"カーボンナノチューブを含む下部層、およびポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネートを含む上部層を含んでなる被覆物。下部層は、約8nm~約27nmの厚みを有する、請求項1に記載の被覆物。上部層は、約60nm~約1000nmの厚みを有する、請求項1に記載の被覆物。ナノチューブは、単一壁である、請求項1に記載の被覆物。ナノチューブは、多壁である、請求項1に記載の被覆物。カーボンナノチューブを含む下部層、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネートを含む上部層を含む被覆物、および透明熱可塑性基材を含んでなり、上部層および下部層は、基材へ適用されるハイブリッド導電性複合材料。被覆物の下部層は、約8nm~約27nmの厚みを有する、請求項6に記載の複合材料。被覆物の上部層は、約60nm~約1000nmの厚みを有する、請求項6に記載の複合材料。熱可塑性基材は、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン、ポリメチルメタクリレート、環状オレフィンコポリマー、エチレン酢酸ビニル、エチレンビニルアルコール、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素化エチレンプロピレン、パーフルオロアルコキシポリマー樹脂、エチレンテトラフロオルエチレン、液晶ポリマー、ポリアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホネート、ポリスルホン、ポリ乳酸、ポリメチルペンテン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリスルホン、熱可塑性ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、スチレン-アクリロニトリルおよびガラスからなる群から選択される、請求項6に記載の複合材料。熱可塑性基材は、ポリカーボネートを含んでなる、請求項6に記載の複合材料。熱可塑性基材は、約125μm~約175μmの間の厚みを有する、請求項6に記載の複合材料。熱可塑性基材は、柔軟性である、請求項6に記載の複合材料。熱可塑性基材は、フィルムを含んでなる、請求項6に記載の複合材料。ナノチューブは、単一壁である、請求項6に記載の複合材料。ナノチューブは、多壁である、請求項6に記載の複合材料。透明熱可塑性基材の表面抵抗を低減する方法であって、カーボンナノチューブを含む下部層およびポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホネートを含む上部層を含んでなる被覆物を基材へ適用する工程、および被覆物を硬化する工程を含んでなる方法。下部層は、約8nm~約27nmの厚みを有する、請求項16に記載の方法。上部層は、約60nm~約1000nmの厚みを有する、請求項16に記載の方法。ナノチューブは、単一壁である、請求項16に記載の方法。ナノチューブは、多壁である、請求項16に記載の方法。熱可塑性基材は、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン、ポリメチルメタクリレート、環状オレフィンコポリマー、エチレン酢酸ビニル、エチレンビニルアルコール、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素化エチレンプロピレン、パーフルオロアルコキシポリマー樹脂、エチレンテトラフロオルエチレン、液晶ポリマー、ポリアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホネート、ポリスルホン、ポリ乳酸、ポリメチルペンテン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリスルホン、熱可塑性ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、スチレン-アクリロニトリルおよびガラスからなる群から選択される、請求項16に記載の方法。熱可塑性基材は、ポリカーボネートを含んでなる、請求項16に記載の方法。熱可塑性基材は、約125μm~約175μmの厚みを有する、請求項16に記載の方法。熱可塑性基材は、柔軟性である、請求項16に記載の方法。熱可塑性基材は、フィルムを含んでなる、請求項16に記載の方法。従って、本発明は、透明な熱可塑性基材の表面抵抗率を低下させるカーボンナノチューブおよびポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネートから作られたハイブリッド導電性複合材料を提供する。容量性タッチスクリーンディスプレイにおける使用を見出し得る本発明の複合材料は、特別な処理または警戒を必要とせず、最小または最大構成比により制限されない。カーボンナノチューブおよびポリ3,4-エチレンジオキシチオフェンポリスチレン-スルホネートの量の広い変化は、安定性低シート抵抗材料を製造する間に複合材料透明性についての逆のカーボンナノチューブの影響を最小化することを可能とする。本発明のこれらのおよび他の優位性および恩恵は、以下の本発明の詳細な説明から明らかとなる。本発明は、制限ではなく例として記載される。実施例中、または特記する場合を除き、本明細書中における量、パーセンテーなどを表示する全ての数字は、全ての場合において、用語約により修飾されるものとして理解される。本発明は、カーボンナノチューブを含有するより下部層、およびポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネートを含有する上部層を含有するコーティングを提供する。本発明は、カーボンナノチューブを含有するより低い層を有する被覆物、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネートを含有する上部層、および透明熱可塑性基材を含有し、上部および下部層は熱可塑性基材へ適用されるハイブリッド導電性複合材料を更に提供する。本発明は更に、カーボンナノチューブを含有する下部層およびポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネートを含有する上部層を有する被覆物を基材へ適用する工程および被覆物を硬化させる工程を含む透明熱可塑性基材の表面抵抗を減少させる方法を提供する。カーボンナノチューブは、回転グラフェンシートである単一壁カーボンナノチューブおよび異なった直径を有する入れ子になった円筒型カーボンナノチューブである多層カーボンナノチューブへ分類され得る。ナノチューブのいずれかの種類は本発明に有用であり得る。流体については、被覆可能性分散体、スプレー処方物または種々の溶媒系中に種々の方法で分散された他の薄いカーボンナノチューブ被覆物流体は、カーボンナノチューブ層のように受容可能である。本発明者は、そのような層を、均一被覆、印刷、スプレー、インクジェットなどを含むが、これらに限定されない種々の方法で基材へ適用することができることを検討する。