"電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層を有する調光シートであって、前記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式1で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有することを特徴とする調光シート。一般式1中、R1、R2は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。紫外線吸収剤の含有量は、ポリビニルアセタール樹脂100重量部に対して0.05~10重量部であることを特徴とする請求項1記載の調光シート。電解質層は、バインダー樹脂100重量部に対して支持電解質塩3~60重量部、溶媒30~150重量部を含有し、前記バインダー樹脂は、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項1又は2記載の調光シート。エレクトロクロミック化合物は、芳香環を側鎖に有するポリアセチレン化合物であることを特徴とする請求項1、2又は3記載の調光シート。エレクトロクロミック化合物は、プルシアンブルー型錯体であることを特徴とする請求項1、2又は3記載の調光シート。請求項1、2、3、4又は5記載の調光シートが、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれていることを特徴とする調光体。請求項1、2、3、4又は5記載の調光シートを用いることを特徴とする合わせガラス用中間膜。バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式1で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有することを特徴とする電解質膜。一般式1中、R1、R2は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。請求項7記載の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれていることを特徴とする合わせガラス。従来公知の調光シートを合わせガラス用中間膜として用いた場合、長期間野外で用いる等、長期に渡って紫外線照射を受けたときに合わせガラス用中間膜が変色してしまうという問題があった。これに対して、紫外線吸収剤を調光シートに用いることが試みられた。しかしながら、調光シートに紫外線吸収剤を用いると、紫外線照射による黄変や退色を充分には防止しきれないことを見出した。さらに、紫外線吸収剤が黄変を引き起こす原因であることも見出した。本発明は、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シート、該調光シートを用いてなる調光体、合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することを目的とする。本発明は、電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層を有する調光シートであって、前記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式1で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する調光シートである。一般式1中、R1、R2は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。なお、R1とR2とは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。以下に本発明を詳述する。本発明者は、鋭意検討の結果、紫外線吸収剤を電解質層に配合した場合に、電解質層に含まれる支持電解質塩と紫外線吸収剤とが相互作用することが、黄変の原因であり、紫外線照射による変色や退色を充分には防止できないことの原因であることを見出した。即ち、電解質層がハロゲン原子を含む紫外線吸収剤を含有する場合には、電解質層中の支持電解質塩に由来するカチオンやアニオンと、紫外線吸収剤のハロゲン原子との化学的な反応や相互作用が生じるため、電解質層が黄変すると考えられる。そして本発明者は、更に鋭意検討の結果、上記一般式1で表される、ハロゲン原子を含まないベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を選択して用いた場合には、黄変が発生しにくく、かつ、紫外線照射による黄変や退色を充分に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明の調光シートは、電解質層と、該電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層とを有する。上記電解質層は、イオンを伝導することにより上記エレクトロクロミック層に電圧を印加し、エレクトロクロミック層の光の透過率を変化させる役割を有する。上記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、上記一般式1で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する。上記電解質層が特定の紫外線吸収剤を含有することにより、本発明の調光シートは、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れる。上記一般式1で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤は、例えば、2-2hydroxy-5-tert-butylphenyl-2H-benzotriazoleBASF社製、T-PS、2-3,5-Di-tert-amyl-2-hydroxyphenyl-2H-benzotriazoleBASF社製、T-328、2-[2-Hydroxy-3,5-bisα,α-dimethylbenzylphenyl]-2H-benzotriazoleBASF社製、T-234、2-2hydroxy-5-methylphenyl-2H-benzotriazoleBASF社製、T-P、2-[2-Hydroxy-5-tert-octylphenyl]-2H-benzotriazoleBASF社製、T-329、2-[2-Hydroxy-3,5-bisα,α-dimethylbenzylphenyl]-2H-benzotriazoleBASF社製、T-900等が挙げられる。上記電解質層中における上記一般式1で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂100重量部に対する好ましい下限は0.05重量部、好ましい上限は10重量部である。上記紫外線吸収剤の配合量が0.05重量部以上であると、得られる調光シートの耐光性がより高くなり、長期の紫外線照射による黄変や退色をより一層防止することができる。上記紫外線吸収剤の配合量が10重量部以下であると、得られる調光シートの透明性が高くなる。上記紫外線吸収剤の配合量のより好ましい下限は0.1重量部、更に好ましい下限は0.5重量部、より好ましい上限は5重量部、更に好ましい上限は2重量部である。上記一般式1中、R1、R2は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。上記アルキル基の炭素数の好ましい下限は1であり、好ましい上限は10である。上記アルキル基は分岐構造を有するアルキル基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基であってもよい。