"板状の被処理基板を回転可能に保持する回転基台と、前記回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された被処理基板の外周部を囲み、被処理基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と、前記回転基台に保持された被処理基板の表面に沿って移動可能で、前記被処理基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと、前記回転基台に保持された前記被処理基板と一定の隙間を設けて対向する平面を有する平面部と、前記平面部を前記回転基台に対して相対的に上下移動する移動機構と、前記平面部の被処理基板の対向側に設けられ前記隙間に液体を供給するために配置された複数の液体供給孔と前記複数の液体供給孔が配置される位置との間に挟まれるように前記液体供給孔と所定の間隔をおいて設けられた前記液体を吸引排出するための吸引排出孔と、前記液体供給孔からの液体の供給と前記吸引排出孔による吸引排出とを制御するための制御部と、を備えていることを特徴とする現像処理装置。前記液体供給孔の開口部は、前記吸引排出孔の外方を包囲する連通溝によって連通されていることを特徴とする請求項1記載の現像処理装置。前記吸引排出孔は、直線状の開口基部と、該開口基部の端部から前記被処理基板の外周対向側に向かって屈曲する開口補助部とからなることを特徴とする請求項1又は2記載の現像処理装置。前記平面部における前記吸引排出孔の開口面部が、前記液体供給孔の開口面部より高く形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の現像処理装置。前記平面部は、該平面部との間に隙間をおいて前記被処理基板を保持する隙間保持ピンと、該隙間保持ピンより低い高さの補助保持ピンとを備えていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の現像処理装置。前記平面部は、被処理基板の裏面に対向して複数設けられていること特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の現像処理装置。前記平面部は有底容器の内側に設けられ、前記有底容器の開口周縁には前記回転基台を移動させたときに、前記外周板の裏面の全周に渡って密着可能な第1の環状シール部材を備え、前記有底容器の底部に貫通孔が設けられており、該貫通孔内に前記回転基台の回転軸が回転及び上下移動可能に嵌挿されると共に、貫通孔と回転軸の隙間が第2の環状シール部材によって塞いで、前記液体を溜める液貯留空間を気水密に形成することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の現像処理装置。前記有底容器は、底部に設けられた排液口を具備することを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の現像処理装置。前記液貯留空間に貯留される液体は、前記液体供給孔の他に、前記回転基台に保持された基板に洗浄液を供給するための第1の洗浄液供給ノズル及び、前記有底容器の底部に配置された第2の洗浄液供給ノズルの少なくとも1つで供給されるいずれかの液体であることを特徴とする請求項7に記載の現像処理装置。前記液体供給孔及び前記吸引排出孔は直線状に形成されると共に、前記吸引排出孔は、前記複数の液体供給孔の間に挟まれる位置で前記液体供給孔と並行に複数配置され、前記制御部は前記被処理基板と前記平面部の間に供給された液体の吸引を交互に切り換えることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の現像処理装置。前記吸引排出孔に接続された管路に介設され、前記被処理基板と平面部の間に供給された液体の吸引を交互に切り換えるための切換バルブを設けたことを特徴とする請求項9に記載の現像処理装置。前記吸引排出孔に接続された管路に、前記複数の吸引排出孔による液体の吸引を交互に切り換えるための内部回転体を具備することを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の現像処理装置。前記内部回転体は、複数の前記吸引排出孔に接続すると共に、前記液体供給孔に接続する管路合流部内に回転可能に配設され、前記液体供給孔に接続された液体供給源から供給される液体により回転し、前記複数の吸引排出孔からの液体の吸引をいずれか一方に切り換えるための溝を設けたことを特徴とする請求項12に記載の現像処理装置。