"検査対象と測定点とを含む平面状の基板に対して互いに方向が異なる第1照射方向および第2照射方向に放射線が照射されるように、前記基板が保持される保持基準位置と放射線発生器の焦点位置との少なくとも一方を移動させる移動制御手段と、前記放射線発生器の焦点位置の前記保持基準位置に対する相対位置である相対焦点位置を取得する相対焦点位置取得手段と、前記測定点の透過像の投影位置の前記保持基準位置に対する相対位置である相対投影位置を取得する相対投影位置取得手段と、前記基板に対して前記第1照射方向に放射線を照射した場合における前記相対焦点位置と前記相対投影位置とを結ぶ直線と、前記基板に対して前記第2照射方向に放射線を照射した場合における前記相対焦点位置と前記相対投影位置とを結ぶ直線との交点の位置を前記測定点の位置として特定する測定点位置特定手段と、前記測定点の位置に基づいて特定した前記検査対象の位置について検査を実行する検査手段と、を備える基板検査装置。前記検査手段は、前記基板が含む複数の前記測定点のそれぞれについての位置を近似する近似関数を特定し、当該近似関数に基づいて前記検査対象の位置を特定する、請求項1に記載の基板検査装置。検査対象と測定点とを含む平面状の基板に対して互いに方向が異なる第1照射方向および第2照射方向に放射線が照射されるように、前記基板が保持される保持基準位置と放射線発生器の焦点位置との少なくとも一方を移動させる移動制御工程と、前記放射線発生器の焦点位置の前記保持基準位置に対する相対位置である相対焦点位置を取得する相対焦点位置取得工程と、前記測定点の透過像の投影位置の前記保持基準位置に対する相対位置である相対投影位置を取得する相対投影位置取得工程と、前記基板に対して前記第1照射方向に放射線を照射した場合における前記相対焦点位置と前記相対投影位置とを結ぶ直線と、前記基板に対して前記第2照射方向に放射線を照射した場合における前記相対焦点位置と前記相対投影位置とを結ぶ直線との交点の位置を前記測定点の位置として特定する測定点位置特定工程と、前記測定点の位置に基づいて特定した前記検査対象の位置について検査を実行する検査工程と、を含む基板検査方法。検査対象と測定点とを含む平面状の基板に対して互いに方向が異なる第1照射方向および第2照射方向に放射線が照射されるように、前記基板が保持される保持基準位置と放射線発生器の焦点位置との少なくとも一方を移動させる移動制御機能と、前記放射線発生器の焦点位置の前記保持基準位置に対する相対位置である相対焦点位置を取得する相対焦点位置取得機能と、前記測定点の透過像の投影位置の前記保持基準位置に対する相対位置である相対投影位置を取得する相対投影位置取得機能と、前記基板に対して前記第1照射方向に放射線を照射した場合における前記相対焦点位置と前記相対投影位置とを結ぶ直線と、前記基板に対して前記第2照射方向に放射線を照射した場合における前記相対焦点位置と前記相対投影位置とを結ぶ直線との交点の位置を前記測定点の位置として特定する測定点位置特定機能と、前記測定点の位置に基づいて特定した前記検査対象の位置について検査を実行する検査機能と、をコンピュータに実行させる基板検査プログラム。特許文献1では、高さ方向のみの変位に対しては補正が可能であるが、CT等による3次元検査で重要な基板の傾斜を含む変位に対しては対応できないといった問題があった。本発明は、前記課題を解決せんとするもので、基板が含む検査対象に3次元的な変位が生じても、検査対象の正確な位置に基づいて検査を実行させる技術を提供することを目的とする。前記の目的を達成するため、本発明の基板検査装置において、移動制御手段は、検査対象と測定点とを含む平面状の基板に対して互いに方向が異なる第1照射方向および第2照射方向に放射線が照射されるように、基板が保持される保持基準位置と放射線発生器の焦点位置との少なくとも一方を移動させる。相対焦点位置取得手段は、放射線発生器の焦点位置の保持基準位置に対する相対位置である相対焦点位置を取得する。相対投影位置取得手段は、測定点の透過像の投影位置の保持基準位置に対する相対位置である相対投影位置を取得する。測定点位置特定手段は、第1照射方向に放射線を照射した場合における相対焦点位置と相対投影位置とを結ぶ第1直線と、第2照射方向に放射線を照射した場合における相対焦点位置と相対投影位置とを結ぶ第2直線との交点の位置を測定点の位置として特定する。そして、検査手段は、測定点の位置に基づいて特定した検査対象の位置について検査を実行する。前記の構成において、基板に対して第1照射方向に放射線を照射した場合と、基板に対して第2照射方向に放射線を照射した場合とのいずれにおいても、測定点は相対焦点位置と相対投影位置とを結ぶ直線上に存在する。