"基材の表面上に低屈折率材料層が形成され、当該低屈折率材料層上にチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を含有するI液が塗布され、さらに当該I液の塗膜上にメタアクリル系化合物を含有するII液が塗布されてなる表面層を有する低反射性材料。チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物が、式I:式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、炭素数1~4のアルキル基または炭素数1~4のアルコキシ基であって、R1、R2およびR3のうちの少なくとも1つの基は炭素数1~4のアルコキシ基、R4は炭素数1~12のアルキレン基を示すで表わされるアルコキシシリル基含有化合物である請求項1に記載の低反射性材料。メタアクリル系化合物が、式II:式中、R5は水素原子またはメチル基、R6は水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示すで表わされるメタアクリル化合物または式式中、R5は水素原子またはメチル基、R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示すで表わされるメタアクリルアミド化合物である請求項1または2に記載の低反射性材料。基材の表面上に低屈折率材料層を形成し、当該低屈折率材料層上にチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を含有するI液を塗布し、さらに当該I液の塗膜上にメタアクリル系化合物を含有するII液を塗布し、チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物とメタアクリル系化合物とを反応させることによって表面層を形成することを特徴とする低反射性材料の製造方法。チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物が、式I:式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、炭素数1~4のアルキル基または炭素数1~4のアルコキシ基であって、R1、R2およびR3のうちの少なくとも1つの基は炭素数1~4のアルコキシ基、R4は炭素数1~12のアルキレン基を示すで表わされるアルコキシシリル基含有化合物である請求項4に記載の低反射性材料の製造方法。メタアクリル系化合物が、式II:式中、R5は水素原子またはメチル基、R6は水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示すで表わされるメタアクリル化合物または式式中、R5は水素原子またはメチル基、R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示すで表わされるメタアクリルアミド化合物である請求項4または5に記載の低反射性材料の製造方法。本発明は、前記従来技術に鑑みてなされたものであり、低反射性材料が本来有している低反射性をほとんど低下させることなく、親水性、疎水性、親油性、撥油性などの所望の性質が表面に付与された低反射性材料を提供することを目的とする。本発明は、1基材の表面上に低屈折率材料層が形成され、当該低屈折率材料層上にチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を含有するI液が塗布され、さらに当該I液の塗膜上にメタアクリル系化合物を含有するII液が塗布されてなる表面層を有する低反射性材料、2チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物が、式I:式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、炭素数1~4のアルキル基または炭素数1~4のアルコキシ基であって、R1、R2およびR3のうちの少なくとも1つの基は炭素数1~4のアルコキシ基、R4は炭素数1~12のアルキレン基を示すで表わされるアルコキシシリル基含有化合物である前記1に記載の低反射性材料、3メタアクリル系化合物が、式II:式中、R5は水素原子またはメチル基、R6は水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示すで表わされるメタアクリル化合物または式式中、R5は水素原子またはメチル基、R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示すで表わされるメタアクリルアミド化合物である前記1または2に記載の低反射性材料、4基材の表面上に低屈折率材料層を形成し、当該低屈折率材料層上にチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を含有するI液を塗布し、さらに当該I液の塗膜上にメタアクリル系化合物を含有するII液を塗布し、チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物とメタアクリル系化合物とを反応させることによって表面層を形成することを特徴とする低反射性材料の製造方法、5チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物が、式I:式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、炭素数1~4のアルキル基または炭素数1~4のアルコキシ基であって、R1、R2およびR3のうちの少なくとも1つの基は炭素数1~4のアルコキシ基、R4は炭素数1~12のアルキレン基を示すで表わされるアルコキシシリル基含有化合物である前記4に記載の低反射性材料の製造方法、および6メタアクリル系化合物が、式II:式中、R5は水素原子またはメチル基、R6は水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示すで表わされるメタアクリル化合物または式式中、R5は水素原子またはメチル基、R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示すで表わされるメタアクリルアミド化合物である前記4または5に記載の低反射性材料の製造方法に関する。