"触媒能が低下したチタノシリケートと、環状2級アミンと、を混合する工程を含むことを特徴とするチタノシリケートの調製方法。触媒能が低下したチタノシリケートが、炭素数2~12の炭素炭素二重結合を有する化合物の酸化生成物と、触媒能が低下する前のチタノシリケートとを混合して得られたものであることを特徴とする請求項1記載の調製方法。触媒能が低下する前のチタノシリケートが、酸素12員環以上の細孔を有するチタノシリケートであることを特徴とする請求項2記載の調製方法。触媒能が低下する前のチタノシリケートがTi-MWW前駆体であることを特徴とする請求項2又は3記載の調製方法。触媒能が低下する前のチタノシリケートが、ケイ素化合物、ホウ素化合物、チタン化合物、水、及び、MWW構造を有するゼオライトを形成し得る構造規定剤を混合し、熱処理し得られた層状化合物から、該構造規定剤を除いて得られたチタノシリケートであることを特徴とする請求項2~4のいずれか記載の調製方法。MWW構造を有するゼオライトを形成し得る構造規定剤が、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N-トリメチル-1-アダマンタンアンモニウム塩、及びオクチルトリメチルアンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも1種の構造規定剤であることを特徴とする請求項5記載の調製方法。環状2級アミンが、式I式中、X1、X2、X3、X4、X5及びX6は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を表す。X1、X2、X3、X4、X5及びX6から選ばれる2つの基からなる組み合わせであって、前記の2つの基は互いに隣接する2つの炭素原子に結合している組み合わせは、互いに結合して前記2つの炭素原子とともに炭化水素環を形成していてもよい。nは0~9の整数を表す。で表される化合物であることを特徴とする請求項1~6のいずれか記載の調製方法。環状2級アミンが、ピペリジン又はヘキサメチレンイミンであることを特徴とする請求項1~7のいずれか記載の調製方法。環状2級アミンの混合量が、触媒能が低下したチタノシリケート1重量部に対し、0.1~10重量部であることを特徴とする請求項1~8のいずれか記載の調製方法。前記工程が、25~250°Cの温度範囲で行われることを特徴とする請求項1~9のいずれか記載の調製方法。前記工程が、過酸化水素の非存在下で混合することを特徴とする請求項1~10のいずれか記載の調製方法。請求項1~11のいずれか記載の調製方法で得られたチタノシリケートの存在下、炭素数2~12の炭素炭素二重結合を有する化合物と、過酸化水素とを反応させてオキシラン化合物を得る工程を含むことを特徴とするオキシラン化合物の製造方法。炭素数2~12の炭素炭素二重結合を有する化合物がプロピレンであり、オキシラン化合物がプロピレンオキサイドであることを特徴とする請求項12記載のオキシラン化合物の製造方法。このような状況下、触媒能が低下したチタノシリケートから、さらに優れた触媒能まで再生されたチタノシリケートを調製する方法が求められている。かかる課題を解決するために、本発明者らは鋭意検討した結果、以下の本発明に至った。<1>触媒能が低下したチタノシリケートと、環状2級アミンと、を混合する工程を含むことを特徴とするチタノシリケートの調製方法。<2>触媒能が低下したチタノシリケートが、炭素数2~12の炭素炭素二重結合を有する化合物の酸化生成物と、触媒能が低下する前のチタノシリケートとを混合して得られたものであることを特徴とする<1>記載の調製方法。<3>触媒能が低下する前のチタノシリケートが、酸素12員環以上の細孔を有するチタノシリケートであることを特徴とする<2>記載の調製方法。<4>触媒能が低下する前のチタノシリケートがTi-MWW前駆体であることを特徴とする<2>又は<3>記載の調製方法。<5>触媒能が低下する前のチタノシリケートが、ケイ素化合物、ホウ素化合物、チタン化合物、水、及び、MWW構造を有するゼオライトを形成し得る構造規定剤を混合し、熱処理し得られた層状化合物から、該構造規定剤を除いて得られたチタノシリケートであることを特徴とする<2>~<4>のいずれか記載の調製方法。<6>MWW構造を有するゼオライトを形成し得る構造規定剤が、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N-トリメチル-1-アダマンタンアンモニウム塩、及びオクチルトリメチルアンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも1種の構造規定剤であることを特徴とする<5>記載の調製方法。