"i樹脂に共有結合している1以上の光酸発生剤部分;およびii1以上の光酸不安定基:を含む樹脂を含むフォトレジスト組成物であって、前記1以上の光酸発生剤部分が1以上の前記光酸不安定基の構成要素である、フォトレジスト組成物。前記光酸不安定基の光誘起反応が前記樹脂からの前記1以上の光酸発生剤基の開裂をもたらす、請求項1に記載のフォトレジスト組成物。光酸発生剤基がイオン性である請求項1または2に記載のフォトレジスト組成物。光酸発生剤基が非イオン性である請求項1または2に記載のフォトレジスト組成物。前記開裂が樹脂から開裂したスルホン酸を生じさせる、請求項2に記載のフォトレジスト組成物。光酸発生剤基を含む前記樹脂がさらに、炭素脂環式、ヘテロ脂環式、酸無水物、ラクトン、ナフチル、ヒドロキシルおよび/またはアクリラート基を含む、請求項1~5のいずれか1項に記載のフォトレジスト組成物。光酸発生剤基を含む前記樹脂がさらに、アクリル酸2-メチルアダマンチル、アクリル酸ヒドロキシアダマンチル、メタクリル酸ヒドロキシアダマンチル、無水マレイン酸、ノルボルネン、3,4-ジヒドロピラン、場合によって置換されたフェニルおよび/または場合によって置換されたナフチルを含む、請求項1~6のいずれか1項に記載のフォトレジスト組成物。請求項1~7のいずれか1項に記載のフォトレジストの塗膜層を基体上に適用し;フォトレジスト塗膜層をパターン化された活性化放射線に露光し;および露光されたフォトレジスト塗膜層を現像して、フォトレジストレリーフ像を提供する;ことを含む、電子デバイスを製造する方法。フォトレジスト組成物が193nmのパターン化された活性化放射線で液浸露光される、請求項8に記載の方法。i樹脂に共有結合している1以上の光酸発生剤部分;およびii1以上の光酸不安定基:を含む樹脂であって、前記1以上の光酸発生剤部分が1以上の前記光酸不安定基の構成要素である、樹脂。本発明者は新規な光活性ポリマーおよびこのポリマーを樹脂成分として含むフォトレジスト組成物を見いだした。一形態においては、光酸不安定基photoacid-labilegroupを含む光活性ポリマーが提供される。好ましい実施形態においては、樹脂の酸不安定部分は光酸発生剤を含む。好ましい実施形態においては、ポリマー部分の光誘起開裂が発生剤をもたらし、ポリマーからの酸性基例えば、スルホン酸などの遊離をもたらす。好ましい形態においては、好適な樹脂の光酸不安定基には、例えば、エステルおよびアセタールが挙げられる。別の形態においては、スルホニウム基もしくはヨードニウム基のようなオニウム塩として複合体を形成しているイオン性光酸発生剤基をはじめとする共有結合したイオン性光酸発生剤基を含む光活性ポリマーが提供される。さらに別の形態においては、共有結合した非イオン性光酸発生剤基、例えば、イミドスルホナート;オキシムスルホナート;N-オキシイミドスルホナート;ジスルホン;N-スルホニルオキシイミド;ニトロベンジル化合物;およびハロゲン化化合物などを含む光活性ポリマーが提供される。さらなる形態においては、炭素脂環式、ヘテロ脂環式、酸無水物、ラクトン、ナフチル、ヒドロキシルおよび/またはアクリラート基を含む光活性ポリマーが提供される本発明の特に好ましい光活性ポリマーはアクリル酸2-メチルアダマンチル、アクリル酸ヒドロキシアダマンチル、メタクリル酸ヒドロキシアダマンチル、無水マレイン酸、ノルボルネン、3,4-ジヒドロピラン、場合によって置換されたフェニルおよび/または場合によって置換されたナフチルを含むか、またはその重合単位を含むことができる。光酸発生剤基は様々なアプローチによってポリマー構造に組み込まれ共有結合されうる。例えば、アクリラートモノマーのような重合性モノマーは光酸発生剤部分を含むことができ、このモノマーは他の試薬と反応させられて、光酸発生剤部分を含む繰り返し単位を有するポリマーを提供することができる。あるいは、光酸発生剤基は形成されているポリマーにグラフトされることができ、例えば、光酸発生剤化合物はポリマーの繰り返し単位のヒドロキシル基にグラフトされうる。本発明のポリマーは、好ましくは、193nmのようなサブ200nm波長で像形成されるフォトレジストに使用されることができ、よって、好ましくはフェニル基を実質的に含まないであろう。例えば、好ましいポリマーは約10モルパーセント未満しかフェニル基を含まず、より好ましくは約5、4、3、2もしくは1モルパーセント未満しかフェニル基を含まない。特定の形態においては、193nmでの像形成に特に好ましいポリマーはフェニル基を完全に含まない。本発明のポリマーはより高い波長、例えば248nmで像形成されるレジストにおいても好適に利用されうる。このようなポリマーは、好適には、ビニル芳香族基、例えば、ビニルフェノール、アセトキシスチレン重合の後でアセトキシ基がデブロックされることができて、フェノール系単位を提供しうる、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルナフタレンなどの重合により提供されるような芳香族基を含むであろう。本発明は、本明細書において開示されるようなポリマーまたはポリマーブレンドを含むネガ型フォトレジストも含む。ネガ型フォトレジストは、好ましくは、架橋剤成分、例えば、メラミン樹脂またはベンゾグアナミン樹脂のようなアミンベースの材料を含むであろう。本発明はレリーフ像を形成する方法も提供し、例えば、各線が本質的に垂直な側壁および0.25ミクロン以下の線幅を有する線のパターンのような高解像レリーフ像を形成する方法も提供する。本発明は、さらに、基体上に本発明のポリマー、フォトレジストまたはレジストレリーフ像をコーティングした、マイクロエレクトロニクスウェハ基体、オプトエレクトロニクス基体または液晶ディスプレイもしくは他のフラットパネルディスプレイのような基体を含む製造物品を提供する。本発明の他の形態が以下に開示される。上で論じられたように、ここで、本発明者は、共有結合した1以上の光酸発生剤基を含む樹脂成分を含む新規のフォトレジスト組成物を提供し、この1以上の光酸発生剤部分は樹脂の1以上の光酸不安定基のすなわち、この光酸不安定基にに共有結合した構成要素である。好ましくは、樹脂の光酸不安定基の光誘起開裂反応は、樹脂から光酸発生剤部分の開裂共有結合破壊をもたらす。よって、好ましい形態においては、リソグラフィ処理中に、光酸不安定基の光誘起反応が樹脂からの1以上の光酸発生剤基の開裂をもたらす。本発明の樹脂はイオン性および/または非イオン性光酸発生剤をはじめとする共有結合した様々な光酸発生剤基を含むことができる。