心室を含めた身体の器官の空洞の中で組織をアブレーションするためのデバイスであって、a偏向可能な遠位端部を有するガイド本体シースと、b器官の空洞の組織に強制的に接触させるように調節可能なガイドワイヤループを形成するための、前記ガイド本体の前記遠位端部から伸張可能なガイドワイヤと、c前記ガイドワイヤ上を進むことが可能な可撓性のガイドシャフト上に設置された、膨張可能なアブレーションバルーンデバイスと、d前記ガイドワイヤループのサイズ、形状及び配置を調節するためのループ制御要素とを備える、組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンを前記ガイドワイヤループに沿って進めたり、後退させたりすることで、組織と接触し、連続する損傷を形成することを可能にするバルーン制御要素をさらに備える、請求項1に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記ループ制御要素が引っ張りワイヤを含む、請求項1に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記ガイド本体がさらに、その前記遠位部に位置する膨張可能なガイド本体バルーンを備えることで、前記ガイド本体が、手術中に、貫通した空洞壁を通って後ろに後退するのを阻止する、請求項1に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記アブレーションバルーンデバイスの表面がさらに、複数のサーミスタと、電極を備えることで、温度、並びに損傷の有効性及び成熟のリアルタイムの電気的な活動の評定を監視する、請求項1に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンデバイスがさらに、遠位のバルーンの縁と近位のバルーンの縁に電極を備えることで、損傷とバルーンの位置、電気的な活動、及びバルーンを通過するインピーダンスをマーク付けする、請求項1に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記ループ制御要素がさらに、前記ガイドワイヤループをロックするための機構を備える、請求項1に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンが、組織をアブレーションするのに高周波を利用する、請求項1に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンが、任意選択で冷却液体を所望の圧力で前記バルーンの内部で循環させるためのシステムを含む冷却機構を含む、請求項8に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンが、複数のセグメント化され離間した導電アブレーション電極を備え、高周波電力を組織に接触する電極のみに選択式に送達することができるように構成された外面を有する、請求項8に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記アブレーション電極から絶縁された前記バルーンの表面に複数のサーミスタと記録電極をさらに備えることで、温度及びリアルタイムの電気的な活動の評定を監視する、請求項10に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記ガイド本体の近位部にあり、前記ガイドワイヤループ及び前記バルーンデバイスを制御するためのデバイスを収容する制御ハンドルをさらに備える、請求項1に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記制御ハンドルがさらに、前記バルーンの内部を流体の供給源につなぐための要素を備えており、当該流体が、ガス、液化ガス及び液体溶液を含めた充填及び再循環物質から成る群から選択される、請求項12に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記制御ハンドルがさらに、前記バルーンデバイスの位置を前記ガイドワイヤに沿って調節するために前記ガイドシャフトに接続された往復直線運動デバイスと、ガイドワイヤロック機構とを備える、請求項12に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記アブレーション電極が、前記バルーンの表面に塗装される、請求項10に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。サーミスタ及び記録電極が、前記ガイドワイヤに重なる可撓性のカテーテルシャフト上に設置された各々のアブレーション電極バルーンデバイスに関連付けられる、請求項11に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンが極低温デバイスである、請求項1に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンデバイスが、内側の極低温バルーンと、外側の絶縁バルーンとを備える、請求項17に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンデバイスがさらに、前記バルーンデバイスの側面に位置するリング電極を備える、請求項18に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンデバイスがさらに、前記バルーンの円周を囲むように分散された複数のサーミスタと、記録電極とを備える、請求項17に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記外側バルーンデバイスがさらに、前記バルーンの円周を囲むように分散された複数のサーミスタと、記録電極とを備える、請求項18に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンデバイスが、液体亜酸化窒素N2O及び他の好適な極低温流体から成る群から選択された極低温流体を利用するように設計されている、請求項17に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記外側バルーンが、吸収可能な絶縁ガスで満たされるように設計される、請求項18に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記外側バルーンが、複数の円周方向に分散され離間された高度に導電性の塗装された化合物からできた記録要素と、サーミスタとを備えることで、アブレーションの前後の電気的な活動及び温度を記録し、組織のアブレーション効率を評定する、請求項18に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。a偏向可能な遠位端部を有するガイド本体シースと、b前記遠位端部から伸張可能なガイドワイヤであって、前記ガイドワイヤを空洞内でアブレーションすべき組織に対して固定するための成形された遠位の固定部分を有する、ガイドワイヤと、c高周波及び極低温バルーンデバイスから選択され、膨張した、又はしぼんだ状態で前記ガイドワイヤ上を進むことができる膨張可能なアブレーションバルーンデバイスと、d前記ガイドワイヤの伸張を調節するためのガイドワイヤ制御要素とを備える、心室内で組織をアブレーションするためのデバイス。前記ガイドワイヤの前記遠位固定部分が、心臓の左心房の付属器官内に配置されるように設計されている、請求項25に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記ガイドワイヤの前記遠位固定部分が、肺静脈内に配置されて肺静脈を隔離する損傷を形成するように設計されており、膨張したとき、前記アブレーションバルーンが、前記肺静脈を満たしこれを閉鎖する、請求項25に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記アブレーションバルーンデバイスが、前記ガイドワイヤ上に重なる可撓性のカテーテルガイドシャフト上に設置される、請求項25に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。a偏向可能な遠位端部を有するガイド本体シースと、b展性があるが、相対的に剛性であり事前成形されたトルク可能な1対の支持シース要素であり、前記ガイド本体シースの前記遠位端から伸張可能な支持シース要素と、c前記2つの支持シース要素間に保持され、前記2つの支持シース要素によって支持される多電極可撓性記録/アブレーションカテーテルであって、それにより、前記支持シース要素が、この支持シース要素間に露出した前記カテーテルを組織に当てるための安定したアンカーを形成するようになる、多電極可撓性記録/アブレーションカテーテルとを備える、心室内で組織をアブレーションするためのデバイス。