"処理室内にプラズマを発生させるプラズマ発生部を有するプラズマ処理装置の電源制御装置であって、前記プラズマ発生部に電力を供給するための高周波電源と、第1の処理条件のプロセス情報に対応した第1の整合値と第2の処理条件のプロセス情報に対応した第2の整合値と前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わる過渡状態のプロセス情報に対応した第3の整合値とを含む整合情報を記憶する記憶部と、前記整合情報に基づきインピーダンス整合を行う整合回路と、を備えたことを特徴とする電源制御装置。前記整合回路は、前記整合情報を参照することにより、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わる際に、前記第1の整合値、前記第3の整合値、及び前記第2の整合値へ順次にインピーダンス整合を行うことを特徴とする請求項1に記載の電源制御装置。前記整合回路は、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件への切り替わり開始のタイミングにおいて、前記第1の整合値へインピーダンス整合を行い、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わる過渡状態のタイミングにおいて、前記第3の整合値へインピーダンス整合を行い、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件への切り替わり完了のタイミングにおいて、前記第2の整合値へインピーダンス整合を行うことを特徴とする請求項2に記載の電源制御装置。前記第1の整合値、前記第2の整合値、及び前記第3の整合値は、それぞれ、処理ガスの種類毎の流量と前記処理室内の圧力とに対応していることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の電源制御装置。前記第1の整合値、前記第2の整合値、及び前記第3の整合値は、それぞれ、被処理基板の温度にさらに対応していることを特徴とする請求項4に記載の電源制御装置。前記第1の整合値、前記第2の整合値、及び前記第3の整合値は、それぞれ、前記高周波電源の電力にさらに対応していることを特徴とする請求項4又は5に記載の電源制御装置。処理室内にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、前記プラズマ発生部に電力を供給するための高周波電源と、第1の処理条件のプロセス情報に対応した第1の整合値と第2の処理条件のプロセス情報に対応した第2の整合値と前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わる過渡状態のプロセス情報に対応した第3の整合値とを含む整合情報を記憶する記憶部と、前記整合情報に基づきインピーダンス整合を行う整合回路とを有する電源制御部と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。前記整合回路は、前記整合情報を参照することにより、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わる際に、前記第1の整合値、前記第3の整合値、及び前記第2の整合値へ順次にインピーダンス整合を行う、ことを特徴とする請求項7に記載のプラズマ処理装置。前記整合回路は、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件への切り替わり開始のタイミングにおいて、前記第1の整合値へインピーダンス整合を行い、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わる過渡状態のタイミングにおいて、前記第3の整合値へインピーダンス整合を行い、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わり完了のタイミングにおいて、前記第2の整合値へインピーダンス整合を行うことを特徴とする請求項8に記載のプラズマ処理装置。前記第1の整合値、前記第2の整合値、及び前記第3の整合値は、それぞれ、処理ガスの種類毎の流量と前記処理室内の圧力とに対応していることを特徴とする請求項7から9のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。前記第1の整合値、前記第2の整合値、及び前記第3の整合値は、それぞれ、被処理基板の温度にさらに対応していることを特徴とする請求項10に記載のプラズマ処理装置。前記第1の整合値、前記第2の整合値、及び前記第3の整合値は、それぞれ、前記高周波電源の電力にさらに対応していることを特徴とする請求項10又は11に記載のプラズマ処理装置。前記処理室内へ供給する処理ガスの流量を制御するガス供給制御部と、前記処理室内の圧力を制御する圧力制御部と、前記電源制御部、前記ガス供給制御部、及び前記圧力制御部を制御するコントローラと、をさらに備え、前記コントローラは、前記整合情報、流量制御情報、及び圧力制御情報を記憶する第2の記憶部を有し、前記流量制御情報は、第1の処理条件のプロセス情報に対応した第1の流量制御値と第2の処理条件のプロセス情報に対応した第2の流量制御値と前記第1の処理条件から前記第2の処理条件への切り替わる途中の過渡状態のプロセス情報に対応した第3の流量制御値とを含み、前記圧力制御情報は、第1の処理条件のプロセス情報に対応した第1の圧力制御値と第2の処理条件のプロセス情報に対応した第2の圧力制御値と前記第1の処理条件から前記第2の処理条件への切り替わる途中の過渡状態のプロセス情報に対応した第3の圧力制御値とを含むことを特徴とする請求項7から12のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。前記プラズマ発生部により前記処理室内に発生されたプラズマにバイアス電圧を印加するバイアス印加部と、前記バイアス印加部に電力を供給するための第2の高周波電源と、前記第1の処理条件のプロセス情報に対応した第4の整合値と前記第2の処理条件のプロセス情報に対応した第5の整合値と前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わる過渡状態のプロセス情報に対応した第6の整合値とを含む第2の整合情報を記憶する第3の記憶部と、前記第2の整合情報に基づきインピーダンス整合を行う第2の整合回路とを有する第2の電源制御部と、をさらに備えたことを特徴とする請求項7から13のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。処理室内にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、前記プラズマ発生部に電力を供給するための電源制御部とを有するプラズマ処理装置におけるプラズマ処理方法であって、前記プラズマ処理装置において、第1の処理条件のプロセス情報に対応した第1の整合値と第2の処理条件のプロセス情報に対応した第2の整合値と前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わる過渡状態のプロセス情報に対応した第3の整合値とを含む整合情報を取得し、前記電源制御部のインピーダンスを、前記取得された前記第1の整合値に整合させ、前記第1の整合値に整合させた後に、前記電源制御部のインピーダンスを、前記取得された前記第3の整合値に整合させ、前記第3の整合値に整合させた後に、前記電源制御部のインピーダンスを、前記取得された前記第2の整合値に整合させることを特徴とするプラズマ処理方法。前記第1の整合値への整合は、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件への切り替わり開始のタイミングにおいて行い、前記第3の整合値への整合は、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わる過渡状態のタイミングにおいて行い、前記第2の整合値への整合は、前記第1の処理条件から前記第2の処理条件へ切り替わり完了のタイミングにおいて行うことを特徴とする請求項15に記載のプラズマ処理方法。処理室内にプラズマを発生させるプラズマ発生部を有するプラズマ処理装置の電源制御装置であって、前記プラズマ発生部に電力を供給するための高周波電源と、第1のプラズマ発光強度に対応した第1の整合値と第2のプラズマ発光強度に対応した第2の整合値と前記第1のプラズマ発光強度から前記第2のプラズマ発光強度へ切り替わる過渡状態の発光強度に対応した第3の整合値とを含む整合情報を記憶する記憶部と、前記整合情報に基づきインピーダンス整合を行う整合回路と、を備えたことを特徴とする電源制御装置。処理室内にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、前記プラズマ発生部に電力を供給するための高周波電源と、第1のプラズマ発光強度に対応した第1の整合値と第2のプラズマ発光強度に対応した第2の整合値と前記第1のプラズマ発光強度から前記第2のプラズマ発光強度へ切り替わる過渡状態の発光強度に対応した第3の整合値とを含む整合情報を記憶する記憶部と、前記整合情報に基づきインピーダンス整合を行う整合回路とを有する電源制御部と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。前記発生されたプラズマの発光強度を検知する検知部と、前記検知されるプラズマの発光強度が前記第1のプラズマ発光強度になるように前記第1の整合値を演算し、前記検知されるプラズマの発光強度が前記第1のプラズマ発光強度から前記第2のプラズマ発光強度へ切り替わる過渡状態の発光強度になるように前記第3の整合値を演算し、前記検知されるプラズマの発光強度が前記第2のプラズマ発光強度になるように前記第2の整合値を演算する演算部と、ことを特徴とする請求項18に記載のプラズマ処理装置。処理室内にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、前記プラズマ発生部に電力を供給するための電源制御部とを有するプラズマ処理装置におけるプラズマ処理方法であって、前記プラズマ処理装置において、第1のプラズマ発光強度に対応した第1の整合値と第2のプラズマ発光強度に対応した第2の整合値と前記第1のプラズマ発光強度から前記第2のプラズマ発光強度へ切り替わる過渡状態の発光強度に対応した第3の整合値とを含む整合情報を取得し、前記電源制御部のインピーダンスを、前記取得された前記第1の整合値に整合させ、前記第1の整合値に整合させた後に、前記電源制御部のインピーダンスを、前記取得された前記第3の整合値に整合させ、前記第3の整合値に整合させた後に、前記電源制御部のインピーダンスを、前記取得された前記第2の整合値に整合させることを特徴とするプラズマ処理方法。1つの実施形態は、例えば、複数の処理条件が切り替わる際における、インピーダンス整合が取れるとともにプラズマが安定化するまでに要する時間を短縮することに適した電源制御装置、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法を提供することを目的とする。1つの実施形態によれば、プラズマ発生部を有するプラズマ処理装置の電源制御装置であって、高周波電源と記憶部と整合回路とを備えたことを特徴とする電源制御装置が提供される。プラズマ発生部は、処理室内にプラズマを発生させる。高周波電源は、プラズマ発生部に電力を供給する。記憶部は、整合情報を記憶する。整合情報は、第1の整合値と第2の整合値と第3の整合値とを含む。第1の整合値は、第1の処理条件のプロセス情報に対応している。第2の整合値は、第2の処理条件のプロセス情報に対応している。第3の整合値は、第1の処理条件から第2の処理条件へ切り替わる過渡状態のプロセス情報に対応している。整合回路は、整合情報に基づきインピーダンス整合を行う。また、他の実施形態によれば、プラズマ発生部と電源制御部とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置が提供される。プラズマ発生部は、処理室内にプラズマを発生させる。電源制御部は、高周波電源と記憶部と整合回路とを有する。高周波電源は、プラズマ発生部に電力を供給する。記憶部は、整合情報を記憶する。整合情報は、第1の整合値と第2の整合値と第3の整合値とを含む。第1の整合値は、第1の処理条件のプロセス情報に対応している。第2の整合値は、第2の処理条件のプロセス情報に対応している。第3の整合値は、第1の処理条件から第2の処理条件へ切り替わる過渡状態のプロセス情報に対応している。整合回路は、整合情報に基づきインピーダンス整合を行う。また、他の実施形態によれば、プラズマ発生部と電源制御部とを有するプラズマ処理装置におけるプラズマ処理方法が提供される。プラズマ発生部は、処理室内にプラズマを発生させる。電源制御部は、プラズマ発生部に電力を供給する。プラズマ処理方法では、プラズマ処理装置において、整合情報を取得する。整合情報は、第1の整合値と第2の整合値と第3の整合値とを含む。第1の整合値は、第1の処理条件のプロセス情報に対応している。第2の整合値は、第2の処理条件のプロセス情報に対応している。第3の整合値は、第1の処理条件から第2の処理条件へ切り替わる過渡状態のプロセス情報に対応している。