"下記A~D成分、A2つ以上のエチレン性の重合性基を末端に有する樹枝状ポリマー、Bビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物とメタアクリル酸との反応物を更に多塩基カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有化合物、C光重合開始剤、及びD黒色有機顔料、混色有機顔料及び遮光材から選ばれる1種以上の遮光成分、を必須成分として含有することを特徴とするブラックレジスト用感光性樹脂組成物。A成分が、下記一般式1で示される多官能メタアクリレート化合物のメタアクリレート基中の炭素-炭素二重結合の一部に、下記一般式2で示される多価メルカプト化合物を付加させて得られる樹枝状ポリマーである請求項1に記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物。式中、R1は水素又は炭素数1~4のアルキル基を表し、R2は多価アルコールR3OHmのm個のヒドロキシル基うちn個のヒドロキシル基を式中のエステル結合に供与した残り部分を表し、m及びnは、独立に2~20の整数を表すが、m≧nである。式中、R4は単結合又は2~6価の炭素数1~6の炭化水素基含有基であり、pはR4が単結合であるときは2であり、R4が2~6価の基であるときは、2~6の整数を表す。前記一般式2で示される多価メルカプト化合物のメルカプト基と、前記一般式1で示される多官能メタアクリレート化合物の炭素-炭素二重結合に対する付加割合が、メルカプト基/二重結合のモル比で1/100~1/3である請求項2に記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物。B成分におけるビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物が、下記一般式3で表されるエポキシ化合物である請求項1~3のいずれかに記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物。但し、式中、R11及びR12は水素原子、炭素数1~5のアルキル基又はハロゲン原子のいずれかであり、Xは‐CO‐、-SO2-、‐CCF32-、-SiCH32‐、-CH2‐、-CCH32‐、-O-、下記式4で表される9,9-フルオレニル基又は単結合を示し、nは0~10の整数であるD成分が、カーボンブラックである請求項1~4のいずれかに記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物。D成分の遮光成分が、ブラックレジスト用感光性樹脂組成物中の固形成分に対し、30~50重量の割合配合されている請求項1~5のいずれかに記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物。請求項1~6のいずれかに記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物から形成したことを特徴とするカラーフィルター遮光膜。従って、本発明の目的は、上記の問題を解決し12μm以上の厚膜であっても、パターン寸法安定性に優れ、かつ現像マージン、パターンのエッジ形状のシャープ性が良好なパターンを形成することができ、さらに、その後の熱焼成工程においても塗膜表面が平滑で熱硬化収縮による表面粗度の悪化が生じず、パターンの断面形状も現像後の台形形状を維持することが可能であるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供することにある。また、本発明の他の目的は、このブラックレジスト用感光性樹脂組成物を用いて形成した遮光膜を提供することにある。本発明者らは前記の課題を解決すべく検討を行った結果、ビスフェノール類から誘導される芳香族エポキシ化合物とメタアクリル酸との反応物を更に多塩基カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有化合物と、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物として2つ以上の重合性反応基を末端に有する樹枝状ポリマーを配合すれば、前記の問題点が解決されることを見い出し、本発明を完成させた。本発明は、下記A~D成分、A2つ以上のエチレン性の重合性基を末端に有する樹枝状ポリマーBビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物とメタアクリル酸との反応物を更に多塩基カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有化合物、C光重合開始剤、及びD黒色有機顔料、混色有機顔料及び遮光材から選ばれる1種以上の遮光成分、を必須成分として含有することを特徴とするブラックレジスト用感光性樹脂組成物である。ここで、A成分が下記一般式1で示される多官能メタアクリレート化合物のメタアクリレート基中の炭素-炭素二重結合の一部に、下記一般式2で示される多価メルカプト化合物を付加させて得られる樹枝状ポリマーであることが有利である。