内燃機関からの排ガスに含まれる粒子状物質を酸化して浄化するための酸化触媒を備える排ガス浄化装置であって、前記酸化触媒が、Caの硫酸塩及びリン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種の金属塩からなる担体と、該担体に担持された銀含有物質とを備えること、を特徴とする排ガス浄化装置。前記銀含有物質が、銀、酸化銀、炭酸銀、硫酸銀及びリン酸銀からなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の排ガス浄化装置。前記酸化触媒が、前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒をパティキュレートフィルタ上に担持したものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の排ガス浄化装置。前記酸化触媒に空燃比がリーンである排ガスを接触させる工程と、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程とを交互に実施するように制御する第一制御手段を更に備えることを特徴とする請求項1~3のうちのいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。前記酸化触媒に堆積された前記排ガス中のアッシュの量を推定するアッシュ堆積量推定手段を更に備えることを特徴とする請求項1~4のうちのいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。前記アッシュ堆積量推定手段により推定されるアッシュの堆積量が基準値を超えた場合に、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程を実施するように制御する第二制御手段を更に備えることを特徴とする請求項5に記載の排ガス浄化装置。内燃機関からの排ガスに含まれる粒子状物質を酸化して浄化するための酸化触媒を備える排ガス浄化装置を用いて該酸化触媒に排ガスを接触させることにより前記粒子状物質を浄化する排ガス浄化方法であって、前記酸化触媒が、Caの硫酸塩及びリン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種の金属塩からなる担体と、該担体に担持された銀含有物質とを備えるものであること、を特徴とする排ガス浄化方法。前記銀含有物質が、銀、酸化銀、炭酸銀、硫酸銀及びリン酸銀からなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項7に記載の排ガス浄化方法。前記酸化触媒が、前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒をパティキュレートフィルタ上に担持したものであることを特徴とする請求項7又は8に記載の排ガス浄化方法。前記酸化触媒に空燃比がリーンである排ガスを接触させる工程と、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程とを交互に実施することを特徴とする請求項7~9のうちのいずれか一項に記載の排ガス浄化方法。前記排ガス浄化装置が、前記酸化触媒に堆積された前記排ガス中のアッシュの量を推定するアッシュ堆積量推定手段を更に備えたものであり、且つ、前記アッシュ堆積量推定手段により推定されるアッシュの堆積量が基準値を超えた場合に、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程を実施することを特徴とする請求項7~10のうちのいずれか一項に記載の排ガス浄化方法。本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、アッシュの堆積による粒子状物質の酸化性能の低下が十分に抑制され、アッシュの堆積後においても十分に高度な粒子状物質の酸化性能を発揮することが可能な排ガス浄化装置、及び、その排ガス浄化装置を用いた排ガス浄化方法を提供することを目的とする。本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、内燃機関からの排ガスに含まれる粒子状物質を酸化して浄化するための酸化触媒を備える排ガス浄化装置おいて、前記酸化触媒を、Caの硫酸塩及びリン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種の金属塩からなる担体と、該担体に担持された銀含有物質とを備えるものとすることにより、アッシュの堆積による酸化性能の低下が十分に抑制され、アッシュの堆積後においても十分に高度な粒子状物質の酸化性能を発揮することが可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の排ガス浄化装置は、内燃機関からの排ガスに含まれる粒子状物質を酸化して浄化するための酸化触媒を備える排ガス浄化装置であって、前記酸化触媒が、Caの硫酸塩及びリン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種の金属塩からなる担体と、該担体に担持された銀含有物質とを備えること、を特徴とするものである。上記本発明の排ガス浄化装置においては、前記銀含有物質が、銀、酸化銀、炭酸銀、硫酸銀及びリン酸銀からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。また、上記本発明の排ガス浄化装置においては、前記酸化触媒が、前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒をパティキュレートフィルタ上に担持したものであることが好ましい。また、上記本発明の排ガス浄化装置においては、前記酸化触媒に空燃比がリーンである排ガスを接触させる工程と、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程とを交互に実施するように制御する第一制御手段を更に備えることが好ましい。さらに、上記本発明の排ガス浄化装置においては、前記酸化触媒に堆積された前記排ガス中のアッシュの量を推定するアッシュ堆積量推定手段を更に備えることが好ましく、そのようなアッシュ堆積量推定手段を備える場合においては、前記アッシュ堆積量推定手段により推定されるアッシュの堆積量が基準値を超えた場合に、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程を実施するように制御する第二制御手段を更に備えることがより好ましい。また、本発明の排ガス浄化方法は、内燃機関からの排ガスに含まれる粒子状物質を酸化して浄化するための酸化触媒を備える排ガス浄化装置を用いて該酸化触媒に排ガスを接触させることにより前記粒子状物質を浄化する排ガス浄化方法であって、前記酸化触媒が、Caの硫酸塩及びリン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種の金属塩からなる担体と、該担体に担持された銀含有物質とを備えるものであること、を特徴とする方法である。上記本発明の排ガス浄化方法においては、前記銀含有物質が、銀、酸化銀、炭酸銀、硫酸銀及びリン酸銀からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。また、上記本発明の排ガス浄化方法においては、前記酸化触媒が、前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒をパティキュレートフィルタ上に担持したものであることが好ましい。また、上記本発明の排ガス浄化方法においては、前記酸化触媒に空燃比がリーンである排ガスを接触させる工程と、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程とを交互に実施することが好ましい。さらに、上記本発明の排ガス浄化方法においては、前記排ガス浄化装置が、前記酸化触媒に堆積された前記排ガス中のアッシュの量を推定するアッシュ堆積量推定手段を更に備えたものであり、且つ、前記アッシュ堆積量推定手段により推定されるアッシュの堆積量が基準値を超えた場合に、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程を実施することが好ましい。なお、本発明の排ガス浄化装置及び排ガス浄化方法によって、アッシュの堆積による粒子状物質の酸化性能の低下が十分に抑制され、アッシュの堆積後においても十分に高度な粒子状物質の酸化性能を発揮することが可能となる理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。本発明の排ガス浄化装置においては、銀含有物質を担体に担持した酸化触媒を利用している。