"下部クラッド層と、前記下部クラッド層上のコア層と、前記コア層に間隔をおいて形成された1対の傾斜面と、前記1対の傾斜面に形成された金属層よりなる1対のミラーとを有するミラー付き光導波路であって、前記コア層のうち前記1対の傾斜面の間の部分は、途切れることなく連なる連続部となっており、下部クラッド層側から入射された光信号が、一方のミラーによって光路変換され、前記連続部分を伝搬し、もう一方のミラーにより光路変換され、再度下部クラッド層側に出力されることを特徴とするミラー付き光導波路。前記コア層に間隔をおいて2つの溝が平行に形成されており、一方の溝のうち他方の溝に近い側の側面と、前記他方の溝のうち前記一方の溝に近い側の側面とが、前記1対の傾斜面となっている請求項1に記載のミラー付き光導波路。前記2つの溝の少なくとも一方は、他方の溝に遠い側の側面も傾斜しており、この遠い側の側面にも前記ミラーが形成されている請求項1又は2に記載のミラー付き光導波路。下部クラッド層と、前記下部クラッド層上のコア層と、前記コア層に間隔をおいて形成された傾斜面及び垂直面と、前記傾斜面に形成された金属層よりなるミラーとを有するミラー付き光導波路であって、前記コア層のうち傾斜面と垂直面の間の部分は、途切れることなく連なる連続部となっており、下部クラッド層側から入射された光信号が、ミラーによって光路変換され、前記連続部分を伝搬し、前記垂直面から出射される、又は、前記垂直面から入射された光信号が、前記連続部を伝搬し、ミラーにより光路変換され、下部クラッド層側に出射されることを特徴とするミラー付き光導波路。前記コア層の上面を被覆する上部クラッド層を有する請求項1~4のいずれかに記載のミラー付き光導波路。前記傾斜面に形成された金属層を被覆し、且つ前記コア層の上面を被覆する上部クラッド層を有する請求項1~5のいずれかに記載のミラー付き光導波路。請求項1~6のいずれか1項に記載のミラー付き光導波路を製造する方法であって、前記コア層に前記傾斜面を形成する第1の工程と、前記第1の工程の後に、前記傾斜面に前記ミラーを形成する第2の工程とを有するミラー付き光導波路の製造方法。前記第2の工程の後に、前記コア層及び前記ミラー上に上部クラッド層を積層する第3の工程を有する請求項7に記載のミラー付き光導波路の製造方法。請求項1~6のいずれか1項に記載のミラー付き光導波路と電気配線板との積層体を含むミラー付き光電気複合基板。特許文献1,2の光導波路フィルムは、光路変換部が光信号の一部のみを反射し、残部を透過してしまうため、この反射後の光信号が弱くなるという問題がある。特許文献3の光導波路にあっては、光信号がコア13aに形成された溝内を通過する必要があるため、以下の問題がある。すなわち、上部クラッド層の形成時に、溝内の空隙が上部クラッド層用材料によって十分に埋まらず、溝内に空気が残存すると、この空気に起因して光損失が生じるおそれがある。また、光信号は、ミラー16,18の間の前記2つの垂直面長手方向における中央のコア13aの両端面を通過する必要があるため、前記2つの垂直面をミラー面として利用することができない。本発明は、ミラーによって光信号を小さい光損失にて光路変換することができるミラー付き光導波路及びその製造方法と、この光導波路を備えたミラー付き光電気複合基板とを提供することを課題とする。本発明者らは、途切れることなく連続するコア層の両端又は片端を傾斜面としてこれら傾斜面に金属層を形成することにより、上記課題を解決し得ることを見出した。すなわち、本発明は、下記[1]~[7]を提供するものである。1下部クラッド層と、前記下部クラッド層上のコア層と、前記コア層に間隔をおいて形成された1対の傾斜面と、前記1対の傾斜面に形成された金属層よりなる1対のミラーとを有するミラー付き光導波路であって、前記コア層のうち前記1対の傾斜面の間の部分は、途切れることなく連なる連続部となっており、下部クラッド層側から入射された光信号が、一方のミラーによって光路変換され、前記連続部分を伝搬し、もう一方のミラーにより光路変換され、再度下部クラッド層側に出力されることを特徴とするミラー付き光導波路。