ワークを支持するテーブルと、前記テーブルの移動を案内する第1ガイド部と、前記第1ガイド部につなぎ合わされており、前記テーブルの移動経路を延長する第2ガイド部と、つなぎ合わされた前記第1ガイド部と前記第2ガイド部との継ぎ目よりも前記第1ガイド部側に設けられ、前記テーブルが前記継ぎ目よりも前記第1ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する第1検出装置と、前記継ぎ目よりも前記第2ガイド部側に設けられ、前記テーブルが前記継ぎ目よりも前記第2ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する第2検出装置と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。ワークを支持する第2テーブルと、前記第2ガイド部の前記第1ガイド部側とは反対側で前記第2ガイド部につなぎ合わされており、前記第2ガイド部の前記第1ガイド部側とは反対側から前記第2ガイド部に前記第2テーブルを案内する第3ガイド部と、つなぎ合わされた前記第3ガイド部と前記第2ガイド部との継ぎ目よりも前記第3ガイド部側に設けられ、前記第2テーブルが前記継ぎ目よりも前記第3ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記第2テーブルに対する位置精度を検出する第3検出装置と、を有する、ことを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。前記テーブル及び前記第2テーブルには、それぞれ、基準マークが設けられており、前記第1検出装置及び前記第2検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出し、前記第3検出装置及び前記第2検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記第2テーブルに対する位置精度を検出する、ことを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。前記テーブルには、基準マークが設けられており、前記第1検出装置及び前記第2検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する、ことを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。請求項2又は3に記載のステージ装置と、前記テーブルに支持された前記ワークと前記第2テーブルに支持された前記ワークとに対して処理を施す処理部と、を有する、ことを特徴とする処理装置。請求項1又は4に記載のステージ装置と、前記テーブルに支持された前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する、ことを特徴とする処理装置。ワークを支持するテーブルの移動を案内する第1ガイド部と、前記第1ガイド部に継ぎ目を介してつなぎ合わされた第2ガイド部と、を有するステージ装置の前記第1ガイド部の領域において、前記テーブルに前記ワークを給材する給材工程と、前記給材工程の後に、前記第1ガイド部の領域において、前記テーブルに対する前記ワークの位置精度を検出する第1検出工程と、前記第1検出工程の後に、前記テーブルを前記第1ガイド部から前記継ぎ目を越えて前記第2ガイド部に移動させることによって、前記ワークを前記第2ガイド部の領域に搬送する搬送工程と、前記搬送工程の後に、前記第2ガイド部の領域において、前記テーブルに対する前記ワークの位置精度を検出する第2検出工程と、を有する、ことを特徴とする処理方法。上記特許文献1によれば、複数の構成体をつなぎ合わせ結合させることによって、1つのステージ装置が組み立てられている。このような分割構造を採用するステージ装置では、複数の構成体に分割できるので、同じ大きさのステージ装置を一体で構成以下、一体構造と呼ぶする場合に比較して、ステージ装置を輸送しやすくすることができる。ところで、ステージ装置には、ワークを支持したり保持したりするテーブルが移動可能に構成されているものがある。そして、このようなステージ装置を有する処理装置では、テーブルにワークを供給したり、テーブルからワークを除材したりするエリアである給除材エリアと、ワークに対して処理を施すエリアである処理エリアとの間でテーブルを移動可能に構成することができる。さらに、複数のテーブルを設ければ、処理エリアと給除材エリアとの間で、複数のテーブルを交互に往復移動させることによって、処理エリア内にあるワークに対して処理を施す間に、給除材エリアで他のワークを給除材することが可能になる。この構成により、この処理装置では、処理効率を向上させやすくすることができる。テーブルが移動可能に構成されている以下、可動テーブル構成と呼ぶステージ装置では、処理効率の観点から、給除材エリアでテーブルにワークを供給するときに、ワークのアライメント処理も実施しておくことが好ましい。ワークのアライメント処理とは、ステージ装置に対するワークの位置や姿勢を所定の精度内に整える処理である。アライメント処理によって、ステージ装置に対するワークの位置精度や姿勢精度が把握され、ワークに施すべき処理の精度が確保され得る。ところで、可動テーブル構成のステージ装置に対して、前述した分割構造を適用する場合、給除材エリアと処理エリアとの間で分割可能に構成することが考えられる。この場合、アライメント処理が実施されたワークを給除材エリアから処理エリアに移動させるときに、テーブルが構成体同士の継ぎ目を乗り越えることになる。そして、テーブルが継ぎ目を乗り越えるときに、ステージ装置に対するワークの位置や姿勢がずれてしまうことがある。このため、処理エリアにおいてワークのアライメント処理を実施しなければならない。この結果、処理装置における処理効率を向上させることが困難となる。つまり、従来のステージ装置では、処理効率を向上させることが困難であるという課題がある。本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。[適用例1]ワークを支持するテーブルと、前記テーブルの移動を案内する第1ガイド部と、前記第1ガイド部につなぎ合わされており、前記テーブルの移動経路を延長する第2ガイド部と、つなぎ合わされた前記第1ガイド部と前記第2ガイド部との継ぎ目よりも前記第1ガイド部側に設けられ、前記テーブルが前記継ぎ目よりも前記第1ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する第1検出装置と、前記継ぎ目よりも前記第2ガイド部側に設けられ、前記テーブルが前記継ぎ目よりも前記第2ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する第2検出装置と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。