"SiO2の含有率が57~65質量でアルカリ金属酸化物の含有率が2質量以下であるガラスが得られるように調製された、炭酸塩を含むガラス原料を溶解させて最終的に1540°C以上の溶融ガラスを得る溶解工程と、前記溶融ガラスをさらに昇温させて清澄する清澄工程と、清澄された前記溶融ガラスを板状に成形する成形工程と、を含み、前記溶解工程では、前記溶融ガラスに酸化性ガスをバブリングし、このバブリングは、少なくとも前記溶融ガラスの温度が1480°Cから1520°Cまで推移する間行う、ガラス板の製造方法。前記バブリングを、前記溶融ガラスの温度が前記溶解工程における最終的な温度よりも3°C低い温度となる前に終了する、請求項1に記載のガラス板の製造方法。前記ガラス原料は、質量で表示して、実質的に以下の組成からなるガラスが得られるように調製されたものである、請求項1または2に記載のガラス板の製造方法。SiO257~65Al2O315~19B2O38~13MgO1~3CaO4~7SrO1~4BaO0~2Na2O0~1K2O0~1As2O30~1Sb2O30~1SnO20~1Fe2O30~1ZrO20~1前記炭酸塩は、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウムおよび炭酸バリウムから選ばれる少なくとも一種である、請求項3に記載のガラス板の製造方法。前記酸化性ガスは、酸素である、請求項1~4のいずれか一項に記載のガラス板の製造方法。前記成形工程では、ダウンドロー法により前記溶融ガラスが板状に成形される、請求項1~5のいずれか一項に記載のガラス板の製造方法。前記清澄工程では、前記溶融ガラスの温度を1600°C以上に上昇させて清澄を行う、請求項1~6のいずれか一項に記載のガラス板の製造方法。前記ガラス板は、フラットパネルディスプレイのガラス基板用のものである、請求項1~7のいずれか一項に記載のガラス板の製造方法。本発明は、このような事情に鑑み、炭酸塩を用いてSiO2の含有率が比較的高くかつアルカリ金属酸化物の含有率が低いガラス板を製造する際のSO2を含有する気泡の発生を抑制することができる製造方法を提供することを目的とする。前記目的を達成するために、本発明は、SiO2の含有率が57~65質量でアルカリ金属酸化物の含有率が2質量以下であるガラスが得られるように調製された、炭酸塩を含むガラス原料を溶解させて最終的に1540°C以上の溶融ガラスを得る溶解工程と、前記溶融ガラスをさらに昇温させて清澄する清澄工程と、清澄された前記溶融ガラスを板状に成形する成形工程と、を含み、前記溶解工程では、前記溶融ガラスに酸化性ガスをバブリングし、このバブリングは、少なくとも前記溶融ガラスの温度が1480°Cから1520°Cまで推移する間行う、ガラス板の製造方法を提供する。上記の構成によれば、溶解工程で溶融ガラスに酸化性ガスをバブリングすることにより、炭酸塩を用いたときの溶融ガラスの酸化性を向上させることができる。従って、本発明によれば、SO2を含有する気泡の発生を抑えることができる。以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。本発明の一実施形態に係るガラス板の製造方法は、溶解工程、清澄工程、冷却工程、および成形工程からなる。以下、各工程ごとに説明する。溶解工程溶解工程では、ガラス原料を溶解させて溶融ガラスを得る。ガラス原料は、SiO2の含有率が57~65質量でアルカリ金属酸化物の含有率が2質量以下であるガラスが得られるように調製された、炭酸塩を含むものであれば特に限定されるものではない。ただし、ガラス原料は、質量で表示して、実質的に以下の組成からなるガラスが得られるように調製されたものであることが好ましい。SiO257~65Al2O315~19B2O38~13MgO1~3CaO4~7SrO1~4BaO0~2Na2O0~1K2O0~1As2O30~1Sb2O30~1SnO20~1Fe2O30~1ZrO20~1SiO2の含有率については、58~65質量であることがより好ましい。ここで、実質的にとは、0.1質量未満の範囲で微量成分の存在を許容する趣旨である。従って、上記の組成を有するガラスは、0.1質量未満の範囲でその他微量成分の混入を許容する。また、上記の組成中のFe2O3、As2O3、Sb2O3およびSnO2の各含有率は、複数の価数を有するFe、As、SbまたはSnの成分を全てFe2O3、As2O3、Sb2O3またはSnO2として扱って換算した値である。