"導電性支持体上に、有機感光層と、硬化樹脂よりなる保護層とがこの順に積層されてなる有機感光体を製造する方法であって、有機感光層上に、硬化樹脂を形成する重合性化合物と、ヘキサアリールビスイミダゾール、このヘキサアリールビスイミダゾールに電子を供与する光活性型電子供与剤、および、水素供与性化合物よりなる硬化剤とを含有する保護層形成用塗布液を塗布して、光を照射する工程を有することを特徴とする有機感光体の製造方法。前記光活性型電子供与剤が、電荷輸送性能を有する化合物であることを特徴とする請求項1に記載の有機感光体の製造方法。前記水素供与性化合物が、チオール基を有するものであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機感光体の製造方法。前記保護層形成用塗布液が金属酸化物微粒子を含有するものであることを特徴とする請求項1~請求項3のいずれかに記載の有機感光体の製造方法。前記金属酸化物微粒子が、反応性基を有する表面処理剤によって表面処理されたアルミナ微粒子または酸化スズ微粒子であることを特徴とする請求項4に記載の有機感光体の製造方法。前記表面処理剤が、反応性基としてアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物であることを特徴とする請求項5に記載の有機感光体の製造方法。前記重合性化合物が、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するものであることを特徴とする請求項1~請求項6のいずれかに記載の有機感光体の製造方法。本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、保護層に十分な強度が得られながらも、画像メモリの発生が抑制される有機感光体の製造方法を提供することにある。本発明の有機感光体の製造方法は、導電性支持体上に、有機感光層と、硬化樹脂よりなる保護層とがこの順に積層されてなる有機感光体を製造する方法であって、有機感光層上に、硬化樹脂を形成する重合性化合物と、ヘキサアリールビスイミダゾール、このヘキサアリールビスイミダゾールに電子を供与する光活性型電子供与剤、および、水素供与性化合物よりなる硬化剤とを含有する保護層形成用塗布液を塗布して、光を照射する工程を有することを特徴とする。本発明の有機感光体の製造方法においては、前記光活性型電子供与剤が、電荷輸送性能を有する化合物とされる。本発明の有機感光体の製造方法においては、前記水素供与性化合物が、チオール基を有するものであることが好ましい。本発明の有機感光体の製造方法においては、前記保護層形成用塗布液が金属酸化物微粒子を含有するものであることが好ましい。本発明の有機感光体の製造方法においては、前記金属酸化物微粒子が、反応性基を有する表面処理剤によって表面処理されたアルミナ微粒子または酸化スズ微粒子であることが好ましい。本発明の有機感光体の製造方法においては、前記表面処理剤が、反応性基としてアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。本発明の有機感光体の製造方法においては、前記重合性化合物が、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するものであることが好ましい。本発明の有機感光体の製造方法によれば、保護層形成用塗布液に、ヘキサアリールビスイミダゾール以下、HABIともいう。、このHABIに電子を供与する光活性型電子供与剤および水素供与性化合物よりなる硬化剤が含有されることにより、保護層に十分な強度が得られながらも、画像メモリの発生が抑制される有機感光体を製造することができる。本発明においては、光活性型電子供与剤がいわゆる増感色素とされるものであると共に、電荷輸送性能を有するものとされる。従って、本発明の製造方法において、硬化剤として、光活性型電子供与剤、HABIおよび水素供与性化合物よりなるものを用いることにより、増感色素である光活性型電子供与剤の電子移動型増感反応を利用して、重合性化合物の硬化反応が行われるので、保護層塗布液中に電荷輸送性能を有する光活性型電子供与剤が含まれる場合であっても、当該光活性型電子供与剤がラジカルの発生を阻害することがないため、保護層に十分な強度が得られながらも、画像メモリの発生が抑制される有機感光体を製造することができる。本発明に用いられる硬化剤は、以下のようなプロセスにより硬化剤としての機能を発揮することが考えられる。すなわち、増感色素である光活性型電子供与剤が光を吸収することにより、当該増感色素から電子がHABIに移動し、HABIが開裂する。そして、開裂されたHABIが水素供与性化合物から水素を引き抜くことにより、ラジカルが発生し、硬化反応が開始する。以下、本発明について詳細に説明する。有機感光体の製造方法導電性支持体上に、有機感光層と、硬化樹脂よりなる保護層とがこの順に積層されてなる有機感光体を製造する方法であって、有機感光層上に、硬化樹脂を形成する重合性化合物、HABI、このHABIに電子を供与する光活性型電子供与剤、および、水素供与性化合物よりなる硬化剤とを含有する保護層形成用塗布液を塗布して、光を照射する工程を有する方法である。本発明の製造方法により得られる有機感光体としては、導電性支持体上に、有機感光層および保護層がこの順に積層されてなるものであれば特に限定されないが、具体的には下記1および2の層構成が挙げられる。1導電性支持体上に、中間層、有機感光層として電荷発生層および電荷輸送層、並びに保護層がこの順に積層されてなる層構成。2導電性支持体上に、中間層、有機感光層として電荷発生物質および電荷輸送物質を含む単層、並びに保護層がこの順に積層されてなる層構成。