エルビウムEr:YAGレーザーもしくはホルミウムHo:YAGレーザーを含む装置で形成された爪中の一つもしくはそれ以上のオリフィスに投与されることを特徴とする、爪甲真菌症に感染した爪を処置するための抗真菌剤含有医薬組成物。液状、粘稠もしくは半固形である、請求項1に記載の組成物。組成物の1~10重量の量で抗真菌剤を含む、請求項1もしくは2に記載の組成物。組成物の10~100重量の量で抗真菌剤を含む、請求項1もしくは2に記載の組成物。組成物の70重量以上の量で抗真菌剤を含む、請求項4に記載の組成物。実質的に純粋な抗真菌剤粉末を含む、請求項1に記載の組成物。爪が、抗真菌剤含有組成物の投与前に界面活性剤でさらに処理されることを特徴とする、請求項1~6のいずれか1項に記載の組成物。保護被膜が爪の上にさらに施されることを特徴とする、請求項1~7のいずれか1項に記載の組成物。抗真菌剤がアリルアミン、ベンジルアミン、およびアゾールをベースとする抗真菌剤からなる群から選択される、請求項1~8のいずれか1項に記載の組成物。抗真菌剤がテルビナフィン、ナフチフィン、ブテナフィン、チオコナゾール、エコナゾール、オキシコナゾール、イトラコナゾール、フルコナゾール、ケトコナゾール、ミコナゾールおよびクロトリマゾールからなる群から選択される、請求項1~9のいずれか1項に記載の組成物。抗真菌剤がテルビナフィンである、請求項1~10のいずれか1項に記載の組成物。a爪に穴をあけるレーザー、b処置する足指もしくは指を固定/配置する支持手段、およびc指示レーザー、を含む装置。xyz翻訳ステージモジュール、をさらに含む請求項12に記載の装置。穴をあけるレーザーがエルビウムEr:YAGもしくはホルミウムHo:YAGレーザーである、請求項12または13に記載の装置。指示レーザーが可視連続波cwレーザーである、請求項12~14のいずれか1項に記載の装置。可視連続波cwレーザーが赤色He-Neレーザーもしくはレーザーダイオードである、請求項15に記載の装置。爪甲をモニターする手段をさらに含む、請求項12~16のいずれか1項に記載の装置。ここで記載するオリフィスは、80~100、好ましくは90~99の爪甲を浸透するいかなる小さい穴もしくはくぼみを意味する。今までは、指もしくは足指の爪中のオリフィスは、例えば米国特許第4180058号に記載されているような機械的なドリルによって、もしくは焼いて穴をあける熱線によって生成されてきた。米国特許第5947956号には、穴およびエッチングを作るレーザー装置が記載されている。抗真菌剤として使用し得るものは、テルビナフィンもしくはナフチフィンのようなアリルアミン、ブテナフィンのようなベンジルアミンならびに/または、チオコナゾール、エコナゾール、オキシコナゾール、イトラコナゾール、フルコナゾール、ケトコナゾール、ミコナゾールおよびクロトリマゾールのようなアゾールをベースとする抗真菌剤である。アリルアミンおよびベンジルアミンは遊離塩基の形態でも酸付加塩の形態でもよいが、好ましくは塩酸塩の形態である。抗真菌剤含有医薬組成物は、組成物の約10~約100重量、例えば約70以上、もしくは例えば約100の抗真菌剤、例えば実質的に純粋な抗真菌剤、例えばテルビナフィン、の粉末の高濃度抗真菌剤製剤を含んでもよい。これに代えて、抗真菌剤含有医薬組成物は、組成物の約1~約10重量の抗真菌剤を含む。抗真菌剤含有医薬組成物は、例えば液状、粘稠または半固形で、例えば、クリーム、ゲル、溶液、ローション、軟膏、パッチもしくはマニキュア液の形であってもよい;製剤は、例えばリポソーム剤であってもよい。もし組成物が粘性であれば、例えば浸透し易くするために、それをオリフィス内に注ぐ前に温めてもよい。これに代えて、抗真菌剤含有医薬組成物は例えば固体、例えば粉末であってもよい。製剤の好ましいタイプおよび力価は、例えば爪の感染の程度および/もしくは穴のサイズにしたがって選び得る。さらに、例えばオリフィス内およびオリフィスを通してその浸透を促進するために、界面活性剤を抗真菌剤の製剤に加えてもよい。別の観点において、本発明は、爪のオリフィスを有効に浸透するように投与される医薬品を製造するために、抗真菌剤、例えばテルビナフィン、の使用を提供する。