"入射光を所定の偏光状態の光に変換して射出する偏光変換部材を備えた偏光変換ユニットにおいて、前記偏光変換部材は、光軸と直交する平面状の第1面と、前記光軸を中心とする円に沿って鋸歯状の断面を有する第2面とを有することを特徴とする偏光変換ユニット。前記偏光変換部材の前記第2面は、前記光軸と直交する平面に沿って前記光軸上の所定点から放射状に延びる複数の第1稜線と、前記光軸を中心として前記所定点を頂点とする円錐の側面に沿って前記所定点から放射状に延びる複数の第2稜線と、互いに隣り合う前記第1稜線と前記第2稜線との間に形成された複数の平面状の光学面とを有することを特徴とする請求項1に記載の偏光変換ユニット。前記複数の第1稜線は、前記光軸を中心とした円の周方向に沿って所定の角度間隔で配置され、前記複数の平面状の光学面のうちの隣り合う一対の光学面は、該一対の光学面に隣接する第2稜線に関して対称であることを特徴とする請求項2に記載の偏光変換ユニット。前記偏光変換部材の前記第2面と補完的な面形状を有する第3面と、前記光軸と直交する平面状の第4面とを有する補完用偏光変換部材をさらに備えていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の偏光変換ユニット。前記偏光変換部材と前記補完用偏光変換部材とは互いに隣接して配置されていることを特徴とする請求項4に記載の偏光変換ユニット。前記偏光変換部材と前記補完用偏光変換部材とを複数組備えていることを特徴とする請求項4または5に記載の偏光変換ユニット。最も射出側に配置された1/2波長板をさらに備えていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の偏光変換ユニット。光源からの光により被照射面を照明する照明光学系の光路中において、前記照明光学系の照明瞳またはその近傍に配置されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の偏光変換ユニット。光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された請求項1乃至8のいずれか1項に記載の偏光変換ユニットを備えていることを特徴とする照明光学系。前記偏光変換ユニットは、前記照明光学系の照明瞳またはその近傍に配置されていることを特徴とする請求項9に記載の照明光学系。前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項10に記載の照明光学系。所定のパターンを照明するための請求項9乃至11のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備えていることを特徴とする請求項12に記載の露光装置。請求項12または13に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。周方向偏光の作用効果を良好に発揮するために、光量損失を抑えつつ、光軸に関して点対称性の良好な周方向偏光状態の瞳強度分布を実現することが望まれている。本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、照明光学系の光路中に配置されて、光量損失を抑えつつ光軸に関して点対称性の良好な周方向偏光状態の瞳強度分布を実現することのできる偏光変換ユニットを提供することを目的とする。また、本発明は、光軸に関して点対称性の良好な周方向偏光状態の瞳強度分布を実現する偏光変換ユニットを用いて、所望の周方向偏光状態の光で被照射面を照明することのできる照明光学系を提供することを目的とする。また、本発明は、所望の周方向偏光状態の光で所定のパターンを照明する照明光学系を用いて、適切な照明条件のもとで微細パターンを感光性基板に正確に転写することのできる露光装置およびデバイス製造方法を提供することを目的とする。第1形態では、入射光を所定の偏光状態の光に変換して射出する偏光変換部材を備えた偏光変換ユニットにおいて、前記偏光変換部材は、光軸と直交する平面状の第1面と、前記光軸を中心とする円に沿って鋸歯状の断面を有する第2面とを有することを特徴とする偏光変換ユニットを提供する。第2形態では、光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された第1形態の偏光変換ユニットを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。第3形態では、所定のパターンを照明するための第2形態の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置を提供する。第4形態では、第3形態の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。以下、実施形態を添付図面に基づいて説明する。図1は、実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図1において、感光性基板であるウェハWの露光面転写面の法線方向に沿ってZ軸を、ウェハWの露光面内において図1の紙面に平行な方向にY軸を、ウェハWの露光面内において図1の紙面に垂直な方向にX軸をそれぞれ設定している。図1を参照すると、本実施形態の露光装置では、光源LSから露光光照明光が供給される。光源LSとして、たとえば193nmの波長の光を供給するArFエキシマレーザ光源や248nmの波長の光を供給するKrFエキシマレーザ光源などを用いることができる。光源LSから射出された光束は、整形光学系1、偏光状態切換部2、および回折光学素子3を介して、アフォーカルレンズ4に入射する。整形光学系1は、光源LSからのほぼ平行な光束を所定の矩形状の断面を有する光束に変換して偏光状態切換部2へ導く機能を有する。