"機関排気通路内に排気中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を配置し、該排気浄化触媒の排気流通表面上には貴金属触媒が担持されているとともに、該貴金属触媒周りには塩基性の排気流通表面部分が形成されており、該排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、排気中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、該炭化水素の濃度の振動周期を該予め定められた範囲よりも長くすると排気中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、排気浄化触媒よりも下流の機関排気通路に配置され、予め定められた状態になった時に昇温する後処理装置を備え、排気浄化触媒において生じる炭化水素の酸化熱により排気の温度を上昇させ、後処理装置の温度を上昇させる昇温制御を行うように形成されており、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期にて振動させる制御において、予め定められた炭化水素の総供給量を予め定められた期間中に供給する場合に、排気浄化触媒は、炭化水素の供給周期を長く変化させるとNOXの浄化率が上昇する上昇範囲および予め定められたNOXの浄化率よりも高くなる高浄化率範囲を有しており、昇温制御において、後処理装置の昇温に必要な炭化水素の総供給量を設定し、高浄化率範囲のうち炭化水素の供給周期が短い側の端部の領域内にて、炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を設定し、設定した炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量にて炭化水素の供給を行うことを特徴とする、内燃機関の排気浄化装置。昇温制御において、高浄化率範囲のうち最も炭化水素の供給周期が短い特定供給周期および特定供給周期に対応する1回あたりの炭化水素の供給量である特定供給量にて炭化水素の供給を行うことを特徴とする、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。昇温制御において、予め定められた間隔ごとに内燃機関の運転状態を検出し、検出した内燃機関の運転状態に基づいて炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を設定し、炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を変更することを特徴とする、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。後処理装置は、パティキュレートフィルタを含み、昇温制御は、パティキュレートフィルタに堆積する粒子状物質を酸化させるために温度を上昇する制御を含む、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。排気浄化触媒内では、排気中に含まれるNOXと、改質された炭化水素とが反応することにより窒素および炭化水素を含む還元性中間体が生成されており、炭化水素の濃度の振動周期は、還元性中間体を生成し続けるのに必要な周期であることを特徴とする、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。貴金属触媒は、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方と、白金Ptとにより構成されることを特徴とする、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。排気浄化触媒は、排気流通表面上に形成され、アルカリ金属又はアルカリ土類金属又は希土類又はNOXに電子を供与しうる金属を含む塩基性層を含み、塩基性層の表面が塩基性の排気流通表面部分を形成していることを特徴とする、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。排気に含まれるNOXは、NOXの吸蔵とNOXの放出および還元とを繰り返すNOX吸蔵触媒により浄化することができる。従来の技術においては、NOX吸蔵触媒に流入する排気の空燃比を長時間リーンに維持することにより、NOX吸収剤の内部にNOXを硝酸イオンの形態で吸収させることができ、排気中からNOXを除去することができる。NOX吸収剤の内部に吸収されたNOXは、排気の空燃比を理論空燃比またはリッチにすることにより、吸収剤の内部から放出される。吸収剤の内部から放出されたNOXは、排気に含まれる炭化水素等の還元剤により窒素に還元される。このような排気の空燃比をリーンに長時間維持した後に排気の空燃比をリッチにする制御によりNOXを浄化する場合には、NOX吸蔵触媒が高温になるとNOX浄化率が低下するという問題があった。また、パティキュレートフィルタに捕集された粒子状物質は、パティキュレートフィルタの温度を上昇させることにより除去することができる。このパティキュレートフィルタの再生においては、パティキュレートフィルタの上流側に配置され、燃料等の炭化水素の酸化が可能な触媒に対して、燃料等の炭化水素を供給することにより、パティキュレートフィルタの昇温を行うことができる。ところが、パティキュレートフィルタを昇温するための燃料の総供給量や燃料の供給間隔が設定される場合には、1回の燃料の供給量が多くなり、燃料の酸化が可能な触媒において燃料のスリップが生じる虞があった。すなわち、燃料が触媒をすり抜けてしまい、その結果、大気中に放出される虞があった。本発明は、NOXを浄化する排気浄化触媒と、予め定められた状態になったときに昇温する後処理装置とを備え、排気浄化触媒が高温になっても高いNOX浄化率を得ることができ、更に後処理装置を昇温する時に炭化水素のすり抜けを抑制する内燃機関の排気浄化装置を提供することを目的とする。本発明の内燃機関の排気浄化装置は、機関排気通路内に排気中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を配置し、排気浄化触媒の排気流通表面上には貴金属触媒が担持されているとともに、貴金属触媒周りには塩基性の排気流通表面部分が形成されており、排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、排気中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素の濃度の振動周期を予め定められた範囲よりも長くすると排気中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有している。排気浄化装置は、排気浄化触媒よりも下流の機関排気通路に配置され、予め定められた状態になった時に昇温する後処理装置を備え、排気浄化触媒において生じる炭化水素の酸化熱により排気の温度を上昇させ、後処理装置の温度を上昇させる昇温制御を行うように形成されている。排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期にて振動させる制御において、予め定められた炭化水素の総供給量を予め定められた期間中に供給する場合に、排気浄化触媒は、炭化水素の供給周期を長く変化させるとNOXの浄化率が上昇する上昇範囲および予め定められたNOXの浄化率よりも高くなる高浄化率範囲を有している。昇温制御において、後処理装置の昇温に必要な炭化水素の総供給量を設定し、高浄化率範囲のうち炭化水素の供給周期が短い側の端部の領域内にて、炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を設定し、設定した炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量にて炭化水素の供給を行う。上記発明においては、昇温制御において、高浄化率範囲のうち最も炭化水素の供給周期が短い特定供給周期および特定供給周期に対応する1回あたりの炭化水素の供給量である特定供給量にて炭化水素の供給を行うことが好ましい。上記発明においては、昇温制御において、予め定められた間隔ごとに内燃機関の運転状態を検出し、検出した内燃機関の運転状態に基づいて炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を設定し、炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を変更することが好ましい。上記発明においては、後処理装置は、パティキュレートフィルタを含み、昇温制御は、パティキュレートフィルタに堆積する粒子状物質を酸化させるために温度を上昇する制御を含むことができる。上記発明においては、排気浄化触媒内では、排気中に含まれるNOXと、改質された炭化水素とが反応することにより窒素および炭化水素を含む還元性中間体が生成されており、炭化水素の濃度の振動周期は、還元性中間体を生成し続けるのに必要な周期であることができる。上記発明においては、貴金属触媒は、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方と、白金Ptとにより構成されることができる。上記発明においては、排気浄化触媒は、排気流通表面上に形成され、アルカリ金属又はアルカリ土類金属又は希土類又はNOXに電子を供与しうる金属を含む塩基性層を含み、塩基性層の表面が塩基性の排気流通表面部分を形成することができる。本発明によれば、NOXを浄化する排気浄化触媒と、予め定められた状態になったときに昇温する後処理装置とを備え、排気浄化触媒が高温になっても高いNOX浄化率を得ることができ、更に後処理装置を昇温する時に炭化水素のすり抜けを抑制する内燃機関の排気浄化装置を提供することができる。図1から図33を参照して、実施の形態における内燃機関の排気浄化装置について説明する。本実施の形態においては、車両に取り付けられている圧縮着火式の内燃機関を例に取り上げて説明する。図1は、本実施の形態における内燃機関の全体図である。内燃機関は、機関本体1を備える。また、内燃機関は、排気を浄化する排気浄化装置を備える。機関本体1は、各気筒としての燃焼室2と、それぞれの燃焼室2に燃料を噴射するための電子制御式の燃料噴射弁3と、吸気マニホールド4と、排気マニホールド5とを含む。吸気マニホールド4は、吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に連結されている。コンプレッサ7aの入口は、吸入空気量検出器8を介してエアクリーナ9に連結されている。吸気ダクト6内にはステップモータにより駆動されるスロットル弁10が配置されている。