"光の伝播を制御できるようにする光偏向デバイス10において、-光の伝播を制御する光特性を示す液晶素子12と、-液晶素子12の両側に配置され、光開口部22、24であるほぼ中心にあるオリフイスを画定している第一、第二の制御用電極18、20でそれぞれ被覆されている基板14、16二枚と、を含み、-さらに、前記制御用電極18、20の間に配置され、少なくとも光開口部22、24を満たす光用充填材層26、28を有し、該光用充填材層が、10kΩ/平方~10GΩ/平方の間に含まれる表面抵抗を示すこと、および少なくとも前記第一の制御用電極18が、異なる電位を同時に受けるように適応された副電極18’a、18’b、18’c、18’dを形成する複数の部分に分割されていることを特徴とする、光偏向デバイス。前記光用充填材層が、該層内に一様に分布した表面抵抗を示し、該表面抵抗が10MΩ/平方より高いことを特徴とする、請求項1に記載の光偏向デバイス。前記光開口部22、24を満たす光用充填材層26、28が、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン、ポリスチレンスルホネートおよびポリビニルアルコールの混合物で構成されていることを特徴とする、請求項2に記載の光偏向デバイス。前記第二の制御用電極20が、前記第一の制御用電極18と同一の形で副電極20’a、20’b、20’c、20’dに分割され、前記第一の制御用電極18に対面して配置されていることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一つに記載の光偏向デバイス。前記光開口部22、24がほぼ円形の形状を呈していることを特徴とする、請求項1~4のいずれか一つに記載の光偏向デバイス。前記副電極が、ほぼ同じ長さの円弧を互いの間に画定するような形で光開口部の円周上に通じる軸により画定されていることを特徴とする、請求項4または請求項5に記載の光偏向デバイス。前記各基板314、316上に、それぞれ光開口部を画定し副電極により制御される抵抗性リング34、36を有することを特徴とする、請求項4または請求項5に記載の光偏向デバイス。前記副電極が、ほぼ棒状を呈する細い金属電極318a~318d、320a~320dであることを特徴とする、請求項7に記載の光偏向デバイス。前記第一、第二の各制御用電極が、一方では抵抗性リング34、36に連結され他方では基板314、316の一方の縁部上に通じる複数の細い金属の副電極318a~318d、320a~320dでそれぞれ構成されていることを特徴とする、請求項8に記載の光偏向デバイス。前記光開口部が、ほぼ矩形の形状を呈し、副電極418a、418b、420a、420bが互いに平行な直線の棒状を呈していることを特徴とする、請求項1~4のいずれか一つに記載の光偏向デバイス前記光用充填材層26、28の材料がエチレングリコール、ジメチルホルムアミドなどの表面抵抗促進剤をさらに含み、材料の表面抵抗を増大させていることを特徴とする、請求項3~9のいずれか一つに記載の光偏向デバイス。前記光用充填材層26、28の材料がテトラエトキシシランなどの接着力促進剤を含み、基板に対する材料の接着力を改善させていることを特徴とする、請求項1~11のいずれか一つに記載の光偏向デバイス。前記液晶素子12を平面位置またはホメオトロピック位置に拘束するように適応された材料でできた定着層を含むことを特徴とする、請求項1~12のいずれか一つに記載の光偏向デバイス。請求項1~13のいずれか一つの光偏向デバイス10a、10bを二つ定着方向が垂直となるように互いの上に積上げられて含むことを特徴とする、光アセンブリ30。請求項1~13のいずれか一つに記載の光偏向デバイス10a、10bを二つ定着方向が平行となるように互いの上に積上げられて含むことを特徴とする、光アセンブリ30。請求項1~12のいずれか一つに記載の複数の光偏向デバイスを一平面内に網状に配置されて含むことを特徴とする、光アセンブリ。同じ振幅および周波数特性を示す信号が、光偏向デバイスの制御のための電極に同時にに印加されることを特徴とする、請求項15または請求項16に記載の光アセンブリ。