板状ガラスから、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含む、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、前記エッチング工程で前記ガラス基板を抜き出すための、耐エッチング性を有するレジスト材を用いたレジストパターンを前記板状ガラスの主表面に形成するパターン形成工程を含み、当該パターン形成工程では、抜出されるガラス基板の主表面が、板状ガラスの縁部を含まないようレジストパターンを形成することを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法。板状ガラスから、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含む、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、前記エッチング工程で前記ガラス基板を抜き出すための、耐エッチング性を有するレジスト材を用いたレジストパターンを前記板状ガラスの主表面に形成するパターン形成工程を含み、前記パターン形成工程では、前記板状ガラスの縁部を含む枠形状の第1のパターンと、前記第1のパターンの内部に配置され、抜出されるガラス基板を画定するための第2のパターンとを含むレジストパターンを形成することを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法。前記ガラス基板を化学強化処理する強化工程を含み、前記強化工程では、アルカリ金属としてカリウムのみを含む溶融塩を使用することを特徴とする請求項1または2に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。前記携帯機器用カバーガラスの3点曲げ強さσの平均値が1000MPa以上であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。ここで3点曲げ強さσは、下記式で算出される。σ=3PL/2wt2但し、Pはガラス基板が破壊したときの最大荷重N、Lはガラス基板の支点となる2つの支持体間の距離cm、wはガラス基板の幅cm、tはガラス基板の板厚cmを示す。前記パターン形成工程で形成されるレジストパターンは、前記エッチング工程でガラス基板が抜き出された後の枠形状の板状ガラスの外周の一部と内周の一部とをぐエッチング切断用パターンを含むことを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。前記エッチング切断用パターンは少なくとも前記板状ガラスの対角の位置に2つ形成されていて、前記枠形状の板状ガラスは、少なくとも2つの前記エッチング切断用パターンにより、ほぼL字形状を有する2つの枠片に分割されることを特徴とする請求項5に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。前記板状ガラスから、複数枚のガラス基板を抜き出すことを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。近年、携帯端末における表示画面は大型化する傾向にあり、特にタッチパネル方式の端末では機器の全面に近いほどの大きさの表示画面が備えられる。するとカバーガラスも必然的に大型化する。また同時に、機器全体の軽量化および薄型化の要請からカバーガラスを薄くすることも余儀なくされている。具体例としては、幅5~6cm、長さ10cmほどの大きさのカバーガラスにおいて、その厚みは0.5mm~1mm程度である。また特にタッチパネル方式の端末では、折りたたみ式と異なり、カバーガラスが機器の外面を構成するために、外圧を直接受ける。このような状況においては、カバーガラスの割れをいかに防止するか、すなわちいかに強度を高くするかが非常に重要である。本発明者らが検討したところ、大きな板状ガラスから複数枚のガラス基板を抜き出した後、化学強化処理を行い、携帯機器用カバーガラスを製造した場合に、強度にばらつきが生じてしまうことがわかった。本発明は、このような課題に鑑み、強度のばらつきを抑制できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することを目的としている。発明者らがガラス基板の強度にばらつきを生じさせる要因について検討したところ、ガラス基板の縁が板状ガラスの縁を利用している場合に、強度が低下する場合が多いことに気づいた。そして、本発明者らは、この事実に基づき、板状ガラスの縁部を詳細に観察した。その結果、目視上は問題ない板状ガラスの縁に微小なマイクロクラックやチッピングがあることを発見した。そして、この部分を含むガラス基板を用いて携帯機器用カバーガラスを製造した結果、他の領域の板状ガラスを用いた場合と比べて強度が低下していることを見出した。