自己吸着型シートが両面接着シートを介してバックプレートに貼り付けられて構成されるとともに、前記自己吸着型シートにガラス基板が吸着保持されるガラス基板の保持用膜体において、前記両面接着シートは、シート状の基材と該基材の両面に備えられた粘着層とから構成され、前記粘着層は、前記基材の同一面内においてそれぞれ所定の隙間をもって備えられ、前記基材の両面に備えられた粘着層間の隙間が粘着層の積層方向において重ならないガラス基板の保持用膜体。前記ガラス基板のサイズが、3130mm×2880mm以上である請求項1に記載のガラス基板の保持用膜体。前記保持用膜体のサイズが、3200mm×3000mm以上である請求項2に記載のガラス基板の保持用膜体。請求項1、2又は3に記載のガラス基板の保持用膜体によってガラス基板を吸着保持し、該ガラス基板の被研磨面を研磨パッドに押し付けて、ガラス基板の被研磨面を必要な平坦度に研磨することを含むガラス基板の研磨方法。しかしながら、図11に示した保持用膜体7では、製作誤差を鑑みると隙間B′を小さくすることは困難である。よって、保持用膜体7では、保持用膜体7の厚さ分の大きな隙間A′と隙間B′とが存在するため、その隙間A′、B′の位置に対応するガラス基板に、図14に示すように凸状部4Bが大きく現れる。よって、この保持用膜体7では、研磨後のガラス基板の品質を向上させることは難しい。また、図12に示した保持用膜体8の隙間A′′は、図11に示した保持用膜体7の隙間A′よりも自己吸着型シート1の厚さ分だけ小さくなる製作誤差に鑑みると隙間B′′を小さくすることも困難である。また、研磨時にはガラス基板と研磨パッドとの摩擦抵抗によって、自己吸着型シート1が面方向に伸びるため、隙間B′′が大きくなる。よって、この保持用膜体8でも、ガラス基板に前記凸状部4B図14参照が大きく現れるため、研磨後のガラス基板の品質を向上させることは難しい。図13に示した保持用膜体9は、2枚重ねに配置された両面接着シート2E、2Fの各々の基材2G、2Hの強度により、自己吸着型シート1の面方向の伸びを、図12に示した保持用膜体8よりも小さく抑えることができる。しかしながら、図13に示すように両面接着シート2E、2Fを2枚重ねれば、2つの隙間A′′′の加算値が、図12の保持用膜体の隙間A′′の2倍となり、また、製作誤差に鑑みると隙間B′′′を小さくすることも困難である。したがって、この保持用膜体9でも研磨後のガラス基板の品質を向上させることは難しい。本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、研磨後のガラス基板の品質を向上させることができるガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法を提供することを目的とする。本発明は、自己吸着型シートが両面接着シートを介してバックプレートに貼り付けられて構成されるとともに、前記自己吸着型シートにガラス基板が吸着保持されるガラス基板の保持用膜体において、前記両面接着シートは、シート状の基材と該基材の両面に備えられた粘着層とから構成され、前記粘着層は、前記基材の同一面内において所定の隙間をもって備えられ、前記基材の両面に備えられた粘着層間の隙間が粘着層の積層方向において重ならないことガラス基板の保持用膜体を提供する。本発明の保持用膜体によれば、研磨加工時の自己吸着型シートの面方向の伸びを、自己吸着型シートと同サイズの両面接着シートの基材によって抑えることができる。また、本発明の保持用膜体の隙間B′′′′は、前述した図12、図13の保持用膜体8、9の隙間B′′、B′′′と略同一である。しかしながら、本発明の保持用膜体の隙間A′′′′は、基材の両面に備えられた粘着層の厚さ分だけなので、図11~図13の保持用膜体7~9の隙間A′~A′′′よりも大幅に小さくなる。よって、本発明の保持用膜体によれば、保持用膜体7~9と比較して、研磨後のガラス基板の品質を向上させることができる。このような保持用膜体によって保持されて研磨されたガラス基板は、前記隙間が転写されて研磨されることで、その表面に凸状部が形成される。しかしながら、本発明の保持用膜体によれば、前記基材の両面に備えられた粘着層間の前記隙間は、粘着層の積層方向において重ならないため、隙間による転写量を抑えることができる。よって、本発明によれば、ガラス基板の表面に形成される凸状部の高さを低く抑えることができるので、研磨後のガラス基板の品質がより一層向上する。本発明は、大型のガラス基板を吸着保持する保持用膜体を対象としている。このため、本発明の1枚の自己吸着型シート及び両面接着シートの基材は、大型のガラス基板に対応し得る寸法のものである。また、両面接着シートの粘着層は、既存の塗布装置で塗布することができる最大寸法以下である。また、本発明によれば、前記ガラス基板のサイズは、3130mm×2880mm以上であることが好ましい。すなわち、本発明の保持用膜体は、G10サイズと称されるサイズ以上のサイズのガラス基板を保持し、そのガラス基板を研磨する。また、本発明によれば、前記保持用膜体のサイズは、3200mm×3000mm以上であることが好ましい。