<7>環状2級アミンが、式I式中、X1、X2、X3、X4、X5及びX6は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を表す。X1、X2、X3、X4、X5及びX6から選ばれる2つの基からなる組み合わせであって、前記の2つの基は互いに隣接する2つの炭素原子に結合している組み合わせは、互いに結合して前記2つの炭素原子とともに炭化水素環を形成していてもよい。nは0~9の整数を表す。で表される化合物であることを特徴とする<1>~<6>のいずれか記載の調製方法。<8>環状2級アミンが、ピペリジン又はヘキサメチレンイミンであることを特徴とする<1>~<7>のいずれか記載の調製方法。<9>環状2級アミンの混合量が、触媒能が低下したチタノシリケート1重量部に対し、0.1~10重量部であることを特徴とする<1>~<8>のいずれか記載の調製方法。<10>前記工程が、25~250°Cの温度範囲で行われることを特徴とする<1>~<9>のいずれか記載の調製方法。<11>前記工程が、過酸化水素の非存在下で混合することを特徴とする<1>~<10>のいずれか記載の調製方法。<12><1>~<11>のいずれか記載の調製方法で得られたチタノシリケートの存在下、炭素数2~12の炭素炭素二重結合を有する化合物と、過酸化水素とを反応させてオキシラン化合物を得る工程を含むことを特徴とするオキシラン化合物の製造方法。<13>炭素数2~12の炭素炭素二重結合を有する化合物がプロピレンであり、オキシラン化合物がプロピレンオキサイドであることを特徴とする<12>記載のオキシラン化合物の製造方法。本発明の調製方法によれば、触媒能が低下したチタノシリケートから、さらに優れた触媒能まで再生されたチタノシリケートが提供可能である。まず、触媒能が低下する前のチタノシリケートの1種として、チタン化合物及びシリケート化合物等から新たに製造されるチタノシリケート以下、新チタノシリケートと記すことがあるについて説明する。新チタノシリケートは、実質的に4配位Tiチタン原子を持つシリケートであり、多孔構造を有する。また、新チタノシリケートは、200nm~400nmの波長領域における紫外可視吸収スペクトルが、210nm~230nmの波長領域で最大の吸収ピークが現れるものを表す例えば、ChemicalCommunications1026-1027,2002図2d、e参照。上記紫外可視吸収スペクトルは、拡散反射装置を付属した紫外可視分光光度計を用いて、拡散反射法にて測定することができる。本発明における新チタノシリケートは、酸素10員環以上の細孔を有すると反応原料と細孔内の活性点との接触阻害が抑制される傾向や、細孔内における物質の移動の制限が低減される傾向があることから好ましい。本明細書において、細孔とは、Si-O結合あるいはTi-O結合から構成される細孔を意味する。上記細孔は、サイドポケットと呼ばれるハーフカップ状の細孔であってもよい。即ち、該細孔は、チタノシリケートの一次粒子を貫通している必要はない。上記酸素10員環以上とは、a細孔において最も細い場所の断面またはb細孔入口における環構造について酸素原子数が10以上であることを意味する。チタノシリケートが酸素10員環以上の細孔を有することは、一般にX線回折パターンの解析により確認されるが、既知の構造であれば、そのX線回折パターンと対比させることで簡便に確認できる。新チタノシリケートは、下記に示す値のX線回折パターンを有する。X線回折パターン格子面間隔d/Å12.4±0.810.8±0.59.0±0.36.0±0.33.9±0.13.4±0.1これらのX線回折パターンは、銅K-アルファ放射線を使用した一般的なX線回折装置を用いて測定することができる。前記に示すX線回折パターンを有するチタノシリケートとしては、例えば、公開特許公報2005-262164号に記載されたTi-MWW前駆体、Ti-YNU-1例えば、アンゲバンテケミーインターナショナルエディションAngewandteChemieInternationalEdition43,236-240,2004に記載されたもの、IZA国際ゼオライト学会の構造コードで、MWW構造を有する結晶性チタノシリケートであるTi-MWW例えば、公開特許公報2003-327425号に記載されたもの、同じくIZAの構造コードでMSE構造を有する結晶性チタノシリケートであるTi-MCM-68例えば、公開特許公報2008-50186号に記載されたもの等を挙げることができる。