基板と、前記基板上に設けられた電極と、前記電極を覆うように、前記基板上に設けられた外層膜と、前記基板の少なくとも一部に、前記基板の電極方向に向かって形成された溝と、から構成された電気化学センサ。前記電極の少なくとも一部が、前記溝の上方に位置するように前記基板上に設けられている、請求項1に記載の電気化学センサ。前記電極は、前記溝に隣接して前記基板上に設けられている、請求項1に記載の電気化学センサ。前記基板には複数の前記溝が形成されている請求項1から3の何れか一項に記載の電気化学センサ。前記電極は、前記基板上に複数設けられている請求項1から4の何れか一項に記載の電気化学センサ。前記溝は、凹状に形成されている請求項1から5の何れか一項に記載の電気化学センサ。前記溝は、前記基板の端部から、前記基板の電極方向に向かって形成されている請求項1から6の何れか一項に記載の電気化学センサ。前記複数の溝は、少なくとも2本が互いに接続されている、請求項4に記載の電気化学センサ。前記電気化学センサは、皮下に留置されて使用される請求項1から8の何れか一項に記載の電気化学センサ。基板と、電極と、前記基板の少なくとも一部に形成された溝と、外層膜と、を備え、前記溝の内部に前記電極及び前記外層膜が設けられている電気化学センサ。前記外層膜は、前記電極を覆うようにして前記溝の内部に設けられている請求項10に記載の電気化学センサ。前記溝は、凹状に形成されている請求項10又は11に記載の電気化学センサ。前記溝は、前記基板の一方の端部から前記基板の他方の端部に至るまで形成されている請求項10から12の何れか一項に記載の電気化学センサ。前記溝は、前記基板の長手方向に向かって形成されている、請求項10から13の何れか一項に記載の電気化学センサ。前記電気化学センサは、皮下に留置されて使用される請求項10から14の何れか一項に記載の電気化学センサ。皮下組織において、間質液は血液のように潤沢に存在していない。皮下組織内に潤沢に存在していない間質液等の検体に含まれる特定成分例えば、グルコースの濃度を測定する際、測定に必要な検体量を確保するのが困難な場合がある。皮下組織内に潤沢に存在していない検体に含まれる特定成分の測定を行う場合、電極表面が検体によって湿潤していないことにより、十分な測定結果が得られないことがある。また、検体が少量しか存在していない部位において特定成分の測定を行う場合、電極表面が検体によって湿潤していないことにより、十分な測定結果が得られないことがある。本発明は、電極表面への検体の供給量を増加させることにより、電極表面における検体の枯渇を抑制することを目的とする。本発明は、上記課題を解決するために、以下の手段を採用する。すなわち、本発明の電気化学センサは、基板と、基板上に設けられた電極と、電極を覆うように、基板上に設けられた外層膜と、基板の少なくとも一部に、基板の電極方向に向かって形成された溝と、から構成されている。本発明によれば、基板の少なくとも一部に、基板上の電極が設けられている方向に向かって溝が形成されているため、電気化学センサの周囲に検体が存在する場合、基板の溝の内部に検体が導入されることになる。基板の溝の内部に導入された検体は、基板上の電極が設けられている方向に向かって、基板の溝の内部を進む。検体は、電極を覆っている外層膜と接触し、検体は、外層膜の内部に浸透するとともに、基板上の電極の表面上に供給される。本発明によれば、基板の溝の内部に検体を導入し、外層膜の内部に検体を浸透させるとともに、外層膜を介して、基板上の電極の表面上に検体を供給することができる。したがって、基板上に設けられている電極の表面上に対する検体の供給量を増加させることができる。その結果、基板上に設けられている電極の表面における検体が枯渇することを抑制することができる。本発明の電気化学センサにおいて、電極の少なくとも一部が、溝の上方に位置するように基板上に設けられていてもよい。電極の少なくとも一部が、溝の上方に位置するように基板上に設けられていることにより、検体は、電極と接触し、検体は、基板上の電極の表面上に供給される。本発明によれば、基板の溝の内部に検体を導入し、検体と電極とを接触させることにより、基板上の電極の表面上に検体を供給することができる。本発明の電気化学センサにおいて、電極は、溝に隣接して基板上に設けられていてもよい。電極が、溝に隣接して基板上に設けられていることにより、検体は、電極の側面方向から、基板上の電極の表面上に供給される。本発明によれば、基板の溝の内部に検体を導入することにより、電極の側面方向から、基板上の電極の表面上に検体を供給することができる。本発明の電気化学センサにおいて、基板には複数の溝が形成されていてもよい。本発明によれば、基板に複数の溝を形成することにより、基板における複数の溝の内部に検体を導入し、外層膜の内部に検体を浸透させるとともに、外層膜を介して、基板上の電極の表面上に検体を供給することができる。また、本発明によれば、基板に複数の溝を形成することにより、基板における複数の溝の内部に検体を導入し、検体と電極とを接触させることにより、基板上の電極の表面上に検体を供給することができる。本発明の電気化学センサにおいて、電極は、基板上に複数設けられていてもよい。基板上に複数の電極を設けることにより、一つの電極に不具合が発生した場合であっても、電気化学センサによる測定を継続することができる。本発明の電気化学センサにおいて、基板の溝は、凹状に形成されていてもよい。凹状には、四角形状、半円形状、半楕円形状及び角錐形状等が含まれる。本発明の電気化学センサにおいて、溝は、基板の端部から、基板の電極方向に向かって形成されていてもよい。本発明の電気化学センサにおいて、複数の溝は、少なくとも2本が互いに接続されていてもよい。本発明の電気化学センサは、皮下に留置されて使用されてもよい。また、本発明の電気化学センサは、基板と、電極と、基板の少なくとも一部に形成された溝と、を備え、溝の内部に電極及び外層膜が設けられている。本発明によれば、電気化学センサは、基板の少なくとも一部に形成された溝を備えているため、電気化学センサの周囲に検体が存在する場合、基板の溝の内部に検体が導入される。基板の溝の内部に導入された検体は、基板の溝の内部に設けられている外層膜と接触し、外層膜の内部に浸透するとともに、基板の溝の内部に設けられている電極の表面上に供給される。本発明によれば、基板の溝の内部に検体を導入し、外層膜の内部に検体を浸透させるとともに、外層膜を介して、基板の溝の内部に設けられている電極の表面上に検体を供給することができる。したがって、基板の溝の内部に設けられている電極の表面上に対する検体の供給量を増加させることができる。その結果、基板の溝の内部に設けられている電極の表面における検体が枯渇することを抑制することができる。本発明の電気化学センサにおいて、外層膜は、電極を覆うようにして溝の内部に設けられていてもよい。本発明の電気化学センサにおいて、基板の溝は、凹状に形成されていてもよい。凹状には、四角形状、半円形状、半楕円形状及び角錐形状等が含まれる。本発明の電気化学センサにおいて、溝は、基板の一方の端部から基板の他方の端部に至るまで形成されていてもよい。本発明の電気化学センサにおいて、本発明の電気化学センサにおいて、溝は、基板の長手方向に向かって形成されていてもよい。本発明の電気化学センサは、皮下に留置されて使用されてもよい。本発明によれば、電極表面への検体の供給量を増加させることにより、電極表面における検体の枯渇を抑制することができる。以下、図面を参照して本実施形態に係る電気化学センサについて説明する。以下の実施例の構成は例示であり、本実施形態に係る電気化学センサは実施例の構成に限定されない。本実施形態に係る電気化学センサの第1の実施例を説明する。図1に、実施例1に係る成分連続測定装置1の概略構成図を示す。図1に示す成分連続測定装置1は、検体中の特定成分の濃度を連続的に測定することが可能である。