"原版と基板とを走査しながら前記基板の複数のショット領域を露光する走査露光装置であって、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージの移動を規定する駆動プロファイルに基づいて前記ステージの移動を制御する制御部と、を備え、前記駆動プロファイルのうち少なくとも1つのショット領域の露光中の前記ステージの移動を規定する部分は、前記ステージの制御系における共振周波数よりも低い周波数の正弦波から構成されている、ことを特徴とする走査露光装置。前記基板を露光するための光を射出する光源をさらに備え、前記制御部は、各ショット領域を露光する間、前記ステージの速度に応じた光量で前記基板に光を照射するように前記駆動プロファイルに基づいて前記光源を制御する、ことを特徴とする請求項1に記載の走査露光装置。前記制御部は、前記共振周波数よりも低い周波数の正弦波から構成されている前記ステージの加速度プロファイルを取得し、該取得された加速度プロファイルから前記ステージの速度プロファイル及び位置プロファイルを生成し、前記生成された位置プロファイルに基づいて前記ステージの移動を制御し、前記生成された速度プロファイルに基づいて前記光源を制御する、ことを特徴とする請求項2に記載の走査露光装置。前記駆動プロファイルは、前記共振周波数の1/2よりも低い周波数の正弦波から構成されている、ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の走査露光装置。前記駆動プロファイルは、第1の周波数の正弦波と、該第1の周波数の3倍の周波数と3分の1の振幅を有する正弦波とを合成して構成されている、ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の走査露光装置。前記ステージの少なくとも1回の往復スキャン動作において、前記制御部は、前記駆動プロファイルに基づいて前記ステージの移動を制御する、ことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の走査露光装置。原版と基板とを走査しながら前記基板の複数のショット領域を露光する走査露光装置であって、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージの移動を規定する駆動プロファイルに基づいて前記ステージの移動を制御する制御部と、を備え、前記駆動プロファイルのうち少なくとも1つのショット領域の露光中の前記ステージの移動を規定する部分は、前記ステージの制御系における共振周波数よりも低い周波数の3つ以下の正弦波を合成してから構成されている、ことを特徴とする走査露光装置。前記走査露光装置は、液浸露光装置である、ことを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の走査露光装置。請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の走査露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記工程で露光された基板を現像する工程と、を含むデバイス製造方法。従来技術における加減速中の露光は、以下のような課題を生じる。つまり、等速区間以外の区間では、ステージ位置に関する制御偏差も大きく、光学系とステージ間の位置決め精度が低いため、重ね合わせ精度が低下する。また、等速区間以外の区間ではステージ速度に関する制御偏差が大きいため、より高精度に露光量を調整するためには、ステージの速度偏差分を加味して制御する必要が生じ、露光量の制御系が複雑になる上に露光量の制御性低下要因が増える。さらに、高精度にDOSE量制御を行うためにステージの速度変化に追従させて光源からの露光量を変化させる必要があるが、ステージの加速区間や減速区間は速度変化率が大きいため、露光量の制御性が低下する。本発明は、パターンの重ね合わせ精度の低下及び露光量の均一性の低下を抑制した走査露光装置を提供することを目的とする。本発明は、原版と基板とを走査しながら前記基板の複数のショット領域を露光する走査露光装置であって、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージの移動を規定する駆動プロファイルに基づいて前記ステージの移動を制御する制御部と、を備え、前記駆動プロファイルのうち少なくとも1つのショット領域の露光中の前記ステージの移動を規定する部分は、前記ステージの制御系における共振周波数よりも低い周波数の正弦波から構成されている、ことを特徴とする。