"ホスファート層で被覆されている方向性電気鋼の製造方法であって、コロイド成分と、少なくとも1種のコロイド安定剤A及び/又は少なくとも1種の酸洗い抑制剤Bとを含むホスファート溶液を前記電気鋼に塗布する工程がある方法において、前記ホスファート溶液が、酸化段階IIIのクロムを有する少なくとも1種の化合物クロムIII化合物を含むことを特徴とする方法。前記クロムIII化合物としてクロムIII塩を使用することを特徴とする請求項1に記載の方法。前記クロムIII塩として硝酸クロムIII、塩化クロムIII、硫酸クロムIII、酢酸クロムIII及び/又はスルホン酸クロムIIIを使用することを特徴とする請求項2に記載の方法。前記ホスファート溶液の全重量に対して、前記クロムIII化合物を0.2~30重量、好ましくは5~20重量、特に8~15重量の量で使用することを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の方法。0.2重量未満、好ましくは0.1重量未満の六価クロム含量を有するホスファート溶液を使用することを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。リン酸エステル、好ましくはモノエチルホスファート及び/又はジエチルホスファートをコロイド安定剤Aとして使用することを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の方法。チオ尿素誘導体、C2-10-アルキノール、トリアジン誘導体、チオグリコール酸、C1-4-アルキルアミン、ヒドロキシ-C2-8-チオカルボン酸及び/又は脂肪アルコールポリグリコールエーテル、特にジエチルチオ尿素、プロパ-2-イン-1-オール、ブチン-1,4-ジオール、チオグリコール酸、及び/又はヘキサメチレンテトラミンを酸洗い抑制剤Bとして使用することを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の方法。前記ホスファート溶液が、湿潤剤C、好ましくはフッ素系界面活性剤、特にテトラエチルアンモニウムペルフルオロオクタンスルホナートを含むことを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。前記ホスファート溶液の全重量に対して、0.001~20重量の量で前記コロイド安定剤Aを使用し、0.001~10重量の量で前記酸洗い抑制剤Bを使用し、及び/又は0.0001~5重量の量で前記湿潤剤Cを使用することを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の方法。アルミニウムホスファート及び/又はマグネシウムホスファートを含むホスファート溶液を前記電気鋼に塗布することを特徴とする請求項1~9のいずれか1項に記載の方法。<3、好ましくは1~2のpH値を有するホスファート溶液を前記電気鋼に塗布することを特徴とする請求項1~10のいずれか1項に記載の方法。前記ホスファート溶液が備わっている前記電気鋼を800°Cより高い温度で焼き付けることを特徴とする請求項1~11のいずれか1項に記載の方法。請求項1~12のいずれか1項に記載の方法で製造されることを特徴とする、ホスファート層で被覆された方向性電気鋼。請求項13に記載の方向性電気鋼の、変圧器のコア材料としての使用。本発明の目的は、ホスファート層で被覆されている方向性電気鋼を製造するためのクロムVIフリーホスファート溶液であって、ホスファート層の特性が、可能な最大限までクロムVI含有絶縁と同一であるように意図されているホスファート溶液を提供することである。特に、ホスファート層は、特許文献6により塗布されたホスファート層と比較して、改善された光学特性及びより高い引張応力を有するように意図されている。この目的は、ホスファート層で被覆されている方向性電気鋼の製造方法であって、コロイド成分と、少なくとも1種のコロイド安定剤A及び/又は少なくとも1種の酸洗い抑制剤Bとを含むホスファート溶液を電気鋼に塗布する工程がある方法において、ホスファート溶液がさらに、酸化状態IIIのクロムを有する少なくとも1種の化合物クロムIII化合物を含む、方法によって達成される。