"トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、上記低反射率領域はピット列により形成されているとともに、上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをH、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをS、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度をMとしたとき、SM/2≦0.6Hを満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている光記録媒体。ディスク状光記録媒体であって、上記高反射率領域と上記低反射率領域とが、それぞれ上記トラックピッチ方向である半径方向に放射状に連続する状態で形成されることで、上記バーコード状の反射パターンが形成されている請求項1に記載の光記録媒体。NA=0.85の光学系によって出射される波長405nmのレーザ光によって再生されるとともに、上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が1667本/mm以上のピット列により形成されている請求項1に記載の光記録媒体。上記低反射率領域のピット列は、ピット部とランド部の比率が50±5である請求項3に記載の光記録媒体。上記低反射率領域のピット列は、トラックピッチが0.32μm以下である請求項3に記載の光記録媒体。上記低反射率領域のピット列では、トラックピッチ方向に隣接するピットが重なりあっている請求項3に記載の光記録媒体。上記低反射率領域の各ピットは、互いに、直角を有さない三角形の各頂点位置となる位置関係で配置されている請求項1に記載の光記録媒体。上記高反射率領域は、ピット列が形成されていないミラー部とされている請求項1に記載の光記録媒体。上記高反射率領域は、上記低反射率領域のピット列より高い再生信号レベルが得られるピット列又はグルーブにより形成されている請求項1に記載の光記録媒体。トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、該記録領域は、NA=0.85の光学系によって出射される波長405nmのレーザ光によって再生されるとともに、上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が1667本/mm以上のピット列により形成されている光記録媒体。ディスク状光記録媒体であって、上記高反射率領域と上記低反射率領域とが、それぞれ上記トラックピッチ方向である半径方向に放射状に連続する状態で形成されることで、上記バーコード状の反射パターンが形成されている請求項10に記載の光記録媒体。上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをH、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをS、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度をMとしたとき、SM/2≦0.6Hを満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている請求項10に記載の光記録媒体。上記低反射率領域のピット列は、ピット部とランド部の比率が50±5である請求項10に記載の光記録媒体。上記低反射率領域のピット列は、トラックピッチが0.32μm以下である請求項10に記載の光記録媒体。上記低反射率領域のピット列では、トラックピッチ方向に隣接するピットが重なりあっている請求項10に記載の光記録媒体。上記低反射率領域の各ピットは、互いに、直角を有さない三角形の各頂点位置となる位置関係で配置されている請求項10に記載の光記録媒体。上記高反射率領域は、ピット列が形成されていないミラー部とされている請求項10に記載の光記録媒体。上記高反射率領域は、上記低反射率領域のピット列より高い再生信号レベルが得られるピット列又はグルーブにより形成されている請求項10に記載の光記録媒体。トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、上記低反射率領域はピット列により形成されているとともに、上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをH、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをS、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度をMとしたとき、SM/2≦0.6Hを満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている光記録媒体の製造方法であって、記録情報に基づいて凹凸パターンが設けられた原盤を製造する原盤製造工程と、上記原盤における凹凸パターンを転写したスタンパを作成するスタンパ作成行程と、上記スタンパにおける凹凸パターンが転写された基板を作成する基板作成行程と、上記基板に所定の層構造を形成することで光記録媒体を形成する光記録媒体形成行程とを備え、上記原盤製造工程において、上記原盤に、上記高反射率領域と上記低反射率領域から成る上記記録領域に相当する凹凸パターンを形成することで、上記光記録媒体形成行程で形成される光記録媒体に、上記記録領域が形成されているようにした光記録媒体の製造方法。トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、該記録領域は、NA=0.85の光学系によって出射される波長405nmのレーザ光によって再生されるとともに、上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が1667本/mm以上のピット列により形成されている光記録媒体の製造方法であって、記録情報に基づいて凹凸パターンが設けられた原盤を製造する原盤製造工程と、上記原盤における凹凸パターンを転写したスタンパを作成するスタンパ作成行程と、上記スタンパにおける凹凸パターンが転写された基板を作成する基板作成行程と、上記基板に所定の層構造を形成することで光記録媒体を形成する光記録媒体形成行程とを備え、上記原盤製造工程において、上記原盤に、上記高反射率領域と上記低反射率領域から成る上記記録領域に相当する凹凸パターンを形成することで、上記光記録媒体形成行程で形成される光記録媒体に、上記記録領域が形成されているようにした光記録媒体の製造方法。