互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極と、各前記同軸状電極に対して極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置とを備え、各前記同軸状電極は、単一の軸線上に延びる棒状の中心電極と、前記中心電極と一定の間隔を隔て、且つ前記中心電極の周方向に配置された複数の外部電極と、前記中心電極及び前記複数の外部電極を絶縁する絶縁体とを有することを特徴とするプラズマ光源。前記電圧印加装置からの放電電圧を放電エネルギーとして前記外部電極毎に蓄積するエネルギー蓄積回路をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ光源。放電電流が前記電圧印加装置に帰還することを阻止する放電電流阻止回路をさらに備えることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ光源。前記電圧印加装置は、前記一対の同軸状電極のうちの一方の中心電極にその外部電極よりも高い正の放電電圧を印加する正電圧源と、前記一対の同軸状電極のうちの他方の中心電極にその外部電極よりも低い負の放電電圧を印加する負電圧源とを有することを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載のプラズマ光源。前記電圧印加装置は、前記正電圧源及び前記負電圧源をそれぞれの同軸状電極に同時に印加するトリガスイッチを有することを特徴とする請求項4に記載のプラズマ光源。前記絶縁体の表面にレーザー光を照射して当該照射領域のアブレーションを行うレーザー装置をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載のプラズマ光源。各前記同軸状電極の前記中心電極の表面にレーザー光を照射して当該照射領域のアブレーションを行うレーザー装置をさらに備え、前記レーザー光が照射される各前記中心電極の側面には、前記照射領域に前記プラズマ媒体となる金属層が設けられていることを特徴とする請求項4に記載のプラズマ光源。前記絶縁体の表面に紫外線を照射する紫外光源をさらに備えることを特徴とする請求項5に記載のプラズマ光源。上記プラズマ光源において、各同軸状電極の中心電極とガイド電極は実質的に1つのコンデンサによって接続されている。また、放電現象の本質的な性質から、中心電極とガイド電極の間の一箇所において放電が一旦開始されると、コンデンサから解放されたエネルギーは、この箇所の放電電流として集中的に費やされる可能性がある。この場合、放電の発生箇所に偏りが発生してしまうので、中心電極の周囲に亘って一様に分布する放電を発生させることが困難になる。従って、互いに向けて移動する各同軸状電極内の放電が、想定通りに対称面付近で衝突しないため、極端紫外光を放射するプラズマの生成が困難になり、生成されたとしても安定に持続させることが難しくなる。このような懸念を鑑み、本発明は、極端紫外光を放射するプラズマを生成するための理想的な面状放電を発生させることが可能なプラズマ光源の提供を目的とする。本発明の一態様はプラズマ光源であって、互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極と、各前記同軸状電極に対して極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置とを備え、各前記同軸状電極は、単一の軸線上に延びる棒状の中心電極と、前記中心電極と一定の間隔を隔て、且つ前記中心電極の周方向に配置された複数の外部電極と、前記中心電極及び前記複数の外部電極を絶縁する絶縁体とを有することを要旨とする。前記プラズマ光源は、前記電圧印加装置からの放電電圧を放電エネルギーとして前記外部電極毎に蓄積するエネルギー蓄積回路をさらに備えてもよい。前記プラズマ光源は、放電電流が前記電圧印加装置に帰還することを阻止する放電電流阻止回路をさらに備えてもよい。前記電圧印加装置は、前記一対の同軸状電極のうちの一方の中心電極にその外部電極よりも高い正の放電電圧を印加する正電圧源と、前記一対の同軸状電極のうちの他方の中心電極にそのガイド電極よりも低い負の放電電圧を印加する負電圧源とを有してもよい。前記電圧印加装置は、前記正電圧源及び前記負電圧源をそれぞれの同軸状電極に同時に印加するトリガスイッチを有してもよい。前記プラズマ光源は、前記絶縁体の表面にレーザー光を照射して当該照射領域のアブレーションを行うレーザー装置をさらに備えてもよい。前記プラズマ光源は、各前記同軸状電極の前記中心電極の表面にレーザー光を照射して当該照射領域のアブレーションを行うレーザー装置をさらに備えてもよい。