"下記式Iで表される化合物に由来する構造を有する化合物Iを含有した樹脂製基板Iを有することを特徴とする近赤外線カットフィルター。式I中、Ra、RbおよびYは、下記iまたはiiを満たす。iRaはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~8のアルキル基、-NReRf基ReおよびRfはそれぞれ独立に水素原子または炭素数1~5のアルキル基を表す。、またはヒドロキシ基を表し、Rbはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~5のアルキル基、-NRgRh基RgおよびRhはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~5のアルキル基、または-CORi基Riは炭素数1~5のアルキル基を表す。、またはヒドロキシ基を表し、Yは-NRjRk基RjおよびRkはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~8の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が官能基で置換された炭素数1~8の置換脂肪族炭化水素基、炭素数6~12の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数6~12の置換芳香族炭化水素基を表す。を表す。ii1つのベンゼン環上の2つのRaのうちの1つが、同じベンゼン環上のYと相互に結合して、構成原子数5または6の窒素原子を少なくとも1つ含む複素環を形成し、Rbおよび該結合に関与しないRaはそれぞれ独立に前記iのRbおよびRaと同義である。透過率が下記A~Dを満たすことを特徴とする請求項1に記載の近赤外線カットフィルター。A波長430~580nmの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が75以上B波長800~1000nmにおいて、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が20以下C800nm以下の波長領域において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が70となる最も長い波長Xaと、波長580nm以上の波長領域において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が30となる最も短い波長Xbとの差の絶対値が75nm未満D波長560~800nmの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が50となる波長の値Yaと、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して30°の角度から測定した場合の透過率が50となる波長の値Ybの差の絶対値が15nm未満前記樹脂製基板Iが下記EおよびFを満たすことを特徴とする請求項1または2に記載の近赤外線カットフィルター。E波長600~800nmに吸収極大があるF波長430~800nmの波長領域において、基板の垂直方向から測定した場合の透過率が70となる、吸収極大以下で最も長い波長Zaと、波長580nm以上の波長領域において、基板の垂直方向から測定した場合の透過率が30となる最も短い波長Zbとの差の絶対値が75nm未満前記式Iで表される化合物が、下記式IIで表される化合物であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルター。式II中、RaおよびRbはそれぞれ独立に、前記式Iのiと同義であり、Rcはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~8の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が官能基で置換された炭素数1~8の置換脂肪族炭化水素基、炭素数6~12の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数6~12の置換芳香族炭化水素基を表す。前記樹脂製基板Iが、環状オレフィン系樹脂または芳香族ポリエーテル系樹脂を含んでなる基板であることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルター。前記環状オレフィン系樹脂が、下記式X0で表される単量体および下記式Y0で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも1つの単量体から得られる樹脂であることを特徴とする請求項5に記載の近赤外線カットフィルター。式X0中、Rx1~Rx4は、それぞれ独立に下記i~viiiより選ばれる原子または基を表し、kx、mxおよびpxは、それぞれ独立に、0または正の整数を表す。i水素原子iiハロゲン原子iiiトリアルキルシリル基iv酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基v置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基vi極性基但しivを除くviiRx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表すviiiRx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表すか、Rx2とRx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表す式Y0中、Ry1およびRy2は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表すか、下記ixを表し、KyおよびPyは、それぞれ独立に、0または正の整数を表す。ixRy1とRy2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表す前記芳香族ポリエーテル系樹脂が、下記式1で表される構造単位および下記式2で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの構造単位を有することを特徴とする請求項5に記載の近赤外線カットフィルター。式1中、R1~R4は、それぞれ独立に炭素数1~12の1価の有機基を示し、a~dは、それぞれ独立に0~4の整数を示す。式2中、R1~R4およびa~dは、それぞれ独立に前記式1中のR1~R4およびa~dと同義であり、Yは単結合、-SO2-または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1~12の1価の有機基またはニトロ基を示し、gおよびhは、それぞれ独立に0~4の整数を示し、mは0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。前記芳香族ポリエーテル系樹脂が、さらに下記式3で表される構造単位および下記式4で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの構造単位を有することを特徴とする請求項7に記載の近赤外線カットフィルター。式3中、R5およびR6は、それぞれ独立に炭素数1~12の1価の有機基を示し、Zは、単結合、-O-、-S-、-SO2-、>C=O、-CONH-、-COO-または炭素数1~12の2価の有機基を示し、eおよびfは、それぞれ独立に0~4の整数を示し、nは0または1を示す。式4中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式2中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式3中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義である。前記化合物Iが樹脂100重量部に対して0.01~10.0重量部含有されてなる請求項5~8のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルター。前記近赤外線カットフィルターが固体撮像装置用であることを特徴とする請求項1~9のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルター。請求項1~10のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。請求項1~10のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。特許文献2に記載された近赤外線カットフィルターは、近赤外線カット能、耐吸湿性、耐衝撃性に優れるが、十分な視野角の値をとることはできない場合があった。本発明は、視野角が広く、さらに、近赤外線カット能に優れ、吸湿性が低く、異物やソリのない、特にCCD、CMOS等の固体撮像装置用に好適に用いることができる近赤外線カットフィルターを得ることを目的とする。さらに、薄型で耐衝撃性に優れた固体撮像装置を提供することを目的とする。本発明に係る近赤外線カットフィルターは、下記式Iで表される化合物に由来する構造を有する化合物Iを含有した樹脂製基板Iを有することを特徴とする。式I中、Ra、RbおよびYは、下記iまたはiiを満たす。iRaはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~8のアルキル基、-NReRf基ReおよびRfはそれぞれ独立に水素原子または炭素数1~5のアルキル基を表す。、またはヒドロキシ基を表し、Rbはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~5のアルキル基、-NRgRh基RgおよびRhはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~5のアルキル基、または-CORi基Riは炭素数1~5のアルキル基を表す。、またはヒドロキシ基を表し、Yは-NRjRk基RjおよびRkはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~8の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が官能基で置換された炭素数1~8の置換脂肪族炭化水素基、炭素数6~12の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数6~12の置換芳香族炭化水素基を表す。を表す。ii1つのベンゼン環上の2つのRaのうちの1つが、同じベンゼン環上のYと相互に結合して、構成原子数5または6の窒素原子を少なくとも1つ含む複素環を形成し、Rbおよび該結合に関与しないRaはそれぞれ独立に前記iのRbおよびRaと同義である。本発明に係る近赤外線カットフィルターは、透過率が下記A~Dを満たすことが好ましい。A波長430~580nmの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が75以上B波長800~1000nmにおいて、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が20以下C800nm以下の波長領域において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が70となる最も長い波長Xaと、波長580nm以上の波長領域において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が30となる最も短い波長Xbとの差の絶対値が75nm未満D波長560~800nmの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が50となる波長の値Yaと、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して30°の角度から測定した場合の透過率が50となる波長の値Ybの差の絶対値が15nm未満前記樹脂製基板Iは下記EおよびFを満たすことが好ましい。E波長600~800nmに吸収極大があるF波長430~800nmの波長領域において、基板の垂直方向から測定した場合の透過率が70となる、吸収極大以下で最も長い波長Zaと、波長580nm以上の波長領域において、基板の垂直方向から測定した場合の透過率が30となる最も短い波長Zbとの差の絶対値が75nm未満前記式Iで表される化合物は、下記式IIで表される化合物であることが好ましい。式II中、RaおよびRbはそれぞれ独立に、前記式Iのiと同義であり、Rcはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~8の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が官能基で置換された炭素数1~8の置換脂肪族炭化水素基、炭素数6~12の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数6~12の置換芳香族炭化水素基を表す。前記樹脂製基板Iは、環状オレフィン系樹脂または芳香族ポリエーテル系樹脂を含んでなる基板であることが好ましい。前記環状オレフィン系樹脂は、下記式X0で表される単量体および下記式Y0で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも1つの単量体から得られる樹脂であることが好ましい。式X0中、Rx1~Rx4は、それぞれ独立に下記i~viiiより選ばれる原子または基を表し、kx、mxおよびpxは、それぞれ独立に、0または正の整数を表す。i水素原子iiハロゲン原子iiiトリアルキルシリル基iv酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基v置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基vi極性基但しivを除くviiRx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表すviiiRx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表すか、Rx2とRx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表す式Y0中、Ry1およびRy2は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表すか、下記ixを表し、kyおよびpyは、それぞれ独立に、0または正の整数を表す。ixRy1とRy2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表す前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式1で表される構造単位および下記式2で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの構造単位を有することが好ましい。式1中、R1~R4は、それぞれ独立に炭素数1~12の1価の有機基を示し、a~dは、それぞれ独立に0~4の整数を示す。式2中、R1~R4およびa~dは、それぞれ独立に前記式1中のR1~R4およびa~dと同義であり、Yは単結合、-SO2-または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1~12の1価の有機基またはニトロ基を示し、gおよびhは、それぞれ独立に0~4の整数を示し、mは0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式3で表される構造単位および下記式4で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの構造単位を有することが好ましい。式3中、R5およびR6は、それぞれ独立に炭素数1~12の1価の有機基を示し、Zは、単結合、-O-、-S-、-SO2-、>C=O、-CONH-、-COO-または炭素数1~12の2価の有機基を示し、eおよびfは、それぞれ独立に0~4の整数を示し、nは0または1を示す。