"搬送される基材に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記基材の搬送方向の上流に位置し外側側面部とスリット側側面部とランド部を有する上流側リップと、前記基材の搬送方向の下流に位置し外側側面部とスリット側側面部とランド部を有する下流側リップと、前記上流側リップと前記下流側リップの間に位置するスリット部とを有するダイヘッドを備え、前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記下流側リップの前記ランド部の長さが、前記上流側リップの前記ランド部よりも短いものであり、前記下流側リップの前記ランド部が、前記スリット部の長手方向に垂直な面に対して、所定角度傾斜したものであり、前記上流側リップの前記ランド部の表面粗さRaが10μm以下であることを特徴とする塗布装置。塗布装置は、前記基材の搬送手段としてのバックアップローラを備えるものである請求項1に記載の塗布装置。前記スリット部の長手方向を軸としたときの当該軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面を面Fとしたときの、前記面Fと前記下流側リップの前記ランド部の最下流側の縁との距離をz1[μm]、前記面Fと前記下流側リップの前記ランド部のスリット側縁との距離をz2[μm]、前記面Fと前記上流側リップの前記ランド部のスリット側縁との距離をz3[μm]、前記面Fと前記上流側リップの前記ランド部の最上流側の縁との距離をz4[μm]としたとき、z1<z2<z3<z4の関係を満足する請求項1または2に記載の塗布装置。1<z2/z1<20の関係を満足する請求項3に記載の塗布装置。塗布装置は、前記ダイヘッドと前記基材との間に架設される前記塗布液のビードの上流側を減圧する減圧チャンバーを備えるものである請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布装置。前記下流側リップの前記ランド部の表面粗さRaが10μm以下である請求項1ないし5のいずれかに記載の塗布装置。前記上流側リップの前記ランド部は、前記スリット部の長手方向に垂直な面と略平行である請求項1ないし6のいずれかに記載の塗布装置。前記塗布液として、エポキシワニスを用いるものである請求項1ないし7のいずれかに記載の塗布装置。請求項1ないし8のいずれかに記載の塗布装置を用いて、基材上に薄膜を形成する薄膜の形成方法。前記基材の搬送速度をU[m/秒]、前記塗布液のビードの上流側の圧力PVAC[Pa]、前記塗布液のビードの下流側の圧力をP0[Pa]、前記塗布液の粘度をμ[Pas]、前記塗布液の表面張力をσ[N/m]、前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記下流側リップの前記ランド部の長さをLd[m]、前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記上流側リップの前記ランド部の長さをLU[m]、前記下流側リップの前記ランド部の最下流の縁と前記基材との距離をHD[m]、前記薄膜の膜厚をt[m]、前記スリット部の長手方向に垂直な面に対する前記下流側リップの前記ランド部の傾きをa=z1-z2/Ld、前記スリット部の長手方向を軸としたときの当該軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面と、前記下流側リップのスリット側の縁との距離をb[m]、前記スリット部の長手方向に垂直な面に対する前記上流側リップの前記ランド部の傾きをc=z3-z4/Lu前記軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面と、前記上流側リップのスリット側の縁との距離をd[m]としたとき、以下の関係を満足する請求項9に記載の薄膜の形成方法。ただし、Ca=μU/σ0.005<Ld/LU<1の関係を満足する請求項10に記載の薄膜の形成方法。本発明の目的は、塗布液の粘度の適用可能範囲が広く、幅広い膜厚領域にわたって、安定的な薄膜の形成が可能である塗布装置を提供すること、また、塗布液の粘度の適用可能範囲が広く、幅広い膜厚領域にわたって、安定的な薄膜の形成が可能である薄膜の形成方法を提供することにある。このような目的は、下記1~11に記載の本発明により達成される。1搬送される基材に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記基材の搬送方向の上流に位置し外側側面部とスリット側側面部とランド部を有する上流側リップと、前記基材の搬送方向の下流に位置し外側側面部とスリット側側面部とランド部を有する下流側リップと、前記上流側リップと前記下流側リップの間に位置するスリット部とを有するダイヘッドを備え、前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記下流側リップの前記ランド部の長さが、前記上流側リップの前記ランド部よりも短いものであり、前記下流側リップの前記ランド部が、前記スリット部の長手方向に垂直な面に対して、所定角度傾斜したものであり、前記上流側リップの前記ランド部の表面粗さRaが10μm以下であることを特徴とする塗布装置。