"蛍光測定システムにおいて、a.広帯域ビームを供給するように配置構成された広帯域光源と、b.該広帯域ビームの少なくとも一部をフィルタリングしてそれによりフィルタリングされた光を供給するように配置構成された第1の同調可能な要素と、c.制御信号を該第1の同調可能な要素に供給するように配置構成された制御ユニットとからなり、該第1の同調可能な要素は、音響光学的フィルタAOTFであり、該AOTFへの該制御信号は、該AOTFが30dB以上など、35dB以上など、40dB以上など、45dB以上など、50dB以上など、55dB以上など、60dB以上など、25dB以上の帯域外抑制を行うように配置構成された電圧制御発振器VCOによって供給される音響RF信号である、システム。a.前記AOTFによってフィルタリングされた光をサンプルに照射し、b.前記AOTFが前記帯域外抑制を行う波長帯において該サンプルからの該照射への蛍光応答を測定するように配置構成される、請求項1に記載のシステム。a.蛍光顕微鏡、b.落射蛍光顕微鏡、c.STED顕微鏡、d.4π顕微鏡、e.SPDM局在顕微鏡、f.SMI顕微鏡、g.VerticoSMI顕微鏡、h.蛍光画像、およびi.蛍光寿命画像顕微鏡FLIMの群から選択される請求項1または2に記載のシステム。前記サンプルからの前記蛍光応答を検出するように配置構成された光子計数器をさらに備える、請求項2または3に記載のシステム。前記蛍光応答を時間の関数として測定するように配置構成される、請求項2乃至4のいずれか1項に記載のシステム。複数のVCOによって供給される複数のRF制御信号は、前記AOTFが前記フィルタリングされた光において複数のスペクトル線を出力できるようにするために多重化される、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のシステム。前記制御ユニットは、前記フィルタリングされた光の前記中心波長が前記入射広帯域ビームの前記波長帯の一部を通して走査されるように前記制御信号が時間で変化することを条件とするように配置構成される、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のシステム。前記制御ユニットは、前記フィルタリングされた光の前記スペクトル幅が時間で変化するように前記制御信号の前記振幅が時間で変化することを条件とするように配置構成される、請求項1乃至7のいずれか1項に記載のシステム。前記帯域外抑制は、照明波長から10nm以上など、15nm以上など、5nm以上の波長で行われる、請求項1乃至8のいずれか1項に記載のシステム。前記AOTFによってフィルタリングされた光をサンプルに照射し、前記帯域外抑制を前記AOTFが行う波長帯において該サンプルからの該照射への蛍光応答を測定する、請求項1乃至9のいずれか1項に記載のシステムの使用方法。本発明の目的の一つは、入射広帯域ビームをフィルタリングするためのフィルタを実現することであり、広帯域ビームは前記フィルタを通してビーム経路を画成する。一実施形態において、フィルタは、ビーム誘導光学系、角度分散素子、組みレンズ、および光導波路からなる。ビーム誘導光学系は、前記ビーム経路の第1の部分に沿って入射広帯域ビームを誘導するように配置構成される。角度分散素子は前記広帯域ビームの前記第1の部分がある入射角で前記角度分散素子上に入射するように配置構成され、これにより、広帯域ビームの異なる波長の光は、異なる角度で前記角度分散素子から出て、角度分散ビームを形成する。一実施形態において、ビームの前記第1の部分は、広帯域ビーム全体であり、一実施形態において、これは、広帯域ビームの一部100未満である。組みレンズは、前記角度分散素子の後に配置構成され、前記レンズは前記角度分散ビームをビーム経路に沿った第1の位置のスポットに集束するように配置構成される。光導波路は導光部分と導光部分が前記スポット内に集束するビームの少なくとも一部を集光するように前記第1の位置に配置構成された端面とからなる。本発明の文脈において、角度分散素子という語句は、入射広帯域ビーム内の個別の波長を異なる出射角に分散する素子を意味する。あるいは、複数の単一波長ビームを異なる入射角と組み合わせることもできる。本発明の文脈において、前および後という語句はデバイスの異なる部分の位置決めに関連して使用され、要素の前という言い回しは、一実施形態では、デバイスの入口点と要素との間のビーム経路にそった位置を意味するものと解釈され、要素の後という言い回しは、一実施形態では、要素とデバイスの出口点との間のビーム経路に沿った位置を意味するものと解釈される。本発明の文脈において、デバイスという用語は、フィルタもしくはフィルタシステムの一般化された用語である。一実施形態において、デバイスは、光源から分離されているフィルタを入れたユニットもしくはボックスである。一実施形態において、デバイスは、集積化広帯域光源に光学的に接続されているフィルタまたはフィルタシステムを入れたユニットもしくはボックスである。本発明の文脈において、ビーム誘導光学系は、広帯域ビームを導くための光学系バルクまたはファイバーベースである。一実施形態において、ビーム誘導光学系は、広帯域ビームを供給する広帯域光源から出口によって形成される。一実施形態において、ビーム誘導光学系は、角度分散素子単独で、または角度分散素子を1つまたは複数のレンズおよび/または回転式ミラーなどの1つまたは複数の反射コンポーネントと組み合わせて形成される。本発明の目的の一つは、入射広帯域ビームを修正するためのデバイスを実現することであり、このデバイスは本発明による第1および第2のフィルタからなる。このデバイスは入射広帯域ビームを一方のビームがより高い波長帯にある波長の光を有し、他方のビームがより低い波長帯にある波長の光を有する2つのビームに分割するためフィルタの前に配置構成されたスペクトルスプリッタからなり、これら2つのビームのうちの一方は第1のフィルタ内に導かれ、これら2つのビームのうちの他方は第2のフィルタ内に導かれる。本発明の目的の一つは、ビーム経路に沿って伝搬する広帯域ビームのスペクトル形状を修正するための同調可能な広帯域フィルタを実現することであり、前記広帯域フィルタは第1の同調可能な要素と制御ユニットとからなる。一実施形態において、第1の同調可能な要素は、広帯域ビームの1つの波長帯の外の光を抑制するように配置構成される。制御ユニットは、第1の同調可能な要素を制御するように配置構成されている。一実施形態において、第1の同調可能な要素は、本発明の実施形態のどれかによるフィルタである。一実施形態において、第1の同調可能な要素は、反射素子および角度分散素子からなり、前記反射素子および/または前記角度分散素子は、前記広帯域ビームが前記空間的分散素子上に入射する角度が変更されるように回転させることができ、前記制御ユニットは、これらの素子の回転を制御する。一実施形態において、前記広帯域ビームは、前記空間的分散素子の第1の表面上に入射する。一実施形態では、入射角が変更されると1つの波長帯の中心波長における偏移が生じる。一実施形態において、前記フィルタの同調可能な要素は、組みレンズ、および導光部分と端面とからなる光導波路からなり、組みレンズは角度分散素子を出たビームの一部を前記導光部分に結合するように配置構成される。一実施形態において、制御ユニットという用語は、概して電子制御用の回路を指し、単一のボックスまたはデバイス内に必ずしも集積化される必要はない。例えば、一実施形態では、システムは、フィルタを制御するための制御ユニットを有する同調可能フィルタからなるフィードバックループを制御するための制御ユニットからなる。簡単のため、制御ユニットの機能が2つ以上のユニットを使用して実装されうるとしても単一の制御ユニットを参照する。フィルタリングされた広帯域ビームのスペクトル形状は、一実施形態では、ガウス分布、ローレンツ分布、ベッセル分布、フォークト分布、または超ガウス分布の群から選択される。本発明の目的の一つは、入射広帯域ビームをフィルタリングし少なくとも第1のパラメータに関して前記ビームを修正するためのフィルタを実現することであり、前記フィルタは第1の同調可能な要素と制御ユニットとからなる。第1の同調可能な要素は、前記第1のパラメータに関して広帯域ビームを修正するように配置構成される。制御ユニットは、t1より短い時間スケールで前記広帯域ビームの修正を制御する第1の同調可能な要素に制御信号を供給するように配置構成される。本発明の目的の一つは、広帯域ビームをフィルタリングするためのシステムを実現することであり、前記システムは広帯域ビームを供給する広帯域光源と、本発明による、前記広帯域光源からビームをフィルタリングするように配置構成されたフィルタとからなる。本発明の目的の一つは、デュアルバンドOCTシステムを実現することであり、このシステムは広帯域ビームを供給する広帯域光源と、本発明による、前記広帯域光源から広帯域ビームをフィルタリングしてデュアルバンド信号を供給するように配置構成されたデバイスとからなる。本発明の目的の一つは、OCTシステムを実現することであり、このシステムは広帯域ビームを供給する広帯域光源と、本発明による、前記広帯域光源から広帯域ビームをフィルタリングしてOCTシステムに適したフィルタリングされた広帯域ビームを供給するように配置構成されたフィルタとからなる。本発明の目的の一つは、本発明によるフィルタを使用して広帯域光源から信号をフィルタリングすることに関する。この文脈において、広帯域光源からの信号は、光源から出力される広帯域ビームを指す。フィルタから出るフィルタリングされたビームは、一実施形態では、光コヒーレンストモグラフィ用のシステムに関連して使用される。フィルタから出るフィルタリングされたビームは、一実施形態では、白色光干渉法用のシステムに関連して使用される。フィルタから出るフィルタリングされたビームは、一実施形態では、フローサイトメトリー、回転盤、またはハイパースペクトルの用途用のシステムに関連して使用される。この文脈では、に関連して使用されるという言い回しは、各システム、例えばOCTシステムまたはフローサイトメータ用の光源として使用することを意味する。本発明の目的の一つは、広帯域ビームを1つまたは複数のサブビームに分割するためのシステムに関し、前記システムは2つ以上の同調可能な要素および別々の時間間隔で前記同調可能な要素のうちの少なくとも2つを制御するように配置構成されたコントローラ、ならびに同調可能な要素間でRF信号制御信号を分割するためのRFスプリッタからなる。本発明の目的の一つは、広帯域ビームを1つまたは複数のサブビームに分割するためのシステムに関し、前記システムは2つ以上の同調可能な要素、別々の時間間隔で前記同調可能な要素のうちの少なくとも2つを制御するように配置構成されたコントローラ、および2つの同調可能な要素間で制御ユニットの制御を切り替えるためのスイッチからなる。一実施形態において、前記スポット内の角度分散ビームは、導光部分の断面直径より大きい断面直径を有し、これにより、前記入射角度分散ビームの1つの波長帯の光のみが、前記導光部分によって集光され、前記1つの波長帯の外にある波長の光は、フィルタリングされて取り除かれる。前記スポットにおける光の波長が変化する前記スポットの寸法は、その寸法に沿った導光部分の断面寸法より大きいので、スペクトル幅は、一実施形態では、これらの寸法の比によって少なくとも一部は決定される。一実施形態において、1つの波長帯は、スペクトル幅Δλおよび中心波長λcを持つスペクトル形状を有する。波長帯のスペクトル幅は、一実施形態では、半値全幅によって定義され、これは、光パワーがその最大値の半分に等しい2つの波長間の差によって与えられる。一実施形態において、ビーム誘導光学系は、ビーム経路の前記第1の部分に沿って前記広帯域ビームを誘導するように配置構成された反射素子からなる。一実施形態において、反射素子は、少なくとも1つのミラーからなる。前記ミラーの少なくとも1つは、一実施形態では、ダイクロイックミラーである。一実施形態において、反射素子および/または角度分散素子はこれらの素子間のビーム経路の部分に関して回転可能であるように配置構成される。一実施形態において、フィルタは、中心波長に関して同調可能である。中心波長は、一実施形態では、フィルタの異なる部分を移動することによって同調される。一実施形態において、スポットおよび端面は、前記中心波長が同調されるような形で互いに関して移動されうる。角度分散素子を出る角度分散広帯域ビームを集束させることによって画成されるスポットは、スポット内の異なる断面位置に配置される異なる波長の光を有する。