光源から出射した光を、当該光の反射面の往復の回転運動により、像面の第1の方向及び第2の方向に走査する光走査部と、走査された光の走査角度を拡大する光学系を備え、前記光学系は、前記光走査部側に自由曲面レンズを有し、前記像面側に自由曲面ミラーを有する、画像表示装置。前記第1の方向の長さは、前記第2の方向の長さよりも長く、前記光走査部が走査範囲の中央で静止している場合の前記自由曲面ミラーにおける入射光線と反射光線で定義される第1の平面に対して、前記第1の方向が略平行となるように前記自由曲面ミラーが配置される、請求項1記載の画像表示装置。前記光走査部は、2つの走査方向を有する1つの反射面を有する、請求項1又は2記載の画像表示装置。前記光走査部は、1つの走査方向を有する1つの反射面を、それぞれ2つ有する、請求項1又は2記載の画像表示装置。2つの走査方向における反射面の偏向角度のうちの大きい方向が、前記第1の方向に対応し、2つの走査方向における反射面の偏向角度のうちの小さい方向が、前記第2の方向に対応する、請求項1乃至4何れか一に記載の画像表示装置。前記第1の平面における、前記自由曲面ミラー上での反射位置から前記像面上の走査位置までの距離が長い側の光線が前記自由曲面レンズを通過する光路長が、前記自由曲面ミラー上での反射位置から前記像面上の走査位置までの距離が短い側の光線が前記自由曲面レンズを通過する光路長よりも大きい、請求項1乃至5何れか一に記載の画像表示装置。前記像面での前記第2の方向における前記自由曲面レンズが、負の屈折力を有する、請求項1乃至6何れか一に記載の画像表示装置。前記像面での前記第2の方向における前記自由曲面ミラーの周辺部が、負の屈折力を有する、請求項1乃至6何れか一に記載の画像表示装置。前記第1の方向の長さをX、レンズデータ上で自由曲面ミラーの配置位置を定義する基準位置から像面へ下ろした垂線の長さである投射距離をLとすると、L/Xは1以下である、請求項1乃至8何れか一に記載の画像表示装置。前記第1の方向の長さをX、レンズデータ上で自由曲面ミラーの配置位置を定義する基準位置から像面へ下ろした垂線の長さである投射距離をLとすると、L/Xは0.2以下である、請求項1乃至8何れか一に記載の画像表示装置。前記自由曲面ミラーの、前記第1の方向に対応するレーザ光が反射する部分は、前記第2の方向に対応するレーザ光が反射する部分と比べ、前記像面に向かって凸面形状が強くなる、請求項1乃至10何れか一に記載の画像表示装置。前記光源は、少なくとも一方のビーム状の光がS偏光の複数色光で他方のビーム状の光がP偏光の複数色光を出射し、前記複数偏波のビーム状の光を合成する色合成部を更に備える、請求項1記載の画像表示装置。前記一方のビーム状の光は少なくとも赤、緑、青色波長領域の光を含み、それぞれの中心波長をR1、G1、B1nmとした場合、他方のビーム状の光も少なくとも赤、緑、青色波長領域の光の一つの波長領域の光を含み、当該光の中心波長が前記R1、G1、B1nmと異なる、請求項12記載の画像表示装置。前記光源から出射した光は楕円形状であり、前記光走査部が走査範囲の中央で静止している場合に前記楕円の短軸方向が前記第1の方向と一致するよう、前記光源と前記像面が配置される、請求項1記載の画像表示装置。前記自由曲面ミラーの表面粗さは、前記光源からの光の前記自由曲面ミラーの走査方向と同一方向又は走査方向に略直交する方向に、複数の面粗さが帯状に存在し、前記帯状の粗さの境界間の寸法が前記自由曲面ミラー上でのビーム寸法に対して小さい、請求項1記載の画像表示装置。前記光源から出射した光を前記第1及び第2の方向の2方向で形成される二次元の走査面に略垂直方向に出射する光路変換部を更に備える、請求項1記載の画像表示装置。前記光走査部を複数備える、請求項1記載の画像表示装置。前記光走査部を磁気シールドできる構造体内に遮蔽し、前記光走査部もしくは当該画像表示装置の筐体の一部に永久磁石、又は電磁石を設け、前記像面又はその近傍に前記磁力で自立可能な構造とする、請求項1記載の画像表示装置。光源から出射した光を、当該光の反射面の往復の回転運動により、像面の第1の方向、及び、当該第1の方向と直交する第2の方向に走査する光走査部と、走査された走査ビームの走査角度を拡大する光学系を備え、前記光学系は、前記光走査部側に自由曲面レンズを有し、前記像面側に凸面ミラーを有し、前記第1の方向においては、前記像面の中央部分に相当する前記走査ビームの前記凸面ミラーへの入射角度が、前記像面の周辺部分に相当する前記走査ビームの前記凸面ミラーへの入射角度より大きく、前記第2の方向においては、前記凸面ミラーの前記光走査部に近い部分への前記走査ビームの入射角度が、前記凸面ミラーの前記光走査部から遠い部分への入射角度より小さい、画像表示装置。前記光走査部は、MEMSミラーを備える、請求項19記載の画像表示装置。