本発明によれば、パターンの重ね合わせ精度の低下及び露光量の均一性の低下を抑制した走査露光装置を提供することができる。[実施例1]図2は、原版と基板とを走査しながら基板の複数のショット領域を露光する走査露光装置の概略構成を示す図である。走査露光装置EX1は、照明系ILと原版ステージ駆動部11と投影光学系7と基板ステージ駆動部12と測定部13,14と制御部15とを備えている。照明系ILは、例えば、基板8を露光するための光を射出する光源1と前段照明光学系3と開口絞り4と後段照明光学系5とを含む。原版ステージ駆動部11は、原版6を保持する原版ステージ9を駆動する。投影光学系7は、原版6のパターンの像を基板ステージ10によって保持された基板8に投影する。基板ステージ駆動部12は、基板を保持する基板ステージ10を駆動する。測定部13は、原版ステージ9の位置、回転及び傾きを測定する。測定部14は、基板ステージ10の位置、回転及び傾きを測定する。測定部13,14は、例えばレーザ干渉計である。制御部15は、光源1、測定部13、原版ステージ駆動部11、基板ステージ駆動部12及び測定部14を制御する。光源1から射出された光束2は、前段照明光学系3、開口絞り4及び後段照明光学系5を介して原版6に入射し原版6を照明する。原版6のパターンは、投影光学系7によって基板8に投影される。基板8には、レジスト感光材料が塗布されていて、基板8が露光されることによってレジストに潜像が形成される。この潜像は、現像工程を経て物理的なパターン即ちレジストパターンとなる。基板8を露光するとき、投影光学系7に対して原版6及び基板8が同期しながら走査される。原版6の走査は、制御部15による制御の下で、測定部13によって原版ステージ9の位置を測定しながらその測定結果に基づいて原版ステージ駆動部11によって原版ステージ9を駆動することによってなされる。基板8の走査は、制御部15による制御の下で、測定部14によって基板ステージ10の位置を測定しながらその測定結果に基づいて基板ステージ駆動部12によって基板ステージ10を駆動することによってなされる。制御部15は、基板ステージ10及び原版ステージ9ステージの移動を規定する駆動プロファイルに基づいて基板ステージ10及び原版ステージ9の移動を制御する。図8は、基板ステージ10の移動の軌跡を基板8に対する投影光学系7の相対的な移動として示したものである。基板8には64個のショット領域が図示されており、ショット領域内の数字はショット領域の番号を示している。またショット領域内の矢印は、露光時の基板ステージ10の走査移動方向を示しており、点線はショット領域間の基板ステージ10の移動方向を概略的に示している。例えばショット領域1からショット領域2への移動は、走査方向に関して往復スキャン動作が行われ、走査方向に直交する方向に関して、ショット領域1の露光が完了してから、ショット領域2の露光が開始する直前までの間で図の左側にステップ動作が行われる。ここで、従来技術における基板ステージ10の走査方向の駆動プロファイルと、その駆動プロファイルを適用して加減速中に露光を行った場合の露光タイミングの一例を図7に示す。露光装置は等速区間で基板を露光するため、図7Aに示すように基板ステージ10の加減速中の加速度プロファイルは台形形状に近いプロファイルになっている。このような基板ステージ10の駆動プロファイルでは、図7Dに示すように加減速中に大きな基板ステージ10の位置決め誤差を生じてしまう。台形形状の加速度プロファイルは、低周波から高周波までの複数の正弦波を組み合わせて形成される波形であり、一般的な露光装置で用いられるステージの制御系における共振周波数よりも高い周波数の正弦波成分を含んでいる。そのため、基板ステージ10の制御性能の観点から駆動プロファイルへの追従性の低下や制御共振による制御偏差の増加により、加減速中の基板ステージ10の位置決め誤差が大きくなる。露光装置に用いられる一般的なステージの位置決め制御の共振周波数は、100~500Hz程度である。従来の露光装置で用いられるように、加速度プロファイルを図7Aのような台形波形で形成すると、1kHz以上の周波数成分を多数含むことになる。また、加速度プロファイルに含まれる高周波成分を低減させるために、加速度プロファイル中の直線間の折れ曲がり部分を滑らかな曲線に変更する技術も一般的に知られている。加速度プロファイル中の直線間の折れ曲がり部分を曲線化することで高周波成分が多少低減する。しかし、加速度プロファイルが直線部分を含む台形形状に近い波形である限り、低周波から基板ステージ10の共振周波数を超える高周波までの多数の正弦波を含むことには変わりない。