中心部に円形孔を有する磁気記録媒体用ガラス基板の内周端面を研磨する端面研磨ブラシであって、前記端面研磨ブラシはシャフトにブラシ毛が植毛されており、前記シャフトは、荷重19.6Nを受けた時の最大たわみ量が420μm以下である、端面研磨ブラシ。前記シャフトは、ヤング率が150GPa以上である、請求項1に記載の端面研磨ブラシ。前記シャフトにおける、前記ブラシ毛が植毛されている植毛部は、植毛箇所と非植毛箇所とを備え、前記シャフトの前記植毛箇所の軸方向の長さと前記非植毛箇所の軸方向の長さの合計に対する、前記植毛箇所の軸方向の長さの割合は、25~95である、請求項1又は2に記載の端面研磨ブラシ。内周側面部と、外周側面部と、主表面とを有する、中心部に円形孔を有する円盤状のガラス基板を形成する形状付与工程と、前記ガラス基板の前記内周側面部と前記主表面との交差部に内周面取り部を形成する内周面取り工程と、前記内周側面部と前記内周面取り部を研磨する内周端面研磨工程と、ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、を備え、前記内周端面研磨工程は、前記ガラス基板を複数枚積層し、積層された前記ガラス基板の前記内周側面部及び前記内周面取り部に砥粒を含む研磨液を供給する工程と、シャフトにブラシ毛が植毛されており、前記シャフトは荷重19.6Nをかけた時の最大たわみ量が420μm以下である、端面研磨ブラシを回転させた状態で、前記内周側面部及び前記内周面取り部に接触させる工程と、を含む、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。前記シャフトの直径は、前記円形孔の直径の30~60である、請求項4に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。前記シャフトは、ヤング率が150GPa以上である、請求項4又は5に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。しかしながら、特許文献1の方法では、下向きの荷重をかける機構が必要であり、端面研磨装置が複雑な構成になるという問題点があった。また、ガラス基板積層体内の研磨ばらつき及び鏡面不良の程度が実際に評価されていなかった。そこで、本発明は、複雑な構成の端面研磨装置を使用することなく、内周面取り部と内周側面部とを均一かつ安定的に研磨する端面研磨ブラシを提供することを目的とする。本発明によれば、中心部に円形孔を有する磁気記録媒体用ガラス基板の内周端面を研磨する端面研磨ブラシであって、前記端面研磨ブラシはシャフトにブラシ毛が植毛されており、前記シャフトは、荷重19.6Nをかけた時の最大たわみ量が420μm以下である、端面研磨ブラシ、が提供される。本発明によれば、以下の効果を奏する。複雑な構成の端面研磨装置を使用することなく、内周面取り部と内周側面部とを均一かつ安定的に研磨する端面研磨ブラシを提供できる。以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。まず、本発明の端面研磨ブラシで研磨を施す、磁気記録媒体用ガラス基板の構成を説明する。図1に、ガラス基板の構成を説明するための、斜視断面図の例を示す。図1において、ガラス基板1は、主表面2の中心に円形孔3を有するドーナツ状を呈している。ガラス基板1の外周側の側面は外周端面4であり、円形孔3の側面は内周端面7である。外周端面4は、主表面2に対して90度の角度を有する外周側面部5と、主表面2と外周側面部5とに接する外周面取り部6を含む。また、内周端面7は、主表面2に対して90度の角度を有する内周側面部8と、主表面2と内周側面部8とに接する内周面取り部9を含む。図2に、磁気記録媒体用ガラス基板の内周端面研磨の様子を表す概略図を示す。磁気記録媒体用ガラス基板の内周端面を研磨する場合、通常、複数の円盤形状ガラス基板を、円形孔の位置をあわせて重ね合わせて、ガラス基板積層体を形成する。この時、図2に示すように、隣り合う円盤形状ガラス基板1の間には、例えば、スペーサ10を挿入しても良い。スペーサ10を挿入することで、主表面2と内周面取り部9との間の境界部に、ブラシ毛や研磨液が届きやすくなるため、内周端面7をより均一に研磨できる。