特許文献1によれば、像面上の走査座標の移動軌跡が正弦波状になり線形性が悪い、という課題がある。又、特許文献2によれば、ミラー前後の間隔を大きく取る必要があり光学系全体が大型化する、という課題がある。そこで、本発明の目的は、装置を大型化することなく、線形性に優れた走査特性を有する画像表示装置を提供することにある。上記課題を解決するため、本発明の望ましい態様の一つは次の通りである。当該画像表示装置は、光源から出射した光を、当該光の反射面の往復の回転運動により、像面の第1の方向及び第2の方向に走査する光走査部と、走査された光の走査角度を拡大する光学系を備え、当該光学系は、光走査部側に自由曲面レンズを有し、像面側に自由曲面ミラーを有する。本発明によれば、装置を大型化することなく、線形性に優れた走査特性を有する画像表示装置を提供することができる。以下、本実施例との比較のため、まずは従来技術について説明する。図59は、従来の画像表示装置を含むシステム図である。画像表示装置10’の光走査部1は、光源4からのレーザ光を、回動軸を有する反射ミラーで反射させながら、像面スクリーン20上に走査する。各画素201’は、走査軌跡202’に沿って二次元状に走査される。図60は、光走査部の拡大図である。光走査部1は、レーザ光を反射角度で偏向するミラー1a、ミラー1aに連結される第1のトーションバネ1b、第1のトーションバネ1bに連結される保持部材1c、保持部材1cに連結される第2のトーションバネ1d、及び、図示しない永久磁石とコイルとからなる。コイルはミラー1aに略平行に形成されており、ミラー1aが静止した状態にある時、ミラー1aと略平行な磁界が発生する。コイルに電流を流すと、フレミングの左手の法則により、ミラー1aと略垂直なローレンツ力が発生する。ミラー1aは、ローレンツ力と、トーションバネ1bと1dの復元力がつりあう位置まで回動する。ミラー1aが持つ共振周波数でコイルに交流電流を供給することにより、ミラー1aは共振動作を行い、トーションバネ1bは回動する。又、ミラー1aと保持部材1cを合わせた共振周波数でコイルに交流電流を供給することにより、ミラー1aとトーションバネ1bと保持部材1cは共振動作を行い、トーションバネ1dは回動する。このようにして、2方向について、異なる共振周波数による共振動作が実現する。尚、共振周波数による共振動作の代わりに、共振動作ではないが正弦波状の駆動を適用してもよい。図61は、従来の回動角と走査位置の関係図である。光走査部1の回動角をβ/2とすれば、反射光線の角度である走査角はβとなる。ここで、光走査部1と像面20の間に何の光学要素も配置しない場合、走査角βは像面20での入射角αに等しくなる。従って、ある投射距離に対する走査像の大きさは回動角β/2で決まる。図62は、従来のミラー面の振り角の変化図である。振り角θは、±β/2の範囲で正弦波状に変化する。図63は従来の像面における光線の入射角度と位相の関係を示す図、図64は従来の像面における光線の入射座標と位相の関係を示す図である。図63は、図64と似た正弦波状となっている。ここでは、回動角±5.3度の光走査部1を用いた場合の例を示している。即ち、走査角は±10.6度となり、像面での入射角も±10.6度となる。尚、光走査部1の駆動方式には、正弦波状の回動角変化となる共振型ミラー以外には、ノコギリ波状の回動角変化となるガルバノミラーも存在するが、高解像度の画像表示には、駆動周波数が大きい共振型ミラーが適している。ここで、テレビの走査線に対応した2次元状の走査では、垂直方向に1往復分の走査を行う間に、水平方向に、垂直方向の画素分の走査を行う。こうして、走査線1本分の走査が行われることになる。例えば、水平800画素、垂直600画素の表示を垂直周波数60Hzで行うためには、300往復が必要であり、60×300=18000Hzという高速な周波数で駆動できることが必要となる。そして、表示する解像度画素数が大きくなればなるほど、ますます高速な周波数で駆動することが必要となる。図65は、表示画素と水平走査周波数水平スキャン走査数の関係を示す図である。水平1920画素、垂直1080画素のHD対応では38.9kHzとなり、更なる高速化が必要となる。一方、一定の投射距離で大きな走査像を実現するためには、光走査部1の回動角を大きくする必要がある。光走査部1を、更に高速で大きな回動角で駆動すると、可動部分である機構部品のトーションバネ1b1dの負担が増大する。従って、共振型ミラーでは、高速な周波数と大きな回動角を同時に実現することは困難であった。又、光走査部1の正弦波状な回動では、ミラー1aの角度変化に速い遅いが周期的に現れる。当該回動のみで像面20上をレーザ光が走査された場合、ミラーの角度変化が速い時は像面での走査位置の変化も速くなり、角度変化が遅い時は像面での走査位置の変化も遅くなる。