"aNiO、bMoO3またはWO3の少なくとも一方を含有して成る金属混合物、cSiO2およびAl2O3の少なくとも一方を含有して成る混合物、およびdP2O5、を含有して成る触媒であって、触媒の金属部位が硫化されておりかつメタン生成および水性ガスシフト反応を300°Cから600°Cの範囲の温度で起こさせながら合成ガスからタールを除去する能力を有する触媒。前記NiOが1から10重量存在する請求項1記載の触媒。前記金属混合物が10から20重量存在する請求項1記載の触媒。前記P2O5が0.001から1重量存在する請求項1記載の触媒。触媒と接触する前の前記合成ガスが加熱されていない請求項1記載の触媒。前記タールの除去を350°Cで65以上の変換率で起こさせる請求項1記載の触媒。前記タールの除去を400°Cで70以上の変換率で起こさせる請求項1記載の触媒。前記メタン生成で150から800μモル/g触媒/秒のCH4をもたらす請求項1記載の触媒。前記水性ガスシフトで30から50のCO変換率をもたらす請求項1記載の触媒。aNiOが1から10重量存在し、b10から20重量の量のMoO3含有金属混合物、cSiO2およびAl2O3の少なくとも一方を含有する混合物、およびd0.001から1重量の量のP2O5、を含有して成る触媒であって、触媒の金属部位が硫化されておりかつ350°Cから550°Cの範囲の温度でメタン生成反応を150から800μモル/g触媒/秒のCH4がもたらされるように起こさせかつ水性ガスシフト反応を30から50のCO変換率がもたらされるように起こさせながら加熱されていない合成ガスからタールを350°Cで65以上の変換率で除去する能力を有する触媒。方法であって、合成ガスを生じさせ、前記合成ガスをaNiO、bMoO3またはWO3の少なくとも一方を含有して成る金属混合物、cSiO2およびAl2O3の少なくとも一方を含有して成る混合物、およびdP2O5、を含有して成る触媒に接触させることで処理された合成ガスを生じさせ、そして前記処理された合成ガスを触媒化学反応に導入するが、前記触媒と接触させる前の前記合成ガスを加熱せずかつ前記処理された合成ガスの冷却を前記触媒化学反応を起こさせる前に行わない方法。前記合成ガスを前記触媒と接触させる時の温度の範囲を350°Cから550°Cにする請求項11記載の方法。前記NiOを1から10重量存在させる請求項11記載の方法。前記金属混合物を10から20重量存在させる請求項11記載の方法。前記P2O5を0.001から1重量存在させる請求項11記載の方法。前記触媒の金属部位が硫化されておりかつ前記触媒がメタン生成および水性ガスシフト反応を300°Cから600°Cの範囲の温度で起こさせながら合成ガスからタールを除去する能力を有する請求項11記載の方法。前記タールの除去を350°Cで65以上の変換率で起こさせる請求項16記載の方法。前記タールの除去を400°Cで70以上の変換率で起こさせる請求項16記載の方法。前記メタン生成で150から800μモル/g触媒/秒のCH4を生じさせる請求項16記載の方法。前記水性ガスシフトで30から50のCO変換率をもたらす請求項16記載の方法。前記触媒化学反応がフィッシャートロプシュ、メタン生成または合成ガスからジメチルエーテルそしてガソリンを生じさせる反応である請求項11記載の方法。方法であって、合成ガスを生じさせ、前記合成ガスをaNiOが1から10重量存在し、b10から20重量の量のMoO3含有金属混合物、cSiO2およびAl2O3の少なくとも一方を含有する混合物、およびd0.001から1重量の量のP2O5、を含有して成っていて触媒の金属部位が硫化されておりかつ350°Cから550°Cの範囲の温度でメタン生成反応を150から800μモル/g触媒/秒のCH4がもたらされるように起こさせかつ水性ガスシフト反応を30から50のCO変換率がもたらされるように起こさせながら加熱されていない合成ガスからタールを350°Cで65以上の変換率で除去する能力を有する触媒、に接触させることで処理された合成ガスを生じさせ、そして前記処理された合成ガスを触媒化学反応に導入するが、前記触媒と接触させる前の前記合成ガスを加熱せずかつ前記処理された合成ガスの冷却を前記触媒化学反応を起こさせる前に行わない方法。