"1つのセルを構成する一対の基板の各々が駆動部を有するエレクトロウェッティングディスプレイであって、第1の画素壁で囲まれた領域に第1の疎水性液体材料を格納した第1の基板と、第2の画素壁で囲まれた領域に第2の疎水性液体材料を格納した第2の基板とが、親水性材料を介して貼り合わされてなるエレクトロウェッティングディスプレイ。請求項1記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記第1の画素壁で囲まれた領域には、前記第1の疎水性液体材料として遮光性を有する疎水性の液体材料が格納され、前記第2の画素壁で囲まれた領域の各々には、前記第2の疎水性液体材料として着色材料を含有する2種以上の疎水性の液体材料が格納されている。請求項2記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記第2の疎水性の液体材料は、RGBRed、Green、Blue、CMYCyan、Magenta、Yellow、RGGBRed、Green、Green、Blue、又は、RGBYRed、Green、Blue、Yellowの各色に対応するものである。請求項1~3のいずれか一項に記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記第1の画素壁及び前記第2の画素壁で囲まれた領域の少なくともいずれかには、各々の画素壁よりも高さの低い突起、又は前記画素壁よりも高さの低い起伏が設けられている。請求項1~4のいずれか一項に記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記親水性材料がゲル状物質である。請求項1~5のいずれか一項に記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、第1の画素壁及び前記第2の画素壁の少なくとも一方の高さは、各々が格納する前記疎水性液体材料における電圧非印加状態での高さの2~20倍に設定される。請求項1~6のいずれか一項に記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記第1の基板及び前記第2の基板の少なくとも一方における前記画素壁を有する側の表面及び前記画素壁は、疎水性である。第1の基板と、前記第1の基板に対向配置される第2の基板と、前記第2の基板に設けられる画素壁で囲まれた領域内に格納される疎水性液体材料とを備えたエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記第1の基板及び前記第2の基板は、親水性のゲル状物質を介して対向配置されるエレクトロウェッティングディスプレイ。請求項8に記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記疎水性液体材料は、疎水性溶媒と着色材料とを含有する。請求項9記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、異なる色の前記着色材料を含有する2種類以上の前記疎水性液体材料が、それぞれ異なる前記画素壁で囲まれた領域内に格納されている。請求項8~10のいずれか一項に記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記画素壁及び前記第2の基板における前記画素壁が設けられる表面は、疎水性である。請求項8~11のいずれか一項に記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記画素壁の高さは、格納する前記疎水性液体材料における電圧非印加状態での高さの2~20倍に設定される。請求項8~12のいずれか一項に記載のエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記第2の基板における前記画素壁を有する側の表面及び前記画素壁は、疎水性である。本発明は、明るく、コントラストの高いカラー表示が可能なエレクトロウェッティングデバイスを提供することを目的とする。また、ムラのない高品質な表示を行うことができるエレクトロウェッティングデバイスを提供することを目的とする。本発明の第1の態様に係るエレクトロウェッティングデバイスは、1つのセルを構成する一対の基板の各々が駆動部を有するエレクトロウェッティングディスプレイであって、第1の画素壁で囲まれた領域に第1の疎水性液体材料を格納した第1の基板と、第2の画素壁で囲まれた領域に第2の疎水性液体材料を格納した第2の基板とが、親水性材料を介して貼り合わされてなることを特徴とする。本発明のエレクトロウェッティングディスプレイによれば、第1の基板及び第2の基板の駆動部をそれぞれ独立駆動することで第1の疎水性液体材料及び第2の疎水性液体材料のそれぞれと親水性材料との間の界面形状を変化させることができる。よって、例えば第1の基板側の画素壁で囲まれた領域を遮光シャッターとして利用することで第2の基板側の画素壁で囲まれた領域の種々の色の光を選択的に透過させることができる。よって、カラーフィルタを用いることなく、フルカラー表示ができるので、明るく、コントラストの高いカラー表示を行うことができる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、前記第1の画素壁で囲まれた領域には、前記第1の疎水性液体材料として遮光性を有する疎水性の液体材料が格納され、前記第2の画素壁で囲まれた領域の各々には、前記第2の疎水性液体材料として着色材料を含有する2種以上の疎水性の液体材料が格納されていてもよい。この構成によれば、上述の明るく、コントラストの高いカラーを実現できる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、前記第2の疎水性の液体材料は、RGBRed、Green、Blue、CMYCyan、Magenta、Yellow、RGGBRed、Green、Green、Blue、又は、RGBYRed、Green、Blue、Yellowの各色に対応していてもよい。この構成によれば、上述の明るく、コントラストの高いカラーを実現できる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、前記第1の画素壁及び前記第2の画素壁で囲まれた領域の少なくともいずれかには、各々の画素壁よりも高さの低い突起、又は前記画素壁よりも高さの低い起伏が設けられていてもよい。