"第1の表面、及び前記第1の表面の反対側の第2の表面を有する長尺の基材フィルムと、前記基材フィルムの前記第1の表面に設けられ、少なくとも波長350nm以上370nm以下の紫外光を遮光する遮光部と前記紫外光を透光する透光部とを有し、前記遮光部及び前記透光部が一定の方向に対して平行に延在し且つパターン化されたマスク層と、前記基材フィルムの前記第2の表面に設けられ、異なる面内位相差を有する領域がパターン化された液晶樹脂層とを備える、位相差板。前記透光部の厚みが、前記遮光部の厚みの1/10以下である、請求項1記載の位相差板。前記マスク層を、前記遮光部及び前記透光部が延在する方向に対して直交する平面で切った断面において、前記遮光部の幅Lと厚みHと比H/Lが0.5以下である、請求項1に記載の位相差板。前記遮光部が、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロースエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ウレタンアクリレート硬化樹脂、エポキシアクリレート硬化樹脂およびポリエステルアクリレート硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種類の樹脂を含む、請求項1に記載の位相差板。前記遮光部が、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤およびトリアジン系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも1種類の紫外線吸収剤を含む、請求項1に記載の位相差板。前記遮光部が着色剤を含む、請求項1に記載の位相差板。前記遮光部が金属粒子を含む、請求項1に記載の位相差板。前記遮光部及び前記透光部が、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ロータリースクリーン印刷法、グラビアオフセット印刷法およびインクジェット印刷法からなる群より選ばれる少なくとも一つの印刷方法によって前記基材フィルムの表面に印刷されてなる、請求項1に記載の位相差板。前記基材フィルムの前記第1の表面の、前記マスク層の有効領域以外の領域に、前記遮光部と同様の組成によって形成された視認できる印を有する、請求項1に記載の位相差板。ロールフィルムであることを特徴とする、請求項1に記載の位相差板。第1の表面、及び前記第1の表面の反対側の第2の表面を有する長尺の基材フィルムと、前記基材フィルムの前記第1の表面に設けられ、少なくとも波長350nm以上370nm以下の紫外光を遮光する遮光部と前記紫外光を透光する透光部とを有するマスク層であって、前記遮光部が、一定の方向に対して平行に延在し且つパターン化された形状と、他の一以上の形状とを組み合わせた形状を有するマスク層と、前記基材フィルムの前記第2の表面に設けられ、異なる面内位相差を有する領域がパターン化された液晶樹脂層とを備える、位相差板。第1の表面、及び前記第1の表面の反対側の第2の表面を有する長尺の基材フィルムの、前記第1の表面に、紫外線を遮光する遮光部と前記紫外線を透光する透光部とを形成して、前記遮光部及び前記透光部が一定の方向に対して平行に延在し且つパターン化されたマスク層を作製する工程と、前記基材フィルムの前記第2の表面に、紫外線の照射によって硬化しうる未硬化状態の液晶樹脂層を設ける工程と、前記基材フィルムの前記第1の表面側から、前記遮光部で遮光されるが前記透光部を透光する波長の紫外線を照射して、前記液晶樹脂層の一部の領域を硬化させる工程と、前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域における配向状態を変化させる工程と、前記基材フィルムの前記第2の表面側から紫外線を照射して前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域を硬化させる工程とを有する、位相差板の製造方法。請求項1に記載の位相差板の前記液晶樹脂層の表面に、粘着層又は接着層を設ける工程と、前記液晶樹脂層から前記基材フィルムを剥がす工程とを有する、前記粘着層又は前記接着層と前記液晶樹脂層との積層体の製造方法。パターン位相差板の製造の際にフォトリソグラフィを利用する場合、従来は、露光対象とマスクとの間には1mm程度の空隙クリアランスを設けていた。これは、マスクは一般に露光装置に固定されているので、露光装置へ供給する露光対象がマスクと接触して傷付くことを防止するために行われていたことである。特にパターン位相差板は厚みが薄く傷付き易いことが多いので、傷付き防止のためには前記の空隙の寸法は広くすることが多かった。また、露光対象のフィルムが走行している状態で露光する際には、マスクとフィルムとが接触するとフィルム側にスレキズが容易に発生するため、空隙の寸法は広くすることが多かった。このような事情は、特許文献5のように露光対象のフィルムを枚葉方式で一枚ずつ露光装置に供給する場合でも、露光対象として長尺のフィルムを用い、この長尺のフィルムをインラインで連続的に露光装置に供給する場合でも、同様であった。しかし、従来のような空隙を設ける場合には、斜め方向から照射された光がマスクの裏側にまで大きく入り込み、露光された領域と露光されなかった領域との境界近傍領域の露光量を精密に制御できないことがあった。このため、従来の技術では、マスクのパターンを露光対象に精度よく投影できず、前記の境界近傍の広い領域において面内位相差が所望の値からずれることにより、このパターン位相差板を用いた立体画像表示装置の画質低下を招くことがあった。また、長尺のフィルムを用いて連続的にパターン位相差板を製造しようとする場合、通常は、フィルムは常にMD方向長尺方向に搬送され続けることになるので、パターンの形状もMD方向へ延在する形状に限られることになる。したがって、例えばMD方向に対して交差する方向へ延在する形状のパターンを形成しようとする場合には、枚葉方式を採用することになり、製造効率の面で課題があった。さらに、長尺のフィルムを用いて連続的にパターン位相差板を製造する際に、MD方向へ延在する形状のパターンを形成する場合でも、搬送されるフィルムにはうねり及び蛇行が生じやすいため、パターンの位置を精密に制御することは困難であった。このため、パターン位相差板の所望の位置に所望の面内位相差を発現させることが困難となる場合があった。所望の位置に所望の面内位相差が発現できないと、このパターン位相差板を用いた立体画像表示装置の画質の低下を招く可能性が高い。特に、立体画像表示装置における画素の寸法が一般的に100μm~800μmであることに鑑みれば、うねり及び蛇行による影響を受けることは、画質低下の大きな要因になるため、改善が強く望まれる。本発明は上記の課題に鑑みて創案されたものであって、所望の位置に所望の面内位相差を精度よく発現させることができる位相差板、当該位相差板を簡単に製造できる製造方法、並びに、当該位相差板から液晶樹脂層と粘着層又は接着層とを備えた積層体を製造する方法を提供することを目的とする。本発明者は、上述した課題を解決するべく鋭意検討した結果、長尺の基材フィルムと、基材フィルムの一方の表面に設けられ、所定の波長の紫外線をパターンに応じて遮光及び透光させるマスク層と、基材フィルムのマスク層とは反対側の表面に設けられた液晶樹脂層とを備える位相差板によれば、所望の位置に所望の面内位相差を精度よく発現させることができることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明によれば以下の1~13が提供される。1第1の表面、及び前記第1の表面の反対側の第2の表面を有する長尺の基材フィルムと、前記基材フィルムの前記第1の表面に設けられ、少なくとも波長350nm以上370nm以下の紫外光を遮光する遮光部と前記紫外光を透光する透光部とを有し、前記遮光部及び前記透光部が一定の方向に対して平行に延在し且つパターン化されたマスク層と、前記基材フィルムの前記第2の表面に設けられ、異なる面内位相差を有する領域がパターン化された液晶樹脂層とを備える、位相差板。2前記透光部の厚みが、前記遮光部の厚みの1/10以下である、1記載の位相差板。3前記マスク層を、前記遮光部及び前記透光部が延在する方向に対して直交する平面で切った断面において、前記遮光部の幅Lと厚みHと比H/Lが0.5以下である、1又は2に記載の位相差板。4前記遮光部が、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロースエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ウレタンアクリレート硬化樹脂、エポキシアクリレート硬化樹脂およびポリエステルアクリレート硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種類の樹脂を含む、1~3のいずれか1項に記載の位相差板。5前記遮光部が、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤およびトリアジン系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも1種類の紫外線吸収剤を含む、1~4のいずれか1項に記載の位相差板。6前記遮光部が着色剤を含む、1~5のいずれか1項に記載の位相差板。7前記遮光部が金属粒子を含む、1~6のいずれか1項に記載の位相差板。8前記遮光部及び前記透光部が、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ロータリースクリーン印刷法、グラビアオフセット印刷法およびインクジェット印刷法からなる群より選ばれる少なくとも一つの印刷方法によって前記基材フィルムの表面に印刷されてなる、1~7のいずれか1項に記載の位相差板。9前記基材フィルムの前記第1の表面の、前記マスク層の有効領域以外の領域に、前記遮光部と同様の組成によって形成された視認できる印を有する、1~8のいずれか1項に記載の位相差板。10ロールフィルムであることを特徴とする、1~9のいずれか1項に記載の位相差板。11第1の表面、及び前記第1の表面の反対側の第2の表面を有する長尺の基材フィルムと、前記基材フィルムの前記第1の表面に設けられ、少なくとも波長350nm以上370nm以下の紫外光を遮光する遮光部と前記紫外光を透光する透光部とを有するマスク層であって、前記遮光部が、一定の方向に対して平行に延在し且つパターン化された形状と、他の一以上の形状とを組み合わせた形状を有するマスク層と、前記基材フィルムの前記第2の表面に設けられ、異なる面内位相差を有する領域がパターン化された液晶樹脂層とを備える、位相差板。