"透明フィルム基材、および前記透明フィルム基材上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層を有する長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、前記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第1露光処理および第2露光処理により、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第1配向領域および前記棒状化合物を前記第1配向領域とは異なる方向に配列させる第2配向領域を含む配向層を形成する露光工程と、前記配向層上に、前記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、前記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、前記配向層に含まれる第1配向領域および第2配向領域の異なる配向方向に沿って配列させる配向工程と、前記塗膜を乾燥させ、配向層を形成する乾燥工程と、前記乾燥工程後の透明フィルム基材が前記露光工程時よりも収縮した安定収縮状態時に、前記位相差層を保護フィルムで覆う保護工程と、を有するパターン位相差フィルムの製造方法であって、前記第1露光処理および第2露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、前記第1露光処理および第2露光処理の少なくともいずれか一方が、前記配向層形成用層に偏光紫外線をマスクを介してパターン照射するものであり、前記パターン照射に用いる前記マスクが、前記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法。請求項1に記載のパターン位相差フィルムの製造方法のパターン照射に用いられ、前記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするマスク。請求項1に記載のパターン位相差フィルムの製造方法により製造され、前記透明フィルム基材が安定収縮状態であることを特徴とするパターン位相差フィルム。本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に製造可能なパターン位相差フィルムの製造方法を提供することを主目的とするものである。本発明者等は、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、光配向層へのパターン露光を行う露光工程、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液の塗布工程、棒状化合物を所定の方向に配列させる配向工程、およびその塗膜の乾燥工程を行ってパターン位相差フィルムを製造した場合、得られたパターン位相差フィルムのパターンは、各工程の条件により種々の変動を受けるものの、乾燥工程時の熱収縮の影響により露光工程時のパターンと比較して収縮している傾向が極めて大きいことを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。すなわち、本発明は、透明フィルム基材、および上記透明フィルム基材上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層を有する長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第1露光処理および第2露光処理により、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第1配向領域および上記棒状化合物を上記第1配向領域とは異なる方向に配列させる第2配向領域を含む配向層を形成する露光工程と、上記配向層上に、上記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に含まれる第1配向領域および第2配向領域の異なる配向方向に沿って配列させる配向工程と、上記塗膜を乾燥させ、位相差層を形成する乾燥工程と、上記乾燥工程後の透明フィルム基材が上記露光工程時よりも収縮した安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆う保護工程と、を有するパターン位相差フィルムの製造方法であって、上記第1露光処理および第2露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、上記第1露光処理および第2露光処理の少なくともいずれか一方が、上記配向層形成用層に偏光紫外線をマスクを介してパターン照射するものであり、上記パターン照射に用いる上記マスクが、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法を提供する。本発明によれば、上述のように安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されたマスクを用いることにより、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に製造することができ、上述したようなクロストークを安定的に抑制できる。また、上記保護工程が、透明フィルム基材が安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆うものであることにより、透明フィルム基材の吸湿の影響が少なく、寸法変化の少ないものとすることができる。また、安定収縮状態時に行うものであることにより、上記保護工程に要する時間を短いものとすることができ、生産効率に優れたものとすることができる。本発明は、上述のパターン位相差フィルムの製造方法のパターン照射に用いられ、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするマスクを提供する。本発明によれば、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることにより、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に形成することができる。本発明は、上述のパターン位相差フィルムの製造方法により製造され、上記透明フィルム基材が安定収縮状態であることを特徴とするパターン位相差フィルム。本発明によれば、上記透明フィルム基材が安定収縮状態であることにより、寸法安定性に優れたものとすることができる。このため、3次元表示装置の組み立てを容易なものとすることができる。本発明のパターン位相差フィルムの製造方法によれば、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に製造可能とすることができるという効果を奏する。本発明は、パターン位相差フィルムの製造方法、それに用いるマスク、およびそれを用いたパターン位相差フィルムに関するものである。以下、本発明のパターン位相差フィルムの製造方法、マスク、およびパターン位相差フィルムについて詳細に説明する。A.パターン位相差フィルムの製造方法本発明のパターン位相差フィルムの製造方法は、透明フィルム基材、および上記透明フィルム基材上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層を有する長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第1露光処理および第2露光処理により、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第1配向領域および前記棒状化合物を前記第1配向領域とは異なる方向に配列させる第2配向領域を含む配向層を形成する露光工程と、上記配向層上に、上記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に含まれる第1配向領域および第2配向領域の異なる配向方向に沿って配列させる配向工程と、上記塗膜を乾燥させ、位相差層を形成する乾燥工程と、上記乾燥工程後の透明フィルム基材が上記露光工程時よりも収縮した安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆う保護工程と、を有するパターン位相差フィルムの製造方法であって、上記第1露光処理および第2露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、上記第1露光処理および第2露光処理の少なくともいずれか一方が、上記配向層形成用層に偏光紫外線をマスクを介してパターン照射するものであり、上記パターン照射に用いる上記マスクが、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするものである。このような本発明のパターン位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図1および図2は、本発明のパターン位相差フィルムの製造方法の一例を示す工程図である。まず、図1aに例示するように、透明フィルム基材1上に、光配向材料として光反応材料を含む配向層形成用塗工液を塗布し、その塗膜を乾燥することにより、透明フィルム基材1および上記透明フィルム基材1上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層2 ́を有する長尺配向膜形成用フィルム3を形成し、この長尺配向膜形成用フィルム3を連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層2 ́にマスクを介して偏光紫外線をパターン照射し図1b、第1配向領域2aを形成し、次いで、第1配向領域2aを形成した際の偏光紫外線とは異なる偏光紫外線を照射することにより図1c、第1配向領域2aとは棒状化合物を配列させる方向の異なる第2配向領域2bを有する配向層2形成する。