"高選択性エポキシ化触媒で満たされた多数の反応管を有する触媒床を備える反応器中に用いられるエチレンエポキシ化プロセスの選択性を改善するための方法であって、a触媒床を、少なくとも一定時間T1の間、エチレン、酸素および有機塩化物調整剤を含む供給原料に接触させて、エチレンオキシドを生成するステップ、b続いて、i供給原料に加える有機塩化物調整剤を有意に低減し、およびii反応器温度を上昇させることによって触媒を処理し、触媒の表面から塩化物の一部をストリップすることを含む、一定時間T2の間高選択性エポキシ化触媒にハードストリップを行うステップ、ならびにcハードストリップの後、供給原料に加える有機塩化物の量を以前の濃度の80から120の間のレベルに増加させ、反応器温度を以前の反応器温度レベルの5°C内に低下させるステップを含む方法。有機塩化物調整剤が、塩化メチル、塩化エチル、二塩化エチレン、塩化ビニルおよびこれらの混合物からなる群より選択される、請求項1に記載の方法。ステップaにおいて供給原料と共に加えられる新たな有機塩化物の量が、総供給原料に対する塩化物のモルとして計算して、0.01x10-4モルから2x10-3モルまでの範囲である、請求項2に記載の方法。供給原料中に加えられる新たな有機塩化物の量を、ステップbハードストリップ中に50パーセントから100パーセント減少させる、請求項3に記載の方法。反応器温度を、ステップbハードストリップ中に約1°Cから約30°C上昇させる、請求項4に記載の方法。反応器温度を、ステップbハードストリップ中に約2°Cから約15°C上昇させる、請求項4に記載の方法。T1が始動後および触媒の1立方メートル当たり約0.1キロトンのエチレンオキシドの生成後の時間であり、ならびにT2が約2時間から約72時間である、請求項4に記載の方法。T2が約4時間から24時間である、請求項7に記載の方法。高選択性エポキシ化触媒が、担体ならびに担体上に堆積された銀、レニウム助触媒、第1の共助触媒および第2の共助触媒を含む、請求項4に記載の方法であって、a担体上に堆積されたレニウム助触媒の量が、触媒の重量に対して、1mmole/kgより大きく、b第1の共助触媒が硫黄、リン、ホウ素およびこれらの混合物から選択され、ならびにc第2の共助触媒がタングステン、モリブデン、クロムおよびこれらの混合物から選択される、方法。担体上に堆積された第1の共助触媒および第2の共助触媒の総量が、触媒の重量に対して最大で10.0mmole/kgであり、ならびに担体が単峰型、二峰型または多峰型の細孔径分布を有し、0.01-200μmの細孔径範囲、0.03-10m2/gの比表面積、0.2-0.7cm3/gの細孔体積であり、担体の細孔径中央値が0.1-100μmであり、ならびに10-80の吸水度を有する、請求項9に記載の方法。供給原料中のCO2が2未満である、請求項10に記載の方法。1,2-ジオール、1,2-ジオールエーテル、1,2-カルボネートまたはアルカノールアミンを調製するための方法であって、エチレンオキシドを1,2-ジオール、1,2-ジオールエーテル、1,2-カルボネートまたはアルカノールアミンに転化することを含み、エチレンオキシドが請求項1に記載の方法により調製されている、方法。発明の要旨本発明は、上述した典型的な様式での高選択性触媒の日常的稼働が真に最適ではないことを示している。始動中に行われるプロセス、すなわち、低い塩化物レベルの存在下で触媒を高温に暴露することが触媒ドーパントを最適に分布させるのに必要であると考えられている。触媒運転中に塩化物レベルを徐々に増加しても、通常は最適な表面ドーパント構成を維持するための適切な条件とはならない。触媒の選択性の有意な増加は、本発明に従って、供給原料の塩化物レベルを一定時間の間有意に低減または除去するハードストリップを実施することにより得ることができる。ハードストリップ後、塩化物レベルは先ず、以前の塩化物レベルすなわち、ハードストリップ直前の使用時の塩化物レベルに大体戻る。1つの任意選択としては、その時点で触媒を再最適化する。本願発明のハードストリップ手順により、触媒選択性が数ポイント増加し得、劣化のため選択性が有意に喪失した触媒に最大の利益があることが見出された。こうした場合において、ハードストリップの後に3もの選択性の増加が観察された。本発明によれば、高選択性触媒を用いたエポキシ化プロセスの稼働は、本発明によるプロセスステップの利用により改善され得る。特に、本発明は、高選択性エポキシ化触媒で満たされた多数の反応管を有する触媒床を備える反応器中に用いられるエチレンエポキシ化プロセスの選択性を改善するための方法を含み、a触媒床を、少なくとも一定時間T1の間、エチレン、酸素および有機塩化物調整剤を含む供給原料に接触させて、エチレンオキシドを生成するステップ、b続いて、i供給原料に加える有機塩化物調整剤を有意に低減し、およびii反応器温度を上昇させることによって触媒を処理し、触媒の表面から塩化物の一部をストリップすることを含む、一定時間T2の間高選択性エポキシ化触媒にハードストリップを行うステップ、ならびにcハードストリップの後、供給原料に加える有機塩化物の量を以前の濃度の80から120の間のレベルに増加させ、反応器温度を以前の反応器温度レベルの5°C内に低下させるステップを含む方法である。本発明のステップaは、プラントおよびプロセスの設計パラメーターに従ってエチレンオキシドを生成するプロセスの平常稼働を含む。本発明によれば、中間ストリッピングステップbの包含により稼働および選択性を改善することが可能であり、このステップでは有機塩化物供給原料を有意に低減または停止し、触媒表面上の塩化物レベルが有意に低下するまで反応器温度を一定時間の間上昇させる。ステップcの後に場合により行うステップでは、平常稼働の再開前に新しい最適な選択性を達成するために様々な稼働条件を再最適化することができる。平常稼働は、続いて触媒床をエチレン、酸素および有機塩化物調整剤を含む供給原料と接触させることを含むことになる。本方法に用いるための有機塩化物は、典型的には、1つまたは複数の塩化炭化水素である。好ましくは、有機塩化物は、塩化メチル、塩化エチル、二塩化エチレン、塩化ビニルまたはこれらの混合物の群より選択される。最も好ましい反応改質剤は、塩化エチル、塩化ビニルおよび二塩化エチレンである。エチレンオキシドに対する選択性は、転化されたエチレンの総モル量と比べた反応生成物中のエチレンオキシドのモル量を示す。高選択性とは、80モルより大きい、好ましくは85.7モルより大きい選択性を有した触媒を意味する。このような触媒の一つは、US4,766,105またはUS2009/0281345A1で開示されているようなレニウム含有触媒である。T1は、始動に続いての初期期間の時間を指し、触媒の1立方メートル当たり少なくとも0.1キロトン105kgのエチレンオキシドを生成するのに必要とされる時間として規定される。