"対象物を載置するステージと、そのステージを間に挟んで互いに対向するように配置された放射線照射手段および放射線検出手段と、前記放射線照射手段から照射されて前記対象物を透過した放射線を前記放射線検出手段で検出することにより得られた複数の投影画像に基づいて、断層画像を演算する演算手段とを備えた放射線撮影装置であって、2つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなり、各々の直進駆動機構による軌道の合成が円軌道に準じた軌道で、前記放射線照射手段、前記ステージの少なくとも一方を駆動する合成駆動手段と、その合成駆動手段を制御する制御手段とを備え、制御手段は、単位ステップ当たりの移動量の絶対値を、正の実数の値を有する所定値以上または0にして、各々の直線駆動機構をそれぞれ制御するとともに、前記円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、前記円軌道の同心円で2倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を前記円軌道に準じた軌道として、前記放射線照射手段、前記ステージの少なくとも一方を駆動するように、各々の直線駆動機構をそれぞれ制御することを特徴とする放射線撮影装置。請求項1に記載の放射線撮影装置において、前記制御手段は、直交座標系でそれぞれ直進駆動する2つの前記直進駆動機構による軌道の合成が前記円軌道となるような単位ステップ当たりの移動量で前記所定値以上を保ちつつ各々の直線駆動機構をそれぞれ制御するとともに、各々の直線駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、前記単位ステップ当たりの移動量を0にして直進軌道で各々の直線駆動機構をそれぞれ制御することを特徴とする放射線撮影装置。請求項1に記載の放射線撮影装置において、前記円軌道に準じた軌道は、前記小円軌道から前記大円軌道までの範囲の軌道、かつ四角形軌道であって、前記制御手段は、1つの前記直進駆動機構のみを制御するとともに、前記単位ステップ当たりの移動量を0にして残りの直進駆動機構を制御することで、前記四角形軌道の直進軌道で駆動することを特徴とする放射線撮影装置。請求項1から請求項3のいずれかに記載の放射線撮影装置において、前記合成駆動手段による前記放射線照射手段、前記ステージの少なくとも一方の駆動に同期させて、前記放射線検出手段を駆動する検出用駆動手段を備えることを特徴とする放射線撮影装置。請求項4に記載の放射線撮影装置において、前記放射線照射手段から照射された放射線が前記対象物の注目点を透過して前記放射線検出手段の中心部分で検出されるように、前記検出用駆動手段は放射線検出手段を駆動することを特徴とする放射線撮影装置。しかしながら、図9に示すように、斜め方向からCT撮影する場合には、CT専用装置においてステージ回転の1自由度のみであるのに比べて駆動系の自由度が多く、各駆動系の駆動精度が重要となる。特に、ステージとX線検出器とが互いに独立した駆動機構となっているので、理想的な断層撮影の走査軌道を得るために、高精度な位置決め、同期が可能な機構と制御とが必要になり、高価になるという問題点がある。具体的に説明すると、X線管とステージとを近づけて高拡大率で撮影するほど、ステージの駆動精度が投影画像に与える影響が大きくなる。このため、高拡大率で斜め方向からCT撮影する場合には、ステージが高精度で円軌道を描くように動作する必要がある。このようなステージの高精度な駆動の実現のためには、メカが高剛性であること、微小な位置制御位置決めが可能であることが必要になり、コストが高くなるという問題点がある。また、ステージが円軌道を描くように動作するには、図10に示すように直交する2軸直交座標系のX軸,Y軸の駆動系が、90°位相がずれた正弦波sin波となるようにそれぞれの位置の制御をすればよい。図10中のPXはX座標値であり、PYはY座標値である。しかし、撮影時にある回転角度で等間隔にサンプリングする場合、駆動量はsin波のゲインが大きくなる位置図10中のY座標における角度θが0°,180°,360°付近、X座標における角度θが90°,270°付近で各軸の駆動量が小さくなり、しかも駆動方向が反転する必要がある。このように、駆動方向が反転する位置で微小駆動するので、静止摩擦やバックラッシュの影響が大きくなり、駆動精度の確保が難しくなるという問題がある。