ワーク吸着用のワーク吸着電極を備えたチャック部材とワーク加熱用の発熱体を備えたヒーター部材とが積層されて、チャック部材側に吸着されたワークをヒーター部材によって加熱することができるワーク加熱装置であって、ヒーター部材が、チャック部材に対向する面と発熱体との間にチャック部材を吸着するチャック吸着電極を備えて、チャック部材とヒーター部材とが着脱可能に積層されたことを特徴とするワーク加熱装置。ワーク吸着用のワーク吸着電極を備えたチャック部材とワーク加熱用の発熱体を備えたヒーター部材とが積層されて、チャック部材側に吸着されたワークをヒーター部材によって加熱することができるワーク加熱装置であって、チャック部材が、ヒーター部材に対向する面とワーク吸着電極との間にヒーター部材を吸着するヒーター吸着電極を備えて、チャック部材とヒーター部材とが着脱可能に積層されたことを特徴とするワーク加熱装置。ガス媒体を流す管路を内部に備えてこの管路に接続したガス孔を表面に有するベース基盤に、ヒーター部材を対向させて載置して使用する請求項1又は2に記載のワーク加熱装置であって、ヒーター部材がベース基盤のガス孔に通ずる貫通孔を有して、ヒーター部材とチャック部材との界面にベース基盤側から供給されたガス媒体が存在するようにして積層されたことを特徴とするワーク加熱装置。ヒーター部材が、ベース基盤に対向する面と発熱体との間にベース基盤を吸着するベース吸着電極を備えるか、又は、ベース基盤に対向する面に樹脂材料からなる吸着シートを備えて、ベース基盤に対して着脱可能に載置される請求項3に記載のワーク加熱装置。吸着シートは、弾性率が0.5MPa以上10MPa以下であると共に、三次元平均表面粗さSRaが0.01μm以上0.55μm以下の樹脂材料からなる請求項4に記載のワーク加熱装置。請求項1~5のいずれかに記載のワーク加熱装置をベース基盤上に載置してなることを特徴とするワーク処理装置。このような状況のもと、本発明者等は、従来のワーク加熱装置が有する問題を解決するために鋭意検討したところ、チャック部材の変形等が、チャック部材とヒーター部材との熱膨張差によって生じる内部応力に起因するものであるという知見を得た。そこで、両者をクーロン力等の電気的な力によって吸着した積層構造にすることで、チャック部材の変形等を防ぐことができるようになり、また、この問題の解消のみならず、両者を固定するための接着剤層が不要になることからワーク温度制御のレスポンス性が高まると共に、ワーク全面に対する均熱性をより高めることができるようになることを見出し、本発明を完成するに至った。したがって、本発明の目的は、ワークを高い均熱性によって加熱することができると共に精緻な温度制御が可能であり、しかも、チャック部材の変形等を防いで、長期に亘って信頼性良く使用することができるワーク加熱装置、及びこれを用いたワーク処理装置を提供することにある。すなわち、本発明は、ワーク吸着用のワーク吸着電極を備えたチャック部材とワーク加熱用の発熱体を備えたヒーター部材とが積層されて、チャック部材側に吸着されたワークをヒーター部材によって加熱することができるワーク加熱装置であって、ヒーター部材が、チャック部材に対向する面と発熱体との間にチャック部材を吸着するチャック吸着電極を備えて、チャック部材とヒーター部材とが着脱可能に積層されたことを特徴とするワーク加熱装置である。また、本発明は、ワーク吸着用のワーク吸着電極を備えたチャック部材とワーク加熱用の発熱体を備えたヒーター部材とが積層されて、チャック部材側に吸着されたワークをヒーター部材によって加熱することができるワーク加熱装置であって、チャック部材が、ヒーター部材に対向する面とワーク吸着電極との間にヒーター部材を吸着するヒーター吸着電極を備えて、チャック部材とヒーター部材とが着脱可能に積層されたことを特徴とするワーク加熱装置である。更に、本発明は、上記のワーク加熱装置をベース基盤上に載置してなることを特徴とするワーク処理装置である。本発明のワーク加熱装置は、ワーク吸着用のワーク吸着電極を備えたチャック部材とワーク加熱用の発熱体を備えたヒーター部材とを電気的な吸着力によって着脱可能に積層させたことを特徴とする。