"粒子状材料100と基材材料110との組み合わせを含む構造を作製するための装置1であって、a運動方向MD、及び1つ以上のリザーバ50を有する第1の運動無端表面40であって、前記第1の運動無端表面40及びそのリザーバ50が、粒子状材料100を第2の運動無端表面200に移動させるためのものである、第1の運動無端表面40と、b受容領域において、前記第1の運動無端表面40から前記粒子状材料100を受容するため、及び移動領域において、前記粒子状材料と前記基材材料との前記組み合わせを移動させるための、前記基材材料110を運搬する運動方向MDを有する第2の運動無端表面200であって、前記第2の運動無端表面が、前記受容領域において、第1の真空チャンバ210と隣接し、かつそれとガス連通し、前記第2の運動無端表面が、前記移動領域において、第2の真空チャンバ220と隣接し、かつそれとガス連通し、前記受容領域及び前記移動領域が、相互に隣接するMDにおいて、第2の運動無端表面200と、を含み、前記第1の真空チャンバ210における前記真空負圧の、前記第2の真空チャンバ220における前記真空負圧に対する比率が、少なくとも4:3である、装置1。粒子状材料100と基材材料110との組み合わせを含む構造を作製するための装置1であって、a運動方向MD、及び1つ以上のリザーバ50を有する第1の運動無端表面40であって、前記第1の運動無端表面40及びそのリザーバ50が、粒子状材料100を第2の運動無端表面200に移動させるためのものである、第1の運動無端表面40と、b受容領域において、前記第1の運動無端表面40から前記粒子状材料100を受容するため、及び移動領域において、前記粒子状材料と前記基材材料との前記組み合わせを移動させるための、前記基材材料110を運搬する運動方向MDを有する第2の運動無端表面200であって、前記第2の運動無端表面が、前記受容領域において、第1の真空チャンバ210と隣接し、かつそれとガス連通し、前記第2の運動無端表面が、前記移動領域において、第2の真空チャンバ220と隣接し、かつそれとガス連通し、前記受容領域及び前記移動領域が、相互に隣接するMDにおいて、第2の運動無端表面200と、を含み、前記第1の真空チャンバ210が、前記第2の運動無端表面と隣接する、第1の開放領域を有する第1の表面領域を有し、前記第2の真空チャンバ220が、前記第2の運動無端表面と隣接する、第2の開放領域を有する第2の表面領域を有し、前記第1の開放領域の、前記第2の開放領域に対する比率が、3:4以下である、装置1。請求項1又は2に記載の装置1。前記第1の運動無端表面40が、第1のステータ45の周囲を回転する円筒状の回転無端表面であり、前記第2の運動無端表面200が、第2のステータ230の周囲を回転する円筒状の回転無端表面であり、前記第1及び第2の真空チャンバが、前記第2のステータによって構成される、請求項1、2、又は3に記載の装置。前記第1の運動無端表面40が、複数のリザーバ50を有し、前記第1のステータが、加圧空気を包含するためのエアチャンバ46を備え、前記エアチャンバが、前記リザーバ複数を含むからの粒子状材料100の解放を容易にするように、前記複数のリザーバ又はその一部と空気連通している、請求項4に記載の装置1。前記第1の運動無端表面40と前記第2の運動無端表面200との間の最も近い近接点CD延伸線が、前記受容領域内にあり、前記近接点における前記第1の運動無端表面と前記第2の運動無端表面との間の距離dが、0.5mm~30mmである、請求項1~5のいずれか一項に記載の装置1。前記円筒状の第1の運動無端表面又は前記第1のステータの半径の、前記円筒状の第2の運動無端表面又は前記第2のステータの半径に対する比率が、1:2以下である、請求項4に記載の装置1。前記第1の真空チャンバ210及び第2の真空チャンバ220が、好ましくはガス流れ調整器を備える接続で、同じ真空ファン240に接続される、請求項1~7のいずれか一項に記載の装置。前記第1の真空チャンバ210が、第1の真空ファン240aに接続され、前記第2の真空チャンバ220が、第2の真空ファン240bに接続される、請求項1~7のいずれか一項に記載の装置。前記第1の真空チャンバ210及び第2の真空チャンバ220が、前記第2のステータ230内に存在し、前記第1の真空チャンバが、第1の角度αによって画定されるMD寸法を有し、前記第2の真空チャンバが、第2の角度βによって画定されるMD寸法を有し、αのβに対する比率が、2:3以下である、請求項1~9のいずれか一項に記載の装置1。前記基材材料と粒子状材料との前記組み合わせが、更なる装置ユニットに移動され、前記更なるユニットが、前記組み合わせを受容し、任意に、前記組み合わせを更なる基材材料と組み合わせるためのアンビルロール又はドラムである、請求項1~10のいずれか一項に記載の装置1。前記第1の運動無端表面40の上流及び/又は下流に、接着剤を前記基材110に、及び/又は基材110と粒子状材料100との前記組み合わせに、それぞれ塗布するための1つ以上の接着剤塗布ユニット300、301を備える、請求項1~11のいずれか一項に記載の装置1。基材材料110と粒子状材料100との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセスであって、c第2の運動無端表面の受容領域において、基材材料と粒子状材料との組み合わせを形成するように、リザーバ複数を含むによって包含される粒子状材料100を含む1つ以上のリザーバ50を備える第1の無端運動表面40を、第2の運動無端表面200によって運搬される基材材料110上に配置し、かつ同時に、前記受容領域内に第1の真空負圧を供給する工程と、d前記基材材料と粒子状材料との前記組み合わせを、前記第2の無端運動表面の移動領域を通って移動させる工程と、前記受容領域に第2の真空負圧を供給する工程と、を含み、前記第1の真空負圧の、前記第2の真空負圧に対する比率が、少なくとも4:3である、プロセス。前記第1の真空負圧が、-6.5kPa以下、好ましくは-6.5kPa~-20kPaであり、前記第2の真空負圧が、-0.5kPa~-5kPaである、請求項13に記載のプロセス。