磁石原料を磁石粉末に粉砕する工程と、前記粉砕された磁石粉末に以下の構造式M-ORx式中、MはCu又はAlである。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で表わされる有機金属化合物を添加することにより、前記磁石粉末の粒子表面に前記有機金属化合物を付着させる工程と、前記有機金属化合物が粒子表面に付着された前記磁石粉末を成形することにより成形体を形成する工程と、前記成形体を焼結する工程と、により製造されることを特徴とする永久磁石。前記有機金属化合物を形成する金属が、焼結後に前記永久磁石の粒界に偏在していることを特徴とする請求項1に記載の永久磁石。前記構造式中のRは、アルキル基であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の永久磁石。前記構造式中のRは、炭素数2~6のアルキル基のいずれかであることを特徴とする請求項3に記載の永久磁石。磁石原料を磁石粉末に粉砕する工程と、前記粉砕された磁石粉末に以下の構造式M-ORx式中、MはCu又はAlである。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で表わされる有機金属化合物を添加することにより、前記磁石粉末の粒子表面に前記有機金属化合物を付着させる工程と、前記有機金属化合物が粒子表面に付着された前記磁石粉末を成形することにより成形体を形成する工程と、前記成形体を焼結する工程と、を有することを特徴とする永久磁石の製造方法。前記構造式中のRは、アルキル基であることを特徴とする請求項5に記載の永久磁石の製造方法。前記構造式中のRは、炭素数2~6のアルキル基のいずれかであることを特徴とする請求項6に記載の永久磁石の製造方法。ここで、リッチ相を均一に分散する技術として、Cu又はAlを永久磁石に添加することが行われていた。Cu又はAlが粒界に存在するとリッチ相が均一に分散されることが知られている。しかしながら、磁石原料に対して予めCu又はAlを添加した状態で、磁石原料の粉砕及び焼結を行うこととすると、焼結時に主相から粒界へとCu又はAlを移動させる必要がある。その場合には、通常の焼結温度より高い焼結温度に設定するか、又は焼結時間を長く設定する必要があり、その結果、焼結時に主相が粒成長することとなっていた。そして、主相が粒成長すると、保磁力が低下する原因となる。本発明は前記従来における問題点を解消するためになされたものであり、CuやAlを含む有機金属化合物を磁石粉末に添加することにより、有機金属化合物に含まれるCuやAlを焼結前に予め磁石の粒界に対して偏在配置することが可能となり、主相の粒成長を防止するとともにリッチ相を均一に分散することを可能とした永久磁石及び永久磁石の製造方法を提供することを目的とする。前記目的を達成するため本願の請求項1に係る永久磁石は、磁石原料を磁石粉末に粉砕する工程と、前記粉砕された磁石粉末に以下の構造式M-ORx式中、MはCu又はAlである。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で表わされる有機金属化合物を添加することにより、前記磁石粉末の粒子表面に前記有機金属化合物を付着させる工程と、前記有機金属化合物が粒子表面に付着された前記磁石粉末を成形することにより成形体を形成する工程と、前記成形体を焼結する工程と、により製造されることを特徴とする。また、請求項2に係る永久磁石は、請求項1に記載の永久磁石において、前記有機金属化合物を形成する金属が、焼結後に前記永久磁石の粒界に偏在していることを特徴とする。また、請求項3に係る永久磁石は、請求項1又は請求項2に記載の永久磁石において、前記構造式M-ORxのRが、アルキル基であることを特徴とする。また、請求項4に係る永久磁石は、請求項3に記載の永久磁石において、前記構造式M-ORxのRが、炭素数2~6のアルキル基のいずれかであることを特徴とする。また、請求項5に係る永久磁石の製造方法は、磁石原料を磁石粉末に粉砕する工程と、前記粉砕された磁石粉末に以下の構造式M-ORx式中、MはCu又はAlであり。