"融点が245°C以上のポリエステルからなる基材層と、その片面に融点が220~235°Cのポリエステルからなる艶消し層とを有する積層ポリエステルフィルムであって、該艶消し層は該層の重量を基準として15重量以上33重量以下の範囲で粒子を含有し、艶消し層の厚みtと艶消し層の平均粒子径rの関係が1.0≦r-t≦4.0μmの範囲であり、かつ艶消し面側のフィルム表面光沢度G60が5以上25以下、フィルムのボイド発生率が1.0以下であることを特徴とするインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルム。艶消し層中に含まれる粒子の最大粒子径が16μm以下である請求項1に記載のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルム。艶消し層中に含まれる粒子が合成ゼオライトからなる請求項1または2に記載のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルム。本発明の目的は、従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与でき、かつ艶消し外観の斑が少なく、しかも取扱い時の耐削れ性にも優れたインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムを提供することにある。本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、粒子含有量を増やしてフィルムの艶消し効果を増大させても、得られるインモールド転写成形品の艶消し効果が不十分で、光沢斑も発生しやすくなる要因は、インモールド成形時の樹脂圧力によりフィルムの表面突起が潰されてしまうためであること、具体的には艶消し層の粒子とマトリックスポリマー間のボイド存在量が大きく、インモールド成形時の樹脂圧力によってボイドが潰されるためであることを究明し、さらに検討を重ねた結果本発明を完成するに至ったものである。すなわち、本発明の目的は、融点が245°C以上のポリエステルからなる基材層と、その片面に融点が220~235°Cのポリエステルからなる艶消し層とを有する積層ポリエステルフィルムであって、該艶消し層は該層の重量を基準として15重量以上33重量以下の範囲で粒子を含有し、艶消し層の厚みtと艶消し層の平均粒子径rの関係が1.0≦r-t≦4.0μmの範囲であり、かつ艶消し面側のフィルム表面光沢度G60が5以上25以下、フィルムのボイド発生率が1.0以下であることを特徴とするインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムにより達成される。また本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、好ましい態様として、艶消し層中に含まれる粒子の最大粒子径が16μm以下であること、艶消し層中に含まれる粒子が合成ゼオライトからなることの少なくともいずれか1つを具備するものも包含する。本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムを用いれば、優れた艶消し外観を呈すると共に、艶消し外観の斑も小さい成形品を製造することができる。しかも、取扱い時の耐削れ性にも優れているので、その工業的価値は極めて大である。以下、本発明を詳しく説明する。<ポリエステルフィルム>本発明の転写箔用積層ポリエステルフィルムは、ポリエステルからなる基材層と、その片面にポリエステルからなる艶消し層とを有する積層ポリエステルフィルムである。基材層インモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムの基材層を構成するポリエステルは、その融点が245°C以上、好ましくは250~270°Cの範囲であることが必要であり、かかる基材層で艶消し層を支持することにより、十分なインモールド成形性を維持しながら、インモールド転写成形品に優れた艶消し外観を付与でき、かつ艶消し外観の斑も小さなものが得られる。本発明で用いられる基材層を構成するポリエステルは、芳香族二塩基酸成分とジオール成分とから構成される線状飽和ポリエステルであり、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリ1,4-シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレート、および、これらに第3成分が共重合されたポリエステルであって融点が245°C以上のポリエステルが例示される。なかでも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレート、およびこれらに第3成分が共重合されたものが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので好ましく、特にホモポリエステルが好ましい。