"下記式1で表される化合物。式1中、R1及びR2は、それぞれ独立して炭素数1~6のアルキル基である。nは、1~6の整数である。R3は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数5~20のシクロアルキル-アルキル基、炭素数4~20の脂環式基、フェニル基、ナフチル基又はアントリル基である。但し、上記炭素数1~12のアルキル基が有する水素原子の一部又は全部は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、上記フェニル基、ナフチル基及びアントリル基が有する水素原子の一部又は全部は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、ハロゲン原子、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基又はイソプロペニル基で置換されていてもよい。上記式1におけるR1及びR2が、炭素数1~3のアルキル基であり、かつR3が、炭素数5~10のシクロアルキル-アルキル基、炭素数6~8の脂環式基、又は水素原子の一部若しくは全部が炭素数1~6のアルキル基若しくはビニル基で置換されていてもよいフェニル基である請求項1に記載の化合物。光重合開始剤として用いられる請求項1又は請求項2に記載の化合物。[A]請求項3に記載の化合物、及び[B]エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物を含有する感放射線性組成物。[C]アルカリ可溶性樹脂をさらに含有する請求項4に記載の感放射線性組成物。請求項4又は請求項5に記載の感放射線性組成物から形成される硬化膜。塩基存在下、下記式2で表される前駆体化合物と、有機酸クロライドとを反応させる工程を有する請求項1、請求項2又は請求項3に記載の化合物の製造方法。式2中、R1、R2及びnは、上記式1と同義である。本発明は、上記のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は昇華性が低く、かつ光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を有する新規な化合物及びその製造方法を提供することである。また、当該化合物を光重合開始剤として含有し、高い透明性及び表面硬度を有する硬化膜が形成可能な感放射線性組成物を提供することである。上記課題を解決するためになされた発明は、下記式1で表される化合物である。式1中、R1及びR2は、それぞれ独立して炭素数1~6のアルキル基である。nは、1~6の整数である。R3は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数5~20のシクロアルキル-アルキル基、炭素数4~20の脂環式基、フェニル基、ナフチル基又はアントリル基である。但し、上記炭素数1~12のアルキル基が有する水素原子の一部又は全部は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、上記フェニル基、ナフチル基及びアントリル基が有する水素原子の一部又は全部は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、ハロゲン原子、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基又はイソプロペニル基で置換されていてもよい。本発明の化合物は、上記式1で表される特定構造を有する化合物であり、光重合開始剤として使用する場合に、高い放射線感度を発現し、結果として小さい露光量によって、正確なパターン及び十分な表面硬度を有する硬化膜を得ることができる。また、当該化合物は、昇華性が低く、当該化合物を含有する感放射線性組成物をレジスト材料として使用した場合に昇華による設備やフォトマスクの汚染を効果的に抑制することができる。上記式1におけるR1及びR2が、炭素数1~3のアルキル基であり、かつR3が、炭素数5~10のシクロアルキル-アルキル基、炭素数6~8の脂環式基、又は水素原子の一部若しくは全部が炭素数1~6のアルキル基若しくはビニル基で置換されていてもよいフェニル基であることが好ましい。当該化合物を上記特定構造とすることで、光重合開始剤として使用する場合により高い放射線感度及びより低い昇華性を有する。本発明には、光重合開始剤としての当該化合物が好適に含まれる。本発明の感放射線性組成物は、[A]光重合開始剤としての当該化合物以下、[A]光重合開始剤とも称する、及び[B]エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物以下、[B]重合性化合物とも称するを含有する。当該感放射線性組成物は、本発明の化合物を[A]光重合開始剤として用い、さらに[B]重合性化合物を含有することから、高い放射線感度を有し、かつ低い昇華性を示す。また、当該感放射線性組成物は、高い透明性及び表面硬度を有する硬化膜を形成することができる。当該感放射線性組成物は、[C]アルカリ可溶性樹脂をさらに含有することが好ましい。[C]アルカリ可溶性樹脂は、現像工程において用いられるアルカリ現像液に対して可溶性を示すことから、高い現像性が発現され、正確なパターンを有する硬化膜を形成することができる。本発明には、当該感放射線性組成物から形成される硬化膜も好適に含まれる。上述のように、当該感放射線性組成物から形成される硬化膜は高い透明性及び表面硬度を有する。当該化合物の製造方法は、塩基存在下、下記式2で表される前駆体化合物と、有機酸クロライドとを反応させる工程を有する。式2中、R1、R2及びnは、上記式1と同義である。当該製造方法は、当該化合物の新規な製造方法であり、当該化合物を安価、かつ効率的に製造することができる。本発明は、昇華性が低く、かつ光重合開始剤として使用した場合に高い放射線感度を示す化合物、及び高い透明性及び表面硬度を有する硬化膜を形成可能な感放射線性組成物を提供することができる。<新規化合物>本発明の化合物は、上記式1で表される化合物であり、光重合開始剤として使用する場合に、高い放射線感度を発現し、結果として小さい露光量によって、正確なパターン及び十分な表面硬度を有する硬化膜を得ることができる。また、当該化合物は、昇華性が低く、当該化合物を含有する感放射線性組成物をレジスト材料として使用した場合に昇華による設備やフォトマスクの汚染を効果的に抑制することができる。上記式1中、R1及びR2は、それぞれ独立して炭素数1~6のアルキル基である。nは、1~6の整数である。R3は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数5~20のシクロアルキル-アルキル基、炭素数4~20の脂環式基、フェニル基、ナフチル基又はアントリル基である。但し、上記炭素数1~12のアルキル基が有する水素原子の一部又は全部は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、上記フェニル基、ナフチル基及びアントリル基が有する水素原子の一部又は全部は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、ハロゲン原子、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基又はイソプロペニル基で置換されていてもよい。上記R1及びR2で表される炭素数1~6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。上記R3で表される炭素数1~12のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。上記R3で表される炭素数5~20のシクロアルキル-アルキル基としては、例えばシクロヘキシル-メチル基、シクロヘプチル-メチル基、ノルボルニル-メチル基、ノルボルニル-エチル基等が挙げられる。上記R3で表される炭素数4~20の脂環式基としては、例えば単環又は多環の脂環式基であって、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ボルニル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。上記炭素数1~12のアルキル基が有する水素原子の一部又は全部が置換されていてもよいハロゲン原子としては、例えば塩素原子、フッ素原子等が挙げられる。上記フェニル基、ナフチル基及びアントリル基が有する水素原子の一部又は全部が置換されていてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基等が挙げられる。上記フェニル基、ナフチル基及びアントリル基が有する水素原子の一部又は全部が置換されていてもよい炭素数1~6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基等が挙げられる。上記式1におけるR1及びR2が、炭素数1~3のアルキル基であり、かつR3が、炭素数5~10のシクロアルキル-アルキル基、炭素数6~8の脂環式基、又は水素原子の一部若しくは全部が炭素数1~6のアルキル基若しくはビニル基で置換されていてもよいフェニル基であることが好ましい。当該化合物を上記特定構造とすることで、光重合開始剤として使用する場合に、より高い放射線感度及びより低い昇華性を有する。上記式1で表される化合物としては、下記式で表される化合物がより好ましい。<新規化合物の合成方法>上記式1で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、塩基存在下、上記式2で表される前駆体化合物と、有機酸クロライドとを反応させる工程を有することが好ましい。当該製造方法は、当該化合物の新規な製造方法であり、当該化合物を安価、かつ効率的に製造することができる。