"A一般式1で表される化合物以下化合物Aともいう。と、B一般式2で表される化合物以下化合物Bともいう。とを含むインクであり、前記インク中に含まれる、化合物Aの-COOR2および-COOR3の組の合計モル数をα、化合物Bの-NH-R5の合計モル数をβとしたときに、αおよびβが式I:0.75<α/β<1.33を満たす、熱硬化性インクジェット用インク。[式1中、nは1以上の整数であり、n=1のとき、R1は炭素数2~10の二価の有機基であり、n=2のとき、R1は炭素数4~40の四価の有機基であり、n=3のとき、R1は炭素数6~60の六価の有機基であり、n≧4の整数のとき、R1は炭素数2n~30nの2×n価の有機基であり、R2は炭素数1~10のアルキルまたは炭素数6~12の芳香族基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、R3は水素またはトリメチルシリルであり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。][式2中、R4は一般式3または4で表される基であり、R5は水素または炭素数1~100の一価の脱離可能な有機基であり、R5’は-NH-R5または-NH-CO-R6-COOHR6は炭素数2~98の二価の有機基であるで表される基である。][式3および4中、R7は炭素数2~100の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、R8は炭素数2~100の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、mは0~1000の整数である。]B’一般式5~9で表される化合物から選択される少なくとも1種をさらに含むインクである請求項1に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[式5中、複数あるR6はそれぞれ独立に炭素数2~98の二価の有機基であり、R7は炭素数2~100の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、R8は炭素数2~100の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、nは0~1000の整数である。][式6および7中、複数あるR6はそれぞれ独立に炭素数2~98の二価の有機基であり、R7は炭素数2~100の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、R8は炭素数2~100の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、nは1~1000の整数であり、mは0~1000の整数である。][式8および9中、R6は炭素数2~98の二価の有機基であり、R9は炭素数2~100の一価の有機基である。]前記式1中、nが2であり、R1が炭素数4~40の四価の有機基であり、前記式2中、R5が水素である、請求項1または2に記載の熱硬化性インクジェット用インク。前記式1中のR1がテトラカルボン酸二無水物の残基であり、前記式3~4中のR8がテトラカルボン酸二無水物の残基である、請求項3に記載の熱硬化性インクジェット用インク。溶媒Cをさらに含む、請求項1~4の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。溶媒Cが、乳酸エチル、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルおよびγ―ブチロラクトンからなる群から選ばれる1種以上を含有する溶媒である、請求項5に記載の熱硬化性インクジェット用インク。エポキシ樹脂をさらに含む、請求項1~6の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。エポキシ樹脂が、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビスN,N-ジグリシジルアミノメチルシクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタンおよび式D1~D5で表される化合物からなる群から選ばれる1種以上の化合物である、請求項7に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[式D4およびD5中、nは0~20の整数である。]界面活性剤を0.00001質量以上、1.0質量以下の範囲でさらに含む、請求項1~8の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。トリスアルケニル置換ナジイミド化合物およびテトラアルケニル置換ナジイミド化合物から選ばれる少なくとも1種のアルケニル置換ナジイミド化合物をさらに含む、請求項1~9の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。顔料をさらに含む、請求項1~10の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。請求項1~11の何れか一項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および前記塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程を有する、インクの塗布方法。基板を表面処理する工程、前記表面処理がなされた基板上に、請求項1~11の何れか一項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および前記塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程を有する、インクの塗布方法。請求項12または13に記載のインクの塗布方法を用いる、ポリイミド膜の製造方法。請求項14に記載の製造方法により形成されたポリイミド膜。請求項14に記載の製造方法により形成されたポリイミド膜を有する、フィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板。請求項16に記載のフィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板を有する電子部品。本発明の課題は、熱的電気的機械的特性が良好なポリイミド膜を形成できるとともに、1回のジェッティングで比較的厚い膜厚例:1μm以上を有するポリイミド膜を形成できる熱硬化性インクジェット用インクを提供することにある。本発明者等は上記課題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、下記構成の熱硬化性インクジェット用インクを用いることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は以下の構成を有する。[1]A一般式1で表される化合物以下化合物Aともいう。と、B一般式2で表される化合物以下化合物Bともいう。とを含むインクであり、前記インク中に含まれる、化合物Aの-COOR2および-COOR3の組の合計モル数をα、化合物Bの-NH-R5の合計モル数をβとしたときに、αおよびβが式I:0.75<α/β<1.33を満たす、熱硬化性インクジェット用インク。[式1中、nは1以上の整数であり、n=1のとき、R1は炭素数2~10の二価の有機基であり、n=2のとき、R1は炭素数4~40の四価の有機基であり、n=3のとき、R1は炭素数6~60の六価の有機基であり、n≧4の整数のとき、R1は炭素数2n~30nの2×n価の有機基であり、R2は炭素数1~10のアルキルまたは炭素数6~12の芳香族基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、R3は水素またはトリメチルシリルであり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。][式2中、R4は一般式3または4で表される基であり、R5は水素または炭素数1~100の一価の脱離可能な有機基であり、R5’は-NH-R5または-NH-CO-R6-COOHR6は炭素数2~98の二価の有機基であるで表される基である。][式3および4中、R7は炭素数2~100の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、R8は炭素数2~100の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、mは0~1000の整数である。][2]B’一般式5~9で表される化合物から選択される少なくとも1種をさらに含むインクである前記[1]項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[式5中、複数あるR6はそれぞれ独立に炭素数2~98の二価の有機基であり、R7は炭素数2~100の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、R8は炭素数2~100の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、nは0~1000の整数である。][式6および7中、複数あるR6はそれぞれ独立に炭素数2~98の二価の有機基であり、R7は炭素数2~100の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、R8は炭素数2~100の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、nは1~1000の整数であり、mは0~1000の整数である。][式8および9中、R6は炭素数2~98の二価の有機基であり、R9は炭素数2~100の一価の有機基である。][3]前記式1中、nが2であり、R1が炭素数4~40の四価の有機基であり、前記式2中、R5が水素である、前記[1]項または[2]項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[4]前記式1中のR1がテトラカルボン酸二無水物の残基であり、前記式3~4中のR8がテトラカルボン酸二無水物の残基である、前記[3]項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[5]溶媒Cをさらに含む、前記[1]~[4]の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[6]溶媒Cが、乳酸エチル、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルおよびγ―ブチロラクトンからなる群から選ばれる1種以上を含有する溶媒である、前記[5]項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[7]エポキシ樹脂をさらに含む、前記[1]~[6]の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[8]エポキシ樹脂が、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビスN,N-ジグリシジルアミノメチルシクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタンおよび式D1~D5で表される化合物からなる群から選ばれる1種以上の化合物である、前記[7]項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[式D4およびD5中、nは0~20の整数である。][9]界面活性剤を0.00001質量以上、1.0質量以下の範囲でさらに含む、前記[1]~[8]の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[10]トリスアルケニル置換ナジイミド化合物およびテトラアルケニル置換ナジイミド化合物から選ばれる少なくとも1種のアルケニル置換ナジイミド化合物をさらに含む、前記[1]~[9]の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[11]顔料をさらに含む、前記[1]~[10]の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。[12]前記[1]~[11]の何れか一項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および前記塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程を有する、インクの塗布方法。[13]基板を表面処理する工程、前記表面処理がなされた基板上に、前記[1]~[11]の何れか一項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および前記塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程を有する、インクの塗布方法。[14]前記[12]項または[13]項に記載のインクの塗布方法を用いる、ポリイミド膜の製造方法。[15]前記[14]項に記載の製造方法により形成されたポリイミド膜。[16]前記[14]項に記載の製造方法により形成されたポリイミド膜を有する、フィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板。[17]前記[16]項に記載のフィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板を有する電子部品。以下、本明細書中の語句について説明する。一価の有機基としては、例えば、炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルコキシ、置換基を有していてもよい炭素数6~20のアリールオキシ、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいシリル、置換基を有していてもよいアルキルチオ-SY1;式中、Y1は置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキルを示す。、置換基を有していてもよいアリールチオ-SY2;式中、Y2は置換基を有していてもよい炭素数6~18のアリールを示す。、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル-SO2Y3;式中、Y3は置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキルを示す。、置換基を有していてもよいアリールスルホニル-SO2Y4;式中、Y4は置換基を有していてもよい炭素数6~18のアリールを示す。が挙げられる。炭化水素基は、飽和または不飽和の非環式であってもよいし、飽和または不飽和の環式であってもよい。炭化水素が非環式の場合には、直鎖状でもよいし、分岐鎖状でもよい。炭化水素基としては、例えば、炭素数1~20のアルキル、炭素数2~20のアルケニル、炭素数2~20のアルキニル、炭素数4~20のアルキルジエニル、炭素数6~18のアリール、炭素数7~20のアルキルアリール、炭素数7~20のアリールアルキル、炭素数4~20のシクロアルキル、炭素数4~20のシクロアルケニルが挙げられる。炭素数1~20のアルキルは、炭素数1~10のアルキルであることが好ましく、炭素数2~6のアルキルであることがより好ましい。前記アルキルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニルが挙げられる。炭素数2~20のアルケニルは、炭素数2~10のアルケニルであることが好ましく、炭素数2~6のアルケニルであることがより好ましい。前記アルケニルとしては、例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、2-メチル-1-プロペニル、2-メチルアリル、2-ブテニルが挙げられる。炭素数2~20のアルキニルは、炭素数2~10のアルキニルであることが好ましく、炭素数2~6のアルキニルであることがより好ましい。前記アルキニルとしては、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニルが挙げられる。炭素数4~20のアルキルジエニルは、炭素数4~10のアルキルジエニルであることが好ましく、炭素数4~6のアルキルジエニルであることがより好ましい。前記アルキルジエニルとしては、例えば、1,3-ブタジエニルが挙げられる。炭素数6~18のアリールは、炭素数6~10のアリールであることが好ましい。前記アリールとしては、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリルが挙げられる。炭素数7~20のアルキルアリールは、炭素数7~12のアルキルアリールであることが好ましい。前記アルキルアリールとしては、例えば、o-トリル、m-トリル、p-トリル、2,3-キシリル、2,4-キシリル、2,5-キシリル、o-クメニル、m-クメニル、p-クメニル、メシチルが挙げられる。炭素数7~20のアリールアルキルは、炭素数7~12のアリールアルキルであることが好ましい。前記アリールアルキルとしては、例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、1-ナフチルメチル、2-ナフチルメチル、2,2-ジフェニルエチル、3-フェニルプロピル、4-フェニルブチル、5-フェニルペンチルが挙げられる。炭素数4~20のシクロアルキルは、炭素数4~10のシクロアルキルであることが好ましい。前記シクロアルキルとしては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。炭素数4~20のシクロアルケニルは、炭素数4~10のシクロアルケニルであることが好ましい。前記シクロアルケニルとしては、例えば、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルが挙げられる。炭素数1~20のアルコキシとしては、炭素数1~10のアルコキシであることが好ましく、炭素数2~6のアルコキシであることがより好ましい。前記アルコキシとしては、例えば、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシが挙げられる。炭素数6~20のアリールオキシは、炭素数6~10のアリールオキシであることが好ましい。前記アリールオキシとしては、例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシが挙げられる。アルキルチオ-SY1;式中、Y1は置換を有してもよい炭素数2~20のアルキルを示す。およびアルキルスルホニル-SO2Y3;式中、Y3は置換を有してもよい炭素数1~20のアルキルを示す。において、Y1およびY3は、炭素数2~10のアルキルであることが好ましく、炭素数2~6のアルキルであることがより好ましい。前記アルキルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニルが挙げられる。アリールチオ-SY2;Y2は置換を有してもよい炭素数6~18のアリールを示す。およびアリールスルホニル-SO2Y4;式中、Y4は置換を有してもよい炭素数6~18のアリールを示す。において、Y2およびY4は、炭素数6~10のアリールであることが好ましい。前記アリールとしては、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリルが挙げられる。炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20のアルコキシ、炭素数6~20のアリールオキシ、アミノ、シリル、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、アリールスルホニルには、置換基が導入されていてもよい。