本発明によれば、低反射性材料が本来有している低反射性をほとんど低下させることなく、親水性、疎水性、親油性、撥油性などの所望の性質が表面に付与された低反射性材料が提供される。本発明の低反射性材料の製造方法は、前記したように、基材の表面上に低屈折率材料層を形成し、当該低屈折率材料層上にチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を含有するI液を塗布し、さらに当該I液の塗膜上にメタアクリル系化合物を含有するII液を塗布し、チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物とメタアクリル系化合物とを反応させることによって表面層を形成することを特徴とする。なお、本明細書において、メタアクリは、アクリまたはメタクリを意味する。また、本発明の低反射性材料は、前記したように、基材の表面上に低屈折率材料層が形成され、当該低屈折率材料層上にチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を含有するI液が塗布され、さらに当該I液の塗膜上にメタアクリル系化合物を含有するII液が塗布されてなる表面層を有する。本発明の低反射性材料に用いられる基材の材質としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ナイロンに代表されるポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、尿素樹脂、ポリ乳酸、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリスルホン、ポリカーボネート、ABS樹脂、AS樹脂、シリコーン樹脂、ガラス、セラミック、金属などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。基材の形状は、特に限定されず、例えば、フィルム、シート、プレート、ロッド、所定形状に成形された成形体などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。基材の表面上に形成される低屈折材料層には、反射防止効果を有するものが用いられる。低屈折材料層は、例えば、低屈折率を有する微粒子および樹脂バインダーを含有する低屈折材料を用いて形成することができる。低屈折率を有する微粒子の屈折率は、屈折率を十分に低くする観点から、好ましくは1.5以下、より好ましくは1.4以下である。低屈折率を有する微粒子としては、例えば、金属フッ化物微粒子、二酸化ケイ素微粒子、酸化スズ微粒子などが挙げられる。金属フッ化物微粒子の材質としては、例えば、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウムなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。低屈折率を有する微粒子のなかでは、低屈折材料層とチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物との密着性を高める観点から、金属フッ化物微粒子が好ましく、フッ化マグネシウム微粒子がより好ましい。低屈折率を有する微粒子の形状としては、例えば、球状、楕円球状、立方体状、直方体状、柱状、針状、板状、燐片状などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。低屈折率を有する微粒子の平均粒子径は、通常、分散安定性の観点から、好ましくは1nm以上、より好ましくは10nm以上であり、透明性の観点から、好ましくは100nm以下、より好ましくは50nm以下である。なお、低屈折率を有する微粒子の平均粒子径は、レーザー回析粒度分布測定装置株島津製作所製、品番:SLDA7000で測定したときの値である。樹脂バインダーは、低屈折率を有する微粒子を均一に分散させることができ、成膜性および基材に対する密着性に優れているものが好ましい。樹脂バインダーとしては、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリプロピレンなどのオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリカーボネートなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。樹脂バインダーの量は、低屈折率を有する微粒子の分散安定性の観点から、低屈折率を有する微粒子100質量部あたり、好ましくは10~300質量部、より好ましくは30~200質量部である。基材の表面上に低屈折材料層を形成させる方法としては、例えば、低屈折率を有する微粒子および樹脂バインダーと有機溶媒とを混合し、得られた混合物を基材の表面上に塗布する方法などが挙げられる。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル;ハロゲン化炭化水素化合物;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらの有機溶媒は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類類以上を混合して用いてもよい。有機溶媒は、通常、樹脂バインダーの種類に応じて適宜選択され、当該樹脂バインダーに適したものが用いられる。有機溶媒の量は、分散安定性および塗工性の観点から、前記混合物に含まれる固形分の含有率が5~50質量となるように調整することが好ましく、10~40質量となるように調整することがより好ましい。前記混合物を基材に塗布する方法としては、例えば、フローコート法、スプレーコート法、浸漬法、刷毛塗法、ロールコート法などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。