眼科用レーザー装置であって、前面と背面を構成する圧平部品を有するインターフェース装置と結合可能であり、所定の形状を有し、レーザービームを前記圧平部品を通して焦点に集束させることに適合した光学部品と、前記前面から反射するスプリアス反射と、前記背面から反射する標準反射とを重畳した像を検出することに適合した検出部品と、前記重畳した像から、前記スプリアス反射を数値的に取り除き、残存した前記標準反射に基づいて前記レーザービームの前記焦点深度を決定することに適合した処理装置とを含むものであることを特徴とする眼科用レーザー装置。前記眼科用レーザー装置は、前記レーザービームの少なくとも一部を覆うマスクを含み、前記光学部品は、前記所定の形状を作り出すために前記マスクを通る前記レーザービームを集束することに適合したものであることを特徴とする請求項1に記載の眼科用レーザー装置。前記スプリアス反射を取り除くための処理装置は、前記重畳した像と所定の参照パターンとを畳み込んで補助像を作り出し、前記補助像を評価して最高強度を有する最大点を確認し、前記最大点の位置に基づいて前記参照パターンの位置を変更し、前記重畳した像を、前記位置を変更した参照パターンで乗算して、前記標準反射を作り出すことに適合したものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の眼科用レーザー装置。前記参照パターンは、中心点を含み、前記処理装置は、前記中心点及び前記最大点の前記位置が重なるように前記参照パターンの位置を変更することに適合したものであることを特徴とする請求項3に記載の眼科用レーザー装置。前記重畳した像と前記参照パターンとの前記畳み込みは、周波数領域における乗算として行われるものであることを特徴とする請求項3に記載の眼科用レーザー装置。前記処理装置は、前記重畳した像にフーリエ変換を適用し、前記フーリエ変換された重畳した像を、前記参照パターンのフーリエ変換で乗算して、変換された補助像を作り出し、前記変換された補助像を、逆フーリエ変換して、前記補助像を作り出すものであることを特徴とする請求項3に記載の眼科用レーザー装置。前記圧平部品は、反射を最小化する被覆が施されていないものであることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の眼科用レーザー装置。前記圧平部品の前記背面は、診察される眼球に当接することに適合したものであることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の眼科用レーザー装置。レーザーシステムであって、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の眼科用レーザー装置と、前記眼科用レーザー装置に結合可能であり、前記眼科用レーザー装置により生じるレーザービームに対して透明及び/又は半透明である圧平部品を有するインターフェース装置とを有し、前記圧平部品は、前面と背面を構成するものであることを特徴とするレーザーシステム。眼科用レーザー装置により提供されるレーザービームの焦点深度を決定するための方法であって、所定の形状を有し、前面及び背面を構成する圧平部品を通ってレーザービームを焦点に集束させる工程と、前記前面から反射するスプリアス反射と、前記背面から反射する標準反射とを重畳した像を検出する工程と、前記重畳した像から、前記スプリアス反射を数値的に取り除く工程と、残存した前記標準反射に基づいて前記レーザービームの前記焦点深度を決定する工程とを含むことを特徴とする方法。前記スプリアス反射を取り除く工程は、前記重畳した像と所定の参照パターンとを畳み込んで補助像を作り出すこと、前記補助像を評価して最高強度を有する最大点を確認すること、前記最大点の位置に基づいて前記参照パターンの位置を変更すること、及び前記重畳した像を、前記位置を変更した参照パターンで乗算して、前記標準反射を作り出すことを含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。前記畳み込む工程は、前記重畳した像にフーリエ変換を適用し、前記フーリエ変換された重畳した像を、前記参照パターンのフーリエ変換で乗算して、変換された補助像を作り出し、前記変換された補助像を、逆フーリエ変換して、前記補助像を作り出すことを含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。プログラムコードを有するコンピュータプログラムであって、コンピュータ又は処理装置にロードされた時、あるいは、コンピュータ又は処理装置で作動する時、請求項10から請求項12のいずれか1項に記載の方法を、コンピュータ又は処理装置に実行させるものであることを特徴とするコンピュータプログラム。請求項13に記載のコンピュータプログラムを含む、プログラム記憶装置又はコンピュータプログラム製品。