化学式TiNbOxで表されるNbがドープされたTiO2からなるコア、及び厚さ1~50MLの白金又は白金合金の均質層からなるシェルを含むことを特徴とするコア-シェル複合材料。前記白金又は白金合金シェルが設けられる前の前記TiNbOxコアが、該TiNbOxコアの表面を還元処理されたものであることを特徴とする、請求項1に記載のコア-シェル複合材料。前記TiNbOxコア表面の還元処理が、圧力10-9Torr未満の超高真空中、温度600~1000°Cで、5分~1時間保持するアニーリングを含むことを特徴とする、請求項2に記載のコア-シェル複合材料。前記TiNbOxコア表面の還元処理が、10-5~10-7TorrのH2の水素雰囲気下、温度600~1000°Cで、5分~1時間保持する処理を含むことを特徴とする、請求項2に記載のコア-シェル複合材料。前記TiNbOxコアにおけるNbの量が、酸素含有量を除く金属ベースで25at.以下であることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のコア-シェル複合材料。前記TiNbOxコアにおけるNbの量が、酸素含有量を除く金属ベースで1at.以上、15at.以下であることを特徴とする、請求項5に記載のコア-シェル複合材料。前記TiNbOxがルチル相のTiNbOxであることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のコア-シェル複合材料。前記白金又は白金合金シェルの厚さが2ML以上、20ML以下であることを特徴とする、請求項1乃至7のいずれか一項に記載のコア-シェル複合材料。前記白金又は白金合金シェルの厚さが2ML以上、5ML以下であることを特徴とする、請求項8に記載のコア-シェル複合材料。前記材料が、NbがドープされたTiO2平面下層及び、白金又は白金合金平面上層を有する薄膜状であることを特徴とする、請求項1乃至9のいずれか一項に記載のコア-シェル複合材料。前記薄膜状であって、前記TiNbOxコア層の厚さが、5nm以上、1000nm以下であることを特徴とする、請求項10に記載のコア-シェル複合材料。前記薄膜状であって、前記TiNbOxコア層の厚さが、5nm以上、200nm以下であることを特徴とする、請求項11に記載のコア-シェル複合材料。前記薄膜状であって、前記TiNbOxコア層の厚さが、5nm以上、100nm以下であることを特徴とする、請求項11に記載のコア-シェル複合材料。前記材料が粒子状であり、前記コアが2nm以上、500nm以下の粒径を有するNbがドープされたTiO2ナノ粒子であり、前記NbがドープされたTi02ナノ粒子コアの表面に析出させた前記シェルが、白金又は白金合金であることを特徴とする、請求項1乃至9のいずれか一項に記載のコア-シェル複合材料。前記コアが、2nm以上、100nm以下の粒径を有するNbがドープされたTi02ナノ粒子であることを特徴とする、請求項14に記載のコア-シェル複合材料。前記コアが、2nm以上、50nm以下の粒径を有するNbがドープされたTiO2ナノ粒子であることを特徴とする、請求項15に記載のコア-シェル複合材料。以下の工程を含むことを特徴とするコア-シェル複合材料を調製する方法。1薄膜又はナノ粒子の形状のTiNbOxコアを準備する工程、2前記TiNbOxコアの表面を化学的に還元する工程、及び3前記工程2で得られた還元されたTiNbOxコアの表面の上に、白金又は白金合金の均質層を析出させる工程。前記TiNbOxコアの表面を還元する工程が、圧力10-9Torr未満の超高真空中、温度600~1000°Cで、5分~1時間保持するアニーリングを含むことを特徴とする、請求項17に記載の方法。前記TiNbOxコアの表面を還元する工程が、10-5~10-7TorrのH2の水素雰囲気下、温度600~1000°Cで、5分~1時間保持する処理を含むことを特徴とする、請求項17に記載の方法。ルチル相状の前記TiNbOxコアを準備することを特徴とする、請求項17乃至19のいずれか一項に記載の方法。前記TiNbOxコアにおけるNbの量が、酸素含有量を除く金属ベースで25at.以下であることを特徴とする、請求項17乃至20のいずれか一項に記載の方法。前記白金又は白金合金シェルの厚さが、2ML以下、20ML以下であることを特徴とする、請求項17乃至21のいずれか一項に記載の方法。