"有機薄膜を備える被加工材にレーザ光を照射するレーザ光源と、前記被加工材を支持する支持部と、前記レーザ光を前記被加工材に照射している間、前記被加工材における前記レーザ光の照射部分に向けて、間欠的にイオンを噴射することによって、前記被加工材から生じた加工屑を除電しながら吹き飛ばすイオン噴射部と、前記吹き飛ばされた加工屑を回収する加工屑回収部とを備えることを特徴とするレーザ加工装置。前記被加工材と前記レーザ光源の対物レンズとの間において、前記レーザ光が通過する開口を備え且つ前記対物レンズとの間に所定の空間を画定する対物レンズ保護部と、前記対物レンズ保護部と前記被加工材との間において、前記被加工材に向かって流れる気流を形成するために、前記イオン噴射部からの間欠的なイオン噴射と同期させて、前記空間内に間欠的に気体を送入する気体送入部とをさらに備えることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。前記支持部は、前記レーザ光を前記被加工材に照射している間、前記被加工材と共に一方向に移動するものであり、前記イオン噴射部は、前記レーザ光源に対して、前記被加工材の移動方向の下流側に設置されて、前記被加工材の移動方向の下流側から前記照射部分に向かってイオンを噴射するものであり、前記加工屑回収部は、前記レーザ光源に対して、前記被加工材の移動方向の上流側において前記被加工材との間に隙間を有するように設置されて、前記イオン噴射部からのイオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑を回収する第1の加工屑回収部と、前記被加工材の前記移動方向の上流側に設置されて前記支持部と共に移動するように構成され、第1の加工屑回収部と前記被加工材との間に形成された前記隙間から前記移動方向の上流側に吹き飛ばされた加工屑を回収する第2の加工屑回収部を備えることを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ加工装置。前記レーザ光源は、前記レーザ光を前記被加工材に照射している間、前記被加工材に対して一方向に移動するものであり、前記イオン噴射部は、前記レーザ光源に対して、前記レーザ光源の移動方向の上流側に設置されて前記レーザ光源と共に移動するように構成され、前記レーザ光源の移動方向の上流側から前記照射部分に向かってイオンを噴射するものであり、前記加工屑回収部は、前記レーザ光源に対して、前記レーザ光源の移動方向の下流側において前記被加工材との間に隙間を有するように設置されて前記レーザ光源と共に移動するように構成され、前記イオン噴射部からのイオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑を回収する第1の加工屑回収部と、前記レーザ光源の前記移動方向の下流側に設置されて、第1の加工屑回収部と前記被加工材との間に形成された前記隙間から前記移動方向の下流側に吹き飛ばされた加工屑を回収する第2の加工屑回収部を備えることを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ加工装置。イオン噴射部が、有機薄膜を備える被加工材におけるレーザ光の照射部分に向けて、前記被加工材の移動方向の下流側から間欠的にイオンを噴射するステップと、レーザ光源に対して、前記被加工材を一方向に移動させるステップと、前記被加工材に前記レーザ光源からレーザ光を照射するステップと、加工屑回収部が、前記イオンの噴射によって吹き飛ばされた加工屑を前記被加工材の前記移動方向の上流側から回収するステップとを含み、間欠的にイオンを噴射する前記ステップは、前記レーザ光を照射している間、連続的に実行されて、前記被加工材から生じた加工屑を除電しながら吹き飛ばすことを特徴とするレーザ加工方法。前記回収するステップは、前記レーザ光源に対して、前記被加工材の移動方向の上流側において前記被加工材との間に隙間を有するように設置された第1の加工屑回収部が、前記イオン噴射部からのイオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑を回収するステップと、前記被加工材の前記移動方向の上流側に設置されて前記支持部と共に移動するように構成された第2の加工屑回収部が、前記第1の加工屑回収部と前記被加工材との間に形成された前記隙間から前記移動方向の上流側に吹き飛ばされた加工屑を回収するステップとを含むことを特徴とする請求項5記載のレーザ加工方法。レーザ光源の移動方向の上流側に設置されて前記レーザ光源と共に移動するイオン噴射部が、有機薄膜を備える被加工材におけるレーザ光の照射部分に向けて、間欠的にイオンを噴射するステップと、前記被加工材に対して、前記レーザ光源を一方向に移動させるステップと、前記被加工材に前記レーザ光源からレーザ光を照射するステップと、加工屑回収部が、前記イオンの噴射によって吹き飛ばされた加工屑を前記レーザ光源の前記移動方向の下流側から回収するステップとを含み、間欠的にイオンを噴射する前記ステップは、前記レーザ光を照射している間、連続的に実行されて、前記被加工材から生じた加工屑を除電しながら吹き飛ばすことを特徴とするレーザ加工方法。