"ガラス基板を含むTFTアレイ基板と、前記TFTアレイ基板に対向して設けられたガラス基板を含むカラーフィルタ基板と、前記TFTアレイ基板及び前記カラーフィルタ基板間に設けられた液晶層と、前記TFTアレイ基板及び前記カラーフィルタ基板間に、遮光部に対応して配置された複数の第1支持部と、前記カラーフィルタ基板に配置され、各々、前記第1支持部よりも高さが低い複数の第2支持部と、を備え、前記第1支持部の横断面積が前記第2支持部の横断面積よりも大きい、液晶表示装置。前記第2支持部は、表示領域を構成する各画素単位において、前記第1支持部よりも数が多い、請求項1に記載の液晶表示装置。表示領域を構成する各画素単位において、前記第1支持部を中心として、前記第2支持部が前記第1支持部の周りを囲むように複数設けられている、請求項2に記載の液晶表示装置。前記第1支持部は、表示領域を構成する各画素単位において、青画素に接する前記遮光部に配置されている、請求項1に記載の液晶表示装置。前記第2支持部は、前記TFTアレイ基板との間隔が前記液晶層の厚さの0.06倍以上0.2倍以下である、請求項1に記載の液晶表示装置。前記第2支持部の表示領域における配置密度が前記第1支持部の表示領域における配置密度の1.2倍以上である、請求項1に記載の液晶表示装置。前記第2支持部は、遮光部に対応して配置されている、請求項1に記載の液晶表示装置。前記遮光部は、表示領域を構成する各画素単位を区切るブラックマトリクスである、請求項1に記載の液晶表示装置。前記第1支持部は、前記カラーフィルタ基板に設けられ、前記カラーフィルタ基板から前記TFTアレイ基板に達するように延びて形成されている、請求項1に記載の液晶表示装置。前記TFTアレイ基板のガラス基板及び前記カラーフィルタ基板のガラス基板の基板厚が異なる、請求項1に記載の液晶表示装置。前記カラーフィルタ基板のガラス基板が前記TFTアレイ基板のガラス基板よりも基板厚が薄い、請求項10に記載の液晶表示装置。前記カラーフィルタ基板のガラス基板の基板厚が0.5mm以下である、請求項1に記載の液晶表示装置。本発明の課題は、特に薄型の液晶パネルに対して生じる局所的な荷重に対する歪みに起因して生じる不可逆な表示ムラ表示シミの定着の防止と、局所的に生じる低温衝撃気泡低温下で局所的な衝撃を受けた際に生じる気泡と、を同時に解決することである。本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向するように設けられた第1及び第2基板と、それらの間に挟まれるように設けられた液晶層と、を備えた液晶表示装置であって、各々、第1及び第2基板の一方から他方に達するように延びて形成された複数の第1支持部が設けられ、各々、第1及び第2基板の一方から他方に向かって延び、第1支持部よりも高さが低く且つ数が多く形成された複数の第2支持部が設けられ、第2支持部と対向する基板との間隔が、液晶層の0.05倍以上0.2倍以下である。このような構成によれば、液晶表示装置の対向する第1基板と第2基板との間に、各々、第1及び第2基板の一方から他方に達するように延びて形成された複数の第1支持部が設けられていると共に、各々、第1及び第2基板の一方から他方に向かって延び且つ第1支持部よりも高さが低く形成された複数の第2支持部が設けられているため、基板に全体的に荷重がかけられた際には第1支持部及び第2支持部によってその荷重を支える。また、第1支持部より高さが低くなるように形成された第2支持部を設けているため、液晶層の変位に追随するように第1及び第2基板が相対的に変位できる。これにより、低温衝撃気泡の発生を規制することができる。また、本発明に係る液晶表示装置は、第2支持部が第1支持部よりも数が多いため、局所的な荷重がかけられた際に第1支持部は最小限にして高さの低い第2支持部をより多く設けることによって、液晶層の変位に対して第1及び第2基板がより柔軟に追随することができる。従って、このような場合に生じていた局所的な低温衝撃気泡の発生をより的確に規制することができる。さらに、第2支持部と対向する基板との間隔が液晶層の0.2倍以下であるため、薄型液晶表示装置の液晶パネルでの押圧ムラ試験においてより効果的に耐強度性を確保できる。また、第2支持部と対向する基板との間隔が液晶層の0.05倍以上であるため、低温衝撃気泡評価で気泡発生や不良ドメイン発生をより効果的に抑制できる。さらに、本発明に係る液晶表示装置は、複数の第2支持部のそれぞれが表示領域に設けられていてもよい。このような構成によれば、複数の第2支持部のそれぞれが表示領域に設けられているため、表示領域の局所的な表示不良を規制することができる。また、本発明に係る液晶表示装置は、第2支持部が表示領域を構成する画素領域単位において第1支持部より数が多いものであってもよい。このような構成によれば、第2支持部が表示領域を構成する画素領域単位において第1支持部より数が多いため、表示領域においてさらに的確に局所的な表示不良を規制することができる。さらに、本発明に係る液晶表示装置は、第2支持部の画素領域単位における配置密度が第1支持部の1.2倍以上であってもよい。本発明の構成による第2支持部は、低温衝撃気泡の発生を規制し、基板厚を薄板化したときの耐押圧ムラ改善に主体的に寄与することになる。この観点からは第2支持部の配置密度支持部の個数/mm2×支持部の横断面積が第1支持部の密度より大きいほうがよく、さらに、1.2倍以上であれば、その効果がより発揮される。また、本発明に係る液晶表示装置は、複数の第2支持部が各画素領域単位内でそれぞれ同様な位置に設けられていてもよい。このような構成によれば、基板への局所的な荷重に対しても均一に配置された第2支持部がその荷重を均等に受けることができる。このため、より効果的に局所的な基板歪みを規制し、液晶表示装置の表示機能をより安定して良好なものとすることができる。また、本発明に係る液晶表示装置は、第1及び第2基板の少なくとも一方の厚さが0.5mm以下であってもよい。このような構成によれば、パネル全体の薄型化や軽量化を図るためにガラス厚を薄く設計する必要がある場合に、第1及び第2基板を同一のガラス厚設計として薄型化を行うだけでなく、第1及び第2基板のガラス厚を非対称に設計することも可能となる。