従って、像面上には正弦波に対応した明暗が像面上に生じる。時間に対して等間隔でレーザ光を変調する場合も同様に、ミラー1aの角度変化が速い時は像面上の画素が粗に配置され、角度変化が遅い時は像面上の画素が密に配置されるので、線形性が大きく劣化した二次元像となってしまう。尚、画素分布が密で正弦波状の明るい部分でレーザ光を間引く回路処理を行えば、像面上での明暗だけなら改善できるが、二次元像の線形性は改善できず、回路規模が増大し光量が低下する。像面上での画素の配置のタイミングに合わせてレーザ光を変調すれば線形性も改善できるが、ますます回路規模が増大する。そこで、ミラーとは別に複数の反射面を用いる手法も考えられるが、製造における光学部品の形状誤差、偏心倒れが生じた場合、透過面であるレンズ面に比べ、ミラーでの光線角度の変動は約2倍となるので、ミラーを多用した光学系の製造は困難となる。更に、ミラーを複数枚用いた光学系では、ミラーでのレーザ光の反射前後の光路を確保するため、ミラー前後の間隔を大きく取る必要があり、光学系全体が大型化する。又、光源がレーザの場合、発生する光はコヒーレント光であるため、一般的な像面粗面で反射される際、ランダムな位相が付け加えられ、反射光は散乱光となる。粗面の異なる場所で散乱された光は空間伝播により重なり干渉することで、ランダムな干渉パターンであるスペックルが発生し、画質が低下する。更に、光源が発光点の小さい半導体レーザなどの場合、光源と観察者の瞳を結ぶ立体角内に、許容値を越えるエネルギーのレーザ光を照射すると、網膜を焼失する危険性がある。従って、光量に制限があり、必要な明るさが得られない。次に、実施例について説明する。図1から図14を用いて、実施例1について説明する。図1は、画像表示装置を含むシステム図である。ここで、紙面左から右へ向かう方向をX方向、像面20の下から上へ向かう方向をY方向、紙面表から裏へ向かう方向をZ方向、と定義する。尚、図2、図34、図37、図59、図61も図1と同じ座標系を用いる。但し、上記以外の図面については、光軸をZ方向とした、ローカルな座標系を扱うものとする。当該システムは、画像表示装置10、画像表示装置10を保持する構造体30、及び、像面20を含む。又、画像表示装置10は、光源4、光源4からのレーザ光を二次元状に偏向する光走査部1、光走査部1で偏向されたレーザ光を透過屈折させる自由曲面レンズ2、及び、自由曲面レンズ2からのレーザ光を反射して像面20へ導く自由曲面ミラー3とからなる。自由曲面ミラー3は、凸面ミラーを含む。これらの光学部品により、線形性の改善と広角化の作用後述を受け、像面20上に矩形で光量分布が一様な二次元走査像が表示される。尚、光走査部1は、長辺方向と短辺方向の走査を、一つの反射面ミラー1aで実現してもよいし、各々の方向に応じて各々の反射面を有してもよい。ここで、回転非対称で、図8、図19、図25に示すようなパラメータを有する形状を自由曲面と呼ぶ。図2は、図1のシステムを上から見た図である。以下、像面20のうち、X方向に相当する辺がY方向に相当する辺より長いため、前者を長辺、後者を短辺と呼ぶ。又、反射面の偏向角度のうち大きい方向が長辺方向に対応し、小さい方向が短辺方向に対応する。光走査部1が走査範囲の中央で静止している場合、自由曲面ミラー3における入射光線と反射光線で定義される第1の平面XZ平面に対して、長辺が略平行となるように、自由曲面ミラー3を配置している。この理由は、走査量が大きい長辺側の光線に対して自由曲面ミラー3を斜めに配置することで、所定の回動角の2倍となる走査角で走査された光線が自由曲面ミラー3で反射する座標範囲が広くなるので、自由曲面ミラー3の形状自由度が増大するからである。図3は光線図であり、画像表示装置10から出射した光線が、像面20上の5×5の分割点に到達する様子を示している。図4は別の光線図であり、光源4から出射したレーザ光が光走査部1の回動で偏向された後、自由曲面レンズ2と自由曲面ミラー3を経て像面20に到達する様子を示している。更に、図5は自由曲面レンズ2の詳細図であり、第1の自由曲面レンズ2aと、第2の自由曲面レンズ2bで構成されている。第2自由曲面レンズ2bの走査画面の長辺方向に対応したレーザ光が通過する部分は、短辺方向に対応したレーザ光が通過する部分よりも物理長が長くなっている。更に、自由曲面ミラー3の走査画面の長手方向に対応したレーザ光が反射する部分は、短手方向に対応したレーザ光が反射する部分よりも、走査画面に向かって凸面形状が強くなる。図4と図5においては、光学要素の形状がより分かりやすい向きで表示している。図6は、3次元的な光線図である。図3では、自由曲面ミラー3で反射した光線が再び自由曲面レンズ2に照射しないことが分かりづらいので、図6では、光路干渉が起きていないことが分かるように示している。