"測定対象物に塗布された塗布物質の塗布状態を測定する方法であって、前記測定対象物を撮像して前記測定対象物のスペクトル画像を取得する画像取得ステップと、前記画像取得ステップにより得られた前記スペクトル画像に基づいて、前記塗布物質の種類を判別する塗布物判別ステップと、前記画像取得ステップにより得られた前記スペクトル画像に基づいて、前記塗布物質の塗布量を測定する塗布量測定ステップと、を備えることを特徴とする塗布状態測定方法。前記塗布物判別ステップ及び前記塗布量測定ステップの前に、既知の塗布物質のスペクトルと前記既知の塗布物質の塗布量を変更したときに得られるスペクトルとに基づいて、前記塗布物質の種類を判別するための塗布物基準スペクトルと、塗布量を検量するための検量基準スペクトルと、を予め作成する基準作成ステップをさらに備え、前記塗布物判別ステップでは、前記基準作成ステップにおいて作成された塗布物基準スペクトルと前記画像取得ステップにおいて取得された前記スペクトル画像の各位置でのスペクトルとを比較することにより前記塗布物質の種類を判別し、前記塗布量測定ステップでは、前記基準作成ステップにおいて作成された塗布量基準スペクトルと前記画像取得ステップにおいて取得された前記スペクトル画像の各位置でのスペクトルとを比較することにより前記塗布物質の塗布量を測定することを特徴とする請求項1記載の塗布状態測定方法。前記画像取得ステップにおいて、波長800~2500nmの波長範囲における前記スペクトル画像を取得することを特徴とする請求項1又は2記載の塗布状態測定方法。しかしながら、特許文献1~4に示された測定方法では、塗布量や厚みを非破壊で測定することは可能であるものの、塗布された物質の種類を特定することできず、例えば塗布された物質が領域によって偏りがあるとしても、確認することができない。また、これらの文献に示された測定方法における測定系では、測定領域について一つの情報しか得られないため、例えば塗装された物質の塗布量の分布を確認する必要がある場合には、従来の測定系では十分な測定精度が実現できない場合がある。本発明は上記を鑑みてなされたものであり、測定対象物に塗布された塗布物質の塗布状態をより簡単に精度よく測定することが可能な塗布状態測定方法を提供することを目的とする。上記目的を達成するため、本発明に係る塗布状態測定方法は、測定対象物に塗布された塗布物質の塗布状態を測定する方法であって、測定対象物を撮像して測定対象物のスペクトル画像を取得する画像取得ステップと、画像取得ステップにより得られたスペクトル画像に基づいて、塗布物質の種類を判別する塗布物判別ステップと、画像取得ステップにより得られたスペクトル画像に基づいて、塗布物質の塗布量を測定する塗布量測定ステップと、を備えることを特徴とする。上記の塗布状態測定方法によれば、測定対象物のスペクトル画像を利用して測定対象物に塗布された塗布物質に係る測定を行うため、点単位での測定と比較してより広範囲の測定を一度に行うことができる。また、画像取得ステップにより取得されたスペクトル画像に基づいて塗布物質の種類の判別及び塗布物質の塗布量の測定がなされるため、塗布物質に係る情報をより精度よく得ることが可能となる。ここで、塗布物判別ステップ及び塗布量測定ステップの前に、既知の塗布物質のスペクトルと、既知の塗布物質の塗布量を変更して得られるスペクトルに基づいて、塗布物質の種類を判別するための塗布物基準スペクトルと、塗布量を検量するための検量基準スペクトルとを予め作成する基準作成ステップをさらに備え、塗布物判別ステップでは、基準作成ステップにおいて作成された塗布物基準スペクトルと画像取得ステップにおいて取得されたスペクトル画像の各位置でのスペクトルとを比較することにより塗布物質の種類を判別し、塗布量測定ステップでは、基準作成ステップにおいて作成された塗布量基準スペクトルと画像取得ステップにおいて取得されたスペクトル画像の各位置でのスペクトルとを比較することにより塗布物質の塗布量を測定する態様とすることができる。この場合、塗布物基準スペクトル及び塗布量基準スペクトルとスペクトル画像に含まれる各位置でのスペクトルとを比較することにより、塗布物質の種類の判別及び塗布量の測定が行われることから、スペクトル画像に基づいた種類の判別及び塗布量の測定をより高い精度で行うことができる。ここで、画像取得ステップにおいて、波長800~2500nmの波長範囲におけるスペクトル画像を取得する態様としてもよい。本発明によれば、測定対象物に塗布された塗布物質の塗布状態をより簡単に精度よく測定することが可能な塗布状態測定方法が提供される。