"パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、前記マスク保持部は、前記マスクに取り付けられる可動部と、フレームに固定される固定部と、前記可動部と前記固定部を傾き可能に連結するヒンジ部と、前記固定部に対して前記可動部を前記マスクの面と平行な方向に駆動する駆動手段と、駆動手段のスプリングバックを防止する手段と、を有することを特徴とする露光装置。前記ヒンジ部は板ばねであることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。前記駆動手段はねじを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。しかしながら、特許文献1,2には、基板自体に歪みがある場合の補正について何らの記載もない。具体的には、基板を保持する基板保持部に歪みが生じると、それに応じて基板自体も変形するが、それにも関わらず、マスクのたわみを補正するのみでは、マスクと基板とを一定の距離で近接させることはできない。特に、近年においては基板保持部のサイズが増大し、完全に平面状の保持部を形成することは困難である。しかるに、この先願の機構によれば、角度設定部でマスクホルダを押圧することにより、マスクホルダの前端部は、角度付けされると同時に変位するため、マスクと基板との距離が比較的大きく変化してしまう恐れがあり、それによりマスクのアライメントマークを観察するカメラや、パターンを隠すアパーチャなどを再調整する必要が生じるという課題がある。そこで本発明は、かかる従来技術の課題に鑑み、マスクと基板との距離の変動を抑制しつつ、基板のたわみを補正できる露光装置を提供することを目的とする。本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。1パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、前記マスク保持部は、前記マスクに取り付けられる可動部と、フレームに固定される固定部と、前記可動部と前記固定部を傾き可能に連結するヒンジ部と、前記固定部に対して前記可動部を前記マスクの面と平行な方向に駆動する駆動手段と、駆動手段のスプリングバックを防止する手段と、を有することを特徴とする露光装置。前記ヒンジ部は板ばねであることを特徴とする1に記載の露光装置。前記駆動手段はねじを含むことを特徴とする1又は2に記載の露光装置。本発明によれば、前記マスク保持部が、前記マスクに取り付けられる可動部と、フレームに固定される固定部と、前記可動部と前記固定部を傾き可能に連結するヒンジ部と、前記固定部に対して前記可動部を前記マスクの面と平行な方向に駆動する駆動手段とを有するので、前記駆動手段により、前記固定部に対して前記可動部を前記マスクの面と平行な方向に駆動したときに、駆動方向に対して交差する方向における前記固定部に対する前記可動部の変位を抑制し、それにより前記マスクと前記基板との距離の変動を抑制しつつ、前記マスクのたわみを補正することができる。以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図1は、本実施の形態にかかる露光装置の側面図である。図1において、本実施形態に係る露光装置100は、ベース112、基板ステージ114及びマスクステージ122を備えている。基板ステージ基板保持部114はベース112の上方に設けられており、ベース112と基板ステージ114との間には、基板ステージ114を上下方向に昇降駆動する基板ステージ昇降機構116、基板ステージ昇降機構116を介して基板ステージ114を揺動駆動する基板ステージチルト機構118、基板ステージチルト機構118及び基板ステージ昇降機構116を介して基板ステージ114を図中X軸方向とY軸方向紙面に対して垂直な方向に送り駆動する基板ステージ送り機構120が設けられている。マスクステージ122はベース112の上面に立設された複数本の支柱124により基板ステージ114の上方に支持されており、マスクステージ122の下面には、プレート状のマスクホルダマスク保持部126が水平レベル調整用の支持部128、130を介して取り付けられている。また、マスクステージ122は矩形状の開口窓122aを中央部に有しており、図示しない光源装置から出射された露光用の光はマスクホルダ126に吸着保持されたマスクMに、上記開口窓122aを通して照射されるようになっている。マスクホルダ126は、マスクステージ122の開口窓122aを通過した光をマスクMに当てるための開口窓126aを有している。この開口窓126aはマスクホルダ126の中央部に形成されており、マスクホルダ126の下面にはマスク吸着用の複数の吸引ノズル図示せずが開設されている。図2は、図1の構成のA部を拡大してマスクホルダ部位を示す図である。図2において、薄板状のマスクホルダ126は、外周側の固定部126Aと、内周側の可動部126Bとからなる。固定部126A及び円筒状の支持部128,130を貫通させたボルト129,129の先端を、マスクステージ122にねじ込むことで、固定部126Aは、円筒状の支持部128,130を介してマスクステージフレームともいう122に取り付けられている。可動部126Bは、その下面にマスクMの周縁を吸着保持している。ヒンジ部を構成するばね板127は、その一端を固定部126Aの上面にねじ止めされ、更に可動部126Bの上面に他端をねじ止めされており、それにより固定部126Aと可動部126Bとを連結している。固定部126Aの下面には、第1の突起131が形成されている。第1の突起131内には、水平方向理想的な保持状態にあるマスクMの面と平行な方向に軸線を有する第1のねじ孔131aが形成されている。一方、第1の突起131に隣接して可動部126Bの下面には、第2の突起132が形成されている。第2の突起132内には、第1のねじ孔131aと同方向に第2のねじ孔132aが形成されている。また、前記ミラー6bの露光用光ELが照射されない面側には照度計50が設けられており、ミラー6bの略中央部に設けられピンホールより漏れる光で照度の計測が行われる。