[2]前記コア層に間隔をおいて2つの溝が平行に形成されており、一方の溝のうち他方の溝に近い側の側面と、前記他方の溝のうち前記一方の溝に近い側の側面とが、前記1対の傾斜面となっている[1]に記載のミラー付き光導波路。[3]前記2つの溝の少なくとも一方は、他方の溝に遠い側の側面も傾斜しており、この遠い側の側面にも前記ミラーが形成されている[1]又は[2]に記載のミラー付き光導波路。[4]下部クラッド層と、前記下部クラッド層上のコア層と、前記コア層に間隔をおいて形成された傾斜面及び垂直面と、前記傾斜面に形成された金属層よりなるミラーとを有するミラー付き光導波路であって、前記コア層のうち傾斜面と垂直面の間の部分は、途切れることなく連なる連続部となっており、下部クラッド層側から入射された光信号が、ミラーによって光路変換され、前記連続部分を伝搬し、前記垂直面から出射される、又は、前記垂直面から入射された光信号が、前記連続部を伝搬し、ミラーにより光路変換され、下部クラッド層側に出射されることを特徴とするミラー付き光導波路。[5]前記コア層の上面を被覆する上部クラッド層を有する[1]~[4]のいずれかに記載のミラー付き光導波路。[6]前記傾斜面に形成された金属層を被覆し、且つ前記コア層の上面を被覆する上部クラッド層を有する[1]~[5]のいずれかに記載のミラー付き光導波路。[7][1]~[6]のいずれか1項に記載のミラー付き光導波路を製造する方法であって、前記コア層に前記傾斜面を形成する第1の工程と、前記第1の工程の後に、前記傾斜面に前記ミラーを形成する第2の工程とを有するミラー付き光導波路の製造方法。[8]前記第2の工程の後に、前記コア層及び前記ミラー上に上部クラッド層を積層する第3の工程を有する[7]に記載のミラー付き光導波路の製造方法。[9][1]~[6]のいずれか1項に記載のミラー付き光導波路と電気配線板との積層体を含むミラー付き光電気複合基板。本発明のミラー付き光導波路及びミラー付き光電気複合基板にあっては、一方のミラーで光路変換された光信号は、コア層の連続部内を一度も出光することなく進行して他方のミラーまで到達し、かつこの他方のミラーが光信号を透過させることなく確実に光路変換させるため、又は、ミラーで光路変換された垂直面から入射した光信号は、コア層の連続部内を一度も出光することなく進行して他方の垂直面ミラーまで到達し、かつこのミラーが光信号を透過させることなく確実に光路変換させるため、光損失が小さい。また本発明のミラー付き光導波路の製造方法によれば、光信号伝達用のコア層に金属層よりなるミラーを直接形成するため、光導波路の厚みを薄く形成することができる。なお、この上に更に上部クラッド層を積層すると、光路変換用の斜面部を形成した際の溝が外部に露出しないミラー付き光導波路、並びにミラー付き光電気複合基板を得ることができる。ミラー付き光導波路の構成本実施の形態に係るミラー付き光導波路について、第1図及び第2図を用いて説明する。第1図aは実施の形態に係るミラー付き光導波路の斜視図、第1図bは第1図aのB-B線に沿う断面図、第1図cは第1図bにおいて上部クラッド層8及びミラー6a,6b,7a,7bを省略した断面図である。詳細は後述するが、本実施の形態に係るミラー付き光導波路9は、主に、基板1と、基板1上の下部クラッド層2と、下部クラッド層2上のコアパターン3と、コアパターン3に間隔をおいて形成された1対の傾斜面4a,5a第1図cと、これら1対の傾斜面4a,5aに形成された金属層よりなる1対のミラー6a,7aと、コアパターン3上の上部クラッド層8とを有する。コアパターン3のうち前記1対の傾斜面4a,5aの間の部分は、途切れることなく連なる連続部3aとなっている。このミラー付き光導波路9にあっては、第1図bの矢印Aのとおり、一方のミラー6aで光路変換された光信号は、コアパターン3の連続部3a内を一度も出光することなく進行して他方のミラー7aまで到達し、かつこの他方のミラー7aが光信号を透過させることなく確実に光路変換させるため、光損失が小さいものとなる。次に、このミラー付き光導波路9の構成について詳細に説明する。基板基板1の材料としては、特に制限はなく、例えば、ポリイミド基板、FR-4基板、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルム、電気配線板が挙げられる。