スポットの片側では比較的短い波長である光が見られ、スポットの反対側では比較的長い波長である光が見られる。前記導波部分および前記スポットを互いに関して移動することによって、導光部分によって集光され、誘導されるスペクトルの中心波長を同調することができる。これは、前記導光部分の断面寸法がスポットの断面寸法より小さいときに特に当てはまる。一実施形態において、組みレンズとファイバー端面との間の距離は、前記ファイバー端面におけるスポットの断面寸法が変化し、フィルタリングされた広帯域ビームのスペクトル幅が同調されるように変更されうる。一実施形態において、前記角度分散素子に関する前記ビーム経路の前記第1の部分の入射角は、前記中心波長が同調されるように変更されうる。入射角は、一実施形態では、前記ビーム経路の第1の部分に関して前記角度分散素子を回転することによって変更される。反射素子は、一実施形態では、前記ビーム経路の第1の部分が変更されるように、また前記入射角が変化するように回転可能であるように配置構成される。一実施形態において、フィルタは、角度分散素子およびビーム誘導光学系の相対的配向を制御するように配置構成された制御ユニットからなる。フィルタリングされた広帯域ビームのスペクトル幅は、一実施形態では、約20nmから約700nmまでの範囲など、約30nmから約500nmまでの範囲など、約50nmから約400nmまでの範囲など、約10nmから約1000nmまでの範囲内である。フィルタリングされた広帯域ビームの中心波長は、一実施形態では、約500nmから約1500nmまでの範囲など、約400nmから約2000nmまでの範囲内である。中心波長は、一実施形態では、約500nmから約700nmまでの範囲内、または約700nmから約900nmまでの範囲内、または約900nmから約1100nmまでの範囲内、または約1300nmから約1400nmまでの範囲内である。一実施形態において、導光部分の最大断面直径は、スポットの最大断面直径より小さく、スペクトル幅は導光部分およびスポットの断面直径/面積の比によって決定される。角度分散素子は、一実施形態では、くさび、または角柱、および回折素子の群から選択される。くさびは、くさびに入射する光を分散させ、異なる波長の光が前記くさびから出たときに異なる方向に分散されるように配置構成される。一実施形態において、この角度分散は、入射光が横切るくさびの第1および/または第2の表面に生じる。一実施形態において、光導波路は、単一モード光ファイバーなど、微細構造エンドレス単一モード光ファイバーmicrostructuredendlesslysingle-modeopticalfiberなどの、光ファイバーからなる。一実施形態において、空間フィルタ素子は、好ましくは角度分散素子と前記組みレンズとの間の、前記ビーム経路内に配置構成される。フィルタリングされた広帯域ビームのスペクトル形状は、一実施形態では、ガウス分布、ローレンツ分布、ベッセル分布、フォークト分布、または超ガウス分布の群から選択される。一実施形態において、フィルタは、ビーム経路に沿ったモニタ位置のところで前記ビームを監視するように配置構成された監視ユニットからなる。モニタ位置は、一実施形態では、前記光導波路の後にある。一実施形態において、フィルタは、ビームの光パワーの数分の1を前記監視ユニットに向けるための反射体からなる。反射体は、一実施形態では、集束レンズなどの光学素子の表面である。これは、ビームの一部を受け取る別の光学素子が不要であるという点で有利である。一実施形態において、モニタユニットは、ビームのスペクトル特性を測定し、および/またはモニタユニットは、ビームの光パワーを測定する。一実施形態において、監視ユニットは、異なる波長での光ファイバーの分布の測定を可能にするスペクトロメータからなる。いくつかの用途では、単一波長において光パワーを監視するだけで十分であり、監視ユニットは、一実施形態では、フォトダイオードからの直接的測定結果に基づくなど、単純な光パワー測定ユニットからなるものとしてよい。一実施形態において、モニタは、前記制御ユニットにフィードバックを送るように配置構成される。制御ユニットは、一実施形態では、前記フィルタリングされた広帯域ビームを安定化するような方法で前記フィードバックに基づき前記ビーム経路の前記第1の部分および前記角度分散素子の相対的配向を制御するように配置構成される。フィルタリングされた広帯域ビームは、一実施形態では、スペクトルプロファイルに関して、および/またはビームの光パワーに関して安定化される。LCDまたはDLPフィルタを使用することで、フィードバックループに適していると思われる調節可能なフィルタリングを行うことができる。一実施形態において、LCDまたはDLPは、同調可能な減衰フィルタおよび/または同調可能な空間フィルタとして適用される例えば、図5aおよび図6の特徴52、53、62、および63を参照。本発明の文脈において、安定化されるという言い回しは、一実施形態では、ビームのスペクトル形状のビームの光パワーなどのビームのパラメータの変化が与えられた期間内において与えられた最大値よりも小さくなる状況を指す。この期間は、一実施形態では、0.001秒、0.01秒、もしくは0.1秒など、1秒の何分かの1、1秒、または5秒、10秒、もしくは60秒など、数秒である。ビームのパラメータの変化は、一実施形態では、絶対的変化もしくは相対的変化である。約30未満など、約20未満など、約10未満など、約5未満など、約2未満など、約1未満など、約0.1未満など、パラメータの値の数パーセント未満の変化である。一実施形態において、フィルタリングされた広帯域ビームは、約0.5秒未満など、約0.1秒未満など、約0.05秒未満など、約0.01秒未満など、約0.005秒未満など、約0.001秒未満など、約0.1ミリ秒未満など、約1秒未満で安定化される。一実施形態において、フィルタは、反射素子の前に配置構成されたスペクトルスプリッタからなり、前記スペクトルスプリッタは、入射広帯域ビームを光がより高い波長帯の波長を有する1つのビームと、光がより低い波長帯の波長を有する1つのビームとに分割するように配置構成される。スペクトルスプリッタは、一実施形態では、ダイクロイックミラーまたはリニアバリアブルフィルタである。一実施形態において、デバイスは、デバイスの第1のフィルタおよび第2のフィルタから出るフィルタリングされたビームを組み合わせるように配置構成されたスペクトルコンバイナからなる。一実施形態において、コンバイナは、ダイクロイックミラー、リニアバリアブルフィルタ、または第1のフィルタおよび第2のフィルタから出るフィルタリングされたビームを組み合わせるように配置構成された波長分割多重化装置からなる。一実施形態において、デバイスは、入射広帯域ビームをフィルタリングしてデュアルバンドOCTシステムに対する信号を形成するように配置構成される。一実施形態において、フィルタおよび/またはデバイスは、光源からのビームがフィルタもしくはデバイスに入る際に通る入口点からなる。一実施形態において、フィルタおよび/またはデバイスは、フィルタリングされた広帯域ビームがフィルタもしくはデバイスから出る際に通る出口点からなる。一実施形態において、第1の同調可能な要素は、刺激に応答して屈折率を変化させるように配置構成された要素からなる。刺激は、一実施形態では、音響信号もしくは電気信号である。前記刺激が電気信号であるフィルタにおいて、前記第1の同調可能な要素は、一実施形態では、電気光学的同調可能フィルタからなる。前記刺激が音響信号であるフィルタの一実施形態において、前記第1の同調可能な要素は、音響光学的同調可能フィルタAOTFからなる。AOTFは、一実施形態では、無線周波RF発振器によって駆動される。一実施形態において、フィルタは、同調可能フィルタとも称される第2の同調可能な要素からなる。一実施形態において、フィルタは、第3の同調可能な要素および適宜第4の同調可能な要素からなる。一実施形態において、第2およびその後の同調可能な要素のフィルタは、第1の同調可能な要素と実質的に同一である。一実施形態において、第2およびその後の同調可能な要素のうちの1つまたは複数は、第1の同調可能な要素に関して、および/または互いに関して異なる波長帯をフィルタリング/通過させるようになされる。このような一実施形態において、第1の同調可能な要素は、有限帯域幅を有し、例えば、可視波長に実質的に制限されたAOTFである。したがって、第2の同調可能フィルタを使用することで、第1の同調可能フィルタの帯域幅の外のより長い波長をフィルタリングすることができる。一実施形態において、フィルタは、FFPファイバーファブリーペローなどの、ファブリーペロー共振器、または薄膜フィルタ、薄膜バリア型、または単色光分光器型フィルタからなる。一実施形態において、フィルタは、第1の同調可能な要素の前に配置構成されたスペクトルスプリッタからなり、前記スペクトルスプリッタは入射広帯域ビームを光がより高い波長帯の波長を有する1つのビームと、光がより低い波長帯の波長を有する1つのビームとに分割するように配置構成される。一実施形態において、フィルタは、第1の同調可能な要素の前に配置構成された偏光ビームスプリッタからなり、前記偏光ビームスプリッタは偏光ビームスプリッタ上に入射した広帯域ビームを第1の偏光を有する1つのビームと第2の偏光を有する1つのビームとに分割するように配置構成される。一実施形態において、第1の偏光を有するビームおよび第2の偏光を有するビームは、同じ同調可能な要素内に導かれる。一実施形態において、ビームは、1つの同調可能な要素内に導かれる第1の偏光を有し、前記ビームは別の同調可能な要素内に導かれる第2の偏光を有する。一実施形態において、スペクトルスプリッタは、前記入射広帯域ビームが前記スペクトルスプリッタによって第1のビームと第2のビームとに分割され、その後第1のビームおよび第2のビームのそれぞれが異なる偏光を有する2つのビームに分割されるように前記偏光スプリッタのうちの2つの前に配置構成され、これにより、4つのビームを発生する。生成される4つのビームは、一実施形態では、4つの異なる同調可能な要素を通して誘導される。前記4つの異なる同調可能な要素のそれぞれは、一実施形態では、前記制御ユニットのうちの1つまたは複数によって制御される。一実施形態において、入射広帯域ビームを分割することによって生成されるビームは、再び、前記同調可能フィルタの後で組み合わされ、フィルタリングされた広帯域ビームを形成する。偏光ビームスプリッタは、一実施形態では、分割されたビームを組み合わせるために使用される。一実施形態において、フィルタは、第1の偏光を有する1つのビームおよび/または第2の偏光を有する1つのビームの偏光を回転するように前記偏光ビームスプリッタの後に配置構成された少なくとも1つの第1の2分の1波長板からなる。2分の1波長板は、一実施形態では、同調可能な要素の前に配置構成される。一実施形態において、第2の2分の1波長板は、同調可能な要素の後に配置構成される。一実施形態において、第1および第2の同調可能な要素は、互いに関して回転され、これにより、第1の同調可能な要素では一方の偏光を有する光を通過させ、第2の同調可能な要素では垂直偏光を通過させることができる。一実施形態において、第1および第2の同調可能な要素に供給される制御信号では前記同調可能な要素が同じ波長帯を透過し、したがって、前記波長帯の電力が増大する。一実施形態において、これは、500nm未満など、450nm未満など、425nm未満など、400nm未満などのより短い波長を持つ広帯域光源の場合に特に有利である。このような一実施形態において、フィルタを使ったパワーの増大は、励起レーザからなるスーパーコンティニウム光源適宜、光励起パワーを増大するために励起レーザ空洞の後に1つまたは複数の増幅器も備えるおよび光ファイバーなどの非線形媒質に対して特に有利である。光ファイバーは、典型的には、適宜1つまたは複数の空隙からなる実質的に純粋なシリカガラスの芯を持つ微細構造光ファイバーである。純粋なシリカガラスに例えばゲルマニウムを添加することも可能である。一実施形態において、ファイバーは、非線形ファイバーである。一実施形態において、スーパーコンティニウム光源は、米国特許第7,800,818号、米国特許第8,059,333号、米国特許第7,787,503号、および米国特許第8,064,128号のうちの1つまたは複数の発明による光源である。一実施形態において、スーパーコンティニウム光源は、これらの特許の請求項の1つまたは複数による光源である。