ホスファート溶液はコロイド成分を含むという表現は、本発明によれば、ホスファート溶液の一部が数ナノメートル~数マイクロメートルのサイズの固体粒子又は超分子凝集体を構成することを意味すると解釈するものとする。好ましくは、ホスファート溶液中のコロイド成分のサイズは、5nm~1μmの範囲、好ましくは5nm~100nmの範囲、特に10nm~100nmの範囲内である。ホスファート溶液中のコロイド成分の割合は異なってよい。好ましくは、ホスファート溶液中のコロイド成分の割合は、5重量~50重量、特に5重量~30重量の範囲内である。コロイド成分として、非常に種々多様の物質を使用することができる。有利には、これらの物質はリン酸に可溶性でないものとする。良い結果は、特に酸化物を用いて、好ましくはCr2O3、ZrO、SnO2、V2O3、Al2O3、SiO2を好ましくは水性懸濁液として用いて得られる。特にSiO2は顕著に適している。結果として、本発明により特によく適しているコロイド成分はシリカゾルである。水中のSiO2の割合が10~50重量、好ましくは20~40重量であるシリカゾルで優れた結果が得られる。SiO2の特に有利な粒径は、5~30nm、好ましくは10~20nmである。クロムVIフリー絶縁を開発するための研究という状況では、驚くべきことに、クロムVI化合物より毒性がかなり低いクロムIII化合物はクロムVI化合物の特定機能を担うことができることが分かった。このことは、該溶液又は焼付け絶縁層の基本特性は工業塗装系における要件に従わないか又は工業塗装系における使用を不可能にするので、クロムVIの、かなり低毒性のクロムIIIとの交換が実際には普及しなかった限りにおいて意外である。従ってクロムVI酸の硝酸クロムIIIとの交換は、以下に示す結果をもたらす。ホスファート溶液とクロムIIIの相互作用は、クロムVIとの相互作用と明らかに異なるので、クロムVIのクロムIIIとの交換は以前に失敗したと想定される。この相互作用の結果、非常に急速かつ破壊的に鉄のホスファート溶液への混入が起こり、さらに非常に早期のゲル化プロセスによって明らかに溶液の安定性を下げることとなる。ホスファート処理溶液と被覆すべき鋼との間のこの非常に異なる相互作用は、クロムIIIが存在すると、おそらく、大部分は使用されるクロムIII塩の結合相手に起因し得る。従って、硝酸クロムIIIの場合は、溶液は硝酸溶液の特徴的性質を呈するであろう。さらに、三価クロムIIIは明白に、六価クロムVI化合物と関連する抑制効果を持たない。この効果は図8で実証される。図8は、クロムがない場合と硝酸クロムがある場合のホスファート溶液の酸洗い損失を示す。驚くべきことに、特許文献6の絶縁溶液中のクロムIII化合物は上記欠点を持たないことが分かった。従って、本発明の基本は図9に示す原理である。本発明の方法は、クロムVI含有ホスファート処理を、酸洗い抑制剤とコロイド安定剤を実際に使用することができ、かつ最終絶縁層の優れた特性をもたらすように酸洗い抑制剤とコロイド安定剤を用いることで化学的に影響を受ける、クロムIII含有ホスファート処理と交換できるようにする。有利には、本発明の方法で使用するクロムIII化合物はホスファート処理溶液に溶ける。結果として、下記クロムIII塩が特に好ましい:硝酸クロムIII塩化クロムIII硫酸クロムIII酢酸クロムIIIスルホン酸クロムIII。硝酸クロムIIIは添加剤として作用する際に最高の引張応力を基材に伝達させ、かつホスファート溶液に非常に容易に溶解できるので、硝酸クロムIIIが特に適している。非常に多様な量でクロムIII化合物を使用することができる。本発明によれば、いずれの場合もホスファート溶液の全重量に対して、0.2~30重量、好ましくは5~20重量、特に8~15重量の量でクロムIII化合物を使用するのが特に好ましい。クロムIII化合物の添加は、好ましくはCrNO33×H2Oに基づいて計算した上記量比で行なわれる。本発明の実施形態では、ホスファート溶液は、添加剤としてコロイド安定剤Aを含む。