"水平面に平行な二次元平面内の第1方向に沿った位置を移動可能な第1移動体と、前記第1移動体に設けられ、前記第1移動体と共に前記第1方向に沿った位置を移動可能、且つ前記第1移動体に対して前記二次元平面内で前記第1方向に直交する第2方向に沿った位置を移動可能な第2移動体と、物体を保持し、前記第2移動体に誘導されて前記二次元平面に沿って移動する物体保持部材と、前記第1方向に関して前記第1移動体の一側に配置され、前記物体保持部材が前記第2方向に沿って移動する際に該物体保持部材の前記第1方向に関する一側の領域を下方から支持するとともに、前記物体保持部材と共に前記第1方向に沿って移動可能な第1ガイド部材と、前記第1方向に関して前記第1移動体の他側に配置され、前記物体保持部材が前記第2方向に沿って移動する際に該物体保持部材の前記第1方向に関する他側の領域を下方から支持するとともに、前記物体保持部材と共に前記第1方向に沿って移動可能な第2ガイド部材と、を備える移動体装置。前記物体保持部材は、前記第1及び第2ガイド部材に非接触支持される請求項1に記載の移動体装置。前記物体保持部材は、該物体保持部材と前記第1ガイド部材との間、及び該物体保持部材と第2ガイド部材との間に供給される気体の静圧により前記第1及び第2ガイド部材上に非接触浮上する請求項2に記載の移動体装置。前記物体保持部材を前記第2移動体に対して前記第1及び第2方向、並びに前記水平面に直交する軸回りに微少駆動するアクチュエータを更に備える請求項1~3のいずれか一項に記載の移動体装置。前記物体保持部材は、前記アクチュエータが発生する推力により前記水平面に沿って前記第2移動体に誘導される請求項4に記載の移動体装置。前記第1移動体と前記第1及び第2ガイド部材とを物理的に連結する連結部材を更に備える請求項1~5のいずれか一項に記載の移動体装置。請求項1~6のいずれか一項に記載の移動体装置と、前記物体保持部材に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。前記物体に対して前記パターンを形成する際、前記移動体装置は、前記物体を前記エネルギビームに対して前記第2方向に沿って相対移動させる請求項7に記載の露光装置。前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項7又は8に記載の露光装置。前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が500mm以上である請求項9に記載の露光装置。請求項9又は10に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。請求項7又は8に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第1の観点からすると、水平面に平行な二次元平面内の第1方向に沿った位置を移動可能な第1移動体と、前記第1移動体に設けられ、前記第1移動体と共に前記第1方向に沿った位置を移動可能、且つ前記第1移動体に対して前記二次元平面内で前記第1方向に直交する第2方向に沿った位置を移動可能な第2移動体と、物体を保持し、前記第2移動体に誘導されて前記二次元平面に沿って移動する物体保持部材と、前記第1方向に関して前記第1移動体の一側に配置され、前記物体保持部材が前記第2方向に沿って移動する際に該物体保持部材の前記第1方向に関する一側の領域を下方から支持するとともに、前記物体保持部材と共に前記第1方向に沿って移動可能な第1ガイド部材と、前記第1方向に関して前記第1移動体の他側に配置され、前記物体保持部材が前記第2方向に沿って移動する際に該物体保持部材の前記第1方向に関する他側の領域を下方から支持するとともに、前記物体保持部材と共に前記第1方向に沿って移動可能な第2ガイド部材と、を備える移動体装置である。これによれば、物体保持部材は、第1及び第2移動体により水平面に平行な二次元平面に沿って誘導される。物体保持部材の第1方向に関する一側及び他側の領域を下方から支持する第1及び第2ガイド部材は、物体保持部材と共に第1方向に沿って移動するので、装置の構成が簡単となる。本発明は、第2の観点からすると、本発明の第1の観点にかかる移動体装置と、前記物体保持部材に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置である。本発明は、第3の観点からすると、本発明の第2の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法である。