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で表わされる有機金属化合物を添加することにより、前記磁石粉末の粒子表面に前記有機金属化合物を付着させる工程と、前記有機金属化合物が粒子表面に付着された前記磁石粉末を成形することにより成形体を形成する工程と、前記成形体を焼結する工程と、を有することを特徴とする。また、請求項6に係る永久磁石の製造方法は、請求項5に記載の永久磁石の製造方法において、前記構造式M-ORxのRが、アルキル基であることを特徴とする。更に、請求項7に係る永久磁石の製造方法は、請求項6に記載の永久磁石の製造方法において、前記構造式M-ORxのRが、炭素数2~6のアルキル基のいずれかであることを特徴とする。前記構成を有する請求項1に記載の永久磁石によれば、CuやAlを含む有機金属化合物を磁石粉末に添加することにより、有機金属化合物に含まれるCuやAlを焼結前に予め磁石の粒界に対して偏在配置することが可能となる。従って、CuやAlを予め磁石原料に含有した状態で粉砕、焼結を行う場合と比較して、永久磁石の製造工程で焼結温度の高温化や焼結時間の長時間化等を行う必要がない。その結果、主相の粒成長を防止するとともにリッチ相を均一に分散することが可能となる。また、請求項2に記載の永久磁石によれば、CuやAlが磁石の粒界に偏在するので、リッチ相を均一に分散することができ、保磁力が向上する。また、請求項3に記載の永久磁石によれば、磁石粉末に添加する有機金属化合物として、アルキル基から構成される有機金属化合物を用いるので、有機金属化合物の熱分解を容易に行うことが可能となる。その結果、例えば焼結前に水素雰囲気で磁石粉末又は成形体の仮焼を行う場合に、磁石粉末又は成形体中の炭素量をより確実に低減させることが可能となる。それにより、焼結後の磁石の主相内にαFeが析出することを抑え、磁石全体を緻密に焼結することが可能となり、保磁力が低下することを防止できる。また、請求項4に記載の永久磁石によれば、磁石粉末に添加する有機金属化合物として、炭素数2~6のアルキル基から構成される有機金属化合物を用いるので、低温で有機金属化合物の熱分解を行うことが可能となる。その結果、例えば焼結前に水素雰囲気で磁石粉末又は成形体の仮焼を行う場合に、有機金属化合物の熱分解を磁石粉末全体又は成形体全体に対してより容易に行うことができる。即ち、仮焼処理によって、磁石粉末又は成形体中の炭素量をより確実に低減させることが可能となる。また、請求項5に記載の永久磁石の製造方法によれば、CuやAlを含む有機金属化合物を磁石粉末に添加することにより、有機金属化合物に含まれるCuやAlを焼結前に予め磁石の粒界に対して偏在配置することが可能となる。従って、CuやAlを予め磁石原料に含有した状態で粉砕、焼結を行う場合と比較して、製造工程で焼結温度の高温化や焼結時間の長時間化等を行う必要がない。その結果、主相の粒成長を防止するとともにリッチ相を均一に分散することが可能となる。また、請求項6に記載の永久磁石の製造方法によれば、磁石粉末に添加する有機金属化合物として、アルキル基から構成される有機金属化合物を用いるので、有機金属化合物の熱分解を容易に行うことが可能となる。その結果、例えば焼結前に水素雰囲気で磁石粉末又は成形体の仮焼を行う場合に、磁石粉末又は成形体中の炭素量をより確実に低減させることが可能となる。それにより、焼結後の磁石の主相内にαFeが析出することを抑え、磁石全体を緻密に焼結することが可能となり、保磁力が低下することを防止できる。更に、請求項7に記載の永久磁石の製造方法によれば、磁石粉末に添加する有機金属化合物として、炭素数2~6のアルキル基から構成される有機金属化合物を用いるので、低温で有機金属化合物の熱分解を行うことが可能となる。その結果、例えば焼結前に水素雰囲気で磁石粉末又は成形体の仮焼を行う場合に、有機金属化合物の熱分解を磁石粉末全体又は成形体全体に対してより容易に行うことができる。即ち、仮焼処理によって、磁石粉末又は成形体中の炭素量をより確実に低減させることが可能となる。