"光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に光硬化性組成物を直接塗布展延して形成される光透過層が積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクの光透過層に使用する光硬化性組成物であって、メタアクリレートオリゴマーとして、ヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂を反応させて得られる変性エポキシメタアクリレートを含有し、メタアクリレートモノマーとして、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする光透過層用光硬化性組成物。前記変性エポキシメタアクリレートの含有量が光硬化性組成物に含まれる光硬化性化合物中の30~80質量であり、前記1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレートの含有量が光硬化性組成物に含まれる光硬化性化合物中の2~20質量である請求項1に記載の光透過層用光硬化性組成物。光硬化後の硬化膜に、稜間角136°のビッカース圧子を荷重100mNで押し込んで測定される弾性率25°Cが1500MPa以下である請求項1又は2に記載の光透過層用光硬化性組成物。25°CにおけるB型粘度が500~4000mPasである請求項1~3のいずれかに記載の光透過層用光硬化性組成物。基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、前記光透過層が、光反射層上に光硬化性組成物を直接塗布して展延し、光硬化させて得られる光透過層であり、前記光硬化性組成物が、メタアクリレートオリゴマーとして、ヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂を反応させて得られる変性エポキシメタアクリレートを含有し、メタアクリレートモノマーとして、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする光ディスク。前記光透過層に稜間角136°のビッカース圧子を荷重100mNで押し込んで測定される弾性率25°Cが、1500MPa以下である請求項5に記載の光ディスク。前記光透過層の厚さが70~110μmの範囲にある請求項5又は6に記載の光ディスク。基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクを製造する方法であって、メタアクリレートオリゴマーとして、ヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物、エポキシ樹脂を反応させて得られるエポキシメタアクリレートを含有し、メタアクリレートモノマーとして1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有する光硬化性組成物を、光反射層が設けられた基板の光反射層上に、直接供給して円周状に塗布し、展延後、光照射して光硬化させて、光硬化性組成物の光硬化膜からなる光透過層を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。本発明の目的は、光反射層上のセンターホール周辺に直接塗布、展延した場合にも塗工欠陥が無く好適な信号読取が可能で、かつ、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を低減できる光透過層を形成できる光硬化性組成物、および、光ディスクを提供する事にある。本発明者らは、ビスフェノール型エポキシ化合物を柔軟な構造のポリエステルによって変性した化合物と、特定の鎖状脂肪族2官能性メタアクリレートとを含有する光硬化性組成物が、高温高湿試験後の反射率低下の少なく、反りが少ない光透過層を、光反射層上に直接塗布、展延した場合にも塗工欠陥なく形成できることを見出し本発明に至った。すなわち本発明は、光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に光硬化性組成物を直接塗布展延して形成される光透過層が積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクの光透過層に使用する光硬化性組成物であって、メタアクリレートオリゴマーとして、ヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂を反応させて得られる変性エポキシメタアクリレートを含有し、メタアクリレートモノマーとして、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有する光透過層用光硬化性組成物を提供するものである。本発明の光透過層用光硬化性組成物は、得られる硬化膜の弾性率を低く抑えることができ、硬化時に生じた硬化膜内の歪みを緩和し、反りを抑えることができる。また、銀又は銀合金反射膜の光ディスクにおいて、該組成物を光透過層として使用した場合に、優れた耐久性や耐光性を得ることができる。そして、光反射層上に直接塗布、展延した場合にも放射状のスジが生じにくく、塗工欠陥がない光透過層を好適に得ることができる。したがって、本発明の光透過層用光硬化性組成物は、耐久性や耐光性に優れ、反りの少ない光ディスクを低コストで製造できることから、要求特性の高いブルーレーザーを使用する光ディスクの光透過層用組成物に最適な組成物である。[光硬化性組成物]本発明の光透過層用光硬化性組成物は、光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に光硬化性組成物を直接塗布展延して形成される光透過層が積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクの光透過層として適用される光硬化性組成物である。