異なる位相振幅および周波数特性を示す信号が、光偏向デバイスの制御のための電極に独立して印加されることを特徴とする、請求項15または請求項16に記載の光アセンブリ。自己立体表示機能を実現するように光偏向デバイス410が上に網状に配置されている液晶スクリーン438をさらに含み、スクリーンとの関係におけるユーザの角度位置および距離の検出用手段と、ユーザに向かっての光束の方向を調整するように光偏向デバイスのプリズム機能および焦点距離を変えるように適応された電圧および周波数の電気信号を印加できるようにするデバイスの制御手段とをさらに含むことを特徴とする、請求項15または請求項10に記載の光アセンブリ。請求項1~13のいずれか一つに記載の光偏向デバイスの製造方法において、-二つの透明基板を提供するステップと、-電極を形成する金属層を各基板上にそれぞれ被着させるステップと、-従来のエッチングにより少なくとも一つの電極層を複数の副電極に分割するステップと、-遠心分離、スパッタリングまたは印刷により基板14、16上に光用充填材層26、28の材料を被着させるステップと、-好ましくは乾燥用オーブン内で基板14、16を100°Cで乾燥させるステップと、-平面またはホメオトロピック定着処理を実施するステップと、-第一の基板14の光開口部22のまわりに接着剤およびスペーサーを配置するステップと、-光開口部22、24が対面して配置されるように第二の基板16を重ね合わせるステップと、-重合または乾燥用オーブンでの乾燥により接着剤を硬化させてデバイス10を封止するステップと、-毛管現象または空気の真空吸引により二つの基板14、16の間に液晶素子12を挿入するステップと、-定着方向に対して平行に配向された状態で線形偏光子をレンズの入口または出口に設置するステップと、を含むことを特徴とする製造方法。本発明の目的は、これらの欠点、すなわち、光束の配向のシフトや焦点の三次元制御ができないことを回避解決し、画像の光学的品質を改善するような形で光位相を変化させることのできる光偏向デバイスを提供することにある。このために、以上で記述したとおりの光偏向デバイスは、材料が10kΩ/平方~10GΩ/平方の間に含まれる表面抵抗を示すこと、および少なくとも第一の制御用電極が、異なる電位を同時に受けるように適応された副電極を形成する複数の部分に分割されていることを特徴とする。これらの措置のおかげで、本発明は、制御用両電極間の電界を平衡離脱させる可能性、ひいては光束の配向をシフトさせる可能性を提供する。こうして、異なるさまざまな電圧および周波数を示す信号を印加して、非対称で複雑な波頭形状という形で現われるより複雑な電位表面プロフィールを生成することができる。本発明はまた、目的とされている利用分野および所望の効果に応じて、収差修正の解決法として、またはその逆に波頭の変形を生成する解決法としても役立つことができる。その上、高周波信号を受信できかつその表面抵抗が前記材料の層内に一様な形で分布している、10MΩ/平方より高いという充分高い抵抗性の材料を利用することで、先行技術において使用されている材料層の問題に対する回答が得られる。実際、先行技術の材料は、その表面抵抗の分布に一様性の問題を提起し、瞳孔が5mm未満のレンズ用には電界勾配を提供できない。以上で挙げた特徴によって、デバイスは、特に2mm未満の非常に小さい直径の光開口部のレンズに利用されるように適応されている。他の特徴によると:-光開口部を満たす光用充填材層は、ポリ-3,4-エチレンジオキシチオフェン、ポリスチレンスルホネートおよびポリビニルアルコールの混合物で構成されている。この材料は前記光用充填材層内に一様に分布した導電率を有し高周波信号を受容する抵抗性の材料層を提供するという利点を有する。