更に、吸気ダクト6の途中には、吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置されている。図1に示される実施例では、機関冷却水が冷却装置11に導かれている。機関冷却水によって吸入空気が冷却される。一方、排気マニホールド5は、排気ターボチャージャ7の排気タービン7bの入口に連結されている。排気タービン7bの出口は排気管12を介して排気浄化触媒13の入口に連結されている。排気浄化触媒13の出口は、排気管12aを介して排気中に含まれるパティキュレートを捕集するパティキュレートフィルタ14に連結されている。排気浄化触媒13の上流には圧縮着火式内燃機関の燃料として用いられる軽油、又は、その他の燃料からなる炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15が配置されている。本実施の形態においては、炭化水素供給弁15から供給される炭化水素として軽油が用いられている。なお、本発明は、燃焼時の空燃比がリーンに制御される火花点火式の内燃機関にも適用することができる。この場合、炭化水素供給弁からは火花点火式の内燃機関の燃料として用いられるガソリン又は、その他の燃料からなる炭化水素が供給される。排気マニホールド5と吸気マニホールド4との間には、排気再循環EGRを行うためにEGR通路16が配置されている。EGR通路16には電子制御式のEGR制御弁17が配置されている。また、EGR通路16の途中にはEGR通路16内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置18が配置されている。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置18内に導かれている。機関冷却水によってEGRガスが冷却される。それぞれの燃料噴射弁3は、燃料供給管19を介してコモンレール20に連結されている。コモンレール20は、電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ21を介して燃料タンク22に連結されている。燃料タンク22に貯蔵される燃料は、燃料ポンプ21によってコモンレール20内に供給される。コモンレール20内に供給された燃料は、それぞれの燃料供給管19を介して燃料噴射弁3に供給される。電子制御ユニット30は、デジタルコンピュータからなる。本実施の形態における電子制御ユニット30は、排気浄化装置の制御装置として機能する。電子制御ユニット30は、双方性バス31によって互いに接続されたROMリードオンリメモリ32、RAMランダムアクセスメモリ33、CPUマイクロプロセッサ34、入力ポート35および出力ポート36を含む。ROM32には、制御を行なうための必要なマップ等の情報が予め記憶されている。CPU34は、任意の演算や判別を行なうことができる。RAM33は、運転履歴などの情報を保存したり、演算結果を保存したりすることができる。排気浄化触媒13の下流には排気浄化触媒13の温度を検出するための温度センサ23が取付けられている。また、パティキュレートフィルタ14の下流にはパティキュレートフィルタ14の温度を検出するための温度センサ25が取付けられている。パティキュレートフィルタ14には、パティキュレートフィルタ14の前後の差圧を検出するための差圧センサ24が取付けられている。これらの温度センサ23,25、差圧センサ24および吸入空気量検出器8の出力信号は、夫々対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル40にはアクセルペダル40の踏込み量に比例した出力電圧を発生する負荷センサ41が接続されている。負荷センサ41の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。更に入力ポート35にはクランクシャフトが例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ42が接続される。クランク角センサ42の出力により、クランク角度や機関回転数を検出することができる。一方、出力ポート36は、対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁3、スロットル弁10の駆動用ステップモータ、炭化水素供給弁15、EGR制御弁17および燃料ポンプ21に接続されている。これらの燃料噴射弁3、スロットル弁10、炭化水素供給弁15およびEGR制御弁17等は、電子制御ユニット30により制御されている。パティキュレートフィルタ14は、排気中に含まれる炭素微粒子、サルフェート等の粒子状物質パティキュレートを除去するフィルタである。パティキュレートフィルタ14は、例えば、ハニカム構造を有し、ガスの流れ方向に伸びる複数の流路を有する。複数の流路において、下流端が封止された流路と上流端が封止された流路とが交互に形成されている。流路の隔壁は、コージライトのような多孔質材料で形成されている。この隔壁を排気が通過するときにパティキュレートが捕捉される。粒子状物質は、パティキュレートフィルタ14に捕集される。パティキュレートフィルタ14に次第に堆積する粒子状物質は、空気過剰の雰囲気中で温度を例えば650°C程度まで上昇することにより酸化されて除去される。図2は、本実施の形態における排気浄化触媒の基体上に担持された触媒担体の表面部分の拡大図である。排気浄化触媒13は、排気が流通する通路を含む基体を備える。基体の通路の表面には、貴金属触媒としての触媒粒子51,52を担持するための触媒担体50が配置されている。本実施の形態においては、例えばアルミナからなる触媒担体50上に貴金属の触媒粒子51,52が担持されている。更に、触媒担体50の表面上にはカリウムK、ナトリウムNa、セシウムCsのようなアルカリ金属、バリウムBa、カルシウムCaのようなアルカリ土類金属、ランタノイドのような希土類および銀Ag、銅Cu、鉄Fe、イリジウムIrのようなNOXに電子を供与しうる金属から選ばれた少なくとも一つを含む塩基性層53が形成されている。排気は触媒担体50上に沿って流れるので、貴金属の触媒粒子51,52は、排気浄化触媒13の排気流通表面上に担持されていると言える。また、塩基性層53の表面は塩基性を呈するので塩基性層53の表面は塩基性の排気流通表面部分54と称される。一方、図2において貴金属の触媒粒子51は白金Ptからなり、貴金属の触媒粒子52はロジウムRhからなる。即ち、触媒担体50に担持されている貴金属の触媒粒子51,52は白金PtおよびロジウムRhから構成されている。なお、排気浄化触媒13の触媒担体50上には、白金PtおよびロジウムRhに加えて更にパラジウムPdを担持させることができるし、或いはロジウムRhに代えてパラジウムPdを担持させることができる。即ち、本実施の形態における触媒担体50に担持されている貴金属の触媒粒子51,52は、白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される。図3は、本実施の形態の排気浄化触媒において行われる炭化水素の改質作用を図解的に示している。図3に示されるように、炭化水素供給弁15から噴射された炭化水素HCは、触媒粒子51の触媒作用により炭素数の少ないラジカル状の炭化水素HCになる。図4は、炭化水素供給弁からの炭化水素の供給タイミングと排気浄化触媒に流入する排気の空燃比の変化とを示している。本発明においては、機関吸気通路、燃焼室および排気浄化触媒上流の排気通路内に供給された空気および燃料炭化水素の比を排気の空燃比A/Fと称する。排気浄化触媒に流入する排気の空燃比A/Finの変化は、排気浄化触媒13に流入する排気中の炭化水素の濃度変化に依存しているので、図4に示される空燃比A/Finの変化は炭化水素の濃度変化を表しているとも言える。ただし、炭化水素濃度が高くなると空燃比A/Finは小さくなるので、図4においては空燃比A/Finがリッチ側となるほど炭化水素濃度が高くなっている。図5は、本実施の形態における排気浄化触媒の触媒温度とNOX浄化率との関係を示すグラフである。図5は、図4に示されるように排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finを周期的に変化させたときのNOX浄化率を排気浄化触媒13の触媒温度TCに対して示している。本発明者は、長い期間に亘ってNOX浄化に関する研究を重ねており、その研究課程において、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、例えば400°C以上の高温領域においても、極めて高いNOX浄化率が得られることが判明したのである。また、このときには窒素および炭化水素を含む多量の還元性中間体が塩基性層53の表面上に、即ち排気浄化触媒13の塩基性の排気流通表面部分54上に保持され続けていることが判明した。更に、この還元性中間体が高NOX浄化率を得る上で中心的役割を果していることが判明したのである。次に、このことについて図6Aおよび図6Bを参照しつつ説明する。図6Aおよび図6Bは、排気浄化触媒の触媒担体の表面部分を図解的に示している。図6Aおよび図6Bには、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期により振動させたときに生ずると推測される反応が示されている。図6Aは、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低いときを示しており、図6Bは、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されて排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が高くなっているときを示している。さて、図4からわかるように排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比は一瞬を除いてリーンに維持されている。排気浄化触媒13に流入する排気は、通常では酸素過剰の状態にある。従って排気に含まれるNOは図6Aに示されるように白金の触媒粒子51上において酸化されてNO2となり、次いでこのNO2は更に酸化されてNO3となる。また、NO2の一部はNO2-となる。この場合、NO3の生成量の方がNO2-の生成量よりもはるかに多い。従って白金の触媒粒子51上には多量のNO3と少量のNO2-が生成されることになる。これらNO3およびNO2-は活性が強い。本発明においては、これらのNO3およびNO2-を活性NOXと称し、記号NOXにて示す。塩基性層53の表面上には、活性NOXの形態でNOXが保持される。すなわち、塩基性の排気流通表面部分54の上には、排気に含まれるNOXが保持される。