"ジエン系ゴム100質量部、シリカ10~100質量部及びシリコーン変性リグノセルロース1~30質量部を含んでなることを特徴とするタイヤ用ゴム組成物。前記シリコーン変性リグノセルロースが、リグノセルロースを20~300°Cで低温プラズマ処理した後に、シラン又はシリコーン化合物を化学吸着させたものであることを特徴とする請求項1記載のタイヤ用ゴム組成物。シラン又はシリコーン化合物がSi-H基含有化合物であることを特徴とする請求項2記載のタイヤ用ゴム組成物。前記シリコーン変性リグノセルロースが、シラン又はシリコーン化合物を化学吸着させた後、更に硫黄原子含有シランカップリング剤で化学吸着処理を行ったものであることを特徴とする請求項2又は3記載のタイヤ用ゴム組成物。前記低温プラズマが、水蒸気、酸素又はアンモニアプラズマであることを特徴とする請求項2~4のいずれか1項記載のタイヤ用ゴム組成物。本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、シリカを配合したゴム組成物の加硫速度を改善し、加硫ゴムのモジュラスの向上、転がり抵抗の低減及びタイヤの軽量化を可能とし、更には環境に優しい材料を使用したタイヤ用ゴム組成物を提供することを目的とする。本発明者は前記課題を解決すべく研究を進めた結果、ジエン系ゴム及びシリカを含むゴム組成物に、シリコーン変性リグノセルロースを配合することにより、ゴムのモジュラスを向上させ、転がり抵抗を低減させることができるゴム組成物が得られ、そしてゴム組成物の加硫速度を高めることにより生産性を向上させることに成功し、本発明をなすに至った。これはフィラーとゴムとの相溶性を向上させることができたためと考えられる。従って、本発明は、下記のタイヤ用ゴム組成物を提供する。請求項1:ジエン系ゴム100質量部、シリカ10~100質量部及びシリコーン変性リグノセルロース1~30質量部を含んでなることを特徴とするタイヤ用ゴム組成物。請求項2:前記シリコーン変性リグノセルロースが、リグノセルロースを20~300°Cで低温プラズマ処理した後に、シラン又はシリコーン化合物を化学吸着させたものであることを特徴とする請求項1記載のタイヤ用ゴム組成物。請求項3:シラン又はシリコーン化合物がSi-H基含有化合物であることを特徴とする請求項2記載のタイヤ用ゴム組成物。請求項4:前記シリコーン変性リグノセルロースが、シラン又はシリコーン化合物を化学吸着させた後、更に硫黄原子含有シランカップリング剤で化学吸着処理を行ったものであることを特徴とする請求項2又は3記載のタイヤ用ゴム組成物。請求項5:前記低温プラズマが、水蒸気、酸素又はアンモニアプラズマであることを特徴とする請求項2~4のいずれか1項記載のタイヤ用ゴム組成物。本発明によれば、シリカを配合したゴム組成物中にシリコーン変性リグノセルロースを配合することにより、ゴム組成物の加硫速度が改善され、加硫ゴムのモジュラスの向上、転がり抵抗の低減、タイヤの軽量化を可能とし、更に環境に優しい材料であるバイオマス材料残渣のリグノセルロースの有効利用にもつながる。本発明のゴム組成物は、ジエン系ゴム、シリカ、及びシリコーン変性リグノセルロースを含むタイヤ用ゴム組成物である。本発明においては、ジエン系ゴム100質量部に対し、シリカを10~100質量部、好ましくは20~90質量部、そして、シリコーン変性リグノセルロースを1~30質量部、好ましくは5~25質量部配合する。シリカの配合量が少ないとゴムの補強性が不十分となり、逆に多いと混合加工性が悪化し、転がり抵抗も悪化する。一方、シリコーン変性リグノセルロースの配合量が少ないと加硫速度が遅くなり、逆に多いと転がり抵抗とモジュラスのバランスが崩れる。<ジエン系ゴム>ここで、本発明において使用するジエン系ゴムは、タイヤ用として使用することができる任意のゴム、例えば天然ゴムNR、ポリイソプレンゴムIR、ポリブタジエンゴムBR、スチレン-ブタジエン共重合体ゴムSBR、各種変性ブチルゴム、エチレン-プロピレンゴムEPDM等を1種単独で又は2種以上の任意のブレンドで用いることができる。<シリカ>本発明において使用することができるシリカには特に制限はなく、タイヤ用に使用することができる任意のシリカを用いることができる。しかしながら、ASTMD1993-03にて測定したBET比表面積が180m2/g以下のシリカが好ましく、更に好ましくは20~178m2/gのシリカを用いることによって、転がり抵抗を更に低減させることができる。このようなシリカとしては市販のものを用いることができ、例えばローディア株製Zeosil165GR、東ソーシリカ社製NipsilER等を挙げることができる。