基板1として柔軟性及び強靭性のある基材、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミドを基板として用いることで、フレキシブルな光導波路としてもよい。この基板1の厚さとしては、板の反りや寸法安定性により、適宜変えてよいが、好ましくは0.1~10.0mmである。本実施の形態では、光信号の波長に対して透明な基板1を用いるとよい。下部クラッド層上記基板1の上面に、下部クラッド層2が設けられている。下部クラッド層2としては、コアパターン3より低屈折率の樹脂が使用される。下部クラッド層2の厚さに関しては、特に限定するものではないが、乾燥後の厚さで、5~500μmの範囲が好ましい。5μm以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、500μm以下であると、膜厚を均一に制御することが容易である。以上の観点から、下部クラッド層2の厚さは、さらに10~100μmの範囲であることがより好ましい。コアパターン本実施の形態では、この下部クラッド層2上に、2個のコアパターン3が設けられている。これらコアパターン3は、細長い角柱状であり、互いに間隔をおいて平行に設けられている。コアパターン3の材料としては、下部クラッド層2及び上部クラッド層8より高屈折率の樹脂が好適に用いられる。コア層形成用樹脂フィルムの厚さについては特に限定されず、乾燥後のコア層の厚さが、通常は10~100μmとなるように調整される。該フィルムの仕上がり後のコア層3の厚さが10μm以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが拡大できるという利点があり、100μm以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が向上するという利点がある。以上の観点から、該フィルムの厚さは、さらに30~90μmの範囲であることが好ましく、該厚みを得るために適宜フィルム厚みを調整すればよい。溝上記コアパターン3は、その長手方向に間隔をおいて2つの溝4,5第1図cを有している。これらの溝4,5は、コアパターン3の短手方向に延在しており、その両端がコアパターン3の両側面にまで至っている。これらの溝4,5は、コアパターン3の上面から下部クラッド層2の上面以下の深さにまで至っている。これらの溝4,5は、コアパターン3の短手方向と直交する断面がV字形状となっている。溝4の2つの側面のうち、溝5に近い側の側面が傾斜面4a、溝5に遠い側の側面が側面4bとなっている。また、溝5の2つの側面のうち、溝4に近い側の側面が傾斜面5a、溝4に遠い側の側面が側面5bとなっている。傾斜面4a,5aの法線とコアパターン3の長手方向ないし下部クラッド層2の表面とのなす傾斜角は、用途に応じて適宜設定することができるが、好ましくは30~60°、より好ましくは40~50°、更に好ましくは44~46°である。一方、側面4b,5bの法線とコアパターン3の長手方向ないし下部クラッド層2の表面とのなす傾斜角は特に限定されず、0~90°の範囲であれば尚よい。なお、側面4b、5bも光路変換用に用いる場合には、これらの側面4b、5bの傾斜角を傾斜面4a,5aと同様とするのが好ましい。なお、コアパターン3のうち、これら傾斜面4a,5aの間の部分が、途切れることなく連なる連続部3aとなっている。この連続部3aは、コアパターン3の短手方向と直交する断面が台形状となっている。ミラー上記傾斜面4a,5a及び側面4b,5bに、金属層よりなるミラーが設けられている。このミラーの材料としては、Au、Ag、Cu、Cr、Ti、Al、Pd、Ni等の各種金属が好適に用いられる。反射率の観点から、Au、Ag、Cu、Alがより好適に用いられる。なお、本実施の形態では傾斜面4a,5aの他に側面4b,5bにもミラーを設けているが、側面4b,5bにはミラーを設けなくてもよい。上部クラッド層これら下部クラッド層2の上面及びコアパターン3を覆うようにして、上部クラッド層8が設けられている。上記溝4,5は、この上部クラッド層8により充填されている。