以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。なお、図面の説明においては同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。塗布状態測定システムの構成本発明に係る塗布状態測定システム100について図1を用いて説明する。塗布状態測定システム100は、ベルトコンベア2上に分散載置された測定対象物3図1では測定対象物の載置位置を示すに塗布された塗布物質の同定及び塗布量を測定する装置である。本実施形態に係る塗布状態測定システム100の測定対象物3としては、木材や各種工業製品等が挙げられる。そしてこれらの測定対象物3に塗布する塗布物質としては、木材に塗布される接着剤や塗料等、また、半導体基板や液晶用カラーフィルタ製造時に塗布されるレジスト材料等が挙げられる。塗布状態測定システム100は、測定対象物に塗布されたものが液体である場合のほか、例えば乾燥等により固化したものも測定対象としている。塗布状態測定システム100は、測定光を測定対象物3に対して照射することにより得られる拡散反射光のスペクトルを測定し、そのスペクトルに基づいて測定対象物3に塗布された塗布物質の同定及び塗布量の測定が行われる。この塗布状態測定システム100は、光源ユニット10、検出ユニット20撮像部、及び分析ユニット30制御部を備える。光源ユニット10は、一定の波長帯域を有する測定光を、ベルトコンベア2上における所定の照射領域A1へ向けて照射する。光源ユニット10が照射する測定光の波長範囲は、測定対象物3や、検出対象となる測定対象物3に塗布された塗布物質に応じて適宜選択される。測定光として近赤外光を用いる場合、具体的には、波長範囲が800nm~2500nmの光が好適に用いられるが、近赤外光に代えて可視光を測定光として用いることも可能である。なお、本実施形態では、スーパーコンティニュームSC光を発生する光源11SC光源を含む光源ユニット10について説明する照射領域A1とは、測定対象物3を載置するベルトコンベア2の表面載置面2bの一部の領域である。この照射領域A1は、載置面2bの進行方向2a図1のy軸方向と垂直な幅方向x軸方向に広がり、載置面2bの一方の端から他方の端までを覆うライン状に延びる領域である。そして、照射領域A1の延在方向に垂直な方向y軸方向における照射領域A1の幅は10mm以下とされる。光源ユニット10は、SC光を出射する光源11と、照射部12と、光源11と照射部12とを接続する光ファイバ13と、を備える。光源11は、近赤外光としてSC光を発生させる。さらに具体的には、SC光源である光源11は、種光源及び非線形媒質を備え、種光源から出射される光を非線形媒質に入力し、非線形媒質中における非線形光学効果によりスペクトルを広帯域に広げてSC光を出力する。光源11により発生された近赤外光SC光は、光ファイバ13の一方の端面へ入射される。この近赤外光は、光ファイバ13のコア領域を導波し、もう一方の端面から照射部12に対して出射される。照射部12は、光ファイバ13の端面から出射される近赤外光SC光を測定対象物3が載置される照射領域A1に対して照射する。照射部12は、光ファイバ13から出射される近赤外光を入射して、照射領域A1に対応した1次元のライン状に出射するため、照射部12としてシリンドリカルレンズが好適に用いられる。このように照射部12においてライン状に整形された近赤外光L1が、照射部12から照射領域A1に対して照射される。光源ユニット10から出力された近赤外光L1は、照射領域A1上に載置された測定対象物3により拡散反射される。そして、その一部が、拡散反射光L2として検出ユニット20に入射する。検出ユニット20は、ハイパースペクトル画像を取得するハイパースペクトルセンサとしての機能を有する。ここで、本実施形態におけるハイパースペクトル画像について図2を用いて説明する。図2は、ハイパースペクトル画像についてその概略を説明する図である。図2に示すように、ハイパースペクトル画像とは、N個の画素P1~PNにより構成されている画像である。図2ではそのうちの一例として2個の画素Pn及びPmについて具体的に示している。画素Pn及びPmには、それぞれ複数の強度データSnj、Smjからなるスペクトル情報Sn及びSmが含まれている。これの強度データSnj、Smjとは、j番目の波長におけるスペクトル強度を示すデータであり、図2では、各々15個の強度データSnj、Smjがスペクトル情報Sn及びSmとして保持されていて、これらを重ね合わせた状態で示している。