ここで、このような銀含有物質を利用した場合のPMの酸化について検討する。このような銀含有物質はAgの元素を含有するものである。そして、このような銀含有物質を使用した場合、通常の使用条件下において内燃機関からの排ガスが高温で且つ水蒸気を含有するものとなった場合高温水蒸気存在下に、そのAg元素が銀含有物質から解離し、AgイオンAgが生成され得る。例えば、本発明にかかる銀含有物質として好適な硫酸銀AgSO4を用いた場合を例に挙げて説明すると、高温水蒸気存在下ではAgイオンと硫酸イオンSO42-とが解離することにより、Agイオンが生成される。そして、このようにして生成されたAgイオンは粒子状物質PMの主成分であるカーボンCと接触すると還元されてメタル状態のAgとなり、そのAgイオンと接触したPMは酸化される。なお、このようなPMの酸化反応により、AgイオンはAgメタルとなるが、このようなAgメタルは空燃比がリーンである排ガスリーン雰囲気の排ガス中の酸素と接触することで再度Agイオンとなり、その酸素からは酸素イオンO2-が生成される。このようなPMの酸化処理PM酸化処理1の一連の反応は下記反応式1~2で表すことができる。14AgC2O2-→4AgCO224AgO2→4Ag2O2-[なお、このようなPM酸化処理1において起こる反応に関して、前記銀含有物質として銀メタルを単独で用いる場合には、高温のリーン雰囲気下において、反応式2によりAgイオンが形成されて反応が進行して、PMが除去される。]。また、前記酸化触媒において前記銀含有物質は担体に担持されたものである。このように担体と組み合わせて銀含有物質を用いた場合に、銀含有物質の溶融が引き起こされると、銀含有物質から生成されたAgイオンは担体表面全体を覆うように分散する。例えば、銀含有物質がAg2SO4の場合、その融点は660°Cであり、PMが酸化される温度領域では一部が溶融状態になっていると考えられる。そのため、担体に担持された銀含有物質を備える酸化触媒においては、AgイオンとPMとの接触点が著しく増大し、非常に高度なPM酸化活性を得ることが可能となる。また、このような酸化触媒は空燃比がリッチである排ガスリッチ雰囲気の排ガスに曝されると、前記銀含有物質が還元性ガス例えばH2と反応し、担体上にメタル状態のAgが生成される。そして、このようにして生成されたメタル状態のAgに気相中の酸素O2が接触するとAg2Oが生成され、かかるAg2OにPMが接触するとPMが酸化されるPM酸化処理2。ここで、銀含有物質として硫酸銀AgSO4を用いた場合を例に挙げて説明すると、このようなPM酸化処理2における一連の反応は、下記反応式3~5で表すことができる。3Ag2SO42H2→2Ag2H2OSO244AgO2→2Ag2O52Ag2OCPM→4AgCO2[なお、このようなPM酸化処理2に関して、前記銀含有物質としてAgメタルを単独で用いる場合には、反応式4と5に示す反応によりPMが除去される。]。このようなPM酸化処理1~2を比較すると、PM酸化処理2を採用してPMを酸化した場合の方がPM酸化活性がより高いものとなる。そのため、銀含有物質を利用する場合、担体に担持した酸化触媒とし、その酸化触媒がリッチ雰囲気の排ガスに接触するように制御する工程を実施して、その触媒中に含まれるAgをメタル状態とさせた後、リーン雰囲気の排ガスを接触させることにより、より高度なPM酸化活性を得ることが可能となるものと本発明者らは推察する。以下、図1を参照しながら、排ガスの浄化工程について検討する。先ず、従来の排ガス浄化装置について検討すると、排ガスを排ガス浄化装置中の酸化触媒に接触させると、排ガスにはPMの他にエンジンオイルに含まれる添加剤等から生成されるアッシュ灰分、不燃物も含まれるため、担体11と銀含有物質12メタル状の銀を含む概念とを含む触媒上にはPMとともにアッシュ13も堆積される。そして、酸化触媒上へのアッシュ13の堆積が進むと、アッシュ13の堆積した層が形成されて酸化触媒中の活性点例えば銀イオンや銀酸化物等とPMとの接触が妨げられ、酸化触媒のPM酸化活性が低下する。このように、従来の酸化触媒を用いた場合には、堆積したアッシュに起因してPMと酸化触媒中の活性点例えば銀イオンや銀酸化物等との接触が阻害されるため、上述のようなPM酸化処理1~2に示す反応を十分に引き起こすことができなかった。これに対して、本発明にかかる酸化触媒においては、Caの硫酸塩及びCaのリン酸塩のうちの少なくとも1種の金属塩が担体11として利用され、その担体11上に銀含有物質12が担持されている。そして、このような担体に利用される金属塩は、アッシュに含まれる成分であるため、アッシュと非常に近い性質を有するものである。そのため、図1bに示すように、触媒上にアッシュ13が堆積されても、高温水蒸気存在下での解離や高温での溶融により、銀含有物質12から移動性の銀化合物Agイオンを含む概念12’が生成され、担体11からアッシュ13の表面排ガスと接触可能な表面に移動性銀化合物12’を移動させることが可能である図1c。そして、アッシュ13の表面へ移動した移動性銀化合物12’は、アッシュ13の表面でPMと接触して、上述のようなPM酸化処理1に示す反応反応式1~2を引き起こすことができるものと本発明者らは推察する。また、酸化触媒にアッシュ13が堆積されている場合に、酸化触媒をリーン雰囲気の排ガスに接触させると、銀含有物質12がアッシュ13中の硫酸カルシウムから硫酸イオンSO42-を受け取って移動性銀化合物12’この場合にはAg2SO4が形成される図1b~c。このようなAg2SO4は、その融点が660°Cであり、PMが酸化される温度領域ではその一部が溶融状態になっているため、担体11からアッシュ13の表面上への移動性が高い化合物であり、アッシュ13の表面排ガスと接触可能な表面上を容易に移動する。そして、リッチ雰囲気の排ガスを接触させると、表面上に移動した前記移動性銀化合物12’に起因して、アッシュ12の表面上にメタル状の銀銀含有物質12が析出される図1d。このようにしてメタル状の銀銀含有物質12が析出した後においては、上記反応式4と5に示す反応でPMを酸化することが可能となり、より高度なPM酸化性能を得ることも可能となるものと本発明者らは推察する。以上、説明したように、本発明にかかる酸化触媒は、アッシュ13が堆積されても、アッシュ13の表面上に銀含有物質12を移動させることが可能であり、PMと銀含有物質12との接触点の低下を十分に抑制することが可能である。言い換えれば、本発明にかかる酸化触媒は、堆積したアッシュ自体を触媒銀含有物質12の担体として利用して、触媒活性の低下を抑制できる。そのため、本発明においては、アッシュ13の堆積後においても十分に高度な粒子状物質の酸化性能を発揮させることができるものと本発明者らは推察する。また、このような酸化触媒に堆積したアッシュが基準値閾値を超えた場合に、リッチ雰囲気の排ガスに接触させる工程を実施することで、アッシュの表面でAgをメタル状態として上記反応式4と5に示す反応でPMを酸化することも可能となる。そのため、酸化触媒に堆積したアッシュが基準値を超えた場合に、リッチ雰囲気の排ガスに接触させる工程を実施することで、より高度な酸化活性を発現させることも可能となるものと本発明者らは推察する。本発明によれば、アッシュの堆積による粒子状物質の酸化性能の低下が十分に抑制され、アッシュの堆積後においても十分に高度な粒子状物質の酸化性能を発揮することが可能な排ガス浄化装置、及び、その排ガス浄化装置を用いた排ガス浄化方法を提供することが可能となる。以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。先ず、本発明の排ガス浄化装置について説明する。すなわち、本発明の排ガス浄化装置は、内燃機関からの排ガスに含まれる粒子状物質を酸化して浄化するための酸化触媒を備える排ガス浄化装置であって、前記酸化触媒が、Caの硫酸塩及びリン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種の金属塩からなる担体と、該担体に担持された銀含有物質とを備えること、を特徴とするものである。このような酸化触媒中の前記担体は、Caの硫酸塩及びリン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種の金属塩からなるものである。本発明においては、このような金属塩を担体に用いることで、担体がアッシュと非常に近い性質を有するものとなるため、アッシュが堆積しても、その担体に担持されている銀含有物質をアッシュの表面上に効率よく移動させることが可能となり、触媒活性点をアッシュの表面上に移動させることができるため、アッシュの堆積による触媒活性の低下を十分に抑制することができる。また、このような担体として利用する金属塩の中でも、より高度な触媒活性を発現させることが可能であり且つより十分にアッシュの堆積による触媒活性の低下を抑制できるという観点から、Caの硫酸塩を用いることが特に好ましい。