半導体基板処理装置の稼働中にエッチング液として使用されている燐酸溶液中の珪素濃度を測定するための装置であって、少なくとも熱交換器と反応槽と赤外吸収測定器とを有してなり、前記熱交換器には、前記半導体基板処理装置から抜き出され、100~180°Cに加熱された一定量の燐酸溶液の供給ラインが接続され、該熱交換器において、100~180°Cに加熱された一定量の燐酸溶液を急速に5~50°Cに冷却して排出し、前記反応槽には、前記熱交換器から排出され、急速に5~50°Cに冷却された燐酸溶液の供給ラインと、弗化水素酸供給ラインと、脱イオン水供給ラインと、キャリアガス供給ラインとが接続され、該反応槽内にて燐酸溶液と弗化水素酸との反応生成物である四弗化珪素を発生させ、次いで、発生した該四弗化珪素を前記反応槽より前記キャリアガスにより気化させ、前記赤外吸収測定器には、前記反応槽からの気化した前記四弗化珪素のガス供給ラインが接続され、前記赤外吸収測定器により前記四弗化珪素ガスの濃度を測定することを特徴とする燐酸溶液中の珪素濃度測定装置。稼働中の半導体基板処理装置においてエッチング液として循環使用されている燐酸溶液中の珪素濃度の測定方法であって、前記半導体基板処理装置から100~180°Cに加熱された一定量の燐酸溶液を抜き出し、これを急速に5~50°Cに冷却し、しかる後、急速に5~50°Cに冷却された該一定量の燐酸溶液に弗化水素酸を添加して両者間の反応により四弗化珪素を生じさせ、更に、生成した四弗化珪素をキャリアガスにより気化させ、気化した四弗化珪素ガスの濃度を赤外吸収測定器により測定することを特徴とする燐酸溶液中の珪素濃度の測定方法。前記反応槽に供給するキャリアガスの一部を燐酸溶液の液中に導入し、残りのガスを反応槽内の気相に導入することを特徴とする請求項1に記載の燐酸溶液中の珪素濃度測定装置。前記反応槽に供給するキャリアガスの一部を燐酸溶液の液中に導入し、残りのガスを反応槽内の気相に導入することを特徴とする請求項2に記載の燐酸溶液中の珪素濃度測定方法。吸収波数900~1200cm1の範囲を測定範囲とする赤外吸収測定器を用いたことを特徴とする請求項1又は3に記載の燐酸溶液中の珪素濃度測定装置。吸収波数900~1200cm1の範囲を測定範囲とする赤外吸収測定器を用いて、気化した四弗化珪素ガスの濃度を測定することを特徴とする請求項2又は4に記載の燐酸溶液中の珪素濃度測定方法。本発明の目的は、上記の点に着目し、特許文献1に示される装置と方法の問題点である脱イオン水に含まれる四弗化水素起因以外の成分の影響を排除し、より簡易かつ測定時間を従来よりも大幅に短縮し、迅速にエッチング処理装置内で循環使用、あるいは、エッチング処理後、珪素除去装置で珪素成分を除去した燐酸溶液中の珪素濃度を測定し、エッチングプロセスの性能向上が図れるとともに、エッチング液である燐酸溶液を効率よく使用し、燐酸の廃液量の低減にもつながり、経済的に良好なエッチングを行うことができ、かつ、エッチングの高効率化が達成できる燐酸溶液中の珪素濃度測定装置及び測定方法を提供することにある。本発明は、上記目的を達成するため、第1の課題解決手段として、半導体基板処理装置の稼働中にエッチング液として使用されている燐酸溶液中の珪素濃度を測定するための装置であって、少なくとも熱交換器と反応槽と赤外吸収測定器とを有してなり、前記熱交換器には、前記半導体基板処理装置から抜き出され、100~180°Cに加熱された一定量の燐酸溶液の供給ラインが接続され、該熱交換器において、100~180°Cに加熱された一定量の燐酸溶液を急速に5~50°Cに冷却して排出し、前記反応槽には、前記熱交換器から排出され、急速に5~50°Cに冷却された燐酸溶液の供給ラインと、弗化水素酸供給ラインと、脱イオン水供給ラインと、キャリアガス供給ラインとが接続され、該反応槽内にて燐酸溶液と弗化水素酸との反応生成物である四弗化珪素を発生させ、次いで、発生した該四弗化珪素を前記反応槽より前記キャリアガスにより気化させ、前記赤外吸収測定器には、前記反応槽からの気化した前記四弗化珪素のガス供給ラインが接続され、前記赤外吸収測定器により前記四弗化珪素ガスの濃度を測定することを特徴とする燐酸溶液中の珪素濃度測定装置を提供することにある。