"一般式IR1及びR2はお互い独立して以下の式R-1から式R-15の何れかを表し、X1~X10はお互い独立して水素原子、ハロゲノ基、シアノ基、ニトロ基又は炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖状であるか又は分岐を有しており、該アルキル基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は酸素原子、-CH=CH-、-C≡C-、-COO-、-CO-又は-S-で置き換えられてもよく、該アルキル基中の水素原子はハロゲノ基で置き換えられても良く、nは1又は2を表し、X7~X10が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良い。で表わされる重合性化合物。一般式Iにおいて、X1~X10が水素原子、ハロゲノ基、シアノ基、炭素原子数1~8のアルキル基又は炭素原子数1~8のアルコキシ基を表し、該アルキル基及びアルケニル基が直鎖状であるか又は分岐を有している請求項1記載の重合性化合物。一般式Iにおいて、R1及びR2がお互いに独立して式R-1又は式R-2を表す請求項1又は2のいずれかに記載の重合性化合物。nが1を表す請求項1~3のいずれか一項に記載の重合性化合物。請求項1~4のいずれか1項に記載の般式Iで表される化合物を一種又は二種以上含有する重合性化合物含有液晶組成物。一般式II、b1,4-フェニレン基この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は窒素原子に置き換えられてもよい。、3-フルオロ-1,4-フェニレン基及び3,5-ジフルオロ-1,4-フェニレン基、及びc1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ2.2.2オクチレン基、ピペリジン-25-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基及び1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基からなる群より選ばれる基を表し、pは0、1又は2を表し、L21及びL22はお互い独立して単結合、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-、-CH=CH-、-CH=N-N=CH-又は-C≡C-を表し、L22が複数存在する場合は同一でも良く異なっていても良く、M23が複数存在する場合は同一でも良く異なっていても良い。で表される化合物を一種又は二種以上含有する請求項5記載の重合性化合物含有液晶組成物。一般式IIIa、一般式IIIb及び一般式IIIc、e1,4-フェニレン基この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置き換えられてもよい。、3-フルオロ-1,4-フェニレン基及び3,5-ジフルオロ-1,4-フェニレン基、及び、f1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ2.2.2オクチレン基、ピペリジン-25-ジイル基、ナフタレン-26-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基及びデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基からなる群より選ばれる基を表し、上記の基d、基e及び基fに含まれる水素原子はお互い独立してシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されていても良く、L31、L32、L33、L34、L35、L36、L37及びL38はお互い独立して単結合、-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-又は-C≡C-を表し、M32、M34、M35、M37、M38、L31、L33、L35、L36、及び/又はL38が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、X31、X32、X33、X34、X35、X36及びX37はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Y31、Y32及びY33はお互い独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、又はジフルオロメトキシ基を表し、X31、X32、又はY31のうち少なくともひとつはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、又はジフルオロメトキシ基を表すか、M31又はM32に含まれる水素原子のうち少なくともひとつはシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子を表し、X33、X34、X35又はY32のうち少なくともひとつはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基又はジフルオロメトキシ基を表すか、M33、M34又はM35、に含まれる水素原子のうち少なくともひとつはシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子を表し、X36、X37又はY33のうち少なくともひとつはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基又はジフルオロメトキシ基を表すか、M36、M37及びM38に含まれる水素原子のうち少なくともひとつはシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子を表し、a、b、c、d及びeはお互い独立して、0、1又は2を表すが、bc及びdeは2以下である。で表される化合物からなる群から選ばれる化合物を一種又は二種以上含有する請求項5又は6記載の重合性化合物含有液晶組成物。一般式IVa、一般式IVb及び一般式IVc式中R41、R42、R43、R44、R45及びR46はお互い独立して炭素原子数1から10のアルキル基又は炭素原子数2から10のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-又は-S-に置換されていても良く、またこれらの基中に存在する1個又は2個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良く、M41、M42、M43、M44、M45、M46、M47、M48及びM49はお互い独立して、dトランス1,4-シクロへキシレン基この基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-又は-S-に置き換えられてもよい。、e1,4-フェニレン基この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置き換えられてもよい。及び、f1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ2.2.2オクチレン基、ピペリジン-2,5-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基及びデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基からなる群より選ばれる基を表し、上記の基d、基e及び基fに含まれる水素原子はそれぞれシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されていても良く、L41、L42、L43、L44、L45、L46、L47、L48及びL49はお互い独立して単結合、-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-又は-C≡C-を表し、M42、M43、M45、M46、M48、M49、L41、L43、L44、L46、L47及び/又はL49が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、X41、X42はお互い独立してトリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又はフッ素原子を表し、X43、X44、X45、X46、X47、及びX48はお互い独立して水素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又はフッ素原子を表すが、X41及びX42の何れか一つはフッ素原子を表し、X43、X44及びX45の少なくとも一つはフッ素原子を表し、X46、X47及びX48の少なくとも一つはフッ素原子を表すが、X46及びX47は同時にフッ素原子を表すことはなく、X46及びX48は同時にフッ素原子を表すことはない、Gは-CH2-又は-O-を表し、f、g、h、i、j及びkはお互い独立して、0、1又は2を表すが、fg、hi及びjkは2以下である。