熱電子を放出するカソード電極と、真空状態に維持される真空室内で前記カソード電極から放出された熱電子を加速する加速器と、を備えた電子線照射装置であって、前記カソード電極にカソード電源を接続する複数の接続端子と、前記複数の接続端子が収容される端子収容空間と、前記端子収容空間から水または酸素を除去する除去手段と、を備えたことを特徴とする電子線照射装置。前記除去手段は、前記端子収容空間を真空状態に減圧可能な真空ポンプを備えていることを特徴とする請求項1に記載の電子線照射装置。前記除去手段は、前記端子収容空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置を備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の電子線照射装置。前記除去手段は、前記端子収容空間を真空状態に減圧可能な真空ポンプと、前記端子収容空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置とを備え、前記端子収容空間を真空状態に減圧させた後に、前記真空ポンプによる減圧処理から前記不活性ガス供給装置によるガス供給処理に切り換えて、該端子収容空間に不活性ガスを供給させる切換制御部をさらに備えていることを特徴とする請求項1に記載の電子線照射装置。熱電子を放出するカソード電極と、真空状態に維持される真空室内で該カソード電極から放出された熱電子を加速する加速器と、前記カソード電極にカソード電源を接続する複数の接続端子と、該複数の接続端子が収容される端子収容空間とを備えた電子線照射装置を用いた電子線照射方法であって、前記端子収容空間から水または酸素を除去する除去工程と、前記複数の接続端子を通じて前記カソード電源から前記カソード電極に電力を供給し、該カソード電極から熱電子を放出させる電子放出工程と、前記加速器が前記カソード電極から放出された熱電子を加速する加速工程とを有することを特徴とする電子線照射方法。前記除去工程は、前記端子収容空間を真空状態に減圧する減圧工程を有することを特徴とする請求項5に記載の電子線照射方法。前記除去工程は、前記端子収容空間に不活性ガスを供給するガス供給工程を有することを特徴とする請求項5または6に記載の電子線照射方法。前記除去工程は、前記端子収容空間を真空状態に減圧する減圧工程を遂行した後に、前記端子収容空間に不活性ガスを供給するガス供給工程を遂行することを特徴とする請求項5に記載の電子線照射方法。一方、カソード電極に電力を供給するための電源は大気中に設置されるため、上述した特許文献1、2に示すような従来の電子線照射装置では、カソード電極に電源を接続できる接続端子を大気側に備えている。上述したように、電子線照射装置の稼働中、カソード電極自体は1000°C程度まで上昇するため、カソード電極に接続された接続端子も伝熱により200°C以上になる。そうすると、電子線照射装置の稼働中に接続端子が酸化したり、電子線照射装置を停止した後に接続端子が200°Cから室温に低下する際に大気中の水が付着したりして、接続端子の表面に酸化皮膜が形成されてしまい、接続端子と電源のコネクタとの導電性が低下し接触抵抗が増大し、十分に通電できないおそれがあった。そこで本発明は、このような課題に鑑み、簡易な構成で接続端子への水または酸素の付着を防止することが可能な電子線照射装置および電子線照射方法を提供することを目的としている。上記課題を解決するために、本発明の電子線照射装置は、熱電子を放出するカソード電極と、真空状態に維持される真空室内でカソード電極から放出された熱電子を加速する加速器とを備えた電子線照射装置であって、カソード電極にカソード電源を接続する複数の接続端子と、複数の接続端子が収容される端子収容空間と、端子収容空間から水または酸素を除去する除去手段とを備えたことを特徴とする。除去手段は、端子収容空間を真空状態に減圧可能な真空ポンプを備えていてもよい。除去手段は、端子収容空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置を備えていてもよい。除去手段は、端子収容空間を真空状態に減圧可能な真空ポンプと、端子収容空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置とを備え、端子収容空間を真空状態に減圧させた後に、真空ポンプによる減圧処理から不活性ガス供給装置によるガス供給処理に切り換えて、端子収容空間に不活性ガスを供給させる切換制御部をさらに備えていてもよい。