本発明において、有機感光体とは、電子写真感光体の構成に必要不可欠な電荷発生機能および電荷輸送機能の少なくとも一方の機能が有機化合物により発揮されて構成されるものをいい、公知の有機電荷発生物質または有機電荷輸送物質から構成される感光層を有する感光体、電荷発生機能と電荷輸送機能とが高分子錯体により構成される感光層を有する感光体など公知の有機感光体全てを含むものをいう。本発明の有機感光体の製造方法として、上記1の層構成を有する有機感光体を製造する場合について以下具体的に説明する。工程1:導電性支持体の外周面に中間層形成用塗布液を塗布、乾燥し、中間層を形成する工程。工程2:導電性支持体上に形成された中間層の外周面に電荷発生層形成用塗布液を塗布、乾燥し、電荷発生層を形成する工程。工程3:中間層上に形成された電荷発生層の外周面に電荷輸送層形成用塗布液を塗布、乾燥し、電荷輸送層を形成する工程。工程4:電荷発生層上に形成された電荷輸送層の外周面に保護層形成用塗布液を塗布、光照射し、保護層を形成する工程。工程1:中間層形成工程この工程1においては、例えば、バインダー樹脂を公知の溶媒に溶解して中間層形成用塗布液を調製し、この中間層形成用塗布液を導電性支持体の外周面に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥することにより中間層を形成することができる。工程1において形成される中間層は、導電性支持体と有機感光層との間にバリアー機能と接着機能とを付与するものである。種々の故障防止などの観点から、このような中間層を設けることが好ましい。導電性支持体中間層が形成される導電性支持体としては、導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛、ステンレスなどの金属をドラム状またはシート状に成形したもの、アルミニウムや銅などの金属箔をプラスチックフィルムにラミネートしたもの、アルミニウム、酸化インジウムおよび酸化スズなどをプラスチックフィルムに蒸着したもの、導電性物質を単独またはバインダー樹脂と共に塗布して導電層を設けた金属、プラスチックフィルムおよび紙などが挙げられる。バインダー樹脂工程1において用いられるバインダー樹脂としては、例えば、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン-アクリル酸コポリマー、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ゼラチンなどが挙げられるが、アルコール可溶性のポリアミド樹脂であることが好ましい。溶媒工程1において用いられる溶媒としては、後述する無機微粒子を良好に分散し、かつ、ポリアミド樹脂を溶解するものが好ましく、具体的には、エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、t-ブタノール、sec-ブタノールなどの炭素数2~4のアルコール類が、ポリアミド樹脂の溶解性と塗布性の観点から、特に好ましい。また、工程1においては、保存性、無機微粒子の分散性を向上するために、溶媒と共に助溶媒を用いることが好ましく、併用可能な助溶媒としては、例えば、メタノール、ベンジルアルコール、トルエン、メチレンクロライド、シクロヘキサノン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。無機微粒子中間層形成用塗布液には、形成される中間層の抵抗を調整する目的で、各種の導電性微粒子や金属酸化物微粒子などの無機微粒子が含有されていてもよい。中間層形成用塗布液に含有される無機微粒子としては、例えば、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマスなどの金属酸化物微粒子が挙げられ、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズおよび酸化ジルコニウムなどの超微粒子を用いることもできる。これらの金属酸化物微粒子は、単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができ、金属酸化物微粒子を2種類以上組み合わせて用いる場合においては、当該金属酸化物微粒子が固溶体状態であってもよいし、また、融着状態であってもよい。このような金属酸化物微粒子の数平均一次粒径は、0.3μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.1μm以下である。本発明において、金属酸化物微粒子の数平均一次粒径は、以下のように測定されるものである。すなわち、走査型電子顕微鏡JSM-7500F日本電子社製により10000倍の拡大写真を撮影し、ランダムに300個の金属酸化物微粒子をスキャナーにより取り込んだ写真画像凝集粒子を除くを自動画像処理解析装置LUZEXAPソフトウエアバージョンVer.1.32、ニレコ社製を使用して算出する。中間層形成用塗布液における無機微粒子の分散手段としては、特に限定されないが、例えば、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサーなどの分散機が挙げられる。無機微粒子の添加量は、バインダー樹脂100質量部に対して20~400質量部であることが好ましく、より好ましくは50~200質量部である。中間層形成用塗布液の塗布方法としては、特に限定されないが、例えば、浸漬塗布法、スプレーコーティング法などが挙げられる。中間層形成用塗布液の塗布膜の乾燥方法は、溶媒の種類、形成すべき中間層の層厚に応じて適宜選択することができるが、熱乾燥による方法が好ましい。工程1において形成される中間層の層厚は、0.1~15μmであることが好ましく、より好ましくは0.3~10μmである。工程2:電荷発生層形成工程この工程2においては、例えば、電荷発生物質を、公知の溶媒で溶解したバインダー樹脂中に添加、分散して電荷発生層形成用塗布液を調製し、この電荷発生層形成用塗布液を工程1により形成された中間層の外周面に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥することにより電荷発生層を形成することができる。