同一形状の複数の凹部から構成された微細パターンを有するプレート部材であって、前記凹部を形成している側壁面が、該凹部の開口面側に位置する第1側壁部と該凹部の底面側に位置する第2側壁部とから少なくとも構成されており、水平面に対する前記第1側壁部の傾斜角度α1前記プレート部材の中実部側の傾斜角度が該水平面に対する前記第2側壁部の傾斜角度α2前記プレート部材の中実部側の傾斜角度よりも小さくなっていることを特徴とする、プレート部材。前記第1側壁部の傾斜角度α1が、前記第2側壁部の傾斜角度α2よりも5°~60°小さくなっていることを特徴とする、請求項1に記載のプレート部材。前記凹部の幅寸法のうち、鉛直方向に沿ってみた場合に最も開口面側に位置する幅寸法L開口部が最も大きいことを特徴とする、請求項1または2に記載のプレート部材。前記幅寸法L開口部が前記複数の凹部のピッチ以下の長さとなっていることを特徴とする、請求項3に記載のプレート部材。前記第1側壁部の傾斜角度α1が30°~70°となっていることを特徴とする、請求項1~4のいずれかに記載のプレート部材。前記第2側壁部の傾斜角度α2が75°~90°となっていることを特徴とする、請求項1~5のいずれかに記載のプレート部材。前記第1側壁部および前記第2側壁部の少なくとも一方が曲面形状を成していることを特徴とする、請求項1~6のいずれかに記載のプレート部材。前記第1側壁部と前記第2側壁部との境界部分が角張っていることを特徴とする、請求項1~7のいずれかに記載のプレート部材。前記第1側壁部が曲面形状を成している一方、前記第2側壁部が平面形状を成していることを特徴とする、請求項8に記載のプレート部材。前記第1側壁部と前記第2側壁部との境界部分が平滑となっていることを特徴とする、請求項1~7のいずれかに記載のプレート部材。前記第2側壁部よりも更に底面側に位置する第3側壁部を前記凹部が有して成り、水平面に対する前記第3側壁部の傾斜角度α3前記プレート部材の中実部側の傾斜角度が、前記傾斜角度α1および前記傾斜角度α2よりも大きくなっていることを特徴とする、請求項1~10のいずれかに記載のプレート部材。前記凹部の底面が円錐状面または半球状面を成していることを特徴とする、請求項1~11のいずれかに記載のプレート部材。前記凹部が前記第1側壁部よりも更に開口面側に位置する垂直側壁部を更に有して成り、水平面に対する該垂直側壁部の傾斜角度が90°となっていることを特徴とする、請求項1~12のいずれかに記載のプレート部材。請求項1~13のいずれかに記載のプレート部材を成形するために用いる金属製金型。本願発明者らは、上記のウェルプレート等の構造体につき鋭意検討した結果、その使用時にて微細構造に特有の問題があることを見出した。具体的には、マイクロビーズと液体反応液との混合物を微細構造体に供した際、本来ウェル内へと沈降すべきビーズが、ウェルに捕集されずに通り過ぎてしまう現象を見出した以下ウェル通過現象とも称す。ウェル通過現象は、ウェル間の構造体平坦部上をマイクロビーズが通り過ぎることによって発生する。個々のマイクロビーズは液体に懸濁分散しており、液体の流れに左右されてビーズの動きは非常に複雑となる。よって、ウェル間の平坦部を通り過ぎるビーズの進路につき制御を行うことは困難である。解決策として、ウェル配列のピッチを狭めて平坦部分を少なくする手法が考えられるものの、各ウェルを形成する側壁部分が薄くなるので微細構造体の剛性が低下し、結果的に構造的に弱いプレートとなってしまう。ウェルサイズはミクロンオーダーであるために、構造体自体の剛性がそもそも高くなく、それゆえ、ウェル間の距離を縮めることは困難である。つまり、平坦部分の寸法を単純に狭くすることはできない。また、ウェルにおけるビーズ収容率を上げるために、単にウェル径を大きくする手法も考えられる。しかしながら、ウェル径を大きくすることも、各ウェルを形成する側壁部分が薄くなることにつながるので、プレート構造が弱くなって剛性が低下してしまう。側壁幅を変更せずにウェル径を大きくすると、ウェルのピッチ自体を変更する必要があり、製造装置全体の設計変更が必要となってしまう。更にいえば、ウェル径を大きくする場合においては、ウェル自体の容積が必要以上に増加する可能性があり、ウェル内へと収容されるマイクロビーズが想定数以上となり得る。その結果、反応液とビーズ表面積との関係を当初の計画予定から変更するなどの数々の仕様変更を余儀なくされてしまう。特に、ウェル内に収容されるマイクロビーズの数が予め決められ、それに応じて容積が決定されている場合が多いので、かかる場合においてウェル径を安易に大きくすることはできない。本発明は、上記事情に鑑みて為されたものである。つまり、本発明の課題は、剛性やビーズ収容特性などを考慮しつつも、ビーズのウェル通過現象に好適に対処できる微細構造体を提供することである。上記課題を解決するため、本発明は、実質的に同一形状の複数の凹部から構成された微細パターンを有するプレート部材であって、凹部を形成している側壁面が凹部の開口面側に位置する第1側壁部と凹部の底面側に位置する第2側壁部とから少なくとも構成されており、水平面に対する第1側壁部の傾斜角度α1プレート部材の中実部側の傾斜角度が第2側壁部の傾斜角度α2プレート部材の中実部側の傾斜角度よりも小さくなっていることを特徴とするプレート部材が提供される。本発明の特徴の1つは、凹部の側壁面が傾きの異なる少なくとも2つの部分から構成されており、より上側開口面側に位置する第1側壁部が、より下側底面側に位置する第2側壁部よりも傾きが緩やかになっていることである図1参照。これにより、凹部容積ウェル容積の増加および構造体の剛性低下を抑制しつつも、マイクロビーズを効率的に凹部ウェル内へと導くことができる微細構造体を実現している。本明細書において微細パターンとは複数の微細な凹部が連続することで構成されたパターンのことである。連続する複数の微細凹部は微細な凹凸形状を結果として生じるので、微細パターンは微細な凹凸形状から成るパターンであるともいえる。本発明において、かかる微細パターンは、その微細な凹凸形状を構成する微細凹部もしくは微細な窪みまたは微細凸部もしくは微細な隆起部の寸法幅高さ深さなどの寸法が、ミクロンオーダー0.1μm~1000μmの範囲、例えば1μm~600μmとなっているものを実質的に意味している。例えば、プレート部材がウェルプレートなどに相当する場合では微細凹部または微細な窪みはウェル形状を成すことが多い一方、プレート部材がマイクロ化学チップなどに相当する場合では微細凹部または微細な窪みはチャンネル形状溝形状や流路形状を成すことが多い。また、本明細書にいうプレート部材とは、化学、メディカルサイエンスやバイオサイエンスの分野などで用いられる板状またはチップ状の部材のことを指している。かかるプレート部材は、例えば100μm~50mm程度の厚さを一般に有し得る。