プラズマ処理方法では、電源制御部のインピーダンスを、取得された第1の整合値に整合させる。プラズマ処理方法では、第1の整合値に整合させた後に、電源制御部のインピーダンスを、取得された第3の整合値に整合させる。プラズマ処理方法では、第3の整合値に整合させた後に、電源制御部のインピーダンスを、取得された第2の整合値に整合させる。また、他の実施形態によれば、プラズマ発生部を有するプラズマ処理装置の電源制御装置であって、高周波電源と記憶部と整合回路とを備えたことを特徴とする電源制御装置が提供される。プラズマ発生部は、処理室内にプラズマを発生させる。高周波電源は、プラズマ発生部に電力を供給する。記憶部は、整合情報を記憶する。整合情報は、第1の整合値と第2の整合値と第3の整合値とを含む。第1の整合値は、第1のプラズマ発光強度に対応している。第2の整合値は、第2のプラズマ発光強度に対応している。第3の整合値は、第1のプラズマ発光強度から第2のプラズマ発光強度へ切り替わる過渡状態の発光強度に対応している。整合回路は、整合情報に基づきインピーダンス整合を行う。また、他の実施形態によれば、プラズマ発生部と電源制御部とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置が提供される。プラズマ発生部は、処理室内にプラズマを発生させる。電源制御部は、高周波電源と記憶部と整合回路とを有する。高周波電源は、プラズマ発生部に電力を供給する。記憶部は、整合情報を記憶する。整合情報は、第1の整合値と第2の整合値と第3の整合値とを含む。第1の整合値は、第1のプラズマ発光強度に対応している。第2の整合値は、第2のプラズマ発光強度に対応している。第3の整合値は、第1のプラズマ発光強度から第2のプラズマ発光強度へ切り替わる過渡状態の発光強度に対応している。整合回路は、整合情報に基づきインピーダンス整合を行う。また、他の実施形態によれば、プラズマ発生部と電源制御部とを有するプラズマ処理装置におけるプラズマ処理方法が提供される。プラズマ発生部は、処理室内にプラズマを発生させる。電源制御部は、プラズマ発生部に電力を供給する。プラズマ処理方法では、プラズマ処理装置において、整合情報を取得する。整合情報は、第1の整合値と第2の整合値と第3の整合値とを含む。第1の整合値は、第1のプラズマ発光強度に対応している。第2の整合値は、第2のプラズマ発光強度に対応している。第3の整合値は、第1のプラズマ発光強度から第2のプラズマ発光強度へ切り替わる過渡状態の発光強度に対応している。プラズマ処理方法では、電源制御部のインピーダンスを、取得された第1の整合値に整合させる。プラズマ処理方法では、第1の整合値に整合させた後に、電源制御部のインピーダンスを、取得された第3の整合値に整合させる。プラズマ処理方法では、第3の整合値に整合させた後に、電源制御部のインピーダンスを、取得された第2の整合値に整合させる。以下に添付図面を参照して、実施形態にかかるプラズマ処理装置を詳細に説明する。なお、これらの実施形態により本発明が限定されるものではない。第1の実施形態第1の実施の形態にかかるプラズマ処理装置1について図1を用いて説明する。図1は、第1の実施の形態にかかるプラズマ処理装置1の概略構成を示す図である。プラズマ処理装置1は、処理室90、下部電極10、電源制御部20、上部電極30、ガス供給制御部50、排気制御部60、温度制御部70、及びコントローラ80を備える。処理室90は、その内部でプラズマPLが発生されるための室であり、処理容器2により形成されている。処理容器2は、ガス供給制御部50から処理室90へ処理ガスが供給可能なように構成されているとともに、処理室90から排気制御部60へ処理済の処理ガスが排気可能なように構成されている。下部電極10は、絶縁材図示せずを介して処理容器2から絶縁されるように、処理室90内の底面側に配されている。下部電極10には、シリコンウエーハ等の被処理基板WFが載置される。下部電極10は、温調ステージ11及び電極12を有する。温調ステージ11は、電極12を覆っている。温調ステージ11は、温度制御部70により温度が制御される。これにより、温度制御部70は、温調ステージ11を介して被処理基板WFの温度を制御する。電極12は、電源制御部20から電力が供給され、温調ステージ11を介して電力を被処理基板WFまで供給する。温調ステージ11及び電極12は、それぞれ、例えばステンレス、アルミ等の金属で形成されている。電源制御部20では、高周波電源23から下部電極10に高周波電力を供給する。上部電極30は接地されており、下部電極10に高周波電圧が供給されると、プラズマ発生部としての上部電極30及び下部電極10は、処理室90内にプラズマPLを発生させる。すなわち、上部電極30と下部電極10の間の空間91にプラズマPLが発生する。この際、プラズマPL領域と下部電極10の間に電位勾配があるシース領域も形成され、プラズマPL中にラジカルとともに生成されたイオン例えば、F、CF3などが被処理基板WF表面下部電極10側へ加速されることで異方性エッチング加工が行われる。電源制御部20の内部構成については後述する。ガス供給制御部50は、各処理ガスの処理室90への供給量処理室90へ供給する各処理ガスの流量を制御する。具体的には、ガス供給制御部50は、複数の個別ガス供給管54a~54c、複数の開閉弁51a~51c、複数の流量制御器53a~53c、開閉弁52、及び混合されたガスを供給するガス供給管55を有する。複数の個別ガス供給管54a、54b、54cには、それぞれ、ガスボンベ図示せずから処理ガスA、処理ガスB、処理ガスCが供給される。複数の開閉弁51a~51cは、それぞれ、コントローラ80により制御される。これにより、開閉弁51aは、所定のタイミングで開状態になることにより、処理ガスAを流量制御器53aへ供給する。開閉弁51bは、所定のタイミングで開状態になることにより、処理ガスBを流量制御器53bへ供給する。開閉弁51cは、所定のタイミングで開状態になることにより、処理ガスCを流量制御器53cへ供給する。複数の流量制御器53a~53cは、それぞれ、コントローラ80により制御され、供給された処理ガスA、処理ガスB、処理ガスCの流量を制御する。開閉弁52は、コントローラ80により制御され、所定のタイミングで開状態になることにより、複数の流量制御器53a~53cの少なくともいずれかから供給された処理ガスを、混合されたガスを供給するガス供給管55経由で処理室90へ供給する。排気制御部60は、処理室90の圧力および処理ガスの排気量を制御する。具体的には、排気制御部60は、圧力センサ61、排気管63、圧力コントローラ62、排気管64、及び真空ポンプ65を有する。圧力センサ61は、処理室90内の圧力を検知し、その圧力の値の情報を圧力コントローラ62へ供給する。圧力コントローラ62は、排気管63を介して処理室90に接続されているとともに、排気管64を介して真空ポンプ65に接続されている。圧力コントローラ62は、開度を調整可能な調整弁図示せずを有し、圧力センサ61から供給された圧力の値に応じて、処理室90内の圧力が目標値になるように、調整弁の開度を制御する。これにより、処理室90の圧力および処理ガスの排気量が制御される。温度制御部70は、温調ステージ11を介して被処理基板WFの温度を制御する。具体的には、温度制御部70は、温度コントローラ72と、温調ステージ11内に配された温度センサ71及び温度調整器ヒータまたは冷却器73を有する。温度センサ71は、温調ステージ11上にある被処理基板WFの温度を検知する。温度センサ71は、検知した温度情報を温度コントローラ72へ供給する。温度コントローラ72は、コントローラ80により制御された温度になるように、温度調整器73を制御する。これにより、温調ステージ11を介して被処理基板WFの温度が制御される。コントローラ80は、プラズマ処理装置1における各部を全体的に制御する。具体的には、コントローラ80は、CPU81及び記憶部82を有する。記憶部82は、レシピ情報を記憶している。レシピ情報は、複数の処理条件を順次に切り替えながら連続処理を行なう際の、処理条件の順番および各処理条件の内容ガス流量、圧力、温度、パワーなどの情報を含む。CPU81は、記憶部82に記憶されたレシピ情報の各処理条件に従い、電源制御部20、ガス供給制御部50、排気制御部60、及び温度制御部70を制御する。これにより、連続処理が行われる。次に、電源制御部20の内部構成について図1を用いて説明する。電源制御部20は、高周波電源23、記憶部24、整合回路22、及びブロッキングコンデンサ21を有する。高周波電源23は、例えば周波数13.56MHz等の高周波電力を発生する。記憶部24は、整合回路22がインピーダンス整合をとる際の整合情報を記憶する。整合情報の詳細は、後述する。整合回路22は、例えば、可変コンデンサC1、C2及び可変コイルL1、L2を有している図2参照。整合回路22は、記憶部24に記憶された整合情報を参照することにより、整合回路22に対する高周波電源23側のインピーダンスと、整合回路22に対するブロッキングコンデンサ21側のインピーダンスとが均等になるように、可変コンデンサ及び可変コイルを用いてインピーダンスの調整インピーダンス整合を行なう。ブロッキングコンデンサ21は、インピーダンス整合が行なわれた状態で高周波電源23から供給された高周波電力のうちの高周波成分を選択的に下部電極10へ供給する。次に、整合回路22の内部構成について図2を用いて説明する。図2は、電源制御部20における整合回路22の内部構成を示す図である。整合回路22は、例えば、可変コンデンサC1、C2及び可変コイルL1、L2を有している。整合回路22では、例えば、一端がブロッキングコンデンサ21に接続され他端が高周波電源23に接続されたライン上で、可変コンデンサC1と可変コイルL1とが直列に接続され、可変コンデンサC2、可変コイルL2がこれら可変コンデンサC1、可変コイルL1と並列にそれぞれ接続されている。また、整合回路22によるインピーダンス整合は、可変コンデンサC1,C2、および可変コイルL1,L2の各々の値を、コントローラ図示せず及びサーボモータ等の駆動装置図示せずで調整することにより行われる。整合回路22内のコントローラは、記憶部24に記憶された整合情報すなわち、インピーダンス整合する際のC1,C2およびL1,L2の値を参照し、可変コンデンサC1、C2の値および可変コイルL1、L2の値をサーボモータ等の駆動装置で調整する。次に、記憶部24に記憶された、インピーダンス整合をとるための整合情報について、図3を用いて説明する。切り替わり時にインピーダンス整合をとるための整合情報は、初期状態第1の処理条件におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I1に整合させるための第1の整合値MV1と、初期状態第1の処理条件から処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中過渡状態におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I2に整合させるための第3の整合値MV2と、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件に切り替わり終わった後の安定状態におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I3に整合させるための第2の整合値MV3とを含む。具体的には、第1の整合値MV1は、切り替わる前第1の処理条件における処理ガスAの流量F1≒0と処理室90内の圧力P1とに対応するインピーダンス値I1に対し、整合がとれるように予め決定されている。第3の整合値MV2は、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中過渡状態における処理ガスAの流量F2と処理室90内の圧力P2とに対応するインピーダンス値I2に対し、整合がとれるように予め決定されている。第2の整合値MV3は、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件に切り替わり終わった後の安定状態における処理ガスAの流量F3と処理室90内の圧力P3とに対応するインピーダンス値I3に対し、整合がとれるように予め決定されている。また、次の切替わり時にインピーダンス整合をとるための整合情報は、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I4に整合させるための第1の整合値MV4と、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中過渡状態におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I5に整合させるための第3の整合値MV5と、処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件に切り替わり終わった後の安定状態におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I6に整合させるための第2の整合値MV6とを含む。具体的には、第1の整合値MV4は、切り替わる前第1の処理条件における処理ガスAの流量F41と処理ガスBの流量F4≒0と処理室90内の圧力P4とに対応するインピーダンス値I4に対し、整合がとれるように予め決定されている。