その上、この材料は、制御可能で反復可能な製造方法を用いて、本発明に係る光偏向デバイスを実現することを可能にし、収差をより良く制御できるようにする;-第二の制御用電極は、第一の制御用電極と同一の形で副電極に分割され、第一の制御用電極に対面して配置されている;-光開口部は、ほぼ円形の形状を呈している;-副電極を画定する軸は、ほぼ同じ長さの光開口部の円弧を互いの間に画定するような形で光開口部の円周上に通じている;-材料は、エチレングリコール、ジメチルホルムアミドなどの表面抵抗促進剤をさらに含んで、材料の表面導電率を増大させている;-材料は、テトラエトキシシランなどの接着力促進剤を含んで、基板に対する材料の接着力を改善させている;-デバイスは、液晶を平面位置またはホメオトロピック位置に拘束するように適応された材料でできた定着層を含む;-各基板上には、それぞれ、光開口部を画定し副電極により制御される抵抗性リングが配置されている;-副電極は、ほぼ棒状を呈する細い金属電極である;-第一、第二の制御用電極は、それぞれ、一方では抵抗性リングに連結され他方では基板の一方の縁部上に通じる複数の細い金属副電極で構成されている;本発明は、また、定着方向が垂直となるように互いの上に積上げられた光偏向デバイスを二つ含む光アセンブリにも関する。別の特徴によると;-光アセンブリは、定着方向が平行となるように互いの上に積上げられた光偏向デバイスを二つ含む;-光アセンブリは、一平面内に網状に配置された複数の光偏向デバイスを含む;-同じ振幅および周波数特性を示す信号が、光偏向デバイスの制御のために同時に制御用電極に印加される;-異なる位相振幅および周波数特性を示す信号が、光偏向デバイスの制御のために独立して制御用電極に印加される。本発明は、添付の各図面に基づいて行われている以下の詳細な説明を読むことによって、より良く理解されるものである。本発明は、本発明に係るデバイスの備わった器具を用いて視覚化すべき画像の光学的品質を、より良く制御するような形で、画像処理の分野で利用される。本発明に係る光偏向デバイス10は、光の伝播を制御する光特性を示す液晶素子12を含むレンズである。液晶素子12は、当初同じ平均的方向を中心として配向されている液晶分子を示すネマチック液晶などの液晶で構成されている。これらの液晶分子は、誘電率の異方性および正または負の複屈折を呈する。したがって、液晶分子は、印加される電界Eに対してそれぞれ平行または垂直に配向される能力を有する。液晶素子12は、光の偏光状態を変える。一変形実施形態によると、非偏光の光でのデバイスの作動を可能にする青色相でコレステリック液晶を使用することが可能である。光偏向デバイスはさらに、透明な二つの基板14、16例えばガラス、プラスチック材料、石英...を含む。各基板14、16は、それぞれ、制御用電極18、20を形成する不透明または透明の金属Cr、Al、Au...または半導体ITO...層で被覆されており、この層はほぼその中央に、一つの中心を有する光開口部22、24である円形開口部を画定している。透明な抵抗性の光用充填材層26、28が、各制御用電極の光開口部内にそれぞれ印加されて、この光開口部を満たす。図3は本発明に係るデバイスの断面図を示しており、光偏向デバイス10を構成するさまざまな要素を明らかにしている。抵抗性の光用充填材層26、28と液晶素子12の規定のパラメータについては、制御用電極に印加される信号の周波数を変調させることで、制御用電極間の電圧分配を制御することが可能である。この分配は、印加されるさまざまな周波数について、抵抗性の層のレベルでの電位可変曲線を表わす図6によって示されている。この図では、周波数が増加すればするほどf4<f3<f2<f1、レンズ中央のゾーン内で電圧分配が広がるということがわかる。周波数で制御可能なこの電位分配によって、液晶素子12内で可変的な電界Eの勾配を生成することが可能となる。電界Eの分布は、液晶素子12の分子の配向勾配をひき起こす。こうして配向された液晶素子12は、液晶分子に沿った軸に平行に偏光された光によって、指標勾配をもつ媒質とみなされる。したがって、この光偏向デバイス10により形成されたレンズは、制御可能な集束特性を有する。光用充填材層26、28は、抵抗率が10kΩ/平方と10GΩ/平方の間に含まれる、光開口部の直径に応じた特性を有する。この光用充填材層は、抵抗性電極と同一視される。好ましくは、光用充填材層26、28は10MΩ/平方より高い表面抵抗を有し、したがって、例えばマイクロカメラ内の非常に小さなサイズのレンズ用に使用可能である。この光用充填材層26、28により、レンズの寸法上の制約条件から解放されることができ、かつ非常に小さい光開口部の瞳孔で画像処理装置を実現することができる。この光用充填材層26、28は、抵抗率が極めて高いことから、高周波信号に付すことができる。