ある好適な態様では、第1側壁部の傾斜角度α1が第2側壁部の傾斜角度α2に対して5°~60°小さくなっている。第1側壁部の傾斜角度自体α1は、例えば、30°~70°の範囲となっていることが好ましい。一方、第2側壁部の傾斜角度自体α2は、例えば、75°~90°の範囲となっていることが好ましい。別のある好適な態様では、各凹部の幅寸法のうち、鉛直方向即ち凹部深さ方向に沿ってみた場合に最も開口面側に位置する幅寸法L開口部が最も大きくなっている。特に、最も開口面側に位置する幅寸法L開口部は、複数の凹部配列のピッチ以下の長さとなっていることが好ましい。第1側壁部および第2側壁部の形態としては、例えば、第1側壁部および第2側壁部の少なくとも一方が曲面形状を成していてよい。あるいは、第1側壁部および第2側壁部の少なくとも一方が平面形状を成していてよい。換言すれば、第1側壁部と第2側壁部とが共に曲面形状あるいは平面形状を成していてもよいし、第1側壁部が曲面形状を成していて第2側壁部が平面形状を成していたり、あるいはその逆で、第1側壁部が平面形状を成していて第2側壁部が曲面形状を成していてよい。ある好適な態様では、第1側壁部と第2側壁部との境界部分が角張っている。即ち、第1側壁部と第2側壁部との境界部分において角が出ている。かかる場合、例えば、第1側壁部が曲面形状を成している一方、第2側壁部が平面形状を成してしてよい。別のある好適な態様では、第1側壁部と第2側壁部との境界部分が平滑になっている。つまり、第1側壁部と第2側壁部との境界部分が角張ることなく連続的に滑らかに形成されている。更に別のある好適な態様では、各凹部が、第2側壁部よりも更に底面側に位置する第3側壁部を有している。かかる場合、水平面に対する第3側壁部の傾斜角度α3プレート部材の中実部側の傾斜角度は、第1側壁部の傾斜角度α1および第2側壁部の傾斜角度α2よりも大きくなっていることが好ましい。各凹部の底面はいずれの形態を有していてよい。例えば、凹部の底面が平面のみならず、円錐面または半球状面を成していてよいあるいは、凹部断面で見た場合に円弧形を成す底面であってもよい。また、各凹部においては上記の第1~第3の側壁部などとは別の側壁部が付加的に設けられていてよい。例えば、第1側壁部よりも更に開口面側に位置する垂直側壁部水平面に対する垂直側壁部の傾斜角度が90°を凹部が更に有するものであってもよい。本発明では、上述のプレート部材を成形するために用いる金属製金型も提供される。かかる金属製金型は好ましくはロール状または平面板状の形態を有している。このような金属製金型は、Niニッケル、Ag銀、Au金、Biビスマス、Cdカドミウム、Coコバルト、Crクロム、Cu銅、Fe鉄、Inインジウム、Pdパラジウム、Pt白金、Ruルテニウム、SnスズおよびZn亜鉛から成る群から選択される少なくとも1種類以上の金属を含んで成る。本発明のプレート部材では、微細パターンの剛性を保ちつつも、マイクロビーズをウェル中心に誘導することができ、効率的にビーズをウェル内に収容することができる。つまり、本発明のプレート部材は、その剛性を実質的に損なわずに、ウェル通過現象に好適に対処されたものとなっている。特に、プレート部材において微細凹部が高密度に配されていたとしても例えば、各凹部にて最も開口面側に位置する幅寸法L開口部が凹部配列のピッチ以下の長さであったとしても、隣接する凹部間のプレート中実部が肉厚となっているので、プレート部材の剛性が実質的に損なわれていない。このように剛性を保ちつつも、微細凹部が高密度であり、かつ、第1側壁部の傾斜角度に起因して凹部ウェルの開口部分が広くなっているので、本発明のプレート部材はマイクロビーズを凹部へと効果的に誘導することができる図2参照。また、凹部ウェルの開口部分はそのように広くなっているといえども、凹部ウェルの底側に向けて凹部幅寸法が小さくなっているので、一旦凹部に収容されたビーズは抜け出にくいものとなっている。更にいえば、凹部の底側部分の幅寸法や第2側壁部の傾斜角度などを適宜調整することによって、所定の個数例えば1個のビーズのみを各凹部に収容する設計も可能である。この点、第1側壁部の傾斜角度などとも併せて考慮することによって、所定のビーズ個数を凹部に収容するように制御しつつも、適量の液体を凹部に保持することができるプレート部材を実現できる。以下では、図面を参照して本発明をより詳細に説明する。《プレート部材の一般的な特徴》本発明のプレート部材100は、図3に示すように、そのボディー部60において複数の凹部50が形成されている。特に本発明では、各凹部の側壁面が凹部の開口面側に位置する第1側壁部10と凹部の底面側に位置する第2側壁部20とから少なくとも構成されている。図示するように、第1側壁部10と第2側壁部20とは凹部の深さ方向に沿って連続的に設けられている。そして、水平面に対する第1側壁部の傾斜角度α1プレート部材の中実部側に位置する傾斜角度は、水平面に対する第2側壁部の傾斜角度α2プレート部材の中実部側に位置する傾斜角度よりも小さくなっている。つまり、相対的に上側開口面側に位置する第1側壁部が、相対的に下側底面側に位置する第2側壁部よりも傾きが緩やかになっている。本発明のプレート部材100の材質即ち、ボディー部60の材質は、樹脂、ガラス、シリコンまたは金属などであってよい。例えば樹脂について例示すると、特に制限されるわけではないが、シクロオレフィン樹脂、シクロオレフィン共重合体樹脂、ポリカーボネートPC、アモルファスポリオレフィン、ポリジメチルシロキサン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレンPP、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルエーテル、ポリテトラフルオロエチレン、アクリロニトリル樹脂、ブタジエン樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメタアクリル酸、ポリメタアクリル酸エステル、ポリアミド、ポリアセタール、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルファイド、ポリスルホン、ポリエーテルサルフォン、ポリビニルアルコール、非晶ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポアミドイミド、ポリアリルアミンおよびポリエチレンイミンから成る群から選択される少なくとも1種以上のポリマー樹脂であってよい。本発明のプレート部材100の寸法は、用途によって種々に変わり得る。例えば図3に示すようなウェルプレート形態のプレート部材100を例にとると、デバイス寸法L、H、Wは、L=5~300mm、H=0.2~50mm、W=10~300mm程度であり得る。