"露光光を出射する光照射部と、パターンを形成したマスクを保持するマスクステージと、測長用のレーザを入出射するレーザ測長器を備えワークを保持する移動ステージと、上記移動ステージを、上記マスクのパターンが露光される上記ワーク面に平行な平面内を移動させる移動ステージXYθ方向移動機構と、上記移動ステージを上記移動ステージXYθ方向移動機構とともに、上記ワーク面に直交する方向に移動させる移動ステージZ方向移動機構と、上記移動ステージに設けられたレーザ測長器からのレーザを反射する反射ミラーと、上記反射ミラーにより反射したレーザが上記レーザ測長器に入射することにより測長される上記レーザ測長器から上記反射ミラーまでの距離に基づき、上記移動ステージXYθ方向移動機構により上記移動ステージを移動させる制御部とを備えた露光装置であって、上記反射ミラーは、上記マスクステージを支持する構造体に固定されていることを特徴とする露光装置。上記移動ステージXYθ移動機構は、碁盤目状に凸極が設けられた平面状のプラテンと、該プラテン上を、該プラテン平面において直交するXY座標軸の各軸方向に移動磁界を発生する磁極を有する移動子を備えた移動体から構成されることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。図6に示すものにおいては、ワークWの裏面にワークマークWAMが複数図6においては2個形成されている。ワークステージ30の、ワークマークWAMがある位置には貫通孔33aが形成されている。そして、ワークステージ30には、その貫通孔33aを介してワークマークWAMと、マスクMに形成されているマスクマークMAMを検出するためのアライメント顕微鏡80が取り付けられている。アライメント顕微鏡80の焦点f2は、ワークW裏面のワークマークWAMを検出するために、ワークWの裏面の位置である吸着テーブル33の表面位置になるように設定されている。マスクとワークの位置合せから露光に至る手順は、以下の通りである。1まずマスクマークMAMの検出を行う。吸着テーブル33上にワークWがない状態で光照射部10から露光光を出射する。マスクMに形成されているマスクマークMAMが投影レンズ40により投影され、ワークWの表面に相当する位置に結像する。投影レンズ40の焦点位置f1即ちマスクに形成されているマスクマークMAMやパターンが結像する位置は、移動ステージ32の吸着テーブル33にワークWが置かれたときのワークWの表面になるように、あらかじめ調整がなされている。2上記したようにアライメント顕微鏡80の焦点位置f2は、吸着テーブル33の表面位置である。そのため、投影レンズ40の焦点位置f1とアライメント顕微鏡80の焦点位置f2とは一致していない。両者を一致させなければ、アライメント顕微鏡80は、結像した鮮明なマスクマークMAM像を受像することができない。そのため、図7に示すように、Z方向移動機構50により、ワークステージ30全体をワークWの厚みに相当する距離だけ上昇投影レンズ40の光軸L方向に移動させる。これにより投影レンズ40の焦点位置f1マスクマークMAMの結像位置とアライメント顕微鏡80の焦点位置f2とが一致し、アライメント顕微鏡80は結像したマスクマークMAM像を受像する。4アライメント顕微鏡80は、マスクマークMAMの投影像を検出し、その位置を制御部不図示により記憶する。制御部がマスクマークMAMの位置を記憶すると、光出射部10からの露光光の出射を停止する。不図示の搬送機構によりワークWが搬送されて移動ステージ32の吸着テーブル33上に置かれる。5吸着テーブル33の貫通孔33aを介して、アライメント顕微鏡80が、ワークW裏面のワークマークWAMを検出する。検出したワークマークWAMの位置と、記憶しているマスクマークMAMの位置とを比較し、両者があらかじめ設定された位置関係になるように例えば一致するように、制御部不図示が、移動ステージ32を、投影レンズ40の光軸Lに直交する平面内の、X方向図面の左右方向、Y方向図面の手前奥方向、θ方向光軸の回りの回転方向に移動させる。6以上でマスクMとワークWの位置合せは終わりであり、続いて露光処理に移るが、この状態では露光を行うことができない。