"成膜装置であって、基板に被膜を形成する成膜室と、前記基板の一面が鉛直方向に沿うように前記基板を垂直保持するキャリアと、前記成膜室と連通するように開閉部を介して配置された仕込取出室と、前記成膜室との間で前記キャリアを挿脱可能な搬送位置と、前記搬送位置に隣接した退避位置との間で前記キャリアを移動させ、前記キャリアを鉛直方向及び水平方向に対してそれぞれ0°より大きく90°より小さい所定の角度を成す斜め方向に上下動させ、前記仕込取出室内に設けられた移動機構と、を含むことを特徴とする成膜装置。請求項1記載の成膜装置であって、前記移動機構は、前記搬送位置と、前記搬送位置に対して斜め上方に位置する前記退避位置との間で、前記キャリアを前記斜め方向に沿って直線的に上下動させることを特徴とする成膜装置。請求項1記載の成膜装置であって、前記移動機構は、前記搬送位置と、前記搬送位置に対して一方の斜め上方に位置する第一の退避位置との間で、前記キャリアを移動させる第一の移動機構と、前記搬送位置と、前記搬送位置に対して他方の斜め上方に位置する第二の退避位置との間で、前記キャリアを移動させる第二の移動機構と、を有することを特徴とする成膜装置。請求項3記載の成膜装置であって、前記第一の移動機構と前記第二の移動機構には、前記キャリアを支持して移動させる伸縮部材がそれぞれ備えられ、前記第一の移動機構の伸縮部材と、前記第二の移動機構の伸縮部材とは、互いに交差するように配置されていることを特徴とする成膜装置。請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の成膜装置であって、前記移動機構は、水平方向に対して45°以上、85°以下の角度で前記キャリアを斜め方向に上下動させることを特徴とする成膜装置。請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の成膜装置であって、前記仕込取出室の前記退避位置に近い位置に設けられ、前記基板を加熱する加熱部を更に備えることを特徴とする成膜装置。請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の成膜装置であって、前記移動機構は、前記キャリアを鉛直方向に沿って移動させる第三の移動機構を更に備えることを特徴とする成膜装置。しかしながら、上述したような、基板を垂直に保持したキャリアを水平方向に沿って、成膜室に繋がる搬送位置と退避位置との間で移動させる仕込取出室を備えた成膜装置では、仕込取出室の水平方向に沿った幅が大きくなるという課題があった。即ち、仕込取出室においては、搬送位置に位置するキャリアと干渉しないように、水平方向に充分な幅の退避位置を確保しなければならず、仕込取出室の水平方向に沿った幅を小さくすることが困難であった。そして、仕込取出室の水平方向に沿った幅を小さくすることが困難であるがゆえに、仕込取出室の内容積は大きくならざるを得ず、仕込取出室の内部が大気圧雰囲気から真空雰囲気になるように減圧する排気時間が長くなる。このため、結果的に、成膜室と成膜室の外部との間で、キャリアを出し入れする際に要する入替え時間である仕込取出効率が低下するという課題があった。また、基板を垂直に保持したキャリアを、水平方向に沿って、成膜室に繋がる搬送位置と退避位置との間で移動させるために、キャリアを水平方向に動かす移動装置以外にも、水平方向に延びるレールやギアなど多くの構成部品が必要であり、コストが掛かるという課題があった。更に、こうした水平方向に延びるレールやギアなどの機械的な動きを伴う部品から発生するパーティクルによって、仕込取出室の内部が汚染し、基板が仕込取出室を通過する際における基板の表面が汚染するといった懸念もある。本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、仕込取出効率に優れ、小型化が容易で、かつ簡易な構成で低コストに製造が可能な仕込取出室を備えた成膜装置を提供することを目的とする。上記課題を解決するために、本発明のいくつかの態様は、次のような成膜装置を提供した。