"Aチタンブラック及びSi原子を含む被分散体、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記A被分散体のBET比表面積が55~84m2/gの範囲であり、且つ、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有質量比Si/Tiが0.20~0.41の範囲であり、固体撮像素子用のチタンブラック分散組成物。前記B分散剤が、水素原子を除いた原子数が40~10000の範囲であるグラフト鎖を有するグラフト共重合体である請求項1に記載のチタンブラック分散組成物。前記グラフト共重合体が、下記一般式1~一般式4で表される構造単位から選択された1種以上の構造単位を含む請求項2に記載のチタンブラック分散組成物。一般式1~一般式4中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Y1、Y2、Y3、及びY4は、それぞれ独立に2価の連結基を表し、Z1、Z2、Z3、及びZ4は、それぞれ独立に1価の有機基を表す。R3は分岐若しくは直鎖のアルキレン基を表し、R4は水素原子又は1価の有機基を表す。n、m、p、及びqは、それぞれ1から500の整数を表し、j及びkは、それぞれ2~8の整数を表す。式3において、pが2~500のとき、グラフト共重合体中に複数存在するR3は互いに同じであっても異なっていてもよい。式4において、qが2~500のとき、グラフト共重合体中に複数存在するX5及びR4はそれぞれ、互いに同じであっても異なっていてもよい。前記グラフト共重合体が、前記一般式1~一般式4で表される構造単位から選択された1種以上の構造単位を、該グラフト共重合体の総質量に対し、10質量~90質量の範囲で含む請求項3に記載のチタンブラック分散組成物。請求項1~請求項4のいずれか1項に記載のチタンブラック分散組成物、D重合性化合物、及びE光重合開始剤を含有し、固体撮像素子用の黒色感放射線性組成物。請求項5に記載の黒色感放射線性組成物を用いて形成した黒色硬化膜。一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板上に請求項6に記載の黒色硬化膜を具備する固体撮像素子。請求項5に記載の黒色感放射線性組成物をシリコン基板上に塗布して黒色感放射線性組成物層を形成する工程と、前記黒色感放射線性組成物層をパターン状に露光する工程と、露光後の前記黒色感放射線性組成物層を現像してパターンを形成する工程と、を有する黒色硬化膜の製造方法。本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、チタンブラックを含み、かつ分散組成物の保存安定性の高い固体撮像素子用のチタンブラック分散組成物を提供することを目的とする。本発明の更なる目的は、パターン形成したときに、パターン上面の荒れが発生せず、平坦性の良好な黒色感放射線性組成物を提供することであり、それを用いて遮光性の高い着色パターンを有する硬化膜、それを用いて高画質の固体撮像素子、硬化膜の製造方法を提供することにある。前記課題を解決するための手段は以下の通りである。<1>Aチタンブラック及びSi原子を含む被分散体、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記A被分散体のBET比表面積が55~84m2/gの範囲であり、且つ、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有質量比Si/Tiが0.20~0.41の範囲であり、固体撮像素子用のチタンブラック分散組成物。<2>前記B分散剤が、水素原子を除いた原子数が40~10000の範囲であるグラフト鎖を有するグラフト共重合体である<1>に記載のチタンブラック分散組成物。<3>前記グラフト共重合体が、下記一般式1~一般式4で表される構造単位から選択された1種以上の構造単位を含む<2>に記載のチタンブラック分散組成物。一般式1~一般式4中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Y1、Y2、Y3、及びY4は、それぞれ独立に2価の連結基を表し、Z1、Z2、Z3、及びZ4は、それぞれ独立に1価の有機基を表す。R3は分岐若しくは直鎖のアルキレン基を表し、R4は水素原子又は1価の有機基を表す。n、m、p、及びqは、それぞれ1から500の整数を表し、j及びkは、それぞれ2~8の整数を表す。式3において、pが2~500のとき、グラフト共重合体中に複数存在するR3は互いに同じであっても異なっていてもよい。式4において、qが2~500のとき、グラフト共重合体中に複数存在するX5及びR4はそれぞれ、互いに同じであっても異なっていてもよい。<4>前記グラフト共重合体が、前記一般式1~一般式4で表される構造単位から選択された1種以上の構造単位を、該グラフト共重合体の総質量に対し、10質量~90質量の範囲で含む<3>に記載のチタンブラック分散組成物。<5><1>~<4>のいずれか1項に記載のチタンブラック分散組成物、D重合性化合物、及びE光重合開始剤を含有し、撮像素子部を有するシリコン基板上に設けられる固体撮像素子用の黒色感放射線性組成物。<6><5>に記載の黒色感放射線性組成物を用いて形成した黒色硬化膜。<7>一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板上に<6>に記載の黒色硬化膜を具備する固体撮像素子。<8><5>に記載の黒色感放射線性組成物をシリコン基板上に塗布して黒色感放射線性組成物層を形成する工程と、前記黒色感放射線性組成物層をパターン状に露光する工程と、露光後の前記黒色感放射線性組成物層を現像してパターンを形成する工程と、を有する黒色硬化膜の製造方法。本発明によれば、チタンブラックを含み、かつ分散組成物の保存安定性の高い固体撮像素子用のチタンブラック分散組成物を提供することができる。また、本発明によれば、パターン形成したときに、パターン上面の荒れが発生せず、平坦性の良好な黒色感放射線性組成物を提供することができ、それを用いて遮光性の高い着色パターンを有する硬化膜、それを用いて高画質の固体撮像素子、硬化膜の製造方法を提供することができる。以下、本発明の固体撮像素子用のチタンブラック分散組成物、それを含有する黒色感放射線性組成物について詳細に説明する。本発明のチタンブラック分散組成物及び黒色感放射線性組成物は、固体撮像素子におけるシリコン基板上に設けられる遮光膜、反射防止膜、固体撮像素子の有効画素領域撮像部の周縁に配置される遮光膜、その他の膜の形成に好適に用いられる。また本発明のチタンブラック分散組成物及び黒色感放射線性組成物は、MEMSMicroElectroMechanicalSystemsと総称される、機械要素部品、センサー、アクチュエータ、電子回路を一つのシリコン基板、ガラス基板、有機材料などの上に集積化したデバイスにおける遮光用途にも用いることができる。特に限定されるものではないが、例えばインクジェットプリンターのヘッド、圧力センサ、加速度センサー、ジャイロスコープ、プロジェクターなどの製品や、他にも例えば圧電アクチュエーターのような光反射ユニットと素子が一体となったものの遮光用途にも使用することができる。固体撮像素子用のチタンブラック分散組成物、及びそれを含有する黒色感放射線性組成物本発明の固体撮像素子用のチタンブラック分散組成物以下、単に分散組成物とも称する。は、Aチタンブラック及びSi原子を含む被分散体以下、適宜被分散体と称する。、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記A被分散体のBET比表面積が55~84m2/gの範囲であり、且つ、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有質量比Si/Tiが0.20~0.41の範囲であることを特徴とする。また、本発明の固体撮像素子用の黒色感放射線性組成物以下、単に感放射線性組成物とも称する。は、本発明のチタンブラック分散組成物、D光重合性化合物、及びE光重合開始剤を含有する黒色感放射線性組成物である。即ち、本発明の感放射線性組成物は、本発明のチタンブラック分散組成物を構成する、Aチタンブラック及びSi原子を含む被分散体、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記A被分散体のBET比表面積が55~84m2/gの範囲であり、且つ該被分散体中のSi原子とTi原子との含有質量比Si/Tiが0.20~0.41の範囲であるものである。以下、本発明のチタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物に含有される各成分について順次説明する。Aチタンブラック及びSi原子を含む被分散体本発明のチタンブラック分散組成物は、Aチタンブラック及びSi原子を含む被分散体を含有する。該被分散体は、分散組成物中において被分散体として含有されるものであり、本発明においては被分散体のBET比表面積が55~84m2/gの範囲であり、且つ、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有質量比Si/Tiが0.20~0.41の範囲であることを要する。ここで、本発明における被分散体は、被分散体が一次粒子の状態であるもの、凝集体二次粒子の状態であるものの双方を包含する。A被分散体の調製方法としては、例えば、酸化チタンとシリカ粒子とを混合し、分散機を用いて分散することにより分散組成物を得て、この分散組成物を高温にて還元処理することにより得ることができる。本発明における被分散体のBET比表面積は、以下のようにして測定した値である。本発明のチタンブラック分散組成物を任意の基板上に塗布し、乾燥して組成物層を設け、得られた組成物層を基板から削り取り、得られた粉体を電気炉にて酸素雰囲気中で600°Cにて3時間処理することにより分散剤等の有機成分を熱分解除去する。カンタクローム社製Autosorb1MPを使用し、得られた粉体0.2gをマントルヒーターにて200°Cで12時間予備乾燥し、雰囲気ガスとしてN2を使用しBET3点法により比表面積を測定する。本発明における被分散体のBET比表面積は、55~84m2/gの範囲であるが、60~84の範囲が好ましい。BET比表面積が、この範囲よりも小さければ粒径が大きすぎることにより分散液の経時安定性が悪化し,大きければ分散困難となる。また、本発明における被分散体中のSi原子とTi原子との含有質量比Si/Tiは、0.20~0.41の範囲であるが、0.20~0.35の範囲であることが好ましい。この範囲であると、被分散体を使用したチタンブラック分散組成物の製造が容易であり、分散安定性が向上し、また感放射線性組成物にしてフォトリソ法で遮光膜を形成した時に、しかも得られたパターンの表面荒れがなく平坦性が良好となり、高い遮光能が得られる。被分散体のBET比表面積を55~84m2/gの範囲とし、且つ、かつ被分散体のSi/Tiを0.20~0.41m2/gの範囲とするためには、以下のような手段を用いることができる。例えば、前記した酸化チタンとシリカ粒子との混合物を、分散することにより分散組成物を得て、この分散組成物を高温にて還元処理することにより目的の被分散体を得る方法においては、酸化チタンとシリカ粒子との混合比を変更すことにより得ることができる。例えば、特開2008-266045公報の段落番号00056及び同段落番号0016~0021に記載の方法に類似の方法により目的の被分散体を作製することができる。被分散体の形態としては、チタンブラック粒子の外側にシリカ粒子が吸着した形態、チタンブラック粒子の外側にシリカ粒子が融着した形態などが挙げられ、チタンブラック粒子の表面が完全に覆い尽くされたような形態、一部が覆われた形態、あるいはチタンブラック粒子の孔にシリカ粒子が入り込んだような形態などが挙げられる。また、本発明の感放射線性組成物は、本発明のチタンブラック分散組成物に由来する被分散体を含有する。該黒色感放射線性組成物及びこれを硬化して得られた硬化膜遮光膜中に含有される被分散体についても、その被分散体のBET比表面積は55~84m2/gの範囲であり、また、被分散体中のSi原子とTi原子との含有比Si/Tiが0.20~0.41の範囲であり、その好ましい範囲についても、上述と同様である。本発明においては、被分散体のBET比表面積が55~84m2/gの範囲であり、且つSi原子とTi原子との含有質量比Si/Tiが0.20~0.41の範囲であることで、この被分散体を含む本発明の感放射線性組成物の保存安定性が良好であり、該感放射線性組成物を用いて遮光膜を形成した際に、遮光膜の形成領域外における感放射線性組成物由来のパターンの表面荒れがなく平坦性が良好である。なお、残渣物は、被分散体、樹脂成分等の黒色感放射線性組成物に由来する成分を含むものである。パターンの表面荒れがなく、平坦性が良好である理由は未だ明確ではないが、上記のような被分散体は小粒径となる傾向があり例えば、粒径が30nm以下、更に、この被分散体のSi原子が含まれる成分が増すことにより、被分散体と分散剤との相互作用が大きくなり、パターン成形した上面の現像液耐性が向上することによってパターン上面の表面荒れが低減するものと推測している。また、チタンブラックは、紫外から赤外までの広範囲に亘る波長領域の光に対する遮光性に優れることから、本発明のチタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物を用いて形成された遮光膜は優れた遮光性を発揮する。本発明のチタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物に含有される被分散体について、BET比表面積を55~84m2/gの範囲か否かを判断するには、前記した比表面積の測定方法を使用し、得られた比表面積が55~84m2/gの範囲か否かで判断すればよい。また被分散体中のSi原子とTi原子との含有質量比Si/Tiが0.20~0.41の範囲であるか否かを判断するには、下記に示す方法1-1又は方法1-2を用いる。方法1-1チタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物を、酸素雰囲気中で加熱処理し、Aチタンブラック及びSi原子を含む被分散体を取り出した。チタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物を、20mg秤量し、ここに、HF0.1mL、HNO310aq.1mL、H2SO45aq.1mL、及びHCL3aq.1mLを添加し、マイクロウェーブ溶解を液温180°Cで行う。その後、この混合液に、H2Oを100mLになるまで加え、これをICP-OESAttom商品名、SII社製に供し、元素分析を行う。得られた結果より、Si/Tiの質量比を算出する。方法1-2チタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物を、小型ロータリーキルン株式会社モトヤマ製を用いて酸素雰囲気中で700°Cに加熱し、30分間保持した後に冷却し、粉体を2g得て、得られた粉体を厚さ0.2mmのタングステン板上にのせ、これを、電子線加熱機構を具備した真空チャンバ内に設置し、真空度を10-5Torr以下として電子線加熱により1000°Cで30秒加熱処理する。加熱処理した粉体について、電界放出型走査電子顕微鏡S-4800商品名、日立ハイテクノロジーズ社製及び、エネルギー分散型蛍光X線検出器INCAEnergyPentaFETx3商品名、Oxford社製を用いて、Si原子量、Ti原子量を求め、Si/Ti比を算出する。また、本発明の感放射線性組成物を硬化して得られた硬化膜遮光膜に含有される被分散体について、その被分散体中のSi原子とTi原子との含有質量比Si/Tiが0.20~0.41であるか否かを判断するには、下記に示す方法2を用いる。方法2遮光膜が形成された基板を割ることで、遮光膜の断面を作製し、この断面についてエネルギー分散型蛍光X線分析装置により、遮光膜表面におけるSi原子量とTi原子量を得ることができる。これらの量比を、遮光膜中のSi/Tiとして評価する。この際のエネルギー分散型蛍光X線分析としては、前記の走査型電子顕微鏡として日立ハイテクノロジーズ社製S-4800商品名、及び、エネルギー分散型蛍光X線検出器としてOxford社製INCAEnergyPentaFETx3商品名を同様に用いることができる。以下、チタンブラックについて、更に詳細に説明する。本発明においてチタンブラックとは、チタン原子を有する黒色粒子であり、好ましくは低次酸化チタンや酸窒化チタン等の黒色粒子である。チタンブラックは、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、粒子表面を修飾することが可能である。粒子表面の修飾としては、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム等で被覆処理が可能であり、また、特開2007-302836号公報に示されるような撥水性物質での処理も可能である。先に述べたSi/Ti比はケイ素を含む物質を用いた表面処理により変動する場合もあるが、ケイ素化合物を用いた表面処理において検出されるSi量は極微量であり、無視することができる。チタンブラック粒子の市販品の例としては、チタンブラック10S、12S、13R、13M、13M-C、13R、13R-N、13M-T商品名:以上、三菱マテリアル株製、ティラックTilackD商品名:赤穂化成株製、MT-01、MT-10EX、MT-05、MT-100TV、MT-100Z、MT-150EX、MT-150W商品名:テイカ製などが挙げられる。チタンブラックの製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法特開昭49-5432号公報に記載の方法、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを、水素を含む還元雰囲気中で還元する方法特開昭57-205322号公報に記載の方法、二酸化チタン又は水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法特開昭60-65069号公報、特開昭61-201610号公報に記載の方法、二酸化チタン又は水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法特開昭61-201610号公報に記載の方法などがあるが、これらに限定されるものではない。本発明に適用されるチタンブラックとしては、個々の粒子の一次粒径及び平均一次粒径のいずれもが小さいものであることが好ましい。本発明のチタンブラック分散組成物及び感放射線性組成物は、被分散体を1種のみを含有するものであってもよく、2種以上を含有してもよい。また、本発明の効果を損なわない限りにおいて、被分散体と共に、分散性、着色性等を調整する目的で、Cu、Fe、Mn、V、Ni等の複合酸化物、酸化コバルト、酸化鉄、カーボンブラック、アニリンブラック等からなる黒色顔料を、1種又は2種以上を組み合わせて、被分散体として併用してもよい。この場合、全黒色顔料の50質量以上を被分散体本発明における被分散体Aが占めることが好ましい。また、後述するように、遮光性の調整等を目的として、本発明の効果を損なわない限りにおいて、被分散体と共に、他の着色剤有機顔料や染料などを所望により併用してもよい。チタンブラック分散組成物中の被分散体の含有量は、分散組成物の全固形分に対し、5質量~60質量であることが好ましく、10質量~50質量であることが更に好ましい。また、感放射線性組成物中の被分散体の含有量は、感放射線性組成物の全固形分に対し、2.5質量~30質量であることが好ましく、5質量~20質量であることが更に好ましい。ここで分散組成物中の全固形分、及び感放射線性組成物中の全固形分とは、それぞれ分散物または感放射線性組成物の全質量から有機溶媒を除いた質量のことをいう。本発明においては、被分散体中のSi原子とTi原子との質量換算による含有比Si/Tiが質量換算で0.20~0.41の範囲であることを要する。以下、被分散体にSi原子を導入する際に用いられる材料について述べる。被分散体にSi原子を導入する際には、シリカなどのSi含有物質を用いればよい。本発明に用いうるシリカとしては、沈降シリカ、フュームドシリカ、コロイダルシリカ、合成シリカなどを挙げることができ、これらを適宜選択して使用すればよい。シリカは市販品としても入手可能であり、例えば、新日鉄マテリアルズ製、HS-101、HS-102、HS-103、HS-104、HS-105、HS-106、HS-107、HS-201、HS-202、HS-203、HS-204、HS-205、HS-301、HS-302、HS-303、HS-304、HS-305商品名;宇部日東化成製、ハイプレシカSS、ハイプレシカTS、ハイプレシカBS、ハイプレシカSP、ハイプレシカFQ商品名;キャボット製、CAB-O-SIL登録商標LM-150、CAB-O-SIL登録商標S-17Dなどを用いることができる。さらに、シリカ粒子の粒径が本発明による遮光膜を形成した際に膜厚と同程度の粒径であると遮光性の低下を引き起こすため、シリカ粒子として微粒子タイプのシリカを用いることが好ましい。微粒子タイプのシリカの例としては、例えば、AEROSIL登録商標90、AEROSIL登録商標130、AEROSIL登録商標150、AEROSIL登録商標200、AEROSIL登録商標300、AEROSIL登録商標380、AEROSIL登録商標OX50、AEROSIL登録商標EG50、AEROSIL登録商標TT600、AEROSIL登録商標200SP、AEROSIL登録商標300SP、AEROPERL登録商標300/30、AEROSIL登録商標R972、AEROSIL登録商標R974、AEROSIL登録商標R104、AEROSIL登録商標R106、AEROSIL登録商標R202、AEROSIL登録商標R805、AEROSIL登録商標R812、AEROSIL登録商標R812S、AEROSIL登録商標R816、AEROSIL登録商標R7200、AEROSIL登録商標R8200、AEROSIL登録商標R9200、AEROSIL登録商標MOX80、AEROSIL登録商標MOX170、AEROSIL登録商標COK84、AEROSIL登録商標RY50、AEROSIL登録商標NY50、AEROSIL登録商標RY200、AEROSIL登録商標RX50、AEROSIL登録商標NAX50、AEROSIL登録商標RX200、AEROSIL登録商標RX300、AEROSIL登録商標R504、AEROPERL登録商標300/30、VPAEROPERL登録商標P25/20M05;触媒化成製S6、MA1004商品名、以下同様、MA1006、MA1010、MA1013、MX030W、MX050W、MX100W、KE-E30、KE-E40、KE-E50、KE-E70、KE-E150、KE-P10、KE-P30、KE-P50、KE-P100、KE-P150、KE-P250;新日鉄マテリアルズ製HS-101商品名、以下同様、HS-102、HS-103、HS-104、HS-105、HS-106、HS-107、HS-201、HS-202、HS-203、HS-204、HS-205、HS-301、HS-302、HS-303、HS-304、及びHS-305;宇部日東化成製、ハイプレシカSS商品名、以下同様、ハイプレシカTS、ハイプレシカBS、ハイプレシカSP、及びハイプレシカFQ;キャボット製、CAB-O-SIL登録商標、以下同様LM-150、及びCAB-O-SILS-17Dなどを用いることができるがこれらに限定されない。B分散剤本発明のチタンブラック分散組成物及び感放射線性組成物はB分散剤を含有する。本発明におけるB分散剤としては、高分子分散剤例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリメタアクリレート、メタアクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、及び顔料誘導体等を挙げることができる。本発明におけるB分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、及びブロック型高分子に分類することができる。本発明におけるB分散剤は、A被分散体及び所望により併用する顔料等の被分散体の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。一方で、本発明におけるB分散剤は被分散体の表面を改質することで、分散樹脂の吸着を促進させる効果を有する。本発明に用いうるB分散剤の具体例としては、BYKChemie社製Disperbyk-101商品名、ポリアミドアミン燐酸塩、107商品名、カルボン酸エステル、110商品名、酸基を含む共重合物、130商品名、ポリアミド、161、162、163、164、165、166、170、180、190商品名、高分子共重合物、BYK-P104、P105商品名、高分子量不飽和ポリカルボン酸、EFKA社製EFKA4047、4050、4010、4165商品名、ポリウレタン系、EFKA4330、4340商品名、ブロック共重合体、4400、4402商品名、変性ポリアクリレート、5010ポリエステルアミド、5765商品名、高分子量ポリカルボン酸塩、6220商品名、脂肪酸ポリエステル、6745商品名、フタロシアニン誘導体、6750商品名、アゾ顔料誘導体、味の素ファインテクノ株製アジスパーPB821、PB822、共栄社化学株製フローレンTG-710ウレタンオリゴマー、ポリフローNo.50E、No.300商品名、アクリル系共重合体、楠本化成株製ディスパロンKS-860、873SN、874、2150商品名、脂肪族多価カルボン酸、7004ポリエーテルエステル、DA-703-50、DA-705、DA-725、花王株製デモールRN、N商品名、ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物、デモールMS、C、SN-B商品名、芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物、ホモゲノールL-18商品名、高分子ポリカルボン酸、エマルゲン920、930、935、985商品名、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、アセタミン86ステアリルアミンアセテート、ルーブリゾール社製ソルスパース5000フタロシアニン誘導体、22000商品名、アゾ顔料誘導体、13240ポリエステルアミン、3000、17000、27000商品名、末端部に機能部を有する高分子、24000、28000、32000、38500グラフト型高分子、日光ケミカル社製ニッコールT106ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、MYS-IEX商品名、ポリオキシエチレンモノステアレート等が挙げられる。また、川研ファインケミカル株製ヒノアクトT-8000Eなどの両性分散剤も挙げられる。これらのB分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。B分散剤の酸価は、10.0mgKOH/g以上200mgKOH/g以下の範囲であることが好ましく、より好ましくは20mgKOH/g以上150mgKOH/g以下の範囲であり、更に好ましくは40mgKOH/g以上150mgKOH/g以下の範囲である。B分散剤の酸価が200mgKOH/g以下であれば、遮光膜を形成する際の現像時におけるパターン剥離がより効果的に抑えられる。また、B分散剤の酸価が10.0mgKOH/g以上であればアルカリ現像性がより良好となる。また、B分散剤の酸価が60mgKOH/g以上であれば、Aチタンブラック及びSi原子を含む被分散体の沈降をより抑制でき、粗大粒子数をより少なくすることができ、チタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物の経時安定性をより向上できる。本発明において、B分散剤の酸価は、例えば、分散剤中における酸基の平均含有量から算出することができる。また、B分散剤の構成成分として含まれうる酸基を含有するモノマー単位の含有量を変化させることで所望の酸価を有する樹脂を得ることができる。本発明におけるB分散剤の重量平均分子量は、遮光膜を形成する際において、現像時のパターン剥離抑制と現像性の観点から、10,000以上300,000以下であることが好ましく、15,000以上200,000以下であることがより好ましく、20,000以上100,000以下であることが更に好ましく、25,000以上50,000以下であることが特に好ましい。なお、B分散剤の重量平均分子量は、例えば、GPCによって測定することができる。