"下記一般式Iで表される化合物またはその一つの薬学的に許容可能な塩:式中、R1は、水素、F、Cl、またはBrなどのハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、直鎖または分岐鎖C1-C4アルキル、および直鎖または分岐鎖C1-C4アルコキシからなる群の中から選択される、フェニルコアXの1以上の置換基を表し、nは0、1、または2を表し、Aは酸素または硫黄を表し、Dは-C=O-、-CH2O-、または-O-を表し、n=1または2であって、Dが-C=O-を表す場合には、Bは窒素を表し、あるは、n=0であってDが-CH2O-を表す場合またはn=1であってDが-O-を表す場合には、BはCHを表し、R2は水素、メチル、フッ素、もしくは塩素原子、またはメトキシを表し、HetArは、直鎖もしくは分岐鎖C1-C4アルキル、直鎖もしくは分岐鎖C1-C4アルコキシ、F、Cl、もしくはBrなどのハロゲン、またはトリフルオロメチルなどの基で置換されていてもよいピリジルもしくはキノリル基を表す。下記式Iaで表される化合物である、請求項1に記載の一般式Iの化合物、またはその薬学的に許容可能な塩:式中、R1、R2、A、B、D、n、およびHetArは請求項1で定義される通りである。R1が、水素、F、Cl、またはBrなどのハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、直鎖または分岐鎖C1-C4アルキル、およびメトキシからなる群の中から選択される、フェニルコアの1以上の置換基を表し、nが1を表し、Aが酸素または硫黄を表し、Dが-C=O-または-O-を表し、Dが-C=O-を表す場合にはBが窒素を表し、あるいはDが-O-を表す場合にはBがCHを表し、R2が水素を表し、HetArが、メチルまたはトリフルオロメチルなどの基で置換されていてもよい2-ピリジルまたは8-キノリル基を表す、請求項1および請求項2のいずれかに記載の一般式Iの化合物、またはその一つの薬学的に許容可能な塩。R1が、水素、F、Cl、もしくはBrなどのハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、直鎖もしくは分岐鎖C1-C4アルキル、またはメトキシなどのフェニルコアの1以上の置換基を表し、Aが硫黄を表し、nが1を表し、Dが-C=O-を表し、Bが窒素を表し、R2が水素を表し、ならびにHetArが、メチルまたはトリフルオロメチルなどの基で置換されていてもよい2-ピリジル基を表す、請求項1~3のいずれか一項に記載の一般式Iの化合物、またはその一つの薬学的に許容可能な塩。1N-2-4-6-フルオロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニル-5-トリフルオロメチルピリジン-2-スルホンアミド、2N-2-4-6-フルオロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド、3N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド、4N-2-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド塩酸塩、5N-2-4-4-メチルベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド、6N-2-4-7-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド、7N-2-4-5-トリフルオロメチルベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド、8N-2-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニル-5-トリフルオロメチルピリジン-2-スルホンアミド、9N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニル-6-メチルピリジン-2-スルホンアミド二塩酸塩、10N-3-4-6-クロロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド、11N-3-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド、12N-3-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニル-6-メチルピリジン-2-スルホンアミド、13N-4-4-6-フルオロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド、14N-4-4-6-クロロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド、15N-4-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド、16N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルキノリン-8-スルホンアミド、17N-2-4-6-クロロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルキノリン-8-スルホンアミド、18N-2-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルキノリン-8-スルホンアミド、19N-2-4-6-トリフルオロメトキシベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルキノリン-8-スルホンアミド、20N-2-4-4-メチルベンゾ[d]チアゾール-2-イル-1,4-ジアゼパン-1-カルボニルフェニルキノリン-8-スルホンアミド、21N-2-1-6-メチルベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、22N-2-1-6-クロロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、23N-2-1-5-tert-ブチルベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、24N-2-1-5-クロロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、25N-2-1-ベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、26N-2-1-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニル-ピリジン-2-スルホンアミド、27N-2-1-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、28N-2-1-ベンゾ[d]チアゾール-2-イルピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、29N-2-1-6-フルオロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、30N-2-1-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、31N-2-1-4-メチルベンゾ[d]チアゾール-2-イルピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、32N-2-1-4-メトキシベンゾ[d]チアゾール-2-イルピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド、33N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミドリチウム、34N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミドナトリウム、および35N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミドカリウムから選択される、請求項1~4のいずれか一項に記載の一般式Iの化合物。請求項1~5のいずれか一項に記載の一般式Iで表される化合物式中、B=Nの製造方法であって、下記の一連の工程を含む、方法:a1下記一般式II:式中、R1、A、およびnは、請求項1で定義される通りであるで表される化合物と、下記式XV:式中、R2は請求項1で定義される通りであるで表されるイサト酸無水物誘導体とを、ジメチルアミノピリジンなどの塩基の存在下で縮合させ、下記式III:式中、R1、R2、A、およびnは、請求項1で定義される通りであるで表される中間体を得る工程、a2式IIIの中間体と、下記一般式IV:式中、HetArは請求項1で定義される通りであるで表されるスルホニルクロリドとを、ピリジンなどの塩基の存在下で縮合させ、式Iで表される化合物を得る工程、およびa3任意に、前の工程a2で得られた式Iで表される化合物を、薬学的に許容可能な塩基または酸の存在下で塩形成させ、式Iで表される化合物の薬学的に許容可能な塩を得る工程。請求項1~5のいずれか一項に記載の一般式Iで表される化合物式中、B=Nの製造方法であって、下記の一連の工程を含む、方法:b1下記一般式V:式中、R3は直鎖または分岐鎖C1-C4アルキルを表し、R2は請求項1で定義される通りであるで表される化合物と、請求項7で定義される一般式IVのスルホニルクロリドとを、ピリジンなどの塩基の存在下で縮合させ、下記式VI:式中、R3は前記定義の通りであり、R2およびHetArは請求項1で定義される通りであるで表される化合物を得る工程、b2式VIの化合物を、とりわけ、炭酸カリウムなどの塩基の存在下で鹸化させ、下記式VII:式中、R2およびHetArは請求項1で定義される通りであるで表される化合物を得る工程、b3式VIIの化合物と、請求項6に記載の式IIの化合物とをカップリングさせ、式Iで表される化合物を得る工程、およびb4任意に、前の工程b3で得られた式Iで表される化合物を、薬学的に許容可能な塩基または酸の存在下で塩形成させ、式Iで表される化合物の薬学的に許容可能な塩を得る工程。請求項1~5のいずれか一項に記載の一般式Iで表される化合物式中、B=CHの製造方法であって、下の連続的工程を含む、方法:c1下記一般式VIII:式中、R2は一般式Iで定義される通りであるで表される化合物と、下記一般式IX:式中、Dおよびnは請求項1で定義される通りであるで表される化合物とを縮合させ、下記式X:式中、R2、D、およびnは請求項1で定義される通りであるで表される化合物を得る工程、c2式Xで表される化合物を還元させ、下記式XI:式中、R2、Dおよびnは請求項1で定義される通りであるで表される化合物を得る工程、c3式XIで表される化合物と、請求項6に記載の一般式IVのスルホニルクロリドとを、ピリジンなどの塩基の存在下でカップリングさせ、下記式XII:式中、HetAr、R2、D、およびnは請求項1で定義される通りであるで表される化合物を得る工程、c4式XIIの化合物のアミド基を加水分解させ、下記式XIII:式中、HetAr、R2、D、およびnは請求項1で定義される通りであるで表される化合物を得る工程、c5式XIIIの化合物と、下記式XIV:式中、R1およびAは請求項1で定義される通りであるで表される化合物とをカップリングさせ、式Iで表される化合物を得る工程、ならびにc6任意に、前の工程c5で得られた式Iで表される化合物を、薬学的に許容可能な塩基または酸の存在下で塩形成させ、式Iで表される化合物の薬学的に許容可能な塩を得る工程。医薬として使用するための、請求項1~5のいずれか一項に記載の一般式Iの化合物。Kvカリウムチャネル、より詳細には、チャネルKv1.5、Kv4.3、またはKv11.1の遮断薬として使用するための、請求項1~5のいずれか一項に記載の一般式Iの化合物。Kvカリウムチャネル、より詳細には、チャネルKv1.5、Kv4.3、またはKv11.1の遮断薬を必要とする疾患の治療および/または予防を目的とした医薬として使用するための、請求項9に記載の化合物。心房細動、心耳および/または心室の心拍障害、細胞周期および/または細胞増殖および/または再生の機能が損なわれている病状、例えば、癌または慢性炎症などの治療および/または予防を目的とした医薬として使用するための、請求項9に記載の化合物。請求項1~5のいずれか一項に記載の一般式Iで表される化合物を、少なくとも一つの薬学的に許容可能な賦形剤とともに含む、医薬組成物。A中間体中間体1:a6-フルオロ-ベンゾオキサゾール-2-チオール1a2-アミノ-5-フルオロ-フェノール10g、79mmolを、100mLのエタノール中、ジチオ炭酸O-エチルカリウム27.7g、173mmolの存在下で還流させながら一晩おく。濃縮乾固後、残渣をHCl1N溶液で摩砕し、濾過し、その後、HCl1Nですすぐ。真空下で乾燥させた後、13.8gの褐色の固体が単離される定量的収率。b5-tert-ブチル-ベンゾオキサゾール-2-チオール1b中間体1aについて記載した手順を用いて、2-アミノ-4-tert-ブチル-フェノールから中間体1b固体を製造する収率94。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:90-10、Rf=0.83。c7-クロロ-ベンゾチアゾール-2-チオール1c中間体1aについて記載した手順を用いて、還流下でDMFを用い、3-クロロ-2-フルオロ-フェニルアミンから中間体1c固体を製造する定量的収率。