板状の被処理基板を回転可能に保持する回転基台に保持する工程と、前記平面部を前記回転基台に対して相対的に上下移動する移動機構により移動させた位置で平面を有する平面部と前記被処理基板と一定の隙間を設けて対向させる工程と、次いで、前記平面部の被処理基板の対向側に設けられ前記隙間に液体を供給するために配置された複数の液体供給孔と前記複数の液体供給孔が配置される位置との間に挟まれるように前記供給孔と所定の間隔をおいて設けられた前記液体を吸引排出するための吸引排出孔とからそれぞれ液体を供給し吸引排出をする工程と、前記回転基台に保持された被処理基板の表面に沿って、前記被処理基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行いながらノズルを移動させる工程と、を有することを特徴とする現像処理方法。しかしながら、特開平2006-222460号公報に記載の液処理装置では、露光時に露光機内おいて、基板裏面のゴミなどでミスアライメントが発生する懸念がある。また、裏面に付着したゴミを落とすのが困難であり、基板処理面から発生した溶解性生物などや汚れを裏面に引き込み、基板裏面を汚染する懸念がある。この発明は、前記事情に鑑みなされたもので、基板保持部にゴミが付着して、露光時に露光機内でミスアライメントが発生するのを防止すると共に、基板裏面の洗い残しや基板汚染をなくすことを可能にした現像処理装置及び現像処理方法を提供することを課題とする。前記目的を達成するため、この発明の現像処理装置は、板状の被処理基板を回転可能に保持する回転基台と、前記回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された被処理基板の外周部を囲み、被処理基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と、前記回転基台に保持された被処理基板の表面に沿って移動可能で、前記被処理基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと、前記回転基台に保持された前記被処理基板と一定の隙間を設けて対向する平面を有する平面部と、前記平面部を前記回転基台に対して相対的に上下移動する移動機構と、前記平面部の被処理基板の対向側に設けられ前記隙間に液体を供給するために配置された複数の液体供給孔と前記複数の液体供給孔が配置される位置との間に挟まれるように前記液体供給孔と所定の間隔をおいて設けられた前記液体を吸引排出するための吸引排出孔と、前記液体供給孔からの液体の供給と前記吸引排出孔による吸引排出とを制御するための制御部と、を備えていることを特徴とする。このように構成することにより、平面部は、基板裏面と一定の隙間を有して保持し、基板裏面に液体例えば純水を供給しながら吸引を行うことで、基板裏面と平面部の隙間に負圧領域を作ることができるので、基板の浮き上がりを防止することができる。また、液体供給孔及び吸引排出孔が基板裏面に接触しないので、基板裏面に付着するゴミを低減させることができ、基板吸着時のミスアライメントを防止することができる。また、基板裏面に純水を供給するので、基板裏面の洗浄も行うことができ、さらに、複数の液体供給孔が配置される位置との間に吸引排出孔を挟み込むように液体吸引孔を配置するので、基板裏面の現像液などや溶解生成物を基板裏面に引き込み吸引しないようにすることができる。この発明において、前記液体供給孔の開口部は、前記吸引排出孔の外方を包囲する連通溝によって連通されている方が好ましい。このように構成することにより、平面部の外方の液体が吸引排出孔に入り込むのを防止することができる。また、前記吸引排出孔は、直線状の開口基部と、該開口基部の端部から前記被処理基板の外周対向側に向かって屈曲する開口補助部とからなる形状である方が好ましい。このように構成することにより、被処理基板の外周部の吸引力を高めることができると共に、液体供給孔からの液体の供給及び吸引排出孔からの液体の吸引を効率良く行うことができる。また、前記平面部における前記吸引排出孔の開口面部が、前記液体供給孔の開口面部より高く形成されている方が好ましい。このように構成することにより、吸引面積を増加させて吸引力を増大させることができると共に、被処理基板の外周側の吸引力を高めて効率的な吸引を行うことができる。また、前記平面部は、該平面部との間に隙間をおいて前記被処理基板の裏面に当接して被処理基板を保持する隙間保持ピンと、該隙間保持ピンより低い高さの補助保持ピンとを備えている方が好ましい。このように構成することにより、被処理基板が撓んだ際に補助保持ピンによって被処理基板を保持することができ、被処理基板と平面部との接触を防止することができる。