そして、本発明の光透過層用光硬化性組成物は、メタアクリレートオリゴマー、メタアクリレートモノマーを光硬化性化合物として含有し、メタアクリレートオリゴマーとして、ヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂を反応させて得られる変性エポキシメタアクリレートを、メタアクリレートモノマーとして、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有することで、光反射層上に直接塗布展延して光透過層を形成する光ディスクにおいて、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を低減できる光透過層を、塗工欠陥無く好適に形成できる。本発明に使用する変性エポキシメタアクリレートは、ヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂を反応させて得られるエポキシメタアクリレートである。変性エポキシメタアクリレートに使用するヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物は、ヒドロキシアルキルメタアクリレートにラクトンを開環付加して得られる。ヒドロキシアルキルメタアクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート等を好ましく使用できる。ラクトンとしては、例えば、β-プロピオラクトン、β-ブチロラクトン、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、δ-バレロラクトン、β-メチル-δ-バレロラクトン、γ-カプロラクトン、ε-カプロラクトン等が挙げられる。これら、ヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物によりエポキシ樹脂を変性することで、得られる硬化皮膜に柔軟性を付与でき、剛直な骨格のエポキシ樹脂の特性を有しつつ好適に反りを低減できる。これらの中でも、1モルの2-ヒドロキシエチルアクリレートに1~2モルのε-カプロラクトンが付加した化合物が好ましい。二塩基酸無水物としては、フタル酸無水物、1,2,3,6テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、3,4,5,6-テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、1,2,3,4-テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、2,3,4,5-テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、ヘキサヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、琥珀酸無水物及びその誘導体、モノアルキル琥珀酸無水物及びその誘導体、ジアルキル琥珀酸無水物及びその誘導体、マレイン酸無水物及びその誘導体、モノアルキルマレイン酸無水物及びその誘導体、ジアルキルマレイン酸無水物及びその誘導体が挙げられる。中でもフタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物を用いることが好ましい。エポキシ樹脂としては、特に構造が限定されるものではないが、例えば、ビスフェノ-ル型エポキシ樹脂類、ノボラック型エポキシ樹脂類、脂環式エポキシ樹脂類、グリシジルエステル類、グリシジルエステル類、グリシジルアミン類、複素環式エポキシ樹脂類、臭素化エポキシ樹脂類などが挙げられる。上記のビスフェノ-ル型エポキシ樹脂類としては、ビスフェノ-ルA型エポキシ樹脂、ビスフェノ-ルA型エポキシ樹脂の2級水酸基にε-カプロラクトン付加したラクトン変性エポキシ樹脂、ビスフェノ-ルF型エポキシ樹脂、ビスフェノ-ルS型エポキシ樹脂等;上記のノボラック型エポキシ樹脂としては、フェノ-ルノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ-ルノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノ-ルAノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂等;上記脂環式エポキシ樹脂としては、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキサンカルボキシレ-ト、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレ-ト、1-エポキシエチル-3,4-エポキシシクロヘキサン等;前記グリシジルエステル類としては、フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマ-酸グリシジルエステル等;前記グリシジルアミン類としては、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルP-アミノフェノ-ル、N,N-ジグリシジルアニリン等;前記複素環式エポキシ樹脂としては、1,3-ジグリシジル-5,5-ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレ-ト等が挙げられる。中でも、ビスフェノ-ル型エポキシ樹脂は、硬化皮膜の安定性及びコストパーフォマンスに優れ、取りわけビスフェノ-ルA型エポキシ樹脂が、接着力、耐久性などの性能とコストに優れ、好ましい。本発明に使用する変性エポキシメタアクリレートの分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCで測定される重量平均分子量Mwで、500~20000であることが好ましく、800~15000であることがより好ましい。変性エポキシメタアクリレートの分子量を上記の範囲とすることにより、本発明の光硬化性組成物を使用した光ディスクの耐久性及び耐光性がより優れたものとなる。なお、GPCによる重量平均分子量は、例えば、東ソー株社製HLC-8020を用い、カラムはGMHxl-GMHxl-G200Hxl-G1000Hxlwを使用し、溶媒はTHFを用い、1.0ml/minの流量でカラム温度が40°C、検出器温度が30°C、分子量は標準ポリスチレン換算で測定を行うことで特定される。ヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂の反応順序は、変性エポキシメタアクリレートを製造できる順序であれば特に制限されるものではないが、下記の反応工程で製造することが簡易に製造できるため好ましい。第一段の反応として、ヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物と二塩基酸無水物とを、ヒドロキシアルキルメタアクリレートのラクトン付加物の水酸基と二塩基酸無水物のモル比が09~1.1、好ましくは等モルにて反応させてハーフエステル化合物を得る。次いで、第二段の反応として、得られたハーフエステル化合物とエポキシ樹脂とを、ハーフエステル化合物のカルボキシル基とエポキシ樹脂のグリシジル基とを、モル比が09~1.1、好ましくは等モルにて反応させる。この第1段及び第2段の反応は、禁止剤の存在下、反応温度60~120°C、好ましくは70~100°Cで反応する事が望ましい。当該温度範囲とすることで、ラクトン付加物の不飽和二重結合の重合が生じにくく、短い反応時間で反応しやすくなる。また、グリシジル基の開環触媒として公知任意の触媒を用いる事が出来る。トリエチレンジアミン、トリnブチルアミン等の三級アミン類、トリフェニルフォスファイト、亜燐酸エステル、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類などがその代表例として挙げる事が出来る。本発明の光硬化性組成物中には、上記変性エポキシメタアクリレートを、紫外線硬化型組成物の固形分全体に対して30~80質量含有することが好ましく、40~70質量含有することが特に好ましい。本発明の光硬化性組成物中には、メタアクリレートモノマーとして、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有する。これらモノマーを、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を低減に好適な上記変性エポキシメタアクリレートと併用することで、光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に光硬化性組成物を直接塗布展延して光透過層を形成する場合にも塗工欠陥無く好適な光透過層を形成できる。本発明の光硬化性組成物中には、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレートの総量が、紫外線硬化型組成物の固形分全体に対して2~20質量含有することが好ましく、2~15質量含有することが特に好ましい。本発明の光硬化性組成物は、ブルーレーザーにより情報の再生を行う光ディスクの光透過層に使用する組成物として好適な粘度や、好適な弾性率の皮膜形成を行うに際し、上記変性エポキシメタアクリレート以外のメタアクリレートオリゴマーや、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレート以外のメタアクリレートモノマーを適宜使用してもよい。変性エポキシメタアクリレート以外のメタアクリレートオリゴマーとしては、例えば、オリゴマーとしては、例えば、ポリエーテル骨格のウレタンメタアクリレート、ポリエステル骨格のウレタンメタアクリレート、ポリカーボネート骨格のウレタンメタアクリレートなどのポリウレタンメタアクリレート、ポリエステル骨格のポリオールにメタアクリル酸をエステル化したポリエステルメタアクリレート、ポリエーテル骨格のポリオールにメタアクリル酸をエステル化したポリエーテルメタアクリレート、エポキシ樹脂のグリシジル基にアクリル酸を反応したエポキシアクリレート等を例示できる。これら変性エポキシメタアクリレート以外のメタアクリレートオリゴマーを使用する場合には、変性エポキシメタアクリレートを含むメタアクリレートオリゴマーの総量が、紫外線硬化型組成物の固形分全体に対して30~80質量とすることが好ましく、40~70質量とすることが特に好ましい。1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレート以外のメタアクリレートモノマーとしては、単官能メタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレート以外の二官能メタアクリレート、三官能以上の多官能メタアクリレートの一種以上を適宜使用できる。単官能メタアクリレートとしては、例えば、エチルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ノニルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、ヘキサデシルメタアクリレート、オクタデシルメタアクリレート、イソアミルメタアクリレート、イソデシルメタアクリレート、イソステアリルメタアクリレート、エトキシエトキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、メトキシエチルメタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート等の脂肪族メタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、ノニルフェノキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート等の芳香族メタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート、テトラシクロドデカニルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ノルボルニルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシメチル-2-メチルビシクロヘプタンアダマンチルメタアクリレート等の脂環式メタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、2-メタアクリロイルオキシメチル-2-メチルビシクロヘプタンアダマンチルメタアクリレート、などを使用できる。