ある平面と平行に、少なくとも一部分が弾性変形することのできるコンタクトにおいて、前記コンタクトの前記平面と平行な側面の少なくとも一部が、膨らむように湾曲していることを特徴とするコンタクト。前記平面と平行な、互いに反対側に位置する2側面のうち一方の側面が、膨らむように湾曲していることを特徴とする、請求項1に記載のコンタクト。前記平面と平行な、互いに反対側に位置する2側面のうち他方の側面が、平らな面であることを特徴とする、請求項2に記載のコンタクト。前記平面と垂直な方向から見て細長く伸びた弾性変形部分を有し、前記弾性変形部分の伸びている方向と垂直な断面において、前記弾性変形部分の前記平面と平行な側面が膨らむように湾曲していることを特徴とする、請求項1に記載のコンタクト。膨らむように湾曲している前記側面が、前記弾性変形部分の伸びている方向に沿って連続していることを特徴とする、請求項4に記載のコンタクト。湾曲した前記側面の湾曲部分が接点となっていることを特徴とする、請求項1に記載のコンタクト。電鋳法によって作製されていることを特徴とする、請求項1に記載のコンタクト。電鋳法により作製したときの金属析出方向の表面が、膨らむように湾曲していることを特徴とする、請求項7に記載のコンタクト。請求項1に記載したコンタクトをコンタクト収容部材に納めたコンタクト装置であって、前記コンタクトの膨らむように湾曲した前記側面が、前記平面と平行となるように設置されたコンタクト収容部材の表面に接触するように配置され、前記コンタクトが弾性変形するとき前記コンタクトの膨らむように湾曲した前記側面が前記コンタクト部材の表面に接触しながら摺動することを特徴とするコンタクト装置。コンタクトの形状に応じた凹部を備えた型を電解液に浸漬する工程と、前記電解液中で電鋳法によって前記凹部内に金属を析出させてコンタクトを形成する工程とを有する、請求項1に記載したコンタクトの製造方法であって、前記電解液に硫黄を含有する添加剤を加えることによって前記型の凹部内に析出する金属の表面を膨らむように湾曲させることを特徴とするコンタクトの製造方法。前記電解液における前記添加剤の濃度を変化させることによって前記型の凹部内に析出する金属の表面の曲率を調整することを特徴とする、請求項10に記載のコンタクトの製造方法。前記電解液における前記添加剤の濃度が、01g/リットル以上であることを特徴とする、請求項10に記載のコンタクトの製造方法。前記電解液における前記硫黄の濃度を変化させることによって前記型の凹部内に析出する金属の表面の曲率を調整することを特徴とする、請求項10に記載のコンタクトの製造方法。前記電解液における前記硫黄の濃度が、00156g/リットル以上であることを特徴とする、請求項10に記載のコンタクトの製造方法。前記平面と垂直な方向から見て細長く伸びた弾性変形部分を有し、前記弾性変形部分の伸びている方向と垂直な断面において、前記弾性変形部分の前記平面と平行な方向の寸法をD、前記弾性変形部分の前記平面と垂直な方向の寸法をHとするとき、当該断面のアスペクト比H/Dを変化させることによって前記コンタクトの膨らむように湾曲した部分の曲率を変化させることを特徴とする、請求項10に記載のコンタクトの製造方法。前記弾性変形部分の伸びている方向と垂直な断面におけるアスペクト比H/Dが、つぎの条件04≦H/Dを満たすことを特徴とする、請求項15に記載のコンタクトの製造方法。本発明は、上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、コンタクトがコンタクト収容部材と接触しながら弾性変形する場合でも、コンタクトとコンタクト収容部材との間の摩擦を小さくすることができ、コンタクトが円滑に変形でき、また摩耗も低減できるコンタクトと、その製造方法を提供することにある。本発明に係るコンタクトは、ある平面と平行に、少なくとも一部分が弾性変形することのできるコンタクトにおいて、前記コンタクトの前記平面と平行な側面の少なくとも一部が、膨らむように湾曲していることを特徴とする。本発明のコンタクトにあっては、コンタクトが弾性変形する方向の面と平行な側面の少なくとも一部を膨らむように湾曲させているので、湾曲を有する側の側面が他の部材に接触していても、コンタクトが弾性変形するときの他部材との摩擦を低減でき、コンタクトが円滑に弾性変形できるようになる。