また、補助保持ピンにより被処理基板を保持することで、被処理基板と平面部との間隔を狭小にすることができるので、強い吸引力が得られると共に、液体供給量の削減を図ることができる。また、前記平面部は、被処理基板の裏面に対向して複数設けられている方が好ましい。このように構成することにより、複数の平面部が、被処理基板の裏面を保持するので、基板を安定して一定の隙間を保持することができる。また、前記平面部は有底容器の内側に設けられ、前記有底容器の開口周縁には前記回転基台を移動させたときに、前記外周板の裏面の全周に渡って密着可能な第1の環状シール部材を備え、前記有底容器の底部に貫通孔が設けられており、該貫通孔内に前記回転基台の回転軸が回転及び上下移動可能に嵌挿されると共に、貫通孔と回転軸の隙間が第2の環状シール部材によって塞いで、前記液体を溜める液貯留空間を気水密に形成する方が好ましい。このように構成することにより、第1の環状シール部材によって外周板の裏面の全周に渡って密着し、かつ、第2の環状シール部材によって有底容器の底部に設けられた貫通孔と回転基台の回転軸の隙間を塞いで、気水密性の高い液貯留空間を形成することができる。また、前記有底容器は、底部に設けられた排液口を具備する方が好ましい。このように構成することにより、液貯留空間に貯留された液を、有底容器の底部に設けられた排液口から排出することができる。また、前記液貯留空間に貯留される液体は、前記液体供給孔の他に前記回転基台に保持された基板に洗浄液を供給するための第1の洗浄液供給ノズル及び、前記有底容器の底部に配置された第2の洗浄液供給ノズルの少なくとも1つで供給されるいずれかの液体である方が好ましい。このように構成することにより、液貯留空間に液体を効率良く供給することができる。また、前記液体供給孔及び前記吸引排出孔は直線状に形成されると共に、前記吸引排出孔は、前記複数の液体供給孔の間に挟まれる位置で前記液体供給孔と並行に複数配置され、前記制御部は前記被処理基板と前記平面部の間に供給された液体の吸引を交互に切り換える方が好ましい。この場合、前記吸引排出孔の管路に接続され、前記被処理基板と平面部の間に供給された液体の吸引を交互に切り換えるための切換バルブを設ける方が好ましい。このように構成することにより、吸引排出孔からの液体の吸引を定期的に切り換えて、平面部と基板裏面との間に発生する気泡の発生を防ぎ、基板汚染をさらに低減をすることができる。また、前記吸引排出孔に接続された管路に、前記複数の吸引排出孔による液体の吸引を交互に切り換えるための内部回転体を具備する方が好ましい。この場合、前記内部回転体は、複数の前記吸引排出孔に接続すると共に、前記液体供給孔に接続する管路合流部内に回転可能に配設され、前記液体供給孔の下流に接続された液体供給源から供給される液体により回転し、前記複数の吸引排出孔からの液体の吸引をいずれか一方に切り換えるための溝を設ける方が好ましい。このように構成することにより、制御装置を用いずに、複数の吸引排出孔からの液体の吸引を切り換えることができるので、コストを抑えることができる。また、この発明の現像処理方法は、板状の被処理基板を回転可能に保持する回転基台に保持する工程と、前記平面部を前記回転基台に対して相対的に上下移動する移動機構により移動させた位置で平面を有する平面部と前記被処理基板と一定の隙間を設けて対向させる工程と、次いで、前記平面部の被処理基板の対向側に設けられ前記隙間に液体を供給するために配置された複数の液体供給孔と前記複数の液体供給孔が配置される位置との間に挟まれるように前記供給孔と所定の間隔をおいて設けられた前記液体を吸引排出するための吸引排出孔とからそれぞれ液体を供給し吸引排出をする工程と、前記回転基台に保持された被処理基板の表面に沿って、前記被処理基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行いながらノズルを移動させる工程と、を含むことを特徴とする。このように構成することにより、基板裏面と一定の隙間を有して保持しながら現像が行われるので、平面部からの温度影響が基板へ伝わりにくくなり、基板上の現像液の温度変化が基板の面内においてほぼ揃えられ、現像液の温度差が原因となる処理ムラの発生が抑えられて、現像処理の均一性を高めることができる。この発明によれば、以上のように構成されているので、以下のような優れた効果を有する。平面部は、基板裏面と一定の隙間を有して基板を保持し、この隙間に液体を供給しながら吸引を行うことで負圧領域を作ることができるので、基板の浮き上がりを防止することができる。また、液体供給孔及び吸引排出孔が基板裏面に接触しないので、基板裏面に付着するゴミを低減させることができ、基板吸着時のミスアライメントを防止することができる。