"連続的に走行する支持体の上に、高分子材料を含む溶液を、ダイスの下部に配設された吐出口から吐出して、前記ダイスと前記支持体との間に流延リボンを形成するとともに、支持体上に流延膜を形成するに際し、前記ダイスの幅方向両端部において、ダイス外表面における前記吐出口の幅方向端部の上方位置に、流延膜の固化を防止するための固化防止液を供給し、供給された固化防止液を、前記ダイス外表面を伝って流下させ、前記流延リボンの幅方向端部に固化防止液を供給するフィルムの製造方法であって、前記ダイス外表面における固化防止液の流路が表面粗さ1000~8000nmに粗面化処理されていることを特徴とするフィルムの製造方法。前記ダイスが、幅方向に対する垂直断面において、吐出口に向かうに従い次第に細くなる形状を有し、前記ダイスにおける走行方向下流側の外表面に、固化防止液を供給する請求項1に記載のフィルムの製造方法。粗面化処理された領域がプラズマ照射処理されている請求項1または2に記載のフィルムの製造方法。前記ダイスの内部に形成された流路により、前記固化防止液を、ダイス外表面における吐出口の幅方向端部の上方位置に供給する請求項1~3のいずれかに記載のフィルムの製造方法。前記ダイスの外部に配設されたノズルにより、前記固化防止液を、ダイス外表面における吐出口の幅方向端部の上方位置に供給する請求項1~3のいずれかに記載のフィルムの製造方法。前記固化防止液が前記高分子材料を可溶な溶剤である請求項1~5のいずれかに記載のフィルムの製造方法。前記固化防止液が塩化メチレンとアルコールとの混合液である請求項1~6のいずれかに記載のフィルムの製造方法。前記固化防止液が不純物成分を含有し、該不純物成分の含有量が1質量以下である請求項1~7のいずれかに記載のフィルムの製造方法。請求項1~8のいずれかに記載の方法によって製造されたフィルム。請求項9に記載のフィルムを少なくとも一方の面に有する偏光フィルム。請求項10に記載の偏光フィルムを備えた表示装置。連続的に走行する支持体と、該支持体の上に、高分子材料を含む溶液を、下部に配設された吐出口から吐出して、支持体との間に流延リボンを形成するとともに、支持体上に流延膜を形成するダイスと、該ダイスの幅方向両端部において、ダイス外表面における吐出口の幅方向端部の上方位置に、前記流延膜の固化を防止するための固化防止液を供給する固化防止液供給手段と、を備え、該固化防止液供給手段により供給された固化防止液を、前記ダイス外表面を伝って流下させ、前記流延リボンの幅方向端部に固化防止液を供給するフィルムの製造装置であって、ダイス外表面における固化防止液の流路が表面粗さ1000~8000nmに粗面化処理されていることを特徴とするフィルムの製造装置。本発明は、流延膜における幅方向端部の表面固化を十分に防止しながらも、固化防止液の飛散による打点故障のないフィルムを、比較的長期にわたって連続生産できるフィルムの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。本発明は、連続的に走行する支持体の上に、高分子材料を含む溶液を、ダイスの下部に配設された吐出口から吐出して、ダイスと支持体との間に流延リボンを形成するとともに、支持体上に流延膜を形成するに際し、ダイスの幅方向両端部において、ダイス外表面における吐出口の幅方向端部の上方位置に、流延膜の固化を防止するための固化防止液を供給し、供給された固化防止液を、ダイス外表面を伝って流下させ、流延リボンの幅方向端部に固化防止液を供給するフィルムの製造方法であって、ダイス外表面における固化防止液の流路が表面粗さRz1000~8000nmに粗面化処理されていることを特徴とするフィルムの製造方法に関する。本発明は、また、連続的に走行する支持体と、該支持体の上に、高分子材料を含む溶液を、下部に配設された吐出口から吐出して、支持体との間に流延リボンを形成するとともに、支持体上に流延膜を形成するダイスと、該ダイスの幅方向両端部において、ダイス外表面における吐出口の幅方向端部の上方位置に、流延膜の固化を防止するための固化防止液を供給する固化防止液供給手段と、を備え、該固化防止液供給手段により供給された固化防止液を、ダイス外表面を伝って流下させ、流延リボンの幅方向端部に固化防止液を供給するフィルムの製造装置であって、ダイス外表面における固化防止液の流路が表面粗さRz1000~8000nmに粗面化処理されていることを特徴とするフィルムの製造装置に関する。本発明によれば、固化防止液の飛散を有効に防止しながら、固化防止液を十分に安定して供給できる。そのため、流延膜における幅方向端部の表面固化を十分に防止しながらも、固化防止液の飛散による打点故障のないフィルムを、比較的長期にわたって連続生産できる。本発明に係るフィルムの製造方法は、溶液流延製膜法に基づくものであり、すなわち連続的に走行する支持体の上に、高分子材料を含む溶液以下、ドープということがあるを、ダイスの下部に配設された吐出口から吐出して、支持体上に流延膜を形成する。このとき、ダイスの吐出口と支持体との間に形成されるドープの流れを流延リボンという。支持体上に流延膜を形成した後は、溶媒の蒸発を行い、流延膜をフィルムとして支持体から剥離する。本発明においてフィルムを剥離した後は、特に制限されるものではなく、例えば、延伸工程、乾燥工程および巻き取り工程からなる群から選択された1以上の工程を任意の順序で実施してよい。例えば、延伸工程、乾燥工程および巻き取り工程を順次、実施してもよいし、または図1に示すように第1乾燥工程7、延伸工程8、第2乾燥工程9および巻き取り工程10を順次、実施してもよい。