"透明体と該透明体上に載置された試料とからなる観察試料を載せるステージと、前記観察試料と対峙するように配置される対物レンズと、前記観察試料に対して照準検出光を出射する照準検出用光源と、前記照準検出光を前記観察試料に集光させるための光学系と、前記光学系の光路上に配置され、前記照準検出光の断面の光束を遮光する遮蔽板と、前記観察試料から反射した前記照準検出光を前記対物レンズを介して受光する照準用受光手段と、前記照準用受光手段の結果から前記照準検出光を前記観察試料に合焦させる制御手段とを有し、前記遮蔽板は、前記照準検出光の断面の中心線よりも前記照準検出光を遮光する位置に配置されていることを特徴とする顕微鏡システム。前記遮蔽板は、前記照準検出光の断面の円周側よりも中心部の方が遮蔽されている形状をしていることを特徴とする請求項1に記載の顕微鏡システム。前記遮蔽板は、前記中心部が凸型形状であることを特徴とする請求項2に記載の顕微鏡システム。前記遮蔽板は、前記中心部が半円形状であることを特徴とする請求項2に記載の顕微鏡システム。前記遮蔽板は、前記中心部が多角形形状であることを特徴とする請求項2に記載の顕微鏡システム。前記透明体はマイクロプレートであり、該マイクロプレートに収容した溶液との境界面である該マイクロプレートの上部底面に合焦させることを特徴とする請求項1に記載の顕微鏡システム。本発明の基本的な考え方について説明する。従来の技術では、上述のように、まず所定位置を検出する位置検出動作を実行し、続いてその結果に基づいて合焦位置を調整する位置調整動作を実行し、この一連の動作によって合焦を行っていた。従って、この動作の内、位置検出動作を実行することで、結果として位置調整動作が実行されるように装置を構成することができれば、合焦動作の迅速化を図ることが可能となる。また、液体試料を測定対象とする場合、液体試料からの反射光を直接検出して位置調整動作を行うことはできないが、その液体試料を収納している容器の位置を検出することで、結果として液体試料に対する位置調整動作が実行されるように装置を構成することができれば、液体試料に対しても合焦動作の迅速化を図ることが可能となる。以下、この考え方に基づいて構成した各実施の形態について説明する。なお、本発明において、集光光学系とはレンズを用いて光束を集光させる機能を具備した光学系のことである。[第1の実施の形態]図1は、本発明に係る第1の実施の形態の測定装置の構成を示す図である。この測定装置では、照準検出用光学系と測定用光学系とが別光路として構成されている。先ず、測定用光学系の構成と動作について説明する。光源1には、波長488nmのアルゴンレーザを用いる。このアルゴンレーザは試料を励起するための励起光として作用する。光源1から出射された測定用ビームはビームエクスパンダ2によりビーム直径が拡大された平行光となる。測定用ビームはダイクロイックミラー3により反射され、フィルター18とダイクロイックビームスプリッタ17とを透過する。そして、対物レンズ4により集光される。対物レンズ4の周囲には対物レンズ駆動機構30が設置されており、対物レンズ駆動機構30は対物レンズ4を保持すると共に、手動またはコントローラ35により対物レンズ4を光軸に沿って移動させることができる。これによって、測定用ビームの集光フォーカス位置を調整することができる。集光された測定用ビームは、マイクロプレート5の底面を通過してウェル内試料溶液中にフォーカスを結ぶ。このフォーカス位置はマイクロプレート5のウェルの底面、即ち、マイクロプレート5の上部底面から上方に10μmとなっている。マイクロプレート5のウェル内には蛍光物質で標識された試料6が収容されており、測定用ビームにより励起されて蛍光を発する。蛍光物質としては、例えばローダミングリーンRhGが用いられる。ウェル内に収容された試料より発せられた蛍光は再び対物レンズ4を介して、ダイクロイックビームスプリッタ17とフィルター18を透過する。ここで、ダイクロイックビームスプリッタ17は測定用ビームと蛍光とを透過する特性を有し、フィルター18は、後述する照準検出用レーザ光を遮断する特性を有している。そして、蛍光は、ダイクロイックミラー3を透過し、蛍光のみを透過するフィルター7を透過し、集光レンズ8によりピンホール40の面内に集光される。ピンホール40によってウェル内で発生したノイズ光が除去された蛍光は、ピンホール40の後方に配設された光検出器9で受光されて測定信号に変換される。次に、照準検出用光学系の構成と動作について説明する。