a磁気ディスク、b磁気ヘッドスライダ、及びc前記磁気ディスクを一定の回転数R0回転分で回転可能なモーター、を有し、前記磁気ヘッドスライダの端面が前記磁気ディスクに連続摺動または間欠接触しながら磁気記録する方式の磁気ディスク装置であって、前記磁気ディスクは、非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層が順次積層されており、前記潤滑層表面は前記磁気ディスクの周方向に中心角θr°毎に繰り返される凹凸構造パターンを有し、前記中心角θrは前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離rmm離れた前記磁気ディスク媒体上の位置での前記凹凸構造パターンの繰り返し単位に対応する中心角を示し、前記距離rが一定ならば前記中心角θrも一定値を採り、前記凹凸構造パターンは前記潤滑層と前記保護層表面との吸着により形成されており、前記磁気ヘッドスライダの固有振動数をfkHzとしたときに、前記中心角θrが、前記磁気ヘッドスライダの作動する範囲の任意の前記距離rに対して、下記式a:θ0=360×aで表される角度θ0°と合致しないように設定されていることを特徴とする磁気ディスク装置。前記中心角θr°につき、前記磁気ヘッドスライダの作動する範囲の任意の距離rにおいて、前記角度θ0°に対して、θr<0.9×θ0またはθr>1.1×θ0となるように設定されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク装置。前記中心角θrが前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離rmmによらず一定であることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気ディスク装置。前記潤滑層がポリフルオロポリエーテル潤滑層であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の磁気ディスク装置。前記凹凸構造パターンが、エネルギー線照射処理により形成されていることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の磁気ディスク装置。前記請求項1~5のいずれかに記載の磁気ディスク装置用の磁気ディスクであって、前記磁気ディスクは、非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層が順次積層されており、前記潤滑層表面は前記磁気ディスクの周方向に中心角θr°毎に繰り返される凹凸構造パターンを有し、前記中心角θrは前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離rmm離れた前記磁気ディスク上の位置での前記凹凸構造パターンの繰り返し単位に対応する中心角を示し、前記距離rが一定ならば前記中心角θrも一定値を採り、前記凹凸構造パターンは前記潤滑層と前記保護層表面との吸着により形成されており、前記磁気ヘッドスライダの固有振動数をfkHzとしたときに、前記中心角θrが前記磁気ヘッドスライダの作動する範囲の任意の前記距離rに対して、下記式a:θ0=360×aで表される角度θ0°と合致しないように設定されているを特徴とする磁気ディスク媒体。前記凹凸構造パターンが、エネルギー線照射処理により形成されることを特徴とする請求項6に記載の磁気ディスクの製造方法。本発明が解決しようとする課題は、磁気記録装置である磁気ディスク装置において、浮上する磁気ヘッドスライダが有する固有振動を励起させることなく浮上挙動ないし接触挙動を安定化させ、長期間の製品信頼性を維持する新規の手段を提供することである。1.