ホログラム形成層と反射層を有するホログラム層を有する光学素子であって、該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、該反射層が、パターン状に形成された第1反射層と、第2反射層と、を有し、該第1反射層上には、第1反射層より10~50μm大きくパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層を有し、かつ、該第2反射層が、該第1反射層及び耐薬品性隠蔽樹脂層を覆うように形成されてなることを特徴とする光学素子。ホログラム形成層と反射層を有するホログラム層を有する光学素子であって、該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、該反射層が、パターン状に形成されてなり、該反射層上には、反射層より10~50μm大きくパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層を有し、該印刷層が、該反射層及び耐薬品性隠蔽樹脂層を覆うように形成されてなることを特徴とする光学素子。微小凹凸からなる回折構造を有するホログラム形成層を形成する工程、ホログラム形成層上に第1反射層を形成する工程、第1反射層上に耐薬品性隠蔽樹脂層をパターン状に形成する工程、第1反射層を部分的に除去する工程、部分的に除去された第1反射層上に第2反射層を形成する工程、を有する光学素子の製造方法であって、該第1反射層を部分的に除去する工程で、第1反射層をパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層より10~50μm小さくなるよう過剰に除去することを特徴とする光学素子。微小凹凸からなる回折構造を有するホログラム形成層を形成する工程、ホログラム形成層上に第1反射層を形成する工程、第1反射層上に耐薬品性隠蔽樹脂層をパターン状に形成する工程、第1反射層を部分的に除去する工程、部分的に除去された第1反射層上に印刷層を形成する工程、を有する光学素子の製造方法であって、該第1反射層を部分的に除去する工程で、第1反射層をパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層より10~50μm小さくなるよう過剰に除去することを特徴とする光学素子。本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、ホログラム層を有する光学素子において、文字や絵柄等の微細なパターンを有する光学素子とすることを課題とする。上述した課題を解決するために、本発明は、ホログラム形成層と反射層を有するホログラム層を有する光学素子であって、該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、該反射層が、パターン状に形成された第1反射層と、第2反射層と、を有し、該第1反射層上には、第1反射層より10~50μm大きくパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層を有し、かつ、該第2反射層が、該第1反射層及び耐薬品性隠蔽樹脂層を覆うように形成されてなることを特徴とする光学素子とする。また本発明は、ホログラム形成層と反射層を有するホログラム層を有する光学素子であって、該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、該反射層が、パターン状に形成されてなり、該反射層上には、反射層より10~50μm大きくパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層を有し、かつ、該印刷層が、該反射層及び耐薬品性隠蔽樹脂層を覆うように形成されてなることを特徴とする光学素子とする。また本発明は、微小凹凸からなる回折構造を有するホログラム形成層を形成する工程、ホログラム形成層上に第1反射層を形成する工程、第1反射層上に耐薬品性隠蔽樹脂層をパターン状に形成する工程、第1反射層を部分的に除去する工程、部分的に除去された第1反射層上に第2反射層を形成する工程、を有する光学素子の製造方法であって、該第1反射層を部分的に除去する工程で、第1反射層をパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層より10~50μm小さくなるよう過剰に除去することを特徴とする光学素子とする。また本発明は、微小凹凸からなる回折構造を有するホログラム形成層を形成する工程、ホログラム形成層上に第1反射層を形成する工程、第1反射層上に耐薬品性隠蔽樹脂層をパターン状に形成する工程、第1反射層を部分的に除去する工程、部分的に除去された第1反射層上に印刷層を形成する工程、を有する光学素子の製造方法であって、該第1反射層を部分的に除去する工程で、第1反射層をパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層より10~50μm小さくなるよう過剰に除去することを特徴とする光学素子とする。本発明によれば、ホログラム層と、微細な文字絵柄等のパターンを形成した光学素子を提供することができる。以下、本発明の光学素子について、図面を用いて詳細に説明する。図1は、本発明の光学素子の一具体例として転写箔タイプの光学素子を示した断面図で、支持体1上に剥離層2、ホログラム層3、粘着層9を有するホログラム転写シートである。ホログラム層3はホログラム形成層4と反射層5を有し、ホログラム形成層4は、微小凹凸からなる回折構造を有する。反射層5は、第1反射層6と、第1反射層6を覆うように第2反射層7を有する。