"支持体と、下塗り層と、画像記録層とを、この順に有し、画像記録層に画像様にレーザー露光した後、印刷機のシリンダー上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給することにより、未露光部を除去することのできる平版印刷版原版であって、該画像記録層が、A重合開始剤、B重合性化合物、Cバインダーポリマーを含有し、下塗り層が、a1双性イオン構造を有する繰返し単位、及びa2前記支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体D1、並びに、a3エチレン性不飽和結合を有する繰返し単位、及びa2前記支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体D2を含有し、共重合体D1及びD2の総質量に対する、共重合体D1の質量が、5~95である平版印刷版原版。前記双性イオン構造が、下記一般式i、一般式ii、又は一般式iiiで表される構造である請求項1に記載の平版印刷版原版。上記一般式i、一般式ii及び一般式iii中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、R1とR2は互いに連結し、環構造を形成してもよく、R3~R7は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、R3~R7の少なくとも1つは、ポリマー主鎖又は側鎖への連結部位を表す。L1、L2及びL3は、それぞれ独立に、連結基を表し、Aは、アニオンを有する基を表し、Bは、カチオンを有する基を表す。は、ポリマー主鎖または側鎖への連結部位を表す。前記一般式i、一般式ii及び一般式iii中、Aが、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート又はホスフィナートを表し、Bが、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム又はスルホニウムを表すものである請求項2に記載の平版印刷版原版。前記共重合体D1及び前記共重合体D2の少なくともいずれかにおける、前記支持体の表面と相互作用する構造が、カルボン酸基若しくはその塩、スルホン酸基若しくはその塩、リン酸エステル基若しくはその塩、又は、ホスホン酸基若しくはその塩を有するものである請求項1~3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。前記共重合体D1が、更に、a4双性イオン構造以外の親水性基を有する繰返し単位を有するものである請求項1~4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。前記a4の親水性基が、アルキレンオキシド基、スルホン酸基、スルホン酸塩、スルホンアミド基のうち少なくとも1つ以上である請求項5に記載の平版印刷版原版。前記Cバインダーポリマーが、親水性基としてアルキレンオキシド鎖を有するものである請求項1~6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。前記Cバインダーポリマーが直鎖状のポリマー又は分岐点を有する分岐ポリマーである請求項1~7のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。最上層に、少なくとも1種の水溶性樹脂を含有する保護層を有する請求項1~8のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。請求項1~9のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様露光した後に印刷機に装着し、印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給する方法、又は、印刷機に装着した後に画像様露光した後、印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給する方法によって機上現像処理を行う製版方法。従って、本発明の目的は、紫外光、可視光を放射する固体レーザー及び半導体レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能で、特に、印刷機上において現像可能であり、現像性に優れ、高感度であり、しかも高耐刷かつ耐汚れ性経時後の耐汚れ性も含むが良好な平版印刷版を提供できる平版印刷版原版及びそれを用いる製版方法を提供することである。本発明者らは鋭意検討した結果、以下の平版印刷版原版を用いることにより上記課題を解決できることを見出した。すなわち、本発明は以下のとおりである。1支持体と、下塗り層と、画像記録層とを、この順に有し、画像記録層に画像様にレーザー露光した後、印刷機のシリンダー上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給することにより、未露光部を除去することのできる平版印刷版原版であって、該画像記録層が、A重合開始剤、B重合性化合物、Cバインダーポリマーを含有し、下塗り層が、a1双性イオン構造を有する繰返し単位、及びa2前記支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体D1、並びに、a3エチレン性不飽和結合を有する繰返し単位、及びa2前記支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体D2を含有し、共重合体D1及びD2の総質量に対する、共重合体D1の質量が、5~95である平版印刷版原版。2前記双性イオン構造が、下記一般式i、一般式ii、又は一般式iiiで表される構造である前記1に記載の平版印刷版原版。上記一般式i、一般式ii及び一般式iii中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、R1とR2は互いに連結し、環構造を形成してもよく、R3~R7は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、R3~R7の少なくとも1つは、ポリマー主鎖又は側鎖への連結部位を表す。L1、L2及びL3は、それぞれ独立に、連結基を表し、Aは、アニオンを有する基を表し、Bは、カチオンを有する基を表す。は、ポリマー主鎖又は側鎖への連結部位を表す。3前記一般式i、一般式ii及び一般式iii中、Aが、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート又はホスフィナートを表し、Bが、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム又はスルホニウムを表すものである前記2に記載の平版印刷版原版。4前記共重合体D1及び前記共重合体D2の少なくともいずれかにおける、前記支持体の表面と相互作用する構造が、カルボン酸基若しくはその塩、スルホン酸基若しくはその塩、リン酸エステル基若しくはその塩、又は、ホスホン酸基若しくはその塩を有するものである前記1~3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。5前記共重合体D1が、更に、a4双性イオン構造以外の親水性基を有する繰返し単位を有するものである前記1~4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。6前記a4の親水性基が、アルキレンオキシド基、スルホン酸基、スルホン酸塩、スルホンアミド基のうち少なくとも1つ以上である前記5に記載の平版印刷版原版。7前記Cバインダーポリマーが、親水性基としてアルキレンオキシド鎖を有するものである前記1~6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。8前記Cバインダーポリマーが直鎖状のポリマー又は分岐点を有する分岐ポリマーである前記1~7のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。9最上層に、少なくとも1種の水溶性樹脂を含有する保護層を有する前記1~8のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。10前記1~9のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様露光した後に印刷機に装着し、印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給する方法、又は、印刷機に装着した後に画像様露光した後、印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給する方法によって機上現像処理を行う製版方法。本発明の作用機構は以下のように推測している。すなわち、a1双性イオン構造を有する繰り返し単位と、a2支持体の表面と相互作用する官能基を有する繰り返し単位とを有する共重合体D1が下塗り層に含有されることで、機上現像後も支持体の親水性が非常に高く、その結果、耐汚れ性の優れた平版印刷版が得られる。また、a2のユニットとエチレン不飽和結合を有する繰返し単位とを有する共重合体D2が下塗り層に含有されることで、露光部の下塗り層と画像記録層が架橋され、画像部の基板密着性が高く、その結果、耐刷性の優れた平版印刷版が得られる。本発明によれば、コンピューター等のデジタル信号から各種レーザーを用いて直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な高い生産性を有する平版印刷版原版、印刷機上において現像可能であり、高感度であり、しかも耐印刷性及び耐汚れ性経時後の耐汚れ性も含むが良好な平版印刷版を提供できる平版印刷版原版及びそれを用いる製版方法が得られる。本明細書中、一般式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、一般式において、Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表すとの記載があれば、Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表すことを意味する。以下、本発明の平版印刷版原版について詳細に説明する。本発明に用いられる平版印刷版原版は、支持体と、下塗り層と、画像記録層とを、この順に有し、画像記録層に画像様にレーザー露光した後、印刷機のシリンダー上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給することにより、画像記録層未露光部を除去することのできる平版印刷版原版であって、該画像記録層が、A重合開始剤、B重合性化合物、Cバインダーポリマーを含有し、下塗り層が、a1双性イオン構造を有する繰返し単位、及びa2前記支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体D1以下、特定高分子化合物D1と略す、並びに、a3エチレン性不飽和結合を有する繰返し単位、及びa2前記支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体D2以下、特定高分子化合物D2と略すを含有し、共重合体D1及びD2の総質量に対する、共重合体D1の質量が、5~95であることを特徴としている。なお、上記の下塗り層は、中間層と呼ばれることもある。以下に、各層の成分について、更に詳細に説明する。[下塗り層]<特定高分子化合物>本発明の平版印刷版原版に用いられる特定高分子化合物D1とは、a1双性イオン構造を有する繰り返し単位と、a2前記支持体の表面と相互作用する官能基を有する繰り返し単位とを有する共重合体である。以下、特定高分子化合物D1について詳細に説明する。まず、双性イオン構造を有する繰り返し単位について説明する。本発明の双性イオン構造とは、正電荷及び負電荷を有しており、全体として中性である構造のことである。双性イオン構造としては、好ましくは、下記一般式i~iiiで表される基が挙げられる。下記一般式i又はiiで表される基であることが好ましい。耐刷性の観点から、双性イオン構造としては、一般式iで表される基であることがより好ましい。上記一般式i、ii、iii中、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、R1とR2は互いに連結し、環構造を形成してもよい。R3~R7は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基好ましくは炭素数1~30を表し、R3~R7の少なくとも1つは、ポリマー主鎖又は側鎖への連結部位を表す。L1、L2及びL3は、それぞれ独立に、連結基を表す。Aは、アニオンを有する構造例えば、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート又はホスフィナートを表し、Bは、カチオンを有する構造例えば、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、又はスルホニウムを表す。