"成分A酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1とエポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位a2とを有し、かつ下記式1で表される構成単位を有しない共重合体、成分B光酸発生剤、成分C下記式1で表される構成単位を有する重合体、並びに、成分D溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2はそれぞれ独立に、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、水酸基又は2,3-エポキシプロポキシメチル基を表し、nは1~5の整数を表す。化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。前記式1で表される構成単位が、下記式1-1で表される構成単位である、請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。式中、R1は水素原子又はメチル基を表す。前記構成単位a1が、式A2で表される構成単位である、請求項1~3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。式A2中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともR1及びR2のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、R3は、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、R1又はR2とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、R4は、水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合又はアリーレン基を表す。成分Bが、オキシムスルホネート残基を有する化合物である、請求項1~4のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。1請求項1~5のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する乾燥工程、3溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、4露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、5現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法。前記現像工程後、前記ポストベーク工程前に、現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含む、請求項6に記載の硬化膜の形成方法。請求項6又は7に記載の方法により形成された硬化膜。層間絶縁膜である、請求項8に記載の硬化膜。請求項8又は9に記載の硬化膜を具備する有機EL表示装置。請求項8又は9に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。近年、TFT型液晶表示素子においては、大画面化、高輝度化、高精細化、高速応答化、薄型化等の動向にあり、それに用いられる層間絶縁膜形成用組成物としては、従来にも増して、優れた電気特性が求められている。例えば、電子部品の製造工程によっては、感光性樹脂組成物より形成された硬化膜がドライエッチングに晒される場合もあり、ドライエッチングに対する充分な耐性が必要となる特許文献1参照。ドライエッチング耐性に優れる組成物として、特許文献2に記載された組成物が挙げられるが、保存安定性が充分ではなかった。また、層間絶縁膜の上層に、更に種々の機能層を重ねることがあるため、表面硬度が要求される。このような諸要求を満足する感光性樹脂組成物は従来知られていなかった。本発明が解決しようとする課題は、保存安定性に優れ、ドライエッチング耐性及び表面硬度に優れた硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供することである。また、本発明が解決しようとする他の課題は、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機EL表示装置及び液晶表示装置を提供することである。本発明の上記課題は、以下の<1>、<6>、<8>、<10>又は<11>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>~<5>、<7>及び<9>と共に以下に記載する。<1>成分A酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1及びエポキシ基及又はオキセタニル基を有する構成単位a2を有し、かつ下記式1で表される構成単位を有しない共重合体、成分B光酸発生剤、成分C下記式1で表される構成単位を有する重合体、並びに、成分D溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、水酸基又は2,3-エポキシプロポキシメチル基を表し、nは1~5の整数を表す。<2>化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物である、上記<1>に記載の感光性樹脂組成物、<3>前記式1で表される構成単位が、下記式1-1で表される構成単位である、上記<1>又は<2>に記載の感光性樹脂組成物、式中、R1は水素原子又はメチル基を表す。<4>前記構成単位a1が、式A2で表される構成単位である、上記<1>~<3>のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物、式A2中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともR1及びR2のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、R3は、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、R1又はR2とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、R4は、水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合又はアリーレン基を表す。<5>成分Bが、オキシムスルホネート残基を有する化合物である、上記<1>~<4>のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物、<6>1上記<1>~<5>のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する乾燥工程、3溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、4露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、5現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法、<7>前記現像工程後、前記ポストベーク工程前に、現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含む、上記<6>に記載の硬化膜の形成方法、<8>上記<6>又は<7>に記載の方法により形成された硬化膜、<9>層間絶縁膜である、上記<8>に記載の硬化膜、<10>上記<8>又は<9>に記載の硬化膜を具備する有機EL表示装置、<11>上記<8>又は<9>に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。本発明によれば、保存安定性に優れ、ドライエッチング耐性及び表面硬度に優れた硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供することができた。また、本発明によれば、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機EL表示装置及び液晶表示装置を提供することができた。以下、本発明の感光性樹脂組成物について詳細に説明する。なお、本発明において、数値範囲を表す下限~上限の記載は、下限以上、上限以下を表し、上限~下限の記載は、上限以下、下限以上を表す。すなわち、上限及び下限を含む数値範囲を表す。また、本発明において、成分A酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1及びエポキシ基及又はオキセタニル基を有する構成単位a2を有し、かつ下記式1で表される構成単位を有しない共重合体等を、単に成分A等ともいう。本発明の感光性樹脂組成物以下、単に樹脂組成物ともいう。は、成分A酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1とエポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位a2とを有し、かつ下記式1で表される構成単位を有しない共重合体、成分B光酸発生剤、成分C下記式1で表される構成単位を有する重合体、並びに、成分D溶剤を含有することを特徴とする。式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2はそれぞれ独立に、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、水酸基又は2,3-エポキシプロポキシメチル基を表し、nは1~5の整数を表す。本発明の感光性樹脂組成物は、ポジ型感光性樹脂組成物である。また、本発明の感光性樹脂組成物は、化学増幅型のポジ型感光性樹脂組成物化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物であることが好ましい。以下、感光性樹脂組成物を構成する各成分について説明する。なお、本明細書における基原子団の表記において、置換及び無置換を記していない表記は置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えばアルキル基とは、置換基を有さないアルキル基無置換アルキル基のみならず、置換基を有するアルキル基置換アルキル基をも包含するものである。ここで、許容される置換基は、不活性であって、その特定の基を含む化合物本来の化学的機能を変化させないものであり、許容される置換基として、ハロゲン原子、アルコキシ基、水酸基が例示される。また、本発明において、メタアクリル酸エステルは、アクリル酸エステル及び/又はメタクリル酸エステルを意味する。メタアクリル酸等についても同様である。成分A酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1とエポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位a2とを有し、かつ式1で表される構成単位を有しない共重合体本発明の感光性樹脂組成物は、成分A酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1とエポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位a2とを有し、かつ前記式1で表される構成単位を有しない共重合体を含有する。式1で表される構成単位については、成分Cにおいて詳述する。なお、酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1等を単に構成単位a1等ともいう。