以下、図面を用いて、各工程について詳しく説明する。本明細書中、幅方向とは支持体の幅方向を意味するものとし、支持体表面上において支持体走行方向と直交する方向である。走行方向とは支持体の走行方向を意味するものとする。図1は本発明に係るフィルムの製造方法の一実施形態を示す模式図である。図1においてフィルムは左から右への方向で連続的に走行し、連続生産される。図2~図4は本発明に係るフィルムの製造方法における流延工程の一実施形態を示す模式図である。図2は本発明の一実施形態に係る流延工程におけるダイス近傍の概略見取り図であり、MDは支持体1の走行方向である。図3は、図2に示すダイス近傍における、幅方向に対する垂直断面概略図である。図4は、図3において、ダイスおよび該ダイスから吐出された流延リボンをP方向から見たときの拡大模式図である。図5~図7は本発明に係るフィルムの製造方法における流延工程の別の一実施形態を示す模式図である。図5は本発明の別の一実施形態に係る流延工程におけるダイス近傍の概略見取り図であり、MDは支持体1の走行方向である。図6は、図5に示すダイス近傍における、幅方向に対する垂直断面概略図である。図7は、図6において、ダイスおよび該ダイスから吐出された流延リボンをP方向から見たときの拡大模式図である。図1~図7において共通する記号は特記しない限り同じ部材を示すものである。流延工程本工程では、連続的に走行する支持体1の上に、ドープを、ダイス2の下部に配設された吐出口23から吐出して、ダイス2と支持体1との間に流延リボン21を形成するとともに、支持体1上に流延膜22を形成するに際し、所定の方法で固化防止液20を流延リボン21の幅方向端部に供給する。支持体1は、無限移送する無端のものが好ましく使用され、表面が鏡面となっているものがより好ましい。支持体は金属からなっているものが好ましく使用され、具体例として、例えば、ステンレスベルト、ステンレス鋼ベルトあるいは回転する金属ドラム等が挙げられる。ダイス2は、幅方向に対する垂直断面において、吐出口に向かうに従い次第に細くなる形状を有している。ダイス2は通常、具体的には、下部の走行方向下流側にテーパー面2aを有し、下部の走行方向上流側にテーパー面2bを有し、当該テーパー面2a、2bの間に吐出口23がスリット形状で形成されている。ダイス2は通常、幅方向の両端部にサイドプレート2cを有している。ダイス2は金属からなっているものが好ましく使用され、例としては、ステンレスが好んで使用される。ダイス2は加圧ダイを用いることが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやTダイ等が挙げられるが、何れも好ましく用いられる。製膜速度を上げるため、加圧ダイを支持体上に2基以上設け、流延量を分割して重層製膜してもよい。膜厚を調整する方法として、例えば、ブレードで流延膜の膜厚を調節するドクターブレード法、あるいは逆回転するロールで流延膜の膜厚を調節するリバースロールコーター法等を採用してもよい。膜厚の調節は、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイスの口金のスリット間隙、ダイスの押し出し圧力、支持体の速度等を適宜調整することにより行うことができる。固化防止液20は、ダイス2の幅方向両端部において、ダイス外表面における所定の位置に供給される。固化防止液20は通常、ダイス2における走行方向下流側の外表面、すなわちテーパー面2aに供給される。固化防止液20が供給される位置は、ダイス外表面における吐出口23の幅方向端部Eの上方位置であり、図中、Aで示される。固化防止液20の供給位置Aは、本発明の目的が達成される範囲内で、吐出口23の幅方向端部Eの略上方であればよく、図4および図7に示す位置Aよりも、幅方向で端部側であってもよいし、または幅方向で中央部側であってもよい。固化防止液20の供給位置Aから吐出口23の幅方向端部Eまでの直線距離は特に制限されず、例えば、0.5~20mm、好ましくは1~15mmである。固化防止液20の供給位置Aへの供給方法は、特に制限されるものではなく、例えば、図2~図4に示すように、ダイス2の内部に形成された流路26aにより固化防止液20を供給してもよいし、または図5~図7に示すように、ダイス2の外部に配設されたノズル26bにより固化防止液20を供給してもよい。流路26aは通常、大部分がダイス2のサイドプレート2c内に形成され、ダイス2内に収容されるドープとは混合されないようになっている。流路26aおよびノズル26bの内径は、固化防止液の供給速度に応じて適宜設定されればよく、例えば、当該供給速度が後述の範囲内であるとき、0.5~5mm、特に1~4mmが好ましい。一方の端部あたりの固化防止液20の供給速度滴下量は、流延膜端部の固化乾燥を防止できれば特に制限されず、通常は0.10~3.0ml/分であり、好ましくは0.20~1.00ml/分である。供給位置Aに供給された固化防止液20は、ダイス外表面、すなわちテーパー面2aを伝って流下し、流延リボン21における幅方向の端部に供給される。本発明においては、ダイス外表面テーパー面2aにおける固化防止液20の流路が粗面化処理されている。粗面化処理された流路粗面化処理領域は、固化防止液20を流延リボン21の幅方向端部まで誘導しながら流下させるとともに、固化防止液20を十分に引き付ける。そのため、固化防止液20は、飛散を十分に防止されながら、ダイス外表面の粗面化処理領域を伝って流延リボン21の幅方向端部に有効に供給されるようになる。