上記アルキル基の炭素数のより好ましい下限は2、更に好ましい下限は3、特に好ましい下限は4、より好ましい上限は9、更に好ましい上限は8、特に好ましい上限は7である。上記アルキル基の炭素鎖は直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れることから、上記アルキル基の炭素鎖は分岐構造を有することが好ましい。上記アルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、i-ペンチル基、sec-ペンチル基、n-ヘキシル基、i-ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。上記シクロアルキル基は未置換であってもよく、1以上の基で置換されていてもよい。上記シクロアルキル基の環構造を形成する炭素数のより好ましい下限は3であり、更に好ましい下限は5、特に好ましい下限は6であり、より好ましい上限は12であり、更に好ましい上限は10、特に好ましい上限は8である。上記シクロアルキル基は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等が挙げられる。上記アリール基の炭素数の好ましい下限は6であり、好ましい上限は14である。上記アリール基は、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、α,α-ジメチルベンジルフェニル基等が挙げられる。上記アラルキル基の炭素数の好ましい下限は7であり、好ましい上限は11である。上記アラルキル基は、ベンジル基、1-フェニルエチル基、2-フェニルエチル基、1-フェニルプロピル基、2-フェニルプロピル基、3-フェニルプロピル基、1-ナフチルメチル基、2-ナフチルメチル基等が挙げられる。即ち、上記一般式1中、R1は、炭素数が1~10のアルキル基、環を形成する炭素数が3~12のシクロアルキル基、炭素数が6~14のアリール基、又は炭素数が7~11のアラルキル基であることが好ましく、R2は炭素数が1~10のアルキル基、環を形成する炭素数が3~12のシクロアルキル基、炭素数が6~14のアリール基、又は炭素数が7~11のアラルキル基を表すことが好ましい。なお、R1とR2とは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。上記電解質層は、更に、下記一般式2で表される化合物又は下記一般式3で表される化合物を含有することが好ましい。上記電解質層に上記特定の構造を有する化合物を添加することにより、更に応答性が高く、電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体が得られる。一般式2中、n=2~4の整数を表し、R3は水素原子、炭素数1~7の有機基を有するアシル基又は炭素数1~8の有機基を表し、R4はエチレン基又はプロピレン基を表し、R5は水素原子、炭素数1~7の有機基を有するアシル基又は炭素数1~8の有機基を表し、少なくともR4又はR6の何れかはアシル基を有する。一般式3中、R6は炭素数2~8であり、酸素原子を有する有機基を表し、R7は炭素数2~8のアルキレン基又は炭素数6~12のアリーレン基を表し、R8は炭素数2~8であり、酸素原子を有する有機基を表す。R6及びR8は同一であってもよく、異なっていてもよい。上記一般式2で表される化合物又は上記一般式3で表される化合物は、単独で用いてもよく、併用してもよい。なかでも、耐久性が向上し、かつ、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、上記一般式2で表される化合物を含有することが好ましい。上記一般式2中、R3は水素原子、炭素数1~7の有機基を有するアシル基又は炭素数1~8の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、R3は炭素数1~7の有機基を有するアシル基又は炭素数1~8の有機基であることが好ましく、炭素数1~7の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数1~7のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。上記一般式2中のR3を表す炭素数1~7の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は2、好ましい上限は6である。上記炭素数が2以上であると、電解質層の耐久性が向上し、6以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は3、より好ましい上限は5であり、更に好ましい上限は4である。上記炭素数1~7の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は3以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましく、1以下であることが更に好ましい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数1~7の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数1~7の有機基を有するアシル基は、炭素数1~7であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数1~7であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数1~7の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数1~7の有機基を有するアシル基は、炭素数1~7であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数1~7であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数1~7であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が3以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数1~7であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が2以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数1~7であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が1以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。なお、上記炭素数1~7の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が1~7であることを意味し、上記炭素数1~7のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が1~7であることを意味する。上記一般式2中のR3が炭素数1~8の有機基である場合、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、上記炭素数1~8の有機基は炭素数1~8のアルキル基であることが好ましい。上記一般式2中のR3を表す炭素数1~8の有機基における炭素数の好ましい下限は2、好ましい上限は7である。上記炭素数が2以上であると、電解質層の耐久性が向上し、7以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は3、より好ましい上限は6であり、更に好ましい下限は4、更に好ましい上限は5である。