"レーザー回折散乱式粒度分布測定装置によって測定される比表面積球形近似比表面積と称するに対するBET一点法で測定される比表面積BET比表面積と称するの比率BET比表面積/球形近似比表面積が6.0~11.0であることを特徴とするデンドライト状銅粉。走査型電子顕微鏡SEMを用いて銅粉粒子を観察した際、一本の主軸を備えており、該主軸から複数の枝が斜めに分岐して、二次元的或いは三次元的に成長したデンドライト状を呈し、かつ、主軸の太さaが0.3μm~5.0μmであり、主軸から伸びた枝の中で最も長い枝の長さbが0.6μm~10.0μmであるデンドライト状を呈する銅粉粒子を含有する請求項1記載のデンドライト状銅粉。上記のデンドライト状を呈する銅粉粒子において、主軸の長径Lに対する枝の分岐本数枝本数/長径L0.5本/μm~4.0本/μmであることを特徴とする請求項2記載のデンドライト状銅粉。本発明は、導通性がより一層優れた新たなデンドライト状銅粉を提供せんとするものである。本発明は、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置によって測定される比表面積球形近似比表面積と称するに対するBET一点法で測定される比表面積BET比表面積と称するの比率BET比表面積/球形近似比表面積が6.0~11.0であることを特徴とするデンドライト状銅粉を提案する。本発明が提案するデンドライト状銅粉は、デンドライト状銅粉の中でも特に異形状、すなわち、より一層成長したデンドライト状を呈するデンドライト状銅粉粒子を主として含むものであり、より一層優れた導通性を得ることができることが分かった。よって、本発明が提案するデンドライト状銅粉は、導電性ペーストなどの材料、例えば半導体デバイスを製造する際に配線接続孔内などに埋め込む導電性ペーストなどの材料として特に有効に用いることができる。以下、本発明の実施形態について詳述するが、本発明の範囲が以下の実施形態に限定されるものではない。本実施形態に係る銅粉本銅粉と称するは、デンドライト状銅粉粒子本銅粉粒子と称するを含有する銅粉である。ここで、デンドライト状銅粉粒子とは、図1のモデル図に示されるように、電子顕微鏡500~20、000倍で観察した際に、一本の主軸を備えており、該主軸から複数の枝が斜めに分岐して、二次元的或いは三次元的に成長した形状を呈する銅粉粒子を意味し、幅広の葉が集まって松ぼっくり状を呈するものや、多数の針状部が放射状に伸長してなる形状のものは含まない。BET比表面積/球形近似比表面積本銅粉に関しては、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置によって測定される比表面積球形近似比表面積と称するに対するBET一点法で測定されるBET比表面積BET比表面積と称するの比率BET比表面積/球形近似比表面積が6.0~11.0であることが重要である。BET比表面積/球形近似比表面積は、本銅粉粒子が球形からどれだけ離れた異形状であるかを示す指標であり、当該比率が6.0~11.0の範囲内であれば、デンドライト状銅粉の中でも特に優れた導通性を得ることができることが分かった。よって、かかる観点から、BET比表面積/球形近似比表面積は6.0~11.0であることが重要であり、中でも6.5以上或いは10.5以下、その中でも7.0以上或いは10.0以下であるのが好ましい。BET比表面積本銅粉のBET比表面積SSAは、上記BET比表面積/球形近似比表面積の比率範囲に入るようであれば特に限定するものではなく、例えば0.30~1.50m2/gであるのが好ましい。0.30m2/gより著しく小さいと、枝が発達しておらず、松ぼっくり~球状に近づくため、本発明が規定するデンドライト状を呈することができなくなる。他方、1.50m2/gよりも著しく大きくなると、デンドライトの枝が細くなりすぎて、ペースト加工工程で枝が折れるなどの不具合が発生して、目的とする導電性を確保することができない可能性がある。よって、本銅粉のBET一点法で測定される比表面積は0.30~1.50m2/gであるのが好しく、中でも0.40m2/g以上或いは1.40m2/g以下、その中でも特に1.00m2/g以下であるのがさらに好ましい。