この構成によれば、突起や起伏を有することにより、電圧を印加していない状態において、画素壁で囲まれた領域内に格納された疎水性液体材料が、厚みの大きい部分と厚みの小さい部分とを有することとなり、厚みの小さい部分を有することによって、電圧を印加した際に親水性材料と疎水性液体材料との界面形状を容易に変化させることができる。よって、電圧を印加した際に画素内に残る疎水性液体材料の量を制御できるので、印加する最大電圧よりも低い電圧の値を制御する事により、中間色の濃さを制御することが可能となり、カラー画像の階調表示を良好に行うことができる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、前記親水性材料がゲル状物質であってもよい。この構成によれば、親水性材料がゲル状物質から構成されるので、第1の基板及び第2の基板の少なくとも一方に親水性材料を塗布し、2つの基板を貼り合せることができる。よって、エレクトロウェッティングディスプレイの製造工程を簡略化でき、コストを低減できる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、第1の画素壁及び前記第2の画素壁の少なくとも一方の高さは、各々が格納する前記疎水性液体材料における電圧非印加状態での高さの2~20倍に設定されていてもよい。この構成によれば、画素壁の高さが所定の範囲に設定されるので、疎水性液体材料を良好に移動させることができる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、前記第1の基板及び前記第2の基板の少なくとも一方における前記画素壁を有する側の表面及び前記画素壁は、疎水性であってもよい。この構成によれば、画素壁を有する側の表面だけでなく画素壁も疎水性とすることができるため、画素壁で囲まれた領域内に疎水性液体材料をより均一に格納することができる。本発明の第2の態様に係るエレクトロウェッティングデバイスは、第1の基板と、前記第1の基板に対向配置される第2の基板と、前記第2の基板に設けられる画素壁で囲まれた領域内に格納される疎水性液体材料とを備えたエレクトロウェッティングディスプレイであって、前記第1の基板及び前記第2の基板は、親水性のゲル状物質を介して対向配置されることを特徴とする。本発明のエレクトロウェッティングディスプレイによれば、親水性のゲル状物質を用いることにより、親水性のゲル状物質からなる層を表面に有する第1の基板と、表面の画素壁で囲まれた領域に疎水性の液体からなる層を均一に有する第2の基板とを別々に用意することができ、これらの基板同士を貼り合わせることにより構成されたものとなる。よって、ムラのない高品質なエレクトロウェッティングディスプレイを提供できる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、前記疎水性液体材料は、疎水性溶媒と着色材料とを含有してもよい。この構成によれば、着色材料を含有する疎水性液体材料を画素壁で囲まれた領域に格納することで明るく、コントラストの高いカラー表示を行うことができる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、異なる色の前記着色材料を含有する2種類以上の前記疎水性液体材料が、それぞれ異なる前記画素壁で囲まれた領域内に格納されていてもよい。この構成によれば、種々の色を表示可能なディスプレイを提供できる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、前記画素壁及び前記第2の基板における前記画素壁が設けられる表面は、疎水性であってもよい。この構成によれば、画素壁を有する側の表面だけでなく画素壁も疎水性とすることができるため、画素壁で囲まれた領域内に疎水性液体材料をより均一に格納することができる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、前記画素壁の高さは、格納する前記疎水性液体材料における電圧非印加状態での高さの2~20倍に設定されていてもよく、画素壁の高さが、セル間のギャップと同じであることも可能となる。つまり、各画素が画素壁に密閉された状況においても、疎水性材料の移動すなわち画素のスイッチングが可能である。この構成によれば、画素壁の高さが所定の範囲に設定されるので、疎水性液体材料を良好に移動させることができる。また、上記エレクトロウェッティングディスプレイにおいては、前記第2の基板における前記画素壁を有する側の表面及び前記画素壁は、疎水性であってもよい。この構成によれば、画素壁を有する側の表面だけでなく画素壁も疎水性とすることができるため、画素壁で囲まれた領域内に疎水性液体材料をより均一に格納することができる。本発明によれば、明るく、コントラストの高いカラー表示ができる。また、本発明によれば、ムラのない高品質な表示を行うことができる。以下、本発明のエレクトロウェッティングディスプレイに係る実施形態について説明する。第1実施形態図1は本実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイの断面構成を示す概略図であり、図2はエレクトロウェッティングディスプレイの動作概念を説明するための図である。なお、図2においては説明に不要な部分の構成については図示を簡略化している。図1に示すようにエレクトロウェッティングディスプレイ100は、第1基板110と、第2基板120とを有し、これら基板110、120が親水層130を介して対向配置されている。親水層130は、基板110、120の外周に沿って設けられたシール部材140で区画される領域に配置されている。第2基板120は、基材120A、TFT121、配線部122、平坦化膜123、画素電極124、コモン電極125及び絶縁膜126を有している。上記基材120Aは、例えば、ガラスや樹脂成型体やフィルム等、表示装置のパネル基板として通常使用されるものから構成される。本実施形態では例えばガラスを用いた。画素電極124、及びコモン電極125は、平坦化膜123上に形成されており、コンタクトホール123aを介してTFT121及び配線部122に接続されている。画素電極124、コモン電極125を構成する材料としては、ITOやAl等が用いられる。電極材料としてITOを用いた場合、エレクトロウェッティングディスプレイ100は、第2基板120の背面側に光源不図示を備えた所謂透過型のディスプレイとなる。また、電極材料としてAlを用いた場合、エレクトロウェッティングディスプレイ100は、外光を電極表面で反射する所謂反射型のディスプレイとなる。本発明は透過型、反射型、又は半透過反射型のディスプレイに適用可能である。