で表される化合物からなる群から選ばれる化合物を一種又は二種以上を含有する請求項5又は6記載の重合性化合物含有液晶組成物。請求項5~8のいずれか一項に記載された重合性化合物含有液晶組成物を用いた液晶表示素子。請求項5~8のいずれか一項に記載された重合性化合物含有液晶組成物を重合し得られる高分子安定型液晶表示素子。請求項5~8のいずれか1項に記載される重合性液晶組成物の重合体により構成される光学異方体。請求項11記載の光学異方体を用いることを特徴とする液晶表示素子。本発明の課題は、重合性液晶組成物の硬化性の改善による生産性及び信頼性の向上、プレチルト角の安定性向上等の表示特性を改善した液晶表示素子を提供することであり、硬化速度が速く、液晶相温度範囲が広くかつ耐熱性が高い、偏向板、位相差板等の用途に有用な光学異方体を提供することである。本願発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有する重合性化合物が前述の課題を解決できることを見出し、本願発明を完成するに至った。本願発明は、一般式IR1及びR2はお互い独立して以下の式R-1から式R-15の何れかを表し、X1~X10はお互い独立して水素原子、ハロゲノ基、シアノ基、ニトロ基又は炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖状であるか又は分岐を有しており、該アルキル基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は酸素原子、-CH=CH-、-C≡C-、-COO-、-CO-又は-S-で置き換えられてもよく、該アルキル基中の水素原子はハロゲノ基で置き換えられても良く、nは1又は2を表し、X7~X10が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良い。で表わされる重合性化合物を提供し、当該化合物を構成部材とする重合性液晶組成物、更に、当該重合性液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。本願発明の化合物は、紫外線吸収域が広いため重合開始剤を添加しなくても光又は熱による重合が可能であり、光開始剤由来の不純物がないため信頼性と生産性を両立させることが出来る。また、本発明の液晶組成物による液晶表示素子は、焼き付き特性やプレチルト角の安定性が従来の液晶表示素子と比較して大きく向上し、表示特性が改善された液晶表示素子の提供が可能となった。更に本願発明の重合性化合物は、他の重合性化合物及び液晶化合物との優れた溶解性を有することから重合性組成物の構成部材として有用である。又、本願発明の重合性化合物を含有する重合性成物は、硬化速度が速く、且つ液晶相温度範囲が広い。当該重合性組成物を用いた光学異方体は、耐熱性が高く、偏向板、位相差板等の用途に有用である。一般式Iにおいて、R1及びR2はお互い独立して重合性基を表すが、重合性基の具体的な例としては、下記に示す構造が挙げられる。これらの重合基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合、及びアニオン重合により硬化する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式R-1、式R-2、式R-4、式R-5、式R-7、式R-11、式R-13又は式R-15が好ましく、式R-1、式R-2、式R-7、式R-11又は式R-13がより好ましく、式R-1、式R-2がより好ましい。X1~X10はお互い独立して水素原子、ハロゲノ基、シアノ基、ニトロ基又は炭素原子数1~8のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖状であるか又は分岐を有しており、該アルキル基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は酸素原子、-CH=CH-、-C≡C-、-COO-、-CO-又は-S-で置き換えられてもよく、該アルキル基中の水素原子はハロゲノ基で置き換えられても良いが、安価に製造、液晶配向性の観点から、X1~X10は水素原子、ハロゲノ基及びシアノ基が好ましく、より好ましくは水素原子、ハロゲノ基であり、水素原子及びフッ素原子が更に好ましい。nは1及び2を表すが、より好ましくは1である。nが2を表す場合にはX7~X10が複数存在することとなるが、それらは同一でも良く異なっていても良い。一般式Iで表される化合物は、より具体的には、下記の一般式I-1~一般式I-31で表される化合物が好ましい。本発明の化合物は以下に記載する合成方法で合成することができる。製法1一般式I-4で表される化合物の製造6-ブロモ-2-ナフトールと2,3-ジフルオロ-4-メトキシフェニルホウ酸との鈴木カップリングによりフェニルナフタレン誘導体S-1を得て、次いで酢酸中、臭化水素酸によりメトキシ基をフェノール性水酸基に変換したジヒドロキシ化合物S-2を得る。更にメタクリル酸クロリドを用いたエステル化反応により、目的化合物I-4を得ることができる。製法2一般式I-8で表される化合物の製造7-ブロモ-4,5,6-トリフルオロ-3-ナフトールと3-フルオロ-4-メトキシフェニルホウ酸との鈴木カップリングによりフェニルナフタレン誘導体S-3を得て、次いで酢酸中、臭化水素酸によりメトキシ基をフェノール性水酸基に変換したジヒドロキシ化合物S-4を得る。更にメタクリル酸クロリドを用いたエステル化反応により、目的化合物I-8を得ることができる。製法3一般式I-14で表される化合物の製造サリチル酸と1-ヘプタノールとのエステル化反応によりサリチル酸誘導体S-5を得て、更に3,4-ジヒドロ-2H-ピランによりフェノールを保護した化合物S-6を得る。次いで、n-ブチルリチウム及びヨウ素によりヨードベンゼン誘導体S-7を得る。更にテトラヒドロピラニルエーテルで保護された6-ブロモ-2-ナフトールのグリニャール試薬とのクロスカップリング、塩酸による脱保護によりジヒドロキシ化合物S-8を得る。更にメタクリル酸クロリドを用いたエステル化反応により、目的化合物I-14を得ることができる。製法4一般式I-20で表される化合物の製造2-フルオロ4ブロモビフェニルと塩化アセチルとを塩化アルミニムIIIを用いたフリーデルクラフト反応を行い、更にギ酸と過酸化水素水による過ギ酸によりフッ素原子により置換したヒドロキシビフェニル化合物S-10を得る。次いで、3,4-ジヒドロ-2H-ピランによりフェノールを保護した化合物S-11を得て、更にテトラヒドロピラニルエーテルで保護された6-ブロモ-2-ナフトールのグリニャール試薬とのクロスカップリング、塩酸による脱保護によりジヒドロキシ化合物S-12を得る。得られたジヒドロキシ化合物S-12とアクリル酸クロリドを用いたエステル化反応により、目的化合物I-20を得ることができる。製法5一般式I-28で表される化合物の製造4-メトキシフェニルホウ酸と2-ブロモトルエンとの鈴木カップリングによりビフェニル誘導体S-13を得て、次いで、n-ブチルリチウム及びヨウ素によりヨードベンゼン誘導体S-14を得る。次にテトラヒドロピラニルエーテルで保護された6-ブロモ-2-ナフトールのグリニャール試薬とのクロスカップリング、塩酸による脱保護によりジヒドロキシ化合物S-15を得る。得られたジヒドロキシ化合物S-15と3-エチル3-ヒドロキシメチルオキセタン商品名EOXA,東亜合成社製との光延反応により目的化合物I-28を得ることができる。製法6一般式I-30で表される化合物の製造6-ブロモ-2-ナフトールと4-ヒドロキシフェニルホウ酸との鈴木カップリングによりフェニルナフタレン誘導体S-16を得て、マレイミド酢酸との脱水縮合剤を用いたエステル化反応により、目的化合物I-30を得ることができる。一般式Iで表される化合物は高分子安定型液晶表示素子用の重合性化合物含有液晶組成物や光学異方体用の重合性液晶組成物として使用することが可能である。