上述したG10サイズ以上のガラス基板を保持するには、3200mm×3000mm以上のサイズを有する保持用膜体を使用することが好ましい。本発明は、前記目的を達成するために、本発明のガラス基板の保持用膜体によってガラス基板を吸着保持し、該ガラス基板の被研磨面を研磨パッドに押し付けて、ガラス基板の被研磨面を必要な平坦度に研磨することを含むガラス基板の研磨方法を提供する。これにより、本発明によれば、研磨後のガラス基板の品質を向上させることができる。本発明によれば、研磨後のガラス基板の品質を向上させることができる。以下、添付図面に従って本発明に係るガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法の好ましい実施の形態について説明する。図1は、実施の形態のガラス基板の保持用膜体が適用されたガラス基板の研磨装置10の斜視図が示されている。また、図2には、研磨装置10の要部構造を示す拡大断面図が示されている。研磨装置10は、矩形状に製造されたマザーガラス基板例えば、一辺が3130mm×2880mmG10サイズ以上、厚み0.7mmGの被研磨面Aを液晶ディスプレイ用ガラス基板に必要な平坦度に研磨する研磨装置である。研磨装置10は、ガラス基板Gを、保持用膜体12を介してその下面で保持する研磨ヘッド14と、アルミニウム製のプレート16を介して研磨パッド18をその上面で保持する研磨テーブル20とから構成されている。マザーガラス基板以下、ガラス基板と称するGは、自己吸着作用のあるバッキング材等からなる保持用膜体12に保持されるとともに、研磨ヘッド14によって被研磨面Aが研磨パッド18に押し付けられる。その結果、ガラス基板Gは、被研磨面Aが必要な平坦度に研磨される。保持用膜体12は、上記サイズの大型のガラス基板Gを吸着保持するために、3200mm×3000mm以上のサイズを有していることが好ましい。なお、保持用膜体12の詳細構造については後述する。研磨中においては図2に示すように、研磨テーブル20とプレート16とに貫通形成された多数のスラリ供給孔22A、22B...から、酸化セリウム水溶液等の研磨スラリが研磨パッド18の下面側から供給されている。これにより、研磨パッド18が研磨スラリによって浸された状態となる。この状態でガラス基板Gが研磨される。スラリ供給孔22A、22B...は、研磨テーブル20とプレート16とにおいて密にかつ均一に形成されている。このため、研磨パッド18に研磨スラリが均一に供給されている。なお、研磨パッド18としては、例えば発泡ポリウレタンタイプやスウェードタイプのものが使用され、プレート16に貼着されている。研磨パッド18は単一構成でもよいが、ガラス基板Gのサイズに対応してそのサイズも大きいことから、複数枚の分割パッドを組み合わせて1枚の研磨パッド18としてもよい。更に、研磨テーブル20には多数の吸引孔24A、24B...が貫通形成されており、これらの吸引孔24A、24B...は不図示のサクションポンプにバルブを介して接続されている。したがって、前記バルブを開放することにより、サクションポンプの吸引力が吸引孔24A、24B...に伝達されるので、プレート16が研磨テーブル20の上面に吸着保持される。前記バルブを閉鎖することにより、サクションポンプの吸引力が解除されるので、研磨パッド18のメンテナンス、交換の際に研磨テーブル20から研磨パッド18をプレート16とともに取り外すことができる。図1に示すように研磨ヘッド14の上部中央には、スピンドル26が固定され、このスピンドル26には回転/昇降装置28が連結されている。回転/昇降装置28は、研磨装置10全体を統括制御する制御部30によって、ガラス基板Gの研磨に好適な回転数及び下降動作押圧力が制御されている。図3には、実施の形態の保持用膜体12の斜視図が示され、図4には、バックプレート36を除く実施の形態の保持用膜体12の断面図が示されている。また、図5は、実施の形態の保持用膜体12にガラス基板Gが吸着保持された断面図が示されている。図4に示すように保持用膜体12は、1枚の自己吸着型シート32が同一面内に配された1枚の両面接着シート34を介して、図3のアルミニウム製のバックプレート36に貼り付けられて構成される。この自己吸着型シート32に図5に示すようにガラス基板Gが吸着保持される。自己吸着型シート32は、特許文献2に開示されているようなポリウレタン樹脂で形成されたポリウレタンシートであり、その厚さは約1.1~1.5mmであることが好ましい。このポリウレタンシートは、その表面層に微多孔が形成され、表面層に水等の液体を含ませることにより、表面層の微多孔に浸入した液体の表面張力によってガラス基板Gを吸着保持することができる。両面接着シート34は、ポリエチレンテレフタレートPET等の基材38と、基材38の両面に接着剤が塗布されることにより形成された粘着層40、42とから構成される。基材38の厚さは約75μmであることが好ましく、粘着層40の厚さは約50μmであることが好ましい。なお、自己吸着型シート32側の粘着層40よりもバックプレート36側の粘着層42の厚さを薄くすることにより、ガラス基板Gの平坦度向上に寄与することができる。