球形近似比表面積本銅粉の球形近似比表面積は、上記BET比表面積/球形近似比表面積の比率範囲に入るようであれば特に限定するものではなく、例えば0.02~0.20m2/gであるのが好ましい。0.02m2/g以上であれば、デンドライト形状が十分に発達しており、導電性に優れるから好ましい。0.20m2/g以下であれば、ペースト加工時の溶剤が少なく済むため経済的、環境的に好ましい。よって、本銅粉の球形近似比表面積は0.02~0.20m2/gであるのが好しく、中でも0.03m2/g以上或いは0.15m2/g以下であるのがさらに好ましい。粒子形状本銅粉粒子は、デンドライト状銅粉粒子の中でも、電子顕微鏡500~20,000倍で観察した際、次のような所定の特徴を有するデンドライト状を呈する銅粉粒子であるのが好ましい。主軸の太さaは0.3μm~5.0μmであることが重要であり、中でも0.4μm以上或いは4.5μm以下、中でも特に特に0.5μm以上或いは4.0μm以下であるのがさらに好ましい。デンドライトにおける主軸の太さaが0.3μm以下では、主軸がしっかりとしていないために枝が成長し難い一方、5.0μmよりも太くなると、粒子が凝集し易くなり、松ぼっくり状になりやすくなってしまう。主軸から伸びた枝の中で最も長い枝の長さb枝長bと称するは、デンドライトの成長度合いを示しており、0.6μm~10.0μmであることが重要であり、中でも0.7μm以上或いは9.0μm以下、その中でも0.8μm以上或いは8.0μm以下であるのがさらに好ましい。枝長bが0.6μm未満では、デンドライトが十分に成長しているとは言えない。一方、枝長bが10.0μmを超えると、銅粉の流動性が低下して取り扱いが難しくなるようになる。主軸の長径Lに対する枝の本数枝本数/長径Lは、デンドライトの枝の多さを示しており、0.5本/μm~4.0本/μmであるのが好ましく、中でも0.6本/μm以上或いは3.5本/μm以下、その中でも特に0.8本/μm以上或いは3.0本/μm以下であるのがさらに好ましい。枝本数/長径Lが0.5本/μm以上であれば、枝の数は十分に多く、接点を十分に確保できる一方、枝本数/長径Lが4.0本/μm以下であれば、枝の数が多過ぎて銅粉の流動性が劣るようになることを防ぐことができる。但し、電子顕微鏡500~20,000倍で観察した際、多くが上記の如きデンドライト状粒子で占められていれば、それ以外の形状の粒子が混じっていても、上記の如きデンドライト状粒子のみからなる銅粉と同様の効果を得ることができる。よって、かかる観点から、本銀被覆銅粉は、電子顕微鏡500~20,000倍で観察した際、上記の如き本銅粉粒子が全銅粉粒子のうちの80以上、好ましくは90以上を占めていれば、上記の如きデンドライト状とは認められない非デンドライト状の銅粉粒子が含まれていてもよい。酸素濃度本銅粉粒子の酸素濃度が0.20質量以下であれば、導電性を良好に維持することができる。よって、本銅粉粒子の酸素濃度は、0.20質量以下であるのが好ましく、中でも0.18質量以下、その中でも0.17質量以下、その中でも特に0.15質量以下であるのがさらに好ましい。本銅粉粒子の酸素濃度を0.20質量以下とするためには、乾燥雰囲気の酸素濃度、乾燥温度を制御すればよい。D50本銅粉の中心粒径D50、すなわちレーザー回折散乱式粒度分布測定装置によって測定される体積累積粒径D50は、5.0μm~50.0μmであるのが好ましく、中でも8.0μm以上或いは45.0μm以下、その中でも10.0μm以上或いは40.0μm以下、その中でも特に25.0μm以下であるのがより一層好ましい。D50が5.0μm以上であれば粘度調整が容易であり、他方、50.0μm以下であれば様々な導電性ペーストに適用可能となり、好ましい。製造方法本銅粉は、所定の電解法によって製造することができる。電解法としては、例えば、銅イオンを含む硫酸酸性の電解液に陽極と陰極を浸漬し、これに直流電流を流して電気分解を行い、陰極表面に粉末状に銅を析出させ、機械的又は電気的方法により掻き落として回収し、洗浄し、乾燥し、必要に応じて篩別工程などを経て電解銅粉を製造する方法を例示できる。電解法で銅粉を製造する場合、銅の析出に伴って電解液中の銅イオンが消費されるため、電極板付近の電解液の銅イオン濃度は薄くなり、そのままでは電解効率が低下してしまう。