前記回収するステップは、前記レーザ光源に対して、前記レーザ光源の移動方向の下流側において前記被加工材との間に隙間を有するように設置されて前記レーザ光源と共に移動するように構成された第1の加工屑回収部が、前記イオン噴射部からのイオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑を回収するステップと、前記レーザ光源の前記移動方向の下流側に設置された第2の加工屑回収部が、前記第1の加工屑回収部と前記被加工材との間に形成された前記隙間から前記移動方向の下流側に吹き飛ばされた加工屑を回収するステップとを含むことを特徴とする請求項7記載のレーザ加工方法。前記被加工材と前記レーザ光源の対物レンズとの間に所定の空間を画定する対物レンズ保護部から、前記被加工材に向かって流れる気流を形成するために、前記イオン噴射部からの間欠的なイオン噴射と同期させて、前記対物レンズ保護部によって画定された前記空間内に、間欠的に気体を送入するステップをさらに含むことを特徴とする請求項5から8のいずれか1項記載のレーザ加工方法。しかしながら、特許文献1におけるレーザ加工装置は、プリント配線基板を製造するために、所定の厚みを有する基板にスルーホール等を形成するものである。薄膜系太陽電池の製造のために加工されるフィルムに比べて、プリント配線基板は厚く、レーザ光によって削られる領域も大きい。例えば、薄膜系太陽電池の製造のために加工されるフィルムの厚さは、100μm程度であり、フィルムに積層された薄膜の厚さは数μmである。このように薄いフィルム上の薄膜を加工する場合には、極めて微細な処理が必要であり、特許文献1に記載されたレーザ加工装置を薄膜系太陽電池の製造に適用することは困難である。例えば、特許文献1のレーザ加工装置では、イオン発生装置にて発生させたイオンを補助風と共にワーク基板におけるレーザ光の照射位置に吹き付けている。しかしながら、レーザ加工処理中において、レーザ光の照射位置に常にイオンを供給していると、被加工材の表面に空気の流れる層が形成されてしまう。薄膜系太陽電池の製造においては、数μmの薄膜を積層した薄いフィルムを加工しているため、加工部分は極めて微細である。したがって、供給されるイオンがこの空気の層に邪魔されてフィルムの加工部分に到達できなくなり、加工部分から生じる加工屑に対して効果的な除電ができなくなってしまう。このため、加工屑が静電気によってフィルムに付着してしまい、フィルムから除去されない。したがって、本発明の目的は、有機薄膜を備える極めて薄い被加工材を加工するレーザ加工装置において、レーザ加工によって生じる加工屑をより確実に除去することである。本発明は、レーザ加工装置に係るものである。上記目的を達成するために、本発明に係るレーザ加工装置は、有機薄膜を備える被加工材にレーザ光を照射するレーザ光源と、被加工材を支持する支持部と、レーザ光を被加工材に照射している間、被加工材におけるレーザ光の照射部分に向けて、間欠的にイオンを噴射することによって、被加工材から生じた加工屑を除電しながら吹き飛ばすイオン噴射部と、吹き飛ばされた加工屑を回収する加工屑回収部とを備える。被加工材とは、加工される対象物をいう。被加工材の一例として、薄膜系太陽電池の製造に用いられる、薄膜層を積層したフィルム等が挙げられる。加工屑とは、レーザ光の照射によって被加工材から生じる削りカス等の屑をいう。除電とは、電気を取り除くことをいい、一例として、静電気を取り除くことをいう。被加工材とレーザ光源の対物レンズとの間において、レーザ光が通過する開口を備え且つ対物レンズとの間に所定の空間を画定する対物レンズ保護部と、対物レンズ保護部と被加工材との間において、被加工材に向かって流れる気流を形成するために、イオン噴射部からの間欠的なイオン噴射と同期させて、空間内に間欠的に気体を送入する気体送入部とをさらに備えるように構成してもよい。一例として、支持部は、レーザ光を被加工材に照射している間、被加工材と共に一方向に移動するものであり、イオン噴射部は、レーザ光源に対して、被加工材の移動方向の下流側に設置されて、被加工材の移動方向の下流側から照射部分に向かってイオンを噴射するものであり、加工屑回収部は、レーザ光源に対して、被加工材の移動方向の上流側において被加工材との間に隙間を有するように設置されて、イオン噴射部からのイオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑を回収する第1の加工屑回収部と、被加工材の移動方向の上流側に設置されて支持部と共に移動するように構成され、第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間から移動方向の上流側に吹き飛ばされた加工屑を回収する第2の加工屑回収部を備える。他の例として、レーザ光源は、レーザ光を被加工材に照射している間、被加工材に対して一方向に移動するものであり、イオン噴射部は、レーザ光源に対して、レーザ光源の移動方向の上流側に設置されてレーザ光源と共に移動するように構成され、レーザ光源の移動方向の上流側から照射部分に向かってイオンを噴射するものであり、加工屑回収部は、レーザ光源に対して、レーザ光源の移動方向の下流側において被加工材との間に隙間を有するように設置されてレーザ光源と共に移動するように構成され、イオン噴射部からのイオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑を回収する第1の加工屑回収部と、レーザ光源の移動方向の下流側に設置されて、第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間から移動方向の下流側に吹き飛ばされた加工屑を回収する第2の加工屑回収部を備える。また、本発明はレーザ加工方法に係るものである。