成分Aは、構成単位a1を、1種単独で有していても、2種以上を有していてもよい。構成単位a2についても、同様である。また、成分Aは、構成単位a1、構成単位a2及び式1で表される構成単位以外の構成単位を有していてもよい。成分Aは、アルカリ不溶性又は難溶性であり、かつ、分子内に有する酸分解性基が分解したときにアルカリ可溶性となる樹脂であることが好ましい。成分Aは、その全体がアルカリ不溶性又は難溶性に保たれる限り、酸性基の導入が排除されるものではない。成分Aに酸性基が導入される場合の例としては、例えば、後述する構成単位3-2等を有する場合が挙げられる。<酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1>成分Aは、酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1を有することにより、極めて高感度な感光性樹脂組成物とすることができる。酸基としては、カルボキシ基、及び、フェノール性水酸基が好ましく挙げられる。1-1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位1-1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位としては、後述の1-1-1、1-1-2に記載の構成単位に含まれるカルボキシ基が酸分解性基によって保護された残基を有する構成単位であることが好ましい。1-1-1カルボキシ基を有する構成単位カルボキシ基を有する構成単位としては、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和トリカルボン酸などの、分子中に少なくとも1個のカルボキシ基を有する不飽和カルボン酸等に由来する構成単位が挙げられる。不飽和モノカルボン酸としては、メタアクリル酸、クロトン酸、α-クロロアクリル酸、けい皮酸などが挙げられる。また、不飽和ジカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸などが挙げられる。不飽和多価カルボン酸は、その酸無水物であってもよく、具体的には、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などが挙げられる。また、不飽和多価カルボン酸は、多価カルボン酸のモノ2-メタアクリロイロキシアルキルエステルであってもよく、例えば、コハク酸モノ2-メタアクリロイロキシエチル、フタル酸モノ2-メタアクリロイロキシエチルなどが挙げられる。さらに、不飽和多価カルボン酸は、その両末端ジカルボキシポリマーのモノメタアクリレートであってもよく、例えば、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレートなどが挙げられる。また、不飽和カルボン酸としては、メタアクリル酸-2-カルボキシエチルエステル、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4-カルボキシスチレン等も用いることができる。中でも、現像性の観点から、カルボキシ基を有する構成単位を形成するためには、メタアクリル酸又は不飽和多価カルボン酸の無水物等を用いることが好ましく、メタアクリル酸を用いることがより好ましい。カルボキシ基を有する構成単位1-1-1は、1種単独で構成されていてもよいし、2種以上で構成されていてもよい。1-1-2エチレン性不飽和基と酸無水物残基とを共に有する構成単位エチレン性不飽和基と酸無水物残基とを共に有する構成単位1-1-2は、エチレン性不飽和基を有する構成単位中に存在する水酸基と、酸無水物と、を反応させて得られたモノマーに由来する単位であることが好ましい。酸無水物としては、公知のものが使用でき、具体的には、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸等の二塩基酸無水物;無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水物などの酸無水物が挙げられる。これらの中では、現像性の観点から、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、又は無水コハク酸、が好ましい。酸無水物の水酸基に対する反応率は、現像性の観点から、好ましくは10~100モル、より好ましくは30~100モルである。1-1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位とは、好ましくは前記1-1-1、前記1-1-2に記載の構成単位に含まれるカルボキシ基が酸分解性基によって保護された残基を有する構成単位である。酸分解性基としては、KrF用ポジ型レジスト、ArF用ポジ型レジストにおける酸分解性基として公知のものを使用でき、特に限定されない。酸分解性基としては、酸により比較的分解し易い基例えば、テトラヒドロピラニル基、エトキシエチル基等のアセタール系官能基や、酸により比較的分解し難い基例えば、t-ブチルエステル基、t-ブチルカーボネート基等のt-ブチル系官能基が知られている。構成単位1-1としては、カルボキシ基がアセタールで保護された残基、又は、カルボキシ基がケタールで保護された残基を有する構成単位が、感度やパターン形状、コンタクトホールの形成性の観点から好ましい。更に、酸分解性基の中でもカルボキシ基が式A1で表されるアセタール又はケタールで保護された残基であることが、感度の観点からより好ましい。なお、カルボキシ基が式A1で表されるアセタール又はケタールで保護された残基である場合、残基の全体としては、-C=O-O-CR1R2OR3の構造となっている。式A1中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、少なくともR1及びR2のいずれか一方が前記アルキル基、又は、アリール基であり、R3は、アルキル基、又は、アリール基を表し、R1又はR2とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよい。式A1中、R1、R2及びR3における、該アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数1~12であることが好ましく、炭素数1~6であることがより好ましく、炭素数1~4であることが更に好ましい。具体的には、メチル基、エチル基が好ましく例示できる。環状アルキル基としては、炭素数3~12であることが好ましく、炭素数4~8であることがより好ましく、炭素数4~6であることが更に好ましい。具体的には、シクロヘキシル基が好ましく例示できる。式A1中、R1、R2及びR3における該アリール基としては、炭素数6~12であることが好ましく、炭素数6~10であることがより好ましい。該アリール基は置換基を有していてもよく、該置換基としては炭素数1~6のアルキル基が好ましく例示できる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、1-ナフチル基等が例示でき、フェニル基が好ましい。また、式A1におけるR1、R2及びR3は互いに結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成することができる。R1とR2、R1とR3又はR2とR3が結合した場合の環構造としては、例えばシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、テトラヒドロフラニル基、アダマンチル基及びテトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。なお、式A1において、R1及びR2のいずれか一方が、水素原子又はメチル基であることが好ましい。式A1で表される残基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体は、市販のものを用いてもよいし、例えば特開2009-098616号公報の段落0025~0026に記載の方法等、公知の方法で合成したものを用いてもよい。カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位1-1としては、式A2で表される構成単位がより好ましい。式A2中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともR1及びR2のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、R3は、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、R1又はR2とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、R4は、水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合又はアリーレン基を表す。式A2中、R1~R3は、式A1におけるR1~R3と同様であり、好ましい範囲も同様である。式A2中、R1及びR2は、水素原子、又は、炭素数1~3のアルキル基が好ましく、水素原子、又は、メチル基が好ましい。R3は、直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数6以下のアルキル基、又は、炭素数7~10のアラルキル基が好ましく、エチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基がより好ましい。R1又はR2とR3とが連結した環状エーテルとしては、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基が好ましい。R4は、メチル基が好ましい。Xは単結合又はフェニレン基が好ましい。構成単位1-1の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Rは、水素原子又はメチル基を表す。構成単位1-1としては、カルボキシ基が式A3で表される第三級アルキル基で保護された残基であってもよい。アセタール又はケタールで保護された残基に比べると、感度は劣るが、保存安定性に優れるという点で好ましい。なお、カルボキシ基が式A3で表される第三級アルキル基で保護された残基である場合、残基の全体としては、-C=O-O-CR1R2R3の構造である。式A3中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表し、R1、R2及びR3のいずれか2つが互いに結合して環を形成していてもよい。式A3のR1~R3における、アルキル基、アリール基の具体例は、式A1におけるアルキル基、アリール基の具体例と同様である。式A3において、好ましい例としては、R1=R2=R3=メチル基の組み合わせや、R1=R2=メチル基でR3=ベンジル基の組み合わせが例示できる。1-2フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位1-2フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位としては、1-2-1フェノール性水酸基を有する構成単位を、酸分解性基によって保護した残基を有する構成単位が好ましい。1-2-1フェノール性水酸基を有する構成単位フェノール性水酸基を有する構成単位としては、ヒドロキシスチレン系構成単位やノボラック系の樹脂における構成単位が挙げられる。フェノール性水酸基を有する構成単位の中でも、式A4で表される構成単位が透明性、感度の観点から好ましい。式A4中、R20は水素原子又はメチル基を表し、R21は単結合又は二価の連結基を表し、R22はそれぞれ独立にハロゲン原子又はアルキル基を表し、aは1~5の整数を表し、bは0~4の整数を表し、abは5以下である。