同一パルス周期の第1レーザおよび第2レーザを用いて、第1レーザを第1ターゲット材料に照射して第1プルームを発生させ、第1レーザの照射時から遅延時間の経過後に、第2レーザを第2ターゲット材料に照射して第2プルームを発生させ、遅延時間の経過中に、第1プルーム中にクラスターを生成して、これに第2プルームを衝突させるクラスター生成方法。クラスター生成空間を、圧力1×101~10×103の不活性ガス雰囲気に保持する請求項1に記載のクラスター生成方法。遅延時間を、0.5~2mSに設定する請求項1または2に記載のクラスター生成方法。この発明の目的は、コアシェル構造のクラスターを生成することのできるクラスター生成方法を提供することにある。この発明によるクラスター生成方法は、同一パルス周期の第1レーザおよび第2レーザを用いて、第1レーザを第1ターゲット材料に照射して第1プルームを発生させ、第1レーザの照射時から遅延時間の経過後に、第2レーザを第2ターゲット材料に照射して第2プルームを発生させ、遅延時間の経過中に、第1プルーム中にクラスターを生成して、これに第2プルームを衝突させるものである。この発明によるクラスター生成方法では、先行の第1プルーム中に生成したクラスターの周囲に、後続の第2プルームによるシェルが形成される。したがって、コアシェル構造のクラスターを生成することができる。さらに、クラスター生成空間を、圧力1×101~10×103の不活性ガス雰囲気に保持することが好ましい。クラスター生成空間の圧力を、高真空ではなく、上記圧力範囲に保持することにより、その圧力で、プルームが膨張拡散しようすることを抑制することができる。すなわち、第1レーザを第1ターゲット材料に照射後に発生した第1プルームの膨張拡散を遅らせて一時的に滞留させ、次いで、第2プルームが衝突させることで、コアシェル構造のクラスターが生成される。不活性ガス雰囲気の圧力は、1×101未満では、第1プルームが拡散して、第1プルーム中にクラスターが生成され難くなり、10×103を超えると、生成したクラスターの周囲に第2プルームを衝突させることが困難となる。また、遅延時間を、0.5~2mSに設定することが好ましい。遅延時間は、0.5mS未満では、第1プルームおよび第2プルームがほぼ同時に衝突して、第ターゲット材料および第2ターゲット材料を混合したクラスターが生成されてしまい、遅延時間が2mSを超えると、先行の第1プルームに生成されたクラスターが拡散してしまい、これの周囲に第2プルームを付着させることが困難となる。この発明によれば、コアシェル構造のクラスターを生成することのできるクラスター生成方法が提供される。図1を参照すると、クラスター生成装置は、中空密閉状装置ボデイ11を有している。装置ボデイ11は、クラスター生成空間12およびこれを前後に横切る水平基準線13を有している。装置ボデイ11の頂壁には不活性ガス手段14が接続されている。装置ボデイ11の前側壁には真空手段15が接続されている。不活性ガス手段14からクラスター生成空間12に不活性ガスを供給し、真空手段15によってクラスター生成空間12内を吸引することにより、クラスター生成空間12内は、不活性ガスにより陽圧に保持されかつ基準線13上を前向きに流れるキャリヤガス流れが生じるようになっている。装置ボデイ11内の基準線13を挟んでその上下には第1ターゲット材料21および第2ターゲット材料22が固定状に保持されている。第1ターゲット材料21は、前斜め下向きの第1蒸発面31を有している。第2ターゲット材料22は、前斜め上向きの第2蒸発面32を有している。第1および第2蒸発面31、32の法線は、基準線13上において交差させられている。第1および第2蒸発面31、32の前方には、一定距離をおいて垂直状基板41が配置されている。第1蒸発面31には第1レーザ51が、第2蒸発面32には第1レーザ52がそれぞれ照射される。図2に示すように、第1レーザ51の周期T1および第1レーザ52の周期T2は、同一である。第1レーザ51の照射時から遅延時間Tdだけ経過した後に、第2レーザ52が照射される。図3を参照しながら、クラスターの生成プロセスを説明する。まず、第1ターゲット材料21の第1蒸発面31に第1レーザ51が照射される図3a。第1蒸発面31は瞬時に蒸発して第1プルームP1が発生する図3b。第1プルームP1は、第1ターゲット材料21の風船状蒸気原子塊である。発生した第1プルームP1は、その蒸発エネルギーを運動エネルギーに変換することによって前向きに移動させられるが、不活性ガスの圧力によって、飛散させられることなく閉じ込められ、第1プルームP1中に第1クラスターC1が生成される図3c。第1クラスターC1は、第1ターゲット材料21の原子塊が葡萄房状に結合された集合体である。第1クラスターC1が生成されると、ここで、第2ターゲット材料22の第2蒸発面32に第2レーザ52が照射される図3d。そうすると、第2ターゲット材料22の第2蒸発面32から第2プルームP2が蒸発させられる図3e。蒸発した第2プルームP2は、第1クラスターC1に衝突して、これを取り囲む。この状態で、第1プルームP1および第2プルームP2の占有体積は、体積比で、50以上、好ましくは、80以上、重なることが好ましい。第1プルームP1および第2プルームP2の重なった部分において、第1クラスターC1を取り囲んだ第2プルームP2は、第1クラスターC1の周囲に付着させられる。これにより、第1ターゲット材料21の原子塊をコアとし、第2ターゲット材料22の原子塊をシェルとするコアシェル構造の第2クラスターC2が生成される。生成されたコアシェル構造の第2クラスターC2は、次回のレーザ照射までに、キャリヤガス流れによって基板41まで運ばれ、これに、堆積される。つぎに、具体例を以下に説明する。<材料>第1ターゲット材料21:Si第2ターゲット材料22:Al<環境条件>クラスター生成空間:アルゴンガス雰囲気圧力:4±2×102Paターゲットオブジェクト間距離:25mm<第1レーザ51>Nd:YAG第2高調波波長532nm、レーザパワー:160mW<第2レーザ52>Nd:YAG第2高調波波長532nm、レーザパワー:200±10mW<第1レーザ51および第2レーザ52共通>レーザ照射面:8mm円形パルス周波数:10Hzパルス幅:6nS第1レーザ51および第2レーザ52の遅延時間Td:1mS上記条件の元に、100shotのパルス照射の結果、基板41上には、直径80nmのコアシェル構造のクラスターの堆積物が捕集された。上記において、第1ターゲット材料21/第2ターゲット材料22としては、上記のSi/Co以外に、例えば、Pt/Pd、Pt/Ag、Pt/Au、Pt/Cu、チタン酸ランタン/チタン酸ストロンチウム、安定ジルコニア/不安定ジルコニア等が適宜選択される。クラスター生成条件、すなわち、雰囲気ガスの圧力および種類、レーザ光のエネルギー密度を変えて、クラスターを生成したところ、以下のことが判明した。雰囲気ガス圧力は、ターゲット材料、レーザ光のエネルギー密度によって、1×101~10×103の範囲で設定可能である。遅延時間は、0.3~5mS、好ましくは、0.5~2mSの範囲が選択可能である。