"一対の基板と、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材と、を備え、前記シール材は、少なくとも一方の前記基板の互いに対向する第1辺及び第2辺に沿って形成され、前記基板の外側に向かってそれぞれ突出するように形成された接合部を有し、少なくとも一方の前記基板に、前記シール材の前記接合部と重なるように島状の凹部が形成されていることを特徴とする液晶装置。請求項1に記載の液晶装置であって、前記凹部は、前記一対の基板に形成された配線と重ならない領域に設けられていることを特徴とする液晶装置。一の基板に複数の液晶装置が形成される液晶装置用基板であって、前記基板に形成する第1液晶装置の形成領域と、前記第1液晶装置に対し一方の方向に設けられた第2液晶装置の形成領域と、前記第1液晶装置に対し前記第2液晶装置の方向と反対側に設けられた第3液晶装置の形成領域と、を連続的に繋げるシール材を設け、前記シール材は、前記第1液晶装置と前記第2液晶装置との間に形成された第1接合部と、前記第1液晶装置と前記第3液晶装置との間に形成された第2接合部と、を有し、一対の基板のうち少なくとも一方の前記基板に、前記第1接合部と重なるように設けられた島状の第1凹部と、前記第2接合部と重なるように設けられた島状の第2凹部と、が形成されていることを特徴とする液晶装置用基板。請求項3に記載の液晶装置用基板であって、前記第1凹部及び前記第2凹部は、隣り合う液晶装置に跨って形成されていることを特徴とする液晶装置用基板。請求項3又は請求項4に記載の液晶装置用基板であって、前記第1凹部は、前記第1液晶装置の共通電位配線と前記第2液晶装置の共通電位配線との間の領域に設けられ、前記第2凹部は、前記第1液晶装置の共通電位配線と前記第3液晶装置の共通電位配線との間の領域に設けられていることを特徴とする液晶装置用基板。一の基板に複数の液晶装置が形成される液晶装置用基板の製造方法であって、一対の基板のうち一方の前記基板に、第1液晶装置の形成領域と、前記第1液晶装置に対し一方の方向に配置される第2液晶装置の形成領域と、前記第1液晶装置に対し前記第2液晶装置と反対側に配置される第3液晶装置の形成領域と、に跨るように連続的にシール材を塗布し、前記第1液晶装置と前記第2液晶装置との間に第1接合部前駆体を形成し、前記第1液晶装置と前記第3液晶装置との間に第2接合部前駆体を形成する工程と、少なくとも一方の前記基板に、前記一対の基板を貼り合せた際、前記第1接合部前駆体と重なる島状の第1凹部と、前記第2接合部前駆体と重なる島状の第2凹部と、を形成する工程と、前記一対の基板を貼り合わせて、前記第1液晶装置と前記第2液晶装置との間に第1接合部、前記第1液晶装置と前記第3液晶装置との間に第2接合部を形成する工程と、前記一対の基板を、前記第1液晶装置、前記第2液晶装置、及び前記第3液晶装置に切断する工程と、を有することを特徴とする液晶装置用基板の製造方法。請求項1又は請求項2に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。しかしながら、複数の液晶パネルに亘って連続的にシール材を塗布すると、隣り合う液晶パネルの近接領域液晶パネル間においてシール材が密集する領域がある。これにより、シール材の密度が高い領域では、シール材の量が多く一対の基板がつぶれにくくなり、正規のギャップ量にならないという問題がある。これにより、輝度やコントラストがばらつく、また、透過率が変動するという課題がある。本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。[適用例1]本適用例に係る液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材と、を備え、前記シール材は、少なくとも一方の前記基板の互いに対向する第1辺及び第2辺に沿って形成され、前記基板の外側に向かってそれぞれ突出するように形成された接合部を有し、少なくとも一方の前記基板に、前記シール材の前記接合部と重なるように島状の凹部が形成されていることを特徴とする。本適用例によれば、平面的にシール材の接合部と重なるように、少なくとも一方の基板に島状の凹部が形成されているので、一対の基板を貼り合せた際、単位面積当たりのシール材の量が多くなるシール材の密度が高い接合部の領域にある余分なシール材を、凹部の中に充填することができる。