"希土類系焼結磁石に対し、酸素分圧が1×103Pa~1×105Paで水蒸気分圧が45Pa以下であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率酸素分圧/水蒸気分圧が450~20000の雰囲気下、200°C~600°Cで熱処理を行う工程を含んでなることを特徴とする表面改質された希土類系焼結磁石の製造方法。雰囲気の全圧を9×104Pa~1.2×105Paとすることを特徴とする請求項1記載の製造方法。常温から熱処理を行う温度までの昇温および/または熱処理を行った後の降温を、熱処理を行う雰囲気と同じ雰囲気下で行うことを特徴とする請求項1記載の製造方法。請求項1記載の製造方法によって製造されてなることを特徴とする表面改質された希土類系焼結磁石。表面電位差が0.35V以内であることを特徴とする請求項4記載の希土類系焼結磁石。改質層の構成成分として、実質的にヘマタイトからなる酸化鉄と実質的にR2O3からなるR酸化物が含まれることを特徴とする請求項4記載の希土類系焼結磁石。特許文献8において本発明者らが提案した希土類系焼結磁石に対する表面改質方法によれば、温度や湿度が変動する環境においても十分な耐食性が酸化熱処理によって付与されるとともに、酸化熱処理による磁気特性の低下を抑制することが可能となり、特許文献1~特許文献7に記載の表面改質方法が有する問題が見事に解決される。しかしながら、特許文献8に記載の表面改質方法によって表面改質された希土類系焼結磁石であっても、高温高湿の過酷条件下での耐食性加速試験を行った場合、ごく僅かではあるが発錆する磁石が存在することがその後の検討で明らかになった。そこで本発明は、温度や湿度が変動する環境においても極めて優れた耐食性を有するとともに、優れた磁気特性を有する表面改質された希土類系焼結磁石の製造方法を提供することを目的とする。本発明者らは、上記の点に鑑みて、特許文献8において提案した希土類系焼結磁石に対する表面改質方法に改良の余地がないかどうか鋭意検討を重ねた結果、水蒸気分圧をできるだけ小さくし、酸素分圧と水蒸気分圧の比率酸素分圧/水蒸気分圧を特許文献8において好適とされている比率1~400よりも大きくすることで、耐食性の向上を図ることができることを見出した。上記の知見に基づいて完成された本発明の表面改質された希土類系焼結磁石の製造方法は、請求項1記載の通り、希土類系焼結磁石に対し、酸素分圧が1×103Pa~1×105Paで水蒸気分圧が45Pa以下であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率酸素分圧/水蒸気分圧が450~20000の雰囲気下、200°C~600°Cで熱処理を行う工程を含んでなることを特徴とする。また、請求項2記載の製造方法は、請求項1記載の製造方法において、雰囲気の全圧を9×104Pa~1.2×105Paとすることを特徴とする。また、請求項3記載の製造方法は、請求項1記載の製造方法において、常温から熱処理を行う温度までの昇温および/または熱処理を行った後の降温を、熱処理を行う雰囲気と同じ雰囲気下で行うことを特徴とする。また、本発明の表面改質された希土類系焼結磁石は、請求項4記載の通り、請求項1記載の製造方法によって製造されてなることを特徴とする。また、請求項5記載の希土類系焼結磁石は、請求項4記載の希土類系焼結磁石において、表面電位差が0.35V以内であることを特徴とする。また、請求項6記載の希土類系焼結磁石は、請求項4記載の希土類系焼結磁石において、改質層の構成成分として、実質的にヘマタイトからなる酸化鉄と実質的にR2O3からなるR酸化物が含まれることを特徴とする。本発明によれば、温度や湿度が変動する環境においても極めて優れた耐食性を有するとともに、優れた磁気特性を有する表面改質された希土類系焼結磁石の製造方法を提供することができる。本発明の表面改質された希土類系焼結磁石の製造方法は、希土類系焼結磁石に対し、酸素分圧が1×103Pa~1×105Paで水蒸気分圧が45Pa以下であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率酸素分圧/水蒸気分圧が450~20000の雰囲気下、200°C~600°Cで熱処理を行う工程を含んでなることを特徴とするものである。酸素分圧を1×103Pa~1×105Paと規定するのは、酸素分圧が1×103Paよりも小さいと、雰囲気中の酸素量が少なすぎることで、磁石の表面改質に時間がかかりすぎたり、磁石のその保持部材と接する部分の表面改質が十分に行われないことにより、当該部分に十分な耐食性が付与されなかったり当該部分に保持部材との接点跡が残ってしまったりする恐れがあるからである。一方、酸素分圧を1×105Paより大きくしても、酸素分圧を大きくすることによる耐食性の向上効果はさほど認められず、コストアップを招来するだけになってしまう恐れがあるからである。