偏光特性を有する照準検出用レーザ10から出射された照準検出用光ビームはコリメートレンズ11により平行光となり、光路中に配置された遮蔽版12によって、その断面の半分の光束が遮光される。このとき、光束の断面はほぼ半円形となっている。残り半分の光束は偏光ビームスプリッタ13で反射され、レンズ14によって集光された後、リレーレンズ15を通過し、1/4波長板16によって、直線偏光から円偏光に変換される。この光ビームはダイクロイックビームスプリッタ17で反射され、対物レンズ4によりマイクロプレート5の上部底面に集光する。この光ビームはマイクロプレート5の上部底面で反射し、対物レンズ4を透過して、ダイクロイックビームスプリッタ17で反射される。そして、光ビームは1/4波長板16を通過する際に円偏光から直線偏光に変換され、レンズ15で集光された後、レンズ14により再び平行光とされ、偏光ビームスプリッタ13を透過する。偏光ビームスプリッタ13を通過した光束はレンズ20により集光され、そのフォーカス位置に配置された2分割受光素子21で受光する。そして、2分割受光素子21の出力に基づいてコントローラ35が、対物レンズ駆動機構30を駆動して、対物レンズ4を光軸に沿って移動させる。図2は、2分割受光素子21の構成を示す図である。2分割受光素子21は、同じ材質から成る同じ形状の2つの光電変換素子21a、21bを備えている。次に、レンズ20により集光された光束が、2分割受光素子21上のどの位置に照射されるかについて説明する。図3A,3B,3Cは、対物レンズ4とマイクロプレート5との間隔に対応した光ビームの反射状況を示す図である。対物レンズ4とマイクロプレート5の上部底面との間隔が所定の値である場合には、図3Bに示すように、反射した光ビームは対物レンズ4の中心軸に対称な位置を通過する。しかし、対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値よりも近づいている場合には、図3Aに示すように、反射した光ビームは対物レンズ4の中心に近づいた位置を通過する。また、対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値よりも離れている場合には、図3Cに示すように、反射した光ビームは対物レンズ4の中心から遠ざかる位置を通過する。図4A,4B,4Cは、対物レンズ4とマイクロプレート5との間隔による、2分割受光素子21上の集光位置を示す図である。対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値である場合には、図4Bに示すように、反射した光ビームは光電変換素子21aと21bに均等に照射する。しかし、対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値よりも離れる場合には、図4Cに示すように、反射した光ビームは光電変換素子21aにより多く照射する。また、対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値よりも近づく場合には、図4Aに示すように、光電変換素子21bにより多く照射する。なお、対物レンズ4とマイクロプレート5の上部底面との間隔によって、2分割受光素子21上の光ビームは大きさが変化する点に留意する必要がある。図5は、対物レンズ4を光軸方向に移動させた場合の2個の光電変換素子21a、21bの出力A、Bを示す図である。対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値である場合には、出力Aと出力Bとは等しいが、間隔Zが広がるにつれて出力Aが大きくなり、さらに間隔Zが広がるにつれて出力Aのみが出力され、光ビームが光電変換素子21aから外れるにつれて出力Aが減少する。出力Bについても同様に説明することができる。コントローラ35は、出力A、Bの信号から図6に示す照準検出値A-B/ABを演算する。そして、対物レンズ駆動機構30を作動させて対物レンズ4を光軸方向に移動させ、照準検出値がずれ量Dに対応する値になるようにフィードバック制御を行う。この照準検出値は対物レンズ4とマイクロプレート5の上部底面との間隔を示している。この動作によって対物レンズ4とマイクロプレート5の上部底面との間隔が所定の値になるように制御される。以上の動作の結果を図7に示す。図7に示すように照準検出用レーザの合焦位置Xはマイクロプレート5の上部底面上に位置する。