第一ディスプレーサと、当該第一ディスプレーサとの間に第一膨張空間を形成する第一シリンダと、前記第一ディスプレーサに連結される第二ディスプレーサと、当該第二ディスプレーサとの間に第二膨張空間を形成する第二シリンダと、前記第二ディスプレーサの外周面に形成されて前記第二膨張空間から螺旋状に延びる螺旋溝と、を含み、当該螺旋溝の前記第一ディスプレーサ側に連通される第一絞り部と、当該第一絞り部の前記第一ディスプレーサ側に連通される容積部とを、前記第二シリンダが含むことを特徴とする極低温冷凍機。前記容積部は前記外周面よりも径方向の内側にある又は前記外周面に面する円環状空間であることを特徴とする請求項1に記載の極低温冷凍機。前記螺旋溝の前記第一ディスプレーサ側を前記第二ディスプレーサ内の蓄冷室に連通する第二絞り部を含むことを特徴とする請求項2に記載の極低温冷凍機。ところが、特許文献1構成では、二段式のディスプレーサが往復運動するにあたり、上述した直線溝の高温側部分が一段側の膨張空間に対して進入と退出を繰り返すこととなるため、オリフィスとしての流路抵抗が変化する。そのため、冷凍の効率を高めることができないという問題があった。本発明は、上記問題に鑑み、より効果的に冷凍の効率を高めることができる極低温冷凍機を提供することを目的とする。上記の問題を解決するため、本発明による極低温冷凍機は、第一ディスプレーサと、当該第一ディスプレーサとの間に第一膨張空間を形成する第一シリンダと、前記第一ディスプレーサに連結される第二ディスプレーサと、当該第二ディスプレーサとの間に第二膨張空間を形成する第二シリンダと、前記第二ディスプレーサの外周面に形成されて前記第二膨張空間から螺旋状に延びる螺旋溝と、を含み、当該螺旋溝の前記第一ディスプレーサ側に連通される第一絞り部と、当該第一絞り部の前記第一ディスプレーサ側に連通される容積部とを、前記第二シリンダが含むことを特徴とする。ここで、前記極低温冷凍機において、前記容積部は前記外周面よりも径方向の内側にある又は前記外周面に面する円環状空間であることとしてもよい。また、前記極低温冷凍機において、前記螺旋溝の前記第一ディスプレーサ側を前記第二ディスプレーサ内の蓄冷室に連通する第二絞り部を含むこととしてもよい。本発明の極低温冷凍機によれば、前記第二ディスプレーサの外周側のサイドクリアランスをパルス冷凍機に見立てた上で、適切な位相調整を行った上で損失を低減し、冷凍の効率を高めることができる。以下、本発明を実施するための形態について、添付図面を参照しながら説明する。本実施例1の極低温冷凍機1は例えばギフォードマクマホンGMタイプのものとして構成可能であり、図1に示すように、第一ディスプレーサ2と、第一ディスプレーサ2との間に第一膨張空間3を形成する第一シリンダ4と、第一ディスプレーサ2に連結される第二ディスプレーサ5と、第二ディスプレーサ5との間に第二膨張空間6を形成する第二シリンダ7とを含む。さらに、極低温冷凍機1は、第二ディスプレーサ5の外周面に形成されて第二膨張空間6から螺旋状に延びる螺旋溝8と、螺旋溝8の第一ディスプレーサ2側に連通される第一絞り部9と、第一絞り部9の第一膨張空間3側に連通される容積部10と、を含む。容積部10は第一膨張空間3よりも常に第二膨張空間6側に位置するものとしている。第一ディスプレーサ2と第二ディスプレーサ5とはともに円筒状の外周面を有しており、第一ディスプレーサ2の内部には、第一蓄冷器11が配置され、第二ディスプレーサ5に内部には第二蓄冷器12が配置される。第一ディスプレーサ2の高温端側よりの部分と第一シリンダ4との間にはシール13が設けられており、第一シリンダ4の上端には圧縮機14、サプライバルブ15、リターンバルブ16からなる吸排気系統を相互に接続する配管のうち第一シリンダ4に接続される給排共通配管が接続されている。第一ディスプレーサ2の上端は図示しない軸部材が結合されて、この軸部材は第一シリンダ4の上端から突出されており、図示しないクランク機構を介して図示しない駆動用モータに連結されている。軸部材、クランク機構、駆動用モータは第一ディスプレーサ2と第二ディスプレーサ5を軸方向に往復運動させる駆動機構を構成する。