板形状を有するガラス基板に形状を付与する形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面の研削工程と、前記主平面の研磨工程と、前記ガラス基板の洗浄工程と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記研磨工程は、両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との間に板形状を有するガラス基板を保持したキャリアを配置し、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨面と下定盤の研磨面を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨するものであり、前記上定盤及び前記下定盤は、内周端と外周端のある円盤形状を有するものであり、ガラス基板を研磨する前の両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状は、内周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をDinとし、外周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をDoutとしたとき、DoutからDinを引いたΔD=Dout-Dinが-30μm~30μmであることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。両面研磨装置を用いたガラス基板の研磨工程は、上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状を形成するドレス処理工程を有し、前記ドレス処理に用いるドレス水の温度Tdは、上定盤の温度Tpに対し、TpからTdを引いたΔTpd=Tp-Tdが-3°C~5°Cである請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。両面研磨装置を用いたガラス基板の研磨工程において、前記研磨液の温度Tsは、上定盤の定盤温度Tpに対し、TsからTpを引いたΔTsp=Ts-Tpが-6°C~10°Cである請求項1または2に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。両面研磨装置を用いたガラス基板の研磨工程において、前記研磨液の温度Tsは、ドレス処理に用いるドレス水の温度Tdに対し、TsからTdを引いたΔTsd=Ts-Tdが-6°C~10°Cである請求項1~3のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。請求項1~4のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法で製造した磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における両主平面の平行度が、3.2μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。請求項1~4のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法で製造した磁気記録媒体用ガラス基板であって、同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の前記平行度のバラツキが、1.5μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。中心部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板は内周側面と外周側面と両主平面とを有し、磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度が、3.2μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く研磨するガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。本発明は、中心部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板は内周側面と外周側面と両主平面とを有し、磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度が、3.2μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。また、ガラス基板を研磨する前の両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状は、内周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をDinとし、外周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をDoutとしたとき、DoutからDinを引いたΔD=Dout-Dinが-30μm~30μmであることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。本発明の研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、板厚の均一性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる。本発明の平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の上に、磁性層などの薄膜を形成して製造した磁気ディスクは、HDDハードディスクドライブ試験において、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触することにより発生する障害をなくすことができる、または低減できる。以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明は以下に記載される実施形態に限らない。まず、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板10の斜視図を図1に、磁気記録媒体用ガラス基板10を切断したものの断面斜視図を図2に示す。図1と図2において各符号は、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面101、内周側面102、外周側面103、内周面取り部104、外周面取り部105をそれぞれ示す。