2塗布装置は、前記基材の搬送手段としてのバックアップローラを備えるものである上記1に記載の塗布装置。3前記スリット部の長手方向を軸としたときの当該軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面を面Fとしたときの、前記面Fと前記下流側リップの前記ランド部の最下流側の縁との距離をz1[μm]、前記面Fと前記下流側リップの前記ランド部のスリット側縁との距離をz2[μm]、前記面Fと前記上流側リップの前記ランド部のスリット側縁との距離をz3[μm]、前記面Fと前記上流側リップの前記ランド部の最上流側の縁との距離をz4[μm]としたとき、z1<z2<z3<z4の関係を満足する上記1または2に記載の塗布装置。41<z2/z1<20の関係を満足する上記3に記載の塗布装置。5塗布装置は、前記ダイヘッドと前記基材との間に架設される前記塗布液のビードの上流側を減圧する減圧チャンバーを備えるものである上記1ないし4のいずれかに記載の塗布装置。6前記下流側リップの前記ランド部の表面粗さRaが10μm以下である上記1ないし5のいずれかに記載の塗布装置。7前記上流側リップの前記ランド部は、前記スリット部の長手方向に垂直な面と略平行である上記1ないし6のいずれかに記載の塗布装置。8前記塗布液として、エポキシワニスを用いるものである上記1ないし7のいずれかに記載の塗布装置。9上記1ないし8のいずれかに記載の塗布装置を用いて、基材上に薄膜を形成する薄膜の形成方法。10前記基材の搬送速度をU[m/秒]、前記塗布液のビードの上流側の圧力PVAC[Pa]、前記塗布液のビードの下流側の圧力をP0[Pa]、前記塗布液の粘度をμ[Pas]、前記塗布液の表面張力をσ[N/m]、前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記下流側リップの前記ランド部の長さをLd[m]、前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記上流側リップの前記ランド部の長さをLU[m]、前記下流側リップの前記ランド部の最下流の縁と前記基材との距離をHD[m]、前記薄膜の膜厚をt[m]、前記スリット部の長手方向に垂直な面に対する前記下流側リップの前記ランド部の傾きをa=z1-z2/Ld、前記スリット部の長手方向を軸としたときの当該軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面と、前記下流側リップのスリット側の縁との距離をb[m]、前記スリット部の長手方向に垂直な面に対する前記上流側リップの前記ランド部の傾きをc=z3-z4/Lu前記軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面と、前記上流側リップのスリット側の縁との距離をd[m]としたとき、以下の関係を満足する上記9に記載の薄膜の形成方法。ただし、Ca=μU/σ110.005<Ld/LU<1の関係を満足する上記10に記載の薄膜の形成方法。本発明によれば、塗布液の粘度の適用可能範囲が広く、幅広い膜厚領域にわたって、安定的な薄膜の形成が可能である塗布装置および薄膜の形成方法を提供することができる。以下、本発明について詳細に説明する。図1は、本発明の塗布装置の好適な実施形態を示す断面図、図2は、図1に示す塗布装置のダイヘッド付近の拡大断面図である。なお、図中のバックアップローラ1および基材90の近傍の矢印は、バックアップローラ1による基材90の搬送方向を示す。また、図2中では、塗布液、薄膜の表示を省略した。また、本明細書で参照する図面は、構成の一部を誇張して示したものであり、実際の寸法等を正確に反映したものではない。本発明の塗布装置は、搬送される基材に塗布液を塗布するものである。図1に示すように、塗布装置100は、搬送される基材90を搬送するための搬送手段としてのバックアップローラ1と、塗布液80を吐出するダイヘッド2とを備えている。ダイヘッド2は、基材90の搬送方向の上流側に位置する上流側リップ21と、基材90の搬送方向の下流側に位置する下流側リップ22と、上流側リップ21と下流側リップ22との間に位置するスリット部23とを有するものである。上流側リップ21は、外側側面部211と、スリット側側面部212と、バックアップローラ搬送手段1基材90に対向するランド部上流側ランド部213とを有している。下流側リップ22は、外側側面部221と、スリット側側面部222と、バックアップローラ搬送手段1基材90に対向するランド部下流側ランド部223とを有している。