上記課題を解決するための本発明の第一の態様は、a磁気ディスク、b磁気ヘッドスライダ、及びc前記磁気ディスクを一定の回転数R0回転分で回転可能なモーター、を有し、前記磁気ヘッドスライダの端面が前記磁気ディスクに連続摺動または間欠接触しながら磁気記録する方式の磁気ディスク装置であって、前記磁気ディスクは、非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層が順次積層されており、前記潤滑層表面は前記磁気ディスクの周方向に中心角θr°毎に繰り返される凹凸構造パターンを有し、前記中心角θrは前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離rmm離れた前記磁気ディスク上の位置での前記凹凸構造パターンの繰り返し単位に対応する中心角を示し、前記距離rが一定ならば前記中心角θrも一定値を採り、前記凹凸構造パターンは前記潤滑層と前記保護層表面との吸着により形成されており、前記磁気ヘッドスライダの固有振動数をfkHzとしたときに、前記中心角θrが、前記磁気ヘッドスライダが作動する範囲の任意の前記距離rに対して、下記式a:θ0=360×aで表される角度θ0°と合致しないように設定されていることを特徴とする磁気ディスク装置である。2.上記課題を解決するための本発明の第二の態様は、前記本発明の第一の態様の磁気ディスク装置用の磁気ディスクであって、前記磁気ディスクは、非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層が順次積層されており、前記潤滑層表面は前記磁気ディスクの周方向に中心角θr°毎に繰り返される凹凸構造パターンを有し、前記中心角θrは前記磁気ディスクの円中心からの半径方向の距離rmm離れた前記磁気ディスク上の位置での前記凹凸構造パターンの繰り返し単位に対応する中心角を示し、前記距離rが一定ならば前記中心角θrも一定値を採り、前記凹凸構造パターンは前記潤滑層と前記保護層表面との吸着により形成されており、前記磁気ヘッドスライダの固有振動数をfkHzとしたときに、前記中心角θrが前記磁気ヘッドスライダが作動する範囲の任意の前記距離rに対して、下記式a:θ0=360×aで表される角度θ0°と合致しないように設定されていることを特徴とする磁気ディスクである。3.本発明の第三の態様は、前記凹凸構造パターンが、エネルギー線照射処理により形成されることを特徴とする、前記本願発明の第二の態様の磁気ディスクの製造方法である。本発明の適用により、磁気ヘッドスライダの磁気ディスク表面に対する間欠接触または接触挙動時においても、ヘッドスライダ振動が励起されることなく、安定したスライダ挙動を実現することが可能となる。1.本発明の第一の態様1本発明の第一の態様の磁気ディスク装置は、a潤滑層表面が、ディスクの周方向に周期的な特定の凹凸構造パターンを有する磁気ディスク、b固有振動数がfkHzの磁気ヘッドスライダ、及びc前記磁気ディスク媒体を一定の回転数R0回転分で回転可能なモーターを有し、前記磁気ヘッドスライダの端面が前記磁気ディスクに連続摺動または間欠接触しながら磁気記録する方式の磁気ディスク装置である。装置の作動に必要な他の部品、たとえばアクチュエーター位置決め装置、スイングアーム等も含むことができる。図4は磁気ディスク装置100の概略図である。磁気ディスク装置100は、磁気ディスク101と、磁気ディスク101を回転させるモーター102と、磁気ディスク101上でデータの書き込み、読み取りを行う磁気スライダ103とサスペンション107からなる磁気ヘッドスライダ104と、磁気ヘッドスライダ104を支持するスライダ支持アーム108とを備えている。磁気ディスク101上には、サーボ信号領域105とデータ信号領域106とからなるデータ領域111があり、磁気ヘッドスライダ104はサーボ信号領域105に書き込まれたサーボ情報を読み取って、自らの位置を検知し、ロータリーアクチュエータ104により移動、位置決めを行って、データ信号領域106にアクセス書き込み、読み取りする。図5は、本発明に係る実施形態の磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの関係を示す模式図である。図において、104は磁気ヘッドスライダであり周知のものである。磁気ディスク101は、円周方向の断面を示している。2磁気ディスク図1は、本発明に係る磁気ディスク101の模式図の一例であり、データ領域における円周方向の断面を示している。磁気ディスク101は、非磁性基板4上に磁性層3、保護層2及び潤滑層1が順次積層された媒体である。潤滑層1には、凹部薄膜の領域5および凸部6からなる凹凸構造が形成されている。2-1保護層保護層2は磁気ヘッドスライダ104との接触摺動から磁性層を保護する層であり、好ましくは炭素質膜で構成されている。