上記式2で表される前駆体化合物の合成方法としては、例えばフルオロベンゼンに2-ブロモ-2-メチルプロピオニルブロミドを反応させ2-ブロモ-4’-フルオロ-2-メチルプロピオフェノンを合成する。次いで、2-ブロモ-4’-フルオロ-2-メチルプロピオフェノンに、モルホリンを加え攪拌して反応させ、この反応液から析出した塩をろ別する。このろ液に、酸水溶液を加え酸性としてから水相を分離し、この水相にアルカリ水溶液を加え、塩基性とした後、水相を抽出する。抽出液を分液ロートに集め、蒸留水で抽出液を洗浄した後、有機溶媒を減圧留去し、粗生成物を得る。この粗生成物をエタノールで再結晶精製することで1-4-フルオロフェニル-2-メチル-2-モルフォリノ-1-プロパンを合成する。次いで、この1-4-フルオロフェニル-2-メチル-2-モルフォリノ-1-プロパンに2-メルカプトエタールを反応させた後、蒸留水を加えてから生成物を抽出し、この抽出液を洗浄、減圧留去し、粗生成物を得る。この粗生成物を下記特定溶媒で再結晶精製することで、上記式2で表される前駆体化合物の一つである1-[4-ヒドロキシエチルチオ-フェニル-2-メチル]-2-モルフォリノ-1-プロパンを得る。再結晶精製に用いる上記特定溶媒としては、n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、n-ノナン、n-デカン、2-メチルブタン、2-メチルペンタン、3-メチルペンタン、3-エチルペンタン、2-メチルヘキサン、3-メチルヘキサン、3-エチルヘキサン、2-メチルヘプタン、3-メチルヘプタン、4-メチルヘプタン、2-メチルオクタン、3-メチルオクタン、4-メチルオクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘプタン、メチルシクロオクタン、ジメチルシクロペンタン、ジメチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘプタン、ジメチルシクロオクタン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、トルエンが好ましい。これらの溶媒は単独又は2種以上を使用してもよい。なお、再結晶に際して、上記溶媒以外の溶媒を混合できるが、上記溶媒を50質量以上用いることが好ましい。上記前駆体化合物に、塩基及び溶媒を加え溶解させ、有機酸クロリドを滴下し、反応させる。この反応液に蒸留水を加えた後、生成物を抽出し、抽出液を洗浄、減圧留去し、粗生成物を得る。この粗生成物をメタノールで再結晶精製することで、本発明の化合物を得ることができる。塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリイソプロピルアミン、トリn-プロピルアミン、トリn-ブチルアミン、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミン、ピコリン、ルチジン、コリジン、キノリン、イソキノリン、アクリジン、フェナントリジン、N-メチルピペリジン、N-メチルピロリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ-5-エン、N,N-ジメチルアミノピリジン、N,N-ジメチル-9-アクリジンアミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。これらのうち、ピリジン、トリエチルアミンが好ましい。有機酸クロライドとしては、例えばR4COClで表される化合物等が挙げられる。上記式中、R4は、炭素数1~24の飽和若しくは不飽和のアルキル基、炭素数3~24の脂環式基、又は置換されていてもよいフェニル基等が挙げられる。R4COClで表される化合物としては、例えば酢酸クロライド、プロピオン酸クロライド、ブタン酸クロライド、ペンタン酸クロライド、ヘキサン酸クロライド、オクタン酸クロライド、ペラルゴン酸クロライド、カプリル酸クロライド、ウンデカン酸クロライド、ラウリン酸クロライド、トリデシル酸クロライド、ミリスチン酸クロライド、パルミチン酸クロライド、ステアリン酸クロライド、ベヘン酸クロライド、リグノセリン酸クロライド等の直鎖脂肪族酸クロライド;アクリル酸クロライド、クロトン酸クロライド、メタクリル酸クロライド、3-ペンテン酸クロライド、カプロレイン酸クロライド、オレイン酸クロライド等の不飽和脂肪族酸クロライド;イソブタン酸クロライド、イソペンタン酸クロライド、ネオペンタン酸クロライド、イソオクタン酸クロライド、2-エチルヘキサン酸クロライド、ネオヘキサン酸クロライド、イソノナン酸クロライド、ネオデカン酸クロライド、イソパルミチン酸クロライド、イソステアリン酸クロライド等の分岐脂肪族酸クロライド;シクロペンタンカルボン酸クロライド、シクロヘキサンカルボン酸クロライド等のシクロアルカンカルボン酸クロライド;シクロヘキシル酢酸クロライド、ノルボルニル酢酸クロライド、シクロへキシルプロピオン酸クロライド、ノルボルニルプロピオン酸クロライド等のシクロアルキル置換カルボン酸クロライド;o-安息香酸クロライド、m-安息香酸クロライド、p-安息香酸クロライド、p-ビニル酢酸クロライド、p-ニトロ安息香酸クロライド、p-ブロモ安息香酸クロライド等の芳香族酸クロライド等が挙げられる。これらのうち、シクロヘキサンカルボン酸クロライド、ノルボルニル酢酸クロライド、o-安息香酸クロライド、m-安息香酸クロライド、p-安息香酸クロライド、p-ビニル酢酸クロライド塩化ベンゾイルが好ましい。反応に用いられる溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、γ―ブチロラクトン、N-メチルピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエトキシエタン、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジフェニルエーテル、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,4-ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等が挙げられる。これらのうち、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサンが好ましい。また、上記式1で表される化合物の他の合成方法としては、脱水縮合剤としてジシクロヘキシルカルボジイミドを用い、触媒にN,N-ジメチルアミノピリジンを用いて、カルボキシル基と水酸基のエステル化によっても行うことができる。<感放射線性組成物>本発明の感放射線性組成物は、[A]光重合開始剤としての当該化合物、及び[B]エ重合性化合物を含有する。また、当該感放射線性組成物は好適成分として[C]アルカリ可溶性樹脂を含有できる。さらに、本発明の効果を損なわない限り、その他の任意成分として[D]その他の光重合開始剤、[E]多官能エポキシ化合物、[F]密着助剤、[G]界面活性剤を含有できる。以下、各成分について詳述する。なお、[A]光重合開始剤として用いられる化合物は上記のとおりであるから、ここでは説明を省略する。<[B]重合性化合物>[B]重合性化合物としては、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物であれば特に限定されないが、単官能メタアクリレート、2官能メタアクリレート、3官能以上のメタアクリレートが好ましい。これらの特定構造を有する[B]重合性化合物を含有することで、当該感放射線性組成物は、透明性と表面硬度とがより高度にバランスされた硬化膜を形成することができる。単官能メタアクリレートとしては、例えば2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、カルビトールメタアクリレート、イソボロニルメタアクリレート、3-メトキシブチルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート等が挙げられる。市販品としては、例えばアロニックスM-101、同M-111、同M-114東亞合成製、KAYARADTC-110S、同TC-120S日本化薬製、ビスコート158、同2311大阪有機化学工業製等が挙げられる。2官能メタアクリレートとしては、例えばエチレングリコールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジメタアクリレート等が挙げられる。これらの市販品としては、例えばアロニックスM-210、同M-240、同M-6200東亞合成製、KAYARADHDDA、同HX-220、同R-604日本化薬製、ビスコート260、同312、同335HP大阪有機化学工業製等が挙げられる。3官能以上のメタアクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメタアクリロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、コハク酸モノ-[3-3-メタアクリロイルオキシ-2,2-ビス-メタアクリロイルオキシメチル-プロポキシ-2,2-ビス-メタアクリロイルオキシメチル-プロピル]エステル、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリメタアクリレート等が挙げられる。市販品としては、例えばアロニックスM-309、同M-400、同M-405、同M-450、同M-7100、同M-8030、同M-8060、同TO-756東亞合成製、KAYARADTMPTA、同DPHA、同DPCA-20、同DPCA-30、同DPCA-60、同DPCA-120日本化薬製、ビスコート295、同300、同360、同GPT、同3PA、同400大阪有機化学工業製等が挙げられる。