"メチルパーフルオロヘプテンエーテルと2-プロパノールとを含む共沸または共沸様組成物。メチルパーフルオロヘプテンエーテルと有効量の2-プロパノールとを含む請求項1に記載の組成物。0.001モルパーセント~28.0モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンを含み、約0°C~約180°Cの温度で、約0.21psia~約252psiaの蒸気圧を有する請求項1に記載の共沸組成物。約65.5重量パーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルと2-プロパノールとを含み、約78°Cの温度で、約14.7psiaの蒸気圧を有する請求項1に記載の組成物。0.001モルパーセント~28.0モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンから実質的になり、約0°C~約180°Cの温度で、約0.21psia~約252psiaの蒸気圧を有する請求項1に記載の共沸様組成物。前記組成物が、約65.5重量パーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルと2-プロパノールとから実質的になり、約78°Cの温度で、約14.7psiaの蒸気圧を有する請求項1に記載の組成物。約3.7重量パーセント~約90.7重量パーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルと2-プロパノールとを含み、約78.5°C~約81.5°Cの温度で、約14.7psiaの蒸気圧を有する請求項1に記載の組成物。約0.001モルパーセント~約33.6モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンを含み、約0°C~約180°Cの温度で、約0.21psia~約252psiaの蒸気圧を有する請求項1に記載の共沸様組成物。前記組成物が、約3.7重量パーセント~約90.7重量パーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルと2-プロパノールとから実質的になり、約78.5°C~約81.5°Cの温度で、約14.7psiaの蒸気圧を有する請求項1に記載の組成物。約0.001モルパーセント~約33.6モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンから実質的になり、約0°C~約180°Cの温度で、約0.21psia~約252psiaの蒸気圧を有する請求項1に記載の共沸様組成物。泡立ち点圧力を基準として3以下である露点と泡立ち点圧力の差を有する請求項1に記載の組成物。各純成分の沸点より低い沸点を有する請求項1に記載の組成物。a.物品の表面を、メチルパーフルオロヘプテンエーテルと2-プロパノールの共沸または共沸様組成物を含む組成物と接触させる工程と、b.前記表面を前記組成物からリカバーする工程とを含む表面から残渣を除去する方法。前記組成物が、噴射剤をさらに含む請求項13に記載の方法。前記噴射剤が、空気、窒素、二酸化炭素、2,3,3,3-テトラフルオロプロペン、トランス-1,3,3,3-テトラフルオロプロペン、1,2,3,3,3-ペンタフルオロプロペン、ジフルオロメタン、トリフルオロメタン、ジフルオロエタン、トリフルオロエタン、テトラフルオロエタン、ペンタフルオロエタン、炭化水素およびジメチルエーテルからなる群から選択される請求項14に記載の方法。前記組成物が、少なくとも1つの界面活性剤をさらに含む請求項13に記載の方法。前記接触が、蒸気脱脂により実施される請求項13に記載の方法。前記蒸気脱脂が、a.前記組成物を沸騰させ、b.前記物品を、沸騰組成物の蒸気に露出することにより実施される請求項17に記載の方法。前記接触が、前記物品を前記組成物に浸漬する第1の工程により行われ、前記組成物が、周囲温度または室温より高い温度である請求項13に記載の方法。前記組成物が、前記組成物の沸点付近の温度である請求項19に記載の方法。前記物品を前記組成物に浸漬する第2の工程をさらに含み、前記組成物が、前記第1の浸漬工程よりも低い温度である請求項19に記載の方法。前記第2の浸漬工程の前記組成物が、周囲温度または室温である請求項21に記載の方法。前記組成物を沸騰させる工程と、前記物品を前記沸騰組成物の蒸気に露出する工程とをさらに含む請求項21に記載の方法。前記組成物が、周囲温度または室温である請求項13に記載の方法。前記接触が、前記組成物に浸した物体で前記物品を拭くことにより実施される請求項13に記載の方法。物品の表面にフッ素潤滑剤を堆積させる方法であって、a.フッ素潤滑剤と、メチルパーフルオロヘプテンエーテルと2-プロパノールの共沸または共沸様組成物を含む溶媒とを組み合わせて、混合物を形成する工程と、b.前記混合物を前記物品の表面と接触させる工程と、c.前記溶媒を前記物品の表面から蒸発させて、前記表面にフッ素潤滑剤コーティングを形成する工程とを含む、方法。前記表面が、半導体材料、金属、金属酸化物、蒸着カーボン、ガラスまたはこれらの組み合わせの表面である請求項26に記載の方法。前記表面が、磁気媒体の表面である請求項27に記載の方法。前記磁気媒体が、コンピュータディスクである請求項28に記載の方法。前記接触工程が、前記表面を、前記フッ素潤滑剤と溶媒を含む浴に浸漬または浸すことにより実施される請求項26に記載の方法。前記接触工程が、前記表面を、フッ素潤滑剤および溶媒でスプレーまたはスピンコートすることにより実施される請求項26に記載の方法。前記潤滑剤-溶媒混合物中の前記フッ素潤滑剤濃度が、約0.02重量パーセント~約0.5重量パーセントである請求項26に記載の方法。前記蒸発工程が、約10°C~約40°Cの温度で実施される請求項26に記載の方法。