そのため、通常は電解効率を高めるために、電解槽内の電解液の循環を行って電極間の電解液の銅イオン濃度が薄くならないようにする。しかし、各銅粉粒子のデンドライトを発達させるためには、言い換えれば主軸から伸びる枝の成長を促すためには、電極付近の電解液の銅イオン濃度が低い方が好ましいことが分かってきた。そこで、本銅粉の製造においては、電解槽の大きさ、電極枚数、電極間距離及び電解液の循環量を調整し、電極付近の電解液の銅イオン濃度を低く調整する、少なくとも電解槽の底部の電解液の銅イオン濃度よりも、電極間の電解液の銅イオン濃度が常に薄くなるように調整するのが好ましい。ここで、一つのモデルケースを紹介すると、電解槽の大きさが2m3~10m3で、電極枚数が10~40枚で、電極間距離が5cm~50cmである場合に、銅イオン濃度1g/L~50g/Lの電解液の循環量を10~100L/分に調整することにより、デンドライトを発達させることができ、本銅粉を得ることができる。デンドライト状銅粉粒子の粒子径を調整するには、上記条件の範囲内で技術常識に基づいて適宜条件を設定すればよい。例えば、大きな粒径のデンドライト状銅粉粒子を得ようとするならば、銅濃度は上記好ましい範囲内で比較的高い濃度に設定するのが好ましく、電流密度は、上記好ましい範囲内で比較的低い密度に設定するのが好ましく、電解時間は、上記好ましい範囲内で比較的長い時間に設定するのが好ましい。小さな粒径のデンドライト状銅粉粒子を得ようとするならば、前記の逆の考え方で各条件を設定するのが好ましい。一例としては銅濃度を1gL~10gLとし、電流密度を100Am2~1000Am2とし、電解時間を5分~3時間とすればよい。電解銅粉粒子の表面は、必要に応じて、有機物を用いて耐酸化処理を施し、銅粉粒子表面に有機物層を形成するようにしてもよい。必ずしも有機物層を形成する必要はないが、銅粉粒子表面の酸化による経時変化を考慮すると形成した方がより好ましい。この耐酸化処理に用いる有機物は、特にその種類を限定するものではなく、例えば膠、ゼラチン、有機脂肪酸、カップリング剤等を挙げることができる。耐酸化処理の方法、すなわち有機物層の形成方法は、乾式法でも湿式法でもよい。乾式法であれば有機物と芯材をV型混合器等で混合する方法、湿式法であれば水芯材スラリーに有機物を添加し表面に吸着させる方法等を挙げることができる。但し、これらに限ったものではない。例えば、電解銅粉析出後のスラリーを洗浄した後、銅粉ケーキ及び所望の有機物を含んだ水溶液と、有機溶媒とを混合して、銅粉表面に有機物を付着させる方法は好ましい一例である。用途本銅粉は導電特性に優れているため、本銅粉を用いて導電性ペーストや導電性接着剤などの導電性樹脂組成物、さらには導電性塗料など、各種導電性材料の主要構成材料として好適に用いることができる。例えば導電性ペーストを作製するには、本銅粉をバインダ及び溶剤、さらに必要に応じて硬化剤やカップリング剤、腐食抑制剤などと混合して導電性ペーストを作製することができる。この際、バインダとしては、液状のエポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等を挙げることができるが、これらに限定するものではない。溶剤としては、テルピネオール、エチルカルビトール、カルビトールアセテート、ブチルセロソルブ等が挙げることができる。硬化剤としては、2エチル4メチルイミダゾールなどを挙げることができる。腐食抑制剤としては、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。導電性ペーストは、これを用いて基板上に回路パターンを形成して各種電気回路を形成することができる。例えば焼成済み基板或いは未焼成基板に塗布又は印刷し、加熱し、必要に応じて加圧して焼き付けることでプリント配線板や各種電子部品の電気回路や外部電極などを形成することができる。特に本銅粉の銅粉粒子はデンドライトが特に発達しており、粒子同士の接点の数が多くなり、導電性粉末の含有量を少なくしても優れた導電特性を得ることができるため、例えば半導体デバイスを製造する際に配線接続孔内などを埋め込む用途に用いる導電性ペースト材料として好適である。半導体デバイスを製造する際、素子間を接続する配線溝トレンチや、多層配線間を電気的に接続する配線接続孔ビアホール或いはコンタクトホールが多数設けられる。