流路とは、ダイス外表面テーパー面2aにおいて固化防止液20が供給位置Aに供給されてから、流延リボン21における幅方向端部に到達するまでに通過するダイス外表面2a上の領域である。流路は通常、固化防止液の供給位置Aと、固化防止液が供給されるべき流延リボン21における幅方向端部とを結んだ略直線状の領域である。流路は通常、ある程度の幅をもって粗面化処理される。本発明は、テーパー面2aにおける流路以外の領域が粗面化処理されることを妨げるものではなく、例えば、テーパー面2a全面が粗面化処理されていてもよい。流路が粗面化処理されてなる領域粗面化処理領域は、図4および図7において、25斜線領域で示される領域であり、その表面粗さRzは1000~8000nm、好ましくは2300~5500nmである。表面粗さが小さすぎると、固化防止液の飛散が顕著に起こり、固化防止液を安定的に流延リボン端部に供給できないので、当該端部の表面固化を十分に防止できない。しかも、フィルムの打点故障を十分に防止できない。表面粗さが大きすぎると、固化防止液と流路の密着性が低下し、流路表面に吹き込む風によって液が乱され、流路が安定しない。表面粗さRzはJIS2001に基づいて任意の10点で測定された値の平均値である。粗面化処理領域25の幅方向の長さ幅は、固化防止液の供給速度に応じて適宜設定されればよく、例えば、当該供給速度が上記の範囲内であるとき、0.5~10mm、特に1~8mmが好ましい。粗面化処理領域25における幅方向に対して垂直な方向の長さは、通常、0.5~20mm、通常は1~15mmである。粗面化処理方法は、上記表面粗さRzを達成できれば特に制限されるものではなく、例えば、研磨紙紙やすりによって研磨する方法、ベンガラによって研磨する方法、バフによって研磨する方法、サンドブラストによって研磨する方法等があげられる。表面粗さRzの制御の観点から好ましい粗面化処理方法は、研磨紙紙やすりによって研磨する方法である。研磨紙の粒度を選択することによって、表面粗さRzを簡便に制御することができる。特に研磨紙紙やすりによって研磨する方法を採用する場合、表面の研磨方向、すなわち形成される凹凸の配向は特に揃っている必要はないが、供給位置Aと吐出口23の幅方向端部Eとを直線で結んだ線分の方向で研磨されることが好ましい。粗面化処理領域25はプラズマ照射処理されている方が好ましい。プラズマ照射処理は、例えば大気圧プラズマ照射装置を用いて行うことができる。大気圧プラズマ照射装置には、被処理物をはさむように対向配置された電極間に高周波電力を加えて、反応性ガスをプラズマ化するダイレクト式、プラナー式と呼ばれる方式と、反応性ガスを高周波電圧が加えられた電極の間を通してプラズマ化するリモート式、ダウンストリーム式と呼ばれる方式があり、いずれの方式も本発明に使えるが、本発明では、後者の方式を用いるのが望ましい。図8は、リモート式またはダウンストリーム式と呼ばれる大気圧プラズマ照射装置の原理を説明するための説明図である。そのような大気圧プラズマ照射装置では、対向する電極間に、高周波電圧を印加して放電させることにより、反応性ガスをプラズマ状態とし、被処理物の表面にこのプラズマ状態の反応性ガスを照射する。これにより、プラズマ線の被処理物表面への照射が達成され、被処理物表面の防汚処理が可能である。図8において、a、bは大気圧プラズマ照射装置の対向電極、gは原料ガス、dは被処理物である。本発明の実施形態においては、このようなハイパワーの電圧を印加して、均一なグロー放電状態を保つことができる電極を大気圧プラズマ照射装置に採用することが好ましい。大気圧プラズマの反応性ガスの風量は、プラズマ照射の有効幅1m当たり、20~5000L/minが望ましい。さらには、40~2500L/minがより好ましい。大気圧プラズマ照射装置によるプラズマ照射処理の処理時間は、1~30分、好ましくは1~10分である。プラズマの噴射供給を行なう吹出しスリットと、被処理物表面との間隙は、0.5~6mmが好ましく、1~5mmがより好ましく、さらに、2~4mmが最も好ましい。プラズマの噴射供給を行なう吹出しスリットと、被処理物表面とを、近づけすぎると、被処理物表面に接触、損傷させる危険があり、離しすぎると、プラズマ噴射による効果が弱くなる。反応性ガスには、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウムなど種々のものが利用可能であるが、環境面、排気の後処理、ランニングコストの観点から、窒素が好ましく、さらには窒素に微量の酸素を混合することが好ましい。酸素の混合比率は、使用する反応性ガスの体積に対して2体積以下が望ましい。プラズマ照射処理は、フィルムの連続生産の観点から、0.1~36W/cm2の処理強度で行なうことが好ましく、1.0~20W/cm2の処理強度で行なうことがさらに好ましい。ここで、処理強度W/cm2は、リアクタの対向電極間に供給する電力であり、電極における電圧印加面積/cm2は、放電が起こる範囲の面積のことを指す。固化防止液20は、フィルムを構成する高分子材料を可溶な溶剤であり、具体的には、高分子材料の良溶媒、および当該良溶媒と貧溶媒との混合液が使用される。