特許文献1~3にコア-シェル型触媒の例が記載されている。このタイプの系は図2に模式的に示されており、白金シェル及び貴金属コアをベースにしている。これは触媒活性を増進させるが、妥当なコストは提供しない。特許文献4に開示され、図3に模式的に示されている白金シェル及び遷移金属コアをベースにしたコア-シェル型触媒は、触媒活性を増進するが、妥当な電気化学的安定性を提供しない。特許文献5に開示され、図4に模式的に示されている白金シェル及びブロンズWO3コアをベースにしたコア-シェル型触媒は、耐久性の問題に対し可能な解決策を提供しているが、証拠が提示されていない。非常に少ない数の原子層3未満に制限された白金シェルを用いると、酸化物基板と白金上層との間の強い相互作用のため、ORR活性は高い過電圧が問題になる可能性がある。NbがドープされたTiO2コア、及び白金又は白金合金の数原子層からなるシェルを含むコア-シェル複合材料は、費用効率が高く、既存の白金ベースの燃料電池触媒に代わるものを提供できると共に、電気化学的安定性及び電気伝導性を提供できることを見出した。提案する新しいコア-シェル触媒は、白金の薄いシェルにより提供される多結晶白金薄膜のORR活性と同等のORR活性を有し、酸化物コアにより提供される優れた電気化学的安定性を有する。本願発明に係るコア-シェル複合材料は、NbがドープされたTiO2平面下層、及び白金又は白金合金平面上層を有する薄膜状に調製されてもよい。また、本願発明に係るコア-シェル複合材料は粒子状に調製されてもよく、前記コアは、2nm以上、100nm以下の粒径を有するNbがドープされたTiO2ナノ粒子であり、前記NbがドープされたTiO2ナノ粒子コアの表面に析出された前記シェルは、白金又は白金合金である。図6は後者の本発明のナノ粒子の態様を模式的に示している。本発明においては、バラバラのdiscrete白金又は白金合金粒子からなるのではなく、白金又は白金合金の実質的な均質層が、前記NbがドープされたTiO2の下層コア上に設けられている。したがって、本発明は、以下を含むコア-シェル複合材料に関する。化学式TiNbOxで表されるNbがドープされたTiO2からなるコア、及び厚さ1~50MLの白金又は白金合金の均質層からなるシェル。単位MLモノレイヤーは原子の数を単位とする厚さに対応する。より正確には、この文脈において、モノレイヤーMLは、白金が通常の面心立方FCC構造で成長した場合の、白金Ptの当量モノレイヤー数に対応する。すなわち1MLは面心立方構造に成長した白金の1つの原子層に対応する。また、本発明は以下の工程を含むコア-シェル複合材料を調製する方法に関する。1薄膜又はナノ粒子の形状のTiNbOxコアを準備する工程、2前記TiNbOxコアの表面を化学的に還元する工程、及び3前記工程2で得られた還元されたTiNbOxコアの表面の上に、白金又は白金合金の均質層を析出させる工程。本発明は、以下を含むコア-シェル複合材料に関する。化学式TiNbOxで表されるNbがドープされたTiO2からなるコア、及び厚さ1~50MLの白金又は白金合金の均質層からなるシェル。本発明に係るコア-シェル粒子複合材料を調製する好ましい方法において、以下の工程が行われる。1薄膜又はナノ粒子の形状のTiNbOxコアを準備する工程、2前記TiNbOxコアの表面を化学的に還元する工程、及び3白金又は白金合金の均質層を析出させる工程。工程2は、TiNbOxコアの準備と白金又は白金合金シェルの析出との間にある好ましい中間段階である。コア及びシェル層の組成及びこれらを調製する方法の両方について一般的に適用可能及び/又は有利な実施形態を以下に述べる。本願は、以下に記載する一般的に適用可能及び/又は有利な実施形態のいずれかの組み合わせも包含すると理解される。本発明の薄膜及びナノ粒子の態様の両方において、TiNbOxコア/層が、25at.以下のNbを有することが好ましい。本明細書において、この原子組成百分率は金属ベースで規定されているすなわち、酸素を除く。したがって、ニオブの原子組成百分率at.Nbは、TiNbOxコア/層におけるNbTi原子の総数と比較したニオブNb原子の相対数である。Nbの量は、酸素含有量を除く金属ベースで1at.以上、15at.以下であることが好ましい。また、本発明の薄膜及びナノ粒子の態様の両方において、TiNbOxがルチル相の状態であることが好ましい。