本発明は、上記目的を達成するため、第2の課題解決手段として、稼働中の半導体基板処理装置においてエッチング液として循環使用されている燐酸溶液中の珪素濃度の測定方法であって、前記半導体基板処理装置から100~180°Cに加熱された一定量の燐酸溶液を抜き出し、これを急速に5~50°Cに冷却し、しかる後、急速に5~50°Cに冷却された該一定量の燐酸溶液に弗化水素酸を添加して両者間の反応により四弗化珪素を生じさせ、更に、生成した四弗化珪素をキャリアガスにより気化させ、気化した四弗化珪素ガスの濃度を赤外吸収測定器により測定することを特徴とする燐酸溶液中の珪素濃度の測定方法を提供することにある。本発明は、上記目的を達成するため、第3の課題解決手段として、前記反応槽に供給するキャリアガスの一部を攪拌の効果を持たすために燐酸溶液の液中に導入し、残りのガスを反応槽内の気相に導入することを特徴とする燐酸溶液中の珪素濃度測定装置を提供することにある。本発明は、上記目的を達成するため、第4の課題解決手段として、前記反応槽に供給するキャリアガスの一部を攪拌の効果を持たすために燐酸溶液の液中に導入し、残りのガスを反応槽内の気相に導入することを特徴とする燐酸溶液中の珪素濃度測定方法を提供することにある。本発明は、上記目的を達成するため、第5の課題解決手段として、赤外吸収測定器として、吸収波数900~1200cm1の範囲を測定範囲とする赤外吸収測定器を用いたことを特徴とする燐酸溶液中の珪素濃度測定装置を提供することにある。本発明は、上記目的を達成するため、第6の課題解決手段として、吸収波数900~1200cm1の範囲を測定範囲とする赤外吸収測定器を用いて、気化した四弗化珪素ガスの濃度を測定することを特徴とする燐酸溶液中の珪素濃度測定方法を提供することにある。即ち、本発明の特徴とすることは次の点にある。1加水分解したヘキサフルオロ珪酸を含む溶液の珪素濃度を、導電率測定による間接的な方法によることなく、発生した四弗化珪素ガスの濃度を直接、赤外吸収測定器で測定することにある。2発生ガスを直接測定することで測定時間の短縮と精度向上が実現したことにある。35~50°Cに急速冷却した燐酸溶液を用いて測定したことにある。即ち、特許文献1に記載の発明の温度範囲で四弗化珪素の濃度を測定すると、発生ガスが水蒸気と反応して加水分解するため、赤外吸収測定器の適用ができないが、本発明によれば、水蒸気圧特性から四弗化珪素の分解が少ない温度領域を見出し、赤外吸収測定器の適用を実現したことにある。4常温のまま放置した燐酸溶液内の珪素成分を測定すると、珪素成分の凝集のために正確な珪素濃度を求められないことを見出したことにある。5100°C以上に燐酸溶液を加熱後、5~50°Cまで急冷することで正確な珪素濃度が測定できることを見出したことにある。本発明によれば、特許文献1に示される装置と方法の問題点である脱イオン水に含まれる四弗化水素起因以外の成分の影響を排除でき、より簡易かつ測定時間を従来よりも大幅に短縮し、迅速にエッチング処理装置内で循環使用、あるいは、エッチング処理後、珪素除去装置で珪素成分を除去した燐酸溶液中の珪素濃度を測定でき、エッチングプロセスの性能向上が図れるとともに、エッチング液である燐酸溶液を効率よく使用することになる。