このようにBCAは、ディスク一枚一枚にユニークな情報を記録するため、製造されるディスク毎に書き込みを行うため、専用の高価なBCA記録装置が各製造ラインに必要となり、製造コストが増大するという問題があった。一方、各ディスク個別の情報ではなく、或る程度まとまったディスク群に同一の情報をBCAに記録したいという要望もある。例えば製造ライン毎にユニークな情報を記録するような場合である。本開示では、このような場合に応じて、適切なBCAの形態及び光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。本開示の光記録媒体は、トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、上記低反射率領域はピット列により形成されているとともに、上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをH、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをS、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度をMとしたとき、SM/2≦0.6Hを満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている。また本開示の光記録媒体は、トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、該記録領域は、NA=0.85の光学系によって出射される波長405nmのレーザ光によって再生されるとともに、上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が1667本/mm以上のピット列により形成されている。本開示の製造方法は、上記のように高反射率領域と上記低反射率領域を有する記録領域が形成されている光記録媒体の製造方法であって、記録情報に基づいて凹凸パターンが設けられた原盤を製造する原盤製造工程と、上記原盤における凹凸パターンを転写したスタンパを作成するスタンパ作成行程と、上記スタンパにおける凹凸パターンが転写された基板を作成する基板作成行程と、上記基板に所定の層構造を形成することで光記録媒体を形成する光記録媒体形成行程とを備える。そして上記原盤製造工程において、上記原盤に、上記高反射率領域と上記低反射率領域から成る上記記録領域に相当する凹凸パターンを形成することで、上記光記録媒体形成行程で形成される光記録媒体に、上記記録領域が形成されているようにする。以上の本開示の技術では、例えばBCAのようなバーコード状の記録領域において、低反射率領域をピット列で形成するという考え方を採る。高反射率領域は、その低反射率領域のピット列よりも高い反射率を有する形態であればよい。低反射率領域をピット列で形成する場合、ピット列を、空間周波数限界を考慮して形成したり、高反射率領域と低反射率領域からの各再生信号レベルと変調度の関係を考慮して形成する。これにより、低反射率領域をピット列で形成する場合に、適切な記録領域BCAを形成できる。本開示によれば、低反射率領域を、反射膜の焼き切りではなく、ピット列で形成することで、例えば原盤製造工程段階でバーコード状の記録領域の形成が可能となる。これにより光記録媒体の製造行程の効率化、コスト削減に好適である。さらに、低反射率領域のピット列を、空間周波数限界や、高反射率領域と低反射率領域からの各再生信号レベルと変調度の関係を考慮して形成することで、該記録領域から品質のよい再生信号が得られ、適切なバーコード状の記録領域を実現できる。以下、本開示の実施の形態を次の順序で説明する。<1.実施の形態の概要><2.第1の実施の形態><3.第2の実施の形態><4.第3の実施の形態><5.第4の実施の形態><6.ディスク製造工程><1.実施の形態の概要>実施の形態の光ディスクについて説明する。実施の形態の光ディスクは、いわゆるブルーレイディスクと呼ばれる高密度光ディスク方式の範疇における例えばROMタイプディスク、さらにはライトワンス型ディスクBD-R又はリライタブル型ディスクBD-REとして実施可能である。本実施の形態の高密度光ディスクの物理パラメータの一例について説明する。本例の光ディスクは、ディスクサイズとしては、直径が120mm、ディスク厚は1.2mmとなる。即ちこれらの点では外形的に見ればCDCompactDisc方式のディスクや、DVDDigitalVersatileDisc方式のディスクと同様となる。そして記録/再生のためのレーザとして、いわゆる青色レーザ例えば波長λ=405nmが用いられ、また光学系が高NA例えばNA=0.85とされる。さらには狭トラックピッチ例えばトラックピッチ=0.32μm、高線密度例えば記録線密度0.112μm/bitを実現する。これらにより、直径12cmのディスクにおいて、ユーザーデータ容量として23G~25GBGigaByte程度を実現している。また更なる高密度記録により、30GB程度の容量も可能とされる。また、記録層が複数層とされたいわゆるマルチレイヤーディスクも開発されており、マルチレイヤーディスクの場合、ユーザーデータ容量は、ほぼ層数倍となる。図1に、ディスク全体のレイアウト領域構成を概略的に示す。ディスク上の主たる領域としては、内周側からリードインゾーンLI、データゾーンDA、リードアウトゾーンLOが配される。リードインゾーンには、ディスクの物理特性や記録再生のための管理情報などが記録される。データゾーンは、主たるデータ、例えば映像や音楽等のコンテンツデータ、アプリケーションプログラムなどコンピュータ用途データなどが用いられる。リードアウトゾーンLOはバッファエリアとされたり、管理情報が記録されることもある。通常の記録再生には、これらの領域が用いられるが、特に個々のディスク管理のための等の目的のため、リードインゾーンLIより内周側にはBCABurstCuttingAreaが設けられる。BCAは、図示するように、放射状に形成されたバーコード状のパターンによって形成されている。