"成膜の原料となるミストを発生するミスト発生器2と、前記ミスト発生器で発生した前記ミストを、膜の成膜が行われる基板へと噴射するミスト噴射用ノズル1とを、備えており、前記ミスト噴射用ノズルは、中空部1Hを有する本体部1Aと、前記本体部に形成され、前記ミスト発生器で発生した前記ミストを前記中空部内に供給するミスト供給口5aと、前記本体部に形成され、前記中空部の前記ミストを外部に噴射する第一の噴射口8と、前記本外部に形成され、前記ミストを前記第一の噴射口へと運ぶキャリアガスを前記中空部内に供給する、少なくとも1つ以上のキャリアガス供給口6aと、前記中空部内に配置され、複数の孔7aが形成されたシャワープレート7とを、備えており、前記中空部は、前記シャワープレートの配設により、前記キャリアガス供給口と接続される第一の空間1Sと、前記第一の噴射口に接続される第二の空間1Tとに分割され、前記ミスト供給口は、前記第二の空間に接続されるように、前記本体部に形成されている、ことを特徴とする成膜装置。前記シャワープレートに形成された前記複数の孔の開口面積の総和は、前記キャリアガス供給口の開口面積の総和よりも、小さい、ことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。前記ミスト供給口には、前記ミスト発生器で発生した前記ミストを、前記中空部内へと運ぶミスト配管5が接続されている、ことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。前記本体部には直接、前記ミスト供給口を塞ぐように、前記ミスト発生器が接続されている、ことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。前記ミスト噴射用ノズルは、少なくとも前記第一の噴射口周辺の前記本体部に形成され、前記中空部の温度調整が可能な温度調整部9を、さらに備えている、ことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。前記温度調整部は、前記ミストガス噴射用ノズルの前記本体部の全体に渡って配設されている、ことを特徴とする請求項5に記載の成膜装置。前記ミストの分解反応を促進する反応促進ガスを噴射する第二の噴射口13を有する、反応促進ガス噴射用ノズル10を、さらに備えており、前記第一の噴射口と前記第二の噴射口とは、隣り合っている、ことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。排気口16を有する排気ノズル14を、さらに備えている、ことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。前記ミストの分解反応を促進する反応促進ガスを噴射する第二の噴射口13を有する、反応促進ガス噴射用ノズル10を、さらに備えており、前記排気口を起点として一方向に、前記排気口と前記第一の噴射口と前記第二の噴射口とが、隣り合っている、ことを特徴とする請求項8に記載の成膜装置。前記排気ノズルの排気力は、前記ミスト噴射用ノズルの噴射力と同じである、ことを特徴とする請求項8に記載の成膜装置。前記ミスト噴射用ノズルは、2つ以上である、ことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。特許文献1に係る技術では、ガスだまり部に設けたミスト供給口から原料ミストを供給し、断面積が供給口より小さい噴射口から当該原料ミストを噴出させることにより、原料ミストの均一化を図っている。しかしながら、当該特許文献1に係る技術では、原料ミストの均一な噴射を可能せしめるために、断面積の大きなミスト供給口が必要である。具体的に、噴射口の開口面積が所定の大きさに決定されており、当該噴射口の開口面積に対して、ミスト供給口の面積を十分大きくする必要がある。さらに、大面積の薄膜を成膜する際に当該特許文献1に係る技術を適用する場合には、均一なミストの噴射を可能せしめるために、断面形状が扁平である噴射口に対して、ミスト供給のための太い配管をガスだまり部に多数設ける必要がある。したがって、噴出用ノズル周辺の構成が肥大化するという問題を、特許文献1に係る技術は有している。つまり、特許文献1に係る技術では、噴射口の開口面積に応じて、ミスト供給口の総開口面積を十分に大きくしなければならないという制限があり、噴出用ノズルの構成簡略化は困難であった。そして、当該構成の肥大化に起因して、噴出用ノズル周辺のメンテナンス性が悪化し、噴出用ノズルの組立も複雑となり、さらに製造コストも増大する。そこで、本発明は、成膜が実施される基板への均一なミストの噴出を維持しつつ、ミスト噴射用ノズル周辺の構成の肥大化を防止することができる、成膜装置を提供することを目的とする。上記の目的を達成するために、本発明に係る成膜装置は、成膜の原料となるミストを発生するミスト発生器と、前記ミスト発生器で発生した前記ミストを、膜の成膜が行われる基板へと噴射するミスト噴射用ノズルとを、備えており、前記ミスト噴射用ノズルは、中空部を有する本体部と、前記本体部に形成され、前記ミスト発生器で発生した前記ミストを前記中空部内に供給するミスト供給口と、前記本体部に形成され、前記中空部の前記ミストを外部に噴射する第一の噴射口と、前記本外部に形成され、前記ミストを前記第一の噴射口へと運ぶキャリアガスを前記中空部内に供給する、少なくとも1つ以上のキャリアガス供給口と、前記中空部内に配置され、複数の孔が形成されたシャワープレートとを、備えており、前記中空部は、前記シャワープレートの配設により、前記キャリアガス供給口と接続される第一の空間と、前記第一の噴射口に接続される第二の空間とに分割され、前記ミスト供給口は、前記第二の空間に接続されるように、前記本体部に形成されている。