"式1式中、Hetは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群より選ばれる1個以上のヘテロ原子を含む5または6員へテロ芳香環を表しここで、AおよびQはそれぞれ、該5または6員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Aが結合した原子とQが結合した原子とが該5または6員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該5または6員へテロ芳香環は、A及びQが結合した原子と共に、-CE1=、-N=、-O-、-S-および-NE2-からなる群より選ばれる3もしくは4個の原子または基から構成され、E1は1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基、水素原子またはハロゲン原子を表し、E2は1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基を表す。、Jは、下式J1またはJ2:式中、R1およびR2は、同一または相異なり、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキル基を表し、R3は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、ハロゲン原子または水素原子を表し、R4およびR5は、同一または相異なり、C1-C3アルキル基を表し、R6は、水素原子またはC1-C6鎖式炭化水素基を表す。で示される基を表し、Lは、単結合または1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキレン基を表し、Aは、AがHetで表される該5または6員へテロ芳香環を構成する炭素原子に結合する場合には、単結合、-O-、または-SOx-を表しここで、xは、0、1または2を表す。、AがHetで表される該5または6員へテロ芳香環を構成する窒素原子に結合する場合には、単結合を表し、Qは、QがHetで表される該5または6員へテロ芳香環を構成する炭素原子に結合する場合には、下式Q1、Q2、Q3またはQ4:式中、RxおよびRyは、同一または相異なり、<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、シアノ基、ハロゲン原子、水素原子またはシクロプロピル基を表し、yは0、1または2を表し、Rzは、<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2、水素原子またはシクロプロピル基を表し、T1は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C12ジアルキルアミノ基、水酸基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表し、T2は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基を表す。で示される基を表し、QがHetで表される該5または6員へテロ芳香環を構成する窒素原子に結合する場合には、Qは式Q1で示される基を表し、Gは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基もしくはアミノ基を表すか、または、下式G1、G2、G3もしくはG4:{式中、Raは、<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、シクロプロピル基または-CO-T1を表し、Rbは、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2、C3-C9トリアルキルシリル基またはシクロプロピル基を表し、Rcは、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1またはシクロプロピル基を表し、zは0、1または2を表し、Rdは、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2またはシクロプロピル基を表し、Reは、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。ここで、T1およびT2は前述と同義であるが、Gが式G2、G3またはG4で示される基の場合には、T1は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C12ジアルキルアミノ基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。}で示される基を表し、Dは-N=または-CH=を表し、mは0または1を表す。<群α>:ハロゲン原子、シアノ基およびシクロプロピル基からなる群、<群β>:1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルチオ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルフィニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルホニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C8ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、C3-C9トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群、<群γ>:1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルチオ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルフィニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルホニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C8ジアルキルアミノ基、フェニル基該フェニル基は、メチル基、メトキシ基、塩素原子およびニトロ基からなる群より選ばれる1個以上の基を有していてもよい。、ハロゲン原子、シアノ基、C3-C9トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群。で示されるヘテロ芳香環化合物。Hetが下式H1またはH2:式中、X1、X2、X3およびX4は、同一または相異なり、-CE1=または-N=を表す。但し、X1、X2、X3およびX4のうちの少なくとも1つは-N=を表す。で示される環である請求項1に記載のヘテロ芳香環化合物。X1、X2、X3およびX4のうちの1つが-N=であり、それ以外が、同一または相異なり、-CE1=である請求項2に記載のヘテロ芳香環化合物。Hetが式H1で示される環である請求項3に記載のヘテロ芳香環化合物。Hetが下式H3、H4またはH5:式中、Y1、Y2およびY3のうちの1つは、-O-、-S-または-NE2-を表し、残りの2つは、同一または相異なり、-CE1=または-N=を表し、Z1、Z2およびZ3は、同一または相異なり、-CE1=または-N=を表す。で示される環である請求項1に記載のヘテロ芳香環化合物。Hetが式H3で示される環である請求項5に記載のヘテロ芳香環化合物。Y1、Y2およびY3のうちの1つが-S-である請求項6に記載のヘテロ芳香環化合物。Y1、Y2およびY3のうちの1つが-S-であり、それ以外が、同一または相異なり、-CE1=である請求項7に記載のヘテロ芳香環化合物。Y1が-S-である請求項7に記載のヘテロ芳香環化合物。Y1が-S-であり、Y2およびY3が、同一または相異なり、-CE1=である請求項9に記載のヘテロ芳香環化合物。Hetが式H4で示される環である請求項5に記載のヘテロ芳香環化合物。Z1が-N=であり、Z2が-CE1=であり、かつ、Z3が-CE1=または-N=であるか、あるいは、Z1が-CE1=であり、Z2が-N=であり、かつ、Z3が-CE1=である請求項11に記載のヘテロ芳香環化合物。Z1が-N=であり、Z2およびZ3が同一または相異なり-CE1=であるか、あるいは、Z2が-N=であり、Z1およびZ3が同一または相異なり-CE1=である請求項12に記載のヘテロ芳香環化合物。Hetが式H5で示される環である請求項5に記載のヘテロ芳香環化合物。Z1が-N=であり、Z2が-CE1=であり、かつ、Z3が-CE1=または-N=であるか、あるいは、Z1が-CE1=であり、Z2が-N=であり、かつ、Z3が-CE1=である請求項14に記載のヘテロ芳香環化合物。Z1が-N=であり、Z2およびZ3が同一または相異なり-CE1=であるか、あるいは、Z2が-N=であり、Z1およびZ3が同一または相異なり-CE1=である請求項15に記載のヘテロ芳香環化合物。Hetが、窒素原子、および硫黄原子からなる群より選ばれる1個以上のヘテロ原子を含む5または6員へテロ芳香環でありここで、AおよびQはそれぞれ、該5または6員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Aが結合した原子とQが結合した原子とが該5または6員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該5または6員へテロ芳香環は、A及びQが結合した原子と共に、-CE1=、-N=および-S-からなる群より選ばれる3もしくは4個の原子または基から構成され、E1は1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基、水素原子またはハロゲン原子である。、Jが、式J1またはJ2R1およびR2が、同一または相異なり、C1-C3アルキル基であり、R3が、C1-C6鎖式炭化水素基であり、R4およびR5が、同一または相異なり、C1-C3アルキル基であり、R6が、C1-C6鎖式炭化水素基である。で示される基であり、Lが、単結合またはC1-C3アルキレン基であり、Aが単結合であり、Qが式Q1RxおよびRyが、水素原子である。で示される基であり、Gが、水素原子、ハロゲン原子、または、式G1、G2、G3もしくはG4{Raは、C1-C6鎖式炭化水素基であり、Rbは、C1-C6鎖式炭化水素基であり、Rcは、C1-C6鎖式炭化水素基であり、zが0、1または2であり、Rdが、C1-C6鎖式炭化水素基であり、Reが、C1-C6鎖式炭化水素基である。}で示される基であり、Dが-CH=であり、mが0である請求項1記載のヘテロ芳香環化合物。Hetが、窒素原子、および硫黄原子からなる群より選ばれる1個以上のヘテロ原子を含む5員へテロ芳香環でありここで、AおよびQはそれぞれ、該5員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Aが結合した原子とQが結合した原子とが該5員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該5員へテロ芳香環は、A及びQが結合した原子と共に、-CE1=、-N=および-S-からなる群より選ばれる3個の原子または基から構成され、E1は1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基、水素原子またはハロゲン原子である。、Jが、式J1R1およびR2が、同一または相異なり、C1-C3アルキル基であり、R3が、C1-C6鎖式炭化水素基である。で示される基であり、Lが、単結合またはC1-C3アルキレン基であり、Aが単結合であり、Qが式Q1RxおよびRyが、水素原子である。で示される基であり、Gが、水素原子、ハロゲン原子、または、式G2もしくはG3{Rbは、C1-C6鎖式炭化水素基であり、Rcは、C1-C6鎖式炭化水素基であり、zが0である。}で示される基であり、Dが-CH=であり、mが0である請求項1記載のヘテロ芳香環化合物。請求項1~18のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物と不活性担体とを含有する有害生物防除剤。有害生物を防除するための請求項1~18のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物の使用。請求項1~18のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物の有効量を有害生物又は有害生物の生息場所に施用する工程を含む有害生物の防除方法。本発明は、有害生物に対して防除活性を有する新規な化合物を提供することを課題とする。本発明者等は、有害生物に対して防除活性を有する化合物を見出すべく検討した結果、下記式1で示される化合物が有害生物に対して防除効力を有することを見出し、更に検討を重ねた結果本発明を完成するに至った。即ち、本発明は以下のものである。[項1]式1式中、Hetは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群より選ばれる1個以上のヘテロ原子を含む5または6員へテロ芳香環を表しここで、AおよびQはそれぞれ、該5または6員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Aが結合した原子とQが結合した原子とが該5または6員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該5または6員へテロ芳香環は、A及びQが結合した原子と共に、-CE1=、-N=、-O-、-S-および-NE2-からなる群より選ばれる3もしくは4個の原子または基から構成され、E1は1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基、水素原子またはハロゲン原子を表し、E2は1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基を表す。、Jは、下式J1またはJ2:式中、R1およびR2は、同一または相異なり、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキル基を表し、R3は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、ハロゲン原子または水素原子を表し、R4およびR5は、同一または相異なり、C1-C3アルキル基を表し、R6は、水素原子またはC1-C6鎖式炭化水素基を表す。で示される基を表し、Lは、単結合または1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキレン基を表し、Aは、AがHetで表される該5または6員へテロ芳香環を構成する炭素原子に結合する場合には、単結合、-O-、または-SOx-を表しここで、xは、0、1または2を表す。、AがHetで表される該5または6員へテロ芳香環を構成する窒素原子に結合する場合には、単結合を表し、Qは、QがHetで表される該5または6員へテロ芳香環を構成する炭素原子に結合する場合には、下式Q1、Q2、Q3またはQ4:式中、RxおよびRyは、同一または相異なり、<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、シアノ基、ハロゲン原子、水素原子またはシクロプロピル基を表し、yは0、1または2を表し、Rzは、<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2、水素原子またはシクロプロピル基を表し、T1は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C12ジアルキルアミノ基、水酸基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表し、T2は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基を表す。で示される基を表し、QがHetで表される該5または6員へテロ芳香環を構成する窒素原子に結合する場合には、Qは式Q1で示される基を表し、Gは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基もしくはアミノ基を表すか、または、下式G1、G2、G3もしくはG4:{式中、Raは、<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、シクロプロピル基または-CO-T1を表し、Rbは、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2、C3-C9トリアルキルシリル基またはシクロプロピル基を表し、Rcは、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1またはシクロプロピル基を表し、zは0、1または2を表し、Rdは、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2またはシクロプロピル基を表し、Reは、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。ここで、T1およびT2は前述と同義であるが、Gが式G2、G3またはG4で示される基の場合には、T1は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C12ジアルキルアミノ基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。}で示される基を表し、Dは-N=または-CH=を表し、mは0または1を表す。<群α>:ハロゲン原子、シアノ基およびシクロプロピル基からなる群、<群β>:1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルチオ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルフィニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルホニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C8ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、C3-C9トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群、<群γ>:1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルチオ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルフィニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルホニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C8ジアルキルアミノ基、フェニル基該フェニル基は、メチル基、メトキシ基、塩素原子およびニトロ基からなる群より選ばれる1個以上の基を有していてもよい。、ハロゲン原子、シアノ基、C3-C9トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群。で示されるヘテロ芳香環化合物。以下、本発明化合物と記す。。[項2]Hetが下式H1またはH2:式中、X1、X2、X3およびX4は、同一または相異なり、-CE1=または-N=を表す。但し、X1、X2、X3およびX4のうちの少なくとも1つは-N=を表す。で示される基である[項1]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項3]X1、X2、X3およびX4のうちの1つが-N=であり、それ以外が、同一または相異なり、-CE1=である[項2]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項4]Hetが式H1で示される基である[項3]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項5]Hetが下式H3、H4またはH5:式中、Y1、Y2およびY3のうちの1つは、-O-、-S-または-NE2-を表し、残りの2つは、同一または相異なり、-CE1=または-N=を表し、Z1、Z2およびZ3は、同一または相異なり、-CE1=または-N=を表す。