偏光状態切換部2は、光源側から順に、光軸AXを中心として結晶光学軸が回転自在に構成されて入射する楕円偏光の光を直線偏光の光に変換する1/4波長板2aと、光軸AXを中心として結晶光学軸が回転自在に構成されて入射する直線偏光の偏光方向を変化させる1/2波長板2bと、照明光路に対して挿脱自在なデポラライザ非偏光化素子2cとを備えている。偏光状態切換部2は、デポラライザ2cを照明光路から退避させた状態で、光源LSからの光を所望の偏光方向を有する直線偏光の光に変換して回折光学素子3へ入射させる機能を有し、デポラライザ2cを照明光路中に設定した状態で、光源LSからの光を実質的に非偏光の光に変換して回折光学素子3へ入射させる機能を有する。アフォーカルレンズ4は、前側レンズ群4aと後側レンズ群4bとからなり、前側レンズ群4aの前側焦点位置と回折光学素子3の位置とがほぼ一致し且つ後側レンズ群4bの後側焦点位置と図中破線で示す所定面IPの位置とがほぼ一致するように設定されたアフォーカル系無焦点光学系である。回折光学素子3は、基板に露光光照明光の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され、入射ビームを所望の角度に回折する作用を有する。以下、説明を簡単にするために、回折光学素子3は、輪帯照明用の回折光学素子であるものとする。輪帯照明用の回折光学素子3は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、ファーフィールドまたはフラウンホーファー回折領域に輪帯状の光強度分布を形成する機能を有する。したがって、回折光学素子3に入射したほぼ平行光束は、図2に示すように、アフォーカルレンズ4の瞳位置に輪帯状の光強度分布21を形成した後、輪帯状の角度分布でアフォーカルレンズ4から射出される。アフォーカルレンズ4の瞳位置またはその近傍には、偏光変換ユニット5および円錐アキシコン系6が配置されている。偏光変換ユニット5および円錐アキシコン系6の構成および作用については後述する。アフォーカルレンズ4を介した光は、σ値σ値=照明光学系のマスク側開口数/投影光学系のマスク側開口数可変用のズームレンズ7を介して、オプティカルインテグレータとしてのマイクロフライアイレンズまたはフライアイレンズ8に入射する。マイクロフライアイレンズ8は、例えば縦横に且つ稠密に配列された多数の正屈折力を有する微小レンズからなる光学素子であって、平行平面板にエッチング処理を施して微小レンズ群を形成することによって構成されている。マイクロフライアイレンズを構成する各微小レンズは、フライアイレンズを構成する各レンズエレメントよりも微小である。また、マイクロフライアイレンズは、互いに隔絶されたレンズエレメントからなるフライアイレンズとは異なり、多数の微小レンズ微小屈折面が互いに隔絶されることなく一体的に形成されている。しかしながら、正屈折力を有するレンズ要素が縦横に配置されている点でマイクロフライアイレンズはフライアイレンズと同じ波面分割型のオプティカルインテグレータである。なお、マイクロフライアイレンズ8として、例えばシリンドリカルマイクロフライアイレンズを用いることもできる。シリンドリカルマイクロフライアイレンズの構成および作用は、例えば米国特許第6913373号公報に開示されている。所定面IPの位置はズームレンズ7の前側焦点位置またはその近傍に配置され、マイクロフライアイレンズ8の入射面はズームレンズ7の後側焦点位置またはその近傍に配置されている。換言すると、ズームレンズ7は、所定面IPとマイクロフライアイレンズ8の入射面とを実質的にフーリエ変換の関係に配置し、ひいてはアフォーカルレンズ4の瞳面とマイクロフライアイレンズ8の入射面とを光学的にほぼ共役に配置している。したがって、マイクロフライアイレンズ8の入射面上には、アフォーカルレンズ4の瞳面と同様に、たとえば光軸AXを中心とした輪帯状の照野が形成される。この輪帯状の照野の全体形状は、ズームレンズ7の焦点距離に依存して相似的に変化する。マイクロフライアイレンズ8に入射した光束は二次元的に分割され、その後側焦点面またはその近傍の位置照明瞳の位置には、マイクロフライアイレンズ8の入射面に形成される照野とほぼ同じ光強度分布を有する二次光源、すなわち図2に示すように光軸AXを中心とした輪帯状の二次光源多数の小光源からなる実質的な面光源:瞳強度分布21’が形成される。マイクロフライアイレンズ8の直後の照明瞳に形成された二次光源21’からの光束は、コンデンサー光学系9を介して、マスクブラインド10を重畳的に照明する。こうして、照明視野絞りとしてのマスクブラインド10には、マイクロフライアイレンズ8の微小レンズの形状と焦点距離とに応じた矩形状の照野が形成される。なお、マイクロフライアイレンズ8の後側焦点面またはその近傍に、すなわち後述する投影光学系PLの入射瞳面と光学的にほぼ共役な位置に、二次光源に対応した形状の開口部光透過部を有する照明開口絞りを配置してもよい。マスクブラインド10の矩形状の開口部光透過部を経た光は、前側レンズ群11aと後側レンズ群11bとからなる結像光学系11を介して、所定のパターンが形成されたマスクMを重畳的に照明する。すなわち、結像光学系11は、マスクブラインド10の矩形状開口部の像をマスクM上に形成することになる。マスクステージMS上に保持されたマスクMには、転写すべきパターンが形成されている。マスクMのパターンを透過した光は、投影光学系PLを介して、ウェハステージWS上に保持されたウェハ感光性基板W上にマスクパターンの像を形成する。こうして、投影光学系PLの光軸AXと直交する平面XY平面内においてウェハWを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより、ウェハWの各露光領域にはマスクMのパターンが逐次露光される。