"Aチタンブラック粒子、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記Aチタンブラック粒子からなる被分散体の90以上が30nm以下の粒径を有し、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に設けられ赤外光を遮光する遮光膜の形成に用いられるチタンブラック分散物。前記分散剤が、水素原子を除いた原子数が40~10000の範囲であるグラフト鎖を有するグラフト共重合体である請求項1に記載のチタンブラック分散物。前記グラフト共重合体が、下記式1~式4のいずれかで表される構造単位を少なくとも含む請求項2に記載のチタンブラック分散物。式1~式4において、W1、W2、W3、及びW4はそれぞれ独立に酸素原子或いはNHを表し、X1、X2、X3、X4、及びX5はそれぞれ独立に水素原子或いは1価の有機基を表し、Y1、Y2、Y3、及びY4はそれぞれ独立に2価の連結基を表し、Z1、Z2、Z3、及びZ4はそれぞれ独立に1価の有機基を表す。R3は分岐又は直鎖のアルキレン基を表す。R4は水素原子又は1価の有機基を表し、R4としては共重合体中に構造の異なるR4を混合して用いても良い。n、m、p、及びqはそれぞれ独立に1から500の整数である。j及びkはそれぞれ独立に2~8の整数を表す。前記グラフト共重合体が、前記式1~式4のいずれかで表される構造単位を、該グラフト共重合体の総質量に対し質量換算で、10~90の範囲で含む請求項3に記載のチタンブラック分散物。請求項1~請求項4のいずれか1項に記載のチタンブラック分散物、D光重合性化合物、及びE光重合開始剤を含有し、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に設けられ赤外光を遮光する遮光膜の形成に用いられる感光性樹脂組成物。一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に、請求項5に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成された遮光膜。請求項5に記載の感光性樹脂組成物を、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に塗布して感光性層を形成する工程と、前記感光性層をパターン状に露光する工程と、露光後の前記感光性層を現像してパターンを形成する工程と、を有する遮光膜の製造方法。一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に、請求項6に記載の遮光膜を有する固体撮像素子。一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板と、前記シリコン基板の他方の面に設けられ、前記撮像素子部と電気的に接続された金属電極と、前記シリコン基板の前記金属電極が設けられた面に設けられ、前記金属電極の少なくとも1部が露出するようにパターニングされた請求項6に記載の遮光膜と、を有する請求項8に記載の固体撮像素子。近年、固体撮像素子の小型化や薄型化、高感度化に伴い、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面側から該シリコン基板に入射される赤外光を遮光する要求が強くなっている。その理由は、固体撮像素子の基体であるシリコン基板が赤外光に対し高い透過率を示すためであり、更に、固体撮像素子に備えられる撮像素子が可視光に対してだけでなく赤外光に対しても感度を示すためである。このような状況下、カーボンブラックを用いた遮光膜は赤外光の透過率が高いため、上記要求を満足するとは言い難い。これに対し、チタンブラックを用いた遮光膜は、赤外光の透過率が低く、赤外遮光能に優れるため、上記要求を満たす遮光膜として好適ではある。しかしながら、本発明者の検討により、チタンブラックを含む分散物や感光性樹脂組成物を用いて遮光膜を形成する際、該遮光膜の形成領域外における感光性樹脂組成物由来の残渣物が残りやすいことが明らかとなった。本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、赤外遮光能に優れた遮光膜を形成でき、該遮光膜の形成の際、該遮光膜の形成領域外における残渣物を低減できる感光性樹脂組成物を提供すること、及び、該感光性樹脂組成物に用いるチタンブラック分散物を提供することである。また、本発明の目的は、赤外遮光能に優れた遮光膜を提供すること、及び、赤外遮光能に優れた遮光膜を形成でき、該遮光膜を形成する際、該遮光膜の形成領域外における残渣物を低減できる遮光膜の製造方法を提供することである。また、本発明の目的は、赤外光によるノイズが低減され、残渣物によるノイズが低減された固体撮像素子を提供することである。前記課題を解決するための手段は以下の通りである。<1>Aチタンブラック粒子、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記Aチタンブラック粒子からなる被分散体の90以上が30nm以下の粒径を有し、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に設けられ赤外光を遮光する遮光膜の形成に用いられるチタンブラック分散物。<2>前記分散剤が、水素原子を除いた原子数が40~10000の範囲であるグラフト鎖を有するグラフト共重合体である<1>に記載のチタンブラック分散物。<3>前記グラフト共重合体が、少なくとも下記式1~式4のいずれかで表される構造単位を含む<2>に記載のチタンブラック分散物。式1~式4において、W1、W2、W3、及びW4はそれぞれ独立に酸素原子或いはNHを表し、X1、X2、X3、X4、及びX5はそれぞれ独立に水素原子或いは1価の有機基を表し、Y1、Y2、Y3、及びY4はそれぞれ独立に2価の連結基を表し、Z1、Z2、Z3、及びZ4はそれぞれ独立に1価の有機基を表す。R3は分岐又は直鎖のアルキレン基を表す。R4は水素原子又は1価の有機基を表し、R4としては共重合体中に構造の異なるR4を混合して用いても良い。n、m、p、及びqはそれぞれ1から500の整数である。j及びkは、それぞれ独立に、2~8の整数を表す。<4>前記グラフト共重合体が、前記式1~式4のいずれかで表される構造単位を、該グラフト共重合体の総質量に対し質量換算で、10~90の範囲で含む<3>に記載のチタンブラック分散物。<5><1>~<4>のいずれか1項に記載のチタンブラック分散物、D光重合性化合物、及びE光重合開始剤を含有し、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に設けられ赤外光を遮光する遮光膜の形成に用いられる感光性樹脂組成物。<6>一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に、<5>に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成された遮光膜。<7><5>に記載の感光性樹脂組成物を、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に塗布して感光性層を形成する工程と、前記感光性層をパターン状に露光する工程と、露光後の前記感光性層を現像してパターンを形成する工程と、を有する遮光膜の製造方法。<8>一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に、<6>に記載の遮光膜を有する固体撮像素子。<9>一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板と、前記シリコン基板の他方の面に設けられ、前記撮像素子部と電気的に接続された金属電極と、前記シリコン基板の前記金属電極が設けられた面に設けられ、前記金属電極の少なくとも1部が露出するようにパターニングされた<6>に記載の遮光膜と、を有する<8>に記載の固体撮像素子。