で示される基である[項1]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項6]Hetが式H3で示される基である[項5]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項7]Y1、Y2およびY3のうちの1つが-S-である[項6]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項8]Y1、Y2およびY3のうちの1つが-S-であり、それ以外が、同一または相異なり、-CE1=である[項7]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項9]Y1が-S-である[項7]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項10]Y1が-S-であり、Y2およびY3が、同一または相異なり、-CE1=である[項9]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項11]Hetが式H4で示される基である[項5]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項12]Z1が-N=であり、Z2が-CE1=であり、かつ、Z3が-CE1=または-N=であるか、あるいは、Z1が-CE1=であり、Z2が-N=であり、かつ、Z3が-CE1=である[項11]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項13]Z1が-N=であり、Z2およびZ3が同一または相異なり-CE1=であるか、あるいは、Z2が-N=であり、Z1およびZ3が同一または相異なり-CE1=である[項12]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項14]Hetが式H5で示される基である[項5]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項15]Z1が-N=であり、Z2が-CE1=であり、かつ、Z3が-CE1=または-N=であるか、あるいは、Z1が-CE1=であり、Z2が-N=であり、かつ、Z3が-CE1=である[項14]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項16]Z1が-N=であり、Z2およびZ3が同一または相異なり-CE1=であるか、あるいは、Z2が-N=であり、Z1およびZ3が同一または相異なり-CE1=である[項15]に記載のヘテロ芳香環化合物。[項17]Hetが、窒素原子、および硫黄原子からなる群より選ばれる1個以上のヘテロ原子を含む5または6員へテロ芳香環でありここで、AおよびQはそれぞれ、該5または6員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Aが結合した原子とQが結合した原子とが該5または6員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該5または6員へテロ芳香環は、A及びQが結合した原子と共に、-CE1=、-N=および-S-からなる群より選ばれる3もしくは4個の原子または基から構成され、E1は1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基、水素原子またはハロゲン原子である。、Jが、式J1またはJ2R1およびR2が、同一または相異なり、C1-C3アルキル基であり、R3が、C1-C6鎖式炭化水素基であり、R4およびR5が、同一または相異なり、C1-C3アルキル基であり、R6が、C1-C6鎖式炭化水素基である。で示される基であり、Lが、単結合またはC1-C3アルキレン基であり、Aが単結合であり、Qが式Q1RxおよびRyが、水素原子である。で示される基であり、Gが、水素原子、ハロゲン原子、または、式G1、G2、G3もしくはG4{Raは、C1-C6鎖式炭化水素基であり、Rbは、C1-C6鎖式炭化水素基であり、Rcは、C1-C6鎖式炭化水素基であり、zが0、1または2であり、Rdが、C1-C6鎖式炭化水素基であり、Reが、C1-C6鎖式炭化水素基である。}で示される基であり、Dが-CH=であり、mが0である[項1]記載のヘテロ芳香環化合物。[項18]Hetが、窒素原子、および硫黄原子からなる群より選ばれる1個以上のヘテロ原子を含む5員へテロ芳香環でありここで、AおよびQはそれぞれ、該5員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Aが結合した原子とQが結合した原子とが該5員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該5員へテロ芳香環は、A及びQが結合した原子と共に、-CE1=、-N=および-S-からなる群より選ばれる3個の原子または基から構成され、E1は1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基、水素原子またはハロゲン原子である。、Jが、式J1R1およびR2が、同一または相異なり、C1-C3アルキル基であり、R3が、C1-C6鎖式炭化水素基である。で示される基であり、Lが、単結合またはC1-C3アルキレン基であり、Aが単結合であり、Qが式Q1RxおよびRyが、水素原子である。で示される基であり、Gが、水素原子、ハロゲン原子、または、式G2もしくはG3{Rbは、C1-C6鎖式炭化水素基であり、Rcは、C1-C6鎖式炭化水素基であり、zが0である。}で示される基であり、Dが-CH=であり、mが0である[項1]記載のヘテロ芳香環化合物。[項19][項1]~[項18]のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物と不活性担体とを含有する有害生物防除剤。[項20]有害生物を防除するための[項1]~[項18]のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物の使用。[項21][項1]~[項18]のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物の有効量を有害生物又は有害生物の生息場所に施用する工程を含む有害生物の防除方法。本発明化合物は、有害生物の防除に有用である。本明細書において用いられる用語について、以下に例を挙げて説明する。本発明化合物においてハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を意味する。本発明化合物において、E1で表される1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、およびジフルオロメチル基等が挙げられる。本発明化合物において、E2で表される1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、および2,2-ジフルオロエチル基等が挙げられる。本発明化合物においてC1-C3アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基およびトリフルオロメチル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基およびトリフルオロメチル基が挙げられる。本発明化合物においてC1-C6鎖式炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、2,2-ジメチルプロピル基、3-メチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、3,3-ジメチルブチル基およびヘキシル基等のC1-C6アルキル基;ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、イソプロペニル基、2-メチル-1-プロペニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、1-ペンテニル基および1-ヘキセニル基等のC2-C6アルケニル基;並びにエチニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、3,3-ジメチル-1-ブチニル基、1-ペンチニル基および1-ヘキシニル基等のC2-C6アルキニル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、2,2-ジメチルプロピル基、3-メチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、3,3-ジメチルブチル基ヘキシル基およびトリフルオロメチル基等の1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基;ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、イソプロペニル基、2-メチル-1-プロペニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、1-ペンテニル基および1-ヘキセニル基等のC2-C6アルケニル基および2,2-ジフルオロビニル基等の1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C6アルケニル基;並びにエチニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、3,3-ジメチル-1-ブチニル基、1-ペンチニル基、1-ヘキシニル基および2-クロロエチニル基等の1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C6アルキニル基が挙げられる。本発明化合物において<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、シアノメチル基およびシクロプロピルメチル基等の<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6アルキル基;2-プロペニル基等の<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC2-C6アルケニル基;並びにプロパルギル基および2-ブチニル基等の<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC2-C6アルキニル基が挙げられる。本発明化合物において<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等のC1-C6アルキル基;トリフルオロメチル基、シアノメチル基、シクロプロピルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、1-メトキシエチル基およびメチルチオメチル基等の<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有するC1-C6アルキル基;ビニル基、イソプロペニル基、1-プロペニル基、2-メチル-1-プロペニル基、2,2-ジクロロビニル基および2,2-ジフルオロビニル基等の<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC2-C6アルケニル基;並びにエチニル基、1-プロピニル基、2-クロロエチニル基、2-フルオロエチニル基および2-トリメチルシリルエチニル基等の<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC2-C6アルキニル基が挙げられる。本発明化合物において<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基およびtert-ブチル基等のC1-C6アルキル基;ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2-フルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,1-トリフルオロ-2-プロピル基、シアノメチル基、1-シアノエチル基、シクロプロピルメチル基、1-シクロプロピルエチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、1-メトキシエチル基、2-メトキシエチル基、メチルチオメチル基、メチルスルフィニルメチル基、メチルスルホニルメチル基、2-メチルチオエチル基、2-メチルスルフィニルエチル基、2-メチルスルホニルエチル基、2-メチルアミノエチル基、2-ジメチルアミノエチル基、ベンジル基、4-メトキシベンジル基、3,4-ジメトキシベンジル基および4-ニトロベンジル基等の<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有するC1-C6アルキル基;2-プロペニル基、2-ブテニル基および3-メチル-2-ブテニル基等の<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC3-C6アルケニル基;並びにプロパルギル基、2-ブチニル基および3-ブチニル基等の<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC2-C6アルキニル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキレン基としては、例えば-CH2-、-CHCl-、-CHF-、-CF2-、-CH2CH2-および-CH2CH2CH2-が挙げられる。本発明化合物においてC3-C9トリアルキルシリル基は、アルキル部分の炭素の総数が3~9のトリアルキルシリル基を意味し、各アルキル基は同一または異なっていてもよく、例えばトリメチルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、2,2,2-トリクロロエトキシ基および2,2,2-トリフルオロエトキシが挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキルアミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、sec-ブチルアミノ基、tert-ブチルアミノ基および2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C12ジアルキルアミノ基は、アルキル部分の炭素の総数が2~12である1個以上のハロゲン原子を有していてもよいジアルキルアミノ基を意味し、各アルキル基は同一または異なっていてもよく、例えばN,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-tert-ブチル-N-メチルアミノ基およびN-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基および2,2,2-トリフルオロエトキシ基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、tert-ブチルチオ基および2,2,2-トリフルオロエチルチオ基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルフィニル基としては、例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、sec-ブチルスルフィニル基、tert-ブチルスルフィニル基および2,2,2-トリフルオロエチルスルフィニル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルホニル基としては、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、sec-ブチルスルホニル基、tert-ブチルスルホニル基および2,2,2-トリフルオロエチルスルホニル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルアミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、sec-ブチルアミノ基、tert-ブチルアミノ基および2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C8ジアルキルアミノ基は、アルキル部分の炭素の総数が2~8である1個以上のハロゲン原子を有していてもよいジアルキルアミノ基を意味し、各アルキル基は同一または異なっていてもよく、例えばN,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-tert-ブチル-N-メチルアミノ基およびN-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基が挙げられる。本発明化合物においてフェニル基該フェニル基は、メチル基、メトキシ基、塩素原子およびニトロ基からなる群より選ばれる1個以上の基を有してもよい。は、メチル基、メトキシ基、塩素原子およびニトロ基からなる群から独立して選択される1以上の置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、例えばフェニル基、4-メトキシフェニル基、3,4-ジメトキシフェニル基、4-ニトロフェニル基、2-ニトロフェニル基、4-クロロフェニル基、2-クロロフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基および4-メチルフェニル基が挙げられる。本発明化合物において、Hetは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群より選ばれる1個以上特に1~4個のヘテロ原子を含む5または6員へテロ芳香環を表す。ここで、AおよびQはそれぞれ、該5または6員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Aが結合した原子とQが結合した原子とが該5または6員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。具体的には、下図で示すように、Hetが該6員へテロ芳香環の場合には、AおよびQが1,3位または1,4位の関係にあって1,2位の関係にはなく、また、Hetが該5員へテロ芳香環の場合にAおよびQが1,3位の関係にあって1,2位の関係にはないことを意味する。式中、AおよびQはは前記と同じ意味を表す。Hetで表される5または6員へテロ芳香環は、AおよびQが結合した原子と共に、-CE1=、-N=、-O-、-S-および-NE2-からなる群より選ばれる3もしくは4個の原子または基から構成され、E1は1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基、水素原子またはハロゲン原子を表し、E2は1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基を表す。、本発明化合物において、Hetで表される前記5または6員へテロ芳香環が-CE1=を2個以上含む場合に、各E1基は同一でも相異なっていてもよい。本発明化合物において、Hetで表される前記6員へテロ芳香環としては、式H1およびH2で示される環が挙げられる。以下、構造式の左側の印がAと結合する位置を表し、構造式の右側の印がQと結合する位置を表す。式中、X1、X2、X3およびX4は前記と同じ意味を表す。本発明化合物における6員へテロ芳香環の具体例を以下に示す。式中、E1は前記と同じ意味を表す。本発明化合物において、Hetで表される5員へテロ芳香環としては、式H3、H4およびH5で示される環が挙げられる。式中、Y1、Y2、Y3、Z1、Z2およびZ3は前記と同じ意味を表す。