は、ポリマー主鎖又は側鎖への連結部位を表す。連結部位であるR3~R7の少なくとも1つは、R3~R7の少なくとも1つとしての置換基を介してポリマー主鎖又は側鎖へ連結してもよいし、単結合によりポリマー主鎖又は側鎖へ直結してもよい。前記一般式iにおいて、Aは、好ましくは、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート又はホスフィナートを表す。具体的には、以下の構造の陰イオンが挙げられる。なかでも、耐汚れ性の観点で、カルボキシラート基及びスルホナート基がより好ましい。また、L1は、好ましくは、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる連結基であり、好ましくは、後述の有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数30以下である。その具体例としては、アルキレン基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~10、及び、フェニレン、キシリレンなどのアリーレン基好ましくは炭素数5~15、より好ましくは炭素数6~10が挙げられる。耐汚れ性の観点から、L1は、炭素数3~5の直鎖アルキレン基が好ましく、更に炭素数4若しくは5の直鎖アルキレン基が好ましく、炭素数4の直鎖アルキレン基が最も好ましい。L1の具体例として、例えば、以下の連結基が挙げられる。なお、これらの連結基は、置換基を更に有していてもよい。置換基の例としては、後述のR1、R2が有してもよい置換基と同じものが挙げられる。一般式iにおいて、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、R1とR2は互いに連結し、環構造を形成してもよい。環構造は、酸素原子などのヘテロ原子を有していてもよく、好ましくは5~10員環、より好ましくは5又は6員環である。R1及びR2としての基の炭素数は、後述の有していてもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数1~30が好ましく、炭素数1~20がより好ましく、炭素数1~15が特に好ましく、炭素数1~8が最も好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、イソペンチル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられる。アルキニル基としては、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。また、アリール基としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などが挙げられる。更に、ヘテロ環基としては、フラニル基、チオフェニル基、ピリジニル基などが挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基及びジアリールアミノ基等が挙げられる。R1、R2として、効果及び入手容易性の観点から、特に好ましい例としては、水素原子、メチル基、又はエチル基を挙げることができる。また、前記一般式iiにおいて、Bは、カチオンを有する基を表し、好ましくはアンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、又はスルホニウムを有する基を表す。より好ましくは、アンモニウム又はホスホニウムを有する基であり、特に好ましくはアンモニウムを有する基である。カチオンを有する基の例としては、トリメチルアンモニオ基、トリエチルアンモニオ基、トリブチルアンモニオ基、ベンジルジメチルアンモニオ基、ジエチルヘキシルアンモニオ基、2-ヒドロキシエチルジメチルアンモニオ基、ピリジニオ基、N-メチルイミダゾリオ基、N-アクリジニオ基、トリメチルホスホニオ基、トリエチルホスホニオ基、トリフェニルホスホニオ基などが挙げられる。また、前記一般式iiにおいて、L2は、一般式i中のL1と同様に、好ましくは、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる連結基であり、好ましくは、有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数30以下である。その具体例としては、アルキレン基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~10、及び、フェニレン、キシリレンなどのアリーレン基好ましくは炭素数5~15、より好ましくは炭素数6~10が挙げられる。耐汚れ性の観点から、L2は、炭素数3~5の直鎖アルキレン基が好ましく、更に炭素数4若しくは5の直鎖アルキレン基が好ましく、炭素数4の直鎖アルキレン基が最も好ましい。L2の有してもよい置換基としては、L1の場合と同じ置換基が挙げられる。L2の具体例として、L1の具体例と同様の連結基が挙げられる。前記一般式iiiにおいて、Aは、好ましくは、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート又はホスフィナートを表す。具体的には、一般式i中のAと同様に、前述の構造の陰イオンが挙げられる。なかでも、耐汚れ性の観点で、カルボキシラート基及びスルホナート基がより好ましい。また、前記一般式iiiにおいて、L3は、一般式i中のL1と同様に、好ましくは、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる連結基であり、好ましくは、有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数30以下である。その具体例としては、アルキレン基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~10、及び、フェニレン、キシリレンなどのアリーレン基好ましくは炭素数5~15、より好ましくは炭素数6~10が挙げられる。耐汚れ性の観点から、L3は、炭素数3~5の直鎖アルキレン基が好ましく、更に炭素数4若しくは5の直鎖アルキレン基が好ましく、炭素数4の直鎖アルキレン基が最も好ましい。L3の有してもよい置換基としては、L1の場合と同じ置換基が挙げられる。L3の具体例として、L1の具体例と同様の連結基が挙げられる。前記一般式iiiにおいて、R3~R7は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。R3~R7で表される置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む、アルケニル基シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基アニリノ基を含む、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。更に詳しくは、ハロゲン原子例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルキル基直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基好ましくは炭素数1から30のアルキル基、例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、t-ブチル、n-オクチル、エイコシル、2-クロロエチル、2-シアノエチル、2―エチルヘキシル、シクロアルキル基好ましくは、炭素数3から30の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、4-n-ドデシルシクロヘキシル、ビシクロアルキル基好ましくは、炭素数5から30の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5から30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン-2-イル、ビシクロ[2,2,2]オクタン-3-イル、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基例えばアルキルチオ基のアルキル基もこのような概念のアルキル基を表す。、アルケニル基直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基好ましくは炭素数2から30の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、シクロアルケニル基好ましくは、炭素数3から30の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数3から30のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、2-シクロペンテン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、ビシクロアルケニル基置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数5から30の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト-2-エン-1-イル、ビシクロ[2,2,2]オクト-2-エン-4-イルを包含するものである。、アルキニル基好ましくは、炭素数2から30の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基好ましくは炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリール基、例えばフェニル、p-トリル、ナフチル、m-クロロフェニル、o-ヘキサデカノイルアミノフェニル、ヘテロ環基好ましくは5又は6員の置換若しくは無置換の、芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数3から30の5若しくは6員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、2-フリル、2-チエニル、2-ピリミジニル、2-ベンゾチアゾリル、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、t-ブトキシ、n-オクチルオキシ、2-メトキシエトキシ、アリールオキシ基好ましくは、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、2-メチルフェノキシ、4-t-ブチルフェノキシ、3-ニトロフェノキシ、2-テトラデカノイルアミノフェノキシ、シリルオキシ基好ましくは、炭素数3から20のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、t-ブチルジメチルシリルオキシ、ヘテロ環オキシ基好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基、1-フェニルテトラゾール-5-オキシ、2-テトラヒドロピラニルオキシ、アシルオキシ基好ましくはホルミルオキシ基、炭素数2から30の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、p-メトキシフェニルカルボニルオキシ、カルバモイルオキシ基好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、N,N-ジメチルカルバモイルオキシ、N,N-ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、N,N-ジ-n-オクチルアミノカルボニルオキシ、N-n-オクチルカルバモイルオキシ、アルコキシカルボニルオキシ基好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、t-ブトキシカルボニルオキシ、n-オクチルオキシカルボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキシ基好ましくは、炭素数7から30の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、p-メトキシフェノキシカルボニルオキシ、p-n-ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ、アミノ基好ましくは、アミノ基、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル-アニリノ、ジフェニルアミノ、アシルアミノ基好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、3,4,5-トリ-n-オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ、アミノカルボニルアミノ基好