シリカにジルコニウムを複合化して得られた担体を用いたことを特徴とするアジリジン製造用触媒。請求項1記載の担体に、触媒活性成分を担持して得られた下記一般式1で示したアジリジン製造用触媒。式中のZrはジルコニウム、Siはケイ素、Xはアルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属、Yは希土類、Ti、V、Nb、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Zn、B、Al、Sn、Pb、As、Sb及びBiからなる群から選ばれる少なくとも一種、Pはリン、Oは酸素であり、bが1モルのとき、aが0~1モル0を除く及びcはa及びbにより定まる値、dは0.005~1モル、並びにdが1モルのとき、eが0~1モル、fが0.05~3モル及びgはd、e、fの値により定まる値である。請求項1又は2記載の触媒を用いて、一般式A式中のR、R ́は各々水素、メチル基およびエチル基の中から選ばれる。で表されるアルカノールアミンを接触気相分子内脱水反応により一般式B式中のR、R ́は各々式Aと同じである。で表されるアジリジンの製造方法。上記先行技術には多くの触媒組成が開示されているが、反応ガス中に不純物が含まれている場合には触媒活性が低下し易いことがある。特にアルカノールアミンを触媒の存在下に気相分子内脱水反応しアジリジン化合物を製造する場合、反応の過程で副生する水により触媒成分中のケイ素がシンタリングすることで、触媒比表面積が低下し、触媒活性の低下がみられる。反応ガス中に水が含まれている場合であっても長時間高い比表面積と活性を有する触媒を提案されることが望まれている。本発明は予めケイ素とジルコニウムを複合化した担体に、下記一般式で示した触媒活性成分を担持して得られた触媒であることを特徴とするアジリジン製造用触媒を用いることで反応ガス中に水が含まれても長時間活性を保持することができる触媒を、見出し発明を完成したものである。本発明にかかる触媒は、アジリジンを製造する際、発生する水が反応ガス中に含まれているときでも長時間高活性を維持することができるものである。また本発明を用いたアジリジンの製造方法を提供することができるものである。本発明は、予めケイ素とジルコニウムを複合化した担体に、触媒活性成分を担持して得られた触媒であることを特徴とするアジリジン製造用触媒である。本発明の本質はケイ素とジルコニウムが複合化した担体を用いることで、水を含む反応ガス中でも担体の耐久性を向上させることができるものである。好ましくは、当該担体に触媒活性成分を担持して得られた下記一般式1で示したアジリジン製造用触媒である。式中のZrはジルコニウム、Siはケイ素、Xはアルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属、Yは希土類、Ti、V、Nb、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Zn、B、Al、Sn、Pb、As、Sb及びBiからなる群から選ばれる少なくとも一種、Pはリン、Oは酸素であり、bが1モルのとき、aが0~1モル0を除く及びcはa及びbにより定まる値、dは0.005~1モル、並びにdが1モルのとき、eが0~1モル、fが0.05~3モル及びgはd、e、fの値により定まる値である。担体当該担体は、予めケイ素とジルコニウムを複合化して得られるものである。ケイ素とジルコニウムの比率は、ケイ素が1モルのときジルコニウムが0~1モル0を除く、好ましくは0.01~0.5モルである。なお、酸素はケイ素とジルコニウムが酸化物として存在するので、ケイ素とジルコニウムの存在量により定まるものである。ケイ素の原料としては、酸化ケイ素、ハロゲン化ケイ素、ケイ酸、ケイ酸塩類、酸化ケイ素ゾル、有機ケイ素化合物を用いることができる。ジルコニウムの原料としては、市販のジルコニウム以外に、四塩化ジルコニウム、塩化ジルコニルオキシ塩化ジルコニウム硫酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、酢酸ジルコニウム、酢酸ジルコニル、シュウ酸ジルコニルなどの水溶性のジルコニウム塩化合物や前記ジルコニウム酸化物の前駆体として酸化ジルコニウムゾル、酢酸ジルコニウムゾル、炭酸ジルコニウム、炭酸ジルコニルなどの炭酸塩や部分加水分解生成物を用いることができるが、好ましくは酢酸ジルコニウムである。