これらの[B]重合性化合物のうち、感放射線性組成物の硬化性の観点から、3官能以上のメタアクリレートより好ましく、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、コハク酸モノ-[3-3-メタアクリロイルオキシ-2,2-ビス-メタアクリロイルオキシメチル-プロポキシ-2,2-ビス-メタアクリロイルオキシメチル-プロピル]エステル、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリメタアクリレートが特に好ましい。[B]重合性化合物は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。当該感放射線性組成物における[B]重合性化合物の含有量としては、例えば[A]光重合開始剤1質量部に対して、好ましくは3質量部~50質量部、より好ましくは5質量部~30質量部である。[B]重合性化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、感放射線性組成物の放射線感度、及び得られる硬化膜の透明性をより向上することができる。<[C]アルカリ可溶性樹脂>当該感放射線性組成物に含有される[C]アルカリ可溶性樹脂としては、当該成分を含む感放射線性組成物の現像処理工程において用いられるアルカリ現像液に対して可溶性を有するものであれば、特に限定されるものではない。このような[C]アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、a1不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物以下、化合物a1とも称すると、a2a1以外の不飽和化合物以下、化合物a2とも称するとの共重合体が好ましい。化合物a1としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、2-アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸、2-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸等のジカルボン酸;上記ジカルボン酸の酸無水物等が挙げられる。これらの化合物a1のうち、共重合反応性、得られる共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性の点から、アクリル酸、メタクリル酸、2-アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸、無水マレイン酸が好ましい。化合物a1は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。化合物a1に由来する構造単位の含有率としては、好ましくは5質量~60質量、より好ましくは7質量~50質量、特に好ましくは8質量~40質量である。化合物a1に由来する構造単位の含有率を上記特定範囲とすることで、放射線感度及び現像性等の諸特性がより高いレベルでバランスされた感放射線性組成物が得られる。化合物a2としては、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸n-プロピル、アクリル酸i-プロピル、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸sec-ブチル、アクリル酸t-ブチル等のアクリル酸アルキルエステル;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-プロピル、メタクリル酸i-プロピル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸sec-ブチル、メタクリル酸t-ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル;アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2-メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、アクリル酸2-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチル、アクリル酸イソボロニル等のアクリル酸脂環式エステル;メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2-メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、メタクリル酸2-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチル、メタクリル酸イソボロニル等のメタクリル酸脂環式エステル;アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸のアリールエステル又はアラルキルエステル;メタクリル酸2-ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸3-ヒドロキシプロピルエステル等のメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル類;メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸のアリールエステル又はアラルキルエステル;マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル等の不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステル;アクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、アクリル酸テトラヒドロピラン-2-イル、アクリル酸2-メチルテトラヒドロピラン-2-イル等の含酸素複素5員環又は含酸素複素6員環を有するアクリル酸エステル;メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、メタクリル酸テトラヒドロピラン-2-イル、メタクリル酸2-メチルテトラヒドロピラン-2-イル等の含酸素複素5員環又は含酸素複素6員環を有するメタクリル酸エステル;スチレン、α-メチルスチレン、p-メトキシスチレン等のビニル芳香族化合物;1,3-ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン系化合物;アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、4-アクリロイルオキシブチルグリシジルエーテル、3-エチル-3-オキセタニルメチルアクリレート、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート等が挙げられる。これらの化合物a2のうち、共重合反応性の点から、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、スチレン、p-メトキシスチレン、メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、1,3-ブタジエン、メタクリル酸2-ヒドロキシエチルエステルが好ましい。化合物a2は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。化合物a2に由来する構造単位の含有率としては、好ましくは10質量~90質量、より好ましくは20質量~85質量である。化合物a2の構造単位の含有率を上記特定範囲とすることで、[C]アルカリ可溶性樹脂の分子量の制御が容易となり、現像性、放射線感度等がより高いレベルでバランスされた感放射線性組成物が得られる。<[C]アルカリ可溶性樹脂の合成方法>[C]アルカリ可溶性樹脂は、適当な溶媒中、ラジカル重合開始剤の存在下で構成成分の単量体を重合することにより製造することができる。このような重合に用いられる溶媒としては、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、アルコキシプロピオン酸アルキル、酢酸エステルが好ましい。これらの溶媒は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。ラジカル重合開始剤としては、例えば2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、4,4’-アゾビス4―シアノバレリン酸、ジメチル-2,2’-アゾビス2-メチルプロピオネート、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物が挙げられる。これらのラジカル重合開始剤は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。[C]アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCによるポリスチレン換算重量平均分子量Mwは、好ましくは2,000~100,000、より好ましくは5,000~50,000である。[C]アルカリ可溶性樹脂のMwを上記特定範囲とすることで、現像性、放射線感度等がより高いレベルでバランスされた感放射線性組成物、並びに耐熱性が高い硬化膜を得ることができる。なお、本明細書のMw及びMnは、下記の条件によるGPCにより測定した。装置:GPC-101昭和電工製カラム:GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803及びGPC-KF-804を結合移動相:テトラヒドロフラン流速:1.0mL/分試料濃度:1.0質量試料注入量:100μL検出器:示差屈折計標準物質:単分散ポリスチレン当該感放射線性組成物における[C]アルカリ可溶性樹脂の含有量としては、[A]光重合開始剤1質量部に対して、好ましくは5質量部~60質量部、より好ましくは8質量部~40質量部である。