式中、R1は水素又は炭素数1~4のアルキル基を表し、R2は多価アルコールR3OHmのm個のヒドロキシル基うちn個のヒドロキシル基を式中のエステル結合に供与した残り部分を表し、m及びnは、独立に2~20の整数を表すが、m≧nである。式中、R4は単結合又は2~6価の炭素数1~6の炭化水素基含有基であり、pはR4が単結合であるときは2であり、R4が2~6価の基であるときは、2~6の整数を表す。また、前記一般式2で示される多価メルカプト化合物のメルカプト基と、前記一般式1で示される多官能メタアクリレート化合物の炭素-炭素二重結合に対する付加割合が、メルカプト基/二重結合のモル比で1/100~1/3であることが好ましい。上記B成分は、ビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物とメタアクリル酸との反応物を更に多塩基カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有化合物であるが、この2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物が、下記一般式3で表されるエポキシ化合物であることが好ましい。但し、式中、R11及びR12は水素原子、炭素数1~5のアルキル基又はハロゲン原子のいずれかであり、Xは‐CO‐、-SO2-、‐CCF32-、-SiCH32‐、-CH2‐、-CCH32‐、-O-、下記式4で表される9,9-フルオレニル基又は単結合を示し、nは0~10の整数である上記D成分は遮光成分であるが、カーボンブラックであることが好ましい。また、上記D成分はブラックレジスト用感光性樹脂組成物中の固形成分の30~50重量の割合で配合されていることが好ましい。ここで、ブラックレジスト用感光性樹脂組成物中の固形成分とは、硬化後に反応して固形分として残る反応成分を含むものであり、溶剤以外の成分をいう。更に、本発明は上記のブラックレジスト用感光性樹脂組成物から形成したことを特徴とするカラーフィルター遮光膜である。本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物は、コ-ティング材として好適に用いることができ、特に液晶の表示装置あるいは撮影素子に使われるカラーフィルター用インキ、及びこれにより形成される遮光膜はカラーフィルター、液晶プロジェクション用のブラックマトリックス等として有用である。更には、本発明のブラックレジスト用感光性組成物は、上記のようにカラー液晶ディスプレーのカラーフィルターインクの他に、カラー液晶表示装置、カラーファクシミリ、イメージセンサー等の各種の多色表示体インク材料としても使用できる。以下、本発明について詳細に説明する。本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物以下、感光性樹脂組成物と略称することがあるは、A~D成分を必須成分として含有する。以下、A~D成分について、説明する。A成分である樹枝状ポリマーは、2つ以上のエチレン性の重合性基を末端に有する多分岐型のポリマーである。エチレン性の重合性基は、メタアクリレート化合物に由来するものであることが好ましいがこれに限らない。ここで、エチレン性の重合性基は、炭素-炭素二重結合を有する基であり、この炭素-炭素二重結合にカルボニル基が結合したαβ不飽和カルボニル化合物のような共役した化合物においては、メルカプト化合物のような求核剤との相互作用が最も強いビニル基でマイケル付加反応が起こることが知られている。したがって、αβ不飽和カルボニル化合物のような複数のエチレン性の重合性基を有する化合物と、多価メルカプト化合物のような複数の求核剤基を有する化合物とを反応させれば、カルボニル基に対しβ位の炭素に付加反応が生じ、付加反応が生じる基が複数あると、多くの分岐が生じて樹枝状ポリマーとなる。かかる樹枝状ポリマーは、特許文献2等により公知であり、かかる文献に記載の方法により得ることができる。A成分である樹枝状ポリマーとしては、一般式1で示される多官能メタアクリレート化合物と一般式2で示される多価メルカプト化合物とが、マイケル付加カルボニル基に関しβ位の炭素-炭素二重結合への付加により重合したものである。ここで、一般式1で示される多官能メタアクリレート化合物への一般式2で示される多価メルカプト化合物のマイケル付加は、得られる樹枝状ポリマーが、その後もなお炭素-炭素二重結合に基づく放射線重合を行うことができるように、一般式1で示される化合物が有する炭素-炭素二重結合が、全体として0.1~50モルの範囲で残存するように行われることが好ましい。例えば、一般式2で示される多価メルカプト化合物のメルカプト基と、一般式1で示される多官能メタアクリレート化合物の炭素-炭素二重結合一般式1において、CH2Cで表わされる二重結合をいい、モル比の計算の場合は二重結合という。付加割合は、メルカプト基/二重結合のモル比で1/100~1/3となるようにすることが好ましく、1/50~1/5となるようにすることが更に好ましく、1/20~1/8となるようにすることが特に好ましい。また、上記樹枝状ポリマーは、放射線重合のための十分量の官能基を有することが好ましい。このためには、樹枝状ポリマーの分子量は、炭素-炭素二重結合1モル当たりの分子量が100~10000の範囲にあることが好ましい。また、樹枝状ポリマーの好ましい重量平均分子量Mwは、1000~20000であり、より好ましくは8000~15000である。