前記置換基としては、例えば、エステル、カルボキシル、アミド、アルキン、トリメチルシリル、アミノ、ホスホニル、チオ、カルボニル、ニトロ、スルホ、イミノ、ハロゲノ、アルコキシが挙げられる。この場合、置換基は、置換可能な位置に1個以上、置換可能な最大数まで導入されていてもよく、好ましくは1個~4個導入されていてもよい。置換基数が2個以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。置換基を有してもよいアミノとしては、例えば、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフェニルアミノ、フェニルアミノが挙げられる。置換基を有していてもよいシリルとしては、例えば、ジメチルシリル、ジエチルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、トリフェノキシシリル、ジメチルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリル、メチルメトキシフェニルが挙げられる。以上、一価の有機基の具体例を例示した。本明細書中、二価の有機基の具体例としては、上述の一価の有機基においてさらに価数を1つ増やした基が挙げられる。同様に、本明細書中、四価および六価の有機基の具体例としては、上述の一価の有機基においてさらに価数を3つおよび5つ増やした基が挙げられる。本明細書中、炭素数2~100の二価の有機基または炭素数2~98の二価の有機基の炭素数は、2~50が好ましく、2~40がより好ましい。また、本明細書中、炭素数2~100の四価の有機基の炭素数は、2~30が好ましい。架橋性を持つ有機基、すなわち架橋性基を有する有機基における架橋性基としては、例えば、アルケニル、アルキニル、シクロアルキニル、アルコキシシリル、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルケニレン、アクリル、メタクリルが挙げられる。ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。以下の発明を実施するための形態の説明において、個別に有機基などの説明をしない限り、上述の有機基などの説明を援用する。本発明によれば、熱的電気的機械的特性が良好なポリイミド膜を形成できるとともに、1回のジェッティングで比較的厚い膜厚例;1μm以上を有するポリイミド膜を形成できる熱硬化性インクジェット用インクを提供することができる。以下、本発明の熱硬化性インクジェット用インク、インクの塗布方法、ポリイミド膜の製造方法、ポリイミド膜、フィルム基板、半導体ウェハおよび電子材料用基板、ならびに電子部品について、好適態様も含めて詳細に説明する。1熱硬化性インクジェット用インク本発明の熱硬化性インクジェット用インクは、A一般式1で表される化合物以下化合物Aともいう。と、B一般式2で表される化合物以下化合物Bともいう。とを含み、化合物Aおよび化合物Bの含有比率が特定範囲にあることを特徴とする。前記インクは、有色または無色の何れであっても構わない。1.1化合物A化合物Aは、一般式1で表される化合物である。式1中、nは1以上の整数である。n=1のとき、R1は炭素数2~10の二価の有機基である。n=2のとき、R1は炭素数4~40の四価の有機基であり、焼成によってポリイミドを形成するといった観点から、後述するテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましい。n=3のとき、R1は炭素数6~60の六価の有機基である。n≧4の整数のとき、R1は炭素数2n~30nの2×n価の有機基であり、好ましくは炭素数2n~10nの2×n価の有機基であり、焼成によってポリイミドを形成するといった観点から、後述する酸無水物基を有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーとの共重合体の残基であることが好ましい。焼成によって形成されたポリイミドの耐熱性といった観点から、nは1または2が好ましく、2がより好ましい。R2は炭素数1~10のアルキルまたは炭素数6~12の芳香族基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、R3は水素またはトリメチルシリルであり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。アルキルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、ペンチル、ヘキシル、ノニル、デカニルが挙げられる。アルキルの炭素数は、通常1~10、好ましくは1~4である。芳香族基としては、例えば、置換基を有してもよいフェニル、置換基を有してもよいナフチルが挙げられる。前記置換基としては、例えば、炭素数1~6のアルキル、カルボキシル、ヒドロキシルが挙げられる。芳香族基の炭素数は、通常6~12、好ましくは6~10である。化合物Aはポリアミド酸およびポリイミドに比べて溶媒Cへの溶解性が高く、本発明のインクにおいて化合物Aを高濃度化することができる。また、化合物Aを用いる場合、モノマー型のアミド酸のみを用いる場合に比べて、熱的機械的性質が高いポリイミド膜が得られる。化合物A但し、R3=水素は、例えば、酸無水物基を1つ以上有する化合物a1と、アルコールa2およびフェノール類a3から選択される少なくとも1種とを反応させることにより得ることができる。前記化合物a1の酸無水物基数は、化合物Aのnの値に対応する。化合物A但し、R3=水素の市販品としては、例えば、製品名SMA17352、SMA2625サートマー社製が挙げられる。化合物a1としては、例えば、酸無水物基を1つ有する化合物a11、酸無水物基を2つ以上有する化合物a12が挙げられる。前記化合物a11および化合物a12の具体例および好ましい例としては、本明細書の[発明を実施するための形態]欄で後述する酸無水物基を1つ有する化合物および酸無水物基を2つ以上有する化合物が挙げられる。化合物A但し、R3=トリメチルシリルは、例えば、化合物A但し、R3=水素と、ヘキサメチレンジシラザンとを反応させることにより得ることができる。アルコールa2は、R2-OHR2は式1中のR2の炭素数1~10のアルキルと同義であるで表される。アルコールa2としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、1-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール、2-ブタノール、2-メチル-2-プロパノール、ペンタノール、ヘプタノール、ノナノール、デカノールが挙げられる。これらの中でも、沸点が200°C以下のアルコールである、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、1-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール、2-ブタノール、2-メチル-2-プロパノール、ペンタノール、ヘプタノール、ノナノールが好ましい。フェノール類a3は、R2-OHR2は式1中のR2の炭素数6~12の芳香族基と同義であるで表される。フェノール類a3としては、例えば、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、サリチル酸、1-ナフトール、2-ナフトール、カテコールが挙げられる。これらの中でも、沸点が200°C以下のフェノール類である、フェノール、o-クレゾールが好ましい。化合物Aの合成条件化合物Aの合成は、例えば、酸無水物基を1つ以上有する化合物a1に対してモル比にして過剰量のアルコールa2および/または過剰量のフェノール類a3中で、当該混合液を攪拌あるいは還流させることで進めることができる。ここで、反応温度は通常0~100°C、好ましくは20~90°Cであり、反応時間は通常0.1~100時間であり、好ましくは0.2~20時間であり、より好ましくは0.5~15時間であり、反応圧力は例えば常圧下である。その後、過剰に加えたアルコールa2および/またはフェノール類a3を減圧除去して、化合物Aを得ることができる。上記合成において、反応溶媒としては、アルコールa2および/またはフェノール類a3を用いることができ、必要に応じてその他の反応溶媒を用いてもよい。その他の反応溶媒としては、例えば、アセトン、酢酸エチル、n-ヘキサン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、乳酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、1,3-ジオキソラン、1,4-ジオキサン、アニソール、安息香酸メチル、安息香酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル、1-ビニル-2-ピロリドン、1-ブチル-2-ピロリドン、1-エチル-2-ピロリドン、1-2-ヒドロキシエチル-2-ピロリドン、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、1-アセチル-2-ピロリドン、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N-メチル-ε-カプロラクタム、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、γ-ブチロラクトンが挙げられる。これらの中でも、アルコールa2、フェノール類a3、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびジエチレングリコールジメチルエーテルから選択される少なくとも1種を用いると、反応後に当該反応溶媒をそのままインクジェット用溶媒として用いても、インクジェットヘッドへのダメージが少ないインクとすることができるので好ましい。反応溶媒は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。また、必要に応じて、上記反応溶媒以外の他の溶媒を上記反応溶媒と混合して用いることもできる。反応溶媒としてアルコールa2および/またはフェノール類a3を用いる場合、反応を効率よく進めるという観点から、酸無水物基を1つ以上有する化合物a1100質量部に対して、当該反応溶媒は200質量部以上用いることが好ましく、1000質量部以上用いることが好ましい。当該反応溶媒の使用量の上限は特に制限されず、例えば酸無水物基を1つ以上有する化合物a1100質量部に対して10000質量部程度である。反応原料の反応系への添加順序は特に限定されない。すなわち、化合物a1とアルコールa2および/またはフェノール類a3とを同時に混合する方法、前記成分を同時にその他の反応溶媒に添加する方法、アルコールa2および/またはフェノール類a3をその他の反応溶媒中に溶解させた後に化合物a1を添加する方法、化合物a1をその他の反応溶媒中に溶解させ、さらにアルコールa2および/またはフェノール類a3を添加する方法など、何れの方法も用いることができる。化合物Aおよび化合物Bの含有量本発明の熱硬化性インクジェット用インク中に含まれる、化合物Aの-COOR2および-COOR3の組の合計モル数をα、化合物Bの-NH-R5の合計モル数をβとする。本発明の熱硬化性インクジェット用インクにおいて、化合物Aおよび化合物Bは以下の条件を満たすように含まれる。すなわちα/βは0.75を超えて1.33未満であり、好ましくは0.9以上1.11以下である。ここで、化合物Aにおいて、前記組の合計モル数は、-COOR2および-COOR3を1組とし、この1組を1つとして数える。また、化合物Bにおいて、合計モル数は、1分子中に-NH-R5を2つ有する場合、2つとして数える。α/βが前記範囲にあると、焼成時の未反応の化合物Aおよび化合物Bの量が少なく、焼成後の膜の特性が良好であるといった観点から好ましい。上記各基は、それらが反応してイミド基となり得る。1.2化合物B化合物Bは、一般式2で表される化合物である。本発明では、化合物Bと化合物Aとの脱水反応により、強固なポリイミド膜が形成される。式2中、R4は一般式3または4で表される基であり、一般式2において、一般式3で表される基を用いる場合、アミド系溶媒だけでなく、インクジェットヘッドに対するダメージが少ないラクトン系、グリコール系の溶媒が使用できることから好ましい。R5’は-NH-R5または-NH-CO-R6-COOHで表される基である。R5は水素または炭素数1~100の一価の脱離可能な有機基以下脱離基ともいう。であり、脱離基があると脱離のための反応が必要となるといった観点から、水素であることが好ましい。R6は炭素数2~98の二価の有機基であり、架橋性を持つ有機基であることが好ましい。化合物Bとしては、R6が架橋基を持つ有機基である化合物を合計で、化合物B’全体に対して50モル以上用いることが好ましく、75モル以上用いることがより好ましい。脱離基としては、例えば、t-ブトキシカルボニル基、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル基、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基が挙げられる。脱離基は、化合物Bの分子末端の保護基として働く。脱離基の炭素数は、好ましくは2~50、より好ましくは2~15である。式3および4中、R7は炭素数2~100の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。R8は炭素数2~100の四価の有機基であり、焼成によってポリイミドを形成するといった観点から、後述するテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましく、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。mは0~1000の整数であり、好ましくは0~800の整数であり、より好ましくは0~650の整数である。化合物Bは、R5が脱離基の場合、当該有機基が脱離し、化合物Bは一級アミンとなり、化合物Aと脱水反応してポリアミド酸を形成し、したがって強固なポリイミド膜が得られる。化合物Bとしては、例えば、ジアミンb1、ジアミンb1のアミノを脱離基で保護してなる化合物、ジアミンb1と酸無水物基を1つ有する化合物b3との反応物アミド酸、ジアミンb1と酸無水物基を2つ以上有する化合物b2との反応物ポリアミド酸またはそのイミド化物、ジアミンb1と酸無水物基を2つ以上有する化合物b2と酸無水物基を1つ有する化合物b3との反応物ポリアミド酸またはそのイミド化物、前記反応物のアミノを脱離基で保護してなる化合物が挙げられる。ジアミンb1、酸無水物基を2つ以上有する化合物b2および酸無水物基を1つ有する化合物b3の具体例および好ましい例としては、本明細書の[発明を実施するための形態]欄で後述するジアミンおよび酸無水物基を2つ以上有する化合物が挙げられる。化合物Bの重量平均分子量化合物Bのうちポリアミド酸およびそのイミド化合物の重量平均分子量Mwは、通常900~7,500、好ましくは900~3,500、より好ましくは900~2,500である。Mwが前記下限値以上の化合物Bは、加熱処理によってポリイミド膜を形成する工程において、蒸発することがなく、化学的機械的に安定である。Mwが前記上限値以下の化合物Bは、溶媒Cに対する溶解性が良好であり、インクを低粘度化することができるので、得られるポリイミド膜の膜厚を大きくすることが可能である。Mwの測定条件は、実施例に記載のとおりである。化合物Bの合成条件化合物Bの合成条件の一例について説明する。化合物Bは、例えば、ジアミンb1と酸無水物基を2つ以上有する化合物b2とを反応させる方法で得ることができる。また、必要に応じて、酸無水物基を1つ以上有する化合物b3を反応させてもよい。また、必要に応じて、分子末端のアミノを脱離基で保護してもよい。反応温度は通常0~100°C、好ましくは4~80°Cであり、反応時間は通常0.2~20時間、好ましくは0.5~10時間であり、反応圧力は例えば常圧下である。化合物BのうちR4が一般式4で表される化合物は、例えば、化合物BのうちR4が一般式3で表される化合物をイミド化することにより得ることができる。イミド化は、熱的方法あるいは脱水触媒および脱水剤を用いた化学的方法により、進めることができる。好ましくは、精製処理を行なわないでインクの成分として使用できる熱的方法によりイミド化を進めることである。さらに好ましくは、化合物BのうちR4が一般式3で表される化合物を反応溶媒中で合成した後、還流してイミド化することである。還流の条件は、使用する反応溶媒により異なるが、好ましくは140~230°Cで1.5~10時間である。還流温度が140°C以上であるとイミド化が充分に進み強固な膜を得ることができる。還流温度が230°C以下であると比較的沸点の高い溶媒を用いても還流可能である。化合物Bを合成する際に用いることのできるジアミンb1、酸無水物基を2つ以上有する化合物b2、酸無水物基を1つ有する化合物b3は、それぞれ1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。化合物Bを合成する際に用いることのできる反応溶媒としては、例えば、化合物Aの合成に用いることのできる上述のその他の反応溶媒が挙げられ、好ましい反応溶媒も同様である。反応溶媒は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。また、必要に応じて、上記反応溶媒以外の他の溶媒を上記反応溶媒と混合して用いることもできる。反応を効率よく進めるという観点から、反応溶媒は、ジアミンb1、酸無水物基を2つ以上有する化合物b2および酸無水物基を1つ有する化合物b3などの反応原料の合計100質量部に対して、100質量部以上用いることが好ましく、500質量部以上用いることが好ましい。反応溶媒の使用量の上限は特に制限されず、例えば反応原料の合計100質量部に対して1000質量部程度である。反応原料の反応系への添加順序に特に限定されない。すなわち、ジアミンb1と酸無水物基を2つ以上有する化合物b2とを同時に反応溶媒に添加する方法、ジアミンb1を反応溶媒中に溶解させた後に酸無水物基を2つ以上有する化合物b2を添加する方法など、何れの方法も用いることができる。その他の反応原料の組合せの場合も前記方法に準じた方法を用いることができる。また、化合物Aの存在下に、化合物Bを合成してもよい。すなわち、ジアミンb1と、酸無水物基を2つ以上有する化合物b2と、化合物Aとを同時に反応溶媒に添加する方法、ジアミンb1を反応溶媒中に溶解させた後に酸無水物基を2つ以上有する化合物b2と化合物Aとを添加する方法、ジアミンb1と酸無水物基を2つ以上有する化合物b2とを予め反応させてポリアミド酸を合成した後に、化合物Aを添加する方法など、何れの方法も用いることができる。その他の反応原料の組合せの場合も前記方法に準じた方法を用いることができる。化合物Bの含有量本発明の熱硬化性インクジェット用インクにおいて、化合物Bの含有量後述する化合物B’を用いる場合は化合物Bと化合物B’との合計含有量は、インク全質量に対して、10~60質量が好ましく、14~55質量がより好ましく、18~50質量がさらに好ましい。化合物Bおよび必要に応じて使用される化合物B’の濃度が前記範囲にあると、1回のインクジェッティングで得られる塗膜の膜厚が最適となり、ジェッティング精度が高い点で好ましい。本発明のインクでは、インクジェット印刷に適した低粘度化と、化合物Bおよび必要に応じて使用される化合物B’によるインクの高濃度化固形分濃度20質量以上との両立が可能である。1.3化合物B’本発明の熱硬化性インクジェット用インクは、上述の化合物AおよびBのほか、一般式5~9で表される化合物から選択される少なくとも1種以下化合物B’ともいう。をさらに含んでもよい。これらの中でも、一般式5で表される化合物は、アミド系溶媒だけでなく、インクジェットヘッドに対するダメージが少ないラクトン系、グリコール系の溶媒が使用できることから好ましい。