"マイクロ波閉じ込め室の内部に処理対象のプラスチックボトルを配置し、前記マイクロ波閉じ込め室の内部にマイクロ波を導入して、前記プラスチックボトルの内部に配置されたガス供給管により供給された原料ガスを含むガスをプラズマ化して、プラスチックボトル内面に処理を施す方法であって、筒状の誘電体からなる供給管本体の内部に導電体からなる細棒部材を配置してなる前記ガス供給管に、前記マイクロ波閉じ込め室の周囲に配置され、前記マイクロ波閉じ込め室に対向する面に設けられたスリットアンテナから前記マイクロ波閉じ込め室の内部にリング状共振器によりマイクロ波を導入することにより、前記細棒部材を放電させて前記プラスチックボトルの内部にプラズマを発生させ、前記プラズマの発生を前記マイクロ波の導入により維持して、前記ガス供給管により供給された原料ガスを含むガスをプラズマ化することを特徴とするプラスチックボトル内面の処理方法。前記プラスチックボトルの内部から前記原料ガスを含むガスが排気されることを特徴とする請求項1に記載のプラスチックボトル内面の処理方法。前記マイクロ波は、パルス状ののこぎり波形状とされることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラスチックボトル内面の処理方法。前記のこぎり波のパルス周波数は500~5000Hzであることを特徴とする請求項3に記載のプラスチックボトル内面の処理方法。前記細棒部材は、先端が尖っていることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載のプラスチックボトル内面の処理方法。前記細棒部材は、前記供給管本体の内部を長手方向に延びるように配設されることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載のプラスチックボトル内面の処理方法。処理対象となるプラスチックボトルが内部に配置されるマイクロ波閉じ込め室と、前記マイクロ波閉じ込め室の内部にマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、前記マイクロ波閉じ込め室に配置される前記プラスチックボトルの内部に原料ガスを含むガスを供給可能なガス供給管とを備え、前記プラスチックボトルの内部に原料ガスを含むガスを供給し、前記プラスチックボトル内面に処理を施す装置であって、前記マイクロ波導入手段は、前記マイクロ波閉じ込め室の周囲に配置され、前記マイクロ波閉じ込め室に対向する面に設けられたスリットアンテナから前記マイクロ波閉じ込め室の内部にマイクロ波を導入するリング状共振器を含み、前記ガス供給管は、筒状の誘電体からなる供給管本体の内部に導電体からなる細棒部材を配置してなることを特徴とするプラスチックボトル内面の処理装置。前記プラスチックボトルの内部から前記原料ガスを含むガスを排気する排気手段を備えることを特徴とする請求項7に記載のプラスチックボトル内面の処理装置。前記細棒部材は、先端が尖っていることを特徴とする請求項7または請求項8に記載のプラスチックボトル内面の処理装置。前記細棒部材は、前記供給管本体の内部を長手方向に延びるように配設されることを特徴とする請求項7ないし請求項9のいずれかに記載のプラスチックボトル内面の処理装置。しかし、大気圧に近い圧力のプラズマは気体原子、分子の密度は高いため、非平衡プラズマであってもプラズマガスの温度は、プラズマが生成できるために必要な最小のマイクロ波出力においても200°C以上になる。このためポリエチレンテレフタレートPET、ポリプロピレンPP等の一般的にプラスチックボトルに使用される樹脂材料では、プラズマによる処理時間が2秒、好ましくは1秒以内でないと熱変形を生じやすい。一方、高い圧力下でのプラズマ着火は従来火花放電で励起種を生成させる必要があり、プラズマ発生後に放電部材を除去する必要があり複雑で困難であった。そこで100Pa以下の低圧状態で着火してから圧力を上昇させる方法が一般的であるが、これではプラズマにさらされる時間が長くなり、プラスチック基材の処理ができなかった。本発明は、前記の課題に鑑みてなされたものであり、大気圧状態でも被膜の形成等のプラスチックボトル内面の処理を短時間で均一に実施することができるプラスチックボトル内面の処理方法及びプラスチックボトル内面の処理装置を提供することにある。前記の課題を解決するために、本発明に係るプラスチックボトル内面の処理方法は、マイクロ波閉じ込め室の内部に処理対象のプラスチックボトルを配置し、前記マイクロ波閉じ込め室の内部にマイクロ波を導入して、前記プラスチックボトルの内部に配置されたガス供給管により供給された原料ガスを含むガスをプラズマ化して、プラスチックボトル内面に処理を施す方法であって、筒状の誘電体からなる供給管本体の内部に導電体からなる細棒部材を配置してなる前記ガス供給管に、前記マイクロ波閉じ込め室の周囲に配置され、前記マイクロ波閉じ込め室に対向する面に設けられたスリットアンテナから前記マイクロ波閉じ込め室の内部にリング状共振器によりマイクロ波を導入することにより、前記細棒部材を放電させて前記プラスチックボトルの内部にプラズマを発生させ、前記プラズマの発生を前記マイクロ波の導入により維持して、前記ガス供給管により供給された原料ガスを含むガスをプラズマ化することを特徴とする。