さらに、本発明に係る液晶表示装置は、第1基板と第2基板との基板厚が異なっていてもよい。このような構成によれば、TFTアレイ基板を第1基板として対向する基板を第2基板として相対的に薄板化すると、TFTアレイ基板に直接的に接続端子やドライバを実装する際の基板端部の局所的な加熱及び加圧に対し、所定の厚みよりも薄型化することによるTFTアレイ基板の破損を防ぐことができる。また、TFTアレイ基板はTFT端子及び配線等の多層薄膜積層工程において基板単体にも温度変化や圧力変化に伴う歪みや履歴が加わっており、TFTアレイ基板の薄型化により機械的強度が低下するのを防ぐことができる。また、本発明に係る液晶表示装置は、各画素領域単位に光透過領域と光反射領域とを有していてもよい。このような構成によれば、光透過領域と、反射膜を有して周囲より高くなっている光反射領域とに、同時に支持部を形成することによりそれぞれ高さの異なる第1及び第2支持部を効率よく形成することができるため、装置の製造効率等が良好となる。さらに、本発明に係る液晶表示装置は、第2支持部が表示領域における遮光部分に設けられていてもよい。このような構成によれば、第2支持部が表示領域における遮光部分に設けられているため、第2支持部の設置部位における光漏れを規制することができる。さらに、光反射領域として利用される画素内の保持容量配線等の遮光部分に第2支持部を設けると、その分、有効開口率の低下を規制できる。また、本発明に係る液晶表示装置は、第1支持部と上記第2支持部との横断面積が異なっていてもよい。一般的に、支持部の横断面積支持部が延びる方向に垂直な方向で切った断面の面積が大きいほどガラスの耐圧特性が大きい傾向がある。しかしながら、これらの支持部は、配線上の所定の位置に形成することで光漏れを防止することが可能となる一方、所定の横断面積よりも大きく設計するとコントラスト比低下等の表示特性に支障をきたす弊害が生じることになる。特に、第1支持部に比較して所定の位置に多数の第2支持部を設ける本発明の場合には、このような構成により横断面積の異なった第1支持部と第2支持部とを非対称に配置することができるため、パネルの開口率及びコントラスト比の低下を有効に抑制することができる。さらに、第1支持部と第2支持部とを別工程で同種材料あるいは異種材料を用いて形成することも可能であるが、製造工程の短縮化や低コスト化の観点からは同一のフォトリソグラフィ工程を経て該支持部をパターニング形成することも極めて有効となる。このように、同一工程において、高さの異なる構造物を形成するために第1及び第2の支持部の横断面積を異なって設計することが可能となる。さらに、本発明に係る液晶表示装置は、第2支持部の横断面積が第1支持部の横断面積より小さくてもよい。このような構成によれば、第1の支持部に対して所定の密度で所定の位置に形成する第2の支持部の横断面積を小さく設計した場合に、従来の基板間隙保持を目的とする第1の支持部形成と同一の工程数で配置することが可能となる。また、本発明に係る液晶表示装置は、第1及び第2基板のそれぞれについて、液晶層側に電圧無印加時に液晶分子を垂直に配向させる垂直配向膜が設けられており、第1及び第2基板の少なくとも一方には、液晶層側に、電圧印加時に液晶分子を放射状に配向させる配向制御体が設けられていてもよい。このような構成によれば、上記の液晶層が局所的な基板撓みの生じない対向基板で挟まれているため、局所的な荷重に対しても電圧無印加時の垂直配向及び電圧印加時の放射状配向が乱されることなく、良好な表示品位を保つことができる。さらに、本発明に係る液晶表示装置は、第2支持部が配向制御体を兼ねていてもよい。このような構成によれば、第2支持部が配向制御体を兼ねているため、必要な第2支持部の数が減ることにより、装置の製造効率等が良好となる。また、本発明に係る液晶表示装置は、第1及び第2基板の少なくとも一方の液晶層側に所定の配向処理を施した配向膜が設けられていてもよい。このような構成によれば、上記の液晶層が局所的な基板撓みの生じない対向基板で挟まれているため、局所的な荷重に対しても所定の配向処理によって形成された配向が乱されることなく、良好な表示品位を保つことができる。また、本発明に係る液晶表示装置は、ガラス基板を含むTFTアレイ基板と、前記TFTアレイ基板に対向して設けられたガラス基板を含むカラーフィルタ基板と、前記TFTアレイ基板及び前記カラーフィルタ基板間に設けられた液晶層と、前記TFTアレイ基板及び前記カラーフィルタ基板間に、遮光部に対応して配置された複数の第1支持部と、前記カラーフィルタ基板に配置され、各々、前記第1支持部よりも高さが低い複数の第2支持部と、を備え、前記第1支持部の横断面積が前記第2支持部の横断面積よりも大きい。以上説明したように、本発明によれば、表示部に全体的にかかる荷重のみならず、特に局所的な荷重に対しても表示ムラの発生を規制し、且つ、低温衝撃気泡の発生をも規制する液晶表示装置を提供することができる。以下、本発明の実施形態1及び2に係る液晶表示装置を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。また、本発明の実施形態1及び2では、特に携帯電話のような携帯電子機器に用いられる薄型の液晶表示装置について説明する。実施形態1液晶表示装置10の構成図1は液晶表示装置10の表示面の平面図を、図2は図1で示す液晶表示装置10の破線II-IIにおける断面図を表す。この液晶表示装置10は、透過モードの表示と反射モードの表示の両方を行うことのできる半透過型のものである。液晶表示装置10は、対向するTFT基板20及びカラーフィルタ基板30CF基板、それらの間に設けられた液晶層40、対向する両基板20,30間に設けられた第1支持部50、第2支持部51及び配向制御体52で構成されている。TFT基板20は、ガラス基板21の表面にアクティブ素子及びアクティブ素子に接続されたゲート配線やソース配線等の回路要素いずれも不図示が設けられている。TFT基板20は、その画素領域のうち反射領域22となるべき領域に凹凸形状を有する反射層23が形成されており、反射層23を覆うように透明絶縁層24が形成されて反射層23の凹凸形状を表面において平坦化している。