式4中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式2中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式3中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義である。前記化合物Iは樹脂100重量部に対して0.01~10.0重量部含有されてなることが好ましい。本発明に係る近赤外線カットフィルターは、固体撮像装置用として好適に用いることができる。本発明に係る固体撮像装置およびカメラモジュールは、前記近赤外線カットフィルターを具備することを特徴とする。本発明によれば、吸収透過波長の入射角依存性が小さく、視野角が広く、近赤外線カット能に優れ、吸湿性が低く、異物やソリのない近赤外線カットフィルターを製造することができる。また、本発明によれば、固体撮像装置およびカメラモジュール等を薄型化および小型化することができる。以下、本発明について具体的に説明する。近赤外線カットフィルター本発明に係る近赤外線カットフィルターは、下記式Iで表されるスクエアリリウム構造を有する化合物以下化合物Iともいう。に由来する構造を有する化合物Iを含有した樹脂製基板Iを有することを特徴とし、下記樹脂製基板Iと下記近赤外線反射膜とを有することが好ましい。近赤外線カットフィルターは、このような樹脂製基板を有することで、特に、入射角依存性の小さい近赤外線カットフィルターとなる。≪樹脂製基板I≫前記樹脂製基板Iは化合物Iを含んでなり、下記EおよびFを満たすことが好ましい。E吸収極大が波長600~800nmの範囲にあることが望ましい。基板の吸収極大波長がこのような範囲にあれば、該基板は、近赤外線を選択的に効率よくカットすることができる。F波長430~800nmの波長領域において、基板の垂直方向から測定した場合の透過率が70となる、吸収極大以下で最も長い波長Zaと、波長580nm以上の波長領域において、基板の垂直方向から測定した場合の透過率が30となる最も短い波長Zbとの差の絶対値|Za-Zb|が75nm未満、好ましくは50nm未満、さらに好ましくは30nm未満の値をとることが望ましい。樹脂製基板Iの吸収極大波長およびZaとZbの差の絶対値が前記範囲にあると、該基板に光を入射したときに近赤外線の波長領域付近の波長ZaとZbの間で透過率が急変することとなる。このような基板は、近赤外線を効率よくカットすることができ、また、このような基板を近赤外線カットフィルターに用いた場合には、そのフィルターのYaとYbの差の絶対値が小さくなり、吸収波長の入射角依存性が小さく、視野角の広い近赤外線カットフィルターを得ることができる。また、このような基板を用いた近赤外線カットフィルターを、カメラモジュール等レンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化を実現することができるため好ましい。PDP用前面板やカメラモジュールなど用途によっては、波長400~700nmのいわゆる可視光領域において、化合物Iを含有した樹脂製基板の厚みを100μmとした時の該基板の平均透過率が50以上、好ましくは65以上であることが必要な場合もある。前記樹脂製基板Iの厚みは、所望の用途に応じて適宜選択することができ、特に制限されないが、該基板が前記EおよびFを満たすように調整することが好ましく、より好ましくは250~50μm、さらに好ましくは200~50μm、特に好ましくは150~80μmである。樹脂製基板Iの厚みが前記範囲にあると、該基板を用いた近赤外線カットフィルターを小型化、軽量化することができ、固体撮像装置等さまざまな用途に好適に用いることができる。特にカメラモジュール等レンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化を実現することができるため好ましい。<化合物I>前記化合物Iは、化合物Iに由来する構造を有する。なお、化合物Iは、スクエアリリウム構造を有する染料であることが好ましい。式I中、Ra、RbおよびYは、下記iまたはiiを満たす。iRaはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~8のアルキル基、-NReRf基ReおよびRfはそれぞれ独立に水素原子または炭素数1~5のアルキル基を表す。、またはヒドロキシ基を表し、Rbはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~5のアルキル基、-NRgRh基RgおよびRhはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~5のアルキル基、または-CORi基Riは炭素数1~5のアルキル基を表す。、またはヒドロキシ基を表し、Yは-NRjRk基RjおよびRkはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~8の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が官能基で置換された炭素数1~8の置換脂肪族炭化水素基、炭素数6~12の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数6~12の置換芳香族炭化水素基を表す。を表す。ii1つのベンゼン環上の2つのRaのうちの1つが、同じベンゼン環上のYと相互に結合して、構成原子数5または6の窒素原子を少なくとも1つ含む複素環を形成し、Rbおよび該結合に関与しないRaはそれぞれ独立に前記iのRbおよびRaと同義である。前記Raの炭素数1~8のアルキル基としては、メチル基Me、エチル基Et、n-プロピル基n-Pr、i-プロピル基i-Pr、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基t-Bu、ペンチル基およびヘキシル基等を挙げることができ、これらの基の任意の水素原子がメチル基およびエチル基などで置換されていても良い。前記-NReRf基におけるReおよびRfの炭素数1~5のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基およびペンチル基等を挙げることができる。前記Rbの炭素数1~5のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基およびペンチル基等を挙げることができる。前記-NRgRh基におけるRgおよびRhの炭素数1~5のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基およびペンチル基等を挙げることができる。前記-CORi基におけるRiとしては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基およびペンチル基等を挙げることができる。前記-NRjRk基におけるRjおよびRkの炭素数1~8の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等の鎖状脂肪族炭化水素基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状脂肪族炭化水素基;などを挙げることができる。前記-NRjRk基におけるRjおよびRkの任意の水素原子が官能基で置換された炭素数1~8の置換脂肪族炭化水素基としては、前記鎖状脂肪族炭化水素基の任意の水素原子が-NRR基RおよびRは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基およびペンチル基等の鎖状脂肪族炭化水素基を表す。、-CN、-OH、-ORRはメチル基、エチル基およびプロピル基を表す。等の官能基で置換された置換鎖状脂肪族炭化水素基;前記環状脂肪族炭化水素基の任意の水素原子がメチル基およびエチル基等で置換された置換環状脂肪族炭化水素基などを挙げることができる。前記-NRjRk基におけるRjおよびRkの炭素数6~12の芳香族炭化水素基としては、フェニル基等を挙げることができる。前記-NRjRk基におけるRjおよびRkの任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数6~12の置換芳香族炭化水素基としては、フェニル基の任意の水素原子がメチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基およびペンチル基等の鎖状脂肪族炭化水素基で置換された置換フェニル基;などを挙げることができる。前記式Iのiiにおける、1つのベンゼン環上の2つのRaのうちの1つが、同じベンゼン環上のYと相互に結合した、構成原子数5または6の窒素原子を少なくとも1つ含む複素環としては、例えば、ピロリジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ピリダジン、ピリミジンおよびピラジン等を挙げることができる。これらの複素環のうち、当該複素環を構成し、かつ、ベンゼン環を構成する炭素原子の隣の1つの原子が窒素原子である複素環が好ましく、ピロリジンがさらに好ましい。化合物Iは、例えば、下記式I-1で表わされる構造の共鳴構造を有する化合物I-2を含む。つまり、化合物Iとしては、例えば、化合物I-1および化合物I-2が挙げられる。前記化合物は、該化合物をその良溶媒に溶解させることで得られる溶液の透過率を測定光路長1cmした時の、吸収極大における分光透過率が、該溶液中の化合物Iの濃度によらず、30以下となる化合物であることが望ましく、また、化合物をその良溶媒に溶解させることで得られる溶液の透過率を測定光路長1cmした時に、該溶液中の化合物Iの濃度によらず、波長600~800nmに吸収極大があり、かつ、波長430~800nmの波長領域において透過率が70となる吸収極大以下で最も長い波長と、波長580nm以上の波長領域において透過率が30となる最も短い波長との差の絶対値が75nm未満、好ましくは65nm未満、さらに好ましくは55nm未満となる化合物であることが望ましい。なお、従来の近赤外線カットフィルターでは、このような化合物Iは、その透過率曲線が急峻な傾きを有すること、近赤外線領域の吸収領域が狭いこと、およびガラス等の基板に混ぜて近赤外線カットフィルターを製造する際に該化合物がガラスの成形温度に耐えることができないなどの理由から用いられてこなかった。そのため、本発明のように特に、入射角依存性の小さい近赤外線カットフィルターは得られなかった。このような化合物Iを含有してなる樹脂製基板Iは前記EおよびFの特徴を有するため、本発明の近赤外線カットフィルターは、特に下記A、CおよびDの特徴を有することになる。そのため、入射角依存性が小さく、視野角の広い近赤外線カットフィルターを得ることができる。また、後述する近赤外線反射膜を、蒸着などにより樹脂製基板Iに設ける場合、近赤外線カットフィルターの視野角が狭くなる等の性能が劣化する場合があったが、前記樹脂製基板Iは、前記化合物Iを含むため、近赤外線反射膜を設けることで生じうる近赤外線カットフィルターの性能の劣化を防ぐことができる。よって、近赤外線反射膜を蒸着などにより樹脂製基板I上に設けた場合であっても、入射光の入射角に依存しない安定した吸収波長領域を有する近赤外線カットフィルターが得られる。本発明では、前記化合物Iが、下記式IIで表される化合物であることが好ましい。式II中、RaおよびRbは、前記式Iのiと同義であり、Rcは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~8の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が官能基で置換された炭素数1~8の置換脂肪族炭化水素基、炭素数6~12の芳香族炭化水素基、または任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数6~12の置換芳香族炭化水素基を表す。式II中のRcで表される炭素数1~8の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が官能基で置換された炭素数1~8の置換脂肪族炭化水素基、炭素数6~12の芳香族炭化水素基、および任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数6~12の置換芳香族炭化水素基としては、前記-NRjRk基におけるRjおよびRkの炭素数1~8の脂肪族炭化水素基、任意の水素原子が官能基で置換された炭素数1~8の置換脂肪族炭化水素基、炭素数6~12の芳香族炭化水素基、および任意の水素原子がアルキル基で置換された炭素数6~12の置換芳香族炭化水素基で挙げた基と同様の基等を挙げることができる。また、化合物IIは、その共鳴構造である下記式II-1で表される化合物であってもよい。前記式IIで表される化合物としては、下記のa-1~a-19等を挙げることができる。なお、下記化合物中、Acは-CO-CH3を表す。これらの中でも、化合物a-10は、塩化メチレンによく溶解し、化合物a-10を塩化メチレンに0.0001重量部の濃度で溶解させた溶液の分光透過率測定光路長1cmを行った場合に、波長600~800nmに吸収極大があり、かつ、化合物a-100.04重量部、JSR株式会社製の環状オレフィン系樹脂アートンG100重量部、さらに塩化メチレンを加えて得られる樹脂濃度が20重量の溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離し、さらに減圧下100°Cで8時間乾燥して得られた厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板の分光透過率測定を行った場合に、波長430~800nmの波長領域において、透過率が70となる吸収極大以下で最も長い波長と、波長580nm以上の波長領域において、透過率が30となる最も短い波長との差の絶対値が55nm未満であるため、吸収透過波長の入射角依存性が小さく、視野角の広い近赤外線カットフィルターを製造することができるため好ましい。本発明において、化合物Iは、一般的に知られている方法で合成すればよく、たとえば、特開平1-228960号公報に記載されている方法で合成すればよい。本発明において、化合物の使用量は、前記樹脂製基板Iが前記EおよびFを満たすように適宜選択されることが好ましく、具体的には、樹脂製基板I製造時に用いる樹脂100重量部に対して、好ましくは0.01~10.0重量部、さらに好ましくは0.01~8.0重量部、特に好ましくは0.01~5.0重量部である。化合物Iの使用量が前記範囲内にあると、吸収波長の入射角依存性が小さく、視野角が広く、近赤外線カット能、430~580nmの範囲における透過率および強度に優れた近赤外線カットフィルターを得ることができる。化合物Iの使用量が前記範囲より多いと、化合物Iの特性性質がより強く表れる近赤外線カットフィルターを得ることができる場合もあるが、430~580nmの範囲における透過率が所望の値より低下する恐れや、樹脂製基板や近赤外線カットフィルターの強度が低下する恐れがあり、また、化合物の使用量が前記範囲より少ないと、430~580nmの範囲における透過率の高い近赤外線カットフィルターを得ることができる場合もあるが、化合物Iの特性が表れにくくなる恐れがあり、吸収波長の入射角依存性が小さく、視野角が広い樹脂製基板や近赤外線カットフィルターを得ることが困難になる場合がある。<樹脂>本発明で用いる樹脂製基板Iは化合物Iと樹脂とを含んでなればよく、該樹脂としては透明樹脂が好ましい。このような樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、100°C以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度Tgが、好ましくは110~380°C、より好ましくは110~370°C、さらに好ましくは120~360°Cである樹脂が挙げられる。また、樹脂のガラス転移温度が、120°C以上、好ましくは130°C以上、さらに好ましくは140°C以上である場合には、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成し得るフィルムが得られるため望ましい。また、前記樹脂としては、厚さ0.1mmでの全光線透過率が、好ましくは75~94であり、さらに好ましくは78~94であり、特に好ましくは80~94である樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲であれば、得られる基板は、光学フィルムとして良好な透明性を示す。