"基板と、前記基板の一表面側に設けられた第1電極と、前記基板の前記一表面側で前記第1電極に対向した第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間にあり発光層を含む機能層とを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記第1電極及び前記第2電極それぞれの抵抗率が透明導電性酸化物の抵抗率よりも低く、前記第2電極が、前記機能層からの光の取り出し用の開口部を有し、前記開口部には、前記第2電極と前記機能層とに接するキャリア注入層と、前記第2電極と前記キャリア注入層とに接し、かつ光透過性を有する導電性層とが積層されて設けられ、前記機能層が、前記第2電極と前記キャリア注入層との両方が接する最表層として、前記第1電極から注入されたキャリアの前記発光層からの漏れを抑制するキャリアブロッキング層を含んでいることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。前記導電性層が、前記第2電極を覆っていることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。前記開口部における前記導電性層の高さが、前記第2電極の高さよりも低いことを特徴とする請求項1又は2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。ところで、図7に示した構成のエレクトロルミネセンスランプ210では、第1の導電層220が開口250を有しているので、第1の導電層220からエレクトロルミネセンス物質230へのキャリア注入性が低下してしまい、外部量子効率が低下してしまう。本発明は上記事由に鑑みて為されたものであり、その目的は、輝度むらの低減を図ることが可能で、かつキャリアの注入性を向上させることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板と、前記基板の一表面側に設けられた第1電極と、前記基板の前記一表面側で前記第1電極に対向した第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間にあり発光層を含む機能層とを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記第1電極及び前記第2電極それぞれの抵抗率が透明導電性酸化物の抵抗率よりも低く、前記第2電極が、前記機能層からの光の取り出し用の開口部を有し、前記開口部には、前記第2電極と前記機能層とに接するキャリア注入層と、前記第2電極と前記キャリア注入層とに接し、かつ光透過性を有する導電性層とが積層されて設けられ、前記機能層が、前記第2電極と前記キャリア注入層との両方が接する最表層として、前記第1電極から注入されたキャリアの前記発光層からの漏れを抑制するキャリアブロッキング層を含んでいることを特徴とする。前記有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記導電性層が、前記第2電極を覆っていることが好ましい。前記有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記開口部における前記導電性層の高さが、前記第2電極の高さよりも低いことが好ましい。本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子においては、輝度むらの低減を図ることが可能で、かつキャリアの注入性を向上させることが可能となる。以下、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子について図1~図3に基づいて説明する。有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板10と、基板10の一表面側に設けられた第1電極20と、基板10の上記一表面側で第1電極20に対向した第2電極40と、第1電極20と第2電極40との間にあり発光層32を含む機能層30とを備えている。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第1電極20に第1引出し配線図示せずを介して電気的に接続された第1端子部図示せずと、第2電極40に第2引出し配線46を介して電気的に接続された第2端子部47とを備えている。第1引出し配線、第1端子部、第2引出し配線46及び第2端子部47は、基板10の上記一表面側に設けられている。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2引出し配線46と機能層30、第1電極20、第1引出し配線とを電気的に絶縁する絶縁膜60が基板10の上記一表面側に設けられている。この絶縁膜60は、基板10の上記一表面と第1電極20の側面と機能層30の側面と、機能層30における第2電極40側の表面の外周部とに跨って形成されている。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第1電極20及び第2電極40それぞれの抵抗率を透明導電性酸化物TransparentConductingOxide:TCOの抵抗率よりも低くしてある。