そこで、本発明者らは、板状ガラスの縁を使用することなく、当該板状ガラスから小片化された携帯機器用カバーガラスの基板を抜き出すことによって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。上記課題を解決するために、本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法の代表的な構成は、板状ガラスから、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含む、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、エッチング工程でガラス基板を抜き出すための、耐エッチング性を有するレジスト材を用いたレジストパターンを板状ガラスの主表面に形成するパターン形成工程を含み、パターン形成工程では、抜出されるガラス基板の主表面が、板状ガラスの縁部を含まないようレジストパターンを形成することを特徴とする。上記構成によれば、抜出されるガラス基板の主表面に形成されたレジストパターンが、板状ガラスの縁部を含まないので、板状ガラスの縁部を使用せずに、ガラス基板を抜き出すことができる。このため、板状ガラスの周囲にクラックが存在した場合であっても、抜き出されたガラス基板にはクラックが存在せず、強度に影響しない。よって、板状ガラスから抜き出されたガラス基板の強度のばらつきを抑制できる。本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法の他の代表的な構成は、板状ガラスから、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含む、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、エッチング工程でガラス基板を抜き出すための、耐エッチング性を有するレジスト材を用いたレジストパターンを板状ガラスの主表面に形成するパターン形成工程を含み、パターン形成工程では、板状ガラスの縁部を含む枠形状の第1のパターンと、第1のパターンの内部に配置され、抜出されるガラス基板を画定するための第2のパターンとを含むレジストパターンを形成することを特徴とする。上記構成によれば、板状ガラスから抜き出されるガラス基板は、レジストパターンのうち、板状ガラスの縁部に対応する第1のパターンとは異なる、第2のパターンで区画されている。このため、第1のパターンに対応する板状ガラスの縁部を残して、第2のパターンに対応するガラス基板を板状ガラスから抜き出すことができる。よって、上記同様に、ガラス基板の強度のばらつきを抑制できる。ガラス基板を化学強化処理する強化工程を含み、強化工程では、アルカリ金属としてカリウムのみを含む溶融塩を使用するとよい。カリウムのみを含む溶融塩カリウム単塩を用いて強化工程を行うと、混合塩例えば、カリウムとナトリウムの混合塩を用いる場合に比べて、ガラス表面に形成される圧縮応力層の厚さが小さくても圧縮応力値を大きくし易い。そして、圧縮応力層の厚さが小さく圧縮応力値が大きい場合には、キズ、クラック、チッピングの影響を受けやすくなり、強度のばらつきが大きくなりやすい。このような場合であっても、板状ガラスの縁部を使用せずに、板状ガラスからガラス基板をエッチングにより抜き出すので、強度のばらつきを抑制できる。携帯機器用カバーガラスの3点曲げ強さσの平均値が1000MPa以上であるとよい。このように、板状ガラスの縁部を使用せずに、板状ガラスから抜き出されたガラス基板の強度は大きく良好である。パターン形成工程で形成されるレジストパターンは、エッチング工程でガラス基板が抜き出された後の枠形状の板状ガラスの外周の一部と内周の一部とをぐエッチング切断用パターンを含むとよい。ここで、エッチング後に枠形状の板状ガラスが残り、さらに薄板であれば、枠形状の板状ガラスを処理廃棄などする際にオペレータの安全性が損なわれるおそれがある。これに対して、エッチング切断用パターンにより枠形状の板状ガラスを分割できるので、オペレータによる処理が容易となり、安全性を確保できる。エッチング切断用パターンは少なくとも板状ガラスの対角の位置に2つ形成されていて、枠形状の板状ガラスは、少なくとも2つのエッチング切断用パターンにより、ほぼL字形状を有する2つの枠片に分割されるとよい。これにより、枠形状の板状ガラスが2つのL字形状の枠片に分割されるから、オペレータが2つの枠片をそれぞれ片手で把持して容易に廃棄できる。板状ガラスから、複数枚のガラス基板を抜き出すとよい。これにより、板状ガラスから抜き出された複数枚のガラス基板の強度のばらつきを抑制できる。本発明によれば、ガラス基板の強度のばらつきを抑制できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することができる。