"チャンバと、前記チャンバ内の照射領域にターゲット材料放出点と該照射領域の間の経路に沿ってターゲット材料を送出するターゲット材料の流れを供給する供給源と、ガスの少なくとも一部分が前記流れに向かう方向に流れる前記チャンバ内のガス流と、EUV放射線を生成するプラズマを発生させるために前記照射領域でターゲット材料を照射するレーザビームを生成するシステムと、前記流れの一部分に沿って位置決めされ、該流れを前記ガス流から遮蔽する第1のシュラウド部分及び対向する開放部分を有するシュラウドと、を含むことを特徴とする装置。前記シュラウドは、前記経路に垂直な平面において部分的にリング状の断面を有することを特徴とする請求項1に記載の装置。前記リングは、少なくとも1つの平坦面を有することを特徴とする請求項2に記載の装置。前記シュラウドは、前記経路と平行な方向に長形であることを特徴とする請求項1に記載の装置。前記シュラウドは、少なくとも1つの穴が形成された管を含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。前記シュラウドと前記ターゲット材料放出点の間に前記流れに沿って位置決めされた液滴捕捉管を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。前記経路は、非垂直であり、前記液滴捕捉管は、該非垂直経路から逸れるターゲット材料から反射光学系を保護するシールドであることを特徴とする請求項6に記載の装置。チャンバと、前記チャンバ内の照射領域に該照射領域とターゲット材料放出点の間の経路に沿ってターゲット材料を送出するターゲット材料液滴の流れを供給する供給源と、前記チャンバ内のガス流と、EUV放射線を生成するプラズマを発生させるために前記照射領域で液滴を照射するビームを生成するレーザと、前記流れの一部分に沿って位置決めされ、液滴の位置的安定性を増大させるために前記経路に垂直な平面において該流れを部分的に包み込むシュラウドと、を含むことを特徴とする装置。前記シュラウドは、前記経路に垂直な平面において部分的にリング状の断面を有することを特徴とする請求項8に記載の装置。前記リングは、少なくとも1つの平坦面を有することを特徴とする請求項9に記載の装置。前記シュラウドは、前記経路と平行な方向に長形であることを特徴とする請求項8に記載の装置。前記シュラウドは、少なくとも1つの穴が形成された管を含むことを特徴とする請求項8に記載の装置。前記シュラウドと前記ターゲット材料放出点の間に前記流れに沿って位置決めされた液滴捕捉管を更に含むことを特徴とする請求項8に記載の装置。前記経路は、非垂直であり、前記液滴捕捉管は、該非垂直経路から逸れるターゲット材料から反射光学系を保護するシールドであることを特徴とする請求項13に記載の装置。チャンバ内の照射領域にターゲット材料放出点と該照射領域の間の経路に沿ってターゲット材料を送出するターゲット材料液滴の流れを供給する段階と、前記液滴流れに向かう方向にガスを流す段階と、EUV放射線を生成するプラズマを発生させるために前記照射領域で液滴をレーザビームで照射する段階と、液滴を前記ガス流から遮蔽する第1のシュラウド部分及び対向する開放部分を有するシュラウドを前記流れの一部分に沿って位置決めする段階と、を含むことを特徴とする方法。前記流す段階及び照射する段階は、同時に行われることを特徴とする請求項15に記載の方法。前記シュラウドは、前記経路に垂直な平面において部分的にリング状の断面を有することを特徴とする請求項15に記載の方法。前記リングは、少なくとも1つの平坦面を有することを特徴とする請求項15に記載の方法。前記シュラウドは、前記経路と平行な方向に長形であることを特徴とする請求項15に記載の方法。前記シュラウドと前記ターゲット材料放出点の間に前記流れに沿って液滴捕捉管を位置決めする段階を更に含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。前記流れの少なくとも一部分が、液滴の流れであることを特徴とする請求項1に記載の装置。