光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、前記光源からの光を分割して複数の光束を生成する分割部と、前記分割部によって生成された前記複数の光束の光強度分布のそれぞれを均一化する第1反射型インテグレータと、前記第1反射型インテグレータからの光を集光する集光部と、前記集光部からの光を受けて前記被照明面を照明する第2反射型インテグレータと、前記第2反射型インテグレータと前記被照明面との間に配置される開口絞りとを備え、前記分割部は、前記開口絞りが配置される面に対して、前記光源から前記分割部に提供される光の断面形状とは異なる断面形状を有する光が入射するように、前記複数の光束を生成する、ことを特徴とする照明光学系。前記第1反射型インテグレータは、前記分割部によって生成された前記複数の光束のそれぞれの光強度分布を均一化する複数の反射型インテグレータを含む、ことを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。前記集光部は、前記複数の反射型インテグレータにそれぞれ対応する複数の集光ミラーを含み、各集光ミラーが前記複数の反射型インテグレータのうち対応する反射型インテグレータからの光を集光する、ことを特徴とする請求項2に記載の照明光学系。前記開口絞りが配置される面に形成される光強度分布が変更されるように前記集光部を駆動する駆動機構を更に備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の照明光学系。前記分割部と前記第1反射型インテグレータとの間に配置され、前記分割部によって生成された前記複数の光束を平行光束に変換する変換部を更に備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の照明光学系。前記変換部は、前記分割部によって生成された前記複数の光束をそれぞれ平行光束に変換する複数の凹面ミラーを含む、ことを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。前記分割部によって生成される前記複数の光束の進行方向が変更されるように前記分割部を駆動する駆動機構を更に備えることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の照明光学系。前記分割部は、互いに異なる機能を有する複数の光学部材を含み、各光学部材は、前記光源からの光を分割して前記複数の光束を生成するように構成され、前記複数の光学部材から選択される1つの光学部材が前記光源からの光の光路に挿入される、ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の照明光学系。基板を露光する露光装置であって、原版を照明するように構成された請求項1乃至8のいずれか1項に記載の照明光学系と、前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、を備えることを特徴とする露光装置。請求項9に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、該基板を現像する工程と、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。本発明は、上記の課題認識を契機としてなされたものであり、照明光学系において、光源からの光の角度分布の不均一性を解消しつつ、均一な光強度分布を高い効率で形成するために有利な技術を提供することを目的とする。本発明の1つの側面は、光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系に係り、前記照明光学系は、前記光源からの光を分割して複数の光束を生成する分割部と、前記分割部によって生成された前記複数の光束の光強度分布のそれぞれを均一化する第1反射型インテグレータと、前記第1反射型インテグレータからの光を集光する集光部と、前記集光部からの光を受けて前記被照明面を照明する第2反射型インテグレータと、前記第2反射型インテグレータと前記被照明面との間に配置される開口絞りとを備え、前記分割部は、前記開口絞りが配置される面に対して、前記光源から前記分割部に提供される光の断面形状とは異なる断面形状を有する光が入射するように、前記複数の光束を生成する。