一実施形態において、パワーの増大は、800nm以上など、950以上など、980nm以上など、1000nm以上など、1055nm以上など、1100nm以上など、1200nm以上など、1250nm以上など、励起光の波長が比較的長いときに、より短い波長に対して有利である。一実施形態において、フィルタを使った光の増大は、1800nm以上など、1900nm以上など、2000nm以上、2100nm以上など、2200nm以上など、2220nm以上の波長など、広帯域光源によって生成される長い波長に対して特に有利である。一実施形態において、このような長い波長は、この範囲内でシリカは高い吸収帯を有するのでシリカベースのファイバーの高いパワーでは生成するのが困難である。一実施形態において、これは、励起波長が、1200nm未満など、1100nm未満など、1300nm未満である場合に特に当てはまる。一実施形態において、上述のスーパーコンティニウム光源は、述べられている短い波長ならびに述べられている長い波長を生成するように配置構成される。音響光学的フィルタなどの、1つの偏光に対して著しい損失を有する同調可能フィルタからなるデバイスでは、広帯域光源からの他の方法だと非偏光のビームは、一実施形態では、偏光され、光パワーの損失の大きな割合を占める。これは、一実施形態では、例えば偏光ビームスプリッタを使用して入射ビームを第1の偏光と第2の偏光とに分割し、その後、第1の偏光を第1の同調可能フィルタに導くことによって克服される。一実施形態において、前記偏光ビームスプリッタ、前記2分の1波長板、および前記ミラーは、集積化された要素内に組み込まれる。一実施形態において、これは、フィルタを使用する際にコンポーネントの手作業による位置合わせが少なくて済む、頑強で使いやすい構成を実現できるという利点を有する。一実施形態において、第1および第2の同調可能な要素は、第1および第2のAOTFであり、前記制御ユニットは第1のRF信号を前記第1のAOTFに、第2のRF信号を前記第2のAOTFに供給する。一実施形態において、第1および第2のRF信号の個別の制御により、個別のフィルタに対して可能なものに比べて広い波長帯となる組み合わされた出力が得られる。一実施形態において、第1および第2のRF信号の個別の制御は、出力の高速な偏光スイッチングを行うための方法を提供する。これは、位相外れとなるように2つの同調可能フィルタを交互にオン、オフすることによって実現することが可能である。AOTFの設計は、当技術分野でよく知られている。AOTFのフィルタ関数は、フィルタ内に音波を発生するRF制御信号によって少なくとも部分的に決定され、フィルタは次いで共振波長を持つ光を回折して一次ビームとマイナスの一次ビームとに分け、それぞれ元のビームと比較して新しい方向を有する。典型的には、広帯域光源から光をフィルタリングするためのAOTFは、複数の波長を出力することに関して多目的性、安定性、および使いやすさなどの特性があるためダイレクトデジタルシンセサイザDDSからのRF信号を制御信号として利用する。したがって、一実施形態では、本明細書の同調可能フィルタ複数可は、DDSからのRF信号によって制御されるAOTFによって形成される。しかし、発明者らは、広帯域ビームをフィルタリングするためのAOTFのいくつかの用途に関して、電圧制御発振器VCOを適用して制御信号を得ることが好ましいことを発見した。したがって、一実施形態では、同調可能フィルタは、AOTFからなり、AOTFのフィルタ関数は、電圧制御発振器から供給されるRF信号によって制御される。一実施形態において、本明細書の同調可能フィルタ複数可は、VCOからのRF信号によって制御されるAOTFによって形成される。DDSと比較してVCOは雑音が少なくなるように配置構成されうる。RF信号中の雑音は、AOTFのフィルタ関数にも関わり、これは、一実施形態では、AOTFの帯域外抑制に影響する。帯域外抑制が問題となる用途の一例は、AOTFによってフィルタリングされた光をサンプルに照射したことに応答して蛍光がサンプルから測定される用途であるさらに、原理上、他の光をサンプルに照射することもできる。このようなシステムとしては、限定はしないが、蛍光顕微鏡、落射蛍光顕微鏡、STED顕微鏡、4π顕微鏡、SPDM局在顕微鏡SPDMlocalizationmicroscope、SMI顕微鏡、VerticoSMI顕微鏡、蛍光画像、および蛍光寿命画像顕微FLIMが挙げられる。特定のシステムにおいて、蛍光応答を測定するように配置構成された光子計数器を備える場合、VCOの適用の恩恵を受ける。蛍光応答、すなわち、サンプルから放射される光は、典型的には、照明光とは別の波長で放射される。蛍光応答と同じ波長の照明光は、螢光の測定に関するノイズフロアに寄与し、そのため一般的に弱い蛍光応答の検出を妨げる可能性がある。一実施形態において、広帯域光源の出力は、蛍光応答の波長帯に著しいスペクトル密度を有する。したがって、このような一実施形態では、サンプルを照射する広帯域光源からの光を選択するように配置構成された同調可能フィルタが高い帯域外抑制を有することが好ましいか、または必要ですらある。したがって、一実施形態において、本発明は、蛍光測定システムに関し、このシステムはa.広帯域ビームを供給するように配置構成された広帯域光源と、b.前記広帯域ビームの少なくとも一部をフィルタリングしてそれによりフィルタリングされた光を供給するように配置構成された第1の同調可能な要素と、c.制御信号を前記第1の同調可能な要素に供給するように配置構成された制御ユニットとからなり、前記第1の同調可能な要素は、音響光学的フィルタAOTFであり、前記AOTFへの前記制御信号は、前記AOTFが30dB以上など、35dB以上など、40dB以上など、45dB以上など、50dB以上など、55dB以上など、60dB以上など、25dB以上の帯域外抑制を行うように配置構成された電圧制御発振器VCOによって供給される音響RF信号である。好ましくは、AOTFおよびVCOは、一実施形態では、35dB以上、なおいっそう好ましくは40dB以上、なおいっそう好ましくは45dB以上、なおいっそう好ましくは50dB以上、なおいっそう好ましくは55dB以上、なおいっそう好ましくは60dB以上の帯域外抑制を行うように配置構成される。一実施形態において、蛍光測定システムは、d.前記AOTFによってフィルタリングされた光をサンプルに照射し、e.前記AOTFが前記帯域外抑制を行う波長帯において前記サンプルからの前記照射への蛍光応答を測定するように配置構成される。以下で説明されるように、蛍光染料の典型的な一群は、照射波長と放射との間に約10nmから100nm超までの範囲内の一定の間隔を有するが、この距離はそれより短いか、または長いことも可能である。したがって、一実施形態では、AOTFは、照射波長以上から5nm超など、照射波長以上から10nm超など、照射波長以上から15nm超など、照射波長以上から20nm超など、照射波長以上から30nm超など、照射波長以上から40nm超など、照射波長以上から1nm超広がる波長帯において帯域外抑制を行う。一実施形態において、この帯域外抑制は、照射波長以下から500nmなど、200nm以下など、150nm以下など、100nm以下など、75nm以下など、50nm以下など、25nm以下などの上限を有する。一実施形態において、AOTFは、回折されたビームのビーム経路が、前記AOTFに適用されるRF周波数とは無関係となるように配置構成される。一実施形態において、蛍光測定システムは、前記蛍光応答を時間の関数として測定するように配置構成される。一実施形態において、このようなシステムは、短い測定時間のせいで雑音に対する感度が高くなるためVCOの適用の恩恵を受ける。一実施形態において、複数のVCOからのRF信号は、制御信号と多重化され、これにより、AOTFは前記フィルタリングされた光で多重スペクトル線を出力することができる。以下で定義されているような帯域外抑制は、この場合、多重スペクトル線から離れた波長の光の抑制として定義される。AOTFへの制御信号は、典型的には、AOTFによって回折されるそれぞれの波長について実質的に単一周波数主周波数の信号である。それぞれの波長は、典型的には、複数の波長の帯域例えば、図20のピークAを参照として定義されるが、単一波長と称される。制御信号における雑音および側波帯は、典型的には、波長を主帯域の外側に偏向させる例えば、ピークA、すなわち、帯域外抑制を低減する。一実施形態において、AOTFへの制御信号は、25MHzから300MHzまでの範囲内など、25MHzから200MHzまでの範囲内など、10MHzから500MHzまでの範囲内にある。一実施形態において、単一のAOTFへの制御信号は、100MHz以下の狭さのサブバンドなど、80MHz以下の狭さのサブバンドなど、60MHz以下の狭さのサブバンドなど、50MHz以下の狭さのサブバンドなど、40MHz以下の狭さのサブバンドなど、30MHz以下の狭さのサブバンドなど、20MHz以下の狭さのサブバンドなど、10MHz以下の狭さのサブバンドなどの、上述の範囲のサブバンドと同調可能である。一実施形態において、単一のAOTFへの制御信号は、少なくとも10MHzのサブバンドなど、少なくとも20MHzのサブバンドなど、少なくとも40MHzのサブバンドなど、少なくとも60MHzのサブバンドなど、少なくとも80MHzのサブバンドなど、少なくとも100MHzのサブバンドなどの、上述の範囲のサブバンドと同調可能である。一実施形態において、狭い波長帯は低い帯域外雑音に対応する。一実施形態において、AOTFの帯域外抑制は、比較的高い振動数を持つVCOを適用し、その後、この周波数をAOTFに適した周波数に細分することによって改善される。したがって、実施形態では、VCOは、4倍以上など、8倍以上など、16倍以上など、AOTFへの制御信号の周波数の2倍以上の周波数で発振する。しかし、一実施形態では、制御信号は、VCOと同じ主周波数を有する。一実施形態において、発振周波数の細分は、帯域外位相雑音に効果を有する、すなわち制御信号の主周波数から遠い周波数での位相雑音が低減される。蛍光測定における帯域外抑制は、典型的には、照射波長から約20nm程度である。例えば、吸収波長すなわち、照射波長と放射波長帯との間の間隔が約10nmから100nm超までの範囲内であるが、典型的には20nm程度であるAlexaFluorファミリの蛍光染料を考える。一実施形態において、これは、AOTFへの制御信号の1MHzから50MHzまでの範囲内の変化に対応する。帯域外抑制は、放射波長において特に必要なので、制御信号の帯域外抑制は、したがって、一実施形態では、主周波数に関して2MHz以上など、主周波数に関して3MHz以上など、主周波数に関して4MHz以上など、主周波数に関して5MHz以上など、主周波数に関して7MHz以上など、主周波数に関して10MHz以上など、主周波数に関して20MHz以上など、主周波数に関して1MHzより高い周波数で測定される雑音密度として決定される。一実施形態において、AOTFの帯域外抑制は、少なくともAOTFのクロストークなどの問題が無視されるときに、制御信号の帯域外抑制とともに実質的に直線的に増大する。したがって、一実施形態では、制御信号は、AOTF以上の帯域外抑制を有する。一実施形態において、制御ユニットは、AOTFへ透過される前に光源例えば、DDSまたはVCOからのRF信号を増幅するように配置構成された増幅器からなる。この増幅器は、典型的には、信号に雑音を加えることになる。したがって、一実施形態では、VCOは、制御信号より高い3dB以上など、6dB以上など、9dB以上など、12dB以上など、15dB以上など、18dB以上などの、制御信号以上の帯域外抑制を有する。いくつかの用途では、出力波長を制御することが重要であり、VCOは、一実施形態では、DDSに比べてドリフトしがちであると思われる。一実施形態において、上で説明されているようなVCO制御AOTFは、本明細書で説明されている実施形態のどれかによるフィードバックシステムとともに実装され、これにより、AOTF出力、例えば図7にレイアウトされているようなフィードバックシステムを安定化させる。一実施形態において、VCOをロックし、固定周波数ステップを利用すると都合がよい。一実施形態において、安定化は、同調可能な減衰および/または同調可能な空間フィルタとして、例えば、フィードバックループの一部として適用されるLCDまたはDLPフィルタによってさらに、または代替的になされる。一実施形態において、スペクトルスプリッタまたは偏光ビームスプリッタのいずれかによって生成される2つのビームは、1つの同調可能な要素に誘導されて通される。