a可撓性ポリマー基材層と、b前記可撓性ポリマー基材層の表面の少なくとも一部の上に直接に配置されたガラス層とを含む多層物品であって、前記ガラス層と前記可撓性ポリマー基材の前記表面との間に配置される介在層がなく、前記ガラス層がSiO2、Al2O3、Na2O、B2O3、および任意選択的に金属酸化物、を含む、多層物品。前記ポリマー基材がポリイミドポリマーまたはポリエステルポリマーである、請求項1に記載の多層物品。前記ポリマー基材が充填剤を含む、請求項1に記載の多層物品。前記ポリマー基材がポリイミドである、請求項3に記載の多層物品。前記充填剤がガラスまたはタルクである、請求項4に記載の多層物品。前記充填剤がタルクである、請求項5に記載の多層物品。110nm~1cmの厚さを有するポリマー基材層の表面の少なくとも一部の上に直接に配置されたガラス前駆体層を堆積する工程であって、前記ガラス前駆体層と前記ポリマー基材の前記表面との間に配置される介在層がなく、前記ガラス前駆体層がSiO2前駆体、Al2O3前駆体、Na2O前駆体、B2O3前駆体、および任意選択的に金属酸化物前駆体、を含む工程と、b光源を使用して約10nm~約5マイクロメートルの厚さを有する前記ガラス前駆体層を約30秒未満の時間の間フラッシュ加熱することによって、前記ガラス前駆体層の加熱がポリマー表面の局部加熱をもたらすことにより、前記ポリマー表面が少なくとも1回約30秒未満の時間の間、約250°C~約400°Cの温度に加熱される工程とを含む多層物品の製造方法。前記ポリマー基材がポリイミドポリマーである、請求項7に記載の方法。前記ポリマー表面が少なくとも1回約1000マイクロ秒の時間の間加熱される、請求項8に記載の方法。請求項7に記載の方法によって製造された物品。一態様において本発明は、a可撓性ポリマー基材と、b可撓性ポリマー基材の表面の少なくとも一部の上に直接に配置されたガラス層とを含む多層物品であり、ガラス層と可撓性ポリマー基材の表面との間に配置された介在層がなく、ガラス層がSiO2、Al2O3、Na2O、B2O3および任意選択的に、金属酸化物を含む、多層物品である。一態様において本発明は、110nm~1cmの厚さを有するポリマー基材層の表面の少なくとも一部の上に直接に配置されたガラス前駆体層を堆積する工程であって、ガラス前駆体層とポリマー基材の表面との間に配置された介在層がなく、ガラス前駆体層がSiO2前駆体、Al2O3前駆体、Na2O前駆体、B2O3前駆体および任意選択的に、金属酸化物前駆体を含む工程と、b光源を使用して約10nm~約5マイクロメートルの厚さを有するガラス前駆体層を約30秒未満の時間の間フラッシュ加熱し、それによってガラス前駆体層の加熱がポリマー表面の局部加熱をもたらし、それによってポリマー表面が約30秒未満の時間の間約250°C~約400°Cの温度に加熱される工程とを含む、多層物品の製造方法である。一実施形態において、本発明は、ガラス層を可撓性基材の表面上に堆積および/または形成するための方法である。例えば、光電池において一般的なガラス基材を使用する少なくともいくつかの不利な点を克服するために、可撓性材料の表面にガラスのような性質を与えることが望ましいとされ得る。本発明の可撓性基材は可撓性ポリマー基材であり得る。本発明において使用するために適したポリマー基材には、例えばポリイミドポリマーおよびポリエチレンテレフタレートPETポリマーなどが挙げられる。全てのポリマーがここにおいて使用するために適しているわけではない。PETなどのポリマーは、本発明の方法において用いられる高温で分解され得る。しかしながら、一実施形態において、本発明は、このような熱分解性ポリマーを本発明の実施において使用するために適したものにする方法であり、それによって高温がポリマーの表面だけに局在化し、それによって熱のこのような局在化は、ポリマーの他の領域の実質的な熱分解を避けることにより、高温加工が分解性ポリマーに与える好ましくない影響を実質的に低減することができる。