このように、ハイパースペクトル画像Hは、画像を構成する画素毎に、それぞれ複数の強度データSnjまたはSmjを持つという特徴から、画像としての二次元的要素と、スペクトルデータとしての要素をあわせ持った三次元的構成のデータである。なお、本実施形態では、ハイパースペクトル画像Hとは、1画素あたり少なくとも5つの波長帯域における強度データを保有している画素によって構成された画像のことをいう。なお、図2では測定対象物3もあわせて示している。すなわち、図2においてPnは測定対象物3を撮像した画素であり、Pmは背景例えば、ベルトコンベアを撮像した画素である。図1に戻り、本実施形態に係る検出ユニット20は、カメラレンズ24と、スリット21と、分光器22と、受光部23と、を備える。この検出ユニット20は、その視野領域20sがベルトコンベア2の進行方向2aと垂直な方向x軸方向に延びている。検出ユニット20の視野領域20sは、載置面2bの照射領域A1に含まれるライン状の領域であって、スリット21を通過した拡散反射光L2が受光部23上に像を結ぶ領域である。スリット21は、照射領域A1の延在方向x軸方向と平行な方向に開口が設けられる。検出ユニット20のスリット21に入射した拡散反射光L2は、分光器22へ入射する。分光器22は、スリット21の長手方向、すなわち照射領域A1の延在方向に垂直な方向y軸方向に拡散反射光L2を分光する。分光器22により分光された光は、受光部23によって受光される。受光部23は、複数の受光素子が2次元に配列された受光面を備え、各受光素子が光を受光する。これにより、受光部23がベルトコンベア2上の幅方向x軸方向に沿った各位置で反射した拡散反射光L2の各波長の光をそれぞれ受光することとなる。各受光素子は、受光した光の強度に応じた信号を位置と波長とからなる二次元平面状の一点に関する情報として出力する。この受光部23の受光素子から出力される信号が、ハイパースペクトル画像に係る画像データとして、検出ユニット20から分析ユニット30に送られる。分析ユニット30は、入力された信号により拡散反射光L2のスペクトルを得て、この得られたスペクトルに基づいて検査を行う。測定対象物3に塗布された液体の同定及び塗布量の測定を行う場合は、次のような原理で検査を行う。測定対象物3に塗布された液体は、光源11から出力される測定光本実施形態では近赤外光の波長範囲において吸収帯域を有する。そこで、測定対象物3により拡散反射した拡散反射光L2によるハイパースペクトル画像Hにおいて画素毎に含まれて複数の強度データにより構成されるスペクトル情報を参照し、測定対象物3に塗布された液体に由来する特定の吸収ピークを検出することにより塗布された液体の同定を行う。また、測定対象物3に塗布された液体の塗布量を測定する場合は、特定の吸収ピークにおける強度を使用した検量モデルを使用して測定を行う。そして、この分析ユニット30による分析の結果は、例えば分析ユニット30に接続されるモニタや、プリンタ等に出力することによって、この塗布状態測定システム100のオペレータに通知される。分析ユニット30は、CPUCentralProcessingUnit、主記憶装置であるRAMRandomAccessMemory及びROMReadOnlyMemory、検出ユニット等の他の機器との間の通信を行う通信モジュール、並びにハードディスク等の補助記憶装置等のハードウェアを備えるコンピュータとして構成される。そして、これらの構成要素が動作することにより、分析ユニット30としての機能が発揮される。その分析ユニット30による分析処理の概要やその具体的な手法については後述する。なお、上記の塗布状態測定システム100のうち、光源ユニット10、検出ユニット20の構成は種々の変更を行うことができる。以下、光源ユニット10及び検出ユニット20の変形例について説明する。変形例-1図3は、塗布状態測定システム200の構成を示す概略構成図である。図3に示す塗布状態測定システムが、上記塗布状態測定システム100と異なる点は以下の通りである。すなわち、測定対象物3と検出ユニット20との間に可動式ミラーからなるミラースキャナ40が設けられ、このミラースキャナ40が回転することにより、視野領域20sを移動させる構成を備えている点である。なお、分析ユニット30は塗布状態測定システム100と同様に検出ユニット20に対して接続しているが、図3では図示していない。この塗布状態測定システム200においては、測定対象物3は搭載台Bに載せられて移動する。そして、塗布状態測定システム200による検査が行われている間は、搭載台Bは所定の測定領域で停止する。