第一ディスプレーサ2は下部が開口した有底円筒形状の第一シリンダ4内に収納され、第二ディスプレーサ5は上部が開口した有底円筒形状の第二シリンダ7内に収納されており、第一シリンダ4と第二シリンダ7とは一体的に構成されている。第一シリンダ4、第二シリンダ7は高い強度と、低い熱伝導率、十分なヘリウム遮断能を有する、例えばステンレス鋼により構成される。第一ディスプレーサ2は、軽い比重と十分な耐摩耗性、比較的高い強度、低い熱伝導率を有する例えば布入りフェノール等により構成される。第二ディスプレーサ5は、例えば外周面に耐摩耗性の高いフッ素樹脂などの皮膜を施した金属製の筒で構成される。第一蓄冷器11は例えば金網等の第一蓄冷材により構成され、第二蓄冷器12は、例えば鉛球等の第二蓄冷材をフェルト及び金網により軸方向に挟持することにより構成されている。第二ディスプレーサ5の外周面には、図2に示されるように、第一シリンダ4の低温側に形成される第二膨張空間6に連通する始端を有するとともに螺旋状に第一膨張空間3側に延びる螺旋溝8が形成されており、螺旋溝8は第二ディスプレーサ5の軸方向の中央よりも高温側に位置する部分にて終了する終端を有している。この螺旋溝8の終端から第二ディスプレーサ5の外周面において軸方向に延びる溝状の第一絞り部9が形成され、第一絞り部9の終端は、第二ディスプレーサ5の外周面に形成された容積部10に連通されている。図1に示したように、第一ディスプレーサ2と第二ディスプレーサ5の上死点において、容積部10は第一シリンダ4の底面よりも下側に位置するものとしている。なお、第一膨張空間3よりも常に第二膨張空間6側に容積部10が位置するとは、容積部10全体が、第一膨張空間3が最大となる第一ディスプレーサ2が上死点に位置する場合に第一膨張空間3に露出する外周面の露出部分よりも第二膨張空間6側に位置することを指す。また、図2において、第二ディスプレーサ5の外周面の容積部10よりも高温側に位置する部分は、第一シリンダ4の内周面に対して径方向の隙間を小さくするクリアランスシール部を構成している。容積部10は第二ディスプレーサ5の外周面においてクリアランスシール部よりも径方向に掘り下げられた形態を有しており、周方向に延びる円環状溝部つまり円環状空間を形成している。この容積部10と第二シリンダ7の内周面とにより画成する円環状空間の容積は、螺旋溝8の総容積の少なくとも半分以上の容積を有して構成されている。圧縮機14を動作させてサプライバルブ15を開とすると、サプライバルブ15を介して高圧のヘリウムガスが上述した給排共通配管から第一シリンダ4内に供給され、第一ディスプレーサ2内の上端と第一蓄冷器11を連通する連通路と第一蓄冷器11、第一蓄冷器11と第一膨張空間3とを連通する連通路を介して、第一膨張空間3に供給される。第一膨張空間3に供給された高圧のヘリウムガスは更に、第一膨張空間3と第二蓄冷器12とを連通する連通路を介して第二蓄冷器12に供給され、さらに、第二蓄冷器12と第二膨張空間6とを連通する連通路を介して第二膨張空間6に供給される。なお、第二膨張空間6に供給された高圧のヘリウムガスのうち一部分は、低温側から螺旋溝8内に供給される。図3は、螺旋溝8をパルスチューブ型冷凍機のパルス管に見立てた冷媒ガスフロー図である。第一絞り部9は、バッファとして機能する容積部10とパルス管として機能する螺旋溝8の高温側とを連通する連通路に配置されたオリフィスに対応する。螺旋溝8内の冷媒ガスは、軸方向の略中間に位置する部分が仮想的なガスピストン8Pを構成する。ここで、ガスピストン8Pは、必ず往復運動中螺旋溝8内に収まり、ガスピストン8Pの高温側に高温側空間8Hが存在し、低温側に低温側空間8Lが存在するようにガスピストン8Pの軸方向の長さと位相が調整される。ガスピストン8Pの軸方向の長さと位相は、位相調整機構として機能する容積部10バッファの容積と、第一絞り部9オリフィスの断面積により調整される。次に、冷凍機の動作を説明する。冷媒ガス供給工程のある時点においては、第一ディスプレーサ2および第二ディスプレーサ5はそれぞれ第一シリンダ4および第二シリンダ7の下死点に位置する。それと同時、またはわずかにずれたタイミングでサプライバルブ15を開とすると、サプライバルブ15を介して高圧のヘリウムガスが給排共通配管から第一シリンダ4内に供給され、第一ディスプレーサ2の上部から第一ディスプレーサ2の内部第一蓄冷器11に流入する。