"プラズマを対象物に対して照射する場合に、前記プラズマの状態を制御するプラズマ制御方法において、前記対象物の状態を検出して前記対象物の状態の情報を取得し、前記対象物の状態の情報をフィードバックするとともに、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマの状態を制御することを特徴とするプラズマ制御方法。前記対象物の状態の情報は、前記対象物に対して、前記プラズマを照射する前の前記対象物の状態、前記プラズマを照射している間の前記対象物の状態および前記プラズマを照射した後の前記対象物の状態のうち少なくとも1つを選択して検出された情報であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ制御方法。前記対象物の状態の情報に基づいて、前記プラズマの状態が適正であるかを判断することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマ制御方法。前記対象物の状態の情報が、前記プラズマを照射している間の前記対象物の状態および/または前記プラズマを照射した後の前記対象物の状態を検出した情報とされる場合には、前記プラズマの状態が適正であるかの判断が、前記対象物に対して前記プラズマの照射が適正に行われているかを判断することを特徴とする請求項3に記載のプラズマ制御方法。前記プラズマの状態が適正であると判断した場合には、前記対象物に対する前記プラズマの照射を継続し、前記プラズマの状態が適正でないと判断した場合には、前記対象物の状態の情報をフィードバックし、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマを生成するプラズマ源のパラメータを調整して前記プラズマの状態を制御することを特徴とする請求項3または請求項4に記載のプラズマ制御方法。前記プラズマ源のパラメータが、プラズマ生成用ガスの組成、流量および温度、前記対象物へ照射される前記プラズマと当該対象物との相対位置関係、プラズマ生成用に付与する電力量および付与方法の種類および累計プラズマ照射時間のうち少なくとも1つであることを特徴とする請求項5に記載のプラズマ制御方法。前記プラズマ生成用ガスは、2つ以上の成分からなる混合ガスとされ、前記混合ガスにおける前記成分の混合比を変更して、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ生成用ガスの組成を調整し、前記プラズマの状態を制御することを特徴とする請求項6に記載のプラズマ制御方法。前記プラズマ源に流入する前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ生成用ガスの流量を調整して、前記プラズマの状態を制御することを特徴とする請求項6または請求項7に記載のプラズマ制御方法。前記プラズマ生成用ガスを加熱および/または冷却して、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ生成用ガスの温度を調整し、前記プラズマの状態を制御することを特徴とする請求項6または請求項8に記載のプラズマ制御方法。前記プラズマ源を前記対象物に対して3次元方向に移動させて、前記プラズマ源のパラメータとしての前記対象物へ照射される前記プラズマと当該対象物との相対位置関係を調整し、前記プラズマの状態を制御することを特徴とする請求項6乃至請求項9のいずれか1項に記載のプラズマ制御方法。前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ源に付与する電力量を調整して前記プラズマの状態を制御することを特徴とする請求項6乃至請求項10のいずれか1項に記載のプラズマ制御方法。供給されるプラズマ生成用ガスに電界を印加することによりプラズマを生成し、前記プラズマを対象物に照射するプラズマ源と、前記対象物の状態を検出する検出手段と、前記検出手段によって検出された前記対象物の状態の情報を取得し、前記対象物の状態の情報をフィードバックするとともに、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマの状態を制御する制御手段とを備えることを特徴とするプラズマ制御装置。前記検出手段は、前記対象物に対して、前記プラズマを照射する前の前記対象物の状態、前記プラズマを照射している間の前記対象物の状態および前記プラズマを照射した後の前記対象物の状態のうち少なくとも1つを選択して検出するように設けられていることを特徴とする請求項12に記載のプラズマ制御装置。前記制御手段には、前記対象物の状態の情報に基づいて、前記プラズマの状態が適正であるかを判断する判断手段が備えられていることを特徴とする請求項12または請求項13に記載のプラズマ制御装置。