"ウェハを保持する回転可能な保持台を有し、前記ウェハの裏面に洗浄液を吐出することにより前記ウェハを洗浄するウェハ洗浄装置であって、前記ウェハの裏面における前記ウェハの中心の周囲に向けて前記洗浄液を吐出するように連続的に形成されている開口部を有する洗浄液吐出手段を備えていることを特徴とするウェハ洗浄装置。前記開口部は、円形状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のウェハ洗浄装置。前記開口部は、五角形以上の多角形に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のウェハ洗浄装置。前記洗浄液吐出手段は、前記洗浄液の吐出方向が前記ウェハの裏面に対して前記ウェハの外周側に傾斜するように形成されていることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のウェハ洗浄装置。前記洗浄液吐出手段は、異なる大きさの複数の開口部を有し、各開口部が中心を同一にするように形成されていることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のウェハ洗浄装置。ウェハを保持する回転可能な保持台を有し、前記ウェハの裏面に洗浄液を吐出することにより前記ウェハを洗浄するウェハ洗浄装置であって、前記ウェハの裏面における前記ウェハの回転方向に交差する方向に沿った範囲で前記洗浄液を吐出するように連続的に形成されている開口部を有する洗浄液吐出手段を備えていることを特徴とするウェハ洗浄装置。回転させたウェハの裏面に洗浄液を吐出することにより前記ウェハを洗浄するウェハ洗浄方法であって、前記ウェハの裏面における前記ウェハの中心の周囲に向けて前記洗浄液を吐出するように連続的に形成されている開口部から前記洗浄液を吐出させることを特徴とするウェハ洗浄方法。回転させたウェハの裏面に洗浄液を吐出することにより前記ウェハを洗浄するウェハ洗浄方法であって、前記ウェハの裏面における前記ウェハの回転方向に交差する方向に沿った範囲で前記洗浄液を吐出するように連続的に形成されている開口部から前記洗浄液を吐出させることを特徴とするウェハ洗浄方法。しかしながら、従来技術は次のような問題を抱えている。特許文献1に開示された構成では、単一のノズルから吐出される洗浄液が、回転するウェハに対して遠心力によって螺旋状のラインを描くようにして到達していくので、ウェハに十分に拡散していかない。このため、ウェハの裏面が十分に洗浄されないことになり、洗浄残りが発生する。また、図9に示す特許文献2に開示された構成では、洗浄液を吐出するために2つのノズル1011a,1011bを用いているので、上記の構成に比べて、より広い範囲で洗浄液を拡散させることができる。しかしながら、この構成においても、ノズル1011a,1011bから洗浄液を吐出するため、洗浄液が回転するウェハ1002に対して遠心力によって螺旋状のラインを描くように到達していくのは同様であり、やはりウェハ2001に十分に拡散していかない。さらに、図10に示す特許文献2に開示された構成では、洗浄液がウェハ2002と同様に回転する複数のノズル2011からウェハ2002の外周側に向けて吐出される。このため、洗浄液は、上記のように急激な螺旋状のラインを描いてウェハ2002に到達することはなく、遠心力の作用を受けて、ある程度の広がりをもって拡散しながら、緩やかな螺旋状のラインを描いて洗浄される。しかしながら、拡散の密度は均等ではなく、ウェハ2002の裏面において、ノズル2011付近の箇所とそれ以外の箇所とで洗浄液が付着する量が異なるので、洗浄ムラが生じることになる。そこで、このような不都合に対しては、ノズル2011を多数設けることにより、洗浄ムラが生じる部分を少なくすることができる。しかしながら、多数のノズル2011を設けると、ノズル2011を支持する構造が複雑になるだけでなく、ノズル2011に洗浄液を供給する配管の構造も複雑になる。また、ノズル2011の高さ調整を1つずつ行うために、全てのノズル2011の高さ調整を行うには多大な時間を要する。よって、本発明は、異物の洗浄および異物の再付着の抑制を図るために、洗浄液を吐出する構造を改良することにより、フォトリソグラフィ工程におけるウェハ裏面の洗浄効果を向上させるウェハ裏面洗浄装置およびその方法を簡素な構成で提供するものである。