凹部50の幅寸法および深さ寸法は、一般的には、マイクロビーズの直径寸法Dよりも大きい寸法を有していることが好ましく、それによって、反応液などの液体を各凹部に適量収めることができる。後述する第1側壁部第2側壁部の傾斜角度にもよるが、図3に示すようなウェルプレートを例にとると、例えば、各凹部は以下のような幅寸法および高さ寸法の範囲を有している:幅寸法W:6μm~600μmw1:2μm~200μmw2:3μm~300μm高さ寸法H:5μm~400μmh1:2μm~160μmh2:3μm~240μm凹部50の幅寸法Wおよび深さ寸法Hは大きくなれば反応等に必要な液体量が増えるので好ましい場合が多いといえるものの、必要成分の量が反応等に必要十分とされる量を超えてしまうと不要な液体コストが生じることになる。このため、凹部50の形態例えばその側壁面の形態にもよるが、凹部50の幅寸法Wおよび深さ寸法Hの上限としては、約10D以下が好ましいといえ、約5D以下が更に好ましいD:マイクロビーズの平均サイズ。ちなみに、振動等に付すことによって効率的な攪拌が可能である場合には、必要成分を広範囲に移動させることが可能となるため、更に大きな幅寸法および深さ寸法であってもよい。本発明のプレート部材100に設けられる凹部50の個数も、用途に応じて種々に変わり得る。例えば、ウェルプレート、マイクロタイタープレート等、複数の凹部50の多くがウェルに相当するような場合では、窪み即ちウェルの個数は、好ましくは2500~1億個、より好ましくは1万~5千万個、更に好ましくは5万~1千万個となり得る。好ましくは、本発明のプレート部材100は、使用に際して複数のマイクロビーズおよび液体を含んだ分散体と共に用いられる。具体的には、プレート部材の凹部設置面即ち、微細パターンが設けられているプレート面に対して、マイクロビーズと液体とから成る分散液を供すことによって、凹部の各々にマイクロビーズと液体とを共に収容させたり、あるいはマイクロビーズと液体とが凹部を通過するように分散液を流したりする。例えばかかる収容に際しては、マイクロビーズおよび液体の自重に起因した沈降作用を利用してよいものの、必要に応じてデバイスを振揺に付したり、あるいは遠心処理に付したりしてもよい。更には、液体や気体のフローを供したり、あるいは、磁性マイクロビーズの場合では磁場を印加したり、もしくは、帯電可能なマイクロビーズの場合では電場を供したりしてもよい。マイクロビーズおよび液体について詳述しておく。マイクロビーズは、メディカルサイエンスやバイオサイエンスの分野において常套的に用いられている微粒子のことを実質的に意味している。マイクロビーズとしては、金属微粒子、ポリマー微粒子またはガラス微粒子などの微粒子だけでなく、細胞、微生物、細菌類、花粉、胞子およびその他の生体関連粒子などの粒状物であってもよい。このようなマイクロビーズは、球状、楕円状、米粒状、針状または板状などの各種形状を有し得る。ここでいう球状とは、アスペクト比種々の方向で測定した場合の最大長さと最小長さとの比が1.0~1.2の範囲にある形状を指し、楕円状とは、アスペクト比が1.2~1.5の範囲但し、1.2を含まないにある形状を指している。また、米粒状とは、その名の通り、米粒のような形状を意味している。凹部への収容が促進されるといった観点でいうと、マイクロビーズは球形状を有していることが好ましい。マイクロビーズの平均サイズDは、例えば、好ましくは0.01μm~10mm程度、より好ましくは0.1μm~5mm程度である。ここでいうサイズとは、ビーズのあらゆる方向における長さのうち最大となる長さを実質的に意味している。そして、平均サイズとは、ビーズの透過型電子顕微鏡写真または光学顕微鏡写真に基づいて例えば300個のビーズのサイズを測定し、その数平均として算出したものを実質的に意味している。一方、液体は、メディカルサイエンスやバイオサイエンスの分野においてマイクロビーズと共に常套的に用いられる液体であって、例えば、水、溶剤、バッファー、反応溶液または検体液などである。液体の粘度は、特に制限はなく、液体中の成分を利用するときの条件下にて液体が流動性を有していればよい。マイクロプレートデバイスに供される分散液即ち、マイクロビーズと液体とから成る分散液のマイクロビーズ含量は、特に制限されるわけではないが、0.01~50体積程度である。尚、マイクロビーズの絶対量または個数は用途によって変わり得る。例えば凹部が1万個のウェルであれば、マイクロビーズの個数も少なくとも1万個であることが好ましく、それに応じた絶対量を有するマイクロビーズが分散液に含まれていればよい。本発明は、プレート部材における凹部窪みの形態、特に、凹部側壁面の形態に着目して為されたものである。本発明では、図1に示すように、凹部の各々において側壁面が、その凹部の開口面側に位置する第1側壁部10と凹部の底面側に位置する第2側壁部20とから少なくとも構成されており、第1側壁部10の傾斜角度α1が第2側壁部20の傾斜角度α2よりも小さくなっているちなみに、凹部の周方向に沿ってみた場合では第1側壁部または第2側壁部の各傾斜角度は全て同じとなっていることが好ましい。本発明のプレート部材の凹部の典型的な形態は、第1側壁部および第2側壁部との相対的な傾斜角度に起因して、図3や図4などに示されるように、より上側開口面側に位置する第1側壁部10が、より下側底面側に位置する第2側壁部20よりも緩やかな傾きとなっている。換言すれば、凹部50では最大長部分Lmaxから最短長部分Lminへと徐々に可変する構造が形成されており、それによって最大長部分Lmaxの開口部が最も幅が広い形状となっている図4参照。これによって、ウェルのピッチを変化させず、チップの剛性を下げることなく、ビーズの捕集率を上げることができる。つまり、プレート部材の微細パターンにおける剛性を保ちつつも、プレート部材の使用に際してはウェル中心へと効果的にビーズを誘導することができる。ここで、本明細書で使用する傾斜角度とは、図5に示すように、水平面Z開口面Aに相当し得るに対する角度であって、特に図示するようにプレート部材の中実部側外側に位置する角度αα1、α2、のことを意味している図5a参照。換言すれば、プレート部材特に底面が平面を成しているデバイスを水平な面に置いた場合、側壁面と水平面Zとが成す外側の角度が傾斜角度に相当する。ここで、図5bに示すように側壁面が曲面を成している場合では、傾斜角度は平均傾斜角度に相当する。簡易的には、この平均傾斜角度とは、図5cに示すように側壁部の上側エッジと下側エッジとを相互に結んだ直線が凹部開口面または水平面Zと成す角度のことを実質的に意味している。また、かかる平均傾斜角度は、図6aおよびbに示すように曲面の中間ポイントSを接点とする接線が窪みの開口面または水平面Zと成す角度とみなしてもよい尚、曲面の中間ポイントSは対象となる側壁部の深さ寸法の半分に位置する曲面ポイントである。