剛性又は固体のベースプレート上面上に配置されるリソグラフィシステムであって、前記ベースプレートは、基礎上にリソグラフィシステムを配置するためにこのベースプレートに取着された少なくとも1つの支柱を有し、前記少なくとも1つの支柱は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側に配置され、前記ベースプレートには、リソグラフィシステムの真空チャンバの下側に機器を装着するための切り欠き部又は開口部が設けられているリソグラフィシステム。前記機器は、カメラのような、リソグラフィシステムの測定機器を含む請求項1のリソグラフィシステム。このリソグラフィシステムは、ターゲット位置決め装置を有し、前記機器は、リソグラフィシステムの前記ターゲット位置決め装置を駆動させるモータを有する請求項1又は2のリソグラフィシステム。前記機器は、前記ベースプレートを通って、好ましくは前記ベースプレートを超えて延びている請求項1ないし3のいずれか1のリソグラフィシステム。前記機器は、リソグラフィシステムから、前記基礎に面する前記ベースプレートの側から所定の距離のところまで延び、前記距離は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側から延びている前記支柱の長さにほぼ等しい請求項1ないし3のいずれか1のリソグラフィシステム。このリソグラフィシステムは、真空チャンバを有し、リソグラフィシステムに面する前記機器の一側面は、前記真空チャンバの内部に配置されている請求項1ないし5のいずれか1のリソグラフィシステム。中心線、即ち光軸を有する投影カラムをさらに有し、前記測定システムは、前記投影カラムの中心線、即ち光軸とほぼアライメントされて配置されている請求項2に従属する請求項3ないし6のいずれか1のリソグラフィシステム。前記ベースプレート及び前記支柱は、アルミニウムでできており、好ましくは、前記ベースプレート及び前記支柱は、一体部品として形成されている請求項1ないし7のいずれか1のリソグラフィシステム。前記ベースプレートと前記支柱との少なくとも一方がモノリシック構造を形成している請求項1ないし8のいずれか1のリソグラフィシステム。前記ベースプレートは、自己保持ベースプレートである請求項1ないし9のいずれか1のリソグラフィシステム。前記ベースプレートは、前記基礎に着脱可能に配置されている請求項1ないし10のいずれか1のリソグラフィシステム。前記ベースプレートには、3つの支柱が設けられている請求項1ないし11のいずれか1のリソグラフィシステム。前記支柱は、樹脂材料によって前記基礎に剛結されている請求項1ないし12のいずれか1のリソグラフィシステム。前記樹脂材料は、硬化中、低収縮又は実質的な無収縮硬化樹脂材料であることを特徴とする請求項13のリソグラフィシステム。前記収縮は、1パーセント未満であることを特徴とする請求項14のリソグラフィシステム。前記硬化樹脂材料は、実質的な無収縮エポキシ樹脂を含むことを特徴とする請求項14のリソグラフィシステム。前記エポキシ樹脂は、実質的に溶剤のない、又は最小量の溶剤を含むことを特徴とする請求項16のリソグラフィシステム。前記硬化樹脂材料は、接着剤であることを特徴とする請求項14のリソグラフィシステム。請求項1ないし18のいずれか1のリソグラフィシステムで使用するベースプレート。除振リソグラフィシステムを支持するためのベースプレートであって、このベースプレートは、使用時、基礎に面している底面を有し、前記底面には、支柱が設けられているか、前記底面は、少なくとも、ねじ又はボルトによって支柱を受けるように用意され、前記支柱は、コンクリートの基礎ブロックのような基礎上に前記ベースプレートを配置するために配置されているベースプレート。前記支柱及び前記ベースプレートは、一体として形成されている請求項20のベースプレート。前記支柱は、ねじ又はボルトによって前記ベースプレートに着脱可能に接続されている請求項20のベースプレート。前記ベースプレートは、使用時、リソグラフィシステムに面している上面を有し、前記上面は、少なくとも1つの装着部材を有するか、少なくとも、前記上面に取着された少なくとも1つの装着部材を有するように用意されている請求項20ないし22のいずれか1のベースプレート。前記リソグラフィシステムは、底壁を有する真空チャンバを有し、前記ベースプレートは、少なくとも、前記真空チャンバの前記底壁の一部である請求項20ないし23のいずれか1のベースプレート。