エキシマランプおよびエキシマランプ点灯用の昇圧トランスがケーシング内部に配置されてなる光放射ユニットと、この光放射ユニットを光処理領域に対して進入退出可能に往復移動させる光放射ユニット移動機構とを具えてなり、前記光放射ユニットにおけるケーシング内においては、前記光処理領域に対する進入方向において、前記エキシマランプが前方側に位置され、前記昇圧トランスが後方側に位置された状態で、配置されていることを特徴とする光処理装置。前記光放射ユニットには、紫外線透過性を有する光取出窓が形成されており、当該光放射ユニットが、前記光取出窓がナノインプリント装置におけるテンプレートのパターン面に対向するよう、配置されることを特徴とする請求項1に記載の光処理装置。而して、本発明者らは、エキシマランプを具えた光放射ユニットを、光放射ユニット移動機構によって、ナノインプリント装置におけるテンプレートのパターン面に間隙を介して対向して配置されるよう移動させて、テンプレートの表面を光洗浄処理するために用いられる光処理装置を提案している特願2010-046127号明細書参照。。この光処理装置においては、エキシマランプ点灯用の昇圧トランスの高圧側に接続される給電線の引き回し距離を短くして電圧低下によるランプ効率の低下を防止するために、エキシマランプおよび昇圧トランスが共通のケーシング内に配置された構造とされている。しかしながら、このような構成の光処理装置においては、次のような新たな問題が生ずることが判明した。図10に示すように、光放射ユニット20におけるケーシング21内において、光処理領域に対する進入方向において、エキシマランプ30が後方側に位置され、昇圧トランス38が前方側に位置される状態で、配置されている場合には、光放射ユニット20を光取出窓23がテンプレートに対向して配置される処理位置光処理領域まで移動させる移動距離が大きくなり、タクト時間テンプレートの光洗浄処理に要する時間が長くなる、という問題が生じる。また、例えば、光放射ユニット20の、光処理領域に対する進入方向後方側の端部から給電線39aが導出されて電源ユニット11におけるランプ点灯用電源図示せずに接続される構成とされる場合に、ランプ点灯用電源から昇圧トランス38までの距離が大きくなるため、給電線39aの引き回しが煩雑になるという問題が生じる。本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、所期の紫外線照射処理を効率よく行うことができる光処理装置を提供することを目的とする。本発明の光処理装置は、エキシマランプおよびエキシマランプ点灯用の昇圧トランスがケーシング内部に配置されてなる光放射ユニットと、この光放射ユニットを光処理領域に対して進入退出可能に往復移動させる光放射ユニット移動機構とを具えてなり、前記光放射ユニットにおけるケーシング内においては、前記光処理領域に対する進入方向において、前記エキシマランプが前方側に位置され、前記昇圧トランスが後方側に位置された状態で、配置されていることを特徴とする。本発明の光処理装置においては、前記光放射ユニットには、紫外線透過性を有する光取出窓が形成されており、当該光放射ユニットが、前記光取出窓がナノインプリント装置におけるテンプレートのパターン面に対向するよう、配置される構成とされていることが好ましい。本発明の光処理装置によれば、光放射ユニット移動機構によって光処理領域に対して進入退出可能に往復移動される光放射ユニットにおけるケーシング内に、エキシマランプが光処理領域に対する進入方向前方側に位置され、昇圧トランスが光処理領域に対する進入方向後方側に位置された状態で、配置されていることにより、エキシマランプが光処理領域に対する進入方向後方側に位置された構成のものに比して、光放射ユニットを光処理領域まで移動させる距離を小さくすることができるので、タクト時間の短縮化を図ることができる。また、光放射ユニットの、光処理領域に対する進入方向後方側の端部から給電線が導出されて電源に接続される構成とされることにより、エキシマランプおよび昇圧トランスに対する給電線の引き回しを簡素化することができる。以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。図1は、本発明の光処理装置の一例における構成の概略を示す斜視図、図2は、図1に示す光処理装置における光放射ユニットの一例における構成の概略を示す斜視図、図3は、図2に示す光放射ユニットを光取出窓に垂直な平面で切断して示す長手方向に沿った説明用断面図、図4は、図1に示す光処理装置における光放射ユニット移動機構の一例における構成の概略を示す説明図である。この光処理装置10は、ナノインプリント装置におけるテンプレートの表面を光洗浄処理するために用いられるものであって、エキシマランプ30およびエキシマランプ点灯用昇圧トランス38が共通のケーシング21内に配置されてなる光放射ユニット20と、この光放射ユニット20を光処理領域に対して進入退出可能に直線的に往復水平移動させる光放射ユニット移動機構40と、エキシマランプ30を点灯させると共に光放射ユニット移動機構40を駆動させる電源ユニット11とを具えてなる。