コモン電極125は配線部122を介して外部に引き出されることで接地されている。第1基板110は、基材110Aを主体に構成される。上記基材110Aは、例えば、ガラスや樹脂成型体やフィルム等、表示装置のパネル基板として通常使用されるものから構成される。本実施形態では例えばガラスを用いた。基材110Aの表面には、透明導電性膜111が形成されている。透明導電性膜111は、例えば、ITO、IZO、導電性ポリマー、導電性ナノワイヤー等から構成される。透明導電性膜111は、親水層130に接触し、同電位とされている。また、透明導電性膜111の一部はシール部材140の外部に引き出された状態に形成され、外部で第2基板120に設けられた配線部122を介してコモン電極125と接続され、それぞれが接地されている。なお、透明導電性膜111の表面は親水性とされている。透明導電性膜111の表面に親水性を付与する方法としては、UV洗浄、プラズマ洗浄が有効であり、これらの手法を用いることで均一な親水性面を得ることができる。第2基板120の上記絶縁膜126上には、画素壁127が形成されている。画素壁127は格子状に形成されており、第2基板120上に複数の画素Gを区画している。画素電極124及びコモン電極125は各画素G内に一対ずつ配置されている。画素壁127で区画された領域には、疎水性液体材料131が格納されている。エレクトロウェッティングディスプレイ100は、画素電極124に所定電圧を印可することで、図2に示されるように画素電極124の表面の疎水度が和らぎ、親水度の方が強くなることで親水層130を引きつけられることができる。このとき、画素電極124に馴染んでいた疎水性液体材料131は親水層130の力によってコモン電極125上に凸状となるように形状が変化する。以上のように、画素G内の疎水性液体材料131を選択的にコモン電極125上に移動させることで、各画素Gを通る光が疎水性液体材料131を透過する状態と疎水性液体材料131を略透過する状態とを切り替えることが可能となる。本発明者らは、上記画素壁127の高さHは、電圧を印加した際の上記疎水性液体材料131の最大高さよりも高くなるようにすることにより、疎水性液体131による表示画面の汚染表示ムラを抑制することができることを見出した。すなわち、画素壁127の高さHを電圧非印可状態図2参照における疎水性液体材料131の高さH1の2~20倍に設定するのがより好ましいことを見出した。より具体的には、好ましい下限は電圧を印加しない状態における上記疎水性液体材料131の高さの2~5倍であり、好ましい上限は電圧を印加しない状態における上記疎水性液体材料131の高さの8~20倍である。上記画素壁127の高さが電圧を印加しない状態における疎水性液体材料131の高さの2倍未満であると、電圧を印加したときに疎水性液体材料131が画素壁127に寄せ集まることができず、画素G内を透けた状態にできない。また、時には疎水性液体材料131が画素壁127を乗り越えてしまい、周辺の画素Gへ疎水性液体材料131の色素液が流れ込んでしまうことがある。上記画素壁127の高さが電圧を印加しない状態における上記疎水性液体材料131の高さの20倍を超えると、疎水性液体材料131を親水層130が押しのけるに必要な電圧が非常に高くなり、TFT121に耐電圧性が必要となり、リーク電流によるショートが起こりやすくなることがある。上記画素壁127の高さのより好ましい下限は、電圧を印加しない状態における疎水性液体材料131の高さの4倍、より好ましい上限は電圧を印加しない状態における疎水性液体材料131の高さの10倍である。画素壁の高さがこの範囲であるならば、もしセルのギャップと同じ長さである時、各画素が画素壁に密閉された状況においても、すなわち画素壁の表面が疎水性になっているので、疎水性材料の移動すなわち画素のスイッチングが可能である。上記疎水性液体材料131は、疎水性溶媒と着色材料とを含有する。疎水性溶媒は特に限定されず、例えば、デカン、ウンデカン、ドデカン、ヘキサデカン等のアルカンや、シリコーンオイルや、フルオロカーボン等が挙げられる。これらの疎水性溶媒は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、上記着色材料は特に限定されず、例えば、無機系、フタロシアニンやアゾ類、アントラキノン等の有機系等、各種の顔料や染料が利用できるが、エレクトロウェッティングに用いられる溶液特性として、疎水性の液体に溶解するが、親水性の液体には溶解しない必要があり、適宜顔料や染料の表面を疎水性処理されたものが用いられる。上記着色材料を用いない場合は上記疎水性溶媒を上記疎水性液体材料131として用いることができる。本実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ100では、異なる着色剤を含有する2種類以上の疎水性液体材料131を、それぞれ異なる画素壁127で囲まれた画素G内に格納するようにしている。これにより、カラーフィルタを第1基板110及び第2基板110側のいずれに設置しなくても多色表示することができる。カラー表示を行う場合に画素壁127で囲まれた画素G内に格納する疎水性液体材料131としては、3種例えば、RGBRed、Green、BlueやCMYCyan、Magenta、Yellowに対応するもの又は4種例えば、RGGBRed、Green、Green、BlueやRGBYRed、Green、Blue、Yellowに対応するもの用いることが好ましい。本実施形態では、上記着色材料として青色403号、黄色204号、赤色225号キリヤ化学社製それぞれの色素が2.5wtとなるようにヘキサデカン和光純薬工業社製に溶解し、3種類の疎水性液体材料131を用いた。本発明者らは、疎水性液体材料131を格納する画素壁127で囲まれた領域画素Gを全て疎水性とすることにより、画素G内でのムラが少なく、応答性に優れるエレクトロウェッティングデバイス100を製造することができることを見出した。すなわち、画素壁127が親水性の場合、親水層130と画素壁127とのぬれ性が高く、疎水性液体材料131と画素壁127とのぬれ性が低くなるため、画素壁127面での親水層130から疎水性液体材料131への界面変化のエネルギーが高くなり、結果として、電圧の印可時のムラの原因となるからである。そこで、本実施形態においては、第2基板120の画素壁127を有する側の表面及び画素壁127に疎水性を付与する構成とした。疎水性を付与する方法としては、例えば、コーティング剤を塗布することにより、上記第2の基板上に疎水性中間層疎水膜を形成する方法等が挙げられる。