"円筒あるいは円柱状の回転体の表面に所望の凹凸のパターンを有するロールモールドを作製するロールモールド製作装置において、レジストを表面に塗布した円筒あるいは円柱状の回転体であるロールモールドを、当該ロールモールドの回転対称軸の周りに回転可能に保持するロールステージと、電子ビームが透過する1つあるいは複数の開口パターンを有するマスクと、前記マスクを前記ロールモールドの表面に近接して配置して保持するマスクステージと、電子ビームを発生して前記マスクを通して前記ロールモールドに照射する電子源と、前記ロールモールドを一定速度で連続回転させながら前記電子源から電子ビームを前記マスクに照射し、当該マスクを透過した電子ビームを当該ロールモールドのレジストを塗布した円筒あるいは円柱状の表面に照射して当該ロールモールド表面に回転方向に連続あるいは断続したパターンを作製する手段とを備えたことを特徴とするロールモールド作製装置。前記電子源から放射された電子ビームを、前記マスクに照射したり、遮断したりする電子ビームスイッチを設け、前記断続したパターンを作製することを特徴とする請求項1記載のロールモールド作製装置。前記電子源から放出された電子ビームを、前記マスク上の所定領域を走査する偏向手段を設けたことを特徴とする請求項1あるいは請求項2記載のロールモールド作製装置。前記ロールステージは、回転可能に保持するロールモールドの回転対象軸の方向に移動可能にしたことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のロールモールド作製装置。前記マスクステージは、マスクをロールモールドの表面に近接して配置した状態で、当該マスクを前記ロールモールドの面に並行にX方向およびY方向に移動可能にしたことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載のロールモールド作製装置。前記ロールモールドの回転角度を読み取るエンコーダを設け、当該エンコーダから読み取った角度に同期して、前記電子ビームを前記マスクに照射を開始あるいは停止し、回転方向に断続パターンを作製することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載のロールモールド作製装置。前記ロールモールドの回転角度を読み取るエンコーダを設け、当該エンコーダから読み取った角度に同期して、前記マスクステージを移動し、回転方向から直角方向に移動したパターンを作製することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載のロールモールド作製装置。前記ロールモールドの回転角度を読み取るエンコーダを設け、当該エンコーダから読み取った角度に同期して、前記マスクステージの移動および前記電子ビームの照射を開始あるいは停止し、不連続パターンを作製することを特徴とする請求項1から請求項7のいずれかに記載のロールモールド作製装置。前記マスクあるいはマスク上のパターンをロールモールドの回転対象軸方向に対して所定角度θだけ傾けると共に当該傾けた角度方向に前記電子ビームの走査方向を一致させた状態で、前記ロールモールドの回転角度を読み取るエンコーダを設け、当該エンコーダから読み取った角度に同期して、前記電子ビームをマスクに照射して不連続パターンを作製することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれかに記載のロールモールド作製装置。前記マスクは、電子ビームが透過する開口を、前記ロールモールドの回転方向に複数列設けると共に、前記ロールモールドの回転角度を読み取るエンコーダを設け、当該エンコーダから読み取った角度に同期して、前記電子ビームをマスクに照射して多重露光あるいは分割露光することを特徴とする請求項1から請求項9のいずれかに記載のロールモールド作製装置。円筒あるいは円柱状の回転体の表面に所望の凹凸のパターンを有するロールモールドを作製するロールモールド製作方法において、レジストを表面に塗布した円筒あるいは円柱状の回転体であるロールモールドを、当該ロールモールドの回転対称軸の周りに回転可能に保持するロールステージと、電子ビームが透過する1つあるいは複数の開口パターンを有するマスクと、前記マスクを前記ロールモールドの表面に近接して配置して保持するマスクステージと、電子ビームを発生して前記マスクを通して前記ロールモールドに照射する電子源とを備え、前記ロールモールドを一定速度で連続回転させながら前記電子源から電子ビームを前記マスクに照射し、当該マスクを透過した電子ビームを当該ロールモールドのレジストを塗布した円筒あるいは円柱状の表面に照射して当該ロールモールド表面に回転方向に連続あるいは断続したパターンを作製することを特徴とするロールモールド作製方法。しかし、1μm以下の微細パターンの加工には電子ビーム描画技術が必要になるが、それは以下の理由により実際には実用されてはいない。1従来の電子ビーム描画装置ではスループットが低い描画に長時間かかる2装置が高価であり、生産コストが過大となる。ここで、スループットが低い理由は、使用する電子ビームのサイズが加工すべきパターンの微細さの程度に小さく、広い面積を描画するには膨大な時間を要することにある。また、フォトマスクのパターン描画に使用されている電子ビーム描画装置は高価であるが、比較的スループットが高いとされている。しかし、必要なフォトマスクの描画面積はたかだか225cm平方に過ぎない。ロールモールドは直径10cm、長さ100cmの場合には、3,140cm平方になり、これでもフォトマスクの14倍であって、満足できるスループットは得られないという問題が発生した。また、特許文献1の技術で、ロールモールドに近接させたマスク上のパターンを電子線で露光することをステップ状に繰り返したのでは、やはりスループットが低いと共に連続、断続した長いパターンなどを描画することが困難であるなどの問題がある。