板状ガラスから、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含む、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、前記板状ガラスの両主表面上に形成されているネガ型のレジスト材に対して前記ガラス基板に対応する領域を露光するマスクパターンを有するフォトマスクを用いて、該板状ガラスの主表面の縁部を遮光して把持した状態で該板状ガラスの両主表面側から露光するための露光工程と、前記露光工程後の板状ガラスを現像してレジストパターンを形成する現像工程と、前記現像工程によって前記板状ガラスの主表面が露出した縁部に対して、エッチング工程にて使用されるエッチャントに対する耐薬品性を有する皮膜を形成する工程と、前記現像工程によって、板状ガラスの主表面が露出した領域をエッチングすることにより該板状ガラスから前記ガラス基板を抜き出すエッチング工程と、を含むことを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法。板状ガラスから、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含む、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、前記板状ガラスの主表面の縁部を遮光して把持した状態で両主表面上にネガ型またはポジ型のレジスト材をコーティングするコーティング工程と、前記板状ガラスの両主表面上において前記ガラス基板に対応する領域を露光するマスクパターンを有するフォトマスクを用いて、該板状ガラスの両主表面側から前記レジスト材を露光するための露光工程と、前記露光工程後の板状ガラスを現像してレジストパターンを形成する現像工程と、前記現像工程によって前記板状ガラスの主表面が露出した縁部に対して、エッチング工程にて使用されるエッチャントに対する耐薬品性を有する皮膜を形成する工程と、前記現像工程によって、板状ガラスの主表面が露出した領域をエッチングすることにより該板状ガラスから前記ガラス基板を抜き出すエッチング工程と、を含むことを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法。ネガ型レジスト膜が形成されたガラス基板を保持手段により保持して露光処理し、カバーガラスとなされる露光領域と、前記カバーガラスの外縁を画定するための非露光領域とを形成し、現像処理を行った後、非露光領域をエッチング処理して、前記ガラス基板からカバーガラス用領域を取り出す、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、前記露光処理に際して前記ガラス基板における前記保持手段により遮蔽され露光処理されない部分について、前記エッチング処理の前に、ガラス基板のエッチングを防止すべくエッチング防止処理を施すことを特徴とする、携帯機器用カバーガラスの製造方法。エッチングによるガラス基板の抜き出しでは、上述したように板状ガラスの主表面にレジストパターンを形成する。このレジストパターンの形成では、まず板状ガラスの主表面にレジスト材をコーティングする。次に、所望のマスクパターンを有するフォトマスクを、レジスト材がコーティングされた板状ガラスの両主表面と平行に配置してレジスト材の両面から露光し、露光後の板状ガラスを現像液に浸漬して現像することによりレジストパターンが形成される。このとき、フォトマスクを、抜き出したい領域すなわち複数のガラス基板に対応する領域を露光し、且つその露光される領域以外を遮光するマスクパターンとする以下、板状ガラスにおいて、露光される領域を露光領域、遮光される領域を遮光領域と称する。すると、露光時には、板状ガラスにおいて、露光領域にのみ光が照射されてレジスト材が変質し、現像液に溶解しないようになる。フォトマスクによって覆われて光が照射されなかった遮光領域にコーティングされていたレジスト材は、現像時に現像液に溶解する。これにより、板状ガラスに、ガラス基板に対応する領域露光領域にのみマスクレジストを有するレジストパターンが形成される。そして、レジストパターン形成後の板状ガラスをエッチングすると、板状ガラスにおいて、レジストパターンによってマスキングされている露光領域はエッチャントから保護され、レジストが形成されていない遮光領域はエッチャントに溶解する。これにより、複数のガラス基板に対応する露光領域が分離し、複数の所望の形状のガラス基板が抜き出されている。ここで、従来のエッチングでは、板状ガラスにおいて遮光領域以外の領域もエッチャントに溶解する。詳細には、板状ガラスの露光では、その両主表面に各々対向する位置に配置された照射装置の間にかかる板状ガラスが配置され、周囲の縁部を把持された状態で露光される。