透明基板上に、複数の着色層からなる着色画素を所定のパターンに配列して構成された、カラーフィルタの製造における、ブラックマトリックス及び着色層のパターン現像工程において発生する、現像残渣の除去方法であって、着色層に関しては、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及び光重合開始剤を含有する着色組成物を用いて着色塗膜を形成し、ブラックマトリックスに関しては、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及びオキシムエステル基を有する光重合開始剤を含有する着色組成物を用いて着色塗膜を形成し、前記塗膜を形成した後、フォトリソ工程における露光、現像を行い、次いで加熱し硬化して一つの色を形成し、次いで同様の工程で他の色を順次形成し、次いで透明導電膜を形成し、前記透明導電膜形成前に、前記カラーフィルタ基板表面上にエキシマUVを照射し、次いで基板洗浄用ブラシを用いて、前記感光性樹脂の残渣を分解、洗浄する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。前記、現像残渣を分解、洗浄する工程後、基板上の有機物残渣由来による炭素と基板の主成分である珪素の元素濃度の比率及び表面粗さを測定し、その比率が3以下で、且つ着色層上の表面粗さが10nm以下であるものを選択することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。前記エキシマUVの照射量が100~500mj/cm2の範囲であり、次いでブラシシャフトの表面をチャネル式ナイロンブラシで埋め尽くす基板洗浄ブラシを用いて、前記着色層とブラックマトリックスの現像残渣を分解、洗浄することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカラーフィルタの製造方法。請求項1~3のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタを備えたことを特徴とする液晶表示装置。本発明は、これら問題を解決するためになされたものであり、カラーフィルタの製造における、ブラックマトリックス及び着色層のパターン現像工程において発生する、現像残渣の影響による、膜剥がれや特性劣化といった不良を解消でき、さらに安価で、簡便で、品質の保証が可能なカラーフィルタの製造方法を提供することにある。上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、透明基板上に、複数の着色層からなる着色画素を所定のパターンに配列して構成された、カラーフィルタの製造における、ブラックマトリックス及び着色層のパターン現像工程において発生する、現像残渣の除去方法であって、着色層に関しては、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及び光重合開始剤を含有する着色組成物を用いて着色塗膜を形成し、ブラックマトリックスに関しては、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及びオキシムエステル基を有する光重合開始剤を含有する着色組成物を用いて着色塗膜を形成し、前記塗膜を形成した後、フォトリソ工程における露光、現像を行い、次いで加熱し硬化して一つの色を形成し、次いで同様の工程で他の色を順次形成し、次いで透明導電膜を形成し、前記透明導電膜形成前に、前記カラーフィルタ基板表面上にエキシマUVを照射し、次いで基板洗浄用ブラシを用いて、前記感光性樹脂の残渣を分解、洗浄する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。また、請求項2に記載の発明は、前記、現像残渣を分解、洗浄する工程後、基板上の有機物残渣由来による炭素と基板の主成分である珪素の元素濃度の比率及び表面粗さを測定し、その比率が3以下で、且つ着色層上の表面粗さが10nm以下であるものを選択することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法である。また、請求項3に記載の発明は、前記エキシマUVの照射量が100~500mj/cm2の範囲であり、次いでブラシシャフトの表面をチャネル式ナイロンブラシで埋め尽くす基板洗浄ブラシを用いて、前記着色層とブラックマトリックスの現像残渣を分解、洗浄することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカラーフィルタの製造方法である。