"A光触媒粒子、及びBバインダ成分を含有する光触媒塗工液であって、B成分のバインダ成分が、b-1加水分解性ケイ素化合物を、水及び極性有機溶媒の混合溶媒中において塩基性化合物の存在下で加水分解して得られた加水分解縮合物を含み、A成分の光触媒粒子は該塗工液中に分散しており、A成分とB成分の合計に対するA成分の割合は0.05~99.5質量であり、該塗工液のpHは5~8の範囲内にある、光触媒塗工液。前記加水分解性ケイ素化合物がアルコキシシラン、ハロゲン化シラン、又はそれらの組み合わせである請求項1に係る光触媒塗工液。前記塩基性化合物が、式2a:R1y-NH3-y2a式中、R1は1価の有機基であり、yは1~3の整数である。又は、R14-N2b式中、R1は1価の有機基である。で表される化合物又は含窒素複素環式化合物である請求項1又は2に記載の光触媒塗工液。B成分のバインダ成分が、さらに、b-2式3:R2-SiOR333式中、R2は置換もしくは非置換の一価炭化水素基を表し、R3はアルキル基を示す。で表される3官能性シラン化合物の加水分解縮合物を含有する請求項1~3のいずれか1項に係る光触媒塗工液。B成分のバインダ成分が、さらに、b-3水溶性チタン酸系化合物を含有する請求項1~4のいずれか1項に係る光触媒塗工液。b-3成分の水溶性チタン酸系化合物がペルオキソチタン酸である、請求項5に係る光触媒塗工液。B成分のバインダ成分が、さらに、b-4水溶性ジルコニウム系化合物を含有する請求項1~6のいずれか1項に係る光触媒塗工液。b-4成分の水溶性ジルコニウム系化合物が、下記構造式:2ZrO2で表される炭酸アンモニウムジルコニウムである、請求項7に係る光触媒塗工液。A成分の光触媒微粒子がn型半導体性を有する金属酸化物の結晶微粒子である請求項1~8のいずれか1項に係る光触媒塗工液。前記のn型半導体性を有する金属酸化物の結晶微粒子に、バナジウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、スズ、タングステン、白金、及び金からなる群から選ばれる金属および/または該金属の化合物が担持されている、請求項9に係る光触媒塗工液。媒体として、水を含有する請求項1~10のいずれか1項に係る光触媒塗工液。請求項1~11のいずれか1項に記載の光触媒塗工液を基材上に塗布し乾燥、硬化させる親水性光触媒薄膜の製造方法。請求項12に係る製造方法によって得られる、親水性光触媒薄膜。形成直後の水の初期接触角が20度以下であり、清浄な暗所に1ヶ月以上静置後も接触角が20度以下である請求項13に係る親水性光触媒薄膜。基材と、該基材上に形成された請求項13又は14に記載の光触媒薄膜とを有する、親水性表面を備える物品。本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、特に、ポットライフ及び塗工性が良好で、かつ、比較的低温でも乾燥、硬化させることができるとともに、透明性が高く、触媒活性の持続期間が長い親水性薄膜を形成することができる光触媒塗工液並びにかかる親水性薄膜を提供することを目的とする。本発明者らは、上記の問題点を解決すべく鋭意検討を行った結果、溶媒、特に好ましくは水、又はアルコール等を含む水系混合溶媒に光触媒粒子が分散され、かつ加水分解性ケイ素化合物を水、極性有機溶媒を含む液中、塩基性化合物の存在下で加水分解して得られる加水分解縮合生成物をバインダとして特定量含有してなる光触媒塗工液を塗布してなる薄膜が、透明度硬度に優れ、表面は常に親水性となり、十分な酸化分解能力を維持できており、また、光触媒による超親水性に依存せず、膜自体が水濡れ性を示すため、暗所においても親水性が継続し、セルフクリーニング性が低下しないことを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、次の発明を提供するものである。本発明は、第一に、A光触媒粒子、及びBバインダ成分を含有する光触媒塗工液であって、B成分のバインダ成分が、b-1加水分解性ケイ素化合物を、水及び極性有機溶媒の混合溶媒中において塩基性化合物の存在下で加水分解して得られた加水分解縮合物を含み、A成分の光触媒粒子は該塗工液中に分散しており、A成分とB成分の合計に対するA成分の割合は0.05~99.5質量であり、該塗工液のpHは5~8の範囲内にある、ことを特徴とする光触媒塗工液を提供する。上記光触媒塗工液の実施形態として、特に、次のものが挙げられる。前記加水分解性ケイ素化合物がアルコキシシラン、ハロゲン化シラン、又はそれらの組み合わせである光触媒塗工液。