"マスクとワークとを近接させた状態で、光源から照射された露光光を用いて、前記マスクのパターンを前記ワークに露光する露光装置において、ステージベースと、前記ステージベース上に載置され、前記ワークを位置決めするワークステージ機構と、前記ステージベースに連結され、前記ワークステージ機構に配置された構造フレームと、前記構造フレームに支持され、マスクを保持するマスクステージと、露光領域を規制するために、前記露光光の一部を遮光するアパーチャ機構とを有し、前記ワークの露光領域と遮光領域との境界部を規定するように前記露光光を遮光する第1ブレードと、前記第1ブレードを駆動する第1駆動手段とを含む第1アパーチャ機構と、前記マスクの表面に対して前記第1ブレードより離れて配置され、前記遮光領域に向かう前記露光光を遮光する第2ブレードと、前記第2ブレードを駆動する第2駆動手段とを含む第2アパーチャ機構とを有し、前記第1アパーチャ機構は、前記マスクステージに取り付けられており、前記第2アパーチャ機構は、前記構造フレームに取り付けられ、かつ、前記フレーム機構に重りを取り付けることが可能とすることを特徴とする露光装置。前記第2アパーチャ機構に対しても、重りを取り付け可能となっていることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。ところで、近年の製品パネルの大型化と生産性向上多面取りの観点に基づく、ワークサイズやマスクサイズの大型化に伴い、マスクを保持するマスクステージ、アパーチャ機構、並びに構造フレームの大型化は避けられない状況である。そして、この大型化に伴う重量増加により新たな課題が生じている。すなわち、装置生産初期調整現場から、実際の製品製造現場への移設輸送では、トラックなどの輸送機器が積載できる大きさ、重量や道路の耐荷重などから制約が生じる。そのため、大きさや重量に対しての制限範囲内で可能な限り露光装置の剛性を高め、より精度の良い転写を行うための設計を行うことが多い。しかし、大きさ、重量に制限があるなかで、露光装置の剛性を高めることには限界がある。そのため、複数のアパーチャ機構などで露光光を制御するものにおいて、アパーチャ機構が作動すると、剛性の低い露光装置では露光装置に共振が発生し、露光ギャップの大きさが安定せず、露光結果が大きく影響される露光装置では大きな問題となりうる場合がある。そこで本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み、複数のアパーチャ機構を用いても、高い剛性を持たせた場合と同様に、各部の変形を抑制でき、安定した転写を行うことができる露光装置を提供することを目的とする。本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。マスクとワークとを近接させた状態で、光源から照射された露光光を用いて、前記マスクのパターンを前記ワークに露光する露光装置において、ステージベースと、前記ステージベース上に載置され、前記ワークを位置決めするワークステージ機構と、前記ステージベースに連結され、前記ワークステージ機構に配置された構造フレームと、前記構造フレームに支持され、マスクを保持するマスクステージと、露光領域を規制するために、前記露光光の一部を遮光するアパーチャ機構とを有し、前記ワークの露光領域と遮光領域との境界部を規定するように前記露光光を遮光する第1ブレードと、前記第1ブレードを駆動する第1駆動手段とを含む第1アパーチャ機構と、前記マスクの表面に対して前記第1ブレードより離れて配置され、前記遮光領域に向かう前記露光光を遮光する第2ブレードと、前記第2ブレードを駆動する第2駆動手段とを含む第2アパーチャ機構とを有し、前記第1アパーチャ機構は、前記マスクステージに取り付けられており、前記第2アパーチャ機構は、前記構造フレームに取り付けられ、かつ、前記フレーム機構に重りを取り付けることが可能とすることを特徴とする露光装置。前記第2アパーチャ機構に対しても、重りを取り付け可能となっていることを特徴とする1に記載の露光装置。