なぜなら、投影レンズ40の焦点位置f1マスクMに形成されたパターンの結像位置が、ワークWの表面ではなく吸着テーブル33の表面位置にあるためである。そのため、投影レンズ40の焦点位置f1がワークWの表面位置になるように、Z方向移動機構50により、ワークステージ30をワークWの厚み分下降する。7この状態で光出射部10から再度露光光を出射する。マスクMに形成されているパターンが、ワークWの表面に投影結像しワークWは露光される。露光されたワークWは、不図示の搬送機構により、吸着テーブル33上から搬出される。上記手順6で示したように、マスクMとワークWの位置合せ後に、投影レンズ40の焦点位置f1を吸着テーブル33の表面からワークWの表面に移動するために、ワークステージ30が投影レンズ40光軸L方向に移動Z方向に下降する。そのためZ方向移動機構50の真直度が、ワークWの露光精度に影響を与える。図6に示した露光装置では、図8に示すように、Z方向移動機構50の真直度が悪いと、上昇していたワークステージ30図中点線で示すが下降する時に、ワークWを保持している移動ステージ32が、投影レンズ40の光軸Lに直交する平面内すなわちワーク面に平行な平面内で、図面左右手前奥方向XY方向や光軸の周りの回転方向θ方向に移動してしまい、そのためにワークが、マスクMと位置合せした位置からずれてしまう。例えば、ワークWがプリント基板の場合、その厚さは1mm程度である。そのため上記の手順において、ワークステージ30は投影レンズ40の光軸L方向Z方向に約1mm移動する。現状の装置においては、Z方向に約1mm移動すると、XY方向であれば0.2μmから0.3μmの、θ方向であれば5μradラジアンの真直度のずれXYθ方向への移動が生じることがわかった。現在上記の露光装置においては、0.5μm以下の露光精度を達成することを目標としている。しかし、このようなワークステージのZ方向移動時の真直度に起因するずれが生じると、0.5μm以下の露光精度を達成することは困難になる。従来の装置は、Z方向移動機構50上に、XYθ駆動部37を備えた移動ステージ32が載せられおり、XYθ駆動部37に設けられたエンコーダは、Z方向移動機構50に対する移動ステージ37の移動量を検出するものである。このため、上記のようにZ方向移動機構50により、移動ステージ32が投影レンズ40の光軸L方向Z方向に移動させたときに、上記真直度に起因してワークWを保持する移動ステージ32吸着テーブル33がXYθ方向へ移動したずれたとしても、この移動ステージ32が、どの程度XYθ方向に移動したのかを検出することができなかった。本発明は上記問題点を解決するものであって、ワークステージがワーク面に直交する方向Z方向に移動したとき、ワークステージをZ方向に移動させる移動機構の真直度が原因で生じる、ワーク面に平行な平面内での移動量XYθ方向のずれ量を検出し、ワークの位置を修正することができるようにすることを目的とする。従来のワークステージにおいては、移動ステージ32のXYθ方向の移動量を検出するエンコーダ等の検出手段以下、位置検出手段とも言うを備えたXYθ駆動部37は、Z方向に移動するZ方向移動機構50上に設置されていた。そのため、上記移動ステージ32がZ方向移動機構50により、ワーク面に垂直な方向Z方向に移動する際、上記移動ステージ32及びXYθ方向の移動量を検出する位置検出手段を備えたXYθ駆動部37は、Z方向移動機構50と一体で移動する。そのため、上記Z方向に移動する際、上記移動ステージ32が、ワーク面に平行な平面内で移動してもXYθ方向にずれても、Z方向移動機構との相対的移動量を検出する移動ステージ32のエンコーダ等の位置検出手段では、Z方向移動機構50の真直度が原因で生じるワークのXYθ方向の移動量光軸からのずれ量を検出できない。このため、Z方向移動機構50上に、移動ステージ32と該移動ステージ32の移動量を検出する位置検出手段を備えたXYθ駆動部が設けられたワークステージにおいては、XYθ方向の位置決め精度を如何に向上させても、Z方向移動時の真直度を向上させない限り、XYθ方向の位置決め精度を向上させるのには限界がある。