また、基板裏面に液体例えば純水を供給することで、基板裏面の洗浄も行うことができ、さらに、複数の液体供給孔が配置される位置との間に吸引排出孔を挟み込むように液体吸引孔を配置するので、基板裏面の現像液などや溶解生成物を基板裏面に引き込み吸引しないようにすることができる。以下、この発明を実施するための形態について、添付図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明に係る現像処理装置を、フォトマスク用の被処理基板、例えばレチクル用のガラス基板に現像処理を施す現像処理装置に適用した場合について説明する。この発明に係る現像処理装置は、図1及び図2に示すように、ケーシング1を有し、このケーシング1内に、ガラス基板G以下に基板Gというを回転可能に保持する回転基台2と、この回転基台2と共に回転可能で、かつ回転基台2に保持された基板Gの外周部を囲む、基板Gの表面の同一平面上に基板Gの表面上から連続する液膜を形成するための外周板3以下に助走ステージ3というと、基板Gと一定の隙間を設けて対向する平面を有する平面部4と、基板Gの表面に沿って移動可能で、基板Gに対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッド5と、を具備している。また、上記回転基台2,助走ステージ3及び平面部4は、カップ6内に収容可能に形成されており、カップ6の外方側には、回転基台2及び平面部4に保持された基板Gと後述する液貯留空間7に向かって洗浄液リンス液例えば純水DIWを供給する第1の洗浄液供給ノズルであるリンスノズル8が配設されている。この場合、上記回転基台2は、図4に示すように、回転軸10に連結する円盤形基部11の外周4箇所に水平支持片12を延在し、水平支持片12の先端に環状水平片13を連結してなり、環状水平片13の4箇所に立設される各第1の支持柱片14の頂部に、それぞれ基板Gの角部を保持する一対の位置決めピン15を立設してなる。また、環状水平片13における第1の支持柱片14と約45度偏倚した4箇所には第2の支持柱片16が立設され、各第2の支持柱片16によって助走ステージ3が水平状態に支持されている。この回転基台2は回転軸10を介してモータ等の回転駆動機構17に連結され、回転軸10を中心軸として所定の回転速度で回転できる。なお、回転基台2は、回転駆動機構17によって上下移動昇降可能に形成してもよい。また、上記助走ステージ3は、図2に示すように、平面から見て円形の薄い板形状を有し、中央部に基板Gを収容する四角の開口部3aが形成されている。このように助走ステージ3の外形を円形状に形成することにより、助走ステージ3を回転させた際に、助走ステージ3の外周部付近において乱流が形成されることを防止している。この場合、助走ステージ3は、基板Gの表面と同一平面上、若しくは、僅かに高い位置例えば200~400μm高い位置に固定されている。これにより、基板Gの表面から助走ステージ3の表面に渡る同一平面上に連続した液膜を形成することができる。助走ステージ3の開口部3aは,基板Gよりも僅かに大きく形成されており、基板Gと助走ステージ3との間には、基板Gの受け渡しのための隙間9が形成されている。また、平面部4は、図5,図5A及び図6,図6A,図6Bに示すように、円筒状の有底容器20の内側に、基板Gと一定の隙間sを設けて対向する平面を有している。そして、回転基台2の4本の水平支持片12との干渉を回避すべく、基板G裏面の周縁領域に沿うように、円周上に4分割に配置されている。平面部4を4分割にすることにより、4分割された平面部4が基板Gの裏面を保持するので、基板Gを安定して一定の間隔を保持することができる。また、平面部4の上面側には、図5,図5A,図6及び図7に示すように、基板Gと平面部4の隙間に液体例えば純水を供給するための液体供給孔40を2箇所配置し、液体供給孔40が設けられた位置の挟まられた位置には、液体を吸引排出する吸引排出孔41を1箇所配置するように構成する。この場合、吸引排出孔41の開口41a部を有する開口面部4Aは、基板Gの1辺と平行な直状部4aと該直状部4aの一端部から約90度屈曲する直交部4bとからなる略L字状に形成されており、吸引排出孔41は、直状部4aの中央に設けられる直線状の開口基部41bと、開口基部41bの端部から直交部4bの中央側に約90度屈曲して延在する開口補助部41cとからなる略L字状に形成されている。このように形成される略L字状の吸引排出孔41は、基板Gの1辺に平行な開口基部41bと基板Gの1辺と隣接する他の1辺と平行な開口補助部41cとからなるので、基板Gの外周部の吸引力を高めることができると共に、液体供給孔40からの液体の供給及び吸引排出孔41からの液体の吸引を効率良く行うことができる。