また、ガラス基板の主表面への加傷を防止できる。通常、ガラス基板積層体において、スペーサ10の円形孔及びガラス基板の円形孔の中心は、同一の中心軸を有し、この中心軸は、ガラス基板1の主表面2に直交する方向に延びる。スペーサ10の円形孔の内径は、ガラス基板1の主表面2と内周面取り部9との境界部により形成される径よりも若干大きいことが好ましい。スペーサ10の内径を、ガラス基板1の主表面2と内周面取り部9との境界部により形成される径よりも若干大きくすることで、内周面取り部9の全面を均一に研磨できる。さらに、スペーサ10の厚みは、0.2mm~0.5mmであることが好ましい。スペーサ10の厚みが0.2mm未満では、内周面取り部9の全面を均一に研磨することが難しくなるおそれがある。一方、スペーサ10の厚みが0.5mmを超える場合、ガラス基板積層体のサイズが大きくなり、好ましくない。なお、スペーサ10の材質としては、特に限定されず、例えば、ゴム、プラスチック、アルミニウム合金、ステンレス鋼などを使用できる。複数枚積層したガラス基板積層体11は、公知の内周端面研磨装置のガラス基板積層体を保持する保持部に設置される。その後、ガラス基板積層体11の中央部に形成された円形孔3に、後述する端面研磨ブラシ12を挿入して、ガラス基板の内周側面部8と、内周面取り部9にブラシ毛13を当接させる。次に、ガラス基板の内周側面部8と内周面取り部9に、砥粒を含む研磨液を供給する。この状態で、ガラス基板積層体11と端面研磨ブラシ12とを反対方向に回転させて研磨を進行させる。この時、例えば、1.5~2.0mm程度、端面研磨ブラシ12をガラス基板積層体11に対して押し当てても良い。また、端面研磨ブラシ12は、ブラシ挿入方向に往復運動させて研磨を行っても良い。なお、端面研磨ブラシ12を往復運動させる場合における往復距離は、ガラス基板積層体の積層方向の長さに対して15以上であることが好ましい。端面研磨ブラシ12の往復運動させる距離が、ガラス基板積層体の積層方向の長さに対して15未満の場合、研磨ブラシの軸方向での特性のバラツキに起因して、ガラス基板積層体内の研磨量のばらつきが発生することがある。図2においては、6枚の円盤形状ガラス基板を重ね合わせてガラス基板積層体を形成しているが、本発明はこれに限定されない。重ね合わせる複数の円盤形状ガラス基板の枚数としては、特に制限はなく、例えば、100枚、200枚、300枚のガラス基板を重ね合わせてガラス基板積層体を形成できる。一般的には、重ね合わせるガラス基板の枚数を多くすることで、多くのガラス基板を同時に研磨できるため、経済性及び効率性の面より好ましい。[端面研磨ブラシ]図3に、本発明に係る端面研磨ブラシ12の模式的断面図を示す。また、図4に、その拡大断面図を示す。端面研磨ブラシ12は、主として、円柱形状のシャフト14と、シャフト14に設置されたブラシ毛13とを含む。ブラシ毛13は、シャフト14の軸方向に対して概ね直交する方向に植毛されている。円柱形状のシャフト14の軸方向の中心における最大たわみ量δμmは、通常、加える荷重PN、シャフト14の軸方向の長さLmm、シャフトの径r底面の半径mm、構成材料のヤング率EGPaを用いて、下記式1で定義される。δ=PL3/12πr4E式1式1の最大たわみ量を測定する方法として、下記に一例を挙げるが、本発明はこの点において限定されない。シャフトの軸方向の両端から10mm内側を支持し、シャフトの軸方向の中心部にプッシュプルゲージ等により、19.6Nの荷重を加え、中心部の移動距離即ち、最大たわみ量をダイヤルゲージなどで測定する方法などが、挙げられる。本発明の端面研磨ブラシ12においては、シャフト14に荷重19.6Nを付与した場合のたわみ量が、420μm以下であることが好ましく、400μm以下であることがより好ましく、300μm以下であることがさらに好ましく、250μm以下であることが特に好ましい。シャフト14に荷重19.6Nを付与した場合のたわみ量が、420μm以下である端面研磨ブラシを使用することにより、内周端面研磨時にシャフトが撓むことなく、ガラス基板積層体を均一に研磨できる。