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理方法は、前記した本発明において、前記プラスチックボトルの内部から前記原料ガスを含むガスが排気されることを特徴とする。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理方法は、前記した本発明において、前記マイクロ波は、パルス状ののこぎり波形状とされることを特徴とする。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理方法は、前記した本発明において、前記のこぎり波のパルス周波数は500~5000Hzであることを特徴とする。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理方法は、前記した本発明において、前記細棒部材は、先端が尖っていることを特徴とする。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理方法は、前記した本発明において、前記細棒部材は、前記供給管本体の内部を長手方向に延びるように配設されることを特徴とする。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理装置は、処理対象となるプラスチックボトルが内部に配置されるマイクロ波閉じ込め室と、前記マイクロ波閉じ込め室の内部にマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、前記マイクロ波閉じ込め室に配置される前記プラスチックボトルの内部に原料ガスを含むガスを供給可能なガス供給管とを備え、前記プラスチックボトルの内部に原料ガスを含むガスを供給し、前記プラスチックボトル内面に処理を施す装置であって、前記マイクロ波導入手段は、前記マイクロ波閉じ込め室の周囲に配置され、前記マイクロ波閉じ込め室に対向する面に設けられたスリットアンテナから前記マイクロ波閉じ込め室の内部にマイクロ波を導入するリング状共振器を含み、前記ガス供給管は、筒状の誘電体からなる供給管本体の内部に導電体からなる細棒部材を配置してなることを特徴とする。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理装置は、前記した本発明において、前記プラスチックボトルの内部から前記原料ガスを含むガスを排気する排気手段を備えることを特徴とする。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理装置は、前記した本発明において、前記細棒部材は、先端が尖っていることを特徴とする。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理装置は、前記した本発明において、前記細棒部材は、前記供給管本体の内部を長手方向に延びるように配設されることを特徴とする。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理装置及び処理方法は、マイクロ波閉じ込め室には極めて均一なプラズマ表面波プラズマが生成され、大気圧状態でもボトルの内部にプラズマを維持しやすくなり、原料ガスが効率よくプラズマ化され、成膜等のボトル内面の処理がプラズマによって短時間で均一に実施することができる。以下、本発明に係るプラスチックボトル内面の処理装置の構成を図面に基づいて説明する。Iプラスチックボトルの内面処理装置1の構成:図1は、本発明に係るプラスチックボトル内面の処理装置1以下、単に処理装置1とする場合もある。の一態様を示した概略図である。本発明に係るプラスチックボトル内面の処理装置1は、底部となる台座31及び側壁32,33が導電体であるアルミニウム等の金属材料により構成され、全体が有底円筒状に形成されたチャンバー3を備える。また、かかるチャンバー3の上部に配設される円形状の蓋面34も、導電体であるアルミニウム等の金属材料で構成されている。蓋面34の略中央には、ボトル固定部4が配設されている。例えば、フッ素樹脂、セラミックス等の誘電体からなるボトル固定部4は、円筒状部材からなる固定部本体41の天面に天面部42を形成してなり、チャンバー3の蓋面34の上部から固定部本体41を挿入し、天面部42が蓋部34の上部に現れるようにして蓋部34に固定されている。固定部本体41は、処理対象となるプラスチックボトルB以下、単にボトルBとすることもある。の口部に形成されているネジ部を取り付けられるように、内部にネジ山が形成されている。また、ボトル固定部4は、ボトルBの口部を保持し、図1に示すように、チャンバー3の内部35マイクロ波閉じ込め室MでボトルBの底部を台座31に接地させず、チャンバー3の軸芯上に配置された状態で、ボトルBを固定保持する。チャンバー3の蓋面34に配設されているボトル固定部4には、排気手段として、プラスチックボトルBの内部の原料ガスを含むガスを排気するとともに、必要に応じてボトルBの内部を減圧に維持等するため、図示しない吸引ポンプと繋がれたガス排気管51が取り付けられており、内部に存在する原料ガスを含むガスが排気されることになる。ボトルBの内部に存在する原料ガスを含むガスが排気されることにより、原料ガスを含むガスがボトルBの内部を移動し、ボトル内面の処理がスムースに進行することになる。