"2種以上の単量体α1~αnnは2以上の整数を重合してなり、当該単量体α1~αnからそれぞれ導かれる単量体単位α’1~α’nからなるリソグラフィー用共重合体であって、下記I~IVの過程を経て、複数の単量体単位からなる共重合体における、同一種類の前記単量体単位の3連子が全体の組成に占める割合を示す3連子分率を算出する共重合体の評価方法により算出した、単量体単位の3連子分率の合計が、共重合体中20モル以下であるリソグラフィー用共重合体。I既知サンプルである共重合体の組成における同一種類の単量体単位の3連子分率を、前記単量体単位の共重合反応性比から、下記計算式Hを用いて算出する目的変数分析過程。II前記既知サンプルの共重合体のNMR測定における化学シフト量及び信号強度から説明変数を出力する説明変数分析過程。III部分最小二乗回帰により前記目的変数と前記説明変数との回帰モデルの回帰式を求め、回帰モデルの係数を生成するモデル生成過程。IV前記回帰モデルを用い、未知サンプル共重合体のNMR測定における化学シフト量と信号強度とから、前記未知サンプルにおける同一種類の単量体単位の前記3連子分率を算出するサンプル解析過程。[M’j]は共重合体中の単量体単位jのモル分率、Pjjは単量体単位jが共重合体の成長末端の単量体単位であるとき、単量体単位jと反応する確率、[Mj]及び[Mh]は反応系中の各単量体単位j、hのモル分率、rjhは単量体単位jから単量体単位hへの共重合反応性比である。反応器内に単量体および重合開始剤を滴下しながら、該反応器内で2種以上の単量体α1~αnただし、nは2以上の整数を表す。を重合して、単量体単位α’1~α’nただし、α’1~α’nは単量体α1~αnからそれぞれ導かれる単量体単位を表す。からなる重合体Pを得る重合工程を有するリソグラフィー用重合体の製造方法であって、単量体を含有する、溶液Saaは1~d、dは1以上の整数、Tbbは1~e、eは1以上の整数およびUccは1~f、fは1以上の整数を用い、前記重合工程が、溶液SaおよびTbを、それぞれ反応器内へ供給する主工程と、該主工程が終了した後に溶液Ucを反応器内に供給する後工程とを有し、前記主工程において、前記反応器内に、前記重合開始剤を滴下する前または該重合開始剤の滴下開始と同時に、該反応器内に、前記単量体α1~αnを第1の組成で含有する溶液Saを供給開始し、該反応器内に前記溶液Saを供給開始した後または該溶液Saの供給開始と同時に、該反応器内に前記単量体α1~αnを第2の組成で含有する溶液Tbを滴下開始し、溶液Tbの滴下終了よりも前に、溶液Saの供給が終了し、得ようとする重合体Pにおける単量体単位α’1~α’nの含有比率を表わす目標組成単位:モルがα’1:α’2:...:α’nであるとき、前記溶液T1~Teそれぞれにおける単量体の組成である第2の組成は目標組成と同じであり、前記溶液S1~Sdそれぞれにおける単量体の組成は目標組成とは異なり、該溶液S1~Sdの合計における単量体の組成である第1の組成は、単量体α1~αnのうち、最も共重合反応速度が遅い単量体の割合が目標組成より多い組成であり、前記後工程において、前記溶液U1~Ufそれぞれにおける単量体の組成は目標組成とは異なり、該溶液U1~Ufの合計における単量体の組成である第3の組成は、単量体α1~αnのうち、最も共重合反応速度が遅い単量体の割合が目標組成より少ない組成である、リソグラフィー用重合体の製造方法。得ようとする重合体Pにおける単量体単位α’1~α’nの含有比率を表わす目標組成単位:モルがα’1:α’2:...:α’nであるとき、前記溶液S1~Sdの合計における単量体の組成である第1の組成の、各単量体単位の含有比率が、下記方法1~4により求めたS’aにおける各単量体単位の含有比率の値のそれぞれ0.8倍~1.2倍の範囲内であり、前記溶液U1~Ufの合計に含まれる単量体の合計量が全単量体供給量の0.1~10質量である、請求項2記載のリソグラフィー用重合体の製造方法。1まず、単量体組成が前記目標組成α’1:α’2:...:α’nと同じである単量体混合物100質量部と重合開始剤と溶媒を含有する滴下溶液を、溶媒のみを入れた反応器内に一定の滴下速度で滴下し、滴下開始からの経過時間がt1、t2、t3...のときに、それぞれ反応器内に残存している単量体α1~αnの組成単位:モルM1:M2:...:Mnと、t1からt2までの間、t2からt3までの間、...にそれぞれ生成した重合体における単量体単位α’1~α’nの比率単位:モルP1:P2:...:Pnを求める。2前記P1:P2:...:Pnが、目標組成α’1:α’2:...:α’nに最も近い時間帯tmからtm1までの間mは1以上の整数。を見つける。3該tmからtm1までの間におけるP1:P2:...:Pnの値と、経過時間tmにおけるM1:M2:...:Mnの値とから、下記式により、ファクターF1、F2、...Fnを求める。F1=P1/M1、F2=P2/M2、...Fn=Pn/Mn。4S’aの組成単位:モルをα11:α12:...:α1nで表わし、上記3において求められたファクターをF1、F2、...Fnで表わすと、α11=α’1/F1、α12=α’2/F2、...α1n=α’n/Fnである。得ようとする重合体Pにおける単量体単位α’1~α’nの含有比率を表わす目標組成単位:モルがα’1:α’2:...:α’nであるとき、前記溶液U1~Ufの合計における単量体の組成である第3の組成の、各単量体単位の含有比率が、下記方法5~8により求めたU’cにおける各単量体単位の含有比率の値のそれぞれ0.8倍~1.2倍の範囲内である、請求項2または3に記載のリソグラフィー用重合体の製造方法。5単量体組成が前記目標組成α’1:α’2:...:α’nと同じである単量体混合物100質量部と重合開始剤と溶媒を含有する滴下溶液を、溶媒のみを入れた反応器内に一定の滴下速度で滴下し、滴下開始からの経過時間がt1、t2、t3...のときに、それぞれ反応器内に残存している単量体α1~αnの組成単位:モルM1:M2:...:Mnと、t1からt2までの間、t2からt3までの間、...にそれぞれ生成した重合体における単量体単位α’1~α’nの比率単位:モルP1:P2:...:Pnを求める。6前記P1:P2:...:Pnが、目標組成α’1:α’2:...:α’nに最も近い時間帯tmからtm1までの間mは1以上の整数。を見つける。7該tmからtm1までの間におけるP1:P2:...:Pnの値と、経過時間tmにおけるM1:M2:...:Mnの値とから、下記式により、ファクターF1、F2、...Fnを求める。F1=P1/M1、F2=P2/M2、...Fn=Pn/Mn。8U’cの組成単位:モルをα31:α32:...:α3nで表わし、上記7において求められるファクターをF1、F2、...Fnただし、F1~Fnのうち最も小さいものは0に置換する。で表わすと、α31=α’1×F1/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fn、α32=α’2×F2/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fn、...α3n=α’n×Fn/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fnである。請求項2に記載の製造方法により得られるリソグラフィー用重合体。請求項1または5に記載のリソグラフィー用重合体、および活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。請求項6に記載のレジスト組成物を、基板の被加工面上に塗布してレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜に対して、露光する工程と、露光されたレジスト膜を現像液を用いて現像する工程とを含む、パターンが形成された基板の製造方法。2種以上の単量体単位からなる共重合体の組成において、同一種類の前記単量体単位の3連子が全体の組成に占める割合を示す3連子分率を算出する共重合体の評価方法であり、目的変数分析部が、既知サンプルである共重合体の組成における同一種類の単量体単位の3連子分率を、前記単量体単位の共重合反応性比から、下記計算式Hを用いて算出する目的変数分析過程と、説明変数分析部が、前記既知サンプルの共重合体のNMR測定における化学シフト量及び信号強度から説明変数を出力する説明変数分析過程と、モデル生成部が、部分最小二乗回帰により前記目的変数と前記説明変数との回帰モデルの回帰式を求め、前記回帰モデルの係数を生成するモデル生成過程と、サンプル解析部が、前記回帰モデルを用い、未知サンプル共重合体のNMR測定における化学シフト量と信号強度とから、未知サンプルにおける同一種類の単量体単位の前記3連子分率を算出するサンプル解析過程とを有する共重合体の評価方法。M’jは共重合体中の単量体単位jのモル分率、Pjjは単量体単位jが共重合体の成長末端の単量体単位であるとき、単量体単位jと反応する確率、Mj及びMhは反応系中の各単量体単位j、hのモル分率、rjhは単量体単位jから単量体単位hへの共重合反応性比である。共重合体における単量体単位の配列状態の共重合体組成解析方法であり、測定データ抽出部が、前記共重合体のNMRスペクトルから、前記共重合体を構成する前記単量体各々の波長が含まれる範囲のNMRスペクトルを共重合体測定データとして抽出する測定データ抽出過程と、主成分分析部が、前記共重合体測定データと、前記単量体の各々のNMRスペクトルの単量体測定データとの化学シフト及びスペクトル強度に対する主成分分析を、前記単量体の数nnは2以上の整数に対応する第n主成分まで行う主成分分析過程と、数値変換部が、前記第1主成分から第n主成分の主成分軸が構成するn次元の主成分空間において、前記主成分軸における前記単量体の主成分得点が表す座標点が全て含まれるn-1次元の比較空間から、前記共重合体の主成分得点が表す対象座標点までの評価距離を求める距離算出過程と、特性評価部が、前記評価距離により、前記共重合体の特性を評価する特性評価過程とを有する共重合体組成解析方法。2種以上の単量体を重合して共重合体を得る工程と、得られた共重合体を、請求項8に記載の共重合体の評価方法により評価する工程とを含む、共重合体の製造方法。2種以上の単量体を重合して共重合体を得る工程と、得られた共重合体を、請求項9に記載の共重合体組成解析方法により解析する工程とを含む、共重合体の製造方法。上述した特許文献4及び特許文献5の解析の方法を用いれば、レジスト用共重合体を評価するために、製造したレジスト用共重合体と他の添加物とを実際に用いてレジスト用組成物を調製し、このレジスト用組成物実際に用いるレジストに光を照射して現像を行って、レジストの特性評価を行う必要が無くなる。このように、特許文献4及び特許文献5の各々における解析方法は、製造されたレジスト用共重合体の性能を評価することができ、簡便であるうえに、レジスト用共重合体以外の成分の影響を排除することができる。このため、レジスト用共重合体自身の、レジスト組成物に用いたときの特性露光における光の感度及び現像における溶媒に対する溶解度などを含むリソグラフィー特性を評価するために有効である。また、集積回路の製造におけるリソグラフィー工程において、半導体材料上に塗布されたレジスト用組成物の上層または下層に形成される反射防止膜、ギャップフィル膜、トップコート膜などの薄膜形成として用いられる、レジスト用組成物以外のリソグラフィー用組成物の評価も、レジスト用組成物と同様に重要である。すなわち、リソグラフィー用共重合体を含有するリソグラフィー用組成物においても、高精度の微細加工を行うための特性リソグラフィー特性を有しているか否かが重要である。このリソグラフィー用組成物も、レジスト用組成物を評価する場合と同様に、リソグラフィー用共重合体を用いて調製したリソグラフィー用組成物によるリソグラフィー工程を、実際に行わなくとも、該リソグラフィー用共重合体をリソグラフィー用組成物に用いたときの、リソグラフィー特性を評価できることが必要である。反射防止膜は、レジスト用組成物の膜の下層に形成され、半導体材料からの光の反射を抑制してレジスト用組成物の露光の精度を向上させるために用いられるリソグラフィー用組成物である。また、ギャップフィル膜は、レジスト用組成物の膜の下層に形成され、半導体材料の凹凸を平坦化し、レジスト用組成物の露光精度を向上させるために用いられるリソグラフィー用組成物である。また、トップコート膜は、レジスト用組成物の膜の上層に形成され、レジスト用組成物の表面を保護するために用いられるリソグラフィー用組成物である。これら反射防止膜、ギャップフィル膜、トップコート膜は、集積回路の製造におけるリソグラフィー構成の露光の精度を向上させるために必要な構造であり、集積回路の微細化に無くてはならないものである。しかしながら、特許文献4、特許文献5及び非特許文献1などにおいては、PyGC法熱分解クロマトグラフィー法を用いて組成の定量を推定しているため、共重合体に含まれる単量体単位の種類によって、熱分解効率が異なったり、単量体単位を反映する熱分解生成物が定量的に得られないなどの理由から、補正係数や三次元プロット図を用いる必要があるなど、実用面において問題が生じる場合がある。本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、下記1~5の1以上を解決することを目的とする。1溶媒への溶解性、およびレジスト組成物に用いたときの感度を向上できるリソグラフィー用共重合体共重合体を提供する。2共重合体における単量体単位の含有比率のばらつきを改善でき、溶媒への溶解性、およびレジスト組成物に用いたときの感度を向上できるリソグラフィー用共重合体およびその製造方法を提供する。3かかるリソグラフィー用共重合体を用いたレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いて、パターンが形成された基板を製造する方法を提供する。4共重合体の共重合体連鎖構造を簡易に評価する共重合体の評価方法を提供する。5共重合体の単量体単位の配列状態を解析する、共重合体組成解析方法を提供する。上記目的は下記の<1>~<11>の本発明で解決される。<1>2種以上の単量体α1~αnnは2以上の整数を重合してなり、当該単量体α1~αnからそれぞれ導かれる単量体単位α’1~α’nからなるリソグラフィー用共重合体であって、下記I~IVの過程を経て、複数の単量体単位からなる共重合体における、同一種類の前記単量体単位の3連子が全体の組成に占める割合を示す3連子分率を算出する共重合体の評価方法により算出した、単量体単位の3連子分率の合計が、共重合体中20モル以下であるリソグラフィー用共重合体。I既知サンプルである共重合体の組成における同一種類の単量体単位の3連子分率を、前記単量体単位の共重合反応性比から、下記計算式Hを用いて算出する目的変数分析過程。II前記既知サンプルの共重合体のNMR測定における化学シフト量及び信号強度から説明変数を出力する説明変数分析過程。III部分最小二乗回帰により前記目的変数と前記説明変数との回帰モデルの回帰式を求め、回帰モデルの係数を生成するモデル生成過程。IV前記回帰モデルを用い、未知サンプル共重合体のNMR測定における化学シフト量と信号強度とから、前記未知サンプルにおける同一種類の単量体単位の前記3連子分率を算出するサンプル解析過程。[M’j]は共重合体中の単量体単位jのモル分率、Pjjは単量体単位jが共重合体の成長末端の単量体単位であるとき、単量体単位jと反応する確率、[Mj]及び[Mh]は反応系中の各単量体単位j、hのモル分率、rjhは単量体単位jから単量体単位hへの共重合反応性比である。<2>反応器内に単量体および重合開始剤を滴下しながら、該反応器内で2種以上の単量体α1~αnただし、nは2以上の整数を表す。を重合して、単量体単位α’1~α’nただし、α’1~α’nは単量体α1~αnからそれぞれ導かれる単量体単位を表す。からなる重合体Pを得る重合工程を有するリソグラフィー用共重合体の製造方法であって、単量体を含有する、溶液Saaは1~d、dは1以上の整数、Tbbは1~e、eは1以上の整数およびUccは1~f、fは1以上の整数を用い、前記重合工程が、溶液SaおよびTbを、それぞれ反応器内へ供給する主工程と、該主工程が終了した後に溶液Ucを反応器内に供給する後工程とを有し、前記主工程において、前記反応器内に、前記重合開始剤を滴下する前または該重合開始剤の滴下開始と同時に、該反応器内に、前記単量体α1~αnを第1の組成で含有する溶液Saを供給開始し、該反応器内に前記溶液Saを供給開始した後または該溶液Saの供給開始と同時に、該反応器内に前記単量体α1~αnを第2の組成で含有する溶液Tbを滴下開始し、溶液Tbの滴下終了よりも前に、溶液Saの供給が終了し、得ようとする重合体Pにおける単量体単位α’1~α’nの含有比率を表わす目標組成単位:モルがα’1:α’2:...:α’nであるとき、前記溶液T1~Teそれぞれにおける単量体の組成である第2の組成は目標組成と同じであり、前記溶液S1~Sdそれぞれにおける単量体の組成は目標組成とは異なり、該溶液S1~Sdの合計における単量体の組成である第1の組成は、単量体α1~αnのうち、最も共重合反応速度が遅い単量体の割合が目標組成より多い組成であり、前記溶液U1~Ufそれぞれにおける単量体の組成は目標組成とは異なり、該溶液U1~Ufの合計における単量体の組成である第3の組成は、単量体α1~αnのうち、最も共重合反応速度が遅い単量体の割合が目標組成より少ない組成である、リソグラフィー用共重合体の製造方法。<3>得ようとする重合体Pにおける単量体単位α’1~α’nの含有比率を表わす目標組成単位:モルがα’1:α’2:...:α’nであるとき、前記溶液S1~Sdの合計における単量体の組成である第1の組成の、各単量体の含有比率が、下記方法1~4により求めたS’aにおける各単量体の含有比率の値のそれぞれ0.8倍~1.2倍の範囲内であり、前記溶液U1~Ufの合計に含まれる単量体の合計量が全単量体供給量の0.1~10質量である、上記<2>に記載のリソグラフィー用共重合体の製造方法。1まず、単量体組成が前記目標組成α’1:α’2:...:α’nと同じである単量体混合物100質量部と重合開始剤と溶媒を含有する滴下溶液を、溶媒のみを入れた反応器内に一定の滴下速度で滴下し、滴下開始からの経過時間がt1、t2、t3...のときに、それぞれ反応器内に残存している単量体α1~αnの組成単位:モルM1:M2:...:Mnと、t1からt2までの間、t2からt3までの間、...にそれぞれ生成した重合体における単量体単位α’1~α’nの比率単位:モルP1:P2:...:Pnを求める。2前記P1:P2:...:Pnが、目標組成α’1:α’2:...:α’nに最も近い時間帯tmからtm1までの間mは1以上の整数。を見つける。3該tmからtm1までの間におけるP1:P2:...:Pnの値と、経過時間tmにおけるM1:M2:...:Mnの値とから、下記式により、ファクターF1、F2、...Fnを求める。F1=P1/M1、F2=P2/M2、...Fn=Pn/Mn。4S’aの組成単位:モルをα11:α12:...:α1nで表わし、上記3において求められたファクターをF1、F2、...Fnで表わすと、α11=α’1/F1、α12=α’2/F2、...α1n=α’n/Fnである。<4>得ようとする重合体Pにおける単量体単位α’1~α’nの含有比率を表わす目標組成単位:モルがα’1:α’2:...:α’nであるとき、前記溶液U1~Ufの合計における単量体の組成である第3の組成の、各単量体の含有比率が、下記方法5~8により求めたU’cにおける各単量体の含有比率の値のそれぞれ0.8倍~1.2倍の範囲内である、上記<2>または<3>に記載のリソグラフィー用共重合体の製造方法。5単量体組成が前記目標組成α’1:α’2:...:α’nと同じである単量体混合物100質量部と重合開始剤と溶媒を含有する滴下溶液を、溶媒のみを入れた反応器内に一定の滴下速度で滴下し、滴下開始からの経過時間がt1、t2、t3...のときに、それぞれ反応器内に残存している単量体α1~αnの組成単位:モルM1:M2:...:Mnと、t1からt2までの間、t2からt3までの間、...にそれぞれ生成した重合体における単量体単位α’1~α’nの比率単位:モルP1:P2:...:Pnを求める。6前記P1:P2:...:Pnが、目標組成α’1:α’2:...:α’nに最も近い時間帯tmからtm1までの間mは1以上の整数。を見つける。7該tmからtm1までの間におけるP1:P2:...:Pnの値と、経過時間tmにおけるM1:M2:...:Mnの値とから、下記式により、ファクターF1、F2、...Fnを求める。F1=P1/M1、F2=P2/M2、...Fn=Pn/Mn。8U’cの組成単位:モルをα31:α32:...:α3nで表わし、上記7において求められるファクターをF1、F2、...Fnただし、F1~Fnのうち最も小さいものは0に置換する。で表わすと、α31=α’1×F1/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fn、α32=α’2×F2/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fn、...α3n=α’n×Fn/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fnである。<5>上記<2>に記載の製造方法により得られるリソグラフィー用共重合体。<6>上記<1>または<5>に記載のリソグラフィー用共重合体、および活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。<7>上記<6>に記載のレジスト組成物を、基板の被加工面上に塗布してレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜に対して、露光する工程と、露光されたレジスト膜を現像液を用いて現像する工程とを含む、パターンが形成された基板の製造方法。<8>2種以上の単量体単位からなる共重合体の組成における、同一種類の前記単量体単位の3連子が全体の組成に占める割合を示す3連子分率を算出する共重合体の評価方法であり、目的変数分析部が、既知サンプルである共重合体の組成における同一種類の単量体単位の3連子分率を、前記単量体単位の共重合反応性比から、下記計算式Hを用いて算出する目的変数分析過程と、説明変数分析部が、前記既知サンプルの共重合体のNMR測定における化学シフト量及び信号強度から説明変数を出力する説明変数分析過程と、モデル生成部が、部分最小二乗回帰により前記目的変数と前記説明変数との回帰モデルの回帰式を求め、前記回帰モデルの係数を生成するモデル生成過程と、サンプル解析部が、前記回帰モデルを用い、未知サンプル共重合体のNMR測定における化学シフト量と信号強度とから、未知サンプルにおける同一種類の単量体単位の前記3連子分率を算出するサンプル解析過程とを有する共重合体の評価方法。M’jは共重合体中の単量体単位jのモル分率、Pjjは単量体単位jが共重合体の成長末端の単量体単位であるとき、単量体単位jと反応する確率、Mj及びMhは反応系中の各単量体単位j、hのモル分率、rjhは単量体単位jから単量体単位hへの共重合反応性比である。<9>共重合体における単量体単位の配列状態を解析する共重合体組成解析方法であり、測定データ抽出部が、前記共重合体のNMRスペクトルから、前記共重合体を構成する前記単量体各々の波長が含まれる範囲のNMRスペクトルを共重合体測定データとして抽出する測定データ抽出過程と、主成分分析部が、前記共重合体測定データと、前記単量体の各々のNMRスペクトルの単量体測定データとの化学シフト及びスペクトル強度に対する主成分分析を、前記単量体の数nnは2以上の整数に対応する第n主成分まで行う主成分分析過程と、数値変換部が、前記第1主成分から第n主成分の主成分軸が構成するn次元の主成分空間において、前記主成分軸における前記単量体の主成分得点が表す座標点が全て含まれるn-1次元の比較空間から、前記共重合体の主成分得点が表す対象座標点までの評価距離を求める距離算出過程と、特性評価部が、前記評価距離により、前記共重合体の特性を評価する特性評価過程とを有する共重合体組成解析方法。<10>2種以上の単量体を重合して共重合体を得る工程と、得られた共重合体を、上記<8>に記載の共重合体の評価方法により評価する工程とを含む、共重合体の製造方法。<11>2種以上の単量体を重合して共重合体を得る工程と、得られた共重合体を、上記<9>に記載の共重合体組成解析方法により解析する工程とを含む、共重合体の製造方法。本発明によれば、共重合体における同一種類の単量体単位の3連子分率が低減され、溶媒への溶解性が良好であり、レジスト組成物に用いたときに高い感度を有するリソグラフィー用共重合体が得られる。本発明によれば、単量体単位の含有比率のばらつき、および分子量のばらつきが改善され、溶媒への溶解性が良好であり、レジスト組成物に用いたときに高い感度を有するリソグラフィー用共重合体が得られる。本発明によれば、レジスト溶媒への溶解性が優れ、感度に優れる、化学増幅型のレジスト組成物が得られる。本発明によれば、高精度の微細なレジストパターンが形成された基板を安定して形成できる。本発明によれば、共重合体の共重合体連鎖を簡易に評価することができ、実際に組成物を生成することなく、該共重合体を組成物としたときの特性を評価できる。本発明によれば、共重合体の連鎖構造のランダム性を簡便に推定することができ、実際に組成物を生成することなく、該共重合体を組成物としたときの特性を評価できる。したがって、共重合体レジスト用共重合体、リソグラフィー用共重合体の組成において、共重合体における単量体の連鎖のランダム性を簡便に評価し、この共重合体を含む組成物レジスト用組成物、リソグラフィー用組成物の特性を、共重合体を用いて、実際に組成物を調製することなく評価することができる。すなわち、共重合体組成解析方法の実施形態においては、NMR測定により得られたNMRスペクトルを用いて、主成分空間において、使用されている全ての単量体の単独重合体の座標点を含む比較空間と、評価対象の共重合体の座標点との距離である比較距離を求め、この比較距離により共重合体の連鎖構造における単量体の配置のランダム性を判定し、このランダム性により共重合体を用いて調製した組成物の特性評価を行うため、従来に比較して簡易に組成物の評価が行える。また、共重合体組成解析方法の実施形態においては、重合体における単量体の定量あるいは連鎖分布の推定の際に、測定試料の調製で高温を与えないため、従来のように、熱処理の温度による試料の熱分解効率の違い、あるいは構成単位を反映する熱分解生成物が定量的に得られないなどの測定誤差がないため、補正処理などのために多大のサンプル数を用意する必要がなく、容易に重合体を調製して得られる組成物の評価が行える。ここでランダム性とは、隣接する単量体の種類が異なる、すなわち連鎖構造において同一の単量体が複数隣接して結合しているブロックが少ない連鎖状態の特性を示す。本明細書において、単量体単位は共重合体における組成の単位であり、各単量体から導かれる単位を意味する。単量体単位は構成単位ともいう。一方、単に、単量体と示す場合には共重合体となる前の単量体を示す。本明細書において、メタアクリル酸は、アクリル酸またはメタクリル酸を意味し、メタアクリロイルオキシは、アクリロイルオキシまたはメタクリロイルオキシを意味する。本明細書における重合体の重量平均分子量Mwおよび分子量分布Mw/Mnは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより、ポリスチレン換算で求めた値である。<共重合体重合体P>本発明の実施形態における共重合体以下、重合体Pということもある。は単量体単位α’1~α’nただし、α’1~α’nは単量体α1~αnからそれぞれ導かれる単量体単位を表す。nは2以上の整数を表す。からなる。nの上限は、本発明による効果が得られやすい点で6以下が好ましい。特に重合体Pが半導体リソグラフィー用共重合体例えばレジスト用共重合体である場合には、5以下がより好ましく、4以下がさらに好ましい。例えば、n=3である場合は、重合体Pは単量体単位α’1、α’2、α’3からなる三元系重合体Pα’1/α’2/α’3であり、n=4の場合は、単量体単位α’1、α’2、α’3、α’4からなる四元系重合体Pα’1/α’2/α’3/α’4である。重合体Pの用途は特に限定されない。例えば、リソグラフィー工程に用いられるリソグラフィー用共重合体が好ましい。リソグラフィー用共重合体としては、レジスト膜の形成に用いられるレジスト用共重合体、レジスト膜の上層に形成される反射防止膜TARC、またはレジスト膜の下層に形成される反射防止膜BARCの形成に用いられる反射防止膜用共重合体、ギャップフィル膜の形成に用いられるギャップフィル膜用共重合体、トップコート膜の形成に用いられるトップコート膜用共重合体が挙げられる。リソグラフィー用共重合体の重量平均分子量Mwは1,000~200,000が好ましく、2,000~40,000がより好ましい。分子量分布Mw/Mnは1.0~10.0が好ましく、1.1~4.0がより好ましい。重合体Pの単量体単位は、特に限定されず、用途および要求特性に応じて適宜選択される。レジスト用共重合体は、酸脱離性基を有する単量体単位および極性基を有する単量体単位を有することが好ましく、この他に、必要に応じて公知の単量体単位を有していてもよい。レジスト用共重合体の重量平均分子量Mwは1,000~100,000が好ましく、3,000~30,000がより好ましい。分子量分布Mw/Mnは1.0~3.0が好ましく、1.1~2.5がより好ましい。反射防止膜用共重合体は、例えば、吸光性基を有する単量体単位を有するとともに、レジスト膜との混合を避けるため、硬化剤などと反応して硬化可能なアミノ基、アミド基、ヒドロキシル基、エポキシ基等の反応性官能基を有する単量体単位を含むことが好ましい。吸光性基とは、レジスト組成物中の感光成分が感度を有する波長領域の光に対して、高い吸収性能を有する基であり、具体例としては、アントラセン環、ナフタレン環、ベンゼン環、キノリン環、キノキサリン環、チアゾール環等の環構造任意の置換基を有していてもよい。を有する基が挙げられる。特に、照射光として、KrFレーザ光が用いられる場合には、アントラセン環又は任意の置換基を有するアントラセン環が好ましく、ArFレーザ光が用いられる場合には、ベンゼン環又は任意の置換基を有するベンゼン環が好ましい。上記任意の置換基としては、フェノール性水酸基、アルコール性水酸基、カルボキシ基、カルボニル基、エステル基、アミノ基、又はアミド基等が挙げられる。かかる吸収性基を有する単量体単位を与える単量体の例として、スチレン、α-メチルスチレン、p-メチルスチレン、p-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレンなどのスチレン類及びその誘導体、置換又は非置換のフェニルメタアクリレート、置換又は非置換のナフタレンメタアクリレート、置換又は非置換のアントラセンメチルメタアクリレート等のエチレン性二重結合を有する芳香族含有エステル類等などを挙げることができる。特に、吸光性基として、保護された又は保護されていないフェノール性水酸基を有する反射防止膜用共重合体が、良好な現像性高解像性の観点から好ましい。上記吸光性基を有する単量体単位単量体として、例えば、ベンジルメタアクリレート実施例のm-6、p-ヒドロキシフェニルメタアクリレート等が挙げられる。かかる吸収性基を有する単量体単位の割合は、全単量体単位100モルのうち、10~100モルが好ましい。ギャップフィル膜用共重合体は、例えば、狭いギャップに流れ込むための適度な粘度を有するとともに、レジスト膜や反射防止膜との混合を避けるため、硬化剤などと反応して硬化可能な反応性官能基を有する単量体単位を含むことが好ましい。具体的にはヒドロキシスチレンと、スチレン、アルキルメタアクリレート、ヒドロキシアルキルメタアクリレート等の単量体との共重合体が挙げられる。液浸リソグラフィーに用いられるトップコート膜用共重合体の例としては、カルボキシル基を有する単量体単位を含む共重合体、水酸基が置換したフッ素含有基を有する単量体単位を含む共重合体等が挙げられる。<単量体単位単量体>重合体Pは、その単量体単位α’1~α’nにそれぞれ対応する単量体α1~αnを重合させて得られる。単量体はビニル基を有する化合物が好ましく、ラジカル重合しやすいものが好ましい。特にメタアクリル酸エステルは波長250nm以下の露光光に対する透明性が高い。