上記を念頭に置いて、本出願人は、レーザ生成プラズマEUV光源におけるターゲット材料送出保護のためのシステム及び方法、及び対応する使用方法を開示する。本明細書で開示されるように、第1の態様では、チャンバと、ターゲット材料放出点と照射領域の間の経路に沿ってチャンバ内の照射領域にターゲット材料を送出するターゲット材料液滴の流れを供給する供給源と、ガスの少なくとも一部分が液滴流れに向かう方向に流れるチャンバ内のガス流と、EUV放射線を生成するプラズマを発生させるために照射領域で液滴を照射するレーザビームを生成するシステムと、流れの一部分に沿って位置決めされ、液滴を流れから遮蔽する第1のシュラウド部分及び対向する開放部分を有するシュラウドとを含むことができる装置を開示する。一実施形態では、シュラウドは、経路に垂直な平面において部分的にリング状の断面を有する。特定的な実施形態では、リングは、少なくとも1つの平坦面を有する。一実施例では、シュラウドは、経路と平行な方向に長形である。特定的な実施例では、シュラウドは、少なくとも1つの穴が形成された管を含む。一構成において、装置は、シュラウドと液滴放出点の間に流れに沿って位置決めされた液滴捕捉管を更に含むことができる。1つの特定の構成において、経路は、非垂直であり、液滴捕捉管は、反射光学系を非垂直経路から逸れるターゲット材料から保護するシールドである。同じく本明細書に開示する別の態様では、装置は、チャンバと、照射領域とターゲット材料放出点の間の経路に沿ってチャンバ内の照射領域にターゲット材料を送出するターゲット材料の液滴の流れを供給する供給源と、チャンバ内のガス流と、EUV放射線を生成するプラズマを発生させるために照射領域で液滴を照射するビームを生成するレーザと、流れの一部分に沿って位置決めされ、液滴の位置的安定性を増大させるために経路に垂直な平面において流れを部分的に包み込むシュラウドとを含むことができる。この態様の一実施形態では、シュラウドは、経路に垂直な平面において部分的にリング状の断面を有する。特定的な実施形態では、リングは、少なくとも1つの平坦面を有する。この態様の特定的な実施例では、シュラウドは、経路と平行な方向に長形である。この態様の特定的な実施例では、シュラウドは、少なくとも1つの穴が形成された管を含む。この態様の一実施例では、装置は、シュラウドと液滴放出点の間に流れに沿って位置決めされた液滴捕捉管を更に含むことができる。この態様の1つの特定的な実施例では、経路は、非垂直であり、液滴捕捉管は、反射光学系を非垂直経路から逸れるターゲット材料から保護するシールドである。同じく本明細書に開示する別の態様では、方法は、ターゲット材料放出点と照射領域の間の経路に沿ってチャンバ内の照射領域にターゲット材料を送出するターゲット材料の液滴の流れを供給する段階と、液滴流れに向かう方向にガスを流す段階と、EUV放射線を生成するプラズマを発生させるために照射領域で液滴をレーザビームで照射する段階と、液滴を流れから遮蔽する第1のシュラウド部分及び対向する開放部分を有するシュラウドを流れの一部分に沿って位置決めする段階とを含むことができる。この態様の特定的な実施例では、流す段階及び照射する段階は、同時に行われる。この態様の1つの特定的な実施例では、シュラウドは、経路に垂直な平面において部分的にリング状の断面を有する。この態様の一実施例では、リングは、少なくとも1つの平坦面を有する。この態様の特定的な実施例では、シュラウドは、経路と平行な方向に長形である。最初に図1を参照すると、EUV光源、例えば、レーザ生成プラズマEUV光源20の概略図が示されている。図1に示すと共に以下でより詳細に説明するように、LPP光源20は、一連の光パルスを生成してチャンバ26内に光パルスを送出するシステム22を含むことができる。以下で詳述するように、各光パルスは、システム12からのビーム経路に沿って進んでチャンバ26内に入って照射領域でそれぞれのターゲット液滴を照射することができる。