"ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ、溶融粗金属をアノード鋳型に鋳込む鋳込み工程と、上記アノード鋳型に鋳込まれた溶融粗金属を冷却する冷却工程と、上記冷却工程で冷却されたアノード鋳型から電解用アノードを剥ぎ取る剥取り工程と、上記電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤を散布する離型剤散布工程を有する電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを繰り返し鋳造する電解用アノード鋳造装置において、剥取り工程で電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤散布工程で離型剤を散布する前に上記アノード鋳型の表面温度を測定する測定手段と、上記測定手段による測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出する検出手段と、上記検出手段による検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込み工程で鋳込んだ電解用アノードを剥取り工程で剥ぎ取った直後に、規定温度まで上記アノード鋳型の散水冷却を行なう冷却手段とを備えることを特徴とする電解用アノード鋳造装置。上記規定温度を150~180°Cとし、アノード鋳型の表面温度が、鋳込み工程における溶融粗銅の鋳込み時に1100~1200°C程度まで上昇し、冷却工程において冷却されることにより650°C程度まで降下し、さらに、剥取り工程において350°C程度まで降下した時点で電解用アノードがアノード鋳型から剥ぎ取られることにより離型剤散布工程の開始時点で150~180°Cとなる温度変化を繰り返す温度プロファイルで、上記電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを鋳造することを特徴とする請求項1記載の電解用アノード鋳造装置。ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ、溶融粗金属をアノード鋳型に鋳込む鋳込み工程と、上記アノード鋳型に鋳込まれた溶融粗金属を冷却する冷却工程と、上記冷却工程で冷却されたアノード鋳型から電解用アノードを剥ぎ取る剥取り工程と、上記電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤を散布する離型剤散布工程を有する電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを繰り返し鋳造する電解用アノード鋳造装置におけるアノード鋳型の温度制御方法であって、剥取り工程で電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤散布工程で離型剤を散布する前に上記アノード鋳型の表面温度を測定する測定ステップと、上記測定ステップにおける測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出する検出ステップと、上記検出ステップにおける検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込み工程で鋳込んだ電解用アノードを剥取り工程で剥ぎ取った直後に、規定温度まで上記アノード鋳型の散水冷却を行なう冷却ステップとを有することを特徴とするアノード鋳型の温度制御方法。アノード鋳型の表面温度が、鋳込み工程における溶融粗銅の鋳込み時に1100~1200°C程度まで上昇し、冷却工程において冷却されることにより650°C程度まで降下し、さらに、剥取り工程において350°C程度まで降下した時点で電解用アノードがアノード鋳型から剥ぎ取られることにより離型剤散布工程の開始時点で150~180°Cとなる温度変化を繰り返す温度プロファイルで、上記電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを鋳造する電解用アノード鋳造装置におけるアノード鋳型の温度制御方法であって、上記規定温度を150~180°Cとしたことを特徴とする請求項3記載のアノード鋳型の温度制御方法。ところで、電解精製工程では、電解槽中に垂直に吊り下げられた状態で、電解用アノードとカソードとの間の距離すなわち極間距離が、向かい合う電解用アノードとカソードのどの部分においても等しく調整されていれば、局部的な電気抵抗の低下やショートを防止でき、安定的な操業が可能となるので、上記極間距離を等しくするために、電解用アノードの厚みが均一であり、その表面が平滑であり、かつ電解用アノードの外縁部に鋳張りや膨らみがない形状に鋳造する必要がある。アノード鋳型の歪みは、鋳造を繰り返すことにより、徐々に大きくなる。大きくなったアノード鋳型の歪みにより、電解用アノード厚みが不均一となる程度も大きくなり、電解精製工程において局部的な電気抵抗の低下やショートが発生しやすくなるという操業上の問題が生ずる。