酸化セリウムを0.01~2質量含有するガラス素材を粗研磨する粗研磨工程と、前記ガラス素材表面のセリウム量が0.125ng/cm2以下となるように前記粗研磨工程後のガラス素材を洗浄する洗浄工程と、コロイダルシリカを含む研磨材を循環使用して前記洗浄工程後のガラス素材を精密研磨する精密研磨工程と、を備えることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。請求項1記載の上記ガラス基板の製造方法において、前記精密研磨工程における前記洗浄工程後のガラス素材の取り代は、0.2~2μmであり、かつ、前記精密研磨工程に研磨材として使用されるスラリーの容量をaリットル、研磨される前記ガラス素材の枚数をb枚、前記ガラス素材の酸化セリウム含有量をX質量、前記取り代をYμmとし、Z=Y×基板面積cm2×基板密度g/cm31とすると、前記精密研磨工程は、X×Z×b÷a<3μg/l2になるように前記研磨材を循環使用することを特徴とする上記ガラス基板の製造方法。請求項1又は2記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記粗研磨工程は、酸化セリウムを研磨材として使用することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。請求項1から3の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記ガラス素材は、以下の組成を有していることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。SiO2:55質量から75質量、Al2O3:5質量から18質量、Li2O:1質量から10質量、Na2O:3質量から15質量、K2O:0.1質量から5質量、但し、Li2ONa2OK2Oの総量:10質量から25質量、MgO:0.1質量から5質量、CaO:0.1質量から5質量、ZrO2:0質量から8質量であり、0.10≦MgOCaO/Li2ONa2OK2O≦0.80。請求項1から3の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記ガラス素材は、SiO2Al2O3B2O2の総量:65質量から90質量、但し、SiO2:45質量から75質量、Al2O3:1質量から20質量、B2O3:0質量から8質量、R2Oの総量:7質量から20質量、但し、R=Li、Na、K、R’Oの総量:0.1質量から12質量、但し、R’=Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、TiO2ZrO2の総量:0.5質量から10質量、を含有するガラス素材であって、V、Mn、Ni、Mo、Sn、Ce及びBiからなる群の中から選ばれる少なくとも1種の多価元素を含有し、前記多価元素の酸化物が、それぞれ、V2O5、MnO2、Ni2O3、MoO3、SnO2、CeO2、Bi2O3であるとした場合における、前記多価元素の酸化物の総量の、TiO2ZrO2の総量に対するモル比率前記多価元素の酸化物の総量/TiO2ZrO2の総量が、0.05~0.50の範囲であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。請求項1から5の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板。従来、シリカ系砥粒を研磨材として使用して循環させた場合、時間経過を経ることにシリカ系砥粒が凝集してしまうため研磨材として使えなくなる問題があった。この問題を解決する技術として、フィルタにて凝集したシリカ系砥粒を除去する技術がある。しかしながら、この技術では、凝集したシリカ系砥粒がフィルタよりも小さい場合にフィルタを通過してしまうため、効果が出ないという問題があった。特に最近のシリカ系砥粒は20nm程度のものを使用しているため、通常のフィルタでは効果的ではない。