それによりホスファート層が乾燥するときにだけゾルからゲルへの転移が起こるのを確実にすることができる。さらに、コロイド安定剤の使用は、ホスファート溶液の均一な塗布を可能にし、それによって均一な最終層品質を達成することができる。従ってコロイド安定剤Aの使用は、分配すべきホスファート溶液中で六価クロムを使用できるようにし、電気板金のホスファート処理中に、コロイド含有ホスファート溶液を用いるクロムVIフリー製造中に一般的に起こる問題を可能な最大限まで回避することができる。グループAの添加剤はコロイド安定剤である。本発明の文脈のコロイド安定剤は、コロイドを安定化し、かつ制御されないゾルゲル転移又は固体の凝固を防止する添加剤である。有利には、コロイド安定剤はさらに、ホスファート溶液の塗布前の塗布領域における温度非感受性を確保し、外来物質、特に外来イオンに対してシステムを非感受性にする。本発明によれば、酸溶液に耐性である限り、非常に種々多様のコロイド安定剤を使用することができる。コロイド安定剤がコロイド溶液の安定性を損なわず、かつ塗布されたホスファート層の品質に悪影響を及ぼさないことがさらに有利である。コロイド安定剤が可能な最低レベルの毒性を有することも有利である。さらに、使用するコロイド安定剤は、ホスファート溶液中に存在し得る他の添加剤と、添加剤がそれらの個々の作用に関して妨げられるように相互作用しないものとする。実地試験は、電解質、界面活性剤及びポリマーが本発明の特に好適なコロイド安定剤であることを示した。しかしながら、意外なやり方ではコロイド安定剤としてリン酸エステル及び/又はホスホン酸エステルを使用するのが特に好ましい。用語リン酸エステルは、本発明によれば、式OPOR3のリン酸の有機エステルを意味するものとし、コロイド安定剤として作用する。用語ホスホン酸エステルは、本発明によれば、式ROPOR2のホスホン酸の有機エステルを意味するものとし、コロイド安定剤として作用する。この場合、残基Rは、互いに独立に水素、芳香族基又は脂肪族基であってよく、全ての残基Rが同時に水素ではありえない。脂肪族基という用語は、アルキル、アルケニル及びアルキニル基を含む。アルキル基は、1~8個の炭素原子を有する飽和脂肪族炭化水素基を含む。アルキル基は、直鎖であるか又は分岐していてよい。本発明により特に適しているアルキル基は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、n-ペンチル、n-ヘプチルである。アルキル基は、1つ以上の置換基でさらに置換されていてもよい。適切な置換基は特に脂肪族残基である。他の適切な残基は、アルコキシ基、ニトロ基、スルホキシ基、メルカプト基、スルホニル基、スルフィニル基、ハロゲン、スルファミド基、カルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシアルキル基、アミノカルボニル基、アミノスルホニル基、アミノアルキル基、シアノアルキル基、アルキルスルホニル基、スルホニルアミノ基及びヒドロキシル基である。用語アルケニルは、2~10個の炭素原子と、少なくとも1つの二重結合とを有する脂肪族炭素基を意味する。アルケニル基は、直鎖又は分岐形で存在し得る。本発明により特に好ましいアルケニル基は、アリル、2-ブテニル及び2-ヘキセニルである。アルケニル基は、任意に1つ以上の置換基で置換されていてもよい。適切な置換基は、アルキル置換基として既に上述したものである。用語アルキニルは、2~8個の炭素原子と、少なくとも1つの三重結合とを有する脂肪族炭素基を意味する。アルキニル基は、直鎖又は分岐形で存在し得る。アルキニル基は、1つ以上の置換基で置換されていてもよい。適切な置換基は、アルキル置換基として既に上述したものである。脂肪族基に適した他の置換基は、アリール基、アラルキル基又は脂環式基である。用語アリールは単環式基、例えば、フェニル等、二環式基、例えば、インデニル、ナフテニル等、三環式基、例えば、フルオレニル又は3つの環を有するベンゾ連鎖基等を意味する。アリールは、1つ以上の置換基で置換されていてもよい。