フッ素置換基を含むスルホン酸をはじめとする、スルホン酸を含むおよび光活性化の際に生じさせる光酸発生剤基が特に好ましい。特に好ましい形態においては、樹脂のフッ素化スルホン酸PAG成分は、RCH2nCF22SO3-の式を有し、式中、nは0~5の整数であり、好ましくはnは0、1、2もしくは3であり、Rは化学結合もしくは非水素置換基、例えば、置換エステルである。別の好ましい形態においては、樹脂のフッ素化スルホン酸PAG成分は、RCY2nCF22SO3-の式を有し、式中、nは0~5の整数であり、好ましくはnは0、1、2もしくは3であり;各Yは同じかもしくは異なっていて、水素、ハロ、例えば、フルオロ、場合によって置換されたアルキル、特に、C1-20ハロアルキル、例えば、フルオロアルキル、特に、C1-6フルオロアルキル、例えば、-CF3;並びに、Rは化学結合もしくは非水素置換基、例えば、置換エステルである。具体的に好ましい本発明のPAGモノマー化合物には以下のものが挙げられる。これらのモノマーは共重合されることができ、本発明のPAG-樹脂を提供することができる。これら好ましい化合物は以下に示される特に好ましいアニオン性基以外のアニオン性基と好適に複合体を形成されていてよい。光酸含有モノマーと共重合するのに好適なモノマーは広く異なるものであることができ、以下のものが挙げられうる。ポリマー本発明のポリマーは様々な繰り返し単位を含むことができる。好ましいポリマーは異なる繰り返し単位、例えば、コポリマーポリマー中に少なくとも2種の異なる繰り返し単位、ターポリマー3種の異なる繰り返し単位、テトラポリマー少なくとも4種の異なる繰り返し単位、および他の高次のポリマーを含むことができる。ある形態においては、好ましい樹脂は複数の異なる光酸不安定基を含むことができ、その光酸不安定基の少なくとも1種は本明細書に開示されるような光酸発生剤基を含む。本発明の樹脂を提供するのに好ましい重合試薬には、無水マレイン酸のような酸無水物;ブチロラクトンのようなラクトン;テトラフルオロエチレンのようなフッ素化オレフィン;場合によって置換されたノルボルネンまたは他の環式オレフィンのような炭素脂環式基;場合によって置換されたジヒドロピランのようなヘテロ脂環式基;またはメタクリル酸2-メチルアダマンチルもしくはアクリル酸2-メチルアダマンチルのようなアクリラートが挙げられる。本明細書において使用される場合、用語アクリラートはメタクリラートのような置換アクリラートも包含する。よって、本発明の好ましいポリマーはi酸無水物またはフッ素化オレフィンの重合により提供されるような電子吸引基を有する繰り返し単位、およびii脂環式基の繰り返し単位例えば、炭素脂環式基、すなわち、全て炭素の環メンバーを有する基、および/またはヘテロ脂環式基、すなわち、環メンバーとして1以上のN、OもしくはS原子を、好ましくは環メンバーとして1もしくは2つの酸素もしくは硫黄原子を有するを含むことができ、好ましくは脂環式基はポリマー骨格に縮合されており、例えば、ポリマー骨格を含む少なくとも2つの炭素環メンバーを脂環式環が有する。好ましい縮合炭素脂環式基は、場合によって置換されたノルボルネン基のような環式オレフィン環内二重結合化合物の重合により提供される。さらに、酸素ヘテロ脂環式基は好ましくは、重合された炭素脂環式化合物、例えば、場合によって置換されたノルボルネンと一緒にポリマー中に存在することができる。本明細書において言及される場合、用語炭素脂環式基は非芳香族基の各環メンバーが炭素であることを意味する。炭素脂環式基は1以上の環内炭素-炭素二重結合を有することができるが、ただしこの環は芳香族ではない。本明細書において言及される場合、用語ヘテロ脂環式基は非芳香族環式基の少なくとも1つの環メンバーが炭素以外、例えば、N、OもしくはSであり、典型的には、1もしくは2つの酸素もしくは硫黄原子であることを意味する。ヘテロ脂環式基は1以上の環内炭素-炭素二重結合を有することができるが、ただしこの環は芳香族ではない。酸素ヘテロ脂環式基とは、その基が少なくとも1つ、典型的には1つだけの酸素環原子を有することを意味する。好ましい脂環式ポリマー単位の炭素脂環式基もしくはヘテロ脂環式基は、例えば、エーテルアルコキシのようなヘテロアルキル基、好ましくは1~約10個の炭素原子を有するヘテロアルキル基、アルキルチオ、好ましくは1~約10個の炭素原子を有するアルキルチオ、アルキルスルフィニル、好ましくは1~約10個の炭素原子を有するアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、好ましくは1~約10個の炭素原子を有するアルキルスルホニル;場合によって置換されたアルキル基、例えば、C1-20アルキル;エステル、例えば、2~約20個の炭素を有するエステル;などによって置換されうる。ある好ましいシステムにおいては、1形成されるポリマーに光酸不安定基を提供しうるようなアクリラート化合物例えば、アクリル酸t-ブチル;メタクリル酸t-ブチル;アクリル酸アダマンチル、など;2無水マレイン酸のような酸無水物;および/または3場合によって置換されたノルボルネンのような不飽和炭素脂環式化合物、および/または場合によって置換されたジヒドロピランのような不飽和ヘテロ脂環式化合物:を含む重合試薬例えば、不飽和モノマーを反応させることにより提供される繰り返し単位を樹脂が含むことができる。また、本発明のある好ましいシステムおよびレジストにおいては、下記のポリマーが好適である;1248nmでの像形成に特に好適な化学増幅ポジ型レジストを提供できる、酸不安定基を含むフェノール系樹脂。この種の特に好ましい樹脂には、以下のものが挙げられる:iビニルフェノールおよびアクリル酸アルキルの重合単位を含むポリマー、ここにおいて、重合されたアクリル酸アルキル単位は光酸の存在下でデブロッキングdeblocking反応を受けうる。光酸誘起デブロッキング反応を受けうる代表的なアクリル酸アルキルには、例えば、アクリル酸t-ブチル、メタクリル酸t-ブチル、アクリル酸メチルアダマンチル、メタクリル酸メチルアダマンチル、および光酸誘起反応を受けうる他の非環式アルキルおよび脂環式アクリラートが挙げられ、例えば、米国特許第6,042,997号および第5,492,793号におけるポリマーである:iiビニルフェノール、場合によって置換されているヒドロキシもしくはカルボキシ環置換基を含まないビニルフェニル例えばスチレン、および上記ポリマーiで記載されたデブロッキング基を有するもののようなアクリル酸アルキルの重合単位を含むポリマー;例えば、米国特許第6,042,997号に記載されたポリマー:およびiii光酸と反応しうるアセタールもしくはケタール部分を含む繰り返し単位、および場合によってフェニルもしくはフェノール性基のような芳香族繰り返し単位を含むポリマー;このようなポリマーは、米国特許第5,929,176号および第6,090,526号に記載されている。