ガラス基板の上に第1誘電体層を配置する工程と、前記第1誘電体層の上に下部コンタクト層を配置する工程と、前記下部コンタクト層の上にそれと接触させて赤外線IR反射層を配置する工程と、前記IR反射層の上にそれと接触させて、NiおよびTiの酸化物を含む上部コンタクト層を配置する工程と、コーティングの最外層として前記上部コンタクト層の上に酸化ケイ素及び/又は窒化ケイ素を含む層を配置する工程と、を含む、被覆物品の製造方法。前記上部コンタクト層が、Ni及びTIを、Ni:Ti=約1:99~50:50の重量比で含む、請求項1に記載の被覆物品の製造方法。前記上部コンタクト層が、Ni及びTIを、Ni:Ti=Ni:Tiを約20:80の重量比で含む、請求項1又は2に記載の被覆物品の製造方法。前記上部コンタクト層が、Ni及びTiを含む金属ターゲットから酸素の存在下でスパッタリングすることにより堆積される、請求項1~3のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記上部コンタクト層の厚さが約10~45オングストロームである、請求項1~4のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記上部コンタクト層の厚さが約10~30オングストロームである、請求項1~5のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記コーティングが銀を含む単一IR反射層を包含する、請求項1~6のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記コーティングが銀を含むIR反射層を少なくとも2層包含する、請求項1~7のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記被覆物品が窓に一体型として使用される、請求項1~8のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記下部コンタクト層がNi及びTiの酸化物を含む、請求項1~9のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記下部コンタクト層が亜鉛酸化物を含む、請求項1~10のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。ガラス基板の上に第1誘電体層を配置する工程と、前記第1誘電体層の上に下部コンタクト層を配置する工程と、前記下部コンタクト層の上にそれと接触させて赤外線IR反射層を配置する工程と、前記IR反射層の上にそれと接触させて、コーティングの作製中、約1~50重量のNiおよび約50~99重量のTiで構成されるターゲットからニッケル及びチタンをスパッタリングすることにより上部コンタクト層を形成する工程と、を含む、被覆物品の製造方法。前記コーティングの最外層が窒化ケイ素を含む、請求項12に記載の被覆物品の製造方法。前記コーティングが、銀を含むIR反射層を1層含む、請求項12又は13に記載の被覆物品の製造方法。前記上部コンタクト層の厚さが約10~45オングストロームである、請求項12~14のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記上部コンタクト層の厚さが約10~30オングストロームである、請求項12~15のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。銀を含む第2IR反射層と、Ni及びTiの酸化物を含む第2上部コンタクト層と、を更に含む、請求項12~16のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記下部コンタクト層が亜鉛酸化物を含む、請求項12~17のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記下部コンタクト層がNi及び/又はTiの酸化物を含む、請求項12~18のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。少なくとも1層の前記コンタクト層がNi及びCrを含む、請求項12~19のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。ガラス基板と、第1誘電体層と、下部コンタクト層と、銀を含む赤外線IR反射層と、上部コンタクト層と、を備え、前記上部コンタクト層がNi及びTiの酸化物を含み、当該層中のNiとTiの重量比がNi:Ti=約1:99~50:50である、被覆物品。請求項21に記載の被覆物品と、前記被覆物品と実質上平行で間隔を空けて配置された第2ガラス基板と、エッジシールと、を備える、断熱ガラスIGユニット。低Eコーティング中のIR反射層はコーティング全体に影響を及ぼすものであり、場合によっては、IR反射層はスタック中で最も感度の高い層である。残念なことに、銀を含むIR反射層は、堆積プロセスやその後の大気中でのプロセス及び/又は熱処理によって損傷を受ける可能性がある。ある場合では、他の層は銀をベースとする層の上に堆積している間、低Eコーティング中の銀をベースとする層を酸素の存在から保護しなければならないこともある。コーティング中のIR反射層が十分に保護されていないと、被覆物品の耐久性、可視透過率及び/又は他の光学特性が影響を受ける可能性がある。したがって、高い耐久性と高い光学特性又は実質上不変の光学特性とを併せ持つ低Eコーティングが必要であることが当業者には分かるであろう。本発明の特定の実施態様例は、銀を含むIR反射層に関連して使用される改善されたバリア層材料に関する。場合により、改善されたバリア層材料は、被覆物品の耐久性を改善できる可能性がある。