図7は第0面である光源4から光走査部1としてのMEMSMicroElectroMechanicalSystemsミラー水平±5.3度、垂直±2.9度の共振回動、自由曲面レンズ、自由曲面ミラーのレンズデータを示す図であり、図8は自由曲面形状の自由曲面係数の数式と具体値を示す図である。そして図9は、歪性能図である。ここでは、長辺方向主走査方向の回動角±5.3度と短辺方向副走査方向の回動角±2.9度の光走査部1による走査角の光線を位相10度刻みで像面20上に到達した座標、及び、走査範囲を19×19の分割で詳細に評価した結果を示している。図7に示した自由曲面ミラー3からの投射距離は100mm、走査範囲は像面20上に600×450mmとなっているため、広角化を実現している様子が分かる。次に、像面での入射角度と入射座標から、線形性の改善と広角化の結果について図10から図14、図63、及び、図64を用いて説明する。従来例を示す図63と図64では、自由曲面レンズ2と自由曲面ミラー3が存在しない。入射角度は5.3度の2倍の値である±10.6度の範囲で正弦波状に変化し、入射座標も±26.6mmの範囲で正弦波状に変化している。一方、実施例1において、図10は像面における光線の入射角度と位相の関係を示す図、図11は実施例1の像面における光線の入射座標と位相の関係を示す図である。自由曲面レンズ2と自由曲面ミラー3の作用で入射角度を大きく変化させて、像面20上に±300mmの範囲で三角波状の入射座標を実現している。即ち、従来方式では走査範囲が±26.6mmであるのに対し、実施例1では±300mmとなり、10倍以上の大幅な広角化を実現している。又、長辺に相当する水平サイズをX、投射距離をLとすると、X=600mm、L=100mmなので、L/Xが0.17と非常に小さい値を実現している。尚、投射距離は、レンズデータ上で自由曲面ミラーの配置位置を定義する基準位置から、像面へ下ろした垂線の長さで定義する。但し、画像表示装置の小型化を優先する用途では、L/Xの値を1を越えない範囲で大きくしてもよい。比較のため、先の特許文献1でL/Xの値を、水平方向に左右対称で画角±18.9度の記載に基づいて計算すると、L/X=1/2/tan18.9=1.46と大きな値になり、広角化は不十分である。次に、図12から図14を用いて、自由曲面レンズ2と自由曲面ミラー3の特徴について説明する。図12は、自由曲面レンズ2と自由曲面ミラー3での光線の制御結果としての、主光線の座標が存在する光線の範囲を示している。光走査部1の長辺方向が短辺方向よりも大きいので、第1の自由曲面レンズ2aの入射面である第4面での主光線の範囲は、横長の領域となっている。第1の自由曲面レンズ2aの出射面、第2の自由曲面レンズ2bを順次通過する毎に、主光線の範囲は縦長の領域に変化している様子が分かる。尚、自由曲面ミラー3である第8面では縦長の領域になっているが、第8面において長辺方向図12の横方向を極端に狭くした訳ではなく、第8面での縦サイズを自由度として大きくした結果である。この理由について、図13を用いて説明する。図13は長辺方向の断面での光線図であり、光学系全体の光線図と自由曲面レンズ2の拡大図を一緒に表した図である。光走査部1の回動で、図13のX軸の正側を通過する光線L1は、自由曲面ミラー3で反射し像面20の座標P1に到達する。一方、X軸の負側を通過する光線L2は、自由曲面ミラー3で反射し像面20の座標P2に到達する。ここで、自由曲面レンズ2bを通過する光線L2と、自由曲面ミラー3で反射した光線L1の光路が、自由曲面レンズ2bで干渉しないことが必要である。このためには、自由曲面ミラー3での光線L1と光線L2で形成する幅が小さいことが必要である。これが、自由曲面ミラー3での光線通過範囲の水平方向のサイズが小さいことの理由である。又、図13で、自由曲面ミラー3で反射してから像面までの光線L1の光路長は、光線L2の光路長よりも大きい。従って、線形性の改善のためには、自由曲面レンズ2と自由曲面ミラー3では光線L1の光路長を、光線L2の光路長よりも短くすることが必要である。そこで、自由曲面レンズ2を通過する光線L1の空気換算の光路長を、光線L2の値よりも小さくするための、光線L1が通過する側のレンズ厚を厚くする、即ち、擬似的なプリズム化が必要である。尚、本実施例の光学系では、写像関係ではなく、概念的にはワイドコンバージョンのようなものなので、拡大側でのL1>L2に対しては、物側でL1<L2とすることで、光路全体での光路長の差を小さくすることが望ましい。一方、自由曲面レンズ2のレンズ形状をプリズム化した場合、レンズ材料が分散する光の波長によって屈折率が異なる。即ち、光の波長毎に、像面20での到達距離が異なり、倍率の色収差が発生する。当該色収差を軽減するためには、自由曲面レンズ2を通過する光線L1の空気換算の光路長を、光線L2の空気換算の光路長よりも小さくすればよい。