[C]アルカリ可溶性樹脂の含有量を上記特定範囲とすることで、現像性に優れた感放射線性組成物を形成することができる。<[D]その他の光重合開始剤>当該感放射線性組成物は、[D]その他の光重合開始剤を加えることができる。[D]その他の光重合開始剤としては、放射線に感応して[B]重合性化合物の重合を開始しうる活性種を生じる成分である限り、特に限定されるものではない。[D]その他の光重合開始剤としては、例えばO-アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物等が挙げられる。これらの[D]その他の光重合開始剤は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。O-アシルオキシム化合物としては、例えばエタノン-1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム、1-[9-エチル-6-ベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-オクタン-1-オンオキシム-O-アセテート、1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-エタン-1-オンオキシム-O-ベンゾエート、1-[9-n-ブチル-6-2-エチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-エタン-1-オンオキシム-O-ベンゾエート、エタノン-1-[9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロフラニルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-[9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロピラニルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-[9-エチル-6-2-メチル-5-テトラヒドロフラニルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-[9-エチル-6-{2-メチル-4-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニルメトキシベンゾイル}-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-[9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム等が挙げられる。これらのO-アシルオキシム化合物のうち、エタノン-1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-[9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-[9-エチル-6-{2-メチル-4-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニルメトキシベンゾイル}-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシムが好ましい。アセトフェノン化合物としては、例えばα-アミノケトン化合物、α-ヒドロキシケトン化合物等が挙げられる但し、[A]光重合開始剤と構造が同じものを除く。α-アミノケトン化合物としては、例えば2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン等が挙げられる。α-ヒドロキシケトン化合物としては例えば1-フェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-i-プロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。これらのアセトフェノン化合物のうち、α-アミノケトン化合物が好ましく、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オンがより好ましい。ビイミダゾール化合物としては、例えば2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラキス4-エトキシカルボニルフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4,6-トリクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール等が挙げられる。これらのビイミダゾール化合物のうち、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4,6-トリクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾールが好ましく、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾールがより好ましい。当該感放射線性組成物における[D]その他の光重合開始剤の含有量としては、[A]光重合開始剤1質量部に対して、好ましくは0.01質量部~5質量部、より好ましくは0.05質量部~1質量部である。[D]その他の光重合開始剤の含有量を上記特定範囲とすることで、当該感放射線性組成物は、低露光量の場合でも、高い放射線感度を示し、十分な表面硬度を有する硬化膜を形成することができる。<[E]多官能エポキシ化合物>当該感放射線性組成物は、重合反応性を高め、感放射線性組成物から形成される硬化膜の表面硬度をより向上させるために[E]多官能エポキシ化合物を添加することができる。[E]多官能エポキシ化合物としては、例えば1分子中に2以上のエポキシ基を有するカチオン重合性化合物等が挙げられる。1分子中に2以上のエポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えばビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル等のビスフェノールのポリグリシジルエーテル類;1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールの脂肪族ポリグリシジルエーテル類;1分子中に2個以上の3,4-エポキシシクロヘキシル基を有する化合物;ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂;ポリフェノール型エポキシ樹脂;環状脂肪族エポキシ樹脂;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類;エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。これらのうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。1分子中に2以上の3,4-エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-3,4-エポキシシクロヘキシル-5,5-スピロ-3,4-エポキシシクロヘキサン-メタ-ジオキサン、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアジペート、ビス3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチルアジペート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシル-3’,4’-エポキシ-6’-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス3,4-エポキシシクロヘキサン、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ3,4-エポキシシクロヘキシルメチルエーテル、エチレンビス3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。1分子中に2以上のエポキシ基を有する化合物の市販品としては、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂としてのエピコート1001、同1002、同1003、同1004、同1007、同1009、同1010、同828以上、ジャパンエポキシレジン製;ビスフェノールF型エポキシ樹脂としてのエピコート807ジャパンエポキシレジン製;フェノールノボラック型エポキシ樹脂ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂等としてのエピコート152、同154、同157S65以上、ジャパンエポキシレジン製、EPPN201、同202以上、日本化薬製;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としてのEOCN102、同103S、同104S、1020、1025、1027以上、日本化薬製、エピコート180S75ジャパンエポキシレジン製;ポリフェノール型エポキシ樹脂としてのエピコート1032H60、同XY-4000以上、ジャパンエポキシレジン製;環状脂肪族エポキシ樹脂としてのCY-175、同177、同179、アラルダイトCY-182、同192、184以上、チバスペシャルティケミカルズ製、ERL-4234、同4299、同4221、同4206U.C.C製、ショーダイン509昭和電工製、エピクロン200、同400以上、大日本インキ製、エピコート871、同872以上、ジャパンエポキシレジン製、ED-5661、同5662以上、セラニーズコーティング製;脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてのエポライト100MF共栄社化学製、エピオールTMP日本油脂製等が挙げられる。