検体として、例えば、血液、間質液等がある。特定成分としては、例えば、グルコース、乳酸、胆汁酸等がある。成分連続測定装置1は、人体に装着して使用することが可能である。成分連続測定装置1は、筐体2、回路基板3及び電気化学センサ検出装置4を備えている。筐体2は、カバー10および基板11を含む。カバー10及び基板11によって規定される空間に回路基板3が収容される。筐体2は、防水性あるいは耐水性を有しているのが好ましい。カバー10及び基板11は、金属やポリプロピレン樹脂などの透水性の極めて低い材料を用いてもよい。基板11は、電気化学センサ4が挿通される部分であり、電気化学センサ4の一部を固定している。基板11には、接着フィルム5が固定されている。接着フィルム5は、成分連続測定装置1を皮膚6に固定するときに利用されるものである。接着フィルム5としては、両面に粘着性を有するテープを使用することができる。回路基板3は、成分連続測定装置1の所定の動作例えば、電圧の印加、特定成分の濃度の演算或いは外部との通信に必要な電子部品を搭載したものである。回路基板3は、電気化学センサ4と電気的に接続するための端子12を備えている。端子12は、電気化学センサ4に電圧を印加し、電気化学センサ4から応答電流値を得るために利用されるものである。電気化学センサ4は、検体中の特定成分の濃度に応じた応答を得るためのものである。電気化学センサ4の一部が、皮膚6から突出して回路基板3の端子12に接触しているとともに、電気化学センサ4の一部が皮膚6に挿入されている。すなわち、電気化学センサ4は、皮膚6の内部皮下に留置されて使用される。図2は、実施例1に係る電気化学センサ4の全体斜視図である。図3は、実施例1に係る電気化学センサ4の断面図である。電気化学センサ4は、基板21、電極22、リード線23、端子24及び外層膜25を有している。基板21は、絶縁性及び可撓性を有しており、電極22を支持する。基板21の端部21Aを含む一部分が、筐体2の内部に収容される。基板21の端部21Aの反対側の端部21Bを含む一部分が、皮膚6に挿入される。基板21の端部21Bを鋭利な形状としてもよい。基板21の端部21Bを鋭利な形状とすることにより、皮膚6に対する電気化学センサ4の挿入を容易に行うことができ、電気化学センサ4を挿入する対象者の痛みを低減することができる。基板21は、生体適合性及び絶縁性を有する材料を用いることができる。例えば、基板21として、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン及びポリエチレンナフタレート等の樹脂を用いることができる。基板21の長手方向の長さは、例えば、2mm以上50mm以下であり、好ましくは、5mm以上30mm以下である。基板21の幅方向の長さは、例えば、0.05mm以上5mm以下であり、好ましくは、0.1mm以上3mm以下である。基板21の長手方向とは、基板21の端部21Bから基板21の端部21Aに向かう方向基板21が筐体2の内部に収容される方向、又は、基板21の端部21Aから基板21の端部21Bに向かう方向基板21が皮膚6に挿入される方向である。基板21の幅方向とは、基板21の長手方向と直交する方向である。基板21上には、電極22が設けられている。そして、基板21には、基板21の電極22の配置方向基板21上の電極22が設けられている方向に向かって、複数の溝26が平行して形成されている。基板21の溝26は、基板21の端部21Bから基板21の端部21Aに至るまで形成されている。本明細書では、基板21の端部21B及び端部21Bの周辺部分を、基板21の先端部分とも表記する。基板21の溝26は、凹状に形成されている。凹状には、四角形状、半円形状、半楕円形状及び角錐形状等が含まれる。例えば、フォトリソグラフィ技術により基板21上にレジストパターンを形成し、レジストパターンをマスクとして基板21をエッチングすることにより、基板21に溝26を形成することができる。また、レーザー加工によるエッチングにおいても、基板21に溝26を形成することができる。電極22は、基板21の溝26に隣接して基板21上に設けられている。電極22は、例えば、蒸着、スパッタリング、印刷スクリーン印刷、グラビア印刷又は転写等により形成することができる。電極22は、作用極22A及び対極22Bを含んでいる。作用極22Aは、検体中の特定成分と電子授受を行う部分である。対極22Bは、作用極22Aとともに電圧印加に利用される。図2及び図3では、基板21の溝26に隣接して、電極22が基板21上に設けられている例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21の溝26の上方に電極22を設けるようにしてもよい。この場合、電極22の少なくとも一部が、基板21の溝26の上方に位置するように、電極22を基板21上に設けるようにしてもよい。図4は、基板21の溝26の上方に電極22を設けた場合における電気化学センサ4の断面図である。図4に示すように、作用極22Aの一部が、基板21の溝26の上方に位置するように、作用極22Aが基板21上に設けられ、対極22Bの一部が、基板21の溝26の上方に位置するように、対極22Bが基板21上に設けられている。図2、図3及び図4では、それぞれ一つの作用極22A及び対極22Bが、基板21上に設けられている例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、複数の電極22を基板21上に設けるようにしてもよい。また、複数の作用極22Aを基板21上に設けるようにしてもよいし、複数の対極22Bを基板21上に設けるようにしてもよい。図5は、複数の作用極22A及び複数の対極22Bを基板21上に設けた場合の電気化学センサ4の全体斜視図である。図6は、複数の作用極22A及び複数の対極22Bを基板21上に設けた場合の電気化学センサ4の断面図である。複数の電極22を基板21上に設ける場合、基板21の溝26の上方に複数の電極22を設けるようにしてもよい。複数の作用極22Aを基板21上に設ける場合、基板21の溝26の上方に複数の作用極22Aを設けるようにしてもよい。複数の対極22Bを基板21上に設ける場合、基板21の溝26の上方に複数の対極22Bを設けるようにしてもよい。複数の作用極22Aを基板21上に設けることにより、一つの作用極22Aに故障等の不具合が発生しても、検体中の特定成分の濃度の測定を継続することができる。複数の対極22Bを基板21上に設けることにより、一つの対極22Bに故障等の不具合が発生しても、検体中の特定成分の濃度の測定を継続することができる。また、複数の対極22Bを基板21上に設けることにより、それぞれ異なる分析対象項目を測定することができる。すなわち、複数の対極22Bを基板21上に設けることにより、検体中に含まれる複数種類の特定成分の測定を行うことが可能となる。作用極22A及び対極22Bには、リード線23の一方の端部が接続されており、リード線23の他方の端部には、端子24が接続されている。端子24は、回路基板3の端子12と接触する。作用極22A、対極22B及び基板21の溝26を覆うように、外層膜25が、基板21上に設けられている。この場合、基板21に対する段差被覆性ステップカバレッジの低い外層膜25を用いる。段差被覆性の低い外層膜25を用いることで、基板21の溝26が外層膜25で埋め込まれる前に基板21の溝26の上方が外層膜25で閉じられる。したがって、基板21の溝26の内部は、外層膜25が存在していない空間となっている。外層膜25としてポリマーを用いる場合、ポリマーの濃度を調整することにより、外層膜25の段差被覆性を制御することが可能である。実施例1では、基板21の溝26の内部に外層膜25を埋め込まないようにしているが、これに限らず、基板21の溝26の内部に外層膜25を埋め込むようにしてもよい。