抗真菌剤含有医薬組成物を投与する前に、例えばオリフィスで処理した後で、例えば抗真菌製剤の浸透を容易にするために、爪を界面活性剤で処理をしてもよいが、これは、例えば、i例えばゲルの形で、天然物、例えばアロエベラ、もしくはii不活性で、非刺激性でかつ薬学的作用を有しないところの非イオン性界面活性剤である。抗真菌剤例えばテルビナフィン含有医薬組成物を爪に投与した直後に、例えばマニキュア液を含む、例えば保護的な、例えば不活性な、被膜、磁器被膜、人工爪もしくはポリマー箔、例えばパッチ、を爪の上に被せてもよい。これは、医薬組成物が爪中に留まりそしてまた細菌やごみが爪床に到達するのを防ぎ得ることを保証する。好ましくはまた保護被膜は抗真菌剤を含む。例えば着色したマニキュア液の塗布は、感染した爪の不愉快な外観を隠すであろう。さらなる観点において、本発明は、その方法が、例えば保護被膜を爪の上に施すことをさらに含む、上に記載の方法を提供する。爪が成長するにつれて、小さいオリフィスは典型的に閉じて、それにより抗真菌剤を爪甲内に閉じ込める。したがって、暫くすると、例えば二、三日から一週間すると、保護被膜の施行はもはや必要でないであろう。本出願人は、爪中のオリフィスはレーザー、例えば、エルビウムレーザー、ネオジムレーザー、OPOレーザー、ホルミウムレーザー、窒素レーザーもしくはCO2レーザーここでYAGはイットリウムアルミニウムガーネットを意味する、を含む装置により一瞬に容易に形成され得ることを見出した。別の観点において、本発明は爪甲真菌症に感染した爪を処置する方法を提供するが、その方法は、レーザー、例えば、エルビウムレーザー、ホルミウムレーザーもしくは窒素レーザーを含む装置で、一つもしくはそれ以上のオリフィスを爪中に形成し、そして抗真菌剤を含有する医薬組成物を爪に投与することを含む。本発明にしたがってオリフィスを爪中に形成するために、レーザーをベースにする装置の使用は、例えば、高精密性、高速性、全くか殆んど無い痛みおよび出血もしくは二次感染の危険性の無いことのために、特に有益である。レーザー手術、即ち爪に穴をあける本発明の方法、は硬い組織の溶融と破裂を指す、光-アブレーションプロセスに基づいている。光-アブレーションは、目的の組織の熱的、機械的およびスペクトル的特性にしたがって選択した波長、出力およびパルス持続時間を持つパルスレーザー照射により達成される。低~中間出力密度のパルスレーザーでの組織の照射は、微小な機械的および可逆的変化を持って吸収による熱的変化を誘導する。しかしながら、さらに高出力において、そして短時間の間に規定した容量で所定のエネルギーの閉じ込めが閾値を満足するときには、硬い組織を、例えば穴あけもしくは切り取りの目的で、選択的に破壊することができる。溶着電磁気エネルギーは殆んどすべて機械的エネルギーに転換され、そして照射領域は、約1’000m/sでオリフィスから排出する破片の形で射出される。クリーン、即ち効率的な、光アブレーションプロセスにおいては、この破片が殆んどの溶着エネルギーを除去するので、照射された組織、例えば爪床と接触する組織は加熱されないために痛みの原因が減少する。爪床は非常に感受性であると知られているが、本発明にしたがえば、爪の疾患を、患者の不快感を最小にしたレーザーをベースにする技法を使って処置することができると示されている。関連する痛みは最少でかつ麻酔剤無しで耐えられることが見出されている。アブレーション温度が例えば約100°Cより高いときには、爪および/もしくは爪オリフィスの殺菌は必要でないであろう。それ故に、本発明は、その方法が殺菌ステップを伴わない方法を提供する。NIR領域におけるヒト組織のスペクトル的特性は水のスペクトルによって支配されるので、組織の微細加工に使用できるレーザーは、λ=106μmでレーザー発振するCO2ガスレーザー、ならびに極めて最近に開発された二つの固体状態レーザーであって、それぞれλ=21μmおよびλ=294μmで光を発するHo:YAGおよびEr:YAGである。Nd:YAGレーザーもしくはOPOレーザーをまた使用することができる。本発明にしたがえば、Ho:YAGもしくはEr:YAGレーザーが好ましい。本発明にしたがって見出されているのは、一つもしくはそれ以上の小さいオリフィスが、約07mmの厚さの健康な爪について、約250μsの持続時間と3Hzの反復比率において約250mJ以下、例えば50mJ、の出力を持つ、好ましくは緊密焦点の、単回レーザーショットで形成され得ることである。