"酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂、無機フィラー、分散剤、ラジカル重合性モノマー、光重合開始剤、熱架橋剤および含窒素ヘテロ環化合物をそれぞれ少なくとも1種含有する感光性樹脂組成物であって、該無機フィラーの含有量が該感光性樹脂組成物の不揮発成分全容量中の20容量以上であって、該含窒素ヘテロ環化合物が環骨格原子として3つ以上の窒素原子を有する、ベンゼン非縮環の不飽和5員環化合物であり、かつ該分散剤が無機フィラーの表面と相互作用する基を有し、エチレン性不飽和基を有さない高分子分散剤であることを特徴とする感光性樹脂組成物。前記ベンゼン非縮環の不飽和5員環の含窒素ヘテロ環化合物が、下記一般式IS-AまたはIS-Bで表される化合物であることを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。一般式IS―AまたはIS-Bにおいて、RIS1は水素原子、アルキル基、アリール基またはアシル基を表す。XIS1、XIS2およびXIS3は各々独立に-CRIS2=または-N=を表す。ここでRIS2は、水素原子または置換基を表す。ただし、XIS1、XIS2およびXIS3の少なくとも1つは-N=である。前記ベンゼン非縮環の不飽和5員環の含窒素ヘテロ環化合物が、下記一般式IS1で表される化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の感光性樹脂組成物。一般式IS1において、RIS1は水素原子、アルキル基、アリール基またはアシル基を表す。RIS3およびRIS4は各々独立に、水素原子または置換基を表す。前記分散剤が、塩基性基または酸性基を有する分散剤であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。前記分散剤が、第一級アミノ基または第二級アミノ基を有することを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。前記分散剤が、グラフト鎖を有することを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。前記分散剤のアミン価が、0.65mmol/g以上であることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。前記分散剤の酸価が、0.1mmol/g以上であることを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。前記無機フィラーが、構成原子にケイ素を含むことを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項1~9のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であり、かつ下記一般式1~3のいずれかの構造を有することを特徴とする請求項1~10のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式1~3において、R1~R11は各々独立に、水素原子または1価の有機基を表す。XおよびYは各々独立に、酸素原子、硫黄原子または-NR12-を表す。ここで、R12は、水素原子または1価の有機基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、-NR13-または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。ここでR13は、水素原子または1価の有機基を表す。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であり、かつ該樹脂質量中の芳香族部分の質量芳香環の骨格を構成する原子並びに該原子に結合する水素原子の総質量、および2つの芳香環が-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-で連結されている場合はこの連結部分の質量を加えた総質量含有率が30質量以上であることを特徴とする請求項1~11のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であり、かつ下記一般式UBで表される部分構造を有することを特徴とする請求項1~12のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式UBにおいて、XL1は、単結合、-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-を表し、Ru1~Ru8は各々独立に水素原子または置換基を表す。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつ下記一般式UBで表される部分構造を有し、該樹脂の構造中に占める該一般式UBの芳香族部分の質量含有率が30質量以上であることを特徴とする請求項1~13のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式UBにおいて、XL1は、単結合、-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-を表し、Ru1~Ru8は各々独立に水素原子または置換基を表す。前記一般式UBにおいて、Ru1~Ru8がいずれも水素原子であることを特徴とする請求項13または14に記載の感光性樹脂組成物。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつ下記一般式UNCOで表される部分構造を有することを特徴とする請求項1~15のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式UNCOにおいて、XL1は、単結合、-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-を表す。Ru1~Ru8は各々独立に水素原子または置換基を表す。前記一般式UNCOにおいて、Ru1~Ru8がともに水素原子であり、かつXL1が-CH2-であることを特徴とする請求項16に記載の感光性樹脂組成物。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂の構造中に占める前記一般式UNCOで表される芳香族部分の質量含有率が、30質量以上であることを特徴とする請求項16または17に記載の感光性樹脂組成物。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつ下記一般式UE1で表される部分構造を有することを特徴とする請求項1~18のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式UE1において、LUEは主鎖の結合に-NHC=OO-もしくは-OC=ONH-を含まない2価の連結基であって、かつエチレン性不飽和基もしくはこれを有する基が1つ置換した2価の連結基を表す。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつ下記一般式G1で表される部分構造を有することを特徴とする請求項1~19のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式G1において、R1~R3は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Aは2価の有機残基を表し、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は-NR12-を表し、R12は、水素原子、又は1価の有機基を表す。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつ下記一般式U1で表される部分構造を有することを特徴とする請求項1~20のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式U1において、LU1はエチレン性不飽和基およびカルボキシル基を含まない2価の連結基を表す。前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつポリマー末端に、カルボキシル基を有する基を有することを特徴とする請求項1~21のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。請求項1~22のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を含む感光層を支持体上に有してなることを特徴とする感光性フィルム。基体上に、請求項1~22のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を含む感光層を有することを特徴とする感光性積層体。請求項1~22のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物により形成された感光層に対して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とする永久パターン形成方法。請求項25に記載の永久パターン形成方法により永久パターンが形成されてなることを特徴とするプリント基板。本発明は、かかる従来における前記諸問題に対応し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、無機フィラーを安定に高密度に分散でき、パターン形成アンダーカットの改良、絶縁性、平坦性、解像性、耐熱性、さらには現像性や転写性に優れた高性能な硬化膜を得ることができ、感光性樹脂組成物もしくは感光性フイルム等、特にソルダーレジスト用などに好適な高充填無機フィラー含有感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。さらに、このような感光性樹脂組成物を使用した感光性積層体、永久パターン形成方法およびプリント基板を提供することを目的とする。本発明者等は種々の試行錯誤も含め鋭意検討を重ねた結果、本発明の上記課題は、下記手段で解決できることを見出した。すなわち、本発明の上記課題を解決するための手段は、以下の通りである。<1>酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂、無機フィラー、分散剤、ラジカル重合性モノマー、光重合開始剤、熱架橋剤および含窒素ヘテロ環化合物をそれぞれ少なくとも1種含有する感光性樹脂組成物であって、該無機フィラーの含有量が該感光性樹脂組成物の不揮発成分全容量中の20容量以上であって、該含窒素ヘテロ環化合物が環骨格原子として3つ以上の窒素原子を有する、ベンゼン非縮環の不飽和5員環化合物であり、かつ該分散剤が無機フィラーの表面と相互作用する基を有し、エチレン性不飽和基を有さない高分子分散剤である感光性樹脂組成物。<2>前記ベンゼン非縮環の不飽和5員環の含窒素ヘテロ環化合物が、下記一般式IS-AまたはIS-Bで表される化合物である<1>に記載の感光性樹脂組成物。一般式IS―AまたはIS-Bにおいて、RIS1は水素原子、アルキル基、アリール基またはアシル基を表す。XIS1、XIS2およびXIS3は各々独立に-CRIS2=または-N=を表す。ここでRIS2は、水素原子または置換基を表す。ただし、XIS1、XIS2およびXIS3の少なくとも1つは-N=である。<3>前記ベンゼン非縮環の不飽和5員環の含窒素ヘテロ環化合物が、下記一般式IS1で表される化合物である<1>または<2>に記載の感光性樹脂組成物。一般式IS1において、RIS1は水素原子、アルキル基、アリール基またはアシル基を表す。RIS3およびRIS4は各々独立に、水素原子または置換基を表す。<4>前記分散剤が、塩基性基または酸性基を有する分散剤である<1>~<3>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。<5>前記分散剤が、第一級アミノ基または第二級アミノ基を有する<1>~<4>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。<6>前記分散剤が、グラフト鎖を有する<1>~<5>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。<7>前記分散剤のアミン価が、0.65mmol/g以上である<1>~<6>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。<8>前記分散剤の酸価が、0.1mmol/g以上であることを特徴とする<1>~<7>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。<9>前記無機フィラーが、構成原子にケイ素を含む<1>~<8>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。<10>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂である<1>~<9>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。<11>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であり、かつ下記一般式1~3のいずれかの構造を有する<1>~<10>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式1~3において、R1~R11は各々独立に、水素原子または1価の有機基を表す。XおよびYは各々独立に、酸素原子、硫黄原子または-NR12-を表す。ここで、R12は、水素原子または1価の有機基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、-NR13-または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。ここでR13は、水素原子または1価の有機基を表す。<12>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であり、かつ該樹脂質量中の芳香族部分の質量芳香環の骨格を構成する原子並びに該原子に結合する水素原子の総質量、および2つの芳香環が-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-で連結されている場合はこの連結部分の質量を加えた総質量含有率が30質量以上である<1>~<11>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。<13>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であり、かつ下記一般式UBで表される部分構造を有する<1>~<12>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式UBにおいて、XL1は、単結合、-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-を表し、Ru1~Ru8は各々独立に水素原子または置換基を表す。<14>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつ下記一般式UBで表される部分構造を有し、該樹脂の構造中に占める該一般式UBの芳香族部分の質量含有率が30質量以上である<1>~<13>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式UBにおいて、XL1は、単結合、-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-を表し、Ru1~Ru8は各々独立に水素原子または置換基を表す。<15>前記一般式UBにおいて、Ru1~Ru8がいずれも水素原子である<13>または<14>に記載の感光性樹脂組成物。<16>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつ下記一般式UNCOで表される部分構造を有する<1>~<15>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式UNCOにおいて、XL1は、単結合、-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-を表す。Ru1~Ru8は各々独立に水素原子または置換基を表す。<17>前記一般式UNCOにおいて、Ru1~Ru8がともに水素原子であり、かつXL1が-CH2-である<16>に記載の感光性樹脂組成物。<18>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂の構造中に占める前記一般式UNCOの芳香族部分の質量含有率が、30質量以上である<16>または<17>に記載の感光性樹脂組成物。<19>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつ下記一般式UE1で表される部分構造を有する<1>~<18>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式UE1において、LUEは主鎖の結合に-NHC=OO-もしくは-OC=ONH-を含まない2価の連結基であって、かつエチレン性不飽和基もしくはこれを有する基が1つ置換した2価の連結基を表す。<20>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつ下記一般式G1で表される部分構造を有する<1>~<19>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式G1において、R1~R3は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Aは2価の有機残基を表し、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は-NR12-を表し、R12は、水素原子、又は1価の有機基を表す。<21>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつ下記一般式U1で表される部分構造を有する<1>~<20>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。一般式U1において、LU1はエチレン性不飽和基およびカルボキシル基を含まない2価の連結基を表す。<22>前記酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂が、ポリウレタン樹脂であって、かつポリマー末端に、カルボキシル基を有する基を有する<1>~<21>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。<23>前記<1>~<22>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を含む感光層を支持体上に有してなることを特徴とする感光性フィルム。<24>基体上に、<1>~<22>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を含む感光層を有することを特徴とする感光性積層体。<25>前記<1>~<22>のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物により形成された感光層に対して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とする永久パターン形成方法。<26>前記<25>に記載の永久パターン形成方法により永久パターンが形成されてなることを特徴とするプリント基板。