"投影リソグラフィのための照明光学系26であって、物体平面17内で照明される物体視野19に照明光3を案内するための光学アセンブリ26a、を備え、前記照明光3の光束を前記物体視野の照明の様々な照明方向に割り当てられる複数の部分光束に分割し、前記部分光束の少なくとも一部が、第1の重ね合わせ規定に従って第1の重ね合わせ平面31内で、かつ第2の重ね合わせ規定に従って前記第1の重ね合わせ平面31から離間した第2の重ね合わせ平面16内で、互いに重ね合わされるように構成される、ことを特徴とする照明光学系26。前記2つの重ね合わせ平面16,31のうちのいずれも、前記物体平面17と一致しないことを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。前記2つの重ね合わせ平面16,31のうちのいずれも、前記物体平面17に結像されないことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の照明光学系。前記部分光束の少なくとも一部が、重ね合わされる部分光束の縁部が少なくとも部分的に縁線36;39に沿って一致するように前記第2の重ね合わせ規定に従って前記第2の重ね合わせ平面16内で互いに重ね合わされることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の照明光学系。強度規定平面である前記重ね合わせ平面の一方16に、前記物体視野19にわたる前記照明光3の強度分布を調節するための視野強度規定デバイス24が配置され、重ね合わされる部分光束の縁部が、少なくとも部分的に縁線36;39に沿って一致し、前記視野強度規定デバイス24によって影響を及ぼされることができることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学系。前記部分光束の少なくとも一部が、前記第1の重ね合わせ規定に従って前記第1の重ね合わせ平面31内で、該第1の重ね合わせ平面31内の少なくとも1つの空き領域29,30に部分光束縁部が全く存在しないように互いに重ね合わされることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学系。前記部分光束の少なくとも一部が、重ね合わされた部分光束の縁部が少なくとも部分的に一致するように、前記第2の重ね合わせ規定による重ね合わせ方向yとは異なる重ね合わせ方向xに前記第1の重ね合わせ規定に従って前記第1の重ね合わせ平面31内で互いに重ね合わされることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の照明光学系。前記第1の重ね合わせ平面31内に位置する少なくとも1つの感応センサ領域29,30を有するエネルギセンサ28を特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の照明光学系。前記エネルギセンサ28の前記感応センサ領域29,30は、前記空き領域内に位置するか又はそれと一致することを特徴とする請求項8に記載の照明光学系。請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学系26を備え、物体視野19を像視野21に結像するための投影光学系20を備える、ことを特徴とする照明系。請求項10に記載の照明系を備え、EUV光源2を備える、ことを特徴とする投影露光系1。構造化構成要素を生成する方法であって、感光材料の層が少なくとも部分的に付加されたウェーハ23を準備する段階と、結像される構造を有するレチクル18を準備する段階と、請求項11に記載の投影露光系1を準備する段階と、前記投影露光系1を用いて前記レチクル18の少なくとも一部を前記ウェーハ23の前記層のある一定の領域上に投影する段階と、を含むことを特徴とする方法。請求項12に記載の方法によって生成された構造化構成要素。本発明の目的は、可能な限り照明角度分布に影響を及ぼすことなく、物体視野にわたる照明強度分布への影響付与及び/又はそのモニタリングが可能になるような冒頭に示した種類の照明光学系を開発することである。本発明により、この目的は、請求項1に開示する特徴を有する照明光学系によって達成される。