この実施例では、NiMo触媒の製造を使用前に焼成を650°Cで4時間実施することで行った。そのNiMo触媒はNiOを4.0、MoO3を14.3、Al2O3を81.7含有していて表面積は323.3m2/gである。合成ガスを15psigの圧力下250-650°Cの反応槽温度で流した。この流速にすると下記の反応が起こった:mC11H10nH2→CH4C2H6C3H8C6H6コークス。350°Cで3000時-1にした時のタール除去率は65であったが、400°Cで3000時-1にした時のタール除去率は70であった。NiOを1-10重量、MoO2を10-20重量、SiO2およびAl2O3の少なくとも一方を含有して成る混合物を含有して成っていてP2O5の量が1重量未満である触媒に評価を受けさせた。流入させた合成ガス流れは28.5のH2、42のCO、12のCO2、16のH2O、1.5のH2SH2Sが15,000ppmvであることに相当および200ppmvのナフタレンから成っていた。この反応の反応条件を500psigで350から400°Cの範囲の温度にした。前記触媒に前以て硫化を5のH2S/H2を存在させて360psig下200°Cで2時間受けさせておいた。図1に、500psig、5.5時-1および350°Cにした時に前記触媒が示した性能を示す。メタン、エタン、プロパン、イソ-ブタン、イソ-ブチレン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンがナフタレンの分解反応生成物であった。図2に、500psigおよび5.5時-1で350°Cおよび400°Cの2種類の異なる温度率にした時のナフタレン変換率を示す。350°Cにした時の平均ナフタレン変換率は91であるが、400°Cにした時の平均ナフタレン変換率は100である。350°Cにした時のナフタレン変換率の方が400°Cにした時のそれよりも高いことは流入ナフタレン濃度の差によるものであると理論付けする。流入ナフタレン濃度は350°Cの時228ppmvの方が400°Cの時158ppmvよりもずっと高かった。その結果として観察されるように350°Cにした時の方が反応速度が高い。ナフタレン濃度に関して正規化すると、400°Cの時の速度の方が350°Cの時よりも高いであろう。様々な触媒が低温におけるタール分解、メタン生成、水性ガスシフトおよび硫黄除去で示す能力を評価するための試験を実施した。以下の表中のWHSVは1時間当たりの重量空間速度を意味する。5種類の異なる触媒に試験を受けさせた。当該触媒がタール分解を起こさせる能力を以下および図3および図4に示す。図3に特定温度範囲におけるナフタレン変換率を示す。図4に特定時間が経過した時のナフタレン変換率を示す。当該触媒がメタン生成を起こさせる能力を以下および図5および図6に示す。図5に特定温度範囲におけるCH4生成速度を示す。図6に特定時間が経過した時のCH4生成速度を示す。当該触媒が水性ガスシフト反応を起こさせる能力を以下に示す。当該触媒が硫黄除去を起こさせる能力を以下に示す。最後に、如何なる引用文献、特に公開日付が本出願の優先日以降であり得る如何なる文献の考察もそれが本発明の先行技術であることを認めるものではないことを注目すべきである。それと同時に、それによって、以下に示す1つ1つの請求項は本発明の追加的態様として本詳細な説明または明細書に組み入れられる。本明細書に記述するシステムおよび方法を詳細に説明してきたが、以下の請求項で定義する如き本発明の精神および範囲から逸脱することなく様々な変更、置換および修正を行うことができると理解されるべきである。当業者は、本明細書に記述した如く正確ではなくても本発明を実施するための好適な態様を研究しかつ他の方法を確認することができるであろう。本発明の変形および相当物は本請求項の範囲内であると同時に説明、要約および図は本発明の範囲を限定する目的で用いるものでないことが本発明者が意図することである。特に、本発明は以下の請求項およびそれらの相当物の如く幅広いことを意図する。"