"各ターゲット構造が2つ以上のパターン要素のセットを含む3つ以上のターゲット構造を含む複数のターゲット構造を含む多層オーバーレイターゲットであって、前記複数のターゲット構造は、前記複数のターゲット構造が位置合わせされたとき、共通の対称中心を共有するよう構成され、各ターゲット構造は前記共通の対称中心を中心とするN度回転に対して不変であり、Nは180度以上であり、前記2つ以上のパターン要素のそれぞれは個別の対称中心を有し、各ターゲット構造の前記2つ以上のパターン要素のそれぞれは前記個別の対称中心を中心とするM度回転に対して不変であり、Mは180度以上である、多層オーバーレイターゲット。前記2つ以上のパターン要素のセットのうちの第1パターン要素は第1方向におけるオーバーレイ計測測定に対して適用され、前記2つ以上のパターン要素のセットのうちの第2パターン要素は前記第1方向とは異なる第2方向におけるオーバーレイ計測測定に対して適用される、請求項1に記載の多層オーバーレイターゲット。第1方向におけるオーバーレイ計測測定に適用されるパターン要素のセット、および前記第1方向とは異なる第2方向におけるオーバーレイ計測測定に対して適用されるパターン要素の第2セットは共通の対称中心を有する、請求項1に記載の多層オーバーレイターゲット。前記複数のターゲット構造のうちの少なくとも1つの前記2つ以上のパターン要素のうちの少なくとも1つは、周期的なパターンで配列された、または非周期的なパターンで配列された、2つ以上のサブ要素を有するパターン要素、を含む、請求項1に記載の多層オーバーレイターゲット。各ターゲット構造の前記2つ以上のパターン要素のセットはダミーフィルの層の上方または下方にプリントされた、請求項1に記載の多層オーバーレイターゲット。前記複数のターゲット構造のうちのいくつかは、前記複数のターゲット構造のうちの前記いくつかのコントラストを増強するために付加的なセットのパターン要素を含む、請求項1に記載の多層オーバーレイターゲット。前記複数のターゲット構造のうちのいくつかは異なる処理層において配置された、請求項1に記載の多層オーバーレイターゲット。前記複数のターゲット構造のうちの少なくとも2つは同一層内に配置され、前記少なくとも2つのターゲット構造のそれぞれは異なるリソグラフ処理において露光される、請求項1に記載の多層オーバーレイターゲット。各ターゲット構造が2つ以上のパターン要素のセットを含む3つ以上のターゲット構造を含む複数のターゲット構造を含む多層オーバーレイターゲットであって、前記複数のターゲット構造は、前記複数のターゲット構造が位置合わせされたとき、共通の対称中心を共有するよう構成され、各ターゲット構造は前記共通の対称中心を中心とする90度回転に対して不変であり、前記2つ以上のパターン要素のそれぞれは個別の対称中心を有し、各ターゲット構造の前記2つ以上のパターン要素のそれぞれは前記個別の対称中心を中心とするM度回転に対して不変であり、Mは180度以上である、多層オーバーレイターゲット。前記2つ以上のパターン要素のセットのうちの第1パターン要素は第1方向におけるオーバーレイ計測測定に対して適用され、前記2つ以上のパターン要素のセットのうちの第2パターン要素は前記第1方向とは異なる第2方向におけるオーバーレイ計測測定に対して適用される、請求項9に記載の多層オーバーレイターゲット。第1方向におけるオーバーレイ計測測定に適用されるパターン要素のセット、および前記第1方向とは異なる第2方向におけるオーバーレイ計測測定に対して適用されるパターン要素の第2セットは共通の対称中心を有する、請求項9に記載の多層オーバーレイターゲット。前記複数のターゲット構造のうちの少なくとも1つの前記2つ以上のパターン要素のうちの少なくとも1つは、周期的なパターンで配列された、または非周期的なパターンで配列された、2つ以上のサブ要素を有するパターン要素、を含む、請求項9に記載の多層オーバーレイターゲット。各ターゲット構造の前記2つ以上のパターン要素のセットはダミーフィルの層の上方または下方にプリントされた、請求項9に記載の多層オーバーレイターゲット。前記複数のターゲット構造のうちのいくつかは、前記複数のターゲット構造のうちの前記いくつかのコントラストを増強するために付加的なセットのパターン要素を含む、請求項9に記載の多層オーバーレイターゲット。前記複数のターゲット構造のうちのいくつかは異なる処理層において配置された、請求項9に記載の多層オーバーレイターゲット。前記複数のターゲット構造のうちの少なくとも2つは同一層内に配置され、前記少なくとも2つのターゲット構造のそれぞれは異なるリソグラフ処理において露光される、請求項9に記載の多層オーバーレイターゲット。多層オーバーレイ計測ターゲットのコントラスト増強のために好適な装置であって、照明源と、前記照明源から発する光の少なくとも1部分を偏光させるよう構成された第1偏光器と、前記第1偏光器により処理された光の第1部分を対物経路に沿って1つまたは複数の試料の表面に誘導し、且つ前記第1偏光器により処理された光の第2部分を基準経路に沿って誘導するよう構成された第1ビームスプリッタと、前記1つまたは複数の試料の前記表面から反射された光の1部分を収集するよう構成された、1次光軸に沿って配置された検出器と、前記1つまたは複数の試料の前記表面から反射された光の少なくとも1部分を、前記検出器の撮像面に前記光が当たる前に、分析するよう構成された第2偏光器であって、前記第1偏光器および前記第2偏光器は、前記1つまたは複数の試料の未パターン化された部分から反射された光が前記検出器に到達する量を最小化するよう配列された、第2偏光器と、を含む装置。前記第1偏光器の偏光軸は前記第2偏光器の偏光軸に対して実質的に垂直である、請求項17に記載の装置。前記第1偏光器または前記第2偏光器のうちの少なくとも1つは直線偏光器を含む、請求項17に記載の装置。前記第1偏光器は径方向偏光器を含み前記第2偏光器は方位角偏光器を含む、請求項17に記載の装置。第1波長板と、第2波長板と、をさらに含み、前記第1波長板は前記第1偏光器に対して選択された角度で配列され、前記第2波長板は前記第2偏光器に対して選択された角度で配列された、請求項17に記載の装置。多層オーバーレイ計測ターゲットのコントラスト増強のために好適な装置であって、照明源と、前記1つまたは複数の試料の表面から反射された光の1部分を収集するよう構成された、1次光軸に沿って配置された検出器と、前記照明源から発する照明の照射角を選択するよう構成され、且つ前記照射角は選択されたコントラストレベルを前記検出器の撮像面において達成するに好適である、照明経路の瞳面に配置されたアパーチャと、前記アパーチャを通って伝達される光の第1部分を対物経路に沿って1つまたは複数の試料の表面に誘導し、且つ前記アパーチャを通って伝達される光の第2部分を基準経路に沿って誘導するよう構成された第1ビームスプリッタと、を含む装置。可変アパーチャを含み、前記可変アパーチャは、各アパーチャプロファイルが照明構造を作成することに対して好適である、1つまたは複数のアパーチャプロファイルを選択的に作成するよう構成された、請求項22に記載の装置。前記照明経路に沿って配置された第1偏光器と撮像経路に沿って配置された第2偏光器と、をさらに含み、前記第1偏光器、前記第2偏光器、および前記アパーチャは、前記多層オーバーレイ計測ターゲットの対称点において低い強度レベルを生成するよう配列された、請求項22に記載の装置。既存のターゲットおよびターゲット測定システムは多数の実装状況に対して好適であるが、本明細書においては、多くの改善がなされ得ると考えられる。本明細書において説明される本発明は、改善された計測測定を可能にするためのターゲットおよび装置を開示する。撮像に基づく計測において用いられるための多層オーバーレイターゲットが開示される。