前記プロセスが、任意に粒子状材料とのその組み合わせである、第2の基材材料を、基材材料110と粒子状材料100との前記組み合わせに塗布する工程、前記粒子状材料100上で前記基材材料110を折り畳む工程、接着剤を、基材材料110と粒子状材料100との前記組み合わせに塗布する工程、基材材料と粒子状材料との前記組み合わせを切断する工程、又はこれらの組み合わせから選択される更なるプロセス工程を含む、請求項12、13、又は14に記載のプロセス。請求項1~12のいずれか一項に記載の装置1を使用して、粒子状材料100と基材材料110との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセス。本発明は、粒子状材料100と基材材料110との組み合わせを含む構造を作製するための装置1に関し、a運動方向MD、及び1つ以上のリザーバ50を有する第1の運動無端表面40であって、前記第1の運動無端表面40及びそのリザーバ50が、粒子状材料100を移動させるためのものである、第1の運動無端表面40と、b受容領域において、前記第1の運動無端表面40から前記粒子状材料100を受容するため、及び移動領域において、例えば、更なる装置ユニットに、前記粒子状材料と前記基材材料との前記組み合わせを移動させるための、基材材料110を運搬する運動方向MDを有する第2の運動無端表面200であって、前記受容領域を移動する/にある前記第2の運動無端表面が、第1の真空チャンバ210と隣接し、かつそれとガス連通し、前記移動領域を移動する/にある前記第2の運動無端表面が、第2の真空チャンバ220と隣接し、かつそれとガス連通し、前記受容領域及び前記移動領域が、相互に隣接するMDにおいて、第2の運動無端表面200と、を含み、前記第1の真空チャンバ210における前記真空負圧の、前記第2の真空チャンバ220における真空負圧に対する比率が、少なくとも4:3、又は例えば少なくとも5:3、又は少なくとも2:1、及び例えば最大10:1である。このため、装置はまた、典型的に、前記第2の運動無端表面と隣接し、かつ前記移動領域を越える更なる装置ユニットを備える。本発明はまた、上記のようにa及びbを有する装置に関するが、第1の真空チャンバ210が、前記第2の運動無端表面と隣接する、第1の開放領域を有する第1の表面領域を有し、前記第2の真空チャンバ220が、前記第2の運動無端表面と隣接する、第2の開放領域を有する第2の表面領域を有し、第1の開放領域の、第2の開放領域に対する比率が、3:4以下、又は2:3以下、又は1:2以下、又は1:3以下である。本発明はまた、上記のようにa及びbを有する装置に関し、前記第1の真空チャンバ210における前記真空負圧の、前記第2の真空チャンバ220における真空負圧に対する比率が、少なくとも4:3、又は例えば少なくとも5:3、又は少なくとも2:1、及び例えば最大10:1であり、第1の開放領域の、第2の開放領域に対する前記比率が、3:4以下、又は2:3以下、又は1:2以下、又は1:3以下である。第2の運動無端表面は、例えば、第2の静止円筒状のステータ230の周囲を回転する円筒状の回転表面であり、かかる表面とステータとの組み合わせはまた、ドラムと称される。ステータ230は、例えば、前記第1の真空チャンバ及び前記第2の真空チャンバを包含してもよい。本発明者らは、粒子状材料が基材上に配置されるときの、受容領域における高いより高い真空力よって非常に低いより低い真空負圧、その上、移動の間の比較的低減された真空力の特定の選択が、非常に正確かつ効果的な様態で、基材上への例えば、所望のパターンにおける粒子状材料の正確な配置を改善することができることを見出した。更に、本発明のこの装置及びプロセスは、受容領域において、第2の運動無端表面の小さいセクションのみが、高価な大きい真空負圧を有する真空チャンバと隣接する必要があるが、移動領域は、比較的低減された真空負圧のみを有する真空チャンバと隣接することができるため、特定の費用効果の高い様態でこれを達成することができる。本発明はまた、本明細書において説明される装置1を使用して、粒子状材料100と基材材料110との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセス、並びに/又は基材材料110と粒子状材料100との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセスであって、a第2の運動無端表面の受容領域において、基材材料と粒子状材料との組み合わせを形成するように、リザーバ複数を含むによって包含される粒子状材料100を含む1つ以上のリザーバ50を備える第1の無端運動表面40を、第2の運動無端表面200によって運搬される基材材料110上に配置し、かつ同時に、前記受容領域内に第1の真空負圧を提供する工程と、b前記基材材料と粒子状材料との前記組み合わせを、前記第2の無端運動表面の移動領域を通って移動させ、かつ同時に、前記受容領域に第2の真空負圧を供給する典型的に、更なる処理工程へ工程と、を含み、本明細書において以下で更に説明されるように、前記第1の真空負圧の、前記第2の真空負圧に対する比率が、少なくとも4:3である、プロセスに関する。粒子状材料は、粒子状吸収性材料であってもよく、本明細書における装置及びプロセスは、吸収性構造、例えば、女性衛生物品及びおむつ又は成人用失禁製品などの、使い捨て吸収性物品において有用な吸収性コアを作製するためのものであってもよい。粒子状材料本明細書における粒子状材料100は、粒子、薄片、繊維、スフェア、凝集粒子及び当該技術分野で周知の他の形態を含む、例えば乾燥状態で流動性を有する粒子状形態の任意の材料でよい。粒子状材料はまた、本明細書において使用される際、例えば、異なる形態、異なる化学的性質における、2つ以上の異なる材料であってもよい。粒子状材料は、本明細書において使用される際、例えば、粒子及び繊維の混合物であってもよい。本明細書における一実施形態では、粒子状材料100は、粒子状吸収性又は、超吸収性材料を含むか、又はそれである。この材料は、典型的に、本明細書において、AGMと称される、粒子状吸収性ゲル化材料として知られるものなどのポリマー材料である。AGMとは、その重量の少なくとも10倍の0.9生理食塩水を吸収することが可能な粒子状形態のポリマー材料、すなわち、EDANA欧州不織布工業会の遠心保持容量試験、試験方法番号441.2-02、遠心保持容量を用いて測定したCRC値が少なくとも10g/gであるような粒子状形態のポリマー材料のことを指す。