上記炭素数1~8の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は3以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましく、1以下であることが更に好ましい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数1~8の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数1~8の有機基は、炭素数1~8であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基であることが好ましい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数1~8の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数1~8の有機基は、炭素数1~8であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましく、炭素数1~8であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が3以下であるアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~8であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が2以下であるアルキル基であることが更に好ましく、炭素数1~8であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が1以下であるアルキル基であることが特に好ましい。上記一般式2中、R4はエチレン基又はプロピレン基を表す。上記プロピレン基はn-プロピレン基であってもよく、イソプロピレン基であってもよい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、R4はエチレン基であることが好ましい。上記一般式2中、R5は水素原子、炭素数1~7の有機基を有するアシル基又は炭素数1~8の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、R5は炭素数1~7の有機基を有するアシル基又は炭素数1~8の有機基であることが好ましく、炭素数1~7の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数1~7のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。上記一般式2中のR5を表す炭素数1~7の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は2、好ましい上限は6である。上記炭素数が2以上であると、電解質層の耐久性が向上し、6以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は3、より好ましい上限は5であり、更に好ましい上限は4である。上記炭素数1~7の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は3以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましく、1以下であることが更に好ましい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数1~7の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数1~7の有機基を有するアシル基は、炭素数1~7であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数1~7であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数1~7の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数1~7の有機基を有するアシル基は、炭素数1~7であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数1~7であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数1~7であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が3以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数1~7であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が2以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数1~7であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が1以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。なお、上記炭素数1~7の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が1~7であることを意味し、上記炭素数1~7のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が1~7であることを意味する。上記一般式2において、少なくともR3又はR5の何れかはアシル基を有する。これにより、上記バインダー樹脂との高い相溶性が得られる。なかでも、R3は炭素数1~7のアルキル基を有するアシル基を表し、R4はエチレン基又はプロピレン基を表し、R5は炭素数1~7のアルキル基を有するアシル基を表すことがより好ましい。上記一般式2で表される化合物の具体例を下記式2-1~2-28に示す。上記一般式3中、R6は炭素数2~8であり、酸素原子を有する有機基を表す。上記一般式3中のR6を表す炭素数2~8であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は3、好ましい上限は7である。上記炭素数が3以上であると、電解質層の耐久性が向上し、7以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は4、より好ましい上限は6である。上記一般式3中、R7は炭素数2~8のアルキレン基又は炭素数6~12のアリーレン基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性が更に向上することから、R7は炭素数2~8のアルキレン基であることが好ましい。上記一般式3中のR7を表す炭素数2~8のアルキレン基の炭素数の好ましい下限は3、好ましい上限は7である。上記炭素数が3~7であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は4、より好ましい上限は6である。上記一般式3中のR7を表す炭素数6~12のアリーレン基の炭素数の好ましい上限は10である。上記炭素数が10以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい上限は8である。上記一般式3中、R8は炭素数2~8であり、酸素原子を有する有機基を表す。上記一般式3中のR8を表す炭素数2~8であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は3、好ましい上限は7である。