このような金属塩としてCaの硫酸塩を利用した場合には、アッシュが基本的に同じ成分であることから、アッシュの表面上に、より高度に銀含有物質を分散させることが可能となる傾向にあり、アッシュの堆積後においても、より高度な触媒活性を発現できる傾向にある。なお、このような金属塩は1種を単独であるいは2種以上を組み合わせて利用してもよい。このような金属塩からなる担体としては、銀含有物質を分散性の高い状態で多く含有することができるという観点から、粒子状のものを用いることが好ましい。また、担体が粒子状のものである場合には、前記担体の粒子の平均一次粒子径が0.1~500nmの粒子であることが好ましく、1~50nmであることがより好ましい。なお、このような担体の平均一次粒子径は、X線回折装置を用いて粉末X線回折ピークの線幅からシェラーの式Scherrer’sequationを用いて算出することにより測定することができる。また、担体が粒子状のものである場合には、前記担体の粒子の平均二次粒子径が0.1~10μmの粒子であることが好ましく、0.1~1.0μmであることがより好ましい。このような平均二次粒子径が前記下限未満では、高温雰囲気下では凝集し易くなるため、触媒活性が低下し易くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、PMとの接触性が失われるため、活性が低下することに加え、フィルタへ担持し難くなる傾向にある。なお、このような担体の平均二次粒子径は、レーザ回折式粒度分布測定装置を用いて測定することができる。また、このような担体としては比表面積が0.1~300m2/gであることが好ましく、1~100m2/gであることがより好ましい。このような比表面積が前記下限未満では銀含有物質を十分に担持することができなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、銀含有物質のアッシュへの移動が困難になる傾向にある。さらに、このような担体の製造方法は特に制限されず、上記金属塩を製造することが可能な公知の方法を適宜利用することができる。また、このような担体としては市販の金属塩を利用してもよく、ボールミル等によりミリングして、そのサイズを適宜調製してもよい。また、前記酸化触媒においては、前記担体に銀含有物質が担持されている。このような銀含有物質は、Agを含有しているものであり、メタル状の銀又は銀の化合物である。本発明においては、このような銀含有物質を用いることによって、銀含有物質中のAg元素がAgイオンとなったり或いは銀含有物質中のAg元素がアッシュから硫酸イオンSO42-を受けとってAgSO4移動性銀化合物:本発明においてはAgイオンやAgSO4を言い、アッシュの表面上を効率よく移動可能な化合物である。となり、触媒成分である銀含有物質を排ガスと接触することが可能なアッシュの表面部分に移動させて十分に分散した状態とすることが可能であるため、触媒にアッシュが堆積しても、Agの元素とPMとの接触点の低下を十分に抑制できる。すなわち、本発明においては、前記担体と前記銀含有物質を用いることで、使用時に堆積したアッシュを銀含有物質の担体として利用することを可能として、アッシュの堆積後においても十分に高度な触媒活性を発揮させることを可能とする。このような銀含有物質としては、より高度な触媒活性を得られることから、メタル状の銀、酸化銀、炭酸銀、硫酸銀、リン酸銀が好ましく、銀、硫酸銀がより好ましい。なお、このような酸化銀、炭酸銀、硫酸銀、リン酸銀は、触媒の使用中に、銀含有物質中の銀元素がアッシュから硫酸イオンSO42-を受け取って硫酸銀Ag2SO4となったり、雰囲気ガス中の酸素により酸化されて酸化銀Ag2Oとなったり、粒子状物質の酸化により生成されたCO2又はCOがCO32-として吸着されて炭酸銀Ag2CO3となったり、アッシュからリン酸イオンを受けとってリン酸銀Ag3PO4となることによっても生成され得るものである。このように、前記銀含有物質は、用いる担体の種類や使用時の排ガスの雰囲気や進行している反応によっても、その形態が変化するものである。なお、このような銀含有物質は1種を単独で含有するものであってもよく、或いは、2種以上を混合して含有するものであってもよい。なお、前記担体の種類やその担体に担持されている銀含有物質の種類は、X線回折測定をしてX線回折パターンを求めて、ピークの位置から存在する結晶の種類を求めることにより確認できる。また、このような銀含有物質の担持量としては特に制限されないが、銀メタルによる換算で、前記担体100質量部に対して0.1~50質量部であることが好ましく、1~20質量部であることが特に好ましい。このような銀含有物質の担持量が前記下限未満では粒子状物質の酸化性能を十分に高度なものとすることができなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えても酸化性能が飽和してしまうため、コストが高くなる傾向にある。さらに、このような銀含有物質を担持する方法は特に制限されず、公知の方法を適宜利用することができ、例えば、銀含有物質又はその前駆体の分散液やゾルを用いて担体の表面上に被覆その後必要に応じて焼成する方法や、蒸着法例えば、化学蒸着法、物理蒸着法、スパッタ蒸着法等を用いることにより担体に担持する方法等を適宜採用することができる。また、このような酸化触媒は、前記金属塩からなる担体と、該担体に担持された銀含有物質とを備えていればよく、その形態は特に制限されず、ペレット形状のペレット触媒の形態等としてもよく、フィルタに担持した形態としてもよい。このようなフィルタとしては特に制限されず、公知のフィルタを適宜利用することができ、例えば、パティキュレートフィルタDPF、モノリス状のフィルタ、ハニカム状のフィルタ、ペレット状のフィルタ、プレート状のフィルタ、発泡状セラミック製のフィルタ等が挙げられる。また、このようなフィルタの材質も特に制限されず、公知の材料を適宜利用することができ、例えば、コージエライト、炭化ケイ素、ムライト、チタン酸アルミニウム等のセラミックス、クロム及びアルミニウムを含むステンレススチール等の金属等が挙げられる。また、前記酸化触媒をフィルタに担持した形態のものとする場合においては、より高度な粒子状物質の酸化性能が得られることから、前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒をパティキュレートフィルタに担持した形態のものとすることがより好ましい。また、このようなフィルタとしては、平均細孔径が1~300μmの細孔を有するものを用いることが好ましい。このような平均細孔径を有する基材を用いることで、より効率よく粒子状物質を酸化して浄化することが可能となる。また、前記酸化触媒を前記フィルタに担持した形態のものとする場合には、酸化触媒によるコート層が形成されていることが好ましく、そのコート層の厚みは0.025~25μmであることが好ましく、0.035~10μmであることがより好ましい。前記コート層の厚みが前記下限未満では前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒によりフィルタの表面を十分に被覆できず、粒子状物質との接触点が減少して十分に高度な酸化性能を付与することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒によりフィルタの細孔が閉塞され、排ガスの圧力損失が増大してエンジン効率が低下する傾向にある。さらに、前記酸化触媒を前記フィルタに担持した形態のものとする場合には、前記フィルタに担持する前記担体の量は特に制限されず、内燃機関等に応じてその量を適宜調整することができるが、フィルタの体積1リットルに対して1~300gであることが好ましく、10~100gであることがより好ましい。このような担持量が前記下限未満では、十分に高度な触媒性能を発揮することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒によりフィルタの細孔が閉塞され、排ガスの圧力損失が増大してエンジン効率が低下する傾向にある。また、このようなフィルタは、気孔率が30~70より好ましくは40~65であるものが好ましい。ここにいう気孔率とは、基材内部の空洞部分の体積率をいう。また、このような気孔率が前記下限未満では、排ガス中の粒子状物質により細孔が閉塞し易くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、排ガス中の粒子状物質を捕集しにくくなるとともにフィルタの強度が低下する傾向にある。また、前記酸化触媒を前記フィルタに担持した形態のものとする場合において、かかる酸化触媒を製造する方法は特に制限されず、例えば、予め前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒を調製しておき、それをフィルタに担持する方法や、フィルタに対して担体を担持する工程と前記フィルタに担持された前記担体に対して銀含有物質を担持せしめる工程とを実施することにより前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒をフィルタに担持する方法等を適宜採用することができる。