他方、フィルタの目が小さいと、目詰まりを起こすため加工ができない。このようなことから研磨材を循環使用することができるのは、3回程度が限度であり、生産効率が悪くなるという問題があった。本発明者は、鋭意研究の結果、研磨材が凝集する原因が、希土類酸化物として広く利用されている酸化セリウム自体にあることをつきとめた。酸化セリウムは、研磨メカニズムを有している。この研磨メカニズムにおいては、圧力を受けた際にガラス素材の表面で主な組成であるSi-Oの結合に酸化セリウムが置き換わり、Ce-Oという結合が起こる。これらはすぐに分解するが、切れたSiは再度結合することなくこれらは切り離される。これを繰り返すことにより研磨が行われる。酸化セリウムがシリカ系砥粒で行う研磨の際に存在した場合、セリウムは、シリカ系砥粒の水酸基と結合し、シリカ系砥粒の分散性が低下する。これは酸化セリウムの上記研磨メカニズムがシリカ系砥粒およびスラッジでも同様に起こるためであると考えられる。それにより、スラリーを循環使用していくとシリカ系砥粒の凝集が大きくなり、ガラス基板の平滑性に悪影響を及ぼす。また、研磨機に酸化セリウムがたまっていくため、平滑性の悪影響はさらに大きくなる。しかも、酸化セリウムは、最終工程に至るまで残存することで深くガラス素材に浸透し、最終のガラス基板の清潔性に悪影響を及ぼす。アンチモンの代替成分として酸化セリウムを含むガラス基板においては、研磨時にガラス基板から溶出する酸化セリウムも、粗研磨で研磨材として使用される酸化セリウムと同様に問題となる。ガラス組成からの溶出による酸化セリウムは、様々な大きさ、電子状態のものがあり、シリカ系砥粒がより凝集しやすい状況になってしまうと推測される。このように、酸化セリウムが含まれるガラス基板においては、シリカ系砥粒の凝集がより顕著に表れるため、循環使用する回数が制限されてしまうことがわかってきた。本発明は、かかる知見に基づき、上記課題に鑑みてなされたものである。以下、本発明の好ましい実施の形態並びに実施例について説明する。しかしながら、本発明は、以下に説明する実施形態や実施例の製造方法に限られているわけではない。本実施形態に係る情報記録媒体用のガラス基板は、例えば、情報記憶媒体としての磁気ハードディスクに好適な環状の基材サブストレートとなるものである。ガラス基板の製造過程は、プレス加工や孔ぐり加工で環状ディスク状のガラス素材を成型し、ラッピング工程、粗研磨工程、洗浄工程、並びに精密研磨工程を含み、さらに、洗浄工程を経て製造されるものである。ガラス素材ガラス基板の素材となるガラス組成物としては、主成分がSiO2を55質量から75質量以下、Al2O3を5質量以上18質量以下、Li2Oを1質量以上10質量以下、Na2Oを3質量以上15質量以下、K2Oを0.1質量から5質量、MgOを0.1質量から5質量、CaOを0.1質量から5質量、ZrO2を0質量から8質量含有しており、Li2ONa2OK2Oの総量が10質量から25質量であって、MgOCaO/Li2ONa2OK2Oの質量比が0.10以上0.80以下のものを利用することが好ましい。また、別の態様としては、SiO2Al2O3B2O2の総量が65質量から90質量但し、SiO2は45質量から75質量、Al2O3は1質量から20質量、B2O3は0質量から8質量、R2Oの総量を7質量から20質量但し、Rは、Li、Na、K、R’Oの総量を0.1質量から12質量但し、R’は、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、TiO2ZrO2の総量を0.5質量から10質量、を含有するガラス素材であって、V、Mn、Ni、Mo、Sn、Ce及びBiからなる群の中から選ばれる少なくとも1種の多価元素を含有し、多価元素の酸化物が、それぞれ、V2O5、MnO2、Ni2O3、MoO3、SnO2、CeO2、Bi2O3とした場合における、多価元素の酸化物の総量の、TiO2ZrO2の総量に対するモル比率前記多価元素の酸化物の総量/TiO2ZrO2の総量が、0.05~0.50の範囲のものを採用することが可能である。