シクロヘキサンを酸素又は酸素含有ガスと接触させて、コバルト化合物を触媒として酸化させるシクロヘキサノンの製造方法であって、前記酸化処理は、無溶媒で行うことを特徴とするシクロヘキサノンの製造方法。コバルト化合物が、硝酸コバルト、アセチルアセトンコバルト、塩化コバルト、過塩素酸コバルト、テトラフルオロホウ酸コバルト及び炭酸コバルト並びにそれらの水和物より選ばれる1以上であることを特徴とする請求項1記載のシクロヘキサノンの製造方法。コバルト化合物が、硝酸コバルト六水和物であることを特徴とする請求項1又は2記載のシクロヘキサノンの製造方法。特許文献1及び2の記載の通り、シクロヘキサノンは、酸化反応条件下において、エステルやカルボン酸などの副生物を生成する。また、特許文献3に記載の通り、シクロヘキサンの分子状酸素による酸化により、シクロヘキサノンのみならずシクロヘキサノールが生成することも知られている。シクロヘキサノールが副生する場合には、シクロヘキサノールとシクロヘキサノンを蒸留操作等で分離し、シクロヘキサノールを脱水素反応等によってシクロヘキサノンに変換する工程が必要となるため、シクロヘキサノン製造工程が煩雑となり、シクロヘキサノン製造コストが増大する。このため、通常、工業的には3~4と言う低い転化率で酸化反応を行い、できるだけ選択率を高める工夫をしなければならないという問題がある。そこで、本発明は、上記のような問題を鑑みてなされたものであって、シクロヘキサンをコバルト触媒を用いて酸化させる際に、選択性良く高効率でシクロヘキサノンを製造することができるシクロヘキサノンの製造方法を提供することを目的とする。以上の目的を達成するために、本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、通常、室温ではシクロヘキサンに溶解し難いコバルト化合物を触媒として用いて、酸化処理を無溶媒で行うと、予期に反し選択性良くシクロヘキサノンが製造できることを見出した。すなわち、本発明は、シクロヘキサンを酸素又は酸素含有ガスと接触させて、コバルト化合物を触媒として酸化させるシクロヘキサノンの製造方法であって、前記酸化処理は、無溶媒で行うことを特徴とするシクロヘキサノンの製造方法である。以上のように本発明によれば、シクロヘキサンをコバルト触媒を用いて酸化させる際に、選択性良く高効率でシクロヘキサノンを製造することができるシクロヘキサノンの製造方法を提供することができる。本発明は、触媒としてコバルト化合物の存在下に、シクロヘキサンを酸素又は酸素含有ガスと接触させることにより、酸化反応を行う。この酸化反応は、液相、気相のいずれでも行うことができるが、液相にて行うことがより好ましい。本発明に係るシクロヘキサノンの製造方法において、上記酸化反応は、無溶媒で行うことを特徴とする。無溶媒で行うことにより、シクロヘキサノールを副生することなく、高効率でシクロヘキサノンを製造できる。また、溶媒を蒸留等で分離除去するという煩雑な工程を省略することができる。本発明に係るシクロヘキサノンの製造方法において、酸素又は酸素含有ガスとしては、酸素ガス、空気、または酸素ガスもしくは空気を窒素、二酸化炭素、ヘリウム等の不活性ガスで希釈したものを用いることができる。シクロヘキサンと酸素又は酸素含有ガスとの接触は、例えば、シクロヘキサンおよびコバルト化合物を含む液を、酸素又は酸素含有ガスの雰囲気下に置くことにより行ってもよいし、この液中に酸素又は酸素含有ガスを吹き込むことにより行ってもよい。本発明に係るシクロヘキサノンの製造方法において、触媒として用いられるコバルト化合物は、硝酸コバルト、アセチルアセトンコバルト、塩化コバルト、過塩素酸コバルト、テトラフルオロホウ酸コバルト及び炭酸コバルト並びにそれらの水和物より選ばれる1以上であることが好ましく、中でも硝酸コバルト六水和物あるいはアセチルアセトンコバルトがより好ましい。上記触媒の量は、シクロヘキサン1モルに対して0.00001モル~10モルが好ましく、シクロヘキサン1モルに対して0.005モル~0.1モルが特に好ましい。触媒添加量が少ない程、反応効率が高いため好ましい。また、触媒添加量を減じても、シクロヘキサン転化率は充分に高く、シクロヘキサノン選択性が高い。本発明に係るシクロヘキサノンの製造方法において、反応温度が100°C以下の時には著しく反応が遅いため、100°Cより高い反応温度が好ましく、110°C~180°Cがより好ましい。反応圧力については、特に限定されないが、過度に低いと反応速度が低下するので、通常0.1MPa以上、好ましくは0.5MPa以上、特に2MPa以上が好ましい。また、反応圧力が過度に高い場合には、耐圧性を高めた特殊な反応装置が必要となることもあり、通常100MPa以下、好ましくは50MPa以下、特に30MPa以下が好ましい。本発明に係るシクロヘキサノンの製造方法によれば、高い選択性でシクロヘキサノンを製造することが可能であるが、反応終了後の反応混合物には、シクロヘキサノンのほかに、未反応の原料、副反応による生成物が含まれることもある。シクロヘキサノンを分離する方法としては、特に限定されず、蒸留、抽出など公知の方法が挙げられる。以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実験例1まず、ステンレス製オートクレーブ耐圧硝子工業株式会社製、10mlにシクロヘキサン10mmol、表1に示す種々のコバルト化合物10molを加え、酸素:窒素21:79混合ガスを10MPaに充填した後に系を閉じた。135°Cで24時間加熱撹拌した。その後、反応混合物をサンプリングし、1H-NMRの測定を行い、その積分比から算出した生成物の組成比を表1に示す。また、比較として、触媒を用いなかった場合についても同様にして、結果を表1に示す。以上より、硝酸コバルト六水和物、塩化コバルト、及びアセチルアセトンコバルトを触媒に用いたときに、反応混合物中のシクロヘキサノンの組成比が比較的高くなることが明らかとなった。また、シクロヘキサノン選択性は、いずれも100と非常に高かった。実験例2次に、反応に用いられる触媒量を検討した。触媒量の検討を行うにあたって、反応効率を表す指標としてEfを定義する。一般的には、そのような指標にはターンオーバー数turnovernumber、TONが用いられるが、本実験では収率をもとに算出していないために、TONに相当する指標として下記式1で示されるEfを使用する。硝酸コバルト六水和物あるいはアセチルアセトンコバルトを使用し、触媒量の検討を行った。具体的には、シクロヘキサンを10mmolから20mmolに変更し、触媒量を表2に示すようにそれぞれ変化させた以外は、実験例1と同様に実験を行った。結果を表2に示す。実験例3次に、反応時間の検討を行った。具体的には、コバルト化合物として硝酸コバルト六水和物を用い、シクロヘキサンを10mmolから20mmolに変更し、触媒量、反応時間を表3に示すようにそれぞれ変化させた以外は、実験例1と同様に実験を行った。結果を表3に示す。本検討は、反応容器からのサンプル抜き取りによるものではなく、それぞれの反応時間で反応を停止し、分析した結果である。実験例4次に、反応圧力、反応温度の検討を行った。具体的には、コバルト化合物として硝酸コバルト六水和物2.5モルを用い、反応圧力、反応温度を表4に示すようにそれぞれ変化させた以外は、実験例2と同様に実験を行った。結果を表4に示す。なお、反応温度115°Cの場合には、反応時間を48時間とした。本検討は、実験例1と同様な方法により分析した結果である。