従って、磁石の表面に対して所望する改質をより効果的かつ低コストに行うためには、酸素分圧は1×104Pa~3×104Paが望ましい。水蒸気分圧を45Pa以下と規定するのは、水蒸気分圧が45Paよりも大きいと、雰囲気中の水蒸気量が多すぎることで、優れた耐食性を発揮する安定な改質層を磁石の表面に形成することができない恐れがあるからである。なお、水蒸気分圧の下限は特段制限されるものではないが、通常、1Paが望ましい。酸素分圧と水蒸気分圧の比率酸素分圧/水蒸気分圧を450~20000と規定するのは、当該比率が450よりも小さいと、雰囲気中の酸素量に対する水蒸気量が多すぎることで、優れた耐食性を発揮する安定な改質層を磁石の表面に形成することができない恐れがあるからである。一方、当該比率が20000よりも大きい雰囲気は特殊環境といえ、実用的でないからである。従って、当該比率は500~10000が望ましく、600~5000がより望ましい。処理室内の雰囲気は、例えば、これらの酸化性ガスを所定の分圧となるように個別に導入することによって形成してもよいし、これらの酸化性ガスが所定の分圧で含まれる露点を有する大気を導入することによって形成してもよい。また、処理室内には、窒素やアルゴンなどの不活性ガスを共存させてもよい。雰囲気の全圧を大気圧やその近傍の圧力具体的には例えば9×104Pa~1.2×105Paとすれば、特別な圧力調整手段を必要とすることなく所定の雰囲気を容易に形成して磁石の表面改質を行うことができることは、本発明の利点であるといえる。熱処理温度を200°C~600°Cと規定するのは、熱処理温度が200°Cよりも低いと、磁石の表面に対して所望する改質を行い難くなる恐れがある一方、熱処理温度が600°Cよりも高いと、磁石の磁気特性に悪影響を及ぼす恐れがあるからである。従って、熱処理温度は240°C~500°Cが望ましく、350°C~450°Cがより望ましい。熱処理時間は1分間~3時間が望ましく、15分間~2.5時間がより望ましい。時間が短すぎると磁石の表面に対して所望する改質が行い難くなる恐れがある一方、時間が長すぎると磁石の磁気特性に悪影響を及ぼす恐れがある。なお、磁石を常温から熱処理を行う温度まで昇温する工程は、熱処理を行う雰囲気と同じ雰囲気下で行うことが望ましい。熱処理を行う雰囲気と同じ雰囲気を採用することにより、磁石の表面に少なからず自然吸着している水分を早期に脱離させることで、磁石の表面に存在する水分が昇温の際に磁石に対して悪影響を与えることを極力回避することができる。また、昇温を行った後に処理室内の雰囲気を変更することなく引き続いて熱処理を行うことができるといった利点もある。昇温速度は、例えば100°C/時間~2000°C/時間とすればよい。なお、本発明において常温とは、表面改質が行われる希土類系焼結磁石が昇温を開始する時点で置かれている環境の温度例えば室温を指し、例示的には、日本工業規格のJISZ8703において5°C~35°Cと規定されている温度を意味する。また、熱処理を行った後の磁石を降温する工程も、熱処理を行う雰囲気と同じ雰囲気下で行うことが望ましい。このような雰囲気下で降温することにより、工程中に磁石の表面が結露することで磁石が腐食して磁気特性が低下するといった現象を防ぐことができる。磁石を常温から熱処理を行う温度まで昇温する工程、磁石に対して熱処理を行う工程、熱処理を行った後の磁石を降温する工程は、磁石が収容された処理室内の環境を順次それぞれの工程を行うための環境に変化させることで行ってもよいし、処理室内をそれぞれの工程を行うための環境に制御した領域に分割し、各領域に磁石を順次移動させることで行ってもよい。図1は、以上の3つの工程を、内部がそれぞれの工程を行うための環境に制御された領域に分割され、各領域に磁石を順次移動させることで行うことができる連続処理炉の一例の概略図側面図である。図1に示す連続処理炉においては、ベルトコンベアなどの移動手段によって磁石を図の左から右に移動させながら各処理を施す。矢印は図略の給気手段と排気手段によって形成される各領域における雰囲気ガスの流れである。昇温領域の入口および降温領域の出口は、例えばエアカーテンで区画され、昇温領域と熱処理領域の境界および熱処理領域と降温領域の境界は、例えば矢印の雰囲気ガスの流れにより区画されるこれらの区画は機械的にシャッターで行われてもよい。このような連続処理炉を用いれば、大量の磁石に対して安定した品質の表面改質を連続的に行うことができる。以上の工程によって希土類系焼結磁石に対して表面改質を行うことで、磁石の表面に均一な改質層が形成され、表面電位差最も高い電位と最も低い電位の差が0.35V以内となり、電位差腐食が効果的に抑制される結果、耐食性が向上するものと考えられる。磁石の表面における主相の上部に位置する改質層は安定性に優れるヘマタイトα-Fe2O3を主体とする酸化鉄から構成され、粒界三重点の上部に位置する改質層は安定性に優れるR2O3を主体とするR酸化物から構成される。