これらのガラス組成物は、リン酸化物を含まないことが好ましい。上記の組成に加え、泡とり用のアンチモンの代替成分として酸化セリウムを0.01~2質量含有している。酸化セリウムの含有量は、特に、0.5~1質量が好ましい。この範囲であれば泡とりの効果もあり、研磨の際に出てくる量も少ないからである。プレス法で成型した環状のガラス素材は、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工するラッピング工程。ラッピング工程は、1回でもよく、好ましくは、2回実行する。粗研磨工程:主表面粗研磨工程まず、ラッピング工程を終えたガラス素材の主表面に粗研磨工程を施す。この粗研磨工程は、上述したラッピング工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするもので、研磨装置詳しくは、ポリウレタン製の硬質研磨パッドを用いて実施する。具体的には、フッ素含有量が5質量以下である希土類酸化物、すなわち酸化セリウムを主成分とする研磨材をガラス素材に供給し、研磨布とガラス素材とを相対的に移動させて、当該ガラス素材の主表面を粗研磨する。粗研磨工程で使用する研磨材の平均粒径は1μmが好ましい。前記粗研磨工程は、酸化セリウムを研磨材として使用する。この態様では、酸化セリウムの研磨機構により、ガラス素材の表面でSiが切り離され、生産性の高い研磨を実現することができる。しかも、残存している酸化セリウムは、洗浄工程で相当量除去されるので、ガラス素材の清潔性を高く維持することができるばかりでなく、洗浄工程の後で行われる精密研磨工程の研磨材に悪影響を及ぼすことも可及的に抑制することが可能となる。従って、高い平滑性、高い清潔性、並びに高い生産性を維持することができる。洗浄工程:粗研磨後洗浄工程セリウム研磨材による粗研磨後のガラス素材は、粗研磨後洗浄工程によって洗浄される。まず、pH13以上のアルカリ洗剤で洗浄を行い、ガラス素材にリンスを行う。続いてpH1以下の酸系洗剤でガラス素材を洗浄、リンスし、最後にフッ化水素酸HF溶液による洗浄を行う。酸化セリウムに関しては、アルカリ洗浄、酸洗浄、HFの順で洗浄を行うことが最も効率的である。これはまずアルカリ洗剤で研磨材を分散除去し、続いて酸洗剤で研磨材を溶解除去、最後にHFによってガラス素材をエッチングし、ガラス素材に深く刺さっている研磨材を除去するのである。このとき、これらを単一の槽で用いて洗浄した場合には、効率的な洗浄ができない。特に、酸洗剤とHFを同一槽に入れた場合、HFのエッチング速度は、研磨材の多い場所で低下するため、基板内を均一にエッチングできなくなるからである。また、各洗浄の後にリンス槽を用いることが好ましい。これらの洗剤には、場合によって界面活性剤、分散材、キレート剤、還元材などを添加しても良い。また、各洗浄槽には、超音波を印加し、それぞれの洗剤には脱気水を使用することが好ましい。上記に加え、ラッピング工程内径加工、外径加工中に酸化セリウムを使用している場合は、それら各工程後にHF洗浄を行うことが好ましい。精密研磨工程を行う前に、ガラス素材表面の酸化セリウムが少量0.125ng/cm2以下となるように粗研磨後のガラス素材を洗浄しているので、コロイダルシリカが凝集する原因となる酸化セリウムが少なくなり、研磨材の循環使用回数を増加し、生産性を向上することが可能となる。さらに、洗浄工程が精密研磨工程の前に施されるので、酸化セリウムを0.01~2質量含有するガラス素材を用いても、精密研磨工程でのスラリーの凝集を抑制することができる。従って、環境に配慮した素材を用いても、生産性の向上を高めることが可能になる。加えて、精密研磨工程の前にガラス素材に付着しているセリウムが少量となるので、最終のガラス基板の清潔性を確保することができる。さらに、酸化セリウムは難溶性であるため強い酸が必要である。しかしながら強い酸は、ガラス基板ガラス素材の平滑性を悪化させる。