これは、2つのビームが同じフィルタ関数によってフィルタリングされることが意図されているときに有利な場合がある。一実施形態において、フィルタは、ビーム経路に沿ったモニタ位置のところで前記ビームを監視するように配置構成された監視ユニットからなる。モニタ位置は、一実施形態では、前記同調可能な要素の後、および/または前記角度分散素子の後にある。一実施形態において、フィルタは、光パワーの数分の1を前記監視ユニットに向けるための反射体からなる。一実施形態において、モニタユニットは、ビームの光パワーおよび/またはビームのスペクトル特性を測定する。一実施形態において、モニタユニットは、ビームのN個の波長において光パワーの個別の測定を行う。数値Nは、一実施形態では、3、4、5、6、7、8、9、10、12、16、20またはそれ以上など、2以上である。一実施形態において、モニタは、前記制御ユニットにフィードバックを送るように配置構成される。制御ユニットは、一実施形態では、フィルタから出るフィルタリングされたビームを安定化させるような形で前記フィードバックに基づき同調可能な要素を制御するように配置構成される。フィルタリングされたビームは、一実施形態では、スペクトルプロファイルに関して安定化される。一実施形態において、フィルタリングされたビームは、前記N個の波長のうちのいくつかの波長における光パワーに関して安定化される。一実施形態において、フィードバックは、同調可能な減衰および/または同調可能な空間フィルタとして適用されるLCDまたはDLPを介してさらに、または代替的になされる。一実施形態において、フィルタリングされたビームは、フィルタリングされたビームにおける光パワーに関して安定化される。一実施形態において、t1は、約1ミリ秒未満など、約0.1ミリ秒未満など、約0.01ミリ秒未満など、約0.001ミリ秒未満など、約10ミリ秒未満である。第1のパラメータは、一実施形態では、スペクトル幅、一実施形態ではスペクトル幅にわたる光パワーの分布であるスペクトル形状、広帯域ビームの光パワー、光パワーの安定性、偏光、および広帯域ビーム内のピークの数の群から選択される。リニアバリアブルフィルタを使用して形成されるAOTFまたは帯域通過フィルタなどの同調可能フィルタは、波長の1つまたは複数の帯域もしくは線がこれらの帯域もしくは線の外の波長に関して実質的に損失なしでフィルタを通過するフィルタ関数を有する。本発明の議論において、損失とは、典型的には吸収されるか、またはビーム経路から離れる方向に反射されるビーム経路から失われる光を意味する。それぞれの帯域または線は、スペクトル幅Δλ、中心波長λc、中心波長、および最小損失の波長を有する。多くの場合、λcおよび最小損失の波長は、実質的に一致しているか、またはシルクハット形のフィルタ関数の場合、波長帯は、最小損失の波長と実質的に同じ損失を有する。フィルタ関数は、フィルタ関数の通過帯域を定義する半値全幅FWHM帯域幅をさらに有する。上記のように、帯域外抑制は、一実施形態では、同調可能フィルタによってフィルタリングされる光をサンプルに照射したことに応答してサンプルからの蛍光を測定する用途において問題となる。このような一実施形態において、帯域外抑制または単なる抑制は、フィルタの通過帯域内の最小損失に関して測定される蛍光応答の波長帯におけるフィルタの最小損失である。一実施形態において、帯域外抑制は、通過帯域からxnmを超えて離れる波長に対する最小損失として定義される。一実施形態において、xは、FWHM帯域幅の1倍以上など、1.5倍以上など、2倍以上など、3倍以上など、3.5倍以上など、0.5倍以上に等しい。一実施形態において、xは、10nm以上など、15nm以上など、それ以上など、20nm以上など、5nm以上である。一実施形態において、フィルタは、帯域の外では光を通過させることができる使用帯域幅全体を有する。したがって、帯域外抑制は、一実施形態では、この使用帯域幅の内側で評価される。一実施形態において、使用帯域幅は、フィルタの中心帯域幅から100nm以上までなど、200nm以上までなど、300nm以上までなど、400nm以上までなど、500nm以上までなど、50nm以上まで広がる。一実施形態において、フィルタ関数は、低い損失を有する中心ピークおよびより高い損失を有する一連のサイドピークを有する。AOTFは、そのようなフィルタ関数を表すことができるフィルタの一例である。図20は、約640nmで最小損失を有するAで指定されている主伝送ピークおよびサイドピークBからGを持つAOTFの例示的なフィルタ関数を示している。一実施形態において、帯域外抑制は、ピークA最小損失に関する第1のサイドピークすなわち、BまたはCの高さとして定義される。一実施形態において、帯域外抑制は、ピークA最小損失に関する第2のサイドピークすなわち、DまたはEの高さとして定義される。一実施形態において、帯域外抑制は、ピークA最小損失に関する第3のサイドピークすなわち、FまたはGの高さとして定義される。一実施形態において、フィルタは、例えば図16のフィルタ関数Cなどのシルクハット形フィルタ関数を有する。このような一実施形態において、帯域外抑制は、フィルタから離れる方向の平均損失に関する平均シルクハット形プラトーすなわち、図16の関数Cに対して約570nmから650nmまでとして定義されるすなわち、図16の関数Cに対して約550nmより下、670nmより上の波長。一実施形態において、帯域外抑制は、同調可能フィルタの代わりに互いの後に複数のフィルタを適用することによって改善される。したがって、一実施形態では、前記同調可能フィルタは、2つの同調可能フィルタからなる。一実施形態において、これら2つのフィルタのフィルタ関数は、フィルタの通過帯域内で、10以内であるなど、実質的に同一である。一実施形態において、2つの同調可能フィルタは、2つのAOTFであり、一方のAOTFは、他方のAOTFからフィルタリングされた光をフィルタリングするように配置構成される。この方法で、帯域外抑制は、倍にできるdBで。一実施形態において、RF制御信号は、2つまたはそれ以上のAOTFと実質的に同じである。一実施形態において、RF制御信号は、単一のVCOまたはDDSから分割される。一実施形態において、RF信号の複数の発信源が使用される。一実施形態において、2つまたはそれ以上のAOTFは、実質的に同じ関数を与えるように較正される。一実施形態において、RF制御信号は、したがって、AOTFフィルタが例えば生成の差により異なる場合に異なりうる。同様に、一実施形態では、2つの帯域通過フィルタを適用することができる。一実施形態において、異なるタイプの複数のフィルタを組み合わせてもよい。例えば、AOTFを帯域通過フィルタと組み合わせる。AOTFは、例えば、高い帯域外抑制を有する帯域通過フィルタの通過帯域の内側でその後同調されうる比較的狭い中心ピークを与えることができる。上で述べたように、フィルタは、その帯域の外ではフィルタが低損失となる動作帯域を有することができる。一実施形態において、複数のフィルタを適用して、動作帯域を広げる。例えば、帯域通過フィルタ以下で説明するは、図16の曲線Cの関数に似たフィルタ関数を有することができる。しかし、特定の波長図示せずより上および/または下で、損失はここでもまた低減されうる。一実施形態において、好適な遮断波長を持つさらなるローパスフィルタ短波長通過フィルタとも称されるをこれらの特定の波長より上のフィルタ波長に適用する。同様に、ハイパスフィルタ長波長通過フィルタとも称されるを帯域通過フィルタの動作帯域の外の低い波長に対して適用することができる。一実施形態において、制御ユニットは、前記中心波長が、前記入射広帯域ビームの波長帯の一部を通して走査されるように時間で変化する前記同調可能な要素に制御信号を送るように配置構成される。同調可能な要素は、一実施形態では、AOTFであり、前記制御ユニットは、一実施形態では、前記AOTFに例えば、DDSおよび/またはVCOを介してRF信号を供給するように配置構成され、RF信号の周波数は、前記中心波長が、前記入射広帯域ビームの波長帯の一部を通して走査されるように時間で変化する。同調可能な要素は、一実施形態では、AOTFであり、前記制御ユニットは、前記AOTFにRF信号を供給するように配置構成され、RF信号の周波数または振幅は、スペクトル幅が時間で変化するように時間で変化する。広帯域光源は、一実施形態では、スーパーコンティニウム光源、白色光源、SLED、エルビウムベースのASE光源などの能動素子ベースのASE光源、ランプ、およびフェムト秒レーザの群から選択される。一実施形態において、広帯域ビームは、少なくとも10μW/nmで少なくとも1オクターブに及ぶパワースペクトルを有する光ビームである。一実施形態において、広帯域ビームは、500μW/nm以上など、1μW/nm以上など、5μW/nm以上など、10μW/nm以上などの、少なくとも50μW/nmで少なくとも1オクターブに及ぶ。一実施形態において、広帯域ビームは、1.5オクターブ以上など、2オクターブ以上など、0.5オクターブ以上に及ぶ。一実施形態において、広帯域ビームは、半値全幅FWHMとして測定して少なくとも1オクターブに及ぶパワースペクトルを有する光ビームである。一実施形態において、広帯域は、励起光で非線形光学素子例えば、ファイバーを励起することで得られる。一実施形態において、FWHMは、そのパワースペクトルから残留励起光のパワースペクトルを減算した後に決定される。一実施形態において、広帯域ビームは、ws≧100nmなど、ws≧200nmなど、ws≧300nmなど、ws≧400nmなど、ws≧500nmなど、ws≧1000nmなど、ws≧1500nmなど、ws≧2000nmなど、ws≧2500nmなど、ws≧50nmとなるような幅wsを有するパワースペクトルSを有する光ビームである。このような一実施形態において、wsは、FWHMとして測定される。一実施形態において、FWHMは、そのパワースペクトルから残留励起光のパワースペクトルを減算した後に決定される。一実施形態において、広帯域ビームは、1つまたは複数の穴のあるパワースペクトルを示すことがあり、したがって、一実施形態では、スペクトルの範囲または幅は、パワースペクトルが上記の閾値を超える光パワーを示す波長の最も広い範囲として測定される。例えば、一実施形態では、パワースペクトルは、それぞれ10μW/nmを超える2000nm隔てて並ぶ2つのピークからなり、その場合、幅または範囲は2000nmに決定される。しかし、一実施形態では、スペクトルは、実質的に連続するスペクトルであり、したがって、その範囲または幅以内で、パワースペクトルは、幅または範囲の50超など、70超など、80超など、90超など、95超など、99超など、100など、30超の上記の閾値より高い。一実施形態において、本明細書の広帯域光源は、米国特許第7,800,818号、米国特許第8,059,333号、米国特許第7,787,503号、および米国特許第8,064,128号のうちの1つまたは複数の発明によるスーパーコンティニウム光源である。一実施形態において、スーパーコンティニウム光源は、これらの特許の請求項の1つまたは複数による光源である。一実施形態において、同調可能な要素はそれぞれ、音響光学的同調可能フィルタAOTFからなり、前記制御ユニットはRFドライバ例えば、DDSおよび/またはVCOからなり、前記スイッチはRFスイッチからなる。一実施形態において、システムは、RFドライバにどの音響光学的同調可能要素が接続されているかを感知するように配置構成された感知ユニットをさらに備える。一実施形態において、感知ユニットは、RF信号に関して少なくともDCのDC信号を検出するように配置構成された検出器からなる。あるいは、RF信号の帯域の外の高周波信号が、一実施形態では使用される。異なるタイプのAOTFクリスタルは、RF駆動周波数とフィルタリングされた波長回折された波長との間に異なる関係を有する。絶対的波長精度を改善するためには、この関係を知ることが有益である。同じタイプのクリスタルであっても、回折波長関係に対してわずかに異なる駆動周波数を有することがある。バッチのバラツキ、クリスタルへの入射角度、さらにはクリスタルの温度によって差が生じうる。RF駆動周波数と波長との関係は、多くの場合、クリスタルの温度の影響を受ける。この関係は、クリスタルの温度安定化によって固定されうる。あるいは、クリスタルの温度の影響を、例えばルックアップテーブルを使って、マッピングし、補正することができる。