また、平面部4における吸引排出孔41の開口面部4Aは、液体供給孔40の開口40a部を有する開口面部4Bより例えば約0.5mm高く形成されている。また、液体供給孔40は、吸引排出孔41の開口面部4Aと液体供給孔40の開口面部4Bの境界近傍に設けられており、両液体供給孔40の開口部は、吸引排出孔41の外方を包囲する連通溝40bによって連通されている。なお、溝40bは、液体供給孔40と同様に吸引排出孔41の開口面部4Aの境界に沿って設けられている。前記のように液体供給孔40の開口部を、吸引排出孔41の外方を包囲する連通溝40bによって連通することにより、平面部4の外方の液体すなわち後述する有底容器20内に溜まった洗浄に供された純水が吸引排出孔41に入り込むのを防止することができる。また、吸引排出孔41の開口面部4Aを液体供給孔40の開口面部4Bより高く形成することにより、吸引面積を増加させて吸引力を増大させることができると共に、基板Gの外周側の吸引力を高めて効率的な吸引を行うことができる図6A参照。また、平面部4には、基板G裏面に限定的に当接して平面部との間に隙間をおいて基板Gを保持する隙間保持ピン45と、隙間保持ピン45より低い高さを有する補助保持ピン46とが設けられている図5A,図6B及び図7a参照。このように基板G裏面に限定的に当接して平面部との間に隙間をおいて基板Gを保持する隙間保持ピン45と、隙間保持ピン45より低い高さを有する補助保持ピン46を設けることにより、吸引排出孔41の吸引作用によって基板Gが撓んだ際に補助保持ピン46によって基板Gを保持することができ、基板Gと平面部4との接触を防止することができる。また、補助保持ピン46により基板Gを保持することで、基板Gと平面部4との間隔を狭小にすることができるので、強い吸引力が得られると共に、液体供給量の削減を図ることができる。この場合、液体供給孔40及び吸引排出孔41にそれぞれ接続される管路42a,42bに、切換バルブである流路開閉バルブV1,V2を介して液体供給源43、吸引排出装置44が接続されている。また、流路開閉バルブV1,V2に制御部65が電気的に接続されており、制御部65からの制御信号に基いて流路の開閉を制御することで、液体の供給と液体の吸引排出のタイミングを個別に設定できるように構成されている。また、有底容器20の円筒状の側壁24の頂面24aには、後述する第1の環状シール部材25aを嵌合する第1の周溝24bが設けられている。有底容器20の第1の周溝24b内に嵌合される第1の環状シール部材25aは、助走ステージ3の裏面の全周に渡って密着可能に形成されている。この場合、上記第1の環状シール部材25aは、例えば可撓性のあるPCTFEポリクロロトリフルオロエチレン,PTFEポリテトラフルオロエチレン等の樹脂,又は例えばシリコンを含有する耐薬性に優れたゴム材などが用いられており、それぞれ密接対象となる助走ステージ3の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するシール片25cを具備している。このように、第1の環状シール部材25aに助走ステージ3の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するシール片25cを設けることによって、助走ステージ3の裏面との接触面積を広くすることができると共に、調整を容易にすることができる。また、有底容器20の底部22の1箇所には、排液口26が設けられると共に、底部22の底面22aが排液口26側に向かって下り勾配状に形成されている。これにより、底部22の底面22aに付着する液の液切りを良好にすることができる。また、有底容器20の底部22の中心部には貫通孔21が設けられており、この貫通孔21内に回転軸10が回転及び上下移動昇降可能に嵌挿されると共に、貫通孔21と回転軸10の隙間が第2の環状シール部材25bによって気水密に形成されている図1参照。また、平面部4の底部22の適時位置には、第2の洗浄液供給ノズルであるバックリンスノズル70から噴射されるリンス液を流通する通路22bが設けられている図6b参照。前記のように形成される平面部4によって基板Gと一定の隙間sを有して保持すると共に、第1の環状シール部材25aを介して有底容器20と助走ステージ3が密着することで、気水密性の高い液貯留空間7が形成される。また、平面部4による吸引の解除及び第1の環状シール部材25aによる密着が解除された状態で、回転基台2及び助走ステージ3と共に基板Gが回転可能に形成される。したがって、平面部4を回転させずに回転基台2及び助走ステージ3を回転するので、回転駆動機構17の動力を小さくすることができる。