一実施形態において、本発明は、ガラスがコーティングされたポリマー複合層を含む物品である。ガラスがコーティングされたポリマー複合層は、電子デバイスにおいてまたは例えば光電池の部品として有用であり得る。例えば、ガラスがコーティングされたPET複合層は、光電池においてバリア層として有用であり得る。ガラスがコーティングされたポリイミド複合層は、薄膜光電池の堆積のために光電池において基材層として有用であり得る。また、本発明のガラスがコーティングされた基材はプリント配線板、トランジスタにおいて、そして例えば防湿層として有用であり得る。ガラス前駆体のコーティングを焼成し且つガラス層を可撓性基材上に形成するために必要とされる処理温度のために、適した基材は250°C超~約800°Cまでの加工温度に耐えることができなければならない。この処理は、可撓性基材の表面の表面を不動態化するために有用である。不動態化は表面を化学的攻撃から保護することができる。ガラス層は、断熱および/または電気絶縁層として、もしくはイオンバリアとしても作用し、高温において太陽電池を熱加工した時に不純物によるCIGSの好ましくないドーピングを防ぐことができる600°Cにおいてイオン移動の防止がESCAによって確認されている。本発明において、不動態化とは、光電池において可撓性基材層がCIGS層と望ましくない相互作用するのを防ぐことを一般に意味する。例えば、本発明の不動態化層は、1ステンレス鋼または他の可撓性基材によるCIGS層のイオン汚染を防ぎ、2可撓性基材の表面の凸凹を平滑にするように作用する。この処理を回分式または連続法として、例えば、ロールツーロール法で行うことができる。ポリマー基材一実施形態において、本発明は、ガラス層またはガラス前駆体層を可撓性ポリマー基材の表面上に堆積するための方法である。本発明の実施のために適したポリマー基材は、ポリマー鎖の実質的な分解を伴わずに、もしくはガラス/ポリマー多層物品の使用目的のためのポリマーの望ましいおよび/または必要とされる性質の著しい低下を伴わずに250°Cを超える温度において加工され得る熱可塑性または熱硬化性ポリマーである。例えば、ポリエチレンテレフタレートPETポリマーなどのポリエステルポリマーが適し得る。そしてポリイミドポリマーが本発明の実施において有用であり得る。ポリマー基材の他の領域のポリマーの分解を避けるために、特定のポリマーの表面だけを加熱することが必要とされ得るが、そこにおいてガラス層またはガラス前駆体層と接触する。任意選択的に、充填剤入りポリマーが本発明の実施において使用に適し得る。本明細書において有用な充填剤は、本技術分野において公知であり且つ慣例的であると共に処理条件、特に、本明細書において使用される処理温度に耐えることができる一切の充填剤である。例えば、ガラスおよびタルクは可撓性ポリマー基材において適した充填剤であり得る。本明細書において有用な充填剤の量は、本発明の可撓性ポリマー基材の有用な性質を損なう量であってはならない、通常の実験または従来の知識から当業者に公知であり得る。ガラス前駆体層本発明の一態様において、基材をガラス前駆体層でコーティングし、その後に、ガラス前駆体層を乾燥および焼成する工程を実施してガラス層を可撓性基材上に形成する。以下に説明するように、ガラス層の厚さは、焼成の前にコーティング-および-乾燥の複数サイクルを実施することによって、またはコーティング-乾燥-および-焼成のいくつかのサイクルを実施することによって増加され得る。ガラス層は、可撓性基材の表面を、全部または部分的にガラス前駆体組成物でコーティングすることによって形成される。前駆体組成物は、1少なくとも1つの溶剤に可溶性であるシリコンの形態、2アルミニウム化合物、3ホウ素含有化合物、4ナトリウム塩および任意選択的に5カリウム塩を含むことができる。