前記フッ素潤滑剤が、パーフルオロポリエーテルを含む請求項26に記載の方法。前記フッ素潤滑剤が、パーフルオロポリエーテルまたはその混合物を含む請求項26に記載の方法。本発明は、メチルパーフルオロヘプテンエーテルMPHEと2-プロパノールを含む共沸または共沸様組成物を提供する。本発明は、a物品をMPHEと2-プロパノールの共沸または共沸様組成物を含む組成物と接触させる工程と、b表面を組成物からリカバーする工程とを含む物品の表面から残渣を除去する方法をさらに提供する。本発明はまた、aフルオロ潤滑剤と、MPHEと2-プロパノールの共沸または共沸様組成物を含む溶媒とを結合する工程と、b潤滑剤-溶媒の結合物を表面と接触させる工程と、c溶媒を表面から蒸発させて、潤滑剤コーティングを表面に形成する工程とを含む物品の表面にフルオロ潤滑剤を堆積する方法も提供する。本明細書で用いる含む、含んでいる、有する、有している、持つ、持っているまたはその他変形の用語は、非排他的な包括をカバーするものである。例えば、要素のリストを含むプロセス、方法、物品または装置は、それらの要素に必ずしも限定されず、明示的にリストされていない、またはかかるプロセス、方法、物品または装置に固有の他の要素も含まれていてよい。さらに、明示的にそれには反するとした場合を除き、またはは、包括的なまたはであり、排他的なまたはでない。例えば、条件AまたはBを満たすのは次のうちのいずれかである。Aが真または存在するでBが偽または存在しない、Aが偽または存在しないでBが真または存在する、およびAとBの両方が真または存在する。単数形aまたはanの使用は、本発明の要素および成分を記載するために使用される。これは、単に便宜上のために、かつ本発明の一般的な意味を与えるために使用される。この記載は、1つまたは少なくとも1つを含めるように読まれるべきであり、他の意味であることが明白でない限り、単数形には複数形も含まれる。別記しない限り、本明細書で用いる科学技術用語は全て、本発明の属する当業者により一般的に理解されるのと同じ意味を持つ。本明細書に記載されたものと同様または等価の方法および材料を、本発明の実施形態の実施または試験に用いることができるが、好適な方法および材料は後述する。本明細書で言及した出版物、特許出願、特許およびその他参考文献は全て、別記しない限り、その全内容が、参考文献として組み込まれる。矛盾がある場合には、定義を含めた本明細書が優先される。また、材料、方法および実施例は例示のためのみであり、限定しようとするものではない。多くの態様および実施形態を上述してきたが、単なる例示に過ぎず、限定するものではない。本明細書を読めば、当業者であれば、本発明の範囲から逸脱することなく、他の態様および実施形態が可能であることが分かる。実施形態のいずれか1つ以上のその他の特徴および利点は、以下の詳細な説明および請求項から明らかとなるであろう。本明細書に開示されているのは、MPHEと2-プロパノールの共沸および共沸様組成物である。同じく本明細書に記載されているのは、MPHEと2-プロパノールを含む共沸および共沸様組成物を用いる方法である。本明細書で用いる2-プロパノールおよびイソプロパノールIPAという用語は、区別なく用いられる。MPHEは、開示内容が本明細書に参考文献として援用される係属中の米国特許出願第12/701,802号明細書に記載されている。本明細書で用いる共沸組成物は、実質的な組成変化なく蒸留され、定沸点組成物として挙動する2つ以上の物質の定沸点液体混合物である。共沸と特徴付けられる定沸点組成物は、同じ物質の非共沸組成物に比べて、最大か最低沸点のいずれかを示す。本明細書で用いる共沸組成物は、液体の部分的蒸発または蒸留により生成される蒸気が液体と同じ組成を有するという点で、単一物質として挙動する2つ以上の物質の液体混合物である均一な共沸混合物を含む。本明細書で用いる共沸組成物はまた、液相が2つ以上の液相に分離した不均一共沸物も含む。これらの実施形態において、共沸点で、気相は、2つの液相と平衡しており、3つの相は全て異なる組成を有している。不均一共沸物の2つの平衡液相を結合し、全体の液相の組成物を計算すると、これは気相の組成と同一であろう。一実施形態において、MPHEと2-プロパノールの共沸結合物を含む組成物を形成してよい。一実施形態において、これらには、65.5重量パーセントのMPHEと、34.5重量パーセントの2-プロパノール約78°Cの温度および約14.7psiaの圧力で沸騰する共沸物を形成するを含む組成物が含まれる。共沸結合物の計算された標準沸点は78°Cである。2-プロパノールの標準沸点は82.4°Cである。他の実施形態において、MPHEと2-プロパノールの共沸結合物から実質的になる組成物を形成してもよい。これらには、65.5重量パーセントのMPHEと、34.5重量パーセントの2-プロパノール約78°Cの温度および約14.7psiaの圧力で沸騰する共沸物を形成するから実質的になる組成物が含まれる。一実施形態において、0.001モルパーセント~28.0モルパーセントのMPHEを含み、約0°C~約180°Cの温度で、約0.21psia~約252psiaの蒸気圧を有する共沸組成物を形成してよい。他の実施形態において、0.001モルパーセント~28.0モルパーセントのMPHEから実質的になり、約0°C~約180°Cの温度で、約0.21psia~約252psiaの蒸気圧を有する共沸組成物を形成してよい。大気圧で、共沸組成物は、65.5重量パーセントのMPHEと34.5重量パーセントの2-プロパノールを含むまたは、から実質的になる。共沸結合物の測定された沸点は、約78°Cである。2-プロパノールの標準沸点は82.4°C、MPHEの標準沸点は110.5°Cである。本明細書で用いる共沸様組成物という用語はまた、近共沸組成物とも呼ばれることがあり、単一の物質として挙動する2つ以上の物質の定沸点または実質的に定沸点の液体混合物を意味する。