"事前に存在する架橋が最大で5である、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-シクロヘキシル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ビニルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルトリスメトキシエトキシシラン、ビニルメトキシメチルシラン、ビニルトリス2-メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス-トリエトキシシリルプロピルジスルフィドシラン、ビス-トリエトキシシリルプロピルジスルフィドシラン、ビス-トリエトキシシリルプロピルテトロアスルフィドシラン、N-シクロヘキシルアミノメチルメチルジエトキシシラン、N-シクロヘキシルアミノメチルトリエトキシシラン、N-フェニルアミノメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシメチル-トリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、イソシアナートメチルメチルジメトキシシラン、3-トリメトキシシリルメチル-O-メチルカルバメート、N-ジメトキシ-メチルシリルメチル-O-メチル-カルバメート、3-トリエトキシシリルプロピル無水コハク酸からなる群から選択されるシランが、有機モノマー、オリゴマー又はポリマーと、有機架橋反応を起こし、生成した被膜材料を下地に塗布した後、硬化することを特徴とする、シラン被覆を生成する方法。前記シランの分子量が200を超える、特に300を超える、好ましくは500を超える、最も好ましくは1,000を超えることを特徴とする、請求項1記載の方法。前記シランが、有機側鎖に水素結合を形成するために適した分極した基を有することを特徴とする、請求項2記載の方法。前記シランの蒸気圧が20°Cで2hPaより小さい、好ましくは1hPaより小さい、最も好ましくは0.5hPaより小さいことを特徴とする、請求項1記載の方法。有機の分子量が無機の分子量より大きいことを特徴とする、請求項1記載の方法。水分含有量が最大で5、好ましくは最大で1、最も好ましくは、水が存在しなくても反応が発生することを特徴とする、請求項1記載の方法。前記シランで事前に存在する架橋が最大で1、最も好ましくは、無機的な架橋が事前には存在しないことを特徴とする、請求項1記載の方法。前記反応剤は20まで、好ましくは0.5~50重量まで、つまり50まで、好ましくは0.5~20重量まで、ルイス酸又はルイス塩基を、特に、遷移金属錯体、塩、粒子、好ましくはマイクロ粒子又はナノ粒子の態様で用いることを特徴とする、請求項1記載の方法。前記遷移金属錯体、塩、又は粒子が、チタニウム、アルミニウム、スズ、又はジルコニウムの錯体であることを特徴とする、請求項8記載の方法。粒子、特にマイクロ粒子、サブミクロン粒子又はナノ粒子が、フィラーとして添加されることを特徴とする、請求項1記載の方法。溶剤、特にアルコール、アセテート、エーテル又は反応希釈剤を添加することを特徴とする、請求項1記載の方法。退色物質、湿式分散剤、泡立ち防止剤、ワックス、殺生物剤、防腐剤又は顔料を添加することを特徴とする、請求項1記載の方法。前記被膜材料を下地に、特に噴霧、浸漬、フラッディング、ローリング、塗装、印刷、電着、ブレードコーティングあるいは真空蒸着によって、湿式化学塗布することを特徴とする、請求項1記載の方法。前記下地は、金属、合成物質、セラミック、ラッカー、織物、又は木、革などの天然物質、ガラス、鉱物又は複合材で生成されることを特徴とする、請求項13記載の方法。前記被膜材料は塗布後、室温から1,200°Cまで、好ましくは、室温から250°Cまでの温度で硬化され、硬化は、マイクロ波照射又はUV照射により加熱して行うことを特徴とする、請求項13記載の方法。請求項1から請求項15までの何れかに記載の方法によって生成したシラン被覆。傷耐久性、腐食耐久性、清掃が容易であり、指紋耐性、抗反射性、防曇性、スケーリング防護、拡散障壁、放射線防護コーティング、又は自己洗浄、抗細菌性、抗微生物性、トライポロジー及び親水性コーティングとしての、請求項16記載の被覆の使用。したがって、本発明は、上述の課題を解決する、本発明の上位概念によるシラン被覆の生成方法を提供することを目的とする。本発明はこの目的を、予備縮合していない、あるいは最小の予備縮合のみを行った1又は複数のシランに反応剤を付加し、得られた被膜材料を下地に塗布した後、硬化することによって、実現する。驚くべきことに、高分子であるが、事前に存在する架橋がわずかのシランを適切な反応剤と反応させることによって、新しいクラスの被膜材料を生成できることが判明した。最新の技術によると、シランは、事前に縮合済みの化学種を前提として、ゾルゲル方法により処理する。事前の縮合反応をほとんど、又は完全に不要とする本発明のアプローチは、ポットライフ時間pottimeについて制限がなく、さらに、より優れた特徴、特に高い傷耐久性の被膜材料を得ることができるという利点がある。本発明によると、シランの分子量は、200を超える、特に300を超える、好ましくは500を超えることが好ましく、最も好ましくは1,000を超える。シランの分子量は高いことが重要である。これによって、非凝縮のシランが気化することなく、表面で反応を開始することができる。本発明は、シランが、有機側鎖に水素結合を形成するために適した分極した基を有することも含む。同様に、本発明によると、シランの蒸気圧は20°Cで2hPaより小さい、好ましくは1hPaより小さい、最も好ましくは0.5hPaより小さい。したがって、硬化を行う前に、シランが、同種又は異種のシランと、あるいは有機モノマー、オリゴマー又はポリマーと、有機架橋反応を行うことが適切でありうる。これは、より高い分子量のシランを生成する、有機官能基による2つのシラン同士、又はシランと有機分子との有機架橋として理解する。例えば、シランは、ジオール又はポリオールとの架橋を事前に有するイソシアン基を含むシランisocyanosilaneでもよい。これに関連して、有機の分子量は無機の分子量より大きいことが好ましい。シランとして、特に、次のものが考えられる。