物品の基材表面に物理蒸着法によって少なくとも2層以上からなる硬質皮膜を被覆した耐食性に優れた被覆物品の製造方法であって、該製造方法は、前記基材表面に第1の硬質皮膜を被覆するステップと、前記第1の硬質皮膜の表面に第2の硬質皮膜を被覆するステップとを含み、前記第2の硬質皮膜を被覆するステップの前に、前記第1の硬質皮膜の表面を、算術平均粗さRaが0.05μm以下、かつ最大高さRzが1.00μm以下に研磨するステップを更に含む、耐食性に優れた被覆物品の製造方法。前記第1の硬質皮膜を被覆する前の前記基材の表面粗さをA、前記第1の硬質皮膜の研磨前の表面粗さをB、前記第1の硬質皮膜の研磨後の表面粗さをCとしたとき、各々の算術平均粗さRaと最大高さRzが、下記の式1~3を満たすことを特徴とする請求項1に記載の耐食性に優れた被覆物品の製造方法。Raおよび/またはRzについて、A<C<B式1Raについて、C/B<0.4式2Rzについて、C/B<0.1式3前記研磨するステップが、第1の硬質皮膜の表面を、断面測定による断面曲線において、平均線からの距離が50nm以上の山頂および谷底の個数密度が、それぞれ50個/mm2以下になるように研磨することを特徴とする請求項1または2に記載の耐食性に優れた被覆物品の製造方法。前記第1および/または第2の硬質皮膜は、クロム系窒化物であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の耐食性に優れた被覆物品の製造方法。前記第1および/または第2の硬質皮膜は、Mo、Nb、W、Si、Bから選択される1種または2種以上の元素を含むクロム系窒化物であることを特徴とする請求項4に記載の耐食性に優れた被覆物品の製造方法。前記第2の硬質皮膜は、成分組成がCr1-aXaNで示されるクロム系窒化物であって、XはMo、Nb、Wから選択される1種または2種以上の元素であり、aは0.1~0.2であることを特徴とする請求項5に記載の耐食性に優れた被覆物品の製造方法。前記第2の硬質皮膜は、成分組成がCr1-aXaNで示されるクロム系窒化物であって、XはSi、Bから選択される1種または2種以上の元素であり、aは0.03~0.10であることを特徴とする請求項5に記載の耐食性に優れた被覆物品の製造方法。前記第2の硬質皮膜を被覆するステップの後に、前記第2の硬質皮膜の表面を研磨するステップを更に含むことを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の耐食性に優れた被覆物品の製造方法。硬質皮膜を被覆する前の前記基材の表面粗さをA、前記第1の硬質皮膜の研磨前の表面粗さをB、前記第1の硬質皮膜の研磨後の表面粗さをC、前記第2の硬質皮膜の研磨後の表面粗さをDとしたとき、各々の算術平均粗さRaと最大高さRzが、下記の式1~3を満たすことを特徴とする請求項8に記載の耐食性に優れた被覆物品の製造方法。Raおよび/またはRzについて、A<C<D<B式1Raについて、C/B<0.4式2Rzについて、C/B<0.1式3物理蒸着法は、アークイオンプレーティング法であることを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載の耐食性に優れた被覆物品の製造方法。前記被覆物品が、射出成形用部品または金型であることを特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載の耐食性に優れた被覆物品の製造方法。物品の基材表面に物理蒸着法によって硬質皮膜を被覆した被覆物品であって、該硬質皮膜は、前記基材表面に被覆された第1の硬質皮膜と、研磨された第1の硬質皮膜の直上に被覆された第2の硬質皮膜の少なくとも2層以上からなり、かつ前記第1の硬質皮膜と前記第2の硬質皮膜の界面をまたぐ長径1μm以上のドロップレットが、断面組織観察における界面長さ50μmあたりの個数が2個未満0を含むであることを特徴とする耐食性に優れた被覆物品。前記第1および/または第2の硬質皮膜は、クロム系窒化物であることを特徴とする請求項12に記載の耐食性に優れた被覆物品。