模擬ガスを生成して試験対象に供給する模擬ガス供給装置であって、流量調整機器により一定流量とされた模擬ガス生成用の第1ガスを供給する第1ガス供給路と、前記第1ガス供給路が接続され、当該第1ガス供給路により供給される第1ガスを加熱する第1ガス加熱部と、前記第1ガス加熱部により前記第1ガスが加熱されて生成される模擬ガスを前記試験対象に供給する模擬ガス供給路とを備え、前記第1ガス供給路が、前記第1ガスを前記第1ガス加熱部に供給する第1ガス供給分岐路及び前記第1ガスを外部に排出する第1ガス排出分岐路に分岐しており、前記第1ガスを前記第1ガス供給分岐路及び前記第1ガス排出分岐路の間で選択的に切り替える切り替え弁機構を有し、前記切り替え弁機構により前記第1ガスを前記第1ガス供給分岐路に間欠的に流すことにより、前記第1ガス加熱部に供給される第1ガスの流量を調整する模擬ガス供給装置。模擬ガスを生成して試験対象に供給する模擬ガス供給装置であって、模擬ガス生成用の第1ガスを供給する第1ガス供給路と、流量調整機器により一定流量とされた模擬ガス生成用の第2ガスを供給する第2ガス供給路と、前記第1ガス供給路が接続され、当該第1ガス供給路により供給される第1ガスを加熱する第1ガス加熱部と、前記第2ガス供給路が接続され、当該第2ガス供給路により供給される第2ガス及び前記第1ガス加熱部により加熱された第1ガスを混合して模擬ガスを生成する模擬ガス生成部と、前記模擬ガス生成部により生成される模擬ガスを前記試験対象に供給する模擬ガス供給路とを備え、前記第2ガス供給路が、前記第2ガスを前記模擬ガス生成部に供給する第2ガス供給分岐路及び前記第2ガスを外部に排出する第2ガス排出分岐路に分岐しており、前記第2ガスを前記第2ガス供給分岐路及び前記第2ガス排出分岐路の間で選択的に切り替える切り替え弁機構を有し、前記切り替え弁機構により前記第2ガスを前記第2ガス供給分岐路に間欠的に流すことにより、前記模擬ガス生成部に供給される第2ガスの流量を調整する模擬ガス供給装置。前記第1ガス供給路が複数設けられている請求項1記載の模擬ガス供給装置。前記第2ガス供給路が複数設けられている請求項2記載の模擬ガス供給装置。前記試験対象となる触媒が設置されるとともに当該触媒を加熱する触媒加熱部を有し、前記触媒加熱部に前記模擬ガス供給路が接続されている請求項1乃至4の何れかに記載の模擬ガス供給装置。そこで本発明は、上記問題点を一挙に解決すべくなされたものであり、マスフローコントローラによる流量制御に頼ることなく、模擬ガスの成分濃度又は流量の切り替えにおいてその過渡期における流量又は成分濃度の制御を容易にし、模擬ガスの流量又は成分濃度に対する所望の変化を精度良く再現することをその主たる所期課題とするものである。すなわち本発明に係る模擬ガス供給装置は、模擬ガスを生成して試験対象に供給する模擬ガス供給装置であって、流量調整機器により一定流量とされた模擬ガス生成用の第1ガスを供給する第1ガス供給路と、前記第1ガス供給路が接続され、当該第1ガス供給路により供給される第1ガスを加熱する第1ガス加熱部と、前記第1ガス加熱部により前記第1ガスが加熱されて生成される模擬ガスを前記試験対象に供給する模擬ガス供給路とを備え、前記第1ガス供給路が、前記第1ガスを前記第1ガス加熱部に供給する第1ガス供給分岐路及び前記第1ガスを外部に排出する第1ガス排出分岐路に分岐しており、前記第1ガスを前記第1ガス供給分岐路及び前記第1ガス排出分岐路の間で選択的に切り替える切り替え弁機構を有し、前記切り替え弁機構により前記第1ガスを前記第1ガス供給分岐路に間欠的に流すことにより、前記第1ガス加熱部に供給される第1ガスの流量を調整することを特徴とする。このようなものであれば、流量調整機器により一定流量とされた第1ガスを第1ガス供給分岐路及び第1ガス排出分岐路に選択的に切り替えることで第1ガスを第1ガス供給分岐路に間欠的に流して第1ガスの流量を調整しているので、流量調整機器により第1ガスの流量を変化させる必要が無い。これにより、流量調整機器は第1ガスを一定流量とすれば良いので、流量調整機器の制御応答の遅れを考慮することなく、模擬ガスの流量を変化させる場合においてその過渡期における流量の制御を容易にし、模擬ガスの流量に対する所望の変化を精度良く再現することができる。