12第1の表面、及び前記第1の表面の反対側の第2の表面を有する長尺の基材フィルムの、前記第1の表面に、紫外線を遮光する遮光部と前記紫外線を透光する透光部とを形成して、前記遮光部及び前記透光部が一定の方向に対して平行に延在し且つパターン化されたマスク層を作製する工程と、前記基材フィルムの前記第2の表面に、紫外線の照射によって硬化しうる未硬化状態の液晶樹脂層を設ける工程と、前記基材フィルムの前記第1の表面側から、前記遮光部で遮光されるが前記透光部を透光する波長の紫外線を照射して、前記液晶樹脂層の一部の領域を硬化させる工程と、前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域における配向状態を変化させる工程と、前記基材フィルムの前記第2の表面側から紫外線を照射して前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域を硬化させる工程とを有する、位相差板の製造方法。131~11のいずれか1項に記載の位相差板の前記液晶樹脂層の表面に、粘着層又は接着層を設ける工程と、前記液晶樹脂層から前記基材フィルムを剥がす工程とを有する、前記粘着層又は前記接着層と前記液晶樹脂層との積層体の製造方法。本発明の位相差板によれば、所望の位置に所望の面内位相差を精度よく発現させることができる。本発明の位相差板の製造方法によれば、所望の位置に所望の面内位相差を精度よく発現させることができる位相差板を、簡単に製造できる。本発明の積層体の製造方法によれば、本発明の位相差板を用いて、液晶樹脂層と粘着層又は接着層とを備えた積層体を製造できる。以下、本発明について実施形態及び例示物等を示して詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施できる。なお、以下の説明において、メタアクリレートとはアクリレート及びメタクリレートのことを意味し、メタアクリルとはアクリル及びメタクリルのことを意味する。また、紫外線とは、波長が1nm以上380nm以下の光のことを意味する。また、構成要素の方向が平行又は直交とは、特に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±5°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。さらに、ある方向に沿ってとは、ある方向に平行にとの意味である。1.位相差板の製造方法の概要本発明の位相差板の製造方法では、第1の表面、及びその反対側の第2の表面を有する長尺の基材フィルムと、前記基材フィルムの第1の表面に設けられたマスク層と、前記基材フィルムの前記第2の表面に設けられた液晶樹脂層とを備える位相差板を製造する。本発明の製造方法で製造される位相差板の液晶樹脂層には、異なる面内位相差を有する領域がパターン化されることになる。ここで、パターン化されるとは、ある一定周期で複数の領域が繰り返される態様のことをいう。即ち、異なる面内位相差を有する領域がパターン化されるとは、面内に、2種類以上の異なる面内位相差を有する領域が、面内のある方向に沿って観察した場合同じ順序で繰り返し現れるよう配置されることをいう。異なる位相差を有する複数の領域は、例えば、位相差を有する領域と、位相差を有さない領域とすることができる。即ち例えば、液晶樹脂層は、位相差の異なる第一領域と第二領域を少なくとも有し、第一領域は入射した偏光を実質的に変えずに出射し、第二領域は入射した円偏光を実質的に回転の向きを反転させて出射する態様とすることができる。本願において、液晶樹脂層とは、液晶相を呈した状態の組成物を硬化させることにより得られる樹脂の層であり、当該層中で組成物中の液晶相を呈した分子の配向が固定された状態で硬化したものである。また、文脈によっては、そのような硬化の操作を行う前の、未硬化の層を液晶樹脂層という場合もある。2.マスク層形成工程図1は、本発明の一実施形態に係る位相差板の製造方法を説明する図である。なお、図1においては、基材フィルム及びマスク層を備えるマスクフィルムを、遮光部及び透光部が延在する方向に対して直交する平面で切った断面を模式的に示している。図1に示すように、本発明の位相差板の製造方法では、長尺の基材フィルム10の第1の表面11にマスク層20を作製する工程以下、適宜マスク層形成工程という。を行う。マスク層20は、未硬化状態の液晶樹脂層図1では図示せず。を硬化するのに使用する波長範囲の紫外線を遮光する遮光部21と、前記の波長範囲の紫外線を透光する透光部22とを有する層である。マスク層20はパターン化されており、前記の遮光部21及び透光部22のパターン以下、適宜マスクパターンという。は、液晶樹脂層に形成される異なる面内位相差を有する領域のパターン以下、適宜領域パターンという。に対応するようになっている。ここで、ある波長範囲の紫外線を遮光するとは、当該部分を厚み方向に透過する紫外線の透過率が、前記の波長範囲のいずれの波長においても1未満空気の透過率を100としてになることをいい、ある波長範囲の紫外線を透光するとは、当該部分を厚み方向に透過する紫外線の透過率が、前記の波長範囲の一部又は全ての波長において1以上になることをいう。本発明の位相差板の製造方法では、マスク層20が有する遮光部21及び透光部22のマスクパターンが液晶樹脂層に投影されることにより、前記遮光部21及び透光部22と同様に後述するように異なる面内位相差を有するパターン化された領域が液晶樹脂層に形成されるようになっている。2-1.基材フィルム基材フィルムは、本発明の位相差板を製造する際にマスク層及び未硬化状態の液晶樹脂層を支持する支持体となるフィルムである。基材フィルムの材料は、未硬化状態の液晶樹脂層を硬化させる工程において液晶樹脂層が硬化できる程度に紫外線を透過させられる材料であればよい。通常は、1mm厚で全光線透過率JISK7361-1997に準拠して、濁度計日本電色工業社製、NDH-300Aを用いて測定が80以上である材料であれば、好適に使用できる。基材フィルムの材料の例を挙げると、脂環式オレフィン樹脂、ポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂などの鎖状オレフィン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、変性アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂等の合成樹脂などが挙げられる。なお、これらの材料は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、脂環式オレフィン樹脂および鎖状オレフィン樹脂が好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、脂環式オレフィン樹脂が特に好ましい。基材フィルムとしては、長尺のフィルムを用いる。ここで長尺のフィルムとは、フィルムの幅に対して、少なくとも5倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。長尺の基材フィルムを用いれば、本発明の位相差板の製造方法によって、インラインで連続的に本発明の位相差板を製造できる。基材フィルムの厚みは、製造時のハンドリング性、材料のコスト、薄型化及び軽量化の観点から、好ましくは30μm以上、より好ましくは60μm以上であり、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下である。基材フィルムは、延伸されていない未延伸フィルムであってもよく、延伸された延伸フィルムであってもよい。通常は、位相差がなく、生産性及びコストの観点から、未延伸フィルムを用いる。基材フィルムは、一層のみからなる単層構造のフィルムであってもよく、二層以上の層からなる複層構造のフィルムであってもよい。通常は、生産性及びコストの観点から、単層構造のフィルムを用いる。基材フィルムは、その片面又は両面に表面処理が施されたものであってもよい。表面処理を施すことにより、基材フィルム上に直接形成される他の層との密着性を向上させることができる。表面処理としては、例えば、エネルギー線照射処理や薬品処理などが挙げられる。エネルギー線照射処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理などが挙げられる。中でも、処理効率の点から、コロナ放電処理およびプラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、例えば、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後、充分に水で洗浄する処理が挙げられる。なお、浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間浸漬したままにしておくと表面が溶解したり、透明性が低下したりすることがあるので、処理に用いる薬品の反応性、濃度などに応じて、浸漬時間、温度などの処理条件を調整することが好ましい。基材フィルムの2の表面のうち、どちらを第1の表面にし、どちらを第2の表面とするかについては、特に限定は無い。適宜一方の面を第1の表面とし、他方の面を第2の表面とすることができる。2-2.マスク用組成物マスク層形成工程では基材フィルムの表面にマスク層を形成する。通常は、マスク層の材料となるマスク用組成物を基材フィルムの表面に印刷して、マスク層を形成する。マスク層においては、遮光部と透光部とを異なる材料で形成することによって、遮光部と透光部とを作り分けてもよい。具体的には、紫外線を遮光する材料で遮光部を形成し、紫外線を透光する材料で透光部を形成するようにしてもよい。しかし、通常は、マスク層の全体で紫外線を遮光する材料を用い、透光部の厚みを遮光部よりも薄くすることにより、マスク層に遮光部及び透光部を形成する。生産を容易にする観点、及び、コストを抑制する観点からである。したがって、マスク層の材料であるマスク用組成物としては、通常は、紫外線を遮光しうる組成物を用いる。i.樹脂通常、マスク用組成物としては、樹脂を含む組成物を用いる。