本発明に係る成膜装置は、成膜の原料となるミストを発生するミスト発生器と、前記ミスト発生器で発生した前記ミストを、膜の成膜が行われる基板へと噴射するミスト噴射用ノズルとを、備えており、前記ミスト噴射用ノズルは、中空部を有する本体部と、前記本体部に形成され、前記ミスト発生器で発生した前記ミストを前記中空部内に供給するミスト供給口と、前記本体部に形成され、前記中空部の前記ミストを外部に噴射する第一の噴射口と、前記本外部に形成され、前記ミストを前記第一の噴射口へと運ぶキャリアガスを前記中空部内に供給する、少なくとも1つ以上のキャリアガス供給口と、前記中空部内に配置され、複数の孔が形成されたシャワープレートとを、備えており、前記中空部は、前記シャワープレートの配設により、前記キャリアガス供給口と接続される第一の空間と、前記第一の噴射口に接続される第二の空間とに分割され、前記ミスト供給口は、前記第二の空間に接続されるように、前記本体部に形成されている。したがって、第一の空間内に供給拡散されたキャリアガスは、シャワープレートを経ることにより、均一化されて、第二の空間内へと流れ込む。そして、第二の空間内に供給され滞留しているミストは、当該キャリアガスにより整流均一化され、第一の噴射口へと伝搬され押し流され、均一化されたミストがキャリアガスと共に、第一の噴射口から基板に向けて噴出させることができる。このように、均一なミストを基板に吹き付けることにより、基板の上面には、所望の薄膜を均一に成膜することができる。さらに、上記のように、シャワープレートの存在により、ミスト供給口の開口面積や数を大きくしなくても、第一の噴射口から均一なミストを噴射することができる。したがって、ミスト供給口の開口面積や数を小さくでき、ミスト噴射用ノズル周辺の構成の肥大化を防止することができる。よって、ミスト噴出用ノズル周辺のメンテナンス性が向上し、ミスト噴出用ノズルの組立も簡単となり、さらに製造コストも低減できる。この発明の目的、特徴、局面、および利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。本発明は、基板に薄膜を成膜する際に使用される成膜装置に関するものである。特に、本発明に係る成膜装置は、基板に対して、薄膜の原料ミストを噴射するミスト噴射用ノズルを有し、当該ミスト噴射により、基板に薄膜を成膜する。ここで、本発明では、気化されたガスを基板に対して晒すことにより、当該基板上に薄膜を成膜するものでなく、液状のミストを基板に対して吹き付けることにより、当該基板上に薄膜を成膜するものである。なお、本明細書では、液状のミストとは、液滴の粒径が100μm以下のものである。また、気体でなく、液状であればミストの粒径の下限は、特に限定される必要はない。しかしながら、たとえば一例を挙げるなら、当該ミストの下限は0.1μm程度である。以下、この発明をその実施の形態を示す図面に基づいて具体的に説明する。<実施の形態1>図1は、本実施の形態に係る成膜装置が備える、ミスト噴射用ノズル1の外観構成を示す斜視図である。図1には、座標軸X-Y-Zも併記している。図2は、成膜装置全体の概略構成を示す断面図である。ここで、図2は、図1の構成をY方向から眺めた時の断面図である。なお、図面簡略化のため、図1では、図2で示している、ミスト発生器2、各種配管3,4,5,6、ミスト供給口5a、キャリアガス供給口6aおよび第一の噴射口8の図示を省略している。また、図2において、X-Z座標系を併記している。図1の構成例では、一辺が1m以上の矩形状の基板100上に薄膜を成膜するために、ミスト噴射用ノズル1を、当該基板100の上方に位置させている。そして、ミスト噴射用ノズル1は、基板100の上面に対して、成膜の原料となるミストを噴射する。ここで、当該噴射を行いながら、たとえば基板100を水平方向に移動させる。当該移動を伴うミスト噴射により、基板100の上面全面に、ミストを噴射させることができ、結果として基板100上面全面に、均一な薄膜を成膜することができる。ここで、基板100は、成膜温度まで加熱されている。また、ミスト噴射の際における基板100の上面とミスト噴射用ノズル1の端部との距離は、たとえば、数十mm以下程度である。図2に示すように、成膜装置は、ミスト噴射用ノズル1とミスト発生器2とを備えている。図2に示すように、ミスト噴射用ノズル1は、中空部1Hを有する本体部1Aにより構成されている。本体部1Aは、図1,2に示すように、X方向の幅が短くたとえば、数cm程度、Y方向の奥行きが長くY方向の基板100の寸法より少し長い程度であり、たとえば1m以上、Z方向の高さは少し高めたとえば、10~20cm程度の、略直方体の概略外観を有する。当該本体部1Aは、たとえばステンレス製であっても良いが、軽量化の観点からはアルミニウム製を採用しても良い。また、アルミニウム製の場合には、本体部1Aの耐腐食性向上させるために、コーティングを行うことが望ましい。図2に示すように、本体部1Aには、ミスト供給口5a、キャリアガス供給口6aおよび噴射口第一の噴射口と把握できる8が穿設されている。ミスト供給口5aは、本体部1Aの側壁に設けられており、ミスト発生器2で発生したミストを本体部1Aの中空部1H内へ供給する、ミストの入口となる。図2に示すように、本実施の形態では、ミスト発生器2で発生したミストは、ミスト配管5を通って、ミスト供給口5aに到達し、当該ミスト供給口5aから本体部1Aの内部に供給される。