一方、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されると、炭化水素は、図3に示されるように排気浄化触媒13内において改質され、ラジカルとなる。その結果、図6Bに示されるように活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなる。ところで活性NOXが生成された後、活性NOX周りの酸素濃度が高い状態が一定時間以上継続すると活性NOXは酸化され、硝酸イオンNO3-の形で塩基性層53内に吸収される。しかしながらこの一定時間が経過する前に活性NOX周りの炭化水素濃度が高くされると、図6Bに示されるように活性NOXは、触媒粒子51上においてラジカル状の炭化水素HCと反応し、それにより還元性中間体が生成される。この還元性中間体は塩基性層53の表面上に保持される。なお、このとき最初に生成される還元性中間体はニトロ化合物R-NO2であると考えられる。このニトロ化合物R-NO2は生成されるとニトリル化合物R-CNとなる。このニトリル化合物R-CNはその状態では瞬時しか存続し得ないので、ただちにイソシアネート化合物R-NCOとなる。このイソシアネート化合物R-NCOは加水分解するとアミン化合物R-NH2となる。ただしこの場合、加水分解されるのはイソシアネート化合物R-NCOの一部であると考えられる。従って図6Bに示されるように塩基性層53の表面上に保持されている還元性中間体の大部分はイソシアネート化合物R-NCOおよびアミン化合物R-NH2であると考えられる。一方、図6Bに示されるように生成された還元性中間体の周りを炭化水素HCが取り囲んでいると還元性中間体は炭化水素HCに阻まれてそれ以上反応が進まない。この場合、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低下し、それによって酸素濃度が高くなると還元性中間体周りの炭化水素は酸化される。その結果、図6Aに示されるように還元性中間体と活性NOXとが反応するようになる。このとき活性NOXは還元性中間体R-NCOやR-NH2と反応してN2、CO2、H2Oとなり、この結果、NOXが浄化されることになる。このように排気浄化触媒13では、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を高くすることにより還元性中間体が生成され、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を低くして酸素濃度を高くすることにより活性NOXが還元性中間体と反応し、NOXが浄化される。即ち、排気浄化触媒13によりNOXを浄化するには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させる必要がある。無論、この場合、還元性中間体を生成するのに十分高い濃度まで炭化水素の濃度を高める必要があり、生成された還元性中間体を活性NOXと反応させるのに十分低い濃度まで炭化水素の濃度を低下させる必要がある。即ち、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅で振動させる必要がある。なお、この場合、生成された還元性中間体が活性NOXと反応するまで、十分な量の還元性中間体R-NCOやR-NH2を塩基性層53上に、即ち塩基性の排気流通表面部分54上保持しておかなければならず、そのために塩基性の排気流通表面部分54が設けられている。一方、炭化水素の供給周期を長くすると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給されるまでの間において酸素濃度が高くなる期間が長くなり、従って活性NOXは還元性中間体を生成することなく硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されることになる。これを回避するためには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の周期でもって振動させることが必要となる。そこで本発明による実施例では、排気中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させて窒素および炭化水素を含む還元性中間体R-NCOやR-NH2を生成するために排気浄化触媒13の排気流通表面上には貴金属の触媒粒子51,52が担持されている。生成された還元性中間体R-NCOやR-NH2を排気浄化触媒13内に保持しておくために貴金属の触媒粒子51,52の周りには塩基性の排気流通表面部分54が形成されている。塩基性の排気流通表面部分54上に保持された還元性中間体R-NCOやR-NH2の還元作用によりNOXが還元され、炭化水素濃度の振動周期は還元性中間体R-NCOやR-NH2を生成し続けるのに必要な振動周期とされる。因みに図4に示される例では噴射間隔が3秒とされている。炭化水素濃度の振動周期、即ち炭化水素HCの供給周期を上述の予め定められた範囲内の周期よりも長くすると塩基性層53の表面上から還元性中間体R-NCOやR-NH2が消滅し、このとき触媒粒子51上において生成された活性NOXは図7Aに示されるように硝酸イオンNO3-の形で塩基性層53内に拡散し、硝酸塩となる。即ち、このときには排気中のNOXは硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されることになる。一方、図7BはこのようにNOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されているときに排気浄化触媒13内に流入する排気の空燃比が理論空燃比又はリッチにされた場合を示している。この場合には排気中の酸素濃度が低下するために反応が逆方向NO3-→NO2に進み、斯くして塩基性層53内に吸収されている硝酸塩は順次硝酸イオンNO3-となって図7Bに示されるようにNO2の形で塩基性層53から放出される。次いで放出されたNO2は排気中に含まれる炭化水素HCおよびCOによって還元される。図8は、塩基性層のNOX吸収能力が飽和する少し前に排気浄化触媒に流入する排気の空燃比A/Finを一時的にリッチにするようにした場合を示している。なお、図8に示す例ではこのリッチ制御の時間間隔は1分以上である。この場合には排気の空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層53内に吸収されたNOXは、排気の空燃比A/Finが一時的にリッチにされたときに塩基性層53から一気に放出されて還元される。従ってこの場合には塩基性層53はNOXを一時的に吸収するための吸収剤の役目を果している。なお、このとき塩基性層53がNOXを一時的に吸着する場合もあり、従って吸収および吸着の双方を含む用語として吸蔵という用語を用いると、このとき塩基性層53はNOXを一時的に吸蔵するためのNOX吸蔵剤の役目を果していることになる。即ち、この場合には、排気浄化触媒13は、排気の空燃比がリーンのときにはNOXを吸蔵し、排気中の酸素濃度が低下すると吸蔵したNOXを放出するNOX吸蔵触媒として機能している。図9は、排気浄化触媒をNOX吸蔵触媒として機能させたときのNOX浄化率を示している。なお、図9の横軸は排気浄化触媒13の触媒温度TCを示している。排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合には、触媒温度TCが300°Cから400°Cのときには極めて高いNOX浄化率が得られるが、触媒温度TCが400°C以上の高温になるとNOX浄化率が低下する。このように触媒温度TCが400°C以上になるとNOX浄化率が低下するのは、触媒温度TCが400°C以上になると硝酸塩が熱分解してNO2の形で排気浄化触媒13から放出されるからである。即ち、NOXを硝酸塩の形で吸蔵している限り、触媒温度TCが高いときに高いNOX浄化率を得るのは困難である。しかしながら、図4から図6A,図6Bに示される新たなNOX浄化方法では図6A,図6Bからわかるように硝酸塩は生成されず或いは生成されても極く微量であり、この結果、図5に示されるように触媒温度TCが高いときでも高いNOX浄化率が得られることになる。そこで本発明では、炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15を機関排気通路内に配置し、炭化水素供給弁15下流の機関排気通路内に排気中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒13を配置し、排気浄化触媒13の排気流通表面上には貴金属の触媒粒子51,52が担持されていると共に貴金属の触媒粒子51,52周りには塩基性の排気流通表面部分54が形成されており、排気浄化触媒13は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期をこの予め定められた範囲よりも長くすると排気中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、それにより排気中に含まれるNOXを排気浄化触媒13において還元するようにしている。即ち、図4から図6A、図6Bに示されるNOX浄化方法は、貴金属の触媒粒子を担持し、かつNOXを吸収しうる塩基性層を形成した排気浄化触媒を用いた場合において、ほとんど硝酸塩を形成することなくNOXを浄化するようにした新たなNOX浄化方法であると言うことができる。実際、この新たなNOX浄化方法を用いた場合には排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合に比べて、塩基性層53から検出される硝酸塩は極く微量である。なお、本発明においては、この新たなNOX浄化方法を、第1のNOX浄化方法と称する。次に、図10から図15を参照しつつ第1のNOX浄化方法についてもう少し詳細に説明する。図10は、図4に示される空燃比A/Finの変化を拡大して示している。なお、前述したようにこの排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finの変化は同時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化を示している。なお、図10においてΔHは排気浄化触媒13に流入する炭化水素HCの濃度変化の振幅を示しており、ΔTは排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期を示している。更に、図10においてA/Fbは機関出力を発生するための燃焼ガスの空燃比を示すベース空燃比を表している。