"ショートアーク型の放電ランプとこの放電ランプを取り囲むように設けた上記放電ランプからの光を反射するリフレクタとを備える光源部を、複数一方向に並べた光出射部と、該光出射部から出射する光を、上記一方向に伸びる線状に集光する反射ミラーと、上記反射ミラーの光出射側に設けられ、上記反射ミラーからの光を偏光する偏光素子とを備え、上記一方向に対して直交する方向に搬送されるワークに対して偏光光を照射する光照射装置において、上記偏光素子は、複数の偏光素子を、隣合う偏光素子と各々の端部が、上記光出射部からの光が通過する方向に対して重なるように、上記ワークの搬送方向に対して直交する方向に並べて配置したものであり、上記複数の偏光素子の境界線は、上記ワークの搬送方向に対して斜めであることを特徴とする光照射装置。上記反射ミラーは、複数の反射ミラーを、ワークの搬送方向に対して直交する方向に並べて構成したものであり、上記複数の反射ミラーの境界線は、上記ワークの搬送方向に対して斜めであるとともに、上記偏光素子の境界線とは、上記ワーク上にこれらを投影した際に上記ワークの搬送方向に対して重ならないことを特徴とする請求項1に記載の光照射装置。上記光照射装置としては、紫外光などの活性エネルギー線を光重合性液晶材料層に対して広範囲にわたって照射することによって量産性を高めるために、通常、ロングアーク型の放電ランプを用いた光照射装置が用いられる。しかし、ロングアーク型の放電ランプは線光源であるために、光学系によって、放電ランプから放射される光を当該放電ランプの長手方向において互いに平行な平行光とすることができない。このため、図8に示すように、マスク95の透光部97を透過する光の一部が、マスク95にその面方向に対して斜交して入射されることにより、マスク95のパターンに忠実で解像度の高いパターンを有する液晶ポリマー層93を形成することが困難である。上記問題に対処するため、例えば、上記ロングアーク型ランプに代えて、ショートアーク型の放電ランプを用いることが考えられる。上記3D用の位相差フィルムの製造等に用いられる光照射装置として、上記ショートアーク型放電ランプを用いた場合、例えば以下のような構成が考えられる。図9、図10に上記光照射装置の構成例を示す。図9は光照射装置の斜視図、図10は光照射装置の光出射方向に沿ったA-Aで切断した断面図である。光照射装置は、光出射部10と反射ミラー20と偏光素子45とマスク30とを備える。光出射部10は、複数の光源部12を一方向X方向に並べて配置した光源部列11a,11bから構成されている。図9においては、光出射部10は光源部12を2列に並べて構成しているが、3列以上に並べても良い。光源部12は、ショートアーク型の放電ランプ13と、これを取り囲むように配置されたリフレクタ15とを備える。放電ランプ13は、波長270nm~450nmの紫外光を効率良く放射する超高圧水銀ランプである。放電容器内には、一対の電極が、例えば0.5mm~2.0mmの電極間距離になるように対向配置され、発光物質である水銀及び始動補助用のバッファガスである希ガス並びにハロゲンガスが所定量封入されている。水銀の封入量は例えば0.08mg/mm3~0.30mg/mm3である。リフレクタ15は、その光軸を中心とする回転放物面状の反射面を有するパラボラミラーである。放電ランプ13は、発光部Fがリフレクタ15の焦点に一致すると共に、一対の電極を結ぶ直線がリフレクタ15の光軸Cに沿って伸びる姿勢で配置されている。放電ランプ13から放射された光は、リフレクタ15により反射され、光軸C方向に出射する。リフレクタ15はパラボラミラーであるので、リフレクタ15により反射される光は、平行光となる。光源部12を複数並べた光出射部10の光出射側、光源部12の光軸C方向前方には、光出射部10の伸びる方向X方向と長さに合わせて、反射ミラー20が配置されている。