熱電子を放出するカソード電極と、真空状態に維持される真空室内でカソード電極から放出された熱電子を加速する加速器と、カソード電極にカソード電源を接続する複数の接続端子と、複数の接続端子が収容される端子収容空間とを備えた電子線照射装置を用いた電子線照射方法であって、端子収容空間から水または酸素を除去する除去工程と、複数の接続端子を通じてカソード電源からカソード電極に電力を供給しカソード電極から熱電子を放出させる電子放出工程と、加速器がカソード電極から放出された熱電子を加速する加速工程とを有することを特徴とする。除去工程は、端子収容空間を真空状態に減圧する減圧工程を有していてもよい。除去工程は、端子収容空間に不活性ガスを供給するガス供給工程を有していてもよい。除去工程は、端子収容空間を真空状態に減圧する減圧工程を遂行した後に、端子収容空間に不活性ガスを供給するガス供給工程を遂行してもよい。本発明によれば、簡易な構成で接続端子への水または酸素の付着を防止することができ、接続端子への酸化皮膜の形成を抑制することが可能となる。これにより、接続端子とカソード電源のコネクタとの導電性が低下して接触抵抗が増大してしまい十分に通電できない事態を回避することができる。以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。電子線照射装置100図1は、電子線照射装置100の外観斜視図であり、図2は、図1におけるZ軸方向から電子線照射装置100を見た図である。なお、図1では、理解を容易にするために電子線照射装置100を支持する支持機構を省略する。図1および図2に示すように、電子線照射装置100は、電子銃110と、高周波電源112と、導波管114と、プリバンチャ116と、加速器118と、スキャンホーン120と、酸化防止装置200とを備えて構成されている。なお、電子銃110、プリバンチャ116、加速器118、スキャンホーン120は、内部空間真空室が連続しており、この内部空間は、イオンポンプ等の真空ポンプ102で高真空状態から超高真空状態例えば、10E-5Pa以下に維持される。電子線照射装置100において、電子銃110から放出された熱電子は、プリバンチャ116、加速器118で加速され、スキャンホーン120を通過して、コンベア10で搬送される被照射物12に向かって図1中Y軸方向に照射される。以下、電子線照射装置100の各機能部について詳述する。電子銃110は、例えば、三極管電子銃であり、カソード電源交流電源104から供給された電力によってカソード電極を加熱し、パルス状に印加された高電圧のグリッドパルス電圧引出電圧により、電子線を放出する。電子銃110の具体的な構成については、酸化防止装置200とともに後に詳述する。高周波電源112、導波管114高周波電源112は、クライストロン等で構成され、導波管114を通じてプリバンチャ116および加速器118に、例えばSバンドに相当する3GHzのパルス状の高周波電力を供給する。導波管114は、セラミック等で構成されたRF窓114a、114bを通じて、高周波電源112から供給される高周波の電圧を加速器118に供給する。導波管114におけるRF窓114aとRF窓114bの間には、六フッ化硫黄SF6等の絶縁ガスが充填されており、高周波電源112から出力された電圧によって導波管114が放電してしまう事態を回避する。なおRF窓114a、114bは、SF6と真空とを隔てる境界の役割を果たす。プリバンチャ116プリバンチャ116は、電子銃110と加速器118の間に設けられ、導波管114を通じて高周波電源112に接続されている。プリバンチャ116は、電子銃110から入射された電子線をバンチング密度圧縮速度変調して、加速器118に送出する。具体的に説明すると、プリバンチャ116内は、高周波電源112から供給された高周波の電圧によって高周波電界が形成されており、プリバンチャ116を通過した電子線は、バンチングされて加速器118に入射する。プリバンチャ116で電子線をバンチングすることにより、加速器118で加速された電子線のエネルギーの分散を小さくすることができ、電子線のエネルギーの均一性を向上させることが可能となる。ここで、プリバンチャ116によって圧縮された電子線の加速器118への入射タイミングが加速器118における高周波の正位相と同期したときのみ、電子線は加速器118で効率よく加速される。したがって、プリバンチャ116から加速器118への電子線の入射タイミングを調整するために、プリバンチャ116の高周波導入部116aには、不図示の位相調整手段が設けられている。また、電子線の圧縮率バンチングされた電子線の長さも加速器118による加速効率に影響するため、すなわち、電子線の長さが短い程、加速化効率が向上する。したがって、供給する高周波の強度を調整して電子線の長さを調整するために、プリバンチャ116の高周波導入部116aには、不図示の減衰アッテネータ手段が設けられている。加速器118図3は、加速器118の構成を説明するための説明図である。