"基材上に、エネルギー線硬化性を有する樹脂からなる樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、二軸延伸フィルムを前記樹脂層上に一時的にラミネートする仮ラミネート工程と、前記基材側及び/又は二軸延伸フィルム側からエネルギー線を照射して前記樹脂層を硬化する樹脂層硬化工程と、前記二軸延伸フィルムを剥がす剥離工程と、剥離後の前記樹脂層の表面に、赤外線領域にピーク波長を有する電磁波を反射するコレステリック液晶を含む反射層を形成する反射層形成工程とを含む、電磁波反射フィルムの製造方法。前記二軸延伸フィルムは、ラミネート面にラビング処理がなされたフィルムである請求項1に記載の電磁波反射フィルムの製造方法。前記剥離工程の後、前記樹脂層の表面にラビング処理を行ってから、前記反射層形成工程を行う、請求項1又は2に記載の電磁波反射フィルムの製造方法。前記二軸延伸フィルムは、ポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項1から3のいずれかに記載の電磁波反射フィルムの製造方法。しかし、特許文献1に記載の電磁波反射フィルムにおいて、電磁波の配向性は、凹凸が規則的である場合に比べて劣る。本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、コレステリック層と基材との密着性と、電磁波の配向性との両方に優れた電磁波反射フィルムを提供することである。本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねたところ、基材上に樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、二軸延伸フィルムを樹脂層上に一時的にラミネートする仮ラミネート工程と、基材側及び/又は二軸延伸フィルム側からエネルギー線を照射して樹脂層を硬化する樹脂層硬化工程と、上記二軸延伸フィルムを剥がす剥離工程と、剥離後の上記樹脂層の表面に、電磁波を反射するコレステリック液晶を含む反射層を直接形成する反射層形成工程とを経ることで、反射層と基材との密着性と、電磁波の配向性との両方に優れる電磁波反射フィルムを提供できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的に、本発明では、以下のようなものを提供する。1本発明は、基材上に、エネルギー線硬化性を有する樹脂からなる樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、二軸延伸フィルムを前記樹脂層上に一時的にラミネートする仮ラミネート工程と、前記基材側及び/又は二軸延伸フィルム側からエネルギー線を照射して前記樹脂層を硬化する樹脂層硬化工程と、前記二軸延伸フィルムを剥がす剥離工程と、剥離後の前記樹脂層の表面に、赤外線領域にピーク波長を有する電磁波を反射するコレステリック液晶を含む反射層を形成する反射層形成工程とを含む、電磁波反射フィルムの製造方法である。2また、本発明は、前記二軸延伸フィルムがラミネート面にラビング処理がなされたフィルムである1に記載の電磁波反射フィルムの製造方法である。3また、本発明は、前記剥離工程の後、前記樹脂層の表面にラビング処理を行ってから、前記反射層形成工程を行う、1又は2に記載の電磁波反射フィルムの製造方法である。4また、本発明は、前記二軸延伸フィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである、1から3のいずれかに記載の電磁波反射フィルムの製造方法である。本発明によれば、反射層と基材との密着性と、電磁波の配向性との両方に優れた電磁波反射フィルムを提供できる。以下、本発明の具体的な実施形態について、詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。<電磁波反射フィルム1の製造方法>本発明の電磁波反射フィルム1は、図1及び図2に示す工程を経て製造される。[樹脂層形成工程]まず、図1のaに示すように、基材11上に、エネルギー線硬化性を有する樹脂層形成用組成物を塗工し、樹脂層12を形成する。1.基材本発明の基材は、反射層を支持でき、所定の透明性を有するものであれば、特に限定されるものではなく、可撓性を有するフレキシブル材であってもよいし、可撓性のないリジッド材であってもよい。