データドライバにより電位が供給される複数のデータ線とゲートドライバにより電位が供給される複数のゲート線との交点のそれぞれに対応する画素素子を基板に有する表示部を備える表示装置であって、前記画素素子は、前記基板に形成された基板接続部と、前記基板の上に形成されたシャッターと、前記基板接続部と前記遮光部の側面とを接続するビームと、前記シャッターの前記側面の反対側に形成された外縁と離れて前記基板に形成された電極とを備えていることを特徴とする表示装置。前記電極の一部が前記外縁の一部と対向していることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。前記外縁と前記電極とに異なる電位を供給すると、前記電極と前記外縁とが対向する部分が増加することを特徴とする請求項2に記載の表示装置。前記ビームが変形して前記シャッターが前記基板に対して平行に移動することを特徴とする請求項1に記載の表示装置。前記基板接続部が変形して前記シャッターが前記基板に対して平行に移動することを特徴とする請求項1に記載の表示装置。前記画素素子はさらに前記基板に形成された第2の電極を備え、前記第2の電極の一部が前記外縁の他の一部と対向していることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。前記電極と前記第2の電極とに異なる電位を供給可能なことを特徴とする請求項6に記載の表示装置。前記外縁および前記電極と前記第2の電極とに異なる電位を供給すると、前記第2の電極と前記外縁とが対向する部分が増加することを特徴とする請求項7に記載の表示装置。前記シャッターに複数の開口を有することを特徴とする請求項1に記載の表示装置。前記複数の開口の大きさが異なることを特徴とする請求項9に記載の表示装置。データドライバにより電位が供給される複数のデータ線とゲートドライバにより電位が供給される複数のゲート線との交点のそれぞれに対応する画素素子を基板に有する表示部を備える表示装置であって、前記画素素子は、前記基板に形成された基板接続部と、基板の上に形成され、第1の側面と前記第1の側面の反対側に設けられた外縁とを有するシャッターと、前記基板接続部と前記遮光部の側面とを接続するビームと、前記外縁と離れて前記基板に形成された複数の電極とを有する表示装置。前記複数の電極は略等間隔に配置されている請求項11に記載の表示装置。前記シャッターが移動し、前記複数の電極のうち前記外縁と異なる電位が供給された電極と対向することを特徴とする請求項11に記載の表示装置。前記ビームが変形して前記シャッターが前記基板と平行に移動することを特徴とする請求項11に記載の表示装置。前記基板接続部が変形して前記シャッターが前記基板と平行に移動することを特徴とする請求項11に記載の表示装置。しかしながら、特許文献1に開示されている表示装置においては、コンプライアントロードビームと駆動ビームとが機械的に接触するので、コンプライアントロードビームと駆動ビームとを絶縁する必要がある。このため、絶縁膜を、コンプライアントロードビームの側面と駆動ビームの側面とに、形成する必要がある。また、コンプライアントロードビームと駆動ビームとが機械的に接触することにより、ビームそのものが劣化したり、ビームに形成された絶縁膜が劣化したりする問題点がある。そこで、本発明の一実施形態として、機械的な接触を発生させずにシャッターを駆動し、透過する光の量を制御する表示装置を提供する。すなわち、本発明の一実施形態として、データドライバにより電位が供給される複数のデータ線とゲートドライバにより電位が供給される複数のゲート線との交点のそれぞれに対応する画素素子を基板に有する表示部を備える表示装置を提供する。前記画素素子は、前記基板に形成された基板接続部と、前記基板の上に形成されたシャッターと、前記基板接続部と前記遮光部の側面とを接続するビームと、前記シャッターの前記側面の反対側に形成された外縁と離れて前記基板に形成された電極とを備えていることを特徴とする。また、本発明の一実施形態として、前記画素素子はさらに前記基板に形成された第2の電極を備え、前記第2の電極の一部が前記外縁の他の一部と対向していることを特徴とする表示装置を提供する。また、本発明の一実施形態として、データドライバにより電位が供給される複数のデータ線とゲートドライバにより電位が供給される複数のゲート線との交点のそれぞれに対応する画素素子を基板に有する表示部を備える表示装置であって、前記画素素子は、前記基板に形成された基板接続部と、基板の上に形成され、第1の側面と前記第1の側面の反対側に設けられた外縁とを有するシャッターと、前記基板接続部と前記遮光部の側面とを接続するビームと、前記外縁と離れて前記基板に形成された複数の電極とを有する表示装置を提供する。本発明により、接触するビームを用いずにシャッターが駆動されるので、絶縁膜を形成する工程を用いずに、画素毎の光量をシャッターにより制御する表示装置が提供できる。また、ビームの絶縁膜の劣化などが発生しないようにすることができる。