典型的な商業仕事率が100kg/m3/時から300kg/m3/時の範囲であれば、これは約14日から約42日に相当する。T2は、塩化物ストリップのための時間を表し、塩化物ストリップ前と同一またはより良好な商業速度でEOの生成を開始するためには可能な限り短くすべきである。このT2時間は、典型的には約2時間から72時間であり、より好ましくは約4から約24時間である。長い間用いられている触媒初期最適化プロセスでは、最適値が触媒寿命期間を通じて存続する触媒は生成しないと思われる。むしろ、塩化物のストリッピングとそれに続く塩化物の再導入が行われるまでは、触媒上の塩化物の分布は真の最適値に到達できないと思われる。これはEOの生成利益性が有意に改善するこれまでに知られていない稼働方法である。始動中の触媒のストリッピングは一般的な方法であるが、後続のストリッピングは平常稼働では行われない。これは塩化物ストリップ中に選択性とEO生成の両方が低下し、EOプラントの生成減につながるためであり、プラント運営者はEOの生成損を望まない。しかし、本発明に示されるように、本発明に従って塩化物のハードストリップが時々行われた場合、長期間の稼働中、少なくとも0.5またはそれ以上の選択性改善をもたらす。したがって、時々のハードストリップ実施は、将来、EO触媒の好ましい形態の稼働を構成し得る。本エポキシ化方法は数多くの方法で実施され得るが、気相法として実施する、つまり、固体材料として典型的には充填床中に存在する触媒と、供給原料が気相中で接触する方法として実施するのが好ましい。一般に、本方法は連続プロセスとして実施される。反応器は、典型的には、触媒を加熱または冷却するための熱交換設備を装備している。本明細書で用いられる供給原料とは、触媒と接触している組成物であるとみなされる。本明細書で用いられる触媒温度または触媒床温度とは、触媒床のほぼ途中の温度であるとみなされる。新しい触媒ならびにプラント休業のために長期の休業期間に置かれた劣化した触媒がエポキシ化プロセスに利用される場合、始動プロセスを実施する前にこれらの触媒を、高温においてスイープガスに触媒を通過させることにより前処理することが場合によっては有用であり得る。スイープガスは、典型的には、不活性ガス、たとえば窒素もしくはアルゴンであり、または窒素および/もしくはアルゴンを含む混合物である。昇温により、触媒製造に使用済みでもよい有機窒素化合物の有意な部分が窒素含有ガスに転化され、ガス流中に掃引され、触媒から除去される。さらに、あらゆる水分が触媒から除去され得る。典型的には、触媒が反応器中に装填された際、冷却剤用加熱器を利用することにより、触媒の温度が、最大で200°Cから250°Cまで上げられ、好ましくは210°Cから230°Cまで上げられ、ガス流が触媒を通過していく。この前処理についてのさらなる詳細は米国特許第4,874,879号に見出され得、これは本明細書に参照により組み込まれる。触媒は、触媒をエチレン、酸素および有機塩化物を含む供給原料と接触させる初期ステップを含む始動プロセスを受ける。わかりやすくするため、該プロセスのこのステップは、以下で初期始動フェーズという用語により表される。初期始動フェーズ中、触媒は、始動プロセス後に平常の初期稼働条件下で触媒がラインアウトした後にもたらされる選択性においてまたは近傍でエチレンオキシドを生成することができる。特に、初期始動フェーズ中、選択性は、平常の初期稼働条件下での最適な選択性性能の3モル以内であり得、より詳細には2モル以内であり得、最も詳細には1モル以内であり得る。適切には、選択性は、初期始動フェーズ中に、86.5モル超に到達して維持され得、特に少なくとも87モルに到達して維持され得、より詳細には少なくとも87.5モルに到達して維持され得る。触媒の選択性が素早く増加するので、有利なことに、エチレンオキシドのさらなる生成がある。初期始動フェーズ中、触媒は少なくとも1x10-5モルの塩化ビニルの増加全ガス混合物に対する塩化ビニルのモルとして計算してが反応器出口または再循環ガスループにおいて検出されるまで、一定時間の間有機塩化物と接触される。理論に拘束されることを望むものではないが、塩化ビニル以外の有機塩化物を用いた場合、出口または再循環ループにおいて検出された塩化ビニルは、触媒中に存在する銀の表面に吸着された塩化物と供給原料中に存在するC2炭化水素との反応により発生したと考えられる。好ましくは、触媒は、塩化ビニルの少なくとも2x10-5モルの増加、特に最大で1x10-4モル全ガス混合物に対する塩化ビニルのモルとして計算の増加が反応器出口または再循環ガスループにおいて検出されるまで、一定時間の間、有機塩化物と接触される。初期始動フェーズ中に触媒と接触する有機塩化物の量は、触媒の1キログラム当たり塩化物の1ミリモルmmolar当量から12ミリモル当量までの範囲であり得る。mmolar当量の塩化物は、有機塩化物分子中に存在する塩化物原子の数を有機塩化物のモルに乗じることにより決定され、たとえば1mmoleの二塩化エチレンは、2mmolar当量の塩化物を提供する。有機塩化物は、1時間から15時間までの、好ましくは2時間から10時間までの、より好ましくは2.5時間から8時間までの範囲の一定時間の間、触媒床に供給され得る。適切には、触媒と接触する有機塩化物の量は、最大で6mmolar当量/kg触媒であり得、特に最大で5.5mmolar当量/kg触媒であり得、より詳細には最大で5mmolar当量/kg触媒であり得る。初期始動フェーズ中の供給原料中の有機塩化物の量は、総供給原料に対する塩化物のモルとして計算して、少なくとも1.5x10-4モルであり得、特に少なくとも2x10-4モルであり得る。初期始動フェーズ中の有機塩化物の量は、総供給原料に対する塩化物のモルとして計算して、最大で0.1モルであり得、好ましくは最大で0.01モルであり得る。好ましくは、初期始動供給原料は、平常のエチレンオキシド生成の初期期間中に使用されるのに最適な量を超えた量の有機塩化物を含み得る。初期始動フェーズ中の供給原料はまた、本明細書に記載のようなニトレート形成化合物またはニトリト形成化合物等の有機ハロゲン化物ではないさらなる反応改質剤も含み得る。初期始動フェーズ中の供給原料はまた、エチレンも含有する。エチレンは、総供給原料に対して、少なくとも10モルの、好ましくは少なくとも15モルの、より好ましくは少なくとも20モルの量で初期始動供給原料中に存在し得る。エチレンは、総供給原料に対して、最大で50モルの、好ましくは最大で45モルの、より好ましくは最大で40モルの量で初期始動供給原料中に存在し得る。好ましくは、エチレンは、平常のエチレンオキシド生成中に利用されたのと同一または実質的に同一の量で初期始動供給原料中に存在し得る。これは、エチレン濃度が初期始動フェーズとプロセスをより効率的にする始動の後の平常のエチレンオキシド生成との間で調節されなくてもよいという、さらなる利点を提供する。初期始動フェーズ中の供給原料はまた、酸素も含有する。