表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下である基材の表面に、酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成してなることを特徴とする耐食性及び耐指紋性に優れた物品。前記酸化ジルコニウムを含む皮膜の上に、さらにマグネシウムを含む皮膜が形成されていることを特徴とする請求項1記載の耐食性及び耐指紋性に優れた物品。前記基材は、セラミックス、金属複合体、金属のいずれか1種または2種以上からなることを特徴とする請求項1または2記載の耐食性及び耐指紋性に優れた物品。請求項1ないし3のいずれか1項記載の耐食性及び耐指紋性に優れた物品を備えた調理器具であって、300°C以上にて使用可能であることを特徴とする調理器具。基材の表面を、表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下となるように調整し、次いで、前記表面に酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成することを特徴とする耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法。基材の表面を加熱し、次いで、加熱されている前記表面にジルコニウム化合物を含む塗布液を塗布し、前記表面上に表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下の酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成することを特徴とする耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法。前記酸化ジルコニウムを含む皮膜の上に、さらにマグネシウムを含む皮膜を形成することを特徴とする請求項5または6記載の耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法。しかしながら、従来の酸化ジルコニウム系のコーティング膜では、アルカリ溶融反応に対する耐食性を確保しようとすると、コーティング膜の厚みを50nm以上とする必要があるが、厚みが50nmを超えると、新たに干渉色である虹色が発生し、この虹色により調理器具の表面が油で汚染されているように見え、美観を著しく損ねるという問題点があった。また、調理器具の表面に指紋が付着した場合、台所や厨房における美観を損なうという問題点があり、指紋が見え難くする方法が要望されていた。本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、調理の際のアルカリ性物質を含む食材に対する耐食性に優れ、かつ指紋汚れが見え難い耐食性及び耐指紋性に優れた物品及び調理器具並びに耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法を提供することを目的とする。本発明者等は、上記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、基材の表面に、厚みが50nm以上の酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成すると、アルカリを含む食材の高温での腐食を防止し得るものの、干渉色である虹色の発生が著しく、美観を損ねるという問題があり、そこで、基材の表面を、その表面粗さRaを予め0.3μm以上、かつ光沢度グロス値を100以下に調整すれば、干渉色である虹色の発生が抑えられ、さらに指紋付着が見え難くなることを知見し、さらに、酸化ジルコニウムを含む皮膜上にさらにもう一層、マグネシウムを含む皮膜を形成すると、耐食性を損なうことなく、干渉色である虹色の発生及び指紋の付着が効果的に抑えられることを知見し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の耐食性及び耐指紋性に優れた物品は、表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下である基材の表面に、酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成してなることを特徴とする。前記酸化ジルコニウムを含む皮膜の上に、さらにマグネシウムを含む皮膜が形成されていることが好ましい。前記基材は、セラミックス、金属複合体、金属のいずれか1種または2種以上からなることが好ましい。本発明の調理器具は、本発明の耐食性及び耐指紋性に優れた物品を備えた調理器具であって、300°C以上にて使用可能であることを特徴とする。