このBCAは、トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向半径方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンとされる。例えば高反射率領域と低反射率領域が、半径21.0mm~22.2mmの範囲に連続して形成されることでバーコード状とされる。この場合、バーコード状のパターンであることで、このBCAの範囲はトラッキングフリーで情報を読み取ることができる。従来は、BCAはディスク記録媒体固有のユニークID等を、例えば記録層の反射膜を焼き切る記録方式で記録している。後述するが、本実施の形態では、これとは異なる方式でBCAを形成する。実施の形態の場合、BCAには、光ディスク一枚ごとでなく、ある一定のロットに同一の情報を記録する。そして後述するが、このためマスタリングの段階でディスク原盤でBCAに相当する凹凸パターンを形成する。つまりBCAの低反射率領域を、反射膜を焼き切る方式で形成するものではないものとする。これによって、光ディスクを製造した後、1枚ごとにBCA記録装置でBCAを形成する工程を無くす。すると、BCAの高反射率領域と低反射率領域は、従来のBCAとは異なる形態となるが、その本例のBCAが形成された実施の形態の光ディスクであっても、既存の再生装置で問題を起こすことなく再生できるようにもする。ここで、実施の形態の光ディスクにおけるBCAを開発するに当たっての前提を説明しておく。図4Aは、従来のBCAを模式的に示したものである。従来の光ディスクでも、BCAは見かけ上は図1と同様に、放射状のバーコードパターンとされている。図4Aのように、BCAは低反射率領域と高反射率領域がトラック線方向に交互に現れるものとされる。高反射率領域は、ピットP及びランドLによるピット列部とされている。例えばリードインゾーンLIやデータゾーンDAに形成されるピット列と同様、RLL1-7変調されたピット列とされる。一方、低反射率領域が、BCA記録装置によって反射膜が焼き切られた領域とされる。即ち、従来の光ディスクの場合、大量生産で個々の光ディスクが製造された段階では、BCA領域半径21.0mm~22.2mmの範囲は、通常のピット列が形成された領域となっている。このような光ディスクに対して、BCA記録装置によって、ディスク回転と同期させながら、所定のタイミング記録するユニークデータに応じたタイミングで反射膜を焼き切っていく。これにより、低反射率領域が半径方向に連続する状態とする。結果として、トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれ半径方向に連続するバーコード状の反射パターンが形成される。再生装置で、このBCAを再生した場合、得られるRF信号再生信号の波形は、図4Bのようになる。つまり、ピット列が形成された高反射率領域では、ピット列に応じたある程度の反射光が得られるので、RF信号波形は、ピット/ランドにより多少変動しながら、平均的にはある程度のレベルとなる。一方、低反射率領域は、反射膜が焼き切られているため、ほとんど反射光は得られず、RF信号波形はかなり低いレベルとなる。再生装置では、このような高反射率領域と低反射率領域でのRF信号振幅の差から、10の情報を得ることができ、BCAに記録された情報を読み出すことができる。ところが上述のように、この方式では、製造された個々の光ディスクについて、BCA記録装置によってBCA記録を行うことで、製造効率やコストの点で非常に不利である。また、個々の光ディスクの個別の情報ではなく、ロット単位で同じ情報を入れたいという要望もある。これらを考慮すると、上述のようにマスタリング段階でBCAに相当する凹凸パターンを形成し、スタンパを用いてディスク基板を形成する際に、ディスク基板上にBCAとなるバーコード状のパターンを形成しておくことが考えられる。こうすれば、BCA記録に係る効率の悪化やコストアップは解消される。そこで本実施の形態では、焼き切りを行わずにBCAを形成するために、低反射率領域をピット列で形成するものとする。高反射率領域はピット列よりも反射率が高くなる領域とする。例えばミラー部とする。ここで、低反射率領域をピット列で形成するとすると、次の点を考慮しなければならない。図5Bは、従来のBCAの再生波形を示す。いま、ピット列部分からのRF信号レベルとして、この図の縦軸で示す1~1.5を中心とする範囲の振幅が得られるとする。図4で説明したように、従来のBCAではピット列部が高反射率領域であり、焼き切り部が低反射率領域である。低反射率領域焼き切り部では、RF信号レベルは図5Bの0近辺となる。高反射率領域では、ピット列による変調を受けるため、図5Bの1~1.5近辺となる。ピット列での変調による振幅変動が大きいと、適正な2値化ができなくなる。しかし、従来のBCAでは、そもそも焼き切り部でのレベルがほぼ0であり、ピット列部分からのRF信号レベルが多少変調されていても、2値化に不具合が生ずるほどではない。例えばこの図でいうレベル0.5あたりをスライスレベルとすれば、ほぼ間違いなく2値化できる。一方、本実施の形態では、低反射率領域をピット列として形成する。仮に一例として、高反射率領域をミラー部とすると考える。ミラー部とは、ピットPが形成されず、ランドLが連続する部分である。つまりピットPによる回折を受けずに高い反射率となる部分である。その場合のRF信号波形を比較例として図5Aに示す。低反射率領域はピット列部であることで、RF信号レベルは1~1.5近辺となる。しかもピット列による変調を受け、比較的大きなレベル変動が観測される。高反射率領域は、低反射率領域より高いレベルとなる。つまり、高反射率領域、低反射率領域とも、図5Bの場合に比べてRF信号レベルは高いレベルになるとともに、低反射率領域でのRF信号において変調成分が生じるものとなる。この場合、高反射率領域のRF信号レベルと、変調による振幅変動が大きい低反射率領域のRF信号レベルは、比較的差が小さくなる。すると、場合によっては低反射率領域での比較的大きい振幅が、スライスレベルを上下することで、誤った2値化が行われる可能性が高くなる。その結果、再生装置がBCA情報の読出を適切に行うことができず、BCA再生のリトライを繰り返し、最終的にはディスクエラーとしてディスクイジェクトを行ったり、コンテンツ再生を行わずに再生不可のまま停止してしまうというようなことが生じる。