このように、溝4,5が上部クラッド層8で充填され、ミラー6a,7aが大気中に露出していないので、ミラー6a,7aが劣化したり損傷したりすることが防止される。上部クラッド層8の材料としては、コアパターン3より低屈折率の樹脂が使用される。この上部クラッド層8と下部クラッド層2とは、材料が同一であっても異なっていてもよく、屈折率が同一であっても異なっていてもよい。上部クラッド層の厚さに関しても下部クラッド層と同様に、特に限定するものではないが、乾燥後の厚さで、5~500μmの範囲が好ましい。5μm以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、500μm以下であると、膜厚を均一に制御することが容易である。以上の観点から、上部クラッド層8の厚さは、さらに10~100μmの範囲であることがより好ましい。また、コアパターン3を埋め込むためには、上部クラッド層8の厚みはコアパターン3の厚さ以上にすることが好ましい。次に、このように構成されたミラー付き光導波路9に光信号を送受信する一例について説明する。図示は省略するが、例えば、ミラー付き光導波路9の下面基板1の下面のうち、ミラー6aの真下及びミラー7aの真下の位置に、それぞれ、発光素子及び受光素子を設置する。発光素子が発した光信号は、第1図bに矢印Aで示すとおり、ミラー付き光導波路9の内を上向きに進行し、基板1、下部クラッド層2を通過してコアパターン3内に進行した後、ミラー6aでコア層3の長手方向図1bの右方向に光路変換され、コアパターン3の連続部3a内を進行した後、ミラー7aで下向きに光路変換され、下部クラッド層2及び基板1を通過して受光素子に受信される。このように、一方のミラー6aで光路変換された光信号は、コアパターン3の連続部3a内を一度も出光することなく進行して他方のミラー7aまで到達し、かつこの他方のミラー7aが光信号を通過することなく確実に光路変換させるため、光損失が小さいものとなる。ミラーと垂直面を有する光導波路の場合は、下部クラッド層側から入射し、垂直面から光信号を出射させても、垂直面側から光信号を入射し、下部クラッド層側から出射させても良い。ミラー付き光導波路の製造方法次に、本発明のミラー付き光導波路の製造方法について、第2図を用いて説明する。第2図は、上記ミラー付き光導波路9の製造方法の一例を説明する模式的な断面図である。<基板上への下部クラッド層の形成工程第2図a>基板1上に下部クラッド層2を積層する。下部クラッド層2の形成方法は特に限定されず、例えば、クラッド層形成用樹脂の塗布又はクラッド層形成用樹脂フィルムのラミネートにより形成すればよい。クラッド層形成用樹脂としては、コアパターン3より低屈折率であり、光又は熱により硬化する樹脂組成物であれば特に限定されず、熱硬化性樹脂組成物や感光性樹脂組成物を好適に使用することができる。塗布の方法は限定されず、クラッド層形成用樹脂組成物を常法により塗布すればよい。また、ラミネートに用いるクラッド層形成用樹脂フィルムは、例えば、クラッド層形成用樹脂組成物を溶媒に溶解して、キャリアフィルムに塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。このクラッド層形成用樹脂フィルムは、支持フィルム上に形成することが好ましい。支持フィルムの種類としては、基板1として柔軟性及び強靭性のある基材として上記に列挙したフィルムが好適に挙げられる。支持体フィルムの厚さは、5~50μmであることが好ましい。5μm以上であると、支持体フィルムとしての強度が得やすいという利点があり、50μm以下であると、パターン形成時のマスクとのギャップが小さくなり、より微細なパターンが形成できるという利点がある。以上の観点から、支持体フィルムの厚さは10~40μmの範囲であることがより好ましく、15~30μmであることが特に好ましい。なお、後述するコア層形成用樹脂フィルム及び下部クラッド層用のクラッド層形成用樹脂フィルムも、この支持フィルム上に形成することが好ましい。<コアパターンの形成工程第2図b>次いで、該下部クラッド層2上にコアパターン3を形成する。