また、触媒や担体をフィルタに担持する方法は特に制限されず、公知の方法を適宜採用でき、例えば、触媒又は担体のスラリーを調製し、そのスラリーをフィルタに被覆その後必要に応じて焼成する方法等を適宜利用することができる。なお、このような酸化触媒としては本発明の効果を損なわない範囲において粒子状物質を酸化するための触媒に用いることが可能な公知の他の成分を適宜用いてもよい。さらに、本発明の排ガス浄化装置においては、前記酸化触媒により内燃機関から排出されるガス排ガスに含まれる粒子状物質を酸化して除去する。そのため、本発明の排ガス浄化装置においては、前記酸化触媒に前記排ガスが接触することが可能なように前記酸化触媒を配置すればよく、例えば、内燃機関からの排ガスが流通する排ガス管内のガス流路に前記酸化触媒を配置した形態としてもよい。なお、このような内燃機関としては特に制限されず、公知の内燃機関を適宜用いることができ、例えば、自動車のエンジンガソリンエンジン、ディーゼルエンジン等であってもよい。また、本発明の排ガス浄化装置においては、前記酸化触媒を備えていればよく、他の構成は特に制限されるものではないが、前記酸化触媒に空燃比がリーンである排ガスを接触させる工程リーンガス供給工程と、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程リッチガス供給工程とを交互に実施するように制御する第一制御手段を更に備えることが好ましい。このようなリーンガス供給工程とリッチガス供給工程とを交互に実施することで、効率よく粒子状物質を酸化して浄化することが可能となる。なお、本発明においては、前記リッチガス供給工程により、担体又は担体に析出されたアッシュの表面上にメタル状の銀を析出させることが可能であり、これにより触媒の活性を高めることができる。このため、本発明においては、前記リッチガス供給工程を触媒の活性化工程として適宜実施し、その後、リーンガス供給工程を実施して粒子状物質を浄化することが好ましい。なお、このような第一制御手段としては、前記酸化触媒に前記空燃比がリーンである排ガスを接触させる工程と、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程リーンガス供給工程:触媒の活性化工程とを交互に複数回実施するように制御できるようにしてもよい。このように、第一制御手段は、前記排ガス中の燃料と酸素との比空燃比を、実施する工程に応じてリッチ又はリーンにして排ガスを酸化触媒に接触させるように制御することが可能なものである。このような第一制御手段により、空燃比がリッチ又はリーンである排ガスを酸化触媒に接触させる方法としては特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、エンジン回転数、アクセル開度、スロットル開度、トルク、吸気流量、燃料噴射量等のデータと排ガスの空燃比との関係のマップを予め作成しておき、そのマップに基づいて内燃機関の運転状況を変化させることにより、排ガスの空燃比を特定の雰囲気にして、その排ガスを特定の時間、酸化触媒に接触させる方法や、各種センサーを利用して雰囲気に関するデータを求め、内燃機関の運転状況を変化させることにより、排ガスの空燃比を特定の雰囲気にして、その排ガスを特定の時間、酸化触媒に接触させる方法、各種センサーを利用して雰囲気に関するデータを求め、別途設けた空気導入手段例えば空気ポンプや燃料噴出手段により排ガス中に空気や燃料を別途添加することにより、排ガスの空燃比を特定の雰囲気リーン又はリッチにして、その排ガスを特定の時間、酸化触媒に接触させる方法等を適宜採用することができる。なお、ここにいう空燃比がリッチであるとは、排ガス中の燃料と酸素の当量比燃料/酸素が1を超えるような雰囲気より好ましくは前記当量比が1.05~1.5となる雰囲気であることを意味する。また、空燃比がリーンであるとは、排ガス中の燃料と酸素の当量比燃料/酸素が1未満となるような雰囲気より好ましくは前記当量比が0.5~0.95となる雰囲気であることを意味する。さらに、このような第一制御手段としては、粒子状物質の堆積による圧力損失を効率よく防止するという観点から、粒子状物質の堆積量が基準値閾値を超えたものと判断される場合に、前記リーンガス供給工程において触媒温度を昇温するように制御することが可能なものとすることがより好ましい。このような粒子状物質の堆積量を算出する方法としては特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、内燃機関の運転状況及び排ガス浄化装置の使用履歴等と粒子状物質の堆積量とに関するマップを予め作成しておき、そのマップに基づいて粒子状物質の堆積量を算出する方法、酸化触媒の前後の排ガスの圧力の差を検出して圧力差と粒子状物質の堆積量とに関するマップを予め作成しておき、そのマップに基づいて粒子状物質の堆積量を算出する方法、圧力差を吸入空気量で補正することにより粒子状物質堆積量を算出する方法、及び、それらの方法をすべて採用する方法等を採用することができる。また、本発明の排ガス浄化装置においては粒子状物質の堆積量を算出に必要な各種センサーを適宜用いてもよい。また、このような第一制御手段においては、酸化触媒の種類やその温度等によって前記各工程の最適な実施時間や複数回実施する際の最適な回数繰り返し回数等が異なるため、酸化触媒の温度に応じて各工程の実施時間や繰り返し回数等を変更して前記各工程を実施するように制御することが好ましい。なお、このような実施時間や繰り返し回数を求める方法は特に制限されないが、酸化触媒の温度と前記各工程を実施する時間や実施する回数の変化による粒子状物質の浄化効率の変化との関係のマップを予め作成しておき、そのマップに基づいて求める方法等を採用してもよい。また、このような第一制御手段としては、前述のような制御を可能とするものであればよく、特に制限されず、例えば、内燃機関に接続されたエンジンコントロールユニットECUを利用するものとしてもよい。このようなECUは、マイクロプロセッサ及びその動作に必要なROM、RAM等の周辺装置を組み合わせたコンピュータとして構成されたものである。また、本発明の排ガス浄化装置においては、前記第一制御手段による前記制御を可能とするために、触媒の温度、酸化触媒に接触する前後の排ガスの圧力差、車速、エンジンの回転数、トルク等を検出するための手段を更に備えていてもよく、このような検出手段としては公知のものを適宜用いることができる。また、本発明の排ガス浄化装置においては、前記酸化触媒に堆積された前記排ガス中のアッシュの量を推定するアッシュ堆積量推定手段を更に備えることが好ましい。このような酸化触媒へのアッシュの堆積量を推定する方法としては特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、内燃機関の運転状況及び排ガス浄化装置の使用履歴等とアッシュの堆積量とに関するマップを予め作成しておき、そのマップに基づいてアッシュの堆積量を推定する方法、第一制御手段により前記酸化触媒に空燃比がリーンである排ガスを接触させる工程と前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程とを交互に実施して粒子状物質を十分に除去した後に、酸化触媒の前後の排ガスの圧力の差圧を検出し、検出された差圧から酸化触媒へのアッシュの堆積量を推定する方法等を採用してもよい。このようなアッシュ堆積量推定手段としては、酸化触媒に堆積されたアッシュ堆積量を推定できるものであればよく、特に制限されず、例えば、内燃機関に接続されたエンジンコントロールユニットECUを利用するものとしてもよい。また、本発明の排ガス浄化装置においては、前記アッシュ堆積量推定手段によるアッシュ量の推定を可能とするために、酸化触媒に接触する前後の排ガスの圧力差、車速、エンジンの回転数、トルク等の必要なデータを適宜検出するための手段を更に備えていてもよい。また、本発明の排ガス浄化装置が前記アッシュ堆積量推定手段を備える場合においては、前記アッシュ堆積量推定手段により推定されるアッシュの堆積量が基準値閾値を超えた場合に、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程を実施するように制御する第二制御手段を更に備えることがより好ましい。このように、第二制御手段において、アッシュの堆積量の推定値に応じて、前記排ガス中の燃料と酸素との比空燃比を、リッチ雰囲気にして排ガスを酸化触媒に接触させるように制御することで、堆積したアッシュの表面上にメタル状のAgを析出させて、PMと活性点とが接触する機会を十分に維持することができ、十分に高度なPM酸化活性を維持することが可能となる。