一般的な露光装置では等速区間中に露光を行うため、加減速中の基板ステージ10の位置決め誤差やDOSE量制御で、大きな問題は生じない。しかし、基板ステージ10を加速又は減速しながら露光を行う場合、以下のような3つの課題が生じてしまう。第1に、図7のように加減速中のステージの位置決め誤差が大きい従来の駆動プロファイルで加減速中に露光を行うと、パターンの重ね合わせ誤差が大きくなってしまう。そのため、重ね合わせ誤差の低下を抑制できる加減速中露光システムが望まれる。第2に、図7のような従来技術におけるステージ駆動プロファイルでは、前述のように加減速中かつ露光中に基板ステージ10の位置決め誤差が生じてしまう。つまり、基板ステージ10の加減速中はステージ速度も想定された速度プロファイルからずれている以下、このずれ量を速度偏差と呼ぶことを意味する。このことから、基板ステージ10に対して想定している速度プロファイルに基づいて、露光量制御を行っただけでは不十分であり、基板ステージ10の速度プロファイルからの実際の速度ずれ分も加味して露光量制御を行う必要が生じ、露光量制御系が複雑になる。さらに、制御偏差の増加要因が増えるため、露光量制御が低下する要因となりうる。そのため、少なくとも露光中における加減速中のステージ速度偏差がより小さい加減速中露光システムが望まれている。第3に、原版6のパターンを基板上により精度良く形成するためには、DOSE量を均一にする必要があるが、加減速中に露光を行うシステムでは、露光中のステージ速度が変化するため、ステージ速度に応じて露光量を変化させる制御が必要になる。一方で、露光量制御の制御偏差が生じれば、その分パターン形成の精度に影響を与えることになる。特許文献1で開示されているような従来のステージ駆動プロファイルを使って加減速中に露光を行うシステムでは、ステージ加減速中のステージ速度変化率ステージ加速度に相当が大きいため露光量制御の制御偏差が生じやすい。そのため、よりパターン形成の精度を向上させるために、露光量の制御追従性がより高い加減速中露光システムが望まれる。以上の課題を解決するために、実施例1では図1のようなステージ駆動プロファイルを用いることで加減速中露光システムを構築する。以下に詳細に説明する。図1は、露光動作における走査露光方向のステージ駆動プロファイルと露光タイミングを示している。実施例1では、駆動プロファイルは単一の正弦波のみで構成されている。したがって、実施例1では、ステージの駆動プロファイルの作成負担が少ない。例えば同じ行のショット領域内で毎秒6ショットの速度で処理をしたければ、3Hzの正弦波のみで構成した加速度駆動プロファイルに基づいて、ステージ駆動をすれば良い。ステージの速度および位置に関する駆動プロファイルも3Hzの正弦波で表現できる。露光装置におけるステージ制御の共振周波数は100~500Hz程度であり、3Hzの位置駆動プロファイルに対して十分周波数が高いため、加減速中も位置決め誤差をほぼ0に維持しながらステージの位置決め制御が可能である。図1Dの位置決め誤差は0とほぼ重なっている様子を表現している。図7A及び図7Bで示すように露光するタイミングは、加速度が0となる付近、速度の絶対値が最大となる付近に設定されている。従来の露光装置に比べて、露光中の加速度が0となっていないが、本発明の構成によりステージの位置決め誤差がほぼ0となっている。これにより、露光装置としての重ね合わせ精度を維持したまま加減速中の露光を可能にしている。またステージの位置決め誤差がほぼ0であることから、ステージの速度偏差もほぼ0となっている。そのため、DOSE量を一定にするための露光量制御に関して、ステージの速度偏差分を考慮した制御をする必要がない。この関係を示したのが図6である。まず、制御部15のステージ駆動プロファイル生成部でステージの駆動プロファイルを生成する。従来であれば台形形状の加減速プロファイルであり、本実施例であればステージ制御の共振周波数より低い周波数で構成された正弦波波形である。この駆動プロファイルに基づいて、制御部15のステージ制御部にステージ位置プロファイル情報が、光源制御部にステージ速度プロファイル情報が送られる。従来の駆動プロファイルで加減速中の露光を行った場合は、加減速中にステージ位置プロファイルと実際のステージ位置との間で差が生じてしまうため、その差から計算されるステージの速度偏差情報を光源制御部へ渡す必要がある図中の点線矢印部。そして制御部は、ステージ速度プロファイルとステージの速度偏差情報から、実際のステージの速度を算出して基板に照射するDOSE量を一定にするための光量に制御する。