よって、シール材が密に集中する接合部の領域において、適正なシール材の量にすることが可能となり、ギャップ量がばらつくことを抑えることができる。その結果、正規なギャップ量を確保することができる。[適用例2]上記適用例に係る液晶装置において、前記凹部は、前記一対の基板に形成された配線と重ならない領域に設けられていることが好ましい。本適用例によれば、基板において平面的に配線と重なる領域を避けた領域に凹部を設けるので、液晶装置の性能に影響を与えることなく余分なシール材を凹部に充填することができる。[適用例3]本適用例に係る液晶装置用基板は、一の基板に複数の液晶装置が形成される液晶装置用基板であって、前記基板に形成する第1液晶装置の形成領域と、前記第1液晶装置に対し一方の方向に設けられた第2液晶装置の形成領域と、前記第1液晶装置に対し前記第2液晶装置の方向と反対側に設けられた第3液晶装置の形成領域と、を連続的に繋げるシール材を設け、前記シール材は、前記第1液晶装置と前記第2液晶装置との間に形成された第1接合部と、前記第1液晶装置と前記第3液晶装置との間に形成された第2接合部と、を有し、一対の基板のうち少なくとも一方の前記基板に、前記第1接合部と重なるように設けられた島状の第1凹部と、前記第2接合部と重なるように設けられた島状の第2凹部と、が形成されていることを特徴とする。本適用例によれば、少なくとも一方の基板に、第1接合部と重なるように島状の第1凹部が形成され、第2接合部と重なるように島状の第2凹部が形成されているので、一対の基板を貼り合せた際、単位面積当たりのシール材の量が多くなる接合部の領域にある余分なシール材を、凹部の中に充填することができる。よって、シール材の密度が高い接合部の領域において、適正なシール材の量にすることが可能となり、ギャップ量がばらつくことを抑えることができる。その結果、正規なギャップ量を確保することができる。[適用例4]上記適用例に係る液晶装置用基板において、前記第1凹部及び前記第2凹部は、隣り合う液晶装置に跨って形成されていることが好ましい。本適用例によれば、隣り合う液晶装置と液晶装置との間に凹部を設けるので、液晶装置に形成された配線などを避けて凹部を設けることが可能となり、液晶装置の性能に影響を与えることなく余分なシール材を凹部に充填することができる。[適用例5]上記適用例に係る液晶装置用基板において、前記第1凹部は、前記第1液晶装置の共通電位配線と前記第2液晶装置の共通電位配線との間の領域に設けられ、前記第2凹部は、前記第1液晶装置の共通電位配線と前記第3液晶装置の共通電位配線との間の領域に設けられていることが好ましい。本適用例によれば、隣り合う液晶装置の共通電位定電位配線間に凹部を設けるので、液晶装置に形成された配線などを避けて凹部を設けることが可能となり、液晶装置の性能に影響を与えることなく余分なシール材を凹部に充填することができる。[適用例6]本適用例に係る液晶装置用基板の製造方法は、一の基板に複数の液晶装置が形成される液晶装置用基板の製造方法であって、一対の基板のうち一方の前記基板に、第1液晶装置の形成領域と、前記第1液晶装置に対し一方の方向に配置される第2液晶装置の形成領域と、前記第1液晶装置に対し前記第2液晶装置と反対側に配置される第3液晶装置の形成領域と、に跨るように連続的にシール材を塗布し、前記第1液晶装置と前記第2液晶装置との間に第1接合部前駆体を形成し、前記第1液晶装置と前記第3液晶装置との間に第2接合部前駆体を形成する工程と、少なくとも一方の前記基板に、前記一対の基板を貼り合せた際、前記第1接合部前駆体と重なる島状の第1凹部と、前記第2接合部前駆体と重なる島状の第2凹部と、を形成する工程と、前記一対の基板を貼り合わせて、前記第1液晶装置と前記第2液晶装置との間に第1接合部、前記第1液晶装置と前記第3液晶装置との間に第2接合部を形成する工程と、前記一対の基板を、前記第1液晶装置、前記第2液晶装置、及び前記第3液晶装置に切断する工程と、を有することを特徴とする。本適用例によれば、一対の基板を貼り合せた際、第1接合部前駆体と重なるように島状の第1凹部、及び第2接合部前駆体と重なるように島状の第2凹部、を一対の基板のうち少なくとも一方の基板に形成するので、一対の基板を貼り合せた際、単位面積当たりのシール材の量が多くなる接合部の領域にある余分なシール材を、第1凹部及び第2凹部の中に流し込むことができる。よって、シール材が密に集中する接合部の領域においてギャップ量がばらつくことを抑えることが可能となり、正規なギャップ量を確保することができる。