しかしながら、このような高透過性の被覆は非常に高価であるため、圧平部品の前面が反射を最小化する高透過性の層で覆われていないときでも機能するレーザービームの正確な焦点深度を決定する方法を見つけることが望ましいとされる。この課題を、独立項の内容により解決する。有利な実施形態を、従属項により定義する。眼科用レーザー装置の第1の態様は、請求項1に記載されている。インターフェース装置は、レーザー装置に結合可能であり、レーザー装置により生じるレーザービームに透明及び/又は半透明であってもよい圧平部品を有する。圧平部品は、前面及び背面を有する。レーザー装置は、所定の形状を有し、レーザービームを圧平部品を通して、焦点に集束させることに適した光学部品を備える。さらに、レーザー装置は、前面から反射するスプリアス反射と、背面から反射する標準反射とを重畳した像を検出することに適合した検出部品を備える。レーザー装置は、重畳した像から、スプリアス反射を数値的に取り除き、残存した標準反射に基づいてレーザービームの焦点深度を決定することに適合した処理装置も備える。反射を最小化する被覆が、圧平部品の前面に施されていないときでも、第1の態様における眼科用レーザー装置により、レーザービームの焦点深度を正確に決定することができる。第1の態様の一実施形態において、眼科用レーザー装置は、レーザービームの少なくとも一部を覆うマスクを含んでもよい。この場合、光学部品は、所定の形状を作り出すためにマスクを通るレーザービームを集束することに適合してもよい。この実施形態において、レーザービームの焦点深度を決定に正確な結果を提供することに適合した適切なマスクを、選択することができる。第1の態様の更なる実施形態において、スプリアス反射を取り除くための処理装置は、重畳した像と所定の参照パターンとを畳み込んで補助像を作り出すことに適合してもよい。処理装置は、次に、補助像を評価して最高強度を有する最大点を確認することに適合してもよい。最後に、処理装置は、最大点の位置に基づいて参照パターンの位置を変更し、重畳した像を、位置を変更した参照パターンで乗算して、標準反射を作り出すことに適合してもよい。この実施形態によれば、標準反射の中心点を決定することができ、この情報に基づいて、スプリアス反射を排除することができる。前述の実施形態を改良したものとして、参照パターンは、中心点を含んでもよく、処理装置は、中心点及び最大点の位置が重なるように参照パターンの位置を変更することに適合してもよい。この実施形態において、標準反射が位置してもよい点を確認することができるため、スプリアス反射を排除するとき、いずれの標準反射も消去されないということが保証される。加えて、又は、その代わりに、重畳した像と参照パターンとの畳み込みは、周波数領域における乗算として行われてもよい。この実施形態を改良したものとして、処理装置は、重畳した像にフーリエ変換を適用することに適合してもよい。処理装置は、その後、フーリエ変換された重畳した像を、参照パターンのフーリエ変換で乗算して、変換された補助像を作り出すことに適合してもよい。最後に、変換された補助像を、逆フーリエ変換して、補助像を作り出すことに適合してもよい。これにより、空間領域において畳み込みを行うことが計算的に非常に高価になり得る一方、重畳した像を畳み込むための計算を、より速く行うことができる。第1の態様の更なる実施形態において、圧平部品は、反射を最小化する被覆が施されていなくてもよい。上述の2つの実施形態のどちらにおいても、圧平部品の背面は、診察される眼球に当接することに適合してもよい。これにより、光学部品と眼球の表面との間の距離を、決定手順の工程を通して一定に保つことができるため、焦点深度を、全体を通して正確に測定するということが保証される。第2の態様は、第1の態様又は第1の態様の実施形態の一つのレーザー装置を有するレーザーシステムである。レーザーシステムは、レーザー装置に結合可能であり、レーザー装置により生じるレーザービームに対して透明及び/又は半透明である圧平部品を有するインターフェース装置をさらに有する。圧平部品は、前面と背面を構成する。第3の態様は、ここに記載するように、レーザー装置により提供されるレーザービームの焦点深度を決定するための方法である。この方法の第1工程において、所定の形状を有するレーザービームは、圧平部品を通って焦点に集束される。圧平部品は、前面と背面を有する。圧平部品は、透明及び/又は半透明の圧平部品であってもよい、すなわち、レーザービームに対して透明及び/又は半透明であってもよい。第2工程において、重畳した像が検出される。重畳した像は、前面から反射するスプリアス反射と、背面から反射する標準反射とを重畳したものである。第3工程において、スプリアス反射は、重畳した像から数値的に取り除かれるフィルタリングされる。最終工程において、残存した標準反射に基づいてレーザービームの焦点深度が決定される。