このような樹脂としては例えば、環状オレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアリレート樹脂PAR、ポリサルホン樹脂PSF、ポリエーテルサルホン樹脂PES、ポリパラフェニレン樹脂PPP、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂PEPO、ポリイミド樹脂PPI、ポリアミドイミド樹脂PAI、変性アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂PC、ポリエチレンナフタレートPENおよび有機-無機ナノハイブリッド材料を挙げることができる。前記樹脂のうち、透明性の高い環状オレフィン系樹脂または芳香族ポリエーテル系樹脂を用いると可視光領域の透過率が特に高くなるため好ましく、また、これらの樹脂は、吸湿性が低く、ソリが生じにくいため好ましい。また、樹脂として、特にノルボルネン系樹脂または芳香族ポリエーテル系樹脂を用いると、前記化合物Iのノルボルネン系樹脂への分散性が良好であるため、光学特性が均一な、成形加工性に優れる基板を得ることができる。<環状オレフィン系樹脂>本発明に用いられる透明樹脂として、環状オレフィン系樹脂が挙げられる。環状オレフィン系樹脂としては、特に制限されないが、例えば、下記式X0で表される単量体および下記式Y0で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも1つの単量体を重合することで得られる樹脂、または必要に応じてさらに前記で得られた樹脂を水素添加することで得られる樹脂を用いることができる。式X0中、Rx1~Rx4は、それぞれ独立に下記i~viiiより選ばれる原子または基を表し、kx、mxおよびpxは、それぞれ独立に、0または正の整数を表す。i水素原子iiハロゲン原子iiiトリアルキルシリル基iv酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基v置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基vi極性基但しivを除くviiRx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表すviiiRx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表すか、Rx2とRx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表す式Y0中、Ry1およびRy2は、それぞれ独立に前記i~viより選ばれる原子または基を表すか、下記ixを表し、kyおよびpyは、それぞれ独立に、0または正の整数を表す。ixRy1とRy2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表す前記iiハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子および臭素原子が挙げられる。前記iiiトリアルキルシリル基としては、炭素数1~12のトリアルキルシリル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1~6のトリアルキルシリル基である。このようなトリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基およびトリイソプロピルシリル基等が挙げられる。前記酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基としては、カルボニル基-CO-、オキシカルボニル基-OCO-、カルボニルオキシ基-COO-、スルホニル基-SO2-、エーテル結合-O-、チオエーテル結合-S-、イミノ基-NH-、アミド結合-NHCO-、-CONH-およびシロキサン結合-OSiR2-式中、Rはメチル、エチル等のアルキル基等が挙げられ、前記ivの置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基は、これらの連結基を複数含む基であってもよい。これらの中でも赤外線反射膜との接着性や密着性に優れるといった点、化合物の分散性や溶解性の点でカルボニルオキシ基-COO-およびシロキサン結合-OSiR2-が好ましい。但しが式X0の環に結合するものとする。前記置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基としては、置換または非置換の炭素数1~15の炭化水素基が好ましく、たとえば、メチル基、エチル基およびプロピル基等のアルキル基;シクロペンチル基およびシクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、ビフェニル基、フェニルエチル基等の芳香族炭化水素基;ビニル基、アリル基およびプロペニル基等のアルケニル基;などが挙げられる。これらの基の中でも、メチル基およびエチル基が耐熱安定性の点で好ましい。置換基としては、ヒドロキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。前記vi極性基としては、例えば、ヒドロキシ基;メトキシ基およびエトキシ基等の炭素数1~10のアルコキシ基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等のカルボニルオキシ基;シアノ基;アミノ基;アシル基;スルホ基;カルボキシル基;などが挙げられる。また、Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基としては、メチリデン基、エチリデン基、プロピリデン基等が挙げられる。Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環、Rx2とRx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環、Ry1とRy2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環としては、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロへキシレン、シクロへプチレン、シクロブテニレン、シクロペンテニレン、シクロヘキセニレン、シクロヘキセニレン、フェニレン、ナフチレン等が挙げられる。kx、mx、px、ky、pyは、それぞれ独立に、0~3の整数が好ましい。また、より好ましくはkxmxpxが0~4の整数、さらに好ましくはkxmxpxが0~2の整数であり、特に好ましくはkxmxpxが1である。kypyは0~4の整数であることが好ましく、kypyは0~2の整数であることがより好ましい。mxが0であり、kxpxが1である環状オレフィン系単量体を用いると、ガラス転移温度が高く、かつ機械的強度にも優れた樹脂が得られるため好ましい。前記式X0またはY0で表される環状オレフィン系単量体の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が例示できるが、これらの例示に限定されるものではない。ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エンノルボルネン5-メチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-エチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-プロピルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-ブチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-t-ブチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-イソブチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-ペンチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-ヘキシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-ヘプチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-オクチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-デシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-ドデシルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-シクロヘキシル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-フェニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-4-ビフェニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-メトキシカルボニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-フェノキシカルボニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-フェノキシエチルカルボニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-フェニルカルボニルオキシ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-メチル-5-メトキシカルボニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-メチル-5-フェノキシカルボニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-メチル-5-フェノキシエチルカルボニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-ビニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-エチリデン-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-トリメトキシシリル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-トリエトキシシリル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5,5-ジメチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5,6-ジメチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-フルオロ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-クロロ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-ブロモ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5,6-ジフルオロ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5,6-ジクロロ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5,6-ジブロモ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-ヒドロキシ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-ヒドロキシエチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-シアノ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン5-アミノ-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エントリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エントリシクロ[4.4.0.125]ウンデカ-3-エン7-メチル-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-エチル-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-シクロヘキシル-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-フェニル-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-4-ビフェニル-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7,8-ジメチル-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7,8,9-トリメチル-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン8-メチル-トリシクロ[4.4.0.125]ウンデカ-3-エン8-フェニル-トリシクロ[4.4.0.125]ウンデカ-3-エン7-フルオロ-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-クロロ-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-ブロモ-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7,8-ジクロロ-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7,8,9-トリクロロ-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-クロロメチル-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-ジクロロメチル-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-トリクロロメチル-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-ヒドロキシ-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-シアノ-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エン7-アミノ-トリシクロ[4.3.0.125]デカ-3-エンテトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エンペンタシクロ[7.4.0.125.1811.0712]ペンタデカ-3-エン8-メチル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-エチル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-シクロヘキシル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-フェニル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-4-ビフェニル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-メトキシカルボニル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-フェノキシカルボニル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