"分光機器の周波数較正に適用される較正システムであって、周波数安定化光源と、前記周波数安定化光源からの光を入射して、周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光を順次出射する周波数シフタと、当該周波数シフタからの光を順次入射し、コム周波数間隔が高精度に設定された中心角周波数が異なる周波数コム光を順次生成する周波数コム光発生器とを備えた較正用光源と、前記周波数コム光発生器からの周波数コム光を、異なる周波数シフト量設定値ごとに被較正対象である分光機器に順次入射して、近接する2つの特定コムのそれぞれについて、周波数がシフトした複数のコムの光スペクトルを、所定のサンプリング周波数間隔で順次検出する前記分光機器と、前記分光機器から、前記近接する2つの特定コムのそれぞれについての周波数がシフトした複数のコムの光スペクトルデータを取得して周波数較正演算を行う演算部を有する演算制御装置と、を備え、前記演算部は、a前記近接する2つの特定コムのそれぞれについて、前記分光機器によりそれぞれ検出した、前記周波数がシフトした複数のコムの各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成し、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを生成し、この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで精密波形を生成し、b前記近接する2つの特定コムに対応する2つの精密波形同士の相互相関を計算することで、前記近接する2つの特定コムの周波数間隔実測値を求め、得られた周波数間隔実測値を、前記周波数コム光発生器において高精度に設定されたコム周波数間隔の値と比較して、前記分光機器のサンプリング周波数間隔の誤差を較正する、ことを特徴とする分光機器の較正システム。周波数シフト量FUが、0×fu,1×fu,2×fu,3×fu,,N-1×fuまたは、f00×fu、f01×fu、f02×fu、f03×fu、、f0N-1×fufu:単位周波数シフト量f0:オフセット量として順次設定されていることを特徴とする請求項1に記載の分光機器の較正システム。単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上であることを特徴とする請求項2に記載の分光機器の較正システム。分光機器の周波数較正に適用される較正方法であって、周波数安定化光源からの光を周波数シフタに入射して、当該周波数シフタから周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光を順次出射するステップ、周波数コム光発生器に前記周波数シフタからの光を順次入射し、前記周波数コム光発生器からコム周波数間隔が高精度に設定された中心角周波数が異なる周波数コム光を順次生成するステップ、分光機器に前記周波数コム光発生器から、異なる周波数シフト量設定値ごとに被較正対象である分光機器に順次入射して、近接する2つの特定コムのそれぞれについて、周波数がシフトした複数のコムの光スペクトルを、所定のサンプリング周波数間隔で順次検出するステップ、前記分光機器から、前記近接する2つの特定コムのそれぞれについての周波数がシフトした複数のコムの光スペクトルデータを取得して周波数較正演算を行うステップ、を有し、前記周波数較正演算を行うステップは、a前記近接する2つの特定コムのそれぞれについて、前記分光機器によりそれぞれ検出した、前記周波数がシフトした複数のコムの各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成するステップ、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを生成するステップ、この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで精密波形を生成するステップ、b前記近接する2つの特定コムに対応する2つの精密波形同士の相互相関を計算することで、前記近接する2つの特定コムの周波数間隔実測値を求めるステップ、得られた周波数間隔実測値を、前記周波数コム光発生器において高精度に設定されたコム周波数間隔の値と比較して、前記分光機器のサンプリング周波数間隔の誤差を較正するステップ、を含む、ことを特徴とする分光機器の較正方法。周波数シフト量FUが、0×fu,1×fu,2×fu,3×fu,,N-1×fuまたは、f00×fu、f01×fu、f02×fu、f03×fu、、f0N-1×fufu:単位周波数シフト量f0:オフセット量として順次設定されていることを特徴とする請求項4に記載の分光機器の較正方法。単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上であることを特徴とする請求項5に記載の分光機器の較正方法。