円錐アキシコン系6は、光源側から順に、光源側に平面を向け且つマスク側に凹円錐状の屈折面を向けた第1プリズム部材6aと、マスク側に平面を向け且つ光源側に凸円錐状の屈折面を向けた第2プリズム部材6bとから構成されている。そして、第1プリズム部材6aの凹円錐状の屈折面と第2プリズム部材6bの凸円錐状の屈折面とは、互いに当接可能なように相補的に形成されている。また、第1プリズム部材6aおよび第2プリズム部材6bのうち少なくとも一方の部材が光軸AXに沿って移動可能に構成され、第1プリズム部材6aと第2プリズム部材6bとの間隔が可変に構成されている。ここで、第1プリズム部材6aと第2プリズム部材6bとが互いに当接している状態では、円錐アキシコン系6は平行平面板として機能し、形成される輪帯状の二次光源に及ぼす影響はない。しかしながら、第1プリズム部材6aと第2プリズム部材6bとを離間させると、輪帯状の二次光源の幅輪帯状の二次光源の外径と内径との差の1/2を一定に保ちつつ、輪帯状の二次光源の外径内径が変化する。すなわち、輪帯状の二次光源の輪帯比内径/外径および大きさ外径が変化する。ズームレンズ7は、輪帯状の二次光源の全体形状を相似的に拡大または縮小する機能を有する。たとえば、ズームレンズ7の焦点距離を最小値から所定の値へ拡大させることにより、輪帯状の二次光源の全体形状が相似的に拡大される。換言すると、ズームレンズ7の作用により、輪帯状の二次光源の輪帯比が変化することなく、その幅および大きさ外径がともに変化する。このように、円錐アキシコン系6およびズームレンズ7の作用により、輪帯状の二次光源の輪帯比と大きさ外径とを制御することができる。輪帯照明用の回折光学素子3に代えて、複数極照明2極照明、4極照明、8極照明など用の回折光学素子不図示を照明光路中に設定することによって、複数極照明を行うことができる。複数極照明用の回折光学素子は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、ファーフィールドに複数極状2極状、4極状、8極状などの光強度分布を形成する機能を有する。したがって、複数極照明用の回折光学素子を介した光束は、マイクロフライアイレンズ8の入射面に、たとえば光軸AXを中心とした複数の所定形状円弧状、円形状などの照野からなる複数極状の照野を形成する。その結果、マイクロフライアイレンズ8の後側焦点面またはその近傍にも、その入射面に形成された照野と同じ複数極状の二次光源が形成される。また、輪帯照明用の回折光学素子3に代えて、円形照明用の回折光学素子不図示を照明光路中に設定することによって、通常の円形照明を行うことができる。円形照明用の回折光学素子は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、ファーフィールドに円形状の光強度分布を形成する機能を有する。したがって、円形照明用の回折光学素子を介した光束は、マイクロフライアイレンズ8の入射面に、たとえば光軸AXを中心とした円形状の照野を形成する。その結果、マイクロフライアイレンズ8の後側焦点面またはその近傍にも、その入射面に形成された照野と同じ円形状の二次光源が形成される。また、輪帯照明用の回折光学素子3に代えて、適当な特性を有する回折光学素子不図示を照明光路中に設定することによって、様々な形態の変形照明を行うことができる。本実施形態では、上述したように、マイクロフライアイレンズ8により形成される二次光源を光源として、照明光学系1~11の被照射面に配置されるマスクMをケーラー照明する。このため、二次光源が形成される位置は投影光学系PLの開口絞りASの位置と光学的に共役であり、二次光源の形成面を照明光学系1~11の照明瞳面と呼ぶことができる。典型的には、照明瞳面に対して被照射面マスクMが配置される面、または投影光学系PLを含めて照明光学系と考える場合にはウェハWが配置される面が光学的なフーリエ変換面となる。瞳強度分布とは、照明光学系1~11の照明瞳面または当該照明瞳面と光学的に共役な面における光強度分布輝度分布である。マイクロフライアイレンズ8による波面分割数が比較的大きい場合、マイクロフライアイレンズ8の入射面に形成される大局的な光強度分布と、二次光源全体の大局的な光強度分布瞳強度分布とが高い相関を示す。このため、マイクロフライアイレンズ8の入射面および当該入射面と光学的に共役な面における光強度分布についても瞳強度分布と称することができる。すなわち、マイクロフライアイレンズ8の入射面と光学的に共役な面であるアフォーカルレンズ4の瞳面も照明瞳面と呼ぶことができる。周方向偏光の作用効果を良好に発揮するために、光軸に関して点対称性の良好な周方向偏光状態の瞳強度分布を実現することが望まれている。同様の理由により、光軸に関して点対称性の良好な径方向偏光状態の瞳強度分布を実現することも望まれている。しかしながら、例えばワイヤグリッド偏光子を用いて周方向偏光状態または径方向偏光状態の瞳強度分布を形成すると、ワイヤグリッド偏光子における光量損失が著しいだけでなく、光軸に関して点対称性の良好な偏光状態を実現することができない。具体的に、図3に示すような4極状で径方向偏光状態の瞳強度分布31を形成する場合、ワイヤグリッド偏光子を用いると、図3の左側の図に示すように、偏光方向が各面光源31aの全体に亘って同一になり、ひいては各面光源31aにおける偏光状態は光軸AXに関して点対称にはならない。本実施形態では、図3の右側の図に示すように、光軸AXに関して点対称性の良好な径方向偏光状態の瞳強度分布32、および図示を省略したが光軸AXに関して点対称性の良好な周方向偏光状態の瞳強度分布を実現するために、偏光変換ユニット5を導入している。瞳強度分布32では、各面光源32aにおける偏光方向が光軸AXを中心として放射状になり、ひいては各面光源32aにおける偏光状態が光軸AXに関して点対称になっている。