以下、重合体Pがレジスト用共重合体である場合に、好適に用いられる単量体単位およびそれに対応する単量体について説明する。[酸脱離性基を有する単量体単位単量体]レジスト用共重合体は、酸脱離性基を有することが好ましい。酸脱離性基とは、酸により開裂する結合を有する基であり、該結合の開裂により酸脱離性基の一部または全部が重合体の主鎖から脱離する基である。レジスト用組成物において、酸脱離性基を有する単量体単位を有する重合体は、酸成分と反応してアルカリ性溶液に可溶となり、レジストパターン形成を可能とする作用を奏する。酸脱離性基を有する単量体単位としては、公知の酸脱離性基を有する単量体に由来する単量体単位が挙げられる。酸脱離性基を有する単量体単位の割合は、感度および解像度の点から、重合体を構成する全単量体単位100モルのうち、20モル以上が好ましく、25モル以上がより好ましい。また、基板等への密着性の点から、60モル以下が好ましく、55モル以下がより好ましく、50モル以下がさらに好ましい。酸脱離性基を有する単量体は、酸脱離性基および重合性多重結合を有する化合物であればよく、公知のものを使用できる。重合性多重結合とは重合反応時に開裂して共重合鎖を形成する多重結合であり、エチレン性二重結合が好ましい。酸脱離性基を有する単量体の具体例として、炭素数6~20の脂環式炭化水素基を有し、かつ酸脱離性基を有しているメタアクリル酸エステルが挙げられる。該脂環式炭化水素基は、メタアクリル酸エステルのエステル結合を構成する酸素原子と直接結合していてもよく、アルキレン基等の連結基を介して結合していてもよい。該メタアクリル酸エステルには、炭素数6~20の脂環式炭化水素基を有するとともに、メタアクリル酸エステルのエステル結合を構成する酸素原子との結合部位に第3級炭素原子を有するメタアクリル酸エステル、または、炭素数6~20の脂環式炭化水素基を有するとともに、該脂環式炭化水素基に-COOR基Rは置換基を有していてもよい第3級炭化水素基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、またはオキセパニル基を表す。が直接または連結基を介して結合しているメタアクリル酸エステルが含まれる。特に、波長250nm以下の光で露光するパターン形成方法に適用されるレジスト組成物を製造する場合には、酸脱離性基を有する単量体の好ましい例として、例えば、2-メチル-2-アダマンチルメタアクリレート、2-エチル-2-アダマンチルメタアクリレート、2-イソプロピル-2-アダマンチルメタアクリレート、1-1’-アダマンチル-1-メチルエチルメタアクリレート、1-メチルシクロヘキシルメタアクリレート、1-エチルシクロヘキシルメタアクリレート、1-メチルシクロペンチルメタアクリレート、1-エチルシクロペンチルメタアクリレート、1-エチルシクロオクチルメタアクリレート等が挙げられる。これらの中でも、1-エチルシクロヘキシルメタクリレート実施例のm-2、2-エチル-2-アダマンチルメタクリレート実施例のm-5、2-メチル-2-アダマンチルメタクリレート実施例のm-11、1-エチルシクロペンチルメタクリレート、2-イソプロピル-2-アダマンチルメタアクリレート、がより好ましい。酸脱離性基を有する単量体は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。[極性基を有する単量体単位単量体]極性基とは、極性を持つ官能基または極性を持つ原子団を有する基であり、具体例としては、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基、カルボキシ基、アミノ基、カルボニル基、フッ素原子を含む基、硫黄原子を含む基、ラクトン骨格を含む基、アセタール構造を含む基、エーテル結合を含む基などが挙げられる。これらのうちで、波長250nm以下の光で露光するパターン形成方法に適用されるレジスト用共重合体は、極性基を有する単量体単位として、ラクトン骨格を有する単量体単位を有することが好ましく、さらに後述の親水性基を有する単量体単位を有することが好ましい。ラクトン骨格を有する単量体単位単量体ラクトン骨格としては、例えば、4~20員環程度のラクトン骨格が挙げられる。ラクトン骨格は、ラクトン環のみの単環であってもよく、ラクトン環に脂肪族または芳香族の炭素環または複素環が縮合していてもよい。共重合体がラクトン骨格を有する単量体単位を含む場合、その含有量は、基板等への密着性の点から、全単量体単位100モルのうち、20モル以上が好ましく、35モル以上がより好ましい。また、感度および解像度の点から、60モル以下が好ましく、55モル以下がより好ましく、50モル以下がさらに好ましい。ラクトン骨格を有する単量体単位としては、ラクトン骨格を有する単量体に由来する単量体単位が挙げられる。ラクトン骨格を有する単量体としては、基板等への密着性に優れる点から、置換あるいは無置換のδ-バレロラクトン環を有するメタアクリル酸エステル、置換あるいは無置換のγ-ブチロラクトン環を有する単量体からなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましく、無置換のγ-ブチロラクトン環を有する単量体が特に好ましい。ラクトン骨格を有する単量体の具体例としては、β-メタアクリロイルオキシ-β-メチル-δ-バレロラクトン、4,4-ジメチル-2-メチレン-γ-ブチロラクトン、β-メタアクリロイルオキシ-γ-ブチロラクトン、β-メタアクリロイルオキシ-β-メチル-γ-ブチロラクトン、α-メタアクリロイルオキシ-γ-ブチロラクトン、2-1-メタアクリロイルオキシエチル-4-ブタノリド、メタアクリル酸パントイルラクトン、5-メタアクリロイルオキシ-2,6-ノルボルナンカルボラクトン、8-メタクリロキシ-4-オキサトリシクロ[5.2.1.026]デカン-3-オン、9-メタクリロキシ-4-オキサトリシクロ[5.2.1.026]デカン-3-オン等が挙げられる。また、類似構造を持つ単量体として、メタクリロイルオキシこはく酸無水物等も挙げられる。これらの中でも、α-メタクリロイルオキシ-γ-ブチロラクトン実施例のm-1、α-アクリロイルオキシ-γ-ブチロラクトン実施例のm-4、5-メタクリロイルオキシ-2,6-ノルボルナンカルボラクトン、8-メタクリロキシ-4-オキサトリシクロ[5.2.1.026]デカン-3-オンがより好ましい。ラクトン骨格を有する単量体は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。親水性基を有する単量体単位単量体本明細書における親水性基とは、-CCF32-OH、ヒドロキシ基、シアノ基、メトキシ基、カルボキシ基およびアミノ基の少なくとも1種である。これらのうちで、波長250nm以下の光で露光するパターン形成方法に適用されるレジスト用共重合体は、親水性基としてヒドロキシ基またはシアノ基を有することが好ましい。共重合体における親水性基を有する単量体単位の含有量は、レジストパターン矩形性の点から、全単量体単位100モルのうち、5~40モルが好ましい。上限値は35モル以下がより好ましく、30モル以下がさらに好ましく、25モル以下が特に好ましい。下限値は10モル以上がより好ましい。親水性基を有する単量体としては、例えば、末端ヒドロキシ基を有するメタアクリ酸エステル;単量体の親水性基上にアルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基等の置換基を有する誘導体;環式炭化水素基を有する単量体例えばメタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸1-イソボルニル、メタアクリル酸アダマンチル、メタアクリル酸トリシクロデカニル、メタアクリル酸ジシクロペンチル、メタアクリル酸2-メチル-2-アダマンチル、メタアクリル酸2-エチル-2-アダマンチル、スチレン、ビニルナフタレン、メタアクリル酸ナフチル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸フェニル等。が置換基としてヒドロキシ基、カルボキシ基等の親水性基を有する単量体;が挙げられる。親水性基を有する単量体の具体例としては、メタアクリル酸実施例のm-10、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル実施例のm-7、メタアクリル酸3-ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸2-ヒドロキシ-n-プロピル、メタアクリル酸4-ヒドロキシブチル、メタアクリル酸3-ヒドロキシアダマンチル、2-または3-シアノ-5-ノルボルニルメタアクリレート、2-シアノメチル-2-アダマンチルメタアクリレート等、ヒドロキシスチレン、ヒドロキシビニルナフタレンが挙げられる。基板等に対する密着性の点から、メタアクリル酸3-ヒドロキシアダマンチル、2-または3-シアノ-5-ノルボルニルメタアクリレート、2-シアノメチル-2-アダマンチルメタアクリレート等が好ましい。これらの中でも、メタクリル酸3-ヒドロキシアダマンチル実施例のm-3、2-シアノメチル-2-アダマンチルメタクリレート、ヒドロキシスチレン、ヒドロキシビニルナフタレン実施例のm-12がより好ましい。親水性基を有する単量体は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。[その他の単量体単位単量体]重合体Pは必要に応じて上述以外の公知の単量体その他の単量体から導かれる単量体単位を含むことができる。例えば、波長250nm以下の光で露光するパターン形成方法に適用されるレジスト用共重合体は、下記化学式iまたはiiで表される単量体から導かれる単量体単位を含むことができる。上記化学式i、iiにおいて、R1はH、F、メチル基又はトリフルオロメチル基。nは0~2の整数。Aはアルキル基、アルケニル基又はオキソアルキル基、又はアリール基、アラルキル基又はアリールオキソアルキル基。Pは活性光線、放射線、又は熱に感応し酸を発生する基。Zはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数2~20の環状構造を有する二価の炭化水素基である。基Pとして、具体的にはスルホニウム塩、ヨードニウム塩骨格を挙げることができる。上記化学式iまたはiiで表される単量体から導かれる単量体単位を含む重合体は、重合体鎖中に活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基化学式iまたはii中の基Pが結合しているため、当該重合体を含む組成物をレジスト用途に用いる場合、酸発生部位が均一に分散し、感度、解像性、パターンラフネス等が優れる等の効果が得られるため好ましい。その他の単量体として、直鎖もしくは分岐構造を有するメタアクリル酸エステル、芳香族アルケニル化合物、カルボン酸無水物が挙げられる。直鎖もしくは分岐構造を有するメタアクリル酸エステルの例としては、メタアクリル酸メチル実施例のm-8、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸n-プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸メトキシメチル、メタアクリル酸n-プロポキシエチル、メタアクリル酸イソプロポキシエチル、メタアクリル酸n-ブトキシエチル、メタアクリル酸イソブトキシエチル、メタアクリル酸tert-ブトキシエチル、メタアクリル酸2-エトキシエチル、メタアクリル酸1-エトキシエチル、メタアクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル、メタアクリル酸2,2,3,3-テトラフルオロ-n-プロピル、メタアクリル酸2,2,3,3,3-ペンタフルオロ-n-プロピル、α-トリフルオロメチルアクリル酸メチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸エチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸2-エチルヘキシル、α-トリフルオロメチルアクリル酸n-プロピル、α-トリフルオロメチルアクリル酸イソプロピル、α-トリフルオロメチルアクリル酸n-ブチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸イソブチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸tert-ブチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸メトキシメチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸エトキシエチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸n-プロポキシエチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸イソプロポキシエチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸n-ブトキシエチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸イソブトキシエチル、α-トリフルオロメチルアクリル酸tert-ブトキシエチル等が挙げられる。芳香族アルケニル化合物の例としては、スチレン実施例のm-9、α-メチルスチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。カルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。また、その他の単量体として、エチレン、プロピレン、ノルボルネン、テトラフルオロエチレン、アクリルアミド、N-メチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、塩化ビニル、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、ビニルピロリドン等も共重合可能である。<重合開始剤>重合開始剤は、熱により分解して効率的にラジカルを発生するものが好ましく、10時間半減期温度が重合温度条以下であるものを用いることが好ましい。例えばリソグラフィー用共重合体を製造する場合の、好ましい重合温度は50~150°Cであり、重合開始剤としては10時間半減期温度が50~70°Cのものを用いることが好ましい。また重合開始剤が効率的に分解するためには、重合開始剤の10時間半減期温度と重合温度との差が10°C以上であることが好ましい。重合開始剤の例としては、22’-アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル-22’-アゾビスイソブチレート、22’-アゾビス24-ジメチルバレロニトリル、22’-アゾビス[2-2-イミダゾリン-2-イルプロパン]等のアゾ化合物、25-ジメチル-25-ビスtert-ブチルパーオキシヘキサン、ジ4-tert-ブチルシクロヘキシルパーオキシジカーボネート等の有機過酸化物;が挙げられる。アゾ化合物がより好ましい。これらは市販品から入手可能である。例えばジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート和光純薬工業社製、V601商品名、10時間半減期温度66°C、22’-アゾビス24-ジメチルバレロニトリル和光純薬工業社製、V65商品名、10時間半減期温度51°C等を好適に用いることができる。<溶媒>重合工程においては重合溶媒を用いてもよい。重合溶媒としては、例えば、下記のものが挙げられる。エーテル類:鎖状エーテル例えばジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル以下、PGMEと記すこともある。等。、環状エーテル例えばテトラヒドロフラン以下、THFと記すこともある。、1,4-ジオキサン等。等。エステル類:酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート以下、PGMEAと記すこともある。、γ-ブチロラクトン等。ケトン類:アセトン、メチルエチルケトン以下、MEKと記すこともある。、メチルイソブチルケトン以下、MIBKと記すこともある。、シクロヘキサノン等。アミド類:N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド等。スルホキシド類:ジメチルスルホキシド等。芳香族炭化水素:ベンゼン、トルエン、キシレン等。脂肪族炭化水素:ヘキサン等。脂環式炭化水素:シクロヘキサン等。重合溶媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。重合溶媒の使用量は特に限定されないが、例えば、重合反応終了時の反応器内の液重合反応溶液の固形分濃度が20~40質量程度となる量が好ましい。<重合方法>重合体Pを製造するための重合方法としては、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等の公知の重合方法が挙げられる。これらのうち、光線透過率を低下させないために、重合反応終了後に残存する単量体を除去する工程を容易に行える点、共重合体の分子量を比較的低くできる点から、溶液重合法が好ましい。溶液重合法は、例えば、反応器内に溶媒及び全ての単量体を仕込んで反応させる方法以下、バッチ方式という。でもよいが、同一種類の単量体単位の3連子分率が小さい共重合体を製造しやすい点で、単量体および重合開始剤の反応器への供給を滴下で行う滴下重合法が好ましい。滴下重合法は、重合体を合成するために使用する全ての単量体を滴下により反応器内の溶媒に供給する方法以下、全滴下方式ということもある。でもよく、単量体の一部を予め反応器内に仕込んでおき、残りを滴下する方法以下、一部滴下方式ということもある。でもよい。特に以下の重合方法Z1またはZ2が好ましい。重合方法Z1は、重合反応の初期において、生成される共重合体の単量体組成のばらつきが小さくなるように制御する方法であり、重合方法Z2は、重合反応の初期および後期において、生成される共重合体の単量体組成のばらつきが小さくなるように制御する方法である。<重合方法Z1>予め反応器内に、単量体を第1の組成で含有する第1の溶液を仕込んでおき、反応器内を所定の重合温度まで加熱した後、反応器内に、単量体を含有する、1種以上の滴下溶液を滴下する。なお、第1の溶液は滴下等により反応器に徐々に供給してもよい。仮に、反応器内に予め単量体を仕込むことなく、滴下溶液と同じ単量体組成の溶液を一定時間かけて均一に滴下すると、共重合反応における単量体消費速度が速い単量体は、重合初期に所望の組成比よりも少ない割合で共重合体中に組み込まれ、単量体組成及び連鎖構造のばらつきを招く。したがって、本方法では、予め反応器内に仕込んでおく第1の溶液においては、単量体消費速度が遅い単量体の組成比含有比率を、重合反応に使用する全ての溶液の総量における該単量体の組成比よりも大きくすることが好ましい。具体的には、反応器内に単量体および重合開始剤を滴下しながら、前記反応器内で2種以上の単量体α1~αnnは2以上の整数を重合して、構成単位α’1~α’nただし、α’1~α’nは単量体α1~αnからそれぞれ導かれる構成単位を表す。からなる重合体Pを得る重合方法であって、下記VI及びVIIの工程を有する重合方法が好適である。VI反応器内に、重合開始剤を滴下する前または重合開始剤の滴下開始と同時に、前記反応器内に、単量体α1~αnを、各単量体の反応性比に応じて、重合初期から定常状態で重合させる割合の第1の組成で含有する第1の溶液を供給する工程;VII得ようとする重合体Pにおける構成単位α’1~α’nの含有比率を表わす目標組成単位:モルがα’1:α’2:...:α’nであるとき、前記反応器内に前記第1の溶液を供給開始した後または前記第1の溶液の供給開始と同時に、前記単量体α1~αnを、前記目標組成と同じ組成で含有する第2の溶液を供給する工程。この方法において、前記第1の組成は、反応器内に存在する単量体の含有比率が第1の組成であるとき、該反応器内に上記第2の溶液が滴下されると、滴下直後に生成される重合体分子の構成単位の含有比率が目標組成と同じになるように、設計された組成である。この場合、滴下直後に生成される重合体分子における構成単位の含有比率は、滴下された第2の溶液における単量体の含有比率目標組成と同じであるから、滴下直後に反応器内に残存する単量体の含有比率は常に一定第1の組成となる。したがって、かかる反応器内に第2の溶液の滴下を継続して行うと、常に目標組成の重合体分子が生成し続けるという定常状態が得られる。<重合方法Z2>さらに、共重合反応における単量体消費速度が遅い単量体は、重合後期に所望の組成比よりも多い割合で共重合体中に組み込まれ、単量体組成及び連鎖構造のばらつきを招く。したがって、本方法では、より共重合体組成のばらつきの少ない共重合体を製造しやすい点で、反応器内を所定の重合温度まで加熱した後、反応器内に供給する単量体を含有する滴下溶液を2種以上準備し、重合初期と重合後期とで滴下溶液の組成を変えることが好ましい。例えば、上記第1の溶液および第2の溶液滴下溶液を用いる方法の場合は、これらの溶液とは組成が異なる滴下溶液第3の溶液を、第2の溶液の滴下が終了した後に滴下する。重合後期に滴下される滴下溶液は、単量体消費速度が最も遅い単量体の割合が目標組成よりも少ないことが好ましく、単量体消費速度が最も遅い単量体を含まないことがより好ましい。また、重合後期に滴下される滴下溶液に含まれる単量体の合計量が全単量体供給量の0.1~10質量、好ましくは0.1~7.5質量、さらに好ましくは0.1~5質量であることが好ましい。重合方法Z1、Z2において、重合開始剤は単量体を含有する滴下溶液に含有させてもよく、単量体とは別に反応器内に滴下してもよい。滴下速度は、滴下終了まで一定であってもよく、単量体消費に合わせて多段階に変化させてもよい。滴下は、連続的に行ってもよく、間欠的に行ってもよい。重合温度は、50~150°Cが好ましい。第1の溶液および滴下溶液の溶媒としては、上記に重合溶媒として挙げたものを用いることができる。<精製方法>溶液重合によって製造された共重合体溶液は、必要に応じて、1,4-ジオキサン、アセトン、THF、MEK、MIBK、γ-ブチロラクトン、PGMEA、PGME、DMF等の良溶媒で適当な溶液粘度に希釈した後、メタノール、水、ヘキサン、ヘプタン等の多量の貧溶媒中に滴下して共重合体を析出させる。この工程は一般に再沈殿と呼ばれ、重合溶液中に残存する未反応の単量体や重合開始剤等を取り除くために非常に有効である。これらの未反応物は、そのまま残存しているとレジスト性能に悪影響を及ぼす可能性があるので、できるだけ取り除くことが好ましい。再沈殿工程は、場合により不要となることもある。その後、その析出物を濾別し、十分に乾燥して共重合体を得る。また、濾別した後、乾燥せずに湿粉のまま使用することもできる。また、製造された共重合体溶液はそのまま、または適当な溶媒で希釈してレジスト組成物として使うこともできる。その際、保存安定剤などの添加剤を適宜添加してもよい。<リソグラフィー用共重合体の製造方法の実施形態Z2’>重合反応の初期および後期において、生成される共重合体の単量体組成のばらつきが小さくなるように制御する方法重合方法Z2を用いてリソグラフィー用共重合体を製造する方法として、以下の方法リソグラフィー用共重合体の製造方法の実施形態Z2’が好ましい。本実施形態の製造方法は、反応器内に単量体および重合開始剤を滴下しながら、該反応器内で2種以上の単量体α1~αnを重合して、単量体単位α’1~α’nからなる重合体Pを得る重合工程を有する。該重合工程はラジカル重合法で行われ、本実施形態では、単量体および重合開始剤を反応器内に滴下しながら、該反応器内で重合を行う滴下重合法を用いる。本実施形態では、単量体を含有する溶液Saaは1~d、dは1以上の整数、Tbbは1~e、eは1以上の整数、Uccは1~f、fは1以上の整数を用いる。溶液Sa、Tb、~Ucは溶媒を含有することが好ましい。本実施形態における重合工程は、溶液Sa、Tbをそれぞれ反応器内へ供給する主工程と、該溶液SaおよびTbの供給が終了した後に溶液Ucを反応器内に供給する後工程とを有する。<主工程>まず、主工程について説明する。[溶液Tb]溶液Tbは、主工程で用いられる溶液T1、T2、...Teeは1以上の整数の総称である。溶液Tbとして、1つの溶液のみT1のみを用いてもよく、2つ以上の溶液T1、T2...Teを用いてもよい。eの上限値は特に限定されないが、多いと操作が煩雑になるため実質的には4以下が好ましく、3以下がより好ましい。溶液Tbにおける単量体の含有比率第2の組成は、得ようとする重合体Pにおける単量体単位α’1~α’nの含有比率を表す目標組成と同じである。溶液Tbとして2つ以上の溶液を用いる場合、溶液Tbの第2の組成とは、T1~Teそれぞれにおける単量体の組成を意味する。すなわち、T1~Teの各単量体組成はいずれも目標組成と同じである。例えば、重合体Pが、単量体x、y、zを共重合させて得られる3元系の重合体であって、目標組成モル、以下同様。がx’:y’:z’であるとき、第2の組成モル、以下同様。x:y:zはx’:y’:z’と同じにする。なお、本実施形態において、所期の効果を得るうえで、第2の組成モルは目標組成モルと同一であることが最も好ましいが、該目標組成に対して±10の範囲内、好ましくは±5の範囲内の誤差であれば許容される。すなわち該誤差範囲であれば、第2の組成と目標組成とが同じである、とみなすものとする。溶液Tbは滴下により反応器に供給する。[溶液Sa]溶液Saは、主工程で用いられる溶液S1、S2、...Sddは1以上の整数の総称である。溶液Saとして、1つの溶液のみS1のみを用いてもよく、2つ以上の溶液S1、S2...Sdを用いてもよい。dの上限値は特に限定されないが、多いと操作が煩雑になるため実質的には5以下が好ましく、4以下がより好ましい。溶液Saとして2つ以上の溶液を用いる場合、溶液Saにおける単量体の含有比率第1の組成は、S1~Sdの合計における単量体の組成を意味する。溶液S1~Sdのそれぞれにおける単量体の組成は、互いに同じでもよく、異なっていてもよく、いずれも目標組成とは異なる。第1の組成は、単量体α1~αnのうち、最も共重合反応速度が遅い単量体の割合が目標組成より多い組成である。第1の組成における、該最も共重合反応速度が遅い単量体の含有比率モルの値は、目標組成における、該最も共重合反応速度が遅い単量体の含有比率モルの値の1.1倍よりも多いことが好ましい。溶液Saにおける単量体の含有比率第1の組成は、重合体Pにおける目標組成と、重合に用いられる各単量体の反応性とを加味して予め求められた組成であることが好ましい。具体的に、溶液Saの第1の組成は、反応器内に存在する単量体の含有比率が第1の組成であるとき、該反応器内に上記溶液Tbが滴下されると、滴下直後に生成される重合体分子の単量体単位の含有比率が目標組成と同じになるように、設計された組成であることが好ましい。この場合、滴下直後に生成される重合体分子の単量体単位の含有比率が、滴下された溶液Tbの単量体の含有比率目標組成と同じであるから、滴下直後に反応器内に残存する単量体の含有比率は常に一定第1の組成となる。したがって、かかる反応器内に溶液Tbの滴下を継続して行うと、常に目標組成の重合体分子が生成し続けるという定常状態が得られる。かかる定常状態が得られるような第1の組成が存在することは、本発明者等によって初めて得られた知見である。第1の組成の設計方法は後述する。溶液Saは、予め反応器内に仕込んでおいてもよく、滴下等により反応器に徐々に供給してもよく、これらを組み合わせてもよい。[重合開始剤]重合開始剤は滴下により反応器に供給する。溶液Tbに重合開始剤を含有させてもよい。溶液Saを滴下する場合は、該溶液Saに重合開始剤を含有させてもよい。滴下する2以上の溶液Saおよび/またはTbに、重合開始剤を含有させてもよい。溶液Sa、溶液Tbとは別に、重合開始剤を含有する溶液重合開始剤溶液を滴下してもよい。これらを組み合わせてもよい。主工程における重合開始剤の使用量主工程における全供給量は、重合開始剤の種類に応じて、また得ようとする重合体Pの重量平均分子量の目標値に応じて設定される。例えば、本実施形態における重合体Pがリソグラフィー用共重合体である場合、主工程において反応器に供給される単量体の合計主工程における全供給量の100モルに対して、重合開始剤の使用量主工程における全供給量は1~25モルの範囲が好ましく、1.5~20モルの範囲がより好ましい。[溶液Saにおける単量体の含有量]重合工程で使用される単量体の合計量全単量体供給量は、溶液Sa、Tb、Ucに含まれる単量体の総和であり、得ようとする重合体Pの量に応じて設定される。また該全単量体供給量のうち、溶液Saに含まれる単量体の合計量が占める割合が少なすぎると、溶液Saを用いることによる所期の効果が充分に得られず、多すぎると重合工程の初期に生成される重合体の分子量が高くなりすぎる。したがって、全単量体供給量に対して、溶液Saに含まれる単量体の合計量は3~40質量が好ましく、5~30質量がより好ましい。[溶液Sa、溶液Tbの供給]主工程において、反応器内に重合開始剤を滴下したときに、該反応器内に溶液Saが存在していることが必要である。したがって、反応器内に重合開始剤を滴下する前または重合開始剤の滴下開始と同時に、該反応器内に溶液Saを供給開始する。また反応器内に溶液Tbを滴下したときに、該反応器内に溶液Saが存在していることが必要である。したがって、反応器内に溶液Saを供給開始した後または溶液Saの供給開始と同時に、該反応器内に溶液Tbを滴下開始する。溶液Tbの滴下開始は、前記重合開始剤の滴下開始と同時または前記重合開始剤の滴下開始より後であることが好ましい。重合開始剤の滴下開始と溶液Tbの滴下開始は同時であることが好ましい。溶液Tbの滴下終了よりも前に、溶液Saの供給を終了する。溶液Tbの滴下は、連続的でもよく、断続的でもよく、滴下速度が変化してもよい。生成される重合体の組成および分子量をより安定させるためには、連続的に、一定速度で滴下することが好ましい。溶液Saを滴下により供給する場合、連続的でもよく、断続的でもよく、滴下速度が変化してもよい。生成される重合体の組成および分子量をより安定させるためには、連続的に、一定速度で滴下することが好ましい。溶液Saは、重合工程の初期に、その全量を供給することが好ましい。具体的には、重合開始剤の滴下開始から溶液Tbの滴下終了までを基準時間とするとき、該基準時間の20が経過する以前に、溶液Saの供給を終了することが好ましい。例えば基準時間が4時間である場合は、重合開始剤の滴下開始から48分経過する以前に、溶液Saの全量を反応器内に供給することが好ましい。溶液Saの供給終了は、基準時間の15以前が好ましく、10以前がより好ましい。また基準時間の0の時点で溶液Saの全量が供給されていてもよい。すなわち重合開始剤の滴下開始前に、反応器内に溶液Saの全量を仕込んでおいてもよい。[重合開始剤の供給速度]主工程における重合開始剤の滴下は、溶液Tbの滴下終了時まで行ってもよく、その前に終了してもよい。溶液Tbの滴下終了時まで行うことが好ましい。重合開始剤の供給速度は一定でもよいが、特に、重合工程の初期における供給量を多くすることにより、重合初期における高分子量成分ハイポリマーの生成を抑制し、その結果、重合工程を終えて得られる重合体における分子量のばらつきを低減することができる。かかる分子量の均一化は、リソグラフィー用重合体のレジスト用溶媒への溶解性やアルカリ現像液への溶解性の向上に寄与し、レジスト組成物の感度の向上に寄与する。重合工程の初期における重合開始剤の供給量によって、重合工程の初期において生成される重合体の重量平均分子量が変化する。したがって、重合開始剤の最適な供給速度は、単量体の種類、単量体の供給速度、重合開始剤の種類、重合条件等によっても異なるが、特に重合工程の初期に生成される重合体の重量平均分子量が目標値に近くなるように設定することが好ましい。具体的には、前記基準時間の5~20が経過する以前の初期段階において、主工程で使用される重合開始剤の全供給量の30~90を供給し、その後は該初期段階よりも低速で重合開始剤を供給することが好ましい。