本発明は、上記問題を解決するため、前もって所望のパターンを開口配列として加工したマスク例えばステンシルマスクを用意し、これを電子線露光用レジストを塗布したロールモールドの表面に近接して配置し、ロールモールドを連続回転させながらマスクの表面に電子ビームを照射し、マスクを透過した電子ビームによりレジストを露光した後、これを現像、エッチング等の処理によってロールモールド表面にパターンを形成することにより、1照射する電子ビームのサイズが成形されるパターンの微細さを決めることなく、パターンの微細さはマスクに加工された開口のサイズによることとなり、2したがって照射ビームの形状は大きくかつ大電流化が可能となり、3これにより高スループットを実現し、かつ4電子ビームの制御は従来の電子描画装置に比較しきわめて簡単であり低コストを実現することを目的とする。本発明は、そのために、円筒あるいは円柱状の回転体の表面に所望の凹凸のパターンを有するロールモールドを作製するロールモールド製作装置において、レジストを表面に塗布した円筒あるいは円柱状の回転体であるロールモールドを、ロールモールドの回転対称軸の周りに回転可能に保持するロールステージと、電子ビームが透過する1つあるいは複数の開口パターンを有するマスクと、マスクをロールモールドの表面に近接して配置して保持するマスクステージと、電子ビームを発生してマスクを通してロールモールドに照射する電子源と、ロールモールドを一定速度で連続回転させながら電子源から電子ビームをマスクに照射し、マスクを透過した電子ビームをロールモールドのレジストを塗布した円筒あるいは円柱状の表面に照射してロールモールド表面に回転方向に連続あるいは断続したパターンを作製する手段とを備える。この際、電子源から放射された電子ビームを、マスクに照射したり、遮断したりする電子ビームスイッチを設け、断続したパターンを作製するようにしている。また、電子源から放出された電子ビームを、マスク上の所定領域を走査する偏向手段を設けるようにしている。また、ロールステージは、回転可能に保持するロールモールドの回転対象軸の方向に移動可能にするようにしている。また、マスクステージは、マスクをロールモールドの表面に近接して配置した状態で、マスクをロールモールドの面に並行にX方向およびY方向に移動可能にするようにしている。また、ロールモールドの回転角度を読み取るエンコーダを設け、エンコーダから読み取った角度に同期して、電子ビームをマスクに照射を開始あるいは停止し、回転方向に断続パターンを作製するようにしている。また、ロールモールドの回転角度を読み取るエンコーダを設け、エンコーダから読み取った角度に同期して、マスクステージを移動し、回転方向から直角方向に移動したパターンを作製するようにしている。また、ロールモールドの回転角度を読み取るエンコーダを設け、エンコーダから読み取った角度に同期して、マスクステージの移動および電子ビームの照射を開始あるいは停止し、不連続パターンを作製するようにしている。また、マスクあるいはマスク上のパターンをロールモールドの回転対称軸方向に対して所定角度θだけ傾けると共に傾けた角度方向に電子ビームの走査方向を一致させた状態で、ロールモールドの回転角度を読み取るエンコーダを設け、エンコーダから読み取った角度に同期して、電子ビームをマスクに照射して不連続パターンを作製するようにしている。また、マスクは、電子ビームが透過する開口を、ロールモールドの回転方向に複数列設けると共に、ロールモールドの回転角度を読み取るエンコーダを設け、エンコーダから読み取った角度に同期して、電子ビームをマスクに照射して多重露光あるいは分割露光するようにしている。本発明は、前もって所望のパターンを開口配列として加工したマスクを用意し、これをレジスト塗布したロールモールドの表面に近接して配置し、ロールモールドを連続回転させながらマスクの表面に電子ビームを一様に照射し、マスクを透過した電子ビームによりレジストを露光してパターンを形成することにより、1照射する電子ビームのサイズが成形されるパターンの微細さを決めることなく、パターンの微細さはマスクに加工された開口のサイズによることとなり、したがって照射ビームの形状は大きくかつ大電流化が可能となり、2これにより高スループットを実現し、かつ3電子ビームの制御は従来の電子描画装置に比較しきわめて簡単であり低コストを実現することができる。本発明は、1照射する電子ビームのサイズが成形されるパターンの微細さを決めることなく、パターンの微細さはマスクに加工された開口のサイズによることとなり、したがって照射ビームの形状は大きくかつ大電流化が可能となり、2これにより高スループットを実現し、かつ3電子ビームの制御は従来の電子描画装置に比較しきわめて簡単であり低コストを実現した。図1は、本発明の1実施例構造図を示す。図1のaは要部構造図を示し、図1のbは電子ビーム1がステンシルマスク2の開口20を通過してロールモールド3上のレジストを塗布した面に露光する様子を模式的に示し、図1のcは図1のaの機構を制御するパソコン51の構成を示す。図1において、電子ビーム1は、図示外後述する図3参照の電子源で発生されて集束された電子ビームであって、マスクステンシルマスク2の開口20を照射し、当該開口20を透過した電子ビームをロールモールド3の表面に塗布したレジストに露光してパターンを作製するためのものである。電子ビーム1の大きさは、マスク2の開口20よりも大きいものであって、当該マスク2の開口20を一度に全部照射できるときは一度に照射し、図示の一度に全部の開口20を照射できないときは当該開口20の列の方向に電子ビーム1を走査して全ての開口20を照射する。これにより、マスク2の開口20のパターンが連続回転するロールモールド3の表面に塗布したレジストに露光、例えば図示のように回転方向に帯状に露光されることとなる。尚、電子ビーム1を遮断することで、断続したパターンを露光することが可能となる後述する図3で詳細に説明する。ステンシルマスク2は、開口20を有する透過型のマスク、例えばステンシルマスクであって、ロールモールド3の回転方向と直角方向に1列あるいは複数列に開口20を設けたものである。開口20の寸法は、数μmから数nmの任意の寸法を持つものであって、例えば電子ビーム露光により予め作製する。ロールモールド3は、円筒あるいは円柱状のモールドであって、表面にレジストを予め塗布してマスク2の開口20を透過した電子ビーム1によって露光して凹凸のパターンを作製する対象のロールモールドである。ロールモールド3は、回転対称に作製し、表面にレジストを塗布し、一定速度で連続回転させると共に、温度などを一定に保持する。図示のロールモールド3は、マスク2の開口20を透過した電子ビーム1が当該ロールモールド3の表面に塗布したレジストを露光し、図示の回転方向に帯状のパターンを形成する。尚、後述する図3のビームブランカ341によって電子ビーム1を断続することで、断続した帯状のパターンを形成できる。連続パターン4は、マスク2の開口20を通過した電子ビーム1でロールモールド3上に塗布したレジストを露光したときの回転方向に帯状の連続したパターンである。尚、後述する図3のビームブランカ341によって電子ビーム1を断続することで、断続した帯状のパターンを形成できる。PCパソコン51は、プログラムに従い各種制御を行う処理装置の例であって、ここでは、交換手段52、安定化手段53、ロール制御手段54、マスク制御手段55、ビーム制御手段56、モールドDB57、マスクDB58、露光DB59、ログDB60、表示装置61、および入力装置62などから構成されるものである。交換手段52は、ステンシルマスク2、ロールモールド3などを交換する制御を行うものである図2のフローチャートおよびその説明を参照。安定化手段53は、ロールモールド3を連続回転させ、回転速度、温度などの安定化を図るものである図2のフローチャートおよびその説明を参照。ロール制御手段54は、ロールモールド3を一定速度で連続回転させるように安定化するものである。ロールモールド3の回転角度は、当該ロールモールド3に連結直結した高精度のエンコーダにより、一定速度で連続回転するときの回転角度を高精度例えばロールモールド3の表面上で数nm程度の高精度末尾に記述するに検出するようにしている。マスク制御手段55は、マスクステンシルマスク2をロールモールド3に近接した状態でX、Y、Z、θ方向に移動させたりなどするものである。ビーム制御手段56は、電子ビーム1をマスク2に照射したり、ビームブランカ341に電圧を印加して遮断したりし、マスク2の開口20を透過した電子ビーム1をロールモールド3の表面に塗布したレジストに露光させて連続したパターンや、断続したパターンを露光したりなどするものである図2から図13参照。モールドDB57は、ロールモールド3に電子ビーム1を露光するときに必要な情報を登録したものであって、例えば下記の情報を登録したものである。モールド材料:モールド形状:レジスト条件:レジスト種類、膜厚、電子線感度などその他:マスクDB58は、マスク2の開口20を通過した電子ビーム1をロールモールド3に照射して露光するときに必要な情報を登録したものであって、例えば下記の情報を登録したものである。パターンデータ:CADデータなど形状データ:走査条件:その他:露光DB59は、マスク2の開口20を透過した電子ビーム1でロールモールド3に塗布したレジスト上に露光するときの情報を登録したものであって、例えば下記の情報を登録したものである。レジスト条件:レジスト感度:塗布条件:塗布方式:レジスト膜厚:ベーク条件:塗布日時:現像条件:現像方式:ベーク条件:現像日時:ビーム条件:電流量電子ビーム1の電流量:ビーム走査方法:ビーム照射時間:ブランキング条件:ステージ条件:回転ステージ:回転数:直動ステージ:X軸:Y軸:Z軸:レーザ干渉計測定位置:マスクステージ:回転補正ステージ:位置決めステージ:X軸:Y軸:Z軸:真空条件:事前準備条件:その他:ログDB60は、マスク2、ロールモールド3をセットし、ロールモールド3を連続回転させて一定連続回転、一定温度などに安定化し、マスク2の開口20を透過した電子ビーム1をロールモールド3の表面の塗布したレジストに露光したときの各状態の情報、更に、現像したときの情報などのログを登録して管理するものである。表示装置61は、ロールモールド3にマスク2の開口20を透過した電子ビーム1を照射して露光するときの情報を表示したり、表示させたメニュー上から操作指示などを入力したりなどするものであって、液晶表示装置などである。入力装置62は、各種情報を入力するものであって、例えばマスク、キーボード、タッチパネルなどである。次に、図2のフローチャートの順番に従い、図1の構造の動作を詳細に説明する。図2は、本発明の動作説明フローチャートを示す。図2において、ステップS1以下S1というは、ステンシルマスクをセットする。これは、図1に示すように、ステンシルマスク2を図示外のマスクステージ11図2参照にセットする。詳細な手順を説明すれば、下記の通りである。1.手動交換作業の場合:1図1の装置を収納する図示外の試料室10図3参照を大気開放作業を行う。例えば乾燥空気あるいは窒素をリーク弁を開放して導入して大気圧にする。2マスク2を図示外のマスクステージ11図3参照に固定する。3マスク2の位置決めを行う。ここでマスク2の位置決めは、下記の項目について少なくとも行う。パターン回転角度:水平度:回転軸平行度:その他:ここで、パターン回転角度はマスク2上に作成されたパターンの列方向の回転角度を、ロールモールド3の回転軸方向に対して指定された回転角度例えば0°、10°などに設定調整する。水平度はマスク上のパターンと、ロールモールド3の表面との水平度を所定範囲内に設定調整する。回転軸平行度はマスク2上のパターンと、ロールモールド3の回転軸との平行度を所定範囲内に設定調整する。4真空排気作業を行う。これは、図1の装置の収納された図示外の試料室10図3参照を図示外の真空排気装置で真空排気する。5マスク2の温度制御を開始する。これは、4で真空排気した後、図1のマスク2を搭載したマスクステージ11図3を所定温度範囲に保持するように温度制御を行い、マスク、マスクステージを一定温度に保持するように温度制御を行う6マスク2の交換作業を終了する。2.自動交換作業の場合:1マスク交換台にセットする。これは、図1のマスク2を図示外の交換台にセットする。21で交換台にセットされたマスクをマスクホルダに固定する。3マスク事前洗浄除電処理等を実施する大気側。これは、2でマスクホルダに固定されたマスク2を、大気圧あるいは減圧中で紫外線などを照射して当該マスク2の表面、開口20の部分などの汚れを除去する。4マスク交換室を開放する。5マスク交換室に搬送する。6マスク交換室を真空排気する。これら4から6は、1から3で大気中で汚れなどを除去した後、マスクホルダに固定されたマスク2を、マスク交換室を開放して搬送し、閉めた後に真空排気する。7マスク洗浄除電処理等を実施する真空内。これは、6で真空排気された後のマスクホルダに固定されたマスク2を、真空中あるいは減圧中に紫外線や電子線などを照射して当該マスク2の表面、開口20の部分の汚れを除去する。8マスクステージに搬送する。9マスクをステージに固定する。これら8、9は、7でマスク交換室内でマスクホルダに固定したマスク2の汚れを除去した後、試料室10との間の弁を開いてマスクホルダに固定したマスク2を、図1の図示外の試料室10内のマスクステージ11図2参照に搬送して固定し、図1のマスク2の状態にする。10マスクの位置決めを行う。ここでマスクの位置きめは、上述した1の3に記載した下記の項目について少なくとも行う。パターン回転角度:水平度:回転軸平行度:その他:11マスクの温度制御を開始する。これは、10の後、図1のマスク2を搭載したマスクステージ11図3を所定温度範囲に保持するように温度制御を行い、マスク、マスクステージを一定温度に保持するように温度制御を行う12マスクの交換作業を終了する。S2は、レジスト付ロールモールドをセットする。これは、図1に示すように、予めレジストの塗布したロールモールド3を、図示外のロールステージ12図4参照にセットする。詳細な手順を説明すれば、下記の通りである。1.手動交換作業の場合:1図1の装置を収納する図示外の試料室10図3参照を大気開放作業を行う。例えば乾燥空気あるいは窒素をリーク弁を開放して導入して大気圧にする。2ロールモールド3を図示外のロールステージ12図3参照に固定する。3ロールモールド3の位置決めを調整を行う。ここでロールモールド3の位置決め調整は、下記の項目について少なくとも行う。回転時の真円度:直動軸の振れ量:直動軸の平行度:その他:ここで、回転時の真円度は、ロールモールド3を回転対称軸で回転させたときの真円度が所定範囲に設定調整する真円度が所定範囲内にないと、ロールモールド3の表面のレジスト面と、マスク2との間の距離が許容範囲外となり、マスク2上のパターンの露光に悪影響を与える。直動軸の振れ量、直動軸の平行度は、ロールモールド3を固定したロールステージ12をX方向、Y方向に移動X方向用、Y方向用の直動用モータ13図3で移動したときの振れ量、平行度が所定範囲内になるように設定調整する。尚、移動量などは、図示外のレーザ干渉計で精密に測定する。4真空排気作業を行う。これは、図1の装置の収納された図示外の試料室10図3参照を図示外の真空排気装置で真空排気する。5ロールモールド3の温度制御を開始する。これは、4で真空排気した後、図1のロールモールド3を搭載したロールステージ12図3などを所定温度範囲に保持するように温度制御を行う。6ロールモールド3の交換作業を終了する。2.自動交換作業の場合:1レジスト付ロールモールド3を図示外の交換台にセットする。21で交換台にセットされたロールモールド3を図示外のチャッキングホルダに固定する。3ロールモールド3の事前洗浄除電処理等を実施する大気側。これは、2でチャッキングホルダに固定されたロールモールド3を、大気圧あるいは減圧中で紫外線などを照射して当該ロールモールド3の表面などの汚れを除去する。4ロールモールド交換室を開放する。5ロールモールド交換室に搬送する。6ロールモールド交換室を真空排気する。これら4から6は、1から3で大気中で汚れなどを除去した後、チャッキングホルダに固定されたロールモールド3を、ロールモールド交換室を開放して搬送し、閉めた後に真空排気する。7ロールモールド洗浄除電処理等を実施する真空内。これは、6で真空排気された後のチャッキングホルダに固定されたロールモールド3を、真空中あるいは減圧中に紫外線などを照射して当該ロールモールド3の表面などの汚れを除去する。8ロールステージに搬送する。9ロールモールド3をロールステージに固定する。これら8、9は、7でロールモールド交換室内でチャッキングホルダに固定したロールモールド3の汚れを除去した後、試料室10との間の弁を開いてチャッキングホルダに固定したロールモールド3を、図1の図示外の試料室10内のロールステージ12図3参照に搬送して固定し、図1と同様の状態にする。10ロールモールド3の位置決めを行う。ここでロールモールド3の位置きめは、上述した1の3に記載した下記の項目について少なくとも行う。回転時の真円度:直動軸の振れ量:直動軸の平行度:その他:11ロールモールド3の温度制御を開始する。これは、10の後、図1のロールモールド3を搭載したロールステージ12図3を所定温度範囲に保持するように温度制御を行い、ロールモールド3、ロールステージを一定温度に保持するように温度制御を行う12ロールモールド3の交換作業を終了する。S3は、露光事前準備:回転速度の安定化を行う。これは、露光事前準備のうちの回転速度の安定化、即ち、マスク2をロールモールド3に近接して配置、かつロールモールド3を一定速度で回転させた状態で、電子ビームをマスク2の開口20に照射して透過した電子ビームでレジストを塗布したロールモールド3の表面に露光する際に、当該回転速度の安定化に必要な事前準備として、ここでは、下記の項目について少なくとも行う。1温度センサ振動センサエンコーダレーザー干渉計等を初期化する。これは、図1の装置で、露光を開始する前に、温度、振動、ロールモールド3の回転角度、マスクステージ11、ロールステージ12の移動量を精密測定するレーザー干渉計などを全て初期化などを行う。例えば初期設定値あるいは予め設定した値に設定したり、ホームポジションや所定基準点などをもとに校正したりなどを行う。2ステージの温度測定を開始し、所定範囲内で一定に保持されているか確認する。3ステージの振動測定を開始し、ステージマスクステージ11、ロールステージ12など図3参照の振動が所定範囲内かチェックする。4真円度及び直動軸の振れ量の測定を開始し、ロールモールド3を回転させたときの真円度、ロールモールド3やマスク2を移動させたときの振れ量、平行度などをチェックして所定範囲内かチェックする。5モータの回転を開始し、所定の一定速度内に収まっているかチェックする。6回転速度の安定化作業を終了する。S4は、露光事前準備:真空環境の改善を行う。これは、露光事前準備のうちの真空環境の改善、即ち、マスク2をロールモールド3に近接して配置、かつロールモールド3を一定速度で回転させた状態で、電子ビームをマスク2の開口20に照射して透過した電子ビームでレジストを塗布したロールモールド3の表面に露光する際に、当該真空環境の改善に必要な事前準備として、ここでは、下記の項目について少なくとも行う。1真空排気を開始する。2真空度の測定初期状態を行う。3コンタミ防止処理を開始する。コンタミ防止処理としては、例えば3-1残留ガス分析を実施QMassし、許容範囲の残留ガスかチェックする。3-2コンタミ除去用ガス酸素オゾン等のマスフローメータによる導入及び真空度の調整する。3-3プラズマ洗浄、DUV洗浄、エキシマレーザー励起洗浄等を開始する。これら3-2、3-3でロールモールド3、マスク2、およびホルダなどの汚染物質を除去する。3-4残留ガス分析を実施QMassする。3-1から3-3の作業後に、残留ガス分析して許容範囲内かチェックなどする。4コンタミ防止処理を終了する。5残留ガス分析を確認QMassする。6真空環境の改善作業を終了する。S5は、露光事前準備:温度の安定化を行う。これは、露光事前準備のうちの温度の安定化、即ち、マスク2をロールモールド3に近接して配置、かつロールモールド3を一定速度で回転させた状態で、電子ビームをマスク2の開口20に照射して透過した電子ビームでレジストを塗布したロールモールド3の表面に露光する際に、当該温度の安定化に必要な事前準備として、ここでは、下記の項目について少なくとも行う。1温度センサ及び振動センサのデータ収集を開始する。2測定結果のリアルタイム解析を開始する。3結果データの表示および蓄積データとの比較を行う。これは、1、2で温度センタ、振動センサでリアルタイムに収集したロールモールド3ホルダ、ロールステージ12、マスク2ホルダ、マスクステージ11などの温度、振動のデータをもとに電子ビーム露光するに必要な条件所定温度範囲、所定振動範囲内などを充足するか比較し、充足か否かを判定する。4温度の安定化作業を終了する。S6は、露光事前準備:マスクの姿勢制御を行う。これは、露光事前準備のうちのマスクの姿勢制御、即ち、マスク2をロールモールド3に近接して配置、かつロールモールド3を一定速度で回転させた状態で、電子ビームをマスク2の開口20に照射して透過した電子ビームでレジストを塗布したロールモールド3の表面に露光する際に、当該マスクの姿勢制御に必要な事前準備として、ここでは、下記の項目について少なくとも行う。1マスクアライメントマークの検出及び回転角度の検出する。これは、マスク2に予めマーキングしてある複数のアライメントマークを検出し、マスク2の位置およびマスク2の回転角度を検出する。2マスクステージ11の直動軸の移動方向とロールモールド3の取り付け角度の検出を行う。これは、マスクステージ11図3の直動軸の移動方向に対するロールモールド3の取り付け角の検出を行なう。3回転角度を算出し、補正量を算出する。2で検出した、マスクステージ11図3の直動軸の移動方向に対するロールモールド3の取り付け角を検出し、回転角度を算出し、マスクステージ11に対する補正量を算出する。4マスクステージ11による補正調整を実施する。これにより、マスクステージ11により、マスク2をロールモールド3に対して正しい位置、角度回転角度に補正調整した位置、回転合わせを行うことが可能となる。5マスクの姿勢制御を終了する。S7は、露光事前準備:電子ビームの条件設定する。これは、露光事前準備のうちの電子ビームの条件設定、即ち、マスク2をロールモールド3に近接して配置、かつロールモールド3を一定速度で回転させた状態で、電子ビームをマスク2の開口20に照射して透過した電子ビームでレジストを塗布したロールモールド3の表面に露光する際に、当該電子ビームの条件設定に必要な事前準備として、ここでは、下記の項目について少なくとも行う。1指示された加速電圧ファイルを選択する。これは、操作開始時に管理者が指定あるいはデフォルトで指定された電子ビームの加速電圧ファイルを選択する。2照射ビーム条件の調整を行う。2-1試料室10図3内あるいは鏡筒31図3内の任意の場所の電子ビーム1の軸上に、ファラディーカップを移動し、当該電子ビーム1の電流測定を開始する。2-2最大電流値になるように鏡筒31の電子源32、集束レンズ33、対物レンズ、軸合わせコイルなどのビームアライメントを実施する。2-3アライメント終了後、所定の電流値電子源32のバイアス、集束レンズ33、対物レンズの絞りの口径などを選択して所定の電流を設定する。2-4電子ビームを遮断した後図3のビームブランカ341に電圧を印加して電子ビームを遮断した後、ファラディーカップを軸外に移動する。2-5照射ビーム条件の調整を終了する。3露光用ビーム電流の微調整を行う。3-1透過ビーム電流検出器の位置に移動する。これは、電子ビームを、偏向コイルで偏向し、透過ビーム電流検出器の位置に当該電子ビームが入射して検出できるようにする。3-2ステンシルマスク2の透過ビーム電流を測定する。3-3透過ビーム電流が最大になるように走査ビームアライメントを実施する。3-4露光ビーム電流を検出、露光感度を算出する。3-5電子ビームを遮断ビームブランカ341に電圧を印加して遮断し、露光用ビーム条件の微調整を終了する。4電子ビームの条件設定を終了する。S8は、露光位置座標に移動する。S9は、露光位置か判別する。これらS8、S9は、S1とS2でマスク2およびロールモールド3をそれぞれのマスクステージ11、ロールステージ12にセットし、S3からS7で事前準備回転速度の安定化、真空環境の改善、温度の安定化、マスクの姿勢制御、電子ビームの条件設定を終了したので、これから電子ビーム1による露光を開始するために、露光位置座標に移動する作業として、ここでは、下記の項目について少なくとも行う。1電子ビームを遮断して、指示された露光位置に移動動作を開始する。これは、図3のビームブランカ341に電圧を印加して電子ビーム1を遮断し、指示された露光位置に、ロールモールド3ロールステージ12、マスク2マスクステージ11の移動動作を開始する。2ステージ移動が停止後、位置座標及び振動状態を確認する。これは、1で移動動作を開始したステージロールステージ12、マスクステージ11の移動が停止し、指定された位置座標に移動完了し、振動が所定範囲内に収まっているか判別する尚、この状態では、既述したS3からS7の処理作業により、ロールモールド3は一定速度で安定的に回転、ロールモールド3、マスク2などは一定温度に保持などされている。3露光位置に移動を終了する。以上の作業処理を終了し、露光位置に到達していると判明した場合には、S9のYESとなり、S10に進む。一方、NOの場合には、S8、S9を繰り返す。S10は、露光開始する。これは、S9のYESで露光位置に到達しかつ振動が所定範囲内と判明したので、電子ビーム1の露光を開始する図3のビームブランカ341に印加した電圧をOFFにし、電子ビーム1がマスク2の開口20を透過してロールモールド3の表面に塗布したレジストを露光開始する、即ち下記の項目について少なくとも行う。1電気的なビームブランカ341を動作維持状態で、電子ビーム1をONにする。2振動状態を確認する。3回転角度原点を検出し角度カウンターの計測を開始、又は回転エンコーダによる角度検出を開始する。4ロールモールド3の回転速度を確認する。5ロールモールド3の露光開始角度を検出、指示がない場合は任意位置で開始する。6電子ビーム走査と露光開始位置を同期させる。7ビームブランカ341を解除して、露光開始する。8所定の露光時間までビーム照射を実施する。S11は、露光終了する。S12は、露光継続か判別する。YESの場合には、次の露光位置に移動し、S9に戻り繰り返す。NOの場合には、終了する。ここでは、S11、S12の作業として、例えば下記の項目について少なくとも行う。1露光所定時間の経過と露光開始角度検出を実施する。2ビームブランカ341を動作させ、電子ビーム1を遮断する。3ロールモールド3の回転動作を停止する。4露光終了を確認する。5露光継続の場合S12のYESの場合には、次の露光位置に移動する。6それ以外S12のNOの場合には、露光作業を終了する。以上によって、マスク2、ロールモールド3をマスクステージ11、ロールステージ12にセットビーム走査の速度VsLFロールの回転数Nロールの半径Rロール表面の回転速度Vr2pN60更に、マスクパターン配列の傾き角θoVrVsθθとすれば、ロールモールド3上に露光されるパターン配列の傾きをθとすると、マスク2のパターンの配列の傾き角θ0は、下式1で表される。θ0=V1/Vs-θ=2πN/60LF-θ式1また、具体例について計算すると例えば下記の表1に示すようになる。尚、電子ビーム1のサイズは、図7のb,cでは、マスク2上のパターンの開口20の1つを覆うサイズとしたが、これに限られず、複数の開口20を覆うサイズにしてもよい。複数の開口20を覆う場合には、電子ビーム1の走査方向は図7のcに示す、右上方向に角度θ0に必ずしもしなくてもよい。つまり、例えば図7のcで横方向に電子ビーム1を走査しても全部のマスク2の開口20の部分を照射できる場合には、電子ビーム1の走査方向を傾ける必要はない。図8は、本発明の説明図その4を示す。これは、マスク2のパターンの開口20を2列更に3列以上の複数列も可に並べた例を示す。この図8の開口20を2列に並べて同期して露光することにより、露光時間を半分にできる。更に、3列以上の複数列にしたときも、同様にこれら同期して複数列の開口20を重複露光することにより、複数列分の1に露光時間を削減できる。図8のaはマスク2のパターンの開口20の2列を平行ロールモールド3の軸に平行に配置して同期露光する例を示し、図8のbは開口20の2列を角度θ傾けて同期露光する例を示す。図8のaの場合には、マスク2のパターンの開口20の1列目と、2列目とが同じロールモールド3上の同一場所に露光するように、当該ロールモールド3の回転角度を検出して電子ビーム1をマスク2上を右から左方向に一定速度で走査しつつ同期露光を行うと、図示のように右下がりのパターンがロールモールド3の上に露光される。図8のbの場合には、マスク2のパターンの開口20の1列目、2列目とが角度θ0だけ右上方向に傾けて作製してあるため、同期露光した場合には、図示のように、マスク2の開口20の1列目、2列目が図示のパターンのように露光されることとなる図8のaのように、露光開始、露光終了の場所で露光されたパターンの列開口20によって露光されたパターンの列が傾くことがない。図9は、本発明の説明図その5を示す。この図9は、ロールモールド3の回転角度をエンコーダ15で読み取り、この信号に同期して電子ビーム1の走査を開始し、ロールモールド3に塗布したレジスト上に露光する様子を模式的に示す。この際、mTsTrとすることにより、ロールモールド3の1回転ごとに露光点をずらすような露光図9のcのように複数回転で全体のパターンを露光、ここでは、6回転で全体のパターンを露光することも可能である。図9のbはロールモールド3の回転毎に同じ位置にマスク2上のパターンの開口20を露光同期露光する様子を模式的に示し、図9のcはロールモールド3の回転毎に所定ピッチTPだけ進ませた位置にマスク2上のパターンの開口20を露光することを繰り返す様子6回転毎に同じ場所を露光する様子を模式的に示す。詳細に説明すれば、図9のaの上段に示すように定義すると、下段に示すように、TSビーム走査周期、Trロール周期、Tpパターンピッチ図9のcのTp参照を算出できる図9のa,b中の符号の場所を参照。