"基板上の複数の加工予定ラインに沿ってレーザ光を照射するレーザ加工装置であって、レーザ光を出射するレーザ光出射装置と、それぞれ、前記レーザ光出射装置からのレーザ光を複数のレーザ光に分岐する回折光学素子と、前記回折光学素子からの複数のレーザ光を基板上の1つの直線に沿って並ぶように集光させるレンズと、を有する第1光学ユニット及び第2光学ユニットと、前記第1光学ユニットの回折光学素子及び前記第2光学ユニットの回折光学素子のそれぞれを、前記レーザ光の光軸の回りに回転させるための第1回転駆動機構及び第2回転駆動機構と、前記第1光学ユニット及び前記第2光学ユニットの少なくとも一方を、前記加工予定ラインと直交する方向に移動させるための移動機構と、を備えたレーザ加工装置。前記第1光学ユニット及び前記第2光学ユニットは、前記第1光学ユニットによって基板上に集光させられる複数のビームスポットを結んだ第1直線と、前記第2光学ユニットによって基板上に集光させられる複数のビームスポットを結んだ第2直線とがずれるように配置されている、請求項1に記載のレーザ加工装置。前記第1光学ユニットのレンズの中心と前記第2光学ユニットのレンズの中心とを結んだ直線は、前記加工予定ラインに直交する直線に対して傾斜している、請求項2に記載のレーザ加工装置。前記第1光学ユニット及び前記第2光学ユニットの中心間距離は、前記加工予定ラインと直交する直線に沿った前記第1光学ユニットの中心と前記第2光学ユニットの中心との間の距離より長い、請求項2又は3に記載のレーザ加工装置。前記第1光学ユニットは、前記レーザ光出射装置からのレーザ光を分岐するビームスプリッタをさらに有し、前記第2光学ユニットは、前記ビームスプリッタからのレーザ光を反射して前記第2光学系の回折光学素子に導く反射ミラーをさらに有している、請求項1から4のいずれかに記載のレーザ加工装置。前述のように、太陽電池のパターニング工程では、多数のパターニングラインを所定のピッチで加工することが求められる。そして、パターニングは、固定された光学系とステージ移動を組み合わせた装置や、ガルバノスキャナ等のスキャン光学系を用いた装置で実行される。以上のような装置構成では、パターニングラインのピッチ精度は、ステージの移動ピッチ精度やスキャナの位置決め精度で決まり、一般的に数μm~数十μmである。また、パターニングライン毎にサーボモータによる位置決めが必要となる。したがって、多数のパターニングラインを加工する場合、加工のタクトタイムが長くなり、ピッチの要求精度が高くなれば、位置決めのためにさらに長時間を要することになる。本発明の課題は、複数の加工ラインのピッチを、短時間で精度良く調整することができるレーザ加工装置を提供することにある。第1発明に係るレーザ加工装置は、基板上の複数の加工予定ラインに沿ってレーザ光を照射する装置であって、レーザ光を出射するレーザ光出射装置と、第1光学ユニット及び第2光学ユニットと、第1回転駆動機構及び第2回転駆動機構と、第1移動機構及び第2移動機構と、を備えている。第1光学ユニット及び第2光学ユニットは、それぞれ、レーザ光出射装置からのレーザ光を複数のレーザ光に分岐する回折光学素子と、回折光学素子からの複数のレーザ光を基板上の1つの直線に沿って並ぶように集光させるレンズと、を有する。第1回転駆動機構及び第2回転駆動機構は、第1光学ユニットの回折光学素子及び第2光学ユニットの回折光学素子のそれぞれを、レーザ光の光軸の回りに回転させる。第1移動機構及び第2移動機構は、第1光学ユニット及び第2光学ユニットの少なくとも一方を、加工予定ラインと直交する方向に移動させる。ここで、回折光学素子は製造技術上の特徴から、高い精度が保障されている。そこで、この回折光学素子を含む各光学ユニットを回転駆動機構により回転させることによって、各光学ユニットによって基板上に形成される複数のビームスポットのピッチを精度良く調整することが可能になる。また、各光学ユニットを回転させてビームスポットのピッチを調整した場合、2つの光学ユニットの間のピッチが変化する。そこで、各光学ユニットを、移動機構により加工予定ラインと直交する方向に移動させ、2つの光学ユニット間のピッチを調整する。以上のような構成によって、複数のビームスポットのピッチを容易に高い精度で調整することができる。第2発明に係るレーザ加工装置は、第1発明の装置において、第1光学ユニット及び第2光学ユニットは、第1光学ユニットによって基板上に集光させられる複数のビームスポットを結んだ第1直線と、第2光学ユニットによって基板上に集光させられる複数のビームスポットを結んだ第2直線とがずれるように配置されている。