"フューザー部材であって、基板と、前記基板に配置されており、1つ以上のフッ素系材料に分散している複数のカーボンナノチューブを含む剥離層とを備え、前記複数のカーボンナノチューブが、この複数のカーボンナノチューブの外側表面に共有結合したヒドロキシフェニルマレイミド基と、前記ヒドロキシフェニルマレイミドに共有結合したフッ素系エラストマーシェル層とを含む、フューザー部材。コア-シェル粒子を製造する方法であって、カーボンナノチューブおよびヒドロキシフェニルマレイミドHPMを溶媒中で混合して反応混合物を作成することと;前記反応混合物を分離して、前記カーボンナノチューブの外側表面にヒドロキシフェニルマレイミドが共有結合したカーボンナノチューブを得ることと;前記外側表面にヒドロキシフェニルマレイミドが共有結合したカーボンナノチューブと、1フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンのうち2つのコポリマー、2フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレンおよびテトラフルオロエチレンのターポリマー、3フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、キュアサイトモノマーのテトラポリマーといったコポリマーからなる群から選択されるフッ素系エラストマーとを溶媒中で反応させ、エラストマーシェルを有するカーボンナノチューブを得ることと;前記カーボンナノチューブを集めることとを含む、方法。基板と、前記基板に配置されており、1つ以上のフッ素系材料に分散した請求項19に記載のカーボンナノフィブリルを含む剥離層とを備える、フューザー部材。種々の実施形態によれば、基板と剥離層とを備えるフューザー部材が記載されている。剥離層は、基板に配置されており、1つ以上のフッ素系材料に分散した複数のカーボンナノチューブを含んでいる。上述のカーボンナノチューブは、上述の複数のカーボンナノチューブの外側表面に共有結合したヒドロキシフェニルマレイミド基と、ヒドロキシフェニルマレイミドに共有結合したフッ素系エラストマーシェル層とを有している。別の実施形態によれば、コア-シェル粒子を製造する方法が記載されている。この方法は、カーボンナノチューブとヒドロキシフェニルマレイミドHPMとを溶媒中で混合し、反応混合物を作成することを含む。反応混合物を分離して、カーボンナノチューブの外側表面にヒドロキシフェニルマレイミドが共有結合したカーボンナノチューブを得る。外側表面にヒドロキシフェニルマレイミドが共有結合したカーボンナノチューブと、1フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンのうち2つのコポリマー、2フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレンおよびテトラフルオロエチレンのターポリマー、3フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、キュアサイトモノマーのテトラポリマーといったコポリマーからなる群から選択されるポリマーとを溶媒中で反応させ、エラストマーシェルを有するカーボンナノチューブを得る。このカーボンナノチューブを集める。別の実施形態によれば、カーボンナノフィブリルが記載されている。カーボンナノフィブリルは、カーボンナノチューブの外側表面に結合したヒドロキシフェニルマレイミドと、ヒドロキシフェニルマレイミドに結合したフッ素系エラストマーシェル層とを含む。なお、図面の詳細は単純化して示されているものもあり、厳密な構造の正確さ、詳細、縮尺を保つことよりも、実施形態の理解を容易にするように描かれている。図1を参照すると、典型的な静電複写装置では、複写する元の光像を、感光部材に静電潜像の形態で記録し、次いで、トナーと一般的に呼ばれる検電熱可塑性樹脂粒子を適用することによって、潜像を可視化する。特定的には、電源11から電圧が供給されている帯電器12によって、感光体10の表面が帯電する。次いで、感光体10を、光学系または画像入力装置13例えば、レーザ、発光ダイオードからの光に画像どおりに露光し、表面に静電潜像が形成される。一般的に、静電潜像は、現像ステーション14からの現像剤混合物と接触することによって現像される。磁気ブラシ、パウダークラウドまたは他の既知の現像プロセスによって現像を行うことができる。乾燥した現像剤混合物は、通常は、トナー粒子が摩擦電気によって付着したキャリア顆粒を含む。