"下記工程を含む式で表される化合物[R1およびR2は置換されていてもよいC1-4アルキル基であり、R2は、水素原子、置換されていてもよいC1-4アルキル基またはC7-14アラルキル基である。]またはその塩の製造方法:工程1:塩素系溶媒の存在下、式2式中、R1およびR2は、前記と同じである。で表される化合物またはその塩を、ニトロ化剤と反応する工程、及び工程2:工程1の反応後に析出した不溶物を除去した後、得られるろ液に不活性溶媒を添加し、該溶液を静置または撹拌する工程。R1がメチル基またはトリフルオロメチル基である、請求項1に記載の製造方法。R1がメチル基である、請求項1または2に記載の製造方法。R2が水素原子、メチル基、エチル基、tert-ブチル基またはベンジル基である、請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。R2が水素原子、メチル基またはエチル基である、請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。R2がメチル基である、請求項1~5のいずれかに記載の製造方法。塩素系溶媒がジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタンおよびクロロベンゼンからなる群より選択される一種以上の溶媒である、請求項1~6のいずれかに記載の製造方法。塩素系溶媒がクロロホルムである、請求項6に記載の製造方法。不活性溶媒がテトラヒドロフラン、トルエンまたはN,N-ジメチルホルムアミドである、請求項1~8のいずれかに記載の製造方法。不活性溶媒がテトラヒドロフランである、請求項9に記載の製造方法。4-ヒドロキシ安息香酸エステルのニトロ化反応では、式B、及び式Cで表される両位置異性体が生成する。両位置異性体は結晶性が高く、式B、及び式Cで表される両位置異性体の混合物から結晶化と濾取操作のような簡便な操作のみで、各位置異性体を単離することは難しく、大量合成には不向きである。そのため、4-ヒドロキシ安息香酸エステルをニトロ化に付し、簡便な操作で不要な位置異性体を取り除き、4-ヒドロキシ-5-ニトロ安息香酸エステルを単離する製造方法の確立が望まれている。本発明は、4-ヒドロキシ-5-ニトロ安息香酸誘導体またはその塩の製造方法を提供することを目的とする。すなわち、本発明は以下の通りである。項1:下記工程を含む式で表される化合物[R1は、置換されていてもよいC1-4アルキル基であり、R2は、水素原子、置換されていてもよいC1-4アルキル基またはC7-14アラルキル基である。]またはその塩の製造方法:工程1:塩素系溶媒の存在下、式2式中、R1およびR2は、前記と同じである。で表される化合物またはその塩を、ニトロ化剤と反応する工程、及び工程2:工程1の反応後に析出した不溶物を除去した後、得られるろ液に不活性溶媒を添加し、該溶液を静置または撹拌する工程。項2:R1がメチル基またはトリフルオロメチル基である、項1に記載の製造方法。項3:R1がメチル基である、項1または2に記載の製造方法。項4:R2が水素原子、メチル基、エチル基、tert-ブチル基またはベンジル基である、項1~3のいずれかに記載の製造方法。項5:R2が水素原子、メチル基またはエチル基である、項1~4のいずれかに記載の製造方法。項6:R2がメチル基である、項1~5のいずれかに記載の製造方法。項7:塩素系溶媒がジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタンおよびクロロベンゼンからなる群より選択される一種以上の溶媒である、項1~6のいずれかに記載の製造方法。項8:塩素系溶媒がクロロホルムである、項6に記載の製造方法。項9:不活性溶媒がテトラヒドロフラン、トルエンまたはN,N-ジメチルホルムアミドである、項1~8のいずれかに記載の製造方法。項10:不活性溶媒がテトラヒドロフランである、項9に記載の製造方法。本発明により、式2で表される4-ヒドロキシ安息香酸誘導体またはその塩から、工業的に適した簡便な操作方法で例えば、式Cで表される2-メチル-4,5-ジニトロ安息香酸を中間体として経由することなく、各工程で単離することなく、1工程で目的物を得ることができる。、式1で表される4-ヒドロキシ-5-ニトロ安息香酸誘導体またはその塩を合成し、結晶化により、該化合物の結晶を単離することができる。従って、スケールアップに対応できる工業的に有利な4-ヒドロキシ-5-ニトロ安息香酸誘導体の製造方法を提供できる。以下に、本発明をさらに詳細に説明する。本明細書において置換基の定義における炭素の数を、例えば、C1-4などと表記する場合もある。具体的には、C1-4アルキルなる表記は、炭素数1から4のアルキル基と同義である。また、本明細書において、置換されていてもよいなる用語を特に明示していない基については、非置換の基を意味する。例えば、C1-4アルキルとは、非置換であることを意味する。本明細書において基なる用語は、特に断らない限り、1価の基を意味する。例えば、アルキル基は、1価の飽和炭化水素基を意味する。また、本明細書における各基の説明において、基なる用語を省略する場合もある。尚、置換されていてもよいで定義される基における置換基の数は、置換可能であれば特に制限はなく、1または複数である。また、特に指示した場合を除き、各々の基の説明はその基が他の基の一部分である場合も包含する。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられる。C1-4アルキル基は、炭素数1~4個を有する直鎖または分枝状の飽和炭化水素基を意味する。C1-4アルキル基の具体例としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル等が挙げられる。C3-6シクロアルキル基は、炭素数3~6個を有し、環状の飽和炭化水素基を意味する。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、またはシクロヘキシル等が挙げられる。C6-10アリール基は、炭素数6~10個を有する芳香族炭化水素基を意味する。好ましくはC6アリール基フェニル等が挙げられる。C6-10アリール基の具体例としては、例えば、フェニル、1-ナフチルまたは2-ナフチル等が挙げられる。C7-14アラルキル基とは、C6-10アリールC1-4アルキル基を意味し、前記アルキル基に前記アリール基が置換した基を意味する。