前記塩基性化合物が、式2a:R1y-NH3-y2a式中、R1は1価の有機基であり、yは1~3の整数である。又は、R14-N2b式中、R1は1価の有機基である。で表される化合物又は含窒素複素環式化合物である光触媒塗工液。B成分のバインダ成分が、さらに、b-2式3:R2-SiOR333式中、R2は置換もしくは非置換の一価炭化水素基を表し、R3はアルキル基を示す。で表される3官能性シラン化合物の加水分解縮合物を含有する光触媒塗工液。前記B成分のバインダ成分が、さらに、b-3水溶性チタン酸系化合物を含有する光触媒塗工液。さらに、該b-3成分の水溶性チタン酸系化合物がペルオキソチタン酸である上記光触媒塗工液。前記B成分のバインダ成分が、さらに、b-4水溶性ジルコニウム系化合物を含有する上記光触媒塗工液。そして、該b-4成分の水溶性ジルコニウム系化合物が、下記構造式:2ZrO2で表される炭酸アンモニウムジルコニウムである、上記光触媒塗工液。前記A成分の光触媒微粒子がn型半導体性を有する、金属酸化物の結晶微粒子である上記光触媒塗工液。そして、該n型半導体性を有する、金属酸化物の結晶微粒子に、バナジウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、スズ、タングステン、白金、及び金からなる群から選ばれる金属または該金属の化合物が担持されている、該光触媒塗工液。本発明は、第二に、上記発明の光触媒塗工液を基材上に塗布し乾燥、硬化させる親水性光触媒薄膜の製造方法を提供する。本発明は、第三に、該製造方法によって得られる、親水性光触媒薄膜を提供する。本発明は、第四に、基材と、該基材上に形成された上記光触媒薄膜とを有する、親水性表面を備える物品を提供する。本発明の光触媒塗工液は、媒体として水系の溶媒を用いることができ、安全かつ基材ダメージの無い塗工液である。該塗工液は50°C~200°C程度の低温で硬化が可能であり、得られる薄膜は透明度、硬度、付着汚れに対する酸化分解力に優れ、表面は1ヶ月後でも親水性を維持する。該塗工液を用いて形成される、本発明の光触媒薄膜は主に無機物で構成されているため、光触媒による薄膜劣化が起こらない。また、該薄膜は、光触媒による超親水性に依存せずに、膜自体が水濡れ性を示すため、暗所においても親水性が継続し、セルフクリーニング性が経時で低下し難い。従って、本発明の光触媒塗工液は、性能、取扱い性、意匠性の維持に優れている。さらに、本発明の塗工液が特定の3官能性シロキサン化合物の加水分解縮合物、水溶性チタン系化合物、水溶性ジルコニウム系化合物又はこれらの二種以上を組み合わせて含む場合には、耐薬剤性、特に耐強アルカリ性、が向上する。特に、前記3官能性シロキサン化合物の加水分解縮合物b2成分を含有する場合には、耐薬品性に加えて、有機基材への密着性も向上する。以下、本発明について詳細に説明する。-光触媒塗工液-本発明の光触媒塗工液はA光触媒粒子、及び、Bバインダ成分を含有しているものである。以下、両成分について詳しく説明する。<A光触媒粒子>光触媒としては、従来知られているいずれのものも使用することができる。光触媒粒子は1種単独で使用しても2種類以上を併用しても良い。光触媒粒子としては、例えば酸化チタン系、酸化タングステン系、酸化亜鉛系、酸化ニオブ系等の、n型半導体である金属酸化物結晶微粒子が使用できる。例えば、結晶状態の、アナターゼ型の二酸化チタンTiO2、ルチル型の二酸化チタンTiO2、三酸化タングステンWO3、酸化亜鉛ZnO、Gaドープ酸化亜鉛GZO、酸化ニオブNb2O5等が使用し得る。中でも、可視光活性の高いものとしてこれら金属酸化物の結晶内に窒素、硫黄、リン、炭素等をドーピングしたもの、又は表面に銅、鉄、ニッケル、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、炭素等を担持したものが好適に使用し得る。更に詳しくは、白金を担持したルチル型酸化チタン、鉄を担持したルチル型酸化チタン、銅を担持したルチル型酸化チタン、水酸化銅を担持したルチル型酸化チタン、金を担持したアナターゼ型酸化チタン、白金を担持した三酸化タングステン等である。更に、薄膜の透明度を高め、外観が良好である上で、該微粒子の一次粒子径が微細なものが好適に使用される。即ち一次粒径が1~100nmの範囲が好ましく、より好ましくは1~50nmの範囲にあるものである。なお、本明細書において、平均粒子径とは、動的光散乱法を用いた粒度分布測定装置によって求めた累積分布の50に相当する体積基準の平均粒子径をいう。