化合物B’を用いることにより、化合物Aと化合物B’との脱水反応、R6が架橋基を持つ有機基である場合は化合物Bと化合物B’との架橋反応、化合物B’同士の架橋反応により、強固なポリイミド膜が形成される。式5中、複数あるR6はそれぞれ独立に炭素数2~98の二価の有機基であり、架橋性を持つ有機基であることが好ましい。R7は炭素数2~100の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。R8は炭素数2~100の四価の有機基であり、焼成によってポリイミドを形成するといった観点から、後述するテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましく、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。nは0~1000の整数であり、好ましくは1~800の整数であり、より好ましくは1~650の整数である。一般式5で表される化合物としては、例えば、ジアミンb1と酸無水物基を1つ有する化合物b3との反応物アミド酸、n=0、ジアミンb1と酸無水物基を2つ以上有する化合物b2と酸無水物基を1つ有する化合物b3との反応物ポリアミド酸、n≧1が挙げられる。式6および7中、複数あるR6はそれぞれ独立に炭素数2~98の二価の有機基であり、架橋性を持つ有機基であることが好ましい。R7は炭素数2~100の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。R8は炭素数2~100の四価の有機基であり、焼成によってポリイミドを形成するといった観点から、後述するテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましく、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。nは1~1000の整数であり、好ましくは1~800の整数であり、より好ましくは1~650の整数である。mは0~1000の整数であり、好ましくは0~800の整数であり、より好ましくは0~650の整数である。一般式6で表される化合物としては、例えば、ジアミンb1および酸無水物基を2つ以上有する化合物b2の反応物ポリアミド酸をイミド化して得られる化合物と、酸無水物基を1つ有する化合物b3との反応物アミド酸が挙げられる。一般式7で表される化合物としては、例えば、ジアミンb1と酸無水物基を1つ有する化合物b3との反応物アミド酸をイミド化して得られる化合物m=0、ジアミンb1と酸無水物基を2つ以上有する化合物b2と酸無水物基を1つ有する化合物b3との反応物ポリアミド酸をイミド化して得られる化合物m≧1が挙げられる。前者としては、例えば、ビスアルケニル置換ナジイミドm=0で化合物b3がアルケニル置換ナジック酸無水物の場合、ビスマレイミドm=0で化合物b3がマレイン酸無水物の場合が挙げられる。アルケニル置換ナジイミドは溶媒Cに対する溶解性が良好であるために、化合物B’として好ましい。式8および9中、R6は炭素数2~98の二価の有機基であり、R9は炭素数2~100の一価の有機基である。R6およびR9はそれそれ独立に架橋性を持つ有機基であることが好ましい。一般式8で表される化合物としては、例えば、酸無水物基を1つ有する化合物b3とモノアミンb4との反応物アミド酸が挙げられる。一般式9で表される化合物としては、例えば、酸無水物基を1つ有する化合物b3とモノアミンb4との反応物アミド酸をイミド化して得られる化合物が挙げられる。後者としては、例えば、モノアルケニル置換ナジイミド化合物b3がアルケニル置換ナジック酸無水物の場合、モノマレイミド化合物b3がマレイン酸無水物の場合が挙げられる。アルケニル置換ナジイミドは溶媒Cに対する溶解性が良好であるために、化合物B’として好ましい。化合物B’としては、R6および/またはR9が架橋基を持つ有機基である化合物を合計で、化合物B’全体に対して50モル以上用いることが好ましく、75モル以上用いることがより好ましい。ジアミンb1、酸無水物基を2つ以上有する化合物b2、酸無水物基を1つ有する化合物b3およびモノアミンb4の具体例および好ましい例としては、本明細書の[発明を実施するための形態]欄で後述するジアミン、酸無水物基を2つ以上有する化合物、酸無水物基を1つ有する化合物およびモノアミンが挙げられる。モノアルケニル置換ナジイミドおよびビスアルケニル置換ナジイミドの具体例および好ましい例としては、本明細書の[発明を実施するための形態]欄で後述する化合物が挙げられる。化合物B’の重量平均分子量化合物B’のうちポリアミド酸およびそのイミド化合物の重量平均分子量Mwは、通常900~7,500、好ましくは900~3,500、より好ましくは900~2,500である。Mwが前記下限値以上の化合物B’は、加熱処理によってポリイミド膜を形成する工程において、蒸発することがなく、化学的機械的に安定である。Mwが前記上限値以下の化合物B’は、溶媒Cに対する溶解性が良好であり、インクを低粘度化することができるので、得られるポリイミド膜の膜厚を大きくすることが可能である。Mwの測定条件は、実施例に記載のとおりである。化合物B’の合成条件化合物B’を合成する際の反応条件反応温度、イミド化の方法などは、化合物Bを合成する際の反応条件と同様にして行うことができる。化合物B’を合成する際に用いることのできるジアミンb1、酸無水物基を2つ以上有する化合物b2、酸無水物基を1つ有する化合物b3、モノアミンb4は、それぞれ1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。化合物B’を合成する際に用いることのできる反応溶媒としては、例えば、化合物Aの合成に用いることのできる上述のその他の反応溶媒が挙げられ、好ましい反応溶媒も同様である。反応溶媒は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。また、必要に応じて、上記反応溶媒以外の他の溶媒を上記反応溶媒と混合して用いることもできる。反応を効率よく進めるという観点から、反応溶媒は、ジアミンb1、酸無水物基を2つ以上有する化合物b2、酸無水物基を1つ有する化合物b3、モノアミンb4などの反応原料の合計100質量部に対して、100質量部以上用いることが好ましく、500質量部以上用いることが好ましい。反応溶媒の使用量の上限は特に制限されず、例えば反応原料の合計100質量部に対して1000質量部程度である。化合物B’の含有量本発明の熱硬化性インクジェット用インクにおいて、化合物B’の含有量は前述した化合物Bと合わせて、インク全質量に対して、10~60質量が好ましく、14~55質量がより好ましく、18~50質量がさらに好ましい。化合物B’の濃度が前記範囲にあると、1回のインクジェッティングで得られる塗膜の膜厚が最適となり、ジェッティング精度が高い点で好ましい。本発明のインクでは、インクジェット印刷に適した低粘度化とインクの高濃度化固形分濃度20質量以上との両立が可能である。1.4溶媒C本発明のインクジェット用インクは、例えば、化合物Aおよび化合物Bを溶媒Cに溶解して得ることができる。したがって、溶媒Cは、前記成分AおよびBを溶解することができる溶媒であれば特に制限されない。また、単独では前記成分AおよびBを溶解しない溶媒であっても、他の溶媒と混合することによって前記成分AおよびBを溶解することができる混合溶媒となるのであれば、当該溶媒も溶媒Cとして用いることが可能である。溶媒Cの沸点は100~300°Cであることが好ましく、150~250°Cであることがより好ましい。沸点が低過ぎると、プリンターヘッドノズル近傍のインク中の溶媒が蒸発してしまう。そのためインクの粘度が変わり吐出できなくなる、あるいはインクの成分が固化析出してしまうことがある。沸点が高過ぎると、印刷後のインクの乾燥が遅すぎて、印刷パターンが悪化することがある。溶媒Cとしては、例えば、乳酸エチル、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、1,3-ジオキソラン、1,4-ジオキサン、γ-ブチロラクトン、アニソール、安息香酸メチル、安息香酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N-メチルプロピオンアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N,N,N’,N’-テトラメチル尿素、2-ピロリドン、1-メチル-2-ピロリドン、1-エチル-2-ピロリドン、1-ブチル-2-ピロリドン、1-ビニル-2-ピロリドン、1-2-ヒドロキシエチル-2-ピロリドン、1-アセチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、N-メチル-ε-カプロラクタム、カルバミド酸エステルが挙げられる。これらの溶媒の中でも、例えばインクジェットヘッドの耐久性向上の観点から、乳酸エチル、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルおよびγ―ブチロラクトンから選択される少なくとも1種が好ましい。なお、以上例示した溶媒の中で、インクジェットヘッドの耐久性低下やジェッティングの精度低下が問題となる場合、アミド系溶媒の使用を低減することが好ましい。このような場合、アミド系溶媒の含有量は、溶媒C全量に対して0~30質量とすることが好ましく、0~20質量とすることがより好ましい。上記アミド系溶媒としては、例えば、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N-メチルプロピオンアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N,N,N’,N’-テトラメチル尿素、2-ピロリドン、1-メチル-2-ピロリドン、1-エチル-2-ピロリドン、1-ブチル-2-ピロリドン、1-ビニル-2-ピロリドン、1-2-ヒドロキシエチル-2-ピロリドン、1-アセチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、N-メチルカプロラクタム、カルバミド酸エステルが挙げられる。溶媒Cは、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。溶媒Cは、インクジェット用インク中の固形分濃度が20~80質量となる範囲で用いられることが好ましく、より好ましくは20~50質量、特に好ましくは25~30質量である。1.5添加剤本発明のインクジェット用インクは、目的とする特性によっては添加剤を含んでもよい。添加剤としては、例えば、エポキシ樹脂、アルケニル置換ナジイミドのうち化合物B’に含まれないトリスおよびテトラアルケニル置換ナジイミド、アクリル樹脂、重合性モノマー、界面活性剤、化合物BおよびB’以外のポリアミド酸やポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、顔料、帯電防止剤、カップリング剤、硬化剤例:エポキシ硬化剤、アルケニル置換ナジイミドの硬化剤、染料、pH調整剤、防錆剤、防腐剤、防黴剤、酸化防止剤、還元防止剤、蒸発促進剤、キレート化剤、水溶性ポリマーが挙げられる。1.5.1エポキシ樹脂本発明では、オキシラン環またはオキセタン環を1つ以上有する化合物をエポキシ樹脂という。本発明において、エポキシ樹脂としては、オキシラン環を2つ以上有する化合物が好ましく用いられる。エポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールA型、水添ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、水添ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型、ビキシレノール型、ビフェノール型、グリシジルエステル型のエポキシ樹脂;脂環式または複素環式のエポキシ樹脂;アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン型またはナフタレン型の構造を有するエポキシ樹脂;N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビスN,N-ジグリシジルアミノメチルシクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、式D1~D5で表される化合物、オキシラン環を有するモノマーの重合体、オキシラン環を有するモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。式D4およびD5中、nは0~20の整数である。オキシラン環を有するモノマーとしては、例えば、グリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメタアクリレート、メチルグリシジルメタアクリレートが挙げられる。オキシラン環を有するモノマーと共重合を行う他のモノマーとしては、例えば、メタアクリル酸、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタアクリレート、N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミドが挙げられる。オキシラン環を有するモノマーの重合体、およびオキシラン環を有するモノマーと他のモノマーとの共重合体の好ましい具体例としては、ポリグリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体、n-ブチルメタクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体、スチレン-グリシジルメタクリレート共重合体が挙げられる。インクジェット用インクがこれらのエポキシ樹脂を含有すると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性が良好となるため好ましい。エポキシ樹脂としては、各種の市販品を用いることができる。エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、TECHMOREVG3101L商品名;三井化学社製、エポキシ樹脂828、同834、同1001、同1004、同1010商品名;三菱化学社製、エピクロン840、同850、同1050、同2055商品名;DIC社製、エポトートYD-011、同YD-013、同YD-127、同YD-128商品名;東都化成社製、DER317、同331、同661、同664商品名;ダウケミカル社製、アラルダイト6071、同6084、同GY250、同GY260商品名;BASF社製、スミ-エポキシESA-011、同ESA-014、同ELA-115、同ELA-128商品名;住友化学社製、AER330、同331、同661、同664商品名;旭化成社製等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;エポキシ樹脂152、同154商品名;三菱化学社製、DER431、同438商品名;ダウケミカル社製、エピクロンN-730、同N-770、同N-865商品名;DIC社製、エポトートYDCN-701、同YDCN-704商品名;東都化成社製、アラルダイトECN1235、同ECN1273、同ECN1299商品名;BASF社製、XPY307、EPPN-201、EOCN-1025、EOCN-1020、EOCN-104S、RE-306商品名;日本化薬社製、スミ-エポキシESCN-195X、同ESCN-220商品名;住友化学社製、AERECN-235、同ECN-299商品名;ADEKA社製等のノボラック型エポキシ樹脂;エピクロン830商品名;DIC社製、エポキシ樹脂807商品名;三菱化学社製、エポトートYDF-170商品名;東都化成社製、YDF-175、YDF-2001、YDF-2004、アラルダイトXPY306商品名;BASF社製等のビスフェノールF型エポキシ樹脂;エポトートST-2004、同ST-2007、同ST-3000商品名;東都化成社製等の水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂;セロキサイド2021商品名;ダイセル化学工業社製、アラルダイトCY175、同CY179、同CY184商品名;BASF社製等の脂環式エポキシ樹脂;YL-933商品名;三菱化学社製、EPPN-501、EPPN-502商品名;ダウケミカル社製等のトリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂;YL-6056、YX-4000、YL-6121商品名;三菱化学社製等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂またはそれらの混合物;EBPS-200商品名;日本化薬社製、EPX-30商品名;ADEKA社製、EXA-1514商品名;DIC社製等のビスフェノールS型エポキシ樹脂;157S商品名;三菱化学社製等のビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂;YL-931商品名;三菱化学社製、アラルダイト163商品名;BASF社製等のテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂;ADAMANTATE-X-E-201、ADAMANTATE-X-E-202、ADAMANTATE-X-E-203、ADAMANTATE-X-E-204商品名;出光興産社製等のアダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂;アラルダイトPT810商品名;BASF社製、TEPIC商品名;日産化学工業社製等の複素環式エポキシ樹脂;HP-4032、EXA-4750、EXA-4700商品名;DIC社製等のナフタレン含有エポキシ樹脂;HP-7200、HP-7200H、HP-7200HH商品名;DIC社製等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂が挙げられる。これらのエポキシ樹脂の中でも、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、テトラフェノールエタン型エポキシ樹脂、N,N,N,N-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビスN,N-ジグリシジルアミノメチルシクロヘキサン、N,N,N,N-テトラグリシジル-4,4-ジアミノジフェニルメタンおよび式D1~D5で表されるエポキシ樹脂が好ましく;N,N,N,N-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビスN,N-ジグリシジルアミノメチルシクロヘキサン、N,N,N,N-テトラグリシジル-4,4-ジアミノジフェニルメタンおよび式D1~D5で表されるエポキシ樹脂が、耐薬品性に優れた硬化膜が得られる点で特に好ましい。エポキシ樹脂は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。エポキシ樹脂を用いる場合、エポキシ樹脂の含有量は、インクジェット用インク全質量に対して0.01~20質量が好ましく、1~10質量がさらに好ましい。エポキシ樹脂の含有量が前記範囲にあると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。1.5.2化合物B’以外のアルケニル置換ナジイミド化合物B’以外のアルケニル置換ナジイミドは、分子内に少なくとも3つのアルケニル置換ナジイミド構造を有する化合物であり、例えば一般式F-1で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物が挙げられる。式F-1中、R10およびR11はそれぞれ独立に水素、炭素数1~12のアルキル、炭素数3~6のアルケニル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数6~12のアリールまたはベンジルであり、lは3または4の整数である。