"少なくとも第1及び第2の重ね合わせた光学的可変効果発生構造を含むセキュリティデバイスであって、各構造が表面レリーフミクロ構造を有し、該第2の光学的可変効果発生構造が該第1の構造を通して見ることができる、セキュリティデバイス。前記第1の光学的可変効果発生構造が不連続な金属層を含む、請求項1に記載のデバイス。前記第1の光学的可変効果発生構造が、高屈折率の誘電材料で形成された反射層を含む、請求項1に記載のデバイス。前記第1の光学的可変効果発生構造が、実質的に純粋な格子構造を高屈折率の誘電層と組み合わせて含み、前記第2の光学的可変効果発生構造が、古典的ホログラム、ゼロ次回折デバイス、又はフレネル構造のうち1つを含む、請求項3に記載のセキュリティデバイス。前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造が、相補的なゼロ次回折デバイスを含む、請求項1~4の何れか1項に記載のデバイス。前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造が、典型的に古典的ホログラフィーによって作り出される直交ホログラフィック画像を発生させる、請求項1~5の何れか1項に記載のデバイス。前記第2の光学的可変効果発生構造が不透明な反射層を含む、請求項1~6の何れか1項に記載のデバイス。前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造が互いに積層された、請求項1~7の何れか1項に記載のデバイス。前記第1及び第2の表面レリーフミクロ構造が異なるプロセスによって作り出された、請求項1~8の何れか1項に記載のデバイス。前記第1及び第2の表面レリーフミクロ構造が、ドットマトリックスインターフェロメトリー、リソグラフィックインターフェロメトリー、e-ビームリソグラフィー、及び古典的なレインボーリソグラフィーのうちの1つによって作り出された、請求項1~9の何れか1項に記載のデバイス。前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造を支持するキャリヤー層をさらに含む、請求項1~10の何れか1項に記載のデバイス。前記キャリヤー層が、剥離層を介して前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造に固定された、請求項11に記載のデバイス。1つ又は複数の前記光学的可変効果発生構造がそれぞれのラッカー層に形成された、請求項1~12の何れか1項に記載のデバイス。前記光学的可変効果発生構造の少なくとも1つがポリマー材料に形成された、請求項1~13の何れか1項に記載のデバイス。前記デバイスを基材に固定できるよう接着剤層をさらに含む、請求項1~14の何れか1項に記載のデバイス。前記光学的可変効果発生構造の層又はその層間に提供する染料又は顔料をさらに含む、請求項1~15の何れか1項に記載のデバイス。前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造の間に設けられた1つ又は複数の追加の光学的可変効果発生構造をさらに含む、請求項1~16の何れか1項に記載のデバイス。セキュリティデバイスを製造する方法であって、各構造が表面レリーフミクロ構造を有する、少なくとも第1及び第2の重ね合わせた光学的可変効果発生構造を設けることを含み、それにより該第2の光学的可変効果発生構造が該第1の構造を通して見ることができる、セキュリティデバイスを製造する方法。各光学的可変効果発生構造が、対応する表面レリーフミクロ構造をエンボス層にエンボス加工することによって形成される、請求項18に記載の方法。前記エンボス層がエンボス用ラッカー又はポリマーを含む、請求項19に記載の方法。各ミクロ構造が異なる作成プロセスから得られる、請求項18~20の何れか1項に記載の方法。前記作成プロセスが、ドットマトリックスインターフェロメトリー、リソグラフィックインターフェロメトリー、e-ビームリソグラフィー、及び古典的なレインボーリソグラフィーから選択される、請求項21に記載の方法。