このような光触媒粒子の市販品としては、例えば、透明度と活性に優れる水系光触媒分散液の状態ではサガンコートTO85商品名、ペルオキソ改質アナターゼゾル、平均分散粒径約20nm、鯤コーポレーション製が挙げられ、また可視光活性が高い光触媒微粒子としてはMPT-623商品名、可視光応答光触媒、粉体状、白金を担持したルチル型二酸化チタン;石原産業株製が挙げられる。<Bバインダ成分>[b-1加水分解性ケイ素化合物の加水分解縮合物]該バインダ成分は、加水分解性ケイ素化合物を、水及び極性有機溶媒の混合溶媒中において塩基性化合物の存在下で加水分解して得られた加水分解縮合物である。加水分解性ケイ素化合物としては、下記構造式1に示す珪素アルコキシド、その縮合物又はこれらの混合物が挙げられる。SiORxOH4-x1式中、Rは1価の炭化水素基、ヒドロカルビルオキシシリル基、であり、xは0~4の整数であり、xが2以上であるとき複数のRは同一でも異なってもよい。上記式中。Rで表される基は、通常炭素原子数1~10、好ましくは1~4の1価炭化水素基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の炭素原子数1~4のアルキル基;トリエトキシシリル基等のアルコキシシリル基などのヒドロカルビルオキシシリル基が挙げられる。これらのうち、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン及びこれらの部分加水分解物及び縮合物が好適に使用できる。上記の反応において加水分解に使用される塩基性化合物としては、下記一般式2a又は一般式2bで表される含窒素化合物又は含窒素複素環式化合物が好ましく、これらの化合物は塩の状態であってもよい。R1y-NH3-y2a式中、R1は1価の有機基であり、yは1~3の整数である。R14-N2b式中、R1は1価の有機基である。上記式2a及び2b中、R1は独立に1価の有機基である。R1は互いに同一であっても異なっていても良い。R1として具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の炭素原子数1~4のアルキル基、メチロール基、エチロール基等の炭素原子数1~3のヒドロキシアルキル基が挙げられる。なお、該含窒素化合物が第4アンモニウムの形態を取る場合、下記式3:R14NX-3ここで、X-は対アニオンを示すで表される塩の状態になっていてもよい。具体的には、Xとしてヒドロキシルアニオン、、ハロゲン化物アニオンF、Cl、Br、I等が挙げられる。第四アンモニウム塩の中では、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドが好適に使用できる。また、含窒素複素環式化合物としては、例えば、ピリジン、ピラジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソキサゾール、オキサゾール、チアゾールなどが挙げられる。好ましくは、ピリジン、イミダゾールである。上記の反応は水及び極性有機溶媒の混合溶媒中で行われる。極性有機溶媒として、アルコール類例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、グリコール類例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、及びこれらの酢酸エステル類、ケトン類例えば、アセトン、ダイアセトンアルコール、アセチルアセトン、メチルエチルケトンが挙げられる。上記極性有機溶媒は、1種単独でも又は2種以上の併用でも使用することができる。これらのうち、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、トリアセチン、アセトンが好適に使用できる。混合溶媒中の割合は、水が5~60質量が好ましく、20~50質量がより好ましい。上記の加水分解反応は、具体的には、加水分解性ケイ素化合物、塩基性化合物、極性有機溶媒、及び水を混合攪拌することにより進行させることができる。このとき、加水分解性ケイ素化合物の得られる溶液中の濃度が1~20質量が好ましく、5~15質量がより好ましい。塩基性化合物の仕込み量は、加水分解性ケイ素化合物に対して0.1~10モル倍量が好ましく、0.5~5モル倍量がより好ましい。反応温度は約10~約70°Cが好ましく、20~30°C程度の常温がより好ましい。温度が高すぎるとゲル状生成物の生成が促進される。は溶液全体に対してこうして生成した加水分解縮合物b-1成分を含む反応溶液が得られる。