本実施形態では、第2基板120の画素壁127を有する側の表面及び画素壁127に疎水性中間層128が形成されている。疎水性中間層128を形成するために用いられるコーティング剤は特に限定されず、例えばポリ4フッ化エチレンテフロン;登録商標、ETFEエチレン-テトラフルオロエチレン共重合体、PVDFポリフッ化ビニリデン、ポリプロピレン等のフルオロポリマーやアルキルポリマーからなるものが挙げられる。本実施形態では、コーティング剤として、ポリ4フッ化エチレン溶液を用いた。このように第2基板120における画素壁127を有する表面だけでなく画素壁127自体も疎水性とすることにより、上記第2基板120の画素壁127で囲まれた領域画素G内に疎水性液体材料131をより均一に格納することが可能となる。さらに、電圧の印加を停止した際の、親水層130と疎水性液体材料131との間の界面形状の変化を高速化させることができ、得られるエレクトロウェッティングディスプレイ100が応答性に優れ、ムラが低減された高信頼性のものとなる。本実施形態では、親水層130として親水性のゲル状物質を用いた。本明細書において上記ゲル状とは、エレクトロウェッティングディスプレイとして電圧を印加したときに親水性の層親水層130と疎水性の層疎水性液体材料131との間の界面形状の変化を妨げない程度の適度な柔軟性と、製造工程時において例えば2つの基板110,120を貼り合わせる際に下に向けても落ちない程度の硬さとを兼ね備えた状態を意味する。更に説明すると、塗布によって親水層130を形成した際、その塗布面を下に反転させ、その後再度その塗布面を上に戻したときに、親水性の層の厚みがその反転及び戻し操作の前後でほぼ同一の厚みを持っていることが求められる。反転及び戻し操作の前後での厚み分布もほぼ同一であることが好ましい。具体的には、反転及び戻し操作の後の親水層130の平均の塗布厚みTaveは、その操作以前の厚みの90以上であることが好ましい。また、最大塗布厚みTmaxと最小厚みTminとすると、Tmax-Tmin/Tave<0.1となることが好ましい。親水層130を構成するゲル状物質は、親水性の液体をゲル化して得られる物質である。また、ゲル状物質は弾性ゲルであることが好ましい。上記親水性の液体は特に限定されず、例えば、非イオン性で分極性の高い液体が好ましく、具体的には水や、メチルアルコール、エチルアルコール、エチレングリコール等の低分子量の一価または多価のアルコール等が挙げられる。これらの親水性の液体は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。上記親水性の液体をゲル化する方法としては、例えば、上記親水性の液体にゲル化剤を添加する方法や、上記親水性の液体の温度を下げる方法や、これらの方法を組み合わせた方法等が挙げられる。上記ゲル化剤としては、親水性ポリマー、無機系のゲル化剤、低分子ゲル化剤等が用いられる。親水性ポリマーとしては、具体的には例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリヒドロキシエチルメタクリレート等の合成高分子や、でんぷん、ペクチン、アガロース、マンナン、グリコーゲン、カラギーナン、セルロース、カルボキシセルロース等の変性セルロースや、ヒアルロン酸、キチン、キトサン等の高分子多糖類やこれらの低分子オリゴマー糖等が挙げられる。また、たんぱく質や、ポリペプタイドやポリアミン、糖たんぱく質等も挙げられる。無機系のゲル化剤としては、具体的には例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン等の無機酸化物、水酸化アルミニウム等の無機水酸化物等が挙げられる。低分子ゲル化剤としては、長鎖アルキルを有する界面活性剤等が挙げられる。上記ゲル化剤の配合量は、エレクトロウェッティングディスプレイ100の各画素Gにおいて画素電極124及びコモン電極125間に電圧を印加した際に疎水性液体材料131が画素壁127で画素G内を移動することを妨げることのないように適宜調整される。例えば、ポリビニルアルコールを用いる場合、配合量の好ましい上限は10重量である。続いて、上記エレクトロウェッティングディスプレイ100の製造方法の一例について図3乃至図6を参照しながら説明する。まず、図3に示すように従来の手法により製造した第2基板120を用意し、第2基板120にフォトレジスト:SU-8化薬マイクロケム社製を用いて高さ40μmの高さで画素壁127を形成する。続いて、図4に示すように画素壁127を有する第2基板120にポリ4フッ化エチレン溶液:AF1600デュポン社製を用いて、画素壁127及び第2基板120表面全体に疎水性中間層128をスピンコート法でコーティングする。また、疎水性の画素壁127としては、ドライフォトレジストやアクリル系フォトレジスト等を用いて形成してもよい。本実施形態では、上記疎水性中間層128によって画素壁127及び画素Gを構成する第2基板120の表面が疎水性とされるので、各画素Gに配置された疎水性液体材料131にバラつきが生じることを防止できる。続いて、図5に示すように疎水性中間層128を有する第2基板120の各画素G内に3種類の疎水性液体材料131をインクジェット装置IJによりそれぞれ配置する。ここで、疎水性液体材料131は、それぞれ異なる画素壁127で囲まれた領域内に配置される。画素Gに配置された疎水性液体材料131の厚みは5μmとした。すなわち、本実施形態では、上記画素壁127の高さHを電圧非印可状態図2参照での高さH1の8倍に設定している。画素G内に疎水性液体材料131を配置方法は特に限定されず、例えば、インクジェット法の他、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷法、ディスペンス法等を用いることができる。これらの方法を用いれば、異なる着色材料を含有する2種以上の疎水性液体材料131をそれぞれ異なる画素壁127で囲まれた画素G内に格納することができ、後述するように親水層130を塗布等により配置することにより、第1基板110及び第2基板120のいずれについてもカラーフィルタを設置しなくてもカラー表示ができる表示デバイスを容易に製造することができる。続いて、親水層130を介して第1基板110と第2基板120とを貼り合せる。具体的に図6に示すように、外周に沿ってシール部材140を配置した基材110A第1基板110を用意し、透明導電膜111が形成された内部に親水層130を配置する。そして、親水層130を配置した基材110Aを上下反転し、シール部材140を介して第1基板110と第2基板120とを貼り合せる。