前記リソグラフィシステムは、底壁を有する真空チャンバを有し、前記ベースプレートは、前記真空チャンバの前記底壁である請求項20ないし23のいずれか1のベースプレート。前記装着部材の少なくとも1つは、前記支柱の少なくとも1つと少なくとも部分的に直線状に配置されている請求項23のベースプレート。前記支柱の少なくとも1つには、前記ベースプレートから離れて面する側にアンカー部材が設けられている請求項20ないし26のいずれか1のベースプレート。前記プレートには、前記支柱のいくつかと装着部材との少なくとも一方を前記ベースプレートに接続するために、その中に固定可能に受けられるねじ挿入部を有するボアが設けられている請求項20ないし27のいずれか1のベースプレート。このベースプレートは、モノリシックスラブである請求項20ないし28のいずれか1のベースプレート。前記スラブは、花崗岩又はアルミニウムでできている請求項29のベースプレート。基礎上に、リソグラフィシステムのような、除振を必要とするシステムを配置する方法であって、それに取着された少なくとも1つの支柱を有し、前記少なくとも1つの支柱は、基礎に面する前記ベースプレートの側に取着されている自己保持硬質ベースプレートを与える工程と、前記基礎上にその支柱を備えた前記ベースプレートを配置する工程と、前記ベースプレートと前記基礎との間の距離を調節するために高さ調節手段を与える工程と、前記ベースプレートの所望の高さ調節を得るために、前記ベースプレートと前記基礎との間の距離を調節する工程と、前記支柱と前記基礎との間に硬化樹脂材料を与える工程と、前記基礎と前記支柱との間に剛結を与えるために前記樹脂材料を硬化させる工程と、前記ベースプレートの上面に前記システムを配置する工程と、を具備する方法。前記高さ調節手段を取り外す工程をさらに具備する請求項31の方法。前記ベースプレートのための基礎領域を囲んでいるリムを前記基礎上に与える工程と、硬化樹脂材料のプールとして前記基礎領域に前記硬化樹脂材料を与えて、前記少なくとも1つの支柱が、硬化樹脂材料の前記プールと全て接触する工程とをさらに具備する請求項31又は32の方法。前記支柱は、硬化樹脂材料の前記プールに少なくとも部分的に浸漬される請求項33の方法。前記硬化樹脂材料の硬化の後、リムを取り除く工程をさらに具備する請求項33又は34の方法。図1は、基礎上にリソグラフィシステムを配置するための自己保持硬質ベースプレート1を示す図である。ベースプレート1は、例えば、比較的薄いハニカムタイプの装着プラットフォームを有することができる。しかし、好ましくは、ベースプレート1は、花崗岩の比較的薄いモノリシックプレートである。ベースプレート1には、使用時、基礎に面する、ベースプレート1の底面2に取着された8つの支柱5が設けられている。支柱5は、ねじ又はボルトによって底面2に着脱可能に取着されている。各支柱5は、ほぼ平らな側壁を有するほぼ正方形のシリンダを有し、例えば、高さ10cmである。支柱5は、強度があり剛性の支柱を与えるために、型抜き又はモールド成形された壁材料を使用して製造されている。各支柱5の上端及び下端には、フランジ6が設けられている。フランジ6は、支柱5の側壁の外側を超えて約5cm延びている。上端図示されないのところのフランジと下端のところのフランジ6との間に、補強リブ7が設けられている。補強リブ7は、例えば、溶接によって、上側フランジ及び下側フランジに、及び側壁の一方に剛結されている。使用時、リブ7は、上側フランジ6と下側フランジ6との間にほぼ垂直に延びている。下側フランジ6は、以下でより詳細に説明されるように、支柱5を基礎に接続するためのアンカー部材として使用される。リソグラフィシステム又はその一部は、ベースプレート1の上面3に直接装着されることができる。図1に示される実施の形態では、ベースプレート1の上面3には、ベースプレート1に、リソグラフィシステムを、特に、システムの真空チャンバを装着するために、装着部材4が設けられている。図1に示されるように、装着部材4は、ベースプレート1の一部に設けられている。この部分にはまた、システムの真空チャンバの下側に、機器、特に、カメラのような測定機器を装着するためのスペースを与える開口、即ちカットアウト8が設けられている。従来のベースプレートでは、このようなカットアウト8は形成されることができなかった。なぜならば、ベースプレートの強度をかなり低下させるからである。