シリコンの可溶性形態は、例えば、四酢酸シリコン、四プロピオン酸シリコン、ビスアセチルアセトナトビスアセタトシリコン、ビス2-メトキシエトキシビスアセタトシリコン、ビスアセチルアセトナトビスエトキシシリコン、テトラメチルオルトシリケート、テトラエチルオルトシリケート、テトライソプロピルオルトシリケート、またはそれらの混合物とすることができる。アルミニウム化合物は、例えば、トリスアセチルアセトナトアルミニウム、アルミニウムメトキシド、アルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムn-プロポキシド、またはそれらの混合物とすることができ、添加され、ならびにトリアルキルボレート例えば、トリメチルボレート、トリエチルボレート、トリプロピルボレート、トリメトキシボロキシン、またはそれらの混合物。酸化ナトリウムの前駆体は、例えば、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、ナトリウムアルコキシド、ホウ酸ナトリウム、ナトリウムテトラフェニルボレート、またはそれらの混合物とすることができる。任意選択的であるカリウム塩は、例えば酢酸カリウム、プロピオン酸カリウム、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムイソプロポキシド、またはそれらの混合物とすることができる。ガラス前駆体組成物を形成するために、可溶性シリコンを例えば1C1~C10アルコール例えばメタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノールの他、1-ブタノール、1-ペンタノール、2-ペンタノール、3-ペンタノールの異性体、1-ペンタノール、1-ヘキサノール、2-ヘキサノール、3-ヘキサノールの異性体、1-ヘキサノール、1-ヘプタノールの異性体、1-ヘプタノールの異性体、またはそれらの混合物、2酸例えば、酢酸、プロピオン酸、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物および3水などの溶剤中に溶解して、溶解されたシリコン溶液の溶液を得ることができる。水はシリコンに対して0~4モル当量の量において含有され得る。溶剤の最小量を使用することができるが、ただし、量は成分の溶液を形成するために十分且つ有効であるべきである。最初のシリコン溶液を調製するために使用された同じC1~C10アルコール中にナトリウム塩を溶解し、シリコン溶液に添加することができる。いくつかの実施形態において、ガラス前駆体調合物をステンレス鋼基材にコーティングする前に濾過する。いくつかの実施形態において、調合物中のガラス前駆体の組成は約100Si:45B:26Na:3Alの元素比である。一実施形態において、シリコン酸化物前駆体例えば、テトラエチルオルトシリケートを最小量の1-ブタノール、または1-ブタノールと酢酸の1:1混合物に溶解し、撹拌することによって前駆体組成物を調製することができる。この溶液に2モル当量の水を添加し、溶液を1時間にわたって還流する。1-ブタノールに溶かした酸化アルミニウム前駆体例えば、トリスアセチルアセトナトアルミニウム、酸化ホウ素前駆体例えば、トリエチルボレートおよび酸化ナトリウム前駆体例えば、ナトリウムテトラフェニルボレートを添加する。前駆体が溶解されると、さらに溶剤が添加されて所望の濃度を得る。ガラス層は任意選択的に、リチウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、バリウム、鉛、ゲルマニウム、スズ、アンチモン、ビスマスまたは任意のランタニドの酸化物を含有することができる。Li2O、MgO、BaO、K2O、CaO、PbO、GeO4、SnO2、Sb2O3、Bi2O3またはランタニド金属の任意の酸化物のための適した前駆体には、それぞれの酢酸塩、例えば、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸鉛、酢酸ゲルマニウム、酢酸スズ、酢酸アンチモン、および酢酸ビスマスを含むことができる。