このとき、親水層130は、ゲル状の物質からなるため、上下反転がされた場合であっても、厚みが大きく変化することが無い。具体的に本実施形態では、親水層130として、ポリビニルアルコールクラレ社製、k120を2wとなるように水に溶解したポリビニルアルコール水溶液を親水性のゲル状物資とした。得られた親水性のゲル状物質を第1基板110の基材110Aの片面にナイフコーターを用いて100μmの塗工厚みとなるように塗布した。上記親水層130を塗布した第1基板110上に、光硬化性のシール部材140としてA785積水化学工業社製を、枠を描く様にディスペンサーで塗布し、シールパターンを形成した。各画素Gに疎水性液体材料131を格納した第2基板120に親水層130親水性のゲル状物質を塗布した第1基板110を大気雰囲気下でシール部材140を介して貼り合わせ、365nmの中心波長を有する超高圧水銀灯によって、1000mJの光を照射してシール部材140を硬化させることでエレクトロウェッティングディスプレイ100を製造することができる。本実施形態によれば、上記親水層130がゲル状の物質から構成されるので、第1支持板110に配置した親水層130は下側にしても落下しないので、ロールトゥロール方式を用いて容易に第1支持板110と第2支持板120とを貼り合わせることもできる。第1基板110の片面に親水層130を配置する方法は上述の方法に限定されることはなく、例えば、ロールコーターやダイコーター等を用いて塗布する方法等を用いても良い。また、親水層130としては、第1基板110に塗布する際又は塗工後に温度を下げてゲル化する材料或いは親水性の液体とゲル化剤とを含有する流体ゾルを用いてもよい。また、第1基板110の片面に親水層130を配置する工程と、第2基板120の画素壁127に囲まれた画素G内に疎水性液体材料131を塗布する工程とは、いずれを先に行ってもよいし、同時並行して行ってもよい。また、各々に親水層130を塗布した第1基板110及び第2基板120同士を貼り合せることでエレクトロウェッティングディスプレイ100を製造することもできる。上記工程により得たエレクトロウェッティングディスプレイ100を顕微鏡で観察したところ、疎水性液体材料131がムラなく均一に画素壁127で囲まれた画素G内に格納されていることが確認できた。このディスプレイ100の画素電極124に0V/20Vのパルス電圧で30ヘルツの印加をしたところ、電圧の上下に応答して、疎水性液体材料131と親水層130との界面形状が変化し、図2に示したように疎水性液体材料131の移動による画素領域の開口と閉口とが観察できた。以上述べたように、本実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ100によれば、ゲル状物質からなる親水層130を介して第1基板110及び第2基板120が貼り合わされている。そのため、親水層130を表面に有する第1基板110と、表面の画素壁127で囲まれた画素Gに疎水性液体材料131を均一に有する第2支持板120とを別々に用意できるので、これらの基板110,120同士を貼り合わせることにより構成されたディスプレイは、ムラのない高品質なものとなる。また、親水層130を塗布した第1基板110を上下反転させても親水層130の形状変化が抑えられるので、エレクトロウェッティングディスプレイの製造時における第1基板110の取り扱いが容易となり、生産性が向上し、コスト低減を図ることができる。また、異なる着色材料を含有する2種以上の疎水性液体材料131を隣接する画素G同士が格納している場合であっても、粘度の高いゲル状の親水層130が疎水性液体材料131を覆っているので、着色材料同士が混じることによる混色が発生して、表示品質を低下させるといった不具合を防止できる。また、親水層130の粘度を調整することで電圧印可時に疎水性液体材料131を高速で移動させることが可能となり、高速応答性に優れたディスプレイを提供できる。また、従来のエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法では、1種類1色の疎水性の液体しか用いることができず、得られるエレクトロウェッティングディスプレイを多色表示できるものとするためには、別途カラーフィルタを第1基板110側又は第2基板側のいずれかに設置する必要があった。これに対し、本実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ100の製造方法では、異なる着色材料を含有する2種類以上の上記疎水性液体材料131を、それぞれ異なる画素壁127で囲まれた画素G内に格納するので、カラーフィルタを設置しなくても多色表示することができる。また、本実施形態によれば、画素壁127の高さHが電圧非印可状態図2参照での高さH1の2~20倍に設定されるので、疎水性液体131による表示画面の汚染表示ムラが抑制された、高品質の画像を表示することができる。また、第2基板120の画素壁127を有する側の表面及び画素壁127が疎水性中間層128によって疎水性とされるため、疎水性液体材料131が画素G内に均一に格納されることとなり、電圧の印加を停止した際の、親水層130と疎水性液体材料131との間の界面形状の変化が高速化することで応答性に優れ、ムラが低減された高品位の画像を表示できる。上記実施形態では、第1基板110及び第2基板120をゲル状物質からなる親水層130で貼り合せた構造を備えたエレクトロウェッティングディスプレイ100表示素子について説明したが、疎水性液体材料131として用いる材料を適宜変更することで表示素子のみではなく、光学レンズ、調光素子、熱線制御素子等に適用可能なエレクトロウェッティングデバイスとしても応用可能である。第2実施形態本発明者は、エレクトロウェッティングデバイスのセル内の上下両方の基板に駆動部分を有する駆動方式以下、上下駆動方式と称する場合もあるを導入することにより、ディスプレイ表示素子として用いた際に、明るく、コントラストの高いカラー表示ができることを見出し、本実施形態に係る構成を完成させるに至った。以下、エレクトロウェッティングディスプレイの第2実施形態に係る構成について説明する。ここで、第1実施形態と同一の部材については同じ符号を付し、その詳細な説明については省略若しくは簡略化するものとする。図7は第2実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイの断面構成を示す図であり、図8、9はエレクトロウェッティングディスプレイの動作を説明するための図であって、図8は上面側の電極に電圧を印加することで親水性材料と疎水性液体材料との間の界面形状を変化させた状態白表示状態を示すものであり、図9は図8と異なる状態白以外のカラー表示状態を示すものである。