言い換えるとこのベース空燃比A/Fbは炭化水素の供給を停止したときに排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比を表している。一方、図10においてXは、生成された活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸蔵されることなく還元性中間体の生成のために使用される空燃比A/Finの上限を表している。活性NOXと改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるには、空燃比A/Finをこの空燃比の上限Xよりも低くすることが必要となる。別の言い方をすると図10のXは活性NOXと改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるのに必要な炭化水素の濃度の下限を表しており、還元性中間体を生成するためには炭化水素の濃度をこの下限Xよりも高くする必要がある。この場合、還元性中間体が生成されるか否かは活性NOX周りの酸素濃度と炭化水素濃度との比率、即ち空燃比A/Finで決まり、還元性中間体を生成するのに必要な上述の空燃比の上限Xを以下、要求最小空燃比と称する。図10に示される例では要求最小空燃比Xがリッチとなっており、従ってこの場合には還元性中間体を生成するために空燃比A/Finが瞬時的に要求最小空燃比X以下に、即ちリッチにされる。これに対し、図11に示される例では要求最小空燃比Xがリーンとなっている。この場合には空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させることによって還元性中間体が生成される。この場合、要求最小空燃比Xがリッチになるかリーンになるかは排気浄化触媒13の酸化力による。この場合、排気浄化触媒13は例えば貴金属の触媒粒子51の担持量を増大させれば酸化力が強まり、酸性を強めれば酸化力が強まる。従って排気浄化触媒13の酸化力は貴金属の触媒粒子51の担持量や酸性の強さによって変化することになる。さて、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に、図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、空燃比A/Finを低下させたときに炭化水素が完全に酸化されてしまい、その結果還元性中間体を生成することができなくなる。これに対し、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると空燃比A/Finがリッチにされたときに炭化水素は完全に酸化されることなく部分酸化される。即ち炭化水素が改質されて、還元性中間体が生成されることになる。従って酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合には、要求最小空燃比Xはリッチにする必要がある。一方、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には、図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、炭化水素は完全に酸化されずに部分酸化される。即ち炭化水素が改質されて、還元性中間体が生成される。これに対し、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると多量の炭化水素は酸化されることなく単に排気浄化触媒13から排出されることになる。このため無駄に消費される炭化水素量が増大することになる。従って酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリーンにする必要がある。即ち、要求最小空燃比Xは図12に示されるように排気浄化触媒13の酸化力が強くなるほど低下させる必要があることがわかる。このように要求最小空燃比Xは排気浄化触媒13の酸化力によってリーンになったり、或いはリッチになったりする。以下では、要求最小空燃比Xがリッチである場合を例にとって、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅や排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期について説明する。さて、ベース空燃比A/Fbが大きくなると、即ち炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度が高くなると空燃比A/Finを要求最小空燃比X以下とするのに必要な炭化水素の供給量が増大し、それに伴なって還元性中間体の生成に寄与しなかった余剰の炭化水素量も増大する。この場合、NOXを良好に浄化するためには前述したように、余剰の炭化水素を酸化させる必要がある。従ってNOXを良好に浄化するためには余剰の炭化水素量が多いほど多量の酸素が必要となる。この場合、排気中の酸素濃度を高めれば酸素量を増大することができる。従ってNOXを良好に浄化するためには、炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度が高いときには炭化水素供給後の排気中の酸素濃度を高める必要がある。即ち、炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅を大きくする必要がある。図13は、同一のNOX浄化率が得られるときの、炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度と炭化水素濃度の振幅ΔHとの関係を示している。図13から同一のNOX浄化率を得るためには炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させる必要があることがわかる。即ち、同一のNOX浄化率を得るにはベース空燃比A/Fbが高くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させることが必要となる。別の言い方をすると、NOXを良好に浄化するためにはベース空燃比A/Fbが低くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔHを減少させることができる。ところでベース空燃比A/Fbが最も低くなるのは加速運転時であり、このとき炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm程度あればNOXを良好に浄化することができる。ベース空燃比A/Fbは通常、加速運転時よりも大きく、従って図14に示されるように炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm以上であれば良好なNOX浄化率を得ることができることになる。一方、ベース空燃比A/Fbが最も高いときには炭化水素濃度の振幅ΔHを10000ppm程度にすれば良好なNOX浄化率が得られることがわかっている。従って本発明では炭化水素濃度の振幅の予め定められた範囲が200ppmから10000ppmとされている。また、炭化水素濃度の振動周期ΔTが長くなると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給される間、活性NOX周りの酸素濃度が高くなる。この場合、炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなると活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収され始める。従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなるとNOX浄化率が低下することになる。従って炭化水素濃度の振動周期ΔTは5秒以下とする必要がある。一方、炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になると、供給された炭化水素が排気浄化触媒13の排気流通表面上に堆積し始める。従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になるとNOX浄化率が低下する。そこで本発明では炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間とされている。次に、図16から図19を参照しつつ排気浄化触媒をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法について具体的に説明する。本発明においては、排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法を、第2のNOX浄化方法と称する。図16に、第2の浄化方法にてNOXを浄化するときのタイムチャートを示す。第2のNOX浄化方法では、塩基性層53に吸蔵された吸蔵NOX量ΣNOXが予め定められた許容量MAXを越えたときに、排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finが一時的にリッチにされる。排気の空燃比A/Finがリッチにされると排気の空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層53内に吸蔵されたNOXが塩基性層53から一気に放出されて還元される。それによってNOXが浄化される。吸蔵NOX量ΣNOXは、例えば機関から排出されるNOX量から算出される。本発明による実施例では機関から単位時間当り排出されるNOX排出量NOXAが噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として、図17に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。このNOX排出量NOXAから吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。この場合、前述したように排気の空燃比A/Finがリッチにされる周期は通常1分以上である。本実施の形態における第2のNOX浄化方法では、図18に示されるように燃焼室2内に燃料噴射弁3から燃焼用燃料Qに加え、追加の燃料WRを噴射することによって排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finがリッチにされる。なお、図18の横軸はクランク角を示している。本実施の形態における追加の燃料WRは、燃焼はするが機関出力となって現われない時期に、即ち圧縮上死点後ATDC90°の少し手前で噴射される。