反射ミラー20は、光軸C方向に沿った平面による断面が放物線状の反射面21を有する、樋状シリンドリカルパラボラミラーによって構成されている。反射ミラー20は、ライン状に伸びる焦点fを有しており、光出射部10からの平行光は、反射ミラー20の反射面21により反射されると、反射ミラー20の長手方向には平行光のまま集光されることなく、光源部12の光軸C方向のみに集光されながら、上記ライン状に伸びる焦点fの位置に一軸方向のみに集光し、線状の光照射領域を形成する。反射ミラー20は、反射面21がリフレクタ15の光出射開口と、被照射物であるパターン化位相差フィルムワークWが配置される被照射面とを臨み、その焦点fが被照射物Wの被照射面に一致するように配置されている。反射ミラー20の光出射側には、偏光素子45が配置される。偏光素子45としては、例えば前記したワイヤーグリッド偏光素子と呼ばれる偏光素子を用いる。図11は、ワイヤーグリッド偏光素子の構成を示す図である。図11aはワイヤーグリッド偏光素子の模式斜視図であり、図11bはワイヤーグリッド偏光素子の、グリッドの延在方向に垂直な面における断面図である。ワイヤーグリッド偏光素子は、ガラスあるいは石英等からなる透明基板46と、該透明基板上に所定のピッチをもって略平行に配列された幅及び高さが共通の金属体であるグリッド47とからなる。各グリッド47のピッチは、照射光の波長以下とされている。ワイヤーグリッド偏光素子は、グリッド47のピッチの概ね2倍以上の波長の光が図11aの上方から照射された場合に、上記光を構成する振動成分のうち、グリッド47の延在方向長手方向と平行する偏光成分を反射し、グリッドの長手方向と直交する偏光成分を透過させることにより、入射する無偏光光を直線偏光にする。光出射部10と反射ミラー20と偏光素子45は、偏光素子45により偏光した光が出射する光出射開口を有する箱状のカバーの内部に収容される。図9、図10ではカバーは省略している。偏光素子45の光出射側には、光透過性の基板上にスリット状のマスクパターンが形成されたマスク30が配置されている。マスク30は、図12に示すように、ガラスあるいは石英などの透明な基板31と、例えばクロムからなる遮光膜32とによって構成されている。遮光膜32が、上記被照射物Wの搬送方向Y方向と平行方向に伸びるスリット状のマスクパターンを形成するように、透明基板上に蒸着されている。偏光素子45から出射した偏光光は、マスク30を介して被照射物であるワークWに照射される。偏光フィルムWは、例えば円筒状のチルロール41などの搬送手段40の外周に沿って配置されている。ワークWは、搬送手段40の回転により一方向Y方向に向けて搬送されながら、図9に示すように、光出射部10からの光が、反射ミラー20により直線状に集光され、偏光素子45により偏光され、マスク30のスリット状のマスクパターンを介して照射される。これにより、ワークWには、ワークWの搬送方向Y方向と平行方向に延伸するストライプ状のパターンが露光される。なお、上記の3D映像表示用の位相差フィルムの露光においては、図12に示したようなストライプ状のマスクを介して偏光光を照射する。しかし、光学補償用の位相差フィルムを製造するための露光においては、上記マスクを使用せず、フィルム全体に偏光光を照射する。上記で光照射処理を行う、3D用の位相差フィルムは、帯状で長尺のワークであり、処理後は所望の長さに切断して使用される。フィルム幅はパネルの大きさに合わせて作られており、現状では1000mm~1500mm程度である。そしてその光照射装置は、上記したように、フィルムの幅方向フィルムの搬送方向に直交する方向に伸びる光照射領域を形成する。そのため、光照射装置の光出射部10の長さは、フィルム幅に合わせて、1000mm~1500mmまたはそれ以上となる。