本実施形態では、加速器118として、定在波型の線形リニアック加速器を採用しているが、電子を加速できればよく、進行波型の線形加速器や、シンクロトロン、サイクロトロン等の円形加速器を採用することもできる。図3に示すように、電子銃110から放出される電子線図3中、黒い塗つぶしで示すは、図3中Y軸方向に広がった状態で放出され、プリバンチャ116の内部空間に入射される。そして、プリバンチャ116によるバンチング機能により、電子線は、Y軸方向に圧縮されて加速器118に入射される。ここで、加速器118は、内部に複数の加速空間130図3中、130a~130cで示すを有している。図3では理解を容易にするために、加速空間130を3として簡略化して説明するが、本実施形態の加速器118は30程度の加速空間130を有する。なお、電子銃110から所定数の加速空間130の距離L加速空間130における電子線の進行方向図3中Y軸方向の距離は、電子銃110から遠ざかるに従って徐々に長くなるように構成され、以降の加速空間130の距離Lは、所定長さに維持されるように構成される。高周波電源112から加速器118に高周波の電圧例えば、3GHzが供給されると、複数の加速空間130が空間共振器として機能し、空間共振器内に時間的に変化する電界が生じる。そして、この時間的に変化する電界で電子線を加速する。具体的に説明すると、加速器118の加速空間130は、高周波電源112から導入される高周波の電圧によって、例えば、時刻t0に空間電荷が正になっている箇所132aは、図3bに示すように、次の時刻t1には空間電荷が負-になる。電子は負の電荷を帯びているので、空間電荷が正に帯電している箇所正位相の箇所に引き寄せられる。ここで、電子線の速度と加速空間130における正に帯電するタイミングが同期するように、高周波電源112から供給される電圧の周波数と、加速空間130の距離Lが設計されているため、電子線は加速器118内で徐々に加速され、最終的には、例えば10MeV程度まで加速されて、スキャンホーン120に入射される。スキャンホーン120スキャンホーン120は、その内部空間が加速器118と連結され、加速器118の出口付近に設けられたスキャン電磁石122と、加速器118と連結する端部と対向する端部に設けられた電子線取出部124とを含んで構成される図1、図2参照。スキャン電磁石122は、加速器118から入射された電子線を水平方向図1中X軸方向に走査スキャンする。電子線の進行方向は鉛直方向図1中Y軸方向であるため、スキャン電磁石122が鉛直方向に進行する電子線を水平方向に走査することにより、水平方向に幅のある被照射物12に確実に電子線を照射することができる。電子線取出部124は、例えば、50μm程度の厚みのTi箔で構成され、内部空間と、大気とを隔てる境界の役割を果たす。そして、電子線取出部124から大気中に取り出された電子線は、被照射物12に照射される。こうして、電子銃110で放出された電子線は、加速器118で加速されて、電子線取出部124を通じて、被照射物12に照射される。以下、電子線を放出する電子銃110、酸化防止装置200、酸化防止装置200を用いた電子線照射方法について詳述する。電子銃110図4は、電子銃110の上面図であり、図5は、図4のW-W断面図と、酸化防止装置200とを示す図であり、図6は、カソードホルダ150およびカソードユニット170近傍の部分拡大図である。なお、理解を容易にするために、図5、図6中、絶縁体やパッキンの図示を省略する。図5に示すように、電子銃110は、真空筒106と、真空シール部140と、カソードホルダ150と、カソードユニット170と、アノード電極180と、ウェネルト電極182とを含んで構成される。真空シール部140真空シール部140は、図4、図5に示すように、真空筒106の第1フランジ106aに連結された第2フランジ106bに連結されている。真空シール部140は、カソードホルダ150と組み合わされた状態で、端子収容空間A図6a中、濃いグレーで示すを形成する。真空シール部140には、カソード電源104に接続される第1入力端子142a、142bと、後述する真空ポンプ210および不活性ガス供給装置212と連結されるポート144が設けられている。カソードホルダ150続いて、図5および図6を用いてカソードホルダ150について説明する。図6aに示すように、カソードホルダ150は、カソードユニット170と組み合わされた状態で、端子収容空間A図6a中、濃いグレーで示すと内部空間V図6a中、薄いグレーで示すとを隔てる境界の役割を果たす。カソードホルダ150およびカソードユニット170を境界として形成される内部空間Vは、真空ポンプ102で高真空状態10E-5Pa以下に維持される。