図2中、A1とA6は磁気記録媒体用ガラス基板の外径側領域の板厚、A2とA5は磁気記録媒体用ガラス基板の中間領域の板厚、A3とA4は磁気記録媒体用ガラス基板の内径側領域の板厚をそれぞれ示す。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は、磁気記録媒体用ガラス基板の各領域における板厚例えば、A1~A6が均一であると優れており、各領域における板厚が不均一板厚のバラツキが大きいであると劣るようになる。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は、マイクロメータ、レーザ変位計、レーザ干渉計などの測定機を用いて測定できる。前記測定機の中でも、レーザ干渉計は、光の波長を物差しとしているので高精度に平行度を測定できる。また、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度を、1回のデータ取得で測定できるため、測定効率に優れる。そのため、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度測定機として、レーザ干渉計は好適に使用される。図3に、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度を、本発明の実施例で用いたレーザ干渉計フジノン社製、製品名:平面測定用フィゾー干渉計、G102で測定した例を示した。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度の測定は、両主平面から反射した反射光の位相差により形成される干渉縞を観察し、得られた干渉縞を解析することにより行う。レーザ干渉計で観察される明暗の干渉縞は等高線となっており、その間隔は光源の波長と入射角により決定される。図3のaに、本発明の実施例で用いたレーザ干渉計で観察された干渉縞の本数と、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度との関係を、図3のbに、レーザ干渉計で観察された干渉縞の画像干渉縞本数が、1本、7本、12本の画像を示した。観察される干渉縞本数が少ないほど、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は優れている、つまり、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度を測定した領域の板厚が均一であり、ガラス基板面内の板厚分布に優れることを意味する。観察された干渉縞本数が1本の場合、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は0.32μmであり、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度を測定した領域の板厚分布は0.32μm以下で形成されている。平行度が3.2μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板の干渉縞本数は、10本以下である。磁気記録媒体用ガラス基板の上に、磁性層などの薄膜を形成して製造した磁気ディスクのHDDハードディスクドライブ試験結果を表1に示した。外径側領域における微小うねりWqが0.52nmを超えると、磁気ヘッドの浮上姿勢が乱され、磁気ヘッドが磁気記録媒体に接触して障害が発生する。外径側領域における微小うねりWqの値が小さいほど、磁気ヘッドの浮上姿勢は安定化する。本発明において、微小うねりWqとは、光散乱方式表面観察機を用いて測定する、40μm~5000μm間の周期を有する微小うねりである。微小うねりWqは、波長405nmのレーザ光を測定対象物の表面に60°の角度で入射し、測定対象物からの反射光を検出し、主平面の高さ情報を得て測定する。測定領域は1.0mm幅で、円周方向に一周した領域にて行う。測定領域の円周方向の位置磁気記録媒体用ガラス基板の中心からの位置は、任意に選択できる。本発明者らは、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度と外径側領域における微小うねりWqとの間に相関関係があること見出した。図11に、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度と微小うねりWqの関係を調べた結果を示した。外径側領域の微小うねりWqが0.52nm以下の磁気記録媒体用ガラス基板を得るには、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は3.2μm以下である。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は、3.0μm以下が好ましく、2.8μm以下が更に好ましく、2.5μm以下が特に好ましい。一般に、磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程は、以下の工程を含む。1フロート法またはプレス成形法で成形されたガラス素基板を、円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面に面取り加工を行う。2ガラス基板の上下主平面にラッピング加工を行う。3ガラス基板の側面部と面取り部に端面研磨を行う。4ガラス基板の上下主平面に研磨を行う。研磨工程は、1次研磨のみでも良く、1次研磨と2次研磨を行っても良く、2次研磨の後に3次研磨を行っても良い。5ガラス基板の精密洗浄を行い、磁気記録媒体用ガラス基板を製造する。6磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成し、磁気ディスクを製造する。なお、上記磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程において、各工程間にガラス基板洗浄工程間洗浄やガラス基板表面のエッチング工程間エッチングを実施してもよい。更に、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程例えば、化学強化工程を研磨工程前、または研磨工程後、あるいは研磨工程間で実施してもよい。本発明において、磁気記録媒体用ガラス基板は、アモルファスガラスでもよく、結晶化ガラスでもよく、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラス例えば、化学強化ガラスでもよい。また、本発明のガラス基板のガラス素基板は、フロート法で造られたものでも良く、プレス成形法で造られたものでもよい。本発明は、4ガラス基板の上下主平面に研磨を行う工程に関し、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨加工に係るものである。図4は、両面研磨装置20の概略図である。