ウエハを蒸着させるために、空間を提供する反応チャンバと、前記反応チェンバ内部に設けられ、前記反応チェンバ内部に配置された前記ウエハを加熱するためのヒータと、前記ヒータを支持するためのヒータ支持部と、前記ヒータを回転させるために、回転力を供給するモータと、前記モータに連結され、前記モータの回転力を伝達する回転軸と、前記ヒータ支持部と前記回転軸とを連結し、前記回転軸の回転力を前記ヒータ支持部に伝達する回転台と、および、前記回転台の下部に設けられ、前記回転台と共に回転する円筒状の回転シールシャフトとを有し、前記回転軸は、前記回転シールシャフトの内部に挿入され、前記ヒータ支持部と連結されることを特徴とする回転式ヒータ構造を有する化学気相蒸着装置。前記反応チャンバの下部に位置するベローズと、前記ベローズの一端に設置され、前記反応チャンバの下部に連結される連結部と、移送板を備え、前記移送板の昇降によって前記ヒータ支持部を昇降させる移送部と、前記ベローズの他端に連結され、前記移送板にかけられ、前記移送板と共に昇降する安着部と、前記安着部の下部に連結され、前記回転軸および前記回転シールシャフトの周りに配置される下部支持台、および、前記回転シールシャフトと前記下部支持台の間に設けられ、気密を維持するための気密部材とをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の回転式ヒータ構造を有する化学気相蒸着装置。前記回転シールシャフトは、フッ素樹脂、PTFE、PEEK、ステンレス、およびアルミニウムのいずれか1つをその材質とすることを特徴とする請求項1に記載の回転式ヒータ構造を有する化学気相蒸着装置。前記気密部材は、四角形状リングであることを特徴とする請求項2に記載の回転式ヒータ構造を有する化学気相蒸着装置。本発明は、上述の問題点を解決するためになされたものであり、蒸着の時、ヒータが回転することにより、反応ガスの流動が不均一な場合でも、蒸着される薄膜の厚さが一定になる化学気相蒸着装置を提供することにその目的がある。上述の目的は、前記ヒータを回転させるため、回転力を供給するモータと、前記モータの回転力を伝達する回転軸と、前記回転軸から回転力が伝達され、前記ヒータを回転するようにする回転台とからなるヒータ回転部の構成を有する蒸着装置によって達成することができる。以上のように、ヒータを回転させるモータと、前記ヒータの位置を確認する位置センサとからなる構成によって、蒸着の時、ヒータを回転させると共に、同一の蒸着開始位置と蒸着終了位置とを確保することができ、反応チャンバ内の反応ガスの流入が不均一な場合でも、蒸着される薄膜の厚さを均一にできるという効果がある。なお、蒸着開始位置と蒸着終了位置とが同一であることにより、ウエハの方向を一定に整列することができるという効果もある。以下、実施の形態と添付の図面に基づき、本発明を詳しく説明する。本発明は、上述のように、蒸着の時、反応ガスの流動が不均一な場合でも、その蒸着される厚さを一定にするためのものであり、その構成は、チャンバCと、前記チャンバC内部に配置されるヒータHと、前記ヒータHを支持するヒータ支持部200と、前記チャンバCを支持するチャンバ支持部100と、前記ヒータHを回転するヒータ回転部300、及び前記ヒータHを昇降するようにする移送部400とに大別される。前記移送部400の場合、回転力を供給する移送モータ440と、前記供給された回転力を上下動に変えるための移送ねじ420と、移送板430と、前記移送ねじ420を固定するための移送ねじホルダ410とから構成される。以下、図3を参照しながら本発明内のチャンバ支持部100について説明する。単に、前記図3には、主に前記チャンバ支持部100を示すが、説明の便宜性のためにその他部分は図示を略する。前記図3に示すように、チャンバ支持部100は、チャンバCを支持するためのものであり、前記チャンバCの下側には、連結部112が配置され、前記チャンバCと前記連結部112との間には、Oリングを使った気密部材が配置される。前記連結部112の下部には、長さの変化に弾力的に対応できるベローズ111が配置され、前記ベローズ111の下部には、移送部400の移送板430にかけられて昇降するようになる安着部113が形成される。そして、前記安着部113の下側には下部支持台115が配置される。前記下部支持台115の内側には、気密部材114が配置され、回転シールシャフトと接触して気密を維持するようになるが、これについては後述する。この時、前記気密部材114は、通常的なOリングを使うことができる。以上のようなチャンバ支持部100は、内部で蒸着作用が進行されるように構成される。上述のように、チャンバCと、前記チャンバC内部に配置されるヒータHと、前記ヒータHを支持するヒータ支持部200と、前記チャンバCを支持するチャンバ支持部100と、前記ヒータHを回転するヒータ回転部300及び前記ヒータHを昇降するようにする移送部400とに大別される本発明の内の図4を参照して、前記ヒータ回転部300について説明する。まず、ヒータHに回転力を供給するためのモータ310が設けられる。前記モータ310の場合、後述のように、ヒータHを一定の位置で終了するため、制御可能なサーボモータが使われる。前記モータ310から回転軸330に回転力が供給され、前記供給された回転力は回転台340に伝達され、前記回転台340に固定されたヒータ支持部200が回転することによってヒータHが回転するようになる。この時、前記回転軸330とモータ310との間には、カップリングやフランジなどの連結部311が設けられることが望ましい。一方、前記回転台340の場合、その下側面に回転シールシャフト341が設けられるが、前記回転シールシャフト341が、気密部材114と接触して、気密を維持するようになる。以下、図5を参照して前記気密部材について説明する。前記図5に示す気密部材114は、通常的なOリングが回転シールシャフト341に接触されている状態が図示されている。しかし、一般に、回転体と接触する場合には、前記回転体とOリングとの接触面積が相対的に広いという理由によって、耐久性に問題の発生する場合がある。