第3の整合値MV5は、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中過渡状態における処理ガスAの流量F51と処理ガスBの流量F5と処理室90内の圧力P5とに対応するインピーダンス値I5に対し、整合がとれるように予め決定されている。第2の整合値MV6は、処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わり終わった後の安定状態における処理ガスAの流量F61と処理ガスBの流量F6と処理室90内の圧力P6とに対応するインピーダンス値I6に対し、整合がとれるように予め決定されている。次に、整合情報を用いた制御方法プラズマ処理方法について図1および図2を用いて説明する。まず、上記のような各処理条件へ切替わる際の整合情報を取得し電源制御部20の記憶部24に記憶させる。例えば、ユーザは、各処理条件へ切替える際の整合情報を予め実験的に求めておき、連続処理を行う前に、入力インターフェース図示せずを介してその求めた整合情報を電源制御部20に入力する。これに応じて、電源制御部20は、入力された整合情報を記憶部24に記憶する。次に、コントローラ80は、レシピ情報に従って、連続処理における初期状態第1の処理条件から、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件への切り替えを開始する。すなわち、コントローラ80は、ガス供給制御部50、排気制御部60、及び温度制御部70などに切り替わり開始のタイミング信号を提供する共に制御を開始し、これと同時に電源制御部20にも切り替わり開始のタイミング信号を提供する。整合回路22は、初期状態第1の処理条件から処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件への切り替わり開始のタイミング信号が提供されると、記憶部24に記憶された上記の第1の整合値MV1を参照しインピーダンスI1になるようにインピーダンス整合をとる。また、整合回路22は、タイマ図示せずによる時間のカウントを開始する。タイマによる時間のカウント開始から所定時間が経過し、図3に示す流量F2や圧力P2に対応したタイミング過渡状態のタイミングになると、整合回路22は、記憶部24に記憶された上記の第3の整合値過渡状態の整合値MV2を参照し、インピーダンスI2になるようにインピーダンス整合をとる。タイマによる時間のカウント開始から更に所定時間が経過しすなわち、切り替わり開始のタイミングから切り替え時間T1が経過し、図3に示す流量F3や圧力P3に対応したタイミング切り替わり完了のタイミングになると、整合回路22は、記憶部24に記憶された上記の第2の整合値MV3を参照し、インピーダンスI2になるようにインピーダンス整合をとる。その後、次の処理条件に切替える際、すなわち図3に示す処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件への切り替えを開始する際、コントローラ80は、レシピ情報に従って、ガス供給制御部50、排気制御部60、及び温度制御部70に切り替わり開始のタイミング信号を提供すると共に第2の処理条件での制御を開始し、これと同時に電源制御部20にも切り替わり開始のタイミング信号を提供する。整合回路22は、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件への切り替わり開始のタイミング信号が提供されると、記憶部24に記憶された、処理ガスA→処理ガスBへの切替わり時の整合情報から第1の整合値MV4を参照して、インピーダンスI4になるように、インピーダンス整合をとる。また、整合回路22は、タイマ図示せずによる時間のカウントを開始する。タイマによる時間のカウント開始から所定時間が経過し、図3に示す流量F5、F51や圧力P5に対応したタイミング過渡状態のタイミングになると、整合回路22は、記憶部24に記憶された上記の第3の整合値過渡状態の整合値MV5を参照し、インピーダンスI2になるようにインピーダンス整合をとる。タイマによる時間のカウント開始から更に所定時間が経過しすなわち、切り替わり開始のタイミングから切り替え時間T2が経過し、図3に示す流量F6、F61や圧力P6に対応したタイミング切り替わり完了のタイミングになると、整合回路22は、記憶部24に記憶された上記の第2の整合値MV6を参照し、インピーダンスI2になるようにインピーダンス整合をとる。ここで、仮に、図9に示すように、連続処理において、複数の処理条件が切り替わる際に、切り替わる前の処理条件におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I101に整合させるための整合値MV101と、切り替わった後の処理条件におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I102に整合させるための整合値MV102とを用いてインピーダンス整合を行う場合について考える。この場合、切り替わる途中における電源制御部20のインピーダンスが不安定になるので、予定していた切り替え時間T1図3の3参照が経過したタイミングでは、電源制御部20のインピーダンスI102’が記憶部24に記憶された整合情報に対応するインピーダンスI102からずれた値になっている可能性が高い。これにより、インピーダンスI102に整合させるためにさらに時間がかかるので、インピーダンス整合が取れるとともにプラズマが安定化するまでに要する時間、すなわち切り替え時間T101が長くなる傾向にある。それに対して、第1の実施の形態では、記憶部24が、初期状態第1の処理条件におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I1に整合させるための第1の整合値MV1と、初期状態第1の処理条件から処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中過渡状態におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I2に整合させるための第3の整合値MV2と、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件に切り替わり終わった後の安定状態におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I3に整合させるための第2の整合値MV3とを含む整合情報を記憶している。この結果、初期状態第1の処理条件から処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる際に、第1の整合値MV1、第3の整合値MV2、及び第2の整合値MV3へ、順次にインピーダンス整合を行うことができる。すなわち、整合回路22が、整合情報を参照することにより、初期状態第1の処理条件から処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件への切り替わり開始のタイミングにおいて、第1の整合値MV1へ、切り替わる途中過渡状態のタイミングにおいて、第3の整合値MV2へ、切り替わり完了のタイミングにおいて、第2の整合値MV3へ、順次にインピーダンス整合を行う。これにより、処理条件の切り替わる途中でもインピーダンスの不整合を小さくできるので、予定していた通りの切り替え時間T1でインピーダンス整合をとることができる。また、記憶部24は、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I4に整合させるための第1の整合値MV4と、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中過渡状態におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I5に整合させるための第3の整合値MV5と、処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件に切り替わり終わった後の安定状態におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I6に整合させるための第2の整合値MV6とを含む整合情報を記憶している。この結果、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる際に、第1の整合値MV4、第3の整合値MV5、及び第2の整合値MV6へ、順次にインピーダンス整合を行うことができる。すなわち、整合回路22は、整合情報を参照することにより、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件への切り替わり開始のタイミングにおいて、第1の整合値MV4へ、切り替わる途中過渡状態のタイミングにおいて、第3の整合値MV5へ、及び切り替わり完了のタイミングにおいて、第2の整合値MV6へ、順次にインピーダンス整合を行う。これにより、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中でもインピーダンスの不整合を小さくできるので、予定していた通りの切り替え時間T2でインピーダンス整合をとることができる。このように、第1の実施の形態によれば、連続処理において、複数の処理条件が切り替わる際における、インピーダンス整合が取れるとともにプラズマが安定化するまでに要する時間切り替え時間を短縮することに適したプラズマ処理装置を提供できる。あるいは、仮に、図10に示すように、連続処理において、複数の処理条件が切り替わる際に、切り替わる前の処理条件におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I111に整合させるための整合値MV111と切り替わり後の処理条件におけるプロセス情報に対応したインピーダンス値I112に整合させるための整合値MV112とを用いてインピーダンス整合を行う場合について考える。図10に示す場合、図9に示す場合よりも切り替わる途中におけるインピーダンスが不安定になる傾向にある。このため、予定していた切り替え時間T1図3の3参照が経過したタイミングでは、インピーダンスI112’が放電可能領域を外れている可能性がある。これにより、インピーダンス整合をとることが困難になり、プラズマが消失する可能性もある。それに対して、第1の実施の形態では、連続処理において、複数の処理条件が切り替わる際に、切り替わる途中における電源制御部20のインピーダンス変動を抑えることができプラズマを安定化できるので、確実にインピーダンス整合をとることができる。あるいは、仮に、図11に示すように、連続処理において、複数の処理条件が切り替わる際に、切り替わる途中における電源制御部20のインピーダンスの不安定化を低減させるために、切り替わる前の処理条件と切り替わった後の処理条件との間に複数の中間的な処理条件を挿入して、インピーダンスを安定化する場合について考える。ここで、各中間処理条件は、本実施例のようなプロセスの過度状態ではなく、各中間処理条件にて一旦インピーダンスを安定化させるためのものである。例えば、図11aの場合図9の場合に対して図11bのように処理条件を二段階で切替える場合、インピーダンス変化に追従する速度インピーダンス変化量/時間に相当し、図11bでは立ち上がり時のグラフの傾きに相当は図11aと同じであるが、初期状態第1の処理条件から中間的な条件に切替えてから安定化するまでに要する時間と、中間的な条件から第2の処理条件へ切替えてから安定化するまでに要する時間の和切り替え時間T201は、図11aの初期状態第1の処理条件から第2の処理条件へ切替えてから安定化するまでに要する時間切り替え時間T101より長くなる。また、意図しない処理条件中間的な処理条件でのエッチング加工を行なわなければならなくなるため、加工精度も悪化する。図11cのように処理条件を四段階で切替える場合、安定化するまでに要する時間切り替え時間T301は更に長くなり、意図しない処理条件中間的な処理条件でのエッチング加工時間が更に長くなるため、加工精度が更に悪化する。このように、中間的な処理条件が多くなるほど切り替え後の目標値でインピーダンスの整合をとるまでに要する時間が長くなり、加工精度も悪化する傾向があるため、レシピ情報に従った連続処理を行なうことが困難になる。それに対して、第1の実施の形態では、連続処理において、複数の処理条件が切り替わる際に、切り替わる前の処理条件と切り替わった後の処理条件との間の切り替わる途中における電源制御部20のインピーダンス変動を抑えることができプラズマを安定化できる。これにより、インピーダンス整合が取れるとともにプラズマが安定化するまでに要する時間切り替え時間を短縮できるので、レシピ情報に従った連続処理を行なうことが容易である。また、第1の実施の形態では、整合情報において、第1の整合値MV1が、切り替わる前における処理ガスAの流量F1と処理室90内の圧力P1とに対応するインピーダンス値I1に対し、整合がとれるように予め実験的に決定されている。第3の整合値MV2は、切り替わる途中過渡状態における処理ガスAの流量F2と処理室90内の圧力P2とに対応するインピーダンス値I2に対し、整合がとれるように予め実験的に決定されている。