上記炭素数が3以上であると、電解質層の耐久性が向上し、7以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は4、より好ましい上限は6である。上記一般式3で表される化合物の具体例を下記式3-1に示す。上記バインダー樹脂は特に限定されないが、熱可塑性樹脂であることが好ましい。上記熱可塑性樹脂は、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン-六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体が好ましく、透明性が高い電解質層が得られることからポリビニルアセタール樹脂がより好ましく、ポリビニルブチラール樹脂であることが更に好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が15mol以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル基量が15molを超えると、電解質層が白化することがある。上記ポリビニルアセタール樹脂は水酸基量が30mol以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が30molを超えると、上記溶媒との相溶性が低下し、電解質層の透明性が低下することがある。なお、上記アセチル基量及び上記水酸基量はJISK6728に準拠して、滴定法により求めることができる。上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数4又は5のアルデヒドであることが好ましい。上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は500、好ましい上限は5000である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が500以上であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が5000以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、GPC法ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算により求めた上記ポリビニルアルコールの重量平均分子量をポリビニルアルコール1セグメント当りの分子量で除して求められる。GPC法によってポリスチレン換算による重量平均分子量を測定する際のカラムとしては、例えば、ShodexLF-804昭和電工社製等が挙げられる。上記電解質層が上記一般式2で表される化合物又は上記一般式3で表される化合物を含有する場合には、上記一般式2で表される化合物及び上記一般式3で表される化合物が上記電解質層から析出することを防止できることから、上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が5モル以上であるポリビニルアセタール樹脂以下、ポリビニルアセタール樹脂Aともいう。、アセタール化度が70~85モルであるポリビニルアセタール樹脂以下、ポリビニルアセタール樹脂Bともいう。、又は、炭素数が6以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られるポリビニルアセタール樹脂以下、ポリビニルアセタール樹脂Cともいう。であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂Aのアセチル基量の好ましい下限は6モル、好ましい上限は30モルである。上記アセチル基量が6モル以上であると、上記一般式2で表される化合物及び上記一般式3で表される化合物が上記電解質層から析出することをより一層防止することができる。上記アセチル基量が30モル以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Aの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は8モル、より好ましい上限は28モルであり、更に好ましい下限は10モル、更に好ましい上限は25モルであり、特に好ましい下限は12モル、特に好ましい上限は23モルである。上記ポリビニルアセタール樹脂Aは、アセタール化度の好ましい下限が50モル、好ましい上限が80モルである。上記アセタール化度が50モル以上であると、上記一般式2で表される化合物及び上記式3で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が80モル以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Aの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は55モル、より好ましい上限は78モルであり、更に好ましい下限は60モル、更に好ましい上限は76モルであり、特に好ましい下限は65モル、特に好ましい上限は74モルである。上記ポリビニルアセタール樹脂Aは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂Bのアセタール化度の好ましい下限は71モル、好ましい上限は84モルである。上記アセタール化度が71モル以上であると、上記一般式2で表される化合物及び上記一般式3で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が84モル以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Bの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は72モル、より好ましい上限は83モルであり、更に好ましい下限は73モル、更に好ましい上限は82モルであり、特に好ましい下限は74モル、特に好ましい上限は81モルである。上記ポリビニルアセタール樹脂Bは、アセチル基量の好ましい下限が0.1モル、好ましい上限が20モルである。上記アセチル基量が0.1モル以上であると、上記一般式2で表される化合物及び上記一般式3で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセチル基量が20モル以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Bの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は0.5モル、より好ましい上限は15モルであり、更に好ましい下限は0.8モル、更に好ましい上限は8モルであり、特に好ましい下限は1モル、特に好ましい上限は7モルである。上記ポリビニルアセタール樹脂Bは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂A及びポリビニルアセタール樹脂Bは、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数1~10のアルデヒドであることが好ましく、炭素数4又は5のアルデヒドであることがより好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂Cは、炭素数が6以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られる。上記炭素数が6以上のアルデヒドは特に限定されないが、例えば、n-ヘキシルアルデヒド、n-オクチルアルデヒド、n-ノニルアルデヒド、又は、n-デシルアルデヒド等が挙げられる。