このため、燐酸の廃液量の低減にもつながり、この点からも経済的に良好なエッチングを行うことができ、エッチングの高効率化が達成できる。以下、本発明の好ましい実施の形態を挙げて、本発明を詳細に説明する。本発明においては、エッチング処理装置で循環使用中の高温燐酸溶液を測定する際は、100°C以上、180°C以下にある珪素成分の飽和濃度以上の温度まで加熱し、結晶化した珪素成分を完全に溶解させたのちに、結晶化しないように速やかに測定温度5~50°Cまで急速冷却し、反応槽に送液する。冷却操作に要する時間は短いほどよい。一方、珪素成分を除去した再生後の燐酸溶液など常温付近のサンプルについては一旦加熱後、速やかに冷却し、反応槽に送液することが望ましい。下記に反応槽で想定される反応を示す。燐酸溶液中の珪素化合物は多種存在する。例えば、SinOn1OH2n2のタイプの珪素成分と弗化水素酸の反応は次のように考えられる。SinOn1OH2n24nHF→nSiF4↑H4nOn1OH2n21あるいは、以下のようなケースも一部存在すると考えられる。H2SiF6→SiF4↑2HF↑2なお、発生した四弗化珪素は水蒸気と反応し、以下のように分解することが知られている。加水分解であるため、水蒸気分圧が低い領域、つまり温度が低いほど分解を抑えることができる。SiF42H2O→4HFSiO23エッチング処理装置で使用される燐酸溶液の温度は、100~180°Cである。被エッチング物はシリコン基板上の窒化珪素膜であり、燐酸溶液中にエッチングされた珪素は珪素成分として蓄積されていく。エッチング速度には温度依存性があり、温度が高いほどエッチング速度が高い。一方、100°Cにおける珪素成分の飽和濃度は珪素に換算して約20ppm、180°Cにおいては約150ppmである。窒化珪素膜をエッチングする際の燐酸溶液の温度は通常150~160°C程度である。配管部材などの耐熱温度は180°Cである。また、溶液中の珪素成分の飽和濃度を越えると珪素成分が重合し結晶となってフィルターに析出し、目詰まりをする。二酸化珪素膜も窒化珪素膜の速度よりも低いがエッチングされる。両者のエッチング速度比は燐酸溶液中の珪素濃度と燐酸溶液の温度に依存し、窒化珪素膜と二酸化珪素膜のエッチング速度比を一定にするには、燐酸溶液の温度と珪素濃度を共に一定にコントロールする必要がある。近年、薄い窒化珪素膜で窒化珪素膜と二酸化珪素膜のエッチング速度比を小さくする用途があるが、この場合、窒化珪素膜のエッチング速度が低く、二酸化珪素膜との速度比を小さくできる珪素濃度、20ppm前後とした130°C付近で燐酸溶液がエッチング処理装置で使用される。一方、本発明者等は、珪素成分を含む100°C以上の燐酸溶液を冷却し、常温で長時間放置すると、四弗化珪素の発生量が減少することを見出した。この現象は高温時に溶解していた珪素成分が結晶化し、表面積が小さくなり、見かけ上、弗化水素酸との反応が遅くなるためと考えられる。珪素成分の燐酸溶液に対する溶解は可逆性があるため、100°C以上、180°C以下にある珪素成分の飽和濃度以上の温度まで加熱し、結晶化した珪素成分を完全に溶解させたのちに、結晶化しないように速やかに冷却すると本来の珪素濃度を示す。図4は本発明による燐酸溶液中の珪素濃度測定装置の1実施例を示す概念図である。1は、エッチング処理装置、2は、加熱槽、3は、熱交換器、4は、反応槽、5は、窒素等のキャリアガス導入管、6は、弗化水素酸導入管、7は、脱イオン水導入管、8は、四弗化珪素ガス導入管、9は、赤外吸収測定器、10は、定量ポンプ、11、11’は、弁とニードル弁、12は、ドレイン、13は、バルブ、14は、キャリアガス導入管、15は、センサである。