患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定する眼圧センサーを製作する方法であって、第1基板を準備する段階と、前記第1基板の下面にベースフィルムを蒸着形成する段階と、前記第1基板に対してエッチングを行って、前記ベースフィルムの上面を露出させる段階と、露出された前記ベースフィルムの中央にエポキシを塗布する段階と、前記ベースフィルムのエポキシ塗布部位に第1電極を配置する段階と、第2基板を準備する段階と、前記第2基板上に支持フィルムを蒸着形成する段階と、前記支持フィルム上に第2電極を形成する段階と、前記第2基板に対してエッチングを行って、前記支持フィルムの下面を露出させる段階と、前記第1基板上に前記第2基板を配置する段階と、を含む眼圧センサーの製造方法。患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定する眼圧センサーを製作する方法であって、第1基板を準備する段階と、前記第1基板の下面にベースフィルムを蒸着形成する段階と、前記第1基板に対してエッチングを行って、電極固定部を形成し、前記ベースフィルムの上部を露出させる段階と、前記電極固定部上にエポキシを塗布する段階と、前記電極固定部上に前記第1電極を配置する段階と、第2基板を準備する段階と、前記第2基板上に支持フィルムを蒸着形成する段階と、前記支持フィルム上に第2電極を形成する段階と、前記第2基板に対してエッチングを行って、前記支持フィルムの下部を露出させる段階と、前記第1基板上に前記第2基板を配置する段階と、を含む眼圧センサーの製造方法。前記第1基板と前記第2基板は、面積が同一である請求項1または2に記載の眼圧センサーの製造方法。前記第1基板と前記ベースフィルムは、面積が同一である請求項3に記載の眼圧センサーの製造方法。前記第2基板と前記支持フィルムは、面積が同一である請求項3に記載の眼圧センサーの製造方法。前記第1基板と前記第2基板とに対するエッチング面積は、互いに同一である請求項1に記載の眼圧センサーの製造方法。前記第1電極は、前記ベースフィルムと接着される接着部が突設される請求項1に記載の眼圧センサーの製造方法。前記第1電極は、前記ベースフィルムと接着される部位に接着ホールが形成される請求項1に記載の眼圧センサーの製造方法。前記第1基板に対するエッチング段階は、前記第1基板にマスキングを行う第1マスキング段階と、前記第1基板にエッチングを行うが、前記第1基板の全体厚さのうち一部を残留させる第1エッチング段階と、前記第1基板のエッチング部位の中央にマスキングを行う第2マスキング段階と、前記第1基板にエッチングを行って、前記電極固定部を形成させ、前記ベースフィルムを露出させる第2エッチング段階と、を含む請求項2に記載の眼圧センサーの製造方法。前記第1基板上に前記第2基板を配置するが、前記エッチング部位が互いに一致するように整列して配置する段階を含む請求項1または2に記載の眼圧センサーの製造方法。患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定するセンサーであって、眼球の前記眼圧測定の基準面として作用するベースフィルムと、前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、板状であり、前記ベースフィルム上に配される第1電極と、前記第1電極の一面に突設され、エポキシによって前記ベースフィルムに接着される接着部と、前記本体の上部に配される支持フィルムと、前記支持フィルム上に配される第2電極と、を含む眼圧センサー。患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定するセンサーであって、眼球の前記眼圧測定の基準面として作用し、中央部にエポキシが塗布されるベースフィルムと、前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、板状であり、前記ベースフィルム上に配され、前記エポキシに対応する接着ホールが形成される第1電極と、前記本体の上部に配される支持フィルムと、前記支持フィルム上に配される第2電極と、を含む眼圧センサー。