次いで、図2aに示すように、上記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布し、その塗膜4 ́を加熱するとともに乾燥することにより、上記第1配向領域2aおよび第2配向領域2bの配向規制力にしたがって上記棒状化合物が一定方向に配列した第1位相差領域4aおよび第2位相差領域4bを含む位相差層4を形成し、その後、室温近くまで冷却し、紫外線を照射することにより硬化させて図2c、パターン位相差フィルム10を形成し、さらに、透明フィルム基材1が上記露光工程時よりも収縮した安定収縮状態時に、透明フィルム基材1および位相差層4に保護フィルム21を積層するものである図2d~e。ここで、パターン照射に用いるマスクは、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されているものである。なお、この例においては、図1aが配向層形成用塗工液塗布工程および配向層形成用層乾燥工程である。また、図1b~cが露光工程であり、図1bが第1露光処理、図1cが第2露光処理である。また、図2aが塗布工程であり、図2bが配向工程および乾燥工程であり、図2cが硬化工程であり、図2d~eが保護工程である。上述のように、パターン位相差フィルムのパターンは、製造時の各工程での露光光、熱、テンション、溶媒との接触等の影響により種々の変動を受け、またそれらの影響を完全に把握できていないものの、露光工程前と乾燥工程後とで比較すると、乾燥工程時の熱の影響により透明フィルム基材を含むパターン位相差フィルムが幅方向に収縮し、それと同時に、乾燥工程後のパターンは、露光工程前のパターンと比較して収縮する傾向が極めて大きいことが本発明者等により見出された。例えば、露光工程前にレーザーマーキングにより透明フィルム基材上にレーザーマーキング痕を付した場合、図3に例示するように、乾燥工程後のレーザーマーキング痕の幅は、露光工程前のレーザーマーキング痕の幅と比較して収縮する傾向があるHa>Hb。このため、本発明によれば、上述のように安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されたマスクを用いることにより、各工程での条件等の影響を受けることなく、安定的にパターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に製造することができる。その結果、その後の工程での通過性を良好なものとすることができ、上述のようなクロストークを安定的に抑制できる。また、パターンを変更した場合であっても、所望のパターンのパターン位相差フィルムを容易かつ短時間で得ることができる。また、上記保護工程が、透明フィルム基材が安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆うものであることにより、透明フィルム基材の吸湿の影響が少なく、寸法変化の少ないものとすることができる。また、安定収縮状態時に行うものであることにより、上記保護工程に要する時間を短いものとすることができ、生産効率に優れたものとすることができる。また、上記露光工程を有することにより、上記配向層に棒状化合物を一定の方向に配列させることができる第1配向領域および上記第1配向領域とは異なる方向に棒状化合物を配列させることができる第2配向領域を連続的に形成することができる。したがって、このような配向領域が形成された配向層上に棒状化合物を含む位相差層を形成した場合には、当該パターンに従って上記位相差層においても第1配向領域上に形成された位相差層以下、第1位相差領域と称する場合がある。と、上記第2配向領域上に形成された位相差層以下、第2位相差領域と称する場合がある。とがパターン状に配置されたパターン位相差フィルムを容易かつ大量に製造することができる。また、所望の配向規制力を有する第1および第2配向領域が形成されたフィルムが、長尺配向膜形成用フィルムであることにより、例えば、この状態でロール状にして保管することや、ロール状で保管した状態から巻き出して、配向層上に屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層を形成することができる等、パターン位相差フィルムの製造プロセスの自由度を高いものとすることができる。さらに、最終的に得られるパターン位相差フィルムを長尺状のままロール状にして保存することや、ロール状で保存した状態から、用いられる表示装置のサイズに合わせて所望のサイズのパターン位相差フィルムを切り出すことが容易に行うことができる等、表示装置の製造プロセスの自由度を高いものとすることができる。本発明のパターン位相差フィルムの製造方法は、少なくとも露光工程、塗布工程、配向工程、乾燥工程および保護工程を含むものである。以下、本発明のパターン位相差フィルムの製造方法の各工程について詳細に説明する。1.露光工程本発明の製造方法における露光工程は、長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第1露光処理および第2露光処理により、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第1配向領域および上記棒状化合物を上記第1配向領域とは異なる方向に配列させる第2配向領域を含む配向層を形成する工程である。また、上記第1露光処理および第2露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、上記第1露光処理および第2露光処理の少なくともいずれか一方が、上記配向層形成用層に偏光紫外線をマスクを介してパターン照射するものである。1マスク本工程に用いられるマスクは、上記パターン照射に用いられるものであり、上記透明フィルム基材が本工程時よりも収縮した安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されているものである。ここで、安定収縮状態とは、常温常湿下で緩やかに吸湿し、膨張し得る状態をいうものであり、例えば、上記乾燥工程後のパターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材の幅をHt、上記乾燥工程後のパターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材の絶乾状態での幅をH0、上記乾燥工程後のパターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材の飽和膨張状態での幅をH1、とした際に、HtH0/H1H0×100で示される膨張率が、0.05~90の範囲内であることをいうものである。本工程においては、なかでも、上記膨張率が0.5~50の範囲内であることが好ましく、特に、3~40の範囲内であることが好ましい。このような範囲内であることにより、周囲環境からの吸湿膨張による寸法変化が少なく、かつ、安定収縮状態に至る時間を短いものとすることができ、上記保護工程に要する時間を短いものとすることができるからである。また、その結果、生産効率に優れたものとすることができるからである。なお、上記飽和膨張状態の幅H1については、透明フィルム基材を、常温温度25±3°Cの水に1時間浸漬した後、表面の水滴をエアガンやワイパー等で除去したのちに、透明フィルム基材の一方の表面を平滑な平面、例えばガラス製のステージ、SUS材やアルミニウム等の金属製ステージ上に密着させて展開したときをいうものである。また、絶乾状態での幅H0については、上記乾燥工程後のパターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材の水分率単位;水分の質量/透明フィルム基材の質量×100を横軸に、パターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材の幅を縦軸とするグラフを作成し、水分率が0である場合の幅H0を外挿して求めることができる。本工程において、上記水分率の測定方法としては、上記乾燥工程後の透明フィルム基材を用いて、精度良く測定できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、上記乾燥工程後の透明フィルム基材から10cm×10cmのサンプルを切り出して、大気圧下、温度23±2°Cで5分の加熱前後の質量変化から求める方法を用いることができる。また、水分率の異なる透明フィルム基材を得る方法としては、精度良くグラフを作成できるように調整できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、温度湿度等の調整が可能な恒温槽内に上記透明フィルム基材を入れ、温度湿度放置時間を調整する方法等を挙げることができる。本工程において、このような透明フィルム基材の幅および水分率の測定は、パターン位相差フィルムまたは長尺配向膜形成用フィルムから保護フィルム、配向層、位相差層、配向層形成用層等の透明フィルム基材以外の構成を全て剥離した透明フィルム基材を用いて行われるものである。本工程において、透明フィルム基材の幅の測定方法については、上述の膨張率および倍率を安定的に計算できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、透明フィルム基材の全幅を測定する方法であっても良く、透明フィルム基材内の一部分の幅を測定する方法であっても良い。