さらに、コンタクトが弾性変形するときの他部材との摩擦が低減されるので、コンタクトが摩耗しにくくなる。また、コンタクト表面の少なくとも一部が膨らむように湾曲しているので、コンタクトを他の部材に圧入しなければならない場合でも、湾曲した側面側から挿入することによって圧入作業を容易にでき、またコンタクトによって他部材が削り取られにくくなる。本発明に係るコンタクトのある実施態様は、前記平面と平行な、互いに反対側に位置する2側面のうち一方の側面が、膨らむように湾曲していることを特徴とする。かかる実施態様によれば、コンタクトの表裏を見分けやすくなるので、コンタクトをコンタクト収容部材などに組み込む際に表裏を間違えにくくなる。本発明に係るコンタクトの別な実施態様は、前記平面と平行な、互いに反対側に位置する2側面のうち他方の側面が、平らな面であることを特徴とする。かかる実施態様では、一方の面だけに湾曲を形成すればよいので、コンタクトの製造が容易になる。本発明に係るコンタクトのさらに別な実施態様は、前記平面と垂直な方向から見て細長く伸びた弾性変形部分を有し、前記弾性変形部分の伸びている方向と垂直な断面において、前記弾性変形部分の前記平面と平行な側面が膨らむように湾曲していることを特徴とする。かかる実施態様によれば、弾性変形部分の伸びている方向に沿って表面を湾曲させているので、弾性変形部分の長さ方向に沿って他部材との接触面積が小さくなり、摩擦や摩耗の低減効果を高めることができる。本発明に係るコンタクトのさらに別な実施態様は、膨らむように湾曲している前記側面が、前記弾性変形部分の伸びている方向に沿って連続していることを特徴とする。かかる実施態様によれば、コンタクトの湾曲している側面と他の部材との摩擦が一定になるので、コンタクトが弾性変形して動くときにびびりが発生しにくくなる。本発明に係るコンタクトのさらに別な実施態様は、湾曲した前記側面の湾曲部分が接点となっている。かかる実施態様によれば、接点の接触面積が小さくなるので、接点の摩耗が小さくなる。また、接点が線接触又は点接触することになるので、接点の接触圧が高くなり、ワイピング効果が高くなる。本発明に係るコンタクトのさらに別な実施態様は、電鋳法によって作製されていてもよい。電鋳法によれば、湾曲部分を有する小さなコンタクトを容易に作製することができる。特に、このコンタクトでは、電鋳法により作製したときの金属析出方向の表面が、膨らむように湾曲していることが望ましい。本発明に係るコンタクト装置は、本発明に係るコンタクトをコンタクト収容部材に納めたコンタクト装置であって、前記コンタクトの膨らむように湾曲した前記側面が、前記平面と平行となるように設置されたコンタクト収容部材の表面に接触するように配置され、前記コンタクトが弾性変形するとき前記コンタクトの膨らむように湾曲した前記側面が前記コンタクト部材の表面に接触しながら摺動することを特徴とする。本発明のコンタクト装置にあっては、コンタクトが弾性変形する方向の面と平行な側面の少なくとも一部を膨らむように湾曲させているので、湾曲を有する側の側面がコンタクト収容容器に接触していても、コンタクトが弾性変形するときのコンタクト収容容器との摩擦を低減でき、コンタクトが円滑に弾性変形できるようになる。さらに、コンタクトが弾性変形するときのコンタクト収容容器との摩擦が低減されるので、コンタクトが摩耗しにくくなる。本発明に係るコンタクトの製造方法は、コンタクトの形状に応じた凹部を備えた型を電解液に浸漬する工程と、前記電解液中で電鋳法によって前記凹部内に金属を析出させてコンタクトを形成する工程とを有する、請求項1に記載したコンタクトの製造方法であって、前記電解液に硫黄を含有する添加剤を加えることによって前記型の凹部内に析出する金属の表面を膨らむように湾曲させることを特徴としている。本発明の発明者らの研究により、電解液に添加する添加剤として硫黄を含む添加剤を用いることにより、凹部内に析出する金属層の表面を膨らむように湾曲させることが可能になることが明らかとなった。