前記記録/アブレーションカテーテルがさらに、複数の離間した記録及びアブレーション電極要素を備える、請求項29に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記アブレーション電極要素の長さと間隔によって、連続する線形の損傷を形成することができる、請求項30に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記離間したアブレーション要素が、およそ5mmの長さであり、およそ2mmで離間された巻きワイヤを備える電極である、請求項35に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。記録/アブレーション電極間に配置されたサーミスタをさらに備える、請求項30に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記記録/アブレーションカテーテルが、前記事前成形されたトルク可能な前記1対の支持シース要素の一方に装着され、他方の支持シース要素に対して調節可能であることにより露出するカテーテルの長さを調節することができる、請求項29に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記展性があるが、相対的に剛性であり事前成形されたトルク可能な支持シース要素が、互いに対して事前成形されることで、離間した別個の心臓肺静脈又は他の離間した導管への挿入が可能になり、且つアブレーションカテーテルの位置決めと組織の接触を制御し調節するようにトルク可能になる、請求項29に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記2つの支持シース要素の前記配置によって、前記記録/アブレーションカテーテルを組織に対してしっかりと位置決めすることで、線形の損傷を形成し評定することが可能になる、請求項35に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記多電極可撓性記録/アブレーションカテーテルの一端に接続された引っ張りワイヤをさらに備えることで、その露出する長さを調節する、請求項34に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記事前成形された支持シース要素の位置を前記ガイド本体に対してロックするためのロックデバイスをさらに備える、請求項29に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記アブレーション電極に電力を供給し、前記カテーテルの前記測定デバイスからの信号を受信するための手段をさらに備える、請求項29に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記ガイド本体及び前記1対の支持シース要素の相対的な位置及び形状を調節し、前記位置を固定するための制御システムをさらに備える、請求項29に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。a中に開口を有する偏向可能な遠位端部を有するガイド本体シースと、b前記ガイド本体の前記遠位端部から伸張可能であり、複数の記録要素を備えたJ形状のタイプのループ遠位端部を有する誘導及び記録カテーテルと、c前記誘導及び記録カテーテルデバイス上を進むように設計され、前記誘導及び記録カテーテルデバイスによって誘導され安定される膨張可能なアブレーションバルーンデバイスと、d前記ガイド本体シースからの前記誘導及び記録カテーテルの伸張を調節するための制御要素とを備える、組織をアブレーションするためのデバイス。前記誘導及び記録カテーテルの前記J形状のループがさらに、肺静脈の開口部又は他の導管に挿入されるように設計されたループ部分を備え、前記ループ部分がさらに、複数の離間した記録及び刺激電極と、サーミスタを装備することで、アブレーション後の損傷の形成及び有効性を評定する、請求項41に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記膨張可能なアブレーションバルーンデバイスがさらに、近位リング電極を備えることで、前記Jカテーテルループ電極による損傷の妥当性と成熟を判定する、請求項42に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記膨張可能なアブレーションバルーンデバイスがさらに、前記バルーンに対する遠位と近位の両方に配置されたリング電極を備える、請求項43に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記アブレーションバルーンが、肺静脈の開口部に配置される際、肺静脈の閉鎖及びアブレーションを、前記遠位と近位のリング電極間で伝達される低電力で高周波数のエネルギーを印加することによる、前記リング電極間のインピーダンス測定値によって評定することができる、請求項44に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記アブレーションバルーンデバイスが、前記誘導及び記録カテーテル上を進み、前記アブレーションバルーンデバイスの前記誘導及び記録カテーテルに沿った位置を調節するための制御要素を含むバルーンカテーテルシャフトに接続される、請求項41に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記アブレーションバルーンデバイスが、高周波及び極低温から選択されたアブレーション技術を適用する、請求項41に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。アブレーション中の横隔神経機能を評定することを目的とし、高い強度のパルス電気刺激を与える要素と、横隔膜運動を監視するための要素とを含む手段をさらに備える、請求項41に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンデバイスがさらに、遠位及び近位のバルーンの縁に電極を備えることで、損傷及びバルーンの位置、電気的な活動及びバルーンを通過するインピーダンスを記録する、請求項5に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記ガイドワイヤループが、固定式の装着具及び引っ張りワイヤから選択された技術を利用して前記シースの前記端部に装着された相対的に柔軟な先端を含む、請求項1に記載のデバイス。前記多電極可撓性記録/アブレーションカテーテルの前記支持シース間に露出した長さが調節可能であり、前記多電極可撓性記録/アブレーションカテーテルの長さと形状が、前記カテーテルを前記支持シースの一方又は両方の内と外に伸張させることによって調節可能である、請求項29に記載のデバイス。伸張及び偏向制御装置と、前記カテーテル及び前記シースを所定の場所にロックするための手段とを含む制御ハンドルをさらに備える、請求項29に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記可撓性の記録/アブレーションカテーテルに接触するための制御ロッド/ワイヤをさらに備えることで、組織の接触、位置及びカテーテルの形状を調節するのを助ける、請求項29に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーンカテーテルが、1つの膨張可能なバルーンで構成される、請求項17に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記絶縁ガスが窒素N2を含む、請求項23に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。対象の器官の空洞内でのアブレーションによって円周方向の線形の損傷を形成する方法であって、a組織をアブレーションするためのデバイスを設けるステップであって、前記デバイスが、1偏向可能な遠位端部を有するガイド本体シース、2器官の空洞の組織に強制的に接触させるように調節することが可能なガイドワイヤループを形成する目的で、前記ガイド本体の前記遠位端部から伸張可能なガイドワイヤ、3前記ガイドワイヤ上を進むことが可能な極低温及び高周波アブレーションデバイスから選択された膨張可能なアブレーションバルーンデバイス、並びに4前記ガイドワイヤループのサイズ、形状及び配置を調節するためのループ制御要素を備えた、ステップと、b前記ガイドワイヤループが前記空洞の壁にきっちりと接触するまで、前記ガイドワイヤループを前記器官の空洞内で拡張させ、調節するステップと、c前記バルーンを膨張させ、前記バルーンカテーテルを徐々に前記ガイドワイヤループに沿うようにたどらせ、前記バルーンを利用して複数の位置において組織をアブレーションすることで、前記器官の空洞内に円周方向の損傷を形成するステップとを含む方法。