"シリカ微粒子a-1と、分子内にメタアクリロイルオキシ基及びイソシアヌレート環構造を有する加水分解性シランa-2とを反応させて得られる反応性粒子Aを含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。光重合開始剤Bを含有する請求項1に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。前記A成分以外の重合性不飽和化合物Cを含有する請求項1又は2に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。請求項1~3のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を被塗物上に塗装して得られる塗装物品。本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、高い耐擦傷性を有しかつ透明性に優れる硬化塗膜を得ることができる活性エネルギー線硬化性組成物を得ることである。本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定の反応性粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を用いることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、1.シリカ微粒子a-1と、分子内にメタアクリロイルオキシ基及びイソシアヌレート環構造を有する加水分解性シランa-2とを反応させて得られる反応性粒子Aを含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物、2.光重合開始剤Bを含有する1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物、3.前記A成分以外の重合性不飽和化合物Cを含有する1又は2項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物、4.1~3項のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を被塗物上に塗装して得られる塗装物品、に関する。本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により、高い耐擦傷性を有しかつ透明性に優れる硬化塗膜を得ることができる。本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、シリカ微粒子a-1と、分子内にメタアクリロイルオキシ基及びイソシアヌレート環構造を有する加水分解性シランa-2[以下、化合物a-2と略すことがある。]とを反応させて得られる反応性粒子A[以下、A成分又は反応性粒子Aと略すことがある。]を含有する。反応性粒子A反応性粒子Aは、シリカ微粒子a-1と、分子内にメタアクリロイルオキシ基及びイソシアヌレート環構造を有する加水分解性シランa-2とを反応させて得られる。シリカ微粒子a-1シリカ微粒子a-1としては、コロイダルシリカ微粒子、粉末状微粒子シリカ等が挙げられる。コロイダルシリカ微粒子は、シリカの超微粒子を分散媒に分散させたものである。分散媒としては、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-プロパノール、イソブタノール、n-ブタノール等のアルコール系溶剤;エチレングリコール等の多価アルコール系溶剤;エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコール誘導体;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン系溶剤;2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等のモノマー化合物がある。なかでも、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等が製造の容易さの点から好ましい。コロイダルシリカ微粒子としては、メタノールシリカゾル、IPA-ST、MEK-ST、NBA-ST、XBA-ST、DMAC-ST、PGM-ST、ST-UP、ST-OUP、ST-20、ST-40、ST-C、ST-N、ST-O、ST-50、ST-OLいずれも日産化学工業社製等が挙げられる。粉末状微粒子シリカとしては、アエロジル130、アエロジル300、アエロジル380、アエロジルTT600、アエロジルOX50いずれも日本アエロジル社製、シルデックスH31、H32、H51、H52、H121、H122いずれも旭硝子社製、E220A、E220いずれも日本シリカ工業社製、SYLYSIA470富士シリシア化学社製等が挙げられる。シリカ微粒子a-1の平均一次粒子径は、1~200nmが好ましく、5~80nmがより好ましい。これら範囲の下限値は、化合物a-2と反応させる際にゲル化を抑制する点で意義がある。これら範囲の上限値は、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により得られる硬化塗膜の透明性の点で意義がある。本発明における平均一次粒子径は、動的光散乱法によって測定される体積基準粒度分布のメジアン径d50であって、例えば日機装社製のナノトラック粒度分布測定装置を用いて測定することができる。分子内にメタアクリロイルオキシ基及びイソシアヌレート環構造を有する加水分解性シランa-2分子内にメタアクリロイルオキシ基及びイソシアヌレート環構造を有する加水分解性シランa-2は、加水分解性シリル基を有する。該加水分解性シリル基とは、シラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基である。シラノール基を生成する基としては、ケイ素原子にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、ハロゲン原子等が結合した基が挙げられる。ここでアルコキシ基としては炭素数1~8のアルコキシ基が好ましく、アリールオキシ基としては、炭素数6~18のアリールオキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素が挙げられる。なお、本明細書において、メタアクリロイルオキシ基は、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を意味する。また、メタアクリレートは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。また、メタアクリル酸は、アクリル酸又はメタクリル酸を意味する。また、メタアクリルアミドは、アクリルアミド又はメタクリルアミドを意味する。化合物a-2としては、例えば、下記一般式I[式I中、R1は同一又は異なって水素原子又はメチル基を示す。R2は同一又は異なって2価の有機基を示す。R3は2価の有機基を示す。Ra、Rb及びRcのうち少なくとも1つは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を示し、残余は水素原子、アルキル基又はアリール基を示す。]で表される加水分解性シランが挙げられる。前記R2は、2価の有機基であれば特に限定されるものではない。2価の有機基としては、例えば、炭素数1~100の2価の有機基が挙げられる。好ましくは炭素数1~30の2価の有機基である。2価の有機基は、炭化水素基に限定されるものではなく、例えば、ウレタン結合、エステル結合、エーテル結合等を有していてもよい。前記R3は、2価の有機基であれば特に限定されるものではない。2価の有機基としては、例えば、炭素数1~100の2価の有機基が挙げられる。好ましくは炭素数1~30の2価の有機基である。2価の有機基は、炭化水素基に限定されるものではなく、例えば、ウレタン結合、エステル結合、エーテル結合等を有していてもよい。Ra、Rb及びRcで示されるアルコキシ基としては、炭素数1~8のものが挙げられ、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基等が好ましい。Ra、Rb及びRcで示されるアルキル基としては、炭素数1~8のものが挙げられ、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等が好ましい。Ra、Rb及びRcで示されるアリールオキシ基としては、炭素数6~18のものが挙げられ、フェノキシ基、キシリルオキシ基等が好ましい。Ra、Rb及びRcで示されるアリール基としては、炭素数6~18のものが挙げられ、フェニル基、キシリル基等が好ましい。RaRbRcSi-で示される基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。なかでも、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が好ましい。前記一般式Iで表される加水分解性シランとしては、さらに具体的には例えば、下記一般式IIで表される加水分解性シラン及び下記一般式IIIで表される加水分解性シランが挙げられる。[式II中、R4は同一又は異なって水素原子又はメチル基を示す。R5は同一又は異なって炭素数1~6の2価の炭化水素基を示す。R6は炭素数1~4の2価の炭化水素基を示す。mは同一又は異なって0~5の整数を示す。Ra、Rb及びRcは前記と同じである。式III中、R7は同一又は異なって水素原子又はメチル基を示す。R8は同一又は異なって炭素数1~6の2価の炭化水素基を示す。R9は炭素数1~4の2価の炭化水素基を示す。Ra、Rb及びRcは前記と同じである。]。前記R5は、炭素数1~6の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、1,2-プロピレン基、1,3-プロピレン基、1,2-ブチレン基、1,4-ブチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。なかでも、炭素数2~4の2価の炭化水素基であることが、得られる硬化塗膜の透明性の点から好ましい。