ブルーレイディスク規格では、低反射率領域の再生信号レベルは、高反射率領域の再生信号レベルの0.549以下と規定されている。一般に記録再生装置は約10のマージンを見込んで設計するため、変調をも含んだ低反射率領域の再生信号レベルが0.6以下0.603以下であれば、再生に問題はない。従って、本実施の形態において低反射率領域をピット列で形成することとした場合は、この点を考慮し、低反射率領域からの変調を含んだ再生信号レベルをなるべく低くし、上記の0.6以下という基準を満たすようにすることが必要となる。即ち次のようになる。高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをH、低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをSとする。また低反射率領域つまり本実施の形態の場合はピット列部分での反射光から得られる再生信号の変調度をMとする。本実施の形態では、この場合に、SM/2≦0.6Hを満たすように、高反射率領域と低反射率領域を形成するものである。<2.第1の実施の形態>図2,図3で第1の実施の形態としてのBCAを説明する。図2Aは、図1に示した光ディスクにおけるBCA部分の放射状のバーコードパターンの一部を模式的に示している。ここでは、バーコード状のパターンにおいて黒い帯で示す部分を低反射率領域LA、黒い帯の間の白部分を高反射率領域HAとしている。黒い帯で示す低反射率領域LAの1つを図2Bに拡大している。1つの帯は、図2BのようにピットP、ランドLによる細かい帯状に形成されている。この図2Bでの帯状部分をさらに図2Cに示しているが、細かい帯状の部分は半径方向トラックピッチ方向に重なり合ったピットPと、ランドLによって形成されている。図3には、このように形成されるBCAを、先に説明した図4と同様の形式で模式的に示している。図3Aのように、BCAは低反射率領域LAと高反射率領域HAがトラック線方向に交互に現れる。そして図4の場合とは逆に、低反射率領域LAが、ピットP及びランドLによるピット列部とされている。そして高反射率領域HAは、ミラー部とされている。即ち本実施の形態の場合、BCAとしての半径21.0mm~22.2mmの範囲は、ディスク原盤を製造した段階で、そのディスク原盤に、既に低反射率領域LAのピット列に相当する凹凸パターンが形成されている。高反射率領域HAはピットが存在しない連続したランドLによる相当する凸部となる。ディスク製造工程については後述するが、このようなディスク原盤からスタンパが作成され、さらにスタンパを用いて光ディスクが大量生産されるが、大量生産の光ディスクが製造された時点で、既にBCAが形成されていることになる。再生装置では、BCA部分を再生した場合、得られるRF信号再生信号の波形は、図5Cのようになる。つまり、ミラー部とされた高反射率領域HAでは、大きな反射光が得られるため、RF信号レベルが高くなる。低反射率領域LAは、ピット列となるが、ミラー部よりは反射光量は落ちるため、RF信号レベルは低くなる。再生装置では、このような高反射率領域HAと低反射率領域LAでのRF信号振幅の差から、10の情報を得ることができ、BCAに記録された情報を読み出すことができる。ここで、図5Aで述べたように、RF信号波形がピット列部分での変調の影響を受けるとすると、本例の場合、低反射率領域LAで振幅変動が大きくなる。これに対して本実施の形態では、以下説明するように、低反射率領域LAでのRF信号の変調成分及び信号レベルを抑えるようにしている。ブルーレイディスクの場合、波長λ=405nm、NA=0.85である。このため空間周波数特性の原理から、再生装置は、カットオフ周波数として、2NA/λ=4197本/mm以上は解像できない。この数値の空間周波数長さは0.24μmであり、例えば、0.12μmの長さのピットと0.12μm長さのランドが繰り返されると変調度が得られない。なおこの場合、デューティ、つまりピットPとランドLの比率には無関係に変調度が得られない。よって、例えば、ピット長0.20μm、ランド長0.04μmなどとしても良い。つまり0.24μm区間にピットPとランドLが形成されればよい。従って、最も確実に低反射率領域LAでのRF信号に変調が観察されないBCAパターンは、図2B、図2Cのように、ピットPとランドLを組み合わせた長さが0.24μm長さ、あるいはそれ以下の長さの線状パターンとすればよいこととなる。具体的な作成方法としては、ディスク原盤の露光カッティング時に、光変調信号をターンテーブルの回転と同期をかけCAVで回転させる。例えば、2174rpm半径21.6mmで線速4.917m/s相当で回転させ、周期48.8nsecの矩形パルスで露光用のレーザを駆動すると、24.4nsecの時間長のピットが形成される。これを例えば50パルス記録すると、線方向の長さ12μmの規格を満たしたBCA内のデータが形成される。この記録を半径方向に例えば、0.2μmピッチで等速送りを行いながら記録すると半径方向に放射状のパターンが形成されることになる。以上のように、本実施の形態のBCAでは、ピット列で低反射率領域LAを形成するが、そのピット列は、空間周波数の点から、再生信号において変調度が得られないピット列とする。これにより、低反射率領域LAでのRF信号波形において変調成分を低減できる。例えば図5Cのような低反射率領域LAでの変調成分が抑制されたRF信号が得られるBCAとすることができる。従ってBCA再生時のRF信号波形において、低反射率領域LAでの信号レベルが変調成分によってスライスレベルを上下してしまうことを防止でき、適切なBCA再生が実現されるようにできる。<3.第2の実施の形態>上記第1の実施の形態では、線方向の空間周波数4197本/mm、トラックピッチ0.2μmでのパターンで、ピット列による低反射率領域LAを形成することとしたが、現行機器が問題なく再生できる他の条件もあり、それによってディスクの生産マージンを広げることが出来る。本願発明者等は、上記第1の実施の形態で設定した線方向の空間周波数を4197本以外に4000,3500,3000,2500,1667,1300,1000,800,600本の9通りに関して、深さとデューティをパラメータとして変調度M,信号レベルSのシミュレーションを行った。なお、以下に述べるシミュレーションにおける信号の定義を図6に示しておく。