従って、第1照射方向に放射線を照射した場合における相対焦点位置と相対投影位置とを結ぶ第1直線と、第2照射方向に放射線を照射した場合における相対焦点位置と相対投影位置とを結ぶ第2直線との交点の位置を測定点の位置として特定できる。また、第1直線と第2直線とは、それぞれ互いに方向が異なる第1照射方向と第2照射方向の直線となる。このように互いに方向が異なる2直線の交点は3次元空間において一意に定まるため、測定点位置特定手段は、測定点の位置を3次元空間において一意に特定できる。検査手段は、測定点の位置に基づいて検査対象の位置を特定するため、基板が含む検査対象の正確な位置に基づいて検査を実行させることができる。測定点の位置は3次元空間において一意に特定できるため、検査対象の位置が基板と平面方向と厚み方向とのいずれにおいてずれていても、検査手段は、正確に検査対象の位置を特定できる。従って、基板が反っている場合、基板を保持する保持機構において基板が厚み方向に傾斜して保持されている場合、および、保持機構において基板が平面方向にずれて保持されている場合のいずれにおいても、検査手段は、正確に検査対象の位置を特定した上で検査を実行できる。移動制御手段は、保持基準位置と相対焦点位置との少なくとも一方を移動させればよく、保持基準位置と相対焦点位置とのいずれか一方のみを移動させてもよいし、保持基準位置と相対焦点位置との双方を移動させてもよい。ここで、相対焦点位置と相対投影位置とは保持基準位置に対する相対位置であるため、移動制御手段が保持基準位置を移動させる場合でも、保持基準位置を基準として測定点の位置が特定できる。また、移動制御手段が移動させている保持基準位置の絶対位置を特定すれば、測定点の絶対位置も特定できる。ここで、保持基準位置とは、基板が保持される基準の位置であり、基板に対して相対移動しない位置であればよい。例えば保持基準位置は、基板を保持する保持機構の所定箇所中央、角等や、当該保持機構の正規の位置に基板が保持された場合に基板の所定箇所中央、角等が存在することとなる位置であってもよい。相対投影位置取得手段は、例えば測定点の透過像を撮像するイメージセンサと、当該イメージセンサによって撮影した画像における測定点の透過像の位置を特定する画像処理手段とを備えてもよい。イメージセンサは、エリアイメージセンサであってもよいし、リニアイメージセンサであってもよい。また、保持基準位置と相対焦点位置との少なくとも一方が移動することにより測定点の透過像の投影位置が変化する場合には、測定点の透過像の投影位置の変化に追従するようにイメージセンサを移動させてもよい。この場合、相対投影位置取得手段は、移動させたイメージセンサの位置と、画像内における測定点の透過像の投影位置とに基づいて相対投影位置を特定すればよい。測定点位置特定手段は、第1直線と第2直線との交点の位置を測定点の位置として特定すればよく、保持基準位置と相対焦点位置と相対投影位置との幾何学的関係に基づいて測定点の位置を特定することができる。検査手段は、測定点の位置に基づいて特定した検査対象の位置について検査を実行すればよく、検査対象の位置を種々の検査処理に利用することができる。例えば、検査手段は、検査対象の位置に基づいて、複数の照射方向から投影した基板の透過像から検査対象の画像を再構成する処理の対象となる領域を特定してもよい。また、検査手段は、検査対象の位置に基づいて、検査において基板の透過像を撮影するために移動させる放射線発生器の焦点位置や基板の保持基準位置等を補正してもよい。さらに、検査手段は、基板が含む複数の測定点のそれぞれについての測定点の位置を近似する近似関数を特定し、当該近似関数に基づいて検査対象の位置を特定してもよい。近似関数は、直線または平面を表す一次関数であってもよいし、曲線または曲面を表す二次関数等の非線形関数であってもよい。これにより、基板における任意の位置に設けられた検査対象の位置を近似関数に基づいて特定できる。さらに、以上は、本発明が装置として実現される場合について説明したが、かかる装置を実現する方法やプログラム、当該プログラムを記録した媒体としても発明は実現可能である。また、以上のような基板検査装置は単独で実現される場合もあるし、ある方法に適用され、あるいは同方法が他の機器に組み込まれた状態で利用されることもあるなど、発明の思想としてはこれに限らず、各種の態様を含むものである。従って、ソフトウェアであったりハードウェアであったりするなど、適宜、変更可能である。また、ソフトウェアの記録媒体は、磁気記録媒体であってもよいし光磁気記録媒体であってもよいし、今後開発されるいかなる記録媒体においても同様である。