すなわち、カソードホルダ150は、カソードホルダ150と真空シール部140とで構成される端子収容空間A側にカソード接続端子172が位置すると共に、高真空状態に維持される内部空間V側にカソード電極174およびグリッド176が位置するように、カソードユニット170を保持する。またカソードホルダ150の内部空間V側の先端部には、ウェネルト電極182が保持される。具体的に説明すると、図5に示すようにカソードホルダ150は、第1フランジ106aに保持される。また、図6aに示すように、カソードホルダ150の先端内周には段部150eが形成されており、カソードホルダ150の内周にはカソードユニット170を押止するカソード押止棒150aが設けられる。一方、カソードユニット170の周面にはフランジ170aが形成されている。そして、図6aに示すように、カソードホルダ150の段部150eとカソードユニット170のフランジ170aとの間に真空シールガスケット190を配置するとともに、カソード押止棒150aがY軸方向にフランジ170aを押止する。このように、カソードホルダ150におけるウェネルト電極182を外周として形成される空間を、真空シールガスケット190を介してフランジ170aで封止することにより、内部空間Vが形成される。また、図5に示すようにカソードホルダ150の上端には、キャップ部150bが設けられ、キャップ部150bには第2入力端子150c、150dが設けられる。第2入力端子150c、150dは、後述する真空シール部140に設けられた第1入力端子142図5中、142a、142bで示すを通じて、カソード電源104に接続されている。具体的には、第2入力端子150cは第1入力端子142aに接続されており、第2入力端子150dは第1入力端子142bに接続されている。そのため、第2入力端子150c、150dから、カソード押止棒150aおよび、カソード押止棒150aの内側に設けられたカソードピン152a、152bを通じて、カソードユニット170に給電される。なお、第1入力端子142aおよび第2入力端子150cは、同軸コネクタで構成されており、第1入力端子142aは、芯側接続端子142a-1と、外側接続端子142a-2とを含んで構成され、第2入力端子150cは、芯側接続端子150c-1と、外側接続端子150c-2とを含んで構成される。カソード電源104とカソードユニット170との接続関係を具体的に説明する。カソード電源104は、ヒータ電源104aと、グリッドバイアス電源GB104bと、グリッドパルス電源GP104cと、カソードパルス電源104fとを含んで構成される。ヒータ電源104aの第1の端子は、接続線104d、芯側接続端子142a-1、芯側接続端子150c-1を通じてカソードピン152aに接続される。カソード電源104の第2の端子は、接続線104e、外側接続端子142a-2、外側接続端子150c-2を通じてカソードピン152bに接続される。また、ヒータ電源104aの第3の端子は、グリッドバイアス電源104b、グリッドパルス電源104c、第1入力端子142b、第2入力端子150dを通じて、カソード押止棒150aに接続される。カソードパルス電源104fについては、後に詳述する。ここで、カソードホルダ150は、図6aに示すように、端子収容空間A側にカソードユニット170を構成するカソード接続端子172が、内部空間V側にカソードユニット170を構成するカソード電極174およびグリッド176が位置するようにカソードユニット170を保持している。そして図6bに示すように、カソードピン152aは、カソード接続端子172aに付勢されて接続し、カソードピン152bは、カソード接続端子172bに付勢されて接続する。また、グリッドバイアス電源104bと、グリッドパルス電源104cとに接続されたカソード押止棒150aは、フランジ170aを通じて、グリッド176に接続されている。カソードユニット170カソードユニット170は、図6に示すように、カソード接続端子172図中、172a、172bで示すと、カソード電極174と、グリッド176とを含んで構成される。ここで図6bに示すように、カソード接続端子172とカソード電極174とは導通しており、カソード電極174とグリッド176とは、絶縁体を介して電気的に絶縁されている。つまり、グリッド176、フランジ170a、カソード押止棒150a、カソードホルダ150は同電位であり、カソード電極174とは電位差がある。カソード接続端子接続端子172は、図6に示すように、カソード電極174にカソードピン152aを接続するカソード接続端子172aと、カソード電極174にカソードピン152bを接続するカソード接続端子172bとを含んで構成される。ここでカソード接続端子172aとカソード接続端子172bとは、カソード電極174を介して導通しているので、ヒータ電源104aから供給された電流は、カソード電極174を流れることになる。