当業者に公知であり得るように、他の酸化物前駆体を使用することもできる。また、シリコンアルコキシド例えば、シリコンテトラアルキルオルトシリケートおよびアルミニウムアルコキシド例えば、アルミニウムイソプロポキシドをガラス前駆体組成物の調製において使用することができる。任意選択的に、ホウケイ酸ガラスナノ粒子を調合物に添加することができる。可撓性基材上へのガラス前駆体組成物のコーティングの堆積は、バーコーティング、噴霧コーティング、浸漬コーティング、マイクログラビアコーティング、またはスロットダイコーティングなどの任意の公知のおよび/または慣例的な手段によって行うことができる。当業者はこれらの慣例的なコーティング手段のいかなる利点および/または不利な点も理解するであろうし、考察中の処理パラメータの詳細に基づいて適切なコーティング方法を選択することができる。一実施形態において、ガラス前駆体層は、10nm~1cmの厚さを有するポリマー基材層の表面の少なくとも一部の上に配置することができ、そこにおいてガラス前駆体層とポリマー基材の表面との間に配置された介在層がない。ガラス前駆体層を非常に短時間の間、例えば30秒未満の間加熱して、ガラス層と直接に接触しているポリマー表面を有効に加熱することができ、この処理は本明細書ではフラッシュ加熱と定義される。本明細書で実施されるフラッシュ加熱処理において、ポリマー表面は約30秒未満の時間の間、別の選択肢として1秒未満の時間の間、別の選択肢として5ミリセカンド5000マイクロ秒未満の時間の間、もしくは別の選択肢として約1ミリセカンド1000マイクロ秒の間、約250°C~約400°Cの温度に加熱される。ガラス基材をフラッシュ加熱に複数回暴露することが本発明の方法において考えられる。フラッシュ加熱へのガラス層の暴露時間および回数は、熱源によって発生された出力の他、所与の一連の条件下でガラスをポリマー基材に接着する有効性など、複数の処理条件に依存し得る。任意の一連の条件下でポリマーの破壊を避けることができる。ガラス前駆体組成物を可撓性基材上にコートした後、典型的に前駆体を100~150°Cの空気中で乾燥させて溶剤を除去する。いくつかの実施形態において、次に、乾燥されたガラス前駆体層を250~800°Cの空気中でまたは酸素含有雰囲気中で焼成してガラス前駆体層を焼成ガラス層に変換する。焼成とは、ガラス前駆体層を酸化雰囲気中で前駆体の分解温度を超える温度に加熱して、1ガラス前駆体をコート可能な溶液に可溶化するために使用された一切の有機配位子を除去する、2溶液のシリコン、アルミニウム、ホウ素およびナトリウム成分を酸化してそれらのそれぞれの酸化物の形態にする、および3薄い、緻密なガラス膜を基材上に形成する、ことを意味する。1ガラス前駆体を基材の表面上に堆積させコーティング、2焼成の前に乾燥させる付加的なサイクルを行うことによって焼成ガラス層の厚さを増加させることが望ましいとされ得る。1コーティングの後に2乾燥を行なうサイクルを、望ましいガラス層の厚さに応じて、そして所望の厚さを得るために必要とされる繰り返しの数に応じて、何度も繰り返すことができる。典型的に所望の厚さは、コーティング/乾燥サイクルを2~5回繰り返すことによって得ることができる。焼成ガラス層の厚さは、厚さ約1nm~数マイクロメートルであり得る。特定の実施形態において、ガラス焼成層の厚さは、厚さ約10nm~数ミクロンの範囲であり得る。いくつかの用途において-例えば光電池において使用されるとき-その厚さを約10nm~約数ミクロン、または約25nm~約10マイクロメートル、または約50nm~約5マイクロメートルの範囲、もしくは約3マイクロメートル未満に低減することによって、焼成ガラス層の可撓性を増加させることが望ましいとされ得る。しかしながら、可撓性のための所望の厚さは、用途、組成、または他の要因に依存され得る。