第3の態様の方法により、圧平部品の前面に反射を最小化する被覆が施されていないときも、レーザービームの焦点深度を正確に決定することができる。第3の態様の実施形態において、スプリアス反射を取り除く工程は、重畳した像と所定の参照パターンとを畳み込んで補助像を作り出すこと、補助像を評価して最高強度を有する最大点を確認すること、最大点の位置に基づいて参照パターンの位置を変更すること、及び、重畳した像を、位置を変更した参照パターンで乗算して、標準反射を作り出すことを含んでもよい。この実施形態において、標準反射の中心点を決定することができ、この情報に基づいて、スプリアス反射を排除することができる。この実施形態において、畳み込む工程は、重畳した像にフーリエ変換を適用し、フーリエ変換された重畳した像を、参照パターンのフーリエ変換で乗算して、変換された補助像を作り出し、変換された補助像を、逆フーリエ変換して、補助像を作り出すことを含んでもよい。空間領域において畳み込みを行うことが計算的に非常に高価になり得る一方、これにより、重畳した像を畳み込むための計算を、より速く行うことができる。第4の態様は、プログラムコードを有するコンピュータプログラムであって、コンピュータ又は処理装置にロードされた時、あるいは、コンピュータ又は処理装置で作動する時、ここに記載の方法の態様のいずれかを、コンピュータ又は処理装置に実行させるものである。コンピュータプログラムは、プログラム記憶装置又はコンピュータプログラム製品に備えられてもよい。上記において、演算フーリエ変換は、例えば高速フーリエ変換FFTのようないかなる離散フーリエ変換をも表す。しかしながら、空間信号を周波数領域に変換することに適したいかなる計算方法も、フーリエ変換として表される場所において用いてもよい。レーザー装置、レーザーシステム、その対応する方法及びコンピュータプログラムは、眼科学に関して、ここに記載されている。しかしながら、レーザー装置、レーザーシステム、その対応する方法及びコンピュータプログラムを、皮膚科学又は材料加工のような異なる技術分野において用いることも考えられる。図1は、眼球16内の焦点位置でレーザービーム14を焦束するためのレーザーシステム10を示す。レーザーシステムには、レーザー源12が具備されている。レーザー源12は、例えば、レーザー発振器例えば固体レーザー発振器、発振器から発されるレーザーパルスのパルス電力を増加させると同時にレーザーパルスを時間的に伸ばすプリアンプ、所望の度合まで繰り返し周波数を下げるために発振器の予め増幅されたレーザーパルスから個々のレーザーパルスを選択する後続のパルスピッカー、選択され時間的に伸ばされたパルスを適用するために必要なパルスエネルギーまで増幅させる電力増幅器、及び電力増幅器から出力されるパルスを適用するために望ましいパルス持続時間まで時間的に圧縮するパルス圧縮器を含むことができる。レーザー源12は、パルスレーザー光線14を生成する。放射パルスのパルス持続時間は、診断するために、あるいは、治療される患者の眼球16の角膜組織に切開を形成するために、反射した光信号を生成するように選択される。レーザービーム14の放射パルスは、ナノ秒、ピコ秒、フェムト秒、又はアト秒範囲のパルス持続時間を有する。レーザー源12により生じるレーザービーム14は、適用するのに望ましいパルス繰り返し周波数をさらに有する。レーザー装置10から発して眼球16に向かう放射パルスの繰り返し周波数は、レーザー源12の出力で生じる放射パルスの繰り返し周波数に対応する。あるいは、必要であれば眼球16のための所定の切開プロファイルにより、レーザービーム14の放射路に配置された光スイッチ18は、レーザー源12から発した放射パルスの一部分をなくす。したがって、このようになくされた放射パルスは、眼球16に達しない。パルス変調器とも呼ばれる光スイッチ18は、例えば、音響光学変調器又は電気光学変調器という形をとってもよい。通常、光スイッチ18は、個々のレーザーパルスを速やかになくすことを可能にする任意の光学的な能動素子を含んでもよい。光スイッチ18は、例えば、なくなる放射パルスを吸収するためのビームトラップを含んでもよい。光スイッチ18は、レーザービーム14の放射パルスの通常の光路からなくなるこのような放射パルスを曲折させ、ビームトラップへ導くことができる。レーザービーム14の光路に配置される更なる光学部品は、zコントローラ22及びx-yコントローラ24を含む。zコントローラ22は、レーザービーム14の焦点の長手方向の位置を制御し、一方、x-yコントローラ24は、焦点の横方向の位置を制御する。眼球16におけるx-y-z方向を表す座標軸を、説明するために図1に示す。この文脈において、用語長手方向は、従来においてz方向として示されるビームの伝播方向を表す。同様に、横方向は、従来においてx-y平面として示されるレーザービーム14の伝播方向に対して直角の方向を表す。