この適用例のステージ装置は、テーブルと、第1ガイド部と、第2ガイド部と、第1検出装置と、第2検出装置と、を有する。テーブルは、ワークを支持する。第1ガイド部は、テーブルの移動を案内する。第2ガイド部は、第1ガイド部につなぎ合わされている。第2ガイド部は、テーブルの移動経路を延長する。このステージ装置では、第1ガイド部と第2ガイド部との継ぎ目よりも第1ガイド部側に第1検出装置が設けられており、且つ第1ガイド部と第2ガイド部との継ぎ目よりも第2ガイド部側に第2検出装置が設けられている。これにより、継ぎ目よりも第1ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度と、継ぎ目よりも第2ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度との差異を把握することができる。このため、例えば、テーブルが継ぎ目を乗り越えたときに、ワークの位置精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークのテーブルに対する位置を調整すればよい。この結果、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。[適用例2]上記のステージ装置であって、ワークを支持する第2テーブルと、前記第2ガイド部の前記第1ガイド部側とは反対側で前記第2ガイド部につなぎ合わされており、前記第2ガイド部の前記第1ガイド部側とは反対側から前記第2ガイド部に前記第2テーブルを案内する第3ガイド部と、つなぎ合わされた前記第3ガイド部と前記第2ガイド部との継ぎ目よりも前記第3ガイド部側に設けられ、前記第2テーブルが前記継ぎ目よりも前記第3ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記第2テーブルに対する位置精度を検出する第3検出装置と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。この適用例のステージ装置は、第2テーブルと、第3ガイド部と、第3検出装置と、を有する。第2テーブルは、ワークを支持する。第3ガイド部は、第2ガイド部の第1ガイド部側とは反対側で第2ガイド部につなぎ合わされている。第3ガイド部は、第2ガイド部の第1ガイド部側とは反対側から第2ガイド部に第2テーブルを案内する。第3検出装置は、つなぎ合わされた第3ガイド部と第2ガイド部との継ぎ目よりも第3ガイド部側に設けられている。第3検出装置は、第2テーブルが継ぎ目よりも第3ガイド部側に位置している状態で、ワークの第2テーブルに対する位置精度を検出する。このステージ装置では、第3ガイド部と第2ガイド部との継ぎ目よりも第3ガイド部側に第3検出装置が設けられており、且つ第3ガイド部と第2ガイド部との継ぎ目よりも第2ガイド部側に第2検出装置が設けられている。これにより、継ぎ目よりも第3ガイド部側におけるワークの第2テーブルに対する位置精度と、継ぎ目よりも第2ガイド部側におけるワークの第2テーブルに対する位置精度との差異を把握することができる。このため、例えば、第2テーブルが継ぎ目を乗り越えたときに、ワークの位置精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークの第2テーブルに対する位置を調整すればよい。この結果、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。さらに、このステージ装置では、テーブルと第2テーブルとが設けられているので、例えば、これらを交互に往復移動させることによって、テーブル及び第2テーブルの一方が第2ガイド部側に位置しているときに、テーブル及び第2テーブルの他方に対してワークを給除材することが可能となる。これにより、このステージ装置では、ワークの処理効率を一層向上させやすくすることができる。[適用例3]上記のステージ装置であって、前記テーブル及び前記第2テーブルには、それぞれ、基準マークが設けられており、前記第1検出装置及び前記第2検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出し、前記第3検出装置及び前記第2検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記第2テーブルに対する位置精度を検出する、ことを特徴とするステージ装置。この適用例では、テーブル及び第2テーブルのそれぞれに、基準マークが設けられている。そして、第1検出装置及び第2検出装置は、それぞれ、基準マークに対するワークの位置を検出することによって、ワークのテーブルに対する位置精度を検出する。また、第3検出装置及び第2検出装置は、それぞれ、基準マークに対するワークの位置を検出することによって、ワークの第2テーブルに対する位置精度を検出する。上記により、第1検出装置及び第2検出装置のそれぞれによって、ワークのテーブルに対する位置精度を検出することができる。また、第3検出装置及び第2検出装置のそれぞれによって、ワークの第2テーブルに対する位置精度を検出することができる。[適用例4]上記のステージ装置であって、前記テーブルには、基準マークが設けられており、前記第1検出装置及び前記第2検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する、ことを特徴とするステージ装置。この適用例では、テーブルに、基準マークが設けられている。そして、第1検出装置及び第2検出装置は、それぞれ、基準マークに対するワークの位置を検出することによって、ワークのテーブルに対する位置精度を検出する。上記により、第1検出装置及び第2検出装置のそれぞれによって、ワークのテーブルに対する位置精度を検出することができる。[適用例5]上記のステージ装置と、前記テーブルに支持された前記ワークと前記第2テーブルに支持された前記ワークとに対して処理を施す処理部と、を有する、ことを特徴とする処理装置。この適用例の処理装置は、上記のステージ装置と、処理部と、を有する。処理部は、テーブルに支持されたワークと第2テーブルに支持されたワークとに対して処理を施す。