試料を介して広帯域光源からの光を入射し、周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光を順次出射する周波数シフタが分光機器の前段に設けられ、かつ、請求項1に記載の較正システムが組み込まれ、当該較正システムにより前記分光機器の較正がなされている分光システムであって、前記周波数シフタからの光を、異なる周波数シフト量設定値ごとに前記分光機器に順次入射して、前記周波数がシフトした複数の光の光スペクトルを、所定のサンプリング周波数間隔で順次検出する分光機器と、前記分光機器から、前記周波数がシフトした複数の光の光スペクトルデータを取得してサンプリング点を増加する処理を行う演算部を有する演算制御装置と、を備え、前記演算部は、前記分光機器によりそれぞれ検出した、前記周波数がシフトした複数の光の各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成し、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを生成し、この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで、前記試料を介して入射した光の精密なスペクトル波形とピークを測定する、ことを特徴とする分光機器の分光システム。周波数シフト量FUが、0×fu,1×fu,2×fu,3×fu,,N-1×fuまたは、f00×fu、f01×fu、f02×fu、f03×fu、、f0N-1×fufu:単位周波数シフト量f0:オフセット量として順次設定されていることを特徴とする請求項7に記載の分光機器の分光システム。単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上であることを特徴とする請求項8に記載の分光機器の分光システム。周波数シフタが、請求項1に記載の周波数シフタと共用されることを特徴とする請求項7に記載の分光機器の分光システム。請求項4に記載の較正方法により較正がなされている分光機器に、広帯域光源からの光を試料を介して入射して分光測定を行う分光方法であって、広帯域光源からの光を、試料を介して周波数シフタに入射して、当該周波数シフタから周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光を順次出射するステップ前記周波数シフタからの光を、異なる周波数シフト量設定値ごとに前記分光機器に順次入射して、前記周波数がシフトした複数の光の光スペクトルを、所定のサンプリング周波数間隔で順次検出するステップ、前記分光機器から、前記周波数がシフトした複数の光の光スペクトルデータを取得してサンプリング点を増加する処理を行うステップ、を有し、前記サンプリング点を増加する処理を行うステップは、前記分光機器によりそれぞれ検出した、前記周波数がシフトした複数の光の各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成するステップ、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを生成し、この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで、前記試料を介して入射した光の精密なスペクトル波形とピークを測定するステップ、を含むことを特徴とする分光機器の分光方法。周波数シフト量FUが、0×fu,1×fu,2×fu,3×fu,,N-1×fuまたは、f00×fu、f01×fu、f02×fu、f03×fu、、f0N-1×fufu:単位周波数シフト量f0:オフセット量として順次設定されていることを特徴とする請求項11に記載の分光機器の分光方法。単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上であることを特徴とする請求項12に記載の分光機器の分光方法。周波数シフタが、請求項4に記載の方法において使用した周波数シフタと共用されることを特徴とする請求項11に記載の分光機器の分光方法。光源からの光を入射して、周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光を順次生成シフト量がゼロも含むする周波数シフト光取得ステップ、周波数がシフトした前記複数の光を、所定のサンプリング周波数間隔で順次検出する周波数検出ステップ、周波数検出ステップにおける検出の結果を取得して、前記サンプリング周波数間隔よりも高い精度のサンプリングデータを生成する高精度サンプリングデータ生成ステップ、を有する分光機器の高分解能分光方法であって、前記高精度サンプリングデータ生成ステップでは、前記周波数検出ステップにおいてそれぞれ検出した、周波数がシフトした前記複数の光についての各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成する新光スペクトルデータ生成ステップ、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせることで、前記光源からの光についてのサンプリング点が増えた光スペクトルデータを生成するサンプリング点増加ステップ、を含むことを特徴とする分光機器の分光方法。