本発明により、部分光束の少なくとも一部が、対応する重ね合わせ規定に従って互いから離間した重ね合わせ平面内で互いに重ね合わされるように構成された照明光学系が、一方で照明強度分布を規定するために、それによって同時に有害に照明角度分布に影響を及ぼすことなく2つの重ね合わせ平面の一方において照明光に影響を及ぼし、2つの重ね合わせ平面のうちの他方において、部分光束の僅かな変動による外乱を受けることなく、照明光のエネルギ又は強度をモニタリングする可能性をもたらすことが認識された。本発明は、ちょうど1つの平面内での照明光の部分光束の重ね合わせを最適化するという要求から発出したものである。2つの重ね合わせ規定に従って互いから離間した2つの重ね合わせ平面内での重ね合わせの規定は、照明光の部分光束の可能な影響付与及び/又はモニタリングに関する自由度を高める。その結果は、十分に再現することができる、狭い所定の許容誤差内の物体視野の照明の可能性である。請求項2に記載の照明光学系は、照明における自由度の更に別の増大をもたらす。物体平面と一致しない2つの重ね合わせ平面内での重ね合わせ規定が固持される限り、物体平面内での厳密な重ね合わせ規定に固執するこが重要ではないことが認識された。物体平面内では、重ね合わせにおいて、ある一定の境界条件、例えば、物体視野によって予め決定される対象領域内での照明光の入射を満たすだけでよい。請求項3に記載の照明光学系は非常に小型にすることができ、少数の光学構成要素を用いて設計することができる。請求項4に記載の部分光束の重ね合わせは、部分光束が少なくとも部分的に照明角度又は照明方向とは無関係に一致する照明光への影響付与を可能にする。請求項5に記載の視野強度規定デバイスを使用すると、重ね合わせ平面のうちの1つにおける照明光の部分光束の影響付与、特に照明角度に依存しない影響付与を行うことができる。対応する視野強度規定デバイスが、WO2009/074211A1から公知である。第2の重ね合わせ平面内で、照明光の部分光束への影響付与を行うことができる。請求項6に記載の少なくとも1つの空き領域は、第1の重ね合わせ平面内でのこれらの空き範囲の部分光束の僅かな変位が、空き領域の入射又は照明光を有する3つの領域内に完全に位置するコア領域の入射において大幅な変化をもたらさないことを保証する。請求項7に記載の重ね合わせ規定は、照明方向又は照明角度とは無関係に第2の方向からの照明光に影響を及ぼすか又はそれをモニタリングする可能性をもたらす。第1の重ね合わせ平面内での入射感度の低下に関しては、少なくとも1つの空き領域に関して上述したことが適用される。請求項8に記載のエネルギセンサは、照明光のエネルギ又は強度、及び/又はエネルギセンサの前に設けられて照明光を案内する構成要素の透過率のモニタリングを可能にする。請求項9に記載の少なくとも1つのセンサ領域の配列は、部分光束の僅かな変位が、センサ領域の入射において大幅な変化をもたらさないことを保証する。従って、この変位は、光源の効率又は照明光を案内する構成要素の透過率の変動として有害に変換されることはない。請求項10に記載の照明系、請求項11に記載の投影露光系、請求項12に記載の構造化構成要素を生成する方法、及び請求項13に記載のこのようにして製造された構成要素の利点は、照明光学系に関して上述したものに対応する。光源は、5nmと30nmの間の範囲に有用光波長を有するEUV光源とすることができる。この投影露光系は、微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素のリソグラフィ製造に使用される。本発明の実施形態を図面を用いて以下により詳細に説明する。マイクロリソグラフィのための投影露光系1は、微細構造又はナノ構造の電子半導体構成要素を生成するのに使用される。光源2は、例えば、5nmと30nmの間の波長範囲のEUV放射線を放出する。照明光3の有効放射線束は、投影露光系1内での照明及び結像に使用される。照明光3は、光源2の後に、最初に、例えば、従来技術で公知の多シェル構造を有する多段コレクター、例えば、ウォルター光学系とすることができるコレクター4を通過する。コレクター4の後に、照明光3は、最初に、照明光3を望ましくない放射線又は粒子部分から分離するのに使用することができる中間焦点面5を通過する。