炭素質膜としてはカーボン膜、水素化カーボン膜、炭化ケイ素膜等を挙げることができ、この中でもカーボン膜、特にダイヤモンド状炭素DLC膜が高密度高耐久性の点で好ましい。本発明においては、後記の2-2でも説明するように、保護層2の表面と潤滑層1との吸着により、潤滑層1の表面が、磁気ディスク101の周方向に周期的な特定の凹凸構造パターンを形成している。ここでいう吸着は保護層2の表面に一定の周期パターンで形成された親水化表面と、潤滑層1を形成する潤滑剤中の極性基との水素結合により生じていると考えられる。すなわち、潤滑剤中に含まれる極性基と前記保護層2の親水化表面との間の水素結合に基づく相互作用により、親水化処理を受けていない保護層2の表面領域から親水化処理を受けた保護層2の表面領域に潤滑層1の流動現象が生じる非特許文献1。そして、この移動現象の結果、親水化処理を受けていない保護層2の表面領域では親水化処理を受けている保護層2の表面領域に比較して潤滑層1が薄膜の領域となり、磁気ディスク101表面上では、凹凸構造パターンが形成されることになる。保護層2の表面を親水化する方法としては、エネルギー線照射やプラズマ処理等を挙げることができ、エネルギー線とは、光線紫外線、赤外線又はレーザー光、イオンビーム、または電子線を指す。かかる処理の中でもエネルギー線照射、特に紫外線照射が液体である潤滑膜へのダメージ揮発減量の抑制の点で好ましい。かかる親水化処理は、潤滑層1を形成する前に行なうこともできるが、潤滑層1形成後に行なうことが外気空気中の酸素影響の排除の点で好ましい。保護層2の表面への周期的パターンを有する親水化表面の形成については、たとえばリソグラフィー技法特許文献3を好ましく適用することができる。2-2潤滑層潤滑層1は磁気ヘッドスライダ104との接触摺動の際の摩擦を低減し耐摩擦性を向上させる層である。潤滑剤本発明の潤滑層1を構成する潤滑剤は、水素結合を形成することの可能な孤立電子対を有する極性基をもつ。これにより保護層2の表面の親水化表面との吸着が可能となり、ディスクの周方向に周期的な特定の凹凸構造のパターンを形成できる。かかる極性基としては、電気的に陰性な原子であるO、N、F、S、Cl等の孤立電子対を有する原子を含む基が挙げられる。前記潤滑剤としては、たとえばポリフルオロポリエーテル、特にPFPEと呼ばれる潤滑剤を好ましく用いることができる。特に炭素質膜、より好ましくはダイヤモンド状炭素DLC膜を保護層2に用いる場合、かかる保護層2との付着性能を確保できる点で好ましい。PFPEの代表的なものは、下記1、2の構造を有する潤滑剤構造である。RnnR ́1RnR ́2上記構造は、それぞれ、1フォンブリン商品名、Fomblin、2デムナム商品名、Demnumと呼ばれる。このうち、磁気ディスク装置の潤滑剤として好ましく使用されるのは、たとえばZ-テトラオールCH2OH3凹凸構造パターン本発明の磁気ディスクの潤滑層1の表面は、前記磁気ディスクの周方向に一定の中心角θr°毎に繰り返される凹凸構造パターンを有している。ここで、中心角θr°は、磁気ディスクの中心から半径方向に距離rmm離れた位置以下、半径位置rというでの周方向における前記凹凸構造パターンの繰返し周期を、磁気ディスクの中心角で表現したものである但し、全周を360°とする。そして、前記中心角θr°は、磁気ヘッドスライダ104の磁気ディスク101表面に対する間欠接触または接触挙動時において、磁気ヘッドスライダ104の振動が励起されることなく、安定したスライダ挙動を実現することが可能となるように設定される。すなわち、前記中心角θr°は、磁気ヘッドスライダ104の作動する範囲の任意の半径位置rmmにおいて前記磁気ヘッドスライダ104の固有振動数をfkHzとしたときに、下記式a:θ0=360×aで表される角度θ0°と合致しないように設定することが必要である。ここで、R0は磁気ディスク回転数回転/分を表し、磁気ディスク装置100のモーターいわゆるスピンドルモーター102の回転数に対応する。かかる条件で中心角θrを設定することにより、磁気ヘッドスライダ104の振動の励起いわゆるサージングを回避できる。なお、磁気ヘッドスライダの固有振動数fHzには、後記2-3において説明するように、磁気スライダ103を保持しているサスペンション107に起因する固有振動数値と磁気スライダ103と磁気ディスク101間の空気膜に起因する固有振動数値の両方が含まれるとともに、1次の固有振動数のみならず高次の固有振動数も含まれる。