上記目的を達成するために、イオン噴射部が、有機薄膜を備える被加工材におけるレーザ光の照射部分に向けて、被加工材の移動方向の下流側から間欠的にイオンを噴射するステップと、レーザ光源に対して、被加工材を一方向に移動させるステップと、被加工材にレーザ光源からレーザ光を照射するステップと、加工屑回収部が、イオンの噴射によって吹き飛ばされた加工屑を被加工材の移動方向の上流側から回収するステップとを含み、間欠的にイオンを噴射するステップは、レーザ光を照射している間、連続的に実行されて、被加工材から生じた加工屑を除電しながら吹き飛ばす。上記レーザ加工方法において、回収するステップは、レーザ光源に対して、被加工材の移動方向の上流側において被加工材との間に隙間を有するように設置された第1の加工屑回収部が、イオン噴射部からのイオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑を回収するステップと、被加工材の移動方向の上流側に設置されて支持部と共に移動するように構成された第2の加工屑回収部が、第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間から移動方向の上流側に吹き飛ばされた加工屑を回収するステップとを含むように構成してもよい。また他の態様において、本発明に係るレーザ加工方法は、レーザ光源の移動方向の上流側に設置されてレーザ光源と共に移動するイオン噴射部が、有機薄膜を備える被加工材におけるレーザ光の照射部分に向けて、間欠的にイオンを噴射するステップと、被加工材に対して、レーザ光源を一方向に移動させるステップと、被加工材にレーザ光源からレーザ光を照射するステップと、加工屑回収部が、イオンの噴射によって吹き飛ばされた加工屑をレーザ光源の移動方向の下流側から回収するステップとを含み、間欠的にイオンを噴射するステップは、レーザ光を照射している間、連続的に実行されて、被加工材から生じた加工屑を除電しながら吹き飛ばす。上記他の態様のレーザ加工方法において、回収するステップは、レーザ光源に対して、レーザ光源の移動方向の下流側において被加工材との間に隙間を有するように設置されてレーザ光源と共に移動するように構成された第1の加工屑回収部が、イオン噴射部からのイオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑を回収するステップと、レーザ光源の移動方向の下流側に設置された第2の加工屑回収部が、第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間から移動方向の下流側に吹き飛ばされた加工屑を回収するステップとを含むように構成してもよい。例えば、被加工材とレーザ光源の対物レンズとの間に所定の空間を画定する対物レンズ保護部から、被加工材に向かって流れる気流を形成するために、イオン噴射部からの間欠的なイオン噴射と同期させて、対物レンズ保護部によって画定された空間内に、間欠的に気体を送入するステップをさらに含む。本発明に係るレーザ加工装置は、レーザ光を被加工材に照射している間、被加工材におけるレーザ光の照射部分に向けて、間欠的にイオンを噴射することによって、被加工材から生じた加工屑を除電しながら吹き飛ばすイオン噴射部を備えている。イオン噴射を間欠的に行うことによって、被加工材の表面上に空気の流れる層が形成されることを防ぐことができる。したがって、噴射されたイオンは、空気の層に邪魔されずに被加工材の照射部分に到達し、加工屑の除電を効果的に実行することができる。よって、被加工材に接触せずに気体によって加工屑を除去する、すなわち、被加工材のドライ洗浄を効果的に実行することができる。有機薄膜はウェット洗浄できないため、薄膜系太陽電池の製造には特に有効である。上記のように、本発明に係るレーザ加工装置によれば、有機薄膜を備える極めて薄い被加工材を加工するレーザ加工装置において、レーザ加工によって生じる加工屑をより確実に除去することができる。レーザ光が通過する開口を備え且つ対物レンズとの間に所定の空間を画定する対物レンズ保護部と、被加工材に向かって流れる気流を形成するために、間欠的なイオン噴射と同期させて、上記空間内に間欠的に気体を送入する気体送入部とを備えるように構成した場合には、蒸気等の昇華物や、レーザ光の照射によって被加工材の表面から飛び出した削りカス等の加工屑から対物レンズを保護することができる。また、イオン噴射と同期して形成された被加工材に向かって流れる気流によって、加工屑の除去機能をさらに高めることができる。加えて、間欠的に形成される上記気流によって、被加工材の帯電を防止できるという利点もある。イオン噴射部を、被加工材の移動方向の下流側に設置し、被加工材の移動方向の上流側において被加工材との間に隙間を有するように第1の加工屑回収部を設置し、被加工材の移動方向の上流側に設置されて支持部と共に移動するように構成され、第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間から移動方向の上流側に吹き飛ばされた加工屑を回収する第2の加工屑回収部を備えるように構成した場合には、第1の加工屑回収部及び第2の加工屑回収部は、被加工材の移動方向の上流側に配置されているため、イオン噴射によって、被加工材の移動方向の下流側から上流側に吹き飛ばされる加工屑を効率的に回収することができる。また、第2の加工屑回収部は第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間から移動方向の上流側に吹き飛ばされた加工屑を回収するため、第1の加工屑回収部によって回収できなかった加工屑も回収可能である。