上述の如くターンテーブル1上に複数のアノード鋳型2を載置し、ターンテーブル1を間欠的に回転しつつ鋳込、冷却、剥取を行なう従来の銅アノード鋳造装置100では、アノード鋳型2の表面温度が、溶融粗銅の鋳込み時における1100~1200°Cから、電解用アノード15の剥ぎ取り後の離型剤散布時における150°C~180°Cまで変動する温度サイクルを繰り返すことにより安定的した操業状態となる温度プロファイルで歪みの発生が最小となるように鋳型の設計はなされる。通常、離型剤散布開始時には、離型剤が硫酸バリウムの場合には150°C程度に降下し、また、離型剤が粘土場合に180°C程度に降下していることを想定している。しかしながら、例えば離型剤散布時におけるアノード鋳型2の表面温度が低すぎると離型剤の水分が鋳込までに蒸発しきれず、鋳込み時に水分が突発的に蒸発し、沸きあがって、電解用アノード15の外縁部、角部に膨れや鋳張りを生じさせるなどトラブルの虞がある。また、離型剤散布時におけるアノード鋳型2の表面温度が高すぎると蓄熱によりアノード鋳型2の変形や破損の虞がある。したがって、上記温度プロファイルを維持するように温度管理を行なう必要がある。また、温度管理が不十分だとアノード鋳型2の歪みは進行する。通常、図8に示すように対角線A,B方向及び縦A,B方向のゲージ測定で8mmを越える歪みが発生したアノード鋳型2は、交換される。従来、銅アノード鋳造装置100における温度管理は、具体的には電解用アノード15の冷却によって行ない、熱くなり過ぎたところを冷やすようにしているが、順番に回ってくるターンテーブル1上の鋳造中の電解用アノード15の色やアノード剥ぎ取り後に散布される離型剤の乾き具合を作業員が目視で確認して、熱くなり過ぎた部分を見極める経験に頼る作業であり、バラツキが大きいという問題があった。そこで、上述の如き従来の問題点に鑑み、本発明の目的は、電解用アノード鋳造装置のターンテーブルでアノード鋳型の十分な温度管理を行ない、適切にアノード鋳型を冷却することにより、アノード鋳型の寿命を延ばし、所定の形状の電解用アノードを効率よく鋳造できるようにした電解用アノード鋳造装置、及び、そのアノード鋳型の温度制御方法を提供することにある。本発明の他の目的、本発明によって得られる具体的な利点は、以下に説明される実施の形態の説明から一層明らかにされる。本発明では、上記課題を解決するために、ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ鋳込、冷却、剥取を行なう電解用アノード鋳造装置において、電解用アノードを剥ぎ取ったアノード鋳型に離型剤を散布する前にアノード鋳型の温度を測定することにより、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出しておき、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込んだ電解用アノードを剥ぎ取った直後に散水冷却を行なうことにより規定温度まで確実に冷却し、ターンテーブル上の各アノード鋳型を個別に温度管理を行なう。すなわち、本発明は、ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ、溶融粗金属をアノード鋳型に鋳込む鋳込み工程と、上記アノード鋳型に鋳込まれた溶融粗金属を冷却する冷却工程と、上記冷却工程で冷却されたアノード鋳型から電解用アノードを剥ぎ取る剥取り工程と、上記電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤を散布する離型剤散布工程を有する電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを繰り返し鋳造する電解用アノード鋳造装置において、剥取り工程で電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤散布工程で離型剤を散布する前に上記アノード鋳型の表面温度を測定する測定手段と、上記測定手段による測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出する検出手段と、上記検出手段による検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込み工程で鋳込んだ電解用アノードを剥取り工程で剥ぎ取った直後に、規定温度まで上記アノード鋳型の散水冷却を行なう冷却手段とを備えることを特徴とする。また、本発明は、ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ、溶融粗金属をアノード鋳型に鋳込む鋳込み工程と、上記アノード鋳型に鋳込まれた溶融粗金属を冷却する冷却工程と、上記冷却工程で冷却されたアノード鋳型から電解用アノードを剥ぎ取る剥取り工程と、上記電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤を散布する離型剤散布工程を有する電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを繰り返し鋳造する電解用アノード鋳造装置におけるアノード鋳型の温度制御方法であって、剥取り工程で電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤散布工程で離型剤を散布する前に上記アノード鋳型の表面温度を測定する測定ステップと、上記測定ステップにおける測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出する検出ステップと、上記検出ステップにおける検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込み工程で鋳込んだ電解用アノードを剥取り工程で剥ぎ取った直後に、規定温度まで上記アノード鋳型の散水冷却を行なう冷却ステップとを有することを特徴とする。