以下、本発明に係る永久磁石及び永久磁石の製造方法について具体化した実施形態について以下に図面を参照しつつ詳細に説明する。[永久磁石の構成]先ず、本発明に係る永久磁石1の構成について説明する。図1は本発明に係る永久磁石1を示した全体図である。尚、図1に示す永久磁石1は円柱形状を備えるが、永久磁石1の形状は成形に用いるキャビティの形状によって変化する。本発明に係る永久磁石1としては例えばNd-Fe-B系磁石を用いる。また、図2に示すように、永久磁石1は磁化作用に寄与する磁性相である主相11と、非磁性で希土類元素の濃縮した低融点のRリッチ相12Rは希土類元素であるNd、Pr、Dy、Tbの内、少なくとも一種を含む。とが共存する合金である。図2は永久磁石1を構成するNd磁石粒子を拡大して示した図である。ここで、主相11は化学量論組成であるNd2Fe14B金属間化合物相Feは部分的にCoで置換しても良いが高い体積割合を占めた状態となる。一方、Rリッチ相12は同じく化学量論組成であるR2Fe14BFeは部分的にCoで置換しても良いよりRの組成比率が多い金属間化合物相例えば、R20~30Fe14B金属間化合物相からなる。また、Rリッチ相12には後述のように磁気特性向上の為、Cu又はAlを含む。そして、永久磁石1において、Rリッチ相12は、以下のような役割を担っている。1融点が低く約600°C、焼結時に液相となり、磁石の高密度化、即ち磁化の向上に寄与する。2粒界の凹凸を無くし、逆磁区のニュークリエーションサイトを減少させ保磁力を高める。3主相を磁気的に絶縁し保磁力を増加する。従って、焼結後の永久磁石1中におけるRリッチ相12の分散状態が悪いと、局部的な焼結不良、磁性の低下をまねくため、焼結後の永久磁石1中にはRリッチ相12が均一に分散していることが重要となる。また、Nd-Fe-B系磁石の製造において生じる問題として、焼結された合金中にαFeが生成することが挙げられる。原因としては、化学量論組成に基づく含有量からなる磁石原料合金を用いて永久磁石を製造した場合に、製造過程で希土類元素が酸素と結び付き、化学量論組成に対して希土類元素が不足する状態となることが挙げられる。さらに、αFeが、焼結後も磁石中に残存すれば、磁石の磁気特性の低下をもたらす。そして、上述した永久磁石1におけるNdやRを含む全希土類元素の含有量は、上記化学量論組成に基づく含有量26.7wtよりも0.1wt~10.0wt、より好ましくは0.1wt~5.0wt多い範囲内であることが望ましい。具体的には、各成分の含有量はNdR:25~37wt、B:1~2wt、Fe電解鉄:60~75wtとする。永久磁石1中の希土類元素の含有量を上記範囲とすることによって、焼結後の永久磁石1中にRリッチ相12を均一に分散することが可能となる。また、製造過程で希土類元素が酸素と結び付いたとしても、化学量論組成に対して希土類元素が不足することなく、焼結後の永久磁石1中にαFeが生成されることを抑制することが可能となる。尚、永久磁石1中の希土類元素の含有量が上記範囲よりも少ない場合には、Rリッチ相12が形成され難くなる。また、αFeの生成を十分に抑制することができない。一方、永久磁石1中の希土類元素の組成が上記範囲より多い場合には、保磁力の増加が鈍化し、かつ残留磁束密度が低下してしまい、実用的ではない。また、本発明では、Rリッチ相12に対してCu又はAlが含まれているので、焼結後の永久磁石1中にRリッチ相12を均一に分散することが可能となる。ここで、本発明ではRリッチ相12へのCu又はAlの添加は、後述のように粉砕された磁石粉末を成形する前にCu又はAlを含む有機金属化合物が添加されることにより行われる。具体的には、Cu又はAlを含む有機金属化合物が添加されることによって、湿式分散によりNd磁石粒子の粒子表面に該有機金属化合物中のCu又はAlが均一付着される。その状態で磁石粉末を焼結することによって、Nd磁石粒子の粒子表面に均一付着された該有機金属化合物中のCu又はAlが、主相11の粒界、即ちRリッチ相12に偏在化される。また、本発明では、特に後述のようにM-ORx式中、MはCu又はAlである。