そして、光出射部10の長さが1000mm~1500mmとなれば、光出射部10からの光を反射する反射ミラー20シリンドリカルパラボラミラーも、反射ミラー20により反射した光を偏光する偏光素子45ワイヤーグリド偏光素子も、1000mm~1500mmの長さが必要である。しかし、シリンドリカルパラボラミラーやワイヤーグリッド偏光素子も、以下のような理由により、そのような長さのものを1枚物として製造することは困難である。反射ミラー20であるシリンドリカルミラーは、ワークであるフィルムの温度を上昇させて変形させてしまうような不所望の長波長の光を反射しないように、処理に必要な特定の波長の紫外線のみを反射し、それ以外の長波長の光を透過する波長選択ミラーを使用する。この波長選択ミラーは、石英やガラスといった透明基板上に、無機多層膜を蒸着して形成される。形成する膜は反射したいあるいは透過させたい光の波長に応じて材質や膜厚が設定され形成される。しかし、現実問題として、ガラス板に蒸着膜を形成するための蒸着釜の大きさは限られており、釜の中に入れられるガラス板の大きさは、現状では250mm~300mm角程度までである。したがって、長さは300mm程度のものしか製造することができない。また、ワイヤーグリッド偏光素子の場合は、上記したようにグリッドの間隔を照射光の波長以下としなければならない。この光照射装置の場合、偏光するのは上記したように波長270nm~450nmの紫外光であるので、グリッドの間隔はそれ以下でなければならない。このような微細な加工は、半導体製造に用いられるリソグラフィ装置やエッチング装置、蒸着装置などを使って行う。しかし、それらの装置で処理できる基板の大きさは、現状ではφ300mm程度までであり、したがって、長さは300mm程度のものしか製造することができない。そのため、シリンドリカルパラボラミラーやワイヤーグリッド偏光素子は、それぞれ複数の小さなミラー板や偏光素子を並べて構成する。しかし、これには次のような問題がある。反射ミラーの場合、複数のミラー板を、端部を突き当てて並べることとなる。しかし、その場合、2枚のミラー板の突き当てた境界部分には反射膜が存在しないので、光が反射しない。そのため、光照射領域に、光が照射されない部分が、ミラー板を突き当てた部分の数ミラーの枚数-1だけ生じる。偏光素子の場合、複数の偏光素子を、端部を突き当てて並べると、その部分にはグリッドが存在しないので、その部分に入射した光は偏光光にならず、ワークに対して無偏光光が照射されてしまう。これを防ぐためには、偏光素子の端部偏光素子の境界部分に遮光板を設けるなどして、無偏光光が照射されないようにすることが考えられる。しかし、遮光板を設けるとその部分は光が透過しない。したがって、光照射領域に、照度の低い部分が、偏光素子を重ねた部分の数偏光素子の枚数-1だけ生じる。以上のように、複数の反射ミラーや複数の偏光素子を並べて構成する光照射装置においては、これらを並べることにより生じる境界部分により、光照射領域即ちワーク上において光が照射されない部分や照度が低い部分が生じる。このような部分が生じると、場合によっては、ワークの処理に影響を与え、製品不良の原因となることもある。本発明は上記問題点を解決するものであって、本発明の目的は、この光照射領域において生じる光が照射されない部分や照度が低い部分が、処理を行うワークに与える影響をできるだけ小さくすることである。偏光素子の境界部分継ぎ目の部分に遮光板を設ける代わりに、偏光素子の端部を重ねて並べる。これにより、無偏光光が照射されることを防ぐことができるが、偏光素子を重ねた部分は、その分、光の透過率が低下する。そこで、本発明では、偏光素子を重ねた部分偏光素子の境界部分が、帯状で長尺のワークが搬送される方向に対して斜めになるように配置する。一例として、平行四辺形状の偏光素子を並べる。また、反射ミラーについても、複数の反射ミラーの境界部分継ぎ目の部分、境界線ともいうが、帯状で長尺のワークが搬送される方向に対して斜めになるように配置する。