上記ポリビニルアセタール樹脂Cは、アセタール化度の好ましい下限が50モル、好ましい上限が80モルである。上記アセタール化度が50モル以上であると、上記一般式2で表される化合物及び上記一般式3で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が80モル以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Cの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は55モル、より好ましい上限が78モルであり、更に好ましい下限は60モル、更に好ましい上限は76モルであり、特に好ましい下限は65モル、特に好ましい上限は74モルである。上記支持電解質塩は特に限定されず、リチウム塩、カリウム塩又はナトリウム塩等のアルカリ金属塩であることが好ましい。上記アルカリ金属塩は、無機酸とアルカリ金属の塩又は有機酸とアルカリ金属の塩であることが好ましい。例えば、上記無機酸とアルカリ金属の塩として、無機酸アニオンリチウム塩、無機酸アニオンカリウム塩、又は、無機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられ、上記有機酸とアルカリ金属の塩として、有機酸アニオンリチウム塩、有機酸アニオンカリウム塩、又は、有機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられる。なかでも、上記支持電解質塩はリチウム塩であることが好ましく、過塩素酸リチウム、ホウフッ化リチウム、リンフッ化リチウム等の無機酸アニオンリチウム塩、又は、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドリチウム等の有機酸アニオンリチウム塩であることがより好ましい。上記支持電解質塩は、アンモニウムカチオンと、アニオンとの塩であってもよい。上記アンモニウムカチオンは特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウム、メチルプロピルピロリジニウム、メチルブチルピロリジニウム、メチルプロピルピペリジニウム、メチルブチルピペリジニウム等のアルキルアンモニウムカチオンや、エチルメチルイミダゾリウム、ジメチルエチルイミダゾリウム、メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、プロピルピリジニウム、ブチルピリジニウム等が挙げられる。上記アニオンは特に限定されず、過塩素酸アニオン、ホウフッ化アニオン、リンフッ化アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドアニオン等が挙げられる。上記電解質層中における上記支持電解質塩の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂100重量部に対する好ましい下限は3重量部、好ましい上限は60重量部である。上記支持電解質塩の配合量が3~60重量部であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記支持電解質塩の配合量のより好ましい下限は10重量部、更に好ましい下限は20重量部であり、より好ましい上限は50重量部、更に好ましい上限は40重量部である。上記溶媒は特に限定されず、例えば、アセトニトリル、ニトロメタン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、γ-ブチロラクトン等のエステル類や、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン等の置換テトラヒドロフラン類や、1,3-ジオキソラン、4,4-ジメチル-1,3-ジオキソラン、t-ブチルエーテル、イソブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、1,2-エトキシメトキシエタン等のエーテル類や、エチレングリコール、ポリエチレングリコールスルホラン、3-メチルスルホラン、蟻酸メチル、酢酸メチル、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。上記溶媒は、可塑剤であってもよい。可塑剤を上記溶媒として用いることにより、上記電解質層に柔軟性を付与することができる。上記可塑剤は特に限定されず、例えば、トリエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート3GO、トリエチレングリコールジ-2-エチルブチレート3GH、テトラエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート4GO、ジヘキシルアジペートDHA等が挙げられる。上記電解質層中における溶媒の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂100重量部に対する好ましい下限は30重量部、好ましい上限は150重量部である。上記溶媒の配合量が30重量部以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記溶媒の配合量が150重量部以下であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記溶媒の配合量のより好ましい下限は50重量部、より好ましい上限は100重量部である。上記電解質層は熱線吸収剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、赤外線を遮蔽する性能を有すれば特に限定されないが、錫ドープ酸化インジウム微粒子、アンチモンドープ酸化錫微粒子、亜鉛以外の元素がドープされた酸化亜鉛微粒子、六ホウ化ランタン微粒子、アンチモン酸亜鉛微粒子、及び、フタロシアニン構造を有する赤外線吸収剤からなる群より選択される少なくとも1種が好適である。上記電解質層は接着力調整剤を含有してもよい。上記接着力調整剤は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等が挙げられる。なかでも、炭素数2~16のカルボン酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩が好適であり、具体的には例えば、酢酸マグネシウム、酢酸カリウム、プロピオン酸マグネシウム、プロピオン酸カリウム、2-エチルブタン酸マグネシウム、2-エチルブタン酸カリウム、2-エチルヘキサン酸マグネシウム、2-エチルヘキサン酸カリウム等が挙げられる。これらの接着力調整剤は単独で用いられてもよく、併用されてもよい。電解質層にバインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂を含有する場合、電解質層は接着力調整剤を含有することが好ましい。上記電解質層は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。上記電解質層が多層構造であるとは、上記電解質層が2層以上積層された構造であることを意味する。上記電解質層が多層構造である場合、例えば、上記溶媒として可塑剤の含有量の異なる電解質層を積層したり、上記バインダー樹脂として水酸基量の異なるポリビニルアセタール樹脂を含有する電解質層を積層したりすることにより、得られる調光体及び合わせガラスの遮音性等を向上させることができる。上記電解質層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は0.1mm、好ましい上限は3.0mmである。