トナー粒子は、キャリア顆粒から潜像へと引きつけられ、潜像上にトナー粉末の画像が形成される。または、トナー粒子が分散した液体キャリアを含む液体現像材料を用いてもよい。液体現像材料は、静電潜像と接触するように移動し、トナー粒子が画像の形状に堆積する。トナー粒子が光導電性表面に画像の形に堆積した後、加圧転写であっても静電転写であってもよい転写手段15によって複写シート16へと転写される。または、現像した画像を中間転写体に転写するか、または転写体にバイアスし、次いで、複写シートに転写してもよい。複写基板の例としては、紙、ポリエステル、ポリカーボネートなどの透明材料、布、木材、または最終的な画像がのせられる任意の他の望ましい材料が挙げられる。現像した画像の転写が終了したら、複写シート16は、図1ではフューザーロール20および加圧ロール21として示されている融合ステーション19に進みしかし、加圧ロールと接触した状態のフューザーベルト、加圧ベルトと接触した状態のフューザーロールなどのような任意の他の融合要素も、本装置とともに用いるのに適している、複写シート16が融合部材および加圧部材を通ることによって現像した画像が複写シート16に融合し、永久的な画像が生成する。または、トランスフィックスを用いることによって転写および融合を行ってもよい。転写に続き、感光体10は、クリーニングステーション17に進み、ここで、ブレード図1に示されているような、ブラシ、または他のクリーニング装置を用いて、感光体10に残った任意のトナーが取り除かれる。図2は、フューザー部材の一実施形態の拡大模式図であり、種々の可能な層を示している。図2に示されているように、基板25の上には、中間層22がある。中間層22は、例えば、シリコーンゴムであってもよい。中間層22の上には、剥離層24が配置されており、これについては以下にさらに詳細に記載する。図3で示されているのは剥離層である。剥離層は、カーボンナノチューブCNT33がフッ素系エラストマーシェル層31でコーティングされたものが、フッ素系材料32に分散したコンポジット材料を含む。フッ素系エラストマーシェル層31は、カーボンナノチューブを包み込んでおり、すなわち、フッ素系エラストマーシェル層は、カーボンナノチューブの外側表面に接続している。このような剥離層は、トナーを良好に剥離させるために、表面エネルギーが低く、かつ脆性が低く、へこんだり欠けたりしにくい層を与える。CNT33は、硬質コアを与え、フッ素系エラストマーは、軟質シェル層31を与える。フッ素系エラストマーでコーティングされたCNTは、フッ素系材料32を強化する。剥離層は、表面自由エネルギーが約25mN/m以下であってもよく、または約10mN/m~約25mN/m、または約13mN/m~約23mN/m、または約17mN/m~約20mN/mであってもよく、ここで、表面自由エネルギーは、例えば、FibroDAT1100装置を用いる接触角測定の結果から、ルイス酸-塩基法を用いて算出することができる。図3に示される形状を有する剥離層は、USSN12/639,302で記載されており、本明細書に参考として組み込まれる。硬質コアとしてのカーボンナノチューブCNT、軟質シェルとしてのエラストマーもUSSN12/639,302に記載されており、本明細書に参考として組み込まれるが、コア-シェル構造を正確に制御することには、依然として課題が残る。本明細書には、十分に規定されたフッ素系エラストマーでコーティングされたCNTナノフィブリルを製造する実施形態が記載されている。特定的には、CNT外側表面は、フッ素系エラストマーポリマーに化学的に結合している。ヒドロキシフェニルマレイミドHPMは、フッ素系エラストマーシェルをCNTに接続する固定基として使用される。HPMは、Diels-Alder反応のジエノフィルを有しており、CNTの外側表面にHPMを接続することができる。HPMは、求核置換によってフッ素系エラストマーポリマーと反応するフェノール基を有している。このプロセスによって、CNTが約1重量~約30重量のフッ素系エラストマーに包まれたもの、CNTが約3重量~約15重量のフッ素系エラストマーに包まれたもの、またはCNTが約5重量~約10重量のフッ素系エラストマーに包まれたもののような十分に規定されたコア-シェルナノフィブリル構造が得られるTGAによって分析。