図4において、10は磁気記録媒体用ガラス基板、30は上定盤の研磨面、40は下定盤の研磨面、50はキャリア、201は上定盤、202は下定盤、203はサンギア、204はインターナルギア、をそれぞれ示す。磁気記録媒体用ガラス基板10は、キャリア50のガラス基板保持部に保持された状態で、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との間に狭持され、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の両主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨する。両面研磨装置20は、サンギア203とインターナルギア204をそれぞれ所定の回転比率で回転駆動することにより、キャリア50を自転させながらサンギア203の周りを公転するように移動させる遊星駆動させるとともに、上定盤201と下定盤202をそれぞれ所定の回転数で回転駆動して、ガラス基板を研磨する。上定盤201と下定盤202のガラス基板と対向する面には、研磨パッドが装着されている。上定盤201と下定盤202に装着された研磨パッドは、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40をそれぞれ所定の形状とするため、ドレス治具を用いてドレス処理が施される。ドレス処理は、ドレス治具と研磨パッドとの間にドレス水を供給するとともに、ドレス治具と研磨パッドを相対的に動かして、研磨パッドの表面上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40となる面を削ることにより行われる。ドレス処理を施した研磨パッドの表面の形状、つまり、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40は、真直度計、ダイヤルゲージ、ストレートエッジと隙間ゲージ、などを用いて測定される。真直度計を用いた研磨面の形状測定は、上定盤201や下定盤202を両面研磨装置に取り付けた状態で計測できる。図5に、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状測定位置を示した。形状測定は、真直度計の測定子が研磨面30、40の内周端X2、X3と外周端X1、X4を通過するように走査させて行う。ガラス基板を研磨する前の上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状の模式的形状断面図を、図6と図7に示した。図6と図7において、Dinは内周端における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、Doutは外周端における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、ΔH1は上定盤の研磨面30の最大高低差、ΔH2は下定盤の研磨面40の最大高低差、をそれぞれ表す。外周端X1とX4より内周端X2、X3が高いときは最大高低差ΔHをプラス値とし、外周端X1とX4より内周端X2、X3が低いときは最大高低差ΔHをマイナス値とする。内周端における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離をDinとし、外周端における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離をDoutとしたとき、DoutからDinを引いたΔD=Dout-Dinは、下定盤の研磨面40の最大高低差ΔH2から上定盤の研磨面30の最大高低差ΔH1を引くことにより求められ、ΔD=Dout-Din=ΔH2-ΔH1となる。図6は、ΔD=Dout-Din>0である研磨面の形状を模式的に表した断面図であり、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、内当り状態の研磨面形状である。図7は、ΔD=Dout-Din<0である研磨面の形状を模式的に表した断面図であり、外周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、外当り状態の研磨面形状である。真直度計を用いて測定した、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状測定結果を図8と図9に示した本発明の実施例。図8と図9において、上段のプロファイルは上定盤の研磨面30の形状測定結果、下段のプロファイルは下定盤の研磨面40の形状測定結果である。研磨面の形状測定結果から、外周端X1とX4を基準点とした最高高さHmaxと最低高さHminを求め、最大高低差ΔH=Hmax-Hminを算出する。図8の例1を用い、研磨面の形状測定結果について更に説明する。例1において、上定盤の研磨面30は、最高高さHmaxは492μm、最低高さHminは-0.1μmであるため、上定盤の研磨面30の最大高低差ΔH1=Hmax-Hminは493μmとなる。例1において、下定盤の研磨面40は、最高高さHmaxは73.2μm、最低高さHminは-1.2μmであるため、下定盤の研磨面30の最大高低差ΔH2=Hmax-Hminは74.4μmとなる。ΔD=Dout-Din=ΔH2-ΔH1は25μmであり、図8の例1の研磨面は、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る内当り状態である図6に示した形状。両面研磨装置20を用いてガラス基板を研磨加工し、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得るには、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状ΔD=Dout-Dinは-30μm~30μmである。ΔDが-30μm未満の場合例えば、-40μm、外周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当るため、ガラス基板に対する研磨加工の圧力が研磨面の外周端側で高くなる。また、研磨されるガラス基板の周速は研磨面の内周端側より外周端側で速くなる。そのため、研磨加工されるガラス基板の研磨量は、研磨面の外周端側を通過するとき多くなり、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロット内で研磨されたガラス基板間の研磨量にバラツキが生じ、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなる。ΔDが30μmを超える場合、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当りすぎてしまい、上定盤201と下定盤202を安定的に回転駆動できず、研磨加工の圧力をガラス基板に対して均一に負荷できなくなり、ガラス基板の研磨量にバラツキが生じ、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなる。ΔD=Dout-Dinは、-25μm~25μmが好ましく、-23μm~23μmが更に好ましく、-10μm~20μmが特に好ましい。ドレス処理は、ドレス治具と研磨面30、40との間にドレス水を供給するとともに、ドレス治具と研磨面30、40を相対的に動かして、研磨面30、40を削ることにより行われる。上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状は、ドレス水の温度Tdと上定盤201の温度Tpの温度差ΔTpdTp-Tdを調整することにより、所定の形状に形成できる。本明細書において、特にことわりのない限り、上定盤201と下定盤202とは、同じ温度に制御されるものとする。ドレス水の温度Tdが上定盤201の温度Tpより低い場合、上定盤201は上定盤の研磨面側で収縮し、下定盤202は下定盤の研磨面側で収縮するため、ドレス処理を行うときの上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状は、外周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、外当り状態の研磨面形状図7に示した形状となる。研磨面を外当り状態としてドレス処理を行うと、研磨面の外周端側が多く削られ、ドレス処理を施した後、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状は、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、内当り状態の研磨面形状図6に示した形状に形成される。ドレス水の温度Tdが上定盤201の温度Tpより高い場合、上定盤201は上定盤の研磨面側で膨張し、下定盤202は下定盤の研磨面側で膨張するため、ドレス処理を行うときの上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状は、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、内当り状態の研磨面形状図6に示した形状となる。研磨面を内当り状態としてドレス処理を行うと、研磨面の内周端側が多く削られ、ドレス処理を施した後、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状は、外周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、外当り状態の研磨面形状図7に示した形状に形成される。上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状ΔD=Dout-Dinを-30μm~30μmに形成するには、ΔTpd=Tp-Tdを-3°C~5°Cとすることが好ましい。ΔTpd=Tp-Tdを-3°C未満例えば、-6°Cでドレス処理すると、形成される上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状は、ΔD=Dout-Dinが30μmを超える研磨面形状となるおそれがあり、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当りすぎてしまい、上定盤201と下定盤202を安定的に回転駆動できず、研磨加工の圧力をガラス基板に対して均一に負荷できなくなり、ガラス基板の研磨量にバラツキが生じ、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。ΔTpd=Tp-Tdが5°Cを超えた状態でドレス処理すると、形成される上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状は、ΔD=Dout-Dinが-30μm未満の研磨面形状となり、外周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当るためにガラス基板に対する研磨加工の圧力が外周端側で高くなる、研磨しているガラス基板の周速が内周端側に比べて外周端側で速くなる、などの理由から、研磨加工される磁気記録媒体用ガラス基板は外周端側を通過するときに研磨量が多くなり、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロットで研磨されたガラス基板間の研磨量にバラツキが生じ、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。ドレス水の温度Tdと上定盤201の温度Tpの温度差ΔTpd=Tp-Tdは、-3°C~5°Cが好ましく、-2°C~4°Cが特に好ましい。ドレス処理により、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状をそれぞれ所定の形状に形成した後、ガラス基板の研磨加工を行う。磁気記録媒体用ガラス基板10は、キャリア50のガラス基板保持部に保持された状態で、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との間に狭持され、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の両主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨する。ガラス基板を研磨加工しているときの上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状は、ガラス基板の両主平面に供給する研磨液の温度Tsと上定盤201の温度Tpの温度差ΔTsp=Ts-Tpを調整することにより制御できる。研磨液の温度Tsが上定盤201の温度Tpより低い場合、上定盤201は上定盤の研磨面側で収縮し、下定盤202は下定盤の研磨面側で収縮するため、ガラス基板を研磨加工しているときの上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状は、外周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、外当り状態の研磨面形状図7に示した形状となる。研磨液の温度Tsが上定盤201の温度Tpより高い場合、上定盤201は上定盤の研磨面側で膨張し、下定盤202は下定盤の研磨面側で膨張するため、ガラス基板を研磨加工しているときの上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状は、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、内当り状態の研磨面形状図6に示した形状となる。