我々はいかなる理論にも束縛されたくはないが、骨や歯に比して、爪において驚くほどさらに容易に達成される光アブレーション条件は、その構造に関係するらしいと信じられている。上述のように、爪はハイドロゲルのように挙動する。したがって、そのスペクトルは水の吸収により支配され、そして湿潤化したケラチンの融点は骨もしくは歯にそれぞれ含まれるハイドロキシアパタイトもしくはエナメルの融点よりさらに低い温度にあるに違いない。この理由のために、典型的にはオリフィスは横断面において、実質的に円形、円錐形、円錐台形、半球形もしくは円筒形であり、好ましくは円筒形であって、完全焦点のレーザービームプロフィルを擬態する。このプロセスは、爪中での熱拡散速度よりも速く起こるので、オリフィス中にクレーターの形での損傷は観察されない。最も重要なことには、単回ショットもしくは二、三回の弱いレーザーショットでオリフィスが作られるので、痛みの元である爪の加熱を最少に減少する。以下に説明するように、オリフィスのアレイを作りたいのであれば、この見地は時間的に適切である。例えばマスクを使用して、さらに精密化した光学的セットアップをもって、オリフィスをさらに小さく作り得るが、またはDammann格子のような、回折光学素子の使用をもって、オリフィスのアレイを同時に作ることができる。本発明にしたがえば、爪を天然の補給所、例えばリザーバ、として使用することができるが、そこでは、爪の中に等間隔にレーザーで形成されたオリフィスのアレイが作られ、そして引き続き、爪床内に、例えば徐放性で、放出されるべき抗真菌剤含有組成物で満たされる。爪を再生するには5~10ヶ月掛かるので、オリフィスは、抗真菌剤、例えばテルビナフィン、を爪甲真菌症の局部的処置のために爪床内に徐送達するためには理想的な補給所、例えばリザーバ、を構成する。一つもしくはそれ以上の爪の中に一つもしくはそれ以上のオリフィスを形成させるためのレーザーをベースにする装置、例えばレーザー光伝達装置、は以下の要素を含んでもよい:アブレーションを爪甲上に誘導する、即ち爪に穴をあける、例えばオリフィスを作る能力のあるレーザー、例えば主要な光アブレーションレーザーとして、例えばパルスの、例えば固体状態のレーザー光源、例えば、エルビウムレーザー、Nd:YAGレーザー、OPOレーザー、Ho:YAGレーザーもしくはCO2レーザー、好ましくはエルビウムもしくはホルミウムレーザー、処置する足指もしくは指を、例えばクランプにより、固定/配置して、レーザー照射もしくは露光に対して爪甲を覆わないままにする、支持手段、好ましくは、第二の可視連続波レーザー、例えば低出力の、いわゆる指向的もしくは標的レーザー、例えば可視領域で放射するレーザー、例えばλ=633nmにおいてレーザー発振する赤色He-Neレーザーもしくは、例えばレーザーダイオード、を使用してさらに高度な微細加工精度、即ち穴をあけるべきスポットの視覚化を保証してもよい、レーザービームを爪の望ましい区域に配置するためのコンピュータ制御xyz翻訳ステージモジュール、好ましくはいわゆるレーザービームスキャナー。これに代えて、支持台を、レーザービームが固定されそして足指もしくは指が移動するように、翻訳ステージ上に据えつけてもよい。これに代えて、支持台を、足指もしくは指が固定されそして、レーザービームが指甲上に移動するように翻訳ステージ上に据えつけてもよい。アブレーションレーザーおよび任意に指向レーザーからのレーザービームを共軸的に混合するための、レーザービームを指向させる手段、例えばミラー、例えば二色性ミラー、もしくはプリズム、爪の破片を除去する手段、例えば爪破片除去ディスク、例えば真空系もしくは、平坦な薄片、例えば丸い、レーザービーム波長に透明な材料、例えば石英製の、例えば溶融シリカ製の丸いディスク、を使用して焦点化光学素子の汚染を防止してもよい、爪破片除去ディスクを爪の破片から洗浄する手段、例えばジェット流の滅菌水を射出する薄い管、アブレーションレーザーを発射するときに爪破片除去ディスクが清浄であることを保証する手段、例えば曲げやすい材質、例えばゴムもしくはシリコンポリマー製の、例えばワイパーまたはブラシ、レーザーおよびならびに爪破片除去ディスクの間に置かれた一つもしくはそれ以上のレンズを含む、例えば手動もしくは自動焦点モードでの、一つもしくはそれ以上の焦点光学素子、例えば次の目的に役立つ計算手段、例えばパソコン:ビデオカメラもしくは荷電結合装置カメラを使