そして、光線L1が通過する側のレンズ厚と光線L2が通過する側のレンズ厚の比を3倍以下とすれば、実用上問題ないレベルの倍率色収差に低減できることをシミュレーションで見出した。2倍以下にすれば、更に良好な結像性能を得ることができる。このように、設計自由度が大きい自由曲面ミラー3の形状の最適化と、自由曲面レンズ2の形状最適化パワー配分により、十分に色収差を低減できる。次に、短辺方向における特徴について、短辺方向の各光学素子でのサグ量の図である図14を用いて説明する。図14は、短辺方向の自由曲面レンズ及びミラーの形状を示す図である。図14で、短辺方向における第1の自由曲面レンズ2aと第2の自由曲面レンズ2bはそれぞれ、凹レンズ状で負の屈折力を有している。そして、自由曲面ミラー3は、中央部分は凹面なので正の屈折力を、周辺部分は凸面なので負の屈折力を有している。実施例1のレンズデータが、短辺方向を面対称な配置としたのがその理由であるが、面対称の条件、即ち、配置関係を変えることで、正の屈折力の部分と負の屈折力の部分が変わるので、自由曲面ミラー3には正の屈折力の部分と負の屈折力の部分が存在するといえる。以上のように、自由曲面レンズ2と自由曲面ミラー3を所定の条件で配置することで、光走査部1としてのMEMSミラーの回動角度を大きくする必要がなく、MEMSミラーの機械的な信頼性を損なうことなく、10倍以上の広角化と線形性の改善を実現できる。次に、図15から図20を用いて、実施例2について説明する。図15が実施例2の光線図、図16が実施例2の別の光線図、図17が実施例2の自由曲面レンズの詳細図、図18が実施例2のレンズデータを示す図、図19が実施例2の自由曲面係数の具体値を示す図、図20が実施例2の歪性能図である。実施例1との違いは、自由曲面レンズ2が1枚である点であるが、実施例2でも、X=600mm、L=100mmなので、L/Xが0.17と非常に小さい値を実現できる。次に、図21から図26を用いて、実施例3について説明する。図21が実施例3の光線図、図22が実施例3の別の光線図、図23が実施例3の自由曲面レンズの詳細図、図24が実施例3のレンズデータを示す図、図25が実施例3の自由曲面係数の具体値を示す図、図26が実施例3の歪性能図である。実施例1との違いは、本来のワイド画面に合わせて像面サイズを16:9とし、光走査部1の回動角水平±5.3度、垂直±2.9度の共振回動を、800×450mmの二次元状な範囲としている点である。図26の歪性能である線形性が、実施例1の歪性能である線形性を表す図9より改善されており、本来、16:9の像面を走査するために開発された光走査部1では、16:9の像面を走査した方が組合せとしては良好である。尚、16:9で開発された走査ミラーを4:3の像面にも適用できることは言うまでもない。実施例3では、X=800mm、L=100mmなので、L/Xが0.135と非常に小さい値を実現できる。次に、光利用効率の改善と、スぺックルの発生を抑える実施例について説明する。図27~33は光線図である。図27~29は、画像表示装置10から出射した光線が像面20上の5×5の分割点に到達する様子を示している。又、画像表示装置10が像面20の上部に、像面20の長辺方向に配置されている。画像表示装置10とレーザ光が重複しないように、画像表示装置10近傍での有効走査範囲を、実効的に振れる範囲一点鎖線30で表示からX軸方向のみ狭めている。この結果、画像表示装置10の設置自由度が大きくなると共に画像表示装置10の寸法が大きくなっても実使用状態でセットが画像を遮ることがなく、使い勝手が向上する。図27の下方は、上方に示した図の側面を示している。画像表示装置10は、像面20上の走査画面表示範囲図27下方では領域Xで表示より上部に位置しても例えば机上投写走査画面表示範囲を遮ることはない。尚、画像表示装置10を像面20の下方向に配置してもよい。図28では、画像表示装置10-1及び10-2を2つの異なる位置に各々配置している。尚、2つ以上の異なる位置に複数台を各々配置してもよい。このように、複数の画像表示装置10で画像を重ね合わせて同一画像として表示することで高輝度化が可能となる。又、同一解像度の複数の画像表示装置10の走査画像位置を意図的にずらす事で擬似的に解像度を増加させたり、インターレースさせて異なるフィールド毎の画像情報により画面を重ね合わせることで解像度を向上させることができる。又、複数台の画像表示装置10を、図29のように配置してもよい。尚、画像表示装置10―1のレーザ光を一方の偏波例えばP波とし、画像表示装置10-2のレーザ光を他方の偏波例えばS波としてそれぞれ右目用の映像と左目用の映像を、画面上で重ね合わせ、偏光メガネを用いて立体画像を実現することもできる。