"式1式中、Jは、下式J1またはJ2式中、R1およびR2は、同一または相異なり、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキル基を表し、R3は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、ハロゲン原子または水素原子を表し、R4およびR5は、同一または相異なり、C1-C3アルキル基を表し、R6は、水素原子またはC1-C6鎖式炭化水素基を表す。で示される基を表し、Lは、単結合または1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキレン基を表し、Aは、上記式1のベンゼン環の3位または4位に結合し、単結合、-O-、または-SOx-を表しここで、xは、0、1または2を表す。、Qは、下式Q1、Q2、Q3またはQ4式中、RxおよびRyは、同一または相異なり、群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、シアノ基、ハロゲン原子、水素原子またはシクロプロピル基を表し、yは0、1または2を表し、Rzは、群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2、水素原子またはシクロプロピル基を表し、T1は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C12ジアルキルアミノ基、水酸基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表し、T2は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基を表す。で示される基を表し、Gは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基もしくはアミノ基を表すか、または、下式G1、G2、G3もしくはG4{式中、Raは、群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、シクロプロピル基または-CO-T1を表し、Rbは、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2、C3-C9トリアルキルシリル基またはシクロプロピル基を表し、Rcは、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1またはシクロプロピル基を表しここで、T1は前述と同義であるが、GがG2、G3またはG4の場合には、T1は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C12ジアルキルアミノ基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。、zは、0、1または2を表し、Rdは、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2またはシクロプロピル基を表しここで、T1およびT2は前述と同義である。、Reは、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。}で示される基を表し、mは0または1を表し、Eは、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基またはハロゲン原子を表し、nは0、1、2、3または4を表し、但し、nが2、3または4の場合は、各々のEは互いに異なっていてもよい。群α:ハロゲン原子、シアノ基およびシクロプロピル基からなる群。群β:1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルチオ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルフィニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルホニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C8ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、C3-C9トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群。群γ:1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルチオ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルフィニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルホニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C8ジアルキルアミノ基、フェニル基該フェニル基は、メチル基、メトキシ基、塩素原子またはニトロ基を有していてもよい。、ハロゲン原子、シアノ基、C3-C9トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群。但し、以下1~5のいずれかに該当する化合物は除く。1QがQ2、Q3またはQ4であり、Gがアミノ基である化合物。2QがQ1であり、RxおよびRyがいずれも水素原子であり、nが0であり、A基の置換位置がベンゼン環の4位であり、AおよびLが単結合であり、JがJ1であり、かつ、R1、R2およびR3がいずれもメチル基であり、Gが水素原子である化合物。3QがQ1であり、RxおよびRyがいずれも水素原子であり、nが0であり、A基の置換位置がベンゼン環の4位であり、AおよびLが単結合であり、JがJ1であり、R1およびR2がいずれもメチル基であり、かつ、R3が水素原子であり、Gが水酸基である化合物。4QがQ2であり、nが0であり、A基の置換位置がベンゼン環の4位であり、AおよびLが単結合であり、JがJ1であり、R1およびR2がいずれもメチル基であり、かつ、R3が水素原子またはメチル基であり、Gが水素原子である化合物。5QがQ3であり、nが0であり、AおよびLが単結合であり、JがJ2であり、かつ、R4、R5およびR6がいずれもメチル基であり、Gが水素原子である化合物。で示されるピリジン化合物。QがQ1である請求項1記載のピリジン化合物。QがQ2、Q3またはQ4であり、Gが水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基、G1、G2、G3またはG4である請求項1記載のピリジン化合物。QがQ2であり、Gが水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基、G1、G2、G3またはG4である請求項1記載のピリジン化合物。QがQ3であり、Gが水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基、G1、G2、G3またはG4である請求項1記載のピリジン化合物。QがQ4であり、Gが水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基、G1、G2、G3またはG4である請求項1記載のピリジン化合物。Gが、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、G1、G2、G3またはG4である請求項1記載のピリジン化合物。Gが、G1、G2、G3またはG4である請求項1記載のピリジン化合物。Gが、G2またはG3である請求項1記載のピリジン化合物。Gが、G1またはG4である請求項1記載のピリジン化合物。請求項1~請求項10いずれか一項記載のピリジン化合物と不活性担体とを含有する有害生物防除剤。有害生物を防除するための請求項1~請求項10いずれか一項記載のピリジン化合物の使用。請求項1~請求項10いずれか一項記載のピリジン化合物の有効量を有害生物又は有害生物の生息場所に施用する工程を含む有害生物の防除方法。本発明は、有害生物に対して防除活性を有する新規な化合物を提供することを課題とする。本発明者は、有害生物に対して防除活性を有する化合物を見出すべく検討した結果、下記式1で示されるピリジン化合物が有害生物に対して防除効力を有することを見出し、本発明に至った。即ち、本発明は以下のものである。[発明1]式1式中、Jは、下式J1またはJ2式中、R1およびR2は、同一または相異なり、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキル基を表し、R3は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、ハロゲン原子または水素原子を表し、R4およびR5は、同一または相異なり、C1-C3アルキル基を表し、R6は、水素原子またはC1-C6鎖式炭化水素基を表す。で示される基を表し、Lは、単結合または1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキレン基を表し、Aは、上記式1のベンゼン環の3位または4位に結合し、単結合、-O-、または-SOx-を表しここで、xは、0、1または2を表す。、Qは、下式Q1、Q2、Q3またはQ4式中、RxおよびRyは、同一または相異なり、群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、シアノ基、ハロゲン原子、水素原子またはシクロプロピル基を表し、yは0、1または2を表し、Rzは、群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2、水素原子またはシクロプロピル基を表し、T1は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C12ジアルキルアミノ基、水酸基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表し、T2は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基を表す。で示される基を表し、Gは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基もしくはアミノ基を表すか、または、下式G1、G2、G3もしくはG4{式中、Raは、群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、シクロプロピル基または-CO-T1を表し、Rbは、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2、C3-C9トリアルキルシリル基またはシクロプロピル基を表し、Rcは、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1またはシクロプロピル基を表しここで、T1は前述と同義であるが、GがG2、G3またはG4の場合には、T1は、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C12ジアルキルアミノ基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。、zは、0、1または2を表し、Rdは、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、-CO-T1、-SO2-T2またはシクロプロピル基を表しここで、T1およびT2は前述と同義である。、Reは、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。}で示される基を表し、mは0または1を表し、Eは、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基またはハロゲン原子を表し、nは0、1、2、3または4を表し、但し、nが2、3または4の場合は、各々のEは互いに異なっていてもよい。群α:ハロゲン原子、シアノ基およびシクロプロピル基からなる群。群β:1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルチオ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルフィニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルホニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C8ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、C3-C9トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群。群γ:1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルコキシ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルチオ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルフィニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルホニル基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルアミノ基、1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C8ジアルキルアミノ基、フェニル基該フェニル基は、メチル基、メトキシ基、塩素原子またはニトロ基を有していてもよい。、ハロゲン原子、シアノ基、C3-C9トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群。但し、以下1~5のいずれかに該当する化合物は除く。1QがQ2、Q3またはQ4であり、Gがアミノ基である化合物。2QがQ1であり、RxおよびRyがいずれも水素原子であり、nが0であり、A基の置換位置がベンゼン環の4位であり、AおよびLが単結合であり、JがJ1であり、かつ、R1、R2およびR3がいずれもメチル基であり、Gが水素原子である化合物。3QがQ1であり、RxおよびRyがいずれも水素原子であり、nが0であり、A基の置換位置がベンゼン環の4位であり、AおよびLが単結合であり、JがJ1であり、R1およびR2がいずれもメチル基であり、かつ、R3が水素原子であり、Gが水酸基である化合物。4QがQ2であり、nが0であり、A基の置換位置がベンゼン環の4位であり、AおよびLが単結合であり、JがJ1であり、R1およびR2がいずれもメチル基であり、かつ、R3が水素原子またはメチル基であり、Gが水素原子である化合物。5QがQ3であり、nが0であり、AおよびLが単結合であり、JがJ2であり、かつ、R4、R5およびR6がいずれもメチル基であり、Gが水素原子である化合物。で示されるピリジン化合物。以下、本発明化合物と記す。。[発明2]QがQ1である[発明1]記載のピリジン化合物。[発明3]QがQ2、Q3またはQ4であり、Gが水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基、G1、G2、G3またはG4である[発明1]記載のピリジン化合物。[発明4]QがQ2であり、Gが水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基、G1、G2、G3またはG4である[発明1]記載のピリジン化合物。[発明5]QがQ3であり、Gが水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基、G1、G2、G3またはG4である[発明1]記載のピリジン化合物。[発明6]QがQ4であり、Gが水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基、G1、G2、G3またはG4である[発明1]記載のピリジン化合物。[発明7]Gが、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、G1、G2、G3またはG4である[発明1]記載のピリジン化合物。[発明8]Gが、G1、G2、G3またはG4である[発明1]記載のピリジン化合物。[発明9]Gが、G2またはG3である[発明1]記載のピリジン化合物。[発明10]Gが、G1またはG4である[発明1]記載のピリジン化合物。[発明11][発明1]~[発明10]いずれか一項記載のピリジン化合物と不活性担体とを含有する有害生物防除剤。[発明12]有害生物を防除するための[発明1]~[発明10]いずれか一項記載のピリジン化合物の使用。[発明13][発明1]~[発明10]いずれか一項記載のピリジン化合物の有効量を有害生物又は有害生物の生息場所に施用する工程を含む有害生物の防除方法。本明細書の記載において用いられる置換基について、例を挙げて以下に説明する。本発明化合物においてハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を意味する。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C2アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基およびトリフルオロメチル基等が挙げられる。本発明化合物においてC1-C3アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基およびトリフルオロメチル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基およびトリフルオロメチル基が挙げられる。