本発明では、例えば、上記規定温度を150~180°Cとし、電解用アノード鋳造装置は、アノード鋳型の表面温度が、鋳込み工程における溶融粗銅の鋳込み時に1100~1200°C程度まで上昇し、冷却工程において冷却されることにより650°C程度まで降下し、さらに、剥取り工程において350°C程度まで降下した時点で電解用アノードがアノード鋳型から剥ぎ取られることにより離型剤散布工程の開始時点で150~180°Cとなる温度変化を繰り返す温度プロファイルで、上記電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを鋳造するものとすることができる。本発明では、ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ、溶融粗金属をアノード鋳型に鋳込む鋳込み工程と、上記アノード鋳型に鋳込まれた溶融粗金属を冷却する冷却工程と、上記冷却工程で冷却されたアノード鋳型から電解用アノードを剥ぎ取る剥取り工程と、上記電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤を散布する離型剤散布工程を有する電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを繰り返し鋳造する電解用アノード鋳造装置において、剥取り工程で電解用アノードを剥ぎ取ったアノード鋳型に離型剤散布工程で離型剤を散布する前にアノード鋳型の温度を測定することにより、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出しておき、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込み工程で鋳込んだ電解用アノードを剥取り工程で剥ぎ取った直後に散水冷却を行なうことにより上記規定温度まで確実に冷却し、ターンテーブル上の各アノード鋳型を個別に温度管理を行なうことができる。したがって、本発明によれば、電解用アノード鋳造のターンテーブルでアノード鋳型の十分な温度管理を行ない、適切にアノード鋳型を冷却することにより、アノード鋳型の寿命を延ばし、所定の形状の電解用アノードを効率よく鋳造できるようにした電解用アノード鋳造装置、及び、そのアノード鋳型の温度制御方法を提供することができる。以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。本発明は、例えば図1に示すような構成の電解用アノード鋳造装置20に適用される。なお、この電解用アノード鋳造装置20は、図7に示した従来の銅アノード鋳造装置100を改良したものであって、従来装置と実質上同一の構成要素については、図1中に同一の参照符号を付して、その詳細な説明を省略する。この電解用アノード鋳造装置20は、離型剤散布部12の入口位置でアノード鋳型2の温度を測定する非接触式温度計、例えば熱放射の表面温度計21と、上記表面温度計21による測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型2を検出する検出処理部22と、上記検出処理部22による検出結果に基づいて、剥取機11の出口位置でアノード鋳型2を冷却する鋳型冷却部23を備える。そして、この電解用アノード鋳造装置20は、ターンテーブル1の上に複数個のアノード鋳型2を載置して、これを矢印Aの方向に間欠的に回転しつつ、図2のフローチャートに示す鋳造プロセスにしたがって、鋳込、冷却、剥取を順次行なうとともに、図3のフローチャートに示す鋳型温度制御プロセスにしたがって、上記ターンテーブル1上の複数個のアノード鋳型2の温度を個別に制御するように構成されている。すなわち、この電解用アノード鋳造装置20では、転炉で生産される溶融粗銅が、脱硫、脱酸等の精製処理を行なうための精製炉4において精製されて、タップ樋19、連絡樋5、溜樋6を介して計量樋3に供給される。そして、精製された溶融粗銅を、溶融粗銅鋳込み位置において、精製された溶融粗銅を上記計量樋3によって一定量ずつアノード鋳型2の中に傾注することにより鋳込む鋳込み工程S1。次に、上記鋳込み工程S1でアノード鋳型2に鋳込まれた溶融粗銅に冷却フード7内の冷却水散布配管8より冷却水を散布することによって、電解用アノード15を冷却し、また、ショルダー側を押し上げられた電解用アノード15の下のアノード鋳型2に鋳型冷却散水配管8aより冷却水を散水することによって、アノード鋳型2を冷却する冷却工程S2。次に、上記冷却工程S2において冷却フード7内で冷却された電解用アノード15は、アノード鋳型2に設けられた図示しない押し上げピンによって、そのショルダー部側が押し上げられる。