本発明のウェハ洗浄装置は、上記課題を解決するために、ウェハを載置する回転可能な保持台を有し、前記ウェハの裏面に洗浄液を吐出することにより前記ウェハを洗浄するウェハ洗浄装置であって、前記ウェハの裏面における前記ウェハの中心の周囲に向けて前記洗浄液を吐出するように連続的に形成されている開口部を有する洗浄液吐出手段を備えていることを特徴としている。本発明のウェハ洗浄方法は、上記の課題を解決するために、回転させた前記ウェハの裏面に洗浄液を吐出することにより前記ウェハを洗浄するウェハ洗浄方法であって、前記ウェハの裏面における前記ウェハの中心の周囲に向けて前記洗浄液を吐出するように連続的に形成されている開口部から前記洗浄液を吐出させることを特徴とするウェハ洗浄方法。上記構成によると、ウェハの裏面に環状に液を吐出することができる。これにより、ウェハの裏面に衝突した洗浄液は、ウェハが回転することによって生じる遠心力で、ウェハの外周方向に面状に広がっていく。これにより、ウェハの裏面における洗浄領域にほぼ均等に広がることになり、ムラなくウェハの裏面を洗浄することができる。また、副次的効果として、異物による露光装置による露光処理時のディフォーカスを回避することが可能となり、不良発生を低減することができる。本発明に係る洗浄装置では、前記開口部は、円形状に形成されていることが好ましい。上記構成によると、円状のウェハに対して、環状に洗浄液を吐出することができるため、よりムラなくウェハの裏面を洗浄することができる。また、前記開口部は、五角形以上の多角形に形成されていてもよい。上記構成によると、開口部を有する洗浄液吐出手段の設計の自由度を向上させることができる。前記洗浄液吐出手段は、前記洗浄液の吐出方向が前記ウェハの裏面に対して前記ウェハの外周側に傾斜するように形成されていることが好ましい。上記構成によると、ウェハの回転速度が遅く、回転によって生じる遠心力が小さくても、ウェハの外周部分に液を吐出することができる。また、前記洗浄液吐出手段は、異なる大きさの複数の開口部を有し、各開口部が中心を同一にするように形成されていることが好ましい。上記構成によると、ウェハの外周部にも開口部から直接洗浄液を吐出することができるので、よりムラなく洗浄することができる。また、本発明の他のウェハ洗浄装置は、上記の課題を解決するために、ウェハを保持する回転可能な保持台を有し、前記ウェハの裏面に洗浄液を吐出することにより前記ウェハを洗浄するウェハ洗浄装置であって、前記ウェハの裏面における前記ウェハの回転方向に交差する方向に沿った範囲で前記洗浄液を吐出するように連続的に形成されている開口部を有する洗浄液吐出手段を備えていることを特徴としている。本発明の他のウェハ洗浄方法は、上記の課題を解決するために、回転させたウェハの裏面に洗浄液を吐出することにより前記ウェハを洗浄するウェハ洗浄方法であって、前記ウェハの裏面における前記ウェハの回転方向に交差する方向に沿った範囲で前記洗浄液を吐出するように連続的に形成されている開口部から前記洗浄液を吐出させることを特徴としている。上記構成によれば、ウェハの裏面の洗浄領域にほぼ均等な圧力で洗浄液を衝突させることができ、よりムラなくウェハの裏面を洗浄することが可能となる。本発明に係るウェハ裏面洗浄装置は、半導体装置製造のフォトリソグラフィ工程におけるウェハ裏面洗浄を、ノズルにより洗浄液を吐出するのではなく、連続した開口部からウェハ裏面に洗浄液を吐出することにより行うので、ウェハ裏面を面で洗浄できる。そのため、ウェハの裏面の洗浄効率が向上し、異物または汚れをより確実に排除することができるという効果を奏する。実施形態1本発明の実施形態1について、図1および図2を参照して以下に説明する。ウェハ洗浄装置の基本構成図1aは、ウェハ洗浄装置1の構成を示す縦断面図である。図1bは、ウェハ洗浄装置1の構成を示す上面図である。図1cは、図1bに、ウェハ2を配置した状態のウェハ洗浄装置1の構成を示す上面図である。また、図2は、ウェハ洗浄装置1の要部の構成を拡大して示す縦断面図である。図1a~cに示すように、ウェハ洗浄装置1は、洗浄液を吐出することによりウェハ2の裏面を洗浄する装置であり、ウェハチャック3保持台、洗浄液吐出装置4洗浄液吐出手段、基台5、およびスピンモーター6を備えている。