これらの問題は、ステージとX線検出器とを駆動して斜め方向からCT撮影する場合だけに限らない。例えば、X線管とX線検出器とを駆動して斜め方向からCT撮影する場合でも、高拡大率で斜めCT機能を実現しようとするためには、X線管が高精度で円軌道を描く必要があるという同じ問題を有している。この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、低コストで、駆動精度を保つことができる放射線撮影装置を提供することを目的とする。この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、この発明の放射線撮影装置は、対象物を載置するステージと、そのステージを間に挟んで互いに対向するように配置された放射線照射手段および放射線検出手段と、前記放射線照射手段から照射されて前記対象物を透過した放射線を前記放射線検出手段で検出することにより得られた複数の投影画像に基づいて、断層画像を演算する演算手段とを備えた放射線撮影装置であって、2つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなり、各々の直進駆動機構による軌道の合成が円軌道に準じた軌道で、前記放射線照射手段、前記ステージの少なくとも一方を駆動する合成駆動手段と、その合成駆動手段を制御する制御手段とを備え、制御手段は、単位ステップ当たりの移動量の絶対値を、正の実数の値を有する所定値以上または0にして、各々の直線駆動機構をそれぞれ制御するとともに、前記円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、前記円軌道の同心円で2倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を前記円軌道に準じた軌道として、前記放射線照射手段、前記ステージの少なくとも一方を駆動するように、各々の直線駆動機構をそれぞれ制御することを特徴とするものである。ここで、本発明における上述の断層画像とは、複数の断層画像を含む3次元断層画像であり、もちろん、1枚の断層画像の場合も含むものである。2つ以上の直進駆動機構により、もし円軌道を実現する際には、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で必ず微小駆動するので、静止摩擦やバックラッシュの影響が大きくなり駆動精度を保つことができない。そこで、この発明に係る放射線撮影装置によれば、制御手段は、単位ステップ当たりの移動量の絶対値を、正の実数の値を有する所定値以上または0にして、各々の直線駆動機構をそれぞれ制御する。この制御により、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で微小駆動せずに、当該所定値以上の移動量あるいは0の移動量すなわち停止状態となる。また、制御手段は、円軌道という制約を外して、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で微小駆動しないという制約の下で、当該円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、当該円軌道の同心円で2倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を当該円軌道に準じた軌道として、放射線照射手段、ステージの少なくとも一方を駆動するように、各々の直線駆動機構をそれぞれ制御する。これにより、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で微小駆動することなく、駆動精度を保つことができる。また、0の移動量すなわち停止状態にして、残りの直進駆動機構のみで動作させて直進駆動するという動きを採り入れた軌道とすることで、各々の直進駆動機構駆動系での位置制御が簡易なものとなり、駆動精度も保ちやすくなるという効果がある。また、駆動精度がよくなることでメカ的に必要な剛性の条件が緩和されるので、コストダウンにもつながり、各々の直進駆動機構駆動系において低コストを実現することができる。上述した発明の一例は、直交座標系でそれぞれ直進駆動する2つの直進駆動機構による軌道の合成が当該円軌道となるような単位ステップ当たりの移動量で正の実数の値を有する当該所定値以上を保ちつつ各々の直線駆動機構をそれぞれ制御するとともに、各々の直線駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、単位ステップ当たりの移動量を0にして直進軌道で各々の直線駆動機構をそれぞれ制御することである。