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、N,N-ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N-ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ基好ましくは炭素数2から30の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t-ブトキシカルボニルアミノ、n-オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N-メチル-メトキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ基好ましくは、炭素数7から30の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフェノキシカルボニルアミノ、m-n-オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ基好ましくは、炭素数0から30の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、N,N-ジメチルアミノスルホニルアミノ、N-n-オクチルアミノスルホニルアミノ、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基好ましくは炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、2,3,5-トリクロロフェニルスルホニルアミノ、p-メチルフェニルスルホニルアミノ、メルカプト基、アルキルチオ基好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、n-ヘキサデシルチオ、アリールチオ基好ましくは炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、p-クロロフェニルチオ、m-メトキシフェニルチオ、ヘテロ環チオ基好ましくは炭素数2から30の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、2-ベンゾチアゾリルチオ、1-フェニルテトラゾール-5-イルチオ、スルファモイル基好ましくは炭素数0から30の置換若しくは無置換のスルファモイル基、例えば、N-エチルスルファモイル、N-3-ドデシルオキシプロピルスルファモイル、N,N-ジメチルスルファモイル、N-アセチルスルファモイル、N-ベンゾイルスルファモイル、N-N‘-フェニルカルバモイルスルファモイル、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基好ましくは、炭素数1から30の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、6から30の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、p-メチルフェニルスルフィニル、アルキル及びアリールスルホニル基好ましくは、炭素数1から30の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、6から30の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、p-メチルフェニルスルホニル、アシル基好ましくはホルミル基、炭素数2から30の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7から30の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数4から30の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、2-クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、p-n-オクチルオキシフェニルカルボニル、2―ピリジルカルボニル、2―フリルカルボニル、アリールオキシカルボニル基好ましくは、炭素数7から30の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、o-クロロフェノキシカルボニル、m-ニトロフェノキシカルボニル、p-t-ブチルフェノキシカルボニル、アルコキシカルボニル基好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、n-オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル基好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、N-メチルカルバモイル、N,N-ジメチルカルバモイル、N,N-ジ-n-オクチルカルバモイル、N-メチルスルホニルカルバモイル、アリール及びヘテロ環アゾ基好ましくは炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、炭素数3から30の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、p-クロロフェニルアゾ、5-エチルチオ-1,3,4-チアジアゾール-2-イルアゾ、イミド基好ましくは、N-スクシンイミド、N-フタルイミド、ホスフィノ基好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ、ホスフィニル基好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル、ホスフィニルオキシ基好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ、ホスフィニルアミノ基好ましくは、炭素数2から30の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ、シリル基好ましくは、炭素数3から30の置換若しくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリルを表す。上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、p-メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。特定高分子化合物D1は、特に、繰り返し単位中のポリマー側鎖部位に、双性イオン構造のカチオン及びアニオンを有することが好ましい。本発明において、双性イオン構造を有する繰り返し単位は、具体的には下記一般式A1で表されることが好ましい。式中、R1~R3はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又はハロゲン原子を表す。Lは単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。組み合わせからなるLの具体例を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側がXに結合する。L1:-CO-O-二価の脂肪族基-L2:-CO-O-二価の芳香族基-L3:-CO-NH-二価の脂肪族基-L4:-CO-NH-二価の芳香族基-L5:-CO-二価の脂肪族基-L6:-CO-二価の芳香族基-L7:-CO-二価の脂肪族基-CO-O-二価の脂肪族基-L8:-CO-二価の脂肪族基-O-CO-二価の脂肪族基-L9:-CO-二価の芳香族基-CO-O-二価の脂肪族基-L10:-CO-二価の芳香族基-O-CO-二価の脂肪族基-L11:-CO-二価の脂肪族基-CO-O-二価の芳香族基-L12:-CO-二価の脂肪族基-O-CO-二価の芳香族基-L13:-CO-二価の芳香族基-CO-O-二価の芳香族基-L14:-CO-二価の芳香族基-O-CO-二価の芳香族基-L15:-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-L16:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-L17:-CO-NH-L18:-CO-O-二価の脂肪族基とは、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基又はポリアルキレンオキシ基を意味する。なかでもアルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、及び置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基及び置換アルキレン基が更に好ましい。二価の脂肪族基は、環状構造よりも鎖状構造の方が好ましく、更に分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造の方が好ましい。二価の脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20であることが好ましく、1乃至15であることがより好ましく、1乃至12であることが更に好ましく、1乃至10であることが更にまた好ましく、1乃至8であることが最も好ましい。二価の脂肪族基の置換基の例としては、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基及びジアリールアミノ基等が挙げられる。二価の芳香族基とは、アリール基又は置換アリール基を意味する。好ましくは、フェニレン、置換フェニレン基、ナフチレン及び置換ナフチレン基である。二価の芳香族基の置換基の例としては、上記二価の脂肪族基の置換基の例に加えて、アルキル基が挙げられる。前記L1~L18の中では、L1~L4、L17、L18が好ましい。Lとして好ましくは、単結合、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、L1~L4、L17、L18である。一般式A1中、Xは双性イオン構造を表す。Xは、上述した一般式i、ii又はiiiであることが好ましく、好ましい態様も一般式i、ii及びiiiと同義である。本発明における特定高分子化合物D1中のa1双性イオン構造を有する繰り返し単位の割合は、耐汚れ性の観点から1~99モルの範囲であることが好ましく、3~80モルの範囲であることがより好ましく、5~70モルの範囲であることが更に好ましく、更に耐刷性を考慮すると、5~50モルの範囲であることが最も好ましい。次に、支持体の表面と相互作用する官能基を有する繰り返し単位について説明する。支持体の表面と相互作用する官能基としては、例えば、陽極酸化処理又は親水化処理を施した支持体上に存在する金属、金属酸化物、ヒドロキシ基などとイオン結合、水素結合、極性相互作用、ファンデルワールズ相互作用などの相互作用が可能な基が挙げられる。支持体表面と相互作用する官能基の具体例を以下に挙げる。上記式中、R11~R13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、又はアルケニル基を表し、M、M1及びM2はそれぞれ独立に、水素原子、金属原子、又はアンモニウム基を表す。これらのなかでも耐汚れ性、及び耐刷性の観点から、支持体表面と相互作用する官能基は、カルボン酸基若しくはその塩、スルホン酸基若しくはその塩、リン酸エステル基若しくはその塩、ホスホン酸基若しくはその塩であることが好ましく、耐汚れ性を更に向上させることを考慮すると、リン酸エステル基若しくはその塩、又はホスホン酸基若しくはその塩であることがより好ましい。本発明において、支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位は、具体的には下記一般式A2で表されることが好ましい。式中、R1~R3はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又はハロゲン原子を表す。Lは単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。組み合わせからなるLの具体例としては、前記一般式A1と同じものが挙げられる。Lの好ましい構造は単結合、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、L1~L4、L17、L18であり、最も好ましくは単結合である。Qは支持体表面と相互作用する官能基を表し、好ましい態様は上述したものと同じである。本発明における特定高分子化合物中D1のa2支持体の表面と相互作用する官能基を有する繰り返し単位の割合は、耐汚れ性及び耐刷性の観点から1~99モルの範囲であることが好ましく、10~90モルの範囲であることがより好ましく、30~90モルの範囲であることが最も好ましい。また本発明の特定高分子化合物D1としては、耐汚れ性と耐刷性の観点から、双性イオン構造が、上述した一般式i又はiiで表される基であり、前記支持体の表面と相互作用する官能基が、リン酸エステル基若しくはその塩、又はホスホン酸基若しくはその塩である組み合わせが好ましい。