前記検出手段によって前記プラズマを照射する前の前記対象物の状態および/または前記プラズマを照射した後の前記対象物の状態を検出した場合には、前記対象物に対して前記プラズマの照射が適正に行われているかを判断するように前記判断手段が設定されていることを特徴とする請求項14に記載のプラズマ制御装置。前記制御手段には、前記判断手段において前記プラズマの状態が適正ではないと判断した場合に、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマ源のパラメータを調整する調整手段が備えられていることを特徴とする請求項14または請求項15に記載のプラズマ制御装置。前記調整手段が、前記プラズマ源のパラメータとしてのプラズマ生成用ガスの組成、流量および温度、前記対象物へ照射される前記プラズマと当該対象物との相対位置関係、プラズマ生成用に付与する電力量および付与方法の種類および累計プラズマ照射時間のうち少なくとも1つを調整するように構成されていることを特徴とする請求項16に記載のプラズマ制御装置。前記プラズマ生成用ガスは、2つ以上の成分からなる混合ガスとされ、前記調整手段には、前記混合ガスにおける前記成分の混合比を変更して前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ生成用ガスの組成を調整する組成調整手段が備えられていることを特徴とする請求項16または請求項17に記載のプラズマ制御装置。前記調整手段には、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ源に対する前記プラズマ生成用ガスの流量を調整する流量調整手段が備えられていることを特徴とする請求項16乃至請求項18のいずれか1項に記載のプラズマ制御装置。前記調整手段には、前記プラズマ生成用ガスを加熱および/または冷却して、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ生成用ガスの温度を調整する温度調整手段が備えられていることを特徴とする請求項16乃至請求項19のいずれか1項に記載のプラズマ制御装置。前記調整手段には、前記プラズマ源のパラメータとしての前記対象物へ照射される前記プラズマと当該対象物との相対位置関係を調整する相対位置調整手段が備えられていることを特徴とする請求項16乃至請求項20のいずれか1項に記載のプラズマ制御装置。前記調整手段には、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ源に付与する電力量を調整して、前記電界の強度を制御する電力調整手段が備えれていることを特徴とする請求項16乃至請求項21のいずれか1項に記載のプラズマ制御装置。まず、プラズマの温度を測定するには困難性があり、正確なプラズマの温度を得るには課題がある。次に、特許文献2に記載の制御方法においては、対象物が必要以上に加熱されるほど過剰なエネルギーを有するプラズマを照射し続けているとともに、対象物が必要以上に加熱された場合に、一方のプラズマの状態を変化させないで試料台を冷却するなどして、他方の対象物の温度をコントロールしているため、プラズマ生成にかかる余分なエネルギーおよび冷却に要するエネルギーを無駄に消費した処理となり、コストパフォーマンスの面で課題がある。さらに、所望の照射条件で、対象物に対して高精度で再現性よくプラズマ処理することが困難である。これらの課題を解決するべく、本発明においては、対象物に対する最適なプラズマの照射状態を得ることができるプラズマ制御方法およびこのプラズマ制御方法を実施するコストパフォーマンスに優れ、所望の照射条件で対象物に対して高精度で再現性よくプラズマ処理することができるプラズマ制御装置を提供することを目的とする。本発明の第1のプラズマ制御方法は、プラズマを対象物に対して照射する場合に、前記プラズマの状態を制御するプラズマ制御方法において、前記対象物の状態を検出して前記対象物の状態の情報を取得し、前記対象物の状態の情報をフィードバックするとともに、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマの状態を制御することを特徴とする。このような、第1のプラズマ制御方法においては、対象物の状態の情報を取得してプラズマの状態を制御するので、対象物に応じた最適なプラズマの照射状態を容易に得ることができる。本発明の第2のプラズマ制御方法は、前記対象物の状態の情報が、前記対象物に対して、前記プラズマを照射する前の前記対象物の状態、前記プラズマを照射している間の前記対象物の状態および前記プラズマを照射した後の前記対象物の状態のうち少なくとも1つを選択して検出された情報であることを特徴とする。