式F-1においてl=3のとき、R12は一般式F-2またはF-3で表される基である。式F-2中、Rは水素、フッ素、塩素、-OH、-OCF3、-OCF2H、-CF3、-CF2H、-CFH2、-OCF2CF2H、-OCF2CFHCF3または炭素数1~10のアルキルである。式F-2および式F-3中、R13、R14およびR15はそれぞれ独立に単結合、トランス-1,4-シクロヘキシレン、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル、1,4-フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい1,4-フェニレンまたは炭素数1~10のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは-O-または-CH=CH-で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。式F-1においてl=3のとき、R12は一般式F-2-1、式F-3-1または式F-3-2で表される基であることが好ましい。式F-2-1中、Rは水素、-OHまたは炭素数1~10のアルキルである。式F-3-2中、R13、R14およびR15はそれぞれ独立に1,2-エチレンまたは1,4-ブチレンである。式F-1においてl=4のとき、R12は一般式F-4で表される基である。式F-4中、R16、R17、R18およびR19はそれぞれ独立に単結合、トランス-1,4-シクロヘキシレン、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル、1,4-フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい1,4-フェニレンまたは炭素数1~10のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは-O-または-CH=CH-で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。式F-1においてl=4のとき、R12は一般式F-4-1で表される基であることが好ましい。式F-1中、R10およびR11はそれぞれ独立に水素または炭素数1~6のアルキルであることが好ましい。R12は、l=3の場合、式F-2-1で表される基但し、Rは水素または-OHである、式F-3-1で表される基、式F-3-2で表される基但し、R13~R15は1,2-エチレンであるであることが好ましく;l=4の場合、式F-4-1で表される基であることが好ましい。本発明のインクは、これらのアルケニル置換ナジイミドの少なくとも2種を含有していてもよい。トリスおよびテトラアルケニル置換ナジイミドの合成アルケニル置換ナジイミドは、例えば、トリアミンまたはテトラアミンと一般式F-1’で表されるアルケニル置換ナジック酸無水物とを反応させてなるアルケニル置換ナジイミド化合物である。式F-1’中のR10およびR11はそれぞれ式F-1中のR10およびR11と同義である。アルケニル置換ナジイミド化合物は、例えば以下のように合成することができる。1lが3であるトリスアルケニル置換ナジイミド化合物の場合はトリアミン1.0モルに対して、アルケニル置換ナジック酸無水物を3.0~5.0モル混合し、lが4であるテトラキスアルケニル置換ナジイミド化合物の場合はテトラアミン1.0モルに対して、アルケニル置換ナジック酸無水物を4.0~6.0モル混合し、2続いて、常温で例えば任意の溶媒または2種以上を混合した溶媒に溶解させて溶液とし、0.5~30時間攪拌保持して反応させる。上記溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メチルナフタレン、テトラリン、クロロフォルム、トリクレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ヘキサメチレンエーテル、アニソール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、N,N-ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキシドが挙げられる。上記溶媒を20~80°Cで減圧乾燥除去して、アミド酸が得られる。前記アミド酸を上記溶媒中にて0.5~30時間、溶媒の沸点近傍でリフラックス、あるいは、化合物そのものを160~200°Cで加熱して、脱水閉環させた後、溶媒を減圧乾燥させて目的の化合物を得ることができる。目的の化合物であることはNMR、IRにより確認できる。トリスアルケニル置換ナジイミドlが3であるトリスアルケニル置換ナジイミド化合物としては、例えば、トリス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドエチル}アミン、トリス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、トリス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}ヒドロキシメタンが挙げられる。テトラキスアルケニル置換ナジイミドlが4であるテトラキスアルケニル置換ナジイミド化合物としては、例えば、テトラキス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタンが挙げられる。アルケニル置換ナジイミドは、嵩高い構造を有する低分子量のイミドモノマーであるため、ほとんどの有機溶媒に可溶であり、溶液状態で長期間保存しても結晶の析出やゲル化が起こらず安定して使用できる。また、アルケニル置換ナジイミドは、加熱により三次元架橋構造のポリイミドを形成する。前記ポリイミドは、良好な耐熱性、機械的特性、電気的特性、耐薬品性を示す。1.5.3アクリル樹脂アクリル樹脂は、アクリル基および/またはメタクリル基を有するモノマーの単独または共重合体であれば特に限定されない。アクリル樹脂としては、例えば、ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマー、ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマー、二官能メタアクリレートまたは三官能以上の多官能メタアクリレートの単独重合体、あるいはこれらのモノマーの共重合体が挙げられる。アクリル樹脂は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマーの具体例としては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノメタアクリレートが挙げられる。これらの中でも、形成される膜を柔軟にできる点から、4-ヒドロキシブチルアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが好ましい。ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマーの具体例としては、グリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメタアクリレート、メチルグリシジルメタアクリレート、3-メチル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、3-メチル-3-メタアクリロキシエチルオキセタン、3-エチル-3-メタアクリロキシエチルオキセタン、2-フェニル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、2-トリフロロメチル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、4-トリフロロメチル-2-メタアクリロキシメチルオキセタン、メタアクリル酸、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタアクリレート、メタアクリルアミド、トリシクロ[5.2.1.026]デカニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、グリセロールモノメタアクリレート、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、N-アクリロイルモルホリン、5-テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチルメタアクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物のメタアクリレート、メタアクリル酸、クロトン酸、α-クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレート、コハク酸モノ[2-メタアクリロイロキシエチル]、マレイン酸モノ[2-メタアクリロイロキシエチル]、シクロヘキセン-3,4-ジカルボン酸モノ[2-メタアクリロイロキシエチル]が挙げられる。二官能メタアクリレートの具体例としては、ビスフェノールFエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールAエチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、1,9-ノナンジオールジアクリレート、1,10-ビスアクリロイルオキシデカン、1,4-シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、2-n-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレートが挙げられる。三官能以上の多官能メタアクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、グリセロールトリメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリメタアクリレート、ジグリセリンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリメタアクリレート、トリス[メタアクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[メタアクリロキシエチル]イソシアヌレート、ウレタンメタアクリレートが挙げられる。アクリル樹脂としては、その他のモノマーが共重合されていてもよく、例えば、p-ビニルフェニル-3-エチルオキセタ-3-イルメチルエーテル、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミド、ビニルトルエン、ポリスチレンマクロモノマーが挙げられる。本発明の熱硬化性インクジェット用インク中のアクリル樹脂濃度は特に限定されないが、0.1~20質量が好ましく、1~10質量がさらに好ましい。このような濃度範囲であると、本発明の熱硬化性インクジェット用インクから形成された硬化膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。1.5.4重合性モノマー重合性モノマーとしては、例えば、ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマー、ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマー、二官能メタアクリレート、三官能以上の多官能メタアクリレート、その他のモノマーが挙げられ、その具体例は上述のアクリル樹脂の説明において記載したとおりである。重合性モノマーは、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。重合性モノマーを用いる場合、インクジェット用インク中の重合性モノマーの含有量は、インクジェット用インク全質量に対して0.1~20質量が好ましく、1~10質量がさらに好ましい。重合性モノマーの含有量が前記範囲にあると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。1.5.5高分子化合物本発明の熱硬化性インクジェット用インクは、柔軟性と耐熱性付与のため、化合物BおよびB’以外の、ポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミドおよびポリエステルから選択される少なくとも1種の高分子化合物を含んでもよい。特に、重量平均分子量が1,000~10,000である高分子化合物が、溶媒Cに対する溶解性が優れており、本発明の熱硬化性インクジェット用インクの含有成分として好ましい。溶媒Cに対する溶解性の観点からは、高分子化合物の重量平均分子量は、より好ましくは1,000~7,500であり、さらに好ましくは1,000~5,000であり、特に好ましくは1,000~2,000である。重量平均分子量が1,000以上であると、加熱処理によって蒸発することがなく、化学的機械的に安定である。また重量平均分子量が2,000以下であると、高分子化合物の溶媒に対する溶解性が特に高いので、本発明の熱硬化性インクジェット用インク中の高分子化合物の濃度を高くすることができるため、インクを塗布して得られる塗膜の柔軟性と耐熱性を向上させることができる。高分子化合物の重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィGPC法により測定することができる。具体的には、高分子化合物をテトラヒドロフランTHF等で濃度が約1質量になるように希釈し、東ソー株式会社製カラムG4000HXL、G3000HXL、G2500HXLおよびG2000HXLを用いて、THFを展開剤としてゲル浸透クロマトグラフィGPC法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めることができる。本発明の熱硬化性インクジェット用インク中の高分子化合物の濃度は、通常0~20質量であり、好ましくは0~10質量である。このような濃度範囲であると、絶縁膜として良好な特性が付与できることがあり好ましい。1.5.6界面活性剤界面活性剤としては、インクの表面張力の調節、塗布性を向上できる点から、フッ素系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤が挙げられるが、界面活性効果があり、インクの表面張力を低下させるものであれば、特に限定はない。アクリル系界面活性剤を含むインクを用いると、パターン性に優れる膜を得ることができる傾向がある。シリコーン系界面活性剤を含むインクを用いると、パターン性に優れる膜を得ることができる傾向がある。フッ素系界面活性剤としては、例えば、商品名R-08、F-472SF、R-30、BL-20、R-61、R-90、F-114、F-410、F-493、F-494、F-443、F-444、F-445、F-446、F-470、F-471、F-474、F-475、F-477、F-478、F-479、F-480SF、F-482、F-483、F-484、F-486、F-487、F-489、F-1720、F-178K、ESM-1、MCF-350SF、TF-2066、F-472SF、TF-1366、TF-1367、F-552、F-553、F-554、TF-1425、TF-1437、TF-1507、F-1535DIC株製メガファックシリーズ;商品名DFX-18、フタージェント250、フタージェント251、FTX-208G、FTX-218G、FTX-240G、[FTX-212P]、FTX-220P、FTX-228P、FTX-218GL、FTX-206D、FTX-218、FTX-220D、FTX-230D、FTX-240D、[FTX-750LL]、FTX-730LS、FTX-730LM、FTX-730LL、FTX-710LL、FTX-750FM、FTX-730FS、FTX-730FM、FTX-730FL、フタージェント212D、フタージェント710FL、フタージェント730FM、FTX-209F、FTX-213F、FTX-233F、フタージェント222F、フタージェント245F株ネオス製フタージェントシリーズが挙げられる。これらの中でも、商品名R-08、F-472SF、R-30、F-477、F-479、TF-1366、TF-1367、TF-1425DIC株製メガファックシリーズ;商品名DFX-18、FTX-208G、FTX-218G、FTX-240G、[FTX-212P]、FTX-220P、FTX-228P、FTX-218GLフタージェント710FL、フタージェント730FM、FTX-209F、フタージェント222F、フタージェント245F株ネオス製フタージェントシリーズが好ましい。アクリル系界面活性剤としては、例えば、商品名Byk-354、ByK-358、Byk-361Nビックケミー株製が挙げられる。これらの中でも、商品名Byk-361Nビックケミー株製が好ましい。シリコーン系界面活性剤としては、例えば、商品名FM-3306、FM-3311、FM-3321、FM-3325、FM-4411、FM-4421、FM-4425、FM-7711、FM-7721、FM-7725、FM-0411、FM-0421、FM-0425、FM-DA11、FM-DA21、FM-DA26、FM-0711、FM-0721、FM-0725、TM-0701、TM-0701Tチッソ株製;商品名Byk-300、Byk-306、Byk-335、Byk-310、Byk-341、Byk-344、Byk-370ビックケミー株製が挙げられる。さらに、シリコーン系界面活性剤としては、例えば、FM-3306、FM-3311、FM-3321およびFM-3325から選択される化合物と後述する酸無水物基を1つ有する化合物との反応性生物、FM-3306、FM-3311、FM-3321およびFM-3325から選択される化合物と後述する酸無水物基を2つ以上有する化合物と後述するモノアミンとの反応性生物、FM-3306、FM-3311、FM-3321およびFM-3325から選択される化合物と後述する酸無水物基を2つ以上有する化合物との反応性生物、後述するテトラカルボン酸二無水物の内、式1-76で表される化合物と後述するモノアミンとの反応性生物、後述するテトラカルボン酸二無水物の内、式1-76で表される化合物と後述するジアミンと後述するモノアミンとの反応性生物あるいは後述するテトラカルボン酸二無水物の内、式1-76で表される化合物と後述するジアミンとの反応性生物であるアミック酸イミドが挙げられる。これらの中でも、商品名FM-3306、FM-3311、FM-3321、FM-3325、FM-4411、FM-7711FM-0411、FM-DA11、FM-0711チッソ株製、FM-3311と後述する酸無水物基を1つ有する化合物との反応性生物、あるいはFM-3311と後述する酸無水物基を2つ以上有する化合物と後述するモノアミンとの反応性生物であるアミック酸が好ましい。界面活性剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。界面活性剤を用いる場合、インクジェット用インク中の界面活性剤の含有量は、インクジェット用インク全質量に対して0.00001質量以上、1.0質量以下が好ましく、0.001質量以上、1.0質量以下がより好ましく、0.01質量以上、1.0質量以下がさらに好ましい。界面活性剤の含有量の上限値は、臨界ミセル濃度未満であることが特に好ましい。臨界ミセル濃度とは、界面活性剤が、インク中でミセルを形成し始める濃度のことである。したがって、臨界ミセル濃度未満では界面活性剤はインク中でミセルを形成しきっておらず、臨界ミセル濃度を超えると界面活性剤はインク中でミセルを形成する。インク中の界面活性剤の含有濃度が臨界ミセル濃度に達すると、界面活性剤の含有濃度を増加させてインクの表面張力の低下がほとんど起こらなくなる。この現象を利用して、界面活性剤の含有濃度と表面張力との関係から臨界ミセル濃度を決定することができる。また、インク中の界面活性剤が臨界ミセル濃度未満であることの確認は、インク中にさらに同種の界面活性剤を添加することにより確認することができる。