"ベローズシリンダポンプと気液混合槽とマイクロナノバブル発生用ノズルと液をポンプに取り込む口と気体を取り込み口と気体の量を絞る弁とポンプコントローラとを備えたマイクロナノバブル発生装置において、ベローズシリンダポンプを含めて全ての接液部をフッ素樹脂で構成したことを特徴とするマイクロナノバブル発生装置該マイクロナノバブル発生用ノズルにおいて、溶存した気体を圧力解放することでマイクロナノバルブを発生させるときに溶存した気体を含む液から気体を解放するときにビーズ状のフッ素樹脂のペレットに液を急激にあてて微細なマイクロナノバブルを発生させることを特徴とするマイクロナノバブル発生用ノズル該マイクロナノバブル発生用ノズルにおいて、溶存した気体を圧力解放することでマイクロナノバルブを発生させるときに溶存した気体を含む液から気体を解放するときにシート状のものを螺旋に巻いたものの端面に液を急激にあてて粉砕し微細なマイクロナノバブルにすることを特徴とするマイクロナノバブル発生用ノズル該マイクロナノバブル発生用ノズルにおいて、溶存した気体を圧力解放することでマイクロナノバルブを発生させるときにフッ素樹脂表面に気体を溶存した液を急激にあてて粉砕し微細なマイクロナノバブルにすることを特徴とするマイクロナノバブル発生用ノズル該マイクロナノバブル発生用ノズルにおいて、溶存した気体を圧力解放することでマイクロナノバルブを発生させるときに溶存した気体を含む液から気体を解放するときにフッ素樹脂に溶存した液を急激にあてて粉砕し微細なマイクロナノバブルにするノズルにおいて、フッ素樹脂の面が単純な平面でなく8000番以上に表面を荒らすことでこの面の荒さを調整することでマイクロナノバブルの粒子の分布を制御することを特徴とするマイクロナノバブル発生用ノズル該マイクロナノバブル発生用ノズルにおいて、溶存した気体を圧力解放することでマイクロナノバルブを発生させるときに溶存した気体を含む液から気体を解放するときにフッ素樹脂に溶存した液を急激にあてるとき、溶存する液の圧力や温度の状態を想定して最適な位置に粉砕距離を設定し固定できるように調整する機構にしたことを特徴とするマイクロナノバブル発生用ノズル該マイクロナノバブル発生用ノズルにおいて、溶存した気体を圧力解放することでマイクロナノバルブを発生させるときに溶存した気体を含む液から気体を解放するときにセラミック、又は石英などのガラス、カーボンなどできた8000番以上のヤスリのような面にあててマイクロナノバブルを発生させることを特徴とするマイクロナノバブル発生用ノズル以上のような背景に鑑み、ナノバブル発生装置のポンプは、もちろん全ての接液部をフッ素樹脂で作成しマイクロナノバルブを大量に発生させて清浄な洗浄を行うことができるようなマイクロナノバブル発生装置と効率良くマイクロナノバブルを発生させるノズルを開発し、半導体のウェハー洗浄などの清浄な洗浄を行うことに使用することが課題である。課題を解決すための手段として、当社で開発した圧縮空気で駆動するベローズシリンダポンプを使用することで脈動の少ない駆動を行い気液混合槽にて気体を液の中に溶存させることを行う。ナノバブル発生ノズル部にて気体が溶存した液を圧力変動が無いようにし連続して効率良くマイクロナノバブルを作成する装置にする。接液部に金属イオンの発生をきらう清浄な洗浄において、ノズル部でマイクロナノバルブを発生させる場合にフッ素樹脂で全てを作ったノズルが連続で安定したバブルの発生を行うことができる構成にすることで信頼性の高い清浄な装置になる。気体を液に溶存させる気液混合槽において、ポンプに気体と液を同時に入れて送る場合に気体量が多くなり気体が気液混合槽の内部に充満してしまい液が少なくなるという現象が起こったときに、ノズル部に気体が多すぎる状態に起因する気体が液に溶存しない気体のままで吐出しマイクロナノバルブの発生が不安定になり、一様なマイクロナノバルブ発生ができなくなる。そこで気液混合槽で気体の余分なものは、放出して液と気体の量をいつも一定の範囲に保つ。かつマイクロナノバルブ発生ノズルは、気体を溶存した液を破砕して、マイクロナノバルブを効率良く発生させるノズルに仕上げて、大量にマイクロナノバルブを発生させる。以下、本発明を実施するための最良の形態を図面にもとづいて説明する。表題1の図1は、本発明を適用したマイクロナノバルブ発生システム正面図で15がベローズシリンダポンプ、13がポンプコントローラ、14が気液混合槽、12が圧力センサ、11がマイクロナノバルブ発生用ノズル、17が液吸引管、16が気体吸引口、18が気体吸引調整バルブである。図2の本発明を適用したマイクロナノバルブ発生システム斜視図のように配置する。15の接液部をフッ素樹脂で作成したベローズシリンダポンプ15で17の液吸引管、18の気体吸引調整バルブを使用して気体量を調整してポンプ内部に液と気体を混ぜた状態で吸い込んでベローズ内部で撹拌、溶存させて、圧縮し液の中に気体を溶存させる。次に気液混合槽に気体と液をポンプ15で撹拌して圧送する。気液混合槽の気体と液とは、ポンプ15からの圧力を受けており、気体が溶存しやすくなる。