次いで、フッ素系プラスチック粒子と、ナノフィブリルとをMIBK中で混合することによって、合成されたコア-シェルナノフィブリルをフッ素系プラスチック樹脂例えば、PEVE、PFA、FEPとブレンドし、この混合物を基板にスプレーコーティングする例えば、シリコーン成形されたフューザーロール。コア-シェルナノフィブリルを他の半結晶性ポリマーに組み込み、強化されたコンポジットを得てもよい。強化されたコンポジット材料は、多くの用途が見つかるであろう。HPMは、無水マレイン酸とアミノフェノールとを反応させることによって合成される式1。HPMをCNTに固定するためのプロセスを式2に示している。HPMに固定したCNTにフッ素系エラストマーを接続するプロセスを式3に示している。本明細書に記載した実施形態の利点としては、十分に規定されたコア-シェル構造が挙げられる。十分に規定されたコア-シェル構造によって、出発原料が安価であっても、優れた製造を行うことができる。コア-シェルフィブリルを種々のポリマー系に用いてもよい。本明細書に記載した配合物で用いるのに適したフッ素系材料としては、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、ペルフルオロアルキルビニルエーテル、およびこれらの混合物からなる群から選択されるモノマー繰り返し単位を含むフッ素系ポリマーが挙げられる。フッ素系材料の例としては、ポリテトラフルオロエチレンPTFE;ペルフルオロアルコキシポリマー樹脂PFA;テトラフルオロエチレンTFEとヘキサフルオロプロピレンHFPとのコポリマー;ヘキサフルオロプロピレンHFPとフッ化ビニリデンVDFまたはVF2とのコポリマー;テトラフルオロエチレンTFEと、フッ化ビニリデンVDFと、ヘキサフルオロプロピレンHFPとのターポリマー;テトラフルオロエチレンTFEと、フッ化ビニリデンVF2と、ヘキサフルオロプロピレンHFPとのテトラポリマー、およびこれらの混合物が挙げられる。フッ素系プラスチックは、化学薬品安定性および熱安定性を付与し、表面エネルギーは低い。フッ素系材料は、融点が約100°C~約350°C、または約120°C~約330°Cである。本明細書で使用される場合、他の意味であると明記されていない限り、用語カーボンナノチューブまたはCNTは、少なくとも1つの小さい寸法を有する細長い炭素材料を指す例えば、幅または直径が100ナノメートルまで。種々の実施形態では、CNTは、平均直径が、約1nm~約100nm、またはある場合には、約5nm~約50nm、または約10nm~約30nmであってもよい。カーボンナノチューブは、アスペクト比が、少なくとも10、または約10~約1000、または約10~約5000である。アスペクト比は、直径に対する長さの比率であると定義される。種々の実施形態では、カーボンナノチューブとしては、限定されないが、カーボンナノシャフト、カーボンナノピラー、カーボンナノワイヤ、カーボンナノロッド、カーボンナノニードル、およびこれらの種々の官能基化されたフィブリル形態および誘導体化されたフィブリル形態が挙げられ、より糸、編み糸、織り地などのような例示的な形態のカーボンナノファイバーを含む。ある実施形態では、CNTは、グラフェンシートと呼ばれる1原子分の厚みのグラファイト層であると考えられてもよく、ナノメートルの大きさの円筒形、管、または他の形状になるように丸められてもよい。種々の実施形態では、カーボンナノチューブまたはCNTとしては、上述のあらゆる可能なカーボンナノチューブから得られた改変されたカーボンナノチューブおよびこれらの組み合わせを挙げることができる。カーボンナノチューブの改変は、物理的な改変および/または化学的な改変を含んでいてもよい。種々の実施形態では、カーボンナノチューブまたはCNTは、単層カーボンナノチューブSWCNT、多層カーボンナノチューブMWCNT、およびこれらの種々の官能基化されたフィブリル形態および誘導体化されたフィブリル形態例えば、カーボンナノファイバーを含んでいてもよい。CNTは、導電性材料または半導体材料から作られていてもよい。ある実施形態では、CNTは、純度の低い紙形態および/または純度の高い紙形態で得られてもよく、または、種々の溶液として購入してもよい。他の実施形態では、CNTは、製造したままの未精製状態で入手可能な場合があり、この場合、その後に精製プロセスを行ってもよい。当業者は、コア-フッ素系エラストマーシェル層のCNTコア要素が、規則な形状または不規則な形状の種々の他の断面形状例えば、長方形、多角形または卵形を有していてもよいことを理解するであろう。したがって、CNT33は、例えば、円筒形の三次元形状を有していてもよい。