患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定するセンサーであって、眼球の前記眼圧測定の基準面として作用するベースフィルムと、前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、前記ベースフィルム上に配される電極固定部と、板状であり、前記電極固定部にエポキシによって接着される第1電極と、前記本体の上部に配される支持フィルムと、前記支持フィルム上に配される第2電極と、を含む眼圧センサー。前記本体の内部空間に渦電流が生成され、前記渦電流は、前記第1電極と前記第2電極との距離に対応してサイズが変化される請求項11ないし請求項13のうち何れか一項に記載の眼圧センサー。前記第1電極は、フェライト、アルミニウムAl、銅Cuを含む請求項11ないし請求項13のうち何れか一項に記載の眼圧センサー。前記第2電極は、アルミニウムAl、銅Cuを含む請求項11ないし請求項13のうち何れか一項に記載の眼圧センサー。本発明は、前記問題点を解決するために案出されたものであって、患者の眼球の眼圧測定範囲と測定効率とをより向上させうる眼圧センサー及びその製造方法を提供することを目的とする。眼圧センサーのベースフィルムと第1電極との接着面積を減少させて、眼圧変化による第1電極の移動をより容易にする眼圧センサー及びその製造方法を提供することを目的とする。本発明の第1側面による眼圧センサーの製造方法は、患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定する眼圧センサーを製作する方法であって、第1基板を準備する段階と、前記第1基板の下面にベースフィルムを蒸着形成する段階と、前記第1基板に対してエッチングを行って、前記ベースフィルムの上面を露出させる段階と、露出された前記ベースフィルムの中央にエポキシを塗布する段階と、前記ベースフィルムのエポキシ塗布部位に第1電極を配置する段階と、第2基板を準備する段階と、前記第2基板上に支持フィルムを蒸着形成する段階と、前記支持フィルム上に第2電極を形成する段階と、前記第2基板に対してエッチングを行って、前記支持フィルムの下面を露出させる段階と、前記第1基板上に前記第2基板を配置する段階と、を含む眼圧センサーの製造方法を提供する。本発明の第2側面による眼圧センサーの製造方法は、患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定する眼圧センサーを製作する方法であって、第1基板を準備する段階と、前記第1基板の下面にベースフィルムを蒸着形成する段階と、前記第1基板に対してエッチングを行って、電極固定部を形成し、前記ベースフィルムの上部を露出させる段階と、前記電極固定部上にエポキシを塗布する段階と、前記電極固定部上に前記第1電極を配置する段階と、第2基板を準備する段階と、前記第2基板上に支持フィルムを蒸着形成する段階と、前記支持フィルム上に第2電極を形成する段階と、前記第2基板に対してエッチングを行って、前記支持フィルムの下部を露出させる段階と、前記第1基板上に前記第2基板を配置する段階と、を含む眼圧センサーの製造方法を提供する。前記第1基板と前記第2基板は、面積が同一であり得る。前記第1基板と前記ベースフィルムは、面積が同一であり得る。前記第2基板と前記支持フィルムは、面積が同一であり得る。前記第1基板と前記第2基板とに対するエッチング面積は、互いに同一であり得る。前記第1電極は、前記ベースフィルムと接着される接着部が突設される。前記第1電極は、前記ベースフィルムと接着される部位に接着ホールが形成されうる。前記第1基板に対するエッチング段階は、前記第1基板にマスキングを行う第1マスキング段階と、前記第1基板にエッチングを行うが、前記第1基板の全体厚さのうち一部を残留させる第1エッチング段階と、前記第1基板のエッチング部位の中央にマスキングを行う第2マスキング段階と、前記第1基板にエッチングを行って、前記電極固定部を形成させ、前記ベースフィルムを露出させる第2エッチング段階と、を含みうる。前記第1基板上に前記第2基板を配置するが、前記エッチング部位が互いに一致するように整列して配置する段階を含みうる。