また、前記電解液における前記添加剤の濃度を変化させることによって前記型の凹部内に析出する金属の表面の曲率を調整できることも明らかとなった。添加剤の濃度が001g/リットル以下、g/Lと記載する。以下であると、コンタクト製造時に金属の析出面が荒れてコンタクトとして使用することができなかった。これに対し、電解液における前記添加剤の濃度が、01g/L以上であると、滑らかに湾曲した湾曲面を得ることができた。また、コンタクトの製造時に型の凹部内に析出する金属の表面の曲率を調整するには、前記電解液における前記硫黄の濃度を変化させてもよい。硫黄の濃度が00016g/L以下であると、コンタクト製造時に金属の析出面が荒れてコンタクトとして使用することができなかった。これに対し、電解液における硫黄の濃度が、00156g/L以上であると、滑らかに湾曲した湾曲面を得ることができた。また、前記平面と垂直な方向から見て細長く伸びた弾性変形部分を有し、前記弾性変形部分の伸びている方向と垂直な断面において、前記弾性変形部分の前記平面と平行な方向の寸法をD、前記弾性変形部分の前記平面と垂直な方向の寸法をHとするとき、当該断面のアスペクト比H/Dを変化させることによっても湾曲面の曲率を変化させることができる。実験によれば、前記アスペクト比H/Dが02以下の場合には、コンタクトの膨らんだ湾曲面にさらに凹みが生じた。これに対し、弾性変形部分の伸びている方向と垂直な断面におけるアスペクト比H/Dが、04≦H/Dであれば、凹みのない滑らか湾曲面をえることができた。なお、本発明における前記課題を解決するための手段は、以上説明した構成要素を適宜組み合せた特徴を有するものであり、本発明はかかる構成要素の組合せによる多くのバリエーションを可能とするものである。以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々設計変更することができる。実施形態1以下、図2A-図4Bを参照して本発明の実施形態1によるコンタクト装置、すなわちスイッチの構造を説明する。図2Aは、本発明の実施形態1によるスイッチ21のオフ状態の側面図である。また、図2Bは、図2AのX1-X1線に沿った拡大断面図である。図3Aは、スイッチ21のオン状態の側面図である。また、図3Bは、図3AのX2-X2線に沿った拡大断面図である。図4Aは、スイッチ21に納められているコンタクト22の斜視図、図4Bは、図4AのX3部分の拡大斜視図上下反転した状態で示す。である。図2A及び図3Aに示すように、スイッチ21は、コンタクト収容部材であるハウジング23内に薄板状のコンタクト22接触子を納めたものである。ハウジング23は、側壁24の側面に隣接して奥行きの浅い空室25を備えており、空室25の前縁、後縁及び底面はU字状をした周壁部26によって囲まれている。ハウジング23は、絶縁材料、たとえば合成樹脂によって成形されている。また、周壁部26の内隅部の1箇所には略円筒状をした嵌合穴38が形成されている。周壁部26の底面のうち嵌合穴38の近傍から嵌合穴38の壁面を通過して周壁部26の後縁内にはL字状に屈曲した第1電極27が埋め込まれており、側壁24の内面下端部には第2電極28が埋め込まれている。第1電極27は、周壁部26の底面と段差を生じないように埋め込まれており、第2電極28も、側壁24の内面と段差を生じないように埋め込まれている。コンタクト22は、数十μm-数百μmの細い線幅Dを有するバネであって、電鋳法電気鋳造法によって作製されている。コンタクト22は、図4Aに示すように、ジグザグに滑らかに屈曲した蛇行部29aを有しており、蛇行部29aの両端からはそれぞれ蛇行部29aの周囲を迂回するようにして延長部29b、29cが延出している。各延長部29b、29cの端には略円柱状のコンタクト端部29d、29eが設けられている。コンタクト22は、厚み方向と垂直な平面と平行な面内で弾性的に屈曲でき、一方の側面30aは平均すると厚み方向と垂直な平面と平行となり、他方の側面30bは厚み方向と垂直な平面と平行な平坦面となっている。さらに、一方の側面30aは、各部分の長さ方向に垂直な断面では、中央部が膨らむように滑らかに湾曲しており、各断面の頂点はコンタクト22の沿線方向に沿って伸びている。