第2の整合値MV3は、切り替わった後の安定状態における処理ガスAの流量F3と処理室90内の圧力P3とに対応するインピーダンス値I3に対し、整合がとれるように予め実験的に決定されている。また、整合情報において、第1の整合値MV4は、切り替わる前における処理ガスAの流量F41と処理ガスBの流量F4≒0と処理室90内の圧力P4とに対応するインピーダンス値I4に対し、整合がとれるように予め実験的に決定されている。第3の整合値I5は、切り替わる途中における処理ガスAの流量F51と処理ガスBの流量F5と処理室90内の圧力P5とに対応するインピーダンス値I5に対し、整合がとれるように予め実験的に決定されている。第2の整合値MV6は、切り替わった後の安定状態における処理ガスAの流量F61と処理ガスBの流量F6と処理室90内の圧力P6とに対応するインピーダンス値I6に対し、整合がとれるように予め実験的に決定されている。このような整合情報を参照してインピーダンス整合を行うので、電源制御部20における整合回路22は、ガス供給制御部50や排気制御部60と連動した形で高精度なインピーダンス整合を行うことができる。なお、第1の整合値MV1、第3の整合値MV2、及び第2の整合値MV3は、それぞれ、処理室内の圧力に対応せずに、処理ガスの流量に対応したものであっても良い。具体的には、第1の整合値MV1は、切り替わる前第1の処理条件における処理ガスAの流量F1≒0に対応する、インピーダンス値I1に整合するための整合値であってもよい。第3の整合値MV2は、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中過渡状態における処理ガスAの流量F2に対応する、インピーダンス値I2に整合するための整合値であっても良い。第2の整合値MV3は、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件に切り替わり終わった後の安定状態における処理ガスAの流量F3に対応する、インピーダンス値I3に整合するための整合値であっても良い。あるいは、第1の整合値MV1、第3の整合値MV2、及び第2の整合値MV3は、それぞれ、処理ガスの流量に対応せずに、処理室内の圧力に対応したものであっても良い。具体的には、第1の整合値MV1は、切り替わる前第1の処理条件における処理室90内の圧力P1に対応する、インピーダンス値I1に整合するための整合値であってよい。第3の整合値MV2は、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中過渡状態における処理室90内の圧力P2に対応する、インピーダンス値I2に整合するための整合値であっても良い。第2の整合値MV3は、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件に切り替わり終わった後の安定状態における処理室90内の圧力P3に対応する、インピーダンス値I3に整合するための整合値であってもよい。第2の実施形態次に、第2の実施の形態にかかるプラズマ処理装置について説明する。以下では、第1の実施の形態と異なる点を中心に説明する。第2の実施形態は、各処理条件切替え時にインピーダンスだけでなく、各処理ガスの流量、処理室90内の圧力、なども同時に制御する。このため、第2の実施の形態にかかるプラズマ処理装置1図1参照では、コントローラ80における記憶部82に、各処理ガスの流量情報、各処理ガスの流量制御情報、圧力情報、圧力制御情報、インピーダンス情報、インピーダンス整合情報、などが予め記憶されている。記憶部82に記憶されている具体的な各情報であるが、各処理ガスの流量情報および流量制御情報は、圧力情報および圧力制御情報を元にユーザが予め実験的に連続処理を実施し、処理条件が切り替わる際、各処理ガスが安定的に切り替わるような条件を記憶させたものである。具体的には、第1の流量制御値FCV1は、切り替わる前第1の処理条件における処理室90内の圧力P11に対応する流量F11に対し、流量制御が行えるように予め決定されている。第3の流量制御値FCV2は、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中過渡状態における処理室90内の圧力P12に対応する流量F12に対し、流量制御が行えるように予め決定されている。第2の流量制御値FCV3は、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件に切り替わり終わった後の安定状態における処理室90内の圧力P13に対応する流量F13に対し、流量制御が行えるように予め決定されている。圧力情報および圧力制御情報は、上記の各処理ガスの流量情報および流量制御情報を元にユーザが予め実験的に連続処理を実施し、処理条件切替えの際に処理室90内の圧力が安定的に切り替わるような条件を記憶させたものである。具体的には、第1の圧力制御値PCV1は、切り替わる前第1の処理条件における処理ガスAの流量F1≒0に対応する圧力P11に対し、圧力制御が行えるように予め決定されている。第3の圧力制御値PCV2は、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる途中過渡状態における処理ガスAの流量F2に対応する圧力P12に対し、圧力制御が行えるように予め決定されている。第2の圧力制御値PCV3は、処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件に切り替わり終わった後の安定状態における処理ガスAの流量F3に対応する圧力P13に対し、圧力制御が行えるように予め決定されている。インピーダンス情報、整合情報は、上記の各処理ガスの流量情報および流量制御情報、圧力情報および圧力制御情報を元にユーザが予め実験的に連続処理を実施し、処理条件切替えの際に電源制御部20のインピーダンスが安定的に切り替わるような条件を記憶させたものである。次に、整合情報、流量制御情報、及び圧力制御情報を用いた制御方法プラズマ処理方法について図1および図4を用いて説明する。まず、上記のような各処理条件へ切替わる際の流量制御情報及び圧力制御情報を取得しコントローラ80の記憶部82に記憶させる。例えば、ユーザは、各処理条件へ切替える際の流量制御情報及び圧力制御情報を予め実験的に求めておき、連続処理を行う前に、入力インターフェース図示せずを介してその求めた流量制御情報及び圧力制御情報をコントローラ80に入力する。これに応じて、コントローラ80は、入力された整合情報を記憶部82に記憶する。次に、上記のような各処理条件へ切替わる際の流量制御情報及び圧力制御情報に対応した整合情報を取得しコントローラ80の記憶部82に記憶させる。例えば、ユーザは、処理ガスの流量と処理室内の圧力とのそれぞれを流量制御情報及び圧力制御情報に応じた制御値に制御しながら、各処理条件へ切替える際の整合情報を予め実験的に求めておき、連続処理を行う前に、入力インターフェース図示せずを介してその求めた整合情報をコントローラ80に入力する。これに応じて、コントローラ80は、入力された整合情報を記憶部82に記憶する。このように、整合情報を取得するために、流量制御情報及び圧力制御情報を取得するための第1の予備的実験と、第1の予備的実験で取得された流量制御情報及び圧力制御情報も用いて整合情報を取得する第2の予備的実験との2段階の実験を行う。さらに、コントローラ80は、初期状態第1の処理条件から処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件への切り替わり開始のタイミングにおいて、記憶部82から、インピーダンスI11および整合情報第1の整合値MV11を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F11≒0および流量制御情報第1の流量制御値FCV11をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P11および圧力制御情報第1の圧力制御値PCV11を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第1の整合値MV11を元にインピーダンスをインピーダンス値I11に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第1の流量制御値FCV11を元に処理ガスAの流量を流量F11に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第1の圧力制御値PCV11を元に処理室90内の圧力を圧力P11に制御する。また、コントローラ80は、タイマ図示せずによる時間のカウントを開始させる。そして、コントローラ80は、タイマを参照して、上記の切り替わり開始のタイミングから、図4に示す流量F12や圧力P12に対応したタイミング過渡状態のタイミングまでの時間が経過したと判断すると、記憶部82から、インピーダンスI12および整合情報第3の整合値MV12を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F12および流量制御情報第3の流量制御値FCV12をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P12および圧力制御情報第3の圧力制御値PCV12を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第3の整合値MV12を元にインピーダンスをインピーダンス値I12に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第3の流量制御値FCV12を元に処理ガスAの流量を流量F12に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第3の圧力制御値PCV12を元に処理室90内の圧力を圧力P12に制御する。さらに、コントローラ80は、タイマを参照して、上記の切り替わり開始のタイミングから、図4に示す流量F13や圧力P13に対応したタイミング切り替わり完了のタイミングまでの時間切り替え時間T11が経過したと判断すると、記憶部82から、インピーダンスI13および整合情報第2の整合値MV13を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F13および流量制御情報第2の流量制御値FCV13をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P13および圧力制御情報第2の圧力制御値PCV13を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第2の整合値MV13を元にインピーダンスをインピーダンス値I13に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第2の流量制御値FCV13を元に処理ガスAの流量を流量F13に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第2の圧力制御値PCV13を元に処理室90内の圧力を圧力P13に制御する。その後、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件への切り替わり開始のタイミングにおいて、コントローラ80は、記憶部82から、インピーダンスI14および整合情報第1の整合値MV14を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F141、処理ガスBの流量F14≒0および各々の流量制御情報第1の流量制御値FCV14をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P11および圧力制御情報第1の圧力制御値PCV14を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第1の整合値MV14を元にインピーダンスをインピーダンス値I14に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第1の流量制御値FCV14を元に処理ガスA、処理ガスBの流量をそれぞれ流量F141、流量F14に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第1の圧力制御値PCV14を元に処理室90内の圧力を圧力P14に制御する。また、コントローラ80は、タイマ図示せずによる時間のカウントを開始させる。そして、コントローラ80は、タイマを参照して、上記の切り替わり開始のタイミングから、図4に示す流量F15や圧力P15に対応したタイミング過渡状態のタイミングまでの時間が経過したと判断すると、記憶部82から、インピーダンスI15および整合情報第3の整合値MV15を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F151、処理ガスBの流量F15および流量制御情報第3の流量制御値FCV15をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P15および圧力制御情報第3の圧力制御値PCV15を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第3の整合値MV15を元にインピーダンスをインピーダンス値I15に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第3の流量制御値FCV15を元に処理ガスA、処理ガスBの流量をそれぞれ流量F151、流量F15に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第3の圧力制御値PCV15を元に処理室90内の圧力を圧力P15に制御する。