このため、板状ガラスにおいて把持されている縁部には光は照射されない以下、この照射を受けない縁部を非露光領域と称する。したがって、その非露光領域にコーティングされたレジスト材は、現像時に、遮光領域にコーティングされていたレジスト材とともに現像液に溶解する。その結果、板状ガラスの非露光領域は、エッチング時に、遮光領域と同様にエッチャントに溶解する。上述したように、板状ガラスのエッチングにおいて、遮光領域の溶解は、露光領域を分離してガラス基板を抜き出すために必須であるものの、非露光領域はガラス基板の抜き出しに関与しない領域であるため、かかる非露光領域は溶解する必要はない。むしろ、非露光領域までもが溶解してしまうと、エッチャントの寿命が短くなるためエッチャントを無駄に消費することとなり、その消費量ひいては製造コストの増大を招いてしまう。また、板状ガラスにレジスト材をコーティングする際にレジスト材を塗れない部分があった場合にも、やはり板状ガラスの縁部に板状ガラスの主表面が露出している部分が形成される。この場合にも同様に、エッチャントの消費量および製造コストの増大を招くという問題がある。本発明は、このような課題に鑑み、エッチング時に板状ガラスの縁部の主表面が露出した部分の溶解を防ぎ、エッチャントの消費量ひいては製造コストの削減を図ることが可能な携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することを目的としている。上記課題を解決するために、本発明の代表的な構成は、板状ガラスから、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含む、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、板状ガラスの両主表面上に形成されているネガ型のレジスト材に対してガラス基板に対応する領域を露光するマスクパターンを有するフォトマスクを用いて、板状ガラスの主表面の縁部を遮光して把持した状態で板状ガラスの両主表面側から露光するための露光工程と、露光工程後の板状ガラスを現像してレジストパターンを形成する現像工程と、現像工程によって板状ガラスの主表面が露出した縁部に対して、エッチング工程にて使用されるエッチャントに対する耐薬品性を有する皮膜を形成する工程と、現像工程によって、板状ガラスの主表面が露出した領域をエッチングすることにより板状ガラスから前記ガラス基板を抜き出すエッチング工程と、を含むことを特徴とする。上記構成によれば、エッチング工程前に、板状ガラスの縁部に板状ガラスの主表面が露出している部分非露光領域に、エッチャントに対する耐薬品性を有する皮膜が形成される。これにより、エッチング工程において非露光領域はその皮膜によって保護されるためエッチャントとの接触が防がれ、非露光領域の溶解が生じない。このため、エッチャントの消費量ひいては製造コストの削減を図ることが可能となる。本発明の他の代表的な構成は、板状ガラスから、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含む、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、板状ガラスの主表面の縁部を遮光して把持した状態で両主表面上にネガ型またはポジ型のレジスト材をコーティングするコーティング工程と、板状ガラスの両主表面上においてガラス基板に対応する領域を露光するマスクパターンを有するフォトマスクを用いて、板状ガラスの両主表面側から前記レジスト材を露光するための露光工程と、露光工程後の板状ガラスを現像してレジストパターンを形成する現像工程と、現像工程によって板状ガラスの主表面が露出した縁部に対して、エッチング工程にて使用されるエッチャントに対する耐薬品性を有する皮膜を形成する工程と、現像工程によって、板状ガラスの主表面が露出した領域をエッチングすることにより板状ガラスからガラス基板を抜き出すエッチング工程と、を含むことを特徴とする。上記のように、コーティング工程においてレジスト材を塗れない部分があった場合にも、やはり板状ガラスの縁部に板状ガラスの主表面が露出している部分が形成される。そして、これをエッチング工程前の保護膜形成工程において形成した皮膜によって保護することにより、板状ガラスの主表面が露出している部分の溶解が生じないため、エッチャントの消費量ひいては製造コストの削減を図ることが可能となる。本発明の他の代表的な構成は、ネガ型レジスト膜が形成されたガラス基板を保持手段により保持して露光処理し、カバーガラスとなされる露光領域と、カバーガラスの外縁を画定するための非露光領域とを形成し、現像処理を行った後、非露光領域をエッチング処理して、ガラス基板からカバーガラス用領域を取り出す、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、露光処理に際してガラス基板における保持手段により遮蔽され露光処理されない部分について、エッチング処理の前に、ガラス基板のエッチングを防止すべくエッチング防止処理を施すことを特徴とする。