本発明によれば、照明光学系において、光源からの光の角度分布の不均一性を解消しつつ、均一な光強度分布を高い効率で形成するために有利な技術が提供される。図1を参照しながら本発明の実施形態の露光装置EXおよび照明光学系ILを説明する。本発明の実施形態の露光装置EXは、光源LSと、照明光学系ILと、投影光学系POと、原版駆動機構26と、基板駆動機構29とを備えている。光源LSは真空容器8に収容されている。照明光学系IL、投影光学系PO、原版駆動機構26および基板駆動機構29は、露光装置EXの本体を構成し、真空容器30に収容されている。露光装置EXは、例えば、露光光としてEUV光を使用するEUV露光装置として構成されうるが、他の光例えば、レーザー光を使用する露光装置として構成されてもよい。ただし、以下では、具体例を提供するために、露光装置EXがEUV露光装置として構成されている例を説明する。光源LSでは、例えば、パルスパワー電源によって駆動されるCO2レーザ等の高出力パルスレーザが発生した光を真空容器8内のプラズマ媒質に照射することによって、プラズマ媒質から高エネルギー密度のプラズマ2を発生させる。プラズマ媒質としては、例えばSn液滴が使用されうる。プラズマ2からの熱輻射によって波長13.5nm近辺のEUV光が発生する。このようなレーザ光を用いたプラズマ生成方式による光源は、レーザ励起型プラズマEUV光源と呼ばれる。別の方式の光源LSとしては、電流供給源であるパルスパワー電源により励起されたパルス電流を放電ヘッダに印加して放電させ、このエネルギーにより電極間のプラズマ媒質から高エネルギー密度のプラズマ2を生成するものがある。このような光源は、放電励起プラズマ型EUV光源と呼ばれる。放電励起プラズマ型EUV光源の放電励起の方式には、Zピンチ、プラズマフォーカス、キャピラリーディスチャージ等の種々の方式がある。放電励起プラズマ型EUV光源におけるプラズマ媒質としては、例えばXeガスを挙げることができる。他のプラズマ媒質としては、Snの蒸気を挙げることができ、この場合、波長13.5nm近傍の光パワーを高めることができる。プラズマ2から放射されたEUV光5は、回転楕円ミラーなどの集光ミラー4により、真空容器8と真空容器30との境界面に設けられたピンホール状のアパーチャ7に集光される。集光ミラー4とアパーチャ7との間には、プラズマ及びその周辺から直接前方へ飛ぶ飛散粒子デブリを除去するフィルタ6aが配置されるほか、必要に応じて、EUV露光に不要な波長成分を除去するフィルタ6bが設けられる。光源LSの真空容器8と露光装置本体の真空容器30とは接続部9で接続されており、必要に応じて差動排気が行なわれる。ここで、集光ミラー4は、EUV光を効率良く反射するために反射多層膜が基材の上に成膜されて構成されうる。集光ミラー4は、高温のプラズマ2からの放射エネルギーを吸収するので、基板28の露光中に高温になる。そこで、集光ミラー4の基材は、熱伝導性の高い金属等の材料で構成され、水冷機構などの冷却機構によって冷却される。同様に、後述の照明光学系ILおよび投影光学系POを構成するミラーについても、EUV光を効率良く反射するために反射防止膜が設けられ、基材は熱伝導性の高い金属等の材料で構成され、冷却機構によって冷却されうる。照明光学系ILは、アパーチャ7を通過したEUV光を使って被照明面あるいは原版26を照明する。以下、照明光学系ILについて例示的に説明する。アパーチャ7を通して光源LSから提供されるEUV光5は、分割部DIVに入射する。分割部DIVは、光源LSからのEUV光5を分割して複数の光束を生成する。ここで、分割部DIVは、互いに異なる機能を有する複数の光学部材101、102、103光学部材103については図4参照を含み、複数の光学部材101、102、103から選択される1つの光学部材が光源LSからのEUV光の光路に挿入される。図1に示す例では、光学部材101が光路に挿入されている。照明光学系ILは、光学部材101、102、103を交換するための操作機構を含みうる。光学部材101、102、103のうち光路に挿入された光学部材101は、駆動機構11に備えられた保持機構によって保持され、駆動機構11によって駆動される。