塗布装置100では、バックアップローラ1により支持された状態で連続走行する基材90の表面に向かってダイヘッド2の先端から塗布液80が吐出され、ダイヘッド2と基材90との間にビード81が形成される。そして、基材90の表面に塗布液80が塗布され、基材90上に塗布膜薄膜82が形成される。スリット部23の上流側には、マニホールド24が設けられている。マニホールド24は、ダイヘッド2に供給された塗布液80を、塗布幅方向へ拡流する液溜め部である。図示の構成では、マニホールド24の断面形状は、略円形であるが、これに限定されるものではなく、例えば、半円形、台形等の矩形等であってもよい。ダイヘッド2の上流側リップ21、下流側リップ22は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、少なくともランド部213およびランド部223は、金属材料で構成されたものであるのが好ましく、超硬合金で構成されたものであるのが好ましい。これにより、スリット部23の先端部分の強度、耐磨耗性等を特に優れたものとすることができ、長期間にわたって安定的な薄膜形成を行うことができる。超硬合金としては、例えば、タングステンカーバイドWC等の炭化物結晶粒子をCo、Ti、Ta、Nb等の結合金属によって結合したもの等が挙げられる。なお、WC結晶の平均粒径は3μm以下であることがより好ましい。これにより、表面形状の均質性や先端リップの耐摩耗性等をさらに優れたものとすることができる。そして、塗布液80の流路であるスリット部23の長手方向に垂直な面での、基材90の搬送方向についての、下流側リップ22のランド部223の長さ以下、単にランド部223の長さともいうが、上流側リップ21のランド部213の長さ以下、単にランド部213の長さともいうよりも短いものである。また、下流側リップ22のランド部223が、スリット部23の長手方向に垂直な面に対して、所定角度傾斜したものである。また、上流側リップ21のランド部213の表面粗さRaが10μm以下である。このように、下流側のランド部223の長さと上流側のランド部213の長さとが所定の関係を満足し、下流側のランド部223が所定角度傾斜したものであり、かつ、上流側のランド部213の表面粗さRaが所定の値であることにより、塗布装置の安定塗工領域を広いものとすること、すなわち、塗布液の粘度の適用可能範囲が広く、幅広い膜厚領域にわたって、安定的な薄膜の形成が可能であることを、本発明者は鋭意研究の結果見出した。より詳しく説明すると、広い塗布条件において、ビード81の形状の安定性を優れたものとすることができ、上流側リップ21の外側側面部211への塗布液80の濡れ上がりleakageや、ビード破壊beadbreak等を確実に防止することができ、均一な厚さの薄膜82を安定的に形成することができる。これに対し、下流側のランド部の長さが上流側のランド部の長さ以上のものである場合、下流側のランド部がスリット部の長手方向に垂直な面に対して所定角度傾斜したものでない場合、上流側のランド部の表面粗さRaが前記条件を満たさないものである場合には、塗布装置の安定塗工領域を十分に広いものとすることができない。上記のように、ランド部223の長さは、ランド部213の長さよりも短いものであればよいが、以下のような関係を満足するのが好ましい。すなわち、ランド部223の長さをLd[mm]、ランド部213の長さをLU[mm]としたとき、0.005<Ld/LU<1の関係を満足するのが好ましく、0.05<Ld/LU<0.5の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。上記のように、ランド部223は、スリット部23の長手方向に垂直な面に対して、所定角度傾斜したものであればよいが、スリット部23の長手方向に垂直な面に対するランド部223の傾きa=z1-z2/Ldは、-15<a<0の条件を満足するものであるのが好ましく、-5<a<-0.01の条件を満足するものであるのがより好ましい。これにより、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。上記のように、ランド部213の表面粗さRaは、10μm以下であればよいが、0.5μm以上5μm以下であるのが好ましく、1μm以上3μm以下であるのがより好ましい。これにより、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。上記のように、塗布装置100は、搬送手段としてバックアップローラ1を備えている。本発明の塗布装置は、バックアップローラ以外の搬送手段例えば、ベルトコンベアを備えるものであってもよいが、搬送手段としてのバックアップローラを備えるものであることにより、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。また、塗布装置の省スペース化を図ることができる。