周波数シフト量FUが、0×fu,1×fu,2×fu,3×fu,,N-1×fuまたは、f00×fu、f01×fu、f02×fu、f03×fu、、f0N-1×fufu:単位周波数シフト量f0:オフセット量として順次設定されていることを特徴とする請求項15に記載の分光機器の分光システム。単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上であることを特徴とする請求項16に記載の分光機器の分光方法。しかし、特許文献1および特許文献2に記載の装置は、通常の回折格子などを用いた分光器とは異なる特殊な構成をなし、光スペクトルの測定には、ヘテロダイン法など特殊な方法が用いられる。このため、汎用性に乏しく、また装置が高価となるという問題がある。ところで、汎用的な分光機器で、当該分光機器の分解能より細いスペクトルレーザ発振スペクトルなどは数MHzを測ったとき、分解能の周波数幅一般に数GHz程度まで広がってしまう。また、汎用的な分光機器のサンプリング周波数間隔を小さくするには限界がある。一般に、サンプリング周波数間隔の下限は分解能周波数幅の1/3~1/10程度である。そのため、レーザ発振スペクトルや細い吸収線スペクトルのピークを、精確に決めることができず、せいぜいサンプリング周波数間隔の半分程度である。本発明の目的は、周波数コム光を利用して分光機器の較正を高精度で行う較正システム,較正方法を提供することである。本発明の他の目的は、較正がなされた分光機器を用いて高精度分光を行なう分光装置,分光方法を提供することである。本発明のさらに他の目的は、分光機器に周波数シフトした光を複数回順次入射して複数回の光強度検出を行いこれらの結果を用いて周波数分解能を高める分光方法を提供することである。本発明の分光機器の較正システムは1から3を要旨とする。1分光機器の周波数較正に適用される較正システムであって、周波数安定化光源と、前記周波数安定化光源からの光を入射して、周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光を順次出射する周波数シフタと、当該周波数シフタからの光を順次入射し、コム周波数間隔が高精度に設定された中心角周波数が異なる周波数コム光を順次生成する周波数コム光発生器とを備えた較正用光源と、前記周波数コム光発生器からの周波数コム光を、異なる周波数シフト量設定値ごとに被較正対象である分光機器に順次入射して、近接する2つの特定コムのそれぞれについて、周波数がシフトした複数のコムの光スペクトルを、所定のサンプリング周波数間隔で順次検出する前記分光機器と、前記分光機器から、前記近接する2つの特定コムのそれぞれについての周波数がシフトした複数のコムの光スペクトルデータを取得して周波数較正演算を行う演算部を有する演算制御装置と、を備え、前記演算部は、a前記近接する2つの特定コムのそれぞれについて、前記分光機器によりそれぞれ検出した、前記周波数がシフトした複数のコムの各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成し、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを生成し、この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで精密波形を生成し、b前記近接する2つの特定コムに対応する2つの精密波形同士の相互相関を計算することで、前記近接する2つの特定コムの周波数間隔実測値を求め、得られた周波数間隔実測値を、前記周波数コム光発生器において高精度に設定されたコム周波数間隔の値と比較して、前記分光機器のサンプリング周波数間隔の誤差を較正する、ことを特徴とする分光機器の較正システム。2周波数シフト量FUが、0×fu,1×fu,2×fu,3×fu,,N-1×fuまたは、f00×fu、f01×fu、f02×fu、f03×fu、、f0N-1×fufu:単位周波数シフト量f0:オフセット量として順次設定されていることを特徴とする1に記載の分光機器の較正システム。3単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上であることを特徴とする2に記載の分光機器の較正システム。本発明の分光機器の較正システムは4から6を要旨とする。4分光機器の周波数較正に適用される較正方法であって、周波数安定化光源からの光を周波数シフタに入射して、当該周波数シフタから周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光を順次出射するステップ、周波数コム光発生器に前記周波数シフタからの光を順次入射し、前記周波数コム光発生器からコム周波数間隔が高精度に設定された中心角周波数が異なる周波数コム光を順次生成するステップ、分光機器に前記周波数コム光発生器から、異なる周波数シフト量設定値ごとに被較正対象である分光機器に順次入射して、近接する2つの特定コムのそれぞれについて、周波数がシフトした複数のコムの光スペクトルを、所定のサンプリング周波数間隔で順次検出するステップ、前記分光機器から、前記近接する2つの特定コムのそれぞれについての周波数がシフトした複