このとき、測定用レーザの合焦位置Yは、照準検出用レーザの合焦位置Xから、ずれ量Dだけ光軸に沿って上方に位置している。即ち、照準検出用レーザの合焦位置Xと測定用レーザの合焦位置Yは光軸に沿って予め量Dだけずれるように調整されている。次に、ずれ量Dの調整方法について説明する。このずれ量Dは、測定しようとする試料の量、マイクロプレート5の種類などによって適正な値に調整できることが望ましい。第1の調整方法は、図6に示す照準検出値A-B/ABに電気的なオフセットを加え、コントローラ35が、そのオフセットされた照準検出値を0とするように制御するものである。そして、その電気的なオフセット量は外部の設定器不図示から入力する。第2の調整方法は、図6に示す照準検出値A-B/ABに対して、コントローラ35が、オフセットされた値になるように制御するものである。そして、その制御目標値であるオフセットされた値は外部の設定器不図示から入力する。第3の調整方法は、照準用検出光の波長と測定用光の波長とが異なるように構成する。例えば、照準検出光に赤外レーザ光を用いると、対物レンズ4の色収差により照準検出光と測定光との合焦位置が異なるため、この位置の異なりをずれ量Dとすることができる。第4の調整方法は、光学系を調整する方法である。ずれ量Dは、照準検出用光学系において、集光レンズ14を光軸に沿って移動させることで調整することができる。集光レンズ14を移動することによって、照準検出用光ビームの光軸に沿っての合焦位置を変化させることができるからである。そこで、集光レンズ14が光軸に沿って移動できる機構を設け、ずれ量Dを調整しても良い。また、ずれ量Dの調整は集光レンズ14を光軸に沿って移動させる代わりに図1に示すリレーレンズ15を同じく光軸に沿って移動させても良い。第5の調整方法は、同じく光学系を調整する方法であるが、マイクロプレート5内の集光位置を調整し、その後に受光位置である2分割受光素子21の位置をそれに合わせて調整する。先ず集光位置の調整は、対物レンズ4に対してコリメート状態よりも発散あるいは収束した光を入射することで行う。例えば、収束した光を入射するためには、照準検出用レーザ10とコリメートレンズ11とを相対的に離れる方向に動かせば良い。これは、リレーレンズ15と集光レンズ14を相対的に離れる方向に動かすことと同様の効果を生ずる。次に、集光位置で調整したずれ量Dに対応した位置に受光位置の調整を行う。受光位置の調整は、上述の場合では、レンズ20と2分割受光素子21を相対的にずれ量Dに対応して近づけることにより行う。なお、この集光位置の調整と受光位置の調整は、手動で操作しても良く、また自動で調整するように構成しても良い。例えば、ずれ量Dを入力すると、上述の要領で集光位置の調整と受光位置の調整を行うようにソフトウエアを作成し、位置駆動装置を動作しても良い。なお、本実施の形態では、ずれ量Dはマイクロプレート5の上部底面から10μm上方の試料溶液内として調整している。測定用レーザには、波長488nmのアルゴンレーザ、あるいは波長633nmのヘリウムネオンレーザを用いる。照準検出用光源には、例えば波長780nmの赤外半導体レーザを用いる。しかし、照準検出用光源は、赤外光である必要は無く、例えば長波長の可視光であっても良い。また照準検出用光源は、レーザである必要は無くLEDを用いても良い。LEDを使用すれば装置を小型、安価に製造することができる。LEDを使用する場合は、コリメートレンズ11と偏光ビームスプリッタ13との間に偏光板を入れることで効率的に光を利用することができる。また、本実施の形態では、照準検出用レーザ10から出射された照準検出用光ビームは、光路中に配置された遮蔽版12によって、その断面の半分の光束が遮光されて、光束の断面はほぼ半円形となっている。しかし、光ビームの中心軸付近の光は強度が強いため遮蔽板12による回折の影響が生ずる可能性がある。即ち、半円形の断面の内、1元の円形の中心付近の光、2元の円形の中心線付近の光、は回折の影響を受け易いため、この影響が生じないようにすることが望ましい。図13A,13B,13C,13Dは、照準検出用光ビームの形状を示す図である。上述の問題を解決するために、図13Aでは、遮蔽板12を中心線よりもさらに遮光する位置に移動して配置している。これによって、中心軸付近の強度の強い光による回折の影響を除去することができる。図13Bでは、さらに遮蔽板12の形状を変えて、中心軸付近の光を遮蔽している。