このような問題に対して、上記移動ステージがZ方向ワーク面に垂直な方向移動した時に、移動ステージのXYθ方向のずれ量を測定することができれば、そのずれ量に基づいて移動ステージの位置を元に戻すことができ、上記問題を解決することができる。そこで、本発明においては、上記位置検出手段として、レーザを入出射するレーザ測長器と反射ミラーから構成されるレーザ測長手段を用い、レーザ測長器を移動ステージに設け、上記反射ミラーを、Z方向に移動するZ方向移動機構上ではなく、マスクを保持するマスクステージや投影レンズ等を支持するフレームに一体に固定する。このように構成すれば、Z方向移動機構により移動ステージがZ方向に移動する際、Z方向移動機構の真直度が原因で、ワークがXYθ方向にずれたとしたとしても、上記位置検出手段によりワークのXYθ方向のずれ量を求めて補正することができる。すなわち、上記レーザ測長手段により、Z方向に移動する前の上記移動ステージのXYθ方向の位置を求めて、制御部に設けた記憶手段に記憶しておき、移動ステージをZ方向に移動させた後の上記XYθ方向の位置を上記レーザ測長手段で測定し、制御部において、上記記憶されたXYθ方向の位置と、Z方向移動後の上記XYθ方向の位置を比較し、Z方向移動によるXYθ方向の位置ずれ量を求め、このずれ量をキャンセルするように移動ステージをXYθ方向に移動させれば、Z方向移動機構の真直度が原因で生ずるワークのXYθ方向のずれを補正することができる。上記に基づき、本発明においては、以下のようにして前記課題を解決する。1露光光を出射する光照射部と、パターンを形成したマスクを保持するマスクステージと、測長用のレーザを入出射するレーザ測長器を備えワークを保持する移動ステージと、上記移動ステージを、上記マスクのパターンが露光される上記ワーク面に平行な平面内を移動させる移動ステージXYθ方向移動機構と、上記移動ステージを上記移動ステージXYθ方向移動機構とともに、上記ワーク面に直交する方向に移動させる移動ステージZ方向移動機構と、上記移動ステージに設けられたレーザ測長器からのレーザを反射する反射ミラーと、上記反射ミラーにより反射したレーザが上記レーザ測長器に入射することにより測長される上記レーザ測長器から上記反射ミラーまでの距離に基づき、上記移動ステージXYθ方向移動機構により上記移動ステージを移動させる制御部とを備えた露光装置において、上記反射ミラーを、上記マスクステージを支持する構造体に固定する。2上記1において、移動ステージXYθ移動機構を、碁盤目状に凸極が設けられた平面状のプラテンと、該プラテン上を、該プラテン平面において直交するXY座標軸の各軸方向に移動磁界を発生する磁極を有する移動子を備えた移動体から構成する。本発明においては、以下の効果を得ることができる。ワークステージの移動ステージに設けたレーザ測長器からのレーザを反射するミラーを、マスクを保持するマスクステージを支持する構造体と一体に固定したので、ワークステージがZ方向ワーク面に垂直な方向に移動する際に、移動ステージがXY方向ワーク面に平行な方向、さらにはθ方向ワーク面に垂直な軸の周りに回転する方向に移動しても、反射ミラーは移動しない。そのため、ワークステージがZ方向に移動するに際し、スライダがXY方向またθ方向に移動した場合であっても、レーザ測長器により、その移動量を検出することができる。このため、この検出した移動量をキャンセルするように、移動ステージを移動させ、ワークを元の位置マスクとワークとが位置合せされた位置に戻すことができる。図1に、本発明の実施例の露光装置の構成例を示す。同図は、上記従来例と同様、ワークの裏面にアライメントマークを形成したワークを露光する投影露光装置を示している。本実施例の露光装置は、図6に示したものと同様、主に、光照射部10、ワークに露光転写するパターンを形成したマスクM、このマスクMを保持するマスクステージ20、露光処理を行うプリント基板や液晶パネルなどのワークWを保持するワークステージ30、マスクMに形成したパターンを、ワークステージ30上のワークW上に投影する投影手段を備える。なお、投影手段として、レンズを用いた投影レンズや、レンズを用いずミラーを用いたものなどがあるが、本実施例においては投影レンズ40を例にして説明する。投影手段の方式は、レンズを使ったものであろうと、ミラーを使ったものであろうと、本発明とは関係しない。