透明導電性酸化物としては、例えば、ITO、AZO、GZO、IZOなどがある。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極40が、機能層30からの光の取り出し用の開口部41図2~図8参照を有している。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極40の開口部41に、キャリア注入層34以下、第2キャリア注入層34といい、後述の第1キャリア注入層31と区別すると、導電性層50とが積層されて設けられている。第2キャリア注入層34は、第2電極40と機能層30とに接している。第2キャリア注入層34の表面全体は平坦でもよいが、第2キャリア注入層34と第2電極40とが接している箇所において、第2キャリア注入層34は、第2電極40の側面上に形成されて盛り上がるように傾斜していてもよい。導電性層50は、第2電極40と第2キャリア注入層34とに接し、かつ光透過性を有する。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極40側から光を取り出すことが可能となる。要するに、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、トップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス素子として用いることが可能となる。有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板10の上記一表面側に対向配置され透光性を有するカバー基板70と、基板10の周部とカバー基板70の周部との間に介在する枠状本実施形態では、矩形枠状のフレーム部80とを備えていることが好ましい。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板10とカバー基板70とフレーム部80とで囲まれる空間に、第1電極20、機能層30、第2電極40、導電性層50などからなる素子部1を封止する透光性材料例えば、透光性樹脂などからなる封止部90を備えていることが好ましい。以下、有機エレクトロルミネッセンス素子の各構成要素について詳細に説明する。なお、図1~図5において各構成要素は実際の寸法とは異なる。基板10は、平面視形状を矩形状としてある。ここで、基板10の平面視形状は、矩形状に限らず、例えば、矩形状以外の多角形状、円形状などでもよい。基板10としては、ガラス基板を用いているが、これに限らず、例えば、プラスチック板や、金属板などを用いてもよい。ガラス基板の材料としては、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラスなどを採用することができる。また、プラスチック板の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネートなどを採用することができる。また、金属板の材料としては、例えば、アルミニウム、銅、ステンレス鋼などを採用することができる。プラスチック板を用いる場合は、プラスチック基板の表面にSiON膜、SiN膜などが成膜されたものを用いることで、水分の透過を抑えることが好ましい。なお、基板10は、リジッドなものでもよいし、フレキシブルなものでもよい。基板10としてガラス基板を用いる場合には、基板10の上記一表面の凹凸が有機エレクトロルミネッセンス素子のリーク電流などの発生原因となることがある有機エレクトロルミネッセンス素子の劣化原因となることがある。このため、基板10としてガラス基板を用いる場合には、上記一表面の表面粗さが小さくなるように高精度に研磨された素子形成用のガラス基板を用意することが好ましい。基板10の上記一表面の表面粗さについては、JISB0601-2001ISO4287-1997で規定されている算術平均粗さRaが10nm以下であることが好ましく、数nm以下であることが、より好ましい。これに対して、基板10としてプラスチック板を用いる場合には、特に高精度な研磨を行わなくても、上記一表面の算術平均粗さRaが数nm以下のものを低コストで得ることが可能である。カバー基板70としては、ガラス基板を用いているが、これに限らず、例えば、プラスチック板などを用いてもよい。ガラス基板の材料としては、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラスなどを採用することができる。また、プラスチック板の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネートなどを採用することができる。本実施形態では、カバー基板70として、平板状のものを用いているが、これに限らず、基板10との対向面に、上述の素子部1を収納する収納凹所を形成したものを用い、上記対向面における収納凹所の周部を全周に亘って基板10側と接合するようにしてもよい。この場合は、別部材のフレーム部80を用いる必要がなくなるという利点がある。一方、平板状のカバー基板70と枠状のフレーム部80とを別部材により構成している場合には、カバー基板70に要求される光学的な物性光透過率、屈折率などと、フレーム部80に要求される物性ガスバリア性などとの両方の要求を各別に満たす材料を採用することが可能になるという利点がある。