物品の基材の表面に、内側膜と外側膜とからなる複層被膜を備えたCr系被膜処理物品において、前記外側膜が1/3≦Cr/O原子比≦1/1のCr系酸化物で形成され、前記内側膜が、Cr/O>1/1のCr系化合物及び/又はCr単体からなる1層又は複層で形成されてなる基材側のCr比率が高い、ことを特徴とするCr系被膜処理物品。前記複層被膜の全体膜厚が0.2~50μmであり、前記外側膜の膜厚が01~100μmであることを特徴とする請求項1記載のCr系被膜処理物品。前記複層被膜がCrを蒸発源とした物理的蒸着法により形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載のCr系被膜処理物品。前記複層被膜の外側膜の硬度がビッカース硬さ:HV1000以上であることを特徴とする請求項1記載のCr系被膜処理物品。前記物品が基材を金型用金属材又は工具用金属材とする金型であることを特徴とする請求項1、2又は4記載のCr系被膜処理物品。前記基材が少なくとも一度使用した金型であることを特徴とする請求項1記載のCr系被膜処理物品。請求項1、2、4、6のいずれか一記載のCr系被膜処理物品におけるCr系被膜を物理的蒸着法により形成する方法であって、前記基材の表面を、アルカリ洗浄剤による洗浄処理をした後、Cr又はCrを主体とする金属を蒸発源とし、反応性ガスを、酸素ガス並びに窒素ガス及び/又は炭化水素ガスとして注入ガス量ガス比を膜種に対応させて調節維持することにより、前記複層被膜の各層をそれぞれ反応成膜させることを特徴とするCr系被膜の形成方法。成膜時の基材温度を350~550°Cの範囲に調節して行うことを特徴とする請求項7記載のCr系被膜の形成方法。前記物理的蒸着法を非平衡マグネトロンスパッタ法とすることを特徴とする請求項7記載のCr系被膜の形成方法。更に、前記外側膜を成膜後、表面研磨をすることを特徴とする請求項7記載のCr系被膜の形成方法。本発明は、上記にかんがみて、従来のクロム電着めっきより優れた耐摩耗性、耐熱性耐酸化性、離型性撥水性を有した金型等のCr系被膜処理物品を提供することを目的とする。本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意開発に努力をした結果、下記構成のCr系被膜処理物品に想到した。物品の基材の表面に、内側膜と外側膜とからなる複層被膜を備えたCr系被膜処理物品において、前記外側膜が1/3≦Cr/O原子比≦1/1のCr系酸化物で形成され、前記内側膜が、Cr/O>1/1のCr系化合物及び/又はCr単体からなる1層又は複層で形成されてなる基材側のCr比率が高い、ことを特徴とする。本発明の他の一つである、上記Cr系被膜処理物品を調製するのに好適なCr系被膜の形成方法は、下記構成となる。Cr系被膜処理物品におけるCr系被膜をPVD法により形成する方法であって、前記基材表面を、アルカリ洗浄剤による洗浄処理をした後、Cr又はCrを主体とする金属を蒸発源とし、反応性ガスを、酸素ガス並びに窒素ガス及び/又は炭化水素ガスとして注入ガス量ガス比を膜種に対応させて調節維持することにより、前記複層被膜の各層をそれぞれ反応成膜させる、ことを特徴とする。以下、本発明を実施形態に基づいて、詳細に説明をする。ここでは、プラスチック成形用金型に適用する場合を例に採り説明する。また、HVは、JISZ2244ISO/DIS65071に準じて測定したビッカース硬さを意味する。図1は、本発明の一実施形態のCr系被膜処理物品のモデル断面図である。金型金属材例えば、ステンレス鋼や工具金属材SK材、SKH材、SKS材等からなる基材12の表面に、該基材12に接する内側膜中間層14と、内側膜14に接する外側膜表面層16とからなる複層被膜18を備えた金型である。なお、基材としては、上記例示の鉄系鋼材に限られず、超硬合金、AlやCu等の非鉄合金からなる金属材も使用可能である。上記外側膜16が、1/3≦Cr/O原子比≦1/1、望ましくは1/19≦Cr/O原子比≦1/1.7のCr系酸化物で形成され、内側膜14がCr/O>1/1、望ましくは、Cr/O>1/05のCr系複合炭窒化物及び/又はCr単体で形成されている。ここで、外側膜16とは、図例では外側膜最表膜とされているが、本発明の目的効果を阻害しない範囲内で、外側膜16に他の表面特性を付与するための、表面処理膜を外側膜16の上に有していてもよい。具体的には、内側膜14は、Cr単体からなる内側第1層14bと、Cr/O>1/1、望ましくは、Cr/O>1/05のCr系化合物炭窒化物からなる内側第2層14aとからなる。