本発明は、第4の観点からすると、本発明の第2の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法である。以下、一実施形態について、図1~図3を用いて説明する。図1には、一実施形態に係る液晶露光装置10の構成が概略的に示されている。液晶露光装置10は、例えば液晶表示装置フラットパネルディスプレイなどに用いられる矩形角型のガラス基板P以下、単に基板Pと称するを露光対象物とするステップアンドスキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。液晶露光装置10は、照明系12、マスクMを保持するマスクステージ14、投影光学系16、基板ステージ架台18、表面図1でZ側を向いた面にレジスト感応剤が塗布された基板Pを保持する基板ステージ装置20、及びこれらの制御系等を含む。以下、露光時にマスクMと基板Pとが投影光学系16に対してそれぞれ相対走査される方向をX軸方向とし、水平面内でX軸に直交する方向をY軸方向、X軸及びY軸に直交する方向をZ軸方向とし、X軸、Y軸、及びZ軸回りの回転方向をそれぞれθx、θy、及びθz方向として説明を行う。照明系12は、例えば米国特許第5,729,331号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。照明系12は、露光用の照明光ILをマスクMに照射する。照明光ILとしては、例えばi線波長365nm、g線波長436nm、h線波長405nmなどの光あるいは、上記i線、g線、h線の合成光が用いられる。マスクステージ14は、所定の回路パターンが形成されたマスクMを、例えば真空吸着により保持している。マスクステージ14は、例えばリニアモータを含むマスクステージ駆動系不図示により走査方向X軸方向に所定の長ストロークで駆動されるとともに、Y軸方向、及びθz方向に適宜微少駆動される。マスクステージ14のXY平面内の位置情報θz方向の回転量情報を含むは、不図示のレーザ干渉計を含むマスク干渉計システムにより求められる。投影光学系16は、マスクステージ14の下方に配置されている。投影光学系16は、例えば米国特許第6,552,775号明細書に開示された投影光学系と同様に構成されている。すなわち、投影光学系16は例えば両側テレセントリックな等倍系で正立正像を形成する光学系を複数含む、いわゆるマルチレンズ投影光学系であり、Y軸方向を長手方向とする長方形状の単一のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。このため、照明系12からの照明光ILによってマスクM上の照明領域が照明されると、マスクMを通過した照明光ILにより、投影光学系16を介してその照明領域内のマスクMの回路パターンの投影像が、基板P上の照明領域に共役な照明光ILの照射領域に形成される。そして、照明領域照明光ILに対してマスクMが走査方向に駆動されるとともに、露光領域照明光ILに対して基板Pが走査方向に駆動されることで、基板P上の1つのショット領域にマスクMに形成されたパターンが転写される。基板ステージ架台18は、Y軸方向に延びる板状の部材から成り、図2に示されるように、X軸方向に所定間隔で、例えば2つ設けられている。例えば2つの基板ステージ架台18それぞれの上面には、Y軸方向に延びるYリニアガイド27aがX軸方向に所定間隔で複数、本実施形態では、例えば3本固定されている。基板ステージ架台18は、その長手方向の端部近傍が、図1に示されるように、クリーンルームの床11上に設置された防振装置19により下方から支持されている。基板ステージ架台18は、液晶露光装置10の装置本体ボディの一部を構成している。上記マスクステージ14、及び投影光学系16は、装置本体に支持されており、床11から振動的に分離されている。なお、図1に示される基板ステージ装置20は、図2のA-A線断面図に相当する。基板ステージ装置20は、図2に示されるように、一対のベースフレーム22、一対のベースフレーム22上に架設されたXビーム24、Xビーム24上に搭載された粗動ステージ26、粗動ステージ26によりX軸方向、及び/又はY軸方向に所定のストロークで誘導される微動ステージ28、及び微動ステージ28のXY平面に沿った移動をガイドする一対のステップガイド30を有している。一対のベースフレーム22は、一方がX側の基板ステージ架台18のX側に、他方が-X側の基板ステージ架台18の-X側に、それぞれ基板ステージ架台18に所定距離隔てて振動的に分離された状態でクリーンルームの床11上に設置されている。