前記空洞が心臓の左心房である、請求項56に記載の方法。前記バルーンの表面がさらに、複数のサーミスタと電極を備え、前記方法がさらに、温度と、リアルタイムの電気的な活動の監視作業、損傷の有効性及び成熟の評定を含む、請求項56に記載の方法。前記バルーンカテーテルが極低温デバイスであり、それらの間に絶縁媒体を含む内側の極低温バルーンと、外側の絶縁バルーンを有し、前記器官の空洞の内部に対して露出する前記バルーンの絶縁された表面を備え、前記外側バルーンを組織との境界面に移動させることで、非絶縁面を介してアブレーションされる組織に極低温流体を向けることが可能になり、前記外側バルーンのガス圧が、前記空洞内の圧力をちょうど超えるように維持される、請求項56に記載の方法。前記バルーンカテーテルが、高周波アブレーションデバイスであり、組織をアブレーションする間、冷却流体を一定の圧力で前記膨張したバルーン内で循環させるステップをさらに含む、請求項56に記載の方法。血管と器官の空洞との間の開口境界面において隔離する損傷を形成するために組織をアブレーションする方法であって、aアブレーションデバイスを設けるステップであって、前記装置が、1中に開口を備えた偏向可能な遠位端部を有するガイド本体シース、2前記ガイド本体シースの前記遠位端部から伸張可能な誘導及び記録カテーテルであって、複数の記録電極を備えたJ形状のタイプのループ遠位端部を有するカテーテル、3前記誘導カテーテルデバイス上を進むように設計され、前記誘導カテーテルによって誘導され安定される膨張可能なアブレーションバルーンデバイス、並びに4前記誘導及び記録カテーテルの前記ガイド本体からの伸張を調節するための制御要素を備えた、ステップと、b前記誘導及び記録カテーテルを伸張させ、対象の血管の開口に入るように前記誘導及び記録カテーテルを向けるステップと、c前記アブレーションバルーンが前記対象の血管の開口部内に配置されるまで、前記アブレーションバルーンが前記誘導及び記録カテーテル上を進むようにさせるステップと、d前記アブレーションバルーンを利用して、前記対象の血管の開口部において組織をアブレーションするステップと、e局所的エレクトグラムを記録することで、前記アブレーションの有効性と成熟を判定するステップとを含む方法。前記アブレーションバルーンが極低温デバイスであり、前記アブレーション措置においてバルーンを通過するインピーダンスを測定することで、血管の閉鎖と、損傷の有効性を監視するステップを含む、請求項61に記載の方法。前記血管が肺静脈であり、アブレーション中に横隔神経機能を評定するステップをさらに含む、請求項61に記載の方法。組織をアブレーションし、器官の空洞につながる複数の血管の開口の間に線形の損傷を形成する方法であって、a組織をアブレーションするためのデバイスを設けるステップであって、前記デバイスが、1偏向可能な遠位端部を有するガイド本体シース、2展性があるが、相対的に剛性であり事前成形されたトルク可能な1対の支持シース要素であり、前記ガイド本体の前記遠位端から伸張可能な支持シース要素、及び3前記2つの伸張可能な支持シース要素間に保持され、前記2つの伸張可能な支持シース要素よって支持される多電極可撓性記録/アブレーションカテーテルであって、それにより、前記支持シース要素が、この支持シース要素間に露出した前記カテーテルのための安定したアンカーを形成するようになる、多電極可撓性記録/アブレーションカテーテルを備えた、ステップと、b前記トルク可能な支持シース要素を調節し、この支持シース要素を1対の血管開口部に挿入し、前記多電極の可撓性記録/アブレーションカテーテルが前記支持シース要素間で組織に対して押しつけられるステップと、c前記記録/アブレーションカテーテルを利用して前記開口部間に損傷を形成するステップとを含む方法。前記記録/アブレーションカテーテルの長さを所望通りに調節するステップを含む、請求項64に記載の方法。局所的なエレクトログラム振幅の低下と、前記局所的エレクトログラムの最大限の周波数スペクトルに基づいて、RF電力を監視し終了させることによって損傷の成熟を判定するステップをさらに含む、請求項60に記載の方法。温度の上昇率、dT/dtの制御に基づいて、RF電力出力を変調するステップを含む、請求項60に記載の方法。アブレーションに利用される高周波RF電力又は他のエネルギー源が、電気的な活動の振幅の局所的な低下、周波数スペクトルの変化又は温度変化率、又はそれらのいずれかの組合せから選択された特定のパラメータに基づいて、アブレーションエネルギーに応答する局所的なエレクトログラムを利用して、組織にしっかりと接触する電極に送達されるように自動的に調節されるように、前記バルーンカテーテルが制御される、請求項56に記載の方法。前記カテーテルガイドシャフトがほぼ7Fである、請求項1に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記外側バルーンの圧力を調整することで拡張を維持し、さらに強制的な組織との接触の地点でのガスの排出を可能にする手段を含む、請求項23に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。心室を含めた身体の器官の空洞内で組織をアブレーションするためのデバイスであって、a偏向可能な遠位端部を有するガイド本体又はシースと、b様々な位置及び解剖学的な場所において、器官の空洞の組織に強制的に接触するように調節することが可能なガイドワイヤループを選択的に形成する目的で、前記ガイド本体の前記遠位端部から伸張可能なガイドワイヤと、c前記ガイドワイヤ上を進むことが可能な膨張可能な拡張デバイスを含む前記ガイド本体におけるアブレーション部分とを備え、d前記膨張可能な拡張デバイスが複数のリボン状の外側導電アブレーション要素を含み、前記複数のリボン状の外側導電アブレーション要素は、前記膨張可能な拡張アブレーションデバイスがしぼんだ又はつぶされたとき、前記複数のリボン状の外側導電アブレーション要素が重なるようなやり方で、前記拡張アブレーションデバイスの外側周辺部から隔てられ、前記拡張アブレーションデバイスの周りに配置されている、デバイス。前記膨張可能な拡張デバイスが、前記ガイドワイヤに沿って進む前記ガイド本体シースの一部であり、前記ガイド本体シースのセグメントをつないでいる、請求項71に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記バルーン要素が膨張したとき、前記アブレーション要素が切り離される、請求項71に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記複数のリボン状の導電アブレーション要素が、らせん形のパターンで配置される、請求項71に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記複数の導電アブレーション要素がそれぞれ、温度及び電気的な活動を監視するためのデバイスを含む、請求項71に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記複数のリボン状の導電アブレーション要素が、十字形のパターンで配置されることで、円周方向のアブレーションパターンを強化する、請求項71に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記膨張可能な拡張デバイスを前記ガイドワイヤループに沿って進めたり、後退させたりするための制御要素をさらに含むことで、組織への接触及び連続する損傷の形成が可能になる、請求項71に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記ループ制御要素が引っ張りワイヤを含む、請求項77に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記ガイド本体がさらに、その遠位部に位置する膨張可能なガイド本体バルーンを備えることで、前記ガイド本体が、手術中に、貫通した空洞の壁を通って後ろに後退するのを阻止する、請求項71に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記ループ制御要素がさらに、前記ガイドワイヤループをロックし、前記膨張可能な拡張デバイスの前記ガイドワイヤ上での移動を制御することができる機構を備える、請求項71に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記アブレーション要素が組織をアブレーションするのに高周波を利用しており、前記膨張可能な拡張デバイスが、前記バルーンの内部で所望の圧力で冷却液体を循環させるためのシステムを含む冷却機構を含む、請求項71に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。