中間焦点面5を通過した後に、照明光3は、最初に視野ファセットミラー6上に入射する。図面内には、各場合に位置関係の説明を容易にするために、xyz座標系を示している。図1では、x軸は、作図面と垂直に作図面に向けて延びている。y軸は、図1では左に延びている。z軸は、図1では上方に延びている。以下に続く図では、各場合に、投影露光系1の個々の光学構成要素内の位置関係の説明を容易するために、直交局所xyz座標系又は直交局所xy座標系を使用する。それぞれの局所xy座標は、別途説明がない場合には、光学構成要素のそれぞれの主配列平面、例えば、反射平面又は視野平面を張る。広域xyz座標系のx軸と、局所xyz座標系又は局所xy座標系のx軸とは、互いに平行に延びている。局所xyz座標系又は局所xy座標系のそれぞれのy軸は、x軸回りのそれぞれの光学構成要素の傾斜角に対応する広域xyz座標系のy軸に対する角度を有する。図4は、一例として、視野ファセットミラー6の視野ファセット7のファセット配列を示している。視野ファセット7は矩形であり、各場合に同じx/yアスペクト比を有する。視野ファセット7は、視野ファセットミラー6の反射面を予め決定し、かつ各々が6つの視野ファセット群8を有する4つの列にグループ分けされる。一般的に視野ファセット群8は、各場合に7つの視野ファセット7を有する。2つの中央視野ファセット列の2つの縁側視野ファセット群8は、これらの視野ファセット群8が合計で11個の視野ファセット7を有するように、各場合に4つの付加的な視野ファセット7を有する。視野ファセットミラー6のファセット配列は、2つの中央ファセット列の間及び3番目のファセット行と4番目のファセット行の間に内部で視野ファセットミラー6がコレクター4の保持スポークによって遮蔽される中間空隙9を有する。視野ファセットミラー6上での反射の後に、個々の視野ファセット7に割り当てられた部分光束に分割された照明光3は、瞳ファセットミラー10上に入射する。図5は、一例として、瞳ファセットミラー10の円形瞳ファセット11のファセット配列を示している。瞳ファセット11は、瞳ファセットミラーの中心10aの回りに互いに内外に位置するファセット環に配置される。瞳ファセット11は、視野ファセット7のうちの1つによって反射される照明光3の各部分光束に割り当てられ、それによって視野ファセット7のうちの1つと瞳ファセット11のうちの1つを有する入射を受けるそれぞれのファセット対が、照明光3の関係する部分光束に対するビーム案内チャンネル又は照明チャンネルを規定する。このようにして生成された部分光束は、この場合、物体視野照明の異なる照明方向に割り当てられる。視野ファセット7への瞳ファセット11のチャンネル毎の割り当ては、投影露光系1による望ましい照明に依存して行われる。ある一定の瞳ファセット11を作動させるために、視野ファセットミラー7は、一方でx軸の回りに、他方でy軸の回りに個々に傾斜される。視野ファセット7は、瞳ファセットミラー10及びそれに続く3つのEUVミラー12、13、14から構成される伝達光学系15を用いて投影露光系1の視野平面16に結像される。EUVミラー14は、かすめ入射ミラーとして構成される。視野平面16の下流には、z方向に約5mmから20mmだけ分離して、レチクル18が配置されたレチクル平面17があり、このレチクル平面17により、下流にあって投影露光系1の投影光学系20の物体視野19と一致する照明領域が照明光3で照明される。従って、投影露光系1では、伝達光学系15によって視野ファセット7がファセット像で内部に結像される視野平面16と、同時に投影光学系20の物体平面であるレチクル平面17とは一致しない。照明光3は、レチクル18によって反射される。投影光学系20は、レチクル平面17の物体視野19を像平面22の像視野21に結像する。この像平面22内には、投影露光系1による投影露光中に露光される感光層を担持するウェーハ23が配置される。投影露光中には、レチクル18とウェーハ23の両方が、同期してでy方向に走査される。投影露光系1は、スキャナとして構成される。下記では、走査方向を物体変位方向とも呼ぶ。視野平面16内には、以下により詳細に説明する視野強度規定デバイス24が配置される。