分光測定装置における入力光とその迷光成分との対応関係を示す補正パラメータを保持する保持手段と、前記分光測定装置が試料を測定して得た測定分光データを取得する取得手段と、前記補正パラメータを用いて、前記測定分光データに含まれる迷光成分を推定する推定手段と、該推定された迷光成分を前記測定分光データから除く補正手段と、を有し、前記補正パラメータは、分光波長ごとに、前記入力光と前記迷光成分との光量比または強度比を示す比率情報と、前記入力光と前記迷光成分との波長差を示すシフト情報と、を含むことを特徴とする画像処理装置。前記推定手段は、前記測定分光データに前記比率情報を乗じ、さらに、前記シフト情報に応じた波長シフトを行って得られた分光データを、前記迷光成分として推定することを特徴とする請求項1に記載の画像処理装置。前記保持手段は、前記比率情報および前記シフト情報を、前記入力光の波長の関数として保持することを特徴とする請求項1または2に記載の画像処理装置。前記推定手段は、前記試料に依存して変化する迷光成分を推定することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の画像処理装置。前記推定手段は、前記分光測定装置における撮像センサ内での多重反射や回折格子の光学特性により発生する迷光成分を推定することを特徴とする請求項4に記載の画像処理装置。前記分光測定装置は、試料に光源の光を照射して前記試料の反射光の分光データを測定し、前記保持手段はさらに、前記分光測定装置において測定された前記光源の分光データより検出された、前記試料に依存しない迷光成分を保持し、前記補正手段はさらに、前記光源の分光データより検出された迷光成分を前記測定分光データから除くことを特徴とする請求項4または5に記載の画像処理装置。前記保持手段は、前記光源からの光が前記分光測定装置の筺体内で内面反射することにより発生する迷光成分を、前記試料に依存しない迷光成分として保持することを特徴とする請求項6に記載の画像処理装置。保持手段、取得手段、推定手段、および補正手段を有する画像処理装置における画像処理方法であって、前記保持手段が、分光測定装置における入力光とその迷光成分との対応関係を示す補正パラメータを保持し、前記取得手段が、前記分光測定装置が試料を測定して得た測定分光データを取得し、前記推定手段が、前記補正パラメータを用いて、前記測定分光データに含まれる迷光成分を推定し、前記補正手段が、該推定された迷光成分を前記測定分光データから除き、前記補正パラメータは、分光波長ごとに、前記入力光と前記迷光成分との光量比または強度比を示す比率情報と、前記入力光と前記迷光成分との波長差を示すシフト情報と、を含むことを特徴とする画像処理方法。コンピュータ装置で実行されることにより、該コンピュータ装置を請求項1乃至7のいずれか1項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。しかしながら、上記特許文献1に記載されたゴースト補正方法によれば、ゴースト分布を表す膨大なマトリクスデータを保持するために、膨大なメモリ量が必要であった。また、パッチ測定の度に、撮像センサの各画素出力に対して上記マトリクスデータを畳み込み積分する必要があるため、演算量も膨大となり、相応の処理速度がかかってしまう。本発明は上記問題を解決するためになされたものであり、分光測定装置において検出される迷光成分を、簡易な構成で高速かつ高精度に補正する画像処理装置および画像処理方法を提供することを目的とする。上記目的を達成するための一手段として、本発明の画像処理装置は以下の構成を備える。すなわち、分光測定装置における入力光とその迷光成分との対応関係を示す補正パラメータを保持する保持手段と、前記分光測定装置が試料を測定して得た測定分光データを取得する取得手段と、前記補正パラメータを用いて、前記測定分光データに含まれる迷光成分を推定する推定手段と、該推定された迷光成分を前記測定分光データから除く補正手段と、を有し、前記補正パラメータは、分光波長ごとに、前記入力光と前記迷光成分との光量比または強度比を示す比率情報と、前記入力光と前記迷光成分との波長差を示すシフト情報と、を含むことを特徴とする。本発明によれば、分光測定装置において検出される迷光成分を、簡易な構成で高速かつ高精度に補正することができる。以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の実施の形態は特許請求の範囲に関る本発明を限定するものではなく、また、本実施の形態で説明されている特徴の組み合わせの全てが本発明の解決手段に必須のものとは限らない。<第1実施形態>本実施形態では、試料に対して光源からの光を照射し、その反射光を測定する分光測定装置において測定された分光データから、本来測定されるべきでない迷光成分を除去する画像処理装置について説明する。詳細にはまず、分光測定装置における入力光とゴーストとの対応関係を示す補正パラメータを、予め保持しておく。