図1に示すシステム22に使用する適切なレーザには、パルスレーザ装置、例えば、10kW又はそれより高い比較的高い電力、及び例えば50kHz又はそれよりも高い高パルス繰返し数で作動する例えばDC又はRF励起で9.3μm又は10.6μmの放射線を生成するパルスガス放電CO2レーザ装置を含むことができる。1つの特定的な実施例では、レーザは、発振器-増幅器構成例えば、主発振器/電力増幅器MOPA又は複数の増幅段を有する電力発振器/電力増幅器POPAを有し、かつ例えば100kHz作動が可能である比較的低エネルギ及び高い繰返し数を有するQスイッチ式主発振器により開始されるシードパルスを有する軸流RF励起CO2レーザとすることができる。発振器から次に照射領域28に入る前に、レーザパルスは、増幅、成形、及び集束させることができる。連続励起CO2増幅器をシステム22に使用することができる。例えば、発振器及び3つの増幅器O-PA1-PA2-PA3構成を有する適切なCO2レーザ装置は、現在は2008年10月21日に付与された米国特許第7,439,530号明細書である代理人整理番号第2005-0044-01号の2005年6月29日出願のLPP-EUV光源駆動レーザシステムという名称の米国特許出願出願番号第11/174,299号明細書に開示されており、この特許の開示内容全体は、引用により本明細書に組み込まれている。代替的に、レーザは、液滴が光空洞の1つのミラーとして機能するいわゆる自己ターゲット式レーザシステムとして構成することができる。一部の自己ターゲット式構成において、主発振器は不要とすることができる。自己ターゲット式レーザシステムは、現在は2009年2月17日に付与された米国特許第7,491,954号明細書である代理人整理番号第2006-0025-01号の2006年10月13日出願のEUV光源のための駆動レーザ送出システムという名称の米国特許出願出願番号第11/580,414号明細書に開示かつ特許請求され、この特許の開示内容全体は、引用により本明細書に組み込まれている。用途により、他のタイプのレーザは、例えば、高電力及び高パルス繰返し数で作動するエキシマ又は分子フッ素レーザとすることができる。他の例は、例えば、ファイバ、ロッド、スラブ、又は円板状活性媒体、例えば、1つ又はそれよりも多くのチャンバ、例えば、発振チャンバ及び1つ又はそれよりも多くの増幅チャンバ増幅チャンバは並列又は直列、主発振器/電力発振器MOPO構成、主発振器/電力リング増幅器MOPRA構成を有する他のレーザアーキテクチャを有する固体レーザを含み、又は1つ又はそれよりも多くのエキシマ又は分子フッ素増幅器又は発振チャンバにシード光を送出する固体レーザを適切とすることができる。他の設計も、適切とすることができる。図1に更に示すように、EUV光源20は、例えば、液滴が1つ又はそれよりも多くの光パルス、例えば、ゼロ、1つ、又はそれよりも多くのプレパルスと、次に1つ又はそれよりも多くの主パルスと相互作用して最終的にプラズマを生成してEUV放射を生成するように、照射領域28に至るチャンバ26の内部にターゲット材料の液滴を送出するターゲット材料送出システム24を含むことができる。ターゲット材料は、錫、リチウム、キセノン、又はその組合せを含む材料を含むことができるが必ずしもこれらに限定されない。EUV放出元素、例えば、錫、リチウム、キセノンなどは、液体液滴及び/又は液体液滴内に含まれた固体粒子の形態とすることができる。例えば、要素錫は、純粋な錫として、錫化合物、例えば、SnBr4、SnBr2、SnH4として、錫合金、例えば、錫ガリウム合金、錫インジウム合金、錫インジウムガリウム合金、又はその組合せとして使用することができる。使用する材料に基づいて、ターゲット材料は、室温、又は室温の近くで例えば、錫合金、SnBr4、高温で例えば、純粋な錫、又は室温よりも低い温度で例えば、SnH4を含む様々な温度で照射領域28に送出することができ、一部の場合には、比較的揮発性、例えば、SnBr4とすることができる。