前記第1および/または第2の硬質皮膜は、Mo、Nb、W、Si、Bから選択される1種または2種以上の元素を含むクロム系窒化物であることを特徴とする請求項13に記載の耐食性に優れた被覆物品。前記第2の硬質皮膜は、成分組成がCr1-aXaNで示されるクロム系窒化物であって、XはMo、Nb、Wから選択される1種または2種以上の元素であり、aは0.1~0.2であることを特徴とする請求項14に記載の耐食性に優れた被覆物品。前記第2の硬質皮膜は、成分組成がCr1-aXaNで示されるクロム系窒化物であって、XはSi、Bから選択される1種または2種以上の元素であり、aは0.03~0.10であることを特徴とする請求項14に記載の耐食性に優れた被覆物品。第2の硬質皮膜は、表面が研磨されていることを特徴とする請求項12ないし16のいずれかに記載の耐食性に優れた被覆物品。物理蒸着法は、アークイオンプレーティング法であることを特徴とする請求項12ないし17のいずれかに記載の耐食性に優れた被覆物品。前記被覆物品は、射出成形用部品または金型であることを特徴とする請求項12ないし18のいずれかに記載の耐食性に優れた被覆物品。硬質皮膜の被覆手段にPVDを採用することは、基材に掛かる熱的負荷が小さいことから有効である。しかしながら、PVDで被覆した皮膜中には上記のドロップレットやパーティクル等が少なからず存在する。これらに起因したボイドやポア、ピンホール状の隙間欠陥が、特に基材にまで貫通すると、その部位では腐食が激しく進行し、早期の孔食やガス焼付きの要因となる。そのため、特許文献1の硬質皮膜は、それが耐食性に優れたCrNであっても、皮膜中に上記の欠陥が存在することで本来の耐食性が得られないとゆう課題がある。また、特許文献2の硬質皮膜は、そのCrN皮膜上にTiN皮膜を被覆したとしても、CrN皮膜中に一旦形成された欠陥はそのまま覆い隠すことが難しい。そこで、特許文献1や2の硬質皮膜に対しては、その表面に特許文献3のイオンエッチングを導入することが考えられる。しかし、耐食性の向上においては、やはりそれに効果を発揮する程のドロップレット等の除去には至らない。そして、特許文献4のサンドブラストを適用すれば、これは皮膜表面に粒子を吹付けるという、専ら研削作用によった粗加工方法であることから、耐食性の向上にとって好ましい平滑な表面が得られ難い。本発明の目的は上記の課題に鑑み、硬質皮膜の耐食性を向上した被覆物品の製造方法および被覆物品を提供することである。本発明者は、PVDで被覆した硬質皮膜について、その表面から基材に向かって貫通した欠陥の抑制方法を検討した。その結果、この抑制のためには、被覆工程の途中で、皮膜表面にあるドロップレット等の不純物をできるだけ残さずに除去することが、耐食性の向上には重要であることを知見した。これに加えては、ドロップレット等の除去後の皮膜表面には耐食性を向上させる一定の表面粗さがあることも突きとめた。そして、被覆物品として耐食性に優れる被覆構造を実現したことで、本発明に到達した。すなわち本発明は、物品の基材表面にPVDによって少なくとも2層以上からなる硬質皮膜を被覆した耐食性に優れた被覆物品の製造方法であって、この製造方法は、基材表面に第1の硬質皮膜を被覆するステップと、第1の硬質皮膜の表面に第2の硬質皮膜を被覆するステップとを含み、第2の硬質皮膜を被覆するステップの前に、第1の硬質皮膜の表面を算術平均粗さRaが0.05μm以下、かつ最大高さRzが1.00μm以下に研磨するステップを更に含む、耐食性に優れた被覆物品の製造方法である。硬質皮膜を被覆する前の基材の表面粗さをA、第1の硬質皮膜の研磨前の表面粗さをB、第1の硬質皮膜の研磨後の表面粗さをCとしたとき、その各々の算術平均粗さRaと最大高さRzが、下記の式1~3を満たすことが望ましい。Raおよび/またはRzについて、A<C<B式1Raについて、C/B<0.4式2Rzについて、C/B<0.1式3あるいはさらに、第1の硬質皮膜の表面は、その断面測定による断面曲線において、平均線からの距離が50nm以上の山頂および谷底の個数密度が、それぞれ50個/mm2以下になるように研磨することが望ましい。