そして、分光測定装置が試料を測定して得た測定分光データに含まれるゴーストを補正パラメータを用いて推定し、該推定されたゴーストを測定分光データから除く。なお、補正パラメータとしては、分光波長ごとに、入力光と迷光成分との光量比または強度比を示す比率情報と、入力光と迷光成分との波長差を示すシフト情報を含む。なお本実施形態では、分光測定装置において、特に撮像センサ内部での多重反射等により、測定対象光の正規位置からずれて検出される迷光成分を補正することを目的とする。●分光測定装置の構成、動作まず、本実施形態における分光測定装置の構成および動作について、図3を用いて説明する。本実施形態の分光測定装置は、凹面回折格子と撮像センサを組み合わせたローランド型光学系から構成される。なお、分光測定装置には様々な機能部位が存在するが、ここでは本実施形態に直接関係しない構成についての説明を省略する。図3に示すように、測定試料400を測定する分光測定装置300は、撮像を行うデバイス部320と、撮像結果として得られた信号に対しゴースト補正を施す制御部310からなる。まずデバイス部320において、光源301によって照らされたパッチ400の反射光が、スリット302を通過して入射する。すると、凹面回折格子303に入射した光が分光して反射し、さらに、反射した光は、凹面回折格子303の曲率半径を直径とする円上に結像する。そして、結像位置に配置した撮像センサ304を用いて、分光した光の強度を画素出力値として取得することで、入射光の分光情報を測定する。このとき、撮像センサ304内での多重反射や、凹面回折格子303の光学特性などに起因するゴーストが生じ、入射光とゴーストが重畳された信号が撮像センサ304から出力され、制御部310のA/D変換部311に入力される。制御部310において、光源制御部313は、光源301の光量、発光タイミングや発光時間等を制御する。撮像センサ制御部312は、撮像センサ304の動作を制御する。AD変換部311は、撮像センサ制御部312を用いて撮像センサ304から取得したアナログ信号をデジタル信号に変換する。信号処理部316は、AD変換後の分光情報に対し、詳細は後述するが、各種変換処理や補正処理等を行う。メモリ部315には、撮像センサ304から取得したAD変換後の分光情報や、信号処理部316にて変換/補正処理されたデータ、信号処理部316での処理に用いるパラメータ、等が保持される。例えば本実施形態のような分光測定装置では、入射光の分光情報を取得するために、撮像センサ304の画素と入射光の波長が対応づけられている。そこでメモリ部315には、図4に示すような、撮像センサ304における画素番号と入射光の波長との対応関係を示すテーブル等が保持されている。外部インターフェース314は、信号処理部316にて処理されたデジタル信号等を外部に出力する、あるいは外部からの信号を入力する。ここで図5に、信号処理部316における処理概要のフローチャートを示す。信号処理部316では、AD変換部311から入力した分光情報に対して、まずS501で入射光によらず発生する暗電流を補正する暗電流補正を行った後、S502で本実施形態の特徴であるゴースト補正を行う。その後、S503で分光反射率を算出し、S504で該分光反射率から色度CIELabを算出する。●ゴーストの数式モデルの説明および補正式の導出以下、本実施形態において検出されるゴーストの数式モデルを構築し、該モデルから、本実施形態におけるゴースト補正に用いられる補正式を導出する。まず、撮像センサ304のある画素位置iに対応する入射光の分光波長成分をT、センサ出力成分をQ、ゴーストをGとおく。センサ出力成分Qは、分光波長成分TとゴーストGとを加算した結果である。ゴーストGは、画素位置iからdiだけシフトした位置における分光波長成分Tの強度に比例すると仮定すると、下式で表わすことができる。なお、式においてαはゴースト比、iは画素番号、diは画素シフト量を表す。Q=TG=TαT...本実施形態の分光測定装置300では、上記図4に示したように画素と波長が対応づけられているため、上式において画素を波長に置き換えることができる。すなわち、式ではパラメータとして画素iと画素シフト量diを用いる例を示したが、これに代えて波長λと波長シフト量dλを用いても良い。ここで図6を用いて、上式の詳細について説明する。図6は、デバイス部320に単波長光が入力された場合の、撮像センサ304出力を示す。また図6は、デバイス部320に連続波長光が入力された場合の、撮像センサ304出力を示す。単波長光を測定した場合、図6示すように入力された単波長光に対応する分光波長からシフトした位置において広がりを持ったゴーストが生じる。また連続光を測定した場合、図6に示すように複数の波長の光からシフトした位置において広がりをもった複数のゴーストが生じ、その総和が撮像センサ304から検出される。この場合、画素位置iのゴーストとしては、そのシフトした位置の周りの複数の波長の光のゴーストが積分された結果となる。