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.70。d5-トリフルオロメチル-ベンゾチアゾール-2-チオール1d中間体1aについて記載した手順を用いて、溶媒としてDMFを用い、2-ブロモ-5-トリフルオロメチル-フェニルアミンから中間体1d固体を製造する収率28。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.73。e6-ブロモ-ベンゾチアゾール-2-チオール1e中間体1aについて記載した手順を用いて、4-ブロモ-2-フルオロ-フェニルアミンから中間体1e固体を製造する定量的収率。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.75。f6-メチル-ベンゾオキサゾール-2-チオール1f8g65mmolの2-アミノ-5-メチル-フェノールを、100mLのCS2と150mLのEtOHの混合物中、苛性カリ液4.37g、78mmolの存在下におき、100°Cで8時間加熱する。濃縮乾固後、その媒質を水に溶かし、AcOEtを用いて抽出し、乾燥させた後、有機相を濃縮乾固させる。残渣をEt2Oに溶かし、得られた結晶を濾過し、その後、石油エーテルですすぐ。10gのベージュ色の結晶が単離される収率:94。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.75。g5-クロロ-ベンゾオキサゾール-2-チオール1g中間体1fについて記載した手順を用いて、2-アミノ-4-クロロ-フェノールから中間体1b固体を製造する収率:46。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:50-50、Rf=0.70。中間体2:a2-クロロ-6-フルオロ-ベンゾチアゾール2a0.5g2.97mmolの6-フルオロ-ベンゾチアゾール-2-イルアミンを、10mLのアセトニトリル中、亜硝酸イソアミル0.52g、4.46mmolとCuCl2.2H2O0.61g、0.57mmolの存在下におく。その反応媒質を65°Cに3時間加熱し、その後、濃縮乾固させ、残渣を水に溶かし、酢酸エチルを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、その後、蒸発させ、得られた残渣をシリカフラッシュクロマトグラフィーCH2Cl2-AcOEt、30分かけて、勾配100-0~97-3により精製する。0.36gの固体が得られる収率64。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.84。b2-クロロ-4-メチル-ベンゾチアゾール2b中間体2aについて記載した手順を用いて、4-メチル-ベンゾチアゾール-2-イルアミンから中間体2b固体を製造する収率:89。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.83。c2-クロロ-4-メトキシ-ベンゾチアゾール2c中間体2aについて記載した手順を用いて、4-メトキシ-ベンゾチアゾール-2-イルアミンから中間体2c固体を製造する収率:47。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:70-30、Rf=0.77。d6-ブロモ-2-クロロ-ベンゾチアゾール2d中間体2aについて記載した手順を用いて、6-ブロモ-ベンゾチアゾール-2-イルアミンから中間体2c固体を製造する収率:75。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.83。e2-クロロ-6-メチル-ベンゾオキサゾール2e中間体1fを1.76mLの塩化チオニル中に0°Cでおく。その反応媒質を0°Cで保つようにして、0.47mLのDMFを滴下し、その後、それをこの温度で1時間撹拌する。真空下で蒸発させた後、その媒質を水に溶かし、酢酸エチルを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、濃縮乾固させる。得られた残渣をシリカフラッシュクロマトグラフィー石油エーテル-AcOEt、20分かけて、勾配100-0~80-20により精製する。0.66gの油状物が得られる収率65。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:90-10、Rf=0.80。f2,6-ジクロロ-ベンゾオキサゾール2f中間体2eについて記載した手順を用いて、6-クロロ-ベンゾオキサゾール-2-チオールから中間体2f固体を製造する収率:42。TLC用シリカゲル60F254プレート、AcOEt、Rf=0.87。g5-tert-ブチル-2-クロロ-ベンゾオキサゾール2g中間体2eについて記載した手順を用いて、中間体1bから中間体2g油状物を製造する収率:42。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:50-50、Rf=0.76。h2,5-ジクロロ-ベンゾオキサゾール2h中間体2eについて記載した手順を用いて、中間体1gから中間体2h固体を製造する収率:定量的。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:50-50、Rf=0.68。i2-ブロモ-6-トリフルオロメトキシベンゾ[d]チアゾール2i中間体2aについて記載した手順を用いて、CuBr2を用い、2-アミノ-6-トリフルオロメトキシベンゾチアゾールから中間体2i固体を製造する収率:90。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.93。中間体3:a6-フルオロ-2-ピペラジン-1-イル-ベンゾオキサゾール3a中間体1a9g、53.2mmolを、45mLのブタノール中、ピペラジン22.91g、266mmolの存在下で、マイクロ波下、180°Cで40分間おく。濃縮乾固後、その媒質を水に溶かし、酢酸エチルを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、その後、蒸発させ、得られた残渣をシリカフラッシュクロマトグラフィーCH2Cl2-MeOH、20分かけて、勾配98-2~80-20により精製する。2.73gの褐色の油状物が得られる収率23。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:90-10、Rf=0.11。b6-クロロ-2-ピペラジン-1-イル-ベンゾオキサゾール3b中間体3aについて記載した手順を用いて、6-クロロ-2-ベンゾオキサゾール-2-チオールから中間体3b油状物を製造する収率:92。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:90-10、Rf=0.11。