第1および/または第2の硬質皮膜は、クロム系窒化物であることが好ましい。そして更には、これらの硬質皮膜は、Mo、Nb、W、Si、Bから選択される1種または2種以上の元素を含むクロム系窒化物であることが望ましい。そしてこの場合、第2の硬質皮膜は、成分組成がCr1-aXaNで示されるクロム系窒化物であって但し、下付き数字はCrと元素Xの原子比を表す、XはMo、Nb、Wから選択される1種または2種以上の元素であり、aは0.1~0.2であることが望ましい。あるいは、XはSi、Bから選択される1種または2種以上の元素であり、aは0.03~0.10であることが望ましい。第2の硬質皮膜を被覆するステップの後には、第2の硬質皮膜の表面を研磨することが望ましい。そして更には、硬質皮膜を被覆する前の基材の表面粗さをA、第1の硬質皮膜の研磨前の表面粗さをB、第1の硬質皮膜の研磨後の表面粗さをC、第2の硬質皮膜の研磨後の表面粗さをDとしたとき、その各々の算術平均粗さRaと最大高さRzが、下記の式1~3を満たすことが望ましい。Raおよび/またはRzについて、A<C<D<B式1Raについて、C/B<0.4式2Rzについて、C/B<0.1式3また、物理蒸着法はアークイオンプレーティング法であることが望ましく、これらによる被覆物品は、射出成形用部品または金型であることが望ましい。また、本発明の被覆物品は、上述した本発明の製造方法で得られるものであり、物品の基材表面に物理蒸着法によって硬質皮膜を被覆した被覆物品であって、該硬質皮膜は、基材表面に被覆された第1の硬質皮膜と、研磨された第1の硬質皮膜の直上に被覆された第2の硬質皮膜の少なくとも2層以上からなり、かつ第1の硬質皮膜と第2の硬質皮膜の界面をまたぐ長径1μm以上のドロップレットが断面組織観察における界面長さ50μmあたりの個数が2個未満0を含むである耐食性に優れた被覆物品である。第1および/または第2の硬質皮膜は、クロム系窒化物であることが好ましい。そして更には、これらの硬質皮膜は、Mo、Nb、W、Si、Bから選択される1種または2種以上の元素を含むクロム系窒化物であることが望ましい。そしてこの場合、第2の硬質皮膜は、成分組成がCr1-aXaNで示されるクロム系窒化物であって但し、下付き数字はCrと元素Xの原子比を表す、XはMo、Nb、Wから選択される1種または2種以上の元素であり、aは0.1~0.2であることが望ましい。あるいは、XはSi、Bから選択される1種または2種以上の元素であり、aは0.03~0.10であることが望ましい。また、第2の硬質皮膜の表面が研磨されていることが望ましい。また、物理蒸着法はアークイオンプレーティング法であることが望ましく、本発明の被覆物品は、射出成形用部品または金型であることが望ましい。本発明であれば、その硬質皮膜を被覆途中の第1の硬質皮膜の表面を最適に研磨することで、第2の皮膜を被覆後には基材に向けて貫通する欠陥が非常に少なく調整されているから、優れた耐食性を発揮する。そして好ましくは、第2の硬質皮膜については、その組織構造を微細にすることで、更なる耐食性の向上と高硬度をも付与できるから、耐食性に加えては、耐摩耗性にも優れた被覆物品とできる。よって本発明は、腐食環境に曝される射出成形用部品、工具、金型の製造に有用である。本発明者は、皮膜の腐食を抑制する手法を鋭意研究する中で、第1の硬質皮膜上のドロップレットやパーティクル等を起点にする凹凸から、局所的な腐食が引き起こされることを突き止めた。そして、硬質皮膜を第1の硬質皮膜と第2の硬質皮膜に別けて複層被覆することに加えて、その、第1の硬質皮膜を被覆した後にそのまま続けて第2の硬質皮膜を被覆するのではなく、まず、第1の硬質皮膜を研磨して一定の表面粗さとなるように平滑化し、その上に第2の硬質皮膜を被覆することで皮膜全体の耐腐食性を大幅に改善出来ることを見出し、更には耐腐食性に優れる皮膜構造をも見出した。以下、その詳細を説明する。