バインダー樹脂工程2において用いられるバインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、並びにこれらの樹脂の内2つ以上を含む共重合体樹脂例えば、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体樹脂、ポリ-ビニルカルバゾール樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。溶媒工程2において用いられる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、1,2-ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、ピリジン、ジエチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。電荷発生物質工程2において用いられる電荷発生物質としては、特に限定されるものではないが、例えば、スーダンレッド、ダイアンブルーなどのアゾ原料;ピレンキノン、アントアントロンなどのキノン顔料;キノシアニン顔料;ペリレン顔料;インジゴ、チオインジゴなどのインジゴ顔料;フタロシアニン顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。電荷発生物質の添加量は、バインダー樹脂100質量部に対して1~600質量部であることが好ましく、より好ましくは50~500質量部である。電荷発生物質の分散手段としては、特に限定されないが、例えば、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサーなどの分散機が挙げられる。電荷発生層形成用塗布液の塗布方法としては、特に限定されないが、例えば、浸漬塗布法、スプレーコーティング法などが挙げられる。電荷発生層形成用塗布液の塗布膜の乾燥方法は、溶媒の種類、形成すべき電荷発生層の層厚に応じて適宜選択することができるが、熱乾燥による方法が好ましい。工程2において形成される電荷発生層の層厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合などにより異なるが、0.01~5μmであることが好ましく、より好ましくは0.05~3μmである。なお、電荷発生層形成用塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。前記顔料を真空蒸着することによって形成すこともできる。工程3:電荷輸送層形成工程この工程3においては、例えば、電荷輸送物質CTMを、公知の溶媒で溶解したバインダー樹脂中に添加して電荷発生層形成用塗布液を調製し、この電荷発生層形成用塗布液を工程2により形成された電荷発生層の外周面に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥することにより電荷輸送層を形成することができる。バインダー樹脂工程3において用いられるバインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン-アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、スチレン-メタクリル酸エステル共重合体樹脂などが挙げられるが、ポリカーボネート樹脂が好ましい。さらには、ビスフェノールABPA、ビスフェノールZBPZ、ジメチルBPA、BPA-ジメチルBPA共重合体などが耐クラック、耐磨耗性、帯電特性の点で好ましい。溶媒工程3において用いられる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、1,2-ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、ピリジン、ジエチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。電荷輸送物質工程3において用いられる電荷輸送物質としては、例えば、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリ-1-ビニルピレンおよびポリ-9-ビニルアントラセン、トリフェニルアミン誘導体などが挙げられる。これらの電荷輸送物質は、単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。電荷輸送物質の添加量は、バインダー樹脂100質量部に対して10~500質量部であることが好ましく、より好ましくは20~100質量部である。電荷輸送層形成用塗布液には、必要に応じて酸化防止剤、電子導電剤、安定剤などが含有されていてもよい。酸化防止剤については特願平11-200135号に記載のものが挙げられ、電子導電剤については特開昭50-137543号、同58-76483号などに記載のものが挙げられる。電荷輸送層形成用塗布液の塗布方法としては、特に限定されないが、例えば、浸漬塗布法、スプレーコーティング法などが挙げられる。電荷輸送層形成用塗布液の塗布膜の乾燥方法は、溶媒の種類、形成すべき電荷輸送層の層厚に応じて適宜選択することができるが、熱乾燥による方法が好ましい。工程3において形成される電荷輸送層の層厚は、電荷輸送物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合などにより異なるが、5~40μmであることが好ましく、より好ましくは10~30μmである。