具体的には、同一のガラス基板積層体ロット内の研磨ばらつきを7μm以下にでき、内周面取り部と内周側面部の、均一かつ安定的な研磨が達成される。この時、シャフトのヤング率E、シャフトの底面の半径r、及び、シャフトの長さLは、シャフトのたわみ量δが、式1に基づく上述の条件を満たしていれば、特に制限されない。端面研磨ブラシ12にブラシ毛13を植毛する方法は、特に限定されず、例えば図3に示すように、ブラシ毛13を植毛したチャンネル部品15をシャフト14に巻きつけて固定する方法が挙げられる。他にも、シャフト14に形成した凹形状の溝に、ブラシ毛13を直接植毛する方法などを採用しても良い。ブラシ毛13を植毛したチャンネル部品15をシャフト14に巻きつけて固定する方法は、端面研磨ブラシ12を設計する場合の自由度が高いため、好ましい。また、シャフト14における、ブラシ毛が植毛されている植毛部18の長さ16以後、植毛長16と呼ぶ図3参照は、ガラス基板積層体11の全長よりも長く設定することが、内周端面研磨を均一に進行でき、かつ、十分な研磨速度を確保できるため好ましい。さらに、植毛部18における、植毛箇所18Aの長さ16Aと、非植毛箇所18Bの長さ16Bと、の合計植毛長16に対する、植毛箇所18Aの長さ16Aの割合植毛箇所の面積率と呼ぶことがあるは、25~95であることが好ましく、30~90であることがより好ましく、30~85であることがさらに好ましい。植毛箇所の面積率が25より低い場合、研磨速度が遅くなることがある。一方、植毛箇所の面積率が95より高い場合、端面研磨ブラシをガラス基板積層体に押し当てた時に、ガラス積層体による反発が大きくなるため、端面研磨ブラシ12のシャフト14がたわんでしまい、内周面取り部の研磨を十分に行えない場合がある。なお、植毛箇所の面積率の測定方法としては、例えば、シャフトの軸方向の単位長さ例えば100mm中における植毛箇所18Aが占める長さを測定して、その測定値から計算により求める方法などが挙げられる。なお、チャンネル部品15を使用する場合、チャンネル部品15に占める植毛箇所の幅、チャンネル部品15のピッチ幅19等は、植毛箇所の面積率が25~95となれば、特に制限されない。シャフト、ブラシ毛、チャンネル部品を含む端面研磨ブラシ12の外径20は、内周端面研磨を行うガラス基板の円形孔の直径よりも大きくても良く、小さくても良い。端面研磨ブラシ12の外径20が、ガラス基板の円形孔の直径よりも小さい場合、端面研磨ブラシ12をガラス基板の内周端面に接触するまで移動させる必要がある。ブラシ毛の長さ21が長すぎる場合、ブラシ毛をガラス基板の内周端面に適切な押圧で接触できなくなり、研磨速度が低下することがある。一方、ブラシ毛の長さが短すぎる場合、ガラス基板の内周面取り部の奥までブラシ毛を確実に届かせることが困難となるために、内周面取り部の研磨が十分に進行しない場合がある。そのため、シャフトの径、端面研磨ブラシ12の外径20、ガラス基板の円形孔の直径、チャンネル部品の高さ17、並びに、後述するブラシ毛の材質、線径等に応じて、適切なブラシ毛の長さを選択することが重要となる。ブラシ毛の材質としては、ナイロン繊維、ポリプロピレン繊維、塩化ビニル繊維、ポリブチレンテレフタレート繊維などの化学合成繊維、豚や馬などの動物の毛、ピアノ線やステンレス繊維などの金属線、炭素繊維などの従来のブラシ毛の中から、当業者が適宜選択できるものである。ブラシ毛の線径は、前述のブラシ毛の長さなどにも依存するが、通常、0.1mm~0.3mmであることが好ましい。ブラシ毛の線径が0.1mm未満の場合、ブラシ毛をガラス基板の内周端面に適切な押圧で接触できなくなり、研磨速度が低下することがある。さらに、ブラシ毛の経時変化が大きくなる場合がある。一方、ブラシ毛の線径が0.3mmを越える場合、ガラス基板の内周面取り部の奥までブラシ毛を確実に届かせることが困難となるために、内周面取り部の研磨が十分に進行しない場合がある。[研磨液]本発明の端面研磨ブラシを使用して研磨する際の、研磨液としては、特に制限されない。一例を挙げると、下記で挙げる砥粒を、水又は水溶性有機溶媒に、分散させて得る。研磨液には、必要に応じて、分散剤、pH調整剤、粘度調整剤、キレート化剤などを添加できる。