該初期段階は、前記基準時間の5.5~17.5が好ましく、6~15がより好ましい。該初期段階における重合開始剤の供給量は、主工程で使用される重合開始剤の全供給量の35~85質量がより好ましく、40~80質量がさらに好ましい。[主工程の好ましい態様]主工程の好ましい態様としては、以下のa、b、cが挙げられる。a予め反応器内に、単量体α1~αnを第1の組成で含有する溶液Saの全量S1を仕込んでおき、反応器内を所定の重合温度まで加熱した後、該反応器内に、主工程で供給される重合開始剤の一部を含む重合開始剤溶液と、単量体α1~αnを第2の組成で含有するとともに、重合開始剤の残部を含む溶液Tbをそれぞれ滴下する。重合開始剤溶液と溶液Tbは同時に滴下開始するか、または重合開始剤溶液を先に滴下開始する。同時が好ましい。重合開始剤溶液の滴下開始から溶液Tbの滴下開始までの時間は0~10分が好ましい。滴下速度はそれぞれ一定であることが好ましい。重合開始剤溶液は溶液Tbよりも先に滴下を終了する。b反応器内に溶媒のみを仕込み、所定の重合温度まで加熱した後、単量体α1~αnを第1の組成で含有するとともに、主工程で供給される重合開始剤の一部を含む溶液Saと、単量体α1~αnを第2の組成で含有するとともに、該重合開始剤の残部を含む溶液Tbをそれぞれ滴下する。両液は同時に滴下開始するか、または溶液Saを先に滴下開始する。溶液Saの滴下開始から溶液Tbの滴下開始までの時間は0~10分が好ましい。滴下速度はそれぞれ一定であることが好ましい。溶液Tbよりも溶液Saの方が先に滴下を終了する。c予め反応器内に、溶液Saの一部を仕込んでおき、反応器内を所定の重合温度まで加熱した後、該反応器内に、溶液Saの残部に、主工程で供給される重合開始剤の一部を加えた溶液以下、溶液Saの残部という。と、単量体α1~αnを第2の組成で含有するとともに、重合開始剤の残部を含む溶液Tbをそれぞれ滴下する。溶液Saの残部と溶液Tbは同時に滴下開始するか、または溶液Saの残部を先に滴下開始する。同時が好ましい。溶液Saの残部の滴下開始から溶液Tbの滴下開始までの時間は0~10分が好ましい。滴下速度はそれぞれ一定であることが好ましい。溶液Saの残部は溶液Tbよりも先に滴下を終了する。<溶液Saの第1の組成の設計方法>以下、第1の組成の好ましい設計方法を説明する。下記方法1~4により、単量体組成単量体の含有比率S’aを求める。得ようとする重合体Pにおける単量体単位の含有比率目標組成、単位:モルが、α’1:α’2:...:α’nであるとき、S’aの組成単位:モルをα11:α12:...:α1nで表わし、下記1~3の方法で求められるファクターをF1、F2、...Fnで表わすと、α11=α’1/F1、α12=α’2/F2、...α1n=α’n/Fnとする。溶液Saの第1の組成における各単量体の含有比率は、S’aにおける各単量体の含有比率の値のそれぞれ0.8倍~1.2倍の範囲内であることが好ましく、0.9倍~1.1倍の範囲内がより好ましく、0.95倍~1.05倍の範囲内がさらに好ましい。1まず単量体組成が目標組成α’1:α’2:...:α’nと同じである単量体混合物100質量部と重合開始剤と溶媒を含有する滴下溶液を、溶媒のみを入れた反応器内に一定の滴下速度で滴下し、滴下開始からの経過時間がt1、t2、t3...のときに、それぞれ反応器内に残存している単量体α1~αnの組成単位:モルM1:M2:...:Mnと、t1からt2までの間、t2からt3までの間、...にそれぞれ生成した重合体における単量体単位α’1~α’nの比率単位:モルP1:P2:...:Pnを求める。2前記P1:P2:...:Pnが、目標組成α’1:α’2:...:α’nに最も近い時間帯tmからtm1までの間mは1以上の整数。を見つける。3該tmからtm1までの間におけるP1:P2:...:Pnの値と、経過時間tmにおけるM1:M2:...:Mnの値とから、下記式により、ファクターF1、F2、...Fnを求める。F1=P1/M1、F2=P2/M2、...Fn=Pn/Mn。4S’aの組成単位:モルをα11:α12:...:α1nで表わし、上記3において求められたファクターをF1、F2、...Fnで表わすと、α11=α’1/F1、α12=α’2/F2、...α1n=α’n/Fnである。より具体的に説明すると、例えば、重合体Pが、単量体x、y、zを共重合させて得られる3元系の重合体であって、目標組成がx’:y’:z’であるとき、S’aの組成モル、以下同様。x00:y00:z00は、下記の方法で求められるファクターFx、Fy、Fzを用いて、x00=x’/Fx、y00=y’/Fy、z00=z’/Fzにより算出される値とする。[ファクターFx、Fy、Fzの求め方]以下、重合体Pが3元系の重合体である場合を例に挙げて説明するが、2元系または4元系以上でも同様にしてファクターを求めることができる。1まず、単量体組成が目標組成x’:y’:z’と同じである単量体混合物と溶媒と重合開始剤を含有する滴下溶液を、反応器内に一定の滴下速度vで滴下する。反応器内には、予め溶媒のみを入れておく。滴下開始からの経過時間がt1、t2、t3...のときに、それぞれ反応器内に残存している単量体x、y、zの組成モルMx:My:Mzと、t1からt2までの間、t2からt3までの間...にそれぞれ生成した重合体における単量体単位の比率モルPx:Py:Pzを求める。2Px:Py:Pzが、目標組成x’:y’:z’に最も近い時間帯tmからtm1までの間mは1以上の整数。を見つける。3そのtmからtm1までの間におけるPx:Py:Pzの値と、経過時間tmにおけるMx:My:Mzの値とから、下記式により、ファクターFx、Fy、Fzを求める。Fx=Px/Mx、Fy=Py/My、Fz=Pz/Mz。ファクターFx、Fy、Fzは、各単量体の相対的な反応性を反映する値であり、重合に用いられる単量体の組み合わせまたは目標組成が変わると変化する。4S’aの組成モルx00:y00:z00は、ファクターFx、Fy、Fzを用いて、x00=x’/Fx、y00=y’/Fy、z00=z’/Fzにより算出される値である。本実施形態において、溶液Saの第1の組成を上記ファクターを用いて設計する場合、所期の効果を得るうえで、S’aの組成に対して±20の範囲内が好ましく、±10の範囲内がより好ましく、±5の範囲内がさらに好ましく、第1の組成モルがS’aモルと同一であることが最も好ましい。<後工程>後工程では、主工程が終了した反応器内に溶液Ucを滴下する。[溶液Uc]溶液Ucは、後工程で用いられる溶液U1、S2、...Uffは1以上の整数の総称である。溶液Ucとして、1つの溶液のみU1のみを用いてもよく、2つ以上の溶液U1、U2...Ufを用いてもよい。fの上限値は特に限定されないが、多いと操作が煩雑になるため実質的には5以下が好ましく、4以下がより好ましい。溶液Ucとして2つ以上の溶液を用いる場合、溶液Ucにおける単量体の含有比率第3の組成は、U1~Ufの合計における単量体の組成を意味する。溶液U1~Ufのそれぞれにおける単量体の組成は、互いに同じでもよく、異なっていてもよく、いずれも目標組成とは異なる。第3の組成は、単量体α1~αnのうち、最も共重合反応速度が遅い単量体の割合が目標組成より少ない組成である。第3の組成における、該最も共重合反応速度が遅い単量体の含有比率モルの値は、目標組成における、該最も共重合反応速度が遅い単量体の含有比率モルの値の0.9倍よりも少ないことが好ましく、0.7倍よりも少ないことがより好ましい。第3の組成における、該最も共重合反応速度が遅い単量体の含有比率はゼロでもよい。溶液Ucに含まれる単量体の合計量は、重合工程で使用される全単量体供給量の0.1~10質量、好ましくは0.1~7.5質量、更に好ましくは0.1~5質量である。0.1質量以上であると、後工程を設けることによる十分な効果が得られやすい。10質量以下または7.5質量以下または5質量以下であると重合体組成のばらつきを低減する効果が十分に得られやすい。<溶液Ucの第3の組成の設計方法>溶液Ucにおける単量体の組成第3の組成は、下記方法5~8により、単量体組成単量体の含有比率U’cを求め、該U’cに基づいて設計される組成が好ましい。U’cの組成は、前記第1の組成の設計方法におけるファクターF1~Fnのうち最も小さいものを0に置換する以外は、同じファクターを用いて、以下の方法で求める。すなわち、得ようとする重合体Pにおける単量体単位α’1~α’nの含有比率を表わす目標組成単位:モルがα’1:α’2:...:α’nであるとき、U’cの組成単位:モルをα31:α32:...:α3nで表わし、下記5~7の方法で求められるファクターをF1、F2、...Fnただし、F1~Fnのうち最も小さいものは0に置換する。で表わすと、α31=α’1×F1/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fn、α32=α’2×F2/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fn、...α3n=α’n×Fn/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fnとする。溶液Ucの第3の組成における各単量体の含有比率は、U’cにおける各単量体の含有比率の値のそれぞれ0.8倍~1.2倍の範囲内であることが好ましく、0.9倍~1.1倍の範囲内がより好ましく、0.95倍~1.05倍の範囲内がさらに好ましい。またU’cにおいて、最も共重合反応速度が遅い単量体の組成モルは0モルとなる。所期の効果を得るうえで、第3の組成における、該最も共重合反応速度が遅い単量体の組成モルは、10モル以下が好ましく、5モル以下がより好ましく、ゼロが最も好ましい。なお、下記方法5~7は、前記第1の組成の設計方法における方法1~3と同じである。5まず、単量体組成が前記目標組成α’1:α’2:...:α’nと同じである単量体混合物100質量部と重合開始剤と溶媒を含有する滴下溶液を、溶媒のみを入れた反応器内に一定の滴下速度で滴下し、滴下開始からの経過時間がt1、t2、t3...のときに、それぞれ反応器内に残存している単量体α1~αnの組成単位:モルM1:M2:...:Mnと、t1からt2までの間、t2からt3までの間、...にそれぞれ生成した重合体における単量体単位α’1~α’nの比率単位:モルP1:P2:...:Pnを求める。6前記P1:P2:...:Pnが、目標組成α’1:α’2:...:α’nに最も近い時間帯tmからtm1までの間mは1以上の整数。を見つける。7該tmからtm1までの間におけるP1:P2:...:Pnの値と、経過時間tmにおけるM1:M2:...:Mnの値とから、下記式により、ファクターF1、F2、...Fnを求める。F1=P1/M1、F2=P2/M2、...Fn=Pn/Mn。8U’cの組成単位:モルをα31:α32:...:α3nで表わし、上記7において求められるファクターをF1、F2、...Fnただし、F1~Fnのうち最も小さいものは0に置換する。で表わすと、α31=α’1×F1/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fn、α32=α’2×F2/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fn、...α3n=α’n×Fn/α’1×F1α’2×F2...α’n×Fnである。本実施形態において、溶液Ucの単量体の組成第3の組成を上記ファクターを用いて設計する場合、所期の効果を得るうえで、U’cの組成に対して±20の範囲内が好ましく、±10の範囲内がより好ましく、±5の範囲内がさらに好ましく、第3の組成がS’aモルと同一であることが最も好ましい。ただし、第3の組成における、該最も共重合反応速度が遅い単量体の組成モルは、10モル以下が好ましく、5モル以下がより好ましく、ゼロが最も好ましい。溶液Ucは、溶液Tbの滴下が終了したら直ちに滴下開始することが好ましい。溶液Ucの滴下はU1を連続的に供給してもよく、U1、U2...Ufを順に断続的に供給してもよい。滴下速度が変化してもよい。U1、U2...Ufのうちの2以上を同時に供給してもよい。時間の経過に伴って、溶液Ucの滴下により反応器内へ供給される、単位時間当たりの単量体の供給量U1、U2...Uf中の単量体の合計量が漸次、または段階的に減少することが好ましい。例えば、溶液Ucとして、単量体組成および単量体の含有量濃度がいずれも均一である1種の液U1を用い、滴下速度を連続的に減少させてもよく、段階的に減少させてもよい。または、溶液Ucとして、単量体組成は互いに同じ上記の誤差範囲は許容されるであるが、単量体の含有量濃度が互いに異なる2種以上の液U1、U2...Ufを用いてもよい。この場合には、滴下速度が一定であっても、単量体の濃度が減少するように2種以上の液を順次滴下させることによって、単位時間当たりの単量体の供給を漸次、または段階的に減少させることができる。具体的には、溶液Ucの滴下開始から滴下終了までを後滴下時間とし、後工程における単量体の全供給量を後滴下時間で除した値を平均供給速度とするとき、後滴下時間の0からkkは5~95までの期間を、該平均供給速度よりも高速で単量体を供給する高速供給期間とし、該高速供給期間に後工程における単量体の全供給量のうちの50~95質量を反応器内に供給することが好ましい。該kは20~80がより好ましく、30~70がさらに好ましい。該高速供給期間中に反応器内に供給される単量体は、後工程における単量体の全供給量のうちの60~90質量がより好ましく、70~85質量がより好ましい。後工程において、反応器内に溶液Ucを滴下したときに、該反応器内に重合開始剤が存在していることが必要である。したがって、後工程においても反応器内に重合開始剤を供給することが好ましい。溶液Ucに重合開始剤を含有させてもよく、溶液Ucとは別に、重合開始剤を含有する溶液重合開始剤溶液を滴下してもよい。これらを組み合わせてもよい。例えば、本実施形態における重合体Pがリソグラフィー用重合体である場合、後工程において反応器に供給される単量体の合計後主工程における単量体の全供給量の100モルに対して、重合開始剤の使用量後工程における重合開始剤の全供給量は1~25モルの範囲が好ましく、1.5~20モルの範囲がより好ましい。後工程の終了後、すなわち溶液Ucの滴下終了後、必要に応じて、反応器内を重合温度に保持する保持工程、冷却工程、精製工程等を適宜行うことができる。本発明者等の知見によれば、滴下重合において、単に単量体組成が目標組成と同じである単量体溶液のみを反応器に連続的に滴下した場合、重合開始直後に生成された重合体における単量体単位の含有比率は、目標組成との差が大きく、時間の経過に伴って次第に目標組成に近づくが、単量体溶液の滴下が終了して保持工程に入ると、生成される重合体における単量体単位の含有比率と、目標組成との差が次第に広がっていく。具体的には、保持工程における経過時間が長いほど、生成される重合体において、共重合反応速度が最も遅い単量体から導かれる単量体単位の組成比が顕著に大きくなる。このことから、単量体溶液の滴下終了時において、反応器内には、共重合反応速度が最も遅い単量体が、目標組成に対して過剰に残っていると考えられる。本実施形態では、まず主工程において、前記定常状態が得られるように単量体の含有比率が設計された溶液Saと溶液Tbを用いることにより、重合反応の開始直後から目標組成とほぼ同じ組成の重合体分子が生成され、その状態が継続される。したがって、主工程で生成される重合体は、単量体単位の含有比率のばらつきが低減されたものとなる。また主工程の後に、そのまま保持工程を行わず、共重合反応速度が最も遅い単量体の割合が目標組成より少ない溶液Ucを滴下する後工程を設けて、反応器内に、共重合反応速度が最も遅い単量体以外の単量体を、目標組成より多い割合で供給する。好ましくは、溶液Ucが共重合反応速度が最も遅い単量体を含まず、後工程において共重合反応速度が最も遅い単量体以外の単量体のみを供給する。これにより、溶液Tbの滴下終了時の反応器内に、目標組成に対して過剰に残っている、共重合反応速度が最も遅い単量体を効率良く消費しながら重合体を生成させることができるため、主工程後に生成される重合体における単量体単位の含有比率と、目標組成との差が経時的に広がるのが防止される。したがって、最終的に得られる重合体Pにおける単量体単位の含有比率のばらつきを低減できる。また、溶液Ucの単量体組成を、上記のファクターを用いた設計方法で得られる組成U’cとすることにより、主工程後に生成される重合体における単量体単位の含有比率を目標組成により近づけることができる。さらに後工程において、溶液Ucの滴下によって供給される単量体好ましくは、共重合反応速度が最も遅い単量体以外の単量体のみの、単位時間当たりの供給量を経時的に減少させることにより、反応器内において、共重合反応速度が最も遅い単量体が消費されて目標組成に対して相対的に不足するのを抑制できるため、反応器内の単量体の存在量が少なくなっても目標組成に近い単量体組成の重合体が生成しやすくなる。したがって、本実施形態によれば、主工程の初めから後工程の終わりまでの期間に生成される重合体における、単量体単位の含有比率のばらつきを低減させることができるため、重合工程で生成される重合体Pにおける単量体単位の含有比率のばらつきを小さくすることができる。よって、本実施形態によれば、溶媒への溶解性が良好であり、レジスト組成物に用いた際には高い感度を有する重合体Pを再現性良く得ることができる。なお、本実施形態の重合体はレジスト用途以外の用途にも適用可能であり、溶解性の向上効果が得られるほか、各種性能の向上が期待できる。<レジスト組成物>本発明の実施形態のレジスト組成物は、本実施形態のリソグラフィー用重合体をレジスト溶媒に溶解して調製される。レジスト溶媒としては、重合体の製造に用いた上記重合溶媒と同様のものが挙げられる。本実施形態のレジスト組成物が化学増幅型レジスト組成物である場合は、さらに活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物以下、光酸発生剤という。を含有させる。光酸発生剤光酸発生剤は、化学増幅型レジスト組成物において公知の光酸発生剤の中から任意に選択できる。光酸発生剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。光酸発生剤としては、例えば、オニウム塩化合物、スルホンイミド化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、キノンジアジド化合物、ジアゾメタン化合物等が挙げられる。レジスト組成物における光酸発生剤の含有量は、重合体100質量部に対して、0.1~20質量部が好ましく、0.5~10質量部がより好ましい。含窒素化合物化学増幅型レジスト組成物は、含窒素化合物を含んでいてもよい。含窒素化合物を含むことにより、レジストパターン形状、引き置き経時安定性等がさらに向上する。すなわち、レジストパターンの断面形状が矩形により近くなる。また半導体素子の量産ライン等では、レジスト膜に光を照射し、次いでベークPEBした後、次の現像処理までの間に数時間放置されることがあるが、そのような放置経時によるレジストパターンの断面形状の劣化の発生がより抑制される。含窒素化合物としては、アミンが好ましく、第2級低級脂肪族アミン、第3級低級脂肪族アミンがより好ましい。レジスト組成物における含窒素化合物の含有量は、重合体100質量部に対して、0.01~2質量部が好ましい。有機カルボン酸、リンのオキソ酸またはその誘導体化学増幅型レジスト組成物は、有機カルボン酸、リンのオキソ酸またはその誘導体以下、これらをまとめて酸化合物と記す。を含んでいてもよい。酸化合物を含むことにより、含窒素化合物の配合による感度劣化を抑えることができ、また、レジストパターン形状、引き置き経時安定性等がさらに向上する。有機カルボン酸としては、マロン酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、サリチル酸等が挙げられる。リンのオキソ酸またはその誘導体としては、リン酸またはその誘導体、ホスホン酸またはその誘導体、ホスフィン酸またはその誘導体等が挙げられる。レジスト組成物における酸化合物の含有量は、重合体100質量部に対して、0.01~5質量部が好ましい。添加剤本実施形態のレジスト組成物は、必要に応じて、界面活性剤、その他のクエンチャー、増感剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。該添加剤は、当該分野で公知のものであればいずれも使用可能である。また、これら添加剤の量は、特に限定されず、適宜決めればよい。<パターンが形成された基板の製造方法>本発明の実施形態の、パターンが形成された基板の製造方法の一例について説明する。まず、所望の微細パターンを形成しようとするシリコンウエハー等の基板の被加工面上に、本実施形態のレジスト組成物をスピンコート等により塗布する。そして、該レジスト組成物が塗布された基板を、ベーキング処理プリベーク等で乾燥することにより、基板上にレジスト膜を形成する。ついで、レジスト膜に対して、フォトマスクを介して露光を行い潜像を形成する。露光光としては、250nm以下の波長の光が好ましい。例えばKrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、F2エキシマレーザー、EUV光が好ましく、ArFエキシマレーザーが特に好ましい。また、電子線を照射してもよい。また、該レジスト膜と露光装置の最終レンズとの間に、純水、パーフルオロ-2-ブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロトリアルキルアミン等の高屈折率液体を介在させた状態で光を照射する液浸露光を行ってもよい。露光後、適宜熱処理露光後ベーク、PEBし、レジスト膜にアルカリ現像液を接触させ、露光部分を現像液に溶解させ、除去する現像。アルカリ現像液としては、公知のものが挙げられる。現像後、基板を純水等で適宜リンス処理する。このようにして基板上にレジストパターンが形成される。レジストパターンが形成された基板は、適宜熱処理ポストベークしてレジストを強化し、レジストのない部分を選択的にエッチングする。エッチング後、レジストを剥離剤によって除去することによって、微細パターンが形成された基板が得られる。特に、リソグラフィー用重合体の製造方法の実施形態Z2’により得られるリソグラフィー用重合体は、溶媒への溶解性に優れるとともに、高い感度のレジスト膜を形成できる。したがって、レジスト組成物を調製する際のレジスト溶媒への重合体の溶解を容易にかつ良好に行うことができる。またレジスト組成物はアルカリ現像液に対する優れた溶解性が得られ、感度の向上に寄与する。またレジスト組成物中の不溶分が少ないため、パターン形成において、該不溶分に起因する欠陥が生じにくい。したがって、かかるレジスト組成物を用いて、パターンが形成された基板を製造することにより、基板上に欠陥の少ない、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成できる。また、高感度および高解像度のレジスト組成物の使用が要求される、波長250nm以下の露光光を用いるフォトリソグラフィーまたは電子線リソグラフィー、例えばArFエキシマレーザー193nmを使用するリソグラフィーによる、パターン形成にも好適に用いることができる。なお、波長250nm以下の露光光を用いるフォトリソグラフィーに用いられるレジスト組成物を製造する場合には、重合体が該露光光の波長において透明であるように、単量体を適宜選択して用いることが好ましい。<共重合体の評価方法3連子の分率の予測>次に、図面を参照して、本発明の実施形態による共重合体を評価する共重合体評価方法について説明する。図1は、この一実施形態による共重合体評価方法を用いて共重合体の評価を行う共重合体評価装置の構成例を示す概略ブロック図である。図1において、共重合体評価装置は、目的変数分析部11、波形処理部12、説明変数分析部13、モデル生成部14、サンプル解析部15、記憶部16、表示部17及び制御部18を有している。目的変数分析部11は、既知サンプルである共重合体の各々の単量体単位の3連子の分率を、各単量体単位の共重合反応性比から算出して出力する。波形処理部12は、NMR測定を行い、得られた共重合体あるいは重合体のFIDFreeInductionDecay信号のフーリエ変換及びデータ処理を行う。説明変数分析部13は、既知サンプル及び未知サンプルのNMR測定における化学シフトに対する信号強度から説明変数を出力する。モデル生成部14は、部分最小二乗回帰PLSにより前記目的変数と前記説明変数との回帰式回帰モデルの回帰式を求め、サンプルモデル回帰モデルの回帰式及び回帰モデルの係数を生成する。サンプル解析部15は、サンプルモデルを用い、未知サンプルの化学シフトと信号強度から、未知サンプルの各々の単量体単位の3連子の割合、すなわち3連子分率の予測値を算出する。記憶部16は、説明変数、サンプルモデル及び3連子分率などの計算過程及び評価結果などのデータを記憶する。制御部18は、上述した各部の計算過程及び評価結果としての3連子の割合を示す3連子分率などを後述する結果テーブルとして、表示部17に表示するまた、制御部18は、図示しないキーボードから入力されるデータ及び制御コマンドを解析、あるいは共重合体評価装置内の各部に対して出力、あるいは図示しないNMR装置から入力されるデータを波形処理部12へ出力する。次に、図1を参照し、この図1の共重合体評価装置が行う本実施形態における共重合体評価方法による共重合体の評価動作について説明する。目的変数分析部11は、目的変数分析過程Iとして、以下に示すように、3連子分率を求める。目的変数分析部11は、共重合体における3連子の分率、すなわち3連子分率を計算により求める。ここで、3連子とは、重合体中に含まれる連続で結合した3個の構成単位を表す。また、各々の単量体単位の3連子とは、同一種類の単量体単位が3単位連続して結合した構造を表す。n個の構成単位からなる共重合体では、各々の単量体単位の3連子はn種類存在する。3個の構成単位の連鎖は、例えば、構成単位がAとBの2種類n=2とした場合、組み合わせとして、AAA、AAB、BAB、ABA、BBA、BBBの6種類存在する。この6種類のうち各々の単量体単位の3連子単量体のみからなる3連子は、AAA、BBBの2種類存在する。下記計算式Hから各々の単量体単位の3連子の分率を求めることができる。上記式において、[M’j]は共重合体中の単量体単位jのモル分率、Pjjは単量体単位jが共重合体の成長末端の構成単位であるとき、単量体単位jと反応する確率、[Mj]、[Mh]は反応系中の各単量体単位j、hのモル分率、rjhは単量体単位jからhへの共重合反応性比である。上記計算式Hで求められる各々の単量体単位の3連子分率は、共重合体の生成が1次Markov統計に従うとき、共重合反応性比と、重合率を10以内に抑えた共重合体の組成を用いた計算から求めることができる。目的変数分析部11は、単量体単位のモル分率の組み合わせと、この単量体単位のモル分率の組み合わせから上記計算式Hで得られた3連子分率とを対応させて、各単量体単位のモル分率毎に、モル分率3連子分率テーブルとして記憶部16に書き込んで記憶させる。次に、波形処理部12は、NMR測定により得られた共重合体あるいは重合体のFIDFreeInductionDecay信号のフーリエ変換及びデータ処理を行う。すなわち、波形処理部11は、NMR測定により得られたFID信号のフーリエ変換を行い、化学シフト周波数成分及び信号強度NMRスペクトルのスペクトル強度の情報を有するNMRスペクトル信号を生成する。このとき、測定する観測核の種類に対応して、BFブロードニングファクターを設定することにより予め実験において測定して、それぞれの観測核に対応するブロードニングファクターを設定する、対応した観測核のスペクトル分解能を向上させることができるので、共重合体、重合体における単量体の連鎖情報を含む組成の推定精度を向上させることが可能となる。また、NMR測定に用いる装置は、市販品を用いればよく、特に限定されることはないが、化学シフトの分解能が高い点から、磁場強度が7テスラ1H核の周波数として300MHz以上のNMR装置を用いることが好ましい。NMR測定での観測核は、共重合体Pの種類に応じて適宜選択すればよいが、天然存在比や感度が高い点から、1H、13C、19F、29Siが好ましい。NMR測定に用いるサンプル管の直径は、共重合体Pの種類に応じて適宜選択すればよいが、観測核として1H、19Fを選択した場合は、天然存在比が高い点から、3mmφ以上が好ましく、5mmφ以上がより好ましい。また、観測核として13C、29Siを選択した場合は、より高感度な信号強度を得ることができる点から、5mmφ以上が好ましく、10mmφ以上がより好ましい。NMR測定に用いる共重合体および重合体の試料濃度は、特に限定されないが、より高感度な信号強度を得ることができる点から、1質量以上が好ましく、また、5質量以上がより好ましく、10質量以上がさらに好ましい。また、試料溶液の粘度による緩和時間の影響を抑制する点から、50質量以下が好ましく、30質量以下がより好ましく、20質量以下がさらに好ましい。NMR測定に用いる重水素化溶媒は、共重合体および重合体を溶解させることができれば、特に限定されないが、例えば、重水素化クロロホルムCDCl3、重水素化ジメチルスルホキシドDMSO-d6、重水D2O、重水素化メタノールCH3ODあるいはCD3OD、重水素化テトラヒドロフランC4D4O、重水素化ヘキサフルオロイソプロパノールHFIP-d2などが挙げられる。また、化学シフトの基準物質として、テトラメチルシランTMSやCFCl3を添加してもよい。NMR測定時の試料温度は、試料溶媒の沸点以下であるか、共重合体および重合体の分解や変質が発生しない温度であれば、特に限定されないが、より高感度な信号強度を得ることができる点から、可能な限り高温であることが好ましい。NMR測定時のデータ積算回数は、特に限定されず、測定する観測核の種類に応じて適宜選択すればよいが、観測核として1H、19Fを選択した場合は、天然存在比が高い点から、4回以上が好ましく、16回以上がより好ましい。また、観測核として13C、29Siを選択した場合は、より高感度な信号強度を得ることができる点から、1500回以上が好ましく、3000回以上がより好ましい。ここで、NMR測定時の積算とは、NMR信号を複数回取り、この複数回の信号を重畳または積算あるいは加算し、該重畳した信号を最終的な試料の観察結果のFID信号とすることを意味している。次に、説明変数分析部13は、説明変数分析過程IIとして、以下に示すように、各サンプルの化学シフト及び信号強度を生成する。説明変数分析部13は、フーリエ変換された化学シフトとその波形からなるNMRスペクトル信号の位相合わせ各々のNMRスペクトル信号を左右対称とする補正処理と、ベースライン処理NMRスペクトル信号のベースラインを周波数軸に平行となるように補正する、ピーク積分化学シフトの予め設定した積分範囲後述する化学シフトの範囲を複数に分割した範囲における強度面積及び基準となる化学シフト値の設定規格化を行い、化学シフトと信号強度とからなるNMRスペクトル信号の定量使用情報G後述する行列を出力する。ここで、化学シフトの範囲は、共重合体を構成するそれぞれの構成単位の観測核が含まれる範囲を用いる。すなわち、NMRスペクトルの分割と積分において、フーリエ変換を行った後の化学シフトのスペクトル信号強度の積分を行う分割の間隔が重要となる。すなわち、説明変数分析部13は、m種類の共重合体または混合重合体のサンプルのうち、k番目のサンプルkは1~mの整数について、化学シフトを一定の間隔でp等分pは整数に分割し、分割した中のg番目の積分値をfkgとする。また、説明変数分析部13は、分割したスペクトルの積分値の合計を100として、規格化の処理を行う。つまり、fk1fk2fkgfkp=100次に、m種類全てのサンプルのg番目の積分値の平均値fg-aveを次式から求める。fg-ave=/m同様にして、p等分した分割スペクトル全てについて平均値を求めた後、i番目のサンプルの積分値について、NMRスペクトルの周波数範囲により規格化したスペクトルの積分毎に、対応する化学シフトの分割範囲の平均値fg-aveを差し引き、基準化した積分値bkgを求める。つまり、次式となる。bkg=fkg-fg-aveこの結果、k番目のサンプルのスペクトル強度は、次式のベクトルで表される。