図2及び図5に示すように、外層膜25は、基板21の先端部分には設けていないため、基板21の溝26の上方が外層膜25によって覆われていない箇所がある。すなわち、基板21の先端部分には外層膜25が設けられておらず、基板21の先端部分における溝26の上方が露出している。作用極22Aの表面には試薬酵素が形成されている。例えば、検体中のグルコースの濃度を測定する場合、試薬酵素として、グルコースオキシダーゼGOD又はグルコースデヒドロゲナーゼGDHを使用することができる。また、例えば、検体中の乳酸の濃度を測定する場合、試薬酵素として、乳酸オキシダーゼを使用することができる。試薬酵素の固定化方法として、公知の種々の方法、たとえば重合性ゲル、ポリアクリルアミドやリンなどの高分子、リン脂質ポリマーにシランカップリング剤を導入したMPC重合体あるいはタンパク質膜を利用する方法を採用することができる。また、作用極22Aの表面に試薬酵素を形成することに代えて、外層膜25に試薬酵素を含有させてもよい。外層膜25は、内部に検体が入り込む構造となっている。すなわち、外層膜25と検体とが接触した場合、検体が外層膜25の内部に浸透する。外層膜25の内部に浸透した検体は、作用極22Aの表面に達する。このように、外層膜25の外側と作用極22Aとは、外層膜25を介して導通している。外層膜25として、生体適合性を有する材料を用いることができる。外層膜25として、例えば、ポリウレタン、シリコン系ポリマーポリシロキサン、セルロースアセテート、ハイドロゲル、ポリビニルアルコール、HEMA及びこれらを含むコポリマーを用いることができる。外層膜25は、例えば、スピンコート、ディップコート又はドロップコート等により形成することができる。外層膜25は、電極22を覆うようにして、基板21上に設けられている。電極22を覆うように外層膜25が設けられているため、皮膚6に電気化学センサ4を挿入した場合、電極22が皮膚6と直接接触しないことになる。このように、外層膜25は、電極22を保護する保護膜としても機能する。皮膚6に電気化学センサ4を挿入した場合、皮膚6内の検体が、基板21の溝26に接触する。基板21の先端部分において、基板21の溝26の上方が外層膜25によって覆われていないため、検体は基板21の端部21Bの側面方向又は上面方向から、基板21の溝26に接触する。基板21の溝26に接触した検体は、毛細管現象によって、基板21の溝26の内部に導入される。基板21の溝26の内部に導入された検体は、毛細管現象によって、基板21の溝26の内部を基板21の長手方向に向かって進む。基板21の溝26の内部を進む検体は、基板21の溝26の上方に設けられている外層膜25の下面と接触する。外層膜25の下面と接触した検体は、外層膜25の内部に浸透する。検体が外層膜25の内部に浸透し、検体が作用極22Aの表面に達すると、作用極22Aの表面に形成されている試薬酵素と検体とが反応する。作用極22A及び対極22Bによって試薬酵素に電圧が印加されることにより、検体に含まれる特定成分と、作用極22Aとの間で電子授受が行われる。なお、外層膜25が試薬酵素を含有する場合、外層膜25が含有する試薬酵素と検体とが反応し、作用極22A及び対極22Bによって試薬酵素に電圧が印加されることにより、検体に含まれる特定成分と、作用極22Aとの間で電子授受が行われる。皮膚6に電気化学センサ4を挿入し、皮膚6内の検体が、外層膜25の上面や側面と接触した場合には、検体は、外層膜25の上面や側面から外層膜25の内部に浸透する。外層膜25は、作用極22Aを覆うように基板21上に設けられているため、検体が外層膜25の内部に浸透することにより、検体が作用極22Aの周囲に存在する状態となり、作用極22Aの表面における検体の枯渇が抑制される。このように、基板21に溝26を形成し、電極22を基板21上に設け、電極22を覆うように外層膜25を設けることにより、作用極22Aの表面に対する検体の供給量を増大させることが可能となる。電気化学センサ4の周囲に検体が少量しか存在しない場合であっても、基板21の溝26の内部に検体が導入され、基板21の溝26の内部を検体が進むことにより、作用極22Aの表面に検体が供給される。例えば、基板21の溝26の入口にのみ検体が存在し、外層膜25の上面に検体が存在しない場合であっても、基板21の溝26の内部に検体が導入され、基板21の溝26の内部を検体が進むことにより、作用極22Aの表面に検体が供給される。毛細管現象によって、検体が、基板21の溝26の内部に導入され、基板21の溝26の内部を進むことにより、作用極22Aの表面に対して検体を早期に供給することができる。したがって、作用極22Aの表面が検体で湿潤するまでの時間を短縮することができ、電極表面で起こるイオン移動や電荷分布の形成などの現象が迅速に起こることによって早く平衡化することが可能となる。その結果、検体中の特定成分の濃度を安定して測定するために必要な初期動作の時間を短縮することができる。基板21の溝26の上方が外層膜25に覆われているため、基板21の溝26の内部に導入された検体は、基板21の溝26の内部に溜まる。皮膚6に挿入した電気化学センサ4の周辺の検体が少なくなっても、基板21の溝26の内部に検体が溜まっている状態にあれば、作用極22Aの表面における検体が枯渇するリスクを抑制することができる。特に、検体が間質液の場合は、体内で潤沢に流動するほどの検体量がない可能性があるため、基板21の溝26の内部に間質液を貯留しておくことにより、作用極22Aの表面における間質液の枯渇を抑制することができる。毛細管現象によって基板21の溝26の内部に検体が導入され、毛細管現象によって基板21の溝26の内部を検体が進むように、基板21の溝26の幅方向の長さ及び溝26の深さが決定されている。基板21の溝26の幅方向の長さは、例えば、0.05mm以上3mm以下であり、好ましくは、0.1mm以上3mm以下であり、より好ましくは、0.1mm以上1mm以下である。また、基板21の溝26の深さは、例えば、50μm以上200μm以下であり、好ましくは、75μm以上150μm以下である。基板21の溝26の内面には、親水化処理を施しておくのが好ましい。親水化処理の方法としては、公知の種々の方法を採用することができる。例えば、VUV真空紫外線処理、プラズマ照射処理、界面活性剤の塗布処理等で、親水化処理を行ってもよい。また、特表2010-532269号公報に記載された方法と同様の方法を用いて親水化処理を行ってもよい。基板21の溝26の内面を親水化処理することにより、基板21の溝26の内部に検体が湿潤することが促進され、また、基板21の溝26の内部を検体が進むことが促進される。基板21の溝26の内面の親水化処理は、例えば、検体に対する接触角が30度未満となるように行うことが好ましい。ただし、基板21の溝26の内部を検体が進む程度に基板21の溝26の内面が親水化されていれば、検体に対する接触角が30度以上になっていてもよい。VUV処理は、例えば、172nmの波長の紫外線エキシマレーザー等を用いて、2.3mW/cm2の強度光源と基板21との距離を4mmとする場合により、数十秒以上30分以下の照射時間で行うことが好ましい。ただし、VUV処理は、172nmの波長の紫外線に限らず、他の波長の紫外線を用いてもよい。実施例1では、基板21の端部21Bから基板21の端部21Aに至るまで、基板21に溝26を形成する例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21の端部21Bから基板の21の長手方向に向かって所定距離まで、基板21に溝26を形成するようにしてもよい。例えば、基板21の皮膚6に挿入される部分に溝26を形成するようにしてもよい。