一部分の幅を用いる方法としては、例えば、既に説明した図3に示すように、レーザーマーキングにより幅方向と平行に形成された2点のレーザーマーキング痕Mを用いる方法を挙げることができる。また、上記安定収縮状態時の透明フィルム基材は、本工程時よりも収縮したものである。本工程におけるパターン照射時の透明フィルム基材の幅をHa、上記乾燥工程後であり、かつ、安定収縮状態である透明フィルム基材の幅をHbとした際の収縮率Hb/Haとしては、1未満であれば特に限定されるものではないが、0.99~0.999999の範囲内であることが好ましく、中でも0.999~0.99999の範囲内であることが好ましく、特に0.999~0.9999の範囲内であることが好ましい。上記収縮率が上述の範囲内であることにより、マスクの拡大補正により安定的に補正することができるからである。また上記範囲より小さいと乾燥工程後の透明フィルム基材幅の吸湿による時間変化が急激過ぎて制御することが困難になるといった問題が生じる恐れがあるからである。なお、上記乾燥工程の影響により、通常、飽和膨張状態での幅H1は、本工程におけるパターン照射時の透明フィルム基材の幅Haよりも狭いものとなる。本工程において、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されているとは、透明フィルム基材が本工程を実施する時よりも収縮した状態である安定収縮状態にある場合において、配向層の第1配向領域および第2配向領域のパターン、すなわち、位相差層に含まれる第1位相差領域および第2位相差領域のパターンが、目的のパターンとなるように、マスクのパターンの大きさが調整されていることをいうものである。具体的には、本工程におけるパターン照射時の透明フィルム基材の幅をHa、上記乾燥工程後であり、かつ、安定収縮状態である透明フィルム基材の幅をHbとすると、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されたマスクのパターンの大きさは、目的のパターンである本発明の製造方法により製造されたパターン位相差フィルムに要求されるパターンの大きさに、Ha/Hb倍拡大補正されたもの、すなわち、上記収縮率Hb/Haの逆数倍拡大補正されたものとなる。したがって、パターンが上記長尺配向膜形成用フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンである場合、マスクの幅およびその周期は、目的のパターンの幅および周期がHa/Hb倍拡大補正されたものとなる。また、パターンが平行な帯状のパターンではない場合には、マスクのパターンの形状は、目的のパターンの形状をHa/Hb倍拡大補正した相似形となる。本工程に用いられるマスクのパターン、すなわち、パターン照射のパターンとしては、第1配向領域および第2配向領域を安定的に形成できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば帯状パターン、モザイク状パターン、千鳥配置状パターン等を挙げることができる。なかでも本工程においては帯状のパターンであることが好ましく、特に、上記長尺配向膜形成用フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンであること、すなわち、上記パターン照射が、上記長尺配向膜形成用フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンに偏光紫外線を照射するものであることが好ましい。偏光紫外線の照射位置を固定し、上記長尺配向膜形成用フィルムを長手方向に搬送することで容易に形成できるからである。また、パターン精度良くパターン状に照射することができるからである。また、上記第1位相差領域および第2位相差領域が形成されたパターンと、表示装置に用いられるカラーフィルタ等において画素が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になるからである。上記マスクのパターン幅、すなわち、偏光紫外線の照射幅および照射間隔非照射幅としては、同一であってもよく、あるいは異なっていてもよい。しかしながら、本工程においては両者の幅、すなわち、形成される第1配向領域の幅と第2配向領域との幅が同一であることが好ましい。上記第1位相差領域および第2位相差領域が形成されているパターンと、上記画素部が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になり、その結果、容易に製造可能なものとすることができるようになるからである。カラーフィルタのストライプラインと位置を合わせる場合は、上記第1配向領域および上記第2配向領域が形成されたパターンと、上記カラーフィルタのストライプパターンとを対応関係となるような幅で照射されることが好ましい。このようなパターン幅としては、具体的には、3次元表示用途の場合具体的には、通常、50μm~1000μmの範囲内であることが好ましく、100μm~600μmの範囲内であることがより好ましい。なお、ここでいう具体的なパターン幅とは、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムに含まれる透明フィルム基材が安定収縮状態での、上記配向層のパターン幅を指すものである。したがって、本工程に用いられるマスクのパターン幅、すなわち、マスクの開口部の幅は、このような幅に上記倍率を乗じた幅となる。本工程におけるマスクを構成する材料としては、所望の開口部を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、紫外線による劣化がほとんどない金属や石英等を挙げることができる。具体的には、SUS等の金属基板をエッチング加工、レーザー加工、または電鋳加工によりパターンニングし、さらに必要に応じてニッケルメッキ等の表面処理を施したものを用いることができる。また、ソーダライムガラスや石英からなる基板上に、エマルジョン銀塩や、クロムからなる遮光膜を有するものとすることができる。本工程においては、なかでも、合成石英にCrをパターニングしたものであることが好ましい。温度湿度変化等に対する寸法安定性と紫外線透過率に優れ、配向層形成用層にパターン精度良く配向領域を形成することができるからである。本工程における合成石英マスクの厚みとしては、寸法精度良くパターンを形成できるものであれば特に限定されるものではないが、1mm~20mmの範囲内であることが好ましく、中でも、5mm~18mmの範囲内であることが好ましく、特に、9mm~16mmの範囲内であることが好ましい。厚みが上述の範囲内であることにより、たわまないものとすることができ、寸法精度の高いものとすることができるとともに、フォトマスクとしてハンドリングする際に重過ぎることがないからである。2長尺配向膜形成用フィルム本工程に用いられる長尺配向膜形成用フィルムは、透明フィルム基材、および配向層形成用層を少なくとも有するものである。a.透明フィルム基材本工程に用いられる長尺配向膜形成用フィルムを構成する透明フィルム基材は、配向層形成用層および位相差層等を支持する機能を有し、長尺に形成されたものである。本工程に用いられる透明フィルム基材は、位相差が小さいものであることが好ましい。より具体的には、本工程に用いられる透明フィルム基材は、面内レターデーション値Re値が、0nm~10nmの範囲内であることが好ましく、0nm~5nmの範囲内であることがより好ましく、0nm~3nmの範囲内であることがさらに好ましい。透明フィルム基材の面内レターデーション値が上記範囲よりも大きいと、本発明の製造方法により製造される長尺位相差フィルムを用いて形成される3次元映像を表示可能な表示装置の表示品質が悪くなってしまう場合があるからである。本工程に用いられる透明フィルム基材は、可視光領域における透過率が80以上であることが好ましく、90以上であることがより好ましい。ここで、透明フィルム基材の透過率は、JISK7361-1プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法により測定することができる。本工程に用いられる透明フィルム基材は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル材であることが好ましい。このようなフレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類などを例示することができる。なかでも本工程においてはセルロース誘導体を用いることが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れるため、光学的特性に優れたパターン位相差フィルムを製造することができるからである。本工程においては、上記セルロース誘導体のなかでも、セルロースエステルを用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類のなかでも、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。上記セルロースアシレート類としては、炭素数2~4の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。本工程においては、上記低級脂肪酸エステルの中でもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が57.5~62.5置換度:2.6~3.0のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D-817-91セルロースアセテート等の試験方法におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。なお、トリアセチルセルロースフィルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。本工程に用いられる透明フィルム基材の厚みは、本発明により製造されるパターン位相差フィルムの用途等に応じて、当該パターン位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、25μm~125μmの範囲内が好ましく、なかでも40μm~100μmの範囲内が好ましく、特に60μm~80μmの範囲内であることが好ましい。透明フィルム基材の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明により製造されるパターン位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本発明により製造される長尺パターン位相差フィルムを裁断加工し、枚葉のパターン位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。本工程に用いられる透明フィルム基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。本工程に用いられる透明フィルム基材は長尺状に形成されたものである。ここで、長尺状であるとは、ロール状に巻き取ることができる程度の長さのものであることをいうものであり、製造装置に設置できる重量等に応じて任意に決定すればよいが、具体的には、長さが10m以上の範囲内とすることが好ましく、なかでも、50m~5000mの範囲内とすることが好ましく、特に、100m~4000mの範囲内とすることが好ましい。また、長さは幅に対して10倍以上であることが好ましく、なかでも50倍~5000倍の範囲内であることが好ましく、特に、100倍~4000倍の範囲内であることがこの好ましい。取扱い性等に優れたものとすることができるからである。b.配向層形成用層本工程に用いられる長尺配向膜形成用フィルムを構成する配向層形成用層は、光配向材料を含むものであり、偏光紫外線の照射により屈折率異方性を有する棒状化合物を一定方向に配列させることができる配向規制力を有する配向領域を形成可能なものである。ここで、本工程に用いられる光配向材料は、偏光紫外線照射により配向規制力を発現できる材料をさすものである。また、配向規制力とは、後述する棒状化合物を配列させる相互作用を意味するものとする。このような光配向材料としては、偏光を照射することにより上記配向規制力を発現するものであれば特に限定されるものではない。このような光配向材料はシスートランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本工程においては上記光異性化材料、および、上記光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。上述したように光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になる。したがって、光反応材料の方が配向規制力の経時安定性において優れるからである。上記光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および、光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解-結合型材料等に分けることができる。本工程においては上記光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも、安定性および反応性感度等の観点から光二量化型材料を用いることがより好ましい。本工程に用いられる光二量化型材料は、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されない。なかでも本工程においては光二量化反応を生じる光の波長が280nm以上であることが好ましく、特に280nm~400nmの範囲内であることが好ましく、さらには300nm~380nmの範囲内であることが好ましい。このような光二量化型材料としては、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーを例示することができる。なかでも工程においてはシンナメート、または、クマリンの少なくとも一方を有するポリマー、シンナメートおよびクマリンを有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平9-118717号公報、特表平10-506420号公報、特表2003-505561号公報、および、WO2010/150748号公報に記載された化合物を挙げることができる。本工程における上記シンナメート、および、クマリンとしては、下記式Ia、Ibで表されるものが好適に用いられる。上記式中、Aは、ピリミジン-2,5-ジイル、ピリジン-2,5-ジイル、2,5-チオフェニレン、2,5-フラニレン、1,4-もしくは2,6-ナフチレンを表すか、非置換であるか、フッ素、塩素または炭素原子1~18個の環式、直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル残基非置換であるか、フッ素、塩素によって一または多置換されており、1個以上の隣接しない-CH2-基が独立して基Cによって置換されていてもよいによって一または多置換されているフェニレンを表す。上記式中、Bは、水素原子を表すか、第二の物質、たとえばポリマー、オリゴマー、モノマー、光活性ポリマー、光活性オリゴマーおよび/または光活性モノマーもしくは表面と反応または相互作用することができる基を表す。上記式中、基Cは、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR1-、-NR1-CO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-O-、-O-CO-NR1-、-NR1-CO-NR1-、-CH=CH-、-C≡C-、-O-CO-O-および-SiCH32-O-SiCH32-R1は水素原子または低級アルキルを表すから選択される基を表す。上記式中、S1およびS2は、互いに独立して、単結合またはスペーサー単位、たとえば炭素原子1~40個の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキレン基非置換であるか、フッ素、塩素によって一または多置換されており、1個以上の隣接しない-CH2-基が独立して基Dによって置換されていてもよいが、酸素原子が互いに直接的には結合していないを表す。上記式中、基Dは、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR1-、-NR1-CO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-O-、-O-CO-NR1-、-NR1-CO-NR1-、-CH=CH-、-C≡C-、-O-CO-O-および-SiCH32-O-SiCH32-R1は水素原子または低級アルキルを表すから選択される基、芳香族基または脂環式基を表す。上記式中、Qは、酸素原子または-NR1-R1は水素原子または低級アルキルを表すを表す。上記式中、XおよびYは、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、シアノ、炭素原子1~12個のアルキル場合によってはフッ素によって置換されており、場合によっては1個以上の隣接しないアルキル-CH2-基が-O-、-CO-O-、-O-CO-および/または-CH=CH-によって置換されているを表す。なお、このような光二量化型材料としては、具体的には、WO08/031243号公報やWO08130555号公報ではRolic社からROP-103商品名として市販されているものを用いることができる。また、本工程に用いられる光配向材料としては、屈折率異方性を有するものであっても良い。このような光配向材料を用いた場合には、工程を簡略化することができるからである。なお、このような屈折率異方性を有する光配向材料としては、具体的には、特開2002-82224号公報に記載されるものを用いることができる。なお、本工程に用いられる光配向材料は、1種類のみであってもよく、または、2種類以上を用いてもよい。本工程に用いられる配向層形成用層は、少なくとも光配向材料を含むものであるが、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。このような他の化合物としては、本工程により形成される配向層の配向規制力を損なわないものであれば特に限定されない。本工程においては、このような他の化合物として、一つ以上の官能基を持つモノマー又はオリゴマーが好適に用いられる。このようなモノマー又はオリゴマーを含むことにより、本工程により形成される配向層上に屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層を形成した場合に、位相差層との密着性に優れたものにできるからである。本工程に用いられる上記モノマー又はオリゴマーとしては、例えば、アクリレート系の官能基を有する単官能モノマー例えば、反応性エチルメタアクリレート、エチルヘキシルメタアクリレート、スチレン、メチルスチレン、N-ビニルピロリドン及び多官能モノマー例えば、ポリメチロールプロパントリメタアクリレート、ヘキサンジオールメタアクリレート、トリエチレンポリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、イソシアヌル酸ポリ、次いで、第2露光処理として、第1露光処理とは偏光方向の異なる偏光紫外線をパターン照射することで図6b、第1配向領域および第2配向領域を形成することができる。