式H3における環の内側の○の表記は、5員へテロ芳香環を構成する2つの二重結合と2つの一重結合の配置として、下記に示す3つの配置を全て含んでいることを示している。式中、Y1、Y2及びY3は前記と同じ意味を表す。本発明化合物において、式H3で表される5員へテロ芳香環の具体例を以下に示す。式中、E1及びE2は前記と同じ意味を表す。本発明化合物において、式H4で表される5員へテロ芳香環の具体例を以下に示す。式中、E1は前記と同じ意味を表す。本発明化合物において、式H5で表される5員へテロ芳香環の具体例を以下に示す。式中、E1は前記と同じ意味を表す。本発明化合物としては、例えば以下のヘテロ芳香環化合物が挙げられる。[態様A]式1において、Hetが式H1またはH2で表される6員へテロ芳香環である化合物。[態様B]式1において、Hetが式H1またはH2で示される環であり、X1、X2、X3およびX4のうちの1つまたは2つが-N=であり、それ以外が-CE1=である化合物。[態様C]式1において、Hetが式H1またはH2で示される環であり、X1、X2、X3およびX4のうちの1つが-N=であり、それ以外が-CE1=である化合物。[態様D]式1において、Hetが式H1で示される環であり、X1、X2、X3およびX4のうちの1つまたは2つが-N=であり、それ以外が-CE1=である化合物。[態様E]式1において、Hetが式H1で示される環であり、X1、X2、X3およびX4のうちの1つが-N=であり、それ以外が-CE1=である化合物。[態様F]式1において、Hetが式H1で示される環であり、X1またはX2のいずれか一方が-N=であり、他方が-CE1=または-N=であり、X3およびX4が-CE1=である化合物。[態様G]式1において、Hetが式H1で示される環であり、X1が-N=であり、X2、X3およびX4が-CE1=である化合物。[態様H]式1において、Hetが式H1で示される環であり、X2が-N=であり、X1、X3およびX4が-CE1=である化合物。[態様I]式1において、Hetが式H3、H4またはH5で表される5員へテロ芳香環である化合物。[態様J]式1において、Hetが式H3で示される環である化合物。[態様K]式1において、Hetが式H3で示される環であり、Y1、Y2およびY3のうちの1つが-O-または-S-である化合物。[態様L]式1において、Hetが式H3で示される環であり、Y1、Y2およびY3のうちの1つが-S-である化合物。[態様M]式1において、Hetが式H3で示される環であり、Y1が-O-、-S-または-NE2-である化合物。[態様N]式1において、Hetが式H3で示される環であり、Y1が-O-または-S-である化合物。[態様O]式1において、Hetが式H3で示される環であり、Y1が-S-である化合物。[態様P]式1において、Hetが式H3で示される環であり、Y1が-S-であり、Y2およびY3のいずれか一方が-CE1=であり、他方がCE1=または-N=である化合物。[態様Q]式1において、Hetが式H3で示される環であり、Y1が-S-であり、Y2およびY3が-CE1=である化合物。[態様R]式1において、Hetが式H4で示される環である化合物。[態様S]式1において、Hetが式H4で示される環であり、Z1、Z2およびZ3のうちの1つまたは2つが-N=であり、それ以外が-CE1=である化合物。[態様T]式1において、Hetが式H4で示される環であり、Z1、Z2およびZ3のうちの1つが-N=であり、それ以外が-CE1=である化合物。[態様U]式1において、Hetが式H4で示される環であり、Z1が-N=であり、Z2が-CE1=であり、かつ、Z3が-CE1=または-N=であるか、あるいは、Z1が-CE1=であり、Z2が-N=であり、かつ、Z3が-CE1=である化合物。[態様V]式1において、Hetが式H4で示される環であり、Z1が-N=であり、Z2が-CE1=であり、Z3が-CE1=または-N=である化合物。[態様W]式1において、Hetが式H4で示される環であり、Z1およびZ2のいずれか一方が-N=であり、他方が-CE1=であり、Z3が-CE1=である化合物。[態様X]式1において、Hetが式H4で示される環であり、Z1が-N=であり、Z2およびZ3がCE1=である化合物。[態様Y]式1において、Hetが式H4で示される環であり、Z2が-N=であり、Z1およびZ3がCE1=である化合物。[態様Z]式1において、Hetが式H5で示される環である化合物。[態様AA]式1において、Hetが式H5で示される環であり、Z1、Z2およびZ3のうちの1つまたは2つが-N=であり、それ以外が-CE1=であ化合物。[態様AB]式1において、Hetが式H5で示される環であり、Z1、Z2およびZ3のうちの1つが-N=であり、それ以外が-CE1=である化合物。[態様AC]式1において、Hetが式H5で示される環であり、Z1が-N=であり、Z2が-CE1=であり、かつ、Z3が-CE1=または-N=であるか、あるいは、Z1が-CE1=であり、Z2が-N=であり、かつ、Z3が-CE1=である化合物。[態様AD]式1において、Hetが式H5で示される環であり、Z1が-N=であり、Z2が-CE1=であり、Z3が-CE1=または-N=である化合物。[態様AE]式1において、Hetが式H5で示される環であり、Z1およびZ2のいずれか一方が-N=であり、他方が-CE1=であり、Z3が-CE1=である化合物。[態様AF]式1において、Hetが式H5で示される環であり、Z1が-N=であり、Z2およびZ3がCE1=である化合物。[態様AG]式1において、Hetが式H5で示される環であり、Z2が-N=であり、Z1およびZ3がCE1=である化合物。[態様AH]下式で示される[項1]記載のヘテロ芳香環化合物。式中、各記号は前記と同じ意味を表す。[態様AI]下式で示される[項1]記載のヘテロ芳香環化合物。式中、各記号は前記と同じ意味を表す。また、本発明化合物としては、例えば以下のヘテロ芳香環化合物も挙げられる。[態様1]式1において、Qが式Q1で示される基である[項1]、[態様A]~[態様Z]および[態様AA]~[態様AI]のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。[態様2]式1において、Qが式Q2、Q3またはQ4で示される基である[項1]、[態様A]~[態様Y]および[態様AH]~[態様AI]のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。[態様3]式1において、Qが式Q2で示される基である[項1]、[態様A]~[態様Y]および[態様AH]~[態様AI]のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。[態様4]式1において、Qが式Q3で示される基である[項1]、[態様A]~[態様Y]および[態様AH]~[態様AI]のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。[態様5]式1において、Qが式Q4で示される基である[項1]、[態様A]~[態様Y]および[態様AH]~[態様AI]のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。[態様6]~[態様143]式1において、QとGとが表1~表6の組み合わせである[項1]、[態様A]~[態様Y]および[態様AH]~[態様AI]のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物;あるいは、式1において、QとGとが表1または表2の組み合わせである[態様Z]および[態様AA]~[態様AG]のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。なお、例えば、[態様6]は、式1において、Qが式Q1、Q2、Q3またはQ4で示される基であり、Gが水素原子、ハロゲン原子、式G1、G2、G3、またはG4で示される基である[項1]、[態様A]~[態様Z]および[態様AA]~[態様AI]のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。を表し、また、例えば、[態様52]は、式1において、Qが式Q2、Q3またはQ4で示される基であり、Gが水素原子、ハロゲン原子、式G1、G2、G3、またはG4で示される基である[項1]、[態様A]~[態様Y]および[態様AH]~[態様AI]のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。を表す。また、本発明化合物として、例えば、以下のヘテロ芳香環化合物も挙げられる。式1において、Dが-CH=である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様143]のいずれかに記載の化合物;式1において、Dが-N=である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様143]のいずれかに記載の化合物;式1において、Lが単結合または-CH2-であり、Aが単結合または-O-であり、Jが式J1またはJ2で示される基である、[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様143]のいずれかに記載の化合物;式1において、Lが単結合または-CH2-であり、Aが単結合または-O-であり、Jが式J1で示される基Jが式J1で示される基の場合に、R1およびR2はいずれもメチル基であり、R3は水素原子、メチル基、またはエチル基である。または式J2で示される基Jが式J2で示される基の場合に、R4、R5およびR6はいずれもメチル基である。である、[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様143]のいずれかに記載の化合物;式1において、Lが単結合であり、Aが単結合であり、Jが式J1で示される基Jが式J1で示される基の場合に、R1およびR2はいずれもメチル基であり、R3は水素原子、メチル基、またはエチル基である。または式J2で示される基Jが式J2で示される基の場合に、R4、R5およびR6はいずれもメチル基である。である、[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様143]のいずれかに記載の化合物;式1において、J-L-Aがtert-ブチル基である、[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様143]のいずれかに記載の化合物;式1において、Qが式Q1で示される基であり、かつ、RxおよびRyが同一または相異なり<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子であるか、Qが式Q2で示される基であるか、Qが式Q3で示される基であるか、あるいは、Qが式Q4で示される基であり、かつ、Rzが<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様6]~[態様28]のいずれかに記載の化合物;式1において、Qが式Q1で示される基であり、かつ、RxおよびRyが同一または相異なりメチル基または水素原子であるか、Qが式Q2で示される基であるか、Qが式Q3で示される基であり、かつ、yが0であるか、あるいは、Qが式Q4で示される基であり、かつ、Rzがメチル基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様6]~[態様28]のいずれかに記載の化合物;式1において、Qが式Q1で示される基であり、かつ、RxおよびRyが同一または相異なり<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]、[態様1]および[態様29]~[態様51]のいずれかに記載のヘテロ環化合物;式1において、Qが式Q1で示される基であり、かつ、RxおよびRyが同一または相異なりメチル基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]、[態様1]および[態様29]~[態様51]のいずれかに記載の化合物;式1において、Qが式Q2で示される基であるか、Qが式Q3で示される基であるか、あるいは、Qが式Q4で示される基であり、かつ、Rzが<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Y]、[態様AH]~[態様AI]、[態様2]および[態様52]~[態様74]のいずれかに記載の化合物;式1において、Qが式Q2で示される基であるか、Qが式Q3で示される基であり、かつ、yが0であるか、あるいは、Qが式Q4で示される基であり、かつ、Rzがメチル基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Y]、[態様AH]~[態様AI]、[態様2]および[態様52]~[態様74]のいずれかに記載の化合物;式1において、Qが式Q3で示される基であり、かつ、yが0である[項1]、[態様A]~[態様Y]、[態様AH]~[態様AI]、[態様4]および[態様98]~[態様120]のいずれかに記載の化合物;式1において、Qが式Q4で示される基であり、かつ、Rzが<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Y]、[態様AH]~[態様AI]、[態様5]および[態様121]~[態様143]のいずれかに記載の化合物;式1において、Qが式Q4で示される基であり、かつ、Rzがメチル基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Y]、[態様AH]~[態様AI]、[態様5]および[態様121]~[態様143]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが水素原子またはハロゲン原子であるか、Gが式G1で示される基であり、かつ、Raが<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、Gが式G2で示される基であり、かつ、Rbが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、Gが式G3で示される基であり、かつ、Rcが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、あるいは、Gが式G4で示される基であり、Rdが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であり、かつ、Reが、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gがハロゲン原子であるか、Gが式G1で示される基であり、かつ、Raが<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、Gが式G2で示される基であり、かつ、Rbが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、Gが式G3で示される基であり、かつ、Rcが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、あるいは、Gが式G4で示される基であり、Rdが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であり、かつ、Reが、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが式G1で示される基であり、かつ、Raが<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、Gが式G2で示される基であり、かつ、Rbが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、Gが式G3で示される基であり、かつ、Rcが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、あるいは、Gが式G4で示される基であり、Rdが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であり、かつ、Reが、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、2,2,2-トリフルオロエチルチオ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、2,2,2-トリフルオロエチルチオ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、2,2,2-トリフルオロエチルチオ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが式G2で示される基であり、かつ、Rbが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、あるいはGが式G3で示される基であり、かつ、Rcが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AH]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載のヘテロ環化合物;式1において、Gが、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基または2,2,2-トリフルオロエチルチオ基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが式G1で示される基であり、かつ、Raが<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、あるいは、Gが式G4で示される基であり、Rdが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であり、かつ、Reが、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが式G1で示される基であり、かつ、Raが<群β>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが、メチル基、エチル基、プロピル基またはイソプロピル基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが式G2で示される基であり、かつ、Rbが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基または2,2,2-トリフルオロエトキシ基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが式G3で示される基であり、かつ、Rcが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基または2,2,2-トリフルオロエチルチオ基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが式G4で示される基であり、Rdが<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であり、かつ、Reが、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物;式1において、Gが、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である[項1]、[態様A]~[態様Z]、[態様AA]~[態様AI]および[態様1]~[態様5]のいずれかに記載の化合物。また、本発明化合物として、例えば、以下のヘテロ芳香環化合物も挙げられる。式1x式中、Gzは、水素原子、C1-C3アルキル基メチル基、エチル基等、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基メトキシ基、エトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基等、C1-C6アルキルチオ基メチルチオ基、エチルチオ基等、C2~C8ジアルキルアミノ基N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基等、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子等を表し、Dは-N=または-CH=好ましくは、-CH=を表し、mは0または1好ましくは0を表す。