例えば、いくつかの用途においてガラス層の微小な穴が望ましいとされ得、したがって、ガラス層の厚さを低減して微小な穴を可能にすることが望ましいとされ得る。他の用途において厚さを増加させて最適な絶縁を提供することができ、したがって、ガラス層に最小限の微小な穴を提供することができる。いずれにしても、本発明の目的はガラス層に可撓性を与えることであり、それによって通常の取扱いではガラスに亀裂を生じない。亀裂は、顕微鏡でしか観察できないとしても望ましくない。ガラス層に亀裂が生じるのを避けるために、ガラス層の厚さの上限は約5マイクロメートル、または約4マイクロメートル、もしくは約3マイクロメートルになることもある。任意選択的に、1コーティング、2乾燥、および3焼成の工程を2回以上繰り返すことができる。また、これは焼成ガラス層の全厚さを増加させ得る。複数の中間焼成工程が、ガラス前駆体成分中に存在することもある一切の炭素の除去を促進し、したがって複数の焼成工程が好ましいとされ得る。また任意選択的に、乾燥工程を省くことができ、ガラス前駆体層を焼成工程よりも低い温度で予備焼成し、次いでその後、焼成することができる。ガラス前駆体層を予備焼成して、例えば、溶剤をより速い速度で除去し、ガラス前駆体層のゲル化を促進し、および/またはガラス前駆体層の成分の間の他の相互作用を促進することが有利となり得る。乾燥、予備焼成および焼成工程の任意の組み合わせを複数回繰り返して、最終ガラス層において望ましい厚さまたは他の性質を得ることができる。いくつかの実施形態において、コーティング工程の前に水を前駆体混合物に添加する。これは、ガラス前駆体組成物の粘度を増加させ、1回のコーティングおよび乾燥サイクルにおいて50nm~2ミクロンの厚さのガラス層の形成を促す。典型的に焼成工程と乾燥工程の両方を空気中で実施して確実にガラス前駆体を完全に酸化させる。ガラス層中に元素炭素、炭酸塩中間体または還元金属酸化物が存在することによって絶縁層の破壊電圧を低くしてもよい。焼成後に、ガラス層は典型的に、シリカ70重量超、アルミナ10重量未満、酸化ホウ素5~15重量、およびナトリウムおよび/またはカリウムの酸化物10重量未満を含む。一実施形態において、焼成ガラス層は、約81重量のSiO2、約13重量のB2O3、約1~約4重量のNa2O、および約2重量のAl2O3を含む。いくつかの実施形態において、ガラス前駆体組成物は、MoおよびCIGSまたはCZTS-Se層の線熱膨脹率CTEに近いガラス層のCTEを提供するように選択され、MoおよびCIGSまたはCZTS-Se層にかかる応力を低減し、膜のカーリングを低減する。いくつかの実施形態において、ホウケイ酸ガラスのCTEは約3.25×10-6/°Cであり、Mo層のCTE約4.8×10-6/°CおよびCIGS層のCTE約9×10-6/°Cによく整合する。本発明の一態様は、a可撓性ポリマー基材と、b可撓性ポリマー基材の少なくとも一部の上に直接に配置されたガラス層とを含む多層物品であり、ガラス層は、SiO2、Al2O3、Na2O、B2O3の他、任意選択的に、Li2O、BeO、BaO、MgO、K2O、CaO、MnO、NiO、SrO、FeO、Fe2O3、CuO、Cu2O、CoO、ZnO、PbO、GeO4、SnO2、Sb2O3、Bi2O3、およびランタニド金属の任意の酸化物からなる群から選択された酸化物を含む。可撓性ポリマー基材およびガラス層は上に記載された通りである。この多層物品を例えば、有機発光ダイオードディスプレイ用途、白色光有機発光ダイオード用途、光電池用途などの電子デバイスの製造用の基材として使用することができる。また、このような多層物品を心臓弁などの医療用具において使用することができる。いくつかの実施形態において、多層物品は、dガラス層の少なくとも一部の上に配置された導電層をさらに含む。いくつかの実施形態において、多層物品は、e導電層上に配置された光活性層と、f光活性層上に配置されたCdS層と、gCdS層上に配置された透明な導電性酸化物とをさらに含む。