セルロースエステルの良溶媒として、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、ギ酸エチル、アセトン、シクロヘキサノン、アセト酢酸メチル、テトラヒドロフラン、1,3-ジオキソラン、4-メチル-1,3-ジオキソラン、1,4-ジオキサン、2,2,2-トリフルオロエタノール、2,2,3,3-ヘキサフルオロ-1-プロパノール、1,3-ジフルオロ-2-プロパノール、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-メチル-2-プロパノール、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノール、2,2,3,3,3-ペンタフルオロ-1-プロパノール、ニトロエタン、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、塩化メチレン、ブロモプロパン等を挙げることができる。固化防止液として好ましい良溶媒は、塩化メチレン、アセトンまたはそれらの混合液である。セルロースエステルの貧溶媒として、例えば、メタノール、エタノール、n-ブタノール等の低級アルコール、シクロヘキサン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸プロピル、モノクロルベンゼン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、メチルセルソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテル等を挙げることができる。固化防止液として好ましい貧溶媒は、メタノール、エタノール、n-ブタノール等の低級アルコール、またはそれらの混合液である。固化防止液は、セルロースエステル系樹脂の場合、高分子材料の良溶媒と貧溶媒との混合液を用いても良く、塩化メチレンと低級アルコールとの混合液が好んで用いられている。良溶剤と貧溶剤との混合比率の好ましい範囲は、それらの合計比率を100質量として表したとき、良溶剤が70~98質量であり、貧溶剤が2~30質量である。固化防止液20は、不純物成分の含有量が1質量以下であることが好ましい。粗面化処理領域への汚れの蓄積が防止され、より一層、長期にわたるフィルムの連続生産が可能となる。実施例では、不純物含有量2の溶液を用いた。不純物成分とは、各種溶剤の製造または精製過程、滴下針までの搬送過程において不可避に混入される物質であり、本発明においては特に固形不純物成分の含有量が上記範囲内であることが好ましい。不純物成分の含有量は、十分に撹拌した固化防止液の一部を秤量しxg、完全に蒸発させたときの残渣の質量ygを測定し、以下の式に基づいて算出可能である。不純物成分の含有量質量=y/x×100流延工程は、減圧を行いながら実施することが好ましい。支持体1の走行によって発生する同伴エアを減圧によって除去することにより、同伴エアによる流延リボン21の振動を低減できる。詳しくは、図2、図3、図5および図6に示すように、ダイス2の支持体走行方向上流側に減圧チャンバ28を配設し、当該減圧チャンバ28の内部を減圧する。ダイス2のテーパー面2bと減圧チャンバ28との間には間隙が生じるので、通常は当該間隙における幅方向の両端部に遮蔽物29が配設され、減圧チャンバ28内の減圧を促進するようになっている。減圧チャンバ28内の圧力は-100~-2000Pa、特に-300~-1200Paが好ましい。減圧チャンバ内の圧力は、標準大気圧を基準にしたときの差圧で示すものとする。溶媒蒸発工程溶媒蒸発工程は、支持体1上で実施され、ウェブを支持体1上で加熱し、溶媒を蒸発させる予備乾燥工程である。ウェブとは、ドープを支持体1上に流延した以降のドープ膜フィルムを意味する。溶媒を蒸発させるには、例えば、図1に示すように、乾燥機3,4によりウェブ側及び支持体裏側から加熱風を吹かせる方法、支持体の裏面から加熱液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等を挙げることができる。それらを適宜選択して組み合わせる方法も好ましい。ウェブの膜厚が薄ければ乾燥が早い。支持体の表面温度は全体が同じでも、位置によって異なっていてもよい。支持体の表面温度は15°C以上で、溶媒が発泡しない温度に設定するのが好ましい。加熱風の温度は10~80°Cが好ましい。溶媒蒸発工程においては、ウェブの剥離、ならびに剥離後の搬送性の観点から、残留溶媒量が30~150質量になるまで、ウェブを乾燥することが好ましい。残留溶媒量をできるだけ多くして、後の剥離工程で剥離することにより、製膜速度を上げることができる方法の1つとして、残留溶媒量が多くとも剥離できるゲル流延法ゲルキャスティングを挙げることができる。ゲル流延法には、ドープ中に高分子材料に対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後にゲル化する方法、あるいは支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。また、ドープ中に金属塩を加える方法もある。支持体上でゲル化させ、流延膜を強くすることによって、剥離を早め製膜速度を上げることができる。本明細書中、残留溶媒量は下記の式で表すことができる。残留溶媒量質量={M-N/N}×100ここで、Mはウェブフィルムの所定の時点での質量、NはMのものを110°Cで3時間乾燥させた時の質量である。特に溶媒蒸発工程において達成された残留溶媒量を算出するときのMは剥離工程直前のウェブの質量である。剥離工程剥離工程は、支持体上で有機溶媒を蒸発させたウェブフィルムを、支持体が一周する前に剥離する工程である。