2サブ-200nmの波長、例えば、193nmで像形成するのに特に好適な化学増幅ポジ型レジストを提供できる、フェニルもしくは他の芳香族基を実質的にもしくは完全に含まない樹脂。この種の特に好ましい樹脂には以下のものが挙げられる:i芳香族でない環式オレフィン環内二重結合、例えば、場合によって置換されたノルボルネンの重合単位を含むポリマー、例えば、米国特許第5,843,624号および第6,048,664号に記載されたポリマー:iiアクリル酸アルキル単位、例えば、アクリル酸t-ブチル、メタクリル酸t-ブチル、アクリル酸メチルアダマンチル、メタクリル酸メチルアダマンチル、並びに他の非環式アルキルおよび脂環式アクリラートを含むポリマー;このようなポリマーは米国特許第6,057,083号;欧州特許出願公開第EP01008913A1号およびEP00930542A1号;および米国特許出願第09/143,462号に記載されている:およびiii重合された酸無水物単位、特に重合された無水マレイン酸および/または無水イタコン酸単位を含むポリマー、例えば、欧州特許出願公開第EP01008913A1号および米国特許第6,048,662号に開示されるポリマー。3ヘテロ原子、特に酸素および/または硫黄を含む繰り返し単位ただし、酸無水物以外、すなわち、この単位はケト環原子を含まないを含み、好ましくは、芳香族単位を実質的にもしくは完全に含まない樹脂。好ましくは、ヘテロ脂環式単位が樹脂骨格に縮合され、さらに好ましいのは、樹脂が、ノルボルネン基の重合により提供されるような縮合炭素脂環式単位、および/または無水マレイン酸または無水イタコン酸の重合により提供されるような酸無水物単位を含むものである。このような樹脂は国際出願PCT/US01/14914号および米国特許出願第09/567,634号に開示されている。4フッ素置換を含む樹脂フルオロポリマー、例えば、テトラフルオロエチレン、フッ素化芳香族基、例えば、フルオロ-スチレン化合物などの重合により提供されうるようなフッ素置換を含む樹脂。このような樹脂の例は、例えば、国際出願PCT/US99/21912号に開示されている。樹脂の光酸不安定基は上記単位の1以上の置換基、例えば、重合されたビニル脂環式エーテル、ビニル脂環式チオエーテルもしくは炭素脂環式基の置換基であることができる。光酸不安定部分は追加のポリマー単位として、例えば、重合されたアクリル酸アルキルもしくはメタクリル酸アルキル、特に脂環式部分を有するアクリラート、例えば、アクリル酸メチルアダマンチルもしくはメタクリル酸メチルアダマンチルとして存在することもできる。好ましい脂環式光酸不安定部分は、2以上の縮合もしくは橋かけ環を有する第三級エステル脂環式炭化水素基である。好ましい第三級エステル基には、場合によって置換されたアダマンチル、特に上述のようなメチルアダマンチル;場合によって置換されたフェンシルfencyl基、特にエチルフェンシル;場合によって置換されたピナニル;および場合によって置換されたトリシクロデカニル、特に、アルキル置換トリシクロデカニル、例えば、8-エチル-8-トリシクロデカニルアクリラートおよび8-エチル-8-トリシクロデカニルメタクリラートの重合により提供されるような8-エチル-8-トリシクロデカニルなどが挙げられる。追加の二環式、三環式および他の多環式部分を含む追加の脂環式エステル基も好適であろう。好ましい光酸不安定基はエステル基、特に第三級脂環式炭化水素エステル部分を含むエステルである。好ましい第三級脂環式炭化水素エステル部分は、アダマンチル、エチルフェンシルもしくはトリシクロデカニル部分のような多環式基である。第三級脂環式エステル基または他の同様の用語に対する、本明細書における言及は、第三級脂環式環炭素が、エステル酸素に共有結合している、即ち、C=OO-TR’式中、Tは、脂環式基R’の第三級環炭素であるであることを示す。少なくとも多くの場合に、好ましくは、脂環式部分の第三級環炭素は、後で示す具体的に好ましいポリマーによって例示されるように、エステル酸素に共有結合しているであろう。しかしながら、エステル酸素に結合した第三級炭素は、また、脂環式環に対して環外であってもよく、典型的には、この場合、脂環式環は環外第三級炭素の置換基の一つである。典型的には、エステル酸素に結合した第三級炭素は、脂環式環自体で置換されることができ、および/または1~約12個の炭素、さらに典型的には1~約8個の炭素、なおさらに典型的には1、2、3もしくは4個の炭素を有する、1つ、2つもしくは3つのアルキル基で置換されうる。この脂環式基は、また、好ましくは、芳香族置換基を含有していないであろう。この脂環式基は、好適には、単環式または多環式、特に二環式もしくは三環式基であってもよい。本発明のポリマーの光酸不安定エステル基の好ましい脂環式部分例えば、C=OO-TR’の基TR’は、かなり大きい体積を有する。このような嵩高な脂環式基が本発明のコポリマー中に使用されるとき、向上した解像度をもたらし得ることが見出された。より具体的には、光酸不安定エステル基の好ましい脂環式基は、少なくとも約125または約130Å3の分子体積、さらに好ましくは少なくとも約135、140、150、155、160、165、170、175、180、185、190、195または200Å3の分子体積を有するであろう。少なくとも幾つかの用途において、約220または250Å3よりも大きい脂環式基は、あまり好ましくない場合がある。分子体積に対する本明細書における言及は、最適化された化学結合長さおよび角度を得る、標準コンピュータモデル化によって決定される体積サイズを指定する。本明細書において言及されるとき、分子体積を決定するための好ましいコンピュータプログラムは、Triposから入手可能なAlchemy2000である。分子サイズのコンピュータに基づく決定のさらなる検討については、TOmoteら、PolymersforAdvancedTechnologies、第4巻、第277-287頁を参照されたい。光酸不安定単位の特に好ましい第三級脂環式基には、以下のもの式中、波線は、エステル基のカルボキシル酸素への結合を示し、そしてRは、好適には場合によって置換されたアルキル、特にC1-8アルキル、例えばメチル、エチルなどであるが挙げられる。