xk=そして、説明変数分析部13は、m種類のサンプル全てについてのスペクトル強度をまとめると、以下の11式で示される行列として定量使用情報Gを生成する。この定量使用情報Gは、説明変数を生成する基となる、化学シフト及び信号強度積分後となる。また、説明変数分析部13は、各サンプルに対して固有のサンプル識別情報を付加し、このサンプル識別情報と、このサンプル識別情報の示すサンプルの化学シフト及び信号強度とを対応させ、記憶部16にサンプルテーブルとして書き込み、記憶させる。次に、モデル生成部14は、モデル生成過程IIIとして、以下に示すように、説明変量側のモデルを生成する。モデル生成部14には、説明変量側のモデル式すなわち回帰モデルの回帰式の定義が、G=TPRGとして、内部に設定されている。このモデル式において、Tは説明変量側スコアであり、Pは説明変量側ローディングであり、RGは残渣行列である。ここで、ローディングとは因子サンプルの数値の分散をもっとも多くとらえる軸の方向座標ある。モデル生成部14には、目的変量側のモデル式すなわち回帰モデル回帰式の定義が、C=UQRCとして、内部に設定されている。この式において、Cは各単量体単位の3連子分率予測値の数値データであり、下記12式により表される行列であり、この行列においては、c1...cnは各単量体単位の3連子分率の数値を示すベクトルである。また、Uは目的変量側スコアであり、Qは目的変量側ローディングであり、RCは残渣行列である。そして、モデル生成部14は、各単量体単位の3連子分率が既知である既知サンプルのNMR測定の結果に基づき、このNMR測定結果のNMRスペクトルの行列Gと、各既知サンプルの第一の単量体単位の3連子分率を集めたベクトルc1を第1重みベクトルw1を介して、NMRスペクトルの行列Gを下記式のように定義する。G=c1w1R...i上記i式から残渣行列Rを排除し、c1の転置行列c1Tや逆行列-1を左から乗じて、以下の式から第1重みベクトルw1の妥協解を算出する。w1=-1c1TG...ii次に、モデル生成部14は、NMRスペクトルGと第1重みベクトルw1から、第1説明変量側スコアt1を、以下の式を用いて求める。Gw1T-1/2=t1...iiiそして、上記式により求めた第1説明変量側スコアt1により、第1目的変量側ローディングq1を下記の式から求める。c1=t1q1R’...ivこの式から、残渣行列R’を排除消去し、第1説明変量側スコアt1の転置行列t1T及び逆行列-1を左から乗じて、すなわち下記式により、第1目的変量側ローディングq1の妥協解を、下記の式に示すように求める。q1=-1t1Tc1...vそして、モデル生成部14は、C=UQRCの定義式を用いて、組成ベクトルc1と第1目的変量側ローディングq1の関係を、第1目的変量側スコアu1を介して、下記式として求める。c1=u1q1R’’...viモデル生成部14は、残渣行列R’’を排除消去し、第1目的変量側ローディングq1の転置行列q1T及び逆行列-1を右からかけて、第1目的変量側スコアu1の妥協解を、下記の式として求める。u1=c1q1T-1...viiそして、第1目的変量側スコアu1を内部相関係数s1を介して、第1説明変量側スコアt1とを下記式のように求める。u1=s1t1...viii一方、は、ここで得られたu1で、十分な相関が得られない場合、u1をi式のc1へ代入し、再度i~viiiの各式を計算し、この操作を繰り返し、u1が一定値に収束するまで繰り返す。このとき、モデル生成部14は、繰り返し計算直後のu1が、繰り返し計算直前のu1の0.99~1.01倍の範囲になったとき、u1が収束したとして計算を終了する。収束したu1が求まると、s1、t1、q1、w1各々が求まる。そして、モデル生成部14は、G=TPRGの定義式から、G=t1p1R’’’を求め、この式から残渣行列R’’’を排除消去し、t1の転置行列t1T及び逆行列-1を左から乗じて、p1の妥協解を以下の式のように求める。p1=-1t1TG...ix次に、上述の各式により求めたu1、q1、s1、t1、p1を用い、モデル式の残渣行列RGとRCに相当する行列G2とC2を下記式として表す。G2=G-t1p1...xC2=C-u1q1=C-s1t1q1...xiそして、モデル生成部14は、i式をベースとして、行列G2を、第二の単量体の3連子分率を集めたベクトルc2と第2重みベクトルw2を用いて、下記式のように、求める。G2=c2w2R2...i’以下、ii~ix式と同様にして、u2、s2、t2、q2、w2、p2を求める。以下同様にして、モデル生成部14は、u3~un、s3~sn、t3~tn、q3~qn、w3~wn、p3~pnを求める。たとえば、モデル式の残渣行列RGとRCに相当する行列GnとCnは下記式として表わされる。Gn=G-tn-1pn-1...xiiCn=C-un-1qn-1=C-sn-1tn-1qn-1...xiiiそして、モデル生成部14は、i式をベースとして、行列Gnを、第nの単量体の3連子分率を集めたベクトルcnと第n重みベクトルwnを用いて、下記式のように求める。Gn=cnwnRn...i’’以下、ii~ix式と同様にして、un、tn、qn、wn、pnが求められる。次に、モデル生成部14は、上述のように求めた既知サンプル毎の、サンプルデータ回帰モデルの係数、すなわち回帰式の係数のベクトルであるベクトルu1~un、s1~sn、t1~tn、q1~qn、w1~wn、p1~pnを、既知サンプルのサンプルデータとして記憶部16に書き込み、既知サンプルのサンプルデータとして記憶させる。次に、サンプル解析部15は、サンプル解析過程IVとして、以下に示すように、モデル生成部14が生成したサンプルデータを基に、サンプル解析部15が未知サンプルの3連子分率3連子分率予測値を算出する。波形処理部12は、NMR測定により得られた共重合体あるいは重合体のFID信号のフーリエ変換及びデータ処理を行う。この波形処理部12の処理は、すでに既知サンプルで説明した処理と同様に、未知サンプルのNMRスペクトル信号を生成する。次に、サンプル解析部15は、説明変数分析部13が行ったNMRスペクトル信号の信号処理と同様に、フーリエ変換された化学シフトとその波形からなるNMRスペクトル信号の位相合わせと、ベースライン処理、ピーク積分及び基準となる化学シフト値規格化の設定を行う。ここで、化学シフトの範囲は、共重合体を構成するそれぞれの構成単位の観測核が含まれる範囲を用いる。そして、サンプル解析部15は、化学シフトと信号強度とからなるNMRスペクトル信号の定量使用情報Aを下記13式に示す行列として出力する。この定量使用情報Aは未知サンプルが3m=3の場合であるが、未知試料は1つでも複数でも同様の処理が行われる。次に、サンプル解析部15は、記憶部16に記憶されているサンプルデータから、重みベクトルw1~wnを読み出し、説明変量NMRスペクトル側のスコアtA1~tAnを以下の式から求める。Aw1T-1/2=tA1AwnT-1/2=tAnそして、サンプル解析部15は、記憶部16に記憶されている、既にモデル生成部14により求められた内部相関係数s1~snを読出、目的変量各単量体の3連子分率側のスコアベクトルuA1~uAnを下記式から求める。uA1=s1tA1uAn=sntAn次に、サンプル解析部15は、記憶部16に記憶されている、既にモデル生成部14により求められたベクトルq1~qnを用い、上述したように求めたuA1~uAnから、未知試料の各単量体単位の3連子分率ベクトルcA1~cAnを算出し、3連子分率の予測値として出力する。この3連子分率ベクトルcA1からcAnは、3つの未知試料のそれぞれにおけるn個の単量体単位毎の3連子分率の予測値3連子分率予測値が示されている。cA1=uA1q1cAn=uAnqnそして、制御部18は、各未知試料のn個の単量体単位毎の3連子分率予測値を結果テーブルとして、表示部17に表示する。上述した本実施形態の共重合体評価方法によれば、不必要な熱をサンプルに印加することないため、共重合体の組成における、この共重合体を構成する単量体単位それぞれの3連子分率3連子分率予測値を高い精度により予測することができる。一般に、半導体リソグラフィー用組成物に用いられる溶剤は、単独重合体に対する溶解性に乏しいことから、同一の構成単位が連なった重合連鎖は、溶剤への溶解性を悪化させると推察される。実際、後述の実施例に示されるように、共重合体連鎖に含有される各々の同一種類の単量体単位の3連子分率が少ないと、溶剤に対する共重合体の溶解性が向上するとともに、該共重合体を含むレジスト組成物における照射する光に対する感度が向上する。感度については、共重合体連鎖に含有される各々の同一種類の単量体単位の3連子分率が少ないと、単量体単位が同一割合であるとしても、各共重合体鎖中に単量体構成単位がより均一に分布していると推測される。したがって、同一種類の単量体単位の3連子分率の少ない共重合体を用いてレジスト組成物を生成した場合、レジスト組成物が照射される光に対して高い感度を有すると考えられる。以上の理由から、本発明の実施形態による共重合体評価方法は、共重合体を構成する単量体の連鎖構造におけるランダム性を簡便に評価することができ、概況重合体を含むレジスト組成物リソグラフィー用組成物の特性を、実際にレジスト組成物を調製することなく、単量体を合成した共重合体における同一種類の単量体単位の3連子分率を求めることにより、この共重合体から調製されるレジスト組成物の光に対する感度を評価することができる。なお、共重合体連鎖に含有される各々の単量体単位3連子の分率は、重合条件によって制御することができる。一般に、共重合体の合成における各単量体の使用量は、得ようとする単量体組成の目標値に応じて決められ、合成後の共重合体における平均単量体組成が、該目標の単量体組成に近くなるように重合条件等が設定される。しかしながら、多くの場合、共重合させる単量体の共重合反応性比が互いに異なるため、ランダムに共重合せずに、得られる共重合体の単量体単位組成に差が生じるとともに、その共重合連鎖に偏りが生じる。また、本発明者等の知見によれば、反応時間重合率の違いによっても得られる共重合体の単量体組成に差が生じ、特に重合反応の初期および後期においては、単量体組成が目標値とは大きく異なり、同一の構成単位が連なった重合連鎖を多く含有した共重合体が生成されやすい。そこで、例えば後述の実施例に示されるように、前記の重合方法Z1、またはZ2、好ましくは一部滴下方式を用いて、重合反応の初期、または重合反応の初期と後期において、生成される共重合体の単量体組成のばらつきが小さくなるように制御すると、かかる制御を行わない場合に比べて、単量体単位の3連子分率の予測値が小さくなり、共重合体の溶剤に対する溶解性、および該共重合体を含むレジスト組成物の感度が向上する。前記リソグラフィー用重合体の製造方法の実施形態Z2’を用いて、重合反応の初期と後期において、生成される共重合体の単量体組成のばらつきが小さくなるように制御することがより好ましい。具体的に、本実施形態の共重合体評価方法にて算出した単量体単位の3連子分率3連子分率予測値の合計が、共重合体中20モル以下であるリソグラフィー用共重合体が好ましい。該3連子分率の合計は15モル以下がより好ましく、13モル以下がさらに好ましい。かかる3連子分率の合計が、上記の範囲であるリソグラフィー用共重合体は、溶媒への溶解性に優れるとともに、高い感度のレジスト膜を形成できる。したがって、レジスト組成物を調製する際のレジスト溶媒への重合体の溶解を容易にかつ良好に行うことができる。またレジスト組成物はアルカリ現像液に対する優れた溶解性が得られ、感度の向上に寄与する。またレジスト組成物中の不溶分が少ないため、パターン形成において、該不溶分に起因する欠陥が生じにくい。したがって、かかるレジスト組成物を用いて、パターンが形成された基板を製造することにより、基板上に欠陥の少ない、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成できる。また、高感度および高解像度のレジスト組成物の使用が要求される、波長250nm以下の露光光を用いるフォトリソグラフィーまたは電子線リソグラフィー、例えばArFエキシマレーザー193nmを使用するリソグラフィーによる、パターン形成にも好適に用いることができる。なお、波長250nm以下の露光光を用いるフォトリソグラフィーに用いられるレジスト組成物を製造する場合には、重合体が該露光光の波長において透明であるように、単量体を適宜選択して用いることが好ましい。<共重合体組成解析方法連鎖構造のランダム性の推定>図2は、本発明の一実施形態の共重合体組成解析方法による、共重合体における単量体単位の配列状態の解析を行う共重合体組成解析装置の構成例を示す概略ブロック図である。共重合体組成解析装置は、共重合体における単量体単位の配列状態の共重合体組成解析方法において使用されるコンピュータに実行させるための、以下のプログラムを備える。測定データ抽出部が、前記共重合体のNMRスペクトルから、前記共重合体を構成する前記単量体各々の波長が含まれる範囲のNMRスペクトルを共重合体測定データとして抽出する測定データ抽出の処理と、主成分分析部が、前記共重合体測定データと、前記単量体の各々のNMRスペクトルの単量体測定データとの化学シフト及びスペクトル強度に対する主成分分析を、前記単量体の数nnは2以上の整数に対応する第n主成分まで行う主成分分析の処理と、数値変換部が、前記第1主成分から第n主成分の主成分軸が構成するn次元の主成分空間において、前記主成分軸における前記単量体の主成分得点が表す座標点が全て含まれるn-1次元の比較空間から、前記共重合体の主成分得点が表す対象座標点までの評価距離を求める距離算出の処理と、特性評価部が、前記評価距離により、前記共重合体の特性を評価する特性評価の処理とをコンピュータに実行させるためのプログラム。具体的に、本実施形態による共重合体組成解析装置31は、波形処理部311、主成分分析部312、数値変換部313、特性評価部314、NMRデータ記憶部315及び主成分データ記憶部316を具備している。波形処理部311は、NMR測定部350から入力される共重合体あるいは重合体のFIDFreeInductionDecay信号のフーリエ変換及びデータ処理を行い、化学シフト量周波数成分及び化学シフト量毎のスペクトル強度からなるNMRスペクトルデータを、各サンプル毎にサンプル識別情報を付与し、サンプル識別情報とともにNMRスペクトルデータをNMRデータ記憶部315に書き込み、記憶させる。また、NMRデータ記憶部315には、評価対象の共重合体あるいは重合体を構成する、各単量体のみからなる単独重合体の化学シフト量及び化学シフト量毎のスペクトル強度からなるNMRスペクトルデータが、あらかじめそれぞれの単量体識別情報とともに記憶されている。また、評価対象の共重合体と同様に、波形処理部311は、NMR測定部350が測定した単独重合体のNMRスペクトルからNMRスペクトルデータを生成し、それぞれの単量体識別情報とともに記憶させても良い。主成分分析部312は、NMRデータ記憶部315に記憶されている複数サンプルの主成分分析を行い、サンプル毎に主成分それぞれの主成分得点を、主成分データ記憶部316において、対応するサンプル識別情報毎、単量体識別情報毎に書き込む。ここで、主成分分析部312は、主成分分析において、主成分軸の数、すなわち主成分数を、共重合体及び重合体を生成するために用いた単量体の種類の数だけ、得られた主成分のなかから寄与率の高い主成分の順番に選択する。すなわち、主成分分析の結果から得られる主成分から選択する主成分の数は、評価対象の共重合体を構成する単量体の種類の数と同一であり、後述する主成分空間の次元数もこの単量体の種類の数と同一である。例えば、主成分分析部312は、3種類の単量体から生成される共重合体の組成連鎖構造における各単量体の配列の解析を行う場合、主成分分析の結果として3つの主成分を、寄与率の高い方から選択することになる。数値変換部313は、各主成分の主成分軸から形成される主成分空間内において、評価対象の共重合体の各主成分軸における主成分得点の示す点、すなわち主成分空間における評価対象の共重合体の座標点から、1種類の単量体のみからなる単独重合体全てのサンプルの座標点が含まれる空間との距離を評価距離として求める。ここで、主成分空間とは、主成分分析により得られた主成分から選択されたn2≦n個の主成分に対応する互いに直行する主成分軸により構成される空間を示している。この主成分空間の座標点は、各主成分軸の主成分得点を座標値として、n個の主成分軸の座標値により示される、n次元空間における座標の点となる。例えば、図3は、3種類の単量体を重合して生成した共重合体に対して行った主成分分析の結果を示す、3次元の主成分空間における各サンプルの座標点を示す図である。単量体が3種用いられ、主成分数が3個の場合、主成分空間は3次元となり、この3次元空間において、3種の単量体の3つの座標点は比較空間として2次元平面2次元空間Qを形成する。すなわち、3種の単量体全ての座標点PA-1、PA-2、PA-3が含まれる空間として、この3個の座標点から比較空間として2次元空間Qが形成されることになる。また、数値変換部313は、解析対象である共重合体の3次元空間における座標点PSと、各単量体の座標点が形成する2次元の比較空間Qとの評価距離LSを算出する。数値変換部313が行う評価距離LSの算出については後に詳述する。特性評価部314は、単独重合体の座標点を全てを含む比較空間Qと、評価対象の共重合体の座標点との評価距離LSから、この共重合体の組成の連鎖構造における各単量体の配列のランダム性を判定し、この判定結果から評価対象の共重合体の組成物のリソグラフィー特性の評価を行い、結果を図示しない表示画面に出力する。本実施形態における共重合体組成解析装置を用いた共重合体の評価方法共重合体組成解析方法は、下記の各過程を含んでいる。1リソグラフィー用共重合体を溶媒に溶解させ、共重合体のNMR測定を行う測定過程NMR測定部350において行われる;2測定過程1により得られた共重合体のFID信号のフーリエ変換及びデータ処理を行う波形処理過程波形処理部311において行われる;3波形処理過程2から出力されるNMRスペクトルデータの定量使用情報の主成分分析を、各サンプルに対して行い、選択した主成分それぞれのサンプルの主成分得点を算出する主成分分析過程主成分分析部312において行われる;4単量体の種類の数の主成分軸から構成される、すなわち単量体の種類数を次元数とする主成分空間において、前記過程3から出力される各主成分の主成分得点を直行する相異なる座標軸主成分軸上の位置を座標値として表し、また各サンプルの主成分空間における位置である座標点を各座標軸主成分軸の座標値主成分得点により示し、単独重合体の主成分得点が表す座標点全てを通る比較空間と、各サンプルが表す座標点との距離である評価距離を算出する数値変換過程数値変換部313において行われる;5前記1~4過程において算出される、単独重合体の主成分得点が表す座標点全てを通る比較空間と、各サンプルが表す点との評価距離により、前記リソグラフィー用共重合体を含む組成物のリソグラフィー特性を評価する特性評価過程特性評価部314において行われる。本実施形態において、前記特性評価部314が、前記評価距離により、前記共重合体の組成において、同一種類の前記単量体が連続して配置される長さを評価することが好ましい。また、前記特性評価部が、前記評価距離を判定するための閾値を有し、前記評価距離と前記閾値との比較により、前記共重合体を用いて調製される組成物の特性を評価することが好ましい。前記共重合体がレジスト用共重合体である場合には、前記特性評価部が、溶媒に対する溶解性及び露光における感度を含むリソグラフィー特性を、前記評価距離と、前記閾値とを比較することにより評価することができる。NMR測定に用いるNMR測定部350としての装置は、市販品を用いればよく、特に限定されることはない。しかしながら、化学シフトの分解能が高い点から、磁場強度が7テスラ1H核の周波数として300MHz以上のNMR装置を用いることが好ましい。NMR測定での観測核は、共重合体Pの種類に応じて適宜選択すればよいが、天然存在比や感度が高い点から、1H、13C、19F、29Siが好ましい。NMR測定に用いるサンプル管の直径は、共重合体Pの種類に応じて適宜選択すればよいが、観測核として1H、19Fを選択した場合は、天然存在比が高い点から、3mmφ以上が好ましく、5mmφ以上がより好ましい。また、観測核として13C、29Siを選択した場合は、より高感度な信号強度を得ることができる点から、5mmφ以上が好ましく、10mmφ以上がより好ましい。NMR測定に用いる共重合体の重水素化溶媒における試料濃度は、特に限定されないが、より高感度な信号強度を得ることができる点から、1質量以上が好ましく、また、5質量以上がより好ましく、10質量以上がさらに好ましい。また、試料溶液の粘度による緩和時間の影響を抑制する点から、50質量以下が好ましく、30質量以下がより好ましく、20質量以下がさらに好ましい。NMR測定に用いる重水素化溶媒は、共重合体を溶解させることができれば、特に限定されないが、例えば、重水素化クロロホルムCDCl3、重水素化ジメチルスルホキシドDMSO-d6、重水D2O、重水素化メタノールCH3ODあるいはCD3OD、重水素化ヘキサフルオロイソプロパノールHFIP-d2などが挙げられる。また、化学シフトの基準物質として、テトラメチルシランTMSやCFCl3を添加してもよい。NMR測定時の試料温度は、試料溶媒の沸点以下であるか、共重合体の分解や変質が発生しない温度であれば、特に限定されないが、より高感度な信号強度を得ることができる点から、可能な限り高温であることが好ましい。NMR測定時のデータ積算回数は、特に限定されず、測定する観測核の種類に応じて適宜選択すればよいが、観測核として1H、19Fを選択した場合は、天然存在比が高い点から、4回以上が好ましく、16回以上がより好ましい。また、観測核として13C、29Siを選択した場合は、より高感度な信号強度を得ることができる点から、1500回以上が好ましく、3000回以上がより好ましい。ここで、NMR測定時の積算とは、NMR信号を複数回取り、この複数回の信号を重畳または積算あるいは加算し、該重畳した信号を最終的な試料の観察結果のFID信号とすることを意味している。波形処理部311は、波形処理過程において、すでに説明したように、NMR測定により得られたFID信号のフーリエ変換を行い、化学シフト周波数成分及び信号強度スペクトル強度の情報を有するNMRスペクトルデータを生成する。このとき、測定する観測核の種類に対応して、BFブロードニングファクターを設定することにより予め実験において測定して、それぞれの観測核に対応するブロードニングファクターを設定する、対応した観測核のスペクトル分解能を向上させることができるので、測定精度を向上させることが可能となる。また、波形処理部311は、フーリエ変換された化学シフトとその波形からなるNMRスペクトル信号の位相合わせ各々のNMRスペクトル信号を左右対称とする補正処理と、ベースライン処理NMRスペクトル信号のベースラインを周波数軸に平行となるように補正する、及び基準となる化学シフト値の設定を行い、化学シフトを所定の範囲にて分割した周波数範囲と、この周波数範囲毎に信号強度を積分した値とからなるNMRスペクトルデータの定量使用情報G行列式を出力する。ここで、NMRスペクトル信号を生成するために用いる化学シフトの範囲は、評価対象の共重合体を構成するそれぞれの構成単位の観測核が含まれる範囲を用いる。すなわち、波形処理部311は、NMR測定部350から入力されるNMRスペクトルから、評価対象の共重合体を構成する単量体全てにおける観測核の波長が含まれる周波数範囲のみのNMRスペクトルを抽出して、NMRスペクトル信号の生成を行う。この波形処理部311の波形処理過程では、本実施形態のNMRスペクトルの分割と積分において、フーリエ変換を行った後の化学シフトのスペクトル強度の積分を行うための周波数範囲、つまり化学シフトを分割する周波数の間隔が重要となる。すなわち、波形処理部311は、m種類の共重合体及び単独重合体のサンプルのNMRデータの各々をサンプル識別情報あるいは単量体識別情報により、NMRデータ記憶部315から順次読み出し、共重合体及び単独重合体のサンプルの各々のNMRスペクトルデータとして、化学シフトの周波数範囲毎のスペクトル強度の積分値を有するデータを求める。例えば、波形処理部311は、m種類の共重合体及び単独重合体のサンプルのうち、k番目のサンプルkは1~mの整数について、化学シフト周波数範囲を一定の間隔でp等分pは整数の周波数範囲に分割し、分割した周波数範囲のg番目の積分値をfkgとする。このように、波形処理部311は、m種類の共重合体及び単独重合体のサンプルのNMRスペクトルから、共重合体及び単独重合体のサンプルの各々のNMRスペクトルデータを生成する処理を行う。ここで、単独重合体は、評価対象の共重合体を構成する単量体において、同一種類の単量体にて構成された重合体である。このため、評価対象の共重合体がn種類の単量体から構成されている場合、単独重合体でn種類となるため、m>nの関係となる。また、波形処理部311は、共重合体及び単独重合体のサンプル毎に、化学シフトを分割した周波数範囲におけるスペクトル強度信号強度の積分値を、分割された周波数範囲全てで加算し、この加算値の合計を100として、以下の式に示すように各周波数範囲における積分値の規格化を行う。fk1fk2fkgfkp=100次に、波形処理部311は、m種類全てのサンプルのg番目の周波数範囲の規格化された積分値を加算し、加算結果を種類数mで除算し、m種類全てのg番目の周波数範囲の積分値の平均値として平均値fg-aveを次式から求める。fg-ave=/m同様にして、波形処理部311は、p等分した周波数範囲分割スペクトル全てについて、m種類全てにおいて上述した平均値を求めた後、gi番目のサンプルの積分値について、NMRスペクトルの周波数範囲毎に、規格化したスペクトル強度の積分値fkgから、対応する化学シフトの分割範囲である周波数範囲の平均値fg-aveを差し引き、差し引いた結果を基準化した積分値bkgとして以下に示す式により求める。bkg=fkg-fg-aveそして、波形処理部311は、k番目のサンプルの測定された周波数の分割領域毎のスペクトル強度を、次式のベクトルで表すNMRスペクトルデータとする。xk=そして、波形処理部311は、m種類のサンプル全てについてのスペクトル強度をまとめて、以下の31式の行列Gにて表す。この31式に示す行列Gm行p列が説明変数を生成する基となる、化学シフト及び信号強度積分後となる。後述するように、行列Gを主成分分析し、説明変数の行列Tが作成される。主成分分析部312は、波形処理部311から行列Gが供給されると、この行列Gの転置行列GTp行m列を生成する。そして、主成分分析部312は、行列Gに対し、求めた転置行列GTを左から乗算し、積和行列GTGを求める。次に、主成分分析部312は、求めた積和行列GTGの固有ベクトルVを以下の関係式により求める。GTGV=Δ2Vここで、求められた固有ベクトルVは以下の32式で示し、固有値Δ2すなわちλは以下の33式で示す。また、32式のVは以下の関係を有している。22212=22212==22212=1である。また、33式のΔ2において、λ1,λ2,,λpは積和行列GTGの固有値であり、λ1>λ2>>λpである。そして、GTGV=Δ2Vの関係式から、例えば固有値λ1を求めるには、次式の固有値を求める定理を用いて、λについて解くと最大p個の解が得られる。その解の中で最も大きいλがλ1となる。det=0なお、detはの行列式であり、Iはp行p列の単位行列である。ここで、固有値λ2は解λのうち2番目に大きいλであり、以下同様に最大でλpまで求めることができる。そして、主成分分析部312は、それぞれの固有値λ1,λ2,,λpを、GTGV=λVの関係式のλに代入し、式を解き、固有ベクトルVを求める。次に、主成分分析部312は、求めた固有ベクトルVを、行列Gn種類のサンプル全てについてのスペクトル強度をまとめた行列に対し、以下に示すように右から乗ずることで、主成分得点スコアを表す行列Tを求めることができる。GV=Tなお、行列Tはm行で最大p列の行列となり、以下の34式で表される。そして、この行列Tの1列目がm種類の各サンプルにおける第1の主成分PC1の主成分得点、2列目が第2の主成分PC2の主成分得点となり、以下同様に最大で主成分PCnの主成分得点まで求めることができる。例えば、k番目のサンプルの第1主成分得点であるtk1は、以下の式により表される。tk1=bk1a11bk2a12bkpa1pまた、主成分分析部312は、求めた各サンプルの主成分得点を、サンプル識別情報あるいは単量体識別情報とともに、主成分データ記憶部316に書き込んで、記憶させる。次に、数値変換過程の処理を詳細に説明する。以下の説明は、簡単のために、構成単位の単量体が2種類n=2の場合を例に挙げるが、特に単量体の種類の数はn=2に限定されるものではなく、単量体の種類の数を示す構成単位数nに制限はない。図4は、横軸が第1主成分軸PC1であり、縦軸が第2主成分軸PC2である、2次元空間の主成分空間を示す図である。すなわち、主成分軸PC1と主成分軸PC2とが直交して構成する主成分空間である二次元空間が示されている。単量体A-1と単量体A-2とからなる単独重合体の座標値は、互いの座標値が含まれる空間である比較空間Qとして、2次元空間の主成分空間に対して次元が1つ少ない1次元空間線分を形成している。ここで、数値変換部313は、2個の構成単位からなる共重合体S、及び単一の構成単位からなる単独重合体のサンプルA-1、A-2のそれぞれの第1主成分軸PC1の主成分得点と、第2主成分軸PC2の主成分得点とを主成分データ記憶部316から、サンプル識別情報または単量体識別情報により読み出し、これらの各主成分軸の主成分得点を座標値として、この各主成分得点からなる、主成分空間における座標点を下記のように定める。同様に、評価対象の共重合体のサンプルSの座標点も下記のように定める。PA-1=PC1A-1、PC2A-1PA-2=PC1A-2、PC2A-2PS=PC1S、PC2SサンプルA-1及びA-2は単独重合体である為、重合体の組成において単一の構成単位が完全に連続して結合、すなわち同一種類の単量体が他の種類の単量体を含まずに連続して結合して構成されている。座標点PA-1及びPA-2の2点全てを通る1次元空間比較空間Qとしての線分、すなわち座標点PA-1と座標点PA-2とを結ぶ線分直線は、構成単位の配置として、同一の単量体が連続して連結して配置されているため、単量体の配置の連続性が最も高い線分である。この線分からの評価距離LSは、共重合体中の連鎖構造における単量体の配置のランダム性を示す。例えば、数値変換部313は、下式のように数値a、b、cを定める。a=PC2A-2-PC2A-1b=PC1A-1-PC1A-2c=-PC1A-1×PC2A-2-PC2A-1-PC2A-1×PC1A-1-PC1A-2ここで、数値aは、第2主成分軸PC2上におけるサンプルA-2と、サンプルA-2との間の第2主成分得点の差分を示している。数値bは、第1主成分軸PC1上におけるサンプルA-2と、サンプルA-2との間の第1主成分得点の差分を示している。数値cは、数値aに対してサンプルA-1の第1主成分得点を乗じた結果の負の数値と、数値bに対してサンプルA-1の第2主成分得点を乗じた結果の負の数値とを加算した値である。そして、数値変換部313は、サンプルA-1とA-2との各々の座標点PA-1、PA-2の全てを通る比較空間Qの直線1次元空間と、評価対象のサンプルSの座標点PSPC1、SPC2との評価距離LSを、以下の式により算出して求める。ここで、SPC1がサンプルSの第1主成分得点であり、SPC2が第2主成分得点である。L=|a×SPC1b×SPC2c|/a2b21/2数値変換部313は、以上のように評価距離LSを算出する。ここで、評価対象の重合体のサンプルSを現す点と、単独重合体のサンプルA-1及びA-2の座標点PA-1及びPA-2の2点全てを通る直線との評価距離LSが大きいほど共重合連鎖のランダム性が高い。すなわち、本実施形態における各主成分は、共重合体における単量体の配列におけるランダム性を示す成分となっている。この結果、評価距離LSにより、共重合体の連鎖構造における同一の単量体の連続的な配置の長さ同一種類の単量体が連続して配置される数を定性的に評価することができる。この結果、単独重合体の座標点が含まれる空間からの評価距離は、同一種類の単量体が隣接して配置されてブロック化状態にある組成と、異なる種類の単量体が隣接して配置されているランダム状態との違いを定性的に判定できる基準とすることができる。