また、請求項4に記載の発明は、請求項1~3のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタを備えたことを特徴とする液晶表示装置である。本発明により、カラーフィルタの製造における、ブラックマトリックス及び着色層のパターン現像工程において発生する、現像残渣の影響による膜剥がれや特性劣化といった不良を解消でき、従来実施してきた工程に比べより安価で、簡便で、シール強度が確保され、品質が保証により、パネルの高品質化が可能なカラーフィルタの製造方法を提供できる。以下、本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上に、前記着色組成物を用いて塗膜を形成する工程と前記塗膜の未硬化部分を除去してフィルタセグメントを形成する現像工程と透明導電膜の形成工程を具備する。以下、各工程に分けて説明する。<塗膜形成工程>塗膜形成工程は、スピンコート法やダイコート法によって、本発明の着色組成物を塗布し、必要に応じて余分な溶剤を除去することにより、基板上に塗膜を形成する。カラーフィルタの基板としては、可視光に対して透過率の高いソーダ石灰ガラス、低アルカリ硼珪酸ガラス、無アルカリアルミノ硼珪酸ガラスなどのガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂板が用いられる。また、ガラス板や樹脂板の表面には、パネル化後の液晶駆動のために、酸化インジウム、酸化錫などからなる透明電極が形成されていてもよい。<露光硬化工程>パターン露光は、プロキシミティーアライナーによる近接露光方式が好適で、フォトマスクの遮光パターンに対応する部位、すなわち、非露光部位は全く硬化せず、現像によって完全に除去されるようにした。<未硬化部分の除去工程>未硬化部分の除去工程、すなわち現像工程では、前記塗膜の未硬化部分を除去して着色層を形成する。未硬化部分の除去に際しては、アルカリ現像液として炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液が使用され、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリを用いることもできる。また、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添加することもできる。現像処理方法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ浸漬現像法、パドル液盛り現像法等を適用することができる。<焼成工程>本実施形態においては、フィルタセグメント及びブラックマトリックスを形成した後、加熱処理を施して熱硬化させる工程を設けることができる。加熱方法としてはコンベクションオーブン、ホットプレート、ハロゲンヒータ、IRオーブンによる加熱等が利用でき特に限定されるものではない。ここで、焼成条件は、200°C以上、250°C以下の温度で、10分以上、60分以下の時間、加熱する。<透明導電膜の形成工程>透明導電膜を形成する方法は、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングと呼ばれる真空成膜の手法が一般的である。透明導電膜には、インジウム、スズ、ガリウム、亜鉛などの金属酸化物の複合酸化物を用いることができる。本発明のカラーフィルタの透明電極である画素電極は、カラーフィルタ層の上部に設けられ、透明で導電性があり薄膜状に形成できる物質が用いられ、通常ITOインジウムと錫の複合酸化物膜が、他にはIZOインジウムと亜鉛の複合酸化物やSnO2二酸化錫膜などが選択され、各々スパッタリング法、真空蒸着法などのPVD法、あるいはCVD法などの一般的な成膜方法により形成することができる。また上記記載のカラーフィルタ製造方法は、ブラックマトリックスの開始剤にオキシムエステル基を用いたカラーフィルタの製造方法であり化学式1にて示した化合物を含有する。化学式1で表される化合物を含む光重合開始剤を含有することによって、プレベーク時の加熱温度を下げることができることで現像性及び現像耐性に優れ、カラーフィルタの生産安定性に優れた黒色着色組成物が得られる。