特定の実施態様例は、被覆物品の製造方法に関する。ガラス基板の上に第1誘電体層を配置する。第1誘電体層の上に下部コンタクト層を配置する。第1コンタクト層の上にそれと接触させて赤外線IR反射層を配置する。IR反射層の上にそれと接触させてNi及びTiの酸化物を含む上部コンタクト層を配置する。コーティングの最外層として上部コンタクト層の上に酸化ケイ素及び窒化ケイ素を含む層を配置する。特定の実施態様例特定の実施態様例は、被覆物品の製造方法に関する。ガラス基板の上に第1誘電体層を配置する。第1誘電体層の上に下部コンタクト層を配置する。下部コンタクト層の上にそれと接触させて赤外線IR反射層を配置する。上部コンタクト層は、IR反射層の上にそれと接触させて、コーティングの作製中、約1~50重量のNiおよび約50~99重量のTiで構成されるターゲットからニッケル及びチタンをスパッタリングすることにより形成される。さらに、特定の実施態様例は、前記方法及び/又は他の方法のうちいずれかによって製造された被覆物品及び/又はIGユニットにも関する。以下に、図面について詳細に述べるが、いくつかの図面を通して同様の符号は同様の要素を表す。本明細書における被覆物品は、単枚ガラス窓、IG窓ユニット、自動車の窓、及び/又はガラス基板のような一枚の若しくは複数枚の基板を包含する他の好適な用途のような被覆物品用途に使用することができる。前述の通り、ある場合では、低Eコーティング中の銀をベースとする層は、後続プロセスの間中保護しなければならない可能性がある。例えば、後続の層を堆積するのに用いられるプラズマ中の酸素を高度にイオン化して、銀をベースとする層を保護しなければならないことがある。また、堆積後の大気下でのプロセスでは、銀をベースとする層が酸素、水分、酸及び/又は塩基等から攻撃を受け易い可能性もある。このことは、銀をベースとする層と大気との間に位置する層に欠陥があるために、銀をベースとする層が完全に覆われていない場合例えば、引っ掻き傷、ピンホール等に特に当てはまる。さらに、特定の実施態様例では熱処理中に問題が生じる可能性もある。この場合、酸素が銀をベースとする層に拡散する可能性がある。特定の実施態様例では、銀をベースとする層に達した酸素は、シート抵抗を低下させる、放射に影響を与える及び/又は曇りを生じさせる等によって当該層の特性に影響を及ぼして、層スタックによる性能を低下させる可能性もある。そのため、特定の実施態様例では、低Eコーティング中の銀をベースとする層とバリア層とを併用することで、前記の問題及び/又はその他の問題のうち一部又は全ての発生を抑制することがある。従来、バリア層材料は、場合により、後続の酸化プロセス中に酸化されたAl等の金属薄層で構成されていた。別の場合では、インジウムスズ酸化物ITOをベースとする層も使用した。しかし、このような場合、これらの材料によって層スタック全体の光学特性及び/又は耐久性が損なわれる可能性がある。ある場合、特に建築業界で使用される低Eコーティングを有する被覆物品では、バリア層にクロム等の材料を使用することもある。しかし、特定の実施態様例では、クロムはかなりの量の可視光を吸収する可能性がある。クロムの550nmにおける吸光度kは0.033942である。そのため、クロムを含む層が非常に厚い場合及び/又は十分に酸化されていない場合、被覆物品の可視透過率は低下する可能性がある。すなわち、バリアの厚さが不十分な場合、銀を含む層が完全に保護されない可能性がある。使用できる別のバリア材料はチタンである例えば、TiOx。しかし、チタンはIR反射層、特に銀を含むIR反射層との接着力が不足している。そのため、Ti及び/若しくはその酸化物からなる材料又はそれらから本質的になる材料をバリア層として用いて銀を含む層を保護すると、被覆物品の耐久性が損なわれる及び/又は低下する可能性もある。以上のことから、銀及び/又はIR反射層とバリア材料との間の界面で十分な接着力を発揮する材料を含むバリア層を供給することは、バリア材料の酸化物の可視スペクトル域での吸光度が低い場合に有利であると考えられる。本発明の特定の実施態様は、コーティングを支持する少なくとも1枚のガラス基材を包含する被覆物品に関する。コーティングは一般に、少なくとも一部のIR放射を反射及び/又は遮断する少なくとも1層の赤外線IR反射層を有する。本発明の別の実施態様では、IR反射層は銀、金、NiCr等のような材料であってもよく、又は前記材料を包含していてもよい。多くの場合、IR反射層はコーティングの少なくとも第1コンタクト層と第2コンタクト層との間に挟持されている。本発明の特定の実施態様例では、驚くことに、ニッケルチタン及び/又はその酸化物例えば、NixTiy、NixTiyOz等から本質的になる層又はそれを含む層を前記コーティング中にコンタクト層として例えば、IR反射層と接触させて供給することで、予想外にも、可視透過率及び/又は色等の被覆物品の他の光学特性をほとんど低下させない形でコーティングの力学的及び化学的な耐久性を改善することが分かった。本発明の別の実施態様では、ニッケル及び/又はチタンを包含する層特定の実施態様例では、酸化されていてもよいのうち1層以上を特定のコーティングに供給してもよい。しかも、ニッケル及び/又はチタンを包含する層は、本発明の別の実施態様では例えば、コンタクト層として日射調整コーティング又は低E低放射又は低放射率コーティングのどちらのタイプで供給されてもよく、また、本明細書に記載の特定の低Eコーティングは、特許請求の範囲に規定していない限り、単に例示を目的とするものである。特定の実施態様例では、ニッケルチタン酸化物を含む層を被覆物品の上部コンタクト層として例えば、銀をベースとするIR反射層の上に供給すると、化学的及び力学的な耐久性が改善される。