なお、図8、9においては、説明に必要ない部材については図を簡略化している。図7に示すように、本実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ200は、第1基板210と、第2基板220とを有し、これら基板210、220が親水性材料230を介して対向配置されている。親水性材料230は、基板210、220の外周に沿って設けられたシール部材140で区画される領域に配置されている。本明細書において、セルとは、第1基板210及び第2基板220間に生じる親水性材料230及び後述の疎水性液体材料231,232が配置される領域を意味する。なお、シール部材140には第1基板210及び第2基板220間を導通させる基板間導通部140aが埋設されている。第1基板210は、基材210A、TFT211、配線部212、平坦化膜213、画素電極214、コモン電極215及び絶縁膜216を有している。上記基材210Aは、例えば、ガラスや樹脂成型体やフィルム等、表示装置のパネル基板として通常使用されるものから構成される。本実施形態では例えばガラスを用いた。画素電極214、及びコモン電極215は、平坦化膜213上に形成されており、コンタクトホール213aを介してTFT211及び配線部212に接続されている。基材210Aの端部には、シール部材140内に設けられた基板間導通部140aを介して第2基板220側と導通する導電部218が形成されている。導電部218は、親水性材料230に接触し、同電位とされている。また、導電部218は、不図示の領域において配線部212を介してコモン電極215と電気的に接続されている。第1基板210の上記絶縁膜216上には、第1の画素壁217が形成されている。第1の画素壁217は格子状に形成されており、第1基板210上に複数の画素G1を区画している。画素電極214及びコモン電極215は各画素G1内に一対ずつ配置されている。第1の画素壁217で区画された領域画素G1には、疎水性液体材料第1の疎水性液体材料231が格納されている。一方、第2基板220は、基材220A、TFT221、配線部222、平坦化膜223、画素電極224、コモン電極225及び絶縁膜226を有している。上記基材220Aは、例えば、ガラスや樹脂成型体やフィルム等、表示装置のパネル基板として通常使用されるものから構成される。本実施形態では例えばガラスを用いた。画素電極224、及びコモン電極225は、平坦化膜223上に形成されており、コンタクトホール223aを介してTFT221及び配線部222に接続されている。基材220Aの端部には、シール部材140の外部に一部が引き出された状態とされる導電部228が形成されている。導電部228は、親水性材料230に接触し、同電位とされている。導電部228は、外部で第2基板220に設けられたコモン電極225と接続され、それぞれが接地されている。また、導電部228は、シール部材140内に設けられた基板間導通部140aを介して第1基板210側のコモン電極215と電気的に接続されている。これにより、第1基板210側のコモン電極215は、導電部228を介して第2基板220側のコモン電極225と同電位接地状態とされている。なお、上記基板間導通部140a、導電部218、228は、セル内に複数設けられるのが望ましく、このようにすればセル内の親水性材料230の電位のバラつきを無くすことができる。第2基板210の上記絶縁膜226上には、第2の画素壁227が形成されている。第2の画素壁227は格子状に形成されており、第2基板220上に複数の画素G2を区画している。画素電極224及びコモン電極225は各画素G内に一対ずつ配置されている。第2の画素壁227で区画された領域画素G2には、疎水性液体材料232が格納されている。ここで、第1基板210側に形成された第1の画素壁217と第2基板220側に形成された第2の画素壁227とは、平面視した状態で重なる。すなわち、第1の画素壁217により区画される画素G1と、第2の画素壁227により区画される画素G2とは、平面視した状態で重なる。上記親水性材料230は特に限定されず、例えば、非イオン性で分極性の高い液体が好ましく、具体的には水や、メチルアルコール、エチルアルコール、エチレングリコール等の低分子量の一価または多価のアルコール等が挙げられる。これらの親水性の液体は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。上記親水性材料230としては、上記第1実施形態で述べたようにゲル化或いはゾル化したものを用いることもできる。上記疎水性液体材料231は、遮光性を有する疎水性の液体であれば特に限定されず、例えば、疎水性溶媒に可視光を通さない染料及び/又は顔料を含有して着色したものを用いた。疎水性溶媒は特に限定されず、例えば、デカン、ウンデカン、ドデカン、ヘキサデカン等のアルカンや、シリコーンオイルや、フルオロカーボン等が挙げられる。これらの疎水性溶媒は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、上記染料又は上記顔料は特に限定されず、例えば、無機系、フタロシアニンやアゾ類の有機系など、各種の顔料や染料が利用できるが、エレクトロウェッティングに用いられる溶液特性として、疎水性液体に溶解するが、親水性液体に溶解しない必要があり、適宜顔料表面を疎水性処理されたものが用いられる。例えば、鉄やクロムなどの金属酸化物、硫化物などがある。また、酸化チタンなどの還元物や、ケッチェンブラックなどのカーボン類がある。鉄などの金属の錯体も用いられる。本実施形態では、上記疎水性液体材料231として疎水性表面を有するカーボンブラックを5wtの濃度でヘキサデカンに溶解した疎水性顔料混合体を用いた。また、上記疎水性液体材料232は、疎水性溶媒と着色材料とを含有する。疎水性溶媒としては上述のものを例示できる。また、上記着色材料は特に限定されず、例えば、無機系、フタロシアニンやアゾ類、アントラキノン等の有機系等、各種の顔料や染料が利用できるが、エレクトロウェッティングに用いられる溶液特性として、疎水性の液体に溶解するが、親水性の液体には溶解しない必要があり、適宜顔料や染料の表面を疎水性処理されたものが用いられる。本実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ200では、異なる着色剤を含有する2種類以上の疎水性液体材料232を、それぞれ異なる第2の画素壁227で囲まれた画素G2内に格納するようにしている。