R21の二価の連結基としては炭素原子が主鎖に結合するエステル結合-COO-、アルキレン基が例示でき、直鎖又は分岐を有する炭素数1~6のアルキレン基が好ましい。-COO-である場合には、感度を向上させることができ、さらに硬化膜の透明性を向上させることができるので好ましい。中でも、R21が単結合、エステル結合であることが好ましい。また、前記二価の連結基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基等が挙げられる。また、aは1~5の整数を表すが、本発明の効果の観点や、製造が容易であるという点から、aは1又は2であることが好ましく、aが1であることがより好ましい。また、ベンゼン環における水酸基の結合位置は、R21と結合している炭素原子を基準1位としたとき、4位に結合していることが好ましい。bは0~4の整数を表すが、本発明の効果の観点や、製造が容易であるという点から、bが0であることが好ましい。1-2フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位は、1-2-1フェノール性水酸基を有する構成単位のフェノール性水酸基が、酸分解性基によって保護された残基を有する構成単位であることが好ましい。酸分解性基としては、前述したように、公知のものを使用でき、特に限定されない。フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基中でもフェノール性水酸基がアセタール又はケタールで保護された残基を有する構成単位であることが、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状、感光性樹脂組成物の保存安定性、コンタクトホールの形成性の観点から好ましい。更に、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基の中でもフェノール性水酸基が式A1で表されるアセタール又はケタールで保護された残基であることが、感度の観点からより好ましい。この場合、残基の全体としては、-Ar-O-CR1R2OR3の構造となっている。なお、Arはアリーレン基を表す。フェノール性水酸基のアセタールエステル構造の好ましい例としては、R1=R2=R3=メチル基やR1=R2=メチル基でR3=ベンジル基の組み合わせが例示できる。フェノール性水酸基のアセタール保護基及びケタール保護基の具体例としては、1-アルコキシアルキル基が挙げられ、例えば、1-エトキシエチル基、1-メトキシエチル基、1-n-ブトキシエチル基、1-イソブトキシエチル基、1-2-クロルエトキシエチル基、1-2-エチルヘキシルオキシエチル基、1-n-プロポキシエチル基、1-シクロヘキシルオキシエチル基、1-2-シクロヘキシルエトキシエチル基、1-ベンジルオキシエチル基、などを挙げることができ、中でも1-エトキシエチル基及びが好ましい。これらは単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位は、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位に比べると、現像が速い。よって、速く現像したい場合にはカルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位が好ましい。逆に現像を遅くしたい場合にはフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を用いることが好ましい。<エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位a2>成分Aは、エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位a2を含有する。構成単位a2は、1つの構成単位中にエポキシ基又はオキセタニル基を少なくとも1つ有していればよく、1つ以上のエポキシ基及び1つ以上オキセタニル基、2つ以上のエポキシ基、又は、2つ以上のオキセタニル基を有していてもよく、特に限定されないが、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を合計1~3つ有することが好ましく、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を合計1又は2つ有することがより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基を1つ有することが更に好ましい。構成単位a2としては、感度、保存安定性の観点から、オキセタニル基を有する構成単位であることが好ましい。また、成分Aにおける構成単位a1と構成単位a2との組み合わせとしては、構成単位a1が酸分解性基で保護されたカルボキシ基を有する構成単位であり、構成単位a2がオキセタニル基を有する構成単位である組み合わせが好ましい。オキセタニル基を有する基としては、オキセタン環を有していれば、特に制限はないが、3-エチルオキセタン-3-イルメチル基が好ましく例示できる。エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第4168443号公報の段落0031~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられる。オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、例えば、特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルなどを挙げることができる。エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。これらのモノマーの中で、更に好ましいものとしては、特許第4168443号公報の段落0034~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物及び特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルであり、特に好ましいものとしては特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルである。これらの中でも好ましいものは、アクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルであり、最も好ましいものはアクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルである。これらの構成単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。構成単位a2の好ましい具体例としては、下記a2-1~a2-6で表される構成単位が例示できる。<その他の構成単位>成分Aは、本発明の効果を妨げない範囲で、前記構成単位a1及び前記構成単位a2以外の構成単位以下、適宜構成単位a3ともいう。を含有してもよい。構造単位a3を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、特に限定されないが、例えば、特開2004-264623号公報の段落0021~0024に記載の化合物を挙げることができるただし、前述の構成単位a1及び構成単位a2を除く。。好ましい構成単位a3、及び、構成単位a3を形成するために用いられるラジカル重合性単量体として好ましい態様を具体的に説明する。スチレン構造を有する構成単位a3-1成分Aは、式a3-1で表される構成単位構成単位a3-1を少なくとも有することが好ましい。式中、R3は水素原子又はメチル基を表す。前記式a3-1におけるR3は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、水素原子であることが好ましい。前記式a3-1で表される構成単位を形成するモノマーとしては、下記式a3’-1で表される化合物が好ましく例示できる。式a3’-1におけるR3は、前記式a3-1におけるR3と同義であり、好ましい態様も同様である。式a3-1で表される構成単位は、前記式a3’-1で表される化合物を重合して形成することが好ましい。前記式a3’-1で表される化合物を重合して形成した場合、成分Aにおいて式a3-1で表される構成単位は、式a3-1で表されるモノマー単位でもある。カルボキシ基及び/又は酸無水物構造を有する構成単位a3-2成分Aは、カルボキシ基及び/又は酸無水物構造を有する構成単位a3-2を有することが好ましく、カルボキシ基を有する構成単位a3-2-1を有することがより好ましい。前記カルボキシ基を有する構成単位a3-2-1を形成するモノマーとしては、例えば、メタアクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、ビニル安息香酸等が挙げられる。これらの中でも、メタアクリル酸が好ましく、メタクリル酸が特に好ましい。また、カルボキシ基を有する構成単位a3-2-1としては、下記式a3-2--1-1又は式a3-2-1-2で表される構成単位であることが好ましく、下記式a3-2-1-1で表される構成単位であることが特に好ましい。また、成分Aは、カルボキシ基及び/又は酸無水物構造を有する構成単位a3-2として、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物由来の構成単位a3-2-2を有することが好ましい。成分Aの製造に使用することができるラジカル重合性を有する不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物としては、例えば、モノカルボン酸、ジカルボン酸、ジカルボン酸の無水物、多価カルボン酸のモノメタアクリロイロキシアルキルエステル、両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノメタアクリレート、カルボキシ基を有する多環式化合物及びその無水物などを挙げることができる。これらの具体例としては、モノカルボン酸として例えば、上述したアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸など;ジカルボン酸として、例えばマレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸など;ジカルボン酸の無水物として、例えば上記ジカルボン酸として例示した化合物の無水物など;多価カルボン酸のモノメタアクリロイロキシアルキルエステルとして、例えばコハク酸モノ2-メタアクリロイロキシエチル、フタル酸モノ2-メタアクリロイロキシエチルなど;を挙げることができる。脂環構造を有する構成単位a3-3成分Aは、電気特性の観点から、脂環構造を有する構成単位a3-3を有することが好ましい。脂環構造を有する構成単位a3-3としては、下記式a3-3で表される構成単位であることが好ましい。式中、R4は水素原子又はメチル基を表し、R5は脂環基を表し、Lは単結合、アルキレン基又はアルキレンオキシ基を表す。前記式a3-3におけるR4は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。前記式a3-3におけるR5は、炭素数5~18の脂環基であることが好ましく、炭素数5~12の脂環基であることがより好ましく、シクロへキシル基、2-メチルシクロヘキシル基、トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イル基又はイソボロニル基であることが特に好ましい。また、前記脂環基における脂肪族環は、縮合環及び/又は橋かけ環であることが好ましく、トリシクロ[5.2.1.026]デカン環であることが特に好ましい。