[E]多官能エポキシ化合物は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。当該感放射線性組成物における[E]多官能エポキシ化合物の含有量としては、[A]光重合開始剤1質量部に対して、好ましくは0.01質量部~5質量部、より好ましくは0.05質量部~1質量部である。[E]多官能エポキシ化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、重合反応性を向上させると共に、形成される硬化膜の表面硬度を高度なレベルに保つことができる。<[F]密着助剤>[F]密着助剤は、得られる硬化膜と基板との密着性をさらに向上させるために使用することができる。このような[F]密着助剤としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましい。[F]密着助剤としては、例えばγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの密着助剤は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。当該感放射線性組成物における[F]密着助剤の含有量としては、[A]光重合開始剤1質量部に対して、好ましくは0.001質量部~1質量部であり、より好ましくは0.005~0.5質量部である。[F]密着助剤の含有量を上記特定範囲とすることで、基板に対する硬化膜の密着性を改善しつつ、パターン形成能を高いレベルに保つことができる。<[G]界面活性剤>[G]界面活性剤は、感放射線性組成物の塗膜形成性をより向上させるために使用することができる。[G]界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、その他の界面活性剤等が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基及び/又はフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましい。フッ素系界面活性剤としては、例えば1,1,2,2-テトラフルオロ-n-オクチル1,1,2,2-テトラフルオロ-n-プロピルエーテル、1,1,2,2-テトラフルオロ-n-オクチルn-ヘキシルエーテル、ヘキサエチレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロ-n-ペンチルエーテル、オクタエチレングリコールジ1,1,2,2-テトラフルオロ-n-ブチルエーテル、ヘキサプロピレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロ-n-ペンチルエーテル、オクタプロピレングリコールジ1,1,2,2-テトラフルオロ-n-ブチルエーテル、パーフルオロ-n-ドデカンスルホン酸ナトリウム、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロ-n-デカン、1,1,2,2,3,3,9,9,10,10-デカフルオロ-n-ドデカン、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルリン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキスフルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、他のフルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フルオロアルキルエステル等が挙げられる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えばBM-1000、BM-1100以上、BMCHEMIE製、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183、同F178、同F191、同F471、同F476以上、大日本インキ化学工業製、フロラードFC-170C、同-171、同-430、同-431以上、住友スリーエム製、サーフロンS-112、同-113、同-131、同-141、同-145、同-382、サーフロンSC-101、同-102、同-103、同-104、同-105、同-106以上、旭硝子製、エフトップEF301、同303、同352以上、新秋田化成株製、フタージェントFT-100、同-110、同-140A、同-150、同-250、同-251、同-300、同-310、同-400S、フタージェントFTX-218、同-251以上、ネオス製等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えばトーレシリコーンDC3PA、同DC7PA、同SH11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA、同SH-190、同SH-193、同SZ-6032、同SF-8428、同DC-57、同DC-190以上、東レダウコーニングシリコーン製、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452以上、GE東芝シリコーン製、オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業製等が挙げられる。[G]界面活性剤は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。当該感放射線性組成物における[G]界面活性剤の含有量としては、[A]光重合開始剤1質量部に対して、好ましくは0.001質量部~1質量部であり、より好ましくは0.005質量部~0.5質量部である。界面活性剤の含有量を上記特定範囲とすることで、基板上に塗膜を形成する際の塗布ムラを低減することができる。<感放射線性組成物の調製方法>本発明の感放射線性組成物は、[A]光重合開始剤及び[B]重合性化合物、及び任意成分を均一に混合することによって調製される。この感放射線性組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。例えば、[A]光重合開始剤及び[B]重合性化合物、及び任意成分を、溶媒中において所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性組成物を調製することができる。当該感放射線性組成物の調製に用いられる溶媒としては、各成分を均一に溶解できると共に、各成分と反応しないものが用いられる。このような溶媒としては、[C]アルカリ可溶性樹脂を製造するために使用できる溶媒として上記で例示したものと同様のものが挙げられる。溶媒としては、例えばアルコール類、エーテル類、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、芳香族炭化水素類、ケトン類、他のエステル類等が挙げられる。アルコール類としては、例えばメタノール、エタノール、ベンジルアルコール、2-フェニルエチルアルコール、3-フェニル-1-プロパノール等が挙げられる。エーテル類としては、例えば環状エーテル、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート等が挙げられる。環状エーテルとしては、例えばテトラヒドロフラン等が挙げられる。グリコールエーテルとしては、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。エチレングリコールアルキルエーテルアセテートとしては、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。ジエチレングリコールアルキルエーテルとしては、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等が挙げられる。プロピレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとしては、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとしては、例えばプロピレンモノグリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート等が挙げられる。芳香族炭化水素類としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。ケトン類としては、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン等が挙げられる。他のエステル類としては、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、3-ヒドロキシプロピオン酸メチル、3-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-ヒドロキシプロピオン酸プロピル、3-ヒドロキシプロピオン酸ブチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-メトキシプロピオン酸ブチル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-エトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸ブチル、2-ブトキシプロピオン酸メチル、2-ブトキシプロピオン酸エチル、2-ブトキシプロピオン酸プロピル、2-ブトキシプロピオン酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸プロピル、3-エトキシプロピオン酸ブチル、3-プロポキシプロピオン酸メチル、3-プロポキシプロピオン酸エチル、3-プロポキシプロピオン酸プロピル、3-プロポキシプロピオン酸ブチル、3-ブトキシプロピオン酸メチル、3-ブトキシプロピオン酸エチル、3-ブトキシプロピオン酸プロピル、3-ブトキシプロピオン酸ブチル等が挙げられる。