さらに、コントローラ80は、タイマを参照して、上記の切り替わり開始のタイミングから、図4に示す流量F16や圧力P16に対応したタイミング切り替わり完了のタイミングまでの時間切り替え時間T12が経過したと判断すると、記憶部82から、インピーダンスI16および整合情報第2の整合値MV16を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F161、処理ガスBの流量F16および流量制御情報第2の流量制御値FCV16をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P16および圧力制御情報第2の圧力制御値PCV16を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第2の整合値MV16を元にインピーダンスをインピーダンス値I16に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第2の流量制御値FCV16を元に処理ガスA、処理ガスBの流量をそれぞれ流量F161、流量F16に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第2の圧力制御値PCV16を元に処理室90内の圧力を圧力P16に制御する。第2の実施の形態では、コントローラ80が、記憶部82に記憶された流量制御情報を参照することにより、初期状態第1の処理条件から処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる際に、切り替わる前の処理条件におけるプロセス情報例えば、圧力P11に対応した流量F11、切り替わる過渡状態におけるプロセス情報例えば、圧力P12に対応した流量F12、及び切り替わった後の処理条件におけるプロセス情報例えば、圧力P13に対応した流量F13へ、順次に処理ガスの流量制御を行う。また、コントローラ80は、流量制御情報を参照することにより、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる際に、切り替わる前の処理条件におけるプロセス情報例えば、圧力P14に対応した処理ガスAの流量F141、処理ガスBの流量F14、切り替わる過渡状態におけるプロセス情報例えば、圧力P15に対応した処理ガスAの流量F151、処理ガスBの流量F15、及び切り替わった後の処理条件におけるプロセス情報例えば、圧力P16に対応した処理ガスAの流量F161と処理ガスBの流量F16へ、順次に処理ガスの流量制御を行う。これにより、第1の処理条件から第2の処理条件へ切り替わる過渡状態における各処理ガスの流量変動を安定化させることができる。また、コントローラ80は、記憶部82に記憶された圧力制御情報を参照することにより、初期状態第1の処理条件から処理ガスAを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる際に、切り替わる前の処理条件におけるプロセス情報例えば、処理ガスAの流量F11に対応した圧力P11、切り替わる過渡状態におけるプロセス情報例えば、処理ガスAの流量F12に対応した圧力P12、及び切り替わった後の処理条件におけるプロセス情報例えば、処理ガスAの流量F13に対応した圧力P13へ、順次に処理室90内の圧力制御を行う。また、コントローラ80は、圧力制御情報を参照することにより、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件へ切り替わる際に、切り替わる前の処理条件におけるプロセス情報例えば、処理ガスAの流量F141、処理ガスBの流量F14に対応した圧力P14、切り替わる過渡状態におけるプロセス情報例えば、処理ガスAの流量F151、処理ガスBの流量F15に対応した圧力P15、及び切り替わった後の処理条件におけるプロセス情報例えば、処理ガスAの流量F161、処理ガスBの流量F16に対応した圧力P16へ、順次に処理室90内の圧力制御を行う。これにより、第1の処理条件から第2の処理条件へ切り替わる過渡状態における処理室90内の圧力変動を安定化させることができる。以上のように、第2の実施の形態によれば、連続処理において、各処理条件を切り替える際に、切り替わる過渡状態における各処理ガスの流量変動と処理室90内の圧力変動とを安定化させることができるため、切り替わる過渡状態におけるインピーダンス変動も容易に安定化させることができる。この結果、連続処理において、複数の処理条件を切り替える際に、インピーダンス整合が取れるとともにプラズマが安定化するまでに要する時間切り替え時間をさらに短縮できる。なお、電源制御部20は、記憶部24が省略された構成であってもよい。この場合でも、コントローラ80が整合情報を記憶しており、連続処理において各処理条件を切り替える際にコントローラ80から電源制御部20へ各タイミング切り替わる前、切り替わる途中、切り替わった後に応じた整合値が順次に提供される。この結果、整合回路22は、順次に提供された整合情報各タイミングに応じた整合値を参照できる。第3の実施形態次に、第3の実施の形態にかかるプラズマ処理装置1について図5を用いて説明する。図5は、第3の実施の形態にかかるプラズマ処理装置1の概略構成を示す図である。以下では、第1の実施の形態と異なる点を中心に説明する。第3の実施の形態にかかるプラズマ処理装置1は、プラズマ発生部130及び電源制御部140を備える。プラズマ発生部130は、アンテナコイル103及び誘電体壁131を有する。電源制御部140は、高周波電源143、記憶部144、及び整合回路142を有する。高周波電源143は、高周波電力を発生させアンテナコイル103へ供給する。電源制御部140でインピーダンス整合がとれると、電磁波は処理容器2の上壁を兼ねた誘電体壁133を透過して処理室90内の空間91に導入される。処理室90内の空間91では、処理ガスの放電が起こりプラズマPLが生成され、処理ガスからラジカルとともにイオン例えば、F、CF3などが生成される。なお、第3の実施の形態にかかるプラズマ処理装置1では、下部電極10が、プラズマ発生部130により発生された処理室90内のプラズマPLにバイアス電圧を印加するバイアス印加部として機能する。すなわち、高周波電源23は、高周波電力を発生させて、電極10に高周波電力を供給する。この高周波電力は、処理室50内にプラズマPLが発生された際に処理ガスからラジカルとともに生成されたイオン例えば、F、CF3などを電極10側被処理基板WF側へ加速させるための電力である。高周波電力の周波数は、例えば、13.56MHzである。これにより、プラズマPLが正に帯電した状態で電極10が負に帯電し、両者の電位差すなわちバイアス電圧により、イオン例えば、F、CF3などが電極10側被処理基板WF側へ加速される。記憶部144は、整合回路142が整合すべき整合値を含む整合情報を記憶する。整合情報の詳細は、電源制御部20の記憶部24に記憶された整合情報と同様である。整合回路142は、例えば、可変コンデンサC1、C2及び可変コイルL1、L2を有している図2参照。整合回路142は、記憶部144に記憶された整合情報を参照することにより、整合回路142に対する高周波電源143側のインピーダンスと、整合回路142に対するブロッキングコンデンサ141側のインピーダンスとが均等になるように、可変コンデンサ及び可変コイルを用いてインピーダンスの調整インピーダンス整合を行なう。第3の実施の形態では、連続処理において、複数の処理条件が切り替わる際に、電源制御部20のインピーダンスを容易に安定化できることに加えて、電源制御部140のインピーダンスを容易に安定化できるので、電源制御部20及び電源制御部140の両方におけるインピーダンス整合に要する時間切り替え時間を短縮できる。なお、第1の実施の形態及び第2の実施の形態では、プラズマ処理装置1が平行平板型RIE装置である場合について例示的に説明し、第3の実施形態では、プラズマ処理装置1がICPInductiveCouplingPlasma型RIE装置である場合について例示的に説明しているが、電源制御の方式が同様であれば、これらの装置に限定されない。例えば、第3の実施形態では、プラズマ処理装置1がECRElectronCycrotronResonance型RIE装置であってもよく、プラズマ処理装置1内に複数のプラズマを生成する形式のRIE装置等であっても良い。なお、第1~3の実施形態において、処理条件切替え時の整合情報は、さらに温調ステージ11を介した被処理基板WFの温度と連動した形にしても良い。この場合、初期状態から処理ガスAを用いた処理条件に切替える際、第1の整合値は、初期状態における温調ステージ11の温度状態を含めたインピーダンスI1と整合がとれるように予め決定し、第3の整合値過渡状態の整合値は、切替え途中における温調ステージ11の温度状態を含めたインピーダンスI2と整合がとれるように予め決定し、第2の整合値は、切替え後における温調ステージ11の温度状態を含めたインピーダンスI3と整合がとれるように予め決定する。また、処理ガスAを用いた処理条件から、処理ガスBを用いた処理条件に切替える際、処理ガスA→処理ガスBへ切替える際の整合情報のうち、第1の整合値は切替え前における温調ステージ11の温度状態を含めたインピーダンスI4と整合がとれるように予め決定し、第3の整合値過渡状態の整合値は、切替え途中における温調ステージ11の温度状態を含めたインピーダンスI5と整合がとれるように予め決定し、第2の整合値は、切替え後における温調ステージ11の温度状態を含めたインピーダンスI6と整合がとれるように予め決定する。このような整合情報を参照してインピーダンス整合を行う場合、電源制御部20における整合回路22は、ガス供給制御部50や排気制御部60に加えて温度制御部70と連動した形で高精度なインピーダンス整合を行うことができる。あるいは、第1~3の実施形態において、処理条件切替え時の整合情報は、電源制御部20高周波電源23の電力や電源制御部140高周波電源143の電力と、さらに連動した形にしても良い。この場合、初期状態から処理ガスAを用いた処理条件に切替える際、第1の整合値は、初期状態における高周波電源23の電力または高周波電源143の電力を含めたインピーダンスI1と整合がとれるように予め決定し、第3の整合値過渡状態の整合値は、切替え途中における高周波電源23または高周波電源143の電力を含めたインピーダンスI2と整合がとれるように予め決定し、第2の整合値は、切替え後における高周波電源23または高周波電源143の電力を含めたインピーダンスI3と整合がとれるように予め決定する。また、処理ガスAを用いた処理条件から、処理ガスBを用いた処理条件に切替える際、処理ガスA→処理ガスBへ切替える際の整合情報のうち、第1の整合値は、切替え前における高周波電源23または高周波電源143の電力を含めたインピーダンスI4と整合がとれるように予め決定し、第3の整合値過渡状態の整合値は、切替え途中における高周波電源23または高周波電源143の電力を含めたインピーダンスI5と整合がとれるように予め決定し、第2の整合値は、切替え後における高周波電源23または高周波電源143の電力を含めたインピーダンスI6と整合がとれるように予め決定する。このような整合情報を参照してインピーダンス整合を行う場合、電源制御部20における整合回路22は、ガス供給制御部50や排気制御部60に加えて高周波電源23と連動した形で高精度なインピーダンス整合を行うことができる。また、電源制御部14における整合回路142は、ガス供給制御部50や排気制御部60に加えて高周波電源143と連動した形で高精度なインピーダンス整合を行うことができる。第4の実施形態次に、第4の実施形態にかかるプラズマ処理装置について説明する。以下では、第2の実施の形態と異なる点を中心に説明する。第2の実施形態では、処理ガスの流量、処理室90内の圧力、インピーダンスが変わり始めるタイミングを処理条件の切り替わり開始のタイミングとしている。一方、第4の実施形態では、処理室90内のプラズマPLの発光強度に着目し、処理室90内でプラズマPLの発光強度が変わり始めるタイミングを処理条件の切り替わり開始のタイミングとする。このため、コントローラ280の記憶部282に記憶された各処理ガスの流量情報、各処理ガスの流量制御情報、圧力情報、圧力制御情報、インピーダンス情報、インピーダンス整合情報の内容が第2の実施形態と異なる。図7に示すように、切り替わり時にインピーダンス整合をとるための整合情報は、プラズマPLの発光開始状態第1の発光強度のタイミングt1に対応したインピーダンス値I21に整合させるための第1の整合値MV21と、発光開始状態第1の発光強度から処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度へ切り替わる途中過渡状態のタイミングt2における発光強度に対応したインピーダンス値I22に整合させるための第3の整合値MV22と、処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度に切り替わり終わった後の安定状態のタイミングt3における発光強度に対応したインピーダンス値I23に整合させるための第2の整合値MV23とを含む。