本発明のポリマーは、また、脂環式部分を含有しない光酸不安定基を含有していてもよい。例えば、本発明のポリマーは、光酸不安定アルキルエステルのような光酸不安定エステル単位を含有していてもよい。一般的に、光酸不安定エステルのカルボキシル酸素即ち、-C=OOの場合の下線を引いたカルボキシル酸素は、第四級炭素に共有結合されるであろう。分枝した光酸不安定エステル、例えば、t-ブチルおよび-CCH32CHCH32が一般的に好ましい。化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物に使用される本発明のポリマーは、所望のようにレジストレリーフ像の形成を可能にするのに充分な量の、光発生酸不安定基例えば、エステルおよび/またはアセタールを含有していなくてはならない。例えば、このような酸不安定基の好適な量は、ポリマーの全単位の少なくとも1モルパーセント、さらに好ましくは全ポリマー単位の約2~30モルパーセント、なおさらに典型的には約3~20または30モルパーセントであろう。言及されたように、本発明のポリマーはヘテロ脂環式または炭素脂環式環を含有することができ、これら環は好ましくはポリマー骨格に縮合されている。縮合されたヘテロ脂環式環単位は、好ましくは、1個以上の酸素および/または硫黄原子を含有する。先に示したように、本明細書において環式基がポリマー骨格に縮合されていると記載することによって、環式基の2つの環メンバー、典型的には環式基の2個の隣接する炭素原子がポリマー骨格の部分でもあることが意味される。このような縮合された環は、環内二重結合を有する環式モノマーを重合することによって得られうる。好ましい酸素環ポリマー単位は、硫黄のような他のヘテロ原子を含有しない即ち、酸素および炭素環メンバーのみであろう。典型的には、酸素環単位は1個または2個の酸素環原子を含有し、および1以上の環置換基を有することができる。本発明の好ましいポリマーは、ポリマーの全単位を基準にして少なくとも約2~5モルパーセントの縮合されたヘテロ脂環式単位、さらに好ましくはポリマーの全単位を基準にして約5~50モルパーセントの縮合されたヘテロ脂環式単位、なおさらに好ましくはポリマーの全単位を基準にして約5または10モルパーセントから約40または50モルパーセントまでの縮合されたヘテロ脂環式単位を含有することができる。本発明の好ましいポリマーは、ポリマーの全単位を基準にして少なくとも約2~5モルパーセントの炭素脂環式単位、さらに好ましくはポリマーの全単位を基準にして約5~50モルパーセントの縮合された炭素脂環式単位、なおさらに好ましくはポリマーの全単位を基準にして約5または10モルパーセントから約25または30モルパーセントまでの縮合された炭素脂環式単位を含有することができる。上で論じられたように、本発明のポリマーは追加の単位、例えば、シアノ単位、ラクトン単位または酸無水物単位も含有することができる。例えば、アクリロニトリルもしくはメタクリロニトリルを重合させてペンダントシアノ基を提供することができ、または無水マレイン酸を重合させて、縮合された酸無水物単位を提供することができる。本発明の合成において、フリーラジカル付加として実施する場合、好ましくは、反応は不活性雰囲気例えば、N2またはアルゴン下で、約70°C以上のような高温で実施されるが、反応温度は一般的に上で論じられたように、使用される個々の試薬の反応性および溶媒を使用する場合には反応溶媒の沸点に応じて変化しうる。好適な反応溶媒には、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、乳酸エチル、DMFなどが挙げられる。特定のシステムに好適な反応温度は、本開示に基づいて当業者によって経験的に容易に決定されうる。種々のフリーラジカル開始剤を使用することができる。例えば、アゾ-ビス-2,4-ジメチルペンタンニトリルのようなアゾ化合物が使用されうる。過酸化物、過エステル、過酸および過硫酸塩を使用することもできた。ラジカルフラックスまたは濃度を制御するための連鎖移動剤または他の試薬を、この反応において使用することもできる。本発明の所望のポリマーを得るために反応させることができるモノマーは、当業者によって特定されうる。例えば、光酸不安定単位を得るために、好適なモノマーには、例えば、エステル基のカルボキシ酸素上に適切な基置換例えば、第三級脂環式、t-ブチルなどを含有するメタクリラートまたはアクリラートが挙げられる。無水マレイン酸は縮合された酸無水物ポリマー単位を得るための好ましい試薬である。無水イタコン酸も酸無水物ポリマー単位を得るための好ましい試薬であり、好ましくはこの場合、無水イタコン酸は、例えば、重合の前にクロロホルムによる抽出によって精製されたものである。アルファ-ブチロラクトンのようなビニルラクトンも好ましい試薬である。ポリマーに光酸発生剤基を含有させるために、光酸発生剤基を含有するモノマー例えば、下記の実施例1のアクリラート光酸発生剤のような光酸発生剤部分を含有するアクリラートモノマーを、1種以上の他のモノマーと共重合させることができる。他の好適で好ましい反応性モノマーおよび他の試薬は先に特定されている。本発明のポリマーの追加の特に好ましい繰り返し単位には、米国特許出願第10/082,769号に開示されているようなヒドロキシアダマンチル基および米国特許出願公開第2005/0208418号に開示されているようなシアノアダマンチル基が挙げられる。これらの基は、共有結合した光酸発生剤基を含むポリマーまたは光酸発生剤基を含有していないポリマー上に存在してもよい。好ましくは、本発明のポリマーは、約3以下の分子量分布Mw/Mn、さらに好ましくは約2以下の分子量分布で、なおさらに好ましくは1.5以下またはさらには1.2もしくは1以下の分子量分布で、約800または1,000~約100,000、さらに好ましくは約2,000~約30,000、なおさらに好ましくは約2,000~15,000または20,000の重量平均分子量Mwを有しうる。本発明の合成方法はこのような低い狭い分子量分布を提供することができる。本発明のポリマーの分子量MwまたはMnは、ゲル浸透クロマトグラフィーによって好適に決定される。上述したように、本発明の一形態において、i第1のポリマーが、共有結合した1以上の光酸発生剤基を含み、およびii光酸発生剤基を含まない第2のポリマー第1のポリマーとは別個であるの、別個のポリマーのブレンドが提供される。