電磁波により加熱される被加熱物が収容される収容部と、前記収容部の外側に配置される電磁波出射手段と、前記収容部の外側に且つ前記電磁波出射手段からの電磁波の経路上に配置され、前記電磁波出射手段からの電磁波を前記収容部へ導く誘導部を有する電磁波加熱装置であって、前記収容部は前記誘導部からの電磁波を内部に導くための導入部を有するとともに、電気伝導体の材料から形成されてなり、前記導入部は、前記収容部の厚み方向に貫通する孔部として形成されており、上方部を下方に沿って徐々に狭まるテーパ形状に、下方部を下方に沿って徐々に広がるテーパ形状に形成することにより、前記電磁波の経路に沿って形成され、前記誘導部が、電磁波を一点に集束させる集束ミラーであり、前記集束ミラーにより集束される電磁波の焦点が、前記導入部内に位置することを特徴とする電磁波加熱装置。前記電気伝導体が、石墨であることを特徴とする請求項1記載の電磁波加熱装置。前記電気伝導体がカーボンファイバーであることを特徴とする請求項1記載の電磁波加熱装置。本発明は、このような実情に鑑みてなされたもので、電磁波加熱手段の被加熱物を収容する収容部が黒鉛などの電気伝導体材料により形成される場合であっても、被加熱物を効果的に加熱することができるとともに、被加熱物からの熱放射を防止することのできる断熱構造を有する電磁波加熱装置を提供することにある。請求項1記載の発明は、電磁波により加熱される被加熱物が収容される収容部と、前記収容部の外側に配置される電磁波出射手段と、前記収容部の外側に且つ前記電磁波出射手段からの電磁波の経路上に配置され、前記電磁波出射手段からの電磁波を前記収容部へ導く誘導部を有する電磁波加熱装置であって、前記収容部は前記誘導部からの電磁波を内部に導くための導入部を有するとともに、電気伝導体の材料から形成されてなり、前記導入部は、前記収容部の厚み方向に貫通する孔部として形成されており、上方部を下方に沿って徐々に狭まるテーパ形状に、下方部を下方に沿って徐々に広がるテーパ形状に形成することにより、前記電磁波の経路に沿って形成され、前記誘導部が、電磁波を一点に集束させる集束ミラーであり、前記集束ミラーにより集束される電磁波の焦点が、前記導入部内に位置することを特徴とする電磁波加熱装置を提供する。請求項2記載の発明は、前記電気伝導体が、石墨であることを特徴とする請求項1記載の電磁波加熱装置を提供する。請求項3記載の発明は、前記電気伝導体がカーボンファイバーであることを特徴とする請求項1記載の電磁波加熱装置を提供する。これらの発明を提供することによって、上記課題を悉く解決する。請求項1記載の発明によれば、電磁波加熱装置の被加熱物を収容する収容部として、電気伝導体を利用することによって、従来加熱が限界とされた温度よりも極めて高温で加熱することが可能となるとともに、前記導入部は、前記収容部の厚み方向に貫通する孔部として形成されており、上方部を下方に沿って徐々に狭まるテーパ形状に、下方部を下方に沿って徐々に広がるテーパ形状に形成することにより、前記電磁波の経路に沿って形成されているので、収容部と外気が接する面積を極めて小さくすることができ、極めて断熱効果の優れた電磁波加熱装置を提供することができる。請求項2記載の発明によれば、電気伝導体が石墨であるので、より効果的に収容部の耐熱温度を向上させることができる電磁波加熱装置を提供することができる。請求項3記載の発明によれば、電気伝導体がカーボンファイバーであるので、より効果的に収容部の耐熱温度を向上させることができる電磁波加熱装置を提供することができる。本発明を実施するための最良の形態を説明する。図1は本発明に係る電磁波加熱装置の正面図であり、図2は本発明による電磁波加熱装置の概略構成図であり、図3は図2のA-A線断面図であり、図4は収容部と電磁波の経路の関係を示す図である。本発明に係る電磁波加熱装置1は、電磁波照射手段11、収容部12と誘導部13を有している。この電磁波照射手段11と誘導部13は、収容部12の外側に配置されており、この誘導部13は収容部12の外側であれば、収容部12に当接するように設けられても、収容部12と離れて配置されても構わない。電磁波加熱装置1の基本原理は、電磁波照射手段11から照射される電磁波を、誘導部13を利用することによって収容部12内部へと導き、収容部12内の被加熱物を加熱する。尚、本発明により加熱する被加熱物は、使用者が加熱したいと所望する物体であり、特に限定されるものではない。