RFチェーンドライバ、伝送線路、およびクリスタルにおけるインピーダンス、およびRF電力/回折効率の線形性などの要因は、特定のRF駆動周波数/波長に対する最高の回折効率に到達するのに要するRF電力-これは最適なRF電力と称される-に一定の影響力を有する。最適なRF電力は、RF周波数の関数となっている。一実施形態において、これはマッピングすることができ、コンポーネントのその特定の組み合わせについて一定である。コンポーネントが置き換えられる場合-同等のコンポーネントに置き換えられる場合であっても、この関係は影響を受ける可能性がある。したがって、特定のシステムについて最適な回折効率に到達するために、RF周波数の関数としての最適なRF電力は、一実施形態では、パラメータセットの一部としてマッピングされるべきである。特定のクリスタルに対する最適なパラメータセットを知ることも、1つのシステム内で複数のクリスタルを同時に、または入れ替え可能に使用する例えば、後述のRFスイッチを使用するか、または単に一方のクリスタルから他方のクリスタルにRFケーブルを変えるだけでときに有利である。一実施形態において、クリスタルパラメータは、AOTFモジュールに保存することができるが、モジュールが2つ以上のクリスタルを含み、単一のRFドライバによって一度に1つずつ、RF信号をクリスタルのいずれかにルーティングすることによって制御される場合、制御ユニットが接続されるクリスタルを決定することができる。これを知る1方法は、システムにこの情報を手動入力することである。別の方法は、接続されるクリスタルを感知することである。追加の信号をRF伝送線路に追加することによって、どのクリスタルが接続されているかを決定することが可能である。一実施形態において、AOTFクリスタルの好適な動作パラメータは、メモリに格納される。可能な1実装では、感知信号は、RF伝送線路上のDCバイアス電位とすることが可能である。DC電位は、RFドライバもしくはクリスタルに影響を与えることなく追加し検出することができる。一実施形態において、感知信号のさらなる利点は、クリスタルが1つに接続されている場合にそれを感知することが可能であるという点である。これにより、接続されているクリスタルがないときにRF電力が印加された場合に生じるRFドライバの破壊を防ぐことも可能である。いくつかの用途では、単一のAOTFの制限された帯域幅により、いくつかの相補的なAOTFを単一のシステムに含めることが魅力的なものとなる例えば図1を参照。一実施形態において、例えば可視光線出力と赤外線出力が同時に必要でない場合に複数のクリスタルを一度に動作させる必要はない。RF信号を所望のAOTFのクリスタルに切り替えることによって、複数のクリスタルに対して単一のRFドライバでの実装が可能になり、コスト低減につながる。単純な実装では、これは、RF信号を所望のクリスタルに手動でルーティングすることによって行うことができる。このアプローチを使用する場合には誤差の危険性があり、またあまり使い勝手はよくない。またこのアプローチは高度に自動化された設定にも向かない。電子制御RFスイッチを導入し、信号ルーティングを電子的に行うようにすることで、この問題が回避される。RFスイッチは、例えば、メーコンテクノロジーソリューションズMaconTechnologySolutionsのMASW-007587ミニサーキッツMiniCircuitsのHSWA2-30DRチャータエンジニアリング社CharterEngineering,Inc.のL1SERIES、DPDTTRANSFER、DC-26.5GHzとすることが可能である。2つ以上のクリスタルが同時に制御される場合、2つ以上のRFドライバでこれを行うことが可能である。あるいは、信号が分割され、個別のクリスタルにRF電力分配器を使用してルーティングされる場合に単一のドライバを使用して行うこともできる。このアプローチの利点は、システムが簡素化され、コストが軽減される点である。分割は、例えば、図9および図10の構成などの構成において適用することが可能である。1実装形態では、2つまたはそれ以上のクリスタルに対するRF駆動周波数と波長との関係は、入射角を変えることによって個別のクリスタルに対する関係を調整してマッチさせることができる。1実装形態では、2つのクリスタルのRF駆動周波数と波長との関係は、クリスタルの温度を制御することによってマッチさせることができる。RF電力分配器は、例えば、パステルナークエンタープライズPasternakEnterprisesの2~500MHzのBNCメス出力分割器とすることが可能である。本発明は、好ましい実施形態に関連して、図面を参照しつつ、以下でさらに詳しく説明される。これらの図は概略図であり、明確にするため簡略化されている場合がある。本明細書全体を通して、同じ参照番号は、同一のまたは対応する部分に対して使用される。本発明のさらなる適用可能範囲は、以下で述べる詳細な説明から明らかになるであろう。しかし、詳細な説明および具体例は、本発明の好ましい実施形態を示しているが、本発明の精神と範囲のうちにあるさまざまな変更形態および修正形態は当業者にとってはこの詳細な説明から明らかであるので、例示のみで与えられていることを理解されたい。さらに、本発明の範囲は、2つの特徴が明らかに相互排他的でない限り、一方の実施形態からの特徴を別の実施形態の特徴と組み合わせることもあることに留意されたい。図1aは、従来技術による2つの同調可能な出力波長10を持つ従来技術の光源を示している。これは、電子制御部2を備える広帯域光源1からなる。広帯域光源の出力は、スペクトルスプリッタ3に送られ、その後、これら2つの出力は、2つの同調可能フィルタ4、7に送られる。同調可能フィルタは、波長および/または出力パワーを変化させるように電子的に制御される6。それぞれの同調可能フィルタは、複数の波長を同時に放射することが可能である。さらに、フィルタの透過は、それぞれの波長で独立して設定することが可能である。同調可能フィルタからの2つの出力は、ファイバー送出システム5、8内に適宜結合され、前記ファイバー送出システムは、平行光学系からなる。図1bは、同調可能フィルタ4に使用される電子制御部6の従来技術の概略図である。PC11は、信号を直接デジタル合成DDSRFドライバ12に送り、そこで、これを同調可能フィルタ4に供給されるRF変調駆動電流に変換する。図2は、従来技術における光スペクトルの測定結果を示しており、Aは広帯域光源1の直後にあり、BおよびCはスペクトルスプリッタ3から2つの出力アームのところにある。図は、国際出願第2009/095023A2号から抜粋した図である。この例では、分割は、ダイクロイックミラーで実行され、低い波長部分はスペクトルBに反射され、高い波長部分はスペクトルCへ透過される。中間波長帯が存在し20、そこでは光が両方の出力スペクトルに分割される。図3は、時間の関数としてスペクトルスプリッタ3からの2つの出力アームのところの光パワーの測定結果を示す従来技術。ここでAは、赤外線による出力のパワーであり、Bは、可視光線による出力のパワーである。図4は、同調可能フィルタ4の後の光パワーの測定結果を示している。この例では、これは1つの出力波長のみを放射するように設定される従来技術。一実施形態において、同調可能フィルタは、AOTFであり、これはRFドライバによって駆動される。ここで、複数の波長を同時に放射することが可能である。しかし、これらの波長は、RF信号中のビーティングを回避するために出力の少なく3dBの帯域幅で隔てられるべきである。図5aは、本発明の一実施形態による同調可能広帯域フィルタを示す。広帯域光源1の出力は、ミラー50および分散素子51に向けられる。ミラーおよび/または角度分散素子は、これら2つの素子間の回転を可能にする、電子制御部6に接続される。システムは、適宜、同調可能減衰フィルタ52および/または同調可能空間フィルタ53も備えることができる。光は、レンズ系54によってコリメートされ、空間フィルタとしても機能する、ファイバー5によって集光される。システムは、光の大半を出力56に送り、光のわずかな部分を検出器システム57に送る広帯域スプリッタ55を適宜備えることが可能である。前記検出器システムは、ここでもまた広帯域光源1および/またはミラー50に接続され、出力パワーを安定化する、電子制御システム6に接続される。一実施形態において、ファイバーは、単一モードファイバーおよび/またはエンドレスな単一モードファイバーである。一実施形態において、コリメーティングレンズ系54およびファイバー5は、ファイバー送出システム内で組み合わされる。一実施形態において、コリメーティングレンズ系54は、複数のレンズからなる。一実施形態において、ミラー50は、ダイクロイックミラーであり、これは、システム上の熱負荷を制限するため望ましくない波長帯を分離する。一実施形態において、角度分散素子51の前に少なくとも1つの追加のミラーがある。一実施形態において、これらのミラーのうちの1つは、中心波長と出力パワーの両方を制御できるように2つの垂直な方向に回転させることが可能である。角度分散素子51は、くさび、角柱、または光を分散させる他の光学素子からなるものとしてよい。一実施形態において、フィルタリングシステムはOCTに使用される。図5bは、広帯域光源Aからの、本発明による同調可能広帯域フィルタBの後のスペクトルを示す。フィルタからの出力は、広帯域光源からのスペクトルが使用される波長帯内で平坦でないとしても、ガウス分布に似た形状を有することが観察される。図5cは、本発明による同調可能広帯域フィルタAの後のスペクトルおよびこのスペクトルへのガウス関数によるフィッティングBを示す。このスペクトルは、広帯域光源から発せられる、1060nmの光のスパイクからなる。一実施形態において、このスパイクは、角度分散素子の後に空間フィルタ53を使用することによって除去される。図6は、本発明の一実施形態による2つの同調可能な広帯域スペクトル出力を含める方法を示す。広帯域光源1の出力は、スペクトルの低い波長部分と高い波長部分とを分離する、ダイクロイックミラーに向けられる。これらの出力はそれぞれ、図5に説明されているようにフィルタリングされる。この2つの出力スペクトルは、電子制御部6を通じて独立して同調可能であり、これにより、2つのミラーと角度分散素子との間の回転が可能になる。最後に、これら2つの出力は、66で組み合わされて単一の出力67を形成する。コンバイナ66は、ファイバーWDMなどの波長多重化装置、またはダイクロイックミラーまたは他の波長依存フィルタからなるものとしてよい。一実施形態において、システムはデュアルバンドOCTに使用される。図7は、本発明の一実施形態による複数の波長で出力を同時安定化するための方法を示す。広帯域光源1の出力は、そのスペクトルから1つまたは複数の波長を透過する、同調可能フィルタ4に向けられる。これらの波長は、広帯域スプリッタ70に送られる。スプリッタは、光の大半を出力71に送る。しかし、この光のわずか部分は、同調可能フィルタ6の制御部に接続されている、波長依存検出器72に向けられる。この例では、コントローラは、フィードバックループが形成され、それぞれの波長におけるフィルタの透過がこの波長における測定されたパワーを一定に維持するように変化させられるようにプログラムされる。一実施形態において、波長依存検出器は、例えば、オーシャンオプティカルOceanOpticsのUSB2000などのスペクトロメータである。本発明の文脈において、波長依存検出器は、検出器がスペクトロメータなどの、1組の波長もしくは波長帯に対して実質的に別々の測定を行うことを意味することを意図されている。一実施形態において、安定化は、同調可能な減衰および/または同調可能な空間フィルタとして、例えば、フィードバックループの一部として適用されるLCDまたはDLPフィルタによってさらに、または代替的になされる。一実施形態において、フィードバックは、単一の、もしくは少数の光波長に基づく。このような一実施形態において、スプリッタ70は、必ずしも広帯域ではなく、および/または検出器72は、波長依存ではない。一実施形態において、波長依存検出器72は、同調可能フィルタ4の上流に配置され、そのため、これは検出器72によって検出された信号において同調可能フィルタの伝達関数を含んでいた。このような一実施形態において、フィードフォワード信号は、フィルタ4からの出力を安定化させるために検出器72の出力に基づき同調可能フィルタ4へ透過される。前の説明から、同調可能フィルタ72は、本明細書において説明されている同調可能フィルタのどれかであってよいことは明らかである。一実施形態において、広帯域スプリッタ70の機能は、別の光機能も有する光学的コンポーネントから得られることが好ましい。