すなわち、少なくともワーク加熱装置の使用時には、チャック部材とヒーター部材との間に電気的な吸着力を作用させて両者を固定し、使用前や使用後のようにワークの処理を行っていないときには、電気的な吸着を止めることでチャック部材とヒーター部材とを容易に分離することができる。このようなワーク加熱装置を形成する上で、本発明では次のような2つの構成例を採用することができる。先ず、第1の構成例としては、ヒーター部材側にチャック部材を吸着するためのチャック吸着電極を備えたワーク加熱装置であり、第2の構成例は、チャック部材側にヒーター部材を吸着するためのヒーター吸着電極を備えたワーク加熱装置である。いずれの場合においても、本発明では、接着剤層を介さずにチャック部材とヒーター部材とが垂直方向に働く吸着力によって吸着された状態を形成するため、熱膨張差によって水平方向に伸び縮む力が生じても、チャック部材とヒーター部材はその方向にすべることができ、チャック部材やヒーター部材の反り等を緩和することができる。なお、チャック部材とヒーター部材とを電気的な吸着力によって積層するには、理論上、チャック部材におけるワーク吸着電極の裏面側ワークと反対側の面に発現する吸着力を利用することも考えられるが、これでは吸着されたワークを解放するためにワーク吸着電極に印加される電圧を切ると、チャック部材-ヒーター部材間を保持する吸着力も無くなってしまうため、ワークを処理する作業において不都合である。そのため、本発明ではワーク吸着電極とは別に、上記のようなチャック吸着電極又はヒーター吸着電極を設けるようにする。また、チャック吸着電極とヒーター吸着電極を併用してもよいが、機能上はいずれか一方のみで十分である。先ず、ヒーター部材側がチャック部材を吸着するためのチャック吸着電極を備える第1の構成例では、チャック部材に対向する面と発熱体との間にチャック吸着電極を設けるようにする。このうち、チャック吸着電極については、チャック部材をクーロン力、ジョンソンラーベック力、グラディエント力等のような電気的な吸着力によって吸着することができるものであれば、その材質や形成手段等は特に制限されず、例えば、金属箔を所定の形状にエッチングして形成してもよく、スパッタ法やイオンプレーティング法のほか、金属材料を溶射したり、導電性インクを用いた印刷法など、公知の方法を採用することができる。このチャック吸着電極は、いわゆる単極型又は双極型のいずれを構成するものであってもよく、例えば、平板状、半円状、櫛歯状やメッシュのようなパターン形状など、適宜選定することができるが、チャック部材に対して発現する吸着力の観点や、電圧を印加する上での装置構成をより簡便にできるなどの観点から、好ましくは、所定のパターンに形成された電極部が互いに電位差を生じるように交互に組み合わされたような双極型のチャック吸着電極からなるのが良い。また、ヒーター部材-チャック部材間の着脱をより簡単に行うことができるようにするために、好ましくは、ON/OFFの切り替えスイッチを有して外部電源に接続可能な接続端子を備えるようにするか、或いは、ON/OFFスイッチを介して外部電源に接続できるようにしておくのが良い。なお、チャック吸着電極の厚みについては特に制限はないが、発熱体からワークまでに形成される距離等を勘案すると、25μm以上100μm以下程度にするのが望ましい。また、ヒーター部材における発熱体は、通電によって発熱する抵抗発熱体を好適に用いることができ、例えば、金属線のほか、金属板や金属箔をそのまま使用したり、所定のパターンにエッチングして形成してもよく、或いは、導電性インクを用いた印刷法により形成するなど、公知の発熱体を採用することができる。発熱体には、チャック吸着電極の場合と同様、ON/OFF切り替えスイッチを有した外部電源に接続可能な接続端子を備えるようにするか、或いは、ON/OFFスイッチを介して外部電源に接続できるようにしておくのが好ましい。更にこの発熱体は、ワークに対して所定のエリア毎に温度制御ができるように、複数に分割して形成してもよく、その場合には、エリア毎の発熱体にそれぞれ接続端子を設けたり、外部電源に接続できるようにしておくのが良い。