一般式Iで表される化合物は、1~10種を使用することが好ましく、1~5種を使用することが好ましく、1~3種を使用することが好ましい。また、任意の範囲で他の重合性化合物とともに使用することもできる。本願発明以外の重合性化合物としては、化合物中にアクリロイルオキシ基R-1又はメタアクリロイルオキシ基R-2を有するものが好ましく、重合性官能基を分子内に2つ以上持つものがより好ましい。組み合わせて使用する重合性液晶化合物として、一般式V式中、R51は一般式IにおけるR1と同じ意味を表し、S51は、単結合、又は1~12個の炭素原子を有するアルキレン基を表すが、該アルキレン基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は、-O-、-COO-、-OCO-又は-OCOO-に置き換えられても良く、L51及びL52はお互い独立して、単結合、-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOOCH2-、-CH2OCOO-、-CO-NR53-、-NR53-CO-、-CH=N-、-SCH2-、-CH2S-、-CH=CH-COO-、-OOC-CH=CH-、-COOC2H4-、-OCOC2H4-、-C2H4OCO-、-C2H4COO-、-OCOCH2-、-CH2COO-、-CH=CH-、-C2H4-、-CF=CH-、-CH=CF-、-CF2-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2CH2-、-CH2CF2-、-CF2CF2-又は-C≡C-を表し式中、R53は炭素原子1~4のアルキル基を表す。、M51及びM52はお互い独立して、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基又は1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基を表すが、M51及びM52はお互い独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲノ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、lは0、1、2又は3を表し、L52が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、M52が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良い。A51は、H、F、Cl、CN、SCN、OCF3又は1~12個の炭素原子を有するアルキル基を表すが、該アルキル基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は、酸素原子、硫黄原子、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO、-CH=CH-又は-C≡C-で置換されて良く、又はA51は-L53-S52-R52式中、L53、S52、R52は独立してL51、S51、R51と同じ意味を表す。で表す化合物がこのましく、特に好ましい化合物は、L51、L52及びL53がお互い独立して、単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、M51及びM52がお互い独立して、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基又はナフタレン-2,6-ジイル基で表される化合物である。一般式Vで表される化合物は具体的には、一般式V-1~一般式V-41で表される化合物が好ましい。式中、a及びbはお互い独立して、0~12の整数を表すが、aが0の場合は芳香環に結合している酸素原子は除去し、bが0の場合は芳香環に結合している酸素原子は除去する。一般式Iで表される化合物は、重合性化合物含有液晶組成物中の重合性化合物が重合することにより液晶配向能が付与され、液晶組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用される。特に液晶分子の傾斜を制御するPSAPolymerSustainedAlignment型液晶表示装置、PSVAPolymerStabilisedVerticalAlignment型液晶表示装置に有効であり、駆動方式としては、AM-LCDアクティブマトリックス液晶表示素子、TNネマチック液晶表示素子及びSTN-LCD超ねじれネマチック液晶表示素子に有用であり、AM-LCDに特に有用である。また、OCBOpticallyCompensatedBirefringence-LCD及びIPS-LCDインプレーンスイッチング液晶表示素子に使用しても構わなく、透過型あるいは反射型の液晶表示素子に用いることができる。本発明の液晶組成物は、一般式Iで表される重合性化合物を少なくとも1種を含有するが、1種~5種含有することが好ましく、1種~3種含有することが特に好ましい。また、一般式Iで表される化合物の含有率は、少ないと非重合性液晶化合物に対する配向規制力が弱くなり、多すぎると重合時の必要エネルギーが上昇し、重合せず残存してしまう重合性化合物の量が増してしまうため、下限値は0.01質量であることが好ましく、0.03質量であることがより好ましく、上限値は2.0質量であることが好ましく、1.0質量であることがより好ましい。非重合性の液晶組成物としては、一般式II、一般式IIIa、一般式IIIb、一般式IIIc、一般式IVa、一般式IVb及び一般式IVcで表される化合物を単独又はこれらを組み合わせて使用することができる。非重合性の液晶組成物の誘電率異方性Δεを正の値とするには一般式IIIa、一般式IIIb及び一般式IIIcで表される化合物を単独若しくは組み合わせて使用することが好ましく、非重合性の液晶組成物の誘電率異方性Δεを負の値とするには一般式IVa、一般式IVb及び一般式IVcで表される化合物を単独若しくは組み合わせて使用することが好ましい。、b1,4-フェニレン基この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は窒素原子に置き換えられてもよい。、3-フルオロ-1,4-フェニレン基及び3,5-ジフルオロ-1,4-フェニレン基、及びc1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ2.2.2オクチレン基、ピペリジン-25-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基及び1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基からなる群より選ばれる基を表し、pは0、1又は2を表し、L21及びL22はお互い独立して単結合、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-、-CH=CH-、-CH=N-N=CH-又は-C≡C-を表し、L22が複数存在する場合は同一でも良く異なっていても良く、M23が複数存在する場合は同一でも良く異なっていても良い。、e1,4-フェニレン基この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置き換えられてもよい。