基板表面に長手方向に垂直な断面形状が略矩形であるリッジ状凸部を多数平行に入射光の波長程度の配列周期で周期的に設けた回折格子を備える入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子において、該基板表面に平行な面内において均一な組成を有する複数の平行なストライプ状薄膜層が前記リッジ状凸部の頂部表面と該リッジ状凸部間の溝底部表面とに設けられ、かつ前記基板表面に平行で該基板表面または該基板内にその表面に平行な界面をもち該基板表面に平行な面内において均一な組成を有した、前記リッジ状凸部の配列周期の方向と同方向には周期構造を持たない薄膜層が設けられており、前記リッジ状凸部が屈折率nHの材料で構成され、透過型回折格子として所望の特性が得られる溝深さがhであるとき、前記リッジ状凸部の頂部表面に設けたストライプ状薄膜層の屈折率nLu、膜厚hLu、前記溝底部表面に設けたストライプ状薄膜層の屈折率nLd、膜厚hLd、屈折率nHの材料で構成されたリッジ状凸部の高さhHが、次式nH×h=nH×hHnLu×hLu-nLd×hLdを満足することを特徴とする入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子。前記ストライプ状薄膜層の少なくともいずれかが2種類以上の材料からなる2層以上の多層膜であり、該多層膜1組の平均屈折率をnLa、総膜厚をhLtとするとき、前記nLをnLaに置き換え、前記hLuをhLtに、または前記hLdをhLtに置き換えることを特徴とする請求項1に記載の入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子。前記リッジ状凸部の配列周期の方向と同方向には周期構造を持たない薄膜層が、波長選択性のある透過特性を有することを特徴とする請求項1ないし2のいずれか一項に記載の入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子。透過型回折格子は反射型回折格子に比べると広帯域で低いPDL特性を持つが、上記の例からわかるように、回折効率の高い波長域1500~1600nmでPDLの絶対値が大きくなる傾向があり、回折効率が高くかつPDLが十分に低い波長範囲はそれほど広くないという問題点がある。また、赤外域の波長で回折格子を使用する場合に可視光をガイド光として使用する場合があるが、例えばλ1=633nmとλ2=1550nmの波長の光では、m=1であっても上式が成り立つ範囲外となり、フリースペクトルレンジの外となる。したがってこれらの波長を同時に回折格子に入射し測定を行うと、波長の重なり合いによるノイズが発生する。このような問題を回避するため、光学フィルタを用いて不要な波長の入射光を遮断したり、光検出器を切り換えたりする手段がとられるが、光学系が複雑になったり、測定操作が煩雑になる問題点があった。本発明はこのような問題点を解決するためになされたもので、新たな部品を追加することなく追加機能を付与し、または透過型回折格子の欠点を補うとともに、高い回折効率を有し、かつPDLが小さい入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子を提供することを目的とする。本発明では上記課題を解決するために、基板表面に長手方向に垂直な断面形状が略矩形であるリッジ状凸部を多数平行に入射光の波長程度の配列周期で周期的に設けた回折格子を備えた入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子を対象に、次の手段を用いた。この基板表面に平行な面内において均一な組成を有する複数の平行なストライプ状薄膜層を前記リッジ状凸部の頂部表面と該リッジ状凸部間の溝底部表面とに設け、かつこの基板表面に平行でこの基板表面または基板内にその表面に平行な界面をもち基板表面に平行な面内において均一な組成を有した、リッジ状凸部の配列周期の方向と同方向には周期構造を持たない薄膜層を設ける。リッジ状凸部の配列周期の方向と同方向には周期構造を持たない薄膜層には回折光に対する種々の機能を付与することができる。例えば、この薄膜層を使用する波長の光以外を除去する光学フィルタとすれば、外部に光学フィルタを設けることなくフリースペクトルレンジ外の入射光を除去する機能を付与することができる。一方、前記リッジ状凸部の頂部表面と該リッジ状凸部間の溝底部表面とに設けられたストライプ状薄膜層は、回折格子へ光が入射するときの損失を低減する効果をもつ。したがって、この2種類の薄膜層をいわゆるラミナー型回折格子と組み合わせて用いることにより、従来の透過型回折格子にない機能を備え、しかもより広い波長域で回折効率が高く、かつPDLが低い入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子を提供できる。前記ストライプ状薄膜層をリッジ状凸部の頂部表面とリッジ状凸部間の溝底部表面に設ける。ラミナー型回折格子の溝底部も回折格子への光の入射面の1つであり、溝底部表面にも薄膜層を形成することによりさらに入射光の反射を減少させる効果が得られる。リッジが屈折率nHの材料で構成され、透過型回折格子として所望の特性が得られる溝深さがhであるとき、リッジ頂部表面に設けたストライプ状薄膜層の屈折率nLu、膜厚hLu、溝底部表面に設けたストライプ状薄膜層の屈折率nLd、膜厚hLd、屈折率nHの材料で構成されたリッジの高さhHを、次式nH×h=nH×hHnLu×hLu-nLd×hLdを満足するように設定する。単一材料からなるラミナー型の回折格子はある特定の溝形状で最良の光学特性が得られる。リッジの材料の屈折率に対して最良の光学特性が得られる溝深さが与えられた場合、薄膜層を設けた場合に溝深さが光学的にこれと等価になるように薄膜層の屈折率と膜厚を選ぶことにより、回折格子の特性にストライプ状薄膜層の光学特性が付加され、さらに広い波長域で回折効率が高く、かつPDLが低い入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子を提供できる。前記のストライプ状薄膜層の少なくともいずれかが2種類以上の材料からなる2層以上の多層膜である場合には、多層膜1組の平均屈折率をnLa、総膜厚をhLtとするとき、上記nLをnLaに置き換え、hLuをhLtに、またはhLdをhLtに置き換える。上記同様、多層膜全体の平均屈折率と総膜厚によって単層膜の屈折率と膜厚を置き換えることにより、広い波長域で回折効率が高く、かつPDLが低い入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子を提供できる。またリッジ状凸部の配列周期の方向と同方向には周期構造を持たない薄膜層に波長選択性のある透過特性を付与する。例えば、この薄膜層を、使用する光を透過し、それ以外の光を反射または吸収するような光学フィルタの膜構成とする。このような膜構成の薄膜層をリッジ状凸部と基板の間に設けることで、フリースペクトルレンジの範囲外の入射光が入射されてもそれを遮断することができ、測定時のノイズを低減できる。したがって別途光学フィルタを設けることや光検出器の切り換えを行うことが不要となる。本発明によれば、リッジ状凸部の配列周期の方向と同方向には周期構造を持たない薄膜層によって透過型回折格子の回折光に対して新たに部品を追加することなく種々の機能を付与することができる。また、リッジ状凸部の配列周期と一致する周期で同方向に配列されたストライプ状薄膜層は、回折格子へ光が入射するときの損失を低減する効果をもつ。したがって、この2種類の薄膜層をいわゆるラミナー型回折格子と組み合わせて用いることにより、従来の透過型回折格子にない機能を備え、あるいは欠点を補い、しかもより広い波長域で回折効率が高く、かつPDLが低い入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子を提供できる。本発明の入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子は、図3に示すようにx-y断面が矩形のリッジ状凸部以下、単にリッジという14が基板50上にx方向に周期的に配列したラミナー型回折格子を基本とし、リッジ14と基板50の間に薄膜層34を備えている。この薄膜層34は基板面上に一様に形成され、少なくともリッジ14の配列周期の方向x方向に対して周期性を持たない。この薄膜層34には、その膜構成の設計により種々の機能を付与することができる。