プロセスツールへ所定量のガスの一連のパルスを供給するためのパルスガス供給システムであって、複数の流路であり、各々が、ガス供給チャンバと、前記対応するガス供給チャンバ中へと流れ込むガスを制御するように接続された注入弁と、前記対応するガス供給チャンバの外へ流れ出るガスの前記量を制御するように接続された排出弁とを含む、複数の流路と、所定の量であるガスのパルスがパルスガス供給プロセスにしたがって所定のシーケンスで前記プロセスツールへ供給され得るように、前記流路の各々の前記注入弁および排出弁を制御するように構成された専用の複数流路制御装置とを備えた、パルスガス供給システム。前記ツールが、ホストコンピュータを含む型のものであり、前記パルスガス供給プロセスが、前記専用の複数流路制御装置へ前記ホストコンピュータによって与えられる指示によって開始される、請求項1に記載のシステム。前記パルスガス供給プロセスが、前記専用の複数流路制御装置へユーザインターフェースを介して与えられる指示によって開始されるように前記専用の複数流路制御装置に結合されたユーザインターフェースをさらに含む、請求項1に記載のシステム。各流路が、前記供給チャンバ内の前記ガスの温度を表す信号を与えるように構成された温度センサと、前記供給チャンバ内の前記ガスの圧力を表す信号を与えるように構成された圧力センサとをさらに含む、請求項1に記載のシステム。前記ツールへ供給される前記所定量のガスの各パルスが、前記対応する供給チャンバ内の前記ガスの前記温度、および前記パルスの期間中の前記対応する供給チャンバ内の前記ガスの圧力降下に依存する、請求項4に記載のシステム。前記専用の複数流路制御装置が、前記ツールへ命令信号を与えるように構成される、請求項1に記載のシステム。前記ツールが、プロセスチャンバの内部の圧力を制御するように構成された振り子弁を含むプロセスチャンバであり、前記専用の複数流路制御装置が、前記プロセスチャンバの内部の前記圧力を制御するために振り子弁を開き、開位置を精密に制御するために事前供給トリガ信号を与えるように構成される、請求項6に記載のシステム。前記専用の複数流路制御装置が、前記パルスガス供給プロセスの実行に先立って、前記プロセスツールを準備するための事前供給トリガ信号を発生するようにさらに構成される、請求項1に記載のシステム。複数の流路の動作に関する指示が、前記プロセスツールに関係するホストコンピュータから、またはユーザインターフェースを介してアップロードされる、請求項1に記載のシステム。前記専用の複数流路制御装置が、ホスト制御装置とは独立にガス供給プロセス中に前記流路の各々の前記注入弁および排出弁を制御するように構成される、請求項1に記載のシステム。前記ホスト制御装置が、前記供給プロセスの開始をトリガする、請求項10に記載のシステム。プロセスツールシステムと、プロセスツールへ所定量のガスの一連のパルスを供給するためのパルスガス供給システムとの組み合わせであって、前記パルスガス供給システムが、複数の流路であり、各々が、ガス供給チャンバと、前記対応するガス供給チャンバ中へと流れ込むガスを制御するように接続された注入弁と、前記対応するガス供給チャンバの外へ流れ出るガスの量を制御するように接続された排出弁とを含む、複数の流路と、所定の量であるガスのパルスがパルスガス供給プロセスにしたがって所定のシーケンスで前記プロセスツールへ供給され得るように、前記流路の各々の前記注入弁および排出弁を制御するように構成された専用の複数流路制御装置とを備えた、組み合わせ。前記専用の複数流路制御装置が、ホスト制御装置とは独立にガス供給プロセス中に前記流路の各々の前記注入弁および排出弁を制御するように構成される、請求項12に記載の組み合わせ。前記ホスト制御装置が、前記供給プロセスの開始をトリガする、請求項13に記載の組み合わせ。各流路が、前記供給チャンバ内の前記ガスの温度を表す信号を与えるように構成された温度センサと、前記供給チャンバ内の前記ガスの圧力を表す信号を与えるように構成された圧力センサとをさらに含む、請求項12に記載の組み合わせ。前記専用の複数流路制御装置が、前記パルスガス供給プロセスの実行に先立って、前記プロセスツールを準備するための事前供給トリガ信号を発生するようにさらに構成される、請求項12に記載の組み合わせ。複数の流路であり、各流路が、ガス供給チャンバと、前記対応するガス供給チャンバ中へと流れ込むガスを制御するように接続された注入弁と、前記対応するガス供給チャンバの外へ流れ出るガスの量を制御するように接続された排出弁とを含む、複数の流路と、専用の複数流路制御装置とを備えたパルスガス供給システムを使用して、プロセスツールへ所定量のガスの一連のパルスを供給する方法であって、所定量であるガスのパルスが、パルスガス供給プロセスにしたがって所定のシーケンスで前記プロセスツールに供給され得るように、前記制御装置が、前記流路の各々の前記注入弁および排出弁を制御するように前記専用の複数流路制御装置を構成するステップを含む、方法。前記制御装置が、各流路内の前記ガスの温度および圧力に応じて各流路を制御するように構成される、請求項17に記載の方法。プロセスツールおよびホスト制御装置とともに使用するための多重流路パルスガス供給システムであって、前記システムは、複数の流路であり、各流路が、ガス供給チャンバと、前記対応するガス供給チャンバ中へと流れ込むガスを制御するように接続された注入弁と、前記対応するガス供給チャンバの外へ流れ出るガスの前記量を制御するように接続された排出弁とを含む、複数の流路と、専用の複数流路制御装置とを備え、前記専用の複数流路制御装置は、充填プロセスおよび供給プロセスのステップが、ホスト制御装置によって制御される複数の単一流路パルスガス供給システムによって実現され得るものより速い速度で多重化されるように、前記流路の各々を制御し調整するように構成される、多重流路パルスガス供給システム。各流路が、前記供給チャンバ内の前記ガスの温度を表す信号を与えるように構成された温度センサと、前記供給チャンバ内の前記ガスの圧力を表す信号を与えるように構成された圧力センサとをさらに含む、請求項19に記載の多重流路パルスガス供給システム。プロセスツールおよびホスト制御装置とともに使用するための多重流路パルスガス供給システムであって、前記システムは、複数の流路であり、各流路が、ガス供給チャンバと、前記対応するガス供給チャンバ中へと流れ込むガスを制御するように接続された注入弁と、前記対応するガス供給チャンバの外へ流れ出るガスの量を制御するように接続された排出弁とを含む、複数の流路と、専用の複数流路制御装置とを備え、前記専用の制御装置が、各パルスに対応する事前供給トリガ信号を発生するように構成され、前記事前供給トリガ信号が、対応するパルスにおいて供給されるべきガス種およびガスの量に関係する情報を含む、多重流路パルスガス供給システム。前記事前供給トリガ信号が、前記対応するパルスの前記供給中に、前記プロセスツールの内部の前記圧力を制御するように構成された弁の位置に関係する情報をさらに含む、請求項21に記載の多重流路パルスガス供給システム。前記事前供給トリガ信号が、前記対応するパルスの前記供給中に圧力制御を行うために、前記プロセスツール上の圧力制御弁によって使用され得る、請求項21に記載の多重流路パルスガス供給システム。各流路が、前記供給チャンバ内の前記ガスの温度を表す信号を与えるように構成された温度センサと、前記供給チャンバ内の前記ガスの圧力を表す信号を与えるように構成された圧力センサとをさらに含む、請求項21に記載の多重流路パルスガス供給システム。前記圧力制御弁が、振り子弁である、請求項23に記載の多重流路パルスガス供給システム。前記制御圧力弁が、絞り弁である、請求項23に記載の多重流路パルスガス供給システム。0014一態様によれば、改善した多重流路PGDシステムは、PGDシステムによって実行されるべきプロセスステップのすべてを実行することに先立って、ホスト制御装置またはユーザインターフェースからの指示のすべてを受信するように構成された専用の多重流路制御装置を備える。したがって、多重流路制御装置は、ガスがエッチングプロセスを実行するためにプロセスツール中へと導入され、エッチングプロセスを停止するために第2のパッシベーションガスの導入が続くエッチ-パッシベーションプロセスのステップを通して個々の流路のすべてを制御するように構成される。したがって、専用の多重流路制御装置は、全体のプロセスについての複数の流路用の制御信号を与えるように容易にプログラムすることができ、プロセスツールに関する他の機能を実行するために制限をなくすようにホスト制御装置の計算オーバーヘッドを削減する。一実施形態では、ホストコンピュータまたはユーザインターフェースは、専用の多重流路制御装置に開始命令を与え、制御装置は、流路の圧力センサおよび温度センサからの信号を受信しつつ、流路のすべての個々の構成要素に命令のすべてを与えることによってプロセスを1つの方法で実行する。