したがって、特性評価部314は、評価対象の共重合体のサンプルと、単独重合体からなる空間との評価距離LSが大きい程、共重合体連鎖における異なる単量体が隣接して配置されている配列のランダム性が高いと判定する。例えば、特性評価部314は、過去の実験から得られた距離閾値が内部に設定されており、数値変換部313が算出した評価距離LSが設定された距離閾値未満の場合、レジスト用共重合体として不適であることを示すNG信号を出力し、一方、評価距離LSが距離閾値以上の場合、レジスト用共重合体に適していることを示すOK信号を出力するように構成しても良い。また、特性評価部314は、内部に過去の実験から評価距離LSを複数の長さ範囲毎に、溶解性及び光に対する感度からなるリソグラフィー特性の数値を示しておき、得られた評価距離LSからこのレジスト用重合体を用いてレジスト用組成物を調製した場合のリソグラフィー特性の数値を出力するように構成しても良い。また、このランダム性が高いレジスト用共重合体にて調製されたレジスト組成物は、後述の応用例に示されるように、現像における溶剤に対する溶解性が効果的に向上する。また該共重合体を含むレジスト用組成物において、リソグラフィ時における光に対する感度が向上する。かかる溶解性及び光に対する感度の向上の効果が得られる理由としては、以下のことが考えられる。一般に、共重合体の合成における各単量体の使用量は、得ようとする単量体組成の目標値に応じて決められ、合成後の共重合体における平均単量体組成が、該目標の単量体組成に近くなるように重合条件等が設定される。しかしながら、多くの場合、共重合させる単量体の共重合反応性比が互いに異なるため、ランダムに共重合せずに、得られる共重合体の単量体組成に差が生じるとともに、その共重合連鎖における単量体の配置において、同一種類の単量体のブロックが形成されて偏りが生じる。また、本発明者等の知見によれば、反応時間重合率の違いによっても、得られる共重合体における単量体組成に差が生じる。特に、重合反応の初期および後期においては、単量体組成が目標値とは大きく異なり、同一の構成単位が連なった重合連鎖を多く含有した共重合体が生成されやすい。一方、半導体に用いるリソグラフィー用組成物に用いられる溶剤は、単独重合体に対する溶解性に乏しい為、同一の構成単位が連なった重合連鎖が、溶剤への溶解性を悪化させると推察される。また、連鎖構造のランダム性が高いとき、各共重合体鎖中に構成単位がより均一に分布していると推測される。このため、レジスト用共重合体を用いてレジスト用組成物を調製したときに高いリソグラフィー特性が得られると考えられる。以上の理由から、本実施形態における評価方法は、レジスト用共重合体のランダム性を簡便に評価することにより、レジスト用共重合体を含むレジスト用組成物の特性を、実際にレジスト用組成物を調製することなく評価することができる。すなわち、本実施形態においては、レジスト用共重合体を評価する場合、これら共重合体の連鎖構造のランダム性を簡便に推定することで、該共重合体をレジスト用組成物としたときのリソグラフィー特性を、実際にこのレジスト用組成物を生成することなく、さらに実際にリソグラフィー工程を経ずに評価でき、かつ、レジストとしての露光における光の解像性や、現像時の溶媒に対する溶解性能の均一性を厳格に評価できる方法を提供することである。したがって、本実施形態は、例えばリソグラフィー用共重合体などの共重合体の連鎖構造における単量体の配置のランダム性を容易に評価することができ、このランダム性と共重合体を用いた組成物の特性との相関を取得しておくことにより、従来のように、共重合体により組成物を調製し、調製した組成物の特性を評価することなく、調製される組成物の評価を行うことができる。また、本実施形態は、NMR測定により得られたNMRスペクトルを用いて評価を行っているため、従来のように、重合体における単量体の定量あるいは連鎖分布の推定の際に、熱処理の温度による試料の熱分解効率の違い、あるいは構成単位を反映する熱分解生成物が定量的に得られないなどの測定誤差がないため、補正処理などのために多大のサンプル数を用意する必要がなく、容易に組成物の評価が行える。以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の各例において、部と示しているのは、特に断りのない限り質量部を示す。サンプルの分子量重量平均分子量、共重合体における平均単量体組成等の測定方法および評価方法は以下の方法を用いた。重量平均分子量の測定共重合体の重量平均分子量Mwおよび分子量分布Mw/Mnは、GPCGelPermeationChromatography、ゲル浸透クロマトグラフにより、下記のGPC条件を用いてポリスチレン換算で求めた。[GPC条件]装置:東ソー社製、東ソー高速GPC装置HLC-8220GPC商品名、分離カラム:昭和電工社製、ShodexGPCK-805L商品名を3本直列に連結したもの、測定温度:40°C、溶離液:THF、試料共重合体の場合:共重合体の約20mgを5mLのTHFに溶解し、0.5μmメンブレンフィルターで濾過した溶液、試料重合反応溶液の場合:サンプリングした重合反応溶液の約30mgを5mLのTHFに溶解し、0.5μmメンブレンフィルターで濾過した溶液、流量:1mL/分、注入量:0.1mL、検出器:示差屈折計。検量線I:標準ポリスチレンの約20mgを5mLのTHFに溶解し、0.5μmメンブレンフィルターで濾過した溶液を用いて、上記の条件で分離カラムに注入し、溶出時間と分子量の関係を求めた。標準ポリスチレンは、下記の東ソー社製の標準ポリスチレンいずれも商品名を用いた。F-80Mw=706,000、F-20Mw=190,000、F-4Mw=37,900、F-1Mw=10,200、A-2500Mw=2,630、A-500Mw=682、578、474、370、260の混合物。共重合体の平均単量体組成の測定共重合体の約5質量部を重ジメチルスルホキシドの約95質量部に溶解して試料溶液を調製した。この試料溶液をNMRチューブに入れ、1H-NMRJEOL社製、共鳴周波数:270MHzを用いて分析した。各構成単位に由来するシグナルの積分強度比から、共重合体の平均単量体組成を算出した。単量体の定量重合反応溶液中に残存する単量体量は次の方法で求めた。反応器内の重合反応溶液を0.5g採取し、これをアセトニトリルで希釈し、メスフラスコを用いて全量を50mLとした。この希釈液を0.2μmのメンブレンフィルターで濾過し、東ソー社製、高速液体クロマトグラフHPLC-8020製品名を用いて、該希釈液中の未反応単量体量を、単量体ごとに求めた。この測定において、分離カラムはジーエルサイエンス社製、InertsilODS-2商品名を1本使用し、移動相は水/アセトニトリルのグラジエント系、流量0.8mL/min、検出器は東ソー社製、紫外可視吸光光度計UV-8020商品名、検出波長220nm、測定温度40°C、注入量4μLで測定した。なお、分離カラムであるInertsilODS-2商品名は、シリカゲル粒径5μm、カラム内径4.6mm×カラム長さ450mmのものを使用した。また、移動相のグラジエント条件は、A液を水、B液をアセトニトリルとし、下記の通りとした。また、未反応単量体量を定量するために、濃度の異なる3種類の各単量体溶液を標準液として用いた。測定時間0~3分:A液/B液=90体積/10体積。測定時間3~24分:A液/B液=90体積/10体積から、50体積/50体積まで。測定時間24~36.5分:A液/B液=50体積/50体積から、0体積/100体積まで。測定時間36.5~44分:A液/B液=0体積/100体積。共重合体の溶解性の評価下記の1または2の方法で行った。1共重合体の20部とPGMEAPropyleneGlycolMonomethylEtherAcetateの80部とを混合し、25°Cに保ちながら撹拌を行い、目視で完全溶解を判断し、完全溶解するまでの時間を計測した。2重合体の20部とPGMEAの80部とを混合し、25°Cに保ちながら撹拌を行い、目視で完全溶解を判断したのち、曇点に達するまでヘプタンを添加し、ヘプタンの添加量を計測した。曇点到達の判断は目視にて行った。レジスト組成物の感度の評価レジスト組成物を6インチシリコンウエハー上に回転塗布し、ホットプレート上で120°C、60秒間のプリベークPABを行い、厚さ300nmのレジスト膜を形成した。ArFエキシマレーザー露光装置リソテックジャパン社製、製品名:VUVES-4500を用い、露光量を変えながら10mm×10mmの面積の18ショットを露光した。次いで110°C、60秒間のポストベークPEBを行った後、レジスト現像アナライザーリソテックジャパン社製、製品名:RDA-806を用い、23.5°Cにて2.38水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で65秒間現像した。各露光量のレジスト膜それぞれについて、現像中のレジスト膜厚の経時変化を測定した。得られたレジスト膜厚の経時変化のデータを基に、露光量単位:mJ/cm2の対数と、初期膜厚に対する30秒間現像した時点での残存膜厚の割合率単位:、以下残膜率という。との関係をプロットして、露光量-残膜率曲線作成した。この曲線に基づいて、残膜率0とするための必要露光量Ethの値を求めた。すなわち、露光量-残膜率曲線が、残膜率0の直線と交わる点における露光量mJ/cm2をEthとして求めた。このEthの値は感度を表し、この値が小さいほど、感度が高いことを示す。以下、本実施形態の共重合体評価方法による3連子分率の評価についての例を説明する。しかしながら、本実施形態はこれらの共重合体の評価に限定されるものではない。<合成例A-1:単独重合体A-A-1>本合成例においては、下記単量体m-1を単独で重合した。まず、25mLのシュレンクフラスコ中に、5.00部の単量体m-1および2.03部のジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート和光純薬工業社製、V601商品名を11.7部の乳酸エチルとともに入れた後、溶液内に200mL/分で1分間窒素を吹き込んだ。次にこのフラスコを80°Cの湯浴上に置き、攪拌しながら3時間撹拌した。次いで、得られた反応溶液を約20倍量のメタノールに攪拌しながら滴下し、白色の析出物単独重合体A-A-1の沈殿を得た。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。<合成例A-2~A-5:単独重合体A-A-2~A-A-5>下記単量体m-2~m-5それぞれの単独単量体を製造した。すなわち、使用する単量体及びその量を表1に示すように変更した以外は、合成例A-1と同様の操作で、単独重合体A-A-2~A-A-5を得た。得られた単独重合体A-A-1~A-A-5の仕込組成仕込単量体組成比、収率を表1に示す。<合成例A-6:二元共重合体A-B-1>本合成例においては、単量体m-1、m-2を共重合した。予めフラスコ内に全ての単量体及び溶剤を仕込、共重合体をバッチ方式により合成した。本例で用いた単量体のモル比はm-1:m-2=10.0:90.0である。すなわち、25mLのシュレンクフラスコ中に、乳酸エチルを13.5部、単量体m-1を0.51部、単量体m-2を5.29部、単量体m-3を0.51部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名を0.57部入れた後、溶液内に200mL/分で1分間窒素を吹き込んだ。次にこのフラスコを80°Cの湯浴上に置き、攪拌した後、3分後に反応溶液を氷水で急冷した。次いで、得られた反応溶液を約10倍量のメタノール/水=50/50容量比に攪拌しながら滴下し、白色の析出物共重合体A-B-1の沈殿を得た。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。得られた共重合体の平均単量体組成以下、共重合組成と記すこともあるは、m-1/m-2=15.5/84.5モルであった。<合成例A-7~A-32>使用する単量体の量を表2、表3に示すように変更した以外は、合成例A-6と同様の操作で、共重合体A-B-2~A-B-27を得た。得られた共重合体A-B-2~A-B-27の収率、共重合組成を表2、表3に示す。そして、合成例A-6~A-10について、仕込みモノマー比と共重合体A-B-1~A-B-5の共重合組成から、曲線合致法により、単量体m-1およびm-2の共重合反応性比はそれぞれ、r12=1.484、r21=0.583となった。同様にして、共重合体A-B-6~A-B-27の共重合組成から、各共重合反応性比を求めて、表4に示した。表4に共重合体A-B-1~A-B-27の共重合組成と、各共重合反応性比との対応を示す。<合成例A-33:三元共重合体A-C-1>本合成例においては、単量体m-1、m-2、m-3を共重合した。予めフラスコ内に全ての単量体及び溶剤を仕込、共重合体をバッチ方式により合成した。本例で用いた単量体のモル比はm-1:m-2:m-3=30.0:30.0:40.0である。すなわち、25mLのシュレンクフラスコ中に、乳酸エチルを14.3部、単量体m-1を1.53部、単量体m-2を1.76部、単量体m-3を2.83部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名を1.41部入れた後、溶液内に200mL/分で1分間窒素を吹き込んだ。次にこのフラスコを80°Cの湯浴上に置き、攪拌した後、3分後に反応溶液を氷水で急冷した。次いで、得られた反応溶液を約10倍量のメタノール/水=50/50容量比に攪拌しながら滴下し、白色の析出物共重合体A-C-1の沈殿を得た。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。<合成例A-34~A-42>使用する単量体及びその量を表5、表6に示すように変更した以外は、合成例A-33と同様の操作で、共重合体A-C-2~A-C-10を得た。得られた共重合体A-C-1~A-C-10の収率、共重合組成を表5、表6に示す。以下の例A-D1、A-D3はリソグラフィー用重合体の製造方法の実施形態Z2’の一部滴下方式により共重合体を製造した例、例A-D2、A-D4は重合方法Z1の一部滴下方式を用いて共重合体を製造した例、例A-E1およびA-E3は全滴下方式により共重合体を製造した例、例A-E2およびA-E4はバッチ式により共重合体を製造した例である。例A-F1、A-F2は、これらの例で得られた共重合体について単量体3連子分率の予測値を求めた例である。<例A-D1:共重合体A-D-1>[共重合体の製造]本例においては、単量体m-1、m-2、m-3を一部滴下方式により重合した。単量体を含有する滴下溶液を2種用い、前記3種の単量体を含有する一方の滴下溶液を滴下した後、他方の滴下溶液を滴下した。該他方の滴下溶液は、前記3種の単量体のうち、単量体消費速度が最も速い単量体の組成比が、重合反応に使用する全ての溶液の総量における該単量体の組成比よりも大きく、単量体消費速度が最も遅い単量体を含まない滴下溶液である。本例で使用した各単量体の合計量のモル比はm-1:m-2:m-3=39.1:41.2:19.7である。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを99.3部、単量体m-1を3.99部、単量体m-2を7.68部、単量体m-3を2.88部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、乳酸エチル2.0部とジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名1.280部が入った滴下装置から一定速度で20分間フラスコ内に滴下するとともに、単量体m-1が24.03部、単量体m-2を27.71部、単量体m-3が16.68部、乳酸エチルが101.8部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が0.690部入った滴下装置から一定速度で4時間かけてフラスコ内に滴下した。次いで、単量体m-1を1.09部、単量体m-3を0.73部、乳酸エチルを34.5部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名を0.054部を含んだ溶液のうち、80質量を1時間かけて滴下した後、20質量を1時間かけて滴下した。さらに、滴下終了後に80°Cの温度を1時間保持した。次いで、フラスコ内の重合反応溶液を、約10倍量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=80/20容量比を撹拌しながら、ここに滴下し、白色の析出物共重合体A-D-1の沈殿を得た。沈殿を濾別し、再度、前記と同じ量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=90/10容量比へ投入し、撹拌しながら沈殿の洗浄を行った。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。そして、得られた白色粉体を1H-NMRとGPCにて分析し、共重合体全体の平均単量体組成、分子量Mw及び分子量分布Mw/Mnを求めた。また得られた共重合体A-D-1の溶解性を上記の方法で評価した。その結果を表7に示す。この表7には、共重合体A-D-1~A-D-4、及びA-E-1~A-E-4の各々の組成における単量体m-1~m-5の共重合組成比、分子量Mw、分子量分布Mw/Mn、評価値としての単量体3連子分率の予測値、溶解性を示す時間分、感度としての露光量を示す。[レジスト組成物の製造]上記で得られた共重合体A-D-1の100部に、光酸発生剤であるトリフェニルスルホニウムトリフレートを2部、および溶剤としてPGMEA700部を混合して均一溶液とした後、孔径01μmのメンブランフィルターで濾過し、レジスト組成物溶液を調製した。この得られたレジスト組成物について上記の方法で感度を評価した。その結果を表7に示す。<例A-D2:共重合体A-D-2>本例においては、単量体m-1、m-2、m-3を一部滴下方式により重合した。単量体を含有する滴下溶液としては、単量体m-1、m-2、m-3の3種を含有する一種の滴下溶液だけを使用した。本例で使用した各単量体の合計量のモル比はm-1:m-2:m-3=39.0:41.3:19.7である。例A-D1と同様のフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを79.0部、単量体m-1を2.72部、単量体m-2を4.90部、単量体m-3を2.02部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら、湯浴の温度を80°Cに上昇させた。その後、乳酸エチル3.6部とジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名1.196部が入った滴下装置から一定速度で15分間フラスコ内に滴下するとともに、単量体m-1が23.80部、単量体m-2が27.44部、単量体m-3が16.52部、乳酸エチルが98.06部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が0.643部入った滴下装置から一定速度で4時間かけてフラスコ内に滴下した。さらに湯浴の温度を80°Cとしてフラスコを3時間保持した。この後、例A-D1と同様にして白色の析出物共重合体A-D-2の沈殿を得、濾別、洗浄、洗浄後の濾別、乾燥を行って白色粉体を得た。得られた共重合体A-D-2について、例A-D1と同様の測定および評価を行った。その結果を表7に示す。<例A-E1:共重合体A-E-1>例A-D1において、予めフラスコ内に単量体を入れずに、共重合体を全滴下方式により合成した。本例で用いた単量体のモル比はm-1:m-2:m-3=40.0:40.0:20.0である。すなわち、例A-D1と同様のフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを64.5部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上昇させた。その後、単量体m-1が27.20部、単量体m-2が31.36部、単量体m-3が18.88部、乳酸エチルが112.6部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が2.576部入った滴下装置から一定速度で4時間かけてフラスコ内に滴下した。さらに80°Cの温度を3時間保持した。この後、例A-D1と同様にして白色の析出物共重合体A-E-1の沈殿を得、濾別、洗浄、洗浄後の濾別、乾燥を行って白色粉体を得た。得られた共重合体A-E-1について、例A-D1と同様の測定および評価を行った。その結果を表7に示す。<例A-E2:共重合体A-E-2>例A-D1において、予めフラスコ内に全ての単量体及び溶剤を仕込み、共重合体をバッチ方式により合成した。本例で用いた単量体のモル比はm-1:m-2:m-3=40.0:40.0:20.0である。すなわち、25mLのシュレンクフラスコ中に、乳酸エチルを15.5部、単量体m-1を1.36部、単量体m-2を1.57部、単量体m-3を0.94部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名を1.15部入れた後、溶液内に200mL/分で1分間窒素を吹き込んだ。次にこのフラスコを80°Cの湯浴上に置き、攪拌しながら3時間撹拌した。次いで、得られた反応溶液を約10倍量のメタノールに攪拌しながら滴下し、白色の析出物共重合体A-E-2の沈殿を得た。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。得られた共重合体A-E-2について、例A-D1と同様の測定および評価を行った。その結果を表7に示す。<例A-D3:共重合体A-D-3>[共重合体の製造]本例においては、単量体m-4、m-5、m-3を一部滴下方式により重合した。単量体を含有する滴下溶液としては、例A-D1と同様の2種を用いた。本例で使用した各単量体の合計量のモル比はm-4:m-5:m-3=39.1:41.2:19.7である。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを46.5部、PGMEAを46.5部、単量体m-4を2.60部、単量体m-5を10.13部、単量体m-3を3.30部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、乳酸エチル6.5部とジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名2.174部が入った滴下装置から一定速度で20分間フラスコ内に滴下する。また、この滴下処理とともに、単量体m-4を16.66部、単量体m-5を24.30部、単量体m-3を24.00部、乳酸エチルが26.9部、PGMEAが33.4部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が1.450部入った滴下装置から一定速度で4時間かけてフラスコ内に滴下した。次いで、単量体m-4を1.00部、単量体m-3を1.12部、乳酸エチルを12.2部、PGMEAを12.2部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名を0.110部を含んだ溶液のうち、80質量を1時間かけて滴下した後、20質量を1時間かけて滴下した。さらに80°Cの温度を1時間保持した。次いで、フラスコ内の重合反応溶液を、約10倍量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=85/15容量比を撹拌しながら、ここに滴下し、白色の析出物共重合体A-D-3の沈殿を得た。沈殿を濾別し、再度、前記と同じ量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=95/5容量比へ投入し、撹拌しながら沈殿の洗浄を行った。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。そして、得られた白色粉体を1H-NMRとGPCにて分析し、共重合体全体の平均単量体組成と、分子量Mwおよび分子量分布Mw/Mnを求めた。また得られた共重合体A-D-3の溶解性を上記の方法で評価した。その結果を表7に示す。[レジスト組成物の製造]上記で得られた共重合体A-D-3の100部に、光酸発生剤であるトリフェニルスルホニウムトリフレートを2部、および溶剤としてPGMEA700部を混合して均一溶液とした。この後、孔径01μmのメンブランフィルターで濾過し、レジスト組成物溶液を調製した。得られたレジスト組成物について上記の方法で感度を評価した。その結果を表7に示す。<例A-D4:共重合体A-D-4>本例においては、単量体m-4、m-5、m-3を一部滴下方式により重合した。単量体を含有する滴下溶液としては、単量体m-4、m-5、m-3の3種を含有する一種の滴下溶液だけを使用した。本例で使用した各単量体の合計量のモル比はm-4:m-5:m-3=33.9:35.1:30.1である。例A-D1と同様のフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを42.6部、PGMEAを42.6部、単量体m-4を1.42部、単量体m-5を8.68部、単量体m-3を3.52部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、乳酸エチル6.5部とジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名2.152部が入った滴下装置から一定速度で20分間フラスコ内に滴下する。この滴下処理とともに、単量体m-4が18.09部、単量体m-5が20.83部、単量体m-3が21.15部、乳酸エチルが38.6部、PGMEAが45.1部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が1.435部入った滴下装置から一定速度で4時間かけてフラスコ内に滴下した。さらに湯浴を80°Cの温度とし、フラスコを3時間保持した。この後、例A-D3と同様にして白色の析出物共重合体A-D-4の沈殿を得、濾別、洗浄、洗浄後の濾別、乾燥を行って白色粉体を得た。得られた共重合体A-D-4について、例A-D3と同様の測定および評価を行った。その結果を表7に示す。<例A-E3:共重合体A-E-3>例A-D3において、予めフラスコ内に単量体を入れずに、共重合体を全滴下方式により合成した。本例で用いた単量体のモル比はm-4:m-5:m-3=35.0:35.0:30.0である。すなわち、合成例A-7と同様のフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを54.5部とPGMEA23.3部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。次に、単量体m-4が51.17部、単量体m-5が37.32部、単量体m-3が30.44部、乳酸エチルが98.0部、PGMEAが16.4部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が5.538部入った滴下装置から一定速度で4時間かけてフラスコ内に滴下した。さらに、湯浴の温度を80°Cのまま、フラスコを3時間保持した。そして、例A-D3と同様にして白色の析出物共重合体A-E-3の沈殿を得、濾別、洗浄、洗浄後の濾別、乾燥を行って白色粉体を得た。得られた共重合体A-E-3について、例A-D2と同様の測定および評価を行った。その結果を表7に示す。<例A-E4:共重合体A-E-4>例A-D2において、予めフラスコ内に全ての単量体及び溶剤を仕込み、共重合体をバッチ方式により合成した。本例で用いた単量体のモル比はm-4:m-5:m-3=36.0:32.0:32.0である。すなわち、25mLのシュレンクフラスコ中に、乳酸エチルを4.9部、PGMEAを4.9部、単量体m-4を1.84部、単量体m-5を2.38部、単量体m-3を2.27部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名を1.725部入れた後、溶液内に200mL/分で1分間窒素を吹き込んだ。次にこのフラスコを80°Cの湯浴上に置き、攪拌しながら3時間撹拌した。次いで、得られた反応溶液を約10倍量のメタノールに攪拌しながら滴下し、白色の析出物共重合体A-E-4の沈殿を得た。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。得られた共重合体A-E-4について、例A-D2と同様の測定および評価を行った。その結果を表7に示す。<例A-F1>以下の共重合体の評価は、本実施形態による共重合体評価方法による目的変数分析過程I、説明変数分析過程II、モデル精製過程III及びサンプル解析過程IVを順次行うことにより、各重合体における共重合体を構成する各単量体において、同一種類の単量体の3連子分率を求めた。合成例A-1~3で得られた単独重合体A-A-1~A-A-3、合成例A-6~20で得られた共重合体A-B-1~A-B-15、合成例A-33~37で得られた共重合体A-C-1~A-C-5の合計23種類について13C-NMR測定をそれぞれ行い、スペクトルを得た。なお、測定時の積算回数を5000回、FID処理時のゼロフィリングを2回、ブロードニングファクターを2.0Hzとし、基準ピークをクロロホルム77.0ppmとし、ベースライン補正を行った。なお、13C-NMR測定は、重水素化クロロホルムと重水素化ジメチルスルホキシドの体積比50/50の混合溶媒を溶媒として用い、測定温度を40°Cとした。そして、得られたスペクトルそれぞれの中から、重合体のカルボニル炭素に由来する化学シフトの範囲、すなわち175.00~179.00ppmの範囲を0.1ppmの間隔で積分ピーク積分し、40個の積分値を得た目的変数分析過程、説明変数分析過程。一方、重合率が10以内の共重合体A-B-1~A-B-15、A-C-1~A-C-5の仕込組成と、上述で求めた共重合反応性比を下記式の各々へ代入し、共重合体A-B-1~A-B-15、A-C-1~A-C-5における3種類の単量体単位3連子分率P111、P222、P333をそれぞれ求めた目的変数分析過程。その結果を表2,表5に示す。ここで、単量体単位3連子分率P{XXX}は単量体単位Xにおける同一種類の単量体単位の3連子分率を示している。P11=M1M1M1r12M1r13P22=M2M1r21M1M1r23P33=M3M1r31M1r32M1P111=100×M1’×P11×P11P222=100×M2’×P22×P22P333=100×M3’×P33×P33ここで、P11、P22、P33はそれぞれ、成長末端にm-1、m-2、m-3が存在するときにm-1、m-2、m-3と反応する確率、M1、M2、M3はそれぞれm-1、m-2、m-3の仕込組成比、M1’、M2’、M3’の共重合組成比である。次に、多変量解析ソフトとして、例えばPatternRecognitionSystem社製Sirius登録商標を利用して、単独重合体A-A-1~A-A-3、共重合体A-B-1~A-B-15、A-C-1~A-C-5の、カルボニル炭素に関する合計920個の積分値を説明変量側とし、3種類の単量体単位3連子分P111、P222、P333を目的変量側として、部分最小2乗法PLS法を用いて、実験モデルを構築したモデル生成過程。本実施形態においては、モルを用いているが、として記載している。そして、この実験モデルに、例A-D1~例A-D2、例A-E1~例A-E2で得られた共重合体A-D-1~A-D-2及び共重合体A-E-1~A-E-2の、カルボニル炭素に関する合計160個の積分値を用いて以下の多変量解析ソフトにより、3連子分率の算出を行ったサンプル解析過程。ここで、多変量解析ソフトとして、例えばPatternRecognitionSystem社製Sirius登録商標を利用し、本実施形態による共重合体評価方法で説明した部分最小2乗法PLS法を用い、3種類の各単量体単位の同一種類の単量体単位の3連子分率予測値を求めた。その結果を表7に示す。