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で表わされるCu又はAlを含む有機金属化合物例えば、アルミニウムエトキシドなどを有機溶媒に添加し、湿式状態で磁石粉末に混合する。それにより、Cu又はAlを含む有機金属化合物を有機溶媒中で分散させ、Nd磁石粒子の粒子表面にCu又はAlを含む有機金属化合物を効率よく付着することが可能となる。ここで、上記M-ORx式中、MはCu又はAlである。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。の構造式を満たす有機金属化合物として金属アルコキシドがある。金属アルコキシドは、一般式M-ORnM:金属元素、R:有機基、n:金属又は半金属の価数で表される。また、金属アルコキシドを形成する金属又は半金属としては、W、Mo、V、Nb、Ta、Ti、Zr、Ir、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Cd、Al、Ga、In、Ge、Sb、Y、lanthanideなどが挙げられる。但し、本発明では特に、Cu又はAlを用いる。また、アルコキシドの種類は特に限定されることなく、例えば、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、イソプロポキシド、ブトキシド、炭素数4以上のアルコキシド等が挙げられる。但し、本発明では後述のように低温分解で残炭を抑制する目的から、低分子量のものを用いる。また、炭素数1のメトキシドについては分解し易く、取扱いが困難であるので、特にRに含まれる炭素数が2~6のアルコキシドであるエトキシド、メトキシド、イソプロポキシド、プロポキシド、ブトキシドなどを用いることが好ましい。即ち、本発明では、特に磁石粉末に添加する有機金属化合物としてM-ORx式中、MはCu又はAlである。Rはアルキル基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で表わされる有機金属化合物、より好ましくは、M-ORx式中、MはCu又はAlであり、Rは炭素数2~6のアルキル基のいずれかであり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で表わされる有機金属化合物を用いることが望ましい。また、主相11の結晶粒径Dは0.1μm~5.0μmとすることが望ましい。また、Rリッチ相12の厚さdは1nm~500nm、好ましくは2nm~200nmとする。その結果、結晶粒全体としてはすなわち、焼結磁石全体としては、コアのNd2Fe14B金属間化合物相が高い体積割合を占めた状態となる。それにより、その磁石の残留磁束密度外部磁場の強さを0にしたときの磁束密度の低下を抑制することができる。尚、主相11とRリッチ相12の構成は、例えばSEMやTEMや3次元アトムプローブ法により確認することができる。また、RとしてDy又はTbを用いれば、磁石粒子の粒界にDy又はTbを偏在化することが可能となる。その結果、DyやTbによる保磁力の向上を図ることが可能となる。[永久磁石の製造方法1]次に、本発明に係る永久磁石1の第1の製造方法について図3を用いて説明する。図3は本発明に係る永久磁石1の第1の製造方法における製造工程を示した説明図である。先ず、所定分率のNd-Fe-B例えばNd:32.7wt、Fe電解鉄:65.96wt、B:1.34wtからなる、インゴットを製造する。尚、インゴットに含まれるNdの含有量は、化学量論組成に基づく含有量26.7wtよりも0.1wt~10.0wt、より好ましくは0.1wt~5.0wt多い量とする。また、保磁力向上のためにDyやTbを少量含めても良い。その後、インゴットをスタンプミルやクラッシャー等によって200μm程度の大きさに粗粉砕する。若しくは、インゴットを溶解し、ストリップキャスト法でフレークを作製し、水素解砕法で粗粉化する。