<シリコーン変性リグノセルロース>本発明によれば、シリカ系コンパウンドにおいて、シリコーン変性リグノセルロースを配合することで、加硫コンパウンドのモジュラス向上、転がり抵抗の低減の効果、及びシリカの配合で遅くなる方向にあるコンパウンドの加硫速度を速める効果、更にタイヤの軽量化が達成される。ここで、本発明に使用するシリコーン変性リグノセルロースについて説明する。シリコーン変性リグノセルロースに使用されるリグノセルロースは、バイオマス燃料を抽出した際に残渣として得られるものの総称であり、木材成分であるセルロース及び/又はリグニンを含んだものである。含有量としてはバイオマスにセルロースが使用されるので、リグニンリッチのものとなる。形状は茶色~褐色の粉末状のものである。ただし、これに限定されるものでなく、木材の廃材から取り出されたリグニン粉末でも構わない。リグノセルロースの平均粒径は0.01~100μmが好ましく、0.1~80μmがより好ましく、特に好ましくは1~50μmである。シリコーン変性リグノセルロースは、上記リグノセルロースを使用し、まず低温プラズマ処理を行うことが好ましい。プラズマとは気体が電離した状態をいい、プラズマ中では正と負の荷電粒子が高速で飛び回っており、且つ荷電粒子の間に大きなクーロン力が働くために粒子の持つ運動エネルギーは大きくなる。このため、高エネルギーの粒子によって結合を切られた原子や分子の存在により、プラズマ化した水蒸気や酸素は非常に強い酸化力や還元力を有する。このプラズマ処理を行うことにより、リグノセルロース表面に水酸基やカルボキシル基等が導入されるため、次のシリコーン処理をより効果的に行うことができる。このようなプラズマは、その発生手法や発生装置等により限定されるものではないが、高周波誘導加熱により生じる水蒸気プラズマ、酸素プラズマ或いはアンモニアプラズマであることが好ましく、上記高周波の出力が10~500kW、特に20~200kWであることが、安定したプラズマの供給には好ましい。また、周波数は10~20kHzとし、圧力は0.01~10Torrとすることが好ましい。また、上記プラズマの温度は処理の汎用性の観点とエネルギーコストの観点から、20~300°Cの範囲が好ましく、より好ましくは20~250°C、更に好ましくは25~150°Cである。プラズマの処理時間は20~360分間、特に30~120分間であることが好ましい。上記で得られた低温プラズマ処理されたリグノセルロースに、シラン或いはシリコーンを化学吸着させて表面を処理するのが好ましい。処理に使用するシラン、シリコーンに特に限定はないが、Si-H基含有シラン化合物又はSi-H基含有シリコーンシロキサン化合物が特に好ましい。本発明で使用されるSi-H基含有シラン又はシリコーン化合物は、Si-H基を1個以上含有しているものであれば特に限定はないが、下記一般式1、2及び3で示されるものが好ましい。HnSiR1式中、Rは同一もしくは異種の炭素数1~20のアルキル基、又は炭素数1~4のアルコキシ基であり、n=1、2又は3の整数である。ここで、式1のRは同一又は異種の炭素数1~20、特に1~10のアルキル基、又は炭素数1~4のアルコキシ基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。このようなシラン化合物としては以下のものが挙げられる。HSiCH33、H2SiCH32、H3SiCH3、SiH4、HSiCH2CH33、H2SiCH2CH32、H3SiCHCH3、HSiOCH33、H2SiOCH32、H3SiOCH3、HSiOCH2CH33、H2SiOCH2CH32、H3SiOCH2CH3等が挙げられるが、好ましくは、HSiOCH33、HSiOCH2CH3である。式中、R1は水素原子、同一もしくは異種の炭素数1~20のアルキル基、又は炭素数6~20のアリール基である。ここで、式2のR1はそれぞれ独立に水素原子、同一もしくは異種の炭素数1~20、特に1~10のアルキル基、又は炭素数6~20、特に6~12のアリール基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられるが、好ましくはメチル基である。このようなシロキサン化合物としての具体例としては下記のもの等が挙げられる。これらのなかでも好ましくはである。式中、R1は上記と同じ、Xはそれぞれ独立に水素原子、同一もしくは異種の炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数1~20のアルコキシ基、又はヒドロキシル基、Yはそれぞれ独立にX又は-[O-SiX2]c-Xで示される同一又は異種の基、aは0~1,000の整数、bは0~1,000の整数、cは1~1,000の整数であり、分子中にH-Si基を1個以上含有する。