好ましくは、第1のポリマーおよび第2のポリマーの少なくとも一方は光酸不安定基を含む。ある好ましい実施形態においては、光酸発生剤基を含まない第2の樹脂が光酸不安定基を含有する。第1のポリマーおよび第2のポリマーの両方が光酸不安定基を含むことも好適である。この形態においては、第1のポリマーおよび第2のポリマーは様々な量で存在することができる。例えば、本発明のフォトレジストまたは樹脂ブレンド中の第1のポリマー:第2のポリマーの重量比は好適には、1:10~10:1または1:5~5:1である。また、この形態においては、複数の別個のポリマーは好適には同じ種類のポリマー例えば、共に、アクリラート、環式オレフィンポリマー例えば、ノルボルニル/酸無水物ポリマー、フルオロポリマーであってよく、またはこれらポリマーは別々の種類のものであってもよく、例えば、第1のポリマーがアクリラート基を含んでよく、かつ第2のポリマーが重合されたノルボルニルおよび無水マレイン酸基を含んでアクリラート基を含まないもよい。光酸発生剤基を含有しないブレンドの第2のポリマーは好適には本明細書に開示されているような繰り返し単位の何れを含んでもよく、またはポリマー種類の何れのものであってもよい。光酸発生剤基上で論じられたように、本発明に従って様々な光酸発生剤基が樹脂に共有結合されうる。一つの形態においては、イオン性光酸発生剤基が樹脂に共有結合されている。イオン性光酸発生剤基に対する言及は、酸が塩形態、例えば、オニウム塩などで存在し、この場合、酸例えば、スルホニウムまたはヨードニウムはアニオン性種、例えば、カルボキシラートアニオンまたはスルホナートアニオンと複合体を形成していることを示す。活性化放射線例えば、193nmまたは248nmに露光させると、このイオン性複合体は解離させられて活性な酸物質をもたらす。かかるイオン性光酸発生剤基の一つの実施形態においては、イオン性光酸発生剤基のカチオン性部分は樹脂に共有結合しているが、アニオン性部分は樹脂に共有結合していない。かかるイオン性光酸発生剤基のさらなる実施形態においては、イオン性光酸発生剤基のアニオン性部分は樹脂に共有結合しているが、カチオン性部分は樹脂に共有結合していない。かかるイオン性光酸発生剤基のなおさらなる実施形態においては、アニオン性部分およびカチオン性部分の両方が樹脂に共有結合していてもよい。別の形態においては、非イオン性光酸発生剤基が樹脂に共有結合されている。非イオン性光酸発生剤基に対する言及は、その基が、塩として複合体形成された酸基を含有していないことを示す。むしろ、活性化放射線例えば、193nmまたは248nmは、酸部分を生じさせるこの基の反応例えば、結合破壊反応を引き起こすであろう。このような非イオン性光酸発生剤基の一つの実施形態においては、非イオン性光酸発生剤基これは、活性化放射線によって脱マスキングされるの酸部分が樹脂に共有結合されており、一方、活性化放射線は酸性または非酸性開裂生成物樹脂に共有的ではないを遊離させる。かかる非イオン性光酸発生剤基のさらなる実施形態においては、非イオン性光酸発生剤基これは、193nmまたは248nmのような活性化放射線によって脱マスキングされるの酸部分は、かかる光による発生の結果として樹脂から開裂され即ち、共有結合ではない、一方、光酸発生剤基の酸性部分または非酸性部分は樹脂に共有結合したままである。かかる非イオン性光酸発生剤基のなおさらなる実施形態においては、193nmまたは248nmのような活性化放射線への、非イオン性光酸発生剤基の露光の際に開裂生成物は生成しない。示されたように、好適なイオン性光酸発生剤基は1種以上のオニウム塩を含んでいてもよい。好適なオニウム塩の例には、例えば、ハロニウム塩、第四級アンモニウム、ホスホニウムおよびアルソニウム塩、スルホニウム塩およびスルホキソニウム塩またはセレニウム塩が挙げられる。オニウム塩は、文献、例えば、米国特許第4,442,197号;第4,603,101号および第4,624,912号に記載されている。一般的に好ましいオニウム塩には、ヨードニウム塩光酸発生剤、例えば、欧州特許出願公開第0708368A1号に開示されているこれらの化合物が挙げられる。このような塩には、下記式によって表されるものが挙げられる:式中、Ar1およびAr2はそれぞれ独立に置換されたまたは置換されていないアリール基を表す。アリール基の好ましい例には、C6-14単環式または縮合環アリール基が挙げられる。アリール基上の置換基の好ましい例には、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基およびハロゲン原子が挙げられる。スルホニウム塩、例えば、下記式の化合物は本発明のPAGブレンドおよびレジストのための特に適切なイオン性光酸発生剤である:式中、R3、R4およびR5は、それぞれ独立に置換されたまたは置換されていないアルキル基またはアリール基を表す。上記の式のそれぞれに関して、置換されたまたは置換されていないアルキル基およびアリール基の好ましい例には、C6-14アリール基、C1-5アルキル基およびこれらの置換された誘導体が挙げられる。アルキル基上の置換基の好ましい例には、C1-8アルコキシ基、C1-8アルキル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基およびハロゲン原子が挙げられる。アリール基上の置換基の好ましい例には、C1-8アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、C1-8ハロアルキル基、C5-8シクロアルキル基およびC1-8アルキルチオ基が挙げられる。R3、R4およびR5並びにAr1およびAr2のうちの2つは、その単結合または置換基を介して相互に連結されうる。イオン性光酸発生剤基は、例えば、式RSO3-式中、Rは、アダマンタン、アルキル例えば、C1-12アルキルおよびペルフルオロアルキル、例えば、ペルフルオロC1-12アルキルであるのアニオン、特に、ペルフルオロオクタンスルホナート、ペルフルオロノナンスルホナートなどのペルフルオロ対アニオンをはじめとする種々の複合体形成性アニオン性基を含み得る。好適な非イオン性にはイミドスルホナート、例えば、下記の式の化合物が挙げられる:式中、各R1およびR1’はそれぞれ独立に水素またはC1-12アルキル、さらに好ましくは水素またはメチルであり;そしてRは前記定義された通り、即ち、アルキル例えば、C1-12アルキル、ショウノウ、アダマンタンおよび典型的には5~約12個の環メンバーを有する他のシクロアルキル並びにペルフルオロアルキル、例えば、ペルフルオロC1-12アルキル、特に、ペルフルオロ化基、例えば、ペルフルオロオクタンスルホナート、ペルフルオロブタンスルホナートなどである。