本発明のベースプレート1では、基礎又は床は、ベースプレート1のための補強部分として使用され、カットアウト8は、基礎又は床に接続されたベースプレート1の堅さを実質的に低下させない。基礎又は床の上にリソグラフィシステムの真空チャンバの重さを伝達するために、装着部材4の少なくとも1つが1つの支柱5の上に配置されている。図1に示されるように、リソグラフィシステムの真空チャンバを装着するために装着部材4が設けられたベースプレート1の部分の下の支柱5は、他の支柱よりも大きい。この例では、10の装着部材4が、4つの大きな支柱5の上に均等に配置されている。図1に示されるように、ベースプレート1の第2の部分9には、装着部材4が設けられていない。この部分9は、ウェーハ処理機器及びアクチュエータを装着するために使用される。リソグラフィシステムを設置する前に、上述のベースプレート1が、システムが設置されるべき位置に配置される。その支柱15を備えたベースプレート11が、基礎10上に配置され、ベースプレートは囲み床30から実質的に離れている。これは、基礎10に達してベースプレート11に伝達される床30の振動を少なくとも部分的に止めることができる。図2に示されるように、それに取着された少なくとも1つの支柱15を有する自己保持硬質ベースプレート11が設けられている。支柱15の上端には、基礎10に面しているベースプレート11の平坦な底面12に取着された上側フランジ18が設けられている。支柱15の下端には、アンカー部材として機能する下側フランジ16が設けられている。図2に示されるように、ベースプレート11は、その支柱15によって基礎10上に配置される。さらに、上面13は、装着部材14を有する。続いて、ベースプレート11と基礎10との間の距離を調節するために、高さ調節手段17が、特に、ねじジャッキ又はリフトねじが設けられている。図3に示されるように、高さ調節手段17は、ブロック19の上部に配置されている。高さ調節手段17は、ベースプレート11の所望の高さ調節を得るために、ベースプレート11と基礎10との間の距離を調節するために使用される。一方、硬化樹脂材料21が、局所的に与えられることができ、即ち、支柱15のアンカー部材に、又は近くにのみある。他方、硬化樹脂材料21は、ベースプレート11のところで、又は近くで基礎領域を覆うために与えられることができる。このオプションは、図4における例で選択されている。硬化樹脂材料21を与える前に、リム20が、基礎10の上に配置され、リム20は、ベースプレート11のための領域を囲んでいる。続いて、硬化樹脂材料21は、硬化樹脂材料のプールとして基礎領域上に設けられ、全ての支柱15のアンカー部材16は、硬化樹脂材料21のプールと全体的に接触する。硬化樹脂材料21は、フィラーあり又はなしで、2成分エポキシ樹脂プロコル社からのRocapoxEP商標のような、実質的な無収縮エポキシ樹脂を含む。この材料は、硬化中、低収縮又は実質的な無収縮であり、特に、1パーセント未満の収縮である。図4に示されるように、硬化樹脂材料21はまた、支柱15のアンカー部材16と基礎10との間に設けられている。全ての支柱15のアンカー部材16は、硬化樹脂材料21のプールと完全に接触している。樹脂材料21が固まった、即ち硬化した後、床10と支柱15との間に剛結を与える。また、高さ調節手段17が取り外されることができ、基礎10上に取着されたベースプレート11が、図5に概略的に示されるように、リソグラフィシステム22を受ける用意ができている。第2の例では、図6に示されるように、剛性の床30が設けられている。ベースプレート31は、床30の上に直接配置されることができる。さらに、図6に示されるように、高さ調節手段は、少なくとも1つの梁39を有し、梁は、ベースプレート31の下側に達する。各梁39は、ベースプレート31と床30との間の距離を調節するために2つの液圧ジャック37に置かれる。図6に示されるように、液圧ジャック37は、図7に示されるように、硬化樹脂材料40によって覆われることが意図された床領域の外側に、ベースプレート31から所定の距離のところに配置されている。液圧ジャック37は、ベースプレート31の所望の高さ調節を得るために、ベースプレート31と床30との間の距離を調節するために使用される。好ましくは、液圧ジャック37には、高さ調節の後ベースプレート31の位置を固定するために、機械的なロック部材又は保持部材が設けられている。