-フェノキシエチルカルボニル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-フェニルカルボニルオキシ-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-メチル-8-メトキシカルボニル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-メチル-8-フェノキシカルボニル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-メチル-8-フェノキシエチルカルボニル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-ビニル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-エチリデン-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8,8-ジメチル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8,9-ジメチル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-フルオロ-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-クロロ-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-ブロモ-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8,8-ジクロロ-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8,9-ジクロロ-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8,8,9,9-テトラクロロ-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-ヒドロキシ-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-ヒドロキシエチル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-メチル-8-ヒドロキシエチル-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-シアノ-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン8-アミノ-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エンなお、これら環状オレフィン系単量体は1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。本発明に用いられる環状オレフィン系単量体の種類および量は、得られる樹脂に求められる特性により適宜選択される。これらのうち、その分子内に酸素原子、硫黄原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも1種の原子を少なくとも1個含む構造以下、極性構造という。を有する化合物を用いると、化合物Iの分散性に優れ、また、他素材近赤外線反射膜等との接着性や密着性に優れるなどの利点がある。特に、前記式X0中、Rx1およびRx3がそれぞれ独立に水素原子または炭素数1~3の炭化水素基、好ましくは水素原子またはメチル基であり、かつ、Rx2またはRx4のいずれか一つが極性構造を有する基であって他が水素原子または炭素数1~3炭化水素基である化合物を重合した樹脂は、吸水湿性が低く好ましい。また、Ry1またはRy2のいずれか一つが極性構造を有する基であって他が水素原子または炭素数1~3炭化水素基である化合物を重合した樹脂は、吸水湿性が低く好ましい。さらに、前記極性構造を有する基が下記式Z0で表わされる基である環状オレフィン系単量体は、得られる樹脂の耐熱性と吸水湿性とのバランスがとりやすいため、好ましく用いられる。-CH2zCOOR...Z0式Z0中、Rは置換または非置換の炭素原子数1~15の炭化水素基を表し、zは0または1~10の整数を表す。前記式Z0において、zの値が小さい基ほど得られる水素添加物のガラス転移温度が高くなり耐熱性に優れるので、zが0または1~3の整数であることが好ましく、更に、zが0である単量体はその合成が容易である点で好ましい。また、前記式Z0におけるRは、炭素数が多いほど得られる重合体の水素添加物の吸水湿性が低下する傾向にあるが、ガラス転移温度が低下する傾向もあるので、耐熱性を保持する観点からは炭素数1~10の炭化水素基が好ましく、特に炭素数1~6の炭化水素基であることが好ましい。なお、前記式X0において、前記式Z0で表される基が結合した炭素原子に、炭素数1~3のアルキル基、特にメチル基が結合していると、耐熱性と吸水湿性のバランスの良い化合物となる傾向にあるため好ましい。さらに、前記式X0において、mxが0であり、かつ、kxpxが1である化合物は、反応性が高く、高収率で重合体が得られること、また、耐熱性が高い重合体水素添加物が得られること、さらに工業的に入手しやすいことから好適に用いられる。前記環状オレフィン系樹脂は、前記環状オレフィン系単量体と該単量体と共重合可能な単量体とを本発明の効果を損なわない範囲で共重合させた重合体であってもよい。これら共重合可能な単量体として、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロドデセンなどの環状オレフィンや1,4-シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、シクロドデカトリエンなどの非共役環状ポリエンを挙げることができる。これらの共重合可能な単量体は、1種単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。前記環状オレフィン系単量体の重合方法については、単量体の重合が可能である限り特に制限されるものではないが、例えば、開環重合、もしくは付加重合によって重合することができる。前記開環重合反応により得られる重合体は、その分子中にオレフィン性不飽和結合を有している。また、前記付加重合反応においても、重合体がその分子中にオレフィン性不飽和結合を有する場合がある。このように、重合体分子中にオレフィン性不飽和結合が存在すると、係るオレフィン性不飽和結合が経時着色やゲル化等劣化の原因となる場合があるので、このオレフィン性不飽和結合を飽和結合に変換する水素添加反応を行うことが好ましい。水素添加反応は、通常の方法、すなわちオレフィン性不飽和結合を有する重合体の溶液に公知の水素添加触媒を添加し、これに常圧~300気圧、好ましくは3~200気圧の水素ガスを0~200°C、好ましくは20~180°Cで作用させることによって行うことができる。水素添加重合体の水素添加率は、500MHz、1H-NMRで測定されるオレフィン性不飽和結合に水素が付加した割合が通常50以上、好ましく70以上、より好ましくは90以上、特に好ましくは98以上、最も好ましくは99以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性に優れたものとなり、長期にわたって安定した特性を維持できる樹脂製基板となるため好ましい。<芳香族ポリエーテル系樹脂>本発明に用いられる透明樹脂として、芳香族ポリエーテル系樹脂が挙げられる。芳香族ポリエーテル系樹脂としては、特に制限されないが、例えば、下記式1で表わされる構造単位以下構造単位1ともいう。および下記式2で表わされる構造単位以下構造単位2ともいう。からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位以下構造単位1-2ともいう。を有する樹脂以下樹脂1ともいう。であることが好ましい。このような樹脂から得られる基板は、優れた耐熱性および力学的強度に優れ、さらに、透明性および表面平滑性等に優れる。前記式1中、R1~R4は、それぞれ独立に炭素数1~12の1価の有機基を示す。a~dは、それぞれ独立に0~4の整数を示し、好ましくは0または1である。炭素数1~12の1価の有機基としては、炭素数1~12の1価の炭化水素基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1~12の1価の有機基等を挙げることができる。炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、炭素数1~12の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基および炭素数6~12の芳香族炭化水素基等が挙げられる。前記炭素数1~12の直鎖または分岐鎖の炭化水素基としては、炭素数1~8の直鎖または分岐鎖の炭化水素基が好ましく、炭素数1~5の直鎖または分岐鎖の炭化水素基がより好ましい。前記直鎖または分岐鎖の炭化水素基の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基およびn-ヘプチル基等が挙げられる。前記炭素数3~12の脂環式炭化水素基としては、炭素数3~8の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数3または4の脂環式炭化水素基がより好ましい。炭素数3~12の脂環式炭化水素基の好適な具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロへキシル基等のシクロアルキル基;シクロブテニル基、シクロペンテニル基およびシクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基が挙げられる。当該脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上のいずれの炭素でもよい。前記炭素数6~12の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基およびナフチル基等が挙げられる。当該芳香族炭化水素基の結合部位は、芳香族環上のいずれの炭素でもよい。酸素原子を含む炭素数1~12の有機基としては、水素原子、炭素原子および酸素原子からなる有機基が挙げられ、中でも、エーテル結合、カルボニル基またはエステル結合と炭化水素基とからなる総炭素数1~12の有機基等を好ましく挙げることができる。エーテル結合を有する総炭素数1~12の有機基としては、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数2~12のアルケニルオキシ基、炭素数2~12のアルキニルオキシ基、炭素数6~12のアリールオキシ基および炭素数1~12のアルコキシアルキル基などを挙げることができる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、プロペニルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基およびメトキシメチル基等が挙げられる。また、カルボニル基を有する総炭素数1~12の有機基としては、炭素数2~12のアシル基等を挙げることができる。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基およびベンゾイル基等が挙げられる。エステル結合を有する総炭素数1~12の有機基としては、炭素数2~12のアシルオキシ基等が挙げられる。具体的には、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等が挙げられる。窒素原子を含む炭素数1~12の有機基としては、水素原子、炭素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、シアノ基、イミダゾール基、トリアゾール基、ベンズイミダゾール基およびベンズトリアゾール基等が挙げられる。酸素原子および窒素原子を含む炭素数1~12の有機基としては、水素原子、炭素原子、酸素原子、および、窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、オキサゾール基、オキサジアゾール基、ベンズオキサゾール基およびベンズオキサジアゾール基等が挙げられる。前記式1におけるR1~R4としては、樹脂1の吸水湿性の点から炭素数1~12の1価の炭化水素基が好ましく、炭素数6~12の芳香族炭化水素基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。前記式2中、R1~R4およびa~dは、それぞれ独立に前記式1中のR1~R4およびa~dと同義であり、Yは、単結合、-SO2-または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1~12の1価の有機基またはニトロ基を示し、mは、0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。gおよびhは、それぞれ独立に0~4の整数を示し、好ましくは0である。炭素数1~12の1価の有機基としては、前記式1における炭素数1~12の1価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。前記樹脂1は、前記構造単位1と前記構造単位2とのモル比但し、両者構造単位1構造単位2の合計は100である。が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から構造単位1:構造単位2=50:50~100:0であることが好ましく、構造単位1:構造単位2=70:30~100:0であることがより好ましく、構造単位1:構造単位2=80:20~100:0であることがさらに好ましい。ここで、力学的特性とは、樹脂の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。また、前記樹脂1は、さらに、下記式3で表わされる構造単位および下記式4で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位以下構造単位3-4ともいう。を有してもよい。前記樹脂1がこのような構造単位3-4を有すると、該樹脂1を含む基板の力学的特性が向上するため好ましい。前記式3中、R5およびR6は、それぞれ独立に炭素数1~12の1価の有機基を示し、Zは、単結合、-O-、-S-、-SO2-、>C=O、-CONH-、-COO-または炭素数1~12の2価の有機基を示し、nは、0または1を示す。eおよびfは、それぞれ独立に0~4の整数を示し、好ましくは0である。炭素数1~12の1価の有機基としては、前記式1における炭素数1~12の1価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。炭素数1~12の2価の有機基としては、炭素数1~12の2価の炭化水素基、炭素数1~12の2価のハロゲン化炭化水素基、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1~12の2価の有機基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1~12の2価のハロゲン化有機基等を挙げることができる。炭素数1~12の2価の炭化水素基としては、炭素数1~12の直鎖または分岐鎖の2価の炭化水素基、炭素数3~12の2価の脂環式炭化水素基および炭素数6~12の2価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。炭素数1~12の直鎖または分岐鎖の2価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基およびヘプタメチレン基等が挙げられる。炭素数3~12の2価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基等のシクロアルキレン基;シクロブテニレン基、シクロペンテニレン基およびシクロヘキセニレン基等のシクロアルケニレン基などが挙げられる。炭素数6~12の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基およびビフェニレン基等が挙げられる。