基材層のポリエステルの融点が245°Cに満たない場合には、後記するボイド低減のための高温熱処理時にフィルムが破断しやすくなる。ポリエステルが共重合ポリエチレンテレフタレートである場合、共重合成分としてはイソフタル酸が最も好ましいが、その他の共重合成分として、フタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸等の如き芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,10-デカンジカルボン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸等が例示でき、また、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等の如き脂肪族ジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール等が例示できる。これらは単独または二種以上を使用することができる。かかるポリエステルの固有粘度ηは、0.50~0.70dl/g35°Cのo-クロロフェノール溶液で測定の範囲であることが好ましい。固有粘度の下限値は、好ましくは0.55dl/gである。また上限値は、好ましくは0.65dl/gであり、さらに好ましくは0.60dl/gである。固有粘度が下限値に満たない場合には、インモールド成形の際に破れが発生し易くなる。他方、上限値を超える場合には、溶融粘度が高くなりすぎ、製膜工程での負荷が増大して生産性が低下する。基材層は粒子を含有しないか、または粒子の含有量が基材層の重量を基準として0重量を超えて2.9重量以下である。粒子を含む場合、基材層中の粒子の濃度は、より好ましくは2.5重量以下、さらに好ましくは2.0重量以下の範囲である。基材層中の粒子の含有量が上限値を超える場合、インモールド成形性や帯電防止層の表面抵抗特性が低下することがある。基材層に用いられる粒子の種類は、通常フィルムに添加される粒子であれば特に限定されず、無機粒子、有機粒子のいずれでもよい。具体的には不定形シリカコロイドシリカ、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、合成ゼオライト、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが挙げられる。これらの粒子のうちの1種、または2種以上の異なる粒子を含有させてもよく、また同じ種類で粒径が異なる粒子の混合物を用いてもよい。基材層には、本発明の目的を損なわない範囲であればポリエステル以外の他の樹脂、着色剤、帯電防止剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤等を必要に応じて含有することもできる。艶消し層本発明の艶消し層を構成するポリエステルは、後記するフィルム特性を維持しながらボイド発生率を1.0以下に低減させるため、製膜時に基材層のポリエステルの融点以下、艶消し層のポリエステルの融点10°C以上の温度で熱処理するので、融点は235°C以下である必要がある。一方、融点が低くなりすぎるとインモールド成形時に艶消し層が流動しやすくなって光度斑が発生しやすくなるので220°C以上である必要がある。特に好ましい融点範囲は225~230°Cである。艶消し層を構成するポリエステルとしては、融点が220~235°Cの共重合ポリエチレンテレフタレート、共重合ポリ1,4-シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、共重合ポリエチレン-2,6-ナフタレート等を例示することができ。中でも共重合ポリエチレンテレフタレート、共重合ポリエチレン-2,6-ナフタレートが好ましく、基材層と同じ系統のポリエステル主たる繰返し単位が同一のポリエステルを用いることが好ましい。なお、艶消し層に用いられるポリエステルの融点は、フィルムにする前の段階から低い必要はなく、延伸処理後に低くなっていれば良い。例えば、ホモのポリエチレンテレフタレートとそれ以外の他のポリエステルとを用意し、製膜時にこれらを溶融混練してエステル交換させて融点を上記範囲としてもよい。かかるポリエステルの固有粘度ηは、0.50~0.70dl/g35°Cのo-クロロフェノール溶液で測定の範囲であることが好ましい。固有粘度の下限値は、好ましくは0.55dl/gである。また上限値は、好ましくは0.65dl/gであり、さらに好ましくは0.60dl/gである。固有粘度が下限値に満たない場合には、インモールド成形の際に破れが発生し易くなる。他方、上限値を超える場合には、溶融粘度が高くなりすぎ、製膜工程での負荷が増大して生産性が低下する。本発明の艶消し層中には、艶消し層の重量を基準として15重量以上33重量以下の範囲で粒子を含有する必要があり、好ましくは20重量以上30重量以下である。