"光を電荷に変換する受光素子と、受光素子上に形成された色フィルタと、受光素子上に形成された少なくともひとつ以上のマイクロレンズとから構成される画素が複数配置された画素領域を備えた撮像素子において、前記色フィルタの膜厚を、前記画素領域の中心部から周辺部に向かって徐々に変化させ、さらに、前記マイクロレンズを、色フィルタの厚みに応じたずらし量で配置し、シェーディングを補正することを特徴とする撮像素子。色フィルタが複数色で配列され、前記膜厚の変化量を各色フィルタ毎に設定することにより、色シェーディングを補正することを特徴とする請求項1に記載の撮像素子。光を電荷に変換する受光素子と、受光素子上に形成された色フィルタと、受光素子上に形成された少なくともひとつ以上のマイクロレンズとから構成される画素が複数配置された画素領域を備えた撮像素子において、前記色フィルタの膜厚を、前記画素領域の中心部から周辺部に向かって徐々に変化させ、さらに、前記マイクロレンズを、色フィルタの厚みに応じたずらし量で配置し、シェーディングを補正することを特徴とする撮像素子を有し、周辺部の画素において、色フィルタの厚みに応じた係数を用いて画像処理を行う画像補正手段を有し、シェーディングを補正することを特徴とする撮像装置。色フィルタが複数色で配列され、前記膜厚の変化量を各色フィルタ毎に設定することにより、色シェーディングを補正することを特徴とする請求項3に記載の撮像装置。しかし、一般的にSHD量は、使用するレンズ毎に異なることが知られている。そのために、色フィルタの薄膜化でSHDを低減させる場合は、使用するレンズにあわせたフィルタ厚の調整が必要になってしまう。また、同一のレンズにおいても、SHD量はズーム位置や絞り径等の変化によっても変化するため、色フィルタの薄膜化の調整だけでは、汎用性にかけ、SHDを低減出来ない場合もある。上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係わる撮像素子は、光を電荷に変換する受光素子と、受光素子上に形成された色フィルタと、受光素子上に形成された少なくともひとつ以上のマイクロレンズとから構成される画素が複数配置された画素領域を備えた撮像素子において、前記色フィルタの膜厚を、前記画素領域の中心部から周辺部に向かって徐々に変化させ、さらに、前記マイクロレンズを、色フィルタの厚みに応じたずらし量で配置し、シェーディングを補正することを特徴とする。本発明によれば、色フィルタの薄膜化にあわせて、マイクロレンズのずれ量を変化させることで、色SHDを軽減することができ、画質を向上させることができる。次に、本発明を実施するための最良の形態について説明する。[実施例1]図1は本実施形態の構成を示すブロック図である。100は撮像装置であり、本実施形態ではデジタルカメラである。撮像装置100の内部の機能を記述すると、101は被写体からの光を撮像素子102へ集光するレンズである。102は撮像素子であり、光学系を通して入射した光を光電変換してアナログの電気信号に変換する。103はAD変換部であり、撮像素子102から入力されたアナログ信号をデジタル信号へ変換する。ここで、AD変換部には、AD変換処理を行う際に、アナログ信号は予め決めておいた値を基準としたデジタル値に変換するOBクランプ回路も含まれている。104は信号処理部であり、AD変換部103より入力される画素信号に対して画像信号補正処理を行う。105はタイミング生成部以下、TGであり、全体制御演算部106からの入力信号を元に、撮像素子102、AD変換部103、信号処理部104の処理を同期させるための信号を生成する。106は全体制御演算部であり、固体撮像装置101の動作に応じて必要な処理および演算を行う。107は記憶部であり、撮影データ、調整データ、画像データ、信号処理用データ等を記憶する。108は記録部であり、信号処理部104からの信号をもとにして全体制御演算部106にて生成される画像データを記録する。109は操作部であり、釦やダイヤル等のヒューマンIFで構成されていて、撮像装置の動作命令をする。110は表示部であり、信号処理部104からの信号をもとにして全体制御演算部106にて生成される画像データを表示したり、操作部109に入力された操作に対応したアイコン等を表示したりする。次に図1に示したデジタルカメラ100に含まれる撮像素子102の模式図を図2に示す。図3aは、図2における、撮像素子の中央部A-A線の断面図である。301は基板であり、シリコンウエハなどの半導体からなる。302は受光素子であり、基板301上に形成され、レンズ101より集光された光量に応じて電荷が発生する。304は色フィルタであり、第一の保護膜303を介して形成される。図3において、網掛けしているフィルタと、網掛けしていないフィルタは異なる色の色フィルタであることを表している。306はマイクロレンズであり、第二の保護膜305を介して受光素子302の真上に形成される。これにより、レンズ101を通して入射する光の集光効率を、さらに向上させることができる。これらの受光素子302と、第一の保護膜303と、色フィルタ304と、第二の保護膜305と、マイクロレンズ306などにより、ひとつの単位画素307が構成される。この単位画素307が縦と横に複数配置されて固体撮像素子を形成している。図3bは、固体撮像素子102の周辺部B-B線の断面図である。図3aに記載の中央部の断面図とは異なり、周辺部で発生するSHDを補正するため、色フィルタ304の膜厚は周辺部にいくにつれて薄膜化される。