透明絶縁層24の平坦な表面上に、不図示の透明な画素電極及び垂直配向膜25がこの順に形成されている。画素電極は、所定の位置に形成された不図示の切り欠き部を有しており、各画素は、この切り欠き部によって図1に示すような複数のサブ画素31に分割されている。液晶層40に所定の電圧を印加すると、画素電極の周囲及び切り欠き部の近傍に生成される斜め電界の配向規制によって、複数のサブ画素31のそれぞれに放射状傾斜配向を施す液晶ドメインが形成される。図1に示すように、並列した4つのサブ画素31が後述するブラックマトリクス54で区切られてなる一単位を画素パターン49画素領域単位と呼ぶ。本実施形態では、このように並列した4つのサブ画素31及びブラックマトリクス54で区切られたものを画素パターン49としているが、表示装置の種類によりサブ画素31の数及びその配置が異なっていてもよい。CF基板30は、TFT基板20のガラス基板21より薄く形成されたガラス基板32上に赤R、緑G及び青Bの3原色を備えたサブ画素31が形成されたCF層及び垂直配向膜33がこの順で形成されている。画素パターン49は、その間に、コントラストを得るための縁取りとしてブラックマトリクス54が設けられている。また、サブ画素31を構成するものとしては、RGB以外に、シアン、マゼンタ、イエローの補色を用いてもよい。尚、CF基板30のガラス基板32及びTFT基板20のガラス基板21は、それぞれその厚さは特に限定されず、TFT基板20のほうが薄く形成されていてもよく、また、同じ厚さに形成されていてもよい。第1支持部50は、CF基板30からTFT基板20に達するように延びて形成されている。第1支持部50は、CF基板30のブラックマトリクス54上に形成されている。第1支持部50は、液晶層40の厚さを保持しているため、その高さが液晶層40の厚さを決定している。第1支持部50の形状は、どのようなものであってもよく、例えば、円柱状、角柱状、又は、それらの先細形状等に形成されている。第1支持部50は、本実施形態では樹脂製材料で形成されているが、基板に対する押圧力に対抗できるものであれば特に限定されず、セラミック製又は金属製のものであってもよい。尚、第1支持部50は、本実施形態のようにブラックマトリクス54上に形成されていなくてもよく、その他の遮光部例えば、表示領域内の保持容量配線上等に形成されていてもよい。さらに、図3及び4に示すように、透明誘電体層57上に形成されていてもよい。この場合であっても、第1支持部50は、透明誘電体層57から対向するTFT基板20に到達するように形成される。配向制御体52は、CF基板30の透過領域26となるべき領域に形成されている。配向制御体52は、垂直配向膜33の液晶層40側に形成されており、対向するTFT基板20へ延びるような切頭円錐状に形成されている。配向制御体52は、サブ画素31ごとに設けられている。このことにより、サブ画素31ごとでその配向が安定化される。透明誘電体層57は、CF基板30の反射領域22となるべき領域に形成されている。透明誘電体層57は、所定の厚さをもって垂直配向膜33の液晶層40側に形成されている。透明誘電体層57の厚さは、液晶層40の厚さdtの略半分程度であるのが好ましい。反射モードの表示では、表示に用いられる光は液晶層40を2回通過するのに対し、透過モードの表示では、表示に用いられる光は液晶層40を1回通過するだけである。従って、透過領域26の液晶層40の厚さdtを反射領域22の、液晶層40の厚さdrの略2倍に設定すると両方の表示モードで良好な表示を実現できる。第2支持部51は、CF基板30の反射領域22となるべき領域に形成された透明誘電体層57上に形成されている。これにより、光透過領域26と、反射層23を有して周囲より高くなっている光反射領域22とに、同時に支持部を形成することができ、それぞれ高さの異なる第1及び第2支持部50,51を効率よく形成することができる。第2支持部51は、本実施形態では樹脂製材料で形成されているが、基板に対する押圧力に対抗できるものであれば特に限定されず、セラミック製又は金属製のものであってもよい。また、第2支持部51は、対向するTFT基板20へ延びるような切頭円錐状に形成されており、その頭頂部とTFT基板20との間に間隙58が形成されている。これにより、基板に荷重がかけられた際には第1支持部50及び第2支持部51によってその荷重を支えることができる。また、第1支持部50より高さが低くなるように形成されており、第2支持部51の頭頂部とTFT基板20との間に間隙58が形成されていることで、液晶層40の変位に追随するように両基板20,30が相対的に変位できる。これにより、低温衝撃気泡の発生を規制することができる。ここで、この間隙58、すなわち第2支持部51の頭頂部と対向するTFT基板20との間隔が液晶層40の0.2倍以下であれば、薄型液晶表示装置の液晶パネルでの押圧ムラ試験においてより効果的に耐強度性を確保できるためである。また、第2支持部51の頭頂部と対向するTFT基板20との間隔が液晶層40の0.05倍以上であれば、低温衝撃気泡評価で気泡発生や不良ドメイン発生をより効果的に抑制できるためである。また、このように第2支持部51が表示領域内に設けられているため、表示領域の局所的な表示不良を規制することができる。尚、第2支持部51は表示領域内に限られず、ブラックマトリクス54上等のような表示領域外に設けられていても良い。さらに、第2支持部51は、表示領域における遮光部分に設けられていてもよい。第2支持部51の設置部位における光漏れを規制することができるからである。また、光反射領域22として利用される画素内の保持容量配線等の遮光部分に第2支持部を設けると、その分、有効開口率の低下を規制することも可能である。第2支持部51は、各サブ画素31領域上に設けられているため、サブ画素31領域に隣接するブラックマトリクス54上に1つのサブ画素31領域を空けて設けられている第1支持部50よりその数が多い。このように、第2支持部51が第1支持部50より多く設けられていることで、局所的な荷重がかけられた際に第1支持部50は最小限にして高さの低いより多くの第2支持部51の存在で液晶層40の変位に対して両基板20,30をより柔軟に追随させることができる。