その可視表面が特徴を有する、時計ケース上に取り付けることを意図したセラミック部材の製造方法であって、可溶性層2が該可視表面上に選択的に堆積され、該可溶性層の厚さが少なくとも該特徴の高さに等しく、Ti、Ta、Cr又はThタイプの第1結合層3が、そうして選択的に被覆された表面上に物理気相成長PVDにより、少なくとも100nmの厚さでマグネトロンスパッタリングによって真空堆積され、続いて大気へベントしないで、Au、Pt、Ag、Ni、Pd、TiN、CrN、ZrN又はそれらの合金から作製された第2層4が少なくとも100nmの厚さでPVD堆積され、次いで、該可溶性層2が溶解される、セラミック部材の製造方法。前記可溶性層2が溶解される前に、貴金属又は貴金属の合金から成る追加の層5が電鋳によって堆積される、請求項1に記載の方法。フォトレジストから作製された前記可溶性層2が形成される、請求項1又は請求項2の何れか1項に記載の方法。熱成形により製造された熱可塑性ポリマーマスクが前記フォトレジスト層2に適用される、請求項3に記載の方法。これらの特徴が、少なくとも100nm厚さのAu、Ag、CrN、Ni、Pt、TiN、ZrN、Pd又はそれらの合金を含む群から成る少なくとも1つの第2層4で覆われた、少なくとも100nm厚さのTi、Ta、Cr又はThの第1結合層3を介してこの表面に固定される、請求項1に記載のセラミック部材。その形状が円形であり、前記可視表面を形成する面が裁頭円錐形frustoconicalshapeである、請求項5に記載のセラミック部材。その形状が多角形フレームの形状であり、前記可視表面を形成する面が裁頭角錐形frustopyramidalshapeである、請求項5に記載のセラミック部材。前記セラミックが、ZrO2、Al2O3又はこの2つの混合物である、請求項5~7の何れか1項に記載のセラミック部材。前記特徴が、前記第2層4と同じ金属又は合金から作製された厚さが少なくとも0.10mmの追加の層5によって形成された、請求項5~8の何れか1項に記載のセラミック部材。本発明の目的は、上記の欠点を少なくとも部分的に改善することである。このため、本発明の主題は、第一に、その可視表面が請求項1に記載の特徴を有する、時計ケース上に取り付けることを意図したセラミック部材の製造方法である。次に、本発明の主題は、請求項5に記載のセラミック部材である。本発明の本質的な利点は、何ら形状の制限なく特徴を選択的に形成すること、新規の製品を得ること、新規の美的な可能性を与えること、並びに時計の外観、特には固定及び回転式ベゼルを有する時計の外観を一新及び改善することが可能になるということである。本発明に従った方法によって、セラミック部材表面への浮出しの特徴の優れた接着を達成することが可能となり、中でも特徴が浮出しの特徴の場合には、特に腕時計用のケースはあらゆる種類の外部の攻撃、とりわけ衝突にひどくさらされるので、このことは非常に重要である。有利には、特徴が形成される可視表面は、結果として特有のマスキング技術を必要とする裁頭円錐形frustoconical又は裁頭角錐形frustopyramidal表面である。他の特有の態様及び利点は、以下の説明の中で明らかになるであろう。それらは本発明の主題を形成する方法の1つの実施方法及びその変形態様、さらにはその方法によって得られるセラミック部材を概略的にかつ例として示す添付図面を参照して与えられる。図1は、ZrO2、Al2O3又はこの2つの混合物から作製された焼結基材1を示し、その表面上に、感光性ポリマー又はフォトレジストの層2が、特徴の選択的な堆積のための共形層を形成する目的で堆積される。この層2の厚さは、特徴が実質的に表面の特徴であるか又は浮出しの特徴であるかによって、特徴を形成するのに用いられる実施方法に依存している。マスクをRISTON登録商標MM150タイプのこのフォトレジスト層2に適用し、UV光でこの層2を選択的に照射して、基材1上に残さなければならないフォトレジスト層2の部分を硬化するようにする。次いで、層2の照射されなかった部分を溶解して、基材1の表面部分1aを露出させるために、この層2をフォトレジストの供給業者によって与えられる指示に従って0.85のNa2CO3浴で現像する。これらの部分は、図2に示すように、特徴を形成するために選択された形状を有する。この操作方法は、標準的なフォトリソグラフィプロセスに相当する。図示した例において、図1~7により断面で示される基材1は、実際、本発明によるセラミック部材の一部に対応していることを指摘すべきである。この部分は、長方形断面の円形リングから成るこのセラミック部材の半径方向断面に特に対応することができる。好ましくは、このリングは、可視表面1aがこのリングの回転軸に対して傾いているように裁頭円錐形の形状を有する。このため、ポリマー層2に特徴を形成するのに用いられるマスクは、通常のマスクではなく、セラミック基材の形状に相補的な形状をマスクに与えるよう熱成形したポリマーマスクである。