"ガラス繊維粉砕物及び導電性ビーズの少なくとも一方を含むシール材混入物が混入されたシール材を第1基板及び第2基板間の外周縁部に枠状に配置して該シール材の内側に表示領域が形成された表示装置であって、上記第1基板には、上記シール材の幅方向中途部において、突状リブが該シール材に沿うように、且つ、上記第2基板と隙間を有するように該第2基板側に向かって突設され、上記突状リブに対応する領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度は該突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域では該シール材中にシール材混入物が混入されていないように設定されていることを特徴とする表示装置。請求項1に記載された表示装置において、上記シール材混入物は、ガラス繊維粉砕物及び導電性ビーズを含み、上記突状リブに対応する領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度は、該突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域では該シール材中にガラス繊維粉砕物が混入されていないように設定され、上記突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度は、該突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域では上記シール材中に導電性ビーズが混入されていないように設定されていることを特徴とする表示装置。請求項2に記載された表示装置において、上記突状リブに対応する領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度は、該突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度の4分の1以下であることを特徴とする表示装置。請求項2または3に記載された表示装置において、上記導電性ビーズは、その径が上記ガラス繊維粉砕物の繊維径よりも大きいことを特徴とする表示装置。請求項1~4のいずれかに記載された表示装置において、上記第1基板が矩形形状を有し、上記突状リブは、上記基板外周縁部のうち第1基板を構成する対向する2辺に沿って延びるように形成されていることを特徴とする表示装置。請求項1~4のいずれかに記載された表示装置において、上記突状リブは、上記基板外周縁部に上記表示領域を囲むように枠状に形成されていることを特徴とする表示装置。請求項1~6のいずれかに記載された表示装置において、上記第1基板及び上記第2基板間には液晶層が設けられていることを特徴とする表示装置。請求項7に記載された表示装置において、上記第1基板はカラーフィルタ層を備えた対向基板であり、上記突状リブは、カラーフィルタ層、透明導電膜、及び透明樹脂が積層された構成を有することを特徴とする表示装置。請求項8に記載された表示装置において、上記第1基板は、上記表示領域において、上記第2基板側に向かって突設された透明樹脂からなる液晶配向規制用リブをさらに備えたことを特徴とする表示装置。ガラス繊維粉砕物及び導電性ビーズの少なくとも一方を含むシール材混入物が混入されたシール材を第1基板及び第2基板間の外周縁部に枠状に配置して該シール材の内側に表示領域が形成された表示装置の製造方法であって、上記第1基板の外周縁部に沿うように突状リブを突設し、次いで、上記第1基板上の上記突状リブよりも基板外側の領域をシール材原料塗布領域として、該シール材原料塗布領域に流動性を有する接着剤にシール材混入物が混入されたシール材原料を塗布し、続いて、上記第1基板と第2基板とを上記シール材原料を挟むように重ね合わせて押圧することにより、上記接着剤を上記突状リブよりも内側の領域に流動させると共に上記シール材混入物が当該内側の領域に流入するのを該突状リブで規制して、その後、上記接着剤を硬化させることにより、突状リブに対応する領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度が突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域では上記シール材中にシール材混入物が混入されていないように設定されたシール材を枠状に形成し、該シール材の内側に表示領域が形成された表示装置を得ることを特徴とする表示装置の製造方法。請求項10に記載された表示装置の製造方法において、上記シール材混入物はガラス繊維粉砕物及び導電性ビーズを含み、上記シール材原料を上記シール材原料塗布領域に塗布した後、上記第1基板と第2基板とを該シール材原料を挟むように重ね合わせて押圧することにより、上記接着剤を上記突状リブよりも内側の領域に流動させると共に上記ガラス繊維粉砕物及び上記導電性ビーズが当該内側の領域に流入するのを該突状リブで規制して、その後、上記接着剤を硬化させることにより、突状リブに対応する領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度が突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域では該シール材にガラス繊維粉砕物が混入されていないように、且つ、上記突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度が突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域では上記シール材中に導電性ビーズが混入されていないように設定されたシール材を形成することを特徴とする表示装置の製造方法。請求項11に記載された表示装置の製造方法において、上記導電性ビーズは、その径が上記ガラス繊維粉砕物の繊維径よりも大きいことを特徴とする表示装置の製造方法。請求項10~12のいずれかに記載された表示装置の製造方法において、上記シール材原料塗布領域と上記突状リブが突設された領域との間の距離が100~300μmであることを特徴とする表示装置の製造方法。請求項10~13のいずれかに記載された表示装置の製造方法において、上記第1基板が矩形形状を有し、上記突状リブを、上記基板外周縁部のうち第1基板を構成する対向する2辺に沿って延びるように設けることを特徴とする表示装置の製造方法。請求項10~13のいずれかに記載された表示装置の製造方法において、上記突状リブを、上記基板外周縁部に上記表示領域を囲むように枠状に設けることを特徴とする表示装置の製造方法。請求項10~15のいずれかに記載された表示装置の製造方法において、上記シール材を形成した後に、該シール材で囲われた領域に液晶材料を導入して液晶層を形成することを特徴とする表示装置の製造方法。請求項10~15のいずれかに記載された表示装置の製造方法において、上記シール材原料を塗布した後、且つ、上記第1基板及び上記第2基板を貼り合わせる前に、該シール材原料で囲われた領域に液晶材料を導入し、該第1基板及び第2基板を貼り合わせた後に液晶層を形成することを特徴とする表示装置の製造方法。請求項16または17に記載された表示装置の製造方法において、上記第1基板はカラーフィルタ層を備えた対向基板であって、上記突状リブは、カラーフィルタ層、透明導電膜、及び透明樹脂が積層された構成を有し、上記突状リブを構成するカラーフィルタ層は、上記対向基板に設けられたカラーフィルタ層と同時に形成することを特徴とする表示装置の製造方法。請求項18に記載された表示装置の製造方法において、上記第1基板は、上記表示領域において、上記第2基板側に向かって突設され透明樹脂からなる液晶配向規制用リブをさらに備え、上記突状リブの透明樹脂と上記液晶配向規制用リブとを同時に形成することを特徴とする表示装置の製造方法。近年の液晶表示装置のデザイン性の要求により、さらなる狭額縁化が行われるようになってきた。これに伴い、例えば図24に示すように、配向膜のシール領域への広がりを抑制するために表示領域の外側に凸部突状リブ136を設ける場合にでも、凸部136とシール領域間のマージンを十分に確保することができず、凸部136が設けられた領域へのシール材140の進入が避けられなくなってきた。ところで、シール材140には、基板間の距離を一定に保つスペーサとして、ガラス繊維粉砕物142が混合されている。ガラス繊維粉砕物142は、繊維径Rが凸部136のない領域SL11における基板間距離Wに対応するように設定されている。ところが、特許文献2の構成の液晶表示装置のように凸部136を設けると、凸部136に対応する領域SL12において凸部136上にガラス繊維粉砕物142が乗り上げてしまった場合、凸部136を除いた両基板120,130間の距離がガラス繊維粉砕物142の繊維径Rと凸部136の高さHとの合計長さになってしまい、目的とする基板間距離Wに制御することが困難になる。