上記一般式1において、R1は水素又は炭素数1~4のアルキル基であり、R2は多価アルコールR3OHmのm個のヒドロキシル基うちn個のヒドロキシル基を式中のエステル結合に供与した残り部分である。好ましくは、R3OHmは、炭素数2~8の非芳香族の直鎖又は分枝鎖の炭化水素骨格に基づく多価アルコールであるか、該多価アルコールの複数分子がアルコールの脱水縮合によりエーテル結合を介して連結してなる多価アルコールエーテルであるか、又はこれらの多価アルコール又は多価アルコールエーテルとヒドロキシ酸とのエステルである。上記一般式1において、m及びnは独立に、2~20の整数を表すが、m≧nである。好ましくは、m及びnは2~10の整数であり、m≧nである。一般式1で示される多官能メタアクリレート化合物の好ましい具体例としては、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、テトラメチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性ヘキサヒドロフタル酸ジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエートメタアクリレート、トリスメタアクリロキシエチルイソシアヌレート、アルコキシ変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールポリメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート等のメタアクリル酸エステルを挙げることができる。これらの化合物は、その1種のみを単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。上記一般式2において、R4は単結合又は2~6価の炭素数1~6の炭化水素基含有基であり、pはR4が単結合であるときは2であり、R4が2~6価の基であるときは、2~6の整数を表す。好ましくは、R4は単結合、又は置換基を有してもよい炭素数1~6の炭化水素基又は該炭化水素基の骨格中に酸素原子を更に含んでいてよい炭化水素基であり、これは直鎖又は分枝鎖であってよい。また、これらの炭化水素基含有基は、更に一般式2中に現れているチオメチル基HSCH2の一部と結合するカルボニルオキシ基を有してもよい。なお、炭化水素基の骨格中に酸素原子を含む場合は、両端は炭化水素基であることがよい。pは2~6の整数を表し、R4の価数に対応する。したがって、R4が単結合を表すときはpは2であり、R4の炭素数が1であるときはpは2~4であり、R4の炭素数が2~6のときはpは2~6であることになる。上記一般式2で示される多価メルカプト化合物としては、1,2-ジメルカプトエタン、1,3-ジメルカプトプロパン、1,4-ジメルカプトブタン、ビスジメルカプトエタンチオール、トリメチロールプロパントリメルカプトアセテート、トリメチロールプロパントリメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラメルカプトアセテート、ペンタエリスリトールトリメルカプトアセテート、ペンタエリスリトールテトラメルカプトプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサメルカプトアセテート、ジペンタエリスリトールヘキサメルカプトプロピオネート等が挙げられる。上記樹枝状ポリマーの合成に際しては、必要に応じて重合防止剤を加えることができる。重合防止剤としては、メタアクリレート化合物の重合防止に一般に用いられるヒドロキノン系化合物、フェノール系化合物を、本発明においても使用することができる。それらの具体例としては、ハイドロキノン、メトキシハイドロキノン、カテコール、p-tert-ブチルカテコール、クレゾール、ジブチルヒドロキシトルエン、2,4,6-トリ-tert-ブチルフェノールBHT等が挙げられるがこれらに限定されない。樹枝状ポリマーの合成の完了の確認は、液体クロマトグラフィー、ゲル濾過クロマトグラフィー、その他の一般的な分析機器により確認することができる。樹枝状ポリマーを合成する際、一般式2で示される多価メルカプト化合物が、一般式1で示される多官能メタアクリレート化合物の二重結合へのマイケル付加反応が生じるが、この反応は多官能メタアクリレート化合物と多価メルカプト化合物とを混合し、室温ないし100°Cにて、塩基性触媒を添加することにより行うことができる。反応時間は、通常約30分間ないし約20時間、好ましくは6~12時間である。上記樹枝状ポリマーがブラックレジスト用感光性樹脂組成物として優れた特性を有することの詳細メカニズムは定かではない。しかしながら、一般にチオールとアクリレートを用いた樹枝状ポリマーはその独特の構造上、ラジカル重合において酸素や溶剤による反応阻害を受けにくく低エネルギーで硬化することと、硬化収縮が少なく、塗膜の表面粗度の悪化が抑えられることなどから、遮光膜を厚膜にした際、特に優れた特性を有すると考えられる。本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物に含まれる樹枝状ポリマーの量は、A及びBの各成分の合計量の5~40重量が適当であり、好ましくは10~40重量である。