一対のベースフレーム22は、後述するXビーム24の長手方向の両端部近傍を下方から支持しており、Xビーム24がY軸方向に所定の長ストロークで移動する際のガイド部材として機能する。図3に示されるように、ベースフレーム22の両側面それぞれには、Y軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含む磁石ユニット21aY固定子が固定されている。また、ベースフレーム22の上端面Z側の端部には、Yリニアガイド装置23の要素であるYリニアガイド23aが固定されている。Xビーム24は、X軸方向に延びるYZ断面が矩形図1参照の部材から成る。Xビーム24の長手方向両端部近傍における下面には、上記一対のベースフレーム22に対応してYキャリッジ25と称されるXZ断面逆U字状の部材が固定されている。上記ベースフレーム22は、Yキャリッジ25の一対の対向面間に挿入されている。Yキャリッジ25の天井面には、上記Yリニアガイド23aと共にYリニアガイド装置23を構成するYスライド部材23bが固定されている。Yスライド部材23bは、対応するYリニアガイド23aに低摩擦でスライド自在に係合しており、Xビーム24は、一対のベースフレーム22上を低摩擦でY軸方向に所定のストロークで移動可能となっている。また、Yキャリッジ25の一対の対向面それぞれには、上記磁石ユニット21aと共にYリニアモータ21を構成するコイルユニット21bX可動子が固定されている。Xビーム24は、上記Yリニアモータ21により、一対のベースフレーム22上でY軸方向に駆動される。なお、Xビーム24を駆動するYアクチュエータの種類は、これに限定されず、例えば送りねじ装置、ベルト駆動装置、ワイヤ駆動装置などを用いることができる。Xビーム24の下面のZ位置は、図1に示されるように、Yリニアガイド27aの上端部よりもZ側に設定されており、Xビーム24は、基板ステージ架台18すなわち装置本体から振動的に分離されている。なお、Xビーム24の長手方向中央部を下方から支持する補助的なベースフレームを一対の基板ステージ架台18の間に配置しても良い。また、Xビーム24の上面には、図2に示されるように、Xリニアガイド装置29の要素であるXリニアガイド29aがX軸方向に所定間隔で、例えば2本固定されている。また、Xビーム24の両側面には、X軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含む磁石ユニット31aX固定子が固定されている。粗動ステージ26は、直方体状の部材から成り、その下面には、上記Xリニアガイド29aと共にXリニアガイド装置29を構成するXスライド部材29bが複数固定されている。Xスライド部材29bは、図3に示されるように、ひとつのXリニアガイド29aにつき、X軸方向に所定間隔で、例えば2つ設けられている。Xスライド部材29bは、対応するXリニアガイド29aに低摩擦でスライド自在に係合しており、粗動ステージ26は、Xビーム24上を低摩擦でX軸方向に所定のストロークで移動可能となっている。また、粗動ステージ26の両側面には、磁石ユニット31aと共に粗動ステージ26をX軸方向に所定のストロークで駆動するためのXリニアモータ31を構成するコイルユニット31bX可動子が取付板32を介して固定されている。粗動ステージ26は、Xリニアガイド装置29によりXビーム24に対するY軸方向への相対移動が制限されており、Xビーム24と一体的にY軸方向に移動する。すなわち、粗動ステージ26は、Xビーム24と共に、ガントリ式の2軸ステージ装置を構成している。Xビーム24のY位置情報、及び粗動ステージ26のX位置情報それぞれは、例えば不図示のリニアエンコーダシステムあるいは光干渉計システムにより求められる。一対のステップガイド30それぞれは、図2に示されるように、一対の基板ステージ架台18上に搭載されている。一対のステップガイド30は、それぞれX軸方向に延びるYZ断面が矩形図1参照の部材から成り、Y軸方向に所定間隔で互いに平行に配置されている。上記Xビーム24は、一対のステップガイド30間に所定のクリアランスを介して挿入されている。ステップガイド30の長手方向X軸方向の寸法は、Xビーム24よりも幾分短く設定され、幅方向Y軸方向寸法は、Xビーム24よりも幾分広く設定されている。ステップガイド30の上面は、平面度が非常に高く仕上げられている。