この積分結果は、シフトした位置の単波長光を入力した場合に生じるゴーストの積分値で近似されると考えられる。したがって、ゴースト比αは、入射光とゴーストとの光量比として与えられる。式のiにidiを代入すると、以下の式が得られる。Q=TαT...式を変形することで、以下の式が得られる。T=QαT...式を式に代入すると、以下の式が得られる。Q=TαQααT...上記式~式の操作を繰り返すことで、以下の式が得られる。Q=TαQααQαααT......ここで、実際に検出される程度のゴースト比α≒1を仮定すると、式の右辺第2項ααQ以降の項については、その影響は0.01以下となる。したがって、分光波長成分Tに対する影響は非常に小さいため、右辺第2項以降の項については無視できるとみなす。したがって、上式より以下の式が得られる。T=QαQ...以上の式によれば、センサ出力Qとゴースト補正パラメータから、ゴーストを取り除いた分光波長成分Tを導出することが可能となる。すなわち、式が本実施形態で用いるゴースト補正式である。●補正パラメータの取得処理以下、本実施形態において補正パラメータを取得する処理について、図7のフローチャートを用いて説明する。この処理は分光測定装置300の製造時に実行され、取得された補正パラメータがメモリ部315に保持される。まずS701において、予め用意しておいた基準光源の光を分光測定装置300で測定し、基準光の分光データを取得する。このとき、光源制御部313によって光源301をオフに設定することで、基準光のみをスリット302から分光測定装置300に入力する。ここで図8に、S701で測定する基準光の分光データ例を示す。同図に示すように、例えば基準光として複数の単波長光400nm、500nm、600nm、700nmのそれぞれを用いることで、~に示す分光データが取得される。図8からも分かるように、基準光を測定することで、基準光の分光データと、その基準光が入射した場合に生じるゴーストとを分離した状態で取得することができる。なお、本実施形態の分光測定装置300では、撮像センサ304の画素と、検出される光の波長とを関係付けるために、その製造時に図8に示すような単波長光を測定して、図4に示すようなセンサ画素と検出波長との対応関係を算出している。この作業を波長校正作業と称する。そのため、S701における基準光測定処理は、波長校正作業における測定と共通化することができ、改めて測定を行わなくても良い。次にS702では、S701で得た分光データから、ゴースト比とシフト量の情報を、補正パラメータとして算出する。この補正パラメータの算出を、S701で測定した全ての基準光に対して行うことで、全ての基準光に対応するゴースト比とシフト量が算出される。ゴースト比は、S701で取得した分光データにおける測定光とゴーストの光量比として、撮像センサ304の画素出力の積分値から算出する。例えば図9に示すような分光データにおいて、入力光AとゴーストBの光量比BA=ゴーストの積分値入力光の積分値=134となる。本実施形態ではこの光量比を、ゴースト比とする。またシフト量として、S701で取得した分光データから、図9に示すように、測定光の画素位置からゴーストの発生した画素位置までの差分を示すシフト量を算出する。シフト量の算出方法としては、測定光とゴーストの波形ピークの移動量から算出する方法や、波形重心の移動量から算出する方法等を用いることができる。波形ピークの移動量から算出する場合には、関数フィッティングによるピーク計算あるいは最大値をピーク値とすれば良い。次にS703では、S702で取得した測定光に対応するゴースト比とシフト量の補正パラメータに対して補間演算を行い、任意の分光波長に対応するゴースト比とシフト量を算出する。具体的には、測定光に対応する補正パラメータに対して関数フィッティングを行って多次項近似曲線を算出する。図10に、図8に示す基準光を用いた場合に算出される多次項近似曲線の具体例を示す。図10はゴースト比の近似曲線1601を示し、図10は画素シフト量の近似曲線1602を示している。この近似曲線から、任意の入力光とゴーストの強度比、ゴーストのシフト量の対応関係が算出できる。ここで図11に、S703で算出される、入力光と補正パラメータの対応関係を示すテーブル例を示す。図11は、入力光の画素番号と、ゴースト比、画素シフト量との対応関係を示すテーブルである。また図11は、入力光の画素番号と、ゴースト比、画素シフト量との対応関係を表す近似曲線の係数を示すテーブルである。すなわち、図11または図11のいずれかの形式で、補正パラメータの対応テーブルを作成すれば良い。なお、本実施形態の分光測定装置300では、図4に示すように画素と波長が対応づけられているため、図11における画素番号シフト量はそれぞれ、波長シフト量に置きかえることが可能である。すなわち、上記ゴースト比、シフト量は、画素ごとに異なる値であり、すなわち、入力光の波長の関数である。