カバー基板70における外面側基板10側とは反対の面側には、発光層32から放射された光の上記外面での反射を抑制する光取出し構造部図示せずを備えていることが好ましい。このような光取出し構造部としては、例えば、2次元周期構造を有した凹凸構造部が挙げられる。このような2次元周期構造の周期は、発光層32で発光する光の波長が例えば300~800nmの範囲内にある場合、媒質内の波長をλ真空中の波長を媒質の屈折率で除した値とすれば、波長λの1/4~10倍の範囲で適宜設定することが望ましい。このような凹凸構造部は、例えば、カバー基板70の上記外面側に、例えば、熱インプリント法熱ナノインプリント法、光インプリント法光ナノインプリント法などのインプリント法により、予め形成することが可能である。また、カバー基板70の材料によっては、カバー基板70を射出成形により形成するようにし、射出成形時に適宜の金型を用いて、カバー基板70に凹凸構造部を直接形成することも可能である。また、凹凸構造部は、カバー基板70とは別部材により構成することも可能であり、例えば、プリズムシート例えば、株式会社きもと製のライトアップ登録商標GM3のような光拡散フィルムなどにより構成することができる。本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、上述の光取出し構造部を備えることにより、発光層32から放射されカバー基板70の上記外面側まで到達した光の反射ロスを低減でき、光取り出し効率の向上を図ることが可能となる。フレーム部80と基板10の上記一表面側とを接合する第1接合材料としては、エポキシ樹脂を用いているが、これに限らず、例えば、アクリル樹脂などを採用してもよい。第1接合材料として用いるエポキシ樹脂やアクリル樹脂は、例えば、紫外線硬化型のものでもよいし、熱硬化型のものでもよい。また、第1接合材料として、エポキシ樹脂にフィラー例えば、シリカ、アルミナなどを含有させたものを用いてもよい。ここで、フレーム部80は、基板10の上記一表面側に対して、フレーム部80における基板10側との対向面を全周に亘って気密的に接合してある。また、フレーム部80とカバー基板70とを接合する第2接合材料としては、エポキシ樹脂を用いているが、これに限らず、例えば、アクリル樹脂、フリットガラスなどを採用してもよい。第2接合材料として用いるエポキシ樹脂やアクリル樹脂は、例えば、紫外線硬化型のものでもよいし、熱硬化型のものでもよい。また、第2接合材料として、エポキシ樹脂にフィラー例えば、シリカ、アルミナなどを含有させたものを用いてもよい。ここで、フレーム部80は、カバー基板70に対して、フレーム部80におけるカバー基板70との対向面を全周に亘って気密的に接合してある。絶縁膜60の材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂などを用いることができる。封止部90の材料である透光性材料としては、例えば、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの透光性樹脂を用いることができるが、機能層30との屈折率差の小さな材料が、より好ましい。また、透光性材料は、透光性樹脂にガラスなどからなる光拡散材を混合したものを用いてもよい。また、透光性材料は、有機成分と無機成分とがnmレベルもしくは分子レベルで混合、結合した有機無機ハイブリッド材料を用いてもよい。本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第1電極20が陰極を構成し、第2電極40が陽極を構成している。そして、機能層30は、第1電極20側から順に、第1キャリア注入層31、発光層32を備えている。さらに機能層30は、第2電極40と第2キャリア注入層34との両方が接する最表層として、インターレイヤー33後述のキャリアブロッキング層33を含んでいる。ここで、第1電極20から機能層30へ注入する第1キャリアは電子であり、第2電極40及び第2キャリア注入層34から機能層30へ注入する第2キャリアは正孔である。したがって、第1キャリア注入層31は、電子注入層であり、開口部41に設けられた第2キャリア注入層34は、ホール注入層である。なお、第1電極20が陽極を構成し、第2電極40が陰極を構成する場合には、例えば、第1キャリア注入層31としてホール注入層を、開口部41に設けられた第2キャリア注入層34として電子注入層を採用し、第1キャリア注入層31と発光層32との間にインターレイヤー33を設ければよい。上述の機能層30の構造は、図1の例に限らず、例えば、第1キャリア注入層31と発光層32との間に第1キャリア輸送層として電子輸送層を設けたり、開口部41に設けられた第2キャリア注入層34とインターレイヤー33との間に第2キャリア輸送層としてホール輸送層を設けたりした構造でもよい。また、機能層30は、少なくとも発光層32及びインターレイヤー33を含んでいればよくつまり、機能層30は、発光層32及びインターレイヤー33のみでもよく、発光層32及びインターレイヤー33以外の、第1キャリア注入層31、第1キャリア輸送層、第2キャリア輸送層などは適宜設ければよい。