上記単官能メタアクリレートのなかでも、イソアミルメタアクリレート、エトキシエトキシエチルメタアクリレート、ノニルフェノキシエチルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルメタアクリレートが好ましい。なかでも、フェノキシエチルアクリレート、エトキシエトキシエチルメタアクリレート、は十分な柔軟性を与え、且つ耐久性が良いので好ましい。本発明の光硬化性組成物に含まれるラジカル重合性化合物全量中の単官能メタアクリレートの含有量としては、5~40質量であることが好ましく、10~30質量であることが特に好ましい。二官能メタアクリレートとしては、例えば、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、2-メチル-1,8-オクタンジオールジメタアクリレート、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパンジメタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコール1モルに4モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジメタアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸メタアクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸ジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリエーテルメタアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、脂環式構造を有するメタアクリレートとしては、脂環式の二官能メタアクリレートとして、ノルボルナンジメタノールジメタアクリレート、ノルボルナンジエタノールジメタアクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド2モル付加して得たジオールのジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタアクリレート、トリシクロデカンジエタノールジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド2モル付加して得たジオールのジメタアクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジメタアクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジメタアクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド2モル付加して得たジオールのジメタアクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド2モル付加して得たジオールのジメタアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、等を使用できる。上記二官能メタアクリレートのなかでは、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパンジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレートが好ましい。なかでも、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートは、耐久性が良いので好ましい。また、ネオペンチルグリコール及び1,6-ヘキサンジオールジアクリレートは、ポリカーボネート基板に対する密着性を良好にするため好ましい。本発明の光硬化性組成物に含まれるラジカル重合性化合物全量中の二官能メタアクリレートの含有量としては、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート及び1,9-ノナンジオールジメタアクリレートを含む総量で、5~50質量であることが好ましく、10~40質量であることが特に好ましい。また、硬化後の弾性率を高く調整したい場合には、三官能以上のメタアクリレートを使用することができる。例えば、ビス2-アクリロイルオキシエチルヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス2-アクリロイルオキシプロピルヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス2-アクリロイルオキシブチルヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス2-メタクリロイルオキシエチルヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス2-メタクリロイルオキシプロピルヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス2-メタクリロイルオキシブチルヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス2-アクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリス2-アクリロイルオキシプロピルイソシアヌレート、トリス2-アクリロイルオキシブチルイソシアヌレート、トリス2-メタクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリス2-メタクリロイルオキシプロピルイソシアヌレート、トリス2-メタクリロイルオキシブチルイソシアヌレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールのポリメタアクリレート等の多官能メタアクリレート、等を使用できる。