以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値などは、発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。図1は、本実施形態における携帯機器用カバーガラスの製造方法を適用したガラス基板を説明する図である。ガラス基板100は、例えば携帯端末の表示画面を保護するカバーガラスとして用いられる。なお、ガラス基板100は、後述する製造工程を経た後、必要に応じて加飾を施すことでカバーガラスとなる。ガラス基板100は、矩形の外形部分102を有する板状であり、基板面内に、上部付近に形成されたスピーカー用孔部104を有している。次に、本実施形態にかかるガラス基板100の製造方法について説明する。図2は、フォトマスクを用いた露光工程を模式的に示す図である。図3は、板状ガラスに形成されたレジストパターンを模式的に示す図である。本実施形態にかかるガラス基板100の製造方法では、図2に示す板状ガラス110の主表面110a、110bに、図3に示すレジストパターン120を形成するレジストパターン形成工程と、レジストパターン120が形成された板状ガラス110をエッチャントでエッチングして、板状ガラス110の縁を使用せずに、板状ガラス110から図1に示す小片のガラス基板100を抜き出すエッチング工程とを含む。まず、図2および図3を参照して、レジストパターン形成工程について説明する。図2に示す板状ガラス110は、溶融ガラスから直接シート状に成型したもの、あるいは、ある厚さに成型されたガラス体を所定の厚さに成型し、主表面110a、110bを研磨して所定の厚さに仕上げたものを使用することができる。特に、溶融ガラスから直接シート状に成型した場合には、板状ガラス110の主表面110a、110bがマイクロクラックのない表面状態を有するため好ましい。溶融ガラスから直接シート状に成型する方法としては、ダウンドロー法、フロート法などが挙げられる。板状ガラス110は、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、透明な結晶化ガラスなどで構成されていることが好ましい。中でも、SiO2、Al2O3、Li2O及び/又はNa2Oを含有したアルミノシリケートガラスであることが好ましい。Al2O3は、後述する化学強化においてイオン交換性能を向上させるため有用である。Li2Oは、化学強化においてNaイオンとイオン交換させるための成分である。Na2Oは、化学強化においてKイオンとイオン交換させるための成分である。ZrO2は、機械的強度を高めるために有用である。板状ガラス110へのレジストパターン形成では、まず、板状ガラス110の両主表面110a、110b上にレジスト材をコーティングする。レジスト材としては、エッチングする際に使用するエッチャントに対して耐性を有する材料であればよい。ガラスは大抵、フッ酸を含む水溶液のウェットエッチングや、フッ素系ガスのドライエッチングにより食刻されるので、例えば、フッ酸耐性に優れたレジスト材などを用いることができる。次に、所望のマスクパターンを有するフォトマスク200、200Aを板状ガラス110の両主表面110a、110bに沿わせて、レジスト材の両面からUVランプ等の照射装置300、300Aによって光UVを照射して露光する。フォトマスク200、200Aは、例えばUVを透過可能なガラス板等で構成されていて、銅箔等で形成された遮光部図中、黒塗り202を有し、図示のようなマスクパターンを含んでいる。遮光部202は、UVを遮光する部分であり、図3に示す板状ガラス110の遮光領域図中、白抜き122に対応している。フォトマスク200、200Aの遮光部202以外は、UVを透過する透過部分図中、白抜き204となり、図3に示す板状ガラス110の露光領域図中、斜線部分124に対応している。レジスト材は、露光されると変質し、現像液で溶解しないようになる。このため、板状ガラス110の遮光領域122は、変質していないレジスト材のコーティングが残った状態となる。フォトマスク200、200Aのマスクパターンでは、遮光部202により、複数ここでは、27個のガラス基板100に対応した領域と、ガラス基板100の周囲、すなわち板状ガラス110の枠部126図3参照に対応した領域とに区画されている。枠部126は、板状ガラス110からガラス基板100を抜き出す際に使用されず、板状ガラス110の外周に沿って残る縁部分である。また、板状ガラス110の枠部126に対応した領域には、マスクパターンの対角の位置に2つの遮光部202a、202bが形成されている。露光工程後の板状ガラス110は、現像液に浸漬されることにより現像され、レジストパターン120が形成される。