"露光光源からの露光光を遮る遮光部と前記露光光を透過させる透光部とを備え、一定方向に搬送中の露光対象物の露光に使用されるフォトマスクであって、前記透光部を介して露光される露光対象部分の、前記露光対象物の搬送方向と垂直な方向の全幅に渡って露光量が等しくなるように、前記透光部の各部の前記搬送方向の長さが決定されたことを特徴とするフォトマスク。前記透光部の各部の前記搬送方向の長さは、前記各部における露光光源からの露光光の照度に応じて決定されることを特徴とする請求項1に記載のフォトマスク。前記透光部の各部の前記搬送方向の長さを長くすることにより前記露光量を増加させ、短くすることにより前記露光量を減少させることを特徴とする請求項1又は2に記載のフォトマスク。しかし、複数の露光光源を使用して露光を行う場合、隣り合う露光光源からの露光光が重複した領域とそれ以外の領域との間で照度が異なり、基板に露光ムラが発生するおそれがあった。そこで、このような問題点に対処し、本発明が解決しようとする課題は、基板での露光ムラの発生を抑制することができるフォトマスクを提供することにある。前記課題を解決するために、本発明によるフォトマスクは、露光光源からの露光光を遮る遮光部と前記露光光を透過させる透光部とを備え、一定方向に搬送中の露光対象物の露光に使用されるフォトマスクであって、前記透光部を介して露光される露光対象部分の、前記露光対象物の搬送方向と垂直な方向の全幅に渡って露光量が等しくなるように、前記透光部の各部の前記搬送方向の長さが決定されたものである。本発明によるフォトマスクによれば、透光部を介して露光される露光対象物の露光対象部分の搬送方向と垂直な方向の全幅に渡って露光量が等しくなるように、透光部の各部の搬送方向の長さが決定されるため、露光光源からの露光光の照度にムラがある場合であっても、基板の露光量を前記全幅に渡って等しくすることができる。したがって、基板での露光ムラの発生を抑制することができる。以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明によるフォトマスク1の実施形態を示す説明図である。露光光源3は、後述する基板2の搬送方向以下単に搬送方向という。Aと垂直な方向以下単に垂直方向という。Bに並べられた3つの光源3a,3b,3cからなり、図1aに示すように、隣り合う光源から照射された露光光の照射領域の少なくとも一部が重複するように配置されている。この露光光源3により露光される基板2は、フォトマスク1を介して露光される露光対象物であり、ガラスやシリコン等からなる。基板2は、半導体素子、ディスプレイパネル、プリント基板等として使用される。この基板2の表面には、露光によりパターニングが行われる露光対象部分21が形成されている。露光対象部分21には、ポジ型のフォトレジストやネガ型のフォトレジストが塗布されている。なお、露光対象物は、フィルムであってもよい。この基板2は、一定の搬送方向Aに搬送されながら露光対象部分21を露光される。基板2の露光中の搬送速度Vm/sは一定である。露光対象部分21上の各部における露光量EJ/m2は、前記各部での露光光の照度IW/m2に露光光の照射時間Tsを積算して求められるE=I×T。露光光源3と基板2との間には、フォトマスク1が配置されている。フォトマスク1は、ガラスや石英等からなり、図1bに示すように、垂直方向Bに長い長方形に形成されている。なお、フォトマスク1の形状は長方形に限られず任意の形状から選択される。このフォトマスク1は、露光光源3からの露光光を遮る遮光部11と、露光光を透過させる透光部12とを備える。遮光部11には、クロム等の金属が塗布されている。透光部12は、垂直方向Bに平行な長辺13と搬送方向Aに平行な短辺14とからなる略長方形に形成されている。この透光部12は、前記露光対象部分21の垂直方向Bの全幅Wmに渡って形成されている。すなわち、透光部12の長辺13の長さL1mは、露光対象部分21の垂直方向Bの全幅W以上の長さとなる。なお、長辺13の長さL1及び短辺14の長さL2mは、用途に応じて適宜決定される。透光部12の各部の搬送方向Aの長さlmは、透光部12を介して露光される露光対象部分21の垂直方向Bの全幅Wに渡って露光量Eが等しくなるように決定される。上記の通り、基板2の露光量Eは照度I×照射時間Tで求められる。そして、露光対象部分21上の各部における照射時間Tは、前記長さlを搬送速度Vで除算して求められるT=l/V。したがって、露光対象部分21上の各部での露光量Eは、露光量E=照度I×長さl/搬送速度Vにより求められる。すなわち、露光量Eは長さlに比例する。露光量Eは、長さlを長くすると増加し、短くすると減少する。ここで、搬送速度Vは一定であるから、長さlは、露光対象部分21の各部における照度Eに応じて決定される。基板2を露光光源3により露光した場合、図1dに示すように、複数の露光光源3a,3b,3cから照射された複数の露光光が重複した領域以下重複領域という。Xと、露光光が重複しない領域以下非重複領域という。Yとでは、照度Iが異なった値となる。照度Iと照度Eとの大小関係は、露光光の重複の度合いによって変化する。例えば、前記非重複領域Y内の露光光により露光される露光対象部分21上の点P1と、前記重複領域X内の露光光により露光される露光対象部分21上の点P2と、について比較すると、点P1は照度I1の露光光を照射され、点P2は照度I2の露光光を照射される。点P1に照射される露光光が透過する透光部12上の部分の長さl1は透光部12の短辺14と等しい。したがって、点P1における露光量E1は、露光量E1=照度I1×長さl1短辺L2/搬送速度Vにより求められる。これに対して、点P2における露光量E2は、露光量E2=照度I2×長さl2/搬送速度Vにより求められる。ここで、長さl2は、露光量E1=露光量E2となるように決定されるから、長さl2=短辺L2×照度I1/照度I2に決定される。本実施例においては、図1dに示すように、照度I1>照度I2であるから、長さl2は、短辺L2よりも長い。透光部12の形状は、例えば、図1bに示すような、長方形の長辺の一部が突出した形状とされる。この形状は、長さlが前記条件を満たしていればどのような形状であってもよい。以上のように、透光部12の各部の搬送方向Aの長さlが決定されるため、図1eに示すように、基板2の露光対象部分21上の各部で露光量Eが等しくなる。したがって、露光光源3からの露光光の照度Iにムラがあった場合であっても、基板2での露光ムラの発生を抑制することができる。また、図2bに示すように、重複領域Xにおける照度I2が非重複領域Yにおける照度I1より大きい場合には、図2aに示すように、長さl2は長さl1より短くなる。さらに、図3bに示すように、重複領域Xにおける照度I2が前記照度I1より大きく、重複領域Xにおける照度I3が前記照度I1より小さい場合には、長さl2は長さl1より短く、長さl3は長さl1より長くなる。またさらに、透光部12は、図4に示すように、一部が分離して形成されてもよい。この場合、各部の長さlとは、分離して形成された2つの透光部12の各部の長さMm及びmmの和を意味するl=Mm。なお、以上説明したとおり、長さlの決定は、露光対象部分21の各部の照度Iに応じて決定されるが、露光対象部分21の各部を露光する露光光が透過する透光部12の各部における露光光の照度に応じて決定することとしてもよい。また、フォトマスク1には、用途に応じてアライメントマークや露光光を部分的に透過する半透光部分を設けてもよい。"