"ビーム照射手段から照射されるビームを、光学系を介して収束して、原盤に照射し、直線パターンを露光形成する露光装置であって、ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意回転可能な回転角度検出手段が設けられた回転手段と、前記ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意移動可能な位置検出手段が設けられた移動手段と、原盤に対するビームの照射と非照射を制御するブランキング制御手段と、ビームを半径方向に任意に偏向する半径方向偏向制御手段と、ビームを円周方向に任意に偏向する円周方向偏向制御手段と、前記回転角度検出手段からの回転パルス情報と前記ホスト制御装置から設定される任意タイミング角度情報とから、露光開始のタイミング信号を生成するタイミング信号発生手段と、所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始及び終了位置情報と、移動ピッチ情報とを入力情報として、各トラックのタイミング信号の立ち上がり時刻から直線パターン位置までの回転時間を算出し、その算出情報に基づいて設定期間だけビームを照射するパターン信号を生成する照射期間信号生成手段と、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する円周位置補正信号生成手段と、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する半径位置補正信号生成手段と、を備え、前記照射期間信号生成手段が生成したパターン信号を前記ブランキング制御手段に、前記円周位置補正信号生成手段が生成したパターン信号を前記円周方向偏向制御手段に、前記半径位置補正信号生成手段が生成したパターン信号を前記半径方向偏向制御手段に、それぞれ印加することを特徴とする露光装置。前記タイミング信号発生手段は、回転コントローラへ印加される回転指令パルス信号のパルス数を計測するカウンタを有し、前記回転角度検出手段の1回転に1回発生する原点信号の立ち上がり時刻に最も近い前記回転指令パルス信号の立ち上がり信号にて、前記カウンタをカウンタクリアし、前記任意タイミング角度情報に基づく設定された任意角度にてタイミング信号を生成することを特徴とする、請求項2記載の露光装置。ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意回転可能な回転角度検出手段が設けられた回転手段と、前記ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意移動可能な位置検出手段が設けられた移動手段を有し、ビーム照射手段から照射されるビームを、光学系を介して収束して、原盤に照射し、直線パターンを露光形成する露光装置の制御方法であって、原盤の回転角度に基づく回転パルス情報と、任意に設定される任意タイミング角度情報とから、露光開始のタイミング信号を生成するタイミング信号発生工程と、所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始及び終了位置情報と、移動ピッチ情報とを入力情報として、各トラックのタイミング信号の立ち上がり時刻から直線パターン位置までの回転時間を算出し、その算出情報に基づいて設定期間だけビームを照射するパターン信号を生成する照射期間信号生成工程と、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する円周位置補正信号生成工程と、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する半径位置補正信号生成工程と、前記照射期間信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいて原盤に対するビームの照射と非照射を制御するブランキング制御工程と、前記円周位置補正信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいてビームを円周方向に任意に偏向する円周方向偏向制御工程と、前記半径位置補正信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいてビームを半径方向に任意に偏向する半径方向偏向制御工程と、を有することを特徴とする露光装置の制御方法。特許文献1は、回転移動手段の回転に応じて同心円を露光させるための同心円偏向信号を生成して偏向手段に供給する同心円演算処理手段と、スライド移動手段によりスライド移動した同心円の半径と、生成される多角形の中心からの長さの差分に相当する信号を同心円偏向信号に重畳させて多角形を露光させるための多角形露光信号として偏向手段に供給する多角形演算処理手段とを備える。そして、特許文献1では、差分に相当する信号を直線補間して偏向手段に印加する構成としている。又、多角形演算処理手段は、同心円の半径と回転移動手段の回転検出信号の分解能に基づいて多角形の頂点位置から回転検出信号の最小分解能に応じた位置の差分を求め、差分に相当する信号を同心円偏向信号に重畳させて多角形を露光させる。