前記R6は、炭素数1~4の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、エチレン基、1,2-プロピレン基、1,3-プロピレン基、1,2-ブチレン基、1,4-ブチレン基等が挙げられる。前記一般式IIで表される有機基としては、耐擦傷性、透明性及び光重合開始剤存在下での活性エネルギー線硬化性がより優れる点から、R4が水素原子であり、R5がエチレン基であり、R6が1、3-プロピレン基であり、mが0である有機基が好ましい。前記R8は、炭素数1~6の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、1,2-プロピレン基、1,3-プロピレン基、1,2-ブチレン基、1,4-ブチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。なかでも、炭素数2~4の2価の炭化水素基であることが、得られる硬化塗膜の透明性の点から好ましい。前記R9は、炭素数1~4の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、エチレン基、1,2-プロピレン基、1,3-プロピレン基、1,2-ブチレン基、1,4-ブチレン基等が挙げられる。前記一般式IIIで表される有機基としては、耐擦傷性、透明性及び光重合開始剤存在下での活性エネルギー線硬化性がより優れる点から、R7が水素原子であり、R8がエチレン基であり、R9が1、3-プロピレン基である有機基が好ましい。前記一般式IIで表される加水分解性シランを製造する方法を例示する。前記一般式IIで表される加水分解性シランは、例えば、下記一般式IVで表される加水分解性シランと下記一般式Vで表される化合物とを反応させることにより得ることができる。前記一般式IV中のR6、Ra、Rb及びRcは前記と同じである。前記一般式V中のR4、R5及びmは前記と同じである。前記一般式IVで表される加水分解性シランとしては、具体的には例えば、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。前記一般式IVで表される加水分解性シランと前記一般式Vで表される化合物とを反応させる際の両者の配合割合は特に限定されるものではないが、通常、前記一般式IVで表される加水分解性シランのアミノ基のモル数に対して、前記一般式Vで表される化合物のイソシアネート基を等モル用いて反応が行われる。この反応は、アミノ基とイソシアネート基とを反応させる常法に従って行うことができる。反応温度は、例えば、-78°C~200°C、好ましくは-78°C~100°C、更に好ましくは、-10°C~40°Cである。また、この反応は圧力によらず実施できるが、0.02~0.2MPa、特に0.08~0.15MPaの圧力範囲が好ましい。前記反応では適宜溶媒を使用しても良い。溶媒としては、具体的には例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル系溶媒トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。前記一般式Vで表される化合物は、例えば、下記一般式VIで表される化合物と下記一般式VIIで表される化合物とを反応させることにより得ることができる。前記一般式VIで表される化合物は、いわゆる1,6-ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート環付加物であり、商品名としては、スミジュールN3300住化バイエルウレタン社製、デュラネートTPA100旭化成ケミカルズ社製等が挙げられる。前記一般式VII中のR4、R5及びmは前記と同じである。前記一般式VIIで表される化合物は、例えば、mが0の場合の化合物としては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート等が挙げられる。mが1~5の場合の化合物としては、カプロラクトン変性ヒドロキシアルキルメタアクリレートが挙げられる。具体的には、商品名として、プラクセルFA-1、プラクセルFA-2、プラクセルFA-2D、プラクセルFA-3、プラクセルFA-4、プラクセルFA-5、プラクセルFM-1、プラクセルFM-2、プラクセルFM-2D、プラクセルFM-3、プラクセルFM-4、プラクセルFM-5いずれもダイセル化学社製等が挙げられる。前記一般式VIで表される化合物と前記一般式VIIで表される化合物とを反応させる際の両者の配合割合は特に限定されるものではないが、前記一般式VIで表される化合物のイソシアネート基と前記一般式VIIで表される化合物の水酸基とがモル比で、通常、NCO/OH=1.05~2.00、好ましくは1.10~1.50となる配合割合である。この反応は、イソシアネート基と水酸基とを反応させる常法に従って行うことができる。反応温度は、例えば、0~200°C、好ましくは20~200°C、更に好ましくは、20°C~120°Cである。また、この反応は圧力によらず実施できるが、0.02~0.2MPa、特に0.08~0.15MPaの圧力範囲が好ましい。当該反応は、通常、2~10時間程度で終了する。前記反応では適宜溶媒を使用しても良い。溶媒としては、具体的には例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル系溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。なお、前記一般式VIで表される化合物と前記一般式VIIで表される化合物とを反応させることにより得られる生成物には、前記一般式Vで表される化合物のほかに、下記一般式VIII[式VIII中、R4、R5及びmは前記と同じである。]で表される化合物等が含まれる場合がある。そして、前記一般式IIで表される加水分解性シランを製造する際、及び前記一般式IIで表される加水分解性シランを用いて反応性粒子Aを製造する際に、その製造の原料中に前記一般式VIIIで表される化合物等が含まれていても特段問題はない。続いて、前記一般式IIIで表される加水分解性シランを製造する方法を例示する。前記一般式IIIで表される加水分解性シランは、例えば、下記一般式IXで表される加水分解性シランと下記一般式Xで表される化合物とを反応させることにより得ることができる。[前記一般式IX中のR9、Ra、Rb及びRcは前記と同じである。前記一般式X中のR7及びR8は前記と同じである。]前記一般式IXで表される加水分解性シランとしては、具体的には例えば、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。前記一般式Xで表される化合物としては、例えば、ビス2-アクリロイルオキシエチルヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス2-アクリロイルオキシプロピルヒドロキシエチルイソシアヌレート等が挙げられる。商品名としては、アロニックスM-215、アロニックスM-313いずれも東亞合成社製等が挙げられる。前記一般式IXで表される加水分解性シランと前記一般式Xで表される化合物とを反応させる際の両者の配合割合は特に限定されるものではないが、通常、前記一般式IXで表される加水分解性シランのイソシアネート基のモル数に対して、前記一般式Xで表される化合物の水酸基を等モル用いて反応が行われる。この反応は、イソシアネート基と水酸基とを反応させる常法に従って行うことができる。反応温度は、例えば、0~200°C、好ましくは20~200°C、更に好ましくは、20°C~120°Cである。また、この反応は圧力によらず実施できるが、0.02~0.2MPa、特に0.08~0.15MPaの圧力範囲が好ましい。当該反応は、通常、2~10時間程度で終了する。前記反応では適宜溶媒を使用しても良い。溶媒としては、具体的には例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル系溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。なお、前記一般式Xで表される化合物は、例えば、アロニックスM-215、アロニックスM-313いずれも東亞合成社製等に代表されるように、通常、トリス2-アクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリス2-アクリロイルオキシプロピルイソシアヌレート等の下記一般式XI[式XI中、R7及びR8は前記と同じである。]で表される化合物との混合物として販売されている。そして、前記一般式IIIで表される加水分解性シランを製造する際、及び前記一般式IIIで表される加水分解性シランを用いて反応性粒子Aを製造する際に、その製造の原料中に前記一般式XIで表される化合物等が含まれていても特段問題はない。反応性粒子Aは、シリカ微粒子a-1と化合物a-2とを反応させて得られるが、その際に化合物a-2以外の加水分解性シランを化合物a-2と共に反応させてもよい。化合物a-2以外の加水分解性シランとしては、例えば、化合物a-2以外の、分子内にメタアクリロイルオキシ基を有する加水分解性シランa-3[以下、化合物a-3と略すことがある。]が挙げられる。シリカ微粒子a-1と化合物a-2とを反応させて反応性粒子Aを得る際に、化合物a-3を化合物a-2とともに反応させることで、得られる反応性粒子Aは、光重合開始剤存在下での活性エネルギー線硬化性がより優れる場合がある。化合物a-3としては、例えば、下記一般式XII[式XII中、Xはメタアクリロイルオキシ基を示す。R10は炭素数1~8の2価の炭化水素基を示す。Ra、Rb及びRcは前記と同じである。]で表される加水分解性シランが挙げられる。前記一般式XII中のR10は、炭素数1~8の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、例えば、メチレン基、エチレン基、1,2-プロピレン基、1,3-プロピレン基、1,2-ブチレン基、1,4-ブチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基等が挙げられる。