すなわち、インク中に同種の界面活性剤を添加することにより、添加前と比べて表面張力の低下が起これば、添加前のインク中の界面活性剤の含有濃度が臨界ミセル濃度未満であると判断することができる。臨界ミセル濃度は、上記のようにインクの表面張力を利用して測定する以外に、電気伝導法、粘度法、色素法、光散乱法などによって測定することができる。何れの方法を用いることもできるが、表面張力を利用する方法が最も一般的で簡便なため好ましい。また、インクにおけるミセル形成の有無は、上述したように、インクに、インクに含有される界面活性剤と同種の界面活性剤を添加して、界面活性剤の添加の前後の表面張力を測定することにより確認することができる。すわなち、同種の界面活性剤を添加して、インク中の界面活性剤の含有濃度を増加させた際に、インクの表面張力が低下した場合、同種の界面活性剤を添加する前のインクは、界面活性剤によるミセルを形成していないと判断できる。当該方法以外に、動的光散乱法、ゼータ電位測定法、小角中性子散乱法、広角X線散乱法、小角X線散乱法、透過型電子顕微鏡によってもインク中のミセル形成の有無を確認することができる。1.5.7顔料顔料としては、有機顔料および無機顔料が挙げられ、カラーインクには高い色純度、耐薬品性、耐熱性が求められることから、色純度、耐薬品性、耐熱性に優れる有機顔料がより好ましい。有機顔料としては、例えば、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド178、C.I.ピグメントレッド202、C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレッド255、C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー16、C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー128、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7などのカラーインデックス番号が付けられている顔料、spilonblueGNHが挙げられる。有機顔料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。無機顔料としては、例えば、酸化チタン、チタンブラック、カーボンブラックなどが挙げられる。無機顔料は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。顔料は、市販品を用いてもよい。顔料を用いる場合、インクジェット用インク中の顔料の含有量は、インクジェット用インク全質量に対して0.01~5質量が好ましく、0.05~1質量がさらに好ましい。1.5.8帯電防止剤帯電防止剤は帯電を防止するために使用することができる。帯電防止剤としては、例えば、酸化錫、酸化錫酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫酸化インジウム複合酸化物などの金属酸化物;四級アンモニウム塩が挙げられる。帯電防止剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。帯電防止剤は、例えば、帯電防止剤を除いたインクジェット用インク100質量部に対して、0.01~1質量部の範囲で添加して用いることができる1.5.9カップリング剤カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤が挙げられる、シランカップリング剤としては、例えば、トリアルコキシシラン化合物、ジアルコキシシラン化合物が挙げられる。好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ-ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ-ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-アミノエチル-γ-イミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-アミノエチル-γ-アミノプロピルトジエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。特に好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ-ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。カップリング剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。カップリング剤は、例えば、カップリング剤を除いたインクジェット用インク100質量部に対して、0.01~3質量部の範囲で添加して用いることができる。1.5.10エポキシ硬化剤エポキシ硬化剤としては、例えば、有機酸ジヒドラジド化合物、イミダゾール及びその誘導体、ジシアンジアミド、芳香族アミン、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水物、エポキシ樹脂とアミンとを反応させて得られるアミンアダクトが挙げられる。さらに具体的には、ジシアンジアミドなどのジシアンジアミド類;アジピン酸ジヒドラジド、1,3-ビスヒドラジノカルボエチル-5-イソプロピルヒダントインなどの有機酸ジヒドラジド、2,4-ジアミノ-6-[2’-エチルイミダゾリル-1’]-エチルトリアジン、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾールなどのイミダゾール誘導体;無水フタル酸、無水トリメリット酸、1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸-1,2-無水物などの酸無水物、トリメリット酸、ダイマー酸が挙げられる。これらの中でも、透明性が良好な無水トリメリット酸、1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸-1,2-無水物が好ましい。エポキシ硬化剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。エポキシ硬化剤は、例えば、エポキシ硬化剤を除いたインクジェット用インク100質量部に対して、0.2~10質量部の範囲で添加して用いることができる。1.5.11アルケニル置換ナジイミドの硬化剤アルケニル置換ナジイミドの硬化剤として、例えば、アゾビス系の化合物、酸を発生する化合物が挙げられ、アゾビス系の化合物が好ましい。これらの硬化剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。アゾビス系の化合物としては、例えば、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、ジメチル-2,2’-アゾビス2-メチルプロピオネート、2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリル、2,2’-アゾビスN-2-プロペニル-2-メチルプロピオンアミド、2,2’-アゾビスN-ブチル-2-メチルプロピオンアミド、α,α’-アゾビスイソブチロニトリルが挙げられる。これらの中でも、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリルが好ましい。本発明のインクジェット用インク中に、アルケニル置換ナジイミドとともにアゾビス系の化合物が含有されると、塗膜乾燥時のタック性がなく、ハンドリング性に優れるため好ましい。1.5.12染料染料としては、有機染料および無機染料が挙げられ、カラーインクには高い色純度、耐薬品性、耐熱性が求められることから、色純度、耐薬品性、耐熱性が優れる有機染料がより好ましい。有機染料としては、例えば、ディスパースブラック9が挙げられる。有機顔料は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。無機染料としては、例えば、酸化チタン、チタンブラック、カーボンブラックなどが挙げられる。無機顔料は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。染料は、市販品を用いてもよい。染料を用いる場合、インクジェット用インク中の顔料の含有量は、インクジェット用インク全質量に対して0.01~5質量が好ましく、0.05~1質量がさらに好ましい。1.6.インクジェット用インクの調製方法本発明のインクジェット用インクは、化合物Aと、化合物Bと、必要に応じて化合物B’、溶媒C、その他の添加剤などとを均一に混合することによって、調製することができる。また、本発明のインクジェット用インクは、化合物Aや化合物Bの合成時に得られた反応溶液をそのまま、必要に応じて化合物B’、溶媒C、その他の添加剤などと均一に混合することによって、調製することもできる。本発明のインクジェット用インクでは、粘度表面張力溶媒の沸点などの様々なパラメータをインクジェット印刷用に最適化することができる。前記インクは、良好なインクジェット印刷性例えば描画性、厚膜形成を示し、保存安定性にも優れ、また、熱的電気的機械的特性が良好で各種基板に対する密着性にも優れたポリイミド膜を形成できる。1.7インクジェット用インクの粘度常温25°Cでジェッティングを行う場合は、本発明のインクジェット用インクの常温25°Cにおける粘度は、1~50mPasであることが好ましく、より好ましくは5~30mPasであり、さらに好ましくは8~20mPasである。吐出時の粘度が前記範囲にあると、インクジェット塗布方法によるジェッティング精度が向上する。粘度が前記上限値以下であると、インクジェット吐出不良が生じにくい。インクヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、本発明のインクジェット用インクの加熱温度好ましくは30~120°Cにおける粘度は、1~50mPasであることが好ましく、より好ましくは5~30mPasであり、さらに好ましくは8~20mPasである。加熱温度における粘度が前記上限値以下であると、インクジェット吐出不良が生じにくい。1.8インクジェット用インクの表面張力本発明のインクジェット用インクの25°Cにおける表面張力は、通常20~45mN/m、好ましくは25~35mN/mである。表面張力が前記範囲にあると、ジェッティングにより良好な液滴が形成でき、かつメニスカスを形成することができる。表面張力が低過ぎると、インクがプリンターヘッドのノズルから吐出された直後に広がってしまい、良好な液滴が形成できなくなることがある。反対に表面張力が高過ぎると、メニスカスを形成できなくなるため、吐出不能になることがある。2.インクの塗布方法、ポリイミド膜の製造方法本発明のインクの塗布方法は、本発明のインクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程塗膜形成工程、および前記塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程加熱工程を有する。ここで、インクを基板に塗布する前に、基板を表面処理する工程表面処理工程を設け、前記表面処理がなされた基板上にインクを塗布して塗膜を形成することが好ましい。また、本発明のポリイミド膜の製造方法は、上記インクの塗布方法を用いる。2.1表面処理工程必要に応じて、基板を表面処理する。表面処理には、例えば、シランカップリング剤処理、UVオゾンアッシング処理、プラズマ処理、アルカリエッチング処理、酸エッチング処理、プライマー処理が用いられる。また、本発明で適用可能な基板は、後述する[フィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板]の欄で例示する。2.2塗膜形成工程インクジェット塗布方法としては、インクの吐出方法により各種のタイプがある。吐出方法としては、例えば、圧電素子型、バブルジェット登録商標型、連続噴射型、静電誘導型が挙げられる。本発明のインクは、含有成分を適正に選択することにより、様々な方法で吐出が可能であり、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行う際の好ましい吐出方法は、圧電素子型である。この圧電素子型のヘッドは、複数のノズルを有するノズル形成基板と、ノズルに対向して配置される圧電材料と導電材料からなる圧力発生素子と、この圧力発生素子の周囲を満たすインクとを備えた、オンデマンドインクジェット塗布ヘッドであり、印加電圧により圧力発生素子を変位させ、インクの小液滴をノズルから吐出させる。インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが別体となった構成に限らず、それらが分離不能に一体になった構成を用いてもよい。また、インク収容部は、塗布ヘッドに対して、分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。また、塗布ヘッドに対して、好ましい負圧を作用させるための構成をインクタンクに設ける場合には、インクタンクのインク収納部に吸収体を配置した形態、あるいは可撓性のインク収容袋とこれに対しその内容積を拡張する方向の付勢力を作用させるバネ部とを有した形態などを採用することができる。塗布装置は、シリアル塗布方式を採るもののほか、塗布媒体の全幅に対応した範囲にわたって塗布素子を整列させてなるラインプリンタの形態をとるものであってもよい。インクジェット塗布方法によって、本発明のインクジェット用インクを基板上に塗布した後、ホットプレートまたはオーブンなどで乾燥溶媒を除去することにより、ポリアミド酸の塗膜を形成することができる。乾燥条件はインクの含有成分の種類および配合割合によって異なるが、通常70~120°Cで、オーブンを用いた場合には5~15分間、ホットプレートを用いた場合には1~5分間である。2.3加熱工程加熱処理は例えばホットプレートまたはオーブンなどで行い、これにより、全面または所定のパターン状例えばライン状のポリイミド膜が形成される。また、ポリイミド膜の形成には、加熱処理に限定されず、UV処理、イオンビーム、電子線、ガンマ線、赤外線などの処理を用いてもよい。塗膜形成工程でポリアミド酸の塗膜を形成した後、ポリアミド酸をイミド化するために、通常180~350°C、好ましくは180~300°Cで加熱処理を行う。加熱時間は、例えば、オーブンを用いた場合には30~90分間、ホットプレートを用いた場合には5~90分間である。以上のようにして、ポリイミド膜が形成される。ポリアミド酸の塗膜がパターン状に形成されている場合には、ポリイミド膜もパターン状に形成される。本明細書では、特に言及のない限り、ポリイミド膜はパターン状のポリイミド膜を含む。パターン状のポリイミド膜を製造する場合、本発明ではインクジェット印刷により必要な部分のみにインクを描画するため、材料使用量は圧倒的に少なく、また、フォトマスクを使用する必要もない。このため、本発明では、多品種大量生産が可能であり、また、製造に要する工程数が少ない。3ポリイミド膜本発明のポリイミド膜は、上述のポリイミド膜の製造方法により形成される。本発明のポリイミド膜は、熱的電気的機械的特性が良好であり、例えば耐熱性および電気絶縁性に優れた絶縁膜であり、各種基板に対する密着性にも優れ、電子部品の信頼性、歩留まりを向上させることができる。本発明のインクジェット用インクでは、上述のように固形分濃度を高く設定できる。このため、本発明では1回のインクジェッティングで厚みが通常1μm以上、好ましくは1~5μmの硬化膜を得ることができ、当該膜厚は従来のインクから得られる硬化膜の膜厚よりも大きい。例えば10μm程度の厚い絶縁膜を形成する場合、本発明のインクを用いることにより、従来のインクよりも重ね塗りの回数を減らすことができ、絶縁膜の製造工程を短縮することができる。4フィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板本発明のフィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板は、上述のポリイミド膜を有する。フィルム基板についていえば、例えば、インクジェット塗布方法などにより予め配線が形成されたポリイミドフィルムなどのフィルム基板上に、本発明のインクをインクジェット塗布方法によって全面または所定のパターン状ライン状等に塗布して、その後、当該フィルム基板を乾燥加熱することによって、ポリイミド膜を有するフィルム基板が得られる。本発明で適用可能な基板としては、例えば、FR-1、FR-3、FR-4、CEM-3、E668などの各種規格に適合する、ガラスエポキシ基板、ガラスコンポジット基板、紙フェノール基板、紙エポキシ基板、グリーンエポキシ基板、BTレジン基板;銅、黄銅、リン青銅、ベリリウム銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、スズ、クロム、ステンレスなどの金属からなる基板それらの金属の表面を有する基板であってもよい;酸化アルミニウムアルミナ、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウムジルコニア、ジルコニウムのケイ酸塩ジルコン、酸化マグネシウムマグネシア、チタン酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸鉛PT、チタン酸ジルコン酸鉛PZT、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛PLZT、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、硫化カドニウム、硫化モリブデン、酸化ベリリウムベリリア、酸化ケイ素シリカ、炭化ケイ素シリコンカーバイト、窒化ケイ素シリコンナイトライド、窒化ホウ素ボロンナイトライド、酸化亜鉛、ムライト、フェライト、ステアタイト、ホルステライト、スピネル、スポジュメンなどのセラミックスからなる基板それらのセラミックスの表面を有する基板であってもよい;PETポリエチレンテレフタレート樹脂、PBTポリブチレンテレフタレート樹脂、PCTポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレート樹脂、PPSポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、テフロン登録商標、熱可塑性エラストマー、液晶ポリマーなどの樹脂からなる基板それらの樹脂の表面を有する基板であってもよい;シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素などの半導体基板;ガラス基板;酸化スズ、酸化亜鉛、ITO酸化インジウムスズ、ATO酸化アンチモンスズなどの電極材料が表面に形成された基板;αGELアルファゲル、βGELベータゲル、θGELシータゲル、γGELガンマゲル以上、株タイカの登録商標などのゲルシートが挙げられる。5電子部品本発明の電子部品は、上述のフィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板を有する。フィルム基板を有する電子部品についていえば、例えば、インクジェット塗布方法などにより予め配線が形成されたポリイミドフィルムなどのフィルム基板上に、本発明のインクをインクジェット塗布方法によって全面または所定のパターン状ライン状等に塗布して、その後、当該フィルム基板を乾燥加熱することによって、絶縁性を有するポリイミド膜で被覆されたフレキシブルな電子部品が得られる。6化合物の例示および好ましい具体例6.1酸無水物基を1つ有する化合物上述の化合物Aにおける化合物a11、化合物B,B’における化合物b3に用いることのできる酸無水物基を1つ有する化合物としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。