このような多層物品を例えば光電池において使用することができる。適した導電層は、金属、酸化物がドープされた金属、金属酸化物、有機導体、およびそれらの組み合わせからなる群から選択された材料を含む。導電金属層は、蒸着法または無電解めっきによってガラス層上に堆積され得る。適した金属にはMo、Ni、Cu、Ag、Au、Rh、PdおよびPtなどがある。導電金属層は典型的に厚さ200nm~1ミクロンである。一実施形態において、導電材料は、酸化モリブデンがドープされたモリブデンである。いくつかの実施形態において、多層物品は、有機機能性層、例えば、ポリアニリンおよびポリチオフェンなどの有機導体を含む。このような実施形態において、多層物品は一般に、有機機能性層が堆積された後に450°C、または400°C、または350°C、または300°C、または250°C、または200°C、または150°C、または100°Cを超える温度に加熱されない。適した光活性層はCISカドミウム-インジウム-セレニド、CIGS、およびCZTS-Seを含有する。CIGSおよびCIS層は、銅、インジウムおよび任意選択的にガリウムを順次にまたは同時に蒸発させるかまたはスパッタする工程と、次に、得られた膜をセレン蒸気と反応させる工程とによって形成され得る。別の選択肢として、スクリーン印刷およびインクジェット印刷などの多種多様な印刷方法を用いてインク中の金属酸化物粒子の懸濁液を導電層上に堆積することができる。これは多孔質膜を生じ、次にそれを熱処理において高密度化して還元し、CIGSまたはCIS層を形成する。上述の処理は公知であり、本技術分野において慣例的である。実際、任意の公知のまたは慣例的な処理を用いてCIGSまたはCIS層を形成することができる。熱蒸発、スパッタリング、ハイブリッドスパッタリング、パルスレーザー堆積法、電子線蒸発、光化学堆積法、および電気化学堆積法などのいくつかの方法によってCZTS-Se薄膜を製造することができる。また、硫黄源としてチオ尿素を使用して、金属塩、典型的にCuCl、ZnCl2、およびSnCl4を含有する溶液の噴霧熱分解によってCZTS薄膜を製造することができる。CdS層を例えば化学浴堆積法によって堆積することができる。公知のおよび/または慣例的な他の手段を使用することができる。ドープされた酸化亜鉛またはインジウムスズ酸化物などの適した透明な導電性酸化物層を例えばスパッタリングまたは層のパルス堆積法によってCdS層上に堆積することができる。当業者に公知のおよび/または慣例的な他の方法を使用することができる。実施例1Kapton登録商標上にコーティングされた10重量のNa2Oを有するアルミノホウケイ酸ナトリウムガラス組成物[Si]に対して0.5Mの前駆体調合物を以下の方法で調製した。2.4109g11.57mmolのテトラエチルオルトシリケートSigmaAldrich、>99.0の純度を10mlの1-ブタノール中に溶解した。この溶液に、1.5モル当量の氷酢酸1.0400g、17.35mmol、EMD、>99.7の純度および1滴0.02gの硝酸を添加した。次に、溶液を2時間118°Cにおいて還流した。還流の終了時に以下の添加の順序で、0.2873g2.99mmolのプロピオン酸ナトリウムSigmaAldrich、>99の純度、0.1179g0.36mmolのトリスアセチルアセトナトアルミニウムSigmaAldrich、>99の純度および0.5054g3.46mmolのトリエチルボレートSigmaAldrich、99の純度を室温の溶液に添加した。次に、溶液を透明になるまで撹拌し、全容積25.00mlが得られるまで1-ブタノールを添加した。50.8マイクロメートルの厚さのKapton登録商標DuPont膜を寸法通りにさいの目に切り、表面をメタノールで洗浄することによって洗浄し、および/または以下の条件下で30秒間アルゴンプラズマ洗浄したA.G.ServicesPE-PECVDSystem1000:電力=24.3W圧力=100.0ミリトールスロットル圧力=200.0ミリトールアルゴンガス流=10.0sccmガラス前駆体調合物を0.45ミクロンのPTFEフィルターを用いて濾過した。