平坦面上に液状の樹脂を延在させる工程と、前記樹脂が延在された平坦面上に板状又はフィルム状の基材を載置し、前記基材の壁面と前記平坦面との間に前記樹脂によるフィレット形状を形成させる工程と、前記樹脂を硬化させる工程と、を有することを特徴とする光学素子の製造方法。前記樹脂を硬化させる工程の後、前記フィレット形状の凹面部に反射膜を形成する工程、を有することを特徴とする請求項1に記載の光学素子の製造方法。前記フィレット形状の凹面部に反射膜を形成する工程の後、前記基材を短冊状に切断する工程、を有することを特徴とする請求項2に記載の光学素子の製造方法。板状又はフィルム状の基材の一方の平面側に、前記基材とは異なる樹脂による面が形成され、前記樹脂による面に繋がって前記基材の少なくとも一壁面部に前記樹脂によるフィレット形状が形成されていることを特徴とする光学素子。前記フィレット形状の凹面部に反射膜が形成され、該凹面部を反射面として用いることを特徴とする請求項4に記載の光学素子。前記凹面部はシリンドリカル形状であることを特徴とする請求項4又は5に記載の光学素子。前記樹脂が、紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項4から6のいずれか一項に記載の光学素子。光源と、前記光源からの光束を反射させる請求項5から7のいずれか一項に記載の光学素子と、前記光学素子により反射された光束をディスクに導く導波路と、磁気記録部と、を有することを特徴とする光アシスト磁気記録ヘッド。請求項8に記載の光アシスト磁気記録ヘッドと、該光アシスト磁気記録ヘッドを支持する支持部材と、磁気記録媒体と、を有することを特徴とする磁気記録装置。しかしながら、上記特許文献1に記載の光路変換ミラーの製造法は、ミラー溝の形成に微細加工を必要とするなど、加工が複雑で量産性に乏しく、高コストとなる問題がある。本願発明は上記問題に鑑み、簡便な工程により製造が容易で量産性に富んだ微小な光学素子の製造方法、低コストの微小な光学素子、及び、当該光学素子を有する光アシスト磁気記録ヘッド、並びに、当該光磁気記録ヘッドを有する磁気記録装置を提供することを目的とするものである。上記の目的は、下記の構成により達成される。1平坦面上に液状の樹脂を延在させる工程と、前記樹脂が延在された平坦面上に板状又はフィルム状の基材を載置し、前記基材の壁面と前記平坦面との間に前記樹脂によるフィレット形状を形成させる工程と、前記樹脂を硬化させる工程と、を有することを特徴とする光学素子の製造方法。2前記樹脂を硬化させる工程の後、前記フィレット形状の凹面部に反射膜を形成する工程、を有することを特徴とする前記1に記載の光学素子の製造方法。3前記フィレット形状の凹面部に反射膜を形成する工程の後、前記基材を短冊状に切断する工程、を有することを特徴とする前記2に記載の光学素子の製造方法。4板状又はフィルム状の基材の一方の平面側に、前記基材とは異なる樹脂による面が形成され、前記樹脂による面に繋がって前記基材の少なくとも一壁面部に前記樹脂によるフィレット形状が形成されていることを特徴とする光学素子。5前記フィレット形状の凹面部に反射膜が形成され、該凹面部を反射面として用いることを特徴とする前記4に記載の光学素子。6前記凹面部はシリンドリカル形状であることを特徴とする前記4又は5に記載の光学素子。7前記樹脂が、紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂のいずれかであることを特徴とする前記4から6のいずれかに記載の光学素子。8光源と、前記光源からの光束を反射させる前記5から7のいずれかに記載の光学素子と、前記光学素子により反射された光束をディスクに導く導波路と、磁気記録部と、を有することを特徴とする光アシスト磁気記録ヘッド。9前記8に記載の光アシスト磁気記録ヘッドと、該光アシスト磁気記録ヘッドを支持する支持部材と、磁気記録媒体と、を有することを特徴とする磁気記録装置。すなわち、本願発明者は、液状の樹脂を延在させた平坦面上に基材を載置することで、基材の壁面と平坦面との間に形成される液状樹脂のフィレット形状が光学面として利用できることを見いだし、なした発明である。本発明によれば、簡便な工程により製造が容易で量産性に富んだ微小な光学素子の製造方法の提供が可能となり、低コストの微小な光学素子、当該光学素子を有する光アシスト磁気記録ヘッド、当該光磁気記録ヘッドを有する磁気記録装置を提供することが可能となる。