本発明の耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法は、基材の表面を、表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下となるように調整し、次いで、前記表面に酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成することを特徴とする。本発明の他の耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法は、基材の表面を加熱し、次いで、加熱されている前記表面にジルコニウム化合物を含む塗布液を塗布し、前記表面上に表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下の酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成することを特徴とする。前記酸化ジルコニウムを含む皮膜の上に、さらにマグネシウムを含む皮膜を形成することが好ましい。本発明の耐食性及び耐指紋性に優れた物品によれば、表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下である基材の表面に、酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成したので、調理の際のアルカリ性物質を含む食材に対する耐食性を向上させることができ、しかも、干渉色である虹色発生を防止することができ、指紋の付着に起因する汚れも見え難くすることができる。この酸化ジルコニウムを含む皮膜の上に、さらにマグネシウムを含む皮膜を形成すれば、アルカリ性物質を含む食材に対する耐食性を損なうこと無く、この虹色発生をさらに防止することができ、指紋の付着に起因する汚れもより見え難くすることができる。本発明の耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法によれば、基材の表面を、表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下となるように調整し、次いで、前記表面に酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成するので、調理の際のアルカリ性物質を含む食材に対する耐食性に優れ、虹色発生も無く、指紋の付着に起因する汚れも見え難い物品を、容易かつ安価に得ることができる。本発明の他の耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法によれば、基材の表面を加熱し、次いで、加熱されている前記表面にジルコニウム化合物を含む塗布液を塗布し、前記表面上に表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下の酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成するので、調理の際のアルカリ性物質を含む食材に対する耐食性に優れ、虹色発生も無く、指紋の付着に起因する汚れも見え難い物品を、容易かつ安価に得ることができる。本発明の耐食性及び耐指紋性に優れた物品及び調理器具並びに耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法を実施するための形態について説明する。なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。[耐食性及び耐指紋性に優れた物品]本実施形態の耐食性及び耐指紋性に優れた物品は、表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下である基材の表面に、酸化ジルコニウムZrO2を含む皮膜以下、単にジルコニア皮膜とも称するを形成してなる物品である。基材は、本実施形態の耐食性及び耐指紋性に優れた物品の本体を構成するもので、目的とする物品の形状や仕様により様々な形状のものが選択使用される。この基材としては、例えば、キッチンや厨房で使用されるフライパン、鍋、調理用プレート、魚焼き用グリルの水入れ皿、焼き網等の調理用具、各種食器、コンロ天板、コンロ部品、オーブン内部品等、食品の調理に用いられる器具や部品等が挙げられる。この基材としては、上記の耐食性及び耐指紋性に優れた物品を形成する際の熱処理に耐え得るのであれば格別の制限はなく、例えば、300°C程度の熱処理に対して耐熱性のあるガラス、結晶化ガラス、陶磁器等のセラミックス、琺瑯等の金属複合体、ステンレス鋼等の金属のいずれか1種または2種以上が挙げられる。この基材の表面における表面粗さRaは、0.3μm以上であることが好ましく、より好ましくは0.4μm以上、さらに好ましくは0.5μm以上である。ここで、表面粗さRaを0.3μm以上とした理由は、表面粗さRaが0.3μm未満では、虹色の干渉色の発生が著しくなり、指紋の付着に起因する汚れも目立ち易くなり、美観を損ねるからである。この基材の表面における光沢度グロス値は、100以下であることが好ましく、より好ましくは90以下、さらに好ましくは80以下である。