"使用済みのレーザービームの終端処理を行うビームダンプであって、レーザービームの入射側の第1段目のレーザー吸収板が、終端処理するレーザービームの入射方向に対して一定角度傾斜して設けられ、少なくとも第2段目以降のレーザー吸収板が前段のレーザー吸収板に対し前段のレーザー吸収板とは反対の方向に一定角度傾斜するように設けられてなるレーザー吸収材を複数枚、ヒートシンクの上にレーザービーム入射方向とは直角な方向に一定間隔を隔てて、レーザービームの終端部がレーザービーム入射方向から見て隠れるように配設して構成されることを特徴とするビームダンプ。ヒートシンクの底部に冷却機構を設けたことを特徴とする請求項1に記載のヒートシンク。レーザービームが入射する第1段目のレーザー吸収板の先端部にブレード加工が施されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のビームダンプ。前記レーザー吸収材の傾斜角は、前記レーザー吸収材でのレーザービームの反射角が67~81度となるように設定されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のビームダンプ。前記レーザー吸収材は、Be、Mo、W及びTiのうちのいずれか、又はBe、Mo、W及びTiのうちのいずれかで表面被覆した材料で構成されることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のビームダンプ。前記レーザー吸収材の表面を透明誘電体層で被覆したことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のビームダンプ。本発明は、このような従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、レーザービームをより効果的に終端させ、戻り光による迷光を著しく低減させることができるビームダンプを提供することを課題とする。また、本発明は、非常に大きなパワー107W/cm2オーダーのレーザービームが入射しても、レーザー吸収材の蒸発や、レーザーパルスの繰り返し入射による性能劣化を防止できる長寿命化したビームダンプを提供することを別の課題とする。さらに、本発明は、高温下や高強度放射線環境下でも使用することが可能なビームダンプを提供することも別の課題とする。上記課題を解決するため、本発明は、第1には、使用済みのレーザービームの終端処理を行うビームダンプであって、レーザービームの入射側の第1段目のレーザー吸収板が終端処理するレーザービームの入射方向に対して一定角度傾斜して設けられ、少なくとも第2段目以降のレーザー吸収板が前段のレーザー吸収板に対し前段のレーザー吸収板とは反対の方向に一定角度傾斜するように設けられてなるレーザー吸収材を複数枚、ヒートシンクの上にレーザービーム入射方向とは直角な方向に一定間隔を隔てて、レーザービームの終端部がレーザービーム入射方向から見て隠れるように配設して構成されることを特徴とするビームダンプを提供する。第2には、上記第1の発明において、ヒートシンクの底部に冷却機構を設けたことを特徴とするヒートシンクを提供する。第3には、上記第1又は第2の発明において、レーザービームが入射する第1段目のレーザー吸収板の先端部にブレード加工が施されていることを特徴とするビームダンプを提供する。第4には、上記第1から第3のいずれかの発明において、前記レーザー吸収材の傾斜角は、前記レーザー吸収材でのレーザービームの反射角が67~81度となるように設定されていることを特徴とするビームダンプを提供する。第5には、上記第1から第4のいずれかの発明において、前記レーザー吸収材は、Be、Mo、W及びTiのうちのいずれか、又はBe、Mo、W及びTiのうちのいずれかで表面被覆した材料で構成されることを特徴とするビームダンプを提供する。第6には、上記第1から第5のいずれかの発明において、前記レーザー吸収材の表面を透明誘電体層で被覆したことを特徴とするビームダンプを提供する。本発明によれば、前段と次段のレーザー吸収材がくの字状あるいは逆くの字状となり、複数のレーザー吸収材が、ヒートシンクの上にレーザービーム入射方向とは直角な方向に一定間隔を隔てて、レーザービームの終端部がレーザービーム入射方向から見て隠れるように配設されているので、ビームダンプに入射したレーザービームは隣合ったレーザー吸収材の対向する傾斜面に対する反射を繰り返し終端部へ向かい、レーザービームをより効果的に終端させ、戻り光による迷光を著しく低減させることが可能となる。また、ヒートシンクの底部に冷却機構を設けることにより、ビームダンプの除熱効果を向上させ、高温下や高強度放射線環境下での使用が可能となる。