この薄膜層には、例えば使用する波長の光を透過し、それ以外の波長の光を反射または吸収するような波長選択性のある透過特性、すなわち光学フィルタの機能を付与することができる。このような光学フィルタをリッジ14と基板50の間に設けることで、迷光を低減できる。とくに高次回折光を発生する短波長の光を遮断し、使用波長帯域である長波長の光を透過する光学フィルタであれば、迷光の低減に有効である。例えば、赤外域で分光計測を行う場合、可視光をガイド光として光路調整、サンプル位置調整を行うが、このガイド光の高次回折光が測定時のノイズとなる。このような場合には上記薄膜層34をエッジフィルタまたはバンドパスフィルタとし、信号である波長域を透過しガイド光の波長を反射することにより、ノイズを低減することができる。その一例を以下に説明する。図3に示した構造の透過型回折光学素子は、基板50を石英ガラスとし、その上にTa2O5からなるリッジ14が形成されたもので、基板とリッジの間にSiO2とTa2O5の積層からなる薄膜層34が挿入されている。薄膜層34はTa2O5/SiO2/Ta2O5膜厚38nm/108nm/38nmの3層構造を12回繰り返した膜構成とした。回折格子部分の形状としては、図1の従来例と同様で溝深さhを1350nm、溝の周期pを1111nm、溝の幅を555nmとした。図4にこの透過型回折光学素子の1350~1750nmの広い波長域にわたる回折効率とPDLの波長依存性の例を示す。図2の特性と比較すると薄膜層34の挿入により広い波長域にわたってTEモード、TMモードに対する回折効率が改善されていることがわかる。またPDLに対する悪影響は見られない。上記の回折光学素子の機能を図5に示す一般的な赤外吸光の測定系を使用した例で説明する。光源にキセノンランプ121を用い、ガイド光201として波長633nmのヘリウムネオンレーザ111を用いた。キセノンランプ121が発する白色光301をレンズ122で平行光とし、赤外光透過フィルタ124により可視光成分を除去する。この赤外光302は被検体116に入射され、被検体の性質にしたがって変化を受けたスペクトルをもつ検出光303となって上記の透過型回折光学素子100に入射される。検出光303は薄膜層34を透過し、回折格子によって回折される。回折光304はその波長成分によって角度分離され、レンズ132によって光検出器アレイ115の入射面に集光される。一方、ガイド光201は半透鏡118によって赤外光302と合波され、被検体116の表面を照射する。被検体116を透過したガイド光は上記の透過型回折光学素子100の薄膜層34によって反射され、検出光303から分離された光202となる。上記回折光学素子によって発生する0次透過光および透過回折光を加えた光量を透過光量として測定した。入射光量に対する透過光量の割合を透過率とすると、薄膜層34がない場合に波長633nmの光の透過率は66であり、波長1550nmの光の透過率はTE偏光で83、TM偏光で94であった。一方で薄膜層34を設けた場合には、波長633nmの光の透過率は2以下であり、波長1550nmの光の透過率はTE偏光で83、TM偏光で94であった。すなわち1550nmの赤外光は薄膜層の有無で変化がなく、高透過率を保ったままである。しかし薄膜層34をつけることによりノイズの原因となる633nmの光の透過率を30分の1以下にすることができ、外部に別途光学フィルタ等を設けることが不要となった。以上はリッジの配列方向と同じ方向に周期性をもたない薄膜層を挿入することによって付加できる機能の一例である。この追加機能は必ずしも光学的機能には限られない。例えば、この薄膜層がドライエッチングで溝を作製する際のエッチング停止層であってもよい。一方、このような高屈折率材料を用いた透過型回折格子は、回折格子表面での反射損失が大きくなる傾向があるため、これによって回折効率が低下しやすい。従来、通常の透過型回折格子の回折効率を改善する手段として入射側に、減反射効果を有する構成の膜を設ける手段がとられている例えば、特開平10-177107号公報、あるいは、塩崎学、外1名、厳密結合波理論を用いた多層膜回折格子の偏波無依存設計およびその試作、信学技報、社団法人電子情報通信学会、2004年1月、PN2003-60、p.47-50、参照。