共沸様組成物を特徴付ける1つの方法は、液体の部分蒸発または蒸留により生成された蒸気を、蒸発または蒸留された液体と実質的に同じ組成を有するようにすることである。すなわち、混合物が、実質的な組成変化なしで、蒸留/還流される。共沸様組成物を特徴付ける他の方法は、特定の温度での組成物の泡立ち点圧力と組成物の露点圧力を実質的に同じにすることである。さらに、共沸様組成物は、各純成分の沸点より低い沸点温度を有する組成物として特徴付けてもよい。一実施形態において、組成物は、MPHEと有効量の2-プロパノールを含む。有効量とは、MPHEと組み合わせると、共沸または近共沸混合物の形成となる量と定義される。一実施形態において、かかる近共沸組成物は、約3.7重量パーセント~約90.7重量パーセントのMPHEと、約9.3重量パーセント~約96.3重量パーセントの2-プロパノールを含む。他の実施形態において、約3.7重量パーセント~約90.7重量パーセントのMPHEと、約9.3重量パーセント~約96.3重量パーセントの2-プロパノールから実質的になる近共沸組成物を形成してよい。一実施形態において、約0.001モルパーセント~約33.6モルパーセントのMPHEを含み、約0°C~約180°Cの温度で、約0.21psia~約252psiaの蒸気圧を有し、近共沸組成物を形成してよい。他の実施形態において、約0.001モルパーセント~約33.6モルパーセントのMPHEから実質的になり、約0°C~約180°Cの温度で、約0.21psia~約252psiaの蒸気圧を有する近共沸組成物を形成してよい。一実施形態において、本組成物は、噴射剤をさらに含んでいてよい。エーロゾル噴射剤は、エーロゾルの形態で貯蔵容器から表面まで本発明の組成物を分配するのを補助することができる。エーロゾル噴射剤は、総組成物の約25重量パーセントまで、本発明の組成物に任意で含まれる。代表的なエーロゾル噴射剤は、空気、窒素、二酸化炭素、ジフルオロメタンCF2H2、HFC-32、トリフルオロメタンCF3H、HFC-23、ジフルオロエタンCHF2CH3、HFC-152a、トリフルオロエタンCH3CF3、HFC-143aまたはCHF2CH2F、HFC-143、テトラフルオロエタンCF3CH2F、HFC-134aまたはCF2HCF2H、HFC-134、ペンタフルオロエタンCF3CF2H、HFC-125、1,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペンHFO-1234ze、2,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペンHFO-1234yf、1,2,3,3,3-ペンタフルオロプロペンHFO-1225ye、1,1,3,3,3-ペンタフルオロプロペンHFO-1225zcおよび炭化水素、例えば、プロパン、ブタンまたはペンタンまたはジメチルエーテルを含む。他の実施形態において、本発明の組成物は、少なくとも1つの界面活性剤をさらに含んでいてもよい。本発明の界面活性剤は、基板の脱水または乾燥の当該技術分野において公知の全ての界面活性剤が含まれる。代表的な界面活性剤としては、アルキルホスフェートアミン塩2-エチルヘキシルアミンとイソオクチルホスフェートの1:1塩等、エトキシル化アルコール、メルカプタンまたはアルキルフェノール、アルキルホスフェートの第4級アンモニウム塩アンモニウムまたはホスフェート基のいずれかにフルオロアルキル基を有するおよびフッ素化アミンのモノ-またはジ-アルキルホスフェートが挙げられる。追加のフッ素化界面活性剤化合物は、参考文献として援用される米国特許第5,908,822号明細書に記載されている。本発明の脱水組成物に含まれる界面活性剤の量は、前記組成物が用いられるであろう特定の乾燥用途に応じて大きく異なり得るが、当業者であればすぐに分かる。一実施形態において、不飽和フッ素化エーテル溶媒に溶解した界面活性剤の量は、界面活性剤/溶媒組成物の総重量を基準として、約1重量パーセント以下である。他の実施形態において、組成物による処理後、乾燥させる基材を、界面活性剤を含有しない、または最小量の界面活性剤を含有する溶媒で後に処理する場合は、多めの量の界面活性剤を用いることができる。一実施形態において、界面活性剤の量は、少なくとも約50百万分率ppm、重量基準でである。他の実施形態において、界面活性剤の量は、約100~約5000ppmである。さらに他の実施形態において、用いる界面活性剤の量は、脱水組成物の総重量を基準として、約200~約2000ppmである。任意で、その他の添加剤を、脱水に用いる溶媒および界面活性剤を含む本発明の組成物に含めてもよい。かかる添加剤としては、帯電防止特性、ガラスおよびシリカ等の非導電性基材からの正電荷を消失させる能力を有する化合物が挙げられる。本発明の脱水組成物に帯電防止添加剤を用いることは、ガラスレンズおよびミラー等の非導電性部品から水または水溶液を乾燥させるときのスポットや染みを防ぐのに必要となる場合がある。本発明のたいていの不飽和フルオロエーテル溶媒はまた、誘電性流体としても有用性がある。例えば、それらは、電流の不良導体で、静電荷を容易に消失しない。従来の乾燥およびクリーニング機器の脱水組成物の沸騰および大循環により、特に、水の大半が基板から除去された乾燥プロセスの後の段階において静電荷が形成される可能性がある。かかる静電荷は、基板の非導電性表面で集まり、水が表面から放出されるのを阻害する。残留水は、そこで乾燥し、基板上に望ましくないスポットやしみを生じる。基板に残る静電荷は、クリーニングプロセスからの不純物を持ち込んだり、空気からの埃等の不純物を引き寄せる恐れがあり、クリーニング性能を許容できないものとする。