これらの溶媒は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。当該感放射線性組成物を溶液状態として調製する場合、固形分濃度組成物溶液中に占める溶媒以外の成分の割合は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意の濃度例えば5質量~50質量に設定することができる。このようにして調製された感放射線性組成物の溶液は、孔径0.2μm程度のミリポアフィルタ等を用いて濾過した後、使用に供することもできる。<硬化膜の形成方法>本発明には、当該感放射線性組成物から形成される硬化膜も好適に含まれる。上述のように、当該感放射線性組成物から形成される硬化膜は高い透明性及び表面硬度を有する。当該感放射線性組成物を用いた硬化膜の形成方法は、少なくとも下記の工程1~4を下記に記載の順で含む。工程3は、パターン形成が必要な場合において行うことができる。硬化膜の形成方法は、1本発明の感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び4上記現像された塗膜を加熱する工程を有する。以下、各工程を詳述する。[工程1]本工程は、透明基板の片面に透明導電膜を形成し、この透明導電膜の上に感放射線性組成物の塗膜を形成する。透明基板としては、例えばソーダライムガラス、無アルカリガラス等のガラス基板、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックからなる樹脂基板等が挙げられる。透明基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズSnO2からなるNESA膜PPG社、登録商標、酸化インジウム-酸化スズIn2O3-SnO2からなるITO膜等が挙げられる。塗布法により塗膜を形成する場合、上記透明導電膜の上に当該感放射線性組成物の溶液を塗布した後、好ましくは塗布面をプレベークすることにより、塗膜を形成することができる。塗布法に用いる組成物溶液の固形分濃度としては、5質量~50質量が好ましく、10質量~40質量がより好ましく、15質量~35質量が特に好ましい。塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリット塗布法スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等が挙げられる。これらのうち、スピンコート法、スリット塗布法が好ましい。プレベークの条件としては、各成分の種類、配合割合等によって異なるが、70°C~120°Cが好ましく、1分~15分間程度である。塗膜のプレベーク後の膜厚は、0.5μm~10μmが好ましく、1.0μm~7.0μmがより好ましい。[工程2]本工程は、形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する。このとき、塗膜の一部にのみ照射する際には、例えば所定のパターンを有するフォトマスクを介して照射する方法によることができる。照射に使用される放射線としては、例えば可視光線、紫外線、遠紫外線等が挙げられる。このうち波長が250nm~550nmの範囲にある放射線が好ましく、365nmの紫外線を含む放射線がより好ましい。放射線照射量露光量は、照射される放射線の波長365nmにおける強度を照度計OAImodel356、OpticalAssociatesInc.社により測定した値として、100J/m2~5,000J/m2が好ましく、200J/m2~3,000J/m2がより好ましい。[工程3]本工程は、上記放射線が照射された塗膜を現像し、不要な部分を除去して、所定のパターンを形成する。現像に使用される現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等のアルカリ性化合物の水溶液等が挙げられる。上記アルカリ性化合物の水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒及び/又は界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ水溶液におけるアルカリの濃度は、適当な現像性を得る観点から、好ましくは0.01質量以上5質量以下とすることができる。現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、シャワー法等が挙げられる。現像時間としては、常温で10秒~180秒間程度が好ましい。現像処理に続いて、例えば流水洗浄を30秒~90秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素で風乾することによって所望のパターンが得られる。[工程4]本工程は、得られたパターン状塗膜を、ホットプレート、オーブン等の適当な加熱装置により焼成ポストベークする。焼成温度としては、100°C~250°Cが好ましい。当該感放射線性組成物は、上述のように低温焼成を実現すると共に保存安定性を両立し、かつ充分な放射線感度を有する。従って、当該感放射線性組成物は、低温焼成が望まれるフレキシブルディスプレイ等に用いられる層間絶縁膜、保護膜及びスペーサー等の硬化膜の形成材料として好適に用いられる。焼成時間としては、例えばホットプレート上では5分~30分間、オーブン中では30分~180分間が好ましい。以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。<[A]光重合開始剤の合成>[実施例1]下記反応スキームに従い、[A]光重合開始剤としての本発明の化合物A-1を合成した。以下、合成方法を詳述する。温度計と滴下ロートを備えた200mL三口フラスコにフルオロベンゼン28.8g300mmolを容器に量り取り、容器内を窒素雰囲気とした後、無水塩化アルミニウムを29.3g220mmol加え攪拌した。容器内を氷及び水で冷却し、容器内の温度が10°C以下になった時点で、滴下ロートを通じて、2-ブロモ-2-メチルプロピオニルブロミド46.0g220mmolを40分間かけ、容器内温度を10°C~15°Cに保ちつつ滴下した。滴下終了後、さらに反応容器内温度を23°Cとして2時間攪拌した。次いで、反応内容物を氷100g中に投入し、反応を停止させ、反応生成物をトルエン100mLで3回抽出した。抽出液を分液ロートに集め、蒸留水100gで3回洗浄してから有機溶媒を減圧留去し、中間体1としての2-ブロモ-4’-フルオロ-2-メチルプロピオフェノン49g収率100を得た。500mL三口フラスコに中間体1を49g量り取り、モルホリン69.7g800mmolを加え、窒素雰囲気下23°Cで12時間攪拌した。ここに塩化メチレン50mLを加え、さらに23°Cで48時間攪拌した。次いで、この反応液にトルエン200mLを加え攪拌し、析出した塩トルエン不溶物を吸引ろ過によりろ別した。このろ液に、5質量希塩酸を加え酸性とし水で水相を分離した。次いで、この水相に炭酸ナトリウム水溶液を加え、塩基性とした後、クロロホルム100mLで3回抽出した。抽出液を分液ロートに集め、蒸留水100gで1回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。この粗生成物をエタノールで再結晶精製することで、中間体2としての1-4-フルオロフェニル-2-メチル-2-モルフォリノ-1-プロパン40.2g収率80を得た。200mL三口フラスコに中間体2を20g80mmol量り取り、N,N-ジメチルホルムアミド30mLに溶解させた。ここに炭酸カリウム22.0g160mmol、2-メルカプトエタール6.83g88mmolを加え、窒素雰囲気下60°Cで4時間加熱攪拌した。反応液温度が室温になるまで冷却し、ここに蒸留水を加え、生成した塩を溶解させた後、反応液を分液ロートに移し、トルエン100mLで3回抽出し、この抽出液を分液ロートに集め、蒸留水100gで1回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。この粗生成物をn-ヘキサンで再結晶精製を行い、上記式2で表される前駆体化合物としての1-[4-ヒドロキシエチルチオ-フェニル-2-メチル]-2-モルフォリノ-1-プロパン23.4g収率95を得た。温度計と滴下ロートを備えた200mL三口フラスコに前駆体化合物1-[4-ヒドロキシエチルチオ-フェニル-2-メチル]-2-モルフォリノ-1-プロパン10g32mmolを量り取り、トルエン100mLを加え溶解させた。次いで、この反応液にトリエチルアミン4.80g48mmolを加え、22°Cで攪拌した。窒素雰囲気下、滴下ロートを通じて、塩化ベンゾイル4.79gを10分間かけ滴下した。滴下終了後、22°Cで3時間攪拌した。反応液に蒸留水を加え、トルエン100mLで3回抽出し、この抽出液を分液ロートに集め、蒸留水100gで1回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。この粗生成物をメタノールで再結晶精製を行い、化合物A-1を12.8g収率96得た。化合物A-1の1H-NMR測定ブルカー製、AVANCE500型を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。1H-NMR溶媒:CDCl3化学シフトσ:8.50ppmベンゼン環上水素、2H、8.00ppmベンゼン環上水素、2H、7.56ppmベンゼン環上水素、1H、7.43ppmベンゼン環上水素、2H、7.36ppmベンゼン環上水素、2H、4.55ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、3.68ppmモルホリン環上水素、4H、3.38ppm-C=OO-CH2-CH2-S―、2H、2.56ppmモルホリン環上水素、4H、1.30ppm-CO-CCH32、6Hなお、上記反応スキームに示していない別の方法によっても、化合物A-1を合成した。