本発明における特定高分子化合物D1は、既知のいかなる方法によっても合成可能であるが、その合成には、ラジカル重合法が好ましく用いられる。一般的なラジカル重合法は、例えば、新高分子実験学3、高分子の合成と反応1高分子学会編、共立出版、新実験化学講座19、高分子化学I日本化学会編、丸善、物質工学講座、高分子合成化学東京電気大学出版局等に記載されており、これらを適用することができる。また、特定高分子化合物D1は、a1双性イオン構造を有する繰り返し単位、及び、a2支持体表面と相互作用する官能基を有する繰り返し単位以外の他の繰り返し単位以下、単に、他の繰り返し単位と称する場合がある。を有する共重合体であってもよい。本発明における特定高分子化合物を構成する他の繰り返し単位としては、下記一般式A3で表される繰り返し単位が好ましい。上記一般式A3において、R4、R5は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~30の置換基を表し、L2は単結合又は有機連結基を表し、Yは炭素数1~30の置換基を表す。特に、L2としてはエステル又はアミドが好ましい。Yとしては、特開2006-264051号公報に記載の親水性基を有する構造が好ましく、具体的にはアルキレンオキシド基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、スルホンアミド基がより好ましく、アルキレンオキシド基が最も好ましい。R4、R5としては、効果及び入手容易性の観点から、特に好ましい例として、水素原子、メチル基、又はエチル基を挙げることができる。このような他の繰り返し単位は、特定高分子化合物D1において、a1双性イオン構造を有する繰り返し単位、及び、a2支持体表面と相互作用する官能基を有する繰り返し単位の共重合成分として、0~60モル含まれることが好ましく、0~50モル含まれることがより好ましく、0~40含まれることが特に好ましい。本発明における特定高分子化合物D1の質量平均モル質量Mwは、平版印刷版原版の性能設計により任意に設定できる。Mwとしては、耐刷性及び耐汚れ性の観点から2,000~1,000,000が好ましく、2,000~40,000であることがより好ましい。以下に、特定高分子化合物D1の具体例を、そのMwと共に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、ポリマー構造の組成比はモル百分率を表す。本発明の平版印刷版原版に用いられる特定高分子化合物D2とは、a3エチレン性不飽和結合を有する繰返し単位、及びa2支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体である。特定高分子化合物D2が有する、a3エチレン性不飽和結合を有する繰返し単位としては、特に限定されないが、例えば、特開2005-125749号公報に記載されているような、下記式B1で表される周知の構造のものを用いることができる式中、R101~R103は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、またはハロゲン原子を表す。R104~R106はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン原子、アシル基、またはアシルオキシ基を表す。またR104とR105、またはR105とR106で環を形成してもよい。L11は-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。組み合わせからなるL11の具体例を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側がエチレン性不飽和結合に結合する。L101:-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-L102:-CO-二価の脂肪族基-O-CO-L103:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-L104:-二価の脂肪族基-O-CO-L105:-CO-NH-二価の芳香族基-O-CO-L106:-CO-二価の芳香族基-O-CO-L107:-二価の芳香族基-O-CO-L108:-CO-O-二価の脂肪族基-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-L109:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-二価の脂肪族基-O-CO-L110:-CO-O-二価の芳香族基-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-L111:-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-二価の脂肪族基-O-CO-L112:-CO-O-二価の脂肪族基-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-L113:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-二価の芳香族基-O-CO-L114:-CO-O-二価の芳香族基-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-L115:-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-二価の芳香族基-O-CO-L116:-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-L117:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-二価の脂肪族基とは、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基またはポリアルキレンオキシ基を意味する。なかでもアルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、および置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基および置換アルキレン基がさらに好ましい。二価の脂肪族基は、環状構造よりも鎖状構造の方が好ましく、さらに分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造の方が好ましい。二価の脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20であることが好ましく、1乃至15であることがより好ましく、1乃至12であることがさらに好ましく、1乃至10であることがさらにまた好ましく、1乃至8であることが最も好ましい。二価の脂肪族基の置換基の例としては、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。二価の芳香族基とは、アリーレン基または置換アリーレン基を意味する。好ましくは、フェニレン、置換フェニレン基、ナフチレンおよび置換ナフチレン基である。二価の芳香族基の置換基の例としては、上記二価の脂肪族基の置換基の例に加えて、アルキル基が挙げられる。前記L101からL117の中では、L101、L103、L105、L107、L117が好ましい。また、特定高分子化合物D2が有する、a2支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位としては、前述の特定高分子化合物D1が有するものと同じ構造のものを用いることができる。その中でも、a2支持体の表面と相互作用する官能基が、耐汚れ性、及び耐刷性の観点から、カルボン酸基若しくはその塩、スルホン酸基若しくはその塩、リン酸エステル基若しくはその塩、ホスホン酸基若しくはその塩であることが好ましく、耐汚れ性を更に向上させることを考慮すると、リン酸エステル基若しくはその塩、又はホスホン酸基若しくはその塩であることがより好ましい。また、特定高分子化合物D2は、上記のa2及びa3以外の繰返し単位を有していても良い。また、特定高分子化合物D2の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。なお、ポリマー構造に記載のx、y及びzは、当該繰返し単位のモル百分率を表す。特定高分子化合物D1及びD2の好適含有量の範囲として、特定高分子化合物D1及びD2の塗布量固形分が、0.1~100mg/m2であるのが好ましく、3~50mg/m2であるのがより好ましく、5~30mg/m2であるのが更に好ましい。D1、D2の好適なブレンド比として、共重合体D1及びD2の総質量に対する、共重合体D1の質量が、5~95であれば、許容レベルの耐刷性及び耐汚れ性を得ることが出来る。更に、耐刷性と耐汚れ性のバランスを良好にするために、D1含有率が10~90であることが好ましく、30~70であることがよりに好ましい。上記高分子化合物D1及びD2を含む下塗り層は、例えば、上記高分子化合物D1及びD2を溶媒に溶解させた塗布液を作製し、該塗布液を公知の方法で塗布することによって設けることができる。溶媒としては、水や、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、THF、DMF、1-メトキシ-2-プロパノール、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げられ、特にアルコール類が好ましい。これらの有機溶媒は混合して用いることもできる。本発明の平版印刷版に用いられる下塗り層には、上記特定高分子化合物の他に、公知の、キレート剤、第2級又は第3級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基とアルミニウム支持体表面と相互作用する基とを有する化合物など例えば、1,4-ジアザビシクロ[2,2,2]オクタンDABCO、2,3,5,6-テトラヒドロキシ-p-キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸などを含有することが出来る。画像記録層<A重合開始剤>本発明の平版印刷版原版の画像記録層に用いられる重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明において使用しうる重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。本発明における重合開始剤としては、例えば、a有機ハロゲン化物、bカルボニル化合物、cアゾ化合物、d有機過酸化物、eメタロセン化合物、fアジド化合物、gヘキサアリールビイミダゾール化合物、h有機ホウ酸塩化合物、iジスルホン化合物、jオキシムエステル化合物、kオニウム塩化合物、等が挙げられる。a有機ハロゲン化物としては、特開2008-195018号公報の段落番号[0022]~[0023]に記載の化合物が好ましい。bカルボニル化合物としては、特開2008-195018号公報の段落番号[0024]に記載の化合物が好ましい。cアゾ化合物としては、例えば、特開平8-108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。d有機過酸化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0025]に記載の化合物が好ましい。eメタロセン化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0026]に記載の化合物が好ましい。fアジド化合物としては、2,6-ビス4-アジドベンジリデン-4-メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。gヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0027]に記載の化合物が好ましい。h有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0028]に記載の化合物が好ましい。iジスルホン化合物としては、特開昭61-166544号、特開2002-328465号の各公報に記載の化合物が挙げられる。jオキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0028]~[0030]に記載の化合物が好ましい。kオニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,3871974、T.S.Baletal,Polymer,21,4231980、特開平5-158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4-365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2-150848号、特開2008-195018号の各公報、又はJ.V.Crivelloetal,Macromolecules,106,13071977に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivelloetal,J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.,17,10471979に記載のセレノニウム塩、C.S.Wenetal,Teh,Proc.Conf.Rad.CuringASIA,p478Tokyo,Oct1988に記載のアルソニウム塩、特開2008-195018号公報に記載のアジニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。上記の中でもより好ましいものとして、オニウム塩、なかでもヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩が挙げられる。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、更に好ましくは非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-メトキシフェニル-4-2-メチルプロピルフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-2-メチルプロピルフェニル-p-トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4-ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=1-ペルフルオロブタンスルホナート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウム=テトラフェニルボラートが挙げられる。スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス4-クロロフェニルフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス4-クロロフェニル-4-メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス4-クロロフェニルスルホニウム=3,5-ビスメトキシカルボニルベンゼンスルホナート、トリス4-クロロフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。アジニウム塩の例としては、1-シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-シクロヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-エトキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-クロロ-1-シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-エトキシ-4-シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4-ジクロロ-1-2-エチルヘキシルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-ベンジルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-フェネチルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=p-トルエンスルホナート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ブロミド、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。本発明の重合開始剤は、画像記録層を構成する全固形分に対し0.1~50質量が好ましく、より好ましくは0.5~30質量、特に好ましくは0.8~20質量の割合で添加することができる。この範囲で良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。<B重合性化合物>本発明の画像記録層に用いる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などや、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006-508380号公報、特開2002-287344号公報、特開2008-256850号公報、特開2001-342222号公報、特開平9-179296号公報、特開平9-179297号公報、特開平9-179298号公報、特開2004-294935号公報、特開2006-243493号公報、特開2002-275129号公報、特開2003-64130号公報、特開2003-280187号公報、特開平10-333321号公報、を含む参照文献に記載されている。多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシドEO変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビスp-3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシフェニルジメチルメタン、ビス-p-メタクリルオキシエトキシフェニルジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス-アクリルアミド、メチレンビス-メタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-アクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式aで示されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。CH2=CR4COOCH2CHR5OHaただし、R4及びR5は、それぞれ独立に、H又はCH3を示す。また、特開昭51-37193号公報、特公平2-32293号公報、特公平2-16765号公報、特開2003-344997号公報、特開2006-65210号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号公報、特公昭56-17654号公報、特公昭62-39417号公報、特公昭62-39418号公報、特開2000-250211号公報、特開2007-94138号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類や、US7153632号公報、特表平8-505958号公報、特開2007-293221号公報、特開2007-293223号公報記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。上記の中でも、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優る点から、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ビスアクリロイルオキシエチルヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。これらの重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。上記の重合性化合物は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5~75質量、更に好ましくは10~70質量、特に好ましくは15~60質量の範囲で使用される。<Cバインダーポリマー>本発明の画像記録層はバインダーポリマーを有する。バインダーポリマーとしては、画像記録層成分を支持体上に担持可能であり、後述の湿し水及び/又はインキにより除去可能であるものが用いられる。バインダーポリマーとしては、メタアクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などが用いられる。特に、メタアクリル系重合体、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、及び、ポリビニルホルマール樹脂などのビニル共重合体、ポリウレタン樹脂が好ましく用いられる。なかでも本発明に好適なバインダーポリマーとしては、特開2008-195018号公報に記載のような、画像部の皮膜強度を向上するための架橋性官能基を主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。バインダーポリマーは、この架橋性官能基にフリーラジカル重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカルが付加し、ポリマー間で直接に又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成される。又は、ポリマー中の原子例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成される。これらの架橋形成によって、硬化が促進する。架橋性官能基としては、メタアクリル基、ビニル基、アリル基、スチリル基などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するアクリルポリマーやポリウレタンとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。本発明のバインダーポリマーに含まれるエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位の具体例としては、下記のものが挙げられる。バインダーポリマー中の架橋性基の含有量は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1~10.0mmol、より好ましくは0.25~7.0mmol、最も好ましくは0.5~5.5mmolである。また、本発明のバインダーポリマーは、更に親水性基を有することが好ましい。親水性基は画像記録層に機上現像性を付与するのに寄与する。特に、架橋性基と親水性基を共存させることにより、耐刷性と現像性の両立が可能になる。親水性基としては、たとえば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホ基、リン酸基等などがあり、なかでも、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~9個有するアルキレンオキシド構造が好ましい。バインダーポリマーに親水性基を付与するには親水性基を有するモノマーを共重合すればよい。また、本発明のバインダーポリマーには、着肉性を制御するため、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基などの親油性の基を導入できる。具体的には、メタクリル酸アルキルエステルなどの親油性基含有モノマーを共重合すればよい。以下に本発明に用いられるバインダーポリマーの具体例1~11を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本発明におけるバインダーポリマーは質量平均モル質量Mwが2000以上であることが好ましく、5000以上であるのがより好ましく、1万~30万であるのが更に好ましい。また、数平均モル質量Mnが1000以上であるのが好ましく、2000~25万であるのがより好ましい。多分散度Mw/Mnは、1.1~10であるのが好ましい。本発明に用いられるバインダーポリマーは、分岐状の構造を有していてもよい。分岐状の構造を有すバインダーポリマーとしては、下記一般式1で表されるイソシアヌル酸骨格を岐点とし、ポリマー鎖が分岐している高分子化合物が特に好ましい。L1~L3としては、各々独立に、C、O、N、ハロゲン、P、Si、S、Hから選ばれる元素を1つ以上有する2価以上の連結基であり、特に好ましいのはC、O、N、Hから選ばれる元素を1つ以上有する2価以上の連結基である。m、n、kは、各々独立に、1以上の整数である。以下に本発明で用いられるL1~L3の具体例を記載するが、本発明はこれらに限定されるものではない。一般式1中のPolymerは、イソシアヌル酸骨格を岐点とし、ポリマー鎖が分岐している構造を有する限り、いずれのポリマー鎖も好適に使用することができる。例えば、皮膜性を有するアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が挙げられる。なかでも、ポリマー鎖が、b1少なくとも一つの親水性官能基を有する繰り返し単位と、b2少なくとも一つの疎水性官能基有する繰り返し単位により形成されていることがより好ましい。