前記複数のリボン状の導電アブレーション要素が、前記バルーンが膨張後につぶされたとき、重なり合う構成に再び戻る、請求項73に記載の組織をアブレーションするためのデバイス。選択された身体の器官内で組織をアブレーションする方法であって、a対象の器官内の選択された場所に対して、請求項71に記載される組織をアブレーションするためのデバイスを進めるステップと、b前記膨張可能な拡張デバイスを膨張させるステップと、c前記拡張したデバイスにおいて選択されたアブレーション要素に通電するステップと、d前記アブレーション要素におけるデバイスを利用して、前記選択した場所における温度と、電気的な活動を監視することで、アブレーションの有効性及び安全性を確認するステップと、eアブレーションが確認されたとき、前記アブレーション要素の電気を遮断し、任意選択で複数の選択した場所においてaからdを繰り返し、この措置が終了した後、前記要素の電気を遮断し、前記デバイスを後退させるステップとを含む方法。本発明によって、心房の標的組織の複数の領域を対象とした複数のカテーテルベースのアブレーション装置の実施形態が提供されており、これは、アブレーション要素と組織とのしっかりとした一定の接触を特徴とし、効果的な連続する線形の損傷を形成することが可能である。本発明のアブレーションデバイスは全て、所望の空洞に進入するために心臓隔壁組織を貫通することが可能なメインガイド本体、又は偏向可能なシースの遠位部から延びている。経中隔ガイド本体シースデバイスは当業者に知られている。ガイド本体又はシースの遠位部は、好ましくはさらに、膨張可能なバルーンデバイスを装備することで、手術中に、シースが貫通した隔壁を通って後ろに後退するのを阻止する。これは結果として、突出するガイドワイヤなどによって隔壁に損傷を与える可能性がある。このような保護バルーンは、視覚化するために、塩水、又は造影剤と混ぜ合わされた塩水などの害のない溶液を利用して膨張させることができる。本概念のアブレーションデバイスのいくつかの実施形態は、膨張可能なバルーンの形態であり、これは、偏向可能なカテーテルシースの一端に固定された拡張可能なガイドワイヤループを利用して装着され位置決めされる。ガイド本体又はシースから出ているガイドワイヤループの長さは調整可能であり、力によって隣接する心房組織に当たるように押し付け、しっかりと付着するように調節することができる。バルーンアブレーションデバイスは、バルーンがループに沿った所望の位置になるまで、しぼんだ状態でガイドワイヤ上を進めるように適合されている。バルーンは、ひとたび適切に位置決めされると、拡張して、広がった状態でガイドワイヤに沿って移動及び位置決めされることにより、標的組織をアブレーションするために高周波RF又は極低温エネルギーを送達することができる。ガイドワイヤループ又は装着された引っ張り線の一端が、ガイドの端部をシースの遠位端に対して固定する。心房内のガイドワイヤループは、追加のガイドワイヤを制御ハンドルからシースに挿入することによって拡張させることができ、又はガイドワイヤをシースから外に出るように引っ込めることによって収縮させることができる。このような作用を利用して、ガイドワイヤループのサイズ及び配置を調節することができる。バルーンの実施形態は概して、2つ以上の種類、すなわち、高周波RFエネルギーを利用して熱により組織をアブレーションするもの、及び極低温を利用して凍結させることによって組織をアブレーションするものとすることができる。しかしながらレーザエネルギーなどの他のエネルギー形態を利用することもできる。高周波RFアブレーションバルーンは、複数のセグメント化されたRFアブレーション電極、及び温度を測定するためのサーミスタを備えた外面を有する。RFアブレーションは、RF電力、電極温度、並びに局所的なエレクトログラム振幅及びパーセントの変化の順守に関して厳重に監視される。アブレーションされた組織を過剰に加熱することで深刻な問題が生じる場合があるため、RF電極は、好ましくは、RFを印加する間、冷却用の塩水溶液などより簡単に場所を追跡するために造影剤を含む場合もあるを循環させることによって冷却される。アブレーションバルーンにはいくつかの要素が含まれており、これらの要素によって、アブレーション措置における三次元の位置、組織の温度及び電気的活動局所的エレクトログラムを判定することができる。埋込み式の温度及び圧力センサによって、圧力と表面温度を正確に測定し監視することができる。バルーン温度は、塩水の循環によって調節することができ、この塩水を利用してバルーンを冷却することで、より高いパワーを送達することで、必要に応じてより深い損傷を形成することが可能になる。極低温バルーンの実施形態もまた、ガイドワイヤ送達及び追跡システムにわたって送達されるように設計されている。極低温バルーンは、好ましくは、2つの同心のバルーン、すなわち内側及び外側バルーンで構成される。内側バルーンは、圧力下の極低温流体、通常は液体亜酸化窒素N20を受け取り、収容するように適合されており、外側バルーンは、心房内の通常の圧力をわずかに上回る圧力で、窒素N2又は二酸化炭素CO2などの血液中に高度に吸収される低圧の絶縁ガスで満たされている。この方法において、外側バルーンは、内側バルーンの中にある極低温流体を温かい心房の血流から隔離する機能を果たしており、これにより血液に対する作用を抑え、かなり大きな極低温パワーを標的組織に向けることが可能になる。比較的剛性のガイドワイヤループを拡張させることで、内側バルーンを組織に向けてそれに当たるように押しやることで、組織が結合している外側バルーン内の絶縁ガスが排出され、2つのバルーンが互いに、且つ組織としっかりと接触することで、その境界面において対象となる組織に最大の凍結作用を向けることが可能になる。これに加えて、2つのリング電極が好ましくは、遠位及び近位端に配置されることで、現在既知である3Dガイドシステムを利用したカテーテルの電気的記録と位置決めの両方が可能になる。加えて上述したように、埋込み式のサーミスタ及び追加の電気的記録電極が、外側バルーンの表面に塗装されることで、心臓の電気マッピング及び損傷の評定に利用することができる。より簡素な実施形態は、セグメン化された塗装表面電極とサーミスタとを備える単一層の極低温バルーンで構成される場合もある。別の固定手法には、左心房の付属器官内に剛性のガイドワイヤの柔軟な遠位部を埋め込み、アブレーションバルーンがガイドワイヤ上をたどることで線形の損傷を形成する工程が含まれる。同一タイプのRFアブレーションカテーテルは、同一又は同様のガイドワイヤによってPV内に誘導され、円周方向のPV隔離損傷を形成することができる。本発明を利用して、肺静脈PVの入り口を多電極システム用のベースアンカーとして利用することで、肺静脈PV間に線形の損傷を形成するカテーテルシステムの実施形態も提供される。このような線形の損傷は、心房細動AFを実際に示すものとして認識されてきた領域である、PV間の左心房の後壁を電気的に隔離する必要がある。固定される肺静脈の実施形態には、経中隔シース、名義上は10~11Fのシースが含まれ、これは心房隔壁を横切り左心房に到達するのに使用される。2つの追加のシースが、経中隔シースの内側に配置され、これらは各々のシースをPVに挿入することが可能な固定された偏位になるように構成されている。このようなシースは、支持シースの間にブリッジを形成する多電極カテーテルアブレーションセグメントのためのアンカーと支持体を提供する。カテーテルのアブレーション電極化セグメントを引き伸ばすことによって、良好な組織接触が形成され、経壁の連続する損傷を肺静脈の間に形成することができる。支持シースアンカーを異なるPVの中に配置することによって、全てのPVの間に線形の損傷を形成することができる。このような損傷は通常、上述のように、RF又は極低温バルーン損傷のいずれかによってPVを隔離した後に形成される付加的な損傷である。このような実施形態は特定の利点を有するが、これは、それらが組織の境界面においてカテーテルに力を加えることで、アブレーション電極と組織の良好な接触が生じることで、適切な損傷を確実にすることができるためである。さらなる実施形態において、アブレーションカテーテルは、偏向可能なガイドシースの中に配置され、カテーテルをシースの中に押し込むことによって剛性のループが形成され、ガイドシースを移動させる、或いは偏向させることによって、このループが移動し組織との接触が生じる。ガイドシースのサイズを最小限にするために、アブレーションカテーテルの片側をシースの端部に柔軟性を持って装着させ、その後カテーテルをシースの中に入れたり、外に出したりして調節することにより、拡張ループを形成することができる。別の選択肢は、カテーテルの遠位端に装着された引っ張り紐によってアブレーションカテーテルをシースの中に挿入することである。