ここで、式3のR1は式2における定義と同じである。Xはそれぞれ独立に水素原子、同一もしくは異種の炭素数1~20、特に1~10のアルキル基、炭素数6~20、特に6~12のアリール基、炭素数1~20、特に1~4のアルコキシ基、又はヒドロキシル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、テトラデシルオキシ基等が挙げられる。両末端の3つのXのうちの少なくとも1つがHであるものが好ましい。Yはそれぞれ独立にX又は-[O-SiX2]c-Xで示される同一又は異種の基であり、aは1,000より大きくなると得られるリグノセルロースへの浸透性が悪くなる場合があるので、0~1,000の整数、好ましくは0~200の整数である。また、bもより大きくなると得られるリグノセルロースへの浸透性が悪くなる場合があるので、0~1,000の整数、好ましくは0~200の整数である。cは1~1,000、特に1~500の整数とされる。このようなシリコーン化合物の具体例としては、下記のもの等が挙げられる。a,b,cは上記の通り。これらのSi-H基含有シラン又はシリコーン化合物を低温プラズマ処理されたリグノセルロースに処理する場合、より好ましくは気相で化学吸着する方法がよい。20~300°C、特に20~200°Cの温度範囲において、減圧により蒸気化したSi-H基含有シラン又はシリコーン化合物と接触させるのが好ましい。反応時間は1~48時間が好ましく、より好ましくは2~24時間で処理を行うのがよい。Si-H基含有シラン又はシリコーン化合物の処理量は、上記低温プラズマ処理リグノセルロースに対し、0.3~15質量の範囲で処理されるのがよい。より好ましくは2~10質量である。Si-H基含有シラン又はシリコーン化合物の処理量が0.3質量未満では、コンパウンドのモジュラス向上化、転がり抵抗の低減効果が得られず、また混合性も悪くなる場合がある。逆に、15質量を超えた量を処理しても、更なる向上はみられず、コスト的に不利となる場合がある。Si-H基含有化合物を処理した後に更に強固に反応させるため、アンモニア蒸気等を接触処理してもよい。これをそのまま構成成分として使用してもよいが、更に下記一般式4に示されるような硫黄原子含有シランカップリング剤を処理してもよい。R2dR3eSi-A4式中、R2は炭素数1~3のアルコキシ基、R3は炭素数1~40のアルキル基、アルケニル基又はアルキルポリエーテル基、Aは硫黄原子を含む官能基、dは1~3の数、de=3である。上記一般式4で表される硫黄原子含有シランカップリング剤は、リグノセルロース中の水酸基と反応しうるR2基と、更にジエン系ゴムと反応し得る硫黄原子を含む官能基Aとを有するものであり、これでリグノセルロースを処理することにより、加硫速度を向上させたり、補強性を向上させることができる。式4中、R2としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基が挙げられ、より好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。また、R3は炭素数1~40、特に1~20のアルキル基、アルケニル基又はアルキルポリエーテル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基が挙げられる。R3は、炭素数1~4のアルキル基又はアルケニル基であることが好ましく、より好ましくは炭素数1~4のアルキル基である。R3について、上記アルキルポリエーテル基とは、-O-Ra-Ok-Rbここで、Raは炭素数1~4のアルキレン基、Rbは炭素数1~16、特に1~8のアルキル基、kは1~20、特に1~15の数であることが好ましい。で表される。Raとしては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられ、Rbとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アルキルポリエーテル基としては、-O-CH2CH2-O5-CH210CH3、-O-CH2CH2-O5-CH211CH3、-O-CH2CH2-O5-CH212CH3、-O-CH2CH2-O5-CH213CH3、-O-CH2CH2-O5-CH214CH3、-O-CH2CH2-O3-CH212CH3、-O-CH2CH2-O4-CH212CH3、-O-CH2CH2-O6-CH212CH3、-O-CH2CH2-O7-CH212CH3等が挙げられる。