基台と、この基台に配置された半導体レーザと、前記基台に配置されて前記半導体レーザから出射された楕円光束のアスペクト比を調節するビーム整形レンズを備え、前記ビーム整形レンズの外周側面に一対の反射平面を設けたことを特徴とする光源ユニット。ビーム整形レンズの外周側面に凹部を設け、この凹部の底面を反射平面としたことを特徴とする請求項1に記載の光源ユニット。基台と、この基台に配置された半導体レーザと、前記基台に配置されて前記半導体レーザから出射された楕円光束のアスペクト比を調節するビーム整形レンズと、前記ビーム整形レンズの外周側面に設けた一対の反射平面を備えた光源ユニットの製造方法であって、前記半導体レーザを基台に配置する第1工程と、前記半導体レーザが配置された基台にビーム整形レンズを配置する第2工程を有し、前記第2工程は前記反射平面の位置により前記ビーム整形レンズの位置決めの粗調整を行い、次いで前記反射平面に前記半導体レーザとは異なる別光源からの光線を照射し、反射光線により前記ビーム整形レンズの微調整を行うことを特徴とする光源ユニットの製造方法。半導体レーザから出射された楕円光束のアスペクト比を調節するビーム整形レンズであって、前記ビーム整形レンズの外周側面に一対の反射平面を平行に設けたことを特徴とするビーム整形レンズ。しかしながら、このような光源ユニットは、半導体レーザやビーム整形レンズを、基台の上で一体化する構造であるため、基台上に半導体レーザを配置し、その後、ビーム整形レンズを、半導体レーザからの出射光線の状態を確認しながら位置決めしなければならず、プロジェクタなどの高出力用途においては、半導体レーザの出力の安定や出射後の冷却などで、調整作業に時間がかかってしまうという問題があった。そこで、本発明はこのような問題を解決し、光源ユニットの調整作業にかかる時間を短縮することを目的とする。そして、この目的を達成するために本発明は、基台と、基台に配置された半導体レーザと、基台に配置されるとともに、半導体レーザから出射された楕円光束のアスペクト比を調節するビーム整形レンズを備えた光源ユニットにおいて、ビーム整形レンズの外周側面に一対の反射平面を設けたのである。この構造により本発明は、光源ユニットの調整作業にかかる時間を短縮することが出来るのである。以下、本発明の一実施の形態における光源ユニットについて図を用いて説明する。図1および図2は、半導体レーザ1とビーム整形レンズ2を基台3の主面上で一体化した光源ユニット4を示したものであり、半導体レーザ1から出射された楕円光束の発散光をビーム整形レンズ2によりアスペクト比を調整し円光束の平行光に変換して出射する機能を有している。また、ビーム整形レンズ2は、半導体レーザ1から出射された光線のアスペクト比を調整するため、そのレンズ構造を、半導体の接合面と水平な方向と垂直な方向とで開口数が異ならせるように、入射面には図3の実線5で示すような縦長の楕円形状レンズを配置し、出射面には破線6で示すような横長の楕円形状レンズを配置して、単一レンズで所望のビーム整形を実現している。なお、このような光源ユニット4を組み立てるには、まず半導体レーザ1を基台3の所定位置に配置し、次いでビーム整形レンズ2を配置するのであるが、このとき半導体レーザ1の光軸に対してビーム整形レンズ2の光軸を一致させることと、ビーム整形レンズ2の焦点を半導体レーザ1の出射面に一致するようにビーム整形レンズ2と半導体レーザ1の間隔をあわせることと、ビーム整形レンズ2の直交する開口数の向き以下、アスペクト比の方向と称す。を楕円光束のアスペクト比をキャンセルするようにビーム整形レンズ2の光軸を回転軸とした回転方向をあわせることが求められる。そして、このビーム整形レンズ2においては、ビーム整形レンズ2の外周側面に一対の反射平面7を設けたことにより、先に述べた光軸調整、間隔調整および回転調整といったビーム整形レンズ2の配置にまつわる調整作業を、半導体レーザ1を用いることなく行うことができ、調整作業にかかる時間を短縮することが出来るのである。すなわち、ビーム整形レンズ2の外周側面に一対に反射平面7を形成すれば、この反射平面7がビーム整形レンズ2のアスペクト比の方向を示す基準マークとすることができ、上述した各調整における粗調整に用いることができるとともに、さらに、この反射平面7に半導体レーザ1とは異なる別光源特に図示せずからの光線を照射してその反射光線を観察することで微調整を行うことができ、調整作業を簡易にできる。具体的には、図3に示すように、反射平面7をビーム整形レンズ2のアスペクト比の方向を示すために、入射面に設けられた楕円形状レンズの長手方向を中心軸8として一対の反射平面7を対称配置したことで、図2に示すように一対の反射平面7を結ぶ線9と半導体レーザ1との出射面との平行度や間隔が粗調整できる。