一実施形態において、このようなコンポーネントは、レンズもしくは別の透過性コンポーネントであり、検出器に向けられるわずかな部分は、コンポーネントの表面からの残留反射である。一実施形態において、前記残留反射は、無誘導セクションから前記透過光学的コンポーネントへの遷移から生じ、一実施形態において、前記残留反射は、前記透過光学的コンポーネントから前記無誘導セクションへの遷移から生じる。本発明により、フィードバックループは、他の何らかの方法では光損失および/または光学収差を持ち込む可能性のある追加の光学的コンポーネントを導入することなく実装されうる。別の機能を有する光学的コンポーネントを使用するこのアプローチは、本明細書のフィードバックもしくはフィードフォワードループのどれかで例えば55の広帯域スプリッタとして実装されうる。広帯域光源においてフィードバックに残留光を使用することについては、本願明細書に援用する係属中の米国特許出願第2010/0329292号でさらに説明されている。一実施形態において、光のわずかな部分が、検出器に向けられ、多モード光ファイバーなどの光ファイバーによって誘導される。一実施形態において、顕微鏡などの、広帯域光源システムからの光を利用する光学系内でフィードバック信号を収集することが好ましい。この方法では、加えられる光におけるスペクトル分布および/またはパワーレベルの変化は、光源内で補正されうる。本明細書の文脈では、広帯域光源システムは光源1であり、適宜同調可能フィルタと組み合わされ、別の光学系で使用する出力ビームを供給する。一実施形態において、図1、図5a、図6~図10、図13~図15、図17~図19に示されている構成のうちの1つまたは複数は、広帯域光源システムを構成する。一実施形態において、広帯域スプリッタ70または残留光を供給するコンポーネントは、広帯域光源の後に置かれる。一実施形態において、検出器72は、広帯域光源からの光を利用するシステム内に同様に配置され、電気信号が光源システムにフィードバックされる。しかし、一実施形態では、検出器は、広帯域光源とともに配置され、光のわずかな部分が、光源システムに、例えば、デュアルyケーブルを介して戻される。一実施形態において、光源システムからの出力を利用するシステムのところで、またはシステム内で光のわずかな部分を集光することによってフィードバックループを形成するこの方法は、本明細書において説明されているフィードバックループのどれかにおいて適用可能である。図8は、同調可能フィルタの後の出力パワーを増大する方法を示す。典型的には、同調可能フィルタは、例えば、フィルタがAOTFである場合に、1つの偏光における光にのみ機能する。そのため、望ましくない偏光におけるすべての光は排除される。この問題を回避するために、広帯域光源1からの光を偏光ビームスプリッタPBS80に送る。第1の偏光は、PBS80によって透過されて同調可能フィルタ4に送られ、ミラー81によって反射され、第2のPBS85によって反射され、出力86に送られる。第2の偏光は、PBS80によってミラー82上に反射され、その後、2分の1波長板83を通り、第1のビームの偏光と同じになるように偏光を90°変える。その後、これは、第1の偏光と同じ同調可能フィルタ4を通り、別の2分の1波長板84を通って送られ、第2のPBS85を透過する。最後に、これは、第2のPBS81内の第1の偏光と組み合わされる。実際、これは、従来の解決策に比べて広い作動領域を持つ同調可能フィルタを製作することを必要とする可能性がある。一実施形態において、同調可能フィルタの作動領域は、10mmである。一実施形態において、PBSは、グランプリズムからなる。一実施形態において、PBS80、ミラー82、および2分の1波長板83は、単一のコンポーネントに一体化される。両方の偏光に対して同じフィルタを使用することによって、単一の偏光のみを使用することに関して実質的にすべての波長が2倍になるように実質的に同じフィルタ関数が適用される。図9は、同調可能フィルタの後の高速な偏光スイッチングおよび出力パワーの増大を可能にする方法を示す。この設定は、現在、第2の偏光は第2の同調可能フィルタ90を通して送られるという点を除き、図8に類似している。同調可能フィルタは両方とも、電子制御システム6によって制御される。しかし、制御システムは、2つの同調可能フィルタへの制御信号が独立した信号となるように構成される。一実施形態において、2つの同調可能フィルタは、実質的に同じ波長応答を有し、例えば、これらのフィルタは、類似の機能を実行し、および/または同じタイプから離れて実行するように較正される。この構成の別の利点は、2つの同調可能フィルタから出力をインタリーブすることによって、フィルタの後に帯域幅を増やすことが可能であるという点である。一方および/または両方のフィルタへの制御信号を調節することによって、それぞれのフィルタの出力の大きさは、一実施形態では、調節可能である。このような一実施形態において、一方または両方のフィルタは、AOTFであり、出力効率は前記フィルタへの制御信号の振幅を介して調節することができる。これらのフィルタからの出力の大きさを調節することによって、出力偏光を操作することができる。一実施形態において、偏光スイッチングは、フィルタをそれぞれオン、オフすることによって実現される。このような一実施形態において、出力86がサンプルの複屈折測定において適用され、これにより、サンプルを、制御可能な偏光特性を有するビームで調べることができる。図10は、同調可能フィルタの後の高速な偏光スイッチングおよび出力パワーの増大を可能にする別の方法を示す。この設定は、2分の1波長板が取り外され、その代わりに、第2の同調可能フィルタが90°回転される100ことを除き、図9に類似している。図11aは、図10による光源およびフィルタを使用した実験の結果を示している。曲線Aは、広帯域光源1に対するスペクトルであり、Bは、同調可能フィルタ4のうちの1つの後のスペクトルであり、Cは、2つの同調可能フィルタからの出力86が組み合わされた後のスペクトルである。図11bは、2つの同調可能フィルタ4、100からの出力の後のAおよびB出力、さらにはこれら2つを組み合わせて得られる出力Cを示す。曲線のそれぞれの点は、図11に示されているものに似た測定結果を表す。図12は、2つの同調可能フィルタ4、100の後のAおよびB出力、さらにはAB組み合わされた出力を示す。この例では、2つの同調可能フィルタからの出力は、特にずらされ、したがって組み合わされた出力は、個別のフィルタからの出力より広い。AおよびBにおける光は、異なる偏光を有する。図13は、光源の出力を2つの同調可能な出力10と組み合わせるための方法を示す。第1の同調可能フィルタ4からの出力は、ミラー130によって反射され、2分の1波長板131を通して送られる。その後、これは偏光ビームスプリッタ132内の第2の同調可能フィルタ7からの出力と組み合わされる。2つのフィルタ4、7は異なるスペクトル帯域幅を有するので、組み合わされた出力133は、非常に広い範囲にわたって同調可能なものとなる。それに加えて、両方の同調可能フィルタを中間波長域20で動作させることが可能であり、光は両方の出力アームに分割される。これら2つの出力を組み合わせることによって、この波長域内でパワーを増大することが可能である。1代替的実施形態では、組み合わせビームスプリッタ132は、スペクトルスプリッタ、例えばフィルタ4、7からビームを組み合わせるように配置構成されたダイクロイックミラーによって置き換えられ、したがって、フィルタからの出力の異なるスペクトル範囲を利用してこの組み合わせを実行する。前記実施形態の1つにおいて、2つのフィルタ4、7、90、100は制御信号がVCOによって制御されるAOTFである。偏光スプリッタまたはスペクトルスプリッタのいずれかを使用してこれらのビームを組み合わせることによって、単一ビームの線の数を増やすことができる。図14は、同調可能フィルタ4に使用される電子制御部6の概略図を示している。PC11は、信号をDA基板140に送り、その後、電圧制御発振器VCORFドライバ141内に送り込み、そこで、これを、RF信号をブーストするように配置構成された増幅器を介して適宜、同調可能フィルタ4に供給されるRF変調器駆動電流に変換する。一実施形態において、周波数は掃引される。一実施形態において、この掃引は、ハイパースペクトル測定のための広帯域出力の高速合成に利用される。一実施形態において、掃引は、任意のスペクトルを合成するために使用される。一実施形態において、前記任意のスペクトルはガウス関数である。図15は、透過スペクトルがフィルタ上の位置とともに変化する、可変フィルタを使用して出力をフィルタリングするための方法を示す。広帯域光源1からの出力は、可変長波通過フィルタ150すなわち、ハイパスフィルタおよび可変短波通過フィルタ151すなわち、出力へのローパスフィルタによってフィルタリングされる。両方の可変フィルタが、電子制御部6に接続され、これにより、フィルタを移動して透過スペクトルを変化させることができる。一実施形態において、ビームは、最初に可変長波通過フィルタによって透過し、その後可変短波通過フィルタによって透過する。一実施形態において、前記可変フィルタは、リニアバリアブルフィルタである。リニアバリアブルフィルタは、例えば、デンマークの会社であるデルタライトアンドオプティクスDeltaLightandOptics[デンマーク、ホルショルムHorsholm所在]から入手することができる。一実施形態において、可変長波通過フィルタまたは可変短波通過フィルタのいずれかが省かれる。一実施形態において、前記リニアバリアブルフィルタは、15dB以上など、20dB以上など、30dB以上など、40dB以上など、50dB以上など、60dB以上など、10dB以上の帯域外抑制を有する。一実施形態において、このようなリニアバリアブルフィルタの利点は、帯域外抑制が高いことである。用途によっては、例えば、蛍光測定/顕微鏡では、蛍光信号を検出できるようにするために、高い帯域外抑制が好ましいか、または必要ですらある。一実施形態において、帯域外抑制は、上記のVCOの適用に関して説明されているように定義される。図16は、2つの可変フィルタで広帯域光源をフィルタリングすることによって得られる測定されたスペクトルを示す。ここで、Aは、広帯域光源からのスペクトルであり、Bは、フィルタの1つの設定によって最適化されるスペクトルであり、Cは、フィルタの別の設定によって得られるスペクトルである。図17は、可変フィルタを使用して2つの同調可能なスペクトル出力を得る方法を示す。図15のように、広帯域光源1からの出力は、可変長波通過フィルタ150および出力152への可変短波通過フィルタ151によってフィルタリングされる。それに加えて、可変長波通過フィルタからの反射ビームを利用する。前記第2のビームは、ミラー170によって反射され、可変フィルタ150および151を通して送られる。しかし、前記第2のビームは、第1のビームと異なる位置を横切るため、異なるフィルタ特性が得られる。そこで、第2の出力172は、第1の出力152と異なる波長を含む。一実施形態において、長波通過フィルタ150での前記第2のビームの反射を利用して、第3のビームを形成し、このビームも、前記可変フィルタ150、151によってフィルタリングされる。図18は、図17からの2つの同調可能なスペクトル出力を組み合わせる方法を示す。図17のように、2つのビームが異なる位置で可変フィルタ150、151を通過している。さらに、第2のビームは、第2のミラー180によって反射され、第2の可変短波通過フィルタ181における第1のビームと多重化され、前記第2の短波通過フィルタの透過スペクトルは、第1の短波通過フィルタ150の透過スペクトルとマッチするように電気的に制御される。図19は、スーパーコンティニウム光源の寿命を延長する方法を示す。これは、SEEDレーザ190、増幅器チェーン191、192、および非線形ファイバー193からなる。このチェーン内の最後増幅器は、外部制御部193に接続されている、電子制御部6によって制御される。外部制御部は、最後の増幅器への高電流と低電流との間の高速スイッチングを可能にし、これにより、非線形ファイバーに入力パワーを送る。一実施形態において、外部制御部は、スーパーコンティニウム光源と一体化される。一実施形態において、外部制御部は、トリガー信号を最後の増幅器に送出し、これにより、電流は高から低に、または低から高に変化する。トリガー信号は、原理上、第2の増幅器の増幅を制御するように構成される好適な信号とすることができる。