光開口部22、24を満たす光用充填材層26、28は、極めて一様に分布した表面抵抗を有し、このため、規則的な波頭を得て、表面の状態に起因する波頭の変形を回避するための電位の均質な分配と電流の均質な導電の特性とが生み出される。光用充填材層26、28は、光開口部22、24内に一様な形で配置されるように適応され、電位の均質な分配を得ることができるようになっている。一様という用語は、材料が画定している体積または表面内において表面抵抗の分布の不連続性を呈さないという材料の能力を意味しているものである。10MΩ/平方より高い表面抵抗を有する光用充填材層については、層の端子における電圧の印加から発生する電位の一様な分布を得ることを可能にする表面電気抵抗の一様性には、材料の初期溶液が均質でなければならない、そしてアニール処理の後に得られた層が恒常な厚みを有していなければならない、という条件が関与する。第一の条件は、常時撹拌しながら溶液を作製し、次に1μm未満の気孔率のフィルタで濾過して、局所的表面抵抗を大きく増加させると考えられる大きな凝塊が存在しないことを確保することによって満たされる。その上、層は、制御用電極で被覆された基板上に一様に分布していなければならない。この結果は、スピンコーターによる被着技術スピンコーティングによって、および/または、材料の液晶分子の組織を変更できかつ基板の表面上の被着を均質化できるようにするエチレングリコールなどの溶媒の添加によって、得ることができる。前述のとおり、抵抗性の光用充填材層26、28は、電圧の分配を制御し、周波数を変調させることによって液晶層内で電界の勾配の効果を得ることを可能にする。光偏向デバイス10は、低周波数信号のみが制御用電極18、20の間を通過できる低域通過装置として働く。周波数が増大すると、電圧は、二つの制御用電極18、20間で変化し、電界Eの勾配を出現させる。信号の周波数が増大すればするほど、セルの中央に向かって伝播される電圧は少なくなり、瞳孔の縁部と中心間の電界Eの勾配はさらに顕著なものとなり、こうして制御可能な電界Eの勾配値の範囲をさらに大きなものにすることが可能となる。添付の図1および図5を見ればわかるように、光偏向デバイス10の第一の制御用電極18および/または第二の制御用電極20は、異なる電位を同時に受けとるように適応された副電極18’a、18’b、18’c、18’dおよび/または20’a、20’b、20’c、20’dを形成する複数の部分に分割される。基板14、16のそれぞれの制御用電極18、20は、図5を見ればわかるように、2個、3個、4個、6個または8個の部分にセグメント化されることができる。セグメント化は、副電極を画定する軸が光開口部の円周上に通じ円弧を画定するような形で実施される。副電極を画定する軸は、制御用電極がN個の副電極に分割され、光開口部の円周がN個の同一長の円弧に分割されるようなものである。各副電極18’、20’間のそれぞれの間隔は、1μm以上である。この距離は、抵抗性材料の抵抗および印加された電圧に適合され、材料を局所的に劣化させないようになっている。ある一つの変形形態によると、乾式エッチング技術を使用することなどによって、各電極間の空間内の抵抗性材料を除去することが可能であり、この場合、各電極間の空間は、1μm未満の寸法に削減可能である。二つの制御用電極18、20が分割されている場合、それらは同一の要領で分割され、対面して配置されて、第一の制御用電極18の各副電極18’が第二の制御用電極20の同一の副電極20’にそれぞれ向き合って配置され、これに結びつけられるようになっている。副電極18’、20’上にさまざまな値の電圧を印加することで、液晶素子12内の電界E上の分布の平衡性を離脱させることができる。その結果、伝達された光束の角度的偏向がもたらされる。可変的な電圧および周波数の電気信号、ただし金属の副電極18’、20’全ての上で同一である電気信号を印加することにより、光の機能が集光レンズの光機能となるように光軸に沿った焦点の位置を制御することが可能になる。対応する位相のプロフィールは、球帽のプロフィールであり、その曲率半径は可変である。重ね合わされた各副電極対18’、20’上にそれぞれ異なる振幅および周波数の信号を印加した場合、そのことにより、光軸に対して垂直な平面内で光軸の焦点を偏向させることができる。