このような、第2のプラズマ制御方法においては、プラズマを照射する前、プラズマを照射している間およびプラズマを照射した後の対象物の状態を検出するようにされているので、プラズマの状態を対象物の状態の変化に応じて適切に制御することができる。本発明の第3のプラズマ制御方法は、前記対象物の状態の情報に基づいて、前記プラズマの状態が適正であるかを判断することを特徴とする。また、本発明の第4のプラズマ制御方法は、前記対象物の状態の情報が、前記プラズマを照射している間の前記対象物の状態および/または前記プラズマを照射した後の前記対象物の状態を検出した情報とされる場合には、前記プラズマの状態が適正であるかの判断が、前記対象物に対して前記プラズマの照射が適正に行われているかを判断することを特徴とする。このような、本発明の第3および第4のプラズマ制御方法においては、プラズマの状態が適正であるかを判断するので、必要に応じてプラズマの状態を適切に制御することができる。本発明の第5のプラズマ制御方法は、前記プラズマの状態が適正であると判断した場合には、前記対象物に対する前記プラズマの照射を継続し、前記プラズマの状態が適正でないと判断した場合には、前記対象物の状態の情報をフィードバックし、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマを生成するプラズマ源のパラメータを調整して前記プラズマの状態を制御することを特徴とする。また、本発明の第6のプラズマ制御方法は、前記プラズマ源のパラメータが、プラズマ生成用ガスの組成、流量および温度、前記対象物へ照射される前記プラズマと当該対象物との相対位置関係、プラズマ生成用に付与する電力量および付与方法の種類および累計プラズマ照射時間のうち少なくとも1つであることを特徴とする。このような、本発明の第5のプラズマ制御方法および本発明の第6のプラズマ制御方法においては、対象物の状態に応じてプラズマ源のパラメータを調整してプラズマの状態を制御するので、無駄なエネルギー消費を抑制して、コストパフォーマンスに優れたプラズマ照射を行うことを可能とする。本発明の第7のプラズマ制御方法は、前記プラズマ生成用ガスは、2つ以上の成分からなる混合ガスとされ、前記混合ガスにおける前記成分の混合比を変更して、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ生成用ガスの組成を調整し、前記プラズマの状態を制御することを特徴とする。本発明の第8のプラズマ制御方法は、前記プラズマ源に流入する前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ生成用ガスの流量を調整して、前記プラズマの状態を制御することを特徴とする。本発明の第9のプラズマ制御方法は、前記プラズマ生成用ガスを加熱および/または冷却して、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ生成用ガスの温度を調整し、前記プラズマの状態を制御することを特徴とする。本発明の第10のプラズマ制御方法は、前記プラズマ源を前記対象物に対して3次元方向に移動させて、前記プラズマ源のパラメータとしての前記対象物へ照射される前記プラズマと当該対象物との相対位置関係を調整し、前記プラズマの状態を制御することを特徴とする。本発明の第11のプラズマ制御方法は、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ源にプラズマ生成用に付与する電力量を調整して前記プラズマの状態を制御することを特徴とする。本発明の第7乃至第11のプラズマ制御方法においては、プラズマ源のパラメータを適切に調整して容易に対象物に対して最適なプラズマの状態を得ることができる。本発明の第1のプラズマ制御装置は、供給されるプラズマ生成用ガスに電界を印加することによりプラズマを生成し、前記プラズマを対象物に照射するプラズマ源と、前記対象物の状態を検出する検出手段と、前記検出手段によって検出された前記対象物の状態の情報を取得し、前記対象物の状態の情報をフィードバックするとともに、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマの状態を制御する制御手段とを備えることを特徴とする。このような、本発明の第1のプラズマ制御装置においては、容易に、対象物に応じた適正なプラズマの状態を得ることができる。本発明の第2のプラズマ制御装置は、前記検出手段が、前記対象物に対して、前記プラズマを照射する前の前記対象物の状態、前記プラズマを照射している間の前記対象物の状態および前記プラズマを照射した後の前記対象物の状態のうち少なくとも1つを選択して検出するように設けられていることを特徴とする。