表面用の加工システム又は試験システムに利用できるデータレコードの形態の3次元構造化オリジナル圧刻表面の反射特性を分析して記述するための方法であって、a最初に、該オリジナル圧刻表面のトポロジを3次元の走査方法を用いて走査し、該表面のトポロジデータを決定し、このように決定されたトポロジデータであって、オリジナル圧刻表面を走査したラスタの各々の面素に属する深さ値を実質的に含むトポロジデータを第1のデータレコードに記憶し、各面素は、オリジナル圧刻表面の深さマップが得られるように、測定された深さ値が割り当てられており、b前記第1のデータレコードについて、エッジ検出を行い、次に、深さ値を参照して平均計算を行って、前記反射特性に対する深さ値の影響に関する深さ値の評価を行い、c平均計算で得られた、エッジの周波数及び/又は高さを記述する値を、反射値として各々の面素に割り当てて、第2のデータレコードに記憶し、以後、各面素に割り当てられた反射値を含む第2のデータレコードが、別の加工システム又は試験システムに利用可能になることを特徴とする方法。面素がグループに組み合わせられ、各々の場合に、近接演算によってグループの内部で平均計算されたエッジ周波数及び/又は高さが前記グループに割り当てられて、前記第2のデータレコードに記憶されるように、前記平均計算が前記エッジ検出後に実行されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。前記第1のデータレコードの深さ値の方向に依存するフィルタリングがエッジ検出の前に実行されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。前記フィルタリングが、指向性のガウスフィルタリングによって前記エッジ検出の前に実行されることを特徴とする、請求項3に記載の方法。前記方法ステップbとcが、b前記オリジナル表面の、前記深さ値の前記第1のデータレコードによって特徴づけられる、前記輪郭に作用する光放射が、シミュレーションモデルによって記述されるように、c前記光放射の反射が、反射値に割り当てられかつ第2のデータレコードに記憶される被照射面素の深さの不連続から計算されるように、設計されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。人工的に生成されたプラスチックフィルムの圧刻表面の反射特性に影響を及ぼす/を改善するための請求項1から5までのいずれか一項に記載の方法の使用において、d前記第2のデータレコードの反射値がクラスに分割され、e前記分類された反射値に割り当てられた前記第1のデータレコードの深さ値が前記分類に従って変更され、f前記変更された深さ値が、前記人工的に生成される表面を加工するための工具を電子制御するためのパラメータとして使用されることを特徴とする、方法の使用。したがって、本発明の目的は、表面の反射特性を客観的に決定することができ、さらに、下流側システムに利用できるパラメータに反射特性を変換し、また自然に忠実に反射特性の説明を可能にし、かつ特に人工的表面を生成するために、これらの特性をデータレコードの形態で利用可能にする方法を提供することである。この目的は、主請求項の特徴によって達成される。さらに有利な改良が従属請求項に開示されている。同様に、本方法の有利な使用が開示される。ここで、本発明の解決方法は、次のこと、すなわち、a最初にオリジナル表面のトポロジが3次元の走査方法を用いて決定され、このように決定され、かつオリジナル表面に跨るラスタの各々の面素に属する高さと深さとを実質的に含むトポロジデータが第1のデータレコードに記憶され、オリジナル表面の深さマップが得られるように各々の面素又はラスタ要素に測定された深さ値が割り当てられ、b第1のデータレコードが、反射特性に対する深さ値の影響に関する当該深さ値の評価を受け、c評価に応じて、反射値が各々の面素に割り当てられて、第2のデータレコードに記憶され、その後、各々の面素に割り当てられた反射値/パラメータを含む第2のデータレコードが別の加工システム又は試験システムに利用できるということにおいて成り立つ。以前に知られている方法が光沢度を介した表面全体の主観的な評価のみを含むか、あるいはバーチャルな照明源の影響を受けて、一般化された方法で写真又はCADコンピュータ支援設計シミュレーションを介して反射を表面に割り当てるのに対し、本発明の解決方法の場合の重要なステップは、異なって小さな面素の3次元表面に実際に存在する巨視的な深さ構造に、表面の反射特性を結合することにある。このように、本発明による方法は、一般化された方法から逸脱し、深さ構造、すなわち、表面の高解像度のトポロジマップと局所的な反射挙動との相関関係を発生する。1つの有利な発展形態は、方法ステップbとcが、b第1のデータレコードがエッジ検出を受け、次に、深さ値を参照して平均計算を受け、c平均計算によって獲得されかつエッジの周波数及び/又は高さを記述する値が、反射値として各々の面素に割り当てられて、第2のデータレコードに記憶されるように設計されるということにおいて成り立つ。