ひとたびカテーテルが所望の空洞内に入ると、引っ張り紐を引っ込め、多電極アブレーションカテーテルの端部がシースの先端に当たるようにし、アブレーションカテーテルの近位端をシースの中に押し込むことによってループを形成することができる。電気的に絶縁された延長ロッドをアブレーション電極アレイに装着することで、ループの拡張と組織の接触をさらに補助することができる。本発明のバルーンカテーテルはまた、記録及び刺激電極を備えることで電気的活動を記録し、肺静脈PVの隔離及び損傷の特性を検証する装着式のJループ式PV記録及びインピーダンス測定カテーテルセグメントと組み合わせることもできる。最後の実施形態によって、高周波発生器が、そのRFの印加を組織にしっかりと接触する電極に誘導し、この組織の生存能力に基づいて電力印加を調整することが可能になる。このようなアブレーションに対する手法は、心臓以外の組織の損傷を回避し、損傷の成熟を確実なものにするであろう。以下の詳細な記載は、本開発の概念を含んだ複数の実施形態に関係する。そのような実施形態は、例として示されており、いかなるやり方においても本発明の範囲を限定することは意図されていない。本開発は、侵襲性が低く、さらに過激な外科手術の必要性を避けるカテーテルを用いて組織をアブレーションすることによって形成される損傷が、従来のCoxMazeの外科的な損傷に換わる同程度に効果的な心房細動に対する解決法を企図していることが理解されるであろう。本発明のアブレーションデバイスにより、しっかりとした一定のアブレーション面と組織の接触が実現する。図1は、参照符号20によって全体が描かれたRFバルーンアブレーションデバイスの一実施形態の概略図である。アブレーションデバイスは、膨張して示されるアブレーションバルーン22を含んでおり、これはおよそ4フィート122cmの長さの7F可撓性カテーテルガイドシャフトとすることができる可撓性カテーテルガイドシャフト24上に設置されている。アブレーション制御とデータ測定の全ての導線又はワイヤは、ガイドワイヤ26に重なるシャフト壁に埋め込まれている。ガイドワイヤ26の最も遠位の部分は、およそ2cmの長さであり、比較的柔軟な可撓性の材料でできており、これは相対的に剛性であるループの残りの部分より柔軟で、より可撓性である。ガイドワイヤは、偏向可能な経皮シースの遠位端に装着される、又はこの遠位端を介して引き込むことができ、このシースの一部は28で示されている。経中隔破損保護バルーンは、通常は塩水によって膨張させることで、手術中のシース28の望ましくない離脱を防ぐためのものであり、これは30で示されている。カテーテルの位置は、図3に示される近位のハンドル制御装置を利用して、調節可能なシャフト24をガイドワイヤ26に対して移動させることによって調節することができる。バルーン22はさらに、複数のセグメント化された導電塗装RF電極32であって、そのそれぞれが、中央に配置された記録電極を備えることで電気的活動を検知するRF電極32と、温度を検知することを目的とした結合式の記録及びサーミスタ要素34とを含んでいる。電極は、バルーン表面上にある高度に導電性の塗装物であり、よく知られたやり方で選択式に別々に通電し、検知することができる。バルーン自体はいずれの手頃なサイズでもよく、典型的な実施形態は、完全に膨張したとき15mmの直径でおよそ25~30mmの長さである。このようなバルーンは、任意の好適な害のない塗布可能なポリマー材料で作成されてよく、この材料は、安定した膨張後の寸法を維持し、組織をアブレーションするための別個の導電セグメントを含むように構築され、各々のアブレーション電極並びに記録電極の中心にサーミスタが配置されている。1つのこのような好ましい材料は、ポリエチレンテレフタレートPETであり、他の好適な材料を利用される可能性も考えられる。指摘したように、RFバルーンは、図1に示されるように電極セグメント32においてバルーン上に塗装された高度に導電性の化合物によって被覆される。ある典型的な好ましい実施形態のバルーンは、およそ30mmの長さの寸法であり、およそ15mmの直径を有する。バルーンは、好ましくは、8つのセグメント化された導電塗装電極セグメント32を有しており、これは36のような非導電性のバンドによって隔てられるが、このバンドはおよそ1.5mmの幅であってよい。結合式の記録及びサーミスタ要素は概ねおよそ2mmの直径であり、1mmの絶縁外側リング35によって導電セグメント32から隔てられている。記録電極とサーミスタは、各々のアブレーション要素の中心に概ね配置されており、アブレーションの前後の電気的な活動を監視し、温度を監視する。RFアブレーションバルーンは、好ましくは、低圧下で低濃度の造影流体と混合された塩水で満たされる。塩水はバルーンの内部を循環し、内側バルーンの圧力を一定に保つことで、バルーン自体を冷えたまま維持し、より効果的なアブレーションを可能にする。図2は、本発明による極低温アブレーションデバイスの一実施形態を描いており、これは極低温バルーンと、断熱する目的の低圧絶縁バルーンの両方を含む二重のバルーンシステムを利用する。二重のバルーン構造は、内側の極低温バルーン42と、外側の絶縁バルーン44とを含む。リング電極46及び48が、バルーンの遠位端と近位端にそれぞれ配置されることで、電気的活動の記録及び位置の検証を行なう。埋込み式サーミスタと記録電極が50で表されており、これもまた外側バルーン上の所望の地点に配置され、よく知られたやり方で接続されている。バルーンデバイスは、ガイドワイヤ54に重なる可撓性のカテーテルガイドシャフト52上に設置される。RFデバイスの場合のように、バルーンの位置は、バルーンカテーテルガイドシャフトをガイドワイヤ上で押したり引いたりすることによって変えることができる。記録電極によって、心臓の電気マッピング及び損傷の評価が可能になる。展開システムは、図1に示されるRFバルーンのものと同様であってよい。したがって比較的柔軟な可撓性の部分を有するガイドワイヤループは54で示されており、これは、引っ張りコード図示せずに装着された偏向可能なシース56の端部を介して装着することができる。シース56は、58の経中隔保護バルーンを含む。2つのバルーン極低温システムでは、内側バルーンは、-88.5°Cで沸騰する液体亜酸化窒素N2Oであり得る極低温の液化物質を受け取り、収容しており、外側バルーンは、左心房の圧力をわずかに上回る圧力でCO2やN2などの絶縁ガスで満たされる。このやり方において、極低温液体ガスは、通常、内部の心房の血流から絶縁される。アブレーション中、ガイドワイヤループの拡張を利用して、対象となる場所においてバルーンを組織に向けて押しやり、この力によって絶縁ガスを組織と接触する場所に排出させることにより、極低温の内側バルーンが、外側バルーンにしっかりと接触することになり、外側バルーンによってバルーンと組織間で最大限の熱移動が生じることで最大限の局所的な組織凍結が可能になる。制御ハンドルが設けられる図3ことで、バルーンシャフトをガイドワイヤ上で進め、図4A~図4Eに示されるようにガイドワイヤ上でのその位置を調節する。図3は、全体が80のバルーンカテーテルアブレーションシステムの一実施形態の概略図を示しており、これは平坦な制御ハンドル部材81を含んでおり、この部材は、流体物質をバルーン88に加えるためのRF/低温液体コネクタ82を含む。アブレーションRF/低温液体バルーンカテーテルは、近位端カテーテルシャフト滑り又は操作ハンドル83を有しており、これはガイドシース84内に延在するように示されている。近位端ハンドル83は、90で示されるバルーンアブレーションカテーテルの近位端である。カテーテルは、ガイドワイヤ86上に摺動可能に設置されており、その両方が、ガイドシース84を介して心房又はその他の空洞に送達される。アブレーションバルーンカテーテルシャフトが、ガイドワイヤの相対的に剛性の部分にわたって偏向可能なシースに挿入される。ガイドワイヤの相対的に柔軟な部分は、シースから延びており、所定の場所にロックされることで、バルーンカテーテルがガイドワイヤに沿って移動する際、ガイドワイヤがシース内で浮遊したり移動したりするのを阻止することができる。これを達成するために、87で表される可動式のロックデバイスが設けられる。ガイドワイヤループに沿ったバルーンの位置は、カテーテル近位端ハンドル83をガイドワイヤの一部86に沿ってその上を移動させることによって変えることができる。ガイドワイヤ固定ロックは92で示されている。これにより可変長のガイドワイヤ固定地点が可能になることで、突き出たループのサイズを変え、アブレーションバルーンがさらなる距離を覆うことが可能になる。ハンドル83によって制御されたときの調節可能なガイドワイヤループ94上のアブレーションバルーンカテーテルの摺動範囲が、矢印85によって示されている。偏向可能なシースの一部が98で示されており、柔軟な可撓性のガイドワイヤループの一部が94で示されている。シース偏向リングが100で示されている。図4A~図4Eの5つのパネルは、偏向可能なシース122の内部からガイドワイヤ121上を進められたアブレーションカテーテルシャフト120を示している。