前記混合物を基材に塗布した後は、常法で乾燥させて前記混合物に含まれている有機溶媒を除去することにより、低屈折材料層を形成することができる。基材の表面上に形成される低屈折材料層の厚さ乾燥後の厚さは、反射防止性の観点から、10~200nm程度であることが好ましい。次に、基材の表面上に形成された低屈折率材料層上に、チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を含有するI液を塗布し、さらに当該I液の塗膜上にメタアクリル系化合物を含有するII液を塗布することにより、本発明の低反射性材料が得られる。I液に用いられるチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物としては、例えば、式I:式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、炭素数1~4のアルキル基または炭素数1~4のアルコキシ基であって、R1、R2およびR3のうちの少なくとも1つの基は炭素数1~4のアルコキシ基、R4は炭素数1~12のアルキレン基を示すで表わされるアルコキシシリル基含有化合物などが挙げられる。式で表わされるアルコキシシリル基含有化合物としては、例えば、1-チオプロピル-3-トリメトキシシラン、1-チオプロピル-3-トリエトキシシラン、1-チオプロピル-3-トリイソプロポキシシラン、1-チオプロピル-3-メチルジメトキシシラン、1-チオプロピル-3-メチルジエトキシシラン、1-チオプロピル-3-メチルジプロポキシシランなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのアルコキシシリル基含有化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物は、そのままの状態で用いることができるが、溶媒に溶解させた溶液として用いることもできる。チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を溶媒に溶解させて用いる場合、チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物溶液におけるチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物の濃度は、本発明の低反射性材料が用いられる基材の種類や用途などによって異なるので一概には決定することができないが、本発明の低反射性材料によって所望の性質を十分に基材に付与する観点およびI液を基材に塗布する際の塗工性を向上させる観点から、0.3~10質量程度であることが好ましい。チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物溶液に用いられる溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物、n-ヘキサンなどの脂肪族炭化水素化合物、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素化合物、酢酸メチル、酢酸エチルなどの酢酸エステルなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらの溶媒は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。なお、チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物には、反応速度を向上させる観点から、必要により、例えば、塩酸などの酸を、チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物のアルコキシシリル基の加水分解反応および脱水反応を促進させるのに適切な量で添加してもよい。基材の表面上に形成された低屈折率材料層上にI液を塗布する方法としては、例えば、フローコート法、スプレーコート法、浸漬法、刷毛塗法、ロールコート法などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。基材の表面上に形成された低屈折率材料層上にI液を塗布する際の雰囲気は、大気であればよく、また塗布する際の温度は、通常、常温であってもよく、加温であってもよい。I液を基材の表面上に形成された低屈折率材料層上に塗布する際のI液の塗布量は、本発明の低反射性材料が用いられる基材の種類や用途などによって異なるので一概には決定することができないため、その用途などに応じて適宜調整することが好ましい。基材の表面上に形成された低屈折率材料層上にI液を塗布する量は、その基材の用途などによって異なるので一概には決定することができないことから、その基材の用途などに応じて適宜決定することが好ましい。I液を塗布する量は、縦100mm、横100mm程度の大きさ面積:100cm2あたり、通常、1~5mL程度であることが好ましい。基材の表面上に形成された低屈折率材料層上にI液を塗布した後は、生産効率を高める観点から、形成された塗膜を乾燥させることが好ましい。塗膜の乾燥は、例えば、基材に温風~熱風を吹き付け、基材を加熱することによって行なうことができるが、本発明は、かかる乾燥方法によって限定されるものではない。基材を加熱するときの温度は、その基材の耐熱温度などによって異なるので一概には決定することができないが、通常、50~150°Cの範囲内から適切な温度が選ばれる。以上のようにして、基材の表面上に形成された低屈折率材料層上にI液を塗布することにより、基材の表面上に形成された低屈折率材料層上にI液に含まれているチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物の塗膜を形成することができる。なお、基材上に存在している余剰のI液は、低屈折率材料層上に存在しているチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物とII液に含まれているメタアクリル系化合物とを効率よく結合させる観点から、例えば、エタノールなどの溶媒を用いて除去することが好ましい。