基材として、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、メタアクロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂からなるものを挙げることができる。中でも、汎用性が高く、入手が容易であることから、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。基材の可視光領域における透過率は、80以上であることが好ましく、90以上であることがより好ましい。基材の透過率は、JISK7361-1プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法により測定できる。基材の厚さは、電磁波反射フィルムの用途及び基材を構成する材料等に応じて適宜決定できるものであり、特に限定されるものではない。2.樹脂層形成用組成物樹脂層は、エネルギー線硬化性を有する樹脂からなるものであれば、どのようなものであってもよく、例えば、ウレタンメタアクリレート、エポキシメタアクリレート、ポリエステルメタアクリレート、ポリエーテルメタアクリレート、メラミンメタアクリレート等のメタアクリロイル基をもつ重合性オリゴマー、モノマーと、メタアクリル酸、メタアクリルアミド、メタアクリロニトリル、スチレン等重合性ビニル基をもつ重合性オリゴマー、モノマー等の単体あるいは配合したものに、必要に応じて増感剤等の添加剤を加えたものに光重合開始剤を加えたもの等を挙げることができる。1メタアクリル系主剤主剤は、液晶層との密着性が良好で、液晶配向能を付与しやすい、高透明である点からメタアクリル系であることが好ましい。主剤はエネルギー線硬化性を有するものであればどのようなものであってもよいが、基材への追従性に優れることから、モノマーであることが好ましい。エネルギー線としては、例えば、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線等の光線、X線、γ線等の電磁波のほか、電子線、プロトン線、中性子線等が挙げられる。硬化速度、照射装置の入手容易さ、価格等の観点において、紫外線照射による硬化が好ましい。モノマー1分子中のエチレン性官能基の数は、特に限定されるものではないが、アクリルモノマーが重合した際に架橋構造を発現し、バリア性を向上できる点で、モノマー1分子中にエチレン性官能基を少なくとも2つ以上有することが好ましく、所望の重合度を達成するまでの時間が短くなる点で、3つ又は4つ有することがより好ましい。エチレン性官能基を3つ又は4つ有するメタアクリル系モノマーを使用した場合、エチレン性官能基を2つ有するメタアクリル系モノマーを使用する場合に比べ、反応速度が2~10倍になる。メタアクリル系モノマーとしては、下記式Iで表されるペンタエリスリトールトリアクリレート以下、PET3Aともいう。、下記式IIで表されるペンタエリスリトールテトラアクリレート以下、PET4Aともいう。又はこれらの混合物を用いることが好ましい。PET3A及びPET4Aの量は、メタアクリル系モノマー100質量部に対して20質量部以上であることが好ましい。20重量以上含有することにより、樹脂層と反射層との密着性を向上できるとともに、バリア性も維持できる。重量基準で、PET4Aを1に対して、PET3Aを2以上の割合で含めることが好ましい。PET4Aの割合が上記割合を超えると、メタアクリル系モノマーの重合反応速度は向上するものの、反応速度が過剰に高くなるため、反応率の制御が困難になる点で好ましくない。また、PET4Aの混合比率が高まることで、硬化物が剛直になり、電磁波反射フィルムが曲げ応力に対して脆くなる点でも好ましくない。また、メタアクリル系モノマーを重合架橋させた樹脂重合体は、モノマーの反応率が30~90であることが好ましく、40~80がより好ましく、50~75がさらに好ましい。反応率が30未満であると、樹脂層の流動性が高く、樹脂層上に反射層を形成しづらいため、好ましくない。一方、反応率が90を超えると、樹脂層を構成する樹脂の表面自由エネルギーが40dyne/cm未満となり、樹脂表面の濡れ性が低下し、樹脂層上に反射層を形成する際に、均一な膜を形成できなくなる可能性がある点で好ましくない。また、反応率を90以下にすることで、未反応官能基が樹脂ポリマー中に残存するため、樹脂層上にコレステリック液晶材料を塗布、硬化させて形成すると、コレステリック液晶材料と樹脂とが架橋して、層間の密着性が高まる点でも好ましい。メタアクリル系モノマーを重合架橋させた樹脂の表面自由エネルギーは、40dyne/cm以上であることが好ましい。