従って、シール材140に含まれるガラス繊維粉砕物142の凸部136の領域SL12への進入の抑制が望まれる。また、シール材140には、例えば、対向基板130の全面を覆うように設けられた共通電極133と、アレイ基板120の非表示領域に設けられた配線とを導通させるために、上下の導通を取るトランスファ材として、導電性のビーズ143が混合されている。ところが、この導電性ビーズ143が凸部136を越えて表示領域側に進入した場合図24における右側の導電性ビーズ143、例えばアレイ基板120側の電極126と対向基板130側の共通電極133が導通し、目的としないリークの発生により表示特性が低下する虞がある。従って、導電性ビーズ143の表示領域側への流入の抑制が望まれる。本発明は、ガラス繊維粉砕物及び導電性ビーズの少なくとも一方を含むシール材混入物が混入されたシール材が第1基板及び第2基板間の外周縁部に枠状に配置され、第1基板のシール材の幅方向中途部には、シール材に沿うように、且つ、第2基板と隙間を有するように突状リブが第2基板側に向かって突設された表示装置において、ガラス繊維粉砕物が突状リブ上に乗り上げることにより表示装置のセル厚の制御が困難になったり、導電性ビーズが表示領域側へ流入することにより基板間で目的としないリークが発生したりするのを抑制することを目的とする。本発明の表示装置は、ガラス繊維粉砕物及び導電性ビーズの少なくとも一方を含むシール材混入物が混入されたシール材を第1基板及び第2基板間の外周縁部に枠状に配置して該シール材の内側に表示領域が形成されたものであって、第1基板には、シール材の幅方向中途部において、突状リブがシール材に沿うように、且つ、第2基板と隙間を有するように第2基板側に向かって突設され、突状リブに対応する領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度は突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度よりも低いか、もしくは、突状リブに対応する領域ではシール材中にシール材混入物が混入されていないように設定されていることを特徴とする。そして、本発明の表示装置は、シール材混入物がガラス繊維粉砕物及び導電性ビーズを含み、上記突状リブに対応する領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度は、該突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域では該シール材中にガラス繊維粉砕物が混入されていないように設定され、上記突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度は、該突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域では上記シール材中に導電性ビーズが混入されていないように設定されていることが好ましい。上記の構成によれば、突状リブに対応する領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度は突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度よりも低いか、もしくは、突状リブに対応する領域ではシール材中にシール材混入物が混入されていないように設定されており、シール材混入物の中でも、突状リブに対応する領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度は突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度よりも低いか、もしくは、突状リブに対応する領域ではシール材中にガラス繊維粉砕物が混入されていないので、突状リブ上に乗り上げるガラス繊維粉砕物の数が少なくなるか、或いは突状リブ上にはガラス繊維粉砕物が乗り上げることがなくなり、セル厚の制御ができなくなるのを抑制することができる。また、上記の構成によれば、上記突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度は該突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度よりも低いか、もしくは、突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域では上記シール材中に導電性ビーズが混入されていないので、両基板間での目的としないリークの発生を抑制することができる。本発明の表示装置は、上記突状リブに対応する領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度が、該突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度の4分の1以下であることが好ましい。なお、突状リブに対応する領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度は、低ければ低いほど好ましい。本発明の表示装置は、導電性ビーズは、その径が上記ガラス繊維粉砕物の繊維径よりも大きいことが好ましい。本発明の表示装置は、第1基板が矩形形状を有し、突状リブは、基板外周縁部のうち第1基板を構成する対向する2辺に沿って延びるように形成されていてもよい。上記の構成によれば、突状リブが延びるように形成された上記対向する2辺において、非表示領域が狭額縁化されていても、ガラス繊維粉砕物が突状リブ上に乗り上げることによりセル厚の制御ができなくなるのを抑制することができると共に、突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域でシール材中に導電性ビーズが混入することにより両基板間で目的としないリークが発生するのを抑制することができる。例えば、基板の端子領域のうち1辺に沿ってソース端子領域が、ソース端子領域を挟む対向する2辺においてゲート端子領域が形成されたアクティブマトリクス基板では、ソース端子領域においてはソース配線の修正用予備配線を配置のためにゲート端子領域によりも幅広のスペースを必要とするので、ゲート端子領域に沿った2辺においてのみ狭額縁化することが望まれる。このような場合、上記の構成を好適に用いることができる。本発明の表示装置は、突状リブは、基板外周縁部に表示領域を囲むように枠状に形成されていてもよい。上記の構成によれば、基板外周縁部の全周において、非表示領域が狭額縁化されていても、ガラス繊維粉砕物が突状リブ上に乗り上げることによりセル厚の制御ができなくなるのを抑制することができると共に、突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域でシール材中に導電性ビーズが混入することにより両基板間で目的としないリークが発生するのを抑制することができる。本発明の表示装置は、上記第1基板及び第2基板間に液晶層が設けられていてもよく、この場合、表示装置は液晶表示装置となる。表示装置が液晶表示装置である場合、上記第1基板はカラーフィルタ層を備えた対向基板であり、突状リブは、カラーフィルタ層、透明導電膜、及び透明樹脂が積層された構成であってもよい。この場合、液晶表示装置は、上記第1基板には上記表示領域において上記第2基板側に向かって突設された透明樹脂からなる液晶配向規制用リブをさらに備えていてもよい。上記の構成によれば、表示装置が液晶表示装置であって、カラーフィルタ層を備えた対向基板上に突状リブが形成されているので、突状リブがカラーフィルタ層、透明導電膜、及び透明樹脂が積層された構成とすることにより、突状リブのカラーフィルタ層の部分を対向基板のカラーフィルタ層と同時に形成することができ、突状リブの製造工程を簡素化することができる。さらに、第1基板の表示領域において、液晶配向規制用リブが第2基板側に向かって突設されている場合には、突状リブの透明樹脂と液晶配向規制用リブの透明樹脂とを同時に形成することができ、突状リブの製造工程を簡素化することができる。