したがって、加工屑をより確実に被加工材から除去することができる。レーザ光源と共に移動するイオン噴射部をレーザ光源の移動方向の上流側に設置し、レーザ光源と共に移動する第1の加工屑回収部をレーザ光源の移動方向の下流側において被加工材との間に隙間を有するように設置し、レーザ光源の移動方向の下流側に設置されて、第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間から移動方向の下流側に吹き飛ばされた加工屑を回収する第2の加工屑回収部を備えるように構成した場合には、第1の加工屑回収部及び第2の加工屑回収部は、レーザ光源の移動方向の下流側に配置されているため、イオン噴射によって、レーザ光源の移動方向の上流側から下流側に吹き飛ばされる加工屑を効率的に回収することができる。また、第2の加工屑回収部は第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間からレーザ光源の移動方向の下流側に吹き飛ばされた加工屑を回収するため、第1の加工屑回収部によって回収できなかった加工屑も回収可能である。したがって、加工屑をより確実に被加工材から除去することができる。本発明に係るレーザ加工方法は、イオン噴射部が、有機薄膜を備える被加工材におけるレーザ光の照射部分に向けて、間欠的にイオンを噴射するステップを含み、このステップは、レーザ光を照射している間、連続的に実行される。このように、イオン噴射を間欠的に行うことによって、被加工材の表面上に空気の流れる層が形成されることを防ぐことができる。したがって、噴射されたイオンは、空気の層に邪魔されずに被加工材の照射部分に到達し、加工屑の除電を効果的に実行することができる。被加工材の移動方向の下流側から噴射されるイオン噴射に対して、第1の加工屑回収部が、イオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑を回収するステップと、被加工材の移動方向の上流側に設置されて支持部と共に移動するように構成された第2の加工屑回収部が、第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間から移動方向の上流側に吹き飛ばされた加工屑を回収するステップとを含むように構成した場合には、第1の加工屑回収部及び第2の加工屑回収部は、イオン噴射によって、被加工材の移動方向の下流側から上流側に吹き飛ばされる加工屑を効率的に回収することができる。また、第2の加工屑回収部は第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間から移動方向の上流側に吹き飛ばされた加工屑を回収するため、第1の加工屑回収部によって回収できなかった加工屑も回収可能である。したがって、加工屑をより確実に被加工材から除去することができる。レーザ光源の移動方向の上流側に設置されてレーザ光源と共に移動するイオン噴射部からのイオン噴射に対して、レーザ光源と共に移動するように構成された第1の加工屑回収部が、イオン噴射部からのイオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑を回収するステップと、レーザ光源の移動方向の下流側に設置された第2の加工屑回収部が、第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間から移動方向の下流側に吹き飛ばされた加工屑を回収するステップとを含むように構成した場合には、第1の加工屑回収部及び第2の加工屑回収部は、イオン噴射によって、レーザ光源の移動方向の上流側から下流側に吹き飛ばされる加工屑を効率的に回収することができる。また、第2の加工屑回収部は第1の加工屑回収部と被加工材との間に形成された隙間からレーザ光源の移動方向の下流側に吹き飛ばされた加工屑を回収するため、第1の加工屑回収部によって回収できなかった加工屑も回収可能である。したがって、加工屑をより確実に被加工材から除去することができる。被加工材とレーザ光源の対物レンズとの間に所定の空間を画定する対物レンズ保護部から、被加工材に向かって流れる気流を形成するために、イオン噴射部からの間欠的なイオン噴射と同期させて、対物レンズ保護部によって画定された空間内に、間欠的に気体を送入するステップを含むように構成した場合には、蒸気等の昇華物や、レーザ光の照射によって被加工材の表面から飛び出した削りカス等の加工屑から対物レンズを保護することができる。また、イオン噴射と同期して形成された被加工材に向かって流れる気流によって、加工屑の除去機能をさらに高めることができる。加えて、間欠的に形成される上記気流によって、被加工材の帯電を防止できるという利点もある。[第1の実施形態]以下、本発明の実施の形態を添付の図により説明する。図1に第1の実施形態に係るレーザ加工装置の側面図を示す。第1の実施形態に係るレーザ加工装置は、移動する被加工材にレーザ光を照射して、被加工材の表面を削るレーザスクライバである。レーザ加工装置1は、被加工材2を吸着して支持すると共に所定の方向に移動させる吸着ステージ3と、吸着ステージ3に支持された被加工材2にレーザ光4を照射するレーザヘッド5と、レーザ加工中に生じた加工屑6を吹き飛ばすイオナイザー7と、吹き飛ばされた加工屑6を回収する排気口10及び排気トレイ14とを備えている。被加工材2は、薄膜系太陽電池の製造に用いられるものである。