光照射部10は、露光光を放射する光源であるランプ11、ランプ11からの光を反射するミラー12、シャッタ13aを有しその開閉を制御することにより光照射部10からの露光光の出射を制御するシャッタ機構13などを備える。本実施例のワークステージ30は、前記特許文献2等に記載されるサーフェイスモータソーヤモータを利用した平面ステージであり、ワークステージ30は、プラテン31と移動ステージ32以下スライダというを備える。プラテン31は、碁盤目状に磁性体の凸極が設けられている平面を有する部材である。このプラテン31上に、スライダ32がエアの作用により浮上している。この状態でスライダ32に磁力を加え、スライダ32とプラテン31の凸極との間の磁界を変化させることにより、スライダ32がプラテン31上を、投影レンズ40の光軸Lに直交する平面内で移動する。このプラテン31とスライダ32に磁力を加える機構が、移動ステージスライダXYθ方向移動機構である。スライダ32には、スライダ32の位置を測定するためのレーザ測長器34が取り付けられている。そして、このレーザ測長器34からのレーザ光36を反射する反射ミラー35は、マスクステージ20、投影レンズ40等を固定したフレーム60に固定されている。レーザ測長器34から出射したレーザ光36は、この反射ミラー35により反射されてレーザ測長器34に戻り、スライダ32の位置移動距離aを測定する。なお、図1等には、X方向図面の左右方向の距離を測定するレーザ測長器のみが示されているが、Y方向図面の手前奥方向を測定するレーザ測長器と反射ミラー不図示も設けられており、これらのレーザ測長器により、XYθ方向の移動量を測定することができる。スライダ32の上には、ワークWを吸着保持するための真空配管不図示が接続された吸着テーブル33が取り付けられており、露光処理を行うワークWを吸着保持する。レーザ測長器34によりスライダ32の位置が検出され、これにより吸着テーブル33に吸着保持されたワークWとマスクMとの位置合せが行われて露光される。移動ステージZ方向移動機構50以下Z方向移動機構50ともいうは、ワークステージ30を投影レンズ40の光軸L方向図面上下方向、Z方向に移動させる。Z方向移動機構50としては、前記したようにZ方向の移動量を検出する検出手段例えば、エンコーダを内蔵したラジアル型サーボモータとリニアガイドとボールねじなどで構成することができる。露光装置の制御部70は、光照射部10のランプ11に給電して点灯させるランプ点灯装置71の動作、シャッタ機構13の動作、投影レンズ40のズーム機構の動作、ワークステージ30のスライダ32等の動作移動ステージXYθ方向移動機構の動作、Z方向移動機構50の動作などを制御する。光照射部10、マスクステージ20、投影レンズ40、Z方向移動機構50、反射ミラー35は、一つの構造体フレーム60に支持固定されている。すなわち、マスクステージ20はマスクステージを保持するフレーム61を介して上記装置全体を支持するフレーム60に保持され、投影レンズ40は投影レンズを固定するフレーム62を介して上記フレーム60に支持され、反射ミラー35は反射ミラーを支持するフレーム63を介して上記フレーム60に支持されている。プラテン31とスライダ32などは、Z方向移動機構50を介してフレーム60に支持される。なお、上記反射ミラー35は、スライダ32のストローク移動する距離分だけ長くする必要があり、重量も比較的大きくなる。したがって、反射ミラー35を上記スライダ32に設けると、スライダ32はその分重くなり、素早い移動や、素早い位置決めが不利になる。また大型の駆動機構等が必要になる。一方、近年、レーザ測長器用の光源として半導体レーザが使用されるようになり、レーザ測長器は従来に比較して軽量となった。このため、レーザ測長器を移動体側スライダ32に設けても重量の増加は少ない。そこで、本実施例では、スライダ32にレーザ測長器34を設け、反射ミラー35をフレーム60に取り付けている。以下、図1,図2,図3,図4を用いて、本発明の投影露光装置における、マスクとワークの位置合せから露光に至る手順を説明する。背景技術と同様に、ワークWの裏面にワークマークWAMが複数図1においては2個形成されている。