なお、このような第二制御手段により、空燃比がリッチ雰囲気の排ガスを酸化触媒に接触させる方法としては特に制限されず、例えば、前述の第一制御手段において説明した特定の雰囲気のガスを接触させる方法と同様の方法例えば内燃機関の運転状況を変化させることにより、排ガスの空燃比をリッチ雰囲気とする方法等を採用してもよい。更に、このような第二制御手段としては特に制限されないが、例えば、内燃機関に接続されたエンジンコントロールユニットECUを利用するものとしてもよい。また、本発明の排ガス浄化装置においては、前記第二制御手段による前記制御を可能とするために、前記第二制御手段を前記アッシュ堆積量推定手段からのデータを入力できるような構成とするとともに、排ガスの雰囲気を測定するために、酸化触媒に接触する前後の排ガスの圧力差、車速、エンジンの回転数、トルク等を検出するための手段を更に備える構成のものとしてもよい。次に、本発明の排ガス浄化方法について説明する。本発明の排ガス浄化方法は、内燃機関からの排ガスに含まれる粒子状物質を酸化して浄化するための酸化触媒を備える排ガス浄化装置を用いて該酸化触媒に排ガスを接触させることにより前記粒子状物質を浄化する排ガス浄化方法であって、前記酸化触媒が、Caの硫酸塩及びリン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種の金属塩からなる担体と、該担体に担持された銀含有物質とを備えるものであること、を特徴とする方法である。このような排ガス浄化装置は上記本発明の排ガス浄化装置と同様のものである。そして、このような排ガス浄化装置中における前記酸化触媒に排ガスを接触させる方法としては、特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、内燃機関から排出されるガスが流通する排ガス管内に上記本発明にかかる酸化触媒を配置することにより、酸化触媒に対して内燃機関からの排ガスを接触させる方法を採用してもよい。また、このような排ガス浄化方法においては、前記酸化触媒に空燃比がリーンである排ガスを接触させる工程リーンガス供給工程と、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程リッチガス供給工程とを交互に実施することが好ましい。このように前記各工程を交互に実施することにより、空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程において、触媒中にメタル状のAgを析出させることが可能となり、その後、空燃比がリーンである排ガスが前記酸化触媒に接触すると、前述の反応式4~5に示す反応を効率よく引き起こさせることが可能となり、より高い粒子状物質に対する酸化性能が得られる傾向にある。すなわち、本発明においては、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程を実施することで、触媒中にメタル状のAgを析出させて触媒活性をより高度なものとすることができ、かかる工程により触媒を活性化させることができる。なお、このような各工程の実施時間は、酸化触媒の設計や内燃機関の種類等によっても異なるものであるため一概には言えないが、一概には言えないが、例えば、前記リーンガス供給工程の実施時間を100~500時間とし、前記リッチガス供給工程の実施時間を1~60分間としてもよい。また、粒子状物質の堆積による圧力損失を効率よく防止するという観点から、推定される粒子状物質の堆積量が基準値閾値を越えるものと判断される場合に、前記各工程を実施することが好ましい。この場合には、粒子状物質を十分に酸化して浄化するために、温度が350~650°Cとなる条件下において、前記各工程を実施することが好ましい。このような温度が前記下限未満では粒子状物質を十分に酸化して浄化することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、触媒温度を昇温させるための燃料消費量が多くなり、燃費が悪化する傾向にある。また、このような排ガス浄化方法においては、前記排ガス浄化装置を、前記酸化触媒に堆積された前記排ガス中のアッシュの量を推定するアッシュ堆積量推定手段を更に備えた構成のものとして、前記アッシュ堆積量推定手段により推定されるアッシュの堆積量が基準値閾値を超えた場合に、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程リッチガス供給工程を実施することが好ましい。このように、アッシュの堆積量が基準値閾値を超えた場合に、前記リッチガス供給工程を実施することで、アッシュの表面上にメタル状の銀を析出させることが可能となり、アッシュの堆積により触媒活性が低下することを、より十分に抑制することができる。すなわち、アッシュの堆積量が基準値閾値を超えた場合に前記リッチガス供給工程を実施することで、アッシュの表面上にメタル状の銀を析出させることが可能となるため、アッシュが堆積されても、より高度な触媒活性を維持することができる。前記アッシュの堆積量の基準値閾値としては、酸化触媒の設計等によっても異なるものであり、一概に言えるものではなく、粒子状物質の酸化活性の観点から、その値を適宜設定すればよい。また、前記アッシュ堆積量推定手段により推定されるアッシュの堆積量が基準値を超えた場合に、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程リッチガス供給工程を実施する場合においては、リッチガス供給工程を温度が350~550°Cとなる条件下において1~60分間実施することが好ましい。このような温度や時間が前記下限未満ではアッシュの表面上に十分に銀メタルを析出させることが困難となり、十分に触媒活性を向上させることが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えるとリッチガス供給工程を実現するための燃料消費量が多くなり、燃費が悪化する傾向にある。次に、図面を参照しながら、本発明の排ガス浄化装置及び本発明の排ガス浄化方法の好適な一実施形態について、より詳細に説明する。なお、以下の説明及び図面中、同一又は相当する要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。図2は、内燃機関に接続された状態の本発明の排ガス浄化装置の好適な一実施形態を示す模式図である。図2に示す実施形態においては、内燃機関21と、内燃機関に接続された排ガス管22と、排ガス管内のガス流路に配置された酸化触媒23と、内燃機関と接続された制御手段24と、酸化触媒23に接触する前後の排ガスの圧力を測定することが可能な圧力センサー25と、酸化触媒23の温度を測定することが可能な温度センサー26とを備える。また、図2に示す実施形態においては内燃機関21として自動車のディーゼルエンジンを利用している。また、前記排ガス管22としては特に制限されず、公知のものを適宜利用でき、本実施形態においては排ガス管22として市販のものを利用する。また、図2に示す実施形態においては酸化触媒23として、前記担体と前記銀含有物質とを備える触媒がパティキュレートフィルタDPFに担持された形態のものを用いている。また、制御手段24としてはエンジンコントロールユニットECUを利用している。また、このような制御手段24においては、内燃機関21のエンジン回転数、アクセル開度、スロットル開度、トルク、吸気流量、燃料噴射量等のデータと排ガスの空燃比との関係のマップに基づいて、酸化触媒に接触させる排ガスの空燃比の雰囲気を判定し、内燃機関21への燃料の添加量やエンジン回転数、トルク、吸気量等を適宜変更させて排ガスの空燃比の雰囲気を制御することを可能としている前記第一制御手段。また、このような制御手段24においては、圧力センサー25が接続され、圧力センサー25から入力されるデータに基づいて酸化触媒の前後の排ガスの圧力の差を検出して圧力差と粒子状物質の堆積量とに関するマップ予め作成したものに基づいて粒子状物質の堆積量を算出することも可能としている。また、このような制御手段24においては、内燃機関の運転状況回転数やトルク等の履歴とアッシュの堆積量とに関するマップ予め作成されたものに基づいてアッシュの堆積量を推定することを可能としている前記アッシュ堆積量推定手段。そして、このような制御手段24においては、アッシュの堆積量の算出結果に基づいて、内燃機関21への燃料の添加量やエンジン回転数、トルク、吸気量等を適宜変更させて排ガスの空燃比の雰囲気を制御することも可能としている前記第二制御手段。また、圧力センサー25及び温度センサー26としては市販の機器を用いている。なお、図2中の矢印はガスの流れを概念的に表したものである。