これにより、カラーフィルタを第1基板210及び第2基板220側のいずれにおいても設置しなくても多色表示することができる。カラー表示を行う場合に第2の画素壁227で囲まれた画素G2内に格納する疎水性液体材料232としては、3種例えば、RGBRed、Green、BlueやCMYCyan、Magenta、Yellowに対応するもの又は4種例えば、RGGBRed、Green、Green、BlueやRGBYRed、Green、Blue、Yellowに対応するもの用いることが好ましい。本実施形態では、上記着色材料として青色403号、黄色204号、赤色225号キリヤ化学社製それぞれの色素が2.5wtとなるようにヘキサデカン和光純薬工業社製に溶解し、3種類の疎水性液体材料232を用いた。エレクトロウェッティングディスプレイ200は、第2基板220側において、画素電極224に所定電圧例えば、30Vを印可することで画素電極224の表面の疎水度が和らぎ、親水度の方が強くなることで親水材料230を引きつけられることができる。このとき、画素電極224に馴染んでいた疎水性液体材料232は親水材料230の力によってコモン電極225上に凸状となるように形状が変化する。以上のように、画素G2内の疎水性液体材料232を選択的にコモン電極225上に移動させることで、各画素G2を通る光の色を変調することが可能となる。一方、エレクトロウェッティングディスプレイ200は、第1基板210側において、画素電極214に所定電圧例えば、30Vを印可することで画素電極214の表面の疎水度が和らぎ、親水度の方が強くなることで親水材料230を引きつけられることができる。このとき、画素電極214に馴染んでいた疎水性液体材料231は親水材料230の力によってコモン電極215上に凸状となるように形状が変化する図8,9参照。以上のように、画素G1内の遮光性を有する疎水性液体材料231を選択的にコモン電極215上に移動させることで、各画素G1を透過或いは遮断するシャッターとして機能する。よって、図8に示すように全ての画素G1,G2において疎水性液体材料231,232を凸状に移動させることで白色の画像を表示することができる。また、図9に示すように、所定の色に対応する画素G1のみの疎水性液体材料231のみを凸状に移動させることで他の画素の光は遮光性を有する疎水性液体材料231によって遮光されるので、所定の色の画像を表示することができる。ところで、第1の画素壁217及び第2の画素壁227が親水性の場合、親水性材料230と画素壁217,227とのぬれ性が高く、疎水性液体材料231,232と各画素壁217,227とのぬれ性が低くなるため、画素壁217,227面での親水性材料230から疎水性液体材料231,232への界面変化のエネルギーが高くなり、結果として、電圧の印可時のムラの原因となるからである。そこで、本実施形態においては、第1基板210の第1の画素壁217を有する側の表面及び第1の画素壁217、並びに第2基板220の第2の画素壁227を有する側の表面及び第2の画素壁227に疎水性を付与する構成とした。疎水性を付与する方法としては、第1実施液体と同様にポリ4フッ化エチレン溶液を用いた疎水性中間層128を形成した。このように第1基板210及び第2基板220における画素壁217,227を有する表面だけでなく画素壁217,227自体も疎水性とすることにより、上記第1基板210及び第2基板220の各画素壁217,227で囲まれた領域画素G1,G2内に疎水性液体材料231,232をより均一に格納することが可能である。さらに、電圧の印加を停止した際の、親水性材料230と疎水性液体材料231,232との間の界面形状の変化を高速化させることができ、得られるエレクトロウェッティングディスプレイ200が応答性に優れたものにしている。エレクトロウェッティングディスプレイ200は、このような構成に基づいて上下両方の基板に駆動部分を有する構成を実現している。これにより、第2基板220側の所望の画素G2において疎水性液体材料232をコモン電極225上に移動させることで画素G2毎に所望の色を表示するとともに、第1基板210側の所望の画素G1において疎水性液体材料231をコモン電極215上に移動させることで対応する画素G2からの光を透過させることでカラーフィルタを第1基板210及び第2基板220のいずれにも設置することなく、フルカラー画像を表示することが可能となる。また、第1基板210側の各画素G1がシャッターとして機能するため、明るく、コントラストの高い画像を表示できる。続いて、上記エレクトロウェッティングディスプレイ200の製造方法の一例について説明する。まず、従来の手法により製造した第1基板210及び第2基板220を用意し、第1基板210及び第2基板220にフォトレジスト:SU-8化薬マイクロケム社製を用いて高さ40μmの高さで第1の画素壁217及び第2の隔壁227をそれぞれ形成する。続いて、第1の画素壁217を有する第1基板210及び第2の画素壁227を有する第2基板220にポリ4フッ化エチレン溶液:AF1600デュポン社製を用いて、第1の画素壁217及び第2の画素壁227並びに第1基板210及び第2基板220表面全体に疎水性中間層128をスピンコート法でコーティングする。また、疎水性の画素壁217,227としては、ドライフォトレジストやアクリル系フォトレジスト等を用いて形成してもよい。本実施形態では、上記疎水性中間層128によって画素壁217,227、及び画素G1,G2を構成する第1基板210、第2基板220の表面が疎水性とされるので、各画素G1,G2に配置された疎水性液体材料231,232にバラつきが生じることを防止できる。続いて、疎水性中間層128を有する第1基板210の各画素G1内に遮光性を有する疎水性液体材料231をインクジェット装置によりそれぞれ配置する。同様に、疎水性中間層128を有する第2基板220の各画素G2内に3種類の疎水性液体材料232をインクジェット装置によりそれぞれ配置する。疎水性液体材料231、232を配置した後、常温で放置することで画素G1,G2に配置された疎水性液体材料231,232の厚みを5μmとした。すなわち、本実施形態では、上記画素壁217,227の高さHを電圧非印可状態での疎水性液体材料231,232の高さH1の8倍に設定している。画素G1,G2内に疎水性液体材料231,232を配置方法は特に限定されず、例えば、インクジェット法の他、スクリーン印刷、スリットコーティング、フレキソ印刷、グラビア印刷法、ディスペンス法、スピンコート法等を用いることができる。続いて、第1基板210及び第2基板220を親水性材料230を介して貼り合せる。