つまり、各々の直線駆動機構の駆動方向が反転する領域のみ、単位ステップ当たりの移動量を0にして直進軌道として、他の領域では当該円軌道と同じ軌道とすることで、円軌道から外れるときに生じる偽像の影響をできるだけ小さくして、かつ問題となる領域直線駆動機構の駆動方向が反転する領域での駆動精度を向上させることができる。上述した発明の他の一例は、円軌道に準じた軌道は、当該小円軌道から当該大円軌道までの範囲の軌道、かつ四角形軌道であって、制御手段は、1つの直進駆動機構のみを制御するとともに、単位ステップ当たりの移動量を0にして残りの直進駆動機構を制御することで、当該四角形軌道の直進軌道で駆動することである。0の移動量すなわち停止状態にして、残りの直進駆動機構のみで動作させて直進駆動して当該四角形軌道を実現することで位置制御が簡易なものとなり、駆動精度が向上する。また、直進軌道であるので、円軌道よりも短時間で駆動することが可能で、撮影に関するデータ収集時間の短縮が可能となる。上述したこれらの発明において、上述の合成駆動手段による放射線照射手段、ステージの少なくとも一方の駆動に同期させて、放射線検出手段を駆動する検出用駆動手段を備えるのが好ましい。放射線検出手段も動作させることで撮影視野を確保することができ、より広い領域の断層画像を算出することができる。検出用駆動手段を備えた場合において、放射線照射手段から照射された放射線が対象物の注目点を透過して放射線検出手段の中心部分で検出されるように、検出用駆動手段は放射線検出手段を駆動するのがより好ましい。注目点を放射線検出手段の中心部分で捉えることで、断層画像を算出する際にほぼ同じ位置注目点で再構成バックプロジェクションすることが可能となり、撮影視野の中心を基準とした十分広い範囲の断層画像を得ることができる。この発明に係る放射線撮影装置によれば、制御手段は、円軌道という制約を外して、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で微小駆動しないという制約の下で、当該円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、当該円軌道の同心円で2倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を当該円軌道に準じた軌道として、放射線照射手段、ステージの少なくとも一方を駆動するように、各々の直線駆動機構をそれぞれ制御する。その結果、低コストで、駆動精度を保つことができる。以下、図面を参照してこの発明の実施例を説明する。図1は、実施例に係るX線検査装置の概略構成図であり、図2は、実施例に係るX線検査装置のブロック図である。本実施例では、放射線撮影装置として、X線検査装置を例に採って説明する。図1に示すように、X線検査装置1は、対象物Oを載置するステージ2と、そのステージ2を間に挟んで互いに対向するように配置されたX線管3およびX線検出器4とを備えている。X線検出器4については、イメージインテンシファイアI.Iやフラットパネル型X線検出器FPDFlatPanelDetectorなどに例示されるように、特に限定されない。本実施例では、X線検出器4としてフラットパネル型X線検出器FPDを例に採って説明する。ステージ2は、この発明におけるステージに相当し、X線管3は、この発明における放射線照射手段に相当し、X線検出器4は、この発明における放射線検出手段に相当する。FPDは、画素に対応して縦横に並べられた複数の検出素子からなり、X線を検出素子が検出して、検出されたX線のデータ電荷信号をX線検出信号として出力する。このようにして、X線管3から照射されて対象物Oを透過したX線をFPDからなるX線検出器4が検出してX線検出信号を出力し、X線検出信号に基づく画素値を画素に対応してそれぞれ並べることで、X線検出器4の検出面に投影された投影画像を取得する。その他に、X線検査装置1は、図1に示すように、X線検出器4を矢印R1周りに回転駆動する検出器回転機構5と、X線検出器4を矢印R2方向に傾動させる検出器傾動機構6とを備えている。検出器傾動機構6は、X線検出器4を支持する円弧状のガイド部6a、および回転モータ6b図2を参照からなり、回転モータ6bが回転駆動することで、ガイド部6aに沿ってX線検出器4が矢印R2方向に傾動する。