"偏光出力レーザビームの高速強度変化を実現する方法であって、ビーム光路の第1の部分に沿ってワークピース上のターゲット位置に向けて伝搬する入力レーザビームを生成し、回転可能な駆動シャフトと協働して前記ビーム光路の第1の部分を横断する回転軸周りに前記回転可能な駆動シャフトを回転させる検流計駆動部材を含む検流計システムを提供し、前記検流計駆動部材は、前記回転軸周りに前記回転可能な駆動シャフトを回転させて、選択された角度位置の間で前記回転可能な駆動シャフトの高速遷移を提供し、高感度光入射角光学素子を前記回転可能な駆動シャフトに固定して前記高感度光入射角光学素子を前記回転軸周りに回転可能とし、前記高感度光入射角光学素子は、前記回転可能な駆動シャフトの角度位置によって決定される入射角で前記入力レーザビームが前記光学平面フィルムに入射するように、前記ビーム光路の第1の部分と交差するように配置された光学平面フィルムを含み、前記光学平面フィルムは、前記入力レーザビームから、前記ビーム光路の第2の部分に沿って前記ワークピースのターゲット位置に向けて伝搬する偏光出力レーザビームを生成し、前記偏光出力レーザビームは、前記入力レーザビームと前記光学平面フィルムとがなす前記入射角の関数として変化する強度によって特徴付けられ、前記検流計駆動部材により提供される前記回転可能な駆動シャフトの高速遷移は、前記入力レーザビームと前記光学平面フィルムとがなす前記入射角を変化させて前記偏光出力レーザビームの強度の高速変化を実現する、方法。前記光学平面フィルムは、前記入力レーザビームを第1の光成分及び第2の光成分に分離して前記偏光出力レーザビームを生成し、前記偏光出力レーザビームは前記第1の光成分に対応する、請求項1の方法。前記光学平面フィルムは、前記第1の光成分を前記光学平面フィルムに透過させ、前記第2の光成分を前記光学平面フィルムで反射させることにより、前記入力レーザビームを第1の光成分及び第2の光成分に分離する、請求項2の方法。さらに、前記光学平面フィルムで反射した第2の光成分と交差するように配置されたレーザダンプ要素を提供し、前記レーザダンプ要素は前記第2の光成分を吸収して前記第2の光成分が前記ワークピースに到達することを防止する、請求項3の方法。前記高感度光入射角光学素子が薄膜偏光器である、請求項1の方法。前記高感度光入射角光学素子は、前記ビーム光路の前記第1の部分と前記第2の部分との間にビームオフセットをもたらし、さらに、前記偏光出力レーザビームがビーム変位光学素子に入射するように前記ビーム変位光学素子を前記ビーム光路の第2の部分と交差するように配置し、前記ビーム変位光学素子は前記偏光出力レーザビームの少なくとも一部を前記ビーム光路の第3の部分に沿って前記ターゲット位置に向けて透過させ、前記ビーム変位光学素子は前記ビーム光路の第3の部分を前記ビーム光路の第1の部分と第2の部分との間の前記ビームオフセットを補償する変位量だけ前記ビーム光路の第2の部分からずらす、請求項1の方法。前記検流計駆動部材は第1の検流計駆動部材であり、前記回転可能な駆動シャフトは第1の回転可能な駆動シャフトであり、前記光学平面フィルムと前記入力レーザビームとがなす前記入射角は第1の入射角であり、前記回転軸は第1の回転軸であり、さらに、第2の回転可能な駆動シャフトと協働して前記ビーム光路の第2の部分を横断する第2の回転軸周りに前記第2の回転可能な駆動シャフトを回転させる第2の検流計駆動部材を提供し、前記ビーム変位光学素子は前記第2の回転可能な駆動シャフトに固定され前記ビーム変位光学素子を前記第2の回転軸周りに回転可能とし、前記第2の検流計駆動部材は前記第2の回転可能な駆動シャフトと前記ビーム変位光学素子を前記第2の回転軸周りに回転させて、前記ビーム変位光学素子と前記偏光出力レーザビームとがなる第2の入射角を調整する、請求項6の方法。前記ビーム光路の第1の部分と第2の部分との間のビームオフセットの範囲は前記第1の入射角の関数であり、前記ビーム光路の第2の部分と第3の部分との間の変位量は前記第2の入射角の関数であり、前記第2の検流計駆動部材は前記第2の回転可能な駆動シャフトと前記ビーム変位光学素子を前記第2の回転軸周りに回転させ、前記ビームオフセットの変化に応じて前記変位量を調整する、請求項7の方法。前記ビーム変位光学素子は反射防止膜板である、請求項6の方法。前記ビーム変位光学素子は薄膜偏光器である、請求項6の方法。偏光出力レーザビームの高速強度変化を実現する好ましい方法は、ビーム光路の第1の部分に沿ってワークピース上のターゲット位置に向けて伝搬する入力レーザビームを生成する。また、この方法は、回転可能な駆動シャフトと協働して上記ビーム光路の第1の部分を横断する回転軸周りに上記回転可能な駆動シャフトを回転させる検流計駆動部材を含む検流計システムを提供する。