したがって、それぞれの固有振動数fHzに対応するθ0が存在するので、中心角θrは各θ0に対して合致しないように設定する。前記の凹凸構造パターンの周期の条件は、磁気ディスク101の半径位置rmmにおける周長srμmが、磁気ヘッドスライダ104の作動する範囲の任意の半径位置rmmにおいて、以下の式b:sr0=2πr×fbによって表されるsr0μmと合致しないように設定すると等価に言い換えることもできる。もっとも、周長sr0は磁気ディスク101の回転数R0及び半径位置rmmに依存するが、回転角θ0は半径位置rmmによらず、ディスク回転数R0のみに依存する。前記凹凸構造パターンの周期を表現する中心角θr°は異なる半径位置rmmについて異なる値をもっていてもよいが、半径位置rmmによらず一定であることが周波数変更半径位置における周波数不連続面が及ぼすヘッド浮上不安定性発生の抑制の点で好ましい。中心角θr°が半径位置rmmによらず一定である場合、交互に繰り返される凹部領域と凸部領域はそれぞれ扇形の領域となる。また、前記凹凸構造パターンの周期θr°を前記角度θ0°と合致しないように設定するためには、周期θr°につき前記各角度θ0°に対して、θr<0.9×θ0またはθr>1.1×θ0となるように設定することが好ましい。これにより、磁気ヘッドの振動を励振現象が生じた場合の振幅の少なくとも半分未満に抑えることが可能となる。なお、潤滑層の凹凸構造パターンの周期に対応する周波数は6R0/θrで表すことができるが、これの上限の周波数を1MHz、下限の周波数を20KHzとすることができる。現行の磁気ヘッドスライダでは、サスペンション励振振動が50~100kHz程度、磁気ヘッド浮上時の空気膜固有振動数が300~400kHz程度となっている非特許文献2。よって、その周波数値を十分包括できる値として、下限20kHz、上限1MHzとした。凹凸構造パターンの形成例以下に、すでに潤滑層を形成した磁気ディスク表面への紫外線照射を例にとって、磁気ディスクの潤滑層表面に凹凸構造のパターンを形成する一例をより具体的に説明する。もっとも本発明をこれに限定することを意図するものではない。まず、凹凸構造未形成の磁気ディスク基板7の表面上のデータ領域磁気ヘッドスライダが通過する領域に紫外線照射を行う領域領域Aと行わない領域領域Bを、交互に周期的に設けて処理を行う図2参照。図2では、かかる領域設定の一例として半径方向に紫外線照射領域を作製し、どの半径位置においても、磁気ディスク上を浮上する磁気ヘッドスライダ104の進行方向周方向に対して、潤滑層1の凹凸構造単位が、磁気ディスク100の特定の回転角前記中心角θrに相当毎に周期的に繰り返されるように設定した例を示している。これは前記凹凸構造パターンの周期を表現する中心角θrが半径位置rによらずに一定値を採る場合に対応する。そして、図2においては、該中心角θr°は領域Aである8と領域B紫外線非照射域である9とを合わせた領域に対応する中心角に相当する。また、図2では、領域A、領域Bそれぞれの扇形領域の中心角が等しい場合を例示している。上記凹凸潤滑層分布を形成するために、特許文献3に記載のリソグラフィー技法を適用できる。すなわち、透明領域スリットと不透明領域マスクとを交互に配列したパターンのフォトマスクを作製し、マスクを介して磁気ディスク表面に紫外線を照射することで、ディスク表面上に潤滑層1の凹凸構造を作製することができる。紫外線照射実施後、領域Aと領域Bとの界面は、潤滑層1の流動現象が生じ、領域Bから領域Aへの潤滑剤の移動が生じる非特許文献1。この移動現象の結果、領域Bでは領域Aに比較し潤滑層1が薄膜の領域となり、磁気ディスク表面上では、凹凸構造パターンが形成されることになる。すなわち、磁気ヘッドスライダの浮上進行方向に対し、潤滑膜分布における凹凸構造が周期的連続的に形成されることになる。ここで、一つの領域Aとそれに隣接する一つの領域Bとで、磁気ディスクの周方向に凹凸構造の周期的な繰り返し単位を構成する。ここで、前述のスリット間隔に対応する中心角θrは、図3ではスリット角14と非スリット角15の和に相当するが、図3ではスリット角14と非スリット角15が等しい場合を図示している。しかし、両者の角度が等しいことは、本発明を満たす条件として、必ずしも必要な条件ではない。