少なくとも1つの滑り面上に、内側から外側に向かって、金属を含有する接着層と、少なくとも10μmの厚さのta-C型DLC層を有するコーティングを有するスライド要素、特に、ピストンリング。前記接着層は、クロム、チタン、窒化クロム、および/またはタングステンのうちの少なくとも1つの物質を含有していることを特徴とする、請求項1に記載のスライド要素。前記接着層は、0.1μmから1.0μmの厚さを有することを特徴とする、請求項1または2に記載のスライド要素。前記ta-C型DLC層は、酸素および/または水素の含有量が0.5at未満であることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載のスライド要素。硬さが55GPaより小さく、弾性係数が550GPaより小さいことを特徴とする、請求項1から4のいずれか1項に記載のスライド要素。前記ta-C型DLC層は、sp3混成炭素原子の含有率が少なくとも40atであることを特徴とする、請求項1から5のいずれか1項に記載のスライド要素。前記ta-C型DLC層の外側1μmから3μmにおけるsp3の含有率が低減されていることを特徴とする、請求項6に記載のスライド要素。前記ta-C型DLC層の外側1μmから3μmがドープされていることを特徴とする、請求項1から7のいずれか1項に記載のスライド要素。前記ta-C型DLC層の外側1μmから3μmが、ホウ素、酸素、および/またはケイ素の少なくとも1つをドープされていることを特徴とする、請求項1から8のいずれか1項に記載のスライド要素。前記コーティングは、粗度深度Rz<6μm、好ましくは、<2μm、特に、<1μmであることを特徴とする、請求項1から9のいずれか1項に記載のスライド要素。前記コーティングは、低減ピーク深度Rpk<0.3μm、好ましくは、<0.1μmであることを特徴とする、請求項1から10のいずれか1項に記載のスライド要素。母材が鋳鉄または鋳鋼であることを特徴とする、請求項1から11のいずれか1項に記載のスライド要素。滑り面の下部の縁の半径が0.2mmを超えず、好ましくは、<0.1mmであることを特徴とする、請求項1から12のいずれか1項に記載のピストンリング。金属を含有する接着層と、少なくとも10μmの厚さのta-C型DLC層のコーティングを実行する、スライド要素、特にピストンリングを製造するプロセス。スパッタリングプロセス、熱蒸着プロセス、または、例えばアークプロセスのような電気蒸着プロセスによって前記接着層を形成することを特徴とする、請求項14に記載のプロセス。真空レーザアークプロセスによって前記ta-C型DLC層を形成することを特徴とする、請求項14または15に記載のプロセス。コーティングする面を、金属イオンスパッタリングプロセスによって洗浄することを特徴とする、請求項14から16のいずれか1項に記載のプロセス。コーティングを、形成した後に、ラッピング、ベルト研磨、および/またはブラシ研磨によって滑らかにすることを特徴とする、請求項14から17のいずれか1項に記載のプロセス。この背景に対して、本発明の基礎となる目的は、摩擦係数と摩耗特性の組み合わせに関してさらに改良されたスライド要素を提供することにある。したがって、本発明によるスライド要素は、少なくとも1つの滑り面上に、内側から外側に向かって、金属を含有する接着層と、少なくとも10μmの厚さのta-C型DLC層を有するコーティングを有している。有利なことに、金属を含有する接着層によって、DLC層の接着が保証されるだけでなく、当該層に生じる内部応力が均一にされる。10μmの最小厚さによって、要求される摩耗抵抗が得られることが保証され、さらに、機関の寿命にわたって良好な摩擦値を実現することが可能となる。特に、摩耗挙動は、スライド要素、特にピストンリング自体と、例えばシリンダライナのような、対の物体との両方に適合させることができる。本発明によるコーティングの生産性は、以下に記載するプロセスステップ、特に、金属イオンスパッタリングプロセスによるコーティングする面の洗浄と、接着層とDLC層の、記載する製造プロセスによって保証される。その結果、顕著に改善されたスライド要素を提供することができる。スライド要素、特に、ピストンリングに対する主要な要求の1つは、動作している間中、最小の摩擦損失を保証するために、当該要素の寿命にわたって長持ちするコーティングを提供することである。機関の初期の確認時に、水素を含有するDLCをコーティングされたピストンリングに比べて、ta-Cをコーティングされたピストンリング/AlSiの滑り経路のシステムの場合に達成される摩耗は60低いが、用途およびスライド接触面に応じて、少なくとも10μmの層厚が必要であることが見いだされた。