詳細には、200mL三口フラスコに前駆体化合物8gを量り取り、塩化メチレン80mLを加え溶解させた。次いで、この反応液に安息香酸4.80gを加え、反応容器を氷冷した。窒素雰囲気下、ジシクロヘキシルカルボジイミド6.40g、N,N-ジメチルアミノピリジン0.31gを加え、30分間攪拌した。次いで、反応容器温度を23°Cとし、さらに3時間攪拌した。ここに、n-ヘキサン80mLを加え、生成した析出物を吸引ろ過した。ろ液をトルエン100mLで3回抽出した。この抽出液を分液ロートに集め、5質量塩酸100mLで洗浄し、蒸留水100gで有機層を1回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。この粗生成物をメタノールで再結晶精製を行い、化合物A-110.2g収率95を得た。[実施例2]温度計を備えた200mL三口フラスコに前駆体化合物1-[4-ヒドロキシエチルチオ-フェニル-2-メチル]-2-モルフォリノ-1-プロパン7.99g25.8mmolとo-トルイル酸4.40g32.3mmolを量り取り、フラスコ内を窒素雰囲気下し、ジクロロメタン75mLを加え溶解させた。この溶液を攪拌し、次いで氷浴下約0°CでN,N-ジシクロヘキシルカルボジイミド7.99g38.8mmolとN,N-ジメチルアミノピリジン0.95g7.7mmolを加えた。氷浴下で30分攪拌後、約22°Cまで昇温し2時間攪拌した。原料の消失を確認後、反応溶液中に生成した不溶物を吸引濾過した。次いで、ろ液を希塩酸100mLで2回で洗浄、炭酸水素ナトリウム飽和溶液100mLで2回洗浄、次いで蒸留水100mLで3回洗浄した後、反応液を減圧下で溶媒留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をメタノールで再結晶精製を行い、化合物A-210.4g収率94を得た。化合物A-2の1H-NMR測定を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。1H-NMR溶媒:CDCl3化学シフトσ:8.50ppmベンゼン環上水素、2H、7.87ppmベンゼン環上水素、1H、7.39ppmベンゼン環上水素、3H、7.23ppmベンゼン環上水素、2H、4.53ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、3.68ppmモルホリン環上水素、4H、3.38ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、2.60ppmモルホリン環上水素、4H、2.57ppmベンゼン環メチル、3H、1.31ppm-CO-CCH32、6H[実施例3]温度計を備えた200mL三口フラスコに前駆体化合物1-[4-ヒドロキシエチルチオ-フェニル-2-メチル]-2-モルフォリノ-1-プロパン7.99g25.8mmolとm-トルイル酸4.40g32.3mmolを量り取り、フラスコ内を窒素雰囲気下し、ジクロロメタン75mLを加え溶解させた。この溶液を攪拌し、次いで氷浴下約0°CでN,N-ジシクロヘキシルカルボジイミド7.99g38.8mmolとN,N-ジメチルアミノピリジン0.95g7.7mmolを加えた。氷浴下で30分攪拌後、約22°Cまで昇温し2時間攪拌した。原料の消失を確認後、反応溶液中に生成した不溶物を吸引濾過した。次いで、ろ液を希塩酸100mLで2回で洗浄、炭酸水素ナトリウム飽和溶液100mLで2回洗浄、次いで蒸留水100mLで3回洗浄した後、反応液を減圧下で溶媒留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、化合物A-38.5g収率77を得た。化合物A-3の1H-NMR測定を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。1H-NMR溶媒:CDCl3化学シフトσ:8.50ppmベンゼン環上水素、2H、7.80ppmベンゼン環上水素、2H、7.37ppmベンゼン環上水素、3H、7.26ppmベンゼン環上水素、1H、4.54ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、3.68ppmモルホリン環上水素、4H、3.38ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、2.56ppmモルホリン環上水素、4H、2.39ppmベンゼン環メチル、3H、1.30ppm-CO-CCH32、6H[実施例4]温度計を備えた200mL三口フラスコに前駆体化合物1-[4-ヒドロキシエチルチオ-フェニル-2-メチル]-2-モルフォリノ-1-プロパン7.99g25.8mmolとp-トルイル酸4.40g32.3mmolを量り取り、フラスコ内を窒素雰囲気下し、ジクロロメタン75mLを加え溶解させた。この溶液を攪拌し、次いで氷浴下約0°CでN,N-ジシクロヘキシルカルボジイミド7.99g38.8mmolとN,N-ジメチルアミノピリジン0.95g7.7mmolを加えた。氷浴下で30分攪拌後、約22°Cまで昇温し2時間攪拌した。原料の消失を確認後、反応溶液中に生成した不溶物を吸引濾過した。次いで、ろ液を希塩酸100mLで2回で洗浄、炭酸水素ナトリウム飽和溶液100mLで2回洗浄、次いで蒸留水100mLで3回洗浄した後、反応液を減圧下で溶媒留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をメタノールで再結晶精製を行い、化合物A-48.6g収率78を得た。化合物A-4の1H-NMR測定を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。1H-NMR溶媒:CDCl3化学シフトσ:8.50ppmベンゼン環上水素、2H、7.88ppmベンゼン環上水素、2H、7.37ppmベンゼン環上水素、2H、7.22ppmベンゼン環上水素、2H、4.53ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、3.68ppmモルホリン環上水素、4H、3.37ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、2.56ppmモルホリン環上水素、4H、2.40ppmベンゼン環メチル、3H、1.30ppm-CO-CCH32、6H[実施例5]温度計を備えた200mL三口フラスコに前駆体化合物1-[4-ヒドロキシエチルチオ-フェニル-2-メチル]-2-モルフォリノ-1-プロパン7.50g24.2mmolとシクロヘキサンカルボン酸3.88g30.3mmolを量り取り、フラスコ内を窒素雰囲気下し、ジクロロメタン75mLを加え溶解させた。この溶液を攪拌し、次いで氷浴下約0°CでN,N-ジシクロヘキシルカルボジイミド7.50g36.3mmolとN,N-ジメチルアミノピリジン0.89g7.3mmolを加えた。氷浴下で30分攪拌後、約22°Cまで昇温し2時間攪拌した。原料の消失を確認後、反応溶液中に生成した不溶物を吸引濾過した。次いで、ろ液を希塩酸100mLで2回で洗浄、炭酸水素ナトリウム飽和溶液100mLで2回洗浄、次いで蒸留水100mLで3回洗浄した後、反応液を減圧下で溶媒留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をメタノールで再結晶精製を行い、化合物A-510.0g収率99を得た。化合物A-5の1H-NMR測定を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。1H-NMR溶媒:CDCl3化学シフトσ:8.50ppmベンゼン環上水素、2H、7.33ppmベンゼン環上水素、2H、4.30ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、3.68ppmモルホリン環上水素、4H、3.22ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、2.57ppmモルホリン環上水素、4H、2.27ppmシクロヘキサン環上3級水素、1H、1.90ppm~1.24ppmシクロヘキサン環上水素、10H、1.30ppm-CO-CCH32、6H[実施例6]温度計を備えた200mL三口フラスコに前駆体化合物1-[4-ヒドロキシエチルチオ-フェニル-2-メチル]-2-モルフォリノ-1-プロパン7.00g22.6mmolと2-Norbornaneaceticacid3.49g30.3mmolを量り取り、フラスコ内を窒素雰囲気下し、ジクロロメタン75mLを加え溶解させた。この溶液を攪拌し、次いで氷浴下約0°CでN,N-ジシクロヘキシルカルボジイミド7.00g33.9mmolとN,N-ジメチルアミノピリジン0.83g6.7mmolを加えた。氷浴下で30分攪拌後、約22°Cまで昇温し2時間攪拌した。原料の消失を確認後、反応溶液中に生成した不溶物を吸引濾過した。次いで、ろ液を希塩酸100mLで2回で洗浄、炭酸水素ナトリウム飽和溶液100mLで2回洗浄、次いで蒸留水100mLで3回洗浄した後、反応液を減圧下で溶媒留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、化合物A-610.5g収率97を得た。化合物A-6の1H-NMR測定を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。