で示される[項1記載のヘテロ芳香環化合物;式1xにおいて、Dが-CH=であり、mが0である[項1記載のヘテロ芳香環化合物;式1y式中、Gzは、水素原子、C1-C3アルキル基メチル基、エチル基等、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基メトキシ基、エトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基等、C1-C6アルキルチオ基メチルチオ基、エチルチオ基等、C2~C8ジアルキルアミノ基N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基等、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子等を表し、Dは-N=または-CH=好ましくは、-CH=を表し、mは0または1好ましくは0を表す。で示される[項1記載のヘテロ芳香環化合物;式1yにおいて、Dが-CH=であり、mが0である[項1記載のヘテロ芳香環化合物;式1z式中、Gzは、水素原子、C1-C3アルキル基メチル基、エチル基等、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基メトキシ基、エトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基等、C1-C6アルキルチオ基メチルチオ基、エチルチオ基等、C2~C8ジアルキルアミノ基N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基等、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子等を表し、Dは-N=または-CH=好ましくは、-CH=を表し、mは0または1好ましくは0を表す。で示される[項1記載のヘテロ芳香環化合物;式1zにおいて、Dが-CH=であり、mが0である[項1記載のヘテロ芳香環化合物。次に本発明化合物の製造法について説明する。本発明化合物は、例えば、以下の製造法1~製造法10にしたがって製造することができる。製造法1本発明化合物のうち、Hetが式H1、H2、H3またはH4で示される環であり、Qが式Q1で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、D、G、Rxおよびmは前記と同じ意味を表し、Het1は式H1、H2、H3またはH4で示される環を表し、Ry1は、<群α>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基またはシクロプロピル基を表し、Lg1は、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Lg2は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、または、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。5a→3化合物5aと金属マグネシウムとを反応させることによって生成するグリニャール反応剤を、式2で示されるアミド化合物と反応させることにより化合物3を製造することができる。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類が挙げられる。化合物5a1モルに対して、金属マグネシウムは通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。また、必要に応じて触媒量の活性化剤を加えて、金属マグネシウムを活性化させることができる。該活性化剤としては、例えば、ヨウ素、1,2-ジブロモエタンが挙げられる。化合物5aと金属マグネシウムとの反応における反応温度は、通常室温から用いる溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は、通常瞬時から1時間の範囲である。化合物5a1モルに対して化合物2は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。生成したグリニャール反応剤と化合物2との反応における反応温度は、通常-78°Cから溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、化合物3を単離することができる。3→7化合物3を還元することにより、化合物7を製造することができる。還元方法としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウムを用いる還元反応が挙げらる。化合物31モルに対して、水素化ホウ素ナトリウムは通常0.25モル~1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類が挙げられる。該反応における反応温度は、通常0°Cから溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常瞬時から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、化合物7を単離することができる。5a→7化合物5aをアルキルリチウム化合物と反応させた後に、生成する反応中間体と式6で示されるカルボニル化合物と反応させることにより、化合物7を製造することができる。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。該反応に用いられるアルキルリチウム化合物としては、例えば、ブチルリチウムが挙げられる。化合物5a1モルに対して、アルキルリチウム化合物は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。化合物5aとアルキルリチウム化合物との反応における反応温度は、通常-78°Cから-50°Cの範囲であり、反応時間は、通常瞬時から1時間の範囲である。化合物5a1モルに対して化合物6は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応中間体と化合物6との反応における反応温度は、通常-78°Cから30°Cの範囲であり、反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、反応混合物に水または塩化アンモニウム水溶液等を注加した後、有機溶媒で抽出し、通常の後処理操作を行うことにより、化合物7を単離することができる。4→7化合物4をリチオ化した後に、生成する反応中間体と式16で示されるカルボニル化合物と反応させることにより、化合物7を製造することができる。リチオ化に用いられるリチウム化合物としては、例えば、ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム等のアルキルリチウム化合物、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムテトラメチルピペリジド等のリチウムジアルキルアミド化合物が挙げられる。中でも、化合物4のうち、Gが-NHCOt-Buである化合物のリチオ化は、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミンTMEDAの存在下、ブチルリチウムを用いて行うことができる。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類が挙げられる。化合物41モルに対して、ブチルリチウムおよびTMEDAはそれぞれ通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。化合物4とブチルリチウムとの反応における反応温度は、通常-78°Cから30°Cの範囲であり、反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。該反応中間体と化合物16との反応における反応温度は、通常-78°Cから30°Cの範囲であり、反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、化合物7を単離することができる。7→1a本発明化合物1aは、化合物7を脱ヒドロキシ化することにより製造することができる。脱ヒドロキシ化の方法としては、例えば、接触水素還元反応などが挙げられる。接触水素還元反応は、溶媒および触媒の存在下、水素と反応させて行う。該反応に用いられる溶媒としては、例えば酢酸が挙げられる。また必要に応じて硫酸等の鉱酸を加えることができ、その場合のモル比は化合物71モルに対して、通常0.01モル~10モルである。該反応に用いられる触媒としては、例えば、パラジウム炭素等が挙げられる。該反応における、水素圧は通常1気圧から5気圧である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、ろ過によって触媒を除去した後、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1aを単離することができる。1a→1bさらに、本発明化合物1aとリチウムジイソプロピルアミド以下、LDAと記す。等の塩基とを反応させた後、Ry1-Lg2で示される化合物と反応させることにより、本発明化合物1bを製造することもできる。製造法2本発明化合物のうち、Hetが式H1、H2、H3またはH4で示される環であり、Qが式Q2で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、Het1、D、Gおよびmは前記と同じ意味を表し、Lg3は、ハロゲン原子を表す。本発明化合物1cは、化合物8と、化合物9とを、塩基、および、必要に応じて銅化合物の存在下反応させることにより製造することができる。1銅化合物を用いない場合:Lg3としては塩素原子またはフッ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げる。化合物81モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。化合物81モルに対して化合物9は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常20°Cから200°Cあるいは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1cを単離することができる。2銅化合物を用いる場合:Lg3としては臭素原子またはヨウ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げる。化合物81モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。銅化合物としては、銅粉末、酸化銅I、塩化銅I、臭化銅I、ヨウ化銅I等が挙げられる。化合物81モルに対して、銅化合物は通常0.01モル~10モルの割合で用いられる。化合物81モルに対して化合物9は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常50°Cから200°Cあるいは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1cを単離することができる。製造法3本発明化合物のうち、Hetが式H1、H2、H3またはH4で示される環であり、Qが式Q3で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、Het1、D、Gおよびmは前記と同じ意味を表し、Lg3は、ハロゲン原子を表し、y1は1または2を表す。本発明化合物1dは、化合物10と、化合物9とを、塩基、および、必要に応じて銅化合物の存在下反応させるか、あるいは、化合物5bと、化合物11とを、塩基、および、必要に応じて銅化合物の存在下反応させることにより製造することができる。1dの製造1銅化合物を用いない場合:Lg3としては塩素原子またはフッ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げる。化合物10または化合物111モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。化合物10または化合物111モルに対して化合物9または化合物5bは通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常20°Cから200°Cあるいは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1dを単離することができる。2銅化合物を用いる場合:Lg3としては臭素原子またはヨウ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げられる。化合物10または化合物111モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。銅化合物としては、銅粉末、酸化銅I、塩化銅I、臭化銅I、ヨウ化銅I等が挙げられる。化合物10または化合物111モルに対して、銅化合物は通常0.01モル~10モルの割合で用いられる。化合物10または化合物111モルに対して、化合物9または化合物5bは通常1モル用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常50°Cから200°Cあるいは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1dを単離することができる。1d→1eさらに、本発明化合物1dを、過酸化水素、メタクロロ過安息香酸以下、mCPBAと記す。、過ヨウ素酸ナトリウム等の酸化剤と反応させることにより、本発明化合物1eを製造することもできる。製造法4本発明化合物のうち、Hetが式H1、H2、H3またはH4で示される環であり、Qが式Q4で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、Het1、D、G、Rzおよびmは前記と同じ意味を表し、Lg3は、ハロゲン原子を表し、Lg4は、ハロゲン原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。本発明化合物1fは、化合物12と、化合物9とを、塩基、および、必要に応じてパラジウム触媒の存在下反応させるか、あるいは、化合物5cと、化合物13とを、塩基、および、必要に応じてパラジウム触媒の存在下反応させることにより製造することができる。1パラジウム触媒を用いない場合:Lg3およびLg4としては塩素原子またはフッ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、例えば、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。化合物12または化合物131モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。化合物12または化合物131モルに対して化合物9または化合物5cは通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常20°Cから、200°Cまたは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1fを単離することができる。2パラジウム触媒を用いる場合:Lg3およびLg4としては臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、例えば、ナトリウムtertブトキシド、炭酸セシウム等が挙げられる。化合物12または化合物131モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。該反応において用いられるパラジウム触媒としては、たとえば、{1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセン}ジクロロパラジウム、およびトリスジベンジリデンアセトンジパラジウム以下、Pd23と記す。と4,5-ビス-9,9-ジメチルキサンテン以下、キサントホスと記す。との組み合わせ、等が挙げられる。化合物12または化合物131モルに対して、パラジウム触媒は通常0.01~0.2モルの割合で用いられる。化合物12または化合物131モルに対して化合物9または化合物5cは通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常20°Cから100°Cの範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1fを単離することができる。製造法5本発明化合物のうち、Dが-N=であり、Hetが式H1、H2、H3またはH4で示される環であり、Qが式Q2、Q3またはQ4で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、Het1、Gおよびmは前記と同じ意味を表し、Qaは、式Q2、Q3またはQ4で示される基を表し、Lg3は、ハロゲン原子を表す。15の製造化合物15は、化合物14とジハロピリミジン化合物16とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。化合物16の2つのLg3は相異なっていてもよいが、2つのLg3がともに塩素原子である化合物が好ましい。該反応は、前記の製造法21、製造法31または製造法41に準じて行うことができる。15→1g本発明化合物1gは、化合物15を脱ハロゲン化することにより製造することができる。脱ハロゲン化の方法としては、例えば、接触水素還元反応などが挙げられる。接触水素還元反応は、溶媒および触媒の存在下、水素と反応させて行う。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、酢酸エチル等のエステル類、酢酸等のカルボン酸類および水が挙げられる。また必要に応じて塩基または酸を加えることができる。その場合のモル比は化合物151モルに対して、通常0.01モル~10モルである。該反応に用いられる塩基としては、例えば、酸化マグネシウム、水酸化ナトリウム、酢酸ナトリウム、トリエチルアミンが挙げられる。酸としては、例えば、硫酸、塩酸が挙げられる。該反応に用いられる触媒としては、例えば、パラジウム炭素が挙げられる。該反応における、水素圧は通常1気圧から5気圧である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、ろ過によって触媒を除去した後、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1gを単離することができる。製造法6本発明化合物のうち、Hetが式H5で示される環である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、Z1、Z2、Z3、Rx、Ry、D、Gおよびmは前記と同じ意味を表し、Lg2は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、または、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げられる。化合物171モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。化合物171モルに対して化合物18は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常20°Cから200°Cあるいは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1hを単離することができる。