極端紫外光の光源部で生成された複数の光パルスの光強度値の第1の時系列データを生成する工程と、前記光強度値に影響を与える複数種類のパラメータそれぞれの第2の時系列データを生成する工程と、前記第1の時系列データ及び前記第2の時系列データに対する主成分分析を行って、前記複数種類のパラメータそれぞれについて固有ベクトルを算出する工程と、前記算出された固有ベクトルと予め求められた基準固有ベクトルとの同等性に基づいて異常の判定を行う工程と、前記異常の判定結果に基づいて前記光源部の発光を停止させるか否かを判断する工程と、を備え、前記異常の判定を行う工程は、前記固有ベクトルが所定の条件を満たしていないパラメータに関連した異常が生じたとの判定を行う工程を含み、前記パラメータは、前記光源部の電極に印加される電圧、前記光源部が設けられたチャンバ内に供給されるガスの流量、前記光源部が設けられたチャンバ内の圧力、前記光源部に設けられた集光鏡の温度、前記光源部に設けられた集光鏡の光反射率、前記光源部に設けられたデブリ捕捉用のトラップの光透過率を含むことを特徴とする極端紫外光発生装置の異常検出方法。極端紫外光の光源部で生成された複数の光パルスの光強度値の第1の時系列データを生成する工程と、前記光強度値に影響を与える複数種類のパラメータそれぞれの第2の時系列データを生成する工程と、前記第1の時系列データ及び前記第2の時系列データに対する主成分分析を行って、前記複数種類のパラメータそれぞれについて固有ベクトルを算出する工程と、前記算出された固有ベクトルに基づいて異常の判定を行う工程と、を備えたことを特徴とする極端紫外光発生装置の異常検出方法。前記異常の判定を行う工程は、前記固有ベクトルが所定の条件を満たしていないパラメータに関連した異常が生じたとの判定を行う工程を含むことを特徴とする請求項2に記載の異常検出方法。前記異常の判定は、前記固有ベクトルと予め求められた基準固有ベクトルとの同等性に基づいて行われることを特徴とする請求項2に記載の異常検出方法。前記パラメータは、前記光源部の電極に印加される電圧、前記光源部が設けられたチャンバ内に供給されるガスの流量、前記光源部が設けられたチャンバ内の圧力、前記光源部に設けられた集光鏡の温度、前記光源部に設けられた集光鏡の光反射率、前記光源部に設けられたデブリ捕捉用のトラップの光透過率を含むことを特徴とする請求項2に記載の異常検出方法。前記異常の判定結果に基づいて前記光源部の発光を停止させるか否かを判断する工程をさらに備えたことを特徴とする請求項2に記載の異常検出方法。極端紫外光の光源部で生成された複数の光パルスの光強度値の第1の時系列データを生成する第1の時系列データ生成部と、前記光強度値に影響を与える複数種類のパラメータそれぞれの第2の時系列データを生成する第2の時系列データ生成部と、前記第1の時系列データ及び前記第2の時系列データに対する主成分分析を行って、前記複数種類のパラメータそれぞれについて固有ベクトルを算出する主成分分析部と、前記算出された固有ベクトルに基づいて異常の判定を行う異常判定部と、を備えたことを特徴とする極端紫外光発生装置の異常検出装置。異常を迅速かつ的確に把握することが可能な極端紫外光発生装置の異常検出方法及び異常検出装置を提供する。実施形態に係る極端紫外光発生装置の異常検出方法は、極端紫外光の光源部で生成された複数の光パルスの光強度値の第1の時系列データを生成する工程と、前記光強度値に影響を与える複数種類のパラメータそれぞれの第2の時系列データを生成する工程と、前記第1の時系列データ及び前記第2の時系列データに対する主成分分析を行って、前記複数種類のパラメータそれぞれについて固有ベクトルを算出する工程と、前記算出された固有ベクトルに基づいて異常の判定を行う工程と、を備える。以下、実施形態を図面を参照して説明する。図1は、実施形態に係る極端紫外光発生装置の異常検出方法及び異常検出装置が適用される露光装置の構成を模式的に示した図である。図1に示された装置は、極端紫外EUV光を用いた反射型の露光装置であり、光源部10、照明光学系20、投影光学系30及びウェハステージ40を備えている。すなわち、光源部10から照明光学系20を介して反射型フォトマスク50にEUV光が照射され、反射型フォトマスク50で反射された光が投影光学系30を介してウェハ60上に結像される。光源部10は、電源11、キャパシタ12、アノード13、カソード14、フォイルトラップDMT15及びコレクタ16を備えており、アノード13とカソード14との間に大電流を流すことでプラズマ17が発生する。この光源部10の詳細については、後述する。照明光学系20とフォトマスク50との間には露光量センサ70が配置されており、この露光量センサ70によって光源部10からのEUV光の強度が検出される。ウェハステージ40上には、照度計80が配置されている。また、露光量センサ70には、異常検出部90が接続されている。この異常検出部90の詳細については後述する。図2は、放電プラズマDPP方式の光源部10の詳細な構成を模式的に示した図である。真空チャンバ図示せず内には、電極101及び電極102が配置されており、電極101及び電極102間には絶縁体103が設けられている。電極101及び電極102の一方はアノードであり、他方はカソードである。電極101、電極102及び絶縁体103によって放電部が構成される。