数のコムの光スペクトルデータを取得して周波数較正演算を行うステップ、を有し、前記周波数較正演算を行うステップは、a前記近接する2つの特定コムのそれぞれについて、前記分光機器によりそれぞれ検出した、前記周波数がシフトした複数のコムの各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成するステップ、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを生成するステップ、この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで精密波形を生成するステップ、b前記近接する2つの特定コムに対応する2つの精密波形同士の相互相関を計算することで、前記近接する2つの特定コムの周波数間隔実測値を求めるステップ、得られた周波数間隔実測値を、前記周波数コム光発生器において高精度に設定されたコム周波数間隔の値と比較して、前記分光機器のサンプリング周波数間隔の誤差を較正するステップ、を含む、ことを特徴とする分光機器の較正方法。5周波数シフト量FUが、0×fu,1×fu,2×fu,3×fu,,N-1×fuまたは、f00×fu、f01×fu、f02×fu、f03×fu、、f0N-1×fufu:単位周波数シフト量f0:オフセット量として順次設定されていることを特徴とする4に記載の分光機器の較正方法。6単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上であることを特徴とする5に記載の分光機器の較正方法。本発明の分光機器の分光システムは7から10を要旨とする。7試料を介して広帯域光源からの光を入射し、周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光を順次出射する周波数シフタが分光機器の前段に設けられ、かつ、1に記載の較正システムが組み込まれ、当該較正システムにより前記分光機器の較正がなされている分光システムであって、前記周波数シフタからの光を、異なる周波数シフト量設定値ごとに前記分光機器に順次入射して、前記周波数がシフトした複数の光の光スペクトルを、所定のサンプリング周波数間隔で順次検出する分光機器と、前記分光機器から、前記周波数がシフトした複数の光の光スペクトルデータを取得してサンプリング点を増加する処理を行う演算部を有する演算制御装置と、を備え、前記演算部は、前記分光機器によりそれぞれ検出した、前記周波数がシフトした複数の光の各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成し、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを生成し、この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで、前記試料を介して入射した光の精密なスペクトル波形とピークを測定する、ことを特徴とする分光機器の分光システム。8周波数シフト量FUが、0×fu,1×fu,2×fu,3×fu,,N-1×fuまたは、f00×fu、f01×fu、f02×fu、f03×fu、、f0N-1×fufu:単位周波数シフト量f0:オフセット量として順次設定されていることを特徴とする7に記載の分光機器の分光システム。9単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上であることを特徴とする8に記載の分光機器の分光システム。10周波数シフタが、1に記載の周波数シフタと共用されることを特徴とする7に記載の分光機器の分光システム。本発明の分光機器の分光方法は11から14、および15から18を要旨とする。114に記載の較正方法により較正がなされている分光機器に、広帯域光源からの光を、試料を介して入射して分光測定を行う分光方法であって広帯域光源からの光を、試料を介して周波数シフタに入射して、当該周波数シフタから周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光を順次出射するステップ前記周波数シフタからの光を、異なる周波数シフト量設定値ごとに前記分光機器に順次入射して、前記周波数がシフトした複数の光の光スペクトルを、所定のサンプリング周波数間隔で順次検出するステップ、前記分光機器から、前記周波数がシフトした複数の光の光スペクトルデータを取得してサンプリング点を増加する処理を行うステップ、を有し、前記サンプリング点を増加する処理を行うステップは、前記分光機器によりそれぞれ検出した、前記周波数がシフトした複数の光の各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成するステップ、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを生成し、この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで、前記試料を介して入射した光の精密なスペクトル波形とピークを測定するステップ、を含むことを特徴とする分光機器の分光方法。