1つの態様において、多方向オーバーレイマークは、各ターゲット構造が2つ以上のパターン要素のセットを含む3つ以上のターゲット構造を含む複数のターゲット構造を含み得るが、これに限定されない。なお、これらのターゲット構造はターゲット構造が位置合わせされたとき共通の対称中心を共有するよう構成され、各ターゲット構造は共通の対称中心を中心とするN度回転に対して不変であり、Nは180度以上であり、2つ以上のパターン要素のそれぞれは個別の対称中心を有し、各ターゲット構造の2つ以上のパターン要素のそれぞれは個別の対称中心を中心とするM度回転に対して不変であり、Mは180度以上である。他の態様において、撮像に基づく計測において用いられるための多層オーバーレイターゲットは、各ターゲット構造が2つ以上のパターン要素のセットを含む3つ以上のターゲット構造を含む複数のターゲット構造を含み得るが、これに限定されない。なお、これらのターゲット構造はターゲット構造が位置合わせされたとき共通の対称中心を共有するよう構成され、各ターゲット構造は共通の対称中心を中心とする90度回転に対して不変であり、2つ以上のパターン要素のそれぞれは個別の対称中心を有し、各ターゲット構造の2つ以上のパターン要素のそれぞれは個別の対称中心を中心とするM度回転に対して不変であり、Mは180度以上である。多層オーバーレイ計測ターゲットのコントラスト増強のために好適である装置が開示される。1つの態様において、本装置は、照明源と、照明源から発する光の少なくとも1部分を偏光させるよう構成された第1偏光器と、第1偏光器により処理された光の第1部分を対物経路に沿って1つまたは複数の試料の表面へと誘導し、且つ第1偏光器により処理された光の第2部分を基準経路に沿って誘導するよう構成されたビームスプリッタと、1つまたは複数の試料の表面から反射された光の1部分を収集するよう構成された、1次光軸に沿って配置された検出器と、1つまたは複数の試料の表面から反射した光の少なくとも1部分を検出器の撮像面に光が当たる前に分析するよう構成された第2偏光器であって、第1偏光器および第2偏光器は1つまたは複数の試料の未パターン化された部分から反射された光が検出器に到達する量を最小化するよう配列された第2偏光器と、を含むが、これに限定されない。他の態様において、本装置は、照明源と、1つまたは複数の試料の表面から反射された光の1部分を収集するよう構成された、1次光軸に沿って配置された検出器と、照明源から発する照明の照射角を選択するよう構成され、且つこの照射角は選択されたコントラストレベルを検出器の撮像面において達成することに好適である、照明経路の瞳面に配置されたアパーチャと、アパーチャを通って伝達される光の第1部分を対物経路に沿って1つまたは複数の試料の表面へと誘導し、且つアパーチャを通って伝達される光の第2部分を基準経路に沿って誘導するよう構成された第1ビームスプリッタと、を含み得るが、これに限定されない。上述の全般的な説明および以下の詳細な説明の両方が、単に代表的且つ説明的であり、請求項に定められる本発明を必ずしも限定するものではないことを理解すべきである。添付の図面は、本明細書に組み込まれ本明細書の一部を構成するものであって、本発明の実施形態を例示し、本発明の原理を説明する機能を有する。添付の図面に図示される開示された主題について、ここで詳細に参照する。図3~図10を全般的に参照すると、本開示にしたがって説明される撮像に基づくオーバーレイ計測に対して好適であるオーバーレイターゲットが説明される。全般的な意味において、本発明のオーバーレイターゲットは半導体ウエハの2つの連続する処理層間のオーバーレイエラーを判定するために用いられ得る。例えば、オーバーレイターゲットは第2半導体層に対する第1半導体層の位置合わせを測定するために利用され得る。なお、ここで第1層および第2層は連続して配置されたものである。加えて、オーバーレイターゲットは2つ以上の異なる処理例えば、リソグラフ露光により共通の半導体層上に形成された2つの構造間の位置合わせエラーを判定するために用いられ得る。例えば、オーバーレイターゲットは第2パターンに対する第1パターンの位置合わせを測定するために利用され得る。なお、ここで第1パターンおよび第2パターンは同一の半導体層上に形成された連続するパターンである。例えば、2つ以上のオーバーレイターゲットを利用する測定において、オーバーレイターゲットは、第1層および第2層が正しく位置合わせされている場合にオーバーレイターゲットの第1構造および第2構造のパターン要素も位置合わせされるよう、第1ウエハ層および第2ウエハ層上の特定場所にプリントされ得る。一方、第1層および第2層が位置合わせ不良である場合、所与の薄いオーバーレイマーク100の第1構造102および第2構造104のパターン要素間に相対的ずれが存在し、様々な技術を用いて測定可能である。本明細書において説明される構造およびパターン要素は、例えば光リソグラフ技術、エッチング技術、および蒸着技術を例としてあげ得るがこれらに限定されない半導体ウエハ処理に対して好適である当該技術分野において既知である任意の処理を用いて製造され得る。オーバーレイターゲット、オーバーレイターゲットに含まれた構造、パターン要素、パターンサブ要素をプリントするための方法は、2006年2月23日に出願された米国特許出願番号第11/179,819号において概説され、参照することにより本明細書に援用される。図3は、本発明の模範的な実施形態に係る、撮像に基づく計測法に対して好適である6層オーバーレイターゲット300の上面図を示す。1つの態様において、オーバーレイターゲット300は3つ以上のターゲット構造を備え得る。ターゲット300の他の態様において、オーバーレイターゲット300のターゲット構造のそれぞれは2つ以上のパターン要素を備える。本開示の目的のために、図2および本開示全体を通しての図面におけるテクスチャパターンは、ターゲットの異なるターゲット構造を表すために用いられ、同一のターゲット構造に属するパターン要素は同一のテクスチャを有することに注意すべきである。選択されたテクスチャパターンは関連するパターン要素の構造的側面を表すものではなく、単に同一のターゲット構造のパターン要素を表すために利用されるものであるため、本開示の様々な図面において表示されるテクスチャパターンは限定的なものではないと解釈すべきである。例えば、図3に示されるようにターゲット300は6つのターゲット構造を含み得る各構造はユニークなテクスチャを用いて示される。さらに、ターゲット300の6つのターゲット構造のそれぞれは2つのパターン要素を含み得る。例えば、図3に示されるように、第1構造はパターン要素302aおよび302bを含み、第2構造はパターン要素304aおよび304bを含み、第3構造はパターン要素306aおよび306bを含み、第4構造は、パターン要素308aおよび308bを含み、第5構造はパターン要素310aおよび310bを含み、第6構造はパターン要素312aおよび312bを含み得る。さらに全般的には、ターゲット300の所与の構造すなわち、第1、第2、第3~第N構造は、2つのパターン要素から第Nパターン要素まで第Nパターンは含まれるを含み得る。本発明のターゲット300の他の態様において、ターゲット300のターゲット構造のそれぞれは、それぞれのターゲット構造が共通の対称中心110を中心とする180度回転に対して不変となるよう設計される。例えば、図3に示されるように、共通の対称中心110を中心としてターゲット構造を180度回転させると、これらの構造の上面図画像は回転以前の構造の上面図画像に対して依然として同等である。その結果、複数の個別構造から構成されるターゲット全体は、正しく位置合わせされている場合、共通の対称中心110を中心とする180度回転に対して不変となることが、当業者により認識されるであろう。