この点における例えば、コンタクト層としてのニッケルチタン酸化物層の使用は、驚くことに、被覆物品の化学的及び力学的な耐久性を改善することが分かり、また、被覆物品の可視透過率をも改善する又は少なくともほとんど低下させないことも分かった。特定の実施態様例では、ニッケルチタン及び/又はその酸化物を含むバリア層を供給してよい。このNiとTiの組み合わせは、良好な接着力と併せて低い吸光度をも付与する可能性があり、これらは特定の実施態様例ではいずれも低Eコーティングにとって好ましい品質である。有利なことに、ニッケルチタン及び/又はその酸化物例えば、NixTiy、NixTiyOz等を含むバリア層を提供することで、IR反射層が十分に保護されていないせいでコーティング特性が劣化することなく、単一IR放射層例えば、銀を含む耐久性のある一体型被覆物品の利用を可能にできる。図1は、本発明の実施態様例による被覆物品の断面図である。特定の実施態様例では、図1に示す被覆物品は、表面1及び/又は表面2に低Eコーティングを有する単枚ガラス窓として使用されてよく、低EコーティングにはIR反射層が1層のみ備わっている。しかし、別の実施態様例では、図1の被覆物品は追加の層を含んでいてもよい。さらに、本明細書に記載の実施態様例にしたがって製造された被覆物品は、別の実施態様例及び応用例によれば、表面1、表面2、表面3及び/又は表面4上にコーティングを有する断熱ガラスユニットIGUに使用されてもよく、表面2及び/若しくは表面3上に中間層寄りに組み込まれたコーティング又は表面4に暴露されたコーティングを有する一体型積層板に使用されてもよく、表面2及び/若しくは表面3上に中間層寄りに組み込まれたコーティング又は表面4に暴露されたコーティングを有する積層アウトボードを積層したIGUに使用されてもよく、表面3及び/若しくは表面6に暴露された被覆物又は表面4及び/若しくは表面5に組み込まれた被覆物を有する積層インボードを積層したIGUに使用されてもよい。言い換えれば、このコーティングは、一体構造として使用されてもよく、2枚以上の基板を備えたIGユニットに使用されてもよく、或いはガラスユニットに2回以上使用されてもよく、また、別の実施態様例では、ユニットのどの表面に供給されてもよい。被覆物品は、ガラス基板1例えば、透明な、緑色の、ブロンズ色の又は青緑色の、厚さ1.0~10.0mm、より好ましくは厚さ約1.0mm~6.0mmのガラス基板と、前記基板に直接的に又は間接的に供給された多層コーティング35又は層システムと、を包含する。図1に示すように、コーティング35は、任意の誘電体層3及び/又は5と、下部コンタクト層7であって、ニッケル及び/若しくはチタン及び/若しくはそれらの酸化物例えば、NixTiy、NixTiyOz等からなっていてよいか又はそれらを包含していてよいもの或いはZn、Ni、Crの酸化物及び/若しくは窒化物及び/若しくはこれらの組み合わせ等のような他の好適なコンタクト層からなっていてよいものと、銀、金等のうち1種以上を包含するIR反射層9と、ニッケル及び/若しくはチタン及び/若しくはそれらの酸化物例えば、NixTiy、NixTiyOz等或いは別の好適なコンタクト層材料からなる又はそれらを包含する上部コンタクト層11と、任意の誘電体層13及び/又は15と、酸化ケイ素、窒化ケイ素、オキシ窒化ケイ素、酸化ジルコニウム、オキシ窒化ジルコニウム又はオキシ窒化ジルコニウムシリコン等の材料からなる又はそれらを包含する誘電体層16であって、特定の実施例では保護オーバーコートであってよいものと、を備えている。本発明の特定の実施態様例では、他の層及び/又は他の材料を供給してもよく、また、特定の実施例では、特定の各層を削除又は分割してもよい。層16は、別の実施態様例に従って供給してもよく、又は供給しなくてもよい。任意の誘電体層3及び/又は5は、窒化ケイ素、酸化チタン、酸化スズ、酸化ケイ素、オキシ窒化ケイ素及び/又は別の実施態様例による他の誘電体材料を含んでいてもよい。赤外線IR反射層9は、好ましくは実質上又は完全に金属及び/又は導電性であり、銀Ag、金又は他の好適なIR反射材料を含んでよく、又は本質的にそれからなってもよい。IR反射層9は、コーティングに低放射率や低シート抵抗等のような低E特性及び/又は良好な日射調整特性を発揮させるのに役立つ。しかし、本発明の特定の実施態様では、IR反射層9は僅かに酸化されていてもよい。別の実施態様例では、図1に示しかつ本明細書に記載のIR反射層は銀を含んでもよく、又は本質的に銀からなってよい。そのため、特定の実施態様例には銀合金が包含されてもよいことも分かるであろう。このような場合、Agは、好適な量のZr、Ti、Ni、Cr、Pd及び/又はこれらの組み合わせとの合金であってもよい。特定の実施態様例では、Agは、PdとCuをそれぞれ約0.5~2重量又は原子濃度含む、PdとCuとの合金であってよい。他の考えられる合金には、Agと、Co、C、Mg、Ta、W、NiMg、PdGa、CoW、Si、Ge、Au、Pt、Ru、Sn、Al、Mn、V、In、Zn、Ir、Rh及び/又はMoのうち1種以上と、が包含される。一般に、ドーパント濃度は0.2~5重量又は原子濃度の範囲、より好ましくは0.2~2.5の範囲であってよい。前記範囲内で操作することにより、銀が、そうでなければ合金化によって失われる可能性のあるAgをベースとする層の好ましい光学特性を保持するのに役立ち、その結果、スタックの光学特性全体を維持するのに役立つと同時に、化学的耐久性、腐食耐久性及び/又は力学的耐久性を高めるのにも役立つ可能性がある。本明細書で特定される代表的なAg合金ターゲット材料は、単一のターゲットを用いてスパッタリングされてもよく、2種以上のターゲットを用いた同時スパッタ法等によって堆積されてもよい。場合により、高い耐食性を付与することに加えてAg合金を使用することにより、高温での銀拡散性を低減するのに役立つと同時に、層スタック内で酸素の移動量を減少させる又は阻止するのに役立つ可能性がある。これにより、銀拡散性が更に向上し、好ましくない耐久性の原因となり得る前記Agの成長特性及び構造特性を変える可能性もある。上部コンタクト層7及び下部コンタクト層11は、Ni及び/若しくはTi並びに/又はそれらの酸化物及び/若しくは窒化物からなっていてもよく、それらを包含していてもよい。特定の実施態様例では、上部コンタクト層7及び下部コンタクト層11はニッケルNi、チタンTi、クロムCr、ニッケルチタンNiTi及び/又はニッケルクロム例えば、NiCr等のニッケル合金、Haynes合金、亜鉛、又はこれらのうちいずれかの酸化物、窒化物若しくはオキシ窒化物例えば、NixTiyOz或いは他の好適な材料からなっていてもよく、それらを包含していてもよい。例えば、前記層のうちの1層は、NiTi及び/又はその酸化物の代わりに酸化亜鉛からなっていてもよく、それらの代わりに酸化亜鉛を包含していてもよい。例えば、特定の実施例では、前記層にNixTiy及び/又はNixTiyOzを使用することによって被覆物品の耐久性及び/又は可視透過率を改善することができる。特定の実施態様例では、完全に酸化されたNiCrOx層であっても、CrOxの吸光度k550nmが0.033942であるために、比較的高い残留吸光度を有する可能性がある。しかし有利なことに、TiOxはCrOxよりも吸光度がかなり低いので、特定の実施態様例では、バリア層にTiOxを包含することで被覆物品の可視透過率を増加できることも分かった。例えば、TiOxの550nmでの吸光度は0.004806であるが、これはCrOxの吸光度の約10分の1である。そのため、CrOxよりも吸光度の低い金属又は金属酸化物をバリア層に使用すると、被覆物品の可視透過率が改善される可能性がある。しかし、特定の実施態様例では、TiOxを含むバリア層はIR反射層に十分に接着しない可能性がある。そのため、TiOxのみからなるバリア層を使用すると、被覆物品の耐久性が損害を受ける可能性がある。有利なことに、IR反射層と十分に接着する材料を包含する合金をTi及び/又はTiOxと併用することで、Ti及び/又はTiOx又は吸光度の比較的低い任意の材料をCr及び/又はCrOxの代わりに用いても被覆物品の耐久性を損傷しないことが分かった。有利なことに、NiはIR反射層と十分に接着するものと考えられる。そのため、Ni及びTi並びにそれらの酸化物及び/又は窒化物を包含するバリア層の使用は、有利なことに、改善された可視透過率と好適な耐久性とを有する被覆物品をもたらす可能性がある。本発明の別の実施態様では、コンタクト層7及びコンタクト層11例えば、Ni及び/又はTiからなるか又はそれらを包含するものは、IR反射層全体にわたって連続的であってもよく、又は連続的でなくてもよい。特定の実施態様例では、NiTi層7とNiTi層11の一方又は両方は、Niを約1~50包含し、また、Tiを約50~99包含する。一例はTiが80及びNiが20である。特定の実施態様例では、NixTiyを含む層は完全に及び/又は部分的に酸化されていてもよい。この酸化は、当該層を堆積したために生じることがあり、又はコンタクト層の堆積後に行われるプロセス、例えば酸素存在下での後続層の堆積や熱処理等が原因である可能性がある。ただし、Ni及びTiは、酸素の存在にかかわらず前述と同じ比率で含まれていてよい。例えば、ニッケルチタン酸化物を含む層でもやはり、NiとTiとの比は約1:99~50:50であってよいNixTiyの割合及び比率は重量基準で示す。前述の通り、本発明の特定の態様では、NixTiy層7及び/又はNixTiyOz層11は完全に例えば、完全に化学量論的に酸化されてもよく、或いは任意のHT前及び/又はHT後に部分的にのみ酸化されていてもよい例えば、準化学量論的であってよい。他の事例では、層7及び/又は層11は、金属層として堆積されてもよく、また、酸素存在下での後続層の堆積や熱処理等のような堆積後のプロセス中に完全に又は部分的に酸化されてもよい。場合により、NixTiy層7及び/又はNixTiyOz層11は少なくとも約50酸化されてよい。本発明の別の実施態様では、コンタクト層7及び/又はコンタクト層11例えば、Ni及び/又はTiからなるか又はそれらを包含するものは酸化勾配がついていてもよく、或いは酸化勾配が付いていなくてもよい。当該技術分野で既知のように、酸化勾配とは層の厚さ方向で酸化度合いが変化することを含むことであるため、例えばコンタクト層では、IR反射層9と直接隣接する接触界面の方が、直接隣接するIR反射層から一層又は更に/最も離れた部分よりも酸化度合いが低くなるように勾配をつけることもできる。様々な酸化勾配のついたコンタクト層についての記載は、米国特許第6576349号に示されており、これにより前記特許の開示内容を参照により本明細書に組み込む。本発明の別の実施多様では、コンタクト層7やコンタクト層11例えば、Ni及び/又はTiの酸化物からなるか又はそれらを包含するものは、IR反射層9全体にわたって連続的であってもよく、又は連続的でなくてもよい。他の実施態様例では、IR反射層の下位にあるコンタクト層例えば、下部コンタクト層7は、亜鉛及び/又はその酸化物からなってもよく、或いはそれらを包含していてもよい。本発明の特定の実施態様例では、任意の誘電体層13及び/又は任意の誘電体層15は、窒化ケイ素例えば、SixNy、或いは酸化チタン、酸化スズ、オキシ窒化ケイ素及び/又は酸化ケイ素等の任意の他の好適な材料からなっていてもよく、又はそれを包含してもよい。前記層は、耐久性問題に役立つか及び/又は下位の層を保護する可能性があり、しかも場合によっては、任意に反射防止目的で保護する可能性もある。