第1側壁部の傾斜角度α1は、特に制限はされないが、例えば30°~70°の範囲となっていることが好ましい。一般的には、かかる傾斜角度α1が小さいほど、マイクロビーズを効率的に凹部ウェル内へと導くことができ、ビーズのウェル通過現象に対処し易くなる一方、傾斜角度α1が必要以上に小さくなると、単位プレート面あたりの凹部数凹部密度が減じられることになる。ある場合では、第1側壁部の傾斜角度α1が35°~50°の範囲となっていてよい。第2側壁部の傾斜角度α2は、特に制限はされないが、例えば75°~90°の範囲となっていることが好ましい。一般的には、かかる傾斜角度α2が大きいと、ビーズが側壁部で停滞したり、側壁部分に乗り上げることが減じられる。また、かかる傾斜角度α2が大きいほど、凹部ウェルに一旦捕捉されたビーズを凹部ウェル内に確実に保持しておくことができるものの、傾斜角度α2が必要以上に大きくなると、凹部ウェル内に捕捉されたマイクロビーズを凹部ウェル内から取り出したい場合にそれが困難となり得る。ある場合では、第2側壁部の傾斜角度α2が85°~90°の範囲例えば約90°となっていてよい。本発明のプレート部材では、第1側壁部の傾斜角度α1が第2側壁部の傾斜角度α2よりも5°~60°小さくなっていることが好ましい。このような傾斜角度の差は必要に応じて選択してよい。一般的には、かかる傾斜角度の差が大きいほど、隣接する凹部間の平均的な肉厚中実部厚さを多くすることができるので剛性保持に寄与し得るものの、必要に以上に大きいと単位プレート面あたりに設けられる凹部数凹部密度が減じられることになる。従って、第1側壁部の傾斜角度α1と第2側壁部の傾斜角度α2との差α1<α2は、より好ましくは10°~55°程度、更に好ましくは25°~50°程度である。図2に示す態様から分かるように、各凹部の幅寸法のうち鉛直方向深さ方向に沿ってみた場合に最も開口面側に位置する幅寸法L開口部が最も大きい寸法となっている。このように大きくなっているからこそ、マイクロビーズを効率的に凹部ウェル内へと導くことができ、ビーズのウェル通過現象に好適に対処できるといえる。特に、かかる幅寸法L開口部は、複数の凹部のピッチP以下の長さとなっていることが好ましい。これによりパターン同士の重なりが無く、最も接近した場合であっても外縁同士が接する程度であり、それゆえ、凹部ウェルの配置を実質的に変更することなく効率良く捕集率を上げることができる。換言すれば、微細パターンの剛性を保ちつつも、プレート単位面積あたりの凹部数凹部密度を大きくすることができる。また、図3および図4などに示すようにウェルは開口部が広く、底に行くほど徐々に狭くなっているので、ビーズがウェルに捕集されやすくかつ1度ウェルに捕集されたビーズが液流れによって不必要に抜け出てしまうことが減じられる。《凹部の種々の態様》凹部の態様としては、その他に種々の態様が考えられる。以下それについて説明する。第2側壁部が垂直面となった態様第2側壁部20が垂直面となった態様を図7および図8に示す。かかる態様であっても、第1側壁部10の傾斜角度α1が第2側壁部20の傾斜角度α2よりも小さくなっている。図示されるような凹部態様では、第2側壁部の傾斜角度α2が約90°となっているのに対して、第1側壁部の傾斜角度α1が約45°となっている。図8に示されるように、各凹部50においては第1側壁部10および第2側壁部20が共に平面形状を成していると共に、第1側壁部10と第2側壁部20との境界部分が角張っている、即ち、角が出ている。このように境界部分が角張っていると、1度ウェルに捕集されたビーズが液流れによって不必要に抜け出てしまうといった現象を更に効果的に減じることができる。図7および図8に示す凹部態様のプレート部材100であっても、微細パターンの剛性を保ちつつも、マイクロビーズをウェル中心に誘導することができ、効率的にビーズをウェル内に収容することができる。第1側壁部が曲面状となった態様-ケース1第1側壁部10が曲面状となった態様ケース1を図9および図10に示す。かかる態様でも、第1側壁部10の傾斜角度α1が第2側壁部20の傾斜角度α2よりも小さくなっている。図示されるような凹部態様では、第2側壁部の傾斜角度α2が約70°~約85°となっているのに対して、第1側壁部の傾斜角度α1が約30°~約50°となっている。特に第1側壁部10の曲面は底側に向かって弧を描くように形成されている。図10に示されるように、各凹部50においては第1側壁部10が曲面形状を成している一方、第2側壁部20が平面形状を成している。また、第1側壁部10と第2側壁部20との境界部分が角張っている、即ち、角が出ている。このように境界部分が角張っていると、1度ウェルに捕集されたビーズが液流れによって不必要に抜け出てしまうといった現象を更に効果的に減じることができる。図9および図10に示す凹部態様のプレート部材100であっても、微細パターンの剛性を保ちつつも、マイクロビーズをウェル中心に誘導することができ、効率的にビーズをウェル内に収容することができる。第1側壁部が曲面状となった態様-ケース2第1側壁部10が曲面状となった態様ケース2を図11および図12に示す。かかる態様も、第1側壁部10の傾斜角度α1が第2側壁部20の傾斜角度α2よりも小さくなっている。図示されるような態様では、第2側壁部の傾斜角度α2が約90°となっているのに対して、第1側壁部の傾斜角度α1が約30°~約50°となっている。特に第1側壁部10の曲面は、開口側に向かって弧を描くように形成されている。図12に示されるように、各凹部50においては第1側壁部10が曲面形状を成している一方、第2側壁部20が平面形状を成している。また、第1側壁部10と第2側壁部20との境界部分が平滑となっている。つまり、第1側壁部と第2側壁部との境界部分が角張ることなく連続的に滑らかに形成されている。このように境界部分が滑らかに形成されていると、ビーズをより効果的にウェル中心部へと誘導することができる。図11および図12に示す凹部態様のプレート部材100であっても、微細パターンの剛性を保ちつつも、マイクロビーズをウェル中心に誘導することができ、効率的にビーズをウェル内に収容することができる。第3側壁部を有する態様-ケース1第3側壁部30を有する態様ケース1を図13および図14に示す。図示する態様から分かるように、本態様においては、第2側壁部20よりも更に底面側に第3側壁部30が設けられている。かかる態様であっても、第1側壁部10の傾斜角度α1が第2側壁部20の傾斜角度α2よりも小さくなっている。そして、第3側壁部30の傾斜角度α3は、図示されるように、第1側壁部10の傾斜角度α1および第2側壁部20の傾斜角度α2よりも大きくなっている即ち、凹部の側壁部は多段テーパー構造となっている。