なかでも、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリアクリレートは、硬化性が速く且つ硬化収縮率が低いため好ましい。本発明の光硬化性組成物に含まれるラジカル重合性化合物全量中の三官能以上のメタアクリレートの含有量としては、1~30質量であることが好ましく、2~20質量であることが好ましい。また、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等のラジカル重合性化合物も必要に応じて使用できる。本発明の光硬化性組成物に使用する光重合開始剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明で使用する光重合開始剤として好適である。本発明に使用する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、2,4-ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、ベンジル、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン及び2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニルホスフィンオキサイド等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、4-フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチル-ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤を使用することができる。また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチル、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、N,N-ジメチルベンジルアミン及び4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、かつ紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。また、光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。更に必要に応じて、接着性、密着性を改善するシランカップリング剤、チタンカップリング剤等の助剤、或いは濡れ性や表面平滑性を改善する助剤を公知任意の量加えることが出来る。また、本発明の光硬化性組成物においては、没食子酸または没食子酸エステルを添加することで、光ディスクを高温高湿環境下に長時間放置した後の反射膜の外観変化、及び信号の読み取りエラーの増加を、特に好適に防止できるため好ましい。上記没食子酸エステルとしては、没食子酸メチル、没食子酸エチル、没食子酸プロピル、没食子酸イソプロピル、没食子酸イソペンチル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、没食子酸テトラデシル、没食子酸ヘキサデシル、没食子酸オクタデシル等が例示できる。なかでも没食子酸が特に好ましく使用できる。没食子酸または没食子酸エステルの光硬化性組成物中への添加量としては、光硬化性組成物全体に対して、0.01~5質量が好ましく、より好ましくは0.02~0.5質量である。本発明の光硬化性組成物の粘度は、500~4000mPasであることが好ましく、800~2000mPasであることが特に好ましい。粘度を当該範囲とすることで、光ディスクの光透過層を好適に作製できる。本発明の光硬化性組成物は、光照射した後の硬化膜の弾性率が、30~2500MPa25°Cとなるように調整することが好ましい。中でも30~1600MPaとなる組成であることが好ましく、中でも30~1000MPaとなる組成であることがより好ましい。弾性率がこの範囲となる組成であると、硬化時の歪みが緩和され易く、高温高湿環境下に長時間曝されても接着力の低下が少なく光ディスクの機械的強度を高めることが容易である。本発明の光硬化性組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチル、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、N,N-ジメチルベンジルアミン及び4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。[光ディスク]本発明の光ディスクは、センターホールを有する基板上に光反射層が設けられ、当該光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に、上記の光硬化性組成物を直接塗布展延し、光硬化して形成された光透過層を有する光ディスクであり、前記光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクである。本発明の光ディスクは、光透過層として、上記した光硬化性組成物を使用することにより、光硬化性組成物を直接基板上に塗布展延して形成される光透過層であっても好適な特性で塗工欠陥の無い光透過層となり、良好に情報の記録再生を行うことができる。本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が370~430nmであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましい。光透過層の厚みは50~150μmの範囲であり、75~150μmであることが特に好ましい。光透過層の厚みは、通常、約100μmに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。光硬化性組成物の塗布、展延方法は特に制限されないが、光ディスク基板への光硬化性組成物の塗布、展延に通常使用されるスピンコーターによる塗布、展延が好ましい。