前記一般式XIIで表される加水分解性シランとしては、例えば、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、2-メタクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、2-アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、2-メタクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、2-アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン等から選択される少なくとも1種の化合物が挙げられる。化合物a-3としては、前記一般式XIIで表される加水分解性シランの他に、例えば、分子内にメタアクリロイルオキシ基及びウレタン結合を有する加水分解性シランが挙げられる。分子内にメタアクリロイルオキシ基及びウレタン結合を有する加水分解性シランとしては、例えば、下記一般式XIII[式XIII中、R11は水素原子又はメチル基を示す。R12は炭素数1~10の2価の炭化水素基を示す。R13は炭素数1~10の2価の炭化水素基を示す。Ra、Rb及びRcは前記と同じである。nは1~10の整数を示す。]で表される加水分解性シランが挙げられる。前記R12としては、炭素数1~10の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、1,2-プロピレン基、1,3-プロピレン基、1,2-ブチレン基、1,4-ブチレン基、ヘキシレン基等のアルキレン基;シクロヘキシレン基等のシクロアルキレン基;フェニレン基、キシリレン基等のアリーレン基等が挙げられる。なかでも、炭素数1~6の2価の炭化水素基、特にエチレン基、1,2-プロピレン基、1,4-ブチレン基であることが好ましい。前記R13としては、炭素数1~10の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、1,2-プロピレン基、1,3-プロピレン基、1,2-ブチレン基、1,4-ブチレン基、ヘキシレン基等のアルキレン基;シクロヘキシレン基等のシクロアルキレン基;フェニレン基、キシリレン基等のアリーレン基等が挙げられる。なかでも、炭素数1~6の2価の炭化水素基、特にエチレン基、1,3-プロピレン基であることが好ましい。前記nとしては、1~10の整数であれば特に限定されるものではない。nとしては、好ましくは1~5の整数、さらに好ましくは1~3の整数、特に好ましくは1である。前記一般式XIIIで表される加水分解性シランは、例えば、下記一般式XIVで表される加水分解性シランと、下記一般式XVで表される化合物とを反応させることにより得ることができる。[式XIV中、R13、Ra、Rb及びRcは前記と同じである。][式XV中、R11、R12及びnは前記と同じである。]前記一般式XIVで表される加水分解性シランとしては、例えば、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。前記一般式XVで表される化合物としては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノメタアクリレート、トリエチレングリコールモノメタアクリレート、ジプロピレングリコールモノメタアクリレート等が挙げられる。前記一般式XIVで表される加水分解性シランと前記一般式XVで表される化合物との反応は、イソシアネート基と水酸基とを反応させる常法に従って行うことができる。上記反応式における一般式XIVで表される加水分解性シランと前記一般式XVで表される化合物との使用割合は、通常前者1モルに対し後者を0.90~1.10モル程度、好ましくは0.95~1.05モル程度とすればよい。反応温度は、例えば、0~200°C、好ましくは20~200°C、更に好ましくは、20~120°Cである。また、この反応は圧力によらず実施できるが、0.02~0.2MPa、特に0.08~0.15MPaの圧力範囲が好ましい。当該反応は、通常、2~10時間程度で終了する。前記反応では適宜触媒を使用しても良い。触媒としては、トリエチルアミン等の第三級アミン、ジブチル錫ジラウレート等の有機金属化合物等が挙げられる。前記反応では適宜溶媒を使用しても良い。溶媒としては、具体的には例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、エチルイソアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルへキシルケトン等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル系溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。上記化合物a-3に加えて、反応性粒子Aを得る際に、必要に応じて炭素数1以上のアルキル基を有するアルコキシシランを化合物a-2とともにシリカ微粒子a-1と反応させても良い。炭素数1以上のアルキル基を有するアルコキシシランを反応させることで、得られる反応性粒子Aを用いて得られる塗膜の耐水性を向上させる場合がある。かかる炭素数1以上のアルキル基を有するアルコキシシランとしては、例えば、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン等が挙げられ、これら例示した化合物中のメトキシ基をエトキシ基に置換した化合物例えばメチルトリエトキシシラン等も挙げられる。反応性粒子Aは、シリカ微粒子a-1と化合物a-2と必要により化合物a-3[以下、反応性粒子Aの製造方法の説明において、化合物a-2と化合物a-3とをまとめて、加水分解性シランと略すことがある。]とを反応させて得られる。シリカ微粒子a-1と加水分解性シランとを反応させる方法としては、特に限定されない。例えば、[i]水を含む有機溶剤の存在下にシリカ微粒子a-1と加水分解性シランとを混合し、加水分解縮合を行う方法、[ii]水を含む有機溶剤の存在下で加水分解性シランとを加水分解した後、加水分解性シランの加水分解物とシリカ微粒子a-1とを縮合させる方法、[iii]シリカ微粒子a-1と加水分解性シランとを、水、有機溶剤及び重合性不飽和化合物等のその他の成分の存在下で混合し、加水分解縮合を一度に行う方法が挙げられる。ここで、これら製造方法において使用する水は、原材料に含まれる水、例えば、コロイダルシリカ微粒子の分散媒である水であってもよい。反応性粒子Aを製造する方法についてより具体的に説明する。反応性粒子Aは、例えば、シリカ微粒子a-1であるコロイダルシリカ微粒子と、加水分解性シランと、任意で低級アルコールと、任意で重合性不飽和化合物との存在下で、コロイダルシリカ微粒子中の分散媒、及び低級アルコール加水分解性シランを加水分解して生じた低級アルコールを含む。を常圧又は減圧下で低級アルコールよりも高沸点の溶剤とともに共沸留出させ、分散媒を該溶剤に置換した後、加熱下で脱水縮合反応させることにより製造することができる。この製造方法においては、シリカ微粒子a-1であるコロイダルシリカ微粒子と、加水分解性シランと、任意で低級アルコールと、任意で重合性不飽和化合物との混合物に必要により加水分解触媒を加え、常温又は加熱下で攪拌する等の常法によって、加水分解性シランの加水分解を行う。続いて、コロイダルシリカ微粒子中の分散媒、及び低級アルコールを常圧又は減圧下で低級アルコールよりも高沸点の溶剤とともに共沸留出させ、分散媒を該溶剤に置換した後、60~150°C、好ましくは80~130°Cの温度で、通常不揮発分濃度を5~50質量の範囲に保ちながら、0.5~10時間攪拌下で反応させる。反応後には、縮合反応又は加水分解で生ずる水及び低級アルコールを、低級アルコールよりも高沸点の溶剤とともに共沸留去することが好ましい。上記反応に用いられる溶媒とは、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒;トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;1,4-ジオキサン、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒;メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル系溶媒;エチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコール誘導体等が挙げられる。反応中の不揮発分濃度は5~50質量の範囲が好ましい。不揮発分濃度が5質量未満、すなわち溶剤が95質量を超える場合、シリカ微粒子a-1と加水分解性シランとの反応が不十分であり、反応性粒子を含む活性エネルギー硬化性組成物により得られる硬化被膜は透明性に劣る場合がある。一方、不揮発分濃度が50質量を超えると、生成物がゲル化する恐れがある。これらの製造方法によりシリカ微粒子a-1表面のケイ素原子と、加水分解性シランのケイ素原子が酸素原子を介して結合することにより、シリカ微粒子a-1と加水分解性シランとが化学的に結合した反応性粒子Aが得られる。反応性粒子Aを得る際の化合物a-2の配合割合は、シリカ微粒子a-1100質量部に対して、好ましくは1質量部以上であり、より好ましくは2質量部以上、特に好ましくは5質量部以上である。配合割合の上限は特に限定されないが、好ましくは、95質量部以下であり、より好ましくは90質量部以下である。反応性粒子Aを得る際の化合物a-2の配合割合が1質量部未満であると、活性エネルギー線硬化性組成物中における反応性粒子Aの分散性が十分ではなく、得られる硬化被膜の透明性が十分でなくなる場合がある。また、反応性粒子A製造時の原料中のシリカ微粒子a-1の配合割合は、得られる反応性粒子A100質量部に対して、好ましくは5~99質量部であり、さらに好ましくは10~98質量部である。また、シリカ微粒子a-1と化合物a-2とを反応させて反応性粒子Aを得る際に、化合物a-3を化合物a-2とともに反応させる場合には、化合物a-2及び化合物a-3の合計量の配合割合は、シリカ微粒子a-1100質量部に対して、好ましくは1質量部以上であり、より好ましくは5質量部以上、特に好ましくは10質量部以上である。