LPPのEUV光源におけるこれらの材料の使用に関する更なる詳細は、現在は2008年12月16日に付与された米国特許第7,465,946号明細書である代理人整理番号第2006-0003-01号の2006年4月17日出願のEUV光源のための代替燃料という名称の米国特許出願出願番号第11/406,216号明細書に示されており、この特許の内容全体は、引用により本明細書に組み込まれている。引き続き図1に対して、EUV光源20は、光学系30、例えば、モリブデン及びシリコンの交互層を有する漸変多層コーティング、一部の場合には、1つ又はそれよりも多くの高温拡散障壁層、平滑化層、キャップ層、及び/又はエッチストップ層を有する長球面すなわち、長軸回りに回転した惰円の形態で反射面を有する例えば近垂直入射集光ミラーを含むことができる。図1は、システム22によって生成された光パルスが通過して照射領域28に到達することを可能にする開口を光学系30に形成することができることを示している。図示のように、光学系30は、例えば、照射領域28内又はその近くに第1の焦点、及びEUV光を光源20から出力して、例えば、集積回路リソグラフィツール図示せずに入力することができるいわゆる中間領域40に第2の焦点を有する長球面ミラーとすることができる。長球面ミラーの代わりに、EUV光を利用する装置へのその後の送出に向けて光を集光して中間位置に誘導する他の光学系を使用することもでき、例えば、光学系は、長軸回りに回転した放物型とすることができ、又は中間位置にリング状の断面を有するビームを送出するように構成することができることは認められるものとする。例えば、現在は2010年11月30日に付与された米国特許第7,843,632号明細書である代理人整理番号第2006-0027-01号の2006年8月16日出願のEUV光学系という名称の米国特許出願出願番号第11/505,177号明細書を参照することができ、この特許の内容は、引用により本明細書に組み込まれている。引き続き図1を参照すると、EUV光源20は、EUVコントローラ60を含むことができ、EUVコントローラ60は、システム22内の1つ又はそれよりも多くのランプ及び/又はレーザ装置を起動させることによってチャンバ26内に送出する光パルスを生成する発射制御システム65を含むことができる。EUV光源20は、例えば、照射領域28に対して1つ又はそれよりも多くの液滴の位置及び/又はタイミングを示す出力を供給する1つ又はそれよりも多くの液滴撮像器70、例えば、CCD及び/又はバックライトストロボスコープ照明及び/又は光カーテンを使用して画像を捕捉するシステムを含むことができる液滴位置検知システムを含むことができる。撮像器70は、液滴位置検出フィードバックシステム62にこの出力を供給することができ、液滴位置検出フィードバックシステム62は、例えば、液滴単位で又は平均して液滴誤差を計算することができる液滴位置及び軌跡を計算することができる。液滴位置誤差は、次に、コントローラ60への入力として供給することができ、コントローラ60は、例えば、ソースタイミング回路を制御するために、及び/又は例えばチャンバ26内の照射領域28に送出された光パルスの位置及び/又は集束力を変えるようにレーザビーム位置及び成形システムを制御するためにシステム22に位置、方向、及び/又はタイミング補正信号を供給することができる。更なる詳細は、例えば、現在は2006年8月8日に付与された米国特許第7,087,914号明細書である代理人整理番号第2003-0125-01号の2004年3月17日出願の高繰返し数レーザ生成プラズマEUV光源という名称の米国特許出願出願番号第10/803,526号明細書、及び/又は現在は2007年1月16日に付与された米国特許第7,164,144号明細書である代理人整理番号第2004-0044-01号の2004年7月27日出願のEUV光源という名称の米国特許出願出願番号第10/900,839号明細書に示されており、これらの各々の内容は、引用により本明細書に組み込まれている。EUV光源20は、光源20によって生成されたEUV光の様々な特性を測定する1つ又はそれよりも多くのEUV測定計器を含むことができる。