製造法7本発明化合物のうち、Gが式G2で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、Het、Q、D、Rbおよびmは前記と同じ意味を表し、Rb1は、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基を表し、Rb2は、OH基の保護基例えば、メチル基、メトキシメチル基、ベンジル基等を表し、Lg2は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、または、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。1i→1j’本発明化合物1j’は、本発明化合物1iとRb1OHとを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。該反応は、通常溶媒の存在下で行われるが、Rb1OHを溶媒量用いてもよい。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げられる。本発明化合物1i1モルに対して、Rb1OHが通常1~10モルの割合、塩基が通常1~10モルの割合で用いられる。該反応の反応温度は、通常0°C~溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1j’を単離することができる。1l→1k本発明化合物1kは、化合物1lを脱保護することにより製造することができる。保護基であるRb2としては、例えば、メチル基、メトキシメチル基およびベンジル基が挙げられ、当業者に公知の方法で脱保護することができる。1k→1j本発明化合物1jは、本発明化合物1kとRbLg2とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類等、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。本発明化合物1k1モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。本発明化合物1k1モルに対して、RbLg2は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応の反応温度は、通常0°C~溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常0.1時間から24時間である。反応終了後は、反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1jを単離することができる。なお、本発明化合物1jは本発明化合物1j’を包含する。製造法8本発明化合物のうち、Gが式G3で示される基である化合物の一部は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、Het、Q、Dおよびmは前記と同じ意味を表し、Rc1は、<群γ>より選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基を表す。本発明化合物1mは、本発明化合物1iとRc1SHとを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げられる。本発明化合物1i1モルに対して、Rc1SHが通常1~10モルの割合、塩基が通常1~10モルの割合で用いられる。該反応の反応温度は通常0°C~溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常0.1時間から24時間である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1mを単離することができる。この反応終了後、本発明化合物1mに対して、更に当業者に公知の酸化反応を行うことにより、本発明化合物1mにおける-SRc1を-Sz1Rc1この場合、z1は1または2を表すに変換することもできる。製造法9本発明化合物のうち、Gが式G4で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、Het、Q、D、Rd、Reおよびmは前記と同じ意味を表し、Lg2は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、または、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。1n→1o本発明化合物1oは、本発明化合物1nとRdLg2とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類等、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。本発明化合物1n1モルに対して、塩基は通常1モル~2モルの割合で用いられる。本発明化合物1n1モルに対して、RdLg2が通常1モルの割合で用いられるが適宜変更することができる。該反応の反応温度は通常0°C~溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1oを単離することができる。1o→1pさらに、本発明化合物1oに対して、上記に準じる方法でReLg2を反応させることにより、本発明化合物1pを製造することができる。また、RdまたはReが1級または2級アルキル基である場合には、上記の方法に代えて、本発明化合物1nまたは本発明化合物1oと、アルデヒドまたはケトン化合物とを還元剤の存在下反応させることにより、本発明化合物1oまたは本発明化合物1pを製造することもできる。該反応に用いられる還元剤としては、例えば、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムが挙げられる。本発明化合物1nまたは本発明化合物1o1モルに対して、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムは1~5モルの割合で用いられる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。また、必要に応じて酢酸等のカルボン酸類を加えて反応を行う。本発明化合物1nまたは本発明化合物1o1モルに対して、アルデヒドまたはケトン化合物は通常1モルの割合で用いられるが適宜変更することができる。該反応の反応温度は通常0°C~溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1oまたは本発明化合物1pを単離することができる。製造法10本発明化合物のうち、mが1である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、Het、Q、DおよびGは前記と同じ意味を表す。本発明化合物1rは、本発明化合物1qを酸化剤と反応させることにより製造することができる。該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、酢酸、水及びこれらの混合物が挙げられる。該反応に用いられる酸化剤としては、例えば3-クロロ過安息香酸等のカルボン酸の過酸化物、過酸化水素水等が挙げられる。本発明化合物1q1モルに対して、酸化剤が通常1~3モルの割合で用いられる。該反応の反応温度は、通常-20~100°Cの範囲であり、反応時間は通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1rを単離することができる。本発明化合物中には、例えば塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩、リン酸塩、炭酸塩、酢酸塩、乳酸塩、クエン酸塩などの酸付加塩を形成させ得る化合物も存在する。それらの酸付加塩の製造も常法に従うことができ、本発明はこれらの酸付加塩をも包含する。本発明化合物が効力を有する有害生物としては、例えば、有害昆虫類や有害ダニ類等の有害節足動物、線形動物及び軟体動物が挙げられる。かかる有害生物としては、具体的には、例えば、以下のものが挙げられる。半翅目害虫:ヒメトビウンカLaodelphaxstriatellus、トビイロウンカNilaparvatalugens、セジロウンカSogatellafurcifera等のウンカ類、ツマグロヨコバイNephotettixcincticeps、タイワンツマグロヨコバイNephotettixvirescens、チャノミドリヒメヨコバイEmpoascaonukii等のヨコバイ類、ワタアブラムシAphisgossypii、モモアカアブラムシMyzuspersicae、ダイコンアブラムシBrevicorynebrassicae、ユキヤナギアブラムシAphisspiraecola、チューリップヒゲナガアブラムシMacrosiphumeuphorbiae、ジャガイモヒゲナガアブラムシAulacorthumsolani、ムギクビレアブラムシRhopalosiphumpadi、ミカンクロアブラムシToxopteracitricidus、モモコフキアブラムシHyalopteruspruni等のアブラムシ類、アオクサカメムシNezaraantennata、ホソヘリカメムシRiptortusclavetus、クモヘリカメムシLeptocorisachinensis、トゲシラホシカメムシEysarcorisparvus、クサギカメムシHalyomorphamista等のカメムシ類、オンシツコナジラミTrialeurodesvaporariorum、タバココナジラミBemisiatabaci、ミカンコナジラミDialeurodescitri、ミカントゲコナジラミAleurocanthusspiniferus等のコナジラミ類、アカマルカイガラムシAonidiellaaurantii、サンホーゼカイガラムシComstockaspisperniciosa、シトラススノースケールUnaspiscitri、ルビーロウムシCeroplastesrubens、イセリヤカイガラムシIceryapurchasi、フジコナカイガラムシPlanococcuskraunhiae、クワコナカイガラムシPseudococcuslongispinis、クワシロカイガラムシPseudaulacaspispentagona等のカイガラムシ類、グンバイムシ類、トコジラミCimexlectularius等のトコジラミ類、及びキジラミ類等。鱗翅目害虫:ニカメイガChilosuppressalis、サンカメイガTryporyzaincertulas、コブノメイガCnaphalocrocismedinalis、ワタノメイガNotarchaderogata、ノシメマダラメイガPlodiainterpunctella、アワノメイガOstriniafurnacalis、ハイマダラノメイガHellulaundalis、シバツトガPediasiateterrellus等のメイガ類、ハスモンヨトウSpodopteralitura、シロイチモジヨトウSpodopteraexigua、アワヨトウPseudaletiaseparata、ヨトウガMamestrabrassicae、タマナヤガAgrotisipsilon,タマナギンウワバPlusianigrisigna,トリコプルシア属、ヘリオティス属、ヘリコベルパ属等のヤガ類、モンシロチョウPierisrapae等のシロチョウ類、アドキソフィエス属、ナシヒメシンクイGrapholitamolesta、マメシンクイガLeguminivoraglycinivorella,アズキサヤムシガMatsumuraesesazukivora、リンゴコカクモンハマキAdoxophyesoranafasciata、チャノコカクモンハマキAdoxophyeshonmai.、チャハマキHomonamagnanima、ミダレカクモンハマキArchipsfuscocupreanus、コドリンガCydiapomonella等のハマキガ類、チャノホソガCaloptiliatheivora、キンモンホソガPhyllonorycterringoneellaのホソガ類、モモシンクイガCarposinaniponensis等のシンクイガ類、リオネティア属等のハモグリガ類、リマントリア属、ユープロクティス属等のドクガ類、コナガPlutellaxylostella等のスガ類、ワタアカミムシPectinophoragossypiellaジャガイモガPhthorimaeaoperculella等のキバガ類、アメリカシロヒトリHyphantriacunea等のヒトリガ類、及びイガTineatranslucens、コイガTineolabisselliella等のヒロズコガ類等。アザミウマ目害虫:ミカンキイロアザミウマFrankliniellaoccidentalis、ミナミキイロアザミウマThripsparmi、チャノキイロアザミウマScirtothripsdorsalis、ネギアザミウマThripstabaci、ヒラズハナアザミウマFrankliniellaintonsaなどのアザミウマ類等。双翅目害虫:アカイエカCulexpipienspallens、コガタアカイエカCulextritaeniorhynchus、ネッタイイエカCulexquinquefasciatus等のイエカ類、ネッタイシマカAedesaegypti、ヒトスジシマカAedesalbopictus等のエーデス属、シナハマダラカAnophelessinensis等のアノフェレス属、ユスリカ類、イエバエMuscadomestica、オオイエバエMuscinastabulans等のイエバエ類、クロバエ類、ニクバエ類、ヒメイエバエ類、タネバエDeliaplatura、タマネギバエDeliaantiqua等のハナバエ類、イネハモグリバエAgromyzaoryzae、イネヒメハモグリバエHydrelliagriseola、トマトハモグリバエ、Liriomyzasativae、マメハモグリバエLiriomyzatrifolii、ナモグリバエChromatomyiahorticola等のハモグリバエ類、イネキモグリバエChloropsoryzae等のキモグリバエ類、ウリミバエDacuscucurbitae、チチュウカイミバエCeratitiscapitata等のミバエ類、ショウジョウバエ類、オオキモンノミバエMegaseliaspiracularis等のノミバエ類、オオチョウバエClogmiaalbipunctata等のチョウバエ類、ブユ類、ウシアブTabanustrigonus等のアブ類、及びサシバエ類等。鞘翅目害虫:ウエスタンコーンルートワームDiabroticavirgiferavirgifera、サザンコーンルートワームDiabroticaundecimpunctatahowardi等のコーンルートワーム類、ドウガネブイブイAnomalacuprea、ヒメコガネAnomalarufocuprea、マメコガネPopilliajaponica等のコガネムシ類、メイズウィービルSitophiluszeamais、イネミズゾウムシLissorhoptrusoryzophilus、アズキゾウムシCallosobruchuyschienensis、イネゾウムシEchinocnemussquameus、ワタミゾウムシAnthonomusgrandis、シバオサゾウムシSphenophorusvenatus等のゾウムシ類、チャイロコメノゴミムシダマシTenebriomolitor、コクヌストモドキTriboliumcastaneum等のゴミムシダマシ類、イネドロオイムシOulemaoryzae、ウリハムシAulacophorafemoralis、キスジノミハムシPhyllotretastriolata、コロラドハムシLeptinotarsadecemlineata等のハムシ類、ヒメマルカツオブシムシAnthrenusverbasci、ハラジロカツオブシムシDermestesmaculates等のカツオブシムシ類、タバコシバンムシLasiodermaserricorne等のシバンムシ類、ニジュウヤホシテントウEpilachnavigintioctopunctata等のエピラクナ類、ヒラタキクイムシLyctusbrunneus、マツノキクイムシTomicuspiniperda等のキクイムシ類、ナガシンクイムシ類、ヒョウホンムシ類、ゴマダラカミキリAnoplophoramalasiaca等のカミキリムシ類、コメツキムシ類Agriotesspp.、及びアオバアリガタハネカクシPaederusfuscipes等。直翅目害虫:トノサマバッタLocustamigratoria、ケラGryllotalpaafricana、コバネイナゴOxyayezoensis、ハネナガイナゴOxyajaponica、及びコオロギ類等。隠翅目害虫:ネコノミCtenocephalidesfelis、イヌノミCtenocephalidescanis、ヒトノミPulexirritans、ケオプスネズミノミXenopsyllacheopis等。シラミ目害虫:コロモジラミPediculushumanuscorporis、ケジラミPhthiruspubis、ウシジラミHaematopinuseurysternus、ヒツジジラミDalmaliniaovis、ブタジラミHaematopinussuis等。膜翅目害虫:イエヒメアリMonomoriumpharaosis、クロヤマアリFormicafuscajaponica、ルリアリOchetellusglaber、アミメアリPristomyrmexpungens、オオズアリPheidolenoda、ハキリアリAcromyrmexspp.、ファイヤーアントSolenopsisspp.等のアリ類、スズメバチ類、アリガタバチ類、カブラハバチAthaliarosae、ニホンカブラバチAthaliajaponica等のハバチ類等。ゴキブリ目害虫:チャバネゴキブリBlattellagermanica、クロゴキブリPeriplanetafuliginosa、ワモンゴキブリPeriplanetaamericana、トビイロゴキブリPeriplanetabrunnea、トウヨウゴキブリBlattaorientalis等。シロアリ目害虫:ヤマトシロアリReticulitermessperatus、イエシロアリCoptotermesformosanus、アメリカカンザイシロアリIncisitermesminor、ダイコクシロアリCryptotermesdomesticus、タイワンシロアリOdontotermesformosanus、コウシュンシロアリNeotermeskoshunensis、サツマシロアリGlyptotermessatsumensis、ナカジマシロアリGlyptotermesnakajimai、カタンシロアリGlyptotermesfuscus、コダマシロアリGlyptotermeskodamai、クシモトシロアリGlyptotermeskushimensis、オオシロアリHodotermopsisjaponica、コウシュウイエシロアリCoptotermesguangzhoensis、アマミシロアリReticulitermesmiyatakei、キアシシロアリReticulitermesflavicepsamamianus、カンモンシロアリReticulitermessp.、タカサゴシロアリNasutitermestakasagoensis、ニトベシロアリPericapritermesnitobei、ムシャシロアリSinocapritermesmushae、Reticuliterumesflavipes、Reticulitermeshesperus、Reticulitermesvirginicus、Reticulitermestibialis、Heterotermesaureus、Zootermopsisnevadensis等。