ここで、光沢度グロス値を100以下とした理由は、光沢度グロス値が100を超えると、表面粗さRaと同様、虹色の干渉色の発生が著しくなり、指紋の付着に起因する汚れも目立ち易くなり、美観を損ねるからである。ジルコニア皮膜としては、酸化ジルコニウムを80質量以上かつ100質量以下、好ましくは90質量以上かつ100質量以下含有する膜であればよく、特に制限はない。この皮膜の酸化ジルコニウム以外の成分としては、例えば、酸化ケイ素SiO2、酸化アルミニウムAl2O3、酸化イットリウムY2O3、酸化カルシウムCaO等が挙げられる。ここで、酸化ジルコニウムZrO2の含有率が80質量を下回ると、アルカリ溶融反応に対する耐食性が不十分なものとなるので好ましくなく、一方、含有率が100質量を超えた場合、アルカリ溶融反応に対する耐食性が飽和してしまい、さらなる効果が得られない。このジルコニア皮膜の厚みは50nm以上かつ1000nm以下が好ましく、より好ましくは100nm以上かつ200nm以下である。この厚みが50nmを下回ると、アルカリ溶融反応に対する耐食性が不十分となり、一方、厚みが1000nmを超えると、亀裂が発生する虞があり、調理器具等の表面の美観を損ねる虞がある。ここで、干渉色である虹色の発生をさらに防止し、指紋の付着に起因する汚れをさらに目立たなくするためには、このジルコニア皮膜の上に、さらにマグネシウムを含む皮膜以下、マグネシウム含有皮膜とも称するを形成することが好ましい。マグネシウム含有皮膜としては、酸化マグネシウム等のマグネシウム化合物を20質量以上かつ100質量以下、好ましくは30質量以上かつ80質量以下含有する膜であればよく、特に制限はしないが、マグネシウム化合物のみの皮膜では、耐アルカリ性は良好であるものの、耐水性や耐酸性は不十分である。そこで、マグネシウム化合物に酸化ジルコニウムや酸化アルミニウムを添加して耐水性及び耐酸性を向上させることが好ましい。マグネシウム化合物は、可視光線に対する屈折率が酸化ジルコニウムより小さいので、虹色発生を抑制し、指紋の付着に起因する汚れも目立たなくする効果がある。[調理器具]本実施形態の調理器具は、上記の耐食性及び耐指紋性に優れた物品を備えた調理器具であって、300°C以上でも使用可能である。このような調理器具としては、例えば、キッチンや厨房で使用されるフライパン、鍋、調理用ホットプレート、焼き網等の調理用具、各種食器、コンロ天板、コンロ部品、オーブン内部品等、食品の調理に用いられる器具や部品等が挙げられる。[耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法]本実施形態の耐食性及び耐指紋性に優れた物品の製造方法としては、2つの方法が挙げられる。この2つの方法について順次説明する。A.物品の製造方法-その1基材の表面を、表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下となるように調整し、次いで、前記表面にジルコニア皮膜を形成する方法。まず、基材の表面を、表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下となるように調整する。この調整方法としては、アルミナやコランダム等の研磨材による研磨、フッ化アンモニウム溶液等の薬品による処理等が挙げられる。表面粗さRaは、テンコールp-10等の表面粗さ測定装置を用いて測定することができる。また、光沢度グロス値は、60°グロスメーターを用いて測定することができる。このように表面粗さRa及び光沢度グロス値が調製された基材を、洗剤を用いて洗浄した後、水洗にて清浄にしておく。次いで、この表面に、ジルコニウム化合物を含む塗布液を塗布する。ジルコニウム化合物としては、ジルコニアゾル、もしくはそれぞれのアルコキシドが好適である。上記のジルコニアゾルとしては、特に制限されるものではないが、例えば、平均粒径が5nm以下、好ましくは1nm以下のものが、300°C程度の比較的低温度の熱処理により機械的特性に優れた皮膜を容易に形成し得るので好ましい。上記のジルコニウムアルコキシドとしては、特に制限されるものではないが、例えば、ジルコニウムテトラノルマルブトキシド、ジルコニウムテトラプロポキシドを挙げることができる。これらジルコニウムテトラノルマルブトキシドやジルコニウムテトラプロポキシドは、アルコール等の有機溶媒に溶解可能であり、適度な加水分解速度を有し、しかも、取り扱い易いので、膜質が均一な皮膜を形成することができる。このジルコニウムアルコキシドは、吸湿性が高く、非常に不安定であるから、ジルコニウムアルコキシドをキレート化したジルコニウムアルコキシドのキレート化合物を用いることが好ましい。上記のジルコニウムアルコキシドのキレート化合物としては、ジルコニウムアルコキシドとキレート剤との化合物を挙げることができる。