なお、S702、S703における演算処理は、取得した分光データを外部インターフェース314経由で外部PCに転送して、外部PCにて行えば良い。次にS704で、S703の補間演算により得られた補正パラメータ、すなわち任意の入力光と、ゴーストの強度比およびゴーストのシフト量の対応関係を、メモリ部315に書き込む。分光測定装置300は、補正パラメータがメモリ部315に保存された状態で製品出荷される。なお、補正パラメータの算出および格納は、製品出荷後であっても所定のタイミングで行われることが望ましい。なお、S701での測定対象となる基準光として、図8に示すような複数の単色光を用いる例を示したが、基準光として複数の輝線スペクトルを有する光を用いることも可能である。この場合、図12に示すように、複数の輝線1~3およびそれぞれのゴーストを同時に測定できるため、該複数の輝線1~3に対応する補正パラメータを同時に取得することができる。本実施形態では以上のように算出された補正パラメータを用いて、測定する任意の入力光に対応するゴーストを推定することが可能となる。●ゴースト補正処理以下、上記処理によって取得された補正パラメータを用いたゴースト補正処理について、図13のフローチャートを用いて説明する。ここでは、パッチの測色データに対し、ゴースト比とシフト量の情報を用いたゴースト補正を行う。分光測定装置300の信号処理部316では、パッチの分光データに対して図5のフローチャートに示す各種変換/補正処理が行われるが、S502がゴースト補正処理である。また、S503の分光反射率の算出処理において、白色基準板の測色データを用いるが、この白色基準板データに対しても下記と同様の手順でゴースト補正が実行される。まずS1201において、分光測定装置300で測定したパッチの分光データQを取得する。次にS1202では、S1201で取得した分光データQに対し、メモリ部315に保持されているゴースト比αを乗算する。この乗算後の分光データを式に示す。αQ...次にS1203では、S1202で算出した乗算後のデータを、メモリ部315に保持されているシフト量diの分、画素方向へシフトさせることで、ゴーストGを得る。この算出式を式に示す。なお、式に示すシフト計算では、実際の入力データQが離散データであるため、シフト後のデータを算出するのに補間演算が必要となる。G=αQ...上記S1202におけるゴースト比乗算処理、およびS1203における画素シフト処理によって、ゴーストGが推定される。なお、S1202とS1203の実行順序は入れ替えても良い。ここで図14に、上式によってゴーストGが推定される様子を示す。同図において、測定された分光データに対し、横矢印が式によるシフト処理を示し、さらに縦矢印が式によるゴースト比の乗算を示す。図14によればこの測定光に対するシフト、乗算処理により、ゴーストが推定されることが分かる。なお、メモリ部315に図11のような近似曲線の係数テーブルが保存されている場合には、該近似曲線に基づいて図11のように画素毎のゴースト比およびシフト量を算出した後、上記S1202、S1203の処理を行えば良い。次にS1204では、S1201で入力した元の分光データQから、S1203で推定したゴーストGを、下式に示すように減算することで、ゴーストを除いたパッチのみの分光波長成分Tを得ることができる。T=Q-G...以上説明したように本実施形態によれば、分光測定装置300で測定したパッチの分光データから、正規の入射光成分からずれた位置で検出されるゴーストを除去することができる。したがって、分光測定時に撮像センサにおいて検出される不要光成分を補正し、パッチに対して高精度な測色を行うことが可能となる。なお、本実施形態では入射光とゴーストの比率情報として光量比を用いたが、この比率情報は光量比に限定されず、入射光とゴーストの比率を示すその他の指標であっても良い。例えば、測定光とゴーストの波形ピークの強度比を用いても良い。ゴースト比として強度比を用いるメリットは以下の通りである。すなわち、各波形ピークの比率からゴーストを推定するため、ゴーストを過剰に見積もる心配がなく、安定した補正が可能である。また光量比を用いるメリットは以下の通りである。すなわち、各波形の積分値の比率からゴーストを推定するため、入射光とゴーストでボケ具合に大きな差がある場合であっても、入射光が連続波長光である前提において適切な補正が可能である。このように、入射光とゴーストの比率情報としては、分光測定装置の特性に応じて適切な指標を選択すれば良い。<第2実施形態>以下、本発明に係る第2実施形態について説明する。上述した第1実施形態では、撮像センサ内での多重反射や回折格子の光学特性により生じるゴーストを補正する例を示した。第2実施形態では該第1実施形態に加えて、分光測定装置の筺体での内面反射により生じるゴーストの補正を行う例を示す。なお、第2実施形態における分光測定装置の構成は上述した第1実施形態と同様であるため図3を参照することとし、説明を省略する。