即ち、本発明の成膜装置は、基板に被膜を形成する成膜室と、前記基板の一面が鉛直方向に沿うように前記基板を垂直保持するキャリアと、前記成膜室と連通するように開閉部を介して配置された仕込取出室と、前記成膜室との間で前記キャリアを挿脱可能な搬送位置と、前記搬送位置に隣接した退避位置との間で前記キャリアを移動させ、前記キャリアを鉛直方向及び水平方向に対してそれぞれ0°より大きく90°より小さい所定の角度を成す斜め方向に上下動させ、前記仕込取出室内に設けられた移動機構とを含む。前記移動機構は、前記搬送位置と、前記搬送位置に対して斜め上方に位置する前記退避位置との間で、前記キャリアを前記斜め方向に沿って直線的に上下動させることが好ましい。前記移動機構は、前記搬送位置と、前記搬送位置に対して一方の斜め上方に位置する第一の退避位置との間で、前記キャリアを移動させる第一の移動機構と、前記搬送位置と、前記搬送位置に対して他方の斜め上方に位置する第二の退避位置との間で、前記キャリアを移動させる第二の移動機構と、を有することが好ましい。前記第一の移動機構と前記第二の移動機構には、前記キャリアを支持して移動させる伸縮部材がそれぞれ備えられ、前記第一の移動機構の伸縮部材と、前記第二の移動機構の伸縮部材とは、互いに交差するように配置されていることが好ましい。前記移動機構は、水平方向に対して45°以上、85°以下の角度で前記キャリアを斜め方向に上下動させることが好ましい。本発明の成膜装置は、前記仕込取出室の前記退避位置に近い位置に設けられ、前記基板を加熱する加熱部を更に備えることが好ましい。本発明の成膜装置は、前記移動機構は、前記キャリアを鉛直方向に沿って移動させる第三の移動機構を更に備えることが好ましい。本発明の成膜装置によれば、仕込取出室において、キャリアを鉛直方向及び水平方向に対して所定の角度を成す斜め方向即ち、鉛直方向及び水平方向に移動させている。例えば、搬送位置に対して斜め上方に位置する退避位置と、搬送位置との間で、キャリアを斜め方向に沿って直線的に上下動させている。このような動作を行うことによって、キャリアを水平方向に沿って搬送位置と並列に退避させる従来の場合と比較して、成膜装置の小型化を可能にする。特に、鉛直方向及び水平方向にずらすようにキャリアを退避させるため、鉛直方向にキャリアをずらせる分、水平方向におけるキャリアの移動距離を減少できる。更に、隣接する複数のキャリアのエッジが鉛直方向に重なり合った状態で、複数のキャリアを仕込取出室に収容することが可能である。このため、水平方向における複数のキャリアの重なり合いを省略することができ、結果として、仕込取出室の水平方向に沿った幅を小さくすることができ、成膜装置の小型化を可能にする。また、従来の成膜装置を構成する仕込取出室では、キャリアを水平方向のみに沿って移動させるために、水平方向に沿って敷設したレールやこれと係合するホイールなどが必要であった。このため、従来の成膜装置では、装置が複雑化してコストが掛かるという課題があった。一方、本発明の成膜装置を構成する仕込取出室においては、キャリアを鉛直方向及び水平方向にそれぞれ0°より大きく90°より小さい角度、即ち、斜め方向に持ち上げる移動機構、例えば、一対の油圧シリンダや空気シリンダなどを設けるだけでよいので、成膜装置の製造コストを低減することができる。更に、本発明では、成膜装置を構成する仕込取出室において、キャリアを所定の位置に退避させる際に、鉛直方向及び水平方向に対してそれぞれ0°より大きく90°より小さい角度、即ち、斜め方向に持ち上げるだけである。このため、従来のような、水平方向に沿って敷設したレールやこれと係合するホイールなどの機械的な摩擦、接触が生じる動きを減らすことができる。従って、仕込取出室においてパーティクルの発生を抑制し、基板表面や仕込取出室の内部を清浄な状態に維持することができる。以下、図面を参照して、本発明に係る成膜装置の一実施形態について説明する。なお、本実施形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、以下の説明で用いる図面は、各構成要素を図面上で認識し得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法及び比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。