酸素は、総供給原料に対して、少なくとも1モルの、好ましくは少なくとも2モルの、より好ましくは少なくとも2.5モルの量で初期始動供給原料中に存在し得る。酸素は、総供給原料に対して、最大で15モル、好ましくは最大で10モルの、より好ましくは最大で5モルの量で初期始動供給原料中に存在し得る。平常のエチレンオキシド生成中のプロセスの後続段階における供給原料組成と比較してより少ない酸素量を初期始動供給原料中に適用することが有利であり得、この理由は、供給原料中のより少ない酸素量が酸素転化レベルを低下させ、その結果、有利なことに、触媒中の高温部位がより良好に回避されてプロセスがより容易に制御できるようになるためである。初期始動フェーズ中の供給原料はまた、二酸化炭素も含み得る。二酸化炭素は、総供給原料に対して、最大で10モルの、好ましくは最大で5モルの量で初期始動供給原料中に存在し得る。一実施形態では、初期始動フェーズはまた、総供給原料に対して、2モル未満の、好ましくは1.5モルパーセント未満の、より好ましくは1.2モルパーセント未満の、最も好ましくは1モルパーセント未満の、特に最大で0.75モルパーセントの二酸化炭素も含有する。本発明の平常の実践では、反応器供給原料中に存在する二酸化炭素の量は、総供給原料に対して、少なくとも0.1モルパーセントであり、または少なくとも0.2モルパーセントであり、または少なくとも0.3モルパーセントである。適切には、二酸化炭素は、平常のエチレンオキシド生成中に利用されたのと同一または実質的に同一の量で初期始動供給原料中に存在し得る。初期始動フェーズ中の供給原料の残部はまた、不活性状および/または飽和状の炭化水素も含み得る。初期始動フェーズ中、触媒温度は、好ましくは、エポキシ化プロセスが始動プロセス後の平常稼働条件下でラインアウトした後の平常初期触媒稼働温度と実質的に同一の温度であり得る。本明細書で用いられる実質的に同一の温度という用語は、始動プロセス後の平常稼働条件下でエポキシ化プロセスがラインアウトした後の平常初期触媒稼働温度の±5°C.以内の触媒温度を含むことを意図されている。好ましくは、触媒温度は、250°C.未満であり、好ましくは最大で245°Cである。触媒温度は、少なくとも200°C.であり得、好ましくは少なくとも220°C.であり得、より好ましくは少なくとも230°Cであり得る。反応器入口圧力は、最大で4000kPaabsoluteであり得、好ましくは最大で3500kPaabsoluteであり得、より好ましくは最大で2500kPaabsoluteであり得る。反応器入口圧力は、少なくとも500kPaabsoluteである。以下で規定されるガス毎時空間速度すなわちGHSVは、500N1/1.hから10000N1/1.hまでの範囲であり得る。初期始動フェーズ中、触媒は先ず、エチレンを含み場合によって飽和炭化水素、特にエタン、場合によってメタンを含む供給原料と接触され得る。有機塩化物が次いで、供給原料に加えられ得る。酸素が、供給原料への有機塩化物の最初の投入と同時にまたはすぐ後に、供給原料に加えられ得る。酸素の投入の数分内に、エポキシ化反応が始まり得る。二酸化炭素およびさらなる供給原料成分は、任意の時点で加えられ得、好ましくは、初期始動供給原料への酸素の最初の投入と同時またはすぐ後に加えられ得る。上述したように、初期始動フェーズ中、触媒は、始動プロセス後に平常初期稼働条件下で触媒がラインアウトした後にもたらされる選択性においてまたは近傍でエチレンオキシドを生成することができる。初期始動フェーズ中、触媒は、平常のエチレンオキシド生成中の目標生成レベルの45から100までの、特に、同一基準で50から70までのレベルでエチレンオキシドが生成されるような条件下で稼働される。本エポキシ化プロセスは、空気主体式であってもよくまたは酸素主体式であってもよく、Kirk-OthmerEncyclopediaofChemicalTechnology、第3版、9巻、1980、pp.445-447を参照されたい。空気主体式プロセスでは、空気または酸素に富んだ空気が酸化剤の供給源として用いられるが、酸素主体式プロセスでは、高純度少なくとも95モルまたは非常に高純度少なくとも99.5モルの酸素が酸化剤の供給元として用いられる。酸素主体式プロセスのさらなる記述については、参照により組み込む米国特許第6,040,467号を参照することができる。現在、大抵のエポキシ化プラントは、酸素主体式であり、これは、本発明の好ましい実施形態である。エチレン、酸素および有機塩化物以外にも、平常のエポキシ化プロセス中の生成供給原料は、窒素含有反応改質剤、二酸化炭素、不活性ガスおよび飽和炭化水素等、1つまたは複数の場合による成分を含有してよい。窒素酸化物、ニトロメタン、ニトロエタンおよびニトロプロパン等の有機ニトロ化合物、ヒドラジン、ヒドロキシルアミンまたはアンモニアは、エポキシ化プロセス中に反応改質剤として使用され得る。エチレンエポキシ化の稼働条件下では、窒素含有反応改質剤はニトレートまたはニトリトの前駆体であり、つまり、それらはいわゆるニトレート形成化合物またはニトリト形成化合物であると頻繁に考えられている。窒素含有反応改質剤のさらなる記述については、参照により本明細書に組み込むEP-A-3642および米国特許第4,822,900号を参照することができる。適切な窒素酸化物は、一般式NOxのものであり、式中、xは、1から2.5までの範囲にあり、たとえばNO、N2O3、N2O4およびN2O5を含む。適切な有機窒素化合物は、ニトロ化合物、ニトロソ化合物、アミン、ニトレートおよびニトリトであり、たとえばニトロメタン、1-ニトロプロパンまたは2-ニトロプロパンである。二酸化炭素は、エポキシ化プロセスにおける副生成物である。しかしながら、二酸化炭素は一般に、触媒活性に悪影響を与え、したがって、高濃度の二酸化炭素は、典型的には回避される。平常のエポキシ化プロセス中の典型的なエポキシ化反応器供給原料は、供給原料中の二酸化炭素を、総供給原料に対して最大で10モルの量で含有し得、好ましくは総供給原料に対して最大で5モルの量で含有し得る。総供給原料に対して3モル未満の、好ましくは2モル未満の、より好ましくは1モル未満の量の二酸化炭素が用いられ得る。商業運転中には、総供給原料に対して少なくとも0.1モルの、特に少なくとも0.2モルの量の二酸化炭素が供給原料中に存在し得る。不活性ガスは、たとえば、窒素もしくはアルゴンまたはこれらの混合物であり得る。適切な飽和炭化水素は、プロパンおよびシクロプロパンであり、特に、メタンおよびエタンである。酸素可燃限界を上げるため、飽和炭化水素を供給原料に加えてもよい。平常のエチレンオキシド生成フェーズ中、本発明は、エポキシ化プロセスの分野で公知な方法を用いて実践され得る。このようなエポキシ化方法のさらなる詳細については、たとえば、米国特許第4,761,394号、米国特許第4,766,105号、米国特許第6,372,925号、米国特許第4,874,879号および米国特許第5,155,242号を参照することができ、これらは、参照により本明細書に組み込む。