[適用例7]本適用例に係る電子機器は、上記した液晶装置を備えることを特徴とする。本適用例によれば、上記に記載の液晶装置を備えているので、正規なギャップ量を確保することができ、輝度やコントラストがばらつくことを抑えることが可能な電子機器を提供することができる。以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。なお、以下の形態において、例えば基板上にと記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、又は基板の上に他の構成物を介して配置される場合、又は基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。本実施形態では、薄膜トランジスターTFT:ThinFilmTransistorを画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリックス型の液晶装置を例に挙げて説明する。この液晶装置は、例えば、後述する投射型表示装置液晶プロジェクターの光変調素子液晶ライトバルブとして好適に用いることができるものである。<液晶装置の構成>図1は、液晶装置の構成を示す模式平面図である。図2は、図1に示す液晶装置のH-H’線に沿う模式断面図である。図3は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、液晶装置の構造を、図1~図3を参照しながら説明する。図1及び図2に示すように、本実施形態の液晶装置100は、対向配置された素子基板10および対向基板20と、これら一対の基板によって挟持された液晶層15とを有する。素子基板10を構成する第1基板11、および対向基板20を構成する第2基板12は、例えば、ガラス基板、石英基板などの透明基板、又はシリコン基板が用いられている。素子基板10は対向基板20よりも一回り大きく、両基板は、額縁状に配置されたシール材14を介して接合され、その隙間に正または負の誘電異方性を有する液晶が封入されて液晶層15を構成している。シール材14は、例えば、熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材14には、一対の基板の間隔を一定に保持するためのギャップ材が混入されている。対向基板20側における額縁状に配置されたシール材14の内側には、同じく額縁状に遮光層18が設けられている。遮光層18は、例えば、遮光性の金属あるいは金属酸化物などからなり、遮光層18の内側が複数の画素Pを有する表示領域Eとなっている。なお、図1では図示省略したが、表示領域Eにおいても複数の画素Pを平面的に区分する遮光部例えば、ブラックマトリックスが設けられている。第1基板11の1辺部第1辺と、1辺部に沿ったシール材14との間にデータ線駆動回路22が設けられている。また、該1辺部に対向する他の1辺部第2辺に沿ったシール材14の内側に検査回路図示せずが設けられている。さらに、該1辺部と直交し互いに対向する他の2辺部に沿ったシール材14の内側に走査線駆動回路24が設けられている。該1辺部と対向する他の1辺部のシール材14の内側には、2つの走査線駆動回路24を繋ぐ複数の配線図示せずが設けられている。これらデータ線駆動回路22及び走査線駆動回路24に繋がる配線は、該1辺部に沿って配列した複数の外部接続用端子61に接続されている。以降、該1辺部に沿った方向をX方向とし、該1辺部と直交し互いに対向する他の2辺部に沿った方向をY方向として説明する。図2に示すように、第1基板11の液晶層15側の表面には、画素Pごとに設けられた光透過性を有する画素電極27およびスイッチング素子としての薄膜トランジスター30以降、TFT30と称する。と、信号配線と、これらを覆う第1配向膜28とが形成されている。また、TFT30における半導体層に光が入射してスイッチング動作が不安定になることを防ぐ遮光構造が採用されている。第2基板12の液晶層15側の表面には、遮光層18と、これを覆うように成膜された絶縁層図示せずと、絶縁層を覆うように設けられた共通電極31と、共通電極31を覆う第2配向膜32とが設けられている。遮光層18は、図1に示すように、平面的に走査線駆動回路24、検査回路と重なる位置において額縁状に設けられている。これにより対向基板20側から入射する光を遮蔽して、これらの駆動回路を含む周辺回路の光による誤動作を防止する役目を果たしている。