新チタノシリケートにおけるチタン原子の含有量は、ケイ素原子の含有量1モルに対して、例えば、0.001~0.1モルの範囲内を挙げることができ。好ましくは、0.005~0.05モルの範囲内が挙げられる。本発明の新チタノシリケートとしては、例えば、下記1~7に記載のチタノシリケート等が挙げられる。1酸素10員環の細孔を有する結晶性チタノシリケート:IZA国際ゼオライト学会の構造コードでMFI構造を有するTS-1例えば、米国特許第4410501号、MEL構造を有するTS-2例えば、JournalofCatalysis130,440-446,1991、MRE構造を有するTi-ZSM-48例えば、Zeolites15,164-170,1995、FER構造を有するTi-FER例えば、JournalofMaterialsChemistry8,1685-16861998等。2酸素12員環の細孔を有する結晶性チタノシリケート:BEA構造を有するTi-Beta例えば、JournalofCatalysis199,41-47,2001、MTW構造を有するTi-ZSM-12例えば、Zeolites15,236-242,1995、MOR構造を有するTi-MOR例えば、TheJournalofPhysicalChemistryB102,9297-93031998、ISV構造を有するTi-ITQ-7例えば、ChemicalCommunications761-762,2000、MSE構造を有するTi-MCM-68例えば、ChemicalCommunications6224-6226,2008、MWW構造を有するTi-MWW/g/h]3:参考例3新チタノシリケートを100とする生成活性の相対比[mmol/g/h]参考例5[新チタノシリケートDの調製]室温、空気雰囲気下で、オートクレーブ中に、ピペリジン899g、イオン交換水2402g、TBOT46g、ホウ酸565g、ヒュームドシリカキャボット製cabosilM7D410gを仕込み、同温度同雰囲気下で、これらを撹拌しながら溶解させてゲルを調製した。得られたゲルを、1.5時間熟成させた後、オートクレーブを密閉した。さらに撹拌しながら8時間かけて150°Cまで昇温した後、同温度で120時間保持することで、水熱合成を行った後、冷却した。水熱合成後の反応生成物は懸濁溶液であった。得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが10.3になるまでイオン交換水で水洗した。次に、ろ塊を、質量減少が見られなくなるまで乾燥乾燥温度:50°Cし、524gの層状化合物を得た。得られた層状化合物75gに2M硝酸水溶液3750mLと9.6gのTBOTとを加えた後、加熱し、還流を維持しながら20時間加熱した。冷却後、ろ過し、ろ液が中性付近になるまでイオン交換水で水洗し、質量減少が見られなくなるまで、150°Cで真空乾燥した。得られた生成物は、白色粉末であった。上記の操作を数回行い、合計120gの白色粉末以下白色粉末D1という。を得た。この白色粉末D1を530°Cで6時間焼成し、白色粉末を得た。上記の操作を数回行い、合計108gの白色粉末以下白色粉末D2という。を得た。室温、空気雰囲気下で、オートクレーブ中に、ピペリジン300g、イオン交換水600g、上記で得られた白色粉末D280gを仕込み、同温度同雰囲気下で撹拌しながら溶解させてゲルを調製した。得られたゲルを1.5時間熟成させた後、オートクレーブを密閉した。さらに撹拌しながら4時間かけて160°Cまで昇温した後、同温度で24時間保持した。得られた反応物は懸濁溶液であった。得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが9.6になるまでイオン交換水で水洗した。次に、濾上物を質量減少が見られなくなるまで、150°Cで真空乾燥し、白色粉末以下白色粉末D3という。を得た。室温、空気雰囲気下で、ガラス製3つ口フラスコに、トルエン175mL、上記の通り得られた白色粉末D34.0gを仕込み、還流下で2時間加熱した。冷却後、ろ過し、アセトニトリル/イオン交換水=4/1質量比500mLでさらに洗浄した。さらに、質量減少が見られなくなるまで150°Cで真空乾燥し、3.6gの白色粉末を得た。この白色粉末のX線回折パターン及び紫外可視吸収スペクトルを測定した結果、この白色粉末はTi-MWW前駆体以下新チタノシリケートDという。であった。元素分析の結果、新チタノシリケートDは、2.08質量のTiと36.4質量のSiを含有していた。