また、他に重合性成分Eを使用する場合は、全重合性成分量の20~35重量であることが好ましい。樹枝状ポリマーの含有量がこの範囲よりも小さいと、塗膜の表面粗度抑制効果が低下し、塗膜表面粗度が大きくなることがある。また、樹枝状ポリマーの含有量がこの範囲よりも大きいと、現像遅延やパターン直線性の悪化を生じることがある。本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物は、上記A及びB成分に加えて、更に、エチレン性不飽和結合を有する光重合性又はラジカル重合性の化合物をE成分として使用することもできる。上記E成分としては、多官能メタアクリレートが好ましく挙げられる。なお、E成分は、A及びB成分と同一であることはない。上記E成分としての二官能メタアクリレートとしては、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,10-デカンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、2,4-ジメチル-1,5-ペンタンジオールジメタアクリレート、ブチルエチルプロパンジオールメタアクリレート、エトキシ化シクロヘキサンメタノールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、オリゴエチレングリコールジメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、2-エチル-2-ブチル-ブタンジオールジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、EO変性ビスフェノールAジメタアクリレート、ビスフェノールFポリエトキシジメタアクリレート等が挙げられる。また、三官能のメタアクリレートとしては、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリロイルオキシプロピルエーテル、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリメタアクリレート等が挙げられる。また、四官能のメタアクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ソルビトールテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート等が挙げられる。更に、五官能又は六官能のメタアクリレートとしては、ソルビトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、又はジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ソルビトールヘキサメタアクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート等が挙げられる。ブラックレジスト用感光性樹脂組成物に上記E成分を含有させる場合、その含有量は、A及びEの各成分の合計100重量部を基準として、10~50重量部が適当であり、好ましくは20~40重量部である。B成分である不飽和基含有化合物は、ビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物とメタアクリル酸との反応物を更に多塩基カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有化合物であり、かかるエポキシ化合物又は不飽和基含有化合物は、公知である。上記不飽和基含有化合物は、ビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物に、メタアクリル酸これは、アクリル酸及び/又はメタクリル酸の意味であるを反応させ、得られたヒドロキシ基を有する化合物に多塩基カルボン酸又はその無水物を反応させて得られるエポキシメタアクリレート酸付加物である。そして、ビスフェノール類から誘導されるエポキシ化合物とは、ビスフェノール類とエピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ化合物又はこれと同等物を意味する。B成分である不飽和基含有化合物は、エチレン性不飽和二重結合とカルボキシル基とを併せ持つため、ブラックレジスト用感光性樹脂組成物に優れた光硬化性、良現像性、パターニング特性を与え遮光膜の物性向上をもたらす。B成分としては、ビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物が、上記一般式3で表されるエポキシ化合物が好ましいものとしてある。上記一般式3において、R11及びR12は水素原子、炭素数1~5のアルキル基又はハロゲン原子のいずれかであり、Xは‐CO‐、-SO2-、‐CCF32-、-SiCH32‐、-CH2‐、-CCH32‐、-O-、上記式4で表される9,9-フルオレニル基又は単結合を示し、nは0~10の整数である。B成分である不飽和基含有化合物は、好ましくは、式3で表されるエポキシ化合物から誘導される。このエポキシ化合物はビスフェノール類から誘導される。したがって、ビスフェノール類を説明することによって、不飽和基含有化合物が理解されるので、好ましい具体例をビスフェノール類により説明する。