平常のエチレンオキシド生成フェーズ中、本プロセスは、広範な範囲から選択される反応温度を用いて実施することができる。好ましくは、その反応温度は、150°Cから325°Cまでの範囲であり、より好ましくは180°Cから300°Cまでの範囲である。平常のエチレンオキシド生成フェーズ中、供給原料中のこれらの成分の濃度は、以下に記載するように、広範な範囲内で選択され得る。生成供給原料中に存在するエチレンの量は、広範な範囲内で選択され得る。供給原料中に存在するエチレンの量は、総供給原料に対して最大で80モルになる。好ましくは、それは、同一基準において、0.5モルから70モルまでの、特に1モルから60モルまでの範囲になる。好ましくは、生成供給原料中のエチレンの量は、始動プロセス中に用いられるものと実質的に同一である。必要であれば、触媒の寿命中にエチレン濃度を上昇させてもよく、それにより触媒劣化した稼働フェーズ中に選択性を改善し得る。その方法が参照により本明細書に組み込まれている米国特許第6,372,925号を参照されたい。供給原料中にしばしば存在するのは、エタンおよびメタン等の飽和炭化水素である。これらの飽和炭化水素はまた、吸着された塩化物を触媒の表面から除去またはストリップするのに効果的であることから塩化物調整剤の作用に影響を及ぼすため、共調整剤とも呼称される。エタンのレベルは、典型的には、供給原料の0.05モルから1.5モルであり、より典型的には供給原料の0.05molから0.5molであり、反応器への特定の供給原料流に依存する。このようなレベルはモニターされるが、平常稼働中には通常だと制御されない。生成供給原料中に存在する酸素の量は、広範な範囲内で選択され得る。しかしながら、実際には、酸素は一般に可燃域を回避する量で施用される。施用される酸素の量は、総供給原料の4モルから15モルまでの、より典型的には5モルから12モルまでの範囲内になる。可燃域外維持のため、エチレンの量の増加に伴い供給原料中に存在する酸素の量を低下させ得る。実際の安全稼働範囲は、供給原料組成と共に、反応温度および圧力等の反応条件にもまた依存する。有機塩化物は一般に、生成供給原料中に、たとえば総生成供給原料に対する塩化物のモルとして計算して最大で0.1モルの少量で用いられたときに、たとえば総生成供給原料に対する塩化物のモルとして計算して0.01x10-4モルから0.01モルまでの少量で用いられたときに、反応改質剤として効果的である。特に、有機塩化物が、総生成供給原料に対する塩化物のモルとして計算して、1x10-4モルから50x10-4モルまでの、特に1.5x10-4モルから25x10-4モルまでの、より詳細には1.75x10-4モルから20x10-4モルまでの量で供給原料中に存在し得るのが好ましい。窒素含有反応改質剤が施用される場合、それらは、たとえば総生成供給原料に対する窒素のモルとして計算して最大で0.1モルの低量で、たとえば総生成供給原料に対する窒素のモルとして計算して0.01x10-4モルから0.01モルまでの低量で供給原料中に存在し得る。特に、窒素含有反応改質剤が、総生成供給原料に対する窒素のモルとして計算して、0.05x10-4モルから50x10-4モルまでの、特に0.2x10-4モルから30x10-4モルまでの、より詳細には0.5x10-4モルから10x10-4モルまでの量で供給原料中に存在し得るのが好ましい。不活性ガス、たとえば窒素またはアルゴンは、総供給原料に対して、0.5モルから90モルの量で生成供給原料中に存在し得る。空気主体式プロセスでは、不活性ガスは、生成供給原料中に30モルから90モルまでの量で存在し得、典型的には40モルから80モルまでの量で存在し得る。酸素主体式プロセスでは、不活性ガスは、生成供給原料中に0.5モルから30モルまでの量で存在し得、典型的には1モルから15モルまでの量で存在し得る。飽和炭化水素が存在するならば、それらは、総生成供給原料に対して最大で80モルの量で存在し得、特に、同じ基準で最大で75モルの量で存在し得る。高頻度で、それらは、同じ基準で、少なくとも30モルの量で存在し、より高頻度では少なくとも40モルの量で存在する。平常のエチレンオキシド生成フェーズでは、エポキシ化プロセスは、好ましくは、1000kPaから3500kPaまでの範囲の反応器入口圧力において実施される。GHSVすなわちガス毎時空間速度とは、充填された触媒の1単位体積を1時間毎に常温および常圧0°C、1atmすなわち101.3kPaにおいて通過する単位容積のガスである。好ましくは、エポキシ化プロセスが充填触媒床を伴った気相プロセスであるとき、GHSVは、1500N1/1.hから10000N1/1.hまでの範囲である。好ましくは、本プロセスは、1時間毎に触媒の1m3当たり0.5kmoleから10kmoleまでのエチレンオキシドが生成される範囲の仕事率で、特に1時間毎に触媒の1m3当たり0.7kmoleから8kmoleのエチレンオキシドが生成される範囲の仕事率で、たとえば1時間毎に触媒の1m3当たり5kmoleのエチレンオキシドが生成される範囲の仕事率で実施される。本明細書で用いられる際、仕事率とは、1時間毎に触媒の1単位体積当たりに生成されるエチレンオキシドの量であり、選択性とは、転化されたエチレンモル量に対する、形成されたエチレンオキシドのモル量である。本発明の鍵は、塩化物のハードストリップを、本プロセス初期始動の次に、および計画EO運転による一部の生成後に、ただし計画休業および触媒交換の前に、始めることである。以前はEOプラント運営者は、ハードストリップの検討はせずに、経時劣化した触媒活性および/または選択性を改善するため、反応器温度を上昇させおよび/または塩化物調整剤の相対量を変更する稼働の変更をしていた。これは古い劣化触媒を除去しそれを新しい触媒と交換するためのプラント休業が必要になるまで続いた。今や、平常稼働中に塩化物のハードストリップを導入する経済的インセンティブがあることが発見された。塩化物のストリッピングは、新鮮な塩化物調整剤の導入を先ず停止または有意に低減してから反応器温度を上昇することにより達成される。塩化物投入の平常レベルは、触媒、温度、ガス流量および触媒体積の関数である。有意に量を低減するとは、反応器に向かう供給原料流中への新鮮な塩化物調整剤の導入を少なくとも50低減すること、より好ましくは少なくとも75低減すること、最も好ましくは塩化物のすべての新たな投入を排除することにより低減すること100の低減を意味する。塩化物の一部を触媒の表面からストリップするためには、反応器温度を約1°Cから約30°Cまで、好ましくは約2°Cから約15°Cまで上昇することもまた典型的には必要になる。塩化物ストリップの後、塩化物は次いで、レベルがハードストリップの前とほぼ同一に到達するまで、比較的短い時間にて再導入される。