また、チャンバー3の側壁32には、チャンバー3の内部35マイクロ波閉じ込め室Mを減圧に維持するため、図示しない吸引ポンプに繋がれた圧力調整管52が接続されており、必要に応じてマイクロ波閉じ込め室Mを所定の圧力まで減圧できるようになっている。なお、本発明にあっては1000~100000Pa約1/100~1気圧大気圧での実施がなされるが、ボトルBが外圧で潰れることを防止するため、ボトルBの外部であるマイクロ波閉じ込め室Mは、ボトルBの内部の圧力と同じ圧力の空気とすることが好ましい。また、蓋面34にはパージ管55が接続されており、流量制御弁56を介して図示しないガス供給源ボンベと繋がっており、マイクロ波閉じ込め室Mに所定のガス原料ガスと、アルゴン、ヘリウム、ネオン等の不活性ガスや、窒素、酸素、水素、空気等をパージすることができる。なお、これらのガス排気管51、圧力調整管52及びパージ管55には、いずれも、マイクロ波閉じ込め用の図示しないシールドが配設されている。このような構成でチャンバー3の内部35マイクロ波閉じ込め室Mに固定保持されているプラスチックボトルBの内部には、ボトル固定部4からボトルBの口部を介して、図2に示す構造のガス供給管2が挿入されている。図2は、本発明に係る処理装置を構成するガス供給管2の一態様を示した概略図を示す。図2に示すように、ガス供給管2は、円筒状の誘電体からなる供給管本体21と、かかる供給管本体21の内部に配置される、導電体からなる細棒部材22から構成される。本実施形態にあっては、供給管本体21の先端は、原料ガスを含むガス等が通過して、プラスチックボトルBの内部に吹き出されるよう、開口部211が形成されて開放状態となっている。ガス供給管2は、本実施形態にあっては、中空の支持部212の先端に接合されており、マイクロ波閉じ込め室Mに保持されたプラスチックボトルBの口部からその内部に挿入される。ガス供給管2は、供給通路53に形成された流量制御弁54を介して図示しないガス供給源ボンベと繋がっており、原料ガスを含むガスが、支持部212の中空部を通ってガス供給管2の内部に供給され、開放されたガス供給管2供給管本体21の先端から、原料ガスを含むガスがボトルBの内部に吹き出されることになる。誘電体からなる供給管本体21の内部に設けられた導電体の細棒部材22は、プラスチックボトルBの内部を優れた共振系として、電界強度を高めかつ処理すべきボトルBの軸方向に沿っての電界強度分布を安定化することになる。すなわち、導電体の細棒部材22は、マイクロ波を引きつける効果があり、マイクロ波が照射されることによって、誘電体供給管本体21を通過したマイクロ波が供給管本体21の内部に存在する細棒部材によって放電着火して、ガス供給管2の内部でプラズマが生成することになる。生成されたプラズマは、原料ガスを含むガスの導入と吸引による排気にともなって、ガス供給管2供給管本体21の先端の開口部211からボトルBの内部を移動するが、この移動中もマイクロ波による表面波プラズマ励起により、活性が維持されつつ、ボトルの内面BIと反応して処理エッチング、被膜形成等を行いながらガス排気管51より排出される。このようにして大気圧状態でもボトルBの内部で原料ガスのプラズマ化が効率よく行われ、成膜等のボトル内面BIの処理が高密度プラズマによって短時間で均一に実施することができる。また、大気圧状態においても、導電性の細棒部材22の先端へのマイクロ波集中によって分子の電離が生じ、これが種となってボトル内面BIの全体にプラズマが発生する。このような電界強度分布を安定化する機能を効率よく発現させるために、細棒部材22は、チャンバー3を構成するシールドされた蓋面34や側壁32,33等に電気的に接続され、アース設置されることが好ましい。細棒部材22をアースすることにより、電位はゼロとなるが、プラズマが発生するとイオンより移動しやすい電子は細棒部材22と供給管本体21の両面に蓄積してマイナスに帯電する一方、供給管本体21の内面はより電位が低下する。この結果、供給管本体21の外面はプラスの電位となり、ボトルBの内部での正のガス分子イオンは、負の電位になっているボトル内面に引き付けられて衝突することになり、効果的にボトル内面BIの処理が行われることになる。細棒部材22を接地アースするには、例えば、中空の支持部212を導電体で構成するようにして、かかる支持部212を介して、細棒部材22とチャンバー3を構成する蓋面34等との導通を図るようにすればよい。また、支持部212の先端部分は、支持部212の中空部分の通路と供給管本体21との連通を損なわないように、導電体からなる細棒部材支持部221を設け、この細棒部材支持部221に細棒部材22を支持させるようにすればよい。支持部212は、チャンバー3を構成するシールドされた蓋面34や側壁32,33との導通が得られるものであれば任意の金属材料で構成するようにすればよいが、細棒部材22を構成する金属材料と共通する金属材料を採用することが好ましい。図3は、細棒部材22の先端供給管本体21の内部に現れる側の先端のこと。以下同じ。の断面形状を示した概略図である。図3aに示すように、細棒部材22の形状としては、供給管本体21の内部に現れる側の先端を水平フラットな断面とするのが一般的であるが、図3bに示すように、先端を尖らせるように形成してもよい。