検出器回転機構5は、この発明における検出用駆動手段に相当する。検出器回転機構5は、回転モータ5a図2を参照からなり、回転モータ5aが検出器傾動機構6のガイド部6aを矢印R1周りに回転駆動することで、ガイド部6aに支持されたX線検出器4も矢印R1周りに回転駆動する。また、本実施例では、検出器回転機構5は、ステージ2の駆動に同期させてX線検出器4を矢印R1周りに回転駆動する。特に、X線管3から照射されたX線が対象物Oの注目点を透過して放射線検出器4の中心部分で検出されるように、検出器回転機構5はX線検出器4を矢印R1周りに回転駆動する。その他に、X線検査装置1は、図2に示すように、ステージ2を直交座標系X,Y,Z図1を参照でそれぞれ直進駆動するステージ駆動機構7と、複数の投影画像に基づいて断層画像を算出して演算する断層画像算出部8と、これらを統括制御するコントローラ9と、断層画像算出部8で得られた断層画像を出力モニタに表示出力あるいはプリンタに印刷出力する画像出力部10とを備えている。ステージ駆動機構7は、ステージ2をX方向に直進駆動ここでは水平駆動するX軸直進モータ7a、ステージ2をY方向に直進駆動ここでは水平駆動するY軸直進モータ7b、およびステージ2をZ方向に直進駆動ここでは昇降駆動するZ軸直進モータ7cからなる。本実施例では、各々のX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bによる軌道の合成が円軌道に準じた軌道で、ステージ2を駆動する。円軌道に準じた軌道については、詳しく後述する。ステージ駆動機構7は、この発明における合成駆動手段に相当し、X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bおよびZ軸直進モータ7cは、この発明における直進駆動機構に相当し、断層画像算出部8は、この発明における演算手段に相当し、コントローラ9は、この発明における制御手段に相当する。断層画像算出部8は、複数の投影画像に基づいて断層画像を算出して演算する。コントローラ9は、X線検査装置1を構成する各部分を統括制御し、特に、検出器回転機構5の回転モータ5a、検出器傾動機構6の回転モータ6b、ステージ駆動機構7のX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bおよびZ軸直進モータ7cをそれぞれ制御する。図1ではX線管3は固定位置であったが、X線検出器4の傾動に応じてX線管3を傾斜可能にコントローラ9は制御してもよい。コントローラ9による具体的な制御についても、詳しく後述する。上述の断層画像算出部8やコントローラ9は、中央演算処理装置CPUなどで構成されている。図1に示すように、X線管3、対象物OおよびX線検出器4を配置することで、図9と同様に、ラミノ角傾いた斜め方向にX線管3とX線検出器4とを配置して斜め方向から撮影することができる。そして、X線管3と、ステージ2ひいては対象物Oとを近づけることができ、X線管3と対象物Oとが互いに干渉することなく高拡大率の投影画像を得ることができる。ステージ2を円軌道に準じた軌道で駆動する度に投影画像を取得することで複数の角度からの投影画像を取得し、図2に示す断層画像算出部8は、複数の投影画像に基づいて断層画像を算出して演算する。ここで、円軌道に準じた軌道の範囲について、図3を参照して説明する。図3aは、円軌道の他に、円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道、円軌道の同心円で2倍の大きさを有する大円軌道、円軌道に内接し小円軌道に外接する正三角形および大円軌道に内接し円軌道に外接する正三角形を併せて図示した概略図であり、図3bは、円軌道および大円軌道の他に、大円軌道に内接する正六角形、正六角形の対角を結び円軌道大円軌道の中心を通る辺で正六角形を分割した正三角形、正六角形の対角を結び円軌道大円軌道の中心を通らない辺および当該辺正三角形の辺大円軌道の中心を通る辺で形成された直角三角形を併せて図示した概略図である。円軌道に準じた軌道は無制限でなく、本明細書では、標準となる円軌道の同心円で半分の大きさを有する円軌道を小円軌道、標準となる円軌道の同心円で2倍の大きさを有する円軌道を大円軌道とそれぞれ定義づけると、小円軌道から大円軌道までの範囲の軌道を円軌道に準じた軌道とする。