ハードストリップ時間に関しては、所望の結果を成し遂げ、ハードストリップ前と同一またはより良好な商業速度でEOの生成を開始するために、可能な限り時間を短くすべきである。この時間は、典型的には約2時間から72時間であり、より好ましくは約4時間から約24時間である。ハードストリップの後、本プロセスは、平常プラント条件下で継続され得る。場合によるステップ中、本プロセスは、ハードストリップの後に再最適化され得る。これは、塩化物調整剤を上下に変動して、どのレベルにおいて選択性が実質的に最適値になるかを測定することにより実行され得る。この最適化ステップは、米国特許第7,193,094号および米国公開出願第2009/0281339号で完全に説明されており、これらの開示は、参照により本明細書に組み込む。第1のハードストリップの後、ハードストリップは後で、必要に応じてたとえば、選択性が予想より低く低下する場合に運転中に反復され得る。エポキシ化触媒は、担持触媒である。担体は、広範な範囲の材料から選択することができる。このような担体材料は、天然の無機材料であってよくまたは人工の無機材料であってよく、それらは、炭化ケイ素、粘土、軽石、ゼオライト、木炭および炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属カルボネートを含む。好ましいのは、アルミナ、マグネシア、ジルコニア、シリカおよびこれらの混合物等の耐火性担体材料である。最も好ましい担体材料は、αアルミナである。担体の表面積は、適切には、担体の重量に対して、少なくとも0.1m2/gであり得、好ましくは少なくとも0.3m2/gであり得、より好ましくは少なくとも0.5m2/gであり得、特に少なくとも0.6m2/gであり得、表面積は、適切には、担体の重量に対して、最大で20m2/gであり得、好ましくは最大で10m2/gであり得、より好ましくは最大で6m2/gであり得、特に最大で4m2/gであり得る。本明細書で用いられる表面積は、JournaloftheAmericanChemicalSociety601938pp.309-316に記載されているようなB.E.T.Brunauer,EmmettandTeller法によって測定される表面積に関すると理解される。高表面積担体が更にシリカ、アルカリ金属成分および/またはアルカリ土類金属成分を場合によって含むαアルミナ担体である場合は特に、稼働性能および安定性が改善される。担体の吸水度は、適切には、少なくとも0.2g/gであり得、好ましくは少なくとも0.25g/gであり得、より好ましくは少なくとも0.3g/gであり得、最も好ましくは少なくとも0.35g/gであり得、吸水度は、適切には、最大で0.85g/g、好ましくは最大で0.7g/gであり得、より好ましくは最大で0.65g/gであり得、最も好ましくは最大で0.6g/gであり得る。担体の吸水度は、0.2g/gから0.85g/gまでの範囲であり得、好ましくは0.25g/gから0.7g/gまでの範囲であり得、より好ましくは0.3g/gから0.65g/gまでの範囲であり得、最も好ましくは0.42g/gから0.52g/gまでの範囲であり得る。より高い吸水度は、含漬による担体上への金属および助触媒のより効率的な堆積の観点から好まれ得る。しかしながら、より高い吸水度において、担体またはこれから作製された触媒は、より低い圧潰強度を有し得る。本明細書で用いられる吸水度は、ASTMC20に従って測定されたものとし、吸水度は、担体の重量に対する、担体の細孔中に吸着され得る水の重量として表される。担体は、可溶性残渣を除去するため、担体上への触媒成分の堆積前に洗浄され得る。さらには、全燃焼性材料を含む、担体を形成するのに用いた材料は、可溶性残渣を除去するために洗浄され得る。このような担体は、米国特許第6,368,998号およびWO-A2-2007/095453に記載されており、これは、参照により本明細書に組み込む。一方、未洗浄の担体もまた、成功裏に用いられ得る。担体の洗浄は一般に、可溶性および/またはイオン化性材料の大半を担体から除去するのに効果的な条件下で行われる。洗浄液は、たとえば水であってよく、1つもしくは複数の塩を含む水溶液であってよく、または水性有機希釈液であってよい。水溶液中に含まれるのに適した塩は、たとえばアンモニウム塩を含み得る。適切なアンモニウム塩は、たとえば硝酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム、フッ化アンモニウムおよびカルボン酸アンモニウム、たとえば酢酸アンモニウム、クエン酸アンモニウム、クエン酸水素アンモニウム、ギ酸アンモニウム、乳酸アンモニウムおよび酒石酸アンモニウムを含み得る。適切な塩はまた、アルカリ金属硝酸塩、たとえば硝酸リチウム、硝酸カリウムおよび硝酸セシウム等、その他の種類の硝酸塩も含み得る。水溶液中に存在する塩の適切な総量は、少なくとも0.001重量であり得、特に少なくとも0.005重量であり得、より詳細には少なくとも0.01重量であり得、最大で10重量であり得、特に最大で1重量であり得、たとえば0.03重量であり得る。含まれ得るまたは含まれていなくてもよい適切な有機希釈液は、たとえば、1つまたはそれ以上のメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、エチレングリコール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジメチルホルミアミド、アセトンまたはメチルエチルケトンである。銀触媒の調製は当分野では公知であり、本発明の実践に用いられ得る触媒の調製に公知方法を適用できる。担体上に銀を堆積する方法は、カチオン状銀および/または錯体状銀を含有する銀化合物に担体または担体ボディを含漬させること、および、金属状銀粒子を形成する還元を実施することを含む。このような方法のさらなる記載については、米国特許第5,380,697号、米国特許第5,739,075号、米国特許第4,766,105号および米国特許第6,368,998号を参照することができ、これらは、参照により本明細書に組み込む。適切には、銀分散液、たとえば銀ゾルが、担体上に銀を堆積するのに用いられ得る。金属状銀へのカチオン状銀の還元は、触媒が乾燥されてその結果このような還元が別個のプロセスステップを必要としなくなるステップ中に達成され得る。これは、銀含有含漬溶液が還元剤、たとえば、オキサレート、ラクテートまたはホルムアルデヒドを含む場合の事例であり得る。明瞭な触媒活性が、触媒の重量に対して少なくとも10g/kgの触媒の銀含量を採用することにより得られる。好ましくは、触媒は、10g/kgから500g/kgまでの、より好ましくは50g/kgから450g/kgまでの、たとえば105g/kgまたは120g/kgまたは190g/kgまたは250g/kgまたは350g/kgの量の銀を含む。本明細書で用いられる触媒の重量は、そうでないと述べられていない限り、担体および触媒成分の重量を含む触媒の総重量であるとみなされる。