被加工材2は、100μm程度の厚さの薄いフィルムに薄膜層を積層したものであり、薄膜層は、透明導電膜TCO層と金属層と有機薄膜層を積層したもので数μm程度の厚さである。吸着ステージ3は、絶縁性の多孔質セラミックによって形成されていて、被加工材2を載置する上面に吸着機構を備えている。吸着ステージ3は、レーザ光4が照射されている間、被加工材2を真空吸着して被加工材2を支持すると共に、移動方向Yに一定速度で移動する。吸着ステージ3のサイズは一例としてA4サイズ210mm×297mmである。レーザヘッド5は、レーザ光源、ビームエキスパンダ、フォトインテグレータ、コンデンサレンズ、シリンドリカルレンズ及び対物レンズを搭載している。レーザ光源は、例えば、1064nm、532nm、355nm又は266nmの波長のレーザ光を60Hzの周期で放射するパルスレーザである。ビームエキスパンダは、レーザ光源から放射されたレーザ光の径を拡大し、フォトインテグレータは、レーザ光源から照射されたレーザ光の横断面内の輝度分布を均一化させる。このフォトインテグレータは、フライアイレンズやロッドレンズ又はライトパイプ等であってもよい。輝度分布が均一化されたレーザ光はコンデンサレンズに入射して均一な輝度分布を有する平行光となる。この平行光は、シリンドリカルレンズに入射して、横断面が、一例として20μm×60mmの細線状のレーザ光に整形される。シリンドリカルレンズによって整形されたレーザ光は、レーザヘッド5の先端に設けられた対物レンズを介して、被加工材2の表面2aに照射される。イオナイザー7は、レーザ光4の照射中に、被加工材2におけるレーザ光4の照射部分に向けて間欠的にイオンを噴射することにより、レーザ加工によって被加工材2から生じる加工屑6を除電しながら吹き飛ばすものである。本実施形態におけるイオナイザー7は、イオンを間欠的に噴射する間欠式スポットイオナイザーであり、イオン化するための気体が供給される第1の給気ライン8と、供給された気体をイオン化する図示しないイオン化手段と、イオンを噴射する噴射口7aとを備えている。第1の給気ライン8からは、加圧されたCDAクリーンドライエア又は窒素ガスN2が第1の給気ライン8を介して間欠的に供給される。イオン化手段は、供給された気体をイオン化し、イオン化された気体は噴射口7aから噴射される。一例として、噴射されるイオンのエア圧力は0.5MPaであり、流量は175l/minである。噴射口7aの直径は、一例として、約10mm程度である。また、レーザ光4のパルス周期よりも十分に広いパルス周期を有するようにイオンの噴射周期を決定することによって、加工屑6を効果的に吹き飛ばすことができる。例えば、レーザ光4が16.67msの周期で放射される場合、イオンの噴射周期は100msが望ましい。排気口10は、イオナイザー7によるイオン噴射によって吹き上げられた加工屑6を回収する第1の加工屑受け部12と、第1の加工屑受け部12に入ってきた加工屑6を排出する第1の排気ライン11を備えている。第1の加工屑受け部12は直方体形状をなし、1つの面において矩形の開口12aを有していて、内部に所定の空間を画定している。開口12aの周縁には、開口の中心方向に向かって延びるストッパー部12bが設けられている。ストッパー部12bは、排気口10に入ってきた加工屑6が再び排気口10から外部に散っていかないように設けられている。第1の排気ライン11は図示しない吸引機構及び排気処理装置と連結していて、排気口10内の加工屑6は第1の排気ライン11を介して排気口10内の空気と共に吸引され、排気処理装置に送られる。排気トレイ14は、イオナイザー7によるイオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑6を回収する第2の加工屑受け部15と、第2の加工屑受け部15に連結して第2の加工屑受け部15から加工屑6を排出する第2の排気ライン16を備えている。第2の加工屑受け部15は、上方に向けて開放された受け皿形状をなしている。第2の排気ライン16は図示しない吸引機構及び排気処理装置と連結していて、第2の加工屑受け部15内の加工屑6は第2の排気ライン16を介して第2の加工屑受け部15内の空気と共に吸引され、排気処理装置に送られる。次に、各構成要素の位置関係について説明する。レーザ加工装置1では、レーザ加工処理中において、吸着ステージ3と排気トレイ14が移動し、レーザヘッド5とイオナイザー7と排気口10は移動しない。イオナイザー7は、レーザヘッド5に対して、被加工材2の移動方向Yの下流側において、イオナイザー7の噴射口7aが被加工材2のレーザ光4照射部に向くように配置されている。被加工材2に照射されるレーザ光4の中心軸を仮想基準線をl1とすると、イオナイザー7は、噴射口7aからのイオン噴射方向の中心が、仮想基準線l1に対して、約45度の角度を有するように、斜めに配置される。排気口10は、レーザヘッド5に対して、被加工材2の移動方向Yの上流側において、開口12aがレーザヘッド5側に向くように配置されている。図1に示す方向からみて、被加工材2のレーザ光照射部と排気口10の開口12aの中心を結ぶ線を仮想基準線l2とすると、仮想基準線l2が仮想基準線l1に対して、約45度の角度を有している。排気口10において、第1の加工屑受け部12の底面12cは、被加工材2の表面2aと略平行に延びている。排気口10は、第1の加工屑受け部12の底面12cと被加工材2の表面2aとの間に数ミリ程度の隙間gを有するように配置されている。排気トレイ14は、排気口10と被加工材2の表面2aとの間に形成された隙間gを通って吹き飛ばされてきた加工屑6を回収するように構成されている。