"製品の外表面の少なくとも一部を形成する表面を有し、金属酸化物を含む無機物層が少なくとも部分的に設けられたガラス基板又はガラスセラミック基板を備える製品であって、前記層が少なくとも部分的にナノ結晶構造を有し、基本材料として元素Hf、Y、Zr又はCeの金属酸化物の少なくとも1つを含み、該金属酸化物層が元素Ca、Ce、Y、K、Li、Mg、Sr又はGdのいずれかの少なくとも1つの更なる金属カチオンを含み、少なくとも1つの更なる金属カチオンに起因して熱触媒機能をもたらす、製品。a前記層の屈折率が1.65~2.2、好ましくは1.8~2.1の範囲であり、b前記層が低い表面エネルギーを有し、極性成分が10mN/m未満、特に5mN/m未満であり、分散成分が35mN/m未満、特に30mN/m未満であり、c前記層の表面がφ>80度、特にφ>85度の水接触角を有し、したがって該層は疎水性であり、d前記層が25体積パーセント未満、好ましくは20体積パーセント未満、より好ましくは15体積パーセント未満の残留空隙率を示し、e前記層の細孔がボトルネック型のメソ細孔又はミクロ細孔の形態で存在し、平均細孔径が10nm未満、好ましくは5nm未満、より好ましくは3nm未満であり、f前記層の表面粗度が10nm未満、好ましくは5nm未満、より好ましくは2nm未満であり、g前記層が380nm~1mmの波長範囲の電磁放射線に対して80、好ましくは85超、最も好ましくは88超の透過率を示す、請求項1に記載の製品。前記少なくとも1つの更なる金属酸化物の割合が、前記基本材料の含量の最大で50molである、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。前記層の前記基本材料が4nm~50nmの結晶子サイズを有する、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。前記層中のナノ結晶画分が25体積パーセント超、好ましくは50体積パーセント超、より好ましくは75体積パーセント超である、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。前記層が基本材料としてZrO2を含み、該ZrO2が単斜晶、正方晶又は立方晶の形態で存在する、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。前記層が基本材料としてCeO2を含み、該CeO2が単斜晶、正方晶又は立方晶の形態で存在する、基板を備える、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。前記層の前記基本材料がZrパイロクロア、好ましくはCe2Zr2O7、La2Zr2O7、Gd2Zr2O7又はY2Zr2O7として含まれる基板を備える、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。前記層が成分Si、Al、Na、Li、Sr、B、P、Sb、Ti、F、MgF2又はCaF2の少なくとも1つを更に含む、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。前記層が前記基本材料及び前記少なくとも1つの更なる金属酸化物に加えて、好ましくは4nm~30nmの直径を有する酸化物ナノ粒子を含む、無機ナノ粒子又は非晶質ナノ粒子又は結晶ナノ粒子を含む基板を備える、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。前記層の前記金属酸化物がガラス状マトリックスに組み込まれる、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。前記基板上の前記層の厚さが80nm未満、好ましくは70nm未満である、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。前記基板が少なくとも1つの更なる金属酸化物含有層を有し、該金属酸化物含有層の上に、表面が前記製品の外表面の少なくとも一部を形成し、金属酸化物を含む前記無機物層が塗布されている、前記請求項のいずれか一項に記載の製品。