このような、本発明の第2のプラズマ制御装置においては、プラズマが照射される前、プラズマが照射されている間およびプラズマが照射された後の対象物の状態に応じた適正なプラズマの状態を容易に得ることができる。本発明の第3のプラズマ制御装置は、前記制御手段には、前記対象物の状態の情報に基づいて、前記プラズマの状態が適正であるかを判断する判断手段が備えられていることを特徴とする。また、本発明の第4のプラズマ制御装置は、前記検出手段によって前記プラズマを照射する前の前記対象物の状態および/または前記プラズマを照射した後の前記対象物の状態を検出した場合には、前記対象物に対して前記プラズマの照射が適正に行われているかを判断するように前記判断手段が設定されていることを特徴とする。このような、本発明の第3および第4のプラズマ制御装置においては、必要に応じて、プラズマの状態を適正に制御することができる。本発明の第5のプラズマ制御装置は、前記制御手段には、前記判断手段において前記プラズマの状態が適正ではないと判断した場合に、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマ源のパラメータを調整する調整手段が備えられていることを特徴とする。このような、本発明の第5のプラズマ制御装置においては、プラズマの状態の変更が必要な時にのみ、調整手段によってプラズマ源のパラメータを調整するので、無駄なエネルギー消費を抑制してコストパフォーマンスに優れたプラズマ照射が可能な装置とすることができる。本発明の第6のプラズマ制御装置は、前記調整手段が、前記プラズマ源のパラメータとしてのプラズマ生成用ガスの組成、流量および温度、前記対象物へ照射される前記プラズマと当該対象物との相対位置関係、プラズマ生成用に付与する電力量および付与方法の種類および累計プラズマ照射時間のうち少なくとも1つを調整するように構成されていることを特徴とする。このような、本発明の第6のプラズマ制御装置においては、プラズマ源のパラメータを調整して、容易にプラズマの状態を適正な状態とすることができる。本発明の第7のプラズマ制御装置は、前記プラズマ生成用ガスが、2つ以上の成分からなる混合ガスとされ、前記調整手段には、前記混合ガスにおける前記成分の混合比を変更して前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ生成用ガスの組成を調整する組成調整手段が備えられていることを特徴とする。このような、本発明の第7のプラズマ制御装置においては、例えば、プラズマ生成用ガス中の反応性の高い成分からなるガスの混合比を適宜変更してプラズマ中における反応性の高い成分からなるプラズマの割合を調整し、プラズマの温度や密度を制御することができる。本発明の第8のプラズマ制御装置は、前記調整手段に、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ源に対する前記プラズマ生成用ガスの流量を調整する流量調整手段が備えられていることを特徴とする。このような、本発明の第8のプラズマ制御装置においては、例えば、より高密度のプラズマを生成したい場合には、プラズマ源に供給されるプラズマ生成用ガスの流量を遅くして、プラズマの密度を高くすることができる。本発明の第9のプラズマ制御装置は、前記調整手段に、前記プラズマ生成用ガスを加熱および/または冷却して、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ生成用ガスの温度を調整する温度調整手段が備えられていることを特徴とする。このような、本発明の第9のプラズマ制御装置においては、例えば、対象物の温度が高い場合には、プラズマ生成用ガスを冷却してプラズマの温度を適正に制御することができる。本発明の第10のプラズマ制御装置は、前記調整手段に、前記プラズマ源のパラメータとしての前記対象物へ照射される前記プラズマと当該対象物との相対位置関係を調整する相対位置調整手段が備えられていることを特徴とする。このような、本発明の第10のプラズマ制御装置においては、例えば、対象物に対するプラズマの照射距離が適切ではない場合や対象物に照射されるプラズマのエネルギーが大きすぎる場合には、プラズマ源を対象物の表面に対して3次元方向に移動させて対象物へ照射されるプラズマと対象対象物との相対位置関係を適切にすることができる。本発明の第11のプラズマ制御装置は、前記調整手段に、前記プラズマ源のパラメータとしての前記プラズマ源に付与する電力量を調整して、前記電界の強度を制御する電力調整手段が備えれていることを特徴とする。このような、本発明の第11のプラズマ制御装置においては、例えば、より高濃度のプラズマを生成したい場合には、プラズマ源に付与する電力量を大きくして、プラズマ生成用ガスに印加される電界の密度を高くし、プラズマの濃度を高くすることができる。