、3-フルオロ-1,4-フェニレン基及び3,5-ジフルオロ-1,4-フェニレン基、及び、f1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ2.2.2オクチレン基、ピペリジン-25-ジイル基、ナフタレン-26-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基及びデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基からなる群より選ばれる基を表し、上記の基d、基e及び基fに含まれる水素原子はお互い独立してシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されていても良く、L31、L32、L33、L34、L35、L36、L37及びL38はお互い独立して単結合、-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-又は-C≡C-を表し、M32、M34、M35、M37、M38、L31、L33、L35、L36、及び/又はL38が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、X31、X32、X33、X34、X35、X36及びX37はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Y31、Y32及びY33はお互い独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、又はジフルオロメトキシ基を表し、X31、X32、又はY31のうち少なくともひとつはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、又はジフルオロメトキシ基を表すか、M31又はM32に含まれる水素原子のうち少なくともひとつはシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子を表し、X33、X34、X35又はY32のうち少なくともひとつはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基又はジフルオロメトキシ基を表すか、M33、M34又はM35、に含まれる水素原子のうち少なくともひとつはシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子を表し、X36、X37又はY33のうち少なくともひとつはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基又はジフルオロメトキシ基を表すか、M36、M37及びM38に含まれる水素原子のうち少なくともひとつはシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子を表し、a、b、c、d及びeはお互い独立して、0、1又は2を表すが、bc及びdeは2以下である。式中R41、R42、R43、R44、R45及びR46はお互い独立して炭素原子数1から10のアルキル基又は炭素原子数2から10のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-又は-S-に置換されていても良く、またこれらの基中に存在する1個又は2個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良く、M41、M42、M43、M44、M45、M46、M47、M48及びM49はお互い独立して、dトランス1,4-シクロへキシレン基この基中に存在する1個の-CH2-又は隣接していない2個以上の-CH2-は-O-又は-S-に置き換えられてもよい。、e1,4-フェニレン基この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は-N=に置き換えられてもよい。及び、f1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ2.2.2オクチレン基、ピペリジン-2,5-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基及びデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基からなる群より選ばれる基を表し、上記の基d、基e及び基fに含まれる水素原子はそれぞれシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されていても良く、L41、L42、L43、L44、L45、L46、L47、L48及びL49はお互い独立して単結合、-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-又は-C≡C-を表し、M42、M43、M45、M46、M48、M49、L41、L43、L44、L46、L47及び/又はL49が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、X41、X42はお互い独立してトリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又はフッ素原子を表し、X43、X44、X45、X46、X47、及びX48はお互い独立して水素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又はフッ素原子を表すが、X41及びX42の何れか一つはフッ素原子を表し、X43、X44及びX45の少なくとも一つはフッ素原子を表し、X46、X47及びX48の少なくとも一つはフッ素原子を表すが、X46及びX47は同時にフッ素原子を表すことはなく、X46及びX48は同時にフッ素原子を表すことはない、Gは-CH2-又は-O-を表し、f、g、h、i、j及びkはお互い独立して、0、1又は2を表すが、fg、hi及びjkは2以下である。一般式IIで表される化合物としては、R21及びR22はお互い独立して炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシ基、炭素原子数2~8のアルケニル基又は炭素原子数2~8のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数1~5のアルコキシ基、炭素原子数2~5のアルケニル基又は炭素原子数2~5のアルケニルオキシ基が好ましく、直鎖状が好ましい。M21、M22及びM23はお互い独立して、トランス14シクロヘキシレン基この基中に存在する1個のCH2基又は隣接していない2個のCH2基が酸素原子に置換されているものを含む、14フェニレン基この基中に存在する1個又は2個以上のCH基は窒素原子に置換されているものを含む、3フルオロ14フェニレン基、35ジフルオロ14フェニレン基、14シクロヘキセニレン基、14ビシクロ222オクチレン基、ピペリジン14ジイル基、ナフタレン26ジイル基、デカヒドロナフタレン26ジイル基又は1234テトラヒドロナフタレン26ジイル基が好ましく、トランス14シクロヘキシレン基、14フェニレン基、又は14ビシクロ222オクチレン基を表すことがより好ましく、トランス14シクロヘキシレン基又は14フェニレン基を表すことが特に好ましく、M23が複数存在する場合は同一でも良く異なっていても良い。L21及びL22はお互い独立して単結合、-CH2CH2-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-、-CH=CH-又は-C≡C-が好ましく、L22が複数存在する場合は同一でも良く異なっていても良い。pは0、1又は2を表すが、粘度の改善のためには0又は1が好ましく、液晶相上限温度を上昇させるには1又は2が好ましい。一般式IIIa、一般式IIIb及び一般式IIIcで表される化合物において、R31、R32及びR33はお互い独立して炭素原子数1から10のアルキル基又は炭素原子数2から10のアルケニル基、炭素数1~15の直鎖状アルキル基又は炭素数2~15のアルケニル基これらの基中に存在する1個のメチレン基又は隣接していない2個以上のメチレン基は-O-又は-S-に置換されているもの、またこれらの基中に存在する1個又は2個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されているものも含む。が好ましく、炭素数1~10の直鎖状アルキル基、炭素数1~10の直鎖状アルコキシ基又は炭素数2~10アルケニル基がより好ましく、炭素数1~8の直鎖状アルキル基又は炭素数1~8のアルコキシ基が特に好ましい。M31、M32、M33、M34、M35、M36、M37及びM38はお互い独立して、トランス-1,4-シクロへキシレン基この基中に存在する1個のメチレン基又は隣接していない2個以上のメチレン基は-O-又は-S-に置き換えられているものも含む。、1,4-フェニレン基この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は窒素原子に置き換えられているものも含む、1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン-1,4-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基及びデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基で表す基各々の基はそれぞれ水素原子がシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されているものも含む。