本発明の表示装置の製造方法は、ガラス繊維粉砕物及び導電性ビーズの少なくとも一方を含むシール材混入物が混入されたシール材を第1基板及び第2基板間の外周縁部に枠状に配置して該シール材の内側に表示領域が形成された表示装置を製造するものであって、上記第1基板の外周縁部に上記表示領域を囲うように突状リブを突設し、次いで、上記第1基板上の上記突状リブよりも基板外側の領域をシール材原料塗布領域として、該シール材原料塗布領域に流動性を有する接着剤にシール材混入物が混入されたシール材原料を塗布し、続いて、上記第1基板と第2基板とを上記シール材原料を挟むように重ね合わせて押圧することにより、上記接着剤を上記突状リブよりも内側の領域に流動させると共に上記シール材混入物が当該内側の領域に流入するのを該突状リブで規制して、その後、上記接着剤を硬化させることにより、突状リブに対応する領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度が突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域では上記シール材中にシール材混入物が混入されていないように設定されたシール材を枠状に形成し、該シール材の内側に表示領域が形成された表示装置を得ることを特徴とする。そして、本発明の表示装置の製造方法は、上記シール材混入物はガラス繊維粉砕物及び導電性ビーズを含み、上記シール材原料を上記シール材原料塗布領域に塗布した後、上記第1基板と第2基板とを該シール材原料を挟むように重ね合わせて押圧することにより、上記接着剤を上記突状リブよりも内側の領域に流動させると共に上記ガラス繊維粉砕物及び上記導電性ビーズが当該内側の領域に流入するのを該突状リブで規制して、その後、上記接着剤を硬化させることにより、突状リブに対応する領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度が突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域では該シール材にガラス繊維粉砕物が混入されていないように、且つ、上記突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度が突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度よりも低いか、もしくは、該突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域では上記シール材中に導電性ビーズが混入されていないように設定されたシール材を形成することが好ましい。上記の方法によれば、第1基板上の上記突状リブよりも基板外側の領域をシール材原料塗布領域として、流動性を有する接着剤にシール材混入物が混入されたシール材原料を塗布するので、上記第1基板と第2基板とを上記シール材原料を挟むように重ね合わせて押圧することにより、上記接着剤を上記突状リブよりも内側の領域に流動させても、シール材混入物が突状リブよりも内側の領域に流入するのを突状リブで規制することができる。そのため、シール材混入物としてガラス繊維粉砕物がシール材に混入されている場合には、その後接着剤を硬化させることにより得られるシール材が、突状リブに対応する領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度が突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のガラス繊維粉砕物の分布密度よりも低いか、もしくは、突状リブに対応する領域では上記シール材中にガラス繊維粉砕物が混入されていないように設定されたものとすることができる。従って、突状リブ上に乗り上げるガラス繊維粉砕物の数が少なくなり、突状リブ上に乗り上げたガラス繊維粉砕物によってセル厚の制御ができなくなるのを抑制することができる。また、シール材混入物として導電性ビーズがシール材に混入されている場合には、その後接着剤を硬化させることにより得られるシール材が、突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度が突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中の導電性ビーズの分布密度よりも低いか、もしくは、突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域では上記シール材中に導電性ビーズが混入されていないように設定されたものとすることができる。従って、両基板間での目的としないリークの発生を抑制することができる。本発明の表示装置の製造方法は、上記導電性ビーズは、その径が上記ガラス繊維粉砕物の繊維径よりも大きいことが好ましい。本発明の表示装置の製造方法は、シール材原料塗布領域と突状リブが突設された領域との間の距離が100~300μmであることが好ましい。上記の方法によれば、シール材原料塗布領域と突状リブが突設された領域との間の距離が100μm以上であるので、シール材原料を塗布した後、基板同士を近づけて、シール材原料を挟むように重ね合わせて押圧することにより接着剤が押し広げられるが、シール材原料塗布領域と突状リブが突設された領域との間の距離が100μm以上であるので、接着剤が表示領域側に押し広げられて突状リブが突設された領域にまで到達する時点において、突状リブの先端から第2基板表面までの距離がガラス繊維粉砕物の繊維径よりも小さくすることが容易となる。そのため、突状リブよりも表示領域側に接着剤を押し広げても、突状リブの先端から突状リブが設けられていない方の基板表面までの距離がガラス繊維粉砕物の繊維径よりも小さいのでガラス繊維粉砕物が突状リブで堰き止められ、ガラス繊維粉砕物が突状リブの上に乗り上げたり、突状リブを越えて表示領域側に流入したりするのを抑制することができる。また、シール材原料の接着剤に導電性ビーズがさらに混入されている場合には、突状リブよりも表示領域側に接着剤を押し広げても、突状リブの先端から突状リブが設けられていない方の基板表面までの距離が導電性ビーズの径よりも小さいので導電性ビーズが突状リブで堰き止められ、導電性ビーズが突状リブの上に乗り上げたり、突状リブを越えて表示領域側に流入したりするのを抑制することができる。さらに、シール材原料塗布領域と突状リブが突設された領域との間の距離が300μm以下であるので、徒に表示領域の外周縁部が広面積になるのを抑制できる。本発明の表示装置の製造方法は、第1基板が矩形形状を有し、突状リブを、基板外周縁部のうち第1基板を構成する対向する2辺に沿って延びるように設けてもよい。上記の方法によれば、突状リブが延びるように形成された上記対向する2辺において、非表示領域が狭額縁化されていても、ガラス繊維粉砕物が突状リブ上に乗り上げることによりセル厚の制御ができなくなるのを抑制することができると共に、突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域でシール材中に導電性ビーズが混入することにより両基板間で目的としないリークが発生するのを抑制することができる。本発明の表示装置の製造方法は、突状リブを、基板外周縁部に表示領域を囲むように枠状に設けてもよい。上記の方法によれば、基板外周縁部の全周において、非表示領域が狭額縁化されていても、ガラス繊維粉砕物が突状リブ上に乗り上げることによりセル厚の制御ができなくなるのを抑制することができると共に、突状リブに対応する領域及びそれよりも表示領域側の領域でシール材中に導電性ビーズが混入することにより両基板間で目的としないリークが発生するのを抑制することができる。本発明の表示装置の製造方法は、上記シール材を形成した後に、該シール材で囲われた領域に液晶材料を導入して液晶層を形成してもよく、また、上記シール材原料を塗布した後、且つ、上記第1基板及び上記第2基板を貼り合わせる前に、該シール材原料で囲われた領域に液晶材料を導入し、該第1基板及び第2基板を貼り合わせた後に液晶層を形成してもよい。この場合、作製される表示装置は液晶表示装置となる。本発明の表示装置の製造方法が液晶表示装置の製造方法である場合、第1基板をカラーフィルタ層を備えた対向基板とし、上記突状リブは、カラーフィルタ層、透明導電膜、及び透明樹脂が積層された構成を有し、上記突状リブを構成するカラーフィルタ層は、上記対向基板に設けられたカラーフィルタ層と同時に形成してもよい。この場合、液晶表示装置は、上記第1基板には上記表示領域において上記第2基板側に向かって突設された透明樹脂からなる液晶配向規制用リブをさらに備え、上記突状リブの透明樹脂と上記液晶配向規制用リブとを同時に形成してもよい。上記の構成によれば、表示装置が液晶表示装置であって、カラーフィルタ層を備えた対向基板上に突状リブが形成されているので、突状リブがカラーフィルタ層、透明導電膜、及び透明樹脂が積層された構成とすることにより、突状リブのカラーフィルタ層の部分を対向基板のカラーフィルタ層と同時に形成することができ、突状リブの製造工程を簡素化することができる。さらに、第1基板の表示領域において液晶配向規制用リブが第2基板側に向かって突設されている場合には、突状リブの透明樹脂と液晶配向規制用リブの透明樹脂とを同時に形成することができるので、突状リブの製造工程を簡素化することができる。