1つの実施形態において、図3に示されるように、各構造の2つのパターン要素は、相互に対して対角線上に対向する位置において配向され得る。その結果、オーバーレイターゲットは全体として180度回転対称となる。共通の対称中心110を中心とする180度回転に対して不変であるオーバーレイターゲット300を利用することにより、3つ以上の層間でのオーバーレイ計測法にターゲット300を用いることが可能となることが、ここで認識される。このように、オーバーレイ計測測定は、オーバーレイターゲット300に存在する6つのターゲット構造の任意のペアを利用して実施され得る。さらに、ターゲット300の各構造の対称中心のコロケーションにより、オーバーレイ計測測定は、6つの構造全部から単一の画像取り込みで取得され得る。第1層および第2層が正しく位置合わせされている場合に第1構造および第2構造は設計により共通の対称中心を共有する一方で、第1層および第2層間が位置合わせ不良である場合は第1構造および第2構造が相互に対してずれることが認識されるべきである。位置合わせ不良の結果として、第1構造の対称中心および第2構造の対称中心にずれが生じ、第1構造および第2構造の対称中心はもはや一致しないであろう。この概念が本発明の所与のターゲット内の構造の全部に対しても適用され得ることが認識される。オーバーレイ測定を可能にするものは、ターゲット300の様々な構造の対称中心間のこのずれの測定である。本明細書において説明されるターゲット200の状況において用いられ得る測定技術は、2007年7月30日に出願された米国特許出願番号第11/830,782号および2005年7月11日に出願された米国特許出願番号第11/179,819号において説明され、参照することにより本明細書に援用される。他の態様において、ターゲット300の各構造の各パターン要素は個別の対称中心を有する。さらに、300のパターン要素は、各パターン要素例えば、302a~302b、304a~304b、その他が個別のパターン要素の対称中心を中心とする90度回転に対して不変となるよう設計される。ターゲット300の各構造の各パターン要素が4回回転対称であることの結果として、Xオーバーレイ測定およびYオーバーレイ測定は同一のパターン要素を利用して実行され得る。図3において示されるターゲット内のターゲット構造の個数およびパターン要素の個数は限定を表すものではなく、むしろ性質上、例示として解釈されるべきであることが、当業者により認識されるべきである。さらに、図3に示される長方形のターゲット領域の使用が限定ではないこと、および全般的に様々なマーク領域形状例えば、正方形、台形、平行四辺形、または楕円形がオーバーレイターゲットの境界の周囲を特徴付けるために用いられ得ることが当業者により認識されるであろう。例えば、所与のターゲットの構造のセットは、最も外側の縁部が長円形形状または円形形状を有するターゲット領域を形成するよう配列され得る。全般的に、第1構造および第2構造の様々なパターン要素の2次元形状は限定的ではない。そのため、図3に示されるパターン要素の正方形形状は限定としてではなく単なる例示としてのみ解釈されるべきである。ターゲット構造300のパターン要素例えば、302a~312bに要求される90度回転不変性を生成し得る様々なパターン要素が存在することが認識される。例えば、ターゲット構造300のパターン要素は、とりわけ正方形形状、十字形状、またはダイヤモンド形状を有するパターン要素を含み得る。他の態様において、図3に示されるように、第1構造のパターン要素は第2構造のパターン要素と同等であり得る。例えば、ターゲット構造300のパターン要素の全部は正方形形状を有し得る。他の態様において、ターゲット構造300の様々な構造のパターン要素は異なり得る。例えば、図示はされないが、第1構造のパターン要素302aおよび302bは第2構造のパターン要素304aおよび304bと異なり得る。例えば、第1構造のパターン要素302aおよび302bは正方形形状を有する一方で、第2構造のパターン要素304aおよび304bは十字形状図示せずを有し得る。他の態様において、単一のターゲット構造すなわち、第1構造または第2構造内のパターン要素の形状は一様であり得る。さらに詳細には、所与の構造内のパターン要素は同一形状を有し得る。例えば、第3ターゲット構造のパターン要素306aおよび306bの両方は正方形形状を有し得る。他の態様において、所与のターゲット構造すなわち、第1構造または第2構造内のパターン要素の形状が一様ではない場合もある。さらに詳細には、所与の構造は2つ以上のパターン要素形状を含み得る。例えば、第4構造は十字形状図示せずを有するパターン要素308a、および正方形形状を有するパターン要素308bを含み得る。パターン要素の形状およびパターン要素の方向の結果としてターゲット構造が共通の対称中心を中心とする180度回転不変性を有し、各ターゲット構造の各パターン要素が個別の対称中心を中心とする90度回転不変性を有する限り、オーバーレイターゲット300のターゲット構造のパターン要素の形状については全般的な限定が存在しないことを認識すべきである。オーバーレイターゲット300の構造のパターン要素は様々なセットの空間的位置にしたがって配列され得る。例えば、第1構造のパターン要素302aおよび302bと、第2構造のパターン要素304aおよび304bと、第3構造のパターン要素306aおよび306bと、第4構造のパターン要素308aおよび308bと、第5構造のパターン要素310aおよび310bと、第6構造のパターン要素312aおよび312bとは、これらのパターン要素が周期的パターンを、または非周期的パターンを形成するよう、配列され得る。例えば、図3に示されるように、パターン要素302a~312bの2次元配列は2次元周期的配列を形成する。様々な配列はターゲット300の180度回転不変性を形成するために好適であることが、ここで考えられる。図4は、本発明の代替的な実施形態に係るオーバーレイターゲット400の上面図を示す。出願人は、特記なき限り、ターゲット300に対して上記で提供された説明が本開示の他の部分においても適用されると解釈すべきであることをここで注記する。本明細書において上記で説明されたターゲット300の場合と同様に、多層オーバーレイターゲット400は、各ターゲット構造が2つ以上のパターン要素を含む3つ以上のターゲット構造を備え得る。例えば、オーバーレイターゲット400は、各ターゲット構造が4つのパターン要素を含む6つのターゲット構造を含み得る。例えば、図4に示されるように、第1構造はパターン要素402a、402b、402c、および402dを、第2構造はパターン要素404a、404b、404c、および404dを、第3構造はパターン要素406a、406b、406c、および406dを、以下同様にその他を、含み得る。ターゲット300の場合と同様に、全般的に、ターゲット400の所与の構造すなわち、第1、第2、第3~第N構造は、2つのパターン要素から第Nパターン要素まで第Nパターンは含まれるを含み得る。ターゲット400の他の態様において、上述のターゲット300と同様に、ターゲット400のターゲット構造のそれぞれは、それぞれのターゲット構造が共通の対称中心110を中心とする180度回転に対して不変となり、その結果、ターゲット400も180度回転に対して不変となるよう、設計される。例えば、図4に示されるように、ターゲット400の第1構造のパターン要素402aおよび402bは、パターン要素402cおよび402dから対角線上に配向され、第1ターゲット構造がその対称中心110を中心とする180度回転に対して不変となるよう配列される。しかし、ターゲット400のターゲット構造が90度回転に対して不変ではないことに注意すべきである。