この種の特に好ましい光酸発生剤は、N-[ペルフルオロオクタンスルホニルオキシ]-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボキシイミドである。下記の式の化合物のような、国際公開第WO94/10608号に開示されているN-スルホニルオキシイミドをはじめとする、N-スルホニルオキシイミド光酸発生剤も好適な非イオン性光酸発生剤基である:式中、炭素原子は一重、二重もしくは芳香族結合を有する2炭素構造を形成し、あるいは、これらが3炭素構造を形成し、すなわち、この場合、この環は5員もしくは6員環であり;XaRは、-CnH2n1式中、n=1~8である、-CnF2n1式中、n=1~8である、ショウノウ置換基、-29,10-ジエトキシアントラセン、-CH2n-Zもしくは-CF2n-Zであり式中、n=1~4であり、Zは、H、C1-4アルキル、ショウノウ置換基、-29,10-ジエトキシアントラセンまたはアリール、例えばフェニルであり;XおよびYは、11個以上のヘテロ原子を含有してもよい環式もしくは多環式環を形成し、または2縮合芳香環を形成し、または3独立に水素、アルキルもしくはアリールであってもよく、または4他のスルホニルオキシイミド含有残基に結合されていてもよく、または5ポリマー鎖もしくは骨格に結合されていてもよく、または代替的には、を形成し、式中、R1は、H、アセチル、アセトアミド、1~4個の炭素を有するアルキル但し、m=1~3、NO2但し、m=1~2、F但し、m=1~5、Cl但し、m=1~2、CF3但し、m=1~2およびOCH3但し、m=1~2、mは、その他の場合1~5であってもよい並びにこれらの組合せからなる群から選択され、XおよびYは、11個以上のヘテロ原子を含有してもよい環式もしくは多環式環を形成し、2縮合芳香環を形成し、3独立にH、アルキルもしくはアリールであってもよく、4他のスルホニルオキシイミド含有残基に結合されていてもよく、または5ポリマー鎖もしくは骨格に結合されていてもよい。追加の好ましいイミドスルホナートには、下記の式のもののような基が挙げられる:式中、Rは、ショウノウ、アダマンタン、アルキル例えば、C1-12アルキルおよびペルフルオロアルキル、例えば、ペルフルオロC1-12アルキル、特に、ペルフルオロオクタンスルホナート、ペルフルオロノナンスルホナートなどである。特に好ましい非イオン性光酸発生剤基は、N-[ペルフルオロオクタンスルホニルオキシ]-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボキシイミドである。好適な非イオン性光酸発生剤基の他の種類には、例えば米国特許第5,558,976号に開示されているような追加のスルホノ基が挙げられる。これらの光酸発生剤の代表的な例には、下記のものが挙げられる:式中、XaRは、好適には場合によってハロゲン、C1-6アルキル、C1-6アルコキシまたはC1-6ハロアルキルによって置換されているフェニルであり、R7は1~10個の炭素原子を有する、直鎖、分枝または環式アルキル基であり、およびZはスルホニル基またはカルボニル基である:式中、Rは前記定義されたとおりであり;並びに式中、R22は、水素であるか、ヒドロキシルであるか、または式XaRSO2O-式中、XaRは前記定義された通りであるによって表される基であり、R23は1~5個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキル基または下記式で表わされる基である:式中、R24およびR30は独立に水素原子であるか、ハロゲン原子であるか、1~5個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキル基であるか、1~5個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルコキシ基であるか、または下記式の基である:式中、各R25は独立に1~4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキル基、フェニル基、置換されたフェニル基またはアラルキル基であり;R26は、水素原子であるか、ハロゲン原子であるか、または1~6個の炭素原子を有する直鎖、分枝もしくは環式アルキル基である。さらなる好適な非イオン性光酸発生剤基には、欧州特許出願公開第EP0717319A1号に開示されているものをはじめとする、ニトロベンジル系の基が挙げられる。適切なニトロベンジル系化合物には、下記の式のものが挙げられる:式中、各R1、R2およびR3は個々に、水素および1~4個の炭素原子を有する低級アルキル基からなる群から選択され、R4およびR5は個々に、CF3およびNO2からなる群から選択され、RXaは場合によって置換された炭素環式アリール、特に場合によって置換されたフェニル、例えば、2、3および4位置の置換基が水素およびC1-4アルキルから選択され、かつ5および6の環位置がCF3、NO2およびSO3R’式中、R’は、場合によって置換されたC1-2アルキルまたはアリール、例えば、フェニル但し、このような任意の置換基はC1-4アルキル、C1-4アルコキシ、NO2またはCF3であってもよいであるから選択されるフェニルである。ジスルホン誘導体もまた好適な非イオン性光酸発生剤基である。好適な基は、例えば、欧州特許出願公開第EP0708368A1号に開示されている。このような物質は、下記式によって表すことができる:式中、RXaは好ましくは直ぐ上に定義された通りであり、Ar3は置換されたまたは置換されていないアリール基を表す。アリール基の好ましい例には、C6-14単環式または縮合環アリール基が挙げられる。アリール基上の置換基の好ましい例には、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基およびハロゲンが挙げられる。米国特許第6,482,567号に開示されているような、オキシムスルホナートおよびN-オキシイミドスルホナート光酸発生剤基も、本発明のポリマーにおいて使用するのに適しているであろう。また、活性化放射線への露光の際に、α,α-ジフルオロアルキルスルホン酸光酸を生じさせうる光酸発生剤基、例えば、米国特許第6,849,374号に開示されているようなこの種類の光酸発生剤基も本発明のポリマーへの共有結合のために好適であろう。