一実施形態において、望ましい帯電防止添加剤は、極性化合物であり、本発明の不飽和フッ素化エーテル溶媒に可溶で、不飽和フッ素化エーテル溶媒の導電性が増大する結果、基板からの静電荷を消失させる。他の実施形態において、帯電防止添加剤は、不飽和フッ素化エーテル溶媒と近い標準沸点を有しており、水中溶解度が最少である。さらに他の実施形態において、帯電防止添加剤は、約0.5重量パーセント未満の水中溶解度を有している。一実施形態において、帯電防止剤の溶解度は、不飽和フッ素化エーテル溶媒中少なくとも0.5重量パーセントである。一実施形態において、帯電防止剤の溶解度は、不飽和フッ素化エーテル溶媒中少なくとも0.5重量パーセントである。一実施形態において、帯電防止添加剤は、ニトロメタンCH3NO2である。一実施形態において、帯電防止添加剤を含有する本脱水組成物は、基板を脱水または乾燥する方法の脱水および乾燥および濯ぎ工程のいずれにおいても有効である。他の実施形態において、開示されているのは、上記共沸または共沸様組成物を用いて表面から残渣を除去する方法であり、残渣のある表面を上記組成物と接触させる工程と、表面を組成物からリカバーする工程とを含む。さらに他の実施形態において、記載されているのは、フルオロ潤滑剤を上記組成物と共に堆積させる方法である。一実施形態は、a基板を、CF3CF2xCF=CFCFORCF2yCF3、CF3CF2xCOR=CFCF2CF2yCF3、CF3CF=CFCFORCF2xCF2yCF3、CF3CF2xCF=CORCF2CF2yCF3およびこれらの混合物式中、Rは、CH3、C2H5またはこれらの混合物のいずれかとすることができ、xおよびyは、独立に、0、1、2または3であり、xy=0、1、2または3であるからなる群から選択される化合物を含む組成物と接触させて、この基板を脱水する工程と、b脱水した基板を組成物からリカバーする工程とを含む基板を脱水または乾燥する方法に関する。一実施形態において、脱水および乾燥のための界面活性剤は、溶媒/界面活性剤組成物総重量を基準として少なくとも1重量パーセントまで可溶である。一実施形態において、本開示の脱水または乾燥方法は、タングステン、銅、金、ベリリウム、ステンレス鋼、アルミニウム合金、真鍮等の金属を含む広範囲な基板から、ガラス、サファイア、ホウケイ酸ガラス、アルミナ、電子回路に用いるシリコンウェハ等のシリカ、焼成アルミナおよびこれらの組み合わせ等のガラス類およびセラミック表面から水を置換するのに非常に有効である。基板はまた、ポリオレフィンAlathon、Rynite登録商標、Tenite、ポリ塩化ビニル、ポリスチレンStyron、ポリテトラフルオロエチレンTeflon登録商標、テトラフルオロエチレン-エチレンコポリマーTefzel登録商標、ポリフッ化ビニリデンKynar、イオノマーSurlyn登録商標、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレンポリマーKralac登録商標、フェノール-ホルムアルデヒドコポリマー、セルロースEthocel、エポキシ樹脂、ポリアセタールDelrin登録商標、ポリp-フェニレンオキシドNoryl登録商標、ポリエーテルケトンUltrapek、ポリエーテルエーテルケトンVictrex、ポリブチレンテレフタレートValox、ポリアリレートArylon登録商標、液晶ポリマー、ポリイミドVespel登録商標、ポリエーテルイミドUltem、ポリアミドイミドTorlon、ポリp-フェニレンスルフィドRython、ポリスルホンUdel、ポリアリールスルホンRydelおよびこれらの組み合わせ等のプラスチックを含んでいてもよい。他の実施形態において、本脱水または乾燥方法に用いる組成物はエラストマーと適合する。一実施形態において、本開示は、基板を、上述した脱水組成物と接触させる工程と、基板を脱水組成物との接触から外す工程とを含む水の少なくとも一部を、濡れた基板の表面から除去脱水する方法に関する。一実施形態において、基板の表面に元々結合していた水が、溶媒および/または界面活性剤と置換されて、脱水組成物が残る。本明細書で用いる水の少なくとも一部という用語は、基板の表面にある水の少なくとも約75重量パーセントが、浸漬サイクル毎に除去されることを意味する。本明細書で用いる浸漬サイクルという用語は、基板を本発明の脱水組成物に浸漬する工程を少なくとも含む1サイクルを意味する。任意で、基板に接合して残った最小量の界面活性剤は、基板を界面活性剤フリーのハロカーボン溶媒と接触させることによりさらに除去することができる。物品を溶媒蒸気または還流溶媒中に保持すると、基板に残る界面活性剤の存在をさらに減じるであろう。基板の表面に接合した溶媒の除去は、蒸発によりなされる。大気または大気より低い圧力での溶媒の蒸発を用いることができ、ハロカーボン溶媒の沸点より高い、かつ低い温度を用いることができる。基板を脱水組成物と接触させる方法は、重要でなく、幅広く変えることができる。例えば、基板を組成物に浸漬することができる。または、従来の機器を用いて、基板に組成物をスプレーすることができる。概して、組成物と基板の全露出表面の間の接触が確保されるため、基板は完全に浸漬するのが好ましい。しかしながら、かかる完全な接触を容易に行える他の何らかの方法を用いてもよい。基板と脱水組成物を接触させる時間は、広く変えることができる。通常、接触時間は、約5分までであるが、必要に応じて、これより長い時間を用いてもよい。脱水プロセスの一実施形態において、接触時間は、約1秒~約5分である。他の実施形態において、脱水プロセスの接触時間は、約15秒~約4分である。接触温度も、組成物の沸点に応じて、広く変えることができる。概して、接触温度は、組成物の標準沸点に等しい、またはそれ未満である。一実施形態において、本開示の組成物は、共溶媒をさらに含有していてもよい。かかる共溶媒は、従来のプロセス残渣を基板からクリーニングする、例えば、はんだフラックスを除去し、本発明の基板を含む機械部品を脱脂するのに本発明の組成物を用いる場合、望ましい。