ウェハ洗浄装置1がレジストコート処理を行うコーターに用いられる場合、有機溶剤が洗浄液として用いられる。また、ウェハ洗浄装置1が現像処理のデベロッパー現像機に用いられる場合、純水が洗浄液として用いられる。洗浄液は、これらに限定されず、ウェハ洗浄装置1が使用される装置で用いられる各種の液であればよい。ウェハチャック3は、真空吸着によって、ウェハ2を保持する回転可能な装置である。ウェハチャック3は、ウェハ2を載置するターンテーブル3aを有しており、このターンテーブル3aのウェハ載置面に形成された単一又は複数の穴からの吸引力によってウェハ2を吸着する。また、ウェハチャック3は、ターンテーブル3aの底面側に回転軸3bを有しており、この回転軸3bがスピンモーター6の回転軸に接続されることにより、回転駆動される。図1aおよび図2に示すように、洗浄液吐出装置4は、洗浄液吐出機構7、給液管8、支持体9および導入管10から構成されている。洗浄液吐出機構7は、ウェハ2の裏面におけるウェハ2の中心の周囲に向けて洗浄液を吐出する機構であり、ウェハチャック3のターンテーブル3aを取り囲むように配置されている。洗浄液吐出機構7は、同じ幅を有し、それぞれが異なる直径を有する2つの環状部材円形部材から構成されており、これらの環状部材が対向するように配置されることにより、洗浄液を満たす空間が形成される。洗浄液吐出機構7は、本体部7a、絞り部7bおよび開口部7cによって構成されている。本体部7aは、洗浄液吐出機構7の下端縁から上端縁の付近にかけて上記の環状部材がほぼ平行に対向するように形成されている部分であり、ウェハ2の裏面に対してほぼ垂直となるように配置される。絞り部7bは、洗浄液吐出機構7の上端縁の付近から上端縁にかけて間隔が徐々に狭くなるように絞り込まれた部分である。開口部7cは、絞り部7bの先端に連続的に形成された環状に開口している部分であり、ウェハ2の裏面に対してほぼ垂直に洗浄液を吐出するように形成されている。なお、洗浄液吐出機構7は、絞り部7bにより開口部7cを狭く形成する構造に限らず、全体的に間隔が徐々に狭くなるように絞り込まれるような構造であってもよい。洗浄液吐出機構7は、一体に形成されているので、洗浄液吐出装置4の製造時に、その高さ調整を全体的にすればよい。このため、従来の洗浄ノズルと異なり、洗浄ノズル毎の高さ調整が必要なく、その調整に要する時間を短縮することができる。これは、後述する他の洗浄液吐出機構103,203,303,403,503図3~図7参照についても同様である。給液管8は、洗浄液吐出機構7に洗浄液を供給する管である。給液管8は、環状に形成されており、上部で全周にわたって洗浄液吐出機構7と連通している。また、給液管8は、その断面が、洗浄液吐出機構7の本体部7aを構成する環状部材間の間隔よりも大きい径を有する円形状に形成されており、洗浄液を貯留するスペースを確保している。支持体9は、洗浄液吐出機構7および給液管8を基台5上に支持する部材である。支持体9は、支持板9aおよび支柱9bから構成されている。支持板9aは、円板状に形成されており、外周縁に給液管8が接合されている。支持板9aの中央部には、ウェハチャック3の回転軸3bが回転自在となるように貫通している。支柱9bは、基台5上に支持板9aを支持するために設けられており、洗浄液吐出機構7より内側に所定の間隔をおいて3本以上配置されている。図2に示すように、導入管10は、外部から給液管8に洗浄液を導入するための管部材である。この導入管10は、支持板9aおよび支柱9bの内部に配置されており、一端が図示しない洗浄液供給装置に接続され、他端が給液管8に接続されている。なお、ウェハ洗浄装置1は、洗浄液を外部から導入する経路として、導入管10を用いているが、導入管10の代わりに、支持板9aおよび支柱9b内に形成された空洞の案内通路を用いてもよい。なお、給液管8および導入管10の断面形状は、円形が好ましいが、これには限定されず、例えば、三角形、四角形または多角形でもよい。ウェハ洗浄装置によるウェハの洗浄続いて、上記のように構成されるウェハ洗浄装置1によるウェハ2の裏面の洗浄ウェハ洗浄方法について説明する。