なお、電解用アノード15のショルダー部に溶湯が良好に行き渡らなかった際に生ずる不良アノードは、不良アノード剥取機10により取り除かれる。そして、鋳造された電解用アノード15は、剥取機11によりショルダー部が引掛けられてアノード鋳型2から剥ぎ取られる剥取り工程S3。次に、上記剥取り工程S3において電解用アノード15が剥ぎ取られたアノード鋳型2には、掃除作業が施されて、粉状、フレーク状の鋳屑、酸化銅、粘土などの鋳造残渣が除去され、離型剤散布部12において、次の鋳込みを行なうための離型剤としての硫酸バリウムあるいは粘土水を散布する離型剤散布工程S4。そして、上記離型剤散布工程S4において離型剤が散布されたアノード鋳型2は、充分に水分を蒸発させてから、溶融粗銅鋳込み位置まで回送され、新たな溶融粗銅が鋳込まれる。この電解用アノード鋳造装置20では、図2のフローチャートに示した電解用アノード鋳造プロセスにしたがって、鋳込み工程S1、冷却工程S2、剥取工程S3、離型剤散布工程4により、電解用アノード15を繰り返し鋳造している。その際の安定的した操業状態における温度プロファイルを図4に示すように、アノード鋳型2の表面温度は、鋳込み工程S1における溶融粗銅の鋳込み時に1100~1200°C程度まで上昇し、冷却工程S2において冷却されることにより650°C程度まで降下する。そして、上記アノード鋳型2の表面温度は、剥取り工程S3において350°C程度まで降下した時点で電解用アノード15がアノード鋳型2から剥ぎ取られることにより、離型剤散布工程S4の開始時点で150~180°Cとなる温度変化を繰り返す。上記離型剤散布工程S4の開始時点でアノード鋳型2の表面温度は離型剤が硫酸バリウムの場合に150°C程度に降下し、離型剤が粘土場合に180°C程度に降下する。ここで、図4中に破線で示すように、離型剤散布時におけるアノード鋳型2の表面温度が上記150~180°Cよりも高い状態が発生した場合、上記鋳造プロセスを繰り返すことにより、蓄熱によりアノード鋳型2の変形や破損の虞がある。そこで、この電解用アノード鋳造装置20では、上記図2のフローチャートに示す鋳造プロセスにしたがって電解用アノード15を繰り返し鋳造するとともに、図3のフローチャートに示す鋳型温度制御プロセスにしたがって、上記ターンテーブル1上の複数個のアノード鋳型2の温度を個別に制御するようにしている。すなわち、この電解用アノード鋳造装置20において、上記表面温度計21は、電解用アノード15を剥ぎ取ったアノード鋳型2に離型剤を散布する前にアノード鋳型2の温度を測定する測定手段として機能する。また、上記検出処理部22は、上記測定手段すなわち上記表面温度計21による測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型2を検出する検出手段として機能する。さらに、上記鋳型冷却部23は、上記検出手段すなわち検出処理部22による検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型2に鋳込んだ電解用アノード15を剥ぎ取った直後に、規定温度まで上記アノード鋳型2の散水冷却を行なう冷却手段として機能する。そして、この電解用アノード鋳造装置20では、上記鋳造プロセスにしたがって電解用アノード15を繰り返し鋳造する安定的した操業状態における温度プロファイルにおける上記離型剤散布時のアノード鋳型2の表面温度、すなわち、上記150~180°Cを規定温度とし、上記剥取り工程S3において電解用アノード15を剥ぎ取ったアノード鋳型2に離型剤を散布する前にアノード鋳型2の温度を上記表面温度計21により測定する。そして、その測定結果に基づいて、上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型2を上記検出処理部22により検出し、その検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおける剥取り工程S3において上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型2に鋳込んだ電解用アノード15を剥ぎ取った直後に、上記鋳型冷却部23において規定温度まで上記アノード鋳型2の散水冷却を行なうことにより、ターンテーブル1の上に載置されている複数個のアノード鋳型2の温度を個別に制御する。具体的には、この電解用アノード鋳造装置20における鋳型温度制御プロセスでは、図3のフローチャートに示すように、先ず、上記剥取り工程S3において電解用アノード15が剥ぎ取られたアノード鋳型2が前回の鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型2であると検出された高温鋳型であるか否を上記検出処理部22により判定する第1の判定ステップS11。上記第1の判定ステップS11における判定結果がYES、すなわち、高温鋳型である場合には、上記検出処理部22により上記鋳型冷却部23の鋳型冷却散水配管28に設けられた制御弁29を開いて所定時間経過後に閉じる制御を行ない、所定量の冷却水を上記アノード鋳型2に散布することによって、上記規定温度まで上記高温鋳型を冷却する冷却ステップS12。また、上記判定ステップS11における判定結果がNO、すなわち、高温鋳型でない場合には、上記検出処理部22は、上記制御弁29を閉じたままとする。