細棒部材22は、供給管本体21の内部に現れる側の先端を尖らせることにより、マイクロ波がより集中して放電を起こしやすくなり、確実にプラズマの着火をさせることができる。なお、図3に示す構成のような細棒部材22の先端にあっては、エッジ角222にアールを付けるようにしてもよい。細棒部材22は、本実施形態にあっては、図2に示すように、供給管本体21の付け根部分からその内部を長手方向に延び、その先端が供給管本体21の内部に現れるように配設されるが、細棒部材22のプラスチックボトルBの口部天面から差し込まれる長さ軸方向長さ。以下、供給管本体について同じ。としては、一概に規定することはできないが、例えば、500mLのプラスチックボトルB全高約200mmの場合には、100~170mm程度とすればよく、120~160mm程度とすることが好ましい。供給管本体21の軸方向長さは、前記した細棒部材22の軸方向長さやプラスチックボトルBの全高に応じて決定されるが、例えば、500mLのプラスチックボトルB全高約200mmの場合には、140~180mm程度とすることが好ましく、また、前記した細棒部材22の軸方向長さと比較して、10~20mm長くすることが好ましい。また、供給管本体21の軸方向長さは、ボトルBの底部との間隔が20~60mm程度となるように設定されることが好ましい。さらに、供給管本体21は、内径を5~15mm、外径を7~18mm、厚さを1.5~3mmとすればよく、内径を6~10mm、外径を9~14mm、厚さを1.5~2mmとすることが好ましい。また、細棒部材22は、外径を0.5~2mmとすればよく、1~1.5mmとすることが好ましい。供給管本体21を構成する材料としては、誘電体、すなわち電気絶縁性に優れた絶縁体であり、耐熱性に優れた非金属材料であることが好ましく、例えば、フッ素樹脂、ポリイミド等の樹脂材料や、アルミナ、ジルコニア等のセラミックス等の非金属材料が挙げられる。供給管本体21は、これを構成する材料の種類に応じて、射出成形法、押出成形法、圧縮成形法、焼成法、切削加工法等の公知の方法により成形することができる。導電体からなる細棒部材22を構成する材料としては、金属材料であることが好ましく、例えば、タングステン、ステンレス鋼、白金等の金属材料が挙げられる。細棒部材22は、これを構成する材料の種類に応じて、焼成法、切削加工法等の公知の方法により成形することができる。一方、チャンバー3の内部25ないしはマイクロ波閉じ込め室Mの周囲には、マイクロ波導入手段として、リング状共振器6が設けられている。このリング状共振器6は、断面略矩形状の導波管を無端円環状に形成したものである。また、このリング状共振器6のマイクロ波閉じ込め室M側マイクロ波閉じ込め室Mに配置されるプラスチックボトルB側の面と壁面32,33には、半径方向に延在する複数個のスリットアンテナ61細長い溝が周方向に離間して形成されており、マイクロ波は、かかるスリットアンテナ61スロットアンテナとも呼ばれる。また、単にスリットあるいはスロットとも呼ばれる。以下、単にスリット61とする場合もある。61からマイクロ波閉じ込め室Mに導入されることになる。本発明に係る処理装置1では、このようにリング状共振器6からスリット61を介して周方向からマイクロ波が導入されることになるので、円筒状の立体プラズマを表面波プラズマによって形成し、大気圧状態でボトルの内部にプラズマを維持しやすくする。なお、このリング状共振器6の外周面には、伝搬導波管62を介してマイクロ波発振器63が接続されており、かかるマイクロ波発振器63からマイクロ波を供給するようになっている。リング状共振器6に形成されるスリット61の形状は、細長い矩形状とすることができ、また、スリット61の形成される向きは、リング状共振器6の周方向と平行に形成される横スリット水平スリット、リング状共振器6の周方向と直交するように形成される縦スリット垂直スリットが一般的であるが、特に方向性を持たずランダムな方向となるように形成するようにしてもよい。なお、スリット61が形成される位置としては、リング状共振器6の周囲に等間隔で形成すれば、マイクロ波がマイクロ波閉じ込め室Mに均一に導入されることとなり好ましい。IIプラスチックボトル内面の処理方法の一例:次に、前記した処理装置1を用いた、プラスチックボトル内面の処理方法の一例を説明する。まず、チャンバー3の蓋面34に配設されたボトル固定部4に、処理対象となるプラスチックボトルBの口部を固定し、蓋面34をチャンバー3に取り付ける。なお、ボトル固定部4には、あらかじめガス排気管51が取り付けられている。本発明において、処理対象となるプラスチックボトルBを構成する樹脂プラスチック材料としては、それ自体が公知の熱可塑性樹脂を使用することができる。