本発明の第1側面による眼圧センサーは、患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定するセンサーであって、眼球の前記眼圧測定の基準面として作用し、中央部にエポキシが塗布されるベースフィルムと、前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、板状であり、前記ベースフィルム上に配され、前記エポキシに対応する接着ホールが形成される第1電極と、前記本体の上部に配される支持フィルムと、前記支持フィルム上に配される第2電極と、を含む眼圧センサーを提供する。本発明の第2側面による眼圧センサーは、眼球の前記眼圧測定の基準面として作用するベースフィルムと、前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、前記本体の下部に配されるベースフィルムと、前記ベースフィルム上に配される電極固定部と、板状であり、前記電極固定部にエポキシによって接着される第1電極と、前記本体の上部に配される支持フィルムと、前記支持フィルム上に配される第2電極と、を含む眼圧センサーを提供する。本発明の第3側面による眼圧センサーは、眼球の前記眼圧測定の基準面として作用するベースフィルムと、前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、前記ベースフィルム上に配される電極固定部と、板状であり、前記電極固定部にエポキシによって接着される第1電極と、前記本体の上部に配される支持フィルムと、前記支持フィルム上に配される第2電極と、を含む眼圧センサーを提供する。前記本体の内部空間に渦電流が生成され、前記渦電流は、前記第1電極と前記第2電極との距離に対応してサイズが変化されうる。前記第1電極は、フェライト、アルミニウムAl、銅Cuを含みうる。前記第2電極は、アルミニウムAl、銅Cuを含みうる。前記のような本発明は、眼圧センサーの下部に位置するベースフィルムと第1電極との接着面を最小化して、患者の眼球の測定範囲と測定効率とをより向上させうる。以下、添付した図面を参照しながら、本発明による望ましい実施形態を詳しく説明する。図1は、本発明の第1実施形態による眼圧センサーの製造方法の構成を示すフローチャートである。図面を参照して、本発明の第1実施形態による眼圧センサーの製造方法の各段階を説明する。図2は、本発明の第1実施形態による眼圧センサーの製造方法で使う第1基板の処理過程を示す図面である。図2のAを参照すれば、第1基板を準備する段階ステップS110は、後述する第2基板と共に眼圧センサー100の基本的な形態である本体を成す第1基板110を準備する段階である。第1基板110は、ハードhardな材質であって、所定の面積と厚さとからなる。図2のBを参照すれば、ベースフィルム形成段階ステップS120は、第1基板110の下面にベースフィルム120を形成する段階であって、ベースフィルム120は、第1基板110の下面に蒸着工程によって形成される。ベースフィルム120は、眼圧測定の基準面として使われる。この際、ベースフィルム120の面積は、第1基板110の面積と同一であることが望ましい。ベースフィルム120は、フレキシブルflexibleな特性を有するフィルムであって、眼圧測定のために使われるので、患者の身体または眼球に対して無害な物質であることが望ましい。図2のCとDとを参照すれば、エッチングを行う段階ステップS130は、ベースフィルム120が付着されている第1基板110の上面に対してエッチングを行って、ベースフィルム120を露出させる。ここで、第1基板110に対するエッチングは、次のように行われる。すなわち、図2のCに示されているように、第1基板110の上面の外周側部位に部分的にマスクmask112を覆って配置する。ここで。マスク112は、第1基板110の上面の10~20に対して行われるが、ユーザの必要に応じて変更されうる。マスク112が配されれば、エッチングを行って、図2のDに示されているように、エッチング部位を通じてベースフィルム120を露出させる。エッチングが完了すれば、マスク112を除去する。エッチング段階ステップS130が完了すれば、エポキシ塗布段階ステップS140を行う。図2のEを参照すれば、エポキシ塗布段階ステップS140は、後述する第1電極140が付着されるように、ベースフィルム120上にエポキシepoxy130を塗布する。エポキシ塗布段階ステップS140で、エポキシは、ベースフィルム120の中央部位に対して行われる。