上記電解質層の厚さが0.1mm以上であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加することにより光の透過率が容易に変化させることができ、3.0mm以下であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加した場合の光の透過率の変化速度を高くすることができる。上記電解質層の厚さのより好ましい下限は0.3mm、より好ましい上限は1.0mmである。上記電解質層を形成する方法は特に限定されず、例えば、上記溶媒に上記支持電解質塩を溶解した溶液を調製し、得られた溶液を上記バインダー樹脂と混合した後、該混合物を熱プレス等の方法により電解質層を形成する方法や、該混合物を押出機により押出成形し電解質層を形成する方法等が挙げられる。上記エレクトロクロミック層に含有されるエレクトロクロミック化合物は、エレクトロクロミック性を有する化合物であれば特に限定されず、無機化合物であってもよく、有機化合物であってもよく、混合原子価錯体であってもよく、ハロゲン化フタロシアニンでもよい。なお、エレクトロクロミック性を有するとは、電圧を印加することにより光の透過率が変化する性質を有することを意味する。上記エレクトロクロミック性を有する無機化合物は、例えば、Mo2O3、Ir2O3、NiO、V2O5、WO3等が挙げられる。上記エレクトロクロミック性を有する有機化合物は、例えば、ポリピロール化合物、ポリチオフェン化合物、ポリパラフェニレンビニレン化合物、ポリアニリン化合物、ポリアセチレン化合物、ポリエチレンジオキシチオフェン化合物、金属フタロシアニン化合物、ビオロゲン化合物、ビオロゲン塩化合物、フェロセン化合物、テレフタル酸ジメチル化合物、テレフタル化合物、ジエチル化合物等が挙げられる。なかでも、ポリアセチレン化合物が好ましく、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物がより好ましい。上記エレクトロクロミック性を有する混合原子価錯体は、例えばプルシアンブルー型錯体KFe[FeCN6]等が挙げられる。上記ハロゲン化フタロシアニンは特に限定されないが、金属原子を含有することが好ましく、銅、コバルト、ニッケル、鉄、ベリリウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、白金、パラジウム、鉛、ビスマス、ケイ素等の金属原子や酸素や塩素等の軸配位子を持つバナジウムやチタン等の金属原子を含有することがより好ましく、銅を含有することが更に好ましい。上記ハロゲン化フタロシアニンが金属原子を含有することにより、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短く、耐光性に優れるエレクトロクロミック調光素子が得られる。上記ハロゲン化フタロシアニンの中心金属として、上記金属原子を含有することが好ましく、上記銅を含有することがより好ましい。また、上記ハロゲン化フタロシアニンは、フッ素化フタロシアニン、塩素化フタロシアニン又は臭素化フタロシアニンであることが好ましく、銅を含有するフッ素化フタロシアニン、銅を含有する塩素化フタロシアニン又は銅を含有する臭素化フタロシアニンであることがより好ましい。上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、エレクトロクロミック性と導電性とを有し、かつ、エレクトロクロミック層の形成が容易である。従って、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物を用いれば、優れた調光性能を有するエレクトロクロミック層を容易に形成できる。また、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、構造が変化することにより、吸収特性の変化を示す。その結果、吸収スペクトルが近赤外線の波長領域に及ぶため、エレクトロクロミック層は広い波長領域について優れた調光性能を有する。上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は特に限定されないが、例えば、一置換又は二置換の芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物等が好適である。上記芳香族側鎖を構成する置換基は特に限定されないが、例えば、フェニル、p-フルオロフェニル、p-クロロフェニル、p-ブロモフェニル、p-ヨードフェニル、p-ヘキシルフェニル、p-オクチルフェニル、p-シアノフェニル、p-アセトキシフェニル、p-アセトフェニル、ビフェニル、o-ジメチルフェニルシリルフェニル、p-ジメチルフェニルシリルフェニル、o-ジフェニルメチルシリル、p-ジフェニルメチルシリルフェニル、o-トリフェニルシリルフェニル、p-トリフェニルシリルフェニル、o-トリルジメチルシリルフェニル、p-トリルジメチルシリルフェニル、o-ベンジルジメチルシリルフェニル、p-ベンジルジメチルシリルフェニル、o-フェネチルジメチルシリルフェニル、p-フェネチルジメチルシリルフェニル等のフェニル基や、ビフェニル基や、1-ナフチル、2-ナフチル、1-4-フルオロナフチル、1-4-クロロナフチル、1-4-ブロモナフチル、1-4-ヘキシルナフチル、1-4-オクチルナフチル等のナフチル基や、ナフタレン基や、1-アントラセン、1-4-クロロアントラセン、1-4-オクチルアントラセン等のアントラセン基や、1-フェナントレン等のフェナントレン基や、1-フルオレン等のフルオレン基や、1-ペリレン等のペリレン基等が挙げられる。上記エレクトロクロミック層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記電解質層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記電解質層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。上記エレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は0.05μm、好ましい上限は2μmである。上記エレクトロクロミック層の厚さが0.05μm以上であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加することにより光の透過率を容易に変化させることができ、2μm以下であると、調光シート又は合わせガラス用中間膜の透明性が高くなる。上記エレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は0.1μm、より好ましい上限は1μmである。本発明の調光シートは、上記エレクトロクロミック層上に部分的に熱可塑性樹脂を含有する接着層が形成されていてもよい。上記接着層を部分的に形成することにより、エレクトロクロミック性を損なうことなく、導電膜に対する密着性を向上させることができる。上記部分的に形成された接着層の形状は特に限定されず、網目状、線状又は斑点状等が挙げられる。上記接着層に含有される熱可塑性樹脂は、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン-六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。上記接着層は、更に、可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤を含有することにより、上記接着層が柔軟になり、上記エレクトロクロミック層の導電膜に対する密着性をより向上させることができる。上記接着層は、更に、支持電解質塩を含有することが好ましい。支持電解質塩を含有することにより、上記接着剤層にイオン伝導性が付与され、上記接着剤層によって合わせガラスのエレクトロクロミック性が低下するのを防止することができる。