具体的な樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN等の熱可塑性ポリエステル、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ1-ブテン、ポリ4-メチル-1-ペンテンあるいはエチレン、プロピレン、1-ブテン、4-メチル-1-ペンテン等のα-オレフィン同士のランダムあるいはブロック共重合体等のポリオレフィン、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレンビニルアルコール共重合体、エチレン塩化ビニル共重合体等のエチレンビニル化合物共重合体、ポリスチレン、アクリロニトリルスチレン共重合体、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体ABS、α-メチルスチレンスチレン共重合体等のスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリビニル化合物、ナイロン6、ナイロン6,6、ナイロン6,10、ナイロン11、ナイロン12等のポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンオキサイド等が挙げられる、これらの樹脂は、1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を組み合わせて使用するようにしてもよい。また、プラスチックボトルBの形状としては、特に制限はなく、飲料ボトルとして一般的な、胴部が軸対称形状例えば断面視円形状のものに加えて、軸非対称形状といった任意の形状のボトルについて対応可能である。ボトル排気管51に繋がれた図示しない吸引ポンプで、プラスチックボトルBの内部を例えば、1000~100000Pa約1/100~1気圧の間の所定の圧力に維持し、同様に、圧力調整管52に繋がれた図示しない吸引ポンプで、チャンバー3の内部35マイクロ波閉じ込め室Mを1000~100000Pa約1/100~1気圧の間の所定の圧力に維持し、原料ガスを含むガスが、流量制御弁54を介して図示しないガス供給源ボンベから供給通路53及び支持部212の中空部を通ってガス供給管2の内部に供給される。ガス供給管2から供給される原料ガスとしては、プラズマ処理の目的に応じて種々のそれ自体公知のガスが使用される。原料ガスとしては、揮発性の高いものである必要があり、炭素膜や炭化物膜の形成には、アセチレン、エチレン、メタン、エタン等の炭化水素類が使用される。また、シリコン膜の形成には四塩化ケイ素、シラン、有機シラン化合物、有機シロキサン化合物等が使用される。チタン、ジルコニウム、錫、アルミニウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、ガリウム、タンタル、ニオブ、鉄、ニッケル、クロム、ホウ素等のハロゲン化物塩化物や有機金属化合物が使用される。さらに、酸化物膜の形成には酸素ガス、窒化物膜の形成には窒素ガスやアンモニアガスが使用される。これらの原料ガスは、形成させる薄膜の化学的組成に応じて、2種以上のものを適宜組み合わせて用いることができる。また、プラスチックボトル内面BIの表面改質のために、炭酸ガスを用いてボトル内面BIに架橋構造を導入したり、あるいははフッ素ガスを用いてボトル内面BIにポリテトラフルオロエチレンと同様の特性、例えば非粘着性、低摩擦係数、耐熱性、耐薬品性を付与したりすることができる。原料ガスを含むガスの導入量は、処理すべきプラスチックボトルBの表面積や、原料ガスの種類によっても相違するが、例えば、プラスチックボトル内面BIの処理では、ボトル1個当たり、標準状態のガス容積に換算して1~500cc/分程度とすればよく、2~200cc/分の流量で供給することが好ましい。なお、原料ガスを含むガスとしては、前記した原料ガス単体のほか、所定のガスと混合した希釈ガスとしてもよい。希釈ガスは、原料ガスと、アルゴン、ヘリウム、ネオン等の不活性ガスや、窒素、酸素、水素等の希釈用ガスを使用することができる。なお、原料ガスを含むガスを供給する前に、前記した希釈ガスと共通するガスを所定時間供給し、プラスチックボトル内部の空気を置換して、その後に、原料ガスを含むガスを供給するようにしてもよい。好ましくは、原料ガスを含むガスの供給によってボトルBの内部に原料ガスを含むガスが完全に置換すると同時にあるいは、原料ガスを含むガスがガス供給管2の内部に到達したときにマイクロ波を発振させてもよい。、マイクロ波発振器63から、高周波として例えば2.45GHzのマイクロ波を発振させる。マイクロ波発振器63から供給されたマイクロ波は、伝搬導波管62を伝搬し、リング状共振器6の内部に供給され、スリット61を通過して、マイクロ波閉じ込め室Mに導入されプラズマを発生させる。すなわち、このリング状共振器6の内部を進行波として伝搬するマイクロ波は、リング状共振器6に形成された複数のスリット61からチャンバー3の内部35のマイクロ波閉じ込め室Mに導入放出されることになる。ここで、リング状共振器6の内部を伝搬されるマイクロ波は、定在波ではなく無端環状のリング状共振器6の内部を回転する進行波であるため、スリット61から放出される電磁界は、リング状共振器6の周方向に均一になる。リング状共振器6からスリット61を介して360°方向から照射されたマイクロ波は、円筒状の立体プラズマを表面波プラズマによって形成するため、大気圧状態でボトル内部にプラズマを維持しやすくなり、マイクロ波閉じ込め室Mには、極めて均一なプラズマ表面波プラズマが生成されることになる。また、プラスチックボトルBの内部では、ボトルBの口部から挿入されたガス供給管2に配設された導電体の細棒部材22が電極となり、マイクロ波が放電することによって火花が生じて、この圧力範囲においてプラズマの着火が容易に生じ、発生したプラズマはマイクロ波によって励起が維持され、プラズマ活性が維持される。