具体的には、第1の整合値MV21は、切り替わる前第1の発光強度のタイミングt1における処理室90内のプラズマPLの発光強度E21≒0と処理ガスAの流量F21と処理室90内の圧力P21とに対応するインピーダンス値I21に対し、整合がとれるように予め決定されている。第3の整合値MV22は、処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度へ切り替わる途中過渡状態のタイミングt2における処理室90内のプラズマPLの発光強度E22と処理ガスAの流量F22と処理室90内の圧力P22とに対応するインピーダンス値I22に対し、整合がとれるように予め決定されている。第2の整合値MV23は、処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度に切り替わり終わった後の安定状態のタイミングt3における処理室90内のプラズマPLの発光強度E23と処理ガスAの流量F23と処理室90内の圧力P23とに対応するインピーダンス値I23に対し、整合がとれるように予め決定されている。また、例えば、図7に示すように、切り替わり開始発光開始状態のタイミングから切り替わり完了処理ガスAを用いた発光安定状態のタイミングまでのインピーダンスの変化率は、インピーダンスが変わり始めるタイミングから切り替わり開始発光開始状態のタイミングまでの変化率より低い。例えば発光開始状態のタイミングt1のインピーダンスI21から発光安定状態のタイミングt3のインピーダンスI23までのインピーダンスの時間的変化率I23-I21/T21は、初期状態のタイミングt0のインピーダンスI20から発光開始状態のタイミングt1のインピーダンスI21までのインピーダンスの時間的変化率I21-I20/t1より低くなっている。さらに、図示しないが、次の切替わり時にインピーダンス整合をとるための整合情報は、処理ガスAを用いた発光安定状態に対応したインピーダンス値I24に整合させるための第1の整合値MV24と、処理ガスAを用いた発光安定状態から処理ガスBを用いた発光安定状態へ切り替わる途中過渡状態における発光強度に対応したインピーダンス値I25に整合させるための第3の整合値MV25と、処理ガスBを用いた発光安定状態に切り替わり終わった後の安定状態における発光強度に対応したインピーダンス値I26に整合させるための第2の整合値MV26とを含む。具体的には、第1の整合値MV24は、切り替わる前における処理室90内のプラズマPLの発光強度E24と処理ガスAの流量F241と処理ガスBの流量F24と処理室90内の圧力P24とに対応するインピーダンス値I24に対し、整合がとれるように予め決定されている。第3の整合値MV25は、処理ガスAを用いた発光安定状態から処理ガスBを用いた発光安定状態へ切り替わる途中過渡状態における処理室90内のプラズマPLの発光強度E25と処理ガスAの流量F251と処理ガスBの流量F25と処理室90内の圧力P25とに対応するインピーダンス値I25に対し、整合がとれるように予め決定されている。第2の整合値MV26は、処理ガスBを用いた発光安定状態へ切り替わり終わった後の安定状態における処理室90内のプラズマPLの発光強度E26と処理ガスAの流量F261と処理ガスBの流量F26と処理室90内の圧力P26とに対応するインピーダンス値I26に対し、整合がとれるように予め決定されている。図7に示すように、各処理ガスの流量情報および流量制御情報は、圧力情報および圧力制御情報を元にユーザが予め実験的に連続処理を実施し、処理条件が切り替わる際、各処理ガスが安定的に切り替わるような条件を記憶させたものである。具体的には、第1の流量制御値FCV21は、切り替わる前第1の発光強度のタイミングt1における処理室90内のプラズマPLの発光強度E21≒0と処理室90内の圧力P21とに対応する流量F21に対し、流量制御が行えるように予め決定されている。第3の流量制御値FCV22は、処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度へ切り替わる途中過渡状態のタイミングt2における処理室90内のプラズマPLの発光強度E22と処理室90内の圧力P22とに対応する流量F22に対し、流量制御が行えるように予め決定されている。第2の流量制御値FCV23は、処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度に切り替わり終わった後の安定状態のタイミングt3における処理室90内のプラズマPLの発光強度E23と処理室90内の圧力P23に対応する流量F23に対し、流量制御が行えるように予め決定されている。また、例えば、図7に示すように、切り替わり開始発光開始状態のタイミングから切り替わり完了処理ガスAを用いた発光安定状態のタイミングまでのガス流量の変化率は、ガス流量が変わり始めるタイミングから切り替わり開始発光開始状態のタイミングまでの変化率より低い。例えば、発光開始状態のタイミングt1のガス流量F21から発光安定状態のタイミングt3のガス流量F23までのガス流量の時間的変化率は、初期状態のタイミングt0のガス流量F20から発光開始状態のタイミングt1のガス流量F21までのガス流量の時間的変化率より低くなっている。圧力情報および圧力制御情報は、上記の各処理ガスの流量情報および流量制御情報を元にユーザが予め実験的に連続処理を実施し、処理条件切替えの際に処理室90内の圧力が安定的に切り替わるような条件を記憶させたものである。具体的には、第1の圧力制御値PCV21は、切り替わる前第1の発光強度のタイミングt1における処理室90内のプラズマPLの発光強度E21≒0と処理ガスAの流量F21とに対応する圧力P21に対し、圧力制御が行えるように予め決定されている。第3の圧力制御値PCV22は、処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度へ切り替わる途中過渡状態のタイミングt2における処理室90内のプラズマPLの発光強度E22と処理ガスAの流量F22とに対応する圧力P22に対し、圧力制御が行えるように予め決定されている。第2の圧力制御値PCV23は、処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度に切り替わり終わった後の安定状態のタイミングt3における処理室90内のプラズマPLの発光強度E23と処理ガスAの流量F23とに対応する圧力P23に対し、圧力制御が行えるように予め決定されている。また、例えば、図7に示すように、切り替わり開始発光開始状態のタイミングから切り替わり完了処理ガスAを用いた発光安定状態のタイミングまでの圧力の変化率は、圧力が変わり始めるタイミングから切り替わり開始発光開始状態のタイミングまでの変化率より低い。例えば、発光開始状態のタイミングt1の圧力P21から発光安定状態のタイミングt3の圧力P23までの圧力の時間的変化率は、初期状態のタイミングt0の圧力P20から発光開始状態のタイミングt1の圧力P21までの圧力の時間的変化率より低くなっている。このように、処理室90内のプラズマPLの発光強度に関連した整合情報、流量制御情報、及び圧力制御情報を予め実験的に取得するために、プラズマ処理装置1は、図6に示すように、検知部204及びCPU演算部281を備える。検知部204は、処理室90内で発生されたプラズマPLの発光強度を検知する。検知部204は、例えば、処理容器2の一部が開口されて処理室90内のプラズマPLの発光強度を検知可能な位置に設置された発光分光器203を有し、発光分光器203を用いてプラズマPLの発光強度を検知する。検知部204は、検知したプラズマPLの発光強度をCPU281へ供給する。CPU281は、検知部204により検知されるプラズマの発光強度が所定の目標値になるように、インピーダンス整合値、流量制御値、及び圧力制御値を演算する。例えば、CPU281は、発光開始状態第1の発光強度のタイミングt1において、検知部204により検知されるプラズマの発光強度が例えば発光開始状態のプラズマ発光強度第1のプラズマ発光強度E21になるように、第1の整合値MV21、第1の流量制御値FCV21、及び第1の圧力制御値PCV21をそれぞれ演算する。CPU281は、発光開始状態第1の発光強度から処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度へ切り替わる過渡状態のタイミングt2において、検知部204により検知されるプラズマの発光強度が例えば過渡状態のプラズマ発光強度E22になるように、第3の整合値MV22、第3の流量制御値FCV22、及び第3の圧力制御値PCV23をそれぞれ演算する。CPU281は、処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度へ切り替わった後の安定状態のタイミングt3において、検知部204により検知されるプラズマの発光強度が例えば処理ガスAを用いた発光安定状態のプラズマ発光強度E23になるように、第2の整合値MV23、第2の流量制御値FCV23、及び第2の圧力制御値PCV23をそれぞれ演算する。次に、処理室90内のプラズマPLの発光強度に関連した整合情報、流量制御情報、及び圧力制御情報を予め実験的に取得する際におけるプラズマ処理装置1の動作について図8を用いて説明する。図8は、整合情報、流量制御情報、及び圧力制御情報を予め実験的に取得する際におけるプラズマ処理装置1の動作を示すフローチャートである。プラズマPLの発光強度に関連した整合情報、流量制御情報、及び圧力制御情報を予め実験的に取得する方法には、例えば、2通りの方法がある。第1の方法は、目標とするプラズマPLの発光強度が得られるように複数のタイミングに対する補正値インピーダンス整合値、流量制御値、圧力制御値を同時並行的に検証する方法である。第2の方法は、目標とするプラズマPLの発光強度が得られるように1つのタイミングで検証し、1つのタイミングでの検証が完了してから次のタイミングの検証を行うようにして、複数のタイミングに対する補正値を順次に検証する方法である。いずれの方法により整合情報、流量制御情報、及び圧力制御情報を予め実験的に取得してもよい。まず、第1の方法について説明する。第1の方法では、ステップS1~ステップS13の処理を複数の所定のタイミングについて同時並行的に行う。なお、第1の方法を行う場合、図8に示すステップS14及びステップS15は不要で、ステップS11でYesと判断されたら処理を終了する。以下、第1の方法について具体的に説明する。ステップS1では、CPU281が、所定の各タイミングにおける流量制御値、及び圧力制御値をそれぞれ流量制御情報及び圧力制御情報に設定し記憶部282に記憶させる。なお、CPU281に代わって、流量制御器53a~53cが、所定の各タイミングにおける流量制御値を流量制御情報に設定し記憶部282に記憶させてもよい。また、CPU281に代わって、圧力コントローラ62が、所定の各タイミングにおける圧力制御値を圧力制御情報に設定し記憶部282に記憶させてもよい。例えば、CPU281は、1回目の処理であれば、所定の各タイミングにおけるデフォルトの流量制御値、及びデフォルトの圧力制御値をそれぞれ流量制御情報及び圧力制御情報に設定する。例えば、CPU281は、切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’におけるデフォルトの流量制御値FCV210、FCV220、FCV230をそれぞれ流量制御情報に設定する。また、例えば、CPU281は、切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’におけるデフォルトの圧力制御値PCV210、PCV220、PCV230をそれぞれ流量制御情報に設定する。なお、ここでは、所定の各タイミングとして、切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’を例示したが、実際には、タイミングt1’とタイミングt2’との間のタイミングや、タイミングt2’とタイミングt3’との間のタイミングなども含む多数のタイミングについて実験が行われる。また、タイミングt1’は、図7に示すタイミングt1となるべき候補のタイミングである。タイミングt2’は、図7に示すタイミングt2となるべき候補のタイミングである。タイミングt3’は、図7に示すタイミングt3となるべき候補のタイミングである。以下の説明においても同様である。CPU281は、2回目以降の処理であれば、ステップS13で記憶部282に記憶された、所定の各タイミングにおける流量制御値、及び圧力制御値をそれぞれ流量制御情報及び圧力制御情報に設定する。例えば、CPU281は、記憶部282に記憶されている切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’における演算された流量制御値FCV21、FCV22、FCV23をそれぞれ流量制御情報に設定する。