偏光変換ユニット5は、アフォーカルレンズ4の瞳位置またはその近傍、すなわち照明光学系1~11の照明瞳の位置またはその近傍に配置されている。以下、説明の理解を容易にするために、偏光変換ユニット5は、アフォーカルレンズ4の光路中における照明瞳の直前の位置に、固定的にあるいは光路に対して挿脱自在に配置されているものとする。輪帯照明用の回折光学素子3が照明光路中に配置されている場合、偏光変換ユニット5には輪帯状の断面を有する光束が入射する。本実施形態では、輪帯照明に際して、偏光状態切換部2の作用により、非偏光状態の光が偏光変換ユニット5に入射する。偏光変換ユニット5は、図4に示すように、光の入射側から順に、入射光を所定の偏光状態の光に変換して射出する第1偏光変換部材51と、偏光変換部材51による光の偏向作用を補償し且つ第1偏光変換部材51と同様の偏光変換作用を有する第2偏光変換部材52と、光路に対して挿脱自在に配置された1/2波長板53とを備えている。1/2波長板53に代えて、入射する直線偏光の偏光方向を90度回転させて射出するように構成された旋光子旋光部材を用いることもできる。偏光変換部材51は、図4および図5に示すように、光軸AXと直交する平面状の入射面51aと、光軸AXを中心とする円に沿って鋸歯状の断面を有する射出面51bとを有する。偏光変換部材52は、光軸AXを中心とする円に沿って鋸歯状の断面を有する入射面52aと、光軸AXと直交する平面状の射出面52bとを有する。偏光変換部材51の射出面51bと偏光変換部材52の入射面52aとは互いに補完的な面形状を有する。一例として、偏光変換部材51と52とは、射出面51bと入射面52aとが当接するように、互いに隣接して配置されている。偏光変換部材51の射出面51bは、図6に示すように、光軸AXと直交する平面に沿って光軸AX上の点P1から放射状に延びる複数の第1稜線51baと、光軸AXを中心として点P1を頂点とする円錐の側面に沿って点P1から放射状に延びる複数の第2稜線51bbと、互いに隣り合う第1稜線51baと第2稜線51bbとの間に形成された複数の平面状の光学面51bcとを有する。すなわち、第1稜線51baは点P1からXY平面に平行に延びており、第2稜線51bbは点P1からZ方向へ向かうようにXY平面に対して傾いた方向に延びている。複数の第1稜線51baは、光軸AXを中心とした円の周方向に沿って20度の角度間隔で配置されている。同様に、複数の第2稜線51bbも、光軸AXを中心とした円の周方向に沿って20度の角度間隔で配置されている。そして、複数の平面状の光学面51bcのうちの隣り合う一対の光学面51bcは、この一対の光学面に隣接する第1稜線51baまたは第2稜線51bbに関して対称である。したがって、偏光変換部材51の射出面51bは、18本の第1稜線51baと、18本の第2稜線51bbと、互いに合同な36個の平面状の光学面51bcとを有する。偏光変換部材52の入射面52aは、図7に示すように、光軸AXと直交する平面に沿って光軸AX上の点P2から放射状に延びる複数の第1稜線52aaと、光軸AXを中心として点P2を頂点とする円錐の側面に沿って点P2から放射状に延びる複数の第2稜線52abと、互いに隣り合う第1稜線52aaと第2稜線52abとの間に形成された複数の平面状の光学面52acとを有する。すなわち、第1稜線52aaは点P2からXY平面に平行に延びており、第2稜線52abは点P2から-Z方向へ向かうようにXY平面に対して傾いた方向に延びている。複数の第1稜線52aaは、光軸AXを中心とした円の周方向に沿って20度の角度間隔で配置されている。同様に、複数の第2稜線52abも、光軸AXを中心とした円の周方向に沿って20度の角度間隔で配置されている。そして、複数の平面状の光学面52acのうちの隣り合う一対の光学面52acは、この一対の光学面に隣接する第1稜線52aaまたは第2稜線52abに関して対称である。したがって、偏光変換部材52の入射面52aは、18本の第1稜線52aaと、18本の第2稜線52abと、互いに合同な36個の平面状の光学面52acとを有する。偏光変換部材51,52は、石英、蛍石などの光学材料により形成された平行平面板に対して、エッチング、機械加工などを施すことにより製造される。あるいは、偏光変換部材51,52は、石英、蛍石などの光学材料により形成された1つまたは複数の光学面51bc,52acを含む単位部品を組み合わせることにより製造される。上述したように、偏光変換部材51の射出面51bと偏光変換部材52の入射面52aとは互いに補完的な面形状を有し、ひいては偏光変換部材51と偏光変換部材52とは同様の偏光変換作用を発揮する。以下、主として偏光変換部材51に着目して、偏光変換部材51,52に共通な偏光変換作用を説明する。図8において、XY平面図は、1つの第2稜線51bbを挟んだ一対の平面状の光学面51bcからなる単位部分を、光軸AXの方向Z方向に沿って見た図である。A方向側面図はXY平面図に示すA方向に沿って単位部分を見た図であり、B方向側面図はXY平面図に示すB方向に沿って単位部分を見た図である。1つの第2稜線51bbを挟んだ一対の平面状の光学面51bcからなる単位部分は、3つの角度パラメータθ1,θ2,θ3と、2つの寸法パラメータα,βとにより規定される。角度θ1は、A方向側面図において光学面51bcに対応する斜辺と第1稜線51baに対応する底辺とがなす角度である。角度θ2は、XY平面図において第1稜線51baと第2稜線51bbとがなす角度本実施形態では10度である。角度θ3は、B方向側面図において第2稜線51bbに対応する斜辺と第1稜線51baに対応する底辺とがなす角度である。寸法αは、A方向側面図において光学面51bcに対応する斜辺の長さである。寸法βは、B方向側面図において第1稜線51baに対応する底辺の長さである。