また、この被加熱物の大きさは、後述する収容部12に収容することができる大きさであれば、特に限定されるものではない。尚、被加熱物を後述する実施例に応じた大きさに設定する場合には、直径10cm×高さ10cmの形状を例示することができる。電磁波照射手段11は、指向性を有する電磁波を照射することができる。この電磁波照射手段11が照射する電磁波は、特に限定されるものではなく、例えば、周波数が2~300GHzの範囲、更に好ましくは、18~200GHzの電磁波を利用することが好ましい。収容部12は、電磁波によって加熱される被加熱物2を収容する。この収容部12は、中空状の形状を有しており、この中空内に被加熱物が配置される。この収容部12の形状は、特に限定されるものではなく、使用者によって適宜設定されることができるが、図1乃至図3に示される本発明の一実施例の収容部12は、有底円筒形状に形成されている。この収容部12の大きさや厚みは、特に限定されるものではないが、一実施例に於いて示される収容部12としては、外形寸法直径約22cm、高さ約30cm、内形寸法直径約12cm、高さ約20cmで、断熱厚み約5cmを例示することができる。収容部12は、被加熱物2を内部に収容することができるように、扉状或いは蓋状に形成される扉部121を有している。この扉部121の構造は特に限定されるものではなく、収容部12を開放したり、密閉したりする構造を有している。この扉部121は、図3で示される如く、収容部12の平面視に於いて、左右端に夫々蝶番のような開閉機構122を取り付け、収容部12の正面の位置に把持部123を設けて、この扉部121が左右に開け広がる観音開き構造とすることができる。尚、この扉部121の構成は、上記の如き観音開き構造に限定されるものではない。収容部12は、電磁波照射手段11から照射される電磁波を収容部12内部に導くための導入部124を有している。この導入部124は、電磁波照射手段11からの電磁波を収容部12内に導くことのできる経路を形成している。この導入部124が設けられる場所は、収容部12周面であれば特に限定されないが、図1で示される一実施例では、収容部12の上面に設けられている。導入部124は、電磁波の透過性が良く減衰率の低い素材材料で構成されることもできるし、電磁波が通過する収容部12の孔部として形成しても構わない。この導入部124を形成する素材としては、上記の如き減衰率の低い素材であれば好ましく、金属タングステンを例示することができる。尚、この導入部124に素材を利用する場合には熱伝導率の問題を考慮して、導入部124表面のみを上記の如き素材で形成することが好ましい。また、この導入部124は、収容部124の厚み方向に沿って貫通する孔部として形成することもでき、この場合、電磁波は空気中孔部を形成する空気中を通過することになる。尚、図面で示される実施例では、この導入部124を収容部12の厚み方向に貫通する孔部として形成している。この導入部124の形状は、特に限定されないが、上述する如く電磁波の経路と同じ形状を有するように形成されることが好ましい。例えば、図4には、収容部12の導入部124の電磁波の経路との関係を示した図であり、図4aでは、導入部124の上方部1241を下方に沿って徐々に狭まるテーパ形状を有するように形成されており、図4bでは、上方部1241を下方に沿って徐々に狭まるテーパ形状に、中部1242を直線経路に、下方部1243を下方に沿って徐々に広がるテーパ形状に形成され、図4cでは、上方部1241を下方に沿って徐々に狭まるテーパ形状に、下方部1243を下方に沿って徐々に広がるテーパ形状に形成されている。このように形成されることによって、収容部12と外気が接する面積を極めて小さくすることができる。特に、図4cでは、電磁波の焦点に於ける部分よりもわずかに大きい面積を有する導入部124とすることができるので、外気に接する面積を最小にすることができるため、外気に放出される熱を極めて小さくすることができる。尚、一実施例に於ける寸法としては、図4bの場合であれば、導入部表面の直径が20cmφ~100cmφ好ましくは、30cmφ~50cmφ、電磁波の集点部の孔径が10cmφ~50cmφ好ましくは、15cmφ~20cmφ、導入部内面での孔径が10cmφ~50cmφ好ましくは、15cmφ~30cmφに設定されており、導入部入口から厚みの半分まで円錐状に下方へ狭まり、その後円筒の孔が厚みの14続き、残りの14がまた円錐状に下方へ広がるように形成されている。