次に、I液の塗布面にメタアクリル系化合物を含有するII液を塗布する。このようにI液の塗布面にメタアクリル系化合物を含有するII液を塗布することにより、チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物とメタアクリル系化合物とが反応し、両者は化学的に結合する。メタアクリル系化合物は、チオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物と反応することによって化学的に結合する性質を有する。メタアクリル系化合物は、低反射性材料の表面に要求される性質、例えば、親水性、疎水性、親油性、撥油性などの性質に応じて適宜選択して用いることが好ましい。例えば、低反射性材料の表面に親水性が要求される場合には、メタアクリル系化合物として親水性を付与する性質を有するメタアクリル系化合物が用いられ、低反射性材料の表面に疎水性が要求される場合には、メタアクリル系化合物として疎水性を付与する性質を有するメタアクリル系化合物が用いられる。メタアクリル系化合物としては、例えば、式II:式中、R5は水素原子またはメチル基、R6は水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示すで表わされるメタアクリル化合物、式式中、R5は水素原子またはメチル基、R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示すで表わされるメタアクリルアミド化合物などが挙げられる。これらのメタアクリル系化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらのメタアクリル系化合物は、低反射性材料の表面に要求される性質、例えば、親水性、疎水性、親油性、撥油性などの性質に応じて適宜選択して用いることが好ましい。式IIで表わされるメタアクリル化合物において、R5は、水素原子またはメチル基である。R6は、水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基であり、通常、低反射性材料の表面に要求される性質に応じて選択されることが好ましい。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子などが挙げられる。1価の有機基としては、例えば、水酸基などの置換基を有していてもよい炭素数1~24のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、炭素数1~4のアルコキシ基を有していてもよい炭素数が1~4のオキシアルキレン基などの親水性基、窒素原子、酸素原子、イオウ原子などのヘテロ原子を有していてもよい炭素数3~12の脂環式炭化水素基、炭素数6~12のアリール基、炭素数7~12のアラルキル基などの疎水性基などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。R6のなかでは、親水性を付与するものとして、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルコキシ基、水酸基を有していてもよい炭素数1~24のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基を有していてもよい炭素数が1~4のオキシアルキレン基などが好ましく、疎水性を付与するものとして、ヘテロ原子を有していてもよい炭素数3~12の脂環式炭化水素基、炭素数6~12のアリール基、炭素数7~12のアラルキル基などが好ましい。式IIで表わされるメタアクリル化合物の具体例としては、例えば、メタアクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、メトキシエチルアクリレート、メトキシブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレートなどの親水性を有するメタアクリル化合物、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n-ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert-ブチルアクリレート、ネオペンチルアクリレート、2-エチルへキシルメタアクリレート、オクチルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソステアリルメタアクリレート、セチルアクリレート、ラウリルメタアクリレート、イソボニルメタアクリレート、2,2,2-トリフルオロエチルメタアクリレート、2,2,3,3-テトラフルオロプロピルメタアクリレート、1H,1H,5H-オクタフルオロペンチルメタアクリレート、2-パーフルオロオクチルエチルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シジクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、2-エチル-2-メチル-[1,3]-ジオキソラン-4-イル-メチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、イソボニルメタアクリレートなどの疎水性を有するメタアクリル化合物などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのメタアクリル化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。式で表わされるメタアクリルアミド化合物において、R5は、水素原子またはメチル基である。R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基であり、通常、低反射性材料の表面に要求される性質に応じて選択されることが好ましい。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子などが挙げられる。