具体的に外周に沿ってシール部材140を配置した基材210A第2基板210を用意し、内部に親水性材料230を配置する。親水性材料230としては、親水性の液体にゲル化剤を添加する等により常温でもゲル状である物質であってもよいし、エレクトロウェッティングディスプレイ100の製造時に温度を下げる等してゲル化し、製造後、常温において液状に戻っているものであってもよい。このようなゲル化したものを用いることで上下反転がされた場合であっても、厚みが大きく変化することが無くなるので、基材210Aを上下反転してシール部材140を介して第1基板210と第2基板220とを良好に貼り合せることができる。透明なフィルム面の一方面に上記ゲル状の親水性材料230を塗布し、フィルムの親水性材料230を第1基板210の第1の画素壁217側に貼り合わせ、さらにフィルムの他面に親水性材料230を塗布し、それを第2基板220の第2の画素壁227側に貼り合わせることにより第1基板210及び第2基板220の貼り合せを行うようにしてもよい。以上に述べたように本実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ200によれば、第1基板210側の画素G2内において遮光性を有する親水性材料231をエレクトロウェッティング効果によって駆動できるので、明るく、コントラストの高い画像を得られることができる。また、本実施形態によれば、画素壁217,227の高さHが電圧非印可状態での高さH1の2~20倍に設定されるので、疎水性液体231,232による表示画面の汚染表示ムラが抑制された、高品質の画像を表示できる。また、第1基板210及び第2基板220の画素壁217,227を有する側の表面及び画素壁217,227が疎水性中間層128によって疎水性とされるため、疎水性液体材料231,232が画素G1,G2内に均一に格納されることとなり、電圧の印加を停止した際の、親水性材料230と疎水性液体材料231,232との間の界面形状の変化が高速化することで応答性に優れ、ムラが低減された高品位の画像を表示できる。また、第2実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ200、及び第1実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ100について電圧20Vのパルス電圧を、10ヘルツの周期で印加し、表示画像のコントラストを評価した。第1実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ100のコントラストは10以下であり、第2実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ200のコントラストは20であった。このように本実施形態に係るような上下駆動方式の構造を採用することでコントラストを向上させることができることが確認できた。評価本発明のエレクトロウェッティングディスプレイの効果表示ムラの発生の有無について説明する。表1は表示ムラの発生の有無に関する評価結果を示す。表1中の実施例1とは、第2実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ200において、疎水性表面を有するカーボンブラックを5wtの濃度でヘキサデカンに溶解したものを疎水性液体材料232として用いた。また、表1中の比較例1は、第1の画素壁217の高さを5μmとした以外は、実施例1と同様の構成を有したエレクトロウェッティングディスプレイに対応する。また、比較例2は、第2基板220の表面のみに疎水性中間層128を形成し、第2の画素壁227については疎水処理を施さず、親水性の第2の画素壁227を有した第2基板220を備える以外は、実施例1と同様の構成を有したエレクトロウェッティングディスプレイに対応する。本評価では、実施例1、比較例1、2の各ディスプレイを縦に設置し、電圧20Vのパルス電圧を10ヘルツの周期でそれぞれ印加した。そして、10時間印可後、電圧印可時または非印可時において、各エレクロトウェッティングディスプレイについて表示ムラが無かった場合を○、表示ムラがあった場合を×として表示画面のムラについて評価した結果を表1に示した。表1からは、比較例1に係る構成のように実施例1に比べて第1の画素壁217の高さを5μmと低くすると、電圧非印可時に表示ムラが生じることが確認できる。この結果は、第1の画素壁217の高さHを疎水性液体材料231の高さH1に基づいて規定することの効果を示す。すなわち、実施例1のように第1の画素壁217の高さHを電圧非印可状態における疎水性液体材料231の高さH1の2~20倍に設定すれば疎水性液体231による表示画面の汚染表示ムラを抑制できることが確認された。また、表1からは、比較例2に係る構成のように実施例1に比べて第2の画素壁227を親水性とすると、電圧印可時に表示ムラが生じることが確認できる。この結果は、第2基板220の表面に加えて第2の画素壁227についても疎水化することが重要であることの効果を示す。すなわち、実施例1のように第2の画素壁227についても疎水化すれば電圧の印可時のムラを抑制できることが確認された。本発明は以下の実施形態に限定されることはなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において適宜変更可能である。例えば、図10に示すように、第1実施形態及び第2実施形態において、疎水性液体材料131,231,232を格納する各画素G,G1,G2に、上記画素壁127,217,227よりも低い突起50を形成するようにしてもよい。また、突起50に代えて、画素壁127,217,227よりも低い起伏を形成するようにしてもよい。上記突起50や上記起伏を有することにより、電圧を印加していない状態において、上記画素壁127,217,227で囲まれた領域画素G,G1,G2内に格納された疎水性液体材料131,231,232が、厚みの大きい部分と厚みの小さい部分とを有することとなり、厚みの小さい部分を有することによって、電圧を印加した際に親水性の液体親水層130又は親水性材料230と疎水性液体材料131,231,232との界面形状を容易に変化させることができる。よって、電圧を印加した際に各画素G,G1,G2内に残る疎水性液体材料131,231,232の量を精度よく制御可能となるので、印加する最大電圧よりも低い電圧の値を制御する事により中間色の濃さを精度よく制御することが可能となる。よって、カラー画像の階調表示を良好に行うことができる。"