また、前記レーザー光が照射される各前記中心電極の側面には、前記照射領域に前記プラズマ媒体となる金属層が設けられていてもよい。前記プラズマ光源は、前記絶縁体の表面に紫外線を照射する紫外光源をさらに備えてもよい。本発明によれば、極端紫外光を放射するプラズマを生成するための理想的な面状放電を発生させることが可能なプラズマ光源を提供することができる。以下、本発明の一実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、各図において共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。まず、本実施形態のプラズマ光源における同軸状電極について説明する。図1は、本実施形態のプラズマ光源を示す概略構成図である。この図に示すように、本実施形態のプラズマ光源は、一対の同軸状電極10、チャンバー20及び電圧印加装置30を備える。一対の同軸状電極10はチャンバー20内に設置され、対称面1に対して対称に位置している。即ち、各同軸状電極10は対称面1を中心として、一定の間隔を隔てて互いに対向するよう配置される。このとき、チャンバー20は、排気管22を介して真空ポンプ図示せずに接続されており、所定の真空度に維持されている。なお、チャンバー20は接地されている。各同軸状電極10は、中心電極12と、複数の外部電極14と、絶縁体16とを備える。中心電極12と外部電極14の間には極端紫外光を放射するプラズマ媒体が導入される。プラズマ媒体は、例えばLi、Xe、Snの少なくとも1つを含むガスである。図1~図3に示すように、中心電極12は、各同軸状電極10に共通する単一の軸線Z-Zを中心軸以下、この軸を中心軸Zと称するとして、この中心軸Z上に延びる棒状の導電体である。中心電極12は、高温プラズマによる損傷に耐え得る金属を用いて形成される。このような金属は、例えばタングステンやモリブデン等の高融点金属が挙げられる。本実施形態において、対称面1に対向する中心電極12の端面は半球状の曲面になっている。ただし、この形状は必須ではなく、端面に図1に示すような凹部を設けてもよく、或いは単なる平面でもよい。外部電極14は、中心電極12の中心軸Zと平行に延びる棒状の導電体であり、中心電極12と一定の間隔Gを隔てながら、中心電極12の周方向に沿って角度θ毎に複数配置されている。換言すると、各外部電極14は中心電極12と平行に配置され、中心電極12の周囲を囲んでいる。図3に示す例では、6本の外部電極14が中心電極12の周りで60°毎に配置されている。特許文献1に示すガイド電極と比較すると、本実施形態の外部電極14は、特許文献1のガイド電極を周方向に沿って複数の電極に分割し、更に、分割した各電極の中心電極12に対向する側の表面を、当該中心電極12に向けて突出する凸となる曲面にしたと捉えることもできる。このように、中心電極12の周りに複数の外部電極14を配置することで、図4Aに示す面状放電2に至る初期放電例えば沿面放電を各外部電極14と中心電極12との間で発生させることができる。即ち、中心電極12の全周に亘って初期放電が発生するので、環状の面状放電2の形成が容易になる。なお、面状放電とは、2次元的に広がる面状の放電電流であり、電流シート又はプラズマシートとも呼ばれる。なお、外部電極14は、中心電極12と同じく、高温プラズマによる損傷に耐え得るタングステンやモリブデン等の高融点金属等を用いて形成される。また、対称面1に対向する外部電極14の端面は曲面、平面の何れでもよい。外部電極14は図3に示す断面円形の棒状体に限定されず、少なくとも中心電極12に対向する側が中心電極12に向けて突出する凸となる曲面を有していればよい。例えば、外部電極14は半円の断面を有し、その円弧を中心電極12に向けて配置してもよい。各外部電極14は中心電極12の周方向に沿って等間隔に配列することが望ましい。例えば、加工や組み立ての観点から、各外部電極14は中心電極12に対して回転対称な位置に設置することが望ましい。しかしながら、本発明はこのような配列は厳密なものではない。また、外部電極14の本数も6本に限定されず、中心電極12及び外部電極14の大きさや形状、両者の間隔Gなどに応じて適宜設定される。絶縁体16は例えばセラミックを用いて形成され、中心電極12と外部電極14の各基部を支持して間隔Gを規定すると共にその間を電気的に絶縁する。絶縁体16は例えば円盤状に形成される。絶縁体16の表面のうち、中心電極12と外部電極14の間の部分には、Li又はLi化合物等の薄膜17が形成されている。中心電極12と外部電極14との間に面状放電2が発生すると、この薄膜17からプラズマ媒体としてLiを含むガスが発生する。次に、本実施形態のプラズマ光源における電気系統について説明する。