本明細書における粒子状AGMは、高い収着容量を有し、例えば少なくとも20g/g、又は30g/gのCRCを有する。上限値は、例えば最大で150g/g、又は最大で100g/gでありうる。粒子状AGMは、液体に対して高い透過性を有してよく、例えば、少なくとも10×10-7cm3s/g、又は好ましくは少なくとも30×10-7cm3s/g、又は少なくとも50×10-7cm3s/g、10×10-7cm3s/gのSFC値、又は場合により少なくとも100×10-7cm3s/gの透過性SFC値、又は少なくとも120×10-7cm3s/gのSFCを有する。このSFCは透過性の尺度であり、1996年10月8日発行の米国特許第5,562,646号ゴールドマンGoldmanらに述べられるようにゲル床の塩水流伝導度によって多孔度の指標を与えるものであるただしここでは、ジェイコJayco溶液の代わりに0.9NaCl溶液を用いる。上限値は、例えば、最大で350又は最大で250×10-7cm3.s/gでありうる。本明細書における一実施形態では、前記AGMのポリマーは、内部架橋及び/又は表面架橋されたポリマーである。本明細書における一実施形態では、本明細書における粒子状材料は、例えば60~90、又は約75の中和度を有し、例えば当該技術分野では既知のナトリウム対イオンを有する、例えば表面架橋及び/若しくは内部架橋されたポリアクリル酸/ポリアクリレートポリマーなどのポリアクリル酸/ポリアクリレートポリマーの粒子を含む、又はこれらからなる吸収性材料である。本明細書における一実施形態では、粒子状材料100は、例えば欧州特許出願公開第A-0691133号に記載される方法によって測定することができる、質量平均粒径が、最大2mm、又は例えば50マイクロメートル~2mm、若しくは1mmまで、又は好ましくは100若しくは200若しくは300若しくは400若しくは500μmから、又は1000若しくは800若しくは700μmまでである粒子の形態である。本発明の一実施形態では、粒子状材料100は、50μm~1200μmの粒径、及び上記の好ましい範囲の組み合わせのいずれかの間の質量平均粒径を有する粒子の少なくとも80重量を有する粒子の形態である。本発明の更に別の又は追加の実施形態では、粒子状材料100は、比較的狭い範囲の粒径を有し、例えば、粒子の大半例えば、少なくとも80重量、又は好ましくは少なくとも90重量、又は更には少なくとも95重量が、50μm~1000μm、好ましくは100μm~800μm、及びより好ましくは200μm~600μmの粒径を有する。本発明の更なる、又は別の実施形態では、前記粒子は本質的に球形である。本明細書における粒子状材料100は、15重量未満、又は10重量未満、又は8重量未満、又は5重量未満の水を含むことが有利でありうる。含水量は、粒子状材料100を105°Cで3時間乾燥し、乾燥後の粒子状材料100の重量減少によって含水量を決定するEdana試験番号ERT430.1-991999年2月によって決定することができる。本明細書における粒子状AGMは、表面コーティング又は表面処理されたAGMの粒子であってよい更なる表面処理となりうる表面架橋はこれに含まれない。このようなコーティング及び表面処理工程は当該技術分野では周知のものであり、ケイ酸塩、リン酸塩などの1以上の無機粉末による表面処理、及び、エラストマーポリマー材料、又はフィルム形成ポリマー材料などのポリマー材料のコーティングによる表面処理が含まれる。基材材料110本発明の装置1及び方法によって製造可能な例えば吸収性構造は、基材材料と粒子状材料100との組み合わせを含む。この基材材料は、例えば、シート形態の任意の材料であってもよく、基材材料は、ウェブ材料であってもよく、基材材料は、例えば、紙例えば、シート/ウェブ、フィルム例えば、シート/ウェブ、織布例えば、シート/ウェブ、若しくは不織布例えば、シート/ウェブ、又はこれらの組み合わせであってもよい。基材材料は、例えば、2つ以上の不織布層、又は2つ以上のフィルム層、又は1つ以上の不織布層、及び1つ以上のフィルム層の積層体の積層体例えば、シート/ウェブであってもよい。本明細書における一実施形態では、基材材料は、不織布、例えば、不織布ウェブを含むか、又はそれであり、不織布とは、本明細書において使用されるとき、摩擦及び/又は粘着及び/又は接着により結合される、一方向に又はランダムに配向された繊維の製造されたシート又はウェブを指し、紙、及び、更に針で縫われるか否かによらず、織る、編む、タフティングする、結合糸若しくはフィラメントを組み込んでスティッチボンディングする、又は、湿式ミリングによってフェルト加工される製品は含まれない。不織布の繊維は、天然のものでも人工のものでもよく、ステープル若しくは連続フィラメントであってもよく、又はその場で形成することもできる。市販の繊維は、いくつかの異なる形態、短繊維ステープル繊維又は細断繊維として知られる、連続単繊維フィラメント又はモノフィラメント、連続フィラメントの撚っていない束麻くずtow、及び連続フィラメントの撚り束編み糸で提供される。繊維は、例えば異なるポリマーがシートとコアとを形成する、例えばシート/コアの構成を有する複合繊維であってもよい。不織布は、メルトブローイング、スパンボンディング、溶剤紡糸、電界紡糸、及びカーディングなどの多くのプロセスによって形成することができる。不織布の坪量は、通常、1平方メートル当たりのグラム数gsmで表される。本明細書における不織布は、親水性繊維で形成することができる。親水性とは、繊維に付着する水性の液体例えば、水性の体液によって濡らされうる繊維又は繊維の表面のことを述べて言うものである。親水性及び濡れ性は、一般的に、流体の接触角、及び例えば不織布を通過する流体の裏抜け時間によって定義される。これについては、表題がContactangle,wettabilityandadhesionである、RobertF.GouldCopyright1964編のAmericanChemicalSocietyの出版物に詳細に述べられている。繊維、又は繊維の表面は、流体と繊維又はその表面との間の接触角が90°未満のとき、又は流体が繊維の表面全体に自然に広がる傾向があるときに流体によって濡らされているすなわち、親水性といわれ、通常は両方の条件が共存する。逆に、接触角が90°より大きい場合及び流体が繊維の表面全体に自然に広がらない場合は、繊維又は繊維の表面は疎水性とみなされる。