適切な置換基は、アルキル置換基として既に上述したものである。アラルキルは、アリール基で置換されているアルキル基を意味する。用語脂環式は、単結合で分子の残部に結びついている、飽和又は部分的に不飽和の単環式、二環式又は三環式炭化水素環を意味する。脂環式環は、3~8員単環式環及び8~12員二環式環である。脂環式基は、シクロアルキル基及びシクロアルケニル基を含む。アラルキルは1つ以上の置換基で置換されていてもよい。適切な置換基は、アルキル置換基として既に上述したものである。脂肪族基に適した他の置換基は、1個以上の炭素原子がヘテロ原子で置換されている上記置換基である。本発明によれば、リン酸エステルの使用が特に適している。エチルホスファート、特にモノエチルホスファート及び/又はジエチルホスファートが特に適している。KeboChemie社の製品ADACIDVP1225/1は顕著に適している。結果として、本発明の方法は、クロムVIフリーホスファート溶液の使用を可能にする。それにもかかわらず、当然に、ホスファート溶液がクロムを含んでよい。しかしながら、0.2重量未満、好ましくは0.1重量未満、特に0.01重量未満の六価クロム含量を有するホスファート溶液の使用が好ましい。ホスファート溶液は、さらに酸洗い抑制剤B、及び/又は湿潤剤Cを含んでよい。酸洗い抑制剤B及び湿潤剤Cの使用のため、本発明の方法を用いて製造される方向性電気鋼の特性をさらに改善することができる。グループBに属する添加剤は酸洗い抑制剤である。用語酸洗い抑制剤は、本発明によれば、鉄イオンが全く又は少量しか溶解しないように、ホスファート溶液の鋼表面との化学的相互作用に影響を与える添加剤を意味するものとする。酸洗い抑制剤の使用のため、結果としてホスファート溶液への鉄イオンの混入を防止し、ホスファート溶液は、長期間にわたって一定であるという特性を有する。ホスファート溶液が鉄に富むと電気鋼上のホスファート層の耐化学性を減じるので、この手順は有利である。ゾルゲル転移は非常に外来イオンに左右されるので、本発明により使用するコロイド系で酸洗い抑制剤を使用することは特に有利であることが分かった。酸洗い抑制剤の添加のため、結果としてコロイド系の安定性を実質的に改善することができる。本発明によれば、酸溶液に耐性である限り、非常に種々多様の添加剤を酸洗い抑制剤Bとして使用することができる。酸洗い抑制剤が、塗布されたホスファート層の品質に悪影響を及ぼさないときはさらに有利である。酸洗い抑制剤が可能な最低レベルの毒性を有することがさらに有利である。原則的に、使用する酸洗い抑制剤は、使用するホスファート溶液に適応するものとする。さらに、使用する酸洗い抑制剤は、コロイド成分の安定性に悪影響を及ぼさないものとする。さらに、使用する酸洗い抑制剤は、ホスファート溶液中のさらなる添加剤と、添加剤がそれらの個々の作用に関して妨げられるように相互作用しないものとする。実地試験は、チオ尿素誘導体、C2-10-アルキノール、トリアジン誘導体、チオグリコール酸、C1-4-アルキルアミン、ヒドロキシ-C2-8-チオカルボン酸及び/又は脂肪アルコールポリグリコールエーテルが特に有効な酸洗い抑制剤であることを示した。チオ尿素の形の酸洗い抑制剤は、本発明によれば、基本構造としてチオ尿素構造を有する酸洗い抑制剤であると解釈するものとする。チオ尿素の1~4個の水素原子を適切な置換基によって置き換えてよい。本発明によれば、特に適した置換基は、既に上述したように脂肪族基である。チオ尿素の基本構造の窒素原子上の他の好適な置換基は、上記定義どおりのアリール基、アラルキル基又は脂環式基である。本発明によれば特に好適なチオ尿素誘導体は、C1-6-ジアルキルチオ尿素、好ましくはC1-4-ジアルキルチオ尿素である。好ましくは、これらのアルキル置換基は、無置換状態で存在する。ジエチルチオ尿素、特に1,3-ジエチル-2-チオ尿素の使用が非常に特に好ましい。Alufinish社の製品Ferropas7578が非常に特に好ましい。本発明によれば同様に特に好適な酸洗い抑制剤は、C2-10-アルキノール、特にC2-6-アルキンジオールアルキンは上記意味を有するである。