中心角θrが半径位置rによらず一定の場合である図2、図3のような場合、潤滑層の凹凸構造を形成するのに必要な潤滑剤量を検討した結果、領域Aデータ領域における紫外線照射域である8と領域Bデータ領域における紫外線非照射域である9と合わせた領域の面積が一定とした場合、潤滑層の凹凸構造をより有効に形成させるために、領域Aに対応するスリット角と領域Bに対応する非スリット角との比率、すなわち領域Aに対応するスリット角:領域Bに対応する非スリット角が1:3となることをスリット角の下限、3:1となることをスリット角の上限とすることが好ましい。すなわち、スリット角を上記下限値以上とすることで、領域Bからの潤滑層の移動先である凸部に対応する領域Aの面積をより広くとることができるという観点で、磁気ヘッドの浮上により好ましい。他方、スリット角を上記上限値以下とすることで、領域Bから領域Aへ移動する潤滑層の量をより多く確保でき、より段差の大きい凹凸構造を形成できるという観点で、磁気ヘッドの浮上により好ましい。また、凹凸の段差は磁気ヘッドの浮上ためには、peak-to-peak値にて1Å以上とすることが望ましい。2-3磁気ヘッドスライダ前記磁気ヘッドスライダは、固有振動数fkHzを有している。ここでいう固有振動数には、磁気スライダ103を保持しているサスペンション107に起因する固有振動数値と、磁気スライダ103と磁気ディスク101間の空気膜に起因する固有振動数値の両方が含まれる。磁気スライダ103を保持しているサスペンション107に起因する固有振動数値、及び磁気スライダ103と磁気ディスク101間の空気膜に起因する固有振動数値については、たとえば特許文献2に開示される方法により測定することができる。また、これらの固有振動数には1MHz~20KHzの範囲で、1次の固有振動数のみならず高次の固有振動数も含む。高次の固有振動数は、1次の固有振動数を2以上の自然数で掛け算して得られた値に相当する。なお、特許文献2の実施例で測定された100kHzの固有振動数が磁気スライダ103を保持しているサスペンション107に起因する1次の固有振動数値に対応し、特許文献2の実施例で測定された140kHzの固有振動数が磁気スライダ103と磁気ディスク101間の空気膜に起因する1次の固有振動数値に対応する。2-4その他非磁性基板4としては、アルミニウム合金基板、ガラス等のセラミックス基板、ポリカーボネート等の樹脂基板、及び炭素質基板等を挙げることができる。磁性層3は磁気ディスク媒体の記録層であり、鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性体元素を主成分とし、クロム、白金、タンタル等を加えた合金、またはそれらの酸化物から構成することができる。メッキ法やスパッタ法等で形成できる。2.本発明の第二及び第三の態様本発明は上記磁気ディスク装置100の他に、該磁気ディスク装置100に好適に用いることのできる前記磁気ディスク101第二の態様、及び該磁気ディスクの潤滑層1表面の凹凸構造パターンをエネルギー線照射処理により形成する前記方法第三の態様をも包含する。磁気ディスク装置磁気ヘッドスライダのHDIHeadDiskInterface特性を評価するトライボロジテスタ試験装置VENA社製、6500systemにおいて、磁気ヘッドスライダを設置した。磁気ヘッドスライダの表面ABS、AirBearingSurfaceには炭素質保護膜taC膜が成膜されている。前記磁気ヘッドスライダを設置したスライダ支持アーム上には、AEセンサを設置している。AEセンサは、磁気ヘッドスライダと磁気ディスク媒体間に接触が生じた場合に検知することが可能である。本試験に使用した磁気ヘッドスライダは、ぺムトPemtoサイズ1.2mm×0.8mmの磁気スライダとそれを保持するサスペンションとで構成されており、1次固有振動数として、80kHz付近のサスペンションに起因する1次固有振動数周期と、230kHz付近に発生する空気膜に起因する1次固有振動数周期を有している。本実施例において使用した磁気ディスク101のサイズは直径65mm、磁気ディスク101の使用回転数は5400rpmであり、磁気ヘッドスライダの前記1次固有振動数80kHz及び230kHzに対応する角度θ0は、前記式aを用いて計算すると、それぞれ0.41°及び0.14°となる。したがって、形成すべき周期的凹凸構造パターンの中心角θrは高次の固有振動数も含めて、0.41/n°及び0.14/m°と合致しないように設定する。