ここで、光学ユニットは、枠体としての鏡筒を有しているので、隣り合う鏡筒を最大限接近させても、一方の鏡筒内部に形成されたビームスポットと、他方の鏡筒内部に形成されたビームスポットとの間には、互いの鏡筒の厚み分の距離があくことになる。このため、パターニングラインのピッチが小さい場合は、隣り合う光学ユニット間のパターニングラインのピッチが、他のパターニングラインのピッチより大きくなり、等ピッチにすることができない。しかし、この発明では、2つの光学ユニットが段違いで配置されているために、複数の加工予定ラインのピッチが小さく、かつ各光学ユニットの鏡筒等の枠体の厚みが厚い場合でも、複数の光学ユニットによって、複数の等ピッチの加工予定ラインに沿って同時にレーザ光を照射することが可能になる。一方で、第1光学ユニットと第2光学ユニットとが同じ直線上に配置されている場合は、両光学ユニットを1つの回転中心の回りに回転させることによって、ビームスポットのピッチ調整を行うことができる。しかし、本発明のように2つの光学ユニットが段違いで配置されている場合は、両光学ユニットを1つの回転中心の回りに回転させると、両光学ユニットの間のピッチが変化する。そこで、2つの光学ユニットの少なくとも一方を移動機構によって移動させ、2つの光学ユニット間のピッチを調整するようにしている。第3発明に係るレーザ加工装置は、第2発明の装置において、第1光学ユニットのレンズの中心と第2光学ユニットのレンズの中心とを結んだ直線は、加工予定ラインに直交する直線に対して傾斜している。第4発明に係るレーザ加工装置は、第2又は第3発明の装置において、第1光学ユニット及び第2光学ユニットの中心間距離は、加工予定ラインと直交する直線に沿った第1光学ユニットの中心と第2光学ユニットの中心との間の距離より長い。第5発明に係るレーザ加工装置は、第1から第4発明のいずれかの装置において、第1光学ユニットは、レーザ光出射装置からのレーザ光を分岐するビームスプリッタをさらに有している。そして、第2光学ユニットは、ビームスプリッタからのレーザ光を反射して第2光学系の回折光学素子に導く反射ミラーをさらに有している。ここでは、簡単な構成で、複数の加工予定ラインに沿ってレーザ光を照射することができる。以上のように、本発明では、複数の加工ラインのピッチを、短時間で精度良く調整することができる。[全体構成]図1に本発明の一実施形態によるレーザ加工装置の模式図を示す。レーザ加工装置1は、レーザ光を出射するレーザ発振器2と、レンズミラー機構3と、第1~第4光学ユニット41~44と、太陽電池パネル用の基板Gが載置されるXYステージ5と、を備えている。ここでは、基板Gの複数の加工予定ラインに沿ってレーザ光のビームスポットを走査し、基板G上に複数のサブセルを形成する場合の加工を例にとって説明する。[レンズミラー機構]レンズミラー機構3は、レーザ光を平行光にするためのコリメートレンズ3aと、反射ミラー3bと、ビームスプリッタ3cと、を有している。[光学ユニット]第1光学ユニット41は、反射ミラー51と、回折光学素子52と、fsinθレンズ53と、を有している。反射ミラー51は、第2光学ユニット42からのレーザ光を回折光学素子52に反射する。回折光学素子52はレーザ光を複数のレーザ光に分岐する。fsinθレンズ53は複数のレーザ光のそれぞれをXYステージ5上の基板Gに集光する。この第1光学ユニット41によって、図2に示すように、基板G上に、分岐された複数のビームスポットが第1直線L1上に並んで照射される。第2光学ユニット42は、ビームスプリッタ55と、回折光学素子52及びfsinθレンズ53と、を有している。ビームスプリッタ55は、レンズミラー機構3からのレーザ光を、第1光学ユニット41の反射ミラー51と下方の回折光学素子52とに分岐する。回折光学素子52及びfsinθレンズ53は、第1光学ユニット41と同様である。この第2光学ユニット42によって、図2に示すように、基板G上に、分岐された複数のビームスポットが第2直線L2上に並んで照射される。なお、第2直線L2は第1直線L1と平行な直線である。第3光学ユニット43は、ビームスプリッタ55と、回折光学素子52及びfsinθレンズ53と、を有している。ビームスプリッタ55は、第2光学ユニット42のビームスプリッタと同様の構成であり、レンズミラー機構3からのレーザ光を、第4光学ユニット44と下方の回折光学素子52とに分岐する。