炭素数1~12の2価のハロゲン化炭化水素基としては、炭素数1~12の直鎖または分岐鎖の2価のハロゲン化炭化水素基、炭素数3~12の2価のハロゲン化脂環式炭化水素基および炭素数6~12の2価のハロゲン化芳香族炭化水素基等が挙げられる。炭素数1~12の直鎖または分岐鎖の2価のハロゲン化炭化水素基としては、ジフロオロメチレン基、ジクロロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、テトラクロロエチレン基、ヘキサフルオロトリメチレン基、ヘキサクロロトリメチレン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基およびヘキサクロロイソプロピリデン基等が挙げられる。炭素数3~12の2価のハロゲン化脂環式炭化水素基としては、前記炭素数3~12の2価の脂環式炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。炭素数6~12の2価のハロゲン化芳香族炭化水素基としては、前記炭素数6~12の2価の芳香族炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1~12の有機基としては、水素原子および炭素原子と、酸素原子および/または窒素原子とからなる有機基が挙げられ、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合またはアミド結合と炭化水素基とを有する総炭素数1~12の2価の有機基等が挙げられる。酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1~12の2価のハロゲン化有機基としては、具体的には、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1~12の2価の有機基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。前記式3におけるZとしては、単結合、-O-、-SO2-、>C=Oまたは炭素数1~12の2価の有機基が好ましく、樹脂1の吸水湿性の点から炭素数1~12の2価の炭化水素基、炭素数1~12の2価のハロゲン化炭化水素基または炭素数3~12の2価の脂環式炭化水素基がより好ましい。前記式4中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式2中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式3中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義である。なお、mが0の時、R7はシアノ基ではない。前記樹脂1は、前記構造単位1-2と前記構造単位3-4とのモル比但し、両者1-23-4の合計は100である。が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から1-2:3-4=50:50~100:0であることが好ましく、1-2:3-4=70:30~100:0であることがより好ましく、1-2:3-4=80:20~100:0であることがさらに好ましい。ここで、力学的特性とは、樹脂の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。前記樹脂1は、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から前記構造単位1-2および前記構造単位3-4を全構造単位中70モル以上含むことが好ましく、全構造単位中95モル以上含むことがより好ましい。前記樹脂1は、例えば、下記式5で表わされる化合物以下化合物5ともいう。および下記式7で表わされる化合物以下化合物7ともいう。からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物を含む成分以下A成分ともいう。と、下記式6で表わされる化合物を含む成分以下B成分ともいう。とを、反応させることにより得ることができる。前記式5中、Xは独立してハロゲン原子を示し、フッ素原子が好ましい。前記式7中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式2中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、Xは、独立に前記式5中のXと同義である。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。前記式6中、RAは、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、アセチル基、メタンスルホニル基またはトリフルオロメチルスルホニル基を示し、この中でも水素原子が好ましい。なお、式6中、R1~R4およびa~dは、それぞれ独立に前記式1中のR1~R4およびa~dと同義である。前記化合物5としては、具体的には、2,6-ジフルオロベンゾニトリルDFBN、2,5-ジフルオロベンゾニトリル、2,4-ジフルオロベンゾニトリル、2,6-ジクロロベンゾニトリル、2,5-ジクロロベンゾニトリル、2,4-ジクロロベンゾニトリルおよびこれらの反応性誘導体を挙げることができる。特に、反応性および経済性等の観点から、2,6-ジフルオロベンゾニトリルおよび2,6-ジクロロベンゾニトリルが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。前記式6で表わされる化合物以下化合物6ともいう。としては、具体的には、9,9-ビス4-ヒドロキシフェニルフルオレンBPFL、9,9-ビス3-フェニル-4-ヒドロキシフェニルフルオレン、9,9-ビス3,5-ジフェニル-4-ヒドロキシフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-シクロヘキシルフェニルフルオレンおよびこれらの反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、9,9-ビス4-ヒドロキシフェニルフルオレンおよび9,9-ビス3-フェニル-4-ヒドロキシフェニルフルオレンが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。前記化合物7としては、具体的には、4,4-ジフルオロベンゾフェノン、4,4-ジフルオロジフェニルスルホンDFDS、2,4-ジフルオロベンゾフェノン、2,4-ジフルオロジフェニルスルホン、2,2-ジフルオロベンゾフェノン、2,2-ジフルオロジフェニルスルホン、3,3-ジニトロ-4,4-ジフルオロベンゾフェノン、3,3-ジニトロ-4,4-ジフルオロジフェニルスルホン、4,4-ジクロロベンゾフェノン、4,4-ジクロロジフェニルスルホン、2,4-ジクロロベンゾフェノン、2,4-ジクロロジフェニルスルホン、2,2-ジクロロベンゾフェノン、2,2-ジクロロジフェニルスルホン、3,3-ジニトロ-4,4-ジクロロベンゾフェノンおよび3,3-ジニトロ-4,4-ジクロロジフェニルスルホン等を挙げることができる。これらの中でも、4,4-ジフルオロベンゾフェノン、4,4-ジフルオロジフェニルスルホンが好ましい。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。化合物5および化合物7からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物は、A成分100モル中に、80モル~100モル含まれていることが好ましく、90モル~100モル含まれていることがより好ましい。また、B成分は、必要に応じて下記式8で表わされる化合物を含むことが好ましい。化合物6は、B成分100モル中に、50モル~100モル含まれていることが好ましく、80モル~100モル含まれていることがより好ましく、90モル~100モル含まれていることがさらに好ましい。前記式8中、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式3中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義であり、RAは、それぞれ独立に前記式6中のRAと同義である。前記式8で表わされる化合物としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、2-フェニルヒドロキノン、4,4-ビフェノール、3,3-ビフェノール、4,4-ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3-ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、3,3-ジヒドロキシベンゾフェノン、1,1-ビ-2-ナフトール、1,1-ビ-4-ナフトール、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニル-1,1,1,3,3,3ヘキサフルオロプロパンおよびこれらの反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、レゾルシノール、4,4-ビフェノール、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニル-1,1,1,3,3,3ヘキサフルオロプロパンが好ましく、反応性および力学的特性の観点から、4,4-ビフェノールが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。前記樹脂1は、より具体的には、以下に示す方法Iで合成することができる。方法I:B成分を有機溶媒中でアルカリ金属化合物と反応させて、B成分化合物6および/または化合物8等のアルカリ金属塩を得た後に、得られたアルカリ金属塩と、A成分とを反応させる。なお、B成分とアルカリ金属化合物との反応をA成分の存在下で行うことで、B成分のアルカリ金属塩とA成分とを反応させることもできる。反応に使用するアルカリ金属化合物としては、リチウム、カリウムおよびナトリウム等のアルカリ金属;水素化リチウム、水素化カリウムおよび水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属;水酸化リチウム、水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属;炭酸リチウム、炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウムおよび炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩などを挙げることができる。これらは、1種または2種以上を組み合わせて用いることも可能である。アルカリ金属化合物は、前記B成分中の全ての-O-RAに対し、アルカリ金属化合物中の金属原子の量が通常1~3倍当量、好ましくは1.1~2倍当量、さらに好ましくは1.2~1.5倍当量となる量で使用される。また、反応に使用する有機溶媒としては、N,N-ジメチルアセトアミドDMAc、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、γ-ブチルラクトン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジイソプロピルスルホン、ジフェニルスルホン、ジフェニルエーテル、ベンゾフェノン、ジアルコキシベンゼンアルコキシ基の炭素数1~4およびトリアルコキシベンゼンアルコキシ基の炭素数1~4などを使用することができる。これらの溶媒の中でも、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、スルホラン、ジフェニルスルホンおよびジメチルスルホキシド等の誘電率の高い極性有機溶媒が特に好適に用いられる。これら有機溶媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。さらに、前記反応の際には、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、クロロベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなどの水と共沸する溶媒をさらに用いることもできる。A成分とB成分の使用割合は、A成分とB成分との合計を100モルとした場合に、A成分が好ましくは45モル以上55モル以下、より好ましくは50モル以上52モル以下、さらに好ましくは50モルを超えて52モル以下であり、B成分が好ましくは45モル以上55モル以下、より好ましくは48モル以上50モル以下であり、さらに好ましくは48モル以上50モル未満である。また、反応温度は、好ましくは60°C~250°C、より好ましくは80°C~200°Cの範囲である。反応時間は、好ましくは15分~100時間、より好ましくは1時間~24時間の範囲である。前記樹脂1は、示差走査熱量測定DSC、昇温速度20°C/分によるガラス転移温度Tgが好ましくは230~350°C、より好ましくは240~330°C、さらに好ましくは250~300°Cである。前記樹脂1のガラス転移温度は、例えばRigaku社製8230型DSC測定装置昇温速度20°C/分やエスアイアイナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計DSC6200昇温速度20°C/分などを用いて測定される。前記樹脂1は、TOSOH製HLC-8220型GPC装置カラム:TSKgelα―M、展開溶剤:テトラヒドロフラン以下THFともいう。で測定した、ポリスチレン換算の重量平均分子量Mwが、好ましくは5,000~500,000、より好ましくは15,000~400,000、さらに好ましくは30,000~300,000である。前記樹脂1は、熱重量分析法TGAで測定した熱分解温度が、好ましくは450°C以上、より好ましくは475°C以上、さらに好ましくは490°C以上である。<ポリイミド樹脂>本発明に用いることができる透明樹脂として、ポリイミド樹脂を挙げることができる。前記ポリイミド樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子であれば良く、たとえば特開2008-163107に挙げられている方法で合成することができる。本発明に用いることができる透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状オレフィン系樹脂の市販品としては、たとえば、JSR株式会社製アートン、日本ゼオン株式会社製ゼオノア、三井化学株式会社製APEL、ポリプラスチックス株式会社製TOPASなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン樹脂の市販品として、住友化学株式会社製スミカエクセルPESなどを挙げることができる。ポリイミド樹脂の市販品として三菱ガス化学株式会社製ネオプリムLなどを挙げることができる。ポリカーボネート樹脂の市販品として帝人株式会社製ピュアエースなどを挙げることができる。有機-無機ナノハイブリッド材料の市販品として新日鐵化学株式会社製シルプラスなどを挙げることができる。<その他成分>前記樹脂製基板Iには、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに、酸化防止剤、紫外線吸収剤、近赤外線を吸収する染料や顔料、および金属錯体系化合物等の添加剤を添加することができる。また、後述する溶液キャスティング法により樹脂製基板Iを製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することで樹脂製基板Iの製造を容易にすることができる。これらその他成分は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。前記酸化防止剤としては、例えば2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、2,2-ジオキシ-3,3-ジ-t-ブチル-5,5-ジメチルジフェニルメタン、およびテトラキス[メチレン-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]メタンなどが挙げられる。