このコアパターン3の形成方法には特に制限はなく、例えば、コア層形成用樹脂の塗布又はコア層形成用樹脂フィルムのラミネートによりコア層3’を形成し、エッチングによりコアパターン3を形成すればよい。上記コア層形成用樹脂及びコア層形成用樹脂フィルムとしては、活性光線によりコアパターンを形成し得る樹脂組成物を用いることができる。<第1の工程傾斜面の形成工程第2図c>第1の工程として、第2図cに示すとおり、コアパターン3の上面から下部クラッド層2の上面以下の深さまで切削し、溝4,5を形成する。溝4,5の形成方法は特に限定されず、レーザーアブレーションやダイシングソーによって形成すればよい。この溝4の2側面のうち、溝5に近い側の側面が傾斜面4aとなり、溝5と遠い側の側面が側面4bとなる。また、この溝5の2側面のうち、溝4に近い側の側面が傾斜面5aとなり、溝4と遠い側の側面が側面5bとなる。<第2の工程ミラーの形成工程第2図d>第2の工程として、第2図dに示すとおり、傾斜面4a,5a及び側面4b,5bに金属層よりなるミラー6a,7a及びミラー6b,7bを形成する。金属層の形成方法としては、特に限定はないが、蒸着、スパッタリング、めっき等が好ましい。また、傾斜面4a,5aにのみミラー6a,7aを形成する場合は、傾斜面4a,5aに対応する箇所を開口させたメタルマスクを用いて蒸着、又はスパッタリングを行ったり、レジストを用いて傾斜面4a,5aを開口させ、蒸着、スパッタリング、めっき等を行い、その後、レジストを除去するのが好ましい。ミラーの形成範囲は適宜調節すればよく、少なくとも傾斜面4a,5aのうちコアパターン3aの一部に形成すればよいが、光損失を小さくする観点からは、傾斜面4a,5aの全面に形成することがより好ましい。本実施の形態では、ミラー6a,7aのうち傾斜面4a,5aと接する面下面で光信号を反射するため、ミラーのうち傾斜面4a,5aと反対側の面上面に多少の凹凸が存在したとしても、光損失は生じない。したがって、ミラーを容易に形成することができる。<第3の工程上部クラッド層の形成工程第2図e>第3の工程として、第2図eに示すとおり、コアパターン3の上面側から上部クラッド層8を積層する。上部クラッド層8の形成方法としては、特に限定はなく、スピンコートによってクラッド層形成用の樹脂をコーティングしたり、ドライフィルム型のクラッド層形成用の樹脂フィルムをロールラミネータや真空ラミネータ等を用いて積層することが好ましい。このとき、溝4,5がクラッド層形成用の樹脂又は樹脂フィルムで埋められる。これにより、ミラー付き光導波路の強度が高くなり、溝4,5近傍で折れ等が生じることが防止される。本実施の形態では、光信号が溝4,5を通過することがない。このため、仮に溝4,5内に多少の空気が残存したとしても、光損失が生じることがない。光電気複合基板次に、第3図を参照して、本実施の形態に係る光電気複合基板を説明する。第3図は実施の形態に係る光電気複合基板の模式的な断面図である。本実施の形態に係る光電気複合基板50は、上記のミラー付き光導波路9において、基板1に代えて、下面に電気配線52を備えた電気配線板51を用いたものである。電気配線板51としては、特に限定されるものではなく、光電気複合部材に用いられる種々の電気配線板を用いることができる。例えば、基板に直接配線が設けられているもの例えば、金属配線がFR-4上に形成された電気配線板であってもよい。また、金属配線がポリイミドやポリアミドフィルム上に形成されたフレキシブル配線板例えば、片面に銅が貼り付けられたポリイミド基板を用い、光導波路と積層した後に、電気配線パターンを形成したものであってもよい。更に、上記の配線板を多層化してあってもよい。このようなミラー付き光導波路を備えた光電気複合基板50は、様々な光インターコネクションの分野に適用しうる、光電気複合モジュールとなり得る。本発明の光導波路を用いた光電気複合モジュールとしては、例えば、AOCactiveopticalcableが挙げられる。<その他の実施の形態>上記実施の形態は本発明の一例であり、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、上記ミラー付き光導波路9において、基板1は省略してもよい。