エポキシ130塗布面積は、後述する第1電極140が付着される範囲で最小限の面積であることが望ましい。ここで、エポキシ130は、塗布作業の遂行を容易にするために、ゲル状または液状であり得る。エポキシ塗布段階ステップS140が完了すれば、第1電極140を配置する。図2のFを参照すれば、第1電極配置段階ステップS150は、第1電極140をベースフィルム120上のエポキシ130塗布部位に配置する。第1電極140は、後述する第2電極174との離隔空間に渦電流を形成させる。第1電極140は、プレート形態であって、その面積は、第1基板110のエッチング部位を通じてベースフィルム120上に配された後、上下移動が可能な状態で可能な広く形成されることが望ましい。第1電極140は、フェライトferrite、アルミニウムAl、銅Cuを含みうる。第1電極140は、ベースフィルム120上に塗布されたエポキシによってベースフィルム120上に付着される。ここで、第1電極140のベースフィルム120との接着面に長方形状の断面形態で形成された接着部141が突設される。第1電極140の配置時に、第1電極140の接着部141が、ベースフィルム120上のエポキシ130塗布部位に位置された後、エポキシが硬化されれば、第1電極140の固定がなされる。第1電極140とベースフィルム120との接着面積は、第1電極140の全体面積に比べた時、一部であるので、眼球の眼圧変化によるベースフィルム120の上昇と下降とがなされる時、第1電極140の移動がより容易になされる。図3は、本発明の第1実施形態による眼圧センサーの製造方法で使う第2基板の処理過程を示す図面である。図3のAを参照すれば、第2基板を準備する段階ステップS160は、第1基板110と共に眼圧センサー100の全体的な形態を構成する第2基板150を準備する段階である。第2基板150の面積と厚さは、第1基板110の面積と厚さと同一であり、第2基板150の材質は、第1基板110の材質と同一であることが望ましい。図3のBを参照すれば、第2基板上に支持フィルム及び第2電極を形成する段階ステップS170は、第2基板150の上面に支持フィルム160を蒸着工程によって形成する。支持フィルム160は、眼圧センサーの使用時に、後述する第2電極を支持する。図3のC、D、及びEを参照すれば、支持フィルム及び第2電極を形成する段階ステップS170は、第1電極140と対応して眼圧センサー100の内側空間に渦電流を形成させる第2電極174を形成する。まず、図3のCに示されているように、支持フィルム160上に金属層170を蒸着形成する。ここで、金属層170は、銅CuまたはアルミニウムAl、または銅とアルミニウム合金とを含む。図3のDを参照すれば、金属層170上に後述する第2電極174の形状に対応するマスク172を配置し、金属層170に対してエッチングを行って、図3のEに示したような第2電極174を形成させる。図4は、図3に示された第2電極の構成の一例を示す斜視図である。第2電極174の形態は、図示したところに限定されず、ユーザの必要に応じて多様に形成されうる。第2電極174は、第1電極140との離隔間隔の変化に対応して離隔空間の間に渦電流を形成する。再び図3を参照する。図3のFとGとを参照すれば、第2基板に対してエッチングを行う段階ステップS180は、第2基板150の下面に対してエッチングを行って、支持フィルム160の下部を露出させる。ここで、第2基板150に対するエッチングは、次のように行われる。すなわち、図3のFに示されているように、第2基板150の下面の外周側部位に部分的にマスク152を配置する。ここで、マスク152は、第1基板110の下面の10~20に対して行われるが、ユーザの必要に応じて変更されうる。マスク152の配置が完了すれば、エッチングを行って、図2のGに示されているように、エッチング部位を通じて支持フィルム160を露出させる。エッチングが完了すれば、マスク152を除去する。ここで、第2基板150に対するエッチング面積は、第1基板110に対するエッチング面積と同一であることが望ましい。第2基板150に対するエッチングが完了すれば、ベースフィルム120上に第1電極140が接着されている第1基板110の上部に第2基板150を配置して眼圧センサー100を完成する。図5は、本発明の第1実施形態による眼圧センサーの製造方法によって完成された眼圧センサーの構成を示す断面図である。