1価の有機基としては、例えば、炭素数1~4のアルコキシ基、水酸基などの置換基を有していてもよい炭素数1~24のアルキル基、窒素原子、酸素原子、イオウ原子などのヘテロ原子を有していてもよい炭素数3~12の脂環式炭化水素基、炭素数6~12のアリール基、炭素数7~12のアラルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基を有していてもよい炭素数が1~4のオキシアルキレン基などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。R6は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルコキシ基または水酸基を有していてもよい炭素数1~24のアルキル基、ヘテロ原子を有していてもよい炭素数3~12の脂環式炭化水素基、炭素数6~12のアリール基、炭素数7~12のアラルキル基、または炭素数1~4のアルコキシ基を有していてもよい炭素数が1~4のオキシアルキレン基であることが好ましい。式で表わされるメタアクリルアミド化合物の具体例としては、例えば、N-メチルアクリルアミド、N-エチルアクリルアミド、N-プロピルアクリルアミド、N-イソプロピルアクリルアミド、N-ブトキシメチルアクリルアミド、N-tert-ブチルアクリルアミド、N-オクチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのメタアクリルアミド化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。なお、本発明の目的が阻害されない範囲内であれば、メタアクリル系化合物を他の化合物と併用してもよい。他の化合物としては、例えば、スチレン、α-ヒドロキシスチレン、p-ヒドロキシスチレン、スチレン、イタコン酸メチル、イタコン酸エチル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタムなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらの他の重合性モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。メタアクリル系化合物および必要により用いられる他の化合物は、溶媒に溶解させて用いることができる。溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物、n-ヘキサンなどの脂肪族炭化水素化合物、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素化合物、酢酸メチル、酢酸エチルなどの酢酸エステルなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらの溶媒は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。溶媒の量は、特に限定されないが、通常、メタアクリル系化合物を溶媒に溶解させることによって得られる溶液におけるメタアクリル系化合物の濃度が10~80重量程度となるように調整することが好ましい。メタアクリル系化合物は、それ単独で用いてもよく、必要により、触媒と併用してもよい。触媒としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、ピリジン、キノリンなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらの触媒のなかでは、塗工時における臭気が発生することを抑制する観点から、トリエチルアミンが好ましい。触媒の量は、特に限定されないが、反応速度を高める観点から、メタアクリル系化合物100重量部あたり、1~10重量部程度であることが好ましい。I液の塗布面にII液を塗布する方法としては、例えば、フローコート法、スプレーコート法、浸漬法、刷毛塗法、ロールコート法などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。I液の塗布面にII液を塗布する際の雰囲気は、大気であればよく、また塗布する際の温度は、通常、常温であってもよく、加温であってもよい。I液の塗布面にII液を塗布する際のII液の塗布量は、その基材の用途などによって異なるので一概には決定することができないことから、その基材の用途などに応じて適宜決定することが好ましい。II液を塗布する量は、縦100mm、横100mm程度の大きさ面積:100cm2あたり、通常、1~5mL程度であることが好ましい。なお、浸漬法によってI液の塗布面にII液を塗布する場合には、生産効率を高める観点から、II液の液温を30~80°C程度に調整することが好ましい。また、基材をII液に浸漬する時間は、特に限定されないが、II液に含まれているメタアクリル系化合物の重合速度を高める観点および生産効率を高める観点から、30~120分間程度であることが好ましい。前記のようにしてI液の塗布面にII液を塗布したとき、I液の塗布によって低屈折材料層上に形成されているチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物のチオール基とメタアクリル系化合物とが反応するので、低屈折材料層で当該メタアクリル系化合物が固定化される。これにより、メタアクリル系化合物が有する性質を基材の表面に付与することができる。II液に含まれているメタアクリル系化合物の重合反応の終了後には、必要により、基材を洗浄し、乾燥させればよい。以上のようにして、基材の表面上に低屈折率材料層を形成し、当該低屈折率材料層上にチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を含有するI液を塗布し、さらに当該I液の塗膜上にメタアクリル系化合物を含有するII液を塗布することによって表面層を形成させることにより、本発明の低反射性材料が得られる。なお、前記表面層は、I液を塗布することによって形成される塗膜および当該I液を塗布することによって形成される塗膜上にメタアクリル系化合物を含有するII液を塗布することによって形成される塗膜で構成される。