また、このように過渡期における流量の制御を容易にできることから、模擬ガスの成分濃度の切り替えにおいてその過渡期における成分濃度の制御を容易にし、模擬ガスの成分濃度に対する所望の変化を精度良く再現することができる。また本発明に係る模擬ガス供給装置は、模擬ガスを生成して試験対象に供給する模擬ガス供給装置であって、模擬ガス生成用の第1ガスを供給する第1ガス供給路と、流量調整機器により一定流量とされた模擬ガス生成用の第2ガスを供給する第2ガス供給路と、前記第1ガス供給路が接続され、当該第1ガス供給路により供給される第1ガスを加熱する第1ガス加熱部と、前記第2ガス供給路が接続され、当該第2ガス供給路により供給される第2ガス及び前記第1ガス加熱部により加熱された第1ガスを混合して模擬ガスを生成する模擬ガス生成部と、前記模擬ガス生成部により生成される模擬ガスを前記試験対象に供給する模擬ガス供給路とを備え、前記第2ガス供給路が、前記第2ガスを前記模擬ガス生成部に供給する第2ガス供給分岐路及び前記第2ガスを外部に排出する第2ガス排出分岐路に分岐しており、前記第2ガスを前記第2ガス供給分岐路及び前記第2ガス排出分岐路の間で選択的に切り替える切り替え弁機構を有し、前記切り替え弁機構により前記第2ガスを前記第2ガス供給分岐路に間欠的に流すことにより、前記模擬ガス生成部に供給される第2ガスの流量を調整することを特徴とする。このようなものであれば、流量調整機器により一定流量とされた第2ガスを第2ガス供給分岐路及び第2ガス排出分岐路に切り替え、第2ガスを第2ガス供給分岐路に間欠的に流して模擬ガス生成部に供給される第2ガスの流量を調整しているので、流量調整機器により第2ガスの流量を変化させる必要が無い。これにより、流量調整機器は第2ガスを一定流量とすれば良いので、流量調整機器の制御応答の遅れを考慮することなく、模擬ガスの流量を変化させる場合においてその過渡期における流量の制御を容易にし、模擬ガスの流量に対する所望の変化を精度良く再現することができる。また、このように過渡期における流量の制御を容易にできることから、模擬ガスの成分濃度の切り替えにおいてその過渡期における成分濃度の制御を容易にし、模擬ガスの成分濃度に対する所望の変化を精度良く再現することができる。前記第1ガス供給路が複数設けられているものにおいては、従来マスフローコントローラの台数が増えることから本発明の課題が一層顕著となる。このため、このようなものに本発明を適用することで、本発明の効果が一層顕著となる。なお、第1ガス供給路が複数設けられている場合には、各第1ガス供給路により供給される第1ガスの種類を異ならせることにより、複数種の模擬ガスを生成することができる。前記第2ガス供給路が複数設けられているものにおいては、従来マスフローコントローラの台数が増えることから本発明の課題が一層顕著となる。このため、このようなものに本発明を適用することで、本発明の効果が一層顕著となる。なお、第2ガス供給路が複数設けられている場合には、各第2ガス供給路により供給される第2ガスの種類を異ならせることにより、複数種の模擬ガスを生成することができる。本発明の模擬ガス供給装置を用いた触媒評価装置を構成するためには、前記試験対象となる触媒が設置されるとともに当該触媒を加熱する触媒加熱部を有し、前記触媒加熱部に前記模擬ガス供給路が接続されていることが望ましい。このように構成した本発明によれば、マスフローコントローラによる流量制御に頼ることなく、模擬ガスの成分濃度又は流量の切り替えにおいてその過渡期における成分濃度又は流量の制御を容易にし、模擬ガスの成分濃度又は流量に対する所望の変動を精度良く再現することができる。以下に本発明に係る模擬ガス供給装置100について図面を参照して説明する。本実施形態の模擬ガス供給装置100は、エンジン排ガスを模擬した模擬ガスを生成して試験対象である触媒200に供給するものであり、触媒評価試験装置に組み込まれて用いられる。具体的にこのものは、模擬ガス生成用の第1ガスを供給する第1ガス供給路2と、模擬ガス生成用の第2ガスを供給する第2ガス供給路3と、第1ガス供給路2が接続され、当該第1ガス供給路2により供給される第1ガスを加熱する第1ガス加熱部4と、第2ガス供給路3が接続され、当該第2ガス供給路3により供給される第2ガス及び前記第1ガス加熱部4により加熱された第1ガスを混合して模擬ガスを生成する模擬ガス生成部5と、模擬ガス生成部5により生成された模擬ガスを触媒200に供給する模擬ガス供給路6とを備えている。