調理、フライ、ベーク又はグリル用の装置、輻射加熱及び/又はガス加熱及び/又は誘導加熱を用いる調理装置、マイクロ波装置、電気フライヤー、天板又は金型、調理器具の内部又は外部の部品としての前記請求項のいずれか一項に記載の製品の使用。発熱装置、暖炉又は薪ストーブ、暖房システム、輻射暖房システム又はヒーター、排ガス管又は排気管の内部又は外部の部品として、視界窓として、特に暖房ユニットの視界窓としての前記請求項のいずれか一項に記載の製品の使用。製品の外表面の少なくとも一部を形成する表面を有し、金属酸化物を含む無機物層が少なくとも部分的に設けられたガラス基板又はガラスセラミック基板を備える製品を作製する方法であって、前記層が少なくとも部分的にナノ結晶構造を有し、基本材料として元素Hf、Y、Zr又はCeの金属酸化物の少なくとも1つを含み、該金属酸化物層が元素Ca、Ce、Y、K、Li、Mg、Sr又はGdのいずれかの少なくとも1つの更なる金属カチオンを含み、該少なくとも1つの更なる金属カチオンに起因して熱触媒機能をもたらす、方法。前記層を、金属塩及び/又は金属アルコキシドを含むコーティング溶液を調製する工程と、前記コーティング溶液を、コーティング法を用いて約2μm~4μmの厚さで前記基板に塗布する工程であって、使用される好ましいコーティング法がロールコーティング法、パッド印刷法、スプレーコーティング法、又は好ましくはスクリーン印刷法を含む、塗布する工程と、前記金属酸化物層を、200°C前後の温度で200nm~400nmの範囲の層厚まで乾燥させる工程と、前記金属酸化物層を500°C前後の温度で熱後処理する工程と、を含む液相プロセスによって作製する、請求項16に記載の方法。前記層を、前記基板を加熱チャンバーにロック装置を介して導入する工程と、前記基板をコーティングチャンバーに導入する工程であって、前記加熱チャンバーが該コーティングチャンバーとは別に設けられていても、又は該コーティングチャンバーの一部であってもよい、導入する工程と、前記基板を、ターゲットからスパッタリングすることによって前記無機物層でコーティングする工程であって、パルススパッタリングプロセス中波スパッタリングが好ましく、スパッタリング時の出力密度が2W/cm2超、好ましくは10W/cm2超、より好ましくは20W/cm2超である、コーティングする工程と、を含む気相プロセス、好ましくはインラインスパッタプロセスによって作製する、請求項16に記載の方法。したがって、機械的に安定かつ高温耐性であり、更には疎水性を有する層は知られていない。本発明者らはこれらの欠点を特定し、極めて耐熱性であり、同時に擦り傷又は溝等の外部摩耗に対して長期耐性も示し、顕著に良好な清浄性によって区別される層を開発することを目標とした。有機汚染物質である汚れは、室温であっても、約250°C又は350°Cの温度でのベーク後であっても容易かつ安全に除去可能であるべきである。特に、例えばカッテージチーズ、ケチャップ、プロセスチーズ、醤油、サラダ油、又は卵と醤油との混合物による典型的な食品汚れは容易に除去可能であるべきである。清浄性は、例えばコーティングされた基板に対する30mlの3.5パーセント牛乳による汚れ、400°Cへの加熱及び30分間の保持時間を用い、4回の繰り返しによって試験することができる。清浄性はまた、例えばコーティングされた基板に対する50質量の醤油と50質量のヒマワリ油との混合物2gによる汚れ、230°Cへの加熱及び30分間の保持時間を用い、4回の繰り返しによって試験することができる。洗浄は単に水に浸し、濡らしたスポンジを用いて機械的に拭き取ることによって行われる。望ましくは、本発明による層は400°C前後の温度範囲で、また700°Cまでの範囲のピーク温度まで極めて耐熱性であるものとし、更には本発明の一実施の形態による層は、400°Cまでの範囲の温度で高い耐熱衝撃性を示すものとする。層は基板の形状にいかなる実質的な変化も引き起こしてはならず、特にガラスセラミッククックトップ等の平面基板の場合には平坦性が維持されるものとする。