この範囲の表面自由エネルギーとすることにより、樹脂層と反射層を構成する液晶材料との親和性が向上するため、均一な反射層を形成できる。ところで、PET3AやPET4A等のメタアクリルモノマーについては、カルボニル基C=Oの伸縮振動は、1730cm-1付近に、そして末端ビニル基のC-H面外変角振動は810cm-1付近に赤外吸収ピークを示す。カルボニル基は重合しても消失されないため1730cm-1付近のピークは重合前後でピーク強度は変化しないが、末端ビニル基は重合反応により消失される二重結合から単結合になるため、810cm-1付近のピーク強度は減少する。そこで、減少した末端ビニル基、つまり810cm-1のピーク強度が重合反応前と比べてどの程度減少したかにより、重合反応の進行度合い、すなわち反応率を求めることができる。本明細書では、重合反応の前後での810cm-1のピーク強度の減少率を反応率として定義する。すなわち、反応率は次のようにして求める。まず、樹脂層の赤外スペクトル以下、IRという。を測定する。そして、カルボニル基のC=O伸縮振動に由来するピークIC=Oは、2100~1900cm-1間の吸光度が最小値を示す点と、1570~1540cm-1間の吸光度が最小値を示す点とを結ぶ線をベースラインとし、1740~1710cm-1の範囲内にて極大値を示すピークトップのベースラインからの高さにより求める。また、末端ビニル基のC-H面外変角振動に由来するピークIC-Hは、830±10cm-1間の最小値と790±10cm-1間の最小値とを結ぶベースラインを基準とした、810±5cm-1の範囲内にて極大値を示すピークトップのベースラインからの高さにより求める。そして、末端ビニル基の面外変角振動に由来するピークIC-HのC=O伸縮振動由来のピークIC=Oに対する比IC-H/IC=Oを重合前後のそれぞれについて求め、重合反応の前後での減少率を反応率とする。すなわち、重合前のピーク強度比をA0、重合後のピーク強度比をAxとして、下記式:反応率=A0-Ax/A0×100によって反応率を定義する。なお、IR測定は、試料濃度をKBr量の1~2重量にし、KBr錠剤法にしたがい、フーリエ変換赤外分光光度計FT/IR-610日本分光社製を用いることで測定できる。2シランカップリング剤樹脂層の架橋収縮率を改善し、樹脂層の変形を防止するため、樹脂層を構成する樹脂層形成用組成物は、シランカップリング剤を含有することが好ましい。シランカップリング剤は、従来公知のものを用いればよく、例えば、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス2-メトキシエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-2-アミエチル3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス2-エトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。シランカップリング剤の含有量は、メタアクリル系主剤100質量部に対して0.5質量部以上100質量部以下であることが好ましい。0.5質量部未満であると、添加効果が得られないため、好ましくない。100質量部を超えると、液晶の配向を乱す層となる傾向が見られるため、好ましくない。重合開始剤必須の構成要素ではないが、アクリル系主剤の感応性を増進させるため、樹脂層を構成する樹脂層形成用組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤は、液晶材料の重合反応を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、照射するエネルギーの種類に応じて適宜選択すればよい。重合開始剤として、光重合開始剤及び熱重合開始剤等を挙げることができる。また、反射層形成用組成物に重合開始剤を含有させる場合、重合開始剤の量は、所望の重合反応が生じる程度であれば特に限定されるものではなく、適宜決定すればよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル連鎖反応が開始し、進行する量であれば、特に限定されるものではない。一般には、市販の分光光度計を用いて測定した重合開始剤の極大吸収波長における吸光度が0.4~0.5の範囲内となる量の重合開始剤を配合する。