実施例1では、基板21の先端部分において、基板21の溝26の上方が外層膜25によって覆われていない例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21の先端部分において、基板21の溝26の上方の全部が外層膜25によって覆われていてもよい。すなわち、基板21の先端部分において、基板21の溝26の上方を露出させないようにしてもよい。実施例1では、基板21に複数本の溝26を形成する例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21に一本の溝26のみを形成するようにしてもよい。この場合、基板21の溝26が作用極22Aと対極22Bとの間に位置するように、基板21の溝26に隣接して作用極22A及び対極22Bを基板21上に設けるようにしてもよい。<変形例1>実施例1の第1の変形例について説明する。図7は、実施例1の変形例1に係る電気化学センサ4の全体斜視図である。基板21上に電極22が設けられている。基板21には、複数本の溝27A及び複数本の溝27Bが形成されている。基板21の溝27Aは、基板21の電極22の配置方向基板21上の電極22が設けられている方向に向かって形成されている。基板21上の電極22が設けられている方向は、基板21の長手方向と一致する。基板21の溝27Bは、基板21の幅方向に向かって形成されている。基板21の溝27Bは、基板21の端部21Cから基板21の溝27Aに至るまで形成されている溝と、基板21の溝27A同士を接続する溝とを、含む。図7では、それぞれ一つの作用極22A及び対極22Bが、基板21上に設けられている例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、複数の電極22を基板21上に設けるようにしてもよい。また、複数の作用極22Aを基板21上に設けるようにしてもよいし、複数の対極22Bを基板21上に設けるようにしてもよい。基板21の端部21Cから基板21の溝27Aに至るまで形成されている溝27Bの位置は、皮膚6に挿入される部分であれば任意の位置でよい。また、基板21の端部21Dから基板21の溝27Aに至るように、溝27Bを形成するようにしてもよい。基板21の溝27Aは、基板21の端部21Bの手前まで形成されている。実施例1の変形例1では、電極22を基板21の端部21Bの手前に設けているので、基板21の溝27Aを基板21の端部21Bの手前まで形成している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21上の電極22の近辺に基板21の溝27Aを形成すればよい。すなわち、基板21上の電極22の位置に応じて、基板21に溝27Aを形成する位置が変更される。作用極22A、対極22B、基板21の溝27A及び基板21の溝27Bを覆うように、外層膜25が、基板21上に設けられている。実施例1の変形例1では、基板21の溝27Aの内部及び基板21の溝27Bの内部に外層膜25を埋め込まないようにしているが、これに限定されず基板21の溝27Aの内部及び基板21の溝27Bの内部に外層膜25を埋め込むようにしてもよい。図7に示すように、基板21の溝27Bの上方が外層膜25によって覆われていない箇所がある。すなわち、基板21の端部21Cの周辺部分における溝27Bの上方が露出している。皮膚6に電気化学センサ4を挿入した場合、皮膚6内の検体が、基板21の溝27Bに接触する。基板21の端部21Cの周辺部分において、基板21の溝27Bの上方が外層膜25によって覆われていないため、検体は基板21の側面方向又は上面方向から、基板21の溝27Bに接触する。基板21の溝27Bに接触した検体は、毛細管現象によって、基板21の溝27Bの内部に導入される。基板21の溝27Bの内部に導入された検体は、毛細管現象によって、基板21の溝27Bの内部を基板21の幅方向に向かって進む。そして、検体は、基板21の溝27Bの上方に設けられている外層膜25の下面と接触する。外層膜25の下面と接触した検体は、外層膜25の内部に浸透し、作用極22Aの表面に検体が供給される。また、基板21の溝27Bの内部を基板21の幅方向に向かって進む検体は、基板21の溝27Aの内部に導入される。基板21の溝27Aの内部に導入された検体は、毛細管現象によって、基板21の溝27Aの内部を基板21の長手方向に向かって進む。そして、検体は、基板21の溝27Aの内部を基板21の端部21Bの手前まで進み、検体は、基板21の溝27Aの上方に設けられている外層膜25の下面と接触する。外層膜25の下面と接触した検体は、外層膜25の内部に浸透し、作用極22Aの表面に検体が供給される。電気化学センサ4の周囲に検体が少量しか存在しない場合であっても、基板21の溝27Aの内部及び基板21の溝27Bの内部を検体が進むことにより、作用極22Aの表面に検体が供給される。例えば、基板21の溝27Bの入口付近にのみ検体が存在し、外層膜25の上面に検体が存在しない場合であっても、基板21の溝27Aの内部及び基板21の溝27Bの内部を検体が進むことにより、作用極22Aの表面に検体が供給される。毛細管現象によって基板21の溝27Aの内部に検体が導入され、毛細管現象によって基板21の溝27Aの内部を検体が進むように、基板21の溝27Aの幅方向の長さ及び溝27Aの深さが決定されている。基板21の溝27Aの幅方向の長さは、例えば、0.05mm以上3mm以下であり、好ましくは、0.1mm以上3mm以下であり、より好ましくは、0.1mm以上1mm以下である。また、基板21の溝27Aの深さは、例えば、50μm以上200μm以下であり、好ましくは、75μm以上150μm以下である。また、毛細管現象によって基板21の溝27Bの内部に検体が導入され、毛細管現象によって基板21の溝27Bの内部を検体が進むように、基板21の溝27Bの幅方向の長さ及び溝27Bの深さが決定されている。基板21の溝27Bの幅方向の長さは、例えば、0.05mm以上3mm以下であり、好ましくは、0.1mm以上3mm以下であり、より好ましくは、0.1mm以上1mm以下である。また、基板21の溝27Bの深さは、例えば、50μm以上200μm以下であり、好ましくは、75μm以上150μm以下である。基板21の溝27A及び溝27Bの内面には、親水化処理を施しておくのが好ましい。親水化処理の方法としては、公知の種々の方法を採用することができる。例えば、VUV真空紫外線処理、プラズマ照射処理、界面活性剤の塗布処理等で、親水化処理を行ってもよい。また、特表2010-532269号公報に記載された方法と同様の方法を用いて親水化処理を行ってもよい。基板21の溝27A及び溝27Bの内面を親水化処理することにより、基板21の溝27A及び溝27Bの内部に検体が湿潤することが促進され、また、基板21の溝27A及び溝27Bの内部を検体が進むことが促進される。基板21の溝27A及び溝27Bの内面の親水化処理は、例えば、検体に対する接触角が30度未満となるように行うことが好ましい。ただし、基板21の溝27A及び溝27Bの内部を検体が進む程度に基板21の溝27A及び溝27Bの内面が親水化されていれば、検体に対する接触角が30度以上になっていてもよい。VUV処理は、例えば、172nmの波長の紫外線エキシマレーザー等を用いて、2.3mW/cm2の強度光源と基板21との距離を4mmとする場合により、数十秒以上30分以下の照射時間で行うことが好ましい。ただし、VUV処理は、172nmの波長の紫外線に限らず、他の波長の紫外線を用いてもよい。実施例1の変形例1では、基板21の端部21Cの周辺部分において、基板21の上方が外層膜25によって覆われていない例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21の端部21Cの周辺部分において、基板21の溝27Bの上方の全部が外層膜25によって覆われていてもよい。すなわち、基板21の端部21Cの周辺部分において、基板21の溝27Bの上方を露出させないようにしてもよい。実施例1の変形例1では、基板21の溝27Aに隣接して、電極22が基板21上に設けられている例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21の溝27Aの上方に電極22を設けるようにしてもよい。この場合、電極22の少なくとも一部が、基板21の溝26の上方に位置するように、電極22を基板21上に設けるようにしてもよい。実施例1の変形例1では、基板21に複数本の溝27Aを形成する例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21に一本の溝27Aのみを形成するようにしてもよい。この場合、作用極22Aと対極22Bとの間に、基板21の溝27Aが位置するようにしてもよい。また、実施例1の変形例1では、基板21に複数本の溝27Bを形成する例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21に一本の溝27Bのみを形成するようにしてもよい。<変形例2>実施例1の第2の変形例について説明する。図8は、実施例1の変形例2に係る電気化学センサ4の全体斜視図である。基板21上に電極22が設けられている。基板21には、複数本の溝28が形成されている。基板21の溝28は、基板21の電極22の配置方向基板21上の電極22が設けられている方向に向かって形成されている。基板21上の電極22が設けられている方向は、基板21の長手方向と一致する。基板21の溝28は、基板21の端部21Bの手前まで形成されている。作用極22A、対極22B及び基板21の溝28の一部を覆うように、外層膜25が、基板21上に設けられている。実施例1の変形例2では、基板21の溝28の内部に外層膜25を埋め込まないようにしているが、これに限定されず、基板21の溝28の内部に外層膜25を埋め込むようにしてもよい。図8に示すように、基板21の溝28の上方が外層膜25によって覆われていない箇所がある。すなわち、基板21の溝28の一部の上方が露出している。皮膚6に電気化学センサ4を挿入した場合、皮膚6内の検体が、基板21の溝28の一部に接触する。基板21の溝28の一部の上方が外層膜25によって覆われていないため、検体は基板21の上面方向から、基板21の溝28に接触する。基板21の溝28に接触した検体は、毛細管現象によって、基板21の溝28の内部に導入される。基板21の溝28の内部に導入された検体は、毛細管現象によって、基板21の溝28の内部を基板21の長手方向に向かって進む。基板21の溝28の内部を基板21の長手方向に向かって進む検体は、基板21の溝28の上方に設けられている外層膜25の下面と接触する。外層膜25の下面と接触した検体は、外層膜25の内部に浸透し、作用極22Aの表面に検体が供給される。電気化学センサ4の周囲に検体が少量しか存在しない場合であっても、基板21の溝28の内部に検体が導入されることにより、作用極22Aの表面に検体が供給される。例えば、外層膜25の周辺に検体が存在せず、基板21の溝28の上面が外層膜25で覆われていない部分にのみ検体が存在するような場合であっても、基板21の溝28の内部に検体が導入されることにより、作用極22Aの表面に検体が供給される。毛細管現象によって基板21の溝28の内部に検体が導入され、毛細管現象によって基板21の溝28の内部を検体が進むように、基板21の溝28の幅方向の長さ及び溝28の深さが決定されている。基板21の溝28の幅方向の長さは、例えば、0.05mm以上3mm以下であり、好ましくは、0.1mm以上3mm以下であり、より好ましくは、0.1mm以上1mm以下である。また、基板21の溝28の深さは、例えば、50μm以上200μm以下であり、好ましくは、75μm以上150μm以下である。基板21の溝28の内面には、親水化処理を施しておくのが好ましい。親水化処理の方法としては、公知の種々の方法を採用することができる。例えば、VUV真空紫外線処理、プラズマ照射処理、界面活性剤の塗布処理等で、親水化処理を行ってもよい。また、特表2010-532269号公報に記載された方法と同様の方法を用いて親水化処理を行ってもよい。基板21の溝28の内面を親水化処理することにより、基板21の溝28の内部に検体が湿潤することが促進され、また、基板21の溝28の内部を検体が進むことが促進される。基板21の溝28の内面の親水化処理は、例えば、検体に対する接触角が30度未満となるように行うことが好ましい。ただし、基板21の溝28の内部を検体が進む程度に基板21の溝28の内面が親水化されていれば、検体に対する接触角が30度以上になっていてもよい。VUV処理は、例えば、172nmの波長の紫外線エキシマレーザー等を用いて、2.3mW/cm2の強度光源と基板21との距離を4mmとする場合により、数十秒以上30分以下の照射時間で行うことが好ましい。ただし、VUV処理は、172nmの波長の紫外線に限らず、他の波長の紫外線を用いてもよい。実施例1の変形例2では、基板21の溝28に隣接して、電極22が基板21上に設けられている例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21の溝28の上方に電極22を設けるようにしてもよい。この場合、電極22の少なくとも一部が、基板21の溝28の上方に位置するように、電極22を基板21上に設けるようにしてもよい。実施例1の実施例2では、基板21に複数本の溝28を形成する例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21に一本の溝28のみを形成するようにしてもよい。この場合、作用極22Aと対極22Bとの間に、基板21の溝28が位置するようにしてもよい。<変形例3>実施例1の第3の変形例について説明する。図9は、実施例1の変形例3に係る電気化学センサ4の全体斜視図である。基板21上に電極22が設けられている。基板21には、複数本の溝29が形成されている。基板21の溝29は、基板21の電極22の配置方向基板21上の電極22が設けられている方向に向かって形成されている。基板21上の電極22が設けられている方向は、基板21の幅方向と一致する。基板21の溝29は、基板21上の電極22と交差するように、基板21に形成されている。この場合、電極22の一部が、基板21の溝29の上方に位置するように、電極22が基板21上に設けられている。具体的には、作用極22Aの一部が基板21の溝29の上方に位置するように、作用極22Aが基板21上に設けられ、対極22Bの一部が基板21の溝29の上方に位置するように、対極22Bが基板21上に設けられている。図9では、それぞれ一つの作用極22A及び対極22Bが、基板21上に設けられている例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、複数の電極22を基板21上に設けるようにしてもよい。また、複数の作用極22Aを基板21上に設けるようにしてもよいし、複数の対極22Bを基板21上に設けるようにしてもよい。作用極22A、対極22B及び基板21の溝29を覆うように、外層膜25が、基板21上に設けられている。実施例1の変形例3では、基板21の溝29の内部に外層膜25を埋め込まないようにしているが、これに限定されず基板21の溝29の内部に外層膜25を埋め込むようにしてもよい。図9に示すように、基板21の溝29の上方が外層膜25によって覆われていない箇所がある。すなわち、基板21の端部21Cの周辺部分における溝29の上方が露出している。皮膚6に電気化学センサ4を挿入した場合、皮膚6内の検体が、基板21の溝29に接触する。基板21の端部21Cの周辺部分では、基板21の溝29の上方が外層膜25によって覆われていないため、検体は基板21の側面方向又は上面方向から、基板21の溝29に接触する。