駆動機構11は、分割部DIVによって生成される複数の光束の進行方向が変更されるように、より具体的には、後述の開口絞り22が配置された面に形成される光強度分布が変更されるように、分割部DIV光学部材101、102、103を駆動する。分割部DIVによって生成された複数の光束は、任意的な構成要素である変換部12によってそれぞれ平行光束に変換されうる。変換部12は、図2~図4に例示されるように、分割部DIVによって生成された複数の光束をそれぞれ平行光束に変換する複数の凹面ミラー12a~12hを含みうる。分割部DIVによって生成され変換部12によって平行光束に変換された複数の光束は、第1反射型インテグレータ13に入射する。第1反射型インテグレータ13は、それに入射した複数の光束の光強度分布のそれぞれを均一化する。第1反射型インテグレータ13は、分割部DIVによって生成され変換部12によって平行光束に変換された複数の光束のそれぞれの光強度分布を均一化する複数の反射型インテグレータ13a~13hを含みうる。なお、図1においては、複数の反射型インテグレータ13a~13hのうち13a、13eのみが示されている。複数の反射型インテグレータ13a~13hは、複数の凹面ミラー12a~12hにそれぞれ対応するように配置されうる。集光部14は、第1反射型インテグレータ13からの光を集光する。集光部14は、例えば、複数の反射型インテグレータ13a~13hにそれぞれ対応する複数の集光ミラー14a~14hを含み、各集光ミラーが複数の反射型インテグレータ13a~13hのうち対応する反射型インテグレータからの光を集光する。なお、図1においては、集光ミラー14a~14hのうち14a、14eのみが示されている。照明光学系ILは、開口絞り22が配置される面に形成される光強度分布が変更されるように集光部14を駆動する駆動機構15を含みうる。駆動機構15は、複数の集光ミラー14a~14hをそれぞれ駆動する複数のアクチュエータ15a~15hを含みうる。なお、図1においては、アクチュエータ15a~15hのうち15a、15eのみが示されている。集光部15からの光は、平面ミラー16を介して第2反射型インテグレータ20に入射する。なお、平面ミラー16は任意的な構成要素である。第2反射型インテグレータ20は、図7に例示されるように、複数の円筒ミラーを含みうる。複数の円筒ミラーを有する第2反射型インテグレータ20にほぼ平行なEUV光が入射すると、第2反射型インテグレータ20の表面近傍に複数の線状の2次光源が形成される。該複数の線状の2次光源から放射されるEUV光の角度分布は円筒面状となる。第2反射型インテグレータ20に入射したEUV光は、第2反射型インテグレータ20の複数の円筒ミラーにより分割されて発散し、開口絞り22を通過する。ここで、第2反射型インテグレータ20の複数の円筒ミラーからのEUV光の一部は、補助ミラー21a、21bによって反射されて開口絞り22に入射しうる。開口絞り22を通過したEUV光は、反射多層膜が成膜された球面又は非球面の凸面ミラー231、凹面ミラー232で構成される円弧変換光学系により円弧状に成形される。円弧状に成形されたEUV光は、スリット板251に形成された円弧スリットを含む領域に均一な照度分布をもつ円弧照明領域を形成する。この円弧照明領域において第2反射型インテグレータ20の複数の円筒ミラーのそれぞれからの光が重畳されることで、高い効率を得ながら照度の均一性を向上させることができる。即ち、高い効率で均一な円弧照明がなされる。原版駆動機構26によって保持された反射型原版25は、スリット板251に形成された円弧スリットを通過した円弧状の断面形状を有するEUV光によって照明される。開口絞り22として、後述する様な種々の開口絞りを用意しておき、不図示のターレット等の開口絞り切替機構によって開口絞りを切り替えることができる。補助ミラー21a、21bは、第2反射型インテグレータ20における複数の円筒ミラーの配列面に対して垂直に配置された対向する一対の平面ミラーでありうる。開口絞り22は、第2反射型インテグレータ20の前記配列面に対して垂直に配置された板部材でありうる。凹面ミラー232とスリット板251との間には、凸面ミラー231、凹面ミラー232で構成される円弧変換光学系の像側光束である照明光束241を反射型原版25に向けて折り曲げる平面ミラー24が配置されうる。