ポリマー鎖を形成するb1少なくとも一つの親水性官能基有する繰り返し単位は、-COOM1、-SO3M1、-OH、-OSO3M1、-CONR1R2、-SO2NR1R2、-NR1SO3M1、-P=OOM1OM2、-OP=OOM1OM2、-Y3NR1R2L31A、-Y3PO4L32EM1及びM2は水素イオン、金属イオン、アンモニウムイオン又はホスホニウムイオンを表し、R1及びR2は各々独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロ環基を表す、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドで表される官能基を有する繰り返し単位である。R1とR2は互いに連結し、環構造を形成してもよく、L31は、連結基を表し、Aは、アニオンを有する基を表す。Y3は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。L32は連結基を表し、Eは、カチオンを有する基を表す。M1、M2が金属イオンを表す場合、金属イオンの具体例としては、Li、Na、K、Cuが挙げられる。これらのうちで特に好ましいのは、Li、Na、Kである。M1、M2がアンモニウムイオンを表す場合、通常のアンモニウムイオンであれば何れも好適に使用することができるが、1分子あたりの炭素数が24以下のアンモニウムイオンが好ましく、1分子あたりの炭素数が16以下のアンモニウムイオンが特に好ましい。M1、M2がホスホニウムイオンを表す場合、通常のホスホニウムイオンであれば何れも好適に使用することができるが、1分子あたりの炭素数が24以下のホスホニウムイオンが好ましく、1分子あたりの炭素数が16以下のホスホニウムイオンが特に好ましい。R1、R2がアルキル基を表す場合、通常のアルキル基であれば、分岐していても環状であってもよく、ハロゲン原子、エーテル基、チオエーテル基、ヒドロキシ基、シアノ基、ケト基、カルボン酸基、カルボン酸塩基、カルボン酸エステル基、カルボン酸アミド基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、スルホン酸エステル基、スルホンアミド基、スルホン基、スルホキシド基、フェニル基、ホスホン酸基、ホスホン酸塩基、リン酸基、リン酸塩基、アミノ基、アミノカルボニル基、アミノカルボキシ基、アミノスルホニル基等の置換基を有していてもよい。アルキル基として特に好ましいのは、総炭素数が12以下のアルキル基である。R1、R2がアルケニル基を表す場合、通常のアルケニル基であれば、分岐していても環状であってもよく、ハロゲン原子、エーテル基、チオエーテル基、ヒドロキシ基、シアノ基、ケト基、カルボン酸基、カルボン酸塩基、カルボン酸エステル基、カルボン酸アミド基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、スルホン酸エステル基、スルホンアミド基、スルホン基、スルホキシド基、フェニル基、ホスホン酸基、ホスホン酸塩基、リン酸基、リン酸塩基、アミノ基、アミノカルボニル基、アミノカルボキシ基、アミノスルホニル基等の置換基を有していてもよい。アルケニル基として特に好ましいのは、総炭素数が12以下のアルケニル基である。R1、R2がアリール基を表す場合、通常のアリール基であれば何れも好適に使用できる。かかるアリール基は、ハロゲン原子、エーテル基、チオエーテル基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、ケト基、カルボン酸基、カルボン酸塩基、カルボン酸エステル基、カルボン酸アミド基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、スルホン酸エステル基、スルホンアミド基、スルホン基、スルホキシド基、フェニル基、ホスホン酸基、ホスホン酸塩基、リン酸基、リン酸塩基、アミノ基、アミノカルボニル基、アミノカルボキシ基、アミノスルホニル基等の置換基を有していてもよい。アリール基として特に好ましいのは、総炭素数が12以下のアリール基である。上記のポリマー鎖を形成するb1少なくとも一つの親水性官能基有する繰り返し単位は、これら官能基の少なくとも1つを有する繰り返し単位から形成される限り、何れの繰り返し単位も好適に使用できる。以下に本発明で用いられる親水性官能基を有する繰り返し単位の具体例を記載する。本発明はこれらに限定されるものではない。上記のポリマー鎖を形成するb1少なくとも一つの親水性官能基有する繰り返し単位は、上記の如き親水性官能基を有する繰り返し単位単独で形成されてもよく、2種以上によって形成されてもよい。上記のポリマー鎖に使用されるb2少なくとも一つの疎水性官能基有する繰り返し単位とは、上記親水性官能基を持たない繰り返し単位である。かかる繰り返し単位の具体例を以下に記載する。本発明はこれらに限定されるものではない。上記のポリマー鎖を形成するb2少なくとも一つの疎水性官能基有する繰り返し単位は、上記の如き疎水性官能基を有する繰り返し単位の単独種で形成されてもよく、2種以上によって形成されてもよい。本発明に用いられる一般式1中のPolymerは、上記b1、b2で表される繰り返し単位によって形成される限り何れも好適に使用できる。b1は好ましくは5mol~60mol、より好ましくは10mol~50mol、b2は好ましくは40mol~95mol、より好ましくは50mol~90molの割合で含まれる。一般式1で表されるバインダーポリマーは上記のごとくイソシアヌル酸の誘導体を岐点とし、ポリマー鎖が分岐している構造を有する限り、いずれのポリマー鎖も好適に使用することができるが、分岐しているポリマー鎖が画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を含むことがより望ましい。これによってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。エチレン性不飽和基及びエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位の具体例、並びにバインダーポリマー中のエチレン性不飽和基の含有量は、前述の非分岐状構造のバインダーポリマーの説明で記載したものと同じである。以下に本発明で用いられる分岐型のバインダーポリマーの具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるわけではない。上記多分岐型ポリマーは、分子中に特定の官能基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合した後、特定の官能基と反応し得る官能基を多数有する多官能化合物と縮合する方法、及び多官能連鎖移動剤を用いてラジカル重合する方法等の公知の重合方法によって合成することが可能であるが、合成の簡便さから多官能連鎖移動剤を用いてラジカル重合する方法が特に好ましい。上記の分岐状バインダーポリマーの質量平均モル質量Mwは5000~50万が好ましく、1万~25万がより好ましい。質量平均モル質量MwはゲルパーミネーションクロマトグラフィーGPC法により、テトラヒドロフランを展開溶剤として、単分散ポリスチレンを標準物質とし測定される。本発明では必要に応じて、特開2008-195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを用いることができる。また、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することもできる。バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。バインダーポリマーの画像記録層への含有量は、画像記録層の全固形分に対して、05~90質量であるのが好ましく、1~80質量であるのがより好ましく、15~70質量であるのが更に好ましい。<増感色素>画像記録層は、増感色素を含有することが好ましい。増感色素は、画像露光時の光を吸収して励起状態となり、重合開始剤に電子移動、エネルギー移動又は発熱などでエネルギーを供与し、重合開始機能を向上させるものであれば特に限定せず用いることができる。特に、350~450nm又は750~1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素が好ましく用いられる。350~450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素としては、メロシアニン色素類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、等を挙げることができる。350nmから450nmの波長域に極大吸収を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式IXで表される色素である。一般式IX中、Aは置換基を有してもよい芳香族環基又はヘテロ環基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子又はN-R3を表す。R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、AとR1又はR2とR3はそれぞれ互いに結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよい。R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアルケニル基、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換の芳香族複素環残基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、置換若しくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、又はハロゲン原子を表す。一般式IXのAは置換基を有してもよい芳香族環基又はヘテロ環基を表す。このような増感色素の具体例としては特開2007-58170号公報の段落番号0047~0053に記載の化合物が挙げられる。また、特開2007-171406号、特開2007-206216号、特開2007-206217号、特開2007-225701号、特開2007-225702号、特開2007-316582号、特開2007-328243号の各公報に記載の増感色素も好ましく用いることができる。続いて、本発明にて好適に用いられる750~1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素以降、赤外線吸収剤と称する場合があるについて詳述する。赤外線吸収剤は染料又は顔料が好ましく用いられる。染料としては、市販の染料及び例えば、染料便覧有機合成化学協会編集、昭和45年刊等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式bで示されるシアニン色素が挙げられる。一般式b中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、-NPh2、X2-L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1~12の炭化水素基、ヘテロ原子N、S、O、ハロゲン原子、Seを有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1~12の炭化水素基を示す。Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1~12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式bで示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。好適に用いることのできる一般式bで示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落番号[0017]~[0019]に記載されたものを挙げることができる。また、特に好ましい他の例として更に、特開2002-278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックスC.I.便覧、最新顔料便覧日本顔料技術協会編、1977年刊、最新顔料応用技術CMC出版、1986年刊、印刷インキ技術CMC出版、1984年刊に記載されている顔料が利用できる。これら増感色素の好ましい添加量は、画像記録層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05~30質量部、更に好ましくは0.1~20質量部、最も好ましくは0.2~10質量部の範囲である。<その他の画像記録層成分>画像記録層は、更に連鎖移動剤を含有することが好ましい。連鎖移動剤としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、若しくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。