次いで、粗粉砕した磁石粉末を、a酸素含有量が実質的に0の窒素ガス、Arガス、Heガスなど不活性ガスからなる雰囲気中、又はb酸素含有量が0.0001~0.5の窒素ガス、Arガス、Heガスなど不活性ガスからなる雰囲気中で、ジェットミル41により微粉砕し、所定サイズ以下例えば0.1μm~5.0μmの平均粒径を有する微粉末とする。尚、酸素濃度が実質的に0とは、酸素濃度が完全に0である場合に限定されず、微粉の表面にごく僅かに酸化被膜を形成する程度の量の酸素を含有しても良いことを意味する。一方で、ジェットミル41で微粉砕された微粉末に添加する有機金属化合物溶液を作製する。ここで、有機金属化合物溶液には予めCu又はAlを含む有機金属化合物を添加し、溶解させる。尚、溶解させる有機金属化合物としては、M-ORx式中、MはCu又はAlであり、Rは炭素数2~6のアルキル基のいずれかであり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。に該当する有機金属化合物例えば、アルミニウムエトキシドなどを用いることが望ましい。また、溶解させるCu又はAlを含む有機金属化合物の量は特に制限されないが、焼結後の磁石に対するCu又はAlの含有量が0.001wt~10wt、好ましくは0.01wt~5wtとなる量とするのが好ましい。続いて、ジェットミル41にて分級された微粉末に対して上記有機金属化合物溶液を添加する。それによって、磁石原料の微粉末と有機金属化合物溶液とが混合されたスラリー42を生成する。尚、有機金属化合物溶液の添加は、窒素ガス、Arガス、Heガスなど不活性ガスからなる雰囲気で行う。その後、生成したスラリー42を成形前に真空乾燥などで事前に乾燥させ、乾燥した磁石粉末43を取り出す。その後、乾燥した磁石粉末を成形装置50により所定形状に圧粉成形する。尚、圧粉成形には、上記の乾燥した微粉末をキャビティに充填する乾式法と、溶媒などでスラリー状にしてからキャビティに充填する湿式法があるが、本発明では乾式法を用いる場合を例示する。また、有機金属化合物溶液は成形後の焼成段階で揮発させることも可能である。図3に示すように、成形装置50は、円筒状のモールド51と、モールド51に対して上下方向に摺動する下パンチ52と、同じくモールド51に対して上下方向に摺動する上パンチ53とを有し、これらに囲まれた空間がキャビティ54を構成する。また、成形装置50には一対の磁界発生コイル55、56がキャビティ54の上下位置に配置されており、磁力線をキャビティ54に充填された磁石粉末43に印加する。印加させる磁場は例えば1MA/mとする。そして、圧粉成形を行う際には、先ず乾燥した磁石粉末43をキャビティ54に充填する。その後、下パンチ52及び上パンチ53を駆動し、キャビティ54に充填された磁石粉末43に対して矢印61方向に圧力を加え、成形する。また、加圧と同時にキャビティ54に充填された磁石粉末43に対して、加圧方向と平行な矢印62方向に磁界発生コイル55、56によってパルス磁場を印加する。それによって、所望の方向に磁場を配向させる。尚、磁場を配向させる方向は、磁石粉末43から成形される永久磁石1に求められる磁場方向を考慮して決定する必要がある。また、湿式法を用いる場合には、キャビティ54に磁場を印加しながらスラリーを注入し、注入途中又は注入終了後に、当初の磁場より強い磁場を印加して湿式成形しても良い。また、加圧方向に対して印加方向が垂直となるように磁界発生コイル55、56を配置しても良い。次に、圧粉成形により成形された成形体71を水素雰囲気において200°C~900°C、より好ましくは400°C~900°C例えば600°Cで数時間例えば5時間保持することにより水素中仮焼処理を行う。仮焼中の水素の供給量は5L/minとする。この水素中仮焼処理では、有機金属化合物を熱分解させて、仮焼体中の炭素量を低減させる所謂脱カーボンが行われる。また、水素中仮焼処理は、仮焼体中の炭素量が0.2wt以下、より好ましくは0.1wt以下とする条件で行うこととする。それによって、その後の焼結処理で永久磁石1全体を緻密に焼結させることが可能となり、残留磁束密度や保磁力を低下させることが無い。