摩擦接触面の成膜面に、セグメントのエッジ部分が丸みを帯びたセグメント構造の無機質膜を形成する方法であって、前記成膜面に、導電性金属から成るマスク形成用の金属層を形成する金属層形成ステップと、前記金属層にエッチングを施して、前記セグメントを区画する溝となる位置に前記金属層の突起部を形成するマスク形成ステップと、前記金属層の突起部を形成した前記成膜面が露出するように、電極を構成する基板ホルダ上に載置し、物理気相成長法または化学気相成長法を用いて、前記突起部の間の成膜面に、前記突起部に対向するエッジ部分が所定形状の丸みを帯びる厚さの無機質の膜を成膜する成膜ステップと、前記金属層の突起部を除去するマスク除去ステップと、を備えることを特徴とする無機質膜形成方法。請求項1に記載の無機質膜形成方法であって、前記無機質膜がDLC膜であることを特徴とする無機質膜形成方法。請求項1または2に記載の無機質膜形成方法であって、前記成膜ステップで、プラズマCVD法を用いて前記無機質の膜を成膜することを特徴とする無機質膜形成方法。請求項1から3のいずれかに記載の無機質膜形成方法であって、前記金属層の厚さを変え、前記突起部の高さを変えて、前記突起部に対向するエッジ部分の丸みの曲率を変えることを特徴とする無機質膜形成方法。請求項1から4のいずれかに記載の無機質膜形成方法であって、前記金属層としてCuまたはAlを用いることを特徴とする無機質膜形成方法。請求項1から5のいずれかに記載の無機質膜形成方法であって、前記金属層形成ステップに先立ち、前記成膜面に、無機質膜との密着性が高い中間層を形成することを特徴とする無機質膜形成方法。請求項6に記載の無機質膜形成方法であって、前記無機質膜がDLC膜である場合に、前記中間層としてCr層を形成することを特徴とする無機質膜形成方法。請求項2に記載の無機質膜形成方法であって、DLC膜が形成される前記摩擦接触面が超音波モータの固定子または移動子の摩擦駆動面であることを特徴とする無機質膜形成方法。しかし、図19aに示すように、S-Cr/DLC膜のセグメントを構成する突起71は、図12のS-DLC膜の突起70に比べて、形状や高さが均一であり、スライダ20とステータ10との間に安定した接触面積を確保できるが、突起71先端の角部は、突起70のように丸みを帯びていない。これは、図11と図14とを比較すれば明らかである。このように、摩擦接触面に形成した無機質膜のセグメントのエッジ部分が角張っている場合は、図18に示すように、セグメント80の面に接触する接触部材90に高い接触予圧が加わるとb、セグメント80の端部が大きく弾性変形し、セグメント80の端部に応力が集中して接触圧力が高くなりc、セグメント80端部の破損などの原因になる。また、超音波モータでは、S-DLC膜の突起のエッジ部分が丸みを帯びていないと、図19bに示すように丸で囲んだ箇所、突起71のエッジ側面にスライダ20の端部が接触し、駆動方向と逆向きの力がスライダ20に作用するため、超音波モータの駆動特性が低下する原因になる。また、図17に記載されているように、セグメント3の側面が傾斜し、セグメント3が台形状の断面を有している場合でも、スライダは、その端部がセグメント3のエッジ部分に接触し、駆動方向と逆向きの力を受けるため、超音波モータの駆動特性の低下は避けられない。本発明は、こうした事情を考慮して創案したものであり、摩擦接触面に、形状や高さが均一で、エッジ部分が丸みを帯びたセグメントで構成されるセグメント構造の無機質膜を形成する方法を提供することを目的としている。本発明は、摩擦接触面の成膜面に、セグメントのエッジ部分が丸みを帯びたセグメント構造の無機質膜を形成する方法であって、成膜面に、導電性金属から成るマスク形成用の金属層を形成する金属層形成ステップと、金属層にエッチングを施して、セグメントを区画する溝となる位置に金属層の突起部を形成するマスク形成ステップと、金属層の突起部を形成した成膜面が露出するように、電極を構成する基板ホルダ上に載置し、物理気相成長法または化学気相成長法を用いて、突起部の間の成膜面に、突起部に対向するエッジ部分が所定形状の丸みを帯びる厚さの無機質の膜を成膜する成膜ステップと、金属層の突起部を除去するマスク除去ステップと、を備えることを特徴とする。