図5を参照すれば、第1及び第2基板110、150に対するエッチングステップS130、ステップS180以後、残留している第1及び第2基板110、150が互いに当接して、上下に連結される内部には、渦電流が形成される空間を有する本体104を形成することが分かる。本体104の下部と上部には、それぞれベースフィルム120と支持フィルム160とが配されることが分かる。ベースフィルム120上に第1電極140が配されており、支持フィルム160上には、第2電極174が配されていて、第1電極140と第2電極174との離隔空間には、離隔距離に対応して渦電流が形成されうる。これは、後述する眼圧センサーに対しても同様に適用可能である。前記のように構成された本発明の作用を説明する。図5に示されている構成の眼圧センサー100は、眼球図示せず内に配される。眼圧が正常である場合、第1電極140と第2電極174との離隔距離は、図5に示されているように、元々設定されている状態を継続的に保持する。図6は、本発明の第1実施形態による眼圧センサーの製造方法によって完成された眼圧センサーの動作状態を示す図面であって、眼圧が一定程度上昇した場合の第1電極140と第2電極174との関係を示す図面である。示されているように、眼圧の上昇によってベースフィルム120の中央部の高さが上昇して、第1電極140と第2電極174との離隔距離が狭くなる。第1電極140と第2電極174との間の渦電流が増加するので、これを感知して眼圧の上昇を測定することができる。第1電極140とベースフィルム120との接着面積は、第1電極140の全体面積に比べた時、一部であるので、眼球の眼圧変化によるベースフィルム120の上昇と下降とがなされる時、第1電極140の移動がより容易になされる。図7は、本発明の第1実施形態による眼圧センサーの製造方法によって完成された眼圧センサーでの渦電流発生を説明する図面である。すなわち、図7に示されているように、第1電極140と第2電極174との間では、渦電流が発生する。渦電流は、インダクターのインダクタンスを減少させる方向に作用するので、もし、眼圧センサーの外部圧力が増加して、第1電極140と第2電極174とが互いに接近する場合、本体104の内部空間には、渦電流のサイズが増加し、結果的にインダクターのインダクタンスは、さらに減少する。このように、眼圧センサーの外部圧力によって、第1電極140と第2電極174との間に距離が変化すれば、第2電極174によるインダクターの寄生成分が変化し、このような寄生成分の変化は、眼圧センサーのインピーダンス値の変化を発生させる。このような眼圧センサーのインピーダンス値の変化を外部で検出すれば、眼球内の圧力を外部で分かる。すなわち、電極と電極との距離に対応して、渦電流の量は変化されるので、第1電極140と第2電極174との距離変化による渦電流変化を測定して、眼圧の測定が可能である。電極間の距離による渦電流の変化は、別途に測定がなされる。一方、眼圧センサーの製造過程のうち、第1電極の付着時に、電極の付着圧力によってベースフィルム120上に塗布されていたエポキシが押されながら、エポキシ塗布部位がユーザの意図とは異なって拡張されうる。図8は、本発明の第1実施形態による眼圧センサーの製造方法で接着ホールが形成された第1電極の付着状態を示す断面図である。図9は、図8に示された第1基板を使う眼圧センサー100Aの構成を示す図面である。図8と図9とを参照すれば、第1電極140Aの中央には、接着ホール142が貫設される。接着ホール142の面積は、エポキシ塗布面積よりも多少小さく形成されることが望ましい。接着ホール142が形成された第1電極140Aが、エポキシが塗布されたベースフィルム120上に配されれば、エポキシは、第1電極140Aをベースフィルム120と接着させる。この際、エポキシは、第1電極140Aの付着圧力によって接着ホール142の内側に流入され、ベースフィルム120と第1電極140Aとの接着面積が設定以上に拡張されることを防止することができる。図10は、図9に示された眼圧センサーの動作状態を示す図面である。図10に示された眼圧センサー100Aは、第1電極140Aに接着ホール142が形成されるものの以外には、図5と図6とに示された眼圧センサー100と構成と作用とが同一なので、これについての詳細な説明は省略する。