"カルボニル基を有する有機化合物以下、カルボニル化合物という。とヒドロキシ基を含む有機化合物以下、ヒドロキシ化合物という。とを含む混合液以下、混合液という。からアセタール化合物を製造する方法において、混合液を、ヒドロキシ化合物の臨界温度未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とするアセタール化合物の製造方法。混合液を、カルボニル化合物の臨界温度未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とする請求項1に記載のアセタール化合物の製造方法。混合液を、ヒドロキシ化合物の常圧下で測定される沸点未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とする請求項1または2に記載のアセタール化合物の製造方法。混合液を、カルボニル化合物の常圧下で測定される沸点未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のアセタール化合物の製造方法。本発明は、触媒添加、触媒除去、触媒製造を必要とせず、かつ高選択性、高収率でアセタール化合物を製造する方法を提供することを目的とする。本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、カルボニル基を有する有機化合物とヒドロキシ基を含む有機化合物とを含む混合液を、これら化合物の臨界温度未満、好ましくは沸点温度未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることにより、上記課題が解決されることを見いだし、本発明を完成した。すなわち、本発明は以下のとおりである。[1]カルボニル基を有する有機化合物以下、カルボニル化合物という。とヒドロキシ基を含む有機化合物以下、ヒドロキシ化合物という。とを含む混合液以下、混合液という。からアセタールを製造する方法において、混合液を、ヒドロキシ化合物の臨界温度未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とするアセタール化合物の製造方法。[2]混合液を、カルボニル化合物の臨界温度未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とする前記[1]に記載のアセタール化合物の製造方法。[3]混合液を、ヒドロキシ化合物の常圧下で測定される沸点未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とする前記[1]または[2]に記載のアセタール化合物の製造方法。[4]混合液を、カルボニル化合物の常圧下で測定される沸点未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とする前記[1]ないし[3]のいずかに記載のアセタール化合物の製造方法。本発明の方法により、触媒添加、触媒除去、触媒製造を必要とせず、かつ高選択性、高収率でアセタール化合物を製造することができる。以下、本発明について詳述する。本発明で使用するカルボニル基を有する有機化合物以下、カルボニル化合物という。は、一般式1に示されるものである。また、カルボニル基を有する有機化合物として、反応条件下でカルボニル基を生じる有機化合物を用いても良い。環状ヘミアセタールも、反応条件下でカルボニル基を生じるので、カルボニル化合物である。式1中、R1およびR2は、それぞれ個別に、水素原子、アルキル基シクロアルキル基を含む、または炭素数6~10のアリール基を示す。ただし、R1とR2が同時に水素原子とはならない。R1、R2で示されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-デシル基、シクロプロピル基、2,2-ジメチルシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メンチル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状の炭素数1~20のアルキル基が挙げられる。これらアルキル基の一部は、任意の官能基に置換されていてもよい。また、R1、R2で示されるアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6~10のアリール基が挙げられる。これらアルキル基の一部は、任意の官能基に置換されていてもよい。上記式1で表わされるカルボニル化合物は、分子内に2つ以上のカルボニル基を有する有機化合物でもよく、カルボニル基の他に、反応に関与しない官能基を置換基として有していても良い。また、R1とR2の一部原子が結合した環状構造を有していても良い。カルボニル化合物としての環状ヘミアセタールとしては、単糖類が挙げられる。例えば、グルコース、ガラクトース、マンノース等のアルドヘキソース、フルクトース等のケトースが挙げられる。本発明で使用するヒドロキシ基を有する有機化合物以下、ヒドロキシ化合物という。は、一般式2に示されるものである。式2中、R3は、アルキル基シクロアルキル基を含むまたはアリール基を示す。R3で示されるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-デシル基、シクロプロピル基、2,2-ジメチルシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メンチル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状の炭素数1~20のアルキル基が挙げられる。これらアルキル基の一部は、任意の官能基に置換されていてもよい。また、R3で示されるアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等の炭素数6~10のアリール基が挙げられる。これらアリール基の任意の一部は、任意の官能基に置換されていてもよい。上記式2で表わされるヒドロキシ化合物は、分子内に2つ以上のヒドロキシ基を有する有機化合物でもよい。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール等のジオール類、グリセリン等のトリオール類である。ヒドロキシ基の他に、反応に関与しない官能基を置換基として有していても良い。混合液中での、カルボニル化合物とヒドロキシ化合物との割合については特に制限は無いが、一般にカルボニル化合物1モルに対してヒドロキシ化合物が2~500モルであり、好ましくは2~100モルである。