しかるに本態様では、最終の精密研磨工程の前に洗浄工程を実行し、セリウムを溶解洗浄することができるので、強い酸を使用しても、ガラス基板の平滑性に悪影響を及ぼすこともない。また、最終品であるガラス基板の平滑性も向上する。精密研磨工程次に、粗研磨工程で使用したものと同様の研磨装置を用い、研磨パッドを硬質研磨パッドから軟質研磨パッドに替えて、精密研磨工程を実施する。この精密研磨工程で行う処理は、上述した粗研磨工程で得られた平坦平滑な主表面を維持しつつ、例えば主表面の表面粗さRmax微小うねりの最大高さが6nm程度以下である平滑な鏡面に仕上げる鏡面研磨処理である。研磨材としては、粗研磨工程のセリウム系研磨材より粒子径が低い、平均粒子径は20nmのコロイダルシリカを含む研磨材を用いることが好ましい。かかる研磨材を含む研磨液スラリーをガラス素材に供給し、研磨パッドとガラス素材とを相対的に摺動させて、ガラス素材の表面を鏡面研磨する。このとき精密研磨で研磨される量取り代は0.2~2μm、好ましくは0.3~1.5μmである。研磨される量が、0.2μmより少ないと平坦平滑性が確保できず、2μmより多いとセリウム量が多くなってしまう。また、0.3~1.5μmにて研磨を行うと平坦平滑性と持続性循環使用が確保できる。スラリーは、例えば、本件出願が先に提案している特開2008-246645号公報に開示されている方法で、循環使用される。スラリーを循環利用する際には、スラリーの容量をaリットル、研磨されるガラス素材の枚数をb枚、ガラス素材の酸化セリウム含有量をX質量、取り代をYμmとし、Z=Y×基板面積cm2×基板密度g/cm31とすると、X×Z×b÷a<3μg/l2になるように各諸元が管理される。この態様では、精密研磨工程で研磨材として用いられるスラリーの循環使用回数を管理するに当たり、研磨されるガラス素材の酸化セリウムにも配慮して、好適な最大の循環使用回数を求めることが可能になる。ある態様では、スラリーの容量aが30リットルのとき、ガラス素材の枚数bは、100枚位となる。洗浄工程:鏡面研磨後洗浄工程精密研磨工程主面鏡面研磨工程を終えたガラス素材の洗浄処理を下記の通りに行う。まず、精密研磨工程を終えたガラス素材を乾燥自然乾燥を含むさせることなく、水中で保管し、湿潤状態のまま次の洗浄工程へ搬送する。研磨残渣が残った状態のままガラス素材を乾燥させてしまうと、洗浄処理により研磨材コロイダルシリカを除去することが困難になる場合があるからである。鏡面仕上げされたガラス素材の表面をあらすことなく、研磨材を除去する必要がある。例えば、洗浄液がガラス素材に対してエッチング作用やリーチング作用を有している場合、折角、鏡面仕上げしたガラス表面が荒らされてしまい、梨子地状の仕上げ表面となってしまう。梨子地状の仕上げ表面では、磁気ヘッドの浮上量を十分に低減させることができない。したがって、この洗浄液はガラスに対して、エッチング作用やリーチング作用を有せず、シリカ系の研磨材に対して選択的溶解性能を備える洗浄液として組成されることが好ましい。すなわち、ガラスをエッチングする要因であるフッ化水素酸HFやケイフッ酸H2SiF6等を含まない組成を洗浄液として選定することが好ましい。この洗浄工程を経て、ガラス基板が製造される。次に、本発明の実施例について説明し、比較例特許文献2と対比する。ガラス組成ガラス素材の組成として、以下の4種類のものを用意した。実施例1ガラス素材1を用いて、公知の方法により、荒ずり工程、端面鏡面研磨工程、ラッピング工程を施して、ガラス基板前駆体を得た。ラッピング工程を終えたガラス基板前駆体にポリウレタン製の硬質研磨パッドを用いて粗研磨工程を実施した。粗研磨工程は、フッ素含有量が5質量以下である酸化セリウムを主成分とし、平均粒径が1μmの研磨材をガラス基板前駆体に供給し、硬質研磨パッドとガラス基板前駆体とを相対的に移動させて、当該ガラス基板前駆体の主表面を粗研磨した。次に、洗浄工程を実施した。この洗浄工程では、pH13のアルカリ洗剤で洗浄し、リンスを行った。続いて、pH0の酸系洗剤硝酸で洗浄して、リンスし、最後にHF0.1液による洗浄を行った。