本発明によれば、エッチング時に板状ガラスの縁部の主表面が露出した部分の溶解を防ぎ、エッチャントの消費量ひいては製造コストの削減を図ることが可能な携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することができる。以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値などは、発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。図1は、本実施形態にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法を説明する概略図である。図2および図3は、本実施形態にかかる製造方法を適用した板状ガラス102の断面図であり、図1の板状ガラス102の水平方向の断面が図示されている。本実施形態にかかる携帯機器用カバーガラス以下、単にカバーガラスと称するの製造方法では、まず、図2aに示す板状ガラス102の主表面102aおよび102bに、後述するレジストパターン106図3a参照を形成し、エッチャントでエッチングすることにより所望の任意の形状に抜き出して、不図示の携帯機器用のカバーガラスの形状のガラス基板100図3e参照を製造する。このようにして製造されたガラス基板100を用いたカバーガラスは、エッチングにより外形を形成しているので、端面は溶解面となって非常に高い平滑性を有し、機械加工では必ず生じるマイクロクラックが生じないため、携帯端末用カバーガラスに求められる高い強度を得ることができる。また、機械加工では困難な複雑な形状であっても、容易に加工することができる。図1aは板状ガラス102の平面図である。本実施形態では、図1aにおいて破線にて囲った領域を抜き出し、カバーガラスに用いられるガラス基板100を製造する。このように本実施形態では板状ガラス102から27個のガラス基板100を抜き出す場合を説明するが、この数は例示であり、これに限定するものではない。板状ガラス102は、溶融ガラスから直接シート状に成型したもの、あるいは、ある厚さに成型されたガラス体を所定の厚さに成型し、主表面を研磨して所定の厚さに仕上げたものを使用することができる。特に、溶融ガラスから直接シート状に成型した場合には、板状ガラス102の主表面102aおよび102b以下、主表面102aおよび102bを総称するときは単に両主表面と称する。がマイクロクラックのない表面状態を有するため好ましい。溶融ガラスから直接シート状に成型する方法としては、ダウンドロー法、フロート法などが挙げられる。板状ガラス102は、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラスなどで構成されていることが好ましい。中でも、SiO2、Al2O3、Li2O及び/又はNa2Oを含有したアルミノシリケートガラスであることが好ましい。Al2O3は、後述する化学強化においてイオン交換性能を向上させるため有用である。Li2Oは、化学強化においてNaイオンとイオン交換させるための成分である。Na2Oは、化学強化においてKイオンとイオン交換させるための成分である。ZrO2は、機械的強度を高めるために有用である。上記の板状ガラス102へのレジストパターン形成では、まず図2bに示すように、板状ガラス102の主表面の縁部を把持した状態で、かかる両主表面上にレジスト材104をコーティングするコーティング工程。レジスト材104としては、エッチングする際に使用するエッチャントに対して耐性を有する材料であればよい。ガラスは大抵、フッ酸を含む水溶液のウェットエッチングや、フッ素系ガスのドライエッチングにより食刻されるので、例えば、フッ酸耐性に優れたレジスト材などを用いることができる。次に、図2cに示すように、板状ガラスの両主表面上において複数のガラス基板に対応する領域を露光するマスクパターンを有するフォトマスク110を、コーティング工程後の板状ガラス102の両主表面と平行に配置する。そして、板状ガラス102の両主表面上に形成されているネガ型のレジスト材104に対して、板状ガラス102の主表面の縁部を遮光して把持した状態で、板状ガラス102の両主表面側からUVランプ等の照射装置112によって光UVを照射して露光する露光工程。ここで、本実施形態のフォトマスク110が有する所望のマスクパターンとは、板状ガラス102の両主表面上において複数のガラス基板100に対応する領域を露光するマスクパターンである。