ここで、ミスト供給口5aの数は、1個であっても良く、本体部1Aの側壁において、Y方向に沿って2個以上設けられていても良いが、ミスト噴射用ノズル1の構成簡略化の観点から、ミスト供給口5aの数は少ない方が好ましい。また、ミスト供給口5aの数に合わせて、当然、各ミスト供給口5aとミスト発生器2とを接続する、ミスト配管5が各々配設される。また、ミスト供給口5aの開口面積およびミスト配管5の開口面積は小さすぎると、ミストの目詰まりの原因となる。したがって、ミスト供給口5aの開口面積およびミスト配管5の開口面積は、当該目詰まり防止が可能な程度の大きさであれば良い。噴射口8は、本体部1A内部のミストを、基板100に向けて噴射する、ミストの出口となる。したがって、噴射口8は、ミスト噴射の際に、基板100の上面薄膜形成面に面する本体部1Aの面に形成されている。つまり、噴射口8は、本体部1Aの下面側に形成されている。噴射口8のX方向の幅は、本体部1Aの中空部1HのX方向の幅よりも狭くなっている。たとえば、噴射口8のX方向の幅は、1~2mm程度である。また、噴射口8の開口形状は、スリット状であり、噴射口8のY方向の寸法は、本体部1AのY方向の寸法より少し小さめ程度である。そして、Y方向における噴射口8の両端には、薄厚の本体部1Aが存在している。図2に示す構成例では、キャリアガス供給口6aは、本体部1Aの噴射口8に対向する面つまり、本体部1Aの上面側に設けられているなお、後述するように、キャリアガス供給口6aが第一の空間1Sと接続されていれば、当該キャリアガス供給口6aは、本体部1Aの側面側に配設されていても良い。当該キャリアガス供給口6aは、ミスト噴射用ノズル1の外側からキャリアガスを本体部1Aの中空部1H内へ供給する、キャリアガスの入口となる。図2に示すように、キャリアガスは、キャリアガス配管6を通って、キャリアガス供給口6aに到達し、当該キャリアガス供給口6aから本体部1Aの内部に供給される。ここで、キャリアガスとは、本体部1Aの中空部1Hに滞留しているミストを、噴射口8へ搬送し、当該噴射口8から噴出させるためのガスである。当該キャリアガスとして、たとえば、空気、窒素や不活性ガスなどを採用することができる。ここで、キャリアガス供給口6aの数は、1個であっても良く、本体部1Aにおいて、2個以上設けられていても良いが、ミスト噴射用ノズル1の構成簡略化の観点から、キャリアガス供給口6aの数は少ない方が好ましい。また、キャリアガス供給口6aの数に合わせて、当然、各キャリアガス供給口6aと接続する、キャリアガス配管6が各々配設される。また、キャリアガス供給口6aの開口面積およびキャリアガス配管6の開口面積は大きすぎると、構成拡大の原因となる。したがって、シャワープレート7に穿設された孔7aの開口面積との後述する関係を満たすように、キャリアガス供給口6aの開口面積およびキャリアガス配管6の開口面積は、できる限り小さい方が好ましい。また、ミスト噴射用ノズル1には、シャワープレート7が配設されている。図1,2に示すように、シャワープレート7は、本体部1Aの中空部1H内に配設されている。また、図2にから分かるように、シャワープレート7により当該中空部1Hは、二つの空間1S,1Tに分割される。つまり、中空部1H内において、シャワープレート7は、第一の空間1Sと第二の空間1Tとを仕切っている。図3は、シャワープレート7のX-Y平面の平面図である。シャワープレート7は、薄厚のプレートであり、たとえばステンレス製のものを採用できる。図3に例示する構成では、シャワープレート7には複数の孔7aが均等図3と異なり、均等でなくても良いに穿設されている。ここで、図3に示す一構成例では、各孔7aの開口形状は丸形であり、各孔7aは互い違いになるように配列されている。また、各孔7aは、シャワープレート7の厚さ方向に貫通している。なお、孔7aを通るのは気体であるキャリアガスである。したがって、各7aの開口径は、微小にできる。各孔7aの開口径は限定されることは無いが、一例としてたとえば0.01mm程度である。図2に示すように、キャリアガス供給口6aは第一の空間1Sと接続されており、噴射口8およびミスト供給口5aは第二の空間1Tに接続されている。キャリアガス供給口6aから供給されたキャリアガスは、シャワープレート7の存在により、第一の空間1Sに拡散充満するとともに、孔7aを通って第二の空間1Tへと均一に導かれる。一方、ミスト供給口5aから供給され第二の空間1Tで充満しているミストは、当該キャリアガスの流れに伴って、噴射口8へと導かれ、当該噴射口8から均一に噴射される。図2に示すミスト発生器2では、原料溶液配管4を通って、成膜される薄膜の原料を溶解させた原料溶液が供給される。ミスト発生器2では、当該供給された原料溶液をミスト状霧化にする。そして、キャリアガス配管3から搬送されるキャリアガスの流れに従って、ミスト発生器2は、霧化した原料であるミストを、ミスト配管5を通して、ミスト噴射用ノズル1内へと供給する。ここで、当該キャリアガスとして、たとえば、空気、窒素や不活性ガスなどを採用することができる。以上のように、本実施の形態に係る成膜装置では、ミスト噴射用ノズル1において、中空部1H内に多数の孔7aを有するシャワープレート7を配設し、当該シャワープレート7よりもキャリアガスの下流側であり、噴射口8よりもキャリアガスの上流側に、ミスト供給口5aが形成されている。したがって、第一の空間1S内に供給拡散されたキャリアガスは、シャワープレート7を経ることにより、均一化されて、第二の空間1T内へと流れ込む。