また、不必要な迷光が表示領域Eに入射しないように遮蔽して、表示領域Eの表示における高いコントラストを確保している。共通電極31は、例えばITOIndiumTinOxideなどの透明導電膜からなり、絶縁層を覆うと共に、図1に示すように対向基板20の四隅に設けられた上下導通部26により素子基板10側の配線に電気的に接続している。画素電極27を覆う第1配向膜28および共通電極31を覆う第2配向膜32は、液晶装置100の光学設計に基づいて選定される。例えば、SiOx酸化シリコンなどの無機材料を気相成長法を用いて成膜して、液晶分子に対して略垂直配向させたものが挙げられる。液晶層15は、画素電極27からの電界が印加されていない状態で第1配向膜28及び第2配向膜32によって所定の配向状態をとる。液晶装置100は透過型であって、第1基板11及び第2基板12における光の入射側と出射側とにそれぞれ偏光板図示せず等が配置されて用いられる。なお、液晶装置100の構成は、これに限定されず、反射型や半透過型の構成であってもよい。図3に示すように、液晶装置100は、少なくとも表示領域Eにおいて互いに絶縁されて直交する複数の走査線3aおよび複数のデータ線6aと、容量線3bとを有する。走査線3aが延在する方向がX方向であり、データ線6aが延在する方向がY方向である。走査線3aとデータ線6aならびに容量線3bと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極27と、TFT30と、容量素子16とが設けられ、これらが画素Pの画素回路を構成している。走査線3aはTFT30のゲートに電気的に接続され、データ線6aはTFT30のデータ線側ソースドレイン領域に電気的に接続されている。画素電極27は、TFT30の画素電極側ソースドレイン領域に電気的に接続されている。データ線6aは、データ線駆動回路22図1参照に接続されており、データ線駆動回路22から供給される画像信号D1,D2,...,Dnを画素Pに供給する。走査線3aは、走査線駆動回路24図1参照に接続されており、走査線駆動回路24から供給される走査信号SC1,SC2,...,SCmを各画素Pに供給する。データ線駆動回路22からデータ線6aに供給される画像信号D1~Dnは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣り合う複数のデータ線6a同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路24は、走査線3aに対して、走査信号SC1~SCmを所定のタイミングでパルス的に線順次で供給する。液晶装置100は、スイッチング素子であるTFT30が走査信号SC1~SCmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号D1~Dnが所定のタイミングで画素電極27に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極27を介して液晶層15に書き込まれた所定レベルの画像信号D1~Dnは、画素電極27と液晶層15を介して対向配置された共通電極31との間で一定期間保持される。保持された画像信号D1~Dnがリークするのを防止するため、画素電極27と共通電極31との間に形成される液晶容量と並列に容量素子16が接続されている。容量素子16は、TFT30の画素電極側ソースドレイン領域と容量線3bとの間に設けられている。<液晶装置用基板大型基板の構成>図4は、液晶装置用基板としての大型基板の構成を示す模式平面図である。図5は、図4に示す大型基板のA部を拡大して示す拡大平面図である。図6は、図5に示す大型基板のB部を拡大して示す拡大平面図である。図7は、図6に示す大型基板のC-C’線に沿う模式断面図である。以下、大型基板の構成を、図4~図7を参照しながら説明する。図4に示すように、大型基板1000は、複数の液晶装置100を一括して製造するものであり、素子基板と対向基板となる基板形成領域が所定に位置合わせされた状態で、行方向X方向、列方向Y方向にマトリクス状に形成される。大型基板1000の材質は、例えば、石英である。なお、大型基板1000は、平面的に円形であることに限定されず、円周の一部が切り欠かれたオリフラを有する形状であってもよい。図5に示すように、各液晶装置100には、表示領域Eの周辺に、周辺回路としてのデータ線駆動回路22、走査線駆動回路24、及び外部接続用端子61が形成されている。