第1ガス供給路2は、図1においては1つしか図示していないが、第1ガスの成分に応じて複数設けられているものであっても良い。また、第1ガス供給路2には、第1ガスを発生させる第1ガス発生部不図示が接続されている。なお、第1ガスとは、複数成分のガスを混合してなる混合ガスであっても良いし、単一成分のガスであっても良い。また、第1ガス供給路2には、第1ガス発生部から供給される第1ガスの流量を一定流量に調整するための流量調整機器7が設けられている。この流量調整機器7は、例えばマスフローコントローラにより構成することが考えられるが、本実施形態では、このマスフローコントローラの流量設定値を一定とすることにより、第1ガス供給路2を流れる第1ガスの流量を一定流量に調整している。なお、流量調整機器7としては、その他、流量調整バルブ等を用いても良い。第2ガス供給路3は、図1においては1つしか図示していないが、第2ガスの成分に応じて複数設けられているものであっても良い。また、第2ガス供給路3には、第2ガスを発生させる第2ガス発生部不図示が接続されている。この第2ガスは、第1ガス加熱部4により加熱されると反応してしまうガスであり、例えばCOやNOX等である。また、第2ガスも、前記第1ガスと同様に、複数成分のガスを混合してなる混合ガスであっても良いし、単一成分のガスであっても良い。また、第2ガス供給路3には、第2ガス発生部から供給される第2ガスの流量を一定流量に調整するための流量調整機器8が設けられている。この流量調整機器8は、例えばマスフローコントローラにより構成することが考えられるが、本実施形態では、このマスフローコントローラの流量設定値を一定とすることにより、第2ガス供給路3を流れる第1ガスの流量を一定流量に調整している。なお、流量調整機器8としては、その他、流量調整バルブ等を用いても良い。第1ガス加熱部4は、第1ガス供給路2により第1ガスが供給されるセル41と当該セル41の外周部に設けられたヒータ等の加熱手段42とを備えている。また、触媒加熱部11は、試験対象である触媒を収容するとともに模擬ガス生成部5により生成された模擬ガスが供給されるセル111と当該セル111の外周部に設けられたヒータ等の加熱手段112とを備えている。さらに模擬ガス生成部5は、第1ガス及び第2ガスを撹拌して混合するものであり、例えばノズル部を有するものが考えられる。なお、触媒加熱部11において触媒200を通過した模擬ガスは、外部に設けられたガス分析装置不図示に供給されて、その模擬ガス中の成分濃度が分析される。そして、触媒通過前の模擬ガスの成分濃度と比較することによって触媒200の性能が評価される。なお、触媒200の入口近傍には、触媒200の温度を検出するための温度検出部不図示が設けられており、この温度検出部により検出温度に基づいて前記触媒加熱部11が制御されて触媒200の温度が制御される。しかして本実施形態の模擬ガス供給装置100は、第1ガス供給路2が、第1ガスを第1ガス加熱部4に供給する第1ガス供給分岐路21及び第1ガスを外部に排出する第1ガス排出分岐路22に分岐しており、第1ガスを第1ガス供給分岐路21及び第1ガス排出分岐路22の間で選択的に切り替える第1ガス切り替え弁機構23を有している。第1ガス供給分岐路21及び第1ガス排出分岐路22は、流量調整機器7の下流側で分岐している。そして、第1ガス供給分岐路21が、第1ガス加熱部4に接続されている。また、第1ガス排出分岐路22が、触媒加熱部11に接続された排気路9に接続されている。第1ガス切り替え弁機構23は、第1ガス供給分岐路21に設けられた供給側開閉弁231と、第1ガス排出分岐路22に設けられた排出側開閉弁232とを有する。これらの開閉弁231、232は例えばミリ秒オーダーで開閉可能な電磁弁であり、制御装置によりその開閉時間が制御される。なお、制御装置不図示は、CPU、メモリ、入出力インターフェイス、AD変換器等を有する専用乃至汎用のコンピュータである。また、第2ガス供給路3が、第2ガスを模擬ガス生成部5に供給する第2ガス供給分岐路31及び第2ガスを外部に排出する第2排出分岐路32に分岐しており、第2ガスを第2ガス供給分岐路31及び第2ガス排出分岐路32の間で選択的に切り替える第2ガス切り替え弁機構33を有している。第2ガス供給分岐路31及び第2ガス排出分岐路32は、流量調整機器8の下流側で分岐している。