この処理装置では、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。[適用例6]上記のステージ装置と、前記テーブルに支持された前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する、ことを特徴とする処理装置。この適用例の処理装置は、上記のステージ装置と、処理部と、を有する。処理部は、テーブルに支持されたワークに対して処理を施す。この処理装置では、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。[適用例7]ワークを支持するテーブルの移動を案内する第1ガイド部と、前記第1ガイド部に継ぎ目を介してつなぎ合わされた第2ガイド部と、を有するステージ装置の前記第1ガイド部の領域において、前記テーブルに前記ワークを給材する給材工程と、前記給材工程の後に、前記第1ガイド部の領域において、前記テーブルに対する前記ワークの位置精度を検出する第1検出工程と、前記第1検出工程の後に、前記テーブルを前記第1ガイド部から前記継ぎ目を越えて前記第2ガイド部に移動させることによって、前記ワークを前記第2ガイド部の領域に搬送する搬送工程と、前記搬送工程の後に、前記第2ガイド部の領域において、前記テーブルに対する前記ワークの位置精度を検出する第2検出工程と、を有する、ことを特徴とする処理方法。この適用例の処理方法は、給材工程と、第1検出工程と、搬送工程と、第2検出工程と、を有する。給材工程では、ワークを支持するテーブルの移動を案内する第1ガイド部と、第1ガイド部に継ぎ目を介してつなぎ合わされた第2ガイド部と、を有するステージ装置の第1ガイド部の領域において、テーブルにワークを給材する。給材工程の後に、第1検出工程では、第1ガイド部の領域において、テーブルに対するワークの位置精度を検出する。第1検出工程の後に、搬送工程では、テーブルを第1ガイド部から継ぎ目を越えて第2ガイド部に移動させることによって、ワークを第2ガイド部の領域に搬送する。搬送工程の後に、第2検出工程では、第2ガイド部の領域において、テーブルに対するワークの位置精度を検出する。この処理方法では、ステージ装置の第1ガイド部の領域及び第2ガイド部の領域の双方において、テーブルに対するワークの位置精度を検出するので、継ぎ目よりも第1ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度と、継ぎ目よりも第2ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度との差異を把握することができる。このため、例えば、テーブルが継ぎ目を乗り越えたときに、ワークの位置精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークのテーブルに対する位置を調整すればよい。この結果、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。図面を参照しながら、液滴吐出装置を例に、実施形態について説明する。なお、各図面において、それぞれの構成を認識可能な程度の大きさにするために、構成や部材の縮尺が異なっていることがある。本実施形態における液滴吐出装置1は、概略の構成を示す斜視図である図1に示すように、ワーク搬送装置3と、キャリッジ7と、キャリッジ搬送装置11と、第1検出装置14と、第2検出装置15と、第3検出装置16と、を有している。キャリッジ7には、ヘッドユニット18が設けられている。液滴吐出装置1では、ヘッドユニット18と基板などのワークWとの平面視での相対位置を変化させつつ、ヘッドユニット18から液状体を液滴として吐出させることによって、ワークWに液状体で所望のパターンを描画記録することができる。つまり、液滴吐出装置1は、ワークWに描画記録処理を施す処理装置の1つである。なお、図中のY方向はワークWの移動方向を示し、X方向は平面視でY方向とは直交する方向を示している。また、X方向及びY方向によって規定されるXY平面と直交する方向は、Z方向として規定される。さらに、Z方向に沿った軸を中心に回転する方向は、θ方向として規定される。このような液滴吐出装置1は、種々のワークWへの描画記録処理に適用され得る。液滴吐出装置1は、例えば、液晶表示パネル等に用いられるカラーフィルターの製造や、有機ELElectroLuminescence装置の製造などにも適用され得る。赤、緑及び青の3色のフィルターエレメントを有するカラーフィルターの場合、液滴吐出装置1は、例えば、基板に赤、緑及び青の各着色層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット18から各着色層に対応する各液体を、ワークWに液滴として吐出させることによって、ワークWに赤、緑及び青のそれぞれのフィルターエレメントのパターンが描画される。また、有機EL装置の製造では、例えば、赤、緑及び青の画素ごとに、各色に対応する機能層有機層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット18から各色の機能層に対応する各液状体を、ワークWに液滴として吐出されることによって、ワークWに赤、緑及び青のそれぞれの機能層のパターンが描画される。ここで、液滴吐出装置1の各構成について、詳細を説明する。ワーク搬送装置3は、図1に示すように、ベース部21と、ガイドレール23と、ガイドレール24と、ワークテーブル25と、ワークテーブル27と、を有している。ベース部21は、例えば石などの経時変化の少ない材料で構成されており、Y方向に沿って延びるように据えられている。ガイドレール23及びガイドレール24は、それぞれ、例えば石などの経時変化の少ない材料で構成されており、ベース部21の上面22上に配設されている。ガイドレール23及びガイドレール24は、それぞれ、Y方向に沿って延在している。ガイドレール23とガイドレール24とは、互いにX方向に隙間をあけた状態で並んでいる。ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、ガイドレール23及びガイドレール24を挟んでベース部21の上面22に対向した状態で設けられている。ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、ベース部21から浮いた状態でガイドレール23及びガイドレール24上に載置されている。つまり、ガイドレール23及びガイドレール24上には、ワークテーブル25とワークテーブル27とが並存している。