エッチング処理装置1、あるいは、加熱槽2で一定時間加熱保温された一定量の燐酸溶液を採取する。100~180°Cまでの高温状態から5~50°Cの間に設定された測定温度まで燐酸溶液中の珪素成分を結晶化させないよう熱交換器3で急速に冷却させ、反応槽4に送液する。反応槽4には、一定量の弗化水素酸を定量ポンプ10を使って導入管6より送る。反応槽4内で燐酸溶液中の珪素成分と弗化水素酸が反応し、四弗化珪素ガスが発生する。発生した四弗化珪素は、窒素等のキャリアガス導入管5より、一定の流量圧力で供給されるキャリアガス、例えば窒素に同伴され、四弗化珪素ガス導入管8を通って、赤外吸収測定器9に送られ、赤外吸収測定器9によりキャリアガス中の四弗化珪素ガスの濃度を測定する。反応を促進させるために燐酸溶液を攪拌することが好ましいが、この際、キャリアガス導入管5より供給されるキャリアガスを反応槽4内の燐酸溶液中に導入してバブリングしてもよい。キャリアガス流量に比べ、燐酸溶液のサンプリング量が少ない場合、反応槽4の前に分岐を設け、一方を反応槽4の気相側に、もう一方を燐酸溶液中に供給するようにするようにすることが好ましい。この場合、分岐に弁とニードル弁11、11’を設けて、キャリアガスの分配流量の調節を行う。測定は、30秒~2分程度連続して行い、そのピーク値より、予め作成した検量線により、測定した燐酸溶液中の珪素濃度を算出する。測定後、反応槽4内の燐酸溶液はドレイン12より排出されるが、その際、脱イオン水による反応槽4の洗浄は任意の条件に設定し、脱イオン水導入管7から脱イオン水を導入し、反応槽4を洗浄する。この操作を実施するときは、赤外吸収測定器9と反応槽4の間の四弗化珪素ガス導入管8のバルブ13を閉じ、赤外吸収測定器9へは別系統のキャリアガス導入管14よりキャリアガスを導入パージする。洗浄後に次に測定する燐酸溶液を反応槽4に導入した後は反応槽4内が十分にキャリアガス雰囲気になるまで、バルブを閉じ、パージラインへ窒素を流し、かつ、赤外吸収測定器9へはキャリアガス導入管14より引き続き、キャリアガスを導入し、パージしておく。赤外吸収測定器9内の温度とキャリアガスの流量圧力は一定に保つ必要があり、赤外吸収測定器9に付属の温度圧力センサでモニタリングされ、キャリアガスが出入りする場所に設置されているポンプをフィードバック制御する。反応槽4中において生成した反応生成物である四弗化珪素ガスは、一定の流量と圧力に調整されたキャリアガスにより気化させることが好ましい。また、エッチング処理槽1、あるいは、加熱槽2で一定時間加熱保温された一定量の燐酸溶液は、一定の時間間隔で反応槽4に連続して送液することが好ましい。本発明にかかる燐酸液中の珪素濃度の測定方法における測定原理の概略は、以下の通りである。燐酸溶液がエッチング液として100°C以上の高温で使用されているエッチング処理装置の場合の珪素濃度を測定するときは一定量の燐酸溶液を抜き出し、5~50°Cまでの間に設定された測定温度まで極力速く冷却する。このとき、冷却速度は速いほどよい。他方、珪素除去装置で珪素成分を除去した燐酸溶液中などすでに温度が下がりきった状態の燐酸溶液中の珪素濃度測定をする場合は、一旦100~180°Cまでの珪素に換算した濃度の飽和温度以上まで昇温し、一定時間保持後5~50°Cまでの間に設定された測定温度まで極力速く冷却することが好ましい。所定の温度に冷却された燐酸溶液は一定の流量と圧力に調整されたキャリアガスが流れている反応槽に送り、弗化水素酸を加えて燐酸溶液中の珪素成分と反応させて四弗化珪素ガスを発生させる。