一実施形態では、本触媒は、触媒の重量に対して少なくとも150g/kgの触媒の銀含量を採用する。好ましくは、触媒は、150g/kgから500g/kgまでの、より好ましくは170g/kgから450g/kgまでの、たとえば190g/kgまたは250g/kgまたは350g/kgの量の銀を含む。本発明に用いるための触媒は、レニウム助触媒成分をさらに含む。レニウム助触媒が担体上に堆積され得る形態は、本発明にとって重要ではない。たとえば、レニウム助触媒は、適切には、塩または酸の形態の酸化物としてまたはオキシアニオンとして提供され得、たとえばレニウム酸塩または過レニウム酸塩として提供され得る。レニウム助触媒は、触媒の重量に対する元素の総量として計算して、少なくとも0.01mmole/kgの、好ましくは少なくとも0.1mmole/kgの、より好ましくは少なくとも0.5mmole/kgの、最も好ましくは少なくとも1mmole/kgの、特に少なくとも1.25mmole/kgの、より詳細には少なくとも1.5mmole/kgの量で存在し得る。レニウム助触媒は、触媒の重量に対する元素の総量として計算して、最大で500mmole/kgの、好ましくは最大で50mmole/kgのより好ましくは最大で10mmole/kgの量で存在し得る。一実施形態では、レニウム助触媒は、触媒の重量に対する元素の総量として計算して、少なくとも1.75mmole/kgの、好ましくは少なくとも2mmole/kgの量で存在する。レニウム助触媒は、触媒の重量に対する元素の総量として計算して、最大で15mmole/kgの、好ましくは最大で10mmole/kgの、より好ましくは最大で8mmole/kgの量で存在し得る。一実施形態では、本触媒は、担体上に堆積されたカリウム助触媒をさらに含み得る。カリウム助触媒は、触媒の重量に対する堆積されたカリウム元素の総量として計算して、少なくとも0.5mmole/kgの、好ましくは少なくとも1mmole/kgの、より好ましくは少なくとも1.5mmole/kgの、最も好ましくは少なくとも1.75mmole/kgの量で堆積され得る。カリウム助触媒は、同一基準において、最大で20mmole/kgの、好ましくは最大で15mmole/kgの、より好ましくは最大で10mmole/kgの、最も好ましくは最大で5mmole/kgの量で堆積され得る。カリウム助触媒は、同一基準において、0.5mmole/kgから20mmole/kgまでの、好ましくは1mmole/kgから15mmole/kgまでの、より好ましくは1.5mmole/kgから7.5mmole/kgまでの、最も好ましくは1.75mmole/kgから5mmole/kgまでの量で堆積され得る。本発明によって調製された触媒は、反応供給原料が低レベルの二酸化炭素を含有する条件下で稼働された場合は特に、触媒の選択性、活性および/または安定性における改善を示し得る。本発明に用いるための触媒は、レニウム共助触媒をさらに含み得る。レニウム共助触媒は、タングステン、モリブデン、クロム、硫黄、リン、ホウ素およびこれらの混合物から選択され得る。レニウム共助触媒は、元素すなわち、タングステン、クロム、モリブデン、硫黄、リンおよび/またはホウ素の合計として計算して、触媒の重量に対して、少なくとも0.1mmole/kgの、より典型的には少なくとも0.25mmole/kgの、好ましくは少なくとも0.5mmole/kgの総量で存在し得る。レニウム共助触媒は、同一基準において、最大で40mmole/kgの、好ましくは最大で10mmole/kgの、より好ましくは最大で5mmole/kgの総量で存在し得る。レニウム共助触媒が担体上に堆積され得る形態は、本発明にとって重要ではない。たとえば、それは、適切には、塩または酸の形態の酸化物としてまたはオキシアニオンとして提供され得、たとえば、硫酸塩、ホウ酸塩またはモリブデン酸塩として提供され得る。一実施形態では、本触媒はレニウム助触媒およびタングステンを含有し、レニウム助触媒のタングステンに対するモル比は2より大きい、より好ましくは少なくとも2.5、最も好ましくは少なくとも3である。レニウム助触媒のタングステンに対するモル比は、最大で20であり得、好ましくは最大で15であり得、より好ましくは最大で10であり得る。一実施形態では、本触媒は、レニウム助触媒を含み、第1の共助触媒成分および第2の共助触媒成分をさらに含む。第1の共助触媒は、硫黄、リン、ホウ素およびこれらの混合物から選択され得る。第1の共助触媒が元素としての硫黄を含むのが特に好ましい。第2の共助触媒成分は、タングステン、モリブデン、クロムおよびこれらの混合物から選択され得る。第2の共助触媒成分が元素としてのタングステンおよび/またはモリブデンを含むこと、特にタングステンを含むことが特に好ましい。第1の共助触媒成分および第2の共助触媒成分が担体上に堆積され得る形態は、本発明にとって重要ではない。たとえば、第1の共助触媒成分および第2の共助触媒成分は、適切には、塩または酸の形態の酸化物としてまたはオキシアニオンとして提供され得、たとえばタングステン酸塩、モリブデン酸塩または硫酸塩として提供され得る。この実施形態では、第1の共助触媒は、触媒の重量に対する元素の総量すなわち、硫黄、リンおよび/またはホウ素の合計として計算して、少なくとも0.2mmole/kgの、好ましくは少なくとも0.3mmole/kgの、より好ましくは少なくとも0.5mmole/kgの、最も好ましくは少なくとも1mmole/kgの、特に少なくとも1.5mmole/kgの、より詳細には少なくとも2mmole/kgの総量で存在し得る。第1の共助触媒は、触媒の重量に対する元素の総量として計算して、最大で50mmole/kgの、好ましくは最大で40mmole/kgの、より好ましくは最大で30mmole/kgの、最も好ましくは最大で20mmole/kgの、特に最大で10mmole/kgの、より詳細には最大で6mmole/kgの総量で存在し得る。この実施形態では、第2の共助触媒成分は、触媒の重量に対する元素の総量すなわち、タングステン、モリブデンおよび/またはクロムの合計として計算して、少なくとも0.1mmole/kgの、好ましくは少なくとも0.15mmole/kgの、より好ましくは少なくとも0.2mmole/kgの、最も好ましくは少なくとも0.25mmole/kgの、特に少なくとも0.3mmole/kgの、より詳細には少なくとも0.4mmole/kgの総量で存在し得る。第2の共助触媒は、触媒の重量に対する元素の総量として計算して、最大で40mmole/kgの、好ましくは最大で20mmole/kgの、より好ましくは最大で10mmole/kgの、最も好ましくは最大で5mmole/kgの総量で存在し得る。一実施形態では、第1の共助触媒の第2の共助触媒に対するモル比は、1より大きくなり得る。