"照射されるべき標的体積13に線量分布を蓄積する照射装置11であって、前記標的体積13を照射するための粒子ビーム15を提供する加速装置27と、前記照射装置11が作動してきるときに、前記粒子ビーム15が引き続いて所定の走査体積19中の異なる点に向けられ、それにより前記走査体積19にわたる走査が行われるように、前記粒子ビーム15のビーム特性を変更する走査装置25,23と、を備え、前記走査装置25,23が、前記標的体積13とは無関係に設定される固定の走査経路21に沿って前記走査体積19を走査し、前記粒子ビーム15が前記走査経路21に沿って走査される間に、前記粒子ビーム15の強度を調節することにより、前記標的体積13に蓄積されるべき前記線量分布の調整を実現するように具体化されている、照射装置11。前記走査装置23,25が、前記標的体積13とは無関係に事前に設定される所定の走査速度で前記走査経路21を走査するように具体化されている、請求項1に記載の照射装置11。前記走査装置が、前記粒子ビーム15を可変的に偏向することができる少なくとも1つの偏向電磁石23を備え、前記照射装置11が作動しているときに、前記偏向電磁石23が一定の偏向周波数で作動する、請求項1から3のいずれか一項に記載の照射装置11。前記偏向電磁石23が電気的共振で作動するように前記偏向周波数が選択される、請求項3に記載の照射装置11。前記走査装置25,23が、所定のパターンのとおりの侵入深さに調節するために前記粒子ビーム15のエネルギーを変更することができる、請求項1から4のいずれか一項に記載の照射装置11。前記加速装置27のRF出力および/またはRFフェーズの調節が、前記走査装置25,23によって引き起こされ得る、請求項5に記載の照射装置11。前記走査装置25,23が、前記粒子ビーム15を前記走査体積19にわたって複数回走査するように具体化されている、請求項1から5のいずれか一項に記載の照射装置11。照射されるべき標的体積13に線量分布を蓄積する照射方法であって、粒子ビーム15を提供するステップと、前記粒子ビーム15を照射されるべき標的体積13に向けるステップと、を含み、前記粒子ビーム15が引き続いて所定の走査体積19中の異なる点に向けられ、それにより前記走査体積19にわたる走査が行われるように、照射の間に少なくとも1つの前記粒子ビーム15のビーム特性が変更され、前記粒子ビーム15が、前記標的体積13とは無関係に設定される固定の走査経路21に沿って前記走査体積19にわたって走査され、前記粒子ビーム15が前記走査経路21に沿って走査される間に、前記粒子ビーム15の強度を調節することにより、前記標的体積13に蓄積されるべき所望の線量分布が得られる、照射方法。前記標的体積13とは無関係の所定の走査速度で前記走査経路21を走査する、請求項8に記載の照射方法。前記粒子ビーム15を偏向電磁石23によって可変的に偏向することができ、前記偏向電磁石23が一定の偏向周波数で作動する、請求項8または9に記載の照射方法。前記偏向電磁石23が電気的共振で作動する、請求項10に記載の照射方法。所定のパターンのとおりの侵入深さに調節するために前記粒子ビーム15のエネルギーを変更する、請求項8から11のいずれか一項に記載の照射方法。加速装置27のRF出力および/またはRFフェーズの調節によって前記エネルギーを変更する、請求項12に記載の照射方法。前記粒子ビーム15を走査体積19にわたって複数回走査する、請求項8から13のいずれか一項に記載の照射方法。図1は、粒子ビーム15を利用して標的体積13を照射する照射装置11の部材を概略的に示す。意図された線量が適用されるべき標的体積13は、対象17内に配置されている。例として、標的体積13は、患者の不規則な形状の腫瘍とすることができるが、研究目的でファントムを照射すること、または試験もしくは補整目的でファントムを照射することも可能である。標的体積13を照射するために、粒子ビーム15は、不規則な形状の標的体積13よりも大きな走査体積19に向けられる。したがって、粒子ビームは、走査経路21に沿って方向付けられる。ここで、照射装置11の走査装置は、粒子ビーム15を2つの相互に直交する方向における伝搬方向に垂直に偏向することができる、2つの偏向磁石の対23を備える。とりわけ、制御装置25が偏向磁石の対23を制御する。偏向は、事前に設定したプログラムによりもたらされる。さらに、照射装置11の加速装置27は、粒子ビーム15が設定プログラムによるエネルギーによって変化するように、制御装置25によって制御することができる。偏向磁石23および加速装置27によるエネルギー変化を組み合わせた結果、粒子ビーム15は、走査経路21に沿って走査体積に向けられる。走査自体、すなわち粒子ビーム15の空間的誘導は、照射されるべき標的体積13に独立してもたらされる。しかし、所望の線量分布が標的体積13に蓄積されるようにするために、ビームが走査経路21に沿って走査される間に、粒子ビーム15は強度によって調節される。粒子ビーム15が走査体積19内の標的体積13の外の領域に作用するこれらの点で、粒子ビーム15の強度はゼロに調節される。走査装置によって粒子ビーム15が標的体積13内の点に向けられるとすぐに、線量が実際にこれらの点に蓄積されるように、粒子ビーム15の強度はゼロでない値に設定される。したがって、蓄積された線量分布は、粒子ビーム15の強度の目標とされる制御によって、標的体積13の個別の状況に適合される。走査経路21の空間特性は、標的体積13とは無関係に選択される。図2は、本発明による方法の実施形態において実施される方法ステップの概略を示す。第1のステップでは、走査体積は、照射されるべき標的体積の形状、寸法、および/または位置とは無関係に設定されるステップ41。照射装置の走査装置が設置される走査経路は、同様に、粒子ビームが走査経路に沿って誘導されるように固定される。これもまた、標的体積の形状、寸法、および/または位置とは無関係に行われるステップ43。走査速度も同様に、標的体積とは無関係に設定されるステップ45。続いて、加速装置によって粒子ビームが生成され、走査体積に向けられる。走査体積は、走査経路に沿って走査される。走査体積における粒子ビームが標的体積を走査するときはいつでも、強度は、線量が実際に標的体積に蓄積されるように、ゼロではない値に設定されるステップ47。例として、粒子ビームの走査の際に、偏向電磁石を使用することができ、これは、粒子ビームを横方向に偏向させるために、電気的共振において固定偏向周波数で作動されるステップ49。粒子ビームの浸入深さは同様に、適当に調節される粒子加速器のフェーズまたはRF電力によって、粒子ビームのエネルギーを制御するための一定のプログラムによって制御することができるステップ51。線量分布は、走査の間に調節される粒子ビームの強度によって標的体積に適合されるステップ53。標的体積において所望の線量分布に到達するまで、走査体積を何度も走査することができるステップ55。"