HPMがカーボンナノチューブの外側表面に結合し、HPMがフッ素系エラストマーシェルまたはナノフィブリルに結合しているカーボンナノチューブは、剥離層の重量を基準として、約0.1~約30の量で存在する。実施形態では、ナノフィブリルが剥離層の重量を基準として約0.5重量~約15重量、または約1重量~約10重量の量で存在する。3種類の既知のフッ素系エラストマーの例は、1フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンのうち2つのコポリマー群、例えば、VITONA登録商標として市販されている既知のもの;2VITONB登録商標として市販されている既知の、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンのターポリマー群;3VITONGH登録商標またはVITONGF登録商標として市販されている既知の、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、キュアサイトモノマーのテトラポリマー群である。フッ素系エラストマーVITONGH登録商標およびVITONGF登録商標は、フッ化ビニリデンの相対量が少ない。VITONGF登録商標およびVITONGH登録商標は、約35重量のフッ化ビニリデンと、約34重量のヘキサフルオロプロピレンと、約29重量のテトラフルオロエチレンと、約2重量のキュアサイトモノマーとを含む。図3のシェル層31に使用される市販のフッ素系エラストマーとしては、例えば、VITON登録商標AヘキサフルオロプロピレンHFPとフッ化ビニリデンVDFまたはVF2とのコポリマー、VITON登録商標BテトラフルオロエチレンTFEと、フッ化ビニリデンVDFと、ヘキサフルオロプロピレンHFPとのターポリマー、VITON登録商標GFTFEと、VF2と、HFPとのテトラポリマー、VITON登録商標E、VITON登録商標E60C、VITON登録商標E430、VITON登録商標910、VITON登録商標GH、VITON登録商標GFが挙げられる。VITON登録商標の名称は、E.I.DuPontdeNemours,Inc.デラウェア州ウィルミントンの商標である。特定の実施形態では、シェル層31用のフッ素系エラストマーとしては、VITON-GF登録商標E.I.duPontdeNemours,Inc.が挙げられ、TFE、HFP、VF2、キュアサイトを含んでいる。このエラストマー用の例示的な硬化剤としては、E.I.duPontdeNemours,Incから入手可能なVITON登録商標CurativeNo.50VC-50を挙げることができる。CurativeVC-50は、架橋剤としてビスフェノール-AFを含有し、促進剤としてジフェニルベンジルホスホニウムクロリドを含有していてもよい。種々の実施形態では、シェル層31は、CNT硬質コア33の外側表面に、シェルの厚みTsを有していてもよい。種々の実施形態では、シェルの厚みTsは、少なくとも約1nmであってもよい。実施形態では、シェルの厚みTsは、約1nm~約5nmの範囲であってもよく、ある場合には、約1nm~約1000nmの範囲であってもよい。種々の実施形態では、シェル層31に使用するフッ素系エラストマーは、フッ素系プラスチック32の約1重量~約50重量の量で存在してもよい。さらなる例では、シェル層31に使用するフッ素系エラストマーは、フッ素系プラスチック32の約2重量~約20重量、または、ある場合には、約2重量~約10重量の量で存在してもよい。これ以外の可能な量のフッ素系エラストマーが、本教示に含まれていてもよい。種々の実施形態では、コーティング組成物に他のフィラー材料例えば、無機粒子を用いてもよく、その後に、剥離層を作成してもよい。種々の実施形態では、例示的な無機粒子としては、金属酸化物、非金属の酸化物、金属が挙げられる。特定的には、金属酸化物としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化ニッケル、酸化銅、五酸化アンチモン、酸化インジウムスズ、およびこれらの混合物が挙げられる。非金属の酸化物としては、例えば、窒化ホウ素、炭化ケイ素SiC、およびこれらの混合物が挙げられる。金属としては、例えば、ニッケル、銅、銀、金、亜鉛、鉄、およびこれらの混合物が挙げられる。種々の実施形態では、開示されているコンポジット材料を作るのに、当業者に知られている他の添加剤が含まれていてもよい。