前記の樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロースエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ウレタンアクリレート硬化樹脂、エポキシアクリレート硬化樹脂およびポリエステルアクリレート硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種類の樹脂が好ましい。これらの樹脂を含むことにより、紫外線を遮光する材料を高温環境下においても保持し、安定した遮光部を作製することができる。なお、前記の樹脂は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。アクリル樹脂アクリル樹脂は、通常、溶媒と組み合わせて使用される。例えば、アクリル樹脂と溶媒とを含むマスク用組成物を基材フィルムの表面に印刷し、溶媒を乾燥させることで、マスク層を形成することができる。アクリル樹脂としては、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、i-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、ノニルメタアクリレート、ドデシルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、ジメチルアミノメチルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、メタアクリル酸、エチレングリコールジメタアクリレート等のメタアクリル系モノマーの重合物:あるいは、これらのモノマーとスチレン、メチルスチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ジビニルベンゼン、イタコン酸、クロトン酸、ビニルピロリドン等の別のビニルモノマーとの共重合物;などを挙げることができる。中でも、メチルメタアクリレートのホモポリマーやメチルメタアクリレートと他のビニルモノマーのコポリマー等のメチルメタアクリレートを主成分とする樹脂が挙げられる。また、アクリル樹脂の重量平均分子量は、100,000以上1,000,000以下が好ましい。なお、重量平均分子量は、溶媒としてシクロヘキサン但し、樹脂がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよいを用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって、ポリイソプレンまたはポリスチレン換算の値で測定すればよい。前記のアクリル樹脂の例を製品名で挙げると、サーモラックEF32、EF32-3、EF-36、EF-42、EF-43、EF-61、EM、F-1、LP-45M-30、M-45C、M-45H、SU-28、SU-100A、U-230T及びU-245Bいずれも綜研化学社製などが挙げられる。ウレタン樹脂ウレタン樹脂は、通常、溶媒と組み合わせて使用される。例えば、ウレタン樹脂と溶媒とを含むマスク用組成物を基材フィルムの表面に印刷し、溶媒を乾燥させることで、マスク層を形成することができる。ウレタン樹脂としては、例えば、高分子ポリオールと、ポリイソシアネートとを反応させて得られるものが挙げられる。高分子ポリオールとしては、例えば、1,2-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4-ペンタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2,5-ヘキサンジオール、2-メチル-1,4-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2,2,4-トリメチル-1,6-ヘキサンジオールなどが挙げられる。なお、高分子ポリオールは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。高分子ポリオールの数平均分子量は、1500から4500の範囲であることが好ましい。数平均分子量が1500より小さいと、一般にハードセグメントと呼ばれるウレタン結合部及びウレア結合部の密度が大きくなるため、マスク用組成物の基材フィルムへの接着性が低下したり、ウレタン樹脂のポリマー分子の極性が高くなることによってウレタン樹脂のノントルエン系溶媒への溶解性が低下したりする可能性がある。一方、数平均分子量が4500より大きいと、ハードセグメントの密度が小さくなり、耐ブロッキング性が低下する可能性がある。なお、数平均分子量は、溶媒としてシクロヘキサン但し、樹脂がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよいを用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって、ポリイソプレンまたはポリスチレン換算の値で測定すればよい。ポリイソシアネートとしては、例えば、ウレタン樹脂の製造に一般的に用いられる各種公知の芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネートなどが挙げられる。具体例を挙げると、1,5-ナフチレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI、4,4’-ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、4,4’ート、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、1,3-フェニレンジイソシアネート、1,4-フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ブタン-1,4-ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソプロピレンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、シクロヘキサン-1,4ート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジメリールジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン-4,4’-ジイソシアネート、1,3-ビスイソシアネートメチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、m-テトラメチルキシリレンジイソシアネート、4,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ビス-クロロメチル-ジフェニルメタン-ジイソシアネート、2,6-ジイソシアネート-ベンジルクロライドやダイマー酸のカルボキシル基をイソシアネート基に転化したダイマージイソシアネート等が挙げられる。なお、ポリイソシアネートは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ウレタン樹脂の製造方法としては、例えば、プレポリマー法及びワンショット法などが挙げられる。プレポリマー法では、まず、高分子ポリオールとポリイソシアネートとを10°C~150°Cの温度で反応させウレタン化反応、末端にイソシアネート基を有するプレポリマーを製造する。このウレタン化反応では、必要に応じイソシアネート基に不活性な溶媒を用いてもよく、また、更に必要であればウレタン化触媒を用いてもよい。次いで、このプレポリマーに鎖延長剤、末端停止剤等を反応させてウレタン樹脂を得る。ワンショット法では、高分子ポリオールとポリイソシアネートと鎖延長剤とを一段で反応させて、ウレタン樹脂を得る。前記のウレタン樹脂の例を製品名で挙げると、KL-422、KL-494、KL-560、KL-564、KL-593、U201、U301、U303いずれも荒川化学社製などが挙げられる。ポリアミド樹脂ポリアミド樹脂は、通常、溶媒と組み合わせて使用される。例えば、ポリアミド樹脂と溶媒とを含むマスク用組成物を基材フィルムの表面に印刷し、溶媒を乾燥させることで、マスク層を形成することができる。ポリアミド樹脂は、例えば、ラクタム類の開環重合、ジアミンとジカルボン酸との重縮合、アミノカルボン酸の重縮合などによって得られる。ラクタム類としては、例えば、ε-カプロラクタム、エナントラクタム、ω-ラウロラクタムなどが挙げられる。なお、ラクタム類は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ジアミンとしては、大別して脂肪族、脂環式および芳香族ジアミンが挙げられる。ジアミンの具体例としては、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、トリデカメチレンジアミン、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジアミン、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジアミン、5-メチルナノメチレンジアミン、1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサン、1,4-ビスアミノメチルシクロヘキサン、m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミンなどが挙げられる。なお、ジアミンは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ジカルボン酸としては、大別して脂肪族、脂環式および芳香族ジカルボン酸が挙げられる。ジカルボン酸の具体例としては、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、1,1,3-トリデカン二酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ダイマー酸などが挙げられる。なお、ジカルボン酸は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。アミノカルボン酸としては、例えば、ε-アミノカプロン酸、7-アミノヘプタン酸、8-アミノオクタン酸、9-アミノノナン酸、11-アミノウンデカン酸、12-アミノドデカン酸、13-アミノトリデカン酸などが挙げられる。