カソード電極174は、例えば、Baバリウム含浸型で構成され、Ba材にタングステン等のフィラメントが埋め込まれている。カソード電極174のフィラメントには、カソード接続端子172a、172bを通じて、ヒータ電源104aから電流例えば、交流50Hz、10Vが供給され、この電流によってフィラメントが加熱される。そうすると、フィラメントによってBa材が加熱され、Ba材の表面に熱電子が発生することになる。そして、後述するグリッド176に印加されるグリッドパルス電圧引出電圧と、カソードパルス電源104fによるカソード電極174とアノード電極180と間の高圧のパルス電圧によって、熱電子がパルス的に放出され、このパルス的に放出された熱電子が電子線を構成することになる。グリッド176は、例えば、メッシュ網目状の電極で構成され、カソード電極174による熱電子の放出を制御する。具体的にグリッド176は、一方の端部がフランジ170a、カソード押止棒150a、カソードホルダ150、第2入力端子150d、第1入力端子142b、を通じてグリッドバイアス電源104b、グリッドパルス電源104cと接続されており、他方の端部は、浮いているフローティングしている。図7は、グリッド176の機能を説明するための説明図である。図7aに示すように、グリッド176は、網目状の電極で構成されている。また、図7bに示すようにグリッド176には、グリッドバイアス電源104bおよびグリッドパルス電源104cが接続されている。グリッドバイアス電源104bは、電子の引き出しを抑制するための負のバイアス電圧例えば、DC-10Vを常にグリッド176に印加している。また、グリッドパルス電源104cは、正の電圧例えば、20Vをパルス的にグリッド176に印加する。そうすると、グリッド176に正の電圧が印加されている間のみ、カソード電極174のBa材の表面から電子が引き出される。具体的に説明すると、図7cに示すように、グリッドバイアス電源104bによってグリッド176に負のバイアス電圧図7c中GB電圧で示すが印加されている時刻t0から時刻t1の間には、カソード電極174からの電子の引き出しが抑制されている。そして時刻t1で、グリッドパルス電源104cによって、正の電圧図7c中GP電圧で示すが印加されると、正の電圧と負のバイアス電圧の差分-10V20V=10Vが有効な引出電圧となり、カソード電極174から電子が引き出されることになる。したがって、グリッドパルス電源104cが正の電圧を印加する時間時刻t1~t2を制御することによって、カソード電極174からの電子の引き出し時間やパルス繰り返し数が制御される。ここで、電子の引き出し時間は、例えば、4μs~15μsとし、パルス繰り返し数は、例えば、500ppspulsepersecondとする。アノード電極180およびウェネルト電極182アノード電極180は、カソード電極174から放出された電子線を初期加速する。ウェネルト電極182は、図6に示すように、カソード電極174の周囲に配され、カソード電極174から放出された電子線を収束させる役割を担う。図8は、カソード電極174とアノード電極180との電位差によるカソード電極174からの電子線の放出機構を説明するための説明図である。図8aに示すように、カソード電源104のカソードパルス電源104fは、一方の端子がヒータ電源104a、グリッドバイアス電源104b、グリッドパルス電源104cに接続され、他方の端子がアノード電極180を通じてグラウンド0Vに接続されている。したがって、カソードパルス電源104fが、例えば-30kVの電圧を印加すると、ヒータ電源104a、グリッドバイアス電源104b、グリッドパルス電源104cは、-30kVにフローティングする浮くことになる。そうすると、アノード電極180は0Vであるため、カソード電極174とアノード電極180との間に電位差30kVが生じ、カソード電極174で引き出された電子がアノード電極180に到達することになる。具体的に説明すると、上述したように、カソード電極174から電子線が引き出される時間は、グリッドパルス電源104cが正の電圧を印加する時間時刻t1~t2である。したがって、図8bに示すように、カソードパルス電源104fは、グリッドパルス電源104cが正の電圧を印加する時間時刻t1~t2に同期させて、ヒータ電源104a、グリッドバイアス電源104b、グリッドパルス電源104cに電圧を印加する。そうすると、グリッドパルス電源104cによってカソード電極174から引き出された電子線を、アノード電極180が初期加速し、プリバンチャ116に入射させる。換言すれば、グリッドパルス電源104cが正の電圧を印加する時間と、カソードパルス電源104fが電圧を印加する時間が重なった時間のみ電子線がプリバンチャ116に入射されることになる。