この実施の形態に係る光処理装置10における光放射ユニット移動機構40は、上面に光放射ユニット20が固定される水平方向に伸びる平板状のユニット支持台41と、このユニット支持台41の、光処理領域に対する進入方向後方側の端部図4においては左端部に連結された、水平方向に伸縮自在なシリンダ装置45とにより構成されており、シリンダ装置45におけるピストン図示せずおよびピストンロッド47をシリンダ46内を水平方向に往復摺動させることにより光放射ユニット20を同一の高さ位置を保持して水平面内で移動させる。光放射ユニット20は、外形が一方向に長い略直方体状の金属製のケーシング21を具えており、このケーシング21内には、ランプ収容室S1および回路室S2が、ランプ収容室S1が光処理領域に対する進入方向前方側に位置される状態で、隔壁22を介してケーシング21の長手方向に並ぶよう形成されている。ケーシング21におけるランプ収容室S1を形成する上壁には、矩形の開口Kが形成されており、この開口Kには、紫外線透過性を有する材料例えば石英ガラスよりなる光取出窓23が、枠状の固定板24によって固定されて設けられている。ここに、ケーシング21を構成する金属材料としては、例えばアルミニウム、ステンレス鋼などを用いることができる。また、ケーシング21には、その両側面の各々における上縁部に沿って、冷却用ガス流通管14を介して冷却用ガス供給機構15に接続された、冷却用ガスが流通される矩形の筒状のガス流路部材12が設けられている。具体的に説明すると、ガス流路部材12の各々は、その一側面における上縁部12aに沿って並ぶよう形成された複数のガス流通口13を有し、当該ガス流路部材12の各々の一側面が、その上縁部12aを除いてケーシング21の側面に接するよう配置されて固定され、これにより、ケーシング21における光取出窓23の周囲に、ガス流通口13が位置されている。さらにまた、ケーシング21には、パージ用ガスをランプ収容室S1内に供給するパージ用ガス供給管17およびランプ収容室S1内からガスを排出するためのパージ用ガス排出管18が設けられており、それぞれ、パージ用ガス供給排出機構16に接続されている。ケーシング21におけるランプ収容室S1内には、エキシマランプ30が配置されている。エキシマランプ30は、図5に示すように、内部に放電空間が形成された、全体が一方向に長尺な板状の放電容器31を具えており、当該放電容器31の放電空間内には、エキシマ用ガスが気密に封入されている。放電容器31の長手方向に沿って伸びる4つの周側面のうち、一方の幅広な周側面31aの外面には、網状の高電圧側電極32が配置され、当該一方の幅広な周側面31aに対向する他方の幅広な周側面31bの外面には、網状のアース側電極33が配置されている。また、放電容器31の両端の各々には、口金35が放電容器31の一部を受容して保持した状態で装着されている。放電容器31を構成する材料としては、真空紫外線を良好に透過するもの、具体的には、合成石英ガラスなどのシリカガラス、サファイアガラスなどを用いることができる。高電圧側電極32およびアース側電極33を構成する材料としては、アルミニウム、ニッケル、金などの金属材料を用いることができる。また、高電圧側電極32およびアース側電極33は、上記の金属材料を含む導電性ペーストをスクリーン印刷することにより、或いは上記の金属材料を真空蒸着することにより、形成することもできる。放電容器31の放電空間内に封入されるエキシマ用ガスとしては、真空紫外線を放射するエキシマを生成し得るもの、具体的には、キセノン、アルゴン、クリプトン等の希ガス、または、希ガスと、臭素、塩素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンガスとを混合した混合ガスなどを用いることができる。エキシマ用ガスの具体的な例を、放射される紫外線の波長と共に示すと、キセノンガスでは172nm、アルゴンとヨウ素との混合ガスでは191nm、アルゴンとフッ素との混合ガスでは193nmである。また、エキシマ用ガスの封入圧は、例えば10~100kPaである。この光放射ユニット20においては、エキシマランプ30は、放電容器31における高電圧側電極32が配置された一方の幅広な周側面31aがケーシング21における光取出窓23と対向し、かつ、光放射ユニット20の移動方向に沿って水平に延びる姿勢放電容器31の長手方向が光放射ユニット20の移動方向に一致する状態で、長手方向における両端部がケーシング21に固定されている。具体的には、図6に示すように、エキシマランプ30における口金35を受容して保持する収容凹部51を有するランプ支持部材50の当該収容凹部51に対して、エキシマランプ30の口金35がランプ支持部材50の上面より突出する状態で装着され、さらに、エキシマランプ30の口金35の上面において帯板状の固定部材52がランプ支持部材50にネジ止めされて固定されている。