また、式4中の官能基Aとしては、下記一般式5~7が好ましいものとして挙げられる。-R4-Sx-R5-SiR2cR3d5-R6-SH6-R7-S-CO-R87式中、R4,R5は、それぞれ独立に炭素数1~8のアルキレン基であり、より好ましくは、炭素数2~4のアルキレン基であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。R6は、炭素数1~16のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数2~4のアルキレン基である。R7は、炭素数1~5のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数2~4のアルキレン基であり、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。R8は、炭素数1~18のアルキル基であり、より好ましくは炭素数5~9のアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等が挙げられる。xは2~8であり、より好ましくは2~4である。なお、xは通常分布を有しており、即ち、硫黄連鎖結合の数が異なるものの混合物として一般に市販されており、xはその平均値を表す。なお、R2、R3、c、dは、上記式3の定義と同じである。官能基Aが上記式5で表されるスルフィドシランカップリング剤としては、例えば、ビス3-トリエトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス3-トリエトキシシリルプロピルジスルフィド、ビス2-トリエトキシシリルエチルテトラスルフィド、ビス4-トリエキトシシリルブチルジスルフィド、ビス3-トリメトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス2-トリメトキシシリルエチルジスルフィド等が好ましいものとして挙げられる。官能基Aが上記式6で表されるメルカプトシランカップリング剤としては、例えば、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メルカプトプロピルジメチルメトキシシラン、メルカプトエチルトリエトキシシラン、及びエボニック社製のVPSi363R2:-OC2H5、R3:-OC2H4Ok-C13H27、R6:-CH23-、c=平均1、d=平均2、k=平均5等が好ましいものとして挙げられる。官能基Aが上記式7で表される保護化メルカプトシランカップリング剤としては、例えば、3-オクタノイルチオ-1-プロピルトリエトキシシラン、3-プロピオニルチオプロピルトリメトキシシラン等が好ましいものとして挙げられる。上記硫黄原子含有シランカップリング剤をシリコーン変性リグノセルロースに処理する場合、より好ましくは気相で化学吸着する方法がよい。20~300°C、特に20~200°Cの温度範囲において、減圧により蒸気化した硫黄原子含有シランカップリング剤と接触させるのが好ましい。反応時間は1~48時間が好ましく、より好ましくは2~24時間、更に好ましくは5~20時間で処理を行うのがよい。硫黄原子含有シランカップリング剤の処理量は、上記シリコーン変性リグノセルロースに対し、0.5~15質量の範囲で処理されるのがよい。より好ましくは2~10質量である。硫黄原子含有シランカップリング剤の処理量が0.5質量未満では、十分な補強性の向上や加硫速度の向上化が得られない場合があり、逆に、15質量を超えた量を処理しても、補強性の更なる向上はみられず、却って低発熱性が損なわれることがある。本発明に係るゴム組成物には、前記した成分に加えて、カーボンブラック等の他の補強剤フィラー、加硫又は架橋剤、加硫又は架橋促進剤、各種オイル、老化防止剤、可塑剤等のタイヤ用、その他のゴム組成物用に一般的に配合されている各種添加剤を配合することができ、かかる添加剤は一般的な方法で混練して組成物とし、加硫又は架橋するのに使用することができる。これらの添加剤の配合量は本発明の目的に反しない限り、従来の一般的な配合量とすることができる。本発明のゴム組成物は、上記各成分を常法により100~200°Cで1~120分間混練して得ることができ、これに硫黄を添加して50~150°Cで1~60分間加熱することで加硫ゴムを得ることができる。以下、製造例、実施例及び比較例を用いて本発明を具体的に説明する。なお、下記の実施例は、本発明を何ら制限するものではない。