この光重合開始剤を含有する感光性着色組成物を用いることにより、高濃度で薄膜な、高品質なブラックマトリックスを形成することができる。また、本発明に用いられるオキシムエステル基を有する光重合開始剤としては例えば下記化学式1で表される。化学式1において、R1は、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数6~30のアリール基、炭素原子数7~30のアリールアルキル基又はCNを表し、R2は、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数6~30のアリール基又は炭素原子数7~30のアリールアルキル基を表し、R3は、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数6~30のアリール基又は炭素原子数7~30のアリールアルキル基を表し、R3は、隣接するベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよい。R4及びR5は、それぞれ独立に、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数6~30のアリール基又は炭素原子数7~30のアリールアルキル基、CN又はハロゲン原子を表し、a及びbは、それぞれ独立に、0~3である。請求項2記載のカラーフィルタ製造方法は、透明導電膜形成前までのブラックマトリックス周縁部ガラス上の有機物残渣由来による炭素と基板の主成分である珪素の元素濃度の比率、すなわちC/Si比が3.0以下で且つ着色層の表面粗さRa:10nmの範囲内であることを特徴としており、これにより得られたカラーフィルタは、パネル化のプロセスにおいて残渣によるシール材剥がれ不良の発生がないカラーフィルタを得られる。また着色層上の表面粗さが高ければ光の散乱起因によるコントラストの低下を引き起こす大きな因子となるので10nm以下が好ましい。請求項3記載のカラーフィルタ製造方法は、エキシマUVを透明電極形成前に照射し、チャネル式ナイロンブラシで埋め尽くす基板洗浄ブラシを用いて残渣を除去する方法であり、フォトリソ工程などにより基板上に再付着などした残渣を除去することで基板と透明導電膜との密着性を向上させることができる、さらに着色層へのダメージも良好な結果が得られていることからエキシマUV照射と基板洗浄ブラシを用いる残渣の除去が好ましい。請求項3記載のカラーフィルタ製造方法は、EUVの照射量を特定したものであり、これまでの実験よりエキシマUVを照射したほうが着色層にダメージをほとんど与えずに残渣を除去できるので望ましく、またブラックマトリックス周縁部ガラス上においては汚れの大きさなどを考慮するとエキシマUV照射量は100mj~500mj/cm2の範囲内が望ましい。逆エキシマUV照射量が少ないとエキシマUV照射による効果が得られなくなる。このため鋭利検討した結果、上記範囲に至った。請求項4記載のカラーフィルタ製造方法は、上記したカラーフィルタの製造方法により製造したカラーフィルタを備える液晶表示装置を提案するものである。以下に、本発明の具体的実施例について説明する。<黒色感光性樹脂組成物1の調製>下記の材料を混合攪拌して黒色感光性樹脂組成物1固形分中の顔料濃度:41.0質量を得た。黒色顔料分散液TP-01/御国色素社製:28.8質量部樹脂V259-ME固形分56.1質量/新日鐵化学社製:9.3質量部モノマーM450/東亞合成社製:1.4質量部オキシム系光重合開始剤チバスペシャリティケミカル社製CGI-124:0.6質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:53.0質量部溶剤エチル-3-エトキシプロピオネート:5.9質量部レベリング剤BYK-330/ビックケミー社製:1.0質量部<ブラックマトリックスの形成>上記黒色感光性樹脂組成物1を、塗布膜厚が2.3μmになるようにスピンコーターで塗布して乾燥させた。この塗膜を減圧乾燥し、90°Cで1分間加熱した後、液晶表示装置における表示領域を画定する額縁部に対応する開口部が線幅10mmであり、表示領域内で個々の着色画素間を隔てる部分に対応する開口部が線幅10μmであるフォトマスクを介し、光源に超高圧水銀光灯ランプを用いて露光した露光量50mJ/cm2。次に、2.5炭酸ナトリウム水溶液で60秒間現像し、現像後よく水洗し、さらに乾燥後、230°Cで20分加熱処理してパターンを硬膜させ、ブラックマトリックスを形成した。