前記紫外線吸収剤としては、例えば2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、および2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。なお、これら添加剤は、樹脂製基板Iを製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を製造する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂100重量部に対して、通常0.01~5.0重量部、好ましくは0.05~2.0重量部である。<化合物Iを含有した樹脂製基板Iの製造方法>本発明に用いる樹脂製基板Iは、例えば、溶融成形、キャスト成形により形成することができ、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングする方法により製造することができる。A溶融成形前記樹脂製基板Iは、前記樹脂と化合物Iおよび/または化合物Iとを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法;前記樹脂と化合物Iおよび/または化合物Iとを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法;化合物Iおよび/または化合物I、前記樹脂、ならびに溶媒を含む樹脂組成物から溶媒を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などにより製造することができる。溶融成形方法としては、例えば、射出成形、溶融押出成形あるいはブロー成形などを挙げることができる。Bキャスティング前記樹脂製基板Iは、化合物Iおよび/または化合物I、前記樹脂、ならびに溶媒を含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングして溶媒を除去すること、反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤ならびに化合物Iおよび/または化合物Iを含む樹脂組成物を適当な基材の上にコーティングすること、反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤ならびに化合物Iおよび/または化合物Iを含む硬化性組成物を適当な基材の上にコーティングして硬化、乾燥させることなどにより製造することもできる。例えば、ガラス板、スチールベルト、スチールドラムあるいはポリエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム等の透明樹脂などの基材の上に、上述の樹脂組成物を塗布して溶媒を乾燥させることで塗膜を得て、その後基材から塗膜を剥離することにより、樹脂製基板Iを得ることができる。また、本発明の効果を損なわない限り、基材から塗膜を剥離せずに基材と塗膜との積層体を前記樹脂製基板Iとしてもよい。さらに、ガラス板、石英あるいは透明プラスチック製等の光学部品に上述の樹脂組成物をコーティングして溶媒を乾燥させたり、前記樹脂、ハードコート剤等のコーティング剤、溶媒ならびに化合物Iおよび/または化合物Iを含む樹脂組成物をコーティングして硬化、乾燥させることにより、光学部品上に直接樹脂製基板Iを形成することもできる。前記方法で得られた樹脂製基板I中の残留溶媒量は可能な限り少ない方がよく、通常3重量以下、好ましくは1重量以下、さらに好ましくは0.5重量以下である。残留溶媒量が3重量を超える場合、経時的に樹脂製基板Iが変形したり特性が変化したりして所望の機能が発揮できなくなることがある。≪近赤外線反射膜≫本発明に用いられる近赤外線反射膜は、近赤外線を反射する能力を有する膜である。このような近赤外線反射膜としては、アルミ蒸着膜、貴金属薄膜、酸化インジウムを主成分とし酸化錫を少量含有させた金属酸化物微粒子を分散させた樹脂膜、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜などを用いることができる。本発明の近赤外線カットフィルターは、このような近赤外線反射膜を有しているため、特に下記Bの特徴を有することになる。そのため、近赤外線を十分にカットすることのできるフィルターを得ることができる。本発明において、近赤外線反射膜は樹脂製基板Iの片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合には、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合には、高い強度を有し、ソリの生じにくい近赤外線カットフィルターを得ることができる。これら近赤外線反射膜の中では、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を好適に用いることができる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が1.7以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常は1.7~2.5の材料が選択される。これら材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、および、酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および酸化セリウムなどを少量例えば、主成分に対し0~10含有させたものなどが挙げられる。低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が1.6以下の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常は1.2~1.6の材料が選択される。これら材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムなどが挙げられる。高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これら材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、前記樹脂製基板I上に、直接、CVD法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法およびイオンプレーティング法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。これら高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλnmとすると、0.1λ~0.5λの厚みが好ましい。厚みがこの範囲あると、屈折率nと膜厚dとの積n×dがλ/4で算出される光学的膜厚と高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みとがほぼ同じ値となって、反射屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断透過を容易にコントロールできる傾向にある。また、誘電体多層膜における積層数は、5~60層、好ましくは10~50層であることが望ましい。さらに、誘電体多層膜を形成した際に基板にソリが生じてしまう場合には、これを解消するために、基板両面に誘電体多層膜を形成したり、基板の誘電体多層膜を形成した面に紫外線等の電磁波を照射したりする等の方法をとることができる。なお、電磁波を照射する場合、誘電体多層膜の形成中に照射してもよいし、形成後別途照射してもよい。≪その他の機能膜≫本発明の近赤外線カットフィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、樹脂製基板Iと誘電体多層膜等の近赤外線反射膜の間、樹脂製基板Iの近赤外線反射膜が設けられた面と反対側の面、または近赤外線反射膜の樹脂製基板Iが設けられた面と反対側の面に、樹脂製基板Iの表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。本発明の近赤外線カットフィルターは、前記機能膜からなる層を1層含んでもよく、2層以上含んでもよい。本発明の近赤外線カットフィルターが前記機能膜からなる層を2層以上含む場合には、同様の層を2層以上含んでもよいし、異なる層を2層以上含んでもよい。機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤などを樹脂製基板Iまたは赤外線反射膜上に、前記と同様に溶融成形する方法、およびキャスティング等する方法を挙げることができる。また、前記コーティング剤形成材料などを含む硬化性組成物をバーコーター等で樹脂製基板Iまたは赤外線反射膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。前記コーティング剤としては、紫外線UV/電子線EB硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤に対応する前記硬化性組成物としては、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。前記ウレタン系、ウレタンアクリレート系硬化性組成物に含まれる成分としては、例えば、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、ビス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートジメタアクリレート、分子内に2以上のメタアクリロイル基を有するオリゴウレタンメタアクリレート類を挙げることができるが、これらの例示に限定されるものではない。これら成分は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。さらにポリウレタンメタアクリレート等のオリゴマーまたはポリマーを配合してもよい。アクリレート系硬化性組成物としては、特に限定されないが、メタアクリルエステル類、ビニル化合物類を含む組成物などを挙げることができる。前記メタアクリルエステル類の具体例としては、例えば、イソボルニルメタアクリレート、ボルニルメタアクリレート、トリシクロデカニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、4-ブチルシクロヘキシルメタアクリレート、アクリロイルモルホリン、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、アミルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、イソアミルメタアクリレート、へキシルメタアクリレート、ヘプチルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ノニルメタアクリレート、デシルメタアクリレート、イソデシルメタアクリレート、ウンデシルメタアクリレート、ドデシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、イソステアリルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート、エトキシジエチレングリコールメタアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、メトキシエチレングリコールメタアクリレート、エトキシエチルメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリプロピレングリコールメタアクリレート、ジアセトンメタアクリルアミド、イソブトキシメチルメタアクリルアミド、N,N-ジメチルメタアクリルアミド、t-オクチルメタアクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、7-アミノ-3,7-ジメチルオクチルメタアクリレート、N,N-ジエチルメタアクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピルメタアクリルアミド、フェノキシエチルメタアクリレート、フェノキシ-2-メチルエチルメタアクリレート、フェノキシエトキシエチルメタアクリレート、3-フェノキシ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-フェニルフェノキシエチルメタアクリレート、4-フェニルフェノキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、p-クミルフェノールエチレンオキシド変性メタアクリレート、2-ブロモフェノキシエチルメタアクリレート、4-ブロモフェノキシエチルメタアクリレート、2,4-ジブロモフェノキシエチルメタアクリレート、2,6-ジブロモフェノキシエチルメタアクリレート、2,4,6-トリブロモフェノキシエチルメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチルメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート1,3-ブタンジオールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンタニロキシエチルメタアクリレート、イソボロニルメタアクリレート、トリシクロデカンジイルジメタノールジメタアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタアクリレート、テトラシクロデカンジイルジメタジメタアクリレート、これらの化合物を製造する際の出発アルコール類のエチレンオキシドまたはプロピレンオキシド付加物のポリメタアクリレート類、分子内に2以上のメタアクリロイル基を有するオリゴエステルメタアクリレート類、および、オリゴエーテルメタアクリレート類、を挙げることができるが、これらの例示に限定されるものではない。これら成分は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。さらにポリエステルメタアクリレート等のオリゴマーまたはポリマーを配合してもよい。前記ビニル化合物類としては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等を挙げることができるが、これらの例示に限定されるものではない。これら成分は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。前記エポキシ系、エポキシアクリレート系硬化性組成物に含まれる成分としては、特に限定されないが、グリシジルメタアクリレート、メチルグリシジルメタアクリレート、分子内に2以上のメタアクリロイル基を有するオリゴエポキシメタアクリレート類等を挙げることができる。これら成分は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。さらにポリエポキシメタアクリレート等のオリゴマーまたはポリマーを配合してもよい。前記コーティング剤コーティング剤形成材料などを含む硬化性組成物の市販品としては、東洋インキ製造株式会社製LCH、LAS、荒川化学工業株式会社製ビームセット、ダイセルサイテック株式会社製EBECRYL、UVACURE、JSR株式会社製オプスター等が挙げられる。また、前記硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。前記重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤の具体例としては、特に限定されないが、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3-メチルアセトフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4-ジメトキシベンゾフェノン、4,4-ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルホリノ-プロパン-1-オン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス-2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルフォフフィンオキシドが挙げられる。