図3~図5に示す保持用膜体12は、1枚の自己吸着型シート32に、同一面内に両面接着シート34が1枚配され、両面接着シート34の粘着層40は、所定の隙間S1をもって基材38に塗布されるとともに、粘着層42も同様に所定の隙間S2をもって基材38に塗布される。そして、これらの隙間S1、S2は粘着層の積層方向において重ならないようにされている。これらの粘着層40、42は、既存の塗布装置で塗布することができる最大寸法以下である。上記のように構成された保持用膜体12によれば、図6に示すように隙間S1に位置する自己吸着型シート32の一部分32aが、研磨時の押圧力等により隙間S1に入り込む。その結果、隙間S1に対応する自己吸着型シート32の吸着面に凹状部32bが生じる。したがって、その凹状部32bに吸着保持されているガラス基板Gの一部分G1が凸状に変形し、ガラス基板Gの被研磨面に凹状部5aが生じる。凹状部5aが生じた状態でガラス基板Gを研磨すると、その凹状部5aが研磨されない。このため、凹状部5aとなった部分が研磨後のガラス基板Gにおいて図7に示すように凸状部5Aとなる。しかし、ガラス基板Gの表面に形成される凸状部5Aの高さaは、図9に示した従来の凹状部4Aの深さb、及び図14に示した凸状部4Bの高さcと比較してその絶対量が小さくなるので、ガラス基板Gの平坦性を損なうものではない。図6に示すように隙間S2に位置する自己吸着型シート32の一部分32cが、研磨時の押圧力等により隙間S2に入り込む方向に変形する。その結果、隙間S2に対応する自己吸着型シート32の吸着面に凹状部32dが生じる。したがって、その凹状部32dに吸着保持されているガラス基板Gの一部分G2が凸状に変形し、ガラス基板Gの被研磨面に凹状部5bが生じる。凹状部5bが生じた状態でガラス基板Gを研磨すると、凹状部5bが研磨されない。このため、凹状部5bとなった部分が研磨後のガラス基板Gにおいて図7に示すように凸状部5Bとなる。しかし、自己吸着型シート32の一部分32aの変形量は、自己吸着型シート32の一部分32cの変形量よりも小さい。粘着層40の隙間S1は、直接、自己吸着型シート32の発泡構造部の微孔と接していること、及びその発泡構造部サイズが隙間S1のサイズに近いため、粘着層40や基材38を介して接している隙間S2に比べ自己吸着型シート32の変形に与える影響が少ないからである。よって、ガラス基板Gの表面に形成される凸状部5Bの高さbは、凸状部5Aの高さa、及び図9に示した従来の凹状部4Aの深さbと比較してその絶対量が大幅に小さくなる。32aの変形量は、ガラス基板Gの平坦性を損なうものではない。実施の形態の保持用膜体12によれば、研磨後のガラス基板Gの品質を向上させることができる。なお、保持用膜体12のバックプレート36には、図5に示すようにシート形状の弾性シート材44が取り付けられ、この弾性シート材44の外周には複数の係合部材46A、46B...が固定されている。保持用膜体12は、弾性シート材44を張設してこれらの係合部材46A、46B...を図1の研磨ヘッド14のフック部不図示に係合させることにより研磨ヘッド14に装着される。図4~図6に示した所定の隙間S1、S2は、1.5±1.5mmに設定されることが好ましく、1.5±1.4mmに設定されることが好ましい。すなわち、これらの実施の形態で規定する所定の隙間S1、S2は0を含み、0~3.0mmであることが好ましい。隙間が0の場合には、研磨後のガラス基板Gに転写による凸状部5A、5B図7参照が発生せず、また、隙間が3.0mmであれば、ガラス基板Gに転写によって形成された凸状部5A、5Bは、ディスプレイ用ガラス基板Gの品質に影響を与えない。粘着層40、42の厚さはそれぞれ50μm以下であることが好ましく、40μm以下であることがより好ましく、30μm以下であることが特に好ましい。更に、図4~図6に示した保持用膜体12は、研磨加工時の自己吸着型シート32の面方向の伸びを、自己吸着型シート32と同サイズの基材38の強度によって抑えることができる。一方、大型のガラス基板を所望の平坦度に研磨加工するためには、図10で説明したように厚さ方向の隙間Aと面方向の隙間Bを保持用膜体に持たせることが必要となる。そこで、図4に示すように実施の形態の保持用膜体12の隙間B′′′′は、図12、図13に示した保持用膜体8、9の隙間B′′、B′′′と略同一であるが、実施の形態の保持用膜体12の隙間A′′′′は、基材38の両面に備えられた粘着層40、42の厚さ分だけなので、図11~図13の保持用膜体7、8、9の隙間A′~A′′′よりも大幅に小さくなる。よって、実施の形態の保持用膜体12によれば、図11~図13に示した保持用膜体7、8、9と比較して、研磨後のガラス基板の品質を向上させることが可能となる。本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。本出願は、2010年3月30日出願の日本特許出願2010-077934に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。