ワークテーブル25とワークテーブル27とは、Y方向において、互いに対峙している。ワークテーブル25は、ワークWが載置される面である載置面25aを有している。ワークテーブル27は、ワークWが載置される面である載置面27aを有している。以下において、ワークテーブル25に載置されているワークWと、ワークテーブル27に載置されているワークWとを、互いに識別する場合に、ワークテーブル25に載置されているワークWがワークW1と表記され、ワークテーブル27に載置されているワークWがワークW2と表記される。載置面25a及び載置面27aは、それぞれ、ベース部21側とは反対側上側に向けられている。ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、ガイドレール23及びガイドレール24によってY方向に沿って案内され、ベース部21上をY方向に沿って往復移動可能に構成されている。ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、図示しない移動機構及び動力源によって、互いに独立して個別にY方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、ワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれをY方向に沿って移動させるための動力源として、ワーク搬送モーターが採用されている。ワーク搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。ワーク搬送モーターからの動力は、移動機構を介してワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれに伝達される。これにより、ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、ガイドレール23及びガイドレール24に沿って、すなわちY方向に沿って個別に往復移動することができる。つまり、ワーク搬送装置3は、ワークテーブル25の載置面25aに載置されたワークWを、Y方向に沿って往復移動させることができる。また、ワーク搬送装置3は、ワークテーブル27の載置面27aに載置されたワークWを、Y方向に沿って往復移動させることができる。また、本実施形態では、ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、図示しない移動機構及び動力源によって、互いに独立して個別にX方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。ワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれをX方向に沿って移動させるための動力源としては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。また、本実施形態では、ワークテーブル25及びワークテーブル27は、それぞれ、図示しない回転機構及び動力源によって、互いに独立して個別にθ方向に往復回動可能に構成されている。回転機構としては、例えば、回転リングなどが採用され得る。ワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれをθ方向に沿って回動させるための動力源としては、ステッピングモーター、サーボモーターなどの種々のモーターが採用され得る。上記の構成により、液滴吐出装置1では、ワークテーブル25をX方向、Y方向及びθ方向のそれぞれに駆動することによって、ワークW1のアライメントが行われ得る。同様に、液滴吐出装置1では、ワークテーブル27をX方向、Y方向及びθ方向のそれぞれに駆動することによって、ワークW2のアライメントが行われ得る。ヘッドユニット18は、キャリッジ7を図1中のA視方向に見たときの正面図である図2に示すように、ヘッドプレート31と、吐出ヘッド33と、を有している。吐出ヘッド33は、底面図である図3に示すように、ノズル面35を有している。ノズル面35には、複数のノズル37が形成されている。なお、図3では、ノズル37をわかりやすく示すため、ノズル37が誇張され、且つノズル37の個数が減じられている。吐出ヘッド33において、複数のノズル37は、Y方向に沿って配列するノズル列39を構成している。ノズル列39において、複数のノズル37は、Y方向に沿って所定のノズル間隔Pで形成されている。吐出ヘッド33は、図2中のB-B線における断面図である図4に示すように、ノズルプレート46と、キャビティープレート47と、振動板48と、複数の駆動素子49と、を有している。本実施形態では駆動素子49として、縦振動型の圧電素子が採用されている。ノズルプレート46は、ノズル面35を有している。複数のノズル37は、ノズルプレート46に設けられている。キャビティープレート47は、ノズルプレート46のノズル面35とは反対側の面に設けられている。キャビティープレート47には、複数のキャビティー51が形成されている。各キャビティー51は、各ノズル37に対応して設けられており、対応する各ノズル37に連通している。各キャビティー51には、図示しないタンクから機能液53が供給される。振動板48は、キャビティープレート47のノズルプレート46側とは反対側の面に設けられている。振動板48は、Z方向に振動縦振動することによって、キャビティー51内の容積を拡大したり、縮小したりする。複数の駆動素子49は、それぞれ、振動板48のキャビティープレート47側とは反対側の面に設けられている。各駆動素子49は、各キャビティー51に対応して設けられており、振動板48を挟んで各キャビティー51に対向している。各駆動素子49は、駆動信号に基づいて、伸長する。これにより、振動板48がキャビティー51内の容積を縮小させる。このとき、キャビティー51内の機能液53に圧力が付与される。その結果、ノズル37から、機能液53が液滴55として吐出される。吐出ヘッド33による液滴55の吐出法は、インクジェット法の1つである。インクジェット法は、塗布法の1つである。上記の構成を有する吐出ヘッド33は、図2に示すように、ノズル面35がヘッドプレート31から突出した状態で、ヘッドプレート31に支持されている。キャリッジ7は、図2に示すように、ヘッドユニット18を支持している。ここで、ヘッドユニット18は、ノズル面35がZ方向の下方に向けられた状態でキャリッジ7に支持されている。上記により、ワークWには、吐出ヘッド33から機能液53が塗布され得る。