従って、このような場合に生じていた局所的な低温衝撃気泡の発生をより的確に規制することができる。また、第2支持部51は、それぞれがサブ画素31内で同様な位置に設けられている。具体的には、図1に示すように、すべての第2支持部51が各サブ画素31の反射領域22の略中央部に位置するように透明誘電体層57上に配置されている。従って、基板への局所的な荷重に対しても均一に配置された第2支持部51がその荷重を均等に受けることができる。このため、より効果的に局所的な基板歪みを規制し、液晶表示装置10の表示機能をより安定して良好なものとすることができる。尚、第2支持部51の配置は、これに限らない。すなわち、第2支持部51の配置密度は第1支持部50の1.2倍以上であってもよい。本実施形態における第2支持部51は、低温衝撃気泡の発生を規制し、基板厚を薄板化したときの耐押圧ムラ改善に主体的に寄与することになる。この観点からは第2支持部の配置密度支持部の個数/mm2×支持部の横断面積が第1支持部の密度より大きいほうがよく、さらに、1.2倍以上であれば、その効果がより発揮される。本実施形態での支持部の配置設計は第2支持部51の配置密度が第1支持部50の1.2倍以上になるようなものであり、例えば、絵素R、G、B各画素で1絵素単位を構成する表示単位に対して、第1支持部50及び第2支持部51を1個以上配置することが好ましい。特に、低温衝撃気泡発生を抑制させる観点からは、液晶間隙保持を行う第1支持部50を1絵素単位に3つ以上配置することは困難である。また、第1支持部50に対してラビング等の配向処理を行う場合には、支持部の近傍で配向が乱れることによる光漏れ等の表示品位低下が懸念されることから、例えば、視感強度が相対的に小さいB青画素に接する位置に第1支持部を形成することが好ましい。特に、本実施形態のように垂直配向を用いたノーマリーブラックモードの液晶表示装置では、耐押圧ムラ改善のために、有効画素表示領域外の所定の信号配線上に第2支持部を設けるだけでなく、例えば軸対称中心部の略中央部の画素表示領域内にも追加して第2支持部を配置することも有効である。さらに、第2支持部51はその形状により液晶層40の配向をサブ画素31ごとに安定化できる。また、その配向中心をサブ画素31の反射領域22の略中央に固定することができ、各方位に配向する液晶分子の存在確率をほぼ等しくすることにより均一な表示を可能にしている。このように、第2支持部51は、反射領域22における配向制御体の働きも兼ねているため、必要な第2支持部51又は配向制御体の数が減ることにより、装置の製造効率等が良好となる。尚、第1支持部50及び第2支持部51は、本実施形態ではそれぞれCF基板30上に形成されているが、これに限られず、それぞれTFT基板20上に形成されていてもよいし、それぞれが別々の基板上に形成されていてもよい。実施形態2液晶表示装置60の構成次に、本発明における実施形態2に係る液晶表示装置60について、図面を用いて詳細に説明する。図5は、液晶表示装置60を示す。この液晶表示装置60は、対向する基板のそれぞれに配向処理が施されたTwistedNematic型のものである。液晶表示装置60は、対向するTFT基板70及びカラーフィルタ基板CF基板80、それらの間に設けられた液晶層90、対向する両基板70,80間に設けられた第1支持部100及び第2支持部101で構成されている。TFT基板70は、ガラス基板71、ガラス基板71上に形成された信号線や走査線等から構成されるスイッチング素子72並びに画素電極73で構成されており、これらの液晶層90側にはそれらを覆うように配向処理が施された配向膜75が形成されている。CF基板80は、TFT基板70のガラス基板71よりも薄く形成されたガラス基板81上に赤R、緑G及び青Bの3原色のサブ画素84が形成されたCF層82が形成されている。これらのサブ画素84は、その間に、コントラストを得るための縁取りとしてブラックマトリクス91が設けられている。従って、図6のように、このブラックマトリクス91で各サブ画素84が区切られている。また、サブ画素84を構成するものとしては、RGB以外に、シアン、マゼンタ、イエローの補色を用いてもよい。また、図6のように、CF層82の6つのサブ画素84が横に3つ及び縦に2つずつ並ぶように配置されてなる画素領域単位を画素パターン85と呼ぶ。ここで、画素パターン85は、各表示サイズの液晶表示装置60それぞれについて異なっている。画素パターン85は、本実施形態のように6つのサブ画素84が配置されたものでなくてもよく、例えば、横3つ及び縦3つに配置された合計9つのサブ画素で構成されるもの等でもよい。また、CF基板80は、そのCF層82の液晶層90側の表面に透明電極86が形成されている。透明電極86は、その液晶層90側の表面に配向処理が施された配向膜87が形成されている。ここで、この配向膜87は、TFT基板70側に形成された配向膜75に施された配向と垂直な方向に配向処理されている。尚、CF基板80のガラス基板81及びTFT基板70のガラス基板71は、それぞれその厚さは特に限定されず、TFT基板70のほうが薄く形成されていてもよく、また、同じ厚さに形成されていてもよい。第1支持部100は、CF基板80からTFT基板70に達するように延びて形成されている。第1支持部100は、CF基板80のブラックマトリクス91上に形成されている。第1支持部100は、液晶層90の厚さを保持しているため、その高さが液晶層90の厚さを決定している。第1支持部100の形状は、どのようなものであってもよく、例えば、円柱状、角柱状、又は、それらの先細形状等に形成されている。第1支持部100は、本実施形態では樹脂製材料で形成されているが、基板に対する押圧力に対抗できるものであれば特に限定されず、セラミック製又は金属製のものであってもよい。尚、第1支持部100は、本実施形態のようにブラックマトリクス91上に形成されていなくてもよく、その他の遮光部例えば、表示領域内の保持容量配線上等に形成されていてもよい。第2支持部101は、CF層82のブラックマトリクス91上に形成されている。