前記式a3-3におけるLは、単結合、炭素数1~10のアルキレン基、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基であることが好ましく、単結合、メチレン基又はエチレンオキシ基であることがより好ましい。前記脂環構造を有する構成単位a3-3を形成するモノマーとしては、脂環構造を有するメタアクリレート化合物が好ましく例示でき、下記式a3’-3で表される化合物がより好ましく例示できる。式a3’-3におけるR4、R5及びLは、前記式a3-3におけるR4、R5及びLとそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。式a3’-3で表される化合物の具体例としては、シクロヘキシルメタアクリレート、2-メチルシクロヘキシルメタアクリレート、トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルメタアクリレート、トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルオキシエチルメタアクリレート、イソボロニルメタアクリレート等が挙げられる。中でも、トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルメタアクリレートが最も好ましい。なお、本発明において、メタアクリルとは、アクリル及びメタクリルのいずれか一方、又は、その両方を含む語であり、メタアクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートのいずれか一方、又は、その両方を含む語である。カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位a3-4成分Aは、透明性の観点から、カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位a3-4を有することが好ましい。カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位a3-4としては、下記式a3-4で表される構成単位であることが好ましい。式中、R6は水素原子又はメチル基を表し、R7は炭素数1~12のアルキル基を表す。前記式a3-4におけるR6は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。前記式a3-4におけるR7は、炭素数1~8のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~4のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。また、前記R7におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。前記カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位a3-4を形成するモノマーとしては、アルキルメタアクリレート化合物が好ましく例示でき、下記式a3’-4で表される化合物がより好ましく例示できる。式a3’-4におけるR6及びR7は、前記式a3-4におけるR6及びR7とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。マレイミド残基を有する構成単位a3-5成分Aは、熱硬化性の観点から、マレイミド残基を有する構成単位a3-5を有することが好ましい。マレイミド残基を有する構成単位a3-5としては、下記式a3-5で表される構成単位であることが好ましい。式中、R8は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は下記式Sで表される基を表す。式中、xは2~10の整数を表し、波線部分は式a3-5における窒素原子との結合位置を表す。前記式a3-5におけるR8は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数5~12のシクロアルキル基、炭素数6~12のアリール基又は前記式Sで表される基であることが好ましく、ベンジル基、シクロヘキシル基、フェニル基又は前記式Sで表される基であることがより好ましい。前記式Sにおけるxは、2~8であることが好ましく、2~7であることがより好ましい。前記マレイミド残基を有する構成単位a3-5を形成するモノマーとしては、下記式a3’-5で表される化合物が好ましく例示できる。式a3’-5におけるR8は、前記式a3-5におけるR8と同義であり、好ましい態様も同様である。式a3’-5で表される化合物の具体例としては、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミド、N-スクシンイミジル-3-マレイミドベンゾエート、N-スクシンイミジル-4-マレイミドブチレート、N-スクシンイミジル-6-マレイミドカプロエート、N-スクシンイミジル-3-マレイミドプロピオネート、N-9-アクリジニルマレイミド等が挙げられる。中でも、N-シクロヘキシルマレイミドやN-フェニルマレイミドが特に好ましい。ヒドロキシ基を有する構成単位a3-6成分Aは、現像性の観点から、ヒドロキシ基を有する構成単位a3-6を有することが好ましい。ヒドロキシ基を有する構成単位a3-6としては、下記式a3-6で表される構成単位であることが好ましい。式中、R9は水素原子又はメチル基を表し、yは2~11の整数を表す。前記式a3-6におけるR9は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。前記式a3-6におけるyは、2~8の整数であることが好ましく、2~4の整数であることがより好ましく、2であることが特に好ましい。前記ヒドロキシ基を有する構成単位a3-6を形成するモノマーとしては、下記式a3’-6で表される化合物がより好ましく例示できる。式a3’-6におけるR9及びyは、前記式a3-6におけるR9及びyとそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。ポリエーテル構造を有する構成単位a3-7成分Aは、現像性の観点から、ポリエーテル構造を有する構成単位a3-7を有することが好ましい。ポリエーテル構造を有する構成単位a3-7としては、下記式a3-7-1又は式a3-7-2で表される構成単位であることが好ましい。式中、R10は水素原子又はメチル基を表し、R11は水素原子、炭素数1~12のアルキル基又はフェニル基を表し、Xは単結合又は二価の連結基を表し、m及びnはそれぞれ独立に、0~50の整数を表す。ただし、mとnとが共に0となることはない。前記式a3-7-1及び前記式a3-7-2におけるR10は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。前記式a3-7-1及び前記式a3-7-2におけるR11は、炭素数1~8のアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、炭素数1~4のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが更に好ましい。また、前記R11におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。前記式a3-7-1及び前記式a3-7-2におけるXは、単結合又は炭素数1~50の二価の連結基であることが好ましく、単結合又は炭素数1~20のアルキレン基であることがより好ましく、単結合であることが更に好ましい。前記式a3-7-1及び前記式a3-7-2におけるm及びnはそれぞれ独立に、0~40の整数であることが好ましく、0~20の整数であることがより好ましい。また、前記式a3-7-1及び前記式a3-7-2における-C3H6O-は、-CHCH3CH2O-又は-CH2CHCH3O-であることが好ましい。前記ポリエーテル構造を有する構成単位a3-7を形成するモノマーとしては、下記式a3’-7-1又は式a3’-7-2で表される化合物がより好ましく例示できる。式a3’-7-1及び式a3’-7-2におけるR10、R11、X、m及びnは、前記式a3’-7-1及び式a3’-7-2におけるR10、R11、X、m及びnとそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。フラニル基、テトラヒドロフラニル基、ピラニル基又はテトラヒドロピラニル基を有する構成単位a3-8成分Aは、前記構成単位a1以外のフラニル基、テトラヒドロフラニル基、ピラニル基又はテトラヒドロピラニル基を有する構成単位a3-8を有することが好ましい。前記構成単位a3-8におけるフラニル基、テトラヒドロフラニル基、ピラニル基又はテトラヒドロピラニル基としては、2-フラニル基、3-フラニル基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基、3-テトラヒドロフラニル基、2-4H-ピラニル基、3-2H-ピラニル基、3-4H-ピラニル基、4-2H-ピラニル基、4-4H-ピラニル基、3-テトラヒドロフラニル基、及び、4-テトラヒドロフラニル基等が挙げられる。前記構成単位a3-8を形成するモノマーとしては、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、及び、ピラン骨格よりなる群から選ばれた少なくとも1つの骨格を有するエチレン性不飽和化合物が挙げられる。具体的には例えば、テトラヒドロフラン骨格を有するエチレン性不飽和化合物としては、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、2-メタクリロイルオキシ-プロピオン酸テトラヒドロフルフリルエステル、メタアクリル酸テトラヒドロフラン-3-イルエステルなど;フラン骨格を有するエチレン性不飽和化合物としては、2-メチル-5-3-フリル-1-ペンテン-3-オン、フルフリルメタアクリレート、1-2-フラニルブタン-3-エン-2-オン、1-2-フラニルブタン-3-メトキシ-3-エン-2-オン、6-2-フリル-2-メチル-1-ヘキセン-3-オン、6-フラン-2-イルヘキシ-1-エン-3-オン、アクリル酸2-フラン-2-イル-1-メチルエチルエステル、6-2-フリル-6-メチル-1-ヘプテン-3-オンなど;テトラヒドロピラン骨格を含有する不飽和化合物としては、テトラヒドロピラン-2-イルメチルメタクリレート、2,6-ジメチル-8-テトラヒドロピラン-2-イルオキシ-オクト-1-エン-3-オン、2-メタクリル酸テトラヒドロピラン-2-イルエステル、1-テトラヒドロピラン-2-オキシ-ブチル-3-エン-2-オンなど;ピラン骨格を含有する不飽和化合物としては、4-1,4-ジオキサ-5-オキソ-6-ヘプテニル-6-メチル-2-ピロン、4-1,5-ジオキサ-6-オキソ-7-オクテニル-6-メチル-2-ピロンなど;が挙げられる。これらの中でも、テトラヒドロフルフリルメタアクリレートが好ましく、テトラヒドロフルフリルメタアクリレートがより好ましい。これら構成単位a3は、成分A中に、1種単独で有していても、2種以上を有していてもよい。保存安定及びドライエッチング耐性の観点から、成分Aにおける構成単位a1~構成単位a3を形成するモノマー単位の含有量は、以下の範囲であることが好ましい。成分Aを構成する全モノマー単位中、構成単位a1を形成するモノマー単位の含有率は、10~80モルが好ましく、30~80モルがより好ましい。成分Aを構成する全モノマー単位中、構成単位a2を形成するモノマー単位の含有率は、10~60モルが好ましく、20~60モルがより好ましい。成分Aを構成する全モノマー単位中、構成単位a3を形成するモノマー単位の含有率は、0~50モルが好ましく、10~45モルがより好ましい。