こうして、前述の球帽の頂点をシフトさせることができる。こうして、レンズを形成する球帽の三次元制御を提供することが可能である。各副電極対18’、20’に対してそれぞれ周波数組合せに由来する異なる信号を印加した場合、そのことにより、非一様で複雑なプロフィールを生成させることができ、連続的に変化しないくぼみ、突起を伴う複雑な表面を呈する変形した球帽のものに対応する位相プロフィールが生み出される。このタイプのレンズは、特に、レーザービームの整形および光収差の修正のために使用される。図7および図8は、それぞれ、レンズの半径に応じて必要となる材料の抵抗曲線および、制御信号の周波数に応じた焦点距離の可変曲線を示す。これらの図では、非常に小さい直径0.5mm未満のレンズ用には、材料は高い抵抗を示さなくてはならないこと、そして小さい直径のレンズは非常に短い焦点距離を有していることがわかる。その上、図8は、焦点距離が非常に短い場合、焦点距離の変化を得るために信号の周波数は非常に高い>400kHzものとすることができるということを示している。非常に抵抗性の高い光用充填材層26、28とセグメント化された二つの制御用電極18、20とを結びつけることによって、レンズの寸法の制約条件から解放されることができ、また焦点を三次元制御することにより直径が2mmを下回る極めて小さな瞳孔で画像処理を実現することができる。本発明に係るレンズとなる光偏向デバイス10は、画像の安定化を改善させることができ、例えば、撮像装置の対物レンズの電気活性素子として使用可能である。このレンズは同様に、レーザービームの整形に、あるいは可変焦点距離の光レンズを必要とする全ての利用分野において、役立せることができる。可変焦点距離レンズとビームの偏向を結びつけることにより、小型の角度修正式自動焦点装置を得ることができ、マイクロカメラおよび適応型内視鏡ヘッドの製造のためにこの組合せが求められる。好ましい一実施形態によると、光開口部内の光用充填材層26、28の材料は、透明な導電性ポリマータイプのもの、すなわちPEDOT-PSS、ポリアニリン、ポリピロールとすることができる。例えば、制御用電極18、20間に配置される光用充填材層26、28の材料は、ポリ-3,4-エチレンジオキシチオフェン、ポリスチレンスルホネートおよびポリビニルアルコールの混合物で構成されている。この光用充填材層26、28の材料は、電位の均質な分布に必要な一様な層の形で配置されるように適応されており、低い収差λ/20と短かい焦点距離無限に1mmを有する0.5~10mmの間に含まれる直径の液晶モーダルレンズを製造するために利用することができる。その上、この材料は、レンズの非常に小さい瞳孔に必要な高い周波数を有する信号に耐えるのに充分な抵抗特性を有する。本発明に係るデバイスは、以下の要領で製造される。すなわち、各基板14、16をそれぞれ、前述のとおりの制御用電極18、20を形成する金属層で被覆する。制御用電極18、20の少なくとも一つを、例えばフォトリソグラフィまたはレーザーアブレーションなどの従来のエッチングにより、複数の副電極18’、20’に分割する。制御用電極18、20により画定された光開口部22、24は、導電性の低い光用充填材層26、28を収容する。前述の一実施形態によると、材料はポリ-3,4-エチレンジオキシチオフェン、ポリスチレンスルホネートPEDOT-PSSおよびポリビニルアルコールPVAの混合物で構成されている。PEDOT-PSS材料の光用充填材層26、28を、ポリマー工学で公知の被着技術、例えば遠心分離スピンコーティングまたはスパッタリングスプレーコーティングさらには印刷によって、基板上に被着させる。その後、全体を例えば乾燥用オーブン内で100°Cで乾燥させる。乾燥後、接着剤とスペーサの混合物を、一つの基板14の光開口部22のまわりに分布させる。これらのスペーサは、例えば較正済み直径が1~200マイクロメートルの球である。これらは、例えば、プラスチック、シリカまたはアルミナで構成されている。別の方法によると、厚みの較正は、感光性樹脂製のブロックをエッチングすることからなる。