第2支持部101は、対向するTFT基板70へ延びるような切頭円錐状に形成されており、その頭頂部とTFT基板70との間に間隙58が形成されている。これにより、基板に荷重がかけられた際には第1支持部100及び第2支持部101によってその荷重を支えることができる。また、第1支持部100より高さが低くなるように形成されており、第2支持部101の頭頂部とTFT基板70との間に間隙58が形成されていることで、液晶層90の変位に追随するように第1及び第2基板が相対的に変位できる。これにより、低温衝撃気泡の発生を規制することができる。ここで、この間隙58、すなわち第2支持部101の頭頂部と対向するTFT基板70との間隔が液晶層90の0.2倍以下であれば、薄型液晶表示装置の液晶パネルでの押圧ムラ試験においてより効果的に耐強度性を確保できるためである。また、第2支持部101の頭頂部と対向するTFT基板70との間隔が液晶層90の0.05倍以上であれば、低温衝撃気泡評価で気泡発生や不良ドメイン発生をより効果的に抑制できるためである。第2支持部101は、本実施形態では樹脂製材料で形成されているが、基板に対する押圧力に対抗できるものであれば特に限定されず、セラミック製又は金属製のものであってもよい。第2支持部101は、図6に示すように、各サブ画素84を区切るブラックマトリクス91上において、第1支持部100を中心としてその周りに8つが均一に設けられている。このように、第2支持部101が第1支持部100より多く設けられていることで、局所的な荷重がかけられた際に第1支持部100は最小限にして高さの低いより多くの第2支持部101の存在で液晶層90の変位に対して両基板70,80をより柔軟に追随させることができる。従って、このような場合に生じていた局所的な低温衝撃気泡の発生をより的確に規制することができる。また、第2支持部101は、それぞれが画素パターン85内で同様な位置に設けられている。すなわち、本実施形態においては、図6に示したような6つのサブ画素84で構成される画素パターン85内に配置された8つの第2支持部101が、液晶表示装置60におけるその他の画素パターン85内においても同様に第1支持部100を囲んで8つ配置されている。従って、基板への局所的な荷重に対しても均一に配置された第2支持部101がその荷重を均等に受けることができる。このため、より効果的に局所的な基板歪みを規制し、液晶表示装置60の表示機能をより安定して良好なものとすることができる。尚、第2支持部101の配置は、これに限らず、図7に示すように第1支持部100を中心として画素パターン85の、対角線の端のブラックマトリクス91上において4つが配置されていてもよい。また、図8に示すように、第1支持部100を中心として画素パターン85の縦及び横方向の端のブラックマトリクス91上において4つが配置されていてもよい。さらに、図9に示すように、各サブ画素84上の中心における不図示の保持容量配線上に1つずつ、合計6つが配置されていてもよい。また、第2支持部101の配置密度は第1支持部100の1.2倍以上であってもよい。本実施形態における第2支持部101は、低温衝撃気泡の発生を規制し、基板厚を薄板化したときの耐押圧ムラ改善に主体的に寄与することになる。この観点からは第2支持部の配置密度支持部の個数/mm2×支持部の横断面積が第1支持部の密度より大きいほうがよく、さらに、1.2倍以上であれば、その効果がより発揮される。本実施形態での支持部の配置設計は第2支持部101の配置密度が第1支持部100の1.2倍以上になるようなものであり、例えば、図6~9等のように絵素R、G、B各画素で1絵素単位を構成する表示単位に対して、第1支持部100及び第2支持部101を1個以上配置することが好ましい。特に、低温衝撃気泡発生を抑制させる観点からは、液晶間隙保持を行う第1支持部100を1絵素単位に3つ以上配置することは困難である。また、第1支持部100に対してラビング等の配向処理を行う場合には、支持部の近傍で配向が乱れることによる光漏れ等の表示品位低下が懸念されることから、例えば、視感強度が相対的に小さいB青画素に接する位置に第1支持部を形成することが好ましい。尚、第1支持部100及び第2支持部101は、本実施形態ではそれぞれCF基板80上に形成されているが、これに限られず、それぞれTFT基板70上に形成されていてもよいし、それぞれが別々の基板上に形成されていてもよい。また、本実施形態ではTN型の液晶表示装置60について示したが、これに限られず、SuperTwistedNematicSTN型やElectricallyControlledBirefringence型等の液晶表示装置60を用いてもよい。また、本実施形態1及び2で適用可能な支持部については、フォトリソグラフィー工程を経てパネル内の所定の位置に構成することが極めて有効である。このようなものとしては、パターニング形成時の解像度、現像性に優れ、且つ、機械的強度や液晶に対する汚染性や透明性が高い素材を適用することが必要となる。具体的には、露光により材料の硬化が進行するタイプのネガ型感光材料や露光により材料が結合開列し、現像工程で選択的な溶解が進行するタイプのポジ型感光材料が適用可能である。例えば、材料の透明性や機械的強度を保つ観点からは、アクリレート系材料、ウレタンアクリレート系材料、エポキシアクリレート系材料、メタクリレート系材料などを含む樹脂系を基本構成とした感光性樹脂を用いてパターニング形成することが可能となる。次に、本実施形態に示す液晶表示装置について、種々の荷重による表示機能への影響を検討した。試験評価1両基板の厚さ、第1支持部及び第2支持部との配置密度と、表示装置の荷重付加による表示ムラとの関係を調べるための評価試験を、実施形態1に示したのと同一構成の液晶表示装置を用いて行った。試験評価用液晶表示装置第1基板厚/第2基板厚がそれぞれ0.5/0.05及び0.5/0.1mmの第1及び第2基板、及び、それぞれ所定の密度単位面積あたりの個数を有し且つ所定の横断面ここでは、径の大きさで表すが形成された第1及び第2支持部で構成される液晶表示装置をそれぞれ数個ずつ準備した。また、液晶パネルは所定の偏光板を基板外側に一対貼合したものを用いた。