そして、第二の空間1T内に供給され滞留しているミストは、当該キャリアガスにより整流均一化され、噴射口8へと伝搬され押し流され、均一化されたミストがキャリアガスと共に、噴射口8から基板100に向けて噴出させることができる。このように、均一なミストを加熱状態の基板100に吹き付けることにより、基板100の上面には、所望の薄膜を均一に成膜することができる。さらに、上記のように、シャワープレート7の存在により、特許文献1に係る技術のように、ミスト配管5の開口面積や数およびミスト供給口5aの開口面積や数を大きくしなくても、噴射口8から均一なミストを噴射することができる。したがって、ミスト配管5の開口面積や数およびミスト供給口5aの開口面積や数を小さくでき、ミスト噴射用ノズル1周辺の構成の肥大化を防止することができる。よって、ミスト噴出用ノズル1周辺のメンテナンス性が向上し、ミスト噴出用ノズル1の組立も簡単となり、さらに製造コストも低減できる。なお、キャリアガスもシャワープレート7の存在により、キャリアガス配管6の開口面積や数およびキャリアガス供給口6aの開口面積や数を小さくしても、第一の空間1Sに拡散されたキャリアガスを、第二の空間1T内に均一な状態で送り込むことが可能となる。また、図4に示すように、ミスト供給口5aを、第二の空間1Tでなく、第一の空間1Sに接続される構成も考えられる。しかし、当該図4に示す構成を採用した場合には、シャワープレート7に穿設された孔7aにおいて、ミストによる目詰まりが発生する可能性がある。これに対して、図2に示すように、シャワープレート7よりもキャリアガスの下流側につまり、第二の空間1Tに接続するようにミスト供給口5aを本体部1Aに設けることにより、シャワープレート7に穿設された孔7aにおいてミストによる目詰まりが発生することを防止できる。なお、当該図2の構成では、シャワープレート7に穿設された孔7aには、キャリアガスが流れる。しかし、キャリアガスは気体であるので、当該孔7aでキャリアガスによる目詰まりが発生することは無い。また、図4に示すように、噴射口8の開口幅X方向の幅を中空部1Hの幅X方向の幅よりも絞る構成を採用することにより、噴射口8から、より均一化したミストを噴射させることができる。<実施の形態2>本実施の形態では、シャワープレート7に形成された孔7aの開口面積と、キャリアガス供給口6aの開口面積との関係について説明する。つまり、本実施の形態では、シャワープレート7に形成された複数の孔7aの開口面積の総和は、キャリアガス供給口6aの開口面積よりも、小さい。ここで、キャリアガス供給口6aが2つ以上ある場合には、孔7aの開口面積の総和は、キャリアガス供給口6aの開口面積の総和よりも、小さい。当該構成を採用することにより、第一の空間1Sにおいて、キャリアガスを拡散させつつ、シャワープレート7の孔7aから均一な流量のキャリアガスを、第二の空間1T内へ送り出すことができる。<実施の形態3>本実施の形態に係る成膜装置の構成を、図5に示す。図5に示すように、本実施の形態では、ミスト配管5が省略されており、ミスト噴射用ノズル1には直接、ミスト発生器2が接続されている。図6に示すように、本体部1Aの側面には、長方形のミスト供給口5aが穿設されている。そして、図5に示すように、本体部1Aの側面には直接、当該ミスト供給口5aを塞ぐように、ミスト発生器2が接続されている。ここで、本体部1Aとミスト発生器2とは、たとえばボルト等の締結手段を用いて、直接接続されている。なお、上記以外の構成は、実施の形態1に係る成膜装置と本実施の形態に係る成膜装置とは、同じである。本実施の形態では、ミスト発生器2でミスト化された原料溶液は、ミスト配管を介さず直接、キャリアガスに伝搬されてミスト噴射用ノズル1内部へと供給される。したがって、図2で示したミスト配管5を省略することができ、成膜装置の構成をより簡略化でき、当該成膜装置の製造コストの低減もより図ることができ、成膜装置の組立も簡易となる。また、図2に示す構成の場合には、ミスト発生器2で発生したミストをミスト配管5で絞られ、第二の空間1Tへと供給されるが、本実施の形態では、ミストを絞ること無く、ミスト発生器2で生成したミストを第二の空間1T内へと送り込むことができる。したがって、実施の形態1に係る構成と比較して、本実施の形態に係る構成の方が、ミストの供給効率をより向上させることができる。また、ミスト配管5の省略により、本実施の形態に係る成膜装置では、ミスト配管5におけるミストの凝縮等を発生することも、当然無くなる。なお、本実施の形態では、本体部1Aに長方形Y方向に長いミスト供給口5aを穿設することにより、複数のミスト配管を配設することなく、第二の空間1T内の広い範囲にミストを供給することができる。<実施の形態4>本実施の形態に係る成膜装置の構成を、図7に示す。図7に示すように、本実施の形態では、本体部1Aに温度調整部が設けられている。なお、当該温度調整部9が設けられている以外の構成は、上記他の実施の形態に係る成膜装置と本実施の形態に係る成膜装置とは、同じである。図7に示す構成では、温度調整部9は、噴射口8周辺の本体部1Aに形成されている。当該温度調整部9として、流路を採用することができる。当該流路に温度調整された流体を循環させることにより、中空部1H内の温度を調整することができる。ここで、当該温度調整は、中空部1H内でミストが凝集せず、当該中空部1H内でミストが反応、分解、成膜しない温度範囲で加熱または冷却が実施される。ここで、温度調整部9により調整される温度は、基板100の加熱温度や、ミストの成分である薄膜の原料の種類によって変わる。ミストは、温度の低いミスト噴射用ノズル1の内壁に接触すると凝集することがある。