XY平面図において一対の第1稜線51baを斜辺とする三角形の底辺の1/2の寸法L1、すなわちA方向側面図において光学面51bcに対応する一対の斜辺を有する三角形の底辺の1/2の寸法L1は、次の式1aにより表される。A方向側面図において光学面51bcに対応する一対の斜辺を有する三角形の高さ寸法L2、すなわちB方向側面図において第2稜線51bbに対応する斜辺および第1稜線51baに対応する底辺を有する三角形の高さ寸法L2は、次の式1bにより表される。L1=α×cosθ1=β×tanθ21aL2=α×sinθ1=β×tanθ31b非偏光状態の平行光束が光軸AXに沿って平面状の光学面51bcに入射すると、当該光学面51bcに対するp偏光の光はほぼ100の透過率で透過し、当該光学面51bcに対するs偏光の光の透過率は光学面51bcの傾きに応じて下がる反射率は上がる。このとき、p偏光の透過率とs偏光の透過率との差、すなわちps透過率差に関連するのは、角度θ1である。本実施形態では、偏光変換部材51の鋸歯状の断面を有する射出面51bを構成する光学面51bcのps透過率差に関する角度θ1を、例えば光学面51bcに対するブリュースター角θBと関連付けて所要の角度に決定する。その結果、偏光変換部材51は、輪帯状で非偏光状態の平行光束が光軸AXに沿って入射した場合、光学面51bcのps透過率差を利用して、射出される輪帯状の平行光束の偏光状態を光軸AXに関して点対称性の良好な周方向偏光状態へ近づける。偏光変換部材51におけるp偏光の光量損失を1以内に抑えるには、偏光変換部材51が石英で形成されている場合には次の式2aを満足するように、偏光変換部材51が蛍石で形成されている場合には次の式2bを満足するように、角度θ1単位:度を決定すれば良い。式2aにおいて、θB石英は偏光変換部材51が石英で形成されている場合の光学面51bcに対するブリュースター角単位:度である。θB蛍石は偏光変換部材51が蛍石で形成されている場合の光学面51bcに対するブリュースター角単位:度である。θB石英-11<θ1<θB石英82aθB蛍石-12<θ1<θB蛍石82b図9において、XY平面図は、1つの第1稜線52aaを挟んだ一対の平面状の光学面52acからなる単位部分を、光軸AXの方向Z方向に沿って見た図である。A方向側面図はXY平面図に示すA方向に沿って単位部分を見た図である。角度φ1は、A方向側面図において光学面52acおよび第2稜線52abに対応する斜辺とXY平面に対応する底辺とがなす角度である。図9のA方向側面図において光学面52ac第2稜線52abに対応する一対の斜辺を有する三角形の高さ寸法L2は、図8のA方向側面図において光学面51bcに対応する一対の斜辺を有する三角形の高さ寸法L2と同じであり、次の式3aにより表される。図9のXY平面図において第2稜線52abに対応する斜辺および第1稜線52aaに対応する底辺を有する三角形の高さ寸法L3、すなわち図9のA方向側面図において光学面52ac第2稜線52abに対応する一対の斜辺を有する三角形の底辺の1/2の寸法L3は、次の式3bにより表される。L2=α×sinθ13aL3=β×sinθ23bしたがって、式1aと式3aと式3bとから、偏光変換部材51の光学面51bcのps透過率差に関する角度θ1と、偏光変換部材52の光学面52acのps透過率差に関する角度φ1との間には、次の式4に示す関係が導かれる。tanφ1=tanθ1/cosθ24式4を参照すると、稜線51ba,51bb,52aa,52abの角度間隔θ2を十分小さくすることにより、偏光変換部材51の光学面51bcのps透過率差に関する角度θ1を偏光変換部材52の光学面52acのps透過率差に関する角度φ1に近づけることができ、ひいては偏光変換部材51の偏光変換作用を偏光変換部材52の偏光変換作用に近づけることができることがわかる。角度間隔θ2を十分小さくすれば、一対の偏光変換部材51と52とは、互いにほぼ同じ偏光変換作用、すなわち入射する輪帯状の平行光束の偏光状態を光軸AXに関して点対称性の良好な周方向偏光状態へ近づけて射出する機能を有する。本実施形態では、偏光変換ユニット5において、互いにほぼ同じ偏光変換作用を有する一対の偏光変換部材51,52が光軸AX方向に直列的に配置されている。したがって、1/2波長板53が光路から退避している場合、輪帯状で非偏光状態の平行光束が光軸AXに沿って一対の偏光変換部材51,52に入射すると、光学面51bc,52acのps透過率差を利用した偏光変換作用により、偏光変換ユニット5の直後の照明瞳には、図10に示すように光軸AXに関して点対称性の良好な周方向偏光状態の光強度分布22が形成される。同様に、マイクロフライアイレンズ8の直後の照明瞳にも、光軸AXに関して点対称性の良好な周方向偏光状態の光強度分布22’が形成される。周方向偏光状態では、輪帯状の光強度分布22’を通過する光束が、光軸AXを中心とした円の接線方向に偏光方向を有する直線偏光状態になる。さらに、マイクロフライアイレンズ8の直後の照明瞳と光学的に共役な別の照明瞳の位置、すなわち結像光学系11の瞳位置および投影光学系PLの瞳位置開口絞りASが配置されている位置にも、輪帯状の光強度分布22’に対応する周方向偏光状態で輪帯状の光強度分布が形成される。一般に、周方向偏光状態の輪帯状や複数極状2極状、4極状、8極状などの瞳強度分布に基づく周方向偏光照明では、最終的な被照射面としてのウェハWに照射される光がs偏光を主成分とする偏光状態になる。ここで、s偏光とは、入射面に対して垂直な方向に偏光方向を有する直線偏光入射面に垂直な方向に電気ベクトルが振動している偏光のことである。入射面とは、光が媒質の境界面被照射面:ウェハWの表面に達したときに、その点での境界面の法線と光の入射方向とを含む面として定義される。その結果、周方向偏光照明では、投影光学系の光学性能焦点深度などの向上を図ることができ、ウェハ感光性基板上において高いコントラストのマスクパターン像を得ることができる。