図1bは板状ガラス102の各領域を説明する平面図である。図1bに示すように、本実施形態の板状ガラス102では、斜線にてハッチングされる領域図1aにて破線にて囲った領域が、複数のガラス基板100に対応する領域抜き出したい領域である。このため、かかる領域を露光してレジスト材104によるレジストマスク以下、マスク104a図2d参照と称するを形成する。以下、このハッチングの領域を露光領域103aと称する。一方、上記の露光領域103aに対し、図1bにて黒塗りで示される領域は、複数のガラス基板100に対応する領域露光領域103aを分離させるためにマスク104aを形成しない領域であるため、この領域は遮光する必要がある。以下、この黒塗りの領域を遮光領域103bと称する。そこで、本実施形態では、光図2cでは矢印で図示を透過可能なガラス板等によりフォトマスク110を構成し、かかるフォトマスク110において、上述した遮光領域103bに対応する遮光部110aを設けている。これにより、板状ガラス102において、遮光部110aに対応する領域すなわち遮光領域103bは遮光され、それ以外の領域すなわち露光領域103aは露光される。すると、露光領域103aは、図2dに示すようにレジスト材104が変質し、現像液で溶解しないようになる。遮光領域103bは変質しないレジスト材104のコーティングが残った状態となる。露光工程後の板状ガラス102は、現像液に浸漬されることにより現像され、レジストパターン106が形成される現像工程。詳細には、露光工程後の板状ガラス102図2d参照を現像液不図示に浸漬すると、フォトマスク110によって覆われて光が照射されなかった遮光領域103bのレジスト材104図2dにおいて残存しているレジスト材104が現像液に溶解する。これにより、図3aに示すように、板状ガラス102には露光領域103aのレジスト材104がマスク104aとして残り、ガラス基板100に対応する領域露光領域にのみ複数のマスク104aを有するレジストパターン106が形成されるネガ型。ここで、図1bに示すように、板状ガラス102では、意図的に遮光される遮光領域103bに加えて、工程の都合上、露光がなされなかった遮光されたために主表面が露出した部分以下、非露光領域103cという。が存在する。詳細には、図2cに示すように、露光工程において、レジスト材104をコーティングされた板状ガラス102の両側の縁部は冶具保持手段114によって把持保持されている。このため、照射装置112から照射された光が冶具114によって遮られ、縁部には光は照射されず、かかる縁部が非露光領域103cとなる。したがって、その非露光領域103cにコーティングされたレジスト材104図2d参照は、図3aに示すように、現像工程において、遮光領域103bにコーティングされていたレジスト材104とともに現像液に溶解して剥離される。図3aに示す板状ガラス102を後述するエッチング工程においてエッチングすると、板状ガラス102の非露光領域103cは、レジスト材104が剥離されて露出した状態であるため遮光領域103bと同様にエッチャントに溶解してしまう。このように、ガラス基板100露光領域103aを抜き出すための遮光領域103bだけでなく、その抜き出しに不要な非露光領域103cまでもがエッチャントに溶解すると、エッチャントの寿命が短くなってそれを無駄に消費することとなり、その消費量ひいては製造コストの増大を招いてしまう。またエッチャントへの溶解量が増えると、エッチング時に生じるスケールの量が増すため、そのスケールを除去するための清掃頻度の増加を招くこととなる。そこで本実施形態では、エッチング工程を行う前に、板状ガラス102の主表面が露出した縁部であってレジストパターン106が形成されていない非露光領域103cに対して、エッチング工程において使用されるエッチャントに対する耐薬品性を有する皮膜108を形成する保護膜形成工程、エッチング防止処理。保護膜形成工程を終えると、板状ガラス102は、図3bに示す状態となる。上述したよう皮膜108には、エッチャントに対する耐薬品性を有する材料であれば如何なるものを用いることが可能であるが、例えばレジスト材104と同一材料であってもよい。ただし、保護膜形成工程の実施時において板状ガラス102には既にマスク104aによるレジストパターン106が形成されているため、その板状ガラス102を耐エッチング材としてのレジスト材104に浸漬することは好ましくない。したがって、レジスト材104と同一材料を耐エッチング材に用いる場合には、非露光領域103cのみに耐エッチング材を局所的に塗布し、そこに光を局所的に照射して耐エッチング材の皮膜108を形成する必要がある。また他の方法としては、耐エッチング材をシート状としてそれを貼付することにより、耐エッチング材の皮膜108を非露光領域103cに形成することも可能である。