走査線と、前記走査線と交差する信号線と、前記信号線が延びる方向に延び前記走査線が延びる方向に並んで配置された複数の櫛歯画素電極を含む画素電極と、前記複数の櫛歯画素電極の間において前記信号線が延びる方向に延び、前記櫛歯画素電極と所定のスペースを置いて配置された複数の櫛歯共通電極を含む共通電極と、少なくとも前記信号線と前記信号線の近傍に配置された前記櫛歯画素電極との間に配置された遮光部と、を備えた第1基板と、前記信号線が延びる方向と略直交する方向において前記遮光部と同じ幅であって前記信号線と対向するように配置された遮光層を備え、前記第1基板と対向して配置された第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に挟持された液晶層と、を備えた液晶表示装置。前記信号線、前記櫛歯画素電極、および、前記櫛歯共通電極は、屈曲して前記走査線と交差する方向に延びている請求項1記載の液晶表示装置。前記遮光部には前記共通電極と同じ電圧が印加されている請求項1又は請求項2記載の液晶表示装置。前記第1基板および前記第2基板のそれぞれは、前記液晶層と接触する表面に配置され所定の方向に配向処理が成された配向膜を備え、前記第1基板の前記配向膜は、前記遮光部の端部と交差する方向に配向処理が成されている請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の液晶表示装置。IPSモード等の横電界を利用する液晶表示装置では、信号線からの漏れ電界の影響により、信号線近傍においてクロストークが発生することがあった。このクロストークによる表示品位の劣化を回避するために第1基板に信号線と対向した遮光部を配置した場合、遮光部の端部の上層に段差が生じる。第1基板の表面には配向膜が塗布されその表面は所定の方向に沿って配向処理が成されるが、配向処理の方向と遮光部の端部とが交差する場合、第1基板の段差部分で配向処理の不良に起因する光漏れが発生してコントラストが低下し、表示品位が低下することがあった。本発明の実施形態は上記事情を鑑みて成されたものであって、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することを目的とする。実施形態によれば、走査線と、前記走査線と交差する信号線と、前記信号線が延びる方向に延び前記走査線が延びる方向に並んで配置された複数の櫛歯画素電極を含む画素電極と、前記複数の櫛歯画素電極の間において前記信号線が延びる方向に延び、前記櫛歯画素電極と所定のスペースを置いて配置された複数の櫛歯共通電極を含む共通電極と、少なくとも前記信号線と前記信号線の近傍に配置された前記櫛歯画素電極との間に配置された遮光部と、を備えた第1基板と、前記信号線が延びる方向と略直交する方向において前記遮光部同じ幅の遮光層を備え、前記第1基板と対向して配置された第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に挟持された液晶層と、を備えた液晶表示装置が提供される。以下、実施形態の液晶表示装置について、図面を参照して説明する。図1に第1実施形態の液晶表示装置1の一構成例を概略的に示す。本実施形態に係る液晶表示装置1は、ノーマリブラックのIPSモードの液晶表示装置であって、互いに対向する一対の基板、すなわち第1基板101および第2基板102と、第1基板101と第2基板102との間に挟持された液晶層図示せずと、マトリクス状に配置された表示画素PXを含む表示部110と、を備えている。第1基板101および第2基板102は、光透過性絶縁基板であって、例えばガラス基板である。第1基板101は、表示部110において、表示画素PXが配列する行方向第2方向D2に沿って延びた複数の走査線GLと、表示画素PXが配列する列方向第1方向D1に沿って延びた複数の信号線SLと、走査線GLと信号線SLとの交差位置近傍に配置された画素スイッチSWと、各表示画素PXに配置された複数の画素電極PEと、複数の画素電極PEとの間に横電界を形成するように配置された共通電極CEと、を備えている。第1基板101上には、表示部110の周囲の領域にゲートドライバ121とソースドライバ122とが配置されている。