上記ミラー付き光導波路9では、コアパターン3は2個であったが、1個でもよく、3個以上でもよい。上部クラッド層8は省略してもよいが、光信号がコアパターン3の連続部3aを通過する際の光損失の低減や、溝4,5近傍における高強度化のためには、上部クラッド層8は設けた方が好ましい。上記基板1、下部クラッド層2、コアパターン3及び上部クラッド層8は、それぞれ、接着剤によって接合してもよい。この場合、接着剤は光信号を透過するものであることが好ましい。上記ミラー付き光導波路9において、コアパターン3のうち連続部3a以外の部分は、第4図のミラー付き光導波路9Aのように省略してもよい。第5図のミラー付き光導波路9Bのとおり、コアパターン3のうち、溝4,5の間の箇所に、さらに断面V字状の溝30を設け、この溝30の2つの側面に金属層よりなるミラー31a,31bを設けてもよい。この場合、コアパターン3のうち溝4と溝30との間の部分が第1の連続部32となり、コアパターン3のうち溝30と溝5との間の部分が第2の連続部33となる。このように構成することにより、溝30の2つの側面の両方を、ミラー31a,31bの形成用の側面として有効に用いることができる。なお、第5図のミラー付き光導波路9Bのように中央の溝30を断面V字状にすることに代えて、第6図のミラー付き光導波路9Cのように中央の溝40を断面逆台形状としてもよい。この溝40の両側面にミラー41a,42aが形成されている。また、この溝40により、コア3が第1の連続部41と第2の連続部42とに分割されている。これら第1の連続部41及び第2の連続部42の他端側の傾斜面にも、ミラー41b,42bが形成されている。これにより、基板1の下面のうち左側のミラー31a及び右側のミラー31bの真下に相当する箇所に、それぞれ、左側の受発光素子及び右側の受発受光素子を設置したときに、これらの素子が干渉し合ったり、左側のミラー31aと右側の受発光素子との間で光信号の誤送受信がなされたり、右側のミラー31bと左側の受発光素子との間で光信号の誤受送信がなされたりすることが防止される。以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。実施例1[クラッド層形成用樹脂フィルムの作製][Aベースポリマー;メタアクリルポリマーA-1の作製]撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部及び乳酸メチル23質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65°Cに上昇させ、メチルメタクリレート47質量部、ブチルアクリレート33質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート16質量部、メタクリル酸14質量部、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル3質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部、及び乳酸メチル23質量部の混合物を3時間かけて滴下後、65°Cで3時間撹拌し、さらに95°Cで1時間撹拌を続けて、メタアクリルポリマーA-1溶液固形分45質量を得た。[クラッド層形成用樹脂ワニスの調合]Aベースポリマーとして、前記A-1溶液固形分45質量84質量部固形分38質量部、B光硬化成分として、ポリエステル骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製U-200AX33質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製UA-420015質量部、C熱硬化成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液固形分75質量住化バイエルウレタン株製スミジュールBL317520質量部固形分15質量部、D光重合開始剤として、1-[4-2-ヒドロキシエトキシフェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オンチバジャパン株製イルガキュア29591質量部、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシドチバジャパン株製イルガキュア8191質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート23質量部を攪拌しながら混合した。