本明細書における基材材料は、空気透過性であってもよい。したがって、本明細書において有用なフィルムは微小孔を含みうる。基材材料は、例えば、EDANAによる方法140-1-99125Pa、38.3cm2によって決定される空気透過性が、40又は50~300又は200m3/m2×分までのものであってよい。基材材料は、代替的に、空気透過性がより低いものであってもよく、例えば真空を含む運動表面上により良好に保持されるように、例えば空気不透過性であってよい。基材材料は、不織布材料、例として、例えばSMS若しくはSMMSタイプの、相互に積層される2つ以上の不織布層を含む不織布ウェブ又は不織布積層体ウェブであってもよい。基材材料は、例えば20超、又は例えば100超であるが、例えば、200以下のCD方向の延伸率又はMD方向の延伸率を有してもよい。CD方向の延伸率に対するMD方向の延伸率の比は、所定の荷重下において1:2以下である。更なる例示的な構造が、本明細書において以下で説明される。装置1第1の運動無端表面40本明細書における装置1は、第1の運動無端表面40を有し、これは、運動無端表面を提供するように回転することができる任意の運動表面であってもよく、例えば、それは、回転し、このため無端表面を提供することができる、当該技術分野において既知であるようなドラムなどの輸送ベルト又は円筒状の表面であってもよい。第1の運動無端表面40は、上で説明されるように、粒子状材料を包含するため、及びそれを前記リザーバ複数を含むから基材材料110上に配置するための、1つ以上のリザーバ50を備える。本明細書における第1及び第2の以降で本明細書において説明される運動無端表面は、各々、本明細書において、機械方向、MDと称される、前記表面、例えば前記回転表面の運動方向を有する。運動方向又はMDは、本明細書において、前記表面のある点における運動方向、又は本明細書において指定されるように、前記表面のある指定された領域における平均の運動方向であるとみなされるものとする。このため、湾曲した、例えば、円筒状の運動無端表面40では、表面のある点における運動方向、又は前記表面のある領域の平均の運動方向は、本明細書において、前記点における接線、又は領域の平均接線これにより、前記接線は前記領域の平均の運動方向となるを求めることによって求められる。MDに垂直な表面の方向は、本明細書において、機械横断方向、CDMD及びCDは、表面の平面内にあると称される。第1の運動無端表面40は、典型的に、静止要素の周囲を回転する回転表面、例えば、ともにドラムとしても称される、1つ以上の真空チャンバ及び/又は1つ以上のエアチャンバ46を備えてもよい、例えば、例えば、円筒状のステータ45の周囲を回転する円筒状の表面である。静止要素例えば、ステータ45と静止要素例えば、ステータとの組み合わせ、並びに回転する第1の表面40は、各々、ある半径を有する。各半径は、例えば、どのような構造を製造するか、及びどのサイズの構造を製造するか、及び、例えば、第1の運動無端表面40、例えばドラムの1サイクル毎にいくつの構造を製造するかに依存してもよい。例えば、第1の円筒状の運動表面及び/又は第1のステータ45は、少なくとも40mm、又は少なくとも50mmの半径を有してもよく、それは、例えば、最大300mm、又は最大200mmであってもよい。第1の運動無端表面40は、任意の好適な幅を有してもよいCDにおいてが、例えば製造されるべき構造の幅に実質的に対応する幅を有してもよく、これは、例えば少なくとも40mm、又は少なくとも60mm、又は例えば最大400mm、又は最大200mmであってもよい。第1の運動無端表面40が、対向する側面領域と、これらの間の、MD方向の全表面に沿って延在する中央領域と、を有し、前記リザーバ複数を含む50が、前記中央領域のみに存在することが有用でありうる。これにより表面の幅の寸法が、代わりに中央領域の幅に適用されうる。前記第1の運動無端表面40のMD、半径、幅などの、第1の運動無端表面40の特性を決定する目的で、リザーバ複数を含む50が存在していない表面領域例えば、リザーバ50間の領域が、かかる決定のために使用されることを理解されたい。この各リザーバ50間の表面領域を、本明細書においては前記第1の運動無端表面40の外側表面領域と呼ぶ。リザーバ1つ又は複数50は、立方体、長方形、円筒状、半球状、円錐状、又は任意の他の形状を含む、任意の寸法及び形状を有してもよい。第1の運動無端表面40は、典型的に、粒子状材料複数を含む100で充填することができる空隙容積を有するリザーバ複数を含む50を備える。これは、単一のリザーバであってもよい。しかしながら、2つ以上、例えば、多数のリザーバが存在することが好ましい場合がある。この多数とは、任意の好適な数のリザーバであってもよいが、例えば、少なくとも20個、又は少なくとも50個である。リザーバ50は同じリザーバ50として存在してもよく、あるいは寸法又は形状が異なってもよい。それらは、前記第1の運動無端表面40の表面上に及びそれに突き出すパターンで存在してもよい。正確なリザーバ50パターン、寸法等は、形成されるべき必要とされる構造に依存するが、例えば、粒子状材料100の粒径、プロセス速度等にも依存してよい。一実施形態では、上で説明される、第1の運動無端表面40の表面領域、又はその前記中央領域の少なくとも30が、前記リザーバ50を備え、好ましくは少なくとも40又は少なくとも50である。リザーバ50は、MD方向のリザーバ50の縦列と、CD方向の横列として存在してもよい。また、リザーバ50は、例えばいわゆる交互の横列及び/又は縦列として存在してもよいこれにより、交互のリザーバ50は横列及び/又は縦列を形成する。前記縦列は相互に対して実質的に平行かつ相互から等間隔で延在してもよく、かつ/又は前記横列は、相互に対して実質的に平行かつ相互から等間隔で延在してもよい。リザーバ50の中心点前記中心点は第1の運動無端表面40の外側表面の平面内にあると、リザーバ50の縦列において隣り合うリザーバ50の中心点との間のMD方向の距離は、例えば少なくとも2mm、若しくは少なくとも4mm、若しくは少なくとも6mm、又は例えば最大で40mm、若しくは最大で30mm、若しくは最大で20mmでよい。これは、MD方向の隣り合うリザーバ50間の全てのこうした距離について当てはまってもよく、あるいは全てのこうした距離についての平均であってもよい。