改質層の構成成分として含まれる酸化鉄はその75mass以上がヘマタイトであることが望ましい。より望ましくは80mass以上であり、さらに望ましくは90mass以上である。また、改質層の構成成分として含まれるR酸化物はその75mass以上がR2O3であることが望ましい。より望ましくは80mass以上であり、さらに望ましくは90mass以上である。なお、酸化鉄中のヘマタイトの比率とR酸化物中のR2O3の比率は、例えばラマン分光分析法で分析することができる。なお、希土類系焼結磁石の表面に形成される表面改質層の厚みは0.5μm~10μmが望ましい。厚みが薄すぎると十分な耐食性を発揮しない恐れがある一方、厚みが厚すぎると磁石の磁気特性に悪影響を及ぼす恐れがある。本発明が適用される希土類系焼結磁石としては、例えば、下記の製造方法によって製造したR-Fe-B系焼結磁石が挙げられる。25mass~40massの希土類元素Rと、0.6mass~1.6massのB硼素と、残部Feおよび不可避不純物とを包含する合金を用意する。ここで、Rは重希土類元素RHを含んでいてもよい。また、Bの一部はC炭素によって置換されていてもよいし、Feの一部は50mass以下は、他の遷移金属元素例えば、CoまたはNiによって置換されていてもよい。この合金は、種々の目的により、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Ni、Cu、Zn、Ga、Zr、Nb、Mo、Ag、In、Sn、Hf、Ta、W、Pb、およびBiからなる群から選択された少なくとも1種の添加元素Mを0.01mass~1.0mass程度含有していてもよい。上記の合金は、原料合金の溶湯を例えばストリップキャスト法によって急冷して好適に作製され得る。以下、ストリップキャスト法による急冷凝固合金の作製を説明する。まず、上記組成を有する原料合金をアルゴン雰囲気中において高周波溶解によって溶解し、原料合金の溶湯を形成する。次に、この溶湯を1350°C程度に保持した後、単ロール法によって急冷し、例えば厚さ約0.3mmのフレーク状合金鋳塊を得る。こうして作製した合金鋳片を、次の水素粉砕処理前に例えば1mm~10mmのフレーク状に粉砕する。なお、ストリップキャスト法による原料合金の製造方法は、例えば、米国特許第5、383、978号明細書に開示されている。[粗粉砕工程]上記のフレーク状に粗く粉砕された合金鋳片を水素炉の内部へ収容する。次に、水素炉の内部で水素脆化処理以下、水素粉砕処理や単に水素処理と称する場合がある工程を行う。水素粉砕処理後の粗粉砕粉合金粉末を水素炉から取り出す際、粗粉砕粉が大気と接触しないように、不活性雰囲気下で取り出し動作を実行することが好ましい。そうすれば、粗粉砕粉が酸化発熱することが防止され、磁石の磁気特性の低下が抑制できるからである。水素粉砕処理によって、希土類合金は0.1mm~数mm程度の大きさに粉砕され、その平均粒径は500μm以下となる。水素粉砕処理後、脆化した原料合金をより細かく解砕するとともに冷却することが好ましい。比較的高い温度状態のまま原料を取り出す場合は、冷却処理の時間を相対的に長くすればよい。[微粉砕工程]次に、粗粉砕粉に対してジェットミル粉砕装置を用いて微粉砕を実行する。本実施形態で使用するジェットミル粉砕装置にはサイクロン分級機が接続されている。ジェットミル粉砕装置は、粗粉砕工程で粗く粉砕された希土類合金粗粉砕粉の供給を受け、粉砕機内で粉砕する。粉砕機内で粉砕された粉末はサイクロン分級機を経て回収タンクに集められる。こうして、0.1μm~20μm程度典型的には平均粒径3μm~5μmの微粉末を得ることができる。このような微粉砕に用いる粉砕装置は、ジェットミルに限定されず、アトライタやボールミルであってもよい。粉砕に際して、ステアリン酸亜鉛などの潤滑剤を粉砕助剤として用いてもよい。[プレス成形]本実施形態では、上記方法で作製された磁性粉末に対し、例えばロッキングミキサー内で潤滑剤を例えば0.3mass添加混合し、潤滑剤で合金粉末粒子の表面を被覆する。次に、上述の方法で作製した磁性粉末を公知のプレス装置を用いて配向磁界中で成形する。印加する磁界の強度は、例えば1.5テスラ~1.7テスラTである。また、成形圧力は、成形体のグリーン密度が例えば4.0g/cm3~4.5g/cm3程度になるように設定される。[焼結工程]上記の粉末成形体に対して、例えば、1000°C~1200°Cの範囲内の温度で10分間~240分間行う。650°C~1000°Cの範囲内の温度で10分間~240分間保持する工程と、その後、上記の保持温度よりも高い温度例えば、1000°C~1200°Cで焼結を更に進める工程とを順次行ってもよい。焼結時、特に液相が生成されるとき温度が650°C~1000°Cの範囲内にあるとき、粒界相中のRリッチ相が融け始め、液相が形成される。その後、焼結が進行し、焼結磁石体が形成される。焼結工程の後、時効処理400°C~700°Cや寸法調整のための研削を行ってもよい。