そして、ランプ支持部材50がケーシング21におけるランプ収容室S1を形成する下壁にネジ止めされて固定されており、図3に示すように、エキシマランプ30における高圧側電極32が実質的にケーシング21の高さ方向図3において上下方向の中央位置Lcに位置された状態とされている。ケーシング21における回路室S2内には、昇圧トランス38およびその他の電装体が配置されており、図4に示すように、昇圧トランス38は、低圧側一次側が給電線39aを介して電源ユニット11における高周波電源よりなるランプ点灯用電源図示せずに接続されると共に高圧側二次側が給電線39bを介してエキシマランプ30における高電圧側電極32およびアース側電極33に接続されている。従って、この光放射ユニット20においては、比較的重量の大きい昇圧トランス38が光処理領域に対する進入方向後方側の位置に配置された構成とされている。昇圧トランス38としては、電源ユニット11におけるランプ点灯用電源の電源電圧例えば200Vを例えば3kVに昇圧してエキシマランプ30に供給するものを用いることができる。図7は、本発明の光処理装置を搭載したナノインプリント装置の一例における構成の概略を示す説明図である。図7において、61はテンプレート、62は、テンプレート61を保持するテンプレート保持機構、63はチャンバーである。64は可動式のウエハステージであって、このウエハステージ64上には、ウエハWを保持するウエハチャック64aが配置されている。65は、ウエハWの表面にパターン形成用材料インプリント材料である液状の光硬化性樹脂を塗布するインクジェット方式の塗布手段、66は加圧機構、67は除振台、68はステージ定盤、69は、ウエハW上に形成された光硬化性樹脂よりなるパターン形成用材料層に紫外線を照射する紫外線光源である。20は、図2および図3に示す構成の光放射ユニットであり、この光放射ユニット20は、光放射ユニット移動機構40によってテンプレート61の下方光処理領域に進入退出可能に水平移動される。このようなナノインプリント装置においては、ウエハチャック64aにウエハWが保持されたウエハステージ64を塗布手段65の下方位置に移動させ、当該塗布手段65によってウエハWの表面に液状の光硬化性樹脂を塗布することにより、ウエハW上に光硬化性樹脂よりなるパターン形成用材料層を形成する。次いで、ウエハステージ64をテンプレート61の下方位置に移動させ、ウエハW上に形成されたパターン形成用材料層に対して、加圧機構66によってテンプレート61を接触させて加圧し、この状態で、パターン形成用材料層に紫外線光源69によってテンプレート61を介して紫外線を照射することにより、パターン形成用材料層を硬化させ、その後、得られた硬化樹脂層からテンプレート61を剥がすことにより、ウエハWに対するパターン形成が達成される。このようなウエハWに対するパターン形成が1回または複数回終了すると、図8に示すように、ウエハWが載置されたウエハステージ64が、テンプレート61の下方位置からその側方位置に移動されて退避されると共に、光放射ユニット20が光放射ユニット移動機構40によってテンプレート61の下方位置に水平移動され、その光取出窓23がテンプレート61のパターン面に間隙を介して対向するよう配置される。ここで、光取出窓23の外面とテンプレート61のパターン面との間の離間距離は、例えば0.3~10.0mmである。そして、光処理装置10においては、冷却用ガス供給機構15を作動させ、これにより、冷却用ガスを冷却用ガス流通管14を介してガス流路部材12に供給することによって、ガス流路部材12に形成されたガス流通口13から排出された冷却用ガスが光取出窓23とテンプレート61との間の間隙に流通される。そして、この状態で、電源ユニット11におけるランプ点灯用電源より高周波電圧を回路室S2内に配置された昇圧トランス38によって昇圧してエキシマランプ30に供給してエキシマランプ30を点灯させることにより、エキシマランプ30からの紫外線が光取出窓23を介してテンプレート61のパターン面に照射され、以て、テンプレート61の光洗浄処理が達成される。その後、光放射ユニット20が光放射ユニット移動機構40によってテンプレート61の下方位置から退避されるよう水平移動されると共に、ウエハWが載置されたウエハステージ64が、テンプレート61の下方位置に水平移動され、当該ウエハWに対するパターン形成が実行される。以上において、光取出窓23とテンプレート61との間の間隙に流通される冷却用ガスの流量は、例えば100~1000リットル/minであり、冷却用ガスの温度は、例えば10~35°Cである。また、テンプレート61に対する紫外線の照射時間は、例えば3~3600秒間である。而して、上記の光処理装置10によれば、光放射ユニット移動機構40によって光処理領域テンプレート61の下方領域に対して進入退出可能に往復移動される光放射ユニット20におけるケーシング21内に、エキシマランプ30が光処理領域に対する進入方向前方側に位置され、昇圧トランス38が光処理領域に対する進入方向後方側に位置された状態で、配置されていることにより、図10に示す構成のものに比して、光放射ユニット20の退避位置から、光放射ユニット20における光取出窓23がテンプレート61に対向して配置される処理位置までの移動距離を、小さくすることができるので、タクト時間の短縮化を図ることができる。