つまり気体と液体とをポンプ15から圧送する圧力、個の圧力は、12の圧力センサでチェックしている。溶存気体の量を多くしてマイクロナノバブルの発生量を増やす準備を行う。圧送されて気液混合槽14に入った液と気体は、混合されて気体は、液の内部に溶存させてマイクロナノバルブ発生用ノズル11に送られ、マイクロナノバルブ発生用ノズル11で溶存した気体を直径が15μm以下の大きさのマイクロナノバルブを大量に作成する。このとき12の圧力センサでノズル11と気液混合槽14との間の液圧力の変動をみて気液の溶存状態を監視する。こうすることで安定したマイクロナノバルブ用ノズル発生に必要な一定した圧力状態を実現する。次に気体が溶存した状態にある溶存液からマイクロナノバルブを大量に発生させる方法について説明する。図3はマイクロナノバルブ発生用ノズルの上面図で1がノズルの外ケースで1Bの穴から高速ジェットの液を噴射する。このノズルの穴の大きさで液の吐出流量を決める。このジェットからマイクロナノバルブを作成するのにジェットノズルから出た高圧ポンプ15の吐出圧力0.3MPa~0.5MPa状態から圧力を急激に解放することでマイクロナノバルブを大量に含む状態にする。ただし解放する方法によっては、マイクロナノバブルの発生量は、少なくなってしまうので大量に発生させることが重要である。図5はノズルの一例で1がノズル本体、2がノズルを発生させる筺体でありノズル本体1と2の筺体は、ネジ1A,2Aで結合されている。図6高速ジェット作成フィルター3でジェットを作成し4のフィルター、フッ素樹脂のペレット5にジェットを噴射することで強烈なキャビテーションを起こさせて小さな気泡を無数に作ることでマイクロナノバブルを作成する。このフッ素樹脂のペレット5を段々にしつらえて15μm以下の大きさの気泡の大量なマイクロナノバブルを作る。発生したマイクロナノバブルを2Aの穴から吐出させて洗浄、殺菌などに活用する。またペレットの代わりに図9、10のようなシートを丸めてジェット流を端面エッジにジェットを当ててマイクロナノバブルを作成することもできる。また図示しないが、このシートとは違うがセラミックや石英などのガラスで面がザラザラに仕上げたものでも同じような効果があり、マイクロナノバブルを発生できることを確認した。図11は、ノズルの違う一例の階層式マイクロナノバルブノズルを示す。図12は、図11の断面図で31はノズル本体であり高速ジェットを31Aの細孔から飛び出すようにする。33のマイクロナノバブル発生用筺体、33Bのネジ部で31Bのネジ部で結合されている。33Aは、圧力調整用穴、図13の34のフィルター1、図14の35のフィルター2、図15の36のフィルター3、図16の37のフィルター4を使って徐々にマイクロナノバブルを小さくする方法がある。図17のノズルは、もう一つの方法を示す。40がノズル本体40Aの細孔から高圧の液をジェット流として出す、そのジェット流を41のフィルターの中央付近で受けて液を砕くことでマイクロナノバブルを大量に発生させる。41のフィルターの中央付近をザラザラに仕上げて、砕けるマイクロナノバブルの粒子分布をより微細になるように砕く。このことは、ジェット流になった液があたる部分の全面を荒らした面に仕上げて作ることでバブル粒子を小さくできるのと、マイクロナノバブルをより大量に発生させることができる。43のマイクロナノバブル発生用筺体2は、フィルター41を保持して、43Bのオネジと40の40Bのメネジで結合されている。このネジは、ノズル40Aとフィルター41の最適距離になるように距離を調整することができる基本的で重要な構成になっている。この距離をコントロールすると粒子の分布、気液混合槽内部の圧力との関係をベストの位置マイクロナノバブルが大量に発生する位置に調整し、最適化することができる。つまりマイクロナノバブル発生用ノズル11を作るのに含む液からマイクロナノバブルを作成するときに該溶存気体を急激に細いノズルから発射し、壁に激突させる距離をコントロールすることと該激突する面を8000番以上に荒らすことで大量のマイクロナノバブルを発生させることができる。この面荒さをコントロールすることでバブル粒子の分布をも制御可能である。この大量のマイクロナノバブル発生用ノズル11でできたマイクロナノバブルは、43Aを通して42Aの穴から吐出させて洗浄、殺菌などの目的に使用する。このマイクロナノバブル発生装置の特徴は、接液部が全て樹脂で構成して、金属イオンを含まないものに仕上げることができるので、金属イオンのコンタミなどを嫌う半導体プロセスには、有効な洗浄機となる。また金属イオンが存在しても許容される洗浄であれば、ポンプ15などを金属性のものが使用できるので安価なシステムにすることができる。ポンプ15は、モータ駆動のポンプに変え、配管も金属に変えることもできるのでシステムは、安価になる。このように荒らした面を作るのにセラミック、または石英などのガラス、カーボンを使用して得た荒らした面でもマイクロナノバブル発生させることができる。"