本発明によれば、突状リブに対応する領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度が突状リブよりも基板外側の領域におけるシール材中のシール材混入物の分布密度よりも低いか、もしくは、突状リブに対応する領域では上記シール材中にシール材混入物が混入されていないように設定されたシール材を形成した表示装置を得ることができる。そのため、シール材混入物がガラス繊維粉砕物を含む場合には、ガラス繊維粉砕物が突状リブ上に乗り上げることにより表示装置のセル厚の制御が困難になるのを抑制することができる。また、シール材混入物が導電性ビーズを含む場合には、両基板間での目的としないリークの発生を抑制することができる。そして、それらの結果として、優れた光学的特性を得ることにより優れた表示品位を得ることができる。以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。実施形態1及び2では、表示装置として、画素毎に薄膜トランジスタTFTを備えたアクティブマトリクス駆動型の液晶表示装置10を例に説明する。但し、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、他の構成であってもよい。《実施形態1》図1及び2は、実施形態1に係る液晶表示装置10を示している。液晶表示装置10は、互いに対向して配置されたアレイ基板20第2基板及び対向基板30第1基板を備えている。両基板20及び30は、それらの外周縁部をシール領域SLとして枠状に配置されたシール材40により接着されている。そして、両基板20及び30の間のシール材40に包囲された空間には、表示層として液晶層50が設けられている。また、液晶表示装置10は、シール材40の内側に形成されて複数の画素がマトリクス状に配置された表示領域Dと、表示領域Dの周囲に配置された非表示領域Nとを有している。そして、非表示領域Nの一部は、実装部品などの外部接続端子を取り付けるための端子領域Tとなっている。すなわち、液晶表示装置10の少なくとも1つの端縁は、図1に示すように、アレイ基板20が対向基板30よりも突出して形成され、その突出した部分が端子領域Tとなっている。アレイ基板アレイ基板20には、図3に示すように、基板本体21上に、互いに平行に延びるように、例えばTi膜厚さ50nm程度、Al膜厚さ300nm程度及びTi膜厚さ50nm程度が積層されてなる複数のゲート線第1配線22が設けられており、ゲート線22を覆うように、例えば厚さ400nmのSiNからなるゲート絶縁膜23図5参照が設けられている。そして、ゲート絶縁膜23上には、各ゲート線22と直交する方向に互いに平行に延びるように、例えばAl膜厚さ300nm程度及びTi膜厚さ50nm程度が積層されてなる複数のソース線第2配線24が設けられている。表示領域Dにおいては、ゲート線22及びソース線24の各交差部分には半導体層が設けられており、TFT図示せずを構成している。また、これらを覆うように、例えば厚さ250nmのSiNからなるパッシベーション膜図示せずが設けられ、さらに、パッシベーション膜を覆うように、例えば厚さ2.5μmの感光性アクリル樹脂からなる層間絶縁膜25が設けられている。さらに、各画素に対応するように層間絶縁膜25表面から各TFTまで通じるコンタクトホール図示せずがそれぞれ形成されており、その各コンタクトホールに対応して、例えばITO等の画素電極図示せずが設けられている。そして、画素電極の上層には表示領域Dを覆うように配向膜図示せずが形成されている。ソース線24は、非表示領域Nにおいて、図4及び5に示すように、ゲート線22と同一層に設けられた引き出し線22aと電気的に接続されている。ソース線端部24tは、平面視で引き出し線端部22atの上層に重なり合うように位置付けられており、ソース線24及び引き出し線22aの両方に通じるコンタクトホール27cが形成され、コンタクトホール27cの表面を覆うように配線切り替え電極26が設けられることにより、配線切り替え部27が構成されている。なお、配線切り替え電極26は、表示領域Dにおける画素電極と同一層に設けられたものである。なお、上記の構成の他、配線切り替え部27は、例えば、図6及び7に示すように、引き出し線端部22atとソース線端部24tとが平面視で重ならないように設けられており、基板表面から引き出し線端部22atに到達するコンタクトホール27dと、基板表面からソース線端部24tに到達するコンタクトホール27eと、がそれぞれ別に形成されて構成されていてもよい。対向基板図8は対向基板30の平面図を、図9は対向基板30の非表示領域Nを含む領域の断面図を示す。対向基板30には、基板本体31上の表示領域Dに、例えば厚さが2μmのカラーフィルタ層32が設けられている。カラーフィルタ層32は、アレイ基板20の各画素電極に対応するように赤、緑及び青のうちの1色が配設された着色層32aと、各着色層32aの間に設けられたブラックマトリクス32bとを備えている。カラーフィルタ層32の上層には、基板全面に例えば厚さが100nmのITOからなる共通電極33が設けられ、さらに、共通電極33を覆うように、例えばポリイミド等の透明有機樹脂からなる配向膜34が設けられている。対向基板30には、垂直配向の液晶表示装置10の場合には、表示領域D内に、液晶分子の配向方向を規制するための液晶配向規制用リブ35が設けられている。液晶配向規制用リブ35は、対向基板30表面からアレイ基板20側に向かって突設されている。液晶配向規制用リブ35は、例えば、断面形状が三角形である。液晶配向規制用リブ35は、駆動状態において、個々の液晶分子の配向方向をリブの突出方向に実質的に規制し、倒れた液晶分子同士が相互作用して液晶分子のツイスト角が液晶層50の面内において変化するのを抑制するので、コントラスト比の高い高品質の表示が可能になる。液晶配向規制用リブ35は、例えば、透明な有機樹脂材料や透明な無機材料等で形成されている。液晶配向規制用リブ35は、絶縁性を有していても誘電性を有していてもよい。対向基板30には、シール材40が形成されたシール領域SLの幅方向中途部に、シール領域SLの方向に沿って延びると共にアレイ基板20側に向かうように、突状リブ36が突設されている。突状リブ36は、表示領域Dを囲うように枠状に設けられている。突状リブ36は、例えば、幅方向に複数列図8及び9では、2列が並ぶように設けられている。突状リブ36は、例えば、カラーフィルタ層36a、透明導電膜36b、及び透明樹脂36cが積層されて形成されている。カラーフィルタ層36aは、例えば、厚さが1~3μmである。透明導電膜36bは、例えば厚さが100nm程度のITO膜等であり、対向基板30の全面を覆う共通電極として設けられるものである。また、透明樹脂36cは、例えば厚さが1.5μmの感光性アクリル樹脂等である。突状リブ36は、配向膜34の形成時に配向膜が突状リブ36の外側まで流出してしまうのを抑制する機能を有する。また、突状リブ36は、シール材40中に混入されたガラス繊維粉砕物42や導電性ビーズ43が突状リブ36の上に乗り上げたり、それよりも内側の領域SL3に流入するのを抑制する機能を有する。突状リブ36のそれぞれは、例えば、幅が50μm程度、及び高さが3~6μmであり、幅方向の断面が略台形となるように形成されている。なお、突状リブ36は、アレイ基板20と隙間を有するように、つまり、高さがアレイ基板20と対向基板30間の距離より短くなるように設けられている。幅方向に並んで隣接する突状リブ36同士は、例えば、25μm程度の間隔をあけて設けられている。シール領域SLにおける突状リブ36が設けられる位置は、シール領域SLの幅方向中途部において、内側表示領域D側寄りの位置であることが好ましく、例えば、シール領域SLの幅方向において、シール領域SLの内側の端から100μm程度の領域に突状リブ36が形成されている。なお、上記説明では対向基板30には液晶配向規制用リブ35が設けられているとしたが、液晶配向規制用リブ35が設けられていなくてもよい。シール材シール材40は、非表示領域Nにおいて、対向基板30の周囲に沿ったシール領域SLに連続して延びるように枠状に配置され、アレイ基板20及び対向基板30を互いに接着している。図10は、液晶表示装置10の非表示領域N付近の平面図であり、図11は、図10のXI-XI線における断面図である。シール材40は、流動性を有する熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂等の接着剤を主成分とするシール材原料41が、加熱や紫外線の照射により硬化されたものである。シール材40には、シール材混入物として、ガラス繊維粉砕物42や導電性ビーズの少なくとも一方43が混入されている。ガラス繊維粉砕物42は、例えば径が5μm程度のガラス繊維を粉砕して20μm程度の長さにしたものである。