試験評価方法上記試験評価用の液晶表示装置についてインストロン社製のインストロン万能材料試験機5543型を用いて押圧ムラの評価を行うために荷重付加試験を行った。まず、円筒形の載置台上に液晶表示装置を、CF基板を上にして設置した。次に、インストロン万能材料試験機の円柱状の押測治具で図11に示すようにそれぞれの液晶表示装置のCF基板表面に対して押圧速度1mm/minで荷重を加えた。ここで、インストロン万能材料試験機の円柱状の押測治具は以下のように3つの種類のものを用いた。1円柱ゴム;先端にゴム膜を設けた直径10mmの真鋳棒これは、最も理想的な面荷重がかかる条件を実現させるためのものである2円柱;先端にゴム膜を設けていない直径10mmの真鋳棒これは、携帯電話のセット状態で実施される強度試験においても、実際片当たりした状態で荷重がかかっている場合が多く、パネル評価でもその状態を想定するために局所荷重によるダメージを受けやすい状態を実現させるためのものである3円球;先端にゴム膜を設けていない直径10mmの真鋳棒であって、先端部が球面形状R5に形成されているもの尖った物で押したり、二つ折りの携帯電話機で携帯ストラップ等を挟み込んだ状態で荷重がかかっている場合を想定するために、そのようなより狭域での荷重によるダメージを受けやすい状態を実現させるためのものである次いで、押圧荷重が設定値に達すると、その状態でインストロン万能材料試験機の円柱状の押測治具を5秒間保持し、その後1mm/minの速度で基板への荷重を開放した。このようにして、基板の表面に対し、局所的に数カ所荷重付加試験を行った。次に、荷重付加試験から5分経過した液晶表示装置について、それぞれパネル点灯装置を用いて目視により正面視及びパネル基板中心から全方位約45°の角度で全面白表示及び中間調表示でのムラの有無及びその程度を観察した。試験評価結果荷重付加による押圧ムラ試験の結果を表1に示す。尚、表1において、押圧ムラ試験の◎は円柱ゴム、円柱、円球のそれぞれによる押圧試験のすべてについて良好な判定結果を得たことを意味する。同様に、○は上記3項目中2項目が良好、△は上記3項目中1項目が良好、そして×はすべての項目で表示不良であることを意味する。ここで、荷重付加による押圧ムラの発生原理を説明するため、図10に支持部単体又は局所エリアに荷重をかけた際に生じる支持部の変形イメージを表す。第1段階では、1mm/minの速度にて支持部を押し込んでいく。第2段階では、任意の最大荷重点で5秒間押し込み量を保持する。第3段階では、1mm/minにて荷重を開放していく。第4段階では、弾性変形から塑性変形αとして元に戻らなくなったことを表示している。限界点を超えない荷重Aであれば荷重後も塑性変形αが0に近づき問題とはならないが、限界点を越えたAmaxでは、塑性変形αが現れ、この支持部の塑性変形αにより生じた局所的なセル厚変化が押し厚ムラの主要因になっているものと考えられる。表1によれば、ほとんどの表示装置についても押圧ムラ試験の判定が良好であった。また、これらの基板厚がいずれも0.5mm以下であった。従って、第1又は第2基板の基板厚が少なくとも0.5mm以下という薄型液晶表示装置についても良好な耐押圧ムラ特性を有することがわかる。また、表1の押圧判定結果において、第1支持部と第2支持部との支持部の密度比第2支持部の密度×第支持部の横断面の径÷第1支持部の密度×第支持部の横断面の径が1であるものの中に、表示不良のものが二つ含まれていた。従って、支持部密度比が1.2以上であれば、耐押圧ムラ特性においてより優れた表示装置を実現できることがわかる。また、図11は、第1支持部の配置密度を一定25個/mm2、径12μmφに限定したときの押圧ムラが良好である上限値局所的変形を重視して円球を押圧棒とした試験結果で比較を示した図である。特に基板厚が小さい場合に第2支持部追加の効果が大きいことが確認できた。図12,13は、各々、基板厚が0.05/0.5、0.1/0.5mmのときの第1支持部の径と押圧ムラが良好である上限値局所的変形を重視して円球を押圧棒とした試験結果で比較との関係を示す図である。第1支持部の径が大きい、即ち、横断面積が大きいほど耐圧性の改善効果は高くなる。しかしながら、大きな径の構造体をパターニング形成することは、バスライン遮光部配線幅との関係で実行開口率低下を招くことが懸念される。すなわち、支持部配置の設計ルールとして、支持部をバスライン上に位置する領域に配置するためには、現実的には、20μm以下の径に設計することが好ましい。これよりも大きな支持部を配置した場合には、支持部の近傍からの光洩れを十分に遮光することが困難となり、表示上のコントラスト比低下が大きくなるとともに、開口率の低下が深刻となりパネルの透過率が低くなることが懸念されるからである。また、第1支持部に対する第2支持部の密度比支持部の個数/mm2×支持部の横断面積が10倍を超えると実効開口率が約10以上低下することが確認された。試験評価2両基板の厚さ、第1支持部及び第2支持部との配置密度と、表示装置の低温衝撃気泡発生との関係を調べるための評価試験を、実施形態1に示したのと同一構成の液晶表示装置を用いて行った。試験評価用液晶表示装置第1基板厚/第2基板厚がそれぞれ0.5/0.05及び0.5/0.1mmの第1及び第2基板、及び、それぞれ所定の密度単位面積あたりの個数を有し且つ所定の横断面ここでは、径の大きさで表すが形成された第1及び第2支持部で構成される液晶表示装置をそれぞれ数個ずつ準備した。また、液晶パネルは所定の偏光板を基板外側に一対貼合したものを用いた。試験評価方法上記試験評価用の液晶表示装置について低温衝撃気泡試験を行った。まず、恒温槽内に液晶表示装置をそれぞれ静置した後、マイナス30°Cの環境下で3時間保持し、CF基板表面からの高さ10cmの位置からパチンコ玉を1つ自然落下させた。次に、恒温槽から液晶表示装置を取り出し、それぞれパネル点灯装置を用いて目視及び光学顕微鏡により気泡による表示ムラの有無及びその程度を観察した。試験評価結果荷重付加による低温衝撃気泡試験の結果を表1に示す。尚、表1中の○は表示不良の発生が無いこと、△は一部パネルで表示不良が発生したことを意味する。