3その他の添加剤また、樹脂層形成用組成物には、その他、本発明の目的を損なわない範囲で必要に応じて、架橋剤、粘着付与剤、金属キレート剤、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、着色剤、耐電防止剤、防腐剤、消泡剤、ぬれ性調整剤等の各種添加剤を配合することができる。3.樹脂層の形成基材11上に樹脂層形成用組成物を塗工する方法は、特に限定されるものではなく、例えば、バーコート法、スピンコート法、ブレードコート法等を挙げることができる。樹脂層12の厚さは、0.5μm~20μmの範囲内であることが好ましい。厚さが0.5μm未満であると、基材フィルムの凹凸等の配向欠陥が発生する傾向であるため、好ましくない。厚さが20μmを超えると、樹脂層の収縮によるカールが発生してフィルムとして取り扱いしにくい傾向であるため、好ましくない。[仮ラミネート工程]次に、図1のbに示すように、二軸延伸フィルム13を樹脂層12上に一時的にラミネートする。樹脂層12の表面に形成するフィルムは、二軸延伸フィルムであることを要する。二軸延伸フィルムでないと、二軸延伸フィルム13を剥離した後の樹脂層12の表面が極めて不規則な凹凸を有することになり、その後に形成される電磁波反射フィルムにおいて、電磁波の配向性が劣るため、好ましくない。また、電磁波の配向性を高めるため、樹脂層12の表面に形成するフィルムは、少なくとも一方にラビング処理がなされたフィルムであり、上記二軸延伸フィルム形成工程において、二軸延伸フィルム13のラビング処理がなされた面を樹脂層12の表面上に形成することが好ましい。二軸延伸フィルム13の市販品としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム以下PETフィルムという。ルミラー登録商標U35東レ社製が挙げられる。なお、基材11と二軸延伸フィルム13とは、同一の材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。ラミネートは、従来用いられるラミネーターを用いて行い、空気が入らないようにすればよいが、ラミネート温度は、20°C以上120°C以下であることが好ましい。20°C未満であれば、基材11と二軸延伸フィルム13とを適切にラミネートできない可能性がある点で好ましくない。120°Cを超えると、基材11と二軸延伸フィルム13とが強固に密着し、その後、二軸延伸フィルム13を剥がす際に容易に剥がすことができない可能性がある点で好ましくない。[樹脂層硬化工程]続いて、図1のcに示すように、基材11側及び/又は二軸延伸フィルム13側からエネルギー線を照射して樹脂層12を硬化させる。樹脂層形成用組成物の硬化は、樹脂層形成用組成物に電磁波を照射することによって行われる。電磁波は、200~450nmの波長域の光が好ましく、300~450nmの波長域の光がより好ましい。光源は、特に限定されるものではなく、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、炭素アーク灯、水銀蒸気アーク、蛍光ランプ、アルゴングローランプ、ハロゲンランプ、白熱ランプ、低圧水銀灯、フラッシュUVランプ、ディープUVランプ、キセノンランプ、タングステンフィラメントランプ、太陽光等が挙げられる。これらの光源を用い、積算光量が50mJ/cm2以上、好ましくは200mJ/cm2以上になるように光を照射することにより、樹脂層形成用組成物を硬化させることができる。[剥離工程]続いて、図1のdに示すように、二軸延伸フィルム13を基材11から剥がす。これらの工程を経ることで、二軸延伸フィルム13表面の凹凸が樹脂層12の表面に転写される。なお、必須の工程ではないが、少なくとも一方にラビング処理がなされた二軸延伸フィルムを用いていない場合、電磁波の配向性を高めるため、剥離工程の後、樹脂層12の表面にラビング処理を行ってから、次の反射層形成工程に移ることが好ましい。[反射層形成工程]続いて、図2のeに示すように、樹脂層12上に、反射層形成用組成物を層状に塗工する。1.反射層形成用組成物反射層形成用組成物は、コレステリック規則性を有する液晶材料と、カイラル剤とを含有する。また、反射層形成用組成物に対し、レベリング剤、重合開始剤、添加剤等を含有してもよい。液晶材料液晶材料として、コレステリック規則性を示すコレステリック液晶を用いることができる。このような材料として、コレステリック液晶構造を形成し得る液晶材料であれば特に限定されるものではないが、硬化後に光学的に安定した反射層を得られる点で、分子の両末端に重合性の官能基を有する液晶材料が好ましい。