さらに、置換されたスルホン基の間に介在されたジアゾ、置換されたメチレンまたはヒドラジン部分を含有する、ジスルホン光酸発生剤基を含有するジスルホン光酸発生剤基、例えば、米国特許第6,783,912号に開示されているようなジスルホン光酸発生剤基が、本発明のポリマーへの共有結合のために好適であろう。ハロゲン化非イオン性光酸発生性化合物はまた、本発明のブレンドおよびレジスト中に使用するために好適であり、例えば、1,1-ビス[p-クロロフェニル]-2,2,2-トリクロロエタンDDT;1,1-ビス[p-メトキシフェニル]-2,2,2-トリクロロエタン;1,2,5,6,9,10-ヘキサブロモシクロデカン;1,10-ジブロモデカン;1,1-ビス[p-クロロフェニル]-2,2-ジクロロエタン;4,4-ジクロロ-2-トリクロロメチルベンズヒドロール=ケルタン;ヘキサクロロジメチルスルホン;2-クロロ-6-トリクロロメチルピリジン;o,o-ジエチル-o-3,5,6-トリクロロ-2-ピリジルホスホロチオネート;1,2,3,4,5,6-ヘキサクロロシクロヘキサン;N1,1-ビス[p-クロロフェニル]-2,2,2-トリクロロエチルアセトアミド;トリス[2,3-ジブロモプロピル]イソシアヌラート;2,2-ビス[p-クロロフェニル]-1,1-ジクロロエチレン;トリス[トリクロロメチル]s-トリアジン並びにこれらの異性体、アナログ、ホモログおよび残留化合物が挙げられる。好適な光酸発生剤はまた、欧州特許出願公開第0164248号および0232972号に開示されている。深UV露光のために特に好ましい酸発生剤には、1,1-ビスp-クロロフェニル-2,2,2-トリクロロエタンDDT;1,1-ビスp-メトキシフェノール-2,2,2-トリクロロエタン;1,1-ビスクロロフェニル-2,2,2-トリクロロエタノール;トリス1,2,3-メタンスルホニルベンゼンおよびトリストリクロロメチルトリアジンが挙げられる。前述したように、本発明のフォトレジスト組成物は、好適には、共有結合した1以上の光酸発生剤基を含むポリマーに加えて、非ポリマー系光酸発生剤化合物を含んでよい。このように組み合わせて使用するのに好適な光酸発生剤化合物は、例えば、米国特許第6,482,567号、米国特許第6,783,912号、米国特許第6,849,374号および米国特許第6,458,506号に開示されている。本発明のフォトレジストは、リソグラフィ処理露光および現像の際にレリーフ像の生成を可能にするのに充分な量の光酸発生剤基を含んでいなくてはならない。かかる光酸発生剤基は、フォトレジストのポリマーに共有結合している光酸発生剤基により単独で提供されてもよく、またはポリマーに共有結合している光酸発生剤基と、ポリマー系光酸発生剤と共にフォトレジスト組成物中に存在している非ポリマー系光酸発生剤化合物との組合せにより提供されても良い。一般的に、フォトレジストの全固形分溶媒キャリアを除くすべての成分の少なくとも1、2または3重量パーセントが光酸発生剤基であってもよく、さらに典型的には、フォトレジストの全固形分溶媒キャリアを除くすべての成分の少なくとも5、8または10重量パーセントが光酸発生剤基であってもよい。一般的に、フォトレジスト組成物の全固形分の約25、30、35または40重量パーセントを超えて光酸発生剤基を使用する必要はない。本発明のフォトレジストは他の材料を含んでいてもよい。例えば、他の任意の添加剤には、化学線染料actinicdyesおよびコントラスト染料、ストリエーション防止剤anti-striationagents、可塑剤、速度向上剤、増感剤などが挙げられる。比較的高濃度、例えば、レジストの乾燥成分の合計重量の5~30重量パーセントの量で存在することができる充填剤および染料を除いて、このような任意の添加剤は、典型的には、フォトレジスト組成物中に低濃度で存在するであろう。本発明のレジストの好ましい任意成分の添加剤は追加塩基、特にテトラブチルアンモニウムヒドロキシドTBAHであり、これは現像されたレジストレリーフ像の解像度を向上させることができる。追加塩基は好適には比較的少量で、例えば、PAGに対して約1~10重量パーセント、より典型的には1~約5重量パーセントで使用される。他の好適な塩基性添加剤には、スルホン酸アンモニウム塩、例えば、p-トルエンスルホン酸ピペリジニウム、およびp-トルエンスルホン酸ジシクロヘキシルアンモニウム;アルキルアミン、例えば、トリプロピルアミンおよびドデシルアミン;アリールアミン、例えば、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、アミノフェノール、2-4-アミノフェニル-2-4-ヒドロキシフェニルプロパンなどを挙げることができる。本発明のレジストの樹脂バインダー成分は、典型的には、レジストの露光された塗膜層を、アルカリ水溶液などを用いて現像可能にするのに充分な量で使用される。より詳細には、樹脂バインダーは好適に、レジストの全固形分の50~約90重量を構成しうる。光活性成分は、レジストの塗膜層中の潜像の形成を可能にするのに充分な量で存在すべきである。より詳細には、光活性成分は、好適には、レジストの全固形分の約1~40重量の量で存在しうる。典型的には、より少ない量の光活性成分が化学増幅型レジストに好適であり得る。本発明のフォトレジストは、このようなフォトレジストの配合において使用される先行技術の光活性化合物を本発明のPAG樹脂と置き換えることを除いて、既知の手順に従って一般的に製造される。例えば、本発明のレジストは、フォトレジストの成分を好適な溶媒に溶解することによりコーティング組成物として製造されることができ、この好適な溶媒には、例えば、グリコールエーテル、例えば、2-メトキシエチルエーテルジグリム、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル;乳酸エステル、例えば、乳酸エチルまたは乳酸メチル、乳酸エチルが好ましい;プロピオン酸エステル、特にプロピオン酸メチルおよびプロピオン酸エチル;セロソルブエステル、例えば、メチルセロソルブアセタート;芳香族炭化水素、例えば、トルエンもしくはキシレン;またはケトン、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンおよび2-ヘプタノンが挙げられる。フォトレジストの固形分量は、典型的には、フォトレジスト組成物の全重量の5~35重量パーセントで変化する。