以下、本発明に係る表示装置について、複数の実施形態において説明を行う。なお、本発明は、これらの実施形態に限定されることはなく、実施形態に種々の変形を行なって実施することが可能である。また、図面においては、膜厚や構成要素間の距離などを誇張して示す場合があり、実際のものとは異なることがある。実施形態1図1のaに、本実施形態に係る表示装置の機能ブロック図を示す。図1のbには、本実施形態に係る表示装置の斜視図を示し、図1のcには、本実施形態に係る本発明の表示装置の平面図を示す。図1のaを参照すると、表示装置100は、コントローラ101と、ゲートドライバ102と、データドライバ103と、バックライト部104と、表示部105とを有する。コントローラ101は、画像信号を取得し、その画像信号の表わす画像を表示するために、走査線を決定し、また、その走査線上の画素の明るさを決定し、データドライバ103に対して走査線上の画素の明るさを表わす信号を供給し、ゲートドライバに決定された走査線を表す信号を供給する。また、コントローラ101は、バックライト部104のRGBそれぞれの光の生成を制御する。バックライト部104が生成した光は、表示部105を透過することができる。後に説明するように、表示部105を透過する光の量は画素106のメカニカルシャッター106aにより制御される。ゲートドライバ102は、コントローラ101により決定された走査線に対応するゲート線の選択に応じて、ゲート線に電位を供給する。データドライバ103は、コントローラ101により決定された走査線上の画素に対応するデータ線に、画素の明るさに対応する電位を供給する。表示部105は、複数のゲート線G1、G2、...、Gnと複数のデータ線D1、D2、...、Dmとを備え、複数のゲート線G1、G2、...、Gnと複数のデータ線D1、D2、...、Dmとは互いに交差している。複数のゲート線G1、G2、...、Gnと複数のデータ線D1、D2、...、Dmとの交差箇所には画素106が配置される。画素106には、メカニカルシャッター106aとスイッチング素子106bとコンデンサ106cとが設けられている。メカニカルシャッター106aは、画素106に対応する表示部105の開口部を通過する光を制御する。本実施形態に係るメカニカルシャッター106aの構成については、後に説明する。スイッチング素子106bは、例えば薄膜トランジスタである。この場合には、ゲート電極がゲート線に接続され、ドレイン電極またはソース電極の一方がデータ線に接続され、ドレイン電極またはソース電極の他方がメカニカルシャッター106aとコンデンサ106cに接続されている。これによりゲートドライバ102により選択されたゲート線に供給される電位によってスッイッチング素子がオン状態となれば、データドライバ103によりデータ線に供給された電位がメカニカルシャッター106aとコンデンサ106cとに印加される。コンデンサ106cは、ゲート線が選択されていない間も、メカニカルシャッター106aに電位を供給する。図1のbおよびcを参照すると、本実施形態に係る本発明の表示装置100は、基板111及び対向基板112を有している。基板111は、表示部113、駆動回路113b、113c及び113dおよび複数の端子114aを有する端子部114を有している。表示部113は、マトリクス状に配置されたメカニカルシャッター106a、スイッチング素子106bおよびコンデンサ106cを有する画素106を有している。駆動回路113b及び113cは、データドライバ103であり、スイッチング素子106bへデータ信号を供給する。駆動回路113dは、ゲートドライバ102であり、スイッチング素子106bへゲート信号を供給する。なお、図1においては、データドライバである駆動回路113b及び113dが、表示部113を挟むように配置されているが、これに限定されるわけではない。図2は、本実施形態に係る表示装置の画素106に用いられるメカニカルシャッターの上面図aと、断面図b、cとを示す。図2のaにおいて、メカニカルシャッター200は、可動部201と固定電極202とを有する。可動部201は、シャッター204と、ビーム205と、基板接続部206とを備えている。シャッター204は、光を透過しない材料により、表示部105の基板に平行に形成される。シャッター204の形状は、図2のaまた他の図面においては、円の2本の半径で囲まれる形状である扇形の円の弧よりも円の中心に近い部分が除かれた形状となっている。そして、除かれた部分に現われる側面に、ビーム205が接続される。なお、シャッター204の形状は図2のaまた他の図面に示されるものに限定されることはなく、任意の形状を用いることができる。ただし、シャッター204の外縁部203は、円弧あるいは略円弧の形状であることが好ましい。このような形状により、次に説明するようにシャッター204を表示部105の基板に平行に移動させる際に、固定電極202とシャッター204とが接触することを防止できる。ただし、シャッター204の外縁部203の形状は、円弧あるいは略円弧に限定されず、折れ線や曲線により形成されていてもよい。