低温の燐酸溶液の粘度は高いため、弗化水素酸の添加直後の燐酸溶液中の弗化水素酸の濃度は均一とならない。したがって、直接キャリアガスを燐酸溶液中に導入する。あるいは、超音波もしくはマグネットスターラー、攪拌子により燐酸溶液と弗化水素酸を効率よく混合させる。発生した四弗化珪素は一定の流量と圧力に調整されたキャリアガスに同伴し赤外吸収測定器に送り、初期の四弗化珪素濃度の最大値を測定する。予め求めた、燐酸溶液中の珪素濃度と初期の四弗化珪素濃度の最大値との関係式により、赤外吸収測定器によって計測された四弗化珪素から燐酸溶液中の珪素濃度を算出することができる。なお、精度を高めるために一定間隔ごとに出力される濃度を1分程度加算して検量線を引いてもよい。一定量の燐酸溶液は、少量ずつ、例えば10分間隔で反応槽に送液し、弗化水素酸を加えることで測定サイクルを短くする方法が考えられる。送液する燐酸溶液の容積を少なくすることで、弗化水素酸との混合にかかる時間が減少する。その結果赤外吸収測定器9での測定開始時間が早くなる。測定後の燐酸溶液は窒素の圧力により速やかに排出させる。また、この場合、キャリアガスの流量は前述の方法と同じことがあるため、その場合、キャリアガスの全量を攪拌に供用するには多すぎる。そのため、反応槽前に分岐を設け、一方を反応槽の気相側に、もう一方を燐酸溶液中に供給するようにするとよい。赤外吸収測定器9のセル長は長くなるほど微量のサンプルで精度よく測定できる。また、測定精度はキャリアガスの流量と圧力、セルの温度の影響を受ける。適切なセル長とキャリアガスの流量を設定し、ガス圧力が一定になるよう制御する。キャリアガスはキャリアガスを用いる。目的に応じて一連のパラメータの選択を行う。赤外吸収測定器9としては、その測定範囲が四弗化珪素特有の吸収波数900~1200cm1に特化し十分な分解能を持つ製品の使用が好ましい。次に、本発明の実施例を説明する。但し、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。<実施例1>本実施例1ではエッチング処理後、十分に冷却された燐酸溶液を用いた。十分に冷却された燐酸溶液中の珪素成分は、結晶化が進み、弗化水素酸との反応速度が遅くなり、このままでは、初期の四弗化珪素の発生量が少なく、正しく珪素成分の定量化ができない。そこで、十分に冷却された燐酸溶液は、一旦、加熱槽2に送液し、珪素に換算にして最大100ppmの飽和温度以上である160°Cまで加熱して30分間温度を保持した。その後、熱交換器3にて25°Cまで冷却する。ここで抜き取る燐酸溶液の量は25°Cに換算して100cc、熱交換はワンパスの水冷方式を採用した。反応槽4における燐酸溶液になるよう熱交換器の伝熱面積などの仕様と冷却水の温度を決定する。熱交換器3にて25°Cまで冷却された燐酸溶液は、反応槽4に送液した。ここで、キャリアガスとして窒素流量500sccmの下で5弗化水素酸を定量ポンプ10を使って弗化水素酸導入管6より10mL添加する。なお、本実施例1では、窒素を燐酸溶液中に導入することで攪拌を行い、燐酸溶液内の珪素成分と弗化水素酸の混合を促進させているが、別の手法を使って攪拌してもよい。燐酸溶液中の珪素成分と弗化水素酸との反応生成物である四弗化珪素はキャリアガス導入管5から送られてくる窒素に同伴され、四弗化珪素ガス導入管8を通って、赤外吸収測定器9へ導かれる。おおむね2分間赤外吸収測定器9にて発生する四弗化珪素を計測し、最大値を示す値を予め作成した検量線にあてはめて、燐酸溶液中の珪素濃度を算出する。赤外吸収測定器9内の温度と圧力はセンサ15でモニタリングされ、適宜コントロールされている。