12周波数シフト量FUが、0×fu,1×fu,2×fu,3×fu,,N-1×fuまたは、f00×fu、f01×fu、f02×fu、f03×fu、、f0N-1×fufu:単位周波数シフト量f0:オフセット量として順次設定されていることを特徴とする11に記載の分光機器の分光方法。13単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上であることを特徴とする12に記載の分光機器の分光方法。14周波数シフタが、4に記載の方法において使用した周波数シフタと共用されることを特徴とする11に記載の分光機器の分光方法。15光源からの光を入射して、周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光を順次生成シフト量がゼロも含むする周波数シフト光取得ステップ、周波数がシフトした前記複数の光を、所定のサンプリング周波数間隔で順次検出する周波数検出ステップ、周波数検出ステップにおける検出の結果を取得して、前記サンプリング周波数間隔よりも高い精度のサンプリングデータを生成する高精度サンプリングデータ生成ステップ、を有する分光機器の高分解能分光方法であって、前記高精度サンプリングデータ生成ステップでは、前記周波数検出ステップにおいてそれぞれ検出した、周波数がシフトした前記複数の光についての各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成する新光スペクトルデータ生成ステップ、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせることで、前記光源からの光についてのサンプリング点が増えた光スペクトルデータを生成するサンプリング点増加ステップ、を含むことを特徴とする分光機器の分光方法。16周波数シフト量FUが、0×fu,1×fu,2×fu,3×fu,,N-1×fuまたは、f00×fu、f01×fu、f02×fu、f03×fu、、f0N-1×fufu:単位周波数シフト量f0:オフセット量として順次設定されていることを特徴とする15に記載の分光機器の分光システム。17単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上であることを特徴とする16に記載の分光機器の分光方法。分解能以下の周波数精度でスペクトルのピークやスペクトルのシフトを検出できる。そのため、実質的に分光機器の分解能を向上したことと等価となる。また、高安定化した基準光源から広帯域なコムを発生させて周波数を較正するため、絶対的な周波数に較正でき、かつ広い波長範囲に渉って較正できる。しかも、較正用光源を既存の分光機器にオプション的に取り付けて、本発明システムを構築できるので、低価格ですみ、また既存の分光機器の性能を向上させて、発光スペクトルも吸収スペクトルも高精度に測定することができる。《分光機器の較正システム》図1は本発明の、分光機器の較正システムの一実施形態を示す説明図である。図1において、較正システム1は分光器の周波数較正に適用されるものであり、周波数安定化光源11と、周波数シフタ12と、周波数コム光発生器13と光スイッチSW14と、分光器15と、演算制御装置16とを備えている。周波数安定化光源11は、基準となる安定した単一周波数の光レーザ光Lを生成することができる。周波数シフタ12は、周波数安定化光源11からの光Lを入射して、周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光Ljj=1,2,3,,Nを順次出射することができる。周波数シフト量FUは、単位周波数シフト量をfuとして0×fu、1×fu、2×fu、3×fu、、N-1×fuとして順次設定される。単位周波数シフト量fuがサンプリング周波数間隔fsの1/4から1/10000倍以上である。周波数コム光発生器13は、周波数シフタ12からの光を順次入射し、コム周波数間隔fiが高精度に設定された中心角周波数が異なる周波数コム光FCを順次生成することができる。周波数安定化光源11と周波数シフタ12と周波数コム光発生器13とにより、較正用光源が較正される。光スイッチ14は、本実施形態では較正用光源側からの光を分光器15に送出するようにセットされている。分光器本発明における分光機器15は、周波数コム光発生器13からの周波数コム光FCを、異なる周波数シフト量設定値周波数シフト量FU0×fu,1×fu,2×fu,,N-1×fuごとに順次入射して、近接する2つの特定コムのそれぞれについて、周波数がシフトした複数のコムの光スペクトルを、所定のサンプリング周波数間隔fsで順次検出する。図2Aに近接する2つの特定コムCMB11,CMB21を示す。図2Bに、分光器15のコムが、分解能の周波数幅δfまで広がった様子を示す。図2CにコムCMB11,CMB21のサンプリング測定結果を白丸で示し、図2Dに、CMB11の周波数が3段階でシフトしたCMB12,CMB13,CMB14およびCMB21の周波数が3段階でシフトした新たな光スペクトルデータCMB22,CMB23,CMB24を、白四角、白三角および白菱形で図示する。