配合割合の上限は特に限定されないが、好ましくは、95質量部以下であり、より好ましくは90質量部以下である。配合割合において化合物a-2及び化合物a-3の合計量が1質量部未満であると、活性エネルギー線硬化性組成物中における反応性粒子Aの分散性が十分ではなく、得られる硬化被膜の透明性が十分でなくなる場合がある。また、反応性粒子A製造時の原料中のシリカ微粒子a-1の配合割合は、得られる反応性粒子A100質量部に対して、好ましくは5~99質量部であり、さらに好ましくは10~98質量部である。さらに、化合物a-2と化合物a-3との配合割合は、光重合開始剤存在下での活性エネルギー線硬化性の点から、化合物a-2/化合物a-3=10/90~90/10質量比が好ましく、20/80~80/20質量比がより好ましい。また炭素数1以上のアルキル基を有するアルコキシシランを用いる場合には、その配合割合が化合物a-2及びa-3の合計質量に対して2.5~100質量、好ましくは25~50質量であることが得られる塗膜の耐水性向上の点から好ましい。活性エネルギー線硬化性組成物における反応性粒子Aの含有量は、特に限定されるものではない。硬化被膜の耐擦傷性及び透明性の点から、好ましくは活性エネルギー線硬化性組成物の不揮発分100質量部に対して、1~90質量部であり、より好ましくは10~80質量部であり、特に好ましくは10~70質量部である。光重合開始剤B本発明の活性エネルギー線硬化性組成物はさらに光重合開始剤Bを含有していてもよい。光重合開始剤Bとしては、活性エネルギー線を吸収してラジカルを発生する開始剤であれば特に限定されることなく使用できる。前記光重合開始剤Bとしては、例えばベンジル、ジアセチル等のα-ジケトン化合物;ベンゾイン等のアシロイン化合物;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル化合物;チオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、チオキサントン-4-スルホン酸等のチオキサントン化合物;ベンゾフェノン、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物;ミヒラーケトン化合物;アセトフェノン、2-4-トルエンスルホニルオキシ-2-フェニルアセトフェノン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、α,α’-ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、2,2’-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、p-メトキシアセトフェノン、2-メチル4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノ-1-プロパノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン、α-イソヒドロキシイソブチルフェノン、α,α’-ジクロル-4-フェノキシアセトフェノン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン等のアセトフェノン化合物;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビスアシルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド化合物;アントラキノン、1,4-ナフトキノン等のキノン化合物;フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン、トリストリハロメチル-s-トリアジン等のハロゲン化合物;ジ-t-ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。これらは1種又は2種以上の混合物として使用できる。前記光重合開始剤Bの市販品としては、例えば、イルガキュアIRGACURE-184、イルガキュア-261、イルガキュア-500、イルガキュア-651、イルガキュア-819、イルガキュア-907、イルガキュア-CGI-1700チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名、英語表記IRGACURE、ダロキュアDarocur-1173、ダロキュア-1116、ダロキュア-2959、ダロキュア-1664、ダロキュア-4043メルクジャパン社製、商品名、英語表記Darocur、カヤキュアKAYACURE-MBP、カヤキュア-DETX-S、カヤキュア-DMBI、カヤキュア-EPA、カヤキュア-OA日本化薬社製、商品名英語表記KAYACURE、ビキュアVICURE-10、ビキュア-55ストウファー社STAUFFERCoLTD製、商品名、トリゴナルTRIGONALP1アクゾ社AKZOCoLTD製、商品名、サンドレイSANDORAY1000サンドズ社SANDOZCoLTD製、商品名、ディープDEAPアプジョン社APJOHNCoLTD製、商品名、カンタキュアQUANTACURE-PDO、カンタキュア-ITX、カンタキュア-EPDウォードブレキンソプ社WARDBLEKINSOPCoLTD製、商品名等を挙げることができる。前記光重合開始剤Bとしては、光硬化性の点からチオキサントン化合物、アセトフェノン化合物及びアシルフォスフィンオキシド化合物の1種又は2種以上の混合物であることが好ましく、なかでもアセトフェノン化合物とアシルフォスフィンオキシド化合物との混合物であることが特に好適である。光重合開始剤Bの使用量は、特に限定されるものではないが、活性エネルギー線硬化性組成物の不揮発分100質量部に対して、05~10質量部が好ましく、さらに好ましくは1~5質量部の範囲である。この範囲の下限値は、活性エネルギー線硬化性向上の点で意義があり、上限値はコスト及び深部硬化性の点で意義がある。重合性不飽和化合物C本発明の活性エネルギー線硬化性組成物はさらに重合性不飽和化合物Cを含有していてもよい。重合性不飽和化合物Cとしては、反応性粒子A以外の化合物であって、その化学構造中に重合性不飽和二重結合を少なくとも1つ有する化合物であれば特に限定されない。前記重合性不飽和化合物Cとしては、単官能重合性不飽和化合物、多官能重合性不飽和化合物が挙げられる。単官能重合性不飽和化合物としては、例えば、一価アルコールとメタアクリル酸とのエステル化物等が挙げられる。具体的には、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、ネオペンチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、N-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等が挙げられる。また、例えば、ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ヒドロキシブチルメタアクリレート等の水酸基含有メタアクリレート;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、2-カルボキシエチルメタアクリレート、2-カルボキシプロピルメタアクリレート、5-カルボキシペンチルメタアクリレート等のカルボキシル基含有メタアクリレート;グリシジルメタアクリレート、アリルグリシジルエーテル等のグリシジル基含有重合性不飽和化合物;スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、α-クロルスチレン等のビニル芳香族化合物;N,N-ジメチルアミノエチルメタアクリレート、N,N-ジエチルアミノエチルメタアクリレート、N-t-ブチルアミノエチルメタアクリレート等の含窒素アルキルメタアクリレート;アクリルアミド、メタクリルアミド、N-メチルメタアクリルアミド、N-エチルメタアクリルアミド、N-メチロールメタアクリルアミド、N-メトキシメチルメタアクリルアミド、N-ブトキシメチルメタアクリルアミド、N,N-ジメチルメタアクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピルメタアクリルアミド、N,N-ジメチルアミノエチルメタアクリルアミド等の重合性アミド化合物等が挙げられる。多官能重合性不飽和化合物としては、例えば、多価アルコールとメタアクリル酸とのエステル化物等が挙げられる。具体的には、例えば、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、1,3-ブタンジオールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、グリセリンジメタアクリレート、トリメチロールプロパンジメタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ビスフェノールAエチレンオキサイド変性ジメタアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジメタアクリレート、トリシクロデンカンジメタノールジメタアクリレート、水素化ビスフェノールAジメタアクリレート、水素化ビスフェノールFジメタアクリレート、水素化ヘキサフルオロビスフェノールAジメタアクリレート、ビス2-メタアクリロイルオキシヘキサヒドロフタル酸、5-エチル-2-2-ヒドロキシ-1,1ジメチルエチル-5-ヒドロキシメチル-1,3-ジオキサンジメタアクリレート等のジメタアクリレート化合物;グリセリントリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリメタアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、εカプロラクトン変性トリスアクリロキシエチルイソシアヌレート等のトリメタアクリレート化合物;ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート等のテトラメタアクリレート化合物;その他、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート等が挙げられる。