支持体からウェブを剥離する位置のことを剥離点といい、また剥離を助けるロール5を剥離ロールという。剥離されたフィルムは、延伸工程8等の他の工程に直接送られてもよいし、または図1に示すように所望の残留溶媒量を達成するまで第1乾燥工程7に送られた後で、延伸工程8に送られてもよい。本発明においては、延伸工程での搬送性の観点から、剥離工程後、フィルムは、第1乾燥工程7および延伸工程8に順次、送られることが好ましい。第1乾燥工程第1乾燥工程7は、フィルムを加熱し、溶媒をさらに蒸発させる乾燥工程である。乾燥手段は特に制限されず、例えば、熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等を用いることができる。簡便さの観点からは、例えば図1に示すように、千鳥状に配置したロール71でフィルムを搬送しながら、熱風等で乾燥を行うことが好ましい。乾燥温度は残留溶媒量、搬送における伸縮率、等を考慮して、80~100°Cの範囲が好ましい。第1乾燥工程においては残留溶媒量が0.5~30質量になるまで、フィルムを乾燥することが好ましい。第1乾燥工程において達成された残留溶媒量を算出するときのMは第1乾燥工程直後のフィルムの質量である。延伸工程延伸工程は、フィルムを加熱下で少なくとも幅方向に延伸して保持する工程であり、図1中、8で示される。延伸工程では、通常、延伸保持した後、緩和が行われ、すなわち本工程は、フィルムを幅手方向に延伸する延伸段階、フィルムを延伸状態で保持する保持段階およびフィルムを幅手方向に緩和する緩和段階をこれらの順序で実施する。延伸段階では、加熱下でフィルムに幅手方向または幅手方向および搬送方向の両方向に張力を付与し、フィルムの延伸を行う。延伸方法は特に制限されず、従来からフィルムの製造方法の分野で公知の延伸方法を採用できる。幅手方向の延伸方法としては、例えば、ピンテンター法、クリップテンター法等が挙げられる。搬送方向の延伸方法としては、例えば、上流側と下流側とで搬送用駆動ロールの周速を異ならせる方法や、搬送張力を異ならせる方法等が挙げられる。保持段階では、延伸段階で達成された延伸倍率での延伸を、延伸段階における延伸温度で保持する。緩和段階では、延伸段階における延伸を保持段階で保持した後、延伸のための張力を解除することによって、延伸を緩和する。緩和は延伸段階における延伸温度以下で行えばよい。第2乾燥工程第2乾燥工程9は、延伸されたフィルムを加熱し、溶媒をさらに蒸発させる乾燥工程である。乾燥手段は特に制限されず、例えば、熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等を用いることができる。簡便さの観点からは、例えば図1に示すように、千鳥状に配置したロール91でフィルムを搬送しながら、熱風等で乾燥を行うことが好ましい。乾燥温度は残留溶媒量、搬送における伸縮率、等を考慮して、40~150°Cの範囲が好ましい。第2乾燥工程においては、残留溶媒量が0.5質量以下になるまで、フィルムを乾燥することが好ましい。特に第2乾燥工程において達成される残留溶媒量を算出するときのMは第2乾燥工程直後のフィルムの質量である。巻き取り工程巻き取り工程10は得られたフィルムを巻き取って室温まで冷却する工程である。巻き取り機101は、一般的に使用されているものでよく、例えば、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。フィルムの厚さは特に制限されず、光学フィルムとして使用される場合においては20~200μm、特に30~100μmであることが好ましい。上述した流延工程から巻き取り工程までの各工程は、空気雰囲気下であってもよいし、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下であってもよい。また、各工程、特に乾燥工程や延伸工程は、雰囲気における溶媒の爆発限界濃度を考慮して実施する。ドープドープに含まれる高分子材料は特に制限されず、フィルムの分野で公知の高分子材料が使用可能である。特に光学フィルムを製造する場合においては、セルロースエステル系樹脂が好ましく使用される。以下、セルロースエステル系樹脂について詳しく説明するが、当該説明を準用することによって、当該樹脂以外の高分子材料を用いてフィルムを製造できる。例えば、ノルボルネン系樹脂に代表されるシクロオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートに代表されるアクリル系樹脂、ビスフェノールA系ポリカーボネートに代表されるポリカーボネート系樹脂を単体で使用してもよいし、前記セルロースエステル系樹脂をシクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂と混合して使用しても良い。セルロースエステル系樹脂は、セルロースに酢酸またはその無水物を常法により反応させて得られるアセチル系セルロースエステルである。具体的には、例えば、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースモノアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等があげられ、透明性、コスト、接着性の観点からセルローストリアセテートが好ましい。上記反応に使用されるセルロースとしては、例えば、リンターパルプ、ウッドパルプ及びケナフパルプから選ばれるパルプに由来するセルロースが挙げられる。