なお、アミノカルボン酸は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、前記のモノマーのうち2種類以上を共重合させた共重合ポリアミド類をポリアミド樹脂として使用してもよい。さらに、前記のモノマーを反応器内で低分子量のオリゴマーの段階まで重合し、その後、押出機等で高分子量化したものをポリアミド樹脂として使用してもよい。ポリアミド樹脂の数平均分子量は、好ましくは5,000以上、より好ましくは10,000以上であり、好ましくは100,000以下、より好ましくは30,000以下である。ただし、ポリアミド樹脂は、分子量の異なる複数種類のポリアミド樹脂の混合物であってもよい。例えば、数平均分子量10,000以下の低分子量ポリアミドと、数平均分子量30,000以上の高分子量ポリアミドとの混合物であってもよく、数平均分子量10,000以下の低分子量ポリアミドと、数平均分子量15,000程度の一般的なポリアミドの混合物であってもよい。前記のポリアミド樹脂の例を製品名で挙げると、トーマイド90、92、391、394-N、395、TXC-135-C、TXM-78、TXM-80、TPAE-617、TPAE-617C富士化成工業社製などが挙げられる。また、ポリアミド樹脂としては、例えば、特開2004-143238号公報に記載のものを使用してもよい。セルロースエステル樹脂セルロースエステル樹脂は、通常、溶媒と組み合わせて使用される。例えば、セルロースエステル樹脂と溶媒とを含むマスク用組成物を基材フィルムの表面に印刷し、溶媒を乾燥させることで、マスク層を形成することができる。セルロースエステル樹脂は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは、炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味する。セルロースの低級脂肪酸エステルの例を挙げると、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平10-45804号公報、特開平8-231761号公報、米国特許第2,319,052号明細書等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルなどが挙げられる。これらの中でも、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートが特に好ましい。ポリエステル樹脂ポリエステル樹脂は、通常、溶媒と組み合わせて使用される。例えば、ポリエステル樹脂と溶媒とを含むマスク用組成物を基材フィルムの表面に印刷し、溶媒を乾燥させることで、マスク層を形成することができる。ポリエステル樹脂としては、例えば、グリコールもしくはジオールと、ジカルボン酸若しくはこれらの無水物とを、脱水縮合または重合させて得られるものが挙げられる。また、前記のポリエステル樹脂の合成反応においては、さらに例えばヒドロキシル基を3個以上有するポリオール、カルボキシル基を3個以上有する多価カルボン酸などを併用してもよい。グリコールは、全て分岐グリコールを使うことが好ましい。分岐グリコールとしては、例えば、1,2-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4-ペンタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2,5-ヘキサンジオール、2-メチル-1,4-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2,2,4-トリメチル-1,6-ヘキサンジオールなどが挙げられる。分岐グリコールはポリエステル樹脂にアルキル側鎖を持たせるため、その立体障害効果によりポリエステル樹脂の結晶性を下げる。そのため、ポリエステル樹脂の溶媒溶解性、特にノントルエン系溶媒への溶解性を向上させることができる。ジカルボン酸としては、例えば、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、シュウ酸、マロン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸などが挙げられる。また、さらに例えばトリメリット酸、ピロメリット酸などの多価カルボン酸を併用してもよい。また、ジカルボン酸、多価カルボン酸の無水物を使用してもよい。これらの中で、ノントルエン系溶媒への溶解性などから、アジピン酸を用いることが好ましく、アジピン酸をジカルボン酸中50重量以上使用することがさらに好ましい。ポリエステル樹脂の数平均分子量は、通常は700以上、好ましくは1,000以上であり、通常100,000以下、好ましくは6,000以下である。ポリイミド樹脂ポリイミド樹脂は、通常、溶媒と組み合わせて使用される。例えば、ポリイミド樹脂と溶媒とを含むマスク用組成物を基材フィルムの表面に印刷し、溶媒を乾燥させることで、マスク層を形成することができる。ポリイミド樹脂としては、例えば、以下の3つの工程を経ることで製造されたものが挙げられる。1ポリアミド酸の形成2ポリアミド酸のイミド化3ポリイミド樹脂の沈殿1ポリアミド酸の形成ポリアミド酸を形成する方法としては、例えば、ジアミンを溶解した有機溶媒中に、酸二無水物を分散し、攪拌することで完全に溶解させ重合させる方法;酸二無水物を有機溶媒中に溶解又は分散させた後、ジアミンを用いて重合させる方法;酸二無水物とジアミンとの混合物を有機溶媒中で反応させて重合する方法;などが挙げられる。ポリアミド酸の重合に使用する有機溶媒としては、例えば、テトラメチル尿素、N,N-ジメチルエチルウレアのようなウレア類、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホン、テトラメチルスルフォンのようなスルホキシドあるいはスルホン類、N,N-ジメチルアセトアミドDMAc、N,N-ジメチルホルムアミドDMF、N,N’-ジエチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドンNMP、γ-ブチルラクトン、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類、またはホスホリルアミド類等の非プロトン性溶媒;クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン化アルキル類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;フェノール、クレゾール等のフェノール類;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、p-クレゾールメチルエーテル等のエーテル類;などが挙げられる。なお、これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。これらのうち、DMF、DMAc、NMPなどのアミド類が好ましい。ジアミンとしては、溶解性を付与する観点から、一般式群1で表される構造を含むジアミンが好ましい。なお、一般式群1で表される構造は、1種類が単独で含まれていてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて含まれていてもよい。一般式群1において、R1及びR2は、それぞれ独立して、F、Cl、Br、CF3、CCl3及びCBr3からなる群より選ばれる置換基を表し、R3、R4、R5及びR6は、それぞれ独立して、H、F、Cl、Br、CF3、CCl3及びCBr3からなる群より選ばれる置換基を表す。一般式群1で表される構造を含むジアミンの例を挙げると、2,2’-ジフルオロ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジフルオロ-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジフルオロ-5,5’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジフルオロ-5,5’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジクロロ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジクロロ-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジクロロ-5,5’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジクロロ-5,5’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジブロモ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジブロモ-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジブロモ-5,5’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジブロモ-5,5’-ジアミノビフェニル、2,2’-ビストリフルオロメチル-4,4’-ジアミンビフェニル、3,3’-ビストリフルオロメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ビストリフルオロメチル-5,5’-ジアミノビフェニル、3,3’-ビストリフルオロメチル-5,5’-ジアミノビフェニル、2,2’-ビストリクロロメチル-4,4’-ジアミンビフェニル、3,3’-ビストリクロロメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ビストリクロロメチル-5,5’-ジアミノビフェニル、3,3’-ビストリクロロメチル-5,5’-ジアミノビフェニル、2,2’-ビストリブロモメチル-4,4’-ジアミンビフェニル、3,3’-ビストリブロモメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ビストリブロモメチル-5,5’-ジアミノビフェニル、3,3’-ビストリブロモメチル-5,5’-ジアミノビフェニル、ビス4-アミノフェニルスルホン、ビス3-アミノフェニルスルホン、ビス5-フルオロ-4-アミノフェニルスルホン、ビス5-フルオロ-3-アミノフェニルスルホン、ビス5-クロロ-4-アミノフェニルスルホン、ビス5-クロロ-3-アミノフェニルスルホン、ビス5-ブロモ-4-アミノフェニルスルホン、ビス5-ブルモ-3-アミノフェニルスルホン、ビス5-トリフルオロメチル-4-アミノフェニルスルホン、ビス5-トリフルオロメチル-3-アミノフェニルスルホン、ビス5-トリクロロメチル-4-アミノフェニルスルホン、ビス5-トリクロロメチル-3-アミノフェニルスルホン、ビス5-トリブルモメチル-4-アミノフェニルスルホン、ビス5-トリブロモメチル-3-アミノフェニルスルホン、ビス4-4-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-3-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-フルオロ-4-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-フルオロ-3-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-クロロ-4-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-クロロ-3-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-ブロモ-4-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-ブロモ-3-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-トリフルオロメチル-4-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-トリフルオロメチル-3-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-トリクロロメチル-4-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-トリクロロメチル-3-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-トリブロモメチル-4-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス4-5-トリブロモメチル-3-アミノフェノキシフェニルスルホン、m-フェニレンジアミン、o-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルエ-テル、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ビス4-アミノフェニルプロパン、2,2-ビス4-アミノフェニル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、1,4-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、1,4-ビス4-アミノベンゾイルベンゼン、4,4’-ビス4-アミノフェノキシビフェニル、ビス4-4-アミノフェノキシフェニルケトン、ビス4-4-アミノフェノキシフェニルスルフィド、ビス4-4-アミノフェノキシフェニルエ-テル、ビス4-4-アミノフェノキシフェニルメタン、2,2-ビス4-4-アミノフェノキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-4-アミノフェノキシフェニル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、1,4-ビス4-4-アミノフェノキシベンゾイルベンゼン、ジアミノポリシロキサン、2,2-ビス4-アミノフェニル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、4,4’-ジアミノ-ベンゾフェノン、4,4’-ビス3-アミノフェノキシビフェニル、4,4’-ビス4-アミノフェノキシビフェニル、4,4’-ビス4-アミノフェノキシベンゾフェノン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ビス4-アミノフェノキシジフェニルエーテル等が挙げられる。なお、これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。酸二無水物としては、溶解性を付与する観点から、一般式群2で表される構造を含む酸二無水物が好ましい。なお、一般式群2で表される構造は、1種類が単独で含まれていてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて含まれていてもよい。一般式群2において、R7は、-CCF32-及び-SO2-からなる群より選ばれる置換基を表し、R8は、H、F、Cl、Br、CF3、CCl3及びCBr3からなる群より選ばれる置換基を表し、R9は、F、Cl、Br、CF3、CCl3及びCBr3からなる群より選ばれる置換基を表す。一般式群2で表される構造を含む酸二無水物の例を挙げると、2,2-ビス3,4-ジカルボキシフェニルヘキサフルオロプロパン酸二無水物、4,4’-スルホニルジフタル酸二無水物、3-フルオロピロメリット酸二無水物、3-クロロピロメリット酸二無水物、3-ブロモピロメリット酸二無水物、3-トリフルオロメチルピロメリット酸二無水物、3-トリクロロメチルピロメリット酸二無水物、3-トリブロモメチルピロメリット酸二無水物、3,6-ジフルオロピロメリット酸二無水物、3,6-ジクロロピロメリット酸二無水物、3,6-ジブロモピロメリット酸二無水物、3,6-ビストリフルオロメチルピロメリット酸二無水物、3,6-ビストリクロロメチルピロメリット酸二無水物、3,6-ビストリブロモメチルピロメリット酸二無水物、9,9-ビス3,4-ジカルボキシフェニルフルオレン酸二無水物、9,9-ビス[4-3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル]フルオレン酸二無水物、4,4’-ビフェニレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、p-フェニレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、p-メチルフェニレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、p-2,3-ジメチルフェニレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物1,4-ナフタレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、2,6-ナフタレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス[4-トリメリット酸モノエステル酸無水物フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-トリメリット酸モノエステル酸無水物フェニル]ヘキサフルオロプロパン、3,3′,4,4′-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5,6-ピリジンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ビス3,4-ジカルボキシフェニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン二無水物、1-2,3-ジカルボキシフェニル-3-3,4-ジカルボキシフェニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン二無水物等が挙げられる。なお、これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。2ポリアミド酸のイミド化ポリアミド酸を含む溶液においてポリアミド酸をイミド化して、可溶性のポリイミド樹脂を含む溶液を製造する方法について説明する。ポリアミド酸をイミド化する方法としては、例えば、熱的に脱水閉環する熱的イミド化方法と、脱水剤及びイミド化促進剤を用いる化学的イミド化方法が挙げられる。熱的イミド化方法では、イミド化反応で生成した水がポリアミド酸の分解に寄与するため、水を系外に排出することが好ましい。水を系外に排出する具体的な手法としては、例えば、水と共沸する有機溶媒を系中に加え、ディーンスターク管などの装置で共沸を行えばよい。水と共沸する有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を使用することができる。化学的イミド化方法では、イミド化促進剤と脱水剤とを併用することで可溶性ポリイミド樹脂のイミド化率を向上させることができる。イミド化促進剤としては、例えば、3級アミンを用いることができる。3級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等の脂肪族アミン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、N,N-ジプロピルアニリン等の芳香族3級アミン、ピリジン、キノリン、ピコリン、イソキノリン等の複素環3級アミン等が挙げられる。中でも、着色抑制、分子量低下抑制の面で、ピリジン、キノリン、ピコリン、イソキノリン等の複素環3級アミンを用いることが好ましい。なお、イミド化促進剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。3ポリイミド樹脂の沈殿ポリアミド酸をイミド化して得られる可溶性ポリイミド樹脂を含む溶液から、可溶性ポリイミド樹脂を沈殿させて、ポリイミド樹脂を得る。沈殿の方法としては、例えば、可溶性ポリイミド樹脂を含む溶液へ、可溶性ポリイミド樹脂の貧溶媒を投入する方法が挙げられる。ここで用いる貧溶媒としては、可溶性ポリイミド樹脂を溶解している溶媒と混和し、多量に使用した場合に可溶性ポリイミド樹脂を沈殿させるものであれば特に制限はないが、特にアルコール類又は炭化水素類を主成分として含む有機溶媒が好ましい。