そして、好適には、少なくとも2つの誘電体の間に発熱体が挟み込まれたようにしてヒーター部材を形成するのがよいが、第1の構成例では、更にこのヒーター部材が、チャック部材に対向する面と発熱体との間にチャック吸着電極を有した構造にする必要がある。チャック吸着電極は、チャック部材に対向する面と発熱体との間であればどの位置であってもよいが、ワークに対する加熱応答性等を考慮すると、発熱体とチャック吸着電極との間の距離が25μm以上100μm以下となるようにするのが良く、好ましくは25μm以上50μm以下であるのが良い。ヒーター部材を形成するにあたっては、上記のとおり、例えば、ポリイミドやポリエチレンテレフタラートPET等の絶縁性樹脂フィルム、セラミック板のほか、アルミナ粉末、窒化アルミニウム粉末、ジルコニア粉末等のセラミック粉末を溶射して形成したセラミック溶射膜など、公知の誘電体を用いて発熱体が挟み込まれるようにすると共に、所定の位置にチャック吸着電極が位置した構造にすればよい。その際、同じ材質からなる誘電体を用いてヒーター部材を形成してもよく、2種以上の誘電体を用いてもよい。また、ボンディングシートや接着剤等を用いてヒーター部材を形成するようにしてもよい。なお、使用する誘電体の種類によっても異なるためヒーター部材の厚みは特に制限されないが、後述するように、ベース基盤上にワーク加熱装置を載置して使用し、ベース基盤による冷却機構を使用することなどを考慮すると、発熱体及びチャック吸着電極を含めた全体の厚みが0.2mm以上0.7mm以下程度になるようにするのが望ましい。また、第1の構成例におけるチャック部材については、その一方の面をワーク吸着面としてワークを電気的な吸着力によって吸着させることができると共に、他方の面はヒーター部材が備えるチャック吸着電極によって吸着されるものであればよく、好適には、少なくとも2つの誘電体によって内部にワーク吸着電極が挟み込まれたような構造を有するものである。ここで用いられる誘電体は、ヒーター部材の形成において挙げたような公知のものを使用することができ、必要に応じてボンディングシートや接着剤等を用いるようにしてもよい。また、ワーク吸着電極についても、上記チャック吸着電極の形成に挙げたような公知の材料を用いて形成することができ、吸着対象のワークの種類やサイズ等に応じて単極型又は双極型を選択しながら、ワーク吸着電極の形状を適宜設計すればよい。更に、チャック部材の厚みは特に制限されないが、ヒーター部材の発熱体からワークまでの距離を考慮すると、120μm以上300μm以下程度になるようにするのが望ましい。次に、第2の構成例では、チャック部材がヒーター部材に対向する面とワーク吸着電極との間にヒーター部材を吸着するヒーター吸着電極を備えるようにして、チャック部材とヒーター部材とを着脱可能に積層する。このヒーター吸着電極は、ヒーター部材を電気的な吸着力によって吸着することができるものであればよく、第1の構成例におけるチャック吸着電極で挙げたような材質、形状等を採用することができ、接続端子を設けたりする点やヒーター吸着電極の厚みについても同様である。また、ヒーター吸着電極は、ヒーター部材に対向する面とワーク吸着電極との間であればどの位置であってもよいが、ワークに対する加熱応答性等を考慮すると、ワーク吸着電極とヒーター吸着電極との間の距離が25μm以上100μm以下となるようにするのが良く、好ましくは25μm以上50μm以下であるのが良い。第2の構成例におけるチャック部材は、上記のようにヒーター吸着電極を備えるようにした以外は第1の構成例におけるチャック部材と同様にすることができ、その厚みは、ヒーター吸着電極を含めた分を考慮して0.2mm以上1mm以下程度になるようにするのが望ましい。一方、ヒーター部材については、チャック吸着電極を無くすようにした以外は第1の構成例におけるヒーター部材と同様にすることができ、その厚みは0.1mm以上0.3mm以下程度になるようにするのが望ましい。