例えば摩擦に対する耐機械的摩耗性は、少なくとも上述の方法と同じ程度に効果的であるものとする、すなわち本発明による層の温度安定性及び清浄性の向上は、機械的強度の点でいかなる悪影響も有しないものとする。理想的には、本発明による層の特性は、好ましくは10年間の製品寿命にわたって維持されるものとする。本発明の更に別の実施の形態によると、層は少なくとも45の放射線透過率を有するものとする。また、層は基板の外観を変化させないものとする、すなわち層は無色であり、光学的に透明であるものとする。ただし、本発明による特定の一実施の形態によると、未処理の基板と比べた、層を施した基板の顕著な視覚的区別を可能にするために基板の外観の視覚的変化が望ましい。層は温度応力の前後に接着強度のいかなる変化も受けないものとし、接着強度は、熱への曝露の前後にDIN58196T6に準拠するテープ試験によって、苛酷度severitylevelK2で確認することができる。さらに、層は室温であっても、約250°C及びドウェル時間4時間のベーク後であっても、例えばSidol商標CERAN商標クリーナー等の一般に使用される化学洗剤に対する化学的耐性を示すものとする。本発明によれば、これらの目的は、製品の外表面の少なくとも一部を形成する表面を有し、金属酸化物を含む無機物層が少なくとも部分的に設けられたガラス基板又はガラスセラミック基板を備える製品であって、前記層が少なくとも部分的にナノ結晶構造を有し、基本材料として元素Hf、Y、Zr又はCeの金属酸化物の少なくとも1つを含み、該金属酸化物層が元素Ca、Ce、Y、K、Li、Mg、Sr又はGdのいずれかの少なくとも1つの更なる金属カチオンを含み、少なくとも1つの更なる金属カチオンに起因して熱触媒機能をもたらす、製品によって達成される。驚くべきことに、少なくとも部分的にナノ結晶性の無機構造を含み、基本材料として金属酸化物ZrO2、CeO2、HfO2又はY2O3の少なくとも1つを含有する本発明による層が、低エネルギー表面を有することが見出された。加えて、先に示したように、本発明による層は熱触媒活性カチオンがドープ又は混和されている。層に組み入れることのできるカチオンとしては、例えばCa、Ce、Y、K、Li、Mg、Sr及びGdが挙げられる。ドーピング又は混和は、最大で50molの量まで行うことができる。驚くべきことに、基本層に他の酸化物をドープ又は混和しても、その低い表面エネルギーは維持される。このため、本発明の無機物層は疎水性及び熱触媒性の両方を有し、熱触媒効果は約325°Cの温度で既に生じている。本発明による層は低い表面エネルギーを有し、例えば極性成分は10mN/m未満、特に5mN/m未満であり、分散成分は35mN/m未満、特に30mN/m未満である。この効果はφ>80度、特にφ>85度という水接触角をもたらし、それにより層は防汚効果を有する。熱触媒活性カチオンのドーピングは汚染物質の酸化分解効果を更に有し、このため325°C前後の範囲の温度で既に清浄性の改善をもたらす。そのようにして作製された層は、摩擦等の機械的摩耗に対する高い耐性によって区別される。本発明の一実施の形態では、これは25体積パーセント未満、好ましくは20体積パーセント未満、より好ましくは15体積パーセント未満の範囲の低い残留空隙率によって達成される。典型的な細孔形状としては、通常はボトルネック型の形状である10nm未満、好ましくは5nm未満、より好ましくは3nm未満の範囲の平均細孔径を有するメソ細孔又はミクロ細孔が挙げられる。本発明の特定の一実施の形態では、層は或る特定の割合の閉鎖した細孔、又は水が接近可能でない細孔を含む。細孔の総数に対するこの割合は、0~100で変化し得る。層は好ましくは1.7~2.2、より好ましくは1.8~2.1の範囲の屈折率を有する。層の表面粗度は10nm未満、好ましくは5nm未満、より好ましくは2nm未満の範囲である。この特性は汚染物質の付着を妨げる。基板上の本発明による層の厚さは、視覚的に目立たないという効果を達成するためには好ましくは最大で80nmである。これにより層厚の変化が撹乱干渉効果として認識されなくなる。層の最小厚は5nmである。それによる別の結果は、機械的摩擦に起因して起こり得る表面への損傷、例えば擦り傷が未処理の表面上よりもはるかに目立たないということである。