本発明化合物においてC1-C6鎖式炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、2,2-ジメチルプロピル基、3-メチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、3,3-ジメチルブチル基およびヘキシル基等のC1-C6アルキル基;ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、イソプロペニル基、2-メチル-1-プロペニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、1-ペンテニル基および1-ヘキセニル基等のC2-C6アルケニル基;並びにエチニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、3,3-ジメチル-1-ブチニル基、1-ペンチニル基および1-ヘキシニル基等のC2-C6アルキニル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、2,2-ジメチルプロピル基、3-メチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、3,3-ジメチルブチル基ヘキシル基およびトリフルオロメチル基等の1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキル基;ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、イソプロペニル基、2-メチル-1-プロペニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、1-ペンテニル基および1-ヘキセニル基等のC2-C6アルケニル基および2,2-ジフルオロビニル基等の1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C6アルケニル基;並びにエチニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、3,3-ジメチル-1-ブチニル基、1-ペンチニル基、1-ヘキシニル基および2-クロロエチニル基等の1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C6アルキニル基が挙げられる。本発明化合物において群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、シアノメチル基およびシクロプロピルメチル基等の群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6アルキル基;2-プロペニル基等の群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC2-C6アルケニル基;並びにプロパルギル基および2-ブチニル基等の群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC2-C6アルキニル基が挙げられる。本発明化合物において群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等のC1-C6アルキル基;トリフルオロメチル基、シアノメチル基、シクロプロピルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、1-メトキシエチル基およびメチルチオメチル基等の群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有するC1-C6アルキル基;ビニル基、イソプロペニル基、1-プロペニル基、2-メチル-1-プロペニル基、2,2-ジクロロビニル基および2,2-ジフルオロビニル基等の群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC2-C6アルケニル基;並びにエチニル基、1-プロピニル基、2-クロロエチニル基、2-フルオロエチニル基および2-トリメチルシリルエチニル基等の群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC2-C6アルキニル基が挙げられる。本発明化合物において群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基およびtert-ブチル基等のC1-C6アルキル基;ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2-フルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,1-トリフルオロ-2-プロピル基、シアノメチル基、1-シアノエチル基、シクロプロピルメチル基、1-シクロプロピルエチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、1-メトキシエチル基、2-メトキシエチル基、メチルチオメチル基、メチルスルフィニルメチル基、メチルスルホニルメチル基、2-メチルチオエチル基、2-メチルスルフィニルエチル基、2-メチルスルホニルエチル基、2-メチルアミノエチル基、2-ジメチルアミノエチル基、ベンジル基、4-メトキシベンジル基、3,4-ジメトキシベンジル基および4-ニトロベンジル基等の群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有するC1-C6アルキル基;2-プロペニル基、2-ブテニル基および3-メチル-2-ブテニル基等の群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC3-C6アルケニル基;並びにプロパルギル基、2-ブチニル基および3-ブチニル基等の群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC2-C6アルキニル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C3アルキレン基としては、例えば-CH2-、-CHCl-、-CHF-、-CF2-、-CH2CH2-および-CH2CH2CH2-が挙げられる。本発明化合物においてC3-C9トリアルキルシリル基は、アルキル部分の炭素の総数が3~9のトリアルキルシリル基を意味し、各アルキル基は同一または異なっていてもよく、例えばトリメチルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、2,2,2-トリクロロエトキシ基および2,2,2-トリフルオロエトキシが挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C6アルキルアミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、sec-ブチルアミノ基、tert-ブチルアミノ基および2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C12ジアルキルアミノ基は、アルキル部分の炭素の総数が2~12である1個以上のハロゲン原子を有していてもよいジアルキルアミノ基を意味し、各アルキル基は同一または異なっていてもよく、例えばN,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-tert-ブチル-N-メチルアミノ基およびN-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基および2,2,2-トリフルオロエトキシ基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、tert-ブチルチオ基および2,2,2-トリフルオロエチルチオ基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルフィニル基としては、例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、sec-ブチルスルフィニル基、tert-ブチルスルフィニル基および2,2,2-トリフルオロエチルスルフィニル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルスルホニル基としては、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、sec-ブチルスルホニル基、tert-ブチルスルホニル基および2,2,2-トリフルオロエチルスルホニル基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC1-C4アルキルアミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、sec-ブチルアミノ基、tert-ブチルアミノ基および2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基が挙げられる。本発明化合物において1個以上のハロゲン原子を有していてもよいC2-C8ジアルキルアミノ基は、アルキル部分の炭素の総数が2~8である1個以上のハロゲン原子を有していてもよいジアルキルアミノ基を意味し、各アルキル基は同一または異なっていてもよく、例えばN,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-tert-ブチル-N-メチルアミノ基、N-tert-ブチル-N-メチルアミノ基およびN-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基が挙げられる。本発明化合物においてフェニル基該フェニル基は、メチル基、メトキシ基、塩素原子またはニトロ基を有していてもよい。は、メチル基、メトキシ基、塩素原子およびニトロ基からなる群から独立して選択される1または2以上の置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、例えば、フェニル基、4-メトキシフェニル基、3,4-ジメトキシフェニル基、4-ニトロフェニル基、2-ニトロフェニル基、4-クロロフェニル基、2-クロロフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基および4-メチルフェニル基が挙げられる。本発明化合物としては、例えば以下のピリジン化合物が挙げられる。式1において、QとGとが表1~表6の組み合わせである化合物態様1~態様116。なお、例えば、態様1は、式1において、QがQ1、Q2、Q3またはQ4であり、Gがハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、G1、G2、G3、またはG4であるピリジン化合物。を表す。また、本発明化合物として、例えば、以下のピリジン化合物も挙げられる。式1において、Lが単結合または-CH2-であり、Aが単結合または-O-である、発明1~発明10および態様1~態様116のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Lが単結合または-CH2-であり、Aが単結合または-O-であり、JがJ1JがJ1の場合に、R1およびR2はいずれもメチル基であり、R3は水素原子、メチル基、またはエチル基である。またはJ2JがJ2の場合に、R4、R5およびR6はいずれもメチル基である。である、発明1~発明10および態様1~態様116のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Lが単結合であり、Aが単結合であり、JがJ1JがJ1の場合に、R1およびR2はいずれもメチル基であり、R3は水素原子、メチル基、またはエチル基である。またはJ2JがJ2の場合に、R4、R5およびR6はいずれもメチル基である。である、発明1~発明10および態様1~態様116のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、J-L-Aがtert-ブチル基である、発明1~発明10および態様1~態様116のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、QがQ1であり、かつ、RxおよびRyが同一または相異なり群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子であるか、QがQ2であるか、QがQ3であるか、あるいは、QがQ4であり、かつ、Rzが群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である発明1、発明7、発明8、発明9、発明10および態様1~態様17のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、QがQ1であり、かつ、RxおよびRyが同一または相異なりメチル基または水素原子であるか、QがQ2であるか、QがQ3であり、かつ、yが0であるか、あるいは、QがQ4であり、かつ、Rzがメチル基または水素原子である発明1、発明7、発明8、発明9、発明10および態様1~態様17のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、QがQ1であり、かつ、RxおよびRyが同一または相異なり群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である発明2および態様18~態様36のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、QがQ1であり、かつ、RxおよびRyが同一または相異なりメチル基または水素原子である発明2および態様18~態様36のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、QがQ2であるか、QがQ3であるか、あるいは、QがQ4であり、かつ、Rzが群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である発明3および態様37~態様55のいずれかに記載の化合物;式1において、QがQ2であるか、QがQ3であり、かつ、yが0であるか、あるいは、QがQ4であり、かつ、Rzがメチル基または水素原子である発明3および態様37~態様55のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、QがQ3であり、かつ、yが0である発明5および態様75~態様93のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、QがQ4であり、かつ、Rzが群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である発明6および態様94~態様116のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、QがQ4であり、かつ、Rzがメチル基または水素原子である発明6および態様94~態様116のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gが水素原子またはハロゲン原子であるか、GがG1であり、かつ、Raが群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、GがG2であり、かつ、Rbが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、GがG3であり、かつ、Rcが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、あるいは、GがG4であり、Rdが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であり、かつ、Reが、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gがハロゲン原子であるか、GがG1であり、かつ、Raが群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、GがG2であり、かつ、Rbが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、GがG3であり、かつ、Rcが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、あるいは、GがG4であり、Rdが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であり、かつ、Reが、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、GがG1であり、かつ、Raが群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、GがG2であり、かつ、Rbが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、GがG3であり、かつ、Rcが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、あるいは、GがG4であり、Rdが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であり、かつ、Reが、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gが、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、2,2,2-トリフルオロエチルチオ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gが、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、2,2,2-トリフルオロエチルチオ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、2,2,2-トリフルオロエチルチオ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、GがG2であり、かつ、Rbが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、あるいはGがG3であり、かつ、Rcが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gが、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基または2,2,2-トリフルオロエチルチオ基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、GがG1であり、かつ、Raが群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であるか、あるいは、GがG4であり、Rdが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であり、かつ、Reが、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、GがG1であり、かつ、Raが群βより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gが、メチル基、エチル基、プロピル基またはイソプロピル基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、GがG2であり、かつ、Rbが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gが、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基または2,2,2-トリフルオロエトキシ基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、GがG3であり、かつ、Rcが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gが、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基または2,2,2-トリフルオロエチルチオ基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、GがG4であり、Rdが群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基であり、かつ、Reが、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基または水素原子である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;式1において、Gが、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である発明1~発明6のいずれかに記載のピリジン化合物;また、本発明化合物として、例えば、以下のピリジン化合物も挙げられる。