光反射層としては、レーザー光を反射し、記録再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、400nm近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、10~60nm程度の厚さとすることが好ましい。基板としては、センターホールを有するディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ZnSとSiO2の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ge-Sb-Te系、Sb-Te系、Ag-In-Sb-Te系合金を用いることができる。本願発明の光ディスクは、情報記録部位が二つ以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上又は他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層とが積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。また、本発明の光ディスクにおいては、光透過層が最表面の層であってもよいが、更にその表層に表面コート層を設けてもよい。本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、1枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に光硬化性組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録再生可能なディスクは、1枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に光硬化性組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。光反射層上に塗布した光硬化性組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、USP5904795記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。紫外線を照射する場合、積算光量は0.05~1J/cm2となるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は0.05~0.8J/cm2であることがより好ましく、0.05~0.6J/cm2であることが特に好ましい。本発明の光ディスクに使用する光硬化性組成物は、積算光量が少量であっても、十分に硬化し、光ディスク端面や表面のタックが発生せず、更に光ディスクの反りや歪みが発生しない。[実施態様]以下、本発明の光ディスクの具体例として、単層型光ディスク及び二層型光ディスクの具体的構成の一例を以下に示す。本発明の光ディスクのうち、単層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図1に示したように、基板1上に、光反射層2と、光透過層3とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、記録トラックグルーブを模式的に表したものである。光透過層3は、本発明の光硬化性組成物の硬化物からなる層であり、その厚さは100±10μmの範囲である。基板1の厚さは1.1mm程度、光反射膜は銀等の薄膜である。図2は図1に示した構成の最表層にハードコート層4を設けた構成である。ハードコート層は、高硬度で、耐摩耗性に優れる層であることが好ましい。ハードコート層の厚さは、1~10μmであることが好ましく、3~5μmであることがより好ましい多層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図3に示したように、基板1上に、光反射層5と、光透過層6とが積層され、さらにその上に、光反射層2と、光透過層3とが積層され、光透過層3側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う二層型光ディスクの構成が例示できる。光透過層3及び光透過層6は、光硬化性組成物の硬化物からなる層であり、少なくともいずれかの層が本発明の光硬化性組成物からなる層である。層の厚さとしては、光透過層3の厚さと光透過層6の厚さの和が100±10μmの範囲である。基板1の厚さは1.1mm程度、光反射膜は銀等の薄膜である。当該構成の二層型光ディスクにおいては、記録トラックグルーブが、光透過層6の表面にも形成されるため、光透過層6は、接着性に優れる光硬化性組成物の硬化膜からなる層の上に、記録トラックを好適に形成できる光硬化性組成物の硬化膜からなる層を積層した複層で形成されていてもよい。また当該構成においても最表層にハードコート層が設けられていてもよい。図1に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形することによって、光ディスク用のセンターホールを有する円形基板に、記録トラックグルーブと呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板1を作製する。次に基板1の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層2を成膜する。この光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に、本発明の光硬化性組成物をセンターキャップを用いることなく光反射層上に直接塗布する。この際の光硬化性組成物の塗布はセンターホールの周囲に円状に滴下することが好ましい。また複数の円を形成するように滴下してもよい。当該光硬化性組成物を塗布した後、スピンコート等により光硬化性組成物を展延し、ディスクの片面または両面から紫外線を照射して、光硬化性組成物を硬化させ、光透過層3を形成し、図1の光ディスクを作製する。