データ線駆動回路22及び走査線駆動回路24と外部接続用端子61とは、互いに信号配線29によって、電気的に接続されている。以下、隣り合う液晶装置100と液晶装置100との間の領域の構造について、図6及び図7を参照しながら説明する。図6に示すように、第1大型基板1000aにおける液晶装置形成領域100aの周縁には、共通配線50共通電位配線が設けられている。また、液晶装置形成領域100aの周縁には、液晶装置100の外周端部を規定するスクライブライン51a,51bが設けられている。一方、第2大型基板1000bにおける、第1大型基板1000aに設けられたスクライブライン51aとスクライブライン51bとの間のD部に対向する位置には、島状の凹部52が設けられている。凹部52の大きさ体積としては、第1大型基板1000aと第2大型基板1000bとを貼り合せた際、第1大型基板1000aに塗布されたシール材14の密度が高くなる領域D部の余分なシール材14を充填することが可能な体積分の大きさである。具体的な深さとしては、例えば、100nm~200nmである。凹部52が設けられている膜としては、例えば、第2大型基板1000bの最上層に設けられた絶縁膜である。更に、液晶装置100に影響を及ぼさない領域、例えば、共通配線50と平面的に重ならない共通配線50間の領域や、有効シール領域に影響を与えない領域に凹部52を設ける。本実施形態では、平面的にスクライブライン51a,51bと重なる領域を含む領域に凹部52を設けるので、基板として性能が左右されることを防ぐことができる。なお、液晶装置100の機種に応じて凹部52を設ける位置を決めることが望ましい。このように、例えば、第1大型基板1000aに塗布されたシール材14の密度が高い領域図10のD部参照に対向する第2大型基板1000bに島状の凹部52を設けることにより、余分なシール材14を凹部52の中に流し込む充填することが可能となり、シール材14の量が部分的に多くなることによって正規のギャップ量にならないことを防ぐことができる。<液晶装置用基板液晶装置の製造方法>図8は、液晶装置用基板液晶装置の製造方法を工程順に示すフローチャートである。図9~図12は、液晶装置の製造方法のうち一部の工程を示す模式図である。以下、液晶装置の製造方法を、図8~図12を参照しながら説明する。なお、液晶装置100の製造方法として、上記したように大型基板1000を用いて複数の液晶装置100を一括して製造する多面取りと称する方法が採用されている。すなわち、第1大型基板1000aと第2大型基板1000bとに、素子基板10と対向基板20となる液晶装置形成領域100aが所定に位置合わせされた状態で、行方向X方向、列方向Y方向にマトリクス状に形成される。最初に、素子基板10側の製造方法を説明する。図8に示すように、ステップS11では、石英基板などからなる第1基板11上にTFT30及び画素電極27等を形成する。具体的には、周知の成膜技術、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、第1基板11上にTFT30及び画素電極27などを形成する。画素電極27は、例えば、第1基板11の一方の表面にITOIndiumTinOxideなどの透明導電性材料をスパッタし、この導電膜をエッチングすることによって形成することができる。ステップS12では、画素電極27の上方に第1配向膜28を形成する図2参照。第1配向膜28の製造方法としては、例えば、酸化シリコンSiO2などの無機材料を斜方蒸着する斜方蒸着法が用いられる。ステップS13では、複数の液晶装置形成領域100aが配置されている第1大型基板1000a上にシール材14を塗布する。具体的には、図9に示すように、表示領域Eの周縁部に表示領域Eを囲むように、ディスペンサーを用いて、一筆書きで切れ目なくシール材14を塗布する。第1大型基板1000aに形成されるシール材14は、行方向X方向に配設されている複数の液晶装置形成領域100aに対し、一括して連続的に描画される。シール材14としては、例えば、紫外線硬化型エポキシ樹脂が挙げられる。なお、紫外線などの光硬化型樹脂に限定されず、熱硬化型樹脂などを用いるようにしてもよい。また、シール材14には、素子基板10と対向基板20との間隔ギャップ或いはセルギャップを所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のギャップ材が含まれている。