一実施形態において、可変減衰器またはスイッチング可能ビームブロックは、増幅器192の出力とファイバー193との間に配置構成され、これにより、ファイバーに送出されるパワーを制御する。用途によっては、高出力パワーは常時必要というわけではないが、ターンオン時間が短いことが重要である。このような一実施形態では、本明細書で説明されている広帯域光源の顕微鏡または別の用途に使用されるような、スーパーコンティニウム光源またはシステム組み込み光源は、スーパーコンティニウム光源の最後の増幅器192が高増幅度をもたらす動作モードを有するということができる。これらの用途では、外部制御オプションにより、ユーザは、必要な場合に光を得ることができ、したがって、システムの利用できる時間数が増える。一実施形態において、システムの寿命は、非線形ファイバーの寿命によって制限され、非線形ファイバーの寿命は、前記ファイバーへの入力パワーに伴って減少する。一実施形態において、前記減少速度は、最初に、比較的低いが、非線形ファイバーへの入力パワーに伴って増加する。従来技術国際公開第2009/024490号では、外部制御機能を使用することで、ユーザは、高速な立ち上がり時間で最後の増幅器192のオン、オフを切り替えることができる。しかし、最後の増幅器をオフ状態からオン状態に切り替えると、システム内に著しい熱的変化が生じるおそれがあり、このため、安定性が一時的に低下し、最後の増幅器192をオンにして100ms経過した後、10~20程度変動をファイバーからの出力にもたらす。一実施形態において、ファイバーの寿命は、ファイバーへの励起光を例えば、20またはそれよりもっと小さい値まで低減することによって著しく延びる。本発明による一実施形態では、外部制御部は、最後の増幅器を完全にオフにしないが、増幅器に増幅の低減を行わせる。この場合、スーパーコンティニウム光源またはシステム組み込み光源は、スーパーコンティニウム光源の最後の増幅器が動作モードにおける増幅に関して低い増幅度を与える低パワーモードを有すると言うことができる。一実施形態において、前記低電流は、高電流の75程度など、高電流の50程度など、高電流の25程度など、高電流の10程度などである。一実施形態において、外部制御部は、最後の増幅器に最後の増幅器の増幅度を下げさせる。一実施形態において、前記増幅度は、動作中の増幅度の90以下など、85以下など、80以下など、75以下など、70以下など、60以下など、50以下など、40以下など、30以下など、20以下など、10以下など、95以下である。したがって、一実施形態では、本発明は、上で説明されているようなスーパーコンティニウム光源およびシステム内のその光源の使用に関し、スーパーコンティニウム光源は、少なくとも上述の動作および低パワーモードを有する。一実施形態において、低パワーモードの適用により、動作モードに切り換えてから100ms後に5未満で安定した出力が得られる。一実施形態において、出力は、3未満など、2未満など、1.5未満など、1未満など、0.5未満など、4未満で安定する。一実施形態において、これらの安定性測定値は、400から450nmなど、600から700nmなど、または400から700nmなどの波長帯の範囲内で測定される。一実施形態において、これらの安定性測定は、動作モードにおいて比較的長い運転時間の後に存在する光源の残っている不安定性に関して不安定性を加えられる。長い時間は、一実施形態では、2分を超えるなど、5分を超えるなど、10分を超えるなど、30分を超えるなど、1時間を超えるなど、1分を超える。本発明は、独立請求項複数可の特徴によって定められる。好ましい実施形態は、従属請求項において定められる。請求項中の参照番号は、その範囲に関して非制限的であることが意図されている。いくつかの好ましい実施形態が前の説明で示されているが、本発明は、それらに限定されず、特許請求の範囲において定められている主題の範囲内にある他の方法でも具現化されうることに留意されたい。例1:広帯域の同調可能なスペクトルを形成するためのシステムは図5に示されているように製作された。広帯域光源は、エヌケーティーフォトニクスNKTPhotonicsのSuperKCompactである。それに加えて、以下のコンポーネントを使用した。波長を得るために、角度分散素子を回す前にミラーを回した。標準角度は、典型的には、1度未満であった。その結果得られる中心波長の変化を、スネルの法則を使用することによって計算することができる。例2:同調可能フィルタの後の高速な偏光スイッチングおよび出力パワーの増大を可能にする方法は、図10に示されているように構成された。広帯域光源は、エヌケーティーフォトニクスNKTPhotonicsのSuperKCompactである。それに加えて、以下のコンポーネントを使用した。本発明の実施形態は、以下の項目群に従ってさらに明確に指示される。1.入射広帯域ビームをフィルタリングするためのフィルタであって、広帯域ビームは前記フィルタを通してビーム経路を画成し、前記フィルタは、前記ビーム経路の第1の部分に沿って入射広帯域ビームを誘導するように配置構成されたビーム誘導光学系と、前記広帯域ビームの前記第1の部分が、ある入射角で前記角度分散素子の第1の表面上に入射するように配置構成され、これにより、広帯域ビームの異なる波長の光は、異なる角度で前記角度分散素子から出て、角度分散ビームを形成するように配置構成された角度分散素子と、前記角度分散素子の後に配置構成され、前記角度分散ビームの少なくとも一部をビーム経路に沿った第1の位置のスポットに集束するように配置構成される組みレンズと、導光部分、および導光部分が前記スポット内に集束するビームの少なくとも一部を集光するように前記第1の位置に配置構成された端面からなる光導波路とからなるフィルタ。2.前記スポット内の角度分散ビームは、前記入射角度分散ビームの1つの波長帯内の光のみが前記導光部分によって集光され、前記1つの波長帯の外の波長の光はフィルタリングで除去されるように導光部分の断面直径より大きい断面直径を有する項目1に記載のフィルタ。3.前記第1の位置は、実質的に前記組みレンズの焦点面内にある項目1または2に記載のフィルタ。4.前記第1の位置は、前記組みレンズの焦点面からオフセットされた平面にある項目1または2に記載のフィルタ。5.1つの波長帯は、スペクトル幅Δλおよび中心波長λcを持つスペクトル形状を有する項目2から4のいずれか1項に記載のフィルタ。6.前記ビーム誘導光学系は、ビーム経路の前記第1の部分に沿って前記広帯域ビームを誘導するように配置構成された少なくとも1つの反射素子からなる項目1から5のいずれか1項に記載のフィルタ。7.前記反射素子は、ミラーからなる項目6に記載のフィルタ。8.前記ミラーのうちの少なくとも1つはダイクロイックミラーである項目7に記載のフィルタ。9.反射素子および/または角度分散素子は、これらの素子間のビーム経路の部分に関して回転可能であるように配置構成される項目6から8のいずれか1項に記載のフィルタ。10.中心波長に関して同調可能である項目1から9のいずれか1項に記載のフィルタ。11.前記スポットおよび前記端面は、前記中心波長が同調されるような形で互いに関して移動されうる項目1から10のいずれか1項に記載のフィルタ。12.前記角度分散素子に関する前記ビーム経路の前記第1の部分の入射角は、前記中心波長が同調されるように変更されうる項目1から11のいずれか1項に記載のフィルタ。13.前記入射角は、前記ビーム経路の前記第1の部分に関して前記角度分散素子を回転することによって変更される項目12に記載のフィルタ。14.反射素子は、前記ビーム経路の第1の部分が変更されるように、また前記入射角が変化するように回転可能である項目1から13のいずれか1項に記載のフィルタ。15.角度分散素子およびビーム誘導光学系の相対的配向を制御するように配置構成された制御ユニットからなる項目1から14のいずれか1項に記載のフィルタ。16.フィルタリングされた広帯域ビームのスペクトル幅は、約20nmから約700nmまでの範囲など、約30nmから約500nmまでの範囲など、約50nmから約400nmまでの範囲など、約10nmから約1000nmまでの範囲内である項目1から15のいずれか1項に記載のフィルタ。17.フィルタリングされた広帯域ビームの中心波長は、約500nmから約1500nmまでの範囲など、約400nmから約2000nmまでの範囲内である項目1から16のいずれか1項に記載のフィルタ。18.組みレンズとファイバー端面との間の距離は、前記ファイバー端面におけるスポットの断面寸法が変化し、フィルタリングされた広帯域ビームのスペクトル幅が同調されるように変更されうる項目1から17のいずれか1項に記載のフィルタ。19.前記スポットにおける光の波長が変化する前記スポットの寸法は、その寸法に沿った導光部分の断面寸法より大きい項目1から18のいずれか1項に記載のフィルタ。20.前記角度分散素子は、くさび、または角柱、および回折素子の群から選択される項目1から19のいずれか1項に記載のフィルタ。21.前記光導波路は、光ファイバーである項目1から20のいずれか1項に記載のフィルタ。22.前記光ファイバーは、単一モード光ファイバーである項目21に記載のフィルタ。23.前記光ファイバーは、微細構造エンドレス単一モード光ファイバーである項目21に記載のフィルタ。24.空間フィルタ素子は、好ましくは前記角度分散素子と前記組みレンズとの間の、前記ビーム経路内に配置構成される項目1から23のいずれか1項に記載のフィルタ。25.前記スペクトル形状は、ガウス分布、ローレンツ分布、ベッセル分布、フォークト分布、または超ガウス分布の群から選択される項目1から24のいずれか1項に記載のフィルタ。26.ビーム経路に沿った第1の位置のところで前記ビームを監視するように配置構成された監視ユニットからなる項目1から25のいずれか1項に記載のフィルタ。27.前記第1の位置は、前記光導波路の後である項目26に記載のフィルタ。28.ビームの光パワーの数分の1を前記監視ユニットに向けるための反射体からなる項目26または27に記載のフィルタ。29.前記モニタユニットは、ビームのスペクトル特性を測定する項目26から28のいずれか1項に記載のフィルタ。30.前記モニタユニットは、ビームの光パワーを測定する項目26から29のいずれか1項に記載のフィルタ。31.前記モニタは、前記制御ユニットにフィードバックを送るように配置構成される項目26から30のいずれか1項に記載のフィルタ。32.前記制御ユニットは、前記フィルタリングされた広帯域ビームを安定化するような方法で前記フィードバックに基づき前記ビーム経路の前記第1の部分および前記角度分散素子の相対的配向を制御するように配置構成される項目31に記載のフィルタ。33.フィルタリングされた広帯域ビームは、スペクトルプロファイルに関して安定化される項目32に記載のフィルタ。34.フィルタリングされた広帯域ビームは、光パワーに関して安定化される項目32または33に記載のフィルタ。35.前記フィルタリングされた広帯域ビームは、約0.5秒未満など、約0.1秒未満など、約0.05秒未満など、約0.01秒未満など、約0.005秒未満など、約0.001秒未満など、約0.1ミリ秒未満など、約1秒未満で安定化される項目32から34のいずれか1項に記載のフィルタ。36.反射素子の前に配置構成されたスペクトルスプリッタからなり、前記スペクトルスプリッタは、入射広帯域ビームを光がより高い波長帯の波長を有する1つのビームと、光がより低い波長帯の波長を有する1つのビームとに分割するように配置構成される項目1から35のいずれか1項に記載のフィルタ。37.項目1から35のいずれか1項に記載の第1および第2のフィルタからなる、入射広帯域ビームを修正するためのデバイスであって、前記デバイスは入射広帯域ビームを一方のビームがより高い波長帯にある波長の光を有し、他方のビームがより低い波長帯にある波長の光を有する2つのビームに分割するためフィルタの前に配置構成されたスペクトルスプリッタからなり、これら2つのビームのうちの一方は第1のフィルタ内に導かれ、これら2つのビームのうちの他方は第2のフィルタ内に導かれる、デバイス。38.第1のフィルタおよび第2のフィルタから出るフィルタリングされたビームを組み合わせるように配置構成されたスペクトルコンバイナをさらに備える項目37に記載のデバイス。39.前記コンバイナは、第1のフィルタおよび第2のフィルタから出るフィルタリングされたビームを組み合わせるように配置構成されたダイクロイックミラーまたはリニアバリアブルフィルタからなる項目38に記載のデバイス。