本発明の製造方法において、第1の硬質皮膜上を研磨するのは、ドロップレットやパーティクル等を除去して、平滑な表面状態にすることができ、第2の硬質皮膜の被覆時には、第1の硬質皮膜表面の微細な凹凸を埋めるように被覆され、皮膜全体の耐腐食性を大幅に改善出来るためである。本発明の製造方法で被覆される第1の硬質皮膜の表面は、その皮膜表面を一定の表面粗さになるよう平滑化することで耐食性を改善できる。すなわち、JIS-B-0602-2001に定められる表面粗さにおける算術平均粗さRaは0.05μm以下とし、かつ最大高さRzは1.00μm以下に研磨することで耐腐食性を向上させることが出来る。また、第2の硬質皮膜も同様の表面粗さの範囲であるのが好ましい。第1の硬質皮膜の表面をこの好ましい表面粗さにするには、イオンエッチングやサンドブラストショットブラスト等の研削作用によるものでは皮膜表面の平滑化が不十分であり、皮膜の耐腐食性に劣る場合がある。そこで、ドロップレットやパーティクル等を確実に除去し平滑な表面状態にするためには、次のような研磨方法を採用することが好ましい。1機械部品の仕上げを行う場合に部品表面が正しい均一面を持つように精密に仕上げていく研磨手段であって、例えば定盤を使用して、その硬質皮膜との間にラップ剤を挟み、硬質皮膜を摺動させて研磨する方法2ダイヤモンドペースト等の研磨剤を保持した研磨布で硬質皮膜の表面を磨く方法3ダイヤモンド粒子と湿度を持った研磨剤を用い、基材に被覆された皮膜に高速に滑走させて、発生する摩擦力によって磨く、いわゆるエアロラップ株式会社ヤマシタワークスの登録商標である等による研磨方法4エアーを使用せずに弾性と粘着性を持った研磨剤を噴射することで磨く、いわゆるスマップSMAP合資会社亀井鉄工所製の鏡面ショットマシンである等による研磨方法更に、これらの処理後には3μm以下のダイヤモンドペースト磨きをすることで、より望ましい平滑化が実現出来る。また、耐腐食性を向上させるために、第2の硬質皮膜の表面上も同様の研磨方法で平滑化することが好ましい。上記製造方法により、物品の基材表面にPVDによって硬質皮膜を被覆した被覆物品であって、該硬質皮膜は、基材表面に被覆された第1の硬質皮膜と、研磨された第1の硬質皮膜の直上に被覆された第2の硬質皮膜の少なくとも2層以上からなり、かつ第1の硬質皮膜と第2の硬質皮膜の界面をまたぐ長径1μm以上のドロップレットが断面組織観察における界面長さ50μmあたりの個数が2個未満0を含むである耐食性に優れた本発明の被覆物品を得ることができる。粗大なドロップレットが存在すると、その上面に堆積する皮膜との間に空隙等の内部欠陥が形成される。この欠陥を通して腐食が進行する。従い硬質皮膜の形成工程の中間で研磨処理を行い平滑化することは、硬質皮膜の深さ方向の内部欠陥の連通を遮断するのに有効である。本発明では、平滑化された界面を第1の硬質皮膜と第2の硬質皮膜の界面をまたぐ長径1μm以上のドロップレットが断面組織観察における界面長さ50μmあたりの平均個数が2個未満0を含むとして規定した。これは長径1μm未満のドロップレットおよび長径1μm以上であっても50μmあたり2個程度の存在は耐食性に大きな影響はないためである。第1および/または第2の硬質皮膜の表面粗さを平滑に調整するには、その被覆前の基材の表面粗さも平滑に研磨しておくことが好ましい。具体的には、硬質皮膜を被覆する前の基材の表面粗さをA、第1の硬質皮膜の研磨前の表面粗さをB、第1の硬質皮膜の研磨後の表面粗さをC、その各々の算術平均粗さRaおよび/または最大高さRzが、A<C<Bの関係を満たすことが望ましい。本発明においては第1の硬質皮膜の表面を平滑にすることが重要であり、第2の硬質皮膜を研磨する場合でも、第2の硬質皮膜の研磨後の表面粗さをDとして、A<C<D<Bの関係を満たすことが好ましい。基材表面を平滑化することで、基材表面の凹凸に起因する皮膜欠陥を抑制することが出来る。基材の直上にある皮膜欠陥は直接的に基材自体を著しく腐食する原因となり、基材に近い側の皮膜の皮膜欠陥が少ないことがより好ましい。