当該ミストの凝集は、ミストの均一噴射を妨げ、またはミスト凝集液の基板100上への落下などを引き起こす。また、ミスト噴射用ノズル1内部でのミストが凝集すると、薄膜の原料の使用効率が低下する。他方、ミスト噴射用ノズル1が高温になりすぎると、ミスト噴射用ノズル1内でミストの原料が分解成膜し、あるいは分解しないまでもミストの溶媒が気化し原料が析出する。当該現象においても、ミストの均一噴射の妨げや薄膜の原料の使用効率の低下等を引き起こす。そこで、本実施の形態に係る成膜装置では、ミスト噴射用ノズル1は、温度調整部9を備えている。したがって、ミスト噴射用ノズル1内において、ミストが凝集せず、尚且つミストが気化分解しない適切な温度に保つことができる。なお、図7の構成は、図5の構成に温度調整部9を付加した構成であったが、図2に示した構成において、上記と同じ態様で温度調整部9を付加する構成も、当然採用できる図8参照。また、図7,8の構成では、温度調整部9は、噴射口8周辺の本体部1Aに形成されている。基板100が加熱されるが、当該加熱の影響を、本体部1Aの噴射口8付近が最も受ける。そこで、少なくとも、温度調整部9を噴射口8周辺の本体部1Aに設けることにより、本体部1Aの構造の複雑化または拡大を防止しつつ、中空部1H内部の温度特に、噴射口8付近の温度を適温ミストの凝集、ミストの分解析出等が発生しない温度範囲に調整することができる。また、図9,10に示すように、本体部1Aの壁部全面または、少なくとも第二の空間1Tに面する本体部1Aの壁部全体に、均一に温度調整部9を配設しても良い。当該9,10に示す構成を採用することにより、中空部1Hまたは第二の空間1T内全体の温度を、図7,8に示す構成よりも、より適温に調整することができる。つまり、図9,10に示す構成では、中空部1Hにおけるミストの凝集分解析出等の減少を完全に防止できる。なお、上記では、温度調整部9の一例として温度調整された流体が流れることができる流路を列記したが、中空部1H内の温度調整が可能なものであれば他の構成たとえば、ヒートパイプ、クールプレートやホットプレートなどの構成体を採用することもできる。<実施の形態5>本実施の形態に係る成膜装置の構成を、図11に示す。なお、図11の構成をZ方向から眺めた平面図を図12に示す。なお、図12では、図面簡略化の観点から、ミスト発生器2や各種配管3,4,6,11等の図示を省略している。図11,12に示すように、本実施の形態に係る成膜装置は、ミスト噴射用ノズル1に加えて、反応促進ガス噴射用ノズル10を備えている。ここで、図11の構成例では、ミスト噴射用ノズル1として図7に示したノズルを例示している。ミスト噴射用ノズル1の構成については、上記までの各実施の形態で説明しているので、ここでの説明は省略する。図11に示すように、基板100に対する薄膜成膜の際に、ミスト噴射用ノズル1と同様に、反応促進ガス噴射用ノズル10は基板100の上方に配置される。そして、ミスト噴射用ノズル1が基板100の上面に対してミストを噴射する一方で、反応促進ガス噴射用ノズル10は、当該基板100の上面に対して反応促進ガスを噴射する。ここで、反応促進ガスとは、成膜原料を含むミストの分解反応を促進するガスであり、活性ガスを採用できる。反応促進ガスの具体例としては、たとえば、オゾン、アンモニアまたは過酸化水素などが挙げられる。上記ミストおよび反応促進ガスの噴射を行いながら、たとえば基板100を水平方向図12のX方向に移動させる。また、後述するように、反応促進ガスの噴射口第二の噴射口と把握できる13は、噴射したミストと噴射した反応促進ガスとは基板100の上面付近で混合できるように、ミストの噴射口8と隣り合っている。前記ミストと前記反応促進ガスとの基板100上面付近における混合を可能せしめるためには、噴射口8と噴射口13とは、数mm程度の距離の範囲で隣り合っていることが好ましい。また、ミストの噴射方向と反応促進ガスの噴射方向とが基板100上面付近で交差するような形状を、噴射口8および/または噴射口13は有していることが望ましい。なお、ミストおよび反応促進ガス噴射の際において、基板100の上面から噴射口8までの距離および基板100の上面から噴射口13までの距離は共に、同じであることが好ましく、当該距離は、数mmたとえば、1~2mm程度である。また、ミストの噴射力ミストの噴射流量と反応促進ガスの噴射力反応促進ガスの噴射流量とは、たとえば同じであるなお、ミストの噴射力ミストの噴射流量と反応促進ガスの噴射力反応促進ガスの噴射流量とは異なっていても良い。図11に示すように、反応促進ガス噴射用ノズル10は、中空部10Hを有する本体部10Aにより構成されている。本体部10Aは、図11,12に示すように、X方向の幅が短くたとえば、数cm程度、Y方向の奥行きが長くY方向のミスト噴射用ノズル1の寸法と同じであり、たとえば1m以上、Z方向の高さは、特に限定されないが、図11の構成例では、ミスト噴射用ノズル1のZ軸方向の高さよりも低くなっている、略直方体の概略外観を有する。図11に示すように、本体部10Aには、噴射口13および反応促進ガス供給口11aが穿設されている。噴射口13は、本体部10A内部の反応促進ガスを、基板100に向けて噴射する、反応促進ガスの出口となる。したがって、噴射口13は、反応促進ガス噴射の際に、基板100の上面薄膜形成面に面する本体部10Aの面に形成されている。つまり、噴射口13は、本体部10Aの下面側に形成されている。噴射口13のX方向の幅は、本体部10Aの中空部10HのX方向の幅よりも狭くなっている。たとえば、噴射口13のX方向の幅は、1~2mm程度である。