内部に断熱材が内入された炉本体と、前記断熱材の下部に配置され、セラミック成形体が上部に積載されたセッターと、前記断熱材の上部に配置される排気口と、前記セラミック成形体の周辺に少なくとも1つ配置される発熱体と、前記炉本体の内部が均一な温度勾配を維持するように前記セラミック成形体の周辺に少なくとも1つ配置され、金属、合金、酸化物及び窒化物の中から選ばれる少なくとも1つからなるメッシュと、を含むセラミック製品用焼成炉。前記メッシュは、前記排気口の内部に配置されることを特徴とする請求項1に記載のセラミック製品用焼成炉。前記メッシュは、前記排気口と前記セラミック成形体との間に配置されることを特徴とする請求項1に記載のセラミック製品用焼成炉。前記メッシュは、高熱容量を有する第1のメッシュであることを特徴とする請求項1に記載のセラミック製品用焼成炉。前記メッシュは、前記排気口側から高熱容量を有する第1のメッシュと高熱伝導率を有する第2のメッシュとを含むことを特徴とする請求項1に記載のセラミック製品用焼成炉。前記第1のメッシュと前記第2のメッシュとの間に、前記第1のメッシュと前記第2のメッシュとの中間の熱伝導率と熱容量を有する第3のメッシュをさらに含むことを特徴とする請求項5に記載のセラミック製品用焼成炉。前記第1のメッシュは、Al、Si、inconel登録商標の中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、前記第2のメッシュは、Al、Si、Mg、Ni、Cu、Ag、Wの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、前記第3のメッシュは、第1のメッシュ及び第2のメッシュの中から選ばれる少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項6に記載のセラミック製品用焼成炉。内部に断熱材が内入された炉本体を設けるステップと、前記断熱材の下部にセッターを配置するステップと、前記セッター上にセラミック成形体を積載するステップと、前記断熱材の上部に排気口を設けるステップと、前記セラミック成形体の周辺に少なくとも1つの発熱体を配置するステップと、前記炉本体の内部が均一な温度勾配を維持するように前記セラミック成形体の周辺に少なくとも1つのメッシュを配置するステップと、前記セラミック成形体を焼成するステップと、を含むセラミック製品用焼成炉を利用した焼成方法。前記メッシュを配置するステップにおいて、前記メッシュは、前記排気口の内部に配置されることを特徴とする請求項8に記載のセラミック製品用焼成炉を利用した焼成方法。前記メッシュを配置するステップにおいて、前記メッシュは、前記排気口と前記セラミック成形体との間に配置されることを特徴とする請求項8に記載のセラミック製品用焼成炉を利用した焼成方法。前記メッシュを配置するステップにおいて、前記メッシュは、高熱容量を有する第1のメッシュを含むように配置されることを特徴とする請求項8に記載のセラミック製品用焼成炉を利用した焼成方法。前記メッシュを配置するステップにおいて、前記メッシュは、前記排気口側から高熱容量を有する第1のメッシュ及び高熱伝導率を有する第2のメッシュを含むように配置されることを特徴とする請求項8に記載のセラミック製品用焼成炉を利用した焼成方法。前記第1のメッシュと前記第2のメッシュとの間に、前記第1のメッシュと前記第2のメッシュとの中間の熱伝導率と熱容量を有する第3のメッシュをさらに配置することを特徴とする請求項12にセラミック製品用焼成炉を利用した焼成方法。前記第1のメッシュは、Al、Si、inconelの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、前記第2のメッシュは、Al、Si、Mg、Ni、Cu、Ag、Wの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、前記第3のメッシュは、第1のメッシュ及び第2のメッシュの中から選ばれる少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項13に記載のセラミック製品用焼成炉を利用した焼成方法。本発明は上記のような問題点を解決するためのもので、本発明の目的は、焼成炉の内部の温度偏差を最小化することによって、焼成時の温度勾配の差によるセラミック製品の特性の変化を防止することができるセラミック製品用焼成炉及びこれを利用した焼成方法を提供することである。上記の目的を達成するために、本発明の一実施形態は、内部に断熱材が内入された炉本体と、上記炉本体の内部に配置され、セラミック成形体が上部に積載されたセッターと、上記断熱材の上部に配置される排気口と、上記セラミック成形体の周辺に少なくとも1つ配置される発熱体と、上記炉本体の内部が均一な温度勾配を維持するように上記セラミック成形体の周辺に少なくとも1つ配置され、金属、合金、酸化物及び窒化物の中から選ばれる少なくとも1つからなるメッシュとを含むセラミック製品用焼成炉を提供する。ここで、上記メッシュは、上記排気口の内部に配置されることができる。また、上記メッシュは、上記排気口と上記セラミック成形体との間に配置されることができる。