3-アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-シクロヘキシル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ビニルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルトリスメトキシエトキシシラン、ビニルメトキシメチルシラン、ビニルトリス2-メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、n-ヘキシルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、t-ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、クロロプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス-トリエトキシシリルプロピルジスルフィドシラン、ビス-トリエトキシシリルプロピルジスルフィドシラン、ビス-トリエトキシシリルプロピルテトロアtetroaスルフィドシラン、テトラエトキシシラン、N-シクロヘキシルアミノメチルメチルジエトキシdieethoxyシラン、N-シクロヘキシルアミノメチルトリエトキシシラン、N-フェニルアミノメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、イソシアナートメチルメチルジメトキシシラン、3-イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、3-トリメトキシシリルメチル-O-メチルカルバメート、n-ジメトキシ-メチルシリルメチル-O-メチル-カルバメート、3-トリエトキシシリルプロピル無水コハク酸、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシシラン、トリメチルエトキシシラン、イソオクチルトリメトキシシラン、イソオクチルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン及びケイ酸テトラエチル。本発明では、水分含水量は、最大で5、好ましくは最大で1、最も好ましくは、水が存在しなくても反応が発生する。空気湿度はほとんど反応に干渉しない。さらに、シランは、事前に存在する架橋が最大で5、好ましくは最大で1、最も好ましくは、無機的な架橋が事前に存在しないように設計する。本発明の一部によると、反応剤として20まで、好ましくは0.5~50重量までルイス酸又はルイス塩基を、特に、遷移金属錯体、塩、又は粒子、好ましくはマイクロ粒子又はナノ粒子の態様で用いる。ここで、前記遷移金属錯体、塩、又は粒子は、チタニウム、アルミニウム、スズ、又はジルコニウムの錯体が好ましい。さらに、前記粒子、特にマイクロ粒子、サブミクロン粒子又はナノ粒子を、フィラーとして添加することができる。本発明によると、溶剤、特にアルコール、アセテート、エーテル又は反応希釈剤を添加するようにしてもよい。また、本発明によると、退色物質、湿式分散剤linkagedispersingagent:Netzdispergiermittel、泡立ち防止剤、ワックス、殺生物剤、防腐剤又は顔料を添加するようにしてもよい。さらに、本発明の発展形によると、前記被膜材料を下地に、特に噴霧、浸漬、フラッディング、ローリング、塗装あるいは真空蒸着によって、湿式化学塗布するようにしてもよい。本発明によると、前記下地は、金属、合成物質、セラミック、ラッカー、織物、又は木、革などの天然物質、ガラス、鉱物又は複合材で生成するようにしてもよい。さらに、本発明によると、前記被膜材料は塗布後、室温から1,200°Cまで、好ましくは、室温から250°Cまでの温度で硬化させる。硬化は、マイクロ波照射又はUV照射により加熱して行うことが好ましい。本発明の方法により生成したシラン被覆も本発明に含まれる。さらに、傷耐久性、腐食耐久性、清掃が容易であり、指紋耐性、抗反射性anti-reflex、防曇性、スケーリング防護scalingprotection、拡散障壁、放射線防護コーティング、又は自己洗浄、抗細菌性、抗微生物、トライポロジー及び親水性コーティングも本発明の一部である。以下の実施例は本発明について、一層の詳細を説明する。<実施例1>11.8gのヘキサンジオールを49.5gのICTESイソシアナートプロピルトリエトキシシランとともに加熱して、50°Cで撹拌し、0.1gのブチルスズジラウレートを添加した。50°Cで30分間撹拌を継続した後、室温まで冷却した。5gの付加物上記参照を10gの1―メトキシ-2-プロパノールに溶解し、0.2gのアルミニウムアセチルアセトネートを付加した。ポリカーボネートの板に塗布した例えば、フラッディングflooding後、120°Cで50分間熱風循環炉で硬化させた。こうして得られた被覆は傷に対して優れた耐久性を示した。<実施例2>30.0gのDesmophenデスモフェン1145を4.3gのICTESイソシアナートプロピルトリエトキシシランとともに加熱して、50°Cで撹拌し、0.15gのブチルスズジラウレートを添加した。50°Cで1時間撹拌を継続した後、室温まで冷却した。10gの生成物上記参照を8gの1―メトキシ-2-プロパノールに溶解し、0.1gのアルミニウムアセチルアセトネートを付加した。こうして生成した被覆溶液を噴霧塗布によって薄鋼板に被覆し、150°Cで60分間熱風循環炉で硬化させた。こうして得られた層は傷及び腐食に対して優れた耐久性を示した。<実施例3>22.1gのアミノプロピルトリエトキシシランを27.8gのグリシドキシプロピルトリエトキシシランとともに45°Cで撹拌し、その温度で45分間放置した。10gのこの反応混合物を12gのイソプロパノールに溶解し、0.3gのアセチルアセトンを付加した。アルミニウム板にフラッディングした後、被膜を間熱風循環炉で20分間120°Cで硬化させた。こうして得られた被膜は傷及び腐食に対して優れた耐久性を示した。<実施例4>24.8gの3―メトキシプロピルトリエトキシシランを12gの1―メトキシ-2-プロパノールに溶解し、2.5gのEBECRYL1259と2.0gDESMODURN3300を付加して、40°Cで2時間焼き戻した。この混合物に0.24gのジルコニウムアセチルアセトネートを添加した。この混合物を、フラッディングによってPMMA板に塗布して、中圧水銀ランプで略2.5J/cm2の照射を行い、続けて80°Cで2時間焼き戻しをした。こうして得られた層は傷、腐食、及び/又は酸や塩基に対して優れた耐久性を示した。"