例えば、偏光素子と同様に、平行四辺形状の反射ミラーを並べる。さらに、反射ミラーの境界部分と偏光素子の境界部分が、光照射領域即ちワーク上に投影した時に、ワークの搬送方向に対して重ならないように配置する。これにより、一層、照度の低下する部分が生ずるのを防ぐことができる。すなわち、本発明においては、次のようにして前記課題を解決する。1ショートアーク型の放電ランプとこの放電ランプを取り囲むように設けた上記放電ランプからの光を反射するリフレクタとを備える光源部を、複数一方向に並べた光出射部と、該光出射部から出射する光を、前記一方向に伸びる線状に集光する反射ミラーと、上記反射ミラーの光出射側に設けられ、上記反射ミラーからの光を偏光する偏光素子とを備え、上記一方向に対して直交する方向に搬送されるワークに対して偏光光を照射する光照射装置において、上記偏光素子は、複数の偏光素子を、隣合う偏光素子と各々の端部が、上記光出射部からの光が通過する方向に対して重なるように、上記ワークの搬送方向に対して直交する方向に並べて配置したものであり、上記複数の偏光素子の境界線は、上記ワークの搬送方向に対して斜めである。2上記1において、上記反射ミラーは、複数の反射ミラーを、ワークの搬送方向に対して直交する方向に並べて構成したものであり、上記複数の反射ミラーの境界線は、上記ワークの搬送方向に対して斜めであるとともに、上記偏光素子の境界線とは、上記ワーク上にこれらを投影した際に上記ワークの搬送方向に対して重ならない。1複数の偏光素子を、隣合う偏光素子と各々の端部が、上記光出射部からの光が通過する方向に対して重なるように並べて配置したので、偏光素子の境界部分に遮光板を設ける場合に比べ、境界部分における光の透過率の低下を小さくすることができる。また、上記複数の偏光素子の境界線を、上記ワークの搬送方向に対して斜めにしたので、偏光素子の境界線により照度が低くなる領域が、ワーク上の狭い領域に集中せず、該境界線をワーク上に投影した範囲に広がって薄められる。このため、照度の低い領域が生じることによるワークへの影響を小さくすることができる。2反射ミラーの境界線が、ワークの搬送方向に対して斜めになるようにするとともに、反射ミラーの境界線と偏光素子の境界線が、ワーク上に投影されたときに、ワークの搬送方向に対して重ならないように配置することにより、反射ミラーおよび偏光素子の境界線により照度が低くなる領域が、ワーク上の狭い領域に集中せず、偏光素子と反射ミラーの境界線をワーク上に投影した範囲に広がって薄められる。さらに、反射ミラーの境界線と偏光素子の境界線がワークの搬送方向に対して重ならないように配置しているので、反射ミラーの境界線と偏光素子の境界線が重なって特に照度が低下する部分も生じない。このため、照度のより低い領域が生じることを防ぐことができ、照度の低い領域が生じることによるワークへの影響を一層小さくすることができる。図1は、本発明の実施例の光照射装置の構成を示す図である。同図は反射ミラー20を透して、偏光素子45、光出射部10を見た状態を示しており、図1では、反射ミラー20は透明に描かれている。また、図1では外装カバー等は省略されている。光出射部10は、光源部12を16個2列に並べて構成している。光源部12の構造は、図10で説明したものと同様である。すなわち、光源部12は、ショートアーク型の放電ランプと、これを取り囲むように配置されたリフレクタとを備える。放電ランプは、前記したように、波長270nm~450nmの紫外光を効率良く放射する超高圧水銀ランプである。リフレクタは、その光軸を中心とする回転放物面状の反射面を有するパラボラミラーである。なお、リフレクタは、パラボラミラーに限らず回転楕円状の反射面を有する楕円ミラーを使用することもできる。放電ランプは、発光部がリフレクタの焦点に一致すると共に、一対の電極を結ぶ直線がリフレクタの光軸に沿って伸びる姿勢で配置され、放電ランプから放射された光は、リフレクタ15により反射され、光軸方向に出射する。