アセチル系セルロースエステルは、アセチル基及びプロピオニル基の総置換度が2.30~3.00であることが好ましい。アセチル系セルロースエステルのアシル基及びプロピオニル基の置換度の測定方法としては、ASTMのD-817-91に準じて実施することができる。アセチル系セルロースエステルの分子量は、数平均分子量として70,000~300,000の範囲が、フィルムに成形した場合の機械的強度が強く好ましく、更に、80,000~200,000がより好ましい。通常、アセチル系セルロースエステルは反応後の水洗等の処理後において、フレーク状となり、その形状で使用されるが、粒子サイズとしては、平均粒径として0.05~2.0mmの範囲とすることが、より溶解性を早める観点から好ましい。ドープ中には、可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤、酸化防止剤などの添加剤が含有されてよい。可塑剤としては、特に限定しないが、例えば、リン酸エステル化合物、フタル酸エステル化合物、グリコール酸化合物等が使用可能である。リン酸エステル化合物の具体例としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。フタル酸エステル化合物の具体例としては、例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ-2-エチルヘキシルフタレート等が挙げられる。グリコール酸エステル化合物の具体例としては、例えば、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等が挙げられる。可塑剤は必要に応じて、2種類以上を併用して用いてもよい。リン酸エステル化合物の使用比率は高分子材料に対して50質量以下とすることが、耐久性に優れるため好ましい。リン酸エステル化合物の比率は少ない方がさらに好ましく、特には、フタル酸エステル化合物やグリコール酸エステル化合物だけを使用することが好ましい。可塑剤の高分子材料に対する添加量としては、0.5~30質量が好ましく、特に2~15質量が好ましい。紫外線吸収剤としては、液晶の劣化防止の観点より、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の点より波長400nm以上の可視光の吸収が可及的に少ないものが好ましく用いられる。特に、波長370nmでの透過率が10以下であることが必要となり、好ましくは5以下、より好ましくは2以下である。本発明において、使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。ベンゾトリアゾール系の市販の紫外線吸収剤として、例えば、BASFジャパン株社製のチヌビン109、チヌビン171、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328等を好ましく用いることができるが、これらには限定されない。紫外線吸収剤は、2種以上用いてもよい。紫外線吸収剤のドープへの添加方法は、アルコールや塩化メチレン、酢酸メチル、ジオキソランなどの有機溶媒に紫外線吸収剤を溶解してから添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。本発明において、紫外線吸収剤の使用量は高分子材料に対し0.5~20質量の範囲で添加することができ、0.6~5.0質量が好ましく、特に好ましくは0.6~2.0質量である。マット剤としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズ失透性を小さくできるので好ましい。微粒子の2次粒子としては、平均粒径で0.01~1.0μmであることが好ましい。マット剤の含有量は高分子材料に対して0.005~0.5質量が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子では、有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、例えば、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサン等が挙げられる。マット剤の平均粒径としては、大きい方がマット効果は大きく、逆に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径として5~50nmで、より好ましくは7~20nmである。これらの微粒子は、フィルム中では、通常、凝集体として存在しフィルム表面に0.01~1.0μmの凹凸を形成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、日本アエロジル株製のAEROSIL200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812,OX50、TT600等を挙げることができ、好ましくはAEROSIL200V、R972、R972V、R974、R202、R812である。これらのマット剤は2種以上併用してもよい。2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なるマット剤、例えば、AEROSIL200Vと同R972Vとを質量比で0.1:99.9~99.9:0.1の範囲で使用できる。ドープの調製方法溶解釜中で高分子材料の良溶媒を主とする有機溶媒を攪拌しながら、フレーク状の高分子材料を添加、溶解してドープを形成する。