Cheminstrument登録商標モーター付きドローダウンコーターで♯40バーを用いて、洗浄されたポリイミド基材に0.1mlの濾過されたガラス前駆体調合物をクリーンルーム環境クラス100で室温においてロッドコートした。次に、コーティングされた試料を30秒間室温において、次いで2分間150°Cにおいて乾燥させた。ドローダウンコーティングと乾燥のサイクルを所望の厚さが得られるまで同じ条件下で繰り返した。次に、最終層を10°C/sの上昇速度で2分間400°Cまで焼成した。ガラスコーティングの結合性をESCAによって特性決定し、トップコート面上のガラス組成物を定量した。実施例250.8umの30重量TiO2充填ポリイミド膜上にコーティングされた10重量のNa2Oを有するアルミノホウケイ酸ナトリウムガラス組成物[Si]に対して0.5Mの前駆体調合物を以下の方法で調製した。2.4109g11.57mmolのテトラエチルオルトシリケートSigmaAldrich、>99.0の純度を10mlの1-ブタノール中に溶解した。この溶液に、1.5モル当量の氷酢酸1.0400g、17.35mmol、EMD、>99.7の純度および1滴0.02gの硝酸を添加した。次に、溶液を2時間118°Cにおいて還流した。還流の終了時に以下の添加の順序で、0.2873g2.99mmolのプロピオン酸ナトリウムSigmaAldrich、>99の純度、0.1179g0.36mmolのトリスアセチルアセトナトアルミニウムSigmaAldrich、>99の純度および0.5054g3.46mmolのトリエチルボレートSigmaAldrich、99の純度を室温の溶液に添加した。次に、溶液を透明になるまで撹拌し、全容積25.00mlが得られるまで1-ブタノールを添加した。50.8マイクロメートルの30重量TiO2充填ポリイミド膜DuPontを寸法通りにさいの目に切り、表面をメタノールで洗浄することによって洗浄し、および/または以下の条件下で30秒間アルゴンプラズマ洗浄したA.G.ServicesPE-PECVDSystem1000:電力=24.3W圧力=100.0ミリトールスロットル圧力=200.0ミリトールアルゴンガス流=10.0sccmガラス前駆体調合物を0.45ミクロンのPTFEフィルターを用いて濾過した。Cheminstrument登録商標モーター付きドローダウンコーターで♯40バーを用いて、洗浄されたポリイミド基材に0.1mlの濾過されたガラス前駆体調合物をクリーンルーム環境クラス100で室温においてロッドコートした。次に、コーティングされた試料を30秒間室温において、次いで2分間150°Cにおいて乾燥させた。ドローダウンコーティングと乾燥のサイクルを所望の厚さが得られるまで同じ条件下で繰り返した。次に、最終層を10°C/sの上昇速度で2分間400°Cまで焼成した。実施例350.8umの30重量タルク充填ポリイミド膜上にコーティングされた10重量のNa2Oを有するアルミノホウケイ酸ナトリウムガラス組成物[Si]に対して0.5Mの前駆体調合物を以下の方法で調製した。2.4109g11.57mmolのテトラエチルオルトシリケートSigmaAldrich、>99.0の純度を10mlの1-ブタノール中に溶解した。この溶液に、1.5モル当量の氷酢酸1.0400g、17.35mmol、EMD、>99.7の純度および1滴0.02gの硝酸を添加した。次に、溶液を2時間118°Cにおいて還流した。還流の終了時に以下の添加の順序で、0.2873g2.99mmolのプロピオン酸ナトリウムSigmaAldrich、>99の純度、0.1179g0.36mmolのトリスアセチルアセトナトアルミニウムSigmaAldrich、>99の純度および0.5054g3.46mmolのトリエチルボレートSigmaAldrich、99の純度を室温の溶液に添加した。