式1において、Lが単結合または-CH2-であり、Aが単結合または-O-であり、JがJ1JがJ1の場合に、R1およびR2はいずれもメチル基であり、R3は水素原子、メチル基、またはエチル基である。またはJ2JがJ2の場合に、R4、R5およびR6はいずれもメチル基である。であり、QがQ1であり、かつ、RxおよびRyが同一または相異なりメチル基または水素原子であるか、QがQ2であるか、QがQ3であり、かつ、yが0であるか、あるいは、QがQ4であり、かつ、Rzがメチル基または水素原子であり、Gが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、2,2,2-トリフルオロエチルチオ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基である発明1記載のピリジン化合物;式1z式中、Qzは、-CH2-、-CHCH3-、酸素原子、硫黄原子、-NH-または-NHCH3-を表し、Gzは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、2,2,2-トリフルオロエチルチオ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基、N-イソプロピル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基またはN-2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基を表し、mは0または1を表す。で示される発明1記載のピリジン化合物;式1zにおいて、Qzが-CH2-、-CHCH3-または酸素原子である発明1記載のピリジン化合物;式1zにおいて、Gzがエチル基、メトキシ基、メチルチオ基またはN,N-ジエチルアミノ基である発明1記載のピリジン化合物;式1zにおいて、Qzが-CH2-、-CHCH3-または酸素原子であり、Gzがエチル基、メトキシ基、メチルチオ基またはN,N-ジエチルアミノ基である発明1記載のピリジン化合物;次に本発明化合物の製造法について説明する。本発明化合物は、例えば、以下の製造法1~製造法8にしたがって製造することができる。製造法1本発明化合物のうち、QがQ1である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、E、G、Rx、nおよびmは前記と同じ意味を表し、X3は、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ry1は、群αより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基またはシクロプロピル基を表し、Lgは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、または、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。5a→3化合物5aと金属マグネシウムとを反応させることによって生成するグリニャール反応剤を、式2で示されるアミド化合物と反応させることにより化合物3を製造することができる。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類が挙げられる。化合物5a1モルに対して、金属マグネシウムは通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。また、必要に応じて触媒量の活性化剤を加えて、金属マグネシウムを活性化させることができる。該活性化剤としては、例えば、ヨウ素、1,2-ジブロモエタンが挙げられる。化合物5aと金属マグネシウムとの反応における反応温度は、通常室温から用いる溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は、通常瞬時から1時間の範囲である。化合物5a1モルに対して化合物2は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。生成したグリニャール反応剤と化合物2との反応における反応温度は、通常-78°Cから溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、化合物3を単離することができる。3→7化合物3を還元することにより、化合物7を製造することができる。還元方法としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウムを用いる還元反応が挙げらる。化合物31モルに対して、水素化ホウ素ナトリウムは通常0.25モル~1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類が挙げられる。該反応における反応温度は、通常0°Cから溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常瞬時から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、化合物7を単離することができる。5a→7化合物5aをアルキルリチウム化合物と反応させた後に、生成する反応中間体と式6で示されるカルボニル化合物と反応させることにより、化合物7を製造することができる。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。該反応に用いられるアルキルリチウム化合物としては、例えば、ブチルリチウムが挙げられる。化合物5a1モルに対して、アルキルリチウム化合物は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。化合物5aとアルキルリチウム化合物との反応における反応温度は、通常-78°Cから-50°Cの範囲であり、反応時間は、通常瞬時から1時間の範囲である。化合物5a1モルに対して化合物6は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応中間体と化合物6との反応における反応温度は、通常-78°Cから30°Cの範囲であり、反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、反応混合物に水または塩化アンモニウム水溶液等を注加した後、有機溶媒で抽出し、通常の後処理操作を行うことにより、化合物7を単離することができる。4→7化合物4をリチオ化した後に、生成する反応中間体と式17で示されるカルボニル化合物と反応させることにより、化合物7を製造することができる。リチオ化に用いられるリチウム化合物としては、例えば、ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム等のアルキルリチウム化合物、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムテトラメチルピペリジド等のリチウムジアルキルアミド化合物が挙げられる。中でも、化合物4のうち、Gが-NHCOt-Buである化合物のリチオ化は、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン以下、TMEDAと記す。の存在下、ブチルリチウムを用いて行うことができる。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類が挙げられる。化合物41モルに対して、ブチルリチウムおよびTMEDAはそれぞれ通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。化合物4とブチルリチウムとの反応における反応温度は、通常-78°Cから30°Cの範囲であり、反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。該反応中間体と化合物17との反応における反応温度は、通常-78°Cから30°Cの範囲であり、反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、化合物7を単離することができる。7→1a本発明化合物1aは、化合物7を脱ヒドロキシ化することにより製造することができる。脱ヒドロキシ化の方法としては、例えば、接触水素還元反応などが挙げられる。接触水素還元反応は、溶媒および触媒の存在下、水素と反応させて行う。該反応に用いられる溶媒としては、例えば酢酸が挙げられる。また必要に応じて硫酸等の鉱酸を加えることができ、その場合のモル比は化合物71モルに対して、通常0.01モル~10モルである。該反応に用いられる触媒としては、例えば、パラジウム炭素等が挙げられる。該反応における、水素圧は通常1気圧から5気圧である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、ろ過によって触媒を除去した後、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1aを単離することができる。1a→1bさらに、本発明化合物1aとリチウムジイソプロピルアミド以下、LDAと記す。等の塩基とを反応させた後、Ry1-Lgで示される化合物と反応させることにより、本発明化合物1bを製造することもできる。製造法2本発明化合物のうち、QがQ2である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、E、G、nおよびmは前記と同じ意味を表し、X1は、ハロゲン原子を表す。本発明化合物1cは、式8で示されるフェノール化合物と、式9で示されるハロピリジン化合物とを、塩基、および、必要に応じて銅化合物の存在下反応させることにより製造することができる。1銅化合物を用いない場合:X1としては塩素原子またはフッ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げる。化合物81モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。化合物81モルに対して化合物9は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常20°Cから200°Cあるいは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1cを単離することができる。2銅化合物を用いる場合:X1としては臭素原子またはヨウ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げる。化合物81モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。銅化合物としては、銅粉末、酸化銅I、塩化銅I、臭化銅I、ヨウ化銅I等が挙げられる。化合物81モルに対して、銅化合物は通常0.01モル~10モルの割合で用いられる。化合物81モルに対して化合物9は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常50°Cから200°Cあるいは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1cを単離することができる。製造法3本発明化合物のうち、QがQ3である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、E、G、X1、nおよびmは前記と同じ意味を表し、X3は、臭素原子またはヨウ素原子を表し、y1は1または2を表す。1dの製造本発明化合物1dは、式10で示されるチオフェノール化合物と、式9で示されるハロピリジン化合物とを、塩基、および、必要に応じて銅化合物の存在下反応させるか、あるいは、式5bで示されるハロベンゼン化合物と、式11で示されるメルカプトピリジン化合物とを、塩基、および、銅化合物の存在下反応させることにより製造することができる。1銅化合物を用いない場合:X1としては塩素原子またはフッ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げる。化合物101モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。化合物101モルに対して化合物9は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常20°Cから200°Cあるいは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1dを単離することができる。2銅化合物を用いる場合:X1としては臭素原子またはヨウ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げられる。化合物10または化合物111モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。銅化合物としては、銅粉末、酸化銅I、塩化銅I、臭化銅I、ヨウ化銅I等が挙げられる。化合物10または化合物111モルに対して、銅化合物は通常0.01モル~10モルの割合で用いられる。化合物10または化合物111モルに対して、化合物9または化合物5bは通常1モル用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常50°Cから200°Cあるいは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1dを単離することができる。1d→1eさらに、本発明化合物1dを、過酸化水素、メタクロロ過安息香酸以下、mCPBAと記す。、過ヨウ素酸ナトリウム等の酸化剤と反応させることにより、本発明化合物1eを製造することもできる。製造法4本発明化合物のうち、QがQ4である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、E、G、Rz、X1、nおよびmは前記と同じ意味を表し、X4は、臭素原子、ヨウ素原子、またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。本発明化合物1fは、式12で示されるアニリン化合物と、式9で示されるハロピリジン化合物とを、塩基、および、必要に応じてパラジウム触媒の存在下反応させるか、あるいは、式5cで示される化合物と、式13で示されるアミノピリジン化合物とを、塩基、および、パラジウム触媒の存在下反応させることにより製造することができる。1パラジウム触媒を用いない場合:X1としては塩素原子またはフッ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、例えば、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。化合物121モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。化合物121モルに対して化合物9は通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常20°Cから、200°Cまたは溶媒の沸点の範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1fを単離することができる。2パラジウム触媒を用いる場合:X1としては臭素原子またはヨウ素原子が好ましい。該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、例えば、ナトリウムtertブトキシド、炭酸セシウム等が挙げられる。化合物12または化合物131モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。該反応において用いられるパラジウム触媒としては、たとえば、{1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセン}ジクロロパラジウム、およびトリスジベンジリデンアセトンジパラジウム以下、Pd23と記す。と4,5-ビス-9,9-ジメチルキサンテン以下、キサントホスと記す。との組み合わせ、等が挙げられる。化合物12または化合物131モルに対して、パラジウム触媒は通常0.01~0.2モルの割合で用いられる。