キレート剤としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のエタノールアミン、アセチルアセトン等のβ-ジケトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、マロン酸ジエチル、フェノキシ酢酸エチル等のβ-ケト酸エステル、酢酸、乳酸、クエン酸、安息香酸、リンゴ酸等のカルボン酸等を挙げることができる。特に、酸を用いる場合には、弱酸が好ましい。この塗布液におけるジルコニウム化合物の割合は、ジルコニア換算で0.1質量以上かつ10質量以下が好ましく、より好ましくは0.5質量以上かつ3質量以下である。ジルコニウム化合物の割合が0.1質量を下回ると、得られた皮膜の膜厚が薄く、耐食性が十分に得られず、一方、10質量を超えると、皮膜が剥離する要因となる。この塗布液にキレート剤を添加する場合、キレート剤はアルコキシドと同時に溶媒に添加するのが好ましい。これにより、アルコキシドが吸湿するのを防止することができる。キレート剤の添加量は、アルコキシドのモル数に対して10モル以上かつ100モル以下が好ましい。添加量が10モルを下回ると、アルコキシドの十分な吸湿防止効果が得られず、一方、添加量が100モルを超えると、キレート化が進行し過ぎて固化してしまうので、好ましくない。上記のジルコニウム化合物には、ジルコニアの安定化材として、イットリウムYあるいはカルシウムCa等を添加することができる。また、増量効果として、ケイ素化合物等を添加することも可能である。このケイ素化合物としては、熱処理によりケイ素酸化物となり得るケイ素化合物であれば特に制限はないが、例えば、コロイダルシリカ、ケイ素のアルコキシドを挙げることができる。この塗布液に用いられる溶媒としては、上述したジルコニウム化合物、ケイ素化合物を含む場合はジルコニウム化合物及びケイ素化合物、を溶解または分散させることのできる溶媒であれば、特に制限なく用いることができ、例えば、水、メタノール、エタノール、2-プロパノール、1-ブタノール等の低級アルコールの他、エチレングリコールモノメチルエーテルメチルセロソルブ、エチレングリコールモノエチルエーテルエチルセロソルブ、エチレングリコールモノブチルエーテルブチルセロソルブ等のエーテル類セロソルブ類、アセトン、ジメチルケトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類、エチレングリコール等のグリコール類、高級アルコール類、エステル類等を挙げることができる。特に、溶媒として水を用いる場合、アルコキシドの加水分解量以上の量の水を含有させると塗布液の安定性が低下するので、アルコキシドの加水分解量より少ない量とする必要がある。塗布方法としては特に制限はなく、スプレー法、ディップ法、刷毛塗り法等が適用できる。塗布に当たっては、塗布膜の厚みを、熱処理後の膜厚が0.05μm~1μmの範囲になるように調製することが好ましい。このようにして得られた塗布膜を、250°C以上かつ基材の耐熱温度以下、好ましくは400°C以上かつ基材の耐熱温度以下の熱処理温度にて、1分以上かつ24時間以下の熱処理時間、熱処理し、ジルコニア皮膜を形成する。この熱処理時の雰囲気は特に制限されず、通常、大気雰囲気中で行う。ここで、熱処理温度が250°Cを下回ると、得られたジルコニア皮膜の機械的強度が不充分となる。なお、熱処理温度が高すぎると基材が変形する虞があるので、熱処理温度を使用する基材に応じて調整する必要がある。以上により、基材の表面にジルコニア皮膜を形成することができる。ここで、ジルコニア皮膜から虹色の発生を無くし、指紋の付着に起因する汚れをさらに目立たなくするためには、このジルコニア皮膜の上に、さらにマグネシウム含有皮膜を形成することが好ましい。マグネシウム含有皮膜は、ジルコニア皮膜の表面に、マグネシウム化合物を含む塗布液を塗布し、熱処理することにより、得ることができる。マグネシウム化合物としては、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド、マグネシウムプロポキシド、マグネシウムブトキシド等のマグネシウムアルコキド、硝酸マグネシウム等の溶媒に溶解可能なマグネシウム塩、等を使用することができる。このマグネシウム化合物には、マグネシウム含有皮膜の耐水性や耐酸性を向上させるために、ジルコニウム化合物やアルミニウム化合物を添加することが好ましい。このアルミニウム化合物としては、アルミナゾル、もしくはそのアルコキシドが好適である。アルコキドとしては、アルミニウムブトキシド、アルミニウムプロポキシド等を挙げることができる。特に、アルミニウムのアルコキシドは、有機溶媒に溶解可能であるから好適である。