リザーバ50の中心点前記中心点は第1の運動無端表面40の外側表面の平面内にあると、リザーバ50の横列において隣り合うリザーバ50の中心点との間のCD方向の距離も、例えば上記のようなものでよい。一実施形態では、リザーバ50のMD寸法直径であってもよいは、第1の運動無端表面40の外側表面上で測定される、全てのリザーバ50及び/又は各リザーバについての平均では、少なくとも1mm、又は少なくとも2mm、又は少なくとも4mm、及び例えば、最大で20mm、又は最大で15mmであってもよい。CD方向の寸法は上記と同じ範囲内であってもよく、あるいは1以上又は各リザーバについてMD方向の寸法と同じであってもよい。リザーバ50は、任意の好適な深さ寸法を有してもよく、それは、例えば、第1の運動無端表面40例えば、半径の高さ、製造されるべき所望の構造の厚さ/キャリパー、材料の粒径等に依存してもよい。1つのリザーバ50及び/若しくは全てのリザーバ50の最大深さ、並びに/又は平均の最大深さ全てのリザーバ50の全ての最大深さの平均は、例えば、少なくとも1mm、又は少なくとも1.5mm、又は例えば、2mm以上、及び例えば、最大20mm、又は最大15mm、又は本明細書における一部の実施形態では、最大10mm、又は5mm、又は4mm、又はmmであってもよい。第1の運動無端表面40は、前記粒子状材料を含むホッパーと隣接してもよく、それは、リザーバ複数を含む内で粒子状材料を受容し、それを回転によって移動させるように、ホッパーを過ぎて回転してもよい。粒子状材料複数を含む100をリザーバ50内に保持する1つの可能性は、リザーバ50の底の吸引孔と組み合わせて、第1の運動無端表面40の内側に真空を印加し、このため、粒子状材料上に真空吸引を適用することであってもよい。これは、例えば、第1のステータ45内の表面に隣接する1つ以上の真空チャンバ、及び/又は、前記表面とガス空気連通する前記ステータに接合されるしかし、ステータによって構成されない任意に1つ以上の真空チャンバを提供することによって、行うことができる。真空は、例えば、粒子状材料が、第2の運動無端表面例えば、前記第2の運動無端表面の受容領域に移動される直前、又はその点典型的にCD方向に延在する領域、例えば、第1の運動無端表面40が、前記第2の運動無端表面200と隣接する、及び近接する点で解放される。次いで、追加の空気圧力を前記粒子状材料100に印加して、材料がリザーバ複数を含む50から第2の運動無端表面200に確実に流れるようにしてもよい。このため、第1のステータ45は、例えば、図1に示されるように、粒子状材料を、リザーバから、第2の無端運動表面200上に運搬される前記基材材料110に吹き付けるように、前記リザーバ複数を含むとガス空気連通する、正圧を有するガス空気-チャンバ46粒子が基材材料に移動される必要がある、前記CD方向に延在する領域周辺及びそのすぐ先を備えてもよい。代替的に、又は加えて、装置は、ステータに接合されるが、前記表面とガス空気連通するステータによって構成されない、正圧を有するガス空気チャンバ複数を含むを有してもよい。第2の運動無端表面200基材材料110を運搬する第2の運動無端表面200は、受容領域において、粒子状材料を受容する。第2の運動無端表面200及び前記基材材料は、前記受容領域において、第1の真空チャンバ210と隣接する。第2の運動無端表面は、移動領域へ、及びそれを通って、典型的に、更なる装置ユニット/プロセス工程本明細書において以降で説明されるに、基材材料と粒子状材料との組み合わせを運搬する。第2の運動無端表面200、及び、粒子状材料を有する前記基材材料は、前記受容領域において、第2の真空チャンバ220と隣接する。本発明の装置1及びプロセスにおいて、前記装置の受容領域は、第2の運動無端表面と隣接する、第1の真空チャンバ又は第1の真空圧力の存在によって画定することができ、移動領域は、第2の運動無端表面と隣接し、かつMDにおいて、第1の真空チャンバと隣接する、第2の真空チャンバ又は第2の例えば、より低い真空圧力の存在によって画定することができる。第2の運動無端表面は、それがベルトのように回転することができることを条件として、任意の好適な形態であってもよく、あるいは例えば、第2の運動無端表面は、円筒状であってもよい。これは、例えば図1に示される。第1の運動無端表面40と前記第2の運動無端表面200との間の最も近い近接点例えば、典型的に、これは、CD方向に延在刷る線であり、この線/点は、例えば図2に示されるは、典型的に前記受容領域内にあり、前記近接点における前記第1の運動無端表面と前記第2の運動無端表面との間の距離dは、例えば、0.5mm~30mm、又は例えば、1mm若しくは2mm~最大20mm若しくは最大15mmであってもよい。本明細書における一部の実施形態では、第2の運動無端表面200は、静止要素、例えば、前記第1及び第2の真空チャンバ210、220を含むステータドラムとも称されるの周囲を回転する回転表面である。第2の表面200は、円筒状であってもよく、前記第2の静止要素ステータ230は、円筒状であってもよい。静止要素例えば、ステータ230、及び/又は静止要素例えば、ステータと1つ以上のリザーバを有する回転表面との組み合わせは、各々、ある半径を有する。各半径は、例えば、どのような構造を製造するか、及びどのようなサイズの構造を製造するか、及び例えば、プロセス速度に依存してもよい。例えば、前記円筒状の第2の回転表面200とステータ例えば、ドラムとの組み合わせは、少なくとも80mm、又は少なくとも100mmの半径を有してもよく、それは、例えば、最大1000mm、又は最大600mmであってもよい。第1の運動無端表面の半径及び/又は第1のステータの半径の、第2の運動無端表面の半径及び/又は第2のステータの半径に対する比率は、各個体又は全て例えば2:3以下、又は例えば1:2以下、例えば1:3以下、又は例えば少なくとも1:10であってもよい。第2の運動無端表面200は、典型的に、いずれの時点においても、その表面の一部上のみに前記基材材料を運搬する。例えば、それが、円筒状の表面である場合、前記第2の運動無端表面200は、回転無端表面であり、最大300°、又は最大270°、又は最大200°で前記基材材料を運搬するのみであってもよいが、典型的に、少なくとも60°、又は少なくとも90°である。