光源部12を複数並べた光出射部10の光出射側、光源部12の光軸方向前方には、光出射部10の伸びる方向と長さに合わせて、反射ミラー20が配置されている。反射ミラー20は、前記したように光軸方向に沿った平面による断面が放物線状の反射面を有する、樋状シリンドリカルパラボラミラーによって構成され、光出射部10からの光を反射して一方向にのみ集光する。なお、反射ミラー20は特定の波長の紫外線のみを反射する波長選択ミラーである。この例では、反射ミラー20は4枚の反射ミラー20a,20b,20c,20dを突き当てて並べて構成している。同図では、各反射ミラー20a,20b,20c,20dの境界部分境界線をE1で示している。偏光素子45は、ワイヤーグリッド偏光素子であり、反射ミラー20により反射した光を偏光する。偏光素子45は、平行四辺形状の15枚の偏光素子45a,45b~45oを、フレーム44内に並べて構成している。各偏光素子45a,45b~45oの端部は隣の偏光素子の端部と1mmほどの幅で重ね合わせている。これは2枚の偏光素子の境界部分の隙間から無偏光光が漏れるのを防ぐためである。同図では、各偏光素子45a,45b~45oの境界部分境界線をE2で示している。図1に示すように、反射ミラー20と偏光素子45の境界部分E1,E2はワークの進行方向同図Y方向に対して斜めになるように構成されている。偏光素子45の光出射側には、図10に示したように、必要に応じてマスクが配置され、偏光素子45から出射した偏光光は、このマスクを介して被照射物ワークWに照射される。ワークWは、前記したように搬送手段により一方向図1に示すY方向に向けて高速で搬送され、光出射部10からの光が、反射ミラー20により直線状に集光され、偏光素子45により偏光され、マスクを介して照射される。これにより、ワークWには、ワークWの搬送方向Y方向と平行方向に延伸するストライプ状のパターンが露光される。なお、上記したように、3D映像表示用の位相差フィルムなどの露光においては、図12に示したようなストラィプ状のマスクが配置される場合もあるが、光学補償用の位相差フィルムなどの露光においては、マスクが配置されない場合もある。本図ではマスクは省略している。図2、図3に本発明の実施例における偏光素子の構成例を示す。図2aは、偏光素子を光入射側から見た平面図、図2bは、aのA-A断面図、図3は、偏光素子の各構成要素を分解して示した斜視図である。なお、図2では偏光素子が4枚の場合を示している。偏光素子45は、枠体52内に、複数の平行四辺形状のワイヤーグリッド偏光素子以下WG偏光素子45a,45b,45c,45dが並べて構成されている。また、偏光素子45は、反射ミラー20による反射光の光軸に対して垂直な平面に沿って配置されている。図2、図3に示すように、それぞれの平行四辺形状のWG偏光素子45a,45b,45c,45dは、その一辺を偏光素子支持部材53により支持されている。偏光素子支持部材53は断面がL字形状であり、WG偏光素子45a~45dはそのL字の横棒図3のWG偏光素子を支持する台53cの上に接着剤で固定されている。偏光素子支持部材53には、後述する枠体52に設けた円柱状のピン54に嵌り合う貫通孔ピン用貫通孔53aが形成されている。ピン用貫通孔53aの径はピン54の径よりもやや大きい。このピン用貫通孔53aの両脇には、偏光素子支持部材53を枠体52に対して固定するための貫通孔固定ねじ用貫通孔53bが形成されている。枠体52は、底板52bと側板52aとを備える。底板52bには枠体52に並べる偏光素子支持部材53の数即ちWG偏光素子の数だけ、円柱状のピン54が等間隔に並べて配置されている。また、このピン54の両脇には、偏光素子支持部材53を固定するためのねじ孔固定ねじ用ねじ孔52cが形成されている図3参照。