本発明によれば、赤外遮光能に優れた遮光膜を形成でき、該遮光膜の形成の際、該遮光膜の形成領域外における残渣物を低減できる感光性樹脂組成物を提供すること、及び、該感光性樹脂組成物に用いるチタンブラック分散物を提供することができる。また、本発明によれば、赤外遮光能に優れた遮光膜を提供すること、及び、赤外遮光能に優れた遮光膜を形成でき、該遮光膜を形成する際、該遮光膜の形成領域外における残渣物を低減できる遮光膜の製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、赤外光によるノイズが低減され、残渣物によるノイズが低減された固体撮像素子を提供することができる。≪チタンブラック分散物及び感光性樹脂組成物≫本発明のチタンブラック分散物は、Aチタンブラック粒子、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記Aチタンブラック粒子からなる被分散体の90以上が30nm以下の粒径を有し、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に設けられ赤外光を遮光する遮光膜の形成に用いられるチタンブラック分散物である。また、本発明の感光性樹脂組成物は、前記本発明のチタンブラック分散物、D光重合性化合物、及びE光重合開始剤を含有し、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に設けられ赤外光を遮光する遮光膜の形成に用いられる感光性樹脂組成物である。近年、固体撮像素子の小型化や薄型化、高感度化に伴い、一方の面以下、第1の主面やオモテ面ともいうに撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面以下、第2の主面や裏面ともいう側から該シリコン基板に入射される赤外光を遮光する要求が強くなっている。チタンブラックを用いた遮光膜は、赤外遮光能に優れるため、上記要求を満たす遮光膜として好適ではある。しかし、本発明者による検討の結果、チタンブラックを含む分散物や感光性樹脂組成物を用いて遮光膜を形成する際、該遮光膜の形成領域外における感光性樹脂組成物由来の残渣物が残りやすいことが明らかとなった。残渣物が残りやすい原因は明らかでないが、チタンブラック粒子が経時とともに沈降し易い性質を有することや、チタンブラック粒子が粗大化し易い性質を有すること等、が関係しているものと推測される。そこで本発明者は、さらなる検討の結果、チタンブラック粒子からなる被分散体の90以上が30nm以下の粒径を有するチタンブラック分散物や感光性樹脂組成物を用いて遮光膜を形成することにより、チタンブラックの有する赤外遮光能を維持したままこの残渣物を低減できることを見出し、本発明を完成した。従って、本発明のチタンブラック分散物及び感光性樹脂組成物によれば、赤外遮光能に優れた遮光膜を形成でき、該遮光膜の形成の際、該遮光膜の形成領域外における残渣物を低減できる。ここで、赤外とは、700nm~1200nmの波長領域を指す。また、赤外光を遮光するとは、700nm~1200nmの波長領域全域にわたり透過率が10以下である状態を指す。更に、本発明のチタンブラック分散物及び感光性樹脂組成物によれば、該遮光膜の形成の際、該遮光膜の硬化性パターン形成性も向上する。硬化性が向上する理由は定かではないが、チタンブラック粒子からなる被分散体の90以上が30nm以下の粒径を有することにより、形成される遮光膜中において、硬化させるために用いる紫外光の散乱が抑えられ、該紫外光が膜厚方向に進行しやすくなるため、と推測される。但し、本発明はこの推測によって限定されることはない。また、本明細書中において撮像素子部とは、複数の撮像素子CCD、CMOS、等が、例えばマトリクス状に配列されている領域を指す。本明細書中では、撮像素子部が設けられたシリコン基板を固体撮像素子や固体撮像素子基板ということがある。前記固体撮像素子には、更に、その他の要素カラーフィルタ、マイクロレンズ等が形成されていてもよい。以下、本発明のチタンブラック分散物又は感光性樹脂組成物に含有される各成分について順次説明する。Aチタンブラック粒子本発明のチタンブラック分散物及び感光性樹脂組成物は、チタンブラック粒子を含有する。該チタンブラック粒子は、分散物中において被分散体として含有されるものであり、本発明においてはチタンブラック粒子からなる被分散体の90以上が30nm以下の粒径を有することを要する。本発明における被分散体の粒径とは、被分散体の粒子直径を意味し、粒子直径とは、粒子の外表面の投影面積と等しい面積をもつ円の直径である。粒子の投影面積は、電子顕微鏡写真での撮影により得られた面積を測定し、撮影倍率を補正することにより得られる。ここで、本発明におけるチタンブラック粒子からなる被分散体は、チタンブラック粒子が一次粒子の状態であるもの、凝集体二次粒子の状態であるものの双方を包含する。本発明の感光性樹脂組成物は、本発明のチタンブラック分散物に由来するチタンブラック粒子からなる被分散体を含有する。該感光性樹脂組成物及びこれを硬化して得られた硬化膜遮光膜中に含有されるチタンブラック粒子からなる被分散体についても、その90以上が30nm以下の粒径を有するものである。本発明においては、チタンブラック粒子からなる被分散体の90以上が30nm以下の粒径を有することで、本発明の感光性樹脂組成物を用いて遮光膜を形成した際に、遮光膜の形成領域外における感光性樹脂組成物由来の残渣物が低減される。なお、残渣物は、チタンブラック粒子、樹脂成分等の感光性樹脂組成物に由来する成分を含むものである。残渣物が低減される理由は未だ明確ではないが、粒径の小さい被分散体が、遮光膜の形成における未硬化の感光性樹脂組成物特に、チタンブラック粒子の除去性向上に寄与するためと推測している。また、チタンブラック粒子は、紫外から赤外までの広範囲に亘る波長領域の光に対する遮光性に優れるが、特に赤外光に対する遮光性赤外遮光性に優れるため、本発明のチタンブラック分散物又は感光性樹脂組成物を用いて形成された遮光膜は優れた赤外遮光性を発揮する。本発明のチタンブラック分散物又は感光性樹脂組成物に含有される被分散体について、その90が30nm以下の粒径を有するか否かを判断するには、下記に示す方法1を用いる。また、本発明の感光性樹脂組成物を硬化して得られた硬化膜遮光膜に含有される被分散体について、その90が30nm以下の粒径を有するか否かを判断するには、下記に示す方法2を用いる。<方法1>チタンブラック分散物又は感光性樹脂組成物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート以下、PGMEAとも略称する。により500倍に希釈し、カーボン薄膜上に滴下、乾燥させて投下型電子顕微鏡を用いて形態観察写真を撮影する。得られた写真から、粒子400個について外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、度数分布を評価する。<方法2>製膜された基板の断面を、走査型電子顕微鏡株日立ハイテクノロジーズ製、S-3400N商品名及びエネルギー分散型X線分析装置EDAX社製Genesis商品名により、形態観察写真及びTiとSiの元素マップを撮影する。得られた写真から、Ti元素が検出されている粒子400個について外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、度数分布を評価する。以下、チタンブラック粒子について、更に詳細に説明する。本発明においてチタンブラック粒子とは、チタン原子を有する黒色粒子であり、好ましくは低次酸化チタンや酸窒化チタン等の黒色粒子である。チタンブラック粒子は、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、粒子表面を修飾することが可能である。粒子表面の修飾としては、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム等で被覆処理が可能であり、また、特開2007-302836号公報に示されるような撥水性物質での処理も可能である。チタンブラック粒子の市販品の例としては、チタンブラック10S、12S、13R、13M、13M-C、13R、13R-N、13M-T商品名:以上、三菱マテリアル電子化成株製、ティラックTilackD商品名:赤穂化成株製などが挙げられる。