排気トレイ14は、吸着ステージ3の移動方向Yの上流側において、吸着ステージ3の上流側端部3aに取り付けられている。第2の加工屑受け部15は、吸着ステージ3の上流側端部3aの幅方向移動方向Yに対して垂直方向に沿って、吸着ステージ3に取り付けられる取り付け端部15aを備えている。取り付け端部15aの幅方向移動方向Yに対して垂直方向の長さは、吸着ステージ3の幅方向移動方向Yに対して垂直方向の長さと同じである。吸着ステージ3の上流側端部3aと接する取り付け端部15aの高さ位置は、吸着ステージ3の上面と同じ高さ又は吸着ステージ3の上面よりも低い位置にある。したがって、被加工材2の表面2aからこぼれる加工屑6をスムーズに受け止めることができる。第2の加工屑受け部15において、吸着ステージ3の幅方向に延びて被加工材2との間に所定の空間を画定する壁部15bは上方に突出し、この壁部15bの上端は、被加工材2の表面2aよりも高い位置にある。よって、被加工材2の表面2aから吹き飛ばされた加工屑6が舞い上がった場合であっても、この壁部15bによって捉えることができる。図1のおけるレーザヘッド5の先端部5aの拡大図を図2に示す。レーザ加工装置1では、レーザヘッド5の対物レンズ18をレーザ加工に伴う蒸気等の昇華物から保護するためにレーザヘッド5の先端部5aにおいて、対物レンズ保護部20を設けている。対物レンズ保護部20は、対物レンズ18の保護機能に加えて、加工屑6を除去するための気流を生成する機能を有している。なお、図2においては、説明のため対物レンズ保護部20の構造を一部省略して図示している。対物レンズ保護部20の構造について、図3に対物レンズ保護部20を拡大して模式的に示す。対物レンズ保護部20は円筒形状に形成されて、被加工材2の表面2aと対向しレーザ光4が通過する開口22を有する底面21と、底面21の周縁から上方に突出する壁部23を備えている。壁部23は、レーザヘッド5の先端部5aの周面と接するように所定の厚みを有している。壁部23は、伸縮性を有するゴム材又は樹脂材によって構成されていて、レーザヘッド5の先端部5aの周面と接する壁部23の内周23aの直径は、対物レンズ保護部20を取り付けるレーザヘッド5の先端部5aの直径よりもわずかに小さく形成されている。したがって、図3に示すように、対物レンズ保護部20をレーザヘッド5の先端部5aに取り付けると、レーザヘッド5の先端部5aの周面との間に隙間を生じることなく、対物レンズ保護部20をレーザヘッド5の先端部5aに保持することができる。壁部23はレーザヘッド5の先端部5aの下面において、レーザヘッド5の先端部5aの下面の一部と接し、レーザヘッド5の中心側に突出する突出部23bを備えている。この突出部23bは、対物レンズ18と対物レンズ保護部20の底面21との間に所定の空間24を確保するためのものである。突出部23bが、レーザヘッド5の先端部5aの下面に接するまで、対物レンズ保護部20をレーザヘッド5の先端部5a側に向かって押し込むことによって、対物レンズ保護部20をレーザヘッド5の先端部5aに取り付けることができる。したがって、対物レンズ保護部20を取り付ける際に、対物レンズ18と対物レンズ保護部20の底面21との間の距離を一定にすることができる。加えて、壁部23にはネジ穴23cが形成されていて、対物レンズ保護部20をレーザヘッド5の先端部5aにねじ止めすることができる。これにより、より確実に対物レンズ保護部20をレーザヘッド5の先端部5aに保持することができる。対物レンズ保護部20の底面21の上面には開口22の大きさを調整するためのアダプター25が設けられている。アダプター25は、開口22の直径よりも小さい直径を有する開口25aを備えている。アダプター25によって、被加工材2に照射されるレーザ光4の径又は幅等に応じて開口22の大きさを調整することができる。アダプター25は、壁部23に形成されたネジ穴26を介して、対物レンズ保護部20内にねじ止めして固定することができる。図2に示す対物レンズ18から被加工材2の表面2aまでの距離wは、例えば、15mmである。対物レンズ保護部20をレーザヘッド5の先端部5aに取り付けたときの、被加工材2の表面2aから対物レンズ保護部20の底面までの距離は一例として、約10mmである。対物レンズ保護部20の底面に形成された開口22の直径は、例えば、約8~10mmである。この開口22の直径は、既存の対物レンズ18の瞳径例えば、約7mmから10mmと、レーザヘッド5に設けられているレーザ光4切り出し用のスリットの最大口のサイズ一例として、5.5mmを考慮して決定している。対物レンズ保護部20は、レーザヘッド5の先端部5aに取り付けて使用するため、軽量であることが望ましい。対物レンズ保護部20は、一例として、ゴム材又は樹脂材によって形成されている。また、レーザ光4が反射することを防止するため、対物レンズ保護部20は黒色にすることが望ましい。対物レンズ保護部20の壁部23には気体送入口27が形成されていて、気体送入口27を介して、対物レンズ保護部20内の空間24に間欠的に気体が送入される。この間欠的な気体の送入は、イオナイザー7からの間欠的なイオン噴射と同期するように構成されている。図2に示す給気ライン29は、ソレノイドバルブ30と連結し、ソレノイドバルブ30の下流側において第1の給気ライン8と第2の給気ライン32に分岐している。第1の給気ライン8はイオナイザー7に連結し、第2の給気ライン32は、対物レンズ保護部20の壁部23に設けられた給気部33を介して、対物レンズ保護部20に連結している。