c7-クロロ-2-ピペラジン-1-イル-ベンゾチアゾール3c中間体3aについて記載した手順を用いて、中間体1cから中間体3c固体を製造する収率:79。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:90-10、Rf=0.15。d2-ピペラジン-1-イル-5-トリフルオロメチル-ベンゾチアゾール3d中間体3aについて記載した手順を用いて、中間体1dから中間体3d固体を製造する収率:91。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.20。e6-フルオロ-2-ピペラジン-1-イル-ベンゾチアゾール3eピペラジン0.33g、3.84mmolを6mLのエタノール中に入れ、8mLの水で希釈した重炭酸ナトリウム0.56g、6.72mmolを加え、その後、8mLのエタノールで希釈した0.36g1.92mmolの中間体2aを滴下する。その反応媒質を一晩加熱還流し、その後、濃縮乾固させる。酢酸エチルを用いて抽出した後、有機相を蒸発させ、得られた残渣をシリカフラッシュクロマトグラフィーCH2Cl2-MeOH、45分かけて、勾配100-0~90-10により精製する。0.39gの固体が得られる収率86。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.05。f6-ブロモ-2-ピペラジン-1-イル-ベンゾチアゾール3f中間体3eについて記載した手順を用いて、中間体2dから中間体3f固体を製造する収率:92。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.14。g6-クロロ-2-ピペラジン-1-イル-ベンゾチアゾール3g中間体3eについて記載した手順を用いて、2,6-ジクロロ-1,3-ベンゾチアゾールから中間体3g固体を製造する収率:84。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:90-10、Rf=0.23。h4-メチル-2-ピペラジン-1-イル-ベンゾチアゾール3h中間体3eについて記載した手順を用いて、中間体2bから中間体3h固体を製造する収率:79。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-AcOEt:95-5、Rf=0.05。i2-ピペラジン-1-イル-6-トリフルオロメトキシベンゾチアゾール3i中間体3eについて記載した手順を用いて、中間体2iから中間体3i固体を製造する収率:88。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.22。j2-[1,4]ジアゼパン-1-イル-4-メチル-ベンゾチアゾール3j中間体3eについて記載した手順を用いて、中間体2bおよび[1,4]ジアゼパンから中間体3j油状物を製造する収率:83。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.10。中間体4:a5-トリフルオロメチル-ピリジン-2-スルホニルクロリド4a0.8g4.47mmolの5-トリフルオロメチル-ピリジン-2-チオールを、16mLのH2SO4中に-8°Cでおく。16.96mL35.7mmolの13次亜塩素酸ナトリウム溶液を静かに注ぎ、反応媒質の温度は5°Cを超えないようにする。次いで、この混合物を45分間撹拌し、それを水に溶かし、その後、AcOEtを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、続いて、濃縮乾固させた後、油状物を単離し収率:79、そのまま次の反応に使用する。bピリジン-2-スルホニルクロリド4b4aについて記載した手順を用いて、ピリジン-2-チオールから中間体4b油状物を製造する収率:96。c6-メチルピリジン-2-スルホニルクロリド4c4aについて記載した手順を用いて、6-メチルピリジン-2-チオールから中間体4c油状物を製造する収率:96。中間体5:a3-ピリジン-2-スルホンアミド安息香酸5a0.68g4.13mmolの3-アミノ安息香酸エチルを、0.4mLのピリジンの存在下で10mLのCH2Cl2中におき、3mLのCH2Cl2で希釈した中間体4bの溶液を滴下する。その反応媒質を8時間撹拌し、その後、濃縮乾固させる。残渣を水に溶かし、その後、AcOEtを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、続いて、濃縮乾固させた後、固体を単離し、その後、シリカフラッシュクロマトグラフィーCH2Cl2-AcOEt、45分かけて、勾配100-0~90-10により精製する。1.14gの白色の固体が得られる収率:90。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-AcOEt:90-10、Rf=0.26。この固体3.72mmolを0.41g7.44mmolのソーダの存在下で17mLのEtOH中におき、混合物を9時間半加熱還流する。濃縮乾固後、その媒質を水に溶かし、AcOEtを用いて抽出する。次いで、水相を、HCl1Nを用いて酸性化しpH=1、その後、AcOEtを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、続いて、濃縮乾固させた後、固体を得る。それを石油エーテルで摩砕し、その後、濾過により単離する1g、収率:98。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.20。b3-6-メチル-ピリジン-2-スルホニルアミノ-安息香酸5b5aについて記載した手順を用いて、中間体4cおよび3-アミノ安息香酸エチルを用い、中間体5b固体を製造する。収率:94。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:85-15、Rf=0.36。c4-ピリジン-2-スルホニルアミノ-安息香酸5c5aについて記載した手順を用いて、中間体4bおよび4-アミノ安息香酸エチルを用い、中間体5c固体を製造する。収率:50。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:85-15、Rf=0.37。中間体6:aN-2-ピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミドトリフルオロアセタート6a10g49.7mmolの4-ヒドロキシピペリジン-1-カルボン酸tert-ブチルを6.91g49.7mmolの2-ニトロフェノールと16.94g64.6mmolのPPh3の存在下におく。この混合物に、11.25g64.6mmolのDEADを少量ずつ加え、その反応媒質を周囲温度で2時間撹拌し、その後、濃縮乾固させる。