本発明者は、適当な被覆物層では、次の任意の熱可塑性プラスチックが基材として適当であると考える:アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン、ポリメチルメタクリレート、環状オレフィンコポリマー、エチレン酢酸ビニル、エチレンビニルアルコール、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素化エチレンプロピレン、パーフルオロアルコキシポリマー樹脂、エチレンテトラフロオルエチレン、液晶ポリマー、ポリアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリ乳酸、ポリメチル-ペンテン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリスルホン、熱可塑性ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンおよびスチレン-アクリロニトリル。ポリカーボネートおよびポリエチレンテレフタレートは、本発明では好ましく、ポリカーボネートは、特に好ましい。ガラスもまた、基材として適当であり得る。熱可塑性基材の要件ではないが、基材は柔軟フィルムによってこの説明では例示される。基材特性は、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン層の乾燥を、約110°Cにおいて変形を伴わずに乾燥工程の間に耐えることができる基材を必要とする。この要件は、厚さ限界に影響を及ぼし得、例えば変形が防止される限り、高温基材は低温基材より薄くてよい。例に使用されるポリカーボネートについては、好ましくは125μm~175μmのフィルムは適当な厚さであることが見出された。軟質熱可塑性基材ポリカーボネートフィルムへ適用されたカーボンナノチューブを下部層としておよびポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネートを上部層として有する本発明のハイブリッド複合材料は、高透過率の安定性であると示された低抵抗フィルムを製造する。本発明の複合材料の抵抗は、89のパーセント視覚的透過率で260Ω/□であると測定された。本発明の複合材料は、相対湿度変動により一貫した抵抗を示した。対照的に、本発明者は、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネートからポリカーボネート上でのみ作られた材料が導電性であることに失敗した幾つかの例に気付いている。また、市販のカーボンナノチューブのみを含有する材料は一貫しているが高い抵抗値を供した。本発明の複合材料は、一貫して測定可能なコンダクタンスを供する。本発明を更に説明するが、次の例によって限定されない。部およびパーセントで示される全ての量は、特記しない限り重量であると理解される。本発明の複合材料の1つの実施態様は、以下の略図によって表わされる。この複合材料は、以下の手順に従って製造した。CNT被覆物溶液の製造カーボンナノチューブSouthWestNanoTechnologiesからのSG-76を0.001の濃度にて、水中に1TRITONX-100溶液を用いて分散した。溶液は、水酸化アンモニウムでpH11.0に調節し、40分間、超音波処理した。超音波処理に続いて、その溶液を、30分間4000rcfにて遠心分離した。溶液を沈殿からデカントした。被覆法接着を促進するために、基材をコロナ処理した。次いで、カーボンナノチューブ被覆溶液を、6ミクロンのワイヤー巻被覆物棒マイヤーロッドを用いて、基材へ適用した。フィルムは、強制熱風による界面活性剤の除去の前に硬化した。界面活性剤は、20のイソプロパノール洗浄水を用いて被覆物から除去した。すすぎの後、フィルムを、100°Cにて10分間乾燥して、残存湿気を除去し、基材への接着を更に促進した。この例において、乾燥カーボンナノチューブ被覆物は、8nmの厚みを有したが、カーボンナノチューブ層の厚みは、8nm~27nm変化し得る。ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネート水溶液生成物H.C.StarckからのCLEVIOSFEEPEFLを、カーボンナノチューブ上に20ミクロンマイヤーロッドで被覆して300ナノメートル乾燥フィルム厚みを生じさせたが、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネート層厚みは、60nmと1000nmの間で変化し得る。被覆に続いて、フィルムを、オーブン中で100°Cにて30分間硬化させて揮発性被覆物添加剤を除去し、フィルムを硬化した。測定フィルムは、光学濃度と抵抗を測定する前に環境に平衡に保った。環境条件は、20°C~22°Cの間および43相対湿度~76相対湿度の間で変化した。パーセント透過率は、X-RITE310濃度計を用いて測定した。被覆フィルムの抵抗は、JandelモデルHM204端子抵抗試験装置を用いて測定した。それらの安定性とコンシステンシーを特性化するために、フィルムを数週間にわたりモニターした。性能発明セクションの背景技術において挙げた論文の幾つかに見られた通り、カーボンナノチューブとポリ3,4-エチレンジオキシチオフェンは、互いの添加剤であるように見えるが、2つの材料の性能を独立して最適化する能力は有利である。本質的に低い吸光度を安定させながらカーボンナノチューブ層の透明性を最大限にすることが、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン層の高い導電性であるが示された。本発明の材料は、個々の成分の性能を低下させることが知られている条件において、例えば高湿条件への暴露等においてより良好に働くように見える。ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネートのみのフィルムは、高いパーセント透過率値において低い抵抗値を供給することができる。しかしながら、これらのフィルムは、1000程度の大きな測定変動性を示す。時折、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレン-スルホネートのみのフィルムについての抵抗は見出されなかった。市販材料を用いるカーボンナノチューブのみのフィルムは、高いパーセント透過率において低い抵抗を供給することができないが、そのようなフィルムは、広範囲の環境条件にわたり安定していることを示した。単一材料フィルムとは対照的に、本発明の複合材料は低い抵抗、≦89の高いパーセント透過率で300Ω/□を生じさせる。更に、本発明の複合材料は、変化する環境条件で一貫した電気的性能を供給する。本発明の先の例は、制限ではなく実例の目的で提示される。本明細書に記載された実施態様は、本発明の精神および範囲を逸脱することなく、種々の方法で変形または修正され得ることは当業者には明らかである。本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によって判定すべきである。"