本発明のプラズマ制御方法によれば、取得した対象物の状態の情報に基づいてプラズマの状態を制御することにより、対象物の変化や状態に応じてプラズマの状態を適宜調整することができるので、最適なプラズマの照射状態を容易に得ることを可能とする。また、本発明のプラズマ制御方法を用いたプラズマ制御装置とすることにより、プラズマの状態を常に適正な状態に保持することができるので、無駄なエネルギー消費を抑制して、コストパフォーマンスに優れ、所望の照射条件で対象物に対して高精度で再現性よくプラズマ照射することができるプラズマ制御装置を提供することができる。本発明のプラズマ制御方法は、プラズマ源からプラズマを対象物に対して照射する場合において、対象物の状態を検出して対象物の状態の情報を取得し、取得した対象物の状態の情報をフィードバックするとともに、当該対象物の状態の情報に基づいて、プラズマの状態を制御するようにされている。対象物の状態の情報は、対象物の性状を検出した情報であればよく、具体的には、温度、周波数特性、屈折率、ひずみ、対象物へ照射されるプラズマと対象物との相対位置関係などである。また、対象物の状態の情報は、対象物に対して、プラズマを照射する前の対象物の状態、プラズマを照射している間の対象物の状態およびプラズマを照射した後の対象物の状態のうち少なくとも1つを選択して検出した情報とされる。このような、対象物の状態の情報の検出のタイミングを設けることにより、例えば、プラズマを照射する前の対象物の状態を検出することで、対象物が低温状態や高温状態とされている場合に、プラズマの状態、すなわち、プラズマの温度を高くする、または低くして、プラズマの照射を行う前に予め対象物に対するプラズマの照射が適正に行われるように制御することができる。また、プラズマを照射している間の対象物の状態を検出することで、対象物の変化に合わせてリアルタイムでプラズマの状態を制御することができる。さらに、プラズマを照射した後の対象物の状態を検出することで、例えば、連続して搬送されてくる対象物に対してプラズマの照射を行う場合においは、対象物はほぼ同一の形状および性質のものとされているので、照射後の対象物の状態を検出することでこれから照射される対象物の仕上がりを予想することができ、仕上がり具合を毎回調べる必要が無く大量の対象物に対して高速かつ均一にプラズマの照射を施すことができる。また、本発明のプラズマ制御方法は、図1に示すように進めるとよい。具体的には、最初のステップaにおいて、プラズマを生成するプラズマ源のパラメータを一定の値に設定し、続いてステップbにおいて、対象物の状態を検出し、次のステップcにおいて検出した対象物の状態の情報を取得し、次のステップdにおいて取得した対象物の状態の情報に基づいて当該プラズマの状態が適正であるかを判断し、判断が否定的結果の場合には、ステップaに戻り、判断が肯定的結果の場合には、ステップeに進むようにされている。このような、本発明のプラズマ制御方法において、対象物の状態の情報が、プラズマを照射する前の対象物の状態を検出した情報とされる場合には、プラズマ源のパラメータが一定の値に設定されている状態のプラズマ源におけるプラズマの状態を予め記憶させておき、対象物の状態の情報を基に、対象物に対して適正にプラズマが照射されるかを判断するように設定されている。また、対象物の状態の情報が、プラズマを照射している間の対象物の状態またはプラズマを照射した後の対象物の状態を検出した情報とされる場合には、対象物に対してプラズマの照射が適正に行われているかを判断するように設定されている。当該プラズマの状態の判断において、適正であると判断された場合には、ステップeに進んで対象物に対するプラズマの照射を行い、適正ではないと判断された場合には、ステップaに戻り、フィードバックされた対象物の状態の情報に基づいて、プラズマ源のパラメータを調整し、再度、プラズマ源の設定を行い、当該プラズマの状態を制御するようにされている。ここで、プラズマ源のパラメータは、プラズマを生成するためのプラズマ生成用ガスの組成、流量および温度、対象物への対象物へ照射されるプラズマと対象物との相対位置関係、プラズマ源にプラズマ生成用に付与する電力量および付与方法の種類および累計プラズマ照射時間などから少なくとも1つ選択して調整するようにされている。本発明のプラズマ制御方法におけるプラズマ源のパラメータの調整方法およびこの調整方法によるプラズマの状態の制御の実施形態を以下に詳しく説明する。プラズマ源のパラメータがプラズマ生成用ガスの組成とされる場合には、2つ以上の成分のガスを混合した混合ガスからなるプラズマ生成用ガスの当該成分のガスの混合比を変更して、プラズマ生成用ガスの組成を調整し、プラズマの状態、例えば、プラズマの温度や密度などを制御するようにされている。