給気部33は、壁部23に設けられた気体送入口27を囲むように形成されていて、第2の給気ライン32からの気体を対物レンズ保護部20の気体送入口27に導くものである。給気ライン29は図示しないコンプレッサに連結していて、加圧されたCDA又は窒素ガスN2等の気体が、間欠的に開閉するソレノイドバルブ30によって間欠的に第1の給気ライン8及び第2の給気ライン32に送られる。対物レンズ保護部20において、対物レンズ18と対物レンズ保護部20の底面21との間には、アダプター25を介して所定の空間24が形成されている。対物レンズ保護部20によって画定された空間24には、間欠的に加圧された気体が送入されるため、空間24の気体は対物レンズ保護部20の底面21に形成された開口22を介して被加工材2側に流出する。したがって、対物レンズ保護部20の底面21と被加工材2の表面2aとの間には、対物レンズ保護部20から被加工材2の表面2aに向かって流れる気体の流れ以下、ダウンフローというfが、イオナイザー7からのイオン噴射と同期して形成されることになる。したがって、イオナイザー7からのイオン噴射に加えて、このダウンフローfによっても、膜剥がれ等の加工屑6を被加工材2の加工箇所から取り除くことができる。また、レーザ加工装置1は、吸着ステージ3の移動方向Yの下流側端部3bにおいて、風除け部35を備えている。図2に示すように、イオナイザー7の噴射口7aが吸着ステージ3の外側にきた場合に、イオナイザー7から噴射される気体によって吸着ステージ3に吸着されている被加工材2がめくれてしまう可能性が考えられる。したがって、風除け部35は、吸着ステージ3の幅方向に沿って吸着ステージ3の下流側端部3bと対向して延びる壁面35aと、吸着ステージ3の幅方向に沿って被加工材2の表面2aと対向して延びる上面35bとを備え、噴射される気体から、被加工材2を吸着した吸着ステージ3の端部を保護している。次に、図4を参照しながらレーザ加工装置1の動作について説明する。イオナイザー7は、レーザ光4が照射される前にイオンの噴射を開始し、レーザ光4が照射されている間中、レーザ光4の照射が終了するまで、レーザ光4の照射部分に向けて、被加工材2の移動方向の下流側から間欠的にイオンを噴射し続けるステップ1。これにより、レーザ光4の照射によって被加工材2から生じた加工屑6を除電しながら吹き飛ばす。吸着ステージ3は一方向のみに移動するように構成されていて、被加工材2を吸着した吸着ステージ3は、移動方向Yに移動するステップ2。移動方向Yは、被加工材2の搬送方向と直交する方向である。被加工材2の搬送方向と吸着ステージ3の移動方向Yとの関係について、図5及び6を参照しながら説明する。図5に、レーザ加工装置1を被加工材2の搬送システムと共に示す。図5に示すレーザ加工装置1は、図1に示すレーザ加工装置1を吸着ステージ3の上流側端部3a側からみた図である。説明のため、排気トレイ14、レーザヘッド5、イオナイザー7の図示は省略している。被加工材2は搬送方向Xに搬送される。まず、巻き出しリール40から巻き出された被加工材2は、第1のガイドローラ41を介して吸着ステージ3に搬送される。搬送された被加工材2は吸着ステージ3に吸着されてレーザ加工され、レーザ加工された後に吸着が解除された被加工材2は第2のガイドローラ42を介して巻き取りリール43によって巻き取られる。図6に、吸着ステージ3に吸着された被加工材2を表面2a側からみた平面図を示す。被加工材2の幅は吸着ステージ3の長さ方向の長さと同一であり、一例として、297mmである。レーザ加工中、被加工材2を吸着した吸着ステージ3は、巻き出しリール40、第1のガイドローラ41、第2のガイドローラ42及び巻き取りリール43と共に、被加工材2の搬送方向Xと直交する移動方向Yに移動する。移動される被加工材2の表面2aには、レーザヘッド5からレーザ光4が照射されるステップ3,図4。なお、レーザ光4を照射している間、被加工材2を吸着した吸着ステージ3は、移動方向Yに移動し続けている。また、イオナイザー7からのイオン噴射と同期して、対物レンズ保護部20内に画定された空間24に加圧された気体が送入されるステップ4。これによって、対物レンズ保護部20の底面21と被加工材2の表面2aとの間にダウンフローfが間欠的に形成される。イオナイザー7によるイオン噴射に加えて、このダウンフローfによっても、膜剥がれ等の加工屑6を加工箇所から取り除くことができる。ダウンフローfによって加工箇所から取り除かれた加工屑6は、イオナイザー7からのイオン噴射によって、被加工材2の移動方向Yの上流側に吹き飛ばされる。イオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑6は、排気口10と排気トレイ14によって被加工材2の移動方向Yの上流側から回収される。排気口10は、第1の排気ライン11に連結された図示しない吸引機構によって、吸引機能を有しており、吹き上げられた加工屑6の一部は、開口12aを介して排気口10内に回収される。排気口10に回収されなかった加工屑6は、排気口10と被加工材2の表面2aとの間に設けられた隙間gから、排気トレイ14に回収される。イオナイザー7は、移動方向Yの下流側から上流側に向けてイオンを噴射しているため、吹き飛ばされた加工屑6は、移動方向Yの上流側に流れていく。したがって、被加工材2が移動方向Yに移動していくにつれて、加工屑6は移動方向Yの上流側に移動し、吸着ステージ3の上流側端部3aに設けられた排気トレイ14に回収される。