ここで、n及びmは任意の自然数である。磁気ディスクの作製本発明においては、上記角度θ0に対応した潤滑層1の凹凸構造パターンが形成されないように角度θrを決定し、潤滑層分布を形成することが重要となる。本実施例において、本試験用磁気ディスクは、潤滑剤であるZ-テトラオール商品名を平均膜厚0.9nmにて潤滑剤を塗布して潤滑層形成後に該潤滑層表面に対し、紫外線照射処理を実施し、作製した。この紫外線照射処理のために、中心角がそれぞれ0.41°、0.30°、0.14°の周期的パターンのフォトマスクを作製した。そのパターンの概略図を図3として示す。図3ではフォトマスクの一部を示しているのみであるが、実際には円周全面360°に図示されたパターンが前記中心角毎に周期的に連続していて、磁気ディスク全面を覆って紫外線処理を一度に実施した。ここで、フォトマスクのスリット間隔に対応する中心角は、図3におけるフォトマスクにおいて、スリット角14と非スリット角15の和に対応する。本実施例ではスリット角14と非スリット角15の大きさの比率は1:1とした。紫外線照射処理には、セン特殊光源社製の紫外線照射装置にて、高出力低圧水銀ランプを使用した。また本実施例においては、磁気ディスク表面ランプ間距離を24mmとした。上記フォトマスクをそれぞれ使用して、各潤滑層凹凸構造を持つ磁気ディスクを、それぞれ作製した。また、マスク処理なしにて、紫外線照射処理を実施したディスクもさらなる比較用として作製した。作製したA~Dの磁気ディスクを以下に示す。磁気ディスクA比較品:前記中心角0.41°毎の周期的パターンを有するフォトマスクにて紫外線処理を実施した磁気ディスク磁気ディスクB本発明品:前記中心角0.30°毎の周期的パターンを有するフォトマスクにて紫外線処理を実施した磁気ディスク磁気ディスクC比較品:前記中心角0.14°毎の周期的パターンを有するフォトマスクにて紫外線処理を実施した磁気ディスク磁気ディスクD比較品:紫外線処理のみの磁気ディスクフォトマスク使用無し性能評価上記プロセスにより作製した各潤滑層に周期的凹凸構造を有する磁気ディスクA~C及び凹凸構造を有しない磁気ディスクDを、前記テスタに設置した。次いで前記磁気ヘッドスライダを、上記各磁気ディスク磁気ディスクA、B、C及びD上において、ディスク回転数5400rpm、磁気ディスク媒体の中心から半径方向に22mm離れた位置において、浮上量1nmで浮上させ、12時間に渡る定点浮上試験を実施した。磁気ディスク媒体Aにおいては、試験開始直後からAE信号出力の発生が見られ、その後、試験12時間中、常にAE信号出力は高い状態で推移した。一方、磁気ディスク媒体Bにおいては、試験12時間中において、AE信号出力の増加は見られなかった。磁気ディスク媒体Cにおいては、試験開始直後からAE信号出力の発生が見られ、その後試験12時間中、常にAE信号出力は高い状態で推移した。また、磁気ディスク倍値Dにおいては、試験開始直後ではAE信号出力の発生は見られなかったが、試験開始から約6時間後からAE信号出力の発生が見られ、その後、試験終了までAE信号は増加傾向であった。試験結果の解釈磁気ディスクA、C比較品、周期的凹凸構造ありにおいては、それぞれ、フォトマスクによる紫外線照射により形成された潤滑層の凹凸構造パターンが、浮上磁気ヘッドスライダの1次固有振動数と一致しており、スライダがディスクと間欠接触を生じるタイミングにて、スライダ振動が励振されてしまうため、試験開始直後から、AE信号出力の発生が見られたものと考えられる。また、磁気ディスクD比較品、周期的凹凸構造なしにおいては、試験開始直後からしばらくの間は、AE信号出力の発生は見られないが、試験中にある確率で生じる間欠接触現象において、やや強い接触が生じると、磁気ディスクの表面形状の影響で、やはりスライダ振動が励振されてしまうため、このケースにおいてもAE信号出力の発生が見られたものと考えられる。一方、磁気ディスクB本発明品においては、潤滑層がディスク表面形状を覆い隠す形にて存在するため、表面形状による磁気ヘッドスライダへの励振の影響が抑制され、さらに、潤滑層自体の凹凸形状も、ヘッドスライダの1次固有振動数のみならず高次の固有振動数とも一致していないため、磁気ヘッドスライダが励振されることがない。そのため、試験時間中、AE信号出力の発生が見られなかったものと考えられる。