なお、本実施形態では、駆動素子49として、縦振動型の圧電素子が採用されているが、機能液53に圧力を付与するための駆動素子49は、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子も採用され得る。また、駆動素子49としては、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズルから液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなども採用され得る。さらに、発熱体を用いてノズル内に泡を発生させ、その泡によって機能液に圧力を付与する構成も採用され得る。キャリッジ搬送装置11は、図1に示すように、架台61と、ガイドレール63と、を有している。架台61は、X方向に延在しており、ワーク搬送装置3をX方向にまたいでいる。架台61は、ワークテーブル25のベース部21側とは反対側で、ワーク搬送装置3に対向している。架台61は、一対の支柱67によって支持されている。一対の支柱67は、ベース部21を挟んでX方向に互いに対峙する位置に設けられている。なお、以下においては、一対の支柱67のそれぞれを識別する場合に、支柱67a及び支柱67bという表記が用いられる。支柱67a及び支柱67bは、それぞれ、ワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれよりもZ方向の上方に突出している。これにより、架台61とワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。ガイドレール63は、架台61のベース部21側に設けられている。ガイドレール63は、X方向に沿って延在しており、架台61のX方向における幅にわたって設けられている。前述したキャリッジ7は、ガイドレール63に支持されている。キャリッジ7がガイドレール63に支持された状態において、吐出ヘッド33のノズル面35は、Z方向においてワークテーブル25及びワークテーブル27側に向いている。キャリッジ7は、ガイドレール63によってX方向に沿って案内され、X方向に往復動可能な状態でガイドレール63に支持されている。なお、平面視で、キャリッジ7がワークテーブル25及びワークテーブル27のそれぞれに重なっている状態において、ノズル面35と載置面25a及び載置面27aのそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。キャリッジ7は、図示しない移動機構及び動力源によって、X方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ7をX方向に沿って移動させるための動力源として、図示しないキャリッジ搬送モーターが採用されている。キャリッジ搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。キャリッジ搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ7に伝達される。これにより、キャリッジ7は、ガイドレール63に沿って、すなわちX方向に沿って往復移動することができる。つまり、キャリッジ搬送装置11は、キャリッジ7に支持されたヘッドユニット18を、X方向に沿って往復移動させることができる。ワーク搬送装置3について、詳細を説明する。本実施形態では、ワーク搬送装置3は、図5に示すように、Y方向に沿って、第1待機領域71と、処理領域73と、第2待機領域75と、に区分される。ベース部21並びにガイドレール23及びガイドレール24は、それぞれ、継ぎ目77及び継ぎ目79を介して分割可能に構成されている。第1待機領域71と処理領域73とは、継ぎ目77を境に区分される。また、処理領域73と第2待機領域75とは、継ぎ目79を境に区分される。ベース部21は、第1ベース部21aと、第2ベース部21bと、第3ベース部21cと、に分割可能に構成されている。第1ベース部21aと第2ベース部21bとは、継ぎ目77を境に互いに分割され得る。また、第2ベース部21bと第3ベース部21cとは、継ぎ目79を境に互いに分割され得る。つまり、第1ベース部21aと第2ベース部21bとは、継ぎ目77を介して互いにつなぎ合わされている。また、第2ベース部21bと第3ベース部21cとは、継ぎ目79を介して互いにつなぎ合わされている。本実施形態では、第2ベース部21bが、第1ベース部21aと第3ベース部21cとによってY方向に挟持されている。なお、第1ベース部21aが第1待機領域71に対応し、第2ベース部21bが処理領域73に対応し、第3ベース部21cが第2待機領域75に対応している。ここで、キャリッジ搬送装置11の架台61は、図1に示すように、第2ベース部21bをX方向にまたいでいる。つまり、吐出ヘッド33は、処理領域73において、ワークテーブル25の載置面25aや、ワークテーブル27の載置面27aに対向し得る。ガイドレール23は、図5に示すように、第1ガイドレール23aと、第2ガイドレール23bと、第3ガイドレール23cと、に分割可能に構成されている。ガイドレール24も、第1ガイドレール24aと、第2ガイドレール24bと、第3ガイドレール24cと、に分割可能に構成されている。本実施形態では、第1ガイドレール23a及び第1ガイドレール24aが、第1待機領域71に対応している。第2ガイドレール23b及び第2ガイドレール24bが、処理領域73に対応し、第3ガイドレール23c及び第3ガイドレール24cが、第2待機領域75に対応している。第1ガイドレール23aと第2ガイドレール23bとは、継ぎ目77を介して互いにつなぎ合わされている。第2ガイドレール23bと第3ガイドレール23cとは、継ぎ目79を介して互いにつなぎ合わされている。また、第1ガイドレール24aと第2ガイドレール24bとは、継ぎ目77を介して互いにつなぎ合わされている。第2ガイドレール24bと第3ガイドレール24cとは、継ぎ目79を介して互いにつなぎ合わされている。本実施形態では、第1ベース部21a並びに第1ガイドレール23a及び第1ガイドレール24aが、第1ガイド部81を構成する。第2ベース部21b並びに第2ガイドレール23b及び第2ガイドレール24bが、第2ガイド部82を構成する。また、第3ベース部21c並びに第3ガイドレール23c及び第3ガイドレール24cが、第3ガイド部83を構成する。なお、第1ガイド部81が第1待機領域71に対応し、第2ガイド部82が処理領域73に対応し、第3ガイド部83が第2待機領域75に対応している。