また、例えば、CPU281は、切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’における演算された圧力制御値PCV21、PCV22、PCV23をそれぞれ流量制御情報に設定する。CPU281は、設定された流量制御値、及び圧力制御値をそれぞれ流量制御器53a~53c及び圧力コントローラ62へ供給する。流量制御器53a~53cは、設定された流量制御値に従って、処理ガスの流量制御を行なう。例えば、流量制御器53a~53cは、切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’において、それぞれ、処理室90へ供給される処理ガスAの流量が流量F21、F22、F23になるように流量制御値FCV21、FCV22、FCV23を用いた流量制御を行う図7の1参照。圧力コントローラ62は、設定された圧力制御値に従って、処理室90の圧力制御を行う。例えば、圧力コントローラ62は、切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’において、それぞれ、処理室90内の圧力が圧力P21、P22、P23になるように圧力制御値PCV21、PCV22、PCV23を用いた圧力制御を行う図7の2参照。ステップS2では、CPU281が、所定の各タイミングにおけるにおけるインピーダンス整合値を整合情報に設定して記憶部282に記憶させる。なお、CPU281に代わって、整合回路22が、所定の各タイミングにおけるにおけるインピーダンス整合値を整合情報に設定して記憶部282に記憶させてもよい。例えば、CPU281は、1回目の処理であれば、デフォルトのインピーダンス整合値を整合情報に設定する。例えば、CPU281は、切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’におけるデフォルトのインピーダンス整合値MV210、MV220、MV230をそれぞれ整合情報に設定する。CPU281は、2回目以降の処理であれば、記憶部282に記憶されているステップS12で演算された、所定の各タイミングにおけるインピーダンス整合値を整合情報に設定する。CPU281は、設定されたインピーダンス整合値を整合回路22へ供給する。整合回路22は、設定されたインピーダンス整合値に従って、インピーダンス整合を行う。ステップS3では、検知部204が、所定の各タイミング例えば、切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’における処理室90内で発生されたプラズマPLの発光強度を検知する。検知部204は、検知結果、すなわち所定の各タイミングで検知されたプラズマPLの発光強度を示す信号をCPU281へ供給する。ステップS10では、CPU281が、検知部204により所定の各タイミングで検知されるプラズマの発光強度が所定の各タイミングでの目標値になるようにするための演算処理を行う。具体的には、次のステップS11~ステップS14の処理を行う。ステップS11では、CPU281が、所定の各タイミング例えば、切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’について、検知部204により検知されたプラズマPLの発光強度と、発光強度の目標値とを比較し、両者が一致している両者の差が所定範囲内に収まっているか否かを判断する。例えば、CPU281は、切り替わり開始のタイミングt1’において検知部204により検知されたプラズマPLの発光強度と、切り替わり開始のタイミングt1’での発光強度の目標値E21とを比較し、両者が一致している両者の差が所定範囲内に収まっているか否かを判断する。例えば、CPU281は、過渡状態のタイミングt2’において検知部204により検知されたプラズマPLの発光強度と、過渡状態のタイミングt2’での発光強度の目標値E22とを比較し、両者が一致している両者の差が所定範囲内に収まっているか否かを判断する。例えば、CPU281は、切り替わり完了のタイミングt3’において検知部204により検知されたプラズマPLの発光強度と、切り替わり完了のタイミングt3’での発光強度の目標値E23とを比較し、両者が一致している両者の差が所定範囲内に収まっているか否かを判断する。CPU281は、どのタイミングにおいても検知されたプラズマPLの発光強度が目標値に一致している場合、処理を終了し、いずれかのタイミングにおいて検知されたプラズマPLの発光強度が目標値に一致していない場合、処理をステップS12へ進める。ステップS12では、CPU281が、所定の各タイミングについて設定すべきインピーダンス整合値を補正変更する。なお、このとき、所定の各タイミング例えば、切り替わり開始のタイミングt1’、過渡状態のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’自体も合わせて変更してもよい。例えば、CPU281は、切り替わり開始のタイミングt1’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より大きくなっている場合、切り替わり開始のタイミングt1’のプラズマPLの発光強度が小さくなるように、切り替わり開始のタイミングt1’でのインピーダンス整合値補正値を演算する。あるいは、例えば、CPU281は、切り替わり開始のタイミングt1’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より小さくなっている場合、切り替わり開始のタイミングt1’のプラズマPLの発光強度が大きくなるように、切り替わり開始のタイミングt1’でのインピーダンス整合値補正値を演算する。なお、このとき、切り替わり開始のタイミングt1’自体も変更しても良い。例えば、CPU281は、過渡状態のタイミングt2’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より大きくなっている場合、過渡状態のタイミングt2’のプラズマPLの発光強度が小さくなるように、過渡状態のタイミングt2’でのインピーダンス整合値補正値を演算する。あるいは、例えば、CPU281は、過渡状態のタイミングt2’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より小さくなっている場合、過渡状態のタイミングt2’のプラズマPLの発光強度が大きくなるように、過渡状態のタイミングt2’でのインピーダンス整合値補正値を演算する。なお、このとき、切り替わり開始のタイミングt2’自体も変更しても良い。例えば、CPU281は、切り替わり完了のタイミングt3’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より大きくなっている場合、切り替わり完了のタイミングt3’のプラズマPLの発光強度が小さくなるように、切り替わり完了のタイミングt3’でのインピーダンス整合値補正値を演算する。あるいは、例えば、CPU281は、切り替わり完了のタイミングt3’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より小さくなっている場合、切り替わり完了のタイミングt3’のプラズマPLの発光強度が大きくなるように、切り替わり完了のタイミングt3’でのインピーダンス整合値補正値を演算する。なお、このとき、切り替わり開始のタイミングt3’自体も変更しても良い。ステップS13では、CPU281が、設定すべき流量制御値、及び圧力制御値を補正変更する。例えば、CPU281は、切り替わり開始のタイミングt1’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より大きくなっている場合、切り替わり開始のタイミングt1’のプラズマPLの発光強度が小さくなるように、切り替わり開始のタイミングt1’での流量制御値補正値及び圧力制御値補正値を演算する。あるいは、例えば、CPU281は、切り替わり開始のタイミングt1’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より小さくなっている場合、切り替わり開始のタイミングt1’のプラズマPLの発光強度が大きくなるように、切り替わり開始のタイミングt1’での流量制御値補正値及び圧力制御値補正値を演算する。例えば、CPU281は、過渡状態のタイミングt2’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より大きくなっている場合、過渡状態のタイミングt2’のプラズマPLの発光強度が小さくなるように、過渡状態のタイミングt2’での流量制御値補正値及び圧力制御値補正値を演算する。あるいは、例えば、CPU281は、過渡状態のタイミングt2’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より小さくなっている場合、過渡状態のタイミングt2’のプラズマPLの発光強度が大きくなるように、過渡状態のタイミングt2’での流量制御値補正値及び圧力制御値補正値を演算する。例えば、CPU281は、切り替わり完了のタイミングt3’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より大きくなっている場合、切り替わり完了のタイミングt3’のプラズマPLの発光強度が小さくなるように、切り替わり完了のタイミングt3’での流量制御値補正値及び圧力制御値補正値を演算する。あるいは、例えば、CPU281は、切り替わり完了のタイミングt3’で検知されたプラズマPLの発光強度が目標値より小さくなっている場合、切り替わり完了のタイミングt3’のプラズマPLの発光強度が大きくなるように、切り替わり完了のタイミングt3’での流量制御値補正値及び圧力制御値補正値を演算する。次に、第2の方法について説明する。第2の方法では、検討すべき複数の所定のタイミングのうち検討対象の1つの所定のタイミングを選択し、ステップS1~ステップS13の処理をその選択された1つの所定のタイミングについて行う。そして、1つの所定のタイミングの検討が完了したらすなわちステップS11でYesと判断されたら、ステップS14及びステップS15の処理を行い、検討対象として次の所定のタイミングを選択して、次の所定のタイミングについてステップS1~ステップS13の処理を行う。このようにして、ステップS14でYesと判断されるまで、複数の所定のタイミングを順次に選択して検討していく。なお、ステップS1~ステップS13の処理内容は1つの所定のタイミングについて行うことを除けば上記と同様であるが、以下に説明するように、図8に示すステップS14及びステップS15もさらに行う点で第1の方法と異なる。ステップS14では、CPU281が、検討すべき複数の所定のタイミングの全てにおいて、プラズマPLの発光強度が十分に安定しているか否か全ての補正が終了したか否かを判断する。具体的には、CPU281が、ステップS1~ステップS3と同様の処理を所定期間において連続的に繰り返し行い、プラズマPLの発光強度の波形をプロットし、所定期間におけるプラズマPLの発光強度が十分に安定しているか否かを判断する。CPU281は、検討すべき複数の所定のタイミングの全てにおいて、プラズマPLの発光強度が十分に安定している場合、処理を終了し、プラズマPLの発光強度が十分に安定していない場合、処理をステップS1へ戻す。ステップS15では、CPU281が、検討すべき所定の次の各タイミング例えば、切り替わり開始のタイミングt1’、切り替わり途中のタイミングt2’、切り替わり完了のタイミングt3’までの時間をカウントする。このように、検知部204により所定の各タイミングで検知されるプラズマの発光強度が目標値に一致し、検知されるプラズマの発光強度の時間的な変化波形が十分に安定するオーバーシュートしなくなるまで、ステップS1~ステップS15のループを繰り返し行う。上記の第1の方法又は第2の方法により、例えば、図7に示すように、切り替わり開始発光開始状態のタイミングから切り替わり完了処理ガスAを用いた発光安定状態のタイミングまでのインピーダンスの変化率は、インピーダンスが変わり始めるタイミングから切り替わり開始発光開始状態のタイミングまでの変化率より低くなる。例えば、発光開始状態のタイミングt1のインピーダンスI21から発光安定状態のタイミングt3のインピーダンスI23までのインピーダンスの時間的変化率は、初期状態のタイミングt0のインピーダンスI20から発光開始状態のタイミングt1のインピーダンスI21までのインピーダンスの時間的変化率より低くなる。また、例えば、図7に示すように、切り替わり開始発光開始状態のタイミングから切り替わり完了処理ガスAを用いた発光安定状態のタイミングまでのガス流量の変化率は、ガス流量が変わり始めるタイミングから切り替わり開始発光開始状態のタイミングまでの変化率より低くなる。例えば、発光開始状態のタイミングt1のガス流量F21から発光安定状態のタイミングt3のガス流量F23までのガス流量の時間的変化率は、初期状態のタイミングt0のガス流量F20から発光開始状態のタイミングt1のガス流量F21までのガス流量の時間的変化率より低くなる。また、例えば、図7に示すように、切り替わり開始発光開始状態のタイミングから切り替わり完了処理ガスAを用いた発光安定状態のタイミングまでの圧力の変化率は、圧力が変わり始めるタイミングから切り替わり開始発光開始状態のタイミングまでの変化率より低くなる。