図1に示すように、プラズマ光源は各同軸状電極10に接続する電圧印加装置30を備える。電圧印加装置30は、同軸状電極10に極性を反転させた放電電圧を印加する。具体的には、電圧印加装置30は、正電圧源HVChargingDevice32と、負電圧源HVChargingDevice34と、トリガスイッチ36とを備える。正電圧源32の出力側は、トリガスイッチ36を介して、一方例えば図1の左側の同軸状電極10の中心電極12にその外部電極14より高い正の放電電圧を印加する。負電圧源34の出力側は、トリガスイッチ36を介して、他方例えば図1の右側の同軸状電極10の中心電極12にその外部電極14より低い負の放電電圧を印加する。トリガスイッチ36は、ギャップスイッチ38と、高圧パルス発生器HVPulser40と、遅延パルス生成器DelayPulseGenerator42とを備え、正電圧源32及び負電圧源34からの高電圧放電電圧を、それぞれの同軸状電極10に同時に印加する。ギャップスイッチ38は、電位差の大きい2つの端子間に微小放電を発生させることで、当該端子間の放電を誘発して短期間の電気的接続を得るものである。具体的には、ギャップスイッチ38は正電圧源32の出力側又は負電圧源34の出力側と、一方又は他方の同軸状電極10の中心電極12との間の短時間の電気的接続を図る。高圧パルス発生器40は、この微小放電を発生させるための高電圧パルスをギャップスイッチ38に印加する。従って、ギャップスイッチ38に正電圧源32および負電圧源34からの高電圧が印加された状態で、高圧パルス発生器40の高電圧パルスが印加された場合、正電圧源32および負電圧源34と各中心電極12との間が電気的に接続される。遅延パルス生成器42は、各高圧パルス発生器40から高電圧パルスを出力するタイミングを適宜調整するものである。各高電圧パルスの出力タイミングが同時である場合、遅延パルス生成器42を省略してもよい。なお、各中心電極12を経由した電流をオシロスコープOscilloscopeで観察するため、正電圧源32および負電圧源34の各コモン側リターン側には、ロゴスキーコイル等を用いて誘導結合された線路を設けてもよい。上述の通り、各中心電極12の周囲には複数の外部電極14が設けられている。理想的な面状放電2を得るには、各外部電極14と中心電極12との間で放電が発生する必要がる。このため、本実施形態の各外部電極14は、中心電極12に対向する面を曲面にして、優先的に放電する箇所を固定している。一方、各外部電極14と中心電極12との間の放電を厳密に同時に発生させることは困難である。即ち、各放電の発生タイミングには多少のずれがある。従って、正電圧源32および負電圧源34から供給される放電エネルギーは最初に発生した放電に対して優先的に費やされる可能性がある。この場合、複数の放電を略同時に発生させることが困難になる。そこで、本実施形態のプラズマ光源は、電圧印加装置30からの放電電圧を放電エネルギーとして外部電極14毎に蓄積するエネルギー蓄積回路50を備えている。エネルギー蓄積回路50は、例えば図1に示すように中心電極12と各外部電極14との間を個別に接続する複数のコンデンサCで構成される。各コンデンサCは、正電圧源32または負電圧源34の出力側及びコモン側に接続される。このように、放電エネルギーを蓄積するコンデンサCを外部電極14毎に設けることで、全ての外部電極14において放電を発生させることができる。即ち、最初に発生した放電によって多くの放電エネルギーが消費されることを防止でき、中心電極12の全周に亘って発生する理想的な面状放電2を得ることができる。さらに、本実施形態のプラズマ光源は、電圧印加装置30に放電電流が帰還することを阻止する放電電流阻止回路52を備えてもよい。放電電流阻止回路52は、例えば図1に示すように各外部電極14と電圧印加装置30具体的には正電圧源32及び負電圧源34のコモン側との間を接続するインダクタLで構成される。インダクタLは、放電電流に対して十分に高いインピーダンスを有する。従って、中心電極12及び外部電極14を経由した放電電流を、その発生源であるエネルギー蓄積回路50に戻すことができる。つまり、各コンデンサCに蓄積された放電エネルギーが、当該コンデンサCに直結した外部電極14以外の外部電極14に供給されることを防止できるため、中心電極12の周方向における放電の発生分布に偏りが生じることを防止できる。上記の構成により、本発明のプラズマ光源は、一対の同軸状電極10間に管状放電後述するを形成してプラズマを軸方向に封じ込めるようになっている。図4は、図1のプラズマ光源の作動説明図である。この図において、Aは面状放電の発生時、Bは面状放電の移動中、Cはプラズマの形成時、Dは面状放電と管状方円の繋ぎ換え時、Eはプラズマ封込み磁場の形成時を示している。