本発明により特に好適なC2-6-アルキンジオールでは、アルキン置換基は置換されておらず、かつ二重結合を有する。本発明によればブチン-1,4-ジオール、特にブタ-2-イン-1,4-ジオール及びプロパ-2-イン-1-オールがなおさらに好ましい。同様に本発明により非常に好ましい酸洗い抑制剤は、トリアジン誘導体である。トリアジン誘導体の形の酸洗い抑制剤は、本発明によればトリアジン基本構造を含む酸洗い抑制剤であるものとする。本発明により好適なトリアジン誘導体では、トリアジン基本構造の1個以上の水素原子が適切な置換基によって置換されていてもよい。適切な置換基は、アルキル置換基について既に上述したものである。本発明により特に適している他の酸洗い抑制剤は、脂肪アルコールポリグリコールエーテルである。脂肪アルコールポリグリコールエーテルは、本発明によれば脂肪アルコールと過剰のエチレンオキシドとの反応生成物であると解釈するものとする。本発明により特に好適な脂肪アルコールは、6~30、好ましくは8~15個の炭素原子を有する。ポリグリコールエーテル中のエチレンオキシド基の割合は、脂肪アルコールポリグリコールエーテルを水溶性にするのに十分高いことが好ましい。従って、好ましくはアルコール中の炭素原子と少なくとも同数の-O-CH2-CH2-基が分子内に存在すべきである。或いは、適切な置換、例えば、硫酸によるエステル化及び該エステルをナトリウム塩に変えること等によって水溶性を達成することもできる。原則的に、脂肪アルコールポリグリコールエーテル中の水素原子は、適切な置換基で置換されていてもよい。好適な置換基は、アルキル基について既に上述した置換基である。チオグリコール酸及びヘキサメチレンテトラミンは、酸洗い抑制剤としての使用にさらに顕著に適している。Cグループの添加剤は湿潤剤である。本発明の方法では、酸溶液に耐性である限り、非常に種々多様の湿潤剤を使用することができる。湿潤剤が、塗布されたホスファート層の品質に悪影響を及ぼさないときはさらに有利である。湿潤剤が可能な最低レベルの毒性を有するときはさらに有利である。さらに、使用する湿潤剤は、コロイド成分の安定性に悪影響を及ぼさないものとする。さらに、使用する湿潤剤は、ホスファート中に存在する他の添加剤と、該添加剤がそれらの個々の作用に関して妨げられるように相互作用しないものとする。本発明の方法で湿潤剤を使用すると、ホスファート溶液のストリップ表面への塗布を改善することになる。さらに、ホスファート層の均一性が増す。実地試験は、フッ素系界面活性剤が湿潤剤として顕著に適していることを示した。フッ素系界面活性剤の利点は、非常に多様なホスファート溶液中で、CrVI含有ホスファート溶液中でさえ、安定した様式で使用できることである。本発明の方法には、非常に多様なフッ素系界面活性剤が添加剤として適している。用語フッ素系界面活性剤は、本発明によれば、疎水基としてペルフルオロアルキル残基アルキルは上記定義の意味を有するを有する界面活性剤を意味するものとする。フッ素系界面活性剤は、非常に低濃度で、既に水の表面張力の相当な減少を引き出すという点で、非フッ素化界面活性剤に対して区別される。フッ素系界面活性剤はさらに、高レベルの化学的及び熱的安定性を有する。本発明で好ましく使用できるフッ素系界面活性剤の界面活性剤成分としては、酸溶液に耐性である限り、非常に種々多様の界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤がコロイド溶液の安定性を破壊せず、かつ塗布されたホスファート層の品質に悪影響を及ぼさないことがさらに有利である。フッ素系界面活性剤が可能な最低レベルの毒性を有することがさらに有利である。実地試験は、C1-4-テトラアルキルアンモニウムペルフルオロ-C5-10-アルキルスルホナートが本発明の特に好適なフッ素系界面活性剤であることを示した。特に好適な湿潤剤は、Schwenk社の製品NC709であり、テトラエチルアンモニウムペルフルオロオクタンスルホナートを含有する。ホスファート溶液に含まれる種々の添加剤A~Cの量は広範に変動し得る。