上述のターゲット300と同様に、ターゲット400も3つ以上の層間のオーバーレイ計測法に利用され得る。その結果、オーバーレイ計測測定はオーバーレイターゲット400に存在する6つのターゲット構造の任意のペアを利用して実行され得る。さらに、ターゲット400の各構造の対称中心110のコロケーションにより、オーバーレイ計測測定は、単一の画像取り込みで6つの構造全部から取得され得る。本発明のさらなる態様において、各ターゲット構造に対して、Xオーバーレイ測定に対して利用されるパターン要素のセット例えば、402aおよび402dに対する対称中心は、Yオーバーレイ測定に対して利用されるパターン要素のセット例えば、402bおよび402cに対する対称中心とともに配置される。上記のような設計は単一の画像取り込みにおいてXオーバーレイおよびYオーバーレイの同時取得を可能にすることが認識される。そのため、従来のオーバーレイターゲットと比較して移動取得測定の時間move-acquire-measurementtimeが顕著に短縮される。さらに、図4に示される設計は現在既存の計測ツール手順およびアーキテクチャとの互換性を提供し得ることが認識される。他の態様において、ターゲット400の個別のパターン要素は、各パターン要素例えば、402a~402b、404a~404b、その他が個別のパターン要素の対称中心112を中心とする180度回転に対して不変となるよう、設計される。ターゲット300と対比して、ターゲット400の個別のパターン要素は、個別のパターン要素の対称中心112を中心とする90度回転に対しては不変でないことにさらに注意すべきである。そのため、単一のパターン要素例えば、402aはXオーバーレイおよびYオーバーレイの両方を測定するためには利用され得ない。したがって、個別のパターン要素のそれぞれは、XオーバーレイまたはYオーバーレイのいずれかを測定するために利用され得る。例えば、ターゲット400のターゲット構造は、1つがXオーバーレイのために設計され1つがYオーバーレイのために設計された、パターン要素のペアを含む。図4に示されるパターン要素の形状は、本発明の実装のために好適である180度回転対称しかし90度回転対称ではないを有する他のパターン要素形状が多数存在することが認識されるべきであるため、限定を表すものではない。一般的な意味において、共通の対称中心110を中心とするターゲット構造に対する180度回転対称しかし、90度回転対称は形成しないを形成する一方で、個別のパターン要素例えば、402a~412dに対する各パターン要素対称中心112を中心とする180度回転対称しかし、90度回転対称は形成しないを形成する、任意のパターン要素およびターゲット構造方式が本発明を実装することに対して好適となり得る。この理由のために、図4に示されるターゲット構造およびパターン要素方式は、単に例示としてのみ解釈されるべきであり、限定と考えられるべきではない。図5Aは、本発明の代替的な実施形態に係る、オーバーレイターゲット500の上面図を示す。上記で説明されたオーバーレイターゲットと同様に、多層ターゲット500は、各ターゲット構造が2つ以上のパターン要素を含む3つ以上のターゲット構造を備え得る。例えば、図5Aに示されるように、オーバーレイターゲット500は、各ターゲット構造が4つのパターン要素を含む6つのターゲット構造を含み得る。例えば、図5Aに示されるように、第1構造はパターン要素502a、502b、502c、および502dを、第2構造はパターン要素504a、504b、504c、および504dを、以下同様にその他を、含み得る。再び、全般的に、ターゲット500の所与の構造すなわち、第1、第2、第3~第N構造は、2つのパターン要素から第Nパターン要素まで第Nパターンは含まれるを含み得る。ターゲット300および400と対比して、ターゲット500のターゲット構造のそれぞれは、それぞれのターゲット構造が共通の対称中心110を中心とする90度回転に対して不変となり、その結果、ターゲット500も90度回転に対して不変となるよう、設計される。例えば、図5Aに示されるように、ターゲット500の第6ターゲット構造のパターン要素512a、512b、512c、および512dは、第6ターゲット構造がその対称中心110を中心とする90度回転に対して不変となるよう配列される。他の態様において、ターゲット500の個別のパターン要素は、各パターン要素例えば、502a~502d、504a~504d、その他が個別のパターン要素の対称中心112を中心とする180度回転に対して不変となるよう、設計される。再び、500のパターン要素は、個別のパターン要素の対称中心112を中心とする90度回転に対して不変ではない。したがって、ターゲット400の場合と同様に、単一のパターン要素例えば、502aはXオーバーレイおよびYオーバーレイの両方を測定するためには利用され得ない。そのため、個別のパターン要素のそれぞれは、XオーバーレイまたはYオーバーレイのいずれかを測定するために利用され得る。例えば、ターゲット500のターゲット構造は、1つのペア502aおよび502cがXオーバーレイ測定のために指定され1つのペア502bおよび502dがYオーバーレイ測定のために指定された、2つのペアのパターン要素を含む。ターゲット400の場合と同様に、図5に示されるパターン要素の形状は、本発明の実装に対して好適である、パターン要素の個別の対称中心を中心とする180度回転対称を有するしかし90度回転対称は形成しない他のパターン要素形状が多数存在することが認識されるべきであるため、限定を表すものではない。一般的な意味において、共通の対称中心110を中心とするターゲット構造に対する90度回転対称を形成する一方で、個別のパターン要素例えば、502a~512dに対する各パターン要素対称中心112を中心とする180度回転対称しかし、90度回転対称は形成しないを形成する、任意のパターン要素およびターゲット構造方式が本発明を実装することに対して好適となり得る。この理由のために、図5に示されるターゲット構造およびパターン要素方式は、単に例示としてのみ解釈されるべきであり、限定と考えられるべきではない。図5Bは、本発明の代替的な実施形態に係る、オーバーレイターゲット501の上面図を示す。上記で説明されたオーバーレイターゲットと同様に、多層ターゲット501は、各ターゲット構造が2つ以上のパターン要素を含む3つ以上のターゲット構造を備え得る。例えば、図5Bに示されるように、オーバーレイターゲット501は、各ターゲット構造が4つのパターン要素を含む6つのターゲット構造を含み得る。例えば、図5Bに示されるように、第1構造はパターン要素514a、514b、514c、および514dを、第2構造はパターン要素516a、516b、516c、および516dを、第3構造はパターン要素518a、518b、518c、および518dを、以下同様にその他を、含み得る。再び、全般的に、ターゲット501の所与の構造すなわち、第1、第2、第3~第N構造は、2つのパターン要素から第Nパターン要素まで第Nパターンは含まれるを含み得る。図5Aと対比して、オーバーレイターゲット501は180度に対しては不変となるが90度に対しては不変とならないよう設計される。このように、ターゲット501のターゲット構造のそれぞれは、それぞれのターゲット構造が少なくとも共通の対称中心110を中心とする180度回転に対して不変となり、その結果、ターゲット501も180度回転に対して不変となるよう、設計される。例えば、図5Bに示されるように、ターゲット501の第6ターゲット構造のパターン要素524a、524b、524c、および524dは、第6ターゲット構造がその対称中心110を中心とする180度回転しかし90度回転ではないに対して不変となるよう配列される。