この燃料量WRは、噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として、図19に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。無論、この場合、炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量を増大させることによって排気の空燃比A/Finをリッチにすることもできる。さて、再び第1のNOX浄化方法についての説明に戻ると、第1のNOX浄化方法を用いてNOXを良好に浄化するためには前述したように炭化水素濃度の振幅ΔHおよび振動周期ΔTを適切に制御する必要がある。即ち、第1のNOX浄化方法を用いてNOXを良好に浄化するためには、排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finが要求最小空燃比X以下となるように炭化水素濃度の振幅ΔHを制御し、炭化水素濃度の振動周期ΔTを0.3秒から5秒の間に制御する必要がある。この場合、本発明では炭化水素濃度の振幅ΔHは、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量を制御することに制御され、炭化水素濃度の振動周期ΔTは炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射周期を制御することによって制御される。なおこの場合、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量は、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射時間又は噴射圧の少なくとも一方を変更することにより制御することができる。ところで第1のNOX浄化方法によりNOXの浄化作用が行われているときに、最も要求されることはどのような運転状態でも高いNOX浄化率を得ることができ、供給された炭化水素が排気浄化触媒13をすり抜けないようにすることである。この点について検討を重ねた結果、排気浄化触媒13において完全に酸化される炭化水素の量と部分酸化される炭化水素の量がNOX浄化率と炭化水素のすり抜け量を支配していることが判明したのである。次にこのことについて図20を参照しつつ説明する。図20には、炭化水素供給弁から同一の噴射圧のもとで異なる噴射時間でもって噴射された炭化水素の三つの噴射パターンA,B,Cが示されている。この場合、噴射時間は噴射パターンAが最も短かく、噴射パターンCが最も長くなっている。また、図20には各噴射パターンA,B,Cにより噴射が行われた後、排気浄化触媒13に流入する排気中の炭化水素濃度の時間的な変化が示されている。更に図20には各噴射パターンA,B,Cによる噴射が行われたときのNOX浄化率と排気浄化触媒13の炭化水素のすり抜け量とが示されている。さて、排気浄化触媒13に流入する排気中の炭化水素濃度、即ち単位排気量当りの炭化水素量が少ないときにはこの炭化水素は排気浄化触媒13において完全に酸化されてしまう。一方、排気中の炭化水素濃度、即ち単位排気量当りの炭化水素量が増大すると排気浄化触媒13において全ての炭化水素を完全に酸化しえなくなる。このとき一部の炭化水素は部分酸化されることになる。このように排気中の炭化水素濃度には排気浄化触媒13において全ての炭化水素が完全に酸化される限界が存在し、この限界が図20においてXAで示されている。即ち、図20において炭化水素濃度が限界XAよりも低いときには全ての炭化水素が完全に酸化されるので図20において限界XAよりも下方のハッチング領域RAでは全ての炭化水素が完全に酸化されることになる。この場合、ハッチング領域RAの面積は炭化水素量を表しており、従ってハッチング領域RAに相等する量の炭化水素が完全に酸化されることになる。なお、以下この限界XAを完全酸化限界と称する。一方、図20において完全酸化限界XAよりも上方の領域RBでは排気浄化触媒13において炭化水素の部分酸化作用が行われる。この場合、図20においてハッチング領域RBは部分酸化される炭化水素量を表わしている。この部分酸化された炭化水素から還元性中間体が生成されるので、この部分酸化された炭化水素により第1のNOX浄化方法によるNOXの浄化作用が行われることになる。なお、実際にはこの部分酸化された炭化水素の一部は還元性中間体の生成に使用されずに酸化されてしまい、部分酸化された残りの炭化水素によって還元性中間体が生成される。一方、排気浄化触媒13に流入する排気中の炭化水素濃度、即ち単位排気量当りの炭化水素量が更に増大すると、一部の炭化水素は排気浄化触媒13において完全に酸化されないどころか部分酸化もされなくなり、この場合酸化もされない一部の炭化水素は排気浄化触媒13をすり抜けることになる。この炭化水素のすり抜けを生ずる炭化水素の限界が図20においてXBで示されており、以下この限界XBをすり抜け限界と称する。図20においてこのすり抜け限界XBよりも上方のハッチング領域RCは炭化水素のすり抜け量を表している。排気中に含まれるNOXを第1のNOX浄化方法を用いて浄化するためには、排気中に含まれるNOX量に対して十分な量の炭化水素が部分酸化されることが必要であり、部分酸化される炭化水素量RBが不十分である場合にはNOX浄化率が低下することになる。図20における噴射パターンAはこのように部分酸化される炭化水素量RBが不足している場合を示しており、この場合には図20に示されるようにNOX浄化率が低下することになる。一方、図20において噴射パターンBは部分酸化される炭化水素量RBを増大するために噴射パターンAに比べて噴射時間が長くされた場合を示している。噴射時間が長くされると部分酸化される領域RBにて示す炭化水素量が増大するために図20に示されるようにNOX浄化率が高くなる。なお、図20は噴射パターンBであっても部分酸化される炭化水素量RBが若干不足している場合を示している。図20において噴射パターンCは部分酸化される炭化水素量RBを更に増大するために噴射パターンBに比べて噴射時間が更に長くされた場合を示している。この場合、図20に示されるようにNOX浄化率は向上する。しかしながらこの場合、炭化水素濃度がすり抜け限界XBを越えるので炭化水素のすり抜けが発生することになる。さて、排気浄化触媒13の温度が上昇すると排気浄化触媒13において単位時間当り酸化される炭化水素量が増大し、即ち炭化水素に対する酸化速度が増大し、その結果排気浄化触媒13の温度が上昇すると完全酸化限界XAが上昇する。一方、排気浄化触媒13の温度が上昇すると、温度が上昇する前にはすり抜けていた炭化水素が部分酸化されるようになるのですり抜け限界XBも上昇することになる。即ち、排気浄化触媒13の温度が上昇すると完全酸化限界XAとすり抜け限界XBが共に上昇することになる。従って第1のNOX浄化方法によりNOXの浄化を行う際にはこのことを考慮して炭化水素の噴射制御を行う必要がある。図21は、このことを考慮して炭化水素の噴射制御を行うようにしたときの一例を示している。なお、図21に示す例は、噴射圧を一定に維持した状態で噴射時間を制御することにより炭化水素の噴射量を制御するようにした場合を示している。炭化水素の噴射量の制御においては、噴射圧を制御することにより炭化水素の噴射量を調整することもできる。図21において、噴射パターンA1は機関回転数および負荷が比較的低いときを示しており、噴射パターンA3は機関回転数および負荷が比較的高いときを示しており、噴射パターンA2は機関回転数および負荷が夫々噴射パターンA1で示される場合と噴射パターンA3で示される場合の中間である場合を示している。即ち、機関回転数および負荷が高くなるにつれて噴射パターンはA1からA3に向けて変化させている。さて、機関回転数および負荷が高くなるほど排気浄化触媒13の温度が高くなり、従って機関回転数および負荷が高くなるほど完全酸化限界XAおよびすり抜け限界XBも高くなる。一方、回転数および負荷が高くなるほど機関からの単位時間当りの排出NOX量が増大し、従って機関回転数および負荷が高くなるほど部分酸化される炭化水素量RBを増大する必要がある。この場合、部分酸化される炭化水素量RBを増大させるには炭化水素の噴射量を増大させる必要がある。従ってNOXの浄化に必要な量の部分酸化炭化水素を生成しうるように図21に示される例では機関回転数および負荷が高くなるにつれ噴射時間を長くすることにより噴射量が増量されている。次に、本実施の形態における通常運転の制御について説明する。ここで、内燃機関の通常運転は、要求負荷に応じて機関本体が制御されている状態を示している。たとえば、後述するパティキュレートフィルタの再生を行う運転状態等は、通常運転から除外される。本実施の形態における内燃機関の排気浄化装置では、排気浄化触媒に保持されるNOX量およびNOXの保持速度を推定し、推定したNOX量およびNOXの保持速度に基づいて、炭化水素供給弁から炭化水素を供給する時期および炭化水素の供給量を設定している。図6Aおよび図6Bを参照して、前述したように第1のNOX浄化方法においては、排気浄化触媒13に流入する排気が酸素過剰の状態で活性NOXが形成される。活性NOXが塩基性層53の表面上に保持されることにより、排気に含まれるNOXを除去することができる。ところで、排気中のNOXを塩基性層の表面上に保持する排気浄化触媒13の保持能力は有限であり、保持能力が小さくなるとNOXを十分に排気中から除去できなくなる。たとえば、排気浄化触媒13の活性NOXの保持量は有限であり、活性NOXの保持量が多くなるほど、排気に含まれるNOXを保持する速度であるNOXの保持速度が低下する。NOXの保持速度が低下すると、排気浄化触媒にて保持することができずに排気浄化触媒をすり抜けるNOX量が増加する。このように、NOXの保持速度が低下するとNOXの浄化率が低下する。本実施の形態における排気浄化触媒13は、単位時間あたりにNOXを保持することができる最大の量である保持可能速度を有する。保持可能速度は、排気浄化触媒の状態や機関本体の運転状態等の内燃機関の運転状態に依存する。本実施の形態における排気浄化装置の運転制御においては、第1のNOX浄化方法を行なっている期間中に保持可能速度を推定する。推定した保持可能速度に基づいて、排気浄化触媒13のNOXの保持能力を推定する。推定した保持能力に基づいて炭化水素供給弁15から炭化水素を供給する時期を設定する。本実施の形態においては、排気浄化触媒13のNOXの保持能力として、排気浄化触媒13のNOXの浄化率を採用している。排気浄化触媒に流入するNOXを予め定められた浄化率にて浄化できなくなったときに、炭化水素供給弁から炭化水素を供給する制御を行う。図22に、本実施の形態における内燃機関の通常運転時の運転制御のフローチャートを示す。図22に示す制御は、例えば予め定められた時間間隔ごとに繰り返して行なうことができる。