また、光放射ユニット20の、光処理領域に対する進入方向後方側端部から給電線39aが導出されて電源ユニット11におけるランプ点灯用電源に接続される構成とされることにより、ランプ点灯用電源と、光処理領域に対する進入方向後方側の位置に配置された昇圧トランス38との距離を、図10に示す構成のものに比して小さくすることができるので、給電線39aの引き回しを簡素化することができる。さらにまた、比較的重量の大きい昇圧トランスがケーシング21内における光処理領域に対する進入方向後方側の位置に配置された構成とされていることにより、光放射ユニット移動機構40を構成するシリンダ装置45の電源ユニット11に対する固定部を支点とした光放射ユニット20に作用するモーメントに起因するユニット支持台41の傾きを抑制することができるので、光放射ユニット20の高さ位置を安定させることができて、光取出窓23とテンプレート61との間の距離が大きくなることを抑制することができ、従って、所期の紫外線照射処理を確実に行うことができる。さらにまた、上記の光処理装置10によれば、次のような効果が奏される。1光放射ユニット移動機構40によって光処理領域に対して進入退出可能に往復水平移動される光放射ユニット20が、一方向に長尺なエキシマランプ30が、光放射ユニット20の移動方向に沿って水平に延びる姿勢で、長手方向における両端部がケーシング21に固定された構成とされていることにより、光放射ユニット20の往復移動光放射ユニットの発進、停止による加速度の影響が光放射ユニット20の移動方向に並んだ位置に形成されたランプ支持部固定部に作用されることとなり、当該加速度の影響によるランプ支持部を支点としたモーメントが放電容器31の中央部に作用することがないので、エキシマランプ30の放電容器31に歪が生ずることを確実に防止することができ、所期の紫外線照射処理を確実に行うことができる。また、光放射ユニット20の往復移動を高速で行うことができるようになり、スループットを向上させることができる。2光放射ユニット20が一方向に長い形態を有し、当該光放射ユニット20の長手方向が光放射ユニット20の移動方向と一致するよう、光放射ユニット移動機構40におけるユニット支持台41に固定された構成とされていることにより、光放射ユニット20を往復移動させるために必要な移動路の面積光放射ユニットが通過する領域の面積を小さくすることができ、光処理装置10の小型化を図ることができる。また、光放射ユニット20がナノインプリント装置におけるチャンバー63の外部における退避位置と、処理位置との間で往復水平移動される構成とされる場合には、光放射ユニット20のチャンバー63内に対する進入用開口部の大きさを小さくすることができるので、ナノインプリント装置の小型化を図ることができる。3ケーシング21の光取出窓23の周囲に位置されたガス流通口13を介して光取出窓23と被処理物であるテンプレート61との間の間隙に冷却用ガスを流通させることにより、光取出窓23およびテンプレート61が冷却されるため、紫外線の照射および光取出窓23からの輻射熱によってテンプレート61の温度が上昇することを確実に抑制しながら、当該当該テンプレート61の紫外線照射処理を行うことができる。4エキシマランプ30が、放電容器31における高電圧側電極32が配置された一方の幅広な周側面31aが、光取出窓23と対向し、かつ、高圧側電極32がケーシング21におけるランプ収容室S1の高さ方向の中央位置Lcに位置されるよう、配置された構成とされていることにより、高圧側電極32とランプ収容室S1を形成する上壁の内面との間の離間距離を可及的に大きく確保しながら、ケーシング21自体の高さ方向の寸法を小さくすることができ、従って、装置全体の小型化が図られたものでありながら、エキシマランプ30における高圧側電極32とケーシング21との間での外部放電が生ずることを防止することができて所期の紫外線照射処理を確実に行うことができ、また、光取出窓23の温度上昇を一層抑制することができる。以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。例えば、光放射ユニット20は、図9に示すように、複数本のエキシマランプ30が配置された構成とすることができ、このような構成のものにおいても、光放射ユニット20が、ケーシング21内において、エキシマランプ30が光処理領域に対する進入方向前方側に位置され、昇圧トランス38が光処理領域に対する進入方向後方側に位置された状態で、配置された構成とされる。また、光放射ユニット移動機構の構成は、光放射ユニットを往復水平移動させることができるものであれば、シリンダ装置に限定されるものではない。さらにまた、本発明の光処理装置の処理対象は、ナノインプリント装置におけるテンプレートに限定されず、紫外線照射処理が必要とされる種々のものに適用することができる。