実際のところ、非晶質TiNbOxは酸性環境に対して不安定な材料を提供する傾向があると考えられている。したがって、TiNbOxコア/層は、ルチル相の状態で、できる限り高結晶質であることが好ましい。本発明の薄膜の態様において、NbがドープされたTiO2を含む複合酸化物層は、Si、ガラス、Si/TiW等の様々なタイプの基板上に様々な方法で合成することができるたとえば、物理的気相成長PVD法すなわち、分子線蒸着、真空蒸着、イオンプレーティング又はスパッタリング。分子又は酸素プラズマ中において金属源金属チタン及び金属ニオブから物理的気相成長法を行うことが好ましい。析出を行う際、圧力1x10-7~5x10-5Torrで酸素ガスを供給することが好ましく、プラズマを用いる場合には、300~600Wのプラズマ電源を用いることが好ましい。非晶質の薄膜酸化物は、基板に熱を加えることなく、原子状酸素プラズマ源又は分子状酸素を用いながら、金属を析出させることで合成することができる。膜状のルチル結晶性複合酸化物は、基板を600~800°Cで加熱することによって合成することができる。印加電力400W、圧力5x10-7Torr~5x10-6Torrの酸素で、分子状酸素又は原子状酸素プラズマ源を用いて金属を析出させることによって、様々な酸素の化学量を達成することができる。本発明の薄膜の態様において、一般的に有利なTiNbOx層の厚さは、5nm以上、1000nm以下、好ましくは5nm以上、200nm以下、より好ましくは5nm以上、100nm以下である。本発明のナノ粒子の態様において、酸化物コアナノ粒子は、これらに限定されないが固相及びゾルゲルなど当技術分野で周知の様々な手段により合成することができる。金属酸化物粒子を合成する好適な固相法solidstatemethodsとしては、典型的には熱源による加熱を含む。例えば、TiNbOx粒子は、対応する金属の前駆体の組み合わせを1000°Cを超える温度で加熱することによって、形成することができる。NbがドープされたTiO2粉体を合成する好適なゾルゲル法としては、典型的には金属アルコキシド間、金属アミド間又は金属カルボン酸塩間の加水分解反応が挙げられる。1以上の酸化物の前駆体の加水分解は、一般的に水に影響され、触媒量の酸又は塩基によって更に補助される。例えば、NbがドープされたTiO2粉体は、チタンイソプロポキシド及びニオブVエトキシドの加水分解からゾルゲル法によって調製することができる。酸素雰囲気下、600~1000°Cでオーブンで焼成した後、ルチル酸化物のナノ粒子が得られる。H2還元性雰囲気下、亜化学量論的組成を得ることができる。更に、非水法はこれらのコア-シェル構造の合成にとって有利なことがある。これらの方法によって、還元され非ヒドロキシル化された表面をより良く制御して白金シェルの形成を促進することができる。これらの方法は以下の工程を含む。aNbがドープされたTiO2コア上に白金シェルを直接、物理的気相成長法PVDにより形成する工程、bNbがドープされたTiO2コアのナノ粒子懸濁液に直接、非水還元性電解環境において無電解白金析出を行う工程、及びcNbがドープされたTiO2コアのナノ粒子懸濁液に直接、化学流体析出を行う工程例えば、超臨界CO2を用いる。本発明の薄膜及びナノ粒子の態様に関して、TiNbOx下層及び均質白金又は白金合金上層を有する薄膜は、均質白金又は白金合金シェルがTiNbOxナノ粒子コア上に設けられているコア-シェル系に観察されるものと同じタイプの電極触媒挙動を示すと考えられている。したがって、前記薄膜は、化学的性質の同じナノ微粒子コア-シェル触媒の性質を正確に反映していると本発明の発明者が考えるモデル系と捉えることができる。薄膜で得られる電流密度が、少なくとも白金粒子で得られる最大比電流密度と同じくらい高いと仮定した場合、様々なコア径上に設けられた様々な厚さの白金シェルについて、単位質量あたりの電流密度の理論値を計算することができる。このような計算から、白金膜が約5ML未満の厚さであれば、単位質量あたりの電流密度の改善は、炭素に担持された白金粒子の最適な触媒3~4nmの粒子に見られるものを越えて観察されるはずであるという結論が導かれる。更に、コア径を著しく低減できる場合、これにより、単位質量あたりの電流密度が更に増大されるということが予測される。図22はこの傾向を表している。