グラフト共重合体:特定樹脂A本発明においては、B分散剤として、グラフト共重合体以下、特定樹脂Aともいうを用いることも好ましい。B分散剤としてグラフト共重合体を用いることで、分散性及び保存安定性をより向上させることができる。グラフト共重合体としては、水素原子を除いた原子数が40~10000の範囲であるグラフト鎖を有するものが好ましい。この場合のグラフト鎖とは、共重合体の主鎖の根元から、主鎖から枝分かれしている基の末端までを示す。この特定樹脂Aは、被分散体に分散性を付与しうる分散樹脂であり、優れた分散性と、グラフト鎖による溶媒との親和性を有するために、被分散体の分散性、及び経時後の分散安定性に優れる。また、感放射線性組成物としたとき、グラフト鎖の存在により重合性化合物又はその他の併用可能な樹脂などとの親和性を有するので、アルカリ現像で残渣を生じにくくなる。また、この特定樹脂Aに、更に、カルボン酸基などのアルカリ可溶性の部分構造を導入することで、アルカリ現像によるパターン形成のために現像性を付与する樹脂としての機能をも付与することができる。従って、前記グラフト共重合体に、アルカリ可溶性の部分構造を導入することで、本発明のチタンブラック分散組成物は、被分散体の分散に不可欠の分散樹脂自体がアルカリ可溶性を有することになる。このようなチタンブラック分散組成物を含有する感放射線性組成物は、露光部の遮光性に優れたものとなり、且つ、未露光部のアルカリ現像性が向上される。グラフト鎖が長くなると立体反発効果が高くなり分散性は向上するが、一方グラフト鎖が長すぎると被分散体への吸着力が低下して分散性は低下してしまう。このため、本発明で使用されるグラフト共重合体としては、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が40~10000であることが好ましく、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が50~2000であることがより好ましく、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が60~500であることが更に好ましい。グラフト鎖のポリマー構造の例としては、ポリメタアクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエーテルなどが挙げられる。グラフト鎖としては、グラフト部位と溶媒との相互作用性を向上させ、それにより分散性を高めるために、ポリメタアクリル、ポリエステル、又はポリエーテルを有するグラフト鎖であることが好ましく、ポリエステル又はポリエーテルを有するグラフト鎖であることがより好ましい。このようなポリマー構造をグラフト鎖として有するマクロモノマーの構造としては、ポリマー主鎖部と反応可能な置換基を有し、且つ本発明の要件を満たしていれば、特に限定されないが、好ましくは、反応性二重結合性基を有するマクロモノマーを好適に使用することができる。特定樹脂Aの合成に好適に用いられる市販のマクロモノマーとしては、AA-6商品名、、AA-10、AB-6、AS-6、AN-6、AW-6、AA-714、AY-707、AY-714、AK-5、AK-30、AK-32、ブレンマーPP-100商品名、日油株製、ブレンマーPP-500商品名、日油株製、ブレンマーPP-800商品名、日油株製、ブレンマーPP-1000商品名、日油株製、ブレンマー55-PET-800日油株製、ブレンマーPME-4000商品名、日油株製、ブレンマーPSE-400商品名、日油株製、ブレンマーPSE-1300商品名、日油株製、ブレンマー43PAPE-600B商品名、日油株製、などが用いられる。このなかでも、好ましくは、AA-6、AA-10、AB-6、AS-6商品名、東亜合成株、AN-6、ブレンマーPME-4000商品名、日油株製などが用いられる。特定樹脂Aグラフト共重合体としては、下記一般式1~4で表される構造単位から選択された1種以上の構造単位を含むグラフト共重合体を使用してもよい。式1~式4において、W1、W2、W3及びW4はそれぞれ独立に酸素原子或いはNHを表し、特に酸素原子が好ましい。式1~式4において、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基を表す。X1、X2、X3、X4、及びX5としては、合成上の制約の観点からは、好ましくはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1から12のアルキル基であり、それぞれ独立に水素原子又はメチル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。式1~式4において、Y1、Y2、Y3、及びY4は、それぞれ独立に、2価の連結基を表し、該連結基は特に構造上制約されない。Y1、Y2、Y3、又はY4で表される2価の連結基として、具体的には、下記のY-1~Y-21の連結基などが例として挙げられる。下記に示した構造において、A、Bはそれぞれ、式1~式4における左末端基及び右末端基との結合部位を意味する。すなわち、Y-1~Y-21において、Aは式1~4におけるY1とX1を含む基との結合、Y2とX2を含む基との結合、Y3とX3を含む基との結合、及びY4とX4を含む基との結合をそれぞれ示し、Bは式1~式4におけるY1~Y4と、Z1~Z4と直接結合している基との結合をそれぞれ示す。下記に示した構造のうち、合成の簡便性から、ブタン式II、135トリス135トリアジアン246トリオン式III、及びペンタエリスリトールテトラキス式IV等が挙げられる。これらの多官能チオールは1種または複数組み合わせて使用することが可能である。これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、感放射線性組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、感度の観点では、1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合は2官能以上が好ましい。また、感放射線性組成物膜の強度を高める観点では、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能基数異なる重合性基例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。さらに、3官能以上のものでエチレンオキサイド鎖長の異なる重合性化合物を併用することが、感放射線性組成物の現像性を調節することができ、優れたパターン形成能が得られるという点で好ましい。また、感放射線性組成物に含有される他の成分例えば、光重合開始剤、被分散体、アルカリ可溶性樹脂等との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体などの硬質表面との密着性を向上させる観点で特定の構造を選択することもあり得る。本発明の感放射線性組成物中における重合性化合物の含有量は、感放射線性組成物中の固形分に対して0.1質量~70質量が好ましく、1.0質量~50質量がさらに好ましく、2.0質量~40質量が特に好ましい。E光重合開始剤本発明の感放射線性組成物は、E光重合開始剤を含有する。本発明におけるE光重合開始剤以下、単に重合開始剤ということがある。としては、以下に述べる光重合開始剤として知られているものを用いることができる。本発明における光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。また、光重合開始剤は、約300nm~800nm330nm~500nmがより好ましい。の範囲内に少なくとも約50の分子吸光係数を有する化合物を、少なくとも1種含有していることが好ましい。本発明におけるE光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。これらの中でも、オキシム化合物が好ましい。前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Bull.Chem.Soc.Japan,42、29241969記載の化合物、英国特許1388492号明細書記載の化合物、特開昭53-133428号公報記載の化合物、独国特許3337024号明細書記載の化合物、F.C.SchaeferなどによるJ.Org.Chem.;29、15271964記載の化合物、特開昭62-58241号公報記載の化合物、特開平5-281728号公報記載の化合物、特開平5-34920号公報記載化合物、米国特許第4212976号明細書に記載されている化合物、などが挙げられる。前記米国特許第4212976号明細書に記載されている化合物としては、例えば、オキサジアゾール骨格を有する化合物例えば、2-トリクロロメチル-5-フェニル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-クロロフェニル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-1-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-2-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリブロモメチル-5-フェニル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリブロモメチル-5-2-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール;2-トリクロロメチル-5-スチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-クロルスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-メトキシスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-1-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-n-ブトキシスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリブロモメチル-5-スチリル-1,3,4-オキサジアゾールなどなどが挙げられる。また、上記以外の重合開始剤として、アクリジン誘導体例えば、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス9,9’-アクリジニルヘプタンなど、N-フェニルグリシンなど、ポリハロゲン化合物例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトンなど、クマリン類例えば、3-2-ベンゾフラノイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-2-ベンゾフロイル-7-1-ピロリジニルクマリン、3-ベンゾイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-2-メトキシベンゾイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-4-ジメチルアミノベンゾイル-7-ジエチルアミノクマリン、3,3’-カルボニルビス5,7-ジ-n-プロポキシクマリン、3,3’-カルボニルビス7-ジエチルアミノクマリン、3-ベンゾイル-7-メトキシクマリン、3-2-フロイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-4-ジエチルアミノシンナモイル-7-ジエチルアミノクマリン、7-メトキシ-3-3-ピリジルカルボニルクマリン、3-ベンゾイル-5,7-ジプロポキシクマリン、7-ベンゾトリアゾール-2-イルクマリン、また、特開平5-19475号公報、特開平7-271028号公報、特開2002-363206号公報、特開2002-363207号公報、特開2002-363208号公報、特開2002-363209号公報などに記載のクマリン化合物など、アシルホスフィンオキサイド類例えば、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチル-ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、LucirinTPOBASF社製など、メタロセン類例えば、ビスη5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル-ビス2,6-ジフロロ-3-1H-ピロール-1-イル-フェニルチタニウム、η5-シクロペンタジエニル-η6-クメニル-アイアン1-ヘキサフロロホスフェート1-など、特開昭53-133428号公報、特公昭57-1819号公報、同57-6096号公報、及び米国特許第3615455号明細書に記載された化合物、2,2-ビス2-クロロフェニル-454’5’-テトラフェニル-12’-ビイミダゾール、3-シクロヘキシル-2-シクロヘキシルイミノ-5-メチレン-12-オキサゾリジン-4-オン、13-ジヒドロ-1-フェニル-2H-ベンズイミダゾール-2-チオンなどが挙げられる。前記ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、2-メチルベンゾフェノン、3-メチルベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、4-メトキシベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4-ブロモベンゾフェノン、2-カルボキシベンゾフェノン、2-エトキシカルボニルベンゾフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、4,4’-ビスジアルキルアミノベンゾフェノン類例えば、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジシクロヘキシルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジヒドロキシエチルアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4-ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、2-t-ブチルアントラキノン、2-メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、2-クロル-チオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、フルオレノン、2-ベンジル-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-1-ブタノン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルホリノ-1-プロパノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-4-1-メチルビニルフェニルプロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール、アクリドン、クロロアクリドン、N-メチルアクリドン、N-ブチルアクリドン、N-ブチル-クロロアクリドンなどが挙げられる。