該溶液から溶媒を除去し、生成物を水に又はアルコールに溶解し、酸添加又はイオン交換によってpH5~8に調整することによりb-1成分を含むバインダ液として好適に使用できる。本発明のB成分であるバインダ成分は、上記b-1成分以外に、必要に応じて以下に説明する別のバインダ成分を含むことができる。[b-23官能性シラン化合物の加水分解縮合物]該バインダ成分は、式3:R2-SiOR333式中、R2は置換もしくは非置換の一価炭化水素基を表し、R3はアルキル基を示す。で表される3官能性シラン化合物の加水分解縮合物である。該3官能性シラン化合物の加水分解は、b-1成分を得る際の加水分解とともに行ってもよいし、別途加水分解してもよい。本発明の塗工液において、b-1成分/b-2成分の割合は、質量比で、9010~1090の範囲が好ましい。[b-3水溶性チタン酸系化合物]該バインダ成分は、水溶性チタン酸系化合物である。水溶性チタン酸系化合物としては、ペルオキソチタン酸が好ましい。ペルオキソチタン酸とは、酸化チタン系化合物の一種であり、下記構造式に示すような、TiOTi結合の一部がTiOOTi結合に転化した化合物である。ペルオキソチタン酸を含有する塗工液としては、市販品を使用し得る。このような市販の塗工液としては、サガンコートPTAゾルペルオキソチタン酸水溶液、ペルオキソチタン固形分濃度1.70質量;株鯤コーポレーション製、ティオスカイコートTAK-Bペルオキソチタン酸水溶液、ペルオキソチタン固形分濃度170質量;株ティオテクノ製などが挙げられる。本発明の塗工液において、b-1成分/b-3成分の割合は、質量比で、9010~1090の範囲が好ましい。[b-4水溶性ジルコニウム系化合物]該バインダ成分は、水溶性ジルコニウム化合物である。ここで、水溶性ジルコニウム化合物には、酸化ジルコニウム系化合物が包含される。水溶性ジルコニウム化合物は1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。水溶性ジルコニウム化合物としては、例えば、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、酸塩化ジルコニウムオキシ塩化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、塩酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム、ギ酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウム、塩基性炭酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウムアンモニウム、炭酸ジルコニウムカリウム、オクチル酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテート、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノステアレート等、これらの加水分解物または部分加水分解物が挙げられる。水溶性ジルコニウム化合物としては、市販品を使用しうる。本発明の塗工液において、b-1成分/b-4成分の割合は、質量比で、9010~1090の範囲が好ましい。<塗工液の媒体>本発明の塗工液の媒体はA~C成分の溶媒及び/又は分散媒として機能する。該媒体としては水が用いられる。水の他に必要に応じてメタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール等のアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブを添加でき、エタノール、イソプロパノール及びブチルセロソルブが好ましい。水にこのような有機溶媒を添加して水系混合溶媒とする場合、水の混合溶媒中の割合は80質量以上が好ましく、90質量以上がより好ましい。<光触媒塗工液の調製>本発明の光触媒塗工液は、あらかじめ溶媒に光触媒粒子を分散させて光触媒分散液を調製し、該光触媒分散液を上記の加水分解性ケイ素化合物の加水分解縮合物加水分解シリケートを溶解した溶液と混合、撹拌することで調製することができる。上記において、光触媒粒子を分散させる溶媒、及び加水分解縮合物を溶解する溶媒としては、基本的に水が使用され、上述したアルコールやセロソルブを必要に応じて配合した混合溶媒を用いることができるし、調製後に必要に応じて加えることもできる。本発明の光触媒塗工液には上記の光触媒粒子A成分が分散し、かつ上記の加水分解縮合物b-1成分が溶解又は分散している。