工程4:保護層形成工程この工程4においては、保護層を構成する硬化樹脂を形成する重合性化合物、並びに、硬化剤として、HABI、このHABIに電子を供与する光活性型電子供与剤および水素供与性化合物よりなるもの、また、必要に応じ金属酸化物微粒子を公知の溶媒に添加して保護層形成用塗布液を調製し、この保護層形成用塗布液を工程3により形成された電荷輸送層の外周面に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥し、紫外線などの光を照射することによって塗布膜中の重合性化合物を重合反応させて硬化することにより保護層を形成することができる。重合性化合物工程4において用いられる重合性化合物としては、特に限定されないが、例えば、スチレン系モノマー、アクリル系モノマー、メタアクリル系モノマー、ビニルトルエン系モノマー、酢酸ビニル系モノマー、N-ビニルピロリドン系モノマーなどが挙げられる。これらの重合性化合物は、単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。重合性化合物は、少ない光量または短い時間での硬化が可能であることから、アクリロイル基CH2=CHCO-またはメタクリロイル基CH2=CCH3CO-の反応性基を有する化合物よりなることが好ましい。重合性化合物として、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物の具体例としては、下記例示化合物1~44に示すものが挙げられる。また、以下に示す基数は、アクリロイル基またはメタクリロイル基の数である。上記例示化合物1~44において、Rは下記式1に示すアクリロイル基であり、R ́は下記式2に示すメタクリロイル基である。重合性化合物は、アクリロイル基またはメタクリロイル基を2つ以上有する化合物よりなることがより好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基を3つ以上有する化合物よりなることが特に好ましい。また、重合性化合物は、2種以上を組み合わせて用いることができるが、この場合においても、アクリロイル基またはメタクリロイル基を3つ以上有する化合物を50質量以上用いることが好ましい。ヘキサアリールビスイミダゾール工程4において用いられる硬化剤を構成するHABIとしては、具体的には、下記例示化合物HABI-1~HABI-3が挙げられる。なお、このHABIは、形成された保護層を剥離し、重クロロホルムにて抽出し、1H-NMRスペクトルを測定することにより検出することができる。NMR測定には、FT-NMRLA-400日本電子株式会社製が用いられる。光活性型電子供与剤工程4において用いられる硬化剤を構成する光活性型電子供与剤は、保護層形成用塗布液中においては増感色素としての機能を有するものである。光活性型電子供与剤は、電荷輸送性能を有する化合物とされ、具体的には、下記例示化合物X-1~X-4が挙げられる。水素供与性化合物工程4において用いられる硬化剤を構成する水素供与性化合物は、チオール基またはアミノ基を有するものが挙げられるが、チオール基を有するものであることが好ましい。水素供与性化合物としては、具体的には下記例示化合物Y-1~Y-5が挙げられる。本発明において用いられる硬化剤の添加量は、重合性化合物100質量部に対して3~60質量部であることが好ましく、より好ましくは5~45質量部である。また、硬化剤は、重合性化合物100質量部に対して、光活性型電子供与剤が5~30質量部、HABIと水素供与性化合物との合計が1~10質量部の割合で添加されることが好ましい。さらに、HABIと水素供与性化合物との添加量の比率HABI/水素供与性化合物が1~5であることが好ましい。溶媒工程4において用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、t-ブタノール、sec-ブタノール、ベンジルアルコール、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。金属酸化物微粒子保護層形成用塗布液には、形成される保護層により高い耐久性を付与する目的で、金属酸化物微粒子が含有されていることが好ましい。このような金属酸化物微粒子は、遷移金属も含めた金属酸化物粒子であればよく、例えば、シリカ酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉛、アルミナ酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化コバルト、酸化銅、酸化マンガン、酸化セレン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化錫、二酸化チタン、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウムなどの金属酸化物微粒子が挙げられ、なかでも、アルミナAl2O3、酸化スズSnO2、二酸化チタンTiO2の微粒子が好ましく、アルミナ、酸化スズが更に好ましい。金属酸化物微粒子の数平均一次粒径は、1~300nmの範囲が好ましく、より好ましくは3~100nmである。本発明において、金属酸化物微粒子の数平均一次粒径は、以下のように測定されるものである。すなわち、走査型電子顕微鏡JSM-7500F日本電子社製により10000倍の拡大写真を撮影し、ランダムに300個の金属酸化物微粒子をスキャナーにより取り込んだ写真画像凝集粒子を除くを自動画像処理解析装置LUZEXAPソフトウエアバージョンVer.1.32、ニレコ社製を使用して算出する。金属酸化物微粒子の分散手段としては、特に限定されないが、例えば超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサーなどの分散機が挙げられる。金属酸化物微粒子の含有量は、重合性化合物100質量部に対して20~400質量部が好ましく、より好ましくは50~300質量部である。