発光層32は、単層構造でも多層構造でもよい。例えば、所望の発光色が白色の場合には、発光層32中に赤色、緑色、青色の3種類のドーパント色素をドーピングするようにしてもよいし、青色正孔輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造を採用してもよいし、青色電子輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造を採用してもよい。発光層32の材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体など、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、色素体、金属錯体系発光材料を高分子化したものなどや、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス8-ヒドロキシキノリナートアルミニウム錯体、トリス4-メチル-8-キノリナートアルミニウム錯体、トリス5-フェニル-8-キノリナートアルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ-p-ターフェニル-4-イルアミン、ピラン、キナクリドン、ルブレン、及びこれらの誘導体、あるいは、1-アリール-2,5-ジ2-チエニルピロール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、スチリルアミン誘導体、及びこれらの発光性化合物からなる基を分子の一部分に有する化合物などが挙げられる。また、上記化合物に代表される蛍光色素由来の化合物のみならず、いわゆる燐光発光材料、例えばイリジウム錯体、オスミウム錯体、白金錯体、ユーロピウム錯体などの発光材料、又はそれらを分子内に有する化合物若しくは高分子も好適に用いることができる。これらの材料は、必要に応じて、適宜選択して用いることができる。発光層32は、塗布法例えば、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などのような湿式プロセスによって成膜することが好ましい。ただし、発光層32の成膜方法は、塗布法に限らず、例えば、真空蒸着法、転写法などの乾式プロセスによって発光層32を成膜してもよい。電子注入層の材料は、例えば、フッ化リチウムやフッ化マグネシウムなどの金属フッ化物、塩化ナトリウム、塩化マグネシウムなどに代表される金属塩化物などの金属ハロゲン化物や、チタン、亜鉛、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウムなどの酸化物、などを用いることができる。これらの材料の場合、電子注入層は、真空蒸着法により形成することができる。また、電子注入層の材料は、例えば、電子注入を促進させるドーパントアルカリ金属などを混合した有機半導体材料を用いることができる。このような材料の場合、電子注入層は、塗布法により形成することができる。また、電子輸送層の材料は、電子輸送性を有する化合物の群から選定することができる。この種の化合物としては、Alq3等の電子輸送性材料として知られる金属錯体や、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、テトラジン誘導体、オキサジアゾール誘導体などのヘテロ環を有する化合物などが挙げられるが、この限りではなく、一般に知られる任意の電子輸送材料を用いることが可能である。ホール輸送層の材料としては、LUMOLowestUnoccupiedMolecularOrbital準位が小さい低分子材料や高分子材料を用いることができる。例えば、ポリビニルカルバゾールPVCzや、ポリピリジン、ポリアニリンなどの側鎖や主鎖に芳香族アミンを有するポリアリーレン誘導体などの芳香族アミンを含むポリマーなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、ホール輸送層の材料としては、例えば、4,4’-ビス[N-ナフチル-N-フェニル-アミノ]ビフェニルα-NPD、N,N’-ビス3-メチルフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミンTPD、2-TNATA、4,4’,4-トリスN-3-メチルフェニルN-フェニルアミノトリフェニルアミンMTDATA、4,4’-N,N’-ジカルバゾールビフェニルCBP、スピロ-NPD、スピロ-TPD、スピロ-TAD、TNBなどを用いることが可能である。ホール注入層の材料としては、例えば、チオフェン、トリフェニルメタン、ヒドラゾリン、アミールアミン、ヒドラゾン、スチルベン、トリフェニルアミンなどを含む有機材料が挙げられる。具体的には、たとえば、ポリビニルカルバゾール、ポリエチレンジオキシチオフェン:ポリスチレンスルホネートPEDOT:PSS、TPDなどの芳香族アミン誘導体などで、これらの材料を単独で用いてもよいし、2種類以上の材料を組み合わせて用いてもよい。このようなホール注入層は、塗布法スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法などのような湿式プロセスによって成膜することができる。