炭酸塩は、上記ガラス組成中のMgO、CaO、SrO、BaOとなるものであり、例えば塩基性炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム等を用いることができる。すなわち、炭酸塩は、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウムおよび炭酸バリウムから選ばれる少なくとも一種であってもよい。ガラス組成中のAs2O3、Sb2O3、SnO2、Fe2O3は、清澄作用を有する成分であり、これらは清澄剤としてガラス原料に添加してもよい。本溶解工程では、上記のように調製されたガラス原料を、その組成等に応じた設定温度で溶解させて、最終的に1540°C以上の溶融ガラスを得ることが好ましい。より好ましくは、溶解工程で得る最終的な溶融ガラスの温度は1545°C以上である。さらに、溶解工程では、ガラス原料が溶解して溶融ガラスが生成された後に、この溶融ガラスに酸化性ガスをバブリングする。このように酸化性ガスをバブリングすることにより、溶融ガラスの酸化性を向上させて、SO2を含有する気泡の発生を抑制することができる。酸化性ガスとしては、酸素、二酸化酸素、水蒸気等を挙げることができるが、その中でも酸素を用いることが最も効果的である。これは、本発明の発明者が行った実験により確認された。バブリングは、溶融ガラスの生成後であれば溶解工程のどの段階で行ってもSO2を含有する気泡の発生を抑える効果が得られるが、ガラス原料が溶解し始めてから溶解し終わるまでの間の初期の段階、すなわちガラス原料の一部が溶融ガラスになった直後に行うことが最も効果的である。この理由は、溶解の初期の段階でガラスの性質が決まるために、その段階でバブリングを行えば溶融ガラスの酸化性を高く維持できることにあると考えられる。これを実現するには、少なくとも溶融ガラスの温度が1480°Cから1520°Cまで推移する間バブリングを行うことが好ましい。具体的には、バブリングは、溶融ガラスの温度が1400°C程度になった時から開始することが好ましい。溶融ガラスの温度が1400°C程度になれば溶融ガラスの粘度が1025Pas程度になってバブリングが実施できるようになり、しかも、溶融ガラスに酸素を吸収させるには、溶融ガラスの温度が低い方が効果的だからである。一方、バブリングは、溶融ガラスの温度が1550°C程度になった時に終了するようにしてもよい。なお、溶融ガラスの温度が1550°C程度になれば、溶融ガラスの粘度が1015Pas程度になる。好ましくは、バブリングを終了するタイミングは、溶融ガラスの温度が溶解工程における最終的な温度よりも3°C特に好ましくは4°C低い温度となる前である。バブリングを上述した期間行うには、連続溶解工程内において溶融ガラスの温度や粘度などの状態を適宜判断して、バブリングを開始したり終了したりしてもよい。清澄工程清澄工程では、溶融ガラスをさらに昇温させて清澄する。この清澄は、溶融ガラスの温度を1600°C以上に上昇させて行うことが好ましく、1610°C以上に上昇させて行うことがより好ましい。冷却工程冷却工程では、清澄された溶融ガラスを成形に適した温度例えば、1200°Cまで冷却する。この冷却は、例えば、白金で構成された導管で溶融ガラスを導きながら行う。成形工程成形工程では、清澄後に冷却された溶融ガラスを板状に成形する。溶融ガラスの板状に成形する工法としては、例えばフロート法等があるが、本発明は、特にダウンドロー法により溶融ガラスを板状に成形する工法に適している。以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は、これら実施例に何ら制限されるものではない。実施例1まず、炭酸塩を含むガラス原料を、質量で表示して、以下の組成からなるガラスが得られるように調製した。SiO260.9Al2O316.9B2O311.6MgO1.7CaO5.1SrO2.6BaO0.7K2O0.25SnO20.13Fe2O30.15炭酸塩としては、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウムおよび炭酸バリウムを用い、上記の組成のうちのMgO、CaO、SrOおよびBaOの全量を炭酸塩として供給した。調製したガラス原料100gを白金ルツボに入れ、これを蓋付きの磁製容器内に収納した。その後、磁製容器の蓋に、白金ルツボ内のガラス原料中に酸素を供給可能となるようにバブリングチューブ白金を取り付けるとともに、ガラス原料または溶融ガラスの温度を測定するための熱電対白金合金を取り付け、磁製容器を電気炉内に投入した。