本発明の製造方法によって製造される表面改質された希土類系焼結磁石は、優れた耐食性が酸化熱処理によって付与されているとともに、酸化熱処理による磁気特性の低下が抑制されているので、例えば、ハイブリッド自動車や電気自動車の駆動モータとして使用されたり、空調機のコンプレッサーなどに組み込まれたりするIPMモータでの使用に適したものである。なお、本発明の製造方法によって製造される表面改質された希土類系焼結磁石を用いてIPMモータを製造する場合、ロータの内部に磁石を埋め込む工程を経て行えばよい。以下、本発明を実施例によってさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定して解釈されるものではない。実施例1Nd:18.5、Pr:5.7、Dy:7.2、B:1.00、Co:0.9、Cu:0.1、Al:0.2、残部:Fe単位はmassの組成を有する厚さ0.2mm~0.3mmの合金薄片をストリップキャスト法により作製した。次に、この合金薄片を容器に充填し、水素処理装置内に収容した。そして、水素処理装置内を圧力500kPaの水素ガスで満たすことにより、室温で合金薄片に水素吸蔵させた後、放出させた。このような水素処理を行うことにより、合金薄片を脆化し、大きさ約0.15mm~0.2mmの粗粉砕粉末を作製した。上記の水素処理により作製した粗粉砕粉末に対し粉砕助剤として0.04massのステアリン酸亜鉛を添加し混合した後、ジェットミル装置による粉砕工程を行うことにより、粉末粒径が約3μmの微粉末を作製した。こうして作製した微粉末をプレス装置により成形し、粉末成形体を作製した。具体的には、印加磁界中で粉末粒子を磁界配向した状態で圧縮し、プレス成形を行った。その後、成形体をプレス装置から抜き出し、真空炉により1050°Cで4時間の焼結工程を行い、焼結体ブロックを得た。得られた焼結体ブロックを真空中にて490°Cで2.5時間の時効処理を行った後、その表面に対し研削加工を行い、厚さ6mm×縦7mm×横7mmに寸法調整し、超音波水洗を行うことで焼結磁石を得た。図1に示した連続処理炉を用いて以下の方法で、上記の方法で得た焼結磁石に対し、昇温工程、酸化熱処理工程、降温工程を実行し、表面改質を行った。1昇温工程常温25°Cを意味する。以下同じから酸化熱処理を行う温度400°Cまでの昇温を、露点-35°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧32Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=625。以下同じの雰囲気下、500°C/時間の昇温速度で行った。2酸化熱処理工程露点-35°Cの大気の雰囲気下、400°Cで30分間の熱処理を行った。3降温工程露点-35°Cの大気の雰囲気下、自然放冷にて400°Cから常温まで行った。以上の方法で焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは2.2μmであった。なお、改質層の厚みは、表面改質された焼結磁石を樹脂埋め研磨後、イオンビーム断面加工装置SM09010:日本電子社製を用いて試料作製し、電界放出型走査電子顕微鏡S-4300:日立ハイテクノロジー社製を用いて断面観察を行うことによって測定した以下同じ。実施例2昇温工程、酸化熱処理工程、降温工程を、露点-45°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧11Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=1818の雰囲気下で行うこと以外は実施例1と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは1.9μmであった。実施例3酸化熱処理工程を340°Cで2時間行うこと以外は実施例1と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは1.3μmであった。実施例4昇温工程、酸化熱処理工程、降温工程を、露点-32°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧42Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=476の雰囲気下で行うこと以外は実施例1と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは1.8μmであった。実施例5昇温工程、酸化熱処理工程、降温工程を、露点-60°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧2Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=10000の雰囲気下で行うこと以外は実施例1と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは2.2μmであった。