実地試験は、コロイド安定剤Aを0.001~20重量の量、好ましくは0.01~10重量の量、特に0.1~2重量の量で使用すると特に良い結果が得られることを示した。酸洗い抑制剤Bを0.001~10重量の量、好ましくは0.005~1重量の量、特に0.01~0.08重量の量で使用するのが有利である。湿潤剤Cを0.0001~5重量の量、好ましくは0.001~1重量の量、特に0.01~0.1重量の量で使用するのが有利である。いずれの場合もホスファート溶液の全重量に対しての量である。本発明のホスファート溶液は、非常に種々多様のホスファートを含むことができる。従って、ホスファート溶液は、例えば、カルシウムホスファート、マグネシウムホスファート、マンガンホスファート及び/又はその混合物を含むことができる。その良い水溶性のため、本発明によれば第一ホスファートモノホスファートが特に好ましい。特に良い結果は、アルミニウムホスファート及び/又はマグネシウムホスファートを含むホスファート溶液で得られる。特に40~60重量の量で、AlH2PO43を含むホスファート溶液が非常に特に好ましい。ホスファートとしてAlH2PO43及びコロイド成分としてSiO2シリカゾルを含むホスファート溶液を使用する場合、下記量関係が特に適していることが分かった:0.5<AlH2PO43:SiO2<20、好ましくは0.7<AlH2PO43:SiO2<5、特にAlH2PO43:SiO2=1.36。ホスファート溶液の基礎は好ましくは水であるが、当然に、水と同様の反応性及び極性を有する限り、他の溶媒を使用することもできる。本発明によれば、ホスファート溶液中のホスファートの濃度は、好ましくは5~90重量、さらに好ましくは20~80重量、なおさらに好ましくは30~70重量、特に40~60重量である。実際に、電気鋼上にホスファート層を形成するための応力除去焼鈍作業という状況では焼付けホスファート処理作業が特に適していることが分かった。焼付けホスファート処理作業では、まずホスファート溶液を鋼に塗布し、引き続き700°Cより高い、好ましくは800°Cより高い、特に約850°Cの温度で焼き付ける。連続炉内での焼付けが特に有利であることが分かった。既に上記で説明したように、ホスファート溶液はコロイド成分を含む。この実施形態は、ホスファート層を乾燥させるときに、コロイド成分を用いて引張応力を電気鋼に伝達できるので有利である。引張応力は、電気鋼を使用するときに磁気反転損失の相当な減少をもたらす。さらに、変圧器で使用するときに磁歪ひいてはノイズ発生の出現を最小限にすることができる。本発明により特に適しているコロイド成分は、コロイド状二酸化ケイ素である。コロイド系の安定性に関しては、コロイド安定剤の使用に加えて、ホスファート溶液のpH値が重要である。乾燥前のホスファート溶液の安定性を高めるためには、<3、好ましくは0.5~1のpH値が特に有利であることが分かった。ホスファート層と電気鋼との間に適用されるガラスフィルムによって、電気鋼上の引張応力のさらなる増加を引き出すことができる。用語ガラスフィルムは、本発明によればセラミック材料に類似しており、かつ好ましくは主にMg2SiO4及び組み込まれた硫化物を含有する層を意味するものとする。ガラスフィルムは、好ましくは完全焼鈍作業中に、酸化マグネシウム及び酸化ケイ素から、それ自体既知の方法で形成される。存在し得るホスファート層及びガラスフィルムを電気鋼の上側及び/又は下側に配置してよい。好ましくは、ホスファート層及びガラスフィルムを電気鋼の上側及び下側に配置する。本発明の方向性電気鋼は、非常に種々多様の用途に適している。特定の配慮を払うことができる本発明の方向性電気鋼の使用は、変圧器のコア材料としての使用である。以下、本発明を複数の実施形態を参照してさらに詳細に説明する。<実施例1>:化学的相互作用に及ぼすホスファート溶液中の硝酸クロムの効果下記ホスファート溶液を調製した。特許文献6に従うCrVI及び酸洗い抑制剤がないホスファート/シリカゾル混合物は、遊離鉄表面との明白に著名な相互作用を示す。