式中、R20は、化合物Aにおける化合物a11の場合は炭素数2~10の二価の有機基であり、化合物BおよびB’における化合物b3の場合は炭素数2~98の二価の有機基である。R20は架橋性を持つ有機基であることが好ましい。上記式で表される化合物としては、例えば、フタル酸無水物、3-メチルフタル酸無水物、4-メチルフタル酸無水物、4-tert-ブチルフタル酸無水物、3-フルオロフタル酸無水物、4-フルオロフタル酸無水物、こはく酸無水物、グルタル酸無水物、cis-1,2-シクロヘキサンジカルボン酸無水物、4-メチルシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸無水物、ブチルこはく酸無水物、n-オクチルこはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物などの架橋性有機基を有さない化合物;4-エチニルフタル酸無水物、4-フェニルエチニルフタル酸無水物、イタコン酸無水物、cis-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、2,3-ジメチルマレイン酸無水物、アリルこはく酸無水物、2-ブテン-1-イルこはく酸無水物、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物、アリルナジック酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、アコニット酸無水物、p-トリメトキシシリルフェニルサクシニックアンヒドリド、p-トリエトキシシリルフェニルサクシニックアンヒドリド、m-トリメトキシシリルフェニルサクシニックアンヒドリド、m-トリエトキシシリルフェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、トリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、式αで表される化合物、式βで表される化合物などの架橋性有機基を有する化合物;が挙げられる。式αで表される化合物は、例えば、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物とトリメトキシシランとを反応させて得ることができる。式βで表される化合物は、例えば、アリルナジック酸無水物とトリメトキシシランとを反応させて得ることができる。酸無水物基を1つ有する化合物の中でも、架橋性および得られる塗膜の耐久性が優れるという点から、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、アリルナジック酸無水物、4-エチニルフタル酸無水物、4-フェニルエチニルフタル酸無水物、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、トリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドが好ましい。酸無水物基を1つ有する化合物は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。6.2酸無水物基を2つ以上有する化合物上述の化合物Aにおける化合物a12、化合物B,B’における化合物b2に用いることのできる酸無水物基を2つ以上有する化合物としては、例えば、酸無水物基を有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーとの共重合体、テトラカルボン酸二無水物が挙げられ、テトラカルボン酸二無水物が好ましい。酸無水物基を有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーとの共重合体としては、例えば、スチレン-無水マレイン酸共重合体、メタクリル酸メチル-無水マレイン酸共重合体、オレフィン-無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体が挙げられる。製品としては、例えば、製品名SMA1000、SMA2000サートマー社製が挙げられる。テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。式中、R21は炭素数2~100の四価の有機基であり、但し、化合物Aにおける化合物a12の場合は炭素数4~40の四価の有機基である。上記式で表されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2-[ビス3,4ージカルボキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物、p-フェニレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、4,4’-[イソプロピリデンビスp-フェニレンオキシ]ジフタル酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物、3,3’,4,4’-ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、3,3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン琥珀酸二無水物および式1-1~1-77で表される化合物が挙げられる。式1-77中、Phはフェニル基を表す。テトラカルボン酸二無水物の中でも、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2-[ビス3,4-ジカルボキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物および式1-5の化合物が、溶媒Cへの溶解性が高く、高濃度のインクを調整できるので好ましい。また、インクジェット用インクの用途によっては高い透明性が必要とされる。このような場合には、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2-[ビス3,4-ジカルボキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物が特に好ましい。酸無水物基を2つ以上有する化合物は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。6.3モノアミン上述の化合物B’におけるモノアミンb4に用いることのできるモノアミンとしては、アミノ基を1つ有する化合物であり、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。式中、R22は炭素数2~100の一価の有機基であり、架橋性を持つ有機基であることが好ましい。上記式で表されるモノアミンとしては、例えば、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、4-アミノブチルトリメトキシシラン、4-アミノブチルトリエトキシシラン、4-アミノブチルメチルジエトキシシラン、p-アミノフェニルトリメトキシシラン、p-アミノフェニルトリエトキシシラン、p-アミノフェニルメチルジメトキシシラン、p-アミノフェニルメチルジエトキシシラン、m-アミノフェニルトリメトキシシラン、m-アミノフェニルメチルジエトキシシラン、2-アミノ安息香酸、3-アミノ安息香酸、4-アミノ安息香酸、2-フルフリルアミン、チラミン、2-4-アミノフェニルエチルアミン、trans-4-アミノシクロヘキサノール、モノエタノールアミン、2-アミノエタノール、3-アミノ-1-プロパノール、1-アミノ-2-プロパノール、2-2-アミノエトキシエタノール、5-アミノ-1-ペンタノール、n-ブチルアミン、アニリン、3-エチニルアニリン、4-エチニルアニリン、ペンタフルオロアニリン、トリプトファン、リシン、メチオニン、フェニルアラニン、トレオニン、バリン、イソロイシン、ロイシン、ヒスチジン、アラニン、アルギニン、アスパラギン、セリン、アスパラギン酸、システイン、グルタミン、グルタミン酸、グリシン、プロリン、チロシン、12-アミノラウリル酸、O―ホスホリルエタノールアミン、硫化水素2-アミノエチル、2-アミノエタンスルホン酸、4-アミノ桂皮酸、ディスパースブラック9が挙げられる。これらの中でも、得られるインクのインクジェット吐出性が向上する傾向があることから、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、p-アミノフェニルトリメトキシシランが好ましく、3-アミノプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。モノアミンは、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。6.4ジアミン上述の化合物B,B’におけるジアミンb1に用いることのできるジアミンとしては、アミノ基を2つ有する化合物であり、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。式中、R23は炭素数2~100の二価の有機基である。上記式で表されるジアミンとしては、例えば、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、ダイマージアミンおよび一般式I~VIIで表される化合物が挙げられる。式I中、A1は、-CH2m-であり、ここでmは2~12の整数である。式III、VおよびVII中、A2は、単結合、-O-、-S-、-S-S-、-SO2-、-CO-、-CONH-、-NHCO-、-CCH32-、-CCF32-、-CH2n-、-O-CH2n-O-または-S-CH2n-S-であり、ここでnは1~6の整数である。式VIおよびVII中、2つ存在するA3は、それぞれ独立に単結合、-O-、-S-、-CO-、-CCH32-、-CCF32-または炭素数1~3のアルキレンである。以上の式I~VIIにおいて、シクロヘキサン環またはベンゼン環が有する少なくとも一つの水素原子は、-Fまたは-CH3で置き換えられていてもよい。式Iで表される化合物としては、例えば、式I-1~I-3で表される化合物が挙げられる。式IIで表される化合物としては、例えば、式II-1~II-2で表される化合物が挙げられる。式IIIで表される化合物としては、例えば、式III-1~III-3で表される化合物が挙げられる。式IVで表される化合物としては、例えば、式IV-1~IV-5で表される化合物が挙げられる。式Vで表される化合物としては、例えば、式V-1~V-30で表される化合物が挙げられる。式VIで表される化合物としては、例えば、式VI-1~VI-6で表される化合物が挙げられる。式VIIで表される化合物としては、例えば、式VII-1~VII-11で表される化合物が挙げられる。式I~VIIで表される化合物の上記具体例の中でも、好ましくは式IV-1~IV-5、式V-1~V-12、式V-26、式V-27、式VI-1、式VI-2、式VI-6および式VII-1~VII-5で表される化合物であり、より好ましくは式V-1~V-12で表される化合物である。ジアミンの中でも、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]プロパン、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン、m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、2,2’-ジアミノジフェニルプロパン、ベンジジン、1,1-ビス[4-4-アミノベンジルフェニル]メタンが好ましい。ジアミンとしては、さらに一般式VIIIで表される化合物が挙げられる。式VIII中、A4は、単結合、-O-、-COO-、-OCO-、-CO-、-CONH-、-N=N-または-CH2p-であり、ここで、pは1~6の整数である。R24は、ステロイド骨格を有する基、または、シクロヘキサン環およびベンゼン環とからなる群より選ばれる少なくとも1種の環構造を有する基である。なお、ベンゼン環に結合している2つのアミノ基の位置関係がパラ位のときは、R24は炭素数1~30のアルキルであってもよく、前記位置関係がメタ位のときは、R24は炭素数1~10のアルキル、または-F、-CH3、-OCH3、-OCH2F、-OCHF2もしくは-OCF3で置き換えられていてもよいフェニルであってもよい。R24における上記炭素数1~30のアルキルおよび炭素数1~10のアルキルは、直鎖状であっても分岐状であってもよい。これらのアルキルにおいては、任意の-CH2-が-CF2-、-CHF-、-O-、-CH=CH-または-C≡C-で置き換えられていてもよく、任意の-CH3が-CH2F、-CHF2または-CF3で置き換えられていてもよい。式VIIIにおいて、2つのアミノ基はフェニル環炭素に結合しているが、2つのアミノ基の結合位置関係は、メタ位またはパラ位であることが好ましい。さらに2つのアミノ基はそれぞれ、R24-A4-のベンゼン環への結合位置を1位としたときに、3位および5位、または2位および5位に結合していることが好ましい。式VIIIで表される化合物としては、例えば、式VIII-1~VIII-11で表される化合物が挙げられる。式VIII-1、VIII-2、VIII-7およびVIII-8中、R25は炭素数1~30の有機基であり、炭素数3~12のアルキルまたは炭素数3~12のアルコキシであることが好ましく、炭素数5~12のアルキルまたは炭素数5~12のアルコキシであることがさらに好ましい。式VIII-3~VIII-6およびVIII-9~VIII-11中、R26は炭素数1~30の有機基であり、炭素数1~10のアルキルまたは炭素数1~10のアルコキシであることが好ましく、炭素数3~10のアルキルまたは炭素数3~10のアルコキシであることがさらに好ましい。式VIIIで表される化合物としては、さらに、例えば、式VIII-12~VIII-17で表される化合物が挙げられる。式VIII-12~VIII-15中、R27は炭素数1~30の有機基であり、炭素数4~16のアルキルであることが好ましく、炭素数6~16のアルキルであることがさらに好ましい。式VIII-16および式VIII-17中、R28は炭素数1~30の有機基であり、炭素数6~20のアルキルであることが好ましく、炭素数8~20のアルキルであることがさらに好ましい。式VIIIで表される化合物としては、さらに、例えば、式VIII-18~VIII-38で表される化合物が挙げられる。式VIII-18、VIII-19、VIII-22、VIII-24、VIII-25、VIII-28、VIII-30、VIII-31、VIII-36およびVIII-37中、R29は炭素数1~30の有機基であり、炭素数1~12のアルキルまたは炭素数1~12のアルコキシであることが好ましく、炭素数3~12のアルキルまたは炭素数3~12のアルコキシであることがさらに好ましい。式VIII-20、VIII-21、VIII-23、VIII-26、VIII-27、VIII-29、VIII-32~VIII-35およびVIII-38中、R30は水素、-F、炭素数1~12のアルキル、炭素数1~12のアルコキシ、-CN、-OCH2F、-OCHF2または-OCF3であり、炭素数3~12のアルキルまたは炭素数3~12のアルコキシであることが好ましい。式VIII-33とVIII-34中、A5は炭素数1~12のアルキレンである。式VIIIで表される化合物としては、さらに、例えば、式VIII-39~VIII-49で表される化合物が挙げられる。式VIIIで表される化合物のうち、式VIII-1~式VIII-11で表される化合物が好ましく、式VIII-2、式VIII-4、式VIII-5および式VIII-6で表される化合物がさらに好ましい。本発明において、ジアミンとしては、さらに式IX~Xで表される化合物が挙げられる。式IXおよびX中、R31は水素または-CH3であり、2つ存在するR32はそれぞれ独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたは炭素数2~20アルケニルであり、2つ存在するA6はそれぞれ独立に単結合、-C=O-または-CH2-である。式X中、R33およびR34はそれぞれ独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたはフェニルである。式IX中、ステロイド核のB環に結合したNH2-Ph-A6-O--Ph-は、フェニレンを示すは、ステロイド核の6位の炭素に結合していることが好ましい。また、2つのアミノ基は、それぞれフェニル環炭素に結合しているが、A6のフェニル環への結合位置に対して、メタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。式X中、2つのNH2-R34-Ph-A6-O--Ph-は、フェニレンを示すは、それぞれフェニル環炭素に結合しているが、該フェニル環にステロイド核およびNH2-R34-Ph-A6-O-が結合していると考えた場合、ステロイド核とNH2-R34-Ph-A6-O-との位置関係は、メタ位またはパラ位であることが好ましい。また、2つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、A6に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。式IXで表される化合物としては、例えば、式IX-1~IX-4で表される化合物が挙げられる。式Xで表される化合物としては、例えば、式X-1~X-8で表される化合物が挙げられる。ジアミンとしては、さらに一般式XIおよびXIIで表される化合物が挙げられる。式XI中、R35は水素または炭素数1~20のアルキルであり、該アルキルにおいて、任意の-CH2-は、-O-、-CH=CH-または-C≡C-で置き換えられていてもよく、2つ存在するA7はそれぞれ独立に-O-または炭素数1~6のアルキレンであり、A8は単結合または炭素数1~3のアルキレンであり、環Tは1,4-フェニレンまたは1,4-シクロヘキシレンであり、hは0または1である。式XII中、R36は炭素数2~30のアルキルであり、これらの中でも炭素6~20のアルキルが好ましい。R37は水素または炭素数1~30のアルキルであり、これらの中でも炭素1~10のアルキルが好ましい。2つ存在するA9はそれぞれ独立に-O-または炭素数1~6のアルキレンである。式XI中、2つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、A7に対してメタ位またはパラに結合していることが好ましい。また、式XII中、2つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、A9に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。式XIで表される化合物としては、例えば、1,1-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]シクロヘキサン、1,1-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]-4-メチルシクロヘキサン、1,1-ビス[4-4-アミノベンジルフェニル]シクロヘキサン、1,1-ビス[4-4-アミノベンジルフェニル]-4-メチルシクロヘキサンなどの、式XI-1~XI-9で表される化合物が挙げられる。式XI-1~XI-3中、R38は水素または炭素数1~20のアルキルである。式XI-4~XI-9中、R39は水素または炭素数1~20のアルキルであり、水素または炭素数1~10のアルキルであることが好ましい。式XIIで表される化合物としては、例えば、式XII-1~XII-3で表される化合物が挙げられる。式XII-1~XII-3中、R40は炭素数2~30のアルキルであり、これらの中でも炭素数6~20のアルキルが好ましく、R41は水素または炭素数1~30のアルキルであり、これらの中でも水素または炭素数1~10のアルキルが好ましい。