0015本明細書において説明する教示の一態様によれば、プロセスツールへ所定量のガスの一連のパルスを供給するためのパルスガス供給システムは、複数の流路であって、各々が、ガス供給チャンバと、対応するガス供給チャンバ中へと流れ込むガスを制御するように接続された注入弁と、対応するガス供給チャンバの外へ流れ出るガスの量を制御するように接続された排出弁とを含む、複数の流路と、所定の量であるガスのパルスが、パルスガス供給プロセスにしたがって所定のシーケンスでプロセスツールへ供給され得るように、流路の各々の注入弁および排出弁を制御するように構成された専用の複数流路制御装置とを備える。0016本明細書において説明する教示の別の一態様によれば、プロセスツールシステムと、プロセスツールへ所定量のガスの一連のパルスを供給するためのパルスガス供給システムとの組み合わせが提供され、パルスガス供給システムは、複数の流路であって、各々が、ガス供給チャンバと、対応するガス供給チャンバ中へと流れ込むガスを制御するように接続された注入弁と、対応するガス供給チャンバの外へ流れ出るガスの量を制御するように接続された排出弁とを含む、複数の流路と、所定の量であるガスのパルスが、パルスガス供給プロセスにしたがって所定のシーケンスでプロセスツールへ供給され得るように、流路の各々の注入弁および排出弁を制御するように構成された専用の複数流路制御装置とを備える。複数流路制御装置は、全体のパルスガス供給速度が増加するように、複数の流路の間で充填ステップおよび供給ステップを多重化するように構成される場合がある。0017本明細書において説明する教示のさらに別の一態様によれば、パルスガス供給システムを使用して、プロセスツールへ所定量のガスの一連のパルスを供給する方法が提供される。ガス供給システムは、複数の流路であって、各流路が、ガス供給チャンバと、対応するガス供給チャンバ中へと流れ込むガスを制御するように接続された注入弁と、対応するガス供給チャンバの外へ流れ出るガスの量を制御するように接続された排出弁とを含む、複数の流路と、専用の複数流路制御装置とを備える。本方法は、所定量であるガスのパルスが、プロセスツールに供給され得るように、制御装置が、流路の各々の注入弁および排出弁を制御するように専用の複数流路制御装置を構成するステップを含む。0018本明細書において説明する教示のさらに別の一態様によれば、パルスガス供給システムを使用して、プロセスツールへ所定量のガスの一連のパルスを供給する方法が提供される。ガス供給システムは、複数の流路であって、各流路が、ガス供給チャンバと、対応するガス供給チャンバ中へと流れ込むガスを制御するように接続された注入弁と、対応するガス供給チャンバの外へ流れ出るガスの量を制御するように接続された排出弁とを含む、複数の流路と、専用の複数流路制御装置とを備えた型のものである。専用の複数流路制御装置は、各パルスに対応する事前供給トリガ信号を発生するように構成され、事前供給トリガ信号は、対応するパルスにおいて供給されるべきガス種およびガスの量に関係する情報を含む。事前供給トリガ信号は、対応するパルスの供給中にプロセスツールの内部の圧力を制御するために圧力制御弁によって使用される場合がある。0019これらのならびに他の構成要素、ステップ、特徴、目的、利益、および利点は、実例としての実施形態の下記の詳細な説明、添付した図面、および特許請求の範囲の概観からここに明らかになるであろう。0020図面は、実例としての実施形態を開示する。図面は、すべての実施形態を説明するものではない。他の実施形態が、追加でまたは代わりに使用される場合がある。明白であるまたは不必要である場合がある詳細は、紙面を節約するためにまたはより効果的な説明のために省略される場合がある。逆に、いくつかの実施形態は、開示される詳細のすべてを用いずに実行される場合がある。0022実例としての実施形態がここで論じられる。他の実施形態が、追加でまたは代わりに使用される場合がある。明白であるまたは不必要である場合がある詳細は、紙面を節約するためにまたはより効果的な表現のために省略される場合がある。逆に、いくつかの実施形態は、開示される詳細のすべてを用いずに実行される場合がある。0023図は、ガスの高速パルス供給の制御を行うように構成された専用の多重流路制御装置を含む多重流路PGDシステムの一実施形態のブロック図を示す。