また、第2実施態様の場合には、配向層形成用層として、光二量化型材料などの光反応性材料等のように配向規制力を可逆的に変化することができない材料を含むものを用いることにより、第1配向領域および第2配向領域を形成することができる。具体的には、図7に例示するように、第1露光処理としてパターン照射し、次いで、第2露光処理として、第1露光処理とは偏光方向の異なる偏光紫外線を全面照射することで図7b、第1配向領域および第2配向領域を形成することができる。さらに、第3実施態様の場合には、配向層形成用層として、配向規制力を可逆的に変化するまたは可逆的に変化することができない材料を用いることにより、第1配向領域および第2配向領域を形成することができる。具体的には、図8に例示するように、第1露光処理としてパターン照射し、次いで、第2露光処理として、第1露光処理とは偏光方向の異なる偏光紫外線を第1露光処理で照射した領域とは異なる領域にパターン照射することで図8b、第1配向領域および第2配向領域を形成することができる。なお、図6~図8中の符号については、図1と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。また、この例では、長手方向に互いに平行な帯状のパターンに偏光紫外線を照射するものである。本工程においては、なかでも、第1露光処理および第2露光処理の一方がパターン照射であり、他方が全面照射であることが好ましく、特に第2実施態様、すなわち、第1露光処理がパターン照射、第2露光処理が全面照射であることが好ましい。他方が全面照射であることにより、露光工程を行う設備を簡便なものとすることが可能となり、互いに異なる方向に棒状化合物を配列させることができる第1配向領域および第2配向領域を容易かつ低コストで形成することができるからである。さらに、第1露光処理および第2露光処理でパターン合わせの必要がないことから、パターン精度のよい第1および第2配向領域を容易に形成可能なものとすることができるからである。また、第2実施態様の方法であることにより、配向層形成用層を構成する材料として、上述のように配向規制力の経時安定性において優れる光反応材料を用いることができるからである。本工程におけるパターン照射を行う方法としては、パターン精度良く偏光紫外線を照射することができるものであれば特に限定されるものではないが、上記パターン照射が、上記長尺配向膜形成用フィルムを搬送する搬送手段上で行われること、すなわち、パターン照射が、搬送手段上の長尺配向膜形成用フィルムに対して行われるように、パターン照射を行う露光部および搬送手段が配置されることが好ましく、なかでも上記パターン照射を受ける部位の上記長尺配向膜形成用フィルムを搬送する搬送手段が、搬送用ロールであること、すなわち、上記パターン照射が、搬送用ロール上の長尺配向膜形成用フィルムに対して行われることが好ましい。光源と長尺配向膜形成用フィルムとの距離を安定的に一定に保つことが可能となり、互いに異なる方向に棒状化合物を配列させることができる第1配向領域および第2配向領域を精度良く形成できるからである。また、搬送用ロールを用いることにより、容易に光源と長尺配向膜形成用フィルムとの距離を安定的に一定に保つことが可能となるからである。また、本工程におけるパターン照射を照射距離が長くなるように行う場合、具体的には、各露光処理での偏光紫外線の照射回数を複数回としたり、搬送方向に照射面積を広くしてパターン照射を行う場合のパターン照射を行う方法としては、各露光処理で形成されるパターン状の配向領域がパターン精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、各露光処理で行われるパターン照射が同一の搬送手段上で行う方法であること、すなわち、同一の搬送手段上の長尺配向膜形成用フィルムに対して行われるように、各露光処理のパターン照射を行う露光手段および搬送手段が配置されることが好ましい。同一搬送手段上で行われることにより、搬送される長尺配向膜形成用フィルムが搬送中に幅方向に振動等することを防止でき、パターン精度良く偏光紫外線を照射することができるからである。具体的には、パターン照射パターン照射の照射回数が複数回である場合には、各露光処理で行われる複数回パターン照射が同一の搬送手段上で行う方法であること、すなわち、上記パターン照射が、複数回パターン照射であり、各露光処理で行われる複数回パターン照射が同一の搬送手段上で行われるように露光手段および搬送手段を配置することが好ましい。各露光処理で行われる複数回のパターン照射が同一搬送手段上で行われることにより、複数回パターン照射に含まれるそれぞれのパターン照射間の上記長尺配向膜形成用フィルムに対するパターンの位置合わせが容易であり、第1配向領域および第2配向領域をパターン精度良く形成できるからである。また、1回のパターン照射では照射量が不足する場合でも、同一箇所に複数回照射することで、十分な照射量とすることができ、上記長尺配向膜形成用フィルムを高速で搬送することが可能となるからである。図9は、第1露光処理が複数台の第1露光部32aから複数回パターン照射を行う場合に、複数回パターン照射が同一搬送手段上で行われる例を示す説明図である。なお、図9中の符号については、図1と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。また、上記第1露光処理および第2露光処理の両処理がパターン照射第3実施態様である場合のパターン照射を行う方法としては、両処理のパターン処理が異なる搬送手段上で行われるものであっても良いが、両処理のパターン照射が同一の搬送手段上で行われること、すなわち、第1露光処理尾および第2露光処理を行う第1露光部および第2露光部が同一搬送手段上の長尺配向膜形成用フィルムに対して行われるように露光手段および搬送手段配置されることが好ましい。パターン照射が同一搬送手段上で行われることにより、上記第1および第2露光処理間の上記長尺配向膜形成用フィルムに対するパターンの位置合わせが容易であり、第1配向領域および第2配向領域をパターン精度良く形成できるからである。図10は、第1露光処理および第2露光処理がそれぞれ第1露光部32aおよび第2露光部32bから偏光紫外線をパターン状に照射するパターン照射であり、両処理のパターン照射が同一搬送手段上で行われる例を示す説明図である。なお、図10中の符号については、図1と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。本工程においては、第3実施態様のように第1露光処理および第2露光処理の両者がパターン照射である場合には、第1露光処理および第2露光処理のパターン照射のパターンが、第1および第2配向領域の間に、偏光紫外線が照射されない領域非照射領域を有するものであっても良い。図11は、非照射領域を形成する場合の一例を示す工程図である。図11に例示するように、第1露光処理および第2露光処理の両処理で偏光紫外線の照射が遮断されるような遮光部を有するマスクを用いることにより図11a~b、図11cに示すように、非照射領域2cを形成することができる。なお、図11中の符号については、図1と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。本工程における全面照射を行う方法としては、偏光紫外線を所定の範囲に安定的に照射することができるものであれば特に限定されるものではないが、上記全面照射が、搬送手段間の上記長尺配向膜形成用フィルムに対して行われることが好ましく、なかでも上記全面照射が搬送用ロール間に位置する長尺配向膜形成用フィルムに対して行われることが好ましい。低コスト化を図ることができるからである。また、露光工程を行うタイミングの自由度を高いものとすることができるからである。本工程において配向層形成用層に偏光紫外線を照射する際には、配向層形成用層の温度が一定となるように温度調節することが好ましい。配向領域を精度良く形成することができるからである。本工程においては、なかでも、配向層形成用層が15°C~90°Cの範囲内とするように温度調節することが好ましく、なかでも、15°C~60°Cの範囲内とすることが好ましい。また、温度調節の方法としては、一般的な加熱冷却装置等の温度調節装置を用いる方法を挙げることができる。具体的には所定の温度の空気を送風することができる送風装置を用いる方法や、上記搬送手段として、温度調節可能なものを用いる方法、より具体的には、温度調節可能な搬送用ロールやベルトコンベア等を用いる方法を挙げることができる。4配向層本工程により形成される配向層は、上記光配向材料を含み、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第1配向領域および前記棒状化合物を前記第1配向領域とは異なる方向に配列させる第2配向領域を含むものである。2.塗布工程本発明における塗布工程は、上記配向層上に、上記棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する工程である。本工程に用いられる位相差層形成用塗工液に含まれる棒状化合物としては、屈折率異方性を有するものであり、配向領域の配向規制力に沿って規則的に配列することにより本工程における位相差層に所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられる棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。