さらに、重合性不飽和基含有アクリル樹脂、ウレタンメタアクリレート樹脂、エポキシメタアクリレート樹脂、ポリエステルメタアクリレート樹脂等が挙げられる。重合性不飽和基含有アクリル樹脂としては、例えば、カルボキシル基含有アクリル樹脂にグリシジルメタアクリレート等のグリシジル基含有重合性不飽和化合物を付加して得られる重合性不飽和基含有アクリル樹脂、ヒドロキシル基含有アクリル樹脂に2-イソシアネートエチルメタアクリレート等のイソシアネート基と重合性不飽和基とを有する化合物を付加して得られる重合性不飽和基含有アクリル樹脂等が挙げられる。これら重合性不飽和化合物は単独で又は2種以上組合せて使用することができる。さらに多官能重合性不飽和化合物としては、下記一般式XVIで表される重合性不飽和化合物及び/又は下記一般式XVIIで表される重合性不飽和化合物が挙げられる。[式XVI中、R4は同一又は異なって水素原子又はメチル基を示す。R5は同一又は異なって炭素数1~6の2価の炭化水素基を示す。mは同一又は異なって0~5の整数を示す。式XVII中、R7は同一又は異なって水素原子又はメチル基を示す。R8は同一又は異なって炭素数1~6の2価の炭化水素基を示す。]前記R5は、炭素数1~6の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、1,2-プロピレン基、1,3-プロピレン基、1,2-ブチレン基、1,4-ブチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。なかでも、炭素数2~4の2価の炭化水素基、特にエチレン基であることが好ましい。前記R8は、炭素数1~6の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、1,2-プロピレン基、1,3-プロピレン基、1,2-ブチレン基、1,4-ブチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。なかでも、炭素数2~4の2価の炭化水素基、特にエチレン基であることが好ましい。前記一般式XVIで表される重合性不飽和化合物は、例えば、1,6-ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート環付加物、及びヒドロキシアルキルメタアクリレート又はカプロラクトン変性ヒドロキシアルキルメタアクリレートをジラウリン酸ジn-ブチル錫等の錫系触媒の存在下、イソシアネート基とヒドロキシル基がほぼ等量になるように用いて、60~70°Cで数時間加熱することにより得ることができる。前記一般式XVIIで表される重合性不飽和化合物としては、例えば、トリス2-アクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリス2-アクリロイルオキシプロピルイソシアヌレート等が挙げられる。ここで、前記一般式XVIで表される重合性不飽和化合物は、前述した反応性粒子Aの製造方法において説明した前記一般式VIIIで表される化合物と同じ化合物である。また、前記一般式XVIIで表される重合性不飽和化合物は、前述した反応性粒子Aの製造方法において説明した前記一般式XIで表される化合物と同じ化合物である。そのため、反応性粒子Aを製造する際に、前記一般式XVIで表される重合性不飽和化合物、又は前記一般式XVIIで表される重合性不飽和化合物が含まれることがあるが、それら前記一般式XVIで表される重合性不飽和化合物及び前記一般式XVIIで表される重合性不飽和化合物は、本発明においては、重合性不飽和化合物Cに含まれるものとする。さらに多官能重合性不飽和化合物としては、例えばイミノオキサジアジンジオン基を有するヘキサメチレンジシソシアネートトリマーとヒドロキシアルキルメタアクリレートとを触媒の存在下、イソシアネート基とヒドロキシル基がほぼ等量になるように用いて反応させることにより得られるウレタンメタアクリレートも使用することができる。イミノオキサジアジンジオン基を有するヘキサメチレンジシソシアネートトリマーの市販品としては、例えば、デスモジュールXP2410バイエルマテリアルサイエンス社製等が挙げられる。ヒドロキシアルキルメタアクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート等が挙げられる。上記ヘキサメチレンジシソシアネートトリマーとヒドロキシアルキルメタアクリレートとの反応は、例えば、0~200°C、好ましくは20~200°C、更に好ましくは、20°C~120°Cの温度で行なうことができる。当該反応は、通常、2~10時間程度で終了する。反応では適宜触媒を使用しても良い。触媒としては、トリエチルアミン等の第三級アミン、ジブチル錫ジラウレート等の有機金属化合物等が挙げられる。前記反応では適宜溶媒を使用しても良い。溶媒としては、具体的には例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル系溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、得られる硬化塗膜の耐候性及び被塗物への付着性の点から、前記一般式XVIで表される重合性不飽和化合物及び/又は前記一般式XVIIで表される重合性不飽和化合物を含有することが好ましい。本発明の活性エネルギー線硬化性組成物における重合性不飽和化合物Cの配合割合は特に限定されるものではない。得られる硬化塗膜の耐候性及び被塗物への付着性の点から、好ましくは、活性エネルギー線硬化性組成物の不揮発分100質量部に対して、1~95質量部であり、より好ましくは10~80質量部であり、特に好ましくは20~70質量部である。本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、必要に応じて各種添加剤、飽和樹脂等を配合してもよく、所望により溶剤で希釈しても良い。添加剤としては、例えば、増感剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、酸化防止剤、消泡剤、表面調整剤、可塑剤、着色剤等が挙げられる。飽和樹脂としては、例えば、飽和アクリル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、飽和ウレタン樹脂等が挙げられる。希釈に用いる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル系溶剤;芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらは、粘度の調整、塗布性の調整等の目的に応じて適宜組み合わせて使用することができる。紫外線吸収剤としては、従来から公知のものが使用でき、例えば、ベンゾトリアゾール系吸収剤、トリアジン系吸収剤、サリチル酸誘導体系吸収剤、ベンゾフェノン系吸収剤等を使用できる。ベンゾトリアゾール系吸収剤の具体例としては、2-2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-5’-t-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’-t-ブチル-5’-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-アミルフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-4’-オクトキシフェニルベンゾトリアゾール、2-{2’-ヒドロキシ-3’-3’’,4’’,5’’,6’’-テトラヒドロフタルイミドメチル-5’-メチルフェニル}ベンゾトリアゾール等が挙げられる。トリアジン系吸収剤の具体例としては、2,4-ビス2,4-ジメチルフェニル-6-2-ヒドロキシ-4-イソオクチルオキシフェニル-1,3,5-トリアジンン、2-[42-ヒドロキシ-3-ドデシルオキシプロピル-オキシ-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジンン、2-[4-2-ヒドロキシ-3-トリデシルオキシプロピル-オキシ-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジンン、2-2,4-ジヒドロキシフェニル-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン等が挙げられる。サリチル酸誘導体系吸収剤の具体例としては、フェニルサリシレート、p-オクチルフェニルサリシレート、4-tert-ブチルフェニルサリシレート等が挙げられる。ベンゾフェノン系吸収剤の具体例としては、4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-2’-カルボキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5-スルホベンゾフェノントリヒドレート、2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクタデシロキシベンゾフェノン、ナトリウム2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシ-5-スルホベンゾフェノン、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、4-ドデシロキシ-2-ヒドロキシベンゾフェノン、5-クロロ-2-ヒドロキシベンゾフェノン、レゾルシノールモノベンゾエート、2,4-ジベンゾイルレゾルシノール、4,6-ジベンゾイルレゾルシノール、ヒドロキシドデシルベンゾフェノン等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、また、公知の重合性紫外線吸収剤、例えば2-2’-ヒドロキシ-5’-メタクリロイルオキシエチルフェニル-2H-ベンゾトリアゾール、2,2’-ジヒドロキシ-43-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシベンゾフェノン等も使用することが可能である。