重合開始剤としては、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アミノアセトフェノン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。より具体的には、例えば、特開平10-291969号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第4225898号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤も用いることができる。ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては、IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959,IRGACURE-127商品名:いずれもBASF社製を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるIRGACURE-907、IRGACURE-369、及び、IRGACURE-379商品名:いずれもBASF社製を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤として、365nmまたは405nm等の波長光源に吸収波長がマッチングされた特開2009-191179公報に記載の化合物も用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるIRGACURE-819やDAROCUR-TPO商品名:いずれもBASF社製を用いることができる。重合開始剤として、より好ましくはオキシム化合物が挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、特開2001-233842号記載の化合物、特開2000-80068号記載の化合物、特開2006-342166号記載の化合物を用いることができる。本発明で重合開始剤として好適に用いられるオキシム誘導体等のオキシム化合物としては、例えば、3-ベンゾイロキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイロキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-4-トルエンスルホニルオキシイミノブタン-2-オン、及び2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オンなどが挙げられる。オキシム化合物としては、J.C.S.PerkinII1979年pp.1653-1660、J.C.S.PerkinII1979年pp156-162、JournalofPhotopolymerScienceandTechnology1995年pp.202-232、特開2000-66385号公報記載の化合物、特開2000-80068号公報、特表2004-534797号公報、特開2006-342166号公報の各公報に記載の化合物等が挙げられる。市販品ではIRGACUREOXE-01BASF社製、IRGACUREOXE-02BASF社製も好適に用いられる。また上記記載以外のオキシム化合物として、カルバゾールN位にオキシムが連結した特表2009-519904号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許7626957号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開2010-15025号公報および米国特許公開2009-292039号記載の化合物、国際公開特許2009-131189号公報に記載のケトオキシム系化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許7556910号公報に記載の化合物、405nmに吸収極大を有しg線光源に対して良好な感度を有する特開2009-221114号公報記載の化合物などを用いてもよい。好ましくはさらに、特開2007-231000号公報、及び、特開2007-322744号公報に記載される環状オキシム化合物も好適に用いることができる。環状オキシム化合物の中でも、特に特開2010-32985号公報、特開2010-185072号公報に記載されるカルバゾール色素に縮環した環状オキシム化合物は、高い光吸収性を有し高感度化の観点から好ましい。また、オキシム化合物の特定部位に不飽和結合を有する特開2009-242469号公報に記載の化合物も、重合不活性ラジカルから活性ラジカルを再生することで高感度化を達成でき好適に使用することができる。最も好ましくは、特開2007-269779号公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開2009-191061号公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。具体的には、オキシム化合物としては、下記式OX-1で表される化合物が好ましい。なお、オキシムのN-O結合がE体のオキシム化合物であっても、Z体のオキシム化合物であっても、E体とZ体との混合物であってもよい。式OX-1中、R及びBは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表す。前記式OX-1中、Rで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。前記一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、1以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基を有していてもよいアルキル基としては、炭素数1~30のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、1-エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、2-エチルヘキシル基、フェナシル基、1-ナフトイルメチル基、2-ナフトイルメチル基、4-メチルスルファニルフェナシル基、4-フェニルスルファニルフェナシル基、4-ジメチルアミノフェナシル基、4-シアノフェナシル基、4-メチルフェナシル基、2-メチルフェナシル基、3-フルオロフェナシル基、3-トリフルオロメチルフェナシル基、及び、3-ニトロフェナシル基が例示できる。置換基を有していてもよいアリール基としては、炭素数6~30のアリール基が好ましく、具体的には、フェニル基、ビフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、9-アンスリル基、9-フェナントリル基、1-ピレニル基、5-ナフタセニル基、1-インデニル基、2-アズレニル基、9-フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、キシリル基、o-クメニル基、m-クメニル基及びp-クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、並びに、オバレニル基が例示できる。置換基を有していてもよいアシル基としては、炭素数2~20のアシル基が好ましく、具体的には、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、1-ナフトイル基、2-ナフトイル基、4-メチルスルファニルベンゾイル基、4-フェニルスルファニルベンゾイル基、4-ジメチルアミノベンゾイル基、4-ジエチルアミノベンゾイル基、2-クロロベンゾイル基、2-メチルベンゾイル基、2-メトキシベンゾイル基、2-ブトキシベンゾイル基、3-クロロベンゾイル基、3-トリフルオロメチルベンゾイル基、3-シアノベンゾイル基、3-ニトロベンゾイル基、4-フルオロベンゾイル基、4-シアノベンゾイル基、及び、4-メトキシベンゾイル基が例示できる。置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数2~20のアルコキシカルボニル基が好ましく、具体的には、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、及び、トリフルオロメチルオキシカルボニル基が例示できる。置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基として具体的には、フェノキシカルボニル基、1-ナフチルオキシカルボニル基、2-ナフチルオキシカルボニル基、4-メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4-フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4-ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4-ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2-クロロフェニルオキシカルボニル基、2-メチルフェニルオキシカルボニル基、2-メトキシフェニルオキシカルボニル基、2-ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3-クロロフェニルオキシカルボニル基、3-トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3-シアノフェニルオキシカルボニル基、3-ニトロフェニルオキシカルボニル基、4-フルオロフェニルオキシカルボニル基、4-シアノフェニルオキシカルボニル基、及び、4-メトキシフェニルオキシカルボニル基が例示できる。置換基を有していてもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子若しくはリン原子を含む、芳香族又は脂肪族の複素環基が好ましい。具体的には、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3-b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H-ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H-インドリル基、インドリル基、1H-インダゾリル基、プリニル基、4H-キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH-カルバゾリル基、カルバゾリル基、β-カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、及び、チオキサントリル基が例示できる。置換基を有していてもよいアルキルチオカルボニル基として具体的には、メチルチオカルボニル基、プロピルチオカルボニル基、ブチルチオカルボニル基、ヘキシルチオカルボニル基、オクチルチオカルボニル基、デシルチオカルボニル基、オクタデシルチオカルボニル基、及び、トリフルオロメチルチオカルボニル基が例示できる。置換基を有していてもよいアリールチオカルボニル基として具体的には、1-ナフチルチオカルボニル基、2-ナフチルチオカルボニル基、4-メチルスルファニルフェニルチオカルボニル基、4-フェニルスルファニルフェニルチオカルボニル基、4-ジメチルアミノフェニルチオカルボニル基、4-ジエチルアミノフェニルチオカルボニル基、2-クロロフェニルチオカルボニル基、2-メチルフェニルチオカルボニル基、2-メトキシフェニルチオカルボニル基、2-ブトキシフェニルチオカルボニル基、3-クロロフェニルチオカルボニル基、3-トリフルオロメチルフェニルチオカルボニル基、3-シアノフェニルチオカルボニル基、3-ニトロフェニルチオカルボニル基、4-フルオロフェニルチオカルボニル基、4-シアノフェニルチオカルボニル基、及び、4-メトキシフェニルチオカルボニル基が挙げられる。前記式OX-1中、Bで表される一価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基を表す。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基すなわち、式OX-1中のRで表される一価の非金属原子団が有し得る置換基が例示できる。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。なかでも、特に好ましくは以下に示す構造である。下記の構造中、Y、X、及びnは、後述する式OX-2におけるY、X、及びnとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。前記式OX-1中、Aで表される二価の有機基としては、炭素数1~12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基が挙げられる。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できるすなわち、式OX-1中のRで表される一価の非金属原子団が有し得る置換基。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。