第1~第3側壁部の具体的な傾斜角度を例示すれば、第1側壁部の傾斜角度α1が約30°~約50°となっており、第2側壁部の傾斜角度α2が約60°~約70°となっており、そして、第3側壁部の傾斜角度α3が約90°となっている。図14に示されるように、各凹部50においては第1側壁部10、第2側壁部20および第3側壁部30が全て平面形状を成している。また、第1側壁部10と第2側壁部20との境界部分が角張っていると共に、第2側壁部20と第3側壁部30との境界部分も角張っている。このように図13および図14に示す凹部態様のプレート部材100であっても、微細パターンの剛性を保ちつつも、マイクロビーズをウェル中心に誘導することができ、効率的にビーズをウェル内に収容することができる。第3側壁部を有する態様-ケース2第3側壁部30を有する態様ケース2を図15および図16に示す。図示する態様から分かるように、本態様においても、第2側壁部20よりも更に底面側に第3側壁部30が設けられている。かかる態様でも、第1側壁部10の傾斜角度α1が第2側壁部20の傾斜角度α2よりも小さくなっている。そして、第3側壁部30の傾斜角度α3は、図示するように、第1側壁部10の傾斜角度α1および第2側壁部20の傾斜角度α2よりも大きくなっている即ち、凹部の側壁部は多段テーパー構造となっている。第1~第3側壁部の具体的な傾斜角度を例示すれば、第1側壁部の傾斜角度α1が約50°~約60°となっており、第2側壁部の傾斜角度α2が約60°~約70°となっており、そして、第3側壁部の傾斜角度α3が約90°となっている。図16に示すように、各凹部50においては第2側壁部20および第3側壁部30が平面形状を成している一方、第1側壁部10が曲面形状を成している。また、第1側壁部10と第2側壁部20との境界部分が角張っていると共に、第2側壁部20と第3側壁部30との境界部分も角張っている。このように図15および図16に示す凹部態様のプレート部材100であっても、微細パターンの剛性を保ちつつも、マイクロビーズをウェル中心に誘導することができ、効率的にビーズをウェル内に収容することができる。開口面に位置する垂直側壁部を備えた態様開口面に位置する垂直側壁部を備えた態様を図17に示す。図示する態様から分かるように、本態様では、第1側壁部10よりも更に開口面側に垂直側壁部40が設けられている。かかる態様であっても、第1側壁部10の傾斜角度α1が第2側壁部20の傾斜角度α2よりも小さくなっている。図示される凹部態様では、第2側壁部20の傾斜角度α2が約90°となっているのに対して、第1側壁部10の傾斜角度α1が約30°~約50°となっている。そして、垂直側壁部40の傾斜角度は、その名の通り、約90°となっている。図17に示すような態様であっても、微細パターンの剛性を保ちつつも、マイクロビーズをウェル中心に誘導することができ、効率的にビーズをウェル内に収容することができる。凹部の底面が円錐面または半球状面を成している態様凹部の底面が円錐面または半球状面を成している態様を図18に示す。図示する態様から分かるように、本態様では、凹部の底面が略円錐状の面図18aまたは略半球状の面図18bを成している。かかる態様であっても、第1側壁部10の傾斜角度α1が第2側壁部20の傾斜角度α2よりも小さくなっている。図示される凹部態様では、第2側壁部20の傾斜角度α2が約90°となっているのに対して、第1側壁部10の傾斜角度α1が約20°~約50となっている。図18に示すような態様であっても、微細パターンの剛性を保ちつつも、マイクロビーズをウェル中心に誘導することができ、効率的にビーズをウェル内に収容することができる。《本発明の利用方法》次に、本発明のプレート部材の利用法について説明しておく。本発明のプレート部材の典型的な利用方法としては、上述のプレート部材の凹部に対してマイクロビーズ70と液体80との混合物を流して、各凹部50にマイクロビーズと液体とを収容し、それによって、標的物質の分離、固定化、分析、抽出、反応または混合などの所望の処理を行う図2参照。一般に液体の比重は1前後であることから、沈降するビーズとしては比重1.02より大きいものが好適に利用されるここでいう比重は、4°Cの水[約1.0g/cm3]を基準にした値である。また、傾きに応じて容易に移動できるビーズとしては、比重2より大きいものが好適に利用される。最も好適には比重3.5より大きいビーズである。尚、比重が大きくなれば慣性も大きくなり、また、ビーズを含んだデバイスとしての全体重量も大きくなることから、ビーズの比重の好ましい上限値は10以下である。必要に応じてマイクロビーズに検討対象物質や反応に関係する物質等を固定すると、ビーズの移動に伴ってそれら物質のプレート部材における移動が可能となる。かかる態様では、検討対象物質や反応に関係する物質等を固定あるいは吸着することが可能な物質や官能基等をビーズ表面に固定することが好ましい。固定化させる物質官能基としては、核酸や蛋白質を結合可能なシリカ、金、水酸アパタイトのような無機物や、これらを化学結合可能な官能基、互いに結合可能なアビジンまたはビオチン、特異的に抗原を結合可能な抗体、特異的に抗体を結合可能な抗原等を挙げることができる。以下にて実際の用途を見据えた各種処理法について触れておく。本発明のプレート部材を用いると、標的物質の分離、固定化、分析、抽出または反応などを好適に行うことができるが、これらの処理に関する具体的な態様を例示する目的でウェルプレートを用いた標的物質の分析抽出および精製ならびに分離検出スクリーニングについて説明する。標的物質の分析抽出精製:標的物質の分析では、例えば、標的物質を含むか含む可能性のある検体液または検体液と他の液の混合液以下検体含有液というと、標的物質と特異的に結合する抗原、抗体、核酸等を表面に固定したビーズをウェル内にて接触させ、標的物質をビーズ表面に十分結合する条件を与えた後、検体液を除くかあるいは洗い流し、必要に応じて洗浄を繰り返す。標的物質に特異的に結合する別の抗原、抗体、核酸等と、検出に利用可能な蛍光物質、発色基質、発光基質、磁性体等を結合した標識物質を含む液をビーズの入ったウェルに加え、ビーズ表面に結合した標的物質を標識する。この標識物質による蛍光、発色、発光、磁気等を検出することにより、標的物質の存在の有無、存在量等を測定することができ、即ち標的物質の分析ができる。また、先の操作の中の洗浄後に、結合した標的物質を溶出可能な液を入れて標的物質を溶出させれば、標的物質の抽出ができる。さらに、精製したい標的物質を含む液で同様の操作を行えば、標的物質の精製ができる。細胞の分離検出スクリーニング:細胞の分離では、例えば、細胞を含む液をウェルプレート上に付与することにより細胞をウェル内に入れることによって、細胞を分離できる。また、細胞の検出では、例えば、ウェル内に入ったものを顕微鏡で観察したり、検出したい細胞に特異的に結合する標識物質により標識することによって、細胞を検出できる。