硬化樹脂材料41を与える前に、リム40が、床30上に配置され、リム40は、ベースプレート31のための床領域を囲んでいる。続いて、硬化樹脂材料41が、硬化樹脂材料のプールとして床領域に与えられ、支柱35のアンカー部材として機能するフランジ36が、全て、ほぼ完全に、硬化樹脂材料41のプールと接触する。硬化樹脂材料21は、実質的に溶剤のない、又は最小量の溶剤を含む実質的な無収縮エポキシ樹脂、例えば、プロコル社からのRocapoxEP商標を含む。代わって、実質的な無収縮接着剤が使用されることができる。図7に示されるように、硬化樹脂材料41がまた、全ての支柱35のアンカー部材36と床30との間に与えられる。樹脂材料41が固まった、即ち硬化した後、床30と支柱35との間に剛結を与える。また、高さ調節手段37、39及びリム40は、取り外されることができ、床30に取着されたベースプレート11が、図8に概略的に示されるように、リソグラフィシステム32を受けるために用意される。リソグラフィシステム32は、図1のベースプレート1と同様に、ベースプレート31のカットアウト8に配置されたカメラ33が設けられたその底面にある。かくして、図5並びに図8は、床30又は基礎10に配置されたリソグラフィシステム22、32を示す図である。床30又は基礎10には、それに取着された少なくとも1つの支柱15、35を有する自己保持硬質ベースプレート11、31が設けられ、少なくとも1つの支柱15、35が、床30又は基礎10に面しているベースプレート11、31の側に取着され、少なくとも1つの支柱15、35には、ベースプレート11、31から離れて面している側にアンカー部材が設けられ、アンカー部材は、硬化樹脂材料21、41によって床30又は基礎10に剛結され、リソグラフィシステム22、32は、ベースプレート11、31の上面に配置されている。図9は、本発明の一実施の形態に係るリソグラフィシステムの概略的な横断面を示す図である。この実施の形態では、ベースプレート110は、好ましくは、アルミニウムのような金属の厚く剛性のブロックでできている。ベースプレート110の厚さは、25~30cmの範囲にあることができる。ベースプレートには、基礎100上にシステムを支持するために支柱150好ましくは3つの支柱が設けられることができる。支柱150は、ベースプレート110の一体部分として形成されることができ、金属のベースプレートは、支柱150を形成するために1つのプロセスで機械加工されることができ、高い正確さで金属のブロックから1つのプロセスで他の構成要素に例えば、装着部材14に連結する。支柱150は、3つ又はそれ以上の側面及びピラミッドの頂点のところで平坦な部分を備えた逆さピラミッドの形態を取ることができ、各支柱150は、図9に示されるように基礎100上に置かれる。リソグラフィシステムには、荷電粒子光学カラムが設けられることができ、これは、図9に部分的に示される。光学カラムは、リソグラフィシステムにおいて、ウェーハのような、ターゲットに1つ又は複数のパターニングビームを投影するために配置される。図9に示される実施の形態では、リソグラフィシステムは、荷電粒子ビーム源101及びビームコリメートシステム102を有する照射光学モジュール201と、アパーチャアレイ103及びコンデンサレンズアレイ104を有するアパーチャアレイ及びコンデンサレンズモジュール202と、ビームレットブランカアレイ105を有するビームスイッチングモジュール203と、ビーム停止アレイ、ビーム偏向器アレイ及び投影レンズアレイを有する投影光学モジュール204とを有する。図9に示されるように、これらモジュールは、側壁400によって境界を定められた真空チャンバの内部に配置されたフレーム205中に配置されている。図9の実施の形態では、ベースプレート110は、真空チャンバの底壁として機能する。投影光学モジュールの下に、通常、キャリアを保持するステージ又はステージアセンブリが配置され、キャリアは、使用時、ターゲットを支持する。ステージ又はステージアセンブリは、投影光学モジュールに対してキャリアを動かすことができる。キャリア図示されないは、ウェーハテーブルと、チャックと、短ストロークステージとを有することができる。図9には、ステージの一部のみが示される。図9は、第1の方向Xに沿ってキャリア図示されないを保持し動かすための長ストロークステージを示す図である。長ストロークステージは、ベースプレート110の上部に配置された2つのX-ステージキャリッジ401、402の両方を有し、各X-ステージベースがXステージキャリッジを保持する。