したがって、小円軌道よりも内側に描くことなく、かつ大円軌道よりも外側に描くことがない軌道が、円軌道に準じた軌道となる。ここで、小円軌道を標準となる円軌道の同心円で半分の大きさを有する円軌道とし、大円軌道を標準となる円軌道の同心円で2倍の大きさを有する円軌道としたのは、以下の理由である。標準となる円軌道に内接する正多角形を考えると、その正多角形に内接する円が最も小さくなるのは、その正多角形は正三角形であって、その正三角形に内接する円である。逆に、標準となる円軌道に外接する正多角形を考えると、その正多角形に外接する円が最も大きくなるのは、その正多角形は正三角形であって、その正三角形に外接する円である。図3aに示すように、標準となる円軌道をCとし、標準となる円軌道Cに内接する正三角形をTR1とし、その正三角形TR1に内接する円軌道をCSとし、標準となる円軌道Cに外接する正三角形をTR2とし、その正三角形TR2に外接する円軌道をCBとする。標準となる円軌道Cの径、正三角形TR2に外接する円軌道CBの径の関係についてのみ着目する。図3bに示すように、円軌道CBに内接する正六角形をHEXとし、正六角形HEXの対角を結び円軌道CCBの中心を通る辺で正六角形HEXを分割した正三角形をTR3とすると、正六角形HEXが6つの正三角形TR3に分割される。一方、図3bに示すように、正六角形HEXの対角を結び円軌道CCBの中心を通らない辺をABとし、当該辺AB正三角形TR3の辺円軌道CBの中心を通る辺で形成された直角三角形をTR4とする図3bの太枠を参照。直角三角形TR4は、正三角形TR3の頂点から垂線辺ABの一部を下ろした線で二等分された三角形となり、直角三角形TR4の斜辺の長さが円軌道CBの半径となり、垂線と直交する辺の長さが標準となる円軌道Cの半径となる。直角三角形TR4の斜辺の長さ:垂線と直交する辺の長さは2:1の関係である。したがって、図3bに示すように、標準となる円軌道Cの半径をrとすると、垂線と直交する辺の長さは円軌道Cの半径rと等しく、直角三角形TR4の斜辺の長さは2rとなり、その結果、円軌道CBの半径は直角三角形TR4の斜辺の長さ2rと等しくなる。つまり、図3aの正三角形TR2に外接する円軌道CBの半径は2rで、標準となる円軌道Cの半径rの2倍となり、円軌道CBは、円軌道Cの同心円で2倍の大きさを有する大円軌道となる。よって、大円軌道CBを標準となる円軌道Cの同心円で2倍の大きさを有する円軌道とする。同様の理由で、標準となる円軌道Cを図3aの正三角形TR1に内接する円軌道CSに置き換え、大円軌道CBを標準となる円軌道Cに置き換えた場合には、円軌道Cは、円軌道CSの同心円で2倍の大きさを有する円軌道となる。言い換えれば、円軌道CSは、円軌道Cの同心円で半分の大きさを有する小円軌道となる。次に、具体的な円軌道に準じた軌道の例について、図4を参照して説明する。図4aは、図4bおよび図4cの比較のための通常の円軌道および円軌道を実現するときのX座標値Y座標値であり、図4bは、円軌道をショートカットした軌道およびその軌道を実現するときのX座標値Y座標値であり、図4cは、四角形軌道およびその軌道を実現するときのX座標値Y座標値である。図4a~図4cの横軸は、図4a~図4c中のθを、図4a~図4cの黒丸が示す始点θ=0°から図4a~図4cの矢印が示す終点θ=360°までとった角度軸であり、図4a~図4cの縦軸は、X座標値Y座標値である。また、図4aの円軌道を実現するときのX座標値Y座標値は、図10に示すX座標値Y座標値と同じである。従来の通常の円軌道は、図4aに示すように、図10で述べたのと同様にX座標値PX,Y座標値PYが円軌道を描くために正弦波sin波となる。したがって、駆動量単位ステップ当たりの移動量の絶対値は、sin波のゲインが大きくなる領域図4a中のY座標における角度θが0°,180°,360°付近、X座標における角度θが90°,270°付近でそれぞれ小さくなって、X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7b図1を参照の駆動方向がそれぞれ反転する。したがって、X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bによりステージ2を直進駆動して、もしX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bによる軌道の合成が図4aに示す円軌道の場合には、上述した静止摩擦やバックラッシュの影響が大きくなり、駆動精度の確保が難しくなる。