出願人は、オーバーレイターゲット501を構成するターゲット構造のそれぞれが必ずしも180度回転対称に限定される必要がないことを注記する。例えば、図5Bに示されるように、パターン要素518a、518b、518c、および518dの配列が90度回転不変ターゲット構造を形成することに注意すべきである。一方、図5Bに示されるように、6つのターゲット構造の組み合わせは、残りのターゲット構造が90度回転対称を有さないため、90度回転対称は有さないが180度回転対称を有する、オーバーレイターゲット501を形成する。一般的な意味において、共通の対称中心110を中心とするターゲット構造に対する180度回転対称を形成する一方で、個別のパターン要素例えば、514a~524dに対する各パターン要素対称中心112を中心とする180度回転対称を形成する、任意のパターン要素およびターゲット構造方式が本発明を実装することに対して好適となり得る。この理由のために、図5Bに示されるターゲット構造およびパターン要素方式は、単に例示としてのみ解釈されるべきであり、限定と考えられるべきではない。図6は、本発明の代替的な実施形態に係る、オーバーレイターゲット600の上面図を示す。本明細書において上述のオーバーレイターゲットの様々な実施形態の1つまたは複数のターゲット構造は、オーバーレイ計測測定プロセスにおける実装に対して好適である十分なコントラストを欠き得ることが認識される。所与のオーバーレイターゲット600の1つまたは複数のターゲット構造が、全ターゲット構造表面積を増加させることにより、強化され得、その結果、強化されたターゲット構造の情報内容が増加され得ることが考えられる。例えば、所与のターゲット構造に含まれるパターン要素の個数は所与のターゲット構造のコントラストレベルにより決定され得る。例えば、図6に示されるように、ターゲット600の第1構造は望ましいレベルよりもより低いコントラストレベルを有し得る。そのため、ターゲットの設計者は、ターゲット構造に対して付加的なパターン要素を含めることにより、コントラストを増強し得る。このように、ターゲット600の第1ターゲット構造は、ターゲット600の残りのターゲット構造における2つのみのパターン要素とは異なり、4つの全体的パターン要素602a、602b、602c、および602dを含む。所与のターゲット構造のコントラストを増強するために利用される付加的なパターン要素が所与のターゲットに対する設計ルールのセット全体に準拠するよう設計されるべきことも認識される。そのため、付加的なパターン要素は、上述のターゲット300、400、500、および501と一貫する方法で、全体的なターゲット構造および個別のパターン要素に課せられる対称要件に準拠するべきである。例えば、図6に示されるように、パターン要素602a、602b、602c、および602dは、ターゲット600全体の対称中心110を中心とする180度回転対称を保持する。その結果、ターゲット600は、本明細書において上述のターゲット300、400、および501と同様の方法で、対称中心110を中心とする180度回転対称を保持するであろう。さらに、図6にも示されるように、パターン要素602a、602b、602c、および602dは、本明細書において上述のターゲット200と一貫した方法で、個別のパターン要素の対称中心を中心とする90度回転対称を保持する。図7は、本発明の代替的な実施形態に係る、オーバーレイターゲット700の上面図を示す。ターゲット700の各ターゲット構造が情報内容すなわち、コントラストの適切なレベルを達成するに必要であるパターン要素の個数を含み得ることがここで考えられる。このように、1つまたは複数のターゲット構造の情報内容は、コントラストが欠けるターゲット構造の全ターゲット構造面積を増加させることにより、満足され得る。例えば、図7に示されるように、ターゲット700の第1構造、第2構造、第3構造、および第4構造は、異なる程度の情報欠損を有し得る。そのため、設計者は、この欠損を埋め合わせるために各ターゲット構造のパターン要素の個数を調整し得る。例えば、最も低いコントラストレベルを有する第1構造は、12個のパターン要素702a、702b、702c、702d、702e、702f、702g、702h、702i、702j、702k、および702lを含み得る。同様に、第2構造および第3構造は、同様のコントラストレベル必要性を有し得、それぞれは8つの全体的パターン要素を含む。第2構造は704a、704b、704c、704d、704e、704f、704g、および704hを含む一方で、第3構造は706a、706b、706c、および706dを含む。対比的に、ターゲット700の第4ターゲット構造はコントラスト増強をわずかしか要求せず、または余剰情報内容を有し得る。このように、第4表面構造に対して通常指定される表面積は、これらの不足するターゲット構造におけるコントラストを増強する一方でオーバーレイターゲット700に対する全表面積要件を満足するために、他のターゲット構造のうちの1つに再分配され得る。例えば、第4ターゲット構造は、4つのみのターゲットパターン要素708a、708b、708c、および708dを含み得る。オーバーレイターゲット700のターゲット構造のコントラストを増強するために利用される付加的なパターン要素が所与のターゲットに対する設計ルールのセット全体に準拠するよう設計されるべきことも認識される。そのため、付加的なパターン要素は、上述のターゲット400、500、および501と一貫する方法で、全体的なターゲット構造および個別のパターン要素に課せられる対称要件に準拠するべきである。例えば、図7に示されるように、第2ターゲット構造のパターン要素704a~704hは、ターゲット700全体の対称中心110を中心とする90度回転対称を保持する一方で、第4ターゲット構造のパターン要素708a~708dは対称中心110を中心とする180度回転対称を有する。その結果、ターゲット700は、本明細書において上述のターゲット400および501と同様の方法で、少なくとも対称中心110を中心とする180度回転対称を保持するであろう。付加的パターン要素を上述のように利用することは、オーバーレイターゲットが図5Aに示されるターゲット500と同様の90度回転対称を有するよう実装され得ることもさらに認識される。さらに、図7にも示されるように、個別のパターン要素702a~702l、704a~704h、706a~706h、および708a~708dは、それぞれが、本明細書において上述のターゲット400、500、および501の場合と一貫した方法で、それぞれの個別のパターン要素の対称中心を中心として180度回転対称である。図8は、本発明の代替的な実施形態に係る、ダミーフィル801が存在する場合におけるオーバーレイターゲット800の上面図を示す。Xオーバーレイ測定およびYオーバーレイ測定が異なるパターン要素を利用して実行されるオーバーレイターゲット400、500、および501は、ダミーフィル801が存在する場合におけるオーバーレイ計測測定処理を可能にすることが認識されるべきである。例えば、図8は、ダミーフィル801が存在する場合において実装されたオーバーレイターゲット800を示す。例えば、オーバーレイターゲット800は、各ターゲット構造が4つのパターン要素を含む6つのターゲット構造を含む。このように、第1構造はパターン要素802a~802dを含み、第2構造はパターン要素804a~804dを含み、第3構造はパターン要素806a~806dを含み、第4構造はパターン要素808a~808dを含み、第5構造はパターン要素810a~810dを含み、第6構造はパターン要素812a~812dを含む。