視野強度規定デバイス24は、走査積分される、言い換えれば、物体視野19にわたってy方向に積分される強度分布を調節するのに使用される。従って、視野平面16は、同時に照明光学系26の強度規定平面である。視野強度規定デバイス24は、制御デバイス25によって作動される。視野ファセットミラー6、瞳ファセットミラー10、伝達光学系15のミラー12から14、及び視野強度規定デバイス24は、投影露光系1の照明光学系26の構成要素である。この場合、照明光学系26の構成要素6、10、12、13、及び14は、照明光3を案内するのに使用される。視野平面16とレチクル平面17の間に照明光学系26又は投影光学系20の瞳平面が位置することはない。図2及び図3は、視野強度規定デバイス24をより詳細に示している。視野強度規定デバイス24は、互いに隣に配置された複数の指状の個々の絞り27を有する。図2及び図3に記載の構成では、4mmのそれぞれの幅を有する合計で26個の個々の絞り27が存在し、図3は、これらのうちの一部のみを略示している。これらの個々の絞り27は、互いに直接に隣接し、又はそうでなければ部分的に重なり合って配置される。部分的に重なり合う場合には、隣接する個々の絞り27は、照明光3のビーム方向と垂直に互いに可能な限り近い平面に設置すべきである。全ての個々の絞り27は、照明光3の有効放射線束内に1つのかつ同じ側から挿入される。個々の絞り27は、予め決定された位置に制御デバイス25を用いてy方向に互いに独立して調節することができる。どの視野高さ、言い換えれば、どのx位置でレチクル18上の物体点が物体視野19を通過するかに基づいて、この物体点のy方向の走査経路、従って、この物体点が受ける積分照明光強度は、それぞれの個々の絞り27のy位置によって決定される。従って、レチクル18を照明し、次に、投影光学系20を用いてウェーハ23を照明する有効放射線強度の均一化又は予め決定された分布を個々の絞り27のy位置の規定によって達成することができる。視野強度規定デバイス24をUNICOMとも呼ぶ。視野強度規定デバイス24の前の照明光3のビーム経路には、2つのセンサユニット29、30図7cを参照されたいを有するエネルギセンサ28図2を参照されたいが配置される。センサユニット29、30は、照明光3に敏感なセンサとして、例えば、EUV光を検出するように装備されたCCDセンサ又はCMOSセンサとして設計される。エネルギセンサ28は、視野平面16及びレチクル平面17と平行に、言い換えれば、同じくxy平面と平行に拡がるエネルギセンサ平面31に配置される。エネルギセンサ平面31は、レチクル平面17から約20mmから80mmのz方向間隔で分離される。センサユニット29、39は、x方向に物体視野19が拡がるx値の僅かに外側にある。センサユニット29、30を用いて、レチクル平面17に到達する照明光3のエネルギモニタリングが行われる。エネルギセンサ28は、工程中に、照明光3のうちで、レチクル18を露光するのには使用されないが、結像される構造の隣に位置する領域、言い換えれば、露光されるレチクル18の領域の隣の領域を照明することになる部分を吸収する。エネルギセンサ28を使用すると、一方で光源2の効率のモニタリング、他方で光源2とレチクル18との間で照明光を案内する構成要素の反射率又は透過率のモニタリングが可能である。視野平面16又はエネルギセンサ平面31のいずれも、レチクル平面17の像平面ではない。従って、これらの平面17、31のいずれも、投影光学系20の物体平面17に結像されない。図6は、視野ファセットミラー6の更に別の構成を示している。図4に記載の視野ファセットミラー6を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、これらに対しては、図4に記載の視野ファセットミラー6の構成要素とは異なる場合にのみ以下に説明する。図6に記載の視野ファセットミラー6は、湾曲視野ファセット7を有する視野ファセット配列を有する。これらの視野ファセット7は各々が複数の視野ファセット群8を有する合計で5つの列に配置される。この視野ファセット配列は、視野ファセットミラーの支持体板32の円形の境界内に入れられる。図6に記載の構成の視野ファセット7は全て、同じ面積と、図4に記載の構成の視野ファセット7のx/yアスペクト比に対応するx方向の幅とy方向の高さとの同じ比とを有する。