そして、第2ガス供給分岐路31が、模擬ガス生成部5に接続されている。また、第2ガス排出分岐路32が、触媒加熱部11に接続された排気路9に接続されている。第2ガス切り替え弁機構33は、第2ガス供給分岐路31に設けられた供給側開閉弁331と、第2ガス排出分岐路32に設けられた排出側開閉弁332とを有する。これらの開閉弁331、332は例えばミリ秒オーダーで開閉可能な電磁弁であり、前記制御装置によりその開閉時間が制御される。次にこのように構成した模擬ガス供給装置100の動作について図2を参照して説明する。制御装置は、第1ガス切り替え弁機構23を制御することにより、流量調整機器7により一定流量とされた第1ガスを第1ガス供給分岐路21及び第1ガス排出分岐路22の間で選択的に切り替え、第1ガスを第1ガス供給分岐路21に間欠的に流すことにより、第1ガス加熱部4に供給される第1ガスの流量を調整する。具体的に制御装置は、第1ガス切り替え弁機構23の供給側開閉弁231及び排出側開閉弁232をオンオフ制御する。例えば図2の上段に示すように、第1ガス切り替え弁機構23の供給側開閉弁231の開閉時間比率デューティ―比を50とすることにより、流量調整機器7の流量設定値Q1の50の流量を第1ガス加熱部4に供給することができる。このように、供給側開閉弁231の開閉時間比率を制御することにより第1ガス加熱部4に供給する流量を調整する。なお、供給側開閉弁231を閉じる場合には、第1ガスを排出するために排出路開閉弁232を開ける。また、制御装置は、第2ガス切り替え弁機構33を制御することにより、流量調整機器8により一定流量とされた第2ガスを第2ガス供給分岐路31及び第2ガス排出分岐路32の間で選択的に切り替え、第2ガスを第2ガス供給分岐路31に間欠的に流すことにより、模擬ガス生成部5に供給される第2ガスの流量を調整する。具体的に制御装置は、第2ガス切り替え弁機構33の供給側開閉弁331及び排出側開閉弁332をオンオフ制御する。例えば図2の下段に示すように、第2ガス切り替え弁機構33の供給側開閉弁331の開閉時間比率デューティ―比を75とすることにより、流量調整機器8の流量設定値Q2の75の流量を模擬ガス生成部5に供給することができる。このように、供給側開閉弁331の開閉時間比率を制御することにより模擬ガス生成部5に供給する流量を調整する。なお、供給側開閉弁331を閉じる場合には、第2ガスを排出するために排出側開閉弁332を開ける。このように構成した本実施形態に係る模擬ガス供給装置100によれば、流量調整機器7により一定流量とされた第1ガスを第1ガス供給分岐路21及び第1ガス排出分岐路22に選択的に切り替えることで第1ガスを第1ガス供給分岐路21に間欠的に流して第1ガス加熱部4に供給される第1ガスの流量を調整しているので、流量調整機器7により第1ガスの流量を変化させる必要が無い。また、流量調整機器8により一定流量とされた第2ガスを第2ガス供給分岐路31及び第2ガス排出分岐路32に切り替え、第2ガスを第2ガス供給分岐路31に間欠的に流して模擬ガス生成部5に供給される第2ガスの流量を調整しているので、流量調整機器8により第2ガスの流量を変化させる必要が無い。これにより、流量調整機器7、8は第1ガス及び第2ガスを一定流量とすれば良いので、流量調整機器7、8の制御応答の遅れを考慮することなく、模擬ガスの流量を変化させる場合においてその過渡期における流量の制御を容易にし、模擬ガスの流量に対する所望の変化を精度良く再現することができる。また、このように過渡期における流量の制御を容易にできることから、模擬ガスの成分濃度の切り替えにおいてその過渡期における成分濃度の制御を容易にし、模擬ガスの成分濃度に対する所望の変化を精度良く再現することができる。なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。例えば、図3に示すように、模擬ガス生成部5に第2ガスを供給する第2ガス供給路3を複数図3では2つ設けたものであっても良い。この場合、各第2ガス供給路3により模擬ガス生成部5に供給される各第2ガスの種類を異ならせることが考えられる。ここで各第2ガスの種類を異ならせるとは、各第2ガスが単一成分からなる場合にはその成分を異ならせることであり、各第2ガスが複数成分のガスを混合してなる混合ガスの場合には、各第2ガスを構成する複数成分の一部又は全部を異ならせることである。