第1の実施形態に係るレーザ加工装置1によれば、加工屑6にイオンを噴射することによって、加工屑6を除電しながら吹き飛ばしている。したがって、加工屑6が静電気によって被加工材2に付着することを妨げたり、静電気によって被加工材2に付着している加工屑6を被加工材2から剥がして吹き飛ばしたりすることができる。また、イオナイザー7はイオンを間欠的に噴射している。これにより、被加工材2の表面2a上に空気の流れる層が形成されることを防ぐことができる。したがって、噴射されたイオンは、空気の層に邪魔されずに被加工材2の照射部分に到達するため、加工屑6の除電を効果的に実行することができる。また、レーザヘッド5の先端部5aに取り付けた対物レンズ保護部20によって、蒸気等の昇華物や、レーザ光4の照射による削りカス等の加工屑6から対物レンズ18を保護することができる。また、イオン噴射と同期して、対物レンズ保護部20の底面21と被加工材2の表面2aとの間に間欠的に形成されるダウンフローfによって、加工屑6の除去機能をさらに高めることができる。加えて、間欠的に形成されるダウンフローfによって、被加工材2の帯電を防止できるという利点もある。レーザ加工装置1では、イオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑6を回収する手段として、排気口10と排気トレイ14を設けている。排気口10と排気トレイ14は、被加工材2の移動方向Yの上流側に配置されているため、イオン噴射によって、移動方向Yの下流側から上流側に吹き飛ばされる加工屑6を効率的に回収できる。また、排気口10によって回収できなかった加工屑6は、排気口10と被加工材2との間に設けた隙間を介して吸着ステージ3の上流側に吹き飛ばされるため、吸着ステージ3の上流側端部3a取り付けられて吸着ステージ3と共に移動する排気トレイ14によって回収される。したがって、加工屑6をより確実に被加工材2から除去することができる。上記のように、第1の実施形態に係るレーザ加工装置1によれば、被加工材2に接触せずに気体によって加工屑6を除去する、すなわち、被加工材2のドライ洗浄を効果的に実行することができる。有機薄膜はウェット洗浄できないため、有機薄膜系太陽電池の製造には特に有効である。また、イオン化する気体としてCDA又は窒素ガスN2を用いることにより、大気暴露を極力避けることができる。[他の実施形態]以上、本発明の実施形態について述べたが、本発明は既述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変形及び変更が可能である。一例として、上記第1の実施形態では、レーザ加工処理中において、吸着ステージ3と排気トレイ14が移動し、レーザヘッド5とイオナイザー7と排気口10は移動しないように構成されているが、これに限定されない。例えば、レーザ加工処理中において、吸着ステージ3と排気トレイ14は移動せずに、レーザヘッド5とイオナイザー7と排気口10が共に移動するように構成しても良い。この場合、イオナイザー7はレーザヘッド5の移動方向の上流側に配置され、排気口10はレーザヘッド5の移動方向の下流側に配置されることになる。このように構成したレーザ加工装置1の動作について、図7を参照しながら説明する。レーザヘッド5と共に移動するイオナイザー7は、レーザ光4が照射される前にイオンの噴射を開始し、レーザ光4が照射されている間中、レーザ光4の照射が終了するまで、レーザヘッド5の移動方向の上流側から下流側に向けて、レーザ光4の照射部分に間欠的にイオンを噴射するステップ11。レーザヘッド5は被加工材2に対して、一方向図1に示した被加工材の移動方向Yと逆方向に移動するステップ12。レーザヘッド5は被加工材2の表面2aにレーザ光4を照射するステップ13。なお、レーザ光4を照射している間、レーザヘッド5は被加工材2に対して、一方向に移動し続ける。対物レンズ保護部20内にはイオン噴射と同期して間欠的に気体が送入されるステップ14。これにより、対物レンズ保護部20の底面21と被加工材2の表面2aとの間に、イオン噴射と同期して間欠的にダウンフローfが形成される。イオン噴射によって吹き飛ばされた加工屑6は、レーザヘッド5の移動方向の下流側に位置する排気口10及び排気トレイ14によって回収されるステップ15。第1の実施形態に係るレーザ加工装置1において、吸着ステージ3の幅方向に延びるバータイプのイオナイザーを別途設置し、レーザ光4の照射前に、吸着ステージ3に保持された被加工材2全体にイオンを供給して、被加工材2全体の除電を行ってから、レーザ加工処理を実行するように構成してもよい。また、レーザヘッド5を吸着ステージ3の幅方向に複数個設置して、マルチラインレーザ加工装置を構成してもよい。この場合、一例として、イオナイザー7と排気口10は、各レーザヘッド5に対してそれぞれ設置される。他の例として、イオナイザー7を各レーザヘッド5に対してそれぞれ設置し、排気口10は、吸着ステージ3の幅方向に延びる開口を有してすべてのレーザヘッド5に対応する1個の排気口10として構成してもよい。第1の実施形態におけるレーザ加工装置1においては吸引機能を有する排気口10を設けているが、これに限定されない。例えば、排気口10に代えて、電気集塵式装置を設置してもよい。この場合、被加工材2の表面2aと対向する側の面に集塵機能を持たせることにより、被加工材2の表面2aと電気集塵式装置との間の加工屑を回収することができる。第1の実施形態において、対物レンズ保護部20はアダプター25を備えているが、これに限定されない。対物レンズ保護部20はアダプター25を備えていなくてもよい。"