例えば、酸化ジルコニウムを包含する任意のオーバーコート層16が包含されていてもよい。米国出願番号12213879には、オーバーコートとして酸化ジルコニウムを使用する利点が記載されており、前記出願を参照により本明細書に組み込む。他の実施態様例では、任意のオーバーコート層16は窒化ケイ素、酸化ケイ素及び/又はオキシ窒化ケイ素からなってもよく、或いはこれらを包含していてもよい。また、更に別の実施態様例では、任意のオーバーコート16が他のジルコニウム含有化合物を包含していてもよい。特定の実施態様例では、図1に示す被覆物品は、単一のIR反射層を含む低Eコーティングを有する単枚ガラス窓として使用されてよい。また一方、他の実施態様例では、本明細書に記載の被覆物品はIR反射層を何層使用してもよく、ガラス基板を何枚組み合わせて積層型ガラスユニット及び/又は断熱ガラスユニットを形成してもよい。別の実施態様例によれば、前記コーティングはIGU、VIG、自動車のガラス及び他の用途と関連して使用することも可能である。図2は、単一のIR反射層を含む低Eコーティング35’の別の実施態様例である。図2の実施態様では、NixTiyOzをベースとする層を上部コンタクト層及び下部コンタクト層として使用している。さらに図2では、窒化ケイ素をベースとする層を誘電体層3として使用しているが、誘電体層5は含まれていない。図2の実施態様では、誘電体層13は窒化ケイ素を含み、そしてオーバーコート層16は、誘電体層13が例えば、下位の層を保護する等によってオーバーコート層目的を果たすのに役立つ可能性があるので含まれていない。特定の実施態様例では、図2の被覆物品は、可視透過率が改善された可能性があり、また、化学的耐久性及び力学的耐久性も改善された並びに/又は実質上影響を受けなかった可能性がある。特定の実施例では、図2の実施態様例のシート抵抗は約11.15Ω/平方であってよい。しかし、当業者には周知の通り、シート抵抗及び/又は放射率は、特に、Agをベースとする層の厚さを調節することによって調節してもよい。言い換えると、特定の実施態様例では、一層のIR反射層を有する一体型被覆物品の堆積直後の可視透過率は少なくとも約55、好ましくは少なくとも約60、更に好ましくは少なくとも約65であってよく、場合により少なくとも約67であってもよい。熱処理後の一体型被覆物品の可視透過率はそれよりも高い可能性があり、例えば、少なくとも約60、より好ましくは約65以上であってよく、透過率の一例としては約70であってもよい。特定の実施態様例では、コーティング直後の前記物品は、a値が約0~5、更に好ましくは約1~4、一例として約3.5のガラス面を有していてよい。特定の実施態様例では、コーティング直後の前記物品は、b値が約0~10、更に好ましくは約1~7、一例として約6.7のガラス面を有していてよい。場合により、コーティング直後の物品は、a値が約0~5、更に好ましくは約1~4、一例として約3.7のフィルム面を有していてよい。他の実施態様例では、物品は、b値が約-10~1、更に好ましくは約-8~-2、一例として約-7.18のフィルム面を有していてもよい。特定の実施態様例では、熱処理表2中、HTで示す後の前記物品は、a値が約0~10、更に好ましくは約1~8、一例として約7.25のガラス面を有していてよい。コーティング直後の前記物品は、b値が約0~10、更に好ましくは約1~9、一例として約8.14のガラス面を有していてよい。場合により、コーティング直後の物品は、a値が約0~8、更に好ましくは約1~6、一例として約5.92のフィルム面を有していてもよい。他の実施態様例では、物品は、b値が約-8~1、更に好ましくは約-6~-2、一例として約-4.9のフィルム面を有していてもよい。図3は、単一のIR反射層を含む低Eコーティング35の別の実施態様例である。図3は図1及び図2の実施態様と同様であるが、図3の実施態様ではNixTiyOzをベースとする層を上部コンタクト層11として使用し、また、酸化亜鉛をベースとする層を下部コンタクト層7として使用している。さらに図3では、窒化ケイ素をベースとする層を誘電体層3として使用しているが、誘電体層5は含まれていない。図3の実施態様では、誘電体層13は窒化ケイ素を含む。特定の実施態様例では、図3の被覆物品は、化学的及び力学的耐久性が改善した及び/又は影響を受けていない可能性があり、しかも可視透過率が向上した可能性もある。図4は、本発明の実施態様例による被覆物品の断面図である。特定の実施態様例では、図4に示す被覆物品は、2枚のIR反射層を含む低Eコーティングを有する単枚ガラス窓として使用してよい。被覆物品は、ガラス基板1例えば、透明な、緑色の、ブロンズ色の又は青緑色の、厚さ1.0~10.0mm、好ましくは厚さ約1.0mm~6.0mmのガラス基板と、前記基板に直接的に又は間接的に供給された多層コーティング又は層システムと、を包含する。図1と同様に、図4のコーティング45は、任意の誘電体層3及び/又は誘電体層5と、第1下部コンタクト層7と、銀又は金等を包含する又はこれらからなる第1IR反射層9と、ニッケルチタン酸化物例えば、NixTiyOzからなる又はこれを包含する第1上部コンタクト層11と、任意の誘電体層13及び/又は任意の誘電体層15例えば、窒化ケイ素からなる又はこれを包含するものと、第2下部コンタクト層17と、第2IR反射層19と、第2上部コンタクト層21と、任意の誘電体層23及び/又は任意の誘電体層25と、特定の実施例では保護オーバーコートであり得る窒化ケイ素、オキシ窒化ケイ素、酸化ジルコニウム、オキシ窒化ジルコニウム若しくはオキシ窒化ジルコニウムシリコンのような材料からなる又はこれを包含する任意の誘電体層16と、を含んでいる。本発明の特定の実施態様例では、他の層及び/又は他の材料を供給してもよく、また、特定の実施例では、特定の層を削除又は分割してもよい。