これらの特性には、例えば、強度例えば、全体的強度又は特定のスペクトル帯域における強度、スペクトル帯域幅、偏光、ビーム位置、指向性などを含むことができる。EUV光源20に対して、計器は、例えば、ピックオフミラーを使用して例えばEUV出力の一部をサンプリングするか、又は未集光のEUV光をサンプリングすることによって下流ツール、例えば、フォトリソグラフィスキャナがオンラインである間に作動するように構成することができ、及び/又は下流ツール、例えば、フォトリソグラフィスキャナが例えばオフラインである間に、例えば、EUV光源20のEUV出力全体を測定することによって作動させることができる。図1に更に示すように、EUV光源20は、望ましい照射領域28に到達する液滴の誤差を補正し及び/又は液滴の生成をパルスレーザシステム22と同期させるために、例えば、原材料分注器82からのターゲット材料の放出点を修正し及び/又は液滴形成タイミングを修正するように、コントローラ60からの信号一部の実施例では上述の液滴誤差又はそこから導出した何らかの数量を含むことができるに応答して作動可能な液滴制御システム80を含むことができる。図1は、EUV光源20が、液滴位置的安定性を増大させるシュラウド84を含むことができることも概略的に示しており、すなわち、本明細書で使用する時の用語液滴位置的安定性及びその派生語は、各液滴が液滴放出点と照射領域の間の距離の一部又は全部にわたって進む時に液滴と連続的液滴の間の経路の変動の尺度を意味する。EUV光源20内の使用に適するシュラウドの例には、以下に説明するように、シュラウド320図4、320’図、7、320’’図8、320’’’図9を含むことができるがこれらに限定されない。液滴の位置的安定性の1つの多少定性的な尺度は、約1~2mmの視野を有する診断レーザビーム、例えば、レーザダイオードを液滴流れの一部を通してカメラ上に通すことに関わっている。1つのこのような構成において、20hzで出力光パルスを生成する診断レーザに関連して20hzのフレームレートを有するカメラを使用して視野を通過する40,000個/秒の液滴を有する液滴流れを評価した。フレームレートを液滴発生器の位相と同期化した状態で、映像としてフレームを表示することによって液滴の位置的安定性の定性的尺度を取得することができる。具体的には、この技術に対して、完全な液滴の位置的安定性取得可能な場合は、映像、すなわち、時間と共に変わらない静止画像において、非移動中の液滴として現れる。他方、非常に不安定である液滴流れは、画面上の点に関して目立つほどに移動する液滴として現れる。図1は、H2、水素ラジカル、He、Ar、HBr、HCl、又はその組合せのような1つ又はそれよりも多くのガスをポート86を通じてチャンバ26内に導入してポート88を使用してそこから排出することができることも概略的に示している。これらのガスは、例えば、近くの光学系を保護するためにLPPプラズマによって生成される高速で移動するイオンを遅せらせるために、光学系又は他の構成要素からの蒸気及び他のデブリの吹き付けによる除去、光学系又は構成要素上に堆積した材料に食刻するか又は代替的に化学的に変えることなどの光学系洗浄、及び/又は特定の光学系/構成要素から熱を除去するなどの熱制御を含むがこれらの限定されないデブリ緩和に向けて、又はチャンバから全体的に熱を除去するためにチャンバ26に使用することができる。一部の場合には、これらのガスは、例えば、望ましい方向に蒸気及び/又は微粒子のようなプラズマによって生成されたデブリを移動してチャンバ出口などに向けて熱を移動するために流れる場合がある。一部の場合には、これらの流れは、LPPプラズマ生成中に発生する場合がある。他の構成では、非流動性、すなわち、静的又はほぼ静的ガスの使用が必要である場合がある。本明細書で使用する時の静的ガスという用語は、使用中のポンプと流体連通していないある一定の容積のガスを意味する。一部の実施例では、ガスは、LPPプラズマ生成中に静的であり、LPPプラズマ生成の期間と期間の間に流れる場合があり、例えば、流れは、EUV光出力のバーストとバーストの間にのみ発生する場合がある。