一方、1/2波長板53が光路中に配置されている場合、輪帯状で非偏光状態の平行光束が光軸AXに沿って一対の偏光変換部材51,52に入射すると、偏光変換ユニット5の直後の照明瞳には、図11に示すように光軸AXに関して点対称性の良好な径方向偏光状態の光強度分布23が形成される。同様に、マイクロフライアイレンズ8の直後の照明瞳にも、光軸AXに関して点対称性の良好な径方向偏光状態の光強度分布23’が形成される。径方向偏光状態では、輪帯状の光強度分布23’を通過する光束が、光軸AXを中心とした円の径方向に偏光方向を有する直線偏光状態になる。さらに、マイクロフライアイレンズ8の直後の照明瞳と光学的に共役な別の照明瞳の位置、すなわち結像光学系11の瞳位置および投影光学系PLの瞳位置開口絞りASが配置されている位置にも、輪帯状の光強度分布23’に対応する径方向偏光状態で輪帯状の光強度分布が形成される。一般に、径方向偏光状態の輪帯状や複数極状の瞳強度分布に基づく径方向偏光照明では、最終的な被照射面としてのウェハWに照射される光がp偏光を主成分とする偏光状態になる。ここで、p偏光とは、上述のように定義される入射面に対して平行な方向に偏光方向を有する直線偏光入射面に平行な方向に電気ベクトルが振動している偏光のことである。その結果、径方向偏光照明では、ウェハWに塗布されたレジストにおける光の反射率を小さく抑えて、ウェハ感光性基板上において良好なマスクパターン像を得ることができる。輪帯状で径方向偏光状態の瞳強度分布23,23’を照明瞳に形成している状態で、輪帯照明用の回折光学素子3を4極照明用の回折光学素子に切り換えると、図12に示すように、4極状で径方向偏光状態の瞳強度分布24が照明瞳に形成される。図3および図12を参照すると、本実施形態では、偏光変換ユニット5の作用により、光軸AXに関して点対称性の良好な径方向偏光状態の瞳強度分布が実現されることがわかる。輪帯状で周方向偏光状態の瞳強度分布22,22’を照明瞳に形成している状態で、輪帯照明用の回折光学素子3を4極照明用の回折光学素子に切り換えると、図13に示すように、4極状で周方向偏光状態の瞳強度分布25が照明瞳に形成される。この場合も、偏光変換ユニット5の作用により、光軸AXに関して点対称性の良好な周方向偏光状態の瞳強度分布が実現される。また、偏光変換ユニット5を構成する一対の偏光変換部材51,52は石英、蛍石などの光学材料により形成された光透過部材であり、ワイヤグリッド偏光子における光量損失に比して、一対の偏光変換部材51,52における光量損失の発生は小さい。以上のように、本実施形態の偏光変換ユニット5は、照明光学系1~11の光路中に配置されて、光量損失を抑えつつ光軸AXに関して点対称性の良好な周方向偏光状態または径方向偏光状態の瞳強度分布を実現することができる。本実施形態の照明光学系1~11では、光軸AXに関して点対称性の良好な周方向偏光状態の瞳強度分布を実現する偏光変換ユニット5を用いて、所望の周方向偏光状態の光でマスクMのパターン面被照射面を照明することができる。本実施形態の露光装置1~WSでは、所望の周方向偏光状態の光でマスクMのパターン面を照明する照明光学系1~11を用いて、転写すべきマスクMのパターンの特性に応じて実現された適切な照明条件のもとで周方向偏光の作用効果を良好に発揮して、微細パターンをウェハWに正確に転写することができる。なお、上述の実施形態では、図4~図7に示す特定の構成を有する偏光変換ユニット5に基づいて本発明を説明している。しかしながら、これに限定されることなく、偏光変換ユニットの構成については、様々な形態が可能である。具体的に、偏光変換ユニットの配置位置、偏光変換部材の形状角度パラメータθ1,θ2,θ3,φ1、寸法パラメータα,βなどにより規定される形状、材質、数、配置位置などについては、様々な形態が可能である。例えば、上述の実施形態では、偏光変換ユニット5がアフォーカルレンズ4の瞳位置またはその近傍に配置されている。しかしながら、これに限定されることなく、偏光変換ユニット5を、照明光学系1~11の他の照明瞳の位置またはその近傍の位置に配置することができる。具体的に、マイクロフライアイレンズ8の入射面の近傍、マイクロフライアイレンズ8の射出面の近傍、結像光学系11の瞳位置またはその近傍などに、偏光変換ユニット5を配置することもできる。そして、瞳強度分布の形状の変化ひいては照明条件の変化に応じて、偏光変換ユニット5を照明光路から退避させても良い。また、瞳強度分布の形状または大きさの変化に応じて、偏光変換ユニット5を、特性の異なる他の偏光変換ユニットと交換することもできる。また、上述の実施形態では、偏光変換ユニット5が一対の偏光変換部材51および52を備えている。しかしながら、偏光変換部材の数については様々な形態が可能である。例えば、一対の偏光変換部材からなる組立体を光軸方向に直列的に複数組配置することにより、瞳強度分布の偏光状態の光軸に関する点対称性をさらに向上させることができる。逆に、光軸に関する点対称性がある程度確保された偏光状態の光束が入射する場合には、一対の偏光変換部材場合によっては1つの偏光変換部材を用いて、瞳強度分布の偏光状態の光軸に関する点対称性を良好に設定することができる。図14に示す変形例にかかる偏光変換ユニット5Aでは、図4に示す実施形態における偏光変換ユニット5の偏光変換部材51の前側に、光路に対して挿脱可能な旋光部材54が付設されている。旋光部材54は、図15に示すように、光軸AXを中心とする円の周方向に沿って配列された8つの平行平面板状の旋光素子54a,54b,54c,54d,54e,54f,54g,54hを有する。旋光素子54a~54hは、旋光性を有する光学材料である結晶材料、例えば水晶により形成されている。