化合物12または化合物131モルに対して化合物9または化合物5cは通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応における反応温度は、通常20°Cから100°Cの範囲である。該反応における反応時間は、通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1fを単離することができる。製造法5本発明化合物のうち、GがG2である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、E、Q、Rb、n、mおよびLgは前記と同じ意味を表し、Rb1は、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基を表し、Rb2は、OH基の保護基例えば、メチル基、メトキシメチル基、ベンジル基等を表す。1i→1j’本発明化合物1j’は、本発明化合物1iとRb1OHとを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。該反応は、通常溶媒の存在下で行われるが、Rb1OHを溶媒量用いてもよい。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応において用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げられる。本発明化合物1i1モルに対して、Rb1OHが通常1~10モルの割合、塩基が通常1~10モルの割合で用いられる。該反応の反応温度は、通常0°C~溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1j’を単離することができる。1l→1k本発明化合物1kは、本発明化合物1lを脱保護することにより製造することができる。保護基であるRb2としては、例えば、メチル基、メトキシメチル基およびベンジル基が挙げられ、当業者に公知の方法で脱保護することができる。1k→1j本発明化合物1jは、本発明化合物1kとRbLgとを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類等、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。本発明化合物1k1モルに対して、塩基は通常1モル~10モルの割合で用いられる。本発明化合物1k1モルに対して、RbLgは通常1モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。該反応の反応温度は、通常0°C~溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常0.1時間から24時間である。反応終了後は、反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1jを単離することができる。なお、本発明化合物1jは本発明化合物1j’を包含する。製造法6本発明化合物のうち、GがG3である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、E、Q、nおよびmは前記と同じ意味を表し、Rc1は、群γより選ばれる1個以上の原子もしくは基を有していてもよいC1-C6鎖式炭化水素基を表す。本発明化合物1mは、本発明化合物1iとRc1SHとを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert-ブトキシド等が挙げられる。本発明化合物1i1モルに対して、Rc1SHが通常1~10モルの割合、塩基が通常1~10モルの割合で用いられる。該反応の反応温度は通常0°C~溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常0.1~24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1mを単離することができる。この反応終了後、本発明化合物1mに対して、更に当業者に公知の酸化反応を行うことにより、本発明化合物1mにおける-SRc1を-Sz1Rc1この場合、z1は1または2を表すに変換することもできる。製造法7本発明化合物のうち、GがG4である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、E、Q、Rd、Re、n、mおよびLgは前記と同じ意味を表す1n→1o本発明化合物1oは、本発明化合物1nとRdLgとを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類等、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。本発明化合物1n1モルに対して、塩基は通常1モル~2モルの割合で用いられる。本発明化合物1n1モルに対して、RdLgが通常1モルの割合で用いられるが適宜変更することができる。該反応の反応温度は通常0°C~溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1oを単離することができる。1o→1pさらに、本発明化合物1oに対して、上記に準じる方法でReLgを反応させることにより、本発明化合物1pを製造することができる。また、RdまたはReが1級または2級アルキル基である場合には、上記の方法に代えて、本発明化合物1nまたは本発明化合物1oと、アルデヒドまたはケトン化合物とを還元剤の存在下反応させることにより、本発明化合物1oまたは本発明化合物1pを製造することもできる。該反応に用いられる還元剤としては、例えば、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムが挙げられる。本発明化合物1nまたは本発明化合物1o1モルに対して、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムは1~5モルの割合で用いられる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。また、必要に応じて酢酸等のカルボン酸類を加えて反応を行う。本発明化合物1nまたは本発明化合物1o1モルに対して、アルデヒドまたはケトン化合物は通常1モルの割合で用いられるが適宜変更することができる。該反応の反応温度は通常0°C~溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常0.1時間から24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1oまたは本発明化合物1pを単離することができる。製造法8本発明化合物のうち、mが1である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。式中、J、L、A、E、G、Qおよびnは前記と同じ意味を表す。本発明化合物1rは、本発明化合物1qを酸化剤と反応させることにより製造することができる。該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、酢酸、水及びこれらの混合物が挙げられる。該反応に用いられる酸化剤としては、例えば3-クロロ過安息香酸等のカルボン酸の過酸化物、過酸化水素水等が挙げられる。本発明化合物1q1モルに対して、酸化剤が通常1~3モルの割合で用いられる。該反応の反応温度は、通常-20~100°Cの範囲であり、反応時間は通常0.1~24時間の範囲である。反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物1rを単離することができる。本発明化合物が効力を有する有害生物としては、例えば、有害昆虫類や有害ダニ類等の有害節足動物、線形動物及び軟体動物が挙げられる。かかる有害生物としては、具体的には、例えば、以下のものが挙げられる。半翅目害虫:ヒメトビウンカLaodelphaxstriatellus、トビイロウンカNilaparvatalugens、セジロウンカSogatellafurcifera等のウンカ類、ツマグロヨコバイNephotettixcincticeps、タイワンツマグロヨコバイNephotettixvirescens、チャノミドリヒメヨコバイEmpoascaonukii等のヨコバイ類、ワタアブラムシAphisgossypii、モモアカアブラムシMyzuspersicae、ダイコンアブラムシBrevicorynebrassicae、ユキヤナギアブラムシAphisspiraecola、チューリップヒゲナガアブラムシMacrosiphumeuphorbiae、ジャガイモヒゲナガアブラムシAulacorthumsolani、ムギクビレアブラムシRhopalosiphumpadi、ミカンクロアブラムシToxopteracitricidus、モモコフキアブラムシHyalopteruspruni等のアブラムシ類、アオクサカメムシNezaraantennata、ホソヘリカメムシRiptortusclavetus、クモヘリカメムシLeptocorisachinensis、トゲシラホシカメムシEysarcorisparvus、クサギカメムシHalyomorphamista等のカメムシ類、オンシツコナジラミTrialeurodesvaporariorum、タバココナジラミBemisiatabaci、ミカンコナジラミDialeurodescitri、ミカントゲコナジラミAleurocanthusspiniferus等のコナジラミ類、アカマルカイガラムシAonidiellaaurantii、サンホーゼカイガラムシComstockaspisperniciosa、シトラススノースケールUnaspiscitri、ルビーロウムシCeroplastesrubens、イセリヤカイガラムシIceryapurchasi、フジコナカイガラムシPlanococcuskraunhiae、クワコナカイガラムシPseudococcuslongispinis、クワシロカイガラムシPseudaulacaspispentagona等のカイガラムシ類、グンバイムシ類、トコジラミCimexlectularius等のトコジラミ類、及びキジラミ類等。鱗翅目害虫:ニカメイガChilosuppressalis、サンカメイガTryporyzaincertulas、コブノメイガCnaphalocrocismedinalis、ワタノメイガNotarchaderogata、ノシメマダラメイガPlodiainterpunctella、アワノメイガOstriniafurnacalis、ハイマダラノメイガHellulaundalis、シバツトガPediasiateterrellus等のメイガ類、ハスモンヨトウSpodopteralitura、シロイチモジヨトウSpodopteraexigua、アワヨトウPseudaletiaseparata、ヨトウガMamestrabrassicae、タマナヤガAgrotisipsilon,タマナギンウワバPlusianigrisigna,トリコプルシア属、ヘリオティス属、ヘリコベルパ属等のヤガ類、モンシロチョウPierisrapae等のシロチョウ類、アドキソフィエス属、ナシヒメシンクイGrapholitamolesta、マメシンクイガLeguminivoraglycinivorella,アズキサヤムシガMatsumuraesesazukivora、リンゴコカクモンハマキAdoxophyesoranafasciata、チャノコカクモンハマキAdoxophyeshonmai.、チャハマキHomonamagnanima、ミダレカクモンハマキArchipsfuscocupreanus、コドリンガCydiapomonella等のハマキガ類、チャノホソガCaloptiliatheivora、キンモンホソガPhyllonorycterringoneellaのホソガ類、モモシンクイガCarposinaniponensis等のシンクイガ類、リオネティア属等のハモグリガ類、リマントリア属、ユープロクティス属等のドクガ類、コナガPlutellaxylostella等のスガ類、ワタアカミムシPectinophoragossypiellaジャガイモガPhthorimaeaoperculella等のキバガ類、アメリカシロヒトリHyphantriacunea等のヒトリガ類、及びイガTineatranslucens、コイガTineolabisselliella等のヒロズコガ類等。アザミウマ目害虫:ミカンキイロアザミウマFrankliniellaoccidentalis、ミナミキイロアザミウマThripsparmi、チャノキイロアザミウマScirtothripsdorsalis、ネギアザミウマThripstabaci、ヒラズハナアザミウマFrankliniellaintonsaなどのアザミウマ類等。双翅目害虫:アカイエカCulexpipienspallens、コガタアカイエカCulextritaeniorhynchus、ネッタイイエカCulexquinquefasciatus等のイエカ類、ネッタイシマカAedesaegypti、ヒトスジシマカAedesalbopictus等のエーデス属、シナハマダラカAnophelessinensis等のアノフェレス属、ユスリカ類、イエバエMuscadomestica、オオイエバエMuscinastabulans等のイエバエ類、クロバエ類、ニクバエ類、ヒメイエバエ類、タネバエDeliaplatura、タマネギバエDeliaantiqua等のハナバエ類、イネハモグリバエAgromyzaoryzae、イネヒメハモグリバエHydrelliagriseola、トマトハモグリバエ、Liriomyzasativae、マメハモグリバエLiriomyzatrifolii、ナモグリバエChromatomyiahorticola等のハモグリバエ類、イネキモグリバエChloropsoryzae等のキモグリバエ類、ウリミバエDacuscucurbitae、チチュウカイミバエCeratitiscapitata等のミバエ類、ショウジョウバエ類、オオキモンノミバエMegaseliaspiracularis等のノミバエ類、オオチョウバエClogmiaalbipunctata等のチョウバエ類、ブユ類、ウシアブTabanustrigonus等のアブ類、及びサシバエ類等。鞘翅目害虫:ウエスタンコーンルートワームDiabroticavirgiferavirgifera、サザンコーンルートワームDiabroticaundecimpunctatahowardi等のコーンルートワーム類、ドウガネブイブイAnomalacuprea、ヒメコガネAnomalarufocuprea、マメコガネPopilliajaponica等のコガネムシ類、メイズウィービルSitophiluszeamais、イネミズゾウムシLissorhoptrusoryzophilus、アズキゾウムシCallosobruchuyschienensis、イネゾウムシEchinocnemussquameus、ワタミゾウムシAnthonomusgrandis、シバオサゾウムシSphenophorusvenatus等のゾウムシ類、チャイロコメノゴミムシダマシTenebriomolitor、コクヌストモドキTriboliumcastaneum等のゴミムシダマシ類、イネドロオイムシOulemaoryzae、ウリハムシAulacophorafemoralis、キスジノミハムシPhyllotretastriolata、コロラドハムシLeptinotarsadecemlineata等のハムシ類、ヒメマルカツオブシムシAnthrenusverbasci、ハラジロカツオブシムシDermestesmaculates等のカツオブシムシ類、タバコシバンムシLasiodermaserricorne等のシバンムシ類、ニジュウヤホシテントウEpilachnavigintioctopunctata等のエピラクナ類、ヒラタキクイムシLyctusbrunneus、マツノキクイムシTomicuspiniperda等のキクイムシ類、ナガシンクイムシ類、ヒョウホンムシ類、ゴマダラカミキリAnoplophoramalasiaca等のカミキリムシ類、コメツキムシ類Agriotesspp.、及びアオバアリガタハネカクシPaederusfuscipes等。直翅目害虫:トノサマバッタLocustamigratoria、ケラGryllotalpaafricana、コバネイナゴOxyayezoensis、ハネナガイナゴOxyajaponica、及びコオロギ類等。隠翅目害虫:ネコノミCtenocephalidesfelis、イヌノミCtenocephalidescanis、ヒトノミPulexirritans、ケオプスネズミノミXenopsyllacheopis等。シラミ目害虫:コロモジラミPediculushumanuscorporis、ケジラミPhthiruspubis、ウシジラミHaematopinuseurysternus、ヒツジジラミDalmaliniaovis、ブタジラミHaematopinussuis等。膜翅目害虫:イエヒメアリMonomoriumpharaosis、クロヤマアリFormicafuscajaponica、ルリアリOchetellusglaber、アミメアリPristomyrmexpungens、オオズアリPheidolenoda、ハキリアリAcromyrmexspp.、ファイヤーアントSolenopsisspp.等のアリ類、スズメバチ類、アリガタバチ類、カブラハバチAthaliarosae、ニホンカブラバチAthaliajaponica等のハバチ類等。ゴキブリ目害虫:チャバネゴキブリBlattellagermanica、クロゴキブリPeriplanetafuliginosa、ワモンゴキブリPeriplanetaamericana、トビイロゴキブリPeriplanetabrunnea、トウヨウゴキブリBlattaorientalis等。シロアリ目害虫:ヤマトシロアリReticulitermessperatus、イエシロアリCoptotermesformosanus、アメリカカンザイシロアリIncisitermesminor、ダイコクシロアリCryptotermesdomesticus、タイワンシロアリOdontotermesformosanus、コウシュンシロアリNeotermeskoshunensis、サツマシロアリGlyptotermessatsumensis、ナカジマシロアリGlyptotermesnakajimai、カタンシロアリGlyptotermesfuscus、コダマシロアリGlyptotermeskodamai、クシモトシロアリGlyptotermeskushimensis、オオシロアリHodotermopsisjaponica、コウシュウイエシロアリCoptotermesguangzhoensis、アマミシロアリReticulitermesmiyatakei、キアシシロアリReticulitermesflavicepsamamianus、カンモンシロアリReticulitermessp.