図2の光ディスクの場合には、この上に更にスピンコート等によりハードコート層4を形成する。図3に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラックグルーブと呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板1を作製する。次に、基板1の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層6を成膜する。この上に、本発明の光硬化性組成物又は任意の光硬化性組成物の光透過層5を形成するが、その際に型を用いて表面に記録トラックグルーブを転写する。記録トラックグルーブを転写する工程は次の通りである。基板1に形成された光反射層6上に、光硬化性組成物を塗布し、その上に記録トラックグルーブを形成するための型と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、光硬化性組成物を硬化させる。その後、型を剥離して、光透過層5の記録トラックグルーブを有する側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層2を成膜し、この上に、上記と同様にして光硬化性組成物をセンターホール周辺に直接塗付展延した後、紫外線照射により硬化させ、光透過層3を形成することで、図3の光ディスクを作製できる。また、光反射層に相変化型記録層を用いる場合でも上記と同様の方法により光ディスクを作成することができる。次に、合成例及び実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下実施例中の部は質量部を表す。なお本発明で平均分子量の測定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフGPCを用い、下記の条件により求めた。測定装置;東ソー株式会社製HLC-8220カラム;東ソー株式会社製ガードカラムHXL-H東ソー株式会社製TSKgelG5000HXL東ソー株式会社製TSKgelG4000HXL東ソー株式会社製TSKgelG3000HXL東ソー株式会社製TSKgelG2000HXL検出器;RI示差屈折計データ処理:東ソー株式会社製SC-8010測定条件:カラム温度40°C溶媒テトラヒドロフラン流速1.0ml/分標準;ポリスチレン試料;樹脂固形分換算で0.4重量のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの100μl<合成例1>温度計、攪拌機および環流冷却器を備えたフラスコに、プラクセルFA1-DDMダイセル化学工業株式会社製2-ヒドロキシエチルエチルアクリレートのε-カプロラクトン1モル付加物を230g、無水フタル酸を148g、重合禁止剤としてハイドロキノン0.1g仕込んだ後、攪拌を行いながら2時間で120°Cまで昇温した。120°Cで10時間反応後、80°Cまで降温してビスフェノールA型エポキシ樹脂189g、トリフェニルホスフィン2.85gを添加した。再び120°Cまで昇温後、4時間保持してエポキシメタアクリレート樹脂EA-1を含有する淡黄色透明の樹脂状の反応混合物酸価=0.7、酢酸ブチル希釈粘度反応混合物/酢酸ブチル=70/30=F-G、エポキシ当量=10,200を得た。GPCによる分子量分布測定結果からエポキシアクリレート樹脂EA-1の数平均分子量Mnは1360、重量平均分子量Mw=3840であった。<合成例2>温度計、攪拌機および環流冷却器を備えたフラスコに、プラクセルFA2-Dダイセル化学工業株式会社製2-ヒドロキシエチルエチルアクリレートのε-カプロラクトン2モル付加物を505g、無水フタル酸を217g、重合禁止剤としてハイドロキノン0.5g仕込んだ後、攪拌を行いながら2時間で90°Cまで昇温した。90°Cで9時間反応後、ビスフェノールA型エポキシ樹脂276g、トリフェニルホスフィン2gを添加した。95°Cまで昇温後、5時間保持してエポキシメタアクリレート樹脂EA-2を含有する淡黄色透明の樹脂状の反応混合物酸価=0.8、粘度25°C、Pas132を得た。<光硬化性樹脂組成物の製造>下記表1、2に示した組成により配合した各組成物を60°Cで3時間加熱、溶解して、実施例1~11及び比較例1~8の各実施例及び比較例の光硬化型組成物を調製した。得られた組成物について、下記の評価を行った。得られた結果を表1~2、図4~5に示した。<粘度の測定方法>光硬化型組成物について、25°Cにおける粘度をB型粘度計株東京計器製、BM型を用いて測定した。<弾性率の測定方法>光硬化型組成物を、ガラス板上に硬化塗膜が100±10μmになるように塗布した後、メタルハライドランプコールドミラー付き、ランプ出力120W/cmを用いて窒素雰囲気中で250mJ/cm2で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率をティーエイインストルメント株社の自動動的粘弾性測定装置で測定し、25°Cにおける動的弾性率E’を弾性率とした。<ディスク基板に対する塗工試験>センターに直径15mmのセンターホールを有する直径120mm、厚さ1.2mmの信号ピットを設けたブルーレイディスク基板を準備し、銀を主成分とするビスマスとの合金を20~40nmの膜厚でスパッタした後、反対面側に窒化シリコンSiNxを5~10nmの膜厚でスパッタした。得られたディスク基板の銀合金反射膜上に、表1,2の各組成物をオリジン電気株製の塗布試験機を使用して、膜厚が硬化後に97±2μmになるように塗工した。塗工方法としては、まず工程1として、除電ブローしたディスク基板をカバースピンナへ搬送する。次に、工程2UV硬化樹脂滴下工程として、カバースピンナを低速回転約50rpmさせながら、基板の中心から半径約18mmの位置に、ノズルからUV硬化樹脂を約3.6秒間基板に直接滴下する。このときUV硬化樹脂は基板上で円形状に約3周する。次に、工程3スピンコーティング工程として、カバースピンナを約4秒間高速回転約1300rpmさせ、UV硬化樹脂を基板の周縁部まで展延する。なお、UV硬化樹脂の光透過膜層の厚さは、UV硬化樹脂の粘度とカバースピンナの回転速度及び回転時間を調節することで適宜調整可能である。