本発明により、無機フィラーを安定かつ高密度に分散でき、特にソルダーレジスト用などに好適で、パターン形成アンダーカットの改良、絶縁性、平坦性、解像性、耐熱性さらには現像性や転写性に優れた高性能な硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フイルム、感光性積層体、永久パターン形成方法およびプリント基板が提供できる。感光性樹脂組成物本発明の感光性樹脂組成物以下、単に感光性組成物または組成物とも称すは、酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂、無機フィラー、分散剤、ラジカル重合性モノマー、光重合開始剤および熱架橋剤をそれぞれ少なくとも1種含有する組成物であり、エラストマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。本発明の酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂は、少なくともエチレン性不飽和基を有する酸変性の樹脂であり、このような酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂としては、以下の樹脂が挙げられる。1ポリウレタン樹脂2メタアクリル樹脂3ポリエーテル樹脂4ノボラック型樹脂5ポリエステル樹脂6ポリアミドもしくはポリイミド樹脂このうち、3のポリエーテル樹脂と4のノボラック型樹脂はエポキシ樹脂から得られる樹脂である。また2のメタアクリル樹脂は、アクリル樹脂とメタクリル樹脂を含む樹脂の総称である。本発明の樹脂は、酸変性樹脂であり、該酸の酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、ホスホ基が挙げられるが、カルボキシル基が好ましい。また、エチレン性不飽和基としては、どのような基でも構わないが、後述の一般式1~3で表される基が好ましく、後述の一般式1で表される基がさらに好ましい。上記の1~6の樹脂のうち、1~4の樹脂が好ましく、1の樹脂が特に好ましい。最初に酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂を詳細に説明する。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、本発明においては、特に、側鎖にエチレン性不飽和結合を有する酸変性ポリウレタン樹脂が好ましい。本発明において、側鎖とは、ポリウレタン樹脂の主鎖を構成する原子の鎖から分岐もしくは主鎖を構成する原子に置換して連結した鎖であり、側鎖にエチレン性不飽和基を有すとは、エチレン性不飽和基をこのような側鎖に含むか、主鎖を構成する原子にエチレン性不飽和基が直接置換している。例えば、HOCH2CH=CHCH2OHのジオールとOCNCH26NCOとの反応のみで得られるポリウレタン樹脂は主鎖にエチレン性不飽和基を含むものである。なお、エチレン性不飽和基含有化合物により、ポリマー末端の封止した部分は側鎖ではない。また、エチレン性不飽和基とは、臭素価やヨウ素価の測定で消費されるエチレン結合を有する基であり、ベンゼンのような芳香族を示す基ではない。エチレン性不飽和基は置換基を有してもよいビニル基が好ましい。本発明で使用する酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂の好ましい分子量、酸価およびエチレン性不飽和基当量および感光性樹脂組成物の好ましい含有量を以下に説明する。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂の質量平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、質量平均分子量で3,000~60,000が好ましく、3,000~50,000がより好ましく、4,000~30,000が特に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物を感光性ソルダーレジストに用いた場合には、このような質量平均分子量の範囲であると、耐熱性にも優れ、アルカリ性現像液による非画像部の現像性に優れる。なお、質量平均分子量が、3,000未満であると、耐熱性が得られないことがあり、60,000を超えると、塗布適性及び現像性が悪化することがある。ここで、前記質量平均分子量は、例えば、高速GPC装置東洋曹達株式会社製、HLC-802Aを使用して、0.5質量のTHF溶液を試料溶液とし、カラムはTSKgelHZM-M1本を使用し、200μLの試料を注入し、前記THF溶液で溶離して、25°Cで屈折率検出器又はUV検出器検出波長254nmにより測定することができる。そして、標準ポリスチレンで較正した分子量分布曲線より質量平均分子量を求めた。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂の酸価としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、20mgKOH/g~120mgKOH/gが好ましく、30mgKOH/g~110mgKOH/gがより好ましく、35mgKOH/g~100mgKOH/gが特に好ましい。酸価が、20mgKOH/g未満であると、現像性が不十分となることがあり、120mgKOH/gを超えると、現像速度が高すぎるため現像のコントロールが難しくなることがある。ここで、酸価は、例えば、JISK0070に準拠して測定することができる。なお、サンプルが溶解しない場合は、溶媒としてジオキサン又はテトラヒドロフランなどを使用する。なお、酸価は上記樹脂の固形分酸価である。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂のエチレン性不飽和基当量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.05mmol/g~3.0mmol/gが好ましく、0.5mmol/g~2.7mmol/gがより好ましく、0.75mmol/g~2.5mmol/gがさらに好ましい。さらに、この好ましい範囲は、中でも1.0mmol/g以上好ましくは1.0mmol/g~2.5mmol/gが好ましく、1.1mmol/g以上好ましくは1.1mmol/g~2.5mmol/gが特に好ましく、1.20mmol/g以上好ましくは1.20mmol/g~2.5mmol/gが最も好ましい。エチレン性不飽和基当量が、0.05mmol/g未満であると、硬化膜の耐熱性が劣ることがある。ここで、エチレン性不飽和基当量は、例えば、臭素価を測定することにより求めることができる。前記臭素価は、例えば、JISK2605に準拠して測定することができる。なお、ここで、エチレン性不飽和当量は、代表的にはビニル基当量であり、上記臭素価で得られた測定する樹脂100gに対して付加した臭素Br2のグラム数gBr2/100gから、樹脂1g当たりの付加した臭素Br2のモル数に変換した値である。本発明において、酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂は、該ポリウレタン樹脂質量中の芳香族部分の含有率が30質量以上であることが好ましく、30質量~60質量がより好ましく、33質量~55質量が更に好ましく、35質量~50質量が特に好ましい。芳香族部分の質量含有率が30質量未満であると、硬度が低下してしまうことがある。ここで、芳香族という用語は、文献、特にJerryMARCH,MARCH’SAdvancedOrganicChemistry,第5版,JohnWileyandSons,2001,37頁以下に定義されているような芳香族の慣用概念を意味する。芳香族とは炭化水素環およびヘテロ環で芳香族性を示すものが好ましく、本発明においては、炭化水素環が好ましい。本発明における上記の芳香族部分の質量とは、芳香環の骨格を構成する原子並びに該原子に結合する水素原子の総質量、および2つの芳香環が-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-で連結されている場合はこの連結部分の質量を加えた総質量を意味する。2つの芳香環が上記の連結基で連結されている場合とは、例えば2つの芳香環がベンゼン環である場、以下の一般式UBで表され、XL1が-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-である場合である。なお、Ru1~Ru8は水素原子または置換基である。例えば、Aの場合、連結部のXL1が-CHCH3-であることから、この-CHCH3-の質量を加えることになる。逆に、Bの場合、連結部のXL1が-C=O-O-であり、これは上記のXL1の規定を満たさないことから、この質量を芳香族部分の質量には加えない。なお、芳香族部分の質量には芳香環に置換する置換基は上記の連結基以外は加えない。このため、Aの場合の芳香族部分の質量は、一方のベンゼン環部分が炭素原子6個、水素原子3個、連結部が炭素原子2個、水素原子4個、残りのベンゼン環部分が炭素原子6個、水素原子3個である。この結果、芳香族部分の質量として考慮するのは、炭素原子14個、水素原子10個の部分となる。一方、Bの場合は、-C=O-O-部分を加えないことから、芳香族部分の質量として考慮するのは、炭素原子12個、水素原子6個の部分となる。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂中の芳香族部分は、少なくとも上記一般式UBで表される部分構造を有することが好ましく、中でもRu1~Ru8がいずれも水素原子であるものが好ましく、XL1が-CH2-であるものが好ましい。また、酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂中の前記一般式UBで表される部分構造前述の芳香族部分の部分構造の含有率が30質量以上である場合が、より好ましい。この一般式UBで表される部分構造が、下記一般式UNCOで表される部分構造である場合がさらに好ましい。以下に、本発明において好ましい側鎖にエチレン性不飽和結合を有する酸変性ウレタン樹脂を説明する。側鎖にエチレン性不飽和結合を有する酸変性ウレタン樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、その側鎖に、下記一般式1~3で表される官能基のうち少なくとも1つを有するものが挙げられる。一般式1~3において、R1~R11は各々独立に、水素原子または1価の有機基を表す。ここで、1価の有機基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、ウレイド基、ウレタン基などが挙げられ、これらの基はさらにこれらの置換基で置換されていてもよい。なお、以降の各基や各一般式における1価の有機基もしくは置換基も同様の基が挙げられる。R1は水素原子または置換基を有してもよいアルキル基が好ましく、中でも、ラジカル反応性が高い点で、水素原子、メチル基がより好ましい。また、R2、R3、R4~R8、R10およびR11は、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基が好ましく、中でも、ラジカル反応性が高い点で、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がより好ましい。R9は水素原子または置換基を有してもよいアルキル基が好ましく、中でも、ラジカル反応性が高い点で、水素原子、メチル基がより好ましい。XおよびYは各々独立に、酸素原子、硫黄原子、又は-NR12-を表し、R12は水素原子または1価の有機基を表す。R12は置換基を有してもよいアルキル基が好ましく、中でも、ラジカル反応性が高い点で、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がより好ましい。Zは、酸素原子、硫黄原子、-NR13-または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。R13は水素原子または1価の有機基を表す。R13は置換基を有してもよいアルキル基が好ましく、中でも、ラジカル反応性が高い点で、メチル基、エチル基、イソプロピル基がより好ましい。ここで、上記の各基が有してもよい置換基置換基を有してもよいアルキル基等における、有してもよい置換基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記の1価の有機基で挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基が好ましい。一般式1~3で表される基のうち、一般式1で表される基が好ましく、架橋硬化膜形成性の点で、一般式1におけるR1がメチル基でかつR2とR3が水素原子である基、一般式1におけるR1~R3がいずれも水素原子である基、一般式3におけるZがフェニレン基であるスチリル基が好ましく、一般式1におけるR1がメチル基でかつR2とR3が水素原子である基、一般式1におけるR1~R3がいずれも水素原子である基がより好ましく、架橋硬化膜の形成性と生保存性との両立の点で、一般式1におけるR1がメチル基でかつR2とR3が水素原子である基が特に好ましい。ここで、一般式1におけるXは酸素原子が好ましく、エチレン性不飽和基としては、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基がなかでも好ましく、メタクリロイルオキシ基が最も好ましい。側鎖にエチレン性不飽和基を導入するには、iエチレン性不飽和基をジイソシアネート化合物またはジオール化合物に有する化合物との重合反応で得る方法と、iiカルボキシル基含有ポリウレタンと、分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応して得る方法がある。以後、iの方法で得られたポリウレタン樹脂をポリウレタン樹脂iとも称し、iiの方法で得られたポリウレタン樹脂をポリウレタン樹脂iiとも称す。また、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリウレタン樹脂とはポリウレタン樹脂iとiiの両方を含むものである。本発明においては、iの方法で得られたポリウレタン樹脂iが好ましい。-ポリウレタン樹脂i-ポリウレタン樹脂は、ジイソシアネート化合物とジオール化合物少なくとも2つの水酸基を有する化合物との反応で合成され、ポリウレタン樹脂iは、下記一般式4で表されるジイソシアネート化合物の少なくとも1種と、下記一般式5で表されるジオール化合物の少なくとも1種と、の反応生成物で表される構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。OCN-X0-NCO一般式4HO-Y0-OH一般式5一般式4及び5において、X0及びY0は、各々独立に2価の有機残基を表す。前記一般式4で表されるジイソシアネート化合物または前記一般式5で表されるジオール化合物の少なくともどちらか一方が、前記一般式1~3で表される基のうち少なくとも1つを有していれば、当該ジイソシアネート化合物と当該ジオール化合物との反応生成物として、側鎖に前記一般式1~3で表される基が導入されたポリウレタン樹脂が生成される。かかる方法によれば、ポリウレタン樹脂の反応生成後に所望の側鎖を置換、導入するよりも、側鎖に前記一般式1~3で表される基が導入されたポリウレタン樹脂を容易に製造することができる。前記一般式4で表されるジイソシアネート化合物としては、特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリイソシアネート化合物と、不飽和基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させて得られる生成物、などが挙げられる。前記トリイソシアネート化合物としては、特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0034~0035に記載された化合物、などが挙げられる。前記不飽和基を有する単官能のアルコール又は前記単官能のアミン化合物としては、特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0037~0040に記載された化合物、などが挙げられる。側鎖にエチレン性不飽和基を含有するジイソシアネート化合物を用いる方法におけるジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、トリイソシアネート化合物と不飽和基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させることにより得ることできるジイソシアネート化合物であって、例えば、特開2005-250438号公報の段落0042~0049に記載された側鎖に不飽和基を有する化合物、などが挙げられる。ポリウレタン樹脂iは、重合性組成物中の他の成分との相溶性を向上させ、保存安定性を向上させるといった観点から、前記エチレン性不飽和基を含有するジイソシアネート化合物以外のジイソシアネート化合物を共重合させることもできる。前記共重合させるジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することでき、例えば、下記一般式6で表されるジイソシアネート化合物である。OCN-L1-NCO一般式6一般式6において、L1は置換基を有していてもよい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素基を表す。必要に応じ、L1はイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、エステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基を有していてもよい。前記一般式6で表されるジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することでき、例えば、2,4-トリレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネートの二量体、2,6-トリレンジイソシアネート、p-キシリレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、3,3’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジイソシアネート等のような芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’-メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、メチルシクロヘキサン-2,4又は2,6ジイソシアネート、1,3-イソシアネートメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート化合物;1,3-ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等のジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物;などが挙げられる。一般式4または6で表されるジイソシアネート化合物特に一般式6で表されるジイソシアネート化合物は異なる種類のものを組み合わせて用いてもよいが、耐折性を向上できる点で、少なくとも1種は芳香族のジイソシアネート化合物であることが好ましい。芳香族のジイソシアネート化合物としては、例えばビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビフェニル型、ナフタレン型、フェナントレン型、又はアントラセン型の骨格を有するジイソシアネート化合物であることが好ましく、ビスフェノールA型又はビスフェノールF型の骨格を有するジイソシアネート化合物であることがより好ましく、ビスフェノールF型の骨格を有するジイソシアネート化合物が最も好ましい。これらの各型の骨格は、下記一般式で表される。