一方、本発明におけるステージ駆動プロファイルで加減速中の露光を行った場合、加減速中もステージの位置決め偏差および速度偏差がほぼ0となるため、ステージ速度偏差情報を光源制御部に渡す必要がない。つまり、光源制御部は、ステージ駆動プロファイル生成部から渡されるステージ速度プロファイルのみで光量制御を行えばよい。このように、本実施例のステージ駆動プロファイルを用いることで、露光量制御の簡素化が図れるだけでなく、光量制御の偏差発生要因を少なくすることで、光量制御の精度が向上する。これにより、DOSE量の制御精度が向上し、露光装置におけるパターンの転写精度が向上する。また、光源制御部は、光量の調整を行っているが、当然ながらステージの速度プロファイルの速度変化率が小さい方が制御性は良くなる。言い換えるとステージの駆動プロファイルを構成する最大周波数が低いほど制御性は良くなると言える。本発明ではステージの駆動プロファイルに含まれる最大周波数を制限することで、従来よりも低い周波数のみを含んだ露光量プロファイルになっているため、光量制御そのものの制御性を高くすることが出来る。以上のように、本実施例のステージ駆動プロファイルを用いた加減速中露光システムを用いれば、前述の3つの課題について改善が出来る。実施例1において、制御部15は、ステージ駆動プロファイル生成部でステージの加速度プロファイルを生成した。しかし、制御部15は、加速度プロファイルを自ら生成するのではなく、例えば制御部15外で生成され記憶部に予め格納された加速度プロファイルを取得の上、それを利用することもできる。また、実施例1において、制御部15は、ステージの位置プロファイルに基づいて基板ステージ10の位置を制御し、速度プロファイルに基づいて光源1を制御する。しかし、制御部15は、ステージの位置プロファイル、速度プロファイル及び加速度プロファイルのいずれかに基づいて基板ステージ10の位置、光源1を制御するように構成してもよい。ここで、ステージ制御における共振周波数の定義について明確にしておく。制御分野ではフィードバック制御系に関する閉ループ伝達関数のゲイン特性において、共振周波数が定義されている。図5はステージの位置決め制御に関する閉ループ伝達関数のゲイン特性の概略であり、横軸に周波数Hzで縦軸に閉ループゲインdBで表している。閉ループゲインの最大値をとる周波数は共振周波数ωR、また共振周波数ωRより高い周波数で閉ループゲインが0dBとなる周波数はゲイン交差周波数ωpと呼ばれている。共振周波数ωR近傍の周波数を含む制御指令波形が入ると、制御指令波形に対して振幅が増幅されてステージの位置決めがされてしまうため、制御偏差が大きくなる。また、共振周波数を超えてゲイン交差周波数より高い周波数の制御指令波形が入ると、ステージの位置決めが追従出来なくなってくるために制御偏差が大きくなる方向である。そこで、加減速中の制御偏差量を抑制するために、少なくともステージ制御の共振周波数ωRよりも低い周波数の制御指令波形を用いる。また、制御偏差抑制の観点で最も好ましいのは、図5のように共振周波数より低い周波数でかつ、閉ループゲインが0dBに近い領域の周波数ωaよりも低い周波数のみを含む駆動プロファイルを用いることである。これにより、共振周波数ωRの影響がより小さくなり制御偏差、つまりステージの位置決め誤差がより小さくなる。このような周波数ωaは露光装置のステージの位置決め制御系であれば共振周波数ωRの1/2よりも低い周波数に相当することが経験的に分かっている。以上より、加減速中に露光するシステムにおいては、少なくとも露光中のステージ駆動プロファイルはステージ制御系の共振周波数より低い周波数の正弦波で構成されるのが好ましい。さらに、ステージ駆動プロファイルをステージ制御系の共振周波数ωRの半分より低い周波数の正弦波で構成すれば、さらに良好な効果を得ることが可能である。従来技術では、等速区間で露光を行うことを前提にしたシステムであったため、加減速中の位置決め誤差よりも、如何に早く一定の速度まで到達出来るかを優先したステージ駆動プロファイルが用いられてきた。一方、本実施例では、より露光性能を維持しつつ加減速中の露光動作を可能にするために、加減速中の位置決め誤差の抑制を最優先にしたシステムに変更した。その結果として、ステージ制御における共振周波数以下の正弦波で構成した加減速中のステージ駆動プロファイルでステージ駆動させるシステムにしたことが本実施例の最大の特徴である。本実施例では図8で示すショットレイアウトにおいて、主に同じ行のショット領域例えばショット領域1からショット領域5に対する走査方向に適した駆動プロファイルを説明してきた。