"カラーフィルタ基板上の局所領域の標高をステレオ方式で算出し欠陥判定をする欠陥検査方法において、ステレオ画像の一方の撮像画像である基本画像から局所領域を検出する工程、ステレオ画像の他方の撮像画像であって局所領域を含む参照画像を取得する工程、局所領域を含むマッチング領域をステレオ画像から選定する工程、マッチング領域から基準マークとなる部位を選定する工程、局所領域を鮮明化する工程、鮮明化された局所領域の中心座標を求め、基準マークからの距離を算出する工程、基本画像と参照画像における局所領域間の視差を求める工程、局所領域の標高を算出する工程、とを含むことを特徴とするカラーフィルタ基板の欠陥検査方法。前記基準マークを、基本画像と参照画像から選定する工程が領域マッチング手法であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板の欠陥検査方法。前記局所領域を鮮明化する工程が、マッチング領域から周期的な画像パターンを削除することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のカラーフィルタ基板の欠陥検査方法。前記局所領域を鮮明化する工程が、閾値以下の輝度を呈する局所領域を削除することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のカラーフィルタ基板の欠陥検査方法。請求項3及び請求項4に記載の鮮明化する工程を採用した場合、その後周期的な画像パターンを元に戻し、マッチング領域を復元する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板の欠陥検査方法。従来の画像マッチング法である領域マッチングによる標高計算手法では、特定の領域のみでマッチングを行うので、処理時間は短縮できるが局所領域のミスマッチングによる誤差が生じ、精度の高い標高情報が得られない。また、特徴マッチングでは、全視野で画像マッチングをするため多大な処理時間が要するという2つの問題点があった。そこで、本発明は、ステレオ方式で標高計算する際に必要となる視差の計算を高速且つ精度よく遂行する手段の提供を目的とした。上記の課題を達成するための請求項1に記載の発明は、カラーフィルタ基板上の局所領域の標高をステレオ方式で算出し欠陥判定をする欠陥検査方法において、ステレオ画像の一方の撮像画像である基本画像から局所領域を検出する工程、ステレオ画像の他方の撮像画像であって局所領域を含む参照画像を取得する工程、局所領域を含むマッチング領域をステレオ画像から選定する工程、マッチング領域から基準マークとなる部位を選定する工程、局所領域を鮮明化する工程、鮮明化された局所領域の中心座標を求め、基準マークからの距離を算出する工程、基本画像と参照画像における局所領域間の視差を求める工程、局所領域の標高を算出する工程、とを含むことを特徴とするカラーフィルタ基板の欠陥検査方法としたものである。請求項2に記載の発明は、前記基準マークを、基本画像と参照画像から選定する工程が領域マッチング手法であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板の欠陥検査方法としたものである。請求項3に記載の発明は、前記局所領域を鮮明化する工程が、マッチング領域から周期的な画像パターンを削除することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のカラーフィルタ基板の欠陥検査方法としたものである。請求項4に記載の発明は、前記局所領域を鮮明化する工程が、閾値以下の輝度を呈する局所領域を削除することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のカラーフィルタ基板の欠陥検査方法としたものである。請求項5に記載の発明は、請求項3及び請求項4に記載の鮮明化する工程を採用した場合、その後周期的な画像パターンを元に戻し、マッチング領域を復元する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板の欠陥検査方法としたものである。本発明においては、標高が必要な局所領域欠陥部分の視差をステレオ画像から直接には求めず、欠陥よりは形状が安定し、マッチングが容易な部位を基準マークとして選定し、基本画像と参照画像で領域マッチング処理を行った。この精度高く検出した基準マークからの相対距離として局所領域の視差を謂わば間接的に求めている。局所領域自体については、中心位置を精度よく算出するために、バックグラウンドノイズの原因となるブラックマトリックスと着色画素等の周期的なレジストパターンを除去した上で、局所領域を特定する閾値を上げる方向で鮮明化処理を施した。その結果、短時間で高精度な標高測定が可能となり、所定の面積と高さを有する欠陥のみを欠陥として抽出できる。そのため欠陥判定の最終段階となるレビューに付す欠陥の数を減らすことができレビュー時間を削減できる。本発明は、図2で示すような2台のカメラを使用して異なる方向から撮像されたカラーフィルタ基板1のステレオ画像基本画像15、参照画像16から、ステレオ方式で目標部の標高を算出する場合に必要となる視差17の精度をあげる技術に関するものである。本発明においては、ステレオ画像と言う場合、上記基本画像と参照画像の両方を指称する場合に使用する。また画像の大きさとしては、ステレオ画像、マッチング領域、局所領域の順で小さくなる。具体的には、図7のフローチャートで示すように、先ず撮像画像中の標高取得が必要な局所領域を特徴ベースマッチングにより検出しておくステップ2。次に、基本画像と参照画像中に画像マッチングが容易なためミスマッチングが起こりにくく絶対位置の算出精度の高いパターンを指定して基準マークとしたステップ4,5。この基準マークと局所領域の距離から標高計算ステップ10に必要な視差を求めるステップ9。直接に局所領域の視差を求めず、基準マークを媒介して間接的に視差を求めるものである。その際、局所領域の位置特定の精度を下げる恐れのある不安定な画像情報を削除した上で位置計算を行い精度を向上させるステップ6。