そこで、図4a以外の図4に示すように円軌道という制約を外して、軌道の少なくとも一部に直線的な軌道直進駆動を採り入れる。そして、円軌道でみられる駆動方向が反転する位置での微小駆動をなくすことが可能な軌道の例は多数存在し、これらの軌道を円軌道に準じた軌道とする。なお、標準となる円軌道からあまりにも外れすぎる例えば短軸の4倍を超えた長さの長軸を有した楕円などの場合と、外れすぎた場合に得られた複数の投影画像に基づいて断層画像を算出して演算すると、標準となる円軌道で再構成された断層画像に対して正しい値が得られなくなる。これは、極端な例を考えれば、CTと斜めCTとの断層画像が異なることからも分かる.そこで、上述したように円軌道に準じた軌道は無制限でなく、円軌道C図3aを参照の同心円で半分の大きさを有する小円軌道CS図3aを参照から、円軌道Cの同心円で2倍の大きさを有する大円軌道CB図3aを参照までの範囲の軌道を円軌道に準じた軌道とする。また、図4a以外の図4に示す各軌道で得られた複数の投影画像に基づいて断層画像を算出して演算すると、標準となる円軌道で再構成された断層画像とほぼ同じ結果になることが確認されている。例えば、図4bに示すように、X座標値PX,Y座標値PYが円軌道をショートカットした軌道を描く場合には、駆動方向が反転する位置での微小駆動量よりも大きく、正の実数の値を有する所定値を設定する。そして、駆動量単位ステップ当たりの移動量の絶対値を、当該所定値以上または0にして、コントローラ9図2を参照は各々のX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bをそれぞれ制御する。より具体的には、直交座標系でそれぞれ直進駆動する2つのX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bによる軌道の合成が当該円軌道となるような駆動量で当該所定値以上を保ちつつ各々の2つのX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bをそれぞれ制御するとともに、各々のX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bの駆動方向が反転する領域のみ、駆動量を0にして直進軌道で各々のX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bをそれぞれ制御する。つまり、各々のX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bの駆動方向が反転する領域のみ、駆動量を0にして円軌道をショートカットした直進軌道として、他の領域では当該円軌道と同じ軌道とする。したがって、図面の右に示すように、駆動方向が反転する領域のみ0となり、他の領域ではsin波となる。このように、駆動方向が反転する領域のみ、駆動量を0にして直進軌道として、他の領域では当該円軌道と同じ軌道とすることで、円軌道から外れるときに生じる偽像の影響をできるだけ小さくして、かつ問題となる領域X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bの駆動方向が反転する領域での駆動精度を向上させることができる。また、例えば、図4cに示すように、X座標値PX,Y座標値PYが四角形軌道図4cでは円軌道に内接する正方形軌道を描く場合には、同様に正の実数の値を有する所定値を設定する。そして、駆動量単位ステップ当たりの移動量の絶対値を、当該所定値以上または0にして、コントローラ9は各々のX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bをそれぞれ制御する。より具体的には、この四角形軌道は、小円軌道CSから大円軌道CBまでの範囲の軌道であり、コントローラ9は、X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bのいずれか1つのモータのみを制御するとともに、駆動量を0にして残りのモータを制御することで、当該四角形軌道の直進軌道で駆動する。例えば、図面の右に示すように、X軸直進モータ7aのみを制御してX座標値PXが変動するX方向に直進する場合には、Y軸直進モータ7bでの駆動量を0にしてY座標値PYを固定にして停止状態にする。