チタンブラック粒子の製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法特開昭49-5432号公報に記載の方法、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを水素を含む還元雰囲気中で還元する方法特開昭57-205322号公報に記載の方法、二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法特開昭60-65069号公報、特開昭61-201610号公報に記載の方法、二酸化チタン又は水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法特開昭61-201610号公報に記載の方法などがあるが、これらに限定されるものではない。本発明に適用されるチタンブラック粒子としては、一次粒径の小さいものであることが好ましい。本発明のチタンブラック分散物及び感光性樹脂組成物は、Aチタンブラック粒子を1種のみを含有するものであってもよく、2種以上を含有してもよい。また、本発明の効果を損なわない限りにおいて、チタンブラック粒子と共に、分散性、着色性等を調整する目的で、Cu、Fe、Mn、V、Ni等の複合酸化物、酸化コバルト、酸化鉄、カーボンブラック、アニリンブラック等からなる黒色顔料を1種又は2種以上の組み合わせて、被分散体として併用してもよい。この場合、被分散体の50質量以上をチタンブラック粒子からなる被分散体が占めることが好ましい。また、後述するように、遮光性の調整等を目的として、本発明の効果を損なわない限りにおいて、チタンブラック粒子と共に、他の着色剤有機顔料や染料などを所望により併用してもよい。チタンブラック分散物中のAチタンブラック粒子の含有量は、分散物の全質量に対し、5質量~60質量であることが好ましく、10質量~50質量であることがさらに好ましい。また、感光性樹脂組成物中のAチタンブラック粒子の含有量は、分散物の全質量に対し、2.5質量~30質量であることが好ましく、5質量~20質量であることがさらに好ましいB分散剤本発明のチタンブラック分散物及び感光性樹脂組成物は分散剤を含有する。本発明における分散剤としては、高分子分散剤例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリメタアクリレート、メタアクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。本発明における分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、及びブロック型高分子に分類することができる。本発明における分散剤は、チタンブラック粒子及び所望により併用する顔料等の被分散体の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。一方で、本発明における分散剤は被分散体の表面を改質することで、分散樹脂の吸着を促進させる効果を有する。本発明に用いうる分散剤の具体例としては、BYKChemie社製Disperbyk-101商品名、ポリアミドアミン燐酸塩、107商品名、カルボン酸エステル、110商品名、酸基を含む共重合物、130商品名、ポリアミド、161、162、163、164、165、166、170、180商品名、高分子共重合物、BYK-P104、P105商品名、高分子量不飽和ポリカルボン酸、EFKA社製EFKA4047、4050、4010、4165商品名、ポリウレタン系、EFKA4330、4340商品名、ブロック共重合体、4400、4402商品名、変性ポリアクリレート、5010商品名、ポリエステルアミド、5765商品名、高分子量ポリカルボン酸塩、6220商品名、脂肪酸ポリエステル、6745商品名、フタロシアニン誘導体、6750商品名、アゾ顔料誘導体、味の素ファインテクノ株製アジスパーPB821、PB822商品名、共栄社化学株製フローレンTG-710商品名、ウレタンオリゴマー、ポリフローNo.50E、No.300商品名、アクリル系共重合体、楠本化成株製ディスパロンKS-860、873SN、874、2150商品名、脂肪族多価カルボン酸、7004商品名、ポリエーテルエステル、DA-703-50、DA-705、DA-725商品名、花王株製デモールRN、N商品名、ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物、MS、C、SN-B商品名、芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物、ホモゲノールL-18商品名、高分子ポリカルボン酸、エマルゲン920、930、935、985商品名、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、アセタミン86商品名、ステアリルアミンアセテート、ルーブリゾール社製ソルスパース5000商品名、フタロシアニン誘導体、22000商品名、アゾ顔料誘導体、13240商品名、ポリエステルアミン、3000、17000、27000商品名、末端部に機能部を有する高分子、24000、28000、32000、38500商品名、グラフト型高分子、日光ケミカル社製ニッコールT106商品名、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、MYS-IEX商品名、ポリオキシエチレンモノステアレート等が挙げられる。また、川研ファインケミカル株製ヒノアクトT-8000E商品名などの両性分散剤も挙げられる。これらの分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。分散剤の酸価は、5.0mgKOH/g以上200mgKOH/g以下の範囲であることが好ましく、より好ましくは10mgKOH/g以上150mgKOH/g以下の範囲、更に好ましくは60mgKOH/g以上150mgKOH/g以下の範囲である。分散剤の酸価が200mgKOH/g以下であれば、遮光膜を形成する際の現像時におけるパターン剥離がより効果的に抑えられる。また、分散剤の酸価が5.0mgKOH/g以上であればアルカリ現像性がより良好となる。また、分散剤の酸価が60mgKOH/g以上であれば、チタンブラック粒子の沈降をより抑制でき、粗大粒子数をより少なくすることができ、チタンブラック分散物又は感光性樹脂組成物の経時安定性をより向上できる。本発明において、分散剤の酸価は、例えば、分散剤中における酸基の平均含有量から算出することができる。また、分散剤の構成成分である酸基を含有するモノマー単位の含有量を変化させることで所望の酸価を有する樹脂を得ることができる。本発明における分散剤の重量平均分子量は、遮光膜を形成する際において、現像時のパターン剥離抑制と現像性の観点から、10,000以上300,000以下であることが好ましく、15,000以上200,000以下であることがより好ましく、20,000以上100,000以下であることが更に好ましく、25,000以上50,000以下であることが特に好ましい。なお、分散剤の重量平均分子量は、例えば、GPCによって測定することができる。グラフト共重合体本発明においては、分散剤として、グラフト共重合体以下、特定樹脂ともいうを用いることも好ましい。分散剤としてグラフト共重合体を用いることで、分散性及び保存安定性をより向上させることができる。グラフト共重合体としては、水素原子を除いた原子数が40~10000の範囲であるグラフト鎖を有するものが好ましい。この場合のグラフト鎖とは、共重合体の主鎖の根元から、主鎖から枝分かれしている基の末端までの部分を示す。この特定樹脂は、チタンブラック粒子に分散性を付与しうる分散樹脂であり、優れた分散性と、グラフト鎖による溶媒との親和性を有するために、チタンブラック粒子の分散性、及び経時後の分散安定性に優れる。また、感光性樹脂組成物としたとき、グラフト鎖の存在により重合性化合物又はその他の併用可能な樹脂などとの親和性を有するので、アルカリ現像で残渣を生じにくくなる。