図6のHLevelは、高反射率領域HAから得られる再生信号レベルである。高反射率領域は図3で示したようにミラー部とし、ミラー部での再生信号レベルを1としている。SLevelはピット列部としての低反射率領域LAから得られる再生信号レベルである。ピット列再生レベルともいうこととする。これはミラー部での再生信号レベルHLevelを1としたときの値で示している。変調度Mod.は低反射率領域LAから得られる再生信号レベルのピーク-ボトム間振幅レベルである。depthはピット深さであり、ランドLからピットPまでの深さである。dutyはピット部分とランド部分の比である。図7、図8,図9,図10,図11は、それぞれ空間周波数を600本~4000本としたそれぞれの場合において、変調度Mod.と低反射率領域LAから得られる再生信号レベルSLevelを、ピット深さdepthとピット/ランド比dutyの関係で示している。例えば図7では空間周波数を600本とした場合と、800本とした場合とを示しているが、変調度については、各等高線で区切られる各領域の濃淡で、右側の目盛りの値の変調度となることを示している。またSLevelピット列再生レベルについても、各等高線で区切られる各領域の濃淡で、右側の目盛りの値のレベルとなることを示している。エンボスピット列によるROMタイプのディスクの場合、最も変調度が得られる深さdepthは、λ/4N:Nはカバー層の屈折率であり、ブルーレイディスクの場合、0.405/4/1.55=0.065μmとなる。従って、一般に、ピットPは、0.045~0.07μmの深さで作成される。ここで図9の空間周波数1667本に着目する。ピット深さ0.06μmとした場合、duty=50±5でピット列を形成すると、変調度Mod.は0.2以下となる。つまり低反射率領域LAの再生信号として変調度は小さいものとできる。そしてSLevelは、0.5以下となる。つまり、低反射率領域LAの再生信号レベルとして十分に低いレベルとできる。このため、ピット列部分の信号レベルの最大値は、0.50.2/2=0.6となり実用上問題のない範囲に収めることが出来る。つまり、上述したSM/2≦0.6Hにおいて、S=SLevel=0.5M=Mod.=0.2H=HLevel=1となり、SM/2≦0.6Hを満たす。そしてこの空間周波数1667本の場合、周期は0.6μmとなるので、ピット長さは0.27~0.33μmとなる。空間周波数の考え方は、半径方向も同様である。従って変調度が取れないか、あるいは、実用上問題のない範囲であれば良く、例えば、ブルーレイのトラックピッチ0.32μmとすると、空間周波数はほぼ3000本となり、計算結果からデューティが35~65までずれても、変調度0.1以下、信号レベル0.25以下となり全く問題のない信号が得られる。図10,図11では、より空間周波数が高い場合を示しているが、例えば空間周波数が2500本の場合、ピット深さ0.06μmとした場合、dutyが約0.4~0.6というより広い範囲で、変調度Mod.は0.2以下となる。またSLevelは、0.35以下となる。この場合も、上記のSM/2≦0.6Hを満たし、実用上問題のない範囲とできる。空間周波数が3000本、3500本、4000本の場合も同様に問題はない。なお付言すると、ピット深さが適切であれば、上述した第1の実施の形態の空間周波数が4197本の場合も、SM/2≦0.6Hを満たすようにできることはいうまでもない。一方、図8の1300本の場合を見てみる。ピット深さ0.06μmとした場合、duty=50でも変調度Mod.は0.35程度となり、比較的大きい。またSLevelは、0.55程度となる。するとSM/2=0.725程度となり、SM/2≦0.6Hを満たさない。このため、BCA再生に問題が生ずるおそれがある。同図の1000本の場合や、図7の600本、800本の場合も適切ではない。以上のことから、第2の実施の形態のブルーレイディスク方式の光ディスクとして、BCAの低反射率領域LAをピット列で形成する場合、その低反射率領域LAは、トラック線方向の空間周波数が1667本/mm以上のピット列により形成されていることが適切であることがわかる。<4.第3の実施の形態>第3の実施の形態を図12に示す。上記第1,第2の実施の形態では、低反射率領域LAをピット列、高反射率領域HAをミラー部とした。第3の実施の形態としては、低反射率領域LAをピット列とすることは同様であるが、高反射率領域HAもピット列とする。但し、低反射率領域LAは、上述の空間周波数の考え方から、再生信号の変調度が小さく、また信号レベルも小さいピット列とする。一方、高反射率領域HAは、ある程度大きな再生信号レベルが得られるピット列とする。図12Aに第3の実施の形態のBCAを模式的に示す。低反射率領域LAは、上記第1の実施の形態と同様のピット列が形成されているものとする第1ピット列部。高反射率領域HAは、第1ピット列部とは異なるピット列が形成されている第2ピット列部。第2ピット列部は、例えば空間周波数、ピット深さ、デューティ等の設定により、例えば0.7程度の高いRF信号レベルが得られるようにしておく。そして図12Bに示すように、第1ピット列部と第2ピット列部でRF信号レベルに十分な差が出るようにする。このように低反射率領域LA、高反射率領域HAを共にピット列で形成するようにしても、第1ピット列部と第2ピット列部でRF信号レベルに十分な差が出るようにすれば、適切なBCAを実現することができる。なお、この第3の実施の形態では、高反射率領域HAをピット列としていることで、高反射率領域HAでのRF信号レベルが、第1の実施の形態のミラー部とする場合よりは低くなる。このことは、RF信号レベルがあまりに高すぎて再生装置のフォーカスサーボが不安定になるという事態を避けることができるという利点が生ずる。即ち、RF信号レベルが高いと、再生装置によっては、フォーカスエラー信号が適切に得られなくなることがある。そのような事態を避ける場合、本例のように高反射率領域HAを第2ピット列部として、RF信号レベルを多少低下させることは有効である。なお、第2ピット列部に代えて、グルーブを設けるようにすることも考えられる。<5.第4の実施の形態>第4の実施の形態を説明する。第4の実施の形態は、低反射率領域LAのピットPの配置を、互いに、直角を有さない三角形の各頂点位置となる位置関係にしたものである。