システム10および本システムを使用することによって実行される方法は、半導体処理チャンバまたはプラズマエッチング装置などの半導体ツールへプロセスガスの汚染フリーで精密に計量した量を供給するように特に意図されている。0024図に示したように、システム10は、複数の流路12を含む。各流路12は、ガス供給部図示せずに接続され、対応する供給チャンバ14へ特定のガスを供給するように構成されたガス供給配管である。注入弁16は、対応する供給チャンバ14中への流れを制御する。各供給チャンバ14から出る流れは、プロセスチャンバまたはプロセスツール20へ精密な量のガスを供給するように対応する排出弁18によって制御される。図示した実施形態では、注入弁および排出弁は、比較的速い遮断応答、すなわち、1から5ミリ秒の程度で開状態から遮断状態への遷移を有する遮断弁であるが、この遷移は明らかに変えることができる。温度センサ22および圧力センサ24が、各供給チャンバに対して設けられ、各供給チャンバからプロセスチャンバへ供給されるガスの量は、特定の供給チャンバ内のガスの温度および圧力、ガスの種類、ならびに対応する排出弁が開である時間に応じて注意深く制御される場合がある。本開示の例示的な一実施形態によれば、温度センサ22は、対応する供給チャンバ14の壁と接触し、壁の温度の測定を行う一方で、圧力センサ24は、供給チャンバ14の内側のガス圧力の測定を行う。専用の制御装置26は、対応する温度センサおよび圧力センサ22および24からの読値を受け取り、ならびに注入弁および排出弁16および18を動作させるために設けられる。専用の多重流路制御装置26は、ユーザインターフェースまたはホスト制御装置28からの指示を受け取る。専用の制御装置26は、複数の流路間で充填ステップおよび供給ステップを多重化するように構成されることがある、その結果、全体のパルスガス供給速度が増加される場合がある。0025一実施形態によれば、専用の多重流路制御装置26は、対応する温度センサ22および圧力センサ24の各々から温度信号および圧力信号を受信するステップ、および適切なシーケンスで注入弁16および排出弁18の各々を開閉するステップを含むPDGプロセスのステップを実行するための指示のすべてを与えられる。プログラムは、制御装置上に記憶され、その結果、システム10は、ホストコンピュータまたはユーザインターフェース28からの1つの開始命令で全体のプロセスを実行することができ、プロセスを早めて終わらせることが望まれない限り、ユーザコンピュータまたはホストコンピュータがシステムとさらに情報交換することを必要としない。後者のケースでは、1つの停止命令が、起動され、多重流路制御装置へ与えられる場合がある。この取り組みは、より優れたフィードバックを与え、またホストコンピュータに関するコンピュータオーバーヘッドの量を減少させる、またはユーザインターフェースを介したユーザによる少ない情報交換を実現する。さらに、かかるプロセスステップは、非常に狭い許容誤差内で繰り返し可能である。例えば、各流路内の流れが対応する質量流量コントローラMFCによって制御されるときよりも、実効的な流量をほぼ3.5倍速くすることができることが解析より明らかになっている。一例では、100msec内に1000マイクロモルのSF6またはC4F8の供給を行う。0026動作時には、多重流路PGD装置10用のプロセスステップは、ユーザインターフェースまたはホスト制御装置28を介して制御装置26へレシピプログラムをアップロードすることによって専用の供給制御装置26へ与えられる。一旦、制御装置が適正にプログラムされ構成されると、様々な流路におけるパルスガス供給の動作は、互い違いにすることができ、ステップのシーケンス間のより速い応答をもたらす。上に述べたように、各パルスで供給される質量の量は、それぞれの温度センサ22および圧力センサ24から受け取る温度測定値および圧力測定値、ならびに対応する供給チャンバ14内部の初期圧力および圧力低下に依存する。0027専用の多重流路制御装置26は、流路の各々を作る構成部品へのおよびこれからのデータおよび指示を与え、ならびにユーザインターフェース/ホスト制御装置28へのおよびこれからの何らかの追加のデータおよび指示を与えるように構成される。ユーザインターフェース/ホスト制御装置28は、オペレータがPGDシステム10を操作できるように構成されたキーボードおよびモニタを含むコンピュータなどの任意の適した装置である場合がある。