静的又は流動的に関わらずこれらのガスの存在、及び/又はLPPプラズマの生成/存在は、照射領域に進む時に各液滴を変える/影響を与え、液滴の位置的安定性に悪影響を与える可能性がある。チャンバガスの方向的な流れに関する更なる詳細は、図10を参照して以下に示す。LPPプラズマチャンバ内のガスの使用に関する更なる詳細は、現在は2010年3月2日に付与された米国特許第7,671,349号明細書である代理人整理番号第2007-0010-02号の2007年4月10日出願のレーザ生成プラズマEUV光源という名称の米国特許出願出願番号第11/786,145号明細書、現在は2011年1月18日に付与された米国特許第7,872,245号明細書である代理人整理番号第号2006-0067-02の2008年6月19日出願のレーザ生成プラズマEUV光源内のターゲット材料送出のためのシステム及び方法という名称の米国特許出願出願番号第12/214,736号明細書、現在は2010年2月20日に付与された米国特許第7,655,925号明細書である代理人整理番号第2007-0039-01号の2007年8月31日出願のレーザ生成プラズマEUV光源のためのガス管理システムという名称の米国特許出願出願番号第11/897,664号明細書、及び現在は2005年12月6日に付与された米国特許第6,972,421号明細書である代理人整理番号第2002-0030-01号の2003年4月8日出願の米国特許出願出願番号第10/409,254号明細書に見ることができ、これらの特許は、本明細書においてその全内容が引用により組み込まれている。図2は、概略図により本明細書に説明する一部の実施形態又は全てに使用することができる簡素化した原材料分注器92の構成要素を示している。図2に示すように、原材料分注器92は、図示の例に対して、例えば、圧力P下で流体96、例えば、溶融錫を保持するリザーバ94である導管を含むことができる。また、図示のように、リザーバ94には、加圧流体96がオリフィスを通ることを可能にするオリフィス98を形成することができ、その後に複数の液滴102a、bに分解される連続的な流れ100が確立される。引き続き図2に対して、原材料分注器92は、流体98と電気起動可能要素104を駆動する信号発生器106とに作動可能に結合された電気起動可能要素104を有する流体の乱れを生成するサブシステムを更に含む。一構成において、流体は、圧力下で強制的にリザーバから流れ、比較的小さい直径及び約10~50mmの長さを有する導管、例えば、毛細管を通過して導管のオリフィスを出る連続的な流れが作り出され、連続的な流れは、次に、液滴に分解され、例えば、リング状又はチューブ状の形状を有する電気起動可能要素を管の回りに位置決めすることができる。駆動された時に、電気起動可能要素は、選択的に導管を圧搾して流れを乱すことができる。様々な液滴分注器構成に関する更なる詳細及び対応する利点は、現在は2011年1月18日に付与された米国特許第7,872,245号明細書である代理人整理番号第号2006-0067-02の2008年6月19日出願のレーザ生成プラズマEUV光源内のターゲット材料送出のためのシステム及び方法という名称の米国特許出願出願番号第12/214,736号明細書、現在は2011年3月1日に付与された米国特許第7,897,947号明細書である代理人整理番号第号2007-0030-01の2007年7月13日出願の変調妨害波を使用して生成した液滴流れを有するレーザ生成プラズマEUV光源という名称の米国特許出願出願番号第11/827,803号明細書、代理人整理番号第2005-0085-01号であり、2006年2月21日に出願され、US2006/0255298A-1として2006年11月16日公開のプレパルスによるレーザ生成プラズマEUV光源という名称の米国特許出願出願番号第11/358,988号明細書、現在は2008年7月29日に付与された米国特許第7,405,416号明細書である代理人整理番号第2004-0008-01号の2005年2月25日出願のEUVプラズマ源ターゲット送出の方法及び装置という名称の米国特許出願出願番号第11/358,988号明細書、及び現在は2008年5月13日に付与された米国特許第7,372,056号明細書である代理人整理番号第2005-0003-01号の2005年6月29日出願のLPP-EUV光源材料ターゲット送出システムという名称の米国特許出願出願番号第11/174,443号明細書に見ることができ、これらの各々の内容は、引用により本明細書に組み込まれている。