結果として、本発明のナノ粒子の態様において、TiNbOxナノ粒子コアが2nm以上、500nm以下の粒径を有することが好ましく、2nm以上、100nm以下がより好ましく、2nm以上、50nm以下が更に好ましい。粒径の測定に関して、500nm未満の粒径を測定する従来の方法は沢山ある。例えば、回折法X線回折、低角レーザー光散乱、電子顕微鏡法TEM/SEM、吸着法BETで測定することができる。本発明において、方法によって多少異なる結果が出るが、粒子サイズはX線回折XRDで観察される。好ましい工程段階である標識された上記工程2において、酸化物の表面が化学的に還元される。ここでの目的は、下層の酸化物コア/層のバルクを著しく還元することなく、粒子/薄膜の形態のためのNbがドープされたTiO2酸化物コア/層の表面を化学的に還元することである。NbがドープされたTiO2酸化物コア/層のバルクの還元は、電気化学的不安定につながる可能性がある。XPS解析を表面の還元の検証に用いる。一方、著しいバルクの還元が生じていないことの確認にX線回折法及びエリプソメトリーを用いる。この還元的前処理の目的は、表面の白金濡れ性を増加し、均一な白金膜の析出を可能にすることである。酸化物の表面の還元によって、次の工程3で析出される白金のための核形成部位を増やすことができる。このようにして、表面は可能な限り薄い臨界厚さの白金で被覆される。本明細書において、白金の臨界厚さ又は臨界膜厚さは、酸素還元反応ORRの過電圧において更なる還元が生じない上記膜厚である。一般的に、バルクの性質に影響を与えることなく、Nbがドープされたチタンの酸化物の表面を還元することができる表面前処理はいずれも適用することができる。有利に適用することができる具体的な方法のうち、以下の方法が挙げられる。高温600~1000°Cで、選択した温度に依り短時間5分~1時間、超高真空中圧力10-9Torr未満でアニーリングする。温度は750~850°C、時間は20~40分間であることが好ましい。現時点で好ましい条件としては、およそ又は丁度800°Cで、およそ又は丁度30分間保持する処理が含まれる。600~1000°Cで、選択した温度と圧力に依り短時間5分間~1時間、高真空10-5~10-7TorrのH2下でアニーリングする。好ましい条件は、圧力10-6~10-5TorrのH2下、650~750°Cで20~40分間である。現時点で好ましい条件としては、水素圧力およそ又は丁度5x10-6TorrのH2下、およそ又は丁度700°C、およそ又は丁度30分間保持する処理が含まれる。ルチルTiNbOx上の、多結晶白金薄膜の挙動当量、バルク又は薄膜の白金の酸素還元反応ORRの過電圧の観点では、実施実験例において、臨界膜厚約5.7当量の原子層によって達成される。ルチルTiNbOx上に還元性表面処理を行うことによって、実施実験例において、白金様の挙動はより薄い臨界厚さ、すなわち2.8当量の原子層によって達成することができる。このメカニズムは完全に明らかではないが、還元性表面処理によってTiNbOx基板上の白金濡れ性が促進されると考えられている。上述した工程3の全体の調製工程について、すなわち白金又は白金合金の析出について、酸化物コア上に白金又は白金合金の層を析出させるために、様々な方法が考えられ、その中でも、原子層堆積法、化学気相成長法及び物理気相成長法が挙げられる。現時点で好ましい実施形態において、電子ビーム源又は電子銃からの析出を、2~30分間の保持時間で用いることができる。この段階の目的は、厚さ1MLモノレイヤー以上、50ML以下、好ましくは2ML以上、20ML以下、より好ましくは2ML以上、10ML以下の均質の、できる限り均一に析出した白金又は白金合金層を調製することである。特に有利な実施形態において、好ましい白金又は白金合金層は、厚さ2ML以上、5ML以下である。析出した白金の当量モノレイヤー数は、より厚い検定膜の析出により得られる析出速度から計算することができる。これらの検定膜の厚さは、光学プロフィロメトリー又は原子間力顕微鏡法を用いて直接測定することができる。超薄膜は、粒子から連続薄膜への切り替えtransitionを示す透過電子顕微鏡法によって直接観察することができる。純白金Ptの他、本発明の範囲内においては、白金合金を用いてもよい。このような白金合金としては、白金以外の貴金属及び/又は遷移金属を含む二元、三元又は四元合金が挙げられる。