エッジにおける光の散乱の物理的効果、及びこれによって影響を受けるランダムに配置された数のエッジの反射性から進んで、ここにさらに形成される解決方法は、計算用のデータとして、実際の物理的に存在する深さ情報及び/又は深さの差、すなわち、実際のエッジを最初に提供することによって、エッジ検出の画像処理からそれ自体公知である方法を特定の数学的演算子により、すなわち、例えば、ソーベル又はラプラス演算子により3次元表面の反射分析に有用ならしめることにある。具体的に、従来の画像処理では、実行されてきたすべてのことは、2次元の観測、輝度差によって形成された画像内の境界の検出及び処理である。これらの境界はエッジとして、またそれらの検出はエッジ検出として示されている。例えば、加工されるべきまたカメラを用いて写真撮影されるか又は撮影される対象物をアセンブリラインで検出又は計数するために、このようなエッジ検出が使用される。このような2次元の観測は、2次元の空間割当を検出するために確かに十分であるが、3次元表面の複雑な構造には十分でなく、そこから導かれるべき反射特性のモデル化にも十分でない。反射値によって説明される反射特性は、その他、絶対値として記憶される必要はなく、相対的な反射値、すなわち、本方法の実施のために、同様にその使用のために、個々の面素の反射値の間の差で十分である。例えば、相対的なエッジ周波数は、反射値を説明するパラメータとして記憶することができる。一発展形態は、面素がグループに組み合わせられ、各々の場合に、近接演算によってグループの内部で平均計算されたエッジ周波数及び/又は高さがグループに割り当てられて、第2のデータレコードに記憶されるように、平均計算がエッジ検出後に実行されることにある。例えば、このような平均計算は、演算子としてのガウスフィルタによって実行される。このことにより、特徴付け又は一般化が行われ、これによって、適切な場合、大幅に変化する数及び厚さ/高さのエッジが適切に均質化された反射値に帰され、このことは、更なる方法の際に、そして例えば、処理機械を制御するためのデータに使用の際に有利であることができる。1つのさらなる有利な発展形態は、第1のデータレコードの深さ値の、方向に依存するフィルタリングがエッジ検出の前に実行されることにある。様々な数学演算子を用いて実施することができるこのような方向に依存するフィルタリングによって、異なる照明条件又は観測角度について反射特性を同様に客観的かつ測定可能に表すことができるように、通常のエッジ検出によってエッジ高さ及びエッジ周波数に向かってのみ向けられる反射に関する表現が実質的に洗練される。さらに有利な発展形態は、フィルタリングが指向性のガウスフィルタリングによってエッジ検出前に実行されることにある。ここで関係するものは、迅速に働き、かつ容認可能な時間内にそれらの反射特性に関する十分な数の方向表示を可能にする簡単な演算子である。1つの有利な発展形態は、bオリジナル表面の、深さ値の第1のデータレコードによって特徴づけられる、輪郭に作用する光放射が、シミュレーションモデルによって記述されるように、c光放射の反射が、反射値に割り当てられかつ第2のデータレコードに記憶される被照射面素の深さの不連続から計算されるように、方法ステップbとcを設計することによって実際の3次元構造の反射特性/反射値を決定するために、いわゆるレイトレーシング方法を使用することにある。厳密に物理的な整列に基づき、またシミュレーションモデルに応じて、本方法のこの発展形態は、反射性の客観的な説明において非常に優れた結果をもたらすが、特に方向に依存する観察の場合に大きな計算費用を必要とする。人工的に生成される表面、特に圧刻されるプラスチックフィルムの表面の反射特性に影響を及ぼす/を改善するための本方法の特に有利な1つの使用は、d第2のデータレコードの反射値がクラスに分割され、e分類された反射値に割り当てられた第1のデータレコードの深さ値が分類に従って変更され、f変更された深さ値が、人工的に生成される表面を加工するための工具を電子制御するためのパラメータとして使用されることにある。本発明による方法は、したがって、人工的表面を生成するための任意の種類の方法に使用することができる。したがって、反射特性に関し修正され、したがって最適化される表面の深さ構造は、前もって生成された任意の基本的な深さスキーム/構造スキームに簡単なパラメータとして重ね合わせることができ、したがって、制御変数として直接利用できる。一例として、かかる方法は、消費者が所望する頑丈な印象を有するが、特定の光入射の場合にダッシュボードで不快に反射するその形状及び圧刻のため自動車内装用に選択された革、例えば水牛の革を、全体的な印象に影響を及ぼすことなしに、反射が最適化された深さ構造を有するプラスチック成形スキンとして製造することを可能にする。