前記第1の光学的可変効果発生構造の前記表面レリーフミクロ構造に部分反射層を設けることをさらに含む、請求項18~22の何れか1項に記載の方法。前記部分反射層が、高屈折率の誘電材料又は不連続な金属化によって形成される、請求項23に記載の方法。前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造が別々に製造され、次いで互いに接合される、請求項18~24の何れか1項に記載の方法。前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造が、中間の積層用接着剤によって互いに積層される固定工程、請求項25に記載の方法。前記積層用接着剤がUV硬化性であり、前記固定工程が、前記第1の光学的可変効果発生構造を通して該積層用接着剤にUV照射し、該接着剤を活性化することを含む、請求項26に記載の方法。前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造がキャリヤー上に設けられる、請求項18~27の何れか1項に記載の方法。剥離層が、前記キャリヤーと前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造との間に設けられる、請求項27に記載の方法。請求項1~17の何れか1項に記載のセキュリティデバイス、又は請求項18~29の何れか1項に従って製造されたセキュリティデバイスを担持する有価証券。銀行券などの有価証券を含む、請求項30に記載の証券。[熱転写デバイス]まず、デバイス/発明が熱転写構造として機能できるようにするために必要な層アセンブリを製造する方法を説明する図1a及び1b参照。[OVM1サブアセンブリの製造]典型的に16~50μmのPETであるキャリヤー層1の上に、典型的に0.01~0.1μm厚さのワックス剥離層2が適用され、続いて熱成形可能なラッカー層3が典型的に1~2μmの厚さに適用される。次いで、熱成形可能な層3に光学的ミクロ構造4がエンボス加工される。次いで、この光学的ミクロ構造が反射増強層5で被覆される。この適用には、2つのタイプの反射増強層が適切である。第1のオプション図2aは、例えば、約0.2~0.6μmの厚さに堆積されるZnS、TiO2、ZrO2である誘電材料の透明な高屈折率HRI層でミクロ構造4を真空被覆することである。第2のオプション図2bは、まず本質的に不透明なアルミニウム層5Aでミクロ構造4を真空被覆し、次いでOVM区域の領域5Bを選択的に脱金属化することであり、これはミクロ構造の画像に合わせて行うことができる。脱金属化は、通例、プリントマスクとエッチのアプローチを用いること、又はエッチ液を直接プリントすることにより達成される。OPP二軸延伸ポリプロピレンキャリヤー1を用いることにより、エンボス用ラッカーの存在を必要としなくなることに注目すべきである。光学的ミクロ構造は、OPPに直接エンボス加工することができる。OVM1サブアセンブリ製造プロセスの残りの部分は変わらないままである。[OVM2サブアセンブリの製造]キャリヤー1’と剥離層2’を備えたOVM1に類似の第2のホイルアセンブリが製造される図3。剥離層2’はOVM1の剥離層2よりも弱く又はゆるくなっている2つのサブアセンブリの結合を容易にするため。ラッカー層3’がさらに設けられる。次いで、このホイル構造に第2の光学的可変ミクロ構造4’がエンボス加工され、不透明な反射性金属コーティング5’典型的に30~60nm厚さのアルミニウムがコーティングされる。次に、サブアセンブリは、重量が数g/m2の光学的に透明な接着層又は積層6で被覆される。この接着層6に好適な材料は、COATESUVCCE50などのUV硬化性接着剤、及び例えば、アクリル/イソシアネート硬化性ウレタンをベースとする自己硬化性接着剤である。[2つのサブアセンブリの積層]次に、2つのサブアセンブリOVM1とOVM2を互いに積層しなければならない。