回折光学素子52及びfsinθレンズ53は、第1光学ユニット41と同様である。この第3光学ユニット43によって、図2に示すように、基板G上に、分岐された複数のビームスポットが第1直線L1上に並んで照射される。第4光学ユニット44は、反射ミラー51と、回折光学素子52と、fsinθレンズ53と、を有している。反射ミラー51は、第1光学ユニット41の反射ミラーと同様の構成であり、第3光学ユニット43からのレーザ光を回折光学素子52に反射する。回折光学素子52及びfsinθレンズ53は第1光学ユニット41と同様である。この第4光学ユニット44によって、図2に示すように、基板G上に、分岐された複数のビームスポットが第2直線L2上に並んで照射される。図2は、4つの光学ユニット41~44の配置を示す模式的な平面図である。この図2に示すように、第1光学ユニット41と第3光学ユニット43によって基板G上に照射される多数のビームスポットを結んだ第1直線L1と、第2光学ユニット42と第4光学ユニット44によって基板G上に照射される多数のビームスポットを結んだ第2直線L21とは、互いに平行でずれている。言い換えれば、隣接する光学ユニットの中心を結んだ直線は、第1直線L1及び第2直線L2に対して角度αだけ傾斜している。また、図2に示すように、4つの光学ユニット41~44は、同じ直径Dで、かつ同じ厚みの円筒状の鏡筒41a,42a,43a,44aを有している。この鏡筒41a~44a内に、回折光学素子やfsinθレンズ等の部材が支持されている。そして、隣接する光学ユニット間の中心間距離Cはすべて同じに設定されている。言い換えれば、隣接する光学ユニットの中心間距離Cは、第1直線L1及び第2直線L2に沿った隣接する光学ユニットの中心間距離Eより長い。そして、各光学ユニット41~44の配置は、互いに隣接する光学ユニットの最も外側に形成された他方の光学ユニットに最も近い位置のビームスポットB同士の、第1直線L1及び第2直線L2に沿った距離Fが、各光学ユニット431~44によって形成された複数のビームスポットBのピッチPと同じになるように設定されている。より具体的には、第1直線L1及び第2直線L2に沿った隣接する光学ユニットの中心間距離Eは、1つの光学ユニットによって形成される複数のビームスポットBの最も外側に位置する2つのビームスポットB間の距離Gに、各光学ユニットによって形成される複数のビームスポットB間のピッチPを加えた長さに設定されている。このような配置によって、光学ユニット41~44によって形成される多数のビームスポットBの位置は、第1直線L1及び第2直線L2に垂直な方向から見て等間隔になる。図1に示すように、各光学ユニット41~44のそれぞれには、回転用モータM1及び移動用モータM2が設けられている。図1では、第1光学ユニット41の回転用モータM1及び移動用モータM2のみを示しているが、各光学ユニット41~44にも同様に2つのモータM1,M2が設けられている。回転用モータM1は、各光学ユニット41~44の回折光学素子52を、光軸回りに回転するためのモータである。また、移動用モータM2は、各光学ユニット41~44の鏡筒41a~44a全体をX方向に移動するためのモータである。各光学ユニット41~44に設けられた2つのモータM1,M2によって、回折光学素子52を個別に回転させることができ、また各光学ユニット41~44を個別に移動させることができる。[XYステージ]XYステージ5は、基板Gを載置するテーブルであり、互いに直交するX方向及びY方向に移動可能である。このXYステージ5をX方向及びY方向に所定の速度で移動させることにより、XYステージ5に載置された基板Gとレーザ光との相対位置を自在に変更することができる。通常は、XYステージ5を移動させて、基板Gの加工予定ラインに沿ってレーザ光が走査される。この実施形態では、基板Gを第1直線L1及び第2直線L2に垂直な方向に移動させることにより、光学ユニット41~44によって形成される多数のビームスポットによって加工されたラインは、等間隔になる。[動作]このレーザ加工装置では、レーザ発振器2から発射されたレーザ光は、コリメートレンズ3aによって平行光にされ、反射ミラー3bによって下方に反射される。反射ミラー3bからのレーザ光は、ビームスプリッタ3cによって、第2光学ユニット42と第3光学ユニット43とに分岐される。第2光学ユニット42に入射したレーザ光は、ビームスプリッタ55によって下方と第1光学ユニット41とに分岐される。