これら配線溝や配線接続孔内に埋め込む導電性材料として、従来、アルミニウムが使用されてきたが、半導体デバイスの高集積化、微細化に伴い、これまでのアルミニウムに代わり、電気抵抗率が低く、エレクトロマイグレーション耐性にも優れた銅が注目され実用化が進められており、電材として銅粉を含む導電性ペーストが配線接続孔内などに埋め込むために用いられている。この種の用途では、大量の電流を通電する必要はなく、電気信号を通電することができれは十分であるため、特に本銅粉には好適である。語句の説明本明細書においてX~YX,Yは任意の数字と表現する場合、特にことわらない限りX以上Y以下の意と共に、好ましくはXより大きい或いは好ましくYより小さいの意も包含する。また、X以上Xは任意の数字と表現する場合、特にことわらない限り好ましくはXより大きいの意を包含し、Y以下Yは任意の数字と表現する場合、特にことわらない限り好ましくYより小さいの意を包含する。以下、本発明の実施例について説明するが、本発明が以下の実施例に限定されるものではない。<粒子形状の観察>走査型電子顕微鏡5,000倍にて、任意の100視野において、それぞれ500個の粒子の形状を観察し、主軸の太さa主軸太さa、主軸から伸びた枝の中で最も長い枝の長さb枝長b、主軸の長径に対する枝の本数枝本数/長径Lを測定し、その平均値を表1に示した。<粒度測定>測定サンプル銅粉を少量ビーカーに取り、3トリトンX溶液関東化学製を2、3滴添加し、粉末になじませてから、0.1SNディスパーサント41溶液50mLを添加し、その後、超音波分散器TIPφ20日本精機製作所製を用いて2分間分散処理して測定用サンプルを調製した。この測定用サンプルを、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置MT3300を用いて体積累積基準D50及び比表面積を測定し、それぞれD50及び球形近似比表面積として表1に示した。<BET比表面積の測定>比表面積は、ユアサアイオニクス社製モノソーブにて、BET一点法で測定し、BET比表面積として表1に示した。<酸素濃度の測定>実施例比較例で得た銅粉試料を、堀場製作所社製EMGA820STを用いてHe雰囲気中で加熱溶融し、酸素濃度wtを測定し、表1に示した。<実施例1>2.5m×1.1m×1.5mの大きさ約4m3の電解槽内に、それぞれ大きさ1.0m×1.0m9枚の銅陰極板と銅陽極板とを電極間距離5cmとなるように吊設し、電解液としての硫酸銅溶液を30L/分で循環させて、この電解液に陽極と陰極を浸漬し、これに直流電流を流して電気分解を行い、陰極表面に粉末状の銅を析出させた。この際、循環させる電解液のCu濃度を5g/L、硫酸H2SO4濃度を100g/L、電流密度を80A/m2に調整して1時間電解を実施した。電解中、電解槽の底部の電解液の銅イオン濃度よりも、電極間の電解液の銅イオン濃度が常に薄く維持されていた。そして、陰極表面に析出した銅を、機械的に掻き落として回収し、その後、洗浄し、銅粉1kg相当の含水銅粉ケーキを得た。このケーキを水3Lに分散させ、工業用ゼラチン:新田ゼラチン社製10g/Lの水溶液1Lを加えて10分間攪拌した後、ブフナー漏斗で濾過し、洗浄後、減圧状態1×103Paで80°C、6時間乾燥させ、電解銅粉を得た。こうして得られた電解銅粉を、走査型電子顕微鏡SEMを用いて観察したところ、少なくとも90以上の銅粉粒子は、一本の主軸を備えており、該主軸から複数の枝が斜めに分岐して三次元的に成長したデンドライト状を呈していることを確認できた。<実施例2>電解時間を40分、循環液量を20L分とした以外は、実施例1と同様にして電解銅粉を得た。得られた電解銅粉を、走査型電子顕微鏡SEMを用いて観察したところ、少なくとも90以上の銅粉粒子は、一本の主軸を備えており、該主軸から複数の枝が斜めに分岐して三次元的に成長したデンドライト状を呈していることを確認できた。<実施例3>電解時間を40分、電解液のCu濃度を1g/L、循環液量を10L分とした以外は、実施例1と同様にして電解銅粉を得た。得られた電解銅粉を、走査型電子顕微鏡SEMを用いて観察したところ、少なくとも90以上の銅粉粒子は、一本の主軸を備えており、該主軸から複数の枝が斜めに分岐して三次元的に成長したデンドライト状を呈していることを確認できた。