上記において、Ra、Rbは各々独立に置換基を表し、置換基としては炭素数が2~5のアルキル基が好ましい。l1およびl2は各々独立に0~4の整数を表す。l1およびl2は0または1が好ましい。l3は0~6の整数を表す。l4は0~8の整数を表す。l3は0~2が好ましく、l4は0または2が好ましい。l1~l4が2以上の時、複数のRa、Rbは互いに同一でも異なってもよい。前記ジイソシアネート化合物は芳香族のジイソシアネート化合物と脂肪族のジイソシアネート化合物を組み合わせることが、硬化後の反りを抑制し耐折性を向上する観点でより好ましい。芳香族のジイソシアネート化合物としては例えばビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビフェニル型、ナフタレン型、フェナントレン型、又はアントラセン型の骨格を有するジイソシアネート化合物であることが好ましく、ビスフェノールA型又はビスフェノールF型の骨格を有するジイソシアネート化合物であることがより好ましい。脂肪族のジイソシアネート化合物としては例えばヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネートが好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートがより好ましい。前記ジイソシアネート化合物は、下記一般式UB1で表される化合物が特に好ましく、ポリウレタン樹脂中には、前記一般式UNCOの部分構造を有することになる。一般式UB1およびUNCOにおいて、XL1は、単結合、-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-O-または-C=O-を表し、Ru1~Ru8は各々独立に水素原子または置換基を表す。前記一般式5で表されるジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物、などが挙げられる。ここで、ポリウレタン樹脂の側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法としては、前述の方法の他に、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖にエチレン性不飽和基を含有するジオール化合物を用いる方法が好ましい。前記側鎖にエチレン性不飽和基を含有するジオール化合物は、例えば、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものでもよいし、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物等の化合物と、不飽和基を含有する、カルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物等の化合物との反応により容易に製造される化合物であってもよい。このようなエチレン性不飽和基を有するジオール化合物としては、下記一般式UEで表される化合物が好ましく、ポリウレタン樹脂中には、下記一般式UE1で表される部分構造を有することになる。一般式UE、UE1において、LUEは主鎖の結合に-NHC=OO-もしくは-OC=ONH-を含まない2価の連結基であって、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を1つ有する2価の連結基を表す。LUEは、2つの水酸基HO基を結合する最短の結合鎖中に芳香環を含まないことが好ましく、-O-、-S-を最短の結合鎖中に含有してもよい2価の脂肪族基であることがより好ましく、2価の脂肪族基であることがさらに好ましく、アルキレン基であることが特に好ましい。また、2つの水酸基HO基を結合する最短の結合鎖中の炭素数は、2~12が好ましく、2~6がより好ましく、2~4がさらに好ましく、2が最も好ましい。LUEにおける2価の連結基は置換基として、エチレン性不飽和基を1つ有すが、これ以外に、エチレン性不飽和基でない置換基を有してもよく、このような置換基としては、前記一般式1~3のR1~R11で挙げた1価の有機基が挙げられる。本発明においては、エチレン性不飽和基を有する基が前記一般式1で表される基である場合、LUEの主鎖に、α位もしくはβ位に、水酸基またはアシル基を有すアルキルオキシカルボニル基で結合しない場合が好ましい。一般式UEで表される化合物は、下記一般式UE-1~UE-6で表される化合物が好ましい。なお、下記一般式UE-7で表される化合物は、前記一般式UEで表される化合物以外に好ましい化合物である。一般式UE-1~UE-7において、E1は単結合または2価の連結基2価の有機残基を表し、E2は単結合または-CH2-以外の2価の連結基を表す。Aは2価の連結基を表す。Qは前記一般式1~3のいずれかの基を表す。E1、E2における2価の連結基としては、例えば、-O-、-S-、-OCHCH2-QCH2-、-CO2-CH2-、-OCH2CCH2-Q2CH2-、-O-CONHCH2CH2-、-OC=O-、-CONHCH2CH2-、-CH2CCH2-Q2CH2-、-CH2-、-NHCONHCH2CH2-、-NHCHCH2-QCH2-、-NCHCH2-QCH2-、-NHCH2CCH2-Q2CH2-、-NH-CHCH2-QCH2-、-C=O-、-CO2-CH2CH2-、-CO2-CH2CH2CH2-等が挙げられる。なお、ここで、Qは一般式1~3のいずれかの基を表す。これらの具体的な化合物は特開2005-250438号公報の段落0057~0060に記載された化合物が挙げられる。上記一般式UE-1~UE-7で表される化合物のうち、前記一般式UE-1~UE-6で表される化合物が好ましく、前記一般式UE-6で表される化合物がさらに好ましい。また、一般式UE-6で表される化合物のなかでも、下記一般式Gで表される化合物が特に好ましい。なお、一般式Gで表される化合物は、ポリウレタン樹脂中では、下記一般式G1で表される部分構造を有すことになる。一般式G、G1において、R1~R3は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Aは2価の有機残基を表し、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は-NR12-を表し、R12は、水素原子、又は1価の有機基を表す。なお、前記一般式G、G1におけるR1~R3及びXは、前記一般式1におけるR1~R3及びXと同義であり、好ましい態様もまた同様である。一般式Gで表される化合物は、特開2005-250438号公報の段落0064~0066に記載された化合物が挙げられ、本発明に好ましい。前記一般式Gで表されるジオール化合物に由来するポリウレタン樹脂を用いることにより、立体障害の大きい2級アルコールに起因するポリマー主鎖の過剰な分子運動を抑制効果により、層の被膜強度の向上が達成できるものと考えられる。本発明のポリウレタン樹脂iは酸変性であり、ここでの酸変性の定義は、当該ポリウレタン樹脂のポリマーが酸基を有していることを示す。ここでの、酸基としては、特に制限は無く、カルボキシル基、スルホ基などが挙げられる。現像性の観点から、カルボキシル基を有することが好ましい。ポリウレタン樹脂iの合成には、カルボキシル基を有するジオール化合物を使用することで、酸変性することが好ましい。前記カルボキシル基を有するジオール化合物としては、例えば、以下の一般式17~19に示すものが含まれる。一般式17~19において、R15は、水素原子又は置換基例えば、シアノ基、ニトロ基、-F、-Cl、-Br、-I等のハロゲン原子、-CONH2、-COOR16、-OR16、-NHCONHR16、-NHCOOR16、-NHCOR16、-OCONHR16ここで、R16は、炭素数1~10のアルキル基、又は炭素数7~15のアラルキル基を表す。などの各基が含まれる。を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表すものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、水素原子、炭素数1~8個のアルキル基、炭素数6~15個のアリール基が好ましい。一般式17~19中、L9、L10、L11は、それぞれ同一でもよいし、相違していてもよく、単結合、置換基例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子が好ましい。を有していてもよい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素基を表すものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、炭素数1~20個のアルキレン基、炭素数6~15個のアリーレン基が好ましく、炭素数1~8個のアルキレン基がより好ましい。また必要に応じ、前記L9~L11中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、カルボニル基、エステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基、エーテル基を有していてもよい。なお、前記R15、L9、L10、L11のうちの2個又は3個で環を形成してもよい。一般式18中、Arとしては、置換基を有していてもよい3価の芳香族炭化水素基を表すものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、炭素数6~15個の芳香族基が好ましい。前記一般式17~19で表されるカルボキシル基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、3,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸、2,2-ビス2-ヒドロキシエチルプロピオン酸、2,2-ビス3-ヒドロキシプロピルプロピオン酸、ビスヒドロキシメチル酢酸、ビス4-ヒドロキシフェニル酢酸、2,2-ビスヒドロキシメチル酪酸、4,4-ビス4-ヒドロキシフェニルペンタン酸、酒石酸、N,N-ジヒドロキシエチルグリシン、N,N―ビス2-ヒドロキシエチル-3-カルボキシ-プロピオンアミドなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。カルボキシル基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2007-2030号公報の段落0047に記載された化合物などが挙げられる。このようなカルボキシル基の存在により、ポリウレタン樹脂に水素結合性とアルカリ可溶性といった特性を付与できるため好ましい。このようにカルボキシル基を導入することにより、酸価を、前述のような、本発明において好ましい範囲に調整することができる。このようなカルボキシル基の存在により、ポリウレタン樹脂に水素結合性とアルカリ可溶性といった特性を付与できるため好ましい。このようにカルボキシル基を導入することにより、酸価を、前述のような、本発明において好ましい範囲に調整することができる。また、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリウレタン樹脂の合成には、上述したジオール化合物の他に、テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させた化合物を併用することもできる。前記テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させた化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0095~0101に記載された化合物などが挙げられる。ポリウレタン樹脂iは、例えば、重合性組成物中の他の成分との相溶性を向上させ、保存安定性を向上させるといった観点から、前記側鎖にエチレン性不飽和基を含有するジオール化合物やカルボキシル基を含有するジオール化合物以外のジオール化合物を共重合させることができ、本発明においては、このようなジオール化合物を共重合させることが特に好ましい。このようなジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、低分子のジオール化合物やポリマージオール化合物であるポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物、m-ジヒドロキシベンゼンのポリカーボネート化合物などを挙げることできる。このようなジオール化合物は、下記一般式Uとして表され、ポリウレタン樹脂として組み込まれると、下記一般式U1で表される部分構造で表される。一般式U及びU1において、LU1はエチレン性不飽和基およびカルボキシル基を含まない2価の連結基を表す。LU1は、例えば、アルキレン基、アリーレン基、2価のヘテロ環基が挙げられ、該アルキレン基は、アルキレン基の鎖中に-O-、-OCOO-、フェニレン基、炭素-炭素二重結合、炭素-炭素三重結合、-OCO-Z1-COO-Z1はアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基を表す。を含んでもよい。一般式Uで表されるジオール化合物のうち、低分子のジオール化合物としては、質量平均分子量が400未満のものが好ましく、例えば、特開2007-2030号公報の段落0048に記載された化合物などが挙げられる。本発明においては、ポリマージオール化合物が好ましく、以下に詳細に説明する。-ポリマージオール化合物-前記ポリマージオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイドのブロック共重合体又はランダム共重合体、ポリテトラメチレングリコール、テトラメチレングリコールとネオペンチルグリコールとのブロック共重合体又はランダム共重合体等のポリエーテルジオール類;多価アルコール又はポリエーテルジオールと無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、無水イタコン酸、イタコン酸、アジピン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等の多塩基酸との縮合物であるポリエステルジオール類;グリコール又はビスフェノールと炭酸エステルとの反応、あるいは、グリコール又はビスフェノールにアルカリの存在下でホスゲンを作用させる反応などで得られるポリカーボネートジオール類;カプロラクトン変性ポリテトラメチレンジオール等のカプロラクトン変性ポリマージオール、ポリオレフィン系ポリマージオール、水添ポリブタジエンジオール等のポリブタジエン系ポリマージオール、シリコーン系ポリマージオールなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。なお、本発明において好ましい化合物や部分構造は前記一般式U、U1におけるLU1が、-CH2CH2OnU1CH2CH2-、-CH2CHCH3OnU1-CH2CHCH3-、-CH2CH2CH2OnU1-CH2CH2CH2-、-CH2nU2-OC=O-CH2nU3-C=OOnU4-OCH2nU2-または-CH2nU5-OC=OOnU6-CH2nU7-である。ここで、nU1~nU7は各々独立に1以上の数を表す。また、一般式Uで表される化合物は、後述の一般式~III-6で表されるジオール化合物も好ましい。前記ポリエーテルジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0068~0076に記載された化合物などが挙げられる。前記ポリエステルジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0077~0079、段落0083~0085におけるNo.1~No.8及びNo.13~No.18に記載された化合物などが挙げられる。前記ポリカーボネートジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0080~0081及び段落0084におけるNo.9~No.12で記載された化合物などが挙げられる。また、上述したジオール化合物の他に、イソシアネート基と反応しない置換基を有するジオール化合物を併用することもできる。前記イソシアネート基と反応しない置換基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0087~0088に記載された化合物などが挙げられる。このようなポリマージオール化合物の質量平均分子量は、400~8,000であることが好ましく、500~5,000であることがより好ましく、600~3000であることがさらに好ましく、800~2,000であることが特に好ましい。質量平均分子量が、400未満であると、耐折性が十分に得られないことがあり、8,000を超えると、得られるポリウレタン樹脂のガラス転移温度Tgが低下しすぎるため、絶縁信頼性が低下してしまうことがある。ここで、質量平均分子量は、例えば高速GPC装置を使用して、0.5質量のTHF溶液を試料溶液とし、カラムはTSKgelHZM-M1本を使用し、200μLの試料を注入し、前記THF溶液で溶離して、25°Cで屈折率検出器あるいはUV検出器検出波長254nmにより測定することができる。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂中における前記一般式U1で表される部分構造の質量比率は、10~60が好ましく、20~60であることがより好ましく、25~55であることがさらに好ましく、30~50であることがさらに好ましい。前記質量比率が10未満であると硬化後の反り抑制が困難になることがあり、60を超えると光硬化の感度が低下しすぎて解像性が悪化してしまうことがある。また、本発明で使用する側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリウレタン樹脂としては、ポリマー末端、主鎖に不飽和基を有するものも好適に使用される。ポリマー末端、主鎖に不飽和基を有することにより、更に、感光性樹脂組成物と側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリウレタン樹脂との間、又は側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリウレタン樹脂間で架橋反応性が向上し、光硬化物強度が増す。ここで、不飽和基としては、架橋反応の起こり易さから、炭素-炭素二重結合を有することが特に好ましい。ポリマー末端に不飽和基を導入する方法としては、以下に示す方法がある。即ち、上述した側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリウレタン樹脂の合成の工程での、ポリマー末端の残存イソシアネート基と、アルコール類又はアミン類等で処理する工程において、不飽和基を有するアルコール類又はアミン類等を用いればよい。このような化合物としては、具体的には、先に、不飽和基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物として挙げられた例示化合物と同様のものを挙げることができる。なお、不飽和基は、導入量の制御が容易で導入量を増やすことができ、また、架橋反応効率が向上するといった観点から、ポリマー末端よりもポリマー側鎖に導入されることが好ましい。導入されるエチレン性不飽和結合基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、架橋硬化膜形成性の点で、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチリル基が好ましく、メタクリロイル基、アクリロイル基がより好ましく、架橋硬化膜の形成性と生保存性との両立の点で、メタクリロイル基が特に好ましい。また、メタクリロイル基の導入量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、エチレン性不飽和基当量としては、0.05mmol/g~3.0mmol/gが好ましく、0.5mmol/g~2.7mmol/gがより好ましく、0.75mmol/g~2.5mmol/gがさらに好ましい。