かかる共溶媒としては、アルコール例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エーテル例えば、ジエチルエーテル、メチルターシャリー-ブチルエーテル、ケトン例えば、アセトン、エステル例えば、酢酸エチル、ドデカン酸メチル、ミリスチン酸イソプロピルおよびコハク、グルタルまたはアジピン酸のジメチルまたはジイソブチルエステルあるいはこれらの混合物、エーテルアルコールプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルおよびトリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ハイドロカーボン例えば、ペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタンおよびハイドロクロロカーボン例えば、トランス-1,2-ジクロロエチレンが挙げられる。かかる共溶媒を、基板脱水またはクリーニングのための本発明の組成物と共に用いるときは、組成物全体の重量を基準として、約1重量パーセント~約50重量パーセントの量で存在させればよい。他の実施形態は、a.表面を、CF3CF2xCF=CFCFORCF2yCF3、CF3CF2xCOR=CFCF2CF2yCF3、CF3CF=CFCFORCF2xCF2yCF3、CF3CF2xCF=CORCF2CF2yCF3およびこれらの混合物式中、Rは、CH3、C2H5またはこれらの混合物のいずれかとすることができ、xおよびyは、独立に、0、1、2または3であり、xy=0、1、2または3であるからなる群から選択される少なくとも1つの不飽和フルオロエーテルを含む組成物と接触させる工程と、b.表面を組成物からリカバーする工程とを含む表面をクリーニングする方法に関する。一実施形態において、本開示の組成物は、クリーニング組成物、クリーニング剤、堆積溶媒および脱水または乾燥溶媒として有用である。他の実施形態において、本開示は、本発明のクリーニング組成物またはクリーニング剤と表面または基板を接触させる工程と、任意で、クリーニング組成物またはクリーニング剤から実質的に残渣のない表面または基板をリカバーする工程とを含む表面または基板から残渣を除去する方法に関する。さらに他の実施形態において、本開示は、汚染物質を表面から除去することにより、表面をクリーニングする方法に関する。汚染物質を表面から除去する方法は、汚染物質を有する表面を、本発明のクリーニング組成物と接触させて、汚染物質を溶解し、任意で、クリーニング組成物から表面をリカバーすることを含む。すると、表面は実質的に汚染物質フリーである。本方法の一実施形態において、接触させる工程は、基板にスプレーする、基板を洗い流す、または、例えば、クリーニング組成物を組み込んだ、またはそれを付けた雑巾または紙で拭くことにより行ってよい。本方法の他の実施形態において、接触させる工程は、クリーニング組成物の浴に物品を浸すまたは浸漬することにより行ってよい。本方法の一実施形態において、リカバーする工程は、クリーニング組成物浴から接触させた表面を除去することにより後述する、表面にフルオロ潤滑剤を堆積させる方法について記載したのと同様の方法で行う。本方法の他の実施形態において、リカバーする方法は、スプレーした、洗い流した、または拭いたクリーニング組成物をディスクから流すことにより行われる。さらに、前の工程の完了後に残る可能性のある何らかの残渣のクリーニング組成物は、堆積方法と同様の方法で蒸発させてよい。表面をクリーニングする方法は、後述する堆積方法と同じ種類の表面に適用してもよい。シリカ、ガラス、金属または金属酸化物またはカーボンの半導体表面または磁気媒体ディスクは、本方法により除去される汚染物質を有する可能性がある。上述した方法において、ディスクにクリーニング組成物を接触させ、ディスクをクリーニング組成物からリカバーすることにより、汚染物質をディスクから除去することができる。さらに他の実施形態において、本方法はまた、物品を本発明のクリーニング組成物と接触させることにより、製品、部品、コンポーネント、基板または任意のその他の物品またはそれらの一部から汚染物質を除去する方法も提供する。本明細書で参照する物品という用語は、全てのかかる製品、部品、コンポーネント、基板等を指し、それらの任意の表面または一部を指すことをさらに意図している。本明細書において用いられる汚染物質という用語は、たとえ、物品に意図的に配置されていたとしても、物品に存在する何らかの望ましくない材料または物質を指す。例えば、半導体デバイスの製造においては、フォトレジスト材料を基板に堆積して、エッチング操作のマスクを形成し、その後、フォトレジスト材料を基板から除去するのが一般的である。本明細書で用いる汚染物質という用語は、かかるフォトレジスト材料をカバーし、包含するものとする。ハイドロカーボン系の油およびグリースならびにジオクチルフタレートは、カーボンコートディスクにあるであろう汚染物質の例である。一実施形態において、本方法は、蒸気脱脂および溶媒クリーニング方法において、物品を本発明のクリーニング組成物と接触させることを含む。かかる一実施形態において、蒸気脱脂および溶媒クリーニング方法は、物品を、好ましくは、室温で、沸騰クリーニング組成物の蒸気に露出することからなる。対象物に凝縮する蒸気には、比較的清浄な蒸留クリーニング組成物を与えて、グリースまたはその他汚染物質を洗い流すという利点がある。かかるプロセスには、対象物からの本発明のクリーニング組成物の最終蒸発によって、対象物を液体クリーニング組成物で単に洗浄する場合に比べて、比較的僅かな残渣しか残らないという点でさらなる利点を有する。