白金以外の貴金属の例としては、ルテニウム、オスミウム、ロジウム、イリジウム、パラジウム、金及び銀が挙げられる。遷移金属の例としては、モリブデン、コバルト、鉄、ニッケル、チタン、タングステン、レニウム、クロム、マンガン、ニオブ及びタンタルが挙げられる。好ましい実施形態において、白金のみを含有した触媒層が使用される。本発明のコア-シェル複合材料において、Nbドーパントによって酸化物の電気伝導性が向上すると共に、ルチル構造によってその電気化学的安定性が担保されていると思われる。酸化物の表面における酸化物還元の前処理工程によって、Nbでドープされた場合に、サイクルにおける白金膜の安定性が付与される純ルチルTiOxは安定性が劣る。本発明のコア-シェル複合材料は燃料電池に用いてもよく、より一般的にはいずれの低温燃料電池にも用いることができる。このような燃料電池においては、カソードのプロセスは酸素の還元であり、高分子電解質膜燃料電池PEMFC、及び、直接メタノール型燃料電池DMFCなどその他のアルコール燃料電池が含まれる。したがって、本発明に係るコア-シェル複合材料は、本発明に係るコア-シェル複合材料が担持された導電性担体を含む酸素還元カソードに組み込むことができる。1コア材料の準備及びスクリーニング:薄膜Ti-Nb酸化物ライブラリ合成金属ドーパント濃度0~25at.Nbで非晶質及びルチル相の薄膜Ti-Nb酸化物サンプルのライブラリを合成し、組成、結晶性、導電性及び耐酸性を分析した。非晶質TiNbOx薄膜は、25°C、5.0x10-6Torrの分子状酸素中でPVDによって調製し、一方、全組成範囲において、ルチル膜を600°C、5.0x10-6Torrの分子状酸素中で調製した。ルチルのライブラリのいくつかには、白金の析出の前に、表面積を減少させるために最適な前処理を行った。結晶性チタン酸化物のルチル相のパターンを、110結晶面に沿った選択配向でXRDを用いて観察した。Nb金属、Nb酸化物又はTiNbOxの二次相は確認されなかった。これは、材料がTiO2ルチル結晶構造のチタン原子で占められているNbが八面体に配位した均質な固溶体からなることを示唆している。合成したサンプルのXRDデータを図7に示す。ルチルにおけるチタンのNb置換に一致するNb濃度の増加に伴い、[110]方向における格子の線膨張が観察された。この相関は図8に示されている。酸における安定性全てのルチル膜は、80°C、0.1MのH2SO4に対して24時間にわたって耐性を示した図10。一方、全ての非晶質図9膜は不安定であり、同じ時間で完全に溶解した。酸曝露前後に行ったICP-MS測定により、高いNbドーピングレベルにおいてTiに対するNbの相対的にわずかなロスが示された。それは、約15at.Nbを超える範囲におけるNbの空隙からの抜けに起因する。上述した2つの条件と同じ条件下で前処理を行ったルチルTiNbOx膜に安定性テストを行った。熱酸にさらして、800°Cで真空中、又は700°Cで5.0x10-6Torrの水素中、アニーリングしたいずれのルチルのサンプルにも目視可能な変化は観察されなかった。伝導度ガラス基板上に形成された関連する薄膜の酸化物それぞれについて、探針プローブ4PP伝導度測定法を行って、抵抗率を得た。非晶質及びルチルの膜の両方とも、伝導度は0at.Nbで約0.03Scm-1であった図11。Nbドーパントの濃度が増加することによってルチル膜の伝導度が33at.で10Scm-1まで増加した。一方、Nbの添加は非晶質材料の伝導度にほとんど影響しなかった。2酸化物ライブラリ上の極薄白金膜の調製及び特性評価合成電気化学的スクリーニングのために、関連する酸化物で被覆されたサンプル上に電子銃源から白金薄膜を析出させた。全てのサンプルについて、析出時間は1~30分の範囲で異なるものとし、約0.6~17当量モノレイヤー図12に相当する厚さの膜を形成した。この膜は200°Cで析出させ、ドープしたチタニア担体の表面を脱水酸素基化することで、安定した白金膜が形成された。白金を析出させた膜の特性評価次にこれらの系について、ORRに対する活性及び0.5MのHClO4中の電位サイクリングにおける安定性を調べた。ルチルTiNbOxで担持された白金薄膜の電気化学的スクリーニング図13は、酸素還元反応ORRに必要な過電圧は、高い当量厚でかなり一定のままであったが、最も低い当量厚では著しく増加したことを示した。