レーザービーム14の横方向の屈折を成し遂げるために、x-yコントローラ24は、例えば、相互に垂直な軸周りに傾くことができてガルバノメーターの機構により作動する一対のスキャナミラーを含んでもよい。zコントローラ22は、例えば、長手方向に調節可能なレンズ、又は可変的な屈折力のレンズ、又は変形可能なミラーを含んでもよく、それにより、レーザービーム14の拡散及びビーム焦点のz位置を制御することができる。このように調節可能なレンズ又はミラーは、レーザー源12から発するレーザービーム14を拡張するビーム拡張器に含まれてもよい。ビーム拡張器は、例えば、ガリレオ望遠鏡として構成されてもよい。第1の実施形態のレーザー装置には、レーザービーム14の光路に配置され光学部品26としても表される集光対物レンズが具備されている。光学部品26は、特に角膜内で、レーザービーム14を眼球16上の、又は、中の所望の場所に集束させることに役立つ。集束光学部品26は、fθ対物レンズでもよい。光スイッチ18、zコントローラ22、x-yコントローラ24、及び集光対物レンズ26を、図1において表す順序で配置する必要はない。例えば、光スイッチ18を、一般性を失うことなく、zコントローラ22の下流の光路に配置してもよい。望ましければ、x-yコントローラ24及びzコントローラ22を結合して、単一構造の装置を形成してもよい。図1に示される構成要素の順序及びグループ化を、決して限定として理解しないこととする。圧平部品30は、眼球16の角膜への当接インターフェースを、集光対物レンズ26のビーム出力側に構成する。圧平部品30は、レーザー放射に対して透明及び/又は少なくとも半透明である。圧平部品30は、眼球の方を向いた背面32に、眼球16の角膜への当接面を含む。圧平部品30は、眼球の表面の反対側である上側に、反射を最小化する被覆が施されていない前面36を含む。例示の場合において、背面32は、平らな表面として実現される。背面32は、圧平部品30が適切な圧力で眼球16と接触して配置されるとき、あるいは、角膜が負圧により背面32に吸引されるとき、角膜を平らにする。図1に示すように、眼球16は、圧平部品30の平らな背面32を圧迫している。平面が平行な設計の場合に通常圧平プレートとして示される圧平部品30は、円錐形に広がるキャリアスリーブ34のより狭い方の端に取り付けられる。圧平部品30とキャリアスリーブ34との接続は、例えば接着により永続的でもよく、あるいは、例えばねじ連結により着脱可能でもよい。キャリアスリーブ34及び圧平部品30の両方として機能する単一の光学射出成形部を使用することも、考えられる。詳細に示されていないが、キャリアスリーブ34は、図面において上端部の、より広いスリーブ端で結合構造を備えている。結合構造は、キャリアスリーブ34を集光対物レンズ26に結合することに適している。レーザーシステム10は、像を収集し、その像を制御コンピュータ38に転送することに適している検出部品42、例えばカメラを含む。レーザー源12、光スイッチ18、検出部品42、及び2台のスキャナ22、24は、メモリに格納された制御プログラムに従って作動する制御コンピュータ38により、制御される。制御プログラムは、角膜内に、水晶体内に、あるいは、接点部品30を圧迫している眼球16の他の位置に、レーザービーム14のビーム焦点の位置を決定し、制御するために、制御コンピュータ38により実行される指示プログラムコードを含む。レーザーシステム10は、ユーザが命令を制御コンピュータ38に入力することができるように、制御コンピュータ38に接続しているインターフェースモジュール図示されていないを含むこともできる。インターフェースモジュールは、ユーザが、レーザーシステム10の構成要素についてステータス情報、及び/又は、検出部品42により集められたデータを見ることができるように、スクリーン又はモニタを含んでもよい。図2に、レーザー装置を形成するレーザーシステム10の部分を、更に詳細に示す。マスク40は、集光対物レンズ26と圧平部品30との間のレーザービーム14の経路に、設けられている。マスク40は、レーザービーム14の光を通さない材料で形成される。マスク40は、レーザービーム14全体を実質的に覆うために必要な大きさになっている。四角のマスク40が示されているが、正多角形又は不規則な多角形あるいは円のような、凸形状も考えられる。図3に、マスク40の平面図を示す。マスク40は、中心開口部43及び一つ以上の外側開口部44を有し、開口部43、44は、レーザービーム14から光を通過させることに適合している。外側開口部44は、中心開口部43から等しい距離Dの間隔で各々配置される。距離Dは、レーザービーム14の直径の半分より短いため、レーザービーム14の外縁部からの光は外側開口部44を通過する。外側開口部44は、中心開口部43に集中している仮想の円周に均一に分布してもよいが、仮想の円周に不均一に分布することも考えられる。図4に、光のビーム14が圧平部品30に向かう際の圧平部品30の透過/反射特性を例示する。