この値から計算されたTi/Siのモル比は、0.034であった。参考例6[新チタノシリケートEの調製]室温、空気雰囲気下で、オートクレーブ中に、ピペリジン898g、イオン交換水2403g、TBOTテトラ-n-ブチルオルソチタネート112g、ホウ酸565g、ヒュームドシリカキャボット製cabosilM7D409gを仕込み、同温度同雰囲気下で、これらを撹拌しながら溶解させてゲルを調製した。得られたゲルを、1.5時間熟成させた後、オートクレーブを密閉した。さらに撹拌しながら8時間かけて150°Cまで昇温した後、同温度で120時間保持することで、水熱合成を行った後、冷却した。水熱合成後の反応物は懸濁溶液であった。得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが10付近になるまで濾上物をイオン交換水で水洗した。次に、濾上物を、重量減少が見られなくなるまで乾燥乾燥温度:50°Cし、517gの層状化合物を得た。得られた層状化合物75gに2M硝酸水溶液3750mLを加えた後、還流するまで加熱し、還流を維持しながら20時間加熱した。得られた反応生成物を冷却後、ろ過し、ろ液が中性付近になるまで濾上物をイオン交換水で水洗し、さらに、重量減少が見られなくなるまで、150°Cで真空乾燥した。得られた生成物は、白色粉末であった以下、白色粉末E1という。。この白色粉末E1を530°Cで6時間焼成した。上記の操作を数回行い、白色粉末以下、白色粉末E2という。を得た。室温、空気雰囲気下で、オートクレーブ中に、ピペリジン300g、イオン交換水600g、上記で得られた白色粉末E2100gを仕込み、同温度同雰囲気下で撹拌しながら溶解させてゲルを調製した。得られたゲルを1.5時間熟成させた後、オートクレーブを密閉した。さらに撹拌しながら4時間かけて160°Cまで昇温した後、同温度にてさらに1日間、攪拌した。得られた反応物は懸濁溶液であった。該懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが9付近になるまで濾上物をイオン交換水で水洗した。次に、濾上物の重量減少が見られなくなるまで、濾上物を150°Cで真空乾燥し、白色粉末を得た。元素分析の結果、得られた白色粉末は1.74質量のTiおよび36.6質量のSiを含有していた。この値から計算されたTi/Siのモル比は、0.028であった。この白色粉末の紫外可視吸収スペクトルを測定した結果、この白色粉末はTi-MWW前駆体であった以下新チタノシリケートEという。。参考例7新チタノシリケートF室温、空気雰囲気下、40Lオートクレーブにピペリジン9.1kg、純水25.6kgを混合し撹拌した。次に、得られた混合物にホウ酸6.2kgを加えて撹拌し溶解させた。溶解液の液温は40°C付近まで昇温した。次にTBOT0.54kgを加えて撹拌し溶解させた。続いてBET比表面積が200m2/gのヒュームドシリカ4.5kgを徐々に加え、完全に混合させ、更に1.5時間撹拌を続けた。オートクレーブ径0.4mφに対して0.3mφの撹拌翼を具備するオートクレーブに、攪拌して得られたものに入れて該オートクレーブを密閉した。続いて、該撹拌翼の先端速度が6km/時間になるように撹拌しながら、オートクレーブの内容物を10時間かけて約170°Cまで昇温した後、同温度にて7日間保持し、層状化合物を含む懸濁溶液を得た。この懸濁溶液の一部を加圧ろ過器でろ過した後、純水で濾上物を洗浄して、洗浄されたろ液のpHが10付近になるまで洗浄した。次に洗浄して得られた濾上物を50°Cで乾燥させ、層状化合物の白色固体を得た。得られた白色固体のうち、350gを粉砕し、得られた粉砕物と、13質量の硝酸を含む水溶液3.5Lとを還流管を具備するガラス製フラスコに加えた。該フラスコを140°Cに調整されたオイルバス中に置いて加熱し、該フラスコの内容物を20時間還流させた。還流中の内容物の温度は104°Cであった。次いで、内容物をろ過し、ろ過により得られた濾上物を純水で洗浄して、洗浄されたろ液のpHが5以上になるまで水洗し、水洗後の濾上物を50°Cで十分乾燥することにより98gの白色粉末を得た。元素分析結果によるこの白色粉末のTi含有量は1.1質量であった。島津製作所製UV-2450型紫外可視近赤外分光光度計を用いた紫外可視吸収スペクトル分析の結果、この白色粉末は、チタノシリケートであった以下新チタノシリケートFという。。