ここで、上記メッシュは、高熱容量を有する第1のメッシュであることができる。また、上記メッシュは、上記排気口側から高熱容量を有する第1のメッシュと高熱伝導率を有する第2のメッシュとを含むことができる。そして、上記第1のメッシュと上記第2のメッシュとの間に、上記第1のメッシュと上記第2のメッシュとの中間の熱伝導率と熱容量を有する第3のメッシュをさらに含むことができる。ここで、上記第1のメッシュは、Al、Si、inconel登録商標の中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、上記第2のメッシュは、Al、Si、Mg、Ni、Cu、Ag、Wの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、上記第3のメッシュは、第1のメッシュ及び第2のメッシュの中から選ばれる少なくとも1つを含むことができる。上記の目的を達成するために、本発明の他の実施形態は、内部に断熱材が内入された炉本体を設けるステップと、上記断熱材の下部にセッターを配置するステップと、上記セッター上にセラミック成形体を積載するステップと、上記断熱材の上部に排気口を設けるステップと、上記セラミック成形体の周辺に少なくとも1つの発熱体を配置するステップと、上記炉本体の内部が均一な温度勾配を維持するように上記セラミック成形体の周辺に少なくとも1つのメッシュを配置するステップと、上記セラミック成形体を焼成するステップとを含むセラミック製品用焼成炉を利用した焼成方法を提供する。上記メッシュを配置するステップにおいて、上記メッシュは、上記排気口の内部に配置されることができる。上記メッシュを配置するステップにおいて、上記メッシュは、上記排気口と上記セラミック成形体との間に配置されることができる。上記メッシュを配置するステップにおいて、上記メッシュは、高熱容量を有する第1のメッシュを含むように配置されることができる。上記メッシュを配置するステップにおいて、上記メッシュは、上記排気口側から高熱容量を有する第1のメッシュ及び高熱伝導率を有する第2のメッシュを含むように配置されることができる。上記第1のメッシュと上記第2のメッシュとの間に、上記第1のメッシュと上記第2のメッシュとの中間の熱伝導率と熱容量を有する第3のメッシュをさらに配置することができる。ここで、上記第1のメッシュは、Al、Si、inconelの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、上記第2のメッシュは、Al、Si、Mg、Ni、Cu、Ag、Wの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、上記第3のメッシュは、第1のメッシュ及び第2のメッシュの中から選ばれる少なくとも1つを含むことができる。本発明によると、焼成炉の内部の温度偏差を最小化することによって、焼成時の温度勾配の差によるセラミック製品の特性の変化を防止することができるセラミック製品用焼成炉及びこれを利用した焼成方法を提供することができる。また、焼成炉内の円滑な熱源の供給と不活性ガスの投入により、焼成時に物理的、化学的結合をせずに、金属焼成と同時に残留結晶相が形成されない単結晶セラミック製品の製作が可能であるため、誘電定数、非抵抗、キャパシタ等に誤差が少ない、即ち優れた電気的特性を有するセラミック製品とそのモジュールの製作も可能である。そして、脱バインダーと溶媒の除去が容易で、大型基板の上下位置の差に関係なく焼成結晶化及び緻密化が可能であるため、焼成セラミック製品の脱色が無く、高強度セラミック製品の製作が可能である。以下、添付の図面を参照し、本発明の好ましい実施形態を説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲が以下で説明する実施形態に限定されるものではない。また、本発明の実施形態は当業界において平均的な知識を有する者に本発明をさらに完全に説明するために提供されるものである。従って、図面における要素の形状及びサイズ等はより明確な説明のために誇張されることもあり、図面上の同一の符号で表示される要素は同一の要素である。以下では図1aから図2cを参照し、本発明の実施形態による焼成炉について説明する。図1aから図1cは、本発明の第1の実施形態によるセラミック製品用焼成炉を概略的に示す断面図である。本発明の第1の実施形態によるセラミック製品用焼成炉1は、内部に断熱材11が内入された炉本体10と、上記断熱材11の下部に配置され、セラミック成形体Cが上部に積載されたセッターSと、上記断熱材11の上部に配置される排気口17と、上記セラミック成形体Cの周辺に少なくとも1つ配置される発熱体13と、上記炉本体10の内部が均一な温度勾配を維持するように上記セラミック成形体Cの周辺に少なくとも1つ配置され、金属、合金、酸化物及び窒化物の中から選ばれる少なくとも1つからなるメッシュ15とを含んで構成される。上記断熱材11は、壁体がアルミナ系セラミック繊維製ボードで構成され、底体はムライト耐火物の耐火断熱材で構成され、上記断熱材11の壁体を貫通して多数の発熱体13が結合されることにより密閉されたチャンバー型の断熱材11の内部が発熱体13の加熱により800°C~1700°C内外の温度に昇温される。