マスク用突起部が形成された面に物理気相成長法または化学気相成長法で無機質膜を被着するとき、突起部に近い箇所では入射プラズマの立体角が小さくなるため、突起部に近い箇所に到達する炭素イオンの量は、突起部から離れた箇所に到達する炭素イオンの量よりも少なくなる。その結果、形成されたセグメントのエッジ部は丸みを帯びる。この丸みの曲率は、被着した無機質膜の厚さによって変わってくる。また、本発明の無機質膜形成方法では、無機質膜がDLC膜でも良い。この形成方法で、形状高さが均一で、エッジ部分が丸みを帯びたセグメントから成るS-DLC膜が得られる。また、本発明の無機質膜形成方法では、成膜ステップで、プラズマCVD法を用いて無機質の膜を成膜することが望ましい。金属層から成るマスク用突起部は、プラズマCVD法を実施する際に補助電極の役割を果たし、プラズマの安定化に寄与する。また、本発明の無機質膜形成方法では、金属層の厚さを変え、突起部の高さを変えて、突起部に対向するエッジ部分の丸みの曲率を変えることができる。金属マスクの突起部で囲まれた穴に進入したイオンは、近傍に金属層電極が存在すると、金属層の方に引っ張られるため、金属層近傍でのイオン入射の有効な立体角が狭くなり、金属層に近づくほど生成される膜が薄くなる。このイオン入射の有効な立体角は、突起部の高さが高くなる程、狭くなるため、突起部の高さ金属層の厚さを大きくすることで、セグメントのエッジ部分の丸みの曲率が増大する。また、本発明の無機質膜形成方法では、マスク形成用の金属層としてCuまたはAlを用いることができる。また、本発明の無機質膜形成方法では、金属層形成ステップに先立ち、成膜面に、無機質膜との密着性が高い中間層を形成することが望ましい。中間層が介在すると、形成された無機質膜のセグメントが成膜面に強固に付着する。また、本発明の無機質膜形成方法では、S-DLC膜を形成する場合、中間層としてCr層を形成することが望ましい。Cr層は、DLC膜の付着力を向上させる。また、本発明の無機質膜形成方法は、超音波モータの固定子または移動子の摩擦駆動面にS-DLC膜を形成する方法として適している。このS-DLC膜は、超音波モータの駆動力を損なわずに、超音波モータの耐摩耗性を高めることができ、超音波モータの長寿命化が可能になる。本発明の形成方法により、摩擦接触面に、形状高さが均一で、エッジ部分が丸みを帯びたセグメントから成るセグメント構造の無機質膜を形成することができる。この無機質膜は、セグメントの端部に応力が集中しないため、セグメントの端部が破損し難く、強い耐久性を有している。図1は、本発明の無機質膜形成方法を用いて、超音波モータのステータの圧電体LiNbO3基板にS-DLC膜を形成する手順について示している。まず、基板10上に、DLC膜との密着性が高いクロムCr層から成る中間層13を蒸着等で形成し、その上に銅Cu層から成るマスク形成用金属層40を蒸着等で形成した。ここでは、中間層13の膜厚を約0.1μm、マスク形成用金属層40の膜厚を約4μmに設定している。マスク形成用金属層40の上には、フォトレジスト層15をスピンコートで形成した図1a。次に、露光現像して、セグメント間の溝に相当する部分のフォトレジスト15を残し、セグメントに相当する領域のフォトレジスト15を除去した。そして、フォトレジスト15が除かれて露出した金属層40のCu層部分をエッチングで除去した図1b。残存する金属層40の上のフォトレジスト15を除去すると、メッシュ状の金属層突起部40から成るマスクが形成されている図1c。次に、プラズマCVD法により、炭化水素ガスをプラズマ放電でイオン化し、炭素イオンを電界で加速して、陰極を兼ねる基板ホルダ上に載置された基板10の成膜面、即ち、マスク金属層突起部40が形成された面、に衝突させ、約0.4μmのDLC膜7を形成した図1d。このDLC膜7の詳しい形成条件は、図2に示している。なお、マスク金属層40は、プラズマCVDの際に補助電極の役割を果たし、プラズマの安定化に寄与している。次に、第二塩化鉄水溶液によるウェットエッチングでメッシュ状の金属層40と、金属層に付着するDLC膜7とを除去し、エッジ部分が丸みを帯びたセグメント7から成るS-DLC膜を得た図1e。