以下、実施の形態により本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。図1は、本実施の形態に係る光学素子の製造方法の概略工程を示すフローチャートである。図2及び図3は、本実施の形態に係る光学素子の製造方法の概略工程を示す模式図である。以下、図1の光学素子の製造方法のフローに従い、図2、図3を用いて説明する。本実施の形態に係る光学素子の製造方法は、まず、平坦面に液状の硬化性の樹脂を延在させるステップS101。この工程は、図2Aに示すように、ガラス板あるいは金属板等の平坦面を有する台座15上に液状の樹脂20を滴下し、略均等な厚みに延在させる。スピンコート、塗布等により略均等な厚みとすることができる。硬化性の樹脂としては、熱硬化型、活性エネルギー線硬化型が有り、透光性樹脂として熱硬化型のシリコーン系樹脂やエポキシ系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられ、また活性エネルギー線硬化型樹脂として紫外線硬化型、電子線硬化型を用いることが出来るが、取扱性や照射装置のコスト、安全性の面から活性エネルギー線硬化型樹脂としては紫外線硬化型が好ましい。紫外線線硬化性樹脂組成物としては、カチオン重合によるエポキシ系、ラジカル重合によるアクリル系、ポリチオール/ポリアリル系などが挙げられ、好ましくはエポキシ系である。エポキシ系としては、エポキシ基を1分子内に2個以上含むプレポリマーとカチオン重合開始剤からなる組成物が好ましく、このようなプレポリマーの例としては、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテルの水素添加化合物類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、ウレタンポリエポキシ化合物類、エポキシ化ポリブタジエン類等が挙げられる。カチオン重合開始剤としては、芳香族オニウム塩等が有る。また、台座15の樹脂を延在させる平坦面の表面は、硬化性の樹脂が硬化した際に容易に剥がすことができるように形成されている。平坦面の表面に、例えば離型性のコーティング層を付与してもよい。次いで、図2Bに示すように、板状又はフィルム状の基材30を、液状の樹脂20の領域内に載置するステップS102。基材30は、不図示であるが吸引等により持ち上げられて、上方から液状の樹脂20の領域内に静かに載置されることが好ましい。基材30の材質は、ガラスもしくは樹脂であって、板状又はフィルム状のものが好ましく用いられるが、これに限るものでない。また、基材30の厚みは任意であるが、1/50mm~1/2mm程度が好ましい。ステップS102において、基材30を、液状の硬化性の樹脂20の領域内に載置すると、基材30の壁面と台座15の平坦面との間には、図2Cに示すA-A断面図のように、液状の硬化性の樹脂20によるフィレット形状Fが形成される。このフィレット形状Fは、基材30の材料、壁面の平坦面に対する角度、壁面の表面粗さ、樹脂20の量や、粘性、表面張力等の材料特性により異なる。すなわち、樹脂20の選択及び基材30の材料、壁面の角度、表面粗さ等を変化させ、予め実験によりこれらの条件を決めておくことで、所望のフィレット形状Fを安定して得ることができる。また、この工程では、基材30を載置した後、基材30を押圧してもよい。次いで、図2Bに示す状態で、液状の硬化性の樹脂を硬化させるステップS103。樹脂が紫外線硬化型樹脂の場合には紫外光の照射、熱硬化型樹脂の場合には高温環境内に所定時間放置、電子線硬化型樹脂の場合には所定の電子線の照射を行って硬化させることができる。樹脂の硬化が終わると、図3Aに示すように硬化した樹脂25及び基材30を一体的に台座15の平坦面から剥がして分離するステップS104。次いで、図3Bに示すように、余剰の樹脂部分を削除ステップS105し、図3Cに示すB-B断面図のように、フィレット形状F上の凹面部に反射膜を形成し反射面Rを形成するステップS106。反射膜は、金、銀、アルミニウム等の蒸着や、所定の下地層を形成した後、メッキ等で形成することができるが、これに限るものでない。次いで、図3Dに示す破線に沿って短冊状に切断ステップS107することで、フィレット形状F上に反射面Rが形成された光学素子40が完成する。すなわち、上述の一連の工程により、多数の同一形状の微少な光学素子を、一度に製造することができる。