さらに、図8の例において、各構造のパターン要素のうちの2つがXオーバーレイ測定のために指定される例えば、802a、806a、または810a一方で、各ターゲット構造の残りの2つのパターン要素がYオーバーレイ測定のために指定される例えば、812d、808d、または804dことが指摘される。さらなる実施形態において、ターゲット800のパターン要素例えば、802a~812dは、それぞれが複数のサブ要素803を含む。例えば、図8に示されるように、各パターン要素例えば、802a~812dは、3つの平行である薄い長方形状であり且つ周期的に離間するサブ要素803を含み得る。図8に示されるサブ要素803の形状および配列が限定を表すものではなく、むしろ例示であるとして解釈されるべきであることに注意すべきである。ダミーフィル801が、図8により示されるようにオーバーレイターゲット800の上方または下方にプリントされた周期的な格子構造から構成され得ることがさらに認識される。さらなる実施形態において、各構造の各パターン要素例えば、802a~812dのサブ要素803は、ダミーフィル801構造の格子構造に対して直交方向に整列され得る。この点に関して、ダミーフィル801の線はサブ要素803構造の線に対して直行する。出願人は、パターン要素例えば、802a~812dのサブ要素803をダミーフィル構造801に対して直交させることにより、所与のオーバーレイターゲットの計測信号が下側にあるダミーフィル構造801からの情報により混交される危険性が緩和されることを注記する。本明細書において上述のターゲット400および501の場合と同様に、オーバーレイターゲット800がそのターゲットの構成要素であるターゲット構造の共通の対称中心を中心とする180度回転対称を有する一方で、ターゲット800の個別のパターン要素例えば、802a~812dが各個別のパターン要素の対称中心を中心とする180度回転対称を有することがさらに認識される。さらなる実施形態において、パターン要素例えば、802a~812dのサブ要素803の、ダミーフィル構造801の、またはその両方の周期は、計測システムを実装するために好適であるよりも低い解像度から構成され得る。特に、1次から-1次の回折次数は、計測システムの撮像システムの対象のアパーチャの外部に落ち得る。ターゲット800の計測信号がダミーフィルパターン801からの信号と混交する危険性がさらに緩和されるため、この特徴はダミーフィル構造の場合に特に有利であることがここで認識される。図9は、本発明の代替的な実施形態に係る、ダミーフィル801が存在する場合におけるオーバーレイターゲット900の上面図を示す。ターゲット900は、同等の対称要件を有する他にも、パターン要素およびダミーフィルが直交する配向を有するという点で、ターゲット800と同様である。一方、ターゲット900は、計測処理における実装に好適である正方形寸法ターゲットを示す。図10は、本発明の代替的な実施形態に係る、ダミーフィル801が存在する場合におけるオーバーレイターゲット1000の上面図を示す。ターゲット1000は、同等の対称要件を有する他にも、パターン要素およびダミーフィルが直交する配向を有するという点で、ターゲット800と同様である。一方、ターゲット1000は、図6および図7に関して本明細書で上述のコントラスト増強の実装を示す。さらに、図10はオーバーレイターゲット1000の中心に配置された取得マーク1001を示す。取得マーク1001を利用することにより、所与の計測ツールの視野域の中心にターゲットを位置決めするために、ターゲット中心の概略位置が特定され得る。全般に図11および図12を参照すると、コントラスト増強に好適であるシステム1100および1200が本発明にしたがって説明される。本発明のシステム1100および1200は、本明細書において上述の様々な多層ターゲットの実装を可能にし得ることがここで考えられる。本発明の多層ターゲットに関連する1つの制限は、測定構造が小さいことに関連する情報内容すなわち、コントラストレベルの欠損が生じ得ることを含む。システム1100および1200は、本発明の様々な多層ターゲットの1つまたは複数のターゲット構造における低コントラストの存在を抑制するために、増強されたコントラストレベルを提供することを目的とするものである。システム1100は、本発明の多層ターゲットのターゲット構造に関連する1つまたは複数の測定構造に関連するコントラストレベルを増強するために、構造化された照明の利用を目的とするものである。さらに、システム1200は、本発明の多層ターゲットのターゲット構造に関連する1つまたは複数の測定構造に関連するコントラストレベルを増強するために、交差偏光の利用を目的とするものである。本発明のシステム1100および1200は、既存の光学計測システムの適応または再構成から構成され得るしかし必ずしも構成されるとは限らないことがここで考えられる。例えば、本発明は、KLA-Tencor社Archer100オーバーレイ制御システムを適用することから構成され得る。例えば、システム1200の場合、第1直線偏光器が従来のシステム例えば、Archer100システムの照明経路に挿入される一方で、第2直線偏光器が従来のシステムの撮像経路内に配置され得る。システム1100の場合、アパーチャが従来のシステム例えば、Archer100システムの照明経路の瞳面に挿入され得る。本発明がArcher100システムの適用に限定されず、むしろ上記の説明は単に例示としてのみ解釈されるべきことが認識されるべきである。本発明は広範な種類の顕微鏡検査およびオーバーレイ計測システムに適用され得ることが期待される。図11を参照すると、多層オーバーレイ計測ターゲットのコントラスト増強に好適であるシステム1100は、照明源1102と、アパーチャ1104と、ビームスプリッタ1108と、1つまたは複数の試料1114例えば、ウエハロットの1つまたは複数のウエハから反射された光を受容するよう構成された検出器1110とを備え得る。システム1100の照明源1102は当該技術分野において既知である任意の照明源を含み得る。1つの実施形態において、照明源1102は広帯域光源例えば、白色光源を含み得る。例えば、照明源1102はハロゲン光源HLS:halogenlightsourceを含み得るが、これに限定されない。例えば、ハロゲン光源はタングステンベースのハロゲンランプを含み得るが、これに限定されない。他の例において、照明源1102はキセノンアークランプを含み得る。本発明の他の態様においては、システム1100のビームスプリッタ1108は、照明源1102から発する光ビームを、アパーチャを通過した後に、対物経路1112および基準経路1113の2つの経路に分割し得る。この意味において、システム100の対物経路1112および基準経路113は、2ビーム干渉光学システムの1部分を形成し得る。例えば、ビームスプリッタ1108は、照明経路1115からの光ビームの第1部分を対物経路1112に沿って誘導する一方で照明経路115からの光ビームの第2部分が基準経路1113に沿って伝達されることを可能にし得る。さらに詳細には、ビームスプリッタ108は、照明源1102から発する光の1部分を、アパーチャ1104を通過した後に、試料ステージ1118上に配置された試料1114の表面に例えば、対物経路1112を介して誘導し得る。さらに、ビームスプリッタ1108は、照明源1102から発する光の第2部分を基準経路1113の構成部品に伝達し得る。例えば、ビームスプリッタ1108は照明経路1115からの光の1部分を基準経路1113に沿って基準ミラー図示せずに伝達し得る。当業者は、当該技術分野において既知である任意のビームスプリッタが、本発明の1ビームスプリッタ1108として実装されるために好適であることを認識すべきである。