更に、細胞のスクリーニングでは、例えば、ウェル内に入った様々な細胞、例えばBリンパ球の中から、予め標識した抗原が特異的に結合したものを標識を基に見つけ出すことによって、目的とする細胞をスクリーニングできる。《本発明のプレート部材の製造法》次に、本発明のプレート部材の製造法について詳述する。本発明のプレート部材は、まず、その形状が模されたレジスト原盤なるものからスタンパを製作し、その後、かかるスタンパを鋳型金型として用いた射出成形を行う。かかる一連の製造工程を経時的に説明する。レジスト原盤の作製鋳型の製作に用いるレジスト原盤を製造する。まず、レジスト原盤の原型となる基板を用意する。用意する基板は、その表面が平坦かつ平滑であれば、どのような種類のものであってよい。例えば、表面が平滑であって鏡面状に研磨されており、表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウエハを用いることができる。また、石英もしくは金属から成る基板を用いてもよい。次いで、かかる基板の表面にレジストを形成する。レジストを形成した後、レジスト上にマスクを配して露光を行う。露光は、マスクによる一括露光に限定されるものでなく、直接レーザや電子線により露光パワーを変更した描写によって作製してよい。更には、LIGALithographieGalvanoformungAbformungプロセスのように、シンクロトロン放射光を使用してもよい。上記露光に際しては、マスクの階調を自由に変えることが可能な多階調フォトマスクを使用してよい。かかる多階調フォトマスクとしてはグレイトーンマスクおよび/またはハーフトーンマスクを用いることができる。グレイトーンマスクは、露光機の解像度以下のスリットを作り、そのスリット部が光の一部を遮り、中間露光を実現する。一方、ハーフトーンマスクは半透過の膜を利用することで中間露光を実現する。いずれも、1回の露光で露光部分中間露光部分未露光部分の3つの露光レベルを実現し、現像後に厚さが異なる微細構造物を得ることができる。本発明に関連していうと、グレイトーンマスクの濃度を調整し、現像後の深さを制御することによって高さ調整が可能となるので側壁部の傾斜角度を自由に調整することができる。露光を行った後、現像処理を行う。例えば、露光された基板をTMAH溶液に浸し現像を行ってよい。かかる現像によって、マイクロプレートデバイスの形状が模された原盤が得られる得られた原盤は、レジストによりパターン作製して得られたものなので、レジスト原盤と称すことができる。スタンパの作製次いで、レジスト原盤からスタンパを作製する。具体的には、レジスト原盤に対してスパッタやめっき処理を行って、原盤パターンの反転パターンを有するスタンパを作製する。例えば、原盤に対してNiスパッタ膜を導電膜として形成し、スルファミン酸ニッケルめっきを行ってスタンパを作製できる。導電膜の形成をスパッタによって行うことに限定されず、無電解めっきやCVDなどを用いて行ってもよい。上記めっき処理に用いるめっき液としては、応力の少ないスルファミン酸ニッケルめっき液を使用し、これにpH緩衝用の硼酸および陽極Niの溶解を促進する塩化Niを添加してもよい。また、めっき液のpH調整にスルファミン酸を用い、常にpH3.8~4.2の範囲になるようにしてもよい。めっき液の温度は例えば50°Cであってよい。更に、めっき液は常時濾過に付してもよい。スタンパ材質としては、Niに限定されるわけでなく、Ag、Au、Bi、Cd、Co、Cr、Cu、Fe、In、Ni、Pd、Pt、Ru、Snおよび/またはZn等の金属を用いてもよい。プレート部材の射出成形次いで、スタンパを鋳型として用いた射出成形を行うことによってプレート部材を製造する。具体的には、金属製スタンパの外形を加工し、それを成形機に取り付けた上で射出成形を実施する。成形樹脂としては、種々の樹脂を用いることができる。例えば、シクロオレフィン樹脂を用いることができる。このような射出成形によって、本発明のプレート部材が最終的に得られることになる。以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明の適用範囲のうちの典型例を例示したに過ぎない。従って、本発明はこれに限定されず、種々の改変がなされ得ることを当業者は容易に理解されよう。●凹部における側壁面の段数側壁部の個数は、2段や3段に限定されるものでなく、それ以上の段数であってもよい。例えば、4段、5段および6段などから成る側壁面であってもよい。●スタンパ製造方法で用いる電鋳では、Ni、Ag、Au、Bi、Cd、Co、Cr、Cu、Fe、In、Pd、Pt、Ru、SnおよびZnから成る群から選択される少なくとも1種類以上の金属を用いることができるものの、必ずしもかかる態様に限定されるわけではない。例えば、Ag、Au、Bi、Cd、Co、Cr、Cu、Fe、In、Ni、Pd、Pt、Ru、Sn、Znのいずれかの金属を主体とした合金めっきや、PTFEポリテトラフロロエチレンなどを分散してめっき皮膜に取り込みロール状あるいは平面板のスタンパを作製することも出来る。また、Mn、Gd、Sm、W、Sb、Mo、P、B、Sなどをめっき皮膜中に積極的に取り込むことによって、硬度や潤滑性、粘り強さを高めたロール状あるいは平面板の合金製スタンパを作ることもできる。●本明細書では、めっき液を用いた湿式めっきによってレジストマスタを得る態様について触れたが、必ずしもかかる態様に限定されるわけではなく、溶融めっきおよび真空めっきPVDやCVDなどなどの乾式めっきであっても、本発明の効果としては実質的に変わりはない。●本明細書では主としてフォトリソグラフィーによってレジストマスタを得る態様について触れたが、必ずしもかかる態様に限定されるわけではなく、同様の微細パターンおよび凹部パターンを形成できるのであれば、いずれの作製法を採用してもよい。●本明細書では主として射出成形によってプレート部材を得る態様に触れたが、必ずしもかかる態様に限定されるわけではなく、同様の微細パターンおよび凹部パターンを形成できるのであれば、いずれの成形法を採用してもよい。例えば、UV硬化樹脂やPDMS樹脂を用いて成形してよいし、あるいは、ナノインプリントなどの技術を適用したり、ホットエンボスによりパターン転写を行ってもよい。更には、レーザー光による光造形も可能である。尚、本発明は、下記の態様を有するものであることを確認的に述べておく。[第1態様]:同一形状の複数の凸型あるいは凹型の微細パターンAが形成された微細パターン群であって、微細パターンAの断面において側壁の一部あるいは全部に最大長部分Lmaxが最短長部分Lminへ向けて徐々に可変する構造が形成されており、該微細パターンAの中心軸に対して垂直な面における断面積を微細パターンAの高さ方向Hの全長に渡って測定したとき、最大長部分Lmaxが最も幅が広い形状となる構造であることを特徴とする微細パターンの集合構造物。