図3をここで参照すると、EUV反射光学系300、例えば、モリブデン及びシリコンの交互層、一部の場合には、1つ又はそれよりも多くの高温拡散障壁層、平滑化層、キャップ層、及び/又はエッチストップ層を伴う例えば漸変多層コーティングを有する回転楕円の形態の反射面を有する近垂直入射集光ミラーを有する装置が示されている。図3は、装置は、ターゲット材料放出点を有してターゲット材料310、例えば、ターゲット材料液滴の流れを送出するシステムを更に含むことができることも示している。照射領域314でターゲット材料を照射してEUV光を発生させるレーザビームを生成するシステム図1を参照されたいを設けることができる。図3に示すように、ターゲット材料310を送出するシステムは、ターゲット材料310を送出するシステムを異なる方向に傾かせることができるステアリング機構315上に取り付けられ、集光ミラーの焦点に対して液滴の位置を調節することができ、かつ流れ軸に沿って小さい増分で液滴発生器を平行移動することができる。図3に更に示すように、プラズマ生成に使用されない液滴及びレーザ照射に露光されて直線的な経路から偏向された材料は、照射領域314を超えて何らかの距離を進むことが許容され、図示の例に対して、ある一定の構造体、例えば、長形管316円形、卵形、矩形、正方形のような断面を有するを含む捕捉器により捕捉される。更に詳しく言えば、長形管316は、照射領域を通過したターゲット材料を受け取り、かつ受け取られた材料が跳ね返って反射型光学系に到達することを防止するように位置決めすることができる。一部の場合には、跳ね返りの影響は、例えば、約3よりも大きい比較的大きな縦横比L/Wを有する管を使用することによって低減/防止することができ、ここで、Lは、管長であり、Wは、Lに垂直な最大管内寸である。管316の内壁に衝突すると、ターゲット材料液滴は速度を失い、ターゲット材料は、次に図示のように専用容器318内に収集することができる。図3は、シュラウド320を上述の流れの一部分に沿って位置決めすることができ、シュラウドが、液滴の位置的安定性を増大させるために経路に垂直な平面において流れを部分的に包み込むことも示している。図4は、シュラウド320の斜視図を示している。図示のように、シュラウド320は、ターゲット材料310を送出するシステム上に取り付けられ、かつそこから照射領域に向けて延びるように位置決めすることができる。図4は、シュラウドには、矢印323の方向に延びる横シュラウド開口部321を形成することができることを示している。図5は、液滴流れ出力オリフィス322を有するターゲット材料310を送出するシステムの一部を示している。比較図4及び図5を比較すると、シュラウド320は、液滴流れ出力オリフィス322を部分的に取り囲むことができることが見られる。図6は、シュラウド320の断面図を示している。図6で分るように、シュラウド320は、湾曲領域324及び平坦延長部326a、bを有するU字形の断面を含む部分的なリングとして成形することができる。例えば、シュラウドは、モリブデン又はステンレス鋼例えば、316ステンレスで製造することができ、かつ液滴流れ出力オリフィス322から約30mm延びることができる。図7は、より長い延長部長さ例えば、液滴流れ出力オリフィス322から約150mmの延長部及びより長い平坦面326’を有するEUV光源20に使用されるシュラウド320’の別の実施形態を示している。図8は、図4の線6-6に沿って見た時にC字形断面を有するEUV光源20に使用されるシュラウド320’’の別の実施形態を示している。