ここでは、下記の順序に従って本発明の実施の形態について説明する。1基板検査装置の構成:2基板検査処理:3他の実施形態:1基板検査装置の構成:図1は本発明の一実施形態にかかる基板検査装置1の概略ブロック図である。図1に示すように、基板検査装置1は、イメージセンサ10と画像取得部11とステージ12とステージ制御部13とX線発生器14とX線制御部15と入力部16と出力部17とメモリ18とCPU19とを備える。図1においてX方向とY方向は互いに直交する水平方向を表し、Z方向は鉛直方向を表す。基板検査装置1は、基板Wに形成された検査対象としてのはんだの形状、多層基板の層間の配線および部品等を検査する装置である。基板Wは平面状であり、基板検査装置1は理想的に基板Wの平面方向が水平となり、かつ、基板Wの厚み方向が鉛直となるように基板Wを保持する。X線発生器14は、放射線としてのX線をX線発生器14の光学系により定まる焦点位置f1,f2から基板Wに向けて照射する。また、X線発生器14はX方向において直線状に移動し、当該X線発生器14に追従して焦点位置fもX方向に移動する。X線発生器14は、X方向にのみ移動し、X方向に直交するY方向およびZ方向には移動しない。なお、実線で示す位置にX線発生器14が移動した場合の焦点位置をf1と示し、破線で示す位置にX線発生器14が移動した場合の焦点位置をf2と示す。X線制御部15は、X線発生器14の焦点位置fを検出しつつX線発生器14をX方向に移動させるための信号をX線発生器14に対して出力する。さらに、X線制御部15は、X線発生器14にX線を照射させるための信号をX線発生器14に対して出力する。ステージ12は、基板Wを保持するための保持機構を有し、基板Wを保持した状態でX方向に移動する。ステージ12も、X方向にのみ移動し、X方向に直交するY方向およびZ方向には移動しない。ステージ12の保持機構は、例えば基板Wが嵌り込む凹部や基板Wを挟み込む係止爪等である。ステージ12には、基板Wが保持される基準の位置としての保持基準位置hが定義されており、X方向に移動するステージ12に追従して保持基準位置hも移動する。保持基準位置hの移動軌跡のY方向の位置と、焦点位置fの移動軌跡のY方向の位置とは一致することとする。なお、実線で示す位置にステージ12が移動した場合の保持基準位置をh1とし示し、破線で示す位置にステージ12が移動した場合の保持基準位置をh2と示す。本実施形態において、保持基準位置hは、ステージ12基板Wの保持機構上における水平方向の中央位置とされている。ステージ制御部13は、ステージ12の保持基準位置hを検出しつつステージ12をX方向に移動させるための信号をステージ12に対して出力する。イメージセンサ10は、ラインセンサであり、Y方向に撮像素子が直線状に並んでいる。イメージセンサ10は、基板Wを透過したX線強度を示すY方向のライン画像を生成する。ステージ12とX線発生器14との少なくとも一方をX方向に移動させながら、イメージセンサ10にて連続してライン画像を撮像することにより、基板W全体についてのライン画像を順次得る。画像取得部11は、イメージセンサ10からライン画像を取得し、ライン画像を結合させることにより、基板W全体についてX線透過強度を示すX線透過画像を得ることができる。焦点位置fが実線で示す焦点位置f1となるようにX線発生器14を停止させ、X線発生器14からX線を照射させる。この状態において、焦点位置f1とイメージセンサ10との間にて基板WがX方向に走査するようにステージ12を移動させることにより、画像取得部11は、Y方向から見た場合の鉛直方向に対する傾斜角がθ1となるX線が基板Wを透過した第1X線透過画像を得ることができる。また、破線で示す焦点位置f2にてX線発生器14を停止させた状態において、X線発生器14からX線を照射させつつステージ12により基板WをX方向に移動させることにより、画像取得部11は、Y方向から見た場合の鉛直方向に対する傾斜角がθ2となるX線が基板Wを透過した第2X線透過画像を得ることができる。Y方向から見た場合に鉛直方向に対して傾斜角θ1,θ2で交差するX線の方向は、それぞれ第1照射方向と第2照射方向に相当する。焦点位置f1,f2は互いに異なる位置であるため、第1照射方向と第2照射方向とは互いに異なる方向である。なお、tanθ1,θ2は、X方向におけるイメージセンサ10と焦点位置fとの距離を、Z方向におけるイメージセンサ10と焦点位置fとの距離で除算した値であり、X方向においてX線発生器14が移動している位置に基づいて傾斜角θ1,θ2を特定できる。第1X線透過画像と第2X線透過画像とは、それぞれY方向の複数のライン画像によって構成されるが、各ライン画像について当該ライン画像が撮像された時刻におけるステージ12の保持基準位置hが対応付けられている。