溶解方法としては、例えば、大気圧で行う方法、主溶媒の沸点以下の温度で行う方法、主溶媒の沸点以上の温度で加圧しながら行う方法、特開平9-95544号、同9-95557号または同9-95538号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平11-21379号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を挙げることができる。溶解した高分子材料溶液、いわゆるドープは、次いで濾材による濾過を施した後、脱泡してポンプにより次工程に送液される。ドープの溶媒として用いることのできる良溶媒としては、高分子材料に対して良好な溶解性を有する有機溶媒であり、例えば、前述した固化防止液として記載の良溶媒と同様の有機溶剤が使用できる。ドープ溶媒として好ましい良溶媒は、酢酸メチル、アセトン、塩化メチレンまたはそれらの混合液である。本発明に係るドープに使用する有機溶媒は、高分子材料の良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、それらの合計比率を100質量として表したとき、良溶剤が70~98質量であり、貧溶剤が2~30質量である。ドープの溶媒として用いることのできる貧溶媒としては、高分子材料に対して溶解性を有さない有機溶媒であり、例えば、前述した固化防止液として記載の貧溶媒と同様の有機溶剤が使用できる。ドープ溶媒として好ましい貧溶媒は、メタノール、エタノール、n-ブタノール、シクロヘキサン、アセトン、シクロヘキサノンまたはそれらの混合液である。前述のように、添加剤を使用する場合には、通常の添加方法で行うことができ、ドープ中に添加剤を直接添加してもよいし、予め添加剤を有機溶媒に溶解/分散してからドープ中に注ぎ入れてもよい。前記のような種々の添加剤の溶液または分散液を高分子材料ドープに添加する際、それぞれの移送系列より移送され、移送管が合流したところで各添加要素をドープ液とし合液させ、その直後に管内混合器で十分に混合する方法も好ましい。例えば、スタチックミキサーSWJ東レ静止型管内混合器Hi-Mixer東レエンジニアリング製のようなインラインミキサーを使用するのが好ましい。インラインミキサーを用いる場合、高分子材料を高圧下で濃縮溶解したドープに適用することもできる。本発明において製造されたフィルムは光学フィルムとして有用である。本発明でいう光学フィルムとは、液晶画像表示装置等の表示装置に使用されるフィルムのことで、例えば、偏光フィルム用保護フィルム、位相差フィルム、防眩フィルム、無反射フィルム、等があげられる。上記記載の中でも偏光フィルム用保護フィルム、位相差フィルムに好ましく用いられる。本発明において製造されたフィルムが偏光フィルム用保護フィルムとして使用される場合、偏光フィルムは少なくとも一方の面に当該保護フィルムを有する。本発明の表示装置は、そのような偏光フィルムを備えている。以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。<実施例1>セルロースエステル溶液ドープの調製下記の素材を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解、濾過し、ドープを調製した。セルローストリアセテート100質量部Mn=148000、Mw=310000、Mw/Mn=2.1トリフェニルホスフェート8質量部エチルフタリルエチルグリコレート2質量部メチレンクロライド440質量部エタノール40質量部チヌビン109BASFジャパン株社製0.5質量部チヌビン171BASFジャパン株社製0.5質量部アエロジル972V日本アエロジル株式会社製0.2質量部セルロースエステルフィルムの製造上記ドープおよび図1~図4に記載の製造装置を用いて、セルロースエステルフィルムを製造した。当該製造装置について詳しくは、ダイス2の幅方向両端部に流路26a内径3mmを図2~図4に示すように形成した。ダイス2のテーパー面2aにおいて流路26aの開口部供給位置Aから吐出口23の幅方向端部Eまでの直線距離は5mmであった。図4に示すように、供給位置Aから吐出口23の幅方向端部Eまでの流路を研磨紙により粗面化処理した。粗面化処理領域25は以下の寸法の長方形状を有していた;幅方向長さ3mmおよび該幅方向に対する垂直方向の長さ5mm。粗面化処理領域を図8に示す大気圧プラズマ照射装置によりプラズマ照射処理した。粗面化処理領域以外の領域はマスキングテープによりマスキングした。処理強度は12W/cm2であり、原料ガスの風量はプラズマ照射の有効幅1m当たり1000L/minであり、処理時間は10分であり、プラズマの噴射供給を行なう吹出しスリットと粗面化処理領域との間隙は3mmであった。大気圧プラズマ処理に用いた混合ガス原料ガスの組成を以下に示した。なお、気圧は1.01325×105Paとした。窒素99.98体積酸素0.02体積混合ガス流量2m3/min製造方法について詳しくは、まず、60m/分で連続的に走行するステンレスベルト製支持体1の上に、ドープ30°Cを、ダイス2の下部に配設された吐出口23から吐出して、ダイス2と支持体1との間に流延リボン21を形成するとともに、支持体1上に流延膜22を形成した流延工程。このとき、ダイス2の幅方向両端部におけるテーパー面2aの供給位置Aに、ダイス内部に形成された流路26aにより固化防止液20を0.3ml/分で供給し、供給された固化防止液をテーパー面2aの粗面化処理領域を伝って流下させ、流延リボン21における幅方向の端部に固化防止液を供給した。