これには、2つのサブアセンブリを1対の積層用ニップローラー20に通すことにより、OVM2サブアセンブリの転写可能な層即ち、剥離層より下の層3’~6をOVM1サブアセンブリの背面に転写し図4a、4b、次いでOVM2のキャリヤー1’をはがすことが必要である。積層用接着剤6がUV硬化性組成物である場合、複合ホイルアセンブリはニップローラー20に通す直前にUVで照射することができ、UV源21は必ず複合アセンブリのOVM1側にある図5。あるいはまた、積層体のOVM1側のニップローラー20’は、UV光を透過する材料で製造することができ、UV源21がその円周の内側に配置される図6。最後に、複合アセンブリの背面をDLRHRK14などの熱活性化接着剤9で被覆し被覆重量1.5~3g/m2、次いでそれを巻き戻す。これでスリッチングとホットスタンピングが可能になる。ホットスタンピングホイルに関して、きれいに破れて剥離するのを助けるために、転写アセンブリの合計厚さは7~8μm以下であることが好ましい。ロールオンストライプの用途に関しては、これは10μmまで増やすことができる。使用においては、図1aに示す構造体を有価証券などのような基材10と接触させ、ホットスタンピングダイなどを用いて接着剤9を熱活性化する。活性化の後、ワックス剥離層2が存在する結果としてキャリヤー1がはがされ、図1bに示すようにデバイスが基材10に固定された状態で残される。上記の構成をさらに変更してラベルデバイスを形成することができる。このようなデバイスの構造が図7に示されている。ワックス剥離層2が今度はOVM1サブアセンブリに存在せず、キャリヤー1が透明であるということを除いて、その構造は本質的に変わらないままである。典型的にはPVC又はOPPを用いる場合に、キャリヤーとエンボス層を1つの材料/層に一体化することも可能である。このようなラベルデバイスの製造は、ホットスタンピング製品と2つの点で異なる。OVM1の製造の際、ワックス剥離層2は存在せず、エンボス用ラッカー3は前述のように任意選択である。第二に、熱活性化接着剤9が感圧接着剤9’で置き換わる。NA1197NationalAdhesivesなどの好適な感圧接着剤を10~15g/m2の被覆重量で適用すべきである。[別の製造方法]別のアプローチでは、2つのサブアセンブリは、別々に製造した後に接着して一緒にするというやり方をとらない。そうではなく、完全なアセンブリが各層を逐次的に適用及び処理することで製造され、ホットホイル用途については図8、及びラベル用途については図9に示す構造を結果として得る。これらについて以下でさらに詳しく説明する。[ホットホイル]上述のように、OVM1サブアセンブリは層1から5を用いて製造される図2a。次いで、反射増強層5HRI又はデメットdemetの背面にエンボス用ラッカー11がグラビアコーティングにより適用され、次いで、第2の光学的ミクロ構造4’がエンボス加工される図8。このエンボス用ラッカー11は、第1の光学的可変ミクロ構造4を支持するラッカー3よりも相当に低いガラス転移温度Tgを有することが好ましい。別のアプローチは、エンボス用ラッカーではなくてUV硬化性モノマー組成物を用いることである。その場合、第2の光学的可変レリーフは、UV硬化性モノマーに鋳造して硬化させることができる。このような方法は、米国特許第4,758,296号明細書により詳細に記載されている。次に、第2の光学的可変レリーフ4’が、アルミニウム5’などの金属で真空被覆されアルミニウムの典型的な厚さは30~60nm、次いで、熱活性化接着剤9例えば、DLRHRK14で被覆される。次いで、最終製品を基材10に適用できる状態で巻き戻す。[ラベル]ラベルの製造に関して2つのアプローチが確認された。第1のアプローチ図9は、ワックス剥離層2がOVM1アセンブリになく、熱活性化接着剤9ではなくて感圧接着剤9’が用いられるという点だけが熱活性化転写構造と異なっている。別のアプローチとして図示せず、光学的に透明なポリマー膜典型的に25~100μm厚さを用いて、それが好適な熱可塑特性適切なガラス転移温度などを有する場合に、その下面と称されるところのものに光学的ミクロ構造を直接エンボス加工する。