そこで本発明の透過型回折光学素子にも、図6に示すようにラミナー型回折格子はリッジ14の頂部表面に薄膜層32を設け、さらにリッジ14間の溝12の底部表面に膜36を設ける。リッジ14の頂部表面の薄膜層32と溝12の底部表面の薄膜層36は、リッジ頂部表面または溝底部表面とほぼ同一形状のストライプ状であり、回折格子のリッジの周期の方向と同じx方向に同周期で平行に存在することになる。さらに、基板50の裏面には回折光が基板と空気の界面で反射するのを防ぐため減反射用被膜38を施すことが望ましい。以上より、回折格子の溝の周期と一致する周期で設けられたストライプ状薄膜層32、36は、回折格子へ光が入射するときの損失を低減する役割をもち、また回折格子の溝の周期と同じ方向に周期構造を持たない薄膜層34は、回折された後の光学特性を補正する役割を担うと言える。したがってこのような構成を採用することにより、従来の回折格子より広い波長範囲において回折効率が高く、かつ偏光依存損失PDLが低い入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子を実現できる。単一材料からなるラミナー型の回折格子はある特定の溝形状において最良の光学特性が得られる。透過型の回折格子の場合、光学特性は溝本数、材料の屈折率、溝の深さ、リッジの幅などによって変化する。ここでは最良の光学特性が得られるときの材料の屈折率をnH、最良の光学特性が得られる溝深さをhとし、各部に薄膜層を設けた場合にも、見かけ上、リッジ全体の高さ溝深さの光学長nH×hが変化しないような条件を求める。リッジの頂部表面と溝の底部表面の両方にストライプ状薄膜層32、36を有する場合図6に示す構成の場合は、次のようになる。図7aに示すように、リッジ24と基板50の間に薄膜層34が設けられているが、ストライプ状薄膜層は設けられていない場合、リッジ24部分の屈折率をnH、最良の光学特性が得られる溝深さをhとする。図7bに示すように、屈折率nHの材料で構成されるリッジ24の高さをhHとし、リッジ24の頂部表面のストライプ状薄膜層32の屈折率をnLu、膜厚をhLu、溝の底部表面のストライプ状薄膜層36の屈折率をnLd、膜厚をhLdとしたとき、nH×hnH×hHnLu×hLu-nLd×hLd2が成り立つようにすればよい。ストライプ状薄膜層32、36は多層膜であってもよく、多層膜の場合、それを構成する各材料の屈折率をn1、n2、n3、、nNとし、それぞれの膜厚をhL1、hL2、hL3、、hNとして、nL、hLをnLn1×hL1n2×hL2n3×hL3nN×hN/hLhLhL1hL2hL3hNで定義した場合に1式または2式を満たすようにする。以上のように、回折格子の基本構成のみで最良の特性が得られるリッジの高さ溝深さの光学長が変わらないように、回折格子の溝の周期と一致する周期で設けられたストライプ状薄膜層とリッジの高さを設定し各層を設けることで、回折格子の基本構成の場合の光学特性を維持し、かつストライプ状薄膜層による光学特性を付加することができる。例えば回折格子の溝の周期と一致するストライプ状薄膜層が使用波長帯域で減反射効果を有する場合には、回折格子に光が入射する場合の反射損失を小さくできるため、回折格子の基本構成のみの場合の回折効率を上回るような光学特性を得ることができる。ストライプ状薄膜層を減反射膜とする場合には、特定の入射角で回折格子に入射する使用波長範囲の光に対して透過光が最大となるような膜構成となるようにする。リッジ頂部表面と溝底部表面の両方に膜厚の異なる減反射膜を設ける場合には、リッジ頂部表面側はリッジ部の材料に対し減反射効果が生じる構成であり、かつ、溝の底部表面側は溝の底部の材料に対して減反射効果が生じる構成であることが望ましいが、少なくともリッジ頂部側がリッジ部分の材料に対し減反射効果のある膜構成であることが好ましい。減反射膜は単層膜であっても多層膜であっても良い。単層膜であれば、リッジ部分の材料よりも屈折率が低い材料であって、膜厚は使用波長λに対し、減反射膜の屈折率をnLとすると、一般にλ/4nL程度となる。しかし入射角の大きさによっては、減反射膜部分の特性に偏光依存が生じる。この減反射膜が持つ偏光依存特性と回折格子が有する偏光依存特性がちょうど打ち消しあうように減反射膜の膜厚をλ/4nLから適当な値だけずらすと、回折効率が高いだけでなく、偏光依存性も小さい透過型回折格子を得ることができる。