第一蓄冷器11に流入した高圧のヘリウムガスは、第一蓄冷材により冷却されながら第一ディスプレーサ2の下部に位置する連通路を介して、第一膨張空間3に供給される。第一膨張空間3に供給された高圧のヘリウムガスは更に図示しない連通路を介して第二ディスプレーサ5内部の第二蓄冷器12に供給される。ここで、第二ディスプレーサ5は高温側端部にクリアランスシール部を備えるため、ヘリウムガスが第一膨張空間3から容積部10に流入することは抑制される。また、この時点では、螺旋溝8内のヘリウムガスの圧力は、圧縮機14の低圧側の圧力と略同等であるのに対して、容積部10内のヘリウムガスは、圧縮機14の高圧と低圧の中間圧力程度である。そのため、容積部10内のヘリウムガスが、第一絞り部9を介して、螺旋溝8の高温側に流入する。第二蓄冷器12に流入した高圧のヘリウムガスは、第二蓄冷材によりさらに冷却されながら、連通路を介して第二膨張空間6に供給される。第二膨張空間6に供給された高圧のヘリウムガスのうち一部分は、螺旋溝8内に低温側から流入する。このガスは、図3における低温側空間8L内に存在するヘリウムガスに対応する。ここで、上述のとおり、第一絞り部9の断面積は、螺旋溝8の断面積と比べて小さいため、容積部10から高温側空間8Hに流入するヘリウムガスが螺旋溝8に流入する際の流入抵抗は、低温側空間8Lに流入するヘリウムガスが螺旋溝8に流入する際の流入抵抗に比べて大きい。そのため、高温側空間8Hに流入するヘリウムガスのガス量は、低温側空間8Lに流入するヘリウムガスのガス量よりも小さくなり、高温側空間8Hのヘリウムガスが第二膨張空間6に抜けることは防止される。一方、高温側空間8Hのヘリウムガスの一部は、ガスピストン8Pに押されて容積部10に流入することは許容される。このようにして、第一膨張空間3、第二膨張空間6、螺旋溝8は、高圧のヘリウムガスで満たされ、サプライバルブ15は閉とされる。この時、第一ディスプレーサ2および第二ディスプレーサ5は、第一シリンダ4及び第二シリンダ7内の上死点に位置する。それと同時、またはわずかにずれたタイミングでリターンバルブ16を開とすると、第一膨張空間3、第二膨張空間6、螺旋溝8の冷媒ガスは減圧され、膨張する。膨張により低温になった第一膨張空間3のヘリウムガスは図示しない第一冷却ステージの熱を吸収し、第二膨張空間6のヘリウムガスは図示しない第二冷却ステージの熱を吸収する。第一ディスプレーサ2及び第二ディスプレーサ5は下死点に向けて移動し、第一膨張空間3、第二膨張空間6の容積は減少する。第二膨張空間6のヘリウムガスは、上述した連通路、第二蓄冷器12を介して第一膨張空間3内に回収される。ここで、螺旋溝8内の低温側空間8Lのヘリウムガスも、第二膨張空間6を介して回収される。第一膨張空間3内のヘリウムガスは、第一蓄冷器11を介して圧縮機14の吸入側に戻される。その際、第一蓄冷材、第二蓄冷材は、冷媒ガスにより冷却される。この工程を1サイクルとし、冷凍機はこの冷却サイクルを繰り返すことで、第一冷却ステージ、第二冷却ステージを冷却する。上述した本実施例1の極低温冷凍機1によれば、以下のような有利な作用効果を得ることができる。第二ディスプレーサ5と第二シリンダ7とのサイドクリアランスを構成する螺旋溝8内に仮想的なガスピストン8Pを構成して、このガスピストン8Pをサイドクリアランスの低温側と高温側との間のヘリウムガスの通流を防止するシールとして機能させることができる。つまり、仮想的なガスピストン8Pにより、第二ディスプレーサ5の外周面と第二シリンダ7の内周面との間のサイドクリアランスを介してヘリウムガスが相互に移動することを防止して、リーク損失が発生することを防止して冷凍の効率を高めることができる。加えて、この仮想的なガスピストン8Pによりサイドクリアランスをパルスチューブ型冷凍機とみたて、ガスピストン8Pよりも低温側の螺旋溝8内の低温側空間8Lを第三の膨張空間として利用することができるので、これによっても冷凍効率を高めることができる。また、ガスピストン8Pの軸方向の長さと位相を調整する位相調整機構を構成するオリフィスを、第二ディスプレーサ5の外周面に軸方向に延在する溝状の第一絞り部9により構成し、バッファを容積部10により構成している。