すなわち、コンタクト22のコンタクト端部29d、29eを除く各部分において一方の側面30aは図4Bに示すようにシリンドリカルレンズ状に形成されている。また、コンタクト端部29d、29eにおいては、一方の側面30aはドームに形成されている。延長部29cの湾曲面側面30aのうち、第2電極28と対応する箇所は第2電極28と接触又は離間する接点37となっている。この接点37は単なる湾曲面であって別途接点材料を付加されたものではない。図2A及び図2Bに示すように、コンタクト22は、湾曲した表面を持つ側面30aが側壁24と接触するようにして空室25内に納められており、一方のコンタクト端部29eが嵌合穴38内に圧入されている。嵌合穴38に圧入されたコンタクト端部29eは、第1電極27に接触していて第1電極27と電気的な接続関係を保っている。コンタクト端部29eは、ドーム状に湾曲した側面30aから嵌合穴38に圧入されるので、嵌合穴38にコンタクト端部29eを圧入するときに、コンタクト端部29eの圧入作業を容易にでき、またコンタクト端部29eによって周壁部26嵌合穴38の縁が削り取られにくくなる。なお、ハウジング23の側面開口は、カバープレートで覆ってもよい。側壁24の側面上部には、操作部31が回動可能に取り付けられている。操作部31は、レバー32とカム33からなり、レバー32の下面にカム33が設けられている。操作部31は、支持軸34によってカム33の先端部を側壁24に回動自在に取り付けられており、レバー32の基端部を掴んで上下に動かせば、操作部31が回動する。操作部31は、回転角規制手段36によって回動範囲を制限されており、またレバー32がストッパ35に当たると、それ以上レバー32は下がらない。カム33の外周面はコンタクト22の延長部29bの上面に接触している。カム33の外周形状は、レバー32を引き上げている状態では、図2Aのようにコンタクト22を上下に伸長させ、レバー32を押し下げている状態では、図3Aのようにコンタクト22を圧縮するように定められている。図2Aのようにレバー32が上がっていてコンタクト22が伸長している状態では、コンタクト端部29eは第1電極27に接触しているが、コンタクト22の接点37は図2Bのように第2電極28から離れており、第1電極27と第2電極28が電気的に絶縁されていてスイッチ21がオフとなっている。これに対し、図3Aのようにレバー32が押し下げられていてコンタクト22が圧縮されている状態では、コンタクト端部29eが第1電極27に接触するとともに、コンタクト22の接点37が図3Bのように第2電極28に接触しており、第1電極27と第2電極28が電気的に導通してスイッチ21がオンとなる。このスイッチ21にあっては、コンタクト22の側面30aを湾曲させているので、コンタクト22とハウジング23の側壁24とが線接触となって接触面積が小さくなる。そのため、コンタクト22が伸縮弾性変形するときの摩擦が小さくなり、コンタクト22が滑らかに伸縮できるようになる。さらに、コンタクト22と側壁24との摩擦が小さくなるので、コンタクト22とハウジング23の摩耗が低減され、スイッチ21の寿命が長くなる。また、コンタクト22の一方の側面30aだけが湾曲していて、コンタクト22の表裏すなわち側面30aであるか、側面30bであるかを容易に識別できるので、コンタクト22をハウジング23内に組み込む際にコンタクト22の表裏を判別しやすい。特に、図示例のコンタクト22のように表裏の形状が類似していて紛らわしいと、多数のコンタクトを納めたカセットやトレイをセットするとき表裏を間違える恐れがあるが、一方の側面30aだけが湾曲していれば、光の反射具合などから容易にコンタクト22の表裏を判別できる。また、接点37はコンタクト22の湾曲した側面30aであるので、接点37は第2電極28や側壁24に線接触することになり、接触面積が小さくて接点37が摩耗しにくくなる。さらに、接点37の接触圧が高くなるので、図3Bの矢印のように接点37が第2電極28の表面を摺動することにより第2電極28の表面の汚れや酸化膜を削りとることができ、接点37によるワイピング効果も高くなる。