そして、この粗調整の後の微調整については、粗調整されたビーム整形レンズ2に設けられた一対の反射平面7に対して、図4、図5に示すように半導体レーザ1とは異なる別光源特に図示せずからの調整用光線10を照射し、その反射光線11を観察することで、一対の反射平面7からの反射光線11の位置関係や位相関係を基にして、先に述べたビーム整形レンズ2と半導体レーザ1の出射面との平行度や間隔を精度よく確認しながら位置決めし、その後UV接着剤12などを用いて接着固定すればよく、従来の課題となっていた調整作業における半導体レーザの出力安定化や冷却に要する時間を大幅に削減することが出来る。なお、光軸調整におけるビーム整形レンズ2の光軸方向への倒れによる光軸ズレについては、図4に示すように、レンズ倒れが起こっている場合には、反射平面7が調整用光線10に対して傾斜するため、反射光線11が調整用光線10と異なる向きに反射されてしまい、後段の検出素子特に図示せずで反射光線11が確認できず、倒れ角が小さくなるように調整することで、反射光線11と調整用光線10との向きが近接してくるので微調整することができる。また、回転調整についても、図5に示すように、ビーム整形レンズ2の回転方向がずれている場合には、反射平面7が調整用光線10に対して傾斜するため、反射光線11が調整用光線10と異なる向きに反射されてしまい、後段の検出素子特に図示せずで反射光線11が確認できず、反射光線11と調整用光線10との向きが近接してくるようにビーム整形レンズ2を回転させることで微調整することができる。なお、このようにビーム整形レンズ2の調整作業を基台3に対する配置方向、つまり、上方から行うことで、従来のビーム整形レンズ2の光軸方向から行う場合に比べ格段に作業性を向上させることができた。また、この微調整に用いる別光源としては、He-Neレーザなどの低パワーで可視光の平行拘束を出射する光源を用いることが好ましい。なお、ビーム整形レンズ2の外周側面に反射平面7を設けるには、ビーム整形レンズ2の基本構成となる入射面や出射面と同じ成形工程で成形することが望ましい。なぜなら、上述したようにビーム整形レンズ2は、入射面と出射面のそれぞれのアスペクト比の方向が直行するもので、このアスペクト比の方向を示すマークとして反射平面7を用いるのであるから、それぞれを個別に成形していては高精度な位置合わせが困難となるからである。そこで、これらを一体に成形する方法としては、一般的な光学レンズの成形方法である図6に示すような成形装置13を用いた光学材料14のモールド成形において、成形装置13の所定位置に反射平面7を形成するための凸状平面15を設けておくことで、凹状の反射平面7が入射面や出射面と一体に成形されるため、入射面や出射面に対して反射平面7の位置精度が高められ、かつ、量産において高い再現性を確保することが出来る。なお、反射平面7を凸状に成形するためには成形装置13に凹状の成形面を加工しなければならず加工性が悪くなるため、反射平面7は上述した凸状平面15により成形される凹部の底面部分を反射平面7として活用することが好ましい。また、成形装置13に対する凸状平面15の具体的な成形方法としては、入射面を成形する上金型16と、出射面を成形する下金型17と、これらの摺動規制を行うとともにビーム整形レンズ2の外周側面を成形する胴型18を備えた成形装置13に、あらかじめ胴型18の所定の位置に、図7に示すように貫通孔19を設け、この貫通孔19に柱状金型20を挿入して先端部分を胴型の内周面から突出させて固定することで、この柱状金型20の突出部分の先端面が上述した凸状平面15となり、成形後のレンズ外周側面にこの凸状平面15が転写され、この凸状平面15の転写面にミラーコート特に図示せずを成形することで反射平面7を成形することが出来る。なお、上述したビーム整形レンズ2の微調整においては、別光源からの微調整用の調整用光線10が光源ユニット4の上側の一方向から照射する例を挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものでなく、例えば、図8に示すように一対の反射平面7を、ビーム整形レンズ2の対向する外周側面に対称配置し、それぞれの反射平面7に対して微調整用の調整用光線10を照射し反射光線11との状態を確認することで微調整できるというように、ビーム整形レンズ2の外周側面に異なる開口数の方向を認識可能な一対の反射平面7を設けることにより調整作業にかかる時間を短縮することが出来る。