混合液中での、カルボニル化合物およびヒドロキシ化合物は、少なくとも一方が液相であるのが好ましい。両者が均一相を構成していることがさらに好ましい。すなわち、液体同士で混合しているか、どちらか一方が他方に溶解しているか、任意に加えられる溶媒に両者が溶解していることが好ましい。超臨界二酸化炭素とは、7.4MPa以上、かつ31°C以上にある二酸化炭素を指し、亜臨界二酸化炭素とは、この両条件を充足しないが、この近傍条件にある二酸化炭素のことである。本発明者らは、本発明において、超臨界二酸化炭素または亜超臨界二酸化炭素は、以下の機能を果たしていると考えている。すなわち、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素が、混合液中に溶解して、ヒドロキシ化合物との相互作用により、下記式3で示されるHとR-O-を生成させる機能である。なお、式3中、scCO2は、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素を示す。この反応を進行させるためには、超臨界二酸化炭素がより好ましい。二酸化炭素は反応性に乏しい化合物として知られているが、超臨界二酸化炭素または亜超臨界二酸化炭素は、他の化合物と反応あるいは相互作用を有することが経験的に知られている。本発明者らは、本発明において、この式3により生成するHが、カルボニル化合物中の酸素に付加することで、アセタール反応が開始すると考えている。本発明においては、反応系内のH生成ルートを、実質的に式3経由のみに制御して、系内で進行する反応をアセタール反応とし、アセタール化合物合成にかかる高選択率、高収率を確保する。本発明においては、これを達成する具体的手段として、混合液を、ヒドロキシ化合物の臨界温度未満に保持したまま、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素に接触させる。さらに、好ましくは、混合液を、ヒドロキシ化合物の温度を常温下で測定される沸点未満に保持したまま、すなわち、ヒドロキシ化合物が高圧下でも超臨界状態に到達し得ない温度に保持したまま、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素に接触させる。さらには、必要に応じて、カルボニル化合物由来の各種イオンの発生を回避するため、混合液を、カルボニル化合物の臨界温度未満、または、常温で測定される沸点未満に保持したまま、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素に接触させる。反応時間については特に限定は無く、アセタール化合物が製造されるに足る時間であり、例えば、通常1時間以上、好ましく10時間以上、より好ましくは20時間以上、さらに好ましくは30時間以上である。通常は経済性の観点から240時間以下が好ましい。以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。[実施例1]カルボニル化合物としてベンズアルデヒド沸点179°C1.06g10.0mmol、ヒドロキシ化合物として所定量のメタノール臨界温度240°C、臨界圧力=8.0MPa、沸点65°C、必要に応じて水沸点100°Cを、ガラス容器内へ入れ、ガラス製スタラーチップとともにオートクレーブ反応容器耐圧硝子工業製TVS-N2-200型ポータブルリアクター。ステンレス製。内部容積200ml。内にガラス容器ごと置いた。ボンベから容器内へ液化二酸化炭素の注入を開始し、バンドヒーターを熱源として、系内を、45°C、7.5MPaとして二酸化炭素を超臨界二酸化炭素とした後、所定時間加熱撹拌を継続した。反応終了後、反応容器を室温まで冷却し、二酸化炭素を反応容器外へ開放して常圧に戻した。各反応液を少量取り、1H-NMRスペクトル分析を実施、検出各物質に帰属されるプロトンのケミカルシフトをもとに、面積百分率法を用いてベンズアルデヒドのアセタール化率を算出した。結果を表1に示す。また、反応液中には、未反応のメタノール、未反応ベンズアルデヒド、ベンズアルデヒドのアセタール化物のみが含まれており、極めて、高選択率でアセタール反応が進行していることを確認した。表1の実験番号3に対応する1H-NMRスペクトル分析を図1に示す。1H-NMRスペクトル分析用サンプル採取後の反応液をエバポレーターで余剰のメタノール、ベンズアルデヒドを留去後、さらに、真空ポンプを用いて減圧下、残存のベンズアルデヒドを除去した。残渣をクロロホルムに溶解、不溶物を炉別し、炉液にヘキサンを加えて、アセタールを析出回収した。この回収量を収率として表1に記載した。収率は、ほぼ転化率に一致した。これらの結果は、本発明の方法が、高選択率、高収率で、下記式4に従ってアセタール化合物を製造できることを示す。[実施例2]カルボニル化合物としてベンズアルデヒド1.06g、ヒドロキシ化合物としてエチレングリコール沸点197°C12.00gを、45°C、7.5MPa、96時間加熱撹拌を継続した以外は、実施例1と同様にアセタール化合物の合成を行った。取り出した反応混合物を少量取り、1H-NMRスペクトル分析装置を用いて検出した各物質に帰属されるプロトンのケミカルシフトをもとに、面積百分率法を用いて転化率が75であることを確認した。組成比を算出した。また、反応液中には、未反応のエチレングリコール、未反応ベンズアルデヒド、2種のアセタール化合物のみが含まれており、極めて、高選択率でアセタール反応が進行していることを確認した。これらの結果を図2に示す。なお、2種のアセタール化合物は、1モルのベンズアルデヒドに対して、1モルのエチレングリコールが付加したアセタール化合物と、2モルのエチレングリコールが付加したアセタール化合物であり、その割合は約2:3であった。これらの結果は、本発明の方法が、高選択率、高収率で、下記式5に従ってアセタール化合物を製造できることを示す。[実施例3]カルボニル化合物としてアセトン沸点56°C0.129g、ヒドロキシ化合物としてメタノール5.39gとし、45°C、7.9MPa、96時間加熱撹拌を継続した以外は、実施例1と同様にアセタール化合物の合成を行った。取り出した反応混合物を少量取り、1H-NMRスペクトル分析装置を用いて検出した各物質に帰属されるプロトンのケミカルシフトをもとに、面積百分率法を用いて転化率が44であることを確認した。また、反応液中には、未反応のメタノール、未反応アセトン、アセタール化合物2,2-ジメトキシプロパンのみが含まれており、極めて、高選択率でアセタール反応が進行していることを確認した。これらの結果は、本発明の方法が、高選択率、高収率で、下記式6に従ってアセタール化合物を製造できることを示す。"