フューザー部材の剥離層の厚みは、約10マイクロメートル~約250マイクロメートル、または約15マイクロメートル~約100マイクロメートル、または約20マイクロメートル~約50マイクロメートルである。剥離層の表面抵抗は、約108Ω/sq以下の表面抵抗を含む。また、コーティング組成物は、例えば、フッ素系エラストマーでコーティングされたカーボンナノチューブ、フッ素系材料と、場合により、当業者に知られている無機フィラー粒子とを分散させるのに有効な溶媒を含むように調製されてもよい。有効な溶媒としては、水および/または有機溶媒、限定されないが、メチルイソブチルケトンMIBK、アセトン、メチルエチルケトンMEK、およびこれらの混合物が挙げられる。有機溶媒としては、メチルイソブチルケトンMIBK、アセトン、メチルエチルケトンMEK、ジメチルホルムアミドDMF、ジメチルアセトアミドDMAC、ジメチルスルホキシドDMSOが挙げられる。適切な分散物を作ることが可能な他の溶媒も、本明細書の実施形態の範囲に入るであろう。種々の実施形態では、コーティング組成物は、例えば、コーティング技術、押出成形技術および/または成型技術を用いてコーティングされてもよい。本明細書で使用される場合、用語コーティング技術は、材料または表面に分散物を適用し、形成し、または堆積させる技術またはプロセスを指す。したがって、用語コーティングまたはコーティング技術は、本教示のものに特に限定されず、浸漬コーティング、塗工、刷毛塗り、ローラーコーティング、たんぼずり、スプレーコーティング、スピンコーティング、キャスト成形、またはフローコーティングを利用してもよい。剥離層のコーティング組成物は、フッ素系エラストマーでコーティングされたHPMでコーティングされたCNTと、ある種のフッ素系材料、例えば、Dyneon製のTHVP210とを剪断しつつ混合することによって調製される。得られるコーティング分散物は、コーティング組成物と硬化剤例えば、VC50/金属酸化物またはAO700とを有機溶媒例えば、MIBK中で混合することによって調製される。有機溶媒としては、メチルイソブチルケトンMIBK、アセトン、メチルエチルケトンMEK、ジメチルホルムアミドDMF、ジメチルアセトアミドDMAC、ジメチルスルホキシドDMSOが挙げられる。フューザーのトップコートは、フューザー基板に上述の分散物をコーティングし、このコーティングを高温で、例えば、約150°Cから段階的に約177°C、約204°C、約230°Cまで温度を上げることによって熱硬化させることによって製造される。フッ素系エラストマーでコーティングされたカーボンナノチューブを含まないフッ素系材料コントロールと比較して、フッ素系エラストマーでコーティングされたCNTをフッ素系材料コンポジットに分散させると、機械的な強度が顕著に増加しつつ、表面自由エネルギーは変わらない。図2の基板25は、開示されているフューザー部材について、例えば、ベルト、平板、および/または円筒形ドラムの形態であってもよい。融合部材の基板は、高い強度と、融合温度で変性しないような物理特性を与えるものであれば、限定されない。特定的には、基板は、金属例えば、アルミニウムまたはステンレス鋼製であってもよく、または耐熱性樹脂のプラスチックで作られていてもよい。強度の大きい耐熱性樹脂の例としては、ポリイミド、芳香族ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリフタルアミド、ポリエステル、液晶材料例えば、サーモトロピック液晶ポリマーなどが挙げられる。基板の厚みは、融合ベルトをうまく繰り返し回転させることが可能な剛性および可とう性が確保されるような範囲内にあり、例えば、約10マイクロメートル~約200マイクロメートル、または約30マイクロメートル~約100マイクロメートルである。中間層22としては、例えば、ゴム層を挙げることができる。弾性層によって弾性が得られ、主成分としてシリコーンゴムを含んでいてもよく、必要な場合、無機粒子、例えば、SiCまたはAl2O3と混合してもよい。適切な中間層の例としては、シリコーンゴム、例えば、室温加硫RTVシリコーンゴム、高温加硫HTVシリコーンゴム、低温加硫LTVシリコーンゴムが挙げられる。これらのゴムは、例えば、SILASTIC登録商標735blackRTVおよびSILASTIC登録商標732RTV両方ともDowCorning製;106RTVSiliconeRubberおよび90RTVSiliconeRubber両方ともGeneralElectric製;DowCorningToraySilicones製のJCR6115CLEARHTVおよびSE4705UHTVSiliconeゴムとして知られており、簡単に商業的に入手可能である。