なお、平面部4には、基板Gの外周部に対応し、垂直方向に貫通する貫通孔27が3箇所設けられている。各貫通孔27内には、基板Gを支持して昇降させる支持ピン28が昇降可能に貫挿されている。支持ピン28は、例えばシリンダなどの昇降駆動部29によって昇降自在であり、回転基台2上に突出して回転基台2に対する基板Gの受け渡しを行うことができる。また、回転基台2と平面部4は、基板Gから飛散又は落下する液体を受け止め、回収するためのカップ6内に収容されている。カップ6は、回転基台2及び平面部4の側方と下方を覆うように、例えば下面が閉鎖され上面が開口した四角形の略筒状に形成されている。カップ6の下面には、例えば工場の排液部に連通した排出管6aが接続されており、カップ6において回収した液体を現像処理装置の外部に排出できる。また、図2に示すようにカップ6のY方向負方向図2の左方向側には、第1の待機部61が設けられている。第1の待機部61には、現像液及び洗浄液リンス液の供給と吸引を行うノズルヘッド5が待機可能になっている。ノズルヘッド5は、例えば少なくとも基板Gの辺の寸法と同じかそれよりも長い、X方向に沿った略直方体形状を有している。ノズルヘッド5は、門型のヘッドアーム5bに支持されており、ヘッドアーム5bが取り付けられた例えばボールねじとその回転モータ等からなる水平移動機構5cによって、第1の待機部61から少なくともカップ6のY方向正方向図2の右方向側の端部付近まで水平移動スキャン可能に形成されている。また、ノズルヘッド5は、例えばヘッドアーム5bに取り付けられたボールねじとその回転モータ等からなる昇降駆動機構図示せずによって上下方向にも移動可能に形成されている。図3に示すように、ノズルヘッド5の下面5aは、基板Gの表面と平行になるように水平に形成されている。ノズルヘッド5の下面5aにおけるノズルヘッド5の進行方向であるY方向の中央部には、現像液吐出口30が形成されている。現像液吐出口30は、例えばノズルヘッド5の長手方向X方向に沿って例えば基板Gの辺より長いスリット状に形成されており、現像液を帯状に吐出できる。現像液吐出口30は、ノズルヘッド5の内部に形成された第1の貯留部31に連通しており、第1の貯留部31は、現像液供給管33を介して現像処理装置の外部に設置された現像液供給源32に接続されている。現像液供給源32は、現像液供給管33を通じて所定の流量の現像液をノズルヘッド5に供給できる。ノズルヘッド5は、供給された現像液を第1の貯留部31に一旦貯留して圧力調整し、その後現像液吐出口30から均一に吐出できるようになっている。ノズルヘッド5の下面5aの現像液吐出口30を挟んだ両側には、基板G上の現像液を吸引する現像液吸引口34が開設されている。現像液吸引口34は、例えば現像液吐出口30と平行なスリット状に形成されている。現像液吸引口34は、例えばノズルヘッド5の内部に形成された第2の貯留部35に連通しており、第2の貯留部35は、吸引管37を介してケーシング1の外部に設置された吸引装置36に接続されている。吸引装置36は、吸引管37を通じて所定の圧力で吸引できる。したがって、現像液吐出口30から基板G上に供給された現像液を現像液吐出口30の両側の現像液吸引口34から所定の圧力で吸引できる。この結果、基板Gの表面上には、現像液吐出口30から現像液吸引口34に向かう現像液の流れを形成できる。ノズルヘッド5の下面5aの各現像液吸引口34の更に外側には、それぞれ純水等のリンス液を吐出するリンス液吐出口50が形成されている。リンス液吐出口50は、例えば現像液吐出口30に平行なスリット状に形成されており、リンス液をX方向に沿った帯状に吐出できる。リンス液吐出口50は、ノズルヘッド5の内部に形成された第3の貯留部51に連通しており、リンス液供給管53を介してケーシング1の外部に設置されたリンス液供給源52に接続されている。リンス液供給源52は、リンス液供給管53を通じて所定の流量のリンス液をノズルヘッド5に供給できる。ノズルヘッド5は、供給されたリンス液を第3の貯留部51に一旦貯留して圧力調整し、その後リンス液吐出口50から一様に吐出できる。また、図2に示すように、カップ6のY方向正方向側には、第2の待機部62が設けられている。第2の待機部62には、洗浄液供給ノズルであるリンスノズル8が待機可能になっている。リンスノズル8は、例えば回転駆動軸8aに取り付けられたノズルアーム8bの先端部に支持されており、回転駆動軸8aの回転によって第2の待機部62からカップ6内の基板Gの中心部上方まで移動できる。リンスノズル8は、リンス液供給管64によって、例えばケーシング1の外部に設置されたリンス液供給源63に接続されており、リンス液供給源63から供給されたリンス液純水を下方に向けて吐出できる。