ステップガイド30の下面には、図1に示されるように、上記Yリニアガイド27aと共にYリニアガイド装置27を構成するYスライド部材27bが複数固定されている。Yスライド部材27bは、ひとつのYリニアガイド27aにつき、Y軸方向に所定間隔で、例えば2つ設けられている。Yスライド部材27bは、対応するYリニアガイド27aに低摩擦でスライド自在に係合しており、ステップガイド30は、一対の基板ステージ架台18上を低摩擦でY軸方向に所定のストロークで移動可能となっている。一対のステップガイド30それぞれは、図2に示されるように、長手方向の両端部近傍において、連結装置34を介してXビーム24に機械的に連結されている。連結装置34は、Y軸方向に延びる棒状の部材と、該棒状部材の両端部に取り付けられた滑節装置例えばボールジョイントとを含み、上記滑節装置を介してXビーム24とステップガイド30との間に架設されている。棒状部材は、Y軸方向の剛性が高く設定されている。基板ステージ装置20では、Xビーム24が複数のYリニアモータ21図2では不図示。図3参照によりY軸方向に関する一方の例えばY方向に駆動されると、Y軸方向に関する他方側例えば-Y側のステップガイド30が連結装置34を介してXビーム24に牽引されるとともに、Y軸方向に関する一方側例えばY側のステップガイド30が連結装置34を介してXビーム24に押圧される。これにより、一対のステップガイド30がXビーム24と一体的にY軸方向に移動する。図1に戻り、微動ステージ28は、平面視矩形の箱形部材から成り、その上面に基板ホルダ36が固定されている。基板ホルダ36は、平面視矩形の板状の部材から成り、基板Pを吸着保持する。微動ステージ28の-Y側の側面には、ミラーベース38を介してY軸に直交する反射面を有するYバーミラー40yが固定され、微動ステージ28の-X側の側面には、図3に示されるように、ミラーベース38を介してX軸に直交する反射面を有するXバーミラー40xが固定されている。なお、図2では、図面の錯綜を避ける観点から基板ホルダ36、ミラーベース38、Yバーミラー40y、及びXバーミラー40x図1又は図3参照の図示がそれぞれ省略されている。微動ステージ28の下面における四隅部近傍それぞれには、図2に示されるように、嵩上げブロック42が取り付けられている。また、嵩上げブロック42の下面には、図1に示されるように、エアベアリング44が取り付けられている。図2に戻り、Y側の、例えば2つのエアベアリング44の気体噴出面軸受け面は、Y側のステップガイド30の上面に、-Y側の、例えば2つのエアベアリング44の気体噴出面は、-Y側のステップガイド30の上面にそれぞれ対向している。例えば4つのエアベアリング44それぞれは、対応するステップガイド30の上面に対して加圧気体例えば空気を噴出する。微動ステージ28は、エアベアリング44とステップガイド30との間に供給される気体の静圧により、一対のステップガイド30上に微少なクリアランスを介して浮上している。なお、エアベアリング44の配置、及び数は、一対のステップガイド30上で微動ステージ28を安定した状態で浮上させることができれば特に限定されない。微動ステージ28は、複数のボイスコイルモータを含む微動ステージ駆動系により、粗動ステージ26に誘導されてX軸方向、及び/又はY軸方向に駆動される。複数のボイスコイルモータには、図2に示されるように、X軸方向の推力を発生する、例えば2つのXボイスコイルモータ46xと、例えば2つのYボイスコイルモータ46yが含まれる。例えば2つのXボイスコイルモータ46xは、一方が微動ステージ28のY側、他方が微動ステージ28の-Y側にそれぞれ配置され、例えば2つのYボイスコイルモータ46yは、一方が微動ステージ28のX側、他方が微動ステージ28の-X側にそれぞれ配置されている。上記複数のボイスコイルモータの構成は、配置が異なる点を除き、同じであるので、以下、微動ステージ28のY側に配置されたXボイスコイルモータ46xについて説明する。図1に示されるように、Xボイスコイルモータ46xは、粗動ステージ26のY側の側面に固定されたX固定子46aと、微動ステージ28の下面に固定されたX可動子46bとを含む。X固定子46aは、不図示のコイルユニットを有している。X可動子46bは、断面YZ断面U字状に形成され、その一対の対向面に永久磁石が固定されている。X固定子46aが有するコイルユニットは、上記一対の永久磁石間に所定のクリアランスを介して挿入されている。なお、本実施形態のXボイスコイルモータ46xは、ムービングマグネット型であるが、ムービングコイル型であっても良い。