ビーム205は、シャッター204と基板接続部206とを接続する。ビーム205は、撓んで変形することが可能な形状を有することが好ましい。すなわち、ビーム205は、変形により、シャッター204を表示部105の基板に平行な方向に移動させることが可能な形状を有することが好ましい。例えば、図2のaに示すように表示部105の基板の上面より観察した場合に、シャッター204よりも幅が狭くなっており、例えば板の形状をしている。基板接続部206は、表示部105の基板に形成された部分である。基板接続部206は、ビーム205を介してシャッター204を表示部105の基板111の面から離して保持するための部分である。また、基板接続部206はシャッター204が基板上11に対して水平に移動する場合に、その移動に応じて捩れられて変形するようになっていてもよい。これにより、ビーム205の変形の大きさを減少させることができ、変形によるビームの損傷を防止できる。あるいは、ビーム205の変形に加えて、基板接続部206の変形によって、シャッター204の移動量を大きくすることができる。なお、基板接続部206と外縁部203とは、ビーム205およびシャッター204を介して電気的に接続されている。このため、可動部201は、アモルファスシリコンなどの導電性の材料を用いて構成される。固定電極202は、表示部105の基板に形成された電極であり、図2のaにおいては、略円弧の形状となっている。すなわち、固定電極202は、シャッターの外縁の形状である円弧の半径よりも大きな半径の円弧に沿って形成されている。ただし、固定電極202の形状は略円弧に限定されることはなく、ビーム205または/および基板接続部206の変形により、シャッター204が表示部105の基板に対して平行に移動した際に、外縁部203と固定電極202とが接触しない形状となっていればよい。また、ビーム205と基板接続部206が変形していない状態においては、外縁部203の一部と固定電極202の部分とが所定の距離離れて対向している。さらに、この状態においては、固定電極202は、外縁部203の一部と対向しない部分を有する。図2のbは、図2のaにおけるI-I断面線における断面図を示す。図2のbに示すように、表示部の基板210の上に、配線211が形成され、配線211は、基板接続部206に接続され、可動部201に電位を供給することができる構成となっている。また、基板210と配線211の上には保護膜あるいは絶縁膜212が必要に応じて形成されている。図2のcは、図2のaにおけるII-II断面線における断面図を示す。図2のcに示すように、基板210の上に、配線211とは別の配線213が形成される。また、配線213は、固定電極202に接続される。配線211と配線213とが別になっていることにより、外縁部203に供給される電位と異なる電位を固定電極202に供給することができる。配線211が表示部105の共通電極に接続されてグラウンド電位に保たれ、配線213がスイッチング素子106bを介してデータ線に接続され、ゲート線の選択に応じて、データ線に供給された電位が供給される。あるいは、配線211がスイッチング素子106bを介してデータ線に接続され、配線213が表示部105の共通電極に接続されてもよい。なお、本実施形態に係るメカニカルシャッターの構成方法としては、次を挙げることができる。すなわち、表示部105の基板111に配線211と配線213とを形成し、必要に応じてさらに絶縁膜212を成膜する。次に、犠牲層となるフォトレジストを積層し、その後、フォトレジストすなわち犠牲層を基板接続部206と固定電極202の支持部の形状にパターニングを行う。パターニングされたフォトレジストの上層に、基板接続部206の材料例えばアモルファスシリコンを成膜し、その後、犠牲層のエッチングを行い基板接続部206と固定電極202の支持部を形成する。さらに、上記と同様にフォトレジストすなわち犠牲層を積層し、その後、フォトレジストすなわち犠牲層を犠牲膜をビーム205、シャッター204、および固定電極202の電極部分の形状にパターニングを行う。パターニングされたフォトレジストの上層に、シャッター204およびビーム205の材料例えばアモルファスシリコンを成膜し、その後、犠牲層のエッチングを行ないビーム205、シャッター204、および固定電極202の電極部分を形成する。なお、基板接続部206と固定電極202の支持部およびビーム205およびシャッター204と固定電極202の電極部分は一括して形成し犠牲層エッチングを一括除去しても良い。また、シャッター204の遮光性能を向上させるためのアルミニウムなどの金属材料によりシャッター204の上に成膜をしてもよい。図3は、本実施形態に係るメカニカルシャッター200の動作を説明する。図3のaは、可動部201に供給される電位と固定電極202に供給される電位とが略同一の場合を示す。この場合には、ビーム205および基板接続部206は変形しておらず、可動部201と固定電極202との相対的な位置関係は、図2に示したものと同じになる。