本実施形態では、ワークテーブル25は、第1待機領域71と処理領域73とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第1待機領域71と処理領域73とを含めた領域が、ワークテーブル25の可動領域として設定されている。また、ワークテーブル27は、第2待機領域75と処理領域73とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第2待機領域75と処理領域73とを含めた領域が、ワークテーブル27の可動領域として設定されている。第1待機領域71では、ワークテーブル25に対するワークW1の給除材と、ワークW1のアライメント処理とが行われる。ワークテーブル25にワークW1が給材供給される給材工程と、第1待機領域71において、このワークW1に対するアライメント処理が行われる。アライメント処理とは、ワーク搬送装置3に対するワークWの位置や姿勢を所定の精度内に整える処理である。アライメント処理によって、ワーク搬送装置3に対するワークWの位置精度や姿勢精度が把握され、ワークWに施すべき処理の精度が確保され得る。ワークW1に対するアライメント処理は、第1検出装置14を介してワーク搬送装置3に対するワークW1の位置や姿勢を検出する第1検出工程ことによって行われる。ワークテーブル25は、第1待機領域71図5でワークW1に対するアライメント処理が行われてから、ワークW1を処理領域73に搬送する搬送工程。処理領域73では、ワークテーブル25に載置されたワークW1に対して描画処理が施される処理工程。液滴吐出装置1では、描画処理によって、ワークWへのパターンの描画が行われる。なお、本実施形態では、ワークW1を処理領域73に搬送した後、且つワークW1へのパターンの描画が行われる前に、処理領域73において、ワーク搬送装置3に対するワークW1の位置や姿勢を検出する工程第2検出工程が実施される。この第2検出工程については、後述する。液滴吐出装置1では、吐出ヘッド33をワークWに対向させた状態で、吐出ヘッド33とワークWとを相対的に往復移動させながら、吐出ヘッド33から液滴55を吐出させることによって、ワークWへのパターンの描画が行われる。描画処理が施されたワークW1は、ワークテーブル25によって、処理領域73から第1待機領域71に搬送される。ワークテーブル25によって第1待機領域71に搬送されたワークW1は、第1待機領域71において、ワークテーブル25から除材される。そして、ワークテーブル25には、新たなワークW1が給材される。他方で、第2待機領域75では、ワークテーブル27に対するワークW2の給除材と、ワークW2のアライメント処理とが行われる。ワークテーブル27にワークW2が給材供給される給材工程と、第2待機領域75において、このワークW2に対するアライメント処理が行われる。ワークW2に対するアライメント処理は、第3検出装置16図1を介してワーク搬送装置3に対するワークW2の位置や姿勢を検出する第1検出工程ことによって行われる。ワークテーブル27は、第2待機領域75図5でワークW2に対するアライメント処理が行われてから、ワークW2を処理領域73に搬送する搬送工程。処理領域73では、ワークテーブル27に載置されたワークW2に対して描画処理が施される処理工程。なお、本実施形態では、ワークW2を処理領域73に搬送した後、且つワークW2へのパターンの描画が行われる前に、処理領域73において、ワーク搬送装置3に対するワークW2の位置や姿勢を検出する工程第2検出工程が実施される。この第2検出工程については、後述する。描画処理が施されたワークW2は、ワークテーブル27によって、処理領域73から第2待機領域75に搬送される。ワークテーブル27によって第2待機領域75に搬送されたワークW2は、第2待機領域75において、ワークテーブル27から除材される。そして、ワークテーブル27には、新たなワークW2が給材される。第1検出装置14は、図1に示すように、第1待機領域71に設けられている。本実施形態では、第1検出装置14は、第1待機領域71の処理領域73側とは反対寄りに設けられている。第1検出装置14は、第1待機領域71において、ワークテーブル25の載置面25aに載置されたワークW1の少なくとも2つのアライメントマーク図示せずと、載置面25aに設けられた基準マーク図示せずとを検出する。第1検出装置14は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ91と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ91は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、CCDChargeCoupledDeviceなどが採用され得る。同軸落射照明は、カメラ91の光軸に対して同軸でワークW側を照明する。カメラ91によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。カメラ91は、支柱93の梁部93aからZ方向の下方に向かって吊り下げられている。支柱93は、第1待機領域71に設けられており、平面視で第1ベース部21aをX方向にまたいでいる。カメラ91は、平面視で、第1待機領域71において第1ベース部21aに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル25とカメラ91とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル25とカメラ91との間に隙間が保たれている。上記の構成により、ワークテーブル25は、平面視で、カメラ91に重畳し得る。このため、ワークW1に設けられているアライメントマークと、載置面25aに設けられている基準マークとをカメラ91を介して撮像することができる。第1検出装置14により、ワークテーブル25の基準マークに対するワークW1のアライメントマークの位置精度や姿勢精度が検出され得る第1検出工程。この結果、ワーク搬送装置3に対するワークW1の位置精度や姿勢精度が把握され得る。そして、ワーク搬送装置3に対するワークW1の位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合に、ワークW1のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル25をX方向、Y方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置3に対するワークW1の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。