水銀を吸着することによって行われる。水銀で汚染された炭素吸収剤は、下流において、バッグフィルタすなわち、繊維性フィルタ、静電集塵装置ESP、湿式スクラバもしくは乾式スクラバ、またはハイブリッドシステムなどの粒子捕集デバイスで捕集され、それにより、環境に放出される水銀の量が削減される。ガス流中の水銀のリアルタイムの同定および定量化によって、ガス流中の水銀のタイプまたは量のばらつきに基づいて、水銀低減システムを迅速に最適化することが可能である。例えば、水銀を燃焼排気ガス流から除去するために炭素吸収剤を使用する石炭火力発電所は、本方法および本装置を用いた燃焼排気ガス流中で検出される水銀種の同定および定量化に基づいて、炭素吸収剤の量を変更することができる。したがって、燃焼排気ガス流中の水銀レベルに所定の閾値を超える急上昇spikeがある場合は、燃焼排気ガス流中に注入する炭素吸収剤の量を増やして、環境中に放出される水銀の上昇の可能性を相殺することができる。あるいは、水銀レベルが所定の閾値未満にある場合は、燃焼排気ガス流中に注入する炭素吸収剤の量を減らすことができる。当業者には明らかであるように、こうした工程は簡単に自動化することができる。このように概略的に説明した本技術は、以下の例を参照することでより簡単に理解されるであろう。それら例は、例示によって示されており、限定するものではない。例本明細書で開示した方法およびシステムを以下に例でさらに示しており、それら例はいかなる形にも限定するものとして解釈すべきではない。例1Ybドープの超高速レーザが光パルスの放射のために使用される。レーザを参照ビームとしてのパルスを誘導するビームスプリッタおよびGaAsテラヘルツエミッタに接続するために光ファイバが使用される。次いで、参照ビームおよび生成したテラヘルツパルスを、ここでも光ファイバを用いて石炭火力発電所の燃焼排気に誘導する。燃焼排気では、生成したテラヘルツパルスは規定の距離だけガス流を通るように誘導されて、発生する燃焼排気ガスをリアルタイムでモニタリングする。次いで、パルスは再度回収され検出器に送信され、その検出器では参照ビームおよびテラヘルツパルスが分析され吸収信号に変換される。次いで、吸収信号の位置および吸収強度を、既知の化合物および既知の化合物の濃度曲線と比較して、燃焼排気ガス流中の種を同定しかつその種の濃度を判定する。水銀、メチル水銀、および他の水銀を含有する種を検出することができる。例2例1のモニタリングシステムの構成は、リアルタイムの燃焼排気ガスの水銀濃度データをコンピュータワークステーション伝達するようになっている。ワークステーションでは、そのデータはグラフの形態で視覚的に提示され、そのため、ワークステーションのユーザが燃焼排気ガス中の水銀の放出を時間関数としてモニタリングすることが可能になる。例3例1のモニタリングシステムの構成は、燃焼排気ガスの水銀濃度が所定の閾値を超えるときに、自動式のテキストメッセージを技術者に送信するようになっている。次いで、技術者は、テキストメッセージの受信時に、水銀減少システムを調節して燃焼排気ガス流中の水銀の捕集を改善するか、または燃焼排気ガス流中の水銀濃度を低下させるように燃焼工程を変更する。均等物いくつかの実施形態を例示および説明してきたが、それら実施形態には添付の特許請求の範囲で定義されるより広い態様における技術から逸脱することなく当業者により改変および修正を行うことができることを理解されたい。本開示は、本願に記載された特定の実施形態に限定されるものではない。当業者には明らかなように、その精神および範囲から逸脱することなく多数の修正および改変を行うことができる。本明細書で列挙されたものに加えて、本開示の範囲内に包含される機能的に等価の方法および構成は、前述の説明から当業者には明らかであろう。こうした修正形態および改変形態は添付の特許請求の範囲内に包含されるものである。本開示は、添付の特許請求の範囲ならびにそのような特許請求の範囲が権利を有する等価物の全範囲によってのみ限定される。本開示が、当然変化し得る特定の方法、試薬、化合物組成、または生態系に限定されないことを理解されたい。本明細書で用いる用語は特定の実施形態を単に説明するためのものであり、限定するものではないことも理解されたい。さらに、本開示の特徴または態様がマーカッシュグループとして説明されている場合は、本開示がマーカッシュグループの任意の個々の要素または要素のサブグループに関してもそれにより説明されていることが当業者には認識されるであろう。本明細書で例示的に説明した実施形態は、本明細書では明確に開示していない任意の1つまたは複数の要素、1つまたは複数の限定を除外して適切に実現することができる。したがって、例えば、用語備えるcomprising、含むincluding、含有するcontainingなどは、限定することなくより広く解釈されるものである。さらに、本明細書で用いる用語および表現は、説明のための用語として用いられており、限定するものではなく、そのような用語および表現の使用には、図示および説明した特徴またはその一部分の等価物を排除する意図はないが、特許請求する技術の範囲内で様々な修正が可能であることが認識される。さらに、文節から本質的に構成されるconsistingessentiallyofは、明確に列挙した要素、および特許請求する技術の基礎的および新規の特徴に実質的に影響しない追加の要素を含むと理解される。文節から構成されるconsistingofは指定されていない要素を除外する。当業者には理解されるように、任意のおよび全ての目的で、特に書面による説明を提示するという点で、本明細書に開示する全ての範囲が任意のおよび全ての可能な下位範囲およびその下位範囲の組合せをも包含する。任意の列挙した範囲は、同じ範囲を少なくとも均等に2分の1、3分の1、4分の1、5分の1、10分の1などに分割されることを十分に説明し可能にするものと簡単に認識できる。非限定的な例として、本明細書で検討した各範囲は、下3分の1、中3分の1、および上3分の1などに簡単に分割することができる。やはり当業者には理解されるように、最大upto、少なくともatleast、より大きいgreaterthan、より小さいlessthanなどの用語は全て、列挙した数を含み、上記で開示したような下位範囲に引き続き細分できる範囲を指す。最後に、当業者には理解されるように、範囲には個々の要素が含まれる。他の実施形態は添付の特許請求の範囲に記載されている。"