ここで、内側膜14は、図例では、2層であるが、3層以上としてもよく、さらには、Crの相対原子比率が、基材12から外側膜16に向かって漸減するCr傾斜層単層としてもよい。実施例では示さなかったが、内側膜14を形成せずに直接基材12上に外側膜16を成膜した場合、また、内側膜14を内側第1層14bのみ又は内側第2層14aのみとした場合、何れも、後述の耐摩耗性紙やすり:2000による摩耗試験で、クロムめっきと同等の耐摩耗性が確保できない剥離してしまう。ことを確認している。但し、耐摩耗性の順位は、1本発明構成、2内側第2層のみ、3内側第1層のみ、4内側層なし、であり、内側層の存在は、耐摩耗性の向上に寄与することを確認している。膜厚は、複層被膜Cr系被膜18の全体膜厚を0.2~50μmとし、前記外側膜の膜厚を0.1~10.0μmとする。また、外側膜を形成するCr系酸化物は、ビッカース硬さ:HV1500以上、望ましくはHV2000以上を示すものとする。なお、通常のCr電着めっきのビッカース硬さは、HV1000前後である。本発明の複層被膜18は、化学的蒸着CVD法によって形成してもよいが、物理的蒸着PVD法により形成することが望ましい。PVDはCVDに比して、低温成膜可能であるため熱歪みが発生し難く、プラスチック用成形金型のような精密性が要求されるものにも対応可能である。反応性ガスを導入して反応成膜可能なPVD法としては、通常、イオンプレーティング法乃至スパッタリング法が代表的である。特に、非平衡マグネトロンスパッタ法UBMSにより形成することが望ましい。従来のマグネトロンスパッタ法に比して基材被処理物に対するイオン照射が強められ、被膜密着性の向上さらには高速成膜が可能となるためである。また、上記PVD法等の成膜処理に先立ち、通常、基材の表面をアルカリ洗浄処理しておく図2の流れ図参照。特に、適用基材が一度使用した金型のような場合は、成形材料が付着していることもあり、必然的である。なお、アルカリ洗浄剤は、通常、アルカリ例えば、苛性ソーダに界面活性剤やキレート剤等の補助剤を添加したものを使用する。本実施形態では、図3に示すようなUBMS装置を用いて、複層被膜18の形成を行う。UBMS法は、Cr又はCrを主体とする金属を蒸発源とし、反応性ガスを、酸素ガス並びに窒素ガス及び/又は炭化水素ガスメタン、エタン、エチレン、アセチレン等として注入ガス量ガス比を膜種に対応させて調節維持することにより、複層被膜18の各層をそれぞれ反応成膜させることができる。即ち、Crを蒸発源とし、反応ガスを、O2、N2、炭化水素ガスとし、それらの反応ガスのガス量ガス比を膜種膜厚に対応させて調節維持することにより、Crの酸化物、窒化物、炭化物、及びそれらの複合化合物CrOxNyCz;但し、x、y、z=0~25を高純度で基材上に反応成膜させることが容易なためである。当然、イオンビームスパッタ等、他のタイプのスパッタ法も可能である。スパッタリング装置は、スパッタ室チャンバー22内に、基材ワーク23を保持するワーク保持部材陰極24と、マグネトロン陰極25とが配設され、ワーク保持部材24はバイアス電源26と、マグネトロン25はスパッタ電源27と接続されている。さらに、チャンバー22は、チャンバー22内を所定真空度に維持する排気ポンプと接続される排気口32と、イオン生成ガスArを導入するイオン生成ガス導入口33、および反応ガス窒素及び/又はメタンを導入する反応ガス導入口34とを備えるとともに、チャンバー22内を所定温度に維持するとともに基材ワーク23も所定温度に維持するヒータ36を備えている。またターゲットCr38は、マグネトロン25に保持される。次に、スパッタ法により反応成膜する場合を例に採り説明する。ターゲット38とするクロムCrは、通常、ツウナインからスリーナインの純度のものを使用する。また、打ち込みイオン化ガスは通常Arを使用し、Crと反応する元素である酸素、窒素及び炭素の供給源である反応性ガスは、それぞれ、O2、N2、および炭化水素ガスを使用可能である。そして、それらの純度は、それぞれ、スリーナインからシックスナインとする。そして、UBMS法による成膜条件は、下記の通りとする。ガス流量は、チャンバー22の大きさを900×900×1000mmとした場合のものである。スパッタ電力値2~8kW望ましくは4.5~5.5kWバイアス電圧20~400V望ましくは150~200VArガス流量0~240mL望ましくは110~130mLN2ガス流量0~300mL望ましくは3~10mLCH4ガス流量0~300mL望ましくは3~10mLO2ガス流量70~300mL望ましくは140~150mL基材温度350~500°C望ましくは400~450°C上記において、上記範囲1/3≦Cr/O原子比≦1/1のクロム系酸化物を形成しようとする場合は、基材温度バイアス電圧によっても異なるが、例えば、Ar/O=0.4~1.7の範囲に設定して行なう。