光が圧平部品30の前面36に達するとき、大部分の光は同じ方向を目指し続けるが、一部の光は反射し、スプリアス反射14bを形成する。従来の技術においては、スプリアス反射14bを抑制するために、圧平部品30の前面36上の反射を最小化する被覆が提供される。しかしながら、本実施形態においては、前面36は、反射を最小化する被覆を含まないため、前面36に入射する光は、結果としてスプリアス反射14bになる。その後、レーザービーム14の残りの光は、圧平部品30を通過して圧平部品の背面32に達する。ここで再度、一部の光は、反射して標準反射14aを形成する。標準反射14a及びスプリアス反射14bからの反射光は、出力された像の形で検出部品42により集められる。従来のシステムにおいては、背面36に反射を最小化する被覆を施しているため、出力された像は、標準反射14aのみからなっていた。図3に示されるマスク40を使用する場合、図6に示される像と類似の反射が生じるだろう。図6に示される像は、中心開口部43を通過した光の標準反射14aを表している明るい中心点、及び外側開口部44を通過した光の標準反射14aを表している外側の4つの明るい点からなる。中心位置と外側位置との間の距離に基づいて、レーザービーム14の焦点深度を算出することができる。本実施形態において、図3に示されるマスク40を使用するとき、図7で示される反射が生じる。像は、スプリアス反射14bと重畳された標準反射14aからなる。スプリアス反射14bにおける点の構成は、マスク40の開口部43、44で決定される標準反射14aの点の構成と類似している。しかしながら、スプリアス反射14bの点は、標準反射14aの点より低い強度を有する。スプリアス反射14bの点は、標準反射14aの点よりさらに広く分散している。最後に、スプリアス反射14bは、像に記録されるいくらかの外側の点に関してのみ、不完全である可能性がある。従って、レーザービーム14の焦点深度を計算するために、図7の重畳された像は、フィルタリングしなければならず、スプリアス反射14bは除去される。それにより、レーザービーム14の焦点深度を、標準反射14aに基づいて計算することができる。図5は、一実施形態において、重畳された像、例えば図7に示される像をフィルタリングするための工程を例示する。第1工程において、参照パターン54を、マスク40のパターンに基づいて決定する。図8に示すように、参照パターン54は、特定のマスク40の標準反射14aの一部として、レーザービーム14のあり得る全ての焦点深度で生じる点の位置の重ね合せからなる。図9に示すように、変換された参照パターン56を作り出すために、参照パターン54にフーリエ変換を実行する。参照パターン54の決定及び変換された参照パターン56の計算は、システム10が使用される前に、一度だけ実行されてもよく、変換された参照パターン56を制御コンピュータ38のメモリに保存してもよい。このように、これらの操作を、各フィルタリング操作の間、繰り返す必要はない。その代わりに、マスク40に対応する変換された参照パターン56は、メモリから単に検索されてもよい。第1工程の操作を、制御コンピュータ38により実行してもよく、あるいは、外部プロセッサにより実行してもよく、その結果は制御コンピュータ38のメモリにロードされる。残りの工程は、制御コンピュータ38により実行される。第1工程の前に、後に、又は同時に、実行してもよい第2工程において、図7に示される重畳した像50は、変換された重畳した像52を作り出すために、フーリエ変換される。第3工程において、図10に示すように、変換された補助像58を作り出すために、変換された重畳した像52を、変換された参照パターン56で乗算する。第4工程において、図11に示すように、変換された補助像58を、逆フーリエ変換し、更なる補助像60を作り出す。補助像60は、参照パターン54と重畳された像50の畳み込みを表す。第5工程において、図11において矢印で示す最も高い強度の点を確認するために、補助像60を走査する。最も高い強度の点は、補助像60において最も明るい点であり、標準反射14aの中央の位置に対応する。第6工程において、参照パターン54の中心点を、図11の補助像60において確認された最も高い強度の点の位置と一致させるように、図8の参照パターン54の位置を変更する。位置を変更した参照パターン62を図12に示す。最後に、第7工程において、図6に示すようにフィルタリングされた像64を作り出すために、図7の重畳された像50を、図12の位置を変更した参照パターン62で乗算する。フィルタリングされた像64は、マスク40により作り出される標準反射14aと本質的に同一であり、フィルタリングされた像64には、いかなるスプリアス反射14bも実質的に存在しない。そして、フィルタリングされた像64を、レーザービーム14の焦点深度を決定するための周知のアルゴリズムを使用して評価することができる。