そして、搭載台Bが停止し、測定対象物3の移動も停止している間に、光源ユニット10が近赤外光L1を出力すると共に、測定対象物3により拡散反射した拡散反射光L2を検出ユニット20において検出する。また、ミラースキャナ40が回転することにより、視野領域20sが変更されることで、複数の視野領域における測定対象物3の拡散反射光を検出ユニット20で検出することができる。このように、塗布状態測定システム200の構成によれば、分析中は測定対象物3を移動させることなく、ミラースキャナ4の駆動によって、測定対象物3により拡散反射した拡散反射光L2によるハイパースペクトル画像Hを得ることができる。変形例-2図4は、塗布状態測定システム300の構成を示す概略構成図である。図4に示す塗布状態測定システムが、図1の塗布状態測定システム100と異なる点は以下の通りである。すなわち、光源ユニット10において、光源11AがSC光源ではなく波長可変光源である点、及び、光源11Aからの出射された光をライン状に整形する照射部12が設けられていない点である。また、光源11Aとして波長可変光源が設けられているため、塗布状態測定システム300の検出ユニット20には分光器22が設けられていない。また、この塗布状態測定システム300では、光源11Aは分析ユニット30と接続され、光源11Aから出力する光の波長を分析ユニット30で制御する構成となる。この塗布状態測定システム300においては、測定対象物3はベルトコンベア2に載せられて移動する。そして、塗布状態測定システム300による検査が行われている間は、ベルトコンベア2は所定の測定領域で停止する。そして、ベルトコンベア2が停止し、測定対象物3の移動も停止している間に、光源ユニット10が近赤外光L1を所定の照射領域A2へ向けて出力すると共に、測定対象物3により拡散反射した拡散反射光L2を検出ユニット20において検出する。そして、分析ユニット30の制御により光源11Aから出力する光の波長を変化させることで、測定対象物により拡散反射した拡散反射光L2によるハイパースペクトル画像Hを得ることができる。なお、測定対象物3の測定領域を変更する場合には、ベルトコンベア2を移動させる。変形例-3図5は、塗布状態測定システム400の構成を示す概略構成図である。図5に示す塗布状態測定システムが、図1の塗布状態測定システム100と異なる点は以下の通りである。すなわち、光源ユニット10において、光源11BがSC光源ではない点、及び、光源11Bからの出射された光をライン状に整形する照射部12が設けられていない点、さらに検出ユニット20のスリット21と測定対象物3との間に波長可変フィルタ50が設けられている点である。また、波長可変フィルタ50が設けられているため、塗布状態測定システム400の検出ユニット20には分光器22が設けられていない。この波長可変フィルタ50は、透過光の波長を切り替えることが可能なフィルタである。そして、波長可変フィルタ50は分析ユニット30と接続され、波長可変フィルタ50を透過させる光の波長を分析ユニット30で制御する構成となる。波長可変フィルタ50としては、例えば液晶チューナブルフィルタが好適に用いられる。この塗布状態測定システム400においては、測定対象物3はベルトコンベア2に載せられて移動する。そして、塗布状態測定システム400による検査が行われている間は、ベルトコンベア2は所定の測定領域で停止する。そして、ベルトコンベア2が停止し、測定対象物3の移動も停止している間に、光源ユニット10が近赤外光L1を出力すると共に、測定対象物3により拡散反射した拡散反射光L2を検出ユニット20において検出する。そして、分析ユニット30の制御により波長可変フィルタ50を透過する光の波長を変化させることで、測定対象物により拡散反射した拡散反射光L2によるハイパースペクトル画像Hを得ることができる。なお、測定対象物3の測定領域を変更する場合には、ベルトコンベア2を移動させる。上記の変形例1~3のように、ハイパースペクトル画像Hを撮像するための光源ユニット10、検出ユニット20の構成は適宜変更することができる。塗布状態測定システムによる塗布状態測定方法次に、上記の塗布状態測定システムにより撮像されたハイパースペクトル画像を用いて測定対象物に塗布された液体の塗布状態を測定する方法について説明する。塗布状態の測定方法は、図6に示すように、大きく分けて1測定対象物を撮像して測定対象物のスペクトル画像を取得する画像取得ステップS01、2スペクトル画像に含まれる画素情報に基づいて、塗布物質の種類を判別する塗布物判別ステップS02、3スペクトル画像に含まれる画素情報に基づいて、塗布物質の塗布量を測定する塗布量測定ステップS03の3ステップが含まれる。