コーティングの全体としての厚さは、20μmまでであるのが好ましい。好ましい実施態様が、他の請求項から見いだされる。特に、ta-Cの層厚が数μmより厚い場合に、十分な層の接着を保証するためには、基体とDLC層の間に、金属を含有する接着層を設けることがさらに必要である。現時点では、初期の知見に基づいて、以下の物質:クロム、チタン、窒化クロムおよびタングステンのうちの少なくとも1つを含有することが接着層にとって好ましい。0.1μmから1.0μmの厚さが、接着層にとって有利であることがさらに見いだされている。DLC層が、実質的に無酸素および/または無水素であり、すなわち、これらの元素のそれぞれの含有量が0.5atより少ない場合に、特に良好な特性が見いだされた。DLC層の硬さ、および弾性係数も、ピストンリングのトライボロジー的な挙動に影響を与える。試験の間に、550Gpaを超えない弾性係数で、55Gpaを超えない表面硬さが、コーティングにとって有利であることが見いだされた。従来技術とは対照的に、機関外での確認でも機関内での確認でも、DLC層が、少なくとも40atのsp3混成炭素原子を有する場合に、特に良好な摩耗値が達成された。縁に近い層の外側1μmから3μmにおけるsp3の含有率の、意図的な低減によって、ならし時の摩擦、および、ならし時間自体のさらなる低減が導かれる。機関外での事前の試験時に、縁に近い外側1μmから3μmにドープをしたさらなる実施態様が、700Nまでの最大荷重の下で不十分な潤滑の条件下で耐熱性および焼け挙動について、さらに改善されるという結果になることが見いだされた。1μmから3μmの厚さの、縁に近いDLC層の外側領域は、ホウ素、酸素、および/またはケイ素のような元素をドープすることができ、それが有利である。特に、低い摩擦値を保証するために、スライド要素の滑り面は、できるだけ滑らかにする必要がある。ここで提供されるDLC層は、コーティングされた状態で、粗度深度Rz<6μm、仕上げられた状態で、粗度深度Rz<2μm、特に<1μmであり、また、低減ピーク深度がRpk<0.3μm、特に<0.1μmであるのが好ましい。これに関連して、特許文献5および特許文献11の方策が本願の内容に含まれる。特定の用途では窒化することができる鋳鉄または鋳鋼が、コーティングすべきスライド要素の基体および母材として好ましい。母材としての鋳造材料について、好ましい形態は、-合金ではない、鍛えられていない、層状の黒鉛を備える鋳鉄-合金の、熱処理された、または熱処理されていない、カーバイドを備えるねずみ鋳鉄-鍛えられた球状鋳鉄-鍛えられていないバーミキュラ鋳鉄-鋳鋼少なくとも11wtのクロム、特殊カーバイドが埋め込まれた、窒化された、または窒化されていない焼戻しマルテンサイト組織である。母材としての鋼については、好ましい形態は、-クロムが少なくとも11wtの、窒化されているか、または窒化されていないクロム鋼-クロムケイ素炭素鋼である。非常に小さい鋭い下部の滑り縁によって、本発明によるta-C型DLC層をコーティングされたピストンリングの、特に良好なオイルの擦り取り動作が達成されることが、機関における試験によって示された。したがって、本発明によるピストンリングの滑り面の下部の縁は、0.2mmを超えない、好ましくは、0.1mm未満の半径を有するのがさらに好ましい。上述の目的は、金属を含有する接着層と、少なくとも10μmのta-C型DLC層のコーティングを行う、スライド要素、特にピストンリングを製造する、請求項14に記載するプロセスによってさらに達成される。様々な文献表1参照に既に記載されている真空レーザアークプロセスの製造プロセスを、>10μmのta-C層を製造する本発明に関係する範囲で、材料選択と層厚について最適化した接着層を用い、プロセスパラメータによって、全コーティング時間にわたってプロセスの安定性を保証するように改善した。好ましい方策、および、当該プロセスによって達成できる利点が、一方で、本発明によるスライド要素の前述の記載から明らかである。ここで、プロセスに関して下記する全ての特徴は、本発明によるスライド要素にも当てはまることをさらに述べておく。他方で、接着層は、スパッタリングプロセス、熱的蒸着プロセス、または、例えばアークプロセスのような電気蒸着プロセスによって、特に高い信頼性で形成することができることを述べておく。上述のように、コーティングする面を、金属イオンスパッタリングプロセスによって洗浄すれば、スライド要素の基体に対する接着層の接着について、特別な利点が達成される。仕上げしたコーティングの粗さは、ラッピング、ベルト研磨、および/またはブラシ研磨によって低減することができ、それが有利である。