第1のねじ孔131aには、中空円筒状の第1のねじ133が螺合しており、その先端は第2の突起132の端面に対向している。一方、第2のねじ孔132aには、第1のねじ133内を貫通した第2のねじ134の先端が係合している。第1のねじ133に対して第2のねじ134は、回転のみ可能であって軸線方向に移動不能に連結されている。第1のねじ133と第2のねじ134とで駆動手段を構成する。図3は図2の構成のB部を拡大して示す図である。図3において、第1ねじ133にばね座金140を設けて、ばね座金140が駆動手段のスプリングバックを防止する。次に、比較例について説明する。図4は、比較例における図2と同様のマスクホルダ部位の拡大図である。ここでは一枚板であるマスクホルダ126’の周辺側には、マスクステージ122に対してマスクホルダ126’の上面に、下向きの外力を加える外力付与機構130’が設けられている。この外力付与機構130’は、図に示すように、マスクホルダ126’の外方から内方に向かって傾斜する傾斜面132a’を有する固定側テーパブロック132’と、固定側テーパブロック132’の傾斜面132a’に摺動自在に接触する傾斜面134a’を有する可動側テーパブロック134’と、支持部130’に対して可動側テーパブロック134’を接離する方向に移動させる可動側テーパブロック送り手段としての送りねじ136’とを備えて構成され、固定側テーパブロック132’は、マスクホルダ126’に設けられた貫通孔を挿通する固定側テーパブロック固定用ボルト不図示によりマスクホルダ126’の上面に固定されている。なお、送りねじ136’は、固定側テーパブロック132’に設けられたブラケット138’に保持されている。また、外力付与機構130’は、マスクホルダ126’の四隅等に設けられる。更に、外力付与機構130’よりもマスクM側において、支持部128’が設けられている。支持部128’は、マスクステージ122の下面に取り付けられたVブロック128a’と、それに対向してマスクホルダ126’の上面に取り付けられたVブロック128b’と、それらの間に配置された円筒部材128c’とを含む。かかる比較例の構成において、外力付与機構130’の送りねじ136’を操作して可動側テーパブロック134’を図中右側に移動させると、外力付与機構130’からマスクホルダ126’に下向きの外力Fが付与される。そして、外力付与機構130’からマスクホルダ126’に外力Fが付与されると、マスクホルダ126’が支持部128’を支点として傾くようになる。それにより、二点鎖線で示すように、マスクホルダ126’に吸着保持されたマスクMの端部が上昇すると共に傾くので、マスクMの自重によるたわみを補正できる。しかるに、比較例の場合、マスクホルダ126’が支持部128’を支点として傾くため、マスクMの端部の上昇量は、支持部128’とマスクMの端部までの距離に比例して増大するため、マスクMと基板W図1との距離が大きく変化する恐れがある。本実施の形態の動作について説明する。図2において、第1のねじ133は、可動部126Bの傾きを決めるためのものであり、第1のねじ133が右ねじである場合、右回転させると、第2の突起132がマスク側へ進むため、第1の突起131と第2の突起132との距離Lが増大する。そのため、ばね板127がたわむので、二点鎖線で示すように可動部126Bは固定部126Aに対して上方に傾くようになる。それにより、可動部126Bに吸着保持されたマスクMの端部も傾くので、マスクMの自重によるたわみを補正できる。これに対し、第1のねじ133を左回転させてゆるめれば、可動部126Bは下がるようになっている。ここで、第2のねじ134は、第1のねじ133の回転防止の為のロックねじであり、第2のねじ134が回転しなければ、可動部126Bの角度が変化しないようになっている。なお、第1のねじ133及び第2のねじ134は,作業者の手動ではなくアクチュエータにより自動的に回転させることもできる。より具体的に説明する。例えば図5において、基板Wは、基板ステージ114上に保持されており、マスクMは、マスクホルダ126を介してマスクステージ122に保持されている。しかるに、基板Wを完全な平面状態で支持するのは困難であり、従って基板Wには局部的に微小なうねり等が発生し、基準厚さΔに対してばらつきが生じる恐れがある。かかるばらつきは、高精度な露光の妨げとなる。これに対し、本実施の形態によれば、基板Wの歪みに応じて、マスクMを変形させる駆動手段としての第1のねじ133及び第2のねじ134を、アクチュエータACT図6で駆動できる。図6a、bに示すとおり、例えばセンサSが基板Wの歪み上面の高さばらつき等を検出すると、その信号を制御装置CPUが受信し、それに応じた駆動信号をアクチュエータACTに送信する。それにより基板Wの歪みに応じて、アクチュエータACTが第1のねじ133又は第2のねじ134を回転させて上述の態様でマスクMを変形させることできる。これにより、場所に関わらずマスクMと基板Wとを一定の距離で近接させることができるため、光源からの光をマスクMに照射することで、マスクMに形成されたパターンを基板Wに高精度に露光することができる。なお、例えばマスクMのポジションごとに基板Wの歪みを測定しておき、そのポジションに移動したときに、記憶された形状にマスクMを変形させることもできる。本実施の形態によれば、第1のねじ133及び第2のねじ134により、固定部126Aに対して可動部126BをマスクMの面と平行な方向水平方向に駆動するので、上下方向における固定部126Aに対する可動部126Bの変位を抑制し、それによりマスクMと基板Wとの距離の変動を抑制しつつ、マスクMのたわみを補正することができるため、マスクのアライメントマークを観察するカメラや、パターンを隠すアパーチャなどの再調整が容易になったり、或いは不要になる。以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更改良が可能であることはもちろんである。"