孔径2μmのポリフロンフィルタアドバンテック東洋株製PF020を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスを得た。上記で得られたクラッド層形成用樹脂組成物を、PETフィルム東洋紡績株製コスモシャインA4100、厚み50μmの非処理面上に、前記塗工機を用いて塗布し、100°Cで20分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理PETフィルム帝人デュポンフィルム株製ピューレックスA31、厚み25μmを貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、本実施例では使用した下部クラッド層2の厚みは15μm、上部クラッド層8の厚みは70μmのものを用いた。[コア層形成用樹脂フィルムの作製]Aベースポリマーとして、フェノキシ樹脂商品名:フェノトートYP-70、東都化成株式会社製26質量部、B光重合性化合物として、9,9-ビス[4-2-アクリロイルオキシエトキシフェニル]フルオレン商品名:A-BPEF、新中村化学工業株式会社製36質量部、及びビスフェノールA型エポキシアクリレート商品名:EA-1020、新中村化学工業株式会社製36質量部、C光重合開始剤として、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド商品名:イルガキュア819、チバスペシャリティケミカルズ社製1質量部、及び1-[4-2-ヒドロキシエトキシフェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン商品名:イルガキュア2959、チバスペシャリティケミカルズ社製1質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40質量部を用いたこと以外は上記製造例と同様の方法及び条件でコア層形成用樹脂ワニスBを調合した。その後、上記製造例と同様の方法及び条件で加圧濾過さらに減圧脱泡した。上記で得られたコア層形成用樹脂ワニスBを、PETフィルム商品名:コスモシャインA1517、東洋紡績株式会社製、厚さ:16μmの非処理面上に、上記製造例と同様な方法で塗布乾燥し、次いで保護フィルムとして離型PETフィルム商品名:ピューレックスA31、帝人デュポンフィルム株式会社、厚さ:25μmを離型面が樹脂側になるように貼り付け、コア層形成用樹脂フィルムを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、本実施例では使用したコア層形成用樹脂フィルム厚みは、50μmのものを用いた。[光導波路の作製]以下の手順で、第1~3図のミラー付き光導波路9但し、コアパターン3は1個を作製した。100mm×100mmのポリイミド基板宇部日東化成株式会社製、商品名;ユーピレックスRN、厚さ;25μm上に上記で得られたクラッド層形成用樹脂フィルムから保護フィルムである離型PETフィルムピューレックスA31を剥離し、平板型ラミネータとして真空加圧式ラミネータ株式会社名機製作所製、MVLP-500を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度50°C、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着し、紫外線露光機株式会社オーク製作所製、EXM-1172にて紫外線波長365nmを4J/cm2照射し、その後、キャリアフィルムを剥離し、続いて、170°Cで1時間加熱乾燥及び硬化し、下部クラッド層2を形成した第3図a参照。