また、噴射口13の開口形状は、スリット状であり、噴射口13のY方向の寸法は、噴射口8のY方向の寸法と同じである。そして、Y方向における噴射口13の両端には、薄厚の本体部10Aが存在している。図11に例示する構成例では、反応促進ガス供給口11aは、本体部10Aの噴射口13に対向する面つまり、本体部10Aの上面側に設けられているなお、反応促進ガス供給口11aは本体部10Aの側面側に配設されていても良い。当該反応促進ガス供給口11aは、反応促進ガス噴射用ノズル10の外側から反応促進ガスを本体部10Aの中空部10H内へ供給する、反応促進ガスの入口となる。図11に示すように、反応促進ガスは、反応促進ガス配管11を通って、反応促進ガス供給口11aに到達し、当該反応促進ガス供給口11aから本体部10Aの内部に供給される。ここで、反応促進ガス供給口11aの数は、1個であっても良く、本体部10Aの上面において、Y方向に沿って2個以上設けられていても良いが、反応促進ガス噴射用ノズル10の構成簡略化の観点から、反応促進ガス供給口11aの数は少ない方が好ましい。また、反応促進ガス供給口11aの数に合わせて、当然、各反応促進ガス供給口11aと接続する、反応促進ガス配管11が各々配設される。また、反応促進ガス供給口11aの開口面積および反応促進ガス配管11の開口面積は大きすぎると、構成拡大の原因となる。したがって、シャワープレート71に穿設された孔71aの総開口面積よりも反応促進ガス供給口11aの総開口面積が大きくなることが望ましく、当該関係を満たす範囲で、反応促進ガス供給口11aの開口面積はできる限り小さい方が好ましい。また、反応促進ガス噴射用ノズル10には、シャワープレート71が配設されている。図11に示すように、シャワープレート71は、本体部10Aの中空部10H内に配設されている。また、図11にから分かるように、シャワープレート71により当該中空部10Hは、二つの空間10S,10Tに分割される。つまり、中空部10H内において、シャワープレート71は、第一の空間10Sと第二の空間10Tとを仕切っている。なお、シャワープレート71の平面形状孔71aの形成状態も含めては、図3で示したシャワープレート7の平面形状と同じである。シャワープレート71は、薄厚のプレートであり、たとえばステンレス製のものを採用できる。図3に示したように、シャワープレート71には複数の孔71aが均等に穿設されている。各孔71aは、シャワープレート71の厚さ方向に貫通している。なお、孔71aを通るのは気体である反応促進ガスである。したがって、各71aの開口径は、微小にできる。各孔71aの開口径は限定されることは無いが、一例としてたとえば0.01mm程度である。図11に示すように、反応促進ガス供給口11aは第一の空間10Sと接続されており、噴射口13は第二の空間10Tに接続されている。反応促進ガス供給口11aから供給された反応促進ガスは、シャワープレート71の存在により、第一の空間10Sに拡散充満するとともに、孔71aを通って第二の空間10Tへと均一に導かれる。そして、孔71aを通った反応促進ガスは、均一な整流を維持しながら第二の空間10T内を伝搬し、噴射口13へと導かれ、当該噴射口13から均一に噴射される。反応性が高いガスである反応促進ガスを使用すると、原料ミストの分解反応を促進することができるため、低温で高品質な薄膜を基板100に対して成膜でき、有益である。たとえば、ミスト噴射用ノズル1内で、ミストと反応促進ガスとを混合する構成も採用することは可能である。しかしながら、反応促進ガスの反応性の高さから、ミスト噴射用ノズル1内でミストが分解される。当該ミストの分解は、噴射するミストの均一性悪化や原料ミスト使用効率悪化つまり、基板100に薄膜を成膜する際に、多くの原料が必要となるに繋がる。そこで、本実施の形態に係る成膜装置では、反応促進ガス噴射用ノズル10をさらに備えている。そして、反応促進ガス噴射用ノズル10は反応促進ガスを噴射する噴射口13を備えており、当該噴射口13は、ミストを噴射する噴射口8と隣り合って配設されている。したがって、本実施の形態に係る成膜装置では、ミスト噴射用ノズル1外である基板100の上面付近において、ミストと反応促進ガスとを混合させることができる。これにより、ミストの均一性悪化や原料使用効率悪化等の問題を発生させることなく、ミストの分解反応が促進される。なお、図11の構成では、反応促進ガス噴射用ノズル10は、図7に示したミスト噴射用ノズル1に隣接させていた。しかしながら、本実施の形態に係る反応促進ガス噴射用ノズル10は、上記までで説明した他の形態構成のミスト噴射用ノズル1図2、図5、図8、図9および図10などで図示した、各ミスト噴射用ノズル1に隣接させても良い。<実施の形態6>本実施の形態に係る成膜装置の構成を、図13に示す。なお、図13の構成をZ方向から眺めた平面図を図14に示す。なお、図14では、図面簡略化の観点から、ミスト発生器2や各種配管3,4,6,11,15等の図示を省略している。図13,14に示すように、本実施の形態に係る成膜装置は、ミスト噴射用ノズル1および反応促進ガス噴射用ノズル10に加えて、排気ノズル14を備えている。ここで、図13の構成例では、ミスト噴射用ノズル1として図7に示したノズル、反応促進ガス噴射用ノズル10として図11で示したノズルを例示している。ミスト噴射用ノズル1および反応促進ガス噴射用ノズル10の構成については、上記までの各実施の形態で説明しているので、ここでの説明は省略する。図13に示すように、基板100に対する薄膜成膜の際に、ミスト噴射用ノズル1および反応促進ガス噴射用ノズル10と同様に、排気ノズル14は基板100の上方に配置される。