なお、遮蔽板12の形状は、図13Cのように三角形状でも良く、図13Dのように四角形状であっても良い。[第2の実施の形態]図8は、本発明に係る第2の実施の形態の測定装置の構成を示す図である。第2の実施の形態に係る測定装置は、照準検出用光学系の構成が第1の実施の形態と異なっている。従って、第1の実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して、詳細の説明は省略する。次に、照準検出光学系の構成と動作について説明する。照準検出用レーザ10から出射された照準検出用光ビームは、ビームエクスパンダ23によって一旦集光された後、再び光束を拡大し、偏光ビームスプリッタ13で反射され、レンズ24によって平行光となる。そして、1/4波長板16によって直線偏光から円偏光へ変換され、ダイクロイックビームスプリッタ17で反射される。ダイクロイックビームスプリッタ17で反射された光は、対物レンズ4を通過して集光され、マイクロプレート5に照射される。マイクロプレート5の上部底面で反射した光は再び対物レンズ4を通過して、平行光束に変換され、ダイクロイックビームスプリッタ17で反射される。そして、光は1/4波長板16を通過して円偏光から直線偏光に変換され、レンズ24に到達する。レンズ24で集光された反射光は偏光ビームスプリッタ13を通過し、ビームスプリッタ25により進行方向を2方向に分離される。一方の光はフォーカス点Qよりも光軸上前方に設置されたピンホール26を通過し、光検出器27で受光される。光検出器27からは、受光された光強度に応じた電気信号Aが出力される。もう一方の光束はフォーカス点Qよりも光軸上後方に配置されたピンホール28を通過し、別の光検出器29で受光される。光検出器29からは、受光された光強度に応じた電気信号Bが出力信号として得られる。次に、レンズ24により集光された光束が、ピンホール26、28に対してどのように照射されるかについて説明する。図9A,9B,9Cは、対物レンズ4とマイクロプレート5との間隔に対応した光束を示す図である。対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値焦点距離である場合には、図9Bに示すように、対物レンズ4を通過後は平行光束となる。しかし、対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値よりも近づいている場合には、図9Aに示すように、対物レンズ4を通過後は発散する光束となる。また、対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値よりも離れている場合には、図9Cに示すように、対物レンズ4を通過後は収束する光束となる。図10A,10B,10Cは、対物レンズ4とマイクロプレート5との間隔に対応した、ピンホール26、28に対する照射状況を示す図である。対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値である場合には、図10Bに示すように、レンズ24に入射した光ビームはフォーカス点Qに集光し、光検出器27、29に均等に照射する。しかし、対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値よりも近づく場合には、図10Aに示すように、レンズ24に入射した光ビームはピンホール28に集光し、光検出器29により多く照射する。また、対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値よりも遠ざかる場合には、図10Cに示すように、レンズ24に入射した光ビームはピンホール26に集光し、光検出器27により多く照射する。図11は、対物レンズ4を光軸方向に移動させた場合の2個の光検出器27、29の出力A、Bを示す図である。対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値である場合には、出力Aと出力Bとは等しいが、間隔が広がるにつれて出力Aが大きくなり、さらに間隔が広がるにつれて出力Aは飽和状態が継続し、その後、出力Aが減少する。出力Bについても同様に説明することができる。コントローラ35は、出力A、Bの信号から図12に示す照準検出値A-B/ABを演算する。そして、対物レンズ駆動機構30を作動させて対物レンズ4を光軸方向に移動させ、照準検出値がずれ量Dに対応する設定値になるようにフィードバック制御を行う。