また、第1段目のレーザー吸収板の先端部をブレード加工することにより、先端部からの迷光の低減を図ることができる。また、レーザービームがP偏光の場合でのレーザービームの反射率が67~81となるように設定することにより、レーザービームの吸収効率が高まり、さらに効果的にレーザービームを終端させ、戻り光による迷光をより一層著しく低減させることが可能となる。また、レーザー吸収材を、反射率の小さいBe、Mo、W及びTiのうちのいずれか、又はBe、Mo、W及びTiのうちのいずれかで表面被覆した材料で構成することにより、より一層効果的に終端処理を行うことができる。さらに、レーザー吸収材の表面を透明誘電体層で被覆することにより、レーザー吸収材の表面損傷の低減と反射率のより一層の低下が可能となる。以下、本発明の実施形態を詳細に説明する。図1は本発明の一実施形態に係るビームダンプの構造を模式的に示す図であり、図1aは斜視図、図1bは上面図、図1cは図1bのA-A’線断面図、図1dは図1bのB-B’線断面図である。本実施形態のビームダンプ1は、側面が4枚の金属板2、2a、2、2aにより閉じられており、底面は銅などの熱伝導度の高い物質で形成されたヒートシンク3となっており、全体として直方体状となっている。側面の金属板2、2a、2、2とヒートシンク3は溶接などの方法で接合されている。ビームダンプ1の上面は開放され、側面の金属板2、2a、2、2aとヒートシンク3で囲まれた内部空間には、くの字状に折り曲げたレーザー吸収材4が複数枚、ヒートシンク3上に一定間隔隔てて並設されている。使用済みのレーザービームはヒートシンク3の上面から底面に向かう方向に入射する。このときレーザービームの偏光は図1bのA-A’方向と平行とするP偏光。レーザー吸収材4は矩形状の金属板を折り曲げて形成され、レーザービームが入射してくる初段のレーザー吸収板5aとその下方の後段のレーザー吸収板5bよりなる。レーザー吸収材4は、比較的レーザー反射率が低く30以下程度が望ましい、熱伝導度が高く、耐熱性が良好な金属材料を用いて構成される。このような材料としては、Be、Mo、W、Tiなどが挙げられる。また、ステンレス鋼などの他の金属の表面をBe、Mo、W、Tiなどで被覆したものも用いることができる。レーザービームの入射方向に対する初段のレーザー吸収板5aの傾斜角は、好ましくは67~81 ゚、より好ましくは75~80 ゚程度の反射率の極小値を与える角度付近に設定する。このような範囲の傾斜角に設定すると、単位面積当たりのレーザーエネルギー密度の低減ができるため、材料の疲労を起こりにくくすることができ、またレーザービームの吸収性が良好となり、終端効率を向上させることができる。また、後段のレーザー吸収板5bの傾斜角は初段のレーザー吸収板5aの傾斜角と同じに設定されるが、傾斜方向は逆となっている。複数枚のレーザー吸収材4は一定間隔隔てて配置されるが、その間隔はレーザービームの終端部ヒートシンク3の上面がレーザービーム入射方向から見て隠れるように配置する。初段のレーザー吸収板5aは側面の金属板2a、2aに溶接などの方法で接合固定する。後段のレーザー吸収板5bは側面の金属板2a、2aに溶接などの方法で接合固定するか、ヒートシンク3に溶接などの方法で接合固定するか、あるいはその両者の接合固定を行ってもよい。また、初段のレーザー吸収板5aは、図1cに示すように、先端部6にブレード加工を施すことにより、ビームダンプ1からのレーザービームの戻り光を発生しにくい構造とすることが望ましい。さらに、ブレード加工した先端部6にCuなどのレーザ反射率が高い金属でめっきすることにより、先端部10へのレーザーエネルギーの吸収を低減し、先端部の損傷を起こりにくくすることもできる。本実施形態のビームダンプ1では、水冷又は熱伝導性の良い物質との接触による放熱により、ヒートシンク3の底面を冷却することにより、ビームダンプ全体を冷却する。この場合、側面の金属板2、2a、2、2aに熱伝導性の良い物質を採用し、冷却効果をより高めるようにしてもよい。ビームダンプ1の各部材の寸法は、用途や設置場所、レーザー強度などに応じて適切な値に設定されるが、一例を挙げると、核融合実験炉等で利用されるレーザー利用プラズマ計測に使用する場合、幅60mm、高さ30mm、レーザー吸収材4の厚さ1mm、レーザー吸収材4の配置間隔6.5mmであり、小型化されたものとなっている。レーザー吸収材材料としてはタングステンを用いた。このビームダンプは107W/cm2程度の非常に高いレーザー強度にも対応可能であり、また高温下、高強度放射線環境下での使用も可能である。上記の構造のビームダンプ1に上方から底面に向けてレーザービームが入射したときのビームの軌跡を図2に示す。実際にはレーザービームはある程度のビーム径を有しているが、便宜上1本の細いビームとした場合の軌跡が図2に示されている。