表1によれば、第1支持部と第2支持部との支持部の密度比第2支持部の密度×第2支持部の横断面の径÷第1支持部の密度×第1支持部の横断面の径が1以下であるものの中に、低温衝撃気泡の発生により表示不良が生じているものがある。しかし、密度比がそれより大きいもの、特に密度比が1に最も近い1.25でさえ十分良好な判定結果が得られている。従って、第1支持部と第2支持部との支持部の密度比は1.2以上であれば特に良好な耐低温衝撃気泡特性を有することがわかる。試験評価3次に、第2支持部の間隔と液晶層厚との関係と、押圧ムラ及び低温衝撃気泡の発生との影響について検討するために、第2支持部の対向基板との間隔が異なる試験評価用液晶表示装置について、上記と同様な押圧ムラ試験及び低温衝撃気泡試験を行った。試験評価用液晶表示装置本試験において、第2支持部と対向する基板との間隔がそれぞれ異なる液晶表示装置を用いた。ここで、評価条件としては、第1基板厚/第2基板厚=0.5/0.05mmであり、第1支持部はその密度が25個/mm2で径が17μm、第2支持部はその密度が125個/mm2で径が6μmであるものを用いた。試験評価結果試験結果を表2に示す。表2によると、第2支持部と対向基板との間隔が液晶層厚の0.06~0.19倍のもの液晶層厚が3.40μmの場合及び0.10~0.20倍のもの液晶層厚が5.10μmの場合について、それぞれ押圧判定及び低温衝撃気泡判定が良好であった。従って、第2支持部と対向する基板との間隔が、液晶層の0.05倍以上0.20倍以下である場合、特に良好な耐押圧ムラ特性及び耐低温衝撃気泡特性を有することがわかる。試験評価4また、本発明において、基板を薄型化した液晶表示装置において解決すべき課題である局所的な押圧シミ表示不良や低温衝撃気泡などの問題に対し、液晶パネルの基板間隙を制御する第1の支持部の配置設計横断面形状、横断面積及び配置密度を最適化して課題を解決することも有用な手段となる。従って、以下のような第1支持部のみによる配置密度と耐押圧ムラ特性及び耐低温衝撃気泡特性との関係について試験を行い、その結果を検討した。試験評価方法薄板側の基板厚を0.5~0.05mmの範囲で変え、支持部の配置密度及び横断面積を所定の範囲で変動させた時の液晶パネルに所定の位相差板付偏光板をパネル両面に貼り合わせた後、荷重付加による表示ムラ試験押圧ムラ試験と-30°Cでの低温衝撃気泡低温衝撃試験を上記の試験評価1及び2と同様に行って、薄型液晶表示装置でのパネル試験をした。なお、各試験での試験パネル数は各々5つである。試験評価結果試験結果を表3に示す。単一の支持部基板間隙保持部材の最適化により、ある程度の範囲でパネル強度の問題の解決が可能であることが示された。この点では、支持部の配置密度及び横断面積の最適化を進めることにより、一定の範囲の課題解決は図れるものと考えられる。尚、単一の支持部のみでは、さらにパネル厚の薄型化やその強度改善を図ることは難しく、より広範囲の薄型化実現のためには本発明の開示技術のアプローチが有効である。作用効果次に、作用効果について説明する。本実施形態1,2に係る液晶表示装置10,60は、互いに対向するように設けられたTFT基板20,70及びCF基板30,80と、それらの間に挟まれるように設けられた液晶層40,90と、を備えた液晶表示装置10,60であって、各々、TFT基板20,70及びCF基板30,80の一方から他方に達するように延びて形成された複数の第1支持部50,100が設けられていると共に、各々、TFT基板20,70及びCF基板30,80の一方から他方に向かって延び且つ第1支持部50,100よりもそれぞれ高さが低く形成された複数の第2支持部51,101が設けられている。このような構成によれば、基板に全体的に荷重がかけられた際には第1支持部50,100及び第2支持部51,101によってその荷重を支える。また、第1支持部50,100より高さが低くなるように形成された第2支持部51,101を設けているため、液晶層40,90の変位に追随するようにTFT基板20,70及びCF基板30,80が相対的に変位できる。これにより、低温衝撃気泡の発生を規制することができる。また、本発明に係る液晶表示装置10,60は、第2支持部51,101が第1支持部50,100よりも数が多いものであってもよい。このような構成によれば、局所的な荷重がかけられた際に第1支持部50,100は最小限にして高さの低い第2支持部51,101をより多く設けることによって、液晶層40,90の変位に対してTFT基板20,70及びCF基板30,80がより柔軟に追随することができる。従って、このような場合に生じていた局所的な低温衝撃気泡の発生をより的確に規制することができる。さらに、本発明に係る液晶表示装置10,60は、複数の第2支持部51,101のそれぞれが表示領域に設けられていてもよい。このような構成によれば、複数の第2支持部51,101のそれぞれが表示領域に設けられているため、表示領域の局所的な表示不良を規制することができる。また、本発明に係る液晶表示装置10,60は、第2支持部51,101が表示領域を構成する画素パターン49,85において第1支持部50,100よりそれぞれ数が多いものであってもよい。このような構成によれば、第2支持部51,101が表示領域を構成する画素パターン49,85において第1支持部50,100より数が多いため、表示領域においてさらに的確に局所的な表示不良を規制することができる。さらに、本発明に係る液晶表示装置10,60は、第2支持部51,101の画素パターン49,85における配置密度が第1支持部50,100の1.2倍以上であってもよい。第2支持部51,101は、低温衝撃気泡の発生を規制し、基板厚を薄板化したときの耐押圧ムラ改善に主体的に寄与することになる。この観点からは第2支持部51,101の配置密度支持部の個数/mm2×支持部の横断面積が第1支持部50,100の密度より大きいほうがよく、さらに、1.2倍以上であれば、その効果がより発揮される。また、本発明に係る液晶表示装置10,60は、複数の第2支持部51,101が各画素パターン49,85内でそれぞれ同様な位置に設けられていてもよい。このような構成によれば、基板への局所的な荷重に対しても均一に配置された第2支持部51,101がその荷重を均等に受けることができる。