アルコール類の例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、1-プロピルアルコール、2-プロピルアルコール、1-ブチルアルコール、2-ブチルアルコール、t-ブチルアルコール等が挙げられる。中でも、乾燥効率の面から、メチルアルコール、エチルアルコール、1-プロピルアルコール、2-プロピルアルコールが特に好ましい。炭化水素類の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、エチルベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、塩化イソプロピル、塩化ブチル、塩化ペンチル、塩化ヘキシル、クロロベンゼン、ブロモベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アニソール、ジオキサン、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類が挙げられる。中でも、可溶性ポリイミド樹脂の収率向上の面で、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、エチルベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が好ましく、洗浄効率の面から、エチルベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類がさらに好ましく、乾燥効率の面から、トルエンが特に好ましい。なお、貧溶媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。沈殿させて取り出したポリイミド樹脂は、イミド化促進剤を含むことがあるので、洗浄して、イミド化促進剤等を除去することが、ポリイミド樹脂の変質を抑制する観点から、好ましい。洗浄に使用する溶媒としては、イミド化時に用いた溶媒、副原料、副生成物等を除去できるものであれば特に制限はないが、例えば、沈殿の際に用いた貧溶媒と同様の溶媒を用いればよい。その後、ポリイミド樹脂の沈殿を乾燥させて溶媒を除去し、ポリイミド樹脂を得ることが好ましい。乾燥方法としては、例えば真空乾燥又は熱風乾燥等を用いればよい。乾燥温度は、120°C以下で行うことが望ましい。また、ポリイミド樹脂としては、例えば、特開2007-254615号公報に記載の樹脂や、UワニスA、UワニスS宇部興産製などを用いてもよい。ポリアミドイミド樹脂ポリアミドイミド樹脂は、通常、溶媒と組み合わせて使用される。例えば、ポリアミドイミド樹脂と溶媒とを含むマスク用組成物を基材フィルムの表面に印刷し、溶媒を乾燥させることで、マスク層を形成することができる。ポリアミドイミド樹脂としては、例えば、酸成分とイソシアネート成分とから製造するイソシアネート法;酸クロリド成分とアミン成分とから製造する酸クロリド法;酸成分とアミン成分とから製造する直接法;などの公知の方法で製造されるが、製造コストの観点からイソシアネート法が好ましい。ポリアミドイミド樹脂をイソシアネート法で合成する場合、酸成分としてトリメリット酸無水物を用いることが好ましいが、溶媒溶解性を付与するために、その一部を他の多塩基酸またはその無水物に置き換えてもよい。置き換える成分としては、例えば、ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルスルホンテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、プロピレングリコールビストリメリテート等のテトラカルボン酸及びこれらの無水物、シュウ酸、アジピン酸、マロン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ドデカンジカルボン酸、ジカルボキシポリブタジエン、ジカルボキシポリアクリロニトリル-ブタジエン、ジカルボキシポリスチレン-ブタジエン等の脂肪族ジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジカルボン酸、ダイマー酸等の脂環族ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、トリメシン酸、シクロヘキサントリカルボン酸等の3官能カルボン酸等が挙げられる。また、酸成分の一部を、例えばグリコール、ジアミン等に置き換えて、ウレタン基又はウレア基を分子内に導入することで、溶媒溶解性を改良することができる。グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、シクロヘキサンジメタノール等の脂肪族、脂環族グリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール、上記ジカルボン酸のうちの1種類又は2種類以上と上記グリコールのうちの1種類又は2種類以上とから合成される分子量300~10000の末端水酸基ポリエステル等が挙げられる。ポリアミドイミド樹脂をイソシアネート法で合成する場合、ジイソシアネート成分としては、例えば、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルエーテルジイソシアネート、4,4’-ジフェニルスルホンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネート、1,3-シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネートが挙げられる。これらの中では、反応性及び溶媒溶解性の点から、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートが好ましく、更に好ましくは2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートである。また、ポリアミドイミド樹脂を構成するモノマー成分のうち、1成分以上が脂肪族成分又は脂環族成分であってもよい。これらの成分を含むことでケトン系の溶媒への溶解性が向上し、重合時及びマスク用組成物のハンドリング性が良くなる。脂肪族成分及び脂環族成分は、酸成分、イソシアネート成分、及びその他成分ジオール成分、アミン成分等のいずれに含まれていてもよい。脂肪族成分及び脂環族成分のうち酸成分としては、例えば、シュウ酸、アジピン酸、マロン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ドデカンジカルボン酸、ジカルボキシポリブタジエン、ジカルボキシポリアクリロニトリル-ブタジエン、ジカルボキシポリスチレン-ブタジエン等の脂肪族ジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジカルボン酸、ダイマー酸等の脂環族ジカルボン酸が挙げられる。脂肪族成分及び脂環族成分のうちイソシアネート成分としては、例えば、エチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネート、1,3-シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネートが挙げられる。脂肪族成分及び脂環族成分のうちその他成分としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、シクロヘキサンジメタノール等の脂肪族、脂環族グリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール、末端水酸基ポリエステルで上記原料を含むもの、ポリカプロラクトンジオールで分子量300~10000のものなどが挙げられる。ポリアミドイミド樹脂を酸クロリド法で製造する場合は、例えば、上記酸成分のカルボン酸をカルボン酸クロライドに変更し、イソシアネート成分を対応するアミンに変更して製造すればよい。また、ポリアミドイミド樹脂を直接法で製造する場合は、例えば、上記酸成分とイソシアネート成分を対応するアミンに変更して製造すればよい。ウレタンアクリレート硬化樹脂ウレタンアクリレート硬化樹脂は、通常、基材フィルムの表面に印刷された後で、活性エネルギー線の照射により硬化されてマスク層を形成することになる。ウレタンアクリレート硬化樹脂の未硬化樹脂としては、例えば、ウレタンメタアクリレートを用いる。ウレタンメタアクリレートとしては、例えば、水酸基を有するメタアクリルモノマー、多官能イソシアネートおよび多価アルコールが反応して、中心にウレタン骨格を有する反応物が挙げられる。水酸基を有するメタアクリルモノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ヒドロキシブチルメタアクリレートなどを挙げることができる。多官能イソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート、ジフェニルメタントリイソシアネートなどが挙げられ、中でも耐候性の良好なヘキサメチレンジイソシアネートが好適に用いられる。多価アルコールとして、例えば、エチレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、などを使用することができる。なお、これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ウレタンアクリレートの例を製品名で挙げると、EBECRYL204,210,220,230,270,4858,8200,8201,8402,8804,8807,9260,9270,KRM8098,7735,8296ダイセルサイテック社製;UX2201,2301,3204,3301,4101,6101,7101,8101,0937日本化薬社製;UV6640B,6100B,3700B,3500BA,3520TL,3200B,3000B,3310B,3210EA,7000B,6630B,7461TE日本合成化学社製;ユピカ8921,8932,8940,8936,8937,8980,8975,8976日本ユピカ社製;MiramerPU240,PU340東洋ケミカルズ社製などを挙げることができる。エポキシアクリレート硬化樹脂エポキシアクリレート硬化樹脂は、通常、基材フィルムの表面に印刷された後で、活性エネルギー線の照射により硬化されてマスク層を形成することになる。エポキシアクリレート硬化樹脂の未硬化樹脂としては、例えば、エポキシメタアクリレートが挙げられる。