本発明によれば、前記第1アパーチャ機構は、前記マスクステージに取り付けられており、前記第2アパーチャ機構は、構造フレームに取り付けられている。第2アパーチャ機構は概略の遮光領域を決定するため、露光精度に影響を与えない。それゆえ、第2ブレードが移動することにより、前記第2アパーチャが振動しても、露光装置に共振を与えないため、第2アパーチャは動吸振器としての役割を果たす。また、構造フレームに重りを取り付けることを可能とすれば、構造フレームの重りを調整することにより、露光装置の剛性を局所的に調整できるため、露光装置に発生する共振を抑えることができる。前記第2アパーチャ機構にも、重りを取り付けることを可能とすれば、動吸振器としての機能を最大限発揮させることができる。前記第2アパーチャ機構にも適切な重りを取り付けることで、第2アパーチャ機構と構造フレームとの質量比を適切なものとし、さらに、露光装置に発生する振幅を抑えることができる。以下、図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態の露光装置の上面図である。図2は、図1の構成をIIII線で切断して矢印方向に見た図である。図3は、図1に示す構成から上部ブレードを取り去った状態で示す図である。図2において、定盤G上にステージベース1が設置されている。ステージベース1の周辺には、4本の支持柱2が立設されている。支持柱2の上端には、矩形開口3aを有する枠状の構造フレーム3が取り付けられている。構造フレーム3の側面には、重りWTが取り付けることができる。構造フレーム3の上面には、図3に示すように、それぞれ一対のガイドレール4A~4Dが配置されており、矩形開口3aを挟んで、ガイドレール4A、4Cは同じ方向図3で左右方向に延在し、ガイドレール4B、4Dは同じ方向図3で上下方向に延在している。ガイドレール4A~4Dに沿って、スライダ5A~5Dがそれぞれスライド可能に配置されている。スライダ5A~5D上には、支持部6a~6dを介して大版矩形板状の上部ブレード第2ブレード6A~6Dが取り付けられている図1参照。上部ブレード6A~6Dは、モータとボールねじ機構とからなる駆動部第2駆動手段7A、7C上部ブレード6B、6Dを駆動する駆動部は省略により、それぞれ独立して駆動されるようになっている。上部ブレード6A~6D及び駆動部7A、7Cが第2アパーチャ機構を構成する。第2アパーチャ機構は、遮光領域を概略に決定する機能を有する。構造フレーム3の矩形開口内3aには、矩形開口8aを有する矩形枠状のマスクステージ8が配置されている。マスクステージ8は、マスクステージ駆動部9により、矩形開口3a内の任意の位置に位置決めされるようになっている。図2において、マスクステージ8の下面にはマスクチャック8bが設けられており、矩形開口8a内の下方に配置された薄いガラス板であるマスクMの周囲を吸着保持している。図3に示すように、マスクステージ8の上面において、矩形開口8aを挟んで対向するガイドレール10A、10Cが同じ方向図3で上下方向に延在し、矩形開口8aを挟んで対向するガイドレール10B、10Dが同じ方向図3で左右方向に延在している。ガイドレール10A~10Dに沿って、スライダ11A~11Dがそれぞれスライド可能に配置されている。スライダ11A~11Dには、略Z字状の支持部材12A~12Dの上端が取り付けられており、支持部材12A~12Dの下端には、細長い板状の下部ブレード第1ブレード13A~13Dが、マスクMに近接した位置になるように取り付けられている図2参照。下部ブレード13A~13Dは、モータとボールねじ機構とからなる駆動部第1駆動手段14A~14Dにより、それぞれ独立して駆動されるようになっている。下部ブレード13A~13D及び駆動部14A~14Dが第1アパーチャ機構を構成する。第1アパーチャ機構は露光領域と遮光領域との境界部を精密に規制する機能を備えている。図2において、ステージベース1の上面には、複数本のガイドレール15が紙面垂直方向に延在するように配置されている。各ガイドレール15に沿って、スライダ16がそれぞれスライド可能に配置されている。