円筒状の円周を有する第2の運動無端表面に関して、受容領域は、例えば、少なくとも3°、又は少なくとも5°、及び/又は例えば、最大60°、又は例えば、最大45°、又は最大30°、又は最大20°回転の円の、したがって、MD方向の-図1に角度αとして示されるを形成する/で存在してもよい。移動領域は、例えば、少なくとも20°、又は少なくとも30°、及び/又は例えば、最大270°、又は例えば、最大200°、又は最大150°、又は最大120°回転の円の、したがって、MD方向の-図1に角度βとして示されるを形成する/で存在してもよい。本明細書における一部の実施形態では、第1の真空チャンバは、本明細書における真空圧力比率が満たされることを条件として、同じ、又は第2の真空チャンバよりも大きいMD寸法を有してもよい。本発明の装置又はプロセスの一部の実施形態では、並びに、特に、プロセス精度及び/又は費用効果に関して、前記第1の真空チャンバは、第1の角度αによって画定されるMD寸法L1を有し、前記第2の真空チャンバは、第2の角度βによって画定されるMD寸法L2を有し、αのβに対する比率は、3:4以下、又は例えば、2:3以下、又は1:2以下、又は1:3以下である。第1の運動表面は、重力が基材材料上への粒子状材料複数を含むの配置を支援することを可能にするように、実質的に第2の運動無端表面の上に位置付けられてもよい。そこへ、第1の運動無端表面が、例えば、図1に示されるように、例えば、回転する円形の第2の運動無端表面の270°若しくは9時の位置~90°若しくは3時の位置の位置、又は、例えば、300°若しくは315°~60°若しくは45°0°は重力の線上にあるの位置で、実質的に第2の運動無端表面の上に位置付けられてもよい。第2の運動無端表面200は、真空をその上に運搬される基材材料上に印加するために、ガス通過を可能にする任意の好適な表面であってもよい。それは、そこに、使用中、ある総開放領域、典型的には、均質な総開放領域を有する。第2の運動無端表面は、そこに、典型的に、支持構造における開口を有してもよく、例えば、表面は、メッシュ材料間に開放領域を有するメッシュ表面であってもよく、それは、その中にその間の開放領域を有する、無端MD方向に延在する棒、及びCD方向に横断して延在する棒によって形成されるグリッドであってよく、これによって、MD方向に延在する棒は、例えば、相互に対して実質的に平行であり、かつ相互から等間隔であってもよい、及び/又は前記第2の運動無端表面の運動方向に対して垂直な方向に沿って延在する複数の横断する棒は、相互に対して実質的に平行であり、かつ相互から等間隔であってもよい。典型的に、前記第2の運動無端表面内の開口の構造又はパターンは、真空チャンバに面するその表面にわたり、及び/又は基材材料に面するその対向する表面にわたり均質である。更に、第2の運動無端表面は、高速で運動するため、本明細書において以降で説明されるように、総開放領域は、典型的に、使用中、均質であるとみなすことができる。第1の真空チャンバ210は、前記第2の運動無端表面に隣接する、したがって、前記基材110に隣接する、開放されたある第1の表面領域を有する、すなわち、それは1つ以上の開口を有し、それにより、前記第2の運動無端表面上に運搬される前記基材材料とガス連通することができ、本明細書における前記開口1つ又は複数は、第1の真空チャンバの第1の開放領域と称される。第2の運動無端表面は、上で説明されるように、使用中、均質な総開放領域を有するため、メッシュ材料、横断棒等といった支持構造の効果は、本発明の目的上無視することができる。この第1の開放領域は、受容領域において、前記基材材料とガス連通する。第1の真空チャンバの第1の開放領域は、例えば、50又は100又は150cm2~400又は~300又は~250cm2であってもよい。第2の真空チャンバ220は、前記第2の運動無端表面に隣接する、したがって、前記基材110に隣接する、開放されたある第2の表面領域を有する、すなわち、それは1つ以上の開口を有し、それにより、前記第2の運動無端表面上に運搬される前記基材材料とガス連通することができ、本明細書における前記開口1つ又は複数は、第2の真空チャンバの第2の開放領域と称される。第2の運動無端表面は、上で説明されるように、使用中、均質な総開放領域を有するため、メッシュ材料、横断棒等といった支持構造の効果は、本発明の目的上無視することができる。この第2の開放領域は、移動領域において、前記基材材料とガス連通する。第2の真空チャンバの第2の開放領域は、第1の真空チャンバの開放領域を上回り、それは、例えば、200又は250cm2~1000、又は~700、又は~500cm2であってもよい。本明細書における装置又はプロセスの一部の実施形態において、第1の真空チャンバの前記第1の開放領域の、第2の真空チャンバの前記第2の開放領域に対する比率は、例えば、2:3以下、又は1:2以下、又は1:3以下である。この第1対第2の開放領域の比率及び/又は特定の第1及び第2の領域は、第2の運動無端表面による粒子状材料の正確な受容及び移動を依然として確実としつつ、大きい真空負圧を、過剰なエネルギー消費を伴わずに、前記第1の真空チャンバにおいて創出することができることを確実とするのに有益でありうる。第1の真空チャンバ210及び第2の真空チャンバ220は、前記真空チャンバにおいて、前記真空負圧を創出する同じ真空ファン240に接続されてもよく、このファンは、典型的に、前記ステータには存在しないが、例えば、前記第2の無端運動表面に近接して存在する。これは例えば図4に示される。前記ファン240の前記第2の真空チャンバへの接続は、ガスの流れ、ひいては、本明細書において説明される値に従って、生成される真空圧力を制御するように、ガス流れ制御デバイスを備えてもよい。ガス流れ制御デバイスは、スライドゲート、ちょう形弁などの、当該技術分野において既知のいずれのデバイスであってもよい。ファン240から第2の真空チャンバへの接続はまた、低減された真空圧力が、前記第2の真空チャンバにおいて確立されるのを可能とするように、制限されてもよい。前記ファン240から前記第2の真空チャンバへの接続はまた、例えば、図4に示されるように、前記ファンから前記第1の真空チャンバへの接続よりも狭くてもよい。