このような液晶材料として、例えば、下記の一般式1で表わされる化合物のほか、下記の式2-i~2-xiで表される化合物を挙げることができる。また、これらの化合物を単独で、もしくは混合して用いることができる。上記一般式1において、R1及びR2はそれぞれ水素又はメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからR1及びR2はともに水素であることが好ましい。Xは水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数1~4のアルキル基、メトキシ基、シアノ基、ニトロ基のいずれであっても差し支えないが、塩素又はメチル基であることが好ましい。また、上記一般式1において、分子鎖両端のメタアクリロイロキシ基と芳香環とのスペーサーであるアルキレン基の鎖長を示すa及びbは、それぞれ個別に2~12の範囲で任意の整数をとり得るが、4~10の範囲であることが好ましく、6~9の範囲であることがさらに好ましい。a=b=0である場合、安定性に乏しく、加水分解を受けやすい上に、化合物自体の結晶性が高いため、液晶相を示す温度範囲が狭い点で好ましくない。また、a又はbのいずれかが13以上である場合、アイソトロピック転移温度TIが低いため、液晶相を示す温度範囲が狭い点で好ましくない。2.カイラル剤カイラル剤は、光学活性な部位を有する低分子化合物であり、主として分子量1500以下の化合物である。カイラル剤は主として、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料が発現する正の一軸ネマチック規則性に螺旋構造を誘起させる目的で用いられる。この目的が達成される限り、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間で溶液状態あるいは溶融状態において相溶し、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料の液晶性を損なうことなく、これに所望の螺旋構造を誘起できるものであれば、カイラル剤としての低分子化合物の種類は特に限定されない。なお、このようにして液晶に螺旋構造を誘起させるために用いられるカイラル剤は、少なくとも分子中に何らかのキラリティーを有していることが必要である。したがって、ここで用いられるカイラル剤としては、例えば1つあるいは2つ以上の不斉炭素を有する化合物、キラルなアミンやキラルなスルフォキシド等のようにヘテロ原子上に不斉点がある化合物、あるいはクムレンやビナフトール等の軸不斉を持つ光学活性な部位を有する化合物が挙げられる。しかしながら、選択されたカイラル剤の性質によっては、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料が形成するネマチック規則性の破壊、配向性の低下、あるいはカイラル剤が非重合性の場合には、液晶材料の硬化性の低下や、硬化後のフィルムの信頼性の低下を招くおそれがある。さらに、光学活性な部位を有するカイラル剤の多量な使用は、液晶材料のコストアップを招く。したがって、短い螺旋ピッチ長のコレステリック規則性を有する選択反射層を形成する場合には、液晶材料に含有させる光学活性な部位を有するカイラル剤としては、螺旋構造を誘起させる効果の大きなカイラル剤を選択することが好ましく、具体的には下記の一般式3、4又は5で表されるような、分子内に軸不斉を有する低分子化合物を用いることが好ましい。上記一般式3又は4において、R4は水素又はメチル基を示す。Yは下記に示す式i~xxivの任意の一つであるが、中でも、式i、ii、iii、v及びviiのいずれか一つであることが好ましい。また、アルキレン基の鎖長を示すc及びdは、それぞれ個別に2~12の範囲で任意の整数をとり得るが、4~10の範囲であることが好ましく、6~9の範囲であることがさらに好ましい。c又はdの値が0又は1である場合、安定性に欠け、加水分解を受けやすく、結晶性も高いため、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間の相溶性が低下し、濃度によっては相分離する可能性がある点で、好ましくない。一方、c又はdの値が13以上である場合、融点Tmが低いため、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間の相溶性が低下し、濃度によっては相分離する可能性がある点で、好ましくない。