インターレイヤー33は、第1キャリア障壁ここでは、電子障壁としてのキャリアブロッキング機能ここでは、電子ブロッキング機能を有する。すなわち、キャリアブロッキング機能は、第1電極20から注入されたキャリアここでは、電子であり、以下、第1キャリアといい、後述の第2キャリアと区別するが発光層32を通過して第2電極40側へ漏れることを抑制する機能である。さらにインターレイヤー33は、第2電極40から注入された第2キャリアここでは、正孔を発光層32へ輸送する機能、発光層32の励起状態の消光を抑制する機能などを有していることが好ましい。本実施形態では、インターレイヤー33が、第1電極20から注入された第1キャリアの発光層32からの漏れを抑制するキャリアブロッキング層33を構成しているので、輝度むらを低減することが可能となる。なお、第1電極20が陰極、第2電極40が陽極である場合、インターレイヤー33は、第1電極20から注入された電子の発光層32からの漏れを抑制する電子ブロッキング層を構成することになる。逆に、第1電極20が陽極、第2電極40が陰極である場合、インターレイヤー33は、陽極である第1電極20から注入された正孔の発光層32からの漏れを抑制するホールブロッキング層を構成することになる。有機エレクトロルミネッセンス素子では、インターレイヤー33を設けることにより、発光効率の向上及び長寿命化を図ることが可能となる。インターレイヤー33の材料としては、例えば、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、トリフェニルジアミン誘導体などを用いることができる。このようなインターレイヤー33は、塗布法スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法などのような湿式プロセスによって成膜することができる。また、陰極は、機能層30中に第1電荷である電子第1キャリアを注入するための電極である。第1電極20が陰極の場合、陰極の材料としては、仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物からなる電極材料を用いることが好ましく、LUMOLowestUnoccupiedMolecularOrbital準位との差が大きくなりすぎないように仕事関数が1.9eV以上5eV以下のものを用いるのが好ましい。陰極の電極材料としては、例えば、アルミニウム、銀、マグネシウム、金、銅、クロム、モリブデン、パラジウム、錫など、及びこれらと他の金属との合金、例えばマグネシウム-銀混合物、マグネシウム-インジウム混合物、アルミニウム-リチウム合金を例として挙げることができる。また、金属、金属酸化物など、及びこれらと他の金属との混合物、例えば、酸化アルミニウムからなる極薄膜ここでは、トンネル注入により電子を流すことが可能な1nm以下の薄膜とアルミニウムからなる薄膜との積層膜なども使用可能である。陰極を反射電極とする場合、陰極の材料としては、発光層32から放射される光に対する反射率が高く、かつ抵抗率の低い金属が好ましく、アルミニウムや銀が好ましい。なお、第1電極20が、機能層30中に第2電荷であるホール第2キャリアを注入するための電極である陽極を構成する場合、第1電極20の材料としては、仕事関数の大きい金属を用いることが好ましく、HOMOHighestOccupiedMolecularOrbital準位との差が大きくなりすぎないように仕事関数が4eV以上6eV以下のものを用いるのが好ましい。第2電極40は、金属の粉末と有機バインダとを含む電極からなる。この種の金属としては、例えば、銀、金、銅などを採用することができる。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極40が、導電性透明酸化物により形成された薄膜の場合に比べて、第2電極40の抵抗率及びシート抵抗を小さくすることが可能となり、第2電極40の低抵抗化により輝度むらを低減することが可能となる。なお、第2電極40の導電性材料としては、金属の代わりに、合金や、カーボンブラックなどを用いることも可能である。第2電極40は、例えば、金属の粉末に有機バインダ及び有機溶剤を混合させたペースト印刷インクを、例えばスクリーン印刷法、グラビア印刷法などにより印刷して形成することができる。有機バインダとしては、例えば、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ジアクリルフタレート樹脂、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、その他の熱可塑性樹脂や、これらの樹脂を構成する単量体の2種以上の共重合体が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第1電極20の膜厚を80~200nm、第1キャリア注入層31の膜厚を5~50nm、発光層32の膜厚を60~100nm、インターレイヤー33の膜厚を15nm、第2キャリア注入層34の膜厚を10~100nmにそれぞれ設定してあるが、これらの数値は一例であって、特に限定するものではない。第2電極40は、図1及び図2に示すように、格子状網状に形成されており、複数図2に示した例では36個の開口部41を有している。