基板ステージ装置20では、例えば粗動ステージ26がXビーム24に沿ってX軸方向に長ストロークで移動する際に、微動ステージ28が粗動ステージ26と同方向且つ同速度で移動するように例えば2つのXボイスコイルモータ46xが発生するX軸方向の推力ローレンツ力が制御される。また、Xビーム24がY軸方向にに長ストロークで移動する際に、微動ステージ28がXビーム24すなわち粗動ステージ26と同方向且つ同速度で移動するように例えば2つのYボイスコイルモータ46yが発生するY軸方向の推力が制御される。これにより、粗動ステージ26と微動ステージ28とが一体的にXY平面に沿って長ストロークで移動する。また、微動ステージ28は、例えば2つのXボイスコイルモータ46xあるいは、例えば2つのYボイスコイルモータ46yの推力の向きが互いに反対の方向とされることにより、粗動ステージ26に対してθz方向に微少駆動される。微動ステージ28は、粗動ステージ26に誘導されてX軸方向に長ストロークで駆動される際、Y軸方向及び/θz方向に適宜微少駆動される。上述のようにして構成された液晶露光装置10図1参照では、不図示の主制御装置の管理の下、不図示のマスクローダによって、マスクステージ14上へのマスクMのロードが行われるとともに、不図示の基板ローダによって基板ホルダ36上への基板Pのロードが行なわれる。その後、主制御装置により、不図示のアライメント検出系を用いてアライメント計測が実行され、そのアライメント計測の終了後、基板P上に設定された複数のショット領域に逐次ステップアンドスキャン方式の露光動作が行なわれる。なお、この露光動作は従来から行われているステップアンドスキャン方式の露光動作と同様であるので、ここでは詳細な説明を省略する。例えば、上記ステップアンドスキャン方式の露光動作時におけるスキャン露光動作時などにおいて、基板ステージ装置20では、基板ホルダ36を介して基板Pを保持する微動ステージ28が、X軸方向に所定の長ストロークで駆動される。ステップガイド30は、長手方向X軸方向の寸法が微動ステージ28のX軸方向に関する移動可能距離よりも幾分長く設定されており、微動ステージ28は、粗動ステージ26と一体的にX軸方向に移動する際には、一対のステップガイド30上を移動する。また、微動ステージ28がY軸方向にステップ動作を行う際には、粗動ステージ26、Xビーム24、及び一対のステップガイド30が一体的にY軸方向に移動する。したがって、微動ステージ28が一対のステップガイド30上から脱落することがない。以上説明した本実施形態の基板ステージ装置20によれば、微動ステージ28が一対のステップガイド30上に非接触状態で搭載されているので、小さな推力で微動ステージ28をX軸、及び/又はY軸方向に駆動誘導することができる。また、微動ステージ28の位置制御制が向上するので、高精度の露光が可能となる。また、微動ステージ28に対する外部からの振動、および反力の伝達が抑制されるので、微動ステージ28を高精度で位置制御することができる。また、一対のステップガイド30は、X軸方向に関して微動ステージ28の移動可能範囲をカバーするとともに、Y軸方向に関して微動ステージ28と一体的に移動するので、基板ステージ装置20では、微動ステージ28のXY平面内の全移動範囲をカバーするような広い面積を有するガイド部材例えば定盤が不要である。したがって、コストが安く、且つ搬送、組み立てが容易である。また、Xビーム24を駆動するためのYリニアモータ21の要素である磁石ユニット21aY固定子が基板ステージ架台18に対して振動的に分離されているので、Xビーム24を駆動する際の駆動反力、振動などが、装置本体に支持された投影光学系16などに伝達することが抑制される。なお、以上説明した本実施形態の構成は、適宜変更が可能である。例えば、微動ステージ28と基板ホルダ36との間、あるいは嵩上げブロック42と微動ステージ28との間にZチルトアクチュエータを配置して基板PのZ軸方向、θx方向、及びθy方向の位置を制御可能としても良い。また、Xビーム24は、一対のステップガイド30間に複数配置されても良い。また、上記実施形態において、ステップガイド30は、Xビーム24により牽引されることによりY軸方向に移動したが、これに限られず、例えばリニアモータなどのアクチュエータを用いて一対のステップガイド30それぞれをXビーム24と独立して駆動しても良い。この場合、一対のステップガイド30を駆動するためのリニアモータの固定子として、ベースフレーム22に固定されたY固定子21a図3参照を用いても良い。