本発明のフォトレジストは既知の手順に従って使用されうる。本発明のフォトレジストはドライフィルムとして適用されうるが、本発明のフォトレジストは好ましくは液体コーティング組成物として基体上に適用され、加熱により乾燥させられ、好ましくは塗膜層が粘着性でなくなるまで溶媒を除去し、フォトマスクを通して活性化放射線に露光され、場合によっては露光後ベークされて、レジスト塗膜層の露光領域と未露光領域との間の溶解度差を作り出すかまたは大きくし、次いで、好ましくは水性アルカリ現像剤で現像されてレリーフ像を形成する。液体コーティングレジスト組成物はスピニング、ディッピング、またはローラーコーティングのようなあらゆる標準的な手段で適用されうる。フォトレジスト層は存在する場合には、上塗りバリア組成物層と共に、次いで、活性化放射線に、好ましくは液浸リソグラフィシステムすなわち、露光ツール特に投影レンズと基体をコーティングするフォトレジストとの間の空間が液浸流体、例えば、水または1種以上の添加剤、例えば、向上した屈折率の流体を提供できる硫酸セシウムと混合された水で占有されているにおいて露光される。好ましくは、液浸流体例えば、水は気泡を回避するために処理されており、例えば、水はナノバブルを回避するために脱ガスされうる。本明細書において液浸露光または他の類似の用語についての言及は、露光が、露光ツールと、塗布されたフォトレジスト組成物層との間に挿入されるこのような流体層例えば、水もしくは添加剤を含む水を用いて行われることを示す。本発明のレジストが適用され好適に処理される基体は、マイクロエレクトロニクスウェハのような、フォトレジストを伴うプロセスに使用されるあらゆる基体であり得る。例えば、基体は、ケイ素、二酸化ケイ素、アルミニウム-酸化アルミニウムマイクロエレクトロニクスウェハでありうる。ガリウムヒ素、セラミック、石英または銅基体も使用されうる。液晶ディスプレイおよび他のフラットパネルディスプレイ用途に使用される基体、例えば、ガラス基体、インジウムスズ酸化物コーティング基体なども好適に使用される。露光エネルギーは、感放射線システムの光活性成分を効果的に活性化して、レジスト塗膜層にパターン形成された像を生じさせるのに充分であるべきである。好適な露光エネルギーは典型的には約1~300mJ/cm2の範囲である。上述のように、好ましい露光波長には、サブ200nm、例えば、193nmが挙げられる。好適な露光後ベーク温度は約50°C以上、より具体的には約50~140°Cである。酸硬化性ネガ型レジストについては、望まれる場合には、現像により形成されたレリーフ像をさらに硬化させるために約100~150°Cの温度で数分以上での現像後ベークが使用されうる。現像および何らかの現像後硬化の後で、現像によって露出させられた基体表面は、次いで、選択的に処理、例えば、フォトレジストが除かれた基体領域を、当該技術分野で知られている手順に従って化学エッチングまたはめっきすることができる。好適なエッチング剤には、フッ化水素酸エッチング溶液およびプラズマガスエッチング、例えば、酸素プラズマエッチングが挙げられる。以下の非限定的な実施例は本発明の例示である。実施例1:PAGモノマー合成メタクリル酸クロロメチル135部、トリフェニルスルホニウム4-ヒドロキシ-1,1,2,2-テトラフルオロブタンスルホナート489部がジクロロメタン中に溶解される。ジイソプロピルエチルアミン129部が滴下添加される。得られる混合物は室温で18時間攪拌される。通常の水性仕上げによって、トリフェニルスルホニウム4-メタクリルオキシメトキシ-1,1,2,2-テトラフルオロブタンスルホナートを得る。実施例2:追加のPAGモノマー合成トリフェニルスルホニウム4-ヒドロキシ-1,1,2,2-テトラフルオロブタンスルホナート489部およびpTSA4.9部がメタクリル酸ビニル336部と混合される。得られる混合物は50°Cで18時間攪拌される。通常の水性仕上げによって、トリフェニルスルホニウム4-1’-メタクリルオキシエトキシ-1,1,2,2-テトラフルオロブタンスルホナートを得る。メタクリロイルクロリド105部および化合物1645部がジクロロメタン中に溶解される。トリエチルアミン101部が添加される。得られる混合物は室温で18時間攪拌される。水性仕上げによって化合物2を得る。実施例3:PAG樹脂合成6.57グラムの実施例1のPAGモノマー;4.2グラムのECPMA;5.9グラムのαGBLMA;5.5グラムのODOTMA;および2.7グラムのHAMAが15gのテトラヒドロフランに溶解され、窒素でバブリングされる。ECPMA、αGBLMA、ODOTMAおよびHAMAの構造はすぐ上に示される。5gのテトラヒドロフランおよび2.9グラムのV601開始剤が別のフラスコに秤量される。丸底フラスコに凝縮器、窒素ラインを取り付け、5gのテトラヒドロフランが添加され、少なくとも70°Cに加熱される。このV601/テトラヒドロフラン混合物が添加され、温度が少なくとも70°Cまで戻される。次いで、モノマー溶液がこのフラスコに3.5時間にわたって供給され、少なくとも30分間保持される。この溶液に15mlのテトラヒドロフランが添加され、次いで氷浴で室温まで冷却される。次いで、この溶液は有機溶媒例えば、p20倍体積のイソプロピルアルコール中に沈殿させられ、乾燥され、テトラヒドロフランに~30で再溶解され、次いで第2の有機溶媒例えば、p20倍体積のイソプロピルアルコール沈殿。次いで、この物質は真空オーブン中で一晩乾燥させられる。実施例4:フォトレジスト製造およびリソグラフィー処理本発明のフォトレジストは、レジスト組成物の全重量を基準にした重量パーセントとして表された量の下記成分を混合することにより製造される:樹脂バインダーは上記実施例3のPAG樹脂であり;塩基添加剤はN-アルキルカプロラクタムであり、界面活性剤はR18フッ素含有界面活性剤、大日本インキ化学工業株式会社から入手可能である。この樹脂、塩基添加剤および界面活性剤は乳酸エチル溶媒中で混合される。配合されたレジスト組成物はHMDS蒸気前処理された4インチシリコンウェハ上にスピンコートされ、90°Cで60秒間、真空ホットプレートでソフトベークされる。レジスト塗膜層はフォトマスクを通した193nmで露光され、次いで露光された塗膜層は110°Cで露光後ベークされる。次いで、コーティングされたウェハは0.26Nのテトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で処理され、像形成されたレジスト層を現像する。"