図2に示すように、ビームダンプ1の上方から入射したレーザービームは、隣合ったレーザー吸収材4の傾斜面を幾度か反射してエネルギーを減衰させながら、最終的に終端部に達し、終端する。そして、前段と次段のレーザー吸収材4がくの字状となり、複数のレーザー吸収材4が、レーザービームの終端部がレーザービーム入射方向から見て隠れるように配設されているので、レーザービームをより効果的に終端させ、戻り光による迷光を著しく低減させることが可能となる。次に、典型的なレーザー吸収材材料Be、Mo,W、Tiに関して、図3に、入射レーザービームの偏光が初段レーザー吸収材4に平行S偏光及び垂直P偏光のときの入射角と反射率の関係を示す。図3から、P偏光で、入射角が67~81 ゚、より好ましくは75~80 ゚程度となるように入射すると、レーザー反射率が極小値あるいはその付近となり、効果的にレーザービームを吸収できることがわかる。また、ビームダンプの機能は、入射されたレーザービームをビームダンプ内に閉じ込めることである。それを妨げる要因として、レーザービームによるレーザー吸収材表面の損傷がある。これが起こると、レーザー吸収材表面における反射角が入射角と一致しなくなる。レーザーパルスの入射回数が増加するにしたがって、反射角と入射角のずれが大きくなることが予測される。したがって、反射角と入射角のずれをどの程度許容できるかによって、ビームダンプの寿命を特徴づけることができる。反射角と入射角のずれの程度は、反射分布関数により定義できる。ここでは、反射分布関数として、ガウシアン散乱を仮定し、標準偏差σを用いて反射角の広がりを表すものとした。図4と式1に、反射分布関数の定義を示し、式2に、ガウシアン散乱の表式を示す。図4において、θiは、入射角及び鏡面反射の場合の反射角、θrは、散乱光の入射面内における反射角、φは、散乱光と入射面がなす角度である。ベクトルxは、鏡面反射光と散乱光の単位ベクトルをそれぞれ反射面に射影し、差を取ったものとして定義される。ここで、Aは規格化定数で、考えられる全ての反射角で反射分布を積分した時に1になるように定められる。また、σは、反射角の広がりを与えるパラメータである。さらに、図5に、代表的なσの値に対する反射分布の様子を示す。図6は、ビームダンプからの戻り光の量と反射角の広がりの関係について、光線追跡シミュレーションにより、従来技術の構成と本構成とを比較をしたものである。従来技術の構成としては、図8に示すウェッジ型のビームダンプを挙げた。レーザー光量に対する迷光量は従来構成のものが2×10-4であるのに対し、本構成のものはσ=0.02のとき、3×10-7であった。図6から明らかなように、本構成では、従来技術の構成よりも戻り光量は少ないことがわかる。特に、σが0.25以下である場合、本構成での戻り光量は、従来技術の構成で鏡面反射を仮定した場合、すなわち製作時における戻り光量以下であるため、σ=0.25で表される程度までレーザー吸収材に損傷が与えられても問題ないということになり、長寿命化が可能になったといえる。以上、本発明を一実施形態に基づいて説明してきたが、本発明はこの実施形態に限定されるものではなく、種々の変形、変更が可能である。例えば、上記では、1枚の板材を折り曲げてくの字状にしたが、初段と後段のレーザー吸収板を独立した2枚の板材とし、これらを接合してレーザー吸収材としてもよい。この場合のレーザー吸収板の側壁やヒートシンクへの固定は上記と同様に行うことができる。また、レーザー吸収板は、図7のように、3段としてもよく、それ以上の枚数としてもよい。この場合も、初段のレーザー吸収板は、図1の構成の場合と同様に先端にブレード加工を施し、レーザー反射率の高い材料でめっきすることにより戻り光除去性能の向上が可能である。残りのレーザー吸収板は、図1の後段レーザー吸収板と同様である。また、上記では、ビームダンプの全体形状を直方体状としたが、円柱形状等に変形することも可能である。円柱型の場合は、側面の板は円筒に置き換えられる。ヒートシンクの底面、ヒートシンクの側面、円筒のいずれか1つまたはそれ以上を、上記と同様に冷却することにより、ビームダンプ全体の冷却を行う。さらに、レーザー吸収材の表面の損傷をより効果的に防止するため、レーザー吸収板の表面をPLZTのような透明誘電体で被覆するようにしてもよい。このようにすると、レーザー吸収材の表面損傷防止効果の向上に加え、反射率をより低下させる効果も期待できる。上記では、ビームダンプを核融合実験炉等で利用されるレーザー利用プラズマ計測に使用する場合を例示したが、本発明のビームダンプは、それ以外に、超短パルスレーザーを利用した光学測定、プリズムなどを使用した偏光測定における迷光除去、ラマン分光装置におけるレーザー光の終端等、種々の用途に適用することができる。"