詳細には、露光工程後の板状ガラス110を現像液に浸漬すると、フォトマスク200、200Aの遮光部202、202a、202bによって覆われてUVが照射されなかった遮光領域122のレジスト材が現像液に溶解する。これにより、図3に示すように、板状ガラス110には露光領域124のレジスト材がレジストマスクとして残る。このため、板状ガラス110には、図3に斜線で示すように、板状ガラス110の枠部126に対応し、板状ガラス110の縁部分を含む枠形状の領域第1のパターン、および、板状ガラス110から抜き出されるガラス基板100に対応し、ガラス基板100を画定する領域第2のパターンがレジストマスクとして残ったレジストパターン120が形成されるネガ型。つまり、レジストパターン120は、板状ガラス110から抜き出されるガラス基板100の主表面が、板状ガラス110の縁部分を含まないよう形成されている。また、板状ガラス110の枠部126に対応する領域は、図3に示すように、2つの溝128a、128bによって、ほぼL字形状を有する2つの領域126a、126bに分割されている。2つの溝128a、128bは、マスクパターンの上記遮光部202a、202bによりUVが照射されなかった遮光領域122であり、レジスト材が変質せずに現像液に溶解して形成されたものである。次に、図3および図4を参照して、レジストパターン120が形成された板状ガラス110をエッチャントでエッチングするエッチング工程について説明する。エッチング方法は、湿式エッチングウェットエッチング、乾式エッチングドライエッチングのいずれであってもよい。ウェットエッチングに使用するエッチャントは、板状ガラス110を食刻できるものであればよい。例えば、フッ酸を主成分とする酸性溶液や、フッ酸に硫酸、硝酸、塩酸、ケイフッ酸のうち少なくとも一つの酸を含む混酸などを用いることができる。ドライエッチングに使用するエッチャントは、板状ガラス110を食刻できるものであればよいが、例えばフッ素系ガスを使用することができる。ウェットエッチングでは、ガラスは等方的にエッチングされる。したがって、板状ガラス110において、レジストパターン120によってマスクされていない領域、すなわち露出している遮光領域122は、両面から溝が掘り下げられるように溶解する。一方、マスクされている露光領域124はエッチャントから保護されるため溶解しない。図4は、エッチング後の板状ガラス110の状態を示す図である。エッチングを継続すると、遮光領域122が完全に溶解し、やがて板厚のほぼ中央部で溝が連続することによって、露光領域124が分離し、板状ガラス110から所望の形状のガラス基板100が抜き出される。図中では、エッチングにより分離した多数のガラス基板100が作業台310に載置された状態を示している。ここで、板状ガラス110は余りなく使用することが望ましいものの、板状ガラス110の枠部126にはクラックが存在する場合がある。このため、枠部126を使用すると、抜き出されたガラス基板100に強度のばらつきが生じる可能性がある。そこで、本実施形態では、板状ガラス110からガラス基板100を抜き出す際に枠部126を使用しない。板状ガラス110の枠部126は、上記レジストパターン120の2つの溝128a、128bにより、図4に示すほぼL字形状を有する2つの枠片130a、130bに分割される。分割された2つの枠片130a、130bは、図4に示すように、オペレータにより容易に把持され、破棄される。このようにして、板状ガラス110がエッチングされると、多数のガラス基板100が抜き出され、かつ、残された枠部126は分割されて枠片130a、130bとなった状態で破棄される。続いて、エッチング後にレジスト剥離が行われる。レジスト材をガラス基板100から剥離するための剥離液としては、KOHやNaOHなどのアルカリ溶液を用いることが好ましい。なお、レジスト材、エッチャント、剥離液の種類は、被エッチング材料である板状ガラスの材料に応じて適宜選択することができる。そして、必要に応じて、イオン交換処理による化学強化工程等の工程を経て、さらに加飾を施すことで携帯端末器用カバーガラスとなる。このようにして製造されたガラス基板100は、エッチングにより外形を形成しているので、端面は溶解面となって非常に高い平滑性を有し、機械加工では必ず生じるマイクロクラックが生じない。このため、携帯端末用カバーガラスに求められる高い強度を得ることができる。また、機械加工では困難な複雑な形状であっても、容易に加工することができる。上記説明したように、本実施形態の携帯端末器用カバーガラスの製造方法では、板状ガラス110に残ったレジストをレジストマスクとして板状ガラス110をエッチングし、板状ガラス110の周囲の枠部126を使用せずに、板状ガラス110から所望の形状のガラス基板100を抜き出す工程を含んでいる。