測定終了後の燐酸溶液は窒素の圧力でドレイン12より排出され、排出後、脱イオン水導入管7から脱イオン水を導入し、反応槽4を洗浄する。この操作を実施する時は、赤外吸収測定器9と反応槽4の間の弗化珪素ガス導入管8にあるバルブ13を閉じ、赤外吸収測定器9へは別系統のキャリアガス導入管14より窒素を導入パージする。洗浄後に次に測定する燐酸溶液を反応槽4に導入後は、反応槽4内が十分に窒素雰囲気になるまで、バルブ13を閉じ、パージラインへ窒素を流し、かつ、赤外吸収測定器9へはキャリアガス導入管14より引き続き、窒素を導入し、パージしておく。1回の測定にかかる時間は、反応槽への燐酸溶液の導入、反応測定、燐酸溶液の排出容器洗浄の全ての工程を含めて、5~10分である。図1は実施例1の赤外吸収測定の結果を示すグラフである。燐酸溶液中の珪素濃度が700ppm、350ppm、17.5ppmのときの測定結果である。図1のX軸に時間、Y軸に四弗化珪素の時間に対応した検知濃度を示す。各濃度のピーク値をもとに検量線を作成する。図1において、各濃度のピーク値は測定開始から約40秒後に現れている。表1は検量線を引くにあたって使用したデータである。図1に示した3つの珪素濃度のリン酸溶液について、各3回測定し、そのピーク値を計測する。表1の一番左の列に燐酸溶液中の既知の珪素濃度を、次の3列に3回の試験で検知された四弗化珪素SiF4の濃度を示す。一番右の列に示す誤差は式4で定義したものである。誤差=1σ/測定データ3つの平均値×1004σ:3点の標準偏差図2は、表1をもとに作成した検量線を示したものであって、図2のX軸は検知された四弗化珪素濃度を、Y軸はそのときの燐酸溶液中の珪素濃度を示す。図2の直線を式に表わすと次の通りとなる。y=0.6369x-2.87075即ち、式5におけるxは赤外吸収測定器で検知された四弗化珪素濃度を、yはそのときの燐酸溶液中の珪素濃度を示している。使用した赤外吸収測定器は10cmのガスセルを有する大塚電子株式会社のIG-2000である。その結果、式5に、検知された四弗化珪素の濃度を代入することにより、燐酸溶液中の正確な珪素濃度を知ることができる。<実施例2>実施例2では、2分から30秒間隔で一定量の燐酸溶液を反応槽4に少量の燐酸溶液を送液して弗化水素酸を加えることで測定サイクルを短くする方法について述べる。測定サイクルを短くして燐酸溶液中の珪素濃度を一定に保ちたいとの要求は主として燐酸溶液がエッチング液として100°C以上の高温で使用されているエッチング処理装置に多い。よって、この種のエッチング処理装置を例にとる。エッチング処理装置1より抜き取った高温の燐酸溶液は、熱交換器3にて25°Cまで冷却する。ここで抜き取る燐酸溶液の量は25°Cに換算して10cc、熱交換はワンパスの水冷方式を採用した。反応槽4における燐酸溶液になるよう熱交換器3の伝熱面積などの仕様と冷却水の温度を決定する。冷却された燐酸溶液は反応槽4に送液される。ここで、キャリアガスとして窒素流量500sccmの下で5弗化水素酸を定量ポンプ10を使って1mL添加する。なお、本実施例2では、窒素を燐酸溶液中に導入することで攪拌を行うが、燐酸溶液のサンプリング量が少ないため、反応槽4前に分岐を設け、一方を反応槽4の気相側に、もう一方を燐酸溶液中に供給するようにするようにすることが好ましい。この場合、分岐に弁とニードル弁11、11’を設けて、キャリアガスの分配流量の調節を行う。燐酸溶液中の珪素成分と弗化水素酸との反応生成物である四弗化水素はキャリアガス導入管5から送られてくる窒素に同伴され、四弗化珪素ガス導入管8を通って、赤外吸収測定器9へ導かれる。おおむね30秒~1分間、赤外吸収測定器9にて発生する四弗化珪素を計測し、最大値を示す値を予め作成した検量線にあてはめて、燐酸溶液中の珪素濃度を算出する。