このとき、第二の基板16を第一の基板14に重ね合わせて、各基板14、16それぞれの光開口部22、24を互いに向き合わせて精確に整列させて、スペーサにより規定の距離だけ間隔どりされるようにする。第二の制御用電極20の各副電極20’は、これに対応する第一の制御用電極18の副電極18’にそれぞれ対面して配置される。全体を例えば、紫外線での重合によるかまたは乾燥用オーブンでの乾燥による接着剤の硬化によって封止する。液晶素子12を、二つの基板の間に形成されたキャビティ内に、毛管現象によってかまたは空気の真空吸引によって入り込ませる。その後、定着方向に平行に配向させた状態で、レンズの入口または出口に、線形の偏光子を位置づけることができる。この偏光子により、定着方向に対して平行に配向された光偏光を選択することができる。ある一つの変形実施形態によると、PEDOT-PSS層の導電は、PEDOT-PSSの溶液に対して表面抵抗の促進剤を添加することによって増大させることができる。この促進剤は、例えばエチレングリコールEG、ジメチルホルムアミドDMFである。これらの措置によって、材料の表面抵抗を変化させ、こうして円形開口部の直径の如何に関わらず液晶素子内に電界の勾配を得るようにその特性を適応させることが可能である。PVAの添加により、被着した材料の表面抵抗を減少させ一様にすることができ、こうして、材料内の電位の分布をより一層均質にすることができる。基板に対するPEDOT-PSSの接着力は、テトラエトキシシランなどの接着力促進剤を添加することで増強可能である。スペーサの設置の過程の前に、材料が平面定着処理に耐えることができる場合には、このような処理を材料に対して実施することができる。この処理は、液晶の分子を互いに平行に整列させることのできる機械的作用例えば表面のブラシがけで構成される。正の複屈折をもつ液晶を使用する場合には、ナイロンで被覆されたローラーで引き続きPEDOT-PSS層にブラシがけを行い、液晶を平面定着すなわち基板に対して平行に定着させる。定着処理は、他の方法、例えば光整列可能な他のポリマー層を被着させることなどによって実施可能である。使用される液晶が負の複屈折を有する場合、液晶の定着がホメオトロープとなるように、すなわち基板に対して垂直になるように、例えばシランなどの適切な材料の被着を実施しなければならない。そうでなければ、デバイスは定着層を含む。すなわち、定着処理に耐える他の材料ポリイミド、PVAの層が、抵抗性電極上に被着され、液晶を平面位置またはホメオトロピック位置で拘束するような形で定着処理が実施される。上述の製造技術は、容易に工業化可能である。全てのステップは、ウェーハレベルで、すなわち、マイクロエレクトロニクス専用の製造技術で行われる。ウェーハとは、それぞれ電子部品トランジスタ、抵抗などまたはオプトエレクトロニクス部品小型レンズ、OLEDなどがフォトリソグラフィによって上にエッチングされるシリコンまたはガラスの円盤である。これにより、プロセスを高度に並列化させ、収益性を高めることができる。これらの製造技術は、大規模に並列化された生産システムに利用し、適合させることができる。特別な一実施形態によると、液晶をホメオトロピック位置、すなわち基板14、16に垂直な位置に拘束する特定の材料を適用することが可能である。液晶の分子が光の偏光に対して傾斜した方向に沿って配向されている場合、複屈折、すなわち光の二重屈折を生成するその特性は負または正となることができる。液晶素子12が負の複屈折を有する場合には、可変的な電圧および周波数の電気信号、ただし副電極18’、20’の全ての上で同一である電気信号を印加することで、光の機能が発散レンズの機能になるように光軸に沿って焦点の位置を制御することができる。この発散レンズに対して、重ね合わされた副電極18’、20’の各対の間でそれぞれ異なる振幅および周波数の信号を印加し、前述のとおり軸に対して垂直な平面内で光の焦点を偏向させることができるようにすることが可能である。本発明は同様に、互いに組立てられた複数の光偏向デバイス10a、10bで構成された光アセンブリ30にも関する。図9~12に見られる第一の実施形態によると、その開口部の中心を整列させることにより本発明に係る複数の光偏向デバイス10a、10bを重ね合わせることが可能である。