ステップ101においては、排気浄化触媒に単位時間あたりに流入するNOX量NOXAを推定する。本実施の形態においては、排気浄化触媒に単位時間あたりに流入するNOX量は、機関本体から排出される単位時間あたりのNOX量NOXAに等しくなる。このため、排気浄化触媒13に単位時間あたりに流入するNOX量NOXAは、例えば、図17に示した機関回転数Nと燃焼室における燃料の噴射量Qを関数にするマップにより推定することができる。ステップ102においては、排気に含まれるNOXを所望の浄化率以上により浄化するための要求保持速度VHRを設定する。本実施の形態においては、要求保持速度VHRは、単位時間あたりに排気浄化触媒に流入するNOX量NOXAに、予め定められた浄化率を乗じることにより設定することができる。次に、ステップ103においては、排気浄化触媒のNOXの保持可能速度VHを推定する。すなわち、排気浄化触媒13により単位時間あたりに排気中からNOXを除去可能な最大の量を推定する。図23に、本実施の形態における排気浄化触媒の活性NOX保持量と保持可能速度VHとの関係を説明するグラフを示す。排気浄化触媒13の保持可能速度は、排気浄化触媒13に保持されているNOX量である活性NOX保持量に依存する。活性NOX保持量が多くなるほど保持可能速度が小さくなる。このために、活性NOX保持量に基づいて保持可能速度VHを推定することができる。本実施の形態においては、予め定められた時間間隔毎に推定されている活性NOX保持量ACNOXWを読み込む。活性NOX保持量を予め定められた時間間隔毎に推定する制御については後述する。電子制御ユニット30に記憶されている活性NOX保持量に基づいて、排気浄化触媒13の保持可能速度VHを推定することができる。ところで、排気浄化触媒のNOXの保持可能速度は、活性NOX保持量の他の内燃機関の運転状態にも依存する。例えば、排気浄化触媒の保持可能速度は、排気浄化触媒における空間速度や排気浄化触媒の温度等に依存する。このために、内燃機関の運転状態を検出し、検出した内燃機関の運転状態に基づいて保持可能速度を補正しても構わない。次に、第1のNOX浄化方法において排気浄化触媒のNOXの保持量を推定する制御について例示する。図24は、排気浄化触媒に保持されている活性NOX保持量を推定する制御のフローチャートである。活性NOX保持量を推定する制御は、図22に示す炭化水素を供給する制御とは独立して行なうことができる。本実施の形態においては、排気浄化触媒のNOXの保持可能速度を用いて活性NOX保持量を推定する。ステップ111においては、単位時間当たりに排気浄化触媒に流入するNOX量NOXAを推定する。次に、ステップ112においては、排気浄化触媒のNOXの保持可能速度VHを推定する。ここで、NOXの保持可能速度VHとしては、例えば、最も至近に推定したNOXの保持可能速度VHを用いることができる。次に、ステップ113においては、排気浄化触媒のNOXの保持可能速度VHが、単位時間あたりに排気浄化触媒に流入するNOX量NOXA以上か否かを判別する。ステップ113において、保持可能速度VHが単位時間あたりに流入するNOX量NOXA以上の場合には、ステップ114に移行する。この場合には、排気浄化触媒のNOXの保持可能速度が大きく、排気浄化触媒に流入するNOX量のほぼ全てが排気浄化触媒に保持されると判別することができる。ステップ114においては、排気浄化触媒に流入する単位時間あたりのNOX量NOXAに、前回の活性NOX保持量の計算からの経過時間Δtを乗じて、活性NOXの増加量を算出する。活性NOXの増加量NOXAΔtを、前回算出した活性NOX保持量ACNOXWに加算することにより、今回の活性NOX保持量を算出することができる。ステップ113において、NOXの保持可能速度VHが、排気浄化触媒に流入する単位時間あたりのNOX量NOXA未満である場合には、ステップ115に移行する。この場合には、排気浄化触媒に流入するNOX量に対して、排気浄化触媒のNOXの保持能力が小さいと判別することができる。ステップ115においては、NOXの保持可能速度VHに前回の活性NOX保持量の計算からの経過時間Δtを乗じて、活性NOXの増加量VHΔtを算出することができる。算出した活性NOXの増加量を前回の活性NOX保持量ACNOXWに加算することにより今回の活性NOX保持量ACNOXWを算出することができる。ステップ116においては、今回の計算において算出した活性NOX保持量ACNOXWを電子制御ユニットに記憶する。このように、活性NOX保持量ACNOXWの推定においては、新たに保持される活性NOX量を推定し、前回の計算における活性NOX保持量に新たに保持される活性NOX量を加算することにより、それぞれの時刻における活性NOX保持量を推定することができる。また、排気浄化触媒の活性NOX保持量の推定については、上記の形態に限られず、任意の制御により活性NOX保持量を推定することができる。図22を参照して、次に、ステップ104においては、排気浄化触媒のNOXの保持可能速度VHが、要求保持速度VHR以上か否かを判別する。NOXの保持可能速度VHが要求保持速度VHR以上の場合には、排気浄化触媒のNOXの保持能力が高いために、今回の制御においては炭化水素供給弁から炭化水素を供給しないと判別することができる。この場合には、今回の運転制御を終了する。ステップ104において、排気浄化触媒のNOXの保持可能速度VHが要求保持速度VHR未満である場合には、ステップ105に移行する。この場合には、排気浄化触媒のNOXの浄化率が所望のNOXの浄化率未満になると判別することができる。排気浄化触媒のNOXの保持能力が予め定められた保持能力の判定値未満になったと判別することができる。このために、炭化水素供給弁から炭化水素を供給し、排気浄化触媒上に保持されている活性NOXを還元して除去する制御を行う。ステップ105においては、炭化水素供給弁から供給する炭化水素の供給量WMを設定する。本実施の形態の排気浄化装置においては、排気浄化触媒の活性NOX保持量に基づいて、今回の炭化水素の供給量WMを設定する。図25に、排気浄化触媒に保持されている活性NOX保持量に対する炭化水素の供給量の関係を説明するグラフを示す。活性NOX保持量ACNOXWが多くなるほど、排気浄化触媒に供給する炭化水素の供給量WMが大きくなるように設定することができる。活性NOX保持量に基づいて、炭化水素の供給量WMを設定することができる。本実施の形態においては、排気浄化触媒に保持されているほぼ全ての活性NOXを除去できるように炭化水素の供給量を設定する。ところで、還元性中間体の生成効率は、内燃機関の運転状態に応じて変化する。そこで、炭化水素の供給量の設定においては、内燃機関の運転状態に基づいて炭化水素の供給量を補正しても構わない。たとえば、内燃機関の運転状態として、排気浄化触媒に流入する排気の酸素濃度や排気浄化触媒における空間速度等を推定し、推定した酸素濃度等に基づいて炭化水素の供給量を補正しても構わない。図22を参照して、ステップ105において炭化水素の供給量WMを設定した後に、ステップ106において、設定した炭化水素の供給量にて炭化水素供給弁から炭化水素を供給する。排気浄化触媒に炭化水素を供給することにより、排気浄化触媒からNOXを除去することができる。次に、ステップ107においては、排気浄化触媒の活性NOX保持量ACNOXWをリセットする。本実施の形態においては、炭化水素供給弁から供給する炭化水素の供給量は、排気浄化触媒に保持されている活性NOXのほぼ全てを除去できる量に設定している。このために、本実施の形態においては、排気浄化触媒の活性NOX保持量を零にする制御を行う。このように、本実施の形態の内燃機関の通常運転では、活性NOX保持量およびNOXの保持可能速度に基づいて、炭化水素の供給時期および炭化水素の供給量を設定している。この制御を行うことにより、炭化水素の供給量が少なすぎて排気浄化触媒に保持されている活性NOXを十分に還元できなかったり、炭化水素の供給量が多すぎて炭化水素が無駄に消費されたりすることを抑制できる。本実施の形態における通常運転の制御を行うことにより、高負荷および高回転数にて運転を行なっている場合には、機関排気通路に炭化水素を供給するときの供給周期が短くなり、さらに、1回の炭化水素の供給量が多くなる。一方で、低負荷および低回転数で運転している場合には、炭化水素を供給する時の供給周期が長くなり、さらに、1回の炭化水素の供給量が少なくなる。上述の運転制御においては、排気浄化触媒のNOXの保持能力としてNOXの浄化率が採用されているが、この形態に限られず、例えば、塩基性層の表面上に保持されているNOX保持量を推定し、推定したNOX保持量が予め定められたNOX保持量の判定値を超えたときに、排気浄化触媒のNOXの保持能力が、保持能力の判定値未満になったと判別しても構わない。図1を参照して、本実施の形態における内燃機関の排気浄化装置は、後処理装置としてのパティキュレートフィルタ14を備える。パティキュレートフィルタ14は、排気浄化触媒13の下流に配置されている。内燃機関の運転を継続するとパティキュレートフィルタ14には、粒子状物質が堆積する。粒子状物質の堆積量は、たとえば、差圧センサ24により検出したパティキュレートフィルタ14の前後の差圧により推定することができる。本実施の形態においては、パティキュレートフィルタ14に所定量の粒子状物質が堆積した場合に、パティキュレートフィルタ14の温度を上昇することにより、粒子状物質を酸化させて除去する再生を行なう。パティキュレートフィルタ14の再生時には、パティキュレートフィルタ14の温度を目標温度まで上昇させる昇温制御を行う。本実施の形態の排気浄化触媒は、炭化水素を酸化する機能を有する。排気浄化触媒13に炭化水素を供給し、酸化反応を生じさせることができる。排気浄化触媒13において、炭化水素の酸化反応が生じることにより排気の温度が上昇する。高温の排気がパティキュレートフィルタ14に流入することにより、目標温度までパティキュレートフィルタ14を昇温することができる。また、パティキュレートフィルタ14が再生を行うための目標温度に到達した場合には、パティキュレートフィルタ14を目標温度に維持する制御を行う。本実施の形態の昇温制御においては、機関本体から排出される排気の温度に対する排気の温度上昇幅を考慮して、炭化水素供給弁から炭化水素を供給する。排気浄化触媒にて発生する熱としては、炭化水素が直接的に酸化されて発生する熱と、炭化水素から還元性中間体が生成され、還元性中間体が活性NOXと反応するときに発生する熱とが含まれる。いずれの反応においても、酸化反応による熱が生じ、パティキュレートフィルタに流入する排気の温度を上昇させることができる。パティキュレートフィルタの再生の目標温度としては、650°Cを例示することができる。