なお、コントローラ100は、上記回転駆動機構17,昇降駆動部29の他に、ノズルヘッド5の水平移動機構5cや昇降駆動機構図示せず等の駆動部,リンスノズル8の駆動部等に電気的に接続されており、予め記憶されたプログラムに基づいて回転駆動機構17,昇降駆動部29,ノズルヘッド5の駆動部,リンスノズル8の駆動部等が制御されるように形成されている。次に、上記のように構成される現像処理装置の現像処理について、図9A乃至図9Hに示す説明図及び図10に示すフローチャートを参照して説明する。まず、現像処理装置の外部の搬送アーム80によって搬送された基板Gが現像処理装置に搬入されると、基板Gは、予め上昇していた支持ピン28に受け渡され、支持ピン28の下降によって回転基台2上に載置されると共に、位置決めピン15によって位置決めされるS-1;図9A,図9B,図9C参照。次に、回転駆動機構17が駆動して基板Gを保持した回転基台2が所定角度回転して、基板Gの水平面上の角度が調整され、平面部4が回転基台2に対して相対的に上昇し、平面部4に基板が載置されるS-2、S-3;図9D参照。そして、平面部4が基板Gと一定の隙間sを有した状態で、第1の環状シール部材25aを介して有底容器20と助走ステージ3が密着し、液貯留空間を形成する。そして、液体供給孔40又はバックリンスノズル70からリンス液を吐出し、液貯留区間7内にリンス液純水を貯留するS-4;図9E参照。そして、リンスノズル8が基板Gの中心部上方まで移動して、純水を下方に向けて吐出して基板G表面と助走ステージ3表面に液膜Lを形成して液張りするS-4;図9F参照。このようにして、基板Gの表面の濡れ性を向上するプリウェット処理が行われる。液張り終了後、リンスノズル8は第2の待機部62に戻る。なお、液貯留空間7内に供給されるリンス液純水は、リンスノズル8によりさらに加えてもよい。この場合には、液体供給孔40又はバックリンスノズル70の吐出と同時に、基板Gの中心部上方まで移動したリンスノズル8からリンス液を吐出する。なお、液貯留空間7内に供給されるリンス液純水をリンスノズル8のみによって行うようにしてもよい。つまり、液貯留空間7内へのリンス液の供給を液体供給孔40、バックリンスノズル70及びリンスノズル8の少なくとも1つで行うようにしてもよい。このようにすることにより、液貯留空間7内にリンス液純水を効率良く供給することができる。次に、第1の待機部61に待機していたノズルヘッド5が基板GよりY方向負方向側の助走ステージ3上まで移動して、ノズルヘッド5のリンス液吐出口50,現像液吐出口30及び現像液吸引口34のある下面5aが助走ステージ3上に配置される。そして、ノズルヘッド5が下降し、スタート位置である助走ステージ3の表面に近接される。次に、リンス液吐出口50からリンス液,現像吐出口30から現像液を吐出し、現像液吸引口34からそのリンス液と現像液を吸引しながらY方向正方向側に移動するS-5;図9G参照。このとき、ノズルヘッド5の下面5aと助走ステージ3の表面との間が常にリンス液と現像液で満たされており、ノズルヘッド5の下面5aへの泡噛み現象が防止されている。ノズルヘッド5がY方向正方向側に進んで、基板Gの表面上を移動している時には,現像液吐出口30から基板G上に吐出された現像液は、ノズルヘッド5の進行方向の前方側と後方側にある現像液吸引口34から吸引され、基板Gの表面の一部の領域に帯状の現像液の流れが形成される。この現像液の流れによって基板Gの表面が現像される。現像によって生じた溶解生成物は直ちに現像液吸引口34から排出される。ノズルヘッド5は,例えば現像液の供給と吸引を連続的に行いながら、助走ステージ3のY方向正方向側の端部付近まで移動スキャンする。こうすることによって、現像液の流れが生じる領域が次第に移動し、基板Gの表面全体が現像される。ノズルヘッド5が助走ステージ3のY方向正方向側の端部付近まで移動すると、現像液及びリンス液の供給とその吸引が停止され、ノズルヘッド5は、第1の待機部61に戻される。前記のようにして現像処理が終了した後、液貯留空間7内に貯留された液現像液とリンス液の混合液は排液口26から外部に排出されるS-6;図9H参照。続いて、液体供給孔40からのリンス液吐出と吸引排出孔41のリンス液吸引が解除されて、平面部4が回転基台2に対して相対的に下降し、基板Gが載置されるS-7。このとき、カップ6が上昇する。続いて、第2の待機部62で待機していたリンスノズル8が基板Gの中心部上方まで移動し、回転基台2によって助走ステージ3と共に基板Gが回転される。リンスノズル8から回転された基板G上にリンス液が吐出されて基板Gが洗浄されるS-8。