レーザ装置と共に用いられるチャンバ装置であって、レーザ光を内部に導入するための入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに絶縁体を介して設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記チャンバ装置に接続される電位制御部と、を備えるチャンバ装置。前記チャンバは接地されており、前記ターゲット供給部は、前記ターゲット物質を出力するための出力口および該出力口から離間して設けられる第1電極を含み、前記電位制御部は、前記出力口および前記第1電極の電位を制御する、請求項1記載のチャンバ装置。前記電位制御部は、前記出力口の電位が前記第1電極の電位より高くなるように制御する、請求項2記載のチャンバ装置。前記ターゲット供給部は、前記第1電極から離間して設けられる第2電極をさらに含み、前記電位制御部は、前記第2電極の電位が前記第1電極の電位以下になるように制御する、請求項2記載のチャンバ装置。前記チャンバは、前記ターゲット物質を回収するための回収部を含み、前記前記電位制御部は、前記回収部の電位が前記第1電極の電位より低くなるように制御する、請求項3記載のチャンバ装置。前記チャンバは、内部に配置されるコレクタミラーを含み、前記電位制御部は、前記コレクタミラーの電位を前記出力口の電位より低く、かつ前記第1電極の電位より高くなるように制御する、請求項3記載のチャンバ装置。前記チャンバは、前記ターゲット物質の移動経路上に配置される少なくとも1つの電位維持部を含む、請求項1記載のチャンバ装置。前記電位維持部は中空である請求項7記載のチャンバ装置。前記電位維持部は導電性を有する請求項7記載のチャンバ装置。レーザ装置と共に用いられるチャンバ装置であって、レーザ光を内部に導入するための入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記チャンバ装置に接続される電位制御部と、を備えるチャンバ装置。前記チャンバおよび前記ターゲット供給部は接地されており、前記ターゲット供給部は、前記ターゲット物質を出力するための出力口および該出力口から離間して設けられる第1電極を含み、前記電位制御部は、前記第1電極の電位を制御する、請求項10記載のチャンバ装置。前記電位制御部は、前記第1電極の電位が前記出力口の電位より高くなるように制御する、請求項11記載のチャンバ装置。前記ターゲット供給部は、前記第1電極から離間して設けられる第2電極をさらに含み、前記電位制御部は、前記第2電極の電位が前記第1電極の電位以上になるように制御する、請求項11記載のチャンバ装置。前記チャンバは、前記ターゲット物質を回収するための回収部を含み、前記前記電位制御部は、前記回収部の電位が前記第2電極の電位より高くなるように制御する、請求項12記載のチャンバ装置。前記チャンバは、前記ターゲット物質の移動経路上に配置される少なくとも1つの電位維持部を含む、請求項10記載のチャンバ装置。前記電位維持部は中空である請求項15記載のチャンバ装置。前記電位維持部は導電性を有する請求項15記載のチャンバ装置。