このように、板状ガラス110の周囲を使用せずに、ガラス基板100を抜き出すので、板状ガラス110の周囲にクラックが存在した場合であっても、抜き出されたガラス基板100にはクラックが存在せず、強度に影響しない。したがって、板状ガラス110から抜き出されたガラス基板100の強度のばらつきを抑制できる。また、板状ガラス110に形成されたレジストパターン120が、ガラス基板100を抜き出した後に残る枠部126を分割するための溝128a、128bを含んでいる。このため、レジストパターン120をマスクとして板状ガラス110をエッチングすると、枠部126がほぼL字形状の2つの枠片130a、130bに分割される。したがって、板状ガラス110のサイズが大きくても、枠部126が分割されて枠片130a、130bとなり、処理廃棄などが容易となる。その結果、板状ガラス110からガラス基板100を抜き出す際での生産性や安全性が損なわれない。特に、枠部126が薄板であれば、枠部126を廃棄する際にオペレータの安全性が損なわれるおそれがあるものの、溝128a、128bにより枠部126を分割することで、オペレータの安全性を確保できる。また、上記実施形態では、レジストパターン120に2つの溝128a、128bを形成して、枠部126を2つの枠片130a、130bに分割したがこれに限られず、レジストパターン120に3つ以上の溝を形成してもよい。このようにすれば、枠部126をより細かい枠片に分割できるので、より大きなサイズの板状ガラス110を用いる場合でも、枠部126を容易に破棄できる。つまり、溝としては、枠部126をエッチングにより分割するためのエッチング切断用パターンであって、枠部126の外周の一部と内周の一部とを繋ぐものであればよい。実施例以下、本発明の実施例を挙げて説明するが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものではない。ガラス組成として、63.5重量のSiO2と、14.1重量のAl2O3と、6.0重量のLiO2と、10.4重量のNa2Oと、6.0重量のZrO2とを含むガラス材料を使用した。試験に使用した矩形状のガラス基板は、長辺が10cm、短辺が5cm、主表面の面積が約50cm2、板厚が0.5mmである。実施例は、上記で示したように、板状ガラスの縁を使用せずに、エッチングでガラス基板を抜き出した。また、エッチング工程後の化学強化条件は、温度370°C、2時間処理とし、溶融塩は硝酸カリウムのみを含むカリウム単塩を使用した。比較例比較例は、板状ガラスの縁を使用して、エッチングでガラス基板を切り出した。化学強化条件は、実施例と同じとした。図5は、ガラス基板の強度を測定する様子を示す図である。強度評価は、図5aに示すように、ガラス基板100Aを一定距離に配置された2支持体支点140、142上に置き、ガラス基板100Aの支点となる支持体140、142間の中央の1点に荷重体144を介して荷重Pを加えて、破壊したときの最大曲げ応力を測定することにより行った。この3点曲げ強さは、支点間距離、基板幅、基板厚さに依存するため、次式1により規格化した。σ=3PL/2wt21ここで、σは3点曲げ強さMPaを示し、Pはガラス基板100Aが破壊したときの最大荷重Nを示し、Lは支持体140、142間の距離cmを示し、wは図5bに示すガラス基板100Aの幅cm、tは図5bに示すガラス基板100Aの厚さcmを示す。なお、荷重体144を降下させる速度は5mm/分とした。上記強度測定を、実施例、比較例それぞれ30枚について行い、平均、最小および標準偏差を求めた。その結果を表1に示す。表1から、実施例は比較例と比べ、平均及び最少が大きく、標準偏差が小さく、強度が良好、すなわち強度が大きくここでは1000MPa以上、かつ、強度のばらつきが抑えられているここでは標準偏差が100未満ことが分かる。実施例は板状ガラスの縁をガラス基板として使用しないので、板状ガラスの縁に存在したクラックの影響を受けなかったが、比較例は板状ガラスの縁をガラス基板として使用したので、縁に存在したクラックの影響を受け強度が減少したことが、実施例と比較例の強度差が発生した原因と考える。また、上記のように、カリウム単塩を用いて化学強化を行うと、例えば硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとの混合塩を用いる場合に比べて、ガラス表面に形成される圧縮応力層の厚さが小さくても圧縮応力値を大きくしやすい。このため、キズ、クラック、チッピングの影響を受けやすくなり、強度のばらつきが大きくなりやすい。しかし、実施例に示すように、板状ガラスの縁を使用せずに、板状ガラスからガラス基板をエッチングにより抜き出すことで、カリウム単塩を用いて化学強化を行ったガラス基板であっても、強度のばらつきが抑制されることが明らかとなった。以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。