赤外吸収測定器9内の温度と圧力はセンサ15でモニタリングされ、適宜コントロールされている。測定終了後の燐酸溶液は窒素の圧力でドレイン12より排出する。脱イオン水による反応槽の洗浄は任意の条件で設定し、脱イオン水導入管7から脱イオン水を導入し、反応槽4を洗浄する。この操作を実施するときは、赤外吸収測定器9と反応槽4の間の管8のバルブ13を閉じ、赤外吸収測定器9へは別系統のキャリアガス導入管14より窒素を導入パージする。洗浄後に次に測定する燐酸溶液を反応槽4に導入後は反応槽内が十分に窒素雰囲気になるまで、バルブ13を閉じ、パージラインへ窒素を流し、かつ、赤外吸収測定器9へはキャリアガス導入管14より引き続き、窒素を導入し、パージしておく。一回の測定時間は1~2分程度となる。表2は検量線を引くにあたって使用したデータである。実施例1と同様に一番左の列に燐酸溶液中の既知の珪素濃度を、次の3列に3回の試験で検知された四弗化珪素SiF4の濃度を示す。一番右の列に示す誤差は実施例1の式4と同じである。図3は表2をもとに作成した検量線と検知された四弗化珪素から燐酸溶液中の珪素濃度を求める式である。図3のX軸は検知された四弗化珪素濃度を、Y軸はそのときの燐酸溶液中の珪素濃度を示す。図3の直線を式に表わすと次の通りとなる。y=6.4427x-3.19166即ち、式6におけるxは赤外吸収測定器で検知された四弗化珪素濃度を、yはそのときの燐酸溶液中の珪素濃度を示している。測定精度はサンプリング量が少量であるため、実施例1より大きくなるが、少量のサンプリングかつリアルタイムに近い形でコントロールしたいとの要望を満たすものである。この要望はエッチング処理装置内の燐酸溶液中の珪素濃度を一定に保ちたいとの要望に応えるものである。使用した赤外吸収測定器は10cmのガスセルを有する大塚電子株式会社のIG-2000である。その結果、式6に検知された四弗化珪素の濃度を代入することで燐酸溶液中の正確な珪素濃度を知ることができる。珪素成分入りの100°C以上の燐酸溶液を冷却し、常温で長時間放置すると、四弗化珪素の発生量が減少する。この現象は高温時に溶解していた珪素成分が結晶化し、表面積が小さくなり、見かけ上、弗化水素酸との反応が遅くなるためと考えられる。珪素成分の燐酸溶液に対する溶解は可逆性があるため、100°C以上、180°C以下にある珪素成分の飽和濃度以上の温度まで加熱し、結晶化した珪素成分を完全に溶解させたのちに、結晶化しないように速やかに冷却すると本来の珪素濃度を示す。測定にあたっては、図1に示したように赤外吸収測定器で検出される四弗化珪素濃度を経時的に測定し、濃度のピーク値を見る。これら一連の赤外吸収測定器による測定結果を表3に示す。使用した燐酸溶液中の珪素濃度は約70ppm、100ccに5の弗化水素酸を10mL加えたデータである。160°Cに加熱した燐酸溶液中に窒化珪素を溶かし込む方法により、珪素濃度70ppmに相等するサンプルを作成した。サンプルを作成して12時間後に弗化水素酸を加え、四弗化珪素を発生させ、赤外吸収測定器で四弗化珪素の検知量を測定すると108ppmになった。同じサンプルを4日間放置し、同様な方法により赤外吸収測定器で四弗化珪素の発生量を測定すると12ppmに低下した。さらに、このサンプルを160°Cで30分間加熱放置し、急冷後、同様に測定すると111ppmになり、サンプルを作成して12時間後の四弗化珪素濃度とほぼ同じ値を示した。室温で長時間そのまま放置すると、溶解していた珪素成分が重合して結晶化し、表面積が小さくなり、単位時間あたりに弗化水素酸と反応する割合が少なくなったためと考えられる。