液晶性材料は屈折率異方性が大きいため、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。本工程に用いられる上記液晶性材料としては、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料を挙げることができる。本工程においては、これらのいずれの液晶相を示す材料であっても好適に用いることができるが、なかでもネマチック相を示す液晶性材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶性材料は、他の液晶相を示す液晶性材料と比較して規則的に配列させることが容易であるからである。また、本工程においては上記ネマチック相を示す液晶性材料として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶性材料は柔軟性に優れるため、このような液晶性材料を用いることにより、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムを透明性に優れたものにできるからである。さらに、本工程に用いられる棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、なかでも3次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記棒状化合物が重合性官能基を有することにより、上記棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくい位相差層を得ることができるからである。なお、重合性官能基を有する棒状化合物を用いた場合、本工程を行うことにより形成される位相差層には、重合性官能基によって架橋された棒状化合物が含有されることになる。なお、上記3次元架橋とは、液晶性分子を互いに3次元に重合して、網目ネットワーク構造の状態にすることを意味する。上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和3重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。さらにまた、本工程における棒状化合物は液晶性を示す液晶性材料であって、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような棒状化合物を用いることにより、例えば、互いに3次元に重合して、網目ネットワーク構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記を形成することができるからである。なお、本工程においては片末端に重合性官能基を有する液晶性材料を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。本工程に用いられる棒状化合物の具体例としては、下記式1~17で表される化合物を例示することができる。なお、本工程において上記棒状化合物は、1種類のみを用いてもよく、または、2種以上を混合して用いてもよい。例えば、上記棒状化合物として、両末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度架橋密度及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。また、信頼性確保の観点からは、両末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶性材料が好ましいが、液晶配向の観点からは両末端の重合性官能基が1つであることが好ましい。本工程に用いられる棒状化合物の位相差層形成用塗工液中の含有量としては、配向層上に塗布する塗布方法に応じて、位相差層形成用塗工液の粘度を所望の値にできるものであれば特に限定されない。なかでも本工程においては、上記位相差層形成用塗工液中、5質量~40質量の範囲内であることが好ましく、なかでも、10質量~30質量の範囲内であることが好ましい。本工程に用いられる位相差層形成用塗工液としては、上記棒状化合物を少なくとも含むものであるが、通常、溶媒を含むものである。また、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。このような溶媒としては、上記棒状化合物を均一に溶解または分散できるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には配向層形成用塗工液に用いられる溶媒と同様とすることができる。また、他の化合物としては、本工程により形成される位相差層において、棒状化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではない。本工程に用いられる上記他の化合物としては、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。本工程においては、上記棒状化合物として上記重合性液晶材料を用いる場合は、上記他の化合物として重合開始剤または重合禁止剤を用いることが好ましい。上記重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、4,4-ビスジメチルアミンベンゾフェノン、4,4-ビスジエチルアミンベンゾフェノン、α-アミノアセトフェノン、4,4-ジクロロベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4-メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、p-tert-ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2-tert-ブチルアントラキノン、2-アミルアントラキノン、β-クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4-アジドベンジルアセトフェノン、2,6-ビスp-アジドベンジリデンシクロヘキサン、2,6-ビスp-アジドベンジリデン-4-メチルシクロヘキサノン、2-フェニル-1,2-ブタジオン-2-o-メトキシカルボニルオキシム、1-フェニル-プロパンジオン-2-o-エトキシカルボニルオキシム、1,3-ジフェニル-プロパントリオン-2-o-エトキシカルボニルオキシム、1-フェニル-3-エトキシ-プロパントリオン-2-o-ベンゾイルオキシム、ミヒラーケトン、2-メチル-1[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n-フェニルチオアクリドン、4,4-アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製N1717、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本工程では、これらの光重合開始剤を1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。さらに、上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の3級アミン類や、2-ジメチルアミノエチル安息香酸、4-ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。上記重合禁止剤としては、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ-p-ニトロフェニルメチル,p-ベンゾキノン、p-tert-ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、tert-ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、なかでも保存安定性の点からハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。また、本工程における位相差層形成用塗工液には、下記に示すような他の化合物を添加することができる。添加できる他の化合物としては、例えば、多価アルコールと1塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、メタアクリル酸を反応させて得られるポリエステルメタアクリレート;ポリオール基と2個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物にメタアクリル酸を反応させて得られるポリウレタンメタアクリレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、メタアクリル酸を反応させて得られるエポキシメタアクリレート等の光重合性化合物;アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。本工程における位相差層形成用塗工液の塗布方法としては、配向層上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではない。本工程において、配向層上への位相差層形成用塗工液の塗布方法としては、一般的な配向層形成用層と同様とすることができ、例えば、上記配向層形成用層と同様とすることができる。本工程により形成される位相差層は上記棒状化合物が含有されることにより、位相差性を発現するものになっているところ、当該位相差性の程度は棒状化合物の種類および位相差層の厚みに依存して決定されるものである。