研磨液に含まれる砥粒としては、特に限定されず、例えば、酸化セリウムなどの希土類酸化物、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、炭化ケイ素、酸化マンガン、酸化鉄、ダイヤモンド、窒化ホウ素及びジルコンなどの砥粒を含む研磨液を使用できる。上述した砥粒の中でも、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、ジルコンを含む砥粒を使用することが好ましい。これらの砥粒は、1種類を単独で使用しても良く、2種類以上を併用して使用しても良い。砥粒の平均粒子直径D50としては、特に限定されず、通常0.5μm~5μmであり、好ましくは0.5μm~2μmであり、より好ましくは0.7μm~1.5μmである。[磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法]以下、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法について説明する。本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、本発明の端面研磨ブラシを使用して内周端面研磨すれば、他の工程は、特に制限されない。一例を挙げると、一般的に、磁気記録媒体用ガラス基板は、1ガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する形状付与工程、2ガラス基板の外周端面を研磨する外周端面研磨工程、3ガラス基板の内周端面を研磨する。内周端面研磨工程、4ガラス基板の上下両主平面を研磨する主平面研磨工程、5ガラス基板を精密洗浄して乾燥し、磁気記録媒体用ガラス基板を得る洗浄工程、等の工程により製造される。本発明は上記方法に限定されないが、3の内周端面研磨工程では、本発明の端面研磨ブラシを用いてガラス基板の内周端面を研磨する。2外周端面研磨工程と3内周端面研磨工程とは、どちらの工程を先に実施しても良い。また、2及び3の端面研磨工程の前後のうち少なくとも一方で、主平面のラップ例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなどを実施しても良く、各工程間にガラス基板の洗浄工程間洗浄やガラス基板表面のエッチング工程間エッチングを実施しても良い。なお、ここで言う主平面のラップは、広義の主平面の研磨である。研磨工程は、1次研磨のみでも良く、1次研磨と2次研磨を行っても良く、2次研磨の後に3次研磨を行っても良い。本発明において、磁気記録媒体用ガラス基板は、アモルファスガラスでも良く、結晶化ガラスでも良く、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラス例えば、化学強化ガラスでも良い。一例を挙げると、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程例えば、化学強化工程を実施する。強化工程は、最初の研磨工程前、最後の研磨工程後、又は各研磨工程間のいずれで実施しても良い。また、本発明のガラス基板のガラス素基板は、フロート法、フュージョン法、リドロー法、プレス成形法などの方法により作製されるが、本発明はこの点で限定されない。下記に、ガラス基板の2外周端面研磨工程、4主平面研磨工程及び5洗浄工程について、一例を挙げるが、本発明はこれに限定されない。2の外周端面研磨工程では、ガラス基板の外周側面と外周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように加工する。この時、例えば、研磨ブラシと砥粒を含有する研磨液を用いて研磨できる。研磨液に含まれる砥粒としては、特に限定されず、例えば、酸化セリウムなどの希土類酸化物、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、炭化ケイ素、酸化マンガン、酸化鉄、ダイヤモンド、窒化ホウ素及びジルコンなどの砥粒を含む研磨液を使用できる。上述した砥粒の中でも、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、ジルコンを含む砥粒を使用することが好ましい。