第一の実施形態の第一の変形形態によると、積上げられたレンズは集光レンズであり、その定着方向すなわち液晶の配向方向は互いとの関係において垂直である。この第一の変形形態の各レンズに対してそれぞれ同一の制御信号を印加する場合、このように形成されたアセンブリは、偏光に対し感応しない可変的焦点距離を有するレンズとなる。この場合、偏光子は除去されなければならない。その上、二つのデバイスの間の空間は最小焦点距離より大幅に小さいものでなければならない。この第一の変形形態の各レンズに対してそれぞれ異なる制御信号を印加する場合、こうして形成されたアセンブリは、二つの可変焦点距離レンズとなる。光は、互いに直交し各レンズの定着に対しそれぞれ平行異なる二つの点で集束する二つの偏光部分に分離される。第一の実施形態の第二の変形形態によると、積上げられたレンズが集光レンズであり、その定着方向が平行であり、しかも各レンズ上に印加されるそれぞれの信号が異なるものである場合、このように形成されたアセンブリはレンズ毎に一つの異なる焦点距離をもつものの、しかしながら、同じ偏光に対して作用する二つの可変焦点距離レンズとなる。二つのレンズに必要な偏光子は一つだけである。第三の変形実施形態によると、アセンブリが、画像処理対物レンズ内の発散レンズに結びつけられた集光レンズを有する場合、アセンブリは、小型ズームの特性を獲得する。第二の実施形態によると、本発明に係る複数のデバイスを結びつけて、定義されたピッチに従って一平面内で網状にすることができる。第二の実施形態の第一の変形形態によると、複数の光偏向デバイスは同時に操作可能である。すなわち、各デバイスにそれぞれ印加される信号の位相、振幅および周波数は等しい。第二の実施形態の第二の変形形態によると、デバイスは独立して操作される。すなわち、各デバイスにそれぞれ印加される信号の位相、振幅および周波数は独立したものである。複数のデバイスの網状化により、材料を探査し、近視野で表面を撮像することができる。図13~15に示されている第三の実施形態によると光開口部322により形成された抵抗性の瞳孔はもはや異なる電極の弧によってではなく抵抗性リング34、36により画定されている。抵抗性リング34、36は、細い金属製の副電極318a、318b、318c、318d、320a、320b、320c、320dによって操作される。各副電極318a~318d、320a~320dは、それぞれ、抵抗性リング34、36のほぼ同じ長さの円弧を互いの間に画定するような形で一方で抵抗性リング34、36に連結された棒状を呈している。図13~15に示されているように、光偏向デバイスは、一方ではほぼ等しい円弧四つを画定し、他方では副電極が上に配置されている基板の同じ縁部上に通じている、副電極を四つ含む。抵抗性リング34、36は、光開口部内に配置された光用充填材層326、328の表面で電位の分布を一様にすることを可能にする。抵抗性リング34、36は、各細い金属の副電極318a~318d、320a~320dのそれぞれの間での電圧の線形化を可能にする。この抵抗性リングは、各副電極間で抵抗性リングの各孤上のそれぞれの電気的伝播を確保しつつも、各副電極318a~318d、320a~320d間の電気的連続性を改善できるようにする。第三の実施形態に係る光偏向デバイスは、副電極318a~318d、320a~320d内の電位の導電、抵抗性リング34、36内の電位の線形分布、ひいては瞳孔内の電位の均質分布を確実なものにする。その上、この光偏向デバイスは、制御周波数を変えることで、瞳孔内の電位分布の変更を可能にする。これらの措置は、光偏向デバイスが、抵抗がほぼゼロの細い金属の副電極を有する場合に得られ、リングが1~10kΩ/平方の表面抵抗を有する場合、瞳孔の抵抗はおよそ数MΩ/平方の表面抵抗を示す。こうして、光偏向デバイスに印加される信号の周波数を変化させた場合、周波数の変化が抵抗性リング上の電位の線形分布に影響を及ぼすことはなく、単に瞳孔内の電位分布に対してのみ影響を及ぼす。第一の実施形態について示されているように、瞳孔内で使用される光用充填材層326、328は、透明な導電性タイプのもの、すなわちPEDOT-PSS、ポリアニリン、ポリピロールなどとすることができる。材料は、光開口部を画定することから、必ずしも透明でなくてもよい。