金属酸化物微粒子の含有量が過小である場合においては、形成される保護層の電気抵抗が低くなり、残留電位の上昇やカブリの発生を防止することができないおそれがある。一方、金属酸化物微粒子の含有量が過大である場合においては、形成される保護層に良好な成膜性が得られず、帯電性能の低下やピンホールの発生を防止することができないおそれがある。また、金属酸化物微粒子は、反応性基を有する表面処理剤以下、反応性基含有表面処理剤ともいう。によって表面処理されたものであることが好ましく、特に反応性基含有表面処理剤によって表面処理されたアルミナ微粒子または酸化スズ微粒子であることが好ましい。このような反応性基含有表面処理剤としては、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基等と反応性を有するものであればよく、具体的にはアクリロイル基またはメタクリロイル基を有するものが好ましい。金属酸化物微粒子が反応性基含有表面処理剤によって表面処理されたものであることにより、重合性化合物との結合が強固になり、形成される保護層がより高い耐久性を有するものとなる。反応性基含有表面処理剤としては、具体的には、下記例示化合物S-1~S-36に示すものが挙げられる。S-1:CH2=CHSiCH3OCH32S-2:CH2=CHSiOCH33S-3:CH2=CHSiCl3S-4:CH2=CHCOOCH22SiCH3OCH32S-5:CH2=CHCOOCH22SiOCH33S-6:CH2=CHCOOCH22SiOC2H5OCH32S-7:CH2=CHCOOCH23SiOCH33S-8:CH2=CHCOOCH22SiCH3Cl2S-9:CH2=CHCOOCH22SiCl3S-10:CH2=CHCOOCH23SiCH3Cl2S-11:CH2=CHCOOCH23SiCl3S-12:CH2=CCH3COOCH22SiCH3OCH32S-13:CH2=CCH3COOCH22SiOCH33S-14:CH2=CCH3COOCH23SiCH3OCH32S-15:CH2=CCH3COOCH23SiOCH33S-16:CH2=CCH3COOCH22SiCH3Cl2S-17:CH2=CCH3COOCH22SiCl3S-18:CH2=CCH3COOCH23SiCH3Cl2S-19:CH2=CCH3COOCH23SiCl3S-20:CH2=CHSiC2H5OCH32S-21:CH2=CCH3SiOCH33S-22:CH2=CCH3SiOC2H53S-23:CH2=CHSiOCH33S-24:CH2=CCH3SiCH3OCH32S-25:CH2=CHSiCH3Cl2S-26:CH2=CHCOOSiOCH33S-27:CH2=CHCOOSiOC2H53S-28:CH2=CCH3COOSiOCH33S-29:CH2=CCH3COOSiOC2H53S-30:CH2=CCH3COOCH23SiOC2H53S-31:CH2=CHCOOCH22SiCH32OCH3S-32:CH2=CHCOOCH22SiCH3OCOCH32S-33:CH2=CHCOOCH22SiCH3ONHCH32S-34:CH2=CHCOOCH22SiCH3OC6H52S-35:CH2=CHCOOCH22SiC10H21OCH32S-36:CH2=CHCOOCH22SiCH2C6H5OCH32また、表面処理剤としては、上記例示化合物S-1~S-36に示すもの以外に、ラジカル重合反応可能な反応性基を有するシラン化合物を用いることができる。これらのシラン化合物は、単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。金属酸化物微粒子に対する反応性基含有表面処理剤による表面処理方法としては、特に限定されず、湿式処理または乾式処理を採用することができるが、湿式メディア分散型装置を用いて処理することが好ましい。以下、湿式メディア分散型装置を用いて表面処理する方法について具体的に説明する。すなわち、金属酸化物微粒子と反応性基含有表面処理剤とを含むスラリー固体粒子の懸濁液を湿式粉砕することにより、金属酸化物微粒子を微細化すると共に当該金属酸化物微粒子の表面処理が進行する。その後、溶媒を除去して粉体化することにより表面処理された金属酸化物微粒子が得られる。以上のような表面処理方法においては、反応性基含有表面処理剤の添加量は、金属酸化物微粒子100質量部に対して0.1~100質量部、溶媒の添加量は、金属酸化物微粒子100質量部に対して50~5000質量部であることが好ましい。湿式メディア分散型装置は、容器内にメディアとしてビーズが充填され、さらに回転軸と垂直に取り付けられた撹拌ディスクが高速回転されることにより、金属酸化物の凝集粒子を砕いて粉砕分散する装置であり、その構成としては、金属酸化物微粒子に表面処理を行う際に当該金属酸化物微粒子を十分に分散させ、かつ表面処理できるものであれば特に限定されず、例えば、縦型横型、連続式回分式など、種々の様式を採用することができる。具体的には、サンドミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミルなどを用いることができる。これらの分散型装置においては、ボール、ビーズなどの粉砕媒体メディアを用いて衝撃圧壊、摩擦、剪断、ズリ応力などにより微粉砕、分散が行われる。上記湿式メディア分散型装置で用いるビーズとしては、例えば、ガラス、アルミナ、ジルコン、ジルコニア、スチール、フリント石などを原材料とした粉砕媒体が挙げられるが、特にジルコニア製やジルコン製のものが好ましい。また、ビーズの大きさは、通常、直径1~2mm程度とされるが、本発明においては0.1~1.0mm程度が好ましい。湿式メディア分散型装置に用いられる撹拌ディスクや容器内壁には、例えば、ステンレス製、ナイロン製、セラミック製の素材が用いられるが、特にジルコニアまたはシリコンカーバイドなどのセラミック製のものが好ましい。