硝酸クロムIIIの添加のため、この場合もやはり明白に相互作用の増加が起こる。添加剤硝酸クロムIIIとジエチルチオ尿素DETHの組合せは、化学的相互作用の明らかな抑制をもたらす。化学的相互作用の抑制は、ホスファート処理溶液への鉄イオンの混入が防止されるので、工業塗装プラントでの使用を可能にする。図10は、鉄表面との酸洗い反応に及ぼす硝酸CrIIIとDETHの効果を示す。<実施例2>:コロイド安定性に及ぼす本発明の絶縁溶液中の硝酸クロムの効果本発明の利点を検証するため、下記ホスファート溶液を調製した。絶縁溶液を50°Cで粘度の時間展開の測定に供した。図11は結果を示す。クロムVIあり絶縁溶液は非常に良い溶液安定性を有する。いずれの交換品もなくクロムVI化合物を省くと溶液1、溶液安定性の劇的な悪化につながり、工業生産プロセスでの使用を不可能にする。クロムVIのクロムIIIとの交換も溶液安定性の悪化をもたらす。該溶液は、溶液1と同様に実際には適さない。しかしながら、コロイド安定剤Aを含む溶液でクロムIIIを使用すれば、溶液安定性は保持される。該溶液は工業生産プロセスに適している。<実施例3>:引張応力に及ぼすホスファート溶液中の硝酸クロムの効果焼付け絶縁層のため、引張応力が強磁性基材に伝達されるように意図され、かつドメイン構造に良い影響を及ぼすように意図され、さらに引張応力は磁化反転損失を減じる。本発明の絶縁溶液の利点を実証するために、下記溶液を調製した。サイズ305mm×60mmのGO電気鋼サンプルに溶液を塗布し、850°Cで2分間焼き付けた。焼付け状態の層塗布量は全ての場合に3.5g/m2であった。引き続き、引張応力試験を行なった。図12は結果を要約する。<実施例4>:層外観に及ぼすホスファート溶液中の硝酸クロムIIIの影響下記ホスファート溶液を調製した。ガラスフィルムを有するGO電気鋼サンプルに溶液を塗布し、850°Cで約2分間焼き付けた。引き続き層外観を評価した図13参照。本発明の絶縁層外観は、特許文献6の層外観より高い輝度を明白に示す。本発明の絶縁層外観は、六価クロムVIを用いて製造した絶縁層ともはや区別できない。<実施例5>:引張応力に及ぼすホスファート溶液中の酢酸クロムの効果焼付け絶縁層のため、引張応力が強磁性基材に伝達されるように意図され、かつドメイン構造に良い影響を及ぼすように意図され、さらに引張応力は磁化反転損失を減じる。本発明の方法で使用するホスファート溶液の利点を実証するために、下記溶液を調製した。サイズ305mm×60mmのGO電気鋼サンプルに溶液を塗布し、850°Cで2分間焼き付けた。焼付け状態の層塗布量は全ての場合に3.5g/m2であった。引き続き、引張応力試験を行なった。図14は結果を要約する。酢酸クロムIIIを使用すると、基材に伝達される引張応力は、クロムフリー絶縁に対してはプラス様式で影響を受けるが、クロムVIの引張応力よりかなり明白に低い。<実施例6>:引張応力に及ぼす本発明の絶縁溶液中の塩化クロムの効果本発明の方法で使用するホスファート溶液の利点を実証するために、下記溶液を調製した。サイズ305mm×60mmのGO電気鋼サンプルに溶液を塗布し、850°Cで2分間焼き付けた。焼鈍状態の層塗布量は全ての場合に3.5g/m2であった。引き続き、引張応力試験を行なった。図15は結果を要約する。塩化クロムIIIから、層外観への硝酸クロムIII及び六価クロムVIと同じ効果が明白にある図16参照。しかしながら、塩化クロムIIIを使用すると、かなりの層欠陥が生じ、これはおそらく関連塩の酸残基に起因すると考えられる。このように塩化クロムIIIを用いて目的を果たすことができる。そこで、溶液系全体をそのこと酸洗い抑制のタイプなどに具体的に適合させると有利である。<実施例7>:引張応力に及ぼすホスファート溶液中のスルホン酸クロムIIIの効果本発明の方法で使用するホスファート溶液の利点を実証するために、下記溶液を調製した。サイズ305mm×60mmのGO電気鋼サンプルに溶液を塗布し、850°Cで2分間焼き付けた。焼付け状態の層塗布量は全ての場合に3.5g/m2であった。引き続き、引張応力試験を行なった。図17は結果を要約する。"