ガラス繊維粉砕物42の繊維径はアレイ基板20と対向基板30の基板間の距離に対応する長さに設定されており、これにより、ガラス繊維粉砕物42は両基板間のスペーサとしての機能を有する。ガラス繊維粉砕物42は、シール領域SL内において、そのシール材40中の分布密度が場所により異なっている。具体的には、突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度は、突状リブ36よりも基板外側の領域SL1における分布密度よりも低くなるようにガラス繊維粉砕物42が分布している。例えば、突状リブ36よりも基板外側の領域SL1におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度は、400μm四方の単位面積あたり1~2本程度であり、突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度は、800μm四方の単位面積あたり1~2本程度である。従来の構成の液晶表示装置によれば、図24に示すように、突状リブ136に対応する領域にガラス繊維粉砕物142が存在する場合、すなわち、ガラス繊維粉砕物142が突状リブ136の上に乗り上げられた状態で突状リブ136とアレイ基板120とに挟まれている場合、突状リブ136の先端からアレイ基板120表面までの距離がガラス繊維粉砕物142の繊維径の大きさに対応することとなり、アレイ基板120と対向基板130間の距離を目的とする距離にすることが難しく、セル厚の制御が困難になる。しかしながら、実施形態1の液晶表示装置10によれば、突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度は突状リブ36よりも基板外側の領域SL1におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度よりも低くなるようにガラス繊維粉砕物42が混入されているので、突状リブ36上に乗り上げるガラス繊維粉砕物42の数が少なくなり、突状リブ36上に乗り上げたガラス繊維粉砕物42によってセル厚の制御ができなくなるのを抑制することができる。突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度は、突状リブ36よりも基板外側の領域SL1における分布密度の1/4以下であることが好ましい。ここで、突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度が突状リブ36よりも基板外側の領域SL1における分布密度の1/4以下であることが好ましいとしたのは、実施形態1の試作品において光学顕微鏡を用いて各領域SL1,SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度を測定したところ、突状リブ36に対応する領域SL2においては突状リブ36よりも基板外側の領域SL1の1/4程度であり、且つ、この試作品において、分布密度が全領域において均一になるように構成した比較サンプルと比較して、効率のよいセル厚制御の効果が認められたためである。なお、突状リブ36に対応する領域SL2においては、シール材40中にガラス繊維粉砕物42が混入されていなくてもよい。導電性ビーズ43は、例えば、ポリマービーズの外面に金を蒸着したものである。導電性ビーズ43は、例えば、外径が6~7μmである。導電性ビーズ43は、対向基板30の共通電極33とアレイ基板20の額縁領域に設けられた配線図示せずとを電気的に接続させるためのトランスファ材としての機能を有する。このとき、共通電極33と駆動回路との導通を確実に行うために、導電性ビーズ43の外径は、ガラス繊維粉砕物42の繊維径、すなわち、両基板間の距離以上であることが好ましく、ガラス繊維粉砕物42の繊維径よりも大きいことがより好ましい。なお、導電性ビーズ43の径が両基板間の距離よりも大きい場合には、導電性ビーズ43は基板で挟まれることにより変形し、例えば楕円球形となった状態で共通電極33と配線を導通させることとなる。導電性ビーズ43は、シール領域SL内において、そのシール材40中の分布密度が場所により異なっている。具体的には、突状リブ36に対応する領域SL2及びそれよりも表示領域D側の領域SL3におけるシール材40中の導電性ビーズ43の分布密度は、突状リブ36よりも基板外側の領域SL1における分布密度よりも、低くなるように導電性ビーズ43が分布している。導電性ビーズ43が突状リブ36よりも表示領域D側の領域に存在している場合、対向基板30の共通電極33とアレイ基板20に設けられた画素電極や配線切り替え電極26とが導電性ビーズ43により電気的に接続されてしまい、目的としないリークが発生する虞がある。しかしながら、導電性ビーズ43が突状リブ36に対応する領域SL2及びそれよりも表示領域D側の領域SL3におけるシール材40中の導電性ビーズ43の分布密度は突状リブ36よりも基板外側の領域SL1における分布密度よりも低くなるように混入されているので、両基板間での目的としないリークの発生を抑制することができる。また、導電性ビーズの径が、ガラスファイバ径より大きいので、ガラスファイバのセル厚に支配されるため、SL3領域へ導電性ビーズが混入することを抑制できる。なお、突状リブ36に対応する領域SL2及びそれよりも表示領域D側の領域SL3においては、シール材40中に導電性ビーズ43が混入されていなくてもよい。液晶層液晶層50は、電気光学特性を有するネマチック液晶材料などにより構成されている。上記構成の液晶表示装置10は、各画素電極毎に1つの画素が構成されており、各画素において、ゲート線22からゲート信号が送られてTFTがオン状態になったときに、ソース線24からソース信号が送られてソース電極及びドレイン電極を介して、画素電極に所定の電荷を書き込まれ、画素電極と対向基板30の共通電極33との間で電位差が生じることになり、液晶層50からなる液晶容量に所定の電圧が印加されるように構成されている。そして、液晶表示装置10では、その印加電圧の大きさに応じて液晶分子の配向状態が変わることを利用して、外部から入射する光の透過率を調整することにより、画像が表示される。なお、ここでは突状リブ26の全てがシール領域SLの幅方向中途部に設けられているとして説明したが、図12に示すように、少なくとも最外周の突状リブ36がシール領域SLの幅方向中途部に設けられていればよく、シール領域SLよりも表示領域D側にさらに突状リブ36が形成されていてもよい。また、突状リブ36がシール領域SLに複数列並行して設けられているとしたが、1列だけが設けられていてもよい。但し、配向膜34の形成時に配向膜34が突状リブ36の外側まで流出してしまうのを抑制する観点やガラス繊維粉砕物42や導電性ビーズ43が突状リブ36の上に乗り上げたり、それよりも内側の領域SL3に流入したりするのを抑制する観点からは、2列以上設けられていることが好ましく、狭額縁化の観点からは、3列以下であることが好ましい。さらに、突状リブ36が、表示領域Dを囲うように枠状に設けられたシール材40に沿って連続的に枠状に設けられているとしたが、例えば断続的に設けられていてもよく、蛇行した形状に設けられていてもよく、個々の形状に応じてその他のレイアウトとなるように設けられていてもよい。但し、配向膜34の形成時に配向膜34が突状リブ36の外側まで流出してしまうのを抑制する観点やガラス繊維粉砕物42や導電性ビーズ43が突状リブ36の上に乗り上げたり、それよりも内側の領域SL3に流入するのを抑制する観点からは、突状リブ36はシール材40に沿って連続的に枠状に設けられていることが好ましい。<液晶表示装置の製造方法>次に、図13のフローチャートを参照し、実施形態1の液晶表示装置10を製造する方法について説明する。実施形態1の製造方法は、図13のステップS11~S19に対応するアレイ基板作製工程と、図13のステップS21~S25に対応する対向基板作製工程と、図13のステップS3~S7に対応する液晶表示パネル作製工程とを備えている。アレイ基板作製工程まず、ステップS11~S14において、公知の方法により、基板本体21上に第1配線であるゲート線22配線切り替え部27を形成する場合は引き出し線22aを含む。及びゲート電極、ゲート絶縁膜23、半導体層、並びに、第2配線であるソース線24、ソース電極及びドレイン電極を順に形成し、ステップS15において、半導体層にチャネル部をパターニングすることにより、TFTを形成する。次に、ステップS16及びS17において、公知の方法により、パッシベーション膜及び層間絶縁膜25を順に形成し、ステップS18において、層間絶縁膜25のコンタクトホールに対応するようにして画素電極を形成する。