特定の実施態様例では、コンタクト層7、コンタクト層11、コンタクト層17及びコンタクト層21のうちの1層だけがニッケルチタン並びに/又はその酸化物及び/若しくは窒化物を含んでいてもよい。更なる実施態様性では、上部コンタクト層はNixTiy及び/又はNixTiyOzからなっても又はそれらを包含していてもよく、また一方、下部コンタクト層は亜鉛、ニッケル、クロム、チタンの酸化物及び/若しくは窒化物並びに/又はこれら材料の組み合わせからなっても或いはこれらを包含していてもよい。しかし他の実施態様例では、コンタクト層のうち2層以上或いは全てがニッケルチタン並びに/又はその酸化物及び/若しくは窒化物からなっても或いはこれらを含んでいてもよい。図5は、本発明の更に別の実施態様例による被覆物品の断面図である。特定の実施態様例では、図5に示す被覆物品は3層のIR反射層例えば、3重銀層スタックを包含していてよい。被覆物品は、ガラス基板1例えば、透明な、緑色の、ブロンズ色の又は青緑色の、厚さ1.0~10.0mm、好ましくは厚さ約1.0mm~6.0mmのガラス基板と、前記基板に直接的に又は間接的に供給された多層コーティング55又は層システムと、を包含する。特定の実施態様例では、図5のコーティング55は、窒化ケイ素からなる又はそれを包含する任意の誘電体層3と、酸化チタンからなる又はそれを包含する任意の誘電体層5と、亜鉛酸化物からなる又はこれを包含する下部コンタクト層7と、銀からなる又はこれを包含するIR反射層9と、Ni及び/若しくはCr又はそれらの酸化物からなる或いはこれを包含する上部コンタクト層11と、酸化チタンからなる又はこれを包含する任意の誘電体層12と、酸化スズからなる又はこれを包含する任意の誘電体層13と、窒化ケイ素或いは他のケイ素含有材料又は他の材料からなる或いはこれを包含する誘電体層14と、酸化スズからなる又はこれを包含する誘電体層15と、酸化亜鉛からなる又はこれを包含する第2の下部コンタクト層17と、銀からなる又はこれを包含する第2のIR反射層19と、ニッケル及び/若しくはチタン又はそれらの酸化物からなる或いはこれらを包含する第2の上部コンタクト層21と、酸化スズからなる又はこれを包含する誘電体層23と、窒化ケイ素或いは他のケイ素含有材料又は他の材料からなる或いはこれを包含する誘電体層24と、酸化スズからなる又はこれを包含する誘電体層24と、酸化亜鉛からなる又はこれを包含する第3の下部コンタクト層27と、銀からなる又はこれを包含する第3のIR反射層29と、Ni及び/若しくはTi又はこれらの酸化物からなる或いはこれを包含する第3の上部コンタクト層31と、酸化スズからなる又はそれを包含する誘電体層32と、窒化ケイ素からなる又はそれを包含する誘電体層16であって、特定の実施例では保護オーバーコートであり得るものと、を含んでいてよい。本発明の特定の実施態様例では、他の層及び/又は材料を供給してもよく、また、特定の実施例では、特定の層を削除又は分割してもよいと考えられる。さらに、他の実施態様例では、上部コンタクト層11、上部コンタクト層21及び/又は上部コンタクト層31のうち1層以上は、ニッケルチタン酸化物よりもむしろニッケルクロム及び/又はその酸化物を含んでいてよい。その上、層7、層11、層17、層21、層27及び/又は層31はいずれも、ニッケル、チタン、クロム、亜鉛、これらの組み合わせ/合金からなっていても又はこれらを包含していてもよく、しかも酸素及び/又は窒素を包含していてもよい。したがって、本発明の別の実施態様では、上部コンタクト層11、上部コンタクト層21及び/又は上部コンタクト層31のうちいずれか又は全てがNi及び/又はTiを包含する層例えば、NiTiOxを含む層であってよい。NiTiOxを含む層は、NiTiOxが良好な銀品質を保持しながら総放射率の低下に役立つ可能性があるので、高性能コーティングの供給に役立つ可能性がある。さらに、先に示唆した通り、前記層中のNiは耐久性問題に役立つ可能性があり、また一方、Tiは透過率に役立つ可能性がある。特定の実施態様例ではNiTiOxをTi金属又はTiOxに置き換えてもよいことに注意する。特定の実施態様例では、NiTiOxを含む層は、堆積されて僅かに酸化された金属又は金属であってよく、またその後、後続の処理によって例えば、後続の堆積層のスパッタリング中に後で実質上完全に酸化されてもよい。特定の実施態様例では、NiTiOxもまた堆積直後の状態のまま勾配がついていてもよい。厚さの例特定の実施態様例では、最上部のAgをベースとする層が層スタックの中で最も厚い。この配置はコーティングの放射率を高めるのに役立つことが分かった。また、特定の実施態様例では、中間のAgをベースとする層は最上部のAgをベースとする層よりも薄いが、これは、改善された放射率を維持するのに役立つと同時に、それ自体が軸外の色彩安定性を改善することで高い可視透過率を付与するのに役立つことも分かった。驚くことに、しかも予想外のことに、酸化チタンを含む第2の層12を中間の下部誘電体層スタックに導入すると、下位のAgをベースとする層9の品質が改善されることが分かった。これは、Agをベースとする第1の層9に直接隣接する下位の第1コンタクト層11の妨げとなる酸化スズが、層13からほとんど生じないためであると考えられる。さらに、本発明の特定の積層実施態様例では、倍強化又は焼き戻し処理を行うのに十分な程度まで任意に熱処理し、しかも別のガラス基板と結合してIGユニットを形成した本明細書の被覆物品は、以下のIGユニット光学/日射特性を有する可能性がある。IGユニットにおいて、例えばNiTiOxを使用すると、有利なことに、高いLSG値を得ることができる。例えば、特定の実施例では、2.15以上のLSGが得られるが、NiTiOxを包含する層を併用せずにNiCrをベースとする層のみを使用すると、LSG値は約2.1以下となる可能性がある。