レーザ装置と共に用いられ、外部装置に極端紫外光を供給するよう接続される極端紫外光生成装置であって、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記チャンバに接続される排気ポンプと、前記チャンバ内に配置される少なくとも1つの光学要素と、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内で前記ターゲット物質が前記レーザ光に照射される際に放出されて前記少なくとも1つの光学要素に付着した前記ターゲット物質のデブリをエッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部と、前記少なくとも1つの光学要素の温度を制御するための少なくとも1つの温度調節機構と、を備える、極端紫外光生成装置。前記ターゲット物質は錫である、請求項1記載の極端紫外光生成装置。前記エッチングガスはH2ガスである、請求項1記載の極端紫外光生成装置。前記エッチングガスはHラジカルガスである、請求項1記載の極端紫外光生成装置。前記エッチングガス導入部には、前記少なくとも1つの光学要素の表面に向けられた少なくとも1つの開口が設けられる、請求項1記載の極端紫外光生成装置。前記少なくとも1つの温度調節機構は、前記少なくとも1つの光学要素に接続される第1の温度調節機構を含み、前記第1の温度調節機構は、前記少なくとも1つの光学要素に設けられる温度調節素子と、該温度調節素子に接続され該温度調節素子に電流を供給する電源と、前記少なくとも1つの光学要素の温度を検出する温度センサと、該温度センサが検出した温度に基づいて前記電源から前記温度調節素子に供給される電流を制御することで前記光学要素の温度を制御する温度コントローラと、を含む、請求項1記載の極端紫外光生成装置。前記第1の温度調節機構は、熱媒体と、該熱媒体の温度を調節して流出させる温度調節部と、該温度調節部から流出した温度調節された前記熱媒体を前記光学要素に導く流路と、をさらに含む、請求項6記載の極端紫外光生成装置。前記温度調節素子はペルチェ素子である、請求項6記載の極端紫外光生成装置。前記第1の温度調節機構は、前記少なくとも1つの光学要素の温度を第1の所定の温度範囲内に維持する、請求項6記載の極端紫外光生成装置。前記第1の所定の温度範囲は、前記デブリと前記エッチングガスとが反応して気体反応生成物が発生する反応速度が、前記気体反応生成物が分解されて前記デブリが析出する反応速度よりも大きくなる温度範囲である、請求項9記載の極端紫外光生成装置。前記チャンバ内に配置され、前記気体反応生成物から前記デブリを析出させてトラップするための少なくとも1つのトラップ部をさらに備える、請求項1記載の極端紫外光生成装置。前記少なくとも1つの光学要素は、前記チャンバ内の前記所定の領域で前記ターゲット物質が前記レーザ光に照射されて放射される極端紫外光を集光するための集光ミラーを含み、前記少なくとも1つのトラップ部は、前記チャンバ内の前記所定の領域と前記集光ミラーの反射面との間に配置される第1のトラップ部を含む、請求項11記載の極端紫外光生成装置。前記第1のトラップ部は、該第1のトラップ部の温度を検出する温度センサと、該第1のトラップ部を加熱するヒータと、前記ヒータに電流を供給する電源と、前記温度センサが検出した温度に基づいて前記電源から前記ヒータに供給される電流を制御する温度コントローラと、を含み、前記第1のトラップ部には、前記極端紫外光を通過させるための貫通孔が設けられる、請求項12記載の極端紫外光生成装置。前記温度コントローラは、前記第1のトラップ部が、前記デブリと前記エッチングガスとが反応して前記気体反応生成物が発生する反応速度が、前記気体反応生成物が分解されて前記デブリが析出する反応速度よりも小さくなる温度範囲であって、前記デブリの融点未満の温度範囲内に維持されるように前記ヒータに供給される電流を制御する、請求項13記載の極端紫外光生成装置。前記温度コントローラは、前記第1のトラップ部が、前記デブリと前記エッチングガスとが反応して前記気体反応生成物が発生する反応速度が、前記気体反応生成物が分解されて前記デブリが析出する反応速度よりも小さくなる温度範囲であって、前記デブリの融点以上沸点未満の温度範囲に維持されるように前記ヒータに供給される電流を制御し、前記第1のトラップ部は、該第1のトラップ部表面で溶融した前記デブリを回収するための回収部をさらに備える、請求項13記載の極端紫外光生成装置。前記少なくとも1つのトラップ部は、前記チャンバ内の該チャンバと前記外部装置との接続部分近傍に配置される第2のトラップ部を含む、請求項11記載の極端紫外光生成装置。前記第2のトラップ部は、該第2のトラップ部の温度を検出する温度センサと、該第2のトラップ部を加熱するヒータと、前記ヒータに電流を供給する電源と、前記温度センサが検出した温度に基づいて前記電源から前記ヒータに供給される電流を制御する温度コントローラと、を含み、前記第2のトラップ部には、前記極端紫外光を通過させるための貫通孔が設けられる、請求項16記載の極端紫外光生成装置。前記温度コントローラは、前記第2のトラップ部が、前記デブリと前記エッチングガスとが反応して前記気体反応生成物が発生する反応速度が、前記気体反応生成物が分解されて前記デブリが析出する反応速度よりも小さくなる温度範囲であって、前記デブリの融点未満の温度範囲内に維持されるように前記ヒータに供給される電流を制御する、請求項17記載の極端紫外光生成装置。