最後に、ステップS19において、公知の方法により配向膜を形成して、アレイ基板20が完成する。対向基板作製工程まず、ステップS21において、公知の方法により、基板本体31上にブラックマトリクスを形成する。次に、ステップS22において、公知の方法により、カラーフィルタ層32,36aを形成する。このとき、表示領域Dにおいては、各画素に対応するカラーフィルタ層32を構成すると共に、非表示領域Nにおいては、対向基板30の外周縁部に沿うようなレイアウトとなるようにパターニングを行う。外周縁部に表示領域Dを囲うように突設されたカラーフィルタ層36aは、突状リブ36を構成する部分である。そして、ステップS23において、公知の方法により、基板全体を覆うように透明導電膜を成膜して共通電極33を形成する。このとき、共通電極33は、非表示領域Nにおいては、突状リブ36を構成するために設けたカラーフィルタ層36aを覆うように設けられた透明導電膜36bとなる。次に、ステップS24において、例えば、厚さが1.5μm程度の感光性アクリル樹脂等の透明材料からなる有機樹脂膜をスピン塗布法等を用いて成膜する。そして、表示領域Dにおいては所定の領域に液晶配向規制用リブ35を形成するようにパターニングを行うと同時に、非表示領域Nにおいては、突状リブ36を形成する領域において透明導電膜36bを覆うようにしてパターニングを行って透明樹脂36cとし、液晶配向規制用リブ35と突状リブ36とを同時に形成する。なお、ここでは液晶配向規制用リブ35と突状リブ36を同時に形成するとしたが、それぞれを別工程として形成してもよい。例えば、液晶配向規制用リブ35を覆うように有機樹脂をパターニングして形成した後に突状リブ36のカラーフィルタ層36aを覆うように異なる種類の有機樹脂をパターニングして形成してもよい。また、突状リブ36を液晶配向規制用リブ35より先に形成してもよい。最後に、ステップS25において、ポリイミド樹脂等をインクジェット塗布した後ラビング配向処理することにより、配向膜34を形成する。このとき、ステップS24において非表示領域Nに表示領域Dの外周縁部に、シール領域SLに対応するように突状リブ36を形成したので、配向膜34をインクジェット塗布により形成しても、非表示領域Nの突状リブ36が設けられた部分より外側へ流れ出るのを抑制することができる。なお、ここでは基板表面にラビング処理を施して水平配向用の配向膜34を形成するとしたが、基板表面にラビング処理を施さないで垂直配向用の配向膜を形成してもよい。このようにして、対向基板30が完成する。なお、上記対向基板作製工程においては、カラーフィルタ層36aを非表示領域Nにもパターン形成して、その上に透明導電膜36b及び透明樹脂36cを積層形成することにより突状リブ36を形成するとしたが、特にこれに限られない。例えば、表示領域Dにおけるカラーフィルタ層32の形成とは別工程においてカラーフィルタ層32とは異なる材料を非表示領域Nにパターン形成した後、その上に透明導電膜36b及び透明樹脂36cを積層形成することにより突状リブ36を形成してもよい。液晶表示パネル作製工程まず、ステップS3において、図14及び15に示すように、例えばディスペンサやスクリーン印刷法等を用いて、対向基板30の外縁部を枠状に囲むように、表示領域Dの周りにシール材原料41の塗布を行う。このとき、シール材原料41を塗布する領域以下、シール材原料塗布領域SAとするは、突状リブ36よりも基板外側の領域領域SL1に含まれる領域とし、突状リブ36が形成された領域SL2やそれよりも内側の領域SL3にはシール材原料41を塗布しないようにする。なお、シール材原料塗布領域SAと突状リブ36が突設された領域との間の距離図15におけるP1の長さは、100~300μmであることが好ましい。また、シール材原料41をシール材原料塗布領域SAに塗布するときの塗布厚さと突状リブ36の高さとの差図15におけるQ1の長さは、5~10μmであることが好ましい。次に、ステップS4において、シール材原料41で囲まれた領域に、例えばディスペンサ法等を用いて、シール材40で囲まれた領域に液晶材料を基板上に滴下して、液晶層を形成する。続いて、ステップS5において、図16に示すようにアレイ基板20と対向基板30とを互いの表示領域Dが対応するように位置合わせを行う。そして、両基板20及び30をシール材原料41を挟むように重ね合わせて押圧すると、接着剤が流動して押し広げられ、図17に示すように接着剤の領域の端部が突状リブ36に到達する。接着剤の領域の端部が突状リブ36に到達した図17の状態のとき、突状リブ36の先端からアレイ基板20の表面までの距離Q2が、ガラス繊維粉砕物42の繊維径や導電性ビーズ43の径よりも小さくなるように設定しておく。こうすることにより、接着剤がこの時点よりもさらに押し広げられて図18に示すように突状リブ36が設けられた領域SL2に流入しても、突状リブ36の先端からアレイ基板20の表面までの距離Q2がガラス繊維粉砕物42や導電性ビーズ43の径より小さいので、突状リブ36側に進入するのが規制され、表示領域D側へガラス繊維粉砕物42や導電性ビーズ43が流入するのが抑制される。従って、突状リブ36の領域SL2乃至それよりも内側の領域SL3におけるそれらの分布密度が、突状リブ36よりも外側の領域SL1における分布密度よりも低くなる。なお、シール材原料41を基板上に塗布する段階において、図15に示すように、P1の長さを100~300μmとし、Q1の長さを5~10μmとすることにより、突状リブ36の先端からアレイ基板20の表面までの距離Q2が、ガラス繊維粉砕物42の繊維径や導電性ビーズ43の径よりも小さくなる状態を実現できる。続いて、さらに両基板を押圧することにより、図19に示すように、ガラス繊維粉砕物42がスペーサとして両基板間に挟持された状態となり、これ以上、両基板20及び30を近づけることができなくなる。このときシール材原料41が広がった領域が、液晶表示装置10のシール領域SLとなる。最後に、ステップS6において、シール材原料41にUV照射及び/または加熱を行うことにより、シール材原料41を硬化する。上記のようにして液晶表示パネルが作製されステップS7、実施形態1の液晶表示装置10を製造することができる。上記説明した実施形態1に係る液晶表示装置10は、シール材40の形成において、突状リブ36の基板外側の領域をシール材原料塗布領域SAとしてシール材原料41を塗布してアレイ基板20及び対向基板30の貼り合わせを行うので、突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度が突状リブ36よりも基板外側の領域におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度よりも低くなるようにシール材40が設けられている。そのため、突状リブ36に対応する領域SL2に存在するガラス繊維粉砕物42により液晶表示装置10のセル厚の制御が困難になる問題を抑制することができる。そして、セル厚を効率よく制御することにより、優れた光学的特性を得ることができ、所望の表示品位の液晶表示装置10とすることができる。また、実施形態1に係る液晶表示装置10は、シール材40の形成において、突状リブ36の基板外側の領域をシール材原料塗布領域SAとしてシール材原料41を塗布してアレイ基板20及び対向基板30の貼り合わせを行うので、突状リブ36に対応する領域SL2及びそれよりも表示領域D側の領域SL3におけるシール材40中の導電性ビーズ43の分布密度が突状リブ36よりも基板外側の領域SL1におけるシール材40中の導電性ビーズ43の分布密度よりも低くなるようにシール材40が設けられている。そのため、突状リブ36よりも内側の領域SL3に存在する導電性ビーズ43により対向基板30の共通電極33とアレイ基板20の画素電極とが電気的に接続されて目的としないリークが発生してしまうのを抑制することができる。実施形態1では、突状リブ36が対向基板30上に形成された構成について例示したが、突状リブ36はアレイ基板20の非表示領域Nに設けられていてもよい。この場合、シール材原料41の塗布はアレイ基板20に対して、突状リブ36よりも外側の領域SL1をシール材原料塗布領域SAとして行うこととなる。また、突状リブ36はアレイ基板20と対向基板30の双方に設けられていてもよい。《実施形態2》次に、実施形態2の液晶表示装置10について説明する。図20は、実施形態2にかかる液晶表示装置10の全体概略図を示す。また、図21及び22は、それぞれアレイ基板20及び対向基板30の平面図を示す。なお、実施形態1と同一または対応する構成については実施形態1と同一の参照符号を用いて説明する。液晶表示装置10は、アレイ基板20と対向基板30とが対向して配置され、それらの外周縁部のシール領域SLに配置されたシール材40により接着され、シール材40に包囲された空間には、表示層として液晶層50が設けられている。