平面ミラー24のミラー面の位置と角度を不図示の駆動機構により微調整することによって、反射型原版25に対する照明光束241の入射角を調整することができる。照明光束241を平面ミラー24によって折り曲げることによって、照明光束241による円弧照明領域の円弧の向きが反転する。円弧照明領域の円弧の中心は、投影光学系POの光軸AX1に一致する。円弧変換光学系の像側主光線と投影光学系POの物体側主光線とは、反射型原版25を反射面として互いに一致する。平面ミラー24は、円弧変換光学系の配置の自由度を高めるために有用である。図1に例示される照明光学系ILでは、分割部DIVから第2反射型インテグレータ20までの光学素子の全てが全反射ミラーで構成されうる。EUV光を扱う場合、低入射角の場合は多層膜ミラーを用いる必要があるが、高入射角の場合は、単層膜による全反射ミラーを用いることができる。全反射ミラーの方が多層膜ミラーよりも反射率が高いことから、高入射角のミラーやインテグレータを用いることで、より高効率な照明光学系を構成することができる。円弧状の断面形状を有するEUV光で照明された反射型原版25の回路パターンは、投影光学系POによって、基板駆動機構29によって保持された基板28に投影され、これにより基板28が露光される。基板駆動機構29は、基板28を保持する基板チャックが搭載された基板ステージおよび該基板ステージを駆動する機構を有し、基板28を6軸X、Y、Z軸およびそれらの軸周りに関して駆動することができるように構成されている。基板ステージの位置は、レーザ干渉計等の測長器によって計測されうる。投影光学系POの投影倍率をMとすると、例えば、反射型原版25を矢印Aの方向に速度vで走査するとともに基板28を矢印Bの方向に速度v/Mで同期走査しながら基板28のショット領域が走査露光される。投影光学系POは、複数の多層膜反射鏡によって構成され、光軸AX1に対して軸外の細い円弧状の領域が良好な結像性能をもつように設計されている。投影光学系POは、反射型原版25のパターンを基板28に縮小投影するように構成され、像側基板側テレセントリック系となっている。投影光学系POの物体側反射型原版側は、反射型原版25に入射する照明光束241との物理的干渉を避けるために、通常、非テレセントリックな構成となっており、例えば、物体側主光線は、反射型原版25の法線方向に対して6度ほど傾いている。以下、図2~図4を参照しながら分割部DIVによる光束の分割方法を例示的に説明する。図2aは、光源LSの側から見た光学部材101分割部DIVおよび凹面ミラー12a~12h変換部12を模式的に示している。分割部DIVとしての光学部材101は、光源LSからの光を2分割するために楔形に配置された2つの反射面を有する。該2つの反射面は、全反射ミラーである。変換部12は、8つの凹面ミラー12a~12hを含む。8つの凹面ミラー12a~12hは、光軸に直交する断面において8角形を構成するように保持機構111によって保持されている。保持機構111は、分割された光束を遮光しないように配置されている。光源LSからの光を楔形に配置された2つの反射面を有する光学部材101によって2分割する場合は、分割によって生成された2つの光束は、8つの凹面ミラー12a~12hのうち2つの凹面ミラーに入射する。図2aに示す例では、該2つの光束は、凹面ミラー12a、12eに入射する。そして、凹面ミラー12a、12eによって反射された2つの光束は、第1反射型インテグレータ13を構成する複数の反射型インテグレータ13a~13hのうち凹面ミラー12a、12eに対応する反射型インテグレータ13a、13eに入射する。反射型インテグレータ13a、13eにそれぞれ入射した2つの光束は、反射型インテグレータ13a、13eによってそれぞれ光強度分布が均一化される。反射型インテグレータ13a、13eからの光は、集光部14を構成する複数の集光ミラー14a~14hのうち反射型インテグレータ13a、13eに対応する集光ミラー14a、14eによって集光される。集光ミラー14a、14eからの光は、平面ミラー16を介して第2反射型インテグレータ20に入射する。反射型インテグレータ20は、凸面ミラー231、凹面ミラー232および平面ミラー24を介して反射型原版25を照明する。