以下、各ステップについて説明する。画像取得ステップ画像取得ステップでは、上記のハイパースペクトル画像Hを撮像するための光源ユニット及び検出ユニットを用いて、測定対象物を撮像し、ハイパースペクトル画像を取得する。得られたハイパースペクトル画像は、分析ユニットに送られる。以降の塗布状態の測定に係る処理は、分析ユニット30において行われる。塗布物判別ステップ塗布物判別ステップでは、ハイパースペクトル画像を撮像した画素に含まれる各位置のスペクトルと塗布物基準スペクトルを比較することで塗布物質の種類を判別する処理が行われる。塗布物基準スペクトルとは、既知の塗布物質のスペクトルであり、塗布物質に含まれるであろう各成分のスペクトルをそれぞれ別個に準備してもよいし、混合物としての既知の塗布物質のスペクトルを準備するということでもよい。この塗布物判別ステップについて、以下の3つの方法を採用することができる。塗布物判別ステップ-1:一つの波長帯域におけるスペクトルの比較による判別この判別方法では、ある一つの波長帯域において、各位置のスペクトルの挙動を塗布物基準スペクトルの挙動と比較することにより塗布物質の種類を判別する。そのため、各位置iのスペクトルの評価関数としてΣαjSijjはこの波長帯域に含まれる波長を表す添え字、αjは係数を計算し、この評価関数の値と予め設定した閾値βとの大小関係により、この位置に塗布物基準スペクトルに対応する塗布物が塗布されているかどうかを判別する。具体的には、例えば、画素Pn及びPmについて上記計算を行い、α1Sn1α3Sn3α7Sn7≧βα1Sm1α3Sm3α7Sm7<βという結果が得られたとする。するとこの結果に基づき、Pnは塗布物基準スペクトルに対応する塗布物を撮像した画素であると判断し、Pmは塗布物基準スペクトルに対応する塗布物以外のもの例えば測定対象物の表面やバックグラウンド等を撮像した画素であると判断する。なお、判別に使用する波長、係数α及び閾値βを予め定める方法としては、測定対象となるもの塗布物質及び背景測定対象物及びバックグラウンドのハイパースペクトル画像を予め撮像し、この画像から塗布物質と背景とを区別することが可能な特徴的な波長や変数を求める方法等を用いることができる。塗布物判別ステップ-2:複数の波長帯域におけるスペクトルの比較による判別この判別方法では、複数の波長帯域を使って、各位置のスペクトルの挙動を塗布物基準スペクトルの挙動と比較することにより塗布物質の種類を判別する。そのため、各位置のスペクトルiの評価関数としてSij/Sihj、hは各々の波長帯域に含まれる波長を表す添え字を計算し、この評価関数の値と予め設定した閾値βとの大小関係により、この位置に塗布物基準スペクトルに対応する塗布物が塗布されているかどうかを判別する。具体的には、例えば、画素Pn及びPmについて上記計算を行い、Sn4/Sn1≧βSm4/Sm1<βという結果が得られたとする。するとこの結果に基づき、Pnは塗布物基準スペクトルに対応する塗布物を撮像した画素であると判断し、Pmは塗布物基準スペクトルに対応する塗布物以外のものを撮像した画素であると判断する。なお、判別に使用する波長及び閾値βを予め定める方法としては、測定対象となるもの塗布物質及び背景測定対象物及びバックグラウンドのハイパースペクトル画像を予め撮像し、この画像から塗布物質と背景とを区別することが可能な特徴的な波長及び閾値を求める方法等を用いることができる。塗布物判別ステップ-3:多変量解析次に、図2のハイパースペクトル画像を用いて多変量解析を用いた塗布物判別方法について説明する。多変量解析を用いた塗布物判別方法としては、主成分分析、因子分析、クラスター分析等を用いることができる。例えば、塗布物判別方法として主成分分析principalcomponentanalysis:PCAを用いる場合、PCAにより得られたスコアプロットの位置から、塗布物質の同定を行うことが可能である。塗布量測定ステップ塗布量測定ステップでは、ハイパースペクトル画像を撮像した画素に含まれる各位置のスペクトルと検量基準スペクトルを比較することで塗布物質の塗布量を測定する処理が行われる。この塗布量測定ステップについて、塗布物判別ステップと同様に以下の3つの方法を採用することができる。なお、本実施形態では塗布量の測定について説明をするが、塗布量の測定に代えて、塗布物質の厚みや濃度にも適用することができる。検量基準スペクトルとは、塗布量を変更したときに得られるスペクトルをいう。