ダニ目害虫:ナミハダニTetranychusurticae、カンザワハダニTetranychuskanzawai、ミカンハダニPanonychuscitriリンゴハダニPanonychusulmi、オリゴニカス属等のハダニ類、ミカンサビダニAculopspelekassi、リュウキュウミカンサビダニPhyllocoptrutacitri、トマトサビダニAculopslycopersici、チャノサビダニCalacaruscarinatus、チャノナガサビダニAcaphyllatheavagrans、ニセナシサビダニEriophyeschibaensis、リンゴサビダニAculusschlechtendali等のフシダニ類、チャノホコリダニPolyphagotarsonemuslatus等のホコリダニ類、ミナミヒメハダニBrevipalpusphoenicis等のヒメハダニ類、ケナガハダニ類、フタトゲチマダニHaemaphysalislongicornis、ヤマトチマダニHaemaphysalisflava、タイワンカクマダニDermacentortaiwanicus、ヤマトマダニIxodesovatus、シュルツマダニIxodespersulcatus、ブラックレッグドチックIxodesscapularis、オウシマダニBoophilusmicroplus、クリイロコイタマダニRhipicephalussanguineus等のマダニ類、ケナガコナダニTyrophagusputrescentiae、ホウレンソウケナガコナダニTyrophagussimilis等のコナダニ類、コナヒョウヒダニDermatophagoidesfarinae、ヤケヒョウヒダニDermatophagoidesptrenyssnus等のヒョウヒダニ類、ホソツメダニCheyletuseruditus、クワガタツメダニCheyletusmalaccensis、ミナミツメダニCheyletusmoorei等のツメダニ類、イエダニOrnithonyssusbacoti、トリサシダニOrnithonyssussylvairum、ワクモDermanyssusgallinae等のワクモ類、アオツツガムシLeptotrombidiumakamushi等のツツガムシ類、及びカバキコマチグモChiracanthiumjaponicum、セアカゴケグモLatrodectushasseltii等のクモ類等。唇脚綱類:ゲジThereuonemahilgendorfi、トビズムカデScolopendrasubspinipes等。倍脚綱類:ヤケヤスデOxidusgracilis、アカヤスデNedyopustambanus等。等脚目類:オカダンゴムシArmadillidiumvulgare等。腹足綱類:チャコウラナメクジLimaxmarginatus、キイロコウラナメクジLimaxflavus等。線虫類:イネシンガレセンチュウAphelenchoidesbesseyi、イチゴメセンチュウNothotylenchusacris、サツマイモネコブセンチュウMeloidogyneincognita、キタネコブセンチュウMeloidogynehapla、ジャワネコブセンチュウMeloidogynejavanica、ダイズシストセンチュウHeteroderaglycines、ジャガイモシストセンチュウGloboderarostochiensis、ミナミネグサレセンチュウPratylenchuscoffeae、ムギネグサレセンチュウPratylenchusneglectus等。本発明の有害生物防除剤は、本発明化合物と不活性担体とを含有する。本発明の有害生物防除剤は、通常、本発明化合物と固体担体、液体担体、ガス状担体等の不活性担体とを混合し、必要に応じて界面活性剤、その他の製剤用補助剤を添加して、乳剤、油剤、粉剤、粒剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル剤、エアゾール剤、燻煙剤、毒餌剤、樹脂製剤等に製剤化されている。本発明の有害生物防除剤は、本発明化合物を通常0.01~95重量含有する。製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等、合成含水酸化珪素、タルク、セラミック、その他の無機鉱物セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等、化学肥料硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等等の微粉末及び粒状物等があげられる。液体担体としては、例えば水、アルコール類メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、フェノキシエタノール等、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等、芳香族炭化水素類トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ドデシルベンゼン、フェニルキシリルエタン、メチルナフタレン等、脂肪族炭化水素類ヘキサン、シクロヘキサン、灯油、軽油等、エステル類酢酸エチル、酢酸ブチル、ミリスチン酸イソプロピル、オレイン酸エチル、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジイソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等、ニトリル類アセトニトリル、イソブチロニトリル等、エーテル類ジイソプロピルエーテル、1,4-ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノール等、酸アミド類N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等、ハロゲン化炭化水素類ジクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素等、スルホキシド類ジメチルスルホキシド等、炭酸プロピレン及び植物油大豆油、綿実油等が挙げられる。ガス状担体としては、例えばフルオロカーボン、ブタンガス、LPG液化石油ガス、ジメチルエーテル及び炭酸ガスが挙げられる。界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、等の非イオン界面活性剤、及びアルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等の陰イオン界面活性剤が挙げられる。その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤、着色剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、糖類でんぷん、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等、リグニン誘導体、ベントナイト、合成水溶性高分子ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等、PAP酸性リン酸イソプロピル、BHT2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール、BHA2-tert-ブチル-4-メトキシフェノールと3-tert-ブチル-4-メトキシフェノールとの混合物が挙げられる。本発明の有害生物防除方法は、本発明化合物の有効量を有害生物に直接、及び/又は、有害生物の生息場所植物体、土壌、家屋内、動物体等に施用することにより行われる。本発明の有害生物防除方法には、本発明化合物が通常本発明の有害生物防除剤の形態で用いられる。本発明の有害生物防除剤を農業分野の有害生物防除に用いる場合、その施用量は10000m2あたりの本発明化合物量で1~10000gである。本発明の有害生物防除剤が乳剤、水和剤、フロアブル剤等に製剤化されている場合は、通常、本発明化合物の濃度が0.01~10000ppmとなるように水で希釈して施用し、粒剤、粉剤等は、通常、そのまま施用する。これらの製剤や製剤の水希釈液は、有害生物または有害生物から保護すべき作物等の植物に直接散布処理してもよく、また耕作地の土壌に生息する有害生物を防除するために、該土壌に処理してもよい。また、シート状やひも状に加工した樹脂製剤を作物に巻き付ける、作物近傍に張り渡す、株元土壌に敷く等の方法により処理することもできる。本発明の有害生物防除剤を家屋内に生息する有害生物の防除に用いる場合、その施用量は、面上に処理する場合は処理面積1m2あたりの本発明化合物量で、通常、0.01~1000mgであり、空間に処理する場合は処理空間1m3あたりの本発明化合物量で、通常、0.01~500mgである。本発明の有害生物防除剤が乳剤、水和剤、フロアブル剤等に製剤化されている場合は、通常本発明化合物の濃度が0.1~1000ppmとなるように水で希釈して施用し、油剤、エアゾール剤、燻煙剤、毒餌剤等はそのまま施用する。本発明の有害生物防除剤は、下記作物が栽培されている農地で使用することができる。農作物:トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等。野菜;ナス科野菜ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等、ウリ科野菜キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等、アブラナ科野菜ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等、キク科野菜ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等、ユリ科野菜ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス、セリ科野菜ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等、アカザ科野菜ホウレンソウ、フダンソウ等、シソ科野菜シソ、ミント、バジル等、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等。果樹:仁果類リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等、核果類モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等、カンキツ類ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等、堅果類クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等、液果類ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。果樹以外の樹木:チャ、クワ、花木類サツキ、ツバキ、アジサイ、サザンカ、シキミ、サクラ、ユリノキ、サルスベリ、キンモクセイ等、街路樹トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ、カナメモチ、等。芝生:シバ類ノシバ、コウライシバ等、バミューダグラス類ギョウギシバ等、ベントグラス類コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等、ブルーグラス類ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等、フェスク類オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等、ライグラス類ネズミムギ、ホソムギ等、カモガヤ、オオアワガエリ等。その他:花卉類バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、シンビジューム、ベゴニア等、バイオ燃料植物ヤトロファ、クルカス、ベニバナ、アマナズナ類、スイッチグラス、ミスカンサス、クサヨシ、ダンチク、ケナフ、キャッサバ、ヤナギ、藻類等、観葉植物等。作物には、遺伝子組換え作物も含まれる。本発明の有害生物防除剤は、他の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物成長調節剤、除草剤及び共力剤と混用又は併用することができる。かかる殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤及び共力剤の有効成分の例を以下に示す。殺虫剤の有効成分1カーバメート系化合物アラニカルブAlanycarb、アルジカルブAldicarb、ベンダイオカルブBendiocarb、ベンフラカルブBenfuracarb、ブトカルボキシムButocarboxim、ブトキシカルボキシムButoxycarboxim、カルバリルCarbaryl=NAC、カルボフランCarbofuran、カルボスルファンCarbosulfan、クロエトカルブCloethocarb、エチオフェンカルブEthiofencarb、フェノブカルブFenobucarb=BPMC、フェノチオカルブFenothiocarb、フォルメタネートFormetanate、フラチオカルブFurathiocarb、イソプロカルブIsoprocarb=MIPC、メチオカルブMethiocarb、メソミルMethomyl、メトルカルブMetolcarb、オキサミルOxamyl、ピリミカーブPirimicarb、プロポキスルPropoxur:PHC、チオジカルブThiodicarb、チオファノクスThiofanox、トリアザメートTriazamate、トリメサカルブTrimethacarb、XMC、及びキシリルカルブXylylcarb。2有機リン系化合物アセフェートAcephate、アザメチホスAzamethiphos、アジンホスエチルAzinphos-ethyl、アジンホスメチルAzinphos-methyl、カズサホスCadusafos、クロルエトキシホスChlorethoxyfos、クロルフェンビンホスCh1orfenvinphos、クロルメフォスChlormephos、クロルピリホスChlorpyrifos、クロルピリホスメチルChlorpyrifos-methyl、クマフォスCoumaphos、シアノホスCyanophos=CYAP、デメトン-S-メチルDemeton-S-methyl、ダイアジノンDiazinon、ジクロルボスDichlorvos=DDVP、ジクロトホスDicrotophos、ジメトエートDimethoate、ジメチルビンホスDimethylvinphos、ジスルホトンDisulfoton、EPN、エチオンEthion、エトプロホスEthoprophos、エトリムホスEtrimfos、ファムファーFamphur、フェナミホスFenamiphos、フエニトロチオンFenitrothion=MEP、フェンチオンFenthion=MPP、ホスチアゼートFosthiazate、ヘプテノホスHeptenophos、イミサイホスImicyfos、イソフェンホスIsofenphos、IsopropylO-methoxyaminothio-phosphorylsalicylate、イソキサチオンIsoxathion、マラチオンMalathion、メカルバムMecarbam、メスルフェンホスMesulfenfos、メタミドホスMethamidophos、メチダチオンMethidathion=DMTP、メビンホスMevinphos、モノクロトホスMonocrotophos、ナレッドNaled:BRP、オメトエートOmethoate、オキシデメトンメチルOxydemeton-methyl、パラチオンParathion、メチルパラチオンParathion-methyl、フェントエートPhenthoate=PAP、フォレートPhorate、ホサロンPhosalone、ホスメットPhosmet=PMP、フォスファミドンPhosphamidon、ホキシムPhoxim、ピリミホスメチルPirimiphos-methy1、プロフェノホスProfenofos、プロペタムホスPropetamphos、プロチオホスProthiofos、ピラクロホスPyraclorfos、ピリダフェンチオンPyridafenthion、キナルホスQuinalphos、スルフォテップSulfotep、テブピリムホスTebupirimfos、テメホスTemephos、テルブホスTerbufos、テトラクロルビンホスTetrach1orvinphos、チオメトンThiometon、トリアゾホスTriazophos、トリクロルホンTrichlorphon=DEP、バミドチオンVamidothion、リン化アルミニウムAluminiumphosphide、ブタチオホスButathiofos、DCIPDichlorodiisopropylether、ジクロフェンチオンDichlofenthion=ECP、ホルモチオンFormothion、リン化水素Hydrogenphosphide、オキシデプロホスOxydeprofos=ESP、プロパホスPropaphos、サリチオンSalithion、及びスルプロホスSulprofos。3ピレスロイド化合物アクリナトリンAcrinathrin、アレスリンAllethrin、ベンフルスリンBenfluthrin、ベータ-シフルトリンBeta-Cyfluthrin、ビフェントリンBifenthrin、シクロプロトリンCycloprothrin、シフルトリンCyfluthrin、シハロトリンCyhalothrin、シペルメトリンCypermethrin、デルタメトリンDeltamethrin、エスフェンバレレートEsfenvalerate、エトフェンプロックスEthofenprox、フェンプロパトリンFenpropathrin、フェンバレレートFenvalerate、フルシトリネートFlucythrinate、フルフェンプロックスFlufenoprox、フルメスリンFlumethrin、フルバリネートFluvalinate、ハルフェンプロックスHalfenprox、イミプロトリンImiprothrin、ペルメトリンPermethrin、プラレトリンPrallethrin、ピレトリンPyrethrins、レスメトリンResmethrin、シグマ-サイパーメスリンsigma-Cypermethrin、シラフルオフェンSilafluofen、テフルトリンTefluthrin、トラロメトリンTralomethrin、トランスフルトリンTransfluthrin、テトラメトリンTetramethrin、フェノトリンPhenothrin、シフェノトリンCyphenothrin、アルファシペルメトリンalpha-Cypermethrin、ゼータシペルメトリンzeta-Cypermethrin、ラムダシハロトリンlambda-Cyhalothrin、ガンマシハロトリンgamma-Cyhalothrin、フラメトリンFuramethrin、タウフルバリネートtau-Fluvalinate、メトフルトリンMetofluthrin、プロフルトリンProfluthrin、ジメフルトリンDimefluthrin、プロトリフェンビュートProtrifenbute、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メトキシメチルベンジルEZ-1RS,3RS;1RS,3SR-2,2-ジメチル-3-プロプ-1-エニルシクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メチルベンジルEZ-1RS,3RS;1RS,3SR-2,2-ジメチル-3-プロプ-1-エニルシクロプロパンカルボキシレート、及び2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メトキシメチルベンジル1RS,3RS;1RS,3SR-2,2-ジメチル-3-2-メチル-1-プロペニルシクロプロパンカルボキシレート等。4ネライストキシン化合物カルタップCartap、ベンスルタップBensu1tap、チオシクラムThiocyclam、チオスルタップThisultap、モノスルタップMonosultap、及びビスルタップBisultap。5ネオニコチノイド化合物イミダクロプリドImidac1oprid、ニテンピラムNitenpyram、アセタミプリドAcetamiprid、チアメトキサムThiamethoxam、チアクロプリドThiacloprid、ジノテフランDinotefuran、及びクロチアニジンClothianidin。6ベンゾイル尿素化合物ビストリフルロンBistrifluron、クロルフルアズロンChlorfluazuron、ジフルベンズロンDiflubenzuron、フルシクロクスロンFlucycloxuron、フルフェノクスロンFlufenoxuron、ヘキサフルムロンHexaflumuron、ルフェヌロンLufenuron、ノバルロンNovaluron、ノビフルムロンNoviflumuron、テフルベンズロンTeflubenzuron、トリフルムロンTriflumuron、及びフルアズロンfluazuron。