次に、このような図2に示す実施形態の排ガス浄化装置に用いて排ガスを浄化する際の前記第一制御手段による制御および前記第二制御手段制御による制御の方法の好適な例を、フローチャートを参照しながら説明する。図3は、第一制御手段によって粒子状物質の堆積量や触媒温度に応じてリーンガス供給工程を実施するよう制御前記リーンガス供給工程において触媒温度を昇温するように制御する場合の制御の好適な一実施形態を示すフローチャートである。すなわち、先ず、ステップ1では、制御手段24において、制御手段24に入力された圧力センサー25から入力されるデータに基づいて酸化触媒の前後の排ガスの圧力の差を検出し、そのデータに基づいて粒子状物質の堆積量Mを算出し、求められた粒子状物質の堆積量M推定値が基準値M1を超えているか否かを判断する。そして、粒子状物質の堆積量Mが基準値M1を超えていればステップ2へ進み、粒子状物質の堆積量Mが基準値M1以下であればスタートに戻る。また、ステップ2では、制御手段24において温度センサー26から入力されたデータに基づいて酸化触媒23の温度Tを算出し、酸化触媒23の温度Tが基準温度T1を超えているか否かを判断する。そして、酸化触媒23の温度Tが基準温度T1を超えていればステップ3へ進み、酸化触媒23の温度Tが基準温度T1以下であれば、ステップ4に進む。このようなステップ4では、酸化触媒23の昇温操作が行われ、その後、スタートに戻る。なお、ステップ4で実施される昇温操作としては、内燃機関21の運転状況を変化させて排ガス温度を上昇させる方法を採用している。また、ステップ3では、酸化触媒23に対して空燃比がリーン雰囲気となる排ガスをt1時間接触させる工程を実施する運転を実施し、排ガス中の粒子状物質を酸化してステップ5に進む。また、ステップ5では、制御手段24において圧力センサー15から入力されたデータに基づいて酸化触媒23に接触する前後の排ガスの圧力の差P差圧PがP1未満であるか否かを判断する。そして、差圧PがP1未満である場合には、ステップ6に進み、差圧PがP1以上である場合にはスタートに戻る。また、ステップ6では、制御手段24において算出される粒子状物質の予想堆積量Mが0となるようにリセットし、その後、スタートに戻る。なお、前記ステップ3におけるt1の時間は粒子状物質の浄化効率の観点から予め求めて決定した値である。また、このような温度T1は用いる酸化触媒の種類等の排ガス浄化装置の設計に応じて、粒子状物質を浄化するのに好適な温度に適宜その設定を変更することができる。例えば、前記温度T1を350~650°Cの範囲のうちのいずれかの温度に設定し、高温状態で粒子状物質の浄化工程を実施するようにしてもよい。図4は、第二制御手段による制御の好適な一実施形態を示すフローチャートである。すなわち、先ず、ステップ101では、制御手段24においてアッシュの堆積量Aを算出し、それにより推定されたアッシュの堆積量が基準値A1を超えているか否かを判断する。そして、アッシュの堆積量Aが基準値A1を超えていればステップ102へ進み、アッシュの堆積量Aが基準値A1以下であればスタートに戻る。また、ステップ102では、制御手段24により、酸化触媒23に対して空燃比がリッチ雰囲気となる排ガスをt101時間接触させる工程リッチガス供給工程を実施し、排ガス中のアッシュを酸化してステップ103に進む。なお、このようなステップ102においてリッチ雰囲気の排ガスを接触させる工程は、制御手段24により内燃機関の運転状況を適宜変更することで達成できる。また、ステップ103では、制御手段24において算出されるアッシュの予想堆積量Aが0となるようにリセットし、その後、スタートに戻る。なお、前記ステップ102におけるt101の値は、酸化触媒の粒子状物質の浄化性能の観点から予め求めて決定した値である。なお、このようなステップ102におけるリッチガス供給工程により、アッシュの表面上に十分にAgを析出させることが可能となり、酸化触媒の粒子状物質の浄化活性を十分に維持することが可能である。以上、図2~4を参照して本発明の排ガス浄化装置及び排ガス浄化方法の好適な一実施形態について、より詳細に説明したが、本発明の排ガス浄化装置及び排ガス浄化方法は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、図2に示す実施形態においては、前記第一及び第二制御手段において、内燃機関10の運転状況を変更させることで酸化触媒に接触させる排ガスの空燃比の雰囲気を制御しているが、本発明の排ガス浄化装置において、酸化触媒に接触させる排ガスの空燃比の雰囲気を制御する方法は特に制限されず、例えば、内燃機関21と酸化触媒23との間の領域において排ガス中の酸素濃度を測定できる空燃比センサーや、燃料供給手段例えばスプレー式の燃料添加装置又は空気ポンプ等を排ガス管23に接続し、これらを用いて排ガスの空燃比を測定して空燃比の状態を判断しながら、その空燃比の状態に応じて酸化触媒23に接触する排ガス中に燃料又は空気を導入させるようにして酸化触媒に接触させる排ガスの空燃比の雰囲気を制御する方法等を採用してもよい。このように、本発明の排ガス浄化装置酸化触媒においては、前記酸化触媒を備えていればよく、他の構成は特に制限されるものではない。また、図2~4に示す実施形態においては、第一制御手段により粒子状物質の堆積量や触媒温度に応じてリーンガス供給工程を実施するよう制御しているが、第一制御手段においては前記リーンガス供給工程と前記リッチガス供給工程交互に実施するように制御することが可能であればよく、その制御の方法は上記実施形態に限定されるものではない。また、第二制御手段を用いる場合において、その制御の方法は上記実施形態に特に制限されるものではなく、アッシュの堆積量の推定値が基準値を超えた場合に、前記酸化触媒に前記空燃比がリッチである排ガスを接触させる工程を実施するように制御することが可能な方法であれば適宜利用することができる。以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。実施例1酸化触媒の調製硫酸カルシウム0.5水和物焼き石膏、和光純薬工業製にイオン交換水を加え、ボールミルでミリングして、平均二次粒子径が0.6μmの硫酸カルシウムの粒子を含有するスラリーを形成した。次に、コージェライト製の市販のDPF直径30mm、長さ50mm、気孔率60、平均細孔径30μm、日本ガイシ社製を準備し、前記スラリーを前記DPFの隔壁細孔内に入り込むように含浸させた。次いで、前記スラリーを含浸させたDPFから、吸引機を用いて余分なスラリーを除去し、110°Cで16時間乾燥した後、500°Cで3時間焼成した。このような焼成により、前記硫酸カルシウム0.5水和物を硫酸カルシウム無水物に変更でき、これにより硫酸カルシウム無水物をDPFに強く担持付着させることができた。このようにして硫酸カルシウム無水物をDPFに担持したところ、DPFの容量1Lあたりの硫酸カルシウムの担持量コート量は67.5g/Lであった。次に、90°Cのイオン交換水に硫酸銀和光純薬工業製を溶解させて硫酸銀水溶液を調製した。次いで、前記硫酸銀水溶液を、DPFの容量1Lあたりの硫酸銀の担持量が10.8g/Lとなるようにして、前記硫酸カルシウムの担持されているDPFの隔壁細孔内に入り込むように含浸させた。次に、前記硫酸銀水溶液を含浸させたDPFを110°Cで16時間乾燥した後、300°Cで3時間焼成して、DPFの隔壁に担持コートされている硫酸カルシウムに硫酸銀を担持して、DPFに担持された形態の酸化触媒を製造した。なお、DPFの容量1Lあたりの硫酸銀の担持量は10.8g/Lであった。また、DPFの容量1Lあたりの銀の金属換算による硫酸銀の担持量は7.5g/Lであり、硫酸カルシウム担体100質量部に対する銀の金属換算による硫酸銀の担持量は11.11質量部であった。なお、DPFの隔壁に担持コートされている硫酸カルシウムに硫酸銀が担持された触媒のコート層の厚みは2μmであった。PM付着処理I前記酸化触媒を石英ガラス製の排ガス管内径:30mm、長さ1000mmの中心部に配置した後、その排ガス管の一方の開口部以下、入り口という。から内部に向かって、燃焼粒子発生器CombustionAerosolStandard;CAST、MatterEngineering社製を用いて発生させた粒子状物質PMを、室温25°Cの空気と一緒に導入し、室温25°C条件下で、PMと空気の混合物を前記酸化触媒に接触させることによって前記酸化触媒にPMを付着させたPM付着処理I。なお、このようなPM付着処理においては、前記酸化触媒に対する空気の流量が20L/分となるようにした。また、このようなPM付着処理による前記酸化触媒へのPMの付着量はDPFの容量1Lあたり2g/Lであった。PM浄化処理I前記PM付着処理IによりPMを付着させた酸化触媒が配置された排ガス管を用い、その入り口前述のPMと空気の混合物を導入した開口部から、触媒への入ガス温度:500°C、流量:30L/分の条件でN2ガスを15分間導入して、N2ガスを前記酸化触媒に供給した後、室温25°Cまで冷却する前処理を行った。