まず、ウェハ2をウェハチャック3に保持させた状態でウェハチャック3をスピンモーター6によって回転駆動することにより、ウェハ2を回転させる。このときの回転数は、コーターによるレジスト塗布の所定膜厚形成時またはデベロッパーによる現像後乾燥時のウェハ2の回転数よりも少なく設定される。この状態で、洗浄液供給装置から洗浄液が送出されると、導入管10を通じて洗浄液が給液管8に導入される。洗浄液は、給液管8内に満たされると、給液管8の上端部から洗浄液吐出機構7内に侵入していく。やがて、洗浄液は、洗浄液吐出機構7内に満たされると、洗浄液の供給圧により、開口部7cからウェハ2の裏面ウェハ2の中心の周囲に向けて環状に吐出される。開口部7cの幅が絞り部7bにより本体部7aの幅よりも狭く形成されているので、洗浄液は、供給圧を高めなくても勢いよく吐出される。上記のように吐出された洗浄液は、ウェハ2の裏面に衝突すると、回転するウェハ2に生じる遠心力により、ウェハ2の外周方向に面状に広がっていく。これにより、洗浄液がウェハ2の裏面における洗浄領域にほぼ均等に広がっていくので、ムラなくウェハ2の裏面を洗浄することができる。変形例続いて、本実施形態の変形例について、図3および図4を参照して以下に説明する。図3および図4は、本変形例に係るウェハ洗浄装置101の構成を示す縦断面図である。図3に示すように、ウェハ洗浄装置101は、洗浄液吐出装置4を除いてウェハ洗浄装置1と同様の構成であり、洗浄液吐出装置4に代えて洗浄液吐出装置102を備えている。洗浄液吐出装置102は、洗浄液吐出機構7を除いて洗浄液吐出装置4と同様の構成であり、洗浄液吐出機構7に代えて洗浄液吐出機構103を備えている。洗浄液吐出機構103は、洗浄液吐出機構7と同様、給液管8とともに支持体9によって基台5上に支持されている。また、洗浄液吐出機構103は、洗浄液吐出機構7を構成する本体部7a、絞り部7bおよび開口部7cとそれぞれ断面形状が同じに形成される本体部103a、絞り部103bおよび開口部103cによって構成されている。ただし、洗浄液吐出機構103は、洗浄液吐出機構7と異なり、給液管8側の端部から開口部103cにかけて広がるように傾斜する形状に形成されている。換言すれば、洗浄液吐出機構103は、洗浄液の吐出方向がウェハ2の裏面に対して傾斜するように形成されている。その傾斜角度洗浄液の吐出方向は、ウェハ2の回転速度、洗浄液の供給圧等を考慮して、ウェハ2の裏面の洗浄効果が最も大きくなるように、最適値が設定される。洗浄液吐出機構103は、このような構造により、洗浄液をウェハ2の外周方向に広がりやすく吐出することができる。図4に示すように、ウェハ洗浄装置201は、洗浄液吐出装置4を除いてウェハ洗浄装置1と同様の構成であり、洗浄液吐出装置4に代えて洗浄液吐出装置202を備えている。洗浄液吐出装置202は、洗浄液吐出機構7を除いて洗浄液吐出装置4と同様の構成であり、洗浄液吐出機構7に代えて洗浄液吐出機構203を備えている。洗浄液吐出機構203は、洗浄液吐出機構7と同様、給液管8とともに支持体9によって基台5上に支持されている。また、洗浄液吐出機構203は、2つの環状部材円形部材が対向するように配置されることにより、洗浄液を満たす空間を形成する本体部203aを有している。洗浄液吐出機構203は、洗浄液吐出機構7と異なり、絞り部7bと同じ機能を有する部分を有していない代わりに、本体部203aが給液管8側の端部から開口部203bにかけて徐々に狭くなるように形成されている。これにより、洗浄液の供給圧を高めなくても、洗浄液を開口部203bから勢いよく吐出させることができる。また、洗浄液吐出機構203は、給液管8側の端部から開口部203bにかけてウェハ2の外周側に湾曲する反り返る形状に形成されている。換言すれば、洗浄液吐出機構203は、洗浄液の吐出方向がウェハ2の裏面に対して傾斜するように形成されている。洗浄液吐出機構203の湾曲の曲率洗浄液の吐出方向は、ウェハ2の回転速度、洗浄液の供給圧等を考慮して、ウェハ2の裏面の洗浄効果が最も大きくなるように、最適値が設定される。洗浄液吐出機構203は、このような構造により、洗浄液をウェハ2の外周方向に広がりやすく吐出することができる。上記のような洗浄液吐出装置102,202では、よりウェハ2の外周に向けて液を噴出することができる。