本発明におけるワーク加熱装置は、好適には、ガスや液体のような媒体を流す管路を内部に備えたベース基盤に載置してワーク処理装置として使用するのが良い。ヒーター部材による加熱のみならず、ベース基盤の内部に媒体を流す冷却効果によって、ワークの処理に応じたより適切な温度制御を行うことができる。また、ガス媒体を流す管路を内部に備えてこの管路に接続したガス孔を表面に有したベース基盤に対して、好ましくは、ヒーター部材がベース基盤のガス孔に通ずる貫通孔を有するようにするのが良い。すなわち、本発明では、ヒーター部材とチャック部材との間は接着剤層によって固着されているのではなく、両者が電気的な吸着力により引き付け合っている。少なくともこれらの部材の界面には誘電体チャック吸着電極又はヒーター吸着電極の場合もあるの表面粗さに由来する微視的な凹凸が存在することから、ヒーター部材の表裏面を貫通する貫通孔を設けることで、ベース基盤側から供給されたガス媒体がヒーター部材とチャック部材との界面に存在して吸着されるようになる。吸着界面に存在するガスは熱の良媒体になり、特にワークを真空状態で処理するような場合においてその働きは顕著であって、従来使用されているアルミニウム板等の均熱プレートと同等、またはそれ以上の機能を奏する。勿論、ヒーター部材かチャック部材のいずれか一方又は両方にガス媒体用のガス溝を形成するようにしてもよく、また、チャック部材にも貫通孔を形成してヒーター部材の貫通孔と連接させて、ワークとチャック部材との界面にガス媒体が存在できるようにしてもよい。また、ベース基盤にワーク加熱装置を載置する際には、ボンディングシートや接着剤を用いて固着するようにしてもよいが、好ましくは、ヒーター部材が、ベース基盤に対向する面と発熱体との間にベース基盤を吸着するベース吸着電極を備えるか、又は、ベース基盤に対向する面に樹脂材料からなる吸着シートを備えるようにして、ベース基盤に対して着脱可能に載置できるようにするのが良い。ここで、ベース吸着電極を使用する場合は、上述したチャック吸着電極やヒーター吸着電極の場合と同様、公知の材料等を用いて形成することができ、接続端子を設けたりしておくのが好ましい。一方、吸着シートを使用する場合には、弾性率が0.5MPa以上10MPa以下、好ましくは2MPa以上3MPa以下であると共に、三次元平均表面粗さSRaが0.01μm以上0.55μm以下、好ましくは0.4μm以上0.5μm以下の樹脂材料からなる吸着シートを用いるのが良い。このような樹脂材料からなる吸着シートがベース基盤に対して着脱可能に吸着できる理由のひとつに、分子間力ファンデルワールス力が関係しているものと推測される。本発明者等は、一般的にアルミニウム合金等の金属基盤からなるベース基盤に対しては、上記のような弾性率や三次元平均表面粗さを有した樹脂材料が効果的であることを見出した。樹脂材料の具体例としては、シリコーン樹脂、スチレンブタジエンゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプレンゴム、ブタジエンゴム、フッ素ゴム、イソブチレンイソプレンゴム、ウレタンゴム等を挙げることができ、なかでも、シリコーン樹脂が好適である。本発明のワーク加熱装置では、チャック部材とヒーター部材とが電気的な吸着力によって積層される構造を有することから、ヒーター部材が加熱されてチャック部材との間で熱膨張差が生じても、これらの部材に反りや変形等を引き起こすような内部応力の発生を防ぐことができる。そのため、長期に亘って信頼性良く使用することができるようになる。また、チャック部材とヒーター部材との間の接着剤層が不要になり、積層構造自体がシンプルになることから、ワークに対してより速い熱応答性を有することができる。特に、ヒーター部材に所定の貫通孔を設けて、ベース基盤に載置して使用した際にベース基盤側から供給されるガス媒体がチャック部材とヒーター部材との界面に存在させることで、ヒーター部材からの熱を効率良く、且つ均一にワークに対して伝えることができ、ワークの緻密な温度制御が可能になる。