これによって、光の透過率が高くなり、SHDを軽減することができる。そのため、色フィルタ304の膜厚の変化量は、SHDの発生度合いによって決定される。さらに、色フィルタ304の上部に形成される第二の保護膜305の厚みは一定のため、第二の保護膜上部の高さは、周辺部にいくにつれて低くなる。そして、マイクロレンズ306は、第二の保護膜305の上に形成されるため、第二の保護膜の高さの変化に応じて、マイクロレンズ306の高さも周辺部につれて低くなる。つまり、中心部の厚みをT1とし、周辺部の厚みをT2とした場合、T2はT1と比較して小さくなる。加えて、マイクロレンズ306は、受光素子302の真上ではなく、中心方向にずれて形成される。これは、図3bで示したように、レンズ101を通して入射する光が、中央部とは異なり、斜め方向から入射するためであり、マイクロレンズをずらすことで、受光素子に効率よく集光させることができる。これによって、周辺部で発生するSHDを軽減させることができる。マイクロレンズ306をずらして形成する際に、本実施例における特徴として、マイクロレンズ306のずれ量を、色フィルタの厚みが薄くなるにつれて、少なくするように配置する。これは、色フィルタの薄膜化によって、受光素子302から第二の保護膜305の上面までの光学的な距離が変化するためである。図4に従来例におけるマイクロレンズ401の位置と、本実施例におけるマイクロレンズ402の位置を示す。図4より、本実施例のマイクロレンズ402のずれ量は、従来例401と比べ、少なく抑えられている。次に、従来例と本実施例の撮像素子において、周辺部に入射する角度がズーム位置や絞り径によって変化した場合を図5に示す。従来例を表した図5aでは、斜入射の光は集光できているが、垂直入射した光は受光素子に集光できていない。一方、本実施例を表した図5bでは、どちらの光も受光素子に集光されている。つまり、本実施例においては、ズーム位置や絞り径の変化に伴う入射角度の変化に対して、従来例と比較し許容度を大きくすることができる。さらに、周辺部で発生する、色SHDも低減させるため、AD変換機103を通して信号処理部104に入力された信号値に対して、補正を行う。例えば、下記の数式1のように各色フィルタの中心部の厚みをT0、受光する画面内の座標x,yにおける厚みをTx,yとし、それぞれの厚みの比から算出した係数Aを掛け合わせる。R’G’B’=ATx,y/T0×RGB1このように、撮像素子の周辺部において、色フィルタを薄膜化させると同時にマイクロレンズのずらし量も変え、さらに信号処理部104において、補正計算を行うことで、周辺部で発生するSHDを低減することができる。本実施例においては、第二の保護膜303の上面にのみ、マイクロレンズが形成される構成に関して例示したが、第二の保護膜305と受光素子302の間にもマイクロレンズを形成する構成においても、色フィルタの膜厚に応じて、ずれ量を変化することで、本実施例と同様の効果を得ることができる。[実施例2]第一の実施例においては、周辺部で発生するSHDを軽減するために、色フィルタを薄膜化することに関して例示した。しかし、色フィルタの薄膜化で色SHDも軽減するためには、薄膜化の度合いを色ごとに異ならせる必要がある。第二の実施例での撮像装置の構成、中心部の画素構造は第一の実施例と同様である。以下では、周辺部の画素構造に着目して例示する。本実施例の撮像素子の周辺部の画素構造を図5に示す。501は基板であり、シリコンウエハなどの半導体からなる。502は受光素子であり、基板501上に形成され、レンズ101より集光された光量に応じて電荷が発生する。504は色フィルタであり、第一の保護膜503を介して形成される。506はマイクロレンズであり、第二の保護膜505を介して形成される。本実施例においても、色フィルタ504の膜厚は周辺部に行くにつれて薄膜化される。色フィルタ504の膜厚の変化量は、色SHDの発生度合いによって決定される。つまり、周辺につれて薄膜化される度合いは、色ごとにことなる。さらに、色フィルタ504の上に形成される第二の保護膜505の厚みは一定のため、第二の保護膜の上部は、色フィルタの厚みの変化に応じて凹凸になる。そして、マイクロレンズ506は、第二の保護膜505の凹凸上に形成されるため、第二の保護膜の凹凸に応じた段差が生じる。本実施例においても、マイクロレンズ506は、受光素子502の真上ではなく、中心方向にずれて形成される。マイクロレンズ506のずれ量は、色フィルタの厚みが薄くなるにつれて、ずれ量を少なくするように配置される。これは、色フィルタの凹凸によって、受光素子502から第二の保護膜505の上面までの光学的な距離が変化するためである。ここで、本実施例における色フィルタの薄膜化の度合いは、色ごとに異なるため、マイクロレンズのずれ量は色ごとに異なる。図6に示すように、膜厚が薄い色フィルタの上に配置されたマイクロレンズのずれ量d1に対して、膜厚が厚い色フィルタの上に配置されたマイクロレンズのずれ量d2は大きくなっている。このように、撮像素子の周辺部において、色フィルタを薄膜化させると同時にマイクロレンズのずらし量も変えることで、周辺部で発生するSHDを低減することができる。本実施例においても、第二の保護膜303の上面にのみ、マイクロレンズが形成される構成に関して例示したが、第二の保護膜305と受光素子302の間にもマイクロレンズを形成する構成においても、色フィルタの膜厚に応じてずれ量を変化することで、本実施例と同様の効果を得ることができる。"