[第2態様]:上記第1態様において、微細パターンAの形状において、微細パターンAの幅方向の最大長部分Lmaxは微細パターンA間のピッチ以下の長さであることを特徴とする集合構造物。[第3態様]:上記第1または第2の態様において、微細パターンAの断面形状であって、水平面に対する傾斜角度が0°0°を除く~90°となった側壁部を少なくとも1箇所以上有することを特徴とする集合構造物。[第4態様]:上記第1~第3の態様のいずれかにおいて、微細パターンAの断面形状としてみた場合に微細パターンAの角部の一部分が1箇所以上面取りされていることを特徴とする集合構造物。[第5態様]:上記第1~第4の態様のいずれかにおいて、微細パターンAの断面形状としてみた場合に微細パターンAの角部部分が曲線円弧状に作製されていることを特徴とする集合構造物。[第6態様]:上記第1~第5の態様のいずれかにおいて、微細パターンAの断面形状としてみた場合に側壁部分が面取りと曲線部分とにより構成されていることを特徴とする集合構造物。[第7態様]:微細パターンの集合構造物が基板であって、該基板が環状ポリオレフィン、シクロオレフィン樹脂、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン、ポリジメチルシロキサン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、アクリロニトリル樹脂、ブタジエン樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルファイド、ポリスルホン、ポリエーテルサルフォン、非晶ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトンおよびポアミドイミドから成る群から選択される少なくとも1種以上のポリマーであることを特徴とする、上記第1~第6の態様のいずれかの集合構造物。[第8態様]:微細パターンの集合構造物が基板であって、該基板がシリコンあるいはガラスを含んで成ることを特徴とする、上記第1~第6の態様のいずれかの集合構造物。[第9態様]:微細パターンの集合構造物が金属製金型であって、該金属製金型がAg、Au、Bi、Cd、Co、Cr、Cu、Fe、In、Ni、Pd、Pt、Ru、SnおよびZnから成る群から選択される少なくとも1種以上の成分を含んで成るロール状あるいは平面板となっていることを特徴とする、上記第1~第6の態様のいずれかの集合構造物。[第10態様]:上記第1~第6の態様のいずれかの微細パターンの集合構造物が金属製金型であって、該金属製金型がMn、Gd、Sm、W、Sb、Mo、P、BおよびSから成る群から選択される少なくとも1種以上の成分を含んで成るロール状あるいは平面板となっていることを特徴とする金属製金型。本発明の効果を確かめるために、以下の比較例および実施例1~7を実施した。《プレート部材の作製およびビーズ捕集率の確認試験》比較例1従来技術のウェルプレートとして、図19に示すような凹部形状から成る微細パターンを備えたプレート部材を作製した。まず、レジストマスタを作成した。具体的には、表面が平滑で鏡面状に研磨されていると共に、表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウエハ基板に対してヘキサメチルジシラザンHMDSを塗布し、140°Cで10分間ベークした。次いで、厚膜用のポジ型フォトレジスト東京応化製PMERPLA900PMを30μm厚さでスピンコート法により塗布した。引き続いて、微細なウェルパターンが形成されているクロムマスク図20参照:φ30μmの穴が60μm置きに規則正しく形成されているクロムマスク/実際には用いたものは穴配列がいわゆる千鳥配置となったクロムマスクをレジスト上に配置して超高圧UV光により密着露光を行った。露光後、基板をTMAH3の溶液に浸して現像を行うことによって、レジストマスタを得た。尚、図20にて黒い部分は完全に光を遮断し、白い部分はUV光が透過するため、露光現像後は白い部分が凹みとなる。得られたレジストマスタに対して導電膜としてNiスパッタ膜を形成した後、電鋳を実施した。具体的には、スルファミン酸ニッケルめっき液を用い、これにpH緩衝用の硼酸および陽極Niの溶解を促進するための塩化Niを添加した。pH調整にはスルファミン酸を用い、常にpH3.8~4.2の範囲になるように調整した。めっき液の温度は50°Cとし、めっき液は常時濾過した。このような条件下で電鋳を実施し、400μm厚さのスタンパを得た。得られた金属製スタンパの外形を加工して成形機に取り付けた上で、シクロオレフィン樹脂を成形樹脂として用いて射出成形を実施した樹脂温度:340°C、鋳型温度:125°C、射出速度:300mms、保持圧力:70MPa。かかる射出成形によって、図19に示すような凹部形状から成る微細パターンのプレート部材を得ることができた。実施例1本発明の実施例1として図8に示すような凹部から成る微細パターンを備えたプレート部材を作成した。つまり、図示されるように開口部が最も広い断面となった凹部の微細パターンを備えたプレート部材を作成した。具体的には、表面が平滑で鏡面状に研磨されていると共に、表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウエハ基板に対してヘキサメチルジシラザンを塗布して、140°Cで10分間ベークした。次いで、厚膜用のポジ型フォトレジスト東京応化製PMERP-LA900PMを30μm厚さでスピンコート法により塗布した。引き続いて、微細なウェルパターンが形成されているマスクをレジスト上に配置して超高圧UV光により密着露光を行った。本実施例では、図21に示すような濃淡を有するガラス製の多階調マスクを用いた穴配列がいわゆる千鳥配置となっているマスクを用いた。図21において、黒い部分は完全に光を遮断し、白い円の部分はUV光が透過し、傾斜となるグレイ部分はその濃淡の濃さに応じたUV光を透過する。このように透過率を制御することにより、凹部側壁部の傾斜角度を調整した。個々のパターンのピッチおよび配置は比較例1と同様に60μmとし、ウェル密度も比較例1と同様にした。具体的には、本実施例におけるウェルは図8に示すLmaxを60μmとし、Lminは30μmとした。露光後、基板をTMAH3の溶液に浸して現像を行うことによって、レジストマスタを得た。得られたレジストマスタに対して導電膜としてNiスパッタ膜を形成した後、電鋳を実施した。具体的には、スルファミン酸ニッケルめっき液を用い、これにpH緩衝用の硼酸および陽極Niの溶解を促進するための塩化Niを添加した。pH調整にはスルファミン酸を用い、常にpH3.8~4.2の範囲になるように調整した。