第1反射層6は、着色されたパターン状の耐薬品性隠蔽樹脂層8を用いて開口部をエッチングすることによりパターニングされており、過エッチングを施すことにより、過エッチング部分10を形成する。この過エッチング部分10を有することで、支持体側から視認した時に、過エッチング部分10は反射層が除去されているため下層の着色された耐薬品性隠蔽樹脂層8が認識され、全体としては図2に示すように第1反射層6及び第2反射層7が形成された部分においてホログラム画像12が認識され、過エッチング部分10に微細な絵柄パターン11が認識できるものとなる。本発明では過エッチングの制御により微細パターンを形成するため、通常の印刷や反射層のディメタライズ加工ではできなかった微細な文字や絵柄のパターンを形成することができる。図3は、本発明の光学素子の他の一具体例として転写箔タイプの光学素子を示した断面図で、支持体1上に剥離層2、ホログラム層3、印刷層12、粘着層9を有するホログラム転写シートである。ホログラム層3はホログラム形成層4と反射層5を有し、ホログラム形成層4は、微小凹凸からなる回折構造を有する。反射層5は、着色されたパターン状の耐薬品性隠蔽樹脂層8を用いて開口部をエッチングすることによりパターニングされており、過エッチングを施すことにより、過エッチング部分10を形成する。この過エッチング部分10を有することで、支持体側から視認した時に、過エッチング部分10は反射層が除去されているため下層の着色された耐薬品性隠蔽樹脂層8が認識され、全体としては図4に示すように反射層5が形成された部分においてホログラム画像12が認識され、過エッチング部分10に微細な絵柄パターン11が認識できるものとなる。本発明では過エッチングの制御により微細パターンを形成するため、通常の印刷や反射層のディメタライズ加工ではできなかった微細な文字や絵柄のパターンを形成することができる。支持体1としては、特に限定するものではないが、樹脂フィルム基材を用いることができる。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートPET樹脂フィルム、ポリエチレンナフタレートPEN樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリエチレン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、耐熱塩化ビニルフィルム等が使用できる。これらの樹脂の中で、耐熱性が高く厚みが安定していることから、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムが好ましく使用できるまた、これら樹脂フィルムに剥離層を設けたり、易接着処理を行ったりして剥離保護層の剥離強度を調整したフィルムを支持体として利用することもできる。また、帯電防止処理、マット加工、エンボス処理等の加工を施したフィルムも使用することができる。剥離保護層2としては、特に限定するものではないが、樹脂に滑剤を添加したものが使用できる。樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、アクリル樹脂やポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂である。また、滑剤としてはポリエチレンパウダーや、カルナバロウ等のワックスを使用することができる。これらは剥離保護層として、支持体上にグラビア印刷法やマイクログラビア法等、公知の塗布方法によって形成される。ホログラム層3のホログラム形成層4は、例えば微小凹凸からなる回折構造を有するレリーフ型回折格子を用いることができる。レリーフ型回折格子は、その表面に微細な凹凸パターンの形態で回折格子を記録したものである。このような凹凸パターンは、例えば、二光束干渉法を使用して感光性樹脂の表面に互いに可干渉の2本の光線を照射してこの感光性樹脂表面に干渉縞を生成させ、この干渉縞を凹凸の形態で感光性樹脂に記録することで形成することができる。尚、この二光束性干渉法によって形成された干渉縞をホログラムと呼び、前記2本の光線の選択によって任意の立体画像を記録することが可能である。また、観察する角度に応じて異なる画像以下チェンジング画像と言うを見ることができるように記録することも可能である。前記レリーフ型回折格子による回折構造形成層に適用される樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、熱可塑性樹脂では、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等が挙げられる。また、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等が使用できる。また、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂としては、エポキシメタアクリル、ウレタンメタアクリレート等が使用できる。なお、微細な凹凸パターンは全面に設けてもよいし、部分的に設けてもよい。反射層5は、ホログラム形成層4に直接接触して設ける必要はないが、ホログラム形成層4がレリーフ型回折格子の場合には、その凹凸パターンに光反射層を直接接触して設ける必要がある。この場合には、この反射層5によって反射した光がそのまま回折光となる。反射層5は、反射輝度が高い点で金属材料からなる薄膜が好ましく利用できる。金属材料としては、例えば、Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、真鍮等が挙げられる。