が好ましく、トランス-1,4-シクロへキシレン基、1,4-フェニレン基、3-フルオロ-1,4-フェニレン基又は3,5-ジフルオロ-1,4-フェニレン基がより好ましく、トランス-1,4-シクロへキシレン基又は1,4-フェニレン基が更に好ましく、トランス-1,4-シクロへキシレン基が特に好ましい。L31、L32、L33、L34、L35、L36、L37及びL38はお互い独立して単結合、-OCO-、-COO-、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-又は-C≡C-が好ましく、単結合、-CH2CH2-、-CH24-又は-C≡C-がより好ましく、単結合又は-CH2CH2-が特に好ましい。X31、X32、X33、X34、X35、X36、及びX37はお互い独立して水素原子又はフッ素原子をし、Y31、Y32、及びY33はお互い独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ジフルオロメトキシ基又は炭素原子数1~12のアルキル基を表すことが好ましく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基又は炭素原子数1~12のアルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子を表すことが特に好ましい。a、b、c、d及びeはお互い独立して、0、1又は2を表すが、bc及びdeは2以下を表す。上記の選択肢の組み合わせにより形成される構造のうち、-CH=CH-CH=CH-、-C≡C-C≡C-及び-CH=CH-C≡C-は化学的な安定性から好ましくない。またこれら構造中の水素原子がフッ素原子に置き換わったものも同様に好ましくない。また酸素同士が結合する構造、硫黄原子同士が結合する構造及び硫黄原子と酸素原子が結合する構造となることも同様に好ましくない。また窒素原子同士が結合する構造、窒素原子と酸素原子が結合する構造及び窒素原子と硫黄原子が結合する構造も同様に好ましくない。具体的には以下の一般式IIIa-1で示される構造を表すことが好ましい。式中、R34は炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表し、L39及びL40はそれぞれ独立して単結合、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-又は-C≡C-を表し、M38は1,4-フェニレン基又はトランス-1,4-シクロヘキシレン基を表し、X32は水素原子又はフッ素原子を表し、p1は0又は1を表し、Y34はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。更に具体的には以下の一般式IIIa-2a~一般式IIIa-4d式中、R34は炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表し、X31及びX32はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Y31はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。で表される構造が好ましく、式中、R34は炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表し、Y31はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。で表される構造も好ましい。一般式IIIbは具体的な構造として以下の一般式式中、R35は炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表し、Y35はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。で表される構造が好ましく、一般式IIIcは具体的な構造として以下の一般式式中、R36は炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表し、Y36はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。で表される構造が好ましい。一般式IIIa、一般式IIIb及び一般式IIIcで表される化合物からなる群から選ばれる化合物を少なくとも1種を含有するが、1種~10種含有することが好ましく、2種~8種含有することが特に好ましく、一般式IIIa、一般式IIIb及び一般式IIIcで表される化合物からなる群の含有率の下限値は5質量であることが好ましく、10質量であることがより好ましく、20質量であることが好ましく、上限値は80質量が好ましく、70質量が好ましく、60質量が好ましく、50質量が更に好ましい。また、一般式IVa、一般式IVb及び一般式IVcで表される化合物において、R41、R42、R43、R44、R45及びR46はお互い独立して炭素原子数1から10のアルキル基又は炭素原子数2から10のアルケニル基、炭素数1~15の直鎖状アルキル基又は炭素数2~15のアルケニル基これらの基中に存在する1個のメチレン基又は隣接していない2個以上のメチレン基は-O-又は-S-に置換されているもの、またこれらの基中に存在する1個又は2個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されているものも含む。が好ましく、炭素数1~10の直鎖状アルキル基、炭素数1~10の直鎖状アルコキシ基又は炭素数2~10アルケニル基がより好ましく、炭素数1~8の直鎖状アルキル基又は炭素数1~8のアルコキシ基が特に好ましい。M41、M42、M43、M44、M45、M46、M47、M48及びM49はお互い独立して、トランス-1,4-シクロへキシレン基この基中に存在する1個のメチレン基又は隣接していない2個以上のメチレン基は-O-又は-S-に置き換えられているものも含む。、1,4-フェニレン基この基中に存在する1個の-CH=又は隣接していない2個以上の-CH=は窒素原子に置き換えられているものも含む、1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ2.2.2オクチレン基、ピペリジン-2,5-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基及びデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基で表す基各々の基に含まれる水素原子がそれぞれシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されているものも含む。が好ましく、トランス-1,4-シクロへキシレン基、1,4-フェニレン基、3-フルオロ-1,4-フェニレン基又は2,3-ジフルオロ-1,4-フェニレン基がより好ましく、トランス-1,4-シクロへキシレン基又は1,4-フェニレン基が更に好ましく、トランス-1,4-シクロへキシレン基が特に好ましい。L41、L42、L43、L44、L45、L46、L47、L48及びL49はお互い独立して単結合、-CH2CH2-、-CH24-、-OCO-、-COO-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-又は-C≡C-が好ましく、単結合、-CH2CH2-、-OCH2-又は-CH2O-がより好ましい。X41、X42、X43、X44、X45、X46、X47及びX48はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表すが、X41及びX42がフッ素原子好ましく、X43、X44及びX45のうち少なくとも2個がフッ素原子好ましく、全てフッ素原子が更に好ましく、X46、X47及びX48のうち少なくとも2個がフッ素原子好ましく、全てフッ素原子が更に好ましい。Gはメチレン基又は-O-を表し、f、g、h、i、j及びkはお互い独立して、0、1又は2を表すが、fg、hi及びjkは2以下が好ましい。一般式IVaで表される化合物において、具体的には以下の一般式IVa-1で示される構造を表すことが好ましい。式中、R47及びR48はお互い独立して炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表し、L50、L51及びL52はそれぞれ独立して単結合、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-又は-C≡C-を表し、M50は1,4-フェニレン基又はトランス-1,4-シクロヘキシレン基を表し、u1及びv1は、それぞれ独立して0又は1を表す。