上記条件項目の着眼点について以下にそれぞれ説明する。1スパッタ電力値:一般的にスパッタ電力値が高い程成膜速度が早くなるが、被膜の平滑性が損なわれる。被膜の平滑性が高い程、離型性が良好、また、耐摩耗性も良好となる。そこで、被膜の性能と生産性のバランスから、約2~8kW、望ましくは約4.5~5.5kWとする。2バイアス電圧:一般的に、バイアス電圧が高いほど成膜速度が遅くなるため、生産性を考慮して適当な範囲で設定する。供給ガスが窒素の場合窒化クロムを成膜させるの場合、バイアス電圧は窒化物成膜結晶にほとんど影響を与えない。通常、20~400V、望ましくは50~200Vの範囲で適宜設定できる。同じくCH4等の炭化水素の場合炭化クロムを成膜させる。、バイアス電圧が低いと、炭化クロムの結晶性が低くなって、炭化物成膜の耐摩耗性が得難くなる。このため、窒素と同様、20~400Vの範囲でも可能であるが、生産性と結晶性とのバランスから、150~200Vが望ましく、さらに望ましくは約150Vとする。同じくO2の場合酸化クロムを成膜させる。、バイアス電圧が低いと、酸化クロムの結晶性が低くなって、酸化物成膜の耐摩耗性を得難くなる。このため、約100V以上、望ましくは、150V以上とする。4基材温度:温度が高いほど成膜速度が速くて望ましいが、省エネルギー及び基材の耐熱性の見地から、基材が鋼の場合、焼き戻しによる寸法歪が発生しない温度以下、通常550°C以下とする。温度が低いと例えば250°C以下、酸化クロムの成膜に際して、六価クロムが生成し易く、製品処理物の安全性の確保や環境への影響において問題が発生するおそれがある。次に、本発明の効果を確認するために、A特性評価試験とB金型実地試験とを行なったので、以下に説明する。なお、スパッタリング装置は、株式会社神戸製鋼所製のUBMS装置AIP-NS40/UBMS型チャンバーサイズ:900×900×1000mmを用いた。A特性評価試験基材試験片は、30×30×1mmtのSUS304板を使用した。表1に示す条件で内側第1層設定膜厚0.2μm、内側第2層設定膜厚1.2μmからなる内側膜を成膜後、表2に示す各条件で外側膜設定膜厚0.6μmを、それぞれ、反応成膜させた合計設定膜厚2.0μm。なお、参考的に外側膜表面層の設定原子比Cr/Oを付記する。打ち込みイオン化ガスは純度ファイブナインのArを、ターゲットのCrは純度スリーナインのものを使用し、反応性ガスは、O2:純度ツーナイン以上、N2:純度ファイブナイン、CH4:純度ファイブナインのものをそれぞれ使用した。そして、上記で得た各試験例について、表3に示す各項目の評価試験を行い、それらの評価基準は表4に示すものとした。そして、各試験例の試験結果を、表5に示す。表5に示す結果から、O2ガス量が少なかったり、バイアス電圧が低いと試験例5と、硬さ乃至耐摩耗性を得がたいことが分かる。また、基材温度が高い方が、耐熱性に優れた被膜を得易いことが分かる。B金型実地試験実機金型無処理品について、キャビティ面に上記試験例1と同様の条件で、内側膜および外側膜を成膜して本発明のCr系被膜処理を行った。対照例は、各無処理金型、CrC処理金型試験例7参照又はDLCDiamondLikeCarbon処理金型とした。そして、各実機金型について、下記各項目の性能試験を行った。1汚れモールドデポジット:MD抑制効果試験:それぞれNAK80材製の本発明処理金型、無処理金型および従来例CrC処理金型を用いて、PBTポリブチレンテレフタレートとPETポリエチレンテレフタレートで射出成形をして、成形品に外観ムラが発生したショット数で優劣を判定した。その結果、外観ムラが発生したショット数は、無処理金型:200、CrC処理金型従来例:300、本発明処理金型:400であった。本発明処理金型は従来のCrC処理金型に比して、汚れ抑制効果が33増大した。即ち、金型の洗浄回数が33低減して、射出成形効率が格段に向上する。2金型耐久性試験:それぞれPD613材製のDLC処理金型および本発明処理金型を用いて、GFガラスフィラー20入りPPSポリフェニレンサルファイドで射出成形をして、不良品発生までの月数比較で優劣を判定した。不良品発生基準は、成形品が規格寸法から外れる、又は、バリが発生するとした。その結果、DLC処理金型従来例が3ヶ月であったのに対し、本発明処理金型が12ヶ月であり、格段の差がみられた。