第1反射層6は、特に限定するものではないが例えば真空製膜法により形成することができる。真空製膜法としては、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用できる。反射層5の厚みとしては1~1000nm程度、好ましくは1~50nm程度に制御できる。なお、図1の形態においては反射層は第1反射層6と第2反射層7を有する。第1反射層6は、第2反射層7は、ともに反射輝度が高い点で金属材料からなる薄膜が好ましく利用できる。金属材料としては、例えば、Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、真鍮等が挙げられる。第1反射層6は、特に限定するものではないが例えば真空製膜法により形成することができる。真空製膜法としては、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用できる。第1反射層6は、第2反射層7はの厚みとしては1~1000nm程度、好ましくは1~50nm程度に制御できる。本発明では、反射層5第1反射層6に、着色された耐薬品性隠蔽樹脂層をパターン状に設け、反射層を溶解できるエッチング液に浸漬することにより、耐薬品性隠蔽樹脂層を設けていない開口部の反射層を除去ディメタライズするとともに、薬品に浸漬する時間を制御することにより、反射層を過エッチングする。この過エッチングされた部分が、支持体、剥離層側から見たときに透けて見え、下層に来る着色された耐薬品性隠蔽樹脂層の色味を認識できるようになるものである。そして、過エッチング量を制御することにより、従来の印刷や、反射層のディメタライズされた部分の抜けを用いた絵文字形成より、微細な文字や絵柄のパターンを形成できるものとなる。着色された耐薬品性隠蔽樹脂層としては、アクリル系樹脂などの後述するエッチング液に耐性のある樹脂バインダーを用いて、着色剤を加えた樹脂インキを用いることができる。着色剤としては、オレオゾールブルー住友化学工業社製:青色、オレオゾールファーストレッド住友化学工業社製:赤色などの染料や黒色カーボンや、各種着色顔料などがあげられる。これらの樹脂インキをグラビア印刷やオフセット印刷など公知の印刷方法により印刷することで耐薬品性隠蔽樹脂層を形成できる。また、着色されたフォトレジストを用いてパターニングしたものを用いてもよい。エッチングには、反射層に用いる金属を溶解除去できるものを用いる。このようなものとしてはアルカリ系のエッチング液や酸性のエッチング液を用いることができる。エッチング条件は、所望の量だけ過エッチングできるよう設定できる。具体的には、エッチング液の温度や浸漬時間などを変えることにより制御できる。本発明の光学素子は、転写箔としてカード等に転写して用いても良いし、シールとしてブランドプロテクションなどに用いても良い。<実施例1>基材として厚み25μ、のポリエステルフィルムを用い、このフィルムの片面に下記1、2、3、4、5の各組成物を用い、剥離保護層厚さ3μm、ホログラム形成層厚さ1.5μm、反射層100μm、接着層3μmを順次塗布形成して転写シートを作成した。なお、反射層としては第1反射層と第2反射層の2層からなるものを用い、以下のように形成した。まず、ホログラム形成層上に蒸着法により第1反射層を形成した。次に、6に示す青色に着色した耐アルカリ性樹脂インキにより着色された耐薬品性隠蔽樹脂層を、グラビア印刷法により第1反射層上にドーナツ状の開口部を有するように形成し、7に示すエッチング液を用いて第1反射層の耐薬品性隠蔽樹脂層が形成されていない開口部をエッチングすることにより第1反射層を部分的に除去してパターニングした。なお、反射層を耐薬品性隠蔽樹脂層から50μm過エッチングされるように反射層を除去した。その後第2反射層を形成した。1剥離保護層アクリル樹脂Tg.105°Cポリエチレンパウダーメチルエチルケトントルエン2ホログラム形成層ウレタン樹脂メチルエチルケトン酢酸エチル3第1反射層アルミニウム厚み50nm4第2反射層Sn最大厚み60nm5接着層組成物塩酸酢酸ビニル共重合体アクリル樹脂酢酸エチルトルエン6着色された耐薬品性隠蔽樹脂層デメタライジング加工用アクリル系樹脂100質量部青色染料:オレオゾールブルー住友化学工業社製20質量部配合7エッチング液水酸化アルミニウム水溶液<実施例2>基材として厚み25μ、のポリエステルフィルムを用い、このフィルムの片面に下記1、2、3、4の各組成物を用い、剥離保護層厚さ3μm、回折構造形成層厚さ1.5μm、反射層50μm、印刷層5μm、接着層3μmを順次塗布形成して転写シートを作成した。なお、反射層と印刷層は、以下のように形成した。まず、ホログラム形成層上に蒸着法により反射層を形成した。次に、6に示す着色された耐薬品性隠蔽樹脂層を、反射層上にドーナツ状の開口部を有するように形成し、7に示すエッチング液を用いて反射層の耐薬品性隠蔽樹脂層が形成されていない開口部をエッチングすることにより反射層を部分的に除去してパターニングした。なお、反射層を耐薬品性隠蔽樹脂層から50μm過エッチングされるように反射層を除去した。次に、その後グラビア印刷法により印刷層を形成した。1剥離保護層アクリル樹脂Tg.105°Cポリエチレンパウダーメチルエチルケトントルエン2ホログラム形成層ウレタン樹脂メチルエチルケトン酢酸エチル3反射層アルミニウム厚み50nm4印刷層水性グラビアインキ5接着層組成物塩酸酢酸ビニル共重合体アクリル樹脂酢酸エチルトルエン6着色された耐薬品性隠蔽樹脂層デメタライジング加工用アクリル系樹脂100質量部青色染料:オレオゾールブルー住友化学工業社製20質量部配合7エッチング液水酸化アルミニウム水溶液