上記紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、TINUVIN900、TINUVIN928、TINUVIN348-2、TINUVIN479、TINUVIN405チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名、RUVA93大塚化学社製、商品名等が挙げられる。上記紫外線吸収剤の使用量は、特に限定されるものではないが、活性エネルギー線硬化性組成物の不揮発分100質量部に対して、0.1~10質量部、好ましくは0.2~10質量部の範囲であることが好適である。一方、光安定剤は、被膜の劣化過程で生成する活性なラジカル種を捕捉するラジカル連鎖禁止剤として用いられるもので、例えば、ヒンダードアミン系の光安定剤等が挙げられる。光安定剤のなかで優れた光安定化作用を示す光安定剤としてヒンダードピペリジン化合物が挙げられる。ヒンダードピペリジン化合物としては、例えば、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジニルセバケート、ビスN-メチル-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジニルセバケート、4-ベンゾイルオキシ-2,2’,6,6’-テトラメチルピペリジン、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル{[3,5-ビス1,1-ジメチルエチル-4-ヒドロキシフェニル]メチル}ブチルマロネート等のモノマータイプのもの;ポリ{[6-1,1,3,3-テトラメチルブチルイミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル][2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルイミノ]ヘキサメチレン[2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルイミノール]}等のオリゴマータイプのもの;4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジンエタノールとコハク酸とのポリエステル化物等のポリエステル結合タイプのもの等が挙げられるが、これらに限ったものではない。光安定剤としては、また、公知の重合性光安定剤も使用することが可能である。上記光安定剤の市販品としては、例えば、TINUVIN123、TINUVIN152、TINUVIN292チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名、HOSTAVIN3058クラリアント社製、商品名、アデカスタブLA-82株式会社ADEKA製、商品名等が挙げられる。上記光安定剤の使用量は、特に限定されるものではないが、活性エネルギー線硬化性組成物の不揮発分100質量部に対して、0.1~10質量部、好ましくは0.2~5質量部の範囲であることが好適である。本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の不揮発分は特に限定されるものではない。例えば、好ましくは20~100質量であり、さらに好ましくは25~70質量である。これら範囲は、塗膜の平滑性及び乾燥時間の短縮化の点で意義がある。本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を被塗物表面へ塗布する方法は特に限定されるものではなく、例えば、ローラー塗装、ロールコーター塗装、スピンコーター塗装、カーテンロールコーター塗装、スリットコーター塗装、スプレー塗装、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、スピン塗装等が挙げられる。被塗物としては、特に限定されるものではない。具体的には例えば、鉄、アルミニウム、真鍮、銅、ステンレス鋼、ブリキ、亜鉛メッキ鋼、合金化亜鉛Zn-Al、Zn-Ni、Zn-Fe等メッキ鋼等の金属材料;ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレンABS樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂や各種のFRP等のプラスチック材料;ガラス、セメント、コンクリート等の無機材料;木材;繊維材料紙、布等等が挙げられる。また、被塗物には、例えば、プライマー塗料、カチオン電着塗料、中塗り塗料、上塗り塗料等を塗装することにより、予めプライマー層、電着塗膜層、中塗り層、上塗り層等が形成されていてもよい。前記活性エネルギー線硬化性組成物から塗膜を形成する際、必要に応じて乾燥を行うことができる。乾燥は、添加している溶剤を除去できる条件であれば特に限定されるものではない。例えば、20~100°Cの乾燥温度において3~20分間の乾燥時間で行うことができる。塗膜の膜厚は目的に応じて適宜設定される。例えば膜厚は1~100μmが好ましく、1~50μmがさらに好ましい。膜厚がこれら範囲の下限値以上の場合には、塗膜の平滑性及び外観に優れる。またこれら範囲の上限値以下の場合には塗膜の硬化性、耐割れ性に優れる。活性エネルギー線硬化性組成物を被塗物表面に塗布し、必要に応じて乾燥させた後に、活性エネルギー線照射を行い硬化塗膜を形成する。活性エネルギー線照射の照射源及び照射量は特に限定されるものではない。例えば活性エネルギー線の照射源としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等が挙げられる。照射量は、例えば好ましくは5~20,000J/m2、さらに好ましくは100~10,000J/m2の範囲が挙げられる。活性エネルギー線照射は、大気雰囲気下で行なってもよく、また不活性ガス雰囲気下で行なっても良い。不活性ガスとしては、窒素、二酸化炭素等が挙げられる。不活性ガス雰囲気下での活性エネルギー線照射が、硬化性の点から好ましい。また、活性エネルギー線照射後、必要に応じて塗膜を加熱してもよい。加熱をすることによって、活性エネルギー線照射による塗膜の硬化により発生した塗膜の歪みを緩和することができる。さらにこの加熱によって塗膜の硬度、又は付着性の向上を行なうことができる場合がある。加熱は、通常、150~250°Cの雰囲気温度で1~30分間の条件で行なうことができる。以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。尚、部及びは、別記しない限り質量部及び質量を示す。なお、本実施例における構造解析及び測定は、本明細書に記載の前記分析装置に加え、以下の分析装置及び測定方法により行った。29Si-NMR、1H-NMR分析装置:JEOL社製FT-NMREX-400溶媒:CDCl3内部標準物質:テトラメチルシラン。製造例1還流冷却器、温度計、空気導入管及び攪拌機を備えた4つ口フラスコにスミジュールN3300住化バイエルウレタン社製179部、2-ヒドロキシエチルアクリレート87部、酢酸イソブチル205部及びp-メトキシフェノール1部を配合し、攪拌した。空気を吹き込みながら100°Cまで昇温し、100°Cで8時間反応させた。反応後、5°Cまで冷却し、3-アミノプロピルトリエトキシシラン41部を1時間かけて滴下した。この際、フラスコ内の反応物の温度が20°Cを超えないように制御した。続いて、エチレングリコールモノブチルエーテル205部を配合して80°Cまで昇温し、80°Cで1時間攪拌した後、減圧蒸留にて酢酸イソブチルを除去し、生成物P1の不揮発分60溶液を得た。得られた生成物P1はNCO価=0mgNCO/g、アミン価=0mgKOH/gであった。また、生成物P1について1H-NMR分析を行った結果、生成物P1のSiに結合したメチレン基に対するアクリロイルオキシ基の炭素-炭素不飽和結合のモル比率は4.0であった。また、生成物P1について29Si-NMR分析を行った結果、生成物P1中のエトキシシリル基の加水分解は確認されなかった。上記の結果から、生成物P1は、下記式P-Iで表される化合物と下記式P-IIで表される化合物との混合物であり、その比率は、前記式P-Iで表される化合物/前記式P-IIで表される化合物=60/40モル比であった。製造例2還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン10部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール227部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例1で得られた生成物P1の不揮発分60溶液17部[前記式P-Iで表される化合物が6部]を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-IIで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-IIで表される化合物=100/3質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の混合物を生成物P2と称する。製造例3還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン14部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール230部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例1で得られた生成物P1の不揮発分60溶液10部[前記式P-Iで表される化合物が4部]を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-IIで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-IIで表される化合物=100/2質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の混合物を生成物P3と称する。