124のガイドワイヤの遠位端は、引っ張り線又は引っ張りワイヤ126に装着されており、このワイヤは制御ハンドル図示せずから制御されている。ガイドワイヤ上を進められたバルーンアブレーションデバイスが128で示されている。アブレーションデバイスは、図4Aにおいてしぼんだ状態で示されている。この状態において、偏向可能なガイドシースは既に、左心房又はその他の空洞内に貫入している。図4Bでは、バルーンは膨張し、引っ張りワイヤ126は、ガイドワイヤ124の端部をシースに向かって引き寄せることで、ガイドワイヤループを形成するように示されている。図4Cでは、ガイドワイヤの端部がシースの中に戻るように引っ張られ、ループ130を形成している。図4D及び図4Eは、シース内でガイドワイヤを進めたり後退させたりすることによって、ループ130のサイズをどのように調節することができるかを示している。ガイドワイヤ上のバルーン128の位置もまた、アブレーションバルーンシャフト83図3をガイドワイヤ上で進めたり後退させたりすることによって、図4Dから図4Eに示されるように調節することができる。図5は、調節可能なループガイドワイヤによって左心房内に誘導されたアブレーションバルーンが、いかにして円周方向の損傷を形成することができるかを示す概略図である。このような左心房の壁が140によって表されており、左心房の付属器官は142で示されている。経中隔ガイドシース144は、146の右心房と左心房の間の隔壁を貫通するように示されている。シースには、一体式の膨張可能なバルーン148が含まれており、これは、手術中の経中隔の破損時の断裂から隔壁を保護する塩水によって満たされている。バルーンカテーテルシャフトが150で示されており、可撓性の部分を有するガイドワイヤが152で示されている。セグメント化されたアブレーションバルーンは、高周波又は極低温アブレーションデバイスのいずれかであってよく、154で示されており、サーミスタと記録電極は、各々のバルーン表面部分155において156として示されている。さらにリング電極がバルーンの各々の端部に設けられ、その一方が158で示されている。この図はさらに、肺静脈の出口の場所を示しており、これには右上肺静脈RSPV160、左上肺静脈LSPV162、右下肺静脈RIPV164及び左下肺静脈LIPV166が含まれる。図5に関連して注目されるように、セグメント化されたアブレーションバルーン154は、ガイドワイヤループによって左心房140の壁に対してきっちりと保持される。必要に応じてより多くのガイドワイヤを挿入し、ガイドワイヤループに沿って一定量ずつアブレーションバルーン154の位置を調節することによって、ガイドワイヤループのサイズを調節することにより、完全に連続する円周方向の損傷を左心房に形成することが可能であることが分かる。図6は、図5と同様の図であり、セグメント化された塗装アブレーションバルーン154を固定するための代替のシステムを示しており、そこではループシステムの代わりに、比較的剛性のガイドワイヤ170の固定用の柔軟な部分が、左心房の付属器官142の中に埋め込まれるように設けられ、アブレーションバルーンがその後ガイドワイヤ170上をたどり、左心房の周りに線形の損傷を形成することができる。僧帽弁が、174で示されている。図7は、図6と同様の概略図であり、LSPV162の開口部をちょうど超えた開口部又は洞腔領域に位置するセグメント化された塗装アブレーションバルーン154を示しており、この場合それを利用して肺静脈を隔離する損傷を形成することができる。このやり方において、各々の肺静脈を処置することで、肺静脈隔離損傷を形成することができる。図8は、LSPV196の開口部に挿入されて示される高周波又は極低温バルーン180を示す概略図である。バルーンは、経中隔シース182及びJタイプの4Fループ記録カテーテル184によってPV内に誘導される。Jループは、記録及び刺激電極186のアレイを含んでおり、バルーンはさらに遠位リング電極188と、近位リング電極190とを備えることで、アブレーション具体的には極低温バルーンを使用する場合処置におけるインピーダンスの測定を行なうことで、肺静脈の閉鎖、及びその後の損傷の特性を規定する。心房壁が192で示されており、肺静脈は、194、196、198及び200によって示されている。図8の実施形態を利用する場合、バルーンカテーテル180は、図6及び図7のものと同様のやり方で構築することができる。カテーテルが、極低温デバイスの場合、アブレーション措置中に氷のボールが形成され、極低温アブレーション中に形成された氷のボールの両端の記録作業及びインピーダンス測定によって、氷のボールのサイズの損傷の完成、及びアブレーションの効果を検証することができる。バルーンアブレーションデバイスと組み合わせたJタイプのループPV記録、刺激及びインピーダンス測定カテーテルは、極低温バルーン技術を用いたPV隔離を実現することができることが、成功するかどうかは、バルーンとPV組織がしっかりと接触し、PVが完全に閉鎖されることで、アブレーション処置においてバルーンを囲む心房に血流が全く流れないことに決定的に左右されることが理解されよう。これは、例えばバルーンガイドワイヤ内の中央内腔を介してPV内に染料を注入することによって検証することができる。染料が静脈内に集まって見える場合、この静脈は適切に塞がれていると推測することができる。静脈が完全に閉鎖されず、結果として生じる損傷が完全な円周方向の損傷ではない場合、すなわち隙間が生じている、或は組織が単に非活動状態になることで一時的に隔離された場合、これにより処置が失敗に終わり、さらなる介入が必要となる。Jループ記録/刺激カテーテルは、いくつかの目的を果たすことが理解されよう。1それは、バルーンアブレーションカテーテルのガイドとして機能することで、バルーンを所望のPV開口部に対して長手方向の中央の位置に配置する、2それは、カテーテルを静脈の中に固定させ、ループを、開口部をちょうど越えた静脈洞腔内に位置決めする、3RF又は極低温アブレーションにおいてループ電極186によって横隔神経にペーシングを適用することができ、その一方で横隔膜の運動を監視することで、横隔神経が切除されないことを保証する、4それによって、極低温アブレーションにおけるインピーダンスを監視することにより損傷の成熟を検証することができる、及び5それによって、RF及び極低温アブレーションにおける静脈から心房又は心房から静脈への伝導を測定することができる。低強度のRFエネルギーを、バルーンのちょうど近位にあるバルーンカテーテルシャフト上に位置決めされた基準電極190と共に図8に示される遠位バルーンリング電極188に印加することで、バルーンの両端の伝導率を測定することができる。バルーンが完全にPVを閉鎖した場合、インピーダンスが上昇し、この測定値を利用してPVの閉鎖を検証することもできる。さらにシステムが極低温バルーンを含む場合、PV閉鎖の評定及び極低温の氷のボールのサイズの評定もまた、近位バルーンリング電極190と、遠位バルーンリング電極188間のインピーダンスの変化を測定することによって実現することができる。氷は極めて伝導性が低いため、氷のボールがPVを完全に包み込む際、そのインピーダンスは、劇的に上昇することが認められ、これによりPVの閉鎖及び極低温の損傷の成熟の信頼できる指標がもたらされる。図8に示される実施形態では、複数の離間したリング電極186とサーミスタ図示せずを備えたJループが、まず196でのように静脈内に配置される。J形状によりカテーテルを静脈内に固定し、ループは、示されるように開口部をちょうど超えた静脈洞腔内に位置決めされる。バルーンアブレーションカテーテルは、それをJカテーテルシャフト上で進めることによって所定の位置に誘導される。低電力で高周波数の電流これは、1ワット、550KHz未満を利用することができるをJループ上の1つ又は複数の電極186に、或いは遠位リング電極188及びバルーンのちょうど近位に位置決めされたリング電極190に送達することによって、ベースラインインピーダンスを測定することができる。このインピーダンスはまた、電極188及び190を利用してバルーンのインピーダンスを測定することによって計ることができる。上記で指摘したように、バルーンが膨張した後、静脈がしっかりと閉鎖された場合、第2のインピーダンス測定はインピーダンスの上昇を示すはずであり、一部分のみが閉鎖されている場合は、インピーダンスの変化は検知されない。さらなるインピーダンスの上昇もまた、遠位電極を包み込む氷のボールの形成を示唆する極低温バルーンアブレーションによって記録される。Jカテーテルは、好ましくは、事前成形された3~4Fカテーテルであり、これはアブレーションバルーンの中央チャネルに挿入される。カテーテルのJの部分がPVに挿入され、カテーテルの円形部分は、PVの洞腔を取り囲むリング記録/刺激電極及びサーミスタを備えている。