上記検流計駆動部材は、上記回転可能な駆動シャフトの回転を制御して、選択された角度位置の間で上記回転可能な駆動シャフトの高速遷移を提供する。上記回転可能な駆動シャフトに固定された高感度光入射角光学素子により、上記高感度光入射角光学素子を上記回転軸周りに回転可能とする。上記高感度光入射角光学素子は、上記回転可能な駆動シャフトの角度位置によって決定される入射角で上記入力レーザビームが上記光学平面フィルムに入射するように、上記ビーム光路の第1の部分と交差するように配置された光学平面フィルムを含む。上記光学平面フィルムは、上記入力レーザビームから、上記ビーム光路の第2の部分に沿って上記ワークピースのターゲット位置に向けて伝搬する偏光出力レーザビームを生成する。上記偏光出力レーザビームは、上記入力レーザビームと上記光学平面フィルムとがなすとがなす上記入射角の関数として変化する強度によって特徴付けられる。上記検流計駆動部材により提供される上記回転可能な駆動シャフトの高速遷移は、上記入力レーザビームと上記光学平面フィルムとがなすとがなす上記入射角を変化させて上記偏光出力レーザビームの強度の高速変化を実現する。付加的な態様及び利点は、添付図面を参照して述べられる以下の好ましい実施形態の詳細な説明から明らかになるであろう。図1は、入力レーザビーム102を選択的に減衰させて強度例えばパワーレベルを変化させた偏光出力レーザビーム103を生成するためのシステム100の一実施形態のハードウェアアーキテクチャを示す模式的ブロック図である。入力レーザビーム102は、p偏光を含み、好ましくは実質的に全くs偏光を含んでいない。入力レーザビーム102は、紫外線UVレーザ源例えば、355nmレーザのようなこれに限られるわけではない従来のレーザ源図示せずにより生成される。システム100は、入力レーザビーム102がワークピース図示せず上のターゲット位置に向かって伝搬していくビーム光路108の第1の部分106と交差するように配置された高感度光入射角光学素子104を含んでいる。一例では、光学素子104は偏光器であり、好ましくは薄膜偏光器である。しかしながら、より詳しくは後述するが、光学素子と入射光とがなす入射角の関数として変化する入射光透過率によって特徴付けられる他の任意の光学素子を用いてもよい。光学素子104は、光学平面フィルム114例えばオプティカルコーティングがその上に形成されたガラス又はガラス状材料からなる基板112を含んでいる。基板112は、図1に示されるように、比較的平坦な板であり得る。あるいは、基板112をくさび形にして、別のくさび形の基板に固定して例えば結合剤で固定して立方体を形成し、光学平面フィルム114が立方体の中心を通って対角に切断するようにしてもよい。光学平面フィルム114は、入力レーザビーム102を偏光出力レーザビーム103に対応する透過光成分と反射光成分118とに分離する。偏光出力レーザビーム103は、可変で、後述するように光学平面フィルム114と入力レーザビーム102とがなすとがなす入射角θ1に依存する強度レベルを有するp偏光を含んでいる。好ましくは、偏光出力レーザビーム103はs偏光を含んでいない。反射光成分118も、偏光出力レーザビーム103の強度レベルの変化と逆の関係で変化する強度レベルを有するp偏光を含んでいる。入力レーザビーム102がp偏光に加えてs偏光を含んでいると、偏光出力レーザビーム103及び反射光成分118も、入射角θ1の関数である可変強度レベルを有するs偏光を含み得る。反射光成分118は、反射光成分118を吸収して反射光成分118がワークピースに到達するのを防止するレーザダンプ要素122に向かって反射ビーム光路120に沿って進む。第1の実施形態においては、偏光出力レーザビーム103は、偏光出力レーザビーム103と交差するように配置された第2の光学素子126に向かってビーム光路108の第2の部分124に沿って進む。第2の光学素子126は、光学素子104によりもたらされたビームオフセット127後でより詳細に述べるを補償するために設けられたビーム変位光学素子である。別の第2の実施形態図示せずにおいては、第2の光学素子126が省略され、偏光出力レーザビーム103は、ワークピース上のターゲット位置に入射するように偏光出力レーザビーム103を調整する次段の従来の光学系128例えば、集束レンズやビームポジショナに向かってビーム光路108の第2の部分124に沿って進み続ける。以下の説明は、第1の実施形態について述べている。第2の光学素子126は、偏光出力レーザビーム103を受けて、それをあるいは偏光出力レーザビーム103の一部をビーム光路108の第3の部分129に沿って光学系128に向けて透過させる。光学素子104と同様に、第2の光学素子126は、偏光出力レーザビーム103の光の一部をビーム光路108から分離して反射光ビーム130を生成する光学平面フィルムを含む高感度光入射角光学素子であってもよく、符号103’で表される偏光出力レーザビーム103の残りの部分がビーム光路108の第3の部分129に沿って第2の光学素子126中を透過してもよい。