好ましい不飽和基含有化合物を与えるビスフェノール類としては、次のようなものが挙げられる。ビス4-ヒドロキシフェニルケトン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニルケトン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニルケトン、ビス4-ヒドロキシフェニルスルホン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニルスルホン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニルスルホン、ビス4-ヒドロキシフェニルヘキサフルオロプロパン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニルヘキサフルオロプロパン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニルヘキサフルオロプロパン、ビス4-ヒドロキシフェニルジメチルシラン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニルジメチルシラン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニルジメチルシラン、ビス4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジブロモフェニルメタン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシ-3-クロロフェニルプロパン、ビス4-ヒドロキシフェニルエーテル、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニルエーテル、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニルエーテル等を含む化合物や、Xが前記の9,9-フルオレニル基である9,9-ビス4-ヒドロキシフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-クロロフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-ブロモフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-フルオロフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジブロモフェニルフルオレン等や、更には4,4-ビフェノール、3,3-ビフェノール等の化合物が挙げられる。また、このようなエポキシ化合物とメタアクリル酸とを反応させて得られたエポキシメタアクリレート分子中のヒドロキシ基と反応し得る多塩基カルボン酸又はその酸無水物としては、例えば、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸等やその酸無水物、更には、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸やその酸二無水物等が挙げられる。そして、酸無水物と酸二無水物の使用割合については、露光、アルカリ現像操作によって微細なパターンを形成するのに適した割合を選択することができる。B成分の不飽和基含有化合物については、その1種のみを使用しても、2種以上の混合物を使用することもできる。また、エポキシ化合物とメタアクリル酸との反応、この反応で得られたエポキシメタアクリレートと多塩基酸又はその酸無水物との反応は、公知の方法を採用することができるが、特に限定されるものではない。C成分の光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、N,Nテトラメチル-4,4-ジアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4-ジエチルアミノベンゾフェノン、2-エチルアントラキノン、フェナントレン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン類、2-o-クロロフェニル-4,5-フェニルイミダゾール2量体、2-o-クロロフェニル-4,5-ジm-メトキシフェニルイミダゾール2量体、2-o-フルオロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、2-o-メトキシフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、2、4,5-トリアリールイミダゾール2量体、2-トリクロロメチル-5-スチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-p-シアノスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-p-メトキシスチリル-1,3,4-オキサジアゾール等のハロメチルジアゾール化合物、2,4,6-トリストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-メチル-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-フェニル-4、6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-4-クロロフェニル-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-4-メトキシフェニル-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-4-メトキシナフチル-4,6-ビストリクロロRメチル-1,3,5-トリアジン、2-4-メトキシスチリル-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-3,4,5-トリメトキシスチリル-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-4-メチルチオスチリル-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン等のハロメチル-S-トリアジン系化合物、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-[4-モルフォリノフェニル]-ブタノン、1,1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン等の光重合開始剤が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。また、それ自体では光重合開始剤や増感剤として作用しないが、上記の化合物と組み合わせて用いることにより、光重合開始剤や増感剤の能力を増大させ得るような化合物を添加することもできる。そのような化合物としては、例えば、ベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果のあるトリエタノールアミン等の第3級アミンを挙げることができる。C成分の光重合開始剤の使用量は、A及びBの各成分の合計100重量部を基準として3~30重量部が適している。より好ましくは5~20重量部である。C成分の配合割合が3重量部未満の場合には、光重合の速度が遅くなって、感度が低下し、一方、30重量部を超える場合には、感度が強すぎて、パターン線幅がパターンマスクに対して太った状態になり、マスクに対して忠実な線幅が再現できない、又は、パターンエッジがシャープにならないといった問題が生じる恐れがある。D成分の黒色有機顔料、混色有機顔料又は遮光材などの遮光成分としては、耐熱性、耐光性及び耐溶剤性に優れたものであることが好ましい。ここで、黒色有機顔料としては、例えばペリレンブラック、シアニンブラック、アニリンブラック等が挙げられる。混色有機顔料としては、赤、青、緑、紫、黄色、シアニン、マゼンタ等から選ばれる少なくとも2種以上の顔料を混合して擬似黒色化されたものが挙げられる。遮光材としては、カーボンブラック、酸化クロム、酸化鉄、チタンブラックを挙げることができ、2種以上を適宜選択して用いることもできるが、特にカーボンブラックが、遮光性、表面平滑性、分散安定性、樹脂との相溶性が良好な点で好ましい。D成分の遮光成分の配合割合については、ブラックレジスト用感光性樹脂組成物中の固形成分に対して30~50重量の割合が好ましい。30重量より少ないと、遮光性が十分でなくなる他、熱硬化収縮が大きくなり塗膜の表面粗度が大きくなる恐れがある。50重量を越えると、熱硬化収縮が小さくなり表面粗度の悪化は抑制されるが、本来のバインダーとなる感光性樹脂の含有量が減少するため、現像特性を損なうと共に膜形成能が損なわれるという好ましくない問題が生じる。本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物においては、上記A~D成分を必須成分として含み、上記E成分を任意成分として含む。ここで、A、B及びE成分は重合性の成分であり、C成分はこれらの重合性成分の重合を開始、促進する成分であり、D成分は遮光性を与える成分である。そこで、ブラックレジスト用感光性樹脂組成物中の溶剤を除く固形成分中の、重合性の成分Aの割合は40~60重量の範囲が、C成分の割合は2~12重量の範囲が、D成分の割合は30~50重量の範囲が好ましい。また、重合性の成分の内、A成分の割合は、全重合性の成分の10~50重量、好ましくは20~40重量の範囲が、B成分の割合は、全重合性の成分の90~50重量、好ましくは80~60重量の範囲が、E成分の割合は、全重合性の成分の0~25重量の範囲である。さらに、E成分を配合する場合のより好ましいA、B及びE成分の割合は、A成分20~35重量、B成分75~60重量、E成分5~15重量の範囲である。本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物においては、上記A~D成分の他に溶剤を使用して粘度を調整することが好ましい。溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α-もしくはβ-テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N-メチル-2-ピロリドン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類等が挙げられ、これらを用いて溶解、混合させることにより、均一な溶液状の組成物とすることができる。