<例A-F2>本実施形態による共重合体評価方法の説明した処理、すなわち例A-F1の記載と同様に、共重合体の組成における同一種類の単量体単位による3連子分率を算出した。合成例A-3~A-5で得られた単独重合体A-A-3~A-A-5、合成例A-21~A-32で得られた共重合体A-B-16~A-B-27、合成例A-38~A-42で得られた共重合体A-C-6~A-C-10の合計20種類の13C-NMR測定をそれぞれ行い、NMRスペクトル信号を得た。なお、測定時の積算回数を5000回、FID処理時のゼロフィリングを2回、ブロードニングファクターを2.0Hzとし、基準ピークをクロロホルム77.0ppmとし、ベースライン補正を行った。なお、13C-NMR測定は、重水素化クロロホルムと重水素化ジメチルスルホキシドの体積比50/50の混合溶媒を溶媒として用い、測定温度を40°Cとした。そして、得られたスペクトルそれぞれの中から、重合体のカルボニル炭素に由来する175.00~179.00ppmの範囲を0.1ppmの間隔で積分し、40個の積分値を得た目的変数分析過程、説明変数分析過程。例A-F1と同様にして、共重合体A-B-16~A-B-27、A-C-6~A-C-10における3種類の3連子モノマー単位連鎖分率P444、P555、P333をそれぞれ求めた目的変数分析過程。その結果を表3、表6に示す。次に、単独重合体A-A-4~A-A-5、共重合体A-B-16~A-B-27、A-C-6~A-C-10の、カルボニル炭素に関する合計800個の積分値を説明変量側とし、3種類の3連子モノマー単位連鎖分率P444、P555、P333を目的変量側として、部分最小2乗法PLS法を用いて、実験モデルを構築したモデル生成過程。そして、この実験モデルに、例A-D3~D4、例A-E3~E4で得られた共重合体A-D-3~A-D-4及びA-E-3~A-E-4の、カルボニル炭素に関する合計x160個の積分値を用いて、本実施形態による共重合体評価方法により、部分最小2乗法PLS法を用いて、3種類の各単量体単位の3連子分率予測値を求めたサンプル解析過程。その結果を表7に示す。表7から明らかなように、共重合体の組成において、同一種類の単量体単位の3連子分率の予測値の合計値が小さい程、この共重合体を用いて調製したレジスト組成物の感度と溶解性とが高いことが判る。すなわち、表7に示されているように、同一種類の単量体単位の3連子分率の予測値の合計値が20、好ましくは15を下回る例A-D1~D4で得られた共重合体により調製したレジスト組成物の感度及び溶解性が、20、好ましくは15を超える共重合体により調製したレジスト組成物に比較して優れていることが判る。一方、同一種類の単量体単位の3連子分率の合計値が30を超えているものは、溶解性においては残渣が残り、この残渣が残ることにより光照射に対する感度の測定も行えない。このため、同一種類の単量体単位の3連子分率の合計値が30を超えている共重合体は、リソグラフィー工程において用いるレジスト組成物の調製に用いることができないことが判る。上述したように、本実施形態による共重合体評価方法により求めた共重合体における3連子分率の数値と、この共重合体から調製したレジスト組成物の溶解性及び感度との相関が高いことが、表7より明らかである。このため、共重合体を合成して、本実施形態の共重合体評価方法により、3連子分率を算出することにより、実際にレジスト組成物を作成して溶解性及び感度の評価を行う手間を省き、簡易にレジスト組成物の調製に必要な共重合体の製造方法及び単量体の調整量を設定することができる。また、制御部18は、3連子分率の合計値と、合計値に対応した共重合体により調製したレジスト組成物の特性値溶解性及び感度との対応関係を内部に記憶しており記憶部16に設定し、これを読み出すようにしても良い、未知サンプルの3連子分率の合計値から、未知サンプルの共重合体により調製した組成物の特性値を推定している。本実施形態の評価方法は、制御部が、3連子分率の合計値と、当該合計値に対応した前記共重合体により調製した組成物の特性値との対応関係を有し、未知サンプルの3連子分率の合計値から、未知サンプルの共重合体により調製した組成物の特性値を推定する制御過程をさらに有することが好ましい。また本実施形態の共重合体の評価方法は、前記共重合体がリソグラフィー用共重合体であり、前記組成物がリソグラフィー組成物であり、前記組成物の特性値が、当該組成物の溶媒に対する溶解性または光照射に対する感度であることが好ましい。例えば、半導体装置の製造においてパターンを生成する際、使用に対して必要とされるレジスト組成物の感度及び溶解性の上限値は、リソグラフィー工程における露光条件などから決定されている。この感度及び溶解性の上限値を閾値として、この閾値を超える3連子分率の合計値を3連子分率限界値として、記憶部16に予め設定しておく。そして、調製における各単量体の調整量及び製造方法を複数試行し、この試行して得られた共重合体の3連子分率を、すでに説明したようにNMR測定から得られる測定値からPLS法により求め、試行して生成した共重合体の中から、3連子分率の合計値が3連子分率限界値以下の共重合体を選択することで、感度及び溶解性の双方の特性が良好なレジスト組成物を簡易に調製することができる。ここで、制御部18は、内部に設定した3連子分率限界値と、得られた3連子分率の合計値とを比較して、得られた共重合体がレジスト組成物に適した特性か否かの判定を行う。すなわち、制御部18は、得られた3連子分率の合計値が3連子分率限界値より小さい場合、レジスト組成物の調製に適しているとし、得られた3連子分率の合計値が3連子分率限界値を超えている場合、レジスト組成物の調製に不適とし、表示部17に各重合体毎に判定結果を表示する。このように調製されたレジスト組成物を用いて、基板、例えば半導体基板上にレジストパターンを形成することにより、露光マスクの微細パターンに対応した微細な加工精度を実現することができる。すなわち、レジスト組成物を被加工基板上に塗布する工程と、250nm以下の波長の光で露光する工程と、現像液を用いて現像する工程とを含む、被加工基板上にパターンが形成された基板の製造が行える。ここで、250nm以下の波長としたのは、本実施形態のレジスト組成物が、照射する光としてKrFエキシマレーザー波長:248nm、ArFエキシマレーザー波長:193nm、EUVExtremeUltraviolet:極端紫外光のエキシマレーザー波長:13nmなどを用いたリソグラフィー技術に対応させているためである。本実施形態におけるレジスト組成物は、照射光の短波長化およびパターンの微細化に好適に対応できるレジスト組成物として、酸の作用により酸脱離性基が脱離してアルカリ可溶性となる重合体と、光酸発生剤とを含有する、いわゆる化学増幅型レジスト組成物である。また、本実施形態のレジスト組成物の調製に使用する共重合体は、表7から求められるように、同一種類の前記単量体単位の3連子分率の合計が共重合体中20モル以下、好ましくは15モル以下、より好ましくは13モル以下として、3連子分率限界値を設定する。本実施形態におけるレジスト組成物は、共重合体レジスト用共重合体と、活性光線光の照射または放射線の照射により酸を発生する化合物とを用いて調製している。本実施形態の共重合体の評価方法は、半導体製造用途の2種以上の単量体α1~αnnは2以上の整数を重合して、当該単量体α1~αnからそれぞれ導かれる単量体構成単位α’1~α’nからなるリソグラフィー用共重合体について評価する際に、制御部が、同一種類の単量体単位の3連子分率の合計が共重合体中20モル以下であるリソグラフィー用共重合体を、リソグラフィー組成物の調製に適していると判定することができる。該判定の基準となる同一種類の単量体単位の3連子分率の合計は、15モル以下が好ましく、13モル以下がより好ましい。なお、記憶部16は、ハードディスク装置や光磁気ディスク装置、フラッシュメモリ等の不揮発性のメモリや、CD-ROM等の読み出しのみが可能な記憶媒体、RAMRandomAccessMemoryのような揮発性のメモリ、あるいはこれらの組み合わせにより構成されるものとする。なお、図1における目的変数分析部11、波形処理部12、説明変数分析部13、モデル生成部14及びサンプル解析部15は専用のハードウェアにより実現されるものであってもよく、また、メモリおよびマイクロプロセッサにより実現させるものであってもよい。またこれらの各部は、メモリおよびCPU中央演算装置により構成され、各部の機能を実現するためのプログラムをメモリにロードして実行することによりその機能を実現させるものであってもよい。また、この共重合体評価方法により共重合体の評価を行う共重合体評価装置には、周辺機器として入力装置図示せず等が接続されるものとする。ここで、入力装置とはキーボード、マウス等の入力デバイスのことをいう。表示部17とはCRTCathodeRayTubeや液晶表示装置等のことをいう。また、図1における目的変数分析部11、波形処理部12、説明変数分析部13、モデル生成部14及びサンプル解析部15の機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより3連子分率の計算処理を行ってもよい。なお、ここでいうコンピュータシステムとは、OSや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。また、コンピュータシステムは、WWWシステムを利用している場合であれば、ホームページ提供環境あるいは表示環境も含むものとする。また、コンピュータ読み取り可能な記録媒体とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ROM、CD-ROM等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらにコンピュータ読み取り可能な記録媒体とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムを送信する場合の通信線のように、短時間の間、動的にプログラムを保持するもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。また上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであってもよく、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものであってもよい。以下、本実施形態のリソグラフィー用共重合体の製造方法についての例を説明する。<参考例B-1:後工程で用いられる溶液Ucの組成の設計>本例は、上記式m-1、m-2、m-3で表される単量体m-1、m-2、m-3を重合して、目標組成がm-1:m-2:m-3=40:40:20モル、重量平均分子量の目標値が10,000の重合体を製造する場合の、Ucの組成を求めた例である。本例で使用した重合開始剤はジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート和光純薬工業社製、V601商品名である。重合温度は80°Cとした。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗、および温度計を備えたフラスコ反応器に、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを67.8部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、下記の単量体混合物、溶媒、および重合開始剤を含む滴下溶液を、滴下漏斗より4時間かけて一定の滴下速度でフラスコ内に滴下し、さらに80°Cの温度を3時間保持した。滴下溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。単量体m-1を28.56部40モル、単量体m-2を32.93部40モル、単量体m-3を19.82部20モル、乳酸エチルを122.0部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを2.415部単量体の全供給量に対して2.5モル。上記滴下溶液の滴下開始から0.5,1,2,3,4,5,6,7時間後に、それぞれフラスコ内の重合反応溶液を0.5gサンプリングし、単量体m-1~m-3の定量をそれぞれ行った。これにより各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体の質量がわかる。その結果、例えば滴下開始から2時間後と3時間後の結果は表8の通りであった。次いで、各単量体の分子量を用いて、各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体のモル分率Mx:My:Mzに該当する。に換算した。その結果、例えば滴下開始から2時間後と3時間後の結果は表9の通りであった。一方、4時間一定速度でフラスコに供給された各単量体の質量全供給量から、各サンプリング時までに供給された各単量体の合計質量を求め、これから各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体の質量を引くことで、各サンプリング時において、それまでに供給された単量体のうち重合体へ転化したものの質量を、各単量体について計算した。次いで差分データをとることによって、サンプリング時とサンプリング時の間に重合体へ転化したもの質量を、各単量体について求め、モル分率に換算した。このモル分率の値は、各サンプリング時とサンプリング時の間に生成した重合体、すなわち滴下からの経過時間反応時間がt1からt2までの間、t2からt3までの間...にそれぞれ生成した重合体における単量体単位の含有比率以下、重合体組成比ということもある。Px:Py:Pzに該当する。得られた結果を図5に示す。図5の横軸は、各反応時間帯サンプリング時とサンプリング時の間の終了側の反応時間を示している。すなわち、図5において、横軸の反応時間が4時間のときのデータは、滴下開始から3時間後~4時間後に生成した重合体のデータに該当する以下、同様。図5の結果に示されるように、重合体組成比Px:Py:Pzが、目標組成である40:40:20に最も近いのは、滴下開始から2時間後~3時間後に生成した重合体であり、Px:Py:Pz=41.05:38.47:20.48であった。この値と、滴下開始からの経過時間が2時間後におけるMx:My:Mzの値表9を用い、Fx=Px/Mx、Fy=Py/My、Fz=Pz/Mzより、ファクターFx、Fy、Fzを求めると、Fx=1.27、Fy=0.76、Fz=1.22となる。このとき、Fy<Fz<Fxより、Fyは0に置換される。該ファクターの値と、目標組成を用いてUcの組成x0:y0:z0を求めた。x0=40×Fx/40×Fx40×Fy20×Fz=40×1.27/40×1.2740×020×1.22=67.6モル。y0=40×Fy/40×Fx40×Fy20×Fz=40×0/40×1.2740×020×1.22=0モル。z0=20×Fz/40×Fx40×Fy20×Fz=20×1.22/40×1.2740×020×1.22=32.4モル。<実施例B-1>本例では、予め溶液Sa本明細書において、単にSaということがある。Tb、Ucについても同様。を反応器内に供給し、Tbおよび重合開始剤溶液を滴下する主工程の後に、Ucを滴下する後工程を設けた。参考例B-1で求めたUcの組成を用いた。使用する単量体の種類、重合開始剤の種類、重合温度、重合体の目標組成、および重量平均分子量の目標値は参考例B-1と同じである。Saの単量体組成は上述のファクターを用いた方法で設計した第1の組成と同じとし、Tbの単量体組成は目標組成と同じとした。[Saの第1の組成の設計]参考例B-1で求めたファクターの値Fx=1.27、Fy=0.76、Fz=1.22と、目標組成を用いて第1の組成を求め、これをSaの単量体組成とした。x00=40/Fx=40/1.27=約31.3モル。y00=40/Fy=40/0.76=約52.4モル。z00=20/Fz=20/1.22=約16.3モル。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗2個、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、下記のSaS1を入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、別個の滴下漏斗より下記のTbT1と重合開始剤溶液の供給を同時に開始し、Tbを4時間かけて、重合開始剤溶液を20分かけてフラスコ内に滴下した。さらにTbの供給終了直後より、下記Ucのうちの80質量U1を1時間かけて滴下し、残りの20質量U2を1時間かけて滴下し、さらに80°Cの温度を1時間保持した。Tbの滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。本例において、Ucが含有する単量体の合計量は全単量体供給量の2.15質量である。Sa単量体m-1を3.99部31.3モル、単量体m-2を7.68部52.4モル、単量体m-3を2.88部16.3モル、乳酸エチルを99.3部。Tb単量体m-1を24.03部40モル、単量体m-2を27.71部40モル、単量体m-3を16.68部20モル、乳酸エチルを101.8部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを0.690部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して0.7モル。重合開始剤溶液乳酸エチルを2.0部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを1.280部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して1.3モル。Uc単量体m-1を1.09部67.6モル、単量体m-3を0.73部32.4モル、乳酸エチルを34.5部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを0.054部Ucにおける単量体の合計量に対して2.5モル。参考例B-1と同様の手順で、各反応時間に生成した重合体における単量体単位の含有比率重合体組成比を求めた。その結果を図6に示す。図5と図6の結果を比べると、参考例B-1図5では、主工程の初期において生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が大きい。また主工程の終了滴下液の終了時である反応時間4時間から保持工程の終了時である反応時間7時間の間に生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が経時的に大きくなっている。これに対して実施例B-2図6は、主工程において、前記ファクターを用いて単量体組成が設計されたSaと、目標組成のTbを用い、かつ主工程の終了Tbの滴下終了後に、Ucを合計2時間供給する後工程を設けたことにより、主工程においては、重合反応の開始直後から目標組成とほぼ同じ組成の重合体分子が生成されて、その状態が継続され、主工程の終了反応時間4時間後も、重合体組成比が目標組成と非常に近い値を示し、反応時間による組成比のばらつきが改善された。[重合体の精製]反応時間7時間が経過した後に、室温まで冷却して反応を停止させ、フラスコ内の重合反応溶液を、約10倍量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=80/20容量比に撹拌しながら滴下し、白色の析出物重合体P1の沈殿を得た。沈殿を濾別し、再度、前記と同じ量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=90/10容量比へ投入し、撹拌しながら沈殿の洗浄を行った。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、重合体湿粉160gを得た。この重合体湿粉のうち10gを減圧下40°Cで約40時間乾燥した。得られた重合体P1について、Mw、Mw/Mnを求め、溶解性の評価を行った。結果を表20に示す。[レジスト組成物の製造]上記重合体湿粉の残りを、PGMEAの880gへ投入し、完全に溶解させて重合体溶液とした後、孔径0.04μmのナイロン製フィルター日本ポール社製、P-NYLONN66FILTER0.04M商品名へ通液して、重合体溶液を濾過した。得られた重合体溶液を減圧下で加熱してメタノールおよび水を留去し、さらにPGMEAを留去し、重合体の濃度が25質量の重合体P1溶液を得た。この際、最高到達真空度は0.7kPa、最高溶液温度は65°C、留去時間は8時間であった。得られた重合体P1溶液の400部と、光酸発生剤であるトリフェニルスルホニウムトリフレートの2部と、溶媒であるPGMEAとを、重合体濃度が12.5質量になるように混合して均一溶液とした後、孔径0.1μmのメンブレンフィルターで濾過し、レジスト組成物を得た。得られたレジスト組成物について上記の方法で感度を評価した。結果を表20に示す。<比較例B-1>実施例B-1において、後工程で滴下するUcに含まれる単量体の合計量を、全単量体供給量の14.9質量に変更した。すなわち、Sa~Ucおよび重合開始剤溶液の組成をそれぞれ以下の通りに変更したほかは、実施例B-1と同様に行った。Sa単量体m-1を3.99部31.3モル、単量体m-2を7.68部52.4モル、単量体m-3を2.88部16.3モル、乳酸エチルを99.3部。Tb単量体m-1を24.03部40モル、単量体m-2を27.71部40モル、単量体m-3を16.68部20モル、乳酸エチルを101.8部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを0.690部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して0.7モル。重合開始剤溶液乳酸エチルを2.0部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを1.280部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して1.3モル。Uc単量体m-1を8.72部67.6モル、単量体m-3を5.84部32.4モル、乳酸エチルを34.5部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを0.432部Ucにおける単量体の合計量に対して2.5モル。参考例B-1と同様の手順で、各反応時間に生成した重合体における単量体単位の含有比率重合体組成比を求めた。その結果を図7に示す。実施例B-1図6と比べて比較例B-1図7は、全単量体供給量のうち後工程で供給される単量体の割合が多すぎるため、主工程の終了反応時間4時間後に生成された重合体の重合体組成比と目標組成との差が大きく、また反応時間によって重合体組成のばらつきが大きい。得られた重合体について、Mw、Mw/Mnを求め、溶解性の評価を行った。結果を表20に示す。<参考例B-2:後工程で用いられる溶液Ucの組成の設計>本例は、前記式m-4、m-5、m-3で表される単量体m-4、m-5、m-3を重合して、目標組成がm-4:m-5:m-3=35:35:30モル、重量平均分子量の目標値が7,000の重合体を製造する場合の、Ucの組成を求めた例である。重合開始剤は参考例B-1と同じジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを用い、重合温度は80°Cとした。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを31.7部とPGMEA31.7部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、下記の単量体混合物、溶媒、および重合開始剤を含む滴下溶液を滴下漏斗より4時間かけて一定の滴下速度でフラスコ内に滴下し、さらに80°Cの温度を3時間保持した。滴下溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。単量体m-4を20.83部35モル、単量体m-5を30.38部35モル、単量体m-3を24.78部30モル、乳酸エチルを57.0部、PGMEAを57.0部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを4.508部単量体の全供給量に対して5.6モル。上記滴下溶液の滴下開始から0.5,1,2,3,4,5,6,7時間後に、それぞれフラスコ内の重合反応溶液を0.5gサンプリングし、単量体m-3~m-5の定量をそれぞれ行った。これにより各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体の質量がわかる。その結果、例えば滴下開始から3時間後と4時間後の結果は表10の通りであった。次いで、各単量体の分子量を用いて、各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体のモル分率Mx:My:Mzに該当する。に換算した。その結果、例えば滴下開始から3時間後と4時間後の結果は表11の通りであった。参考例B-1と同様にして、各反応時間帯に生成された重合体における単量体単位の含有比率求めた。その結果を図8に示す。図8の結果に示されるように、重合体組成比Px:Py:Pzが、目標組成である35:35:30に最も近いのは、滴下開始から3時間後~4時間後に生成した重合体であり、Px:Py:Pz=37.36:32.61:28.95であった。この値と、滴下開始からの経過時間が3時間後におけるMx:My:Mzの値表11を用い、Fx=Px/Mx、Fy=Py/My、Fz=Pz/Mzより、ファクターFx、Fy、Fzを求めると、Fx=1.60、Fy=0.60、Fz=1.50となる。このとき、Fy<Fz<Fxより、Fyは0に置換される。該ファクターの値と、目標組成を用いてUcの組成x0:y0:z0を求めた。x0=35×Fx/35×Fx35×Fy30×Fz=35×1.60/35×1.6035×030×1.50=55.4モル。y0=35×Fy/35×Fx35×Fy30×Fz=35×0/35×1.6035×030×1.50=0モル。z0=30×Fz/35×Fx35×Fy30×Fz=30×1.50/35×1.6035×030×1.50=44.6モル。<実施例B-2>本例では、予めSaを反応器内に供給し、Tbおよび重合開始剤溶液を滴下する主工程の後に、Ucを滴下する後工程を設けた。参考例B-2で求めたUcの組成を用いた。使用する単量体の種類、重合開始剤の種類、重合温度、重合体の目標組成、および重量平均分子量の目標値は参考例B-2と同じである。Saの単量体組成は上述のファクターを用いた方法で設計した第1の組成と同じとし、Tbの単量体組成は目標組成と同じとした。[Saの第1の組成の設計]参考例B-2で求めたファクターの値Fx=1.60、Fy=0.60、Fz=1.50と、目標組成を用いて第1の組成を求め、これをSaの単量体組成とした。x00=35/Fx=35/1.60=約21.8モル。y00=35/Fy=35/0.60=約58.2モル。z00=30/Fz=30/1.50=約20.0モル。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗2個、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、下記のSaS1を入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、別個の滴下漏斗より下記のTbT1と重合開始剤溶液の供給を同時に開始し、Tbを4時間かけて、重合開始剤溶液を20分かけてフラスコ内に滴下した。さらにTbの供給終了直後より、下記Ucのうちの80質量U1を1時間かけて滴下した後、残りの20質量U2を1時間かけて滴下し、さらに80°Cの温度を1時間保持した。Tbの溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。本例において、Ucが含有する単量体の合計量は全単量体供給量の2.68質量である。Sa単量体m-4を2.60部21.8モル、単量体m-5を10.13部58.2モル、単量体m-3を3.30部20.0モル、乳酸エチルを46.5部、PGMEAを46.5部。Tb単量体m-4を16.66部35モル、単量体m-5を24.30部35モル、単量体m-3を24.00部30モル、乳酸エチルを26.9部、PGMEAを33.4部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを1.450部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して1.8モル。重合開始剤溶液乳酸エチルを6.5部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを2.174部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して2.7モル。Uc単量体m-4を1.00部55.4モル、単量体m-3を1.12部44.6モル、乳酸エチルを12.2部、PGMEAを12.2部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを0.110部Ucにおける単量体の合計量に対して4.5モル。参考例B-1と同様の手順で、各反応時間に生成した重合体における単量体単位の含有比率重合体組成比を求めた。その結果を図9に示す。図8と図9の結果を比べると、参考例B-2図8では、主工程の初期において生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が大きい。また主工程の終了滴下液の終了時である反応時間4時間から保持工程の終了時である反応時間7時間の間に生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が経時的に大きくなっている。これに対して実施例B-2図9は、主工程において、前記ファクターを用いて単量体組成が設計されたSaと、目標組成のTbを用い、かつ主工程の終了Tbの滴下終了後に、Ucを合計2時間供給する後工程を設けたことにより、主工程においては、重合反応の開始直後から目標組成とほぼ同じ組成の重合体分子が生成されて、その状態が継続され、主工程の終了反応時間4時間後も、重合体組成比が目標組成と非常に近い値を示し、反応時間による組成比のばらつきが改善された。[重合体の精製]実施例B-1の重合体の精製工程において使用した、メタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=80/20容量比およびメタノール/水=90/10容量比を、それぞれメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=85/15容量比およびメタノール/水=95/5容量比に変更したほかは、実施例B-1と同様にして、反応時間7時間が経過したフラスコ内の重合反応溶液から、重合体P2を得た。重合体P2のMw、Mw/Mn、溶解性評価の結果を表20に示す。[レジスト組成物の製造]実施例B-1と同様にして、重合体P2を含有するレジスト組成物を調製し、感度を評価した。結果を表20に示す。<参考例B-3:後工程で用いられる溶液Ucの組成の設計>本例は、前記式m-1、下記式m-6、m-7、で表される単量体m-1、m-6、m-7を重合して、目標組成がm-1:m-6:m-7=25:25:50モル、重量平均分子量の目標値が10,000の重合体を製造する場合の、Ucの組成を求めた例である。重合開始剤は参考例B-1と同じジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを用い、重合温度は80°Cとした。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、PGME129.1部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、下記の単量体混合物、溶媒、および重合開始剤を含む滴下溶液を滴下漏斗より4時間かけて一定の滴下速度でフラスコ内に滴下し、さらに80°Cの温度を3時間保持した。滴下溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。単量体m-1を25.95部25モル、単量体m-6を26.87部25モル、単量体m-7を39.65部50モル、PGMEを92.5部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを9.130部単量体の全供給量に対して6.5モル。上記滴下溶液の滴下開始から0.5,1,2,3,4,5,6,7時間後に、それぞれフラスコ内の重合反応溶液を0.5gサンプリングし、単量体m-1、m-6、m-7の定量をそれぞれ行った。これにより各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体の質量がわかる。その結果、例えば滴下開始から3時間後と4時間後の結果は表12の通りであった。次いで、各単量体の分子量を用いて、各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体のモル分率Mx:My:Mzに該当する。に換算した。その結果、例えば滴下開始から3時間後と4時間後の結果は表13の通りであった。参考例B-1と同様にして、各反応時間帯に生成された重合体における単量体単位の含有比率重合体組成を求めた。その結果を図10に示す。図10の結果に示されるように、重合体組成比Px:Py:Pzが、目標組成である25:25:50に最も近いのは、滴下開始から3時間後~4時間後に生成した重合体であり、Px:Py:Pz=24.32:23.54:46.86であった。この値と、滴下開始からの経過時間が3時間後におけるMx:My:Mzの値表13を用い、Fx=Px/Mx、Fy=Py/My、Fz=Pz/Mzより、ファクターFx、Fy、Fzを求めると、Fx=1.30、Fy=0.90、Fz=0.85となる。このとき、Fz<Fy<Fxより、Fzは0に置換される。該ファクターの値と、目標組成を用いてUcの組成x0:y0:z0を求めた。x0=25×Fx/25×Fx25×Fy50×Fz=25×1.30/25×1.3025×0.9050×0=59.1モル。y0=25×Fy/25×Fx25×Fy50×Fz=25×0.90/25×1.3025×0.9050×0=40.9モル。z0=50×Fz/25×Fx25×Fy50×Fz=50×0/25×1.3025×0.9050×0=0モル。<実施例B-3>本例では、予めSaを反応器内に供給し、Tbおよび重合開始剤溶液を滴下する主工程の後に、Ucを滴下する後工程を設けた。参考例B-3で求めたUcの組成を用いた。使用する単量体の種類、重合開始剤の種類、重合温度、重合体の目標組成、および重量平均分子量の目標値は参考例B-3と同じである。Saの単量体組成は上述のファクターを用いた方法で設計した第1の組成と同じとし、Tbの単量体組成は目標組成と同じとした。[Saの第1の組成の設計]参考例B-3で求めたファクターの値Fx=1.30、Fy=0.90、Fz=0.85と、目標組成を用いて第1の組成を求め、これをSaの単量体組成とした。x00=25/Fx=25/1.30=19.2モル。y00=25/Fy=25/0.90=27.8モル。z00=50/Fz=50/0.85=58.8モル。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗2個、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、下記のSaS1を入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、別個の滴下漏斗より下記のTbT1と重合開始剤の供給を同時に開始し、Tbを4時間かけて、重合開始剤を20分かけてフラスコ内に滴下した。さらにTbの供給終了直後より、下記Ucのうちの80質量U1を1時間かけて滴下した後、残りの20質量U2を1時間かけて滴下しさらに80°Cの温度を1時間保持した。Tbの溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。本例において、Ucが含有する単量体の合計量は全単量体供給量の1.99質量である。Sa単量体m-1を2.00部18.2モル、単量体m-6を2.99部26.2モル、単量体m-7を4.74部55.6モル、PGMEを139.0部。Tb単量体m-1を23.36部25モル、単量体m-6を24.19部25モル、単量体m-7を39.57部50モル、PGMEを44.5部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを2.815部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して2.0モル。重合開始剤溶液PGMEを5.2部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを4.223部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して3.0モル。Uc単量体m-1を1.25部59.1モル、単量体m-6を0.73部40.9モル、PGMEを37.5部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを0.132部Ucにおける単量体の合計量に対して5.0モル。参考例B-1と同様の手順で、各反応時間に生成した重合体における単量体単位の含有比率重合体組成比を求めた。その結果を図11に示す。図10と図11の結果を比べると、参考例B-3図10では、主工程の初期において生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が大きい。また主工程の終了滴下液の終了時である反応時間4時間から保持工程の終了時である反応時間7時間の間に生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が経時的に大きくなっている。これに対して実施例B-3図11は、主工程において、前記ファクターを用いて単量体組成が設計されたSaと、目標組成のTbを用い、かつ主工程の終了Tbの滴下終了後に、Ucを合計2時間供給する後工程を設けたことにより、主工程においては、重合反応の開始直後から目標組成とほぼ同じ組成の重合体分子が生成されて、その状態が継続され、主工程の終了反応時間4時間後も、重合体組成比が目標組成と非常に近い値を示し、反応時間による組成比のばらつきが改善された。[重合体の精製]実施例B-1の重合体の精製工程において使用した、メタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=80/20容量比およびメタノール/水=90/10容量比を、いずれもジイソプロピルエーテルに変更したほかは、実施例B-1と同様にして、反応時間7時間が経過したフラスコ内の重合反応溶液から、重合体P3を得た。重合体P3のMw、Mw/Mn、溶解性評価の結果を表21に示す。<参考例B-4:後工程で用いられる溶液Ucの組成の設計>本例は、下記式m-8、m-9、m-10、で表される単量体m-8、m-9、m-10を重合して、目標組成がm-8:m-9:m-10=30:50:20モル、重量平均分子量の目標値が12,000の重合体を製造する場合の、Ucの組成を求めた例である。重合開始剤は参考例B-1と同じジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを用い、重合温度は80°Cとした。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、PGMEA82.8部を入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、下記の単量体混合物、溶媒、および重合開始剤を含む滴下溶液を滴下漏斗より4時間かけて一定の滴下速度でフラスコ内に滴下し、さらに80°Cの温度を3時間保持した。滴下溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。単量体m-8を30.04部30モル、単量体m-9を52.08部50モル、単量体m-10を17.22部20モル、PGMEAを149.0部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを11.50部単量体の全供給量に対して5.0モル。上記滴下溶液の滴下開始から0.5,1,2,3,4,5,6,7時間後に、それぞれフラスコ内の重合反応溶液を0.5gサンプリングし、単量体m-8、m-9、m-10の定量をそれぞれ行った。これにより各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体の質量がわかる。その結果、例えば滴下開始から3時間後と4時間後の結果は表14の通りであった。次いで、各単量体の分子量を用いて、各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体のモル分率Mx:My:Mzに該当する。に換算した。その結果、例えば滴下開始から3時間後と4時間後の結果は表15の通りであった。参考例B-1と同様にして、各反応時間帯に生成された重合体における単量体単位の含有比率重合体組成を求めた。その結果を図12に示す。図12の結果に示されるように、重合体組成比Px:Py:Pzが、目標組成である30:50:20に最も近いのは、滴下開始から3時間後~4時間後に生成した重合体であり、Px:Py:Pz=29.22:50.23:20.55であった。この値と、滴下開始からの経過時間が3時間後におけるMx:My:Mzの値表15を用い、Fx=Px/Mx、Fy=Py/My、Fz=Pz/Mzより、ファクターFx、Fy、Fzを求めると、Fx=1.01、Fy=1.08、Fz=0.84となる。このとき、Fz<Fx<Fyより、Fzは0に置換される。該ファクターの値と、目標組成を用いてUcの組成x0:y0:z0を求めた。x0=30×Fx/30×Fx50×Fy20×Fz=30×1.01/30×1.0150×1.0820×0=35.9モル。y0=50×Fy/25×Fx25×Fy50×Fz=50×1.08/30×1.0150×1.0820×0=64.1モル。z0=20×Fz/25×Fx25×Fy50×Fz=20×0/30×1.0150×1.0820×0=0モル。<実施例B-4>本例では、Sa組成の単量体の一部を含む溶液を予め反応器内に供給し、TbおよびSa組成の単量体の残りと重合開始剤溶液を滴下する主工程の後に、Ucを滴下する後工程を設けた。参考例B-4で求めたUcの組成を用いた。使用する単量体の種類、重合開始剤の種類、重合温度、重合体の目標組成、および重量平均分子量の目標値は参考例B-4と同じである。Saの単量体組成は上述のファクターを用いた方法で設計した第1の組成と同じとし、Tbの単量体組成は目標組成と同じとした。[Saの第1の組成の設計]参考例B-4で求めたファクターの値Fx=1.01、Fy=1.08、Fz=0.84と、目標組成を用いて第1の組成を求め、これをSaの単量体組成とした。x00=30/Fx=30/1.01=29.7モル。y00=50/Fy=50/1.08=46.3モル。z00=20/Fz=20/0.84=23.8モル。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗2個、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、下記のSaの一部S1を入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、別個の滴下漏斗より下記のTbT1、およびSaの残りS2と重合開始剤を含む溶液の供給を同時に開始し、Tbを4時間かけて、Saの残りおよび重合開始剤を20分かけてフラスコ内に滴下した。さらにTbの供給終了直後より、下記Ucのうちの80質量U1を1時間かけて滴下した後、残りの20質量U2を1時間かけて滴下しさらに80°Cの温度を1時間保持した。Tbの溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。本例において、Ucが含有する単量体の合計量は全単量体供給量の1.7質量である。Sa組成の単量体の一部を含む溶液単量体m-8を2.97部29.7モル、単量体m-9を4.82部46.3モル、PGMEAを101.5部。Tb単量体m-8を27.03部30モル、単量体m-9を46.87部50モル、単量体m-10を15.50部20モル、PGMEAを99.3部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを4.599部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して2.0モル。Sa組成の単量体の残りと重合開始剤溶液PGMEAを10.7部、単量体m-10を2.05部23.8モル、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを4.599部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して2.0モル。Uc単量体m-8を0.61部35.9モル、単量体m-9を1.12部64.1モル、PGMEAを24.0部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを0.144部Ucにおける単量体の合計量に対して4.0モル。参考例B-1と同様の手順で、各反応時間に生成した重合体における単量体単位の含有比率重合体組成比を求めた。その結果を図13に示す。図12と図13の結果を比べると、参考例B-4図12では、主工程の初期において生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が大きい。また主工程の終了滴下液の終了時である反応時間4時間から保持工程の終了時である反応時間7時間の間に生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が経時的に大きくなっている。これに対して実施例B-4図13は、主工程において、前記ファクターを用いて単量体組成が設計されたSaと、目標組成のTbを用い、かつ主工程の終了Tbの滴下終了後に、Ucを合計2時間供給する後工程を設けたことにより、主工程においては、重合反応の開始直後から目標組成とほぼ同じ組成の重合体分子が生成されて、その状態が継続され、主工程の終了反応時間4時間後も、重合体組成比が目標組成と非常に近い値を示し、反応時間による組成比のばらつきが改善された。[重合体の精製]実施例B-1の重合体の精製工程において使用した、メタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=80/20容量比およびメタノール/水=90/10容量比を、メタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=50/50容量比およびメタノール/水=60/40容量比に変更したほかは、実施例B-1と同様にして、反応時間7時間が経過したフラスコ内の重合反応溶液から、重合体P4を得た。重合体P4のMw、Mw/Mn、溶解性評価の結果を表21に示す。<参考例B-5:後工程で用いられる溶液Ucの組成の設計>本例は、前記式m-1下記式m-11、m-12、で表される単量体m-1、m-11、m-12を重合して、目標組成がm-1:m-11:m-12=50:35:15モル、重量平均分子量の目標値が12,000の重合体を製造する場合の、Ucの組成を求めた例である。重合開始剤は参考例B-1と同じジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを用い、重合温度は80°Cとした。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチル160.3部を入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、下記の単量体混合物、溶媒、および重合開始剤を含む滴下溶液を滴下漏斗より4時間かけて一定の滴下速度でフラスコ内に滴下し、さらに80°Cの温度を3時間保持した。滴下溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。単量体m-1を85.00部50モル、単量体m-11を81.90部35モル、単量体m-12を25.50部15モル、乳酸エチルを288.6部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを6.90部単量体の全供給量に対して3.0モル。上記滴下溶液の滴下開始から0.5,1,2,3,4,5,6,7時間後に、それぞれフラスコ内の重合反応溶液を0.5gサンプリングし、単量体m-1、m-11、m-12の定量をそれぞれ行った。これにより各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体の質量がわかる。その結果、例えば滴下開始から3時間後と4時間後の結果は表16の通りであった。次いで、各単量体の分子量を用いて、各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体のモル分率Mx:My:Mzに該当する。に換算した。その結果、例えば滴下開始から3時間後と4時間後の結果は表17の通りであった。参考例B-1と同様にして、各反応時間帯に生成された重合体における単量体単位の含有比率重合体組成を求めた。その結果を図14に示す。図14の結果に示されるように、重合体組成比Px:Py:Pzが、目標組成である50:35:15に最も近いのは、滴下開始から3時間後~4時間後に生成した重合体であり、Px:Py:Pz=49.99:34.55:15.45であった。この値と、滴下開始からの経過時間が3時間後におけるMx:My:Mzの値表17を用い、Fx=Px/Mx、Fy=Py/My、Fz=Pz/Mzより、ファクターFx、Fy、Fzを求めると、Fx=1.04、Fy=0.82、Fz=1.57となる。このとき、Fz<Fx<Fyより、Fyは0に置換される。該ファクターの値と、目標組成を用いてUcの組成x0:y0:z0を求めた。x0=50×Fx/50×Fx35×Fy15×Fz=50×1.04/50×1.0435×015×1.57=68.8モル。y0=35×Fy/50×Fx35×Fy15×Fz=35×0/50×1.0435×015×1.57=0モル。z0=15×Fz/50×Fx35×Fy15×Fz=15×1.57/50×1.0435×015×1.57=31.2モル。<実施例B-5>本例では、Sa組成の単量体を含む溶液を予め反応器内に供給し、Tbおよび重合開始剤溶液を滴下する主工程の後に、Ucを滴下する後工程を設けた。参考例B-5で求めたUcの組成を用いた。使用する単量体の種類、重合開始剤の種類、重合温度、重合体の目標組成、および重量平均分子量の目標値は参考例B-5と同じである。Saの単量体組成は上述のファクターを用いた方法で設計した第1の組成と同じとし、Tbの単量体組成は目標組成と同じとした。[Saの第1の組成の設計]参考例B-5で求めたファクターの値Fx=1.04、Fy=0.82、Fz=1.57と、目標組成を用いて第1の組成を求め、これをSaの単量体組成とした。x00=50/Fx=50/1.04=48.1モル。y00=35/Fy=35/0.82=42.7モル。z00=15/Fz=15/1.57=9.6モル。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗2個、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、下記のSaS1を入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、別個の滴下漏斗より下記のTbT1と重合開始剤の供給を同時に開始し、Tbを4時間かけて、重合開始剤を20分かけてフラスコ内に滴下した。さらにTbの供給終了直後より、下記Ucのうちの80質量U1を1時間かけて滴下した後、残りの20質量U2を1時間かけて滴下しさらに80°Cの温度を1時間保持した。Tbの溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。本例において、Ucが含有する単量体の合計量は全単量体供給量の1.3質量である。Sa単量体m-1を8.17部48.1モル、単量体m-11を9.99部42.7モル、単量体m-12を1.62部9.6モル、乳酸エチルを196.5部。Tb単量体m-1を76.50部50モル、単量体m-11を73.71部35モル、単量体m-12を22.95部15モル、乳酸エチルを218.2部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを2.531部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して1.1モル。重合開始剤溶液乳酸エチルを5.9部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを2.531部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して1.1モル。Uc単量体m-1を1.77部68.8モル、単量体m-12を0.8部31.2モル、乳酸エチルを24.0部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを0.076部Ucにおける単量体の合計量に対して2.2モル。参考例B-1と同様の手順で、各反応時間に生成した重合体における単量体単位の含有比率重合体組成比を求めた。その結果を図15に示す。図14と図15の結果を比べると、参考例B-5図14では、主工程の初期において生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が大きい。また主工程の終了滴下液の終了時である反応時間4時間から保持工程の終了時である反応時間7時間の間に生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が経時的に大きくなっている。これに対して実施例B-5図15は、主工程において、前記ファクターを用いて単量体組成が設計されたSaと、目標組成のTbを用い、かつ主工程の終了Tbの滴下終了後に、Ucを合計2時間供給する後工程を設けたことにより、主工程においては、重合反応の開始直後から目標組成とほぼ同じ組成の重合体分子が生成されて、その状態が継続され、主工程の終了反応時間4時間後も、重合体組成比が目標組成と非常に近い値を示し、反応時間による組成比のばらつきが改善された。[重合体の精製]実施例B-1の重合体の精製工程において使用した、メタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=80/20容量比およびメタノール/水=90/10容量比を、メタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=70/30容量比およびメタノール/水=80/20容量比に変更したほかは、実施例B-1と同様にして、反応時間7時間が経過したフラスコ内の重合反応溶液から、重合体P5を得た。重合体P5のMw、Mw/Mn、溶解性評価の結果を表21に示す。<参考例B-6:後工程で用いられる溶液Ucの組成の設計>本例は、前記式m-1、m-11、下記式m-13で表される単量体m-1、m-11、m-13を重合して、目標組成がm-1:m-11:m-13=50:40:10モル、重量平均分子量の目標値が7,000の重合体を製造する場合の、Ucの組成を求めた例である。重合開始剤は参考例B-1と同じジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを用い、重合温度は80°Cとした。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、PGMEA130.2部とγ-ブチロラクトン60.0部を入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、下記の単量体混合物、溶媒、および重合開始剤を含む滴下溶液を滴下漏斗より4時間かけて一定の滴下速度でフラスコ内に滴下し、さらに80°Cの温度を3時間保持した。滴下溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。単量体m-1を85.00部50モル、単量体m-11を93.60部40モル、単量体m-13を49.60部10モル、PGMEAを242.3部、γ-ブチロラクトンを100.0部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを4.60部単量体の全供給量に対して2.0モル。上記滴下溶液の滴下開始から0.5,1,2,3,4,5,6,7時間後に、それぞれフラスコ内の重合反応溶液を0.5gサンプリングし、単量体m-1、m-11、m-13の定量をそれぞれ行った。これにより各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体の質量がわかる。その結果、例えば滴下開始から3時間後と4時間後の結果は表18の通りであった。次いで、各単量体の分子量を用いて、各サンプリング時においてフラスコ内に残存している各単量体のモル分率Mx:My:Mzに該当する。に換算した。その結果、例えば滴下開始から3時間後と4時間後の結果は表19の通りであった。参考例B-1と同様にして、各反応時間帯に生成された重合体における単量体単位の含有比率重合体組成を求めた。その結果を図16に示す。図16の結果に示されるように、重合体組成比Px:Py:Pzが、目標組成である50:40:10に最も近いのは、滴下開始から3時間後~4時間後に生成した重合体であり、Px:Py:Pz=49.85:39.28:10.87であった。この値と、滴下開始からの経過時間が3時間後におけるMx:My:Mzの値表19を用い、Fx=Px/Mx、Fy=Py/My、Fz=Pz/Mzより、ファクターFx、Fy、Fzを求めると、Fx=1.05、Fy=0.88、Fz=1.36となる。このとき、Fz<Fx<Fyより、Fyは0に置換される。該ファクターの値と、目標組成を用いてUcの組成x0:y0:z0を求めた。x0=50×Fx/50×Fx40×Fy10×Fz=50×1.05/50×1.0540×010×1.36=79.4モル。y0=40×Fy/50×Fx40×Fy10×Fz=40×0/50×1.0540×010×1.36=0モル。z0=10×Fz/50×Fx40×Fy10×Fz=10×1.36/50×1.0540×010×1.36=20.6モル。<実施例B-6>本例では、Sa組成の単量体を含む溶液を予め反応器内に供給し、Tbおよび重合開始剤溶液を滴下する主工程の後に、Ucを滴下する後工程を設けた。参考例B-6で求めたUcの組成を用いた。使用する単量体の種類、重合開始剤の種類、重合温度、重合体の目標組成、および重量平均分子量の目標値は参考例B-6と同じである。Saの単量体組成は上述のファクターを用いた方法で設計した第1の組成と同じとし、Tbの単量体組成は目標組成と同じとした。[Saの第1の組成の設計]参考例B-6で求めたファクターの値Fx=1.05、Fy=0.88、Fz=1.36と、目標組成を用いて第1の組成を求め、これをSaの単量体組成とした。x00=50/Fx=50/1.05=47.6モル。y00=40/Fy=40/0.88=45.5モル。z00=10/Fz=10/1.36=7.4モル。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗2個、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、下記のSaS1を入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、別個の滴下漏斗より下記のTbT1と重合開始剤の供給を同時に開始し、Tbを4時間かけて、重合開始剤を20分かけてフラスコ内に滴下した。さらにTbの供給終了直後より、下記Ucのうちの80質量U1を1時間かけて滴下した後、残りの20質量U2を1時間かけて滴下しさらに80°Cの温度を1時間保持した。Tbの溶液の滴下開始から7時間後に、室温まで冷却して反応を停止させた。本例において、Ucが含有する単量体の合計量は全単量体供給量の1.3質量である。Sa単量体m-1を8.10部47.6モル、単量体m-11を10.64部45.5モル、単量体m-13を3.65部7.4モル、PGMEAを160.7部、γ-ブチロラクトンを70.0部。Tb単量体m-1を76.50部50モル、単量体m-11を84.24部40モル、単量体m-13を44.64部10モル、PGMEAを187.7部、γ-ブチロラクトンを70.0部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを1.726部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して0.75モル。重合開始剤溶液PGMEAを6.9部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを1.726部SaおよびTbにおける単量体の合計量に対して0.75モル。Uc単量体m-1を1.79部79.4モル、単量体m-13を1.35部20.6モル、PGMEAを33.5部、γ-ブチロラクトンを10.0部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを0.076部Ucにおける単量体の合計量に対して2.2モル。参考例B-1と同様の手順で、各反応時間に生成した重合体における単量体単位の含有比率重合体組成比を求めた。その結果を図17に示す。図16と図17の結果を比べると、参考例B-6図16では、主工程の初期において生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が大きい。また主工程の終了滴下液の終了時である反応時間4時間から保持工程の終了時である反応時間7時間の間に生成された重合体は、重合体組成比と目標組成との差が経時的に大きくなっている。これに対して実施例B-6図17は、主工程において、前記ファクターを用いて単量体組成が設計されたSaと、目標組成のTbを用い、かつ主工程の終了Tbの滴下終了後に、Ucを合計2時間供給する後工程を設けたことにより、主工程においては、重合反応の開始直後から目標組成とほぼ同じ組成の重合体分子が生成されて、その状態が継続され、主工程の終了反応時間4時間後も、重合体組成比が目標組成と非常に近い値を示し、反応時間による組成比のばらつきが改善された。[重合体の精製]実施例B-1の重合体の精製工程において使用した、メタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=80/20容量比およびメタノール/水=90/10容量比を、イソプロピルエーテルに変更したほかは、実施例B-1と同様にして、反応時間7時間が経過したフラスコ内の重合反応溶液から、重合体P6を得た。重合体P6のMw、Mw/Mn、溶解性評価の結果を表21に示す。<比較例B-2~7>参考例B-1~6において、反応時間7時間が経過した後に、室温まで冷却して反応を停止させて得られるフラスコ内の重合反応溶液を用い、参考例B-1は実施例B-1の重合体の精製工程と同様に、参考例B-2は実施例B-2の重合体の精製工程と同様に、参考例B-3は実施例B-3の重合体の精製工程と同様に、参考例B-4は実施例B-4の重合体の精製工程と同様に、参考例B-5は実施例B-5の重合体の精製工程と同様に、参考例B-6は実施例B-6の重合体の精製工程と同様にして比較重合体をそれぞれ得た。得られた比較重合体について、実施例B-1と同様にしてMw、Mw/Mnを求め、溶解性評価を行った。比較例B-2,3の結果を表20に示し、比較例B-4~7の結果を表21に示す。また、比較例B-2、3においては、得られた比較重合体を用い、実施例B-1と同様にしてレジスト組成物を調製し、感度を評価した。その結果を表20に示す。表20の結果より、実施例B-1主工程後工程で滴下するUcに含まれる単量体合計量:2.15質量で得た重合体は、比較例B-1後工程で滴下するUcに含まれる単量体合計量:14.9質量、比較例B-2主工程後工程の区別なく全て一定の割合で滴下で得た重合体と比べて、溶解性が顕著に向上し、レジスト組成物にしたときの感度が向上した。また、後工程で滴下される溶液Ucが含有する単量体の合計量が適切に制御されなかった比較例B-1においては、実施例B-1に比べて溶解性が顕著に低下した。実施例B-2主工程後工程で滴下するUcに含まれる単量体合計量:2.68質量で得た重合体は、比較例B-3全て一定の割合で滴下で得た重合体と比べて、溶解性が顕著に向上し、レジスト組成物にしたときの感度が向上した。表21の結果より、実施例B-3主工程後工程で滴下するUcに含まれる単量体合計量:1.99質量で得た重合体は、比較例B-4主工程後工程の区別なく全て一定の割合で滴下で得た重合体と比べて、溶解性が顕著に向上した。実施例B-4~6も同様に、重合反応により生成する重合体の組成比が全反応期間において一定の組成比になっており、共重合組成が大きく偏った成分の生成を抑制することができた。さらに、比較例B-5~7主工程後工程の区別なく全て一定の割合で滴下で得た重合体と比べて、溶解性が顕著に向上した。以下の例は、本実施形態の共重合体評価方法による、連鎖構造のランダム性に基づく特性評価についての例である。しかしながら、本実施形態はこれらの共重合体の評価に限定されるものではない。<合成例C-1:単独重合体C-A-1>まず、25mLのシュレンクフラスコ中に、3.40部の単量体m-1および1.38部のジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート和光純薬工業社製、V601商品名を13.6部の乳酸エチルとともに入れた後、溶液内に200mL/分で1分間窒素を吹き込んだ。次にこのフラスコを80°Cの湯浴上に置き、攪拌しながら3時間撹拌した。次いで、得られた反応溶液を約20倍量のメタノールに攪拌しながら滴下し、白色の析出物単独重合体C-A-1の沈殿を得た。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。<合成例C-2~3:単独重合体C-A-2、C-A-3>本合成例においては、使用する単量体を上述したm-1から、上記m-2、m-3へそれぞれ変更した以外は、合成例C-1と同様の操作で、単独重合体C-A-22.4g、C-A-31.8gを得た。<合成例C-4~5:単独重合体C-A-4、C-A-5>本合成例においては、使用する単量体を上述したm-1から、上記m-4、m-5へそれぞれ変更し、溶剤を乳酸エチル13.6gから乳酸エチルとPGMEAの混合物乳酸エチル/PGMEA=50/50質量比に変更した以外は、合成例C-1と同様の操作で、単独重合体C-A-42.7g、C-A-51.4gを得た。<合成例C-6:単独重合体C-A-6>本合成例においては、使用する単量体をm-1から下記m-14へ変更し、溶剤を乳酸エチル13.6gからジメチルホルムアミドに変更した以外は、合成例C-1と同様の操作で、単独重合体C-A-62.7gを得た。<合成例C-7:共重合体C-B-1>[共重合体の製造]本合成例においては、単量体m-1、m-2、m-3を一部滴下方式により重合した。使用した各単量体の合計量のモル比はm-1:m-2:m-3=39.0:41.3:19.7である。窒素導入口、撹拌機、コンデンサー、滴下漏斗、および温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを79.0部、単量体m-1を2.72部、単量体m-2を4.90部、単量体m-3を2.02部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、乳酸エチル3.6部とジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名1.196部が入った滴下装置から一定速度で15分間フラスコ内に滴下するとともに、単量体m-1が23.80部、単量体m-2が27.44部、単量体m-3が16.52部、乳酸エチルが98.06部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が0.643部入った滴下装置から一定速度で4時間かけてフラスコ内に滴下した。さらに80°Cの温度を3時間保持した。次いで、フラスコ内の重合反応溶液を、約10倍量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=80/20容量比を撹拌しながら、ここに滴下し、白色の析出物共重合体C-B-1の沈殿を得た。沈殿を濾別し、再度、前記と同じ量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=90/10容量比へ投入し、撹拌しながら沈殿の洗浄を行った。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。そして、得られた白色粉体を1H-NMRとGPCにて分析し、共重合体全体の平均単量体組成とMwを求めた。また得られた共重合体C-B-1の溶解性を上記の方法で評価した。その結果を表22に示す。また表22に、共重合体C-B-1、C-B-2及びC-B-3の各々の組成における単量体m-1、m-2及びm-3のモル比、分子量、評価値としての評価距離LS、溶解性を示す時間分、感度としての露光量を示す。[レジスト組成物の製造]上記で得られた共重合体C-B-1の100部に、光酸発生剤であるトリフェニルスルホニウムトリフレートを2部、および溶剤としてPGMEA700部を混合して均一溶液とした後、孔径01μmのメンブランフィルターで濾過し、レジスト組成物溶液を調製した。得られたレジスト組成物について上記の方法で感度を評価した。その結果を表22に示す。<合成例C-8:共重合体C-B-2>合成例C-7において、予めフラスコ内に単量体を入れずに、共重合体を全滴下方式により合成した。本合成例で用いた単量体のモル比はm-1:m-2:m-3=40.0:40.0:20.0である。すなわち、合成例C-7と同様のフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを64.5部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、単量体m-1が27.20部、単量体m-2が31.36部、単量体m-3が18.88部、乳酸エチルが112.6部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が2.576部入った滴下装置から一定速度で4時間かけてフラスコ内に滴下した。さらに80°Cの温度を3時間保持した。この後、合成例C-7と同様にして白色の析出物共重合体C-B-2の沈殿を得、濾別、洗浄、洗浄後の濾別、乾燥を行って白色粉体を得た。得られた共重合体C-B-2について、合成例C-7と同様の測定および評価を行った。その結果を表22に示す。<合成例C-9:共重合体C-B-3>合成例C-7において、予めフラスコ内に全ての単量体及び溶剤を仕込、共重合体をバッチ方式により合成した。本例で用いた単量体のモル比はm-1:m-2:m-3=40.0:40.0:20.0である。すなわち、25mLのシュレンクフラスコ中に、乳酸エチルを15.5部、単量体m-1を1.36部、単量体m-2を1.57部、単量体m-3を0.94部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名を1.15部入れた後、溶液内に200mL/分で1分間窒素を吹き込んだ。次にこのフラスコを80°Cの湯浴上に置き、攪拌しながら3時間撹拌した。次いで、得られた反応溶液を約10倍量のメタノールに攪拌しながら滴下し、白色の析出物共重合体C-B-3の沈殿を得た。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体C-を得た。得られた共重合体C-B-3について、合成例C-7と同様の測定および評価を行った。その結果を表22に示す。<合成例C-10:共重合体C-B-4>本合成例においては、単量体m-4、m-5、m-3を一部滴下方式により重合した。使用した各単量体の合計量のモル比はm-4:m-5:m-3=35.5:34.3:30.2である。合成例C-7と同様のフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを42.6部、PGMEAを41.5部、単量体m-4を2.83部、単量体m-5を8.68部、単量体m-3を3.52部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、乳酸エチル6.5部とジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名2.152部が入った滴下装置から一定速度で20分間フラスコ内に滴下するとともに、単量体m-4が18.09部、単量体m-5が20.83部、単量体m-3が21.15部、乳酸エチルが38.6部、PGMEAが45.1部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が1.435部入った滴下装置から一定速度で4時間かけてフラスコ内に滴下した。さらに80°Cの温度を3時間保持した。次いで、フラスコ内の重合反応溶液を、約10倍量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=85/15容量比を撹拌しながら、ここに滴下し、白色の析出物共重合体C-B-4の沈殿を得た。沈殿を濾別し、再度、前記と同じ量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=95/5容量比へ投入し、撹拌しながら沈殿の洗浄を行った。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。得られた共重合体C-B-4について、合成例C-7と同様の測定および評価を行った。その結果を表23に示す。また表23に、共重合体C-B-4、C-B-5及びC-B-6の各々の組成における単量体m-4、m-5及びm-3のモル比、分子量、評価値としての評価距離LS、溶解性を示す時間分、感度としての露光量を示す。<合成例C-11:共重合体C-B-5>合成例C-10において、予めフラスコ内に単量体を入れずに、共重合体を全滴下方式により合成した。本合成例で用いた単量体のモル比はm-4:m-5:m-3=35.0:35.0:30.0である。すなわち、合成例C-7と同様のフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチルを54.5部とPGMEA23.3部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。次に、単量体m-4が51.17部、単量体m-5が37.32部、単量体m-3が30.44部、乳酸エチルが98.0部、PGMEAが16.4部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が5.538部入った滴下装置から一定速度で4時間かけてフラスコ内に滴下した。さらに80°Cの温度を3時間保持した。そして、合成例C-10と同様にして白色の析出物共重合体C-B-5の沈殿を得、濾別、洗浄、洗浄後の濾別、乾燥を行って白色粉体を得た。得られた共重合体C-B-5について、合成例C-7と同様の測定および評価を行った。その結果を表23に示す。<合成例C-12:共重合体C-B-6>合成例C-10において、予めフラスコ内に全ての単量体及び溶剤を仕込み、共重合体をバッチ方式により合成した。本合成例で用いた単量体のモル比はm-4:m-5:m-3=36.0:32.0:32.0である。すなわち、25mLのシュレンクフラスコ中に、乳酸エチルを4.9部、PGMEAを4.9部、単量体m-4を1.84部、単量体m-5を2.38部、単量体m-3を2.27部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名を1.725部入れた後、溶液内に200mL/分で1分間窒素を吹き込んだ。次にこのフラスコを80°Cの湯浴上に置き、攪拌しながら3時間撹拌した。次いで、得られた反応溶液を約10倍量のメタノールに攪拌しながら滴下し、白色の析出物共重合体C-B-6の沈殿を得た。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体を得た。得られた共重合体C-B-6について、合成例C-7と同様の測定および評価を行った。その結果を表23に示す。<合成例C-13:共重合体C-B-7>本合成例では、単量体m-1、m-14、m-3を、予めフラスコ内に単量体を入れずに重合させる方法全滴下方式で合成した。使用した各単量体の合計量のモル比はm-1:m-14:m-3=40.0:40.0:20.0である。すなわち、合成例C-7と同様のフラスコに、窒素雰囲気下で、DMFを43.1部入れた。フラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を撹拌しながら湯浴の温度を80°Cに上げた。その後、単量体m-1が10.21部、単量体m-14が8.53部、単量体m-3が7.09部、DMFが60.3部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名が0.449部入った滴下装置から一定速度で3時間かけてフラスコ内に滴下した。さらに80°Cの温度を3時間保持した。次に、フラスコ内の重合反応溶液を、約10倍量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=70/30容量比を撹拌しながら、ここに滴下し、白色の析出物共重合体C-B-7の沈殿を得た。沈殿を濾別し、再度、前記と同じ量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=70/30容量比へ投入し、撹拌しながら沈殿の洗浄を行った。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体20.1gを得た。得られた共重合体C-B-7について、合成例C-7と同様の測定および評価を行った。その結果を表24に示す。また表24に、重合体C-B-7及びC-B-8の各々の組成における単量体m-1、m-14及びm-3のモル比、分子量、評価値としての評価距離LS、溶解性を示す時間分、感度としての露光量を示す。<合成例C-14:共重合体C-B-8>合成例C-13において、予めフラスコ内に全ての単量体及び溶剤を仕込み、共重合体をバッチ方式により合成した。本合成例で用いた単量体のモル比はm-1:m-14:m-3=40.0:40.0:20.0である。すなわち、25mLのシュレンクフラスコ中に、DMFを8.3部、単量体m-1を0.82部、単量体m-14を0.68部、単量体m-3を0.57部、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート上記、V601商品名を0.332部入れた後、溶液内に200mL/分で1分間窒素を吹き込んだ。次にこのフラスコを80°Cの湯浴上に置き、攪拌しながら6時間撹拌した。次いで、得られた反応溶液を約10倍量のメタノールおよび水の混合溶媒メタノール/水=80/20容量比に攪拌しながら滴下し、白色の析出物共重合体C-B-8の沈殿を得た。そして、洗浄後の沈殿を濾別し、共重合体湿粉を得た。この共重合体湿粉を減圧下40°Cで約40時間乾燥し、白色粉体1.5gを得た。得られた共重合体C-B-8について、合成例C-7と同様の測定および評価を行った。その結果を表24に示す。<応用例C-1>合成例C-1~3で得られた単独重合体C-A-1~C-A-3、合成例C-7~9で得られた共重合体C-B-1~C-B-3の合計6種類の13C-NMR測定を、それぞれNMR測定部350において行った。そして、NMR測定部350において、各サンプルのNMRスペクトルを得る。なお、NMR測定部350は、測定時の積算回数を5000回、FID処理時のブロードニングファクターを4.0Hz、基準ピークをジメチルスルホキシド39.5ppmとし、測定したNMRスペクトルのベースライン補正を行い、得られた各サンプルのFIDデータを波形処理部311へ出力する。次に、波形処理部311は、得られたFID信号におけるNMRスペクトルの周波数それぞれの中から、重合体のカルボニル炭素に由来する175~179ppmの範囲を0.25ppmの間隔で積分し、16個の積分値を得た。そして、波形処理部311は、単独重合体C-A-1~C-A-3の各々に単量体識別情報例えば、A-1~A-3を付与し、この単量体識別情報に対応させて、各単独重合体のNMRスペクトルデータをNMRデータ記憶部315へ書き込み、記憶させる。また、波形処理部311は、共重合体C-B-1~C-B-3の各々にサンプル識別情報例えば、B-1~B-3を付与し、このサンプル識別情報に対応させて、各サンプルの共重合体のNMRスペクトルデータをNMRデータ記憶部315へ書き込み、記憶させる。次に、主成分分析部312は、多変量解析ソフトとして、例えばPatternRecognitionSystem社製Sirius登録商標を用いて、単独重合体C-A-1~C-A-3及び共重合C-B-1~C-B-3の各々の合計6種類の重合体のNMRスペクトルデータにより、カルボニル炭素に関する合計16個の積分値についての主成分分析を行い、31式に示す行列Gの実験モデルを構築する。その結果、共重合体の組成における単量体が3種類のため、評価対象のサンプルを配置する主成分空間の次元を3次元、すなわち主成分数を3個とした。そして、第1主成分から第3主成分の各々の寄与率は、それぞれ67.1、24.5、7.9となり、残渣は0.5であった。また、単独重合体C-A-1~C-A-3及び共重合体C-B-1~C-B-3の各々の第1の主成分以下、PC1、第2の主成分以下、PC2、および第3の主成分以下、PC3の主成分得点スコアは、表25に示すようになった。また表25に、主成分分析部312が算出した単独重合体C-A-1~C-A-3及び共重合体C-B-1~C-B-3の各々の第1の主成分、第2の主成分および第3の主成分それぞれの主成分得点を示す。次に、数値変換部313は、図3に示す第1主成分軸PC1、第2主成分軸PC2及び第3主成分軸PC3から構成される三次元空間において、単独重合体C-A-1~C-A-3及び共重合体C-B-1~C-B-3の各々の座標値各軸の主成分得点により示される主成分空間における位置から、単独重合体C-A-1~C-A-3の形成する2次元空間2次元平面から、重合体C-B-1~C-B-3の各々の座標までの評価距離LSの算出を行う。ここで、数値変換部313は、3次元空間である主成分空間における単独重合体C-A-1、C-A-2、C-A-3、及び共重合体C-B-1、C-B-2、C-B-3の各々の座標点を、それぞれの第1の主成分軸PC1の座標値PC1X、第2の主成分軸PC2の座標値PC2X及び第3の主成分軸PC3の座標値PC3Xを用いて下記のように示す。また、座標値における内のXは、評価対象の共重合体のサンプルを示すサンプル識別情報である。単独重合体C-A-1の座標値:PA-1=PC1A-1、PC2A-1、PC3A-1単独重合体C-A-2の座標値:PA-2=PC1A-2、PC2A-2、PC3A-2単独重合体C-A-3の座標値:PA-3=PC1A-3、PC2A-3、PC3A-3共重合体C-B-1の座標値:PB-1=PC1B-1、PC2B-1、PC3B-1共重合体C-B-2の座標値:PB-2=PC1B-2、PC2B-2、PC3B-2共重合体C-B-3の座標値:PB-3=PC1B-3、PC2B-3、PC3B-3ここで、単独重合体C-A-1、C-A-2、C-A-3は、重合体連鎖において単一の構成単位としての単量体が完全に連続して配置されて結合している。このため、座標値PA-1、PA-2、PA-3全てを通る2次元平面2次元の比較空間は、構成単位の単量体の連続性が最も高い、言い換えるとランダム性が最も小さい共重合体の集合が形成している、3次元空間の主成分空間より1次元少ない2次元空間である。したがって、すでに述べたように、この2次元平面から評価対象の共重合体までの評価距離LSは、ランダム性が最も少ない性質を示す2次元平面からの距離であり、共重合体中の連鎖における単量体の配置のランダム性を示している。そして、数値変換部313は、下式のように数値a、b、c、dを求める。a=PC2A-2-PC2A-1×PC3A-3-PC3A-1-PC2A-3-PC2A-1×PC3A-2-PC3A-1b=PC3A-2-PC3A-1×PC1A-3-PC1A-1-PC3A-3-PC3A-1×PC1A-2-PC1A-1c=PC1A-2-PC1A-1×PC2A-3-PC2A-1-PC1A-3-PC1A-1×PC2A-2-PC2A-1d=-PC2A-2-PC2A-1×PC3A-3-PC3A-1-PC2A-3-PC2A-1×PC3A-2-PC3A-1×PC1A-1-PC3A-2-PC3A-1×PC1A-3-PC1A-1-PC3A-3-PC3A-1×PC1A-2-PC1A-1×PC1A-2-PC1A-2-PC1A-1×PC2A-3-PC2A-1-PC1A-3-PC1A-1×PC2A-2-PC2A-1×PC1A-3次に、数値変換部313は、座標点PA-1、PA-2、PA-3の3つの全てを通る2次元平面と、評価対象の共重合体の座標点PPC1、PC2、PC3との評価距離LSを、求めた数値a、b及びcを用いて、以下の式により算出する。L=|a×SPC1b×SPC2c×SPC3d|/a2b2c21/2この式において、SPC1は評価対象の共重合体の第1主成分軸における座標値第1主成分の主成分得点であり、SPC2は評価対象の共重合体の第2主成分軸における座標値第2主成分の主成分得点であり、SPC3は評価対象の共重合体の第3主成分軸における座標値第3主成分の主成分得点である。すでに述べたように、評価対象の共重合体の特性の主成分空間における位置を示を座標点と、共重合体を形成する3つの単量体それぞれからなる単独重合体の座標点PA-1、PA-2、PA-3全てを通る2次元平面との評価距離LSを表22に示す。表22から判るように、評価距離LSが大きいほど共重合連鎖のランダム性が高く、溶解性及び光に対する感度のリソグラフィー特性が良好である。表22から分かるように、評価距離Lが共重合体C-B-3、C-B-2、C-B-1の順に長くなり、この共重合体を用いて調製したレジスト用組成物の溶解性及び光に対する感度のリソグラフィー特性は、共重合体C-B-3、C-B-2、C-B-1の順に評価距離LSが長くなるに従い向上していることが分かる。したがって、レジストとして使用するレジスト用組成物を調製して、リソグラフィーを実際に行わずとも、レジスト用組成物の調製に用いる共重合体の評価距離LSを求めることにより、この共重合体から調製されるレジスト用組成物のリソグラフィー特性を推定することができる。ここで、共重合体C-B-3は、光に対する感度が測定を行えないほど低く、かつ溶解性も測定可能時間内に完全に溶解していない。<応用例C-2>合成例C-3~C-5で得られた単独重合体C-A-3~C-A-5、合成例C-10~12で得られた共重合体C-B-4~C-B-6の合計6種類の13C-NMR測定をそれぞれ行い、スペクトルを得た。なお、測定時の積算回数を5000回、FID処理時のブロードニングファクターを4.0Hz、基準ピークをジメチルスルホキシド39.5ppmとし、ベースライン補正を行った。次に、得られたスペクトルそれぞれの中から、重合体のカルボニル炭素に由来する173~179ppmの範囲を0.25ppmの間隔で積分し、20個の積分値を得た。応用例C-1と同様に主成分得点、全ての単独重合体についての主成分得点からなる点を通る平面からの評価距離LSを求めた。第1主成分軸PC1、第2主成分軸PC2、および第3主成分軸PC3の各々の座標値を示す各主成分の主成分得点スコアを表26に示し、評価距離LSの結果を表23に示す。また表26に、主成分分析部312が算出した単独重合体C-A-3~C-A-5及び共重合体C-B-4~C-B-6の各々の第1の主成分、第2の主成分および第3の主成分それぞれの主成分得点を示す。表23から分かるように、評価距離Lが共重合体C-B-6、C-B-5、C-B-4の順に長くなり、この共重合体を用いて調製したレジスト用組成物の溶解性及び光に対する感度のリソグラフィー特性は、共重合体C-B-6、C-B-5、C-B-4の順に評価距離LSが長くなるに従い向上していることが分かる。したがって、レジストとして使用するレジスト用組成物を調製して、リソグラフィーを実際に行わずとも、レジスト用組成物の調製に用いる共重合体の評価距離LSを求めることにより、この共重合体から調製されるレジスト用組成物のリソグラフィー特性を推定することができる。ここで、共重合体C-B-6は、光に対する感度が測定を行えないほど低く、かつ溶解性も測定可能時間内に完全に溶解していない。<応用例C-3>合成例C-1、3、6で得られた単独重合体C-A-1、C-A-3、C-A-6、合成例C-13~14で得られた共重合体C-B-7及びC-B-8の合計5種類の13C-NMR測定をそれぞれ行い、スペクトルを得た。なお、測定時の積算回数を5000回、FID処理時のブロードニングファクターを3.0Hz、基準ピークをジメチルスルホキシド39.5ppmとし、ベースライン補正を行った。次に、すでに述べたように、各重合体のNMRスペクトル信号それぞれの中から、重合体のカルボニル炭素に由来する174~179ppmの範囲を0.25ppmの間隔で積分し、16個の積分値を得た。応用例C-1と同様に、NMRスペクトル信号から求められたNMRスペクトルデータの主成分分析を行い、主成分得点、全ての単独重合体についての主成分得点からなる点を通る平面からの評価距離LSを求めた。第1主成分軸PC1、第2主成分軸PC2、および第3主成分軸PC3の各々の座標値を示す各主成分の主成分得点スコアを表27に示し、評価距離LSの結果を表24に示す。また表27に、主成分分析部312が算出した単独重合体C-A-1、C-A-3及びC-A-6及び共重合体C-B-7及びC-B-8の各々の第1の主成分、第2の主成分および第3の主成分それぞれの主成分得点を示す。表24から分かるように、評価距離Lが共重合体C-B-8、C-B-7の順に長くなり、この共重合体を用いて調製したレジスト用組成物の溶解性及び光に対する感度のリソグラフィー特性は、共重合体C-B-8、C-B-7の順に評価距離LSが長くなるに従い向上していることが分かる。したがって、レジストとして使用するレジスト用組成物を調製して、リソグラフィーを実際に行わずとも、レジスト用組成物の調製に用いる共重合体の評価距離LSを求めることにより、この共重合体から調製されるレジスト用組成物のリソグラフィー特性を推定することができる。本実施形態においては、表22、表23、及び表24示す結果より、評価距離LSの値と、現像欠陥に関連する溶解性、または感度を示すEthとの間には相関関係があり、該LSの値によって、間接的にリソグラフィー特性を評価することができることが確認された。このことから、本実施形態の方法によって、高精度で、リソグラフィー特性の間接的な評価を、高精度に行うことができることが確認された。次に、共重合体を構成する単量体がn個の場合、数値変換部313が評価距離LSを求める式を示す。この場合、単量体の種類がn個となるため、主成分空間はn次元となり、このn次元空間において、各単量体のみからなる単独重合体の座標点数がn個となり、このn個の座標点を全て含む空間はn-1次元となる。したがって、評価距離LSは、評価対象のサンプルの座標点から、上述したn-1次元の空間までの評価距離LSを求めることになる。このn次元空間における任意の座標点からn-1次元空間までの評価距離LSは、任意の座標点をn-1次元空間に射影し、このn-1次元空間に射影されたn-1次元空間における位置を示す座標点と、任意の座標点とを結ぶ最短の測地線の長さを求めることになる。例えば、第1主成分軸PC1から第n主成分軸PCnにより形成されるn次元空間において、それぞれの単独重合体のサンプルの座標点n個の主成分得点の示す位置を全て含むn-1次元空間を求める。ここで、数値変換部313は、単一の構成単位からなる重合体C-A-1からC-A-nに対し、各々の第1主成分軸PC1における座標値主成分得点と、...、第n主成分軸PCnにおける座標値主成分得点からなる座標点により、座標点PA-1~PA-nと定める。そして、数値変換部313は、座標点PA-1~PA-n全てを通るn-1次元空間と、評価対象の共重合体の座標点PPC1、PC2、...、PCnとの評価距離LSを、以下の式により算出する。LS=|a1×SPC1a2×SPC2...an×SPCnan1|/a12a22...an21/2この式において、SPC1は評価対象の共重合体の第1主成分軸における座標値第1主成分の主成分得点であり、SPC2は評価対象の共重合体の第2主成分軸における座標値第2主成分の主成分得点であり、...、SPCnは評価対象の共重合体の第n主成分軸における座標値第n主成分の主成分得点である。ただし、上述したn次元の主成分空間における評価距離LSを算出する式において、a1×SPC1a2×SPC2...an×SPCnan1=0の関係によって表されるn-1次元の比較空間主成分空間より1次元少ないは、座標点PA-1~PA-nのn個の座標点の全てを通る。ここで、数値変換部313は、上記式における数値係数a1からan1は、比較空間であるn-1次元空間の式に対し、座標点PA-1の各座標を代入したn元連立方程式を解くことにより算出する。上述したように、主成分分析部312の処理において、レジスト用共重合体をSとし、このレジスト用共重合体Sがnnは2以上の整数個の構成単位単量体からなる場合、レジスト用共重合体S、及び単一の構成単位である単量体のみからなる単独重合体C-A-jj=1nのNMR測定における化学シフトと信号強度とに対して主成分分析を行い、各主成分の主成分得点Pjを算出する。レジスト用共重合体Sを形成する単量体がn種類なので、n番目までの主成分第1主成分から第n主成分までを用いるため、n本の主成分軸が形成される。そして、数値変換部313は、n本の主成分軸それぞれが直行する座標軸からなるn次元の主成分空間において、単独重合体C-A-jの主成分得点の各々を、それぞれの主成分軸の座標値として、主成分空間における座標点を形成させる。また、数値変換部313は、評価対象のレジスト用共重合体Sについての主成分得点PiSからなる点を座標点PSとし、単独重合体C-A-jについての主成分得点PiA-jからなる座標点をPA-jとし、座標点PA-j全てを通るn-1次元空間と座標点PSとの距離を評価距離LSとして算出する。そして、特性評価部314は、数値変換部313の算出した評価距離LSにより、評価対象のレジスト用共重合体のリソグラフィー特性の評価の処理を行うすでに述べた閾値を用い、この共重合体を調合して得られるレジスト用組成物のリソグラフィー特性の評価を行う。また、本実施形態においては、複数2種類以上の単量体からなる共重合体として、レジスト用共重合体の評価を例として説明したが、リソグラフィー用共重合体を含め、複数の単量体からなる共重合体を評価対象とし、これらの共重合体の組成における単量体の配列の状態を定性的に評価も行うことができる。そして、共重合体の組成における単量体の配列の状態と、共重合体の物性を含めた特性との相関を取ることにより、実際に共重合体を用いた実験を行わなくとも、レジスト用共重合体と同様に、評価距離LSから共重合体の特性を推定することができる。また、図2における波形処理部311、主成分分析部312、数値変換部313及び特性評価部314の機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより共重合体の組成分析の処理を行ってもよい。なお、ここでいうコンピュータシステムとは、OSや周辺機器等のハードウェアを含むものであり、上述と同様である。以上、本発明の実施形態を図面を参照して詳述したが、具体的な構成は上記の実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計等も含まれる。"