粒子の含有量が下限値に満たない場合には、後記する光沢度を達成することができず成形品表面に十分な艶消し外観を付与することができない。他方、粒子の含有量が上限値を超える場合には、製膜性が低下してフィルム破れが発生しやすくなり、フィルムの製膜自体が困難となる。粒子の平均粒子径は、好ましくは2.5μm以上5.5μm以下である。粒子の平均粒子径が下限未満の場合には、光沢度を下げる効果が低下し、光沢度を下げるためにさらに粒子の添加量を増やすと十分な成形性を得ることができないことがある。また粒子の平均粒子径が上限値を超える場合には、成形品表面に印刷抜けが生じる場合がある。また、艶消し層の厚みtと艶消し層の平均粒子径rの関係が1.0≦r-t≦4.0μmであることが必要である。r-tが1.0μm未満の場合には、粒子が艶消し層に埋もれてしまい艶消し効果が不十分となり、後記する光沢度が高くなる。他方、r-tが4.0μmを超える場合には、粒子が艶消し層表面から出過ぎるために削れ易くなり、また凹凸が激し過ぎるために例えば印刷抜けのような不具合が生じることがある。粒子の最大粒子径は16μm以下であることが好ましく、より好ましくは15μm以下、さらに好ましくは12μm以下である。ここで最大粒子径は、累積粒径分布曲線の98における粒径d98で表わされる。艶消し層における粒子の最大粒子径が上記を満たすことにより、印刷抜けを抑制することができる。本発明においては、粒子の種類は特に限定されず、無機粒子、有機粒子のどちらでもよく、不定形シリカコロイドシリカ、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、合成ゼオライト、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが例示される。これらの粒子の中で、さらに好ましくは不定形シリカもしくは合成ゼオライトのうちの少なくとも1種であり、いずれか1種を用いても併用してもよい。また同じ種類で粒径が異なる粒子の混合物を用いてもよい。また、不定形シリカの場合は水分吸着性を低下させるために、シランカップリング剤で表面処理をしたものが好ましい。特に好ましい粒子は合成ゼオライトであり、合成ゼオライトの吸着性、特に水分吸着性を低下させるために、pHが5以上の酸で粒子形状を崩さない程度の酸処理をしたものが好ましく、さらに300°C以上の温度で熱処理したものが好ましい。粒子の形状は特に規定するものではないが、不定形であると粒度分布が広くなり、凝集による粗大突起を引き起こしやすく、印刷抜けが生じることがある。したがって粒子の形状は球状もしくは多面状であることが好ましい。好ましい粒子として、球状もしくは多面状の合成ゼオライトが例示される。また多面形状の粒子の場合は艶消し効果が得られやすい。多面形状の粒子の中でも、特に立方体形状の粒子が好ましい。これらの粒子の添加方法は特に制限されないが、例えばポリエステルの重縮合中のグリコール分散系に添加する方法、または押出中マスターバッチを介して艶消し層に添加する方法が挙げられる。艶消し層中に含有させる上記の粒子は、TG-DTA装置により30°C~500°Cまで昇温速度10°C/分で昇温した際の300°Cにおける重量減少率が0以上3以下であることが好ましく、さらに好ましくは1.5以上2.0以下である。重量減少率が上限値を超える場合には、ポリエステルフィルムの製造工程や成形加工工程で発泡を引き起こしたりポリエステルの分子量を低下させたりしてフィルムの製膜性や加工性を低下させる場合があり、特に粒子を多量に含有させた場合にフィルムの製膜性や加工性を著しく低下させることがある。本発明の艶消し層は、上記にくわえて、表面光沢度G60は5以上25以下であることが必要である。ここでいう表面光沢度以下、単に光沢度と称することがあるは、JIS規格Z8741に準拠し、入射角、受光角ともに60°で測定した値で定義される。本発明の積層ポリエステルフィルムが該光沢度の艶消し層を有することにより、インモールド成形転写用の転写箔の支持フィルムとして使用すると、光沢度の低い艶消し表面外観を成形品表面に付与することができる。なお、艶消し層表面に後述する易接着層が設けられた場合には、表面光沢度は、易接着層がある状態で測定した値である。光沢度の下限値は好ましくは8である。また光沢度の上限値は好ましくは20であり、さらに好ましくは18である。かかる光沢度が下限値に満たない場合には、過剰に粒子を含むことによりインモールド成形性が不十分となるだけでなく、下限値未満まで光沢度を低くすることは技術的な困難を伴う。一方、光沢度が上限値を超える場合には、光沢度の低い優れた艶消し表面外観を成形品表面に付与することが難しくなる。かかる表面光沢度を得るためには、前記のとおり、艶消し層中の粒子含有量、および平均粒子径と艶消し層厚みの関係を調整すればよい。本発明の艶消し層は、さらに表面の10点平均粗さRzが5000nm以上8000nm以下であることが好ましく、特に5500nm以上6500nm以下であることが好ましい。