当業者には分かるように、高いLSG値は好都合である。というのも、低いSHGCと関連して高い可視透過率につながり、その結果、熱を遮断しかつ光を通すためである。図5の実施態様例は、焼きなまし処理後の製品に使用するのに特に最適である。熱処理可能な実施態様では、改良を加えてもよく、又は改良しなくてもよい。例えば、熱処理可能な実施態様例では、TiOxを包含する層5及び/又はTiOxを包含する層12のうち一方又は両方を削除してよい。別の実施例として、熱処理可能なコーティングでは、SiNを含む層14、SiNを含む層24及びSiNを含む層16のうち一部又は全てが、焼きなまし処理後の同等物よりも多くの金属を含むように作製してもよい。さらにまた、NiTiOxを含む層のうち一部又は全てを、NiCr又はその酸化物を含む層で置き換えてもよい。下記の表は、改良された点を除いて図5に示すものと同様の熱処理可能な被覆物品における材料/厚さの例を表す。さらに、熱処理後の実施態様例では、SnOを含む1層以上の接着剤層は、厚さを減少させてもよく、及び/又は完全に削除してもよい。このような場合、SnOを含む下位の層の厚さを増加させるのが好ましいことがある。例えば、層15及び/又は層25は、厚さを例えば、約15nmから約10nmへと減少させてもよく、及び/又は完全に削除してもよい。それに応じて、層13及び/又は層23の厚さも増加させてよい。厚さの増加量は約8~12nmであってよい。したがって、特定の実施態様例では、層15の減少後の厚さは約8~12nm、更に好ましくは9~11nmであってよく、場合により約10nmであってもよく、また一方、層13の増加後の厚さは約40.9~61.3nm、更に好ましくは46~56.2nmであってよく、場合により約51.1nmであってもよい。同様に、層25の減少後の厚さは約8~12nm、更に好ましくは9~11nmであってよく、場合により約10nmであってもよく、また一方、層23の増加後の厚さは約40.6~61nm、更に好ましくは45.7~55.9nmであってよく、場合により約50.8nmであってもよい。これに加えて又は或いは、中間の誘電体層スタックのうち1層以上がZnSnOを含む層を包含していてもよい。この層は、例として、例えばZn又はZnOターゲットとSn又はSnOとの同時スパッタ法で形成されてもよい。SnOを含む層の代わりに又はそれに加えて、ZnSnOを包含する層をその片側またはその両側に供給してもよい。下記の表には、焼きなまし処理後の状態の図5の実施態様例に関する性能データと、図5の実施態様例の改良版であって、TiOxを含む層5及びTiOxを含む層12を含まずかつ被覆物品を、例えば上記の表に従って、6.0mmの透明なフロートガラス上に配置したときに熱処理したものに関する性能データと、が包含されている。当然、別の実施態様では、別の厚さの基板及び/又は別の組成の基板を使用してもよい。焼きなまし処理後の実施態様と熱処理後の実施態様とでは、好ましい範囲が同一又は同様であってよいことが分かるであろう。焼きなまし処理後の実施態様と熱処理後の実施態様とでは、性能はほぼ同等であるが、透過率に関しては熱処理後の実施態様が焼きなまし処理後の実施態様より優れていることも分かるであろう。下記の表には、焼きなまし処理後の状態の図5の実施態様例で示す被覆物品を収容したIGユニットに関する性能データと、TiOxを含む層5及びTiOxを含む層12を含まずかつ被覆物品を熱処理した図5の実施態様例の改良版であって、例えばIGユニットの表面2にコーティングを配置したものに関する性能データと、が包含されている。下記の表中の実施例には、空気で満たされた12mmの間隙で分離された6.0mmの第1基板と6.0mmの第2基板とが包含されている。当然、別の実施態様では、別の厚さの基板、別の組成の基板、別の間隙寸法、別のガス等を使用してもよい。焼きなまし処理後の実施態様と熱処理後の実施態様とでは、好ましい範囲が同一又は同様であってよいことが分かるであろう。焼きなまし処理後の実施態様と熱処理後の実施態様とでは、性能はほぼ同等であるが、透過率に関しては熱処理後の実施態様が焼きなまし処理後の実施態様より優れていることも分かるであろう。上記表4及び表5の光学データは、Ill測定装置C2段階で収集した。熱性能データは、NFRC2001に従って収集した。特定の実施態様例では、ニッケルチタンをベースとする層は、金属ターゲットをスパッタリングすることによって堆積してよい。場合により、ターゲットはニッケル20重量とチタン80重量とから構成されていてよい。他の実施態様例では、金属ターゲットは、ニッケル50重量とチタン50重量とから構成されてよい。特定の実施態様例では、ニッケルとチタンからなる又はそれらを包含するスパッタ用金属ターゲットは、Niを約1~50及びその間の部分的な範囲全て、更に好ましくはNiを約2~50及びその間の部分的な範囲全て、最も好ましくはNiを約5~50及びその間の部分的な範囲全て包含していてよい割合は全て重量である。。特定の実施態様例では、ニッケルとチタンからなる又はそれらを包含するスパッタ用金属ターゲットは、Tiを約50~99及びその間の部分的な範囲全て、更に好ましくはTiを約50~98及びその間の部分的な範囲全て、最も好ましくはTiを約80~95及びその間の部分的な範囲全て包含していてよい割合は全て重量である。。なお更なる実施態様例では、ニッケルチタンをベースとする層は、2種以上のスパッタ用ターゲットによって堆積してよい。場合により、Ni金属ターゲットとTi金属ターゲットが存在していてよい。特定の実施例では、Ni及び/又はTiをベースとする層は、1種以上の希ガス及び/又は反応性ガスの存在下でスパッタリング蒸着してもよい。