プラズマ源のパラメータがプラズマ生成用ガスの流量とされる場合には、プラズマ源に流入するプラズマ生成用ガスの流量を調整して、プラズマの状態、例えば、プラズマの温度や密度などを制御するようにされている。プラズマ源のパラメータがプラズマ生成用ガスの温度とされる場合には、プラズマ生成用ガスを加熱および/または冷却して、プラズマ生成用ガスの温度を調整し、プラズマの状態であるプラズマの温度を制御するようにされている。プラズマ源のパラメータが対象物へ照射されるプラズマと対象物との相対位置関係とされる場合には、プラズマ源を対象物に対して3次元方向に移動させて、当該プラズマと対象物との相対位置を調整し、プラズマの状態、例えば、対象物に接触する部分のプラズマの温度および密度などを制御するようにされている。プラズマ源のパラメータがプラズマ源にプラズマ生成用に付与する電力量とされる場合には、プラズマ源に付与する電力量や周波数、パルスなどを調整し、プラズマ生成用ガスに印加される電界の強度を制御して、プラズマの状態、例えば、密度や温度などを制御するようにされている。このような、本発明のプラズマ制御方法を用いた本発明のプラズマ制御装置を以下に説明する。本発明のプラズマ制御装置1は、図2に示すように、供給されるプラズマ生成用ガスに電界を印加することによりプラズマを生成し、当該プラズマを対象物Wに照射するプラズマ源2と、プラズマ源2に電力を付与する電源3と、対象物Wの状態を検出する検出手段4と、検出手段4によって検出された対象物Wの状態の情報を取得し、対象物の状態の情報をフィードバックするとともに、対象物Wの状態の情報に基づいてプラズマの状態を制御する制御手段5とを備えている。検出手段4は、対象物Wに対して、プラズマを照射する前の対象物Wの状態、プラズマを照射している間の対象物Wの状態およびプラズマを照射した後の対象物Wの状態のうち少なくとも1つを選択して検出するように設けられている。また、制御手段5には、取得された対象物Wの状態の情報に基づいて、プラズマの状態が適正であるかを判断する判断手段6が備えられている。特に、検出手段4によってプラズマを照射する前の対象物Wの状態を検出した場合には、判断手段6によるプラズマ状態が適正であるかの判断は、プラズマ源のパラメータを一定の値に設定した状態において予め記憶されたプラズマの状態が照射される対象物Wに対して適正であるかを判断するようにされている。また、検出手段4によってプラズマを照射している間の対象物Wの状態および/またはプラズマを照射した後の対象物Wの状態を検出した場合には、判断手段6によるプラズマ状態が適正であるかの判断は、対象物Wに対して、プラズマの照射が適正に行われているかを判断するようにされている。さらに、制御手段5には、判断手段6においてプラズマの状態が適正ではないと判断した場合に、対象物Wの状態の情報に基づいてプラズマ源のパラメータを調整する調整手段7が備えられている。このような、調整手段7によって調整される具体的なプラズマ源2のパラメータとしては、プラズマ生成用ガスの組成、流量および温度、対象物Wへ照射されるプラズマと対象物Wとの相対位置関係、プラズマ源2にプラズマ生成用に付与される電力量および付与方法の種類および累計プラズマ照射時間などが挙げられ、これらのうち少なくとも1つを調整することにより、プラズマの状態を制御するようにされている。<実施例>本発明のプラズマ制御装置1の具体的な実施例について図3を用いて詳しく説明する。図3は、本発明のプラズマ制御装置1の概略図であり、一対の電極対2a,2aを有するプラズマ源2と、プラズマ源2に電力を付与する電源3と、検出手段4としての放射温度計8と、制御手段5としてのコントローラ9とを備えている。また、対象物Wは、例えば、ベルトコンベアなどの搬送手段Cによってプラズマの照射位置へ連続して搬送されてくるようにされている。図3においては、平面視における右側から左側へ搬送されるものとして説明を行う。プラズマ源2の電極対2a,2aは、電源3から電力を付与されることにより、電極対2a,2a間に電界を形成してプラズマを発生させるものであり、例えば、銅、アルミニウム、ステンレスおよび真鍮などを用いることができる。本実施例においては、一対のアルミニウムからなる平板状の電極対2a,2aとし、大気圧下で電極対2a、2a間に放電を発生させてプラズマを生成するプラズマ源2として説明する。また、放射温度計8は、対象物Wから放射される赤外線や可視光の強度を検出することにより、対象物Wの表面温度を測定することができる温度計であり、プラズマは赤外線や可視光に対してほぼ透明であるため、プラズマを照射している最中においても、対象物Wの表面から放射される赤外線や可視光の強度をプラズマを通して高精度で検出することができる。