逆に、Y軸直進モータ7bのみを制御してY座標値PYが変動するY方向に直進する場合には、X軸直進モータ7aでの駆動量を0にしてX座標値PXを固定にして停止状態にする。このように、0の移動量すなわち停止状態にして、残りの直進駆動機構モータのみで動作させて直進駆動して当該四角形軌道を実現することで位置制御が簡易なものとなり、駆動精度が向上する。また、直進軌道であるので、円軌道よりも短時間で駆動することが可能で、撮影に関するデータ収集時間の短縮が可能となる。このように、2つ以上の直進駆動機構本実施例ではX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bにより、もし図4aに示す円軌道を実現する際には、直進駆動機構の駆動方向が反転する位置で必ず微小駆動するので、静止摩擦やバックラッシュの影響が大きくなり駆動精度を保つことができない。そこで、上述の構成を備えた本実施例に係るX線検査装置によれば、コントローラ9は、単位ステップ当たりの移動量の絶対値駆動量を、正の実数の値を有する所定値以上または0にして、各々の直線駆動機構X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bをそれぞれ制御する。この制御により、直進駆動機構X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bの駆動方向が反転する位置で微小駆動せずに、当該所定値以上の移動量あるいは0の移動量すなわち停止状態となる。また、コントローラ9は、円軌道という制約を外して、直進駆動機構X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bの駆動方向が反転する位置で微小駆動しないという制約の下で、当該円軌道の同心円で半分の大きさを有する小円軌道から、当該円軌道の同心円で2倍の大きさを有する大円軌道までの範囲の軌道を当該円軌道に準じた軌道として、ステージ2を駆動するように、各々の直線駆動機構X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bをそれぞれ制御する。これにより、直進駆動機構X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bの駆動方向が反転する位置で微小駆動することなく、駆動精度を保つことができる。また、0の移動量すなわち停止状態にして、残りの直進駆動機構のみで動作させて直進駆動するという動きを採り入れた軌道とすることで、各々の直進駆動機構駆動系での位置制御が簡易なものとなり、駆動精度も保ちやすくなるという効果がある。また、駆動精度がよくなることでメカ的に必要な剛性の条件が緩和されるので、コストダウンにもつながり、各々の直進駆動機構駆動系において低コストを実現することができる。本実施例では、好ましくは、ステージ2の駆動に同期させて、X線検出器4を駆動する検出器回転機構5を備えている。X線検出器4も動作させることで撮影視野を確保することができ、より広い領域の断層画像を算出することができる。検出器回転機構5を備えた場合において、好ましくは、X線管3から照射されたX線が対象物Oの注目点を透過してX線検出器4の中心部分で検出されるように、検出器回転機構5はX線検出器4を駆動する。注目点をX線検出器4の中心部分で捉えることで、断層画像を算出する際にほぼ同じ位置注目点で再構成バックプロジェクションすることが可能となり、撮影視野の中心を基準とした十分広い範囲の断層画像を得ることができる。この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。1上述した実施例では、放射線撮影装置として、X線検査装置を例に採って説明したが、複数の投影画像に基づいて断層画像を取得して放射線撮影を行う装置であれば、放射線についてはX線に限定されず、X線以外の放射線α線、β線、γ線などであってもよい。2対象物については特に限定されない。上述したように実装基板、多層基板のスルーホール/パターン/はんだ接合部、パレット上に配置された集積回路ICのような実装前の電子部品、金属などの鋳物、ビデオデッキのような成型品などに例示されるように、対象物に対する放射線撮影を行うのであればよい。