好適なポリマーとしては、ポリプロピレン、PVCがあるが、ポリエステルはガラス転移温度が高いのであまり好適でない。好適でない熱可塑特性を有するポリマーにはポリエステルがあり、又はより詳しくは液晶ポリマーは、その下面がエンボス加工の前に好適な熱可塑性膜若しくはラッカー1~5μm厚さで被覆されることが必要である。ラッカーにOVM1のミクロ構造がエンボス加工され、次に、そのミクロ構造に実質的に不透明な金属層が真空蒸着される。10~100nm、特には30~60nmの厚さで被覆するのが通常である。典型的にはアルミニウムが用いられるが,銅又は任意のはっきりと色のついた合金を用いることもできる。次いで、この金属層は、必要に応じて選択的に脱金属化することができる。次いで、OVM2サブアセンブリが、10~20g/m2の感圧接着剤で被覆されたグラシン紙の上に積層される。次に、OVM2サブアセンブリの上面が、光学的に透明な積層用接着剤で被覆されるこの接着剤は、前述の通り、熱、UV又は自己硬化性であることができる。最後に、熱又はUV光の作用を介して積層用接着剤を活性化させながら、OVM1サブアセンブリが、ニップへの通過によりそのキャリヤーからOVM2サブアセンブリの上面に転写される。[印刷又はコーティングの付加的な強化]適切な層に又はその層間に追加の材料を取り込むことによって、デバイスをさらに強化できることが理解されるであろう。ヨーロッパ特許第497837号明細書に記載されている全ての実施態様はその参照により本明細書に含まれる。ヨーロッパ特許第497837号明細書に記載されている様々な強化方法を、OVM1又はOVM2におけるミクロ構造と反射増強層の間に取り入れることができる。これに加えて、染料又は顔料を積層用接着剤に組み込むこともできる。このような顔料は着色又は発光作用リン光性及び蛍光性を提供することができる。このような材料はセキュリティ産業において周知であり、ストークス又はアンチストークスシフトを示す材料を用いることが周知である。最後に、フォトクロミック材料及びサーモクロミック材料など、他の光学的に可変な材料を積層用接着剤で用いることができる。前に述べたように、本発明は、その光学的に可変の発生効果が、1つの光学的効果発生ミクロ構造に由来するようであるミクロ構造の2つ以上の表面/層から構成される積層構造を作り出す。OVM1とOVM2は、それぞれ単一の作成技術、例えば、古典的ホログラフィーによって生成できることに注目すべきである。しかしながら、ミクロ構造のそれぞれは、2つ以上の異なる作成技術を用いて別々に生成して、それゆえ、それ自体非常に安全に作製することが可能である。したがって、原理的には、OVM1とOVM2により発生する光学的に可変の効果を表面上単一のミクロ構造に視覚的に統合することによって、独自の光学的外観を有するデバイスを作り出すことができ、偽造者も非常に熟練したホログラファーでもそれを再現することはひどく困難であると考えるであろう。好ましい実施態様では、OVM1は、完全に透明な高屈折率HRI誘電材料5典型的には、すべて約2の屈折率を有するZnS、TiO2又はZrO2で以って、約4分の1波長の光学的厚さ即ち、屈折率が2では約100nmでしっかりと被覆されるが、鏡のように滑らかな界面とは対照的に、回折レリーフ上のHRI層の厚さは決定的に重要ではない。この好ましい実施態様では、HRIの反射率は例えば、明るさがせいぜい6分の1程度の不透明に近いアルミニウム膜と比べた場合に相対的に低いので、OVM1はOVM2に比べて本質的に高い回折輝度を有することが重要である。即ち、OVM1は回折光の拡散が最小であり、深さ効果が全くないような純粋な格子構造から構成されるべきである。この場合においてOVM1を生成するのに好適な作成方法は、ドットマトリックスインターフェロメトリー、リソグラフィックインターフェロメトリー及びe-ビームリソグラフィーであるリソグラフィックインターフェロメトリー及びe-ビームリソグラフィーは、Kinegram登録商標及びExelgram登録商標などの作成技術を含む。