また、接点37側面30aが湾曲しているので、図2Bに破線で示すように第2電極28が側壁24から飛び出たり、第2電極28の縁にバリが発生したりして、第2電極28の縁に段差が生じていても、接点37は段差で止まることなく、段差を乗り越えて第2電極28と接触することができる。なお、湾曲した側面30aは、一部が窪んでいて2山あるいはそれ以上の山部を有していてもよいが、その場合にはハウジング23との接触面積が増加して摩擦が大きくなるので、シリンドリカルレンズ状のように1山となっていることが好ましい。また、湾曲した側面30aは、頂点が側面30aの端に位置していてもよいが、その場合には頂点が摩耗しやすくなるので、湾曲した山部の頂点は、側面30aの端から離れていることが好ましい。本実施形態では、湾曲の一つの例として、シリンドリカルレンズ形状を示したが、湾曲とは、これに限るものではなく、ドーム形状を初めとした弓形に滑らかに曲がった形であればよい。実施形態2つぎに、図5A-図5Dを参照して本発明の実施形態2によるコンタクト装置、すなわちプローブ61を説明する。図5Aは、プローブ61の斜視図である。図5Bは、コンタクト62が伸びているときのプローブ61の内部を示す斜視図である。図5Cは、コンタクト62が押し縮められているときのプローブ61の内部を示す斜視図である。図5Dは図5CのY-Y線に沿った断面の拡大図である。図5A-図5Cに示すものは、電子部品検査用に用いられるプローブ61であって、ハウジング63内にコンタクト62が収容されている。ハウジング63は、外形が直方体形状であって、ハウジング本体63aとカバー63bとからなる。ハウジング本体63aの内面には、図5B及び図5Cに示すように、コンタクト62を納めるためのスリット状の空室69が設けられている。ハウジング本体63aの上部には空室69と連通する操作孔70を有し、下部には空室69と連通する圧入孔71を有している。空室69、操作孔70及び圧入孔71は、その深さ奥行きがコンタクト62の厚みとほぼ等しい空間となっている。コンタクト62は、電鋳法によって製造されており、ジグザグに滑らかに屈曲した蛇行部64と、蛇行部64の下端部から下方へ伸びた接点部65と、蛇行部64の上端部から上方へ伸びた可動部66とで構成されている。コンタクト62は、図5Dに示すように、一方の側面30aが膨らむように滑らかに湾曲し、他方の側面30bが平坦面となっている。すなわち、一方の側面30aは、蛇行部64、接点部65、可動部66の各長さ方向に沿ってシリンドリカルレンズ状の表面を有している。なお、他方の側面30bも断面が膨らむように湾曲していて、両側面30a、30bがシリンドリカルレンズ状となっていてもよい。圧入孔71の幅は接点部65の幅と等しくなっている。操作孔70の幅は可動部66の幅よりも少し広くなっている。コンタクト62をハウジング本体63aに組み込む場合には、接点部65の上端部分を側面30a側から接点部65へ押し込んで固定するとともに可動部66を操作孔70に挿通させ、空室69内に蛇行部64を納める。このとき接点部65は、シリンドリカルレンズ状に湾曲した側面30aから圧入孔71に圧入されるので、圧入孔71に接点部65を圧入するときに、接点部65の圧入作業を容易にでき、また接点部65によってハウジング本体63a圧入孔71の縁が削り取られにくくなる。コンタクト62がハウジング本体63aに組み込まれると、ハウジング本体63aにカバー63bを取り付けてコンタクト62をハウジング63内に納める。このプローブ61をたとえば電子部品の端子に接触させて検査を行う場合には、可動部66を押し下げて接点部65を電子部品の端子に接触させる。可動部66をさらに押し下げると、図5Cのように蛇行部64が圧縮されて縮み、接点部65が適度の圧力で端子に接触させられる。空室69の厚みはコンタクト62の厚みと等しいので、蛇行部64が伸縮するとき空室69の壁面と蛇行部64との間には摩擦力が発生する。しかも、プローブ61が小型になると蛇行部64も小さく細くなるので、蛇行部64のバネ性も弱くなる。そのため、接点部65を端子から離したときに蛇行部64が伸長しにくくなる恐れがある。しかし、このプローブ61では、側面30aを湾曲させているので、側面30aと空室69の壁面との接触面積が小さくなり、摩擦力が軽減され、蛇行部64がスムーズに伸び縮みすることができる。