上記の選択肢の組み合わせにより形成される構造のうち、-CH=CH-CH=CH-、-C≡C-C≡C-及び-CH=CH-C≡C-は化学的な安定性から好ましくない。またこれら構造中の水素原子がフッ素原子に置き換わったものも同様に好ましくない。また酸素同士が結合する構造、硫黄原子同士が結合する構造及び硫黄原子と酸素原子が結合する構造となることも同様に好ましくない。また窒素原子同士が結合する構造、窒素原子と酸素原子が結合する構造及び窒素原子と硫黄原子が結合する構造も同様に好ましくない。更に具体的には以下の一般式IVa-2a~一般式IVa-3i式中、R47及びR48は、それぞれ独立して炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表す。で表される構造が好ましく、R47及びR48がそれぞれ独立して炭素原子数1~8のアルキル基又は炭素原子数1~8のアルコキシル基が更に好ましい。一般式IVbで表される化合物において、具体的には以下の一般式IVb-1で示される構造を表すことが好ましい。式中、R49及びR50はお互い独立して炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表し、L52、L53及びL54はそれぞれ独立して単結合、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-又は-C≡C-を表し、M51、M52及びM53は1,4-フェニレン基又はトランス-1,4-シクロヘキシレン基を表し、w1及びx1は、独立して0、1又は2を表すが、w1x1は2以下を表す。更に具体的には以下の一般式IVb-2a~IVb-3l式中、R49及びR50は、それぞれ独立して炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表す。で表される構造が好ましい。一般式IVcで表される化合物において、具体的には以下の一般式IVc-1a及び一般式IVc-1bで示される構造を表すことが好ましい。式中、R51及びR52はお互い独立して炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表し、L56、L57及びL58はそれぞれ独立して単結合、-CH2CH2-、-CH24-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-又は-C≡C-を表し、M54、M55及びM56は1,4-フェニレン基又はトランス-1,4-シクロヘキシレン基を表し、y1及びz1は、独立して0、1又は2を表すが、y1z1は2以下を表す。更に具体的には以下の一般式IVc-2a~IVc-2g式中、R51及びR52はお互い独立して炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又は炭素原子数2~8のアルケニル基を表す。液晶表示素子に使用される液晶セルの2枚の基板はガラス、又はプラスチックの如き柔軟性をもつ透明な材料を用いることができ、一方はシリコン等の不透明な材料でも良い。透明電極層を有する透明基板は、例えば、ガラス板等の透明基板上にインジウムスズオキシドITOをスパッタリングすることにより得ることができる。カラーフィルターは、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法、又は、染色法等によって作成することができる。顔料分散法によるカラーフィルターの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルター用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の3色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルター用の画素部を作成することができる。その他、該基板上に、TFT、薄膜ダイオード、金属絶縁体金属比抵抗素子等の能動素子を設けた画素電極を設置してもよい。前記基板を、透明電極層が内側となるように対向させる。その際、スペーサーを介して、基板の間隔を調整してもよい。このときは、得られる調光層の厚さが1~100μmとなるように調整するのが好ましい。1.5から10μmが更に好ましく、偏光板を使用する場合は、コントラストが最大になるように液晶の屈折率異方性Δnとセル厚dとの積を調整することが好ましい。又、二枚の偏光板がある場合は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラトが良好になるように調整することもできる。更に、視野角を広げるための位相差フィルムも使用することもできる。スペーサーとしては、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子、フォトレジスト材料等が挙げられる。その後、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させる。2枚の基板間に高分子安定化液晶組成物を狭持させるに方法は、通常の真空注入法、又はODF法などを用いることができる。重合性化合物を重合させる方法としては、迅速な重合の進行が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を2枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、更に活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。特に紫外線露光する際には、重合性化合物含有液晶組成物に交流を印加しながら紫外線露光することが好ましい。印加する交流は、周波数10Hzから10kHzの交流が好ましく、周波数60Hzから10kHzがより好ましく、電圧は液晶表示素子の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する電圧により液晶表示素子のプレチルト角を制御することができる。MVAモードの液晶表示素子においては、配向安定性およびコントラストの観点からプレチルト角を80度から89度に制御することが好ましい。照射時の温度は、本願発明の液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。室温に近い温度、即ち、典型的には15~60°Cでの温度で重合させることが最も好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、液晶組成物の吸収波長域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましく、必要に応じて、紫外線をカットして使用することが好ましい。照射する紫外線の強度は、0.1mW/cm2~100W/cm2が好ましく、2mW/cm2~80W/cm2がより好ましい。照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、10から10000mJ/cm2が好ましく、100から7000mJ/cm2がより好ましい。紫外線を照射する際に、強度を変化させても良い。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選択されるが、10から600秒が好ましい。また重合によって得られた本発明の液晶表示素子は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は50~250°Cの範囲で、また熱処理時間は30秒~12時間の範囲が好ましい。本願発明に使用される重合性化合物は、重合後に液晶材料の配向性を制御し、その配向状態を長期に渡って保持する必要がある。このため、液晶の配向規制力と硬化物の機械強度が要求される。また、硬化後に重合性化合物が残っていたり、多量の重合開始剤が残っていると表示不良を惹き起こすことから、少量の重合開始剤若しくは重合開始剤を使用しなくとも重合が進行することが求められる。重合性官能基を有する化合物であって、液晶性を示さない化合物を添加することもできる。このような化合物としては、通常、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識されるものであれば特に制限なく使用することができる。しかし、重合性化合物を硬化した後に液晶層は液晶相を示さなければならない。