基準経路1113が、基準ミラー、基準対物レンズ、および基準経路1113を選択的に遮蔽するよう構成されたシャッターを含み得るがこれらに限定されないことは、当業者には明白であるべきである。一般的な意味において2ビーム干渉光学システムがリニク干渉計として構成され得る。ニリク干渉分光法は1989年4月4日に発行された米国特許第4,818,110号および2001年1月9日に発行された米国特許第6,172,349号において概説されている。なお、これらの特許は参照することにより本明細書に援用される。他の実施形態において、システム1100は主要対物レンズ1109を備え得る。主要対物レンズ1109は試料ステージ1118上に配置された試料1114の表面へと光を対物経路1112に沿って誘導することを支援し得る。例えば、ビームスプリッタ1108は、照明源1102から発する光ビーム1115の1部分を、アパーチャ1104を通過した後に、対物経路1112に沿って誘導し得る。ビームスプリッタ1108による分割処理の後、主要対物レンズ1109は1次光軸1107と同一線上にある対物経路1112からの光を試料1114の表面上に合焦させ得る。一般的な意味において、当該技術分野において既知である任意の対物レンズが本発明の主要対物レンズ1109として実装されることに対して好適である。さらに、試料1114の表面上に当たる光の1部分は、試料1114により反射され、対物レンズ1109およびビームスプリッタ1108を介して1次光軸1107に沿って検出器1110に向かって誘導され得る。中間レンズ、付加的なビームスプリッタ例えば、光の1部分を合焦システムに分岐させるよう構成されたビームスプリッタ、および撮像レンズ1106等の中間光学装置が対物レンズ1109と検出器1110の撮像面との間に配置され得ることがさらに認識されるべきである。本発明の他の態様において、システム100の検出器1110は、システム1100の1次光軸1107に沿って配置され得る。この点に関して、カメラ1110が試料1114の表面からの画像データを収集するよう構成され得る。例えば、一般的な意味において、試料1114の表面から反射された後、光は、主要対物レンズ1109およびビームスプリッタ1108を介して1次光軸1107に沿って検出器1110の撮像面へと伝わり得る。当該技術分野において既知である任意の検出器システムが本発明における実装に対して好適であることを認識すべきである。例えば、検出器1110は電荷結合素子CCD:chargecoupleddeviceに基づくカメラシステムを含み得る。他の例として、検出器1110は時間遅延積分TDI:timedelayintegration-CCDに基づくカメラシステムを含み得る。さらなる態様において、検出器1110はコンピュータシステム図示せずと通信可能に連結され得る。この点に関して、デジタル化された画像データは、有線信号例えば、銅線、光ファイバケーブル、等または無線信号例えば、無線RF信号等の信号を介して、検出器1110からコンピュータシステムに伝達され得る。上記の説明は、システム1100の1次光軸1107に沿って配置されるものとして検出器110を説明するが、この特徴は要件として解釈されるべきではない。検出器1110はシステム1100の付加的な光軸に沿って存在し得ることがここで考えられる。例えば、一般的な意味において、1つまたは複数の付加的なビームスプリッタが、試料1114の表面から反射された光の1部分の進路を変更させ、対物経路1112に沿って付加的な光軸へと伝えるために利用され得る。なお、この付加的な光軸は対物経路1112に対して平行ではない。カメラ1110は、その付加的な光軸に沿って伝わる光がカメラ1110の撮像面に当たるよう、配列され得る。本発明の1つの態様において、アパーチャ1104は照明経路1115の瞳面に配置され得る。この点に関して、アパーチャ1104は、照明源1102から発する照明の所定の照射角を選択するために良好に画成された形状を有するよう構成され得る。照射角は検出器1110の撮像面において選択されたコントラストレベルを達成するよう選択される。1つの実施形態において、アパーチャは1つの幾何学的形状を、または複数の幾何学的形状の組み合わせを、有し得る。例えば、アパーチャはX形状または十字形状を有し得る。他の例において、アパーチャはリング形状を有し得る。これらの形状が回折光学素子を介して達成され得ることがここでさらに認識される。他の実施形態において、照明経路は複数のアパーチャを含み得る。この点に関して、複数のアパーチャのうちの1つは、特定のスタックおよびターゲット設計に対するコントラストレベルを最適化するために、レシピトレーニングの間に選択され得る。このことが試行錯誤方法を利用して実行され得ることがここで認識される。他の実施形態において、アパーチャ1104は可変アパーチャを含み得る。例えば、アパーチャ1104は、複数の選択可能な照明構造を形成するためにユーザによりプログラムされ得る可変アパーチャから構成され得る。この点に関して、プログラムされた可変アパーチャは、特定のスタックまたはターゲット設計に対してコントラストを最適化するための方法で調節され得る。例えば、可変アパーチャはマイクロミラーアレイを含み得るが、これに限定されない。図12を参照すると、多層オーバーレイ計測ターゲットのコントラスト増強に好適であるシステム1200は、照明源1202と、第1偏光器1204と、ビームスプリッタ1206と、第2偏光器1208と、1つまたは複数の試料1212例えば、ウエハロットの1つまたは複数のウエハから反射された光を受容するよう構成された検出器1210とを備え得る。照明源1202、ビームスプリッタ1206、1210の検出器、試料ステージ1214、および基準経路1216は、システム1100の照明源1102、ビームスプリッタ1108、1110の検出器、試料ステージ1118、および1113の基準経路と同様であることがここで認識される。そのため、システム1100の説明は、別記する場合を除き、システム1200にも適用されると解釈されるべきである。1つの態様において、第1偏光器1204は照明源1202から発する光を偏光させるよう配列される。例えば、第1の1204は、照明源1202から発する光が第1偏光器1204により偏光され得るよう、照明経路1205に沿って配置され得る。他の態様において、第2偏光器1208は、試料1202から反射された光に対する分析器として機能するよう配列され得る。この点に関して、第1偏光器1204および第2偏光器1208は、検出器1210の撮像面に到達する、試料1212の未パターン化された部分から、または試料1212の周期的な未識別パターンから、反射された光の量が最小化されるよう、構成され得る。1つの実施形態において、第1偏光器1204および第2偏光器1208の両方は直線偏光器を含み得る。直線偏光器の場合、第1偏光器1204および第2偏光器1208は、それらの偏光軸が相互に対して実質的に直交するよう、配列され得る。この構成の結果、検出器1210の撮像面に到達する反射光の大部分は計測ツールにより識別された試料のパターンから反射された光から構成されることとなり、それにより、コントラストが顕著に増強される。さらに他においては、第1偏光器1204は径方向偏光された光のみを伝達するよう構成された偏光器を含み得る一方で、第2偏光器は方位角偏光した光のみを伝達するよう構成される。試料1212の未パターン化された部分からの信号は他の様々な方法で最小化され得ることがさらに認識されるべきである。例えば、波長板および偏光器の組み合わせが上述の結果を達成するために実装され得ることがここで認識される。例えば、第1偏光器1204と第1偏光器に対して45度に配向された第1の1/4波長板図示せずが照明経路1205において配置され得る一方で、第2偏光器1208と第2偏光器に対して45度に配向された第2の1/4波長板図示せずが撮像経路1209に沿って配置され得る。