ここで、上述した水素中仮焼処理によって仮焼された成形体71には、NdH3が存在し、酸素と結び付きやすくなる問題があるが、第1の製造方法では、成形体71は水素仮焼後に外気と触れさせることなく、後述の焼成に移るため脱水素工程は不要となる。焼成中に成形体中の水素は抜けることとなる。続いて、水素中仮焼処理によって仮焼された成形体71を焼結する焼結処理を行う。尚、成形体71の焼結方法としては、一般的な真空焼結以外に成形体71を加圧した状態で焼結する加圧焼結等も用いることが可能である。例えば、真空焼結で焼結を行う場合には、所定の昇温速度で800°C~1080°C程度まで昇温し、2時間程度保持する。この間は真空焼成となるが真空度としては10-4Torr以下とすることが好ましい。その後冷却し、再び600°C~1000°Cで2時間熱処理を行う。そして、焼結の結果、永久磁石1が製造される。一方、加圧焼結としては、例えば、ホットプレス焼結、熱間静水圧加圧HIP焼結、超高圧合成焼結、ガス加圧焼結、放電プラズマSPS焼結等がある。但し、焼結時の磁石粒子の粒成長を抑制するとともに焼結後の磁石に生じる反りを抑える為に、一軸方向に加圧する一軸加圧焼結であって且つ通電焼結により焼結するSPS焼結を用いることが好ましい。尚、SPS焼結で焼結を行う場合には、加圧値を30MPaとし、数Pa以下の真空雰囲気で940°Cまで10°C/分で上昇させ、その後5分保持することが好ましい。その後冷却し、再び600°C~1000°Cで2時間熱処理を行う。そして、焼結の結果、永久磁石1が製造される。[永久磁石の製造方法2]次に、本発明に係る永久磁石1の他の製造方法である第2の製造方法について図4を用いて説明する。図4は本発明に係る永久磁石1の第2の製造方法における製造工程を示した説明図である。尚、スラリー42を生成するまでの工程は、図3を用いて既に説明した第1の製造方法における製造工程と同様であるので説明は省略する。先ず、生成したスラリー42を成形前に真空乾燥などで事前に乾燥させ、乾燥した磁石粉末43を取り出す。その後、乾燥した磁石粉末43を水素雰囲気において200°C~900°C、より好ましくは400°C~900°C例えば600°Cで数時間例えば5時間保持することにより水素中仮焼処理を行う。仮焼中の水素の供給量は5L/minとする。この水素中仮焼処理では、残存する有機金属化合物を熱分解させて、仮焼体中の炭素量を低減させる所謂脱カーボンが行われる。また、水素中仮焼処理は、仮焼体中の炭素量が0.2wt以下、より好ましくは0.1wt以下とする条件で行うこととする。それによって、その後の焼結処理で永久磁石1全体を緻密に焼結させることが可能となり、残留磁束密度や保磁力を低下させることが無い。次に、水素中仮焼処理によって仮焼された粉末状の仮焼体82を真空雰囲気で200°C~600°C、より好ましくは400°C~600°Cで1~3時間保持することにより脱水素処理を行う。尚、真空度としては0.1Torr以下とすることが好ましい。ここで、上述した水素中仮焼処理によって仮焼された仮焼体82には、NdH3が存在し、酸素と結び付きやすくなる問題がある。図5は水素中仮焼処理をしたNd磁石粉末と水素中仮焼処理をしていないNd磁石粉末とを、酸素濃度7ppm及び酸素濃度66ppmの雰囲気にそれぞれ暴露した際に、暴露時間に対する磁石粉末内の酸素量を示した図である。図5に示すように水素中仮焼処理した磁石粉末は、高酸素濃度66ppm雰囲気におかれると、約1000secで磁石粉末内の酸素量が0.4から0.8まで上昇する。また、低酸素濃度7ppm雰囲気におかれても、約5000secで磁石粉末内の酸素量が0.4から同じく0.8まで上昇する。そして、Ndが酸素と結び付くと、残留磁束密度や保磁力の低下の原因となる。そこで、上記脱水素処理では、水素中仮焼処理によって生成された仮焼体82中のNdH3活性度大を、NdH3活性度大→NdH2活性度小へと段階的に変化させることによって、水素仮焼中処理により活性化された仮焼体82の活性度を低下させる。