艶消し層表面の10点平均粗さRzがかかる範囲であることにより、転写後の成形品の艶消し外観性を高めつつ印刷抜けをなくすことができる。艶消し層表面の10点平均粗さRzが下限値に満たない場合、成形品表面に十分な艶消し外観を付与することができないことがある。また、艶消し層表面の10点平均粗さRzが上限値を超える場合、艶消し外観性は良好であるものの表面の凹凸が激し過ぎるために、例えば印刷抜けのような不具合が生じることがある。かかる艶消し層表面の10点平均粗さRzは、前記の艶消し層中の粒子の平均粒子径と、その最大粒子径を調整することにより達成される。ボイド発生率本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、そのボイド発生率が1.0以下であることが肝要であり、好ましくは0.5以下、さらに好ましくは0.3以下である。なお、ボイド発生率は下記式2によって求めた値である。d=dT×Wα×t/T/1001.4100-Wα×t/T/1001上式中、dは真密度、dTは粒子密度g/cm3、Wαは粒子の含有率重量、tは艶消し層厚みμm、Tはフィルム厚みμm、1.4はポリエステル密度をそれぞれ表すボイド発生率=d-d0/d×1002上式中、dは真密度、d0はみかけ密度をそれぞれ表す光沢度を下げるために粒子を多量に含有させた艶消し層を有する積層ポリエステルフィルムは、粒子周辺にボイドが形成されやすいためと推定され、ボイド発生率が1.0以上の従来のフィルムではインモールド転写成形時の樹脂圧力によってボイドが潰され、その部分の表面がより平坦化して光沢斑が発生する。これに対して本発明のフィルムは、後記するように、基材層と艶消し層に特定融点のポリエステルを用い、製膜時の熱固定温度を調整して粒子表面に形成されたボイドを潰してボイド発生率を1.0以下に調整しているので、インモールド転写成形時の成形性を維持しながら、成形時の樹脂圧力によるフィルム表面の部分的な平坦化を抑制することができる。その結果、優れた艶消し外観を呈すると共に、艶消し外観の斑も小さい成形品を得ることができるのである。フィルム総厚み本発明の積層ポリエステルフィルムは、インモールド転写箔用の支持フィルムとして使用される厚みを有していれば良く、好ましくは10~150μm、特に好ましくは20~100μmである。帯電防止層本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、基材層の艶消し層が積層される面と反対側にさらに帯電防止層を有していてもよく、帯電防止層の表面抵抗は1×1013Ω/□以下であることが好ましい。かかる帯電防止層を有することにより、インモールド用転写箔の取り扱いの際に帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着が抑制される。かかる帯電防止層には、帯電防止剤としてカチオンポリマーを用いることが好ましく、さらに離型成分として反応基を有するシリコーンやワックスなどを併用することが好ましい。帯電防止層には、さらに塗膜の凝集力を向上させるために各種架橋剤を用いてもよく、その他塗膜の塗布性を高めるために界面活性剤を用いてもよい。易接着層本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、離型層メジューム層との接着性を高める目的でさらに艶消し面側に易接着層を有することができる。易接着層は塗布により設けられた易接着性の塗布層であることが好ましい。易接着層には、インモールド用転写箔として用いるときに設けられる離型層との高い接着性を得るために共重合ポリエステルを使用することが好ましい。易接着層にはさらに架橋剤、粒子、界面活性剤などを用いてもよい。フィルム製造方法本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、例えば次の方法で製造することができる。すなわち艶消し層および基材層を共押出法により積層押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて非晶未延伸フィルムとし、次いで縦方向以下、機械軸方向、連続製膜方向、長手方向またはMD方向と称することがあるおよび横方向以下、幅方向、TD方向と称することがあるに延伸する。縦方向の延伸は、例えば温度60~130°C、好ましくは90~125°Cで縦方向に2.0~4.0倍、好ましくは2.5~3.5倍延伸する。横方向の延伸は、例えば温度60~130°C、好ましくは90~125°Cで2.0~4.0倍、好ましくは3.0~4.0倍延伸する。なお、二軸延伸後の面積倍率は13以下であることが好ましい。また、一方向の延伸は2段以上の多段で行なう方法を用いることもできるが、最終的な延伸倍率は前述の範囲内にあることが好ましい。フィルムの延伸後には熱固定処理を行う必要があり、熱固定処理温度は、艶消し層のポリエステル融点より10°C以上高い温度でかつ基材層のポリエステル融点以下の温度範囲とし、ボイド発生率が1.0以下となるように1~30秒の時間内で適宜調整して行なうことが好ましい。