以上のような反応性基含有表面処理剤による表面処理により、反応性アクリロイル基、反応性メタクリロイル基と反応可能な反応性基を有する金属酸化物微粒子を得ることができる。保護層形成用塗布液には、必要に応じて、滑剤粒子や酸化防止剤などが含有されていてもよい。滑剤粒子滑剤粒子としては、例えばフッ素原子含有樹脂粒子などが挙げられる。このフッ素原子含有樹脂粒子としては、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、六フッ化塩化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂、およびこれらの共重合体の粒子の中から1種あるいは2種以上を適宜選択するのが好ましいが、特に四フッ化エチレン樹脂粒子およびフッ化ビニリデン樹脂粒子が好ましい。滑剤粒子の数平均一次粒径は、0.01~1μmであることが好ましく、より好ましくは0.05~0.5μmである。本発明において、滑剤粒子の数平均一次粒径は、以下のように測定されるものである。すなわち、走査型電子顕微鏡JSM-7500F日本電子社製により10000倍の拡大写真を撮影し、ランダムに300個の滑剤粒子をスキャナーにより取り込んだ写真画像凝集粒子を除くを自動画像処理解析装置LUZEXAPソフトウエアバージョンVer.1.32、ニレコ社製を使用して算出する。滑剤粒子を構成する樹脂の分子量は適宜選択することができ、特に制限されるものではない。滑剤粒子の含有量は、保護層形成用塗布液において0.1~20質量であることが好ましく、より好ましくは0.2~10質量である。保護層形成用塗布液の液粘度は、5~50mPsであることが好ましく、より好ましくは10~25mPsである。保護層形成用塗布液の液粘度が過小である場合においては、塗布ムラが発生し、所望の層厚を有し、かつ、均一な層厚を有する保護層を形成することができないおそれがある。一方、保護層形成用塗布液の液粘度が過大である場合においては、当該保護層形成用塗布液に良好な流動性が得られず、塗布面において液切れを引き起こし、均一な塗布膜を形成することができないおそれがある。保護層形成用塗布液の液粘度は、E型粘度計VISCONICELD型東京計器社製を用いて測定されるものである。工程4において、保護層形成用塗布液の塗布方法としては、例えば、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、ビームコーティング法、スライドホッパー法などの公知の方法が挙げられる。これらの中でも、スライドホッパー法による塗布方法が好ましい。以下、円形スライドホッパー塗布装置を用いてスライドホッパー法により塗布する方法について具体的に説明する。図1は、本発明の有機感光体の製造方法における保護層形成工程に用いられる円形スライドホッパー塗布装置の構成の一例を示す説明用断面図であり、図2は、図1に示す円形スライドホッパー塗布装置の斜視断面図である。この円形スライドホッパー塗布装置は、円筒状の基材251と、その周囲を取り囲むように設けられた環状の塗布ヘッド260と、塗布液Lを貯留する貯留タンク254とから構成される。ここでいう基材251は、保護層形成用塗布液が塗布されるべき保護層形成用基材であり、例えば導電性支持体上に中間層および有機感光層が形成された状態のものであって保護層が形成されていない状態のものである。塗布ヘッド260には、基材251側に開口する塗布液流出口261を有する幅狭の塗布液分配スリット262が基材251の長手方向に垂直な方向に沿って環状の塗布ヘッド260の全周にわたって形成されている。この塗布液分配スリット262は、環状の塗布液分配室263に連通し、この塗布液分配室263は、貯留タンク254内の塗布液Lが圧送ポンプ255により供給管264を介して供給されるよう形成されている。塗布液分配スリット262の塗布液流出口261の下側には、連続して下方に傾斜し基材251の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすように形成されたスライド面265が形成されており、さらに、このスライド面265終端より下方に延びる唇状部ビード;液溜まり部266が形成されている。このような円形スライドホッパー塗布装置においては、基材251を矢印方向に移動させる過程で、塗布液Lを塗布液分配スリット262から押し出し、スライド面265に沿って流下させると、スライド面265終端に至った塗布液Lは、そのスライド面265終端と、基材251の外周面との間にビードを形成した後、基材251表面に塗布されて塗布膜Fが形成され、過剰な塗布液Lは排出口267から排出される。このような円形スライドホッパー塗布装置を用いる塗布方法では、スライド面終端と基材は、ある間隙約2μm~2mmを持って配置されているため基材を傷つけることなく、また性質の異なる層を多層形成させる場合においても、既に塗布された層を損傷することなく塗布できる。さらに性質が異なり同一溶媒に溶解する層を多層形成させる際にも、浸漬塗布方法と比べて溶媒中に存在する時間がはるかに短いので、下層成分が上層側へ殆ど溶出せず、塗布槽にも溶出することなく塗布できるので、例えば金属酸化物微粒子の分散性を劣化させずに塗布することができる。工程4において、保護層形成用塗布液の塗布膜の乾燥は、光を照射する前後、および光の照射中に行うことができ、乾燥を行うタイミングは、これらを組み合わせて適宜選択することができる。保護層形成用塗布液の塗布膜の乾燥方法は、溶媒の種類、形成すべき保護層の層厚などよって適宜選択することができるが、乾燥温度は、例えば室温~180°Cであることが好ましく、より好ましくは80~140°Cである。乾燥時間は、例えば1~200分間であることが好ましく、より好ましくは5~100分間である。工程4において、塗布膜中の重合性化合物を重合する際に照射する光は、波長が250~450nmのものであることが好ましい。