上記可塑剤、支持電解質塩は、上記電解質層に用いるのと同様の可塑剤、支持電解質塩を用いることができる。上記エレクトロクロミック層の面積に対する上記接着層の面積の下限は10、上限は90である。上記接着層の面積が10以上であると、充分な密着性が得られ、90以下であると、エレクトロクロミック性が高くなり、電圧を印加することにより透過率を容易に変化させることができる。上記接着層の面積の好ましい下限は20、好ましい上限は80であり、より好ましい下限は30、より好ましい上限は70である。なお、接着層の面積Xは次式で定義される。すなわち、接着層形成後のエレクトロクロミック層を光学顕微鏡で観察した時の、1平方ミリメートル当たりの接着層の存在する面積をA平方ミリメートル、接着層の存在しない面積をB平方ミリメートルとした時にX=A/ABで表される。上記接着層の最大厚みの上限は50μmである。上記接着層の最大厚みが50μm以下であると、エレクトロクロミック性が高くなり、電圧を印加することにより光の透過率を容易に変化させることができる。上記接着層の最大厚みの好ましい上限は20μmである。なお、上記接着層の最大厚さとは、接着層形成後に接着層を3D測定レーザー顕微鏡OLYMPAS社製LEXTOLS4000により測定した時の接着層厚みの最大値のことをいう。上記接着層を形成する方法は特に限定されず、例えば、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスクリーン印刷によりエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法や、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスプレー照射機によりエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法等が挙げられる。本発明の調光シートを製造する方法は特に限定されず、例えば、上記エレクトロクロミック化合物を有機溶剤に溶解させた溶液を調製し、得られた溶液を上記電解質層の少なくとも一方の面に塗布し、有機溶剤を揮発させる方法が挙げられる。上記バインダー樹脂、上記支持電解質塩、上記溶媒、及び、上記一般式1で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する電解質膜もまた、本発明の1つである。本発明の電解質膜は、上記電解質層のみで形成されてもよく、上記電解質層に他の層を積層することにより形成されてもよい。本発明の調光シートが、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている調光体もまた、本発明の1つである。本発明の調光シートは、合わせガラス用中間膜として使用することができる。上記調光シートを用いる合わせガラス用中間膜もまた、本発明の1つである。本発明の合わせガラス用中間膜は、本発明の調光シートの構成以外に、必要に応じて、紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層や、熱線吸収剤を含有する赤外線吸収層等を有してもよい。本発明の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている合わせガラスもまた、本発明の1つである。上記ガラス板は、一般に使用されている透明板ガラスを使用することができる。例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。上記ガラス板として、2種類以上のガラス板を用いてもよい。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板とで、本発明の調光シート又は合わせガラス用中間膜を挟持した調光体又は合わせガラスが挙げられる。また、上記ガラス板として、2種以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。上記導電膜は、スズドープ酸化インジウムITO、フッ素ドープ酸化スズFTO等を含む透明導電膜が好ましい。本発明の調光体又は合わせガラスの面密度は特に限定されないが、12kg/m2以下であることが好ましい。本発明の合わせガラスは、自動車用ガラスとして使用する場合は、サイドガラス、リアガラス、ルーフガラスとして用いることができる。本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シート、該調光シートを用いてなる調光体、合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されない。実施例11電解質層の調製トリエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート3GO2.38gに、支持電解質塩としてビストリフルオロメタンスルホニルイミドリチウムLiTFSI0.67g、紫外線吸収剤として2-2hydroxy-5-tert-butylphenyl-2H-benzotriazoleBASF社製、T-PS0.05gを溶解して電解質溶液を調製した。得られた電解質溶液の全量と、アセチル基量13mol、水酸基量22mol、平均重合度が2300のポリビニルブチラール樹脂5.00gとを混合して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をポリテトラフルオロエチレンPTFEシートに挟み、厚さ400μmのスペーサを介して、熱プレスにて150°C、100kg/cm2の条件で5分間加圧し、厚さ400μmの電解質層を得た。2エレクトロクロミック層の調製ポリ9-エチニル-10-n-オクタデシルフェナントレンECP0.03915gを1.305gのトルエンに溶解して溶液を調製した。この溶液を、得られた電解質層上に、トルエンが揮発した後の厚さが0.3μmになるようにバーコーターを用いて塗布し、乾燥してエレクトロクロミック層を形成して調光シートを得た。3合わせガラスの作製得られた調光シートを縦5cm×横5cmのサイズに切断し、これを合わせガラス用中間膜とした。合わせガラス用中間膜を、縦5cm×横5cmの一対のITOガラス表面抵抗120Ωで、合わせガラス用中間膜がそれぞれの透明導電膜と接するように挟み込んで積層した。得られた積層体を、90°Cの真空ラミネーターで圧着し、圧着後140°C、14MPaの条件でオートクレーブを用いて20分間圧着を行い、合わせガラスを得た。実施例2ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるT-PSの含有量を0.005gとした以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例3ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤として、2-3,5-Di-tert-amyl-2-hydroxyphenyl-2H-benzotriazoleBASF社製、T-328を用いた以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例4ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤として、2-[2-Hydroxy-3,5-bisα,α-dimethylbenzylphenyl]-2H-benzotriazoleBASF社製、T-234を用いた以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例5支持電解質塩をビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウムKTFSIとした以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例6支持電解質塩を過塩素酸リチウムLiClO4とした以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例7エレクトロクロミック層を、プルシアンブルー型錯体PBを用いて形成した以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例8トリエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート3GOに代わって、トリエチレングリコールジブチラート3GBを用いた以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例9ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるT-PSの含有量を0.005gとした以外は、実施例8と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例10ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるT-PSの含有量を0.20gとした以外は、実施例8と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例11ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるT-PSの含有量を0.50gとした以外は、実施例8と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例12アセチル基量13mol、水酸基量22mol、平均重合度が2300のポリビニルブチラール樹脂に代わって、アセチル基量25mol、水酸基量22mol、平均重合度が3000のポリビニルブチラール樹脂を用いた以外は、実施例8と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例13アセチル基量13mol、水酸基量22mol、平均重合度が2300のポリビニルブチラール樹脂に代わって、アセチル基量6mol、水酸基量18mol、平均重合度2300ポリビニルブチラール樹脂を用いた以外は、実施例8と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。実施例14アセチル基量13mol、水酸基量22mol、平均重合度が2300のポリビニルブチラール樹脂に代わって、アセチル基量18mol、水酸基量11mol、平均重合度2300のポリビニルヘキシラール樹脂を用いた以外は、実施例8と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。比較例1ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤T-PSを用いなかった以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。比較例2紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含みベンゾトリアゾール骨格を有する2-2’-Hydroxy-3’-tert-butyl-5’-methylphenyl-5-chlorobenzotriazoleBASF社製、T-326を用いた以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。比較例3紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含みベンゾトリアゾール骨格を有するOctyl-3-[3-tert-butyl-4-hydroxy-5-5-chloro-2H-benzotriazol-2-ylphenyl]propionateBASF社製、T-109を用いた以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。比較例4紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含まないがヒドロキシフェニルトリアジン骨格である2-[4-[2-Hydroxy-3-dodecyloxypropyloxy]-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis2,4-dimethylphenyl-1,3,5-triazineBASF社製、T-400を用いた以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。比較例5紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含まないが、トリアジン骨格である2-[4,6-Bis2,4-dimethylphenyl-1,3,5-triazin-2-yl]-5-octyloxyphenolCYTEC社製、UV-1164を用い、ポリビニルブチラール樹脂100重量部に対する、紫外線吸収剤の配合量を0.05重量部とした以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。比較例6紫外線吸収剤としてベンゾフェノン骨格を有する2,4-DihydroxybenzophenoneBASF社製、Uvinul3000を用い、ポリビニルブチラール樹脂100重量部に対する、紫外線吸収剤の配合量を0.05重量部とした以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。比較例7紫外線吸収剤としてベンゾフェノン骨格を有する2-Hydroxy-4-octoxybenzophenoneBASF社製、Uvinul3008を用い、ポリビニルブチラール樹脂100重量部に対する、紫外線吸収剤の配合量を0.05重量部とした以外は、実施例1と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。評価実施例及び比較例で得られた合わせガラスについて、以下の方法で評価を行った。結果を表1~3に示した。1エレクトロクロミック性の評価得られた合わせガラスの電極に2Vの直流電圧を印加した後、-2Vの直流電圧を印加し、透過率の変化を目視にて観察した。透過率の変化が認められた場合を○、変化が認められなかった場合を×]と評価した。2黄色度の測定カラーアナライザー東京電色社製、TC-1800MK-IIを用いてJISK7105に準ずる方法により、合わせガラスの黄色度イエローインデックス=YIを測定した。3ヘーズ値の測定ヘーズメーター東京電色社製TC-H3PP型を用いてJISK7105に準ずる方法により、合わせガラスのヘーズ値Hz値を測定した。4耐光性評価紫外線照射装置スガ試験機社製HLG-2Sを用いて、JISR3205に準ずる方法により、合わせガラスに紫外線石英ガラス水銀灯、750Wを3000時間照射した。紫外線3000時間照射後の合わせガラスの黄色度を、カラーアナライザー東京電色社製、TC-1800MK-IIを用いてJISK7105に準ずる方法により測定し、紫外線照射後の合わせガラスの黄色度の変化度ΔYIを下記式で算出した。ΔYI=紫外線照射後の黄色度-紫外線照射前の黄色度また、紫外線3000時間照射後の合わせガラスのヘーズ値をヘーズメーター東京電色社製、TC-H3PP型を用いてJISK7105に準ずる方法により測定し、紫外線照射後の合わせガラスのヘーズ値の変化度ΔHzを下記式で算出した。ΔHz=紫外線照射後のヘーズ値-紫外線照射前のヘーズ値"