このため、より効果的に局所的な基板歪みを規制し、液晶表示装置10,60の表示機能をより安定して良好なものとすることができる。さらに、本発明に係る液晶表示装置10,60は、第2支持部51,101と対向するTFT基板20,70との間隔が、液晶層40,90の0.05倍以上0.2倍以下であってもよい。第2支持部51,101と対向するTFT基板20,70との間隔が液晶層40,90の0.2倍より大きければ、薄型液晶表示装置の液晶パネルでの押圧ムラ試験において十分な耐強度の確保が難しいという問題が認められるためである。また、第2支持部51,101と対向するTFT基板20,70との間隔が液晶層40,90の0.05倍より小さければ、低温衝撃気泡評価で気泡発生や不良ドメイン発生などの問題が認められるためである。また、本発明に係る液晶表示装置10,60は、TFT基板20,70及びCF基板30,80の少なくとも一方の厚さが0.5mm以下であってもよい。このような構成によれば、液晶表示装置10,60のパネル全体の薄型化や軽量化を図るためにガラス厚を薄く設計する必要がある場合に、TFT基板20,70及びCF基板30,80をそれぞれ同一のガラス厚設計として薄型化を行うだけでなく、TFT基板20,70及びCF基板30,80のガラス厚をそれぞれ非対称に設計することも可能となる。さらに、本発明に係る液晶表示装置10,60は、TFT基板20,70とCF基板30,80との基板厚がそれぞれ異なっていてもよい。このような構成によれば、TFT基板20,70を第1基板として、対向するCF基板30,80を第2基板として相対的に薄板化させると、TFT基板20,70に直接的に接続端子やドライバを実装する際の基板端部の局所的な加熱及び加圧に対し、所定の厚みよりも薄型化することによるTFT基板20,70の破損を防ぐことができる。また、TFT基板20,70はTFT端子及び配線等の多層薄膜積層工程において基板単体にも熱や圧力状態の歪みや履歴が加わっており、TFT基板20,70の薄型化により機械的強度が低下するのを防ぐことができる。さらに、本発明に係る液晶表示装置10,60は、各画素パターン49,85に光透過領域26と光反射領域22とを有していてもよい。このような構成によれば、光透過領域26と、反射層23を有して周囲より高くなっている光反射領域22とに、同時に支持部を形成することによりそれぞれ高さの異なる第1及び第2支持部51,101を効率よく形成することができるため、装置の製造効率等が良好となる。また、本発明に係る液晶表示装置10,60は、第2支持部51,101が表示領域における遮光部分に設けられていてもよい。このような構成によれば、第2支持部51,101が表示領域における遮光部分に設けられているため、第2支持部51,101の設置部位における光漏れを規制することができる。さらに、液晶表示装置10の場合、光反射領域22として利用される画素内の保持容量配線等の遮光部分に第2支持部を設けると、その分、有効開口率の低下を規制できる。さらに、本発明に係る液晶表示装置10,60は、第1支持部50,100と上記第2支持部51,101との横断面積が異なっていてもよい。一般的に、支持部の横断面積支持部が延びる方向に垂直な方向で切った断面の面積が大きいほどガラスの耐圧特性が大きい傾向がある。しかしながら、これらの支持部は、配線上の所定の位置に形成することで光漏れを防止することが可能となる一方、所定の横断面積よりも大きく設計するとコントラスト比低下等の表示特性に支障をきたす弊害が生じることになる。特に、第1支持部50,100に比較して所定の位置に多数の第2支持部51,101を設ける本発明の場合には、このような構成により横断面積の異なった第1支持部50,100と第2支持部51,101とを非対称に配置することができるため、パネルの開口率及びコントラスト比の低下を有効に抑制することができる。さらに、第1支持部50,100と第2支持部51,101とを別工程で同種材料あるいは異種材料を用いて形成することも可能であるが、製造工程の短縮化や低コスト化の観点からは同一のフォトリソグラフィ工程を経て該支持部をパターニング形成することも極めて有効となる。このように、同一工程において、高さの異なる構造物を形成するために第1支持部50,100と第2支持部51,101との横断面積を異なって設計することが可能となる。さらに、本発明に係る液晶表示装置10,60は、第2支持部51,101の横断面積が第1支持部50,100の横断面積より小さくてもよい。このような構成によれば、第1支持部50,100に対して所定の密度で所定の位置に形成する第2支持部51,101の横断面積を小さく設計した場合に、従来の基板間隙保持を目的とする第1支持部50,100の形成と同一の工程数で配置することが可能となる。さらに、本発明に係る液晶表示装置10は、TFT基板20及びCF基板30のそれぞれには、液晶層40側に、電圧無印加時に液晶分子を垂直に配向させる垂直配向膜25,33が設けられており、TFT基板20,70及びCF基板30,80の少なくとも一方には、液晶層40,90側に、電圧印加時に液晶分子を放射状に配向させる配向制御体52が設けられていてもよい。このような構成によれば、上記の液晶層40が局所的な基板撓みの生じない対向基板で挟まれているため、局所的な荷重に対しても電圧無印加時の垂直配向及び電圧印加時の放射状配向が乱されることなく、良好な表示品位を保つことができる。また、本発明に係る液晶表示装置10は、第2支持部51が配向制御体を兼ねていてもよい。このような構成によれば、第2支持部51が配向制御体を兼ねているため、必要な第2支持部51又は配向制御体の数が減ることにより、装置の製造効率等が良好となる。さらに、本発明に係る液晶表示装置60は、TFT基板70及びCF基板80の少なくとも一方の液晶層90側に所定の配向処理を施した配向膜75又は87が設けられていてもよい。このような構成によれば、上記の液晶層90が局所的な基板撓みの生じない対向基板で挟まれているため、局所的な荷重に対しても所定の配向処理によって形成された配向が乱されることなく、良好な表示品位を保つことができる。"