このような光の光源としては、特に限定されず、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、フラッシュパルスキセノン、LEDランプなどが挙げられる。照射条件は、それぞれのランプの種類によって異なるが、光の照射量は、通常5~500mJ/cm2とされ、好ましくは5~100mJ/cm2とされる。ランプの電力は、0.1~5kWであることが好ましく、より好ましくは0.5~3kWである。必要な光の照射量を得るための照射時間は、0.1秒間~10分間が好ましく、作業効率の観点から0.1秒間~5分間がより好ましい。工程4により形成される保護層の層厚は、0.2~10μmであることが好ましく、より好ましくは0.5~5μmである。この工程4により形成される保護層は、重合性化合物により形成される硬化樹脂と共に公知の樹脂を併用して構成することもできる。公知の樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アルキド樹脂などが挙げられる。画像形成装置本発明の製造方法により得られる有機感光体は、モノクロの画像形成装置やフルカラーの画像形成装置など電子写真方式の公知の種々の画像形成装置において用いることができる。本発明に係る有機感光体が用いられる画像形成装置は、例えば、有機感光体上に均一な帯電電位を付与する帯電手段と、均一な帯電電位が付与された有機感光体上に静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像をトナーにより現像してトナー像に顕像化する現像手段と、トナー像を転写材上に転写する転写手段と、転写材上のトナー像を定着する定着手段と、有機感光体上に残留したトナーを除去するクリーニング手段とを有するものである。トナー本発明の製造方法により得られる有機感光体上に形成される静電潜像は、現像によりトナー像として顕像化される。この現像に用いられるトナーとしては、粉砕トナーでも、重合トナーでもよいが、安定した粒度分布を得られる観点から、重合法で製造される重合トナーが好ましい。重合トナーとは、バインダー樹脂以下、トナー用バインダー樹脂ともいう。の生成とトナー形状とが、トナー用バインダー樹脂の原料モノマーの重合反応および必要によりその後の化学的処理により形成されるものをいい、具体的には、懸濁重合、乳化重合などの重合反応と、必要によりその後に行われる粒子同士の融着工程を経て形成されるものをいう。トナーを構成するトナー粒子の粒径は、体積平均粒径Dv50で2~9μmであることが好ましく、より好ましくは3~7μmである。トナー粒子の粒径が上記範囲であることにより、形成される画像の解像度を高くすることができる。さらに、小粒径のトナー粒子でありながら、微細な粒径のトナー粒子の存在量を少なくすることができ、長期間にわたってドット画像の再現性が改善され、鮮鋭性の良好な、安定した画像を形成することができる。トナー粒子の体積平均粒径Dv50は、マルチサイザー3ベックマンコールター社製にデータ処理用のコンピューターシステムベックマンコールター社製を接続した測定装置を用いて測定算出されるものである。現像剤本発明に係るトナーは、一成分現像剤でも二成分現像剤として用いてもよい。一成分現像剤として用いる場合においては、非磁性一成分現像剤、あるいはトナー中に0.1~0.5μm程度の磁性粒子を含有させ磁性一成分現像剤としたものが挙げられ、いずれも使用することができる。また、キャリアと混合して二成分現像剤として用いることができる。この場合においては、キャリアの磁性粒子として、鉄、フェライト、マグネタイトなどの金属、それらの金属とアルミニウム、鉛などの金属との合金などの従来から公知の材料を用いることができる。特にフェライト粒子が好ましい。キャリアを構成する磁性粒子の粒径は、体積平均粒径Dv50で15~100μmであることが好ましく、より好ましくは25~80μmである。本発明において、磁性粒子の体積平均粒径Dv50は、湿式分散機を備えたレーザー回折式粒度分布測定装置ヘロスHELOSシンパティックSYMPATEC社製により測定されるものである。キャリアは、磁性粒子がさらに樹脂により被覆された樹脂被覆型のもの、あるいは樹脂中に磁性粒子を分散させたいわゆる樹脂分散型のものであることが好ましい。樹脂被覆型キャリアを構成するための被覆用樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、スチレン-アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、エステル系樹脂、フッ素含有重合体系樹脂などが挙げられる。また、樹脂分散型キャリアを構成するための分散用樹脂としては、特に限定されるものではなく公知のものを用いることができ、例えば、スチレン-アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素系樹脂、フェノール樹脂などが挙げられる。本発明の有機感光体の製造方法によれば、保護層形成用塗布液に、HABI、光活性型電子供与剤および水素供与性化合物よりなる硬化剤が含有されることにより、保護層に十分な強度が得られながらも、画像メモリの発生が抑制される有機感光体を製造することができる。以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例1:有機感光体の製造例11導電性支持体の作製ドラム状のアルミニウム支持体の表面を切削加工し、表面粗さRz=1.5μmの導電性支持体1を作製した。2中間層形成工程下記原料を分散機としてサンドミルを用いて、バッチ式により10時間の分散を行い、中間層形成用塗布液1を調製した。バインダー樹脂:ポリアミド樹脂X1010ダイセルデグサ社製1質量部溶媒:エタノール20質量部金属酸化物微粒子:数平均一次粒径0.035μmの酸化チタン微粒子SMT500SASテイカ社製1.1質量部上記導電性支持体1上に、この中間層形成用塗布液1を浸漬塗布法により塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を110°Cで20分間乾燥し、層厚2μmの中間層1を形成した。