この塗布液に用いられる溶媒としては、マグネシウム化合物やアルミニウム化合物を溶解または分散させることのできる溶媒であれば、特に制限なく用いることができ、例えば、水、メタノール、エタノール、2-プロパノール、1-ブタノール等の低級アルコールの他、エチレングリコールモノメチルエーテルメチルセロソルブ、エチレングリコールモノエチルエーテルエチルセロソルブ、エチレングリコールモノブチルエーテルブチルセロソルブ等のエーテル類セロソルブ類、アセトン、ジメチルケトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類、エチレングリコール等のグリコール類、高級アルコール類、エステル類等を挙げることができる。特に、溶媒として水を用いる場合、マグネシウムやアルミニウムのアルコキシドの加水分解量以上の量の水を含有させると塗布液の安定性が低下するので、アルコキシドの加水分解量より少ない量とする必要がある。この塗布液におけるマグネシウム化合物の割合は、マグネシア換算で全固形分マグネシアジルコニアアルミナに対して10質量以上かつ90質量以下が好ましい。マグネシウム化合物の割合がマグネシア換算で10質量を下回ると、アルカリ溶融反応に対する耐食性が不十分となり、一方、90質量を超えると、耐水性や耐酸性、あるいは耐摩耗性が低下するから、好ましくない。マグネシウム化合物の添加方法としては、ジルコニウム化合物やアルミニウム化合物を含む溶液に直接混合する方法が好ましい。ところで、アルミニウムアルコキシドは、吸湿性が高く、非常に不安定であるから、アルミニウムアルコキシドをキレート化したアルミニウムアルコキシドのキレート化合物を用いることが好ましい。上記のアルミニウムアルコキシドのキレート化合物としては、アルミニウムアルコキシドとキレート剤との化合物を挙げることができる。キレート剤としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のエタノールアミン、アセチルアセトン等のβ-ジケトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、マロン酸ジエチル、フェノキシ酢酸エチル等のβ-ケト酸エステル、酢酸、乳酸、クエン酸、安息香酸、リンゴ酸等のカルボン酸等を挙げることができる。特に、酸を用いる場合には、弱酸が好ましい。塗布方法としては特に制限はなく、スプレー法、ディップ法、刷毛塗り法等が適用できる。塗布に当たっては、塗布膜の厚みを、熱処理後の膜厚が50nm~1000nmの範囲になるように調製することが好ましい。このようにして得られた塗布膜を、250°C以上かつ基材の耐熱温度以下、好ましくは400°C以上かつ基材の耐熱温度以下の熱処理温度にて、1分以上かつ24時間以下の熱処理時間、熱処理し、マグネシウム含有皮膜を形成する。この熱処理時の雰囲気は特に制限されず、通常、大気雰囲気中で行う。ここで、熱処理温度が250°Cを下回ると、得られたマグネシウム含有皮膜の機械的強度が不充分となる。以上により、ジルコニア皮膜の表面にマグネシウム含有皮膜を積層することができる。B.物品の製造方法-その2基材の表面を加熱し、次いで、加熱されている前記表面にジルコニウム化合物を含む塗布液を塗布し、前記表面上に表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下の酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成する方法。この方法では、基材の表面を加熱して、その表面温度を250°C以上かつ500°C以下、好ましくは300°C以上かつ450°C以下とし、この加熱されている表面に、上述したジルコニウム化合物を含む塗布液を、スプレー等を用いて塗布する。このジルコニウム化合物を含む塗布液は、表面温度が250°C以上の基材の表面に付着した段階で、溶媒が蒸発するとともにジルコニウム化合物が反応して酸化ジルコニウムを生じさせる。これにより、基材の表面に、表面粗さRaが0.3μm以上かつ光沢度グロス値が100以下のジルコニア皮膜が形成されることとなる。以上により、基材の表面にジルコニア皮膜を形成することができる。以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。A.結晶化ガラスコンロ天板実施例1結晶化ガラス製のコンロ天板を用意し、このコンロ天板の表面を、3フッ化アンモニウム溶液にて浸漬腐食して、表面粗さRaを0.4μm、光沢度グロス値を80に調製し、この表面を洗浄した。次いで、この表面に、酸化ジルコニウムゾル水分散液ZrO2の含有率:2質量;住友大阪セメント製を焼付け後の平均膜厚が50nmとなるように、はけにて塗布し、大気中、750°Cにて1時間熱処理することにより、表面にジルコニア皮膜が形成された実施例1の皮膜付き基材を作製した。実施例2硝酸マグネシウム及びアルミニウムイソプロポキシドを、固形分2質量、酸化物固形分比がMgO/Al2O3MgO=30となるように2-プロパノールに溶解し、実施例2の塗布液を作製した。次いで、この塗布液を、実施例1に準じて得られた皮膜付き基材上に、はけにて塗布し、大気中、600°Cにて1時間熱処理し、ジルコニア皮膜の上にマグネシア皮膜が形成された実施例2の皮膜付き基材を作製した。