特定の実施態様例では、Ni及びTiを少なくともアルゴンと酸素の存在下で堆積してよい。他の実施態様例では、1種以上のターゲットはセラミックであってよい。例えば、バリア層は、ニッケルを含む少なくとも1種の金属ターゲットとチタン酸化物を含むセラミックターゲット、及び/又はチタンを含む金属ターゲットとニッケル酸化物を含むセラミックターゲットを用いて堆積してもよい。その上、なお更なる実施態様例では、1種、2種又はそれ以上のセラミックターゲットを用いてニッケルチタン酸化物を含む層を堆積してもよい。特定の実施態様例では、一部のコンタクト層のみがNi及び/若しくはTi並びに/又はこれらの酸化物及び窒化物を含んでいてもよい。他の実施態様例では、他のコンタクト層は、Ni及び/若しくはCr並びに/又はこれらの酸化物及び窒化物を含んでいてよい。更なる実施態様例では、他のコンタクト層は亜鉛及び/又はその酸化物を含んでいてもよい。有利なことに、ニッケルチタン及び/又はその酸化物をベースとするコンタクト層を使用すると、光学特性を犠牲にすることなく被覆物品の力学的及び化学的な耐久性が向上することが分かったので、一体型の事例では単一銀層スタック例えば、銀からなる層を1層のみ含む低Eコーティングをガラス基板の表面1及び/又は表面2の上に使用してもよい例えば、前記コーティングは内側を向いていても又は外側を向いていてもよい。ただし、本発明はこれに限定されず、別の実施態様例によれば、NixTiyOzバリア層を包含する低Eコーティングを任意の表面上に任意の配置で使用してもよい。特定の実施態様例では低Eコーティングについて説明してきたが、本明細書に記載のNi及び/又はTiを包含する層は、多種多様なコーティングと関連して使用してもよい。特定の実施態様例では、本明細書に記載の被覆物品例えば、図1~5参照は熱処理例えば、焼き戻し処理してもしなくてもよい。本明細書で使用するとき、熱処理及び熱処理することという用語は、ガラスを包含する物品の焼き戻し処理及び/又は倍強化処理が達成されるのに十分な温度まで物品を加熱することを表す。この定義には、例えば、被覆物品をオーブン又は炉内で少なくとも約550°C、より好ましくは少なくとも約580°C、更に好ましくは少なくとも約600°C、一層好ましくは少なくとも約620°C、最も好ましくは少なくとも約650°Cにおいて焼き戻し処理及び/又は倍強化処理を行うのに十分な時間加熱することが包含される。これは、特定の実施態様例では、少なくとも約2分間、又は約10分以下であってよい。上述の通り、特定の実施対応例は、ガラス基板で支持された低Eコーティングが包含され得る。この被覆物品は、別のガラス基板若しくは他の基板と一体化してもよく、又はそれらに積層してもよい。被覆物品はまた、断熱ガラスIGユニットに内蔵してもよい。IGユニットは一般に実質上平行に間隔を空けた第1ガラス基板と第2ガラス基板とを備えている。基板の周囲にシールを供給して、基板間の間隙Ar、Xe及び/又はKr等の不活性ガスで少なくとも部分的に満たされていてよいを保持する。特定の実施態様例では、本明細書に示しかつ説明した被覆物品又は同様の被覆物品を、さらに別のガラスシートに積層してもよい。特定の実施では、ポリマーをベースとする中間層を使用してよい。別の実施態様では、例えば、PVB、EVA等のような材料を使用してもよい。このような場合、コーティングは、結果として生じる積層物品の基板間例えば、表面2又は表面3の上に供給してよい。本明細書に記載の層のうち一部又は全ては、スパッタリング蒸着又は例えばCVDや燃焼堆積等のような任意の他の好適な技法によって配置してよい。例えば、Ni及びTiを含む層の例は、1種以上のスパッタ用ターゲットをスパッタリング蒸着されてもよい。スパッタ用ターゲットには、Ni約1~50とTi約50~99とを、更に好ましくはNi約5~40とTi約60~95とを、また更に好ましくはNi約10~30とTi約70~90とを包含されていてよい。特定の実施態様例では、スパッタ用ターゲット中のNi:Ti比は約20:80であってよい。別の実施態様では、他のNi:Ti比も利用可能であり、例えば95/5、75/25、50/50、25/75、20/80.10/90等が挙げられる。本明細書では、前記範囲の部分的な範囲も考慮する。しかも前記割合/比率は、層が完全に又は部分的に酸化されていても又は酸化されていなくても例えば、金属製であっても層内のNi及び/又はTiの量に適用できることが分かるであろう。本明細書に開示した材料例は、低E、結露防止及び/又は他の用途と関連して使用されてよい。低Eコーティング及び/又は結露防止コーティングの例は、例えば、出願番号12926714、同12923082、同12662894、同12659196、同12385234、同12385802、同12461792、同12591611及び同12654594に記載されており、これにより、これらの内容を全て参照として本明細書に組み込む。したがって、特定の実施態様例では、本明細書に記載の1種以上のバリア層材料は、前記コーティング中及び/又は他の種類のコーティング中の1層以上のNi及び/又はCrを含む層で置き換えても又はそれらを追加してもよい。本明細書で使用するとき、上にある、によって支持されている等の用語は、特に明記されていない限り、2つの要素が互いに直接隣り合っていることを表すものではないと解釈すべきである。言い換えると、第1層と第2層の間に層が1つ以上存在していても、第1層は第2層の上にある又は第2層によって支持されているということができる。本発明は、現在最も実用的で好ましい実施形態であると考えられるものについて記載してきたが、本発明は、開示した実施態様に限定されるものではなく、それどころか、特許請求の範囲の主旨及び範囲に包含される様々な変更及び同等の配置を網羅するものであると解されるべきである。