図2Eに、新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを示す。図2Fに、高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで精密波形CMB’11,CMB’21を生成した例を示す。本実施形態では、単位周波数シフト量fuはサンプリング周波数間隔fsの1/4としたが、実際にはfuをもっと密にとることが好ましい。演算制御装置16は演算部161と、制御部162と、記憶装置163を有している。制御部162は、周波数シフタ12や周波数シフト量設定値のセット等を行うとともに、周波数コム光発生器13に内蔵されたマイクロ波発生器を駆動し、さらに光スイッチ14を制御する。記憶装置163には、分光器15の検出データ等を一時的に格納することができる。演算部161は、分光器15から、近接する2つの特定コムのそれぞれについての周波数がシフトした複数のコムの光スペクトルデータDを取得して周波数較正演算を行う。すなわち、演算部161は、近接する2つの特定コムCMB11,CMB21のそれぞれについて、分光器15によりそれぞれ検出した、周波数がシフトした複数のコムCMB11~CMB14,CMB21~CMB24の各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量FUだけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成する。そして、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを生成し、この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで精密波形CMB’11,CMB’21を生成する。図2Eに新たな光スペクトルデータを重ね合わせた様子を示し、図2Fに曲線フィッティングの結果を示す。次に演算部161は、に示すように、近接する2つの特定コムCMB11,CMB21に対応する2つの精密波形CMB’11,CMB’21同士図3A~Eの相互相関を計算することで図3F参照、近接する2つの特定コムCMB11,CMB21の周波数間隔実測値を求め、得られた周波数間隔実測値を、周波数コム光発生器13において高精度に設定されたコム周波数間隔fiの値と比較して、分光器15のサンプリング周波数間隔の誤差を較正する。周波数が大きく異なると誤差の値も変わるのが一般的であるから、上記の較正プロセスをいくつかの周波数帯で行って、各周波数帯での較正値を求めておく。《分光機器の較正方法》図4および図5は、本発明の分光機器の較正方法の一実施形態を示すフローチャートである。この較正方法は、広帯域光源からの光を、試料を介して入射し、分光を行う分光機器の周波数較正に適用される較正方法であり、図1に示した分光機器の較正システム1の実施に適用される基本的には、分光機器の較正システム1の説明に際して既に述べているので、以下に較正手順のみを、図1から図3を参照しながら図4および図5のフローチャートにより示す。まず、制御部162は、制御レジスタの値jを0にセットしS101、周波数安定化光源11が生成する光Lから周波数シフト量設定値FU=j×fuに応じて周波数がシフトした光Ljを生成するS102。ここでは、制御レジスタの値が0であるので、周波数シフタ12による周波数シフト量設定値周波数シフト量FUが0FU=0×fuであり、周波数安定化光源11からの光Lは、周波数シフトを受けることなく周波数コム光発生器13に入射される周波数シフトを受けない光LをL0とする。光L0は、周波数コム光発生器13に入射され、周波数コム光発生器13は、コム周波数間隔fiが高精度に設定された周波数コム光FC1を生成するS103。周波数コム光FC1のコム周波数間隔fiは、内蔵されたマイクロ波発生器により高精度に設定されている。つぎに、分光器15を用いて、周波数コム光FC1の≡近接する2つの特定コム≡CMB10,CMB20について光スペクトルを測定して、測定結果光スペクトルデータI0を記憶装置DS1に格納するS104。以上の処理は、制御レジスタの値jがN未満である場合に行われる。すなわち、制御レジスタの値jが、N-1に達したかが判断されるS105。この場合には、制御レジスタの値jは0であるので、jは、0から1にインクリメントされるS106。制御レジスタの値jが1にセットされると、周波数シフタ12からは、周波数シフト量が1×fuの光L1が生成されるS102。すなわち、制御レジスタの値jが1のときは、周波数シフタ12による周波数シフト量設定値周波数シフト量FUが1×fuであり、周波数安定化光源11からの光Lは、この周波数シフトを受けて周波数コム光発生器13に光L1として入射される。光L1は、周波数コム光発生器13に入射され、周波数コム光発生器13は、コム周波数間隔fiが高精度に設定された周波数コム光FC1を生成するS103。つぎに、分光器15を用いて、周波数コム光FC1の≡近接する2つの特定コム≡CMB11,CMB21について光スペクトルを測定して、測定結果光スペクトルデータI1を記憶装置DS1に格納するS104。