Pt多結晶の挙動は、5.7当量の原子層で達成することができる。この値を超えると、変化がほとんど観察されなかった。比較のために、非晶質TiNbOx上の白金の超薄膜は、Pt多結晶の挙動を達成するのに、より高い臨界膜厚の8当量の原子層を必要とした。ルチル酸化物上の非常に薄い白金1.1当量原子層について、酸素還元開始電位は、ニオブを含むルチル担体すべてにおいて著しく異ならないが、ニオブを全く含まないルチルチタニアにおける酸素還元の開始は、より低い電位にシフトしたすなわち、過電圧は増加したことが観察された図14。これは、Nbの添加は有益な効果があることを示唆している。更に、数パーセントのNbを添加した後は、約10at.を超える更なるNbを添加しても、活性に更なる増進は得られなかった。表面が還元されたルチルTiNbOx図15には、白金の当量厚が2.8MLまで低下したため、酸素還元の過電圧に著しい違いはなかったしかし、低い被覆は最も高い過電圧を有する傾向があった。2.8ML未満の当量厚において、酸素還元反応の過電圧に著しい増加が見られた。図16は、700°C、H2下の前処理が行われた、全ての異なるルチルTiNbOx担体についての白金当量厚が2.8MLの酸素還元データを示す。全ての電極は非常に近い酸素還元反応の過電圧を有していた。4.1at.Nbの電極の過電圧は若干低く、これは若干より活性であることを示唆している。電気化学的安定性上述したO2還元実験を前もって実施したサンプルについて、脱酸素化した0.5MのHClO4中で、100mVs-1で0.025~1.200Vの範囲で200サイクルを行った。ほとんどの非還元ルチルのサンプル図17において、30回の安定性サイクル後も、サイクリックボルタンメトリーは一定のままであるように見えた。例えば、図17において、11.4at.NbのTiNbOx及び11.3MLの白金を有するサンプルの30回目、100回目、200回目のCVサイクルは非常に似ていることが分かり、白金及び担体は極めて安定であることを示唆している。実際、水素の吸着/脱離及び白金酸化物の形成/還元に伴う電荷は、最初の30サイクル中、増加し、その後安定した。これは、僅かな表面粗化のためか、又は電極表面の電気化学的洗浄のためである。安定性サイクリングは、2.8ML未満の範囲の非還元のルチル膜図18が、表面酸化物還元の開始に高い過電圧を有することを示しているこれは、本質的に酸素還元の電位に関係している。厚さ4.0及び5.7MLの膜の焼結により粒子が形成された証拠があり、一方、8.5ML以上の膜は多結晶白金様の挙動を示した。これらはサイクリングにおいて安定しているが、表面粗化の証拠を示している。担体膜のNb含有量による著しい効果は観察されなかった。全ての担体上の2.8ML当量厚の白金について、安定性サイクリング前後の酸素還元データを図19に示す。4.1at.Nbを超える場合においては、酸素還元の過電圧は変わらない又は、より低い過電圧にシフトしている。ニオブドーピングしていない担体と4.1at.のドーピングを含む担体の両方について、酸素還元反応過電圧は、安定性サイクリング後に増加するように見える。これは、ニオブドーピングの量が低いと、700°C、H2下で前処理した電極は、酸素還元活性に対してそれほど安定しないことを示唆している。図20は、全ての異なる還元されたルチルTiNbOx担体上の2.8ML当量厚の白金について、安定性サイクリング後の酸素還元データの比較を示している。ニオブを含有する全ての担体は、安定性サイクリング後において同様の酸素還元反応過電圧を有していた4.1Nbを含む担体は、Nbを含む担体の最も高い過電圧にシフトしたが。ニオブドーピングを含まない電極は、安定性サイクリング後に酸素還元反応の最も高い過電圧を有し、これは、安定性サイクリングが行われた後は、最も活性が小さいことを示唆している。ORR活性に対する前処理の効果最後に、図21に、様々な異なる酸化物/白金の組み合わせの酸素還元データをまとめた。これは、過電圧の低減が観察されたことを示しており、最初に担体への少量のNbの添加のため、そして担体のアナターゼ及びルチル相への結晶化のため、更なる増進はコアシェルモデルを用いたため、及び最後に、酸化物の担体の表面が還元されたコアシェルモデルの触媒を調製した選択した2セットの条件下でサンプルの前処理を用いてためである。