次に、溶液を透明になるまで撹拌し、全容積25.00mlが得られるまで1-ブタノールを添加した。50.8マイクロメートルの30重量タルク充填ポリイミド膜DuPontを寸法通りにさいの目に切り、表面をメタノールで洗浄することによって洗浄し、および/または以下の条件下で30秒間アルゴンプラズマ洗浄したA.G.ServicesPE-PECVDSystem1000:電力=24.3W圧力=100.0ミリトールスロットル圧力=200.0ミリトールアルゴンガス流=10.0sccmガラス前駆体調合物を0.45ミクロンのPTFEフィルターを用いて濾過した。Cheminstrument登録商標モーター付きドローダウンコーターで♯40バーを用いて、洗浄されたポリイミド基材に0.1mlの濾過されたガラス前駆体調合物をクリーンルーム環境クラス100で室温においてロッドコートした。次に、コーティングされた試料を30秒間室温において、次いで2分間150°Cにおいて乾燥させた。ドローダウンコーティングと乾燥のサイクルを所望の厚さが得られるまで同じ条件下で繰り返した。次に、最終層を10°C/sの上昇速度で2分間400°Cまで焼成した。実施例4Kapton登録商標上にコーティングされた10重量のNa2Oを有するアルミノホウケイ酸ナトリウムガラス組成物[Si]に対して0.5Mの前駆体調合物を以下の方法で調製した。2.4109g11.57mmolのテトラエチルオルトシリケートSigmaAldrich、>99.0の純度を10mlの1-ブタノール中に溶解した。この溶液に、1.5モル当量の氷酢酸1.0400g、17.35mmol、EMD、>99.7の純度および1滴0.02gの硝酸を添加した。次に、溶液を2時間118°Cにおいて還流した。還流の終了時に以下の添加の順序で、0.2873g2.99mmolのプロピオン酸ナトリウムSigmaAldrich、>99の純度、0.1179g0.36mmolのトリスアセチルアセトナトアルミニウムSigmaAldrich、>99の純度および0.5054g3.46mmolのトリエチルボレートSigmaAldrich、99の純度を室温の溶液に添加した。次に、溶液を透明になるまで撹拌し、全容積25.00mlが得られるまで1-ブタノールを添加した。50.8マイクロメートルの厚さのKapton登録商標DuPont膜を寸法通りにさいの目に切り、表面をメタノールで洗浄することによって洗浄し、および/または以下の条件下で30秒間アルゴンプラズマ洗浄したA.G.ServicesPE-PECVDSystem1000:電力=24.3W圧力=100.0ミリトールスロットル圧力=200.0ミリトールアルゴンガス流=10.0sccmガラス前駆体調合物を0.45ミクロンのPTFEフィルターを用いて濾過した。Cheminstrument登録商標モーター付きドローダウンコーターで♯40バーを用いて、洗浄されたポリイミド基材に0.1mlの濾過されたガラス前駆体調合物をクリーンルーム環境クラス100で室温においてロッドコートした。次に、コーティングされた試料を30秒間室温において、次いで2分間150°Cにおいて乾燥させた。次に、NovaCentrix登録商標によって開発されたPulseForge3300計測器を用いて、200nm~1000nmの幅の広い波長の光スペクトルの51~100の範囲の4つの異なった相対照射量において1000マイクロ秒のパルス長に試料を暴露して、コーティングされた基材の必須の性質を損なわずにポリイミド基材上のガラス膜を硬化させた。コーティングされた膜を1000マイクロ秒のパルスに対して最大出力>100kW/cm2に暴露したが、それはポリイミド基材上にガラスを形成するために十分であった。最終コーティングをESCAによって分析してコーティングの化学組成を定量し、暴露された上面にアルミノホウケイ酸ナトリウムガラス組成物を確認した。