以上のように、ロールモールド3の回転角度をエンコーダ15で正確に検出し、回転角度に同期して電子ビーム1を走査することにより、図9のbのようにマスク2上のパターンの開口20を通過した電子ビーム1でロールモールド3上に塗布したレジスト上に露光したり、更に、回転毎にTpだけずらすことを繰り返す図9のcでは6回転N回転繰り返すことにより図9のcに示すように1/61/Nの回転方向の間隔でパターンを露光することが可能となる。次に、図10のフローチャートに従い、既述した図7、図8、図9の露光手順を詳細に説明する。図10は、本発明の動作説明フローチャート図7、図8、図9を示す。尚、図1のロールモールド3に図示のように回転方向に連続した帯状のパターンを露光するときの処理は、既述した図2を用いて詳細に説明したので、回転に同期して電子ビーム1を走査しつつマスク2上のパターンの開口20を露光してロールモールド3上にパターンを形成露光するときの要部を当該10のフローチャートをもとに既述した図7、図8、図9の処理を詳細に説明する。他の処理などは、図2のものと同一であるので説明を省略する。図10において、S41は、マスクパターンの角度とビーム走査角度を一致させる。これは、既述した図7から図9で、1列あるいは複数列のマスク2上のパターンを形成する開口20の列の角度と、電子ビーム1で走査する角度とを一致させる。尚、電子ビーム1のサイズが大きくて横方向に走査したときに全部あるいは複数の開口20を露光可能なときは当該電子ビーム1は一致させる必要はない。S42は、ビーム走査開始の角度か判別する。これは、既述した図2のS8に続けて行う処理であって、当該図10では、図7から図9で、エンコーダ15で検出したロールモールド3の回転角度が、電子ビーム1を露光する角度になったか判別する。YESの場合には。S43に進む。NOの場合には、S42を繰り返し待機する。S43は、ビームONする。これは、S42のYESで、電子ビーム1をマスク2のパターンの開口20に照射開始する角度になったと判明したので、ビームブランカ341に電圧を印加して電子ビーム1を遮断していたものを当該印加を中止し、電子ビーム1によりマスク2の開口20を走査照射しビームONにして走査照射し、透過した電子ビーム1をロールモールド3の所定の回転角度の場所に露光を開始する。S44は、ビーム走査終了の角度か判別する。これは、S43でビームONして電子ビーム1をマスク2の開口20に走査照射して透過した当該電子ビームをロールモールド3の塗布したレジスト上に露光開始すると共に連続して電子ビーム1を走査した後、当該ロールモールド3の回転角度が電子ビーム1の走査終了の角度か判別する。YESの場合には、S45に進む。NOの場合には、S44を繰り返し待機する。S45は、ビームOFFにする。これは、S43で、ビームONし、電子ビーム1をロールモールド3の所定の角度の場所から露光開始すると共に電子ビーム1をマスク2の一定方向に連続移動させた後、S43のYESで、ビームOFFする電子ビームの回転角度に到達したので、ビームブランカ341に電圧を印加し、電子ビーム1がマスク2の開口20を照射するのを遮断する。そして、S42からS45を繰り返す。以上のS41からS45により必要に応じて繰り返すことにより、図7から図9のロールモールド3の回転方向に図示のような断続のパターンを1回転について露光したり、露光に必要なだけ複数回について多重露光したり、更に、露光位置を回転毎に少しずつづらして複数回転で同じ場所を露光および更に必要な回数だけ繰り返したりすることにより、図7から図9に示す、ロールモールド3の回転方向に断続したパターンを露光することが可能となる。図11は本発明の説明図その6-1、マスクを示し、図12は本発明の説明図その6-2、ロールモールドを示す。これら図11、図12は、図11のマスク2上のパターンの開口20の4列露光しようとするパターンを分割した部分パターン分割パターンの4列を用い、これらをそれぞれの位置に露光4回の分割露光して合成した6角形状亀形状のパターン図12を、ロールモールド3に塗布したレジスト上に露光する例を模式的に示す。この分割露光は、マスク2が透過型を採用するために、閉パターンの内部に他のパターンがある場合には形成不可内部の他のパターンを保持するものがないので形成不可であるので、当該パターンを作製可能なパターンに分割した分割パターン部分パターンをそれぞれの位置に分割露光して合成することにより、元のパターンを露光するときに特に便利である。図11において、aは、ビーム1走査中の円筒表面ロールモールド3の円筒表面の回転量であって、例えば図11の4列の分割パターンのうちの、例えば1列目の分割パターンの左から右方向に電子ビーム1で一定速度で走査したときに、当該ロールモールド3の円筒表面の回転量である。ここでは、1つのパターン6角形状のパターンを図示のように、4つの分割パターンに分割してそれぞれの位置に露光して合成することで、1つのパターンをロールモールド3に塗布したレジスト上に露光している。以下処理方法を詳細に説明する。1ロールモールド3の1回転目:図11の第1列目の分割パターンに、電子ビーム1を左から右方向に一定速度で走査しつつ照射することを繰り返すこの際、1走査毎にロールモールド3はaだけ回転すると、当該第1列目の分割パターンを透過した電子ビーム1がロールモールド3に塗布したレジスト上に、図12の1に示すように、分割パターンがaの回転量毎にロールモールド3に、1回転に渡って繰り返し露光される。尚、図12の1などに示す露光された分割パターンは、説明を簡単にするために水平方向に表示する。もし露光された分割パターンを完全に水平方向にするには、図11の第1列目の分割パターンを上方向に傾けて作製図11のaに相当した分だけ、図7のcのθ0傾けて作製し、電子ビーム1で走査して露光したときに図12の1で水平となるようにすればよい。以下説明を簡単にするために、水平方向になるとして説明する。