そのため、研磨後の第2の硬質皮膜の表面粗さよりも、第1の硬質皮膜の表面粗さが平滑であることが好ましく、更には被覆する前の基材の表面粗さが最も平滑であることが好ましい。また、第1の硬質皮膜については、その被覆時の表面にあるドロップレット等を研磨除去するところ、除去の程度すなわち研磨後の表面粗さCは、研磨前の表面粗さBに対して、RaではC/Bが0.4未満に、RzではC/Bが0.1未満になるよう仕上げることが望ましい。これらの式を満たすことによって、硬質皮膜の欠陥をより低減できる。本発明の製造方法で被覆される第1の硬質皮膜の表面に、凹凸部が存在することで局所的な腐食が発生し易くなる。そして、この凹凸部を低減させることによって優れた耐食性が得られる。そのため、第1の硬質皮膜の断面測定による断面曲線において、平均線からの距離が50nm以上の山頂および谷底の個数密度が、それぞれ50個/mm2以下になるように研磨することが好ましい。なお、平均線とは、断面曲線における山頂と谷底の中心線であり、その中心線からそれぞれ50nm以上にあるピーク数を調査して、それぞれの個数密度を測定した。本発明の製造方法で被覆される、第1および/または第2硬質皮膜は、皮膜自体が耐食性に優れるクロム系窒化物であることが好ましい。なお、クロム系窒化物とは、その金属半金属を含む部分においてクロム量が50原子以上であるものをいう。また、該第1および/または第2の硬質皮膜は、Mo、Nb、W、Si、Bから選択される1種または2種以上の元素を含むクロム系窒化物であることが好ましい。Mo、Nb、Wが皮膜中へ添加されることで、硬度が向上し耐摩耗性が向上する。その中でもクロム系窒化物自体の靭性と密着性の維持に有利であるには、成分組成がCr1-aXaNで示されるクロム系窒化物であって但し、下付き数字はCrと元素Xの原子比を表す、XはMo、Nb、Wから選択される1種または2種以上の元素であり、aは0.1~0.2であることが好ましい。そして、Si、Bが皮膜中に添加されることで、皮膜が微細になり高硬度になる。好ましい皮膜硬度は2000HV0.025以上である。そして皮膜が微細化されることで、より耐食性が向上する。被成形材にガラス繊維等の強化物質が添加されると、硬質皮膜は摩耗に起因する腐食も生じ易くなる。よって、硬質皮膜には高い硬度をも付与することで、耐摩耗性の向上に加えては、摩耗腐食も抑制できる。これらの効果を発揮しクロム系窒化物自体の靭性と密着性を低下させないためには、成分組成がCr1-aXaNで示されるクロム系窒化物であって但し、下付き数字はCrと元素Xの原子比を表す、XはSi、Bから選択される1種または2種以上の元素であり、aは0.03~0.10であることが好ましい。本発明の製造方法で用いる被覆手段は、その被覆する硬質皮膜が皮膜密着性の高い物理蒸着法が必要である。例えばスパッタリング法やアークイオンプレーティング法があるが、その中でも特に皮膜密着性が高いアークイオンプレーティング法が好ましい。硬質皮膜の被覆手段には、アークイオンプレーティング装置を用いた。成膜装置の概略図を図5に示す。成膜チャンバー2中には、各種のターゲットカソード1を装着する複数のアーク放電式蒸発源3、4、5と、基材7を搭載するための基材ホルダー6を有する。基材ホルダー6の下には回転機構8があり、基材7は基材ホルダー6を介して、自転かつ公転する。そして、基材7が各種のターゲットに対峙したときに、該ターゲットによる皮膜が被覆される。なお、本実施例で使用したターゲットは、粉末冶金法で作製した金属ターゲットである。蒸発源3~5には、硬質皮膜の金属成分を構成するターゲットと、金属イオンエッチング用のターゲットを適宜装着した。基材には57~60HRCに調質したJIS-SKD11相当鋼材を用い、基材に第1の硬質皮膜を被覆する前には、基材の表面を算術平均粗さRa0.01μm、Rz0.07μmに研磨した。これを脱脂洗浄して、基材ホルダー7に固定した。そして、チャンバー2に設置された図示しない過熱用ヒーターにより、基材を500°C付近に加熱し、50分間保持した。次に、Arガスを導入し、基材には-600Vのバイアス電圧を印加して、30分間のプラズマクリーニング処理Arイオンエッチングを行った。