バブリングチューブと熱電対の先端は、電気炉外に導出させ、それらの先端に酸素ボンベと温度計大倉電気社製EC5500をそれぞれ取り付けた。その状態で、まず溶解工程として、電気炉の設定温度を1550°Cにして2時間の加熱を行った。さらに溶解工程の間に、溶融ガラス中に酸素をバブリングした。バブリングは、加熱開始から30分後に開始し、30分継続して加熱開始から1時間後に終了した。バブリングの流量は、0.75L/min1気圧、20°Cとした。加熱開始から2時間後溶解工程終了後、清澄工程として、電気炉の設定温度を1620°Cに変更し、溶融ガラスの温度をさらに上昇させて2時間の清澄を行った。加熱開始から4時間後清澄工程終了後、冷却工程として、電気炉の設定温度を3時間かけて1200°Cまで一定の割合で下降させ、溶融ガラスを冷却した。ここで、溶解工程から冷却工程までの電気炉の設定温度をグラフに示すと、図1中の実線のようになる。これらの工程においては、上述した温度計でガラス原料または溶融ガラスの温度を適時測定した。その結果は表1の通りであった。これをグラフに示すと、図1中の一点鎖線のようになる。表1から、バブリング開始時の溶融ガラスの温度は1463°C、バブリング終了時の溶融ガラスの温度が1542°Cであったことが分かる。また、溶解工程において得られる最終的な溶融ガラスの温度は1548°Cであり、バブリングを終了した時点では、溶融ガラスの温度は最終的な温度である1548°Cよりも6°C低かったことが分かる。加熱開始から7時間後冷却工程後、成形工程として、白金ルツボを720°Cに設定した別の電気炉に移し替え、1時間静置した。加熱開始から8時間後に電気炉の電源を切り、ガラスを室温まで冷却したのち電気炉から白金ルツボを取り出して、ガラス試料を得た。比較例1酸素のバブリングを、加熱開始から1.5時間後に開始し、2時間後に終了した以外は、実施例1と同様にしてガラス試料を得た。比較例2酸素のバブリングを行わなかった以外は、実施例1と同様にしてガラス試料を得た。試験実施例1および比較例1,2のガラス試料について、ガラス試料中に発生した気泡の数を測定し、1gあたりの気泡数を算出した。また、その気泡の成分を質量分析計InProcessInstruments社製GIA522typeを用いて測定し、気泡中に含まれるSO2の比率をモルで算出した。これらの結果を表2に示す。表2から、バブリングを実施した実施例1および比較例1では、バブリングを実施しなかった比較例2に比べ、気泡の数が格段に少ないことが分かる。また、溶解の初期にバブリングを実施した実施例1では、溶解工程の終期にバブリングを実施した比較例1に比べ、気泡中のSO2の比率が小さくなっていることが分かる。これは、溶融ガラス中でSO3→SO2の反応が抑制された結果だと推測される。さらに、各ガラス試料について、波長が200~500nmの電磁波の透過率を測定した。その結果は、図2に示すとおりであった。このグラフから、比較例2よりも実施例1,2の方が270nmから400nmにかけて透過率が大きく減少していることが分かる。この理由は、FeOとFe2O3の共存状態におけるFe2O3の割合が、比較例2よりも実施例1および比較例1の方が大きくなっているためであると考えられる。このことから、実施例1および比較例1の方が比較例2よりも溶融ガラスの酸化性が高まったことが分かる。なお、図2では、実施例1と比較例1が同一線上にあるように見えるが、実際は実施例1の方が比較例1よりも透過率が僅かに減少していた。このことから、実施例1の方が比較例1よりも溶融ガラスの酸化性が高まったことが分かる。ガラス板の実施例実施例1で示した組成となるように調製した、炭酸塩を含むガラス原料を、耐火煉瓦製の溶解槽と白金製の調整槽清澄工程を実行する槽を備えた連続溶解装置を用いて、1550°Cの設定温度で溶解させて1550°C程度の溶融ガラスを得、この溶融ガラスを1620°Cで清澄した後に1550°Cで攪拌し、さらにダウンドロー法により厚さ0.7mmの薄板状に成形し、ガラス板を得た。溶解槽では、溶融ガラスの温度が1460~1540°C程度となっている位置で酸素をバブリングした。このようにして得たガラス板に対し、実施例1および比較例1,2と同様の方法で気泡数を測定したところ、その気泡数は22×106個/cm3と非常に少なかった。このように、本発明を適用してガラス板を製造した場合には高品質のガラス板が得られ、このようなガラス板は、第7世代と呼ばれる1870×2200mmサイズもしくはそれ以上の大型のフラットパネルディスプレイのガラス基板に用いるのに好適である。"