エポキシメタアクリレートとしては、例えば、エポキシ樹脂にメタアクリル酸を開環付加反応させた反応物が挙げられる。前記のエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールAとエピクロロヒドリンからなるビスフェノールA型、フェノールノボラックとエピクロロヒドリンからなるノボラック型、脂肪族型、脂環型のものが挙げられる。脂肪族型エポキシ樹脂としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルなどを用いることができ、またブタジエン系エポキシ樹脂、イソプレン系エポキシ樹脂などの不飽和脂肪酸エポキシ樹脂も用いることができる。脂環型エポキシ樹脂としては、例えば、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサン、1,2:8,9-ジエポキシシリモネン、3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどを用いることができる。エポキシアクリレートの例を製品名で挙げると、例えば、EBECRYL600,860,3105,3420,3700,3701,3702,3703,3708,6040ダイセルサイテック社製;ネオポール8101,8250,8260,8270,8355,8351,8335,8414,8190,8195,8316,8317,8318,8319,8371日本ユピカ社製;デナコールアクリレートDA212,250,314,721,722,DM201ナガセケムテックス社製;バンビームハリマ化成社製;MiramerPE210,PE230,EA2280東洋ケミカルズ社製;などを挙げることができる。ポリエステルアクリレート硬化樹脂ポリエステルアクリレート硬化樹脂は、通常、基材フィルムの表面に印刷された後で、活性エネルギー線の照射により硬化されてマスク層を形成することになる。ポリエステルアクリレート硬化樹脂の未硬化樹脂としては、例えば、ポリエステルメタアクリレートが挙げられる。ポリエステルメタアクリレートは、例えば、多塩基酸と多価アルコールから得られるポリエステルの末端水酸基をメタアクリル酸と反応させることによって得られる。多塩基酸としては、例えば、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸などが挙げられる。多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、などが挙げられる。ポリエステルアクリレートの例を製品名で挙げると、例えば、EBECRYL851,852,853,884,885ダイセルサイテック社製;オレスター三井化学社製;アロニックスM-6100,6200,6250,6500東亞合成社製;などを挙げることができる。ガラス転移温度マスク用組成物に含まれる樹脂成分のガラス転移温度は、通常80°C以上、好ましくは100°C以上であり、通常400°C以下、好ましくは350°C以下である。ガラス転移温度を80°C以上にすることによりマスク層の耐熱性を高めることができ、例えば液晶樹脂層の加熱時にマスク層が変形することを防止できる。また、ガラス転移温度を400°C以下にすることにより、樹脂の溶解性を高めてマスク用組成物の印刷を簡単にできる。なお、印刷前の状態とマスク層を形成した後の状態とで樹脂成分のガラス転移温度が変化する場合には、マスク層を形成した後の状態においてガラス転移温度が前記の範囲に収まることが好ましい。ii.紫外線吸収剤マスク用組成物は、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。これによりマスク層の遮光部が紫外線吸収剤を含むことになり、遮光部において紫外線を安定して遮光することができるようになる。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤およびトリアジン系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも1種類の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。なお、紫外線吸収剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、その有効吸収波長が約270nm以上380nm以下の範囲にある化合物が好ましい。その具体例を挙げると、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-デシルオキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-ドデシルオキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-ベンジルオキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-2-ヒドロキシ-3-メタクリルオキシプロポキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5-スルホベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5-スルホベンゾフェノントリヒドレート、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-2’-カルボキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクタデシロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-ジエチルアミノ-2’-ヘキシルオキシカルボニルベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、1,4-ビス4-ベンジルオキシ-3-ヒドロキシフェノキシブタン等を挙げることができる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、その有効吸収波長が約270nm以上380nm以下の範囲にある化合物が好ましい。その具体例を挙げると、2-2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-5’-t-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’-t-ブチル-5’-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’-ドデシル-5’-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-アミルフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-5’-1,1,3,3-テトラメチルブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-4’-オクチルオキシフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’-3,4,5,6-テトラヒドロフタルイミジルメチル-5’-メチルベンジルフェニルベンゾトリアゾール、2-3’-sec-ブチル-5’-t-ブチル-2’-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-3’,5’-ビス-α,α-ジメチルベンジル-2’-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-2-オクチルオキシカルボニルエチルフェニル-5-クロロ-ベンゾトリアゾール、2-3’-t-ブチル-5’-[2-2-エチルヘキシルオキシ-カルボニルエチル]-2’-ヒドロキシフェニル-5-クロロ-ベンゾトリアゾール、2-3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-2-メトキシカルボニルエチルフェニル-5-クロロ-ベンゾトリアゾール、2-3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-2-メトキシカルボニルエチルフェニルベンゾトリアゾール、2-3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-2-オクチルオキシカルボニルエチルフェニルベンゾトリアゾール、2-3’-t-ブチル-5’-[2-2-エチルヘキシルオキシカルボニルエチル]-2’-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-3’-ドデシル-2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-2-イソオクチルオキシカルボニルエチルフェニルベンゾトリアゾール、2,2’-メチレン-ビス[4-1,1,3,3-テトラメチルブチル-6-ベンゾトリアゾール-2-イルフェノール]、2-[3’-t-ブチル-5’-2-メトキシカルボニルエチル-2’-ヒドロキシフェニル]-2H-ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール300とのエステル交換生成物;2-[2’-ヒドロキシ-3’-1,1,3,3-テトラメチルブチル-5’-α,α-ジメチルベンジル-フェニル]ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。また、下記の式3で表されるものも、挙げることができる。式3中、Rは、3’-tert-ブチル-4’-ヒドロキシ-5’-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェニル基、又は、2-[2’-ヒドロキシ-3’-α,α-ジメチルベンジル-5’-1,1,3,3-テトラメチルブチル-フェニル]ベンゾトリアゾール基を表す。トリアジン系紫外線吸収剤としては、その有効吸収波長が270nm以上380nm以下の範囲にある化合物が好ましい。