また、この薄膜層に起因して透過率の波長特性に生じるリップルを利用して、回折効率の波長特性を補正することで、PDLを小さくすることと同時に、使用帯域での透過率を高くする効果を得ることができ、回折効率の最大値を上昇させることができる。なお、ストライプ状薄膜層は回折格子の表面にある場合を例に説明したが、リッジ内部に設けてもよい。同様にリッジの配列周期の方向に周期性のない薄膜層は基板とリッジの間だけでなく、基板内に設けてもよい。以下に本発明における入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折格子の実施形態を説明する。まずその製造方法を説明する。製造方法図6に示すようなリッジ頂部表面および溝の底部表面に薄膜層32、36を有する本発明の透過型回折格子20の製造方法を説明する。はじめに、ガラス基板上にリッジの配列周期の方向x方向と同じ方向には周期構造を持たない薄膜層をスパッタリングまたは蒸着で成膜し、その上に回折格子のリッジ部分となる材料をスパッタリングまたは蒸着で所定の設計膜厚となるまで成膜を行う。その後、溝を作製する時のマスクとなるCr膜をスパッタリングで成膜し、所定の周期および溝幅となるようにフォトリソグラフィとエッチングによりマスクパターンを作製する。このマスクを介してICP-RIEにより、所定の設計に従った溝深さになるまで気相エッチングを行う。最後に、Cr膜を除去し、回折格子面側にリッジの配列周期と一致する周期の薄膜層をスパッタリングまたは蒸着で成膜する。この成膜により、リッジ頂部表面および溝の底部表面に薄膜層32、36が形成できる。本実施例の入射光波長1350nm~1750nm用の透過型回折光学素子は図6に示すような基本構成を有するものとした。石英ガラス基板上に実施例1と同様にTa2O5からなるリッジが形成された透過型回折格子が設けられ、基板とリッジ部の間にSiO2とTa2O5の積層からなる多層膜が挿入されている。さらにリッジ頂部表面と溝の底部表面とにSiO2膜が形成されている。多層膜は実施例1と同様、Ta2O5/SiO2/Ta2O5膜厚38nm/108nm/38nmの3層構造を12回繰り返した膜構成とした。本実施例の透過型回折光学素子は、上記の製造方法により作製される。石英ガラス基板上に上記多層膜を成膜し、この多層膜上に回折格子のリッジとなるTa2O5膜を形成した。その後、その上に溝本数は約900本/mm、溝の幅は555nmとなるようにCr膜のパターンマスクを作製した。このマスクを介して多層膜構造の直上まで気相エッチングを行い、リッジを形成した。その後、Crマスクを除去し、SiO2膜の成膜を行うことにより、リッジ頂部表面と溝の底部にSiO2膜層を同時に形成した。また石英ガラス基板裏面には回折光が基板と空気の界面で反射することを防ぐため減反射被膜を施した。屈折率2.1のTa2O5でリッジを作製する場合、最適な溝深さhは1350nmである。これに対してリッジ頂部と溝の底部にSiO2膜を形成する場合、2式を満たすように両SiO2膜の膜厚を決定すると、2式におけるhHとhLu、hLdはつぎのようになる。実施例:hH=1350nm、hLu=hLd=306nm溝深さ:1656nm比較のため、2式の関係を満たさないつぎのような組合せの比較例を作製した。比較例:hH=1044nm、hLu=hLd=306nm溝深さ:1350nmこれらの回折格子に対し、回折格子面側に入射角45°で波長範囲1350nm~1750nmの光を入射したときの回折効率を測定した。測定結果を図8に示す。同図aが実施例、bが比較例の特性を示している。両者を比較すると、実施例の方がより広範囲でPDLが小さい。例えばPDLが-0.5~0.5dBの範囲となる波長範囲は実施例では1360~1730nmの範囲であるのに対し、比較例では1430~1550nmの範囲で、実施例の方がとくに長波長側で低PDL領域が広くなっている。またTEモードとTMモードの回折効率がともに85以上となる波長は、実施例では1360~1760nmの範囲、比較例では1320~1760nmの範囲と、これも実施例の方が長波長側で回折効率が高くなっている。もちろん、この回折光学素子に可視光を同時に入射した場合には、多層膜によって反射され、透過回折光に混入することはない。