尚、この寸法は、限定されるものではなく、また、この寸法を図4aや図4cに利用することもできる。収容部12は、被加熱物2を収容して加熱を行う場所となるので、耐熱性で且つ断熱性を有する素材を利用する。この収容部12は、上記の如き導入部124を有しているので、電磁波を利用した場合であっても、電磁波が収容部12と干渉すること無く収容部12内部に導かれることになるので、収容部12の素材として、電気伝導体を採用することができる。この電気伝導体は、特に限定されないが、電磁波により被加熱物を加熱することにより、極めて高温上記の如き約3000°C程度となるので、石墨を使用することが好ましい。また、更に好ましい素材として、カーボンファイバー炭素繊維を採用することが極めて好ましい。誘導部13は、電磁波照射手段11の電磁波の経路上に配置されるとともに電磁波照射手段11からの電磁波を収容部12内へと導くことができる。この誘導部13は、収容部12へ電磁波を導くことができる物を採用することができるが、電磁波を一点に集束させることのできる椀状の反射部を有する集束ミラーを採用することが好ましい。誘導部13に集束ミラーを採用することによって、電磁波を集束させて収容部12へと導くことができ、上記の如き導入部124の面積を小さくするように設定することができるからである。この集束ミラーの形状は、特に限定されるものではなく、球面収差などのない放物面鏡で形成され、高い集束性能を有している。尚、この集束ミラーが有する特性は、特に限定されるものではないが、直径150~800cmφを有し、放物面鏡の焦点距離は10cm~100cmを有しており、素材は電気伝導率の高い、すなわち電磁波反射率の高い素材が好ましく、例えば、アルミニュウムあるいは銅で形成されており、反射面での損失が少ないものが好ましい。尚、この誘導部13を支持する支柱は図に於いて示されていないが、この誘導部13は、独立した支柱を持ってその上に設置されている。たとえば、図で示される一実施例に於ける収容部12への上からの入射の場合、被加熱物2への電磁波照射を容易にするため、誘導部12は、独立した支柱以外にも収容部12を固定する構造物を利用して堅牢に設置されることもできる。収容部12に設けられる導入部124と誘導部13の位置関係は、上記の如く、電磁波照射手段11からの電磁波が誘導部13を介して、収容部12の内部にある被加熱物に照射されるように配置されれば、特に限定されず、本発明の実施例においては、誘導部13からの電磁波が収容部12の直角方向上方より照射するように位置取りされている。この誘導部13が電磁波を反射し集束して、収容部12へ導くことになるので、上記の如き導入部124がテーパ形状を有して形成されることになる。この場合、誘導部13が形成する電磁波の集点が導入部124内又はこの導入部124から被加熱物2間に於ける間に配されるように、収容部12と誘導部13が配置されていることが好ましい。このように収容部12及び誘導部13が配置されることによって、確実に収容部12の導入部124が形成する収容部12内部が外気に触れる面積を極めて小さくすることができるからである。従来は耐熱性能が高い石墨黒鉛材料などを断熱材として使用しても、加熱用のミリ波などが表面で反射されるので電気伝導体であるので、セラミックス成形体等の被加熱物を2300°C以上例えば3000°Cに加熱することは不可能であった。しかしながら、本発明は、図1乃至図3に示す如く、電磁波を集束ミラーである誘導部13によって集束反射させて、集束する電磁波とすることができ、被加熱物を3000°C近くの高温にまで加熱することができる。また、この集束する電磁波を、収容部12に於いて干渉することなく、一部にテーパ形状を有するような電磁波の経路に沿う収容部12の導入部124が形成されているので、収容部12と電磁波が干渉することがない。つまり、収容部12を電気伝導体で形成することができるため、極めて高い温度に於いても被加熱物を加熱することができるようになる。また、この導入部124が電磁波の経路に沿うテーパ形状を有しているので、収容部12内部と外気が触れる面積を極めて小さくすることができ、極めて断熱効果の優れた収容部12を形成することができるようになる。