更に、本発明のワーク加熱装置は、ワーク-チャック部材間の着脱とは別に、電圧印加のON/OFFによってチャック部材-ヒーター部材間の着脱も自在に行うことができることから、半導体製造装置等でのワーク処理を不都合なく行うことができると共に、例えばチャック部材が消耗した場合でも容易に部品交換することができ、メンテナンスを行う上でも好都合である。以下、添付した図面に基づきながら、本発明のワーク加熱装置について好適な実施の形態を説明する。[第1の実施形態]図1及び図2において、プラズマを用いて半導体基板をプラズマエッチングするプラズマエッチング装置等に適用できるようなワーク処理装置が示されている。このワーク処理装置では、チャック部材1とヒーター部材5とからなるワーク加熱装置14が、ガスを流す管路16を内部に備えたアルミニウム合金製のベース基盤15に載置されており、ワーク加熱装置14のチャック部材側に半導体基板等のワーク18を吸着して、例えばプラズマ処理に適した温度にワーク18を維持してプラズマエッチングするなど、所定の処理を行うことができる。このうちチャック部材1は、ワーク吸着用のワーク吸着電極3を誘電体2の内部に備えた構造を有しており、ワークの形状に応じて、例えば、厚さ0.1~5mm程度の円板状のアルミナ製セラミック板例えば京セラ社製A-479などを2枚使用し、一方のセラミック板に所定のマスクを介して厚さ0.1~50μm程度の銅を蒸着してワーク吸着電極3を形成して、エポキシ製接着剤等を介して他方のセラミック板を貼り合わせて形成することができる。この第1の実施形態は双極型のワーク吸着電極3を形成した例であって、櫛歯状の電極部3a及び3bが互い違いに組み込まれており、スイッチを有した外部電源に接続可能な接続端子4を有して、これらの電極部3a3b間に直流電圧が印加される様子を示している。また、ヒーター部材5は、ワーク加熱用の発熱体7を誘電体6の内部に備え、かつ、チャック部材1に対向する面と発熱体7との間にチャック部材1を吸着するチャック吸着電極8を備えると共に、ベース基盤15に対向する面と発熱体7との間にベース基盤15を吸着するベース吸着電極9を備えた構造を有する。このようなヒーター部材を形成する例として、先ず、厚さ25~125μm程度のポリイミドフィルムの片面に、チャック部材1におけるワーク吸着電極3の場合と同様にしてベース吸着電極9を形成し、ベース吸着電極側にエポキシ製接着剤を塗布して厚さ25~125μm程度のポリイミドフィルム例えば東レデュポン社製カプトンHや宇部興産社製ユーピレックスなどを熱圧着する。次いで、先にベース吸着電極9を形成したポリイミドフィルムの残った面に銀フィラーインクのような導電性インクを用いて厚さ5~30μm程度の抵抗発熱体7を印刷し、エポキシ製接着剤を介して厚さ25~125μm程度のポリイミドフィルムを熱圧着する。更に、このポリイミドフィルムの表面に、やはりワーク吸着電極3の場合と同様にしてチャック吸着電極8を形成し、エポキシ製接着剤を介して厚さ25~125μm程度のポリイミドフィルムを熱圧着して、最後に円板形状に切り出せばよい。この第1の実施形態において、チャック吸着電極8及びベース吸着電極9は、それぞれワーク吸着電極3の場合と同様の接続端子11及び12を有している。また、発熱体7は、ワークの形状に合わせて例えば平面形状を渦巻状にし、図示外の外部電源に接続可能な接続端子10を有している。そして、この第1の実施形態において、ベース基盤15の表面には管路16に通ずるガス孔17を有しており、ヒーター部材5には、このガス孔17に接続するように表裏面を貫通する貫通孔13が形成されている。この第1の実施形態のワーク処理装置を用いて、例えばプラズマエッチング装置で直径12インチのシリコン基板をプラズマエッチングする場合には、図1に示したように、ベース基盤15にヒーター部材5を載置し、ベース吸着電極9に500~2000V程度の直流電圧を印加してベース基盤15に吸着させる。また、ヒーター部材5の上にはチャック部材1を重ねてチャック吸着電極8に500~2000V程度の直流電圧を印加し、チャック部材1をヒーター部材5に吸着させる。