OVM2は、好ましくは、ある形態の真珠光沢又は事実上/見かけの深さ効果を発生させるべきであり、その効果は、OVM1により発生する光学的可変効果とコントラストを成しかつ相補的である。したがって、OVM2は、古典的ホログラムモデル、2D-3D、ゼロ次回折デバイスZOD、又は最も低い高調波で作用するフレネル構造回折と反射のハイブリッド効果であることが好ましい。輝度をバランスさせるため、さらに着色剤又は染料を積層用接着剤に組み込んで、OVM2からの再生にスペクトルでフィルターをかける色をつけることができる。第2の好ましい実施態様は以下の通りである。一様に透明なHRI反射増強層5は、アルミニウムの選択的に金属化されたコーティングで置き換えられ図2b、それゆえ、OVM1は必ずしも本質的に非常に明るい必要はない。したがって、OVM1は、上の実施態様におけるOVM2のような拡散的な回折、並びに上の実施態様におけるOVM1のような非拡散的な回折を生ずる作成技術により得ることができる。一般に、選択的な金属化がOVM1により提供される画像パターンと合っていることが特に望ましい。2つのこのような例は次のようなものである:1.OVM1とOVM2は相補的なZODである。例えば、OVM1の背面で、金属化は透明な周囲の上にDeLaRueヘッドの形に設けることができる。OVM1は、垂直に向いたときに緑色の真珠光沢を再生し、水平に向いたときに褐色を再生するよう製造することができる。一方で、OVM2は、垂直に向いたときに褐色を再生し、水平に向いたときに緑色を再生するよう設けることができる。それゆえ、デバイス全体は、垂直に向いたときには褐色の背景上に緑色のヘッドという外観を有し、水平に向いたときには緑色の背景上に褐色のヘッドという外観を有する。この単純なスワップオーバーswapover効果は強力な認証特徴である。2.Kinegram登録商標及びExelgram登録商標並びに他の形態の干渉及び非干渉型のリソグラフィーで生成される回折式光学的可変デバイスの設計者らは、しばしば、製造の観点から、基本的な格子構造の配向方位角を±90°変えることにより容易に直交画像を作り出すことができるという事実を利用している。垂直配向では第1のグラフィック画像が回折されて観察者の眼に入り、他方、デバイスをその面に直角な軸のまわりで90°回転させると、第2のグラフィック画像が生成され水平配向、回折され又は中継されて観察者の眼に入る。この直交画像の切り替えは非常に強力な特徴である。それとは対照的に、古典的な二段階レインボーホログラムでは、配向方位角を変えることができる能力は抑制されており、真に直交する画像を作り出すことは困難である。それゆえ、本発明の幾つかの例についての重要な態様は、OVM1とOVM2が古典的ホログラフィーで作り出される直交ホログラフィック画像を含むという設計の特徴である。もっとも当然ながら、ミクロ構造のどちらか又はその両方は、他の作成技術例えば、ドット-マトリックスオーバーレイを含むこともできる。OVM2の体積ホログラムを利用する更なる例が図10に示されている。それは本質的に下方アセンブリOVM2から構成され、このアセンブリはMylar登録商標PET支持層に設けられたフォトポリマーBragg又は体積ホログラム層を含み、その支持層は保護物品の基材に接着される。上方アセンブリOVM1は、透明な高屈折率コーティングで真空被覆され、次いで下方アセンブリ即ち、フォトポリマーの上面に転写-積層又は接着されたOVM1ミクロ構造をエンボス加工したラッカー又は熱可塑性材料から構成される。このアセンブリは、そのままの状態では透明又は少なくとも半透明であり、それゆえ、基材上にある任意の印刷又は写真の情報を見ることができる。所望であれば、着色剤は、接着剤に加えることができるか又は支持層PETと接着剤の間にある着色した場合によって不透明なプライマー層に加えることができる。