中でも、式OX-1におけるAとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、tert-ブチル基、ドデシル基で置換されたアルキレン基、アルケニル基例えば、ビニル基、アリル基で置換されたアルキレン基、アリール基例えば、フェニル基、p-トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基で置換されたアルキレン基が好ましい。前記式OX-1中、Arで表されるアリール基としては、炭素数6~30のアリール基が好ましく、また、置換基を有していてもよい。置換基としては、先に置換基を有していてもよいアリール基の具体例として挙げた置換アリール基に導入された置換基と同様のものが例示できる。なかでも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。式OX-1においては、前記式OX-1中のArとそれに隣接するSとで形成されるSArの構造が、以下に示す構造であることが感度の点で好ましい。なお、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表す。オキシム化合物は、下記式OX-2で表される化合物であることが好ましい。式OX-2中、R及びXは各々独立に一価の置換基を表し、A及びYは各々独立に二価の有機基を表し、Arはアリール基を表し、nは0~5の整数である。式OX-2におけるR、A、及びArは、前記式OX-1におけるR、A、及びArと同義であり、好ましい例も同様である。前記式OX-2中、Xで表される一価の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、複素環基、ハロゲン原子が挙げられる。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できるすなわち、式OX-1中のRで表される一価の非金属原子団が有し得る置換基。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。これらの中でも、式OX-2におけるXとしては、溶剤溶解性と長波長領域の吸収効率向上の点から、アルキル基が好ましい。また、式OX-2におけるnは、0~5の整数を表し、0~2の整数が好ましい。前記式OX-2中、Yで表される二価の有機基としては、以下に示す構造が挙げられる。なお、以下に示される基において、は、前記式OX-2において、Yと隣接する炭素原子との結合位置を示す。中でも、高感度化の観点から、下記に示す構造が好ましい。さらにオキシム化合物は、下記式OX-3で表される化合物であることが好ましい。式OX-3中、R及びXは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表し、nは0~5の整数である。式OX-3におけるR、X、A、Ar、及び、nは、前記式OX-2におけるR、X、A、Ar、及び、nとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。以下、好適に用いられるオキシム化合物の具体例C-4~C-14を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。オキシム化合物は、350nm~500nmの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、360nm~480nmの波長領域に吸収波長を有するものであることが好ましく、365nm及び455nmの吸光度が高いものが特に好ましい。オキシム化合物は、365nm又は405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、1000~300,000であることが好ましく、2000~300,000であることがより好ましく、5000~200,000であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計Varian社製Carry-5spectrophotometerにて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。本発明に用いられる重合開始剤は、必要に応じて2種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明の感放射線性組成物に用いられるE重合開始剤としては、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン-ベンゼン-鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、3-アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。さらに好ましくは、トリハロメチルトリアジン化合物、α-アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物であり、トリハロメチルトリアジン化合物、α-アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が最も好ましい。特に、本発明の感放射線性組成物を固体撮像素子の遮光膜の作製に使用する場合には、微細なパターンをシャープな形状で形成する必要があるために、硬化性とともに未露光部に残渣がなく現像されることが重要である。このような観点からは、重合開始剤としてはオキシム化合物を使用することが特に好ましい。特に、固体撮像素子において微細なパターンを形成する場合、硬化用露光にステッパー露光機を用いるが、この露光機はハロゲンにより損傷される場合があり、重合開始剤の添加量も低く抑える必要があるため、これらの点を考慮すれば、固体撮像素子の如き微細パターンを形成するにはE重合開始剤としては、オキシム化合物を用いるのが最も好ましい。本発明の感放射線性組成物に含有されるE重合開始剤の含有量は、感放射線性組成物の全固形分に対し0.1質量以上50質量以下であることが好ましく、より好ましくは0.5質量以上20質量以下、更に好ましくは1質量以上15質量以下である。この範囲で、良好な感度とパターン形成性が得られる。Fその他の添加剤本発明の感放射線性組成物には、本発明のチタンブラック分散組成物、D光重合性化合物、及びE光重合開始剤に加え、目的に応じて、種々の添加剤を使用することができる。F-1アルカリ可溶性樹脂本発明の感放射線性組成物は、さらにF-1アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。アルカリ可溶性樹脂を含有することにより、現像性パターン形成性が向上する。アルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。耐熱性の観点からは、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点からは、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。アルカリ可溶性を促進する基以下、酸基ともいうとしては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基などが挙げられるが、アルカリ可溶性樹脂は有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、メタアクリル酸が特に好ましいものとして挙げられる。これら酸基は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。前記重合後に酸基を付与しうるモノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート等の水酸基を有するモノマー、グリシジルメタアクリレート等のエポキシ基を有するモノマー、2-イソシアナートエチルメタアクリレート等のイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。これら酸基を導入するための単量体は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。アルカリ可溶性バインダーに酸基を導入するには、例えば、酸基を有するモノマーおよび/または重合後に酸基を付与しうるモノマー以下酸基を導入するための単量体と称することもある。を、単量体成分として重合するようにすればよい。なお、重合後に酸基を付与しうるモノマーを単量体成分として酸基を導入する場合には、重合後に例えば後述するような酸基を付与するための処理が必要となる。アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば、公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めるようにすることもできる。アルカリ可溶性樹脂として用いられる線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの挙げられる。特に、メタアクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。メタアクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、アルキルメタアクリレート、アリールメタアクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキルメタアクリレート及びアリールメタアクリレートとしては、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、トリルメタアクリレート、ナフチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、αメチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Nビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等、特開平10-300922号公報に記載のN位置換マレイミドモノマーとして、N―フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド等を挙げることができる。なお、これらのメタアクリル酸と共重合可能な他の単量体は1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。アルカリ可溶性樹脂としては、下記一般式EDで示される化合物以下、エーテルダイマーと称することもある。を必須とする単量体成分を重合してなるポリマーaを、必須成分であるポリマー成分Aとして含むことも好ましい。これにより、本発明の感放射線性組成物は、耐熱性とともに透明性にも極めて優れた硬化塗膜を形成しうる。式ED中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1~25の炭化水素基を表す。前記エーテルダイマーを示す前記一般式ED中、R1およびR2で表される置換基を有していてもよい炭素数1~25の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、t-ブチル、t-アミル、ステアリル、ラウリル、2-エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基;フェニル等のアリール基;シクロヘキシル、t-ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、2-メチル-2-アダマンチル等の脂環式基;1-メトキシエチル、1-エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基;ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基;等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい1級または2級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。前記エーテルダイマーの具体例としては、例えば、ジメチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジエチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジn-プロピル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジイソプロピル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジn-ブチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジイソブチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジt-ブチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジt-アミル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジステアリル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジラウリル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジ2-エチルヘキシル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジ1-メトキシエチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジ1-エトキシエチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジベンジル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジフェニル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジシクロヘキシル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジt-ブチルシクロヘキシル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジジシクロペンタジエニル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジトリシクロデカニル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジイソボルニル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジアダマンチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジ2-メチル-2-アダマンチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジメチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジエチル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジシクロヘキシル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエート、ジベンジル-2,2’-[オキシビスメチレン]ビス-2-プロペノエートが好ましい。これらエーテルダイマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。前記一般式EDで示される化合物由来の構造体は、その他の単量体を共重合させてもよい。アルカリ可溶性フェノール樹脂としては、本発明の感放射線性組成物をポジ型の組成物とする場合に好適に用いることができる。アルカリ可溶性フェノール樹脂としては、例えば、ノボラック樹脂、又はビニル重合体等が挙げられる。上記ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下に縮合させて得られるものが挙げられる。上記フェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、キシレノール、フェニルフェノール、カテコール、レゾルシノール、ピロガロール、ナフトール、又はビスフェノールA等が挙げられる。上記アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、又はベンズアルデヒド等が挙げられる。上記フェノール類及びアルデヒド類は、単独若しくは2種以上を組み合わせて用いることができる。上記ノボラック樹脂の具体例としては、例えば、メタクレゾール、パラクレゾール又はこれらの混合物とホルマリンとの縮合生成物が挙げられる。上記ノボラック樹脂は分別等の手段を用いて分子量分布を調節してもよい。又、ビスフェノールCやビスフェノールA等のフェノール性水酸基を有する低分子量成分を上記ノボラック樹脂に混合してもよい。また、本発明における感放射線性組成物の架橋効率を向上させるために、重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂を使用してもよい。重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂としては、アリル基、メタアクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に含有したアルカリ可溶性樹脂等が有用である。上述の重合性基を含有するポリマーの例としては、ダイヤナールNRシリーズ三菱レイヨン株式会社製、Photomer6173COOH含有polyurethaneacrylicoligomerDiamondShamrockCoLtd製、ビスコートR-264、KSレジスト106、サイクロマーPシリーズ、プラクセルCF200シリーズいずれもダイセル化学工業株式会社製、Ebecryl3800ダイセルユーシービー株式会社製などが挙げられる。これら重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂としては、予めイソシアネート基とOH基を反応させ、未反応のイソシアネート基を1つ残し、かつメタアクリロイル基を含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル樹脂、カルボキシル基を含むアクリル樹脂と分子内にエポキシ基及び重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル樹脂、酸ペンダント型エポキシアクリレート樹脂、OH基を含むアクリル樹脂と重合性二重結合を有する2塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル樹脂、OH基を含むアクリル樹脂とイソシアネートと重合性基を有する化合物を反応させた樹脂、特開2002229207号公報及び特開2003335814号公報に記載されるα位又はβ位にハロゲン原子或いはスルホネート基などの脱離基を有するエステル基を側鎖に有する樹脂を塩基性処理を行うことで得られる樹脂などが好ましい。アルカリ可溶性樹脂としては、特に、ベンジルメタアクリレート/メタアクリル酸共重合体やベンジルメタアクリレート/メタアクリル酸/他ノモノマーからなる多元共重合体が好適である。この他、2-ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合したもの、特開平7-140654号公報に記載の、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクレート/メタクリル酸共重合体などが挙げられる。市販品としては、例えばアクリル化アクリレートACAZ300、Z320、Z250、Z251、200M、230AAダイセルサイテック社製などが挙げられる。アルカリ可溶性樹脂としては、上記したアルカリ可溶性樹脂の中でも側鎖に重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂が好ましい。アルカリ可溶性樹脂の酸価としては好ましくは10mgKOH/g~200mgKOH/g、より好ましくは20mgKOH/g~150mgKOH/gであることが好ましく、30~120mgKOH/gであることが最も好ましい。また、アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量Mwとしては、5,000~30,000が好ましく、6000~25000がさらに好ましく、7000~20000が最も好ましい。本発明の感放射線性組成物におけるアルカリ可溶性樹脂の含有量は、組成物の全固形分中に対して、0.1質量~7.0質量であることが好ましく、遮光膜の剥がれ抑制と現像残渣抑制の両立の観点からは、0.3質量~6.0質量であることがより好ましく、1.0~5.0質量であることがさらに好ましい。アルカリ可溶性樹脂の含有量がこの範囲にあることにより、これを使用して形成された遮光膜の表面荒れを低減することが可能となる。F-2着色剤本発明の感放射線性組成物には、所望の遮光性を発現させるべく、公知の有機顔料や染料などの無機顔料以外のF-2着色剤を併用することが可能である。併用することができるF-2着色剤としては、有機顔料では、例えば、特開2008-224982号公報段落番号0030~0044に記載の顔料や、C.I.PigmentGreen58、C.I.PigmentBlue79のCl置換基をOHに変更したものなどが挙げられ、これらの中でも、好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し、本発明に適用しうるF-2着色剤は、これらに限定されるものではない。C.I.PigmentYellow11,24,108,109,110,138,139,150,151,154,167,180,185、C.I.PigmentOrange36,38,62,64、C.I.PigmentRed122,150,171,175,177,209,224,242,254、255、C.I.PigmentViolet19,23,29,32、C.I.PigmentBlue15:1,15:3,15:6,16,22,60,66、C.I.PigmentGreen7,36,37,58、C.I.PigmentBlack1また、F-2着色剤として使用可能な染料の例としては、特に制限はなく、公知の染料を適宜選択して使用できる。例えば、特開昭64-90403号公報、特開昭64-91102号公報、特開平1-94301号公報、特開平6-11614号公報、特登2592207号、米国特許第4,808,501号明細書、米国特許第5,667,920号明細書、米国特許第5,059,500号明細書、特開平5-333207号公報、特開平6-35183号公報、特開平6-51115号公報、特開平6-194828号公報、特開平8-211599号公報、特開平4-249549号公報、特開平10-123316号公報、特開平11-302283号公報、特開平7-286107号公報、特開2001-4823号公報、特開平8-15522号公報、特開平8-29771号公報、特開平8-146215号公報、特開平11-343437号公報、特開平8-62416号公報、特開2002-14220号公報、特開2002-14221号公報、特開2002-14222号公報、特開2002-14223号公報、特開平8-302224号公報、特開平8-73758号公報、特開平8-179120号公報、特開平8-151531号公報等に記載の色素が挙げられる。染料が有する化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の化学構造が挙げられる。本発明の感放射線性組成物におけるF-2着色剤としては、該組成物が必須に含有するA被分散体と組み合わせた場合に、硬化性と遮光性を両立しうるという観点から、オレンジ顔料、赤色顔料、及び、バイオレット顔料からなる群より選択される1種以上の有機顔料が好ましく、最も好ましくは赤色顔料との組み合わせである。本発明における被分散体と組み合わせて用いられるオレンジ顔料、赤色顔料、及びバイオレット顔料としては、例えば、前記で例示したC.I.PigmentOrange、C.I.PigmentRed、C.I.PigmentVioletに属する各種顔料を、目的とする遮光性に応じて適宜選択すればよい。遮光性向上の観点からは、C.I.PigmentViolet29、C.I.PigmentOrange36,38,62,64、C.I.PigmentRed177,254、255などが好ましい。F-3増感剤本発明の感放射線性組成物には、E光重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、F-3増感剤を含有していてもよい。F-3増感剤としては、用いられるE光重合開始剤を、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。F-3増感剤の好ましい例としては、特開2008-214395号公報の段落番号0085~0098に記載された化合物を挙げることができる。F-3増感剤の含有量は、感度と保存安定性の観点から、感放射線性組成物の全固形分に対し、0.1質量~30質量の範囲内であることが好ましく、1~20質量の範囲内であることがより好ましく、2~15質量の範囲内であることが更に好ましい。F-4重合禁止剤本発明の感放射線性組成物には、該組成物の製造中或いは保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量のF-4重合禁止剤を添加することが望ましい。本発明に用いうるF-4重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、t-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-t-ブチルフェノール、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。中でも、p-メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の添加量は、感放射線性組成物の全固形分に対して、約0.01質量~約5質量が好ましい。また、必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で塗布膜の表面に高級脂肪酸誘導体等を偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5質量~約10質量が好ましい。F-5密着向上剤本発明の感放射線性組成物には、支持体などの硬質表面との密着性を向上させるために、F-5密着向上剤を添加することができる。F-5密着向上剤としては、シラン系カップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。シラン系カップリング剤としては、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましく挙げられ、市販品としては例えば、KBM-502、KBM-503、KBM-903、KBE-903、KBM-603、KBE-502、KBE-503信越シリコーン社製等が挙げられる。F-5密着向上剤の含有量は、感放射線性組成物の全固形分中0.5質量~30質量であることが好ましく、0.7質量~20質量であることがより好ましい。F-6界面活性剤本発明の感放射線性組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。これらの中でもフッ素系界面活性剤が好ましい。特に、本発明の感放射線性組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性特に、流動性がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。即ち、フッ素系界面活性剤を含有する感放射線性組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3質量~40質量が好適であり、より好ましくは5質量~30質量であり、特に好ましくは7質量~25質量である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、感放射線性組成物中における溶解性も良好である。フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F176、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437、同F475、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781以上、DIC株製、フロラードFC430、同FC431、同FC171以上、住友スリーエム株製、サーフロンS-382、同SC-101、同SC-103、同SC-104、同SC-105、同SC1068、同SC-381、同SC-383、同S393、同KH-40以上、旭硝子株製等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステルBASF社製のプルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1、ソルスパース20000日本ルーブリゾール株製等が挙げられる。カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体商品名:EFKA-745、森下産業株製、オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業株製、メタアクリル酸系共重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95共栄社化学株製、W001裕商株製等が挙げられる。アニオン系界面活性剤として具体的には、W004、W005、W017裕商株社製等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レダウコーニング株製トーレシリコーンDC3PA、トーレシリコーンSH7PA、トーレシリコーンDC11PA,トーレシリコーンSH21PA,トーレシリコーンSH28PA、トーレシリコーンSH29PA、トーレシリコーンSH30PA、トーレシリコーンSH8400、モメンティブパフォーマンスマテリアルズ社製TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452、信越シリコーン株式会社製KP341、KF6001、KF6002、ビックケミー社製BYK307、BYK323、BYK330等が挙げられる。界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。界面活性剤の感放射線性組成物への添加量は、感放射線性組成物の全質量に対して、0.001質量~2.0質量が好ましく、より好ましくは0.005質量~1.0質量である。F-7その他の添加剤更に、感放射線性組成物は、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、或いは酸素による光重合性化合物の重合阻害を抑制する等の目的で共増感剤を含有してもよい。また、硬化皮膜の物性を改良するために、希釈剤、可塑剤、感脂化剤等の公知の添加剤を必要に応じて加えてもよい。チタンブラック分散組成物の調製本発明のチタンブラック分散組成物の調製態様は、特に制限されないが、例えば、A被分散体、B分散剤、及びC有機溶媒を、攪拌機、ホモジナイザー、高圧乳化装置、湿式粉砕機、湿式分散機、等を用いて分散処理を行なうことにより調製することができるが、その方法はこれらに限定されない。分散処理は、2回以上の分散処理多段分散により行ってもよい。黒色感放射線性組成物の調製本発明の黒色感放射線性組成物の調製態様についても特に特に制限されないが、例えば、本発明のチタンブラック分散組成物、D重合性化合物、E光重合開始剤、及び、所望により併用される各種の添加剤を混合し、調製することができる。上記のようにして調製された黒色感放射線性組成物は、好ましくは孔径0.01~3.0μm、より好ましくは孔径0.05~0.5μm程度のフィルタなどを用いて濾別した後、使用に供することもできる。遮光膜の形成次に、本発明における遮光膜及びその製造方法について説明する。本発明における遮光膜は、シリコン基板上に、本発明の黒色感放射線性組成物を用いて形成されることを特徴とする。シリコン基板は予め一方の面に撮像素子を形成したものでも、遮光膜形成後に撮像素子を形成してもよい。また、遮光膜形成後に着色画素を形成してもよいし、遮光膜の形成前に着色画素を形成してもよい。また、本発明の黒色感放射線性組成物は、固体撮像素子の有効画素領域撮像部の周縁に配置される遮光膜にも好適に用いることができる。遮光膜の膜厚としては特に限定はないが、本発明による効果をより効果的に得る観点からは、乾燥後の膜厚で、0.3μm~10μmの範囲が好ましく、0.5μm~8μmの範囲がより好ましく、0.7μm~5μmの範囲が更に好ましい。パターン形成後の遮光膜のサイズ一辺の長さとしては、本発明による効果をより効果的に得る観点からは、0.5mm~35mmの範囲が好ましく、1mm~30mmの範囲がより好ましく、5mm~25mmの範囲が更に好ましい。本発明における遮光膜の好ましい製造方法は、本発明における黒色感放射線性組成物をシリコン基板上に塗布して黒色感放射線性組成物層を形成する工程以下、適宜感放射線性組成物層形成工程と略称する。と、前記黒色感放射線性組成物層をパターン状に露光する工程以下、適宜露光工程と略称する。と、露光後の前記黒色感放射線性組成物層を現像してパターンを形成する工程以下、適宜現像工程と略称する。と、を有することを特徴とする。以下、本発明における遮光膜の製造方法における各工程について説明する。黒色感放射線性組成物層形成工程まず、感放射線性組成物層形成工程で用いられる基板について説明する。カラーフィルタに用いられる基板としては、例えば、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えば、シリコン基板や、プラスチック基板が挙げられる。また、プラスチック基板は、その表面に、ガスバリヤー層及び/又は耐溶剤性層を有していることが好ましい。感放射線性組成物層形成工程において、感放射線性組成物層を基板に形成する方法としては、特に限定されるものではないが、スピン塗布法、スリットアンドスピン法、スピンレス塗布法等のスリットノズルを用いる方法が好ましい。基板上に感放射線性組成物による塗布膜を形成する際、固体撮像素子用の遮光膜では、塗布膜の厚みプリベーク処理後は、0.5μm~3μmの範囲が好ましい。感放射線性組成物層形成工程において、通常は、塗布後にプリベーク処理を施す。必要によっては、プリベーク前に真空処理を施すこともできる。真空乾燥の条件は、真空度が、通常、0.1Torr~1.0Torr、好ましくは0.2Torr~0.5Torr程度である。また、プリベーク処理は、ホットプレート、オーブン等を用いて50°C~140°Cの温度範囲で、好ましくは70°C~110°C程度であり、10秒~300秒の条件にて行うことができる。なお、プリベーク処理には、高周波処理などを併用してもよい。高周波処理は単独でも使用可能である。露光工程露光工程では、前述のようにして形成された感放射線性組成物からなる感放射線性組成物層に対し、所定のマスクパターンを介して露光を行う。露光の際に使用される放射線としては、g線、h線、i線、j線等の紫外線が好ましい。特に、固体撮像素子用の遮光膜を製造する際には、ステッパー露光機にて、主として、i線を使用することが好ましい。現像工程現像工程では、露光後の感放射線性組成物層の未露光部未硬化部を現像液に溶出させ、硬化分のみを基板上に残存させる。現像温度としては、通常20°C~30°Cであり、現像時間としては20秒~90秒である。現像液としては、未硬化部における感放射線性組成物の塗布膜を溶解する一方、硬化部を溶解しないものであれば、いずれのものも用いることができる。具体的には、種々の有機溶媒の組合せやアルカリ性の水溶液を用いることができる。現像に用いられる有機溶媒としては、本発明における感放射線性組成物を調製する際に使用できる既述のC有機溶媒が挙げられる。また、アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8-ジアザビシクロ-[5,4,0]-7-ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が0.001質量~10質量、好ましくは0.01質量~1質量となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。好ましくは有機アルカリ性の水溶液である。アルカリ性水溶液には、例えば、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤等を適量添加することもできる。現像方式は、パドル方式、デイップ方式、シャワー方式、スプレー方式などいずれでもよく、これにスウィング方式、スピン方式、超音波方式などを組み合わせてもよい。現像液に触れる前に、被現像面を予め水等で湿しておいて、現像ムラを防ぐこともできる。また、基板を傾斜させて現像することもできる。後硬化工程上記した現像によりパターンを形成する工程の後に、さらに、得られたパターンをより硬化させる後硬化工程を実施することが好ましい。後硬化工程は、加熱及び/又は露光紫外線照射によって行うが、得られたパターンをさらに硬化させ、着色画素形成のパターン形成工程でのパターンの溶解等を防止したり、パターン形成された遮光膜の画素の耐溶剤性を向上したりすることができる。後硬化工程は、紫外線照射によることが好ましい。加熱処理後加熱、ポストベークによる後硬化工程は、余剰の現像液を洗浄除去するリンス処理を経て、乾燥を施した後に施される。リンス処理は、通常は純水で行うが、省液のために、最終洗浄で純水を用い、洗浄初期は使用済の純水を使用したり、また、基板を傾斜させて洗浄したり、超音波照射を併用したりする方法を用いてもよい。リンス処理後、水切り、乾燥をした後に、通常、約200°C~250°Cの加熱処理を行う。この加熱処理ポストベークは、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン熱風循環式乾燥機、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式或いはバッチ式で行うことができる。加熱処理時間は、30秒~30000秒が好ましく、更に好ましくは、60秒~1000秒である。露光後露光による後硬化工程紫外線照射工程は、g線、h線、i線、KrF、ArF、紫外光、電子線、X線等により行うことができるが、g線、h線、i線、UV光が好ましく、特に、紫外光が好ましい。現像工程後のパターンに、前期露光工程における露光量の10倍以上の照射光量の紫外光を照射することが望ましい。紫外光の照射光量は、前期露光工程の露光量の12倍以上200倍以下が好ましく、15倍以上100倍以下がより好ましい。光源としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ等を使用することができる。後硬化工程においては、後露光と後加熱は、併用してもよく、この場合はどちらを先に行ってもよいが、後加熱に先立って、後露光を実施することが好ましい。後露光で硬化を促進させることにより、後加熱過程で見られるパターンの熱ダレやすそ引きによる形状の変形を抑止するためである。このようにして得られた遮光膜を有するシリコン基板上に色分解用の着色画素が形成され、固体撮像素子として用いられる。着色画素は、複数の色相の画素で構成されるが、前記パターン形成工程及び必要に応じて後硬化工程を所望の色数に合わせて繰り返すことにより、所望数の色相に構成された色分解用のカラーフィルタを作製することができる。固体撮像素子本発明における固体撮像素子は、既述の遮光膜ブラックマトリクスと、必要により他の色3色あるいは4色の画素からなるパターン状皮膜と、を有するカラーフィルタを備えて構成される。本発明における固体撮像素子は、周辺部における遮光能の低下が抑制され、しかも得られたパターンの残渣が低減され、しかもパターンの直線性が良好なので、ノイズを低減でき、色再現性を向上させることができる。本発明における固体撮像素子の構成としては、前述の遮光膜ブラックマトリクスが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、基板上に、固体撮像素子CCDイメージセンサー、CMOSイメージセンサー、等の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有し、基板の受光素子形成面の反対側の面に本発明に係るブラックマトリックスが備えられた構成等が挙げられる。また、固体撮像素子の有効画素領域撮像部の周縁に配置される遮光膜にも、本発明の感放射線性組成物が好適に使用できる。以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部及びは質量基準である。また、室温は25°Cを指す。チタンブラックの作製粒径10nmの酸化チタンMT10EX商品名:テイカ製を100g、BET比表面積300m2/gのシリカ粒子AEROSIL登録商標300SPエボニック製を15g、及びDisperbyk190商品名:ビックケミー社製を100g秤量し、イオン電気交換水71gを加えてKURABO製MAZERSTARKK-400Wを使用して、公転回転数1360rpm、自転回転数1047rpmにて60分間処理することにより均一な混合物水溶液を得た。この水溶液を石英容器に充填し、小型ロータリーキルン株式会社モトヤマ製を用いて酸素雰囲気中で910°Cに加熱した後、窒素で雰囲気を置換し、同温度でアンモニアガスを100mL/minで5時間流し、得られた粉体を乳鉢で粉砕し、粉末状の比表面積84m2/gのチタンブラックA被分散体を得た。また、同様にしてシリカ粒子量を12.5g、10g、8g、25gとすることにより、それぞれ被分散体であるチタンブラックB、チタンブラックC、チタンブラックD、およびチタンブラックEを得た。分散剤1の合成500mL三口フラスコに、ε-カプロラクトン600.0g、2-エチル-1-ヘキサノール22.8gを導入し、窒素を吹き込みながら、攪拌溶解した。モノブチル錫オキシド0.1gを加え、100°Cに加熱した。8時間後、ガスクロマトグラフィーにて原料が消失したのを確認後、80°Cまで冷却した。2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール0.1gを添加した後、2-メタクリロイロキシエチルイソシアネート27.2gを添加した。