図7は、個々の視野ファセット7から発する照明光3の様々な部分光束の重ね合わせ比を示している。図7に記載の配列では、視野平面16、言い換えれば、視野強度規定デバイス24の配列平面は、レチクル平面17から15mmの間隔を有する。エネルギセンサ平面31は、レチクル平面17から40mmの間隔を有する。この場合、図7bは、レチクル平面17内の重ね合わせ比を示している。図7bは、視野平面16、言い換えれば、視野強度規定デバイス24の配列平面内の重ね合わせ比を示している。図7cは、エネルギセンサ平面31内の重ね合わせ比を示している。各場合に視野ファセット7上に同じく配置された試験点パターンから発する照明光3の部分光束のビームの入射点を各場合に示している。結像ビーム32aの対応する試験パターンは、視野ファセット7後の1つを拡大した図6の挿入図に示している。試験パターン32aは、各場合にそれぞれの視野ファセット7のプロフィールを均一に分割する11個の試験点を各々が有する2つの試験点行を含む。代替的に、2つの縁側の線の間に視野ファセット7の中心線を分割する試験点の3番目の行が更に存在する3線試験パターンを使用することができる。この種の3行試験パターンを以下に説明する図7及び図8のグラフに対して使用する。特に、まだ最適化されていない個々の視野ファセット7の試験パターンの重ね合わせにおいて、各々が11個の試験点を有する3行の試験点配列が依然として推側されることができる菱形を参照されたい。図7aに記載の最適化されていない重ね合わせでは、正及び負のx値における物体視野19の縁部の近くで、様々な視野ファセット7に属する試験点の帯を見ることができる。図7aは、各場合に物体視野19の縁部を超える符号に示す正のx値と負のx値とを用いた第1のまだ最適化されていない照明状況において視野ファセット7の試験点パターンから発する照明光3のビームの重ね合わせを示している。これらの図では、符号図7a及び図7cの33を参照されたいの各々は、各場合に視野ファセット7の隅から放出された照明ビームがレチクル平面17図7aを参照されたいを通過して、エネルギセンサ平面31図7cを参照されたい上に入射する点を表している。これらの入射点33のうちの一部は、図7cに矩形に示すエネルギセンサ28のセンサユニット29、30の感応領域内に位置する。この場合、視野ファセット7の隅の領域内で反射される照明光3の部分光束の僅かな変動は、この種の部分光束3がセンサユニット29、30のそれぞれの感応領域に依然として僅かに到達するか又はもはや到達しないという結果をもたらすので、この種の状況は回避すべきである。この場合、センサユニット29、30上の縁側に入射するこれらの部分光束3のx方向の僅かな変動は、センサユニット29、30上に入射するエネルギの大きい変動を不適切に招くことになる。図7a及び図7cに正方形34に示す入射点は、この場合、視野ファセット7上の試験点パターンから発し、最適化されていない照明状況から進む照明光3のビームの事前最適化された照明状況を示している。事前最適化は、視野ファセット7の隅から発する結像ビームが、特にセンサユニット29、30の感応領域上に入射しないように、瞳ファセット11を第1の重ね合わせ規定及びそこからもたらされる個々の視野ファセット7の像のx方向の変位に従って瞳ファセット11のそれぞれの局所xy座標系のy軸の回りに傾斜させることによって行われる。従って、図7cのエネルギセンサ28のセンサユニット29、30の感応領域内には、入射点34のうちのただの1つも位置しない。従って、第1の重ね合わせ規定は、エネルギセンサ平面31、言い換えれば、第1の重ね合わせ平面内での視野ファセット7に割り当てられた照明光3の部分光束の重ね合わせに関連する。第1の重ね合わせ規定により、この場合、照明光3の部分光束は、エネルギセンサ平面31内で互いに重ね合わされ、言い換えれば、エネルギセンサ平面31内の少なくとも1つの空き領域、すなわち、センサユニット29、30の感応領域に部分光束縁部が全く存在しないように重ね合わされる。この場合、視野ファセット7上の試験点パターンから放出された照明光3のビームの図7a及び図7bに円35に示す入射点は、完全に最適化された照明状況に対応する。