集光ミラー14a、14eからの光が入射する反射型インテグレータ20からの光は、図2bに例示されるように、開口絞り22が配置された面に対して、Yダイポール照明に相当する光強度分布を形成する。即ち、開口絞り22が配置された面には、光源LSから分割部DIVに提供される光の断面形状典型的には、円形またはリング形とは異なる断面形状の光強度分布が形成される。これは、光源LSから提供される光を分割部DIVによって分割することによって実現されている。図2cは、駆動機構11によって光学部材101を図2aに示す状態から90度回転させた状態を模式的に示している。この場合には、光学部材101によって生成された2つの光束は、8つの凹面ミラー12a~12hのうち2つの凹面ミラー12c、12gに入射する。そして、凹面ミラー12c、12gによって反射された2つの光束は、第1反射型インテグレータ13を構成する複数の反射型インテグレータ13a~13hのうち凹面ミラー12c、12gに対応する反射型インテグレータ13c、13gに入射する。反射型インテグレータ13c、13gにそれぞれ入射した2つの光束は、反射型インテグレータ13c、13gによってそれぞれ光強度分布が均一化される。反射型インテグレータ13c、13gからの光は、集光部14を構成する複数の集光ミラー14a~14hのうち反射型インテグレータ13c、13gに対応する集光ミラー14c、14gによって集光される。集光ミラー14c、14gからの光は、平面ミラー16を介して第2反射型インテグレータ20に入射する。以上のようにして、集光ミラー14c、14gからの光が入射する反射型インテグレータ20からの光は、図2dに例示されるように、開口絞り22が配置された面に対して、Xダイポール照明に相当する光強度分布を形成する。図3aは、光源LSの側から見た光学部材102分割部DIVおよび凹面ミラー12a~12h変換部12を模式的に示している。分割部DIVとしての光学部材102は、光源LSからの光を4分割するために四角錐型に配置された4つの反射面を有する。該4つの反射面は、全反射ミラーである。光学部材102によって生成された4つの光束は、図3bに例示されるように、開口絞り22が配置された面に対して、4重極照明に相当する光強度分布を形成する。即ち、開口絞り22が配置された面には、光源LSから分割部DIVに提供される光の断面形状典型的には、円形またはリング形とは異なる断面形状の光強度分布が形成される。これは、光源LSから提供される光を分割部DIVによって分割することによって実現されている。図3cは、駆動機構11によって光学部材102を図3aに示す状態から45度回転させた状態を模式的に示している。この場合には、図3dに例示されるような光強度分布が開口絞り22が配置された面に形成される。図4aは、光源LSの側から見た光学部材103分割部DIVおよび凹面ミラー12a~12h変換部12を模式的に示している。分割部DIVとしての光学部材103は、光源LSからの光を8分割するために八角錐型に配置された8つの反射面を有する。該8つの反射面は、全反射ミラーである。この場合には、変換部12の8つの凹面ミラー12a~12h、第1反射型インテグレータ13の8つの反射型インテグレータ13a~13h、集光部14の8つの集光ミラー14a~14hが使用される。光学部材103によって生成された8つの光束は、図4bに例示されるように、開口絞り22が配置された面に対して、輪帯照明に相当する光強度分布を形成する。この実施形態では、分割部DIVによる分割数を最大で8分割とした例であるが、これよりも大きいか小さい分割数を採用してもよい。図8は、第1反射型インテグレータ13を構成する各反射型インテグレータ13a~13hの構成例を模式的に示す斜視図である。各反射型インテグレータ13a~13hは、複数の凹面ミラーの配列を有し、各凹面ミラーは全反射ミラーであって、その形状は、例えば、回転放物面やトロイダル面でありうる。次に、上記の各種の照明モードにおいて、コヒーレントファクタσを所望の値に設定する方法を図5及び図6を参照しながら説明する。コヒーレンスファクタσとは、投影光学系の物体側NAと照明光束のNAとの比であり、一般的に小σではコントラストの高い像が得られ、大σではマスクパターンに忠実な像が得られる。図5aは、図2aを参照して説明したダイポール照明において、σの値を大きくする方法を模式的に示している。