また、枠体52の側板52aには、ピン54の両脇に相当する位置に貫通するねじ孔52dが、偏光素子支持部材53の数に対応した数だけ形成されている。このねじ孔52dは、偏光素子支持部材53を回転移動するためのねじ55a,55bを取り付けるために用いる。図2、図3に示すように、隣り合う2枚のWG偏光素子45a~45dは、隙間から無偏光光が漏れないように、入射する光の光軸方向に対して、周辺部が上下に重なり合うように設ける。そのため、隣り合う偏光素子支持部材53は、WG偏光素子45a~45dを固定する台53cの部分が、光軸方向に対して高さが異なる。各WG偏光素子45a~45dは回転させて位置を調整するが、この時、隣り合うWG偏光素子45a~45dの周辺部が、こすれあわないようにしなければならない。そこで、図2、図3に示すように、隣り合うWG偏光素子45a~45dが数ミリの間隔を有して重なるように、偏光素子支持部材53のWG偏光素子45a~45dを支持する台の高さを設計している。即ち、隣り合う2枚のWG偏光素子45a~45dは、光が通過する方向に対して、互いに間隔を空けて周辺部が重なるように取り付けられている。WG偏光素子45a~45dの、偏光素子支持部材52を取り付けた辺に対向する辺には、WG偏光素子45a~45dが自重により下方をたわむのを防ぐための偏光素子たわみ防止板57が接着剤59により取り付けられている。偏光素子たわみ防止板57は、偏光素子支持部材53と同様、WG偏光素子45a~45dを固定する台を有するL字形状であり図2、図3参照、各WG偏光素子45a~45dを回転させる際には、枠体52の底板52b上を滑って移動する。各偏光素子支持部材53を、光軸の周りに回転させる機構について説明する。枠体52の底板52bに設けたピン54に、偏光素子支持部材53のピン用貫通孔53aを差し込む。偏光素子支持部材53をピン54に差し込んだ時に、偏光素子支持部材53と枠体52の側板52aとの間に数ミリのギャップ58a隙間が形成されるように設計しておく。ピン用貫通孔53aの径はピン54の径よりもやや大きいので、偏光素子支持部材53は、ピン54を回転軸として、側板52aとのギャップ58aの分だけ回転する。枠体52の側板52aに形成している2個のねじ孔52dのそれぞれに、偏光素子支持部材53の回転用のねじ55a、ねじ55bを取り付ける。取り付けた2個のねじ55aとねじ55bの先端は、偏光子支持部材53のエッジ側面を、ピン54を挟むようなかたちで、WG偏光素子45a~45dの平面光が入出射する面と平行な方向に押す。すなわち、ねじ55aを枠体52の側板52aから抜く方向に移動し、ねじ55bを枠体52の側板52aに押し込むように移動すると、WG偏光素子45a~45dはその平面内で右周りに回転する。反対に、ねじ55aを枠体52の側板52bに押し込むように移動し、ねじ55bを枠体52の側板52aから抜く方向に移動すると、WG偏光素子45a~45dはその平面内で左周りに回転する。WG偏光素子45a~45dを必要な位置まで回転させたら、固定ねじ56a,56bを締めて、偏光素子支持部材53が回転しないように固定する。図4aは、図1に示した光照射装置において、偏光素子45を偏光素子の光出射側から見た図であり、図4bは、反射ミラー20の反射面とは反対側から偏光素子の光入射側から偏光素子側を透かして見た図である。同図の上下方向が、ワークの搬送方向Y方向に相当する。なお、同図では、図2、図3に示したWG偏光素子45a~45dを回転させる機構等は省略されている。図4aに示されるように、偏光板45を構成する個々のWG偏光素子45a,45b~45m,45oは、上辺と下辺がフレーム44に隠れて見えないが平行四辺形をしており、隣り合う偏光素子とは端部を1mm程度重ねて並べている。各偏光素子は平行四辺形なので、偏光素子の継ぎ目境界部分E2は、ワークの搬送方向Y方向に対して斜めになる。