さらに、この好ましい範囲は、中でも1.0mmol/g以上好ましくは1.0mmol/g~2.5mmol/gが好ましく、1.1mmol/g以上好ましくは1.1mmol/g~2.5mmol/gが特に好ましく、1.20mmol/g以上好ましくは1.20mmol/g~2.5mmol/gが最も好ましい。主鎖に不飽和基を導入する方法としては、主鎖方向に不飽和基を有するジオール化合物をポリウレタン樹脂の合成に用いる方法がある。前記主鎖方向に不飽和基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばcis-2-ブテン-1,4-ジオール、trans-2-ブテン-1,4-ジオール、ポリブタジエンジオールなどが挙げられる。本発明においては、本発明で使用する側鎖にエチレン性不飽和結合を有する酸変性ポリウレタン樹脂としては、ポリマー主鎖の末端に、少なくとも1つのカルボキシル基を有するものも、アルカリ性現像液による非画像部の現像性に優れる点で好適に用いられる。ポリマー主鎖の末端に、少なくとも1つのカルボキシル基を有し、2つ以上5つ以下のカルボキシル基を有することが好ましく、2つのカルボキシル基を有することが現像性に優れ、微細パターン形成性の点で特に好ましい。なお、前記ポリウレタン樹脂における主鎖の末端は、2つあるが、片末端に少なくとも1つのカルボキシル基を有することが好ましく、両末端に少なくとも1つのカルボキシル基を有していてもよい。前記ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に、下記一般式ADで表される構造を有することが好ましい。一般式AD-L100-COOHn一般式ADにおいて、L100は、n1価の有機連結鎖を表し、nは1以上の整数を示し、1~5が好ましく、2が特に好ましい。L100で表される有機連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子から選択される1以上の原子を含んで構成され、具体的には、L100で表される有機連結基の主骨格を構成する原子数は、1~30が好ましく、1~25がより好ましく、1~20が更に好ましく、1~10が特に好ましい。なお、前記有機連結基の主骨格とは、前記ポリウレタン樹脂の主鎖と末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を意味し、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。前記ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に、少なくとも1つのカルボキシル基を導入する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリウレタン樹脂製造の原料として、少なくとも1つのカルボキシル基を有するカルボン酸化合物を用いる方法などが挙げられる。前記カルボン酸化合物としては、カルボキシル基を1つ有するモノカルボン酸化合物、カルボキシル基を2つ有するジカルボン酸化合物、カルボキシル基を3つ有するトリカルボン酸化合物、カルボキシル基を4つ有するテトラカルボン酸化合物、カルボキシル基を5つ有するペンタカルボン酸化合物などが挙げられる。これらの中でも、カルボキシル基を2つ有するジカルボン酸化合物が、現像性に優れ、微細パターン形成性の点で特に好ましい。前記カルボン酸化合物としては、少なくとも1つのカルボキシル基を有すれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、下記一般式ADHで表される化合物が好適である。一般式ADHH-O-L200-Y100-L100-COOHn一般式ADHにおいて、L100及びnは、前記一般式ADと同じ意味を表す。Y100は2価以上の原子を表す。L200は単結合又は置換基を有していてもよいアルキレン基を表す。Y100における2価以上の原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、炭素原子、ケイ素原子などが挙げられる。これらの中でも、窒素原子、炭素原子が特に好ましい。ここで、Y100で表される原子が2価以上であるとは、少なくともY100が、L100及びL200を介して末端-COOHが結合する2つの結合手を有することを意味するが、Y100は、更に水素原子または置換基を有していてもよい。Y100に導入可能な置換基としては、水素原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子およびハロゲン原子から選択される原子を含んで構成される置換基が挙げられる。これらの中でも、炭素原子数1~50の炭化水素基が好ましく、炭素原子数1~40の炭化水素基がより好ましく、炭素原子数1~30の炭化水素基が特に好ましい。L200におけるアルキレン基としては、炭素原子数1~20のアルキレン基が好ましく、炭素原子数2~10のアルキレン基がより好ましい。前記アルキレン基に導入可能な置換基としては、例えばハロゲン原子-F、-Br、-Cl、-I、置換基を有していてもよいアルキル基などが挙げられる。前記一般式ADHで表されるカルボン酸化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、乳酸、リンゴ酸、ヒドロキシへキサン酸、クエン酸、ジオール化合物と酸無水物の反応物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、リンゴ酸が特に好ましい。本発明で使用するポリウレタン樹脂iの具体例としては、例えば、特開2005-250438号公報の段落0293~0310に示されたP-1~P-31のポリマー、などが挙げられる。これらの中でも、段落0308及び0309に示されたP-27及びP-28のポリマーが好ましい。本発明で使用する側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリウレタン樹脂は、前記ジイソシアネート化合物及びジオール化合物を、非プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知の触媒を添加し、加熱することにより合成される。合成に使用されるジイソシアネート及びジオール化合物のモル比Ma:Mbとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1:1~1.2:1が好ましく、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、分子量あるいは粘度といった所望の物性の生成物が、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。本発明で使用する側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリウレタン樹脂は、特に、前述のジイソシアネート化合物と、ジオール化合物として、分子内に2つの水酸基を有するアクリレート化合物、分子内に2つの水酸基を有するカルボン酸および前述のポリマージオール化合物とを反応させて得ることが好ましく、これに加え、一般式ADHで表される、1つの水酸基とカルボキシル基を有する化合物を反応させて得ることが好ましい。-ポリウレタン樹脂ii-ポリウレタン樹脂iiは、カルボキシル基含有ポリウレタンと分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応して得られるポリウレタン樹脂である。ポリウレタン樹脂iiは、ジイソシアネートと、カルボキシル基含有ジオールとを必須成分とするカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂と、分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応して得られるポリウレタン樹脂である。目的に応じて、ジオール成分として、質量平均分子量300以下の低分子ジオールや質量平均分子量500以上の低分子ジオールを共重合成分として加えてもよい。ポリウレタン樹脂iiは、これを用いることにより、無機充填剤との安定した分散性や耐クラック性や耐衝撃性に優れることから、耐熱性、耐湿熱性、密着性、機械特性、電気特性が向上する。また、前記ポリウレタン樹脂iiとしては、置換基を有していてもよい2価の脂肪族及び芳香族炭化水素のジイソシアネートと、C原子及びN原子のいずれかを介してCOOH基と2つのOH基を有するカルボキシル基含有ジオールとを必須成分とした反応物であって、得られた反応物と、-COO-結合を介して分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応して得られるものであってもよい。また、前記ポリウレタン樹脂iiとしては、下記一般式Iで示されるジイソシアネートと、前述のポリウレタン樹脂iにおいて説明した一般式17~19で表されるカルボキシル基含有ジオール化合物から選ばれた少なくとも1種とを必須成分とし、目的に応じて下記一般式III-1~III-6で示される質量平均分子量が800~3000の範囲にある高分子ジオールから選ばれた少なくとも1種との反応物であって、得られた反応物と、下記一般式IV-1~IV-16で示される分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応して得られるものであってもよい。OCN-R1-NCO一般式I一般式Iにおいて、R1は、置換基例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、及びハロゲン原子のいずれかが好ましいを有していてもよい2価の脂肪族もしくは芳香族の炭化水素基を表す。必要に応じて、R1は、イソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、エステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基のいずれかを有していてもよい。一般式III-1~III-3において、R7~R11は各々独立に、2価の脂肪族もしくは芳香族の炭化水素基を表す。R7、R9、R10およびR11は、それぞれ炭素数2個~20個のアルキレン基または炭素数6個~15個のアリーレン基が好ましく、炭素数2個~10個のアルキレン基または炭素数6個~10個のアリーレン基がより好ましい。R8は、炭素数1個~20個のアルキレン基または炭素数6個~15個のアリーレン基を表し、炭素数1個~10個のアルキレン基または炭素数6個~10個のアリーレン基がより好ましい。また、R7~R11中には、イソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、エーテル基、カルボニル基、エステル基、シアノ基、オレフィン基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基またはハロゲン原子などがあってもよい。一般式III-4において、R12は、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。水素原子、炭素数1個~10個のアルキル基、炭素数6個~15個のアリール基、炭素数7個~15個のアラルキル基、シアノ基またはハロゲン原子が好ましく、水素原子、炭素数1個~6個のアルキル基および炭素数6個~10個のアリール基がより好ましい。また、R12中には、イソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、アルコキシ基、カルボニル基、オレフィン基、エステル基またはハロゲン原子などがあってもよい。mは、2~4の整数を表す。一般式III-5において、R13はアリール基またはシアノ基を表し、炭素数6個~10個のアリール基またはシアノ基が好ましい。なお、前記一般式III-1~III-6中、n1、n2、n3、n4、n5、n7、n8およびn9は、それぞれ2以上の数を表し、2~100の数が好ましい。前記一般式中、n6は0または2以上の数を示し、0または2~100の数が好ましい。一般式IV-1~IV-16において、R14は水素原子またはメチル基を表し、R15は炭素数1~10のアルキレン基を表し、R16は炭素数1~10の炭化水素基を表す。pは0または1~10の数を表す。なお、カルボキシル基含有ポリウレタンと分子中にエポキシ基又はオキセタン基を有する化合物とを反応した場合、X、YまたはZがポリウレタン主鎖と連結する部分構造に、-CO2-β位またはγ位に水酸基もしくはアシルオキシ基が置換した脂肪族の基-を有する構造となる。ここで側に一般式1~3の部分構造が存在する。また、前記ポリウレタン樹脂iiは、更に第5成分として、カルボキシル基非含有の低分子量ジオールを共重合させてもよく、該低分子量ジオール化合物としては、前記一般式III-1~III-6で表され、質量平均分子量が500以下のものである。該カルボキシル基非含有低分子量ジオールは、アルカリ溶解性が低下しない限り、また、硬化膜の弾性率が十分低く保つことができる範囲で添加することができる。上記の低分子量ジオール化合物としては、例えば、特開2007-2030号公報の段落0048に記載された化合物、などが挙げられる。前記ポリウレタン樹脂iiとしては、特に、前記一般式Iで示されるジイソシアネートと、前述の一般式17~19で示されるカルボキシル基含有ジオールから選ばれた少なくとも1種とを必須成分とし、目的に応じて、一般式III-1~III-6で示される質量平均分子量が800~3000の範囲にある高分子ジオールから選ばれた少なくとも1種や、一般式III-1~III-6で示される質量平均分子量が500以下のカルボキシル基非含有の低分子量ジオールとの反応物に、更に一般式IV-1~IV-16のいずれかで示される分子中に1個のエポキシ基と少なくとも1個のメタアクリル基を有する化合物を反応して得られる、酸価が20mgKOH/g~120mgKOH/gであるアルカリ可溶性光架橋性ポリウレタン樹脂が好適である。なお、上記ポリウレタン樹脂iiにおいても、前記一般式III-1~III-6で表される化合物に替えて、または併用して、前述のポリウレタン樹脂iで説明した一般式Uで表されるジオール化合物を使用することは好ましく、酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂中における前記一般式U1で表される部分構造の質量比率は、前述のポリウレタン樹脂iの場合と同様である。これらの高分子化合物は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、ポリウレタン樹脂iiにおいても、ポリマー主鎖の末端に、少なくとも1つのカルボキシル基を有するものもが、ポリウレタン樹脂iと同様の効果を得るために好ましく、ポリウレタン樹脂iで説明したようなポリマー主鎖の末端封止方法や一般式Aで表される基が好ましく、ポリウレタン樹脂iと好ましい範囲も同じである。前記ポリウレタン樹脂iiとしては、例えば、特開2007-2030号公報の段落0314~0315に示されたU1~U4、U6~U11のポリマーにおけるエポキシ基及びビニル基含有化合物としてのグリシジルアクリレートを、グリシジルメタクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート商品名:サイクロマーA400、ダイセル化学株式会社製、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート商品名:サイクロマーM400、ダイセル化学株式会社製に代えたポリマー、などが挙げられる。-カルボキシル基含有ポリウレタンと分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応して得られるポリウレタン樹脂iiの合成法-前記ポリウレタン樹脂iiの合成方法としては、前記ジイソシアネート化合物及びジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱することにより合成される。使用するジイソシアネート及びジオール化合物のモル比は、0.8:1~1.2:1が好ましく、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、最絡的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。本発明で使用する酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂i、iiは、該特定ポリウレタン樹脂とは異なる構造を有するポリウレタン樹脂を含むアルカリ可溶性高分子を併用することも可能である。例えば、前記側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリウレタン樹脂は、は、主鎖及び/又は側鎖に芳香族基を含有したポリウレタン樹脂を併用することが可能である。本発明で使用するポリウレタン樹脂i、iiの前記感光性樹脂組成物における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5質量~80質量が好ましく、20質量~75質量がより好ましく、30質量~70質量が特に好ましい。前記含有量が、5質量未満であると、耐折性が良好に保つことができないことがあり、80質量を超えると、耐熱性が破綻をきたすことがある。前記含有量が、前記特に好ましい範囲内であると、良好な耐折性と耐熱性の両立の点で有利である。酸基としてはカルボキシル基が好ましく、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、ビニルエーテル基、ビニルフェニル基が好ましい。酸基とエチレン性不飽和基を含有するメタアクリル樹脂としては、メタアクリル酸エステルと、エチレン性不飽和基を有しかつ少なくとも1個の酸基を有する化合物とから得られる共重合体以下、共重合体と称することがあるの一部の酸基に、分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応して得られる変性共重合体以下、変性共重合体と称することがあるであることが、耐熱性に優れる点から好ましい。なお、前述のように、メタアクリル酸エステルとは、アクリル酸エステル、及び/又はメタクリル酸エステルを意味する。以下に上記における各反応の原料を説明する。-メタアクリル酸エステル-前記メタアクリル酸エステルとしては、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート等のメタアクリル酸アルキルエステル類;2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ヒドロキシブチルメタアクリレート、カプロカクトン変性2-ヒドロキシエチルメタアクリレート等の水酸基を有するメタアクリル酸エステル類;ベンジルメタアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、エトキシジエチレングリコールメタアクリレート、イソオクチルオキシジエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシトリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート等のメタアクリレート類などが挙げられる。これらの中でも、ベンジルメタアクリレートが低吸水性の点で好ましい。-エチレン性不飽和基を含有し且つ少なくとも1個の酸基を有する化合物-前記エチレン性不飽和基を含有し且つ少なくとも1個の酸基を有する化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ビニルフェノール、エチレン性不飽和基とカルボキシル基の間に鎖延長された変性不飽和モノカルボン酸などが挙げられる。