続いて、基材には-800Vのバイアス電圧を印加して、約20分間のTi金属イオンエッチングを行った。そしてこの後、窒素ガスを導入し、基材には-150Vのバイアス電圧を印加して、基材温度500°C、反応ガス圧力3.0Paの条件で、各種の窒化物でなる硬質皮膜を成膜した。準備した試料を表1に示す。硬質皮膜はCrNである。本発明例である試料No.1は、第1のCrNを被覆後には、基材をチャンバーから取り出して、その途中表面を研磨する手段以下、総して中間表面処理と略すとして、エアロラップ処理株式会社ヤマシタワークス製エアロラップ装置使用を行い、その後、1μmのダイヤモンドペーストにてポリッシング研磨し、更に続いては、SMAP処理合資会社亀井鉄工所製鏡面ショットマシンSMAPII型使用を行った。そして、脱脂洗浄を行った後には、再びチャンバー内に戻して、ArイオンエッチングおよびTi金属イオンエッチングを行い、第2のCrNを被覆し、硬質皮膜を完成させた。そして、試料No.2~7については、それぞれ以下の中間表面処理後に、試料No.1と同様の手法で第2のCrNを被覆した。試料No.2は、上記のエアロラップ処理のみの中間表面処理を行った。試料No.3の中間表面処理は、試料No.1のそれからSMAP処理を省略した。試料No.4の中間表面処理には、研磨剤を塗布したナイロン不織布ベルスター研磨材工業株式会社製研磨パッド1500~3000を使用した。比較例の試料No.5では本発明の中間表面処理に替えて、ショットブラスト処理投射材:150アルミナを行った。試料No.6、7は特許文献4に相当するものである。すなわち、本発明の中間表面処理に替えては、サンドブラスト処理投射材:400~600砂をそれぞれ行った。比較例である試料No.8、9は、特許文献3に相当するものである。つまり、第1のCrNを被覆後に、試料No.1~5に同様、チャンバーから取り出し、中間表面処理は行わずにそのままチャンバー内へ戻し但し、No.9は脱脂洗浄のみ行った、第2のCrNを被覆する前に、基材と同じArイオンエッチングおよびTi金属イオンエッチングを行ったものである。比較例である試料No.10は、特許文献1や2に相当するものであり、チャンバーから取り出すことなく、成膜したものである。そして最後には、上記の試料No.1~10の最表面をダイヤモンドペーストで磨いた。そして、これらの試料について、その第1および第2のCrNの表面粗さ測定と、耐食性の評価を行った。各評価試験方法を以下に示す。表面粗さ測定JIS-B-0602-2001に従って、粗さ曲線より算術平均粗さRaと最大高さRzを測定した。測定条件は、評価長さ:4.0mm、測定速度:0.3mm/s、カットオフ値:0.8mmである。そして、第1の皮膜表面については、本発明が定義する山頂および谷底の個数密度を、前記規格に従った断面曲線にて測定した。測定条件は、評価長さ:1.0mm、測定速度:0.15mm/s、λs値:0.8mmである。また、皮膜表面の中心部から縦、横それぞれ長さ1.0mmの断面曲線より、その平均線から50nm以上窪んだ凹部谷底と、同50nm以上突出した凸部山頂をカウントした。そしてこの作業を3回繰り返して得た平均値をそれぞれの縦と横での個数を乗じ、個数密度とした。図1AおよびBには、それぞれ試料No.1および8の、その代表される断面曲線を示す。耐食性評価試験実際の射出成形中に発生するハロゲンガスなどの腐食ガスを模擬して、試料を10硫酸水溶液中に20時間浸漬する試験を実施した。前記水溶液の温度は50°Cとし、JIS-G-0591-2007に従って、試験片の被覆された面以外はマスキングした。そして、浸漬後には、その腐食による減量を記録するとともに、表面に現れる孔食ピットの観察を行った。試験面に対する腐食の面積率は、顕微鏡写真倍率:8倍にて評価した。以上の試験結果を表1に示す。なお、表2には、硬質皮膜を皮膜する前の基材と、第1、2の硬質皮膜の表面粗さRa、Rzの関係を示す。そして、その耐食性評価試験後の皮膜表面については、図2A~Fに示す図中において、球状に確認される薄色部が孔食である。