これらの中でも、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが好ましい。これら重合開始剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの市販品としては、イルガキュア184、369、651、500、907、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24-61、DarocureTPO以上、チバスペシャルティケミカルズ社製、ルシリンLR8728BASF社製、Darocure1116、1173以上、メルク社製、ユベクリルP36UCB社製等が挙げられる。前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を100重量として、好ましくは0.1~10重量、より好ましくは0.5~10重量、さらに好ましくは1~5重量である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性に優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。さらに、前記硬化性組成物には溶剤として有機溶剤を加えてもよく、公知のものを使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。これら溶剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。前記機能膜の厚さは、好ましくは0.1μm~20μm、さらに好ましくは0.5μm~10μm、特に好ましくは0.7μm~5μmである。また、樹脂製基板Iと機能膜および/または近赤外線反射膜との密着性や、機能膜と近赤外線反射膜との密着性を上げる目的で、樹脂製基板Iや機能膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。≪近赤外線カットフィルター≫本発明の近赤外線カットフィルターは、その光線透過率が、下記A~Dを満たすことが好ましい。A波長430~580nmの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が75以上、好ましくは78以上、さらに好ましくは80以上の値をとることが望ましい。本発明では、厚さ0.1mmでの全光線透過率が高い樹脂、当該波長領域に吸収を持たない化合物I等を用いることで、このような波長430~580nmにおいて、高い透過率を有する近赤外線カットフィルターを得ることができる。近赤外線カットフィルターを固体撮像装置やカメラモジュール等のレンズユニットにおける視感度補正用フィルター等に用いる場合、波長430~580nmにおける透過率の平均値が前記範囲であり、この波長範囲において透過率が一定であることが好ましい。波長430~580nmの範囲における透過率の平均値としては高い方が好ましい。透過率の平均値が高いと、フィルターを通過する光の強度が充分確保され、前記用途に好適に用いることができる。一方、波長430~580nmの範囲における透過率の平均値が低いと、フィルターを通過する光の強度が充分確保されず、前記用途に好適に用いることができないおそれがある。B波長800~1000nmの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が20以下、好ましくは15以下、さらに好ましくは10以下の値をとることが望ましい。本発明では、樹脂製基板I上に高い近赤外線反射能を有する所定の近赤外線反射膜を設けることで、このような波長800~1000nmにおける透過率が十分に低い近赤外線カットフィルターを得ることができる。本発明の近赤外線カットフィルターは近赤外線の波長800nm以上を選択的に低減させるものであるため、800~1000nmの範囲における透過率の平均値は低い方が好ましい。透過率の平均値が低いと、近赤外線カットフィルターは、近赤外線を十分にカットすることができる。一方、波長800~1000nmの範囲における透過率の平均値が高いと、フィルターは、近赤外線を充分カットすることができず、該フィルターをPDP等に用いた場合には、家庭内において、PDP周辺にある電子機器の誤作動を防ぐことができないおそれがある。C800nm以下の波長領域において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が70となる最も長い波長Xaと、波長580nm以上の波長領域において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が30となる最も短い波長Xbとの差の絶対値|Xa-Xb|が75nm未満、好ましくは72nm未満、さらに好ましくは70nm未満の値をとることが望ましい。本発明では、前記化合物Iを用いることで、所定の透過率となる波長の差の絶対値が前記所定の範囲となる近赤外線カットフィルターを得ることができる。近赤外線カットフィルターのXaとXbとの差の絶対値が前記範囲にあると、近赤外線の波長領域付近の波長XaとXbの間で透過率が急変することとなるため、近赤外線を効率よくカットすることができ、また、下記YaとYbの差の絶対値が小さくなり、吸収波長の入射角依存性が小さく、視野角の広い近赤外線カットフィルターを得ることができる。D波長560~800nm、好ましくは580~800nmの範囲において、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が50となる波長の値Yaと、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して30°の角度から測定した場合の透過率が50となる波長の値Ybの差の絶対値|Ya-Yb|が15nm未満、好ましくは13nm未満、さらに好ましくは10nm未満の値をとることが望ましい。本発明では、前記化合物Iを用いることで、所定の透過率となる波長の差の絶対値が前記所定の範囲となる近赤外線カットフィルターを得ることができる。このように、波長560~800nmの範囲において、YaとYbの差の絶対値が前記範囲にあると、このようなフィルターをPDP等に用いた場合には、ディスプレイを斜め方向から見た場合にも、垂直方向から見た場合と同等の明るさおよび色調を示し、吸収波長の入射角依存性が小さく、視野角の広い近赤外線カットフィルターを得ることができる。一方、YaとYbの差の絶対値が15nm以上である近赤外線カットフィルターをPDP等に用いると、ディスプレイを見る角度により明るさが著しく減じたり、色調が反転したり、特定の色が見えにくくなったりするおそれがあり、前記用途に好適に用いることができない場合がある。ここで、視野角とは、ディスプレイなどを上下左右から見た場合に、どの位の角度まで画面を正常に見ることが可能かを示す指標のことである。本発明においては、近赤外線カットフィルターを上下左右から見た場合に、どの位の角度まで画面を正常に見ることが可能かを示す指標のことをいう。正常に見ることができるかどうかの判断として、本発明では、波長560~800nmの範囲において、フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が50となる波長の値Yaと、フィルターの垂直方向に対して30°の角度から測定した場合の透過率が50となる波長の値Ybの差の絶対値が15nm未満となることを一つの基準とする。前記近赤外線カットフィルターの厚みは、該フィルターの透過率が前記A~Dを満たすように調整することが好ましく、特に制限はないが、好ましくは50~250μm、より好ましくは50~200μm、さらに好ましくは、80~150μmである。近赤外線カットフィルターの厚みが前記範囲にあると、フィルターを、小型化、軽量化することができ、固体撮像装置等さまざまな用途に好適に用いることができる。特にカメラモジュール等レンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化を実現することができるため好ましい。<近赤外線カットフィルターの用途>本発明で得られる近赤外線カットフィルターは、視野角が広く、優れた近赤外線カット能等を有する。したがってカメラモジュールのCCDやCMOSなどの固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、PCカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビ、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム、医療機器、USBメモリー、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー、玩具ロボットおよびおもちゃ等に有用である。さらに、自動車や建物などのガラス等に装着される熱線カットフィルターなどとしても有用である。ここで、本発明で得られる近赤外線カットフィルターをカメラモジュールに用いる場合について具体的に説明する。図1に、カメラモジュールの断面概略図を示す。図1は、従来のカメラモジュールの構造の断面概略図であり、図1は、本発明で得られる近赤外線カットフィルター6を用いた場合の、とり得ることができるカメラモジュールの構造の一つを表す断面概略図である。図1では、本発明で得られる近赤外線カットフィルター6をレンズ5の上部に用いているが、本発明で得られる近赤外線カットフィルター6は、図1に示すようにレンズ5とセンサー7の間に用いることもできる。従来のカメラモジュールでは、近赤外線カットフィルター6に対してほぼ垂直に光が入射する必要があった。そのため、フィルター6は、レンズ5とセンサー7の間に配置する必要があった。ここで、センサー7は、高感度であり、5μ程度のちりやほこりが触れるだけで正確に作動しなくなるおそれがあるため、センサー7の上部に用いるフィルター6は、ちりやほこりの出ないものであり、異物を含まないものである必要があった。また、前記センサー7の特性から、フィルター6とセンサー7の間には、所定の間隔を設ける必要があり、このことがカメラモジュールの低背化を妨げる一因となっていた。これに対し、本発明で得られる近赤外線カットフィルター6では、YaとYbの差の絶対値が15nm以下である。つまり、フィルター6の垂直方向から入射する光と、フィルター6の垂直方向に対して30°から入射する光の透過波長に大きな差はないため吸収透過波長の入射角依存性が小さい、フィルター6は、レンズ5とセンサー7の間に配置する必要がなく、レンズの上部に配置することもできる。このため、本発明で得られる近赤外線カットフィルター6をカメラモジュールに用いる場合には、該カメラモジュールの取り扱い性が容易になり、また、フィルター6とセンサー7の間に所定の間隔を設ける必要がないため、カメラモジュールの低背化が可能となる。以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、この実施例により何ら限定されるものではない。なお、部は、特に断りのない限り重量部を意味する。まず、各物性値の測定方法および物性の評価方法について説明する。1分子量:東ソ-製のHタイプカラムが装着された、ウオターズWATERS社製のゲルパーミエ-ションクロマトグラフィーGPC装置150C型を用い、o-ジクロロベンゼン溶媒、120°Cの条件で、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量Mwおよび数平均分子量Mnを測定した。2ガラス転移温度Tg:エスアイアイナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計DSC6200を用いて、昇温速度:毎分20°C、窒素気流下で測定した。3飽和吸水率:ASTMD570に準拠し、合成例で得られた樹脂から厚さ3mm、縦50mm、横50mmの試験片を作成し、得られた試験片を23°Cの水中に1週間浸漬させた後、試験片の重量変化より吸水率を測定した。4分光透過率:株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計U-4100を用いて測定した。ここで、近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率は、図2のようにフィルターに対し垂直に透過した光を測定した。また、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して30°の角度から測定した場合の透過率は、図3のようにフィルターの垂直方向に対して30°の角度で透過した光を測定した。なお、この透過率は、Ybを測定する場合を除き、光が基板、フィルターに対して垂直に入射する条件で、該分光光度計を使用して測定したものである。Ybを測定する場合には、光がフィルターの垂直方向に対して30°の角度で入射する条件で該分光光度計を使用して測定したものである。[合成例1]下記式aで表される8-メチル-8-メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカ-3-エン以下DNMともいう。100部と、1-ヘキセン分子量調節剤18部と、トルエン開環重合反応用溶媒300部とを、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を80°Cに加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液0.6mol/リットル0.2部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液濃度0.025mol/リットル0.9部とを添加し、この溶液を80°Cで3時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は97であった。このようにして得られた開環重合体溶液1,000部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、RuHClCO[PC6H53]3を0.12部添加し、水素ガス圧100kg/cm2、反応温度165°Cの条件下で、3時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液水素添加重合体溶液を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体以下樹脂Aともいう。を得た。樹脂Aの分子量は数平均分子量Mnが32,000、重量平均分子量Mwが137,000であり、ガラス転移温度Tgは165°Cであった。[合成例2]十分に乾燥し、窒素置換した1リットルのステンレス製オートクレーブに水分6ppmの脱水されたシクロヘキサン;420.4g、p-キシレン;180.2g、5-トリメトキシシリル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン;48.75ミリモル10.43g、およびビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン;1,425ミリモル134.1gを仕込み、ガス状のエチレンをオートクレーブ内圧が0.1MPaになるように仕込んだ。その後、オートクレーブを75°Cに加温した。触媒成分である2-エチルヘキサン酸パラジウムPd原子として;0.003ミリグラム原子とトリシクロヘキシルホスフィン;0.0015ミリモルとをトルエン;10ml中に加え、25°Cで1時間反応させて溶液を調製し、この溶液全量と、トリフェニルカルベニウムペンタフルオロフェニルボレート;0.00315ミリモルとを、この順に75°Cに加温したオートクレーブに添加して重合を開始した。オートクレーブに5-トリメトキシトキシシリル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エンを、重合開始90分後に11.25ミリモル2.41g、その後30分毎に7.5ミリモル1.61g、3.75ミリモル0.80g、3.75ミリモルと計4回添加した。重合反応を75°Cで4時間行った後、トリブチルアミン;1mlを添加して重合を停止し、固形分19.9重量の付加重合体Bの溶液を得た。付加重合体Bの溶液の一部をイソプロパノールに入れ、凝固させ、さらに乾燥することにより、付加重合体B以下樹脂Bともいう。を得た。