残渣を水に溶かし、AcOEtを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、続いて、蒸発させた後、得られた残渣をシリカフラッシュクロマトグラフィー石油エーテル-AcOEt、20分かけて、勾配80-20~60-40により精製する。得られた黄色の油状物は、石油エーテル-Et2O混合物での摩砕の後、結晶化し、13.2gの固体が単離される収率82。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:50-50、Rf=0.40。事前に得た固体41.9mmolを、100mLのMeOH中、223mgのPd炭素の存在下で、水素5バール下、ステンレス鋼反応器中におき、周囲温度で2時間撹拌する。セライトで濾過し、続いて、蒸発させた後、12.4gのオレンジ色の油状物が単離される定量的収率。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:80-20、Rf=0.44。4.5g15.39mmolの事前に単離した油状物を、中間体4bとピリジン1.46g、18.47mmolの存在下で200mLのCH2Cl2中におき、周囲温度で3時間撹拌する。その反応媒質を水に溶かし、その後、AcOEtを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、続いて、蒸発させた後、得られた残渣をシリカフラッシュクロマトグラフィー石油エーテル-AcOEt、30分かけて、勾配70-30~50-50により精製する。5.5gの褐色の固体が単離される収率:82。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:50-50、Rf=0.50。事前に得た固体12.7mmolを、40mLのCH2Cl2中、14.7g127mmolのトリフルオロ酢酸の存在下におき、周囲温度で2時間撹拌する。減圧下で蒸発させた後、残渣をEt2O/アセトン混合物で摩砕し、濾過により5.34gの中間体6aベージュ色の固体が単離される収率94。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:50-50、Rf=0.36。bN-2-ピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミドトリフルオロアセタート6b6aについて記載した手順を用いて、4-ヒドロキシピペリジン-1-カルボン酸tert-ブチルの代わりに3-ヒドロキシメチルピロリジン-1-カルボン酸tert-ブチルを用い、中間体6b固体を製造する収率:4工程で39。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:90-10、Rf=0.25。B本発明による化合物実施例1:N-2-4-6-フルオロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニル-5-トリフルオロメチルピリジン-2-スルホンアミド1合成方法1を用いて化合物1を製造する:中間体3a2.5g、11.30mmolを、25mLのTHFおよび5mLのDMF中、1H-ベンゾ[d][1,3]オキサジン-2,4-ジオン1.83g、11.3mmolとDMAP138mg、1.13mmolの存在下におき、混合物を周囲温度で一晩撹拌する。濃縮乾固後、残渣を水に溶かし、AcOEtを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、濃縮乾固させた後、得られた残渣をシリカフラッシュクロマトグラフィーCH2Cl2-MeOH、40分かけて、勾配100-0~95-5により精製する。0.47gの固体が得られる収率:32。次いで、それを、0.119g0.48mmolの中間体4aと39μLのピリジンの存在下で3mLのジクロロメタン中におく。次いで、混合物を周囲温度で一晩撹拌し、その後、水に溶かし、ジクロロメタンを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、濃縮乾固させた後、得られた残渣をフラッシュクロマトグラフィーCH2Cl2-MeOH、65分かけて、勾配100-0~95-5により精製する。90mgの固体が得られる収率:35。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.48。NMR1Hppm894869819774741726717707695376MSmz548実施例2:N-2-4-6-フルオロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド2合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3e収率:87を、第2の工程に中間体4b収率:30を用い、化合物2を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.58。NMR1Hppm865858803789777750739712362MSmz498実施例3:N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド3合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3f定量的収率を、第2の工程に中間体4b収率:80を用い、化合物3を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.60。mp=102°CNMR1Hppm866856803788775741716364MSmz558実施例4:N-2-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド塩酸塩4合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3g収率:72を、第2の工程に中間体4b収率:27を用い、化合物4を製造し、その後、それを塩酸塩形態に塩化させる。NMR1Hppm1070878078767473727136MSmz514実施例5:N-2-4-4-メチルベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド5合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3h収率:87を、第2の工程に中間体4b収率:23を用い、化合物5を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.70。