以下、この図を参照して、本発明のプラズマ光源の動作を説明する。本実施形態のプラズマ光源では、チャンバー20内に上述した一対の同軸状電極10を対向配置され、同軸状電極10内にプラズマ媒体が供給される。チャンバー20内は、プラズマの発生に適した温度及び圧力に保持される。さらに、電圧印加装置30により各同軸状電極10に極性を反転させた放電電圧が印加される。放電電圧の印加について具体的に説明すると、正電圧源32および負電圧源34からの高電圧をギャップスイッチ38に印加した状態で、ギャップスイッチ38に高圧パルス発生器40の高電圧パルスが印加される。これにより、ギャップスイッチ38が導通状態になり、正電圧源32および負電圧源34の放電電圧がそれぞれの同軸状電極10に印加される。図4Aに示すように、この電圧印加により、一対の同軸状電極10に絶縁体16の表面でそれぞれ面状放電2が発生する。上述したように、複数の外部電極14を設け、それぞれに対して中心電極12との間で放電を生じさせることで、中心電極12の全周に亘って放電が分布する面状放電2が得られる。このような面状放電2により、各同軸状電極10、10において、絶縁体16表面に形成されたLiまたはLi化合物薄膜17が蒸発し、Liを含むガスを発生する。なおこの際、左側の同軸状電極10の中心電極12は正電圧、その周囲の外部電極14は負電圧-に印加されている。一方、右側の同軸状電極10の中心電極12は負電圧-、その周囲の外部電極14は正電圧に印加されている。なお、外部電極14は常時接地されているが、放電電圧が印加された直後の短期間では接地のための配線のインダクタンスによって、実質的には接地電位から切り離された状態になる。従って、対向する一対の外部電極14のそれぞれには極性の異なる電圧が印加された状態に等しく、両者の間には電位差が生じている。図4Bに示すように、面状放電2は、自己磁場によって電極から排出される方向同図の対称面1に向かう方向に移動する。図4Cに示すように、面状放電2が一対の同軸状電極10の先端に達すると、一対の面状放電2の間に挟まれたプラズマ媒体6が高密度、高温となり、各同軸状電極10の対向する中間位置即ち、中心電極12の対称面1に単一のプラズマ3が形成される。図4Dに示すように、各面状放電2がさらに移動して互いが接すると、単一のプラズマ3は、各面状放電2によって軸方向に囲まれ、保持される。対向する一対の中心電極12はそれぞれ、正電圧と負電圧-に印加され、且つ、その周囲の外部電極14は、対応する中心電極12とは逆の極性の電圧に印加されている。従って図4Eに示すように、面状放電2は、対向する一対の中心電極12の間で放電すると共に、対向する外部電極14の間で放電する管状放電4に繋ぎ換えられる。ここで、管状放電4とは、軸線Z-Zを囲む中空円筒状の放電電流を意味する。この管状放電4が形成されると、プラズマ封込み磁場磁気ビン5が形成され、その結果、プラズマ3を半径方向及び軸方向に封じ込むことができる。すなわち、磁気ビン5はプラズマ3の圧力により中央部は大きくその両側が小さくなり、プラズマ3に向かう軸方向の磁気圧勾配が形成され、この磁気圧勾配によりプラズマ3は中間位置に拘束される。さらにプラズマ電流の自己磁場によって中心方向にプラズマ3は圧縮Zピンチされ、半径方向にも自己磁場による拘束が働く。この状態において、プラズマ3の発光エネルギーに相当するエネルギーを電圧印加装置30から供給し続ければ、高いエネルギー変換効率で、極端紫外光を含むプラズマ光8を長時間安定して発生させることができる。本実施形態によれば、各同軸状電極において、中心電極の全周に亘る放電が得やすくなる。その結果、略環状に分布する面状放電が得られる。つまり、中心電極の周囲における放電の偏在が抑制されるため、各同軸状電極内の面状放電には略等しい自己磁場による力が加わる。従って、各面状放電は各同軸状電極の中間で衝突するため、極端紫外光を含むプラズマを長時間安定して発生することができる。偏在した放電の発生率を抑えられるので、エネルギーの変換効率を向上させることができる。変形例上述した実施形態の変形例について説明する。図5~図7は本実施形態のプラズマ光源の変形例であり、図5は第1の変形例に係る概略構成図、図6は第2の変形例に係る概略構成図、図7は第3の変形例に係る概略構成図である。なお、各図において共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。また、説明の便宜上、一対の同軸状電極10のうち一方のみを図示し、他方の図示は省略した。各図に示す変形例は、冒頭に説明したプラズマ光源と比較して、面状放電2を発生させる方法及びその構成が異なっている。従って、同軸状電極10の構成は何れの変形例においても同一である。