ここで、断熱材11を構成する物質はこれに限定されるものではない。また、上記断熱材11の下部にはセラミック成形体Cが上部に積載されたセッターSが配置されており、上記断熱材11の上部のセラミック成形体C上には排気口17が配置され焼成中に発生した有機物を含んだバインダー及びその他不純物を外部に排出する。ここで、上記セラミック成形体Cの周辺にはメッシュ15が配置される。図1aから図1cを参照すると、本発明の第1の実施形態による金属メッシュ15は、上記排気口17と上記セラミック成形体Cとの間に配置される。図1aを参照すると、本発明の第1の実施形態によるメッシュ15は、高熱容量を有する第1のメッシュ15aであることができる。ここで、第1のメッシュ15aが高熱容量を有するため、発熱体13から発生した熱により高温の炉本体10の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口17との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体10の内部は均一な温度勾配を維持することができる。図1bを参照すると、本発明の第1の実施形態によるメッシュ15は、上記排気口17側から高熱容量を有する第1のメッシュ15aと、高熱伝導率を有する第2のメッシュ15bとを含むように構成されることができる。ここで、第1のメッシュ15aは高熱容量を有し、第2のメッシュ15bは高熱伝導率を有するため、発熱体13から発生した熱により高温の炉本体10の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口17との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体10の内部は均一な温度勾配を維持することができる。図1cを参照すると、本発明の第1の実施形態によるメッシュ15は、上記排気口17側から高熱容量を有する第1のメッシュ15aと、高熱伝導率を有する第2のメッシュ15bと、上記第1のメッシュ15aと上記第2のメッシュ15bとの間に上記第1のメッシュ15aと上記第2のメッシュ15bとの中間の熱伝導率と熱容量を有する第3のメッシュ15cとを含むように構成されることができる。ここで、第1のメッシュ15aは高熱容量を有し、第2のメッシュ15bは高熱伝導率を有し、第3のメッシュ15cは上記第1のメッシュ15aと上記第2のメッシュ15bとの中間の熱伝導率と熱容量を有するため、発熱体13から発生した熱により高温の炉本体10の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口17との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体10の内部は均一な温度勾配を維持することができる。ここで、高熱容量を有する第1のメッシュ15aは、Al、Si、inconelの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、高熱伝導率を有する第2のメッシュ15bは、Al、Si、Mg、Ni、Cu、Ag、Wの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、上記第1のメッシュ15aと上記第2のメッシュ15bとの中間の熱伝導率と熱容量を有する第3のメッシュ15cは、第1のメッシュ15a及び第2のメッシュ15bの中から選ばれる少なくとも1つを含むことができる。発熱体13が近接配置されたセラミック成形体Cは、発熱体13が相対的に離れて配置されたセラミック成形体Cに比べて、焼成収縮開始が早く発生し、発熱体13が相対的に離れて配置されたセラミック成形体Cとの焼成収縮開始が不均衡に発生することにより、セラミック成形体Cに曲がり、歪みまたはクラック等の様々な変形が発生することがある。しかし、本発明の第1の実施形態のように、上記排気口17と上記セラミック成形体Cとの間にメッシュ15を配置することによって、発熱体13から発生した熱により高温の炉本体10の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口17との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体10の内部は均一な温度勾配を維持することができ、上記のような焼成収縮開始の不均衡を補完することで、セラミック成形体Cに発生し得る上記のような変形を防止することができる。ここで、第1のメッシュ15a、第2のメッシュ15b及び第3のメッシュ15cは、図3aに示したように、格子状のメッシュであってもよく、図3bに示したようにハニカム状のメッシュであってもよいが、これに限定されるものではない。図2aから図2cを参照すると、本発明の第2の実施形態によるメッシュ25は、上記排気口27の内部に配置される。図2aを参照すると、本発明の第2の実施形態によるメッシュ25は、高熱容量を有する第1のメッシュ25aであることができる。