このため非重合性液晶組成物を添加する場合、その添加量は液晶性を呈するように調整する必要がある。重合性化合物は少なくとも1種を含有するが、1種~5種含有することが好ましく、1種~3種含有することが特に好ましい。また、重合性化合物の含有率は、少ないと液晶分子に対する配向規制力が弱くなり、多すぎると重合時の必要エネルギーが上昇し、重合せず残存してしまう重合性化合物の量が増してしまうため、下限値は0.01質量であることが好ましく、0.03質量であることがより好ましく、上限値は2.0質量であることが好ましく、1.0質量であることがより好ましい。また、本発明の化合物は長波長側に大きなUV吸収を有しているため光重合開始剤を必要としないが、目的により光重合開始剤を添加しても構わない。その場合はの光重合開始剤の濃度は、0.1~10質量が好ましく、0.2~10質量が更に好ましく、0.4~5質量が特に好ましい。光開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。熱重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド等が挙げられる。また、本発明の液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β-ナフチルアミン類、β-ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、液晶組成物に対して0.005~1質量の範囲が好ましく、0.02~0.5質量が更に好ましく、0.03~0.1質量が特に好ましい。本願発明の一般式Iで表される化合物は、ネマチック液晶、スメクチック液晶、キラルネマチック、キラルスメクチック、及びコレステリック液晶組成物に使用できる。本願発明の液晶組成物は、本願発明の化合物を一種以上用いる以外に、任意の範囲で他の重合性化合物を添加しても構わない。本願発明の一般式Iで表される化合物を位相差フィルム、偏光フィルムや配向膜の原料、又は印刷インキ及び塗料、保護膜等の用途に利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等を添加することもできる。次に本発明の光学異方体について説明する。本発明の液晶組成物を重合させることによって製造される光学異方体は種々の用途に利用できる。例えば、本発明の重合性液晶組成物を、配向させない状態で重合させた場合、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。また、本発明の重合性液晶組成物を配向させた状態において、重合させることにより製造された光学異方体は、物理的性質に光学異方性を有しており、有用である。このような光学異方体は、例えば、本発明の重合性液晶組成物表面を、布等でラビング処理した基板、もしくは有機薄膜を形成した基板表面を布等でラビング処理した基板、あるいはSiO2を斜方蒸着した配向膜を有する基板上に担持させるか、基板間に挟持させた後、本発明の液晶を重合させることによって製造することができる。重合性液晶組成物を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、重合性液晶組成物をそのまま使用してもに有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘキサン、メタノール、エタノール、ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、セロソルブ、シクロヘキサノン、γ-ブチルラクトン、アセトキシ-2-エトキシエタン、プロピレングリコールモノメチルアセタート、N-メチルピロリジノン類を挙げることができる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。また、その添加量は90重量以下が好ましい。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。重合性液晶材料の塗布性を更に向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることや、重合性液晶材料にレベリング剤を添加するのも有効である。基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けるのは、重合性液晶材料を重合させて得られる光学異方体と基板の密着性が良くない場合に、密着性を向上させる手段としても有効である。以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物におけるは質量を意味する。実施例1撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に6-ブロモ-2-ナフトール12g62ミリモル、p-メトキシフェニルホウ酸8.6g56ミリモル、炭酸カリウム13g98ミリモル、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム1g、テトラヒドロフラン200ml、純水100mlを仕込み、窒素ガス雰囲気下で反応器を85°Cに加熱し反応させた。反応終了後、酢酸エチルを加え、5塩酸水溶液、純水、飽和食塩水で有機層を洗浄した。溶媒を留去した後、2倍量重量比のシリカゲルカラムにより精製を行い1に示す化合物9gを得た。次いで撹拌装置、冷却器及び温度計を備えた反応容器に、式1に示す化合物9g、酢酸36ml、臭化水素酸22mlを仕込み、120°Cで5時間還流させた。反応終了後、冷却し、析出した結晶を水及び水/メタノール混合溶媒で洗浄後、真空乾燥を行い、式2に示す化合物7.5gを得た。更に、撹拌装置、冷却器及び温度計を備えた反応容器に、上記式2に示す化合物7.5g31ミリモル、メタクリル酸6.4g74ミリモル、ジメチルアミノピリジン800mg、塩化メチレン100mlを仕込み、氷冷バスにて5°C以下に反応容器を保ち。窒素ガスの雰囲気下でジイソプロピルカルボジイミド9.3g74ミリモルをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を室温に戻し5時間反応させた。反応液をろ過した後、ろ液に塩化メチレン150mlを加え、5塩酸水溶液で洗浄し、更に飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去した後、2倍量重量比のアルミナカラムにより精製を行い、塩化メチレン/ヘキサンによる再結晶により式3に示す目的の化合物6.5gを得た。物性値1H-NMR溶媒:重クロロホルム:δ:2.06s,6H,5.76-5.83m,2H,6.35-6.42m,2H,7.23-7.28m,2H,7.34-7.49m,2H,7.53-7.74m,4H,7.85-7.96m,1H,8.04s,1H,13C-NMR溶媒:重クロロホルム:δ:18.4,109.4,117.6,121.9,125.7,126.6,129.4-129.8,131.6,133.4,153.2,165.2,165.7赤外吸収スペクトルIRKBr:1760,1652-1622,809cm-1融点:170°C以上実施例2撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に6-ブロモ-2-ナフトール10g44ミリモル、3-フルオロ-4-メトキシフェニルホウ酸8g47ミリモル、炭酸カリウム9g70ミリモル、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム500mg、テトラヒドロフラン200ml、純水100mlを仕込み、窒素ガス雰囲気下で反応器を85°Cに加熱し反応させた。反応終了後、酢酸エチルを加え、5塩酸水溶液、純水、飽和食塩水で有機層を洗浄した。溶媒を留去した後、2倍量重量比のシリカゲルカラムにより精製を行い4に示す化合物9gを得た。次いで撹拌装置、冷却器及び温度計を備えた反応容器に、式4に示す化合物9g、酢酸36ml、臭化水素酸22mlを仕込み、120°Cで5時間還流させた。反応終了後、冷却し、析出した結晶を水及び水/メタノール混合溶媒で洗浄後、真空乾燥を行い、式2に示す化合物7.3gを得た。更に、撹拌装置、冷却器及び温度計を備えた反応容器に、上記式5に示す化合物7g27ミリモル、メタクリル酸6.6g77ミリモル、ジメチルアミノピリジン200mg、塩化メチレン100mlを仕込み、氷冷バスにて5°C以下に反応容器を保ち。窒素ガスの雰囲気下でジイソプロピルカルボジイミド8.3g66ミリモルをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を室温に戻し5時間反応させた。