5時間後、1H-NMRにて原料が消失したのを確認後、室温まで冷却し、固体状の前駆体M1下記構造を200g得た。M1であることは、1H-NMR、IR、質量分析により確認した。前記前駆体M1を30.0gと、NKエステルCB-12メタクリロイロキシエチルフタル酸、新中村化学工業株式会社製を70.0gと、ドデシルメルカプタン2.3gと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート233.3gとを、窒素置換した三口フラスコに導入し、攪拌機新東科学株:スリーワンモータにて攪拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して75°Cまで昇温した。これに、2,2-アゾビス2-メチルプロピオン酸ジメチル和光純薬株製のV-6010.2gを加え、75°Cにて2時間加熱攪拌を行なった。2時間後、さらにV-601を0.2g加えて3時間、加熱攪拌の後、下記構造の分散剤1の30溶液を得た。分散剤1の組成比、酸価、及び重量平均分子量Mwは、以下の通りである。なお、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフGPCにより測定し、ポリスチレン換算で算出した値である。GPCは、HLC-8020GPC東ソー株製を用い、カラムをTSKgelSuperHZM-H、TSKgelSuperHZ4000、TSKgelSuperHZ200東ソー社製として測定した。組成比:x=33質量、y=67質量酸価:85mgKOH/gMw:35,000実施例1チタンブラック分散組成物の調製下記組成1に示す成分を、攪拌機IKA社製EUROSTARを使用して、15分間混合し、分散混合物を得た。組成1A被分散体:チタンブラックA粉体25部B分散剤:分散剤1の30溶液50部C有機溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート15部C有機溶媒:酢酸ブチル10部得られた分散混合物に対し、シンマルエンタープライゼス社製ビーズミルNPMならびに循環式の配管および投入タンクを使用し、下記条件にて分散処理を行って、チタンブラック分散組成物Aを2000g得た。分散条件ビーズ径:φ0.05mmビーズ充填率:60体積ミル周速:10m/sec分散処理する混合液量:5000g循環流量ポンプ供給量:30kg/hour処理液温度:25°C~30°C冷却水:水道水処理時間30パス黒色の感放射線性組成物の調製下記組成2の成分を攪拌機で混合して、黒色感放射線性組成物Aを調製した。組成2チタンブラック分散組成物A24部F-1アルカリ可溶性樹脂:ベンジルメタクリレート/メチルメタクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体50/15/5/30モル比、Mw:80001.6部D重合性化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートKAYARADDPHA、日本化薬株式会社製2.0部D重合性化合物:ペンタエリスリトールトリアクリレート1.0部E光重合開始剤:下記構造の化合物0.3部C有機溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート10部C有機溶媒:エチル-3-エトキシプロピオネート8部実施例2~3、比較例1~3チタンブラック分散組成物の調製実施例1のチタンブラック分散組成物の調製における被分散体チタンブラックAを、被分散体チタンブラックB、被分散体チタンブラックC、被分散体チタンブラックD、被分散体チタンブラックE、および三菱マテリアル製13M-Tにそれぞれ変更し、それ以外は実施例1のチタンブラック分散組成物の調製と同様にして、それぞれチタンブラック分散組成物B、チタンブラック分散組成物C、チタンブラック分散組成物D、チタンブラック分散組成物E、およびチタンブラック分散組成物Fを得た。黒色の感放射線性組成物の調製また、実施例1の感放射線性組成物の調製におけるチタンブラック分散組成物Aを、チタンブラック分散組成物B、チタンブラック分散組成物C、チタンブラック分散組成物D、チタンブラック分散組成物E、およびチタンブラック分散組成物Fにそれぞれ変更し、それ以外は、黒色の感放射線性組成物Aの調製と同様にして、黒色の感放射線性組成物B、C、D、E、およびFを調製した。各実施例、および比較例に用いた黒色の感放射線性組成物の種類を表1に示す。遮光能、および分散安定性の評価実施例1~3及び比較例1~3にて得られたチタンブラック分散組成物を2Lのプラスティックス容器中に室温にて6ヶ月静置保管し、静置保管前後の分散組成物をガラス基板上にスピンコーターにて乾燥後の厚さが3.0μmとなるように塗布し遮光膜を作製した。得られた遮光膜の吸光度を島津製作所製分光器UV3600により550nmの波長における吸光度をそれぞれ測定した。静置保管前後の吸光度の比によって、分散安定性下記式を評価した。また波長550nmにおける吸光度によって遮光能を評価した。結果を表1に示す。分散安定性={1-静置後の550nmにおける吸光度静置前の550nmにおける吸光度}×100BET比表面積の測定前記分散安定性の評価に用いた静置保管前の実施例1~3、及び比較例1~3の各チタンブラック分散組成物によって得られた遮光膜中における被分散体の比表面積m2/gを、以下のようにして測定した。遮光膜をスパチュラを用いて基板から削り取り、得られた粉体を電気炉にてO2雰囲気中で600°Cにて3時間処理することにより分散剤等の有機成分を熱分解除去した。カンタクローム社製Autosorb1MPを使用し、得られた粉体02gをマントルヒーターにて200°Cで12時間予備乾燥し、雰囲気ガスとしてN2を使用し、BET3点法により比表面積を測定した。結果を表1に示す。Si/Ti比また、前記分散安定性の評価に用いた静置保管前の実施例1~3、及び比較例1~3の各チタンブラック分散組成物によって得られた遮光膜中におけるSi/Tiを、以下のように測定した。遮光膜をスパチュラを用いて基板から削り取り、得られた黒色粉体を電気炉にてO2雰囲気中で600°Cにて3時間処理することにより分散剤等の有機成分を熱分解除去した。得られた粉体をパーキンエルマー社製X線光電子分析装置PHI5400MCによりSi原子の2p結合、およびTi原子の2p結合起因のピークよりそれぞれSi原子およびTi原子のatomを測定、これにより、Si/Ti=Si原子atm/Ti原子atmを得た。結果を表1に示す。耐現像液性の評価基板としてガラス基板の代わりにシリコン基板を用い、塗布液として各黒色の感放射線性組成物を用いる以外は分散安定性の評価と同様にして遮光膜を形成して、得られた感放射線性組成物層を、i線ステッパーを用い、100mJ/cm2、200mJ/cm2、300mJ/cm2、400mJ/cm2、および500mJ/cm2の各露光量にてラインアンドスペースが10μm/10μmとなるマスクを使用してパターン露光した。次に、露光後の感放射線性組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.3水溶液を用い、室温にて60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した後にホットプレート上にて200°Cで5分間硬化処理を行い、パターン成形した遮光膜を得た。このようにして得られたパターン成形した遮光膜を、再度、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.3水溶液を用い、室温にて60秒間パドル現像処理を施し、その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗したこのようにして得られた遮光膜について、日立ハイテクノロジーズ社製SEMS3400Nを使用して15000倍の倍率にて表面を観察し、表面の荒れを評価した。表1から、実施例1~3の分散組成物を使用して作成した遮光膜は、比較例の分散組成物から得られた遮光膜に比べて、遮光能が優れ、また分散安定性の良好なものであることがわかる。また、実施例1~3の感放射線性組成物を使用して作成した遮光膜は、パターン成形してもパターンの荒れがなく、比較例の感放射線性組成物よりも優れていることがわかる。パターン表面の荒れは、現像工程あるいは硬化処理後の再現像工程において生じたものと思われる。実施例4実施例1の黒色感放射線性組成物を用いて、固体撮像素子の有効画素領域撮像部の周縁に遮光膜を形成したところ、良好な固体撮像素子を得た。実施例5さらに、下記合成例2により分散剤2下記のスキームではJ-1を合成した。実施例1において、分散剤1の代わりに分散剤2を使用する以外は実施例1と同様にして分散組成物および感放射線性組成物を調製し、実施例1と同様に評価した。その結果、実施例1と同様の遮光能、分散安定性を示し、されにこれを使用した遮光膜においては表面荒れが観察されなかった。合成例2:分散剤2の合成分散剤2であるJ-1を、次のようにして合成した。マクロモノマー下記構造N-155gGPC法における重量平均分子量ポリスチレン換算値3,500、モノマー下記構造B-135g、メタクリル酸10g、及びドデカンチオール6gをプロピレングリコールモノメチルエーテル233gに加え、窒素雰囲気下、75°Cで一時間攪拌した。ここに、V-601和光純薬製0.5gを加え、2時間加熱した。さらに、0.5gのV-601を加え、2時間加熱した。その後、90°Cで2時間加熱した後、放冷し、分散剤2であるJ-1の30溶液を得た。スキームを以下に示す。実施例6~22、及び比較例4~5さらに、下記合成例3~19、並びに比較合成例1及び2により分散剤3~19下記表ではJ-2~J-9及びJ-12~J-20及び比較分散剤1~2下記表ではJ-10~J-11を合成した。実施例1において、分散剤1の代わりに分散剤3~19及び比較分散剤1~2を使用する以外は実施例1と同様にして、実施例6~22及び比較例4~5の分散組成物及び感放射線性組成物を調製し、実施例1と同様に評価した。その結果、分散剤3~19を使用した実施例6~22の場合についても、実施例1と同様の遮光能、分散安定性を示した。さらに、実施例6~22の組成物を用いて形成した遮光膜においては表面荒れが観察されなかった。合成例3~19、比較合成例1及び2樹脂J-2~J-20の合成合成例2に用いたマクロモノマーN-1、モノマーB-1、メタクリル酸を、下記表2に示すマクロモノマー及びモノマーに変更して仕込んだ以外は、合成例2と同様の操作を行い、特定樹脂である樹脂J-2~J-9、J-12~J-20、比較用樹脂である樹脂J-10~J-11を得た。表2中に示すマクロモノマーN-2は、東亜合成株製AA-6GPC法における重量平均分子量ポリスチレン換算値6,500、N-3はダイセル化学工業株製プラクセルFA10LGPC法における重量平均分子量ポリスチレン換算値3,000、N-4及びN-5は下記に示すマクロモノマーN-4:重量平均分子量ポリスチレン換算値13,000、N-5:重量平均分子量ポリスチレン換算値21,000である。表2中に示すモノマーM-7、M-17、M-37、M-40、M-47及びM-48は、モノマーb-1の具体例として前掲したモノマーである。また。モノマーM-28は、モノマーb-2の具体例として前掲したモノマーである。下記表3に、上記の合成例2~19、比較合成例1及び2により得られた樹脂J-1~J-20の物性値重量平均分子量、アミン価、酸価を示した。実施例23~25実施例1において、組成2の代わりに下記組成3、組成4及び組成5の成分を使用する以外は実施例1と同様にして、実施例23~25の感放射線性組成物を調製し、実施例1と同様に評価した。その結果、実施例23~25の感放射線性組成物は、表4に示すとおり、実施例1と同程度またはそれ以上の遮光能及び分散安定性を示した。さらに、実施例23~25の感放射線性組成物を使用した遮光膜においては表面荒れが観察されなかった。組成3チタンブラック分散組成物A40部F-1アルカリ可溶性樹脂:ベンジルメタクリレート/メチルメタクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体50/15/5/30モル比、Mw:8000、30プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液25部D重合性化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートKAYARADDPHA、日本化薬株製5部E光重合開始剤:IRGACUREOXE02BASF社製0.5部C有機溶媒:酢酸ブチル20部C有機溶媒:シクロヘキサノン10部組成4チタンブラック分散組成物A45部F-1アルカリ可溶性樹脂:アクリル化アクリレートACAZ300ダイセルサイテック株製5部D重合性化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートKAYARADDPHA、日本化薬株製9部E光重合開始剤:IRGACUREOXE02BASF社製1部C有機溶媒:シクロヘキサノン40部組成5チタンブラック分散組成物A40部F-1アルカリ可溶性樹脂:ベンジルメタクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体45プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液、藤倉化成社製15部D重合性化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートKAYARADDPHA、日本化薬株製10部E光重合開始剤:2,2-ビス2-クロロフェニル-2,5,2’,5’-テトラフェニル-1,2-ビイミダゾール1.5部E光重合開始剤:IRGACUREOXE01BASF社製0.5部E光重合開始剤:3-シクロヘキシル-2-シクロヘキシルイミノ-5-[4-ジエチルアミノフェニルメチレン]-1,2-オキサゾリジン-4-オン1.5部E光重合開始剤:1,3-ジヒドロ-1-フェニル-2H-ベンズイミダゾール-2-チオン1.5部C有機溶媒:シクロヘキサノン15部C有機溶媒:酢酸ブチル10部シランカップリング剤:KBM-503信越シリコーン社製5部また本発明の黒色の感放射線性組成物A、B、C、および実施例23~25の感放射線性組成物を、MEMSにおける遮光用途に用いたところ、良好なデバイスが得られた。"