本発明の低反射性材料においては、低屈折率材料層上にチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を含有するI液が塗布され、さらに当該I液の塗膜上にメタアクリル系化合物を含有するII液が塗布されることによって形成される表面層を有するので、親水性、疎水性、親油性、撥油性などの所望の性質を低反射性材料の表面に付与することができ、従来の界面活性剤を用いたときのように水分が付着したときに流失することを防止することができる。さらに、本発明の低反射性材料では、表面層の厚さが小さくても親水性、疎水性、親油性、撥油性などの所望の性質を表面に十分に付与することができることから、従来の親水性グラフトポリマーを用いた場合のように表面層の厚さを大きくする必要がないため、表面層の厚さが大きくなることによって低反射性が損なわれることを防止することができる。次に、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明は、かかる実施例のみに限定されるものではない。実施例1~18100mL容のバイアル瓶に、3メルカプトプロピルトリメトキシシラン信越化学工業株製、商品名:KBM-8030.5gおよびエタノール99.5gを添加し、十分に攪拌することによって混合した。その後、このバイアル瓶内に0.1N塩酸0.025gを添加し、十分に攪拌することによって混合し、I液を調製した。一方、100mL容のバイアル瓶に、表1に示すメタアクリル系化合物50.0gおよびトリエチルアミン2.5gを添加し、十分に攪拌することによって混合し、II液を調製した。次に、前記で得られたI液を、低屈折材料層を有する基材の当該低屈折材料層上にフローコートし、余剰のI液をエタノールで洗浄することによって除去した後、このガラスプレートを温風乾燥機内に入れ、120°Cの温度で30分間温風乾燥を行なった。次に、あらかじめ60°Cに加温しておいたII液中に前記基材を60分間浸漬した後、このII液から取り出し、過剰のII液をエタノールで除去し、エアガンで乾燥させることにより、低反射性材料を得た。なお、低屈折材料層を有する基材は、以下のようにして製造した。低屈折材料層を有する基材の製造ガラスプレート縦:100mm、横:100mm、厚さ:1mm上に、フッ化マグネシウム微粒子平均粒子径:10nm1質量を含有するエタノール溶液を塗布し、150°Cで乾燥させることにより、低屈折材料層を有する基材を得た。得られた基材の低屈折材料層が形成されている面における屈折率を、屈折計株アタゴ製、商品名:デジタルアッベ屈折計DR-M2を用いて23°Cの雰囲気中で測定波長590nmにて測定した。その結果、前記屈折率は、1.35であった。次に、前記で得られた低反射性材料の物性として、低反射性、接触角水との接触角、表面層の厚さおよび耐熱水性を以下の方法に基づいて調べた。その結果を表1に示す。低反射性低反射性材料の表面層における屈折率を、前記と同様に、屈折計株アタゴ製、商品名:デジタルアッベ屈折計DR-M2を用いて23°Cの雰囲気中で測定波長590nmにて測定し、以下の評価基準に基づいて評価した。評価基準○:折材料層が形成されている面における屈折率と低反射性材料の表面層における屈折率との差の絶対値が0.1未満×:折材料層が形成されている面における屈折率と低反射性材料の表面層における屈折率との差の絶対値が0.1以上接触角低反射性材料に水滴を滴下し、接触角計エルマ株製を用いて水との接触角を25°Cの大気中で測定した。表面層の厚さ触針式段差計ケーエルエーテンコール株製、品番:P-10を用いて低反射性材料の表面層の厚さを測定した。耐熱水性低反射性材料に水滴を滴下し、接触角計エルマ株製を用いて水との接触角を25°Cの大気中で測定した。その後、この低反射性材料を80°Cに加温されている熱水中に5時間浸漬することにより、耐熱水試験を行なった。次に、この熱水中から低反射性材料を取り出し、水で洗浄し、低反射性材料に付着している水をエアガンで乾燥させた後、低反射性材料に水滴を滴下し、接触角計エルマ株製を用いて水との接触角を25°Cの大気中で測定し、耐熱水性を以下の評価基準に基づいて評価した。評価基準○:耐熱水性試験前後の水に対する接触角の差の絶対値が10度未満×:耐熱水性試験前後の水に対する接触角の差の絶対値が10度以上実施例19~24実施例1において、II液で使用したメタアクリル系化合物を表1に示すものに変更するとともに、そのメタアクリル系化合物の量を50.0gから25.0gに変更し、当該メタアクリル系化合物をエタノール25.0gに溶解させたこと以外は、実施例1と同様にして低反射性材料を調製した。その後、得られた低反射性材料を用い、実施例1と同様にして低反射性材料を得た。比較例11ラウリン酸ナトリウム水溶液をガラスプレート上にフローコートし、このガラスプレートを温風乾燥機内に入れ、120°Cの温度で30分間温風乾燥を行なうことにより、界面活性剤で処理された基板を得た。得られた基板を低反射性材料として用い、実施例1と同様にして、低反射性材料の物性を調べた。その結果を表1に示す。比較例21ミリスチン酸ナトリウム水溶液をガラスプレート上にフローコートし、このガラスプレートを温風乾燥機内に入れ、120°Cの温度で30分間温風乾燥を行なうことにより、界面活性剤で処理された基板を得た。得られた基板を低反射性材料として用い、実施例1と同様にして、低反射性材料の物性を調べた。その結果を表1に示す。比較例31パルミチン酸ナトリウム水溶液をガラスプレート上にフローコートし、このガラスプレートを温風乾燥機内に入れ、120°Cの温度で30分間温風乾燥を行なうことにより、界面活性剤で処理された基板を得た。得られた基板を低反射性材料として用い、実施例1と同様にして、低反射性材料の物性を調べた。その結果を表1に示す。表1に示された結果から、各実施例で得られた低反射性材料は、各比較例で得られた低反射性材料と対比して、低反射性材料が本来有している低反射性をほとんど低下させることなく、親水性、疎水性などの所望の性質が表面に付与されたものであることがわかる。さらに、各実施例で得られた低反射性材料は、耐熱水性にも優れていることから、耐熱性に優れていることがわかる。"