反応液をろ過した後、ろ液に塩化メチレン150mlを加え、5塩酸水溶液で洗浄し、更に飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去した後、2倍量重量比のアルミナカラムにより精製を行い、塩化メチレン/ヘキサンによる再結晶により式3に示す目的の化合物4.2gを得た。物性値H-NMR溶媒:重クロロホルム:δ:2.06s,6H,5.76-5.83m,2H,6.35-6.42m,2H,7.22-7.28m,2H,7.34-7.52m,3H,7.53-7.80m,3H,8.04s,1H,13C-NMR溶媒:重クロロホルム:δ:18.4,109.4,117.6,121.9,125.7,126.6,129.4-129.8,131.6,133.4,137.3,153.2,155.5,162.0,165.2,165.7赤外吸収スペクトルIRKBr:1760,1652-1622,809cm-1融点:165°C実施例3実施例2の3-フルオロ-4-メトキシフェニルホウ酸8g47ミリモルを3-フルオロ-4-4-メトキシフェニルフェニルホウ酸11.647ミリモルに変更した以外は同様な手法により、式7に示す目的の化合物7.3gを得た。物性値1H-NMR溶媒:重クロロホルム:δ:1.93s,3H,5.76-5.83m,2H,6.35-6.42m,2H,6.97m,2H,7.13m,2H,7.22-7.28m,2H,7.41-7.62m,6H,7.84s,1H13C-NMR溶媒:重クロロホルム:δ:18.4,109.4,114.8,117.6,121.9,123.5,122.5,125.7,126.6,127.8,129.4,129.5,129.8,131.6,133.4,137.3,152.0,153.2,161.5,162.0赤外吸収スペクトルIRKBr:1760,1652-1622,809cm-1実施例4一般式IIIから選ばれる化合物を含有した液晶組成物LC-1を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。上記液晶組成物LC-1の物性を表4に示す。液晶組成物LC-199.7に対して、実施例1に製造方法を示した式3で表される重合性化合物を0.3添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物CLC-1を調製した。CLC-1は上記のLC-1と同様の物性を示した。CLC-1をセルギャップ10μmでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したITO付きセルに真空注入法で注入した。周波数1KHzで1.8Vの矩形波を印加しながら、310nm以下の紫外線をカットするフィルターを介して、高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射した。セル表面の照射強度が10mW/cm2となるように調整して600秒間照射して、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。その後素子を分解し、液晶組成物を高速液体クロマトグラフィーHPLC:溶媒アセトニトリルにて残存モノマー量を測定した結果を表2に示す。上記の結果から、実施例1の重合性化合物は、光重合開始剤がなくても重合が十分進行していることがわかった。また、上記液晶素子の紫外線照射前後のプレチルト角クリスタルローテーション法及び素子の電気光学特性の測定結果を表3に示す。上記のプレチルト角の結果から、重合性化合物が重合することにより、液晶分子にプレチルトが付与された垂直配向性液晶表示素子を得ることがわかった。比較例1液晶組成物LC-199.7に対して、式6で示される重合性化合物を0.3添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物CLC-2を調製した。CLC-2は上記のLC-1と同様の物性を示した。CLC-2をセルギャップ10μmでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したITO付きセルに真空注入法で注入した。周波数1KHzで1.8Vの矩形波を印加しながら、310nm以下の紫外線をカットするフィルターを介して、高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射した。セル表面の照射強度が10mW/cm2となるように調整して600秒間照射して、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。その後素子を分解し、液晶組成物を高速液体クロマトグラフィーHPLC:溶媒アセトニトリルにて残存モノマー量を測定した結果を表4に示す。上記の結果から、比較例1の重合性化合物は、液晶組成物中に残存モノマーが多いことがわかった。また、上記液晶素子の紫外線照射前後のプレチルト角クリスタルローテーション法及び素子の電気光学特性の測定結果を表5に示す。上記のプレチルト角の結果から、重合性化合物が重合十分でないため、液晶分子にプレチルトが付与され難いことがわかった。比較例2液晶組成物LC-199.7に対して、比較例1記載の式8で表される重合性化合物を0.3、光重合開始剤としてイルガキュアー651を0.015添加し、均一溶解することにより重合性液晶組成物CLC-3を調製した。CLC-3は上記のLC-1と同様の物性を示した。CLC-3をセルギャップ10μmでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したITO付きセルに真空注入法で注入した。周波数1KHzで1.8Vの矩形波を印加しながら、310nm以下の紫外線をカットするフィルターを介して、高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射した。セル表面の照射強度が10mW/cm2となるように調整して600秒間照射して、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。その後素子を分解し、液晶組成物を高速液体クロマトグラフィーHPLC:溶媒アセトニトリルにて残存モノマー量を測定した結果を表6に示す。上記の結果から、比較例2の重合性化合物は、光重合開始剤により重合が進行していることがわかった。また、上記液晶素子の紫外線照射前後のプレチルト角クリスタルローテーション法及び素子の電気光学特性の測定結果を表7に示す。上記の結果から、光重合開始剤を用いた系は、プレチルト角及び閾値電圧に関しては実施例1記載の素子と同程度の値を示しているが、電圧保持率が低く、信頼性に問題があることが分かった。実施例5以下に示す組成の重合性液晶組成物CLC-4を調製した。重合性液晶組成物は、良好な相溶安定性を有し、ネマチック液晶相を示した。この組成物に光重合開始剤イルガキュアー907チバスペシャリティーケミカル社製を3添加して重合性液晶組成物CLC-5を調製した。この組成物2のシクロヘキサノン溶液を、ポリイミド付きガラスにスピンコートし、これに高圧水銀ランプを用いて4mW/cm2の紫外線を120秒間照射したところ、組成物CLC-5が均一な配向状態を保ったまま重合し、光学異方体が得られた。この光学異方体の表面硬度JIS-S-K-5400によるはHであった。得られた光学異方体の加熱前の位相差を100としたとき、240°C、1時間加熱後の位相差は89であり、位相差減少率は11だった。比較例3以下に示す組成の重合性液晶組成物CLC-6を調製した。重合性液晶組成物は、良好な相溶安定性を有し、ネマチック液晶相を示した。この組成物に光重合開始剤イルガキュアー907チバスペシャリティーケミカル社製を3添加して重合性液晶組成物組成物5を調製した。この組成物5のシクロヘキサノン溶液を、ポリイミド付きガラスにスピンコートし、これに高圧水銀ランプを用いて4mW/cm2の紫外線を120秒間照射したところ、組成物3が均一な配向状態を保ったまま重合し、光学異方体が得られた。この光学異方体の表面硬度JIS-S-K-5400によるは2Bであった。得られた光学異方体の加熱前の位相差を100としたとき、240°C、1時間加熱後の位相差は75であり、位相差減少率は25だった。このように、比較例3の組成物CLC-6は、本願発明の組成物CLC-5と比較して、作製できる光学異方体の位相差減少率が大きく、耐熱性に劣ることが明らかである。又、表面硬度も2Bと不十分なものであった。"