図5aにおいて、反射型インテグレータ13a、13eからの光は、集光部14の凹面ミラー14a、14eに入射する。駆動機構15のアクチュエータ15a、15eによって凹面ミラー14a、14eの間隔が広くなる方向に凹面ミラー14a、14eを駆動する。これにより、図5bに例示されるように、開口絞り22が配置された面における2つの極ダイポールの間隔502を大きくすることができる。これは、σの値が大きくなることを意味する。これは、四重極照明や輪帯照明においても、同様の方法でσの値を大きくすることができる。図6aは、図2aを参照して説明したダイポール照明において、σの値を小さくする方法を模式的に示している。図6aにおいて、反射型インテグレータ13a、13eからの光は、集光部14の凹面ミラー14a、14eに入射する。駆動機構15のアクチュエータ15a、15eによって凹面ミラー14a、14eの間隔が狭くなる方向に凹面ミラー14a、14eを駆動する。これにより、図6bに例示されるように、開口絞り22が配置された面における2つの極ダイポールの間隔602を小さくすることができる。これは、σの値が小さくなることを意味する。これは、四重極照明や輪帯照明においても、同様の方法でσの値を小さくすることができる。以上のように、この実施形態によれば、基板に形成すべきパターンに応じて最適な照明モードおよびσ値を基板の面における照度を低下させることなく設定することが可能となる。上記の実施形態では、インテグレータ20として複数の円筒ミラーをもったインテグレータを採用した例を説明したが、低入射角タイプのハエの目ミラーを2枚対向配置させた構成を採用してもよい。しかしながら、高効率化を目的とする場合、上記のように、インテグレータ20は、全反射の1枚のインテグレータで構成することが優位である。次に、図7を参照しながら、第2反射型インテグレータ20、2枚の補助ミラー21および開口絞り22の配置を例示的に説明する。図7において、801はインテグレータ20に入射するEUV光の中心主光線の方向を示しており、第2反射型インテグレータ20の中心付近をほぼyz断面内で通過する。位置802は、凸面ミラー231および凹面ミラー232で構成される円弧変換光学系の瞳面のほぼ中心である。図7には、位置802を原点としてxyz座標が記載されている。z軸は、前記円弧変換光学系の共軸AX2とほぼ一致している。補助ミラー21a、21bは、インテグレータ20の構成要素である円筒ミラーの母線方向に沿うように、また、インテグレータ20の複数の円筒ミラーの配列面に対して垂直となるように配置されている。図7に示す例では、2枚の補助ミラー21a、21bが開口絞り22の開口部を挟むように対向して配置されている。2枚の補助ミラー21a、21bの間隔を調整する駆動機構を設けてもよい。開口絞り22を構成する板部材の面は、インテグレータ20の複数の円筒ミラーの配列面に対してほぼ垂直に、射出側に配置される。有効光源分布の微調整のために、インテグレータ20の複数の円筒ミラーの配列面に対して厳密に垂直な面から若干1~2°程度傾けて開口絞り22を配置してもよい。このように配列面に対して厳密に垂直な面から若干の傾きを有する場合にも、配列面に対して垂直である範疇に含まれうる。有効光源分布の調整やテレセン度の調整等を可能とするため、インテグレータ20の複数の円筒ミラーの配列面に対する開口絞り22の角度を調整する駆動機構を設けてもよい。補助ミラー21a、21bを配置したことによって、インテグレータ20により反射された光の一部を開口絞り22を通過させ、照明に寄与させることができる。これは、効率よく円弧領域を照明するには有利である。補助ミラーを設置することにより照明系の効率を向上させる方法に関しては、特開2009-032938号公報に詳しく述べられている。本発明の好適な実施形態のデバイス製造方法は、例えば、半導体デバイス、液晶デバイス等のデバイスの製造に好適である。前記方法は、感光剤が塗布された基板を、上記の露光装置EXを用いて露光する工程と、前記露光された基板を現像する工程とを含みうる。さらに、前記デバイス製造方法は、他の周知の工程酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等を含みうる。