得られたブラックマトリックスの表示領域の線幅は12μm、膜厚は1.4μmであり、額縁部の線幅は10mm、膜厚は1.90μmであった。<赤色顔料分散液の調製>C.I.PigmentRed254チバスペシャルティケミカルズ社製イルガーフォーレッドB-CF:14.0質量部C.I.PigmentRed177チバスペシャルティケミカルズ社製クロモフタールレッドA2B:1.6質量部アクリルワニス固形分20質量:84.4質量部を混合し、均一に攪拌した後、ガラスビーズを用いてサンドミルで5時間分散し、5.0μmフィルターでろ過して赤色顔料分散液を調製した。<緑色顔料分散液の調製>C.I.PigmentGreen36東洋インキ製造社製リオノールグリーン6YK6:12.7質量部C.I.PigmentYellow150バイエル社製ファンチョンファーストイエローY-5688:6.3質量部アクリルワニス固形分20質量:81質量部を混合し、赤色顔料分散液と同様にして緑色顔料分散液を調製した。<青色顔料分散液の調製>C.I.PigmentBlue15東洋インキ製造社製リアノールブルーES:19.4質量部C.I.PigmentViolet23BASF社製バリオゲンバイオレット5890:0.8質量部分散剤ゼネカ社製ソルスバース20000:2.3質量部アクリルワニス固形分20質量:77.5質量部を混合し、赤色顔料分散液と同様にして青色顔料分散液を調製した。<赤色感光性樹脂組成物の調製>下記の材料を均一になるように混合攪拌した後、5μmのフィルターでろ過して赤色感光性樹脂組成物固形分中の顔料濃度:26.0を得た。赤色顔料分散液:37.8質量部モノマーTMP3A/大阪有機化学工業社製:1.9質量部開始剤Irgacure379/チバスペシャルティケミカルズ社製:0.8質量部増感剤EAB-F/保土ヶ谷化学社製:0.1質量部溶剤シクロヘキサノン:59.4質量部<緑色感光性樹脂組成物の調製>下記の材料を均一になるように混合攪拌した後、5μmのフィルターでろ過して緑色感光性樹脂組成物固形分中の顔料濃度:40.0を得た。緑色顔料分散液:34.0質量部モノマーTMP3A/大阪有機化学工業社製:2.2質量部開始剤Irgacure907/チバスペシャルティケミカルズ社製:0.8質量部増感剤EAB-F/保土ヶ谷化学社製:0.1質量部溶剤シクロヘキサノン:62.9質量部<青色感光性樹脂組成物の調製>下記の材料を均一になるように混合攪拌した後、5μmのフィルターでろ過して青色感光性樹脂組成物固形分中の顔料濃度:21.5を得た。青色顔料分散液:25.1質量部モノマーTMP3A/大阪有機化学工業社製:4.3質量部開始剤IRGACURE907/チバスペシャルティケミカルズ社製:1.1質量部増感剤EAB-F/保土ヶ谷化学社製:0.2質量部溶剤シクロヘキサノン:69.3質量部<着色画素の形成>ブラックマトリックスを形成したガラス基板に、赤色感光性樹脂組成物を焼成後の膜厚が2.0μmになるように塗布して乾燥させた。この塗膜を減圧乾燥した後、画素部形成用のマスクを用い、光源に超高圧水銀灯ランプを用いて露光した露光量250mJ/cm2。次に、2.5炭酸ナトリウム水溶液で50秒間現像し、現像後よく水洗し、さらに乾燥後、230°Cで30分加熱処理してパターンを硬膜させ、ブラックマトリックスを形成した基板上に赤色画素を形成した。続いて、赤色画素と同じ線幅になるよう露光、現像条件を調整し、隣接した位置に緑色画素を形成した。さらに同様にして青色画素を形成し、ブラックマトリックスと赤色、緑色、青色の画素部を有するカラーフィルタを作製した。<エキシマUV洗浄工程>上記得られたカラーフィルタ形成基板上にエキシマランプを270mj/cm2照射した。その際の基板とエキシマランプの距離は3.0mmである。<ブラシ洗浄工程>上記得られたカラーフィルタ形成基板上にチャネル式ナイロンブラシを回転させ洗浄を行った。その際、ブラシの毛足は10mmであり、洗浄される基板に対するブラシの押し込み長さは1.0mmである。<残渣量<C/Si、膜キズ評価>上記工程で得られたカラーフィルタのブラックマトリックス周縁部ガラス基板上のC/Si比をXPS分析装置用いてC/SiCの測定を行い実施例1の結果を表1に示す。また光学顕微鏡の目視により膜キズの有無Dを評価した。後述記載の表1にはキズの発生がない状態を○、ある場合を×と評価し、実施例1の結果を表1に示す。