本実施例のプラズマ制御装置1におけるコントローラ9は、放射温度計8によって検出された対象物Wの表面の温度情報を取得して、プラズマの状態が適正となるように制御するべく、当該温度情報に基づいて、プラズマの状態が適正であるかを判断する判断部10と、判断部10によってプラズマの状態が適正ではないと判断された場合に、プラズマ源2のパラメータを調整する調整部11とを備えている。プラズマ源2のパラメータとしては、例えば、プラズマ生成用ガスの組成、流量および温度、対象物へ照射されるプラズマと対象物との相対位置関係、プラズマ生成用に付与される電力量および付与方法の種類および累計プラズマ照射時間などが挙げられる。ここで、調整部11の構成について説明する。酸素やヘリウムなどのプラズマを生成可能な成分のガスが保存されたガス保存部Aから導出された各ガスは、組成調整手段としてのガス混合器12に導入されることによって、予め設定された混合比で混合され、プラズマを生成するためのプラズマ生成用ガスが生成される。この混合比は、判断部10における判断に基づいて、適正なプラズマの状態となるように適宜調整されるようにされている。ガス混合器12において生成されたプラズマ生成用ガスは、ガス配管C1を介して流量調整手段としてのガス流量調整器13に導入され、判断部10の判断に応じて、プラズマ源2に供給されるプラズマ生成用ガスの流量を調整するようにされており、プラズマの状態、例えば、プラズマの密度や温度を制御することができる。ガス流量調整器13から導出されたプラズマ生成用ガスは、ガス配管C2を介して温度調整手段としての加熱部15および冷却部16を有する温度調節部14に導入するようにされており、判断部10の判断に基づいて、プラズマ生成用ガスを加熱および/または冷却して、プラズマ生成用ガスの温度を適切に調整するようにされている。ガス配管C2には、判断部10の判断によって開栓される方向がガス配管C2aとガス配管C2bのいずれかに決定される仕切弁V1が設けられている。加熱部15は、ガス配管C2aの回りに設けられた電熱線またはヒーターなどの加熱器15aを有しており、仕切弁V1において、ガス配管C2a方向へ開栓されてガス配管C2aの管内をプラズマ生成用ガスが流れることにより、プラズマ生成用ガスの温度を昇温させることができる。また、冷却部16は、液体窒素が貯められた冷却容器16a内をガス配管C2bが通る構成とされ、仕切弁V1において、ガス配管C2b方向へ開栓されて、外周に液体窒素が接触しているガス配管C2bの管内をプラズマ生成用ガスが流れることにより、プラズマ生成用ガスを冷却することができる。ガス配管C2aおよびガス配管C2bは、仕切弁V2によってガス配管C3に対して開栓されるようにされている。加熱または冷却されたプラズマ生成用ガスは、ガス配管C3を介してプラズマ源2に供給される。なお、本実施例においては、温度調節部14から導出されたプラズマ生成用ガスは、直接プラズマ源2に供給されるように構成されているが、温度調節部14に温度計を設け、適宜、プラズマ生成用ガスの温度を測定するとともに、プラズマ生成用ガスの温度が適当でない場合には、再度、温度調節部14へフィードバックして加熱部15または冷却部16において加熱および/または冷却を繰り返して所望の温度に調整した後、プラズマ源2に供給される構成としてもよい。なお、本実施例においては、温度調整部14の加熱部15と冷却部16とを並列に配置し、加熱と冷却とを別々の経路上で行うものを用いて説明を行ったが、加熱部15と冷却部16とを直列に配置して、加熱と冷却とを同一の経路上で行ってもよく、温度調節部14はプラズマ生成用ガスを加熱および/または冷却することができるものであれば特に限定するものではなく、周知の温度調節を行う装置または手段を適宜選択して用いることが可能である。さらに、プラズマ源2には、対象物Wへ照射されるプラズマと対象物との相対位置距離関係を調整するための相対位置調整部17が配設されており、例えば、対象物Wに対するプラズマ源2を接近または離間させることができる。相対位置調整部17は、モーターおよびマニュピュレータなどからなり、判断部10の判断に応じて、プラズマ源2を3次元方向に移動させて対象物Wへのプラズマの照射距離を自在に変更することができる。また、対処物Wを搬送する搬送手段Cの搬送速度の調整やバックフィードなどを合わせることにより、対象物Wに対するプラズマの照射位置の制御を行うなどの応用も可能である。また、電源3には、判断部10の判断に応じて、プラズマ源2にプラズマ生成用に付与する電力の電力量を増減させたり、電力の付与方法の種類を直流~高周波電圧としたり、交流の振幅変調や波形のパルス化、また振幅変調およびパルスの周波数やデューティー比を変更するなどの調整を行う電力調整器18が配設されている。このような、本実施例のプラズマ制御装置1におけるプラズマ制御方法について説明する。