複数の走査線GLは、表示部110の周囲の領域に延びてゲートドライバ121に接続されている。複数の信号線SLは、表示部110の周囲の領域に延びてソースドライバ122に接続されている。ゲートドライバ121は、複数の走査線GLを順次駆動して、走査線GLに接続された画素スイッチSWのソース-ドレイン間を導通させる。ソースドライバ122は、複数の信号線SLに映像信号を供給する。信号線SLに供給された映像信号は、対応する画素スイッチを介して画素電極PEに供給される。共通電極CEには、コモン配線COMを介して共通電圧が供給される。図2に、表示画素PXの一構成例を説明するための平面図を示す。信号線SLと走査線GLとは交差するように延びている。画素スイッチSWは例えばアモルファスシリコンの半導体層SCを含む薄膜トランジスタである。なお画素スイッチSWはポリシリコンの半導体層を含む薄膜トランジスタであってもよい。画素スイッチSWのゲート電極GEは、対応する走査線GLに電気的に接続されているあるいは一体に形成されている。画素スイッチSWのソース電極SEは、対応する信号線SLに電気的に接続されているあるいは一体に形成されている。本実施形態に係る液晶表示装置1では、画素スイッチSWが2つのソース電極を備えている。画素スイッチSWのドレイン電極DEは、コンタクトホールCH1を介して対応する画素電極PEに接続されている。画素電極PEは、列方向D1における一方に配置された走査線GLによりゲート電位を制御される画素スイッチSWにより信号線SLとの電気的接続が切換られる。また、画素電極PEは、列方向D1における他方に配置された補助容量電極CsEとコンタクトホールCH3において電気的に接続されている。画素電極PEは例えばITOIndiumTinOxideやIZOIndiumZincOxide等の透明電極材料により櫛歯状に形成され、表示画素PXの配列する列方向D1と略平行に延びた複数の櫛歯画素電極PE1~PE3を備えている。複数の櫛歯画素電極PE1~PE3は表示画素PXの長手方向列方向D1の略中央部において屈曲し、>形状に延びている。共通電極CEは例えばITOIndiumTinOxideやIZOIndiumZincOxide等の透明電極材料により櫛歯状に形成され、表示画素PXの配列する列方向D1と略平行に延びた複数の櫛歯共通電極CE1~CE4を備えている。複数の櫛歯共通電極CE1~CE4は表示画素PXの長手方向列方向D1の略中央部において屈曲し、>形状に延びている。共通電極CEは、後述するコモン配線COMとコンタクトホールCH2において電気的に接続している。なお、図1において信号線SLは直線で記載されているが、本実施形態では図2に示すように信号線SLは画素電極PEの櫛歯画素電極PE1~PE3および共通電極CEの櫛歯共通電極CE1~CE4の形状と同様に、表示画素PXの長手方向の略中央部において屈曲して延びている。コモン配線COMは例えば走査線GLと同じ層において走査線GLが延びる方向行方向D2と略平行に延びて配置されている。コモン配線COMは行方向D2に並ぶ複数の表示画素PXに配置された共通電極CEと電気的に接続され、これらの共通電極CEへコモン電圧を印加している。また、信号線SLと、信号線SLの両脇に配置された櫛歯共通電極CE1、CE4との下層には遮光部COM1が配置されている。遮光部COM1にコモン配線COMと同じ電圧が印加されている。遮光部COM1は、後述する第2基板102の遮光層BMと共に表示画素PX間において光が透過することを防止するとともに、信号線SLからの漏れ電界を遮蔽している。補助容量電極CsEはコモン配線COMと対向して配置されている。補助容量電極CsEは信号線SLと同じ層に配置され、画素電極PEの1つの櫛歯画素電極PE2とコンタクトホールCH3により電気的に接続されている。補助容量電極CsEとコモン配線COMとの間で補助容量Csが形成される。画素電極PEの櫛歯画素電極PE1~PE3と、共通電極CEの櫛歯共通電極CE1~CE4とは、表示画素PXの配列する行方向D2においてあるいは信号線SLと略直交する方向において、所定のスペースを置いて交互に配置されている。第2基板102は、表示部110において、信号線SLおよび走査線GLと対向するように格子状に配置された遮光層BMと、表示部110を囲むように配置された遮光層図示せずと、を備えている。また、カラー表示タイプの液晶表示装置である場合には、第2基板102はカラーフィルタ層図示せずを備える。カラーフィルタ層は、赤色の主波長の光を透過する赤色カラーフィルタ図示せずと、緑色の主波長の光を透過する緑色カラーフィルタ図示せずと、青色の主波長の光を透過する青色カラーフィルタ図示せずと、を備えている。複数色のカラーフィルタは、それぞれが1つの画素電極PEと対向するように配置される。第1基板101および第2基板102上には、液晶層を介して対向した一対の配向膜図示せずが配置されている。配向膜の表面は、液晶層に含まれる液晶分子の初期配向状態を規制するために、所定の方向にラビング処理や光学配向処理等の配向処理が成されている。本実施形態では、第1方向D1と略平行な方向に配向処理が成されている。櫛歯画素電極PE1~PE3へ供給される映像信号と、櫛歯共通電極CE1~CE4へ供給される共通電圧との電位差により生じる横電界により、液晶層の配向状態が制御される。図3は、図2の線III-IIIにおいて、本実施形態の液晶表示装置1の一構成例を説明する断面図である。線III-IIIは櫛歯画素電極PE1~PE3および櫛歯共通電極CE1~CE4が延びる方向と略直交する方向である。なお、図3では、遮光部COM1と、画素電極PEの櫛歯画素電極PE1~PE3と、共通電極CEの櫛歯共通電極CE1~CE4と、信号線SLと、遮光層BMとを図示し、その他の構成の記載を省略している。線III-IIIが延びる方向において、櫛歯画素電極PE1~PE3および櫛歯共通電極CE2~CE3の幅は略3.0μmであり、信号線SLの両脇に配置された櫛歯共通電極CE1、CE4の幅は略3.6μmであり、櫛歯信号線SLの幅は略3.0μmである。本実施形態では、線III-IIIが延びる方向において、画素電極PEの櫛歯画素電極PE1~PE3と、共通電極CEの櫛歯共通電極CE1~CE4との間のスペース幅が、画素中央部と画素端部とで異なっている。線III-IIIが延びる方向において信号線SL近傍の櫛歯画素電極PE1、PE3と櫛歯共通電極CE1、CE4との間のスペース幅W1、W6は、行方向D2において隣り合う信号線SL間の中央部における櫛歯画素電極PE1~PE3と櫛歯共通電極CE2、CE3との間のスペース幅W2、W3、W4、W5よりも大きい。ここで、線III-IIIが延びる方向において信号線SL近傍の櫛歯画素電極PE1、PE3と櫛歯共通電極CE1、CE4との間のスペース幅とは、画素スイッチSWを介して画素電極PEへ映像信号を供給する信号線SL側から1番目の櫛歯共通電極CE4と1番目の櫛歯画素電極PE3との間のスペース幅W6、および、4番目の櫛歯共通電極CE1と3番目の櫛歯画素電極PE1との間のスペース幅W1である。すなわち、各表示画素PXにおいて、隣の表示画素PXの画素電極PEへ映像信号を供給する信号線SLの脇に配置された櫛歯共通電極CE1と、櫛歯共通電極CE1の隣に並んで配置された櫛歯画素電極PE1との間のスペース幅W1、および、自表示画素PXの画素電極PEへ映像信号を供給する信号線SLの脇に配置された櫛歯共通電極CE4と、櫛歯共通電極CE4の隣に並んで配置された櫛歯画素電極PE3との間のスペース幅W6は、櫛歯画素電極PE1と櫛歯共通電極CE2との間のスペース幅W2、櫛歯共通電極CE2と櫛歯画素電極PE2との間のスペース幅W3、櫛歯画素電極PE2と櫛歯共通電極CE3との間のスペース幅W4、および、櫛歯共通電極CE3と櫛歯画素電極PE3との間のスペース幅W5よりも大きい。また、櫛歯画素電極PE3と櫛歯共通電極CE4との間のスペース幅W6は、櫛歯共通電極CE1と櫛歯画素電極PE1との間のスペース幅W1よりも大きい。遮光部COM1および遮光層BMの幅は略同一であって、本実施形態では略19μmである。遮光部COM1と遮光層BMとは互いに対向するように配置されている。遮光部COM1は、櫛歯共通電極CE1、CE4と信号線SLとの下層に配置されている。