、タカサゴシロアリNasutitermestakasagoensis、ニトベシロアリPericapritermesnitobei、ムシャシロアリSinocapritermesmushae、Reticuliterumesflavipes、Reticulitermeshesperus、Reticulitermesvirginicus、Reticulitermestibialis、Heterotermesaureus、Zootermopsisnevadensis等。ダニ目害虫:ナミハダニTetranychusurticae、カンザワハダニTetranychuskanzawai、ミカンハダニPanonychuscitriリンゴハダニPanonychusulmi、オリゴニカス属等のハダニ類、ミカンサビダニAculopspelekassi、リュウキュウミカンサビダニPhyllocoptrutacitri、トマトサビダニAculopslycopersici、チャノサビダニCalacaruscarinatus、チャノナガサビダニAcaphyllatheavagrans、ニセナシサビダニEriophyeschibaensis、リンゴサビダニAculusschlechtendali等のフシダニ類、チャノホコリダニPolyphagotarsonemuslatus等のホコリダニ類、ミナミヒメハダニBrevipalpusphoenicis等のヒメハダニ類、ケナガハダニ類、フタトゲチマダニHaemaphysalislongicornis、ヤマトチマダニHaemaphysalisflava、タイワンカクマダニDermacentortaiwanicus、ヤマトマダニIxodesovatus、シュルツマダニIxodespersulcatus、ブラックレッグドチックIxodesscapularis、オウシマダニBoophilusmicroplus、クリイロコイタマダニRhipicephalussanguineus等のマダニ類、ケナガコナダニTyrophagusputrescentiae、ホウレンソウケナガコナダニTyrophagussimilis等のコナダニ類、コナヒョウヒダニDermatophagoidesfarinae、ヤケヒョウヒダニDermatophagoidesptrenyssnus等のヒョウヒダニ類、ホソツメダニCheyletuseruditus、クワガタツメダニCheyletusmalaccensis、ミナミツメダニCheyletusmoorei等のツメダニ類、イエダニOrnithonyssusbacoti、トリサシダニOrnithonyssussylvairum、ワクモDermanyssusgallinae等のワクモ類、アオツツガムシLeptotrombidiumakamushi等のツツガムシ類、及びカバキコマチグモChiracanthiumjaponicum、セアカゴケグモLatrodectushasseltii等のクモ類等。唇脚綱類:ゲジThereuonemahilgendorfi、トビズムカデScolopendrasubspinipes等。倍脚綱類:ヤケヤスデOxidusgracilis、アカヤスデNedyopustambanus等。等脚目類:オカダンゴムシArmadillidiumvulgare等。腹足綱類:チャコウラナメクジLimaxmarginatus、キイロコウラナメクジLimaxflavus等。線虫類:イネシンガレセンチュウAphelenchoidesbesseyi、イチゴメセンチュウNothotylenchusacris、サツマイモネコブセンチュウMeloidogyneincognita、キタネコブセンチュウMeloidogynehapla、ジャワネコブセンチュウMeloidogynejavanica、ダイズシストセンチュウHeteroderaglycines、ジャガイモシストセンチュウGloboderarostochiensis、ミナミネグサレセンチュウPratylenchuscoffeae、ムギネグサレセンチュウPratylenchusneglectus等。本発明の有害生物防除剤は、本発明化合物と不活性担体とを含有する。本発明の有害生物防除剤は、通常、本発明化合物と固体担体、液体担体、ガス状担体等の不活性担体とを混合し、必要に応じて界面活性剤、その他の製剤用補助剤を添加して、乳剤、油剤、粉剤、粒剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル剤、エアゾール剤、燻煙剤、毒餌剤、樹脂製剤等に製剤化されている。本発明の有害生物防除剤は、本発明化合物を通常0.01~95重量含有する。製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等、合成含水酸化珪素、タルク、セラミック、その他の無機鉱物セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等、化学肥料硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等等の微粉末及び粒状物等があげられる。液体担体としては、例えば水、アルコール類メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、フェノキシエタノール等、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等、芳香族炭化水素類トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ドデシルベンゼン、フェニルキシリルエタン、メチルナフタレン等、脂肪族炭化水素類ヘキサン、シクロヘキサン、灯油、軽油等、エステル類酢酸エチル、酢酸ブチル、ミリスチン酸イソプロピル、オレイン酸エチル、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジイソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等、ニトリル類アセトニトリル、イソブチロニトリル等、エーテル類ジイソプロピルエーテル、1,4-ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノール等、酸アミド類N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等、ハロゲン化炭化水素類ジクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素等、スルホキシド類ジメチルスルホキシド等、炭酸プロピレン及び植物油大豆油、綿実油等が挙げられる。ガス状担体としては、例えばフルオロカーボン、ブタンガス、LPG液化石油ガス、ジメチルエーテル及び炭酸ガスが挙げられる。界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤、及びアルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等の陰イオン界面活性剤が挙げられる。その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤、着色剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、糖類でんぷん、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等、リグニン誘導体、ベントナイト、合成水溶性高分子ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等、PAP酸性リン酸イソプロピル、BHT2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール、BHA2-tert-ブチル-4-メトキシフェノールと3-tert-ブチル-4-メトキシフェノールとの混合物が挙げられる。本発明の有害生物防除方法は、本発明化合物の有効量を有害生物に直接、及び/又は、有害生物の生息場所植物体、土壌、家屋内、動物体等に施用することにより行われる。本発明の有害生物防除方法には、本発明化合物が通常本発明の有害生物防除剤の形態で用いられる。本発明の有害生物防除剤を農業分野の有害生物防除に用いる場合、その施用量は10000m2あたりの本発明化合物量で1~10000gである。本発明の有害生物防除剤が乳剤、水和剤、フロアブル剤等に製剤化されている場合は、通常、有効成分濃度が0.01~10000ppmとなるように水で希釈して施用し、粒剤、粉剤等は、通常、そのまま施用する。これらの製剤や製剤の水希釈液は、有害生物または有害生物から保護すべき作物等の植物に直接散布処理してもよく、また耕作地の土壌に生息する有害生物を防除するために、該土壌に処理してもよい。また、シート状やひも状に加工した樹脂製剤を作物に巻き付ける、作物近傍に張り渡す、株元土壌に敷く等の方法により処理することもできる。本発明の有害生物防除剤を家屋内に生息する有害生物の防除に用いる場合、その施用量は、面上に処理する場合は処理面積1m2あたりの本発明化合物量で、通常、0.01~1000mgであり、空間に処理する場合は処理空間1m3あたりの本発明化合物量で、通常、0.01~500mgである。本発明の有害生物防除剤が乳剤、水和剤、フロアブル剤等に製剤化されている場合は、通常有効成分濃度が0.1~1000ppmとなるように水で希釈して施用し、油剤、エアゾール剤、燻煙剤、毒餌剤等はそのまま施用する。本発明の有害生物防除剤は、下記作物が栽培されている農地で使用することができる。農作物:トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等。野菜;ナス科野菜ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等、ウリ科野菜キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等、アブラナ科野菜ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等、キク科野菜ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等、ユリ科野菜ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス、セリ科野菜ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等、アカザ科野菜ホウレンソウ、フダンソウ等、シソ科野菜シソ、ミント、バジル等、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等。果樹:仁果類リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等、核果類モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等、カンキツ類ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等、堅果類クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等、液果類ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。果樹以外の樹木:チャ、クワ、花木類サツキ、ツバキ、アジサイ、サザンカ、シキミ、サクラ、ユリノキ、サルスベリ、キンモクセイ等、街路樹トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ、カナメモチ、等。芝生:シバ類ノシバ、コウライシバ等、バミューダグラス類ギョウギシバ等、ベントグラス類コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等、ブルーグラス類ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等、フェスク類オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等、ライグラス類ネズミムギ、ホソムギ等、カモガヤ、オオアワガエリ等。その他:花卉類バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、シンビジューム、ベゴニア等、バイオ燃料植物ヤトロファ、クルカス、ベニバナ、アマナズナ類、スイッチグラス、ミスカンサス、クサヨシ、ダンチク、ケナフ、キャッサバ、ヤナギ、藻類等、観葉植物等。作物には、遺伝子組換え作物も含まれる。本発明の有害生物防除剤は、他の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物成長調節剤、除草剤及び共力剤と混用又は併用することができる。かかる殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物成長調節剤、除草剤及び共力剤の有効成分の例を以下に示す。殺虫剤の有効成分1カーバメート系化合物アラニカルブAlanycarb、アルジカルブAldicarb、ベンダイオカルブBendiocarb、ベンフラカルブBenfuracarb、ブトカルボキシムButocarboxim、ブトキシカルボキシムButoxycarboxim、カルバリルCarbaryl=NAC、カルボフランCarbofuran、カルボスルファンCarbosulfan、クロエトカルブCloethocarb、エチオフェンカルブEthiofencarb、フェノブカルブFenobucarb=BPMC、フェノチオカルブFenothiocarb、フォルメタネートFormetanate、フラチオカルブFurathiocarb、イソプロカルブIsoprocarb=MIPC、メチオカルブMethiocarb、メソミルMethomyl、メトルカルブMetolcarb、オキサミルOxamyl、ピリミカーブPirimicarb、プロポキスルPropoxur:PHC、チオジカルブThiodicarb、チオファノクスThiofanox、トリアザメートTriazamate、トリメサカルブTrimethacarb、XMC、及びキシリルカルブXylylcarb。2有機リン系化合物アセフェートAcephate、アザメチホスAzamethiphos、アジンホスエチルAzinphos-ethyl、アジンホスメチルAzinphos-methyl、カズサホスCadusafos、クロルエトキシホスChlorethoxyfos、クロルフェンビンホスCh1orfenvinphos、クロルメフォスChlormephos、クロルピリホスChlorpyrifos、クロルピリホスメチルChlorpyrifos-methyl、クマフォスCoumaphos、シアノホスCyanophos=CYAP、デメトン-S-メチルDemeton-S-methyl、ダイアジノンDiazinon、ジクロルボスDichlorvos=DDVP、ジクロトホスDicrotophos、ジメトエートDimethoate、ジメチルビンホスDimethylvinphos、ジスルホトンDisulfoton、EPN、エチオンEthion、エトプロホスEthoprophos、エトリムホスEtrimfos、ファムファーFamphur、フェナミホスFenamiphos、フエニトロチオンFenitrothion=MEP、フェンチオンFenthion=MPP、ホスチアゼートFosthiazate、ヘプテノホスHeptenophos、イミサイホスImicyfos、イソフェンホスIsofenphos、IsopropylO-methoxyaminothio-phosphorylsalicylate、イソキサチオンIsoxathion、マラチオンMalathion、メカルバムMecarbam、メスルフェンホスMesulfenfos、メタミドホスMethamidophos、メチダチオンMethidathion=DMTP、メビンホスMevinphos、モノクロトホスMonocrotophos、ナレッドNaled:BRP、オメトエートOmethoate、オキシデメトンメチルOxydemeton-methyl、パラチオンParathion、メチルパラチオンParathion-methyl、フェントエートPhenthoate=PAP、フォレートPhorate、ホサロンPhosalone、ホスメットPhosmet=PMP、フォスファミドンPhosphamidon、ホキシムPhoxim、ピリミホスメチルPirimiphos-methy1、プロフェノホスProfenofos、プロペタムホスPropetamphos、プロチオホスProthiofos、ピラクロホスPyraclorfos、ピリダフェンチオンPyridafenthion、キナルホスQuinalphos、スルフォテップSulfotep、テブピリムホスTebupirimfos、テメホスTemephos、テルブホスTerbufos、テトラクロルビンホスTetrach1orvinphos、チオメトンThiometon、トリアゾホスTriazophos、トリクロルホンTrichlorphon=DEP、バミドチオンVamidothion、リン化アルミニウムAluminiumphosphide、ブタチオホスButathiofos、DCIPDichlorodiisopropylether、ジクロフェンチオンDichlofenthion=ECP、ホルモチオンFormothion、リン化水素Hydrogenphosphide、オキシデプロホスOxydeprofos=ESP、プロパホスPropaphos、サリチオンSalithion、及びスルプロホスSulprofos。