第1のゴーストは、撮像センサ304内での多重反射や回折格子の光学特性により発生するものであるから、光源301の明るさや撮像センサ304の蓄積時間に依存して変化するのはもちろん、測定試料であるパッチの色相や明度等にも依存する。一方、第2のゴーストは、光源301からの光が分光測定装置300の筺体内で反射し、撮像センサ304に入射することで発生する。そのため、第2のゴーストは、光源301の明るさや撮像センサ304の蓄積時間に依存して変化する一方、測定試料の色相や明度等には依存せず、一定量が検出される。したがって第2のゴーストについては、第1実施形態で補正した測定試料に依存する第1のゴーストとは補正工程を分離することができる。すなわち第2実施形態は2段階のゴースト補正工程を有し、前段の第1のゴースト補正工程では第1実施形態と同様に第1のゴーストを補正し、後段の第2のゴースト補正工程では第2のゴーストを補正する。このように2段階のゴースト補正工程を実行することで、分光測定装置300において検出されるゴーストを、より高精度に除去することが可能となる。●分光測定装置の構成、動作上述したように、第2実施形態における分光測定装置300の構成は第1実施形態と同様である。ここで図15に、第2実施形態の信号処理部316における処理概要のフローチャートを示す。図15に示すように第2実施形態においては、第1のゴースト補正工程と第2のゴースト補正工程を有する。第1のゴースト補正工程としては、第1実施形態で図5に示したS502と同様の手順による第1の補正処理を行う。また第2のゴースト補正工程としては、以下に説明する手順による第2の補正処理を行う。なお、他の工程については図5と同様である。●ゴーストの数式モデルの説明および補正式の導出第2実施形態におけるゴースト補正式は、下式のように導出される。T=QαQP...式において、iは撮像センサ304の画素位置、Tは入射光の分光波長成分、Qはセンサ出力、Pは第2のゴースト、αはゴースト比、diは画素シフト量を示す。式は、第1実施形態で示したゴースト補正式に対し、分光測定装置300の内面反射に起因する第2のゴーストPの減算処理が追加されている。第2実施形態においてはすなわち、第1のゴースト補正工程で式における右辺第2項までの演算αQを行い、さらに第2のゴースト補正工程で式における第3項の演算を行う。●補正パラメータの取得処理以下、第2実施形態における補正パラメータの取得処理について説明する。まず、第1のゴースト補正用である補正パラメータを、第1実施形態で図7に示したフローチャートと同様の手順により算出する。すなわち、任意の入射光に対応したゴースト比α、シフト量diを算出して補正テーブルとしてメモリ部315に格納する。第2のゴースト補正用である補正パラメータとしては、上式に示す第2のゴーストPiそのものを算出する。詳細には、まず、分光測定装置300における測定対象面に、反射光を遮る光トラップ装置を設置する。これにより分光測定装置300は、入射光が存在しない暗状態となり、この状態で光源301をオンにして撮像センサ304出力を取得する。これにより、分光測定装置300の筺体内で光源301からの光が内面反射した光による分光データが得られ、該分光データから暗電流成分を取り除いた値を、第2のゴーストとしてメモリ部315に保持する。ここで図16に、撮像センサ304の画素位置ごとに得られた、第2のゴーストの例を示す。なお、分光測定装置300が光源301の明るさ調整機能を有する場合には、光源の明るさに応じて第2のゴーストを保持しておく。また、分光測定装置300がパッチの明度に応じて撮像センサ304の蓄積時間を調整する機能を有する場合には、蓄積時間毎に第2のゴーストを保持しておく。●ゴースト補正処理以下、第2実施形態におけるゴースト補正処理について説明する。まず、S1401の第1のゴースト補正処理においては、第1実施形態で図13に示した補正処理と同様に、測定された分光データに対してゴースト比を乗算し、シフトした後のデータを第1のゴーストとして推定する。そして、元の分光データから、推定した第1のゴーストを除去することで、第1のゴースト補正を行う。そして、S1402の第2のゴースト補正処理においては、S1401で第1のゴーストが補正された分光データから、メモリ部315に保持されている第2のゴーストを減算する。これにより、第2のゴースト補正が行われる。以上説明したように第2実施形態によれば、測定試料に依存する第1のゴーストを補正する第1実施形態に対し、さらに測定試料に依存しない第2のゴーストを補正する。これにより、分光測定装置300で測定された分光データに対し、様々な要因で発生するゴーストを高精度に補正することが可能となる。<その他の実施形態>また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェアプログラムを、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータまたはCPUやMPU等がプログラムを読み出して実行する処理である。