ケイ素原子の含有量が01質量ppm以下であることを特徴とする、高純度トリアルキルガリウム。一般式1式中、R1は、炭素原子数1~6のアルキル基を示す。で示されるトリアルキルガリウムと一般式2式中、R2は、炭素原子数5~12のアルキル基を示す。で示されるトリアルキルアミンとを反応させてガリウム-アミン錯体を形成させ、次いで、反応混合物を蒸留して該ガリウム-アミン錯体を取得した後、該ガリウム-アミン錯体からトリアルキルアミンを解離させて、遊離のトリアルキルガリウムを得ることを特徴とする、高純度トリアルキルガリウムの製法。トリアルキルガリウムが、トリメチルガリウム又はトリエチルガリウムである請求項1乃至2記載の高純度トリアルキルガリウムの製法。トリアルキルアミンが、トリnオクチルアミンである請求項1乃至2記載の高純度トリアルキルガリウムの製法。本発明の課題は、上記問題点を解決し、簡便な方法によって、高純度トリアルキルガリウム及びその方法を提供することにある。本発明の課題は、ケイ素原子の含有量が01質量ppm以下であることを特徴とする、高純度トリアルキルガリウムによって解決される。本発明の課題は、又、一般式1式中、R1は、炭素原子数1~6のアルキル基を示す。で示されるトリアルキルガリウムと一般式2式中、R2は、炭素原子数5~12のアルキル基を示す。で示されるトリアルキルアミンとを反応させてガリウム-アミン錯体を形成させ、次いで、反応混合物を蒸留して該ガリウム-アミン錯体を取得した後、該ガリウム-アミン錯体からトリアルキルアミンを解離させて、遊離のトリアルキルガリウムを得ることを特徴とする、高純度トリアルキルガリウムの製法によっても解決される。本発明により、エピタキシャル成長法による高機能の化合物半導体の製造原料として有用な高純度トリアルキルガリウム及びその製法を提供することができる。本発明に反応において使用するトリアルキルガリウムは、前記の一般式1で示される。その一般式1において、R1は、炭素数1~6のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられるが、好ましくはメチル基、エチル基である即ち、トリアルキルガリウムが、トリメチルガリウム、トリエチルガリウム。なお、これらの基は、各種異性体も含む。本発明に反応において使用するトリアルキルアミンは、前記の一般式2で示される。その一般式2において、R2は、炭素数5~12のアルキル基であり、例えば、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基が挙げられるが、好ましくはnオクチル基である即ち、トリアルキルアミンが、トリnオクチルアミン。なお、これらの基は、各種異性体も含む。前記トリアルキルアミンの使用量は、トリアルキルガリウム1モルに対して、好ましくは06~15モル、更に好ましくは08~12モルである。なお、これらのトリアルキルアミンは、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。本発明のガリウム-アミン錯体の形成は、例えば、トリアルキルガリウムとトリアルキルアミンとを混合し、攪拌させながら反応させる等の方法によって行われる。その際の温度は、好ましくは30~150°C、更に好ましくは40~110°Cであり、圧力は特に制限されない。本発明では、先に得られた混合物を蒸留して当該ガリウム-アミン錯体を取得した後、当該ガリウム-アミン錯体からトリアルキルアミンを解離させて、遊離の高純度トリアルキルガリウムを得ることができる。前記反応混合物を蒸留して当該ガリウム-アミン錯体を取得する際の温度は、好ましくは50~200°C、更に好ましくは100~150°Cであり、圧力は、好ましくは05~1013kPaA、更に好ましくは5~10kPaAである。前記ガリウム-アミン錯体からトリアルキルアミンを解離させて、遊離の高純度トリアルキルガリウムを得る方法としては、例えば、当該ガリウム-アミン錯体を加熱して蒸留し、その流出物として得る等の方法によって行われる。その際の温度は、好ましくは100~220°C、更に好ましくは130~200°Cであり、圧力は、好ましくは05~1013kPaA、更に好ましくは20~50kPaAである。なお、前記ガリウム-アミン錯体の形成、蒸留によるガリウム-アミン錯体の取得及びガリウム-アミン錯体からトリアルキルアミンを解離させて、高純度トリアルキルガリウムを得る操作は、複数回行うことによって、より高純度のトリアルキルガリウムを得ることができる。又、トリアルキルガリウムは、公知の方法によって更に精製することもできる例えば、非特許文献1参照。JAmChemSoc843605次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。なお、トリアルキルガリウムの金属原子の分析は、誘導プラズマ発光分析法ICPOES法にて行った。実施例1高純度トリメチルガリウムの合成攪拌装置、ヴィグリュー型蒸留塔2つの受器を付属及び滴下漏斗を備えた内容積100mlの反応容器に、窒素雰囲気にて、トリnオクチルアミン45gを加え、トリメチルガリウムケイ素原子を1質量ppm含む18gをゆるやかに加え、攪拌しながら40°Cで05時間攪拌させて、ガリウム-アミン錯体を形成させた。次いで、得られた反応混合物を減圧下で蒸留100°C、7kPaAし、低沸点成分不純物をドライアイスで冷却した受器に捕集し、ガリウム-アミン錯体を反応容器内に取得した。その後、ガリウム-アミン錯体を130~200°Cに加熱して減圧蒸留40kPaAし、流出物として、トリメチルガリウム12gを受器に得た回収率;67。なお、得られたトリメチルガリウムは、ケイ素原子が005質量ppm以下、ケイ素原子以外の金属原子の合計含有量が056質量ppm以下アルミニウム原子;009質量ppm以下、カルシウム原子;002質量ppm以下、カドミウム原子;003質量ppm以下、クロム原子;005質量ppm以下、銅原子;003質量ppm以下、鉄原子;005質量ppm以下、マグネシウム原子;002質量ppm以下、マンガン原子;002質量ppm以下、ナトリウム原子;01質量ppm未満、カリウム原子:01質量ppm未満、亜鉛原子;005質量ppm以下しか混入していない高純度品であった。比較例1トリメチルガリウムの合成実施例1において、トリnオクチルアミンの代わりに、トリ‐nブチルアミン26gを使用した以外は、実施例1と同様にトリメチルガリウムの合成を行った。その結果、得られたトリメチルガリウムは、ケイ素原子が03質量ppm混入している低純度品であった。比較例2トリメチルガリウムの合成実施例1において、トリnオクチルアミンの代わりに、NNジメチルアニリン17gを使用した以外は、実施例1と同様にトリメチルガリウムの合成を行った。その結果、ガリウム-アミン錯体は形成したものの、NNジメチルアニリンは解離せずに、遊離のトリメチルガリウムを得ることはできなかった。実施例2高純度トリエチルガリウムの合成実施例1において、トリメチルガリウムの代わりにトリエチルガリウムを用いたこと以外、実施例1と同様に反応を行うと、ケイ素原子が01質量ppm以下の高純度トリエチルガリウムが得られる。