3ピレスロイド化合物アクリナトリンAcrinathrin、アレスリンAllethrin、ベンフルスリンBenfluthrin、ベータ-シフルトリンBeta-Cyfluthrin、ビフェントリンBifenthrin、シクロプロトリンCycloprothrin、シフルトリンCyfluthrin、シハロトリンCyhalothrin、シペルメトリンCypermethrin、デルタメトリンDeltamethrin、エスフェンバレレートEsfenvalerate、エトフェンプロックスEthofenprox、フェンプロパトリンFenpropathrin、フェンバレレートFenvalerate、フルシトリネートFlucythrinate、フルフェンプロックスFlufenoprox、フルメスリンFlumethrin、フルバリネートFluvalinate、ハルフェンプロックスHalfenprox、イミプロトリンImiprothrin、ペルメトリンPermethrin、プラレトリンPrallethrin、ピレトリンPyrethrins、レスメトリンResmethrin、シグマ-サイパーメスリンsigma-Cypermethrin、シラフルオフェンSilafluofen、テフルトリンTefluthrin、トラロメトリンTralomethrin、トランスフルトリンTransfluthrin、テトラメトリンTetramethrin、フェノトリンPhenothrin、シフェノトリンCyphenothrin、アルファシペルメトリンalpha-Cypermethrin、ゼータシペルメトリンzeta-Cypermethrin、ラムダシハロトリンlambda-Cyhalothrin、ガンマシハロトリンgamma-Cyhalothrin、フラメトリンFuramethrin、タウフルバリネートtau-Fluvalinate、メトフルトリンMetofluthrin、プロフルトリンProfluthrin、ジメフルトリンDimefluthrin、プロトリフェンビュートProtrifenbute、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メトキシメチルベンジルEZ-1RS,3RS;1RS,3SR-2,2-ジメチル-3-プロプ-1-エニルシクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メチルベンジルEZ-1RS,3RS;1RS,3SR-2,2-ジメチル-3-プロプ-1-エニルシクロプロパンカルボキシレート、及び2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メトキシメチルベンジル1RS,3RS;1RS,3SR-2,2-ジメチル-3-2-メチル-1-プロペニルシクロプロパンカルボキシレート等。4ネライストキシン化合物カルタップCartap、ベンスルタップBensu1tap、チオシクラムThiocyclam、チオスルタップThisultap、モノスルタップMonosultap、及びビスルタップBisultap。5ネオニコチノイド化合物イミダクロプリドImidac1oprid、ニテンピラムNitenpyram、アセタミプリドAcetamiprid、チアメトキサムThiamethoxam、チアクロプリドThiacloprid、ジノテフランDinotefuran、及びクロチアニジンClothianidin。6ベンゾイル尿素化合物ビストリフルロンBistrifluron、クロルフルアズロンChlorfluazuron、ジフルベンズロンDiflubenzuron、フルシクロクスロンFlucycloxuron、フルフェノクスロンFlufenoxuron、ヘキサフルムロンHexaflumuron、ルフェヌロンLufenuron、ノバルロンNovaluron、ノビフルムロンNoviflumuron、テフルベンズロンTeflubenzuron、トリフルムロンTriflumuron、及びフルアズロンfluazuron。7フェニルピラゾール化合物アセトプロールAcetoprole、エチプロールEthiprole、フィプロニルFiproni1、バニリプロールVaniliprole、ピリプロールPyriprole、及びピラフルプロールPyrafluprole。8Btトキシン殺虫剤バチルスチューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物。9ヒドラジン化合物クロマフェノジドChromafenozide、ハロフェノジドHalofenozide、メトキシフェノジドMethoxyfenozide、及びテブフェノジドTebufenozide。10有機塩素化合物アルドリンAldrin、ディルドリンDieldrin、ジエノクロルDienochlor、エンドスルファンEndosulfan、メトキシクロルMethoxychlor、クロルデンChlordane、及びDDT。11その他の殺虫剤有効成分マシン油Machineoil、硫酸ニコチンNicotine-sulfate、ニコチンNicotine、アバメクチンAbamectin、エマメクチン安息香酸塩Emamectin-benzoate、ミルベメクチンMilbemectin、レピメクチンLepimectin、スピノサッドSpinosad、スピネトラムSpinetoram、インドキサカルブIndoxacarb、メタフルミゾンMetaflumizone、ブプロフェジンBuprofezin、シロマジンCyromazine、ハイドロプレンHydroprene、メトプレンMethoprene、キノプレンKinoprene、ピリプロキシフェンPyriproxyfen、フェノキシカルブFenoxycarb、クロルフェナピルChlorphenapyr、DNOC、ジアフェンチウロンDiafenthiuron、ピメトロジンPymetrozine、フロニカミドFlonicamid、ピリフルキナゾンPyrifluquinazone、ピリダリルPyridalyl、トルフェンピラドTolfenpyrad、フルリムフェンFlurimfen、フルフェネリムFlufenerim、スピロテトラマットSpirotetramat、スピロメシフェンSpiromesifen、スルフォキサフロールsulfoxaflor、クロラントラニリプロールChlorantraniliprole、シアントラニリプロールCyantraniliprole、フルベンジアミドFlubendiamide、下記式K式中、R100は塩素原子、臭素原子またはトリフルオロメチル基を表し、R200は塩素原子、臭素原子またはメチル基を表し、R300は塩素原子、臭素原子またはシアノ基を表す。で示される化合物、下記式L式中、R1000は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。で示される化合物、メトキサジアゾンMetoxadiazone、スルフラミドSulfluramid、亜ヒ酸Arsenicacid、ベンクロチアズBenclothiaz、石灰窒素Calciumcyanamide、石灰硫黄合剤Calciumpolysulfide、メタムアンモニウムMetam-ammonium、メタムナトリウムMetam-sodium、オレイン酸カリウムPotassiumoleate、硫黄Sulfur、及びトラロピリルTralopyril。殺ダニ剤の有効成分アセキノシルAcequinocyl、アミトラズAmitraz、ベンゾキシメートBenzoximate、ビフェナゼートBifenaate、ブロモプロピレートBromopropylate、キノメチオネートChinomethionat、クロルベンジレートChlorobenzilate、CPCBSChlorfenson、クロフェンテジンClofentezine、シフルメトフェンCyflumetofen、ジコホルDicofol、エトキサゾールEtoxazole、フェナザキンFenazaquin、酸化フェンブタスズFenbutatinoxide、フェノチオカルブFenothiocarb、フェンピロキシメートFenpyroximate、フルアクリピリムFluacrypyrim、ヘキシチアゾクスHexythiazox、プロパルギットPropargite=BPPS、ポリナクチン複合体Polynactins、ピリダベンPyridaben、ピリミジフェンPyrimidifen、テブフェンピラドTebufenpyrad、テトラジホンTetradifon、スピロジクロフェンSpirodiclofen、アミドフルメットAmidoflumet、及びシエノピラフェンcyenopyrafen。殺線虫剤の有効成分臭化メチルMethylbromide、D-D1,3-Dichloropropene、DCIP、フォスチアゼートFosthiazate、塩酸レバミゾールLevamisol、メチルイソチオシアネートMethyisothiocyanate、酒石酸モランテルMoranteltartarate、及びイミシアホスImicyafos。殺菌剤の有効成分アザコナゾールAzaconazole、ビテルタノールBitertanol、ブロムコナゾールBromuconazole、シプロコナゾールCyproconazole、ジフェノコナゾールDifenoconazole、ジニコナゾールMDiniconazole-M、エポキシコナゾールEpoxiconazole、フェナリモルFenarimolフェンブコナゾールFenbuconazole、フルシラゾールFlusilazole、フルキンコナゾールFluquinconazole、フルトリアホールFlutriafol、ヘキサコナゾールHexaconazole、イマザリルImazalil、イミベンコナゾールImibenconazole、イプコナゾールIpconazole、メトコナゾールMetconazole、ミクロブタニルMyclobutanil、ヌアリモルNuarimol、オキスポコナゾールOxpoconazole、ペフラゾエートPefurazoate、ペンコナゾールPenconazole、プロクロラズProchloraz、プロピコナゾールPropiconazole、プロチオコナゾールProthioconazole、ピリフェノクスPyrifenox、シメコナゾールSimeconazole、テブコナゾールTebuconazole、テトラコナゾールTetraconazole、トリアジメホンTriadimefon、トリアジメノールTriadimenol、トリフルミゾールTriflumizole、トリホリンTrifolin、トリティコナゾールTriticonazole、アルジモルフAldimorph、ドデモルフDodemorph、フェンプロピモルフFenpropimorph、トリデモルフTridemorph、フェンプロピジンFenpropidin、ピペラリンPiperalin、スピロキサミンSpiroxamine、フェンヘキサミドFenhexamide、ピリブチカルブPyributicarb、ナフチフィンNaphtifine、テルビナフィンTerbinafine等のステロール生合成阻害化合物;ベノミルBenomyl、カルベンダジムCarbendezim、フベリダゾールFuberidazole、チアベンダゾールThiabendazole、チオファネートThiphanate、チオファネートメチルthiophanate-methyl、ジエトフェンカルブDiethofencarb、ゾキサミドZoxamideペンシクロンPencycuron、フルオピコリドFluopicolide等の細胞分裂阻害殺菌化合物;クロゾリネートChlozolinate、イプロジオンIprodione、プロシミドンProcymidone、ビンクロゾリンVinclozolin、キノキシフェンQuinoxyfen、プロキナジドProquinazid、フェンピクロニルFenpiclonil、フルジオキソニルFludioxonil等のシグナル伝達系阻害殺菌化合物;シプロジニルcyprodinil、ピリメタニルpyrimethanil、メパニピリムMepanipyrim等のアミノ酸生合成阻害殺菌化合物;メタラキシルMetalaxyl、ベナラキシルBenalaxyl、オキソリニック酸Oxolinicacid等の核酸生合成阻害殺菌化合物;イソプロチオランIsoprothiolane、イプロベンホスIprobenfos、トルクロホスメチルTolclofos-methyl、プロチオカルブProthiocarb、ジメトモルフDimethomorph、ベンチアバリカルブイソプロピルBenthiavalicarb-isopropyl、イプロバリカルブIprovalicarb、マンジプロパミドMandipropamid等の脂質膜合成阻害殺菌化合物;ジクロシメットDiclocymet、カルプロパミドCarpropamid、フェノキサニルFenoxanil、フサライドFthalide、トリシクラゾールTricyclazole、ピロキロンPyroquilon等のメラニン生合成阻害殺菌化合物;アゾキシストロビンAzoxystrobin、ジモキシストロビンDimoxystrobin、エネストロビンEnestrobin、フルオキサストロビンFluoxastrobin、クレソキシムメチルKresoxim-methyl、メトミノストロビンMetominostrobin、オリサストロビンOrysastrobin、ピコキシストロビンPicoxystrobin、ピラクロストロビンPyraclostrobin、ピリベンカルブPyribencarbトリフロキシストロビンTrifloxystrobin等のストロビルリン殺菌化合物;カルボキシンCarboxin、オキシカルボキシンOxycarboxin、メプロニルMepronil、フルトラニルFlutoranil、フラメトピルFurametopyr、チフルザミドThifluzamide、ボスカリドBoscalid、ペンチオピラドPenthiopyrad、フルオピラムFluopyram、ビキサフェンBixafen、イソピラザムIsopyrazam、ペンフルフェンPenflufen、セダキサンSedaxan、フルキサピロキサドFluxapyroxad等のアニリド系殺菌化合物;アシベンゾラールSメチルAcibenzolar-S-methyl、プロベナゾールProbenazole、チアジニルTiadinil、イソチアニルIsotianil等の抵抗性誘導化合物;バリダマイシンAValidamycinA、ポリオキシンBPolyoxinB等のグルカン合成阻害殺菌化合物;ブラストサイジンSBlastcidin-S、カスガマイシンKasugamycin、ストレプトマイシンStreptomycin等のタンパク質生合成阻害殺菌化合物;チウラムThiuram、マンコゼブMancozeb、クロロタロニルChlorothalonil、キャプタンCaptan、ジクロフルアニドDichlofluanid、フォルペットFolpet、イミノクタジンIminoctadine、ジラムZiram等のマルチサイト接触活性の殺菌化合物;アミスルブロムAmisulbrom;シアゾファミドCyazofamid;フェリムゾンFerimzone;フルアジナムFluazinam;ビナパクリルBinapacryl;ジノカップDinocap;ファモキサドンFamoxadone;フェナミドンFenamidone;エタボキサムEthaboxam;メトラフェノンMetrafenone;シフルフェナミドCyflufenamid等。除草剤の有効成分1フェノキシ脂肪酸除草性化合物2,4-PA、MCP、MCPB、フェノチオールPhenothio1、メコプロップMecoprop、フルロキシピルFluroxypyr、トリクロピルTriclopyr、クロメプロップClomeprop、及びナプロアニリドNaproanilide。2安息香酸除草性化合物2,3,6-TBA、ジカンバDicamba、クロピラリドClopyralid、ピクロラムPicloram、アミノピラリドAminopyralid、キンクロラックQuinclorac、及びキンメラックQuinmerac。3尿素除草性化合物ジウロンDiuron、リニュロンLinuron、クロルトルロンChlortoluron、イソプロツロンIsoproturon、フルオメツロンFluometuron、イソウロンIsouron、テブチウロンTebuthiuron、メタベンズチアズロンMethabenzthiazuron、クミルロンCumy1uron、ダイムロンDaimuron、及びメチルダイムロンMethyl-daimuron。4トリアジン除草性化合物アトラジンAtrazine、アメトリンAmetoryn、シアナジンCyanazine、シマジンSimazine、プロパジンPropazine、シメトリンSimetryn、ジメタメトリンDimethametryn、プロメトリンPrometryn、メトリブジンMetribuzin、トリアジフラムTriaziflam、及びインダジフラムIndaziflam。5ビピリジニウム除草性化合物パラコートParaquat、及びジクワットDiquat。6ヒドロキシベンゾニトリル除草性化合物ブロモキシニルBromoxynil、及びアイオキシニルIoxynil。7ジニトロアニリン除草性化合物ペンディメタリンPendimethalin、プロジアミンProdiamine、及びトリフルラリンTrifluralin。8有機リン除草性化合物アミプロホスメチルAmiprofos-methyl、ブタミホスButamifos、ベンスリドBensu1ide、ピペロホスPiperophos、アニロホスAnilofos、グリホサートGlyphosate、グルホシネートGlufosinate、グルホシネート-PGlufosinate-P、及びビアラホスBialaphos。9カーバメート除草性化合物ジアレートDi-allate、トリアレートTri-allate、EPTC、ブチレートButylate、ベンチオカーブBenthiocarb、エスプロカルブEsprocarb、モリネートMolinate、ジメピペレートDimepiperate、スエップSwep、クロルプロファムChlorpropham、フェンメディファムPhenmedipham、フェニソファムPhenisopham、ピリブチカルブPyributicarb、及びアシュラムAsulam。10酸アミド除草性化合物プロパニルPropanil、プロピザミドPropyzamide、ブロモブチドBromobutide、及びエトベンザニドEtobenzanid。11クロロアセトアニリド除草性化合物アセトクロールAcetochlor、アラクロールAlachlor、ブタクロールButachlor、ジメテナミドDimethenamid、プロパクロールPropachlor、メタザクロールMetazachlor、メトラクロールMetolachlor、プレチラクロールPretilachlor、テニルクロールTheny1ch1or、及びペトキサミドPethoxamid。12ジフェニルエーテル除草性化合物アシフルオルフェンAcifluorfen-sodium、ビフェノックスBifenox、オキシフルオルフェンOxyfluorfen、ラクトフェンLactofen、フォメサフェンFomesafen、クロメトキシニルChlomethoxyni1、及びアクロニフェンAclonifen。