既に述べたように、以上の処理は、制御レジスタの値jがN未満である場合に行われる。すなわち、制御レジスタの値jが、N-1に達したかが判断されるS105。この場合には、制御レジスタの値jは1であるので、jは1から2にインクリメントされるS106。以上の処理が、j=N-1となるまで行われると、処理は、次の周波数較正演算処理に渡される。すなわち、周波数較正演算処理では、まずレジスタの値kが1にセットされるS107。演算部161は、近接する2つの特定コムCMB10,CMB20のそれぞれについて、分光器15により検出した、光スペクトルデータI1から、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータI’1を生成し記憶装置DS2に格納するS108。この処理は、演算レジスタの値kがN未満である場合に行われる。すなわち、演算レジスタの値kが、N-1に達したかが判断されるS109。この場合には、演算レジスタの値kは1であるので、kは、1から2にインクリメントされるS110。演算部161は、演算レジスタの値kが2にセットされると、記憶装置DS1に格納されている、近接する2つの特定コムCMB11,CMB21のそれぞれについての光スペクトルデータI2から、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータI’2を生成し、記憶装置DS2に格納するS108。以下、同様にして光スペクトルデータIN1から、記憶装置DS1に格納されている、近接する2つの特定コムCMB1,CMB2のそれぞれについての光スペクトルデータIN1から周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータI’N1を生成し記憶装置DS2に格納するS108。記憶装置DS1に格納されている測定結果光スペクトルデータI0と、記憶装置DS2に格納されている新たな光スペクトルデータI’1,I’2,,I’N1を重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータ図2E参照を生成するS111。この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで近接する2つの特定コムに対応する2つの精密波形CMB’1,CMB’2を生成するS112図2F参照。近接する2つの特定コムに対応する2つの精密波形CMB’1,CMB’2同士の相互相関を計算することで、近接する2つの特定コムCMB1,CMB2の周波数間隔実測値を求めるS113図3参照。得られた周波数間隔実測値を、前記周波数コム光発生器において高精度に設定されたコム周波数間隔の値と比較して、前記分光機器のサンプリング周波数間隔の誤差を較正するS113。上記の実施形態では、近接する2つの特定コムCMB1,CMB2の較正を行う場合を述べた。上記の測定に際して、近接する2つの特定コムとして、CMB1,CMB2を採用したが、CMB1,CMB3やCMB1,CMB4CMB3,CMB4は、CMB1の近傍の周波数帯のCMB2とは異なる周波数といったについて測定することができる。また、近接する2つの特定コムCMB1,CMB2の較正を行うと同時に、CMB1から遠く離れた他の周波数帯についても同時に較正することができる。さらに、上記の例では、周波数シフト量設定値をj×fuとしたが、これらにオフセットf0を付加して、周波数シフト量設定値をf0j×fuとすることができる。《分光機器の分光システム》図6は、本発明の分光機器の分光システムの実施形態を示す説明図である。図6において、分光システム2は、広帯域光源21と、周波数シフタ22と、光スイッチSW14と、分光器15と、演算制御装置16とを備えている。本実施形態では、周波数シフタ22は、試料30を介して広帯域光源21からの光S試料のスペクトルが載っているを入射し、周波数シフト量設定値に応じて周波数がシフトした複数の光Sを順次、分光器15に出射することができる。分光システム2には、図6に示すように、実施形態1に述べた較正システムが組み込まれ、分光器15には、較正システム1により較正がなされている。分光器15は、周波数シフタ22からの光を、異なる周波数シフト量設定値ごとに分光器15に順次入射して、周波数がシフトした複数の光の光スペクトルを、所定のサンプリング周波数間隔fsで順次検出する。図7Aに、光Sが持っている吸収スペクトルとそのスペクトルを示す。図7Bに、光Sのサンプリング結果を白丸で示す。マイナスピークは、プラスに反転させた方が処理がし易い。図7Cに、光Sの光スペクトルデータを上下反転させた波形を示す。図7Dに、光SS0および周波数が3段階でシフトしたS1,S2,S3を示す。図7Eに、新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを示す。図7Fに、高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで精密波形を生成した例を示す。本実施形態において、単位周波数シフト量fuは、サンプリング周波数間隔fsの1/4とした。