他の適切なシリコーン材料としては、シロキサン例えば、ポリジメチルシロキサン;フルオロシリコーン、例えば、SiliconeRubber552SampsonCoatingsバージニア州リッチモンド製;液体シリコーンゴム、例えば、ビニル架橋した熱硬化性ゴムまたは室温架橋したシラノール材料などが挙げられる。別の特定の例は、DowCorningSylgard182である。市販のLSRゴムとしては、DowCorning製の、DowCorningQ3-6395、Q3-6396、SILASTIC登録商標590LSR、SILASTIC登録商標591LSR、SILASTIC登録商標595LSR、SILASTIC登録商標596LSR、SILASTIC登録商標598LSRである。中間層の厚みは、約0.5mm~約20mm、または約1mm~約7mmである。実施例実施例1THVP/2CNT/エラストマーコンポジットコーティングの調製ヒドロキシフェニルマレイミドHPMの合成:1000mlの丸底フラスコに磁気攪拌棒とVigreuxコンデンサを取り付け、無水マレイン酸0.88mol、86.4gをアセトン700mLに溶解し、次いで、周囲温度で4-アミノフェノール0.8mol、87.2gを30分間で何回かにわけて加えた。反応混合物は黄色スラリーに変わり、これを1.5時間攪拌した。沈殿を濾過によって集め、アセトンで洗浄し、減圧下で乾燥させた。HPMAcの収率は94であった。1000mlの丸底フラスコに、アルゴンガス注入口を付けたVigreauxコンデンサ、磁気攪拌棒、蒸留コンデンサを取り付け、アルゴン下、このフラスコにHPMAc100g、p-トルエンスルホン酸10g、ジメチルホルムアミド80ml、トルエン583mlを入れた。混合物を加熱し、スラリーが透明溶液になるまで環流させた。反応中、製造速度を上げるために、水およびトルエンを除去した。次いで、この溶液を大量の水1000mlから析出させた。黄色固体の粉末を濾過によって集め、5炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄した。イソプロパノールおよび水から再結晶化させ、純粋な生成物を得た。収率は、約40~約60であった。HPMでグラフトされたCNTの合成:HPM13.696g、80mmolおよび多層CNTMWCNT0.5gをDMSO60mL中で混合したものを50°Cで5日間攪拌した。反応混合物を過剰量のテトラヒドロフランTHFに注いだ。CNTの固体を濾過によって集め、THFで2回洗浄し、減圧下で乾燥させた。コア-シェルCNTナノフィブリルの合成:CNT-HPM0.11gをDMAc45mlに溶解し、浴中で20分間超音波処理する。この分散物にDMU0.018gを加える。次いで、丸底フラスコ中、得られた混合物を、ジメチルアセトアミドDMAC100mlにVitonGF登録商標DuPontから購入を3g含む溶液に加えた。混合物を50°Cで4日間攪拌した。固体を濾過によって集め、減圧下、50°Cで一晩乾燥させた。収率は84であった。特性決定:HPM、CNT-HPM、コア-シェルCNTナノフィブリルの生成物を、図4および図5に示されているFR-IRによって確認した。元々のCNTと比較して、CNT-HPMおよびコア-シェルCNTナノフィブリルCNT-HPM-フッ素系エラストマーのスペクトルは、HPMの特徴的な吸収帯フェノール-3400-1およびアミドC=O-1696cm-1およびフッ素系エラストマーの特徴的な吸収帯3000cm-1を示しており、CNTにHPMおよびフッ素系エラストマーが存在していることを示している。図6に示されているTGAの結果から、有機部分HPMがCNTに接続していることがわかった。元々のCNTと比較して、CNT-HPMおよびCNT-HPM-フッ素系エラストマーのTGAの結果から、フッ素系エラストマーVitonGF登録商標の分解温度よりも高い温度で、CNTおよびCNT-HPM、CNTおよびCNT-HPM-フッ素系エラストマーの減量率に差があることがわかる。減量率は、それぞれ約9、約15であり、これらは、CNTに堆積したHPMおよびVitonの量を示している。CNT-HPM-フッ素系エラストマーナノフィブリルは、溶媒例えば、MIBKに簡単に分散する。ナノフィブリルは、元々のCNTと比較して、分散物の安定性が向上していることが示されている。"