このアセンブリの製造方法は以下の通りである:1OVM2サブアセンブリの製造1まず、体積ホログラムが光重合性層30に記録され、次いで、得られたBragg構造が光典型的には化学線又はUVへの曝露によって安定化又は硬化される。次いで任意選択で、ホログラムをその後の加熱処理にさらして、その輝度又は再生効率を高めることができる。10~200μm厚さの支持層32の露出表面には、連続的な着色不透明コーティングの外観を有することができるか又は接着強度を低下させないよう表面の大部分を覆う印刷された着色パターンとして提供することができるプライマーコーティング図示せずを任意選択で設けることができる。あるいはまた、支持層に染料を組み込んで不透明性及び/又は色を与えることができる。硬化した後、光重合プロセスが酸素により害されるのを防ぐ最上部の保護シート又は層典型的には弱く接着した20μmのPETは除去してもよいし、2つのサブアセンブリを最終的に積層するまで保持してもよい。2次いで、体積ホログラムが接着剤感圧をコーティングしたグラシン剥離紙に積層される。即ち、接着剤は支持層と接触している。接着剤は、PET支持層32と非常に強い結合を形成し、かつ化学的な攻撃に耐性のあるタイプであるべきである。それとは別に、剥離剤をコーティングしたキャリヤー38典型的にはポリエステル、厚さが12~50μm、特には25μmに設けた熱可塑性又はラッカー層360.5~5μm厚さに、OVM1表面レリーフミクロ構造34をエンボス加工することによってOVM1サブアセンブリを作製する。あるいはまた、キャリヤー38は、透明な反射増強層HRI40又は半透明反射増強層例えば、OVM1により提供される光学的に可変の画像と合っていても、合っていなくてもよい部分的金属化で真空被覆することができる。最後に、この構造は、熱活性化ホット-スタンピングできるか、圧力活性化できるか又はUV硬化接着剤であることができる積層用接着剤又は接着層42で被覆される。3最後に、OVM2サブアセンブリのフォトポリマー表面30上に剥離可能なキャリヤーと向かい合ってOVM1サブアセンブリを転写する。積層プロセスの間、OVM1とOVM2によって提供される画像が所定の空間的関係又は正確な重ね合わせを維持するということは、重要なセキュリティデザインの特徴である場合がある。同様に、OVM1の反射増強層40が選択的な金属化という形をとる場合、この金属化は、OVM1及び/又はOVM2により提供される光学的効果で得られる画像にぴったり合っていることが望ましい場合がある。最後に、その場合、画像又はホログラムの連続シート又はウェブは、ラベルユニットに型抜きすることができ、不要になったマトリックスが剥ぎ取られる。得られたラベルは、通常の転写プロセスにより感圧接着剤44を介して基材46に接着することができる。第2の実施態様が図11に示されているが、これは本質的に、OVM1サブアセンブリの構成に関して前の実施の形態と異なっている。具体的に言うと、OVM1は転写可能なラッカーにエンボス加工されるのではなく、その代わり、剥離コーティングされていない支持/キャリヤー層48に直接エンボス加工されている。構成のステップは以下の通りである:[OVM2サブアセンブリの製造]1上で述べた通り。2当てはまらない。即ち、今度は、接着剤をコーティングしたグラシン紙又は剥離シート46への積層は2つのサブアセンブリが一体化された後で行われる。[OVM1サブアセンブリの製造]3OVM1ミクロ構造を支持/キャリヤー層48例えば、PVC、ポリカーボネート、OPP又はあまり適切でないがPET、10~100μm厚さに直接エンボス加工するか、又はエンボス加工可能なラッカーで被覆されたキャリヤー層に、今度は剥離層を省いてエンボス加工する。キャリヤーは12~50μm、好ましくは12~25μmの典型的な厚さ範囲を有する。4次に、反射増強層36HRI又は部分金属化を真空コーティングする。5次に、積層用接着剤42熱活性化、圧力活性化、又はUV硬化するものをコーティングする。6次に、2つのサブアセンブリは、OVM2サブアセンブリのフォトポリマー側が、OVM1サブアセンブリの接着又は積層用接着剤と接触するよう配向した状態で、1対のニップローラーに通すことにより互いに積層される。