また、この特定樹脂に、さらに、カルボン酸基などのアルカリ可溶性の部分構造を導入することで、アルカリ現像によるパターン形成のために現像性を付与する樹脂としての機能をも付与することができる。従って、前記グラフト共重合体に、アルカリ可溶性の部分構造を導入することで、本発明のチタンブラック分散物は、チタンブラック粒子の分散に不可欠の分散樹脂自体がアルカリ可溶性を有することになる。このようなチタンブラック分散物を含有する感光性樹脂組成物は、露光部の遮光性に優れたものとなり、且つ、未露光部のアルカリ現像性が向上される。グラフト鎖が長くなると立体反発効果が高くなり分散性は向上するが、一方グラフト鎖が長すぎるとチタンブラックへの吸着力が低下して分散性は低下してしまう。このため、本発明で使用されるグラフト共重合体としては、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が40~10000であることが好ましく、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が50~2000であることがより好ましく、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が60~500であることがさらに好ましい。グラフト鎖のポリマー構造の例としては、ポリメタアクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエーテルなどが挙げられる。グラフト鎖としては、グラフト部位と溶媒との相互作用性を向上させ、それにより分散性を高めるために、ポリメタアクリル、ポリエステル、又はポリエーテルを有するグラフト鎖であることが好ましく、ポリエステル又はポリエーテルを有するグラフト鎖であることがより好ましい。このようなポリマー構造をグラフト鎖として有するマクロモノマーの構造としては、ポリマー主鎖部と反応可能な置換基を有し、且つ本発明の要件を満たしていれば、特に限定されないが、好ましくは、反応性二重結合性基を有するマクロモノマーを好適に使用することができる。特定樹脂の合成に好適に用いられる市販のマクロモノマーとしては、AA-6、AA-10、AB-6、AS-6、AN-6、AW-6、AA-714、AY-707、AY-714、AK-5、AK-30、AK-32、ブレンマーPP-100商品名、日油株製、ブレンマーPP-500商品名、日油株製、ブレンマーPP-800商品名、日油株製、ブレンマーPP-1000商品名、日油株製、ブレンマー55-PET-800商品名、日油株製、ブレンマーPME-4000商品名、日油株製、ブレンマーPSE-400商品名、日油株製、ブレンマーPSE-1300商品名、日油株製、ブレンマー43PAPE-600B商品名、日油株製、などが用いられる。このなかでも、好ましくは、AA-6、AA-10、AB-6、AS-6、AN-6、ブレンマーPME-4000商品名、日油株製などが用いられる。特定樹脂におけるグラフト部位としては、少なくとも下記式1~式4のいずれかで表される構造単位を含むことが好ましく、少なくとも、下記式1A、下記式2A、下記式3A、下記式3B、及び下記4のいずれかで表される構造単位を含むことがより好ましい。式1~式4において、W1、W2、W3、及びW4はそれぞれ独立に酸素原子或いはNHを表す。W1、W2、W3、及びW4は酸素原子であることが好ましい。式1~式4において、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基を表す。X1、X2、X3、X4、及びX5としては、合成上の制約の観点からは、好ましくはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~12のアルキル基であり、それぞれ独立に水素原子又はメチル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。式1~式4において、Y1、Y2、Y3、及びY4は、それぞれ独立に、2価の連結基を表し、該連結基は特に構造上制約されない。Y1、Y2、Y3、及びY4で表される2価の連結基として、具体的には、下記のY-1~Y-21の連結基などが例として挙げられる。下記に示した構造において、A、Bはそれぞれ、式1~式4における左末端基、右末端基との結合部位を意味する。下記に示した構造のうち、合成の簡便性から、又はY-13であることがより好ましい。式1~式4において、Z1、Z2、Z3、及びZ4は、それぞれ独立に1価の有機基を表す。該有機基の構造は特に限定されないが、具体的には、アルキル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、及びアミノ基などが挙げられる。これらの中でも、Z1、Z2、Z3、及びZ4で表される有機基としては、特に分散性向上の観点から、立体反発効果を有するものが好ましく、Z1~Z3で表される有機基としては、各々独立に炭素数5~24のアルキル基又は炭素数5~24のアルコキシ基が好ましく、その中でも、特に各々独立に炭素数5~24の分岐アルキル基を有するアルコキシ基或いは炭素数5~24の環状アルキル基を有するアルコキシ基が好ましい。また、Z4で表される有機基としては、各々独立に炭素数5~24のアルキル基が好ましく、その中でも、各々独立に炭素数5~24の分岐アルキル基或いは炭素数5~24の環状アルキル基が好ましい。式1~式4において、n、m、p、及びqは、それぞれ1~500の整数である。また、式1及び式2において、j及びkは、それぞれ独立に、2~8の整数を表す。式1及び式2におけるj及びkは、分散安定性、現像性の観点から、4~6の整数が好ましく、5が最も好ましい。式3中のR3は、分岐又は直鎖のアルキレン基を表す。式3中のR3は、炭素数1~10のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2又は3のアルキレン基であることがより好ましい。式4中のR4は水素原子又は1価の有機基を表し、この1価の有機基としては特に構造上限定はされない。式4中のR4として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、及びヘテロアリール基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子、又はアルキル基である。式4中のR4がアルキル基である場合、該アルキル基としては、炭素数1~20の直鎖状アルキル基、炭素数3~20の分岐状アルキル基、又は炭素数5~20の環状アルキル基が好ましく、炭素数1~20の直鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数1~6の直鎖状アルキル基が特に好ましい。また、式4中のR4としては、特定樹脂中に構造の異なるR4を2種以上混合して用いてもよい。特定樹脂において、式1~式4で表される構造単位は、質量換算で、特定樹脂の総質量に対し10~90の範囲で含まれることが好ましく、30~70の範囲で含まれることがより好ましい。式1~式4で表される構造単位が、この範囲内で含まれるとチタンブラック粒子の分散性が高く、遮光膜を形成する際の現像性が良好である。また、特定樹脂においては、2種以上の構造が異なるグラフト共重合体を含有することができる。前記式1で表される構造単位としては、分散安定性、現像性の観点から、下記式1Aで表される構造単位であることがより好ましい。また、前記式2で表される構造単位としては、分散安定性、現像性の観点から、下記式2Aで表される構造単位であることがより好ましい。式1A中、X1、Y1、Z1及びnは、前記式1におけるX1、Y1、Z1及びnと同義であり、好ましい範囲も同様である。式2A中、X2、Y2、Z2及びmは、前記式2におけるX2、Y2、Z2及びmと同義であり、好ましい範囲も同様である。また、前記式3で表される構造単位としては、分散安定性、現像性の観点から、下記式3A又は式3Bで表される構造単位であることがより好ましい。式3A又は3B中、X3、Y3、Z3及びpは、前記式3におけるX3、Y3、Z3及びpと同義であり、好ましい範囲も同様である。