ここで、図2に示した第2電極40は、各開口部41の各々の形状が正方形状である。要するに、図2に示した第2電極40は、正方格子状に形成されている。第2電極40は、第2電極40を構成している正方格子状の電極パターン40aの寸法に関して、例えば、線幅L1図3参照を1μm~100μm、高さH1図3参照を50nm~100μm、ピッチP1図3参照を100μm~2000μmとすればよい。ただし、第2電極40の電極パターン40aの線幅L1、高さH1及びピッチP1それぞれの数値範囲は、特に限定するものではなく、素子部1の平面サイズに基づいて適宜設定すればよい。ここにおいて、第2電極40の電極パターン40aの線幅L1については、発光層32で発光する光の利用効率の観点からは狭い方が好ましく、第2電極40の低抵抗化によって輝度むらを低減するという観点からは広い方が好ましいので、有機エレクトロルミネッセンス素子の平面サイズなどに基づいて適宜設定することが好ましい。また、第2電極40の高さH1については、第2電極40の低抵抗化の観点、第2電極40をスクリーン印刷法などの塗布法により形成する際の第2電極40の材料の使用効率材料使用効率の観点、機能層30から放射される光の放射角の観点などから、100nm以上10μm以下が、より好ましい。また、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第2電極40における各開口部41を、図1及び図3に示したように、機能層30から離れるにつれて開口面積が徐々に大きくなる開口形状としてある。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、機能層30から放射される光の広がり角を大きくすることが可能になり、輝度むらを、より低減することが可能となる。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極40での反射損失や吸収損失を低減することが可能となり、外部量子効率のより一層の向上を図ることが可能となる。第2電極40を格子状の形状とする場合、各開口部41の各々の形状は正方形状に限らず、例えば、長方形状や正三角形状や正六角形状の形状としてもよい。第2電極40は、各開口部41の各々の形状が正三角形状の場合、三角格子状の形状となり、各開口部41の各々の形状が正六角形状の場合、六角格子状の形状となる。なお、第2電極40は、格子状の形状に限らず、例えば、櫛形状の形状でもよいし、2つの櫛形状の電極パターンにより構成してもよい。また、第2電極40は、開口部41の数も特に限定するものではなく、複数に限らず、1つでもよい。例えば、第2電極40を櫛形状の形状としたり、2つの櫛形状の電極パターンにより構成した場合などは、開口部41の数を1つとすることが可能である。また、第2電極40は、例えば、図4に示すような平面形状としてもよい。すなわち、第2電極40は、平面視において、電極パターン40aにおける直線状の細線部44の線幅を一定として、第2電極40における周部から中心部に近づくにつれて隣り合う細線部44間の間隔が狭くなり開口部41の開口面積が小さくなる形状としてもよい。有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極40の平面形状を図4のような平面形状とすることにより、図2のような平面形状とした場合に比べて、第2電極40において第2端子部47図1参照からの距離が周部よりも遠い中央部での発光効率を向上させることが可能となり、外部量子効率の向上を図ることが可能となる。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極40の平面形状を図4のような形状とすることにより、図2のような平面形状とした場合に比べて、機能層30のうち第1端子部及び第2端子部47からの距離が近い周部での電流集中を抑制することが可能となるから、長寿命化を図ることが可能となる。また、第2電極40は、例えば、図5に示すような平面形状としてもよい。すなわち、第2電極40は、平面視において、第2電極40における最外周にある4つの第1細線部42の線幅と、図5において左右方向の中央にある1つの第2細線部43の線幅とを、第1細線部42と第2細線部43との間にある細線部第3細線部44よりも幅広としてある。有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極40を図5のような平面形状とすることにより、図2のような平面形状の場合に比べて、第2電極40において第2端子部47図1参照からの距離が周部よりも遠い中央部での発光効率を向上させることが可能となり、外部量子効率の向上を図ることが可能となる。なお、第2電極40は、図5のような平面形状とする場合、相対的に線幅の広い第1細線部42及び第2細線部43の高さを第3細線部44の高さよりも高くすることにより、第1細線部42及び第2細線部43それぞれの、より一層の低抵抗化を図ることが可能となる。また、導電性層50は、導電性ナノ構造体と透明媒体とを含む透明導電膜、あるいは、機能層30からの光を透過可能な厚みの金属薄膜、のいずれかにより構成することが好ましい。