また、本発明のブラックレジスト用樹脂組成物には、必要に応じて硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、充填材、溶剤、レベリング剤、消泡剤等の添加剤を配合することができる。熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、tert-ブチルカテコール、フェノチアジン等を挙げることができ、可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、リン酸トリクレジル等を挙げることができ、充填材としては、ガラスファイバー、シリカ、マイカ、アルミナ等を挙げることができ、また、消泡剤やレベリング剤としては、例えば、シリコン系、フッ素系、アクリル系の化合物を挙げることができる。本発明のブラックレジスト用樹脂組成物は、上記A~D成分又はこれらと溶剤を主成分として含有する。溶剤を除いた固形成分中に、A~D成分が合計で70重量以上、好ましくは80重量、より好ましくは90重量以上含むことがよい。溶剤の量は、目標とする粘度によって変化するが、10~30重量の範囲が望ましい。本発明のカラーフィルター遮光膜は、本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィー法により形成される。その製造工程としては、先ず、感光性樹脂組成物を溶液にして基板表面に塗布し、次いで溶媒を乾燥させたプリベーク後、このようにして得られた被膜の上にフォトマスクをあて、紫外線を照射して露光部を硬化させ、更にアルカリ水溶液を用いて未露光部を溶出させる現像を行ってパターンを形成し、更に後乾燥としてポストベークを行う方法が挙げられる。ここで、感光性樹脂組成物の溶液を塗布する基板としては、ガラス、透明フィルム例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン等上にITO、金等の透明電極が蒸着あるいはパターニングされたもの等が用いられる。感光性樹脂組成物の溶液を基板に塗布する方法としては、公知の溶液浸漬法、スプレー法の他、ローラーコーター機、ランドコーター機やスピナー機を用いる方法等の何れの方法をも採用することができる。これらの方法によって、所望の厚さに塗布した後、溶剤を除去するプリベークことにより、被膜が形成される。プリベークはオーブン、ホットプレート等により加熱することによって行われる。プリベークにおける加熱温度及び加熱時間は使用する溶剤に応じて適宜選択され、例えば60~110°Cの温度で1~3分間行われる。プリベーク後に行われる露光は、露光機によって行なわれ、フォトマスクを介して露光することによりパターンに対応した部分のレジストのみを感光させる。露光機及びその露光照射条件は適宜選択され、超高圧水銀灯、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、遠紫外線灯等の光源を用いて露光を行い、塗膜中のブラックレジスト用樹脂組成物を光硬化させる。露光後のアルカリ現像は、露光されない部分のレジストを除去する目的で行われ、この現像によって所望のパターンが形成される。このアルカリ現像に適した現像液としては、例えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液、アルカリ金属の水酸化物の水溶液等を挙げることができるが、特に炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩を0.03~1重量含有する弱アルカリ性水溶液を用いて23~27°Cの温度で現像するのがよく、市販の現像機や超音波洗浄機等を用いて微細な画像を精密に形成することができる。このようにして現像した後、200~240°Cの温度、20~60分の条件で熱処理ポストベークが行われる。このポストベークは、パターニングされた遮光膜と基板との密着性を高めるため等の目的で行われる。これはプリベークと同様に、オーブン、ホットプレート等により加熱することによって行われる。本発明のパターニングされた遮光膜は、以上のフォトリソグラフィー法による各工程を経て形成される。本発明のブラックレジスト用樹脂組成物は、前述の通り、露光、アルカリ現像等の操作によって微細なパターンを形成するのに適しているが、従来のスクリーン印刷によりパターンを形成しても、同様な遮光性、密着性、電気絶縁性、耐熱性、耐薬品性に優れた遮光膜を得ることができる。以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明の実施形態を具体的に説明する。合成例11Lの4つ口フラスコ内に、ペンタエリスリトールテトラメルカプトアセテート20gメルカプト基0.19モル、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物212g炭素-炭素二重結合2.12モル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート58g,ハイドロキノン0.1g、及びベンジルジメチルアミン0.01gを加え、60°Cで12時間反応させて、樹枝状ポリマーAを得た。