そのため、洗浄液吐出装置4と比べて、ウェハ2の回転速度が遅く、ウェハ2の回転による遠心力が小さくても、洗浄液が、ウェハ2の外周部分にまで行き届くので、ウェハ2の外周部分を洗浄することができる。なお、洗浄液吐出機構の形状は、上記の変形例を含む実施形態1の形状のみに限定されることはなく、洗浄液をウェハ2の裏面の洗浄効果を高めるように噴出することができる形状であればどのような形状でもよい。また、上記の変形例は、後述する実施形態2,3のいずれの構成にも適用が可能である。実施形態2本発明の実施形態2について、図2および図5を参照して以下に説明する。ウェハ洗浄装置の基本構成図5aは、本実施形態に係るウェハ洗浄装置301の縦断面図を表す図である。図5bは、ウェハ洗浄装置301の上面図である。また、図5cは、ウェハ洗浄装置301にウェハ2を配置した状態の上面図である。なお、本実施形態において、前述の実施形態1における構成要素と同等の機能を有する構成要素については、同一の符号を付記して、その説明を省略する。図5a~cに示すように、本実施形態に係るウェハ洗浄装置301は、洗浄液を吐出することによりウェハ2の裏面を洗浄する装置であり、実施形態1のウェハ洗浄装置1と同様、ウェハチャック3、基台5およびスピンモーター6を備えている。また、ウェハ洗浄装置301は、洗浄液吐出装置302洗浄液吐出手段を備えている。洗浄液吐出装置302は、洗浄液吐出機構7,303、給液管8,304、支持体305および導入管10,306から構成されている。洗浄液吐出機構303は、ウェハ2の裏面におけるウェハ2の中心の周囲に向けて洗浄液を吐出する機構であり、ウェハチャック3のターンテーブル3aを取り囲むように、洗浄液吐出機構7のさらに外周側に配置されている。洗浄液吐出機構303は、洗浄液吐出機構7と同様、同じ幅を有し、それぞれが異なる直径を有する2つの環状部材から構成されており、これらの環状部材が対向するように配置されることにより、洗浄液を満たす空間が形成される。図2に示すように、洗浄液吐出機構303は、本体部303a、絞り部303bおよび開口部303cによって構成されている。本体部303aは、洗浄液吐出機構303の下端縁から上端縁の付近にかけて上記の環状部材がほぼ平行に対向するように配置されている部分であり、ウェハ2の裏面に対してほぼ垂直となるように配置される。絞り部303bは、洗浄液吐出機構303の上端縁の付近から上端縁にかけて間隔が徐々に狭くなるように絞り込まれた部分である。開口部303cは、絞り部303bの先端に連続的に形成された環状に開口している部分であり、ウェハ2の裏面に対してほぼ垂直に洗浄液を吐出するように形成されている。また、開口部303cは、開口部7cと中心を同一にするように形成されている。給液管304は、洗浄液吐出機構303に洗浄液を供給する管である。給液管304は、環状に形成されており、上部で全周にわたって洗浄液吐出機構303と連通している。また、給液管304は、その断面が、洗浄液吐出機構303の本体部303aを構成する環状部材間の間隔よりも大きい径を有する円形状に形成されており、洗浄液を貯留するスペースを確保している。支持体305は、洗浄液吐出機構7,303および給液管304を基台5上に支持する部材である。支持体305は、支持板305aおよび支柱305b,305cから構成されている。支持板305aは、円板状に形成されており、外周縁に給液管304が接合され、給液管304より内側に給液管8が接合されている。支持板305aの中央部には、ウェハチャック3の回転軸3bが回転自在となるように貫通している。支柱305bは、基台5上に支持板305aを支持するために設けられており、洗浄液吐出機構7より内側に所定の間隔をおいて3本以上配置されている。同様に、支柱305cは、基台5上に支持板305aを支持するために設けられており、洗浄液吐出機構7,303の間に所定の間隔をおいて3本以上配置されている。図5bおよび図2に示すように、導入管10は、ウェハ洗浄装置1における配置とは異なり、支持板305aおよび支柱305bの内部に配置されている。一方、導入管306は、支持板305aおよび支柱305cの内部に配置されており、一端が図示しない洗浄液供給装置に接続され、他端が給液管304に接続されている。