13環状イミド除草性化合物オキサジアゾンOxadiazon、シニドンエチルCinidon-ethyl、カルフェントラゾンエチルCarfentrazone-ethyl、スルフェントラゾンSurfentrazone、フルミクロラックペンチルFlumiclorac-pentyl、フルミオキサジンFlumioxazin、ピラフルフェンエチルPyraflufen-ethyl、オキサジアルギルOxadiargy1、ペントキサゾンPentoxazone、フルチアセットメチルFluthiacet-methyl、ブタフェナシルButafenacil、ベンズフェンジゾンBenzfendizone、ベンカルバゾンBencarbazone、及びサフルフェナシルSaflufenacil。14ピラゾール除草性化合物ベンゾフェナップBenzofenap、ピラゾレートPyrazo1ate、ピラゾキシフェンPyrazoxyfen、トプラメゾンTopramezone、及びピラスルホトールPyrasulfotole。15トリケトン除草性化合物イソキサフルトールIsoxaflutole、ベンゾビシクロンBenzobicyclon、スルコトリオンSulcotrione、メソトリオンMesotrione、テンボトリオンTembotrione、及びテフリルトリオンTefuryltrione。16アリールオキシフェノキシプロピオン酸除草性化合物クロジナホッププロパルギルClodinafop-propargyl、シハロホップブチルCyhalofop-butyl、ジクロホップメチルDiclofop-methyl、フェノキサプロップエチルFenoxaprop-ethyl、フルアジホップブチルFluazifop-butyl、ハロキシホップメチルHaloxyfop-methyl、キザロホップエチルQuizalofop-ethyl、及びメタミホップMetamifop。17トリオンオキシム除草性化合物アロキシジムAlloxydim-sodium、セトキシジムSethoxydim、ブトロキシジムButroxydim、クレソジムClethodim、クロプロキシジムCloproxydim、シクロキシジムCycloxydim、テプラロキシジムTepraloxydim、トラルコキシジムTralkoxydim、及びプロフォキシジムProfoxydim。18スルホニル尿素除草性化合物クロルスルフロンChlorsulfuron、スルホメツロンメチルSulfometuron-methyl、メトスルフロンメチルMetsu1furon-methy1、クロリムロンエチルChlorimuron-ethyl、トリベニュロンメチルTribenuron-methyl、トリアスルフロンTriasulfuron、ベンスルフロンメチルBensulfuron-methy1、チフェンスルフロンメチルThifensulfuron-methyl、ピラゾスルフロンエチルPyrazosulfuron-ethy1、プリミスルフロンメチルPrimisulfuron-methyl、ニコスルフロンNicosulfuron、アミドスルフロンAmidosulfuron、シノスルフロンCinosulfuron、イマゾスルフロンImazosulfuron、リムスルフロンRimsulfuron、ハロスルフロンメチルHa1osulfuron-methy1、プロスルフロンProsulfuron、エタメトスルフロンメチルEthametsulfuron-methyl、トリフルスルフロンメチルTriflusulfuron-methyl、フラザスルフロンFlazasulfuron、シクロスルファムロンCyc1osulfamuron、フルピルスルフロンFlupyrsulfuron、スルホスルフロンSulfosu1furon、アジムスルフロンAzimsulfuron、エトキシスルフロンEthoxysulfuron、オキサスルフロンOxasulfuron、ヨードスルフロンメチルナトリウムIodosulfuron-methyl-sodium、フォラムスルフロンForamsulfuron、メソスルフロンメチルMesosulfuron-methyl、トリフロキシスルフロンTrifloxysulfuron、トリトスルフロンTritosulfuron、オルソスルファムロンorthosulfamuron,フルセトスルフロンFlucetosulfuron、及びプロピリスルフロンPropyrisulfuron。19イミダゾリノン除草性化合物イマザメタベンズメチルImazamethabenz-methyl、イマザメタピルImazamethapyr、イマザモックスImazamox、イマザピルImazapyr、イマザキンImazaquin、イマゼタピルImazethapyr等。20スルホンアミド除草性化合物フルメトスラムFlumetsulam、メトスラムMetosulam、ジクロスラムDiclosulam、フロラスラムFlorasulam、クロランスラムメチルCloransulam-methyl、ペノキススラムPenoxsulam、及びピロキススラムPyroxsulam。21ピリミジニルオキシ安息香酸除草性化合物ピリチオバックナトリウムPyrithiobac-sodium、ビスピリバックナトリウムBispyribac-sodium、ピリミノバックメチルPyriminobac-methy1、ピリベンゾキシムPyribenzoxim、ピリフタリドPyriftalid、及びピリミスルファンPyrimisulfan。22その他の除草性化合物ベンタゾンBentazon、ブロマシルBromacil、ターバシルTerbacil、クロルチアミドChlorthiamid、イソキサベンIsoxaben、ジノセブDinoseb、アミトロールAmitrole、シンメチリンCinmethylin、トリジファンTridiphane、ダラポンDa1apon、ジフルフェンゾピルナトリウムDiflufenzopyr-sodium、ジチオピルDithiopyr、チアゾピルThiazopyr、フルカルバゾンナトリウムFlucarbazone-sodium、プロポキシカルバゾンナトリウムPropoxycarbazone-sodium、メフェナセットMefenacet、フルフェナセットFlufenacet、フェントラザミドFentrazamide、カフェンストロールCafenstrole、インダノファンIndanofan、オキサジクロメホンOxaziclomefone、ベンフレセートBenfuresate、ACN、ピリデートPyridate、クロリダゾンChloridazon、ノルフルラゾンNorflurazon、フルルタモンFlurtamone、ジフルフェニカンDiflufenican、ピコリナフェンPicolinafen、ベフルブタミドBeflubutamid、クロマゾンClomazone、アミカルバゾンAmicarbazone、ピノキサデンPinoxaden、ピラクロニルPyraclonil、ピロキサスルホンPyroxasulfone、チエンカルバゾンメチルThiencarbazone-methyl、アミノシクロピラクロールAminocyclopyrachlor、イプフェンカルバゾンIpfencarbazone、及びメチオゾリンMethiozolin。共力剤の有効成分ピペロニルブトキサイドPiperonylbutoxide、セサメックスSesamex、スルホキシドSulfoxide、N-2-エチルへキシル-8,9,10-トリノルボルン-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドMGK264、N-デクリイミダゾールN-Declyimidazole、WARF-アンチレジスタントWARF-antiresistant、TBPT、TPP、IBP、PSCP、ヨウ化メチルCH3I、t-フェニルブテノンt-Phenylbutenone、ジエチルマレエートDiethylmaleate、DMC、FDMC、ETP、及びETN。上記の混用または併用できる有効成分のうち、特に好ましい例として、カルタップ塩酸塩、フィプロニル、メトキシフェノジド、テブフェノジド、クロチアニジン、スピノサド、スピネトラム、クロラントラニリプロールあるいはシアントラニリプロールなどの殺虫剤の有効成分、ジクロシメット、フサライド、トリシクラゾール、ピロキロン、アゾキシストロビン、メトミノストロビン、オリサストロビン、フルトラニル、フラメトピル、チフルザミド、プロベナゾール、チアジニル、イソチアニル、バリダマイシン,カスガマイシンあるいはフェリムゾンなどの殺菌剤の有効成分が挙げられる。以下、製造例、製剤例、試験例等により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。まず、本発明化合物の製造例を以下に示す。製造例11-ブロモ-4-tert-ブチルベンゼン1.07gとテトラヒドロフラン5mlとの混合物に、-70°Cで、n-ブチルリチウム1.6Mのヘキサン溶液3.13mlを滴下した。次に、-70°Cで、4-アセチルピリジン0.61gとテトラヒドロフラン1mlとの混合物を滴下した。-70°Cで30分間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を反応液に注加し、室温まで昇温した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をヘキサンおよびメチルtert-ブチルエーテルの1:1の混合液で洗浄し、1-4-tert-ブチルフェニル-1-ピリジン-4-イルエタノール0.89gを得た。1-4-tert-ブチルフェニル-1-ピリジン-4-イルエタノール1HNMRδ1301932507317368511-4-tert-ブチルフェニル-1-ピリジン-4-イルエタノール0.51g、硫酸0.13ml、酢酸10mlおよびPd炭素触媒量を混合し、約1気圧の水素雰囲気下、室温で3.5時間攪拌した。反応混合物を濾過し、濾液を減圧下に濃縮した。得られた残渣に水酸化ナトリウム水溶液を注加し、メチルtert-ブチルエーテルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、4-[1-4-tert-ブチルフェニルエチル]ピリジン0.46gを得た。4-[1-4-tert-ブチルフェニルエチル]ピリジン化合物1-1製造例24-[1-4-tert-ブチルフェニルエチル]ピリジン0.46gとクロロホルム5mlとの混合物に、氷冷下、mCPBA0.35gを加えた後、室温で3時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注加し、クロロホルムで抽出した。有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をヘキサンおよびメチルtert-ブチルエーテルの1:1の混合液で洗浄し、4-[1-4-tert-ブチルフェニルエチル]ピリジン-1-オキシド0.16gを得た。4-[1-4-tert-ブチルフェニルエチル]ピリジン-1-オキシド化合物1-2製造例31-ブロモ-4-tert-ブチルベンゼン1.99gとテトラヒドロフラン75mlとの混合物に、-70°Cで、n-ブチルリチウム1.6Mのヘキサン溶液6.4mlを滴下した。次に、-70°Cで、3-フルオロイソニコチンアルデヒド1.17gとテトラヒドロフラン10mlとの混合物を滴下した。-70°Cで40分間攪拌した後、室温まで昇温し、飽和塩化アンモニウム水溶液を反応液に注加した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-tert-ブチルフェニル-3-フルオロピリジン-4-イル-メタノール1.28gを得た。4-tert-ブチルフェニル-3-フルオロピリジン-4-イル-メタノール1HNMRδ1302666097317377638328414-tert-ブチルフェニル-3-フルオロ-ピリジン-4-イル-メタノール1.28g、硫酸2ml、酢酸20mlおよびPd炭素触媒量を混合し、約1気圧の水素雰囲気下、室温で2.5時間攪拌した。反応混合物を濾過した後、濾液に水酸化ナトリウム水溶液を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、4-4-tert-ブチルベンジル-3-フルオロピリジン1.15gを得た。4-4-tert-ブチルベンジル-3-フルオロピリジン化合物1-31製造例43-エチルイソニコチン酸0.40g、N,O-ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩0.39g、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩1.00g、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール36mg、トリエチルアミン1.84mlおよびクロロホルム8mlの混合物を室温で3時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を注加した後、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3-エチル-N-メトキシ-N-メチルイソニコチンアミド0.49gを得た。4-4-tert-ブチルベンゾイル-3-エチルピリジン1HNMRδ1262683373447168508553-エチル-N-メトキシ-N-メチルイソニコチンアミド0.49gとテトラヒドロフラン10mlとの混合物に、4-tert-ブチルフェニルマグネシウムブロミド溶液4-tert-ブチルフェニルブロミド2.5g、マグネシウム0.31gおよびテトラヒドロフラン10mlより調製した5mlを、氷冷下滴下した。室温で1時間攪拌した後、反応混合物に1規定塩酸および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を順次注加し、混合物を濾過した。得られたろ液を酢酸エチルで抽出した後、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルベンゾイル-3-エチルピリジン0.35gを得た。4-4-tert-ブチルベンゾイル-3-エチルピリジン1HNMRδ1171352657147497738558624-4-tert-ブチルベンゾイル-3-エチルピリジン0.35g、水素化ホウ素ナトリウム0.10gおよびメタノール8mlの混合物を室温で30分攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-tert-ブチルフェニル-3-エチルピリジン-4-イル-メタノール0.26gを得た。4-tert-ブチルフェニル-3-エチルピリジン-4-イル-メタノール1HNMRδ1121302452675997217367598398514-tert-ブチルフェニル-3-エチルピリジン-4-イル-メタノール0.26g、硫酸0.5ml、酢酸10mlおよびPd炭素触媒量を混合し、約1気圧の水素雰囲気下、室温で2.5時間攪拌した。反応混合物を濾過した後、濾液に水酸化ナトリウム水溶液を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルベンジル-3-エチルピリジン0.22gを得た。4-4-tert-ブチルベンジル-3-エチルピリジン化合物1-63製造例54-4-tert-ブチルベンジル-3-フルオロピリジン0.25g、ナトリウムメトキシド28のメタノール溶液1.4g、およびN,N-ジメチルホルムアミド2mlの混合物を、120°Cで、3時間攪拌した。反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルベンジル-3-メトキシピリジン0.23gを得た。4-4-tert-ブチルベンジル-3-メトキシピリジン化合物1-71製造例64-4-tert-ブチルベンジル-3-フルオロピリジン0.60g、ナトリウムチオメトキシド0.87g、およびN,N-ジメチルホルムアミド3mlの混合物を、90°Cで、4時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルベンジル-3-メチルチオピリジン0.37gを得た。4-4-tert-ブチルベンジル-3-メチルチオピリジン化合物1-103製造例74-4-tert-ブチルベンジル-3-メチルチオピリジン0.13gとクロロホルム5mlとの混合物に、氷冷下、mCPBA0.15gを加えた後、氷冷下で5分間攪拌した。反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液を注加し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルベンジル-3-メタンスルフィニルピリジン0.13gを得た。4-4-tert-ブチルベンジル-3-メタンスルフィニルピリジン化合物1-107製造例84-4-tert-ブチルベンジル-3-メチルチオピリジン0.12gとクロロホルム5mlとの混合物に、氷冷下、mCPBAメタクロロ過安息香酸0.24gを加えた後、室温で30分間攪拌した。反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液を注加し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルベンジル-3-メタンスルホニルピリジン0.08gを得た。4-4-tert-ブチルベンジル-3-メタンスルホニルピリジン化合物1-111製造例94-ヨードピリジン0.51g、4-2,2-ジメチルプロピルフェノール0.49g、炭酸セシウム2.44g、銅粉16mg、およびN,N-ジメチルホルムアミド3mlの混合物を、120°Cで、8時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-[4-2,2-ジメチルプロピルフェノキシ]ピリジン0.46gを得た。4-[4-2,2-ジメチルプロピルフェノキシ]ピリジン化合物2-5製造例101-ブロモ-4-tert-ブチルベンゼン0.43g、4-メルカプトピリジン0.36g、水酸化カリウム0.17g、酸化銅I0.17gおよびN,N-ジメチルホルムアミド2mlの混合物を、150°Cで、3時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルフェニルチオピリジン0.10gを得た。4-4-tert-ブチルフェニルチオピリジン化合物3-1製造例111-ブロモ-4-tert-ブチルベンゼン0.43g、4-アミノピリジン0.19g、1,4-ジオキサン4ml、ナトリウムtert-ブトキシド0.21gを混合し、窒素置換した後、室温で、Pd2dba327mgおよびキサントホス35mgを加え、100°Cで、4時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N-4-tert-ブチルフェニルピリジン-4-イルアミン0.28gを得た。