比較例1昇温工程、酸化熱処理工程、降温工程を、露点0°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧600Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=33.3の雰囲気下で行うこと以外は実施例1と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは2.0μmであった。比較例2昇温工程、酸化熱処理工程、降温工程を、露点10°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧1230Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=16.3の雰囲気下で行うこと以外は実施例1と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは2.3μmであった。比較例3昇温工程、酸化熱処理工程、降温工程を、気温21°C×相対湿度63の大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧1570Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=12.7の雰囲気下で行うこと以外は実施例1と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは2.2μmであった。比較例4真空熱処理炉を用いて、昇温工程、酸化熱処理工程、降温工程を、露点-60°C水蒸気分圧2Paで圧力100Pa0.75Torrの減圧酸素雰囲気下酸素分圧/水蒸気分圧=50で行うこと以外は実施例1と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは1.6μmであった。試験例1焼結磁石を1000個用意し、実施例1の条件で1回の処理につき100個の焼結磁石に対して表面改質を行い、合計10回の処理によって1000個の表面改質された焼結磁石を得た。同様にして、実施例2~実施例5、比較例1~比較例4のそれぞれの条件でそれぞれ合計10回の処理によって1000個の表面改質された焼結磁石を得た。こうして得た表面改質された焼結磁石に対し、温度60°C×相対湿度90の高温高湿条件下での24時間の耐食性加速試験を行った後、外観観察を行い、1000個の磁石のうち発錆した磁石の個数を調べた。結果を表1に示す。なお、表1には表面改質を行う前の焼結磁石1000個に対して上記の耐食性加速試験を行った結果をあわせて示す参考例。表1から明らかなように、実施例1~実施例5では発錆した磁石は存在しなかったが、特許文献8に記載の表面改質方法に相当する比較例1では0.3の割合で発錆した磁石が存在した。比較例1の結果は、特許文献1~特許文献7に記載の表面改質方法に相当する比較例2~比較例4の結果と比較すると、はるかに優れるものであるが、実施例1~実施例5の結果は、比較例1の結果よりもさらに優れるものであった。なお、比較例4で得た表面改質された焼結磁石の表面には、焼結磁石を載置した真空熱処理炉の部材との接点跡が認められ、当該部分の発錆が顕著であった。実施例およびその他の比較例で得た表面改質された焼結磁石の表面にはこのような接点跡は認められなかったことから、この現象は比較例4で採用した雰囲気中の酸素量が少なすぎることによるものと考えられた。試験例2JISH8502-1999に基づく中性塩水噴霧サイクル試験方法を参考にし、塩水噴霧を除いた乾燥と湿潤だけのサイクル試験を、実施例1~実施例5と比較例1で得た表面改質された焼結磁石それぞれ10個別々のロットで得たサンプルに対して行いサイクル数:3および6、試験後のレイティングナンバ評価JISH8502-1999に基づく腐食欠陥評価を行った。レイティングナンバが7以上の磁石を合格品、7未満の磁石を不合格品と判定し、10個の磁石のうち不合格品と判定された磁石の個数を調べた。その結果、実施例1~実施例5と比較例1のすべてにおいて不合格品と判定された磁石の個数は0個であった。まとめと考察上記の試験例1の耐食性加速試験と試験例2の乾燥湿潤サイクル試験の結果から、特許文献8に記載の表面改質方法は、希土類系焼結磁石に対する優れた耐食性付与方法であり、試験後に特段の磁気特性の低下も認められなかったことから、実用上の要求を十分に満たすものであることを確認することができたが、本発明の表面改質方法は、さらに優れた耐食性付与方法であり、試験後に特段の磁気特性の低下も認められなかった。ラマン分光分析装置HoloLab5000R:KAISEROPTICALSYSTEM社製を用いて実施例1で得た表面改質された焼結磁石の表面を分析したところ、実質的に検出された表面改質層の構成成分は安定性に優れるヘマタイトとR2O3のみであった図2。