なお、図3においては、第1ガス供給路3が、従来通り、流量調整機器7により第1ガスの流量が調整される場合を示している。また、図4に示すように、第1ガス加熱部4に第1ガスを供給する第1ガス供給路2を複数図3では2つ設けた場合であっても良く、模擬ガス生成部5に第2ガスを供給する第2ガス供給路3を複数図3では2つ設けたものであっても良い。この場合、各第1ガス供給路2により第1ガス加熱部4に供給される各第1ガスの種類を異ならせることが考えられる。ここで各第1ガスの種類を異ならせるとは、各第1ガスが単一成分からなる場合にはその成分を異ならせることであり、各第1ガスが複数成分のガスを混合してなる混合ガスの場合には、各第1ガスを構成する複数成分の一部又は全部を異ならせることである。さらに、図3及び図4に示すように、第1ガス供給路2又は第2ガス供給路3を複数設けた場合には、それらガス供給路2、3に設けられた流量調整機器7、8の流量設定値を異ならせるように構成しても良い。例えば第1ガス供給路2を2つ設け、それら第1ガス供給路2により同一の第1ガスを供給する場合には、図4に示すように、一方の第1ガス供給路2aに設けられた流量調整機器7aの流量設定値をQx、他方の第1ガス供給路2bに設けられた流量調整機器7bの流量設定値をQyとした場合に、例えばQx>Qyとすることが考えられる。このように複数の第1ガス供給路2を用いてそれらの流量調整機構7の設定流量値を異ならせているものであれば、1つの第1ガス供給路2を用いて当該第1ガス供給路2の切り替え弁機構23の開閉動作により流量制御を行う場合に比べて第1ガスの流量制御をより広範囲に亘って行うことが可能となる。さらに前記実施形態では、模擬ガスは、第1ガス及び第2ガスを混合することで生成されるものであったが、図5に示すように、第2ガスを用いることなく、第1ガスを第1ガス加熱部で加熱することによって生成されるものであっても良い。この場合、模擬ガスの流量の切り替えにおいてその過渡期における流量の制御を容易にし、模擬ガスの流量に対する所望の変化を精度良く再現することができる。その上、切り替え弁機構23、33としては、供給側開閉弁231、331及び排出側開閉弁232、332により構成されるものの他、図6に示すように、三方弁を用いて構成したものであっても良い。これならば、配管構成を簡略化することができる。また前記実施形態では、第1ガス加熱部4、模擬ガス生成部5、模擬ガス供給路6及び触媒加熱部11を別々に構成したものであったが、図7に示すように、第1ガス加熱部4、模擬ガス生成部5、模擬ガス供給路6及び触媒加熱部11を単一のチャンバ模擬ガス生成セル10により形成しても良い。つまり、この模擬ガス生成セル10において上流側に第1ガス加熱部4が設けられ、下流側に模擬ガス生成セル10内に配置された触媒200を加熱するため触媒加熱部11が設けられ、第1ガス加熱部4及び触媒加熱部11の間に模擬ガス生成部5が設けられている。そして、この模擬ガス生成部5に第2ガス供給路3が接続されている。また前記実施形態の模擬ガス供給装置100において、図8に示すように、第2ガス排出分岐路32において排出側開閉弁332の下流側に圧力調整弁等の圧力調整機構333を設けることが望ましい。この圧力調整機構333は、排出側開閉弁332の出口の圧力を調整するものであり、具体的には、排出側開閉弁332の出口の圧力を第2ガス供給分岐路31の供給側開閉弁331の出口の圧力と同一圧力に調節するものである。より詳細には、供給側開閉弁331の出口側に圧力センサを設け、この圧力センサの圧力信号を取得した制御装置が圧力調整機構333を制御することで、排出側開閉弁332の出口の圧力が第2ガス供給分岐路31の供給側開閉弁331の出口の圧力と同一圧力に調節される。これにより、第2ガス供給分岐路31から模擬ガス生成部5及び加熱触媒部11に安定してガスを供給することができる。なお、同様に、第1ガス排出分岐路22において排出側開閉弁232の下流側に圧力調整弁等の圧力調整機構を設けることも考えられる。その上、本発明は、触媒評価試験装置に用いるものの他、ガス分析計に模擬ガスを供給することにより、当該ガス分析計の性能試験を行うものにも適用可能である。その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。