2ロールモールド3の2回転目:1と同様に、図11の第2列目の分割パターンに、電子ビーム1を左から右方向に一定速度で走査しつつ照射することを繰り返すこの際、1走査毎にロールモールド3はaだけ回転すると、当該第2列目の分割パターンを透過した電子ビーム1がロールモールド3に塗布したレジスト上に、図12の2に示すように、第2列目の分割パターンが追加露光され、1回転に渡って繰り返し露光される。3同様に、ロールモールド3の3回転目、4回転目:2と同様に、図11の第3列目、第4列目の分割パターンに、電子ビーム1を左から右方向に一定速度で走査しつつ照射することを繰り返すこの際、1走査毎にロールモールド3はaだけ回転すると、当該第3列目、第4列目の分割パターンを透過した電子ビーム1がロールモールド3に塗布したレジスト上に、図12の3、4に示すように、第3列目、第4列目の分割パターンが順次追加露光され、1回転に渡って繰り返し露光される。以上によって、1周分の分割パターン図11の第1列目から第4列目の分割パターンの露光により、1つのパターンの露光が完成したこととなる。4そして、同様に、2周目、3周目と、必要な露光量が得られるまで繰り返すことにより、図12のNのパターンが露光されることとなる。5尚、図12の1、2、3、4は、第1列目の分割パターン、第2列の分割パターン、第3列の分割パターン、第4列の分割パターンという順番に最初の露光を遅れて露光したために各先頭の部分に次の分割パターンが露光されていないが、これは、各列の分割パターンを先頭から露光開始するように露光開始角度を制御、あるいは図11のマスク2上の分割パターンの第1列目から第4列目を逆にして第4列目、第3列目、第2列目、第1列目の順番に作製して上から順番に露光開始するようにすればよい。図13は、本発明のSRM回転角同期露光方法の説明図を示す。ここで、エンコーダ15、鏡筒31は、既述した図3などと同一であるので説明を省略する。次に、回転角に同期して電子ビームをロールモールド3に塗布したレジスト上に露光する方法を、以下詳細に説明する。1エンコーダ15は図3に示すようにロールモールド3に連結され、当該ロールモールド3は一定速度で連続回転されているので、回転角度を正確に検出することができる。エンコーダ15は、原点リセット信号をカウンタ151に送出して当該カウンタ151を1回転の原点毎にリセットしてカウントを再スタートさせ、エンコーダ15から送出されるパルスをカウントする。カウンタ151として、公知のbinaryratemultiplierを用いることで、当該パルスの整数倍だけでなく、更に当該パルスの小数点周期の検出設定も可能である公知技術。2カウンタ151には、図1のPC51が例えば下記をセットする。周期:No,ビームON時間:Nbここで、周期Noは、露光パターン周期θp、エンコーダ回転角Δθとするとき、No=θp/Δθとして算出する。3カウンタ151が、2でセットされた周期Noとなったときに、ブランキング信号をBeamBlinkingGenerator152に出力し、BlankerAmp153で増幅して鏡筒31のブランカ341に所定の電圧を印加あるいは電圧を遮断0Vし、電子ビーム1をビームON時間Nbで指定された時間だけ当該電子ビームを透過させて、マスク2のパターンの開口20を照射する。この際、同時に、カウンタ151は、スキャン信号をScanGenerator154に出力し、DefAmp155で増幅して鏡筒31の偏向コイル偏向板36にスキャン電流/電圧を印加し、電子ビーム1をマスク2のパターンの開口20上を走査し、開口20を透過した電子ビーム1でロールモールド3に塗布したレジストに露光する。そして、これらを繰り返すことにより、マスク2上のパターンの開口20を透過した電子ビームを、ロールモールド3に塗布したレジスト上に繰り返し露光することが可能となる。3ここで、エンコーダ15、マスク2などとの関係を詳細に説明すると、3-1第1に、マスク2上を走査する電子ビーム1は、等速回転するエンコーダ15の出力に同期させた鋸波状波形スキャン波形を偏向コイル偏向板36に供給して偏向させることにより、ロールモールド3の回転角度と、電子ビーム1によるマスク2上のパターンの開口20の走査とを精密に同期化する。この同期化により、エンコーダ15から出力されるパルスの整数倍だけではなく、等速回転するロールモールド3のパルス間を分割した角度位置を精密に検出して同期化することが可能となる。例えば、公知のSIGNUM角度位置決めエンコーダでは、図13のAで示すエントリのSi-FN-0417-B1に、6700万点/1回転2の26乗相当の測定が可能であるロータリエンコーダ用誤差測定回路の高度化、電子情報通信学会技術研究報告ICD集積回路105152020051123電子情報通信学会を参照。3-2次に、第2に、同時に、ロールモールド3の回転ずれ、軸方向の位置を精密にリアルタイムに検出光干渉計などで検出し、検出結果をもとマスク2を搭載したマスクステージ11のロール軸に対する傾き、軸方向のずれをリアルタイムに補正し、ロールモールド3とマスク2との傾きおよび軸方向のずれを精密に所定範囲内にリアルタイムに保持するように調整する。以上によって、マスク2、ロールモールド3、電子ビーム1の位置や角度の関係の同期化を図ることにより、マスク2のパターンの開口20の列を、所望のロールモールド3に塗布したレジスト上に精密に露光多重露光、分割露光することが可能となる。図14は、SIGNUMエンコーダーデータシートFANUCシリアル例を示す。これは、既述した図3などのエンコーダ15の例を示し、図14のAのエントリのインタフェースでは、上記したように、等速回転例えば最高150回転/分の等速回転させたエンコーダ15では、角度分解能として6700万点/1回転が可能である。これを、例えば100mm直径のロールモールド3に塗布したレジスト上にパターンを露光するときに使用すれば、レジスト上での分解能は、2rπ/6700万=100×3.14/6700万=4.68nmとなる。したがって、現状の上記エンコーダ15を用いて5nm程度のパターンを露光多重露光、分割露光することが可能となる。更に、角度分解能の向上した改良型などを用いれば、更に数nm程度の精度で露光も可能である。"