また蛇行部64の摩耗も低減される。なお、上記実施形態においては、スイッチとプローブの場合について説明したが、本発明はこれら以外のコンタクト装置、たとえばコネクタやソケットなどにも用いることができる。製造方法つぎに、実施形態1、2において説明したコンタクトの電鋳法による製造方法を図6A-図6Jにより説明する。図6は電鋳法によってコンタクト81すなわち、コンタクト22、62を成型する工程を表しており、図6A~図6Fは母型82を形成するための工程母型形成工程を示し、図6G及び図6Hはキャビティ83内に金属を電着させてコンタクト81を作製する工程電着工程を示し、図6I及び図6Jは母型82からコンタクト81を剥離させる工程剥離工程を示す。なお、実際には、母型82に複数のキャビティ83を形成しておいて複数のコンタクト81を一度に作製するが、便宜上ひとつのコンタクト81を作製する場合について説明する。図6Aは上面が平坦な金属製の導電性基材84であって、少なくとも上面には電着したコンタクト81を容易に剥離させるための処理が施されている。母型形成工程では、まず図6Bに示すように、導電性基材84の上面に、スプレーコーターやスピンコーターによってネガ型フォトレジスト85を塗布して均一な厚みの厚膜を形成する。ついで、図6Cのようにフォトレジスト85をプリベークした後、図6Dに示すようにキャビティ83を形成する領域をマスク86で覆ってフォトレジスト85に露光する。フォトレジスト85の露光された領域は不溶化するため現像時に溶けないので、マスク86で覆われていた領域だけが現像によって溶解除去され、図6Eに示すようにフォトレジスト85にキャビティ83が形成される。キャビティ83の底面には導電性基材84が露出している。最後に、フォトレジスト85をポストベークすることでフォトレジスト85によって導電性基材84の上面に所定厚みの絶縁層87が形成される。こうして得られた母型82を図6Fに示す。なお、図6では導電性基材84の上面だけを絶縁層87で覆っているが、実際には、キャビティ83の内部以外に金属が電着しないよう、導電性基材84の下面や側面なども絶縁層で覆っている。電着工程では、図7に示すように、母型82を電解槽89内に配置し、直流電源90によって母型82と対向電極91との間に電圧を印加して電解液αに電流を流す。この電解液αには、構成元素として硫黄Sを含む添加剤を加えている。この添加剤としては、たとえばサッカリンナトリウムC7H4NO3SNaを用いる。通電を開始すると、電解液α中の金属イオンが導電性基材84の表面に電着し、金属層88が析出する。一方、絶縁層87は、電流を遮断するので、母型82と対向電極91との間に電圧を印加しても、絶縁層87には直接金属が電着しない。このため、図6Gに示すように、キャビティ83の内部にはその底面から電圧印加方向に金属層88が成長してゆく。電解液αに硫黄を含む添加剤が加えられていると、キャビティ83の内壁面に沿って電流が流れにくく、キャビティ83の中央部は電流が流れやすくなる。その結果、キャビティ83の中央部では金属層88の析出速度が速く、キャビティ83の内壁面に近いところでは金属層88の析出速度が遅くなり、キャビティ83内で成長する金属層88の表面は中央部が膨らむように湾曲する。電着した金属層88コンタクト81の厚みは、電流の積算通電量によって管理される。通電電流の積算通電量を監視することによって金属層88が目的とする厚みに達したことを検知したら、直流電源90をオフにして通電を停止する。この結果、図6Hに示すように、所望の厚みの金属層88によってキャビティ83内にコンタクト81が成型される。コンタクト81が成型されたら、図6Iに示すように、絶縁層87を溶解または剥離させ、さらに図6Jに示すように、コンタクト81を導電性基材84から剥離させ、母型82の形状を反転転写したコンタクト81を得る。このような製造方法では、上記のように導電性基材84の上面に重ねるようにして厚膜の絶縁層87を形成し、絶縁層87を開口させることによって母型82にキャビティ83を形成しているので、フォトリソグラフィ技術などを利用して微細なキャビティ83を精密に作製することができ、そのため電鋳法によって微細で精密なコンタクト81を作製することが可能になる。