キセノンガス104を放電部に供給しながら、電極101及び電極102間に大電流を流すと、放電プラズマが発生する。このとき、電流を取り囲む磁場も発生する。磁場と電流とが相互作用をし、電流には中心方向に向かう磁気圧がかかる。その結果、放電部の略中心貫通穴の中心でプラズマが圧縮され、EUV放射に必要な温度及び密度を有するプラズマが生成される。このような大電流で発生する自己磁場によってプラズマが収束ピンチする放電は、ピンチ放電と呼ばれる。このピンチ放電では、電子温度が92eV程度で、イオン密度が1017~1018/cm2程度の、波長13.5nmの発光に適したプラズマが得られる。ピンチ放電によって発生したプラズマ105からは、EUV光が放射される。EUV光は、集光鏡106を介して露光機側光学系図示せずに向けて放射される。集光鏡106は、回転楕円形状、回転放物形状或いは回転双曲面形状を有しており、ニッケルなどの金属材料で形成されている。集光鏡106の反射面には、EUV光を効率的に反射するために、ルテニウムやパラジウムなどの金属がコーティングされており、25度以下の入射角度のEUV光を良好に反射することができる。放電部で発生した高温プラズマからEUV光が放射される際に、放電部からはデブリが放出され、放出されたデブリはチャンバ内に飛散する。デブリには、高温プラズマによって侵食された放電部電極101、電極102及び絶縁体103からの生成物や、放電に寄与して分解された原料、放電に寄与せずに排出された原料、及びこれらの原料の反応生成物などが含まれる。プラズマ105と集光鏡106との間には、このようなデブリを捕捉するためにフォイルトラップDMT108が配置されている。また、デブリを減速させるためのガスカーテン用のガス供給部107が設けられている。図3は、図1に示した異常検出部90EUV光発生装置の異常検出装置の基本的な構成を示したブロック図である。図4は、図1に示した異常検出部90で行われる基本的な動作を示したフローチャートである。以下、図3及び図4を参照して、異常検出部90の構成機能及び動作等について説明する。図1に示した露光装置には、図3に示すように、露光量センサ光強度センサ70が設けられており、この露光量センサ70によってEUV光の強度が検出される。また、図1に示した露光装置には、図3に示すように、各種物理量を検出する物理量センサ7272-1、72-2、.........、72-mが設けられている。これらの物理量センサ7272-1、72-2、.........、72-mでは、光源部10で生成される光パルスの光強度値に影響を与える各種物理量各種パラメータが検出される。物理量パラメータとしては、光源部10の電極アノード、カソードに印加される電圧、光源部10が設けられたチャンバ内に供給されるガスキセノンガス等の流量、光源部10が設けられたチャンバ内の圧力、光源部10に設けられた集光鏡の温度、光源部10に設けられた集光鏡の光反射率、光源部10に設けられたデブリ捕捉用のトラップフォイルトラップDMTの光透過率、等が含まれる。これらの物理量パラメータは、露光装置の状態を代表するものであるため、状態量とも呼ばれる。放電プラズマDPP方式の光源はパルス発光型の光源であるため、露光量センサ70からは光源部10で生成された複数の光パルスの光強度値が順次出力される。露光量センサ70から出力された光強度値は、異常検出部90の時系列データ生成部91に入力する。時系列データ生成部91では、露光量センサ70から出力された光強度値の時系列データが生成されるS1。すなわち、時系列データ生成部91では、光源部10で生成された複数の光パルスの光強度値の第1の時系列データが生成される。図5は、光強度値の時系列データの一例を示したものである。横軸は時間であり、縦軸は各光パルスの強度を示している。一方、物理量センサ7272-1、72-2、.........、72-mからは、上述したような各種物理量各種状態量、各種パラメータの値が順次出力される。物理量センサ7272-1、72-2、.........、72-mから出力された各種物理量の値は、異常検出部90の時系列データ生成部9292-1、92-2、.........、92-mに入力する。時系列データ生成部9292-1、92-2、.........、92-mでは、物理量センサ7272-1、72-2、.........、72-mから出力された各物理量の値の時系列データが生成されるS2。すなわち、時系列データ生成部9292-1、92-2、.........、92-mでは、物理量センサ7272-1、72-2、.........、72-mで生成された複数種類のパラメータそれぞれの第2の時系列データが生成される。図6は、物理量状態量、パラメータの時系列データの一例を示したものである。横軸は時間であり、縦軸は物理量を示している。ここでは、物理量として光源部10の電極間に印加するための充電電圧を示している。時系列データ生成部9292-1、92-2、.........、92-mでは、充電電圧の他にも、上述したような各種物理量の時系列データが生成される。時系列データ生成部91では、一定期間P毎に光パルスの時系列データを生成する。時系列データ生成部92では、上記一定期間P毎に各種物理量の各時系列データを、上記光パルスの生成に同期して生成する。