基板21の溝29に接触した検体は、毛細管現象によって、基板21の溝29の内部に導入される。基板21の溝29の内部に導入された検体は、毛細管現象によって、基板21の溝29の内部を基板21の幅方向に向かって進む。そして、検体は、基板21の溝29の上方に設けられている外層膜25の下面と接触する。外層膜25の下面と接触した検体は、外層膜25の内部に浸透し、作用極22Aの表面に検体が供給される。また、基板21の溝29の内部を基板21の幅方向に向かって進む検体は、基板21の溝29の上方に設けられている作用極22Aと接触することにより、作用極22Aの表面に検体が供給される。電気化学センサ4の周囲に検体が少量しか存在しない場合であっても、基板21の溝29の内部を検体が進むことにより、作用極22Aの表面に検体が供給される。例えば、基板21の溝29の入口付近にのみ検体が存在し、外層膜25の上面に検体が存在しない場合であっても、基板21の溝29の内部を検体が進むことにより、作用極22Aの表面に検体が供給される。毛細管現象によって基板21の溝29の内部に検体が導入され、毛細管現象によって基板21の溝29の内部を検体が進むように、基板21の溝29の幅方向の長さ及び溝29の深さが決定されている。基板21の溝29の幅方向の長さは、例えば、0.05mm以上3mm以下であり、好ましくは、0.1mm以上3mm以下であり、より好ましくは、0.1mm以上1mm以下である。また、基板21の溝29の深さは、例えば、50μm以上200μm以下であり、好ましくは、75μm以上150μm以下である。基板21の溝29の内面には、親水化処理を施しておくのが好ましい。親水化処理の方法としては、公知の種々の方法を採用することができる。例えば、VUV真空紫外線処理、プラズマ照射処理、界面活性剤の塗布処理等で、親水化処理を行ってもよい。また、特表2010-532269号公報に記載された方法と同様の方法を用いて親水化処理を行ってもよい。基板21の溝29の内面を親水化処理することにより、基板21の溝29の内部に検体が湿潤することが促進され、また、基板21の溝29の内部を検体が進むことが促進される。基板21の溝29の内面の親水化処理は、例えば、検体に対する接触角が30度未満となるように行うことが好ましい。ただし、基板21の溝29の内部を検体が進む程度に基板21の溝29の内面が親水化されていれば、検体に対する接触角が30度以上になっていてもよい。VUV処理は、例えば、172nmの波長の紫外線エキシマレーザー等を用いて、2.3mW/cm2の強度光源と基板21との距離を4mmとする場合により、数十秒以上30分以下の照射時間で行うことが好ましい。ただし、VUV処理は、172nmの波長の紫外線に限らず、他の波長の紫外線を用いてもよい。実施例1の変形例3では、基板21の端部21Cの周辺部分において、基板21の上方が外層膜25によって覆われていない例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21の端部21Cの周辺部分において、基板21の溝29の上方の全部が外層膜25によって覆われていてもよい。すなわち、基板21の端部21Cの周辺部分において、基板21の溝29の上方を露出させないようにしてもよい。実施例1の変形例3では、基板21の溝29に隣接して、電極22が基板21上に設けられている例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21の溝29の上方に電極22を設けるようにしてもよい。この場合、電極22の少なくとも一部が、基板21の溝29の上方に位置するように、電極22を基板21上に設けるようにしてもよい。実施例1の実施例3では、基板21に複数本の溝29を形成する例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板21に一本の溝29のみを形成するようにしてもよい。本実施形態に係る電気化学センサの第2の実施例を説明する。図10は、実施例2に係る電気化学センサ30の全体斜視図である。図11は、実施例2に係る電気化学センサ30の断面図である。実施例1と同様に、電気化学センサ30は、図1に示す成分連続測定装置1の基板11に挿通され、電気化学センサ30の端部が基板11に固定される。電気化学センサ30は、基板31、電極32、リード線33、端子34及び外層膜35を有している。基板31は、絶縁性及び可撓性を有しており、電極32を支持する。基板31の端部31Aを含む一部分が、筐体2の内部に収容される。基板31の端部31Aの反対側の端部31Bを含む一部分が、皮膚6に挿入される。基板31の端部31Bを鋭利な形状としてもよい。基板31の端部31Bを鋭利な形状とすることにより、皮膚6に対する電気化学センサ30の挿入を容易に行うことができ、電気化学センサ30を挿入する対象者の痛みを低減することができる。基板31は、生体適合性及び絶縁性を有する材料を用いることができる。例えば、基板31として、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン及びポリエチレンナフタレート等の樹脂を用いることができる。基板31の長手方向の長さは、例えば、2mm以上50mm以下であり、好ましくは、5mm以上30mm以下である。基板31の幅方向の長さは、例えば、0.05mm以上5mm以下であり、好ましくは、0.1mm以上3mm以下である。基板31の長手方向とは、基板31の端部31Bから基板31の端部21Aに向かう方向基板31が筐体2の内部に収容される方向、又は、基板31の端部31Aから基板31の端部31Bに向かう方向基板31が皮膚6に挿入される方向である。基板31の幅方向とは、基板31の長手方向と直交する方向である。基板31には、基板31の長手方向に向かって溝36が形成されている。基板31の溝36は、基板31の端部31Bから基板31の端部31Aに至るまで形成されている。本明細書では、基板31の端部31B及び端部31Bの周辺部分を、基板31の先端部分とも表記する。基板31の溝36は、凹状に形成されている。凹状には、四角形状、半円形状、半楕円形状及び角錐形状等が含まれる。例えば、フォトリソグラフィ技術により基板31上にレジストパターンを形成し、レジストパターンをマスクとして基板31をエッチングすることにより、基板31に溝36を形成することができる。また、レーザー加工によるエッチングにおいても、基板31に溝36を形成することができる。基板31の溝36の内部に、電極32、リード線33、端子34及び外層膜35が設けられている。電極32は、例えば、蒸着、スパッタリング、印刷スクリーン印刷、グラビア印刷又は転写等により形成することができる。電極32は、作用極32A及び対極32Bを含んでいる。作用極32Aは、検体中の特定成分と電子授受を行う部分である。対極32Bは、作用極32Aとともに電圧印加に利用される。図10及び図11では、それぞれ一つの作用極32A及び対極32Bが、基板31の溝36の内部に設けられている例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板31の溝36の内部に複数の電極32を設けるようにしてもよい。また、基板31の溝36の内部に複数の作用極32Aを設けるようにしてもよいし、基板31の溝36の内部に複数の対極32Bを設けるようにしてもよい。図12は、基板31の溝36の内部に複数の作用極32A及び複数の対極32Bを設けた場合の電気化学センサ30の全体斜視図である。図13は、基板31の溝36の内部に複数の作用極32A及び複数の対極32Bを設けた場合の断面図である。複数の作用極32Aを基板31上に設けることにより、一つの作用極32Aに故障等の不具合が発生しても、検体中の特定成分の濃度の測定を継続することができる。