ガラス基板の両主平面に供給する研磨液の温度Tsと上定盤201の温度Tpの温度差ΔTsp=Ts-Tpは、-6°C~10°Cが好ましい。ΔTsp=Ts-Tpが-6°C未満例えば、-10°Cでガラス基板を研磨加工すると、外周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当りすぎるため、研磨面の外周端側でガラス基板の研磨量が多くなり、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロットで研磨加工したガラス基板間の研磨量にバラツキが生じ、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。ΔTsp=Ts-Tpが10°Cを超えた状態でガラス基板を研磨加工すると、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当りすぎるため、上定盤201と下定盤202を安定的に回転駆動できず、研磨加工の圧力をガラス基板に対して均一に負荷できなくなり、ガラス基板の研磨量にバラツキが生じ、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。ガラス基板の両主平面に供給する研磨液の温度Tsと上定盤201の温度Tpの温度差ΔTsp=Ts-Tpは、-6°C~10°Cが好ましく、-6°C~8°Cが更に好ましく、-5°C~7°Cが特に好ましい。上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状を所定の形状とするドレス処理で使用するドレス水の温度Tdは、ガラス基板を研磨する前の研磨面の形状に影響を及ぼし、ガラス基板の研磨加工に用いる研磨液の温度Tsは、ガラス基板を研磨しているときの研磨面の形状に影響を及ぼす。そのため、ドレス水の温度Tdと研磨液の温度Tsとの温度差ΔTsd=Ts-Tdは、所定の温度範囲に調整されて、ガラス基板を研磨することが好ましい。ドレス水の温度Tdと研磨液の温度Tsとの温度差ΔTsd=Ts-Tdは、-6°C~10°Cが好ましい。図10に、ドレス水の温度Tdと研磨液の温度Tsとの温度差ΔTsdと、研磨されたガラス基板の平行度との関係を調べた結果を示した実施例。ΔTsd=Ts-Tdが-6°C未満の場合、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。また、ΔTsd=Ts-Tdが10°Cを超える場合、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。ΔTsd=Ts-Tdは、-6°C~10°Cが好ましく、-6°C~8°Cが更に好ましく、-5°C~7°Cが特に好ましい。本発明の研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度が3.2μm以下である、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く製造できる。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は3.2μm以下であり、3.0μm以下が好ましく、2.8μm以下が更に好ましく、2.5μm以下が特に好ましい。更に、本発明の研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の平行度のバラツキが1.5μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く製造できる。同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の両主平面の平行度のバラツキは、1.5μm以下であり、1.2μm以下が好ましく、1.0μm以下が更に好ましく、0.8μm以下が特に好ましい。以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。[磁気記録媒体用ガラス基板の調整]外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmの磁気記録媒体用ガラス基板用に、フロート法で成形されたSiO2を主成分とするガラス基板をドーナツ状円形ガラス基板中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板に加工した。このドーナツ状円形ガラス基板の内周側面と外周側面を、面取り幅0.15mm、面取り角度45°の磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように面取り加工し、その後アルミナ砥粒を用いて、ガラス基板上下主平面のラッピングし、砥粒を洗浄除去した。次に、内周側面と内周面取り部を研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を用いて研磨し、内周側面と内周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように内周端面を研磨加工した。内周端面研磨を行ったガラス基板は、アルカリ性洗剤を用いたスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液への浸漬した状態での超音波洗浄により、砥粒を洗浄除去する。内周端面研磨後のガラス基板の外周側面と外周面取り部を、研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を用いて研磨し、外周側面と外周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように外周端面を研磨加工した。外周端面研磨後のガラス基板は、アルカリ性洗剤を用いたスクラブ洗浄と、アルカリ性洗剤溶液への浸漬した状態での超音波洗浄により、砥粒を洗浄除去される。[磁気記録媒体用ガラス基板の1次~3次研磨]端面加工後のガラス基板は、研磨具として硬質ウレタン製の研磨パッドと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液平均粒子直径、以下、平均粒径と略す、約1.3μmの酸化セリウムを主成分した研磨液組成物を用いて、22B型両面研磨装置スピードファム社製、製品名:DSM22B-6PV-4MH、または16B型両面研磨装置浜井産業社製、製品名:16BF-4M5Pにより上下主平面を1次研磨した。メインの研磨加工圧力は85g/cm2、定盤回転数は30rpm22B型、45rpm16B型とし、研磨量は上下主平面の厚さ方向で計40μmとなるように研磨時間を設定して研磨した。研磨後のガラス基板は、酸化セリウムを洗浄除去した後、平行度を測定した。