時系列データ生成部91及び時系列データ生成部92で生成された時系列データは、予め決められたフォーマットにしたがって記憶部に保存される。主成分分析部93では、時系列データ生成部91で生成された時系列データ及び時系列データ生成部92で生成された時系列データに対する主成分分析を行って、複数種類の物理量パラメータそれぞれについて固有ベクトルを算出するS3。具体的には、時系列データ生成部91からは、一定期間P毎に、n個の光パルスの光強度値の時系列データが読み出される。すなわち、各時系列データ生成部9292-1、92-2、.........、92-mからは、一定期間P毎に、n個の光パルスに対応したn個の物理量の値の時系列データが読み出される。ここで、主成分分析部93で行われる主成分分析について説明する。本実施形態の主成分分析では、光パルスの強度値標本数n個とm種類の物理量の値それぞれ標本数n個との間の主成分分析が行われ、光パルスと各物理量との間の関係がそれぞれ求められる。主成分分析により、分散相関を最大にする分散共分散行列相関係数行列の固有値及び固有ベクトルが求められる。すなわち、分散が最大となる座標系への変換係数固有ベクトルが求められる。固有ベクトルが主成分に対応し、固有値の大きさが対応する固有ベクトルに含まれる情報量を決める。図7は、図5に示した光強度値の時系列データと、図6に示した物理量充電電圧の時系列データとの関係を示したものである。横軸は充電電圧に対応し、縦軸は光強度値に対応している。図8は、主成分分析を用いて図7の関係を変換したものである。分散が最大となる軸が選ばれていることがわかる。異常判定部94では、S3のステップで算出された固有ベクトルに基づいて異常の判定が行われるS4。具体的には、異常の判定は、固有ベクトルと予め求められた基準固有ベクトルとの同等性に基づいて行われる。同等性の判断は、各物理量パラメータについて算出された固有ベクトル毎に行われる。所定の条件を満たしていない同等性を満たしていない固有ベクトルがあれば、露光装置特に発光部に異常が生じたと判断される。より具体的には、固有ベクトルが所定の条件を満たしていない同等性を満たしていないパラメータに関連した異常が露光装置に生じたとの判定が行われる。例えば、光強度及び充電電圧に対する固有ベクトルが所定の条件を満たしていない場合には、充電電圧に関連した異常が生じたとの判定が行われる。異常の判定同等性の判定には、統計的検定法を用いることができる。図9は、固有ベクトルの同等性の求め方の一例を示した図である。光源部の発光が開始された後、発光が安定すると、基準固有ベクトル取得期間になる。基準固有ベクトル取得期間では、m個の物理量パラメータそれぞれについて固有ベクトル基準固有ベクトルが求められる。基準固有ベクトル取得期間の後、一定期間P毎にm個の物理量パラメータそれぞれについて固有ベクトルが求められる。そして、一定期間P毎に同等性の判断が行われる。図10は、固有ベクトルの同等性の求め方の他の例を示した図である。本例では、基準固有ベクトル取得期間をシフトさせるようにしている。すなわち、図10に示すように、同等性を求める期間よりも前の複数期間を基準固有ベクトル取得期間とし、同等性を求める期間が次の期間に移った場合には、基準固有ベクトル取得期間を1期間分、シフトさせるようにする。発光停止判断部95では、異常判定部94での判定結果に基づいて、光源部の発光を停止させるか否かを判断するS5。例えば、1つの期間Pにおいて、所定の条件を満たしていない同等性を満たしていない固有ベクトルがあれば、発光を停止させる旨の判断をする。また、複数の連続した期間にわたって、所定の条件を満たしていない同等性を満たしていない固有ベクトルがあった場合に、発光を停止させる旨の判断をするようにしてもよい。この判断結果は、発光停止判断部95から外部に送出される。発光停止判断部95での判断結果に基づき、光源部の発光を自動的に停止するようにしてもよいし、オペレータが光源部の発光を停止するようにしてもよい。以上のように、本実施形態では、光パルスの光強度値の第1の時系列データを生成し、光強度値に影響を与える複数種類のパラメータそれぞれの第2の時系列データを生成し、第1の時系列データ及び第2の時系列データに対する主成分分析を行って、複数種類のパラメータそれぞれに対する固有ベクトルを算出する。これにより、極端紫外光発生装置の異常を迅速かつ的確に把握することが可能となり、露光装置の停止時間が長くなるといった問題や、露光装置の重大なトラブルを招くといった問題を防止することができる。その結果、半導体装置の生産性を高く維持することが可能となる。また、本実施形態では、複数種類のパラメータ物理量に対して主成分分析を行うことにより、どのパラメータに関連した異常が生じたかを的確に判断することができる。これにより、異常の原因を的確に把握することができ、上述した効果をより奏することが可能となる。なお、上述した実施形態は種々の変更が可能である。上述した実施形態では、EUV光源として放電プラズマDPP方式を用いた場合について説明したが、EUV光源としてレーザー生成プラズマLPP方式を用いた場合にも、上述した効果と同様の効果を得ることが可能である。本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。