同じ行のショット領域に対する走査方向のステージ移動は往復スキャン動作であるため、本実施例の正弦波の加速度プロファイルと対応しやすい。逆に、ショット行を変更する際のステージ移動例えば図8のショット領域5からショット領域6へのステージ移動に関しては、本実施例におけるステージ駆動プロファイルをそのまま適用できない。その場合は、なるべく高周波成分を含まないように各ショット行における駆動プロファイル同士を連続的に接続すべきである。このように、露光動作におけるすべての区間のステージ駆動プロファイルをステージ制御における共振周波数ωR以下の正弦波で構成することを本発明は意図していない。駆動プロファイルのうち、少なくとも1つのショット領域の露光中のステージの移動を規定する部分は、ステージの制御系における共振周波数ωRよりも低い3つ以下の正弦波から例えば、これらを合成して構成されている。ステージの制御系における共振周波数ωRよりも低い3つ以下の正弦波から構成されている部分は、少なくとも1回の往復スキャン動作におけるステージの移動を規定する部分とすることもできる。[実施例2]実施例1では、単一の正弦波で構成したステージ駆動プロファイルの例を示した。しかし、複数の正弦波を合成して駆動プロファイルを構成してもよい。駆動プロファイルの作成負担を軽減するために、駆動プロファイルを構成するために合成する正弦波の数は3つ以下とする。例えば、3つの正弦波から構成した加速度プロファイルは、式1で表現される。加速度プロファイルを1つの正弦波で構成する場合は、式1中の右辺の第2項、第3項が存在せず、第1項第1の周波数のみから構成される。加速度プロファイルを2つの正弦波で構成する場合は、式1中の右辺の第3項が存在しない。加速度:A×cos2×π×f1/k1×A×cos2×π×k1×f1/k2×A×cos2×π×k2×f1ここで、Aはステージの加速度の振幅、πは円周率、fはステージの走査動作の基本周波数Hz、k1、k2は互いに異なる3以上の奇数である。実施例2では、実施例1と同様に同じ行のショット領域内で毎秒6ショットの速度で処理することを想定して、f=3Hzで設定している。また、実施例2では、2つの余弦波で駆動プロファイルを構成し、式1右辺の第2項をk1=3で設定し、式1右辺の第3項は存在しない。式1では、図3Aと対応させるために余弦波で表現しているが、当然ながら正弦波で表現が可能である。実施例2におけるステージの駆動プロファイルを図3に示す。速度プロファイルおよび、位置プロファイルに関しては、加速度プロファイルから適当な初期値を設定することで算出可能である。図3B及び図3Cは、速度および位置プロファイルの初期値0で設定したものが示されている。式1の加速度プロファイルに関する特徴について述べる。式1の第1項は、実施例1で示した加速度プロファイルそのものである。式1の第2項が、本実施例の特徴であり、第1項の周波数の3倍の周波数と3分の1の振幅を有する正弦波もしくは余弦波であり、第1項と合成されている。これにより、9Hzの正弦波が足されることになるが、ステージの共振周波数100Hz以上に対して、十分低い周波数である。第2項の正弦波が足されることで、露光中の速度プロファイルが図1Bに比べて図3Bにおける露光中の速度変化幅が小さくなっている。つまり、露光中にステージ速度に応じて、露光量を変化させる必要があるが、露光量を可変すべき幅を小さくすることが可能になる。これにより、光源制御部の規模、光源の装置規模を小さくすることが可能に出来るため、コストや装置の大きさなどの面で有利である。このように、複数の正弦波を組み合わせた駆動プロファイルで駆動することは、露光中の速度変化幅を抑制できるという利点がある。本実施例では、2つの正弦波の組み合わせで駆動プロファイルを作成する例を示したが、露光量制御装置や光源の簡素化のために、ステージ制御の共振周波数以下の範囲で、3つの正弦波を組み合わせることも可能である。その場合、式1中右辺のk2=5の第3項の正弦波もしくは余弦波を存在させればよい。実施例3]一般に知られるフーリエ級数の式から、式1のように複数の正弦波を合成することで、露光区間の速度に相当する領域の波形変化幅が小さくなることが知られている。そのため、実施例1では式1を用いて加速度駆動プロファイルを作成する例を示した。しかし、本発明では、複数の正弦波を合成して駆動プロファイルを作成する際に、式1に限定されるものではない。ステージ制御の共振周波数よりも小さい周波数の正弦波であれば、露光量の制御性やステージの制御性の他様々なシステム的な制限で、合成する正弦波の周波数や振幅を選択してもかまわない。本実施例では、式1とは異なる式2で定義される加速度駆動プロファイルの例を示す。