また、上記実施形態では、Xビーム24が複数のYリニアモータ21によりY軸方向に駆動されることにより、一対のステップガイド30がXビーム24と一体的にY軸方向に移動する構成であったが、これに限られず、一対のステップガイド30がアクチュエータ例えばリニアモータによりY軸方向に駆動され、これに伴いXビーム24がY軸方向に移動する構成であってもXビーム24を駆動するアクチュエータも設けなくても良い。また、上記実施形態において、微動ステージ28は、複数のエアベアリング44を介して一対のステップガイド30上に下方から非接触支持されたが、転動体例えばボールを介して接触状態で微動ステージ28をステップガイド30上に搭載しても良い。また、一対のステップガイド30を物理的機械的にただし、Xビーム24に抵触しないように連結しても良い。この場合、一方のステップガイド30がXビーム24に牽引されると、他方のステップガイド30も一体的に移動するため、例えばXビーム24が一方のステップガイド30のみを牽引又は押圧すれば良い。また、照明光は、ArFエキシマレーザ光波長193nm、KrFエキシマレーザ光波長248nmなどの紫外光や、F2レーザ光波長157nmなどの真空紫外光であっても良い。また、照明光としては、例えばDFB半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム又はエルビウムとイッテルビウムの両方がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ波長:355nm、266nmなどを使用しても良い。また、上記実施形態は、複数本の投影光学ユニットを備えたマルチレンズ方式の投影光学系16である場合について説明したが、投影光学ユニットの本数はこれに限らず、1本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、例えばオフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。また、上記実施形態では投影光学系16として、投影倍率が等倍のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は縮小系及び拡大系のいずれでも良い。また、光透過性のマスク基板上に所定の遮光パターン又は位相パターン減光パターンを形成した光透過型マスクが用いられたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第6,778,257号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク可変成形マスク、例えば、非発光型画像表示素子空間光変調器とも呼ばれるの一種であるDMDDigitalMicromirrorDeviceを用いる可変成形マスクを用いても良い。また、露光装置としては、サイズ外径、対角線の長さ、一辺の少なくとも1つを含むが500mm以上の基板、例えば液晶表示素子などのフラットパネルディスプレイ用の大型基板を露光対象物とする露光装置が特に適している。また、露光装置としては、ステップアンドリピート方式の露光装置、ステップアンドスティッチ方式の露光装置にも適用することができる。また、移動体装置に保持される物体は、露光対象物体である基板などに限られず、マスクなどのパターン保持体原版であっても良い。また、露光装置の用途としては、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びDNAチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、露光対象物がフラットパネルディスプレイ用の基板である場合、その基板の厚さは特に限定されず、例えばフィルム状可撓性を有するシート状の部材のものも含まれる。液晶表示素子あるいは半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマスクあるいはレチクルを製作するステップ、ガラス基板あるいはウエハを製作するステップ、上述した各実施形態の露光装置、及びその露光方法によりマスクレチクルのパターンをガラス基板に転写するリソグラフィステップ、露光されたガラス基板を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ガラス基板上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。"