そのため、より確実に位相調整を行うことができる。さらに、この容積部10を上述した第一ディスプレーサ2と第二ディスプレーサ5の往復運動に係わらずに常に第一膨張空間3内に入らない構成としている。そのため、容積部10内のヘリウムガスの圧力を安定させることができ、容積部10内をバッファ容積として機能させることができる。また、第一絞り部9も容積部10と同様に、第一ディスプレーサ2と第二ディスプレーサ5の往復運動に係わらずに常に第一膨張空間3内に入らない構成としている。そのため、オリフィスとして機能する第一絞り部9の流量係数を往復運動の全領域にわたって一定として、位相調整機能を安定させることができる。このように本実施例1においては位相調整機能を安定させることができることから、ガスピストン8Pの長さと位相を安定させて、上述したシール機能も安定させ、リーク損失をより確実に防止するとともに、第三の膨張空間もより確実に確保して冷凍効率を高めることができる。上述した本実施例1の極低温冷凍機1では、第一絞り部9は第二ディスプレーサ5の外周面上の軸方向に延びる溝状としているが、これに第一絞り部9の始端から第二ディスプレーサ5の径方向に延びて第二蓄冷器12に連通する孔部を第二絞り部17として付加することもできる。なお、第二蓄冷器12の第二絞り部17と連通する部分の上下には、図示しない仕切り部材を設けて、蓄冷材の無い空間を設けることが好ましい。また、第二絞り部17の径は、第二蓄冷材の粒径よりも小さくすることが好ましい。以下それについての実施例2について述べる。本実施例2においては、上述した実施例1に加えて、図4に示すように、第一絞り部9の高温側端部から第二ディスプレーサ5の径方向内側に延びて第二蓄冷器12に連通する第二絞り部17を付加している。この場合のフロー図は図5に示すとおりとなる。第一絞り部9は、バッファとして機能する容積部10とパルス管として機能する螺旋溝8の高温側とを連通する連通路に配置されたオリフィスに対応する。さらに、第二絞り部17は、第二蓄冷器12と螺旋溝8パルス管の高温側とを連通する連通路に配置されたダブルインレットオリフィスに対応する。つまり、螺旋溝8、第二蓄冷器12はバッファ容積を備えたダブルインレット式パルスチューブ冷凍機とみなすことができる。螺旋溝8内の冷媒ガスは、実施例1と同様に軸方向の略中間に位置する部分が仮想的なガスピストン8Pを構成する。ガスピストン8Pは、必ず往復運動中螺旋溝8内に収まり、ガスピストン8Pの高温側に高温側空間8Hが存在し、低温側に低温側空間8Lが存在するようにガスピストン8Pの軸方向の長さと位相が調整される。ガスピストン8Pの軸方向の長さと位相は、位相調整機構として機能する容積部10バッファの容積と、第一絞り部9の断面積オリフィス、第二絞り部17の断面積により調整される。次に、冷凍機の動作を説明する。冷媒ガス供給工程のある時点においては、第一ディスプレーサ2および第二ディスプレーサ5はそれぞれ第一シリンダ4および第二シリンダ7の下死点に位置する。それと同時、またはわずかにずれたタイミングでサプライバルブ15を開とすると、サプライバルブ15を介して高圧のヘリウムガスが給排共通配管から第一シリンダ4内に供給され、第一ディスプレーサ2の上部から第一ディスプレーサ2の内部第一蓄冷器11に流入する。第一蓄冷器11に流入した高圧のヘリウムガスは、第一蓄冷器11内部の第一蓄冷材により冷却されながら第一ディスプレーサ2の下部に位置する連通路を介して、第一膨張空間3に供給される。第一膨張空間3に供給された高圧のヘリウムガスは更に図示しない連通路を介して第二蓄冷器12に供給される。ここで、第二ディスプレーサ5はクリアランスシール部を備えるため、ヘリウムガスが第一膨張空間3から容積部10に流入することは抑制される。また、この時点では、螺旋溝8内のヘリウムガスの圧力は、圧縮機14の低圧側の圧力と略同等であるのに対して、容積部10内のヘリウムガスは、圧縮機14の高圧と低圧の中間圧力程度である。そのため、容積部10内のヘリウムガスが、第一絞り部9を介して、螺旋溝8の高温側に流入する。第二蓄冷器12に流入した高圧のヘリウムガスの大部分は、第二蓄冷材によりさらに冷却されながら、連通路を介して第二膨張空間6に供給される。