1次研磨工程において、両面研磨装置の上定盤と下定盤に装着した研磨パッドは、ガラス基板を研磨する前に、ダイヤモンド砥粒を含有するペレットからなるドレス治具を用いてドレス処理し、所定の研磨面に形成させる。ドレス処理を施した研磨パッドの研磨面の形状は、真直度計Hitzハイテクノロジー社製、製品名:HSS-1700を用いて測定した。ドレス処理が施された上定盤と下定盤の研磨面の形状は、研磨面上に真直度計を設置し図5に示したX線上を沿うように、真直度計の測定子が研磨面の外周端X1とX4と内周端X2とX3を通過するように走査させて測定した。ドレス処理を施した研磨パッドの研磨面を真直度計で測定した結果から、上定盤の研磨面の最大高低差ΔH1、下定盤の研磨面の最大高低差ΔH2、ΔD=ΔH2-ΔH1=Dout-Dinを求めた。研磨されたガラス基板の平行度は、レーザ干渉計フジノン社製、製品名:G102を用いて測定した。平行度は、図3に示したように、ガラス基板両主平面からの反射光の位相差により形成される干渉縞本数を観察し、観測された干渉縞本数に0.32を積算し、平行度を算出した。平行度の測定は、外径65mm、内径20mmの磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域を含むように測定領域を設定した。本実施例では、測定領域を、円盤中心部から10.0mm~32.5mmに設定して測定した。平行度は、22B型両面研磨装置で研磨した場合は1ロット180枚につき6枚のガラス基板を抜き取って測定し、16B型両面研磨装置で研磨した場合は1ロット100枚につき5枚のガラス基板を抜き取って測定した。表1の例1~例5に、各研磨面の形状ΔH1、ΔH2、ΔDを有する両面研磨装置で研磨したガラス基板の平行度の測定結果を示す。例2は16B型両面研磨装置でガラス基板を研磨した結果、それ以外の例1、例3、例4、例5は22B型両面研磨装置でガラス基板を研磨した結果である。表1において、例1~例4は実施例、例5は比較例である。また、図8の例1~例5に、ガラス基板を研磨する前の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状測定結果真直度計のプロファイルを示した。両面研磨装置の研磨面の形状を表すΔDが-30μm~30μmである例1~例4において、ガラス基板の平行度は3.2μm以下、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の平行度のバラツキ最大平行度値と最少平行度値との差は1.5μm以下であった。表2の例6~例9に、各上定盤の温度Tpとドレス水の温度Tdで、ドレス処理を行ったときに形成される研磨面の形状ΔH1、ΔH2、ΔDを示した。例7は16B型両面研磨装置、それ以外の例6、例8、例9は22B型両面研磨装置に関する結果である。表2において、例7と例8は実施例、例6と例9は比較例である。本実施例において、ドレス水の温度Tdは、両面研磨装置に供給される前のドレスの温度である。ΔTpd=Tp-Tdが-3°C~5°Cである例7と例8において、ドレス処理後の研磨面の形状ΔDが-30μm~30μmに形成されている。図10に、研磨液の温度Tsとドレス水の温度Tdとの差ΔTsd=Ts-Tdを各温度差に設定し、ガラス基板を研磨したときの、ガラス基板の平行度を示した。本実施例において、研磨液の温度Tsは、両面研磨装置に供給される前の研磨液の温度である。ΔTsdが-6°C~10°Cとなるように研磨液の温度Tsを設定し、研磨されたガラス基板の平行度は3.2μm以下であった。1次研磨後のガラス基板は、研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、上記の酸化セリウム砥粒よりも平均粒径が小さい酸化セリウム砥粒を含有する研磨液平均粒径約0.5μmの酸化セリウムを主成分とする研磨液組成物を用いて、両面研磨装置により上下主平面を研磨し、酸化セリウムを洗浄除去した。2次研磨後のガラス基板は、仕上げ研磨3次研磨を行う。仕上げ研磨3次研磨の研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、コロイダルシリカを含有する研磨液一次粒子の平均粒径が20~30nmのコロイダルシリカを主成分とする研磨液組成物を用いて、両面研磨装置により上下主平面を研磨加工した。3次研磨を行ったガラス基板を、仕上げ研磨の研磨液と同じpHに調整した溶液に浸漬し、アルカリ性洗剤によるスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥した。ガラス基板を洗浄乾燥した後、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度を測定した。磁気記録媒体用ガラス基板の平行度は、1次研磨後のガラス基板と同じ方法で測定した。例1~例4の研磨面の形状を有する両面研磨装置で研磨したガラス基板を、2次研磨、3次研磨して得られた磁気記録媒体用ガラス基板の平行度は1.5μm以下であり、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の平行度のバラツキ最大平行度値と最少平行度値との差は1.0μm以下であった。また、図10に示した、ΔTsdが-6°C~10°Cとなるように研磨液の温度Tsを設定して研磨加工したガラス基板を、2次研磨、3次研磨して得られた磁気記録媒体用ガラス基板の平行度は1.5μm以下であり、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の平行度のバラツキ最大平行度値と最少平行度値との差は1.0μm以下であった。平行度を測定した磁気記録媒体用ガラス基板の微小うねりWqを、光散乱方式表面観察機KLATencor社製、製品名:Candela6100を用いて測定した。微小うねりWqの測定領域は、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面の外径側領域円盤中心部から30.5mm~31.5mmの位置に設定して測定した。磁気記録媒体用ガラス基板の平行度と外径側領域の微小うねりWqをプロットした相関グラフを、図11に示した。平行度が3.5μmを超えると、外径側領域の微小うねりWqが0.52nmを超えるようになる。磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成して製造した磁気ディスクのHDD試験結果を表1に示した。外径側領域における微小うねりWqが0.52nmを超えると、磁気ヘッドの浮上姿勢が乱され、磁気ヘッドが磁気記録媒体に接触し、HDDの障害が発生する。磁気記録媒体用ガラス基板の平行度と外径側領域の微小うねりWqの相関グラフより、HDD試験結果で磁気ヘッドの障害を発生させない磁気記録媒体用ガラス基板の平行度は3.2μm以下であることが分かる。