本発明の光触媒塗工液中の光触媒濃度は、得られる防汚活性と透明性の兼ね合いから、通常0.01~10質量であり、好ましくは0.1~5質量である。光触媒濃度が低すぎると薄膜の防汚活性が低下することがあり、該濃度が高すぎると薄膜の透明性が低下し外観を損ねることがある。また、塗工液中のA成分の光触媒とBバインダ成分との割合は、A成分とB成分の合計に対するA成分の割合が0.05~99.5質量であり、好ましくは5~95質量である。A成分の割合が5質量未満であると、得られる薄膜に十分な親水性及び/又は酸化分解による防汚活性が得難く、また95質量を超えると得られる薄膜の強度が低下し、剥離、割れが生じることがある。-光触媒薄膜-本発明の光触媒薄膜は、上記の光触媒塗工液を基材上に塗布し乾燥することによって得られる、親水性光触媒薄膜である。基材:本発明の光触媒塗工液が塗布される基材は、目的とする薄膜を形成することができる限り、特に制限されない。基材の材料としては、例えば有機材料、無機材料が挙げられ、無機材料には例えば、非金属無機材料、金属無機材料が包含される。これらはそれぞれの目的、用途に応じた様々な形状を有することができる。有機材料としては、例えば塩化ビニル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、アクリル樹脂ポリアセタール、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体EVA、アクリロニトリル-ブタジエンゴムNBR、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリビニルブチラールPVB、エチレン-ビニルアルコール共重合体EVOH、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイドPPS、ポリエーテルイミドPEI、ポリエーテルエーテルイミドPEEI、ポリエーテルエーテルケトンPEEK、メラミン樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレンABS樹脂等の合成樹脂材料;天然、合成若しくは半合成の繊維材料及び繊維製品が挙げられる。これらは、フィルム、シート、その他の成型品、積層体などの所要の形状、構成に製品化されていてよい。非金属無機材料としては、例えばガラス、セラミック材料が挙げられる。これらはタイル、硝子、ミラー等の様々な形に製品化され得る。金属無機材料としては、例えば鋳鉄、鋼材、鉄、鉄合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ニッケル合金、亜鉛ダイキャスト等が挙げられ、これらはメッキが施されてもよいし、有機塗料が塗布されていてもよい。また、非金属無機材料又は有機材料の表面に施された金属メッキ皮膜であってもよい。上記光触媒塗工液を基材に塗布するには、従来公知のいずれの方法も用いることができる。具体的には、ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、印毛塗り法、含浸法、ロール法、ワイヤーバー法、ダイコーティング法、グラビア印刷法、インクジェット法等を利用して塗膜を基材上に形成させることができる。形成される薄膜の膜厚は、通常1~500nmの範囲であり、50~300nmの範囲にあることが好ましい。膜厚が薄すぎると薄膜の強度が低いことがあり、また厚すぎると薄膜に割れが生じることがある。光触媒塗工液を塗布して塗膜を乾燥、硬化させるためには、50~200°Cの温度範囲で1~120分間処理することが好ましく、特には、60~90°Cの温度範囲で5~60分間処理することが好ましい。本発明の薄膜は親水性が高く、該薄膜上の水接触角25°Cにおいて。以下、同じは、20度以下であることが好ましい。水接触角が20度を超えると、防汚性が低下することがある。該薄膜は形成直後ばかりでなく、経時的にも高い親水性を維持する。したがって、該薄膜上の水接触角は、形成直後ばかりでなく20度以下であることが好ましく、さらに、例えば形成後暗所に一ヶ月以上放置後でも20度以下であることが好ましく、かつ可能である。また、本発明の薄膜の全光線透過率は85以上であり、かつヘイズ率が3.5以下であることが好ましい。該薄膜の全光線透過率が85未満の場合は、透明性が低下し外観を損ねることがあり、またヘイズ率が3.5を超えると透明性が低下し外観を損ねることがある。本発明は基材上に上記薄膜を形成した物品をも提供する。