NMR1Hppm865803787779748741720714704363256MSmz494実施例6:N-2-4-7-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド6合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3c定量的収率を、第2の工程に中間体4b収率:24を用い、化合物6を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.54。NMR1Hppm866857804789777742729716366MSmz514実施例7:N-2-4-5-トリフルオロメチルベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド7合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3d収率:74を、第2の工程に中間体4b収率:31を用い、化合物7を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.66。NMR1Hppm867855804789776774741721714368MSmz548実施例8:N-2-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニル-5-トリフルオロメチルピリジン-2-スルホンアミド8合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3g収率:94を、第2の工程に中間体4a収率:56を用い、化合物8を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.50。NMR1Hppm893871818774760747740726716369MSmz580実施例9:N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニル-6-メチルピリジン-2-スルホンアミド二塩酸塩9合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3f定量的収率を、第2の工程に中間体4c収率:40を用い、化合物9を製造する。5NHClイソプロパノール3当量溶液を用いた塩形成により二塩酸塩を得る。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.73。mp=180°CNMR1Hppm1003807793770753742733721368255MSmz572実施例10:N-3-4-6-クロロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド10合成方法2を用いて化合物10を製造する:中間体3b0.16g、0.67mmolを、0.18g0.67mmolの中間体5aと103μLのEt3Nの存在下で21mLのアセトニトリル中におく。次いで、0.21g0.67mmolのTBTUを加え、その後、混合物を周囲温度で5時間撹拌する。減圧下で蒸発させた後、残渣を水に溶かし、AcOEtを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、濃縮乾固させた後、得られた残渣をフラッシュクロマトグラフィーCH2Cl2-MeOH、65分かけて、勾配99-1~95-5により精製する。0.23gの固体が得られる収率:68。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-AcOEt:95-5、Rf=0.30。NMR1Hppm1076873808800767760732722708363334MSmz498実施例11:N-3-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド11合成方法2を用いて、中間体3gおよび中間体5aを用い、化合物11を製造する収率:60TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.50。NMR1Hppm1077873809800794767746732722709366334MSmz512実施例12:N-3-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニル-6-メチルピリジン-2-スルホンアミド12合成方法2を用いて、中間体3gおよび中間体5bを用い、化合物12を製造する収率:15。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.52。NMR1Hppm1071795779752746732723709362338252MSmz528実施例13:N-4-4-6-フルオロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド13合成方法2を用いて、中間体3aおよび中間体5cを用い、化合物13を製造する収率:53。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.28。NMR1Hppm1087872806767744733727721702361MSmz482実施例14:N-4-4-6-クロロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド14合成方法2を用いて、中間体3bおよび中間体5cを用い、化合物14を製造する収率:56。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.40。NMR1Hppm1089870804762729718362MSmz498実施例15:N-4-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミド15合成方法2を用いて、中間体3gおよび中間体5cを用い、化合物15を製造する収率:80。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.34。NMR1Hppm1087873807793765744732721360MSmz512実施例16:N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルキノリン-8-スルホンアミド16合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3f収率:97を、第2の工程にキノリン-8-スルホニルクロリド収率:61を用い、化合物16を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.73。