排気浄化触媒13の温度は、パティキュレートフィルタ14の目標温度に対応した温度になる。このために排気浄化触媒13も高温になる。本実施の形態における排気浄化触媒13は、このような高温の状態においても、NOXの浄化率を高く維持することができる図5参照。本実施の形態においては、パティキュレートフィルタ14の再生の期間中においても、排気浄化触媒における第1のNOX浄化方法により高い浄化率にてNOXの浄化を継続することができる。ところで、パティキュレートフィルタ14の再生においては、パティキュレートフィルタの温度を上昇させるために、通常運転において第1のNOX浄化方法に基づいて供給する炭化水素の供給量よりも多量の炭化水素を供給する必要がある。たとえば、昇温制御においては、炭化水素供給弁からの単位時間あたりの炭化水素の供給量を通常運転よりも大きく設定する必要がある。本実施の形態では、通常運転において第1のNOX浄化方法によりNOXの浄化を行なっている期間中には、排気浄化触媒に保持されている活性NOX量およびNOXの保持可能速度を推定することにより、炭化水素の供給時期を設定している。本実施の形態においては、炭化水素の供給周期は炭化水素の濃度の振動周期に相等する。昇温制御においては、第1のNOX浄化方法を行なうときの炭化水素の供給時期に合わせて、炭化水素の供給を行うことができる。すなわち、第1のNOX浄化方法を行なうときの1回あたりの炭化水素の供給量を増加させることができる。しかしながら、パティキュレートフィルタの昇温に必要な量を増加させると、炭化水素供給弁から供給する1回あたりの炭化水素の供給量が多くなってしまい、炭化水素が排気浄化触媒をすり抜けてしまう場合が生じる。例えば、図20を参照して、炭化水素の噴射パターンCのように、1回の炭化水素の供給において、すり抜け限界XBを超える量の炭化水素を供給すると、領域RCに示されるように、排気浄化触媒13をすり抜けてしまう炭化水素が生じる。パティキュレートフィルタ14において、炭化水素を酸化する機能を有する触媒粒子が担持されていない場合には、排気浄化触媒13をすり抜けた炭化水素が、パティキュレートフィルタ14もすり抜けて大気中に放出されてしまう。また、パティキュレートフィルタ14に白金などの酸化機能を有する触媒粒子が担持されている場合においても、多量の炭化水素がパティキュレートフィルタ14に流入した場合には、炭化水素がパティキュレートフィルタ14をすり抜けて大気中に放出されてしまう虞がある。また、排気浄化触媒13に対して1回に多量の炭化水素を供給した場合には、排気浄化触媒13が過温になってしまう場合がある。例えば、1回に多量の炭化水素を排気浄化触媒13に供給した直後に、内燃機関の機関回転数が急激に減少した場合には、排気浄化触媒13の空間速度が小さくなった状態で、一度に多大な酸化反応が生じる。この結果、排気浄化触媒13の温度が急上昇する場合がある。このように、1回に多量の炭化水素を排気浄化触媒13に供給すると、排気浄化触媒13の温度制御性が悪化する場合が生じる。本実施の形態の内燃機関の排気浄化装置においては、排気浄化触媒の炭化水素のすり抜けを抑制し、また触媒の温度制御性を安定化させるように炭化水素の供給を行う。図26に、本実施の形態の昇温制御における炭化水素の供給周期と、炭化水素供給弁から供給する1回あたりの炭化水素の供給量との関係を説明するグラフを示す。図26は、一つの内燃機関の運転状態におけるグラフである。本実施の形態におけるパティキュレートフィルタの昇温制御においては、現在のパティキュレートフィルタの温度と、パティキュレートフィルタの再生を行なうための目標温度とに基づいて、排気浄化触媒に供給する炭化水素の総供給量が設定される。また、パティキュレートフィルタの温度を上昇させる期間時間長さが予め定められている。本実施の形態の昇温制御においては、排気浄化触媒に供給する炭化水素の総供給量と温度を上昇させる期間とに基づいて、炭化水素を供給するときの供給周期と1回あたりの炭化水素の供給量とを設定する。ここで、図26には、等燃費線が実線で示されている。等燃費線は、炭化水素の総供給量と供給期間供給する時間長さが一定の条件において、炭化水素の供給周期を変化させたときの1回あたりの炭化水素の供給量を示している。炭化水素の供給周期ΔTを長くするほど、1回に炭化水素供給弁から供給する炭化水素の供給量WMは多くなる。また、炭化水素の供給周期ΔTを長くするほど、炭化水素の供給回数は少なくなる。炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量は、等燃費線上の任意の点を選択することができる。図27に、本実施の形態の昇温制御において、炭化水素の供給周期を変化させた時のNOXの浄化率を説明するグラフを示す。図27は、図26における内燃機関の運転状態と同一の運転状態にて運転を行なったときのグラフである。排気浄化触媒は、炭化水素の供給周期を徐々に長く変化させるとNOXの浄化率が上昇する上昇範囲、および、予め定められたNOXの浄化率EN以上になる高浄化率範囲を有している。本実施の形態における高浄化率範囲では、高い浄化率で略一定になる。更に、排気浄化触媒は、高浄化率範囲よりも炭化水素の供給周期ΔTを長くすると、炭化水素の供給周期ΔTが長くなるほどNOXの浄化率が下降する下降範囲を有する。炭化水素の供給周期ΔTが短い領域RXでは、1回あたりの炭化水素の供給量が少なくなるために、排気浄化触媒に供給された炭化水素の多くが全酸化されている状態になる。このために、部分酸化されたラジカル状の炭化水素が不足し、NOXの浄化率が低くなっている。上昇範囲においては、炭化水素の供給周期ΔTを長く変化させると、1回あたりの炭化水素の供給量が多くなって、部分酸化される炭化水素の量が増加する。このため、上昇範囲では、炭化水素の供給周期ΔTが長くなるほどNOXの浄化率が上昇する。高浄化率範囲においては、部分酸化される炭化水素が多くなり、高いNOXの浄化率を維持することができる。ところが、領域RYに示すように、炭化水素の供給周期ΔTが長くなりすぎると、前述のように活性NOXが塩基性層の内部に吸収されてしまう。すなわち、炭化水素の供給周期が長すぎるために、活性NOXを塩基性層の表面に保持できなくなってしまう。このため、下降範囲においては、炭化水素の供給周期ΔTが長くなるほどNOXの浄化率が低下する。図26には、図27に示すNOXの浄化率が破線にて記載されている。本実施の形態における昇温制御においては、NOXの浄化率が高い高浄化率範囲のうち、炭化水素の供給周期ΔTが短くなる領域内において、供給周期ΔTおよび1回あたりの炭化水素の供給量WMを選択する。本実施の形態においては、高浄化率範囲において、最も炭化水素の供給周期ΔTが短くなる供給周期を特定供給周期ΔTSと称する。また、本実施の形態においては、特定供給周期ΔTSに対応する1回あたりの炭化水素の供給量を特定供給量WMSと称する。更に、高浄化率範囲は、炭化水素の供給周期が短い側の端部の領域WTを有する。供給周期が短い側の端部の領域WTは、特定供給周期ΔTSの近傍の領域である。供給周期が短い側の端部の領域WTは、特定供給周期ΔTSから予め定められた時間幅にて供給周期を長くした領域を設定することができる。供給周期が短い側の端部の領域WTとしては、例えば、高浄化率範囲の供給周期が短い側の4分の1の領域を例示することができる。本実施の形態における昇温制御では、供給周期が短い側の端部の領域WTの範囲内にて、炭化水素を供給する制御を行なう。供給周期が短い側の端部の領域WTの範囲内にて、炭化水素を供給することにより、1回あたりの炭化水素の供給量WMを少なくすることができる。1回あたりの炭化水素の供給量WMが少なくなることにより、排気浄化触媒の炭化水素のすり抜けを抑制することができる。または、排気浄化触媒における炭化水素のすり抜け限界からの余裕を大きくすることができる。更に、1回あたりの炭化水素の供給量を少なくすることができるために、排気浄化触媒の温度制御性を向上させることができる。たとえば、排気浄化触媒の温度が急上昇して過温になることを抑制することができる。次に、本実施の形態の排気浄化装置の昇温制御の運転例について説明する。運転例においては、炭化水素の供給周期として特定供給周期ΔTSを採用した場合を例に取り上げて説明する。特定供給周期ΔTSに対応する特定供給量WMSは、高浄化率範囲において最も1回あたりの炭化水素の供給量が小さくなる。炭化水素の供給パターンとして、特定供給周期および特定供給量を採用することにより、より確実に炭化水素のすり抜けを抑制することができる。図28に、本実施の形態の排気浄化装置の昇温制御のフローチャートを示す。図28に示す昇温制御は、例えば、パティキュレートフィルタの再生を行う期間中に、予め定められた時間間隔ごとに繰り返して行なうことができる。ステップ121においては、パティキュレートフィルタの温度を検出する。図1を参照して、パティキュレートフィルタ14の温度は、例えば、温度センサ23により検出することができる。次に、ステップ122においては、パティキュレートフィルタの昇温を行なうための炭化水素の総供給量を設定する。炭化水素の総供給量は、現在のパティキュレートフィルタの温度と、再生を行うための目標温度とに基づいて設定することができる。炭化水素の総供給量HCTは、例えば、次式により算出することができる。HCT=GaTPtrg-TPαTP...1ここで、変数Gaは吸入空気流量であり、機関排気通路における空間速度に対応する。また、変数TPtrgは、パティキュレートフィルタの目標温度である。変数TPは、現在のパティキュレートフィルタの温度である。定数αTPは、炭化水素の総供給量HCTを算出するための係数である。次に、ステップ123においては、内燃機関の運転状態を検出する。図26および図27のグラフに示す炭化水素の供給周期とNOXの浄化率との関係は、内燃機関の運転状態によって変化する。内燃機関の運転状態を特定することにより、図26および図27に示すように、炭化水素の供給周期に対するNOX浄化率の関係が定まる。本実施の形態においては、内燃機関の運転状態として燃焼室における燃料の噴射量Qと機関回転数Nとを検出する。次に、ステップ124において、昇温制御における炭化水素の供給周期ΔTと、1回あたりの炭化水素の供給量WMを設定する。図26を参照して、本実施の形態の運転例においては、特定供給周期ΔTSと特定供給量WMSを設定する。すなわち、図26に示す高浄化率範囲のうち、炭化水素の供給周期が最も短く、1回あたりの炭化水素の供給量が最も少ない供給パターンを設定する。図29に、本実施の形態の昇温制御において、1回あたりの炭化水素の供給量を設定するためのマップを示す。機関回転数Nと燃焼室における燃料の噴射量Qとを関数にする1回あたりの炭化水素の供給量WMのマップが、予め電子制御ユニットに記憶されている。機関回転数Nと燃料の噴射量Qを検出することにより、1回あたりの炭化水素の供給量WMを設定することができる。