図3のbは、図3のaの状態において、外縁部203に供給される電位と固定電極202に供給される電位とを異ならせた場合である。例えば、可動部201にはグランウド電位を供給し、固定電極202には、スイッチング素子106bを介して供給されるデータ線の電位を供給する。すると、シャッター204が、固定電極202へ引き寄せられる電気引力静電引力が発生し、ビーム205または/および基板接続部206が変形する。この結果、シャッター204が基板接続部206を略中心にして、図3のaに向かって、反時計方向に移動することとなり、電気引力と、ビーム205および基板接続部206が変形していない状態に戻ろうとする力とが釣り合う位置で停止する。したがって、基板210の上面から見て、図3のaの状態においてシャッター204により覆われ、かつ、図3のbの状態においてシャッター204により覆われていない表示部105の基板111の部分に開口部301を設けることができる。この開口部301を、バックライト部104の生成する光を透過させれば、外縁部203に供給される電位と固定電極202に供給される電位とを制御することにより、画素毎に透過光量を制御することが可能となる。以上のように、本実施形態においては、外縁部203に供給される電位と固定電極202に供給される電位とを制御し、ビーム205または/および基板接続部206が変形していない状態と変形した状態とを遷移させ、可動部201と固定電極202とが接触しないようにすることができる。これにより、可動部201と固定電極202との劣化を防止することができ、また、外縁部203および固定電極202の側面とに絶縁膜を形成する必要がなくなり、製造工程を簡略化できる。特に、端子114a上にも形成された絶縁膜に開口を設ける工程も不要となる。外縁部203に供給される電位と固定電極202に供給される電位との差が生ずる時間の長さを制御することにより、単位時間あたりの開口部301を透過する光の量を制御できるので、人が表示部105を見た場合に、画素の明るさが制御されているように感じさせることができる。さらに、外縁部203に供給される電位と固定電極202に供給される電位との差が大きいほど、シャッター204を固定電極202へ引き寄せる電気引力が大きくなるので、外縁部203に供給される電位と固定電極202に供給される電位の差を制御することにより、光の透過量の大小を制御することもできる。なお、必要に応じて、表示部105にオイルを充填すると、外縁部203と固定電極202とにより構成されるコンデンサの静電容量を上げ、シャッター204を固定電極202へ引き寄せる電気引力を大きくすることもできる。これにより、より高速なシャッターの開閉を実現できる。実施形態2本発明の実施形態2として、固定電極を複数用いるメカニカルシャッターの構成を説明する。図4は、本発明の実施形態2に係る表示装置の画素106に用いられるメカニカルシャッター400の上面図を示す。図4に示すように、メカニカルシャッター400の上面図は、図2のaに示すものと同様であるが、固定電極401がさらに設けられている。図4においては、固定電極401も、固定電極202と同様に、略円弧の形状となっている。また、図4においては、固定電極401の形状は、固定電極202の形状である円弧と同じ半径を有する円弧となっている。また、本実施形態では、固定電極202に供給される電位と、固定電極401に供給される電位とを異なるように制御できる。例えば、固定電極202と固定電極401とが異なるデータ線に接続されるようになっていてもよい。また、データ線に正の電位が供給された場合には、固定電極202と固定電極401との一方にその正の電位が供給され、データ線に負の電位が供給された場合には、固定電極202と固定電極401との他方にその負の電位が供給されるように、画素106とデータ線との間のスイッチング素子が構成されていてもよい。図5は、メカニカルシャッター400の動作を説明する。固定電極202に供給される電位と固定電極401に供給される電位とに差を設けることにより、シャッター204を、固定電極202に向けて引き寄せる電気引力が、固定電極401に向けて引き寄せる電気引力よりも大きくするとする。例えば、基板接続部206と固定電極401とに供給される電位を同じ電位例えばグラウンド電位とし、固定電極202に正の電位を供給する。すると、シャッター204に、固定電極202に向けて引き寄せられる電気引力が加わり、ビーム205または/および基板接続部206が変形する。この結果、シャッター204が基板接続部206を中心に、図5のaに示すように、時計回りに移動することとなり、電気引力と、ビーム205または/および基板接続部206が図4に示す状態に戻ろうとする力とが釣り合う位置で停止する。また、基板接続部206に供給される電位と固定電極202に供給される電位とを同じ例えばグラウンド電位とし、固定電極401に正の電位を供給するなどし、シャッター204を、固定電極202に引き寄せる電気引力よりも、固定電極401に引き寄せる電気引力を大きくする。