旋光部材54が光路中に位置決めされている状態において、旋光素子54a~54hの入射面ひいては射出面は光軸AXと直交し、その結晶光学軸は光軸AXの方向とほぼ一致すなわち入射光の進行方向であるZ方向とほぼ一致している。また、偏光状態切換部2および輪帯照明用の回折光学素子3の作用により、偏光変換ユニット5ひいては旋光部材54には、例えば光軸AXを中心とした輪帯状でY方向に偏光したY方向直線偏光の光束図15中ハッチングを施した部分20が入射する。旋光素子54a~54hは、光軸AXを中心とする円環状の領域を周方向に沿って8等分して得られる8つの分割領域を占めている。換言すれば、旋光素子54a~54hは、入射する輪帯状の光束20を周方向に沿って8等分して得られる8つの円弧状の光束がそれぞれ通過するように区分されている。旋光素子54a~54hのうち、光軸AXを挟んで対向する一対の旋光素子は、互いに同じ厚さを有し、ひいては互いに同じ偏光変換特性を有する。あるいは、光軸AXを挟んで対向する一対の旋光素子は、互いに異なる厚さを有するが、互いに同じ偏光変換特性を有する。具体的に、一対の旋光素子54aおよび54eは、Y方向直線偏光の光が入射した場合、その偏光方向を変化させることなくすなわちその偏光方向を0度または180度回転させてY方向直線偏光の光を射出するように厚さが設定されている。一対の旋光素子54bおよび54fは、Y方向直線偏光の光が入射した場合、Y方向を-45度または135度:すなわち図15中反時計廻りに45度回転させた方向に偏光方向を有する直線偏光の光を射出するように厚さが設定されている。一対の旋光素子54cおよび54gは、Y方向直線偏光の光が入射した場合、Y方向を90度または-90度回転させたX方向に偏光方向を有するX方向直線偏光の光を射出するように厚さが設定されている。一対の旋光素子54dおよび54hは、Y方向直線偏光の光が入射した場合、Y方向を45度または-135度:すなわち図6中時計廻りに45度回転させた方向に偏光方向を有する直線偏光の光を射出するように厚さが設定されている。その結果、図16に示すように、旋光部材54を経た光束すなわち偏光変換部材51に入射する光束26は、光軸AXを中心とした輪帯状の断面を有し、且つほぼ周方向偏光状態になる。具体的に、輪帯状の光束26のうち、旋光素子54a,54eを経た円弧状の光束26a,26eは、Y方向直線偏光になる。旋光素子54b,54fを経た円弧状の光束26b,26fは、Y方向を-45度回転させた斜め方向に偏光方向を有する-45度斜め方向直線偏光になる。旋光素子54c,54gを経た円弧状の光束26c,26gは、Y方向を90度回転させたX方向に偏光方向を有するX方向直線偏光になる。旋光素子54d,54hを経た円弧状の光束26d,26hは、Y方向を45度回転させた斜め方向に偏光方向を有する45度斜め方向直線偏光になる。ただし、旋光素子54a~54hの厚さについては製造誤差が発生し易く、ひいては円弧状の光束26a~26hの偏光方向についても角度誤差が発生し易い。図14の変形例では、旋光部材54の作用により、光軸AXに関する点対称性がある程度確保された周方向偏光状態の光束26が、一対の偏光変換部材51,52に入射する。したがって、一対の偏光変換部材51,52を経て形成される瞳強度分布は、一対の偏光変換部材51,52に非偏光状態に光束が入射する場合に比して、光軸AXに関する点対称性の良好な周方向偏光状態になる。上述の実施形態では、オプティカルインテグレータとして、マイクロフライアイレンズ8を用いているが、その代わりに、内面反射型のオプティカルインテグレータ典型的にはロッド型インテグレータを用いても良い。この場合、ズームレンズ7の後側にその前側焦点位置がズームレンズ7の後側焦点位置と一致するように集光レンズを配置し、この集光レンズの後側焦点位置またはその近傍に入射端が位置決めされるようにロッド型インテグレータを配置する。このとき、ロッド型インテグレータの射出端が照明視野絞り10の位置になる。ロッド型インテグレータを用いる場合、このロッド型インテグレータの下流の視野絞り結像光学系11内の、投影光学系PLの開口絞りの位置と光学的に共役な位置を照明瞳面と呼ぶことができる。また、ロッド型インテグレータの入射面の位置には、照明瞳面の二次光源の虚像が形成されることになるため、この位置およびこの位置と光学的に共役な位置も照明瞳面と呼ぶことができる。上述の実施形態では、マスクの代わりに、所定の電子データに基づいて所定パターンを形成する可変パターン形成装置を用いることができる。なお、可変パターン形成装置としては、たとえば所定の電子データに基づいて駆動される複数の反射素子を含む空間光変調素子を用いることができる。空間光変調素子を用いた露光装置は、たとえば特開2004-304135号公報、国際特許公開第2006/080285号パンフレットおよびこれに対応する米国特許公開第2007/0296936号公報に開示されている。また、上述のような非発光型の反射型空間光変調器以外に、透過型空間光変調器を用いても良く、自発光型の画像表示素子を用いても良い。上述の実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行っても良い。次に、上述の実施形態にかかる露光装置を用いたデバイス製造方法について説明する。図17は、半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図17に示すように、半導体デバイスの製造工程では、半導体デバイスの基板となるウェハWに金属膜を蒸着しステップS40、この蒸着した金属膜上に感光性材料であるフォトレジストを塗布するステップS42。つづいて、上述の実施形態の露光装置を用い、マスクレチクルMに形成されたパターンをウェハW上の各ショット領域に転写しステップS44:露光工程、この転写が終了したウェハWの現像、つまりパターンが転写されたフォトレジストの現像を行うステップS46:現像工程。