ある程度の柔軟性を有するこのポリマーマスクは、マスクがこの層2にその領域全体にわたって適合するよう十分な圧力で以って層2に適用される。特徴を形成するこの操作が実施された後、こうして層2により選択的に被覆された基材1を真空コーティングチャンバーに置いて、マグネトロンスパッタリングによるPVD物理気相成長法によって第1結合層3を堆積する図3。それにより、マグネトロンなしのPVD法を用いて得られるよりも強い結合層3の接着を確実に得ることができる。さらには、マグネトロンスパッタリングによって、堆積操作の際に基材1の温度を100°Cよりも十分低く保つことができる。この堆積法を使用することによって、ポリマー層2で選択的に被覆された基材1上に結合層を堆積させることができ、またポリマーを破壊しやすい温度での熱処理を実施する必要なく、基材1に関してこの結合層3の優れた接着を確実にすることができる。堆積チャンバー中の真空をなお維持しながら、第2層4が、Au、Ag、Pt、Pd、TiN、CrN、又はNiタイプのターゲットを用いてマグネトロンスパッタリングにより形成される図4。この第2層の厚さは500nmよりも大きく、好ましくは500nm~15μmである。マグネトロンスパッタリングによって真空堆積を実施するのに用いられる装置は、ターボ分子ポンピングシステム及び回転式ベーンポンプを有する円筒形ステンレス鋼チャンバー;垂直の回転軸と垂直に配置された基材とを有するカルーセルタイプの基材ホルダーであって、該基材ホルダー上でRFバイアススパッタリングを実施することができる基材ホルダー;該カルーセルの軸に対して120°の角度で該カルーセルに対面するよう取り付けられた2つの垂直な長方形のマグネトロンカソード;2つのカソード、即ち、Ti9999ターゲットとAu9999ターゲットのカソード;手動式インピーダンスマッチングボックスを備えたRF13.56MHz600W発生器によるカソードへの供給;質量流量計を介したガス供給純度:5.7~6.0;並びに限界真空を監視するためのペニング真空計、及び作業圧力を監視するための容量式ゲージ絶対測定による圧力監視;を含んで成る。部品は、イソプロピルアルコール20/脱イオン水80の混合液を有する超音波浴において5分間洗浄され、次いで窒素ガンで乾燥される。基材は、チャンバーを真空下に置き、5×102Pa未満の圧力までポンプで吸い出すことにより剥がされる。イオン洗浄操作が、逆スパッタリング、即ち、基材ホルダーのRF電力:>100W;アルゴン流量:>15cm3/分;酸素流量:>5cm3/分;全圧:<5Pa;及び継続時間:20~30分;により基材表面上で実施される。チタン下層の堆積条件は以下の通りである。カソードのRF電力:>150Wアルゴン流量:>5cm3/分アルゴン圧力:<5Pa層厚:>100nm、好ましくは100nm~1500nmチャンバーにおいてなお真空を維持しながら、カルーセルを回転させることにより、Au9999ターゲットを備えた小さいカソードの方へ基材を移動する。堆積条件は以下の通りである。カソードのRF電力:>50Wアルゴン流量:>10cm3/分アルゴン圧力:<5Pa層厚:少なくとも>100nm、好ましくは500nm~15μmこうして得られた基材は、チタン結合層で全体的に被覆され、該層は図4に示すように金層で被覆される。この第2層4が堆積された後、基材が真空堆積チャンバーから取り出され、2つの溶液が選択される。第1の実施方法によれば、ポリマー層2並びに層3及び4で選択的に被覆された基材1図4は、第2層4に用いられるのと同じ貴金属、この例では金を用いた電鋳操作にさらされる。本発明の全体的な利点は、ポリマーマスクを以降の選択的な電鋳操作での使用に関して完全なまま保つことができることにある。それゆえ、追加の層5が電鋳により所望の厚さで堆積される。この場合に使用される金浴は、高いAu含有量を有し、それによって厚さが少なくとも0.10mm、好ましくは10分の数mmの層で電気鋳造することが可能となる。電鋳法の操作条件は、電鋳浴の供給業者によって示される条件である。このプロセスの継続時間は堆積層の厚さに依存する。堆積の成長速度は約10μm/時間である。図7に示す第2の実施方法によれば、層3及び4で選択的に被覆された基材を取り出した後、溶解したポリマー層2でセラミック基材が覆われなかった部分1a上にある層3及び4だけが基材1上に残るような形で、図5に示すステップから図6に示すステップまでをパスするように、先に実施した通りポリマー層2を溶解する。この場合、層3、4の厚さのために、特徴は基材1の表面と実際的に同じ高さである。変形態様として、本発明によるセラミック部材は、裁頭円錐形リングの形態の代わりに、この部材の中心軸に対して傾いた面を有する多角形フレームの形態であることができ、したがって、先端を切り取ったピラミッドを構成することができる。図8は、ベゼル上に弾性変形によって取り付けることを意図した裁頭円錐形のセラミックリング1を示す。このリング1は、図5に示す実施態様に従った浮出しの特徴5を備えている。