上記で得られた新チタノシリケートFのうち64gをガラス管に入れ、窒素6L0°C、1atm換算/時間で流通させ、室温約20°Cから530°Cまで120°C/時間で昇温し、該温度で1時間保持後、窒素を空気に切替え、6L0°C、1atm換算/時間で5時間流通させて焼成を行うことにより、白色粉末を得た。X線回折分析の結果、この白色粉末はMWW構造を持つことが確認された。このことより、新チタノシリケートFはTi-MWW前駆体であった。参考例8新チタノシリケートG室温22°C、空気雰囲気下、ピペリジン899g、イオン交換水2402gを混合し撹拌した。次に、得られた混合物にTBOT46g滴下し、撹拌しながら溶解させた。TBOTが溶解した後、ホウ酸565gを加え、撹拌しながら溶解させた。次に、ヒュームドシリカキャボット製cabosilM7D410gを仕込み、空気雰囲気下で、撹拌しながら溶解させ、さらに1.5時間熟成させた。2枚のアンカー型撹拌翼を具備した5Lオートクレーブに熟成させた溶液を移したあと、該オートクレーブを密閉した。アルゴンガスを用いて1.5MPaゲージ圧で気密テストを行った後、脱圧して、再び密閉した。続いて、該撹拌翼を回転させながら該オートクレーブの内容物を8時間かけて150°Cまで昇温した後、同温度で120時間保持した後、冷却した。得られた反応物は懸濁溶液であった。得られた懸濁溶液をろ過した後、イオン交換水で濾上物を洗浄して、洗浄されたろ液のpHが10付近になるまで洗浄した。次に、濾上物の質量減少が見られなくなるまで乾燥乾燥温度:50°Cした。続いて、得られた乾燥物をイオン交換水で洗浄及び乾燥し、約520gの層状化合物を得た。上記操作を6回繰り返し、計3120gの層状化合物を得た。20°C~30°Cの外気温、空気雰囲気下、グラスライニングが施された金属製容器200L、ジャケット及び還流管を具備に、得られた層状化合物3kgと2M硝酸水溶液158kgとTBOT0.38kgを仕込んだ。該容器のジャケット温度を115°Cまで昇温し、同温度で9時間に保持し、更にジャケット温度124°Cに昇温し、同温度で7時間還流させた。続いてジャケットの加熱を止め、室温まで放冷させた。続いて、得られた内容物をろ過した後、イオン交換水で濾上物を洗浄して、洗浄されたろ液のpHが5付近になるまで洗浄した。次に、濾上物の質量減少が見られなくなるまで乾燥乾燥温度:80°Cし、白色固体を得た。このようにして得た白色固体を粉砕し、白色粉末を得た。この白色粉末の一部をガラス管に充填し、6L0°C、1atm換算/時間の窒素気流下、室温から530°Cまで2時間で昇温し、同温度で2時間保持した後、窒素気流の代わりに6L0°C、1atm換算/時間の空気気流に切替えて、530°Cを4時間保持することで、焼成を行った。次に、室温、空気雰囲気下で、1.5Lオートクレーブ中に、ピペリジン300g、イオン交換水600g、および焼成により得た上記粉末を150g仕込み、同温度同雰囲気下で撹拌しながら溶解させ、さらに1.5時間程度熟成させた。得られた熟成物をオートクレーブに入れ密閉し、4時間かけて約150°C程度まで昇温した。その後、160°Cを目安として150~170°Cの範囲の温度を保持するようにして1日間、加熱した。得られた懸濁溶液をろ過した後、100°C近くまで加熱したイオン交換水で濾上物を洗浄して、洗浄されたろ液のpHが9付近になるまで洗浄し、白色固体を得た。この白色固体を、真空乾燥器を用いて150°Cで十分乾燥し粉砕することにより白色粉末を得た。元素分析結果によれば、この白色粉末のTi含有量は2.0質量、Si含有量は36質量であった。紫外可視吸収スペクトル分析の結果、この白色粉末はチタノシリケート以下、新チタノシリケートGという。であった。参考例9新チタノシリケートH室温、空気雰囲気下、ピペリジン266g、イオン交換水667gを混合し撹拌した。次に、得られた混合物にTBOT13g滴下し、撹拌しながら溶解させた。TBOTが溶解した後、さらにホウ酸157gを加え、撹拌しながら溶解させた。溶解液の液温は30°C~40°C程度に上昇していた。続いて、該溶解液を撹拌しながらフッ化アンモニウム147gを添加した。ここで液のpHは10.5~11程度まで下がっていた。次にBET比表面積が200m2/gのヒュームドシリカ117gを仕込み、空気雰囲気下のまま、1.5時間程度撹拌することで熟成させ、混合物を得た。得られた混合物を、2枚のアンカー型撹拌翼を具備した1.5Lオートクレーブ中に入れ、該オートクレーブ内を室温、空気雰囲気下にて密閉した。次に、アルゴンガスを用いて1.5MPaゲージ圧で該オートクレーブの気密テストを行った後、脱圧して、再び密閉した。