この動作によって対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値になるように制御される。第2の実施の形態では、第1の実施の形態と同様に、照準検出用レーザの合焦位置Xと測定用レーザの合焦位置Yが光軸に沿って予め量Dだけずれるように調整されている。このずれ量Dはレンズ24を光軸に沿って移動させることで調整することができる。[第3の実施の形態]第3の実施の形態に係る測定装置は、照準用光学系の構成が集光光学系でない点が第1の実施形態と異なっている。従って、第1の実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して、詳細の説明は省略する。図14は、照準用光学系と測定用光学系の位置関係を説明する図である。図14では、対物レンズ4とマイクロプレート5近傍を拡大して示している。照準光学系は、光源41、レンズ42及び2分割受光素子45で構成されている。なお、光源41、レンズ42及び2分割受光素子45は、対物レンズ4と一体化され、図示しない対物レンズ駆動機構30によって駆動されて図中の上下Z方向に移動可能である。照準検出用の光源41から出射された照準検出用光ビームは、レンズ42によって平行光となって、マイクロプレート5の下部底面に照射される。そして、その反射光は、2つの受光面をもつ2分割受光素子45に入力する。図15A,15B,15Cは、照準光学系とマイクロプレート5との間隔に対応した光ビームの反射状況と2分割受光素子上の照射状況を示す図である。対物レンズ4とマイクロプレート5の上部底面との間隔が所定の値である場合には、図15Bに示すように、反射した光ビームは2分割受光素子の受光素子45a、45bに均等に照射する。しかし、対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値よりも近づいている場合には、図15Aに示すように、反射した光ビームは2分割受光素子の受光素子45aをより多く照射する。また、対物レンズ4とマイクロプレート5の底面との間隔が所定の値よりも離れている場合には、図15Cに示すように、反射した光ビームは2分割受光素子の受光素子45bをより多く照射する。そこで第1の実施の形態の図6で示したように、受光素子45a、45bの出力A、Bから照準検出値A-B/ABを演算する。そして、対物レンズ駆動機構30を作動させて照準光学系及び対物レンズ4を光軸方向に移動させ、照準検出値が規定値例えば0になるようにフィードバック制御を行う。この動作によって照準光学系とマイクロプレート5の下部底面との間隔が所定の値になるように制御される。この結果、測定用光学系不図示の合焦位置をウェル内の所定位置に制御することができる。なお、照準検出用光ビームは、マイクロプレート5の上部底面に照射されるようにしても良い。検出用光ビームをマイクロプレート5の下部底面に反射させるときは、上部底面の反射光の影響を受けないようにレイアウトすることが望ましい。これは、上部底面に反射させるときも同様である。なお、本発明は上述した各実施の形態に限定されることはない。例えば、図1の1/4波長板16は、レンズ15の後に設けなくとも、偏光ビームスプリッタ13とダイクロイックビームスプリッタ17の間に設ければ所要の効果を得ることができる。また、集光レンズ14は、図1では投光、受光の共通光路に配置してあるが、投光用としてはコリメートレンズ11と偏光ビームスプリッタ13との間、受光用としては偏光ビームスプリッタ13とレンズ20との間に別々に設置させても良い。また2分割受光素子21、45はポジションセンサPSD:PositionSensitiveDetectorに置き換え、光ビームが照射されている位置を直接測定することもできる。また測定用レーザは上述の各実施の形態では1種類であるが、複数の測定用レーザを用いて、複数の投光系、受光系を持つ測定装置を構成しても良い。また、合焦検出用レーザの合焦位置をマイクロプレートの上部底面ではなくマイクロプレート5の下部底面に設定しても同様の効果が得られる。更に、測定動作と対物レンズの光軸方向の移動動作である合焦追従動作とを同時に行なうことが好ましくない場合は、測定対象ウェルを変更する際に合焦追従動作を行ない、測定中は合焦追従動作を停止させてもよい。なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。"