7フェニルピラゾール化合物アセトプロールAcetoprole、エチプロールEthiprole、フィプロニルFiproni1、バニリプロールVaniliprole、ピリプロールPyriprole、及びピラフルプロールPyrafluprole。8Btトキシン殺虫剤バチルスチューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物。9ヒドラジン化合物クロマフェノジドChromafenozide、ハロフェノジドHalofenozide、メトキシフェノジドMethoxyfenozide、及びテブフェノジドTebufenozide。10有機塩素化合物アルドリンAldrin、ディルドリンDieldrin、ジエノクロルDienochlor、エンドスルファンEndosulfan、メトキシクロルMethoxychlor、クロルデンChlordane、及びDDT。11その他の殺虫剤有効成分マシン油Machineoil、硫酸ニコチンNicotine-sulfate、ニコチンNicotine、アバメクチンAbamectin、エマメクチン安息香酸塩Emamectin-benzoate、ミルベメクチンMilbemectin、レピメクチンLepimectin、スピノサッドSpinosad、スピネトラムSpinetoram、インドキサカルブIndoxacarb、メタフルミゾンMetaflumizone、ブプロフェジンBuprofezin、シロマジンCyromazine、ハイドロプレンHydroprene、メトプレンMethoprene、キノプレンKinoprene、ピリプロキシフェンPyriproxyfen、フェノキシカルブFenoxycarb、クロルフェナピルChlorphenapyr、DNOC、ジアフェンチウロンDiafenthiuron、ピメトロジンPymetrozine、フロニカミドFlonicamid、ピリフルキナゾンPyrifluquinazone、ピリダリルPyridalyl、トルフェンピラドTolfenpyrad、フルリムフェンFlurimfen、フルフェネリムFlufenerim、スピロテトラマットSpirotetramat、スピロメシフェンSpiromesifen、スルフォキサフロールsulfoxaflor、クロラントラニリプロールChlorantraniliprole、シアントラニリプロールCyantraniliprole、フルベンジアミドFlubendiamide、下記式K:式中、R100は塩素原子、臭素原子またはトリフルオロメチル基を表し、R200は塩素原子、臭素原子またはメチル基を表し、R300は塩素原子、臭素原子またはシアノ基を表す。で示される化合物、下記式L:式中、R1000は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。で示される化合物、メトキサジアゾンMetoxadiazone、スルフラミドSulfluramid、亜ヒ酸Arsenicacid、ベンクロチアズBenclothiaz、石灰窒素Calciumcyanamide、石灰硫黄合剤Calciumpolysulfide、メタムアンモニウムMetam-ammonium、メタムナトリウムMetam-sodium、オレイン酸カリウムPotassiumoleate、硫黄Sulfur、及びトラロピリルTralopyril。殺ダニ剤の有効成分アセキノシルAcequinocyl、アミトラズAmitraz、ベンゾキシメートBenzoximate、ビフェナゼートBifenaate、ブロモプロピレートBromopropylate、キノメチオネートChinomethionat、クロルベンジレートChlorobenzilate、CPCBSChlorfenson、クロフェンテジンClofentezine、シフルメトフェンCyflumetofen、ジコホルDicofol、エトキサゾールEtoxazole、フェナザキンFenazaquin、酸化フェンブタスズFenbutatinoxide、フェノチオカルブFenothiocarb、フェンピロキシメートFenpyroximate、フルアクリピリムFluacrypyrim、ヘキシチアゾクスHexythiazox、プロパルギットPropargite=BPPS、ポリナクチン複合体Polynactins、ピリダベンPyridaben、ピリミジフェンPyrimidifen、テブフェンピラドTebufenpyrad、テトラジホンTetradifon、スピロジクロフェンSpirodiclofen、アミドフルメットAmidoflumet、及びシエノピラフェンcyenopyrafen。殺線虫剤の有効成分臭化メチルMethylbromide、D-D1,3-Dichloropropene、DCIP、フォスチアゼートFosthiazate、塩酸レバミゾールLevamisol、メチルイソチオシアネートMethyisothiocyanate、酒石酸モランテルMoranteltartarate、及びイミシアホスImicyafos。殺菌剤の有効成分アザコナゾールAzaconazole、ビテルタノールBitertanol、ブロムコナゾールBromuconazole、シプロコナゾールCyproconazole、ジフェノコナゾールDifenoconazole、ジニコナゾールMDiniconazole-M、エポキシコナゾールEpoxiconazole、フェナリモルFenarimolフェンブコナゾールFenbuconazole、フルシラゾールFlusilazole、フルキンコナゾールFluquinconazole、フルトリアホールFlutriafol、ヘキサコナゾールHexaconazole、イマザリルImazalil、イミベンコナゾールImibenconazole、イプコナゾールIpconazole、メトコナゾールMetconazole、ミクロブタニルMyclobutanil、ヌアリモルNuarimol、オキスポコナゾールOxpoconazole、ペフラゾエートPefurazoate、ペンコナゾールPenconazole、プロクロラズProchloraz、プロピコナゾールPropiconazole、プロチオコナゾールProthioconazole、ピリフェノクスPyrifenox、シメコナゾールSimeconazole、テブコナゾールTebuconazole、テトラコナゾールTetraconazole、トリアジメホンTriadimefon、トリアジメノールTriadimenol、トリフルミゾールTriflumizole、トリホリンTrifolin、トリティコナゾールTriticonazole、アルジモルフAldimorph、ドデモルフDodemorph、フェンプロピモルフFenpropimorph、トリデモルフTridemorph、フェンプロピジンFenpropidin、ピペラリンPiperalin、スピロキサミンSpiroxamine、フェンヘキサミドFenhexamide、ピリブチカルブPyributicarb、ナフチフィンNaphtifine、テルビナフィンTerbinafine等のステロール生合成阻害化合物;ベノミルBenomyl、カルベンダジムCarbendezim、フベリダゾールFuberidazole、チアベンダゾールThiabendazole、チオファネートThiphanate、チオファネートメチルthiophanate-methyl、ジエトフェンカルブDiethofencarb、ゾキサミドZoxamideペンシクロンPencycuron、フルオピコリドFluopicolide等の細胞分裂阻害殺菌化合物;クロゾリネートChlozolinate、イプロジオンIprodione、プロシミドンProcymidone、ビンクロゾリンVinclozolin、キノキシフェンQuinoxyfen、プロキナジドProquinazid、フェンピクロニルFenpiclonil、フルジオキソニルFludioxonil等のシグナル伝達系阻害殺菌化合物;シプロジニルcyprodinil、ピリメタニルpyrimethanil、メパニピリムMepanipyrim等のアミノ酸生合成阻害殺菌化合物;メタラキシルMetalaxyl、ベナラキシルBenalaxyl、オキソリニック酸Oxolinicacid等の核酸生合成阻害殺菌化合物;イソプロチオランIsoprothiolane、イプロベンホスIprobenfos、トルクロホスメチルTolclofos-methyl、プロチオカルブProthiocarb、ジメトモルフDimethomorph、ベンチアバリカルブイソプロピルBenthiavalicarb-isopropyl、イプロバリカルブIprovalicarb、マンジプロパミドMandipropamid等の脂質膜合成阻害殺菌化合物;ジクロシメットDiclocymet、カルプロパミドCarpropamid、フェノキサニルFenoxanil、フサライドFthalide、トリシクラゾールTricyclazole、ピロキロンPyroquilon等のメラニン生合成阻害殺菌化合物;アゾキシストロビンAzoxystrobin、ジモキシストロビンDimoxystrobin、エネストロビンEnestrobin、フルオキサストロビンFluoxastrobin、クレソキシムメチルKresoxim-methyl、メトミノストロビンMetominostrobin、オリサストロビンOrysastrobin、ピコキシストロビンPicoxystrobin、ピラクロストロビンPyraclostrobin、ピリベンカルブPyribencarbトリフロキシストロビンTrifloxystrobin等のストロビルリン殺菌化合物;カルボキシンCarboxin、オキシカルボキシンOxycarboxin、メプロニルMepronil、フルトラニルFlutoranil、フラメトピルFurametopyr、チフルザミドThifluzamide、ボスカリドBoscalid、ペンチオピラドPenthiopyrad、フルオピラムFluopyram、ビキサフェンBixafen、イソピラザムIsopyrazam、ペンフルフェンPenflufen、セダキサンSedaxan、フルキサピロキサドFluxapyroxad等のアニリド系殺菌化合物;アシベンゾラールSメチルAcibenzolar-S-methyl、プロベナゾールProbenazole、チアジニルTiadinil、イソチアニルIsotianil等の抵抗性誘導化合物;バリダマイシンAValidamycinA、ポリオキシンBPolyoxinB等のグルカン合成阻害殺菌化合物;ブラストサイジンSBlastcidin-S、カスガマイシンKasugamycin、ストレプトマイシンStreptomycin等のタンパク質生合成阻害殺菌化合物;チウラムThiuram、マンコゼブMancozeb、クロロタロニルChlorothalonil、キャプタンCaptan、ジクロフルアニドDichlofluanid、フォルペットFolpet、イミノクタジンIminoctadine、ジラムZiram等のマルチサイト接触活性の殺菌化合物;アミスルブロムAmisulbrom;シアゾファミドCyazofamid;フェリムゾンFerimzone;フルアジナムFluazinam;ビナパクリルBinapacryl;ジノカップDinocap;ファモキサドンFamoxadone;フェナミドンFenamidone;エタボキサムEthaboxam;メトラフェノンMetrafenone;シフルフェナミドCyflufenamid等。除草剤の有効成分1フェノキシ脂肪酸除草性化合物2,4-PA、MCP、MCPB、フェノチオールPhenothio1、メコプロップMecoprop、フルロキシピルFluroxypyr、トリクロピルTriclopyr、クロメプロップClomeprop、及びナプロアニリドNaproanilide。2安息香酸除草性化合物2,3,6-TBA、ジカンバDicamba、クロピラリドClopyralid、ピクロラムPicloram、アミノピラリドAminopyralid、キンクロラックQuinclorac、及びキンメラックQuinmerac。3尿素除草性化合物ジウロンDiuron、リニュロンLinuron、クロルトルロンChlortoluron、イソプロツロンIsoproturon、フルオメツロンFluometuron、イソウロンIsouron、テブチウロンTebuthiuron、メタベンズチアズロンMethabenzthiazuron、クミルロンCumy1uron、ダイムロンDaimuron、及びメチルダイムロンMethyl-daimuron。4トリアジン除草性化合物アトラジンAtrazine、アメトリンAmetoryn、シアナジンCyanazine、シマジンSimazine、プロパジンPropazine、シメトリンSimetryn、ジメタメトリンDimethametryn、プロメトリンPrometryn、メトリブジンMetribuzin、トリアジフラムTriaziflam、及びインダジフラムIndaziflam。5ビピリジニウム除草性化合物パラコートParaquat、及びジクワットDiquat。6ヒドロキシベンゾニトリル除草性化合物ブロモキシニルBromoxynil、及びアイオキシニルIoxynil。7ジニトロアニリン除草性化合物ペンディメタリンPendimethalin、プロジアミンProdiamine、及びトリフルラリンTrifluralin。8有機リン除草性化合物アミプロホスメチルAmiprofos-methyl、ブタミホスButamifos、ベンスリドBensu1ide、ピペロホスPiperophos、アニロホスAnilofos、グリホサートGlyphosate、グルホシネートGlufosinate、グルホシネート-PGlufosinate-P、及びビアラホスBialaphos。9カーバメート除草性化合物ジアレートDi-allate、トリアレートTri-allate、EPTC、ブチレートButylate、ベンチオカーブBenthiocarb、エスプロカルブEsprocarb、モリネートMolinate、ジメピペレートDimepiperate、スエップSwep、クロルプロファムChlorpropham、フェンメディファムPhenmedipham、フェニソファムPhenisopham、ピリブチカルブPyributicarb、及びアシュラムAsulam。10酸アミド除草性化合物プロパニルPropanil、プロピザミドPropyzamide、ブロモブチドBromobutide、及びエトベンザニドEtobenzanid。11クロロアセトアニリド除草性化合物アセトクロールAcetochlor、アラクロールAlachlor、ブタクロールButachlor、ジメテナミドDimethenamid、プロパクロールPropachlor、メタザクロールMetazachlor、メトラクロールMetolachlor、プレチラクロールPretilachlor、テニルクロールTheny1ch1or、及びペトキサミドPethoxamid。12ジフェニルエーテル除草性化合物アシフルオルフェンAcifluorfen-sodium、ビフェノックスBifenox、オキシフルオルフェンOxyfluorfen、ラクトフェンLactofen、フォメサフェンFomesafen、クロメトキシニルChlomethoxyni1、及びアクロニフェンAclonifen。13環状イミド除草性化合物オキサジアゾンOxadiazon、シニドンエチルCinidon-ethyl、カルフェントラゾンエチルCarfentrazone-ethyl、スルフェントラゾンSurfentrazone、フルミクロラックペンチルFlumiclorac-pentyl、フルミオキサジンFlumioxazin、ピラフルフェンエチルPyraflufen-ethyl、オキサジアルギルOxadiargy1、ペントキサゾンPentoxazone、フルチアセットメチルFluthiacet-methyl、ブタフェナシルButafenacil、ベンズフェンジゾンBenzfendizone、ベンカルバゾンBencarbazone、及びサフルフェナシルSaflufenacil。14ピラゾール除草性化合物ベンゾフェナップBenzofenap、ピラゾレートPyrazo1ate、ピラゾキシフェンPyrazoxyfen、トプラメゾンTopramezone、及びピラスルホトールPyrasulfotole。15トリケトン除草性化合物イソキサフルトールIsoxaflutole、ベンゾビシクロンBenzobicyclon、スルコトリオンSulcotrione、メソトリオンMesotrione、テンボトリオンTembotrione、及びテフリルトリオンTefuryltrione。16アリールオキシフェノキシプロピオン酸除草性化合物クロジナホッププロパルギルClodinafop-propargyl、シハロホップブチルCyhalofop-butyl、ジクロホップメチルDiclofop-methyl、フェノキサプロップエチルFenoxaprop-ethyl、フルアジホップブチルFluazifop-butyl、ハロキシホップメチルHaloxyfop-methyl、キザロホップエチルQuizalofop-ethyl、及びメタミホップMetamifop。17トリオンオキシム除草性化合物アロキシジムAlloxydim-sodium、セトキシジムSethoxydim、ブトロキシジムButroxydim、クレソジムClethodim、クロプロキシジムCloproxydim、シクロキシジムCycloxydim、テプラロキシジムTepraloxydim、トラルコキシジムTralkoxydim、及びプロフォキシジムProfoxydim。18スルホニル尿素除草性化合物クロルスルフロンChlorsulfuron、スルホメツロンメチルSulfometuron-methyl、メトスルフロンメチルMetsu1furon-methy1、クロリムロンエチルChlorimuron-ethyl、トリベニュロンメチルTribenuron-methyl、トリアスルフロンTriasulfuron、ベンスルフロンメチルBensulfuron-methy1、チフェンスルフロンメチルThifensulfuron-methyl、ピラゾスルフロンエチルPyrazosulfuron-ethy1、プリミスルフロンメチルPrimisulfuron-methyl、ニコスルフロンNicosulfuron、アミドスルフロンAmidosulfuron、シノスルフロンCinosulfuron、イマゾスルフロンImazosulfuron、リムスルフロンRimsulfuron、ハロスルフロンメチルHa1osulfuron-methy1、プロスルフロンProsulfuron、エタメトスルフロンメチルEthametsulfuron-methyl、トリフルスルフロンメチルTriflusulfuron-methyl、フラザスルフロンFlazasulfuron、シクロスルファムロンCyc1osulfamuron、フルピルスルフロンFlupyrsulfuron、スルホスルフロンSulfosu1furon、アジムスルフロンAzimsulfuron、エトキシスルフロンEthoxysulfuron、オキサスルフロンOxasulfuron、ヨードスルフロンメチルナトリウムIodosulfuron-methyl-sodium、フォラムスルフロンForamsulfuron、メソスルフロンメチルMesosulfuron-methyl、トリフロキシスルフロンTrifloxysulfuron、トリトスルフロンTritosulfuron、オルソスルファムロンorthosulfamuron,フルセトスルフロンFlucetosulfuron、及びプロピリスルフロンPropyrisulfuron。19イミダゾリノン除草性化合物イマザメタベンズメチルImazamethabenz-methyl、イマザメタピルImazamethapyr、イマザモックスImazamox、イマザピルImazapyr、イマザキンImazaquin、イマゼタピルImazethapyr等。20スルホンアミド除草性化合物フルメトスラムFlumetsulam、メトスラムMetosulam、ジクロスラムDiclosulam、フロラスラムFlorasulam、クロランスラムメチルCloransulam-methyl、ペノキススラムPenoxsulam、及びピロキススラムPyroxsulam。21ピリミジニルオキシ安息香酸除草性化合物ピリチオバックナトリウムPyrithiobac-sodium、ビスピリバックナトリウムBispyribac-sodium、ピリミノバックメチルPyriminobac-methy1、ピリベンゾキシムPyribenzoxim、ピリフタリドPyriftalid、及びピリミスルファンPyrimisulfan。