第三の実施形態の副電極の数は、一例として示されたものにすぎず、非限定的である。図16~19に示された第四の実施形態によると、光偏向デバイス410は、各基板414、416上に、それぞれ、平行に配置された直線の二つの副電極418a、418b、420a、420bに分割された制御用電極418、420を有している。同じ基板414、416の副電極は、円柱レンズを規定するほぼ矩形の光開口部422、424を画定している。副電極418a、418b、420a、420bは、異なる電位を同時に受けるように適応されている。この構成により、可変焦点距離をもつ円柱レンズの機能と可変角度プリズムの機能を結びつけることができる。第四の実施形態は、先に記述したもの等と同じ形で機能する。実際、副電極418a、418b、420a、420bに対しさまざまな値の電圧を印加することにより、液晶素子412内での電界Eの分布の平衡性を離脱させることができる。その結果、各副電極の軸に対して垂直な軸に沿って伝達される光束の角度的偏向がもたらされる。可変的電圧および周波数をもつ信号を印加すること、ただし、同じ基板414、416の全ての金属製の副電極418a、418b、420a、420bに対しては同一である信号を印加することにより、光機能が集光円柱レンズの機能になるように、光軸に沿って焦線の位置を制御することができる。対応する位相プロフィールは、曲率半径が可変の円柱帽または円柱アーチのプロフィールである。重ね合わされた副電極の各対418a、420a、418b、420bそれぞれに対し異なる振幅および周波数の信号を印加した場合、そのことにより、光軸に対し垂直な平面内で光軸の焦線を偏向させることができる。こうして、副電極の軸との関係において、前述した円柱帽の頂点をシフトさせることができる。周波数の組合せに由来する異なる信号を、重ね合わされた副電極の各対418a、420a、418b、420bそれぞれに印加した場合、これにより、一様でない複雑なプロフィールを生成することができ、連続的に変化しないくぼみ、突起を伴う複雑な表面を有する変形した球帽のものに対応する位相プロフィールが生み出される。このタイプのレンズは、特に、レーザービームの整形および光収差の修正のために用いられる。第四の実施形態に係るデバイスを有する光アセンブリが図19、20によって示されている。この光アセンブリにおいては、矩形の光開口部422、424を網状組織に沿って実現できるような形で、複数の光偏向デバイス410が配置されている。こうして実現される光の機能が、調節可能なレンチキュラー網状組織である。網状組織の各素子は、それぞれ隣接する素子と同一の要領で包括的にまたは個別に制御手段により制御されることができる。このような可変レンチキュラー網状組織を従来の液晶LCDスクリーン438と組合わせて、単なる2D表示から3D表示に移行するために切替可能な自己立体表示機能すなわちメガネを必要とすることなく三次元で立体的な印象を復元する投影を実現し、かつ観察者の位置に対して3D表示を適応させる機能を追加することが可能である。実際、パララックスバリアマスクの原理またはレンチキュラー網状組織の原理を用いた公知の自己立体3D表示では、観察者をフォローできず、スクリーンに対して一定の角度で、一定の距離からスクリーンを見なければならない。第四の実施形態に係る円柱レンズの網状組織によると、当業者にとって公知の特定の検出手段によりスクリーン438との関係における観察者の距離d1、d2および角度位置α1、β1、α2、β2によって定義されるその位置を検出することを条件として、観察者の位置に3D表示を適応させることができる。デバイスの制御手段により、観察者に向かう光束の方向を調整する形で光偏向デバイス410のプリズム機能と焦点距離を変えるように適応された電圧および周波数の信号を印加することができる。こうして、観察者の距離に適応するように、円柱レンズの焦点距離が定義されることとなる。そして、スクリーンとの関係における観察者の角度位置に適応するためには、円柱レンズの光軸のシフトによりプリズム機能が追加されることとなる。本発明は、記載され詳述された実施形態に一切限定されず、これらの実施形態は一例として示されたものにすぎない。"