ベースプレート110には、2つの開口、即ちカットアウトが設けられ、これら開口に2つのモータM1、M2の一方が配置され、これらモータの各々が、対応するX-ステージキャリッジ401、402を駆動させる。ベースプレート110の開口に2つのモータM1、M2を配置することは、真空チャンバの部分的に外側かつ下に、クリーンルームのような、工場のホールでほとんどスペースを占領しないコンパクトなデザインを提供する。図9では、キャリア図示されないは、実際には、パターニングビームが測定機器330、特にカメラに達することを可能にするために、システムの後方に移動される。ベースプレート110には、開口、即ちカットアウトが設けられ、この開口にカメラ330が設けられる。カメラは、ベースプレート110を通って延びている。カメラはまた、基礎100の方向と光学カラムの方向との両方に、ベースプレートから延びている。カメラは、パターニングビーム又はビームを測定と研究との少なくとも一方をするために、光学カラムと、特に、その中心線、即ち光軸Hとアライメントされている。リソグラフィシステムの内部から、特に、真空チャンバの内部から、カメラ330にアクセスを与えることが効果的である。もしそうでなければ、リソグラフィシステムは、それを使えるようにするためにカメラにアクセスするために、そのベースプレート110とその基礎100との少なくとも一方から取り外される必要がある。他の解決策は、ベースプレート110と基礎100との間に余分なスペースを形成し、これにより、カメラ330がこの余分なスペースを通じてアクセスされることができるというものである。しかし、ベースプレート110と基礎100との間に余分なスペースを形成することは、ファブスペースに占めるリソグラフィシステムの体積を増加させるという欠点を有する。リソグラフィシステムには、真空チャンバが設けられることができ、真空チャンバ中で、光学カラムには、同様に、ターゲットが設けられることができる。一実施の形態では、ベースプレート110は、真空チャンバの一部を形成する。リソグラフィの他の部分はまた、カメラ330又はモータM1、M2の代わりにベースプレート110の開口、即ちカットアウトに即ち、ベースプレートの他の開口、即ちカットアウトに設けられることができ、これは、ファブスペースの内部でリソグラフィシステムの体積を最小にする効果を有する。リソグラフィシステムを動作させるとき、パターニングビームは、まず、カメラ330を使用して、測定と研究との少なくとも一方又は特に、較正がなされる。この間、キャリア及びターゲットは、図9に示されるようなパターニングビームに位置決めされず、パターニングビームは、カメラ330によって受光される。パターニングビームの較正の後、ウェーハのようなターゲットを備えたキャリアは、パターニングビームで投影レンズ204とカメラ330との間に動かされ、カメラ330は、パターニングビームをもう受光しない。続いて、キャリアの上部にあるターゲットが、パターニングビームを使用して処理される。要約すると、本発明は、基礎上に、例えば、リソグラフィシステムが配置される室内の床の一部の上に配置される、リソグラフィシステムのような、除振を必要とするシステム、及び、基礎上にリソグラフィシステムを配置する方法に関する。リソグラフィシステムは、剛性の、即ちソリッドベースプレートの上部に配置され、前記ベースプレートは、基礎上にリソグラフィシステムを配置するためにこのベースプレートに取着された少なくとも1つの支柱を有し、前記少なくとも1つの支柱は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側に配置され、前記ベースプレートには、リソグラフィシステムの真空チャンバの下側に機器を装着するためのカットアウト、即ち開口が設けられている。一実施の形態では、前記少なくとも1つの支柱は、硬化樹脂材料によって基礎に剛結されている。これは、ベース構造を与え、このベース構造では、基礎は、所望の剛性を得るために、ベースプレートの補強部分として使用される。リソグラフィシステムは、ベースプレートの上部に配置される。上述の説明は、好ましい実施の形態の動作を示して説明したものであり、本発明の範囲を限定することを意図するものではないことが理解される。上述の議論から、多くの変形例が本発明の意図及び範囲によって包含されることは当業者にとって明らかである。