このような物品としては、本発明の光触媒薄膜により有機汚染物の分解、表面の清浄化、脱臭、抗菌、親水性等の硬化が期待される物品であればいずれの物品でもよい。例えば、タイル類白色タイル、カラータイル、干渉色により発色する光彩タイル、フィルターエアコン、空気清浄機、水処理、ガイシ、皿などの日用品、浴槽、トイレ等の衛生陶器、外装用タイル等のセラミック製品;窓ガラス板、窓ガラス、鏡大型~手鏡サイズ、ガラス板を用いたパネルタッチパネル、デイスプレイパネル、太陽電池カバーパネル、ガラス部分を有する照明器具等のガラス製品;コンクリート系壁、モルタル、しっくい、レンガ、大理石等の天然石等の石材;鋼板、塗装鋼板、ガルバリウム鋼板等の金属製品類;窓保護フィルム若しくはシート、断熱フィルム若しくはシート、遮熱フィルム若しくはシート、パネルタッチパネル、デイスプレイパネル、太陽電池カバーパネル、照明器具に用いられるアクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートなどからなる透明合成樹脂製品;壁紙、クロス、繊維、テント地、内装ボード、ブラインド、他加工品に用いられる塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂などからなる不透明合成樹脂製品等が挙げられる。以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの例により制限されるものではない。[調製例1]酸化チタン系光触媒分散液の調製光触媒材料として、市販のMPT-623白金担持二酸化チタン結晶微粒子/ルチル型、一次粒径約20nm;石原産業株製を純水に分散して、平均粒子径が50nmであるような水系分散液を作製し、光触媒濃度1質量の可視光応答性光触媒分散液として使用した。[調製例2]バインダ成分及びバインダ液の調製水143、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド25質量水溶液、東洋合成製8.16g、テトラエチルオルトシリケート商品名:正珪酸エチル、多摩化学株製4.67g、アセトン和光純薬工業製、特級20.0gを、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド:テトラエチルオルトシリケートがモル比で4:1となる割合である混合し、常温にて5時間攪拌した。得られた反応液から溶媒を除去して生成物である加水分解縮合物バインダ成分を分離した後、該生成物を水に再度溶解させ、該水溶液をイオン交換樹脂商品名:ダウエックス50WX8、ダウコーニング製を充填したカラムを通してpH70に調整し、さらに水を加えて最終的な固形分濃度を1.0質量に調整した。得られたバインダ水溶液を以下バインダ液1という。[実施例1~3]調製例1で調製した光触媒分散液に調製例2で調製したバインダ液1を加えて溶解した後、各実施例において水を加えて各成分が表1記載の質量濃度になるように、塗工液を調製した。[比較例1]バインダ液1に代えて、固体シリカゾル系バインダである市販のスノーテックスS粒径8~11nmのコロイダルシリカ;日産化学工業株製を使用した以外は、実施例1と同様にして塗工液を調製した。各成分の濃度は表1に記載の通りとした。[比較例2]バインダ液1に代えて、水溶性バインダである市販のサガンコートPTAゾルペルオキソチタン酸の水溶液;株鯤コーポレーション製を使用した以外は、実施例1と同様にして塗工液を調製した。各成分の濃度は表1に記載の通りとした。比較例3バインダ液1に代えて、水アルコール系バインダである市販のSSC1加水分解シロキサンの水アルコール溶液:コルコート株製を使用した以外は、実施例1と同様にして塗工液を調製した。各成分の濃度は表1に記載の通りとした。[調製例3]バインダ成分及びバインダ液の調製水14.3g、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド25質量水溶液、東洋合成製8.16g、テトラエチルオルトシリケート多摩化学製4.67g、γメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン製品名KBM503信越化学工業製5.20g、アセトン和光純薬工業製、特級20.0gこのとき、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド:テトラエチルオルトシリケート:γメタクリロキシプロピルトリメトキシシランのモル比は4:1:1を混合し、常温にて5時間攪拌した。