これらの砥粒は、1種類を単独で使用しても良く、2種類以上を併用して使用しても良い。砥粒の平均粒子直径D50としては、特に限定されず、通常0.5μm~5μmであり、好ましくは0.5μm~2μmであり、より好ましくは0.7μm~1.5μmである。外周端面研磨工程後は、酸化セリウムを洗浄除去して次の工程に供する。4の主平面研磨工程では、例えば、研磨具として硬質ウレタンパッドと酸化セリウム砥粒を含有した研磨液を用いて、両面研磨装置により上下主平面の研磨加工を行っても良い。また、例えば、研磨具として軟質ウレタンパッドと酸化セリウム砥粒前記酸化セリウム砥粒よりも平均粒径が小さい酸化セリウム砥粒を用いても良いを含有した研磨液を用いて、両面研磨装置により上下主平面の研磨加工を行っても良い。さらに、研磨具として軟質ウレタンパッドと、一次粒子の平均粒径が20~30nm程度のコロイダルシリカを主成分とする研磨液組成物等を用いて、両面研磨装置により上下主平面の仕上げ研磨加工を行う。5の洗浄工程では、仕上げ研磨後のガラス基板を、洗剤を用いたスクラブ洗浄、洗剤溶液へ浸漬した状態での超音波洗浄、純水へ浸漬した状態での超音波洗浄等を順次行い、イソプロピルアルコール等の蒸気により乾燥する。上記方法により得られた磁気記録媒体用ガラス基板の上に、下地層、磁性層、保護層、潤滑層などの層を積層することで、磁気ディスクを製造できる。各層の積層方法などは、従来の方法などを適宜使用できる。磁気ディスクのサイズとしては、特に限定されず、例えば、0.85インチ型磁気ディスク内径6mm、外径21.6mm、板厚0.381mm、1.0インチ型磁気ディスク内径7mm、外径27.4mm、板厚0.381mm、1.8インチ型磁気ディスク内径12mm、外径48mm、板厚0.508mm、2.5インチ型磁気ディスク内径20mm、外径65mm、板厚0.635mm、0.8mm等の、種々の大きさの磁気ディスクを製造できる。実施例1以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。実施例及び比較例の内周端面研磨で使用した端面研磨ブラシのたわみ量は、シャフトの軸方向の両端から10mm内側を固定して、シャフトの中心部にプッシュプルゲージにより19.6Nの荷重を印加し、シャフト中心部の移動距離をダイヤルゲージで測定した値を使用した。また、実施例及び比較例で使用した端面研磨ブラシは、チャンネル高さが2.5mm、ブラシ毛の長さが3.7mm、ブラシ毛の線径が0.2mm、植毛部の面積率が30のものを使用した。さらに、研磨液としては、平均粒径1.4μmの酸化セリウム砥粒を主成分とし、比重を1.2に調製した研磨液を用いた。下記に、詳細な研磨手順を記す。フロート法で成形されたSiO2を主成分とするガラス板を、外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmの磁気記録媒体用ガラス基板が得られるような、中央部に円孔を有する円盤形状に加工した。この中央部に円孔を有する円盤状ガラス基板の内周側面および外周側面を、最終製品である磁気記録媒体用ガラス基板としたときの面取り幅0.15mm、面取り角度45°となるように面取り加工した。その後、ガラス基板の上下主平面を、アルミナ砥粒平均粒径7~7.5μmを用いて研削ラッピングした後、砥粒を洗浄除去した。次に、ガラス基板を、アライメント治具を用いて積層し、ガラス基板積層体を形成した。なお、ガラス基板とガラス基板との間には、厚さ0.2mmの樹脂製スペーサを挿入し、合計200枚のガラス板を重ね合わせ、ガラス基板積層体を形成した。得られたガラス基板積層体を、内周端面研磨用の治具に挿入し、ガラス基板積層体の上下方向から締め付けて固定下の地、アライメント治具をガラス基板積層体から取り外した。このガラス基板積層体を、内周端面研磨装置ユーティーケーシステム社製、製品名:BTK-08の被研磨体保持部に設置し、ガラス基板積層体の中央部の円形孔に端面研磨ブラシを挿入した。使用した端面研磨ブラシは、ヤング率が206GPa、端面研磨ブラシのシャフト部の長さが375mm、ガラス基板の円形孔の直径に対しシャフトの直径が50、前述の方法で測定したたわみ量が210μmであった。