そして、ミスト噴射用ノズル1が基板100の上面に対してミストを噴射し、反応促進ガス噴射用ノズル10が基板100の上面に対して反応促進ガスを噴射する一方で、排気ノズル14は、当該基板100の上方の領域の吸引排気を行う。上記ミストおよび反応促進ガスの噴射を行い、排気処理をも行いながら、たとえば基板100を水平方向図14のX方向に移動させる。また、排気ノズル14の排気口16を起点として、一方向図13,14ではX方向に、排気口16、反応促進ガスの噴射口13およびミストの噴射口8が隣り合っている。なお、ミストおよび反応促進ガス噴射および排気処理の際において、基板100の上面から噴射口8までの距離、基板100の上面から噴射口13までの距離、および基板100の上面から排気口16までの距離は共に、同じであることが好ましく、当該距離は、数mmたとえば、1~2mm程度である。また、ミストの噴射力ミストの噴射流量と反応促進ガスの噴射力反応促進ガスの噴射流量と排気力排気流量とは、たとえば同じである。図13に示すように、排気ノズル14は、中空部14Hを有する本体部14Aにより構成されている。本体部14Aは、図13,14に示すように、X方向の幅が短くたとえば、数cm程度、Y方向の奥行きが長くY方向のミスト噴射用ノズル1およびY方向の反応促進ガス噴射用ノズル10の寸法と同じであり、たとえば1m以上、Z方向の高さは、特に限定されないが、図13の構成例では、ミスト噴射用ノズル1のZ軸方向の高さよりも低くなっており、反応促進ガス噴射用ノズル10のZ軸方向の高さと同じである。当該本体部14Aも略直方体の概略外観を有する。図13に示すように、本体部14Aには、排気口16および排気配管接続部15aが穿設されている。排気口16は、少なくとも、基板100上面と各ノズル1,10,14との間に生成される空間に存する気体液体固体を、本体部14A内に吸引する。したがって、排気口16は、排気処理の際に、基板100の上面薄膜形成面に面する本体部14Aの面に形成されている。つまり、排気口16は、本体部14Aの下面側に形成されている。排気口16のX方向の幅は、本体部14Aの中空部14HのX方向の幅よりも狭くなっている。たとえば、排気口16のX方向の幅は、1~2mm程度である。また、排気口16の開口形状は、スリット状であり、排気口16のY方向の寸法は、噴射口8および噴射口13のY方向の寸法と同じである。そして、Y方向における排気口16の両端には、薄厚の本体部14Aが存在している。排気配管接続部15aは、本体部14Aの排気口16に対向する面つまり、本体部14Aの上面側に設けられている。排気口16が吸引した固体液体気体は、排気配管接続部15aから排気配管15を介して、排気ノズル14の外側で、基板100から離れた場所へと排気される。ここで、排気配管接続部15aの数は、1個であっても良く、本体部14Aの上面において、Y方向に沿って2個以上設けられていても良いが、排気ノズル14の構成簡略化の観点から、排気配管接続部15aの数は少ない方が好ましい。また、排気配管接続部15aの数に合わせて、当然、各排気配管接続部15aと接続する、排気配管15が各々配設される。また、排気配管接続部15aの開口面積および排気配管14の開口面積は大きすぎると、構成拡大の原因となるので、可能な限り小さくできる方が好ましい。本実施の形態に係る成膜装置では、排気ノズル14をさらに備えている。したがって、ミスト噴射用ノズル1から噴射されたミストおよび反応促進ガス噴射用ノズル10から噴射された反応促進ガスが、当該排気ノズル14へと流れる均一な流れつまり、基板100の上面と平行な水平方向X方向に流れる均一な流れを作り出すことができる。これにより、当該流れの経路の基板100の上方において、ミストと反応促進ガスとの混合を促進させることができる。上記ミストと反応促進ガスとの混合の促進を図るためには、図13に示すように、排気口16を起点として、一方向図13では右方向に沿って、排気口16、噴射口13および噴射口8が隣り合っていることが必要である。つまり、排気口16の一方側たとえば図13の右側または左側に噴射口8のみを配設し、排気口16の他方側図13の左側または右側に噴射口13のみを配設する構成は、当該混合促進の観点からは望ましくない。これでは、一方の噴射口8または13から排気口16に至る経路において、他方の噴射口13または8が存在しないこととなり、ミストと反応促進ガスとの混合が抑制される。また、図13では、排気口16、噴射口13および噴射口8は、当該順に隣り合っているが、排気口16、噴射口8および噴射口13が当該順に隣り合っていても良い。また、上述したように、排気口16の一方側たとえば図13の右側または左側に噴射口8のみを配設し、排気口16の他方側図13の左側または右側に噴射口13のみを配設する構成は、当該混合促進の観点からは望ましくない。しかしながら、次の構成では、ミストと反応促進ガスとの混合が促進されるので、採用できる。つまり、排気口16の一方側たとえば図13の右側に噴射口8と噴射口13とのワンセットを隣接させて配設し、排気口16の他方側図13の左側に同じく噴射口8と噴射口13とのワンセットを配設する構成は、採用できる。当該構成においても、排気口16を起点として、一方向に、排気口16、噴射口8および噴射口13が隣り合っている構成が実現されるからである。また、図13の構成と異なるが、当該図13の構成において反応促進ガス噴出ノズル10を省略しても良い。当該構成では、噴射口8および排気口16のみが隣り合って配設される。