この導電性層50は、第2キャリア注入層34と共に、第2電極40から機能層30への第2キャリアの注入経路としての機能を有している。第2キャリアは、第2電極40が陽極の場合、正孔であり、第2電極40が陰極の場合、電子である。ここで、導電性層50も第2キャリア注入層34もない場合や、導電性層50及び第2キャリア注入層34の代わりに開口部41が電気絶縁性の封止部90の一部により埋め込まれている場合には、第2電極40から機能層30への第2キャリアの注入は、第2電極40と機能層30インターレイヤー33との接している界面のみを通して行われるものと推測される。これに対して、導電性層50及び第2キャリア注入層34を設けた場合には、第2電極40から機能層30への第2キャリアの注入は、第2電極40と機能層30インターレイヤー33との接している界面だけでなく、第2電極40と導電性層50及び第2キャリア注入層34との界面、導電性層50と第2キャリア注入層34との界面、第2キャリア注入層34と機能層30インターレイアー33との界面を通して行われることとなる。このように、効率良く第2キャリア正孔又は電子を各開口部41の周部から中央部に向かわせ、インターレイヤー33を介して発光層32へ注入し、第2電極40の直下に比べて開口部41の直下を優先的に発光させることが可能となり、結果的に外部量子効率の向上を図ることが可能となる。ここで、導電性層50及び第2キャリア注入層34の抵抗率が低いほど、第2電極40から横方向への通電性が向上し、発光層32に流れる電流の面内ばらつきを低減することが可能となり、輝度むらを低減することが可能となる。導電性ナノ構造体としては、導電性ナノ粒子や、導電性ナノワイヤなどを用いることができる。なお、導電性ナノ粒子の粒子径は1~100nmであることが好ましい。また、導電性ナノワイヤの直径は1~100nmであることが好ましい。導電性ナノ構造体の材料としては、例えば、銀、金、ITO、IZOなどを採用することができる。透明媒体であるバインダとしては、例えば、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ジアクリルフタレート樹脂、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、その他の熱可塑性樹脂や、これらの樹脂を構成する単量体の2種以上の共重合体が挙げられるが、これらに限定されるものではない。ただし、バインダとしては、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセチレン、ポリカルバゾールなどの導電性高分子を用いることが好ましい。これらは単独で用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。導電性層50は、バインダとして導電性高分子を採用することによって、導電性をより向上させることが可能となる。また、バインダとしては、導電性を高めるために、例えば、スルホン酸、ルイス酸、プロトン酸、アルカリ金属、アルカリ土類金属などのドーパントをドーピングしたものを採用してもよい。また、導電性層50を上述のように金属薄膜により構成する場合、金属薄膜の材料としては、例えば、銀、金などを採用することができる。この種の金属薄膜の厚みは、30nm以下であればよいが、光透過性の観点からは20nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましい。ただし、厚みが薄くなりすぎると、第2電極40から導電性層50を通る経路での機能層30へ第2キャリアの注入性を向上させる効果が低くなる。以上説明した本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第1電極20及び第2電極40それぞれの抵抗率が透明導電性酸化物の抵抗率よりも低い。また第2電極40が、機能層30からの光の取り出し用の開口部41を有し、開口部41には、第2電極40と機能層30とに接する第2キャリア注入層34と、第2電極40と第2キャリア注入層34とに接し、かつ光透過性を有する導電性層50が設けられている。よって、輝度むらの低減を図ることが可能で、かつキャリア第2キャリアの注入性を向上させることが可能となる。この有機エレクトロルミネッセンス素子においては、導電性層50が、第2電極40を覆っていることが好ましい。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子では、第2電極40から機能層30へのキャリアの注入性をより向上させることが可能となる。また、この有機エレクトロルミネッセンス素子においては、第2電極40の開口部41における導電性層50の高さが、第2電極40の高さH1よりも低いことが好ましい。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子では、導電性層50内での光損失を低減することが可能となり、外部量子効率の向上を図ることが可能となる。本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、例えば、照明用の有機エレクトロルミネッセンス素子として好適に用いることができるが、照明用に限らず、他の用途に用いることも可能である。"