ホストコンピュータがツールを動作させるために使用するコンピュータである場合には、ステップのシーケンスを実行するために専用の制御装置の使用が、ホストコンピュータの動作オーバーヘッドの制限をなくし、より効率的に動作することを可能にすることは、明白であるはずである。0028下記は、利点のうちの一部の要約である。00291.プロセスツールへの流れを制御するために使用される既存のPGDシステムは、プロセスツール全体を動作させるホストコンピュータによって制御される。ホストコンピュータはまた、システムの個々の能動構成要素に制御信号を送信することによってPGDシステムを動作させ、ならびに圧力センサおよび温度センサから受信した信号を処理する。したがって、PGDシステムを動作させるための制御論理は、プロセスツールに関係するホストコンピュータ上にある。本出願の図に示したようなPGDシステムに関して、PGDシステム用の専用の複数流路制御装置は、制御論理およびタイミングを引き継ぐために使用される。この構成で、ホストは、パルスで送ることを開始するために命令を送ることだけを必要とする。結果は、ホストコンピュータ上で以前には行われた多くの処理オーバーヘッドが、専用の多重流路制御装置にシフトされたことである。これは、ホストコンピュータが他の機能を行うことができるように、ホストコンピュータオーバーヘッドの制限をなくす。これは、ホストコンピュータがより多くのデータを把握すること、より多くの計器を読み取ること、等を可能にする。00302.PGDプロセスでは、典型的には、2つの別々のPGD装置一方はエッチングガス用、および他方はパッシベーションガス用があり、既存のシステムを用いると、ホストコンピュータは、両方を動作させるために使用されてきている。しかし、かかる構成の下では、ホストは一方と通信し、次に他方と通信する。したがって、ホストは、2つの動作を同期させることを要求される。本構成を用いると、両方のPGD装置は、専用の多重流路制御装置によって制御される場合がある。これは、結果として2倍のオーバーヘッドを引き継ぐことになる。再び、これがホストコンピュータの制限をなくす。複数流路PGDは、複数の流路間で供給ステップおよび充填ステップを多重化することによって全体のパルスガス供給速度をさらに増加させることができる。00313.専用の多重流路制御装置はまた、ホストとは独立にツール上の他の装置、特にツールプロセスに関連した制御を要求されるこれらの装置に制御信号を与えることができる。例えば、非常に厳しい同期が、いつガスをパルスで送るかのタイミングとツールチャンバ内の圧力を制御するために使用される振り子弁の開位置などの他の装置の動作との間に要求される。タイミングの綿密な調整を用いると、ガスの大きなスループットをもたらす。既存のシステムでは、ホストコンピュータは、調整のすべてを行わなければならない。ホストコンピュータは、したがって、PGDシステムにパルスを送るよう命令しなければならず、次に、振り子弁に動くよう命令しなければならない。これは、プロセスが正しく機能することを確実にするために慎重に同期させることを要求する。これが、ホストコンピュータ上の制御論理および処理時間の制限をなくしながら、より優れた同期を可能にする。0032上記は、ホスト制御装置がプロセスを実行するために使用される型の先行技術のシステムと比較したときに、結果としてPGDシステムのコストを減少させる。この構成は、より速い自律的な動作をさらに可能にする。多重流路パルスガス供給システムは、様々な流路上の充填プロセスおよび供給プロセスを多重化することができ、その結果、ホストコンピュータによって制御される複数の単一流路パルスガス供給システムの供給速度よりも、多重流路パルスガス供給ステップのシーケンス間でより速い供給速度を実現する。例えば、1つの流路が供給ステップである間に、他の流路は、多重流路パルスガス供給システムでは充填モードである場合がある。正味の効果は、供給速度が増加することである。これは、次のパルスガス供給が、単一流路装置において充填ステップおよび供給ステップの両方を含む前のパルスガス供給の終了を待つ必要があるときに、複数の単一流路パルスガス供給システムとは反対である。比較の例では、充填プロセスおよび供給プロセスのステップがホストコンピュータで制御される複数の単一流路パルスガス供給システムにおいて現在実行され得る全体の供給速度は、典型的には5Hzであるが、充填プロセスおよび供給プロセスのステップが、図の26で示したような専用の制御装置で制御される多重流路パルスガス供給システムにおいて現在実行され得る供給速度は、典型的には10Hzである。