プラズマガスはガス供給管2からボトルBの内部に導入され、排気される流れによってボトルBの内部を移動してプラズマ化され、ボトル内面BIを均一に処理する。ガス供給管2から出たプラズマガスは、マイクロ波によって表面波プラズマとしてエネルギー伝達されてプラズマ活性が維持され、ボトル内面BIを均一に処理することになり、成膜が効率よくかつ安定して行われることになる。ここで、マイクロ波発振器63からリング状共振器6に供給されるマイクロ波の周波数は、例えば、300MHz~100GHzの範囲内の任意の周波数を選択することができるが、工業的に使用が許可されている周波数が2.45GHz、5.8GHz、22.125GHzのものを用いることが好ましい。また、マイクロ波は、マイクロ波の出力を、0~100まで、のこぎり波の形状で変動させるようにしてもよい。図4は、のこぎり波の形状に出力制御したマイクロ波を示す説明図であり、aはマイクロ波の定常出力、bはのこぎり波の出力制御信号、cはのこぎり波の形状に出力制御したマイクロ波、をそれぞれ示す。出力が傾斜して上昇し、最高点から出力0に戻ることを繰り返すのこぎり状の波形のこぎり波の形状からなるマイクロ波のパルス状の出力は、ON/OFFのマイクロ波出力を繰り返すことによって、プラズマの発生/消滅が繰り返されることになる。これにより、のこぎり波の形状に出力制御したマイクロ波は、連続出力のマイクロ波と比較して、プラズマ温度の上昇が抑制され、かつプラズマの活性は適度に維持される。この結果、プラズマガスの温度の高温化が抑制され、より長時間の表面処理が可能となる結果、例えば、表面をよりエッチングすることができ、また、成膜される被膜の厚さを厚くすることができる。マイクロ波の出力をパルス状ののこぎり波形状とすることにより、プラズマ中の活性種酸素イオン、酸素ラジカル、炭化水素イオン、炭化水素ラジカル、炭素イオン、水素ラジカル等は、マイクロ波出力が瞬時に零になることによって、プラスチックボトル内面BIに引き寄せられてエッチング、被膜形成を行うが、そのままではエネルギーを失い空間中での粒子化を生じる。そこで、零レベルの出力から傾斜して出力を増加させ再びプラズマの活性状態を維持することを繰り返すことによって、大気圧領域0.01~1気圧のプラズマ状態であっても比較的低いプラズマガス温度数百度K程度に維持しつつ再結合粒子を生じにくい状態で内面処理することができる。なお、のこぎり波のパルス周波数は、500~5000Hzとすることが好ましい。ここで、マイクロ波の出力をパルス状ののこぎり波形状とするには、例えば、マイクロ波発振器63の内部のマグネトロン管の出力調整器に、関数発生器等によって生成されたのこぎり波形状のパルス信号を接続してパルス変調することにより、簡便に実施することができる。なお、マイクロ波の出力は、処理すべきプラスチックボトル内面BIの表面積、形成させる薄膜の厚さ及び原料ガスの種類等により適宜決定することができるが、例えば、一般的な500mL容量のPETボトル1個当たり、50~50000.05k~5.0kWの電力となるようにすればよく、100~30000.1k~3.0kWの電力となるように供給するのが好ましい。同様に、プラズマ処理の時間も、ボトル内面BIの表面積、形成させる薄膜の厚さ及び原料ガスの種類等によって適宜決定することができる。III本発明の効果以上説明したように、本実施形態に係るプラスチックボトル内面の処理装置及び処理方法は、大気圧状態でもマイクロ波閉じ込め室Mに極めて均一なプラズマ表面波プラズマが生成され、被膜形成等のボトル内面BIの処理が高密度プラズマによって短時間で均一に実施することができる。すなわち、誘電体からなる供給管本体21の内部に設けられた導電体の細棒部材22はプラスチックボトルBの内部を優れた共振系とするため、リング状共振器6からスリット61を介して360°方向から照射されたマイクロ波により表面波プラズマが形成され、マイクロ波閉じ込め室Mには、極めて均一なプラズマ表面波プラズマが生成される。よって、供給された原料ガスのプラズマ化が効率よく行われ、大気圧状態でもボトルBの内部にプラズマを維持しやすくなり、ボトル内面BIを均一に処理することになり、成膜が効率よくかつ安定して行われることになるため、ボトル内面BIの種々の処理に利用することができる。なお、以上説明した態様は、本発明の一態様を示したものであって、本発明は、前記した実施形態に限定されるものではなく、本発明の構成を備え、目的及び効果を達成できる範囲内での変形や改良が、本発明の内容に含まれるものであることはいうまでもない。また、本発明を実施する際における具体的な構造及び形状等は、本発明の目的及び効果を達成できる範囲内において、他の構造や形状等としても問題はない。本発明は前記した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形や改良は、本発明に含まれるものである。例えば、前記した実施形態では、処理装置1を構成するガス供給管2が、図2に示すように、筒状の誘電体からなる供給管本体21の内部に導電体からなる細棒部材22を配置し、細棒部材22が、供給管本体21の内部を長手方向に延びるように配設される態様を示した。