このようなカイラル剤は、特に重合性を有する必要はない。しかしながら、カイラル剤が重合性を有している場合、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料と重合され、コレステリック規則性が安定的に固定化されるので、熱安定性等の点で好ましい。特に、分子の両末端に重合性の官能基があることが、耐熱性の良好な選択反射層を得る上で好ましい。反射層が反射する電磁波の波長帯は、反射層形成用組成物に含まれるカイラル剤の量によって決まる。一例として、反射層が反射する電磁波の波長帯のピークを780nmにする場合、右旋回性を与えるカイラル剤の割合は、反射層形成用組成物100質量部に対して2質量部以上10質量部以下であることが好ましく、左旋回性を与えるカイラル剤の割合、反射層形成用組成物100質量部に対して2質量部以上20質量部以下であることが好ましい。3.レベリング剤レベリング剤は、液晶材料のコレステリック構造の形成を促すために用いられる。レベリング剤は、反射層において液晶材料のコレステリック配列を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、シリコン系化合物、フッ素系化合物、アクリル系化合物等を挙げることができる。レベリング剤の市販品としては、ビックケミージャパン社製のBYK-361N、AGCセイケミカル社製のS-241等を用いることができる。なお、レベリング剤は、1種類であってもよいし、2種類以上であってもよい。レベリング剤の含有量は、液晶材料のコレステリック構造を所望の規則性で形成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、反射層形成用組成物100質量部に対して0.01質量部以上5.0質量部以下であることが好ましく、0.03質量部以上10.0質量部以下であることがより好ましい。0.01質量部未満であると、空気界面での液晶分子が垂直配向しやすくなり、かつ膜が均一となりにくい状態であるため、好ましくない。10.0質量部を超えると、液晶の配向を阻害する場合が出てくる場合が見られる状態であるため、好ましくない。4.重合開始剤重合開始剤は、カイラル剤及びレベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した液晶材料を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするために用いられる。重合開始剤は、液晶材料の重合反応を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、樹脂層で用いるものと同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。5.溶媒また、液晶材料、カイラル剤、レベリング剤、重合開始剤を分散させるため、通常、反射層形成用組成物は溶媒に分散されている。溶媒は、上記の成分を分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、シクロヘキサノン等を挙げることができる。6.反射層の形成反射層形成用組成物の塗工は、樹脂層の形成と同じ方法でよく、例えば、バーコート法、スピンコート法、ブレードコート法等を挙げることができる。反射層の厚さは、所定の波長領域にある赤外光を選択的反射する機能を実現できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、0.1μm~100μmの範囲内であることが好ましく、0.5μm~20μmの範囲内であることがより好ましく、1μm~10μmの範囲内であることがさらに好ましい。厚さが0.1μm未満であると、所望の反射率が得られない状態であるため、好ましくない。厚さが100μmを超えると、コレステリック配向が乱れやすい状態であるため、好ましくない。[反射層乾燥工程]続いて、図2のfに示すように、樹脂層12上に塗工した反射層形成用組成物を乾燥させる。反射層形成用組成物の乾燥は、溶媒を除去するために行われる。乾燥温度は、50°C以上200°C以下であることが好ましい。50°C未満であると、溶媒を適切に除去できない可能性があるため、好ましくない。200°C以上であると、熱シワの発生や劣化する可能性があるため、好ましくない。[反射層硬化工程]続いて、図2のgに示すように、乾燥後の反射層形成用組成物を硬化することで反射層14を形成する。これらの工程を経ることで、本発明の電磁波反射フィルム1が形成される。