特定樹脂としては、前記式1Aで表される構造単位を有するものであることがより好ましい。特定樹脂には、グラフト部位以外にチタンブラック粒子と相互作用を形成しうる官能基を導入することができる。このチタンブラック粒子と相互作用を形成しうる官能基の例としては、例えば、酸基、塩基性基、配位性基、反応性を有する官能基等があげられ、特定樹脂には、酸基を有する構造単位、塩基性基を有する構造単位、配位性基を有する構造単位、反応性を有する構造単位を用いて導入される。チタンブラック粒子と相互作用を形成しうる官能基である酸基の例としては、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、フェノール性水酸基などがあり、特に好ましいものは、チタンブラックへの吸着力が良好で、且つ分散性が高いカルボン酸基である。特定樹脂は、これらの酸基を1種あるいは2種以上用いることができる。このような酸基の導入は、特定樹脂のアルカリ現像性を向上させるという利点をも有する。特定樹脂に共重合成分として導入される場合、酸基を有する構造単位の好適な含有量は、特定樹脂における全構造単位に対し0.1モル以上50モル以下であり、特に好ましくは、アルカリ現像による画像強度のダメージ抑制という観点から、1モル以上30モル以下である。チタンブラック粒子と相互作用を形成しうる官能基である塩基性基の例としては、例えば、第1級アミノ基、第2級アミノ基、第3級アミノ基、N原子を含むヘテロ環、アミド基などがあり、特に好ましいものは、顔料への吸着力が良好で且つ分散性が高い第3級アミノ基である。特定樹脂には、これらの塩基性基を1種あるいは1種以上導入することができる。特定樹脂に共重合成分として導入される場合、塩基性基を有する構造単位の好適な含有量は、特定樹脂における全構造単位に対し、0.01モル以上50モル以下であり、特に好ましくは、現像性阻害抑制という観点から、0.01モル以上30モル以下である。チタンブラック粒子と相互作用を形成しうる官能基である配位性基、及び反応性を有する基としては、例えば、アセチルアセトキシ基、トリアルコキシシリル基、イソシアネート基、酸無水物、酸塩化物などが挙げられる。特に好ましいものは、顔料への吸着力が良好で分散性が高いアセチルアセトキシ基である。特定樹脂には、これらの基を1種あるいは1種以上有してもよい。特定樹脂共重合成分として導入されうる塩基性基を有する構造単位又は反応性を有する構造単位の好適な含有量は、特定樹脂における全構造単位に対し、0.5モル以上50モル以下であり、特に好ましくは、現像性阻害抑制という観点から、1モル以上30モル以下である。本発明における特定樹脂が、グラフト部位以外に、チタンブラック粒子と相互作用を形成しうる官能基を有する場合、上述したような、各種のチタンブラック粒子と相互作用を形成しうる官能基を含有していればよく、これらの官能基がどのように導入されているかは特に限定はされないが、下記一般式i~iiiのいずれかで表される単量体から得られる構造単位の少なくとも1種を用いて導入されていることが好ましい。式~中、R1、R2、及びR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子例えば、フッ素、塩素、臭素等、又は炭素原子数が1~6のアルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等を表す。式~中、R1、R2、及びR3は、より好ましくは、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数が1~3のアルキル基であり、最も好ましくは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基である。式中、R2及びR3は、それぞれ水素原子であることが特に好ましい。式中、Xは、酸素原子-O-又はイミノ基-NH-を表し、酸素原子であることが好ましい。式i~ii中のLは、単結合又は2価の連結基を表す。該2価の連結基の例としては、2価の脂肪族基例えば、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、及び置換アルキニレン基、2価の芳香族基例えば、アリーレン基、及び置換アリーレン基、2価の複素環基及びそれらと酸素原子-O-、硫黄原子-S-、イミノ基-NH-、置換イミノ基-NR31-、ここでR31は脂肪族基、芳香族基又は複素環基又はカルボニル基-CO-のうちの一つ以上との組合せ等が挙げられる。前記2価の脂肪族基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。前記脂肪族基の炭素原子数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~10が更に好ましい。脂肪族基は不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、芳香族基および複素環基が挙げられる。前記2価の芳香族基の炭素原子数は、6~20が好ましく、6~15がさらに好ましく、6~10が最も好ましい。また、前記芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基及び複素環基を挙げられる。前記2価の複素環基は、複素環として5員環又は6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環のうち1つ以上が縮合していてもよい。また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基=O、チオキソ基=S、イミノ基=NH、置換イミノ基=N-R32、ここでR32は脂肪族基、芳香族基または複素環基、脂肪族基、芳香族基及び複素環基を挙げられる。Lは、単結合、アルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む2価の連結基であることが好ましい。オキシアルキレン構造は、オキシエチレン構造又はオキシプロピレン構造であることがより好ましい。また、Lはオキシアルキレン構造を2以上繰り返して含むポリオキシアルキレン構造を含んでいてもよい。ポリオキシアルキレン構造としてはポリオキシエチレン構造又はポリオキシプロピレン構造が好ましい。ポリオキシエチレン構造は、-OCH2CH2n-で表され、nは、2以上の整数が好ましく、2~10の整数であることがより好ましい。式~中、Zは、グラフト部位と別にチタンブラックと相互作用を形成しうる官能基を表し、カルボン酸、第三級アミノ基であることが好ましく、カルボン酸であることがより好ましい。また、Yは、メチン基又は窒素原子を表す。式中、R4、R5、及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子例えば、フッ素、塩素、臭素等、または炭素原子数が1~6のアルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等、-Z、又は-L-Zを表す。ここでL及びZは、上記におけるL及びZと同義であり、好ましい例も同様である。R4、R5、及びR6としては、それぞれ独立に水素原子、又は炭素数が1~3のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。本発明においては、一般式iで表される単量体として、R1、R2、及びR3がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であって、Lがアルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む2価の連結基であって、Xが酸素原子又はイミノ基であって、Zがカルボン酸である化合物が好ましい。また、一般式iiで表される単量体として、R1が水素原子又はメチル基であって、Lがアルキレン基であって、Zがカルボン酸であって、Yがメチン基である化合物が好ましい。