スライダ16は、Y軸ステージ17の下面に取り付けられている。Y軸ステージ17の上面には、複数本のガイドレール18が図2で左右方向に延在するように配置されている。各ガイドレール18に沿って、スライダ19がそれぞれスライド可能に配置されている。スライダ19は、X軸ステージ20の下面に取り付けられている。X軸ステージ20の上面には、ワークチャック22をZ軸方向図2で上下方向に移動可能に保持するZ軸ステージ21が配置されている。更にZ軸ステージ21は、ワークチャック22を所定の方向に傾ける機能も有している。ワークチャック22の上面には薄い板状のワークWが保持されている。Y軸ステージ17,X軸ステージ20,Z軸ステージ21、ワークチャック22により、マスクステージ機構を構成する次に、本露光装置の動作について説明する。まず、マスクチャック8bによりマスクMを支持すると共に、ワークチャック22の上面にワークWを保持する。かかる状態で、不図示の駆動源によりY軸ステージ17,X軸ステージ20を駆動して、ワークWの露光領域をマスクMに対して適切に位置決めすると共に、Z軸ステージ21を上昇させて、近接露光に必要なギャップマスクMに対してワークWを接近させる。その後、駆動部14A~14Dを駆動して、ワークWにおける遮光領域側にある下部ブレード13A~13Dのエッジが、ワークWにおける露光領域と遮光領域の境界部に精度良く位置するようにする。更に、駆動部7A、7Cを駆動して、下部ブレード13A~13Dにエッジが重なるように、上部ブレード6A~6Dを移動させる。これにより、図1に示すように、ワークWの露光領域図1に示すAの周囲が、両ブレードによって遮光されることとなる。かかる状態で、図2の上部にある不図示の光源から露光光を照射することで、マスクMのパターンがワークWに転写されることとなる。本発明によれば、下部ブレード13A~13D及び駆動部14A~14Dは、マスクステージ8に取り付けられており、上部ブレード6A~6D及び駆動部7A、7Cは、構造フレーム3に取り付けられているので、質量の大きな上部ブレード6A~6Dが移動したとしても、その振動は構造フレーム3で抑えられ、マスクステージ8に伝達されることが防止され、マスクMとワークWとのギャップの変化を抑制し安定した露光を行うことができる。また、上部ブレード6A~6D及び駆動部7A、7Cが動吸振器の機能を発揮することで、構造フレーム3の振動を抑制することができる。また、構造フレームに重りを取り付けることができれば、構造フレームの重りを調整することにより、露光装置の剛性を局所的に調整できるため、露光装置に発生する振動を抑えることができる。これらにより、露光装置に発生する共振を抑えることができる。ところで、本実施の形態のように2段式アパーチャ機構を採用した場合、下段のアパーチャ機構の下部ブレード13A~13Dは、露光領域の明確なエッジを形成すべくマスクに対して近接配置できるようにするために極力小型化すべきである。これに対し、大きな遮光面積を確保するためには、上部ブレード6A~6Dは大面積で質量の大きなブレードとなる。そのため、上部ブレード6A~6Dは、下部ブレード13A~13Dよりも動吸振器の役割を果たすのに好適である。更に、下部ブレード13A~13Dにその役割を担わせると、露光装置の振動により、露光領域の境界が不明瞭になるぼける恐れが生じるということもある。そこで、必要な構造フレーム3の面積形状、及び、必要な上部ブレード6A~6Dの面積形状を確保できない場合もある。かかる場合、上部ブレード6A~6Dや支持部材6a~6d等に、不足分の質量に対応する重りwtを取り付けることができる図3の一点鎖線参照。この重りwtの質量を調整することで、構造フレーム3と、及び、上部ブレード6A~6Dと、同等の周波数となるように調整したり、あるいは、床振動などの外乱周波数と調整することも可能である。このようにすれば、露光装置において、共振を抑えることができる。以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更改良が可能であることはもちろんである。"