バックアップローラ1の構成材料としては、例えば、鉄等の金属を好適に用いることができる。また、バックアップローラ1は、基部とその外周面側に設けられた被覆層とを有するものであってもよい。また、バックアップローラ1の直径は、100mm以上400mm以下であるのが好ましい。また、図示の塗布装置100は、上述したバックアップローラ1およびダイヘッド2に加え、さらに減圧チャンバー3を備えている。すなわち、ダイヘッド2の先端部分から基材90のビード81の接触部分までを含む領域の上流側に、ダイヘッド2と基材90との間に架設されるビード81の上流側を減圧するための減圧チャンバー3が設けられている。これにより、ビード81の形状の安定性を特に優れたものとすることができ、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。減圧チャンバー3は、内部に空間形成するバックプレート31、サイドプレート32、リアプレート33、およびボトムプレート34を有する箱形形状となっている。バックプレート31は、減圧チャンバー3のうち基材90の搬送方向の最も上流側に位置し、基材90の幅方向に沿って配置される。サイドプレート32は、バックプレート31と垂直を成すように配置されて減圧チャンバー3の両側壁を構成し、バックアップローラ1と近接する縁部分図示省略がバックアップローラ1とほぼ同じ曲率を有する。リアプレート33は、ダイヘッド2の下方において、バックプレート31とほぼ平行に配置されている。ボトムプレート34は、減圧チャンバー3の底部分を構成し、バックプレート31、サイドプレート32、およびリアプレート33と縁部分において接合する。そして、バックプレート31と基材90との間、および、サイドプレート32と基材90との間には、所定の隙間が設けられている。減圧チャンバー3は、吸引口およびエア配管41を介してブロア42に接続されている。エア配管41の途中には、バルブ43およびバッファ装置44が設けられている。ブロア42は、吸引口およびエア配管41を介して減圧チャンバー3内を吸引し、減圧チャンバー3内を負圧にする。バルブ43は、その開度に応じて減圧チャンバー3内の減圧度を調整する。バッファ装置44は、減圧チャンバー3内の圧力変動を小さくするための緩衝部としての役割を果たすものである。減圧チャンバー3内には、減圧チャンバー3内の圧力を測定する圧力計45が設けられており、圧力計45の測定結果はコントローラ46に送られる。コントローラ46は、圧力計45の測定結果に基づいてバルブ43の開度を調節し、減圧チャンバー3内の圧力を所定の圧力に保つように構成されている。スリット部23の長手方向を軸Aとしたときの軸Aに垂直な面であって、基材90の搬送手段バックアップローラ1の表面のうち軸A方向について最も上流側の部位を含む面を面Fとしたときの、面Fと下流側リップ22のランド部223の最下流側の縁最下流側縁2232との距離をz1[μm]、面Fと下流側リップ22のランド部223のスリット側の縁スリット側縁2231との距離をz2[μm]、面Fと上流側リップ21のランド部213のスリット側の縁スリット側縁2132との距離をz3[μm]、面Fと上流側リップ21のランド部213の最上流側の縁最上流側縁2131との距離をz4[μm]としたとき、z1<z2<z3<z4の関係を満足するのが好ましい。このような関係を満足することにより、ビード81の形状の安定性を特に優れたものとすることができ、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。また、1<z2/z1<20の関係を満足するのが好ましく、1.1<z2/z1<10の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。z1は、5μm以上600μm以下であるのが好ましく、10μm以上200μm以下であるのがより好ましい。z2は、6μm以上700μm以下であるのが好ましく、15μm以上300μm以下であるのがより好ましい。z3は、7μm以上750μm以下であるのが好ましく、20μm以上350μm以下であるのがより好ましい。z4は、8μm以上850μm以下であるのが好ましく、30μm以上450μm以下であるのがより好ましい。下流側リップ22のランド部223の表面粗さRaは、10μm以下であるのが好ましく、1μm以上3μm以下であるのがより好ましい。これにより、ビード81の形状の安定性を特に優れたものとすることができ、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。上流側リップ21のランド部213は、スリット部23の長手方向に垂直な面と略平行であるのが好ましい。より具体的には、スリット部23の長手方向に垂直な面に対する上流側リップ21のランド部213の傾きcは、-5<c<0の条件を満足するものであるのが好ましく、-2<c<-0.001の条件を満足するものであるのがより好ましい。