それによって、水素中仮焼処理によって仮焼された仮焼体82をその後に大気中へと移動させた場合であっても、Ndが酸素と結び付くことを防止し、残留磁束密度や保磁力を低下させることが無い。その後、脱水素処理が行われた粉末状の仮焼体82を成形装置50により所定形状に圧粉成形する。成形装置50の詳細については図3を用いて既に説明した第1の製造方法における製造工程と同様であるので説明は省略する。その後、成形された仮焼体82を焼結する焼結処理を行う。尚、焼結処理は、上述した第1の製造方法と同様に、真空焼結や加圧焼結等により行う。焼結条件の詳細については既に説明した第1の製造方法における製造工程と同様であるので説明は省略する。そして、焼結の結果、永久磁石1が製造される。尚、上述した第2の製造方法では、粉末状の磁石粒子に対して水素中仮焼処理を行うので、成形後の磁石粒子に対して水素中仮焼処理を行う前記第1の製造方法と比較して、有機金属化合物の熱分解を磁石粒子全体に対してより容易に行うことができる利点がある。即ち、前記第1の製造方法と比較して仮焼体中の炭素量をより確実に低減させることが可能となる。一方、第1の製造方法では、成形体71は水素仮焼後に外気と触れさせることなく焼成に移るため、脱水素工程は不要となる。従って、前記第2の製造方法と比較して製造工程を簡略化することが可能となる。但し、前記第2の製造方法においても、水素仮焼後に外気と触れさせることがなく焼成を行う場合には、脱水素工程は不要となる。以下に、本発明の実施例について比較例と比較しつつ説明する。実施例実施例のネオジム磁石粉末の合金組成は、化学量論組成に基づく分率Nd:26.7wt、Fe電解鉄:72.3wt、B:1.0wtよりもNdの比率を高くし、例えばwtでNd/Fe/B=32.7/65.96/1.34とする。また、粉砕したネオジム磁石粉末にCu又はAlを含む有機金属化合物としてアルミニウムエトキシドを5wt添加した。また、仮焼処理は、成形前の磁石粉末を水素雰囲気において600°Cで5時間保持することにより行った。そして、仮焼中の水素の供給量は5L/minとする。また、成形された仮焼体の焼結はSPS焼結により行った。尚、他の工程は上述した[永久磁石の製造方法2]と同様の工程とする。比較例添加する有機金属化合物を銅アセチルアセトナートとした。他の条件は実施例と同様である。実施例と比較例の残炭素量の比較検討図6は実施例と比較例の永久磁石の永久磁石中の残存炭素量[wt]をそれぞれ示した図である。図6に示すように、実施例は比較例と比較して磁石粒子中に残存する炭素量を大きく低減させることができることが分かる。特に、実施例では、磁石粒子中に残存する炭素量を0.2wt以下、より具体的には0.1wt以下とすることができる。また、実施例と比較例とを比較すると、M-ORx式中、MはCu又はAlである。Rはアルキル基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で示される有機金属化合物を添加した場合には、その他の有機金属化合物を添加した場合と比較して、磁石粒子中の炭素量を大きく低減させることができることが分かる。即ち、添加する有機金属化合物を、M-ORx式中、MはCu又はAlである。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で示される有機金属化合物とすることにより、水素中仮焼処理において脱カーボンを容易に行うことが可能となることが分かる。その結果として、磁石全体の緻密焼結や保磁力の低下を防止することが可能となる。また、特に添加する有機金属化合物として炭素数2~6のアルキル基から構成される有機金属化合物を用いれば、水素雰囲気で磁石粉末を仮焼する際に、低温で有機金属化合物の熱分解を行うことが可能となる。それによって、有機金属化合物の熱分解を磁石粒子全体に対してより容易に行うことができる。以上説明したように、本実施形態に係る永久磁石1及び永久磁石1の製造方法では、粉砕されたネオジム磁石の微粉末に対して、M-ORx式中、MはCu又はAlである。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で示される有機金属化合物が添加された有機金属化合物溶液を加え、ネオジム磁石の粒子表面に対して均一に有機金属化合物を付着させる。