したがって、本工程において形成される位相差層の厚みは、所定の位相差性を達成できる範囲内とするものであれば特に限定されるものではなく、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定されるものである。本工程においては、なかでも、位相差層の厚みが、位相差層の面内レターデーションがλ/4分に相当するような範囲内となるように塗布することが好ましい。これにより、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムにおいては、上記第1位相差領域および上記第2位相差領域を通過する直線偏光がそれぞれ互いに直交関係にある円偏光にすることができるため、より精度良く3次元映像を表示できるものとすることができるからである。本工程において、位相差層の厚みを位相差層の面内レターデーションがλ/4分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、棒状化合物の種類により適宜決定されることになる。もっとも、当該距離は本工程において一般的に用いられる棒状化合物であれば、通常、0.5μm~2μmの範囲内となるがこれに限られるものではない。3.配向工程本発明における配向工程は、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に含まれる第1配向領域および第2配向領域の異なる配向方向に沿って、すなわち、第1配向領域および上記第1配向領域とは異なる方向に棒状化合物を配列させることができる第2配向領域の配向規制力に沿って配列させる工程である。本工程における棒状化合物を配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、一般的な方法を用いることができるが、棒状化合物が液晶性材料である場合には、上記塗膜を棒状化合物の液晶相形成温度以上に加温する方法が用いられる。本工程により形成される位相差層は、露光工程により上述したような特徴を有する配向層が形成されていることにより、第1位相差領域と第2位相差領域とが、上記第1配向領域および上記第2配向領域が形成されたパターンと同一のパターン状に形成されたものになる。なお、本工程に形成される位相差層に第1位相差領域および第2位相差領域からなるパターンが形成されていることは、例えば、偏光板クロスニコルの中にサンプルを入れて、サンプルを回転させた場合に明線と暗線が反転することを確認することにより評価することができる。このとき、第1位相差領域および第2位相差領域からなるパターンが細かい場合は偏光顕微鏡で観察するとよい。また、後述するAxoScanで各パターン内の遅相軸の方向角度を測定しても良い。本工程により形成される位相差層の面内レターデーション値としては、具体的には、100nm~160nmの範囲内であることが好ましく、110nm~150nmの範囲内であることがより好ましく、120nm~140nmの範囲内であることがさらに好ましい。なお、本工程により形成される位相差層において第1位相差領域および第2位相差領域が示す面内レターデーション値は、遅相軸の方向が異なる以外はほぼ同一となる。ここで、面内レターデーション値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標であり、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をNx、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をNy、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚みをdとした場合に、Re[nm]=Nx-Ny×d[nm]で表わされる値である。面内レターデーション値Re値は、例えば、王子計測機器株式会社製KOBRA-WRを用い、平行ニコル回転法により測定することができるし、微小領域の面内レタデーション値はAXOMETRICS社米国製のAxoScanでミューラーマトリクスを使って測定することも出来る。また、本願明細書においては特に別段の記載をしない限り、Re値は波長589nmにおける値を意味するものとする。4.乾燥工程本発明における乾燥工程は、上記塗膜を乾燥させ、位相差層を形成する工程である。上記乾燥工程における塗膜の乾燥方法としては、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本工程における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。さらに、上記塗膜の乾燥方法としては、一定の温度に調整された乾燥風を、上記塗膜に当てる方法を用いることもできるが、このようは乾燥方法を用いる場合は、上記塗膜に当てる乾燥風の風速が3m/秒以下であることが好ましく、特に0.5m/秒以下であることが好ましい。また、温度条件としては、40°C~150°Cの範囲内であることが好ましく、中でも、50°C~120°Cの範囲内であることが好ましく、特に、55°C~105°Cの範囲内であることが好ましい。また、湿度条件としては、フィルムに吹き付けられるために加熱される前の状態において、23±3°Cの温度範囲で50±10RHの範囲に制御されていることが好ましい。また、乾燥時間としては、0.2分~30分の範囲内であることが好ましく、中でも0.5分~20分の範囲内であることが好ましく、特に、1分~10分の範囲内であることが好ましい。上述の温度時間の条件であることにより、安定的に溶媒を除去することができるからである。本工程の実施タイミングとしては、上記配向工程後に行われるものであっても良く、上記配向工程と同時に行われるものであっても良い。本工程により形成される位相差層は、上記棒状化合物を含み、かつ、上記配向層が有する第1配向領域および第2配向領域が有する配向規制力に沿って棒状化合物を配列された第1位相差領域および第2位相差領域を有するものである。本工程においては、上記棒状化合物として重合性液晶材料を用いる場合、上記重合性液晶材料を重合し硬化させる硬化処理を含むものであっても良い。なお、上記重合性液晶材料を重合させる方法としては、上記重合性液晶材料が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよい。なかでも本工程においては、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性液晶材料を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光を使用することが好ましく、具体的には、上記1.露光工程の3露光工程の項に記載の紫外線と同様とすることができる。このような硬化処理を経ることにより、互いに重合して、網目ネットワーク構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記を形成することができるからである。なお、上記硬化処理を実施するタイミングとしては、上記配向工程後であれば特に限定されるものではなく、上記配向工程後または乾燥工程後に行うことができる。5.保護工程本発明における保護工程は、上記乾燥工程後の透明フィルム基材が安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆う工程である。本工程においては、上記位相差層を少なくとも覆うものであれば良いが、必要に応じて、透明フィルム基材の位相差層が形成された面の反対側の表面も保護フィルムで覆うものであっても良い。本工程に用いられる保護フィルムとしては、上記位相差層および位相差層が形成された透明フィルム基材が吸湿することを防ぐことができるものであれば特に限定されるものではなく、位相差フィルムの製造に一般的に用いられるものを使用することができる。具体的には、ポリハロゲン化ビニル樹脂、エチレンビニル共重合体、酢酸ビニル樹脂、セルロース誘導体を含む樹脂、シクロオレフィン系樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアセテート樹脂、ポリテレフタル酸エチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂を挙げることができ、なかでも、ポリエチレンテレフタレートを好ましく用いることができる。上記位相差層および位相差層が形成された透明フィルム基材の吸湿を安定的に保護することができるからである。本工程における上記位相差層を保護フィルムで覆う方法としては、上記位相差層および位相差層が形成された透明フィルム基材を吸湿から安定的に保護できるように覆う方法であれば特に限定されるものではないが、上記位相差層上に、直接または接着剤層を介して保護フィルムを積層する方法や、位相差層を含み、ロール状に巻き取られたパターン位相差フィルム全体を覆う方法等を挙げることができる。本工程において、透明フィルム基材が安定収縮状態時に、上記位相差層を保護フィルムで覆う方法としては、乾燥工程直後から安定収縮状態となるまでに要する時間安定化時間を予め測定しておく方法を用いることができる。このような安定化時間としては、各工程の条件、本工程を行う環境、パターン位相差フィルムの構成等により異なるものであるが、本工程においては、乾燥工程直後から、0.1分~24時間の範囲内であることが好ましく、中でも、0.5分~2時間の範囲内であることが好ましく、特に1分~12分の範囲内であることが好ましい。上記安定収縮状態に安定的に達することができ、また、工程通過性に優れたものとすることができるからである。6.