好ましくは、C7-10アラルキル基C6アリールC1-4アルキル基が挙げられる。C7-14アラルキル基の具体例としては、例えば、ベンジル、2-フェニルエチル、1-フェニルプロピルまたは1-ナフチルメチル等が挙げられる。置換されていてもよいにおける置換基としては、例えば、aハロゲン原子、bシアノ基、cC3-6シクロアルキル基該基は、ハロゲン原子、水酸基またはC1-4アルコキシ基で置換されてもよい。、またはdC6-10アリール基該基は、ハロゲン原子、シアノ基およびC1-4アルコキシ基からなる群から選択される同種または異種の基で置換されてもよい。などが挙げられる。尚、これらの置換基リストに限定されることはない。R1として好ましくは、メチル基、トリフルオロメチル基が挙げられる。より好ましくはメチル基が挙げられる。R2としては好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、tert-ブチル基、ベンジル基が挙げられる。より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基が挙げられる。その塩としては、例えば塩酸塩、臭化水素塩、硫酸塩、リン酸塩または硝酸塩等の無機酸塩、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等の無機塩、または酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、コハク酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-トルエンスルホン酸塩またはアスコルビン酸塩等の有機酸塩、またはエタノ-ルアミン、メグルミン、トリエタノ-ルアミン等の有機塩基塩等が挙げられる。ニトロ化剤の具体例としては、例えば硝酸単独もしくは硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸またはフルオロスルホン酸五フッ化アンチモン等からなる群より選択される一種以上の有機酸あるいは無機酸と硝酸を組み合わせた硝酸混合物、硝酸銀、硝酸カリウム、硝酸銅、硝酸アンモニウムまたは硝酸アンモニウムセリウム等からなる硝酸塩化合物単独もしくは三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、無水酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸等からなる群より選択される一種以上の活性化剤と硝酸塩を組み合わせた硝酸塩混合物、硝酸メチル、硝酸ブチル、硝酸トリメチルシリル等からから硝酸エステル化合物単独もしくは三フッ化ホウ素等からなる一種以上の活性化剤と組み合わせた硝酸エステル混合物、テトラフルオロほう酸ニトロイル等、ヘキサフルオロリン酸ニトロイルまたは過塩素酸ニトロイル等からなるニトロイル化合物、または二酸化窒素、三酸化窒素、四酸化二窒素、五酸化ニ窒素等からなる窒素酸化物単独もしくは三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム等からなる一種以上の活性化剤と組み合わせた窒素酸化物混合物が挙げられる。使用されるニトロ化剤の量は、式1で表される化合物の当量に比して0.1~5当量であり、好ましくは0.5~2.5当量である。反応温度は約-78°Cから用いた溶媒の沸点までの範囲であり、好ましくは、-10°C~40°Cである。反応時間は10分間~3日間である。塩素系溶媒の具体例としては、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、または四塩化炭素等が挙げられる。用いる塩素系溶媒の量は、式1で表される化合物またはその塩の重量の0.1~100倍であり、好ましくは1~10倍である。塩素系溶媒は、不活性溶媒と組み合わせて混合溶媒として用いてもよい。不活性溶媒の具体例としては、例えばアセトン、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランTHF、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン、tert-ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒もしくはこれらの混合溶媒が挙げられる。好ましくは、テトラヒドロフラン、トルエンやN,N-ジメチルホルムアミドが挙げられる。塩素系溶媒に対する不活性溶媒の使用量は0.001~3倍であり、好ましくは0.01~2倍である。粗生成物とは、式2で表される化合物とニトロ化剤を塩素系溶媒存在下で反応させた後反応液中に析出した不要な異性体を除去した、単離されていない式1で表される化合物またはその塩を意味する。式1で表される化合物は、14-ヒドロキシ安息香酸誘導体またはその塩を塩素系溶媒、または塩素系溶媒と不活性溶媒との混合溶媒中、ニトロ化剤と反応する、2析出する位置異性体を濾去する、3得られるろ液へ不活性溶媒を加えろ液を濃縮後に不活性溶媒を加えてもよい。、式1で表される化合物を晶析する、及び4析出する式1で表される化合物を濾取することで、簡便かつ高純度に式1で表される4-ヒドロキシ-5-ニトロ安息香酸誘導体またはその塩を製造することができる。晶析は、-20°Cから使用する溶媒の沸点までであり、好ましくは0°C~60°Cの条件で行うことができる。以下に本発明を、実施例により、さらに具体的に説明するが、実施例の記載は純粋に発明の理解のためにのみ挙げられるものであり、本発明はもとよりこれらに限定されるものではない。尚、以下の実施例において示された化合物名は、必ずしもIUPAC命名法に従うものではない。なお本明細書において、記載の簡略化のために記載の簡略化のために次の略号を使用することもある。Me:メチル基実施例1:メチル4-ヒドロキシ-2-メチル-5-ニトロ安息香酸メチル4-ヒドロキシ-2-メチル安息香酸のクロロホルム溶液に0°C下、発煙硝酸を滴下した。0°Cで3時間攪拌した後、水を加え一晩攪拌した。析出した固体をろ過により除去し、クロロホルムを加え、抽出分離した後、クロロホルム層を減圧濃縮した。得られた残渣を60°CでTHFに溶解し、0°Cまで冷却した。析出した結晶を集めて、実施例1の化合物を淡黄色結晶として得た。1HNMRδ107876702391"