図13Aは、図2Aと同様にBCA部分の放射状のバーコードパターンを示している。黒い帯で示す部分が低反射率領域LAであるが、それを図13Bに拡大して示している。図13Bに示すように、低反射率領域LAでは、直角を有さない三角形の一例として、破線で示す正三角形の各頂点位置黒丸で示すが、略中心となるようにピットPが形成されている。つまり図のように低反射率領域LAの面上に、仮想的に、多数の連続する正三角形を構成するラインを引いた場合に、各ピットPが、その仮想的に引いた正三角形のラインの各頂点位置を含むように形成されている。これにより、全体のピットの並びとしては、いわゆる千鳥状に、1トラック毎にピットがずれて並ぶような状態となる。図14は、上述した図3と同様な形式でBCAを示している。図14Aのように、BCAは低反射率領域LAと高反射率領域HAがトラック線方向に交互に現れる。そして低反射率領域LAが、ピットP及びランドLによるピット列部とされ、高反射率領域HAはミラー部とされている。低反射率領域LAのピット列は正三角形の各頂点位置を基準とする位置関係となるようにピットPが形成されている。上述した第1の実施の形態の場合と同様、BCAとしての半径21.0mm~22.2mmの範囲は、ディスク原盤を製造した段階で、そのディスク原盤に、既に低反射率領域LAのピット列に相当する凹凸パターンが形成されている。高反射率領域HAはピットが存在しない連続したランドLによる相当する凸部となる。このようなディスク原盤からスタンパが作成され、さらにスタンパを用いて光ディスクが大量生産されると、その時点で既にBCAが形成されていることになる。図15に、この第4の実施の形態のBCAの再生信号波形を示す。なお、再生レーザ光は波長λ=405nm、光学系NA=0.85である。そしてピットPはブルーレイディスクシステムでの最短ピットである2TピットTはチャネルクロック周期で形成し、各ピットPの中心位置間のピッチPP図13B参照は315nmである。各ピットPの中心は正三角形の頂点位置であるため、千鳥状に形成された全てのピットPのピッチPPは315nmとなる。図15に示すように、高反射率領域HAの再生信号レベルは1300mV程度となり、低反射率領域LAの再生信号レベルは524mV程度となった。低反射率領域LAの変調度としては80~90mV程度のレベルの振幅である。この場合、高反射率領域での反射光から得られる再生信号レベルをH、低反射率領域での反射光から得られる再生信号レベルをSとし、H=1とするとS=0.40となる。また変調度M=0.06となる。つまり、上述したSM/2≦0.6Hを満たしており、実用上問題のないBCAとすることができる。なお、NA=0.85の光学系によって出射される波長405nmのレーザ光によって再生されるシステムを想定する場合、低反射率領域LAは、上述の第2の実施の形態の検討を踏まえれば、トラック線方向の空間周波数が1667本/mm以上のピット列により形成されていることが好ましい。また低反射率領域LAのピット列は、ピットPとランドLの比率が50±5であるとすることが好ましい。また低反射率領域LAのピット列は、トラックピッチが0.32μm以下であることが適切である。この第4の実施の形態では、低反射率領域LAでのピットPを直角を有さない三角形の各頂点位置を基準とする位置関係として、千鳥状に並ぶようにしたが、この場合の利点は以下のように考えられる。例えば図16Aでは、第1の実施の形態のように半径方向にピットPが連続して並ぶようにした場合を示している。BCAは、トラッキングフリーであるため、レーザスポットSPは、必ずしも矢印DR1のようにトラック線方向に進むとは限らず、ピット列に対して矢印DR2,DR3のようにトラック線方向に対して斜めに進むことも通常にあり得る。レーザスポットSPがこの矢印DR2,DR3のように進んだ場合、矢印DR1のように進んだ場合よりも、ピットPの間隔が長くなる。その意味で、変調成分の増加という不利な点が生ずる。もちろん上述のようにトラック線方向の空間周波数が適切に設定されていれば実用上は問題ないが、このためのトラック線方向のピット間隔は、レーザスポットが矢印DR2,DR3のように進む場合も想定しておくことが必要である。一方図16Bは、第4の実施の形態のように千鳥状にピットPが並ぶ場合である。この場合も、矢印DR1,DR2,DR3のように各種の方向性でレーザスポットSPが進むことが想定されるが、いずれの方向性でも、レーザスポットSPによって照射されるピットPの間隔はさほど異ならない。つまり二次元的に密な状態となる。この点でスポット進行方向によらず変調成分がさほど増大しないという利点がある。また千鳥状配置のピットによれば、通常に矢印DR1のように進んだ場合でも、左右のトラックのピットの影響で変調度は小さくなることもあり、この点でも低反射率領域LAの変調度を小さくすることで有利となる。ところで、図13Bでは、正三角形の頂点位置にピットが形成されるようにしたが、必ずしも正三角形状の配置に限らない。即ち直角を有さない三角形として、例えば図17に示すような二等辺三角形の頂点位置を含むようにピットPが形成されるものでもよい。但し、トラック線方向及び半径方向の両方を含む面に対して、ピットPを密に配置し面密度を高める、低反射率領域LAでの変調度を抑えるという観点からは、正三角形の頂点位置の配置が好ましい。また、第4の実施の形態を上記第3の実施の形態と組み合わせることも考えられる。即ち低反射率領域LAは千鳥状の配置のピットPにより形成するが、高反射率領域HAを、低反射率領域LAのピット列より高い再生信号レベルが得られるピット列又はグルーブにより形成することとしてもよい。<6.ディスク製造工程>上記実施の形態の光ディスクの製造工程について説明する。即ちBCAにおいて低反射率領域LAをピット列により形成し、また高反射率領域HAはミラー部もしくは第2ピット列部として形成する場合の製造工程である。図18Aは、光ディスクの全体的な製造工程を示している。図19,図20を参照しながら説明する。まず図18AのステップF101として、原盤作成のためのマスタリングが行われる。例えば図19Aに示すように、無機レジスト等のレジストが塗布されたディスク原盤100に対して、露光ヘッド46から記録情報に応じて変調されたレーザ光を照射し、ピットパターンに応じた露光を行う。これにより図19Bに示すように、露光部分Rが形成される。