次に、離型剤を散布する前のアノード鋳型2の表面温度を上記表面温度計21により測定する測定ステップS13。次に、上記測定ステップS13における測定結果が上記規定温度よりも高いか否かを上記検出処理部22により判定する第2の判定ステップS14。上記第2の判定ステップS14における判定結果がYES、すなわち、上記表面温度計21により測定された表面温度が上記規定温度より高いアノード鋳型2である場合には、上記検出処理部22により、そのアノード鋳型2を次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記第1の判定ステップS11で判定結果がYESとなる高温鋳型として検出し、記憶する検出ステップS15。そして、上記第1の判定ステップS11に戻って、次のアノード鋳型2について温度制御を行なう。また、上記第2の判定ステップS14における判定結果がNO、すなわち、上記表面温度計21により測定された表面温度が上記規定温度のアノード鋳型2である場合には、そのまま上記第1の判定ステップS11に戻って、次のアノード鋳型2について温度制御を行なう。この電解用アノード鋳造装置20では、アノード鋳型2の表面温度が、鋳込み工程S1における溶融粗銅の鋳込み時に1100~1200°C程度まで上昇し、冷却工程S2において冷却されることにより650°C程度まで降下し、さらに、剥取り工程S3において350°C程度まで降下した時点で電解用アノード15がアノード鋳型2から剥ぎ取られることにより離型剤散布工程S4の開始時点で150~180°Cとなる温度変化を繰り返す温度プロファイルを採用した。そして、上記温度プロファイルで、上記電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノード15を鋳造し、上記規定温度を150~180°Cとして上記鋳型温度制御プロセスにしたがって、ターンテーブル1上の各アノード鋳型2を個別に温度管理を行なったところ、アノード鋳型2の交換率が従来の約1/10に大幅に減少し、アノード鋳型2の寿命を大幅に延長することができた。ここで、上記電解用アノード鋳造装置20において、ターンテーブル1上に18枚のアノード鋳型2が載置され、上記ターンテーブル1は、12~13秒で1ブロックを間欠的に回転移動され、かつ一定位置に12~13秒停止されるというサイクルで運転され、18サイクルで1回転されるものとし、鋳型表面温度が設定値例えば150°Cよりも高いアノード鋳型2には、上記冷却ステップS12おいて、移動中の12~13秒および停止中の12~13秒間の合計24~26秒間連続的に冷却水を散布して上記アノード鋳型2を設定温度まで冷却するようにした場合の、アノード鋳型2の温度履歴の実測結果を図5のAに示す。また、上記冷却ステップS12の処理を行わない、従来の電解用アノード鋳造装置100におけるアノード鋳型2の温度履歴の実測結果を図5のBに示す。図5のA、Bは本発明による温度制御を採用した上記電解用アノード鋳造装置20、及び、本発明による温度制御を採用前の従来の上記電解用アノード鋳造装置100、それぞれ2台についてアノード鋳型2の温度履歴の実測したものである。図5のAは温度設定値を150°Cにした場合であるが、本発明による温度制御を採用した上記電解用アノード鋳造装置20では、アノード鋳型2の表面温度が設定値以下に管理されている。また、上記電解用アノード鋳造装置20及び従来の電解用アノード鋳造装置100における鋳造回数と鋳型歪との関係を実測して得られた関連図を図6に示す。上述の如く鋳型表面温度を管理するようにした上記電解用アノード鋳造装置20では、従来の電解用アノード鋳造装置100の場合と比較して、アノード鋳型2の歪進行速度が遅くなっている。その結果、同一期間内における鋳型交換枚数は、従来の電解用アノード鋳造装置100では8/140.57であったの対して、上記電解用アノード鋳造装置20では、2/320.06となり、約10分の1に大幅に減少し、従って、寿命も大幅に延長することができた。上述の如く、この電解用アノード鋳造装置20では、図3のフローチャートに示す鋳型温度制御プロセスにしたがって、剥取り工程S3で剥取機11により電解用アノード15を剥ぎ取ったアノード鋳型2に離型剤散布工程S4で離型剤散布部12において離型剤を散布する前に表面温度計21によりアノード鋳型2の温度を測定する測定ステップS13。そして、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型2を上記検出処理部22により検出しておき検出ステップS15、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型2に鋳込み工程S1で鋳込んだ電解用アノード15を剥取り工程S3で剥取機11により剥ぎ取った直後に鋳型冷却部23において散水冷却を行なうことにより冷却ステップS12、上記アノード鋳型2を規定温度まで確実に冷却する。したがって、ターンテーブル1上の各アノード鋳型2を個別に温度管理を行なうことができ、適切にアノード鋳型2を冷却することにより、アノード鋳型2の寿命を延ばし、所定の形状の電解用アノードを効率よく鋳造することができる。"