なお、ウェハ洗浄装置301は、洗浄液を外部から導入する経路として、導入管10,306を用いているが、導入管10,306の代わりに、支持板305aおよび支柱305b,305c内に形成された空洞の案内通路を用いてもよい。また、給液管304および導入管306の断面形状は、給液管8および導入管10の断面形状と同様、円形に限らず、例えば、三角形、四角形または多角形でもあってもよい。また、洗浄液吐出装置302は、2つの洗浄液吐出機構7,303を備えているが、これらと同様の構成の洗浄液吐出機構を3つ以上備えていてもよい。ウェハ洗浄装置によるウェハの洗浄続いて、上記のように構成されるウェハ洗浄装置301によるウェハ2の裏面の洗浄ウェハ洗浄方法について説明する。まず、ウェハ洗浄装置1と同様、ウェハ2をウェハチャック3に保持させた状態で回転させる。この状態で、洗浄液供給装置から洗浄液が送出されると、導入管10,306を通じて洗浄液が給液管8,304に導入される。洗浄液は、給液管8,304の上端部から洗浄液吐出機構7,303内に侵入していき、洗浄液吐出機構7,303内に満たされると、洗浄液の供給圧により、開口部7c,303cからウェハ2の裏面ウェハ2の中心の周囲に向けて環状に吐出される。開口部7c,303cの幅が絞り部7b,303bにより本体部7a,303aの幅よりも狭く形成されているので、洗浄液は、供給圧を高めなくても勢いよく吐出される。上記のように吐出された洗浄液は、ウェハ2の裏面に衝突すると、回転するウェハ2に生じる遠心力により、ウェハ2の外周方向に面状に広がっていく。これにより、洗浄液がウェハ2の裏面における洗浄領域にほぼ均等に広がっていくので、ムラなくウェハ2の裏面を洗浄することができる。また、ウェハ洗浄装置301は、内周側の洗浄液吐出機構7に加えて外周側に洗浄液吐出機構303が設けられているので、ウェハ洗浄装置1と比べて、ウェハ2の外周側に強力に洗浄液を吐出することができる。これにより、ウェハ2の外周側の洗浄効果をより高めることができる。2つの洗浄液吐出機構7,303を用いた洗浄は、同時に行ってもよいし、個別に行ってもよい。実施形態3本発明の実施形態3について、図2および図6を参照して以下に説明する。ウェハ洗浄装置の基本構成図6aは、本実施形態に係るウェハ洗浄装置401の構成を示す縦断面図である。図6bは、ウェハ洗浄装置401の構成を示す上面図である。なお、本実施形態において、前述の実施形態1,2における構成要素と同等の機能を有する構成要素については、同一の符号を付記して、その説明を省略する。図6に示すように、ウェハ洗浄装置401は、洗浄液を吐出することによりウェハ2の裏面を洗浄する装置であり、実施形態1のウェハ洗浄装置1と同様、ウェハチャック3、基台5およびスピンモーター6を備えている。また、ウェハ洗浄装置401は、洗浄液吐出装置402洗浄液吐出手段を備えている。洗浄液吐出装置402は、洗浄液吐出機構403、給液管404、支持体405および導入管406から構成されている。洗浄液吐出機構403は、ウェハ2の裏面におけるウェハ2の中心の周囲に向けて洗浄液を吐出する機構であり、ウェハチャック3のターンテーブル3aを取り囲むように配置されている。洗浄液吐出機構403は、同じ幅を有し、それぞれが異なる外形サイズを有する2つの五角形状部材から構成されており、これらの五角形状部材が対向するように配置されることにより、洗浄液を満たす空間が形成される。これにより、洗浄液吐出機構403は、環状に形成された洗浄液吐出機構7と異なり、五角形に形成されている。図2に示すように、洗浄液吐出機構403は、本体部403a、絞り部403bおよび開口部403cによって構成されている。本体部403aは、洗浄液吐出機構403の下端縁から上端縁の付近にかけて上記の五角形状部材がほぼ平行に対向するように配置されている部分であり、ウェハ2の裏面に対してほぼ垂直となるように配置される。絞り部403bは、洗浄液吐出機構403の上端縁の付近から上端縁にかけて間隔が徐々に狭くなる部分である。開口部403cは、絞り部403bの先端に連続的に形成された五角形状に開口している部分であり、ウェハ2の裏面に対してほぼ垂直に洗浄液を吐出するように形成されている。給液管404は、洗浄液吐出機構403に洗浄液を供給する管である。