一方、ガス供給管2は、筒状の供給管本体21の内部に細棒部材22を配置するものであれば特に制限はなく、例えば、図5に示すように、細棒部材22を、供給管本体21の胴部からその内部を横切るように配設して、ガス供給管2を形成するようにしてもよい。なお、以下の説明においては、前記した実施形態と同様の構造及び同一部材には同一符号を付して、その詳細な説明は省略又は簡略化する。図5は、本発明に係る処理装置を構成するガス供給管2の他の態様を示した概略図である。図5に示したガス供給管2は、細棒部材22を、供給管本体21の胴部からその内部を直交するように差し込んで配設している。このような構成とすることにより、図2に示した構成と比較して、細棒部材22をコンパクトにすることが可能となり、材料コストの削減を図ることができる。細棒部材22は、前記した図2で示した態様と同様、図3bに示すように、先端が尖っていることが好ましく、また、接地アースされることが好ましい。その他、細棒部材22が形成される位置は、一概に規定することはできないが、500mLのプラスチックボトルB全高約200mmを例にとると、プラスチックボトルBの口部天面から50~140mm程度とすればよく、この範囲の位置に20mm以上の距離をおいて2個以上取り付けてもよい。また供給管本体21の長さは、例えば、最下部の細棒部材22の位置よりもさらに10~40mm長くすることが好ましい。また、チャンバーの内部35に形成されるマイクロ波閉じ込め室としては、キャビティー3の内部35に配置されるプラスチックボトルBを、マイクロ波が透過可能な材料からなる、壁面がチャンバー3の壁面32,33と略並行になるような筒状部材で軸方向に囲うようにして、かかる部材の内部をマイクロ波閉じ込め室Mとするようにしてもよい。例えば、筒状部材として、図示しない石英管でボトルBの周りを軸方向に囲うようにして、かかる石英管の内部をマイクロ波閉じ込め室Mとするようにしてもよい。その他、本発明の実施の際の具体的な構造及び形状等は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等としてもよい。以下、実施例等に基づき本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、かかる実施例に何ら限定されるものではない。図1に示した構成のプラスチックボトル内面の処理装置を用いて、原料ガスをアセチレンCH2CH2としてDLC非晶質水素化炭素薄膜をプラスチックボトルPETボトルの内面に形成させて処理した場合における、プラズマ着火状態の確認試験、成膜状態の確認試験及びマイクロ波パルス変調試験を、下記の方法を用いて実施して比較評価した。基本操作まず、処理対象となる下記仕様のプラスチックボトルをボトル固定部に取り付け、チャンバーの内部マイクロ波閉じ込め室にボトルを配置した。次に、チャンバーの内部を下記の所定の圧力に維持しつつ、原料ガスであるアセチレンCH2CH2ガスを、ガス供給源ボンベから流量制御弁を介して、ボトルの内部に配設された下記仕様のガス供給管からボトルの内部に供給し、ボトルの内部を通過した後、ガス排気管を介して排気するようにした。このとき必要に応じて、希釈ガスの窒素ガスをガス供給源ボンベから流量制御弁を介して、原料ガスの流量制御弁の後で混合して原料ガスを希釈した。また、原料ガスであるアセチレンガスの供給と同時に、マイクロ波発振器から、周波数が2.45GHz、出力が3kWのマイクロ波を発振させた。そして、マイクロ波発振器から供給されたマイクロ波を、伝搬導波管を伝搬し、リング状共振器の内部に供給され、リング状共振器に等間隔に形成された5ヶ所の横スリット水平スリット、2ヶ所の縦スリット垂直スリットを通過して、マイクロ波閉じ込め室に導入放出され、プラズマを発生させた。マイクロ波については、試験例1及び試験例2は連続波、試験例3は、のこぎり波形状の出力とした。プラスチックボトルの仕様構成材料:ポリエチレンテレフタレートPET容量:0.5L胴部の外径:65mm全長:200mm胴部の厚さ:0.3mmなお、下記の試験例1及び試験例2では、ボトル内部の圧力を100Pa、1000Pa、10000Pa、100000Pa約1気圧の4種類として、試験例3では100000Pa約1気圧としてそれぞれ評価を行った。一方、ボトルが潰れることを防止するため、ボトルの外部チャンバーの内部の圧力はボトルの内部の圧力と同じ圧力となるように調整した。また、原料ガスであるアセチレンガスは、ボトル内部が100Pa、1000Paの圧力では、アセチレンガスを単独で用いて、アセチレンガスの流量を30sccm標準状態容量cc/分として、ボトル内部の圧力をガス排気管に繋がれる吸引ポンプにより調整した。一方、ボトル内部が10000Pa、100000Paの圧力では、同様な流量のアセチレンガスに、流量が3slm標準状態3L/分窒素ガスを混合して導入し、ボトル内部の圧力をガス排気管に繋がれる吸引ポンプにより調整した。ガス供給管の仕様供給管本体の形状は、図2や図5に示されるような、外径14mm、内径10mmの円筒形状であり、先端に開口部が形成されて開放状態とされている。供給管本体ガス供給管は、プラスチックボトルの口部天面より160mmまで差し込んだ。ガス供給管全体の構成を変えて、下記実施例1~実施例6、比較例1~比較例4の10種類のガス供給管を用いて比較評価した。