表1および2より、本発明の製造方法を満たした硬質皮膜は、その皮膜最表面の表面粗さも平滑であり、耐食性に優れていることが分かる。そして、その耐食性評価試験後の皮膜表面は、図2A~Fの通り、極小径の孔食が確認される程度である。これに対し、ショットブラスト及びサンドブラスト処理をした試料No.5~7の硬質皮膜は、表面が粗化されたことで硬質皮膜の表面粗さ値が大きく、耐食性が著しく悪い。試料No.8および9による硬質皮膜は、その最表面は平滑であるものの、耐食性は著しく劣り、イオンエッチングによるマクロパーティクルの除去では耐食性の向上には不十分であることがわかる。また、一貫して硬質皮膜を成膜した試料No.10は、その硬質皮膜の耐食性は劣る。これら試料の耐食性評価試験後の皮膜表面は、図2Fの通りであり、著しい腐食が発生している試料No.5~7、10時間経過時の表面である。特に、試料No.5~7に関しては、腐食時間が他より短い10時間でも既に著しい腐食が確認された。実施例1の試料No.1と同じ成膜条件によって、その硬質皮膜の種類のみを変更した各種の試料を作製した。その詳細は表3に示す通りである。そして、その皮膜表面の硬度と耐食性の評価を実施した。硬度はJIS-Z-2244に従って、マイクロビッカース試験機により皮膜表面の硬さHV0.025を測定した。試験荷重は0.2452Nである。硬質皮膜の面粗度と凹凸欠陥密度を実施例1のようにJIS-B-0602-2001に従って、粗さ曲線より算術平均粗さRa、最大高さRz、凹凸欠陥個数を測定した。耐食性評価試験は、その浸漬時間を10時間とした以外は、実施例1と同様の条件である。これらの試験結果を表3に示す。その耐食性評価試験後の皮膜表面については、図3A~Fに示す図中において、球状に確認される薄色部が孔食である。表3より、本発明を満たす試料No.11~34の中ではNo.11~21、28~34は、特に優れた耐食性と高硬度のバランスに優れる。そして、試料No.12~20、28~34は硬度が高い。図3A~Fは、試料No.12、15、23、27、28、32の耐食性評価試験後の皮膜表面を示すものであるが、試料No.12、15、32のそれには目立った孔食が観察されない。また、硬質皮膜にSiやBの半金属元素を添加したものは、その組織が微細化されることで硬度が高くなる。例えば試料No.11の第2の硬質皮膜にSiおよびBを添加した試料No.12は、その組織が微細化されて、皮膜硬さが向上している。図4AおよびBは、それぞれ試料No.11および12の破断面組織を示す走査型電子顕微鏡写真である。試料No.11の第2の硬質皮膜が柱状構造となっており、試料No.12の第2の硬質皮膜は組織が微細化されていることが確認される。実施例1および実施例2で得られた本発明例の試料について、耐食性向上の要因を探るため複数視野の断面観察を行った。また、比較例として研磨処理を行わないNo.8も同様の観察を行った。典型例として本発明例の試料No.1と比較例No.8の断面観察における走査型電子顕微鏡によるミクロ組織写真を図6AおよびBに示す。図6Aに示すとおり、本発明例の試料No.1では、界面上に1μm以上の粗大なドロップレットは確認されない。また、本発明例のすべての試料では、本発明例の試料No.1と同様な形態であり、1μm以上のドロップレットは界面長さ50μmあたり1個以下であった。また、本発明例では界面に存在するドロップレット自体が、除去されるか、研磨されて界面をまたぐことのない平滑面を構成していることが確認された。一方、耐食性の悪い比較例の試料No.8では、第1の硬質皮膜と第2の硬質皮膜の界面をまたぐ1ないし2μmの粗大なドロップレットが断面組織観察における界面長さ50μmあたり4個確認された。粗大なドロップレットが存在すると、その上面に堆積する皮膜との間に空隙等の内部欠陥が形成される。この欠陥は腐食を助長するものである。本発明例では、このような粗大なドロップレットの影響を研磨処理により排除できており、これにより耐食性が向上していることがわかる。