また、成分AのゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCで測定したポリスチレン換算重量平均分子量Mwは、2,000~100,000であることが好ましく、3,000~50,000がより好ましく、4,000~30,000が特に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、成分Aを1種単独又は2種類以上を組み合わせて含有することができる。本発明の感光性樹脂組成物中における成分Aの含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、20~90重量であることが好ましく、30~70重量であることがより好ましい。なお、感光性樹脂組成物の固形分量とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量を表す。なお、本発明の感光性樹脂組成物は、本発明の効果を妨げない範囲で、成分A及び成分C以外の樹脂を併用してもよい。ただし、成分A及び成分C以外の樹脂の含有量は、現像性の観点から成分Aの含有量及び成分Cの含有量より少ない方が好ましい。成分B光酸発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分B光酸発生剤単に光酸発生剤ともいう。を含有する。本発明で使用される光酸発生剤としては、波長300nm以上、好ましくは波長300~450nmの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に制限されるものではない。また、波長300nm以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長300nm以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。本発明で使用される光酸発生剤としては、酸解離定数pKaが4以下の酸を発生する光酸発生剤が好ましく、pKaが3以下の酸を発生する光酸発生剤がより好ましい。なお、pKaについては、公知の測定方法、公知の算出方法、及び/又は、文献値等により値を求めることができる。発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤の例として、トリクロロメチル-s-トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、絶縁性の観点から、オキシムスルホネート化合物を用いることが好ましい。これら光酸発生剤は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。これらの具体例としては、以下が例示できる。トリクロロメチル-s-トリアジン類として、2-3-クロロフェニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシフェニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メチルチオフェニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシ-β-スチリルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-ピペロニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-フラン-2-イルエテニル]ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-5-メチルフラン-2-イルエテニル]ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニルエテニル]ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、又は、2-4-メトキシナフチルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン等;ジアリールヨードニウム塩類として、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、フェニル-4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、又は、フェニル-4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムp-トルエンスルホナート等;トリアリールスルホニウム塩類として、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、又は、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート等;第四級アンモニウム塩類として、テトラメチルアンモニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリスp-クロロフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス3-トリフルオロメチルフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリスp-クロロフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス3-トリフルオロメチルフェニルボレート等;ジアゾメタン誘導体として、ビスシクロヘキシルスルホニルジアゾメタン、ビスtブチルスルホニルジアゾメタン、ビスp-トルエンスルホニルジアゾメタン等;イミドスルホネート誘導体として、トリフルオロメチルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]-ヘプト-5-エン-ジカルボキシイミド、スクシンイミドトリフルオロメチルスルホネート、フタルイミドトリフルオロメチルスルホネート、N-ヒドロキシナフタルイミドメタンスルホネート、N-ヒドロキシ-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボキシイミドプロパンスルホネート等;オキシムスルホネート化合物として、以下に示す化合物。本発明の感光性樹脂組成物は、成分B光酸発生剤として、オキシムスルホネート残基を有するオキシムスルホネート化合物を含むことが好ましい。オキシムスルホネート残基を有するオキシムスルホネート化合物としては、下記式B-0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物が挙げられる。なお、波線部分は、他の化学構造との結合位置を表す。前記オキシムスルホネート化合物としては、下記式B-1で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。式中、RB4は水素原子又はメチル基を表し、RB5は炭素数1~8のアルキル基、p-トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。前記式B-1におけるRB4は、メチル基であることが好ましい。前記式B-1のRB5における炭素数1~8のアルキル基、及び、ノナフルオロブチル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。また、前記RB5におけるアルキル基の炭素数は、1~4であることが好ましく、1~3であることがより好ましい。また、前記RB5におけるカンホリルcamphoryl基と硫黄原子との結合位置は、特に制限はないが、10位であることが好ましい。すなわち、前記カンホリル基は、10-カンホリル基であることが好ましい。前記式B-1におけるRB5は、メチル基、n-プロピル基、n-オクチル基、p-トルイル基又はカンホリル基が好ましく、n-プロピル基、n-オクチル基、p-トルイル基又はカンホリル基であることがより好ましく、n-プロピル基又はp-トルイル基であることが更に好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物としては、下記式B-2で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。式中、RB6は水素原子、メチル基又はメトキシ基を表し、RB7は炭素数1~8のアルキル基、p-トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。前記式B-2におけるRB6は、水素原子であることが好ましい。前記式B-2におけるRB7は、メチル基、n-プロピル基、n-オクチル基又はp-トルイル基、カンホリル基又はフェニル基であることが好ましく、メチル基、n-プロピル基、n-オクチル基、p-トルイル基又はカンホリル基であることがより好ましい。前記RB7におけるノナフルオロブチル基、炭素数1~8のアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。また、前記RB7におけるカンホリルcamphoryl基の硫黄原子との結合位置は、特に制限はないが、10位であることが好ましい。すなわち、前記カンホリル基は、10-カンホリル基であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物における成分B光酸発生剤の含有量は、成分A100重量部に対して、0.1~10重量部であることが好ましく、0.5~10重量部であることがより好ましく、2~7重量部であることが更に好ましい。成分C式1で表される構成単位を有する重合体本発明の感光性樹脂組成物は、成分C式1で表される構成単位構成単位1を有する重合体を含有する。また、成分Aは、式1で表される構成単位を有しない。式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2はそれぞれ独立に、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、水酸基又は2,3-エポキシプロポキシメチル基を表し、nは1~5の整数を表す。式1におけるR1としては、反応性やコストの面から、水素原子であることが好ましい。式1におけるR2としては、炭素数1~6のアルコキシ基、水酸基又は2,3-エポキシプロポキシメチル基が好ましく、メトキシ基、水酸基又は2,3-エポキシプロポキシメチル基がより好ましく、2,3-エポキシプロポキシメチル基が特に好ましい。また、式1におけるR2に置換位置は、R1が結合した炭素原子が結合しているベンゼン環に対し、o位であっても、m位であっても、p位であってもよいが、p位であることが好ましい。式1におけるnとしては、1~3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。これらの中でも、式1で表される構成単位としては、下記式1-1で表される構成単位であることが好ましい。式中、R1は水素原子又はメチル基を表す。式1-1におけるR1としては、反応性やコストの面から、水素原子であることが好ましい。<その他の構成単位>成分Cは、式1で表される構成単位以外の構成単位として、成分Aにおいて前述した構成単位a1~構成単位a3を有していてもよい。成分Cは、現像性の観点から、前記カルボキシ基を有する構成単位a3-2-1を含むことが好ましい。成分Cを構成する全モノマー単位中、カルボキシ基を有する構成単位a3-2-1を形成するモノマー単位の含有率は、0~40モルが好ましく、1~20モルがより好ましい。