また、一般式iiiで表される単量体として、R4、R5、及びR6がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であって、Lが単結合又はアルキレン基であって、Zがカルボン酸である化合物が好ましい。以下に、式~で表される単量体化合物の代表的な例を示す。該単量体の例としては、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物例えば、メタクリル酸2-ヒドロキシエチルとコハク酸無水物の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物とフタル酸無水物の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物とテトラヒドロキシフタル酸無水物の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物と無水トリメリット酸の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物とピロメリット酸無水物の反応物、アクリル酸、アクリル酸ダイマー、アクリル酸オリゴマー、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、4-ビニル安息香酸、ビニルフェノール、4-ヒドロキシフェニルメタクリルアミドなどが挙げられる。特定樹脂中における酸性基を有する単量体などのチタンブラックと相互作用を形成しうる官能基の含有量は、チタンブラックとの相互作用、分散安定性、及び現像液への浸透性の観点から、特定樹脂に対して0.05質量~90質量が好ましく、1.0質量~80質量がより好ましく、10質量~70質量が更に好ましい。さらに、本発明に係るチタンブラックの分散組成物に含まれる特定樹脂は、画像強度などの諸性能を向上する目的で、本発明の効果を損なわない限りにおいて、前記グラフト部位を有する構造単位及びチタンブラックと相互作用を形成しうる官能基に加えて、さらに種々の機能を有する他の構造単位、例えば、分散物に用いられる分散媒との親和性を有する官能基、などを有する構造単位を共重合成分として含むことができる。特定樹脂に共重合可能な共重合成分の例としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などから選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられる。これらを1種あるいは2種以上用いることができ、特定樹脂中、これら共重合成分の好適に使用される含有量は、0モル以上90モル以下であり、特に好ましくは、0モル以上60モル以下である。含有量が前記の範囲において十分なパターン形成が得られる。特定樹脂を合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2-メトキシエチルアセテート、1-メトキシ-2-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。これらの溶媒は単独で用いても2種以上混合して用いてもよい。このような特定樹脂の具体例としては、以下の例示化合物1~54が挙げられる。なお、各構成単位主鎖部分の添数字は質量である。本発明のチタンブラック分散物における分散剤の含有量としては、被分散体チタンブラック粒子からなる被分散体及び他の着色剤を含むの全固形分質量に対して、1質量~90質量が好ましく、3質量~70質量がより好ましい。また、本発明の感光性樹脂組成物における分散剤の含有量としては、被分散体チタンブラック粒子からなる被分散体及び他の着色剤を含むの全固形分質量に対して、1質量~90質量が好ましく、3質量~70質量がより好ましい。C有機溶媒本発明のチタンブラック分散物及び感光性樹脂組成物は、有機溶媒を含有する。有機溶媒の例としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3-メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられるが、これらに限定されない。有機溶媒は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。有機溶媒を2種以上組み合わせて用いる場合、特に好ましくは、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される2種以上で構成される混合溶液である。チタンブラック分散物に含まれる有機溶媒の量としては、該分散物の全量に対し、10質量~80質量であることが好ましく、20質量~70質量であることがより好ましく、30質量~65質量であることが更に好ましい。また、感光性樹脂組成物に含まれる有機溶媒の量としては、該組成物の全量に対し、10質量~90質量であることが好ましく、20質量~80質量であることがより好ましく、25質量~75質量であることが更に好ましい。D光重合性化合物本発明の感光性樹脂組成物は、光重合性化合物を含有する。光重合性化合物としては、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100°C以上である化合物であることが好ましい。少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100°C以上である化合物の例としては、例えば、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ヘキサンジオールメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリロイルオキシプロピルエーテル、トリアクリロイロキシエチルイソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後メタアクリレート化したもの、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールのポリメタアクリレート化したもの、特公昭48-41708号、特公昭50-6034号、特開昭51-37193号の各公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号の各公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とメタアクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートを挙げることができる。更に、日本接着協会誌Vol.20、No7、300~308頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用できる。また、特開平10-62986号公報において一般式1及び2としてその具体例と共に記載の、前記多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後にメタアクリレート化した化合物も用いることができる。中でも、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、及びこれらのアクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介してジペンタエリスリトールに連結している構造が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。また、特公昭48-41708号、特開昭51-37193号、特公平2-32293号、及び特公平2-16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号、特公昭56-17654号、特公昭62-39417号、及び特公昭62-39418号の各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63-277653号、特開昭63-260909号、及び特開平1-105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。