同様に、右目用に映像と左目用の映像を画面上で重ね合わせ、時分割で左右の目に入る画像をスイッチングする機能を有する特殊メガネを用いて立体画像を実現することもできる。図30では、画像表示装置10を像面20の下部に配置している。像面20を形成するレーザ光は、光を屈折させる作用を持つ光路変更部61により像面20に略垂直な方向に屈折し、画像観視側に出射する。光路変更部61として、ここではフレネルレンズを用いている。特に、斜投写光学系の場合、フレネル中心が像面20から外れるような偏心フレネルレンズが好適である。図31では、光路変更部61として、レンズ面に光反射面を有する偏心リニアフレネルレンズを用いている。図32では、画像表示装置10を像面20の上部に配置し、光路変更部61は、フレネルレンズの例を示している。図33では、画像表示装置10を像面20の上部に配置し、光路変更部61は、偏心リニアフレネルレンズを用いている。光路変更部61として、更に、全反射方式を採用すれば、入射面での反射損失を低減でき、反射損出の少ない優れた画像を得ることができる。次に、像面の明るさを均一にする技術について説明する。図34は本実施例の原理を説明するための図、図35は像面上の走査を示す図、図36は半導体レーザを光源として用いた図である。レーザ光は、特定の大きさのスポット寸法201を有し、図35に示すように、レーザ光204を像面20上において水平方向に矢印202に沿って走査第1の走査し、次に、逆方向の矢印203に沿って走査第2の走査する。従って、インターレース方式と異なり帰線期間がなく、走査時間にロスがないので解像度を損なうことがない。レーザ光源として、例えば半導体レーザは、図36に示すように、電極401及び404に挟まれたクラッド層402とクラッド層402の内部に存在する活性領域403から成り、レーザ光のスポット形状は、活性領域403に直交する方向図中Y軸を長辺方向とする楕円形状となっている。このため、画像表示装置10に対して像面20で距離の遠い方向図面中では長辺方向に楕円のスポット形状の短辺を合わせることで、斜め入射によるスポット形状の悪化を軽減できる。従来方式では、レーザ光のスポット寸法が決まれば走査ミラーの振り角によって決定される像面寸法によって解像性能は一義的に決まっていた。一方、本実施例では、光学系の最終面が反射面で構成されているため、光走査部1走査ミラーで走査偏向されたレーザ光は、自由曲面ミラーの反射面において入射角度の2倍量の偏向がなされるので、光走査部1の変位量に対してより大きく偏向できる。更に、像面20の対応する位置によっては自由曲面ミラーの反射角が異なるように、それぞれに対応した自由曲面ミラー面の法線角度を異ならせる。このため、本実施例では従来方式とは異なり、レーザ光のスポット寸法と走査ミラーの振り角だけでは解像度が決まらない。本実施例では、像面20上の位置それぞれにおいて異なった入射角度でレーザ光が入射する。長辺方向においては、像面20の中央部分に相当する走査ビームの自由曲面凸面ミラー3への入射角度が、像面20の周辺部分に相当する走査ビームの自由曲面ミラーへの入射角度より大きく、短辺方向においては、自由曲面ミラー3の光走査部1に近い部分への走査ビームの入射角度が、自由曲面ミラーの光走査部1から遠い部分への入射角度より小さいようにしている。このように、レーザ光のスポット寸法、輝度又は密度を単独で、又は組み合わせながら走査位置に合わせてそれぞれを変化させている。次に、上述した内容を具現化する手段について説明する。図37は本実施例の原理を説明するための図、図38乃至40は像面上の走査を示す図である。図37では、画像表示装置10は複数のレーザ光源を備えるここでは2種類。第1の光源部4a及び第2の光源部4bのレーザ光は色合成部5aにより合成され、光走査部1の回動で走査偏向された後、自由曲面レンズ2と自由曲面ミラー3で屈折反射され像面20に到達する。色合成部5は例えば偏光合成プリズムとし、第1の光源部4aからのレーザ光はP偏波、第2の光源部4bからのレーザ光はS偏波とすることで効率よくレーザ光を合成できる。像面20上の位置に合わせて、第1の光源部4a及び第2の光源部4bから出射するレーザ光の出力を変化させることで画面全体の輝度の均一性を向上させることができる。ここで、レーザ半導体の場合、印加電流により発光エネルギーが変化するが、許容値を超えて電流を流し続けると、発光効率が低下し暗くなると共に、寿命も短くなる。これを回避するため、特定周期ms程度の時間に許容値を超える電流値通常の2~3倍程度をパルス的に入力することで、寿命を短くすることなく、高輝度なレーザ光出力を得ることができる。斜投写光学系においては、走査速度の場所による違いや像面に対する光線入射角により監視側に反射する光のエネルギーが異なるので、画面の明るさが均一になりにくい。