酸化防止装置200および酸化防止装置200を用いた電子線照射方法上述したように、熱電子を放出させるためにカソード電極174には電力が供給されるが、この場合、カソード電極174は1000°C程度まで上昇する。そうすると、カソード電極174に接続されたカソード接続端子172a、172bに伝熱され、カソード接続端子172a、172bは、200°C~300°C程度に加熱されてしまう。従来の電子銃は、真空シール部140を備えないため、端子収容空間Aは大気開放された状態にある。そうすると、大気中の水がカソード接続端子172に付着したり、大気中の酸素によってカソード接続端子172が酸化したりして、カソード接続端子172の表面に酸化皮膜が形成され、カソード接続端子172とカソードピン152とが十分に通電できなくなってしまう。ここで、カソード接続端子172とカソードピン152の接続を維持したまま、カソード接続端子172およびカソードピン152を絶縁性の樹脂等でモールドする、すなわちカソードホルダ150とカソードユニット170とを接合することも考えられる。しかし、カソードユニット170は消耗品であり定期的に交換が必要になるので、モールドしてしまうと、カソードユニット170だけでなくカソードホルダ150も交換しなければならなくなってしまう。そのため、メンテナンスの際のコストが高くなってしまう。また、端子収容空間Aと内部空間Vとを連通させ、端子収容空間Aを内部空間Vと同様に高真空状態とすることも考えられるが、真空ポンプ102の性能を向上させる必要があったり、電子銃110全体の強度を高める必要があったりして、コスト高になってしまう。そこで、真空シール部140を設けることで、端子収容空間Aを形成し、端子収容空間Aから水および酸素を除去することで、カソード接続端子172の酸化を防止する。酸化防止装置200酸化防止装置200は、図5に示すように、真空ポンプ210と、不活性ガス供給装置212と、切換制御部214とを含んで構成される。真空ポンプ210は、絶縁性のチューブ例えば、樹脂製のチューブを介して、真空シール部140のポート144に連結され、端子収容空間Aを真空状態に減圧する。不活性ガス供給装置212は、絶縁性のチューブを介してポート144に連結され、端子収容空間Aに不活性ガス例えば、アルゴンや窒素を供給する。切換制御部214は、チューブに設けられた三方バルブ206を制御し、ポート144と真空ポンプ210とを連結する経路と、ポート144と不活性ガス供給装置212と連結する経路とを切り換える。電子線照射方法まず、切換制御部214は、ユーザによる操作入力に応じて、チューブに設けられた三方バルブ206を駆動させることで、ポート144と真空ポンプ210とを連結し、真空ポンプ210を駆動させる減圧工程。そうすると、真空ポンプ210による減圧処理が遂行され、端子収容空間Aが真空状態例えば、0.4Pa程度に減圧される。続いて、切換制御部214は、ユーザによる操作入力に応じて、三方バルブ206を駆動させることで、ポート144と不活性ガス供給装置212とを連結し、不活性ガス供給装置212を駆動させるガス供給工程。そうすると、不活性ガス供給装置212によるガス供給処理が遂行され、端子収容空間Aは不活性ガスで満たされることになる。そして、最後にポート144を閉じる。そして、カソード接続端子172を通じてカソード電源104からカソード電極174に電力を供給してカソード電極174から熱電子を放出させ電子放出工程、加速器118がカソード電極174から放出された熱電子を加速し加速工程、被照射物12に照射する。上述した除去行程減圧工程およびガス供給工程を遂行することにより、端子収容空間Aは不活性ガスで満たされることになる。そのため、電子線照射装置100を稼働して、カソード接続端子172が200~300°C程度になったとしても、また、電子線照射装置100を停止した後にカソード接続端子172が室温程度まで冷却されたとしても、端子収容空間Aには水および酸素がほとんど存在しなくなる。その結果、カソード接続端子172が酸化してしまう事態を回避することができる。以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば、上述した実施形態では、除去手段として、真空シール部140、真空ポンプ210、不活性ガス供給装置212、切換制御部214を用いたが、端子収容空間Aから水または酸素を除去すればよく、不活性ガス供給装置212、切換制御部214を設けず、例えば、真空ポンプ210による減圧処理のみを遂行して、端子収容空間Aを真空状態に維持してもよい。また、真空シール部140、真空ポンプ210、切換制御部214を用いず、不活性ガス供給装置212が端子収容空間Aに常時不活性ガスを供給してもよい。