得られた反応溶液から溶媒を除去して生成物である加水分解縮合物バインダ成分を得、この生成物を水に再度溶解させて得た水溶液をイオン交換樹脂ダウエックス50WX8ダウコーニング製を充填したカラムに通してpH=70に調整し、水を加えて最終的な固形分濃度が10質量となるように調整した。こうして得られたバインダ液をバインダ液2という。[調製例4]バインダ成分及びバインダ液の調製γメタクリロキシプロピルトリメトキシシランの代わりにグリシドキシプロピルトリメトキシシラン製品名KBM403信越化学工業製5.0gを使用し、かつ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド:テトラエチルオルトシリケート:グリシドキシプロピルトリメトキシシランのモル比が4:1:1となるように混合した以外は、調製例3と同様の条件にてバインダ成分を得、バインダ液を調製した。該バインダ液をバインダ液3という。[実施例4]実施例4において、調製例1で調製した光触媒分散液に調製例3で調製したバインダ液2を加えて溶解した後、水を加えて各成分が表2記載の質量濃度になるように、塗工液を調製した。[実施例5]実施例5において、調製例1で調製した光触媒分散液に調製例4で調製したバインダ液3を加えて溶解した後、水を加えて各成分が表2記載の質量濃度になるように、塗工液を調製した。[比較例4]バインダ液2に代えて、水ガラス系バインダである市販のFJ294グランデックス株製を使用した以外は、実施例4と同様にして塗工液を調製した。各成分の濃度は表2に記載の通りとした。[調製例5]バインダ液の調製調製例2で調製したバインダ液1と、市販のペルオキソチタン酸製品名:サガンコートPTA85;鯤コーポレーション製水溶液とを、得られる混合液中のペルオキソチタン酸の濃度が0.05質量となるように混合した。得られた混合液をバインダ液4という。[調製例6]バインダ液の調製調製例2で調製したバインダ液1と、市販のペルオキソチタン酸製品名:サガンコートPTA85;鯤コーポレーション製水溶液とを、得られる混合液中のペルオキソチタン酸の濃度が0.15質量となるように混合した。得られた混合液をバインダ液5という。[実施例6]調製例1で調製した光触媒分散液に調製例5で調製したバインダ液4を混合した後、水を加えて各成分が表3記載の質量濃度になるように、塗工液を調製した。[実施例7]調製例1で調製した光触媒分散液に調製例6で調製したバインダ液5を混合した後、水を加えて各成分が表3記載の質量濃度になるように、塗工液を調製した。[調製例7]バインダ液の調製調製例2で調製したバインダ液1と、市販の炭酸ジルコニウムアンモニウム製品名:AC7;第一稀元素化学製水溶液を、得られる混合液中の炭酸ジルコニウムアンモニウムの濃度が0.05質量となるように混合した。得られた混合液をバインダ液6という。[調製例8]バインダ液の調製調製例2で調製したバインダ液1と、市販の炭酸ジルコニウムアンモニウム製品名:AC7;第一稀元素化学製水溶液を、得られる混合液中の炭酸ジルコニウムアンモニウムの濃度が0.15質量となるように混合した。得られたバインダ液をバインダ液7という。[実施例8]調製例1で調製した光触媒分散液に調製例7で調製したバインダ液6を混合した後、水を加えて各成分が表4記載の質量濃度になるように、塗工液を調製した。[実施例9]調製例1で調製した光触媒分散液に調製例8で調製したバインダ液7を混合した後、水を加えて各成分が表4記載の質量濃度になるように、塗工液を調製した。-試料の作製-基材として、A4サイズにカットしたPETポリエチレンテレフタレートフィルム厚さ50μmを用い、その表面にコロナ放電処理を行ったのち、実施例又は比較例の分散液を塗布し、70°Cで30分間加熱、乾燥して厚さが約200nmとなるように光触媒薄膜を形成した。-光触媒薄膜の物性評価-試料の光触媒薄膜について各種物性を以下のようにして測定し評価した。表面張力静的/動的水接触角:接触角計CA-A協和界面科学株製を用いて測定した。暗所1ヶ月放置後の接触角:試料フィルムに365nmのUVを1mw/cm2で24時間照射した後、該フィルムを気密容器に入れて遮光し、1ヵ月後に取り出して接触角計CA-Aで測定した。表面の動的濡れ張力:ぬれ張力試験用混合液No.22.6~No.73.0和光純薬工業株製を綿棒で試料の薄膜表面に塗布し、塗布した液膜が10秒間弾かれずに保持されているときの、濡れ張力試験用混合液の濡れ張力の値を濡れ張力mN/mとした。鉛筆硬度試料の薄膜の硬度を、JISK5600-5-4に準拠して、引っかき硬度鉛筆法試験器コーテック株製を用いて測定した。