次にステップF102として原盤形成が行われる。例えば図19Bのように露光されたディスク原盤に対して現像を行い、図19Cのように露光部分が凹状となったディスク原盤100を作製する。凹部が完成後の光ディスクにおけるピットPに相当することとなる。次にステップF103でスタンパを作成する。例えばディスク原盤100を用いたニッケル電鋳処理により、ディスク原盤100の凹凸が転写されたスタンパ101を作製する図19D。スタンパ101の凹凸パターン101aではピット相当部分が凸形状となっている。次にステップF104でスタンパ101を用いたディスク基板製造を行う。図20Aのようにスタンパ101を基板成形用の金型に配置させる。この金型は、下キャビティ120と上キャビティ121から成り、下キャビティ120に、ピット列を転写するためのスタンパ101が配置される。このような金型を用いて例えばポリカーボネート樹脂の射出成形で基板1を成形するが、成形される基板1は図20Bのようになる。即ちポリカーボネート樹脂による基板1は、その中心はセンターホール2とされるとともに、情報読出面側は、金型内のスタンパ101に形成された凹凸パターン101aが転写されたピットパターン3となる。続いてステップF105で、このように形成された基板1に対して成膜が行われる。まずスパッタにより、スタンパ101から転写されたピットパターン上に、反射膜4の成膜が行われる。即ち図20Cに示すように、ピットパターン3が形成された信号読出面側に例えばAg合金の反射膜4を形成する。さらに、例えば紫外線硬化型樹脂のスピンコートにより、図20Dのようにカバー層5を形成する。なお、カバー層5の表面にさらにハードコート処理を施す場合もある。また、ここでは記録層が1つの1層ディスクの場合を示しているが、2層以上の多層の場合は、さらに各記録層の形成工程が加わる。以上のように成膜工程を経たら、その後ステップF106でレーベル面側の印刷を行い、光ディスクが完成される。以上の工程で、光ディスクが形成される。特にステップF104以降は、大量生産工程となるが、本実施の形態の場合、図20Dのように、成膜工程を終えた段階で、既にBCAも形成されていることとなる。即ちマスタリングの段階で、BCAのためのピット列を形成する露光が行われる。図18Bには、ステップF101のマスタリング工程を示しているが、まずステップF101AとしてBCA部分のピット列の露光が行われる。そしてステップF101Bで、リードインエリアLI、データエリアDA、リードアウトエリアLOの各部のピット列の露光が行われる。このようにマスタリングの段階でBCAのためのピット列露光も行われ、ディスク原盤100上でBCAのピット列に相当する凹部が形成される。そのため、そのディスク原盤100から製造されたスタンパ101を用いてディスク基板1を製造することで、ディスク基板1のピットパターン3として、既にBCAを構成するピットパターンもできていることになる。従ってその後、反射膜4やカバー層5を形成した時点で、BCA記録済みの光ディスクが作成されることになり、従来のように、その後、個々の光ディスクに対してBCA記録装置でBCA記録を行うことは不要となる。マスタリング工程で用いるマスタリング装置の例を図21に示す。露光ヘッド46内には、露光用のレーザ光源及び必要な光学系が搭載される。レーザ光源は、レーザドライバ41からの駆動信号に基づいて発光を行う。記録データ生成部43は、所定の変調処理を施した記録データを出力する。ピット列を露光するROMディスクのカッティング工程を行う場合は、レーザ光源のON/OFFの変調動作を行うことになる。記録データ生成部43は、例えば光ディスクに記録する管理情報や実コンテンツデータ等についてのRLL1-7変調信号を出力する。その記録データはレーザパルス発生部42でレーザ駆動パルスに変換される。レーザパルス発生部42は、レーザ駆動パルスをレーザドライバ41に供給する。レーザドライバ41は、レーザ駆動パルスに基づいて、露光ヘッド46内の露光用のレーザ光源に駆動信号を供給する。これにより露光用のレーザ光源からの記録レーザ光は、ピット列に応じた変調光となり、ディスク原盤100にはピット列に相当する露光パターンが形成されることになる。ディスク原盤100は、スピンドルモータ44によって回転駆動される。スピンドルモータ44は、スピンドルサーボ/ドライバ47によって回転速度が制御されながら回転駆動される。これによってディスク原盤100は例えば一定線速度又は一定角速度で回転される。スライダ45は、スライドドライバ48によって駆動され、ディスク原盤100が積載された、スピンドル機構を含む基台全体を移動させる。即ち、スピンドルモータ44で回転されている状態のディスク原盤100は、スライダ45で半径方向に移動されながら上記光学系によって露光されていくことで、露光されるピット列によるトラックがスパイラル状に形成されていくことになる。スライダ45による移動位置、即ちディスク原盤100の露光位置ディスク半径位置:スライダ半径位置はセンサ49によって検出される。センサ49による位置検出情報はコントローラ40に供給される。コントローラ40は、このマスタリング装置の全体を制御する。即ち、記録データ生成部43によるデータ出力、レーザ駆動パルス発生部42でのパルス生成パラメータの制御、レーザドライバ41に対してのレーザパワー設定、スピンドルサーボ/ドライバ47によるスピンドル回転動作制御、スライドドライバ48によるスライダ45の移動動作の制御等を行う。例えばこのようなマスタリング装置では、まず図18BのステップF101AとしてのBCAパターン露光が行われる。例えば第1の実施の形態の光ディスクの製造の場合、コントローラ40は、記録データ生成部43に、低反射率領域LAのピット列用のデータ光変調信号を出力させる。そして、その光変調信号をスピンドル回転と同期をかけCAVで回転させる。例えば、2174rpm半径21.6mmで線速4.917m/s相当で回転させ、周期48.8nsecの矩形パルスで露光用のレーザ光源を駆動すると、24.4nsecの長さのピットが形成される。これを例えば、50パルス分露光させることで線方向の長さ12μmの規格を満たした低反射率領域LAとしてのピット列パターンを形成できる。高反射率領域HAに相当する部分ではレーザ発光させない。つまり露光させずに、ランド相当部分とする。