一例においては、第2の光学素子126は薄膜偏光器である。第2の光学素子126が反射光ビーム130を生成する光学平面フィルムである場合、反射光ビーム130を吸収するために第2のレーザダンプ要素132が設けられる。あるいは、第2の光学素子126は反射防止膜板であってもよく、この場合、反射光ビーム130は生成されず、第2のレーザダンプ要素132が省略され、実質的にすべての偏光出力レーザビーム103がビーム光路108の第3の部分129に沿って第2の光学素子126中を透過する。図1に示されるように、ビーム光路108の第2の部分124は、ビームオフセット127に対応する量だけ第1の部分106からオフセットしている。第2の光学素子126は、ビーム光路108の第3の部分129が第1の部分106の揃うように、ビーム光路108の第3の部分129を、ビームオフセット127と実質的に大きさが等しく方向が逆の変位量134だけ第2の部分124から変位させるためにシステム100内に設けられる。換言すれば、第2の光学素子126は、光学素子104によりもたらされたビームオフセット127を補償するために、任意に設けられるものである。図2は、入射角θ1と偏光出力レーザビーム103の強度レベルを制御するために光学素子104と協働する検流計システム200を示すシステム100わかりやすくするためにダンプ要素122及び132は除いているの底面図である。検流計システム200は、回転可能な駆動シャフト204と協働する検流計駆動部材202を含んでいる。従来の検流計システムは、典型的には、ワークピース上の異なるターゲット位置にレーザビームを導くために駆動シャフトに固定されたミラーを含んでいる。例えば、米国特許第4,532,402号集積回路上に集束ビームを位置決めする方法及び装置は、従来の検流計システムを述べている。しかしながら、検流計システム200においては、従来のミラーは光学素子104に置き換えられており、光学素子104は、偏光出力レーザビーム103の高速減衰を可能とするために、マウンティングシューのようなマウント206を介して駆動シャフト204の端部に固定されている。プロセッサ209から受信した制御信号208に応答して、検流計駆動部材202は、ビーム光路108の第1の部分106を横断する回転軸210周りにシャフト204と光学素子104を回転させる。図1において、回転軸210は紙面の内外に延びている。プロセッサ209は、選択された偏光出力レーザビーム103の強度レベルをシャフト204及び光学素子104の対応する角度位置に関連付ける情報例えばコンピュータプログラムに応じて動作する。偏光出力レーザビーム103に対して選択された強度レベルが所望のものである場合、プロセッサ209は、選択された強度レベルに関連付けられた対応する角度位置を表す指令を含む制御信号208を検流計駆動部材202に送る。検流計駆動部材202は、制御信号208に応答してシャフト204及び光学素子104を対応する角度位置まで回転させる。検流計システム200は、プロセッサ209から指令された対応する角度位置に比較的高速かつ正確にシャフト204を移動するように動作する。このように、光学素子104をシャフト204に固定することによって、検流計システム200は、光学平面フィルム114と入力レーザビーム102とがなすとがなす入射角θ1を素早く変化させ、選択された偏光出力レーザビーム103の強度レベルに関連付けられた対応する角度位置に正確に光学素子104を位置決めすることが可能である。一例では、検流計システム200は、10ミリ秒ms未満、好ましくは約200マイクロ秒μs以内に、対応する角度位置のうち異なる角度位置の間で光学素子104を回転させることができる。入射角θ1の範囲を変化されることにより、検流計システム200は、偏光出力レーザビーム103のp偏光の強度レベルを制御することができる。上述したように、光学平面フィルム114は、入力レーザビーム102のp偏光の一部を透過させ、一部を反射させるように動作する。光学平面フィルム114を透過するp偏光の量は、光学平面フィルム114と入力レーザビーム102とがなすとがなす入射角θ1に依存している。換言すれば、偏光出力レーザビーム103のp偏光の強度レベルは、入射角θ1の関数として変化する。一例では、偏光出力レーザビーム103のp偏光の強度レベルは、入射角θ1がブルースター角に対応するときに最大となる。光学平面フィルム114で反射するp偏光の量も入射角θ1に依存しているが、光学平面フィルム114を透過するp偏光の量に反比例して変化する。したがって、一例では、反射光成分118のp偏光の強度レベルは、入射角θ1がブルースター角となるときに最小となる。