図1は、本発明の成膜装置の一実施形態であるインターバック型PVD装置以下、単に成膜装置と称する全体を示す概要図である。本実施形態の成膜装置10においては、成膜室成膜チャンバ11と、仕込取出室ロードアンロードチャンバ12と、スタッカ移載装置13とが、直列に設置されている。成膜室11及び仕込取出室12は、以下に述べる仕切りバルブが開口することによって連通する。また、仕込取出室12及びスタッカ13は、同様に、仕切りバルブが開口することによって連通する。また、基板Wが載置されたキャリア14は、成膜室11,仕込取出室12,及びスタッカ13の間を互いに移動可能である。成膜室11と仕込取出室12との間には、成膜室11及び仕込取出室12の空間内を気密に保つ仕切りバルブ16が形成されている。また、仕込取出室12とスタッカ13との間にも、仕込取出室12とスタッカ13の空間内を気密に保つ仕切りバルブ17が形成されている。これら仕切りバルブ16,17は、キャリア14が移動する時には開放され、キャリア14が移動しない時は閉じる。成膜室成膜チャンバ11は、内部を気密に保つことが可能なチャンバ本体21を備えている。そして、このチャンバ本体21内には、加熱装置22及びカソードユニット23が設けられている。チャンバ本体21の一面一つの側面には、基板Wが搭載されたキャリア14が通過可能な開口24が形成され、この側面には仕切りバルブ16を介して仕込取出室12が連通可能に接続されている。こうしたチャンバ本体21の内部においては、真空ポンプ図示略によって減圧することが可能である。カソードユニット23は、チャンバ本体21に導入された基板Wの一面一方の基板面に対面するように形成され、ターゲットをスパッタリングすることによって基板Wの一面上に機能膜を成膜する。加熱装置22は、チャンバ本体21に導入された基板Wを、成膜に最適な温度まで加熱する。こうした加熱装置22としては、例えば、シースヒータ、赤外線ヒータが用いられる。スタッカ13は、例えば、複数のキャリア14を収容することが可能となるように形成されており、仕切りバルブ開閉部17を介して仕込取出室12に連通可能に接続されている。こうしたスタッカ13においては、成膜前の基板が一時的に載置され、また、成膜が行われた基板を他の工程を行う装置に向けて送り出す際に、基板を中継する。スタッカ13の内部は、大気圧雰囲気に維持されていればよい。図2は、成膜装置を構成する仕込取出室を上から見た断面図である。図3は、仕込取出室をスタッカから見た断面図である。仕込取出室ロードアンロードチャンバ12は、内部空間を気密状態に維持することができるチャンバ本体31を備えている。チャンバ本体31の正面側正面位置には、成膜室成膜チャンバ11とチャンバ本体31とを連通させる開口32が形成されている。この正面位置において、仕切りバルブ16を介して成膜室11とチャンバ本体31とが接続されている。また、チャンバ本体31の背面側背面位置には、スタッカ移載装置13とチャンバ本体31とを連通させる開口33が形成されている。この背面位置において、仕切りバルブ17を介してスタッカ13とチャンバ本体31とが接続されている。チャンバ本体31の一方の側面31a第1側面には、ヒータ加熱部34が形成されている。このヒータ加熱部34は、後述する退避位置に位置する基板Wを加熱する装置である。このヒータとしては、例えば、シースヒータや赤外線ヒータが用いられる。また、チャンバ本体31の他方の側面31b第1側面とは反対の第2側面には、真空ポンプ35が設けられている。真空ポンプ35は、仕切りバルブ16,17が閉鎖された状態でチャンバ本体31内のガスを排気し、チャンバ本体31を減圧することによって、チャンバ本体31内を真空状態にする。こうした仕込取出室12に出し入れされるキャリア14は、基板Wの一面Waが鉛直方向Gに沿うように基板Wを垂直保持する、いわゆる縦型キャリアである。