専用の制御装置26はまた、他の動作を行うためにプロセスツール上の他の装置へ事前供給トリガ信号を与えるために使用される場合がある。例えば、一般に30で示され、プロセスチャンバの出力部のところでツール20のプロセスチャンバ内の圧力を制御するために使用される典型的には絞り弁または振り子弁の形式の弁を開き、弁の開位置を精密に制御するために制御装置26から弁制御部32へ制御信号を与えるために、専用の制御装置26が使用される場合がある。過去には、絞り弁または振り子弁30は、PGDシステムと通信せずにチャンバ内に圧力の測定に基づいて動作するだけである。提案したシステムを用いると、多重流路PGD制御装置は、プロセスチャンバの内部の圧力を維持するために、絞り弁または振り子弁の開位置を制御するために使用される場合がある。トリガ信号一連のパルスの準備ができていることを示す信号を発生するために複数の流路を制御する専用のプロセッサを使用することによって、ツールプロセッサのオーバーヘッドを削減する。トリガする信号または事前供給信号は、プロセスの実行の前に下流機器を準備する。専用の制御装置は、各パルスについての事前供給トリガ信号を発生することができる。後者のケースでは、各パルスのための各事前供給信号は、供給されるべきガスの量および種類などの供給されるべきパルスに関係する情報を含むことができる。かかる情報は、プロセスツールの内部の圧力を制御するために使用される振り子弁または絞り弁などの弁の位置に関係付けられる場合がある。複数パルスガス供給プロセスの構成は、ホスト制御装置がより多く実行できるようにプロセスを実行する前にホスト制御装置またはユーザインターフェースからアップロードされる場合がある。1つよりも多くの使用されるPGDシステムがあり、ホストが相互にPGDシステムを同期させるために使用される場合には、より大きな利点さえある。最後に、専用の制御装置は、ホストとは独立にツールへ出力信号を与える。0033論じてきた構成要素、ステップ、特徴、目的、利益および利点は、単に説明的である。これらのいずれも、またはこれらに関係するいずれの議論も、決して保護の範囲を限定しないものとする。多くの他の実施形態が、やはり想定される。これらは、数少ない、追加の、および/または異なる構成要素、ステップ、特徴、目的、利益および利点を有する実施形態を含む。これらはまた、構成要素および/またはステップが異なるように配置および/または順序付けされる実施形態を含む。0034別段記載されていない限り、すべての測定値、値、定格、位置、大きさ、サイズ、および後述する特許請求の範囲を含む本明細書に説明される他の詳細は、概略であり、厳密なものではない。これらは、これらが関係する機能およびこれらが属する技術において慣例的であるものと一致する妥当な範囲を有するものとする。0035すべての論文、特許、特許出願、および本開示において引用されている他の刊行物は、引用によって本明細書中に援用されている。0036特許請求の範囲において使用されるときにための手段meansforという語句は、記載されてきている対応する構造および材料ならびにこれらの等価物を包含するものとし、解釈されるべきである。同様に、特許請求の範囲において使用されるときにためのステップstepforという語句は、説明されてきている対応する行為ならびにこれらの等価物を包含するものとし、解釈されるべきである。特許請求の範囲においてこれらの語句がないことは、特許請求の範囲が、対応する構造、材料、もしくは行為のいずれかに、またはこれらの等価物に限定されないものとし、限定されるようには解釈されるべきではない。0037言及または図示されてきているものはいずれも、特許請求の範囲において表現されているかどうかに拘わらず、いずれかの構成要素、ステップ、特徴、目的、利益、利点、または一般人にとっての等価物を専用化させないものとする、または解釈されるべきではない。0038保護の範囲は、単に次に後述される特許請求の範囲によって限定される。その範囲は、本明細書および続く審査履歴を踏まえて解釈するときに特許請求の範囲において使用される文言の通常の意味と整合するできるだけ広いものであり、ならびにすべての構造的等価物および機能的等価物を包含するものとし、解釈されるべきである。