ここで、第1のメッシュ25aが高熱容量を有するため、発熱体23から発生した熱により高温の炉本体20の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口27との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体20の内部は均一な温度勾配を維持することができる。図2bを参照すると、本発明の第2の実施形態によるメッシュ25は、上記排気口27側から高熱容量を有する第1のメッシュ25aと、高熱伝導率を有する第2のメッシュ25bとを含むように構成されることができる。ここで、第1のメッシュ25aは高熱容量を有し、第2のメッシュ25bは高熱伝導率を有するため、発熱体23から発生した熱により高温の炉本体20の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口27との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体20の内部は均一な温度勾配を維持することができる。図2cを参照すると、本発明の第2の実施形態によるメッシュ25は、上記排気口27側から高熱容量を有する第1のメッシュ25aと、高熱伝導率を有する第2のメッシュ25bと、上記第1のメッシュ25aと上記第2のメッシュ25bとの間に上記第1のメッシュ25aと上記第2のメッシュ25bとの中間の熱伝導率と熱容量を有する第3のメッシュ25cとを含むように構成されることができる。ここで、第1のメッシュ25aは高熱容量を有し、第2のメッシュ25bは高熱伝導率を有し、第3のメッシュ25cは上記第1のメッシュ25aと上記第2のメッシュ25bとの中間の熱伝導率と熱容量を有するため、発熱体23から発生した熱により高温の炉本体20の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口27との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体20の内部は均一な温度勾配を維持することができる。ここで、高熱容量を有する上記第1のメッシュ25aは、Al、Si、inconelの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、上記第2のメッシュ25bは、Al、Si、Mg、Ni、Cu、Ag、Wの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、上記第3のメッシュ25cは第1のメッシュ25a及び第2のメッシュ25bの材料の中から選ばれる少なくとも1つを含むことができる。発熱体23が近接配置されたセラミック成形体C’は、発熱体23が相対的に離れて配置されたセラミック成形体C’に比べて、焼成収縮開始が早く発生し、発熱体23が相対的に離れて配置されたセラミック成形体C’との焼成収縮開始が不均衡に発生することにより、セラミック成形体C’に曲がり、歪みまたはクラック等の様々な変形が発生することがある。しかし、本発明の第2の実施形態のように、上記排気口27と上記セラミック成形体C’との間にメッシュ25を配置することによって、発熱体23から発生した熱により高温の炉本体20の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口27との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体20の内部は均一な温度勾配を維持することができ、上記のような焼成収縮開始の不均衡を補完することで、セラミック成形体C’に発生し得る上記のような変形を防止することができる。ここで、第1のメッシュ25a、第2のメッシュ25b及び第3のメッシュ25cは、図3aに示したように、格子状のメッシュであってもよく、図3bに示したようにハニカム状のメッシュであってもよいが、これに限定されるものではない。以下では図1aから図4を参照し、本発明の実施形態によるセラミック製品用焼成炉を利用したセラミック製品の焼成工程について説明する。図1aから図1cは、本発明の第1の実施形態によるセラミック製品用焼成炉を概略的に示す断面図であり、図3a及び図3bは、本発明の一実施形態による金属メッシュの形状を概略的に示す上部平面図であり、図4は、本発明の一実施形態によるセラミック製品用焼成炉を利用したセラミック製品の焼成工程を概略的に示す流れ図である。本発明の第1の実施形態によるセラミック製品用焼成炉1を利用したセラミック製品の焼成方法は、内部に断熱材11が内入された炉本体10を設けるステップS1と、上記断熱材11の下部にセッターSを配置するステップS2と、上記セッターS上にセラミック成形体Cを積載するステップS3と、上記断熱材11の上部に排気口17を設けるステップS4と、上記セラミック成形体Cの周辺に少なくとも1つの発熱体13を配置するステップS5と、上記炉本体10の内部が均一な温度勾配を維持するように上記セラミック成形体Cの周辺に少なくとも1つのメッシュ15を配置するステップS6と、上記セラミック成形体Cを焼成するステップS7とを含む。先ず、壁体がアルミナ系セラミック繊維製ボードで構成され、底体はムライト耐火物の耐火断熱材で構成された断熱材11が内入された炉本体10を設ける。