加速度:A×cos2×π×f1/10×A×cos2×π×3×f2ここで、Aはステージの加速度の振幅、πは円周率、fはステージの走査動作の基本周波数Hzである。式2では、フーリエ級数の式から導き出される振幅ではなく、速度プロファイルを見ながら、最適な値を決定した一例を示している。式1の振幅部分のk1に相当するものが1/10に変更している。式2に基づいたステージの駆動プロファイルを図4図面一番最後に示す。露光中の速度プロファイルが図1Bや図3Bに比べて図4Bが直線に近い形状になっている。露光中の速度変化幅も図1Bや図3Bに比べて小さくなっている。つまり、ステージ駆動プロファイルを複数の正弦波で合成する際には、ステージ制御の共振周波数よりも小さい周波数の正弦波であれば、正弦波の振幅や周波数を目的とする意図に応じて自由に設計することは可能である。[実施例4]実施例1~3では、主にKrFレーザやArFレーザ等のエキシマレーザを光源とした露光装置で、いわゆる非液浸タイプの走査露光装置を想定した例を示してきた。しかしながら、液浸露光装置にも適用可能であるばかりでなく、液浸露光装置に適用した場合の特有の効果も期待できる。以下に液浸露光装置に適用した場合の特有の効果について説明する。液浸露光装置では、図2に投影光学系7と基板8との間に液膜不図示が構成される。さらに、基板8の周辺かつ基板8とほぼ同面となる補助部材不図示を設けている。これにより、基板8のエッジ部付近を露光する際にも液膜が投影光学系7と基板8との間に保持される。ここで、通常ステージは基板8のエッジ部を露光する際には、液膜が基板8をはみ出した位置まで移動してしまう。これは、ステージの加減速区間を確保するために必要な助走距離が存在するためである。特に、従来の駆動プロファイルでは、一定速度に達するまで露光が出来ないため、加減速に必要な助走距離が必ず必要となり、基板8からのはみ出し距離が大きい。ある条件で従来の駆動プロファイルをもとに計算すると、走査方向に33mmのショット領域を露光するために、液膜が基板8から80~100mm程度はみ出してしまう可能性がある。このため、液膜を保持するために、液膜のはみ出し量を考慮して補助部材を大きく設計しなくてはならない。しかし、補助部材を大きくすると、ステージが大きくなり装置全体を大きくする必要が生じるため、出来るだけ補助部材を大きくしたくない事情がある。一方、本発明ではもともと加減速中に露光するシステムなため、従来技術のような理由での助走距離は発生しない。1ショット領域の露光が終了した後に、走査方向と直交する方向にステージが移動するために必要な時間が生じ、この時間によって走査方向にショット長さ以上の移動距離が発生する。つまり、走査方向と直交する方向のステージ最大加速度を大きくして移動時間を短くすればするほど、露光動作における走査方向のステージ移動距離量を抑制することが可能になる。露光に必要な走査方向のステージ移動距離を小さくすることが可能であるため、液膜のはみ出し量を小さくでき、補助部材の大きさを抑制できる。つまり、液浸露光装置に本発明を適用した場合、露光に必要なステージの助走区間を小さくすることが可能となり、ステージの大きさ、更には、装置全体の大きさを小さくすることが出来る。[実施例5]本発明の構成は電子ビームEB露光装置や液晶露光装置に適用した場合も効果が期待できる。EB露光装置では、露光量制御は基板8に届く電子の量を制御することで行うことが可能である。電子線で描画しながら、ステージ速度に応じて、電子の量を制御することでDOSE量を一定にすることが出来る。EB露光装置においても、加減速中に露光を行う場合は、ステージ速度の変化率が小さく、ステージの速度偏差がほぼ0であり、ステージの位置決め誤差が小さいことが望まれる。そのため、実施例1~3で説明した駆動プロファイルを用いて電子線による露光を行うことで、露光量制御性能およびパターンの重ね合わせ精度の低下を抑制した加減速中露光を行うことが可能になる。液晶露光装置は、基板8がウエハでなくガラス基板となるだけで、基本的な構成は半導体露光装置と同じである。そのため、実施例1~3と同様な駆動プロファイルを適用して、露光を行うことで同等の効果が期待できることは明らかである。[デバイス製造方法]次に、デバイス半導体デバイス、液晶表示デバイス等の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程ダイシング、ボンディングと、パッケージング工程封入を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。"