固化防止液は塩化メチレン90質量およびエタノール10質量からなる混合液であった。固化防止液の不純物成分の含有量は2質量であった。減圧チャンバ28内の圧力は-500Paであった。次いで、ステンレスベルトの温度を25°Cに制御し、フィルム側の乾燥機4からは45°Cの風を10m/秒の風速で送り、ステンレスベルト側の乾燥機3からは、40°Cの風を10m/秒で送り、ウェブを乾燥した溶媒蒸発工程。乾燥したウェブを剥離ロール5にて剥離した剥離工程。剥離工程直前におけるウェブ中の残留溶媒量は80質量であった。剥離したフィルムを乾燥工程7に導入して、80°Cで1分間乾燥した第1乾燥工程。乾燥工程7ではロール71を千鳥状に配置した装置を用いた。乾燥したフィルムを延伸工程82軸延伸テンターに導入し、残留溶媒量3質量~10質量である時に100°Cの雰囲気下で幅方向に1.25倍に延伸した。延伸したフィルムを乾燥工程9に導入し、125°Cで乾燥した第2乾燥工程。乾燥工程9ではロール91を千鳥状に配置した装置を用いた。次いで、巻き取り工程10で、フィルムを巻取り機101で巻き取り、最終的に20°Cに冷却して、膜厚50μm、幅2200mmのセルロースエステルフィルムを得た。以上の操作を繰り返し、フィルムを1ヶ月以上にわたって連続生産した。<実施例2~4/比較例3>研磨紙を選択することによって粗面化処理領域の表面粗さを所定の値に制御したこと以外、実施例1と同様の方法によりフィルムを製造した。<実施例5>研磨紙を選択することによって粗面化処理領域の表面粗さを所定の値に制御したこと、粗面化処理領域に対してプラズマ照射処理を行わなかったこと以外、実施例1と同様の方法によりフィルムを製造した。<実施例6>図5~図7に記載の製造装置を用いて、以下に示す方法により流延工程を実施したこと以外、実施例1と同様の方法によりフィルムを製造した。図5~図7に示す製造装置について詳しくは、ダイス2の幅方向両端部にノズル26b内径3mmを図5~図7に示すように設けた。ダイス2のテーパー面2aにおいてノズル26bによる供給位置Aから吐出口23の幅方向端部Eまでの直線距離は5mmであった。図7に示すように、供給位置Aから吐出口23の幅方向端部Eまでの流路を研磨紙により粗面化処理した。粗面化処理領域25は以下の寸法の長方形状を有していた;幅方向長さ3mmおよび該幅方向に対する垂直方向の長さ5mm。粗面化処理領域を、実施例1と同様の方法によりプラズマ照射処理した。流延工程において詳しくは、まず、60m/分で連続的に走行するステンレスベルト製支持体1幅2000mm、周長60m、温度22°Cの上に、ドープ30°Cを、ダイス2の下部に配設された吐出口23から吐出して、ダイス2と支持体1との間に流延リボン21を形成するとともに、支持体1上に流延膜221900mm幅、膜厚460μmを形成した。このとき、ダイス2の幅方向両端部におけるテーパー面2aの供給位置Aに、ノズル26bにより固化防止液20を0.3ml/分で供給し、供給された固化防止液をテーパー面2aの粗面化処理領域を伝って流下させ、流延リボン21における幅方向の端部に固化防止液を供給した。固化防止液は塩化メチレン90質量およびエタノール10質量からなる混合液であった。固化防止液の不純物成分の含有量は2質量であった。減圧チャンバ28内の圧力は-500Paであった。溶媒蒸発工程および剥離工程、ならびにそれ以降の工程は実施例1と同様であった。<比較例1>粗面化処理を行わなかったこと、プラズマ照射処理を行わなかったこと以外、実施例1と同様の方法によりフィルムを製造した。<比較例2>粗面化処理を行わなかったこと以外、実施例1と同様の方法によりフィルムを製造した。<評価>端部の表面固化支持体上の流延膜の端部をカメラで観察した。表面固化が発生し、成長すると、流延するドープの流れを乱し、フィルムの製造を阻害する。表中の括弧内の数字は、フィルム製造を開始してから初めて表面固化が発生した時期を示す。◎;フィルムの製造開始から1ヶ月以上の間、端部の表面固化は発生しなかった優;○;フィルムの製造開始から4週間で端部の表面固化が発生した良;△;フィルムの製造開始から2週間で端部の表面固化が発生したが、実用上問題なかった可;×;フィルムの製造開始から2週間未満で端部の表面固化が発生し、実用上問題があった不可。フィルムの打点故障フィルムを目視で観察した。打点故障は、円形の凹みとして観察される。表中の括弧内の数字は、フィルム製造を開始してから初めて打点故障が発生した時期を示す。◎;フィルムの製造開始から1ヶ月以上の間、打点故障は発生しなかった優;○;フィルムの製造開始から4週間で打点故障が発生した良;△;フィルムの製造開始から2週間で打点故障が発生したが、実用上問題なかった可;×;フィルムの製造開始から2週間未満で打点故障が発生し、実用上問題があった不可。汚れ蓄積量固化防止液の流路における汚れ蓄積量を測定した。詳しくは、レプリカ剤を、固化防止液の流路を含むダイスの端部領域に貼り付け、乾燥したレプリカ剤の表面をAFMで観察した。AFMは、セイコーインスツルメンツ製走査型プローブ顕微鏡SPI3800Nプローブステーション多機能型ユニットSPA-400にて、レプリカ剤を20μm角で撮影した。流路表面が汚れてくると、AFMで観察されるフィルム表面に転写した凹みの深さが増加していることが確認されており、AFM画像から、当該深さにより滴下流路の汚れの進行度合いを評価した。"