しかし、PWM制御を用いて画面の位置に対応させて明るさを制御することで、画面全領域の明るさの均一性を向上させることができる。尚、合成されたレーザ光のスポット径もそれぞれの光源からのレーザ光出力と同期させ変化させてもよい。又、図37に示すように、防磁シールド10bを設ければ、防磁シールド効果を有する。更に、筐体の一部に電磁マグネット固定装置10cを設ければ、金属性のボードや壁面に簡単に脱着可能な画像表示装置を実現できる。図38では、像面垂直方向の分解能をより細かくして第1の走査を矢印202に沿って行い、第2の走査は逆方向の矢印203-1及び矢印203-2に沿って行う。この時、矢印203-1及び矢印203-2図中破線表示の領域ではレーザ光を発光発振させない。この結果、図38の左側の画面明るさを相対的に上げることができる。図39では、像面垂直方向にレーザ光を走査している。画像表示装置10に対して像面20で距離の遠い方向に楕円のスポット形状の短辺を合わせることで、斜め入射によるスポット形状の悪化を軽減できる点は上述と同様である。又、像面20内の明るさを均一にするために、例えば図39に示した領域Aの走査範囲と領域Bの走査範囲において長辺方向の走査間隔を変化させることで像面20の左側の画面明るさを相対的に上げることができる。図37~40によれば、像面20の一部例えば右側や上下部の明るさを変化させる事や明るさの変化量に傾斜をつけることも、像面垂直方向の走査範囲においてレーザ光を発光発振させる領域を自在に制御することで可能となる。次に、像面20のスペックルを軽減する技術について説明する。スペックルはレーザ光のようなコヒーレント光が拡散面で散乱すると散乱光の干渉によってスペックルパターンの光の強度が分布を持つために発生する。このスペックルを軽減するためには当該レーザ光を時間的、空間的に不規則な光に変換することが有効となる。具体的には、以下に示す4つの方法が有効である。1偏光多重度を向上する。即ち特定の偏波のみが存在しない状態とする。2像面若しくは投写光学系にランダムな反射パターンを形成する部分を設ける。3波長の多重性を向上する。即ち特定の単波長ではなく複数の波長のレーザ光を混合する。4複数のレーザ光の入射角度を変えて像面に入射させることでランダムな散乱光を得る。上記1及び3を実現する方法の1つは、図37の説明と同様で、得られたレーザ光はP波、S波が混在したものとなるのでスペックルを低減できる。又、第1の光源部4a、及び、第2の光源部4bのレーザ光を、図41に示す発光スペクトラムを有する青発光レーザ発振中心波長460nm、緑発光レーザ発振中心波長532nm、赤発光レーザ発振中心波長635nmとし、色合成部5aにより合成すれば、図42に示した色再現範囲の実現と明るさを得ることが出来る。図42は、図41に示したレーザ光が単独でレーザ発振して光を出力して、それぞれ単色及び3色合成して白を表示した場合の走査画像の色を示している。図43は、当該レーザ光を、色度図上のxy値として、シミュレーション計算により求めたものを示している。又、第2のレーザ光源部4bのレーザ光を図44に示した発光スペクトラムを有する青発光レーザ発振中心波長450nm、緑発光レーザ発振中心波長515nm、赤発光レーザ発振中心波長645nmとして混色すると、図45に示すように広範囲な色再現領域を実現でき、スペックルを低減できる。次に、図42及び図45に示した表の見方について説明する。表中の混色比は上述した単色レーザ光発光色とエネルギー強度を図44に示すものと仮定してシミュレーションを実施がそれぞれどのような強度で発光したかを相対的に表したもので、それぞれの色のレーザが単色で相対強度100で発光した場合を1と、相対強度5で発光した場合を0.05として記載している。混色により得られた結果を明るさ相対値表示で数値が大きいほど明るいと図43に示した色度図上の座標値で示している。第1の光源部4aと第2の光源部4bにおいて異なる波長の単色レーザを用いることで色合成部5aで合成後に得られた単色レーザは、同一波長のレーザ光を合成する場合に比較してよりスペックルを軽減できる。更に、図42に記載したようにNTSC放送方式で決められている青、緑、赤図42に色度座標値を記載に対して各色レーザ光を単独で発光させた場合に比べ、例えば青色レーザ発光時に緑色レーザ及び赤色レーザを所定の比率で発光させ合成した方が色再現範囲を狭めないで明るさを増加させることが可能であった。発明者らは図42に記載した単色レーザに複数色のレーザを混色させて明るさを向上させた場合の色目の変化をシミュレーションで求め、図42に示すマッカダムの等色識別領域を示すグラフと比較した結果、それぞれの色で等色領域内であり実用上問題ない事を確認した。以上述べたように、複数色のレーザ光を特定の比率で混色すること色再現範囲を狭めることなく明るさ向上とスペックル低減を実現できる。