ここで、変性不飽和モノカルボン酸としては、例えば、β-カルボキシエチルメタアクリレート、2-アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-アクリロイルオキシエチルフタル酸、2-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ラクトン変性等のエステル結合を有する不飽和モノカルボン酸、エーテル結合を有する変性不飽和モノカルボン酸などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。上記に加え、さらにメタアクリル酸エステルおよび/またはメタアクリル酸との共重合にさらにエチレン性不飽和基を有するモノマーと共重合してもよい。このようなモノマーとしては、メタアクリル酸アミド、メタアクリロニトリル、スチレン、スルホ基やカルボキシル基がベンゼン環に置換したスチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、エチレン、ブタジエン等が挙げられる。前記ラクトン変性不飽和モノカルボン酸としては、具体的には、例えば、メタアクリル酸をラクトン変性した化合物であって、下記一般式AC-1で表される化合物が挙げられ、末端水酸基を酸無水物により酸変性させたラクトン変性不飽和モノカルボン酸としては下記一般式AC-2で表される化合物が挙げられ、エーテル結合を有する変性不飽和モノカルボン酸としては下記一般式AC-3で表される化合物が挙げられる。一般式AC-1~AC-3において、RAC1は水素原子またはメチル基を表し、RAC2およびRAC3は各々独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基を表し、mac1~mac3は各々独立に、4~8の整数を表し、nac1~nac3は各々独立に、1~10の整数を表す。ここで、複数のRAC2およびRAC3は互いに同一でも異なってもよい。LAC1は、炭素数1~10の2価の脂肪族飽和炭化水素基、炭素数2~10の2価の不飽和炭化水素基、炭素数3~6の2価の脂環式飽和炭化水素基、2価の芳香族基好ましくはフェニレン基または2価のヘテロ環基好ましくは、5または6員環で、環構成原子に酸素原子、イオウ原子、窒素原子を有する2価のヘテロ環基を表す。LAC1における各基は置換基を有してもよい。これらの置換基としては、前述の一般式1~3におけるR1~R11の有機基または置換基で挙げた基が挙げられる。なお、一般式AC-2においては、RAC2およびRAC3は水素原子、メチル基またはエチル基が好ましく、一般式AC-2においては、RAC2およびRAC3は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基が好ましい。-分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物-分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂におけるポリウレタン樹脂iiにおける分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物が好ましく、好ましい範囲も同じである。具体的には、前記一般式IV-1~IV-16が好ましく、グリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルメチルメタアクリレートが世路好ましい。これらの中でも、グリシジルメタアクリレートが特に好ましい。-酸基とエチレン性不飽和基を含有するメタアクリル樹脂の製造方法-酸基とエチレン性不飽和基を含有するメタアクリル樹脂の製造方法として、前記変性共重合体の製造方法について以下にその一例を説明する。まず、前記共重合体を製造する。前記共重合体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶液重合などの公知のアクリル樹脂の製造方法が挙げられる。続いて、前記共重合体の一部の酸基に、分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物を付加させて製造する。前記付加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記付加においては、溶媒、及び触媒を用いることが好ましい。溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2009-086376号公報の段落0020に記載の溶媒などが挙げられる。触媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2009-086376号公報の段落0021~0025に記載の触媒などが挙げられる。酸基とエチレン性不飽和基を含有するメタアクリル樹脂は、例えば、特開2010-128275号公報に記載の例示化合物、使用されている化合物が挙げられ、該特許公報に記載の製造方法もしくはこれに準じた製造方法で容易に製造できる。る。本願において、酸変性のエチレン性不飽和基含有エポキシ樹脂とは、前述のように、エポキシ樹脂から得られた樹脂のことであり、化学構造上は前述の2のポリエーテル樹脂と3のノボラック型樹脂である。便宜上、これらをエポキシ樹脂と称す。酸変性のエチレン性不飽和基含有エポキシ樹脂は酸基とエチレン性不飽和基を有するものであれは、どのようなエポキシ樹脂でもかまわない。酸変性のエチレン性不飽和基含有エポキシ樹脂は、下記一般式EPで表される部分構造を有する樹脂が好ましい。一般式EPにおいて、RA1およびRA2は、いずれか一方が不飽和の脂肪族基を表し、他方がカルボキシル基を有する飽和もしくは不飽和の脂肪族基またはカルボキシル基を有する芳香族基を表す。REP1~REP3は各々独立に、水素原子または置換基を表す。上記一般式EPで表される部分構造は、aエポキシ樹脂と、b不飽和基含有モノカルボン酸と、c多塩基酸無水物との反応によって得られる。すなわち、一般式EPにおける不飽和の脂肪族基は、不飽和基含有モノカルボン酸に由来する基であり、この不飽和基含有モノカルボン酸から-COOHを除去して得られる基である。一方、カルボキシル基を有する飽和もしくは不飽和の脂肪族基またはカルボキシル基を有する芳香族基は多塩基酸無水物から得られる基であって、例えば、下記における四角枠中の基である。一般式EPにおける不飽和の脂肪族基としては、前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂における前記一般式1における-CR1=CR2R3が好ましい。ここで、R1~R3は、前記一般式1におけるR1~R3と同義であり、好ましい範囲も同じである。以上の不飽和の脂肪族基としては、ビニル基、α-メチルビニル基、β-メチルビニル基、β-フルフリルビニル基、β-スチリルビニル基、β-フェニルビニル基、α-シアノ-β-フェニルビニル基、1,3-ペンタジエニル基が挙げられる。なお、上記bにおける不飽和基含有モノカルボン酸として例示すれば、例えば、アクリル酸、アクリル酸の二量体、メタクリル酸、β-フルフリルアクリル酸、β-スチリルアクリル酸、桂皮酸、クロトン酸、α-シアノ桂皮酸、及びソルビン酸等を用いることができる。また、水酸基含有アクリレートと飽和又は不飽和基含有二塩基酸無水物との反応生成物である半エステル化合物、不飽和基含有モノグリシジルエーテル又は不飽和基含有モノグリシジルエステルと飽和又は不飽和基含有二塩基酸無水物との反応生成物である半エステル化合物を用いることができる。ここで、半エステル化合物とは、例えば、2個のカルボキシル基のうち、一方だけがエステル化された化合物をいう。これらのb不飽和基含有モノカルボン酸は、単独で、又は二種類以上併用して用いることができる。半エステル化合物は、水酸基含有アクリレート、あるいは不飽和基含有モノグリシジルエーテル又は不飽和基含有モノグリシジルエステルと、飽和又は不飽和基含有二塩基酸無水物とを等モル比で反応させることによって得ることができる。水酸基含有アクリレートとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、グリシジルアクリレート及びグリシジルメタクリレート等を用いることができる。不飽和基含有モノグリシジルエーテル又は不飽和基含有モノグリシジルエステルとしては、グリシジルメタアクリレート等を用いることができる。一般式EPにおけるカルボキシル基を有する飽和もしくは不飽和の脂肪族基またはカルボキシル基を有する芳香族基としては、カルボキシ基を有する飽和もしくは不飽和の脂肪族基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアケニル基、アリール基にカルボキシル基が置換した基が挙げられ、カルボキシ基を有する芳香族基としては、フェニル基にカルボキシル基が置換した基が挙げられる。多塩基酸無水物として例示すれば、飽和又は不飽和基含有二塩基酸無水物としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、エチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、及び無水イタコン酸等を用いることができる。一般式EPにおけるREP1~REP3は各々独立に、水素原子または置換基を表すが、水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、水素原子が最も好ましい。本発明における酸変性のエチレン性不飽和基含有エポキシ樹脂は、下記一般式P1~P3のいずれかで表されるエポキシ樹脂であることが好ましい。一般式P1~P3において、Re1は前記一般式EPで表される基またはエポキシ基を表す。Re2およびRe3は各々独立に水素原子またはメチル基を表し、Re4~Re9は各々独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。ne1およびne2は各々独立に1以上の数を表し、ne3は0または1以上の数を表す。ただし、Re1は分子内の全てがエポキシ基であることはない。また、分子内に存在する複数のRe1は互いに同一でも異なってもよく、分子内に存在する複数のRe2およびRe3は互いに同一でも異なってもよい。Re4~Re9において、分子内に存在する、各複数のRe4~Re9はそれぞれ、互いに同一でも異なってもよい。酸変性のエチレン性不飽和基含有エポキシ樹脂としては、特開2007-256943号公報の段落0107~0111に記載のエポキシ樹脂、特開2006-11395号公報に記載のエポキシ樹脂、特に例示樹脂であるEPA-1~EPA-3、これらの特許公報に記載の製造方法もしくはこれに準じた製造方法で容易に製造できる。また、酸変性のエチレン性不飽和基含有エポキシ樹脂は市販品としては、例えば、ZAR-1626H酸変性ビスフェノールA型エポキシアクリレート、ZAR-2003H酸変性ビスフェノールA型エポキシアクリレート、質量平均分子量:13000、酸価:82mgKOH/g、ZFR-1158酸変性ビスフェノールF型エポキシアクリレート、質量平均分子量:10000、酸価:60mgKOH/g、ZFR-1492HビスフェノールF型酸変性エチレン性不飽和基含有エポキシ樹脂、ZCR-1534ビフェニルアラルキル型酸変性エチレン性不飽和基含有エポキシ樹脂、ZCR-1569Hビフェニル骨格を有するノボラック型酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂、質量平均分子量:4,500、酸価:98mgKOH/g、である。CCR-1219Hクレゾールノボラック型エポキシアクリレート、PCR-1050酸変性フェノールノボラック型エポキシアクリレート以上、日本化薬株式会社製、EXP-2811トリシクロデカン構造を含むエポキシ樹脂EPICLONHP-7200、DIC株式会社製、商品名を変性したトリシクロデカン構造含有の酸変性エポキシアクリレート、EXP-2810酸変性クレゾールノボラック型エポキシアクリレート以上、いずれもDIC株式会社製、PR-300P-CPクレゾールノボラック型酸変性エチレン性不飽和基含有エポキシ樹脂昭和高分子株式会社製が挙げられる。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリエステル樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、本発明においては、特に、側鎖にエチレン性不飽和結合を有する酸変性ポリエステル樹脂が好ましい。本発明において、側鎖とは、前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂で説明した通りである。酸基としてはカルボキシル基が好ましく、エチレン性不飽和基としては、その側鎖に、前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂における一般式1~3で表される官能基のうち少なくとも1つを有するものが挙げられる。これらのエチレン性不飽和基は、前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂における好ましい範囲と同じである。側鎖にエチレン性不飽和基を導入するには、iiiエチレン性不飽和基をジカルボキシル化合物またはジオール化合物に有する化合物との重合反応で得る方法と、ivカルボキシル基含有ポリエステルと、分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応して得る方法がある。上記の側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法iiiは、前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂におけるiエチレン性不飽和基をジイソシアネート化合物またはジオール化合物に有する化合物との重合反応で得る方法に対応し、上記の側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法ivは、前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂における酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリエステル樹脂は、前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂におけるiiカルボキシル基含有ポリウレタンと、分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応して得る方法に対応する。すなわち、ジイソシアネート化合物をジカルボキシル化合物に置き換えるだけで、容易に製造できる。また、酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリエステル樹脂は前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂における、一般式等の-NCOやイソシアネートの用語を-CO2H、カルボキシルの用語に置き換えることで、酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリエステル樹脂の好ましい範囲は前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂と同じである。ただし、ポリエステル樹脂の製造方法は、ジカルボキシル化合物だけでなく、酸無水物、エステル、酸ハライドが使用でき、通常のエステル化反応で容易に製造できる。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリエステル樹脂は特開2007-128059号公報に記載のポリエステル樹脂、特に段落0058に記載の樹脂1が挙げられ、該公報に記載の製造方法もしくはこれに準じた製造方法で容易に製造できる。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリアミドもしくはポリイミド樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。酸基としてはカルボキシル基が好ましく、エチレン性不飽和基としては、前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂における一般式1~3で表される官能基のうち少なくとも1つを有するものが挙げられる。これらのエチレン性不飽和基は、前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂における好ましい範囲と同じである。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリアミド樹脂としては、例えば、下記一般式PI-1で表される部分構造を有するものが挙げられる。一般式PI-1において、LPI1は4価の有機基を表し、LPI2は2価の有機基を表し、RPI1およびRPI2は一方が水酸基を表し、他方がエチレン性不飽和基を有する基を表す。LPI1の炭素数は6~32が好ましく、LPI2の炭素数は4~30が好ましい。一般式PI-1における部分構造は、テトラカルボン酸もしくはその誘導体無水物、エステルもしくは酸ハライドとジアミンとを縮合させて得られる部分構造である。LPI1は下記のものが好ましい。上記において、LPI3は単結合、-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-CCF32-、-O-、-S-、-SO2-または-C=O-を表す。LPI2は下記のものが好ましい。上記において、LPI4は単結合、-CH2-、-CHCH3-、-CCH32-、-CCF32-、-O-、-S-、-SO2-、-C=O-、-CH=CH-または-NHC=O-を表す。RPI3~RPI5は各々独立に水素原子または置換基を表し、該置換基としてはハロゲン原子例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、アルキル基例えば、メチル、トリフルオロメチル、エチル、t-ブチル、アルコキシ基例えば、メトキシ、エトキシを表す。上記一般式PI-1で表される部分構造を有する酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリアミド樹脂は、特開2009-230098号公報に記載の製造方法もしくはこれに準じた製造方法で容易に製造できる。酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリイミド樹脂としては、さらに、下記一般式PI-2で表される部分構造を有するものが挙げられる。一般式PI-2において、API1およびAPI2は各々独立に4価の有機基を表し、BPI1は、-CO2-CONH-RPI3、-CONH-RPI3、-NHCONH-RPI3または-SCONH-RPI3を含有する2価の有機基を表す。ここで、RPI3はエチレン性不飽和基または、-LPI5-NHCO2-RPI4、-LPI5-NHCO2-CO-RPI4、-LPI5-NHCO-RPI4、-LPI5-NHCONH-RPI4または-LPI5-NHCO-S-RPI4を表す。ここで、LPI5は飽和もしくは不飽和の2価の有機基を表し、炭素数1~20が好ましく、置換基で置換されていてもよい。RPI4はエチレン性不飽和基を有する基を表し、-CR1=CR2R3が好ましい。ここでR1~R3は前述の酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂における一般式1のR1~R3と同義であり、好ましい範囲も同じである。一般式PI-2で表される酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリイミド樹脂の具体的な樹脂は、特開2009-167414号公報に記載の例示化合物、特に実施例で製造された化合物が挙げられる。