コントローラ40は、この記録動作を、スライダ45を制御して半径方向に例えば、0.2μmピッチで等速送りを行いながら実行させて、ディスク原盤100上に、半径方向に放射状の露光パターンを形成させる。コントローラ40は、センサ49からの検出信号を監視して、例えば半径21.0mm~22.2mmの範囲で、上記の露光を実行制御する。なお、図12の第3の実施の形態の光ディスクの製造の場合、高反射率領域HAに相当する部分でもレーザ発光させ、第2のピット列部を形成することはいうまでもない。さらに図14の第4の実施の形態の光ディスクの製造の場合、高反射率領域HAに相当する部分ではレーザ発光させず、低反射率領域LAに相当する部分では、1回転毎に所定時間だけレーザ発光タイミングが切り換えられるようにし、またスライダ送りピッチを適切に設定することで、図13Bのような、互いに正三角形の各頂点位置を基準とする位置関係で配置されているピット露光部分を形成したり、図17のような二等辺三角形の各頂点位置を基準とする位置関係で配置されているピット露光部分を形成することができる。半径24.00mm以降は、ステップF101Bの処理として、通常の光ディスクと同様に、リードインエリアLI、データエリアDA、リードアウトエリアLOのそれぞれのピット列相当の露光パターンを形成させていく。以上のように、マスタリングの段階で例えば図3又は図12、又は図14のようなBCAパターンの露光を行うことで、例えば製造ロット単位の情報が記録されたBCAを有する光ディスクを、製造効率の悪化やコストアップを招くことなく製造できる。なお、実施の形態では本開示の技術を、ブルーレイディスク方式の光ディスクに適用した例で説明してきたが、本開示の光記録媒体は、他の種の光ディスクでも適用できる。またカード状の光記録媒体など、ディスク形態以外の記録メディアでも本発明は適用できる。なお、本開示の記録媒体は以下の構成を採ることもできる。1トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、上記低反射率領域はピット列により形成されているとともに、上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをH、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをS、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度をMとしたとき、SM/2≦0.6Hを満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている光記録媒体。2ディスク状光記録媒体であって、上記高反射率領域と上記低反射率領域とが、それぞれ上記トラックピッチ方向である半径方向に放射状に連続する状態で形成されることで、上記バーコード状の反射パターンが形成されている上記1に記載の光記録媒体。3NA=0.85の光学系によって出射される波長405nmのレーザ光によって再生されるとともに、上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が1667本/mm以上のピット列により形成されている上記1又は2に記載の光記録媒体。4上記低反射率領域のピット列は、ピット部とランド部の比率が50±5である上記3に記載の光記録媒体。5上記低反射率領域のピット列は、トラックピッチが0.32μm以下である上記1乃至4のいずれかに記載の光記録媒体。6上記低反射率領域のピット列では、トラックピッチ方向に隣接するピットが重なりあっている上記1乃至5のいずれかに記載の光記録媒体。7上記低反射率領域の各ピットは、互いに、直角を有さない三角形の各頂点位置となる位置関係で配置されている上記1乃至5のいずれかに記載の光記録媒体。8上記高反射率領域は、ピット列が形成されていないミラー部とされている上記1乃至7のいずれかに記載の光記録媒体。9上記高反射率領域は、上記低反射率領域のピット列より高い再生信号レベルが得られるピット列又はグルーブにより形成されている上記1乃至7のいずれかに記載の光記録媒体。また、本開示の記録媒体は以下の構成を採ることもできる。10トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、該記録領域は、NA=0.85の光学系によって出射される波長405nmのレーザ光によって再生されるとともに、上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が1667本/mm以上のピット列により形成されている光記録媒体。11ディスク状光記録媒体であって、上記高反射率領域と上記低反射率領域とが、それぞれ上記トラックピッチ方向である半径方向に放射状に連続する状態で形成されることで、上記バーコード状の反射パターンが形成されている上記10に記載の光記録媒体。12上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをH、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルをS、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度をMとしたとき、SM/2≦0.6Hを満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている上記10又は11に記載の光記録媒体。13上記低反射率領域のピット列は、ピット部とランド部の比率が50±5である上記10乃至12のいずれかに記載の光記録媒体。14上記低反射率領域のピット列は、トラックピッチが0.32μm以下である上記10乃至13のいずれかに記載の光記録媒体。15上記低反射率領域のピット列では、トラックピッチ方向に隣接するピットが重なりあっている上記10乃至14のいずれかに記載の光記録媒体。16上記低反射率領域の各ピットは、互いに、直角を有さない三角形の各頂点位置となる位置関係で配置されている上記10乃至14のいずれかに記載の光記録媒体。17上記高反射率領域は、ピット列が形成されていないミラー部とされている上記10乃至16のいずれかに記載の光記録媒体。18上記高反射率領域は、上記低反射率領域のピット列より高い再生信号レベルが得られるピット列又はグルーブにより形成されている上記10乃至16のいずれかに記載の光記録媒体。"