これにより、ビード81の形状の安定性を特に優れたものとすることができ、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。また、塗布装置100は、ダイヘッド2よりも基材90の搬送方向の下流側に、光源5を備えている。これにより、塗布液80として、後述するエポキシワニスのような光硬化性の材料を用いる場合に、形成された薄膜82を速やかに硬化固化させることができる。その結果、薄膜82が形成された基材90の取り扱い性取り扱いのし易さが向上し、例えば、薄膜82が形成された基材90を図示しない巻き取りローラで巻き取った場合等であっても、形成された薄膜82に損傷が生じることをより効果的に防止することができる。光源5としては、例えば、UVランプ等を好適に用いることができる。塗布装置100においては、塗布液80として、例えば、光学補償シート用塗布液、反射防止フィルム用塗布液、防眩性付与液磁性塗布液、写真感光性用塗布液、磁性塗布液、視野角拡大用塗布液、表面保護液、帯電防止液、滑性用塗布液、カラーフィルタ用顔料液、その他の光学フィルム用塗布液等を用いることができるが、エポキシワニスを用いるのが好ましい。これにより、塗布液を用いて形成される膜の寸法安定性、耐熱性、耐水性、耐薬品性、電気絶縁性等の向上を図ることができる。また、塗布液80は、希釈用の溶剤溶媒、分散媒を含むものであってのよい。希釈用の溶剤としては、例えば、水、各種のハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、エステル、ケトン等を用いることができる。上述したように、本発明では、幅広い粘度範囲の塗布液を適用することができる。具体的には、塗布装置100では、塗布液80として、粘度が0.5mPas以上3000mPas以下より好ましくは、1mPas以上500mPas以下なお、本明細書では、粘度の数値については、特に断りのない限り、20°Cにおける粘度粘性率のことを示す。また、本発明では、塗布液として幅広い表面張力の範囲の液体を適用することができる。具体的には、塗布液として、表面張力が0.01N/m以上0.1N/m以下より好ましくは、0.02N/m以上0.08N/m以下の液体を好適に使用することができる。なお、本明細書では、表面張力の数値については、特に断りのない限り、20°Cにおける表面張力のことを示す。また、基材90としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックで構成されたもの、紙、Al、Cu、Sn等の金属箔等を用いることができる。また、基材90としては、複数の層を有する積層体や、組成が傾斜的に変化する傾斜材料等も用いることができる。また、上述したように、本発明では、幅広い膜厚領域にわたって、安定的な薄膜の形成が可能である。すなわち、本発明では、塗布液の塗布速度を広いものとすることができるともいうことができる。具体的には、塗布液80の塗布速度バックアップローラ1の周速度は、0.3m/分以上100m/分以下より好ましくは、0.5m/分以上30m/分以下とすることができる。また、本発明で形成される膜の膜厚は、ウエット膜厚で0.1μm以上500μm以下より好ましくは、1μm以上100μm以下とすることができる。基材90の搬送速度をU[m/秒]、ビード81の上流側の圧力減圧チャンバー3内の圧力PVAC[Pa]、前記塗布液のビードの下流側の圧力をP0[Pa]、塗布液80の粘度をμ[Pas]、塗布液80の表面張力をσ[N/m]、下流側リップ22のランド部223の長さをLd[m]、上流側リップ21のランド部213の長さをLU[m]、下流側リップ22のランド部223の最下流の縁と基材90との距離をHD[m]、薄膜82の膜厚安定膜厚をt[m]、スリット部23の長手方向に垂直な面に対する下流側リップ22のランド部223の傾きをa=z1-z2/Ld、スリット部23の長手方向を軸Aとしたときの軸Aに垂直な面であって、基材90の搬送手段バックアップローラ1の表面のうち軸A方向について最も上流側の部位を含む面Fと、下流側リップ22のスリット側縁2231との距離をb[m]、スリット部23の長手方向に垂直な面に対する上流側リップ21のランド部213の傾きをc=z3-z4/Lu、軸Aに垂直な面であって、基材90の搬送手段バックアップローラ1の表面のうち軸A方向について最も上流側の部位を含む面Fと、上流側リップ21のスリット側縁2132との距離をd[m]としたとき、以下の関係を満足するのが好ましい。ただし、Ca=μU/σ上記のような関係を満足することにより、ビード81の形状の安定性を特に優れたものとすることができ、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。また、0.005<Ld/LU<1の関係を満足するのが好ましく、0.05<Ld/LU<0.5の関係を満足するのがより好ましい。