これを克服するために、図5に示すように、四角形状リングを使うことが望ましい。前記四角形状リングは、接触面積がOリングより小さくて、摩擦が少なく、耐磨耗性が増加されるようになる。上述のように気密部材114と接触する回転シールシャフト341について図6および図7を参照して説明する。前記図7に示すように、前記回転シールシャフト341は、円筒状に内部に空間が形成され、前記回転軸330が貫通される。また、前記回転シールシャフト341には、固定溝341aを形成する。前記固定溝により固定具342が貫通され、前記回転台340の固定溝340aに挿入されて、前記回転シールシャフト341が回転台340に固定される。このような構成により、回転軸330がモータ310によって回転すると、それによって回転台340が回転するようになり、前記回転シールシャフト341は、上述のように気密部材114と接触する一方、前記回転台340に固定され、共に回転するようになり、また、前記回転シールシャフト341が、前記気密部材114と接触しながら回転するようになり、結局、気密を維持するようになる。一方、前記回転シールシャフト341の材質としては、テフロン登録商標やPEEKまたはステンレス、アルミニウムなどが望ましい。前記テフロン登録商標とは、フッ素を含んだプラスチック、即ち、フッ素樹脂であって、耐久性に優れた化学的性質があり、本発明の回転シールシャフト341の材質に適する。なお、PEEKは、一般溶媒に溶けない非結晶性樹脂であって、優れた耐摩耗性、自己潤滑性などを有する材質であり、これも、本発明の回転シールシャフト341の材質に適する。なお、アルミニウムやステンレスなども、耐摩耗性に優れており、発明の回転シールシャフト341の材質として用いることができる。一方、上述のように、本発明は、蒸着過程中ヒータHを回転するようになる。この時、蒸着工程開始と終了時、その位置が重要になるが、その理由はウエハWの方向を一定に整列するためである。すなわち、蒸着工程開始と終了時との位置の同一であることが要求されるところ、本発明では、これのために、位置確認センサを利用して、前記要求を満足させている。以下、図7を参照して説明する。前記図7に示すように本発明の回転軸330の一部分に、円板状の位置表示部材321と、前記位置表示部材321をセンシングする位置認識センサ322とからなる位置センサアセンブリー320が設けられている。このような前記位置センサアセンブリー320によって、開始位置、すなわち、ホーム位置を認識した後、蒸着工程終了時、前記ウエハWが同一方向に整列されるようにするために、前記ホーム位置で終了するようにするものである。一方、前記位置センサアセンブリー320は、発光ダイオードとフォトダイオードとから構成することができる。すなわち、前記位置表示部材321上に、スリットを形成した後、前記スリットを貫通するように、発光ダイオードから光を発光するようにし、前記発光された光をフォトダイオードが認識する方法を用いることができる。従って、前記スリットが位置する時、ホーム位置と設定した後、蒸着工程終了時、前記スリットが元の位置に戻ってきて、フォトダイオードに光が感知されると、前記ウエハWが元の位置に戻っているということが分かる。なお、磁石センサを用いることも可能である。すなわち、前記位置表示部材321上に磁石を設けた後、前記磁石により誘導される電流を測定して、位置を測定することもできる。一方、赤外線センサを用いることも可能である。すなわち、赤外線が遮断される位置を元の位置に設定した後に、再度赤外線が遮断されることが感知されると、元の位置に復帰されているということが分かる。以上、上述のようなセンサの構成によって、ウエハWの開始位置と終了位置とを同一にすることができる。一方、上述のような制御のための制御方法について図8を参照して説明する。本発明の制御システム500は、まず、中央処理装置570を中心にガスの供給を制御するガス制御部510と、上述のような位置センサアセンブリー320から信号を受けるための位置センサ制御部520と、ヒータ制御部530およびヒータ電源供給部540と移送モータ440を制御するための移送モータ制御部550、およびヒータHを回転させるモータ310を制御するためのヒータ回転モータ制御部560とから構成される。上述の制御システム500により要求される蒸着工程が行われるが、以下、図9を参照して前記制御システム500による蒸着方法について説明する。まず、蒸着作業を開始する場合、前記中央処理装置570から移送モータ440に信号を送り、回転力を移送ねじ420に供給するようにして、移送板430を上昇させ、これにより、ヒータHを上昇させるヒータ上昇ステップを行うことになる。続いて、前記中央処理装置570から前記ガス制御部510に信号を送り、ガス供給をするようにするガス供給開始ステップを行った後、前記ヒータ回転モータ制御部560に信号を送り、前記ヒータHを回転させる回転開始ステップを行うことになる。これにより、前記ヒータHが回転しながら蒸着がなされる。蒸着作業が終了した場合には、前記中央処理装置570から前記ガス制御部510に信号を送り、ガス供給を終了するようにするガス供給終了ステップを通じて、ガス供給を中断するようにし、前記位置センサ制御部520から信号を受けて、現在ヒータHの位置が、開始位置にあるかどうかを前記中央処理装置570によって確認した後、前記ヒータ回転モータ制御部560に信号を送り、前記ヒータHの回転を終了させるホーム位置確認および回転終了ステップを行うことになる。すなわち、上述のように、本発明のように、ヒータHを回転しながら蒸着する場合、開始位置、すなわちホーム位置と終了位置とが同一でなければならないが、これを確認するために回転終了時、その位置がホーム位置にあるかどうかを確認する。続いて、移送モータ440に信号を送り、反対の回転力を移送ねじ420に供給することによって、移送板430を下降させ、これにより、ヒータHを下降させるヒータ下降ステップを通じて、一連の工程が終了される。