次に、下部クラッド層2上に、ロールラミネータ日立化成テクノプラント株式会社製、HLM-1500を用い圧力0.4MPa、温度50°C、ラミネート速度0.2m/minの条件で上記コア層形成用樹脂フィルムをラミネートし、次に、開口幅が50μmネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機にて紫外線波長365nmを0.6J/cm2照射し、次いで80°Cで5分間露光後加熱を行った。その後、支持フィルムであるPETフィルムを剥離し、現像液プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/N,N-ジメチルアセトアミド=8/2、質量比を用いて、コアパターンを現像した。続いて、洗浄液イソプロパノールを用いて洗浄し、100°Cで10分間加熱乾燥し、1個のコアパターン3長さ100mm×幅50μm×高さ50μmを形成した第3図b参照。上記で得られたコアパターン3の基板反対側からダイシングソーDAC552、株式会社ディスコ製を用いて、溝4傾斜面4a、側面4b及び溝5傾斜面5a、側面5bを形成した第3図c参照。次いで傾斜面4a,5a部分に300μm×300μmの開口を有するメタルマスクをコアパターン3上に設置し、蒸着装置RE-0025、株式会社ファースト技研製を用いてミラー6a,7aとしてAuを0.5μm蒸着させた第3図d参照。次いで、上部クラッド層8として厚さ70μmの上記クラッド層形成用樹脂フィルムを上記真空加圧式ラミネータ株式会社名機製作所製、MVLP-500を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度120°C、加圧時間30秒ラミネートした。さらに、紫外線波長365nmを4J/cm2照射後、キャリアフィルムを剥離し、170°Cで1時間加熱処理することによって、上部クラッド層8を形成し、第1~3図に示すミラー付き光導波路を作製した第3図e参照。これにより溝4,5が上部クラッド層8で充填されたミラー付き光導波路9を得た。得られた光導波路の一方のミラーをダイシングソーで切断し、一方がミラーで、もう一方が垂直面の光導波路を得た。実施例2[光電気複合基板の作製][電気配線板の作製]サブトラクティブ法による電気配線形成100mm×100mmの片面銅箔付きのポリイミドフィルムポリイミド;ユーピレックスVT宇部日東化成製、厚み;25μm、銅箔;NA-DFF三井金属鉱業株式会社製、厚み;9μmの銅箔面に感光性ドライフィルムレジスト商品名:フォテック、日立化成工業株式会社製、厚さ:25μmをロールラミネータ日立化成テクノプラント株式会社製、HLM-1500を用い圧力0.4MPa、温度110°C、ラミネート速度0.4m/minの条件で貼り、次いで紫外線露光機株式会社オーク製作所製、EXM-1172にて感光性ドライフィルムレジスト側から幅50μmのネガ型フォトマスクを介し、紫外線波長365nmを120mJ/cm2照射し、未露光部分の感光性ドライフィルムレジストを35°Cの1重量炭酸ナトリウムの希薄溶液で除去した。その後、塩化第二鉄溶液を用いて、感光性ドライフィルムレジストが除去されむき出しになった部分の銅箔をエッチングにより除去し、35°Cの3重量水酸化ナトリウム水溶液を用いて、露光部分の感光性ドライフィルムレジストを除去し、Lライン幅/S間隙幅=60/190μmの直線の電気配線を形成しフレキシブル配線板を得た。Ni/Auめっきの形成その後、フレキシブル配線板を、脱脂、ソフトエッチング、酸洗浄し、無電解Niめっき用増感剤商品名:SA-100、日立化成工業株式会社製に25°Cで5分間浸漬後水洗し、83°Cの無電解Niめっき液奥野製薬工業株式会社製、ICPニコロンGM-SD溶液、pH4.6に8分間浸漬して3μmのNi被膜を形成し、その後、純水にて洗浄を実施した。次に、置換金めっき液100mL;HGS-500及び1.5g;シアン化金カリウム/Lで建浴商品名:HGS-500、日立化成工業株式会社製に85°Cで8分間浸漬し、Ni被膜上に0.06μmの置換金被膜を形成した。このようにして、電気配線52を有するフレキシブルな電気配線板51を得た。[光電気複合基板の作製]基板1に代えて上記電気配線板21を用いたこと以外は実施例1と同様にして、光電気複合基板50を作製した第4図参照。"