この実施形態では、第1の共助触媒の第2の共助触媒に対するモル比は、好ましくは少なくとも1.25であり得、より好ましくは少なくとも1.5であり得、最も好ましくは少なくとも2、特に少なくとも2.5であり得る。第1の共助触媒の第2の共助触媒に対するモル比は、最大で20であり得、好ましくは最大で15であり得、より好ましくは最大で10であり得る。一実施形態では、レニウム助触媒の第2の共助触媒に対するモル比は、1より大きくなり得る。この実施形態では、レニウム助触媒の第2の共助触媒に対するモル比は、好ましくは少なくとも1.25であり得、より好ましくは少なくとも1.5であり得る。レニウム助触媒の第2の共助触媒に対するモル比は、最大で20であり得、好ましくは最大で15であり得、より好ましくは最大で10であり得る。一実施形態では、本触媒は、触媒の重量に対して1mmole/kgより大きい量のレニウム助触媒を含み、担体上に堆積された第1の共助触媒および第2の共助触媒の総量は、触媒の重量に対する元素の総量すなわち、硫黄、リン、ホウ素、タングステン、モリブデンおよび/またはクロムの合計として計算して、最大で12mmole/kgであり得る。この実施形態では、第1の共助触媒および第2の共助触媒の総量は、好ましくは、最大で10mmole/触媒1kgであり得、より好ましくは最大で8mmole/触媒1kgであり得る。この実施形態では、第1の共助触媒および第2の共助触媒の総量は、好ましくは、少なくとも0.1mmole/触媒1kgであり得、より好ましくは少なくとも0.5mmole/触媒1kgであり得、最も好ましくは少なくとも1mmole/触媒1kgであり得る。本触媒は、好ましくは、担体上に堆積されたさらなる元素をさらに含み得る。適格なさらなる元素は、1つまたはそれ以上の窒素、フッ素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、バナジウム、タリウム、トリウム、タンタル、ニオブ、ガリウムおよびゲルマニウムならびにこれらの混合物であり得る。好ましくは、アルカリ金属は、リチウム、ナトリウムおよび/またはセシウムから選択される。好ましくは、アルカリ土類金属は、カルシウム、マグネシウムおよびバリウムから選択される。好ましくは、さらなる元素は、触媒の重量に対する元素の総量として計算して、0.01mmole/kgから500mmole/kgまでの、より好ましくは0.5mmole/kgから100mmole/kgまでの総量で触媒中に存在し得る。さらなる元素は、任意の形態で提供され得る。たとえば、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩または水酸化物が適切である。たとえば、リチウム化合物は、水酸化リチウムまたはリチウムニトレートであり得る。一実施形態では、本触媒は、触媒の重量に対する元素の総量として計算して、1.0mmole/kgより大きい、特に少なくとも2.0mmole/kgの、より詳細には少なくとも3.0mmole/kgの量のセシウムをさらなる元素として含み得る。この実施形態では、本触媒は、触媒の重量に対する元素の総量として計算して、最大で20mmole/kgの、特に最大で15mmole/kgの量のセシウムを含み得る。本明細書で用いられる際、そうでないと述べられていない限り、本触媒中に存在するアルカリ金属の量および担体中に存在する水浸出性成分の量は、100°Cにおいて脱イオン水により触媒または担体から抽出され得る限りの量であるとみなされている。抽出方法は、触媒または担体の10グラム試料を、5分間100°Cにおいて20ml部の脱イオン水中で加熱することにより3回抽出すること、および、合わさった抽出物中において公知な方法、たとえば原子吸光分析法を用いて妥当な金属を測定することを包摂する。本明細書で用いられる際、そうでないと述べられていない限り、本触媒中に存在するアルカリ土類金属の量および担体中に存在する酸浸出性成分の量は、100°Cにおいて脱イオン水中の10重量硝酸により触媒または担体から抽出される限りの量であるとみなされる。抽出方法は、触媒または担体の10グラム試料を、100ml部の10重量硝酸と一緒に30分間沸騰する1atm.、すなわち、101.3kPaことにより抽出すること、および、合わさった抽出物中において公知な方法、たとえば原子吸光分析法を用いて妥当な金属を測定することを包摂する。米国特許第5,801,259号が参照され、これは、参照により本明細書に組み込む。生成されたエチレンオキシドは、当分野で公知な方法を用いて生成混合物から回収され得、たとえば、反応器出口流からエチレンオキシドを水中に吸着し、場合によって水溶液からエチレンオキシドを蒸留によって回収することにより回収され得る。エチレンオキシドを含有する水溶液の少なくとも一部は、エチレンオキシドを1,2-ジオール、1,2-ジオールエーテル、1,2-カルボネートまたはアルカノールアミンに転化するための、特にエチレングリコール、エチレングリコールエーテル、炭酸エチレンまたはアルカノールアミンに転化するための後続プロセスにおいて利用され得る。エポキシ化プロセス中に生成されたエチレンオキシドは、1,2-ジオール、1,2-ジオールエーテル、1,2-カルボネートまたはアルカノールアミンに転化され得る。本発明は、エチレンオキシドの生成のためのより魅力的なプロセスにつながるのだが、それは同時に、本発明に従ってエチレンオキシドを生成すること、ならびに、得られたエチレンオキシドを続いて1,2-ジオール、1,2-ジオールエーテル、1,2-カルボネートおよび/またはアルカノールアミンの製造に使用することを含む、より魅力的なプロセスにもつながる。1,2-ジオールすなわちエチレングリコールまたは1,2-ジオールエーテルすなわちエチレングリコールエーテルへの転化は、たとえば、適切には酸性または塩基性の触媒を用いてエチレンオキシドを水と反応させることを含み得る。たとえば、1,2-ジオールを支配的に製造しながら1,2-ジオールエーテルを少なく製造するためには、エチレンオキシドは、酸触媒の存在下、たとえば全反応混合物に基づいて0.5-1.0重量硫酸の存在下での50-70°C、1barabsoluteにおける液相反応中に10倍モル過剰の水と反応し得、または、好ましくは触媒の不在下での130-240°C、20-40barabsoluteにおける気相反応中に反応し得る。このような大量の水の存在は、1,2-ジオールの選択的形成を助長することができ、反応による放熱受け皿として機能して、反応温度の制御に役立ち得る。水の比率が低下した場合、反応混合物中の1,2-ジオールエーテルの比率が増加する。代替の1,2-ジオールエーテルは、アルコール、特にメタノールまたはエタノール等の第1級アルコールを用いて少なくとも一部の水をアルコールによって置換することでエチレンオキシドを転化することにより調製され得る。エチレンオキシドは、エチレンオキシドを二酸化炭素と反応させることにより、対応する1,2-カルボネートに転化され得る。