って爪甲をモニターすること;オリフィスがコンピュータ制御xyz翻訳ステージを使って形成される爪甲のポイントにレーザービームおよびをあてること;ならびに異なるレーザーパラメーター、例えばxyz翻訳ステージの望ましい位置に到達したときにレーザーの発射、または、例えばレーザーが同調可能なレーザーであれば、レーザーの出力、パルスの持続時間もしくは波長、を制御および/もしくは選択すること、計算手段、例えばパソコン、好ましくは荷電結合装置カメラ、の画面上で爪甲をモニターするために、爪甲をモニターするための手段、例えばビデオカメラもしくは荷電結合装置、オリフィスが予め決めた深さ、例えば爪床、に到達した後でレーザーが停止することを保証するためのフィードバック手段、例えばセンサー、例えば圧電性材料で作ったセンサー。好ましくは、アブレーションレーザー条件を軟組織に到達すること無しにオリフィスを形成するように選ぶ。このフィードバックセンサーを使用して、最初のオリフィスの形成を始める時からこの条件を選びかつ最適化する、ならびに2個以上のオリフィス、例えば等間隔のオリフィスのアレイを、単回ショットにより作り、それによりオリフィスを一つずつ連続モードで作ることを避けるために、光学素子、例えば回折光学素子、例えばDammann格子を使用して、レーザービームおよびを多重化してもよい。好ましくは、作業者は捕獲しかつ保存した爪画像の画像を使用化させるソフトウェアを使って、作業者が、オリフィスアレイのパターン、サイズ、形状等を規定し、ならびに、この情報をもって、爪に関して個別のオリフィスの座標を計算し、対応するレーザーアブレーション条件を計算し、そして/もしくは配置素子を操作する、例えば1個以上のレーザーおよびハードウェアを操作する手助けをする。図1にオリフィスアレイの一例を示す。好ましくは、レーザー光伝達装置、例えば特に支持台、ミラーおよび爪破片除去装置、は洗浄し易いものであり、そして無菌状態で操作し得るものである。したがって、さらなる観点において本発明は、例えば図2に記載するように、例えば本発明にしたがう方法における使用のための装置を提供するが、この装置は以下のものを含む:爪に穴をあけるレーザーおよび任意に一以上の下記の要素、処置する足指もしくは指を固定/配置する支持手段、指向レーザー、xyz翻訳ステージモジュール、レーザービームを指向させる手段、爪の破片を除去する手段、爪の破片から爪破片除去ディスクを洗浄する手段、アブレーションレーザーを発射するときに、爪破片除去ディスクが清潔であることを保証する手段、一つもしくはそれ以上のレンズを含む一つもしくはそれ以上の焦点光学素子、計算手段、爪甲をモニターする手段、フィードバック手段、回折光学素子、ならびにオリフィスアレイのパターン、サイズ、形状等を規定し、個別のオリフィスの座標を計算し、対応するレーザーアブレーション条件を計算し、そして/もしくは配置素子を操作するソフトウェア。好ましくは、例えば本発明にしたがう方法での使用のための装置は以下の要素を含む:例えばオリフィスを作るために、爪に穴をあけるためのレーザー、例えば固体状態のパルスレーザー光源、例えば、エルビウムレーザー、ネオジムレーザー、OPOレーザー、ホルミウムレーザーもしくはCO2レーザー、好ましくはエルビウムレーザー、ホルミウムレーザーもしくはCO2レーザー、さらになお好ましくは、主要な光アブレーションレーザーとして、エルビウムレーザー、処置する足指もしくは指を固定/配置する支持手段、指示レーザー、例えば可視領域で放射するレーザーからの、例えば低出力の可視連続波レーザー、例えば赤色He-Neレーザーもしくはレーザーダイオード、ならびに任意にxyz翻訳ステージモジュール。以下の実施例はこの発明を例示する。実施例1一連のオリフィスを、インビトロで水和した07mm厚のヒトの爪中にEr:YAGレーザーを使用して穴をあける。オリフィスの直径は1mm~140ミクロンの範囲である。実施例2一連のオリフィスを、健康な被験者からの種々の爪中にEr:YAGレーザーを使用して、麻酔薬無しにインビボで穴をあける。オリフィスの直径は1mm~50ミクロンの範囲である。実施例3組成物の全重量に基づき10のテルビナフィンを含有する組成物を作成し、そして爪甲真菌症に罹っている患者のレーザーで穴をあけた爪に毎日一回、12週間投与する。その臨床的有効性の進歩は健康な爪の成長に見られる。