液晶層50が設けられた領域は表示領域Dを構成し、その周囲が枠状の非表示領域Nとなっている。非表示領域Nは、液晶表示装置10の長辺方向の1辺の一部がソース端子領域Ts、及び短辺方向の2辺の一部がゲート端子領域Tgとなっている。シール領域SLは、液晶表示装置10の長辺方向における表示領域Dとシール領域SLの間の距離図27中のaの長さが、短辺方向における表示領域Dとシール領域SLの間の距離図27中のbの長さがよりも長くなるように配置されている。アレイ基板アレイ基板20には、図21に示すように、基板本体21上に、互いに平行に延びるように、例えばTi膜厚さ50nm程度、Al膜厚さ300nm程度及びTi膜厚さ50nm程度が積層されてなる複数のゲート線第1配線22が設けられており、ゲート線22を覆うように、例えば厚さ400nmのSiNからなるゲート絶縁膜23図5参照が設けられている。そして、ゲート絶縁膜23上には、各ゲート線22と直交する方向に互いに平行に延びるように、例えばAl膜厚さ300nm程度及びTi膜厚さ50nm程度が積層されてなる複数のソース線第2配線24が設けられている。表示領域Dにおいては、ゲート線22及びソース線24の各交差部分には半導体層が設けられており、TFT図示せずを構成している。また、これらを覆うように、例えば厚さ250nmのSiNからなるパッシベーション膜図示せずが設けられ、さらに、パッシベーション膜を覆うように、例えば厚さ2.5μmの感光性アクリル樹脂からなる層間絶縁膜25が設けられている。さらに、各画素に対応するように層間絶縁膜25表面から各TFTまで通じるコンタクトホール図示せずがそれぞれ形成されており、その各コンタクトホールに対応して、例えばITO等の画素電極図示せずが設けられている。そして、画素電極の上層には表示領域Dを覆うように配向膜図示せずが形成されている。ソース線24は、非表示領域Nにおいて、ゲート線22と同一層に設けられた引き出し線22aと電気的に接続されている。ソース線端部24tは、平面視で引き出し線端部22atの上層に重なり合うように位置付けられており、ソース線24及び引き出し線22aの両方に通じるコンタクトホール27cが形成され、コンタクトホール27cの表面を覆うように配線切り替え電極26が設けられることにより、配線切り替え部27が構成されている。配線切り替え電極26は、表示領域Dにおける画素電極と同一層に設けられたものである。なお、配線切り替え部27の拡大平面図図21の領域IVで示す部分やその断面図については、実施形態1について説明した図4及び5と同じである。対向基板図22は対向基板30の平面図を示す。図22のIX-IX線における断面図は、実施形態1について説明した図9と同じである。対向基板30には、基板本体31上の表示領域Dに、例えば厚さが2μmのカラーフィルタ層32が設けられている。カラーフィルタ層32は、アレイ基板20の各画素電極に対応するように赤、緑及び青のうちの1色が配設された着色層32aと、各着色層32aの間に設けられたブラックマトリクス32bとを備えている。カラーフィルタ層32の上層には、基板全面に例えば厚さが100nmのITOからなる共通電極33が設けられ、さらに、共通電極33を覆うように、例えばポリイミド等の透明有機樹脂からなる配向膜34が設けられている。対向基板30には、垂直配向の液晶表示装置10の場合には、表示領域D内に、液晶分子の配向方向を規制するための液晶配向規制用リブ35が設けられている。液晶配向規制用リブ35は、対向基板30表面からアレイ基板20側に向かって突設されている。液晶配向規制用リブ35は、例えば、断面形状が三角形である。液晶配向規制用リブ35は、駆動状態において、個々の液晶分子の配向方向をリブの突出方向に実質的に規制し、倒れた液晶分子同士が相互作用して液晶分子のツイスト角が液晶層50の面内において変化するのを抑制するので、コントラスト比の高い高品質の表示が可能になる。液晶配向規制用リブ35は、例えば、透明な有機樹脂材料や透明な無機材料等で形成されている。液晶配向規制用リブ35は、絶縁性を有していても誘電性を有していてもよい。対向基板30には、シール材40が形成されたシール領域SLの幅方向中途部に、シール領域SLの方向に沿って延びると共にアレイ基板20側に向かうように、突状リブ36が突設されている。突状リブ36は、基板外周縁部のうちゲート端子領域Tgに沿った対向する2辺に沿って延びるように設けられている。突状リブ36は、ゲート端子領域Tgに沿った領域の各々において、例えば、幅方向に複数列図22では、2列が並ぶように設けられている。突状リブ36は、例えば、カラーフィルタ層36a、透明導電膜36b、及び透明樹脂36cが積層されて形成されている。カラーフィルタ層36aは、例えば、厚さが1~3μmである。透明導電膜36bは、例えば厚さが100nm程度のITO膜等であり、対向基板30の全面を覆う共通電極として設けられるものである。また、透明樹脂36cは、例えば厚さが1.5μmの感光性アクリル樹脂等である。突状リブ36は、ゲート端子領域Tgに沿った対向する2辺において、配向膜34の形成時に配向膜が突状リブ36の外側まで流出してしまうのを抑制する機能を有する。また、突状リブ36は、シール材40中に混入されたガラス繊維粉砕物42や導電性ビーズ43が突状リブ36の上に乗り上げたり、それよりも内側の領域SL3に流入するのを抑制する機能を有する。突状リブ36のそれぞれは、例えば、幅が50μm程度、及び高さが3~6μmであり、幅方向の断面が略台形となるように形成されている。なお、突状リブ36は、アレイ基板20と隙間を有するように、つまり、高さがアレイ基板20と対向基板30間の距離より短くなるように設けられている。幅方向に並んで隣接する突状リブ36同士は、例えば、25μm程度の間隔をあけて設けられている。シール領域SLにおける突状リブ36が設けられる位置は、シール領域SLの幅方向中途部において、内側表示領域D側寄りの位置であることが好ましく、例えば、シール領域SLの幅方向において、シール領域SLの内側の端から100μm程度の領域に突状リブ36が形成されている。なお、図22には、突状リブ36がそれぞれ2列並行して設けられているとして説明したが、2列に設けられた突状リブ36の端部が、図23に示すように閉じた状態になっていてもよい。また、上記説明では対向基板30には液晶配向規制用リブ35が設けられているとしたが、液晶配向規制用リブ35が設けられていなくてもよい。シール材シール材40は、非表示領域Nにおいて、対向基板30の周囲に沿ったシール領域SLに連続して延びるように枠状に配置され、アレイ基板20及び対向基板30を互いに接着している。シール材40は、流動性を有する熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂等の接着剤を主成分とするシール材原料41が、加熱や紫外線の照射により硬化されたものである。シール材40には、シール材混入物として、ガラス繊維粉砕物42や導電性ビーズの少なくとも一方43が混入されている。ガラス繊維粉砕物42は、例えば径が5μm程度のガラス繊維を粉砕して20μm程度の長さにしたものである。ガラス繊維粉砕物42の繊維径はアレイ基板20と対向基板30の基板間の距離に対応する長さに設定されており、これにより、ガラス繊維粉砕物42は両基板間のスペーサとしての機能を有する。ガラス繊維粉砕物42は、シール領域SL内において、そのシール材40中の分布密度が場所により異なっている。具体的には、突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度は、突状リブ36よりも基板外側の領域SL1における分布密度よりも低くなるようにガラス繊維粉砕物42が分布している。例えば、突状リブ36よりも基板外側の領域SL1におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度は、400μm四方の単位面積あたり1~2本程度であり、突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度は、800μm四方の単位面積あたり1~2本程度である。従来の構成の液晶表示装置によれば、図24に示すように、突状リブ136に対応する領域にガラス繊維粉砕物142が存在する場合、すなわち、ガラス繊維粉砕物142が突状リブ136の上に乗り上げられた状態で突状リブ136とアレイ基板120とに挟まれている場合、突状リブ136の先端からアレイ基板120表面までの距離がガラス繊維粉砕物142の繊維径の大きさに対応することとなり、アレイ基板120と対向基板130間の距離を目的とする距離にすることが難しく、セル厚の制御が困難になる。