本実施の形態の運転例においては、炭化水素の供給量WMとして特定供給量WMSが記憶されている。検出した内燃機関の運転状態に基づいて、1回あたりの炭化水素の供給量を設定することができる。図30に、本実施の形態の昇温制御において、炭化水素の供給周期を設定するためのマップを示す。機関回転数Nと燃焼室における燃料の噴射量Qとを関数にする炭化水素の供給周期ΔTのマップが、予め電子制御ユニットに記憶されている。機関回転数Nと燃料の噴射量Qを検出することにより、炭化水素の供給周期ΔTを設定することができる。本実施の形態の運転例においては、炭化水素の供給周期ΔTとして特定供給周期ΔTSが記憶されている。検出した内燃機関の運転状態に基づいて、炭化水素の供給周期を設定することができる。このように、本実施の形態の運転例においては、内燃機関の運転状態に基づいて、特定供給周期および特定供給量を設定している。図28を参照して、次に、ステップ125においては、設定した炭化水素の供給周期および設定した1回あたりの炭化水素の供給量に基づいて、炭化水素供給弁から炭化水素を供給する。このように、本実施の形態の昇温制御においては、高いNOXの浄化率を維持しながら、1回あたりの炭化水素の供給量を少なくすることができる。更に、内燃機関の運転状態に応じた炭化水素の供給を行うことができる。上記の運転例においては、供給周期が短い側の端部の領域WTの値のうち、特定供給周期ΔTSを選定する例を説明したが、供給周期が短い側の端部の領域WTの範囲内における任意の炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を選定して、炭化水素の供給を行なうことができる。例えば、図26を参照して、供給周期が短い側の端部の領域WTのうち、最も長い供給周期ΔTLを採用しても構わない。供給周期ΔTLを採用することにより、瞬間的にNOXの浄化率が悪化するように内燃機関の運転状態が変動しても、NOX浄化率が低下することを抑制することができる。図31に、本実施の形態における排気浄化装置の運転例のタイムチャートを示す。図31に示す運転例では、内燃機関の運転状態が変動する期間中に昇温制御を行っている。たとえば、要求負荷が変動する期間中に昇温制御を行う運転例を示している。なお、炭化水素HC供給量については、グラフの高さが1回あたりの炭化水素の供給量に対応し、グラフが高くなるほど1回あたりの炭化水素の供給量は多くなっている。時刻t1までは、内燃機関の通常運転を行なっている。本実施の形態においては、排気浄化触媒に保持される活性NOX量およびNOXの保持可能速度に基づいて、炭化水素の供給周期と炭化水素の供給量とを設定している。時刻t1において、パティキュレートフィルタの粒子状物質の堆積量が予め定められた判定値に到達している。このために、時刻t1からパティキュレートフィルタの再生を行なうために昇温制御を開始している。時刻t1において、炭化水素の供給間隔および1回あたりの炭化水素の供給量を設定して、複数回の炭化水素の供給を行っている。本運転例では、図28に示される昇温制御を予め定められた時間間隔ごとに行っている。本運転例では、パティキュレートフィルタの再生を開始した時刻t1においては、内燃機関の運転状態が第1の運転状態である。ところが昇温制御を行なっている期間中の時刻t3において、内燃機関の運転状態が第1の運転状態から第2の運転状態に変化している。炭化水素の供給周期と1回あたりの炭化水素の供給量が新たに計算されて設定される。このために、炭化水素の供給周期と1回あたりの炭化水素の供給量が変化している。さらに、時刻t4において、内燃機関の運転状態が第2の運転状態から第3の運転状態に変化している。このため、更に炭化水素の供給周期と炭化水素の供給量が変化している。この後に時刻t2において、パティキュレートフィルタの温度が目標温度に到達している。運転例の昇温制御においては、予め定められた間隔ごとに内燃機関の運転状態を検出し、検出した内燃機関の運転状態に基づいて、1回あたりの炭化水素の供給量および炭化水素の供給周期を設定している。それぞれの時刻において検出するパティキュレートフィルタの温度と、目標温度とに基づいて炭化水素の総供給量を設定する。昇温制御において算出される炭化水素の総供給量は、パティキュレートフィルタを目標温度まで昇温するための残りの炭化水素の供給量に相等する。このために、パティキュレートフィルタの温度が高くなるほど、炭化水素の総供給量は少なくなる。更に、検出した内燃機関の運転状態に基づいて、炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を設定し、炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を変更している。このように、内燃機関の運転状態の変化に応じた炭化水素の供給を行うことにより、内燃機関の運転状態が変化しても高いNOXの浄化率を維持できるとともに、より確実に排気浄化触媒の炭化水素のすり抜けを抑制し、排気浄化触媒の温度制御性を向上させることができる。供給間隔および供給量の設定を繰り返すための予め定められた間隔としては、時間間隔に限られず、たとえば、炭化水素の供給回数等の任意の間隔を採用することができる。本実施の形態の運転例においては、時刻t2においてパティキュレートフィルタの温度が目標温度に到達した後においても、同様の昇温制御を継続している。昇温制御を継続することにより、パティキュレートフィルタの温度を目標温度に維持することができる。例えば、時刻t2以降においても、予め定められた間隔ごとに図28に示す昇温制御を繰り返すことにより、パティキュレートフィルタの温度が目標温度未満になったときに炭化水素の供給が行われ、パティキュレートフィルタの温度を目標温度に維持することができる。なお、パティキュレートフィルタの温度と目標温度との差が小さく炭化水素の総供給量が少なくなる場合がある。炭化水素の総供給量が少ないためにNOXの浄化率を高く維持できない場合には、パティキュレートフィルタが所定の温度まで低下するまで炭化水素の供給を待つ制御を行なっても構わない。また、パティキュレートフィルタの温度が目標温度に到達した後に温度を維持する制御は、この形態に限られず、任意の制御を採用することができる。パティキュレートフィルタを高温にすることにより、パティキュレートフィルタに堆積する粒子状物質が酸化されて減少する。パティキュレートフィルタの粒子状物質の堆積量が予め定められた判定値未満になったときに、パティキュレートフィルタの再生を終了することができる。たとえば、本実施の形態における昇温制御を終了し、通常運転の制御に移行することができる。図32に、本実施の形態における排気浄化装置の他の運転例を示す。図32に示す運転例は、要求負荷等が一定であり、運転状態がほぼ一定の内燃機関に適用することができる。または、運転状態がほぼ一定の期間を有する内燃機関に適用することができる。例えば、要求負荷が変動する内燃機関においても、要求負荷がほぼ一定の車両の定速走行のような運転状態の期間に採用することができる。時刻t1までは、通常運転を行なっている。時刻t1において、パティキュレートフィルタの再生を行うために昇温制御を開始している。時刻t1において、炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を設定している。排気浄化触媒の温度が目標温度に到達するまで、設定された炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量にて、複数回の炭化水素の供給を継続している。時刻t2において、パティキュレートフィルタの温度が目標温度に到達している。このように、内燃機関の運転状態が一定の場合には、昇温を行うべきときに炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を設定し、パティキュレートフィルタが目標温度に到達するまで、設定した供給パターンを継続しても構わない。図33に、本実施の形態における排気浄化装置の更に他の運転例について説明する。上述の排気浄化装置においては、再生を行う場合には、通常運転の制御から昇温制御に切替えている。本実施の形態における更に他の運転例においては、通常運転の制御を継続しながら、追加の炭化水素の供給を行っている。追加の炭化水素の供給周期および追加の炭化水素の供給量は予め定めておくことができる。時刻t1において、パティキュレートフィルタの再生を開始している。通常運転における炭化水素の供給FNに加えて、予め定められた量の炭化水素の供給FOを行っている。追加の炭化水素の供給FOは、予め定められた時間間隔ごとに行なっている。通常運転における炭化水素の供給FN同士の間に追加の炭化水素の供給FOを行なっている。追加の炭化水素の供給においても、1回あたりの炭化水素の供給量を小さくすることが好ましい。このため、追加の炭化水素の供給においては、たとえば、炭化水素供給弁の最小の供給量を採用することができる。時刻t2において、パティキュレートフィルタの温度が目標温度に到達している。更に他の運転例においても、排気浄化触媒における炭化水素のすり抜けを抑制しながら排気浄化触媒の昇温を行なうことができる。本実施の形態における内燃機関の通常運転の制御では、排気浄化触媒に保持されるNOX量およびNOXの保持可能速度を推定し、推定したNOX量およびNOXの保持可能速度に基づいて炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を設定しているが、この形態に限られず、任意の制御により通常運転を行なうことができる。たとえば、燃焼室における燃料の噴射量と機関回転数とに基づいて、炭化水素の供給周期および1回あたりの炭化水素の供給量を設定しても構わない。本実施の形態においては、排気浄化触媒の下流に配置されている後処理装置として、パティキュレートフィルタを例示して説明を行ったが、後処理装置としては、この形態に限られず、予め定められた状態において昇温が必要な任意の処理装置を採用することができる。本実施の形態においては、機関排気通路に炭化水素供給弁を配置し、炭化水素供給弁から炭化水素を供給することにより、排気浄化触媒に炭化水素を供給しているが、この形態に限られず、任意の装置や制御により排気浄化触媒に炭化水素を供給することができる。なお、上述の実施の形態は、適宜組み合わせることができる。また、上述の運転制御のそれぞれのステップは、それぞれの作用や機能を維持できる限り、適宜順序を入れ替えることができる。上述のそれぞれの図において、同一または相等する部分には同一の符号を付している。なお、上記の実施の形態は例示であり発明を限定するものではない。また、実施の形態においては、請求の範囲に示される変更が含まれている。"