図9は、管の壁を通って延びる1つ又はそれよりも多くの貫通孔328a、bが形成された管形状を有するEUV光源20に使用されるシュラウド320’’’の別の実施形態を示している。図10は、チャンバ26内のガス源352からのガス流矢印350a,b,cにより図示に対するシュラウド320の適切な向きを示している。この実施形態に示すように、ガスは、集光ミラーの開口を通って照射部位314に向けて流れる。レーザシステム22からの光は、窓354及び集光ミラーの開口を通じてチャンバ26に入って照射部位314に至ることも見ることができる。図示のように、集光ミラー開口を通る流れを案内する任意的な円錐部材356を設けることができる。図10は、シュラウド320を横方向シュラウド開口部がガス流の下流に位置決めされるような向きに配置することができることを示している。図11は、照射領域502とターゲット材料放出点506の間の経路504に沿って照射領域502にターゲット材料を送出するターゲット材料液滴の供給源500を有する装置を示している。図示のように、装置は、EUV反射光学系508例えば、光学系300に関して上述したようなものと、望ましい経路から外れるターゲット材料、例えば、経路512に沿った材料を受け取る液滴捕捉管510とを含むことができる。使用時には、液滴捕捉管510は、EUV光を発生させるためにターゲット材料の照射中に所定の位置のままとすることができるすなわち、通常の光源作動中は据え付けられたままとすることができる。更に図示のように、液滴捕捉管510は、管が少なくとも部分的にターゲット材料放出点を取り囲む位置から、放出点506と照射領域502の間に位置決めされた管終点514まで延びることができる。同じく図示のように、液滴捕捉管510は、望ましい経路504に沿って中心が置かれた開口部516の形成された閉鎖端を終点に有することができる。この構成では、経路504に沿って進むターゲット材料は、液滴捕捉管510を出ることになり、一方、経路504から外れるターゲット材料は、捕捉されて閉鎖端管510に保持されることになる。35U.S.C.§112を満足するために必要とされる詳細において本特許出願において説明しかつ例示した特定の実施形態は、上述の実施形態の1つ又はそれよりも多くの上述の目的を、及び上述の実施形態により又はその目的のあらゆる他の理由で又はその目的のために解決すべき問題を完全に達成することができるが、上述の実施形態は、本出願によって広く考察された内容を単に例示しかつ代表することは、当業者によって理解されるものとする。単数形での以下の請求項における要素への言及は、解釈において、明示的に説明していない限り、このような要素が1つ及び1つのみであることを意味するように意図しておらず、かつ意味しないものとし、1つ又はそれよりも多いを意味する意図とし、かつ意味するものとする。当業者に公知か又は後で公知になる上述の実施形態の要素のいずれかに対する全ての構造的及び機能的均等物は、引用により本明細書に明示的に組み込まれると共に、特許請求の範囲によって包含されるように意図されている。本明細書及び/又は本出願の請求項に使用され、かつ本明細書及び/又は本出願の請求項に明示的に意味を与えられたあらゆる用語は、このような用語に関するあらゆる辞書上の意味又は他の一般的に使用される意味によらず、その意味を有するものとする。実施形態として本明細書で説明した装置又は方法は、それが特許請求の範囲によって包含されるように本出願において説明した各及び全て問題に対処又は解決することを意図しておらず、また必要でもない。本発明の開示内容におけるいかなる要素、構成要素、又は方法段階も、その要素、構成要素、又は方法段階が特許請求の範囲において明示的に詳細に説明されているか否かに関係なく、一般大衆に捧げられることを意図したものではない。特許請求の範囲におけるいかなる請求項の要素も、その要素が~のための手段という語句を使用して明示的に列挙されるか又は方法の請求項の場合にはその要素が行為ではなく段階として列挙されていない限り、35U.S.C.§112第6項の規定に基づいて解釈されないものとする。"