線III-IIIが延びる方向において、遮光部COM1の両端部は櫛歯共通電極CE1と櫛歯画素電極PE1との間、櫛歯共通電極CE4と櫛歯画素電極PE3との間に位置している。遮光部COM1は共通電極CEと同電位である。この遮光部COM1を信号線SLと対向するように配置することにより、信号線SLからの漏れ電界を遮ることが出来るとともに、信号線SL近傍を遮光することができる。ここで、本実施形態では、第1基板101および第2基板102の液晶層LQと接触する表面に配置された配向膜が第1方向D1に沿って配向処理されている。この配向処理の方向D1は遮光部COM1の端部と交差する方向である。従って、例えば配向処理としてラビング処理を行う場合、遮光部COM1の端部に沿って第1基板101の表面に生じる段差近傍の領域図2に示す領域Aにおいてラビング方向が乱れる場合がある。ちなみに、遮光部COM1による段差は、例えば、0.3μmほどになる。ラビング方向が乱れると液晶分子の初期配向方向が所望の方向とならず、光漏れが発生してコントラストが低下することがある。そこで、本実施形態では、第2基板102に遮光部COM1と対向するように遮光層BMを配置し、遮光部COM1と遮光層BMとの線III-IIIが延びる方向における幅を略等しくしている。この配置によって、第2基板102と第1基板101とを貼り合わせる際に、遮光部COM1と遮光層BMとの端部の位置が一致した場合には、透過率を低下させることなく信号線SLからの漏れ電界の影響によるクロストークが視認されることを回避することができる。また、第2基板102と第1基板101とを貼り合わせる際に、遮光部COM1と遮光層BMとの端部の位置がずれた場合には、遮光部COM1の第2方向D2における両端部近傍の領域Aの一方が遮光層BMと対向することとなり、端部の位置が一致している場合よりもコントラストの低下を抑制することができる。そのため、本実施形態の液晶表示装置によれば、平均的なコントラストを向上させることができる。液晶表示装置の製造工程において、第1基板101と第2基板102とを位置合わせして貼り合わせても僅かにずれることがあり、そのため第1基板101および第2基板102は許容される範囲の位置ずれを予め考慮して形成されている。本実施形態は、このような許容される範囲での位置ずれにより上記のように平均的なコントラストを向上させることができるとともに、位置ずれが発生しなかった場合でも透過率を低下させることなく良好な表示品位の液晶表示装置を提供することを可能とするものである。ちなみに上述した許容される範囲の位置ずれによる透過率のばらつきを少なくするために、例えば遮光層BMの幅を遮光部COM1の幅よりも小とすると、遮光部COM1の端部段差部近傍の領域に光漏れが生じた場合、遮光層BMで遮光できず、コントラスト低下が生じるものである。なお、本実施形態では、遮光部COM1および遮光層BMは信号線SLに沿って屈曲して配置されているため、第1基板101と第2基板102との配置位置が第1方向D1にずれた場合であっても第2方向D2にずれた場合であっても、遮光部COM1の第2方向D2における両端部近傍の領域Aの一方が遮光層BMと対向することとなる。すなわち、本実施形態によれば、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することができる。本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。例えば、上記実施形態において、遮光部COM1は信号線SLと対向するように配置されていたが、遮光部COM1は少なくとも信号線SLと信号線SLの近傍に配置された櫛歯画素電極PE1、PE3との間に配置されていればよい。従って遮光部COM1は、信号線SLと対向する部分が除去され、信号線SLの両脇に配置されていてもよい。その場合であっても、線III-IIIが延びる方向において、遮光層BMの幅を、信号線SLの両脇に配置された遮光部COM1と除去された部分とを合わせた部分の幅と略等しくすることにより、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。