その後、ステップS46によってウェハWの表面に生成されたレジストパターンをマスクとし、ウェハWの表面に対してエッチング等の加工を行うステップS48:加工工程。ここで、レジストパターンとは、上述の実施形態の露光装置によって転写されたパターンに対応する形状の凹凸が生成されたフォトレジスト層であって、その凹部がフォトレジスト層を貫通しているものである。ステップS48では、このレジストパターンを介してウェハWの表面の加工を行う。ステップS48で行われる加工には、例えばウェハWの表面のエッチングまたは金属膜等の成膜の少なくとも一方が含まれる。なお、ステップS44では、上述の実施形態の露光装置は、フォトレジストが塗布されたウェハWを、感光性基板としてパターンの転写を行う。図18は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図18に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程ステップS50、カラーフィルター形成工程ステップS52、セル組立工程ステップS54およびモジュール組立工程ステップS56を順次行う。ステップS50のパターン形成工程では、プレートPとしてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、上述の実施形態の露光装置を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、上述の実施形態の露光装置を用いてフォトレジスト層にパターンを転写する露光工程と、パターンが転写されたプレートPの現像、つまりガラス基板上のフォトレジスト層の現像を行い、パターンに対応する形状のフォトレジスト層を生成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板の表面を加工する加工工程とが含まれている。ステップS52のカラーフィルター形成工程では、RRed、GGreen、BBlueに対応する3つのドットの組をマトリックス状に多数配列するか、またはR、G、Bの3本のストライプのフィルターの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルターを形成する。ステップS54のセル組立工程では、ステップS50によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップS52によって形成されたカラーフィルターとを用いて液晶パネル液晶セルを組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルターとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。ステップS56のモジュール組立工程では、ステップS54によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子CCD等、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びDNAチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスクフォトマスク、レチクル等をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程露光装置にも適用することができる。なお、上述の実施形態では、露光光としてArFエキシマレーザ光波長:193nmやKrFエキシマレーザ光波長:248nmを用いているが、これに限定されることなく、他の適当なレーザ光源、たとえば波長157nmのレーザ光を供給するF2レーザ光源などに対して本発明を適用することもできる。また、上述の実施形態において、投影光学系と感光性基板との間の光路中を1.1よりも大きな屈折率を有する媒体典型的には液体で満たす手法、所謂液浸法を適用しても良い。この場合、投影光学系と感光性基板との間の光路中に液体を満たす手法としては、国際公開第WO99/49504号パンフレットに開示されているような局所的に液体を満たす手法や、特開平6-124873号公報に開示されているような露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる手法や、特開平10-303114号公報に開示されているようなステージ上に所定深さの液体槽を形成し、その中に基板を保持する手法などを採用することができる。また、これに限らず、例えば欧州特許出願公開第1420298号明細書、国際公開第2004/055803号、米国特許第6952253号明細書などに開示される手法も適用することができる。ここでは、国際公開第WO99/49504号パンフレット、特開平6-124873号公報、特開平10-303114号公報、欧州特許出願公開第1420298号、国際公開第2004/055803号および米国特許第6952253号の教示を参照として援用する。また、上述の実施形態において、回折光学素子3に代えて、或いは回折光学素子3に加えて、たとえばアレイ状に配列され且つ傾斜角および傾斜方向が個別に駆動制御される多数の微小な要素ミラーにより構成されて入射光束を反射面毎の微小単位に分割して偏向させることにより、光束の断面を所望の形状または所望の大きさに変換する空間光変調素子を用いても良い。このような空間光変調素子を用いた照明光学系は、例えば特開2002-353105号公報に開示されている。また、上述の実施形態では、露光装置においてマスクまたはウェハを照明する照明光学系に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、マスクまたはウェハ以外の被照射面を照明する一般的な照明光学系に対して本発明を適用することもできる。"