しかしながら、特許文献1の技術では、差分に相当する信号を直線補補間て多角形露光信号とすると、直線長が微小、言い換えれば多角形の辺数が多ければ問題ないが、直線長が長くなると、言い換えると多角形の辺数が少なくなると補間精度が劣化するため、描画される直線の直線性が損なわれる。その結果、露光、描画品質の低下を招く。特許文献2~4では、直線露光は互いに直角となる2つの送り機構を移動して露光するため、ディスク用露光装置の回転機構の相対線速度に比べてかなり遅くスループットが低い。このような問題点を生じさせることなく高精度な直線露光を実現することを課題とした発明としては、例えば、本願発明者らが出願した特願2010―236508があるこの先願は本願出願時において文献公知発明ではない。しかしながら、この先願においては、偏向量が大きくなると照射スポットに収差が生じ、焦点がぼけるため多角形の一辺長を長くすることができないという課題がある。本願はこの課題の他に、回転ジッタの影響を受けるため多角形の頂点部が半径方向に整列せず、又隣接する直線幅が変動するため露光品質上好ましくないという問題点も課題とする。本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであって、回転する試料にビームを照射してパターンデータを露光する技術において、偏向による収差なく良好な長い直線が得られる露光装置及びその制御方法を提供することを目的とする。上記目的を達成する本発明の第1の態様は、ビーム照射手段から照射されるビームを、光学系を介して収束して、原盤に照射し、直線パターンを露光形成する露光装置であって、ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意回転可能な回転角度検出手段が設けられた回転手段と、前記ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意移動可能な位置検出手段が設けられた移動手段と、原盤に対するビームの照射と非照射を制御するブランキング制御手段と、ビームを半径方向に任意に偏向する半径方向偏向制御手段と、ビームを円周方向に任意に偏向する円周方向偏向制御手段と、前記回転角度検出手段からの回転パルス情報と前記ホスト制御装置から設定される任意タイミング角度情報とから、露光開始のタイミング信号を生成するタイミング信号発生手段と、所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始及び終了位置情報と、移動ピッチ情報とを入力情報として、各トラックのタイミング信号の立ち上がり時刻から直線パターン位置までの回転時間を算出し、その算出情報に基づいて設定期間だけビームを照射するパターン信号を生成する照射期間信号生成手段と、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する円周位置補正信号生成手段と、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する半径位置補正信号生成手段と、を備え、前記照射期間信号生成手段が生成したパターン信号を前記ブランキング制御手段に、前記円周位置補正信号生成手段が生成したパターン信号を前記円周方向偏向制御手段に、前記半径位置補正信号生成手段が生成したパターン信号を前記半径方向偏向制御手段に、それぞれ印加することを特徴とする露光装置である。上記目的を達成する本発明の第2の態様は、ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意回転可能な回転角度検出手段が設けられた回転手段と、前記ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意移動可能な位置検出手段が設けられた移動手段を有し、ビーム照射手段から照射されるビームを、光学系を介して収束して、原盤に照射し、直線パターンを露光形成する露光装置の制御方法であって、原盤の回転角度に基づく回転パルス情報と、任意に設定される任意タイミング角度情報とから、露光開始のタイミング信号を生成するタイミング信号発生工程と、所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始及び終了位置情報と、移動ピッチ情報とを入力情報として、各トラックのタイミング信号の立ち上がり時刻から直線パターン位置までの回転時間を算出し、その算出情報に基づいて設定期間だけビームを照射するパターン信号を生成する照射期間信号生成工程と、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する円周位置補正信号生成工程と、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する半径位置補正信号生成工程と、前記照射期間信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいて原盤に対するビームの照射と非照射を制御するブランキング制御工程と、前記円周位置補正信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいてビームを円周方向に任意に偏向する円周方向偏向制御工程と、前記半径位置補正信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいてビームを半径方向に任意に偏向する半径方向偏向制御工程と、を有することを特徴とする露光装置の制御方法である。