NMR1Hppm916839817793775758742731710330MSmz608実施例17:N-2-4-6-クロロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルキノリン-8-スルホンアミド17合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3b収率:73を、第2の工程にキノリン-8-スルホニルクロリド収率:50を用い、化合物17を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.68。NMR1Hppm915840820796757731718710330MSmz548実施例18:N-2-4-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルキノリン-8-スルホンアミド18合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3g収率:94を、第2の工程にキノリン-8-スルホニルクロリド収率:82を用い、化合物18を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.61。NMR1Hppm915839817793758747730710330MSmz564実施例19:N-2-4-6-トリフルオロメトキシベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルキノリン-8-スルホンアミド19合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3i収率:91を、第2の工程にキノリン-8-スルホニルクロリド収率:67を用い、化合物19を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.76。NMR1Hppm939910849826797771754747737727714362277MSmz614実施例20:N-2-4-4-メチルベンゾ[d]チアゾール-2-イル-1,4-ジアゼパン-1-カルボニルフェニルキノリン-8-スルホンアミド20合成方法1を用いて、第1の工程に中間体3j定量的収率を、第2の工程にキノリン-8-スルホニルクロリド収率:58を用い、化合物20を製造する。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:95-5、Rf=0.80。NMR1Hppm913886862841820798755747728712699685371351320247209MSmz558実施例21:N-2-1-6-メチルベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド21合成方法3を用いて化合物21を製造する:中間体2e0.21g、1.25mmolおよび中間体6aを、0.3g3.58mmolの重炭酸ナトリウムの存在下で5mLのEtOH中におき、次いで、混合物を80°Cで2時間撹拌する。減圧下で蒸発させた後、残渣を水に溶かし、AcOEtを用いて抽出する。有機相を乾燥させ、濃縮乾固させた後、得られた残渣をEtOH/Et2O混合物で摩砕し、濾過により0.32gの固体を単離する収率:77。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-AcOEt:70-30、Rf=0.43。NMR1Hppm957861796782753728724718711698686453372348235177148MSmz465実施例22:N-2-1-6-クロロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド22合成方法3を用いて、中間体2fおよび中間体6aを用い、化合物22を製造する収率:83。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:70-30、Rf=0.46。NMR1Hppm958863798783759755728720714699686454372352179151MSmz485実施例23:N-2-1-5-tert-ブチルベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド23合成方法3を用いて、中間体2gおよび中間体6aを用い、化合物23を製造する収率:82。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:90-10、Rf=0.65。NMR1Hppm957863797783753730711705699685454374350178148130MSmz507実施例24:N-2-1-5-クロロベンゾ[d]オキサゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド24合成方法3を用いて、中間体2hおよび中間体6aを用い、化合物24を製造する収率:92。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-AcOEt:70-30、Rf=0.33。NMR1Hppm957863798783755743735729712704699686455374355179152MSmz485実施例25:N-2-1-ベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド25合成方法3を用いて、中間体6aおよび2-クロロ-1,3-ベンゾチアゾールを用い、化合物25を製造する収率:81。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-AcOEt:80-20、Rf=0.75。NMR1Hppm959862797782777753747728710699686456372347179153MSmz467実施例26:N-2-1-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド26合成方法3を用いて、中間体6aおよび2,6-ジクロロ-1,3-ベンゾチアゾールを用い、化合物26を製造する収率:82。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:60-40、Rf=0.20。NMR1Hppm959862797791782754744729712699686456372349178152MSmz501実施例27:N-2-1-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペリジン-4-イルオキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド27合成方法3を用いて、中間体2dおよび中間体6aを用い、化合物27を製造する収率:14。