続いて、該オートクレーブの内容物を撹拌しながら8時間かけて150°Cまで昇温した後、150°C~170°Cの温度を5日間保持し、冷却し、懸濁溶液を得た。このようにして得られた懸濁溶液をろ過し、得られた濾上物に1.5Lのイオン交換水を加えてリパルプした後、再びろ過する水洗を行った。該水洗を2回繰り返した後、洗浄に用いるイオン交換水の量を1.5Lから2Lに変更し、同様の水洗を3回繰り返した。最後のろ過におけるろ液のpHは8.3であった。水洗により得られた濾上物を送風乾燥器にて50°Cで質量減少が認められなくなるまで乾燥し、135gの層状化合物を得た。得られた層状化合物のうち15gを、1.9gのTBOTと混合した750mlの2M硝酸水溶液と、1Lガラスフラスコ中で混合し、懸濁溶液を得た。続いて、該フラスコを135°Cに調整されたオイルバスで加熱し、該フラスコの内容物である懸濁溶液を8時間還流させた。還流終了後、100°C以下まで下がったことを確認し、ろ過を行い、濾上物を得た。続いて得られた濾上物に室温のイオン交換水1.4Lを加え、リパルプした後再びろ過を行うことで水洗を行った。この操作を2回繰り返した。次に、得られた濾上物に100°C付近に加熱したイオン交換水1.4Lを加えリパルプした後、0.7Lろ過したところで残った濾上物とイオン交換水との混合物に100°C付近に加熱したイオン交換水0.7Lを加え、リパルプした後、0.7Lろ過したところで残った濾上物とイオン交換水との混合物に100°C付近に加熱したイオン交換水0.7Lを加えた。加熱したイオン交換水を用いることにより、ろ過速度の改善が確認された。この操作を10回繰り返した後、全量ろ過し、白色固体を得た。最後の濾過により得られたろ液のpHはおよそ5であった。得られた白色固体を、真空乾燥器を用いて150°Cで該白色固体の質量減少が認められなくなるまで乾燥することにより98gの白色粉末を得た。元素分析結果によれば、この白色粉末のTi含有量は2.0質量、Si含有量は38質量であった。また、酸素燃焼-イオンクロマトグラフ分析法によれば、この白色粉末におけるフッ素原子の含有量以下、F含有量と記すことがあるは0.05質量であった。また、紫外可視吸収スペクトル分析の結果、この白色粉末はチタノシリケート以下、新チタノシリケートHという。であった。参考例10新チタノシリケートI上記で得られた1.33gの新チタノシリケートHを、0.005Mに調整した酢酸カルシウム水溶液700mlに加え、0.5時間撹拌した後、ろ過した。ろ液のpHは6であった。続いて室温のイオン交換水700mlを加えてリパルプし、再びろ過する水洗を行った。該水洗を5回繰り返した後、得られた濾上物を150°Cで真空乾燥し、1.1gのチタノシリケート粉末以下、新チタノシリケートIという。を得た。最後の水洗操作におけるろ液のpHは7であった。元素分析結果によれば、新チタノシリケートIのTi含有量は2.0質量、Si含有量は38質量であった。また、酸素燃焼-イオンクロマトグラフ分析法によれば、新チタノシリケートIのF含有量は、検出下限の0.01質量未満であった。参考例11~16[新チタノシリケートを用いるプロピレンの酸化工程]触媒Cの代わりに上記参考例5~10記載の新チタノシリケートD~Iを用いる以外は、実施例2と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行う。参考例17~22[劣化チタノシリケートの調製]チタノシリケートAの代わりに上記参考例5~10記載の新チタノシリケートD~Iを用いる以外は、参考例2と同様の操作を行い、それぞれ対応する劣化チタノシリケートD~Iを得る。参考例23~28[劣化チタノシリケートを用いるプロピレンの酸化工程]触媒Cの代わりに上記参考例17~22記載の劣化チタノシリケートD~Iを用いる以外は、実施例2と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行う。実施例3~8[再生チタノシリケートの調製]触媒Bの代わりに上記参考例17~22記載の劣化チタノシリケートD~I用いる以外は、実施例1と同様の処理を行い、それぞれ対応する再生チタノシリケートD~Iを得る。実施例9~14[再生チタノシリケートを用いるプロピレンの酸化工程]触媒Cの代わりに上記実施例3~8記載の再生チタノシリケートD~Iを用いる以外は、実施例2と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行うことにより、それぞれ対応する新チタノシリケートD~Iと同等の結果を得ることができる。"