キャリア14は、例えば、シリコンウェーハなどの基板Wのエッジ部分を保持して、基板Wをほぼ鉛直方向に立てた状態で保持する。チャンバ本体31の底面31cに近い位置には、移動機構40、及び搬送レール36が形成されている。また、移動機構40は、底面31cを構成する壁部を貫通するように、チャンバ本体31仕込取出室12の下部に設けられている。搬送レール36は、チャンバ本体31の成膜室11に連なる開口32と、スタッカ13に連なる開口33との間に延在するように形成されている。基板Wを保持しているキャリア14は、搬送レール36上を移動する。なお、こうした搬送レール36の途中には、キャリア14を移動させる搬送ローラ等で構成された回転機構図示略が適宜配置されている。移動機構40は、第一の移動機構41、第二の移動機構42、及び第三の移動機構43から構成されている。これら第一の移動機構41、第二の移動機構42、及び第三の移動機構43は、それぞれ伸縮可能な伸縮部材41a,42a,43aを備えた、例えば、油圧シリンダやエアシリンダから構成されている。第一の移動機構41は、伸縮部材41aの延長方向が鉛直方向G及び水平方向Fに対してそれぞれ0°より大きく90°より小さい所定の角度を成す斜め方向即ち、鉛直方向及び水平方向に沿って延びるように配置されている。例えば、第一の移動機構41の伸縮部材41aは、水平方向Fに対して45°以上、85°以下の角度、本実施形態では、例えば、60°となるように第一の移動機構41が配置されている。第二の移動機構42は、伸縮部材42aの延長方向が鉛直方向G及び水平方向Fに対してそれぞれ0°より大きく90°より小さい所定の角度を成す斜め方向に沿って延びるように配置されている。また、伸縮部材42aと第一の移動機構41の伸縮部材41aが互いに交差するように、第二の移動機構42は、配置されている。例えば、第二の移動機構42の伸縮部材42aは、水平方向Fに対して第一の移動機構41の伸縮部材41aとは逆方向に45°以上、85°以下の角度、本実施形態では、例えば、60°となるように第二の移動機構42が配置されている。なお、互いに交差するように配置された第一の移動機構41の伸縮部材41aと第二の移動機構42の伸縮部材42aとは、チャンバ本体31の奥行き方向搬送レール36の延長方向において、互いにズレた位置に配置されればよい。こうした第一の移動機構41の伸縮部材41aの先端部分、及び第二の移動機構42の伸縮部材42aの先端部分には、それぞれ、キャリア14を支持する支持部41b、42bが形成されている。この支持部41b、42bとしては、例えば、搬送レール36の一部が切り欠いた部分凹部、切り欠き部に、キャリア14を配置させることが可能な、搬送レール36の延長部を成す部材が採用される。支持部41b、42bは、キャリア14の両端部分を支持する。第三の移動機構43は、伸縮部材43aの延長方向が鉛直方向Gに沿って延びるように配置されている。こうした第三の移動機構43は、キャリア14を搬送レール36から浮き上がらせて、キャリア14の移動を停止させる。以上のような構成を有する仕込取出室の作用について、図2、図4A~図6Dを参照して説明する。図4A~図6Dは、本発明の成膜装置を構成する仕込取出室の動作を段階的に示した断面図である。なお、以下の説明では、キャリア14から成膜前の基板を取り出して成膜室11に送り込むと共に、成膜室11から成膜済みの基板を取り出してキャリア14に送り込む一連の動作を説明する。まず、成膜室11と仕込取出室12との間に設けられた仕切りバルブ16を閉鎖した状態で、仕切りバルブ17を開放し、仕込取出室12とスタッカ13とを連通させる。この時、仕込取出室12の内部の雰囲気は、スタッカ13の内部と同じ、大気圧雰囲気である。そして、成膜前の基板W1を支持しているキャリア14Aが搬送レール36に搭載され、スタッカ13から仕込取出室12内にキャリア14Aが導入される図4A参照。キャリア14Aが仕込取出室12内の所定の位置、即ち、搬送位置P0に達したら、第三の移動機構43を動作させ、伸縮部材43aは鉛直方向Gに沿って上方向に伸びる。この動作によって、キャリア14Aは、搬送レール36から浮き上がり引き離して、キャリア14Aの移動が停止する図4B参照。