従って、実施例1において焼結磁石の表面に形成された改質層には、構成成分として、実質的にヘマタイトからなる酸化鉄と、実質的にR2O3からなるR酸化物が含まれることがわかった。また、別途、焼結磁石を湿式法によって鏡面加工した後、実施例1の条件で処理を行うことで得た表面改質された焼結磁石の表面電位分布を、走査型プローブ顕微鏡SPM-9600:島津製作所社製を用いて測定した電位マッピング像を図3に示す。図3から明らかなように、実施例1の条件で処理を行うことで表面改質された焼結磁石の表面電位分布は非常に均一であって、-0.10V~-0.34Vの範囲にあり、表面電位差は0.24Vであった。これに対し、表面改質を行う前の焼結磁石の表面電位分布は不均一であって、-0.13V~-0.60Vの範囲にあり、表面電位差は0.47Vであったことからすれば電位マッピング像を図4に示す、実施例1で得た表面改質された焼結磁石が極めて優れた耐食性を有するのは、電位差腐食が効果的に抑制されていることによるものと考えられた。本発明者らは、鏡面加工した焼結磁石に対し、実施例1の条件で表面改質を行った場合、その主相の上部に位置する改質層は安定性に優れるヘマタイトを主体とする酸化鉄から構成され、粒界三重点の上部に位置する改質層は安定性に優れるR2O3を主体とするR酸化物から構成される一方で、比較例1の条件で表面改質を行った場合、実施例1の条件で表面改質を行った場合との相違点として、粒界三重点の上部に位置する改質層に、R2O3の他にR水酸化物などの不安定なR化合物と推察される化合物が存在することを、走査型電子顕微鏡とエネルギー分散型X線分析装置を用いた断面の組成分析、および、ラマン分光分析装置を用いた表面分析によって別途確認している。従って、実施例1と比較例1で得た表面改質された焼結磁石の耐食性加速試験の結果の相違は、磁石の表面にわずかに存在する粒界三重点の上部に位置する改質層の構成成分の相違によってもたらされているものと考えられた。応用例1実施例1で得た表面改質された焼結磁石をロータの内部に埋め込む工程を経て、ハイブリッド自動車や電気自動車の駆動モータとして使用されるIPMモータを製造した。実施例6Nd:16.2、Pr:4.5、Dy:9.1、B:0.93、Co:2.0、Cu:0.1、Al:0.15、Ga:0.07、残部:Fe単位はmassの組成を有する厚さ0.2mm~0.3mmの合金薄片を用いて焼結磁石を得ることと、昇温工程、酸化熱処理工程、降温工程を、露点-51°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧6Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=3333の雰囲気下で行うこと以外は実施例1と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは2.0μmであった。実施例7昇温工程、酸化熱処理工程、降温工程を、露点-54°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧4Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=5000の雰囲気下で行うことと、酸化熱処理工程を400°Cで20分間行うこと以外は実施例6と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは1.6μmであった。実施例8Nd:19.8、Pr:5.7、Dy:4.3、B:0.93、Co:2.0、Cu:0.1、Al:0.15、Ga:0.07、残部:Fe単位はmassの組成を有する厚さ0.2mm~0.3mmの合金薄片を用いて焼結磁石を得ることと、昇温工程を520°C/時間の昇温速度で行うことと、酸化熱処理工程を420°Cで20分間行うこと以外は実施例5と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは1.8μmであった。比較例5昇温工程と降温工程を、露点-60°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧2Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=10000の雰囲気下で行うこと以外は比較例1と同じ方法で表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは1.9μmであった。試験例3試験例1と同じ方法で耐食性加速試験を行い、実施例6~実施例8と比較例5の焼結磁石それぞれ1000個のうち発錆した磁石の個数を調べた。結果を表2に示す。表2から明らかなように、実施例6~実施例8では発錆した磁石は存在しなかった。"