そして、チャック部材1の表面をワーク吸着面としてシリコン基板を載せ、ワーク吸着電極3に500~2000V程度の直流電圧を印加してシリコン基板を吸着させる。シリコン基板をエッチング処理する際には、プラズマエッチング装置のワーク処理室内を101Pa~105Pa程度の真空にし、シリコン基板の温度が-80~250°Cの範囲内で所定の温度になるようにする。このとき、発熱体7を通電して発熱した熱によってシリコン基板が加熱されるが、チャック部材1を形成するアルミナ製セラミック板とヒーター部材5を形成するポリイミドフィルムはそれら自体が所定の表面粗さを有することから、ベース基盤15側から供給されたガス媒体がチャック部材1とヒーター部材5の界面に存在することになる。そのため、ヒーター部材5から発せられた熱は、このガス媒体を介してチャック部材1を通じてシリコン基板の全面を均一に加熱する。ワークの処理を終えた後には、チャック部材1のワーク吸着電極3に接続された外部電源のスイッチを切るなどしてワーク吸着電極3に対する電圧印加を止めれば、チャック部材1に吸着されたワークを解放することができる。また、必要に応じてメンテナンス等を行うような場合には、図2に示すように、ヒーター部材5のチャック吸着電極8に接続された外部電源のスイッチを切るなどして電圧の印加を止めれば、チャック部材1とヒーター部材5との間を簡単に分離することができ、また、ベース基盤電極9に接続された外部電源のスイッチを切るなどして電圧の印加を止めれば、ヒーター部材5とベース基盤15との間を簡単に分離することができる。[第2の実施形態]図3には、本発明のワーク加熱装置の変形例を用いたワーク処理装置が示されており、この第2の実施形態に係るワーク処理装置では、チャック部材1とヒーター部材5とからなるワーク加熱装置14が、ヒーター部材側に貼着された吸着シート29を介してアルミニウム合金製のベース基盤15に載置されている。このうちチャック部材1は、ワーク吸着用のワーク吸着電極22とヒーター部材5を吸着するヒーター吸着電極23とを誘電体21の内部に備えた構造を有しており、このうちヒーター吸着電極23は、ヒーター部材に対向する面とワーク吸着電極22との間に位置する。このチャック部材1を形成するには、例えば、第1の実施形態と同様にして片面に銅を蒸着してワーク吸着電極22を形成したアルミナ製のセラミック板と、片面に銅を蒸着してヒーター吸着電極23を形成したアルミナ製のセラミック板とを用意し、これらの間にアルミナ製のセラミック板を挟むようにしてそれぞれをエポキシ製接着剤等で貼り合わせて得ることができる。ワーク吸着電極22及びヒーター吸着電極23の形状等は第1の実施形態と同様であり、スイッチを有した外部電源に接続可能な接続端子24と接続端子25をそれぞれの電極が備えるようにした。また、ヒーター部材5は、ワーク加熱用の発熱体27のみを誘電体26の内部に備えるようにした以外は第1の実施形態の場合と同様にして得ることができ、発熱体27には図示外の外部電源に接続可能な接続端子28を備えるようにした。更にこのヒーター部材5には、ベース基盤15に対向する面に、例えば扶桑ゴム産業社製のシリコーン樹脂商品名シリウス;弾性率27MPa、三次元平均表面粗さSRa046μm等のような吸着シート29を貼着するようにした。そして、この第2の実施形態において、ベース基盤15の表面には管路16に通ずるガス孔17を有しており、ヒーター部材5にはその表裏面を貫通する貫通孔31を形成してベース基盤15のガス孔17に接続可能にすると共に、チャック部材1にはその表裏面を貫通して貫通孔31に接続する貫通孔30が形成されている。この第2の実施形態におけるワーク処理装置をプラズマエッチング装置等で使用するには第1の実施形態の場合と同様にすることができる。また、使用後にメンテナンス等を行う際には、チャック部材5のヒーター吸着電極23に接続された外部電源のスイッチを切るなどして電圧の印加を止めれば、チャック部材1とヒーター部材5との間を簡単に分離することができ、ヒーター部材5とベース基盤15との間は吸着シート29によって吸着されているだけであるため、容易に手で引き剥がすことができる。