得られた樹枝状ポリマーAにつき、ヨードメトリー法にてメルカプト基の消失を確認した。得られた樹枝状ポリマーAの重量平均分子量Mwは10000であった。重量平均分子量Mwは、ゲル濾過クロマトグラフィ東ソー製HLC8220GPC、溶媒:テトラヒドロフラン、カラム:TSKgelSuperH20002本TSKgelSuperH30001本TSKgelSuperH40001本TSKgelSuperH50001本東ソー製、温度:40°C、速度:06mlminにより測定し、標準ポリスチレンPS-オリゴマーキット、東ソー製で換算した値である。実施例及び比較例で使用した化合物の略号を次に示す。A成分a1:合成例1で得た樹枝状ポリマーA溶液E成分a2:トリメチロールプロパントリアクリレート、サートマージャパン株製、商品名SR351Sa3:ウレタンアクリレートオリゴマー平均アクリル官能基数15、Mw:5000根上工業株製、商品名UN3320HSB成分b1:フルオレン骨格を有するエポキシアクリレートの酸無水物重縮合物のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液樹脂固形分濃度=56.1重量、新日鐵化学株製商品名V259MEアルカリ可溶性樹脂b2:Mw9000、酸価80のNフェニルマレイミドアクリル酸スチレン共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液樹脂固形分濃度=355重量、Nフェニルマレイミド:アクリル酸:スチレン=19:22:59molなお、b2成分はシワ抑制効果を発現させるために添加されるものであり、光重合性不飽和結合を有しないアルカリ可溶性樹脂である。C成分c:エタノン19エチル62メチルベンゾイル9Hカルバゾール3イル1、BASFジャパン社製、製品名イルガキュアOXE02D成分dカーボンブラック濃度25.0重量、高分子分散剤濃度4.75重量のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート分散液固形分29.75重量溶剤1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート2:シクロヘキサノン界面活性剤:メガファックF475DIC株製カップリング剤:S510チッソ株製実施例1~5、比較例1~5上記の成分を表1に記載の割合で配合して、実施例1~5及び比較例1~5に係るブラックレジスト用感光性樹脂組成物を調製した。表1において、a1、b1、b2及びdの上段の数字は溶液としての量gを示し、下段の内の数字はa1、b1、b2については、溶剤を除く固形成分の量g、dについては溶液中の遮光剤の量gを示す。配合率は、成分の遮光剤が感光性樹脂組成物固形分中に占める割合である。なお、a1、a2、a3は光重合性化合物であり、b1は不飽和基含有樹脂であり、b2はアルカリ可溶性樹脂であり、cは光重合開始剤であり、は遮光性分散顔料であり、1、2は溶剤であり、は界面活性剤であり、はシランカップリング剤である。表1に記した配合割合で各成分を均一に混合し、実施例1~5及び比較例1~5に係る各ブラックレジスト用感光性樹脂組成物を得た。上記で得られたブラックレジスト用感光性樹脂組成物を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板コーニング1737上にポストベーク後の膜厚が2.0μmとなるように塗布し、90°Cで1分間プリベークした。その後、露光ギャップを80μmに調整し、乾燥塗膜の上に、ラインスペース=20μm80μmのネガ型フォトマスクを被せ、I線照度30mWcm2の超高圧水銀ランプで80mjcm2の紫外線を照射し、感光部分の光硬化反応を行った。次に、この露光済み塗板を25°C、0.05水酸化カリウム水溶液中、1kgfcm2のシャワー現像圧にて、パターンが現れ始める現像時間ブレイクタイム=BTから、10秒、20秒の現像後、5kgfcm2圧のスプレー水洗を行い、塗膜の未露光部を除去してガラス基板上に画素パターンを形成、その後、熱風乾燥機を用いて230°C、30分間熱ポストベークした後の20μm線のマスク幅に対する線幅μm、パターン直線性、塗膜の表面粗度Raを評価した。結果を表2に示す。なお、評価方法は次のとおりである。パターン線幅測長顕微鏡株ニコン製商品名XD20を用いてマスク幅20μmのパターン線幅を測定した。パターン直線性ポストベーク後の20μmマスクパターンを顕微鏡観察し、基板に対する剥離やパターンエッジ部分のギザツキが認められないものを○、一部に認められるものを△、全体に渡って認められるものを×と評価した。パターン断面形状ポストベーク前およびポストベーク後の20μmマスクパターンの断面形状を走査型電子顕微鏡SEM観察し、ポストベーク後にポストベーク前の台形形状が維持されているものを○、台形形状から台形の角が丸くなって半円形になった状態に形状が変わったものを×と評価した。表面粗度KLATencor社製P15を使用して表面粗度Raを測定した。ポストベーク後の塗膜の表面粗度Raの値が、150Å未満を○、150Å以上を×不良と評価した。表2において、各実施例、比較例の左欄は現像時間BT10秒、右欄はBT20秒の例の結果である。"