その後、圧粉成形した成形体を水素雰囲気において200°C~900°Cで数時間保持することにより水素中仮焼処理を行う。その後、真空焼結や加圧焼結を行うことによって永久磁石1を製造する。それにより、有機金属化合物に含まれるCuやAlを焼結前に予め磁石の粒界に対して偏在配置することが可能となる。従って、CuやAlを予め磁石原料に含有した状態で粉砕、焼結を行う場合と比較して、永久磁石の製造工程で焼結温度の高温化や焼結時間の長時間化等を行う必要がない。その結果、主相の粒成長を防止するとともにリッチ相を均一に分散することが可能となる。その結果、永久磁石1の保磁力を向上させることができる。また、有機金属化合物が添加された磁石を、焼結前に水素雰囲気で仮焼することにより、有機金属化合物を熱分解させて磁石粒子中に含有する炭素を予め焼失炭素量を低減させることができ、焼結工程でカーバイドがほとんど形成されることがない。その結果、焼結後の磁石の主相と粒界相との間に空隙を生じさせることなく、また、磁石全体を緻密に焼結することが可能となり、保磁力が低下することを防止できる。また、焼結後の磁石の主相内にαFeが析出することなく、磁石特性を大きく低下させることがない。また、特に添加する有機金属化合物としてアルキル基から構成される有機金属化合物、より好ましくは炭素数2~6のアルキル基から構成される有機金属化合物を用いれば、水素雰囲気で磁石粉末や成形体を仮焼する際に、低温で有機金属化合物の熱分解を行うことが可能となる。それによって、有機金属化合物の熱分解を磁石粉末全体や成形体全体に対してより容易に行うことができる。更に、磁石粉末や成形体を仮焼する工程は、特に200°C~900°C、より好ましくは400°C~900°Cの温度範囲で成形体を所定時間保持することにより行うので、磁石粒子中に含有する炭素を必要量以上焼失させることができる。その結果、焼結後に磁石に残存する炭素量が0.2wt以下、より好ましくは0.1wt以下となるので、磁石の主相と粒界相との間に空隙が生じることなく、また、磁石全体を緻密に焼結した状態とすることが可能となり、残留磁束密度が低下することを防止できる。また、焼結後の磁石の主相内にαFeが析出することなく、磁石特性を大きく低下させることがない。また、特に第2の製造方法では、粉末状の磁石粒子に対して仮焼を行うので、成形後の磁石粒子に対して仮焼を行う場合と比較して、有機金属化合物の熱分解を磁石粒子全体に対してより容易に行うことができる。即ち、仮焼体中の炭素量をより確実に低減させることが可能となる。また、仮焼処理後に脱水素処理を行うことによって、仮焼処理により活性化された仮焼体の活性度を低下させることができる。それにより、その後に磁石粒子が酸素と結び付くことを防止し、残留磁束密度や保磁力を低下させることが無い。また、脱水素処理を行う工程は、200°C~600°Cの温度範囲で磁石粉末を所定時間保持することにより行うので、水素仮焼中処理を行ったNd系磁石中に活性度の高いNdH3が生成された場合であっても、残さずに活性度の低いNdH2へと移行させることが可能となる。尚、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能であることは勿論である。また、磁石粉末の粉砕条件、混練条件、仮焼条件、脱水素条件、焼結条件などは上記実施例に記載した条件に限られるものではない。また、水素中仮焼処理や脱水素工程については省略しても良い。また、上記実施例では磁石粉末に添加する有機金属化合物としてアルミニウムエトキシドを用いているが、M-ORx式中、MはCu又はAlである。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。で示される有機金属化合物であれば、他の有機金属化合物であっても良い。例えば、炭素数が7以上のアルキル基から構成される有機金属化合物や、アルキル基以外の炭化水素からなる置換基から構成される有機金属化合物を用いても良い。