実施例3実施例1の焼付け後の平均膜厚を50nmから200nmに変更した他は、実施例1に準じて実施例3の皮膜付き基材を作製した。比較例1コンロ天板の表面を浸漬腐食しなかった他は、実施例1に準じて比較例1の皮膜付き基材を作製した。比較例2コンロ天板の表面を浸漬腐食しなかった他は、実施例2に準じて比較例2の皮膜付き基材を作製した。B.琺瑯製オーブンキャビティ実施例4琺瑯製オーブンキャビティオーブン筐体を用意した。一方、ジルコニウムテトラブトキシド10質量部、テトラメトキシシラン0.5質量部、アセチルアセトン5質量部、2-プロパノール84.5質量部を混合し、コーティング液を得た。次いで、上記のオーブンキャビティを250°Cにまで予熱し、この熱いオーブンキャビティの表面に上記のコーティング液を50gスプレー塗装し、次いで、オーブンキャビティを加熱して、400°Cにて10分間焼き付けを行い、表面にジルコニア皮膜が形成された実施例4の皮膜付き基材を作製した。このジルコニア皮膜の平均膜厚は80nm、表面粗さRaは0.3μm、光沢度グロス値は50であった。実施例5実施例4に準じて得られた琺瑯製オーブンキャビティの表面に、1質量の硝酸マグネシウム水溶液を50gスプレー塗装し、次いで、オーブンキャビティを加熱して、400°Cにて10分間焼き付けを行い、ジルコニア皮膜の上にマグネシア皮膜が形成された実施例5の皮膜付き基材を作製した。実施例6実施例4の焼付け後の平均膜厚を80nmから200nmに変更した他は、実施例4に準じて実施例6の皮膜付き基材を作製した。比較例3オーブンキャビティを予熱せずに、このオーブンキャビティの表面に実施例4のコーティング液を50gスプレー塗装し、次いで、400°Cにて10分間焼き付けを行い、表面にジルコニア皮膜が形成された比較例3の皮膜付き基材を作製した。このジルコニア皮膜の表面粗さRaは0.06μm、光沢度グロス値は90であった。比較例4オーブンキャビティを予熱しなかった他は、実施例4に準じて、比較例4の皮膜付き基材を作製した。C.ステンレススチール製フライパン実施例7ステンレススチール製フライパンを用意し、このフライパンの表面にヘアライン処理を施して、この表面を研磨し、表面粗さRaを0.5μm、光沢度グロス値を90に調製し、その後洗浄した。次いで、ジルコニウムテトラブトキシド10質量部、アセト酢酸エチル10質量部、2-プロパノール80.0質量部を混合し、コーティング液を得た。次いで、このコーティング液に、上記のフライパンを浸漬して引き上げるディップ塗装を行い、次いで、250°Cにて30分間焼き付けを行い、表面にジルコニア皮膜が形成された実施例7の皮膜付き基材を作製した。このジルコニア皮膜の平均膜厚は、0.1μmであった。実施例8硝酸マグネシウム及びジルコニウムブトキシドを、固形分2質量、酸化物固形分比がMgO/ZrO2MgO=30となるように2-プロパノールに溶解し、実施例8の塗布液を作製した。次いで、この塗布液に実施例1に準じて得られた皮膜付き基材を浸漬して引き上げるディップ塗装を行い、大気中、250°Cにて1時間熱処理することにより、ジルコニア皮膜の表面にマグネシア及びジルコニア複合酸化物皮膜が形成された実施例8の皮膜付き基材を作製した。実施例9実施例7の焼付け後の平均膜厚を0.1μmから200nmに変更した他は、実施例7に準じて実施例9の皮膜付き基材を作製した。比較例5ヘアライン処理を施さなかった他は、実施例6に準じて、比較例5の皮膜付き基材を作製した。比較例6ヘアライン処理を施さなかった他は、実施例7に準じて、比較例6の皮膜付き基材を作製した。皮膜の評価実施例1~9の皮膜付き基材及び比較例1~6の皮膜付き基材各々の膜特性を評価した。評価結果を表1~表3に示す。なお、ここでは、皮膜を形成していない結晶化ガラス製のコンロ天板を従来例1、皮膜を形成していない琺瑯製オーブンキャビティを従来例2、皮膜を形成していないステンレススチール製フライパンを従来例3とした。また、評価方法は次のとおりである。1表面粗さRaテンコールp-10表面粗さ測定装置を用いて測定した。2光沢度グロス値60°グロスメーターを用いて測定した。3耐アルカリ性皮膜付き基材上に炭酸カリウム1gを載せ、500°Cにて1時間加熱したときの皮膜における腐食の度合いを目視にて観察した。4干渉色目視にて評価した。5指紋の見え易さ目視にて評価した。なお、表2では、実施例4~6は、従来例6にスプレー膜を形成した後の皮膜付き基材=実施例4の表面粗さと光沢度グロス値を測定した。また、比較例3~4は、従来例6にスプレー膜を形成した後の皮膜付き基材=比較例3の表面粗さと光沢度グロス値を測定した。表1~表3によれば、基材の表面の表面粗さRaを0.3μm以上かつ光沢度グロス値を100以下とし、この表面にジルコニアを含む皮膜を形成した場合に、虹色の発生を抑制し、指紋を見え難くすることができた。さらに、ジルコニアを含む皮膜上にマグネシウムを含む層を積層すると、虹色の発生がさらに抑制され、指紋をさらに見え難くすることができた。