なお、一般式PI-2で表される酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリイミド樹脂は、特開2009-167414号公報に記載の製造方法もしくはこれに準じた製造方法で容易に製造できる。酸変性のエチレン性不飽和基含有非ポリウレタン樹脂としては、酸基とエチレン性不飽和基を含有するメタアクリル樹脂、酸変性のエチレン性不飽和基含有エポキシ樹脂すなわち、前述の2のポリエーテル樹脂および3のノボラック型樹脂が好ましい。本発明で使用する酸変性のエチレン性不飽和基含有非ポリウレタン樹脂は、本発明で使用する酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂と同様の分子量、酸価およびエチレン性不飽和基当量であることが好ましい。<ラジカル重合性モノマー>ラジカル重合性モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、エチレン性不飽和基を有する官能基を1つ以上有する化合物が好ましい。前記エチレン性不飽和基を有する官能基としては、例えば、メタアクリロイル基、メタアクリルアミド基、ビニルフェニル基、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、アリルエステル基などが挙げられる。前記エチレン性不飽和基を有する官能基を1つ以上有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、メタアクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも1種が好ましい。前記メタアクリル基を有するモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート等の単官能アクリレートや単官能メタクリレート;ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリロイルオキシプロピルエーテル、トリアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリアクリロイルオキシエチルシアヌレート、グリセリントリメタアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジメタアクリレート;トリメチロールプロパン、グリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後でメタアクリレート化したもの;エポキシ樹脂とメタアクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジメタアクリレートが特に好ましい。前記ラジカル重合性モノマーの前記感光性樹脂組成物固形分中の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、3質量~50質量が好ましく、5質量~40質量がより好ましい。前記含有量が、3質量未満であれば、露光感度が悪化し、50質量より多くなれば、感光層のタック性粘着性が強くなりすぎることがある。<熱架橋剤>前記熱架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、感光層の硬化後の膜強度を改良するために、現像性等に悪影響を与えない範囲で、例えば、エポキシ化合物例えば、1分子内に少なくとも2つのオキシラン基を有するエポキシ化合物、1分子内に少なくとも2つのオキセタニル基を有するオキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート又はその誘導体のイソシアネート基にブロック剤を反応させて得られる化合物ブロック化ポリイソシアネート化合物などが挙げられる。前記熱架橋剤の前記感光性樹脂組成物固形分中の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1質量~50質量が好ましく、3質量~30質量がより好ましい。前記含有量が、1質量以上であれば、硬化膜の膜強度が向上され、50質量以下であれば、現像性、露光感度が良好となる。前記エポキシ化合物としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0071~0073に記載されたエポキシ化合物などが挙げられる。前記オキセタン化合物としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0074に記載されたオキセタン化合物などが挙げられる。前記ポリイソシアネート化合物としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0075に記載されたポリイソシアネート化合物などが挙げられる。前記ブロック化ポリイソシアネート化合物としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0076に記載されたブロック化ポリイソシアネート化合物などが挙げられる。前記メラミン誘導体としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0077に記載されたメラミン誘導体などが挙げられる。<光重合開始剤>光重合開始剤としては、前記ラジカル重合性モノマーの重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。光重合開始剤としては、例えば、ビスアシルホスフィンオキシド又はそのエステル類、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物などが挙げられる。これらの中でも、感光層の感度、保存性、及び感光層とプリント配線板形成用基板との密着性等の観点から、オキシム誘導体、ビスアシルホスフィンオキシド又はそのエステル類、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、が好ましい。前記ビスアシルホスフィンオキシド、前記アセトフェノン系化合物、前記ベンゾフェノン系化合物、前記ベンゾインエーテル系化合物、前記ケタール誘導体化合物、前記チオキサントン化合物としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0042に記載されたビスアシルホスフィンオキシド、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。前記光重合開始剤の前記感光性樹脂組成物固形分中の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1質量~30質量が好ましく、0.5質量~20質量がより好ましく、0.5質量~15質量が特に好ましい。<無機フィラー>本発明で使用する感光性樹脂組成物は、無機フィラーを含有する。前記無機フィラーは、永久パターンの表面硬度の向上、あるいは線膨張係数を低く抑えること、熱伝導率を上げること、あるいは、硬化膜自体の誘電率や誘電正接を低く抑えることができることから、適宜、選択/使用することができる。無機フィラーとしては、例えば、カオリン、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、マイカなどが挙げられる。前記硫酸バリウムの市販品としては、例えば、B-30堺化学工業社製などが挙げられる。これらの中でも、シリカ等のケイ素原子を有する化合物構成原子にケイ素を含む化合物、例えば、シリカ、タルク、硫酸バリウム、水酸化アルミニウムが好ましく、ケイ素原子を有する化合物がより好ましく、シリカが特に好ましい。無機フィラーの平均粒径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5μm以下、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5μm以下が相応しい。前記平均粒径が5μm以上であると、光錯乱により解像度が劣化することがある。無機フィラーの含有量は、本発明においては、感光性樹脂組成物の不揮発成分全容量中の20容量以上である。これによって、本発明の効果を効果的に奏することができ、しかも熱膨張率を下げることができる。無機フィラーの含有量は好ましくは25容量以上、より好ましくは30容量以上である。無機フィラーの上限は60容量以下が好ましい。20容量未満の場合、熱膨張率を下げる効果が小さく、耐衝撃性を向上させる効果は不十分となる。一方、60容量以上となると、解像性が大きく低下してしまう。感光性樹脂組成物の不揮発成分とは、揮発しない成分であって、20mmbarの減圧下で150°Cに加熱しても揮発しない成分、いわゆる固形分容量に相当する。なお、低沸点の有機溶媒やプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトール、ブチルカルビトール等のセロソルブ系溶媒などの比較的高沸点の有機溶媒は揮発性溶媒として知られている。<分散剤>本発明で使用する感光性樹脂組成物中には、分散剤を含有することが好ましい。なかでも、分散剤は、無機フィラーの分散に使用されることが好ましい。このため、分散剤が無機フィラーの表面と相互作用する基を有し、エチレン性不飽和基を有さない高分子分散剤が好ましい。無機フィラーの表面と相互作用する基としては、塩基性基、酸性基または吸着基が挙げられ、特に塩基性基が好ましい。また、無機フィラーの表面でこれらの相互作用する基が相互作用した状態で、分散剤の分子間で会合しないことが好ましく、この会合を抑制するために、分子中に立体障害となる基が存在することが好ましい。また、質量平均分子量は1,000~100,000が好ましい。なお、分散剤が塩基性の官能基を含むものでなく、酸性の官能基、塩構造を含むものである場合は、シリカ等の無機充填剤に対して十分な吸着量が得られないことがあり、フィルムにした場合にシリカ同士の凝集が抑制できないために粘度が低下しないことがある。塩基性基としては、特に制限はなく、例えば、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、含窒素ヘテロ環基などが挙げられるが、第三級アミノ基、含窒素へテロ環基が好ましく、第三級アミノ基が特に好ましい。塩基性基は、無機もしくは有機のフィラーや顔料の表面、特にシリカ微粒子の表面と相互作用、例えば、イオン的相互作用で表面に吸着する。含窒素へテロ環基としては、環構成原子に窒素原子を含み、該窒素原子が塩基性を示すものであればどのようなものでも構わない。含窒素へテロ環基におけるヘテロ環としては、5または6員のヘテロ環基が好ましく、芳香環であっても、不飽和もしくは飽和の環であっても構わない。含窒素へテロ環はさらに芳香環、ヘテロ環または脂環が縮環してもよく、含窒素ヘテロ環に置換基を有してもよい。このような置換基としては、例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基またはヘテロ環基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、ウレイド基、ウレタン基などが挙げられる。含窒素ヘテロ環としては、例えば、ピロリジン環、ピロリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、イミダゾール環、ピラゾリジン環、ピロリジン環、ピラゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、キノリン環、キノキサリン環、キナゾリン環、インドリン環、キヌクリジン環が挙げられる。酸性基としては、特に制限はなく、酸性基の酸部分の基としては、例えば、カルボキシル基、スルホ基、ホスホニル基、-COCH2CO-RB、-CONHCO-RB、-COCH2CN、フェノール性水酸基、-RFCH2OH、-RF2CHOH、アルキルもしくはアリールスルホンアミド基などが挙げられる。ここで、RBは炭素数1~10の炭化水素基を表し、RFはペルフルオロアルキル基を表す。なお、炭化水素基は、飽和、不飽和または環状の炭化水素基で、好ましくは環状の炭化水素基である。酸性基のうち、カルボキシル基、スルホ基、ホスホニル基が好ましく、現像性の点で、カルボキシル基が特に好ましい。また、酸性基の酸部分は、脂肪族基アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基等、芳香族基、ヘテロ環基に上記酸部分の基を有してもよく、上記酸部分の基が直接、酸性基となってもよい。本発明で好ましく使用される分散剤のアミン価は、0.65mmol/g以上が好ましく、0.75mmol/g以上がより好ましく、0.9mmol/g以上がさらに好ましい。アミン価の上限は、特に限定されるものではないが、好ましくは4mmol/g以下であり、さらに好ましくは3mmol/g以下である。ここで、前記アミン価の測定は、例えば、試料をビーカーにはかりとり、酢酸を加え、撹拌して溶解させて、測定温度を25°Cに調整後、滴定試薬として0.1N過塩素酸酢酸を用いて、滴定装置で滴定することにより、求めることができる。アミン価は滴定した際に消費される過塩素の量を、分散剤樹脂固形分1g当たりのモル数で表したものである。本発明で好ましく使用される分散剤の酸価は、0.1mmol/g以上が好ましく、0.3mmol/g以上がより好ましく、さらに好ましくは0.4mmol/g以上である。酸価の上限は、特に限定されるものではないが、好ましくは3.5mmol/g以下であり、さらに好ましくは2.5mmol/g以下である。ここで、前記酸価の測定は、例えば、試料をビーカーにはかりとり、THF/水=5/1体積比の溶液を加え、撹拌して溶解させて、測定温度を25°Cに調整した後、滴定試薬として0.1NのNaOH水溶液を用いて、滴定装置で滴定することにより、酸価を求めることができる。酸価は滴定した際に消費されるNaOHの量を、分散剤樹脂固形分1g当たりのモル数で表したものである。本発明で好ましい分散剤としては、前述のように塩基性基、及び、高分子の立体障害基の少なくともいずれかを有することが好ましい。立体障害基としては、分岐状のアルキル基、ビシクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基なかでもアリール基とヘテロ環基は2個以上の置換基を有するものが好ましい、数平均分子量が500~50,000の側鎖ポリマー鎖が挙げられるが、グラフト鎖を有するポリマー分散剤が好ましい。このうち、立体保護基が、高分子量でなく、低分子量であると、十分な立体反発を得ることができない場合があり、フィルムにしたときに、シリカ等の無機充填剤に対して十分な立体反発が得られないためことがあり、フィルムにした場合に、無機充填剤同士の凝集を抑制することができず、粘度が低下しない場合がある。-グラフト鎖-高分子分散剤は、側鎖に、ないしは主鎖末端の少なくともいずれかにグラフト鎖を有することが好ましい。グラフト鎖としては、例えばポリエステル鎖、ポリアルキルアクリレート鎖、ポリアルキルメタクリレート鎖、ポリアルキレンオキシド鎖好ましくはポリエチレンオキシド鎖、ポリプロピレンオキシド鎖、ポリカーボネート鎖、ポリスチレン鎖、またはこれらが組合されたものおよびこれらの鎖を部分構造に含むものが挙げられる。これらの中でも、ポリエステル部位を有するグラフト鎖ポリエステルグラフト鎖であることが、解像性の点で好ましい。前記グラフト鎖の鎖長は、重合度が、1~100が好ましく、1~80がより好ましく、1~60が特に好ましい。前記グラフトの含有量は、高分子分散剤樹脂全体に対し10質量~60質量が好ましく、20質量~50質量がより好ましい。本発明においては、アミン価、酸価、もしくはアミン価と酸価が前述の範囲であるものが好ましく、アミン価と酸価が前述の範囲であるものがより好ましく、アミン価と酸価が前述の範囲であり、グラフト鎖を有するものがさらに好ましい。前記分散剤の市販品としては、例えば、ソルスパース3000、ソルスパース17000、ソルスパース20000、ソルスパース24000GR、ソルスパース24000SC、ソルスパース26000、ソルスパース27000、ソルスパース28000、ソルスパース32000、ソルスパース33000、ソルスパース38500、ソルスパース39000、ソルスパース41000、ソルスパース55000、ソルスパース56000、ソルスパース71000、ソルスパース76500いずれもルーブリゾール社製、商品名;Disperbyk-161、Disperbyk-167、Disperbyk-182、Disperbyk-2155、Disperbyk-102、Disperbyk-111、Disperbyk-106、Disperbyk-108、Disperbyk-112、Disperbyk-2000、Disperbyk-2001、Disperbyk-2008、Disperbyk-2009、Disperbyk-2015、Disperbyk-2020、Disperbyk-2022、Disperbyk-2025、いずれもBYKChemie社製;Efka-4008、Efka-4009、Efka-4010、Efka-4015、Efka-4020、Efka-4046、Efka-4047、Efka-4400、Efka-4401、Efka-4002、Efka-4003、Efka-4480、Efka-4300、Efka-4310、Efka-4320、Efka-4330、Efka-4340、Efka-4061、Efka-5044、Efka-5244、Efka-5054、Efka-5055、Efka-5063、Efka-5065、Efka-5066、Efka-5070、Efka-5071、Efka-5207、Efka-6220、Efka-6225いずれもBASF社製、商品名などが挙げられる。これらの中でも、塩基性基を有するもの、立体障害基を有するものなどが好ましい。分散剤の無機フィラーに対する含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、無機フィラーの表面積1m2あたり0.1~10mgが好ましく、1~3mgがより好ましい。前記含有量が、0.1mg未満であると、無機フィラーの分散性が不十分であり、10mgを超えると、フィルムのタック性が悪化することがある。一方、前記含有量が前記より好ましい範囲内であると、分散性とタック性の両立という点で有利である。<エラストマー>本発明の感光性樹脂組成物にエラストマーを添加することで、感光性樹脂組成物に耐熱性、柔軟性及び強靭性を付与することができ、好ましい。エラストマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、アクリル系エラストマー、シリコーン系エラストマーなどが挙げられる。これらのエラストマーは、ハードセグメント成分とソフトセグメント成分から成り立っており、一般に前者が耐熱性、強度に、後者が柔軟性、強靭性に寄与している。また、エラストマーの性質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像工程の生産効率性などの点で、アルカリ可溶性又は膨潤性があることが好ましい。スチレン系エラストマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スチレン-ブタジエン-スチレンブロックコポリマー、スチレン-イソプレン-スチレンブロックコポリマー、スチレン-エチレン-ブチレン-スチレンブロックコポリマー、スチレン-エチレン-プロピレン-スチレンブロックコポリマーなどが挙げられる。スチレン系エラストマーを構成する成分であるスチレンのほかに、α-メチルスチレン、3-メチルスチレン、4-プロピルスチレン、4-シクロヘキシルスチレン等のスチレン誘導体を用いることができる。具体的には、市販品として入手でき、商品名も交えて示すと、タフプレン、ソルプレンT、アサプレンT、タフテック以上、旭化成株製、エラストマーARアロン化成製、クレイトンG、過リフレックス以上、シェルジャパン製、JSR-TR、TSR-SIS、ダイナロン以上、日本合成ゴム株製、デンカSTR電気化学工業株製、クインタック日本ゼオン製、TPE-SBシリーズ住友化学株製、ラバロン三菱化学株製、セプトン、ハイブラー以上、クラレ製、スミフレックス住友ベークライト株製、レオストマー、アクティマー以上、理研ビニル工業製などが挙げられる。