本発明によれば、回転する試料にビームを照射してパターンデータを露光する技術において、偏向による収差なく良好な長い直線が得られる露光装置及びその制御方法を提供することが可能となる。以下、本発明の実施形態について図面を用いて詳細に説明する。図1は、第1の実施形態における電子線描画装置の断面構成と制御ブロック図である。電子光学鏡筒1内の電子銃2から放出された電子ビーム3は、例えば平行平板電極にて構成したブランカー4を通り、電子レンズ5で収束し、アパーチャー6を介して、電子ビーム3を半径方向に偏向する例えば平行平板電極にて構成される半径方向偏向器7及び円周方向に偏向する円周方向偏向器8で偏向され、電子レンズ9で収束されることにより試料14に照射する。ここで、電子ビーム3は、図2に示すように半径方向偏向器7に正電圧が印加されると試料14の外周方向に偏向され、又、円周方向偏向器8に正電圧が印加されると図1の鉛直下側に偏向される構成になっている。試料室10の内部には、例えば、シリコンウエハ上面に感光材料フォトレジストが塗布された試料14が搭載されているステージ12が収納されており、ステージ12は位置コントローラ26により駆動モータ11を回転駆動して駆動される。電子光学鏡筒1は、試料室10の上面に据えられている。さらに、電子光学鏡筒1と試料室10とからなる本体部は、除振台18の上に設置されている。また、電子光学鏡筒1と試料室10の内部は、バルブ20を通してポンプ21により排気され、105Paオーダーの真空度に保持されている。ステージ12には、例えば、1パルス当たり1nm以下の分解能を有するレーザーホロスケール等の位置検出手段15がその位置信号処理手段34を介して設けられており、位置コントローラ26は、ホスト制御装置60から例えばパルス列等の位置指令情報39が入力され、位置検出手段15、34の現在位置情報42と逐次比較して位置サーボ制御が行われる。さらに、ステージ12上面には、例えばラジアル及びスラスト方向に静圧軸受を形成したエアスピンドル61が固定されており、エアスピンドル61には回転駆動モータ16を介して、例えば一周を数千~数十万等分したパルス信号と一周に一回の原点パルス信号を送出するロータリーエンコーダ等の回転角度検出手段17が同軸状に設けられおり、その回転信号処理手段24とともに設けられている。回転駆動モータ16への出力情報及び回転角度検出手段17から回転信号処理手段24を介した回転角度情報45、46は回転コントローラ25へ接続されており、全体で回転手段を構成し、ホスト制御装置60から例えばパルス列等の回転指令パルス信号40が入力され、回転信号処理手段24を介した回転角度検出手段17のパルス列等の現在回転角度情報23との逐次比較でPLL制御を行うことにより任意回転可能な構成としている。さらに、回転信号処理手段24から出力される、回転手段が一周に一回発生する原点信号となるZ相信号は、回転指令パルス信号40とともにタイミング信号発生手段33に入力されており、タイミング信号発生手段33からは、図3に示す処理により露光開始信号となるタイミング信号36aとパターンデータの更新に必要となるデータ書換え信号36bを送出する構成としている。図3を参照して、タイミング信号発生手段33について説明する。タイミング信号発生手段33は、図3に示すカウンタCNTを有しており、このカウンタCNTは、ホスト制御装置60から回転コントローラ25に印加される回転指令パルス信号40のパルス数を計測する。タイミング信号発生手段33には回転信号処理手段24を介して回転角度検出手段17が試料の1回転に1度発生させる原点信号Z相信号41も入力されている。タイミング信号発生手段33は、Z相信号41を回転指令パルス信号40で同期させる。その結果、Z相信号41の立ち上がり時刻に最も近い回転指令パルス信号40をクリア信号CLR信号とすることができる。得られたCLR信号でカウンタCNTをクリアさせる。カウンタCNTの値が、図3に示すような、試料の回転角度に対応する、任意に設定される値M1,M2,N1,N2を用いた条件を満たせば、タイミング信号36aとデータ書換え信号36bを出力する。又、タイミング信号36aとデータ書換え信号36bは、ホスト制御装置60からの、所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始半径/終了半径位置情報、移動ピッチ情報を入力情報として、各トラックのタイミング信号36aの立ち上がり時刻から直線パターン位置までの回転時間を算出し、その算出情報にもとづいて設定期間だけビームを照射するパターン信号を生成する照射期間信号生成手段31に接続されており、照射期間パターン信号は、例えば、図4に示す駆動回路構成とするブランキング制御手段32を介してブランカー4に接続している。