図11は、本発明の第2実施形態による眼圧センサーの製造方法を示すフローチャートであり、図12は、本発明の第2実施形態で使う第1基板の処理過程を示す図面である。図面を参照して、本発明の第2実施形態による眼圧センサーの製造方法を説明する。ここで、以前の実施形態と同一の構成については、詳細な説明を省略し、差がある構成についてのみ説明する。本実施形態で、第1電極140Bの固定のための接着面積の最小化のために、ベースフィルム120上には、電極固定部116が形成される。電極固定部116の形成は、第1基板に対するエッチング段階ステップS230からなされる。このために、第1基板に対するエッチング段階ステップS230は、次のように行われる。図13は、本発明の第2実施形態による眼圧センサーの製造方法で第1基板に対するエッチング段階ステップS230の構成を示すフローチャートである。図13を参照すれば、第1基板に対するエッチング段階は、第1マスキング段階ステップS232と、第1エッチング段階ステップS233と、第2マスキング段階ステップS234と、第2エッチング段階ステップS235と、を含む。第1マスキング段階ステップS232は、第1基板110のエッチング面に対して第1マスク112を配置する段階である。第1マスク112は、図12のCに示されているように、第1基板110の上面の外周側部位を部分的に覆うように配される。ここで、第1マスク112は、第1基板110の上面の10~20を覆うように配してもよいが、これはユーザの必要に応じて変更されうる。第1マスク112の配置が完了すれば、図12のDに示されているように、第1エッチング段階ステップS233を行う。第1エッチング段階ステップS233は、第1基板110のエッチング部位の厚さがほぼ1/2になるまで進行する。第1基板110のエッチング部位の厚さが1/2の程度に減少すれば、第1エッチング段階ステップS233を終了する。本実施形態で、第1エッチング段階ステップS233は、第1基板110のエッチング部位の厚さが1/2になるまで進行するが、これは、後述する電極固定部116の高さが第1基板110の1/2の高さで形成される場合に限定されるものであって、電極固定部116の設定の高さによって第1エッチング段階ステップS233の程度は変化されうる。以後、図12のEに示されているように、エッチング面の中央に所定の面積で第2マスク114が配される。第2マスク114の面積は、後述する電極固定部116の上部面積に対応するレベルからなる。第2マスク114の配置が完了すれば、図12のFに示されているように、第1基板110の上面に対してエッチングをする第2エッチング段階ステップS235を行う。第2エッチング段階ステップS235は、第1エッチング段階ステップS233からなるエッチング部位を通じてベースフィルム120が露出されるまで進行する。この際、第2マスク114が配された部分は、除去されず、所定の高さと直径とを有する電極固定部116が形成される。第2エッチング段階ステップS235が完了すれば、第2マスク114は除去される。図12のGに示されているように、エポキシ塗布段階ステップS240は、第2エッチング段階ステップS235で形成された電極固定部116の上面にエポキシを塗布する。以後、電極固定部116上には、第1電極140Bを配置するステップS250。図14は、電極固定部116上に第1電極140Bが配された眼圧センサー100Bの構成を示す断面である。ここで、第1電極140Bは、平板状に形成されるが、以前の実施形態でのように接着ホールが形成され、電極固定部が形成されうる。第1基板110と第2基板150とに対するエッチングが完了すれば、図14に示したように、第1基板110と第2基板150とを互いに整列して結合させて、眼圧センサー100Bを完成させる。図15は、本発明の第2実施形態による眼圧センサーの製造方法によって製作された眼圧センサーの動作状態を示す図面である。本実施形態による製造方法によって製作された眼圧センサーの作用は、以前の実施形態による製造方法によって製作された眼圧センサーと同一なので、これについての詳細な説明は省略する。本発明は、図面に示された実施形態を参考にして説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されるべきである。