他の実施形態において、除去の難しい汚染物質を物品が含む用途について、本方法には、周囲温度より高い、またはかかる用途に有効な任意のその他の温度まで、クリーニング組成物の温度を上げて、クリーニング組成物のクリーニング作用を大幅に改善することが含まれる。かかる一実施形態において、かかるプロセスはまた、物品、特に、金属パーツおよび組立体のクリーニングを効率的かつ迅速に行わなければならない大量組立ライン操作にも一般的に用いられる。一実施形態において、本発明のクリーニング方法は、清浄にする物品を、高温で、液体クリーニング組成物に浸漬することを含む。他の実施形態において、本発明のクリーニング方法は、清浄にする物品を、クリーニング組成物の略沸点で、液体クリーニング組成物に浸漬することを含む。かかる一実施形態において、この工程は、大量の目的とする汚染物質を物品から除去する。さらに他の実施形態において、この工程は、大部分の目的とする汚染物質を物品から除去する。一実施形態において、この工程に続いて、前の浸漬工程における液体クリーニング組成物の温度より低い温度で、新たに蒸留したクリーニング組成物に物品を浸漬する。かかる一実施形態において、新たに蒸留したクリーニング組成物は、略周囲または室温である。さらに他の実施形態において、本方法はまた、既述の第1の浸漬工程に関連した熱/沸点クリーニング組成物から出た蒸気に物品を露出することにより、クリーニング組成物の比較的熱い蒸気と物品を接触させる工程を含む。かかる一実施形態において、これによって、物品のクリーニング組成物蒸気が凝縮する。ある好ましい実施形態において、最終濯ぎの前に、物品に蒸留クリーニング組成物をスプレーしてもよい。本方法に関して用いるのに、数多くの様々な種類の蒸気脱脂機器が適用可能であるものと考えられる。かかる機器およびその操作の一例は、参考文献として援用される米国特許第3,085,918号明細書に開示されている。そこに開示された機器は、クリーニング組成物を含む沸騰槽、蒸留したクリーニング組成物を含むクリーン槽、水分離器およびその他補助機器を有している。本クリーニング方法はまた、コールドクリーニングも含んでよく、コールドクリーニングにおいては、汚染した物品を、本発明の流体クリーニング組成物に、周囲または室温条件下で浸漬するか、または、クリーニング組成物に浸したぼろ布または同様の物体で、かかる条件下で拭く。aフッ素潤滑剤と、CF3CF2xCF=CFCFORCF2yCF3、CF3CF2xCOR=CFCF2CF2yCF3、CF3CF=CFCFORCF2xCF2yCF3、CF3CF2xCF=CORCF2CF2yCF3およびこれらの混合物式中、Rは、CH3、C2H5またはこれらの混合物のいずれかとすることができ、xおよびyは、独立に、0、1、2または3であり、xy=0、1、2または3であるからなる群から選択される少なくとも1つの不飽和フルオロエーテルを含む溶媒を配合して、潤滑剤-溶媒の配合物を形成する工程と、b潤滑剤-溶媒の配合物を表面と接触させる工程と、c溶媒を表面から蒸発させて、表面にフッ素潤滑剤コーティングを形成する工程とを含む、表面にフッ素潤滑剤を堆積させる方法に関する。一実施形態において、本開示のフッ素潤滑剤は、パーフルオロポリエーテルPFPE化合物、またはホスファゼン含有ディスク潤滑剤であるX-1P登録商標を含む潤滑剤を含む。これらのパーフルオロポリエーテル化合物は、パーフルオロアルキルエーテルPFAEまたはパーフルオロポリアルキルエーテルPFPAEと呼ばれることもある。これらのPFPE化合物は、単純な過フッ素化エーテルポリマーから、官能化過フッ素化エーテルポリマーまで及ぶ。本発明においてフッ素潤滑剤として有用となり得る異なる種類のPFPE化合物は、いくつかの源より入手可能である。他の実施形態において、本発明の方法に有用なフッ素潤滑剤としては、これらに限られるものではないが、Krytox登録商標GLP100、GLP105またはGLP160E.I.duPontdeNemoursCo.,Fluoroproducts,Wilmington,DE,19898,USA、Fomblin登録商標Z-Dol2000,2500または4000、Z-TetraolまたはFomblin登録商標AM2001またはAM3001SolvaySolexisS.p.A.,Milan,Italyより販売、Demnum登録商標LR-200またはS-65DaikinAmerica,Inc.,Osaka,Japanより提供、X-1P登録商標DowChemicalCo,Midland,MIの子会社であるQuixtorTechnologiesCorporationより入手可能な部分フッ素化ヘキサフェノキシシクロトリホスファゼンディスク潤滑剤およびこれらの混合物が挙げられる。Krytox登録商標潤滑剤は、一般構造FCFCF3CF2On-CF2CF3式中、nは10~60を有するパーフルオロアルキルポリーエテルである。Fomblin登録商標潤滑剤は、分子量が500~4000原子質量単位で、一般式X-CF2-OCF2-CF2-Op-CF2Oq-CF2-X式中、Xは、-CH2OH、CH2O-CH2-CH2nOH、CH2OCH2CHOHCH2OHまたは-CH2O-CH2-ピペロニルであってよいを有する官能化パーフルオロポリエーテルである。Demnum登録商標油は、分子量が2700~8400原子質量単位の範囲のパーフルオロポリエーテル系油である。さらに、本発明の方法に有用となり得るMorescoThailandCo.,Ltd製のもの等新たな潤滑剤が開発されている。本発明のフッ素潤滑剤は、フッ素潤滑剤の特性を改善する添加剤をさらに含んでいてもよい。PFPE劣化に関与するディスク表面のルイス酸部位をパッシベートすることにより、ディスクドライブの耐久性を増大するために、潤滑剤自体として機能し得るX-1P登録商標が他の低コストフッ素潤滑剤に添加されることが多い。他の一般的な潤滑添加剤を、本発明の方法のフッ素潤滑剤に用いてもよい。