ここで、断熱材11を構成する物質はこれに限定されるものではない。多数の発熱体13が断熱材11の壁体を貫通して結合されることにより密閉されたチャンバー型の断熱材11の内部は発熱体13の加熱により800°C~1700°C内外の温度に昇温される。次に、上記炉本体10の内部にセッターSを配置し、上記セッターS上にセラミック成形体Cを積載する。また、上記断熱材11の上部のセラミック成形体C上には排気口17を配置し、焼成中に発生した有機物を含んだバインダー及びその他不純物を外部に排出させる。次に、上記セラミック成形体Cの周辺にメッシュ15を配置する。ここで、図1aから図1cを参照すると、本発明の第1の実施形態によるメッシュ15は、上記排気口17と上記セラミック成形体Cとの間に配置する。図1aを参照すると、本発明の第1の実施形態によるメッシュ15は高熱容量を有する第1のメッシュ15aで構成されることができる。ここで、第1のメッシュ15aが高熱容量を有するため、発熱体13から発生した熱により高温の炉本体10の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口17との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体10の内部は均一な温度勾配を維持することができる。図1bを参照すると、本発明の第1の実施形態によるメッシュ15は、上記排気口17側から高熱容量を有する第1のメッシュ15aと、高熱伝導率を有する第2のメッシュ15bとを含むように構成されることができる。ここで、第1のメッシュ15aは高熱容量を有し、第2のメッシュ15bは高熱伝導率を有するため、発熱体13から発生した熱により高温の炉本体10の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口17との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体10の内部は均一な温度勾配を維持することができる。図1cを参照すると、本発明の第1の実施形態によるメッシュ15は、上記排気口17側から高熱容量を有する第1のメッシュ15aと、高熱伝導率を有する第2のメッシュ15bと、上記第1のメッシュ15aと上記第2のメッシュ15bとの間に上記第1のメッシュ15aと上記第2のメッシュ15bとの中間の熱伝導率と熱容量を有する第3のメッシュ15cとを含むように構成されることができる。ここで、第1のメッシュ15aは高熱容量を有し、第2のメッシュ15bは高熱伝導率を有し、第3のメッシュ15cは上記第1のメッシュ15aと上記第2のメッシュ15bとの中間の熱伝導率と熱容量を有するため、発熱体13から発生した熱により高温の炉本体10の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口17との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体10の内部は均一な温度勾配を維持することができる。ここで、高熱容量を有する第1のメッシュ15aは、Al、Si、inconelの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、高熱伝導率を有する第2のメッシュ15bは、Al、Si、Mg、Ni、Cu、Ag、Wの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、上記第1のメッシュ15aと上記第2のメッシュ15bとの中間の熱伝導率と熱容量を有する第3のメッシュ15cは、第1のメッシュ15a及び第2のメッシュ15bの中から選ばれる少なくとも1つを含むことができる。発熱体13が近接配置されたセラミック成形体Cは、発熱体13が相対的に離れて配置されたセラミック成形体Cに比べて、焼成収縮開始が早く発生し、発熱体13が相対的に離れて配置されたセラミック成形体Cとの焼成収縮開始が不均衡に発生することにより、セラミック成形体Cに曲がり、歪みまたはクラック等の様々な変形が発生することがある。しかし、本発明の第1の実施形態のように、上記排気口17と上記セラミック成形体Cとの間にメッシュ15を配置することによって、発熱体13から発生した熱により高温の炉本体10の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口17との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体10の内部は均一な温度勾配を維持することができ、上記のような焼成収縮開始の不均衡を補完することで、セラミック成形体Cに発生し得る上記のような変形を防止することができる。ここで、第1のメッシュ15a、第2のメッシュ15b及び第3のメッシュ15cは、図3aに示したように、格子状のメッシュであってもよく、図3bに示したようにハニカム状のメッシュであってもよいが、これに限定されるものではない。図2aから図2cを参照すると、本発明の第2の実施形態によるメッシュ25は、上記排気口27の内部に配置する。図2aを参照すると、本発明の第2の実施形態によるメッシュ25は、高熱容量を有する第1のメッシュ25aで構成されることができる。