吸着テーブル33の、ワークマークWAMがある位置には貫通孔33aが形成されている。スライダ32には、その貫通孔33aを介してワークマークWAMとマスクマークMAMを検出するためのアライメント顕微鏡80が取り付けられている。アライメント顕微鏡80の焦点f2は、ワークW裏面のワークマークWAMを検出するために、ワークWの裏面位置である吸着テーブル33の表面位置になるように設定されている。また、投影レンズ40の焦点位置f1即ちマスクマークMAMやマスクのパターンが結像する位置は、スライダ32の吸着テーブル33にワークWが置かれたときのワークWの表面位置になるように、あらかじめ調整がなされている。本実施例の投影露光装置は、前記したように裏面にワークマークが設けられたワークを用いてマスクとワークのアライメントを行うものであり、具体的には、ワークを設置せずに、マスクマークの像がアライメント顕微鏡の視野内に入るように調整し、マスクマークの結像位置とアライメント顕微鏡の焦点位置を一致させ、該結像位置にあるマスクマークの投影像を受像画像処理してマスクマークの位置を検出記憶する。次に、ワークを設置し、ワークをその露光面に対して垂直方向に移動させてワークマークとアライメント顕微鏡の焦点位置を一致させてワークマークの位置を検出し、マスクマークとワークマークが重なるようにワークを移動させ、ワークの露光面とマスクパターンとマスクマークの結像位置を一致させ、投影レンズを介してワーク上にマスクパターンを投影して露光するものである。以下、具体的に、マスクとワークの位置合せから露光に至る具体的な手順について説明する。まずマスクマークMAMの検出を行う。吸着テーブル33上にワークWがない状態で、制御部70はシャッタ13aを開け光照射部10から露光光を出射する。マスクマークMAMは、投影レンズ40により投影され、焦点位置f1ワークWの表面に相当する位置に結像する。図2に示すように、Z方向移動機構50により、ワークステージ30をワークWの厚みに相当する距離上昇投影レンズ40の光軸L方向、すなわちワーク面に垂直な方向に移動させる。これにより投影レンズ40の焦点位置f1マスクマークMAMの結像位置とアライメント顕微鏡80の焦点位置f2とが一致する。これによりアライメン顕微鏡は結像したマスクマークMAM像を受像する。なお、ワークWの厚みは、あらかじめワークWの厚みを制御部70に登録し、記憶させておくようにしても良いし、投影レンズ40の鏡筒に測長センサを取付け、投影レンズ40から吸着テーブル33の表面までの距離と、投影レンズ40からワークWまでの距離を測定し、その差からワークWの厚さを計算するようにしても良い。アライメント顕微鏡80は、結像したマスクマークMAM像を検出し、その位置を制御部70により記憶する。制御部70がマスクマークMAMの位置を記憶すると、制御部70はシャッタ13aを閉じ、光出射部10からの露光光の出射を停止する。不図示の搬送機構によりワークWが搬送されて、スライダ32の吸着テーブル33上に置かれる。アライメント顕微鏡80が、ワークWの裏面のワークマークWAMを検出する。検出したワークマークWAMの位置と、記憶しているマスクマークMAMの位置とを比較し、両者があらかじめ設定された位置関係になるように例えば一致するように、制御部70は、スライダ32を、投影レンズ40の光軸Lに直交する平面内の、X方向図面の左右方向、Y方向図面の手前奥方向、θ方向光軸Lの回りの回転方向に移動させ、マスクMとワークWの位置合せを行う。位置合せ終了後、露光装置の制御部70は、この時のスライダ32から反射ミラー35までの距離a上昇したスライダ32の位置情報を記憶する。次に、露光処理を行うために、投影レンズ40の焦点位置マスクパターンの結像位置f1がワークWの表面位置になるように、Z方向移動機構50により、ワークステージ30をワークWの厚み分下降する。図3に示すように、Z方向移動機構50の真直度が悪いと、上昇していたワークステージ30図中点線で示すが下降する時に、ワークWを保持しているスライダ32が、投影レンズ40の光軸Lに直交する平面内で、XY方向図面左右手前奥方向、またはθ方向光軸Lの周りの回転方向に移動してしまう。