その際、20以内の制限収縮もしくは伸長、または定長下で行ない、また2段以上で行なってもよい。帯電防止層を設ける場合には、基材層の艶消し層と反対側の面に、帯電防止層形成成分を含む塗剤を塗布することにより設けられる。塗布時のフィルムとしては結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムが好ましい。この場合、塗布後はフィルムに結晶配向を完了させる延伸処理、更には熱固定処理を施すことが好ましい。また、易接着層を設ける場合には、易接着層形成成分を含む塗剤をポリエステルフィルムの艶消し層上に塗布することにより設けられる。この場合、前記の帯電防止層と同時に易接着層も設けることが好ましい。インモールド転写箔本発明の積層ポリエステルフィルムはインモールド転写用途に用いられ、従来よりもさらに艶消し性が高く、さらに斑の小さい艶消し外観を成形品表面に付与でき、しかもインモールド転写箔用として十分な成形性をも有するものである。本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、艶消し面側に易接着層を設ければ、該易接着層上にさらに離型層メジューム層および印刷層を形成した態様で用いることができ、印刷層は成形品表面に転写接着して製品として取り出され、その他の部分は製品から取り除かれる形で使用される。以下、実施例をあげて本発明をさらに説明する。なお、例中の特性は、次の方法で求めた。1.光沢度G60JIS規格Z8741に準拠し、日本電色工業株製のグロスメーターVGS-SENSORを用いて測定した。入射角、受光角ともに60°にてN=5づつ測定し、その平均値を用いた。さらに以下の基準で艶消し性を判断した。◎:5以上18以下艶消し性極めて良好○:18を超え25以下艶消し性良好×:25を超える艶消し性不良2.粒子の平均粒子径、最大粒子径粒子をエチレングリコール中に3の濃度になるようにミキサーで攪拌し、島津製作所製レーザー散乱式粒度分布測定装置SALD-7000を用いて測定を行った。粒度分布測定結果から50体積粒径D50を求め、これを平均粒子径とした。また、最大粒子径はメジアン粒径d98とした。なおd98の値は累積粒径分布曲線の98における粒径である。3.粒子の含有量フィルムから艶消し層を切り出し、ポリエステル樹脂は溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し、サンプルを溶解処理した後、粒子をポリエステル樹脂から遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率重量をもって粒子の含有量とする。4.融点TAInstrumentsQ100DSCを用い、昇温速度20°C分で融解ピークを求める方法による。なおサンプルは各層から採取し、その量は約20mgとする。5.フィルムの各層厚みサンプルを三角形に切り出し、包埋カプセルに固定後、エポキシ樹脂にて包埋した。そして、包埋されたサンプルをミクロトームULTRACUT-Sで縦方向に平行な断面を50nm厚の薄膜切片にした後、透過型電子顕微鏡を用いて、加速電圧100kvにて観察撮影し、写真から各層の厚みを10点ずつ測定し、それぞれの層について平均厚みを求めた。艶消し層の層厚みについては、粒子の存在しない部分の厚みを測定した。6.耐削れ性20mm幅に切断したフィルムサンプルを用い、フィルムの艶消し面側を直径10mmの円柱状ステンレス製固定バーにあてて200gの荷重を加えた状態で80m走行させた後、バーに付着した粉を観察し、耐削れ性を下記の通り評価する。〇:バーに粉の付着が無い耐削れ性良好×:バーに白粉が付着する耐削れ性不良7.印刷適性フィルムの帯電防止層と反対側の面上にメラミン樹脂のメチルエチルケトン/トルエン溶液を塗布し、1μm厚さの離型層の膜を形成した。ここで、1μm厚さの調整は、粒子を含まない平滑なポリエチレンテレフタレートフィルム上で厚み1μmになるように溶液濃度を調整し、厚みを確認した上で、同条件で艶消し層側に塗布する方法で行った。その上に、ウレタンアクリレートを主成分とする紫外線硬化型ハードコート層厚さ5μmを全面にグラビア印刷法により印刷し、さらにそのうえにアクリル樹脂系インキにて図柄層をグラビア印刷法により印刷した。結果を以下のような基準にて評価した。○:印刷外観良好×:図柄層が不鮮明抜け等が発生8.成形品の外観斑発生状況金型にインモールド転写箔を絵柄層インク側が射出側となるように設置し、10cm角の大きさで、立ち上がり15mm、コーナー部のRが2mmのトレー状成形品を射出成形した。この時、成形用の樹脂には、ポリカーボネート/ABS樹脂アロイを用い、樹脂温度260°C、金型温度50°C、樹脂圧力約350MPaとした。トレー状成形品から、離型層と絵柄層の界面で転写箔を剥離し、加飾された成形部品を得た。成型部品の外観を以下のような指標により評価をおこなった。外観斑は特に成型樹脂の射出箇所の部分で発生する。