したがって、特定の一実施の形態では、本発明の層は、コーティングされていない表面に比べて擦り傷保護機能を更に有する。層は透明性が高くなるように作製することができる。層は380nm~780nmの波長範囲の電磁放射線に対して80超、好ましくは85超、より好ましくは88超の範囲の透過率を示し得る。その結果として、コーティングは通常は光学的にほとんど目立たない。赤外、特に放射極大radiationmaximum付近の熱放射体では、層は45超の透過率を有することもできる。層の基本材料は、好ましくはZrO2又はCeO2を含む。好ましくは、材料は4~50nmの範囲の結晶子サイズを有するナノ結晶形態であり、ナノ結晶が任意の好ましい配向なしに配置される粒状構造がとりわけ好ましい。ZrO2含有層の場合、層は好ましくは僅かなHfO2を含み、ZrO2に対するその質量比は5質量未満、好ましくは2質量未満、より好ましくは1質量未満である。特定の一実施の形態では、構造の一部が金属酸化物の非晶質画分を含有していてもよい。層中のナノ結晶画分が25体積パーセント超、より好ましくは50体積パーセント超、最も好ましくは75体積パーセント超である。ZrO2は単斜晶、好ましくは正方晶又は立方晶の形態を有し得る。CeO2は単斜晶又は好ましくは正方晶の形態を有し得る。特定の一実施の形態では、熱触媒活性カチオンを、少なくとも部分的にナノ結晶性の材料の結晶格子中に組み入れる。したがって、熱触媒活性金属酸化物は独自の結晶相を形成しない。本発明の特定の一実施の形態では、基本材料はZrのパイロクロア、例えばCe2Zr2O7、La2Zr2O7、Gd2Zr2O7又はY2Zr2O7を含み得る。これらの特定の結晶子を有する層は、非常に高い温度耐性、長期耐久性及び低い表面エネルギーによって区別される。さらに、金属酸化物層はSi、Al、Na、Li、Sr、B、P、Sb、Ti、F、MgF2又はCaF2を含み得る。本発明の別の実施の形態では、層は更に無機非晶質ナノ粒子又は無機結晶ナノ粒子を含み、4nm~30nmの平均径を有する酸化物ナノ粒子が好ましくは使用される。これらのナノ粒子は、とりわけ摩擦抵抗を改善し、及び/又は空隙率を低減するのに役立つ。特定の一実施の形態では、特定のカチオンを層にドープすること又は層を混合酸化物層として形成することは、層における応力緩和をもたらし得る。この特性のために、基板に複数の層を上下に塗布することも可能である。別の特定の実施の形態では、低エネルギー酸化物がガラス状マトリックスに組み込まれる。本発明の利点は、その結果として、ほぼゼロの膨張率を示すガラスセラミック様の層が形成されることである。これにより、層と基板との間又は異なる層間の界面での応力を回避することが可能となる。本発明のこの実施の形態は、高温用途、例えばクックトップで使用され、また或る特定の温度範囲内でゼロに近い熱膨張率を示すようなコーティングガラスセラミック基板に特に好適である。層は、透明、半透明又は不透明であり得る、ガラス又はガラスセラミック等の基板に塗布することもできる。特に、装飾層、半透明層、障壁層、接着促進層、又は導電層、サーモクロミック層、エレクトロクロミック層若しくはマグネトクロミックmagnetochromic層等の機能層が完全又は部分的に設けられた基板に金属酸化物層を塗布することが可能である。本発明の特定の一実施の形態では、層は複数の酸化物、例えばTiO2及びSiO2、又はZrO2及びSiO2を含む混合層に塗布され得る。この層は好ましくは1.65~1.8の屈折率、及び20nm~150nmの範囲の層厚を有する。この混合層の機能は、その屈折率に起因して、層がコーティングされていない基板に比べて同程度に高い反射率を有することから、層の可視性visualconspicuousnessを最小限に抑えることである。さらに、基板は焼結ガラス、焼結ガラスセラミック、セラミック、金属、エナメル又はプラスチック等の材料を含み得る。本発明の別の特定の実施の形態によると、層はガラスセラミック基板、好ましくは50nm~10μm、好ましくは200nm~2000nmの範囲の厚さの、当該技術分野で既知のガラス質領域を有する透明ガラスセラミックに塗布される。