入力部16は、検査オペレータ等の操作を受け付けるための入力装置を含み、例えばマウスやキーボード等の入力装置にて検査オペレータの操作に応じた操作信号を生成する。出力部17は、基板Wの検査経過や検査結果や画像等を出力するための出力装置を含み、例えば出力装置としてのディスプレイやプリンタ等を含む。メモリ18は、後述する基板検査プログラムAを実行するための実行データを記録する。また、メモリ18は、基板検査プログラムAの実行中に生成取得される中間データや中間画像データも記録する。CPU19は、メモリ18から実行データを読み出して基板検査プログラムAを実行する演算装置である。基板検査プログラムAは、移動制御部A1と相対焦点位置取得部A2と相対投影位置取得部A3と測定点位置特定部A4と検査部A5とを含む。移動制御部A1は、基板Wに対して互いに方向が異なる第1照射方向および第2照射方向にX線が照射されるように、ステージ12の保持基準位置hとX線発生器14の焦点位置fとの少なくとも一方を移動させる機能をCPU19に実行させるモジュールである。すなわち、移動制御部A1の機能によりCPU19は、焦点位置fが焦点位置f1となるようにX線発生器14を移動させるための信号をX線制御部15に出力する。さらに、移動制御部A1の機能によりCPU19は、焦点位置f1とイメージセンサ10との間において基板Wが走査するようにステージ12を移動させるための信号をステージ制御部13に出力する。これにより、基板W全体に対して第1照射方向にX線を照射させることができる。同様に、移動制御部A1の機能によりCPU19は、焦点位置fが焦点位置f2となるようにX線発生器14を移動させ、焦点位置f2とイメージセンサ10との間において基板Wが走査するようにステージ12を移動させるための信号を出力する。これにより、基板W全体に対して第2照射方向にX線を照射させることができる。相対焦点位置取得部A2は、X線発生器14の焦点位置f1,f2の保持基準位置h1,h2に対する相対位置である相対焦点位置F1,F2を取得する機能をCPU19に実行させるモジュールである。相対焦点位置取得部A2の機能によりCPU19は、第1照射方向に基板Wを透過したX線の透過画像である第1X線透過画像を画像取得部11から取得する。図2A,2Bは、第1X線透過画像と第2X線透過画像とをそれぞれ示す図である。上述のように第1X線透過画像と第2X線透過画像とは、それぞれY方向の複数のライン画像Qによって構成され、各ライン画像Qについて当該ライン画像が撮像された時刻におけるステージ12の保持基準位置hが対応付けられている。相対焦点位置取得部A2の機能によりCPU19は、第1X線透過画像と第2X線透過画像とのそれぞれにおいて、例えばパターンマッチングにより測定点Mの透過像を含む透過像の中央を通過するライン画像Q1,Q2を検出する。そして、相対焦点位置取得部A2の機能によりCPU19は、第1X線透過画像と第2X線透過画像とにおいて当該ライン画像Q1,Q2に対応付けられたステージ12の保持基準位置hをそれぞれ保持基準位置h1,h2として特定する。なお、本実施形態において測定点Mは基板Wに形成された所定半径を有し、はんだが形成されていないパッドであることとする。第1X線透過画像と第2X線透過画像における測定点Mの透過像は予め実験により得ることができるため、当該透過像のパターンマッチングが可能である。なお、本実施形態においてX線発生器14の焦点位置fとステージ12上の基板WとはそれぞれY方向とZ方向において移動しないため、第1X線透過画像と第2X線透過画像における測定点Mの透過像のY方向の位置は互いに一致する。相対焦点位置取得部A2の機能によりCPU19は、第1X線透過画像と第2X線透過画像とを撮像した際のX線発生器14の焦点位置f1,f2を取得し、焦点位置f1,f2のそれぞれから保持基準位置h1,h2を減算することにより、相対焦点位置F1=f1-h1,F2=f2-h2を取得する。すなわち、相対焦点位置取得部A2の機能によりCPU19は、イメージセンサ10にて測定点Mの透過像が撮影された際における保持基準位置h1,h2に対する焦点位置f1,f2の相対位置として相対焦点位置F1,F2を取得する。相対投影位置取得部A3は、測定点Mの透過像の投影位置p1,p2の保持基準位置h1,h2に対する相対位置である相対投影位置P1,P2を取得する機能をCPU19に実行させるモジュールである。すなわち、相対投影位置取得部A3の機能によりCPU19は、イメージセンサ10のX方向およびZ方向の位置固定値を取得する。