給液管404は、洗浄液吐出機構403と同様に五角形に形成されており、上部で全周にわたって洗浄液吐出機構403と連通している。また、給液管404は、その断面が、洗浄液吐出機構403の本体部403aを構成する五角形状部材間の間隔よりも大きい径を有する円形状に形成されており、洗浄液を貯留するスペースを確保している。支持体405は、洗浄液吐出機構403および給液管404を基台5上に支持する部材である。支持体405は、支持板405aおよび支柱405bから構成されている。支持板405aは、五角形に形成されており、外周縁に給液管404が接合されている。支持板405aの中央部には、ウェハチャック3の回転軸3bが回転自在となるように貫通している。支柱405bは、基台5上に支持板405aを支持するために設けられており、洗浄液吐出機構403より内側に所定の間隔をおいて3本以上配置されている。図2に示すように、導入管406は、外部から給液管404に洗浄液を導入するための管部材である。この導入管406は、支持板405aおよび支柱405bの内部に配置されており、一端が図示しない洗浄液供給装置に接続され、他端が給液管404に接続されている。なお、ウェハ洗浄装置401は、洗浄液を外部から導入する経路として、導入管406を用いているが、導入管406の代わりに、支持板405aおよび支柱405b内に形成された空洞の案内通路を用いてもよい。また、給液管404および導入管406の断面形状は、給液管8および導入管10の断面形状と同様、円形に限らず、例えば、三角形、四角形または多角形でもあってもよい。ウェハ洗浄装置による洗浄効果上記のように構成されるウェハ洗浄装置401では、洗浄液吐出機構403が直線部分を有する五角形に形成されているので、ウェハ洗浄装置1と比べて、洗浄液の吐出方向の均一性がやや劣る。しかしながら、開口部403cが開口部7cと同様に連続して形成されていることから、洗浄液吐出機構7と同様、面的にウェハ2の裏面を洗浄することができる。また、洗浄液吐出機構403の形状は、五角形に限定されることはなく、六角形以上の多角形でもよい。また、洗浄液吐出機構403のすべての辺の長さが同一である必要もない。ただし、洗浄液の吐出方向の均一性を向上させる上で、洗浄液吐出機構403は円形状に近いことが望まれるので、五角形以上の多角形であることが好ましい。このように洗浄液吐出機構403の形状として多角形を採用することで、洗浄液吐出装置402の設計の自由度を向上させることができる。実施形態4ウェハ洗浄装置の基本構成本発明の実施形態4について、図7を参照して以下に説明する。図7aは、本実施形態に係るウェハ洗浄装置501の構成を示す縦断面図である。図7bは、ウェハ洗浄装置501の構成を示す上面図である。図7cは、ウェハ洗浄装置501の要部の構成を拡大して示す縦断面図である。なお、本実施形態において、前述の実施形態1における構成要素と同等の機能を有する構成要素については、同一の符号を付記して、その説明を省略する。図7a~cに示すように、ウェハ洗浄装置501は、洗浄液を吐出することによりウェハ2の裏面を洗浄する装置であり、実施形態1のウェハ洗浄装置1と同様、ウェハチャック3、基台5およびスピンモーター6を備えている。また、ウェハ洗浄装置501は、洗浄液吐出装置502洗浄液吐出手段を備えている。洗浄液吐出装置502は、洗浄液吐出機構503、給液管504、支持体505および導入管506から構成されている。洗浄液吐出機構503は、ウェハ2の裏面におけるウェハ2の回転方向Rに交差する方向に沿った範囲で洗浄液を吐出する機構であり、直線状に形成されている。洗浄液吐出装置502は、ウェハ2の裏面の洗浄領域に洗浄液を吐出するように、その長手方向がウェハ2の回転方向Rに交差するように配置されている。例えば、洗浄液吐出機構503は、その長手方向が、ウェハチャック3の回転の中心Oに直交する破線にて示す直線ウェハ2の半径方向に沿った方向と一致するように配置されている。洗浄液吐出装置502aまたは502bは、図8aまたはbに示すように、その長手方向が上記の直線に対して傾斜するように配置されていてもよい。図8aの洗浄液吐出装置502aは、ウェハ2の外周側の端部がウェハ2の内周側の端部よりも上記の直線から回転方向R側に遠くなるように傾斜している。