本発明のフッ素潤滑剤は、Z-DPAHitachiGlobalStorageTechnologies,SanJose,CA、ジアルキルアミン末端基で終端したPFPEをさらに含んでいてもよい。求核末端基は、X1P登録商標と同じ目的で作用し、添加剤を全く加えずに、同じ安定性を与える。フッ素潤滑剤が堆積し得る表面は、潤滑による利点を得ることのできる任意の固体表面である。シリカディスク、金属または金属酸化物表面、蒸着カーボン表面またはガラス表面等の半導体材料は、本発明の方法が有用な表面の種類の代表例である。本発明の方法は、コンピュータドライブハードディスク等の磁気媒体のコーティングに特に有用である。コンピュータディスクの製造において、表面は、アモルファス水素化または窒素化カーボンの薄層10~50オングストロームの蒸着によりコートもされた磁気媒体層を備えたガラスまたはアルミニウム基板であってよい。フッ素潤滑剤をディスクのカーボン層に間接的に適用することにより、フッ素潤滑剤を表面ディスクに堆積してもよい。フルオロ潤滑剤と溶媒を結合する第1の工程フルオロ潤滑剤/溶媒結合は、堆積方法の浴として用いてよいビーカーやその他容器等好適な容器において、混合等の任意の好適な方法で行ってよい。不飽和フッ素化エーテル溶媒中のフルオロ潤滑剤濃度は、約0.010パーセントwt/wt~約0.50パーセントwt/wtであってよい。フルオロ潤滑剤/溶媒結合物を表面と接触させる工程は、表面のサイズおよび形状を基準として、前記表面に適した任意の方法で行ってよい。ハードドライブディスクは、ディスク中心の穴を通り抜けることのできるマンドレルまたはその他支持体等何らかの方法で支持されなければならない。このように、ディスクは、ディスクの面が溶媒浴に垂直になるように、水平に保持されるであろう。マンドレルは、これらに限られるものではないが、円柱バーまたはV形バーをはじめとする異なる形状を有していてよい。マンドレル形状によって、ディスクとの接触面積が決まるであろう。マンドレルは、これらに限られるものではないが、金属、金属合金、プラスチックまたはガラスをはじめとするディスクを保持するのに十分な材料強度で構築すればよい。さらに、ディスクは、織かごに直立に支持しても、または外縁で1つ以上の留め具により垂直位置に留めてもよい。支持体は、金属、金属合金、プラスチックまたはガラス等、ディスクを保持する強度を備えた任意の材料で構築してよい。ただし、ディスクは支持されると、ディスクは、フッ素潤滑剤/溶媒の配合物の浴を保持する容器へと下げられる。浴は、室温に保持する、あるいは約0°C~約50°Cに及ぶ温度まで加熱または冷却してよい。あるいは、ディスクは、上述したとおりに支持し、浴を上げて、ディスクを浸漬してもよい。いずれの場合においても、ディスクは浴から取り出すことができる浴を下げるか、ディスクを上げるかのいずれかにより。過剰のフッ素潤滑剤/溶媒の配合物は浴へ流出させることができる。ディスクを浴に下げるか、浴を上げるかのいずれかによってディスクを浸漬させるものである、フッ素潤滑剤/溶媒の配合物をディスク表面と接触させる方法はいずれも、ディップコーティングと一般的に呼ばれている。スプレーまたはスピンコーティングをはじめとするディスクをフッ素潤滑剤/溶媒の配合物と接触させる他の方法を、本発明に用いてもよい。ディスクを浴から取り出すとき、ディスクは、フッ素潤滑剤と残渣溶媒不飽和フッ素化エーテルのコーティングをその表面に有するであろう。残渣溶媒は蒸発する可能性がある。蒸発は、通常、室温でなされる。しかしながら、室温より高い温度と低い温度の両方の他の温度を蒸発工程に用いてもよい。約0°C~約100°Cの範囲の温度を蒸発に用いてよい。表面、または表面がディスクの場合にはディスクには、コーティング法の完了後、実質的に溶媒フリーのフッ素潤滑剤の実質的に均一または均一なコーティングが残るであろう。フッ素潤滑剤は、約300nm未満の厚さまで、あるいは、約100~約300nmの厚さまで適用してよい。ディスクの適正な機能のためには、均一なフッ素潤滑剤コーティングが望ましく、ディスク表面に異なる厚さのフッ素潤滑剤領域は望ましくない。同じサイズのディスクにより多くの情報が記憶されればされるほど、読み取り/書き込みヘッドは、適正に機能するためには、ディスクにますます近づいていかなければならない。コーティング厚さの不規則性がディスク表面の存在する場合には、ディスクにこれらの領域のあるヘッドの接触の可能性がはるかに大きくなる。ヘッド接触またはその他手段により除去される可能性のある領域に、十分なフッ素潤滑剤をディスク上に流す必要があるが、コーティングが厚すぎると、汚れて、読み取り/書き込みヘッドが過剰のフッ素潤滑剤を拾ってしまうことに関連する問題を生じる可能性がある。業界で観察されるある具体的なコーティング厚さの不規則性は、ラビットイヤー効果として知られたものである。これらの不規則性は、既存の溶媒系を用いてフッ素潤滑剤の堆積後、ディスク表面で目視により検出される。ディスクを、溶媒中フッ素潤滑剤の溶液と接触させ、溶液から取り出すと、溶液が堆積して流れない点になると、容易に流れ落ちない溶液の液滴が容易に形成される。液滴形成のかかる点は、マンドレルまたはその他支持装具とディスクの接触点1点または複数の点である。V形マンドレルを用いるときは、マンドレルがディスクの内側端部と接触する2つの接触点がある。フッ素潤滑剤の溶液が、浴から取り出したときに流れ落ちないこれらの位置で液滴を形成するときは、溶媒蒸発時にフッ素潤滑剤の厚い領域が形成される。ディスクとの2つの接触点で、ラビットイヤー効果として知られているものが得られる。フッ素潤滑剤の厚い領域が、ディスク表面で目視により検出可能なラビットイヤーに似たパターンを生成するからである。