さらに、図2Aに示すように相対投影位置取得部A3の機能によりCPU19は、第1X線透過画像から測定点Mの透過像を検出し、当該透過像が撮像されたY方向の位置を取得する。そして、相対投影位置取得部A3の機能によりCPU19は、イメージセンサ10のX方向およびZ方向の位置と、第1X線透過画像における透過像のY方向の位置とで定められる絶対位置を、測定点Mの透過像の投影位置p1として取得する。図2Bに示すように、相対投影位置取得部A3の機能によりCPU19は、イメージセンサ10のX方向およびZ方向の位置と、第2X線透過画像における透過像のY方向の位置とで定められる絶対位置を、測定点Mの透過像の投影位置p2として取得する。さらに、相対投影位置取得部A3の機能によりCPU19は、第1X線透過画像と第2X線透過画像とにおける投影位置p1,p2のそれぞれから保持基準位置h1,h2を減算することにより、相対投影位置P1=p1-h1,P2=p2-h2を取得する。測定点位置特定部A4は、基板Wに対して第1照射方向にX線を照射した場合における相対焦点位置F1と相対投影位置P1とを結ぶ直線L1と、基板Wに対して第2照射方向にX線を照射した場合における相対焦点位置F2と相対投影位置P2とを結ぶ直線L2との交点の位置を測定点Mの位置として特定する機能をCPU19に実行させるモジュールである。図3A,3Bは、測定点Mの位置を特定する様子を示す模式図である。図3A,3Bは、保持基準位置h1,h2がいずれも原点Oにあると想定した相対座標系において、基板検査装置1をそれぞれY方向およびX方向に見た図である。図3Aに示すように、相対焦点位置F1と相対投影位置P1とを結ぶ直線L1は鉛直方向に対して傾斜角θ1で傾斜し、相対焦点位置F2と相対投影位置P2とを結ぶ直線L2は鉛直方向に対して傾斜角θ2で傾斜する。測定点位置特定部A4の機能によりCPU19は、直線L1,L2の交点の位置を相対焦点位置F1,F2と相対投影位置P1,P2との幾何学的関係に基づいて特定する。まず、DはX方向における相対投影位置P1,P2の距離を表し、D1はX方向における相対投影位置P1と測定点Mとの距離を表し、D2はX方向における相対投影位置P2と測定点Mとの距離を表すとすると、下記の1式が成り立つ。D=D1D21なお、距離Dは、相対投影位置P1,P2のX座標同士の差の絶対値を求めることにより得られる。さらに、S1はZ方向におけるイメージセンサ10と相対焦点位置F1,F2互いに同一との距離を表し、S2はZ方向における相対焦点位置F1,F2と原点Oとの距離を表し、dZはZ方向における原点Oに対する測定点Mの相対位置鉛直上方が正を表すとすると、下記の2,3式が成り立つ。D1=S1-S2-dZtanθ12D2=S1-S2-dZtanθ23なお、距離S1はイメージセンサ10のZ座標と相対焦点位置F1のZ座標との差の絶対値を求めることにより得られる。距離S2は相対焦点位置F1,F2のZ座標の絶対値を求めることにより得られる。2,3式を1式に代入して相対位置dZについて整理すると下記の4式が得られる。dZ=S1-S2-D/tanθ1tanθ24測定点位置特定部A4の機能によりCPU19は、前記の4式を解くことにより、Z方向における原点Oに対する測定点Mの相対位置dZを特定する。さらに、D3はX方向における相対投影位置P1と原点Oとの距離を表し、dXはX方向における原点Oに対する測定点Mの相対位置を表すとすると、下記の5式が成り立つ。dX=D1-D35なお、距離D3はイメージセンサ10のX座標と相対投影位置P1のX座標との差の絶対値を求めることにより得られる。測定点位置特定部A4の機能によりCPU19は、前記の5式を解くことにより、X方向における原点Oに対する測定点Mの相対位置dXを特定する。図3Bに示すように基板検査装置1をX方向に見ると、X方向の軌跡上を移動する相対焦点位置F1,F2はYZ平面において同一位置となる。また、測定点Mは、X方向の軌跡上を移動するステージ12に追従して移動するに過ぎないため、測定点MはYZ平面において単一の位置に位置する。従って、相対焦点位置F1,F2のそれぞれから照射されたX線による測定点Mの透過像の相対投影位置P1,P2も互いに同一位置となる。そのため、YZ平面において直線L1,L2は互いに同一直線となる。ここで、Eは相対投影位置P1,P2のY座標P1,P2で互いに同一、図の右側が正を表すとすると、直線L1,L2を斜辺とする三角形の相似比から下記の6式が成り立つ。dY=E×S2dZ/S16測定点位置特定部A4の機能によりCPU19は、前記の6式を解くことにより、Y方向における原点Oに対する測定点Mの相対位置dYを特定する。