図10は、図9に示す大型基板1000を構成する第1大型基板1000aの最下段の行に形成されている複数の液晶装置形成領域100aに対するシール材の描画態様が示されている。尚、他の行に形成されている複数の液晶装置形成領域100aに対するシール材14の描画も同じ態様で行われるため説明を省略する。本実施形態では、第1大型基板1000aの各行方向X方向に形成されている複数の液晶装置形成領域100aに形成するシール材14を連続した描画パターンPTで形成する。すなわち、先ず、往路において、各液晶装置形成領域100a第2液晶装置の形成領域100a2、第1液晶装置の形成領域100a1、第3液晶装置の形成領域100a3の第1辺に沿って上部シール材14aを、上部連結部114aを介して連続描画し、次いで、復路において、各液晶装置形成領域100a第3液晶装置の形成領域100a3、第1液晶装置の形成領域100a1、第2液晶装置の形成領域100a2の第2辺に沿って下部シール材14bを、下部連結部114bを介して連続描画する。具体的には、両連結部114a,114bの両端に形成される接合部214は枠の外側に向かって突出されている。具体的には、接合部214第1接合部214a、第2接合部214bは、1枚の第1大型基板1000a上に上部シール材14aに形成される上部連結部114aと下部シール材14bに形成される下部連結部114bとが、両大型基板1000a,1000bを貼り合わせた際に潰されて形成される。なお、第1液晶装置の形成領域100a1と第2液晶装置の形成領域100a2との間に形成された上部連結部114a及び下部連結部114bを、第1接合部214aの前駆体第1接合部前駆体と称する。また、第1液晶装置の形成領域100a1と第3液晶装置の形成領域100a3との間に形成された上部連結部114a及び下部連結部114bを、第2接合部214bの前駆体第2接合部前駆体と称する。本実施形態では、シール材14を連続した描画パターンPTで形成することで、シール材14の描画タクト時間の短縮化を実現している。描画パターンPTは、上部シール材14aと下部シール材14bとを有し、両シール材14a,14bが上下方向Y方向に対向配列されている。更に、この両シール材14a,14bが行方向X方向に接合部214を介して複数配列されている。大型基板1000a,1000bは互いに貼り合わされた後、接合部214の中央部で液晶装置100単位に分割されるため、切り出された液晶装置100には接合部214、及び凹部52が残される。又、第1大型基板1000aの各行方向X方向に形成されている液晶装置形成領域100a100a1~100a3を含むの内の描画開始点側本実施形態では左端に位置する第2液晶装置の形成領域100a2に形成されるシール材14の列方向Y方向の中央左端に、描画開始点SPが設定されている。この描画開始点SPはディスペンサーのノズルから吐出されるシール材14の吐出遅れを考慮した長さを有している。又、この描画開始点SPと平行に下部シール材14bに連続する描画終了点EPが設定されている。更に、第1大型基板1000aの各行方向X方向に形成されている液晶装置形成領域100aの内の折り返し側本実施形態では右端に位置する液晶装置形成領域100aの終端側に折り返し点RPが設定されている。描画終了点EPまで形成した後は、ディスペンサーのノズルからのシール材14の描画を停止させる。次いで、第1大型基板1000aの次の行に形成されている複数の液晶装置形成領域100aに対して、上述と同様の手順によりシール材14を、連続した描画パターンPTにより形成する。そして、全ての行に形成されている複数の液晶装置形成領域100aに対してシール材14の形成を完了させる。ステップS14では、シール材14で囲まれた中に液晶を滴下する。具体的には、第1大型基板1000aにおける各シール材14で囲まれた液晶装置形成領域100aに液晶を滴下するODFOneDropFill方式。滴下する方法としては、例えば、インクジェットヘッドなどを用いることができる。また、液晶は、シール材14によって囲まれた領域表示領域Eの中央部に滴下することが望ましい。以上により、素子基板10側が完成する。次に、対向基板20側の製造方法を説明する。図8に示すように、ステップS21では、複数の液晶装置形成領域100aが形成されている第2大型基板1000b上に共通電極31などを形成する。具体的には、石英基板などの透光性材料からなる第2大型基板1000bの一方の表面に、ITOなどの透明導電性膜をスパッタし、これをエッチングすることによって形成することができる。