ここで、第1のメッシュ25aが高熱容量を有するため、発熱体23から発生した熱により高温の炉本体20の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口27との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体20の内部は均一な温度勾配を維持することができる。図2bを参照すると、本発明の第2の実施形態によるメッシュ25は、上記排気口27側から高熱容量を有する第1のメッシュ25aと、高熱伝導率を有する第2のメッシュ25bとを含むように構成されることができる。ここで、第1のメッシュ25aは高熱容量を有し、第2のメッシュ25bは高熱伝導率を有するため、発熱体23から発生した熱により高温の炉本体20の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口27との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体20の内部は均一な温度勾配を維持することができる。図2cを参照すると、本発明の第2の実施形態によるメッシュ25は、上記排気口27側から高熱容量を有する第1のメッシュ25aと、高熱伝導率を有する第2のメッシュ25bと、上記第1のメッシュ25aと上記第2のメッシュ25bとの間に上記第1のメッシュ25aと上記第2のメッシュ25bとの中間の熱伝導率と熱容量を有する第3のメッシュ25cとを含むように構成されることができる。ここで、第1のメッシュ25aは高熱容量を有し、第2のメッシュ25bは高熱伝導率を有し、第3のメッシュ25cは上記第1のメッシュ25aと上記第2のメッシュ25bとの中間の熱伝導率と熱容量を有するため、発熱体23から発生した熱により高温の炉本体20の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口27との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体20の内部は均一な温度勾配を維持することができる。ここで、高熱容量を有する上記第1のメッシュ25aは、Al、Si、inconelの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、上記第2のメッシュ25bは、Al、Si、Mg、Ni、Cu、Ag、Wの中から選ばれる少なくとも1つからなる金属、酸化物、窒化物及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも1つを含み、上記第3のメッシュ25cは第1のメッシュ25a及び第2のメッシュ25bの材料の中から選ばれる少なくとも1つを含むことができる。発熱体23が近接配置されたセラミック成形体C’は、発熱体23が相対的に離れて配置されたセラミック成形体C’に比べて、焼成収縮開始が早く発生し、発熱体23が相対的に離れて配置されたセラミック成形体C’との焼成収縮開始が不均衡に発生することにより、セラミック成形体C’に曲がり、歪みまたはクラック等の様々な変形が発生することがある。しかし、本発明の第2の実施形態のように、上記排気口27の内部にメッシュ25を配置することによって、発熱体23から発生した熱により高温の炉本体20の内部に外気が流入され、相対的に低温の排気口27との間の急激な温度差を補正することができる。これにより炉本体20の内部は均一な温度勾配を維持することができ、上記のような焼成収縮開始の不均衡を補完することで、セラミック成形体C’に発生し得る上記のような変形を防止することができる。ここで、第1のメッシュ25a、第2のメッシュ25b及び第3のメッシュ25cは、図3aに示したように、格子状のメッシュであってもよく、図3bに示したようにハニカム状のメッシュであってもよいが、これに限定されるものではない。最後に、セラミック成形体C’を焼成する。焼成時、上記排気口27を介して上記断熱材21の内部に活性ガスをリフローし、上記焼成ステップを活性化してもよい。本発明によると、焼成炉の内部の温度偏差を最小化することによって、焼成時の温度勾配の差によるセラミック製品の特性の変化を防止することができるセラミック製品用焼成炉及びこれを利用した焼成方法を提供することができる。また、焼成炉内の円滑な熱源の供給と不活性ガスの投入により、焼成時に物理的、化学的結合をすることなく、金属焼成と同時に残留結晶相が形成されない単結晶セラミック製品の製作が可能であるため、誘電定数、非抵抗、キャパシタ等に誤差が少ない、即ち優れた電気的特性を有するセラミック製品とそのモジュールの製作も可能である。そして、脱バインダーと溶媒の除去が容易で、大型基板の上下位置の差に関係なく焼成結晶化及び緻密化が可能であるため、焼成セラミック製品の脱色がない、高強度セラミック製品の製作が可能である。本発明は上述した実施形態及び添付の図面により限定されるものではなく、添付の請求範囲により限定する。従って、請求範囲に記載された本発明の技術的思想を外れない範囲内で当技術分野の通常の知識を有する者により多様な形態の置換、変形及び変更が可能であり、これも本発明の範囲に属する。