基材90に対して塗布液80を塗布する際における、ビード81の上流側の圧力減圧度PVACは、-10000Pa以上0Pa未満であるのが好ましく、-5000Pa以上-100Pa以下であるのがより好ましい。これにより、ビード81の形状の安定性を特に優れたものとすることができ、安定塗工領域をさらに広いものとすることができ、薄膜形成の安定性を特に優れたものとすることができる。以上、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、本発明の塗布装置では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。また、塗布装置を構成する各部材は、基材上に塗布液を適切に塗布することができれば、上述した実施形態で示したものに限定されない。以下、本発明を具体的な実施例および比較例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。[1]塗布装置の製造実施例1図1、図2に示すように、バックアップローラ、ダイヘッド、減圧チャンバー、UVランプ等を備え、表1に示すような条件を満足する塗布装置を製造した。なお、バックアップローラはステンレスで構成されたものであり、ダイヘッドはステンレスで構成されたものであった。実施例2ダイヘッドの条件を表1に示すようにした以外は、前記実施例1と同様にして塗布装置を製造した。比較例1~4ダイヘッドの条件を表1に示すようにした以外は、前記実施例1と同様にして塗布装置を製造した。前記各実施例および比較例について、塗布装置の条件を表1にまとめて示した。なお、表中、ランド部の長さの欄には、スリット部の長手方向に垂直な面での基材の搬送方向についての長さを示した。また、スリット部の長手方向を軸としたときの当該軸に垂直な面であって、基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面を面Fとしたときの、面Fと下流側リップのランド部の最下流側の縁との距離をz1[μm]、面Fと下流側リップのランド部のスリット側縁との距離をz2[μm]、面Fと上流側リップのランド部のスリット側縁との距離をz3[μm]、面Fと上流側リップのランド部の最上流側の縁との距離をz4[μm]として示した。[2]評価[2.1]安定塗工領域試験膜厚範囲まず、塗布液として、粘度が0.03Pas、表面張力が0.021N/mのエポキシワニスを用意した。前記各実施例および各比較例の塗布装置を用いて、塗布液を塗布する基材としてのポリエチレンテレフタレートフィルムに、前記塗布液を塗布した。塗布液の塗布は、ビードの上流側の圧力減圧度PVACを-330Paとした状態で、基材の搬送速度を1.5~2.5[m/分]の範囲で変化させつつ行った。塗布液の供給速度は9.0mL/分で一定となるようにした。上記のようにして形成された薄膜の平均厚さは、前記各実施例および各比較例で、いずれも40~24μmであった。上記のようにして薄膜が形成された基材について、目視による観察を行い、以下の基準に従い評価した。なお、前記各実施例は、いずれも、上記式1~式3の条件を満足するものであった。A:平均厚さが24μm以上40μm以下の範囲において、厚みのむらすじ状のむら等が認められない。E:平均厚さが24μm以上40μm以下の範囲において、厚みのむらすじ状のむら等が認められる。[2.2]安定塗工領域試験粘度範囲まず、塗布液として、粘度が0.03~0.10Pas、表面張力が0.021~0.020N/mのエポキシワニスを用意した。前記各実施例および各比較例の塗布装置を用いて、塗布液を塗布する基材としてのポリエチレンテレフタレートフィルムに、前記塗布液を塗布した。塗布液の塗布は、ビードの上流側の圧力減圧度PVACを-640Pa、基材の搬送速度を2.0[m/分]とした状態で行った。塗布液の供給速度は9.0mL/分で一定となるようにした。上記のようにして形成された薄膜の平均厚さは、前記各実施例および各比較例で、いずれも29~31μmであった。上記のようにして薄膜が形成された基材について、目視による観察を行い、以下の基準に従い評価した。なお、前記各実施例は、いずれも、上記式1~式3の条件を満足するものであった。A:塗布液の粘度が0.03Pas以上0.10Pas以下の範囲において、厚みのむらすじ状のむら等が認められない薄膜が形成できる。E:塗布液の粘度が0.03Pas以上0.10Pas以下の範囲において、厚みのむらすじ状のむら等が認められない薄膜が形成できない。上記の評価の結果を表2に示した。表から明らかなように、本発明では、優れた結果が得られたのに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。また、ビードの上流側の圧力減圧度PVACを-5000Pa以上-100Pa以下の範囲で変更した以外は、上記と同様にして薄膜を形成し、これらについて上記と同様の評価を行った結果、上記と同様の結果が得られた。"