また、成分Cは、その他の構成単位として、酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位a1、エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位a2、スチレン構造を有する構成単位a3-1、脂環構造を有する構成単位a3-3、カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位a3-4、ヒドロキシ基を有する構成単位a3-6、及び、フラニル基、テトラヒドロフラニル基、ピラニル基又はテトラヒドロピラニル基を有する構成単位a3-8よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構成単位を有していることが好ましい。保存安定性及びドライエッチング耐性の観点から、成分Cにおける構成単位1を形成するモノマー単位の含有量は、以下の範囲であることが好ましい。成分Cは、構成単位1を1種のみ有していても、2種以上異なる構成単位1を有していてもよい。成分Aを構成する全モノマー単位中、構成単位1を形成するモノマー単位の含有率は、20~100モルが好ましく、30~80モルがより好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、成分Cを1種単独又は2種類以上を組み合わせて含有することができる。本発明の感光性樹脂組成物中における成分Cの含有量は、成分A100重量部対して、1~2,000重量部が好ましく、5~200重量部がより好ましく、8~150重量部が最も好ましい。成分D溶剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分D溶剤を含有する。本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分である成分A~成分C、並びに、更に後述の任意成分を、成分D溶剤に溶解した溶液として調製されることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。更に、本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、例えば、特開2009-258722号公報の段落0074に記載の溶剤が挙げられる。中でも、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類が好ましい。これら溶剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明に用いることができる溶剤は、1種単独又は2種を併用することができる。本発明の感光性樹脂組成物における成分Dの含有量は、成分A100重量部に対し、50~3,000重量部であることが好ましく、100~2,000重量部であることがより好ましく、150~1,500重量部であることが更に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、上記の成分A~成分Cを必須成分として、その他、任意成分を含有していてもよい。任意の成分としては、成分E増感剤、成分F架橋剤、成分G界面活性剤、成分H密着改良剤、成分I塩基性化合物、成分J現像促進剤、成分K酸化防止剤、成分L可塑剤等が挙げられる。本発明で使用できる添加剤はこれらに限定されるものではなく、当該分野で公知の種々の添加剤を用いることができる。成分E増感剤本発明の感光性樹脂組成物は、前述の成分Bとの組み合わせにおいて、その分解を促進させるために、成分E増感剤を添加してもよい。増感剤は、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、成分B等の光酸発生剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより光酸発生剤は化学変化を起こして分解し、酸を生成する。好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ350nmから450nm域に吸収波長を有する化合物を挙げることができる。多核芳香族類例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン、キサンテン類例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル、キサントン類例えば、キサントン、チオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、シアニン類例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン、メロシアニン類例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン、ローダシアニン類、オキソノール類、チアジン類例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー、アクリジン類例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン、アクリドン類例えば、アクリドン、10-ブチル-2-クロロアクリドン、アントラキノン類例えば、アントラキノン、スクアリウム類例えば、スクアリウム、スチリル類、ベーススチリル類、クマリン類例えば、7-ジエチルアミノ4-メチルクマリン。これら増感剤の中でも、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となり、光酸発生剤への電子移動作用を有する増感剤が好ましく、特に多環芳香族類、アクリドン類、クマリン類、ベーススチリル類が好ましく、アントラセン類が最も好ましい。増感剤は、市販のものを用いてもよいし、公知の合成方法により合成してもよい。増感剤の添加量は、感度、透明性の両立の観点から、成分B100重量部に対して、20~300重量部が好ましく、30~200重量部が特に好ましい。成分F架橋剤本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じ、成分F架橋剤を含有することが好ましい。成分F架橋剤を添加することにより、硬化膜をより強固な膜とすることができる。成分F架橋剤としては、例えば、分子内に2個以上のエポキシ基若しくはオキセタニル基を有する化合物、アルコキシメチル基含有架橋剤、又は、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を添加することができる。これらの架橋剤の中で、特に好ましいものは、分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物である。<分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物>分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。これらの中で好ましいものとしては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、及び、フェノールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。特にビスフェノールA型エポキシ樹脂が好ましい。分子内に2個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンOXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX以上、東亞合成株製を用いることができる。分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物の感光性樹脂組成物への添加量は、成分A100重量部に対し、1~50重量部が好ましく、3~30重量部がより好ましい。<アルコキシメチル基含有架橋剤>アルコキシメチル基含有架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル及びアルコキシメチル化尿素等が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物にアルコキシメチル基含有架橋剤を用いる場合のアルコキシメチル基含有架橋剤の添加量は、成分A100重量部に対して、0.05~50重量部であることが好ましく、0.5~10重量部であることがより好ましい。この範囲で添加することにより、現像時の好ましいアルカリ溶解性と、硬化後の膜の優れた耐溶剤性が得られる。<少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物>少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、単官能メタアクリレート、2官能メタアクリレート、3官能以上のメタアクリレートなどのメタアクリレート化合物を好適に用いることができる。成分G界面活性剤フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤など本発明の感光性樹脂組成物は、成分G界面活性剤フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などを含有することが好ましい。フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤の例として具体的には、特開昭62-36663号、特開昭61-226746号、特開昭61-226745号、特開昭62-170950号、特開昭63-34540号、特開平7-230165号、特開平8-62834号、特開平9-54432号、特開平9-5988号、特開2001-330953号等の各公報記載の界面活性剤を挙げることができ、市販の界面活性剤を用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えば、エフトップEF301、EF303、以上、三菱マテリアル電子化成株製、フロラードFC430、431以上、住友スリーエム株製、メガファックF171、F173、F176、F189、R08以上、DIC株製、サーフロンS-382、SC101、102、103、104、105、106以上、旭硝子株製、PolyFoxシリーズOMNOVA社製等のフッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤を挙げることができる。また、ポリシロキサンポリマーKP-341信越化学工業株製もシリコーン系界面活性剤として用いることができる。これら界面活性剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。また、フッ素系界面活性剤とシリコーン系界面活性剤とを併用してもよい。本発明の感光性樹脂組成物における成分G界面活性剤フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの添加量は、成分A100重量部に対して、10重量部以下であることが好ましく、0.01~10重量部であることがより好ましく、0.01~1重量部であることが更に好ましい。成分H密着改良剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分H密着改良剤を含有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる成分H密着改良剤は、基板となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物である。具体的には、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。本発明で使用される成分H密着改良剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、及び、γ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランが更に好ましい。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらは基板との密着性の向上に有効であるとともに、基板とのテーパ角の調整にも有効である。