まず、ガス保存部Aからガス混合器12に各ガスを供給することにより、所定の混合比で混合されたプラズマ生成用ガスが生成される。生成されたプラズマ生成用ガスは、ガス流量調整器13および温度調節部14を通過して、所定の流量および所定の温度でプラズマ源2に供給される。プラズマ源2においては、電力調整器18から初期値に設定された電力量で電極対2a,2aに電力が付与され、電界が形成されている。このとき、電極対2a,2a間にプラズマ生成用ガスが供給されることにより、放電が発生してプラズマが生成される。生成されたプラズマを搬送手段Cによって照射位置に搬送されてきた対象物Wに照射し、プラズマを照射している間の対象物Wの表面温度を放射温度計8により測定し、対象物Wの温度情報を検出する。検出した対象物Wの温度情報は、コントローラ9に送られ、判断部10において、予め入力されていた対象物Wの物性やコントローラ9に設定された後述する所望の処理条件などと比較することによって、適切な照射状態であるかを検討し、プラズマの状態が適正とされているかを判断する。このとき、プラズマの状態が適正であると判断された場合には、現在のプラズマの状態を保持するように制御される。反対に、プラズマの状態が適正ではないと判断された場合には、判断部10において、適正なプラズマの状態の範囲からどの程度ズレているかを算出し、算出値に基づいて調整部11で調整し、プラズマの状態を適正に制御する。所望の処理条件の具体例としては、対象物Wの温度が低いと判断された場合には、加熱部14により、プラズマ生成用ガスを加熱してプラズマ生成用ガスの温度を調整し、プラズマの温度が高くなるように制御する。またその他に、ガス混合器12において、プラズマの温度が昇温する特性を有する成分のガスの混合比を増加させるように調整したり、ガス流量調整器13により、プラズマ源2に供給するプラズマ生成用ガスの流量を少なくして、プラズマの密度を高くするように制御したり、電力調整器18により、プラズマ源2に付与する電力量を増加させて、プラズマの温度や密度が向上するように制御することもできる。逆に、対象物Wの温度が高いと判断された場合には、温度調節部14における冷却部16でプラズマ生成用ガスを冷却してプラズマの温度を低下させたり、相対位置調整部17により、対象物Wからプラズマ源2を離間させて照射部分が必要以上に加熱されないようにする等の制御を行うようにする。また、予めコントローラ9に所望のプラズマの照射条件を入力し、入力された照射条件を満たすようにプラズマの状態の制御を行うようにする。例えば、零下から常温や常温から高温など決められた温度条件でプラズマの照射を行う場合、予めコントローラ9に所望の温度条件を設定しておき、対象物Wの温度を測定する。得られた温度情報と設定した温度条件とを比較して、適正にプラズマ照射が行われているかを判断し、適正に照射が行われていない場合には、所望の温度条件となるように温度調節部14において、プラズマ生成用ガスを適宜加熱または冷却してプラズマ源2において生成されるプラズマの温度が零下から常温または常温から高温などの所望の温度となるようにプラズマの状態としてのプラズマの温度の制御を行う。このような、本実施例のプラズマ制御装置1とすることにより、対象物Wに対して、常に適正なプラズマの照射を行うことを可能とする。また具体的には、対象物Wの温度情報を検出して、プラズマの状態を判断することにより、容易に対象物Wに対するプラズマの状態を適正に制御することができる。さらに、常にプラズマの状態が適正であるかを判断して、プラズマの状態が適正となるように制御するので、無駄なエネルギー消費を抑制して、コストパフォーマンスに優れ、所望の照射条件で対象物に対して高精度で再現性よくプラズマ照射を行うことを可能とする。なお、本実施例においては、検出手段4として放射温度計8を挙げ、検出する対象物Wの状態の情報を温度情報として説明を行ったが、この他に、検出手段4として熱電対、ひずみゲージ、偏光検出器および振動検出器などを用いることが可能であり、対象物Wの状態の情報として、対象物Wの温度、ひずみ、表面の歪みおよび周波数応答性の検出を行うことが好ましい。また、対象物Wを搬送する場合には、目的に応じて公知の手段を適宜選択して用いるとよい。またさらに、プラズマ源2のパラメータとしての累計プラズマ照射時間を調整することにより、対象物Wへのプラズマの過度な照射や照射不足を防止して対象物に対して最適なプラズマ処理を施すことができる。本発明のプラズマ制御装置1は、本実施形態および本実施例に限定されるものではなく、例えば、本実施例において、対象物Wの状態の検出を放射温度計8によって対象物Wの表面から行っているが、温度計として熱電対などを選択する場合には、対象物Wの裏面から行うなど、対象物Wの状態を検出する検出手段および検出方法は目的に応じて公知の手段および方法を適宜選択して用いることが可能である。"