オレフィン系エラストマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ヘキセン、4-メチル-ペンテン等の炭素数2~20のα-オレフィンの共重合体であり、例えば、エチレン-プロピレン共重合体EPR、エチレン-プロピレン-ジエン共重合体EPDM等が挙げられ、また、ジシクロペンタジエン、1,4-ヘキサジエン、シクロオクタジエン、メチレンノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ブタジエン、イソプレンなどの炭素数2~20の非共役ジエンとα-オレフィン共重合体などが挙げられる。また、ブタジエン-アクリロニトリル共重合体にメタクリル酸を共重合したカルボキシ変性NBRが挙げられる。具体的には、エチレンα-オレフィン共重合体ゴム、エチレンα-オレフィン非共役ジエン共重合体ゴム、プロピレンα-オレフィン共重合体ゴム、ブテンα-オレフィン共重合体ゴムなどが挙げられる。具体的には、市販品として、ミラストマ三井化学株製、EXACTエクソン化学製、ENGAGEダウケミカル製、水添スチレン-ブタジエンラバーDYNABONHSBR日本合成ゴム株製、ブタジエン-アクリロニトリル共重合体NBRシリーズ日本合成ゴム株製、あるいは架橋点を有する両末端カルボキシル基変性ブタジエン-アクリロニトリル共重合体XERシリーズ日本合成ゴム株製などが挙げられる。ウレタンエラストマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、低分子のグリコールとジイソシアネートからなるハードセグメントと高分子長鎖ジオールとジイソシアネートからなるソフトセグメントとの構造単位からなり、高分子長鎖ジオールとしてポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンオキサイド、ポリ1,4-ブチレンアジペート、ポリエチレン1,4-ブチレンアジペート、ポリカプロラクトン、ポリ1,6-ヘキシレンカーボネート、ポリ1,6-ヘキシレンネオペンチレンアジペートなどが挙げられる高分子長鎖ジオールの数平均分子量としては、500~10,000が好ましく、エチレングリコールの他に、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、ビスフェノールA等の短鎖ジオールを用いることができ、短鎖ジオールの数平均分子量は、48~500が好ましい。前記ウレタンエラストマーの市販品としては、PANDEXT-2185、T-2983NDIC株製、シラクトランE790などが挙げられる。ポリエステル系エラストマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジカルボン酸又はその誘導体及びジオール化合物又はその誘導体を重縮合して得られるものが挙げられる。前記ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸及びこれらの芳香核の水素原子がメチル基、エチル基、フェニル基等で置換された芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の炭素数2~20の脂肪族ジカルボン酸、及びシクロヘキサンジカルボン酸などの脂環式ジカルボン酸などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。前記ジオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,10-デカンジオール、1,4-シクロヘキサンジオールなどの脂肪族ジオール及び脂環式ジオール、下記構造式で表される2価のフェノールなどが挙げられる。上記式中、YDOは、炭素原子数1~10のアルキレン基、炭素原子数4~8のシクロアルキレン基、-O-、-S-、及び-SO2-のいずれかを表すか、ベンゼン環同士の直接結合単結合を表す。RDO1及びRDO2は各々独立に、ハロゲン原子又は炭素原子数1~12のアルキル基を表す。pdo1及びpdo2は各々独立に、0~4の整数を表し、ndo1は、0又は1を表す。ポリエステルエラストマーの具体例としては、ビスフェノールA、ビス-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス-4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルプロパン、レゾルシンなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上併用して用いてもよい。また、ポリエステルエラストマーとして、芳香族ポリエステル例えば、ポリブチレンテレフタレート部分をハードセグメント成分に、脂肪族ポリエステル例えば、ポリテトラメチレングリコール部分をソフトセグメント成分にしたマルチブロック共重合体を用いることもできる。マルチブロック共重合体としては、ハードセグメントとソフトセグメントとの種類、比率、及び分子量の違いによりさまざまなグレードのものが挙げられる。具体例としては、ハイトレルデュポン-東レ株製、ペルプレン東洋紡績株製、エスペル日立化成工業株製などが挙げられる。ポリアミド系エラストマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハード相にポリアミドを、ソフト相にポリエーテルやポリエステルを用いたポリエーテルブロックアミド型とポリエーテルエステルブロックアミド型の2種類に大別され、ポリアミドとしては、ポリアミド-6、11、12などが用いられ、ポリエーテルとしては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリテトラメチレングリコールなどが用いられる。具体的には、市販品として、UBEポリアミドエラストマ宇部興産株製、ダイアミドダイセルヒュルス株製、PEBAX東レ株製、グリロンELYエムスジャパン株製、ノパミッド三菱化学株製、グリラックスDIC株製などが挙げられる。アクリル系エラストマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル酸エステルを主成分とし、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、エトキシエチルアクリレートなどが挙げられ、また、架橋点モノマーとして、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテルなどが挙げられる。さらに、アクリロニトリルやエチレンを共重合することもできる。具体的には、アクリロニトリル-ブチルアクリレート共重合体、アクリロニトリル-ブチルアクリレート-エチルアクリレート共重合体、アクリロニトリル-ブチルアクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体などが挙げられる。シリコーン系エラストマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、オルガノポリシロキサンを主成分としたもので、ポリジメチルシロキサン系、ポリメチルフェニルシロキサン系、ポリジフェニルシロキサンなどが挙げられる。市販品の具体例としては、KEシリーズ信越化学工業株製、SEシリーズ、CYシリーズ、SHシリーズ以上、東レダウコーニングシリコーン株製などが挙げられる。また、前記エラストマー以外に、ゴム変性したエポキシ樹脂を用いることができる。ゴム変性したエポキシ樹脂は、例えば、上述のビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、サリチルアルデヒド型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂あるいはクレゾールノボラック型エポキシ樹脂の一部又は全部のエポキシ基を両末端カルボン酸変性型ブタジエン-アクリロニトリルゴム、末端アミノ変性シリコーンゴム等で変性することによって得られる。これらのエラストマーの中で、せん断接着性の点で、両末端カルボキシル基変性ブタジエン-アクリロニトリル共重合体、ヒドロキシル基を有するポリエステル系エラストマーであるエスペル日立化成工業株製、エスペル1612、1620が好ましい。前記エラストマーの含有量としては、前記感光性樹脂組成物100質量部に対して、1質量部~50質量部が好ましく、2質量部~20質量部がより好ましく、3質量部~10質量部が特に好ましい。前記含有量が、2質量部未満では、硬化膜の高温領域での弾性率が低くならない傾向があり、50質量部を超えると、未露光部が現像液で溶出しない傾向がある。<含窒素ヘテロ環化合物>本発明の感光性樹脂組成物は、含窒素ヘテロ環化合物を含有する。本発明において含有する含窒素ヘテロ環化合物は、環骨格原子として3つ以上の窒素原子を有する、ベンゼン非縮環の不飽和5員環化合物である。本発明においては、このような含窒素ヘテロ環化合物を含有させることにより、絶縁性と解像性を向上させることができ、本発明の効果が効果的に奏される。これらの化合物は、銅イオンのような陽イオンと相互作用している可能性もある。本発明で使用する含窒素ヘテロ環化合物は、環骨格原子として3つ以上の窒素原子を有する、ベンゼン非縮環の不飽和5員環化合物であればどのようなものでも構わないが、化合物の総炭素数が1~20が好ましく、1~10がより好ましく、2~10がさらに好ましい。また、芳香環であることが好ましい。これらの中でも下記一般式IS-AまたはIS-Bで表される化合物が好ましい。一般式IS―AまたはIS-Bにおいて、RIS1は水素原子、アルキル基、アリール基またはアシル基を表す。XIS1、XIS2およびXIS3は各々独立に-CRIS2=または-N=を表す。ここでRIS2は、水素原子または置換基を表す。ただし、XIS1、XIS2およびXIS3の少なくとも1つは-N=である。RIS1におけるアルキル基、アリール基やアシル基はさらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては、前述の酸変性の不飽和基含有ポリウレタン樹脂における一般式1~3のR1~R11で挙げた有機基が挙げられる。RIS2における置換基としては、前述の酸変性の不飽和基含有ポリウレタン樹脂における一般式1~3のR1~R11で挙げた有機基が挙げられる。RIS1は水素原子、アルキル基が好ましい。一般式IS-AまたはIS-Bで表される化合物は、トリアゾール環化合物、テトラゾール環化合物、ペンタゾール環化合物が挙げられ、トリアゾール環化合物が好ましい。一般式IS-AまたはIS-Bで表される化合物は、下記一般式IS1で表される化合物であることがさらに好ましい。一般式IS1において、RIS1は水素原子、アルキル基、アリール基またはアシル基を表す。RIS3およびRIS4は各々独立に、水素原子または置換基を表す。RIS1は一般式IS-AまたはIS-BにおけるRIS1と同義であり、好ましい範囲も同じである。RIS3およびRIS4は、一般式IS-AまたはIS-BにおけるRIS2と同義であり、好ましい範囲も同じである。なお、本発明の上記含窒素ヘテロ環化合物は置換基を有するものが好ましい。本発明の上記含窒素ヘテロ環化合物の具体例を以下に例示するが、これによって本発明が限定されるものではない。本発明で使用する前記含窒素ヘテロ環化合物の前記感光性樹脂組成物固形分中の合計含有量は、0.5質量~10質量が好ましく、1質量~5質量がより好ましい。前記含有量が、10質量以上であれば、硬化不良、解像性の低下となり、0.5質量以下であれば、絶縁信頼性向上の効果が小さい。なお、本発明においては、ソルダーレジスト用の感光性樹脂組成物用の公知のイオン捕捉剤を使用してもよく、また、上記含窒素へテロ環化合物とともに使用しても構わない。<着色顔料>本発明の感光性樹脂組成物中に着色顔料を含有することが好ましい。着色顔料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビクトリアピュアーブルーBOC.I.42595、オーラミンC.I.41000、ファットブラックHBC.I.26150、モノライトイエローGTC.I.ピグメントイエロー12、パーマネントイエローGRC.I.ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー55、パーマネントイエローHRC.I.ピグメントイエロー83、パーマネントカーミンFBBC.I.ピグメントレッド146、ホスターバームレッドESBC.I.ピグメントバイオレット19、パーマネントルビーFBHC.I.ピグメントレッド11ファステルピンクBスプラC.I.ピグメントレッド81モナストラルファーストブルーC.I.ピグメントブルー15、モノライトファーストブラックBC.I.ピグメントブラック1、カーボン、C.I.ピグメントレッド97、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド192、C.I.ピグメントレッド215、C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントブルー15:1、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー22、C.I.ピグメントブルー60、C.I.ピグメントブルー64などが挙げられる。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、必要に応じて、公知の染料の中から、適宜選択した染料を使用することができる。前記着色顔料の前記感光性樹脂組成物中の固形分含有量は、永久パターン形成の際の感光層の露光感度、解像性などを考慮して決めることができ、前記着色顔料の種類により異なるが、一般的には0.01~10質量が好ましく、0.05~5質量がより好ましい。<その他の成分>前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、表面処理剤などが挙げられ、更に基材表面への密着促進剤及びその他の助剤類例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤などを併用してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、目的とする感光性樹脂組成物の安定性、写真性、膜物性などの性質を調整することができる。前記熱重合禁止剤としては、例えば、特開2008-250074号公報の段落0101~0102に記載の熱重合禁止剤などが挙げられる。前記熱硬化促進剤としては、例えば、特開2008-250074号公報の段落0093に記載の熱硬化促進剤などが挙げられる。前記可塑剤としては、例えば、特開2008-250074号公報の段落0103~0104に記載の可塑剤などが挙げられる。前記表面処理剤としては、特開2008102486号公報の段落0017~0022に記載のシランカップリング剤などが挙げられる。前記密着促進剤としては、例えば、特開2008-250074号公報の段落0107~0109に記載の密着促進剤などが挙げられる。前記感光性樹脂組成物の使用形態としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、液状で使用してもよいし、感光性フィルムとして使用してもよい。<感光性フィルム>前記感光性フィルムは、少なくとも、支持体と、該支持体上に本発明の感光性樹脂組成物を含む感光層とを有し、更に必要に応じて、その他の層を有する。-支持体-前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光層を剥離可能であり、かつ光の透過性が良好であるものが好ましく、更に表面の平滑性が良好であることがより好ましい。前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2008-250074号公報の段落0115~0117に記載の支持体などが挙げられる。-感光層-前記感光層は、本発明の前記感光性樹脂組成物からなる層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。また、前記感光層の積層数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、1層であってもよいし、2層以上であってもよい。前記感光層の形成方法としては、前記支持体の上に、本発明の前記感光性樹脂組成物を、水又は溶剤に溶解、乳化又は分散させて感光性樹脂組成物溶液を調製し、該溶液を直接塗布し、乾燥させることにより積層する方法などが挙げられる。前記感光性樹脂組成物溶液に用いる溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーター、スリットスピンコーター、ロールコーター、ダイコーター、カーテンコーター等を用いて、前記支持体に直接塗布する方法などが挙げられる。前記乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常60°C~120°Cの温度で30秒間~15分間程度である。前記感光層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1μm~100μmが好ましく、2μm~50μmがより好ましく、4μm~30μmが特に好ましい。-その他の層-前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、保護フィルム、熱可塑性樹脂層、バリア層、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層等の層が挙げられる。前記感光性フィルムは、これらの層を1種単独で有していてもよいし、2種以上を有していてもよい。--保護フィルム--前記感光性フィルムは、前記感光層上に保護フィルムを形成してもよい。前記保護フィルムとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2008-250074号公報の段落0118に記載の保護フィルムなどが挙げられる。前記保護フィルムと前記支持体との組合せとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2008-250074号公報の段落0118に記載の組合せなどが挙げられる。また、前記支持体と前記保護フィルムとの静摩擦係数は、0.3~1.4が好ましく、0.5~1.2がより好ましい。前記静摩擦係数が、0.3以上であれば、滑り過ぎによって、ロール状にした場合に巻ズレが発生することを防止でき、1.4以下であれば、良好なロール状に巻くことができる。前記感光性フィルムの長さ、保管方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2008-250074号公報の段落0120に記載の長さ、保管方法などが挙げられる。前記保護フィルムは、前記保護フィルムと前記感光層との接着性を調整するために表面処理してもよい。前記表面処理は、例えば、前記保護フィルムの表面に、ポリオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、ポリビニルアルコール等のポリマーからなる下塗層を形成させる。該下塗層の形成は、前記ポリマーの塗布液を前記保護フィルムの表面に塗布した後、30°C~150°Cで1分間~30分間乾燥させることにより形成させることができる。前記乾燥の際の温度は50°C~120°Cが特に好ましい。感光性積層体本発明の感光性積層体は、少なくとも基体と、前記基体上に感光層とを有してなり、更に必要に応じて、その他の層を積層してなる。前記感光層は、本発明の前記感光性樹脂組成物を含む層である。前記感光層は、例えば、上述の製造方法で作製された前記感光性フィルムから転写されたものであり、上述と同様の構成を有する。