[実施例1]供給管本体の構成材料をフッ素樹脂テフロン登録商標とし、図2に示すように、タングステンからなる直径1mmの細棒部材を、供給管本体の付け根部分からその内部を長手方向に延びるように配設して、ガス供給管を形成した。細棒部材は、プラスチックボトルの口部天面より140mmまで差し込んだ。なお、細棒部材は非接地アースしない状態とし、細棒部材の先端は図3aに示すように水平切断面とした。[実施例2]細棒部材の先端を図3bに示すように尖らせた以外は実施例1と同様な構成として、ガス供給管を形成した。[実施例3]細棒部材を接地アースした以外は実施例1と同様な構成として、ガス供給管を形成した。なお、接地は、取り付け部から導電体を介して接地した。[実施例4]細棒部材の先端を図3bに示すように尖らせた以外は実施例3と同様な構成として、ガス供給管を形成した。[実施例5]供給管本体の構成材料をフッ素樹脂テフロン登録商標とし、図5に示すように、内部にタングステンからなる直径1mmの細棒部材を、供給管本体の胴部からその内部を略直交するように、プラスチックボトルの口部天面より80mmの位置に差し込んで配設して、ガス供給管を形成した。なお、細棒部材は非接地アースしない状態とし、細棒部材の先端は図3aに示すように水平切断面とした。[実施例6]細棒部材の先端を図3bに示すように尖らせた以外は実施例5と同様な構成として、ガス供給管を形成した。[比較例1]細棒部材を用いなかった以外は実施例1と同様な構成として、ガス供給管を形成した。[比較例2]供給管本体の構成材料をフッ素樹脂テフロン登録商標として、実施例1と同様な構成の供給管本体を用い、かかる供給管本体の外面におけるボトル口部天面より80mmの位置に縦方向に、両端を尖らせた長さ30mm、直径1mmのタングステン棒をポリイミドテープによって貼り付け固定して、ガス供給管を形成した。[比較例3]供給管本体の構成材料をフッ素樹脂からステンレス鋼に変更した以外は、比較例1と同様な構成として、ガス供給管を形成した。なお、供給管本体は非接地アースしない状態とした。[比較例4]ステンレス鋼からなる供給管本体を接地アース状態とした以外は比較例3と同様な構成として、ガス供給管を形成した。[試験例1]着火状態の確認試験:プラズマ着火状態を目視で確認し、問題なく着火した場合を○、着火しなかった場合を×として比較評価した。結果を表1に示す。結果表1に示すように、実施例1ないし実施例6のガス供給管を用いた場合には、問題なく着火できることが確認できた。[試験例2]成膜状態の確認試験:前記の操作を用いて原料ガスをアセチレンガスとしてDLC非晶質水素化炭素薄膜をPETボトルの内面に形成させた場合における成膜状態を観察した。成膜状態は、着色の均一性について、DLC被膜の着色のむらを目視して確認するとともに、被膜の厚さを段差膜厚計より測定し、それぞれ下記の評価基準により比較評価した。なお、プラズマが発生しなかった場合には、評価不能として、-で表した。結果を表2上段:着色の均一性、下段:被膜の厚さに示す。なお、プラズマ励起時間プラズマ処理の時間は1秒間とした。評価基準:着色の均一性評価内容○:ボトルの内面に対して均一に被膜形成×:ボトル中央部にのみ被膜形成評価基準:被膜の厚さ評価内容厚み大:20nm以上厚み中:10nm以上20nm未満厚み小:10nm未満結果表2に示すように、実施例1ないし実施例6のガス供給管を用いた場合には、着色の均一性が良好であった。また、被膜の厚さも良好で、実施例4については10000Pa、実施例3については1000Paでも、20nm以上の被膜を得ることができた。[試験例3]マイクロ波パルス変調試験:実施例3及び実施例4のガス供給管を用いて、周波数が2.45GHz、出力が3kWのマイクロ波をパルス変調し、パルス状ののこぎり波形状とされたマイクロ波を用いて、のこぎり波のパルス周波数を下記の周波数として、前記の操作を用いて原料ガスをアセチレンガス及び窒素ガス希釈ガスとしてDLC非晶質水素化炭素薄膜をPETボトルの内面に形成させた場合におけるボトルが熱変形しないプラズマ処理の最大時間、最大時間における被膜の厚さ、及びボトルへの被膜密着度を比較評価した。結果を表3上段:最大時間秒、中段:被膜の厚さ、下段:ボトルの被膜密着度に示す。なお、ブランクとして、連続波についても同様に評価した。パルス周波数:なし連続波、100Hz、500Hz、1kHz、5kHz、10kHz、1MHzパルス波形:のこぎり波連続波を除くボトル内圧力:100000Pa大気圧原料ガス:アセチレンC2H2希釈ガス:窒素N2なお、被膜の厚さについては前記した試験例2に示した評価基準を用いて評価し、ボトルへの被膜密着度については、セロテープ登録商標剥離法を用いて、ボトル内面の被膜にセロテープ登録商標を貼り付け、引き剥がしたときの密着度を、下記の評価基準で評価した。○と△を合格とした。評価基準:ボトルへの被膜密着度評価内容○:全く剥がれない△:一部剥がれる×:全て剥がれる炭状の微粒子被膜が生成結果表3に示すように、連続波と比較して、パルス状ののこぎり波形状とされたマイクロ波は、連続波と比較して熱変形しないプラズマ処理の最大時間が長く、プラズマ温度を低減して、プラスチックボトルの熱変形を防止できることが確認できた。また、特にパルス周波数が500~5000Hzの範囲では、ボトルへの被膜密着度も優れていた。"