これにより、ワークW1に対するアライメント処理が終了する。第3検出装置16は、第2待機領域75に設けられている。本実施形態では、第3検出装置16は、第2待機領域75の処理領域73側とは反対寄りに設けられている。第3検出装置16は、第2待機領域75において、ワークテーブル27の載置面27aに載置されたワークW2の少なくとも2つのアライメントマーク図示せずと、載置面27aに設けられた基準マーク図示せずとを検出する。第3検出装置16は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ95と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ95は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、CCDなどが採用され得る。同軸落射照明は、カメラ95の光軸に対して同軸でワークW側を照明する。カメラ95によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。カメラ95は、支柱97の梁部97aからZ方向の下方に向かって吊り下げられている。支柱97は、第2待機領域75に設けられており、平面視で第3ベース部21cをX方向にまたいでいる。カメラ95は、平面視で、第2待機領域75において第3ベース部21cに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル27とカメラ95とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル27とカメラ95との間に隙間が保たれている。上記の構成により、ワークテーブル27は、平面視で、カメラ95に重畳し得る。このため、ワークW2に設けられているアライメントマークと、載置面27aに設けられている基準マークとをカメラ95を介して撮像することができる。第3検出装置16により、ワークテーブル27の基準マークに対するワークW2のアライメントマークの位置精度や姿勢精度が検出され得る。この結果、ワーク搬送装置3に対するワークW2の位置精度や姿勢精度が把握され得る第1検出工程。そして、ワーク搬送装置3に対するワークW2の位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合に、ワークW2のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル27をX方向、Y方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置3に対するワークW2の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。これにより、ワークW2に対するアライメント処理が終了する。第2検出装置15は、処理領域73に設けられている。本実施形態では、第2検出装置15は、検出装置101と、検出装置103と、を有している。検出装置101は、処理領域73において、キャリッジ搬送装置11よりも第1待機領域71側に設けられている。他方で、検出装置103は、処理領域73において、キャリッジ搬送装置11よりも第2待機領域75側に設けられている。検出装置101は、処理領域73において、ワークテーブル25に載置されたワークW1のアライメントマークと、載置面25aに設けられた基準マークとを検出する第2検出工程。検出装置101は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ105と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ105は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、CCDなどが採用され得る。同軸落射照明は、カメラ105の光軸に対して同軸でワークW側を照明する。カメラ105によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。カメラ105は、支柱107の梁部107aからZ方向の下方に向かって吊り下げられている。支柱107は、処理領域73に設けられており、キャリッジ搬送装置11よりも第1待機領域71側において、平面視で第2ベース部21bをX方向にまたいでいる。カメラ105は、平面視で、処理領域73において第2ベース部21bに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル25とカメラ105とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル25とカメラ105との間に隙間が保たれている。上記の構成により、ワークテーブル25は、平面視で、カメラ105に重畳し得る。このため、ワークW1に設けられているアライメントマークと、載置面25aに設けられている基準マークとをカメラ105を介して撮像することができる。検出装置101により、ワークテーブル25の基準マークに対するワークW1のアライメントマークの位置精度や姿勢精度が検出され得る。この結果、ワーク搬送装置3に対するワークW1の位置精度や姿勢精度が把握され得る。本実施形態では、検出装置101によって検出された位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えているか否かを把握することができる。つまり、第1待機領域71でアライメント処理が実施されたワークW1の位置精度や姿勢精度が、処理領域73に搬送される過程で変化しているか否かを監視することができる。そして、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合には、ワークW1のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル25をX方向、Y方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置3に対するワークW1の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。このアライメント処理の後に、ワークW1に対する描画処理が施される。他方で、位置精度や姿勢精度が許容範囲内にある場合には、ワークW1に対する描画処理が施される。