複数の対極32Bを基板31上に設けることにより、一つの対極32Bに故障等の不具合が発生しても、検体中の特定成分の濃度の測定を継続することができる。作用極32A及び対極32Bには、リード線33の一方の端部が接続されており、リード線33の他方の端部には、端子34が接続されている。端子34は、回路基板3の端子12と接触する。作用極32Aの表面には試薬酵素が形成されている。例えば、検体中のグルコース濃度を測定する場合、試薬酵素として、グルコースオキシダーゼGOD又はグルコースデヒドロゲナーゼGDHを使用することができる。また、例えば、検体中の乳酸の濃度を測定する場合、試薬酵素として、乳酸オキシダーゼを使用することができる。試薬酵素の固定化方法として、公知の種々の方法、たとえば重合性ゲル、ポリアクリルアミドやリンなどの高分子、リン脂質ポリマーにシランカップリング剤を導入したMPC重合体あるいはタンパク質膜を利用する方法を採用することができる。また、作用極32Aの表面に試薬酵素を形成することに代えて、外層膜35に試薬酵素を含有させてもよい。外層膜35は、内部に検体が入り込む構造となっている。すなわち、外層膜35と検体とが接触した場合、検体が外層膜35の内部に浸透する。外層膜35の内部に浸透した検体は、作用極32Aの表面に達する。このように、外層膜35の外側と作用極32Aとは、外層膜35を介して導通している。外層膜35として、生体適合性を有する材料を用いることができる。外層膜35として、例えば、ポリウレタン、シリコン系ポリマーポリシロキサン、セルロースアセテート、ハイドロゲル、ポリビニルアルコール、HEMA及びこれらを含むコポリマーを用いることができる。外層膜35は、例えば、スピンコート、ディップコート又はドロップコート等により形成することができる。外層膜35は、電極32を覆うようにして、基板31の溝36の内部に設けられている。電極32を覆うように外層膜35が設けられているため、皮膚6に電気化学センサ30を挿入した場合、電極32が皮膚6と直接接触しないことになる。このように、外層膜35は、電極32を保護する保護膜としても機能する。皮膚6に電気化学センサ30を挿入した場合、皮膚6内の検体が、基板31の溝36に接触する。基板31の溝36に接触した検体は、毛細管現象によって、基板31の溝36の内部に導入される。基板31の溝36の内部に導入された検体は、外層膜35の内部に浸透する。検体が外層膜35の内部に浸透し、検体が作用極32Aの表面に達すると、作用極32Aの表面に形成されている試薬酵素と検体とが反応する。作用極32A及び対極32Bによって試薬酵素に電圧が印加されることにより、検体に含まれる特定成分と、作用極32Aとの間で電子授受が行われる。なお、外層膜35が試薬酵素を含有する場合、外層膜35が含有する試薬酵素と検体とが反応し、作用極32A及び対極32Bによって試薬酵素に電圧が印加されることにより、検体に含まれる特定成分と、作用極32Aとの間で電子授受が行われる。基板31の溝36の内部に電極32及び外層膜35が形成されている。検体が、毛細管現象によって、基板31の溝36の内部に導入される。基板31の溝36の内部に導入された検体は、外層膜35の上面と接触する。外層膜35の上面と接触した検体は、外層膜35の内部に浸透する。外層膜35は、作用極32Aを覆うように基板31の溝36の内部に設けられているため、外層膜35の内部に浸透した検体は、作用極32Aの周囲に存在する状態となるので、作用極32Aの表面における検体の枯渇が抑制される。このように、基板31に溝36を形成し、基板31の溝36の内部に電極32及び外層膜35を設けることにより、作用極32Aの表面に対する検体の供給量を増大させることが可能となる。検体が、毛細管現象によって、基板31の溝36の内部に導入されるため、作用極32Aの表面に対して検体を早期に供給することができ、作用極32Aの表面が検体で湿潤するまでの時間を短縮することができる。その結果、検体中の特定成分の濃度を安定して測定するために必要な初期動作の時間を短縮することができる。基板31の溝36の内部に導入された検体が、毛細管現象によって、基板31の溝36の内部を進み、基板31の溝36の内部に検体が溜まる。皮膚6に挿入した電気化学センサ30の周辺の検体が少なくなっても、基板31の溝36の内部に検体が溜まっている状態にあれば、作用極32Aの表面における検体が枯渇するリスクを抑制することができる。特に、検体が間質液の場合は、体内で潤沢に流動するほどの検体量がない可能性があるため、基板31の溝36の内部に間質液を貯留しておくことにより、作用極32Aの表面における間質液の枯渇を抑制することができる。毛細管現象によって基板31の溝36の内部に検体が導入され、毛細管現象によって基板31の溝36の内部を検体が進むように、基板31の溝36の幅方向の長さ及び溝36の深さが決定されている。基板31の溝36の幅方向の長さは、例えば、0.05mm以上3mm以下であり、好ましくは、0.1mm以上3mm以下であり、より好ましくは、0.1mm以上1mm以下である。また、基板31の溝36の深さは、例えば、50μm以上200μm以下であり、好ましくは、75μm以上150μm以下である。基板31の溝36の内面には、親水化処理を施しておくのが好ましい。親水化処理の方法としては、公知の種々の方法を採用することができる。例えば、VUV真空紫外線処理、プラズマ照射処理、界面活性剤の塗布処理等で、親水化処理を行ってもよい。また、特表2010-532269号公報に記載された方法と同様の方法を用いて親水化処理を行ってもよい。基板31の溝36の内面を親水化処理することにより、基板31の溝36の内部に検体が湿潤することが促進され、また、基板31の溝36の内部を検体が進むことが促進される。基板31の溝36の内面の親水化処理は、例えば、検体に対する接触角が30度未満となるように行うことが好ましい。ただし、基板31の溝36の内部を検体が進む程度に基板31の溝36の内面が親水化されていれば、検体に対する接触角が30度以上になっていてもよい。VUV処理は、例えば、172nmの波長の紫外線エキシマレーザー等を用いて、2.3mW/cm2の強度光源と基板31との距離を4mmとする場合により、数十秒以上30分以下の照射時間で行うことが好ましい。ただし、VUV処理は、172nmの波長の紫外線に限らず、他の波長の紫外線を用いてもよい。実施例2では、基板31の端部31Bから基板31の端部31Aに至るまで、基板31に溝36を形成する例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板31の端部31Bから基板31の長手方向に向かって所定距離まで、基板31に溝36を形成するようにしてもよい。例えば、基板31の皮膚6に挿入される部分に溝36を形成するようにしてもよい。<変形例1>実施例2の第1の変形例について説明する。図14は、実施例2の変形例1に係る電気化学センサ30の全体斜視図である。基板31には、基板31の長手方向に向かって突起部37A及び突起部37Bが形成されている。また、基板31には、突起部37Aと突起部37Bとの間に溝38が形成されている。基板31の溝38は、凹状に形成されている。凹状には、四角形状、半円形状、半楕円形状及び角錐形状等が含まれる。例えば、フォトリソグラフィ技術により基板31上にレジストパターンを形成し、レジストパターンをマスクとして基板31をエッチングすることにより、基板31に突起部37A、突起部37B及び溝38を形成することができる。また、レーザー加工によるエッチングにおいても、基板31に突起部37A、突起部37B及び溝38を形成することができる。基板31の端部31Bから基板31の長手方向に向かって、基板31に溝38を形成してもよい。すなわち、突起部37A及び突起部37Bと、基板31の端部31Bとが接するように、突起部37A及び突起部37Bを基板31に設け、突起部37Aと突起部37Bとの間に溝38を形成してもよい。