本発明に好適なガラスセラミック基板は、とりわけ元素Si、O、Na、Al、Zr、K、Ca、Ti、Mg、Nb、B、Sr、La、Liを含み得る。完全又は部分的にコーティングされた基板を備える製品は、調理、フライ、ベーク又はグリル用の装置、並びにマイクロ波装置及び電気フライヤーの内部又は外部の部品として使用することができる。さらに、これらの製品は天板又は金型の内部若しくは外部に、調理器具の内部若しくは外部に、炉のライニングに、視界窓として、又は内装品に使用することができる。本発明の製品は、暖炉、薪ストーブ、暖房システム、輻射ヒーター、排ガスシステム及び排気システム等の発熱装置の内部又は外部の部品として、視界窓として、内装品に、また特に暖房ユニットの視界窓として使用することもできる。可能な一実施の形態によると、層はゾルゲルプロセス等の液相堆積プロセスを用いて、例えばロールコーティング、パッド印刷プロセス、スプレーコーティングによって、又は好ましくはスクリーン印刷プロセスを用いて基板に塗布される。別の実施の形態によると、層はスパッタリング又はAPCVD常圧CVD等の気相コーティングプロセスを用いて塗布され、パルス中波スパッタリングプロセスが好ましい。別の実施の形態では、本発明の層の下に更なる層が設けられる。この更なる層は例えば、SiO2又は混合酸化物を含む接着促進層である。この層は液相プロセスによって、又は基板がガラスセラミック基板である場合、基板からの偏析segregationによって作製することもできる。さらに、接着促進層はCVDを用いて、又は火炎熱分解によって塗布してもよい。ここで、本発明による高温耐性の低エネルギー層を製造する例示的な実施の形態を下記に説明する。一実施の形態によると、層は基板上に液相堆積プロセスを用いて塗布される。コーティングの前駆体として、例えば塩化物及び/又はニトレート及び/又はスルフェート、また更にはアセテート及び/又はプロピオネート及び/又はアセチルアセトネート及び/又はポリエーテルカルボン酸誘導体のようなCa、Gd、Li、Y、Zr、Hf、Ce、Mg、K、Ti、Al又はLaの金属塩を使用することができる。さらに、Hf、Zr、Ti、Si、Al、Mg、Ce又はYのアルコレートをベースとする従来のゾルゲル前駆体を使用することができる。アルコレートを安定化するために、金属カチオンに配位する有機配位子、特にキレート配位子を使用してもよい。例えば、これらとしては、アセテート、プロピオネート、ホルメート、エトキシアセテート、メトキシエトキシアセテート、メトキシエトキシエトキシアセテート、エチルアセトアセテート、アセチルアセトン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、1,3-プロパンジオール、1,5-ペンタンジオール、メトキシプロパノール、イソプロポキシエタノール等の配位子を挙げることができる。さらに、例えばメタクリレート基又はエポキシド基で官能基化された、有機架橋性置換基を有するハイブリッドポリマーゾルゲル前駆体を使用することもできる。本発明の特定の実施の形態では、非晶質ゾルゲル前駆体粉末を、Ti及び/又はAl及び/又はHf及び/又はZr及び/又はCeを含有するゾルゲル前駆体の合成に使用する。これらは例えば、1molのジルコニウムテトラプロピレートと1molのアセチルアセトンとを反応させ、続いて3molのH2Oと縮合させ、ロータリーエバポレーターを用いて揮発性成分を除去することによって得られる。加水分解反応及び縮合反応は、酸性環境及び塩基性環境のいずれで行うこともできる。スクリーン印刷可能なコーティング溶液に使用するのが好ましい溶媒は、10バール未満、より好ましくは5バール未満、最も好ましくは1バール未満の蒸気圧を有する溶媒を含む。これらとしては、例えば水、n-ブタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、テルピネオール、n-ブチルアセテートの組合せを挙げることができる。所望の粘度の調整を可能にするために、適切な有機添加剤及び無機添加剤を使用する。