検出装置103は、処理領域73において、ワークテーブル27に載置されたワークW2のアライメントマークと、載置面27aに設けられた基準マークとを検出する第2検出工程。検出装置103は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ111と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ111は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、CCDなどが採用され得る。同軸落射照明は、カメラ111の光軸に対して同軸でワークW側を照明する。カメラ111によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。カメラ111は、支柱113の梁部113aからZ方向の下方に向かって吊り下げられている。支柱113は、処理領域73に設けられており、キャリッジ搬送装置11よりも第2待機領域75側において、平面視で第2ベース部21bをX方向にまたいでいる。カメラ111は、平面視で、処理領域73において第2ベース部21bに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル27とカメラ111とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル27とカメラ111との間に隙間が保たれている。上記の構成により、ワークテーブル27は、平面視で、カメラ111に重畳し得る。このため、ワークW2に設けられているアライメントマークと、載置面27aに設けられている基準マークとをカメラ111を介して撮像することができる。検出装置103により、ワークテーブル27の基準マークに対するワークW2のアライメントマークの位置精度や姿勢精度が検出され得る。この結果、ワーク搬送装置3に対するワークW2の位置精度や姿勢精度が把握され得る。本実施形態では、検出装置103によって検出された位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えているか否かを把握することができる。つまり、第2待機領域75でアライメント処理が実施されたワークW2の位置精度や姿勢精度が、処理領域73に搬送される過程で変化しているか否かを監視することができる。そして、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合には、ワークW2のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル27をX方向、Y方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置3に対するワークW2の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。このアライメント処理の後に、ワークW2に対する描画処理が施される。他方で、位置精度や姿勢精度が許容範囲内にある場合には、ワークW2に対する描画処理が施される。本実施形態において、液滴吐出装置1が処理装置に対応し、ワーク搬送装置3がステージ装置に対応し、吐出ヘッド33が処理部に対応している。また、ワークテーブル25がテーブルに対応し、ワークテーブル27が第2テーブルに対応している。本実施形態では、ワークテーブル25及びワークテーブル27のいずれか一方に載置されたワークWに処理領域73で描画処理が施されている間に、ワークテーブル25及びワークテーブル27の他方に対するワークWの給除材とアライメント処理とが実施される。このため、本実施形態では、描画処理の効率を向上させやすくすることができる。また、本実施形態では、ベース部21並びにガイドレール23及びガイドレール24が、それぞれ、Y方向に沿って、第1待機領域71と処理領域73と第2待機領域75との領域ごとに複数の構成体に分割可能な分割構造が採用されている。このため、ベース部21並びにガイドレール23及びガイドレール24として、それぞれ、一体構造が採用されている場合に比較して、ワーク搬送装置3を輸送しやすくすることができる。他方で、ベース部21並びにガイドレール23及びガイドレール24として、それぞれ、分割構造が採用されている場合、一体構造に比較して、ワーク搬送装置3に対するワークWの位置精度や姿勢精度がずれやすいと考えられる。ワーク搬送装置3に対するワークWの位置精度や姿勢精度がずれると、ワークWに対する処理精度が低下することが考えられる。ワーク搬送装置3に対するワークWの位置精度や姿勢精度のずれは、ワークテーブル25が継ぎ目77を乗り越えるときや、ワークテーブル27が継ぎ目79を乗り越えるときに発生しやすいと考えられる。このようなことに対し、本実施形態では、第2検出装置15によってワーク搬送装置3に対するワークWの位置精度や姿勢精度のずれを監視することができるので、ワークWに対する処理精度の低下を抑えやすくすることができる。また、本実施形態では、ワーク搬送装置3に対するワークWの位置精度や姿勢精度のずれを監視した結果、ワークWの位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークWの位置精度や姿勢精度を調整すればよい。このため、描画処理の効率を一層向上させやすくすることができる。なお、本実施形態では、第2検出装置15が2つの検出装置101と検出装置103とを有している。しかしながら、第2検出装置15の構成は、これに限定されない。第2検出装置15の構成としては、例えば、検出装置101及び検出装置103のいずれか一方だけを有する構成も採用され得る。この構成の場合、検出装置101及び検出装置103のいずれか一方が、ワークW1及びワークW2の双方のアライメントマークと、ワークテーブル25及びワークテーブル27の双方の基準マークとを検出する。しかしながら、第2検出装置15が2つの検出装置101と検出装置103とを有する構成は、描画処理の効率を向上させやすくすることができる点で好ましい。これは、ワークW1の位置精度や姿勢精度を検出装置101で検出し、ワークW2の位置精度や姿勢精度を検出装置103で検出すれば、処理にかかる時間を短縮することができるためである。また、第2検出装置15の構成としては、例えば、検出装置101及び検出装置103の他に別の検出装置を付加した構成も採用され得る。さらに、第1検出装置14や第3検出装置16の構成についても、それぞれ、例えば、別の検出装置を付加した構成が採用され得る。