以上の計算を行うことにより、測定点位置特定部A4の機能によりCPU19は、原点Oに対する測定点Mの相対位置dX,dY,dZを特定する。なお、基板Wは複数の測定点Mを含み、CPU19は、複数の測定点Mのそれぞれについて相対位置dX,dY,dZを特定する。検査部A5は、測定点の位置に基づいて特定した検査対象の位置についての検査を実行する機能をCPU19に実行させるモジュールである。図4Aは近似関数Ga,b,cを示す模式図である。図4Bに示すように本実施形態の基板Wは9個の測定点M円形状のパッドを有している。検査部A5の機能によりCPU19は、基板Wが含む複数の測定点Mのそれぞれについての測定点Mの位置を近似する近似関数Ga,b,cを特定し、当該近似関数Ga,b,cに基づいて検査対象の位置を特定する。なお、a,bは基板Wの平面方向の設計位置を示す座標であり、cは基板Wの厚み方向の設計位置を示す座標である。まず、検査部A5の機能によりCPU19は、基板Wの設計情報を取得し、測定点Mの設計位置を取得する。検査部A5の機能によりCPU19は、測定点Mの設計位置を近似関数Ga,b,cに代入することにより、当該測定点Mについての相対位置dX,dY,dZが算出される近似関数Ga,b,cを特定する。具体的には、測定点Mの設計位置を近似関数Ga,b,cに代入して得られた座標と、相対位置dX,dY,dZとの二乗誤差をすべての測定点Mについて算出し、当該二乗誤差の合計が最も小さくなるように近似関数Ga,b,cの各係数を最適化する。図4Aにおいて破線で示すように近似関数Ga,b,cは平面を示す線形関数であってもよいし、二点鎖線で示すように近似関数Ga,b,cは曲面を示す非線形関数であってもよい。検査部A5の機能によりCPU19は、検査対象のはんだTの設計位置を取得し、当該設計位置を近似関数Ga,b,cに代入することにより、検査対象のはんだTの相対位置dX,dY,dZを特定する。検査部A5の機能によりCPU19は、ステージ12の保持基準位置hおよびX線発生器14の焦点位置fを移動させ、複数の照射方向で基板Wの検査用X線透過画像を撮像する。ここでは、第1X線透過画像と第2X線透過画像を撮像する場合と同様に、照射方向に応じてX線発生器14の焦点位置fを固定した状態で基板Wを走査させることにより、基板W全体を撮像した検査用X線透過画像を撮像する。検査用X線透過画像においても、検査用X線透過画像を構成するY方向の各ライン画像のそれぞれについて当該ライン画像が撮像された時刻における保持基準位置hが対応付けられている。検査部A5の機能によりCPU19は、検査用X線透過画像を構成するY方向の各ライン画像ごとに保持基準位置hに検査対象のはんだTの相対位置dX,dY,dZを加算することにより、検査用X線透過画像を構成する各ライン画像を撮像した際における検査対象のはんだTの絶対位置を特定する。検査部A5の機能によりCPU19は、X線の照射方向と検査対象のはんだTの絶対位置とに基づいて、検査用X線透過画像において検査対象のはんだTの絶対位置から所定距離以内の範囲を透過したX線が投影された領域を再構成領域として特定する。検査部A5の機能によりCPU19は、検査用X線透過画像のそれぞれにおいて再構成領域を特定し、当該再構成領域についてBackProjection法等の再構成手法を適用することにより検査用X線透過画像を再構成する。さらに、検査部A5の機能によりCPU19は、再構成した検査用X線透過画像に基づいて検査対象のはんだTの良否判定を行う。例えば、CPU19は、電子部品Cのリードと基板W上のパッドとを接続するはんだTの体積や傾斜角等を、再構成した検査用X線透過画像に基づいて特定し、はんだTの体積や傾斜角等を閾値判定することにより良否判定を行う。また、CPU19は、はんだTにおけるボイドの有無を判定し、ボイドがない場合にはんだTが良品であると判定してもよい。以上説明したように本実施形態において、測定点Mの位置を3次元空間において一意に特定することができる。従って、基板Wが反っている場合、ステージ12上において基板WがZ方向に傾斜して保持されている場合、および、ステージ12上において基板がXY方向にずれて保持されている場合のいずれにおいても、検査部A5の機能によりCPU19は、正確に検査対象のはんだTの位置を特定できる。2基板検査処理:図5Aは、基板検査処理のうち近似関数Ga,b,cを特定するための近似関数特定処理を示すフローチャートである。ステップS100において、CPU19は基板Wを第1照射方向にX線が透過した第1X線透過画像を画像取得部11を介して取得する。なお、基板検査処理を実行するにあたり、基板Wに対して第1照射方向にX線が透過するようにX線発生器14とステージ12とが予め移動させられている。