<基体>前記基体は、感光層が形成される被処理基体、又は本発明の感光性フィルムの少なくとも感光層が転写される被転写体となるもので、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を持つものまで任意に選択できる。板状の基体が好ましく、いわゆる基板が使用される。具体的には、公知のプリント配線板製造用の基板プリント基板、ガラス板ソーダガラス板など、合成樹脂性のフィルム、紙、金属板などが挙げられる。<感光性積層体の製造方法>前記感光性積層体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の感光性フィルムにおける少なくとも感光層を加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら転写して積層する方法が挙げられる。前記感光性積層体の製造方法の一例は、前記基体の表面に本発明の感光性フィルムを加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層する方法である。なお、前記感光性フィルムが前記保護フィルムを有する場合には、該保護フィルムを剥離し、前記基体に前記感光層が重なるようにして積層するのが好ましい。前記加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、15°C~180°Cが好ましく、60°C~140°Cがより好ましい。前記加圧の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、0.1MPa~1.0MPaが好ましく、0.2MPa~0.8MPaがより好ましい。前記加熱の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラミネータ例えば、大成ラミネータ株式会社製、VP-II、ニチゴーモートン株式会社製、VP130などが好適に挙げられる。本発明の感光性フィルム及び前記感光性積層体は、電子材料分野における高精細な永久パターンの形成用として広く用いることができ、特に、プリント基板の永久パターン形成用に好適に用いることができる。永久パターン形成方法本発明の永久パターン形成方法は、露光工程を少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。<露光工程>前記露光工程は、本発明の感光性樹脂組成物により形成された感光層に対して露光を行う工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記感光性積層体における感光層に対して露光を行う工程が挙げられる。前記露光の対象としては、前記感光層である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材上に感光性フィルムを加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層して形成した積層体に対して行われることが好ましい。前記露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、デジタル露光、アナログ露光などが挙げられる。<その他の工程>前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材の表面処理工程、現像工程、硬化処理工程、ポスト露光工程などが挙げられる。-現像工程-前記現像工程は、前記感光層の未露光部分を除去する工程である。前記露光部分の除去方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像液を用いて除去する方法などが挙げられる。前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2008-250074号公報の段落0171~0173に記載の現像液などが挙げられる。-硬化処理工程-前記硬化処理工程は、前記現像工程が行われた後、形成されたパターンにおける感光層に対して硬化処理を行う工程である。前記硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。前記全面露光処理、及び前記全面加熱処理の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2008-250074号公報の段落0176~0177に記載の方法などが挙げられる。前記永久パターンの形成方法が、保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する永久パターン形成方法である場合には、プリント基板上に前記永久パターン形成方法により、永久パターンを形成し、更に、以下のように半田付けを行うことができる。即ち、前記現像により、前記永久パターンである硬化層が形成され、前記プリント基板の表面に金属層が露出される。該プリント配線板の表面に露出した金属層の部位に対して金メッキを行った後、半田付けを行う。そして、半田付けを行った部位に、半導体や部品などを実装する。このとき、前記硬化層による永久パターンが、保護膜あるいは絶縁膜層間絶縁膜、ソルダーレジストとしての機能を発揮し、外部からの衝撃や隣同士の電極の導通が防止される。プリント基板本発明のプリント基板は、少なくとも基体と、前記永久パターン形成方法により形成された永久パターンと、を有してなり、更に、必要に応じて適宜選択した、その他の構成を有する。その他の構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材と前記永久パターン間に、更に絶縁層が設けられたビルドアップ基板などが挙げられる。以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら制限されるものではない。なお、合成例における酸価、質量平均分子量、エチレン性不飽和基当量は、以下の方法により測定した。<酸価>酸価は、JISK0070に準拠して測定した。ただし、サンプルが溶解しない場合は、溶媒としてジオキサン又はテトラヒドロフランなどを使用した。<質量平均分子量>質量平均分子量は、高速GPC装置東洋曹達工業株式会社製HLC-802Aを使用して、0.5質量のTHF溶液を試料溶液とし、カラムはTSKgelHZM-M1本を使用し、200μLの試料を注入し、前記THF溶液で溶離して、25°Cで屈折率検出器あるいはUV検出器検出波長254nmにより測定した。<エチレン性不飽和基当量>エチレン性不飽和基当量は、臭素価をJISK2605に準拠して測定することにより求めた。合成例1<酸基とエチレン性不飽和基を有するポリウレタン樹脂U1の合成>コンデンサー、及び撹拌機を備えた500mLの3つ口丸底フラスコ内に、リンゴ酸1.9g0.01モルと2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA8.4g0.06モルとグリセロールモノメタクリレート12.7g0.08モルとポリプロピレングリコールPPG100010.6g0.01モルとヘキサメチレングリコール10.2g0.07モルをシクロヘキサノン60gに溶解した。これに、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI48.1g0.19モルとヘキサメチレンジイソシアネートHMDI8.1g0.05モル、2,6-ジ-t-ブチルヒドロキシトルエン0.1g、及び触媒として商品名:ネオスタンU-600日東化成株式会社製0.2gを添加し、75°Cで5時間加熱撹拌した。その後、メチルアルコール9.61mLにて希釈して30分間撹拌し、165gの下記式で表されるポリウレタン樹脂U1溶液固形分45質量を得た。得られたポリウレタン樹脂U1は、固形分酸価が48mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した質量平均分子量ポリスチレン標準が11,000であった。また、エチレン性不飽和基当量は1.3mmol/gであった。合成例2<エラストマーのポリエステル樹脂E-1の合成>テレフタル酸ジメチル699質量部、イソフタル酸ジメチル524質量部、アジピン酸ジメチル226質量部、セバシン酸ジメチル553質量部、2,2-ジメチルプロパンジオール417質量部、ブタンジオール324質量部、エチレングリコール769質量部、酸化防止剤として、イルガノックス1330チバジャパン株式会社製2質量部、及びテトラブチルチタネート0.9質量部を反応器内で混合させ、攪拌下室温から260°Cまで2時間かけて昇温し、その後260°Cで1時間加熱しエステル交換反応を行った。次いで、反応器内を徐々に減圧にすると共に昇温し、30分間かけて245°C、0.5~2torrにして初期重縮合反応を行った。更に、245°C、0.5~2torrの状態で4時間重合反応を行った後、乾燥窒素を導入しながら30分間かけて常圧へ戻し、ポリエステルをペレット状に取り出し、ポリエステル樹脂E-1を得た。得られたポリエステル樹脂E-1をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートにて60質量の固形分濃度となるように希釈溶解し、ポリエステル樹脂E-1溶液を得た。得られたポリエステル樹脂E-1のゲルパーミエーションクロマトグラフィーにて測定した質量平均分子量ポリスチレン標準は3.4万であった。合成例3<分散剤D-1の合成>三つ口フラスコにシクロヘキサノン36gを入れた後、メタクリル酸2-ジメチルアミノエチルエステル21.6g、ヘキサヒドロフタル酸モノ2-メタクリロイルオキシエチルエステル24.8g、東亜合成製マクロモノマーAS-633.6g、Dimethyl2,2’-Azobisisobutyrate1.28g、3-メルカプトプロピオン酸2-エチルへキシルエステル3.2g、シクロヘキサノン78gを混合した液を80°C、窒素気流下、1時間半かけて滴下した。反応液を3時間撹拌した後、シクロヘキサノン200gを加え、分散剤溶液D-1を得た。分散剤溶液D-1における分散剤ポリマーD-1の固形分濃度は20質量である。実施例1<感光性フィルムの製造>支持体としての厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルム東レ社製、16FB50上に、下記の組成からなる感光性樹脂組成物溶液を塗布し、乾燥させて、前記支持体上に厚み30μmの感光層を形成した。前記感光層上に、保護層として、厚み20μmのポリプロピレンフィルム王子特殊紙社製、アルファンE-200を積層し、感光性フィルムを製造した。-感光性樹脂組成物溶液の組成--感光性組成物溶液の組成-下記の各成分を混合し、感光性組成物溶液を調製した。合成例1のポリウレタン樹脂U1溶液固形分45質量20.3質量部重合性化合物:DCP-A共栄社化学社製5.3質量部熱架橋剤:エポトートYDF-170東都化成社製2.9質量部開始剤:イルガキュア907BASF社製0.6質量部増感剤:DETX-S日本化薬社製0.005質量部反応助剤:EAB-F保土ヶ谷化学社製0.019質量部顔料分散液以下、G-2という30.1質量部塗布助剤:メガファックF-780F0.2質量部大日本インキ化学工業社製:30質量メチルエチルケトン溶液エラストマー:ポリエステル樹脂E-1固形分60質量2.7質量部合成例2のポリエステル樹脂なお、前記顔料分散液G-2は、シリカアドマテックス社製、SO-C232.0質量部と、合成例3の分散剤D-1溶液固形分20質量2.2質量部と、合成例1のポリウレタン樹脂U1溶液固形分45質量12.0質量部と、フタロシアニンブルー0.21質量部と、アントラキノン系黄色顔料C.I.PY240.06質量部と、メラミン和光純薬工業社製0.35質量部と、シクロヘキサノン77.4質量部とを予め混合した後、モーターミルM-250アイガー社製で、直径1.0mmのジルコニアビーズを用い、周速9m/sにて3時間分散して調製した。-基体への積層-銅張積層板スルーホールなし、銅厚み12μmの表面に化学研磨処理を施して基体を調製した。該銅張積層板上に、前記感光性フィルムの感光層が前記銅張積層板に接するようにして前記感光性フィルムにおける保護フィルムを剥がしながら、真空ラミネータニチゴーモートン株式会社製、VP130を用いて積層させ、前記銅張積層板と、前記感光層と、前記ポリエチレンテレフタレートフィルム支持体とがこの順に積層された感光性積層体を調製した。圧着条件は、真空引きの時間40秒間、圧着温度70°C、圧着圧力0.2MPa、加圧時間10秒間とした。-露光工程-前記調製した感光性積層体における感光層に対し、ポリエチレンテレフタレートフィルム支持体側から、所定のパターンを有するガラスマスクを通して、平行光露光機超高圧水銀灯で所定のパターンが得られるようにエネルギー量60mJ/cm2で照射し、前記感光層の一部の領域を硬化させた。-現像工程-室温にて10分間静置した後、前記感光性積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム支持体を剥がし取り、銅張積層板上の感光層の全面に、アルカリ現像液として、1質量炭酸ナトリウム水溶液を用い、30°Cにて60秒間、0.18MPa1.8kgf/cm2の圧力でスプレー現像し、未露光の領域を溶解除去した。その後、水洗し、乾燥させ、永久パターンを形成した。-硬化処理工程-前記永久パターンが形成された積層体の全面に対して、150°Cで1時間加熱処理を施し、その後、1J/cm2の条件で後露光を行い、永久パターンの表面を硬化し、膜強度を高め、試験板を作製した。<評価>以下のようにして、絶縁性、現像残渣、解像性、パターン性および耐メッキ性を評価した。これらの結果をまとめて下記表1に示す。<<絶縁性>>前記基体への積層において、銅張積層板を、銅厚12μm、L/S=25μm/25μmの櫛形基板に代えた以外は、上記と同様にして、基体への積層、露光工程、現像工程、硬化処理工程を行い、評価用基板を作製した。評価用基板を用い、130°C、85RH、50V、200時間の条件で超加速高温高湿寿命試験HASTを実施した。その後の評価用基板のソルダーレジストのマイグレーションの発生程度を100倍の光学顕微鏡により観察した。評価基準◎:短絡無し。さらにマイグレーションの発生が確認できず、絶縁性に優れる○:短絡無し。ただし、マイグレーションの発生が銅上僅かに確認される△:短絡有り。マイグレーションの発生が銅上僅かに確認される×:短絡有り。マイグレーションの発生も確認される<<現像残渣>>前記解像性の評価にて、形成された丸穴パターンのうち、80μm、及び120μmの丸穴の底部の残渣をSEM走査型電子顕微鏡にて観察し、このようにして得られた硬化樹脂パターン付き銅張積層板の表面を光学顕微鏡で観察し、パターンの丸穴底部に残渣が無いこと、パターン部の捲くれ剥がれなどの異常が無く、かつスペース形成可能な最小の丸穴パターン幅を測定し、下記基準で評価した。評価基準◎:直径80μmの丸穴の基板上に現像残渣はなく、現像残渣除去性に優れている○:直径120μmの丸穴の基板上に現像残渣はなく、現像残渣除去性が良好である△:直径120μmの丸穴の基板上に僅かに現像残渣があり、現像残渣除去性がやや劣る×:直径120μmの丸穴の基板上に現像残渣があり、現像残渣除去性が劣る<<解像性>>前記感光性積層体を室温23°Cで55RHにて10分間静置した。得られた感光性積層体のポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上から、丸穴パターンを用い、丸穴の直径の幅30μm~100μmの丸穴が形成できるよう、パターン形成装置を用いて60mJ/cm2で露光を行った。室温にて10分間静置した後、前記感光性積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム支持体を剥がし取った。銅張積層板上の感光層の全面に、現像液として30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧0.15MPaにて前記最短現像時間の2倍の時間スプレーし、未硬化領域を溶解除去した。このようにして得られた硬化樹脂パターン付き銅張積層板の表面を光学顕微鏡で観察し、スペース形成可能な最小の丸穴パターン幅を測定し、これを解像度とし、下記基準で評価した。該解像度は数値が小さいほど良好である。評価基準◎:直径50μm以下の丸穴が解像可能で、解像性に優れている○:直径50μmを超え、70μm以下の丸穴が解像可能で、解像性が良好である△:直径70μmを超え、100μm以下の丸穴が解像可能で、解像性がやや劣る×:丸穴が解像不可で、解像性が劣る<<パターン性>>前記感光性積層体を室温23°Cで55RHにて10分間静置した。得られた感光性積層体のポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上から、丸穴パターンを用い、丸穴の直径の幅30μm~100μmの丸穴が形成できるよう、パターン形成装置を用いて60mJ/cm2で露光を行った。室温にて10分間静置した後、前記感光性積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム支持体を剥がし取った。銅張積層板上の感光層の全面に、現像液として30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧0.15MPaにて前記最短現像時間の2倍の時間スプレーし、未硬化領域を溶解除去した。このようにして得られた硬化樹脂パターン付き銅張積層板の表面を光学顕微鏡で観察し、パターン部の残渣、アンダーカット、壁面部の凹凸状、及び剥がれなどの異常を観察し、これをパターン性とし、下記基準で評価した。評価基準◎:パターン部の残渣、アンダーカット、壁面部の凹凸状、及び剥がれが無く、パターン性に優れている○:僅かに壁面部の凹凸状であるが、パターン部の残渣、アンダーカット、及び剥がれが無く、パターン性が良好である△:僅かにパターン部の残渣、アンダーカット、及び剥がれが観察され、パターン性がやや劣る×:パターン部の残渣、アンダーカット、及び剥がれが観察され、パターン性が劣る<<耐メッキ性>>以下のようにして得られた永久パターンについてのめっき耐性を評価した。基体として、銅張積層板スルーホールなし、銅厚み12μmの表面に化学研磨処理を施したものを使用した以外は、個別の評価用でなく、前述の最初に説明した感光性積層体の場合と同様にして新たに作製した感光性積層体を用いた。この感光性積層体の感光層表面に、フォトマスク越しに、最適露光量にて30μm~1,000μmまでの独立配線パターンを形成し、室温にて10分間静置した後、前記感光性積層体から前記支持体を剥がし取り、銅張積層板上の感光層の全面に、30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧0.15MPaにて前記最短現像時間の2~3倍の時間又は40秒~60秒スプレー現像し、未硬化の領域を溶解除去した。その後、超高圧水銀灯により200mJ/cm2で全面露光を行い、更に150°Cで1時間加熱処理ポストベークをして永久パターンを形成した。評価基準○:まったく剥がれなし△:線幅500μm未満の画像で剥がれなし×:線幅500μm以上の画像で剥がれあり実施例2、3および比較例1~6実施例1において、含窒素ヘテロ環化合物の種類、無機フィラーの種類と含有量、分散剤使用の有無を下記表1の組合せに変更した以外は実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。なお、含窒素へテロ環化合物の添加量は実施例1と同量となるように加えた。これらを実施例1と同様にして評価を行った。これらの結果をまとめて下記表1に示す。なお、上記表1で使用した表面未処理シリカは、アドマテックス社製SO-C2であり、表面処理シリカは、アドマテックス社製SC2500-SEJである。上記表1から明らかなように、本発明の試料は、絶縁性、解像性、パターン性および耐メッキ性がともに優れ、しかも現像残渣が著しく低いことがわかる。このような効果は、含窒素ヘテロ環化合物が、類似のイミダゾールやトリアジン化合物では得るができず、また、無機フィラーの分散剤を使用することにより、本発明の効果が著しく向上していることがわかる。"