所望ならば、エチレングリコールは、続いてこの1,2-カルボネートを水またはアルコールと反応させてグリコールを形成することにより調製され得る。適用可能な方法については、米国特許第6,080,897号が参照され、これは、参照により本明細書に組み込む。アルカノールアミンへの転化は、たとえば、エチレンオキシドをアンモニアと反応させることを含み得る。無水アンモニアは、典型的には、モノアルカノールアミンの生成を助長するのに用いられる。アルカノールアミンへのエチレンオキシドの転化に適用可能な方法については、たとえば米国特許第4,845,296号を参照することができ、これは、参照により本明細書に組み込む。1,2-ジオールおよび1,2-ジオールエーテルは、多様な工業的用途に用いられ得、たとえば食品、飲料、タバコ、化粧品、熱可塑性ポリマー、硬化性樹脂システム、洗剤、伝熱システム等の分野に用いられ得る。1,2-カルボネートは、希釈液として用いられ得、特に溶媒として用いられ得る。アルカノールアミンは、たとえば、天然ガスの処理スイートニングに用いられ得る。[実施例1]チューブ画分とは、長期間の商業運転後に商業EO反応器から除去された触媒の試料であり、各画分は、特定の反応管の特定の軸領域を表す。実施例1では、プラントAにおける商業高選択性触媒サイクルの完了時に、種々のチューブ画分にマイクロリアクター検査を行った。本試験ではプラントAの平均的商業運転条件を厳密にシミュレートするため、下記パラメーターを用いた。供給原料ストック:27.5vC2H4、7.3vO2、1.4vCO2;可変量の塩化エチル調整剤、残部N2。条件:4680hr-1ガス毎時空間速度、19.5barg圧力、253kg/m3/hr仕事率。本発明者らのマイクロリアクターにおける本発明を実証するため、二段階検査プロトコルを利用した。ステップ1はそれ自体進歩性があるものではなく、本発明のステップの実施前に必要とされる決定的情報を提供するものであると理解するのが重要である。ステップ1の目的は、上述した条件において本発明者らのマイクロリアクター中で稼働するときの所与の触媒の塩化物最適値を同定すること、つまり、特定条件において最大の選択性が達成される塩化エチルの濃度EC-optを同定することであった。適切に運転している商業プラントでは、現状の触媒に対する塩化物の最適値レベルを既に承知しているはずであるが、プラントが報告する塩化物最適値と、本マイクロリアクター検査において本発明者らが観察する塩化物最適値とは正確には対応しないことが多い。この理由のため、本発明の採用を望む商業プラントとは異なり、ステップ1を用いて、本発明の実施前に、本発明者らのマイクロリアクター中の各試料の塩化物最適値を同定しなければならない。商業プラントが本発明を用いるには、以下にステップ2として記載される手順を適用するだけでよい。塩化物最適値を適切に同定するためには、最適値レベルより低い塩化物レベルにおいて最適化手順を開始し、最適値レベルを超えるまで塩化物レベルを段階的に上げ続けて各塩化物レベルにおいて平衡した性能データを収集し、それにより、この曲線の終点間のどこかに存在する最大選択性の領域を表している選択性対塩化物の曲線を探り出すことに留意しなければならない。触媒は、触媒表面上の塩化物の量と気相中の塩化物の量が平衡になっており、触媒表面上の前記塩化物レベルが最大選択性を獲得するのに必要とされる量より少ないときには、適度未満undermoderatedであると言われる。触媒を適度未満状態に変えるために、作業者は、触媒温度と気相中の塩化物レベルとの数多くの組合せから選択できる。たとえば、作業者は触媒温度を、その平常の稼働レベルに一定に保持して、一定時間の間、ガス流の塩化物含量を低減するまたは完全に無にすることができる。こうした筋書きにおいては、より少ないレベルの塩化物が、適度未満状態に触媒を駆動するのに必要とされる時間が適度未満化の程度に関連しているために好ましい。第2の例として、作業者は供給原料流の塩化物濃度を、その平常の稼働レベルに保持して、触媒の温度を上げることができる。第3の例として、作業者は、適度未満状態を誘起するために、温度と塩化物レベルの両方を操作することができる。実施例1の各試験では、8時間かけて1.2ppmvの調整剤を供給原料流中に含ませながら、240°Cの一定触媒温度において稼働を開始した。調整剤流れを0になるまで減少させ、同時に、触媒温度を4時間の間240°Cに保持し、次いで4時間かけて247°Cまで順次上昇させ、8時間かけて255°Cに上昇させた。次いで調整剤流れを1.5ppmvのレベルで36時間再導入し、この時点で反応器は目標仕事率での仕事率制御下に置かれた。次いで、塩化物の最適な濃度EC-opt、対応するまたは最適化された選択性、および対応する触媒温度を同定するために、調整剤レベルを36時間毎に順次、1.8ppmv、2.1ppmv、2.4ppmv、2.7ppmvおよび3.0ppmvまで増加させた。この表では、最適化された触媒性能データは、温度処理前の性能と名付けた欄に示されている。検査プロトコルのステップ2は、本発明を含むステップを実施するものであった。触媒は再び240°Cで4時間、247°Cで4時間、さらに255°Cで8時間の塩化物ストリップを受けた。塩化物ストリップの後、調整剤流れが再導入された。しかしながら、先述した調整剤導入プロトコル用のプロトコルとは異なり、今回は、調整剤流れが、事前に最適値として同定されたレベルにおいて精密に再導入された。選択性および温度が平衡に到達した後、性能データが再び記録された温度処理後の性能と名付けられた欄を参照されたい。ステップ2の後に本発明者らが観察した改善は、選択性の改善という欄に示されている。[実施例2]実施例2では、プラントBからの別の一組の商業劣化高選択性触媒試料について、上述と同じプロトコルに従った。結果は表実施例2-商業劣化高選択性触媒に要約されている。[実施例3]実施例3では、温度上昇がハードストリップに影響する作用を示すための実験を行った。この実験では、USA2009/0281345A1に従った4.6グラムのレニウム含有高選択性触媒が、14-20メッシュサイズのU字管反応器中に装填された。触媒を30モルのエチレン、8モルの酸素、1モルの二酸化炭素と共に残部の窒素、210psigの反応器入口圧力で、3.09のEO濃度において、10ヶ月間稼働した。塩化エチルEC調整剤は、最大選択性を維持するように周期的に調節された。稼働の10ヶ月間後、選択性は88に低下し、EC濃度は4.2ppm、触媒温度は249.2°Cであった。ハードストリップは、6時間かけて温度を250.2°Cまで上昇させ、EC濃度を0まで低下させ、次いで、EC濃度を3.9ppmに再設定することにより、特許請求された本発明に従って実施された。触媒温度は、3.09EOが生じるように調節した。得られた触媒選択性は、249.2°Cにおいて89.4であり、温度の変化を伴わない1.4の増加であった。"