ステップS22では、共通電極31上に第2配向膜32を形成する。第2配向膜32の製造方法は、第1配向膜28の製造と同様に、例えば、酸化シリコンSiO2などの無機材料を斜方蒸着する斜方蒸着法が用いられる。ステップS23では、対向基板20の表面に凹部52を形成する。具体的には、対向基板20の最上層に設けられた層例えば、絶縁膜に凹部52を形成する。例えば、対向基板20の表面において、第1液晶装置の形成領域100a1と第2液晶装置の形成領域100a2との間に設けられた上部連結部114a及び下部連結部114bの領域第1接合部前駆体と平面的に重なる領域に第1凹部52aを形成する図10、図12参照。また、対向基板20の表面において、第1液晶装置の形成領域100a1と第3液晶装置の形成領域100a3との間に設けられた上部連結部114a及び下部連結部114bの領域第2接合部前駆体と平面的に重なる領域に第2凹部52bを形成する図10、図12参照。以上により、対向基板20側が完成する。次に、素子基板10と対向基板20とを貼り合わせる方法を説明する。ステップS31では、図11に示すように、例えば、減圧状態で第1大型基板1000aと第2大型基板1000bとを貼り合わせる大気圧プレス。具体的には、図12aに示すように、第1大型基板1000aに塗布されたシール材14を介して貼り合わせる。このとき、上記したように、第1大型基板1000a素子基板10に塗布されたシール材14の密度が高くなる領域隣り合う液晶装置形成領域100a間におけるシール材14の接合部214に対応する第2大型基板1000bの部分に島状の凹部52が設けられている。第1大型基板1000aと第2大型基板1000bとを貼り合わせると、図12bに示すように、単位面積当たりのシール材14の量が多い領域シール材14の密度が高い接合部214の領域の余分なシール材14を、第2大型基板1000bに設けられた凹部52の中に充填させることが可能となり、これにより、接合部214の領域に必要な分のシール材14を残すことができる。そして、シール材14が潰されて幅方向に広がり、往路で形成した部分と復路で形成した部分とが接合し、閉口されたシール材14が形成される。その結果、この領域におけるギャップ量がばらつくことを抑えることが可能となり、正規なギャップ量を確保することができる。更に、描画パターンPTが往路から復路にかけて連続形成されるので、この描画パターンPTの描画に際して、描画タクト時間の短縮が実現でき、描画条件出しに要する段取り時間もほぼ一定となり、作業効率の大幅な向上を実現することができる。ステップS32では、貼り合わせた一対の大型基板1000を切断して、個々の液晶装置100を完成させる。具体的には、両大型基板1000a,1000bを貼り合せた後、シール材14を硬化させる。その後、貼り合わされている大型基板1000を液晶装置100の単位ごとに切り出す。<電子機器>図13は、上記した液晶装置を備えた電子機器投射型表示装置の構成を示す模式図である。以下、電子機器の構成について、図13を参照しながら説明する。図13に示すように、本実施形態の電子機器としての投射型表示装置1500は、システム光軸Lに沿って配置された偏光照明装置1100と、光分離素子としての2つのダイクロイックミラー1104,1105と、3つの反射ミラー1106,1107,1108と、5つのリレーレンズ1201,1202,1203,1204,1205と、3つの光変調手段としての透過型の液晶ライトバルブ1210,1220,1230と、光合成素子としてのクロスダイクロイックプリズム1206と、投射レンズ1207とを備えている。偏光照明装置1100は、超高圧水銀灯やハロゲンランプなどの白色光源からなる光源としてのランプユニット1101と、インテグレーターレンズ1102と、偏光変換素子1103とから概略構成されている。ダイクロイックミラー1104は、偏光照明装置1100から射出された偏光光束のうち、赤色光Rを反射させ、緑色光Gと青色光Bとを透過させる。もう1つのダイクロイックミラー1105は、ダイクロイックミラー1104を透過した緑色光Gを反射させ、青色光Bを透過させる。ダイクロイックミラー1104で反射した赤色光Rは、反射ミラー1106で反射した後にリレーレンズ1205を経由して液晶ライトバルブ1210に入射する。ダイクロイックミラー1105で反射した緑色光Gは、リレーレンズ1204を経由して液晶ライトバルブ1220に入射する。