例えば、発光開始状態のタイミングt1の圧力P21から発光安定状態のタイミングt3の圧力P23までの圧力の時間的変化率は、初期状態のタイミングt0の圧力P20から発光開始状態のタイミングt1の圧力P21までの圧力の時間的変化率より低くなる。次に、整合情報、流量制御情報、及び圧力制御情報を用いた制御方法プラズマ処理方法について図6および図7を用いて説明する。まず、上記したように図8に示す処理を行い、整合情報、流量制御情報、及び圧力制御情報を取得しコントローラ280の記憶部282に記憶させる。コントローラ280は、発光開始状態第1の発光強度から処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度への切り替わり開始のタイミングt1において、記憶部282から、インピーダンスI21および整合情報第1の整合値MV21を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F21および流量制御情報第1の流量制御値FCV21をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P21および圧力制御情報第1の圧力制御値PCV21を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第1の整合値MV21を元にインピーダンスをインピーダンス値I21に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第1の流量制御値FCV21を元に処理ガスAの流量を流量F21に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第1の圧力制御値PCV21を元に処理室90内の圧力を圧力P21に制御する。また、コントローラ280は、タイマ図示せずによる時間のカウントを開始させる。そして、コントローラ280は、タイマを参照して、上記の切り替わり開始のタイミングt1から、図7に示す流量F22や圧力P22に対応したタイミング過渡状態のタイミングt2までの時間が経過したと判断すると、記憶部282から、インピーダンスI22および整合情報第3の整合値MV22を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F22および流量制御情報第3の流量制御値FCV22をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P22および圧力制御情報第3の圧力制御値PCV22を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第3の整合値MV22を元にインピーダンスをインピーダンス値I22に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第3の流量制御値FCV22を元に処理ガスAの流量を流量F22に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第3の圧力制御値PCV22を元に処理室90内の圧力を圧力P22に制御する。さらに、コントローラ280は、タイマを参照して、上記の切り替わり開始のタイミングt1から、図7に示す流量F23や圧力P23に対応したタイミング切り替わり完了のタイミングt3までの時間切り替え時間T21が経過したと判断すると、記憶部282から、インピーダンスI23および整合情報第2の整合値MV23を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F23および流量制御情報第2の流量制御値FCV23をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P23および圧力制御情報第2の圧力制御値PCV23を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第2の整合値MV23を元にインピーダンスをインピーダンス値I23に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第2の流量制御値FCV23を元に処理ガスAの流量を流量F23に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第2の圧力制御値PCV23を元に処理室90内の圧力を圧力P23に制御する。その後、図示しないが、処理ガスAを用いた処理条件第1の処理条件から処理ガスBを用いた処理条件第2の処理条件への切り替わり開始のタイミングにおいて、コントローラ80は、記憶部282から、インピーダンスI24および整合情報第1の整合値MV24を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F241、処理ガスBの流量F24および各々の流量制御情報第1の流量制御値FCV24をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P24および圧力制御情報第1の圧力制御値PCV24を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第1の整合値MV24を元にインピーダンスをインピーダンス値I24に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第1の流量制御値FCV24を元に処理ガスA、処理ガスBの流量をそれぞれ流量F241、流量F24に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第1の圧力制御値PCV24を元に処理室90内の圧力を圧力P24に制御する。また、コントローラ280は、タイマ図示せずによる時間のカウントを開始させる。そして、図示しないが、コントローラ280は、タイマを参照して、上記の切り替わり開始のタイミングから、流量F25や圧力P25に対応したタイミング過渡状態のタイミングまでの時間が経過したと判断すると、記憶部282から、インピーダンスI25および整合情報第3の整合値MV25を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F251、処理ガスBの流量F25および流量制御情報第3の流量制御値FCV25をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P25および圧力制御情報第3の圧力制御値PCV25を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第3の整合値MV25を元にインピーダンスをインピーダンス値I25に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第3の流量制御値FCV25を元に処理ガスA、処理ガスBの流量をそれぞれ流量F251、流量F25に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第3の圧力制御値PCV25を元に処理室90内の圧力を圧力P25に制御する。さらに、図示しないが、コントローラ280は、タイマを参照して、上記の切り替わり開始のタイミングから、流量F26や圧力P26に対応したタイミング切り替わり完了のタイミングまでの時間切り替え時間T22が経過したと判断すると、記憶部282から、インピーダンスI26および整合情報第2の整合値MV26を電源制御部20に提供し、処理ガスAの流量F261、処理ガスBの流量F26および流量制御情報第2の流量制御値FCV26をガス供給制御部50に提供し、処理室90内の圧力P26および圧力制御情報第2の圧力制御値PCV26を排気制御部60に提供する。これにより、整合回路22は整合情報第2の整合値MV26を元にインピーダンスをインピーダンス値I26に整合し、ガス供給制御部50は流量制御情報第2の流量制御値FCV26を元に処理ガスA、処理ガスBの流量をそれぞれ流量F261、流量F26に制御し、排気制御部60は圧力制御情報第2の圧力制御値PCV26を元に処理室90内の圧力を圧力P26に制御する。ここで、仮に、図12に示すように、連続処理において、複数の処理条件が切り替わる際に、切り替わる前のタイミングt401の発光強度E401に対応したインピーダンス値I401に整合させるための整合値MV401と、切り替わった後として予定されているタイミングt402の発光強度E402に対応したインピーダンス値I402に整合させるための整合値MV402とを用いてインピーダンス整合を行う場合について考える。この場合、切り替わった後として予定されているタイミングt402ではプラズマ発光強度が所定の値より強く、まだ不安定な状態になっており、切り替わる途中のタイミングt402における処理室90内におけるプラズマPLの発光強度E402’が記憶部282に記憶された整合情報に対応する発光強度E402を超えてオーバーシュートしている可能性が高い。これにより、プラズマPLの発光強度E402に安定させるために時間がかかるので、インピーダンス整合が取れるとともにプラズマが安定化するまでに要する時間、すなわち切り替え時間T401が長くなる傾向にある。それに対して、第4の実施形態では、記憶部282が、発光開始状態第1の発光強度のタイミングt1に対応したインピーダンス値I21に整合させるための第1の整合値MV21と、発光開始状態第1の発光強度から処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度へ切り替わる途中過渡状態のタイミングt2における発光強度に対応したインピーダンス値I22に整合させるための第3の整合値MV22と、処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度に切り替わり終わった後の安定状態のタイミングt3における発光強度に対応したインピーダンス値I23に整合させるための第2の整合値MV23とを含む整合情報を記憶している。この結果、発光開始状態第1の発光強度から処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度へ切り替わる際に、第1の整合値MV21、第3の整合値MV22、及び第2の整合値MV23へ、順次にインピーダンス整合を行うことができる。すなわち、整合回路22が、整合情報を参照することにより、発光開始状態第1の発光強度から処理ガスAを用いた発光安定状態第2の発光強度への切り替わり開始のタイミングt1において、第1の整合値MV21へ、切り替わる途中過渡状態のタイミングt2において、第3の整合値MV22へ、切り替わり完了のタイミングt3において、第2の整合値MV23へ、順次にインピーダンス整合を行う。これにより、処理条件の切り替わる途中におけるプラズマPLの発光強度のオーバーシュートを抑制できるので、インピーダンス整合が取れるとともにプラズマが安定化するまでに要する切り替え時間T21を短縮できる。また、図12に示す場合、切り替わる途中における処理室90内におけるプラズマPLの発光強度E402’が記憶部282に記憶された整合情報に対応する発光強度E402を超えてオーバーシュートしている可能性が高いので、加工対象の被処理基板WFの表面にチャージアップが発生し易い状態にある。被処理基板WFの表面にチャージアップが発生すると、被処理基板WFの表面に形成された素子例えば、トランジスタが電気的に破壊される可能性がある。それに対して、第4の実施形態では、処理条件の切り替わる途中におけるプラズマPLの発光強度のオーバーシュートを抑制できるので、加工対象の被処理基板WFの表面にチャージアップが発生しにくい。これにより、被処理基板WFの表面に形成された素子例えば、トランジスタの電気的な破壊を抑制できる。また、第4の実施形態では、切り替わり開始発光開始状態のタイミングから切り替わり完了処理ガスAを用いた発光安定状態のタイミングまでのインピーダンスの変化率は、インピーダンスが変わり始めるタイミングから切り替わり開始発光開始状態のタイミングまでの変化率より低い。例えば、図7に示すように、発光開始状態のタイミングt1のインピーダンスI21から発光安定状態のタイミングt3のインピーダンスI23までのインピーダンスの時間的変化率は、初期状態のタイミングt0のインピーダンスI20から発光開始状態のタイミングt1のインピーダンスI21までのインピーダンスの時間的変化率より低くなっている。これにより、処理条件の切り替わる途中におけるプラズマPLの発光強度のオーバーシュートをさらに効果的に抑制できる。なお、流量制御情報、及び圧力制御情報を用いずに制御を行ってもよい。すなわち、ガス流量の制御や圧力の制御を第1の実施形態と同様に行ってもよい。この場合、図8に示す整合情報を実験的に取得する処理において、ステップS13の処理が省略されるとともにステップS12の後にステップS2が行われるように変更されることになる図8のS12に示す破線矢印を参照。また、この場合、整合情報は、コントローラ280の記憶部282に記憶される代わりに電源制御部220の記憶部224に記憶されていても良い。あるいは、整合情報は、コントローラ280の記憶部282に記憶されることに加えて、電源制御部220の記憶部224に記憶されていても良い。本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。"