<透明電極層の形成>得られたカラーフィルタの表面にスパッタリング法によりITO膜を形成した。ITOの膜厚は150nm、表面抵抗は15Ω/cm2であった。上記実施例により製造した着色部の表面粗さGは、Dektak3030アルバック機工社製にて測定し、実施例1の評価結果を表1に示す。上記実施例により製造したカラーフィルタにおける着色層及びブラックマトリックス周縁部額縁ガラス上に形成されたITO製膜部の密着性Eを評価した。評価法としては、JIS-Z-1522に準拠したセロハンテープを貼り付け、JIS-S-6050に準拠した消しゴムで貼り付け部分をこすりつけた。なお、後述の表1には、全く剥がれが見られない状態を○、カッターの切れ込み部分のみの剥がれを△、切れ込み部分からオーバーコート層が大きく剥がれる状態を×の3通りで評価し実施例1の結果を表1に示す。実施例1のエキシマUV照射量Cが410mjであること以外は実施例1と同じ方法で行った。その結果を表1に示す。<比較例1>実施例1のエキシマUV照射量Cが80mjであること以外は実施例1と同じ方法で行った。その結果を表1に示す。<比較例2>実施例1のエキシマUV照射量Cが0mjであること以外は実施例1と同じ方法で行った。その結果を表1に示す。<比較例3>実施例1と同じ工程により着色層作成した。その後、オスガー型研磨機研磨圧力10.5g/cm2、上定盤速度25rpm、上定盤と下定盤との回転差8rpm、揺動10mmでφ80mm~120mmの粒径分布を持つ焼結アルミナ砥粒の研磨剤を用いて研磨時間30秒処理を行った。次に上記実施例記載の、研磨処理の有無Aブラックマトリックス周縁部ガラス上のC/SiDと膜キズの有無Eを評価し、比較例3の結果を表1に示す。次に、上記記載の実施例と同じ手法により透明導電膜を形成しITO製膜部の密着性Fを評価し、比較例3の結果を表1に示す。<比較例4>実施例1の洗浄ブラシBを用いないこと以外は実施例1と同じ方法で行った。その結果を表1に示す。<比較例5>実施例1のエキシマUV照射量Cが510mjであること以外は実施例1と同じ方法で行った。その結果を表1に示す。<比較例6><黒色感光性樹脂組成物2の調製>下記の材料を混合攪拌して黒色感光性樹脂組成物2固形分中の顔料濃度:41.0質量を得た。黒色顔料分散液TP-01/御国色素社製:28.8質量部樹脂V259-ME固形分56.1質量/新日鐵化学社製:9.3質量部モノマーM450/東亞合成社製:1.4質量部開始剤Irgacure369/チバスペシャルティケミカルズ社製:0.6質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:53.0質量部溶剤エチル-3-エトキシプロピオネート:5.9質量部レベリング剤BYK-330/ビックケミー社製:1.0質量部<ブラックマトリックスの形成>上記黒色感光性樹脂組成物1を、塗布膜厚が2.3μmになるようにスピンコーターで塗布して乾燥させた。この塗膜を減圧乾燥し、120°Cで1分間加熱した後、液晶表示装置における表示領域を画定する額縁部に対応する開口部が線幅10ミリであり、表示領域内で個々の着色画素間を隔てる部分に対応する開口部が線幅10μmであるフォトマスクを介し、光源に超高圧水銀光灯ランプを用いて露光した露光量80mJ/cm2。次に、2.5炭酸ナトリウム水溶液で70秒間現像し、現像後よく水洗し、さらに乾燥後、230°Cで20分加熱処理してパターンを硬膜させ、ブラックマトリックスを形成した。得られたブラックマトリックスの表示領域の線幅は14μm、膜厚は1.4μmであり、額縁部の線幅は13mm、膜厚は1.90μmであった。上記ブラックマトリックス形成後、実施例1と同じ方法で行った。その結果を表1に示す。本発明により、着色層に、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及び光重合開始剤を含有する着色組成物を用いた塗膜、ラックマトリックスに関しては、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及びオキシムエステル基を有する光重合開始剤を含有する着色組成物を用い塗膜を用いて、透明導電膜形成前に、カラーフィルタ基板表面上にエキシマUVを270、410mj/cm2照射し、次いで基板洗浄用ブラシを用いることにより、現像残渣を分解、洗浄除去でき、平滑で、密着性優れたカラーフィルタの製造方法であることが分かった。