次いで、前記排ガス管の入り口から表1に示すリーン雰囲気のモデルガスA空燃比がリーンであるガスのモデルを、20°C/分の昇温速度で30°C~810°C触媒への入りガス温度まで昇温しながら、流量:30L/分の条件で導入して、前記前処理後の酸化触媒に対してモデルガスAを接触させた後、前記排ガス管の出口もう一方の開口部から排出されるガス出ガス中のCO2及びCOの濃度を測定して、その濃度から酸化されたPMの量を算出し、酸化触媒に付着したPMの総量が当初の付着量の50となる際の入りガス酸化したときの温度50PM酸化温度を求めて、酸化性能を評価した。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。なお、このような50PM酸化温度が低いほど、PM酸化性能酸化活性が高い触媒であると言える。アッシュ堆積処理前記PM浄化処理Iを施した後の前記酸化触媒に対して、JIS2号燃料硫黄分5~7ppmを使用して実エンジン直列6気筒からの排ガスを供給して、アッシュを堆積させた。すなわち、JIS2号燃料硫黄分5~7ppmを使用して実エンジン直列6気筒を運転させて、そのエンジンからの排ガスを前記排ガス管の入り口から導入し、酸化触媒の触媒床温度が500°C一定となるように温度条件を調整して、PM浄化処理Iを施した後の前記酸化触媒に対して排ガスを500時間継続して供給した。なお、このような実エンジン直列6気筒からの排ガスの供給工程は、該エンジンからの排ガスを取り出して12本の排ガス管実施例1~7及び比較例1~5で用いたPM浄化処理I後の酸化触媒を配置した排ガス管:実施例2~7及び比較例1~5については後述する。に対して、同じ条件で同じ排ガスが流入するようにして行った。このような排ガスの供給の結果、各酸化触媒へのアッシュの堆積量はいずれも13g/Lであり、デジタルマイクロスコープで観察したDPF隔壁上のアッシュ堆積厚さはいずれも約50μmであった。PM付着処理II前記アッシュ堆積処理後の酸化触媒に対して、PM付着処理Iと同様の方法を採用してPMを付着させる処理を行った。なお、PMの付着量はDPFの容量1Lあたり2g/Lであった。PM浄化処理II前記PM浄化処理Iを施した後の前記酸化触媒を用いてPM浄化処理Iと同様の方法を採用してPMを浄化せしめて、50PM酸化温度を求めた。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。このようにして、実施例1においては、酸化触媒の調製、PM付着処理I、PM浄化処理I、アッシュ堆積処理、PM付着処理II、PM浄化処理IIを順に実施して、酸化触媒を備える排ガス浄化装置本実施例においてはモデルガスAを排ガスと模して、かかる排ガスの流路に酸化触媒を配置したもののアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。実施例2後述のリッチガス供給処理を、前記PM付着処理I及び前記PM付着処理IIを実施する前の酸化触媒に対して、それぞれ施した以外は、実施例1と同様にして、前記酸化触媒を備える排ガス浄化装置本実施例においてはモデルガスA及びBを排ガスと模して、排ガスの流路に酸化触媒を配置したもののアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。このように、実施例2においては、酸化触媒の調製、リッチガス供給処理、PM付着処理I、PM浄化処理I、アッシュ堆積処理、リッチガス供給処理、PM付着処理II、PM浄化処理IIの順で各処理を行った。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。リッチガス供給処理表2に示すリッチ雰囲気のモデルガスB空燃比がリッチであるガスのモデルを、酸化触媒への入りガス温度:400°C一定、流量:30L/分の条件で前記酸化触媒に対して12分間供給した。実施例3前記リッチガス供給処理におけるモデルガスBの酸化触媒への入りガス温度をいずれも400°Cから500°Cに変更した以外は、実施例2と同様にして、前記酸化触媒を備える排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。実施例4前記リッチガス供給処理におけるモデルガスBの酸化触媒への供給時間をいずれも12分間から60分間に変更した以外は、実施例2と同様にして、前記酸化触媒を備える排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。実施例5酸化触媒の調製リン酸カルシウム和光純薬工業製にイオン交換水を加え、ボールミルでミリングして、平均二次粒子径が0.6μmのリン酸カルシウムの粒子を含有するスラリーを形成した。次に、コージェライト製の市販のDPF直径30mm、長さ50mm、気孔率60、平均細孔径30μm、日本ガイシ社製を準備し、前記スラリーを前記DPFの隔壁細孔内に入り込むように含浸させた。次いで、前記スラリーを含浸させたDPFから、吸引機を用いて余分なスラリーを除去し、110°Cで16時間乾燥した後、500°Cで3時間焼成した。このような焼成により、リン酸カルシウムをDPFに強く担持付着させることができた。このようにしてリン酸カルシウムをDPFに担持したところ、DPFの容量1Lあたりのリン酸カルシウムの担持量コート量は67.5g/Lであった。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。次に、90°Cのイオン交換水に硫酸銀和光純薬工業製を溶解させて硫酸銀水溶液を調製した。次いで、前記硫酸銀水溶液を、DPFの容量1Lあたりの硫酸銀の担持量が10.8g/Lとなるようにして、前記リン酸カルシウムの担持されているDPFの隔壁細孔内に入り込むように含浸させた。次に、前記硫酸銀水溶液を含浸させたDPFを110°Cで16時間乾燥した後、300°Cで3時間焼成して、DPFの隔壁に担持コートされている硫酸カルシウムに硫酸銀を担持して、DPFに担持された形態の酸化触媒を製造した。なお、DPFの容量1Lあたりの硫酸銀の担持量は10.8g/Lであった。なお、DPFの容量1Lあたりの硫酸銀の担持量を銀メタルで換算すると7.5g/Lであり、リン酸カルシウム担体100質量部に対する銀換算による硫酸銀の担持量は11.11質量部であった。上述のようにして得られた酸化触媒を用いた以外は、実施例1と同様にして、前記酸化触媒を備える排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。このように、実施例5においては、酸化触媒の調製、PM付着処理I、PM浄化処理I、アッシュ堆積処理、PM付着処理II、PM浄化処理IIの順で各処理を行った。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。実施例6酸化触媒として、実施例5で採用している酸化触媒の調製の方法と同様の方法を採用して得られた酸化触媒を用いた以外は、実施例2と同様にして、前記酸化触媒を備える排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。このように、実施例6においては、酸化触媒の調製、リッチガス供給処理、PM付着処理I、PM浄化処理I、アッシュ堆積処理、リッチガス供給処理、PM付着処理II、PM浄化処理IIの順で各処理を行った。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。実施例7前記リッチガス供給処理におけるモデルガスBの酸化触媒への入りガス温度をいずれも400°Cから500°Cに変更した以外は、実施例6と同様にして、前記酸化触媒を備える排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。比較例1酸化触媒の調製に際して硫酸銀の担持を行わず、硫酸カルシウム無水物を担持したDPFに硫酸カルシウムの担持量コート量:67.5g/Lをそのまま酸化触媒比較のための酸化触媒として利用した以外は、実施例1と同様にして、比較のための酸化触媒を備える排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。比較例2触媒の調製酸化触媒の調製に際して硫酸銀の担持を行わなかった以外は実施例5で採用している酸化触媒の調製工程と同様にして、リン酸カルシウムを担持したDPFリン酸カルシウムの担持量コート量:67.5g/L、比較のための酸化触媒を得た。このようにして調製した比較のための酸化触媒リン酸カルシウムを担持したDPFを、前記酸化触媒として利用した以外は、実施例1と同様にして、比較のための酸化触媒を備える排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。比較例3触媒の調製先ず、実施例1の酸化触媒の調製の際に用いたDPFと同様のDPFを準備した。