3有機感光層形成工程電荷発生層形成工程下記原料を分散機としてサンドミルを用いて、10時間の分散を行い、電荷発生層形成用塗布液1を調製した。電荷発生物質:チタニルフタロシアニン顔料Cu-Kα特性X線回折スペクトル測定で5少なくとも27.3°の位置に最大回折ピークを有するもの20質量部バインダー樹脂:ポリビニルブチラール樹脂6000-C電気化学工業社製10質量部溶媒:酢酸t-ブチル700質量部溶媒:4-メトキシ-4-メチル-2-ペンタノン300質量部上記中間層1の上に、この電荷発生層形成用塗布液1を浸漬塗布法によりで塗布して塗布膜を形成し、層厚0.3μmの電荷発生層1を形成した。電荷輸送層形成工程下記原料を混合して溶解し、電荷輸送層形成用塗布液1を調製した。電荷輸送物質:下記式Aに示す化合物150質量部バインダー樹脂:ポリカーボネート樹脂Z300三菱ガス化学社製300質量部溶媒:トルエン/テトラヒドロフラン=1/9体積2000質量部酸化防止剤:Irganox1010日本チバガイギー社製6質量部レベリング剤:シリコーンオイルKF-54信越化学社製1質量部上記電荷発生層1上に、この電荷輸送層形成用塗布液1を浸漬塗布法により塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を120°Cで70分間乾燥し、層厚20μmの電荷輸送層1を形成した。4保護層形成工程下記重合性化合物、溶媒、硬化剤および金属酸化物微粒子を遮光下で、分散機としてサンドミルを用いて10時間の分散を行い、保護層形成用塗布液1を調製した。重合性化合物:例示化合物42100質量部溶媒:sec-ブタノール500質量部溶媒:テトラヒドロフラン100質量部HABI:例示化合物HABI-14質量部光活性型電子供与剤:例示化合物X-120質量部水素供与性化合物:例示化合物Y-52質量部金属酸化物微粒子:例示化合物S-15に示す表面処理剤で表面処理された数平均一次粒径20nmの酸化スズ微粒子100質量部この保護層形成用塗布液1を上記電荷輸送層1上に、円形スライドホッパー塗布装置を用いて、塗布して塗布膜を形成した。その後、この塗布膜を室温で20分乾燥し、キセノンランプを用いて窒素気流下において、光源と感光体表面との離間距離を100mmとして、ランプ出力4kWで紫外線を1分間照射して、層厚3.5μmの保護層1を形成し、有機感光体1を得た。実施例2~10および比較例1:有機感光体の製造例2~11有機感光体の製造例1において、4保護層形成工程における重合性化合物、硬化剤および金属酸化物微粒子として表1に示す種類および添加量に変更したことの他は同様にして有機感光体2~11を得た。以上のようにして得られた有機感光体1~11をフルカラー画像形成装置bizhubPROC6500コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製;780nmの半導体レーザーの露光反転現像中間転写体のタンデム方式カラー複合機に搭載し、下記評価1~3を行った。結果を表2に示す。評価1:画像メモリ温度10°C、湿度20RHの条件で、A3中性紙全面にモノクロのハーフトーン画像マクベス濃度計で平均相対反射濃度0.4を複写し、A3紙面縦297mm×横420mmの隅から横方向180mmの位置で縦方向の端から33mm間隔の計8点をそれぞれa1、a2、a8とし、隅から横方向195mmの位置で縦方向の端から33mm間隔の計8点を同様にb1、b2、b8とし、マクベス濃度計にて各点の反射濃度を測定した。これらのa1とb1の測定値の差、a2とb2の測定値の差と順に計8つの組み合わせの測定値の差を算出し、下記評価基準に従って評価した。なお、測定値の差の最大値が小さい程、画像メモリの発生が抑制されていると考えられる。-評価基準-◎:測定値の差の最大値が0.01未満良好○:測定値の差の最大値が0.01以上0.02未満実用上問題なし△:測定値の差の最大値が0.02以上0.04未満実用化可能×:測定値の差の最大値が0.04以上実用上問題有り評価2:耐傷性上記画像メモリの評価後、温度20°C、湿度50RHの条件で、イエローY、マゼンタM、シアンC、ブラックK各色印字面積率5のA4版画像をA4版中性紙に100万枚印刷を行なった。その後、A3版中性紙全面にハーフトーン画像マクベス濃度計で相対反射濃度0.4を印字した。その後、有機感光体および形成されたハーフトーン画像を観察し、下記評価基準に従って評価した。-評価基準-◎:有機感光体表面に目視でみられる目立った傷の発生はなく、ハーフトーン画像にも当該傷に対応する画像不良の発生は見あたらない良好○:有機感光体表面に目視で、軽微な傷の発生があるが、ハーフトーン画像には当該傷に対応する画像不良の発生は見あたらない実用上問題なし×:有機感光体表面に目視で、明確に傷の発生があり、ハーフトーン画像にも当該傷に対応する画像不良の発生が認められる実用上問題有り評価3:耐摩耗性初期の有機感光体の膜厚と、温度20°C、湿度50RHの条件で、イエローY、マゼンタM、シアンC、ブラックK各色印字面積率5のA4版画像をA4版中性紙に100万枚印刷を行った後の有機感光体の膜厚を測定し、この膜厚差を有機感光体の保護層の減耗量として下記評価基準に従って評価した。なお、有機感光体の膜厚は、均一膜厚部分有機感光体の両端は膜厚が不均一になりやすいので、少なくとの両端3cmは除くをランダムに10箇所測定し、その平均値を有機感光体の膜厚とした。膜厚は、渦電流方式の膜厚測定器EDDY560CHELMUTFISCHERGMBTECO社製を用いて測定した。-評価基準-◎:減耗量が1μm以下良好○:減耗量が1μmより大きく3μm以下実用上問題なし×:減耗量が3μmより大きい実用上問題有り"