さらに、ジアミンとして、ジエチレングリコールビス3-アミノプロピルエーテル、1,2-ビス2-アミノエトキシエタン、1,4-ブタンジオールビス3-アミノプロピルエーテル、3,9-ビス3-アミノプロピル-24810-テトラオキサスピロ[55]ウンデカン、44’-ビス4-アミノフェノキシビフェニル、1,6-ビス4-4-アミノフェニルメチルフェニルヘキサン、1,3-ビス3-アミノプロピルテトラメチルジシロキサン、α,α’-ビス4-アミノフェニル-1,4-ジイソプロピルベンゼン、14-ビス3-アミノプロピルピペラジン,N,N’-ビス3-アミノプロピルエチレンジアミン、1,4-ビスアミノメチルシクロヘキサン、1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサンおよびネオペンチルグリコールビス4-アミノフェニルエーテルも挙げられる。上述のとおり、ジアミンとしては、例えば、上記式I~XIIで表される化合物を用いることができるが、これらの化合物以外の、アミノ基を2つ有する化合物も用いることができる。例えば、ナフタレン構造を有するナフタレン系ジアミン、フルオレン構造を有するフルオレン系ジアミン、シロキサン結合を有するシロキサン系ジアミン、トリアジン骨格を含むトリアジン系ジアミンなどを単独で、または他のアミノ基を2つ有する化合物として挙げた化合物と混合して用いることができる。シロキサン系ジアミンは特に限定されるものではないが、一般式XIIIで表される化合物が、本発明において好ましく使用され得る。式XIII中、R42およびR43はそれぞれ独立に炭素数1~3のアルキルまたはフェニルであり、R44はメチレンまたは炭素数1~10のアルキルで置き換えられていてもよいフェニレンであり、2つのxはそれぞれ独立に1~6の整数であり、yは1~70の整数である。複数存在するR42、R43およびR44は、それぞれ互いに同じでも異なっていてもよい。ジアミンは、さらに式XV-1~XV-16で表される化合物が挙げられる。式XV-15中、nは2~15の整数である。具体的な製品としてはイハラケミカル社製、エラストマー1000Pn平均値=13.62、エラストマー650Pn平均値=8.76、エラストマー250Pn平均値=3.21が挙げられる。式XV-16中、nは2~15の整数、mは2~15の整数である。具体的な製品としてはイハラケミカル社製、ポレアSL-100Aが挙げられる。本発明において、ジアミンとしては、さらに、下記式4-2-1~4-2-3で表されるフルオレン系ジアミンが好ましく挙げられる。本発明において、ジアミンとしては、さらに、下記式4-3-1、4-3-2、4-3-3および4-3-4で表されるトリアジン系ジアミンが好ましく挙げられる。ジアミンとして、さらに式11~30で表される化合物が挙げられる。式11~18中、R45およびR46はそれぞれ独立に炭素数3~20のアルキルである。ジアミンは、上記例示のジアミンに限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で他にも種々の形態のジアミンを用いることができる。インクジェット用インクの用途によっては高い透明性が必要とされる。そのような場合には、ジアミンとして、3,3-ジアミノジフェニルスルホンおよび式XIIIにおいてy=1~15の整数である化合物を用いることが特に好ましい。ジアミンは、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。6.5モノまたはビスアルケニル置換ナジイミド化合物B’におけるモノまたはビスアルケニル置換ナジイミドは、分子内に1つまたは2つのアルケニル置換ナジイミド構造を有する化合物であり、例えば一般式B’-1で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物が挙げられる。式B’-1中、R47およびR48はそれぞれ独立に水素、炭素数1~12のアルキル、炭素数3~6のアルケニル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数6~12のアリールまたはベンジルであり、lは1または2である。式B’-1中、l=1のとき、R49は水素、炭素数1~12のアルキル、炭素数1~12のヒドロキシアルキル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数6~12のアリール、ベンジル、-{CqH2qOtCrH2rOuCsH2sX}q、rおよびsはそれぞれ独立に2~6の整数、tは0または1の整数、uは1~30の整数、Xは水素または水酸基であるで表されるポリオキシアルキレンアルキル、-R50a-C6H4-R51aは0または1の整数であり、R50は炭素数1~4のアルキレンであり、R51は水素または炭素数1~4のアルキルであるで表される基、-C6H4-T-C6H5{Tは-CH2-、-CCH32-、-CO-、-S-または-SO2-である}で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結した1~3個の水素が水酸基で置き換えられた基である。式B’-1中、l=2のとき、R49は炭素数2~20のアルキレンアルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは-O-または-CH=CH-で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい、炭素数5~8のシクロアルキレン、炭素数6~12のアリーレン、-R50a-C6H4-R52-aは0または1の整数であり、R50およびR52はそれぞれ独立に炭素数1~4のアルキレンであるで表される基、-C6H4-T-C6H4-、-C6H4-T-C6H4-T-C6H4-もしくは-C6H4-T’-C6H4-T-C6H4-T’-C6H4-{Tは単結合、炭素数1~6のアルキレン、-CCH32-、-CCF32-、-CO-、-O-、-S-または-SO2-であり、T’は-CH2-または-O-である}で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結する1~3個の水素が水酸基で置き換えられた基、式B’-2で表される基、または式B’-3で表される基である。式B’-2中、複数あるxはそれぞれ独立に1~6の整数であり、yは1~70の整数である。式B’-1中、R47およびR48はそれぞれ独立に水素または炭素数1~6のアルキルであることが好ましく、l=1の場合はR49が炭素数1~12のアルキルまたは炭素数6~12のアリールであることが好ましく、l=2の場合はR49が-CH2p-pは6~12の整数であるで表される基、式B’-4で表される基、式B’-5で表される基、式B’-6で表される基、式B’-2で表される基但し、x=3、y=1であるまたは式B’-3で表される基であることが好ましい。本発明のインクは、これらのアルケニル置換ナジイミドの少なくとも2種を含有していてもよい。アルケニル置換ナジイミドは、例えば、モノアミンまたはジアミンと一般式B’-1’で表されるアルケニル置換ナジック酸無水物とを反応させてなるアルケニル置換ナジイミド化合物である。式B’-1’中のR47およびR48はそれぞれ式B’-1中のR47およびR48と同義である。モノアルケニル置換ナジイミドlが1であるモノアルケニル置換ナジイミド化合物としては、例えば、アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ヒドロキシ-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ヒドロキシ-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ヒドロキシ-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ヒドロキシ-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2-エチルヘキシル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、N-2-エチルヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-フェニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、N-フェニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-ヒドロキシエチル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-ヒドロキシエチル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-ヒドロキシエチル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、N-2’,2’-ジメチル-3’-ヒドロキシプロピル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’,2’-ジメチル-3’-ヒドロキシプロピル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’,3’-ジヒドロキシプロピル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’,3’-ジヒドロキシプロピル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-3’-ヒドロキシ-1’-プロペニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-4’-ヒドロキシ-シクロヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、N-4’-ヒドロキシフェニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-4’-ヒドロキシフェニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-4’-ヒドロキシフェニル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-4’-ヒドロキシフェニル-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-3’-ヒドロキシフェニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-3’-ヒドロキシフェニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-p-ヒドロキシベンジル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{2’-2’-ヒドロキシエトキシエチル}-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、N-{2’-2’-ヒドロキシエトキシエチル}-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{2’-2’-ヒドロキシエトキシエチル}-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{2’-2’-ヒドロキシエトキシエチル}-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-{2’-2-ヒドロキシエトキシエトキシ}エチル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-{2’-2-ヒドロキシエトキシエトキシ}エチル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-{2’-2-ヒドロキシエトキシエトキシ}エチル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{4’-4’-ヒドロキシフェニルイソプロピリデンフェニル}-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{4’-4’-ヒドロキシフェニルイソプロピリデンフェニル}-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{4’-4’-ヒドロキシフェニルイソプロピリデンフェニル}-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。モノアルケニル置換ナジイミドは、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。好ましいモノアルケニル置換ナジイミドとしては、N-メチル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2-エチルヘキシル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド;N-2-エチルヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-フェニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド;N-フェニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド;が挙げられる。さらに好ましいモノアルケニル置換ナジイミドとしては、N-メチル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2-エチルヘキシル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド;N-2-エチルヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド;が挙げられる。ビスアルケニル置換ナジイミドlが2であるビスアルケニル置換ナジイミド化合物としては、例えば、N,N’-エチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-トリメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、1,2-ビス{3’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}エタン、1,2-ビス{3’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}エタン、1,2-ビス{3’-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}エタン、ビス2’-{3’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}エチルエーテル、ビス2’-{3’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}エチルエーテル、1,4-ビス{3’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}ブタン、1,4-ビス{3’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}ブタン、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、N,N’-p-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-{1-メチル-2,4-フェニレン}-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、2,2-ビス4’-{4’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン、1,6-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-3-ヒドロキシ-ヘキサン、1,12-ビスメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-3,6-ジヒドロキシ-ドデカン、1,3-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-5-ヒドロキシ-シクロヘキサン、1,5-ビス{3’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}-3-ヒドロキシ-ペンタン、1,4-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-2-ヒドロキシ-ベンゼン、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、1,4-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-2,5-ジヒドロキシ-ベンゼン、N,N’-p-2-ヒドロキシキシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-2-ヒドロキシキシリレン-ビスアリルメチルシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-2-ヒドロキシキシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-2-ヒドロキシキシリレン-ビスメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-2,3-ジヒドロキシキシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、2,2-ビス4’-{4’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-2’-ヒドロキシ-フェノキシ}フェニルプロパン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-2-ヒドロキシ-フェニル}メタン、ビス{3-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-4-ヒドロキシ-フェニル}エーテル、ビス{3-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-5-ヒドロキシ-フェニル}スルホン、1,1,1-トリ{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド}フェノキシメチルプロパン、N,N,N-トリエチレンメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドイソシアヌレート、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。また、非対称なアルキレンフェニレン基を有する下記化合物が挙げられる。ビスアルケニル置換ナジイミドは、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。好ましいビスアルケニル置換ナジイミドとしては、N,N’-エチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-トリメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド;N,N’-p-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-{1-メチル-2,4-フェニレン}-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、2,2-ビス4’-{4’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン;ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン;ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン;が挙げられる。