製造例4還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン6部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール223部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例1で得られた生成物P1の不揮発分60溶液23部[前記式P-Iで表される化合物が8部]を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-IIで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-IIで表される化合物=100/5質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の混合物を生成物P4と称する。製造例5還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン3部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール232部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例1で得られた生成物P1の不揮発分60溶液4部[前記式P-Iで表される化合物が2部]を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-IIで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-IIで表される化合物=100/1質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の混合物を生成物P5と称する。製造例6還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン20部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール220部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例1で得られた生成物P1の不揮発分60溶液33部[前記式P-Iで表される化合物が12部]を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-IIで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-IIで表される化合物=100/6質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の混合物を生成物P6と称する。製造例7還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;水、シリカ濃度;40質量、平均一次粒子径;20nm、商品名;スノーテックスO-40、日産化学工業社製250部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン10部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール143部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例1で得られた生成物P1の不揮発分60溶液17部[前記式P-Iで表される化合物が6部]を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-IIで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-IIで表される化合物=100/3質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の混合物を生成物P7と称する。製造例8還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン100部、2-ヒドロキシエチルアクリレート47部、p-メトキシフェノール0.1部を仕込み、乾燥空気を吹き込みながら100°Cで12時間反応させ、生成物P8を得た。製造例9還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、製造例8で得られた生成物P810部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール227部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例1で得られた生成物P1の不揮発分60溶液17部[前記式P-Iで表される化合物が6部]を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-IIで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-IIで表される化合物=100/3質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の混合物を生成物P9と称する。製造例10還流冷却器、温度計、空気導入管及び攪拌機を備えた4つ口フラスコにスミジュールN3300住化バイエルウレタン社製179部、4-ヒドロキシブチルアクリレート108部、酢酸イソブチル205部及びp-メトキシフェノール1部を配合し、攪拌した。空気を吹き込みながら100°Cまで昇温し、100°Cで8時間反応させた。反応後、5°Cまで冷却し、3-アミノプロピルトリエトキシシラン41部を1時間かけて滴下した。この際、フラスコ内の反応物の温度が20°Cを超えないように制御した。続いて、エチレングリコールモノブチルエーテル219部を配合して80°Cまで昇温し、80°Cで1時間攪拌した後、減圧蒸留にて酢酸イソブチルを除去し、生成物P10の不揮発分60溶液を得た。得られた生成物P10はNCO価=0mgNCO/g、アミン価=0mgKOH/gであった。また、生成物P10について1H-NMR分析を行った結果、生成物P10のSiに結合したメチレン基に対するアクリロイルオキシ基の炭素-炭素不飽和結合のモル比率は4.0であった。また、生成物P10について29Si-NMR分析を行った結果、生成物P10中のエトキシシリル基の加水分解は確認されなかった。上記の結果から、生成物P10は、下記式P-IIIで表される化合物と下記式P-IVで表される化合物との混合物であり、その比率は、前記式P-IIIで表される化合物/前記式P-IVで表される化合物=60/40モル比であった。製造例11還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン10部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール227部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例10で得られた生成物P10の不揮発分60溶液17部[前記式P-IIIで表される化合物が6部]を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-IVで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-IVで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-IVで表される化合物=100/3質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-IVで表される化合物の混合物を生成物P11と称する。製造例12還流冷却器、温度計、空気導入管及び攪拌機を備えた4つ口フラスコにスミジュールN3300住化バイエルウレタン社製179部、プラクセルFA-2D商品名、ε-カプロラクトン変性2-ヒドロキシエチルアクリレート、ダイセル化学工業製258部、酢酸イソブチル319部及びp-メトキシフェノール1部を配合し、攪拌した。空気を吹き込みながら100°Cまで昇温し、100°Cで8時間反応させた。反応後、5°Cまで冷却し、3-アミノプロピルトリエトキシシラン41部を1時間かけて滴下した。この際、フラスコ内の反応物の温度が20°Cを超えないように制御した。続いて、エチレングリコールモノブチルエーテル319部を配合して80°Cまで昇温し、80°Cで1時間攪拌した後、減圧蒸留にて酢酸イソブチルを除去し、生成物P12の不揮発分60溶液を得た。得られた生成物P12はNCO価=0mgNCO/g、アミン価=0mgKOH/gであった。また、生成物P12について1H-NMR分析を行った結果、生成物P12のSiに結合したメチレン基に対するアクリロイルオキシ基の炭素-炭素不飽和結合のモル比率は4.0であった。また、生成物P12について29Si-NMR分析を行った結果、生成物P12中のエトキシシリル基の加水分解は確認されなかった。上記の結果から、生成物P12は、下記式P-Vで表される化合物と下記式P-VIで表される化合物との混合物であり、その比率は、前記式P-Vで表される化合物/前記式P-VIで表される化合物=60/40モル比であった。製造例13還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン10部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール227部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例12で得られた生成物P12の不揮発分60溶液17部[前記式P-Vで表される化合物が6部]を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-VIで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-VIで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-VIで表される化合物=100/4質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-VIで表される化合物の混合物を生成物P13と称する。