N-4-tert-ブチルフェニルピリジン-4-イルアミン化合物4-1製造例121-ブロモ-4-tert-ブチルベンゼン0.51g、4-メチルアミノピリジン0.22g、1,4-ジオキサン4ml、ナトリウムtert-ブトキシド0.23gを混合し、窒素置換した後、室温で、Pd2dba327mgおよびキサントホス35mgを加え、100°Cで、4時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N-4-tert-ブチルフェニル-N-メチルピリジン-4-イルアミン0.41gを得た。N-4-tert-ブチルフェニル-N-メチルピリジン-4-イルアミン化合物4-3製造例132,2-ジメチル-N-ピリジン-3-イルプロピオンアミド2.00g、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン4.20mlおよびテトラヒドロフラン30mlの混合物に、-70°Cで、n-ブチルリチウム1.6Mのヘキサン溶液17.6mlを滴下した。反応混合物を-70°Cで15分間攪拌した後、氷冷下で90分間攪拌した。次に、-70°Cで、4-tert-ブチルベンズアルデヒド2.81mlを滴下した後、室温まで昇温し、飽和塩化アンモニウム水溶液を反応液に注加した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N-{4-[4-tert-ブチルフェニル-ヒドロキシメチル]ピリジン-3-イル}-2,2-ジメチルプロピオンアミド1.66gを得た。N-{4-[4-tert-ブチルフェニル-ヒドロキシメチル]ピリジン-3-イル}-2,2-ジメチルプロピオンアミド1HNMRδ111130347587709722738830859936N-{4-[4-tert-ブチルフェニル-ヒドロキシメチル]ピリジン-3-イル}-2,2-ジメチルプロピオンアミド500mg、硫酸10滴、酢酸10mlおよびPd炭素触媒量を混合し、約1気圧の水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応混合物に水酸化ナトリウム水溶液を注加した後、濾過し、濾液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N-[4-4-tert-ブチルベンジルピリジン-3-イル]-2,2-ジメチルプロピオンアミド472mgを得た。N-[4-4-tert-ブチルベンジルピリジン-3-イル]-2,2-ジメチルプロピオンアミド化合物1-171製造例14N-[4-4-tert-ブチルベンジルピリジン-3-イル]-2,2-ジメチルプロピオンアミド474mgと5規定塩酸14mlとの混合物を、100°Cで4時間攪拌した。放冷した反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、4-4-tert-ブチルベンジル-3-アミノピリジン344mgを得た。4-4-tert-ブチルベンジル-3-アミノピリジン化合物1-155製造例154-4-tert-ブチルベンジル-3-アミノピリジン200mg、アセトアルデヒド0.47ml、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム883mg、酢酸1滴およびクロロホルム6mlの混合物を50°Cで1時間攪拌した。放冷した反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルベンジル-3-ジエチルアミノピリジン233mgを得た。4-4-tert-ブチルベンジル-3-ジエチルアミノピリジン化合物1-135製造例164-4-tert-ブチルベンジル-3-フルオロピリジン2.00g、ベンジルアルコール0.89g、水素化ナトリウム60油性0.66gおよびN,N-ジメチルホルムアミド12mlの混合物を、120°Cで、10時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3-ベンジルオキシ-4-4-tert-ブチルベンジルピリジン2.29gを得た。3-ベンジルオキシ-4-4-tert-ブチルベンジルピリジン化合物1-151製造例173-ベンジルオキシ-4-4-tert-ブチルベンジルピリジン2.29g、エタノール35mlおよびPd炭素触媒量を混合し、約1気圧の水素雰囲気下、35°Cで、4時間攪拌した。反応混合物を濾過した後、減圧下に濃縮し、4-4-tert-ブチルベンジル-3-ヒドロキシピリジン1.38gを得た。4-4-tert-ブチルベンジル-3-ヒドロキシピリジン化合物1-153製造例184-4-tert-ブチルベンジル-3-ヒドロキシピリジン400mg、テトラヒドロフラン2ml、N,N-ジメチルホルムアミド4mlとの混合物に、氷冷下、カリウムtert-ブトキシド204mgを加えた後、氷冷下で10分間攪拌した。反応混合物に、氷冷下、クロロメチルメチルエーテル0.13mlを加えた後、室温で30分間攪拌した。反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルベンジル-3-メトキシメトキシピリジン419mgを得た。4-4-tert-ブチルベンジル-3-メトキシメトキシピリジン化合物1-145製造例194-アミノ-3-エチルピリジン0.98gおよび48テトラフルオロホウ酸15mlの混合物に、-5°C以下で、亜硝酸ナトリウム0.61gを加えた。この混合物を、ヨウ化カリウム2.1g、アセトン8mlおよび水12mlの混合物に、氷冷下に加えた後、1時間攪拌した。反応混合物に水酸化ナトリウムを注加した後、メチルtert-ブチルエーテルで抽出した。有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3-エチル-4-ヨードピリジン0.58gを得た。1HNMRδ1242747748008363-エチル-4-ヨードピリジン0.29g、4-tert-ブチルフェノール0.22g、炭酸セシウム1.21g、銅粉8mg、およびN,N-ジメチルホルムアミド1mlの混合物を、120°Cで、8時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3-エチル-4-4-tert-ブチルフェノキシピリジン0.46gを得た。3-エチル-4-4-tert-ブチルフェノキシピリジン化合物2-29製造例204-tert-ブチルフェノール4.50g、4-クロロ-3-ニトロピリジン4.77g、炭酸カリウム8.05gおよびN,N-ジメチルホルムアミド17mlの混合物を、80°Cで、1時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加し、濾過した。得られた残渣を水洗、乾燥し、4-4-tert-ブチルフェノキシ-3-ニトロピリジン7.77gを得た。4-4-tert-ブチルフェノキシ-3-ニトロピリジン化合物2-110製造例214-4-tert-ブチルフェノキシ-3-アミノピリジン441mg、アセトアルデヒド401mg、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム1.93gおよびクロロホルム5mlの混合物を50°Cで2時間攪拌した。放冷した反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルフェノキシ-3-ジエチルアミノピリジン347mgを得た。4-4-tert-ブチルフェノキシ-3-ジエチルアミノピリジン化合物2-57製造例224-tert-ブチルチオフェノール332mg、4-クロロ-3-メチルピリジン塩酸塩328mgおよびN-メチルピロリジノン3mlの混合物を80°Cで10時間攪拌した。放冷した反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4-4-tert-ブチルフェニルチオ-3-メチルピリジン418mgを得た。4-4-tert-ブチルフェニルチオ-3-メチルピリジン化合物3-7製造例234-tert-ブチルアニリン298mg、4-クロロ-3-メチルピリジン塩酸塩328mgおよびN-メチルピロリジノン3mlの混合物を80°Cで10時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N-4-tert-ブチルフェニル-3-メチルピリジン-4-イル-アミン85mgを得た。N-4-tert-ブチルフェニル-3-メチルピリジン-4-イル-アミン化合物4-33製造例241-ブロモ-4-tert-ブチルベンゼン0.37g、4-アミノ-3-エトキシピリジン0.20g、1,4-ジオキサン3ml、ナトリウムtert-ブトキシド0.17gを混合し、窒素置換した後、室温で、Pd2dba320mgおよびキサントホス25mgを加え、100°Cで、10時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をメチルtert-ブチルエーテルで洗浄し、N-4-tert-ブチルフェニル-3-エトキシピリジン-4-イルアミン0.29gを得た。N-4-tert-ブチルフェニル-3-エトキシピリジン-4-イルアミン化合物4-57以下、前述の実施製造例に記載の方法に準じた製造方法により製造される化合物を例示する。表中、Meはメチル基CH3-、Etはエチル基CH3CH2-、Prはプロピル基CH3CH2CH2-、i-Prはイソプロピル基CH32CH-、t-Buはtert-ブチル基CH33C-、sec-Buはsec-ブチル基CH3CH2CHCH3-、Phはフェニル基を表す。表中、置換位置の列は、Aの、式中のベンゼン環における置換位置を示している。表中、Enの列において、nが1である場合は、例えば2-Meのように示し、これは、Eがベンゼン環の2位に置換したメチル基であることを意味し、nが0である場合は、-のように示し、無置換であることを意味する。式A-1で表される化合物。式中のJ-L-A基、En、Rx、Ry、G及びmは、下記の表7~表15に記載の組み合わせを表す。式A-2で表される化合物。式中のJ-L-A基、En、G及びmは、下記の表16~表20に記載の組み合わせを表す。式A-3で表される化合物。式中のJ-L-A基、En、G、y及びmは、下記の表21~表23に記載の組み合わせを表す。式A-4で表される化合物。式中のJ-L-A基、En、Rz、G及びmは、下記の表24~表32に記載の組み合わせを表す。表7~表32に記載した本発明化合物の物性値を下記の表33~表38に示す。次に本発明化合物の製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。製剤例1上述の化合物1-1から1-223、化合物2-1から2-110、化合物3-1から3-75または化合物4-1から4-210のいずれか1種10部を、キシレン35部とN,N-ジメチルホルムアミド35部との混合物に溶解し、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル14部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、混合して各々の乳剤を得る。製剤例2ラウリル硫酸ナトリウム4部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、合成含水酸化珪素微粉末20部および珪藻土54部を混合し、更に上述の化合物1-1から1-223、化合物2-1から2-110、化合物3-1から3-75または化合物4-1から4-210のいずれか1種20部を加え、混合して各々の水和剤を得る。製剤例3上述の化合物1-1から1-223、化合物2-1から2-110、化合物3-1から3-75または化合物4-1から4-210のいずれか1種2部に、合成含水酸化珪素微粉末1部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部およびカオリンクレー65部を加え混合する。ついで、この混合物に適当量の水を加え、さらに攪拌し、造粒機で製粒し、通風乾燥して各々の粒剤を得る。製剤例4上述の化合物1-1から1-223、化合物2-1から2-110、化合物3-1から3-75または化合物4-1から4-210のいずれか1種1部を適当量のアセトンに溶解し、これに合成含水酸化珪素微粉末5部、PAP0.3部およびフバサミクレー93.7部を加え、充分攪拌混合し、アセトンを蒸発除去して各々の粉剤を得る。製剤例5ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩およびホワイトカーボンの混合物重量比1:135部と、上述の化合物1-1から1-223、化合物2-1から2-110、化合物3-1から3-75または化合物4-1から4-210のいずれか1種10部と、水55部とを混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。製剤例6上述の化合物1-1から1-223、化合物2-1から2-110、化合物3-1から3-75または化合物4-1から4-210のいずれか1種0.1部をキシレン5部およびトリクロロエタン5部に溶解し、これを脱臭灯油89.9部に混合して各々の油剤を得る。製剤例7上述の化合物1-1から1-223、化合物2-1から2-110、化合物3-1から3-75または化合物4-1から4-210のいずれか1種10mgをアセトン0.5mlに溶解し、この溶液を、動物用固形飼料粉末飼育繁殖用固形飼料粉末CE-2、日本クレア株式会社商品5gに処理し、均一に混合する。ついでアセトンを蒸発乾燥させて各々の毒餌を得る。製剤例8上述の化合物1-1から1-223、化合物2-1から2-110、化合物3-1から3-75または化合物4-1から4-210のいずれか1種0.1部、ネオチオゾール中央化成株式会社49.9部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、ジメチルエーテル25部、LPG25部を充填し振とうを加え、アクチュエータを装着することで油剤エアゾールを得る。製剤例9上述の化合物1-1から1-223、化合物2-1から2-110、化合物3-1から3-75または化合物4-1から4-210のいずれか1種0.6部、BHT2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール0.01部、キシレン5部、脱臭灯油3.39部および乳化剤{アトモス300アトモスケミカル社登録商標名}1部を混合溶解したものと、蒸留水50部とをエアゾール容器に充填し、バルブを装着した後、該バルブを通じて噴射剤LPG40部を加圧充填して水性エアゾールを得る。製剤例10上述の化合物1-1から1-223、化合物2-1から2-110、化合物3-1から3-75または化合物4-1から4-210のいずれか1種を5部及びフェリムゾン5部を、ラウリル硫酸ナトリウム4部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、合成含水酸化珪素微粉末20部及び珪藻土残部を混合した中に加え、よく攪拌混合して水和剤100部を得る。製剤例11~25フェリムゾン5部に代えて、[表39]記載のそれぞれの化合物及び使用量で適用した以外は製剤例10と同様の操作を行い、それぞれの水和剤100部を得る。次に、本発明化合物の有害生物防除効力を試験例により示す。試験例1製剤例5により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。ポリエチレンカップに植えた第2葉展開期のイネ幼苗に、上記試験用薬液10mlを散布した。風乾後、トビイロウンカの3~4齢幼虫を20頭放して、25°Cの温室内に保管した。6日後イネに寄生したトビイロウンカの数を調査し、下式により防除価を求めた。防除価={1-Cb×Tai/Cai×Tb}×100なお、式中の文字は以下の意味を表す。Cb:無処理区の処理前の虫数Cai:無処理区の観察時の虫数Tb:処理区の処理前の虫数Tai:処理区の観察時の虫数その結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価90以上を示した。化合物1-1、1-2、1-3、1-4、1-5、1-6、1-15、1-31、1-55、1-63、1-71、1-79、1-80、1-87、1-95、1-103、1-107、1-115、1-127、1-135、1-143、1-144、1-145、1-146、1-147、1-149、1-155、1-159、1-161、1-163、1-165、1-167、1-169、2-1、2-5、2-6、2-13、2-14、2-15、2-16、2-17、2-18、2-19、2-21、2-22、2-29、2-57、2-109、2-110、3-1、3-2、3-21、3-74、4-1、4-3、4-5、4-7、4-41、4-57,4-207、4-208、4-210。また、有効成分濃度が200ppmの試験用薬液を用いて同様の試験を行った結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価90以上を示した。化合物1-111、4-35、4-99。試験例2製剤例5により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用散布液を調製した。一方、プラスチックカップに植えたキュウリ幼苗第1本葉展開期にワタアブラムシ約30頭を接種し、1日間放置した。この幼苗に、前記希釈液20mlを各々散布した。散布6日後に該キュウリの葉上に寄生したワタアブラムシ生存虫数を調査し、以下の式により防除価を求めた。防除価={1-Cb×Tai/Cai×Tb}×100なお、式中の文字は以下の意味を表す。Cb:無処理区の処理前の虫数Cai:無処理区の観察時の虫数Tb:処理区の処理前の虫数Tai:処理区の観察時の虫数その結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価90以上を示した。化合物1-1、1-2、1-3、1-4、1-5、1-6、1-15、1-31、1-63、1-71、1-79、1-80、1-87、1-95、1-107、1-115、1-135、1-143、1-145、1-147、1-149、1-159、1-161、1-163、1-167、2-1、2-5、2-6、2-14、2-16、2-19、2-21、2-22、2-29、2-57、3-1、3-21、3-74、4-41、4-57、4-207。また、有効成分濃度が200ppmの試験用薬液を用いて同様の試験を行った結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価90以上を示した。化合物4-35。"