○:成型部品に斑が見えない外観良好×:成型部品に光沢斑がある外観不良9.ボイド発生率得られたフィルムサンプルについて下記式2よりボイド発生率を求めた。d=dT×Wα×t/T/1001.4100-Wα×t/T/1001上式中、dは真密度、dTは粒子密度g/cm3、Wαは粒子の含有率重量、tは艶消し層厚みμm、Tはフィルム厚みμm、1.4はポリエステル密度をそれぞれ表すボイド発生率=d-d0/d×1002上式中、dは真密度、d0はみかけ密度をそれぞれ表す[実施例1~15、比較例1~11]基材層側は粒子無添加のポリエチレンテレフタレート固有粘度0.63dl/gを用い、艶消し層側は表1に示す共重合ポリエステルに粒子を添加したものを用い、それぞれ280°Cに加熱された押出し機に供給して、基材層ポリマーAと艶消し層ポリマーBとがA/B積層型となるような2層フィードブロック装置を用いて合流させ、その積層状態を維持したままダイスよりシートを20°Cに維持した回転冷却ドラム上に溶融押出して未延伸フィルムとし、次いで該未延伸フィルムを縦方向に3.4倍延伸し、その後、表2に記載の塗布層成分易接着層:4重量、帯電防止層3重量、それぞれの塗布厚みWet4~5μmをそれぞれロールコーターで均一に塗布した。この塗布フィルムを引き続いて105°Cで乾燥し、140°Cで横方向に3.5倍に延伸し、さらに表1に示す温度で熱固定処理を5秒施し、2軸延伸積層ポリエステルフィルム厚さ50μmを得た。各々のフィルムの評価結果を表1に示す。表1からわかるように、本発明にかかる実施例1~15の各フィルムは、優れた艶消し外観を成形品に付与することができ、しかも成形品における艶消し外観の斑も極めて少ないものであった。一方、比較例1、3、4の各フィルムは艶消し性が十分ではなく、十分な艶消し外観を成形品に付与できなかった。比較例2のフィルムは艶消し層の粒子濃度が高すぎるため、フィルム製膜時に破れが生じてフィルムを製膜することが困難であった。比較例5のフィルムは艶消し性は良好であったが、艶消し層の厚みに対して粒子径が大きすぎるため耐削れ性が十分ではなかった。比較例6、7の各フィルムは艶消し性は良好であったが、熱固定温度が低くすぎるためボイド発生率を1.0以下とすることができず、得られる成形品に艶消し外観の斑が目立った。比較例8、9の各フィルムは艶消し性は良好であったが、艶消し層の融点が高すぎるために熱固定温度を十分高くすることができず、比較例6,7と同様に得られる成形品に艶消し外観の斑が目立った。比較例10のフィルムは艶消し性は良好であったが、艶消し層の融点が低すぎるため、成形時に艶消し層のポリマーが流動して、得られる成形品に艶消し外観の斑が目立った。比較例11のフィルムは基材層のポリマー融点が低くすぎるため、フィルム製膜時に破れが生じてフィルムを製膜することが困難であった。表1のポリエステルの略称は以下のとおりである。PET:ポリエチレンテレフタレートIAx-PET:イソフタル酸xモル共重合ポリエチレンテレフタレートNDCx-PET:26ナフタレンジカルボン酸xモル共重合ポリエチレンテレフタレート表2で用いた成分は以下のとおりである共重合ポリエステル:酸成分がテレフタル酸50モル/イソフタル酸45モル/5-ナトリウムスルホイソフタル酸5モル、グリコール成分がエチレングリコール90モル/ジエチレングリコール10モルで構成されているTg=40°C。ポリエステルは、下記の通り製造した。すなわち、テレフタル酸ジメチル30部、イソフタル酸ジメチル27部、5-ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル5部、エチレングリコール36部、ジエチレングリコール3部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン0.05部を添加して窒素雰囲気下で温度を230°Cにコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで反応系の温度を徐々に255°Cまで上昇させ系内を1mmHgの減圧にして重縮合反応を行い、共重合ポリエステルを得た。なおかかる共重合ポリエステルの製造方法は、特開平06-116487号公報の実施例1に記載の方法に準じたものである。カチオンポリマー:下記式1に示す構造が80モル/メチルアクリレート15モル/N-メチロールアクリルアミド5モルからなる共重合体である。上式1中、R1、R2はそれぞれHであり、R3は炭素数が3のアルキレン基であり、R4、R5はそれぞれ炭素数が1の飽和炭化水素基であり、R6は炭素数が3のヒドロキシアルキレン基であり、Y-はメチルスルホネートイオンである。離型剤1:アミノ基含有シリコーンGE東芝シリコーン株式会社製商品名TSF4700離型剤2:ポリエチレンワックス中京油脂株式会社製商品名ポロリンL-618架橋剤:オキサゾリン化合物株式会社日本触媒製商品名エポクロスWS-700界面活性剤:ポリオキシエチレンn=7ラウリルエーテル三洋化成株式会社製商品名ナロアクティーN-70"