バルーンカテーテルは、Jカテーテルをガイドワイヤとして利用してJカテーテルの上を進められる。バルーンは、PVを閉鎖するように位置決めされ、カテーテルの円形部分は、PVに接触するバルーンのちょうど遠位でバルーンを取り囲む。バルーンシャフト又はJカテーテルのループ部分のいずれかに配置された事前に選択されたリング電極に低電力のRFエネルギーが印加され、バルーンの膨張の前後、及び特に極低温バルーン実施形態の場合のアブレーションにおけるインピーダンスを測定する。手術中、RF及び極低温バルーン実施形態に関する送達及び組織接触方法は同じであり得ることを理解されたい。高度に導電性の要素と、サーミスタは、RF及び外側の極低温バルーンの両方の外面を囲むように円周方向に分散される。図9は、本発明の代替の一実施形態の概略図を含んでおり、これは線形の損傷を形成することを目的とした多アブレーション電極式のカテーテルシステムの形態であり、特に肺静脈間に位置する組織内に線形の損傷を形成するように設計されることで、このような組織の隔離を実現し、心房細動アブレーションを成功させるのに最も重要であると考えられる特定の態様である。図9に示されるように、離間したワイヤが巻き付いたアブレーション電極302のアレイを包含する可撓性の多電極アブレーションカテーテル300は、2つの部材304及び306を有する支持シース構成から延びており、これらの部材は、支持体及びトルク可能なアブレーションカテーテル支持シースを構成している。カテーテル支持シース部材304及び306は、メインの経中隔ガイドシース308から延びている。支持シースの延長部は、310及び312で示されており、支持シースを偏向可能な経中隔ガイドシースにロックするためのロックデバイスは、314で示されている。偏向制御ハンドルが316で示され、アブレーションカテーテルコネクタが318で示されており、これは接続ライン320を経由して電極302に電力を供給している。他のサイズを利用することも可能であるが、可撓性の多電極アブレーションカテーテル300は通常は4Fであり、ワイヤが巻き付いた電極302は5mmの長さであり、2mmの隙間をその間に有することができる。支持及びトルク可能なカテーテルガイドシース304及び306がそれぞれ事前に成形されることで、それらを肺静脈に入るように操作することが可能になる。1対の肺静脈におけるガイドシース304及び306の配置が、図10~図13の概略図によって示されており、ここでは左心房壁は、330によって表されており、肺静脈は、RSPV332、LSPV334、RIPV336及びLIPV338を含む。左心房の付属器官は340で示されており、僧帽弁は342で示されている図10。このやり方において、図10は、線形の損傷が、どのように右上肺静脈332と左上肺静脈334の間に形成されるかを示している。安定化及び支持ガイドシース304及び306によって開口部及び肺静脈の洞腔が貫通され、カテーテル電極のアレイのための支持体も形成する。344としてのサーミスタは、アブレーション/記録電極302間に配置することができる。同じやり方で、図11は、LSPV334とLIPV338との間のアブレーションを示している。図12は、LIPV338とRIPV336との間のアブレーションを示している。最後に図13は、RSPV332とRIPV336との間のアブレーションを示している。このように可撓性の多電極アブレーションカテーテル300は、1対のより剛性のガイドシース304及び306の中に配置され、これらのシースは、偏向可能なガイドシース308の中に配置され、このガイドシースは、経中隔デバイスである。手術中、ひとたびメインのシースが所望の空洞に入るように進められると、アブレーションカテーテル300並びに2つの支持ガイドシース304及び306は、メインのシースから出て空洞に入るように進められる。支持ガイドシース304及び306がそれぞれ事前に成形されることで、それらを肺静脈に入るように操作することが可能になる。支持シース304及び306は、その近位部分を押す且つ/又は回転させてメインの偏向可能シース308に出入りさせることによって個別に進めることができる。支持シースの位置は、偏向制御ハンドル316にあるロック機構314を緩めたり締めたりすることによって、所定の場所にロックさせることができる。図面に示されるように、アブレーションカテーテルを組織の両端にピンと張るように維持しながら、支持シースが所望の肺静脈に入るように押し込まれると、アブレーションカテーテルと所望の組織との良好な接触が確実になる。別の実施形態が図14及び図15に概略的に見られる。この実施形態は本質的に、図9~図13に示される実施形態を簡素化したタイプであり、ここではワイヤが巻き付いたアブレーションと、測定電極402と、介在するサーミスタ404とを備えた多電極カテーテル400が、メインの偏向可能なガイドシース406に直接挿入されることで、シースの端部にループを形成している。408で示される延長ロッドを利用して、ループの形状を修正する。ロックデバイス412を有するハンドル及び偏向制御装置が410で示されており、多電極とサーミスタのコネクタは414で示されている。延長ロッド制御装置が416で示されており、止め具付きの引き紐が418で示されている。隔壁保護バルーンが420で示されている。図15では、左心房壁が422で示されており、左心房の付属器官は424で示されている。肺静脈の開口部は、426、428、430及び432で示されており、僧帽弁は434で示されている。展開させる前は、アブレーションカテーテル400をメインの偏向ガイドシースの開口部の中に引っ込めることが可能であることにより、418の引き紐又は引っ張りワイヤを利用して、メインのガイドシース406のサイズを最小限にすることができる。絶縁された可撓性の延長ロッド408によってカテーテルループのさらなる支持と安定性を実現し、組織との接触を改善させる。カテーテルの移動度及び位置は、メインシースを回転式に偏向させることにより所望通りに達成させることができ、すなわちアブレーションカテーテルトルクの拡大及びカテーテルループの拡張、絶縁ロッド408の伸張又は収縮が実現する。図16は、本発明によるRFアブレーションシステムのための監視及び制御システムの概略図である。システムには、カテーテルシステム500が含まれ、これはガイドワイヤ506に重なるカテーテルシャフト504上に設置されたバルーンカテーテル502を有する。シースは508で示されている。バルーンカテーテルは、複数のサーミスタと、記録電極510と、RFアブレーション電極512とを含んでいる。カテーテルはさらに、ブロック514によって表される機械的に操作する制御装置並びに液体の膨張及び循環制御装置を含んでいる。入力及び出力データ処理及びエレクトログラムRFフィルタを含むRFエネルギー電力生成システムが520で示されており、RF制御システム522に関連付けられている。RF発生器は、ブロック524で示される視覚的な出力、すなわちスクリーンディスプレイデバイスに接続されており、526の記録システムも接続されている。RF電力発生器は、各々の電極が別々に接続され、別個に制御可能であるため、いずれの多電極RFカテーテルシステムにおける各々のアブレーション電極に対してもRF電力を制御し調整するようにプログラムされている。電力の送達が制御されることで、標的とする組織としっかりと接触する電極のみが通電され、所望の電力を慎重に調節することで血液やアブレーションされる組織を過剰に加熱するのを避ける。アブレーションされる組織を過剰に加熱することにより、炭化物の形成が生じ、これが発作につながる恐れもある。したがって各々独立した電源は、検知した温度、及び温度上昇の割合を表す温度変化の一次導関数dT/dtに基づいて調節される。リアルタイムの局所的な電気的な活動が厳密に監視される。これには、エレクトログラム振幅の記録、局所的なエレクトログラムの最大周波数の変化及びインピーダンスの変化が含まれる。ひとたびRF電力のスイッチが入れられると、電力発生器システムは、事前にプログラムされた手順に従ってRF電力を調整するが、この手順は以下の通りであってよい。1.接触後に組織の生存能力が、容認可能なパラメータ、例えばa.局所的なエレクトログラム>1mVb.最大エレクトログラム周波数>8Hzc.インピーダンス<180オームに従って規定される。低電力の設定で開始し、電力が増大することで、事前設定されたレベル、例えば5°C/秒=dT/dtにおける電極の温度変化の割合を制御する。2.最大限の事前設定温度、例えば65°Cに到達する。3.インピーダンスが事前設定されたレベル例えば150~180オームを超えて上昇した場合、或は局所的なエレクトログラムがベースラインレベルから50又はそれ以上低下した場合及び/又はエレクトログラム振幅と連動して、或いは局所的なエレクトログラム周波数が、例えばベースライン値から30低下した場合、電力の入力を終了する。4.手術中、望ましい場合、項目3における特定の値を無効にすることができる。5.