図3aは、非接触粗さ測定器を用いて測定した、この方法で形成したS-DLC膜の形状を示し、図3bは、その断面形状を示している。この方法では、フォトリソグラフィプロセスにより、基板10上に中間層13を介して密着する金属層40のマスクを形成し、このマスクを用いてS-DLC膜を形成しているため、図3から明らかなように、S-DLC膜の各セグメントの形状及び高さは均一である。また、図4aに示すように、金属層の突起部40で囲まれたセグメントの形成領域では、領域の中央部分の入射プラズマの立体角α1に比べて、突起部40に隣接する位置での入射プラズマの立体角α2が小さい。しかも、セグメントの形成領域面に入射するプラズマの入射角度が直角から外れる程、プラズマの入射量が減る傾向にあるから、この形成領域に到達する炭素イオンの量は、突起部40の隣接位置で急激に減少する。また、金属層の突起部40で囲まれたセグメントの形成領域に進入したイオンは、近傍に金属層電極40が存在すると、金属層40の方に引っ張られるため、金属層近傍での入射プラズマの有効な立体角は、図4aに示す立体角α2よりも狭くなり、金属層40に近づくほど生成される膜が薄くなる。この入射プラズマの有効な立体角は、突起部40の高さが高くなる程、狭くなる。そのため、図4bに示すように、セグメント81のエッジ部分は、丸みを帯び、この丸みは、セグメント82、83の厚みが増すごとに顕著になる。このエッジ部分の丸みは、図4cに拡大して示すように、突起部40や突起部40に付着したDLC膜84を除去した後も、セグメント83に残る。また、イオンが金属層電極に引っ張られることで生じる入射プラズマの有効な立体角は、突起部40の高さが高くなる程、狭くなるため、突起部の高さ金属層の厚さを制御して、セグメントのエッジ部分の丸みの曲率を変えることができる。図5は、セグメント構造DLC膜の摩耗状態を調べる実験の結果について示している。この実験では、摩擦駆動を模擬するため、摩擦駆動面にセグメント構造DLC膜を形成したステータに、シリコンウエハから切り出したスライダを強制的に擦り合わせて、セグメント構造DLC膜の変化の様子を観察した。スライダへの予圧を一定10Nに設定し、スライダを200回直線運動させた後のセグメント構造DLC膜の状態を観察している。図5aは、図1の方法で得たS-DLC膜の実験後の状態汚れをクリーニングした後の状態を示し、図5bは、S-Cr/DLC膜の実験後の状態汚れをクリーニングした後の状態を示している。図5から明らかなように、図1の方法で形成したS-DLC膜は、S-Cr/DLC膜に比べて、傷及び摩耗量が共に少ない。また、図6は、セグメント83のエッジ部分に丸みを帯びたS-DLC膜が形成された摩擦接触面と接触部材90とが接触する状態を示しているa。この場合、接触部材90を高い接触予圧で摩擦接触面に接触させてもb、セグメント83の端部の弾性変形が抑えられ、セグメント全体で接触圧力が均一になるc。そのため、セグメント83の破損が回避できる。このように、本発明の無機質膜の形成方法は、形状及び高さが均一で、エッジ部分に丸みを帯びたセグメントから成るS-DLC膜などの無機質膜を形成することができる。この方法で形成したS-DLC膜のセグメントは、S-Cr/DLC膜のセグメントに比べて、スライダの駆動を妨げないため、超音波モータの駆動力は損なわれず、また、摩耗による損傷も少ない。なお、ここでは、超音波モータのステータやスライダの摩擦駆動面にS-DLC膜を形成する例を示したが、本発明は、摩擦接触面を有する無段変速機などにS-DLC膜を形成する場合にも適用でき、また、各種の摩擦接触面に形成するSiO2やAl2O3などの無機質膜をセグメント構造に成形する場合にも適用できる。また、ここでは、マスク形成用金属層の素材にCuを使用したが、アルミニウムAlを使用しても良い。また、ここでは、DLC膜の密着性を高める中間層としてCr層を用いたが、TiやSi等を用いても良い。また、中間層を設けなくても良い。また、ここでは、プラズマCVD法を用いてDLC膜を成膜したが、無機質膜の成膜には、その他の物理気相成長法や化学気相成長法を用いても良い。