パターン位相差フィルムの製造方法本発明のパターン位相差フィルムの製造方法は、上記露光工程、塗布工程、配向工程、乾燥工程および保護工程を少なくとも有するものであるが、配向層形成用層2 ́を有する長尺配向膜形成用フィルムを準備するために、図12に例示するような透明フィルム基材上に配向層形成用塗工液を塗布し塗膜を形成する配向層形成用塗工液塗布工程図12a、塗膜2 ́ ́を乾燥し、配向層形成用層を形成する配向層形成用層乾燥工程図12bや、透明フィルム基材の配向層形成用層2 ́が形成される面と反対の面上に反射防止層および/またはアンチグレア層5等を含むバリア層を形成するバリア層形成工程や、配向工程後に、長尺状のパターン位相差フィルムを裁断し、枚葉に成形されたパターン位相差フィルムとして得るための裁断工程を有するものであっても良い。なお、配向層形成用塗工液塗布工程および配向層形成用層乾燥工程を行うタイミングとしては、露光工程前に行われるものであれば特に限定されるものではない。また、バリア層形成工程を行うタイミングとしては、安定的にバリア層を形成できるものであれば特に限定されるものではなく、保護工程と同様のタイミングであっても良いが、露光工程前、特に配向層塗布工程前であることが好ましい。透明フィルム基材を寸法安定性に優れたものとすることができるからである。なお、このようなバリア層形成工程については、1回のみ行われるものであっても良いが、例えば、露光工程前にバリア層として反射防止層および/またはアンチグレア層を形成し、乾燥工程後に、上記反射防止層および/またはアンチグレア層上に、別途、他のバリア層を形成する等、複数回行われるものであっても良い。なお、図12中の符号については、図1と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。本発明においては、これらの各工程が独立して行われるもの、すなわち、工程毎に長尺状の透明フィルム基材を含むフィルムをロール状に巻き取られた状態から巻き出し、所定の処理を行った後に巻き取るものであっても良いが、全工程が連続して行われること、すなわち、原材料からロールトゥロールにて行われることが好ましい。具体的には、上述のパターン位相差フィルムの製造方法により製造されるパターン位相差フィルムが長尺状である場合には、長尺配向膜形成用フィルムから最終製造物であるパターン位相差フィルムが途中ロール状に巻き取られることなくロールトゥロールで製造されることが好ましい。7.パターン位相差フィルム本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムは、透明フィルム基材、配向層および位相差層を有するものであり、上記配向層は、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第1配向領域および上記棒状化合物を上記第1配向領域とは異なる方向に配列させる第2配向領域を含むものであり、上記位相差層は、上記配向層が有する第1配向領域および第2配向領域が有する配向規制力に沿って棒状化合物を配列された第1位相差領域および第2位相差領域を有するものである。本発明により製造されるパターン位相差フィルムの用途としては、3次元表示用の表示装置に用いることができ、なかでも、容易かつ大量に製造することが要求される3次元表示用の表示装置に好適に用いられる。B.マスク次に、本発明のマスクについて説明する。本発明のマスクは、上述のパターン位相差フィルムの製造方法のパターン照射に用いられ、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることを特徴とするものである。このような本発明のマスクとしては、具体的には、既に説明した図1に示すものを挙げることができる。本発明によれば、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されていることにより、パターン精度に優れたパターン位相差フィルムを容易に形成することができる。なお、本発明のマスクは、上記A.パターン位相差フィルムの製造方法の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。また、本発明のマスクが、上記透明フィルム基材が安定収縮状態の際に目的のパターンとなるように拡大補正されているか否かの判断方法としては、製造されたパターン位相差フィルムのパターンと比較して、マスクのパターンのサイズが大きいか否かを確認する方法を挙げることができる。C.パターン位相差フィルム次に、本発明のパターン位相差フィルムについて説明する。本発明のパターン位相差フィルムは、上述のパターン位相差フィルムの製造方法により製造され、透明フィルム基材が安定収縮状態であることを特徴とするものである。このような本発明のパターン位相差フィルムとしては、具体的には、既に説明した図2に示すものとすることができる。本発明によれば、上記透明フィルム基材が安定収縮状態であることにより、寸法安定性に優れたものとすることができる。このため、3次元表示装置の組み立てを容易なものとすることができる。本発明のパターン位相差フィルムは、上述のパターン位相差フィルムの製造方法により製造されるものであり、少なくとも、透明フィルム基材、配向層および位相差層を含むものである。このような各構成については、上記A.パターン位相差フィルムの製造方法の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。また、上記透明フィルム基材が安定収縮状態であるか否かについては、本発明のパターン位相差フィルムから保護フィルム、配向層、位相差層等の透明フィルム基材以外の構成を全て剥離することで透明フィルム基材を取出して、飽和膨張状態とした際に、透明フィルム基材の幅方向への伸びがあるか否かにより確認することができる。より詳細には、上記A.パターン位相差フィルムの製造方法の項に記載した膨張率を測定することにより確認することができる。本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。以下、実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。比較例厚み80μmのTACセルローストリアセテートフィルム富士フィルム株式会社製フジタックに透明な微粒子を透明な樹脂に分散させてコーティングしたヘーズ値が10~15のAGアンチグレアフィルム大日本印刷株式会社製を、幅1m長さ2000mのロール状原反として準備した。光配向材料として光二量化反応型の光配向材料商品名:ROP103、ロリック社製を含む配向層形成用塗工液を上記AG面とは反対側に塗布乾燥し、厚み0.1μmの配向層形成用層を成膜した。更に、図3の装置を用いて、原反から連続してフィルムを供給しながら、ワイヤーグリッドを通した偏光紫外線偏光軸がフィルムの搬送方向に対して45度の方向を原反の搬送方向と平行な方向に延在する幅500μmの開口パターンをラインアンドスペース=1:1で781本形成した合成石英クロムマスクを介して照射した。この場合、マスク上のストライプパターンの一方の端の開口中心と他方の端の開口中心間の距離、すなわちトータルピッチは780mmである。次に、マスクを通さないでワイヤーグリッドを通して偏光紫外線偏光軸がフィルムの搬送方向に対して45度の方向を照射して、配向層を有する長尺パターン配向膜を得た。上記パタニングされた長尺パターン配向膜の配向層上に、溶媒に溶かした液晶メルク株式会社製licrivueRMS03-013C商品名を塗布乾燥液晶配向室温近傍まで冷却して紫外線硬化させ位相差層の厚みが1μmの長尺パターン位相差フィルムを形成した。保護フィルムは貼り付けなかった。得られた長尺パターン位相差フィルムを巻き出してシート状にカットし、以下のようにしてフィルム上パターンのトータルピッチを測定した。23±1.5°C、50±10RHの環境下にあるソキア社製精密3次元座標測定機AMIC-1300のガラスステージ表面に直線偏光板を敷き、その上にパターン位相差フィルムを載せ、さらにその上に2.8mm厚の透明なガラス板を積層してパターン位相差フィルムにしわやたるみが生じないようにした。また、カメラの対物レンズ表面に円偏光板を貼り付けた。このようにして、透過照明で観察することにより、モニター上でパターン位相差フィルムにマスクに対応した明暗の縞状パターンが形成されていることが確認できた。ひきつづき、シートにカットする前の元のロールにおいては色々な位置にあったシートをランダムに5枚抜き取り、パターンのトータルピッチを測定したところ、779.9865mm、779.9127mm、779.9990mm、779.6146mm、780.0143mmであった。実施例位相差層を紫外線硬化した後に、位相差層表面に積層するように幅1mの保護フィルムポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み60μmを連続的にラミネートしてロール状に巻き取った以外は比較例と同様にしてパターン位相差フィルムを形成した。フィルムは連続的に等速で搬送されているので、パターン位相差フィルムが液晶層の乾燥工程を出て前記ポリエチレンテレフタレートフィルムがラミネートされるまでに経過する時間は7.5分であった。この後、比較例と同様にシート状にカットして、元のロールにおいては色々な位置にあったシートをランダムに5枚抜き取り、パターンのトータルピッチを測定したところ、7795782mm、7796037mm、779.6114mm、779.5538mm、779.5917mmであった。実施例および比較例より、比較例では保護フィルムを用いないことにより乾燥工程後に、吸湿により膨潤していることが確認できた。また、実施例では幅のばらつきが少ないことが確認できた。"