さらにタイミング信号36aとデータ書換え信号36bは、ホスト制御装置60からの、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報、回転の線速度情報、ビーム電流情報、円周方向偏向感度情報、ドット数設定情報を入力情報として、単位ドット当りの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する円周位置補正信号手段27に接続されており、図4に示す駆動回路と同様の構成による円周方向偏向制御手段28を介して円周方向偏向器8に接続している。さらに、タイミング信号36aとデータ書換え信号36bは、ホスト制御装置60からの、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドット当りの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向あるいは、幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する半径位置補正信号生成手段29に接続されており、パターン信号は、図4に示す駆動回路と同様の構成による半径方向偏向制御手段30を介して半径方向偏向器7に接続している。以上の構成により、ホスト制御装置60からの指令により、任意位置、回転速度で直線パターンが露光可能となる。一般的に回転駆動は、線速度一定方式これをCLVと称すと角速度一定方式これをCAVと称すがあるが、以降はCLV方式にて説明する。図5と図6に例えば、隣接トラック間で重なり率50の3ドットで直線を形成する場合を示す。図5には、形成模式図を、又、図6には照射期間信号生成手段31、円周位置補正信号生成手段27、半径位置補正信号生成手段29の各出力パターンを示す。図5の模式図では、点線がビーム照射開始を、又、実線はドット形成完了時を示す。A,B,C間それぞれで逐次1ドットが形成される。照射期間信号生成手段31の演算は、所望の直線パターンの半径座標と、露光開始位置、終了位置が与えられれば、幾何学的に、原点信号位置から所望の直線までの時間を算出できる。所要時間Tiは、各トラック毎の円弧距離Liiは、トラックNoを計算し、線速度Vで除算すれば得られる。本実施形態では、照射期間信号生成手段31を図7に示すような構成としている。図7に示すように、照射期間信号生成手段31は、中央演算装置以下、CPUと呼ぶ54と、RAM47と、ROM48と、外部I/O49と、波形パターンメモリ50と、D/A変換器51と、パルス発振器52と、アドレスカウンタ53とを備える。ホスト制御装置60から、所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始/終了位置情報、移動ピッチ情報を受け取る外部I/O49と、計算プログラムを格納するROM48、計算パラメータを読み書きするRAM47、計算結果をデジタルパターンデータとして格納する波形パターンメモリ50、CPU54からの設定で任意周波数のパルス信号を発生し、タイミング信号にて発振開始するパルス発振器52と、発振パルス数をカウントしてアドレス生成するアドレスカウンタ53、アドレスカウンタ53のアドレス出力にもとづいて、波形パターンメモリ50のデジタルパターンデータをアナログ信号に逐次変換する例えば、14bit程度の出力分解能を持つ、D/A変換機51から構成している。波形パターンの横軸は、パルス発振器52の発振周波数によって決まり、必要な偏向量は、D/A変換機51出力の大きさによって決定される。本実施形態では、入力情報が異なるだけで、円周位置補正信号生成手段27、半径位置補正信号生成手段29の構成は上記同様である。円周位置補正信号生成手段27は、ホスト制御装置60から、単位ドットに必要なドーズ量情報、回転の線速度情報、ビーム電流情報、円周方向偏向感度情報、ドット数設定情報を入力情報38として、単位ドット当りの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する。又、半径位置補正信号生成手段29は、ホスト制御装置60から、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドット当りの照射時間情報を入力情報37として、直線パターンの長さ方向あるいは、幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する。以上の構成によれば、偏向範囲が狭くても、露光範囲を大きく設定すれば、偏向による収差なく良好な長い直線が得られる。また、小さな偏向量範囲で直線形成できるので、長距離でも露光品質の良好な直線パターンが形成できる。また、半径方向整列性が高く、直線性を損なわない露光、描画が実現でき描画品質の向上がはかれる。"