画像記録層には、特に、チオール化合物例えば、2-メルカプトベンズイミダゾール類、2-メルカプトベンズチアゾール類、2-メルカプトベンズオキサゾール類、3-メルカプトトリアゾール類、5-メルカプトテトラゾール類、等を連鎖移動剤として好ましく用いることができる。また、画像記録層は、現像性と耐刷性両立のため、特開2008-195018号公報の段落番号0136~0141に記載のマイクロカプセル又はポリマー微粒子を含有させることができる。また、画像記録層には、現像性向上のため、特開2009-029124号公報の段落番号0222~0231に記載の親水性低分子化合物例えば、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート、13-エチル-5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウムなどを含有させることができる。また、画像記録層には、着肉性を向上させるために、画像記録層にホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を用いることができる。特に、後述の保護層に無機質の層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機質の層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機質の層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。好適なホスホニウム化合物としては、特開2006-297907号公報及び特開2007-50660号公報に記載のホスホニウム化合物例えば、1,9-ビストリフェニルホスホニオノナン=ナフタレン-2,7-ジスルホナートなどを挙げることができる。上記含窒素低分子化合物としては、特開2008-284858号公報段落番号[0021]~[0037]、特開2009-90645号公報段落番号[0030]~[0057]に記載の化合物例えば、ベンジルジメチルドデシルアンモニウムPF6塩などが挙げられる。上記アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すれば如何なるものでもよいが、側鎖にアンモニウム基を有するメタアクリレートを共重合成分として5~80モル含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009-208458号公報段落番号0089~0105に記載のポリマーが挙げられる。このアンモニウム塩含有ポリマーは、同公報記載の測定方法で求められる還元粘度単位:cSt/ml/gの値で、5~120の範囲のものが好ましく、10~110の範囲のものがより好ましく、15~100の範囲のものが特に好ましい。画像記録層には、更に、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。添加剤としては、現像性の促進及び塗布面状を向上させるための界面活性剤、画像部と非画像部を視認するための着色剤や焼き出し剤、画像記録層の製造中又は保存中のラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するための重合禁止剤、酸素による重合阻害を防止するための高級脂肪酸誘導体、画像部の硬化皮膜強度向上のための無機微粒子、可塑性向上のための可塑剤等を添加することができる。これの化合物はいずれも公知のものを使用でき、例えば、特開2007-206217号公報の段落番号0161~0215に記載の化合物を使用することができる。画像記録層は、露光後に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方が供給されることによって未露光部が除去されることが好ましく、画像記録層中の各成分の種類及び量の少なくとも一方を、適宜、調整することにより、このような画像記録層を構成することができる。<画像記録層の形成>本発明の画像記録層は、必要な上記各成分を溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。ここで使用する溶剤としては、2-ブタノンメチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、2-メトキシエチルアセテート、1-メトキシ-2-プロピルアセテート、γ-ブチルラクトン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独又は混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1~50質量である。また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量固形分は、0.3~3.0g/m2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。保護層本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、必要に応じて画像記録層上に保護層酸素遮断層を更に有することができる。保護層のバインダーとしては、例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。ポリビニルアルコールはポリ酢酸ビニルを加水分解することにより得られるが、ポリビニルアルコールの具体例としては加水分解度が71~100モル、重合繰り返し単位が300から2400の範囲のものを挙げる事ができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-117H、PVA-120、PVA-124、PVA-124H、PVA-CS、PVA-CST、PVA-HC、PVA-203、PVA-204、PVA-205、PVA-210、PVA-217、PVA-220、PVA-224、PVA-217EE、PVA-217E、PVA-220E、PVA-224E、PVA-405、PVA-420、PVA-613、L-8等が挙げられ、これらは単独又は混合して使用できる。好ましい態様としてはポリビニルアルコールの保護層中の含有率が20~95質量、より好ましくは、30~90質量である。また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。特に、カルボン酸基又はスルホン酸基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドン又はその変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が好ましくは3.5~80質量、より好ましくは10~60質量、更に好ましくは15~30質量である。保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等をバインダーに対して数質量相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤をバインダーに対して数質量添加することができる。更に、本発明の平版印刷版原版における保護層には、酸素遮断性や画像記録層表面保護性を向上させる目的で、特開2005-119273号公報に記載のように天然雲母、合成雲母等の無機質の層状化合物を含有することも好ましい。無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性合成雲母が特に有用である。保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.05~10g/m2の範囲であることが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1~0.5g/m2の範囲であることが更に好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5~5g/m2の範囲であることが更に好ましい。支持体本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状な親水性支持体であればよい。特に、アルミニウム板が好ましい。アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理、化学的粗面化処理化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理が挙げられる。これらの処理については、特開2007-206217の段落番号0241~0245に記載された方法を好ましく用いることができる。支持体は、中心線平均粗さが0.10~1.2μmであるのが好ましい。この範囲内で、画像記録層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15~0.65であるのが好ましい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。支持体の厚さは0.1~0.6mmであるのが好ましく、0.15~0.4mmであるのがより好ましく、0.2~0.3mmであるのが更に好ましい。支持体親水化処理本発明の平版印刷版原版においては、非画像部領域の親水性を向上させ印刷汚れを防止するために、支持体表面の親水化処理を行うことも好適である。支持体表面の親水化処理としては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液に浸漬処理又は電解処理するアルカリ金属シリケート処理、フッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、ポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられるが、ポリビニルホスホン酸水溶液に浸漬処理する方法が好ましく用いられる。バックコート層支持体に表面処理を施した後又は下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。バックコートとしては、例えば、特開平5-45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6-35174号公報に記載されている有機金属化合物又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、SiOCH34、SiOC2H54、SiOC3H74、SiOC4H94等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。製版方法本発明における平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製する。現像処理としては、印刷機上で、湿し水及びインキの少なくともいずれかを加えながら現像する方法機上現像である。機上現像方法としては、特に制限はないが、平版印刷版原版をレーザーで露光した後、現像処理工程を経ることなく印刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上においてレーザーで露光し、現像処理工程を経ることなく印刷する方法等が挙げられる。平版印刷版原版をレーザーで画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく水性成分と油性インキとを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された水性成分及び/又は油性インキによって、未硬化の画像記録層が溶解し又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、水性成分は露出した親水性の表面に付着し、油性インキは露光領域の画像記録層に着肉し、印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、水性成分でもよく、油性インキでもよいが、水性成分が未露光部の画像記録層により汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給するのが好ましい。水性成分及び油性インキとしては、通常の平版印刷用の、湿し水と印刷インキが用いられる。このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。上記の現像処理に先立って、平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光される。望ましい光源の波長は350nmから450nm又は750nmから1400nmの波長が好ましく用いられる。350nmから450nmの場合は、この領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に有する平版印刷版原版が用いられ、750nmから1400nmの場合は、この領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を含有する平版印刷版原版が用いられる。