一方、上記4については、色合成部5の合成面プリズムの角度と合成面への各々の入射位置を最適化することで像面20上において2つの光源からの異なった入射角度の光を合成することができ、スペックルを軽減することができる。以上述べた光源と斜め投写光学系とを組合せて構成した画像表示装置を図47に示すように複数台並べて図4使用することで、実用上十分な色再現範囲を実現しつつ明るさを向上し、スペックルを低減した画像表示装置が実現できる。次に、上記2について説明する。図37において、発明者らは、自由曲面ミラー表面の面粗さを制御することでレーザ光のスペックルを低減できることを実験により見出した。自由曲面ミラーを得るためには設計形状に合わせて金型を加工し、得られた金型を使用してプラスチックを成形し、その表面に反射膜を設けることで実現する。このため、ミラーの反射面の面粗さは金型表面の面粗さがほぼそのまま転写されるので、金型表面の面粗さを反射面の位置により最適化することでスペックルが軽減できる。図48~52は、自由曲面ミラー反射面の面粗さを決定する金型加工の加工方向加工順とレーザ光の走査方向の関係を示している。図52は図50に示した自由曲面ミラー反射面の金型の垂直断面である。自由曲面ミラーの金型加工は例えば図53に示すように、X軸、Y軸、Z軸、加工軸の回転軸であるC軸、及び、ワークの回転軸であるB軸の5軸制御の加工機を使用する。C軸に単結晶ダイヤモンドバイトを取り付け、フライカットと呼ばれる加工法で金型表面を削り取ることで所望の形状精度と面粗さを得る。自由曲面ミラーの金型加工は加工機のバイトを図48に示すように往復移動させて行う。この加工跡はレーザ光のスポット301の寸法に比較して十分に小さい、金型加工の跡の方向と荒さを所望の値とすることでミラーでの反射光の散乱状態を制御できる。このため、レーザ光の走査方向とミラー金型の加工方向を一致させた図48に示す実施例と、走査方向とミラー金型の加工方向を直交させた図51に示す実施例では、成形後に得られたミラー表面の面粗さのパターンが異なり、レーザ光の散乱度合いが異なるのでスペックル軽減の効果も異なる。更に、レーザ光の走査方向とミラー金型の加工方向を一致させた図48に対して、例えば図49に示すようにバイト加工の往路図中303で表記と復路図中304で表記の往復で、加工条件を変化させて意図的に荒さの異なる面を作成する。更に、図50に示すようにバイト加工の往路図中303で表記と復路図中304で表記、更に往路図中305で表記の往復で加工条件を複数変化させて意図的に荒さの異なる面を作成する。又、この加工条件を不規則に変えることでより複雑なパターンの表面粗さを得ることが可能となり、スペックルを低減できる。次に金型加工の方法について説明する。上述した5軸加工機で金型表面を切削して設計で意図した加工面を得る場合、金型表面にはフライカット加工の跡が残るこの加工跡を図中303と表記する。このフライカットで残る跡は図54に示すように金型加工物に対する加工方向により加工精度が異なる為、加工物の寸法と金型の表面形状、特に金型形状によってはバイトが干渉し本来の加工位置以外を切削する可能性があるので使い分けが必要となる。図55は図54Bに示した加工法による切削面を示したものである。得られた加工面の粗さを計測するために加工方向と直交する方向の面粗さを評価した結果を図56に示す。Ra最大値で3nm、10点平均面粗さで4nmと、光の波長に対しても十分な表面粗さを得ることができる。一方、図57は図54Aに示した加工法による切削面を示したものである。得られた加工面の粗さを計測するために加工方向と直交する方向の面粗さを評価した結果を図58に示す。Ra最大値で5nm、10点平均面粗さで6nmとなり、図54Bの加工法に対して得られる表面粗さが大きかった。このように、加工物の固定テーブルワークテーブルの移動ではなく、加工機本来の加工軸を使用してバイトの移動を行うと、ミラー反射面の良好な面粗さを得ることができる。上記実施例によれば、超短投写光学系において、走査ミラー光走査部の回動で得られる走査偏向角を拡大できるので、画像表示装置を机上に配置した状態でそのまま走査画像を机上投写できる。又、光源と光走査部を結んだ光軸と光走査部を、45度以下の角度で配置し、自由曲面レンズと自由曲面ミラーを、当該光軸から偏心して配置することで、自由曲面ミラーと像面の距離を十分に短くしても、自由曲面ミラーで反射した光が再び自由曲面レンズに入射しないよう配置でき、装置の小型化が実現できる。又、赤、緑、青それぞれの単色レーザ光源とせず、各々に近接した波長の複数の光源を併用して、レーザのコヒーレント性を低下させてスペックルを抑制することができる。更に、自由曲面ミラーの表面を粗面として一部散乱特性を持たせることで擬似的に発光点の面積を広げ、2次光源化することで、安全規格を満足させながら光量を増加させることができる。