完全な最適化は、上述の第1の重ね合わせ規定が追加条件として有効性を保持したままで、第2の重ね合わせ規定を用いて行われる。第2の重ね合わせ規定は、視野平面16、言い換えれば、第2の重ね合わせ平面内での照明光3の部分光束の重ね合わせに関連する。この第2の重ね合わせ規定は、視野平面16内での個々の視野ファセット7の像のx方向とy方向の両方への変位によって達成され、更にこの変位は、それぞれの瞳ファセット11のそれぞれの局所xy座標系の一方でx軸のかつ他方でy軸の回りの瞳ファセット11の対応する傾斜によって達成される。視野ファセット7の像、従って、視野平面16内での入射点35は、視野ファセット像の縁部のy方向の良好な縁側の重なり、例えば、図7bに示す縁線36に沿ったファセット像縁部の良好な重ね合わせが提供されるように変位される。第2の重ね合わせ規定により、部分光束は、視野平面16内で互いに重ね合わされ、言い換えれば、重ね合わされる部分光束の縁部が少なくとも部分的に縁線36に沿って一致するように重ね合わされる。個々のファセット像のx変位及びy変位によるこの種の変位規定は、WO2010/037453Aに説明されている。WO2009/074211A1に説明されているように、この重ね合わせは、照明光3の全ての部分光束に対する視野強度規定デバイス24の個々の絞り27の一様な作用を可能にする。第2の重ね合わせ規定は、追加条件として、第2の重ね合わせ規定に従ったファセット像の変位の終了後に、視野ファセット7に割り当てられた部分光束の縁部がセンサユニット29、30の感応領域上にないことを含む。従って、第1の重ね合わせ規定は、第2の重ね合わせ規定において追加条件として含まれる。第2の重ね合わせ規定の更に別の追加条件として、入射点35がレチクル平面17の物体視野19を離れてはならないことが適用される。第1の重ね合わせ規定による重ね合わせ方向はx方向である。第2の重ね合わせ規定による重ね合わせ方向はy方向である。図7に記載のものに対応する図にある図8を用いて、図4に記載の視野ファセットミラー6を有する照明光学系を用いた更に別の重ね合わせ状況を説明する。従って、レチクル平面17内図8aを参照されたい、視野平面16内図8bを参照されたい、及びエネルギセンサ平面31内図8cを参照されたいで、図4に記載の視野ファセットミラー6の矩形視野ファセット7から発する矩形部分光束が重ね合わされる。この場合、視野ファセット7上の試験点パターンから発する照明光3のビームの重ね合わせを図8の3つの平面17、16、31に示している。この場合、図4に記載の視野ファセットミラー6の視野ファセット7の各々は、各々が3つの等距離試験点を有するy方向に沿って延びる11個の列と、x方向から互いに等距離で延びる試験点の3つの行とから、言い換えれば、合計で33個の試験点からx/y格子として構成される試験点パターンを有する。図1から図7を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しない。図8には、2つの照明状況、すなわち、第1に、円37に示す部分光束のまだ最適化されていない重ね合わせと、プラス符号38に示す2つの重ね合わせ状況に従って最適化された重ね合わせ状況とを示している。試験点構造から進む照明光3のビームの入射点を再現する円及びプラス符号を用いたこの基本図は、図7に記載の図に対応する。図8b及び図8cでは、互いに重ね合わされた試験点構造内に円37及び8つのプラス符号38の分布が出現する例示的な雲を拡大して強調し、概略的に間引いている。正のx方向の最大x値に割り当てられた試験点と、負のx方向の最小x値に割り当てられた試験点とは、物体視野19を照明する上で使用されずに主にセンサユニット29、30上に入射する照明光3が反射される視野ファセット7の領域上に位置する。図7に関して上述した2つの重ね合わせ規定を用いて同様に発生する最適化された重ね合わせ状況プラス符号38では、センサユニット29、30のセンサ領域は、同様に、部分光束縁部がないままでありセンサ領域内にプラス符号38が位置しない、言い換えれば、空き領域である。更に、視野平面16内では、光束縁部は、視野強度規定デバイス24の部分光束非依存の効果が保証されるように、y方向には共通の縁線39上に位置する。