以上説明したように、本実施の形態に係る光学素子の製造方法は、樹脂を延在させた平坦面に基材を載置し、基材の壁面と平坦面との間に樹脂によるフィレット形状を形成させて硬化させ、該フィレット形状を光学素子とするものであり、複雑な加工を要せず、簡便な工程により製造が容易で低コストの量産性に富んだ製造方法とすることができる。また、短冊状に切断することで1つあたりのコストを低下させた微小な光学素子を得ることが可能となる。更に、上述のように、本製造方法によって形成されるフィレット形状は、基材の材料、壁面の平坦面に対する角度、壁面の表面粗さ、樹脂の量、粘性、表面張力等の材料特性により異なることから、これら条件選択の自由度が大きく、適宜選択することで任意の所望の形状を容易に得ることができるようになる効果も有している。なお、上述のフローのうち、ステップS104~ステップS106については、この順序に限るものでなく、入れ替えてもよい。また、上述のフローでは、台座15から硬化した樹脂25及び基材30を分離する例で説明したが、これに限るものでなく、ステップS104の工程を省略し、台座15、硬化した樹脂25及び基材30を一体で光学素子として製造するような構成でもよい。図4は、本実施の形態に係る光学素子40を示す斜視図である。上述のような製造方法によって製造された光学素子40は、短冊状の基材30の一方の平面側に硬化した樹脂25による層状の面25pが形成されると共に、この面に繋がって基材30の壁面部30hに硬化した樹脂25によるフィレット形状Fが形成される。このフィレット形状Fの凹面部には反射面Rが形成されている。また、反射面Rの形成された凹面部は、図示X方向には曲率を有さず、図示Z方向には曲率を有するシリンドリカル状となっている。このため、図示YZ面内では光束を収束させるパワーを有した一次元集光素子として機能する。図5は、本実施の形態に係る光学素子を光アシスト磁気記録ヘッドに適用した概略断面図である。図5に示す、光アシスト磁気記録ヘッド3は、ディスク2に対する情報記録に光を利用する微小光記録ヘッドであって、光源部9A、スライダ10、1次元集光素子としての機能を有した本実施の形態に係る光学素子40等を備えている。光源部9Aは半導体レーザを有する。光源部9Aは半導体レーザと、光ファイバ、光導波路、コリメートレンズ等の光学素子との組み合わせであってもよい。スライダ10は基板で構成されており、ディスク2の被記録部分の流入側から流出側にかけて順に矢印mC方向、磁気再生部8C、光アシスト部8A及び磁気記録部8Bが、基板内部に積層状態で形成されている。光アシスト部8Aは平面導波路を有しており、その平面導波路はディスク2の被記録部分を近赤外レーザ光でスポット加熱するための集光機能を有している。光学素子40は、反射面Rが光源部9Aから出射されるレーザ光を折り曲げ、光アシスト部8Aへ導くように配置される。このとき、反射面Rによりレーザ光は図示YZ面内では光束を収束させられながら光アシスト部8Aへ導かれるようになっている。なお、図5では、図4に示す光学素子40を光源部9Aに接着固定したものを示しているが、これに限るものでない。例えば、上述の台座15、硬化した樹脂25及び基材30を一体で光学素子40として形成した場合、台座15とスライダ10を接着固定してもよい。本実施の形態に係る低コストの微小な光学素子40を用いることにより、光アシスト磁気記録ヘッドを低コストで形成することができる。図6は、図5に示す光アシスト磁気記録ヘッド3を備えた磁気記録装置1の概略構成例を示す斜視図である。図6に示す磁気記録装置1は、記録用のディスク磁気記録媒体2と、支軸5を支点として矢印mA方向トラッキング方向に回転可能に設けられたサスペンション4と、サスペンション4に取り付けられたトラッキング用のアクチュエータ6と、サスペンション4の先端部に取り付けられた光アシスト磁気記録ヘッド3と、ディスク2を矢印mB方向に回転させるモータ不図示と、を筐体7内に備えており、光アシスト磁気記録ヘッド3がディスク2上で浮上しながら相対的に移動しうるように構成されている図5中の矢印mC方向にディスク2が移動するものである。本実施の形態に係る光アシスト磁気記録ヘッドを用いることにより、光アシスト式の磁気記録装置を低コストで形成することができる。なお、明細書、請求の範囲、図面および要約を含む2010年7月26日に出願された日本特許出願No.2010-166880号の全ての開示は、そのまま本出願の一部に組み込まれる。