2つの接合相手を予定された接合場所で接合するための方法であって、一方の接合相手1が、セラミックからなり、かつもう一方の接合相手が、金属またはセラミックからなる上記方法において、それらの接合相手を互いに前記接合場所で接触するように配置し、そしてレーザービームを前記接合場所で接合相手の一方に向けて、レーザービームがこの接合相手を通り抜けかつ少なくとも部分的にもう一方の接合相手中に侵入するようにすることを特徴とする、上記方法。レーザービームを、セラミックに向けることを特徴とする、請求項1記載の方法。有利に1~5mm、特に有利に3mmの長さを有するスリット5がレーザービームによって入射されることを特徴とする、請求項1または2記載の方法。個々のスリット5からなるパターン2は、レーザービームによって接合相手中へと入射され、全てのスリット5が、縦スリット3を形成するかまたは縦スリット3に対して垂直に走る横スリット4を形成することを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。それぞれ1つの縦スリット3に1つの横スリット4が隣接して入射されることを特徴とする、請求項4記載の方法。全ての縦スリット3は、互いに平行に走る縦列6で固定された間隔8で互いに存在し、および全ての横スリット4は、互いに平行に走る横列7で固定された間隔9で互いに存在し、およびそれぞれの横スリット4に1つの縦スリット3が隣接して入射されることを特徴とする、請求項4または5記載の方法。一方の接合相手1は、セラミックの窒化アルミニウムからなり、かつもう一方の接合相手は、金属のアルミニウムからなることを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。2つの接合相手は、同一かまたは異なるセラミックからなることを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。レーザービームは、静止空気、流動空気または流動する窒素からなる雰囲気中で一方の接合相手1に導かれることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。2つの接合相手のためには、平らな板が使用されることを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項に記載の方法。金属製の接合相手は、0.5~3.0mmの厚さを有することを特徴とする、請求項10記載の方法。セラミック製の接合相手1は、0.5~2.0mmの厚さを有する窒化アルミニウム基体であることを特徴とする、請求項10または11記載の方法。セラミックは、AlN基体であり、および上側で金メッキ処理された接点を有するLEDを支持することを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項に記載の方法。レーザービームを発生させるために、YAGレーザーが使用されることを特徴とする、請求項1から13までのいずれか1項に記載の方法。セラミック製のソケット上のLEDsまたはLED回路を金属製のケーシングと接合するための、請求項1から14までのいずれか1項に記載の方法の使用。実施例a厚さ0.7mmおよび12×18mmの寸法の平らなアルミニウム板を、厚さ0.63mmの僅かにより大きい平らなAlN基体上に置き、YAGレーザーを反応性ガスで、ならびに反応性ガスなしにさらなる反応性ガスなしに空気で開放してAlN基体上に垂直に転向させる。AlN基体は、上側で金メッキ処理された接点と一緒にLEDを支持する。1つのパターン図1参照には、長さ3mmの小さな形状のスリットがセラミック中にアルミニウム板の下方にまで入れられる。このスリットには、レーザー後にAl-Al2O3が詰め込まれ、AlとAlNとが共に接合される。分離力は、50Nである。b上記したように、AlNだけは、1.5mmの厚さを有する。ここで、方向を合わせたエアジェットが反応ガスとして使用される。図1につき、本発明をさらに説明する。セラミックからなる接合相手1の直ぐ下には、図示されていない第2の接合相手が配置されている。本発明によれば、個々のスリット5からなるパターン2は、レーザービームによって接合相手中へと入射され、その際に全てのスリット5は、縦スリット3を形成するかまたは縦スリット3に対して垂直に走る横スリット4を形成する。図示した実施態様において、それぞれ1つの縦スリット3に隣接して、1つの横スリット4が入射されているかまたは配置されている。全ての縦スリット3は、互いに平行に走る縦列6で固定された間隔8で互いに存在し、および全ての横スリット4は、互いに平行に走る横列7で固定された間隔9で互いに存在し、およびそれぞれの横スリット4に隣接して、1つの縦スリット3が入射されている。間隔8と9は、有利に同じ長さである。スリットができるだけ均一に表面上に分布する、別のパターンも好ましい。