印加条件は、アルカリ洗剤では40kHz、酸洗剤では80kHz、HF洗剤では170kHzである。この洗浄工程の後、精密研磨工程を実施した。この精密研磨工程では、粗研磨工程のセリウム系研磨材より粒子径が低い、平均粒子径が20nmのコロイダルシリカを含むスラリー30リットルを循環使用した。このスラリーを洗浄工程終了後のガラス基板前駆体に供給し、研磨パッドとガラス基板前駆体とを相対的に摺動させて、ガラス基板前駆体の表面を鏡面研磨した。このとき精密研磨で研磨される取り代Yは0.8μmとした。また、2式の左辺X×Z×b÷aをcμmとした場合、ガラス基板前駆体やスラリーの組成の比率と取り代Yとのバランスを考慮し、上記条件でcが2.9μmとなるように循環使用の諸元を設定した。実施例2ガラス素材2を用いて、公知の方法により、荒ずり工程、端面鏡面研磨工程、ラッピング工程を施して、ガラス基板前駆体を得た。このガラス基板前駆体に対し、実施例1の粗研磨工程、洗浄工程を施し、さらに実施例1の取り代Yを1.9に変更して精密研磨工程を実施した。また、洗浄工程では、上記条件でcが1.7μmとなるように循環使用の諸元を設定した。実施例3ガラス素材3を用いて、公知の方法により、荒ずり工程、端面鏡面研磨工程、ラッピング工程を施して、ガラス基板前駆体を得た。このガラス基板前駆体に対し、実施例1の粗研磨工程、洗浄工程を施し、さらに実施例1の取り代Yを1.0に変更して精密研磨工程を実施した。また、洗浄工程では、上記条件でcが1.8μmとなるように循環使用の諸元を設定した。実施例4ガラス素材4を用いて、公知の方法により、荒ずり工程、端面鏡面研磨工程、ラッピング工程を施して、ガラス基板前駆体を得た。このガラス基板前駆体に対し、実施例1の粗研磨工程、洗浄工程を施し、さらに実施例1の取り代Yを1.0に変更して精密研磨工程を実施した。また、洗浄工程では、上記条件でcが2.5μmとなるように循環使用の諸元を設定した。実施例5ガラス素材4を用いて、公知の方法により、荒ずり工程、端面鏡面研磨工程、ラッピング工程を施して、ガラス基板前駆体を得た。このガラス基板前駆体に対し、実施例1と同じ条件で粗研磨工程、洗浄工程、精密研磨工程を実施した。実施例6ガラス素材4を用いて、公知の方法により、荒ずり工程、端面鏡面研磨工程、ラッピング工程を施して、ガラス基板前駆体を得た。このガラス基板前駆体に対し、実施例1と同じ条件で粗研磨工程を実施した。次いで、以下の条件で洗浄工程を実施した。粗研磨工程後のガラス基板前駆体をアルカリ洗剤、硝酸、アルカリ洗剤、HFの順で洗浄した。各洗浄時において印可した超音波は、それぞれアルカリ洗剤US40kHz、硝酸US80kHz、アルカリ洗剤950kHz、HF170kHzとした。各槽、特に、アルカリ洗剤950kHzの超音波槽は、脱気を行い、洗浄した。その後、実施例1と同様に精密研磨工程を実施した。実施例7~11ガラス素材3を用いて、公知の方法により、荒ずり工程、端面鏡面研磨工程、ラッピング工程を施して、ガラス基板前駆体を得た。このガラス基板前駆体に対し、実施例1の粗研磨工程、洗浄工程、精密研磨工程を実施した。また、2式の効果を確認するため、cの値を上記条件で2.7μm実施例7、2.1μm実施例8、1.4μm実施例9、0.9μm実施例10、0.4μm実施例11となるように、取り代Yをそれぞれ1.5μm実施例7、1.2μm実施例8、0.8μm実施例9、0.5μm実施例10、0.2μm実施例11に変更した。比較例1ガラス素材4を用いて、公知の方法により、荒ずり工程、端面鏡面研磨工程、ラッピング工程を施して、ガラス基板前駆体を得た。このガラス基板前駆体に対し、実施例1の粗研磨工程を施した。次いで、実施例1の洗浄工程に代えて、クエン酸、スルファミン酸、HFを混合した洗浄液を使用し、120kHzの超音波を印加して洗浄し、比較例とした。また、洗浄工程では、上記条件でcが2.9μmとなるように循環使用の諸元を設定した。その後、実施例1と同一条件で、精密研磨工程を実施した。評価方法各実施例1~11、比較例1~2において、精密研磨工程での循環使用回数の可否をセリウム量や表面粗さで評価した。セリウム量を検査する方法としては、得られたガラス基板表面のセリウム付着量Qng/cm2、を一般的な高周波誘導結合プラズマ質量分析装置ICP-MSで計測し、10枚分の平均値を演算した。また、精密研磨工程でのスラリーの循環使用を20回実行し、5回目、7回目、20回目のときの良否を◎、○、△、×の四段階で評価した。評価は、各循環回数5回目、7回目、20回目での表面粗さRaで行う。表面粗さRaは、洗浄処理を終えたガラス基板の主表面の縦5μm、横5μmの正方形領域の表面粗さであり、原子間力顕微鏡AFMで10枚のガラス基板を観察し、下記のように評価した。◎:表面粗さRaの平均が0.3Ånm以上1.0Å未満である。○:表面粗さRaの平均が1.0Å以上1.5Å未満である。△:表面粗さRaの平均が1.5Å以上2.0Å未満である。×:表面粗さRaの平均が2.0Å以上である。表2から明らかなように、酸化セリウムを0.01~2質量含有するガラス素材を粗研磨し、ガラス素材表面のセリウム量が0.125ng/cm2以下となるように精密研磨した実施例1~11は、精密研磨工程でのスラリの循環使用を20回にしても優れた評価結果を示した。一方で、ガラス素材表面のセリウム量を0.125ng/cm2より大きい値となるように精密研磨した比較例1は、いずれのスラリ使用回数時にも評価に劣る結果となった。上述した実施の形態は、本発明の好ましい具体例を例示したものに過ぎず、本発明は上述した実施形態に限定されない。本発明の特許請求の範囲内で種々の変更が可能であることはいうまでもない。本明細書は、上記のように様々な態様の技術を開示しているが、そのうち主な技術を以下に纏める。本発明は、酸化セリウムを0.01~2質量含有するガラス素材を粗研磨する粗研磨工程と、前記ガラス素材表面のセリウム量が0.125ng/cm2以下となるように前記粗研磨工程後のガラス素材を洗浄する洗浄工程と、コロイダルシリカを含む研磨材を循環使用して前記洗浄工程後のガラス素材を精密研磨する精密研磨工程と、を備えることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。ガラス素材表面のセリウム量は、粗研磨工程で残存した表面の酸化セリウムのみならず、ガラス素材から溶出した酸化セリウムも含む概念である。この態様では、精密研磨工程を行う前に、ガラス素材表面の酸化セリウムが少量0.125ng/cm2以下となるように粗研磨後のガラス素材を洗浄しているので、コロイダルシリカが凝集する原因となる酸化セリウムが少なくなり、研磨材の循環使用回数を増加し、生産性を向上することが可能となる。さらに、洗浄工程が精密研磨工程の前に施されるので、酸化セリウムを0.01~2質量含有するガラス素材を用いても、精密研磨工程でのスラリーの凝集を抑制することができる。従って、環境に配慮した素材を用いても、生産性の向上を高めることが可能になる。加えて、精密研磨工程の前にガラス素材に付着しているセリウムが少量となるので、最終のガラス基板の清潔性を確保することができる。さらに、酸化セリウムは難溶性であるため強い酸が必要である。しかしながら強い酸は、ガラス基板ガラス素材の平滑性を悪化させる。しかるに本態様では、最終の精密研磨工程の前に洗浄工程を実行し、セリウムを溶解洗浄することができるので、強い酸を使用しても、ガラス基板の平滑性に悪影響を及ぼすこともない。また、最終品であるガラス基板の平滑性も向上する。好ましい態様において、前記精密研磨工程における前記洗浄工程後のガラス素材の取り代は、0.2μm~2μmであり、かつ前記精密研磨工程に研磨材として使用されるスラリーの容量をaリットル、研磨される前記ガラス素材の枚数をb枚、前記ガラス素材の酸化セリウム含有量をX質量、前記取り代をYμmとし、Z=Y×基板面積cm2×基板密度g/cm31とすると、前記精密研磨工程は、X×Z×b÷a<3μg/l2になるように前記研磨材を循環使用する。