しかし、本発明においては、レーザ測長器34からのレーザ36を反射する反射ミラー35は、マスクMを保持するマスクステージ20が取り付けられたフレーム60と一体に固定されており、マスクMに対して移動しない。そして、反射ミラー35は上記フレーム60に一体に固定されているのであるから、ワークステージ30が下降した時のスライダ32から反射ミラー35までの距離bを測定し、これを記憶しているマスクMとワークWとを位置合せされた位置ワークステージに30が上昇している時のスライダ32から反射ミラー35までの距離である距離a図1参照と比較すれば、スライダ32即ちその上に固定されているワークWが、ワークステージ30の下降により、投影レンズ40の光軸Lに直交する方向に対してどの程度移動したのかずれたのか、その移動量ずれ量を検出することができる。そこで、露光装置の制御部70は、ワークステージ30が下降した時のスライダ32から反射ミラー35までの距離b下降したスライダ32の位置情報を検出する。そして、図4に示すように、距離aと距離bの差を求め、その差分だけスライダ32を移動して、ワークWをマスクMと位置合せした位置に戻す。この状態で、制御部70は再びシャッタ13aを開け、光出射部10から露光光を出射する。マスクMに形成されているパターンが、ワークWの表面に投影結像し、所望の位置マスクMとワークWとを位置合せした位置に露光される。露光されたワークWは、不図示の搬送機構により、吸着テーブル33上から搬出される。ここで、上記実施例の図1などにおいては、スライダ32の測長レーザ34とワークの高さ光軸L方向の位置が異なっている。しかし、以下に説明するように、測長レーザ34から出射するレーザ光の高さを、ワークWの高さと合せるような構造にしても良い。図5は、上記レーザ光の高さを、ワークWの高さと合せるような構造としたワークステージの構成例を示す図である。本実施例は、吸着テーブル33の側面に、レーザ光反射ユニット90を取り付けたものであり、レーザ光反射ユニット80は、同図bに示すように、2枚の全反射ミラー91a,91bを組合わせた潜望鏡のような構造であり、レーザ出入射口92に入出射するレーザ光の光軸を、吸着テーブル33の表面の位置まで移動させる。また、レーザ光を反射するためにワークステージ外の基準位置に設けられた反射ミラー35は、吸着テーブル33の表面の位置の高さと移動方向に合わせて、吸着テーブル33に対向する位置に設けられている。レーザ測長器34から出射されるレーザ光は、全反射ミラー91bおよび全反射ミラー91aで反射して、レーザ光の光軸は上記全反射ミラー91a,91bの間隔に相当した高さだけ上方に移動し、全反射ミラー91aに対向する位置に設けられた反射ミラー35に入射する。そして、反射ミラー35で反射したレーザ光は、全反射ミラー91aおよび全反射ミラー91bで反射して、レーザ測長器34に入射する。レーザ光反射ユニット90により、レーザ光の光路長は長くなるが、ワークステージ30から出射する高さ方向の位置が変わるだけであるので、従来と同様に距離を測定することができる。このような構造とすることにより、ワーク表面位置における反射ミラーとの距離を正確に求めることができる。なお、本実施例においては、ワークステージとして、スライダとプラテンとから構成されるサーフェスモータステージ装置を例にして説明した。しかし、本発明は、その他の構成を有するステージでも適用できる。即ち、ワークを保持するステージを光軸に直交するXY方向に移動する機構が、直動ガイドを組み合わせたものであっても、そのステージがレーザ測長器を備え、ステージをZ方向に移動させるZ方向移動機構がステージとステージをXY移動させる機構とともに移動させる構造のものであれは、本発明は適用できる。また、本実施例においては、Z方向移動機構に載っているワークステージが、θ方向光軸の周りの回転方向にも移動するものについて説明した。しかし、本発明は、ワークステージにθ方向に移動する機構がないものであっても適用できる。さらに、上記実施例では、投影レンズを備えた投影露光装置について説明したが、本発明の適用対象は、上記投影露光装置に限られず、例えば投影レンズを備えないプロキシミティ露光装置等にも同様に適用することが可能である。"