ミストは、ミスト噴射用ノズル1から噴出した直後は図13のZ軸方向に均一化されているが、その後基板100との衝突などにより均一性が悪化し得る。当該均一性の悪化は、基板100上面に成膜される薄膜の不均一性の要因となる。そこで、図13において噴射口8と排気口16とを隣り合わせて配置させることにより、基板100の上面と平行な水平方向X-Y方向において、ミストを一様均一にに吸引することができる。つまり、排気口16による吸引により、ミスト噴射用ノズル1から噴射したミストを、排気口16に至るX-Y水平方向において均一に流す流れを生成できる。したがって、基板100上面に成膜される薄膜の均一性向上を図ることができる。なお、図13の構成では、図7に示したミスト噴射用ノズル1を用いて構成されていた。しかしながら、本実施の形態に係るミスト噴射用ノズル1として、上記までで説明した他の形態構成のミスト噴射用ノズル1図2、図5、図8、図9および図10などで図示した、各ミスト噴射用ノズル1を採用しても良い。また、排気ノズル14の排気力が強すぎると、基板100上面におけるミストの反応分解が、少なくなる。他方、排気ノズル14の排気力が弱すぎると、当該排気ノズル14に至るミストの流れの均一性が向上しない。そこで、ミストの反応分解効率の向上およびミストの流れの均一性の向上の観点から、排気ノズル14の排気力は、ミスト噴射用ノズル1の噴射力と同じであることが望ましい。<実施の形態7>本実施の形態に係る成膜装置の構成を、図15に示す。図15に示すように、本実施の形態に係る成膜装置は、図13に示した構成に加えて、二つ目のミスト噴射用ノズル1を備えている。つまり、本実施の形態では、複数のミスト噴射用ノズル1を備えている。ミスト噴射用ノズル1の数が増えた以外は、図15に示す構成と図13で示した構成とは同じである。また、図15の構成例では、ミスト噴射用ノズル1として図7に示したノズルを例示している。したがって、各ノズル1,10,14の構成は、上記までの各実施の形態で説明しているので、ここでの説明は省略する。図15の構成では、各噴射口8,13および排気口16は、隣り合って配置されている。ここで、実施の形態6で説明したように、本実施の形態においても、排気ノズル14の排気口16を起点として、一方向図15ではX方向に、排気口16、反応促進ガスの噴射口13および二つのミストの噴射口8が隣り合っている。本実施の形態に係る成膜装置では、複数のミスト噴射用ノズル1を備えている。したがって、基板100に2種類以上のミストを別々に噴射することができる。たとえば、一方のミスト噴射用ノズル1から、成膜される薄膜の原料を含む原料ミストを噴射し、他方のミスト噴射用ノズル1から、ミストの反応促進効果のある液体たとえば過酸化水素水から成るミストを噴射することができる。これにより、図13の構成よりも、薄膜原料を含むミストの基板100上面における反応分解が促進させることができる。または、成膜される薄膜の原料が2種類上の元素から構成される場合、各元素毎に、当該元素を含むミストを、基板100に対して別々に噴射させることができる。たとえば、原料溶液をミスト化しミストを生成するが、当該原料溶液には、当然溶媒が必要となる。ここで、一方の元素に適する溶媒が、他方の元素に適さない溶媒であることなどがある。このようなケースでは、本実施の形態に係る成膜装置を適用し、各ミスト噴射ノズル1から別々に異なる元素を含むミストを噴射させ、基板100上面で各ミストを混合させる構成が望まれる。または、たとえば、2種類以上の固体を含むミストを基板100上面に噴射させる場合において、一つのミスト噴射用ノズル1のみを用いて、当該ミストを噴射させることもできる。しかしながら、当該構成を採用したときには、ミスト噴射用ノズル1内部で2種類の固体が混合し、反応を行うこともケースもあり得る。当該ミスト噴射用ノズル1内部での異なる固体同士の反応は、薄膜の不均一性や原料使用効率の悪化などを引き起こす。そこで、本実施の形態に係る成膜装置を適用することにより、各ミスト噴射用ノズル1内部には、1種類の固体のみから成るミストのみを存在させることができ、前記の問題は解決する。また、図15では、排気口16の右隣において、噴射口13および一方の噴射口8および他方の噴射口8が、当該順に隣り合っているが、一方の噴射口8と他方の噴射口8との間に噴射口13を配置させても良い。また、図15に示す、複数の噴射口8と噴射口13とをワンセットして、排気口16の一方側たとえば図15の右側に当該ワンセットを隣接させて配設し、排気口16の他方側図15の左側に他の当該ワンセットを配設する構成を、採用しても良い。当該構成においても、排気口16を起点として、一方向に、排気口16、各噴射口8および噴射口13が隣り合っている構成が実現されるからである。また、図15の構成において、当該図13の構成において反応促進ガス噴出ノズル10および/または排気ノズル14を省略しても良い。なお、図15の構成では、各ミスト噴射用ノズル1は、図7に示した構成を有していた。しかしながら、各ミスト噴射用ノズル1としては、上記までで説明した他の形態構成のミスト噴射用ノズル1図2、図5、図8、図9および図10などで図示した、各ミスト噴射用ノズル1を採用しても良い。また、各ミスト噴射用1は、各々異なる構成のものを採用しても良い。また、図15の構成例では、2つのミスト噴射用ノズル1が図示されている。しかしながら、ミスト噴射用ノズル1は、3以上あっても良い。これにより、基板100に噴射するミストのバリエーションが増える。この発明は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。"