ダイクロイックミラー1105を透過した青色光Bは、3つのリレーレンズ1201,1202,1203と2つの反射ミラー1107,1108とからなる導光系を経由して液晶ライトバルブ1230に入射する。液晶ライトバルブ1210,1220,1230は、クロスダイクロイックプリズム1206の色光ごとの入射面に対してそれぞれ対向配置されている。液晶ライトバルブ1210,1220,1230に入射した色光は、映像情報映像信号に基づいて変調されクロスダイクロイックプリズム1206に向けて射出される。このプリズムは、4つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が合成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ1207によってスクリーン1300上に投射され、画像が拡大されて表示される。液晶ライトバルブ1210は、上述した液晶装置100が適用されたものである。液晶装置100は、色光の入射側と射出側とにおいてクロスニコルに配置された一対の偏光素子の間に隙間を置いて配置されている。他の液晶ライトバルブ1220,1230も同様である。以上詳述したように、本実施形態の液晶装置100、大型基板1000液晶装置用基板、大型基板1000の製造方法液晶装置用基板の製造方法、及び電子機器によれば、以下に示す効果が得られる。1本実施形態の液晶装置100、大型基板1000、大型基板1000の製造方法によれば、第2大型基板1000bに、第1接合部214aと重なるように島状の第1凹部52aを形成し、第2接合部214bと重なるように島状の第2凹部52bを形成するので、一対の大型基板1000を貼り合せた際、単位面積当たりのシール材14の量が多くなるシール材14の密度が高い接合部214a,214bの領域にある余分なシール材14を、凹部52a,52bの中に流し込む充填させることができる。よって、シール材14の密度が高い接合部214の領域において、適正なシール材14の量にすることが可能となり、ギャップ量がばらつくことを抑えることができる。その結果、正規なギャップ量を確保することができる。2本実施形態の液晶装置100、大型基板1000、大型基板1000の製造方法によれば、第2大型基板1000bにおける隣り合う液晶装置100の共通配線50間の領域と平面的に重なる領域に凹部52を設けるので、液晶装置100に形成された配線などを避けて凹部52を設けることが可能となり、液晶装置100の性能に影響を与えることなく余分なシール材14を凹部52に充填させることができる。3本実施形態の電子機器によれば、上記に記載の液晶装置100を備えているので、正規なギャップ量を確保することができ、輝度やコントラストがばらつくことを抑えることが可能な電子機器を提供することができる。なお、本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、本発明の技術範囲に含まれるものである。また、以下のような形態で実施することもできる。変形例1上記したように、余分なシール材14を充填させるための凹部52を第2大型基板1000bに設けることに限定されず、例えば、第1大型基板1000a側に設けるようにしてもよい。また、第1大型基板1000aと第2大型基板1000bとの両方に設けるようにしてもよい。この場合、シール材14を塗布する基板を第1大型基板1000a側にしたり第2大型基板1000b側にしたりして、適宜選択することが好ましい。変形例2上記したように、凹部52の形状を四角形に形成することに限定されず、例えば、凹部52を設ける領域の周辺に配置された配線の位置に応じて設定することが好ましく、例えば、円形状、楕円形状、多角形状などの形状でもよい。変形例3上記したように、電子機器として投射型表示装置1500プロジェクターを例に説明してきたが、これに限定されず、例えば、ビューワー、ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイなどに適用するようにしてもよい。また、液晶テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニター直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、モバイル型のパーソナルコンピューター、テレビ電話、POS端末、ページャー、電卓、タッチパネルなどの各種電子機器、また、電子ペーパーなどの電気泳動装置、カーナビゲーション装置等に適用するようにしてもよい。"