また、図8bの洗浄液吐出装置502bは、ウェハ2の外周側の端部がウェハ2の内周側の端部よりも上記の直線から回転方向Rと反対側に遠くなるように傾斜している。ただし、傾斜角度は適宜調整してもよい。図7cに示すように、洗浄液吐出機構503は、本体部503a、絞り部503bおよび開口部503cによって構成されている。本体部503aは、洗浄液吐出機構503の下端縁から上端縁の付近にかけて対向する壁部がほぼ平行となるように形成されている部分であり、ウェハ2の裏面に対して垂直となるように配置される。絞り部503bは、洗浄液吐出機構503の上端縁の付近から上端縁にかけて間隔が徐々に狭くなるように絞り込まれた部分である。開口部503cは、絞り部503bの先端に連続的に形成された直線状に開口している部分である。開口部503cは、その長手方向が洗浄液吐出機構503の長手方向と一致するように形成されている。開口部503cの形状は、直線状に限らず、湾曲形状であったり、途中で屈曲するような形状であったりしてもよい。また、開口部503cは、洗浄液をウェハ2の裏面に対して垂直に吐出するように形成されていてもよいし、洗浄液をウェハ2の裏面に対して傾斜して吐出するように形成されていてもよい。ただし、ウェハ2の内側に液体が流れることを防止するために、開口部503cは、より直線状に近いことが好ましい。給液管504は、洗浄液吐出機構503に洗浄液を供給する管である。給液管504は、洗浄液吐出機構503と同様に直線状に形成されており、上部で全長にわたって洗浄液吐出機構503と連通している。また、給液管504は、その断面が、洗浄液吐出機構503の本体部503aの厚さよりも大きい径を有する円形状に形成されており、洗浄液を貯留するスペースを確保している。支持体505は、洗浄液吐出機構503および給液管504を基台5上に支持する壁状の部材である。支持体505の内部には、導入管506が配置されている。導入管506は、外部から給液管504に洗浄液を導入するための管部材であり、一端が図示しない洗浄液供給装置に接続され、他端が給液管504に接続されている。なお、導入管506は、1経路のみ設けられているが、洗浄液の供給量を考慮して2経路以上設けられていてもよい。また、ウェハ洗浄装置501は、洗浄液を外部から導入する経路として、導入管506を用いているが、導入管506の代わりに、支持体505内に形成された空洞の案内通路を用いてもよい。また、給液管504および導入管506の断面形状は、給液管8および導入管10の断面形状と同様、円形に限らず、例えば、三角形、四角形または多角形でもあってもよい。ウェハ洗浄装置によるウェハの洗浄続いて、上記のように構成されるウェハ洗浄装置501によるウェハ2の裏面の洗浄ウェハ洗浄方法について説明する。まず、ウェハ洗浄装置1と同様、ウェハ2をウェハチャック3に保持させた状態で回転させる。この状態で、洗浄液供給装置から洗浄液が送出されると、導入管505を通じて洗浄液が給液管504に導入される。洗浄液は、給液管504の上端部から洗浄液吐出機構503内に侵入していき、洗浄液吐出機構503内に満たされると、洗浄液の供給圧により、開口部503cからウェハ2の裏面ウェハ2の回転方向Rに交差する方向に沿った範囲に向けてウェハ2の回転方向に交差する方向に沿った範囲で面状に吐出される。開口部503cの幅が絞り部503bにより本体部503aの幅よりも狭く形成されているので、洗浄液は、供給圧を高めなくても勢いよく吐出される。上記のように吐出された洗浄液は、回転するウェハ2における洗浄領域にほぼ均等な圧力で衝突する。これにより、ウェハ洗浄装置1,101,201,301,401と比べて、よりムラなくウェハ2の裏面を洗浄することができる。また、ウェハ2の回転が低速であっても、ウェハ2の裏面におけるすべての洗浄領域が、洗浄液吐出装置502の上方を通過するため、ウェハ2を面で洗浄することが可能となる。付記事項本発明は、以下のようにも表現することができる。本発明のウェハ洗浄装置は、円形でスリット状の吐出機構にて裏面を洗浄するコーター、デベロッパー現像機といった設備に用いられる。あるいは、本発明のウェハ洗浄装置は、大小2つ以上の円形でスリット状の吐出機構を備えるコーター、デベロッパー現像機といった設備に用いられる。"