塗布量測定ステップ-1:一つの波長帯域におけるスペクトルの比較による測定上記の塗布物判別ステップ-1で用いた式ΣαjSijの値を塗布量Xii=1,2,kにおける塗布物基準スペクトルに対して計算し、塗布量Xiにおける評価式の値をYiとしたときに、Yi=aXibとなるような係数a,bを予め求めることで検量基準スペクトルを作成する。そして、この検量基準スペクトルと、ハイパースペクトル画像を撮像した画素に含まれるスペクトルから計算した評価式の値とを比較することにより、塗布物質の塗布量を求めることができる。塗布量測定ステップ-2:複数の波長帯域におけるスペクトルの比較による測定上記の塗布物判別ステップ-2で用いた式Sij/Sihの値を塗布量Xii=1,2,kにおける塗布物基準スペクトルに対して計算し、塗布量Xiにおける評価式の値をYiとしたときに、Yi=aXibとなるような係数a,bを予め求めて検量基準スペクトルを作成する。そして、この検量基準スペクトルと、ハイパースペクトル画像を撮像した画素に含まれるスペクトルから計算した評価式の値とを比較することにより、塗布物質の塗布量を求めることができる。塗布量測定ステップ-3:多変量解析塗布物判別ステップと同様に塗布量測定ステップにおいても多変量解析を利用することができる。多変量解析としては、PLSPartialLeastSquares回帰分析などを利用することができる。予め検量基準スペクトルを作成しておき、検量基準スペクトルと、ハイパースペクトル画像を撮像した画素に含まれるスペクトルとを比較することにより、塗布物質の塗布量を求めることができる。以上のように、本実施形態に係る塗布状態測定システム及びこの塗布状態測定システムによる塗布状態測定方法によれば、測定対象物のスペクトル画像を利用して測定対象物に塗布された塗布物質に係る測定を行うため、従来の測定系を用いた測定と比較して、塗布物質の塗布状態の分布を適切に測定することができる。また、画像取得ステップにより取得されたスペクトル画像に基づいて塗布物質の種類の判別及び塗布物質の塗布量の測定がなされるため、塗布物質に係る情報をより精度よく得ることが可能となる。また、塗布物基準スペクトル及び検量基準スペクトルとスペクトルとを比較することにより、塗布物質の種類の判別及び塗布量の測定を行う場合には、スペクトル画像に基づいた種類の判別及び塗布量の測定をより高い精度で行うことができる。なお、他の方法により種類の判別や塗布量の測定を行うこともできる。実施例ここで、難燃剤リン酸アンモニウムとホウ素化合物の混合溶液を塗布物質とした場合に、任意の画素に塗布物質が塗布されているかを実際に判定する方法について以下に述べる。図7は、測定対象物を木材とし、木材に難燃剤を塗布した場合の吸光度スペクトルに二次微分処理をかけたスペクトルであり、本実施例ではこのスペクトルを塗布物基準スペクトルとする。図7に示す塗布物基準スペクトルと、測定対象物を撮像した画素に含まれる各位置のスペクトルと、を比較することにより、難燃剤が塗布されているかを判別する。ここでは、塗布物基準スペクトルと各位置のスペクトルを比較する方法として、波長1557nm~1602nmにおけるスペクトル強度の値の線形結合を用いて、以下の数式;Si1Si2Si3Si4Si5Si6Si7Si8≦-00012Si1:波長1557nmの値、Si2:波長1564nmの値、Si3:波長1570nmの値、Si4:波長1576nmの値、Si5:波長1583nmの値、Si6:波長1589nmの値、Si7:波長1570nmの値、Si8:波長1602nmの値を満たすか否かにより、難燃剤が塗布されている領域を撮像した画素であるか否かを判定する。具体的には、上記の関係式を満たす画素については、難燃剤が塗布されていると判定する。表1は、測定対象物を撮像したスペクトル画像に含まれる2つの画素である画素A及び画素Bでの波長1557nm~1602nmに含まれるSi1~Si8の値である。表1に示される各値を上記の式に従って線形結合をした結果、画素Aでは、Si1Si2Si3Si4Si5Si6Si7Si8>-00012となるため、難燃剤が塗布されていないと判定する。また、画素Bにおいては、Si1Si2Si3Si4Si5Si6Si7Si8≦-00012となるため、難燃剤が塗布されていると判定できる。このような計算を行うことにより、画素A,画素Bのそれぞれが難燃剤を塗布された領域を撮像した画素であるかを判定することができる。以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されず、種々の変更を行うことができる。例えば、上記実施形態では、塗布状態測定システム100は、光源ユニット10、検出ユニット20、分析ユニット30から構成されているが、これとは異なる構成であってもよい。"