この樹脂Bの270MHz-核磁気共鳴分析1H-NMR分析の結果、樹脂B中の5-トリメトキシシリル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン由来の構造単位の割合は4.8モルで、分子量は数平均分子量Mnが74,000、重量平均分子量Mwが185,000であり、ガラス転移温度Tgは360°C、飽和吸水率は0.35であった。合成例3温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管、冷却管を備えた500mLの5つ口フラスコに、窒素気流下、4,4-ジアミノジフェニルエーテル10.0重量部0.05モルを、溶媒としてN-メチル-2-ピロリドン85重量部に溶解させた後、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物11.2重量部0.05モルを室温にて固体のまま1時間かけて分割投入し、室温下2時間撹拌した。次に、共沸脱水溶媒としてキシレン30.0重量部を添加して180°Cに昇温した後、3時間反応を行い、ディーンスターク管でキシレンを還流させて、共沸してくる生成水を分離した。3時間後、水の留出が終わったことを確認し、1時間かけて190°Cに昇温しながらキシレンを留去させ、29.0重量部を回収した後、内温が60°Cになるまで空冷してポリイミドのN-メチル-2-ピロリドン溶液以下ポリイミド溶液Cともいう。105.4重量部を得た。合成例43Lの4つ口フラスコに2,6-ジフルオロベンゾニトリル35.12g0.253mol、9,9-ビス3-フェニル-4-ヒドロキシフェニルフルオレン125.65g0.250mol、炭酸カリウム41.46g0.300mol、N,N-ジメチルアセトアミド以下、DMAcともいう。443gおよびトルエン111gを添加した。続いて、4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を140°Cで3時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を160°Cまで上昇させ、そのままの温度で6時間反応させた。室温25°Cまで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物残渣を単離した。得られたろ物を60°Cで一晩真空乾燥し、白色粉末D以下、樹脂Dというを得た収量95.67g、収率95。得られた重合体の構造分析を行った。結果は、赤外吸収スペクトルの特性吸収が、3035C-H伸縮、2229cm1CN、1574cm1、1499cm1芳香環骨格吸収、1240cm1-O-であった。樹脂Dの分子量は数平均分子量Mnが67,000、重量平均分子量Mwが146,000であり、ガラス転移温度Tgは275°Cであった。得られた重合体は前記構造単位1を有していた。[合成例5]9,9-ビス3-フェニル-4-ヒドロキシフェニルフルオレン125.65g0.250molの代わりに、9,9-ビス4-ヒドロキシフェニルフルオレン87.60g0.250molを使用した以外は合成例4と同様に合成を行い、樹脂Eを得た。樹脂Eの分子量は数平均分子量Mnが75,000、重量平均分子量Mwが188,000であり、ガラス転移温度Tgは285°Cであった。[合成例6]9,9-ビス3-フェニル-4-ヒドロキシフェニルフルオレン125.65g0.250molの代わりに、9,9-ビス4-ヒドロキシフェニルフルオレン78.84g0.225molおよび9,9-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン6.71g0.025molを使用した以外は合成例4と同様に合成を行い、樹脂Fを得た。樹脂Fの分子量は数平均分子量Mnが36,000、重量平均分子量Mwが78,000であり、ガラス転移温度Tgは260°Cであった。[合成例7]2,6-ジフルオロベンゾニトリル35.12g0.253molの代わりに、4,4-ジフルオロジフェニルスルホンDFDS78.84g0.250molを使用した以外は合成例4と同様に合成を行い、樹脂Gを得た。樹脂Gの分子量は数平均分子量Mnが37,000、重量平均分子量Mwが132,000であり、ガラス転移温度Tgは265°Cであった。[実施例1]容器に、JSR株式会社製の環状オレフィン系樹脂アートンG100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.04重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が20重量の溶液ex1を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下100°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。この基板の分光透過率を測定し、吸収極大波長と、Za、Zbを求めた。この結果を表1に示す。この基板の吸収極大波長は699nmであった。また、波長430~800nmの波長領域において、透過率が70となる、吸収極大以下で最も長い波長Zaと、波長580nm以上の波長領域において、透過率が30となる最も短い波長Zbとの差の絶対値|Za-Zb|は45nmであった。続いて、係る基板の片面に、蒸着温度100°Cで近赤外線を反射する多層蒸着膜シリカSiO2:膜厚83~199nm層とチタニアTiO2:膜厚101~125nm層とが交互に積層されてなるもの,積層数20を形成し、さらに基板のもう一方の面に、蒸着温度100°Cで近赤外線を反射する多層蒸着膜シリカSiO2:膜厚77~189nm層とチタニアTiO2:膜厚84~118nm層とが交互に積層されてなるもの,積層数26を形成し、厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを得た。この近赤外線カットフィルターの分光透過率を測定し、Xa、XbとYa、Ybを求めた。この結果を表1に示す。波長430~580nmにおける透過率の平均値は91、波長800~1000nmにおける透過率の平均値は1以下であった。波長800nm以下の波長領域において、透過率が70となる最も長い波長Xaと、波長580nm以上の波長領域において、透過率が30となる最も短い波長Xbとの差の絶対値|Xa-Xb|は39nmであった。また、波長560~800nmの範囲において、フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が50となる波長の値Yaと、フィルターの垂直方向に対して30°の角度から測定した場合の透過率が50となる波長の値Ybの差の絶対値|Ya-Yb|は3nmであった。[実施例2]実施例1で得られた、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板の片面に、蒸着温度100°Cで近赤外線を反射する多層蒸着膜シリカSiO2:膜厚120~190nm層とチタニアTiO2:膜厚70~120nm層とが交互に積層されてなるもの,積層数40を形成し、厚さ0.104mmの近赤外線カットフィルターを得た。さらに、実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。実施例3容器に、JSR株式会社製の環状オレフィン系樹脂アートンG100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.02重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下100°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。結果を表1に示す。実施例4容器に、JSR株式会社製の環状オレフィン系樹脂アートンG100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.04重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下100°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。この基板の両面に、荒川化学工業株式会社製ハードコート剤ビームセットを、硬化後の膜厚が各0.002mmとなるようにバーコーターにて塗布した後UV照射して硬化し、厚さ0.104mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.109mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。実施例5容器に、日本ゼオン株式会社製の環状オレフィン系樹脂ゼオノア1420R100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.40重量部、さらにシクロヘキサンとキシレンの7:3混合溶液を加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、60°Cで8時間、80°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下100°Cで24時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。実施例6容器に、三井化学株式会社製の環状オレフィン系樹脂APEL6015100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.24重量部、さらにシクロヘキサンと塩化メチレンの99:1混合溶液を加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、40°Cで4時間、60°Cで4時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下100°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。実施例7容器に、帝人株式会社製のポリカーボネート樹脂ピュアエース100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.02重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下100°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。実施例8容器に、住友ベークライト株式会社製のポリエーテルサルホンFS-1300100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.05重量部、さらにNメチル-2-ピロリドンを加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、60°Cで4時間、80°Cで4時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下120°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。[実施例9]JSR株式会社製の環状オレフィン系樹脂アートンGの代わりに合成例1で得た樹脂Aを用いたこと以外は実施例1と同様にして、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。[実施例10]容器に、合成例2で得た樹脂B100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.24重量部、さらにトルエンを加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下120°Cで8時間乾燥したこと以外は実施例1と同様にして、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。[実施例11容器に、合成例3で得たポリイミド溶液C100重量部、およびスクエアリリウム系化合物a-10をポリイミド溶液Cの固形分100重量部に対して0.05重量部加え、固形分が18の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、60°Cで4時間、80°Cで4時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下120°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。実施例12容器に、合成例4で得た樹脂D100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.05重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下100°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。実施例13容器に、合成例5で得た樹脂E100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.05重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下100°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。実施例14容器に、合成例6で得た樹脂F100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.05重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下100°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。実施例15容器に、合成例7で得た樹脂G100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.05重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下100°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。実施例16容器に、合成例1で得た樹脂A100重量部、スクエアリリウム系化合物a-100.04重量部、さらに塩化メチレンを加えることで、樹脂濃度が20の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20°Cで8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下100°Cで8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。この基板の両面に、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートとメチルエチルケトンを50:50の割合で混合した組成物を、乾燥後の膜厚が各0.002mmとなるようにバーコーターにて塗布したのちUV照射して硬化し、厚さ0.104mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.109mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。[比較例1]溶液ex1の代わりに、合成例1で得た樹脂Aを塩化メチレンに溶解して得た樹脂濃度が20の溶液を用いたこと以外は実施例1と同様にして、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。[比較例2]スクエアリリウム系化合物a-10の代わりにスクエアリリウム構造を有さないニッケル錯体化合物であるSIR159三井化学株式会社製を用いた以外は実施例1と同様にして、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。[比較例3]スクエアリリウム系化合物a-10の代わりにスクエアリリウム構造を有さないシアニン系色素であるSDB3535H.W.SANDS社製を用いた以外は実施例1と同様にして、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板を得た。さらに、実施例1と同様にしてこの基板から厚さ0.105mmの近赤外線カットフィルターを製造した。実施例1と同様の評価を行った結果を表1に示す。"