他の実施形態において、及び例えば、図3に示されるように、第1の真空チャンバ210は、第1の真空ファン240aに接続され、第2の真空チャンバ220は、第2の真空ファン240bに接続される相互に接続されていない。本明細書における一部の実施形態では、第1の真空チャンバは、例えば、-5kPa以下、又は-6.5kPa以下、又は-7.5kPa以下、又は例えば、-6.5kPa又は-7.5kPa~-20kPa又は~-15kPaの第1の真空負圧を有する。第2の真空チャンバは、前記第1の真空圧力と比較して、より小さい/低減された真空圧力を有し、例えば、前記第2の真空チャンバにおける前記第2の真空圧力は、-0.5kPa~-5kPa、又は~-4.5kPa又は~-4kPa又は~-3.5kPaの範囲内である。上で言及されるように、本明細書における一部の実施形態では、前記第1の真空負圧の、前記第2の真空負圧に対する比率は、少なくとも4:3、又は本明細書において上で説明されるとおりである。第1のチャンバにおける、及び同等に第2のチャンバにおける真空圧力は、圧力センサをチャンバの壁に配置することによって、例えば、開口1つ/複数運動無端表面と隣接するを有する真空チャンバ側面に隣接する及び、例えば、垂直なが、前記側面から可能な限り離れた側壁に、センサを配置することによって測定可能である。これは、BDセンサモデルDMP331-110-M160-3-5-M00-300-1-000;-16-0kPa-160-0mbar;VitonFKMシールで接続からのセンサを用いて行うことができる。第2の運動無端表面200及びその上の基材は、第1の運動無端表面40と同じ表面速度を有してもよいか、又は、それは、異なる表面速度を有してもよい。一実施形態において、第2の運動無端表面及び/又は第1の運動無端表面は、少なくとも4.5m/s、又は少なくとも6m/s、又は少なくとも8m/s、又は少なくとも10m/sの速度を有し、プロセス及び装置が、吸収性コアなどの構造の製造のためであるとき、それは、例えば、少なくとも800部構造/分、又は少なくとも1000部/分の速度を有してもよい。前記粒子状材料100の前記基材材料による受容後、基材材料と粒子状材料との組み合わせは、前記移動領域内で及びそれを通して、例えば、更なる装置ユニット又はプロセス工程に移動する。本発明の目的上、移動領域は、基材と粒子状材料との組み合わせが、もはや前記第2の真空チャンバ220とガス連通しない場所、例えば、前記組み合わせが第2の運動無端表面を去る場所で終了することを理解されたい。本明細書におけるプロセス及び装置は、典型的に、基材材料と粒子状材料との組み合わせを、更なる装置ユニットへ、又は更なる処理工程へ移動させる。このため、この更なる処理工程/更なる装置ユニットは、移動領域を越えるすなわち、下流、及び第2の移動真空チャンバ220を越える。例えば、図1に示されるように、装置は、更なる装置ユニットとして、基材材料と粒子状材料との組み合わせを受容するためのアンビルロールを備えてもよく、更なる装置ユニット/プロセス工程は、図1に示され、かつ以下で更に説明されるように、基材材料と粒子状材料との組み合わせを受容する、及び更なる基材材料任意に粒子状材料を有するを受容する、及び前記基材材料を組み合わせる、装置ユニット/プロセス工程であってもよく、更なる処理工程/装置ユニッは、接着剤を前記組み合わせに塗布する装置ユニット/プロセス工程であってもよく、それは、基材材料と粒子状材料との組み合わせを切断する更なる装置ユニット/プロセス工程であってもよい。本明細書における装置/プロセスは、前記第1の無端運動表面からの上流、若しくは前記受容領域からの上流に配置される、又は生じる、あるいは、移動領域に配置される/生じてもよい、追加の装置ユニット複数を含む/追加のプロセス工程複数を含むを備えてもよい。例えば、基材材料110は、粒子状材料100を基材材料110に少なくとも部分的に接着するために、粒子状材料の配置前接着剤を備えてもよい。接着剤は、あるパターンで塗布されてもよく、それによって、基材110の一部は、接着剤を含まず、基材110の一部は、接着剤を含む。このパターンは、第1の運動無端表面40のリザーバ50のパターンに一致したものでもよい。このため、本明細書における装置は、追加の装置ユニットとして、前記第1の運動無端表面40からの上流に、接着剤塗布ユニット300を備えてもよい。本明細書におけるプロセスは、追加のプロセス工程として、その上の前記粒子状材料の受容の前に、基材への接着剤の塗布を含んでもよい。例えば、上記に加えて、又は代替として、基材材料と粒子状材料との組み合わせの移動の間、接着剤は、前記組み合わせに、又は前記粒子状材料のみに塗布されてもよい。このため、装置は、第1の運動無端表面からの下流、例えば、前記移動領域内の第2の真空チャンバに対して、第2の運動無端表面の反対側上に、及び/又は移動領域からの下流に、追加の接着剤塗布ユニット301を備えてもよい。したがって、結果的に、本明細書におけるプロセスは、前記移動領域において、接着剤を前記基材材料に、及び/又は前記組み合わせに、又は前記粒子状材料に塗布する、追加のプロセス工程を含んでもよい。例えば、図1に示される実施形態において、任意の追加の上流接着剤ユニット300は、接着剤を基材材料に塗布し、任意の追加の下流接着剤ユニット310は、接着剤を前記受容領域において、基材材料と粒子状材料との前記組み合わせに塗布するが、アンビルロールなどの、更なる装置ユニット-移動領域の下流それを越えて;第2の運動無端表面に隣接する-は、前記組み合わせを受容し、それを更なる基材材料と組み合わせる。更なる/追加の接着剤塗布ユニット複数を含むは、当該技術分野において既知の任意のタイプから選択されてもよく、特に、スロットコーティングユニット及びスプレーユニットである。基材材料の粒子状材料との得られる組み合わせは、ウェブであってもよく、それは、粒子状材料を有する基材を個々の構造に切断する、切断ユニット本明細書における更なるユニットであってもよいに移動してもよい。加えて、又は代替的に、粒子状材料を有する基材材料は、基材材料を粒子状材料上に折り畳むユニットに移動してもよい。装置/プロセスは、前記折り畳まれた基材材料を封止するため、又は基材材料及び更なる基材材料を封止して、その間でその中の粒子状材料を囲むように、その後のユニット/プロセス工程を有してもよい。