次に、第二の移動機構42を動作させ、伸縮部材42aを鉛直方向G及び水平方向Fに対してそれぞれ0°より大きく90°より小さい所定の角度で斜め上方に伸ばす。この動作により、搬送位置P0に位置するキャリア14Aは、伸縮部材42aの先端部分に形成された支持部42bに載せられる。そして、キャリア14Aは、斜め方向即ち、鉛直方向及び水平方向に沿って直線的に移動する。これによって、キャリア14Aは、搬送位置P0から一方の斜め上方に向く方向第1移動方向に位置する第一の退避位置P1に移動する図4C参照。この第一の退避位置P1は、チャンバ本体31仕込取出室12の内部において、ヒータ34に近い位置である。次に、仕切りバルブ17を閉鎖した後、真空ポンプ35を動作させ、成膜室11の内部と同程度の真空状態となるように、仕込取出室12の内部を減圧する。そして、仕切りバルブ16を開放して仕込取出室12を成膜室11に連通させた後、成膜室11内に配置されている成膜が完了した基板W2が載置されているキャリア14Bを搬送レール36に載せ、キャリア14Bを仕込取出室12内に導入する図4D参照。キャリア14Bが仕込取出室12内の所定の位置、即ち、搬送位置P0に達したら、第三の移動機構43を動作させ、伸縮部材43aは鉛直方向Gに沿って上方向に伸びる。この動作によって、キャリア14Bは、搬送レール36から浮き上がり引き離して、キャリア14Bの移動が停止する図5A参照。この時、キャリア14A,14Bの高さ鉛直方向Gにおける面31cからキャリア14A,14Bまでの距離について、第一の退避位置P1に位置するキャリア14Aの高さは、搬送位置P0に位置するキャリア14Bの高さとは異なっている。また、水平方向Fにおいて、キャリア14Aの位置と、キャリア14Bの位置とは、異なっている。このように、キャリア14A及びキャリア14Bの高さ及び位置を変えることによって、鉛直方向Gにおいて搬送位置P0に位置するキャリア14Bのエッジ部分と、キャリア14Aのエッジ部分とが、部分的に重なり合う位置であっても、キャリア14A,14Bが互いに干渉する接触することがない。また、第一の退避位置P1に位置するキャリア14Aに載置された基板W1は、ヒータ加熱部34によって、成膜室11に導入される前に所定の成膜温度まで予め昇温させておくことが好ましい。これによって、基板W1が成膜室11に導入された後、所定の成膜温度まで昇温させる時間を無くすことができ、より一層効率的に短時間で成膜を行うことが可能になる。次に、第一の移動機構41を動作させ、伸縮部材41aを鉛直方向G及び水平方向Fに対して、即ち、伸縮部材42aとは鉛直軸に対して線対称な方向の所定の角度で斜め上方に伸ばす。この動作により、搬送位置P0に位置するキャリア14Bが、伸縮部材41aの先端部分に形成された支持部41bに載せられる。そして、キャリア14Bは、斜め方向に沿って直線的に移動する。これによって、キャリア14Bは、搬送位置P0から他方の斜め上方に向く方向第2移動方向に位置する第二の退避位置P2に移動する図5B参照。この第二の退避位置P2は、チャンバ本体31仕込取出室12の内部において、ヒータ34から離れた位置であって、第一の退避位置P1とは反対の位置である。次に、再び、第二の移動機構42を動作させ、伸縮部材42aを鉛直方向G及び水平方向Fに対して所定の角度で斜め下方に縮める。この動作により、第一の退避位置P1に位置するキャリア14Aが、斜め方向に沿って直線的に移動し、搬送位置P0に戻される図5C参照。この時、第三の移動機構43は、伸縮部材43aが鉛直方向Gに沿って上方向に伸びた状態であるので、キャリア14Aは搬送レール36から引き離された状態に保持されている。キャリア14Aが搬送位置P0に達したら、第三の移動機構43を動作させ、伸縮部材43aを鉛直方向Gに沿って下方向に縮めることにより、キャリア14Aを搬送レール36に載置させる図5D参照。そして、キャリア14Aを搬送レール36に沿って成膜室11に送り込む図6A参照。予めヒータ34によって所定の成膜温度まで昇温させた基板W1は、成膜室11に導入された後、速やかに成膜処理が行われる。