ステップS110において移動制御部A1の機能によりCPU19は、基板Wに対して第2照射方向にX線が透過するようにX線発生器14とステージ12とを移動させる。ステップS120において、CPU19は基板Wを第2照射方向にX線が透過した第2X線透過画像を画像取得部11を介して取得する。ステップS130において相対焦点位置取得部A2と相対投影位置取得部A3との機能によりCPU19は、複数の測定点Mごとに、第1照射方向と第2照射方向とのそれぞれについての相対焦点位置F1,F2と相対投影位置P1,P2とを取得する。ステップS140において測定点位置特定部A4の機能によりCPU19は、複数の測定点Mのそれぞれについて測定点Mの保持基準位置hに対する相対位置dX,dY,dZを特定する図3A,3B参照。ステップS150において検査部A5の機能によりCPU19は、複数の測定点Mのそれぞれ相対位置dX,dY,dZを近似する近似関数Ga,b,cを特定する図4A参照。図5Bは、基板検査処理のうちはんだ検査処理を示すフローチャートである。ステップS200において検査部A5の機能によりCPU19は、複数の照射方向にX線を基板Wに照射し、照射方向ごとに基板W全体を撮像した検査用X線透過画像を取得する。なお、CPU19は、検査用X線透過画像を構成するY方向のライン画像ごとに、当該ライン画像が撮像された際の保持基準位置hを取得する。なお、ステップS200における照射方向は第1照射方向と第2照射方向を含んでもよく、近似関数特定処理にて撮像した第1X線透過画像図5AのS100と第2X線透過画像図5AのS120を検査用X線透過画像として利用してもよい。ステップS210において検査部A5の機能によりCPU19は、検査対象のはんだTの設計位置を取得し、当該近似関数Ga,b,cに代入することにより、検査対象のはんだTの相対位置dX,dY,dZを特定する。さらに、検査部A5の機能によりCPU19は、ステージ12によって移動した保持基準位置hに対して、検査対象のはんだTの相対位置dX,dY,dZを加算することにより、絶対空間において検査対象のはんだTの位置を特定する。ステップS220において検査部A5の機能によりCPU19は、絶対空間における検査対象のはんだTの位置に基づいて、検査用X線透過画像ごとに、検査対象のはんだTから所定距離以内を透過した所定距離以内の範囲を透過したX線が投影された再構成領域を特定し、当該再構成領域について再構成処理を実行することにより、検査対象のはんだTが表された検査用X線透過画像を再構成する。ステップS230において検査部A5の機能によりCPU19は、再構成した検査用X線透過画像に基づいて検査対象のはんだTの良否判定を実行する。CPU19は、検査用X線透過画像を出力部17にて表示させてもよい。ステップS240において検査部A5の機能によりCPU19は、検査対象のすべてのはんだTについての良否判定が完了したか否かを判定し、完了していない場合にはステップS210にて次のはんだTについての処理を実行する。3他の実施形態:前記実施形態においては、ステージ12の基準保持位置hとX線発生器14の焦点位置fとがそれぞれX方向に直線移動することとしたが、他の手法により照射方向を可変としてもよい。例えば、X線発生器14の焦点位置fを固定としてもよい。また、前記実施形態においては、第1X線透過画像と第2X線透過画像と検査用X線透過画像とをそれぞれ撮像する撮像期間においては、X線発生器14の焦点位置fを固定してステージ12のみを走査させたが、当該撮像期間においてX線発生器14の焦点位置fを走査させてもよい。この場合であっても、測定点Mの透過像を含むライン画像を撮像した時刻における照射方向移動する焦点位置fに依存する傾斜角θと保持基準位置hとに基づいて、測定点Mの位置を特定することができる。図6Aの基板検査装置2では、X線発生器14の焦点位置fを固定としている。また、基板検査装置2は、モータ10cの駆動によってX線発生器14の焦点位置fを通過する鉛直軸まわりに回転するイメージセンサ10aとを備える。イメージセンサ10aはエリアイメージセンサとする。ステージ12はX方向およびY方向との少なくとも一方に移動する。CPU19は、イメージセンサ10aにより撮像された基板W不図示の2枚のX透過画像から測定点Mの透過像の投影位置p1、p2および、当該X透過画像の撮像時における基準保持位置h1、h2を取得する。なお、投影位置p1、p2は、イメージセンサ10aの回転角と、イメージセンサ10aにおいて測定点Mの透過像を撮像した撮像素子の位置とに基づいて特定できる。