また、電解液αに構成元素として硫黄を含む添加剤を加えることによってコンタクト81の側面30aキャビティ内での析出方向の上面を湾曲させることができる。コンタクト81の側面を湾曲させる方法としてはプレス加工も可能である。しかし、プレス加工の場合にはつぶし加工となるため、外形寸法や板厚の精密な制御が困難である。これに対し、上記のような電鋳法によればコンタクト81の側面30a全体を湾曲させることが可能で、外形寸法の精密な制御も可能である。なお、図6Fのように絶縁層87にキャビティ83を形成した後、キャビティ83内に露出している導電性基材84をエッチングして湾曲形状に窪ませておけば、両側面30a、30bを湾曲させることもできる。つぎに、コンタクトの側面を湾曲させるのに最適な添加剤の割合について説明する。本発明の発明者らは、電解液に加える添加剤の最適な割合を調べるため、図8のサンプルNo1A~1Fに示すような組成の電解液電解液の密度1110g/Lを準備した。電解液中には、Ni、Co、ホウ酸、界面活性剤及び添加剤を含み、電解液1リットル中における各成分の質量、すなわち各成分の濃度は図8に示す通りである。特に、添加剤の濃度g/Lは、サンプルNo1Aでは0g/L添加剤なし、サンプルNo1Bでは001g/L、サンプルNo1Cでは01g/L、サンプルNo1Dでは1g/L、サンプルNo1Eでは2g/L、サンプルNo1Fでは10g/Lである。添加剤は、サッカリンナトリウム硫黄含有率1563wtである。これらの電解液を用いて同じ電鋳条件図8参照で金属層を析出させてコンタクトを作製した。電鋳法により作製しようとしたサンプルNo1A-1Fのコンタクトβは、図9Gに示すような幅Dが200μm、高さHが200μmアスペクト比1のパターン断面を有するものである。図9A-図9Fは、図8に示すような条件で電鋳法により作製したサンプルNo1A-1Fのコンタクトの断面形状を表わした顕微鏡写真である。図9AはサンプルNo1Aであって、電解液における添加剤の濃度が0g/L添加剤なしの場合に析出した金属層の断面を表わしている。図9BはサンプルNo1Bであって、添加剤の濃度が001g/L電解液における硫黄の濃度が00016g/Lの場合に析出した金属層の断面を表わしている。図9CはサンプルNo1Cであって、添加剤の濃度が01g/L硫黄の濃度が00156g/Lの場合に析出した金属層の断面を表わしている。図9DはサンプルNo1Dであって、添加剤の濃度が1g/L硫黄の濃度が01563g/Lの場合に析出した金属層の断面を表わしている。図9EはサンプルNo1Eであって、添加剤の濃度が2g/L硫黄の濃度が03126g/Lの場合に析出した金属層の断面を表わしている。図9FはサンプルNo1Fであって、添加剤の濃度が10g/L硫黄の濃度が1563g/Lの場合に析出した金属層の断面を表わしている。図9C-図9Fから分かるように、電解液における添加剤の濃度が01g/L以上では、金属層の表面は滑らかに湾曲しているが、添加剤の濃度が001g/L以下では、図9A及び図9Bのように金属層の表面がザラザラに荒れていてコンタクトとして使用することができなかった。図9Bの場合には、金属層の幅及び高さが200μmであるのに対し、表面の凹凸の最大高低差が15μm程度であり、算術平均粗さRaが11868μm、最大粗さRzが535354μmであった。図9Aの場合も、図9Bの場合とほぼ同等の粗さである。よって、コンタクトの側面を滑らかに湾曲した形状に形成するためには、電解液における添加剤の濃度が01g/L以上であればよいことが分かった。また、電解液における添加剤の濃度が01g/L以上であるサンプルNo1C-1Fの湾曲面の高さP図9G参照は、それぞれ23μm、18μm、22μm、23μmであった。図10は、この結果をグラフに表したものであって、横軸は添加剤の濃度を示し、縦軸は湾曲面の高さPを示す。ところで、実施形態1のスイッチ21においては、第2電極28を側壁24に埋め込むとき、合成樹脂の側壁24の硬化収縮やバリの発生により、図2Bのように第2電極28が側壁24から飛び出して、第2電極28の端に段差が生じる。