上記のように、複数の偏光素子45a,45b~45m,45oの、各々の端部を光が通過する方向に重なるように並べて配置することで、偏光素子の境界部分に遮光板を設ける場合に比べ、境界部分における光の透過率の低下を小さくすることができる。また、上記複数の偏光素子45a,45b~45m,45oを平行四辺形状にすることにより、その境界部分により照度が低くなる領域が、境界部分をワーク上に投影した範囲に広がって薄められ、照度のより低い領域が生じることを防ぐことができる。すなわち、ワークの搬送に連れて、境界部分による照度の低い部分がワークの幅方向に移動し、その前後の光照射により照度が補われるので、ワーク上の照度分布の悪化の影響を小さくすることができる。また、本実施例においては、図4bに示されるように、反射ミラー20を構成する個々の反射ミラー20a,20b,20c,20dも、曲面の反射面を有する立体形状であるが平面に投影すれば平行四辺形状であり、隣り合う反射ミラーとはつき合わせて並べている。すなわち、反射ミラー20a,20b,20c,20dの継ぎ目境界部分E1も、偏光素子45の場合と同様に、ワークの搬送方向Y方向に対して斜めであり、偏光素子45と同様、その境界部分により照度が低くなる領域が、境界部分をワーク上に投影した範囲に広がって薄められ、照度のより低い領域が生じることを防ぐことができる。さらに、反射ミラーの境界部分は、偏光素子の境界部分とは、両者の境界部分をワーク上光照射領域に投影した時に、ワークの搬送方向Y方向に対して重ならないように、両者の境界部分の周期をずらして配置している。これにより、ワークをY軸方向に移動しながら光を照射した時、照度が大きく低下する領域を少なくすることができる。このことについて、図5、図6を用いて説明する。図5と図6は、偏光素子の境界部分E2と反射ミラーの境界部分E1とを模式的に示す図である。上段の図の太線が偏光素子の境界部分E2、中段の図の太線が反射ミラーの境界部分E1、下段が光照射領域即ちワーク上での照度分布を表している。図5aは、偏光素子45および反射ミラー20の境界部分が、ワークの搬送方向であるY軸方向と平行な場合である。このようにすると、ワーク上に、境界部分による照度の極端に低い部分が線状に形成され、その部分は実質的に偏光光が照射されないため、採用することができない。図5b~dと図6efは、偏光素子および反射ミラーの境界部分が、ワークの搬送方向であるY軸方向に対して斜めになるようにした場合である。このようにすれば、前記したように、ワークの搬送に連れて、境界部分による照度の低い部分がワークの幅方向に移動し、その前後の光照射により照度が補われ、照度分布の悪化の影響を小さくすることができる。しかし、反射ミラー20が複数の反射ミラーを突き当てて並べて構成したものである場合には、偏光素子の境界部分をワークの搬送Y軸方向に対して斜めに配置したとしても、図5bのように、偏光素子45の境界部分E2と反射ミラー20の境界部分E1とが、ワークの搬送Y軸方向に完全に重なっていたり、図5cdのように部分的に重なっていたりすると、aの場合ほどではないが、ワーク上に照度が大きく低下する領域が生じる。すなわち、図5bの場合には、照度が低下する部分が広い範囲で生じ、cdの場合は、照度が低下する部分が狭い範囲で生ずる。そこで、図6eのように、偏光素子の境界部分E2と反射ミラーの境界部分E1とが、ワークの搬送Y軸方向に対してまったく重ならないようにする。このように配置すれば、ワーク上に照度が大きく低下する領域が生じるのを防ぐことができる。さらに、図6fのように、偏光素子の境界部分E2と反射ミラーの境界部分E1が、ワークの搬送Y軸方向に対して重ならないようにするとともに、両者の隙間がないように並べると、照度が大きく低下する領域がなく、かつ、ワーク上の照度分布照度のばらつきを良くすることが期待できる。"