さらに、CPU19は、X線発生器14の焦点位置f固定値を取得する。そして、CPU19は、相対焦点位置F1=f-h1,F2=f-h2、および、相対投影位置P1=p1-h1,P2=p2-h2を取得する。これにより前記実施形態と同様に、CPU19は、相対焦点位置F1と相対投影位置P1とを結ぶ直線L1と、相対焦点位置F2と相対投影位置P2とを結ぶ直線L2との交点を測定点Mの相対位置dX,dY,dZとして特定できる。図6Bの基板検査装置3においても、X線発生器14の焦点位置fは固定されている。基板検査装置3はエリアイメージセンサであるイメージセンサ10を備え、当該イメージセンサ10がモータ10cの駆動によってX線発生器14の焦点位置fを通過する鉛直軸まわりに回転する。また、イメージセンサ10はX線発生器14の焦点位置fを通過する鉛直軸と直交する径方向にも移動する。ステージ12はX方向およびY方向との少なくとも一方に移動する。本実施形態においては、ステージ12の位置を変化させることにより、ステージ12上の基板W不図示に対してX線を第1照射方向と第2照射方向とで照射させることができる。なお、基板Wを第1照射方向と第2照射方向に透過したX線が撮像できる位置となるように、イメージセンサ10が回転方向と径方向とに移動する。本実施形態において、投影位置p1,p2は、イメージセンサ10の回転角と、イメージセンサ10の径方向の位置と、イメージセンサ10において測定点Mの透過像を撮像した撮像素子の位置とに基づいて特定できる。投影位置p1,p2が特定できれば、CPU19は前記実施形態と同様に、相対焦点位置F1と相対投影位置P1とを結ぶ直線L1と、相対焦点位置F2と相対投影位置P2とを結ぶ直線L2との交点を測定点Mの相対位置dX,dY,dZとして特定できる。図6Cの基板検査装置3においても、X線発生器14の焦点位置fは固定されている。また、基板検査装置3は、X方向に移動するエリアイメージセンサであるイメージセンサ10と、X方向に移動するステージ12とを備える。CPU19は、イメージセンサ10により撮像された基板W不図示のX透過画像から測定点Mの透過像の投影位置p1、および、当該X透過画像の撮像時における基準保持位置h1を取得する。本実施形態においては、ステージ12の位置を変化させることにより、ステージ12上の基板W不図示に対してX線を第1照射方向と第2照射方向とで照射させることができる。なお、基板Wを第1照射方向と第2照射方向に透過したX線が撮像できる位置となるように、イメージセンサ10がX方向に移動する。投影位置p1,p2は、イメージセンサ10のX方向の位置と、イメージセンサ10において測定点Mの透過像を撮像した撮像素子の位置とに基づいて特定できる。投影位置p1,p2が特定できれば、CPU19は前記実施形態と同様に、相対焦点位置F1と相対投影位置P1とを結ぶ直線L1と、相対焦点位置F2と相対投影位置P2とを結ぶ直線L2との交点を測定点Mの相対位置dX,dY,dZとして特定できる。なお、前記実施形態においてはステージ12とともに基準保持位置hが移動したが、基準保持位置hは一定位置であってもよい。この場合、基板Wに対して第1照射方向にX線を透過させた場合と、基板Wに対して第2照射方向にX線を透過させた場合とで、基準保持位置hが一定となる。従って、焦点位置fと投影位置pとからそれぞれ基準保持位置hを減算しなくても、焦点位置fと投影位置pとは一定の基準保持位置hに対する相対位置を表すということができる。従って、基板Wに対して第1照射方向にX線を透過させた場合のX線発生器14の焦点位置f1と投影位置p1とを結ぶ直線L1と、基板Wに対して第2照射方向にX線を透過させた場合のX線発生器14の焦点位置f2と投影位置p2とを結ぶ直線L2との交点を求めることにより、絶対空間において測定点Mの位置を特定することができる。さらに、前記実施形態においては測定点Mと検査対象のはんだTとが異なったが、検査対象に測定点Mが含まれてもよい。例えば、検査対象のはんだTの位置を特定した上で、当該検査対象のはんだTの検査用X線透過画像を再構成してもよい。また、測定点Mは第1X線透過画像と第2X線透過画像において位置が特定可能な箇所であればよく、円形状のパッドに限られない。例えば、BGA等のはんだ形成箇所を測定点Mとしてもよいし、多角形のパッドを測定点Mとしてもよい。さらに、測定点Mは基板Wの平面方向に広く分布することが望ましく、測定点Mが検査対象を囲むように分布するのがより望ましい。さらに、基板検査装置3は、検査対象のはんだTの位置に基づいて、検査において基板Wの透過像を撮影するために移動させるX線発生器14の焦点位置fや基板の保持基準位置h等を補正してもよい。"