図5に示すように、本実施形態の第1の変形例では、トリガスイッチ36を用いて面状放電2を誘発する代わりに、パルスレーザー装置レーザー装置60のレーザー光62を用いて面状放電2を誘発する。具体的には、同軸状電極10に電圧印加装置30の放電電圧を印加した状態で、絶縁体16の表面例えば薄膜17にレーザー光62を照射することでアブレーションを行い、面状放電2を誘発する。なお、このときの放電電圧は、それ自身では放電を発生できない程度の値に設定される。つまり、トリガスイッチ36を用いて印加する時の電圧より低い値になる。パルスレーザー装置60は例えばYAGレーザーであり、アブレーションを行うために基本波の二倍波をレーザー光62として出力する。レーザー光62は、外部電極14の間隙から絶縁体16の表面例えば薄膜17に照射することが可能である。このアブレーションによって薄膜17の一部がガス又はプラズマ18として放出され、中心電極12と各外部電極14間の放電を誘発する。さらにこの放電によって図4Aに示す面状放電2が形成される。その後は、図4Bの状態から図4Eの状態に至り、極端紫外光を含むプラズマ光8が安定に得られる。この変形例では、初期の放電をアブレーションによって発生させていることから、トリガスイッチ36が不要になる。その代わり、誘発される放電の発生箇所がレーザー光62の照射領域近傍に制限される可能性がある。従って、レーザー光62は絶縁体16の複数箇所に同時に照射することが好ましく、その数は少なくとも2箇所である。これは、絶縁体16の1箇所にレーザー光62を照射した場合、誘発された放電の面積が中心電極12からみた開き角の範囲に換算して180度以上であった実験結果に基づいている。この結果を考慮すると、レーザー光62の照射箇所の数が少ないほど、中心電極12に対して回転対称な位置にレーザー光62を照射することが望ましいと言える。なお、複数のレーザー光の同時照射は、ビームスプリッタ及びミラー等の光学素子を用いて光路長を合わせた複数の光路を形成することで容易に達成できる。上記の変形例では、レーザー光62の照射箇所を制御できることから絶縁体16上の沿面放電の発生箇所を制御でき、且つ、その発生回数も制御できる。従って、中心電極12の全周に亘る放電の制御も容易になる。また、レーザー光62の照射タイミングを調整できるので、多数の沿面放電を同時に発生させることも容易になる。さらに、アブレーションによる放電の誘発を利用することで、沿面放電の発生に必要な絶縁破壊電圧を下げること可能になる。たとえば、レーザー光を用いない実施形態と比較して、電圧印加装置30の放電電圧を下げることが可能である。この場合、過剰な放電エネルギーの投入が抑制されるので、例えば熱による同軸状電極10の損傷の進行を抑制することが可能である。図6に示すように、本実施形態の第2の変形例では、トリガスイッチ36を用いて面状放電2を誘発する代わりに、電圧印加装置30による放電電圧を同軸状電極10に印加した状態で、隣接する外部電極14の間隙からパルスレーザー装置レーザー装置60のレーザー光62を中心電極12の側面外部電極14に照射することで、その照射領域のアブレーションを行う。照射領域となる中心電極12の側面には、予めプラズマ媒体となるLiを含んだ金属層薄膜27が設けられている。このアブレーションによって金属層27の一部がガス又はプラズマ28として放出され、中心電極12と各外部電極14間の放電を誘発する。さらにこの放電によって図4Aに示す面状放電2が形成される。その後は、図4Bの状態から図4Eの状態に至り、極端紫外光を含むプラズマ光8が更に安定に得られる。この変形例も上述した第1の変形例と同様に、誘発される放電の発生箇所がレーザー光62の照射領域近傍に制限される可能性がある。従って、レーザー光62は金属層27の複数箇所に同時に照射することが好ましく、その数は少なくとも2箇所である。複数箇所にレーザー光62を照射する構成は第1の変形例と同様のものが適用できる。第2の変形例も上述の第1の変形例と同様の効果が得られる。図7に示すように、本実施形態の第3の変形例では、図1に示すプラズマ光源の構成に加えて、絶縁体16の表面例えば薄膜17に紫外線66を照射する紫外光源64が設けられる。紫外線66は、絶縁体16上の沿面放電を発生させるための印加電圧を下げる効果をもつ。換言すると、紫外光源64は、トリガスイッチ36による放電の発生を補助する。その結果、中心電極12の全周に亘る初期放電が得やすくなり、理想的な面状放電2が安定に得られる。その後は、他の実施形態と同じく、図4Bの状態から図4Eの状態に至り、極端紫外光を含むプラズマ光8が更に安定に得られる。なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。