なお、当業者には周知であるため説明を省略するが、上記のコーティング工程の後に、かかるコーティング工程においてコーティングされたレジスト材104を乾燥させるプリベーク工程を設けてもよいし、現像工程や保護膜形成工程の後に、板状ガラス102を乾燥させるポストベーク工程を設けてもよい。次に、現像工程後に保護膜形成工程を実施された図3bに示す板状ガラス102上に残存したレジストをマスク104aとして用い、露出された板状ガラス102の主表面に対してエッチャントでエッチングすることにより、板状ガラス102からガラス基板100を抜き出すエッチング工程。エッチング方法は、湿式エッチングウェットエッチング、乾式エッチングドライエッチングのいずれであってもよい。ウェットエッチングに使用するエッチャントは、板状ガラスを食刻できるものであればよい。例えば、フッ酸を主成分とする酸性溶液や、フッ酸に硫酸、硝酸、塩酸、ケイフッ酸のうち少なくとも一つの酸を含む混酸などを用いることができる。ドライエッチングに使用するエッチャントは、板状ガラスを食刻できるものであればよいが、例えばフッ素系ガスを使用することができる。ウェットエッチングでは、ガラスは等方的にエッチングされる。したがって、板状ガラス102において、マスク104aレジストパターン106によってマスクされていない領域、すなわち露出している遮光領域103bは、図3cに示すように両面から溝が掘り下げられるように溶解し、一方、マスク104aによってマスクされている露光領域103aはエッチャントから保護されるため溶解しない。同様に、エッチング材の皮膜108によってマスクされている非露光領域103cもエッチャントから保護されるため溶解しない。そして、エッチングを継続すると遮光領域103bが完全に溶解し、やがて板厚のほぼ中央部で溝が連続することによって、図3dに示すように露光領域103aが分離し、板状ガラス102から所望の形状のガラス基板100が抜き出される。上記のように板状ガラス102から抜き出されたガラス基板100は、剥離液不図示によってマスク104aが剥離されるレジスト剥離工程。かかる剥離液としては、KOHやNaOHなどのアルカリ溶液を好適に用いることができる。このレジスト剥離工程により、ガラス基板100は図3eに示す状態となる。そして、必要に応じて、イオン交換処理による化学強化工程等の工程を経た後、所定の印刷パターンを印刷する印刷工程を行うことにより、製品としてのカバーガラスとなる。以上説明したように、本実施形態にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法によれば、エッチング工程前の保護膜形成工程において、板状ガラス102の縁部である非露光領域103cに耐エッチング材の皮膜108が形成されるため、非露光領域103cが保護されてエッチャントとの接触が防がれる。これにより、エッチング工程における非露光領域103cの溶解が生じることがなく、エッチャントの消費量ひいては製造コストの削減、および清掃頻度の低下を図ることが可能となる。なお、上記実施形態においては、露光工程で露光されなかったために現像工程によって板状ガラス102の主表面が露出した部分非露光領域が形成されると説明した。しかし、コーティング工程において、板状ガラスの主表面の縁部を遮光して把持した状態で両主表面上にネガ型またはポジ型のレジスト材をコーティングする場合にも、縁部にレジスト材がコーティングされないため、同様に板状ガラス102の主表面が露出した部分が形成される。この場合においても、上記実施形態と同様に保護膜形成工程において当該部分に耐エッチング材の皮膜108を形成することにより、エッチャントの消費量ひいては製造コストの削減を図ることが可能となる。また本実施形態では、現像工程後に保護膜形成工程を実施する場合を例示して説明したが、これに限定するものではない。保護膜形成工程は、エッチング工程より前に行われればよく、現像工程よりも前の工程において実施することが可能である。ただし、耐エッチング材をレジスト材104と同一材料とする場合には、現像工程よりも前に保護膜形成工程を行うと、かかる現像工程において耐エッチング材の皮膜108が現像液に溶解してしまうため、保護膜形成工程は現像工程後に行うべきであることは言うまでもない。さらに、本実施形態では、エッチング防止処理として保護膜形成工程を実施する場合を例示して説明したが、これに限定するものではない。例えば、露光工程に際してガラス基板における保持手段により遮蔽され露光処理されない部分縁部について、その露光工程とは別工程の露光工程即ち第2の露光工程をエッチング防止処理として行ってもよい。以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。