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:60-40、Rf=0.21。NMR1Hppm959862803798782753740726712699686456372349179153MSmz545実施例28:N-2-1-ベンゾ[d]チアゾール-2-イルピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド28合成方法3を用いて、中間体6bおよび2-クロロ-1,3-ベンゾチアゾールを用い、化合物28を製造する収率:66。TLC用シリカゲル60F254プレート、CH2Cl2-MeOH:90-10、Rf=0.44。NMR1Hppm962873803776764746728712703694686381368356348330261212185MSmz467実施例29:N-2-1-6-フルオロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド29合成方法3を用いて、中間体2aおよび中間体6bを用い、化合物29を製造する収率:76。TLC用シリカゲル60F254プレート、AcOEt、Rf=0.55。NMR1Hppm961872803784771763745726712694686383367353348330262209185MSmz485実施例30:N-2-1-6-クロロベンゾ[d]チアゾール-2-イルピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド30合成方法3を用いて、中間体6bおよび2,6-ジクロロ-1,3-ベンゾチアゾールを用い、化合物30を製造する収率:80。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:50-50、Rf=0.23。NMR1Hppm961872803791784763743728710694686403366353330261211184MSmz501実施例31:N-2-1-4-メチルベンゾ[d]チアゾール-2-イルピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド31合成方法3を用いて、中間体2bおよび中間体6bを用い、化合物31を製造する収率:28。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:50-50、Rf=0.36。NMR1Hppm96187480478476375772871069468638437235835233026325210180MSmz481実施例32:N-2-1-4-メトキシベンゾ[d]チアゾール-2-イルピロリジン-3-イルメトキシフェニルピリジン-2-スルホンアミド32合成方法3を用いて、中間体2cおよび中間体6bを用い、化合物32を製造する収率:51。TLC用シリカゲル60F254プレート、石油エーテル-AcOEt:50-50、Rf=0.63。NMR1Hppm961876805784763734728710700694689386382367350327263210183MSmz497実施例33:N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミドリチウム33実施例3に従って製造した、2.36g4.23mmolの化合物3を30mLのエタノールに加える。次いで、LiOH4.23mL、4.23mmolの1M溶液を加え、混合物を室温で30分間撹拌する。溶媒を乾燥するまで濃縮させ、残渣をジエチルエーテルに溶かし、室温で2時間撹拌する。濾過後、化合物332.45gを固体として単離し、その後、真空下で乾燥させる。mp=122.42°CNMR1Hppm848803781738738718686646402378344314MSmz558実施例34:N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミドナトリウム34実施例33において記載した合成方法を用いて、1MNaOH溶液を用い、化合物34を製造する。濾過後、化合物342.46gを固体として単離し、その後、真空下で乾燥させる。mp=330°CNMR1Hppm848803782739734717686646401378346314MSmz558実施例35:N-2-4-6-ブロモベンゾ[d]チアゾール-2-イルピペラジン-1-カルボニルフェニルピリジン-2-スルホンアミドカリウム35実施例33において記載した合成方法を用いて、1MKOH溶液を用い、化合物35を製造する。濾過後、化合物352.51gを固体として単離し、その後、真空下で乾燥させる。mp=201°CNMR1Hppm849803782739734718687646400378342314MSmz558C薬理学的評価カリウムチャネルKv1.5に関する前記化合物の薬理学的評価を、96ウェルプレートと、タリウムイオン測定によるFLIPR技術を用いて行った。Kv1.5チャネルのヒトアイソフォームで安定的にトランスフェクトされたHEK293細胞を、実験の24時間前に96ウェルプレート次の培養培地:DMEM、10SVF、ペニシリン/ストレプトマイシン、選択用抗生物質としてG418、にポリリジンが塗布されているに播種する15106細胞/プレート、200μl/ウェル。FLIPR実験は、FLIPRカリウムイオンチャンネルアッセイキットを使用して、製造業者の指示どおりに行う。簡単に述べると、培養培地を、タリウムマーカーを含有する溶液に37°Cで90分間置き換える。この工程の最後に、ウェルに被験化合物を37°Cで15分間、終濃度10μΜとなるように加える。次いで、基準蛍光を60秒間読み取る。脱分極剤20mMのカリウムおよび3mMの最終タリウムの添加によって、カリウムチャネルが開き、hKv1.5チャネルを通るタリウムイオンの流入に対応してタリウム蛍光団の蛍光の増加が起こる。測定は脱分極溶液の注入後30秒間行う。10μΜDPOTocris、Kv1.5チャネル遮断薬を適用することによって蛍光を正規化することができる。BMS394136は、BristolMyersSquibbで開発中のKv1.5の遮断薬である2515。得られた結果は、一般式Iの化合物がチャネルKv1.5を遮断することを示している。一般式Iの化合物はチャネルKv1.5の遮断薬として使用することができる。D略語DEADアゾジカルボン酸ジエチルDMAPΝ,Ν-4-ジメチルアミノピリジンDMFジメチルホルムアミドDMSOジメチルスルホキシドDPO2-イソプロピル-5-メチル-シクロヘキシルジフェニルホスフィンオキシドESIエレクトロスプレーイオン化HPLC高速液体クロマトグラフィーmp融点MS質量スペクトルNMR核磁気共鳴Rf移動率Temp.温度TFAトリフルオロ酢酸THFテトラヒドロフランTLC薄層クロマトグラフィー"