エレクトログラムデータ及びインピーダンスによってアブレーションが成功したことが示される場合、電力を最小限まで低下させる。RF電力発生器システムは、アブレーション電極及びサーミスタからの必要なパラメータの全てに関連するデータを受信するように設計されており、これには局所的なエレクトログラム振幅及びパーセントの変化、最大エレクロトグラム周波数温度、温度の変化の割合dT/dtのインピーダンス、出力電力及び印加時間が含まれる。受信したデータが、局所的な組織がうまくアブレーションされ、電力が終了したことを示すと、次の局所的な組織をアブレーションするためにカテーテルを再度位置決めすることができる。RFバルーンアブレーションカテーテルデバイスの別の実施形態が、図17において全体を600で示されており、バルーンは、完全につぶされた状態である。デバイスは、外側管状部材と、部分602及び603を有するように示されるガイドカテーテル又はガイドシースとを含む。ガイドカテーテル又はシースは、拡張可能な、すなわちバルーン部分604をその間に含んでいる。拡張可能部分604には、導電電極アブレーション要素606が備わっており、これはシャフト部分602及び603に接続されている。電極要素は、好ましくは、導電性のリボン状の形態であり、これは内側の拡張可能なバルーンデバイス607の外側に設置され、それとは独立している。図20A及び図20Bに最もよく見られるように、電極要素は、デバイス604の拡張する部分が、図20Bに示されるようにつぶされた又は格納された位置にあるときは重なり合い、図20Aに示されるようにバルーンデバイス607が拡張したとき、わずかに隔てられる。このやり方では、拡張する、すなわちバルーンデバイスを使用して、展開後のアブレーションデバイス要素が描く直径を調節することができる。これらの図面は4つの電極要素を描いているが、任意の好適な数を利用することができる。要素は全て別々に接続され、アブレーション、温度及び電気的活動を監視するためのデバイスを含んでいる。外側カテーテルシャフトは、付加的な内側の同心の中空の管を中に含んでおり、この管は、中間の管状部材608と、最も内側の管状部材610とを含む。最も内側の管状部材610は、カテーテルの先端612に接続し、軸方向に調節可能なガイドワイヤ614を中に含んでいる。これらは図17では露出した状態で示されている。管状部材610はまた、特定の手順で射出されるように設計された流体が、カテーテルハンドルから導かれ、カテーテルを介して送達されることを可能にする経路を形成する。わずかに大きな中間の管状部材608が、部分604において607にある拡張バルーンデバイスの内部と接続し、膨張流体のための経路を形成する。外側の管、すなわちカテーテルシャフト部材は、616のようなワイヤを中に含んでおり、このワイヤが、アブレーション要素に接続し、サーミスタ要素及び記録電極にも接続しており、これらの電極は618でのようにアブレーション要素606の中に埋め込まれている。図18A及び図18Bは、中空のアブレーションデバイス600の比較形態を示しており、拡張する、すなわちバルーンデバイスのつぶれた状態と、拡張した状態それぞれを示している。図20Bに最もよく示されるように、リボン電極要素606は、バルーン部分604が、しぼんだ、又は格納位置にあるときは重なり合い、逆に拡張した状態では、図18B及び図20Aに示される電極は、バルーンの拡張によってわずかに隔てられ、バルーン材料607のわずかな部分が露出する。これにより最大限のアブレーション電極面を露出させることができ、さらにアブレーション要素を個別に操作することも可能になる。このような構成により、バルーンデバイスを1つ配置するだけで、例えば肺静脈内での周辺部のアブレーションが可能になる。リボンアブレーション要素は、手術後、バルーンデバイスがつぶされる、又はしぼんだ際、アブレーション要素が再び重なり合う構成を取り、鋭利な縁部が見えたり、露出したりすることで隣接する組織に悪影響を与える恐れがないように構成されるべきである。リボン電極606の端部は、部分602と603の間に固定されるため、システムの要素が、ガイドワイヤ614上に独立して載ったとき、これらの要素間の距離は、バルーン材料607が膨張したとき短くなる。より剛性の構造が所望される場合、バルーンが膨張する際にシャフトが偏向するように特定の実施形態を作成することができる。図18B及び図19に特に示されるように、バルーンアブレーションカテーテルデバイスはさらに、隔壁保護バルーン630を含んでおり、追加のガイドシースの一部が632で示されている。先に記載した実施形態でのように、このデバイスは、隔壁組織を貫通するように設計されており、手術中にバルーン630が膨張することにより、ガイドシース632が隔壁組織から押し戻され、場合によって隔壁に損傷を与えるのを防ぐ。概して、左心房におけるアブレーションが関与する場合、ガイドシースを利用して、隔壁を右心房から左心房に貫通する。図18B及び図19に示されるように、先に記載した実施形態でのように、ガイドワイヤ614によって左心房などの空洞内に形成されたガイドワイヤループによって、連続するステップでアブレーションバルーンのための安定した軌道が配置されるように形成されることで、所望通りに空洞の周辺部の周りに線形の損傷を形成する。このようなバルーンデバイスは、手術中ガイドワイヤ上を所望通りに進めることができる。図3に示されるハンドル制御装置を含めた先の実施形態で示されるものなどの制御装置は、いずれの実施形態にも利用することができる。代替の構成が、図21A、21B及び22A、22Bに描かれている。図21A及び図21Bでは、RFバルーンアブレーションカテーテル700は、図17のものと同様の構造で示されており、これは、離間したカテーテルシャフト要素702及び703を有するカテーテルシャフトを含んでおり、これらの要素は、拡張部分704の外側でリボンアブレーション要素706に接続されることによってその間にまたがっている。このような要素はまた、埋込み式のサーミスタと、記録電極を718として備えている。残りの構造及び構造体は、図17のものと同様であり、同心の管状部材708及び710を含んでおり、これらによって、図17の実施形態における要素608と610と同じ機能を実現している。この実施形態では、リボン電極要素706は、膨張バルーンアブレーション部分704の外周を囲むらせん状のパターンで配置されている。十字形のパターンが図21Bに704Bで示されている。さらに別の同様の実施形態が、図22A及び図22Bに描かれており、ここではRFバルーンアブレーションカテーテルデバイス800が示されており、このデバイスもやはり、格子又は十字形のパターンで配置された特定のパターンのリボン電極806を含んでおり、そこでは別個のアブレーション要素又は電極は互いから絶縁されている。カテーテルはまた、部分802、803及び804を含んでいる。ガイドワイヤ管が808で示されており、ガイドワイヤは814で示されている。このアブレーション要素もまた、埋込み式のサーミスタ及び電気的活動を記録する要素を818で備えている。このパターンもまた、肺静脈の開口内でのように完全な円周方向のアブレーションを保証する。デバイスは図面において、つぶれた又はしぼんだ状態と、広がった又は膨張した状態の両方で示されている。多くのサイズが可能であるが、リボン状のアブレーション要素は典型的には、およそ30mmの長さで3mmの幅であり、楕円形の形状であってよい。バルーンアブレーションカテーテルは、完全に拡張したときおよそ20mmの直径であり、しぼんだ又は収容された状態ではおよそ11F3.6mmであるべきである。ガイド又は展開シースは、およそ12F3.9mmである。バルーン及び電極は、同様に生体適合性である任意の好適な材料であってよく、このような材料はよく知られている。上記の記載及び図面から、これらの実施形態の機能性に帰する本発明に関連する独自の性質は、特にヒトの心臓における心房細動の制御に関して精密で優れたアブレーションを実現することを目的として存在することは明らかであろう。しかしながらこのデバイス及び技術は、心臓のいかなる領域にも適用することができることを理解されたい。したがって、これは、右心室及び左心室に適用され、並びに心室性頻拍のマッピング及びアブレーションにも適用することができる。心房細動に関して、本発明によるカテーテルシステムは、その接触とカテーテルの扱い易さを大いに改善することでより予測可能な損傷を形成し、アブレーションされる組織の量を最小限にすることが分かっている。特許法令に準拠し、新たな原理を適用し、必要なときにこのような特化された構成要素を構築し利用するのに必要な情報を当業者に与えることを目的として、本発明を本明細書においてかなり詳細に記載してきた。しかしながら本発明は、殊更異なる装備及びデバイスによっても実行することができ、本発明自体の範囲から逸脱せずに装備と作動手順の両方についての種々の修正形態を達成することができることを理解されたい。