350nmから450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。750nmから1400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は質量平均モル質量Mwであり、繰り返し単位の比率はモル百分率である。[実施例1~35及び比較例1~28]1.平版印刷版原版1~29の作製1支持体の作製厚み0.3mmのアルミニウム板材質JISA1050の表面の圧延油を除去するため、10質量アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50°Cで30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス-水懸濁液比重1.1g/cm3を用いアルミニウム板表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45°Cの25質量水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60°Cで20質量硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含む、液温50°Cであった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。続いて、塩酸0.5質量水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含む、液温50°Cの電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。次に、この板に15質量硫酸水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含むを電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体1を作製した。その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体1に2.5質量3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60°Cで10秒間、シリケート処理を施し、その後、水洗して支持体2を得た。Siの付着量は10mg/m2であった。この基板の中心線平均粗さRaを直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。2下塗り層の塗布上記のようにして得られたアルミニウム支持体2上に、以下の組成を有する下塗り層塗布液1~29を塗布し、100°Cにて1分間乾燥させ、下塗り層を形成した。得られた下塗り層塗布液の乾燥塗布量は、10mg/m2であった。用いた特定高分子化合物及び比較用の高分子化合物は表4及び5の通りである。<下塗り層塗布液1~29>表4及び5に記載の特定高分子化合物又は比較用高分子化合物合計0.50g2種添加の場合のブレンド比率は表4及び5に記載水500.00g3画像記録層の塗布下塗り層を有する上記の支持体に、下記の画像記録層塗布液2をバー塗布した後、70°C、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.6g/m2の画像記録層を作製し、平版印刷版原版1~29実施例1~19、比較例1~10用を得た。<画像記録層塗布液2>ポリマー微粒子水分散液120.0g赤外線吸収染料2下記構造0.2g重合開始剤Irgacure250チバスペシャリティケミカルズ製0.5gラジカル重合性化合物SR399サートマー社製1.50gメルカプト-3-トリアゾール0.2gByk336BykChimie社製0.4gKlucelMHercules社製4.8gELVACITE4026IneosAcrylica社製2.5gn-プロパノール55.0g2-ブタノン17.0gなお、上記組成中の商品名で記載の化合物は下記の通りである。IRGACURE250:4-メトキシフェニル[4-2-メチルプロピルフェニル]ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート75質量プロピレンカーボナート溶液SR399:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートBYK336:変性ジメチルポリシロキサン共重合体25質量キシレン/メトキシプロピルアセテート溶液KLUCELM:ヒドロキシプロピルセルロース2質量水溶液ELVACITE4026:高分岐ポリメチルメタクリレート10質量2-ブタノン溶液ポリマー微粒子水分散液1の製造1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレートPEGMAエチレングリコールの平均の繰返し単位は5010g、蒸留水200g及びn-プロパノール200gを加えて内温が70°Cとなるまで加熱した。次に予め混合されたスチレンSt10g、アクリロニトリルAN80g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80°Cまで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’-アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN=10/10/80のポリマー微粒子水分散液1が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。ここで、粒径分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。2.平版印刷版原版40~49の作製1画像記録層の塗布上記のようにして形成された表6記載の下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液1をバー塗布した後、100°C60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。画像記録層塗布液1は下記感光液1及びミクロゲル液1を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。<感光液1>バインダーポリマー1下記構造0.240g赤外線吸収染料1下記構造0.030g重合開始剤1下記構造0.162gラジカル重合性化合物トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレートNKエステルA-9300、新中村化学株製0.192g低分子親水性化合物トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート0.062g低分子親水性化合物1下記構造0.050g感脂化剤ホスホニウム化合物1下記構造0.055g感脂化剤ベンジル-ジメチル-オクチルアンモニウムPF6塩0.018g感脂化剤アンモニウム基含有ポリマー[下記構造、還元粘度44cSt/ml/g]0.035gフッ素系界面活性剤1下記構造0.008g2-ブタノン1.091g1-メトキシ-2-プロパノール8.609g<ミクロゲル液1>ミクロゲル12.640g蒸留水2.425g上記の、バインダーポリマー1、赤外線吸収染料1、重合開始剤1、ホスホニウム化合物1、低分子親水性化合物1、アンモニウム基含有ポリマー、及びフッ素系界面活性剤1の構造は、以下に示す通りである。-ミクロゲル1の合成-油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体三井化学株製、タケネートD-110N10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート日本化薬株製、SR4443.15g、及びパイオニンA-41C竹本油脂株製0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール株クラレ製PVA-205の4質量水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50°Cで3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量になるように蒸留水を用いて希釈し、これを前記ミクロゲル1とした。ミクロゲルの平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。2保護層の塗布上記画像記録層上に、更に下記組成の保護層塗布液1をバー塗布した後、120°C、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して平版印刷版原版40~49比較例17~22用、実施例24~27用を得た。<保護層用塗布液1>無機質層状化合物分散液11.5gポリビニルアルコール日本合成化学工業株製CKS50、スルホン酸変性、けん化度99モル以上、重合度3006質量水溶液0.55gポリビニルアルコール株クラレ製PVA-405、けん化度81.5モル、重合度5006質量水溶液0.03g日本エマルジョン株製界面活性剤エマレックス7101質量水溶液0.86gイオン交換水6.0g無機質層状化合物分散液1の調製イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME-100コープケミカル株製6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径レーザー散乱法が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。3.平版印刷版原版50~63の作製下塗り層塗布液30~33は、下塗り層塗布液1~29の作製で使用する特定高分子化合物を、表8に記載されたものに変更して作製した。このようにして得られた下塗り層塗布液を、下塗り層塗布液1~29を用いた場合と同様の方法で塗布し、下塗り層を形成した。上記のようにして形成された表7及び8記載の下塗り層上に、下記の画像記録層塗布液3をバー塗布した後、100°C60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。画像記録層塗布液3は、前記感光液1中のバインダーポリマー1を分岐状の構造を有するバインダーポリマーA-1に置き変えた以外は、画像記録層塗布液1と同様にして調製した。次に上記画像記録層上に、更に上記保護層塗布液1をバー塗布した後、120°C、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して平版印刷版原版50~63比較例23~28用、実施例28~35用を得た。4.平版印刷版原版の評価1機上現像性得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム株製LuxelPLATESETTERT-6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50網点チャートを含むようにした。得られた露光済み原版を現像処理することなく、株小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity-2富士フイルム株製/水道水=2/98容量比の湿し水と墨インキスペースカラーフュージョンGDICグラフィックス株製とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート76.5kg紙に印刷を100枚行った。画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。結果を表4~8に示す。50枚以下が許容レベルである。2耐刷性上述した機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。結果を表4~8に示す。5万枚以上が許容レベルである。3耐汚れ性印刷開始後20枚目の印刷物を抜き取り、非画像部に付着しているインキ濃度により耐汚れ性を評価した。目視評価で、5点満点で点数をつけた。点数の高いほうが耐汚れ性が良好であることを表す。非画像部のインキ付着は、必ずしも均一に発生するわけではないため、耐汚れ性の評価を目視評価の点数とした。結果を表4~8に示す。3点以上が許容レベルである。4経時後の耐汚れ性60°C相対湿度60に設定した恒温恒湿槽中に3日間放置した平版印刷版原版を上記方法で製版し印刷を行い、印刷開始後20枚目の印刷物を抜き取り、非画像部に付着しているインキ濃度により耐汚れ性を評価した。目視評価で、5点満点で点数をつけた。目視評価の基準は、前記<耐汚れ性>で述べたものと同様である。点数の高いほうが耐汚れ性が良好であることを表す。結果を表4~8に示す。3点以上が許容レベルである。上記表4~8中、D1欄は、本明細書中の特定高分子化合物D1の例示化合物番号を示す。D2及びその他欄に記載の化合物は以下の通りである。"