第二膨張空間6に供給された高圧のヘリウムガスのうち一部分は、螺旋溝8内に低温側から流入する。このガスは、図5における低温側空間8L内に存在するヘリウムガスに対応する。ここで、第二蓄冷器12に流入した高圧のヘリウムガスの一部は、第二絞り部17から、螺旋溝8の高温端に流入する。ここで、上述のとおり、第一絞り部9の断面積および第二絞り部17の断面積は、ともに螺旋溝8の断面積と比べて小さいため、容積部10及び第二蓄冷器12から高温側空間8Hに流入するヘリウムガスが螺旋溝8に流入する際の流入抵抗は、低温側空間8Lに流入するヘリウムガスが螺旋溝8に流入する際の流入抵抗に比べて大きい。そのため、高温側空間8Hに流入するヘリウムガスのガス量は、低温側空間8Lに流入するヘリウムガスのガス量よりも小さくなり、高温側空間8Hのヘリウムガスが第二膨張空間6に抜けることは防止される。一方、高温側空間8Hのヘリウムガスの一部は、ガスピストン8Pに押されて容積部10に流入することは許容される。このようにして、第一膨張空間3、第二膨張空間6、螺旋溝8は、高圧のヘリウムガスで満たされ、サプライバルブ15は閉とされる。この時、第一ディスプレーサ2および第二ディスプレーサ5は、第一シリンダ4及び第二シリンダ7内の上死点に位置する。それと同時、またはわずかにずれたタイミングでリターンバルブ16を開とすると、第一膨張空間3、第二膨張空間6、螺旋溝8の冷媒ガスは減圧され、膨張する。膨張により低温になった第一膨張空間3のヘリウムガスは図示しない第一冷却ステージの熱を吸収し、第二膨張空間6のヘリウムガスは図示しない第二冷却ステージの熱を吸収する。第一ディスプレーサ2及び第二ディスプレーサ5は下死点に向けて移動し、第一膨張空間3、第二膨張空間6の容積は減少する。第二膨張空間6のヘリウムガスは、第二蓄冷器12を介して第一膨張空間3内に回収される。ここで、螺旋溝8内の低温側空間8Lのヘリウムガスも、第二膨張空間6を介して回収される。一方、螺旋溝8内の高温側空間8Hのヘリウムガスの一部は、第二絞り部17を介して第二蓄冷器12に流入する。第一膨張空間3内のヘリウムガスは、第一蓄冷器11を介して圧縮機14の吸入側に戻される。その際、第一蓄冷材、第二蓄冷材は、冷媒ガスにより冷却される。この工程を1サイクルとし、冷凍機はこの冷却サイクルを繰り返すことで、第一冷却ステージ、第二冷却ステージを冷却する。本実施例2においても、上述した実施例1と同様に、第二ディスプレーサ5の外周面と第二シリンダ7の内周面との間のサイドクリアランスを構成する螺旋溝8を、図5に示したようにパルスチューブ型冷凍機と見立てて、螺旋溝8内に仮想的なガスピストン8Pを構成して、流量係数が一定の第一絞り部9をオリフィスとし、さらに、流量係数が一定の第二絞り部17を第二蓄冷器12とパルス管である螺旋溝8とを連通する連通流路上のダブルインレットとして長さと位相とさらに適切に調整することができる。つまりガスピストン8Pにさらに確実なシール機能を具備させてリーク損失を防止して、冷凍効率を高めることができ、螺旋溝8内の低温側空間8Lを第三の膨張空間として利用して付加的な冷凍を行いこれによっても冷凍効率を高めることができる。以上本発明の好ましい実施例について詳細に説明したが、本発明は上述した実施例に制限されることなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施例に種々の変形および置換を加えることができる。例えば、上述した極低温冷凍機においては段数が二段である場合を示したが、この段数は三段等に適宜選択することが可能である。また、第一絞り部9の断面積は、深さと幅の双方により調整することができ、溝形状は曲面形状、方形状など何れの形状であってもよい。また、第一絞り部9が第二ディスプレーサ5の軸方向に直線状に形成された例について説明したが、これに限られない。例えば、螺旋溝を延長線に沿うように形成してもよく、要は容積部10と螺旋溝の高温端とを連通していれば、同様の効果を奏することができる。また、実施の形態では、極低温冷凍機がGM冷凍機である例について説明したが、これに限れない。例えば、スターリング冷凍機、ソルベイ冷凍機など、ディスプレーサを備える何れの冷凍機にも適用することができる。