先に、2つの表面レリーフミクロ構造を含むアセンブリの製造を説明した際、積層用接着剤が熱活性化されるか又は例えば、UV硬化されたフォトポリマー架橋を介して作用する場合に関する特定の積層プロセス/システムについて説明したので、ここでは繰り返さない。任意選択で、PET支持層32は、着色プライマー層を連続コーティング又はパターニングされた不連続コーティングとして設けることもできる。最後に、この複合構造は、接着剤44感圧をコーティングしたグラシン紙46に積層して、前と同様に型抜き等することができる。7この段階で構成オプションがあることにも注意すべきであるそれはフォトポリマーホログラム層が支持層に弱く接着している場合に実行できる。積層した後、体積ホログラム支持層をはがすことができる。次いで、複合アセンブリが接着剤をコーティングしたグラシン紙に積層される。UV硬化材料は、多くの場合、接着が困難であるので、特別な調合の感圧接着剤を開発するか、又は体積ホログラムと接着剤の間に中間のプライマー層を設けることが必要な場合がある。2つのデバイスを積層して一緒にする必要なく、複合デバイスを構築することも可能である図12。この場合には、体積ホログラム30と下地の支持層32とから成るOVM2サブアセンブリを選びとり、その体積ホログラムの表面をエンボス加工可能な熱可塑性又はUV重合性コーティング50で被覆する。次いで、熱及び圧力の作用により、このコーティングに適切な表面レリーフ構造をエンボス加工する。あるいはまた、表面レリーフは、鋳造及び硬化技術を用いて形成することもできる。OVM1の表面レリーフ構造をトップコート又はワニス52により保護することができる場合、その時には、表面レリーフに反射増強層、例えば、HRI又は部分的金属化を設ける必要がある。最後に、体積ホログラムOVM2支持層に接着剤44を直接的に又は先のように接着剤をコーティングした剥離シート46に積層することによって間接的に設ける。第2の実施態様を製造するために提案された構成方法は、銀行券紙及びポリマー、セキュリティラベル等に組み込むためのホログラフィックスレッドとして用いるのに好適な層アセンブリを作製するのに利用することもできることが理解されるであろう。本質的に、それは最終的な接着剤コートの提供を削除することを意味する。2つの可能なスレッド構造が図13と図14に示されているが、この2つは、前者図13ではフォトポリマーのPET支持層32が外側に向いた層の1つとして保持されているのに対し、後者図14ではフォトポリマー30が外側に向いた層の1つになっているという点で区別される。図13では、アセンブリ全体の厚さが45μm以下であることが望ましく、それゆえ、2つの外側に向いたポリマー支持層の個々の厚さは10~15μm程度であることが好ましく、フォトポリマーホログラム層は10~20μmであることが好ましい。同じ全体厚さの制限は図14の構造にも当てはまるが、体積ホログラム支持層がなくなっているので、これはより容易に達成される。最後に、本発明のコンセプトは、視覚的に統合された画像というコンセプト、例えば、回折又はホログラフィック表面レリーフ画像と、体積/Braggホログラムとの組み合わせによって得られるものであって、アセンブリの細かい構成ではないということを強調しておかなければならない。即ち、例えば、記載された実施態様の幾つかにおいては、体積ホログラムとその支持層の順序を逆転させて、体積ホログラムが基材に最も近く、支持層がOVM1サブアセンブリに最も近くなるようにすることが望ましい場合もある。また、PETを支持層としてあげたが、それは、所望の光学的/機械的性質を有する任意の光学ポリマー材料で代用することもできる。層の厚さ及び被覆重量について明記した数値は、決して包括的であるとして予想されるものではなく、したがって、本発明のコンセプトに従って機能するが、本明細書で明記したものの範囲外である層の厚さや組成を有する構造は、依然として本発明の範囲内にあるとみなされる。"