封止は、任意の手段、例えば、超音波結合、熱結合、又は接着剤結合によって行われてもよい。例えば、図1において310として示される接着剤塗布ユニットを用いて、前記粒子状材料上に塗布されてもよい接着剤は、例えば、粒子状材料100を少なくとも部分的に被覆する、及び少なくとも部分的に不動化する機能を果たしてもよい熱可塑性接着材料であってもよく、例えば、熱可塑性接着材料は、繊維形態、例えば、粒子状材料100と少なくとも部分的に接触し、任意に、基材材料110と部分的に接触する繊維層である。熱可塑性材料は、ホットメルト接着材料でありうる。特定の実施形態では、熱可塑性接着材料は、平均の厚さが約1~約50マイクロメートル、又は約1~約35マイクロメートル、及び平均の長さが約5mm~約50mm、又は約5mm~約30mmの繊維の形態であってよい。更なる基材材料は、基材材料110と同じ材料を含んでもよいか、又は異なる材料を含んでもよい。ある実施形態において、更なる基材材料に好適な材料は、本明細書において上で説明される基材110に有用な不織布材料である。本明細書において言及されるように、更なる基材材料は、接着材料及び/又は粒子状材料を含んでもよい。プロセス本発明はまた、本明細書において説明される装置1及び任意の追加のユニットを使用して、粒子状材料100と基材材料110との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセスを提供する。このため、本明細書において上で説明される全ての特性及び特徴は、本発明のプロセスに同等に適用されうる。一部の実施形態において、基材材料110と粒子状材料100との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセスは、a第2の運動無端表面の受容領域において、基材材料と粒子状材料との組み合わせを形成するように、リザーバ複数を含むによって包含される粒子状材料100を含む1つ以上のリザーバ50を備える第1の無端運動表面40を、第2の運動無端表面200によって運搬される基材材料110上に配置する一方で、同時に、前記受容領域内に第1の真空負圧を提供する工程と、b前記基材材料と粒子状材料との前記組み合わせを、前記第2の無端運動表面の移動領域を通って移動させる工程と、一方で、同時に前記受容領域に第2の真空負圧を提供する工程と、この組み合わせを更なる処理工程へ移動させる工程と、を含み、前記第1の真空負圧の、前記第2の真空負圧に対する比率が、少なくとも4:3、又は本明細書において説明されるとおりである。プロセスは、本明細書において説明されるプロセス速度で行われてもよい。それは、衛生ナプキン若しくはおむつなどの、吸収性物品における使用のための、前駆体吸収性構造又は吸収性構造を作製することであってもよい。上で言及されるように、プロセスは、任意に粒子状材料とのその組み合わせである、第2の更なる基材材料上で説明されるようにを、基材材料110と粒子状材料100との前記組み合わせに塗布するプロセス工程、前記粒子状材料100上で前記基材材料110を折り畳むプロセス工程、接着剤を、基材材料110と粒子状材料100との前記組み合わせに塗布するプロセス工程、基材材料と粒子状材料との前記組み合わせを切断するプロセス工程、又はこれらの組み合わせから選択される、更なるプロセス工程を含んでもよい。吸収性コア及び吸収性物品本発明の装置1及び方法は、例えば、吸収性物品のための前駆体獲得層及び/又は吸収性コアなどの、前駆体吸収性構造を製造するために有用である。吸収性物品とは、身体の排出物を吸収及び保持する装置のことを指し、より具体的には、着用者の身体に接して、又は近接して配置されることにより身体から排出される様々な排出物を吸収及び保持する装置のことを指す。吸収性物品には、締着式おむつ及び再締着式トレーニングパンツなどのおむつ、成人用失禁下着パッド、おむつ、女性用衛生製品衛生ナプキン、パンティーライナ、胸当て、ケアマット、よだれかけ、創傷包帯製品などがある。おむつとは、幼児及び失禁症状を有する人により、着用者の腰及び脚を包囲するように胴体下部の周囲に一般的に着用される、尿及び糞便を受容及び保持するように特に構成された吸収性物品のことを指す。本明細書において使用される際、体液又は身体排出物なる用語には、これらに限定されるものではないが、尿、血液、膣排泄物、母乳、汗及び糞便が含まれる。当該技術分野において周知であるように、吸収性コアは、吸収された体液を保持する物品の一部である。このため、本明細書における吸収性コアは、本明細書における装置1及びプロセスによって形成される、基材材料110上に配置される吸収性粒子状材料100本明細書において定義されるようにである、粒子状材料100を備える。吸収性コアは、少なくともバックシートとトップシートとの間に通常は挟み込まれる。好ましい吸収性物品は、使用中に着用者に面するトップシート、例えば、不織布シート、及び/又は当該技術分野において既知の孔あき成型フィルムを含む、孔あきシート、及びバックシート、任意に、使用中に着用者に面するコアカバーシートを有する吸収性コアを含む。バックシートは、当該技術分野において既知であるように、液体不浸透性であってもよい。好ましい実施形態では、液体不透過性バックシートは、約0.01.mm~約0.05mmの厚さを有する熱可塑性フィルムなどの薄いプラスチックフィルムを含む。好適なバックシート材料は一般的に、おむつから水蒸気を逃がす一方で、排出物がバックシートを通り抜けることを防止する通気性材料を含む。好適なバックシートフィルムとしては、インディアナ州テレホート所在のトレデガーインダストリーズ社TredegarIndustriesIncが製造する、X15306、X10962及びX10964の商品名で販売されるものが挙げられる。バックシート又はその任意の部分は、1以上の方向に弾性的に延伸可能なものでよい。バックシートは、当該技術分野では周知の任意の取り付け手段によって、トップシート、吸収性コア、又はおむつの他の任意の要素に取り付け又は接合することができる。本明細書に開示した寸法及び値は、記載された正確な数値に厳密に限定されるものとして理解されるべきでない。むしろ、特に断らないかぎり、そのようなそれぞれの寸法は、記載された値及びその値周辺の機能的に同等の範囲の両方を意味するものとする。例えば、40mmとして開示された寸法は、約40mmを意味するものとする。"