前記温度コントローラは、前記第2のトラップ部が、前記デブリと前記エッチングガスとが反応して前記気体反応生成物が発生する反応速度が、前記気体反応生成物が分解されて前記デブリが析出する反応速度よりも小さくなる温度範囲であって、前記デブリの融点以上沸点未満の温度範囲に維持されるように前記ヒータに供給される電流を制御し、前記第2のトラップ部は、該第2のトラップ部表面で溶融した前記デブリを回収するための回収部をさらに備える、請求項17記載の極端紫外光生成装置。前記少なくとも1つのトラップ部は、前記チャンバ内の該チャンバと前記排気ポンプとの接続部分近傍に配置される第3のトラップ部を含む、請求項11記載の極端紫外光生成装置。前記第3のトラップ部は、該第3のトラップ部の温度を検出する温度センサと、該第3のトラップ部を加熱するヒータと、前記ヒータに電流を供給する電源と、前記温度センサが検出した温度に基づいて前記電源から前記ヒータに供給される電流を制御する温度コントローラと、を含み前記第3のトラップ部は、通気性を有するよう構成される、請求項20記載の極端紫外光生成装置。前記温度コントローラは、前記第3のトラップ部が、前記デブリと前記エッチングガスとが反応して前記気体反応生成物が発生する反応速度が、前記気体反応生成物が分解されて前記デブリが析出する反応速度よりも小さくなる温度範囲であって、前記デブリの融点未満の温度範囲内に維持されるように前記ヒータに供給される電流を制御する、請求項21記載の極端紫外光生成装置。前記温度コントローラは、前記第3のトラップ部が、前記デブリと前記エッチングガスとが反応して前記気体反応生成物が発生する反応速度が、前記気体反応生成物が分解されて前記デブリが析出する反応速度よりも小さくなる温度範囲であって、前記デブリの融点以上沸点未満の温度範囲に維持されるように前記ヒータに供給される電流を制御し、前記第3のトラップ部は、該第3のトラップ部表面で溶融した前記デブリを回収するための回収部をさらに備える、請求項21記載の極端紫外光生成装置。前記少なくとも1つのトラップ部は、前記チャンバ内に配置される少なくとも1つの第4のトラップ部を含む、請求項11記載の極端紫外光生成装置。前記第4のトラップ部は、該第4のトラップ部の温度を検出する温度センサと、該第4のトラップ部を加熱するヒータと、前記ヒータに電流を供給する電源と、前記温度センサが検出した温度に基づいて前記電源から前記ヒータに供給される電流を制御する温度コントローラと、を含む、請求項24記載の極端紫外光生成装置。前記温度コントローラは、前記第4のトラップ部が、前記デブリと前記エッチングガスとが反応して前記気体反応生成物が発生する反応速度が、前記気体反応生成物が分解されて前記デブリが析出する反応速度よりも小さくなる温度範囲であって、前記デブリの融点未満の温度範囲内に維持されるように前記ヒータに供給される電流を制御する、請求項25記載の極端紫外光生成装置。前記温度コントローラは、前記第4のトラップ部が、前記デブリと前記エッチングガスとが反応して前記気体反応生成物が発生する反応速度が、前記気体反応生成物が分解されて前記デブリが析出する反応速度よりも小さくなる温度範囲であって、前記デブリの融点以上沸点未満の温度範囲に維持されるように前記ヒータに供給される電流を制御し、前記第4のトラップ部は、該第4のトラップ部表面で溶融した前記デブリを回収するための回収部をさらに備える、請求項25記載の極端紫外光生成装置。レーザ装置と共に用いられ、外部装置に極端紫外光を供給するよう接続される極端紫外光生成装置であって、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記チャンバに接続される排気ポンプと、前記ターゲット物質のプラズマから放射した極端紫外光を反射する集光ミラーと、前記集光ミラーの反射面に対向したガスの吹出し口を備え、吹出し口からガスを供給するガス供給部と、を備える、極端紫外光生成装置。前記ガス供給部は、前記集光ミラーの反射面の外周の少なくとも一部に沿って配設された配管を含み、前記配管は、前記反射面に向けて開口する前記ガスの前記吹出し口を備える、請求項28記載の極端紫外光生成装置。前記吹出し口は、1つ以上の開口またはスリットである、請求項29記載の極端紫外光生成装置。前記ガス供給部は、前記反射面の中心を通る中心線上に、該反射面に沿って歪曲して配設された配管を含み、前記配管は、1つ以上の開口またはスリットよりなる吹出し口を備える、請求項28記載の極端紫外光生成装置。前記ガス供給部は、前記反射面の中心部に、該中心部を囲むように配設されたリング状の配管を含み、前記配管は、前記反射面の中央部から該反射面の外周側へ向けて開口する前記ガスの吹出し口を備える、請求項28記載の極端紫外光生成装置。前記吹出し口は、1つ以上の開口またはスリットである、請求項32記載の極端紫外光生成装置。前記ガス供給部は、前記反射面の中央部から該反射面の外周へ向けて延在し、該反射面に沿って歪曲して配設された1つ以上の配管を含み、各配管は、1つ以上の開口またはスリットよりなる吹出し口を備える、請求項28記載の極端紫外光生成装置。前記ガス供給部は、前記反射面の中央部に配設された配管を含み、前記配管は、前記反射面に向けて開口するリングスリット状の吹出し口を備える、請求項28記載の極端紫外光生成装置。前記ガス供給部は、前記反射面の中央部に配設された第1配管と、該反射面の外周の少なくとも一部に沿って配設された第2配管とを含み、前記第1配管は、前記反射面に向けて開口するリングスリット状の吹出し口を備え、前記第2配管は、前記反射面に向けて開口する前記ガスの吹出し口を備える、請求項28記載の極端紫外光生成装置。前記第2配管の吹出し口は、1つ以上の開口またはスリットである、請求項36記載の極端紫外光生成装置。前記ターゲット物質は錫である、請求項28記載の極端紫外光生成装置。前記ガスはH2を含むガスである、請求項38記載の極端紫外光生成装置。前記ガスはHラジカルを含むガスである、請求項38記載の極端紫外光生成装置。