第1光学ユニット41に入射したレーザ光は、反射ミラー51によって下方に反射される。一方、第3光学ユニット43に入射したレーザ光は、ビームスプリッタ55によって下方と第4光学ユニット44とに分岐される。第4光学ユニット44に入射したレーザ光は、反射ミラー51によって下方に反射される。以上のようにして各光学ユニット41~44の回折光学素子52に入射したレーザ光は、複数のレーザ光に分岐され、さらにfsinθレンズ53を通過して、基板Gの複数の加工予定ライン上に同時にビームスポットとして照射される。以上のようにして、基板G上に多数のビームスポットが照射された状態で、XYステージ5を駆動して基板Gを一方向に移動させれば、複数の加工予定ラインに沿ってビームスポットが走査されて加工される。[ピッチ調整]ビームスポットのピッチを調整する場合は、まず、回折光学素子52を回転用モータM1によって例えば反時計回りに角度θだけ回転する。回転前のピッチd1と回転後のピッチd2との関係は、図3に示すように、d2=d1cosθである。一方、各光学ユニット41~44の回折光学素子52が回転されると、隣接する光学ユニット間のビームスポットのピッチが広くなる。例えば、図2において、第1光学ユニット41の右端のビームスポットは反時計回りに回転することによって左方に移動し、第1直線L1及び第2直線L2に垂直な方向から見て第2光学ユニット42から離れる。同様に、第2光学ユニット42の左端のビームスポットは反時計回りに回転することによって右方に移動し、第1直線L1及び第2直線L2に垂直な方向から見て第1光学ユニット41から離れる。したがって、各光学ユニット41~44を回転させた後に、隣接する光学ユニット間のピッチを調整する必要がある。この光学ユニット間のピッチ調整のための各光学ユニット41~44のX方向の移動量を以下に示す。<偶数分岐の場合>回折光学素子52によってレーザ光が偶数のレーザ光の分岐される場合、各光学ユニット41~44のX方向の移動量は、以下の通りである。なお、図1において、右側への移動を方向とし、逆を-方向とする。第2光学ユニット42:→固定第1光学ユニット41:→×/2-/2×2第3光学ユニット43:→-×/2-/2×2第4光学ユニット44:→-{×/2-/2}×4×2<奇数分岐の場合>回折光学素子52によってレーザ光が奇数のレーザ光の分岐される場合、各光学ユニット41~44のX方向の移動量は、以下の通りである。第2光学ユニット42:→固定第1光学ユニット41:→×-1/2×2第3光学ユニット43:→-×-1/2×2第4光学ユニット44:→-×-1/2×4×2一例として、26分岐で、ピッチをd1=1.5mmからd2=1.4mmに調整する場合の具体的回転量及び移動量を以下に示す。回折光学素子52の回転量:21°第1光学ユニット41の移動量は2.6mm第3光学ユニット43の移動量は-2.6mm第4光学ユニット44の移動量は-5.2mmこの実施形態では、回折光学素子52を含む各光学ユニット41~44の回折光学素子52を回転用モータM1により回転させることによって、各光学ユニット41~44によって基板G上に形成される複数のビームスポットのピッチを精度良く調整することが可能になる。また、各光学ユニット41~44を回転させた後の光学ユニット間のピッチについては、移動用モータM2によって調整でき、結果的に、複数の光学ユニット41~44による多数のビームスポットのピッチを、精度よくかつ容易に調整することができる。特に、複数の光学ユニット41~44が互い違いに配置されている場合は、本装置によって、容易に短時間で、高い精度のピッチ調整を行うことができる。[他の実施形態]本発明は以上のような実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変形又は修正が可能である。前記実施形態では、太陽電池パネル用基板上にサブセルを形成する場合について説明したが、本発明は、太陽電池用の基板上に塗布されたドーパント層にレーザ光を照射し、ドーパントを基板中に取り込む場合にも同様に適用することができる。前記実施形態では、回折光学素子のみを回転用モータM1によって回転させるようにしたが、回折光学素子及びfsinθレンズの両方を回転させるようにしてもよい。前記実施形態の光学ユニットの個数や配置は一例であって、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。また、各光学ユニットの構成についても限定されない。"