外観濁り、着色の有無前記の試料作製の際に、基材フィルムの表面に部分的に光触媒分散液を塗布することによって、光触媒薄膜を形成した部分と形成しない部分と作った。薄膜形成部を薄膜非形成部と目視により観察し、薄膜に明らかな濁りや着色が認められるか否か調べた。薄膜の膜厚測定薄膜測定装置F-20FILMETRICS社製、及び走査型電子顕微鏡S-3400NX株日立ハイテクノロジーズ製を用いて測定した。塗工液内の光触媒微粒子の平均粒子径マイクロトラックUPA-EX日機装株製を用いて測定した。光触媒活性上記試料フィルムを、内部にブラックライトを3本備えた容積5Lの密閉型チャンバーに入れた。該チャンバー内は、50湿度の空気窒素と酸素の比が4:1で満たされており、この中に濃度20ppmとなるようにアセトアルデヒドガスを封入した。この状態で1時間程度静置した後、ブラックライトを点灯し、試料表面での光量が10mWcm2となる条件下で、アセトアルデヒドガスの減少挙動を追跡した。アセトアルデヒドガス濃度の測定には、光音響マルチガスモニタINNOVA製;1412型を用い、濃度が001ppmとなるまでの時間を測定し、光触媒活性とした。耐アルカリ性水酸化ナトリウム和光純薬工業製の1モルL水溶液を調製し、この中に試料の薄膜を浸漬し、24時間後にキムワイプにてふき取りし、傷の有無を見た。傷が生じたものを不良と評価して×で示し、生じないものを良好と評価して○で示した。有機基材への密着性薄膜にJISK5400に準じてクロスカット碁盤目テープ剥離試験を実施した。クロスカットによって作製した100マス中、剥離しないで残存しているマス目の個数を示す。総合評価硬度3H以上であり、外観の変化がなく、かつ光触媒活性試験で12時間以内に光触媒活性のあるものを良好と評価し○で示した。上記の測定及び評価の結果を表1~4に示す。なお、形成された薄膜の膜厚はいずれも200nmであった。なお、比較し易いように、表2には比較例2及び3を再掲し、有機基材への密着性、耐アルカリ性の結果も示した。表3には同様の趣旨で比較例1及び3を再掲した。また、表4には比較例2~4を再掲した。表1の結果から、実施例1~3の塗工液から得られた薄膜が最も薄膜特性が良かった。光触媒:バインダ成分が同一比率である実施例1と比較例1~3で比較すると、実施例1の薄膜が外観硬度等の膜物性に優れ、また酸化分解活性も非常に高く維持されている。比較例1より、コロイダルシリカのみで形成した膜は、温度不十分のため硬化しておらず、ペルオキソチタン酸のみで形成した薄膜は着色があり、SSC1で形成した膜は強度には優れるものの、光触媒の特徴である酸化分解能力が著しく低下していた。表2の結果から、実施例4,5の塗工液から得られた薄膜が最も薄膜特性が良かった。光触媒:バインダ成分比はいずれも同一であるが、実施例4,5と比較例2-4を比較すると、実施例4の薄膜が外観硬度、密着性、アルカリ耐性等の膜物性に優れ、また酸化分解活性も非常に高く維持されている。比較例4より、FJ294のみで形成した膜は、中性域にてやや白濁し、また耐アルカリ性、有機物密着性、光触媒特性には劣っていた。ペルオキソチタン酸のみで形成した薄膜は着色があり、SSC1で形成した膜は製膜性には優れていたものの、有機物へは密着せず、光触媒の特徴である酸化分解能力が著しく低下していた。表3の結果から、実施例6,7の塗工液から得られた薄膜が最も薄膜特性が良かった。光触媒:バインダ成分比はいずれも同一であるが、実施例と比較例1、3,4を比較すると、実施例6,7の薄膜が外観硬度、密着性、アルカリ耐性等の膜物性に優れ、また酸化分解活性も非常に高く維持されている。比較例4より、FJ294のみで形成した膜は、中性域にてやや白濁し、また耐アルカリ性、光触媒特性には劣っていた。スノーテックスのみで形成した薄膜は本条件では硬化不十分であり、SSC1で形成した膜は製膜性には優れていたものの、光触媒の特徴である酸化分解能力が著しく低下していた。表4の結果から、実施例8、9の塗工液から得られた薄膜が最も薄膜特性が良かった。光触媒:バインダ成分比はいずれも同一であるが、実施例と比較例2~4を比較すると、実施例8、9の薄膜が外観硬度、アルカリ耐性等の膜物性に優れ、また酸化分解活性も非常に高く維持されている。比較例4より、FJ294のみで形成した膜は、中性域にてやや白濁し、また耐アルカリ性、光触媒特性には劣っていた。PTAのみで形成した薄膜は着色があり、SSC1で形成した膜は製膜性には優れていたものの、光触媒の特徴である酸化分解能力が著しく低下していた。"