図3は、光学素子104が薄膜偏光器であり、入力レーザビーム102の波長が約355nmである一例における、光学素子104のp偏光透過率と入射角θ1を表す曲線300を示している。図3において、縦座標軸すなわち透過率軸は0.0001~1に及んでおり、0.0001は透過されるp偏光入射光の0.01を表しており、1は透過されるp偏光入射光の100に対応している。この例において、ブルースター角は約56.6度の角に対応しており、入射角θ1がブルースター角のときに、光学素子104は入力レーザビーム102のp偏光のほぼ100例えば95よりも多いを透過させることが可能である。曲線300は、入射角θ1がブルースター角から乖離すると例えばルースター角より小さくなると、偏光出力レーザビーム103のp偏光の強度レベルが減少することを示している。例えば、入射角θ1が約25度のとき、偏光出力レーザビーム103のp偏光の強度レベルは、入力レーザビーム102のp偏光の強度レベルの0.1未満である。したがって、検流計システム200は、光学素子104を選択された角度位置まで回転軸210周りに回転させることにより、偏光出力レーザビーム103を素早くかつ正確に所望の強度レベルに減衰させることができる。システム100は、光学素子104を素早く回転させることが可能な検流計システム200を含んでいるので、システム100は、従来の回転波長板及び次段偏光器よりもずっと高速な動的レーザビーム減衰を可能にする。また、AOMシステムと比較すると、システム100は、最大透過率をより高くすることができ、光学的な複雑さを低減することができ、これによりシステム100をより簡単に位置合わせし、システム100の必要なビーム光路をより短くすることができる。検流計システム200が入射角θ1を変化させるとき、ビームオフセット127の範囲も変化する。したがって、システム100は、第2の光学素子126と協働してビームオフセット127の変化を補償する第2の検流計システム400を任意的に含む。第2の検流計システム400は、回転可能な駆動シャフト404と協働する検流計駆動部材402を含んでいる。第2の光学素子126は、マウンティングシューのようなマウント406を介して駆動シャフト404の端部に固定されている。プロセッサ209から受信した制御信号408に応答して、検流計駆動部材402は、ビーム光路108の第2の部分124を横断する回転軸410周りにシャフト404と第2の光学素子126を回転させて、第2の光学素子126と偏光出力レーザビーム103とがなすとがなす入射角θ2を変化させる。入射角θ2が変化すると、変化量134の範囲が変化する。したがって、プロセッサ209は、ビーム光路108の第3の部分129の位置が第1の部分106の位置と揃ったままとなるように、第2の光学素子126の回転を光学素子104の回転に合わせる情報例えばコンピュータプログラムに応じて動作する。プロセッサ209が光学素子104を回転させるために制御信号208を検流計駆動部材202に送信する際に、プロセッサ209は、また、第2の光学素子126の角度位置を表す指令を含む制御信号408を検流計駆動部材402に送信し、検流計駆動部材402は、光学素子104の回転と連携して第2の光学素子126を回転させて、ビーム光路108の第3の部分129の位置を第1の部分106の位置に揃え続ける。また、第2の光学素子126が光学素子104のような高感度光入射角光学素子である場合、検流計システム400は、第2の光学素子126を回転軸410周りに回転させて、システム100が偏光出力レーザビーム103を減衰できる範囲を広げてもよい。光学素子104の回転により入射角θ1が変化すると、反射ビーム光路120は、図1の位置から右又は左にずれる。したがって、一実施形態においては、レーザダンプ要素122は、反射光成分118が反射ビーム光路120のずれの範囲を超えてレーザダンプ要素122に入射するのに十分なほど大きい。別の実施形態においては、反射光成分118がレーザダンプ要素122に必ず入射するようにレーザダンプ要素122が反射ビーム光路120のずれと連携して移動する。また、第2の光学素子126が反射光ビーム130を生成する光学平面フィルムを含む場合には、入射角θ2の変化に応じて反射光ビーム130がずれる際に反射光ビーム130を捕捉するように、レーザダンプ要素122の実施形態の1つに応じてレーザダンプ要素132を構成してもよい。本発明の基礎をなす原理から逸脱することなく上述した実施形態の詳細に対して多くの変更が可能であることは当業者に自明であろう。例えば、偏光出力レーザビーム103に代えて、あるいは偏光出力レーザビーム103に加えて可変強度加工ビームとして反射光成分118を用いることが可能であることが考えられる。したがって、本発明の範囲は、以下の特許請求の範囲のみによって画定されるべきである。"