最後に、物体視野19を照明する上で使用される部分光束の一部は、図8aに破線の矩形で再現している物体視野19内に位置する。図8a、図8b、及び図8cにプラス符号38に示す最適化された重ね合わせ状況では、照明光3の重ね合わされた部分光束の縁部が少なくとも部分的に一致するように、照明光3の部分光束は、エネルギセンサ平面31内で第1の重ね合わせ規定に従って第2の重ね合わせ規定によるy方向の重ね合わせ方向とは異なるx方向に互いに重ね合わされる。従って、照明光3の部分光束の縁部は、エネルギセンサ平面31内で、x方向に共通の縁線40を有する。従って、視野平面16、言い換えれば、視野強度規定デバイス24の配列平面内での照明光3の部分光束の縁部は、y方向に共通の縁線39を有する。図9及び図10を用いて、ファセットミラーのファセットの照明幾何学形状の更に別の実施形態を図6に記載の視野ファセットミラー6のように以下に説明する。図1から図8、特に図6を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しない。図9の拡大挿入図は、代表的な視野ファセット上の照明光3の部分光束のビームの入射点の試験パターンを試験点41の配列として示しており、この試験パターンのこれらの入射点、言い換えれば、試験点は、物体視野19内のそれぞれの同じ視野点上に結像される。従って、図9に記載の試験パターンの試験点41の割り当ては、図6に記載の試験パターン32aにおける割り当てとは異なる。試験パターン32aにおいては、任意的にそれぞれの重ね合わせ規定に従ってx方向及び/又はy方向に互いに対して変位し、レチクル平面17、視野平面16、又はエネルギセンサ平面31内で物体視野19内にあり、視野ファセット7上の入射点の位置に関して互いに等しく対応する入射点が、様々な視野ファセット7上で観察される。試験点41を有する試験パターンでは、観察は逆方向に行われる。この場合、各場合に物体視野19内の同じ点上に結像される、様々な視野ファセット7の試験点41のパターンが観察される。図10は、視野ファセットミラー6のうちの一部のファセット群の視野ファセット7上の試験点41の例示的な分布を示している。点記号を有する試験点41は、ここでは物体視野19のx方向に左手の縁部と右手の縁部とに結像される。点記号xを有する試験点41は、物体視野19の中心に結像される。点記号oを有する試験点41は、物体視野19のそれぞれの半域内の中心に結像される。試験点41の全ては、各場合に、隣接する視野ファセット7が観察される時に互いに対してx方向にある一定の量だけ変位している。このx変位量は、隣接する視野ファセット7においてゼロとすることができる。図10でAと示すファセット群では、2つの隣接する視野ファセット7の間で各場合に小さいx変位しか発生しない。ファセット群Bでは、隣接する視野ファセット7の間で測定点41のx方向の明確な変位が発生し、この変位は、ファセット群Bの視野ファセット7の上から見て部分的にジグザグ線を辿る。ファセット群C内のx変位は、視野群A内のx変位パターンと視野群B内のx変位パターンとの混合と理解することができるパターンを辿る。図9及び図10によるx変位に起因して、視野ファセット7の同じx座標を有する全ての領域が、物体視野19内の1つの同じxファセット座標の照明に寄与するわけではない。従って、このx変位は、各場合に物体視野19にわたって照明光の入射を受ける視野ファセット7のx位置の平均化をもたらす。例えば、視野ファセット7上の特定のx位置が低い照明光強度の入射を受ける場合、又は更に遮蔽される場合には、説明したx変位は、低い照明又は更には遮蔽された照明が物体視野上で完全に同じx位置に作用しないという結果をもたらす。投影露光においては、レチクル18と、EUV照明光3に対して感光性を有するコーティングを担持するウェーハ22とが準備される。次に、レチクル18の少なくとも1つの部分が、投影露光系1を用いてウェーハ23上に投影される。最後に、EUV照明光3で露光された感光層が、ウェーハ23上で現像される。このようにして、微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素、例えば、半導体チップが生成される。"