本発明の感光性樹脂組成物における成分H密着改良剤の含有量は、成分A100重量部に対して、0.1~20重量部が好ましく、0.5~10重量部がより好ましい。成分I塩基性化合物本発明の感光性樹脂組成物は、成分I塩基性化合物を含有することが好ましい。成分I塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、及び、カルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。複素環式アミンとしては、イミダゾール骨格を有する化合物が好ましく、具体例として、イミダゾール、ベンズイミダゾール、4-メチルイミダゾール、2-フェニルベンズイミダゾール、2,4,5-トリフェニルイミダゾールなどを挙げることができる。本発明に用いることができる塩基性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよいが、2種以上を併用することが好ましく、2種を併用することがより好ましく、複素環式アミンを2種併用することが更に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物における成分I塩基性化合物の含有量は、成分A100重量部に対して、0.001~1重量部であることが好ましく、0.002~0.2重量部であることがより好ましい。成分J現像促進剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分J現像促進剤を含有することが好ましい。成分J現像促進剤としては、現像促進効果のある任意の化合物を使用できるが、カルボキシ基、フェノール性水酸基、及び、アルキレンオキシ基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構造を有する化合物であることが好ましく、カルボキシ基又はフェノール性水酸基を有する化合物がより好ましく、フェノール性水酸基を有する化合物が特に好ましい。また、成分J現像促進剤の分子量は、100~2,000が好ましく、150~1,500が更に好ましく、150~1,000が特に好ましい。成分J現像促進剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における成分J現像促進剤の添加量は、感度と残膜率の観点から、成分A100重量部に対し、0.1~30重量部が好ましく、0.2~20重量部がより好ましく、0.5~10重量部であることが特に好ましい。成分K酸化防止剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分K酸化防止剤を含有してもよい。成分K酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。成分K酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤が好ましい。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブAO-60、アデカスタブAO-80以上、株ADEKA製、イルガノックス1098チバジャパン株製が挙げられる。成分K酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~6重量であることが好ましく、0.2~5重量であることがより好ましく、0.5~4重量であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時の感度も良好となる。また、酸化防止剤以外の添加剤として、高分子添加剤の新展開株日刊工業新聞社に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。成分L可塑剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分L可塑剤を含有してもよい。成分L可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリン、ジメチルグリセリンフタレート、酒石酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリアセチルグリセリンなどが挙げられる。本発明の感光性樹脂組成物における成分L可塑剤の含有量は、成分A100重量部に対して、0.1~30重量部であることが好ましく、1~10重量部であることがより好ましい。硬化膜の形成方法次に、本発明における硬化膜の形成方法を説明する。本発明における硬化膜の形成方法は、本発明の感光性樹脂組成物を用いて膜を作製し、光及び熱の少なくとも一方を付与して硬化膜を形成する方法であれば、特に制限はないが、以下の1~5の工程を含むことが好ましい。1本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程2塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する乾燥工程3溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程4露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程5現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程以下に各工程を順に説明する。1の塗布工程では、本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とする。2の乾燥工程では、塗布された上記の膜から、減圧バキューム及び/又は加熱により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させる。3の露光工程では、得られた塗膜に波長300nm以上450nm以下の活性光線を照射する。この工程では、成分Bが分解し酸が発生する。発生した酸の触媒作用により、成分Aに含まれる構成単位a1中の酸分解性基が分解されて、酸基が生成する。酸触媒の生成した領域において、上記の分解反応を加速させるために、露光後に必要に応じて、PEB露光後加熱処理を行うことができる。PEBにより、酸分解性基からのカルボキシ基生成を促進させることができる。PEBを行う場合の温度は、30°C以上130°C以下であることが好ましく、40°C以上110°C以下がより好ましく、50°C以上90°C以下が特に好ましい。4の現像工程では、遊離した酸基を有する成分Aを、アルカリ性現像液を用いて現像する。アルカリ性現像液に溶解しやすい酸基を有する樹脂組成物を含む露光部領域を除去することにより、ポジ画像が形成される。5のポストベーク工程において、得られたポジ画像を加熱することにより、構成単位a1中の酸分解性基を熱分解し酸基を生成させ、エポキシ基及び/又はオキセタニル基と架橋させることにより、硬化膜を形成することができる。この加熱は、150°C以上の高温に加熱することが好ましく、180~250°Cに加熱することがより好ましく、200~250°Cに加熱することが特に好ましい。加熱時間は、加熱温度などにより適宜設定できるが、10~90分の範囲内とすることが好ましい。ポストベーク工程の前に活性光線、好ましくは紫外線を、現像パターンに全面照射する工程を加えると、活性光線照射により発生する酸により架橋反応を促進することができる。次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法を具体的に説明する。<感光性樹脂組成物の調製方法>成分A、成分B、成分C、及び、成分D溶剤の必須成分を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解して感光性樹脂組成物を調製する。このように調製した感光性樹脂組成物は、孔径0.1μm程度のフィルタ等を用いてろ過した後に、使用に供することもできる。<塗布工程及び乾燥工程>感光性樹脂組成物を、所定の基板に塗布し、減圧及び/又は加熱プリベークにより溶剤を除去することにより、所望の乾燥塗膜を形成することができる。前記の基板としては、例えば液晶表示装置の製造においては、偏光板、更に必要に応じて、ブラックマトリックス層、カラーフィルタ層を設け、更に透明導電回路層を設けたガラス板などが例示できる。基板への塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法等の方法を用いることができる。中でもスリットコート法が大型基板に適するという観点で好ましい。ここで大型基板とは、各辺が1m以上5m以下の大きさの基板をいう。また、2乾燥工程の加熱条件は、未露光部における成分A中の構成単位a1において酸分解性基が分解して、かつ、成分Aをアルカリ現像液に可溶性としない範囲であり、各成分の種類や配合比によっても異なるが、70~120°Cで30~300秒間程度であることが好ましい。<露光工程>3露光工程では、乾燥塗膜を設けた基板に所定のパターンの活性光線を照射する。露光はマスクを介して行ってもよいし、所定のパターンを直接描画してもよい。波長300nm以上450nm以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。露光工程の後、必要に応じてPEBを行う。活性光線による露光には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、レーザ発生装置などを用いることができる。水銀灯を用いる場合にはg線436nm、i線365nm、h線405nmなどの波長を有する活性光線が好ましく使用できる。水銀灯はレーザに比べると、大面積の露光に適するという点で好ましい。レーザを用いる場合には固体YAGレーザでは343nm、355nmが用いられ、エキシマレーザでは351nmXeFが用いられ、更に半導体レーザでは375nm、405nmが用いられる。この中でも安定性、コスト等の点から355nm、405nmがより好ましい。レーザは1回又は複数回に分けて、塗膜に照射することができる。レーザの1パルス当たりのエネルギー密度は0.1mJ/cm2以上10,000mJ/cm2以下であることが好ましい。塗膜を十分に硬化させるには、0.3mJ/cm2以上がより好ましく、0.5mJ/cm2以上が最も好ましく、アブレーション現象により塗膜を分解させないようにするには、1,000mJ/cm2以下がより好ましく、100mJ/cm2以下が最も好ましい。レーザは水銀灯と比べると、焦点を絞ることが容易であり、露光工程でのパターン形成のマスクが不要でコストダウンできるという点で好ましい。<現像工程>4現像工程では、塩基性現像液を用いて露光部領域を除去して画像パターンを形成する。塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類;ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。現像液のpHは、10.0~14.0であることが好ましい。現像時間は、30~180秒間であることが好ましく、また、現像の手法は液盛り法、ディップ法、シャワー法等のいずれでもよい。現像後は、流水洗浄を10~90秒間行い、所望のパターンを形成させることができる。<ポストベーク工程架橋工程>現像により得られた未露光領域に対応するパターンについて、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温度、例えば、180~250°Cで所定の時間、例えばホットプレート上なら5~60分間、オーブンならば30~90分間、加熱処理をすることにより、成分A中の酸分解性基を分解して、酸基を発生させ、成分A中のエポキシ基及び/又はオキセタニル基と反応して、架橋させることにより、耐熱性、硬度等に優れた保護膜や層間絶縁膜を形成することができる。