このとき、液体供給孔40又はバックリンスノズル70からも洗浄液を吐出し、基板Gの裏面に洗浄液を供給してもよい。前記のようにして、基板Gが所定時間洗浄された後、基板Gが高速回転され、基板Gが乾燥されるS-9。基板Gが乾燥されると、再び支持ピン28が上昇して基板Gを持ち上げ、現像処理装置の外部の搬送アーム80によって基板処理装置の外部に搬出される。以上の実施形態によれば、現像処理前に、液貯留空間7内に液を貯留すると共に、基板G表面及び助走ステージ3の表面に連続して液膜を形成するので、ノズルヘッド5による現像液の供給と吸引時に現像液内への泡噛みを防止できる。しかも、現像処理及び洗浄処理時には、平面部4は、基板Gを非接触で保持又は隙間保持ピン45により限定的に接触させて保持するので、基板裏面及び平面部4の洗浄を行うことができる。その結果、基板G裏面に付着するゴミを低減することができる。なお、前記実施形態では、平面部4に設けられた液体供給孔40の挟まれた位置に、吸引排出孔41を1箇所配置する場合について説明したが、図11に示すように、液体供給孔40の挟まれた位置に、第1の吸引排出孔41A及び第2の吸引排出孔41Bを並行に配置してもよい。この場合、各々の開口41aは、略L字状に形成される。なお、図11に示す実施形態において、その他の部分は前記実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。そして、開口41aに接続される管路42bには、流路開閉バルブV3,V4を設け、これら複数の流路開閉バルブV3,V4に接続された制御部65によって、流路開閉バルブV3,V4の開閉を制御するように構成されている。具体的には、先ず、制御部65からの制御信号に基づいて、流路開閉バルブV3のみ開き、第1の吸引排出孔41Aから基板Gの裏面と平面部4の隙間にある液体を吸引排出する。次いで、一定時間経過後、流路開閉バルブV3を閉じると同時に流路開閉バルブV4を開いて、第2の吸引排出孔41Bから前記液体を吸引排出する。さらに一定時間経過後、流路開閉バルブV3を開くと同時に流路開閉バルブV4を閉じて、第1の吸引排出孔41Aから液体を吸引排出する。この動作を繰り返して行うことで、複数の吸引排出孔41A,41Bからの液体の吸引をいずれか一方で行うように構成する。このように構成することで、図11cに示すように、基板G裏面と平面部4との間に気泡Bが発生するのを防ぎ、平面部4及び基板G裏面の汚染を更に低減させることができる。次に、第3の実施形態を以下に説明する。図12に示すように、液体供給孔40が設けられた位置の間に、吸引排出孔41A,41Bを複数配置し、吸引排出孔41A,41Bに共通に接続された管路合流部90内にロータ91を回転可能に配設する。ロータ91は、円筒形状の表面に溝92を複数形成し図12b参照、さらに、液体供給源である純水供給タンク図示せずからの純水供給管路の途中に配置することで、純水DIWの流れによりロータ91が回転する仕組みになっている。この場合、溝92は、複数の吸引排出管路のどちらか一方のみ液体の流れを通過するように形成されているので、第1の吸引排出孔41Aと第2の吸引排出孔41Bからの液体の吸引を交互に切り換えることができる構成となっている。このように構成することで、吸引排出孔41A,41Bによる液体の吸引を定期的に切り換えることができるので、液貯留空間7の気泡の発生を防ぎ、平面部4及び基板G裏面の汚染を低減させることができる。また、吸引排出孔41A,41Bからの液体吸引を、制御装置を用いずに切り換えることができるので、コストを抑えることができる。なお、前記第2実施形態及び第3実施形態では、液体供給孔40の挟まれた位置に、第1の吸引排出孔41A及び第2の吸引排出孔41Bを並行に配置した場合について説明したが、図13に示すように、第1の吸引排出孔41Aと第2の吸引排出孔41Bの間に液体供給孔40を配置して、液体供給孔40に挟まれた位置にそれぞれ第1の吸引排出孔41Aと第2の吸引排出孔41Bを配置してもよい。なお、この場合、第1の吸引排出孔41Aと第2の吸引排出孔41Bは、液体供給孔40に連通する連通溝40bによって包囲されている。このように構成することにより、基板Gの外周部の吸引力を高めることができると共に、基板裏面全体の吸引力を高めることができる。なお、前記実施形態は、この発明の一例を示すものであり、この発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば、この発明は、レチクル、LCD、FPDフラットパネルディスプレイ等の方形の基板に限られず、ウエハ等の円形の基板など他の基板にも適用できる。"