市販品としては、ウレタンオリゴマーUAS-10、UAB-140商品名、日本製紙ケミカル株製、UA-7200、95Pb-Sn、Pbフリー半田として、Sn-Ag、Sn-Cu、Sn-Ag-Cuなどを用いて形成する。ハンダボール60は、例えば、直径100μm~1000μm好ましくは直径150μm~700μmの球状に形成する。内部電極26及び素子面電極27は、例えば、CMPChemicalMechanicalPolishing、またはフォトリソグラフィー及びエッチングにより、Cu等の金属電極として形成する。金属電極23は、例えば、スパッタ、フォトリソグラフィー、エッチング、及び電解めっきにより、Cu、Au、Al、Ni、W、Pt、Mo、Cu化合物、W化合物、Mo化合物等の金属電極として形成する。金属電極23は、単層構成でも2層以上からなる積層構成であってもよい。金属電極23の膜厚は、例えば、0.1μm~20μm好ましくは0.1μm~10μmとする。シリコン基板10としては特に限定されないが、基板裏面を削ることによって薄くしたシリコン基板を用いることができる。基板の厚さは限定されないが、例えば、厚み20~200μm好ましくは30~150μmのシリコンウエハを用いる。シリコン基板10の貫通孔は、例えば、フォトリソグラフィー及びRIEReactiveIonEtchingにより形成する。以上、前記構造Kの具体例である固体撮像素子基板100について図1及び図2を参照して説明したが、前記構造Kは図1及び図2の形態に限られず、裏面側に金属電極及び遮光膜を有する構成であれば、その構成に特に限定はない。以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部は質量基準である。また、室温は25°Cを指す。<基板A及び基板Bの準備>基板Aの準備前記構造Kの固体撮像素子裏面にソルダーレジスト層を有しない形態における現像残渣の検証用として、以下のようにして基板Aを準備した。即ち、シリコン基板上に、微細加工フォトリソグラフィー技術とスパッタ法によりTiメッキシード層を形成し、電解めっき法を用いて、厚さ5μm、直径10μmの銅Cu製の円形金属電極を得た。以上により、図3の概略断面図に示すような、シリコン基板上300に円形金属電極310を複数有する構成の基板Aを得た。基板Bの準備前記構造Kの固体撮像素子裏面にソルダーレジスト層を有する形態における現像残渣の検証用として、以下のようにして基板Bを準備した。前記基板Aの円形金属電極形成面側に、市販のソルダーレジストを用いてフォトリソグラフィーにより、パターン状のソルダーレジスト層を形成した。ソルダーレジスト層のパターンは、図5に示すように、金属電極の一部を露出する開口部を有するパターンとした。以上により、図5の概略断面図に示すような、シリコン基板300上に円形金属電極310及びソルダーレジスト層330をそれぞれ複数有する構成の基板Bを得た。<分散剤1の合成>500mL三口フラスコに、ε-カプロラクトン600.0g、及び2-エチル-1-ヘキサノール22.8gを導入し、窒素を吹き込みながら、攪拌溶解した。前記フラスコに、モノブチル錫オキシド0.1gを加え、フラスコの内容物を100°Cに加熱した。8時間後、ガスクロマトグラフィーにて原料が消失したのを確認し、その後フラスコの内容物を80°Cまで冷却した。2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール0.1gを添加した後、2-メタクリロイロキシエチルイソシアネート27.2gを添加した。5時間後、1H-NMRにて原料が消失したのを確認後、室温まで冷却し、固体状の前駆体M1下記構造を200g得た。得られた物質がM1であることは、1H-NMR、IR、質量分析により確認した。前記前駆体M1を30.0gと、NKエステルCB-12-メタクリロイロキシエチルフタル酸、新中村化学工業株製を70.0gと、ドデシルメルカプタン2.3gと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート233.3gとを、窒素置換した三口フラスコに導入し、攪拌機新東科学株:スリーワンモータにて攪拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して75°Cまで昇温した。これに、2,2-アゾビス2-メチルプロピオン酸ジメチル和光純薬株製のV-601商品名0.2gを加え、75°Cにて2時間加熱攪拌を行なった。2時間後、さらにV-601を0.2g加えて、3時間加熱攪拌し、下記分散剤1の30溶液を得た。分散剤1の組成比、酸価、及び重量平均分子量Mwは、以下の通りである。なお、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフGPCにより測定し、ポリスチレン換算で算出した値である。GPCによる測定は、HLC-8020GPC東ソー株製を用い、カラムとしてTSKgelSuperHZM-H、TSKgelSuperHZ4000、TSKgelSuperHZ200東ソー社製を用いて行った。組成比:x=35質量、y=65質量酸価:80mgKOH/gMw:30,000[実施例1、比較例1]<チタンブラック分散物A及びBの調製>下記組成1に示す成分を、攪拌機IKA社製EUROSTARを使用して、15分間混合し、分散物aを得た。組成1チタンブラック平均粒径30nm以下のチタンブラック25部分散剤1の30溶液25部プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA溶剤50部なお、上記平均粒径30nm以下のチタンブラックは、以下のようにして得た。粒径15nmのテイカ製酸化チタンMT-150A商品名を100g、BET表面積300m2/gのエボニック製シリカ粒子AEROPERL登録商標300/30を25g、およびビックケミー社製Disperbyk190商品名を100g秤量し、イオン電気交換水71gを加えてKURABO製MAZERSTARKK-400W商品名を使用して、公転回転数1360rpm、自転回転数1047rpmにて20分間処理することにより均一な混合物水溶液を得た。この水溶液を石英容器に充填し、株式会社モトヤマ製小型ロータリーキルンを用いて酸素雰囲気中で920°Cに加熱した後、窒素で雰囲気を置換し、同温度でアンモニアガスを100mL/minで5時間流すことにより窒化還元処理を実施した。終了後回収した粉末を乳鉢で粉砕し、粉末状の平均粒径30nm以下のチタンブラックを得た。得られた分散物aに対し、寿工業株製のウルトラアペックスミルUAM015商品名を使用して下記条件にて分散処理を行った。<分散条件>ビーズ径:直径0.05mmビーズ充填率:75体積ミル周速:8m/sec分散処理する混合液量:500g循環流量ポンプ供給量:13kg/hour処理液温度:25°C~30°C冷却水:水道水ビーズミル環状通路内容積:0.15Lパス回数:90パス以上により、実施例1のチタンブラック分散物Aを得た。また、実施例1において用いたチタンブラックを、三菱マテリアル株製13M-T商品名に変更した以外は、実施例1における分散物aと同じ組成の分散物bを用意し、実施例1と同じ分散処理を施すことにより、比較例1のチタンブラック分散物Bを得た。<チタンブラック分散物A及びBの評価>得られたチタンブラック分散物A及びBの各々を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いて500倍希釈し、カーボン薄膜上に滴下、乾燥させて、TEM株日立ハイテクノロジーズ製により、各分散物中に含まれる粒子被分散体の形態観察写真を撮影した。得られた写真から、粒子400個について外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、度数分布を評価した。また、各分散液に含有されるチタンブラック粒子被分散体の平均粒径については、TEM写真より粒子像を400個サンプリングして、外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、その平均値として求めた。