演算制御装置16は、第1実施形態図1の演算制御装置16と同じであり、演算部161と、制御部162と、記憶装置163を有している。本実施形態では、制御部162は、周波数シフタ22や周波数シフト量設定値FUのセット等を行い、さらに光スイッチ14を制御する。記憶装置163には、第1実施形態と同様、分光器15の検出データ等を一時的に格納することができる。演算部161は、分光器15から、周波数がシフトした複数の光S0,S1,S2,S3の光スペクトルデータを取得してサンプリング点を増加する処理を行う。すなわち、演算部161は、分光器15によりそれぞれ検出した、周波数がシフトした複数の光の各光スペクトルデータから、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータをそれぞれ生成する。そして、これらの新たな光スペクトルデータを重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータを生成する。図7Eに新たな光スペクトルデータを重ね合わせた様子を示し、図7Fに高密度光サンプリングデータに曲線フィッティングを行った様子を示す。なお本実施形態の分光システム、および後述する分光方法ではでは、周波数シフタ12を、図1に示した分光機器の較正システム1に用いた周波数シフタ12と共用することができる。《分光機器の分光方法》図8は、本発明の、分光機器の分光方法の一実施形態を示すフローチャートである。この較正方法は、図6および図7で説明した分光器15に、広帯域光源21からの光を、試料30を介して入射して分光測定を行う分光方法である基本的には、分光機器の分光システム2の説明に際して既に述べているので、以下に処理手順のみを、図6および図7を参照しながら図8のフローチャートにより示す。まず、制御部162は、制御レジスタの値jを0にセットしS201、広帯域光源21が生成する光Sから周波数シフト量設定値FUj×fuに応じて周波数がシフトした光Sjを生成するS202。ここでは、制御レジスタの値jが0であるので、周波数シフタ22による周波数シフト量設定値周波数シフト量FUが0FU=0×fuであり、広帯域光源21からの光Sは、周波数シフトを受けることなく分光器15に入射される周波数シフトを受けない光SをS0とする。分光器15では、入射された光S0について光スペクトルを測定して、測定結果光スペクトルデータI0を記憶装置DS1に格納するS203。以上の処理は、制御レジスタの値jがN未満である場合に行われる。すなわち、制御レジスタの値jが、N-1に達したかが判断されるS204。この場合には、制御レジスタの値jは0であるので、jは、0から1にインクリメントされるS205。制御レジスタの値jが1にセットされると、周波数シフタ22からは、周波数シフト量が1×fuの光S1が生成されるS202、この光S1は、分光器15に入射され、分光器15では、光S1について光スペクトルを測定して、測定結果光スペクトルデータI1を記憶装置DS1に格納するS203。既に述べたように、以上の処理は、制御レジスタの値jがN未満である場合に行われる。すなわち、制御レジスタの値jが、N-1に達したかが判断されるS204。この場合には、制御レジスタの値jは1であるので、jは1から2にインクリメントされS205。以上の処理が、j=N-1となるまで行われると、処理は、次の演算処理に渡される。すなわち、演算処理では、まず演算レジスタの値kが1にセットされるS206。演算部161は、分光器15により検出した、光スペクトルデータI1から、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータI’1を生成し記憶装置DS2に格納するS207。この処理は、演算レジスタの値kがN未満である場合に行われる。すなわち、演算レジスタの値kが、N-1に達したかが判断されるS208。この場合には、演算レジスタの値kは1であるので、kは、1から2にインクリメントされるS209。演算部161は、演算レジスタの値kが2にセットされると、記憶装置DS1に格納されている、光S2の光スペクトルデータI2から、周波数が当該周波数シフト量だけ逆シフトした新たな光スペクトルデータI’2を生成し、記憶装置DS2に格納するS207。以下、同様にして光スペクトルデータI3~IN1から、記憶装置DS1に格納されている、周波数が逆シフトした新たな光スペクトルデータI’3~I’N1を生成し記憶装置DS2に格納するS207。記憶装置DS1に格納されている測定結果光スペクトルデータI0と、記憶装置DS2に格納されている新たな光スペクトルデータI’1,I’2,,I’N1を重ね合わせて、サンプリング点が増加した高密度光サンプリングデータ図7E参照を生成するS210。この高密度光サンプリングデータについて曲線フィッティングを行うことで精密波形S’を生成するS211図2F参照。図8のフローチャートでは、試料の吸収スペクトルの測定についての実施形態を説明したが、図8のフローチャートに示した分光方法は、図9に示すように、被測定光源21’の発光スペクトルを測定する場合にも適用される。"