端面研磨ブラシをガラス基板積層体の円形孔の中心から一方向に移動させ、ブラシ毛をガラス基板積層体の内周側面部と内周面取り部に一定量押し込んだ。上述の研磨液をガラス基板積層体の内周端面部に供給し、研磨ブラシとガラス基板積層体を反対方向に回転させ、さらに、端面研磨ブラシをガラス基板積層体の積層方向に揺動させながら研磨した。なお、本実施例及び比較例においては、研磨液を7~8L/min、研磨ブラシの回転速度を2500rpm、ガラス基板積層体の回転速度を39rpm、揺動速度を100~1500mm/minに設定し、内周側面部の研磨量が25μm片面では12.5μmとなるまで研磨を行った。内周端面研磨後、ガラス基板積層体を内周端面研磨用の治具から取り外し、ガラス基板積層体からガラス基板を1枚毎に分離した。分離されたガラス基板は、砥粒を洗浄除去し、下記の評価方法に供した。実施例2使用した端面研磨ブラシは、ヤング率が199GPa、端面研磨ブラシのシャフト部の長さが375mm、ガラス基板の円形孔の直径に対しシャフトの直径が50、前述の方法で測定したたわみ量が220μmであった以外は、実施例1と同様の工程で研磨を行った。実施例3使用した端面研磨ブラシは、ヤング率が199GPa、端面研磨ブラシのシャフト部の長さが230mm、ガラス基板の円形孔の直径に対しシャフトの直径が40、前述の方法で測定したたわみ量が120μmであった以外は、実施例1と同様の工程で研磨を行った。実施例4使用した端面研磨ブラシは、ヤング率が199GPa、端面研磨ブラシのシャフト部の長さが230mm、ガラス基板の円形孔の直径に対しシャフトの直径が30、前述の方法で測定したたわみ量が390μmであった以外は、実施例1と同様の工程で研磨を行った。比較例1使用した端面研磨ブラシは、ヤング率が101GPa、端面研磨ブラシのシャフト部の長さが375mm、ガラス基板の円形孔の直径に対しシャフトの直径が50、前述の方法で測定したたわみ量が430μmであった以外は、実施例1と同様の工程で研磨を行った。比較例2使用した端面研磨ブラシは、ヤング率が69GPa、端面研磨ブラシのシャフト部の長さが375mm、ガラス基板の円形孔の直径に対しシャフトの直径が50、前述の方法で測定したたわみ量が640μmであった以外は、実施例1と同様の工程で研磨を行った。[評価]研磨量の差研磨量は、端面研磨前のガラス基板と、端面研磨後に得られたガラス基板を洗浄乾燥したものとを、高精度2次元寸法測定機キーエンス社製、製品名:VM8040を用いて測定した。具体的には、ガラス基板中央部の円形孔の直径を、内周側面部で測定し、端面研磨前後の円形孔直径差を研磨量とした。200枚のガラス基板積層体ロットから、任意に20枚抜き取り、上述の研磨量を測定し、その最大値と最小値の差を同一ロット内の研磨量の差と定義した。ピット欠陥数研磨後のガラス基板の内周端面を、フッ酸と硝酸を含む酸性のエッチング溶液を用いて、ガラス基板を深さ方向に5μmエッチングする。これにより、加工変質層キズを、観察しやすいピット欠陥とすることができる。この後、洗浄と乾燥を行う。最後に、ガラス基板を切断して、ピット欠陥数を評価しやすいサイズにして、内周側面部8及び内周面取り部9を含むピット欠陥数観察試料を作製した。ピット欠陥数は、光学顕微鏡オリンパス社製、明視野微分干渉金属顕微鏡BX60Mを用いてカウントし、評価した。各観察試料を試料台に固定し、内周側面部8又は内周面取り部9の面が、光学顕微鏡の対物レンズのレンズ面に対して平行となるように固定した。光学顕微鏡の対物レンズは20倍を使用し、観察視野を480μm×328μmとして、直径が10μm以上の円形状又は楕円形状のピット欠陥の数をカウントした。そして、計測したピット欠陥数を観察面積で除した数値を算出した。200枚のガラス基板積層体ロットにおいて、おおよそ上部、中部、下部と分類し、分類された各々の場所から、任意に3枚抜き取り、上述の方法で計測し、その数値の平均をピット欠陥数とした。通常、得られた数値が5個/mm2より小さくなる研磨方法が好ましく、5個/mm2以上のものを含む研磨方法は好ましくない。本発明の端面研磨ブラシは、荷重19.6Nを付与した場合のたわみ量が420μm以下であるため、ガラス基板の内周面取り部と内周側面部とを均一かつ安定的に研磨できる。