有機添加剤としては、例えばヒドロキシエチルセルロース及び/又はヒドロキシプロピルセルロース及び/又はキサンタンガム及び/又はポリビニルアルコール及び/又はポリエチレンアルコール及び/又はポリエチレングリコール、ブロックコポリマー及び/又はトリブロックコポリマー及び/又は樹脂treeresins及び/又はポリアクリレート及び/又はポリメタクリレートを挙げることができる。ペースト化のためにポリシロキサン及びシリコーン樹脂を使用することができ、特定の実施の形態によると、無機ナノ粒子を使用してもよい。本発明によると、粘度は通常は1mPas~10000mPas、好ましくは10mPas~5000mPas、より好ましくは100mPas~2000mPasの範囲である。ここで、本発明の適用例を添付の図面を参照してより詳細に説明する。本発明によるコーティング溶液を作製するための実施例:実施例1:本発明によるコーティング溶液を作製するために、4gの53質量CaO×0.08、ZrO2×0.92前駆体粉末を、ジエチレングリコールモノエチルエーテルに溶解させ、10gのトリエタノールアミン及び4gのペースト化剤と混合する。スクリーン印刷によって、2μm~4μmの範囲のウェット膜厚を有する層を塗布する。これは200°Cでの乾燥後に、層厚200nm~400nmというキセロゲル膜厚にまで縮小する。500°Cで1時間にわたる層の熱処理によって本発明による層が得られ、これは2日後にφ>80度の水接触角を示す。層の厚さは30nm~60nmの範囲である。食品、すなわち醤油、ケチャップ、プロセスチーズ及びカッテージチーズを焼き付けた250°C、350°C後、これらの層はコーティングされていない同様の表面よりもはるかに良好な清浄性を示す。初めに水、次に洗剤含有水、次にエタノール、次にカミソリの刃を用いて洗浄を行った。実施例2:本発明によるコーティング溶液を作製するために、4gの57質量Y2O3×0.08、ZrO2×0.92前駆体粉末を、水に溶解させ、10gのトリエタノールアミン及び4gのペースト化剤と混合する。スクリーン印刷によって、2μm~4μmの範囲のウェット膜厚を有する層を塗布する。これは200°Cでの乾燥後に、層厚200nm~400nmというキセロゲル膜厚にまで縮小する。約500°Cで1時間にわたる層の熱処理によって本発明による層が得られ、これは2日後にφ>80度の水接触角を示す。層の厚さは30nm~60nmの範囲である。実施例3:本発明によるコーティング溶液を作製するために、4gの58質量CeO2×0.30、ZrO2×0.70前駆体粉末を、n-ブタノールに溶解させ、10gのトリエタノールアミン及び4gのペースト化剤と混合する。スクリーン印刷によって、2μm~4μmの範囲のウェット膜厚を有する層を塗布する。これは200°Cでの乾燥後に、層厚200nm~400nmというキセロゲル膜厚にまで縮小する。約500°Cで1時間にわたる層の熱処理によって本発明による層が得られ、これは2日後にφ>80度の水接触角を示す。層の厚さは30nm~60nmの範囲である。本発明による金属酸化物層を作製する方法:例示的な実施形態は、インラインスパッタシステムにおいて気相プロセスによって作製された、CaをドープしたZrO2層に関する。基板をロックチャンバーを介して加熱チャンバーに移し、そこで規定の温度を達成するために規定の時間にわたって保持する。加熱チャンバーは別に設けても、又はコーティングチャンバーの一部として設けてもよい。続いて、基板のコーティングをスパッタリング法を用いて達成するが、プロセス安定性の理由からパルススパッタリング法MFスパッタリングが好ましい選択肢である。最も単純な場合には、ZrO2のみを堆積させる。接着促進層及び/又は障壁層及び/又は反射防止層からなる多層コーティング系を堆積させることも可能である。高強度の特に緻密な層を得るためには、ZrO2スパッタリングの出力密度を2W/cm2超、好ましくは10W/cm2超、最も好ましくは20W/cm2超としなくてはならない。Arスパッタリングガスを用いる場合のマグネトロンスパッタリングに対する圧力は、1×10-4ミリバール~1×10-2ミリバールの範囲である。"