その結果、実施例1のチタンブラック分散物Aでは、含有されるチタンブラック粒子の平均粒径は19nmであり、全チタンブラック粒子中、30nm以下の粒径を有するものは、95であった。また、比較例1のチタンブラック分散物Bでは、含有されるチタンブラック粒子の平均粒径は50nmであり、全チタンブラック粒子中、30nm以下の粒径を有するものは、6であった。これらの結果を表1~表3に示した。[実施例2、比較例2]<黒色硬化性組成物感光性樹脂組成物の調製>下記組成2の成分を攪拌機で混合して、実施例2の黒色硬化性組成物Aを調製した。組成2ベンジルメタクリレート/メチルメタクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体50/15/5/30モル比バインダーポリマー1.6部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート重合性化合物2.0部ペンタエリスリトールトリアクリレート重合性化合物1.0部下記構造の重合開始剤光重合開始剤0.3部チタンブラック分散物A24部プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA10部エチル-3-エトキシプロピオネートEEP8部また、上記組成2の成分のうち、チタンブラック分散物Aを、チタンブラック分散物Bに変更した以外は、黒色硬化性組成物Aと同様にして、比較例2の黒色硬化性組成物Bを調製した。<遮光膜の作製>上記で得られた黒色硬化性組成物A又はBを、上記基板Aの金属電極が形成された側の面にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で120°Cで2分加熱して黒色硬化性組成物塗布層を得た。次いで、得られた塗布層を、i線ステッパーを用い、100mJ/cm2、200mJ/cm2、300mJ/cm2、400mJ/cm2、500mJ/cm2の各露光量にてパターン露光した。次に、露光後の塗布層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド0.3水溶液を用い、23°C60秒間パドル現像を行った。その後、現像後の塗布層に対して、スピンシャワーにてリンスを行いさらに純水にて水洗し、パターン状の遮光膜を得た。ここで遮光膜は、図4に示すように、金属電極310の一部を露出する開口部を有するパターン図4中の遮光膜320とした。[実施例3、比較例3]実施例2及び比較例2において、基板Aに変えて基板Bを用いた以外は、実施例2及び比較例2同様にして、パターン状の遮光膜を形成した。ここで遮光膜は、図6に示すように、シリコン基板300上に設けられた金属電極310の一部を露出する開口部を有するパターン詳しくは、基板法線方向からみたときにソルダーレジスト層330と重なるパターン;図6中の遮光膜340とした。<評価>実施例2、3、及び比較例2、3にて得られたパターン状の各遮光膜の形成において、光学顕微鏡を用いて剥れが発生しなくなる露光量を求めた。露光量が少ない程、遮光膜と基板との密着性がより有効であることを示す。実施例2、3、及び比較例2、3にて得られたパターン状の各遮光膜硬化膜中における被分散体の粒径nmを、以下のように測定した。製膜された基板の断面を走査型電子顕微鏡株日立ハイテクノロジーズ製S-3400N商品名及びエネルギー分散型X線分析装置EDAX社製Genesis商品名で観察することで、形態観察写真及びTiとSiの元素マップを得た。得られた写真から、Ti元素が検出されている粒子400個について外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、度数分布を評価した。その結果、実施例2及び3で形成した遮光膜の各々において、遮光膜に含まれる被分散体のうち、30nm以下の粒径を有するものの割合は、95であった。また、比較例2及び3で形成した遮光膜の各々において、遮光膜に含まれる被分散体のうち、30nm以下の粒径を有するものの割合は、6であった。また、実施例2、3、及び比較例2、3にて得られたパターン状の各遮光膜露光量を表1及び2に記載するの現像部露出された金属電極表面について、走査型電子顕微鏡株日立ハイテクノロジー社製S-4800商品名により観察し、基板A又は基板Bにおける現像残渣の有無を評価した。基板A又は基板Bの円形金属電極上に10nm以上の現像残渣が観察されないことが、遮光膜として良好であることを示す。現像残渣の評価結果を、表1及び表2に示す。表1及び表2中、観察されないとは、円形金属電極上に10nm以上の現像残渣が観察されないことを示す。また、残渣ありとは、円形金属電極上に10nm以上の現像残渣が観察されたことを示す。また、パターン形成不可とは、硬化性が不足し、パターンの剥がれが発生したことを示す。表1及び表2に示すように、実施例の黒色硬化性組成物Aは、比較例の黒色硬化性組成物Bとの対比において、いずれの露光量においても硬化性に優れており、且つ、これを用いた遮光膜の形成においては、基板A及び基板Bのいずれを用いた場合についても現像残渣が観察されなかった。上記実施例2及び3の評価結果から、前記構造Kの固体撮像素子の裏面側の遮光膜を形成する際、該遮光膜を形成するための感光性樹脂組成物に由来する現像残渣を低減できることがわかった。[実施例4、比較例4]<赤外遮光能の評価>実施例2及び比較例2において、基板Aに変えてガラス基板Corning社製1737を用い、パターン露光ではなく全面露光し、ガラス基板上にベタの遮光膜膜厚2μmを形成し、実施例4及び比較例4の遮光膜を得た。得られた遮光膜について、島津社製UV3600商品名を用いて各波長域における透過率を測定した。測定結果から、700nm~1200nmの波長領域における最大透過率を求めた。表3に示すように、実施例4及び比較例4では赤外域における最大透過率が低く、黒色硬化性組成物Aが、チタンブラックの優れた赤外遮光能を維持したまま、現像残渣低減及び硬化性向上の効果を有することが確認された。[実施例5、6、比較例5、6]まず、上記黒色硬化性組成物Aを準備した。次に、下記表4に示す平均粒径及び粒径30nm以下の被分散体の割合の、黒色硬化性組成物C、D、E、Fを準備した。黒色硬化性組成物C、D、E、Fにおける、平均粒径及び粒径30nm以下の被分散体の割合の調整は、黒色硬化性組成物Aチタンブラック分散物Aに用いた平均粒径30nm以下のチタンブラック25部のうちの一部分を、市販のチタンブラック三菱マテリアル電子化成株製12S商品名に置き換えることより行った。<現像残渣の評価>上記と同様の工程により実施例5、6、比較例5、6の遮光膜の現像部露出された金属電極表面について、走査型電子顕微鏡株日立ハイテクノロジーズ製S-3400N商品名及びエネルギー分散型X線分析装置EDAX社製Genesis商品名により、形態観察写真及びTiとSiの10μm×10μmサイズの元素マップを撮影した。得られた写真から、Ti元素が検出されている直径10nm以上の粒子状物質について個数を評価し、度数分布を評価した。得られた結果より、下記基準に従って現像残渣を評価した。評価結果を表4に示す。-評価基準-A個数が10個未満であった。B個数が10個以上50個未満であり、実用上許容範囲内であった。C個数が50個以上100個未満であった。D個数が100個以上であった。<赤外遮光能の評価>実施例2、5、6及び比較例5、6において、基板A、Bに変えてガラス基板Corning社製1737を用い、パターン露光ではなく全面露光し、ガラス基板上にベタの遮光膜膜厚2μmを形成した。得られた遮光膜について、島津社製UV3600商品名を用いて各波長域における透過率を測定した。測定結果から、700nm~1200nmの波長領域における最大透過率を求めた。得られた結果より、下記基準に従って赤外遮光能を評価した。評価結果を表4に示す。-評価基準-A:最大透過率が7未満であった。B:最大透過率が7以上10未満であり、実用上許容範囲内であった。C:最大透過率が10以上15未満であった。D:最大透過率が15以上であった。表4に示すように、粒径30nm以下の被分散体の割合が90以上であるときに、極めて優れた現像残渣低減の効果が得られることが確認された。"