3上述した実施例では、円軌道に準じた軌道は、図4bや図4cに示す軌道であったが、2つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなり、単位ステップ当たりの移動量の絶対値駆動量を、正の実数の値を有する所定値以上または0にして、各々の直線駆動機構をそれぞれ制御するとともに、上述の小円軌道から上述の大円軌道までの範囲の軌道を円軌道に準じた軌道とするのであれば、これらに限定されない。例えば、図5aに示すように、駆動軸この場合、X軸、Y軸方向に頂点を有する四角形軌道でもよいし、図5bに示すように、反転する領域のみ頂点を有し、それ以外の領域では円軌道である円頂点はみ出し軌道であってもよい。その他にも、図5cに示すように、円軌道に外接する四角形軌道図5cでは正方形軌道であってもよいし、図5dに示すように、円軌道に内接あるいは外接する正三角形軌道であってもよい。4上述した実施例では、水平面に沿った円軌道に準じた軌道を描くのに、図2に示す2つのX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bをそれぞれ制御したが、ステージを水平姿勢のままで鉛直面に沿った円軌道に準じた軌道を描く、鉛直姿勢にしてもステージに対して例えば支持部材により対象物が載置可能、あるいは後述する変形例8のように放射線照射手段実施例ではX線管3の方を駆動するのであれば、図1に示すように水平面をXY平面とし、Z軸を鉛直軸としたときに、鉛直面に沿った円軌道に準じた軌道を描くように、X軸直進モータ7a,Z軸直進モータ7c図2を参照をそれぞれ制御、あるいはY軸直進モータ7b,Z軸直進モータ7cをそれぞれ制御してもよい。5上述した実施例では、円軌道に準じた軌道を描くのに、水平面に沿った円軌道に準じた軌道を描くように、各々の直進駆動機構実施例では2つのX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bをそれぞれ制御したが、上述の変形例4のように鉛直面に沿った円軌道に準じた軌道を描くように、各々の直進駆動機構をそれぞれ制御してもよいし、斜面に沿った円軌道に準じた軌道を描くように、各々の直進駆動機構をそれぞれ制御してもよい。6上述した実施例では、円軌道に準じた軌道を描くのに、図2に示す2つのX軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bの組み合わせからなる合成駆動手段実施例ではステージ駆動機構7をそれぞれ制御したが、3つ以上の直進駆動機構の組み合わせからなる合成駆動手段をそれぞれ制御してもよい。円軌道に準じた軌道を描くのに、例えば、X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bの他にZ軸直進モータ7c図2を参照を組み合わせてもよい。また、直交座標系に限定されず、例えば、X軸直進モータ7a,Y軸直進モータ7bおよびZ軸直進モータ7cのいずれか少なくとも1つのモータと、これらの軸に対して斜め方向の軸に沿って直進駆動するモータとを組み合わせてもよい。7上述した実施例では、図1に示すように、ラミノ角傾いた斜め方向からの放射線照射手段実施例ではX線管3と放射線検出手段実施例ではX線検出器4とを配置して斜め方向から撮影したが、各々の図6a~図6eに示すように放射線照射手段X線管3および放射線検出手段X線検出器4を配置してもよい。また、放射線照射手段を上側に配置し、放射線検出手段を下側に配置してもよい。8上述した実施例では、図1に示すように、ステージ2を駆動したが、放射線照射手段実施例ではX線管3、ステージ2の少なくとも一方を駆動するのであれば、ステージ2のみの駆動に限定されない。例えば、図6bあるいは図6eに示すように、放射線照射手段X線管3のみを駆動してもよいし、図6cに示すように、放射線照射手段X線管3およびステージ2の双方を駆動してもよい。9上述した実施例では、図1に示すように、ステージ2の駆動に同期させて、放射線検出手段実施例ではX線検出器4を駆動したが、図6c~図6eに示すように、放射線検出手段X線検出器4を駆動させずに撮影を行ってもよい。この場合には、放射線検出手段X線検出器4に対して特別な駆動機構が不要という効果を奏する。10上述した実施例では、図1に示すように、放射線実施例ではX線が対象物Oの注目点を透過して放射線検出手段実施例ではX線検出器4の中心部分で検出されるような構造であったが、図6dあるいは図6eに示すように、放射線検出手段X線検出器4が広大であれば、必ずしも放射線検出手段X線検出器4の中心部分で放射線X線を検出する必要はない。"