次に、工程4UV仮照射工程として、ディスク基板をカバースピンナからキュアスピンナへ搬送し、キュアスピンナを回転約800rpmさせながら、キュアマスクで覆った状態で紫外線2ショット、充電電圧3420Vを照射する。これによりディスク基板の周縁部で盛上がったUV硬化樹脂が平滑になる。さらに、工程5UV本照射工程として、ディスク基板の外側にリフレクタを付けた状態で紫外線20ショット、充電電圧3420Vを照射する。最後に工程6として、ディスク基板をキュアスピナから排出ステージへ搬送する。得られたサンプルディスクについて、株溝尻光学工業所製のシャドーグラフLX-230BSを使用して、塗工面の平滑性外観を評価した。また、エラーレートRandomSERをパルステック工業株製BDMASTERを用いて測定した。実施例1の光硬化性組成物を使用した光ディスクの外観を確認した写真を図4に、比較例3の光硬化性組成物を使用した光ディスクの外観を確認した写真を図5に示した。◎:塗工面にスジ塗布痕がなくて、エラーレートも異常なし○:塗工面にスジ塗布痕がうっすらと見えるが、エラーレートには異常なし×:塗工面にスジ塗布痕が明瞭に見えて、エラーレートも異常あり<耐久荷重反り評価用光ディスクの作製条件>センターに直径15mmのセンターホールを有する直径120mm、厚さ1.2mmの信号ピットを設けたブルーレイディスク基板を準備し、銀を主成分とするビスマスとの合金を20~40nmの膜厚でスパッタした後、反対面側に窒化シリコンSiNxを5~10nmの膜厚でスパッタした。得られた基板の銀合金反射膜上に、表1,2の各組成物をオリジン電気株製の塗布試験機を使用し膜厚が硬化後に97±2μmになるように塗工した。さらに、ハードコートを硬化後の膜厚が3±1μmとなるように塗布した。なお、ハードコートはDIC株製のダイキュアクリアHC-3を用いた。ウシオ電機株製キセノンフラッシュ照射装置型式:FUV-201WJ02を使用し、仮硬化2ショット充電電圧3420V、本硬化20ショット充電電圧3420V、ハードコート硬化10ショット充電電圧3420Vの条件で紫外線を照射、硬化させた試験用サンプルディスクを得た。<光ディスクの耐久試験>各サンプルディスクについて環境試験器エスペック株製PR-2PKを使用して、80°C85RHの湿熱環境下で96時間暴露を行った。その後、23°C50RHの環境下に24時間放置した後、各サンプルディスクのエラーレートRandomSERをパルステック工業株製BDMASTERを用いて測定した。耐久試験後のエラーレート平均値を下記基準に基づき評価した。○:2×10-4以下×:2×10-4を超える<光ディスクの荷重試験>各サンプルディスクの光透過層の面にCD保管用不織布シートを載せ、さらに半径35~45mmの範囲に625gの重り単位面積あたりの荷重24.9g/cm2を載せ、23°C50RH環境下で96時間荷重を与え続けた。その後、ディスクから重りと不織布を取り除き、パルステック工業株製BDMASTERを用いてエラーレートRandomSERを測定した。除荷後1時間経過時点でのエラーレート平均値を下記基準に基づき評価した。◎:2×10-4以下○:2×10-4を超え5×10-3以下×:5×10-3超える<光ディスクの湿度ショック反り試験>各サンプルディスクについて23°C50RHの環境下にて光ディスク機械特性評価装置IQPCDr.Schwab社製を用い、半径位置58mmでのRadialTiltを測定し、これを初期値とした。初期値を測定した各サンプルディスクを25°C95RHの環境下に96時間放置した後、23°C50RHの環境下に取り出し、3時間後まで反り測定をおこなった。最大値または最小値と初期値との差から最大変化量を求め下記基準に基づき評価した。○:初期値からの最大変化量が±0.8°以内×:初期値からの最大変化量が±0.8°を超える表1中の化合物は以下の通り。EA-1:合成例1で合成したビスフェノールA型変性エポキシアクリレートEA-2:合成例2で合成したビスフェノールA型変性エポキシアクリレートV-5530ビスフェノールA型エポキシ樹脂のグリシジル基に直接アクリル酸が付加した構造のエポキシアクリレートDIC株製PH-6210:脂肪酸ウレタンアクリレート;コグニスジャパン株製EO-TMPTA:EO変性トリメチロールプロパントリアクリレートBisA-10EO-DA:EO変性10モルビスフェノールAジアクリレートHDDA:1,6-ヘキサンジオールジアクリレートNDDA:1,9-ノナンジオールジアクリレートTCDDMDA:トリシクロデカンジメタノールジアクリレートNPGDA:ネオペンチルグリコールジアクリレートLA:ラウリルアクリレートTPGDA:トリプロピレングリコールジアクリレートDPGDA:ジプロピレングリコールジアクリレートPEA:フェノキシエチルアクリレートCBA:エチルカルビトールアクリレートPM-2:エチレンオキシド変性リン酸メタクリレート;日本化薬株製Irg184:1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン;BASF社製TPO:2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド;BASF社製GA:没食子酸;大日本住友製薬株製ベンゾトリアゾールR:1,2,3-ベンゾトリアゾール;精工化学株製TINUVINP:2-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール;BASF社製上記表1から明らかなとおり、本願発明の光硬化性組成物は、センターホール周辺に直接塗布、展延した場合にも塗工欠陥が無く好適な信号読取が可能で、かつ、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を低減できる光透過層を形成できるものであった。一方、比較例1~2の光硬化性組成物は、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を抑制できないものであり、比較例3~8の光硬化性組成物は塗工欠陥が生じるものであった。"