当該担体の調製方法としては、1シリカに上記ジルコニウム化合物の水溶液を含浸し、乾燥し、焼成する方法、2シリカの微粉体と上記ジルコニウム化合物の微粉体を混合粉砕し焼成する方法、3シリカゾルなどの水性液と上記ジルコニウム化合物の水溶液水性液とを混合し、乾燥し、焼成する方法などがある。当該乾燥温度は、50~200°Cである。さらに当該担体を120°C~1000°Cで焼成するのが好ましい。触媒調製当該担体に触媒活性成分を担持することにより当該触媒を得ることができる。好ましくは、当該ケイ素とジルコニウムとを複合さて得られる担体を調製した後、触媒活性成分を担体に担持するものである。ケイ素、ジルコニウム及び触媒活性成分を同時に混合すると、その後の乾燥、焼成の条件によっては本発明が目的とする担体が得られないことがあるからである。触媒活性成分としては、X、Y及びPであり、Oである酸素はX、Y及びPが酸化物として存在するのでXなどの存在量により定まる値である。Xは、アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属である。これらのものを単独、併用することもできる。Yは、希土類、Ti、V、Nb、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Zn、B、Al、Sn、Pb、As、Sb及びBiからなる群から選ばれる少なくとも一種である。X成分、Y成分の原料としては、各々の酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、塩類炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩等および金属などが用いられる。Pは、リンである。リンの原料としては、オルトリン酸、ピロリン酸、メタリン酸、亜リン酸およびポリリン酸等の各種リン酸、五酸化リンおよび前記リン酸の塩類リン酸アンモニウム、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等などが用いられる。これらの触媒活性成分は、dが1モルのとき、eが0~1モル、fが0.05~3モル及びgはd、e、fの値により定まる値である。当該触媒活性成分の量は、当該担体に対して0.1~1500質量部、aが1であるとき、0.5~50000モル部、好ましくは0.5~600質量部、aが1であるとき、1~500モル部である。以下に触媒の調製方法を示すと、1上記各触媒活性成分の原料を水に溶解し、適宜、アンモニア等でPH調整することで各水酸化物の沈殿とし、ろ過、乾燥、焼成し粉体とした後に、当該担体の粉体と混合し成形することで触媒とする方法、2上記各触媒活性成分の原料を水に溶解し、適宜、アンモニア等でPH調整することで各水酸化物の沈殿とし、ろ過、乾燥、焼成し粉体とした後に、当該担体の粉体とを湿式粉砕しスラリーとし、SiC担体、ハニカム等の不活性触媒用構造体に被覆、焼付け担持などする方法3上記各触媒活性成分の原料を水に溶解した後、当該担体に含浸し、乾燥し、焼成する方法などがある。なお、本発明の触媒の効果を奏するものであれば下記の調製方法に限定されるものではない。アジリジンの製造方法本発明の方法においては、先ず、一般式Aで表されるアルカノールアミンを上記触媒の存在下に気相分子内脱水反応以下、単に脱水反応というさせて一般式Bで表されるアジリジン化合物を生成させる。反応原料となる一般式Aのアルカノールアミンの具体例としては、モノエタノールアミン、イソプロパノールアミン、2-アミノ-1-プロパノール、1-アミノ-2-ブタノール、2-アミノ-1-ブタノールなどを挙げることができる。これらのアルカノールアミンに対応して得られる一般式Bのアジリジン化合物は、それぞれ、エチレンイミン、2-メチル-エチレンイミン、2-メチル-エチレンイミン、2-エチル-エチレンイミン、2-エチル-エチレンイミンである。