40.前記コンバイナは、第1のフィルタおよび第2のフィルタから出るフィルタリングされたビームを組み合わせるように配置構成された波長分割多重化装置からなる項目38に記載のデバイス。41.入射広帯域ビームをフィルタリングしてデュアルバンドOCTシステムに対する信号を形成するように配置構成される項目37から40のいずれか1項に記載のデバイス。42.入射広帯域ビームをフィルタリングし少なくとも第1のパラメータに関して前記ビームを修正するためのフィルタであって、前記第1のパラメータに関して広帯域ビームを修正するように配置構成される第1の同調可能な要素と、t1より短い時間スケールで前記広帯域ビームの修正を制御する前記第1の同調可能な要素に制御信号を供給するように配置構成される制御ユニットとからなるフィルタ。43.前記第1の同調可能な要素は、刺激に応答して屈折率を変化させるように配置構成された要素からなる項目42に記載のフィルタ。44.前記刺激は、音響信号もしくは電気信号である項目43に記載のフィルタ。45.前記刺激は、電気信号であり、前記第1の同調可能な要素は、電気光学的同調可能フィルタからなる項目44に記載のフィルタ。46.前記刺激は、音響信号であり、前記第1の同調可能な要素は、音響光学的同調可能フィルタAOTFからなる項目44に記載のフィルタ。47.前記AOTFは、無線周波RF発振器によって駆動される項目46に記載のフィルタ。48.第2の同調可能な要素からなる項目42から47のいずれか1項に記載のフィルタ。49.第3の同調可能な要素および適宜第4の同調可能な要素をさらに備える項目48に記載のフィルタ。50.第1の同調可能な要素の前に配置構成されたスペクトルスプリッタからなり、前記スペクトルスプリッタは入射広帯域ビームを光がより高い波長帯の波長を有する1つのビームと、光がより低い波長帯の波長を有する1つのビームとに分割するように配置構成される項目42から49のいずれか1項に記載のフィルタ。51.入射広帯域ビームをフィルタリングし少なくとも第1のパラメータに関して前記ビームを修正するためのフィルタであって、前記広帯域ビームの少なくとも一部に配置構成された第1の同調可能な要素と、制御信号を前記第1の同調可能な要素に供給するように配置構成された制御ユニットと、第1の同調可能な要素の前に配置構成された偏光ビームスプリッタとからなり、前記偏光ビームスプリッタは偏光ビームスプリッタ上に入射した広帯域ビームを第1の偏光を有する1つのビームと第2の偏光を有する1つのビームとに分割するように配置構成される、フィルタ。52.第1の偏光を有する前記ビームおよび第2の偏光を有する前記ビームは、同じ同調可能な要素内に導かれる項目51に記載のフィルタ。53.前記ビームは、1つの同調可能な要素内に導かれる第1の偏光を有し、前記ビームは別の同調可能な要素内に導かれる第2の偏光を有する項目51に記載のフィルタ。54.項目1から41のいずれか1項に記載の特徴複数可をさらに備える項目51から53のいずれか1項に記載のフィルタ。55.前記スペクトルスプリッタは、前記入射広帯域ビームが前記スペクトルスプリッタによって第1のビームと第2のビームとに分割され、その後第1のビームおよび第2のビームのそれぞれが異なる偏光を有する2つのビームに分割され、4つのビームを生成するように前記偏光スプリッタのうちの2つの前に配置構成される項目50から54のいずれか1項に記載のフィルタ。56.生成された4つのビームは、4つの異なる同調可能な要素を通して誘導される項目55に記載のフィルタ。57.前記4つの異なる同調可能な要素のそれぞれは、前記制御ユニットのうちの1つまたは複数によって制御される項目56に記載のフィルタ。58.入射広帯域ビームを分割することによって生成されるビームは、再び、前記同調可能フィルタの後で組み合わされ、フィルタリングされた広帯域ビームを形成する項目50から57のいずれか1項に記載のフィルタ。59.偏光ビームスプリッタは、分割されたビームを組み合わせるように配置構成される項目58に記載のフィルタ。60.第1の偏光を有する1つのビームおよび/または第2の偏光を有する1つのビームの偏光を回転するように前記偏光ビームスプリッタの後に配置構成された少なくとも1つの第1の2分の1波長板からなる項目51から59のいずれか1項に記載のフィルタ。61.前記2分の1波長板は、同調可能な要素の前に配置構成される項目60に記載のフィルタ。62.前記第2の2分の1波長板は、同調可能な要素の後に配置構成される項目60または61に記載のフィルタ。63.前記偏光ビームスプリッタ、前記2分の1波長板、および前記ミラーは、集積化された要素内に組み合わされる項目51から62のいずれか1項に記載のフィルタ。64.前記第1および第2の同調可能な要素は、第1および第2のAOTFであり、前記制御ユニットは第1のRF信号を前記第1のAOTFに、第2のRF信号を前記第2のAOTFに供給する項目48から63のいずれか1項に記載のフィルタ。65.第1および第2のRF信号の個別の制御により、フィルタリングされたビームの偏光を制御する項目64に記載のフィルタ。66.前記制御ユニットは、電圧制御発振器からなる項目42から65のいずれか1項に記載のフィルタ。67.スペクトルスプリッタまたは偏光ビームスプリッタのいずれかによって生成される2つのビームは、1つの同調可能な要素を通して誘導される項目50から66のいずれか1項に記載のフィルタ。68.ビーム経路に沿ったモニタ位置のところで前記ビームを監視するように配置構成された監視ユニットからなる項目42から67のいずれか1項に記載のフィルタ。69.前記モニタ位置は、前記同調可能な要素の後である項目68に記載のフィルタ。70.光パワーの数分の1を前記監視ユニットに向けるための反射体からなる項目68または69に記載のフィルタ。71.前記モニタユニットは、ビームのスペクトル特性を測定する項目68から70のいずれか1項に記載のフィルタ。72.前記モニタユニットは、ビームのN個の波長において光パワーの個別の測定を行う項目68から71のいずれか1項に記載のフィルタ。73.数値Nは、3、4、5、6、7、8、9、10、12、16、20またはそれ以上など、2以上である項目72に記載のフィルタ。74.前記モニタユニットは、ビームの光パワーを測定する項目68から73のいずれか1項に記載のフィルタ。75.前記モニタは、前記制御ユニットにフィードバックを送るように配置構成される項目68から74のいずれか1項に記載のフィルタ。76.前記制御ユニットは、フィルタから出るフィルタリングされたビームを安定化させるような形で前記フィードバックに基づき同調可能な要素を制御するように配置構成される項目75に記載のフィルタ。77.フィルタリングされたビームは、スペクトルプロファイルに関して安定化される項目76に記載のフィルタ。78.フィルタリングされたビームは、前記N個の波長のうちのいくつかにおいて光パワーに関して安定化される項目76または77に記載のフィルタ。79.フィルタリングされたビームは、フィルタリングされたビームの光パワーに関して安定化される項目76から78のいずれか1項に記載のフィルタ。80.t1は、約1ミリ秒未満など、約0.1ミリ秒未満など、約0.01ミリ秒未満など、約0.001ミリ秒未満など、約10ミリ秒未満である項目42から79のいずれか1項に記載のフィルタ。81.前記第1のパラメータは、スペクトル幅、スペクトル形状、広帯域ビームの光パワー、光パワーの安定性、偏光、および広帯域ビーム内のピークの数の群から選択される項目42から80のいずれか1項に記載のフィルタ。82.前記同調可能な要素は、スペクトル幅Δλを有する1つの波長帯の外にある光が抑制され、中心波長λcの周りに配置構成されるように前記広帯域ビームをフィルタリングする項目42から81のいずれか1項に記載のフィルタ。83.スペクトル幅Δλは、20nm未満である項目82に記載のフィルタ。84.中心波長λcは、約400nmから約2600nmまでの範囲内である項目82または83に記載のフィルタ。85.前記制御ユニットは、前記中心波長が、前記入射広帯域ビームの波長帯の一部を通して走査されるように時間で変化する前記同調可能な要素に制御信号を送るように配置構成される項目42から84のいずれか1項に記載のフィルタ。86.前記同調可能な要素は、AOTFであり、前記制御ユニットは、RF信号を前記AOTFに供給するように配置構成され、RF信号の周波数は、前記中心波長が、前記入射広帯域ビームの波長帯の一部を通して走査されるように時間で変化する項目85に記載のフィルタ。87.前記同調可能な要素は、AOTFであり、前記制御ユニットは、RF信号を前記AOTFに供給するように配置構成され、RF信号の周波数または振幅は、スペクトル幅が時間で変化するように時間で変化する項目85または86に記載のフィルタ。88.RF信号の振幅および周波数により、フィルタからのフィルタリングされたビームの波長および光パワーを制御し、これにより、時間間隔Δtにわたって波長帯の光はフィルタから放射され、波長帯上の光パワー分布は第1のプロファイルを有する項目85から87のいずれか1項に記載のフィルタ。89.前記第1の分布は、ガウス分布、ローレンツ分布、ベッセル分布、フォークト分布、または超ガウス分布の群から選択される項目88に記載のフィルタ。90.前記同調可能な要素は、付属の請求項のいずれかに記載のAOTFおよびVCOからなる項目1から項目89のいずれか1項に記載のフィルタまたはデバイス。91.広帯域ビームをフィルタリングするためのシステムであって、広帯域ビームを供給する広帯域光源と、項目42~90のいずれか1項に記載の、前記広帯域光源からビームを修正するように配置構成されたフィルタとからなる、システム。92.広帯域光源は、スーパーコンティニウム光源、SLED、エルビウムベースのASE光源などの能動素子ベースのASE光源の群から選択される項目91に記載のシステム。93.デュアルバンドOCTシステムであって、広帯域ビームを供給する広帯域光源と、項目37から41のいずれか1項に記載の、前記広帯域光源から広帯域ビームをフィルタリングしてデュアルバンド信号を供給するように配置構成されたデバイスとからなるデュアルバンドOCTシステム。94.OCTシステムであって、広帯域ビームを供給する広帯域光源と、項目1から36および42から90のいずれか1項に記載の、前記広帯域光源から広帯域ビームをフィルタリングしてOCTシステムに適したフィルタリングされた広帯域ビームを供給するように配置構成されたフィルタとからなるOCTシステム。95.広帯域光源からの信号をフィルタリングするための項目1から36および42から90のいずれか1項に記載のフィルタの使用。96.フィルタから出るフィルタリングされたビームまたはそこからの光は、光コヒーレンストモグラフィ用のシステム内の光源として使用される項目95に記載の使用。97.フィルタから出るフィルタリングされたビームまたはそこからの光は、白色光干渉法用のシステム内の光源として使用される項目95に記載の使用。98.1つの広帯域ビームを1つまたは複数のサブビームに分割するためのシステムであって、項目48-1から36および42から90のいずれか1項に記載の2つ以上の同調可能な要素と、別々の時間間隔で前記同調可能な要素のうちの少なくとも2つを制御するように配置構成されたコントローラと、2つの同調可能な要素間で制御ユニットの制御を切り替えるためのスイッチとからなるシステム。99.前記同調可能な要素はそれぞれ、音響光学的同調可能フィルタAOTFからなり、前記制御ユニットはRFドライバからなり、前記スイッチはRFスイッチからなる項目98に記載のシステム。100.RFドライバにどの同調可能要素が接続されているかを感知するように配置構成された感知ユニットをさらに備える項目98または99に記載のシステム。101.前記感知ユニットは、DC信号を検出するように配置構成された検出器からなる項目100に記載のシステム。102.広帯域ビームを1つまたは複数のサブビームに分割するためのシステムであって、項目48~90のいずれか1項に記載の2つ以上の同調可能な要素と、別々の時間間隔で前記同調可能な要素のうちの少なくとも2つを制御するように配置構成されたコントローラと、同調可能な要素間でRF信号を分割するためのRFスプリッタとからなるシステム。本発明の実施形態は、付属する請求項群によってさらに明確に指示される。したがって、本発明の実施形態は、付属の請求項群の特徴のうちのいずれかをさらに備える前記項目のいずれかに記載のフィルタまたはデバイスをさらに備える。"