反射層形成用組成物の硬化は、反射層形成用組成物に電磁波を照射することによって行われる。反射層形成用組成物に電磁波を照射するのは、カイラル剤及びレベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した液晶材料を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするためである。光源は、樹脂層を形成する際に用いたものと同じでよく、その光源を用い、積算光量が25mJ/cm2~800mJ/cm2、好ましくは25mJ/cm2~400mJ/cm2、より好ましくは50mJ/cm2~200mJ/cm2の範囲となるように光を照射することにより、反射層形成用組成物を硬化させることができる。積算光量が25mJ/cm2未満であると、液晶材料の重合が不十分になり、結果として液晶材料のコレステリック構造が乱され得るため、好ましくない。800mJ/cm2を超えると、レベリング剤が反射層の表面に表れる可能性があるため、好ましくない。以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。<実施例1>[基材の準備]PETからなる二軸延伸フィルム商品名:ルミラー登録商標U35,厚さ:125μm,東レ社製を準備した。[樹脂層の形成]上記PETフィルムの易接着層上に紫外線硬化性樹脂商品名:ユニディック,DIC社製を、バーコーターを用いて5.4g/m2になるように塗布した。その後、樹脂を、90°Cに調整したオーブンで30秒間加熱乾燥した。[配向能の転写]上記基材とは別に、上記PETフィルムと同じフィルムを準備した。このフィルムの波長585nmでのリタデーション値は、3710nmであった。なお、リタデーション値は、光学材料検査装置Rets-100大塚電子社製を用いて測定した。また、以下、特に断りのない限り、波長585nmでのリタデーション値をRe値と略して表現する。上記フィルムの易接着処理がなされていない面を、上記樹脂層の表面と接触するようにラミネートした。ラミネートは、ラミネーターを用いて行い、空気が入らないようにした。続いて、ラミネートしたルミラーU35の側から紫外線照射装置フュージョン社製、Hバルブを用いて紫外線を照射した。このとき、積算光量は、158mJ/cm2であった。その後、ラミネートしたPETフィルムを基材から剥離した。これによって、樹脂層に配向能が転写された状態となった。[反射層の形成]両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンとアクリレートとの間にスペーサを有する、下記の式で表される液晶性モノマー分子95.81重量部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤分子商品名:CNL715,アデカ社製4.19重量部とをシクロヘキサノン溶液に溶解させた。そして、この溶液に、上記液晶性モノマー分子に対して5.0重量部の光重合開始剤商品名:イルガキュア184,BASF社製を添加した。次に上記樹脂層上にバーコーターにて、上記シクロヘキサノン溶液を塗布した。次いで、100°Cで2分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させた。そして、上記塗膜に紫外線照射装置フュージョン社製、Hバルブを用いて紫外線を積算光量が400mJ/cm2になるように照射し、塗膜中の光開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレート及びカイラル剤分子のアクリレートを3次元架橋してポリマー化し、コレステリック構造を固定化することにより、反射層ピーク反射波長880nmを得た。このとき、反射層の膜厚は6μmであった。上記の工程を経ることで、実施例1の電磁波反射フィルムを得た。<実施例2>配向能の転写を以下の工程で行ったこと以外は、実施例1と同様の方法にて実施例2の電磁波反射フィルムを得た。[配向能の転写]上記基材とは別に、上記PETフィルムと同じフィルムを準備した。このフィルムのRe値は、4196nmであった。上記フィルムの易接着処理がなされていない面に対し、ラビング処理を2回行った。ラビング処理は、レーヨン商品名:YA-18-R,吉川化工製を用いて行った。そして、ラビング処理した面を、上記樹脂層の表面と接触するように仮ラミネートした。仮ラミネートは、ラミネーターを用いて行い、70°Cで行った。