次に、この精度が高められた位置情報と基準マークの位置を組み合わせて局所領域の視差を計算するステップ9。視差が分かれば比例計算で局所領域の標高スッテプ10が計算されるというものである。画像同士のマッチングでミスマッチングの原因となるパターンとしては、周期的パターンブラックマトリックスとカラーフィルタの画素パターンがある。周期パターンがミスマッチの原因となるのは、CF基板の有する赤、青、緑画素の単純な繰り返しのパターンの故に、赤画素を隣接する青画素とみなしたり隣接する赤画素を選択する図4bの色である6と6’するような位置ずれを生じることがあるからである。局所的な画像パターンが位置精度を下げる原因となるのは、画像認識が基本的にはディジタル的に行われるが、その際アナログーディジタル変換で誤差が発生することによるものである。以下、本発明を実施するための形態を図2から図6を用いて具体的に説明する。自動欠陥検出装置基板上に形成されたカラーフィルタを構成するレジストパターンの撮像画像を取得する装置は、反射光源12とエリアセンサカメラ11の光学系、基板搬送用ステージ13などの搬送部を装備した装置からなる。反射光源12とカメラ11を使用した装置の一例を図3に示す。エリアセンサカメラ11は基板移動方向に移動可能であり、カメラと照明を同期させ同一エリアを2方向から撮像することができる。タクトタイム短縮のため、複数台のカメラを使用しても2ポジションの撮像をしても良い。エリアセンサカメラの替わりにラインセンサカメラを使用しても構わない。ここでエリアセンサカメラは、基板を一度止めてから画像を撮像するカメラであり、ラインセンサカメラは、基板を動かしながら撮像するカメラである。また、1ポジション目での撮像画像を基本画像、2ポジション目での撮像画像を参照画像と称する。本発明では、画像マッチングは、欠陥部分の検知標高測定が必要な箇所、基準マークの認識のためのマッチングと標高が必要な局所領域のマッチングの3回行われ、いずれの手法を用いても構わないが、領域マッチングの方が、処理時間低減の観点から好ましい。但し、最初の欠陥部分の検知ステップ1については、定法に従う。局所領域の選定撮像画像基本画像から周期比較して高さデータを取得すべき対象箇所を選定するステップ2。対象箇所を以下では局所領域と称するが、フォトスペーサやMSVのような目的意識的に配設したレジストパターンであってもよいし、通常の欠陥検査装置により異物欠陥が検知された箇所の場合もある。いずれも標高が規格内にあるかどうかについての判定が必要であるが、フォトスペーサ等前者については、全箇所検査でなく抜き取り検査もありえる。異物検出については、基本画像の撮像データから周期的な繰り返しを基準とし、当該撮像データと1周期前と1周期後の撮像データとをマッチング比較して、両方と異なる場合に少なくとも平面異常ありと判定し、その中で一定面積以上のものを欠陥と判定し面積を算出する。また、基本画像中に欠陥が検知されると標高測定が必要なので、所定の条件で参照画像が撮像される。すなわち、欠陥面積の大小に係らず2方向から撮像データが取得され、ステレオ方式で標高視差が求められることになる。マッチング領域の選定次に、基本画像と参照画像から標高測定が必要な局所領域を画定する。この場合、取得した撮像データの全領域をマッチングするのではなく、画像マッチングさせる領域としては、図4aに示すように局所領域を中心に右側1周期分左側1周期分下側1周期分上側1周期分とする。基準マークの設定基本画像と参照画像の中に局所ブロック画像を指定ステップ4してパターンマッチング探索し、それぞれカメラ位置からの局所ブロック画像の位置を求め基準マークとするステップ5。基準マークの中点を座標の中心原点とする。これで2画像中の基準マークの、ステレオ測定に必要な絶対的位置が決まり、基準マークの標高が計算できる。1周期内の局所ブロック画像としては、図4bに示すようなブラックマトリックスの角あるいは、緑、青、赤画素を区画するT字の部分を採用するのが便利である。但し、当該基準マーク部位14が欠陥7と重なっていてはならないことに注意し、欠陥に含まれる場合は、1周期内の他の適切な場所を指定する。欠陥7部分を直接に視差計算の対象とせずに、基準マーク14を選択したほうが領域マッチングが容易でミスマッチングが少なく且つ高精度に位置決定ができるからである。図2では基準マークはP’に対応している。局所領域の鮮明化先述した標高測定の対象となる局所領域レジストパターンや異物欠陥については、撮像データから位置を直接計算すると誤差が大きい。すなわち、欠陥7がブラックマトリックス4や着色画素5,6,8のバックグラウンドと重なると、欠陥のサイズ測定の誤差が大きくなったり、位置ズレが生じる。誤差が大きいと欠陥の中心位置の誤差も大きくなり標高測定に影響がある。そこでレジストパターン等バックグラウンド情報を削除して局所領域を鮮明にする処理を行うステップ6。具体的には、図6に示すように撮像画像からブラックマトリックス等周期パターンを削除し、さらに残った局所領域について、図5に示すように閾値を高くする方向に調整して該閾値以下の輝度値である領域を削除する。このようにして局所領域を鮮明にした上で改めて標高計算のための局所領域と見なす。撮像画像の復元削除してあったバックグラウンド情報を上記の鮮明化された局所領域画像に重ねて撮像画像を復元するステップ7及び図6。このようにして復元した基本画像と参照画像の撮像画像から、すでに特定してある基準マークP’から局所領域P図2参照までの相対座標X1とX2を算出するステップ8。視差と標高の算出基本画像の局所領域座標X1と参照画像の局所領域座標X2の差を視差とする。視差d=X1-X2である。ステレオ視法では、図2に模式的に示したように視差から簡単な比例計算により高さデータが求まるステップ10。欠陥レビュー上記の標高測定で規格外のエラー判定された箇所についてはステップ11、目視検査装置を使用したレビューに付され、再度欠陥領域の目視による外観検査が行われるステップ12。上記に記載の手順で標高も求めておけば、標高が規格内の異物やレジストパターンをレビューに付すことがなくなる。"