22その他の除草性化合物ベンタゾンBentazon、ブロマシルBromacil、ターバシルTerbacil、クロルチアミドChlorthiamid、イソキサベンIsoxaben、ジノセブDinoseb、アミトロールAmitrole、シンメチリンCinmethylin、トリジファンTridiphane、ダラポンDa1apon、ジフルフェンゾピルナトリウムDiflufenzopyr-sodium、ジチオピルDithiopyr、チアゾピルThiazopyr、フルカルバゾンナトリウムFlucarbazone-sodium、プロポキシカルバゾンナトリウムPropoxycarbazone-sodium、メフェナセットMefenacet、フルフェナセットFlufenacet、フェントラザミドFentrazamide、カフェンストロールCafenstrole、インダノファンIndanofan、オキサジクロメホンOxaziclomefone、ベンフレセートBenfuresate、ACN、ピリデートPyridate、クロリダゾンChloridazon、ノルフルラゾンNorflurazon、フルルタモンFlurtamone、ジフルフェニカンDiflufenican、ピコリナフェンPicolinafen、ベフルブタミドBeflubutamid、クロマゾンClomazone、アミカルバゾンAmicarbazone、ピノキサデンPinoxaden、ピラクロニルPyraclonil、ピロキサスルホンPyroxasulfone、チエンカルバゾンメチルThiencarbazone-methyl、アミノシクロピラクロールAminocyclopyrachlor、イプフェンカルバゾンIpfencarbazone、及びメチオゾリンMethiozolin。共力剤の有効成分ピペロニルブトキサイドPiperonylbutoxide、セサメックスSesamex、スルホキシドSulfoxide、N-2-エチルへキシル-8,9,10-トリノルボルン-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドMGK264、N-デクリイミダゾールN-Declyimidazole、WARF-アンチレジスタントWARF-antiresistant、TBPT、TPP、IBP、PSCP、ヨウ化メチルCH3I、t-フェニルブテノンt-Phenylbutenone、ジエチルマレエートDiethylmaleate、DMC、FDMC、ETP、及びETN。上記の混用または併用できる有効成分のうち、特に好ましい例として、カルタップ塩酸塩、フィプロニル、メトキシフェノジド、テブフェノジド、クロチアニジン、スピノサド、スピネトラム、クロラントラニリプロール、シアントラニリプロールなどの殺虫剤の有効成分、ジクロシメット、フサライド、トリシクラゾール、ピロキロン、アゾキシストロビン、メトミノストロビン、オリサストロビン、フルトラニル、フラメトピル、チフルザミド、プロベナゾール、チアジニル、イソチアニル、バリダマイシン,カスガマイシン、フェリムゾンなどの殺菌剤の有効成分が挙げられる。以下、製造例、製剤例、試験例等により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。まず、本発明化合物の製造例を以下に示す。製造例14-5-tert-ブチルチオフェン-2-イルメチルピリジン化合物2-1の製造2-ブロモ-5-tert-ブチルチオフェン1.00gとテトラヒドロフラン50mlとの混合物に、-78°Cで、n-ブチルリチウム1.6Mのヘキサン溶液3.13mlを滴下し、-78°Cで1時間攪拌した。次に、-78°Cで、イソニコチンアルデヒド0.52mlを滴下した。-78°Cで10分間攪拌した後、0°Cまで昇温し、飽和炭酸水素ナトリウムを注加した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5-tert-ブチルチオフェン-2-イルピリジン-4-イルメタノール0.71gを得た。1HNMRδ1345976666736747387398585-tert-ブチルチオフェン-2-イルピリジン-4-イルメタノール0.71g、硫酸0.3ml、酢酸9.0mlおよびPd炭素触媒量を混合し、約1気圧の水素雰囲気下、室温で2.5時間攪拌した。反応混合物を濾過した後、濾液に水酸化ナトリウム水溶液を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-5-tert-ブチルチオフェン-2-イルメチルピリジン0.32gを得た。1HNMRδ134407660664718852製造例24-5-tert-ブチルチオフェン-2-イルメチル-3-フルオロピリジン化合物2-2の製造2-ブロモ-5-tert-ブチルチオフェン1.95gとテトラヒドロフラン70mlとの混合物に、-78°Cで、n-ブチルリチウム1.6Mのヘキサン溶液6.12mlを滴下し、-78°Cで1時間攪拌した。次に、-78°Cで、3-フルオロイソニコチンアルデヒド0.98mlを滴下した。-78°Cで10分間攪拌した後、0°Cまで昇温し、飽和炭酸水素ナトリウムを注加した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5-tert-ブチルチオフェン-2-イル3-フルオロピリジン-4-イルメタノール2.06gを得た。1HNMRδ1346286666767658408465-tert-ブチルチオフェン-2-イル3-フルオロピリジン-4-イルメタノール0.78g、硫酸1.0ml、酢酸20mlおよびPd炭素触媒量を混合し、約1気圧の水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応混合物を濾過した後、濾液に水酸化ナトリウム水溶液を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-5-tert-ブチルチオフェン-2-イルメチル-3-フルオロピリジン0.66gを得た。1HNMRδ135413664717833841製造例34-5-tert-ブチルチオフェン-2-イルメチル-3-メトキシピリジン化合物2-7の製造4-5-tert-ブチルチオフェン-2-イルメチル-3-フルオロピリジン0.21g、ナトリウムメトキシド28のメタノール溶液1.63g、およびN,N-ジメチルホルムアミド2.0mlの混合物を、120°Cで、3時間攪拌した。反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-5-tert-ブチルチオフェン-2-イルメチル-3-メトキシピリジン0.14gを得た。1HNMRδ134395407660663707817823製造例44-5-tert-ブチルチオフェン-2-イルメチル-3-メチルチオピリジン化合物2-10の製造4-5-tert-ブチルチオフェン-2-イルメチル-3-フルオロピリジン0.21g、ナトリウムチオメトキシド0.12g、およびN,N-ジメチルホルムアミド2.0mlの混合物を、室温で3時間攪拌した。反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-5-tert-ブチルチオフェン-2-イルメチル-3-メチルチオピリジン0.13gを得た。1HNMRδ134252416661664708834846製造例54-1-tert-ブチルピラゾール-4-イルメチルピリジン化合物3-35の製造4-ブロモ-1-tert-ブチルピラゾール0.40gとジエチルエーテル20mlとの混合物に、-70°Cで、n-ブチルリチウム1.6Mのヘキサン溶液1.48mlを滴下した。次に、-70°Cで、イソニコチンアルデヒド0.25gを滴下した。-70°Cで45分間攪拌した後、室温まで昇温し、水を反応液に注加した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、1-tert-ブチルピラゾール-4-イルピリジン-4-イルメタノール83mgを得た。1HNMRδ1555837337437438551-tert-ブチルピラゾール-4-イルピリジン-4-イルメタノール82mg、硫酸0.5ml、酢酸7.0mlおよびPd炭素触媒量を混合し、約1気圧の水素雰囲気下、室温で2時間攪拌した。反応混合物を濾過した後、濾液ろ液に水酸化ナトリウム水溶液を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、4-1-tert-ブチルピラゾール-4-イルメチルピリジン75mgを得た。1HNMRδ157382713728737850製造例64-3-tert-ブチルピラゾール-1-イルメチルピリジン化合物5-1の製造水素化ナトリウム0.32gとN,N-ジメチルホルムアミド1.5mlの混合物に3-tert-ブチルピラゾール0.40gとN,N-ジメチルホルムアミド3.5mlの混合物を0°Cで滴下し、室温で5分間攪拌した。次に4-クロロメチルピリジン塩酸塩0.53gを0°Cで加え、50°Cで40分間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-3-tert-ブチルピラゾール-1-イルメチルピリジン0.56gを得た。1HNMRδ133530618697729855製造例74-[3-2,2-ジメチルプロピル-1,2,4-トリアゾール-1-イルメチル]ピリジン化合物6-18の製造水素化ナトリウム0.22gとN,N-ジメチルホルムアミド4.0mlの混合物に3-2,2-ジメチルプロピル-1H-1,2,4-トリアゾール0.30gを0°Cで加え、室温で5分間攪拌した。次に4-クロロメチルピリジン塩酸塩0.35gを0°Cで加え、50°Cで10分間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-[3-2,2-ジメチルプロピル-1,2,4-トリアゾール-1-イルメチル]ピリジン0.29gを得た。1HNMRδ100265533707805860以下、前述の実施製造例に記載の方法に準じた製造方法により製造される化合物を例示する。表中、Meはメチル基CH3-、Etはエチル基CH3CH2-、Prはプロピル基CH3CH2CH2-、i-Prはイソプロピル基CH32CH-、t-Buはtert-ブチル基CH33C-を表し、sec-Buはsec-ブチル基CH3CH2CHCH3-を表す。表中、E1nの列において、nが1である場合は、例えば3-Meのように示し、これは、E1がHetで表されるヘテロ芳香環の3位に置換したメチル基であることを意味し、nが0である場合は、-のように示し、無置換であることを意味する。式A-1で表される化合物。式中のJ-L-A基、E1n、Q、D、G及びmは、下記の表7~表10に記載の組み合わせを表す。式A-2で表される化合物。式中のJ-L-A基、E1n、Q、D、G及びmは、下記の表11~表12に記載の組み合わせを表す。式A-3で表される化合物。式中のJ-L基、E1n、Q、D、G及びmは、下記の表13~表16に記載の組み合わせを表す。式A-4で表される化合物。式中のJ-L基、E1、Q、D、G及びmは、下記の表17~表18に記載の組み合わせを表す。式A-5で表される化合物。式中のJ-L-A基、E1n、Rx、Ry、D、G及びmは、下記の表19~表22に記載の組み合わせを表す。式A-6で表される化合物。式中のJ-L-A基、E1、Rx、Ry、D、G及びmは、下記の表23~表24に記載の組み合わせを表す。表7~表24に記載した本発明化合物の物性値を下記の表25に示す。次に本発明化合物の製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。製剤例1上述の化合物1-1から1-68、化合物2-1から2-34、化合物3-1から3-68、化合物4-1から4-34、化合物5-1から5-102および化合物6-1から6-34のいずれか1種10部を、キシレン35部とN,N-ジメチルホルムアミド35部との混合物に溶解し、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル14部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、混合して各々の乳剤を得る。製剤例2ラウリル硫酸ナトリウム4部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、合成含水酸化珪素微粉末20部および珪藻土54部を混合し、更に上述の化合物1-1から1-68、化合物2-1から2-34、化合物3-1から3-68、化合物4-1から4-34、化合物5-1から5-102および化合物6-1から6-34のいずれか1種20部を加え、混合して各々の水和剤を得る。製剤例3上述の化合物1-1から1-68、化合物2-1から2-34、化合物3-1から3-68、化合物4-1から4-34、化合物5-1から5-102および化合物6-1から6-34のいずれか1種2部に、合成含水酸化珪素微粉末1部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部およびカオリンクレー65部を加え混合する。ついで、この混合物に適当量の水を加え、さらに攪拌し、造粒機で製粒し、通風乾燥して各々の粒剤を得る。製剤例4上述の化合物1-1から1-68、化合物2-1から2-34、化合物3-1から3-68、化合物4-1から4-34、化合物5-1から5-102および化合物6-1から6-34のいずれか1種1部を適当量のアセトンに溶解し、これに合成含水酸化珪素微粉末5部、PAP0.3部およびフバサミクレー93.7部を加え、充分攪拌混合し、アセトンを蒸発除去して各々の粉剤を得る。製剤例5ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩およびホワイトカーボンの混合物重量比1:135部と、上述の化合物1-1から1-68、化合物2-1から2-34、化合物3-1から3-68、化合物4-1から4-34、化合物5-1から5-102および化合物6-1から6-34のいずれか1種10部と、水55部とを混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。製剤例6上述の化合物1-1から1-68、化合物2-1から2-34、化合物3-1から3-68、化合物4-1から4-34、化合物5-1から5-102および化合物6-1から6-34のいずれか1種0.1部をキシレン5部およびトリクロロエタン5部に溶解し、これを脱臭灯油89.9部に混合して各々の油剤を得る。製剤例7上述の化合物1-1から1-68、化合物2-1から2-34、化合物3-1から3-68、化合物4-1から4-34、化合物5-1から5-102および化合物6-1から6-34のいずれか1種10mgをアセトン0.5mlに溶解し、この溶液を、動物用固形飼料粉末飼育繁殖用固形飼料粉末CE-2、日本クレア株式会社商品5gに処理し、均一に混合する。ついでアセトンを蒸発乾燥させて各々の毒餌を得る。製剤例8上述の化合物1-1から1-68、化合物2-1から2-34、化合物3-1から3-68、化合物4-1から4-34、化合物5-1から5-102および化合物6-1から6-34のいずれか1種0.1部、ネオチオゾール中央化成株式会社49.9部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、ジメチルエーテル25部、LPG25部を充填し振とうを加え、アクチュエータを装着することで油剤エアゾールを得る。製剤例9上述の化合物1-1から1-68、化合物2-1から2-34、化合物3-1から3-68、化合物4-1から4-34、化合物5-1から5-102および化合物6-1から6-34のいずれか1種0.6部、BHT2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール0.01部、キシレン5部、脱臭灯油3.39部および乳化剤{アトモス300アトモスケミカル社登録商標名}1部を混合溶解したものと、蒸留水50部とをエアゾール容器に充填し、バルブを装着した後、該バルブを通じて噴射剤LPG40部を加圧充填して水性エアゾールを得る。製剤例10上述の化合物1-1から1-68、化合物2-1から2-34、化合物3-1から3-68、化合物4-1から4-34、化合物5-1から5-102および化合物6-1から6-34のいずれか1種を5部及びフェリムゾン5部を、ラウリル硫酸ナトリウム4部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、合成含水酸化珪素微粉末20部及び珪藻土残部を混合した中に加え、よく攪拌混合して水和剤100部を得る。製剤例11~25フェリムゾン5部に代えて、[表26]記載のそれぞれの化合物及び使用量で適用した以外は製剤例10と同様の操作を行い、それぞれの水和剤100部を得る。次に、本発明化合物の有害生物防除効力を試験例により示す。試験例1製剤例5により得られた本発明化合物の製剤を本発明化合物の濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。ポリエチレンカップに植えた第2葉展開期のイネ幼苗に、上記試験用薬液10mlを散布した。風乾後、トビイロウンカの3~4齢幼虫を20頭放して、25°Cの温室内に保管した。6日後イネに寄生したトビイロウンカの数を調査し、下式により防除価を求めた。防除価={1-Cb×Tai/Cai×Tb}×100なお、式中の文字は以下の意味を表す。Cb:無処理区の処理前の虫数Cai:無処理区の観察時の虫数Tb:処理区の処理前の虫数Tai:処理区の観察時の虫数その結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価90以上を示した。化合物2-1、2-7、2-8、2-10、5-1、5-18。試験例2製剤例5により得られた本発明化合物の製剤を本発明化合物の濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用散布液を調製した。一方、プラスチックカップに植えたキュウリ幼苗第1本葉展開期にワタアブラムシ約30頭を接種し、1日間放置した。この幼苗に、前記希釈液20mlを各々散布した。散布6日後に該キュウリの葉上に寄生したワタアブラムシ生存虫数を調査し、以下の式により防除価を求めた。防除価={1-Cb×Tai/Cai×Tb}×100なお、式中の文字は以下の意味を表す。Cb:無処理区の処理前の虫数Cai:無処理区の観察時の虫数Tb:処理区の処理前の虫数Tai:処理区の観察時の虫数その結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価90以上を示した。化合物2-1、2-2、2-7、2-10、5-1。試験例3製剤例5により得られた本発明化合物の製剤を本発明化合物の濃度が200ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。ポリエチレンカップに植えた第2葉展開期のイネ幼苗に、上記試験用薬液10mlを散布した。風乾後、トビイロウンカの3~4齢幼虫を20頭放して、25°Cの温室内に保管した。6日後イネに寄生したトビイロウンカの数を調査し、下式により防除価を求めた。防除価={1-Cb×Tai/Cai×Tb}×100なお、式中の文字は以下の意味を表す。Cb:無処理区の処理前の虫数Cai:無処理区の観察時の虫数Tb:処理区の処理前の虫数Tai:処理区の観察時の虫数その結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価90以上を示した。化合物3-35。試験例4製剤例5により得られた本発明化合物の製剤を本発明化合物の濃度が200ppmとなるように水で希釈し、試験用散布液を調製した。一方、プラスチックカップに植えたキュウリ幼苗第1本葉展開期にワタアブラムシ約30頭を接種し、1日間放置した。この幼苗に、前記希釈液20mlを各々散布した。散布6日後に該キュウリの葉上に寄生したワタアブラムシ生存虫数を調査し、以下の式により防除価を求めた。防除価={1-Cb×Tai/Cai×Tb}×100なお、式中の文字は以下の意味を表す。Cb:無処理区の処理前の虫数Cai:無処理区の観察時の虫数Tb:処理区の処理前の虫数Tai:処理区の観察時の虫数その結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価90以上を示した。化合物3-35。"