また、加熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより透明性を向上させることもできる。なお、加熱処理に先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により再露光した後、ポストベークすること再露光/ポストベークにより未露光部分に存在する成分Bから酸を発生させ、架橋を促進する触媒として機能させることが好ましい。すなわち、本発明の硬化膜の形成方法は、現像工程とポストベーク工程との間に、活性光線により再露光する再露光工程を含むことが好ましい。再露光工程における露光は、前記露光工程と同様の手段により行えばよいが、前記再露光工程では、基板の本発明の感光性樹脂組成物により膜が形成された側に対し、全面露光を行うことが好ましい。再露光工程の露光量としては、100~1,000mJ/cm2であることが好ましい。本発明の有機ELエレクトロルミネッセンス表示装置や液晶表示装置としては、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機EL表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。また、本発明の感光性樹脂組成物及び本発明の硬化膜は、前記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜や層間絶縁膜以外にも、カラーフィルタの保護膜や、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルタ上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。図1は、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜を絶縁膜、平坦化膜として適用した有機EL表示装置の一例の構成を示す模式的断面図である。図1に示す有機EL表示装置は、ボトムエミッション型の有機EL表示装置である。図1中、ガラス基板6上には、ボトムゲート型のTFT1を形成され、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3が形成されている。絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmが絶縁膜3上に形成されている。配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。更に、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上に平坦化膜4が形成されている。平坦化膜4上には、ボトムエミッション型の有機EL素子が形成されている。すなわち、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5が、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成されている。第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8が形成されており、この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。更に、図1には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られる。図2は、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜を適用した液晶表示装置の一例を示す構成を示す模式的断面図である。図2に示す液晶表示装置は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置である。図2中、液晶表示装置10は、背面にバックライトユニット12を有する液晶パネルであって、前記液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた2枚のガラス基板14,15の間に配置されたすべての画素に対応するTFT16の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜17中に形成されたコンタクトホール18を通して、画素電極を形成するITO透明電極19が配線されている。ITO透明電極19の上には、液晶20の層とブラックマトリックスを配置したRGBカラーフィルタ22が設けられている。次に、実施例により本発明を更に具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部、は重量基準である。<合成例1>冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル200重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸1-エトキシエチル63.3重量部、スチレン20.8重量部、メタクリル酸グリシジル56.8重量部、及び、α-メチルスチレンダイマー3重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体A1を含む重合体溶液を得た。共重合体A1のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは、12,000であった。合成された共重合体の組成比モルを表1に示す。<合成例2~25>使用したモノマー及びその量を変更した以外は、合成例1と同様にして、表1に示す共重合体A2~A5及びA’1~A’3、並びに、C1~C4、C’1及びC’2をそれぞれ合成した。合成された各共重合体の組成比モル及びMwは、表1に示した通りである。表1中の略号は以下の通りである。MAEVE:メタクリル酸1-エトキシエチルMACHOE:1-シクロヘキシルオキシエチルメタクリレートGMA:グリシジルメタクリレート和光純薬工業株製OXE-30:メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル大阪有機化学工業株製St:スチレン和光純薬工業株製MAA:メタクリル酸和光純薬工業株製DCPM:メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イル東京化成工業株製CHMI:N-シクロヘキシルマレイミドTHFFMA:テトラヒドロフルフリルメタクリレートPME:メトキシポリエチレングリコールメタクリレート日油株製、ブレンマーPME-200MMA:メチルメタクリレートHEMA:メタクリル酸2-ヒドロキシエチル和光純薬工業株製BVGE:p-ビニルベンジルグリシジルエーテルStCOOEVE:下記化合物StCOOH:下記化合物p-ビニル安息香酸実施例1~10及び比較例1~5表2に記載した量固形分を、固形分濃度が20重量となるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテル:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート=1:4重量比の混合溶剤に溶解させた後、口径0.2μmのメンブランフィルタでろ過して、実施例1~10及び比較例1~5の感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。表2中の各成分における使用量の単位は、重量部である。また、表2中の略号は、以下の通りである。A1~A5及びA’1~A’3、並びに、C1~C4、C’1及びC’2はそれぞれ、前記共重合体A1~A5及びA’1~A’3、並びに、C1~C4、C’1及びC’2を使用した。B1:4,7-ジ-n-ブトキシ-1-ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネートB2:2-4-メトキシ-β-スチリル-4,6-ビストリクロロエチル-s-トリアジンNQD:4,4’-{1-{4-[1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル]フェニル}エチリデン}ビスフェノール1.0モル当量と1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド2.0モル当量との縮合物PAG103:IRGACUREPAG103BASF社製PAI-1001:下記化合物みどり化学株製E1:ジブトキシアントラセン川崎化成工業株製F1:JER-157S70多官能ノボラック型エポキシ樹脂エポキシ当量200~220g/eq、ジャパンエポキシレジン株製PF-6320:PolyFoxPF-6320フッ素系界面活性剤、OMNOVA社製C1-A:下記構造の化合物C1-ARf=n-C6F13KF-6012:ポリエーテル変性シリコーン系界面活性剤信越化学工業株製F780F:フッ素系界面活性剤メガファックF780F、大日本インキ化学工業株製KF-6012:ポリエーテル変性シリコーン系界面活性剤信越化学工業株製KBM-403:3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン信越化学工業株製得られた実施例1~10及び比較例1~5の感光性樹脂組成物を、以下の評価方法により、それぞれ評価した。評価結果を表3にまとめて示す。<ドライエッチング耐性の評価>ガラス基板コーニング1737、0.7mm厚コーニング社製上に、各感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、90°C/120秒ホットプレート上で加熱により溶剤を除去し、膜厚3.0μmの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層を、キヤノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプで積算照射量が100mJ/cm2照度:20mW/cm2、i線となるように露光し、その後、この基板をオーブンにて230°Cで1時間加熱して硬化膜を得た。該硬化膜をドライエッチング装置CDE-80N株芝浦メカトロニクス製を用い、エッチングガスとしてCF450ml/分、O210ml/分、出力400mW、エッチング時間90秒の条件でドライエッチングを行い、処理前後の膜厚を測定しドライエッチングによる膜減り量を計算した。なお、評価基準は下記の通りである。A及びBが実用範囲で、Cは実用不可である。A:0.2μm未満B:0.2μm以上0.4μm未満C:0.4μm以上<ドライエッチング後の表面荒れの評価>原子間力顕微鏡AFMを用いてエッチング耐性を評価した基板の表面感光性樹脂組成物層の表面の表面粗さRa、単位nmを測定した。数値が小さいほど表面が平滑なことを表す。下記基準でランク付けした。A~Cが実用範囲で、Dは実用不可である。A:2.0nm未満B:2.0nm以上4.0nm未満C:4.0nm以上7.0nm未満D:7.0nm以上<表面硬度の評価>上記ドライエッチング耐性の評価と同様にして得た硬化膜に対して、JISK5600-5-4に従って鉛筆硬度を測定した。耐傷性の観点から、硬いほうが好ましい。A:6H以上硬いB:4H~5HC:3H以下軟らかい<保存安定性の評価>各組成物を調整後、すぐに粘度を測定し、その後23°Cにて保存して3日後に粘度を測定した。A:粘度変化が3割未満B:粘度変化が3以上5未満粘度増加C:粘度変化が5以上<液晶表示装置における表示ムラ評価>特許第3362008号公報に従い、実施例及び比較例の各感光性樹脂組成物を層間絶縁膜として用いて液晶表示装置をそれぞれ作製した。作製した液晶表示装置に灰色を表示させ、ムラの有無を目視で観察し、以下の基準で評価した。A:ムラが観察されない。B:ムラが僅かに観察される許容範囲。C:ムラが観察される許容できない。"