製造例14還流冷却器、温度計、空気導入管及び攪拌機を備えた4つ口フラスコにアロニックスM-313東亜合成社製、イソシアヌル酸EO変性ジ及びトリアクリレート179部、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン38部、酢酸イソブチル145部及びp-メトキシフェノール1部を配合し、攪拌した。空気を吹き込みながら100°Cまで昇温し、100°Cで8時間反応させた。反応後、エチレングリコールモノブチルエーテル145部を配合して80°Cまで昇温し、80°Cで1時間攪拌した後、減圧蒸留にて酢酸イソブチルを除去し、生成物P14の不揮発分60溶液を得た。得られた生成物P14はNCO価=0mgNCO/gであった。また、生成物P14について1H-NMR分析を行った結果、生成物P14のSiに結合したメチレン基に対するアクリロイルオキシ基の炭素-炭素不飽和結合のモル比率は7.7であった。また、生成物P14について29Si-NMR分析を行った結果、生成物P14中のエトキシシリル基の加水分解は確認されなかった。上記の結果から、生成物P14は、下記式P-VIIで表される化合物と下記式P-VIIIで表される化合物との混合物であり、その比率は、前記式P-VIIで表される化合物/前記式P-VIIIで表される化合物=35/65モル比であった。製造例15還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン10部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール227部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例14で得られた生成物P14の不揮発分60溶液17部[前記式P-VIIで表される化合物が4部]を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-VIIIで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-VIIIで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-VIIIで表される化合物=100/3質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-VIIIで表される化合物の混合物を生成物P15と称する。製造例16還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン10部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール227部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、製造例1で得られた生成物P1の不揮発分60溶液17部[前記式P-Iで表される化合物が6部]及びデシルトリメトキシシラン5部を添加し、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の不揮発分40の混合液を得た。配合量から計算される反応性粒子と前記式P-IIで表される化合物との比率は、反応性粒子/前記式P-IIで表される化合物=100/3質量比であった。なお、本製造例で得られた反応性粒子及び前記式P-IIで表される化合物の混合物を生成物P16と称する。製造例17還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA-ST、日産化学工業社製333部シリカ微粒子は100部、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン10部、p-メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール233部を配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、95°Cで2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60°Cに温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、反応性粒子の不揮発分40分散液を得た。なお、本製造例で得られた反応性粒子を生成物P17と称する。製造例18還流冷却器、温度計、空気導入管及び攪拌機を備えた4つ口フラスコにスミジュールN3300住化バイエルウレタン社製179部、2-ヒドロキシエチルアクリレート109部、酢酸イソブチル192部及びp-メトキシフェノール1部を配合し、攪拌した。空気を吹き込みながら100°Cまで昇温し、100°Cで8時間反応させた。反応後、エチレングリコールモノブチルエーテル192部を配合して80°Cまで昇温し、80°Cで1時間攪拌した後、減圧蒸留にて酢酸イソブチルを除去し、生成物P18の不揮発分60溶液を得た。得られた生成物P18はNCO価=0mgNCO/gであった。上記の結果から、生成物P18は、下記式P-IXで表される化合物であった。製造例19還流冷却器、温度計、空気導入管及び攪拌機を備えた4つ口フラスコにデスモジュールXP2410バイエルマテリアルサイエンス社製50部、ジブチルスズジラウレート0.02部、及びハイドロキノンモノメチルエーテル0.1部の混合物を仕込んだ。該混合物を攪拌しながら、80°Cまで加熱した。続いて、混合物の温度が90°Cを超えないようにしながら、2-ヒドロキシエチルアクリレート32.9部を2時間かけて滴下し、混合物を80°Cで更に4時間撹拌し、1-メトキシ-2-プロパノール20.7部を加えて生成物P19の不揮発分80溶液を得た。得られた生成物P19はNCO価=0mgNCO/gであった。実施例1製造例2で得られた生成物P2の不揮発分40溶液100.0部、EBECRYL1290商品名、ダイセルサイテック製、6官能ウレタンアクリレート60.0部、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン光重合開始剤3.0部、及び2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド光重合開始剤0.5部を配合し、酢酸エチルで不揮発分30に希釈した後に攪拌し、活性エネルギー線硬化性組成物No.1を製造した。表1に活性エネルギー線硬化性組成物No.1中の不揮発分100質量部に対するA成分及びC成分の質量部を示した。なお、表1に記載の配合量は不揮発分の質量部を示す。次いでイソプロパノールにて脱脂したABS基板アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン3元共重合樹脂基板上に、前記活性エネルギー線硬化性組成物をアプリケーターで乾燥膜厚が10μmとなる条件で塗装し、80°Cで10分間乾燥して溶剤を除去した後、高圧水銀灯80W/cmで、紫外線ピークトップ波長365nmを窒素雰囲気下、照射量20,000J/m2で照射して、硬化塗膜を形成し、試験板を得た。得られた試験板について、下記評価試験に供した。評価結果を表1に示す。実施例2~20、比較例1~3実施例1において、各成分及び配合量を表1に記載した各成分及び配合量に代えた以外は、実施例1と同様にして実施例2~20及び比較例1~3の活性エネルギー線硬化性組成物No.2~23を製造した。次いで、実施例1に記載の方法と同様の方法にて硬化塗膜を形成し、試験板を得た。得られた試験板について、下記評価試験に供した。評価結果を表1に示す;注1KAYARADR-604:商品名、日本化薬株式会社製、5-エチル-2-2-ヒドロキシ-1,1-ジメチルエチル-5-ヒドロキシメチル-1,3-ジオキサンジアクリレート;注2アロニックスM-315:東亞合成社製、イソシアヌル酸EO変性ジ及びトリアクリレート;注3TINUVIN384-2:商品名、チバスペシャルティケミカルズ社製、紫外線吸収剤;注4TINUVIN123:商品名、チバスペシャルティケミカルズ社製、光安定剤。注5比較例1及び2の-は、生成物P17と重合性不飽和化合物との相溶性が悪く、塗膜がかなり濁っており、評価ができなかったことを示す。<付着性>被塗物に達するようにカッターで切り込み線を入れ、大きさ2mm×2mmのマス目を100個作り、その表面に粘着セロハンテープ登録商標を貼着し、20°Cにおいてそれを急激に剥離した後のマス目の残存塗膜数を調べ、下記基準にて評価した。AA:100個ハガレなしA:90~99個B:89~50個C:49個以下。<耐擦傷性>ASTMD-1044に準拠し、摩耗輪CS-10F、荷重500g、回転数500サイクルの条件で摩耗試験を行った。試験後、中性洗剤を用いて試料を洗浄し、ヘーズメータで曇価を測定した。[試験後の曇価-試験前の曇価]を計算し評価した。なお、値が小さい方が耐擦傷性が優れる。<耐候性>得られた各試験板ついてサンシャインウェザーオメーターを用いて、1000時間試験を行った後に、塗膜を目視で観察し下記の基準に従って評価した。A:異常無し、若しくはフクレ、変色、ツヤ変化、剥がれ等が僅かに認められるが実用上問題が無い。B:フクレ、変色、ツヤ変化、剥がれ等が認められる。C:フクレ、変色、ツヤ変化、剥がれ等が著しく認められる。<透明性>被塗物をABS基板からガラス板に変えた以外は上記の試験板作製方法と同様にして試験板を作成した。作成した試験板の外観を目視で観察し、下記基準で評価した。A:透明であり、良好。B:わずかに濁りがある。C:かなりに濁っている。<総合評価>本発明が属する建物の採光材、車両の窓、ランプレンズ、計器カバー等の塗装の分野においては、付着性、耐擦傷性、耐候性及び透明性の全てが優れていることが望ましい。従って、下記の基準にて総合評価を行った:AA:付着性がAAであり、耐擦傷性が10以下であり、耐候性がAであり、かつ透明性がAである、A:付着性がAであり、耐擦傷性が10以下であり、耐候性がAであり、かつ透明性がAである、B:付着性がAA、A又はBであり、耐擦傷性が10以下であり、耐候性がA又はBであり、透明性がA又はBであり、かつ付着性、耐擦傷性及び耐候性のうち少なくとも1つがBである、C:付着性、耐擦傷性及び耐候性のうち少なくとも1つがCもしくは評価不能であるか、または耐擦傷性が10を超える。"