しかしながら、実施形態1の液晶表示装置10によれば、突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度は突状リブ36よりも基板外側の領域SL1におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度よりも低くなるようにガラス繊維粉砕物42が混入されているので、突状リブ36上に乗り上げるガラス繊維粉砕物42の数が少なくなり、突状リブ36上に乗り上げたガラス繊維粉砕物42によってセル厚の制御ができなくなるのを抑制することができる。突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度は、突状リブ36よりも基板外側の領域SL1における分布密度の1/4以下であることが好ましい。ここで、突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度が突状リブ36よりも基板外側の領域SL1における分布密度の1/4以下であることが好ましいとしたのは、実施形態1の試作品において光学顕微鏡を用いて各領域SL1,SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度を測定したところ、突状リブ36に対応する領域SL2においては突状リブ36よりも基板外側の領域SL1の1/4程度であり、且つ、この試作品において、分布密度が全領域において均一になるように構成した比較サンプルと比較して、効率のよいセル厚制御の効果が認められたためである。なお、突状リブ36に対応する領域SL2においては、シール材40中にガラス繊維粉砕物42が混入されていなくてもよい。導電性ビーズ43は、例えば、ポリマービーズの外面に金を蒸着したものである。導電性ビーズ43は、例えば、外径が6~7μmである。導電性ビーズ43は、対向基板30の共通電極33とアレイ基板20の額縁領域に設けられた配線図示せずとを電気的に接続させるためのトランスファ材としての機能を有する。このとき、共通電極33と駆動回路との導通を確実に行うために、導電性ビーズ43の外径は、ガラス繊維粉砕物42の繊維径、すなわち、両基板間の距離以上であることが好ましく、ガラス繊維粉砕物42の繊維径よりも大きいことがより好ましい。なお、導電性ビーズ43の径が両基板間の距離よりも大きい場合には、導電性ビーズ43は基板で挟まれることにより変形し、例えば楕円球形となった状態で共通電極33と配線を導通させることとなる。導電性ビーズ43は、シール領域SL内において、そのシール材40中の分布密度が場所により異なっている。具体的には、突状リブ36に対応する領域SL2及びそれよりも表示領域D側の領域SL3におけるシール材40中の導電性ビーズ43の分布密度は、突状リブ36よりも基板外側の領域SL1における分布密度よりも、低くなるように導電性ビーズ43が分布している。導電性ビーズ43が突状リブ36よりも表示領域D側の領域に存在している場合、対向基板30の共通電極33とアレイ基板20に設けられた画素電極や配線切り替え電極26とが導電性ビーズ43により電気的に接続されてしまい、目的としないリークが発生する虞がある。しかしながら、導電性ビーズ43が突状リブ36に対応する領域SL2及びそれよりも表示領域D側の領域SL3におけるシール材40中の導電性ビーズ43の分布密度は突状リブ36よりも基板外側の領域SL1における分布密度よりも低くなるように混入されているので、両基板間での目的としないリークの発生を抑制することができる。また、導電性ビーズの径が、ガラスファイバ径より大きいので、ガラスファイバのセル厚に支配されるため、SL3領域へ導電性ビーズが混入することを抑制できる。なお、突状リブ36に対応する領域SL2及びそれよりも表示領域D側の領域SL3においては、シール材40中に導電性ビーズ43が混入されていなくてもよい。液晶層液晶層50は、電気光学特性を有するネマチック液晶材料などにより構成されている。上記構成の液晶表示装置10は、各画素電極毎に1つの画素が構成されており、各画素において、ゲート線22からゲート信号が送られてTFTがオン状態になったときに、ソース線24からソース信号が送られてソース電極及びドレイン電極を介して、画素電極に所定の電荷を書き込まれ、画素電極と対向基板30の共通電極33との間で電位差が生じることになり、液晶層50からなる液晶容量に所定の電圧が印加されるように構成されている。そして、液晶表示装置10では、その印加電圧の大きさに応じて液晶分子の配向状態が変わることを利用して、外部から入射する光の透過率を調整することにより、画像が表示される。なお、ここでは突状リブ26の全てがシール領域SLの幅方向中途部に設けられているとして説明したが、図12に示すように、少なくとも最外周の突状リブ36がシール領域SLの幅方向中途部に設けられていればよく、シール領域SLよりも表示領域D側にさらに突状リブ36が形成されていてもよい。また、突状リブ36がシール領域SLに複数列並行して設けられているとしたが、1列だけが設けられていてもよい。但し、配向膜34の形成時に配向膜34が突状リブ36の外側まで流出してしまうのを抑制する観点やガラス繊維粉砕物42や導電性ビーズ43が突状リブ36の上に乗り上げたり、それよりも内側の領域SL3に流入したりするのを抑制する観点からは、2列以上設けられていることが好ましく、狭額縁化の観点からは、3列以下であることが好ましい。さらに、突状リブ36が、表示領域Dを囲うように枠状に設けられたシール材40に沿って連続的に枠状に設けられているとしたが、例えば断続的に設けられていてもよく、蛇行した形状に設けられていてもよく、個々の形状に応じてその他のレイアウトとなるように設けられていてもよい。但し、配向膜34の形成時に配向膜34が突状リブ36の外側まで流出してしまうのを抑制する観点やガラス繊維粉砕物42や導電性ビーズ43が突状リブ36の上に乗り上げたり、それよりも内側の領域SL3に流入するのを抑制する観点からは、突状リブ36はシール材40に沿って連続的に枠状に設けられていることが好ましい。上記説明した構成の実施形態2の液晶表示装置10は、シール材原料41をゲート端子領域Tgに沿った対向する2辺に沿って配置することを除いて、実施形態1と同様に図13のフローチャートに従って作成することができる。上記説明した実施形態2に係る液晶表示装置10は、シール材40の形成において、突状リブ36の基板外側の領域をシール材原料塗布領域SAとしてシール材原料41を塗布してアレイ基板20及び対向基板30の貼り合わせを行うので、突状リブ36に対応する領域SL2におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度が突状リブ36よりも基板外側の領域におけるシール材40中のガラス繊維粉砕物42の分布密度よりも低くなるようにシール材40が設けられている。そのため、突状リブ36に対応する領域SL2に存在するガラス繊維粉砕物42により液晶表示装置10のセル厚の制御が困難になる問題を抑制することができる。そして、セル厚を効率よく制御することにより、優れた光学的特性を得ることができ、所望の表示品位の液晶表示装置10とすることができる。また、実施形態2に係る液晶表示装置10は、シール材40の形成において、突状リブ36の基板外側の領域をシール材原料塗布領域SAとしてシール材原料41を塗布してアレイ基板20及び対向基板30の貼り合わせを行うので、突状リブ36に対応する領域SL2及びそれよりも表示領域D側の領域SL3におけるシール材40中の導電性ビーズ43の分布密度が突状リブ36よりも基板外側の領域SL1におけるシール材40中の導電性ビーズ43の分布密度よりも低くなるようにシール材40が設けられている。そのため、突状リブ36よりも内側の領域SL3に存在する導電性ビーズ43により対向基板30の共通電極33とアレイ基板20の画素電極とが電気的に接続されて目的としないリークが発生してしまうのを抑制することができる。実施形態2では、突状リブ36が対向基板30上に形成された構成について例示したが、突状リブ36はアレイ基板20の非表示領域Nに設けられていてもよい。この場合、シール材原料41の塗布はアレイ基板20に対して、突状リブ36よりも外側の領域SL1をシール材原料塗布領域SAとして行うこととなる。また、突状リブ36はアレイ基板20と対向基板30の双方に設けられていてもよい。実施形態1及び2では、表示装置として、液晶表示パネルを備えた液晶表示装置10に係るものを例示したが、本発明は、プラズマディスプレイPD、プラズマアドレス液晶ディスプレイPALC、有機エレクトロルミネッセンス有機ELディスプレイ、無機エレクトロルミネッセンス無機ELディスプレイ、電界放出ディスプレイFED、表面電界ディスプレイSEDなどの表示装置にも適用することができる。"