チャンバ内にターゲット物質のドロップレットを供給するステップaと、前記ドロップレットにプリパルスレーザ光を照射することにより前記ドロップレットを拡散させて所望の拡散ターゲットを形成させるステップbと、前記拡散ターゲットの照射位置において、メインパルスレーザ光のレーザ光軸に垂直な断面の形状を、前記レーザ光軸の方向から見た前記拡散ターゲットの形状と実質的に一致させて、前記メインパルスレーザ光を、前記所望の拡散ターゲットに照射することによりプラズマを生成して極端紫外光を生成するステップcと、を備える極端紫外光生成方法。ステップbは、前記ドロップレットを、前記レーザ光軸に対して軸対称に、かつ、実質的に環状に拡散させることを含む、請求項1に記載の極端紫外光生成方法。ステップcは、前記メインパルスレーザ光の前記拡散ターゲットの照射位置における、前記メインパルスレーザ光の中央部の光強度が周辺部の光強度よりも低い空間的な光強度分布を有する前記メインパルスレーザ光を前記拡散ターゲットに照射することを含む、請求項2に記載の極端紫外光生成方法。チャンバ内にターゲット物質のドロップレットを供給するステップaと、前記ターゲット物質にプリパルスレーザ光を照射するステップbと、前記ターゲット物質の照射位置において、レーザ光軸の中心から所定距離の位置における光強度よりも低い光強度を有する低強度領域が前記レーザ光軸の中心から前記所定距離の範囲内に存在するメインパルスレーザ光を、前記プリパルスレーザ光が照射された前記ターゲット物質に照射することによりプラズマを生成して極端紫外光を生成するステップcと、を備える極端紫外光生成方法。チャンバと、前記チャンバ内にターゲット物質のドロップレットを供給するターゲット供給部と、前記ターゲット物質に照射されるプリパルスレーザ光と、前記プリパルスレーザ光が照射された前記ターゲット物質に照射されることによりプラズマを生成するメインパルスレーザ光とを、前記チャンバ内に導入する少なくとも1つの光学素子と、前記メインパルスレーザ光のレーザ光伝播経路に設置され、前記ターゲット物質の照射位置における前記メインパルスレーザ光の空間的な光強度分布を、レーザ光軸の中心から所定距離の位置における光強度よりも低い光強度を有する低強度領域が前記レーザ光軸の中心から前記所定距離の範囲内に存在する光強度分布となるように調節する光強度分布調節光学系と、を備える極端紫外光生成装置。前記光強度分布調節光学系は、前記メインパルスレーザ光を、レーザ光軸に垂直な断面の形状が環状であるレーザ光となるように調節する第1の光学系と、前記第1の光学系から出力したレーザ光を集光する第2の光学系と、を含む、請求項5に記載の極端紫外光生成装置。前記光強度分布調節光学系は、前記メインパルスレーザ光を、レーザ光軸に対して軸対称に、一定角度で屈折又は反射させる第3の光学系と、前記第3の光学系から出力したレーザ光を集光する第4の光学系と、を含む、請求項5に記載の極端紫外光生成装置。前記第1の光学系は、アキシコンレンズ、アキシコンミラー、同心円状の回折格子のうち少なくとも1つを含む、請求項6に記載の極端紫外光生成装置。前記第3の光学系は、アキシコンレンズ、アキシコンミラー、同心円状の回折格子のうち少なくとも1つを含む、請求項7に記載の極端紫外光生成装置。前記メインパルスレーザ光のレーザ光伝播経路に設置され、前記メインパルスレーザ光の波面の曲率を調節する波面調節光学系と、前記プリパルスレーザ光と前記波面調節光学系から出力した前記メインパルスレーザ光とを同軸化するビームコンバイナと、をさらに備える、請求項5に記載の極端紫外光生成装置。前記ドロップレットに前記プリパルスレーザ光が照射されることにより所望の拡散ターゲットが形成されるように前記プリパルスレーザ光の光強度を制御し、前記拡散ターゲットに前記メインパルスレーザ光が照射されることにより前記プラズマが生成されるように前記メインパルスレーザ光の光強度分布及び発生タイミングを制御するレーザ制御部をさらに備える、請求項5に記載の極端紫外光生成装置。前記ドロップレットに前記プリパルスレーザ光が照射されることにより所望の拡散ターゲットが形成されるように前記プリパルスレーザ光のフルーエンスを制御し、前記拡散ターゲットに前記メインパルスレーザ光が照射されることにより前記プラズマが生成されるように前記メインパルスレーザ光の光強度部分布及び発生タイミングを制御するレーザ制御部をさらに備える、請求項5に記載の極端紫外光生成装置。前記光強度分布調節光学系は、前記メインパルスレーザ光を、レーザ光軸に垂直な断面の形状が環状であるレーザ光となるように調節する第1の光学系と、前記第1の光学系から出力したレーザ光を集光する第2の光学系と、を含む、請求項12に記載の極端紫外光生成装置。前記光強度分布調節光学系は、前記メインパルスレーザ光を、レーザ光軸に対して軸対称に、一定角度で屈折又は反射させる第3の光学系と、前記第3の光学系から出力したレーザ光を集光する第4の光学系と、を含む、請求項12に記載の極端紫外光生成装置。前記第1の光学系は、アキシコンレンズ、アキシコンミラー、同心円状の回折格子のうち少なくとも1つを含む、請求項13に記載の極端紫外光生成装置。前記第3の光学系は、アキシコンレンズ、アキシコンミラー、同心円状の回折格子のうち少なくとも1つを含む、請求項14に記載の極端紫外光生成装置。前記メインパルスレーザ光のレーザ光伝播経路に設置され、前記メインパルスレーザ光の波面の曲率を調節する波面調節光学系と、前記プリパルスレーザ光と前記波面調節光学系から出力した前記メインパルスレーザ光とを同軸化するビームコンバイナと、をさらに備える、請求項12に記載の極端紫外光生成装置。