ディップコーティングを、表面にフッ素潤滑剤を堆積するのに用いるとき、引き上げ速度ディスクを浴から取り出す速度、フッ素潤滑剤の密度および表面張力が、フッ素潤滑剤の得られるフィルム厚さを決めるのに関係している。所望のフィルム厚さを得るためのこれらのパラメータを把握する必要がある。これらのパラメータのコーティングに与える影響の詳細については、Dip-CoatingofUltra-ThinLiquidLubricantanditsControlforThin-FilmMagneticHardDisks、IEEETransactionsonMagnetics、vol.31,no.6,1995年11月にある。本明細書に記載した概念を、以下の実施例でさらに説明していく。それらは、請求項に記載された本発明の範囲を限定するものではない。概要または実施例に上述した動作の全てが必要ではないこと、特定の動作の一部が必要ない場合もあること、そして1つ以上のさらなる動作を、記載したものに加えて行うことができることを記しておく。さらに、動作を示した順番は、必ずしも、それらを行う順番ではない。前述の明細書において、特定の実施形態を参照して、概念を説明してきた。しかしながら、当業者には、以下の請求項に規定された本発明の範囲から逸脱することなく、様々な修正および変更を行えることは明らかである。従って、明細書および図面は、限定的な意味ではなく、例示とみなすべきであり、かかる修正は全て、本発明の範囲に含まれるものとする。利点、その他長所および問題解決策を、特定の実施形態に関して上述してきた。しかしながら、利点、長所、問題解決策、および利点、長所または解決策のいずれかが生じる、またはより顕著となる任意の特徴は、いずれか、または全ての請求項の重要な、必要な、または必須の特徴と解釈されるべきでない。特定の特徴は、明確にするために、個別の実施形態で記載された特定の特徴は、単一の実施形態の組み合わせで提供されてもよいものと考えるべきである。反対に、簡潔にするために、単一の実施形態で記載された様々な特徴も、個別に、または任意のサブコンビネーションで提供されてもよい。さらに、範囲で記した値の参照には、その範囲内のありとあらゆる値が含まれる。実施例1実施例1は、MPHEと2-プロパノールの共沸物の測定を示すものである。69.7wtのMPHEと30.3wtのイソプロパノールIPAを含有する混合物を調製した。混合物を、5:1還流対留去比を用いて、5-プレートOldershaw蒸発塔で蒸留した。ヘッドおよびフラスコ温度を1°Cまで直接読んだ。蒸留試料を蒸留プロセス全体にわたって取り出して、ガスクロマトグラフィーにより組成を判断した。78°Cの一定した蒸留ヘッド温度で、約65.5wtのMPHEと34.5wtのIPAの一定した組成が観察された。これは、共沸物の存在を示している。MPHEとIPA混合物の蒸留結果を表1に示す。実施例2沸点上昇装置を用いて、MPHEとIPA混合物の共沸様範囲を求めた。装置は、熱電対を備えたフラスコ、加熱マントルおよび凝縮器からなっていた。フラスコのサイドネックにゴム隔壁が備わっており、一成分をフラスコに添加することができる。最初、フラスコは100のIPAを含有しており、還流するまで液体を徐々に加熱したところ、0.5°Cに直近の沸点が記録された。MPHEは、約3wtの増分で、サイドネックを通してフラスコに添加された。MPHEを添加する度に、フラスコの沸点を安定化させた。約50wtのMPHEと50wtのIPAの組成が存在するまで、MPHEをフラスコのIPA混合物に添加した。同様の実験をフラスコ中100PMHEで開始し、約50MPHEと50IPAの組成が存在するまで、IPAを増分しながらフラスコに添加した。このようにして、0~100のMPHEとIPA混合物の沸点を得た。結果を表2に示す。各純成分の沸点より低い沸点を有する組成物は、共沸様挙動の証拠と考えられた。MPHEとIPA混合物については、この共沸様範囲は、約96.3wtのIPAと約9.3wtのIPAということが分かった。実施例3MPHEとIPAから実質的になる組成物について相研究を行った。組成を変え、蒸気圧を29.81°Cと79.46°Cの両方で測定した。相研究からのデータに基づいて、他の温度および圧力での共沸組成を計算しておいた。表3に、指定した温度および圧力でのMPHEとIPAについての実験と計算した共沸組成をまとめてある。実施例4本明細書に開示した組成物の露点および泡立ち点圧力を、測定および計算された熱力学特性から計算した。近共沸範囲は、MPHEの最小および最大濃度モルパーセント、モルにより示される。露点と泡立ち点圧力の差は、泡立ち点圧力を基準として3以下である。結果を表4にまとめてある。実施例5-クリーニング剤の使用フッ素化流体と2-プロパノール等のアルコールの共沸組成物は、クリーニング剤として有用なことが多い。アルコールは、油を溶解する能力があるが、可燃性である場合があるため、ある状況においては望ましくない。2-プロパノールは可燃性である。フッ素化流体は、不燃性であることが多いが、炭化水素油を溶解しないであろう。2者の混合物が不燃性と判断されれば、それらは特に有用である。約65.5wtのMPHEと34.5の2-プロパノールの共沸組成物を調製し、密閉式引火点試験を行った。混合物は不燃性であることが分かった。共沸混合物を用いて、後述の実施例に記載したとおり、部品から油を除去する。混合物は、ビーカー内で沸騰するまで加熱される。予め秤量しておいたアルミニウム片約2インチ×3インチのサイズを、綿棒を用いて鉱油で覆う。片を再秤量し、沸騰した溶媒に5分間沈める。片を溶媒から取り出し、1分間空気乾燥させ、最後に秤量する。DowCorning200シリコーン流体10,000cStを汚れとして用いて実験を繰り返す。除去された汚れのを計算して、クリーニング有効性を明らかにする。表5に実験の結果を示す。上に示すとおり、共沸混合物は、鉱油およびシリコーン流体を除去するのに非常に有効である。"