下記式A:で示される化合物A。下記式B:で示される化合物B。請求項1記載の化合物Aの調製方法であって、接触水素化の条件下、及び無水酢酸の存在下、化合物Cの還元的アシル化を含む、方法:前記金属触媒がラネーニッケルであること、該触媒の量が、重量で化合物Cの量の0.1~0.3倍であることを特徴とする、請求項3記載の方法。前記無水酢酸の量が、化合物Cのモル量の1~1.3であることを特徴とする、請求項3記載の方法。化合物Aを用いるアゴメラチンの調製方法であって、化合物Aの脱水及び芳香族化により、式Iで示される所望の生成物を得ることを含む、方法:前記芳香族化で使用する脱水素剤が、ジクロロ-ジシアノベンゾキノンであることを特徴とする、請求項6記載の化合物Aを用いるアゴメラチンの調製方法。脱水素剤の量が、化合物Aのモル量の1~3倍であることを特徴とする、請求項6記載の化合物Aを用いるアゴメラチンの調製方法。反応で使用する溶媒が、トルエンと氷酢酸との混合物、アセトニトリルと氷酢酸との混合物、又は氷酢酸であることを特徴とする、請求項6記載の化合物Aを用いるアゴメラチンの調製方法。請求項2記載の化合物Bの調製方法であって、酸性条件下、化合物Aの脱水を含む、方法:化合物Bを用いるアゴメラチンの調製方法であって、化合物Bと脱水素剤との反応により、式Iで示される所望の生成物を得ることを含む、方法:前記脱水素剤が、ジクロロ-ジシアノベンゾキノンであることを特徴とする、請求項11記載の化合物Bを用いるアゴメラチンの調製方法。前記脱水素剤の量が、化合物Bのモル量の1~3倍であることを特徴とする、請求項11記載の化合物Bを用いるアゴメラチンの調製方法。反応で使用する有機溶媒が、ジクロロメタン又はトルエンであることを特徴とする、請求項11記載の化合物Bを用いるアゴメラチンの調製方法。アゴメラチンの調製方法であって、下記:a.接触水素化条件下、及び無水酢酸の存在下、化合物Cの還元的アシル化により、化合物Aを得る工程:b.脱水素剤での化合物Aの脱水及び芳香族化により、式Iで示される所望の生成物を得る工程:を含む、アゴメラチンの調製方法。最初に、酸性条件下、化合物Aを脱水して化合物Bを生成すること、次に化合物Bを脱水素剤と反応させて、式Iで示される所望の生成物を得ることを特徴とする、請求項15記載のアゴメラチンの調製方法: