目的物質を含有する廃液中から、前記廃液よりも高い濃度の前記目的物質を含有する液体を分離する、目的物質の濃縮方法であって、前記廃液を霧化する霧化工程と、前記霧化工程により前記廃液から生じた霧粒子を分級する分級工程とを含むことを特徴とする、目的物質の濃縮方法。前記廃液は現像液の廃液である、請求項1に記載の目的物質の濃縮方法。前記目的物質はテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドからなる、請求項1に記載の目的物質の濃縮方法。前記霧化は、超音波霧化法を用いて行われる、請求項1に記載の目的物質の濃縮方法。請求項1に記載の濃縮方法を用いる廃液のリサイクル方法。目的物質を含有する廃液中から、前記廃液よりも高い濃度の前記目的物質を含有する液体を分離する、目的物質の濃縮装置であって、前記廃液を霧化するための霧化装置、前記霧化装置により前記廃液から生じた霧粒子を分級するための分級装置を備えることを特徴とする、目的物質の濃縮装置。前記霧化装置が、前記廃液を超音波振動で霧化する超音波振動子を備える、請求項6に記載の濃縮装置。前記分級装置がサイクロン分級機、フィルター、静電気吸着装置である、請求項6に記載の濃縮装置。請求項6に記載の濃縮装置を備える廃液のリサイクル装置。本発明は、省エネルギーで効率的に廃液中の目的物質を分離濃縮することのできる濃縮方法および濃縮装置を提供することを目的とする。本発明は、目的物質を含有する廃液中から、上記廃液よりも高い濃度の上記目的物質を含有する液体を分離する、目的物質の濃縮方法であって、上記廃液を霧化する霧化工程と、上記霧化工程により上記廃液から生じた霧粒子を分級する分級工程とを含むことを特徴とする、目的物質の濃縮方法である。上記廃液は現像液の廃液であることが好ましい。また、上記目的物質はテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドからなることが好ましい。上記霧化は、超音波霧化法を用いて行われることが好ましい。また、本発明は、上記の濃縮方法を用いる廃液のリサイクル方法にも関する。また、本発明は、目的物質を含有する廃液中から、上記廃液よりも高い濃度の上記目的物質を含有する液体を分離する、目的物質の濃縮装置であって、上記廃液を霧化するための霧化装置、上記霧化装置により上記廃液から生じた霧粒子を分級するための分級装置を備えることを特徴とする、目的物質の濃縮装置にも関する。上記霧化装置が、上記廃液を超音波振動で霧化する超音波振動子を備えることが好ましい。また、上記分級装置がサイクロン分級機、フィルター、静電気吸着装置であることが好ましい。また、本発明は、上記の濃縮装置を備える廃液のリサイクル装置にも関する。本発明によれば、省エネルギーで効率的に廃液中の目的物質を分離濃縮することができる。また、本発明においては、廃液を霧化した後、霧粒子を分級することにより、特許文献5に記載されるような従来の方法よりも高濃度のTMAHを含む液を分離できる。また、本発明を用いて濃縮された目的物質を含む液体は、余分な水が除去されており、リサイクルする際の移送コストを削減することができる。本発明を説明する前に、図4を用いて、一般的な現像液供給から廃液処理の工程の一例を説明する。まず、20~25重量のTMAH化学式:CH34NOH、図1参照水溶液を準備する。TMAH水溶液は、現像液メーカーから購入することができる。TMAH自体は固体であり、濃度が高いと析出するため、制御できる20~25重量程度での供給が主である。次に、TMAH水溶液を、調合システムを用いて所望の濃度2.38重量となるように純水で希釈する。希釈されたTMAH水溶液現像液を、タンクフィルタでフィルタリングし、リソグラフィ装置の現像部へ供給する。リソグラフィ装置の現像部においては、温度制御を行い、基板上に塗布されたレジストを露光により反応させ、アルカリであるTMAHでレジストの一部を溶かし、パターニングを行う。なお、レジストがネガ型かポジ型かにより、溶ける部分は逆になる。TMAHによるレジストの溶解処理後に、純水による水洗処理を行うため、現像液廃液タンクには、2.38重量のTMAHを含む現像液、純水、溶かしたレジストが送られる。このため、現像液の廃液中には、0.5重量程度に薄められたTMAH、レジスト成分および純水が排出される。この廃液を廃棄する場合、TMAH水溶液はアルカリ性を示すので、酸で中和した後にバイオリアクタを用いた活性汚泥法で生物処理し、放流している。TMAHの固体成分はフィルタでろ過できるが、TMAH自体は有機物であり、放流できないため、生物処理、燃焼処理などの廃液処理が必要である。一方で、この廃液をリサイクルする場合、この0.5重量程度に薄まったTMAH廃液は大部分が水であり、再使用するためには、濃縮処理が必要となるが、きわめて濃度が薄いため下記3点の問題があった。1蒸留する場合、大部分の水を蒸発させるため、大きなエネルギーロスが発生する点。2RO逆浸透の場合、リジェクト効率が悪く、有機RO膜が劣化する点。3電気泳動の場合は電流が多い点。図5は、リソグラフィプロセスの各工程を示すフロー図である。図5を用いて、実施形態1~3で処理対象となる各廃液が発生する状況を説明する。まず、図5aに示すように、ウエハチャック42上に設置されたウエハ基板41上に、吐出ノズル43からレジスト44を吐出し、スピンコーティングにて均一な膜を形成する。塗布中に、基板41からこぼれたレジストがレジスト廃液45となる。次に、図5bに示すように、基板41上に、吐出ノズル43からTARC上層反射防止膜材46を吐出し、スピンコーティングにて均一な膜を形成する。塗布中に、基板41からこぼれたTARC材がTARC廃液47となる。次に、図5cに示すように、パターン51を描画したマスク5を介して、レジスト膜48に露光部分と未露光部分を形成する。次に、図5dに示すように、現像ノズル61から現像液62をレジストにかけて、露光部のレジストを溶解するポジレジストの場合。現像中に、基板41からこぼれた現像液が現像廃液63となる。以上の工程により、図5eに示すようなレジストパターン49が形成される。本発明者らは、現像廃液を霧化させたときに生じる霧粒子のサイズと、該霧粒子中のTMAH濃度との関係について検討した。その結果、図2に示すように、TMAHを0.5重量含有する廃液TMAH分子1は主として表面に存在しているは、超音波振動子2によって霧発生部11で霧化され、発生した霧粒子のサイズが小さいほど、該霧粒子中のTMAH濃度が高く、逆に、霧粒子のサイズが大きいほど、該霧粒子中のTMAH濃度が低くなることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいてなされたものである。すなわち、本発明の濃縮方法は、目的物質を含有する廃液中から、上記廃液よりも高い濃度の上記目的物質を含有する液体を分離する方法であり、少なくとも1廃液を霧化する霧化工程と、2上記霧化工程により上記廃液から生じた霧粒子を分級する分級工程とを備えることを特徴とする。また、上記霧化を行う方法としては、超音波霧化法などが挙げられる。霧化装置としては、超音波振動子を備える超音波霧化機などが挙げられる。上記分級とは、粒子をその大きさにしたがって選り分けることを意味する。分級工程においては、霧粒子のうち所定の粒子サイズよりも小さい霧粒子を分離回収することが好ましい。分級装置としては、サイクロン分級機、フィルター、静電気による吸着装置などが挙げられ、特にサイクロン分級機を用いることが好ましい。目的物質は、霧化により廃液から濃縮分離できるものであれば特に限定されないが、廃液の表面に移行して表面過剰となる物性を有することが好ましい。具体的には、例えば、現像液に含まれるテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドや、リソグラフィプロセスで用いられるTARC上層反射防止膜材料、半導体、液晶のリソグラフィプロセスで用いられるレジストの廃液に含まれるPGMEAプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートやPGMEプロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、2-ヘプタノン、MMPシンナー3-メトキシプロピオン酸メチルが挙げられる。廃液は、上記の目的物質を含有する廃液であれば特に限定されないが、現像液の廃液であることが好ましい。現像液の廃液としては、例えば、現像液ユーザーにおいて、半導体などの製造の際のリソグラフィ工程で発生する廃液や、現像液メーカーにおいて、現像液の製造時に発生する現像廃液や、現像液で槽や配管を洗浄した際に排出される廃液が挙げられる。ただし、現像液以外の廃液についても、本発明の方法により低エネルギーで濃縮することが可能である。以下、実施形態を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施形態1図3に、本実施形態における霧化分離を用いた濃縮装置リサイクル装置の構成を示す。リソグラフィ装置現像部31から排出されたTMAHを含有する廃液は、廃液タンク32に回収され、該廃液を霧化するための超音波霧化機霧化装置33に移送される。超音波霧化機33に移送された廃液は、超音波霧化機33に備えられた超音波振動子により生じる超音波振動により、その表面から霧化され霧粒子が発生する。該霧粒子を含む気体は、サイクロン分級機34に移送され、粒子のサイズにより分離分級される。TMAH濃度の高い小さな霧粒子は、回収タンク35に回収される。他方、TMAH濃度の低い大きな霧粒子は、下の排水ライン36に回収され、バイオリアクタで浄化処理された後に放流される。このようにして、回収タンク35には、リソグラフィ装置現像部31から排出された廃液よりも高い濃度のTMAH目的物質を含有する液体を分離することができる。濃縮分離されたTMAH溶液は、再利用のための原料として再精製された後に、現像液の原料や規格緩和用途等へリサイクルされる。濃縮せずに0.5重量程度のTMAH溶液を移送する場合と比べて、10重量程度に濃縮した場合、移送にかかるエネルギー効率は20倍改善され、移送コストを削減できる。また、廃液ライン36に流れる廃液中のTMAH濃度が低いため、バイオリアクタの負荷が減り、よりきれいな排水を放流することができる。本実施形態では、霧化に要するエネルギーは、蒸留を用いる場合の蒸発潜熱蒸発エンタルピーのおよそ1/5から1/10のエネルギーである。また、熱をかけることがないので、TMAH自体の熱分解は起こらない。実施形態2半導体リソグラフィプロセス時に使用するTARCTopAntiReflectionCoating:上層反射防止膜材料の廃液をリサイクルする用途においても、本発明を適用することができる。TARC材料の廃液とは、例えば、図5bを用いて説明した上記TARC廃液47である。実施形態3半導体、液晶のリソグラフィプロセス時に使用するレジストの廃液のリサイクルにも、本発明を適用することができる。レジストの廃液とは、例えば、図5aを用いて説明した上記レジスト廃液45である。レジストの廃液からは、例えば、PGMEAプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートやPGMEプロピレングリコールモノメチルエーテルを濃縮分離できる。今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。