上記脱水反応の実施条件については特に制限はなく、従来公知の条件、例えば前記公報などに示されているような条件で実施することができる。具体的には、反応温度は300~500°C、好ましくは350~450°Cである。反応圧力は常圧、減圧または加圧いずれでもよく、減圧の場合には5~50kPaで実施するのが好ましい。供給する原料アルカノールアミンは必要に応じて窒素、ヘリウムなどの不活性ガスで希釈してもよく、原料ガス中のアルカノールアミン濃度は反応条件などに応じて適宜決定することができる。なお、脱水反応を減圧下に行う場合には、原料ガス中のアルカノールアミン濃度を90容量以上とするのがよく、例えば実質的にアルカノールアミンからなる原料ガスを用いて脱水反応を行うのがよい。また、空間速度は、触媒の種類、反応温度、反応圧力などによって異なるので一概に特定できないが、通常10~20000hr-1標準状態が好ましく、特に50~5000hr-1標準状態が好ましい。脱水反応を減圧下に行う場合には、空間速度を50~2000hr-1標準状態とするのが好ましい。本発明で使用する反応器としては、上記脱水反応が吸熱のため反応熱を供給する必要がある、上記触媒の再生時には燃焼が起こるため発熱があり、その除熱を行う必要があるとの2つの目的のために、固定床流通反応器を用いるのがよく、特に多管式反応器が好ましく用いられる。以下に実施例により更に発明を詳細に説明するが本発明の趣旨に反さない限り下記実施例に限定されるものではない。なお、転化率および選択率はそれぞれ以下の定義に従った。実施例1触媒調製シリカ粉末8.3gに、酢酸ジルコニウム4.5gを溶解した水溶液を加え十分に混合した後、乾燥し、1000°Cで5時間焼成してケイ素ジルコニア担体を得た。硝酸セシウム27.1g、水酸化ナトリウム0.3gおよび75重量リン酸27.2gを水20gに溶解し、当該ケイ素ジルコニア担体21.9gと混合し、120°Cで乾燥し、600°Cで2時間焼成してZr0.1Si1Cs1.0Na0.05P1.5組成の触媒を調製した。当該触媒の比表面積は窒素吸着法BET法により測定した。反応工程触媒3.0mlを内径12mmのステンレス製反応管に充填した後、当該反応管を380°Cの溶融塩浴に浸漬し、該反応管内に容量比でモノエタノールアミン:窒素=1:99の原料ガスを空間速度15000hr-1で通し反応した。反応開始から8時間後の反応性生物をガスクロマトグラフィーで分析した。その結果を表1に示す。水蒸気処理工程触媒の耐久性を評価するために、実施例1と同様な手順により得られた触媒に水蒸気処理を施し反応性を測定した。手順は当該触媒5.0mlを内径12mmのステンレス製反応管に充填した後、400°Cの溶融塩浴に浸漬し、該反応管内に容量比で水:窒素=50:50の水蒸気ガスを空間速度10000hr-1で通して120時間水蒸気処理を行った。水蒸気処理後の触媒は実施例1と同様に比表面積測定と反応を行った。触媒の比表面積及び反応結果を表1に示した。比較例1触媒調製硝酸セシウム21.7g、水酸化ナトリウム0.5gおよび75重量リン酸9.1gを水20gに溶解し、実施例1において用いたシリカ粉末8.3gと混合し、120°Cで乾燥し、600°Cで2時間焼成してSi1Cs0.8Na0.1P0.5組成の触媒を調製した。当該触媒の比表面積は窒素吸着法BET法により測定した。反応工程反応工程は実施例1と同様に反応を行った。反応結果を表1に示した。水蒸気処理工程比較例1と同様な手順により得られた触媒に水蒸気処理を施し反応性を測定した。当該触媒の比表面積及び反応結果を表1に示した。比較例2触媒調製実施例1において用いたシリカ担体8.3gと、酢酸ジルコニウム4.5g、炭酸セシウム32.6g、水酸化ナトリウム0.3gおよび75重量リン酸27.2gを水20gに溶解した水溶液とを混合し、120°Cで乾燥し、600°Cで2時間焼成してZr0.1Si1Cs1.2Na0.05P1.5組成の触媒を調製した。当該触媒の比表面積は窒素吸着法BET法により測定した。反応工程反応工程は実施例1と同様に反応を行った。反応結果を表1に示した。水蒸気処理工程比較例1と同様な手順により得られた触媒に水蒸気処理を施し反応性を測定した。当該触媒の比表面積及び反応結果を表1に示した。