この段差の大きさは、第2電極28を側壁24に埋め込んで第2電極28の表面が側壁24の表面と平らに揃うようにしようとしても、3-15μm程度の段差はどうしても生じてしまう。よって、この程度の段差が生じていても接点37が第2電極28の段差を乗り越えるためには、接点37側面30aには、少なくとも16μmの湾曲面の高さPが必要となる。ところが、図10によれば、添加剤の濃度が01g/L以上であれば、湾曲面の高さPは18μm以上となる。よって、電解液における添加剤の濃度を01g/L以上にすることによりこれは、電解液における硫黄の濃度では、00156g/L以上に相当する。、コンタクトの側面を滑らかに湾曲させるとともに、湾曲面に設けた接点を摺動させてより確実に電極に接触させることが可能になる。また、図9C-図9Fからは、この範囲内において電解液における添加剤あるいは硫黄の濃度を変化させることによりコンタクトの湾曲面の曲率を変化させられることが分かる。つぎに、コンタクトの断面形状のアスペクト比と湾曲面との関係について調べた。図8のサンプルNo.1Cのように電解液における添加剤の濃度を01g/Lに固定し、コンタクトの断面のアスペクト比H/Dを20から02まで変化させた。ここで、Hは図9Gに示すようにコンタクトの高さであり、Dはコンタクトの幅である。用いた電解液電解液の密度1110g/Lの組成と電鋳条件は、図11に示す通りである。添加剤は、サッカリンナトリウム硫黄含有率1563wtである。また、各コンタクトの高さHはいずれも200μmとし、コンタクトの幅Dを変化させることによってアスペクト比を変化させた。サンプルNo2Aでは幅Dを100μm、アスペクト比H/Dを2とし、サンプルNo2Bでは幅Dを150μm、アスペクト比H/Dを13333とし、サンプルNo2Cでは幅Dを200μm、アスペクト比H/Dを1とし、サンプルNo2Dでは幅Dを250μm、アスペクト比H/Dを08とし、サンプルNo2Eでは幅Dを300μm、アスペクト比H/Dを06667とし、サンプルNo2Fでは幅Dを500μm、アスペクト比H/Dを04とし、サンプルNo2Gでは幅Dを1000μm、アスペクト比H/Dを02とした。このような条件により金属層を析出させて各サンプルのコンタクトを作製した。図12A-図12Gは、図11に示すような条件で電鋳法により作製したサンプルNo2A-2Gのコンタクト金属層の断面形状を表わした顕微鏡写真である。図12Aはアスペクト比が2のサンプルNo2Aの断面を表している。図12Bはアスペクト比が13333のサンプルNo2Bの断面を表している。図12Cはアスペクト比が1のサンプルNo2Cの断面を表している。図12Dはアスペクト比が08のサンプルNo2Dの断面を表している。図12Eはアスペクト比が06667のサンプルNo2Eの断面を表している。図12Fはアスペクト比が04のサンプルNo2Fの断面を表している。図12Gはアスペクト比が02のサンプルNo2Gの断面を表している。また、図13は、サンプルNo2Aの湾曲面上面のプロファイルを示す図、図14は、サンプルNo2Fの湾曲面上面のプロファイルを示す図、図15は、サンプルNo2Gの湾曲面上面のプロファイルを示す図である。図12C-図12F、図13及び図14から分かるように、コンタクトのアスペクト比が04以上であると、コンタクトの湾曲面は1山の湾曲面となって凹みが生じない。これに対し、コンタクトのアスペクト比が02になると、図12G及び図15から分かるように、コンタクトの湾曲面は2山になって中央部に凹みが生じる。このようにコンタクトの湾曲面が2山になると、コンタクトの接触面積が大きくなって摩擦や摩耗の低減効果が損なわれたり、凹みに汚れが溜まり接触信頼性が低下したりする不具合が生じる。したがって、コンタクトの長さ方向に垂直な断面におけるコンタクトのアスペクト比H/Dは04以上であることが望ましい。また、図12A-図12Fからは、この範囲内においてコンタクトの断面のアスペクト比H/Dを変化させることによりコンタクトの湾曲面の曲率を変化させられることが分かる。なお、上記各実施形態においては、いずれもコンタクトの断面が略矩形状となっていたが、断面略台形などであっても差し支えない。