1H-NMR溶媒:CDCl3化学シフトσ:8.50ppmベンゼン環上水素、2H、7.33ppmベンゼン環上水素、2H、4.29ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、3.68ppmモルホリン環上水素、4H、3.22ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、2.57ppmモルホリン環上水素、4H、2.28ppm-C=O―CH2-、1H、2.23ppmノルボルナン環上水素、1H、2.13ppm-C=O―CH2-、1H、1.98ppmノルボルナン環上水素、2H、1.88ppmノルボルナン環上水素、1H、1.53ppmノルボルナン環上水素、2H、1.30ppm-CO-CCH32、6H、1.28ppm~1.03ppmシクロヘキサン環上水素、5H[実施例7]温度計を備えた200mL三口フラスコに前駆体化合物1-[4-ヒドロキシエチルチオ-フェニル-2-メチル]-2-モルフォリノ-1-プロパン7.99g25.8mmolとp-ビニル安息香酸4.40g29.7mmolを量り取り、フラスコ内を窒素雰囲気下し、ジクロロメタン140mLを加え溶解させた。この溶液を攪拌し、次いで氷浴下約0°CでN,N-ジシクロヘキシルカルボジイミド7.99g38.9mmolとN,N-ジメチルアミノピリジン0.95g7.75mmolを加えた。氷浴下で30分攪拌後、約22°Cまで昇温し2時間攪拌した。原料の消失を確認後、反応溶液中に生成した不溶物を吸引濾過した。次いで、ろ液を希塩酸100mLで2回で洗浄、炭酸水素ナトリウム飽和溶液100mLで2回洗浄、次いで蒸留水100mLで3回洗浄した後、反応液を減圧下で溶媒留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をメタノールで再結晶精製を行い、化合物A-79.75g収率86を得た。化合物A-7の1H-NMR測定を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。1H-NMR溶媒:CDCl3化学シフトσ:8.50ppmベンゼン環上水素、2H、7.93ppmベンゼン環上水素、2H、7.44ppmベンゼン環上水素、2H、7.37ppmベンゼン環上水素、2H、6.74ppm末端オレフィン水素、1H、5.86ppmオレフィン水素、1H、5.39ppm末端オレフィン水素、1H、4.56ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、3.68ppmモルホリン環上水素、4H、3.38ppm-C=OO-CH2―CH2-S―、2H、2.56ppmモルホリン環上水素、4H、1.30ppm-CO-CCH32、6H<[C]アルカリ可溶性樹脂の合成>[合成例1]冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル5質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート250質量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18質量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル25質量部、スチレン5質量部、メタクリル酸2―ヒドロキシエチルエステル30質量部、及びメタクリル酸ベンジル22質量部を仕込んで窒素置換した。続いて、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持して重合することにより、固形分濃度28.8の共重合体C-1溶液を得た。得られた共重合体C-1について、以下の装置及び条件を用いてMwを測定したところ、13,000であった。[合成例2]冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート250質量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18質量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル25質量部、スチレン5質量部、メタクリル酸グリシジル30質量部、及びメタクリル酸ベンジル22質量部を仕込んで窒素置換した。続いて、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持して重合することにより、固形分濃度28.8の共重合体C-2溶液を得た。得られた共重合体C-2について、以下の装置及び条件を用いてMwを測定したところ、8,000であった。<感放射線性組成物の調製>各感放射線性組成物の調製に使用した各成分の詳細を下記に示す。[B]重合性化合物B-1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬製、KAYARADDPHAB-2:コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート東亞合成製、アロニックスTO-756[D]その他の光重合開始剤D-1:エタノン-1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-O-アセチルオキシムチバスペシャルティーケミカルズ製、イルガキュアOXE02D-2:2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オンチバスペシャルティーケミカルズ製、イルガキュア379D-3:2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オンチバスペシャルティーケミカルズ製、イルガキュア907[E]多官能エポキシ化合物E-1:フェノールノボラック型エポキシ樹脂ジャパンエポキシレジン製、エピコート152E-2:ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂ジャパンエポキシレジン製、エピコート157S65[F]密着助剤F-1:γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン[実施例8][A]光重合開始剤としての化合物A-1を含有する溶液を、1質量部固形分に相当する量、[B]重合性化合物としてのB-13質量部及びB-212質量部、並びに[F]密着助剤としてのF-10.01質量部を混合し、固形分濃度が30質量となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解させた後、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過して、感放射線性組成物の溶液を調製した。[実施例9~17、比較例1~3]各成分の種類及び配合量を表1に記載の通りとした以外は、実施例8と同様に操作して各感放射線性組成物を調製した。なお、表1中の-は、該当する成分を使用しなかったことを示す。<評価>調製した各感放射線性組成物について以下の評価をした。結果を表1にあわせて示す。[放射線感度J/m2]無アルカリガラス基板上に、各感放射線性組成物の溶液をそれぞれスピンナーにより塗布した後、80°Cのホットプレート上で3分間プレベークすることにより、感放射線性組成物の塗膜膜厚4.0μmを形成した。得られた塗膜上に、直径15μmの丸状残しパターンを複数有するフォトマスクを使用して露光した。このとき、塗膜表面とフォトマスクとの間に所定の間隙露光ギャップを設けた。次いで、高圧水銀ランプを用い、上記フォトマスクを介して、露光量を変量しつつ塗膜に露光を行った。続いて、濃度を0.05質量とした水酸化カリウム水溶液を用いて、25°Cにて20秒の現像時間でシャワー法により現像した後、純水洗浄を1分間行い、さらにオーブン中230°Cにて20分間ポストベークすることにより、丸状パターンを形成した。ポストベーク後のこの丸状パターンの高さを、レーザー顕微鏡キーエンス製、VK-8500を用いて測定した。この値と下記式から残膜率を求めた。残膜率=ポストベーク後のパターン高さ/初期膜厚×100この残膜率が90以上になる最小の露光量を、感放射線性組成物の放射線感度J/m2とした。露光量が1,000J/m2以下の場合、放射線感度が良好であると判断した。[透明性]フォトマスクを使用せず、露光量を1,500J/m2とした以外は、上記放射線感度の評価と同様に操作して、ガラス基板NA35、NHテクノグラス製上に硬化膜を形成した。分光光度計150-20型ダブルビーム、日立製作所製を用い、この硬化膜を有するガラス基板の光線透過率を、保護膜を有さないガラス基板を参照側として400nm~800nmの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率の値を、硬化膜の透明性とした。この値が95以上のとき、硬化膜の透明性は良好と判断した。[表面硬度]上記透明性の評価と同様に操作して、形成した硬化膜を有する基板について、JISK-5400-1990の8.4.1鉛筆引っかき試験により、硬化膜の鉛筆硬度表面硬度を測定し、表面硬度とした。この値が3H以上の場合、硬化膜の表面硬度は良好と判断した。[昇華物揮発量μg]シリコン基板上に各感放射線性組成物の溶液をそれぞれスピンナーにより塗布し、塗布膜厚が6.0μmの塗膜を形成した。この塗膜について、ヘッドスペースガスクロマトグラフィー/質量分析ヘッドスペースサンプラ;日本分析工業製、JHS-100A、ガスクロマトグラフィー/質量分析装置;日本電子工業製、JEOLJMS-AX505W型質量分析計により分析を行った。パージ条件を100°C/10minとし、光重合開始剤由来の揮発成分の発生に関するピーク面積Aを求めた。標準物質としてn-オクタン比重;0.701、注入量;0.02μLを使用し、そのピーク面積を基準として、下記式からn-オクタン換算による光重合開始剤由来の昇華物揮発量μgを算出した。昇華物揮発量μg=A×n-オクタンの量/n-オクタンのピーク面積この値が1.5以下のとき、硬化膜からの昇華物が少なく、光重合開始剤の昇華性は十分低いと判断した。表1から明らかなように、本発明の新規化合物である[A]光重合開始剤を含む感放射線性組成物を用いた実施例は、放射線感度、得られる硬化膜の透明性及び表面硬度がバランス良く優れていると共に、昇華物揮発量が低減されていることがわかった。"