一方、キャリア14Aが成膜室11に送り込まれた後、仕切りバルブ16を閉鎖し、仕込取出室12内を大気圧雰囲気に戻す。そして、閉鎖されていた仕切りバルブ16を開放して、大気圧雰囲気にあるスタッカ13と連通させる。次に、再び、第一の移動機構41を動作させ、伸縮部材41aを鉛直方向G及び水平方向Fに対して所定の角度で斜め下方に縮める。この動作により、第二の退避位置P2に位置するキャリア14Bが、斜め方向に沿って直線的に移動し、搬送位置P0に戻される図6B参照。この時、同時に、第三の移動機構43は伸縮部材43aが鉛直方向Gに沿って上方向に伸びた状態にあるので、キャリア14Bを搬送レール36から引き離した状態で保持されている。次に、キャリア14Bが搬送位置P0に達したら、第三の移動機構43を動作させ、伸縮部材43aを鉛直方向Gに沿って下方向に縮めることにより、キャリア14Bを搬送レール36に載置させる図6C参照。そして、キャリア14Bを搬送レール36に沿ってスタッカ13に送り出す図6D参照。これによって、成膜済みの基板W2はスタッカ13に取り出され、成膜前の基板W1と成膜後の基板W2とを、仕込取出室12を介して効率的に入れ替える1回の工程が完了する。なお、上述した実施形態では、キャリアを斜め方向に移動させる移動機構として、第一の移動機構と第二の移動機構とを備えた構造について説明したが、いずれか一方の移動機構を備えた構造が採用されてもよい。また、上述した実施形態では、キャリアを鉛直方向に移動させる第三の移動機構を備えた構造について説明したが、上述した移動機構とは別な装置として、キャリアを停止させる装置を設けることによって、第三の移動機構を特に備えていなくてもよい。以上のように、本発明の成膜装置においては、キャリア14を鉛直方向及び水平方向に対してそれぞれ0°より大きく90°より小さい所定の角度を成す斜め方向に移動させている。例えば、搬送位置P0に対して斜め上方に位置する退避位置P1,P2と、搬送位置P0との間で、キャリア14を斜め方向に沿って直線的に上下動させている。このような動作を行うことによって、キャリアを水平方向Fに沿って搬送位置と並列に退避させる従来の場合と比較して、成膜装置10の小型化を可能にする。特に、鉛直方向Gにずらすようにキャリア14を退避させることで、隣接する複数のキャリアのエッジが鉛直方向Gに重なり合った状態で、複数のキャリアを仕込取出室12内に収容することが可能である。このため、水平方向における複数のキャリアの重なり合いを省略することができ、結果として、水平方向Fに沿った仕込取出室12の幅を小さくすることができ、成膜装置10の小型化を可能にする。一例として、3つのキャリアを水平方向に並列可能な従来の仕込取出室の幅は565mmであった。一方、本発明のように、3つのキャリアのうち、2つのキャリアを鉛直方向及び水平方向に所定の角度で傾斜した、即ち、斜め上方向に沿ってキャリアを退避させることが可能な仕込取出室の幅は305mmであった。即ち、本発明の成膜装置では、水平方向におけるキャリアの重なり合いを省略できるので、仕込取出室の幅を従来の約半分程度にすることが可能となる。また、従来の成膜装置を構成する仕込取出室では、キャリアを水平方向Fに沿って移動させるために、水平方向に沿って敷設したレールやこれと係合するホイールなどが必要であった。このため、従来の成膜装置では、装置が複雑化してコストが掛かるという課題があった。一方、本発明の成膜装置を構成する仕込取出室においては、キャリアを鉛直方向及び水平方向、即ち、斜め方向に持ち上げる移動機構、例えば、一対の油圧シリンダや空気シリンダなどを設けるだけでよいので、成膜装置の製造コストを低減することができる。更に、本発明では、仕込取出室内においてキャリアを所定の位置に退避させる際に、鉛直方向及び水平方向、即ち、斜め方向に持ち上げるだけである。このため、従来のような、水平方向に沿って敷設したレールやこれと係合するホイールなどの機械的な摩擦、接触が生じる動きを減らすことができる。従って、仕込取出室内においてパーティクルの発生を抑制し、基板表面や仕込取出室の内部を清浄な状態に維持することができる。"