基板31の端部31Aから基板31の長手方向に向かって、基板31に溝38を形成してもよい。すなわち、突起部37A及び突起部37Bと、基板31の端部31Aとが接するように、突起部37A及び突起部37Bを基板31に設け、突起部37Aと突起部37Bとの間に溝38を形成してもよい。基板31の端部31Bから基板31の長手方向に向かって、基板31の端部31Aに至るまで、基板31に溝38を形成してもよい。すなわち、突起部37A及び突起部37Bと、基板31の端部31Bとが接するとともに、突起部37A及び突起部37Bと、基板31の端部31Aとが接するように、突起部37A及び突起部37Bを基板31に設け、突起部37Aと突起部37Bとの間に溝38を形成してもよい。基板31の溝38の内部に、電極32、リード線33及び外層膜35が設けられている。図14では、それぞれ一つの作用極32A及び対極32Bが、基板31の溝38の内部に設けられている例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板31の溝38の内部に複数の電極32を設けるようにしてもよい。また、基板31の溝38の内部に複数の作用極32Aを設けるようにしてもよいし、基板31の溝38の内部に複数の対極32Bを設けるようにしてもよい。皮膚6に電気化学センサ30を挿入した場合、皮膚6内の検体が、基板31の溝38に接触する。基板31の溝38に接触した検体は、毛細管現象によって、基板31の溝38の内部に導入される。基板31の溝38の内部に導入された検体は、外層膜35の内部に浸透し、作用極32Aの表面に供給される。毛細管現象によって基板31の溝38の内部に検体が導入され、毛細管現象によって基板31の溝38の内部を検体が進むように、基板31の溝38の幅方向の長さ及び溝38の深さが決定されている。基板31の溝38の幅方向の長さは、例えば、0.05mm以上3mm以下であり、好ましくは、0.1mm以上3mm以下であり、より好ましくは、0.1mm以上1mm以下である。また、基板31の溝38の深さは、例えば、50μm以上200μm以下であり、好ましくは、75μm以上150μm以下である。基板31の溝38の内面には、親水化処理を施しておくのが好ましい。親水化処理の方法としては、公知の種々の方法を採用することができる。例えば、VUV真空紫外線処理、プラズマ照射処理、界面活性剤の塗布処理等で、親水化処理を行ってもよい。また、特表2010-532269号公報に記載された方法と同様の方法を用いて親水化処理を行ってもよい。基板31の溝38の内面を親水化処理することにより、基板31の溝38の内部に検体が湿潤することが促進され、また、基板31の溝38の内部を検体が進むことが促進される。基板31の溝38の内面の親水化処理は、例えば、検体に対する接触角が30度未満となるように行うことが好ましい。ただし、基板31の溝38の内部を検体が進む程度に基板31の溝38の内面が親水化されていれば、検体に対する接触角が30度以上になっていてもよい。VUV処理は、例えば、172nmの波長の紫外線エキシマレーザー等を用いて、2.3mW/cm2の強度光源と基板31との距離を4mmとする場合により、数十秒以上30分以下の照射時間で行うことが好ましい。ただし、VUV処理は、172nmの波長の紫外線に限らず、他の波長の紫外線を用いてもよい。<変形例2>実施例2の第2の変形例について説明する。図15は、実施例2の変形例2に係る電気化学センサ30の全体斜視図である。基板31には、基板31の幅方向に向かって突起部39A及び突起部39Bが形成されている。また、基板31には、突起部39Aと突起部39Bとの間に溝40が形成されている。基板31の溝40は、凹状に形成されている。凹状には、四角形状、半円形状、半楕円形状及び角錐形状等が含まれる。例えば、フォトリソグラフィ技術により基板31上にレジストパターンを形成し、レジストパターンをマスクとして基板31をエッチングすることにより、基板31に突起部39A、突起部39B及び溝40を形成することができる。また、レーザー加工によるエッチングにおいても、基板31に突起部39A、突起部39B及び溝40を形成することができる。基板31の端部31Cから基板31の幅方向に向かって、基板31に溝40を形成してもよい。すなわち、突起部39A及び突起部39Bと、基板31の端部31Cとが接するように、突起部39A及び突起部39Bを基板31に設け、突起部39Aと突起部39Bとの間に溝40を形成してもよい。基板31の端部31Dから基板31の幅方向に向かって、基板31に溝40を形成してもよい。すなわち、突起部39A及び突起部39Bと、基板31の端部31Cとが接するように、突起部39A及び突起部39Bを基板31に設け、突起部39Aと突起部39Bとの間に溝40を形成してもよい。基板31の端部31Cから基板31の幅方向に向かって、基板31の端部31Dに至るまで、基板31に溝40を形成してもよい。すなわち、突起部39A及び突起部39Bと、基板31の端部31Cとが接するとともに、突起部39A及び突起部39Bと、基板31の端部31Dとが接するように、突起部39A及び突起部39Bを基板31に設け、突起部39Aと突起部39Bとの間に溝40を形成してもよい。基板31の溝40の内部に、電極32、リード線33及び外層膜35が設けられている。図15では、それぞれ一つの作用極32A及び対極32Bが、基板31の溝40の内部に設けられている例を示している。しかし、本実施形態は、これに限定されず、基板31の溝40の内部に複数の電極32を設けるようにしてもよい。また、基板31の溝40の内部に複数の作用極32Aを設けるようにしてもよいし、基板31の溝40の内部に複数の対極32Bを設けるようにしてもよい。皮膚6に電気化学センサ30を挿入した場合、皮膚6内の検体が、基板31の溝40に接触する。基板31の溝40に接触した検体は、毛細管現象によって、基板31の溝40の内部に導入される。基板31の溝40の内部に導入された検体は、外層膜35の内部に浸透し、作用極32Aの表面に供給される。毛細管現象によって基板31の溝40の内部に検体が導入され、毛細管現象によって基板31の溝40の内部を検体が進むように、基板31の溝40の幅方向の長さ及び溝40の深さが決定されている。基板31の溝40の幅方向の長さは、例えば、0.05mm以上3mm以下であり、好ましくは、0.1mm以上3mm以下であり、より好ましくは、0.1mm以上1mm以下である。また、基板31の溝40の深さは、例えば、50μm以上200μm以下であり、好ましくは、75μm以上150μm以下である。基板31の溝40の内面には、親水化処理を施しておくのが好ましい。親水化処理の方法としては、公知の種々の方法を採用することができる。例えば、VUV真空紫外線処理、プラズマ照射処理、界面活性剤の塗布処理等で、親水化処理を行ってもよい。また、特表2010-532269号公報に記載された方法と同様の方法を用いて親水化処理を行ってもよい。基板31の溝40の内面を親水化処理することにより、基板31の溝40の内部に検体が湿潤することが促進され、また、基板31の溝40の内部を検体が進むことが促進される。基板31の溝40の内面の親水化処理は、例えば、検体に対する接触角が30度未満となるように行うことが好ましい。ただし、基板31の溝40の内部を検体が進む程度に基板31の溝40の内面が親水化されていれば、検体に対する接触角が30度以上になっていてもよい。VUV処理は、例えば、172nmの波長の紫外線エキシマレーザー等を用いて、2.3mW/cm2の強度光源と基板31との距離を4mmとする場合により、数十秒以上30分以下の照射時間で行うことが好ましい。ただし、VUV処理は、172nmの波長の紫外線に限らず、他の波長の紫外線を用いてもよい。