<製造例1>[シリコーン変性リグノセルロース1の調製]あらかじめ乾燥させたリグノセルロース粉バイオ燃料残渣、茶褐色粉末、平均粒子径30μmを反応容器にセットし、高周波の出力を45W、周波数を13.56kHz、圧力0.6Torrに調整し、プラズマの温度を25°Cに設定して酸素ガスを供給しながらから70分処理を行った。プラズマ処理を行ったリグノセルロース粉を取り出し、減圧下100mmHgで1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキンを導入し、30°Cで蒸気化させ、12時間気相処理を行った。その後脱気処理をして未反応のシランを除去し、そこにアンモニアガスを導入して更に反応を行い、シリコーン変性リグノセルロース1を得た。シロキサン処理量は15質量であった。<製造例2>[シリコーン変性リグノセルロース2の調製]上記製造例1の酸素ガスを水蒸気に代えた以外は製造例1と同様に処理を行いシリコーン変性リグノセルロース2を得た。シロキサン処理量は11質量であった。<製造例3>[シリコーン変性リグノセルロース3の調製]上記製造例1の酸素ガスをアンモニアに代えた以外は製造例1と同様に処理を行いシリコーン変性リグノセルロース3を得た。シロキサン処理量は15質量であった。<製造例4>[シリコーン変性リグノセルロース4の調製]あらかじめ乾燥させたリグノセルロース粉バイオ燃料残渣、茶褐色粉末、平均粒子径30μmを反応容器にセットし、高周波の出力を45W、周波数を13.56kHz、圧力0.6Torrに調整し、プラズマの温度を25°Cに設定して酸素ガスを供給しながらから70分処理を行った。プラズマ処理を行ったリグノセルロース粉を取り出し、減圧下100mmHgで1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキンを導入し、30°Cで蒸気化させ、12時間気相処理を行った。その後脱気処理をして未反応のシランを除去し、そこにアンモニアガスを導入して更に反応を行った。シロキサン処理量は15質量であった。その後減圧下5mmHg、200°Cでγ-メルカプトプロピルトリメトキシシランを導入し、気相処理を行い、その後脱気処理をして未反応のシランを除去し、そこにアンモニアガスを導入して更に反応を行った。γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン処理量は5質量であった。<製造例5>[シリコーン変性リグノセルロース5の調製]製造例4のγ-メルカプトプロピルトリメトキシシランをビス3-トリエトキシシリルプロピルジスルフィドに代えた以外は同様に処理した。ビス3-トリエトキシシリルプロピルジスルフィドの処理量は3質量であった。<実施例1~8及び比較例1~4>サンプルの調製表1,2に示す配合において、加硫促進剤と硫黄を除く成分を1.8リットルの密閉型ミキサーで5分間混練し、150°Cに達したときに放出してマスターバッチを得た。このマスターバッチに加硫促進剤と硫黄をオープンロールで混練し、ゴム組成物を得た。このゴム組成物を用いて以下に示す試験法で未加硫物性を評価した。結果は比較例1の値を100として指数表示して表1,2に示す。次に得られたゴム組成物を15×15×0.2cmの金型中で160°Cで20分間加硫して加硫ゴムシートを調製し、以下に示す試験法で加硫ゴムの物性を測定した。結果は比較例1の値を100として指数表示して表1,2に示す。ゴム物性評価試験法加硫速度:JISK6300-2に準拠してレオメータによりT95160°Cにて95の加硫度に達する時間を測定した。この値が小さいほど加硫速度が速く良好であることを示す。300モジュラス:JISK6251に準拠して引張り試験にて評価した。この値が大きい方が良好であることを示す。ウェット性能0°Ctanδ及び転がり抵抗60°Ctanδ:JISK6394に準拠して0°C及び60°Cでの損失正接tanδを測定した。測定は東洋精機製作所株製粘弾性スペクトロメーターを用いて、初期歪10、振幅±2、周波数20Hzの条件で測定した。0°Ctanδの値が大きいほどウェット性能が良好であり、60°Ctanδの値が小さいほど転がり抵抗が良好であることを示す。注1:天然ゴムTSR-202:日本ゼオン株製Nipol15023:東海カーボン株製シーストN4:ローディア株製Zeosil165GRBET=165m2/g5:正同化学工業株製酸化亜鉛3種6:日油株製ビーズステアリン酸7:信越化学工業株製ビス-[3-トリエトキシシリル-プロピル]テトラスルフィドKBE-8468:鶴見化学工業株製金華印油入微粉硫黄9:大内新興化学工業株製N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアジルスルフェンアミドノクセラーCZ-G"