また、仮ラミネートの際、空気が入らないようにした。続いて、ラミネートしたルミラーU35の側から紫外線照射装置フュージョン社製、Hバルブを用いて紫外線を照射した。このとき、積算光量は、158mJ/cm2であった。その後、ラミネートしたPETフィルムを基材から剥離した。これによって、樹脂層に配向能が転写された状態となった。<実施例3>配向能を転写する際に用いたフィルムのRe値が5718nmであること以外は、実施例1と同様の方法にて実施例3の電磁波反射フィルムを得た。<実施例4>配向能を転写する際に用いたフィルムのRe値が6339nmであること以外は、実施例1と同様の方法にて実施例3の電磁波反射フィルムを得た。<実施例5>上記基材がPETからなる二軸延伸フィルム商品名:コスモシャイン登録商標A4100,厚さ:125μm,東洋紡績社製であり、配向能を転写する際に用いたフィルムのRe値が4196nmであること以外は、実施例1と同様の方法にて実施例5の電磁波反射フィルムを得た。<実施例6>配向能を転写する際に用いたフィルムのRe値が3711nmであることと、樹脂層に配向能を転写した後に、上記レーヨンを用いて樹脂層の表面をラビング処理したこととのほかは、実施例1と同様の方法にて実施例6の電磁波反射フィルムを得た。<比較例1>配向能の転写を行わなかったことと、樹脂層を形成した後に、上記レーヨンを用いて樹脂層の表面をラビング処理したこととのほかは、実施例1と同様の方法にて比較例1の電磁波反射フィルムを得た。<比較例2>樹脂層の形成を行わず、基材の易接着処理がなされていない面上に反射層を直接形成したことのほかは、実施例1と同様の方法にて比較例2の電磁波反射フィルムを得た。<比較例3>樹脂層の形成を行わず、基材の易接着処理がなされている面上に反射層を直接形成したことのほかは、実施例1と同様の方法にて比較例3の電磁波反射フィルムを得た。<比較例4>配向能を転写する際に用いたフィルムがアクリルフィルム商品名:TECHNOLOGYS001,住友化学社製であること以外は、実施例1と同様の方法にて比較例4の電磁波反射フィルムを得た。<配向性の評価>配向性の評価は、分光光度計UV-3100PC島津製作所社製を用いて波長880nmでの5°正反射率を測定することにより行った。結果を表2に示す。40以上を◎とし、20以上を○とし、15以上を△とし、15未満を×とした。<密着性の評価>密着性の評価は、メンディングテープ住友スリーエム社製を用いて、JISK5400-8.5法にしたがってクロスカットを実施することにより行った。結果を表2に示す。左はピーク反射率を示し、40以上のピーク反射率を◎とし、40未満20以上のピーク反射率を○とし、20未満15以上のピーク反射率を△とし、15未満のピーク反射率を×とした。×は、プレーナー配向したコレステリック液晶が得られていないことを示す。右は密着性を示し、80以上残っているものを○とし、80未満の場合を×とした。基材上に、エネルギー線硬化性を有する樹脂からなる樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、二軸延伸フィルムを樹脂層上に一時的にラミネートする仮ラミネート工程と、基材側及び/又は二軸延伸フィルム側からエネルギー線を照射して樹脂層を硬化する樹脂層硬化工程と、上記二軸延伸フィルムを剥がす剥離工程と、剥離後の上記樹脂層の表面に、赤外線領域にピーク波長を有する電磁波を反射するコレステリック液晶を含む反射層を直接形成する反射層形成工程とを経て製造された電磁波反射フィルムは、反射層と基材との密着性と、電磁波の配向性とのいずれにも優れることが確認された実施例1~6。とりわけ、樹脂層の表面上に形成する二軸延伸フィルムのRe値が5000nmを超えるとより好適な配向性を示すことが確認された実施例3、4。そして、樹脂層の表面上に形成する二軸延伸フィルムとして少なくとも一方の面にラビング処理がなされたフィルムを用いるか実施例2、又は剥離工程の後にラビング処理を行ってから反射層形成工程を行うと実施例6、さらに好適な配向性を示すことが確認された実施例6。一方、フィルムの凹凸を樹脂層に転写しなかった場合、樹脂層に対してラビング処理を行ったとしても、好適な配向性を得られない可能性があることが確認された比較例1。また、樹脂層を形成しないと、反射層と基材との密着性を確保できない可能性があることが確認された比較例2、3。また、フィルムの凹凸を樹脂層に転写したとしても、フィルムが二軸延伸フィルムでないと、好適な配向性を得られないことが確認された比較例4。"