<実施例4>5.0m×1.1m×1.5mの大きさ約8m3の電解槽内に、それぞれ大きさ1.0m×1.0m19枚の銅陰極板と銅陽極板とを電極間距離10cmとなるように吊設し、電解液としての硫酸銅溶液を40L/分で循環させて、この電解液に陽極と陰極を浸漬し、これに直流電流を流して電気分解を行い、陰極表面に粉末状の銅を析出させた。この際、循環させる電解液のCu濃度を5g/L、硫酸H2SO4濃度を200g/L、電流密度を150A/m2に調整して1時間電解を実施した。電解中、電解槽の底部の電解液の銅イオン濃度よりも、電極間の電解液の銅イオン濃度が常に薄く維持されていた。陰極表面に析出した銅を、機械的に掻き落として回収し、その後、洗浄し、銅粉1kg相当の含水銅粉ケーキを得た。このケーキを水6Lに分散させ、工業用ゼラチン:新田ゼラチン社製10g/Lの水溶液2Lを加えて10分間攪拌した後、ブフナー漏斗で濾過し、洗浄後、減圧状態1×103Paで80°C、6時間乾燥させて電解銅粉を得た。得られた電解銅粉を、走査型電子顕微鏡SEMを用いて観察したところ、少なくとも90以上の銅粉粒子は、一本の主軸を備えており、該主軸から複数の枝が斜めに分岐して三次元的に成長したデンドライト状を呈していることを確認できた。<実施例5>Cu濃度を1g/L、電解時間を30分、循環液量を20L分とした以外は、実施例4と同様にして電解銅粉を得た。得られた電解銅粉を、走査型電子顕微鏡SEMを用いて観察したところ、少なくとも90以上の銅粉粒子は、一本の主軸を備えており、該主軸から複数の枝が斜めに分岐して三次元的に成長したデンドライト状を呈していることを確認できた。<比較例1>2.5m×1.1m×1.5mの大きさ約4m3の電解槽内に、それぞれ大きさ1.0m×1.0m9枚の銅陰極板と銅陽極板とを電極間距離5cmとなるように吊設し、電解液としての硫酸銅溶液を2L/分で循環させて、この電解液に陽極と陰極を浸漬し、これに直流電流を流して電気分解を行い、陰極表面に粉末状の銅を析出させた。この際、循環させる電解液のCu濃度を100g/L、硫酸H2SO4濃度を100g/L、電流密度を80A/m2に調整して5時間電解を実施した。電解中、電極間の電解液の銅イオン濃度は電解槽の底部の電解液の銅イオン濃度よりも、常に濃い状況であった。陰極表面に析出した銅を、機械的に掻き落として回収し、その後、洗浄し、銅粉1kg相当の含水銅粉ケーキを得た。このケーキを水3Lに分散させ、工業用ゼラチン:新田ゼラチン社製10g/Lの水溶液1Lを加えて10分間攪拌した後、ブフナー漏斗で濾過し、洗浄後大気雰囲気にて100°C、6時間乾燥させて電解銅粉を得た。得られた電解銅粉の粒子形状は松ぼっくり状であり、主軸太さ、枝長、枝本数長径Lの測定は出来なかった。<比較例2>5.0m×1.1m×1.5mの大きさ約8m3の電解槽内に、それぞれ大きさ1.0m×1.0m19枚の銅陰極板と銅陽極板とを電極間距離10cmとなるように吊設し、電解液としての硫酸銅溶液を150L/分で循環させて、この電解液に陽極と陰極を浸漬し、これに直流電流を流して電気分解を行い、陰極表面に粉末状の銅を析出させた。この際、循環させる電解液のCu濃度を70g/L、硫酸H2SO4濃度を200g/L、電流密度を90A/m2に調整して6時間電解を実施した。電解中、電極間の電解液の銅イオン濃度は電解槽の底部の電解液の銅イオン濃度と同等であった。陰極表面に析出した銅を、機械的に掻き落として回収し、その後、洗浄し、銅粉1kg相当の含水銅粉ケーキを得た。このケーキを水6Lに分散させ、工業用ゼラチン:新田ゼラチン社製10g/Lの水溶液2Lを加えて10分間攪拌した後、ブフナー漏斗で濾過し、洗浄後大気雰囲気にて120°C、5時間乾燥させて電解銅粉を得た。得られた電解銅粉の粒子形状は松ぼっくり状であり、主軸太さ、枝長、枝本数長径Lの測定は出来なかった。考察上記実施例とこれまで行った試験結果を総合的に考えると、デンドライト状銅粉の中でも、BET比表面積/球形近似比表面積が6.0~11.0であるデンドライト状銅粉は、デンドライトがより一層成長しており、特に異形状のデンドライト状銅粉粒子を主として含むものであり、より一層優れた導通性を得ることができることが分かった。"