めっき液の温度は50°Cとし、めっき液は常時濾過した。このような条件下で電鋳を実施し、400μm厚さのスタンパを得た。得られた金属製スタンパの外形を加工して成形機に取り付けた上で、シクロオレフィン樹脂を成形樹脂として用いて射出成形を実施した樹脂温度:340°C、鋳型温度:125°C、射出速度:300mms、保持圧力:70MPa。かかる射出成形によって、図8に示すような凹部形状から成る微細パターンを備えたプレート部材を得ることができた図22に形成されたウェルの電顕写真を示す。実施例2実施例2として図4に示すような凹部から成る微細パターンを備えたプレート部材を作成した。つまり、図示するように開口部が最も広い断面となった凹部の微細パターンを備えたプレート部材を作成した。本実施例2におけるウェルは図4に示すLmaxを60μmとし、Lminは30μmとした。実施例1では開口部の幅を一回の面取りにより広げたが、本実施例2では図4のように2回の面取りによって、第1側壁部および第2側壁部の傾斜角度を変えたウェルを作製した。プレート部材の作製法自体は、実施例1と同様である図23に形成されたウェルの電顕写真を示す。実施例3実施例3として図14に示すような凹部から成る微細パターンを備えたプレート部材を作成した。つまり、図示するように開口部が最も広い断面となった凹部の微細パターンを備えたプレート部材を作成した。本実施例3では図14におけるLmaxを60μmとし、Lminは30μmとした。プレート部材の作製法自体は、実施例1と同様である。実施例4実施例4として図10に示すような凹部から成る微細パターンを備えたプレート部材を作成した。つまり、図示するように開口部が最も広い断面となった凹部の微細パターンを備えたプレート部材を作成した。本実施例4では図10に示すLmaxを45μmとし、Lminは30μmとした図10に模式的に示した図についていうと、Lmaxをピッチと同等の大きさにするとウェル同士が接触し、剛性を弱めるため、ウェルのピッチ幅よりも小さめにLmaxを作製することが必要とされる。プレート部材の作製法自体は、実施例1と同様である図24~27に形成されたウェルの電顕写真を示す。実施例5実施例5として図12に示すような凹部から成る微細パターンを備えたプレート部材を作成した。つまり、図示するように開口部が最も広い断面となった凹部の微細パターンを備えたプレート部材を作成した。本実施例5では図12におけるLmaxを60μmとし、Lminは30μmとした実施例4の図10とは異なり、Lmaxをウェルピッチと同じ幅まで広げることができる。プレート部材の作製法自体は、実施例1と同様である。実施例6実施例6として図16に示すような凹部から成る微細パターンを備えたプレート部材を作成した。つまり、図示するように開口部が最も広い断面となった凹部の微細パターンを備えたプレート部材を作成した。本実施例6では図16におけるLmaxを60μmとし、Lminは30μmとした。プレート部材の作製法自体は、実施例1と同様である。実施例7実施例7として図17に示すような凹部から成る微細パターンを備えたプレート部材を作成した。つまり、図示するように開口部が最も広い断面となった凹部の微細パターンを備えたプレート部材を作成した。本実施例7では図17におけるLmaxを45μmとし、Lminは30μmとしたLmaxをピッチと同等の大きさにするとウェル同士が接触し剛性を弱め、また、ウェル同士の接触によりウェルの形状が変化するため、ウェルのピッチ幅よりも小さめにLmaxを作製する必要がある。プレート部材の作製法自体は、実施例1と同様である。ビーズ捕集効率の確認試験比較例1および実施例1~7のプレート部材プレート中央部に縦横320の合計10400個のウェルを用いてビーズ捕集率を調べた。確認試験に際しては、別途流路を作製した蓋となる基板をプレート部材に圧着して用いた。水に11万個以上のジルコニア製ビーズを分散させ水溶液を流した。ビーズを流す方法としては、一度のみ通過させる使用法や何度も往復運動させウェル部を何度か通過させる方法があるが、本確認試験では一度のみ通過させた。ウェル内に沈降して入ったビーズを数え、これを10回繰り返した。結果を表1に示す。表1から分かるように、比較例1に対して、実施例1~7は総じてビーズ捕集率が高くなった。つまり、実施例1~7のプレート部材がウェル通過現象を効果的に減じることができることを確認できた。《プレート部材の剛性特性の確認試験》本発明のプレート部材における剛性を調べるため、CAEを用いて構造シミュレーション形状によるウェル変形の比較を行った。構造シミュレーションの対象としたウェル形状は、比較例1図19、実施例1図8および実施例7図17のウェル形状とした。捕集率をほぼ同じ値にするため、比較例1における開口部と実施例1および実施例7の開口部を同一の直径60μmとした。図28にシミュレーションで用いたウェル形状を示す。高さ欄のカッコ内の数値は、形状の分割点である。実施例1のウェルでは底面から15μmの地点でテーパ状となり、実施例7のウェルでは10μm間隔でウェル側壁部が変化している。構造物プレート部材の物性は、シクロオレフィン樹脂として、密度1.01gcm3、ポアソン比0.3、ヤング率3100MPaとして線形静解析を行った。解析モデルは縦横に3つのウェルを配列し、その中心のウェルにのみ一様に1方向から荷重が分布するようにした応力は15MPaとした。ウェルの底面の境界条件は完全固定として、荷重負荷時の変形と最大変位点について調べた。その結果、同一の捕集率での比較では、比較例1における最大変位0.439μmを100としたとき、実施例1では36.9の0.162μm、実施例7では49.7の0.218μmに低減できることが分かった。これはウエルの開口が同じ径であっても、断面をテーパ形状にした事によりウエルの剛性が向上し、荷重に対して変形し難くなったためである。図29に荷重負荷時におけるウエル側壁の変位量のシミュレーション結果を示す。横軸はウェル断面における底面からの距離を示している。比較例1はウェル断面が垂直であるため底面からトップ面までの距離が高さと同じ30μmとなっている。実施例1のウェル形状では、側壁の途中からテーパ状になっているため、底面からトップ面までの側壁断面の長さがウェルの高さよりも長くなっている。更に実施例7のウェルでは、形状が複雑になり表面積が増える分、底面からトップ面までの長さがウエル高さよりも長くなっている。図29に示されるように、従来のウエル形状比較例1に比べて、本発明に係るウエル形状実施例1および実施例7においては、同じ荷重負荷に対してウェル変形が半分程度になっていることが分かった。これによって、同じ開口部の直径を有するウェルを同じ密度で配置した場合、本発明におけるウェル形状の方が、同じ荷重に対しての変形量が少なく、より剛性が高い構造であることを確認できた。