さらに好ましいビスアルケニル置換ナジイミドとしては、N,N’-エチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-トリメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド;N,N’-p-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-{1-メチル-2,4-フェニレン}-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド;2,2-ビス4’-{4’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン;ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン;が挙げられる。以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例および比較例で用いる成分の名称を略号で示す。以下の記述にはこの略号を使用する。化合物A、化合物Bまたは化合物B’等の原料EtOH:エタノールODPA:3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物BAPP:2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]プロパンDDS:3,3-ジアミノジフェニルスルホン4-EPA:4-エチニルフタル酸無水物MA:マレイン酸無水物CA:シトラコン酸無水物APSE:3-アミノプロピルトリエトキシシランSMA1000:下記式で表される化合物FM3311:FM-3311チッソ株製化合物AEtODPA:下記式で表される化合物反応容器に、EtOH100.63gおよびODPA1.09gを添加して、40°Cのウォーターバスにて12時間撹拌した。反応後の反応溶液を減圧濃縮して、EtODPAからなる固形物を得た。化合物AEtSMA1000:下記式で表される化合物反応容器に、EtOH100.21gおよびSMA10001.01gを添加して、40°Cのウォーターバスにて72時間撹拌した。反応後の反応溶液を減圧濃縮して、EtSMA1000からなる固形物を得た。溶媒CEDM:ジエチレングリコールメチルエチルエーテルGBL:γ-ブチロラクトン界面活性剤FM3311/MA:FM-3311とMAとをモル比FM-3311:MA=1:2にて固形分20重量部となるようにEDM中で反応させたアミック酸溶液重量平均分子量の測定方法化合物BおよびB’のMwは、ゲル浸透クロマトグラフィGPC法により測定することができる。具体的には、ジメチルホルムアミドDMFで化合物Bまたは化合物B’の固形分濃度が約1質量になるように希釈し、GPC装置として、日本分光株製、JASCOGULLIVER1500インテリジェント示差屈折率計RI-1530を用い、東ソー株株製カラムG4000HXL、G3000HXL、G2500HXLおよびG2000HXLの4本をこの順序で接続してなるものを用いて、測定条件は、カラム温度40°C、流速1.0ml/minとする。以上の条件で、得られた希釈液を展開剤として用い、GPC法により測定して、ポリスチレン換算することにより、Mwを求めることができる。インクジェット用インクの調製[実施例1]反応容器に、BAPP0.80305g、1.96mmol、ODPA0.30345g、0.98mmolおよびEtODPA0.39355g、0.98mmolを仕込み、溶媒としてEDM1.75gおよびGBL1.75gを添加して、室温で2時間撹拌した。下記反応式1のようにBAPPおよびODPAの反応が進み、化合物AとしてEtODPAを、化合物BとしてBAPPおよびODPAの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク1とした。インク1の固形分濃度は30質量であり、粘度は62.0mPasであった。インク1の見かけの重量平均分子量は2,383であった。インク13gにEDM0.75g、GBL0.75gおよびFM3311/MA0.00675gを添加して、固形分濃度20質量のインクジェット用インク1’を得た。インク1’の粘度は13.7mPasであった。[実施例2]反応容器に、BAPP4.7653g、11.6mmol、ODPA0.9003g、2.90mmol、EtODPA2.3353g、5.81mmolおよび4-EPA0.9991g、5.81mmolを仕込み、溶媒としてEDM10.5gおよびGBL10.5gを添加して、室温で2時間撹拌した。下記反応式のようにBAPP、ODPAおよび4-EPAの反応が進み、化合物AとしてEtODPAを、化合物BとしてBAPPおよびODPAの反応付加物と、化合物BおよびB’としてBAPP、ODPAおよび4-EPAの反応付加物と、BAPPおよび4-EPAの反応付加物とを含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク2とした。インク2の固形分濃度は30質量であり、粘度は32.3mPasであった。インク2の見かけの重量平均分子量は1,307であった。インク23gにEDM0.3g、GBL0.3gおよびFM3311/MA0.0054gを添加して、固形分濃度25質量のインクジェット用インク2’を得た。インク2’の粘度は18.2mPasであった。[実施例3]反応容器に、BAPP1.390g、3.39mmol、ODPA0.2626g、EtODPA0.6812g、1.69mmolおよびMA0.1660g、1.69mmolを仕込み、溶媒としてEDM3.75gおよびGBL3.75gを添加して、室温で2時間撹拌した。下記反応式のようにBAPP、ODPAおよびMAの反応が進み、化合物AとしてEtODPAを、化合物BとしてBAPPおよびODPAの反応付加物と、化合物BおよびB’としてBAPP、ODPAおよびMAの反応付加物と、BAPPおよびMAの反応付加物とを含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液にFM3311/MA0.015gを加えてインクジェット用インク3とした。インク3の固形分濃度は25質量であり、粘度は12.2mPasであり、インク3の見かけの重量平均分子量は1,185であった。[実施例4]反応容器に、CA8.069g、71.99mmolおよびAPSE15.938g、71.99mmolを仕込み、溶媒としてEDM6.001gを添加し、180°Cで3時間還流した下記反応式参照。新たな反応容器に、反応後の反応溶液3.7667gおよび実施例1で得られたインクジェット用インク11.9980gを仕込み、溶媒としてEDM1.4552g、界面活性剤としてFM3311/MA0.0052gを添加して、インクジェット用インク4を得た。インク4の固形分濃度は50質量であり、粘度は13.8mPasであった。[実施例5]反応容器に、BAPP1.5424g、3.76mmol、ODPA0.5828g、1.88mmolおよびEtSMA10000.8748g、0.16mmolを仕込み、溶媒としてEDM3.5gおよびGBL3.5gを添加して、室温で2時間撹拌した。上記反応式1のようにBAPPおよびODPAの反応が進み、化合物AとしてEtSMA1000を、化合物BとしてBAPPおよびODPAの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク5とした。インク5の固形分濃度は30質量であり、粘度は120.0mPasであった。インク53gにEDM0.75g、GBL0.75gおよびFM3311/MA0.00675gを添加して、固形分濃度20質量のインクジェット用インク5’を得た。インク5’の粘度は18.0mPasであった。[実施例6]反応容器に、BAPP1.6493g、4018mmol、ODPA0.6232g、2.008mmolおよびEtODPA0.7275g、1.809mmolを仕込み、溶媒としてEDM3.5gおよびGBL3.5gを添加して、室温で2時間撹拌した。上記反応式1のようにBAPPおよびODPAの反応が進み、化合物AとしてEtODPAを、化合物BとしてBAPPおよびODPAの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク6とした。インク6の固形分濃度は30質量であり、粘度は66.4mPasであった。インク6の見かけの重量平均分子量は2,120であった。インク63gにEDM0.75g、GBL0.75gおよびFM3311/MA0.00675gを添加して、固形分濃度20質量のインクジェット用インク6’を得た。インク6’の粘度は16.5mPasであった。[実施例7]反応容器に、BAPP1.5610g、3.803mmol、ODPA0.5898g、1901mmolおよびEtODPA0.8491g、2.110mmolを仕込み、溶媒としてEDM3.5gおよびGBL3.5gを添加して、室温で2時間撹拌した。上記反応式1のようにBAPPおよびODPAの反応が進み、化合物AとしてEtODPAを、化合物BとしてBAPPおよびODPAの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク7とした。インク7の固形分濃度は30質量であり、粘度は56.0mPasであった。インク7の見かけの重量平均分子量は2,083であった。インク73gにEDM0.75g、GBL0.75gおよびFM3311/MA0.00675gを添加して、固形分濃度20質量のインクジェット用インク7’を得た。インク7’の粘度は12.4mPasであった。[比較例1]反応容器に、ODPA1.3644g、4.40mmol、DDS0.2576g、1.04mmolおよびAPSE1.3780g、6.22mmolを仕込み、溶媒としてEDM3.5g、GBL3.5gおよびFM3311/MA0.015gを添加して、インクジェット用インクC1を得た。インクC1の固形分濃度は30質量であり、粘度は13.0mPasであった。[比較例2]反応容器に、ODPA3.8738g、12.49mmol、BAPP5.1262g、12.49mmolを仕込み、溶媒としてEDM10.5gおよびGBL10.5g添加して、インクジェット用インクC2を得た。インクC2の固形分濃度は30質量であり、粘度は非常に高く、計測不能だった。[比較例3]反応容器に、ODPA1.5495g、4.99mmol、BAPP2.0505g、4.99mmolを仕込み、溶媒としてEDM13.2gおよびGBL13.2g添加して、インクジェット用インクC3を得た。インクC3の固形分濃度は12質量であり、粘度は3855mPasであった。[比較例4]反応容器に、BAPP1.7188g、4.187mmol、ODPA0.6494g、2093mmolおよびEtODPA0.6317g、1.570mmolを仕込み、溶媒としてEDM3.5gおよびGBL3.5gを添加して、室温で2時間撹拌した。上記反応式1のようにBAPPおよびODPAの反応が進み、化合物AとしてEtODPAを、化合物BとしてBAPPおよびODPAの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インクC4とした。インクC4の固形分濃度は30質量であり、粘度は67.5mPasであった。インクC4の見かけの重量平均分子量は2,256であった。インクC43gにEDM0.75g、GBL0.75gおよびFM3311/MA0.00675gを添加して、固形分濃度20質量のインクジェット用インクC4’を得た。インクC4’の粘度は18.2mPasであった。[比較例5]反応容器に、BAPP1.4781g、3.601mmol、ODPA0.5585g、1800mmolおよびEtODPA0.9634g、2.394mmolを仕込み、溶媒としてEDM3.5gおよびGBL3.5gを添加して、室温で2時間撹拌した。上記反応式1のようにBAPPおよびODPAの反応が進み、化合物AとしてEtODPAを、化合物BとしてBAPPおよびODPAの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インクC5とした。インクC5の固形分濃度は30質量であり、粘度は78.0mPasであった。インクC5の見かけの重量平均分子量は2,048であった。インクC53gにEDM0.75g、GBL0.75gおよびFM3311/MA0.00675gを添加して、固形分濃度20質量のインクジェット用インクC5’を得た。インクC5’の粘度は20.1mPasであった。[比較例6]反応容器に、BAPP1.8486g、4.503mmol、ODPA0.6985g、2252mmolおよびEtODPA0.453g、1.126mmolを仕込み、溶媒としてEDM3.5gおよびGBL3.5gを添加して、室温で2時間撹拌した。上記反応式1のようにBAPPおよびODPAの反応が進み、化合物AとしてEtODPAを、化合物BとしてBAPPおよびODPAの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インクC6とした。インクC6の固形分濃度は30質量であり、粘度は49.8mPasであった。インクC6の見かけの重量平均分子量は2,389であった。インクC63gにEDM0.75g、GBL0.75gおよびFM3311/MA0.00675gを添加して、固形分濃度20質量のインクジェット用インクC6’を得た。インクC6’の粘度は12.4mPasであった。[比較例7]反応容器に、BAPP1.2723g、3.099mmol、ODPA0.4807g、1550mmolおよびEtODPA1.247g、3.099mmolを仕込み、溶媒としてEDM3.5gおよびGBL3.5gを添加して、室温で2時間撹拌した。上記反応式1のようにBAPPおよびODPAの反応が進み、化合物AとしてEtODPAを、化合物BとしてBAPPおよびODPAの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インクC7とした。インクC7の固形分濃度は30質量であり、粘度は37.2mPasであった。インクC7の見かけの重量平均分子量は2,173であった。インクC73gにEDM0.75g、GBL0.75gおよびFM3311/MA0.00675gを添加して、固形分濃度20質量のインクジェット用インクC7’を得た。インクC7’の粘度は11.0mPasであった。ポリイミド膜の形成塗布装置として、インクジェット塗布装置DMP-2831FUJIFILMDimatix社製を用いた。塗布条件を1ドット幅でドットピッチ25μmに設定し、インクジェットヘッドのヒーターを30°Cに、ピエゾ電圧を20Vに、駆動周波数を5kHzに設定した。以上の条件で、実施例および比較例で得られたインクを用いて、1.5mm厚のガラス基板上に長さ5cmのライン塗布を常温25°Cで行った。[実施例1~3、5~7]および[比較例1~7]では、塗布後の基板を80°Cのホットプレートで5分間乾燥した後、300°Cのオーブンで60分間加熱して、ライン状に形成された絶縁性のポリイミド膜を得た。[実施例4]では、塗布後の基板を80°Cのホットプレートで5分間乾燥した後、180°Cのオーブンで60分間加熱して、ポリイミド膜を得た。得られたインクおよびポリイミド膜の特性は、以下のようにして評価した。なお、特記しない限り、実施例および比較例で得られたインクジェット用インクを以下では単にインクと記載する。例えば実施例1では、ポリイミド膜のライン幅は60μmであり、エッジの直線性はギザギザしておらず良好であり、ラインの膜厚は1.2μmであった。実施例1の結果と併せて、その他の結果も表1および表2に示す。i粘度インクの粘度は、25°Cにて、E型粘度計TOKYOKEIKI製VISCONICELDを用いて測定した。ii重量平均分子量インクの見かけの重量平均分子量は、以下のようにして測定した。ジメチルホルムアミドDMFで固形分濃度が約1質量になるようにインクを希釈した。GPC装置として、日本分光株製、JASCOGULLIVER1500インテリジェント示差屈折率計RI-1530を用いた。カラムは、東ソー株製カラムG4000HXL、G3000HXL、G2500HXLおよびG2000HXLの4本をこの順序で接続してなるものを用いた。測定条件は、カラム温度40°C、流速1.0ml/minであった。以上の条件で、得られた希釈液を展開剤として用い、GPC法により測定して、ポリスチレン換算することにより、重量平均分子量を求めた。インクの見かけの重量平均分子量は、化合物BおよびB’の重量平均分子量の目安となる。iiiポリイミド膜のライン幅およびエッジの直線性ポリイミド膜のライン幅およびエッジの直線性は、光学顕微鏡を用いて観察した。ivポリイミド膜のラインの膜厚ポリイミド膜の膜厚の測定には、触針式段差計XP-200AmbiosTechnology社製を使用した。3箇所の測定結果を平均して、ポリイミド膜のラインの膜厚とした。v体積抵抗率、誘電率および耐電圧電気的特性スピンコート法によりクロム基板上にインクを塗布して、80°Cで5分間乾燥させた。さらに基板をオーブンに入れて、[実施例1~3、5~7]および[比較例1~7]では300°Cで30分間、[実施例4]では180°Cで60分間加熱して、膜厚およそ2μmのポリイミド膜を形成した。その後、ポリイミド膜上にアルミニウムを蒸着させ、電極を作成した。誘電率は、プレシジョンLCRメーターE4980AAgilentTechnologies社製を用いて測定した。体積抵抗率および耐電圧は、ディジタル超絶縁/微少電流計DSM-8104日置電機株製を用いて測定した。vi線膨張係数熱的特性アプリケーターを用いてインクを基材アルミホイル上に塗布し、ホットプレートを用いて、80°Cで5分間乾燥させた。さらに基材をオーブンに入れて、[実施例1~3、5~7]および[比較例1~7]では300°Cで30分間、[実施例4]では180°Cで60分間加熱して、基材の片面にポリイミド膜を形成した。なお、得られたポリイミド膜が脆く、試験片を得られなかったものは測定不能とした。基材からポリイミド膜を剥離した後、熱応力歪測定装置エスアイアイナノテクノロジー社製、TMA/SS6100を用いて熱線膨張係数を測定した。測定条件を下記に示す。試料長さ:10mm試料幅:3mm昇温開始温度:30°C昇温終了温度:300°C昇温速度:10°C/min雰囲気:空気中線膨張係数の算出:50~125°Cファーストスキャンvii5重量減温度熱的特性5重量減温度は、線膨張係数測定用の試料片および示差熱重量同時測定装置セイコーインスツルメント社製、SSC5200を用いて測定した。測定条件を下記に示す。昇温開始温度:30°C昇温終了温度:500°C昇温速度:10°C/min雰囲気:空気中viiiポリイミド膜の弾性率および破断強度機械的特性試験に使用するポリイミド膜を、vi線膨張係数熱的特性と同様の方法で形成した。得られたポリイミド膜が脆く、試験片を得られなかった場合には測定不能とした。ポリイミド膜の弾性率および破断強度の測定には、静的材料試験機EZGraph株島津製作所製を使用した。3回の測定結果を平均して、ポリイミド膜の弾性率および破断強度とした。ixポリイミド膜の180°ピール強度機械的特性インクジェット装置を用いてアルミ基板上にインクを印刷し、80°Cで5分間乾燥させた。さらに基板をオーブンに入れて、[実施例1~3、5~7]および[比較例1~7]では300°Cで30分間、[実施例4]では180°Cで60分間加熱して、膜厚およそ2μmのポリイミド膜を形成した。ピール強度の測定には、静的材料試験機EZGraph株島津製作所製を使用した。得られたポリイミド膜からアルミ基板をはがす際にかかった力を測定した。なお、得られたポリイミド膜が脆く、試験片を得られなかったものは測定不能とした。3回の測定結果を平均し、ピール強度を算出した。以上の実施例および比較例の評価結果を表1および表2に記す。"