すると、図5のaとは逆の方向にシャッター204が移動し、図5のbに示すように反時計回りに移動することとなり、電気引力とビーム205または/および基板接続部206が図4に示す状態に戻ろうとする力とが釣り合う位置で停止する。したがって、基板111の上面からみて、図5のaの状態においてシャッター204により覆われておらず、かつ、図5のbの状態においてシャッター204に覆われている基板111の部分に、開口部501を設けることにより、開口部501を透過する光の量を制御することができる。本実施形態においては、固定電極401がさらに設けられているので、シャッター204の移動量を大きくすることが可能であり、これにより開口部501を実施形態における開口部301よりも大きくすることができる。したがって、より多くの光を画素毎に透過させることが可能となり、より明るい画像が表示できる。図6は、固定電極を図4、図5に示すよりも多く設けたメカニカルシャッター600を示す。図6においては、例えば10個の固定電極601-610が、略円弧上に設けられている。ただし、折れ線上、円弧以外の曲線上に設けられていてもよい。固定電極601-610は等間隔に設けられていてもよい。そして、固定電極601-610にはそれぞれ異なる電位が供給できるように制御するものとする。図7は、固定電極601-610には異なる電位を供給した場合の、メカニカルシャッター600の動きを示す。例えば、基板接続部206と固定電極601-604、610に供給される電位を同じ電位例えばグラウンド電位とし固定電極605-609に異なる電位を供給する。すると、シャッター204を、固定電極605-609に向けて引き寄せる電気引力が発生し、図7のaに示すようにシャッター204が移動する。また、例えば、基板接続部206と固定電極601-605に供給される電位を同じ電位例えばグラウンド電位とし固定電極606-610に異なる電位を供給すると、図7のaの状態からさらにシャッター204が移動し、図7のbに示すようになる。したがって、図7に示すように、開口部701を基板111に設け、固定電極601-610に供給する電位を制御することにより、シャッター204が開口部701を覆う程度を制御することができる。よって、本実施形態においては、電位が印加される固定電極の数によって、開口部701を透過する光量を制御することができる。実施形態3本発明の実施形態3として、上記の実施形態においてシャッター204に複数の開口を設ける実施形態について説明する。図8は、本発明の実施形態3に係る表示装置の画素106に用いられるメカニカルシャッター800の上面図を示す。図8に示すように、メカニカルシャッター800は、シャッター204に複数の開口803、804を有している。また、点線で示すように、ビーム205および基板接続部206が変形していない状態における開口803、804の間の、基板111の位置に開口部805が設けられている。また、開口803と開口804の大きさは異なり、開口803が開口804より大きいとする。また、実施形態2と同様に、複数の固定電極801、802が設けられており、固定電極801に供給される電位と、固定電極802に供給される電位とを異なるように制御できる。図9は、メカニカルシャッター800の動作を説明する。固定電極801に供給される電位と固定電極802に供給される電位に差を設けることにより、シャッター204を、固定電極801に向けて引き寄せる電気引力を、固定電極802に向けて引き寄せる電気引力よりも大きくする。すると、シャッター204に、固定電極801に向けて電気引力により引き寄せられる力が加わり、ビーム205または/および基板接続部206が変形する。この結果、シャッター204が基板接続部206を略中心に、図9のaに示すように、反時計回りに回転することとなり、電気引力とビーム205または/および基板接続部206が図8の状態に戻ろうとする力とが釣り合う位置で停止する。これにより、開口804より大きな開口803が開口部805の上に位置するようにできる。一方、シャッター204が、固定電極802に向けて電気引力により引き寄せられる力の方が、固定電極801に向けて引き寄せされる力の方よりも大きくする。すると、シャッター204に、固定電極802に向けて引き寄せられる力が加わり、ビーム205または/および基板接続部206が変形する。この結果、シャッター204が基板接続部206を略中心に、図9のbに示すように、時計回りに回転することとなり、電気引力とビーム205または/および基板接続部206が図8の状態に戻ろうとする力とが釣り合う位置で停止する。これにより、開口803より小さな開口804が開口部805の上に位置するようにできる。したがって、開口803と開口804とを透過する光の量が異なるので、2階調の透過光量の制御が可能である。また、シャッター204の移動量を小さくすることができるので、より高速な画像の表示の切り替えが可能となる。なお、本実施形態では、シャッター204に2つの開口を設ける場合について説明したが、3つ以上の任意の数の開口を設けて、2階調よりも多い任意の数の階調での透過光量の制御が可能である。