当業者は、この配列を利用することにより検出器1210の撮像面に到達する試料1212の未パターン化された部分から反射された光の量が最小化されることを認識するであろう。上述の交差偏光効果を作る偏光器および波長板例えば、1/2波長板の任意の組合せが本発明における実装に対して好適となり得ることがさらに認識される。システム1100および1200がコントラストレベルを増強するために組み合わせて利用され得ることがここでさらに考えられる。この点に関して、本発明は、ターゲットの対称点において強度がより低いレベルとなることを確保するために利用され得る。構造化された照明および交差偏光の組み合わせに関する本発明の態様が、図13に示された照明瞳を利用することにより実装され得ることがここで認識される。例えば、好適な照明瞳は、十字形状1302、垂直線形状1304例えば、Y方向、または水平線形状1306例えば、X方向を有し得る。さらに、照明瞳1302、1304、および1306は、照明偏光器および撮像偏光器と組み合わせて実装され得る。第1の実施形態において、照明瞳1302~1306は、システムの照明経路例えば、1115または1205内に配置されたX偏光器およびシステムの撮像経路例えば、1107または1207内に配置されたY偏光器と協調して実装され得る。第2の実施形態において、照明瞳1302~1306は、システムの照明経路内に配置されたY偏光器およびシステムの撮像経路内に配置されたX偏光器と協調して実装され得る。本明細書で説明されるシステムおよび方法の全部は、本方法の実施形態の1つまたは複数のステップの結果を記憶媒体に記憶することを含み得る。これらの結果は、本明細書で説明される結果のうちのいずれかを含み得、当該技術分野において任意の既知の方法で記憶され得る。記憶媒体は、本明細書で説明される任意の記憶媒体、または当該技術分野において既知である任意の他の好適な記憶媒体を含み得る。結果が記憶された後、結果は、記憶媒体においてアクセスされること、本明細書において説明される方法またはシステムの実施例のいずれかにより用いられること、ユーザに表示するためにフォーマットされること、任意のソフトウェアモジュール、方法、またはシステム、その他により用いられること、が可能である。さらに、結果は、永久的、半永久的、一時的、または何らかの時間的期間にわたり記憶され得る。例えば、記憶媒体はランダムアクセスメモリRAM:randomaccessmemoryであり得、結果は、記憶媒体内で必ずしも無期限に持続するとは限らない。当業者は、本明細書において説明されたプロセスおよび/またはシステムおよび/または他の技術が実施され得る様々な手段例えば、ハードウェア、ソフトウェア、および/またはファームウェアが存在すること、および好適な手段はプロセスおよび/またはシステムおよび/または他の技術が用いられる状況とともに変化するであろうことを理解するであろう。例えば、開発者が速度および正確度が重要であると判断した場合、開発者は主にハードウェアおよび/またはファームウェア手段を選択すればよく、代替的に、柔軟性が重要である場合、開発者は主にソフトウェア実装を選択すればよい。あるいは、再び代替的に、開発者はハードウェア、ソフトウェア、および/またはファームウェアの何らかの組み合わせを選択すればよい。したがって、本明細書において説明されたプロセスおよび/または装置および/または他の技術が実施され得るいくつかの可能な手段が存在し、そのうちのいずれかが、利用される任意の手段は、その手段が用いられるであろう状況および開発者の特定の問題例えば、速度、柔軟性、または予測可能性。なお、これらの問題のいずれもが変化し得るに依存する選択であるという意味で、他の手段に対して本質的に優位であるということはない。当業者は、これらの実装の光学的な態様が、通常、適当な形のハードウェア、ソフトウェア、および/またはファームウェアを用い得ることを認識するであろう。当業者は、装置および/または処理を本明細書において説明された方法で説明すること、および、その後、技術的手法を用いて係る説明された装置および/またはプロセスをデータ処理システムに統合することが、当該技術分野において一般的であることを認識するであろう。すなわち、装置および/またはプロセスの少なくとも1部分は、適切な量の実験を経た後、データ処理システムに統合することが可能である。典型的なデータ処理システムが、1つまたは複数のシステムユニット筐体、ビデオディスプレイ装置、揮発性メモリならびに不揮発性メモリ等のメモリ、マイクロプロセッサならびにデジタルシグナルプロセッサ等のプロセッサ、オペレーティングシステム、ドライバ、グラフィカルユーザインターフェース、ならびにアプリケーションプログラム等の計算実体、タッチパッドまたはスクリーン等の1つまたは複数の相互作用装置、および/またはフィードバックループならびに制御モータ例えば、位置および/または速度を検出するためのフィードバック、および構成品の移動および/または調節および/または量を調節するための制御モータを含む制御システムを、一般に含むことを認識するであろう。典型的なデータ処理システムは、データ演算/通信および/またはネットワーク演算/通信システムにおいて一般的に見られる構成品等の、任意の好適な市販の構成品を利用して実装され得る。本明細書において説明された主題は、異なる他の構成品に含まれた、または異なる他の構成品と接続された、異なる構成品を示す場合もある。このように示された構造が単に例示的であり、実際には、同一の機能を達成する他の多数の構造が実装され得ることが、理解されるであろう。概念的な意味では、同一の機能を達成するための構成品の任意の配列は、所望の機能が達成されるよう、効果的に関連付けられる。したがって、特定の機能を達成するために組み合わされた2つの構成品は、構造または中間構成品に関わらず、所望の機能が達成されるよう、相互に関連付けられたものとみなされ得る。同様に、そのように関連付けられた任意の2つの構成品は、所望の機能を達成するために相互に対して接続または連結されたものとみなされ得、このように関連付けられ得る任意の2つの構成品は所望の機能を達成するために相互に対して連結可能であるともみなされ得る。連結可能の具体例は、物理的に結合可能であるおよび/または物理的に相互作用可能である構成品、および/または無線により相互作用可能であるおよび/または無線により相互作用する構成品、および/または論理的に相互作用するおよび/または論理的に相互作用可能な構成品を含むが、これに限定されない。本明細書において説明された主題に係る特定の態様が図示および説明されてきたが、当業者は、本明細書の教示に基づいて、本明細書において説明された主題およびその広範な態様から逸脱することなく様々な変更例および修正例が可能であること、したがって、添付の請求項は、本明細書において説明された主題の真の精神および範囲に含まれる係る変更例および修正例をその範囲において含むものであることを、当業者は理解するであろう。本発明の特定の実施形態が例示されてきたが、本発明の様々な修正例および実施形態が前述の開示の範囲および精神から逸脱することなく当業者によって可能であることは明白である。したがって、本発明の範囲は本明細書に添付される請求項によってのみ限定されるべきである。本開示および本開示に付随する特長は前述の説明により理解されると考えられ、様々な変更例が、開示された主題から逸脱することなく、またはその物質的特長の必ずしも全部を犠牲にすることなく、これらの構成品の形態、構成、および配列において可能であることは明白であろう。説明された形態は単に説明的であり、係る変更例を含むことは以下の請求項の意図するところであろう。さらに、本発明が添付の請求項により定められることを理解すべきである。"