この態様では、精密研磨工程で研磨材として用いられるスラリーの循環使用回数を管理するに当たり、研磨されるガラス素材の酸化セリウムにも配慮して、好適な最大の循環使用回数を求めることが可能になる。好ましい態様において、前記粗研磨工程は、酸化セリウムを研磨材として使用する。この態様では、酸化セリウムの研磨機構により、ガラス素材の表面でSiが切り離され、生産性の高い研磨を実現することができる。しかも、残存している酸化セリウムは、洗浄工程で相当量除去されるので、ガラス素材の清潔性を高く維持することができるばかりでなく、洗浄工程の後で行われる精密研磨工程の研磨材に悪影響を及ぼすことも可及的に抑制することが可能となる。従って、高い平滑性、高い清潔性、並びに高い生産性を維持することができる。好ましい態様において、前記ガラス素材は、以下の組成を有している。SiO2:55質量から75質量、Al2O3:5質量から18質量、Li2O:1質量から10質量、Na2O:3質量から15質量、K2O:0.1質量から5質量、但し、Li2ONa2OK2Oの総量:10質量から25質量、MgO:0.1質量から5質量、CaO:0.1質量から5質量、ZrO2:0質量から8質量であり、0.10≦MgOCaO/Li2ONa2OK2O≦0.80。別の好ましい態様において、前記ガラス素材は、SiO2Al2O3B2O2の総量:65質量から90質量、但し、SiO2:45質量から75質量、Al2O3:1質量から20質量、B2O3:0質量から8質量、R2Oの総量:7質量から20質量、但し、R=Li、Na、K、R’Oの総量:0.1質量から12質量、但し、R’=Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、TiO2ZrO2の総量:0.5質量から10質量、を含有するガラス素材であって、V、Mn、Ni、Mo、Sn、Ce及びBiからなる群の中から選ばれる少なくとも1種の多価元素を含有し、前記多価元素の酸化物が、それぞれ、V2O5、MnO2、Ni2O3、MoO3、SnO2、CeO2、Bi2O3であるとした場合における、前記多価元素の酸化物の総量の、TiO2ZrO2の総量に対するモル比率前記多価元素の酸化物の総量/TiO2ZrO2の総量が、0.05~0.50の範囲である。以上説明したように、本発明によれば、精密研磨工程を行う前に、ガラス素材に付着しているセリウムが少量となるように粗研磨後のガラス素材を洗浄しているので、研磨材の循環使用回数を増加し、生産性を向上することが可能となる。また、最終品であるガラス基板の平滑性が向上する。さらに、酸化セリウムを0.01~2質量含有するガラス素材を用いても、精密研磨工程での研磨材の凝集を抑制することができる。従って、環境に配慮した素材を用いても、生産性の向上を高めることが可能になる。加えて、最終のガラス基板の清潔性を確保することができ、強い酸を使用しても、ガラス基板の平滑性に悪影響を及ぼすこともない。従って、本発明によれば、高い平滑性、高い清潔性、並びに高い環境保全性を確保することができ、しかも、酸化セリウムを組成に含むガラス素材を精密研磨加工する際に、コロイダルシリカを循環使用できる回数を増加し、もって生産性を格段に高めることができるという顕著な効果を奏する。以上の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板ものである。この出願は、2010年3月29日に出願された日本国特許出願特願2010-75324を基礎とするものであり、その内容は、本願に含まれるものである。本発明を表現するために、上述において図面を参照しながら実施形態を通して本発明を適切且つ十分に説明したが、当業者であれば上述の実施形態を変更および/または改良することは容易に為し得ることであると認識すべきである。したがって、当業者が実施する変更形態または改良形態が、請求の範囲に記載された請求項の権利範囲を離脱するレベルのものでない限り、当該変更形態または当該改良形態は、当該請求項の権利範囲に包括されると解釈される。