次に、セリアゾル多木化学製の商品名ニードラールU-15を、前記DPFの隔壁細孔内に入り込むように含浸させた含浸工程。次に、前記ゾルを含浸させたDPFから、吸引機で余分なゾルを除去し、大気中、250°Cで1時間の焼成した焼成工程。このような含浸工程及び焼成工程を、DPFの容量1Lあたりのセリアの担持量が67.5g/Lとなるまで繰り返し実施し、セリアが担持されたDPFを得た。次に、硝酸プラセオジムIIIの水和物和光純薬工業製を溶解した硝酸プラセオジム水溶液を調製した。次いで、前記硝酸プラセオジム水溶液を、DPFの容量1LあたりのPr6O11の担持量が7.5g/Lとなるようにして、前記セリアが担持されたDPFの隔壁細孔内に入り込むように含浸させ、800°Cで24時間焼成し、比較のための酸化触媒を得た。なお、Pr6O11担持量はDPFの容量1Lあたり7.5g/Lであるが、800°Cでの焼成によりセリアと酸化プラセオジムとの複合酸化物Ce0.9Pr0.1O2が形成されたものと推察される。このようにして調製した比較のための酸化触媒セリアと酸化プラセオジムとの複合酸化物を担持したDPFを、前記酸化触媒比較のための酸化触媒として利用した以外は、実施例1と同様にして、比較のための酸化触媒を備える排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。比較例4触媒の調製先ず、実施例1の酸化触媒の調製の際に用いたDPFと同様のDPFを準備した。次に、セリアゾル多木化学製の商品名ニードラールU-15及びジルコニアゾル第一稀元素化学工業製、酢酸ジルコニールを、固形分のセリアとジルコニアの質量比セリア:ジルコニアが30:70となるようにして混合して混合液を調製した。次いで、前記混合液を前記DPFの隔壁細孔内に入り込むように含浸させた含浸工程。次に、前記混合液を含浸させたDPFから、吸引機で余分な混合液を除去し、大気中、250°Cで1時間の焼成した焼成工程。このような含浸工程及び焼成工程を、DPFの容量1Lあたりのセリア及びジルコニアの混合物の担持量が67.5g/Lとなるまで繰り返し実施した後、700°Cで5時間焼成して、セリア及びジルコニアが担持されたDPFを得た。なお、DPFの容量1Lあたりのセリア及びジルコニアの混合物の担持量は67.5g/Lであり、DPFの容量1Lあたりのセリアとジルコニアのそれぞれの担持量は、20.3g/Lセリア、47.3g/Lジルコニアであった。次に、イオン交換水に硝酸銀東洋化学工業製を溶解させて硝酸銀水溶液を調製した。次いで、前記硝酸銀水溶液を、DPFの容量1Lあたりの銀メタルの担持量が7.5g/Lとなるようにして、前記セリア及びジルコニアが担持されたDPFの隔壁細孔内に入り込むように含浸させ、500°Cで5時間焼成して、DPFの隔壁に担持コートされているセリア及びジルコニアに銀を担持して、DPFに担持された形態の比較のための酸化触媒を製造した。なお、DPFの容量1Lあたりの銀の担持量は7.5g/Lであった。このようにして調製した比較のための酸化触媒銀が担持されたセリア及びジルコニアからなる触媒を担持したDPFを、前記酸化触媒として利用した以外は、実施例1と同様にして、比較のための酸化触媒を備える排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。比較例5触媒の調製先ず、実施例1の酸化触媒の調製の際に用いたDPFと同様のDPFを準備した。次に、アルミナゾル日産化学社製の商品名A520を前記DPFの隔壁細孔内に入り込むように含浸させた含浸工程。次に、前記混合液を含浸させたDPFから、吸引機で余分な混合液を除去し、大気中、250°Cで1時間の焼成した焼成工程。このような含浸工程及び焼成工程を、DPFの容量1Lあたりのアルミナの担持量が30g/Lとなるまで繰り返し実施した後、700°Cで5時間焼成して、アルミナが担持されたDPFを得た。なお、DPFの容量1Lあたりのアルミナの混合物の担持量は30g/Lであった。次に、イオン交換水に硝酸銀東洋化学工業製を溶解させて硝酸銀水溶液を調製し、前記硝酸銀水溶液を、DPFの容量1Lあたりの銀メタルの担持量が7.5g/Lとなるようにして、前記セリア及びジルコニアが担持されたDPFの隔壁細孔内に入り込むように含浸させ、500°Cで5時間焼成して、DPFの隔壁に担持コートされているアルミナに銀を担持して、DPFに担持された形態の比較のための酸化触媒を製造した。なお、DPFの容量1Lあたりの銀の担持量は7.5g/Lであった。このようにして調製した比較のための酸化触媒銀が担持されたアルミナからなる触媒を担持したDPFを、前記酸化触媒として利用した以外は、実施例1と同様にして、比較のための酸化触媒を備える排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度をそれぞれ求めた。得られた50PM酸化温度の結果を図5に示す。[実施例1~7及び比較例1~6で用いた排ガス浄化装置の特性の評価]X線回折XRD測定実施例1~4及び比較例1において、アッシュ堆積処理を実施する前の段階の各酸化触媒のDPFの触媒の担持コート層から粉末状の試料をそれぞれ取り出し、各試料に対してX線回折XRD測定を行った。このようなXRD測定により得られたXRDパターンを図6に示す。なお、図6中、記号の丸○は丸記号が付された位置のピークがAgメタルに由来するXRDピークであることを示し、三角△は三角記号が付された位置のピークがAg2SO4に由来するXRDピークであることを示す。図6に示す結果からも明らかなように、実施例1で用いたアッシュ堆積処理前の酸化触媒においては、XRDパターンにおいて硫酸カルシウムとAg2SO4の結晶相のピークのみが観測され、担体硫酸カルシウムに担持されている成分がAg2SO4のみであることが分かった。これに対して、実施例2で用いたアッシュ堆積処理前の酸化触媒においては、XRDパターンにおいて硫酸カルシウム、Ag2SO4及びAgメタルの結晶相のピークが観測され、担体硫酸カルシウムに担持されている成分がAg2SO4及びAgメタルであることが分かった。また、実施例3~4においては、XRDパターンにおいて硫酸カルシウムとAgメタルのピークが観測され、担体硫酸カルシウムに担持されている成分がメタル状の銀のみであることが分かった。このような結果から、リッチガスを供給することにより、担体上にメタル状の銀を析出させることが可能であることが確認された。なお、比較例1においては、XRDパターンから硫酸カルシウムのみであることが確認された。50PM酸化温度の結果図5に示す各排ガス浄化装置のアッシュ堆積処理前及びアッシュ堆積処理後の50PM酸化温度の結果に基づいて、各排ガス浄化装置の触媒性能を評価した。図5に示す結果からも明らかなように、酸化触媒にアッシュ堆積処理を実施する前の実施例1~7で得られた排ガス浄化装置と比較例1~2得られた排ガス浄化装置のPM酸化活性を比較すると、実施例1~7で得られた排ガス浄化装置はいずれも、比較例1及び2得られた排ガス浄化装置と比較して50PM酸化温度が低く、比較例1~2得られた排ガス浄化装置よりも優れたPM酸化性能を有することが分かった。このような結果は、比較例1~2得られた排ガス浄化装置のようにDPFに硫酸カルシウム又はリン酸カルシウムを担持しただけではPM酸化活性が発現しないためであると本発明者らは推察する。次に、実施例1~7で得られた排ガス浄化装置と比較例3~5得られた排ガス浄化装置のPM酸化活性を比較すると、アッシュ堆積処理を実施する前の各装置のPM酸化活性はほぼ同等の水準のものであると言える。一方、アッシュ堆積処理を実施した後においては、比較例3~5で得られた排ガス浄化装置はPM酸化性能が著しく低下するのに対して、実施例1~7で得られた排ガス浄化装置はいずれもアッシュ堆積処理を実施する前とほぼ同等のPM酸化性能を示し、アッシュの堆積後においても十分に高度なPM酸化活性を維持できることが確認された。なお、アッシュ堆積処理を実施後においても比較例4で得られた排ガス浄化装置は比較的高いPM酸化活性を示しているが、アッシュ堆積による活性変化が大きく、実用上で大きな障壁のあるものであることが分かった。また、比較例4においては、アッシュの堆積厚さを50μmとしていたが、実際の使用時にアッシュ堆積厚さが更に大きくなると、PM酸化性能が更に低下することが考えられる。また、図5に示す結果から、リッチガスを供給する処理を施した場合実施例2~4、6~7には、排ガス浄化装置がより高度なPM酸化性能を有するものとなることが確認された。このような結果から、本発明の排ガス浄化装置実施例1~7はいずれも、比較のための排ガス浄化装置比較例1~5と比べて、アッシュ堆積後においても、十分に高度なPM酸化活性を維持することが可能であることが分かった。その結果、本発明の排ガス浄化装置実施例1~7はいずれも、PMに被覆された触媒の活性を高精度で確実に再生させることが可能であることが分かった。