その具体例を挙げると、2-4-ブトキシ-2-ヒドロキシフェニル-4,6-ジ4-ブトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2-4-ブトキシ-2-ヒドロキシフェニル-4,6-ジ2,4-ジブトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジ4-ブトキシ-2-ヒドロキシフェニル-6-4-ブトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジ4-ブトキシ-2-ヒドロキシフェニル-6-2,4-ジブトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4,6-トリス2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシフェニル-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2,4-ジヒドロキシフェニル-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス2-ヒドロキシ-4-プロピルオキシフェニル-6-2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシフェニル-4,6-ビス4-メチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-ドデシルオキシフェニル-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-トリデシルオキシフェニル-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-[2-ヒドロキシ-4-2-ヒドロキシ-3-ブチルオキシプロポキシフェニル]-4,6-ビス2,4-ジメチル-1,3,5-トリアジン、2-[2-ヒドロキシ-4-2-ヒドロキシ-3-オクチルオキシプロピルオキシフェニル]-4,6-ビス2,4-ジメチル-1,3,5-トリアジン、2-[4-ドデシルオキシ/トリデシルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシ-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-[2-ヒドロキシ-4-2-ヒドロキシ-3-ドデシルオキシプロポキシフェニル]-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-ヘキシルオキシフェニル-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4,6-トリス2-ヒドロキシ-4-3-ブトキシ-2-ヒドロキシプロポキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシフェニル-4-4-メトキシフェニル-6-フェニル-1,3,5-トリアジン、2-{2-ヒドロキシ-4-[3-2-エチルヘキシル-1-オキシ-2-ヒドロキシ-プロピルオキシ]フェニル}-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-2-エチルヘキシルオキシフェニル-4,6-ジ4-フェニルフェニル-1,3,5-トリアジン等を挙げることができる。紫外線吸収剤の例を製品名で挙げると、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、SEESORB100、101、101S,102、103、105、106、107、151シプロ化成社製などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、TINUVINPS、99-2、109、328、384-2、900、928、1130、99-DW、5050、5060、5151チバスペシャリティケミカルズ社製;SEESORB701、703、704、706、707、709シプロ化成社製;などが挙げられる。さらに、トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、TINUVIN400、405、460、477、479、400-DW、477-DWチバスペシャリティケミカルズ社製などが挙げられる。紫外線吸収剤の使用量は、マスク層中の樹脂100重量部に対して、通常5重量部以上、好ましくは8重量部以上、より好ましくは10重量部以上であり、通常20重量部以下、好ましくは18重量部以下、より好ましくは15重量部以下である。紫外線吸収剤の量をこのような範囲にすることにより、遮光部によって紫外線を安定して遮光でき、長期間にわたって遮光部の信頼性を維持でき、また、マスク用組成物の取り扱い性を良好にできる。iii.着色剤マスク用組成物は、着色剤を含むことが好ましい。これによりマスク層の遮光部が着色剤を含むことになる。着色剤は通常は紫外線を吸収するので、着色剤を含むことにより、遮光部において紫外線を安定して遮光することができるようになる。また、着色剤によって遮光部を着色することにより、視認部を肉眼で視認できるようにして、遮光部及び透光部のマスクパターンの形状を把握し易くできる。さらに、後述する目印をマスク層に形成する場合には、前記の目印の位置及び形状を視認し易くできるので、本発明の位相差板を他のフィルムと貼り合わせる際に位置合わせが容易になる。着色剤としては、顔料及び染料などが挙げられる。顔料としては、例えば、有機顔料、カーボンブラック顔料、導電性カーボンブラック、電池用カーボンブラック、ゴム用カーボンブラック等を挙げることができる。慣用の顔料の例を挙げると、酸化チタン、チタンイエロー、酸化鉄、複合酸化物系顔料、群青、コバルトブルー、酸化クロム、バナジウム酸ビスマス、カーボンブラック、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク等の無機顔料;アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、アントラキノン系顔料、イソインドリノン系顔料、イソインドリン系顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、キノフタロン系顔料、チオインジゴ系顔料及びジケトピロロピロール系顔料等の有機顔料;金属錯体顔料などが挙げられる。染料としては、例えば、アントラキノン系化合物、フタロシアニン系化合物、ペリノン系化合物、ジオキサジン系化合物、ベンゾフラン系化合物、チオフェンモノアゾ系化合物、シアニン系化合物、ジインモニウム系化合物等が挙げられる。中でも、染料としては、主として油溶性染料のグループに属する染料を用いることが好ましい。染料の例を製品名で挙げると、アントラキノン系化合物の具体例としては、三菱化学社製のダイアレジン登録商標ブラックB、ダイアレジン登録商標ブルーN、ダイアレジン登録商標レッドK;住化ケムテックス社製のスミプラスト登録商標ブラックH3B、スミプラスト登録商標レッドHFG、スミプラスト登録商標バイオレットRR、スミプラストYellowGC;有本化学工業社製のプラストレッド8320;ランクセス社製のマクロレックス登録商標レッド5BFG、マクロレックス登録商標バイオレット3RFG、マクロレックス登録商標グリーン5BFG等が挙げられる。また、フタロシアニン系化合物の具体例としては、大日本インキ化学工業社製のファンストゲンブルーRRFG;BASFジャパン社製のヘリオゲングリーンK-8730等が挙げられる。また、ペリノン系化合物の具体例としては、三菱化学社製のダイアレジン登録商標オレンジHS、ダイアレジン登録商標レッドHS、ダイアレジン登録商標レッドA;ランクセス社製のマクロレックス登録商標オレンジ3GGran、マクロレックス登録商標レッドEGGran;住化ケムテックス社製のスミプラスト登録商標レッドH3G等が挙げられる。なお、着色剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。着色剤の使用量は、マスク層中の樹脂100重量部に対して、通常5重量部以上、好ましくは8重量部以上、より好ましくは10重量部以上であり、通常50重量部以下、好ましくは40重量部以下、より好ましくは30重量部以下である。着色剤の量をこのような範囲にすることにより、遮光部によって紫外線を十分遮光したり、視認のための十分な着色が可能となり、また、マスク用組成物の取り扱い性を良好にできる。iv.金属粒子マスク用組成物は、金属粒子を含むことが好ましい。これにより遮光部が金属粒子を含むことになる。金属粒子は通常は紫外線を遮断するので、金属粒子を含むことにより、遮光部において紫外線を安定して遮光することができるようになる。また、金属粒子を含むことによりマスク層の硬さが高まるので、マスク層の強度を向上させることができる。金属粒子の材料である金属は特に制限は無いが、例えば、ニッケル、白金、パラジウム、銀-パラジウム、銅、金、銀、錫、鉛、並びにこれらの合金などが挙げられる。また、Sn-Pb系、Sn-Pb-Ag系、Sn-Pb-Bi系、Sn-Pb-Bi-Ag系、Sn-Pb-Cd系の合金なども挙げられる。さらに、Pb排除の観点から、Sn-In系、Sn-Bi系、In-Ag系、In-Bi系、Sn-Zn系、Sn-Ag系、Sn-Cu系、Sn-Sb系、Sn-Au系、Sn-Bi-Ag-Cu系、Sn-Ge系、Sn-Bi-Cu系、Sn-Cu-Sb-Ag系、Sn-Ag-Zn系、Sn-Cu-Ag系、Sn-Bi-Sb系、Sn-Bi-Sb-Zn系、Sn-Bi-Cu-Zn系、Sn-Ag-Sb系、Sn-Ag-Sb-Zn系、Sn-Ag-Cu-Zn系、Sn-Zn-Bi系の、Pbを含まない合金を用いてもよい。なお、同じ組成の金属粒子を単独で用いてもよく、異なる組成の2種類以上の金属粒子を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。金属粒子は、チオール化合物によって表面を修飾されていてもよい。好ましいチオール化合物としては、炭化水素化合物の水素がチオール基-SHで置換された化合物が挙げられる。チオール化合物が有するチオール基の数は2個以上でもよいが、1個であることが好ましい。また、チオール化合物においてチオール基は、炭化水素鎖の末端に存在することが好ましい。チオール化合物を構成する炭化水素基としては、例えば、直鎖状あるいは分岐状飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、脂環属炭化水素基、芳香族炭化水素基などを挙げることができる。直鎖状あるいは分岐状飽和炭化水素基としては、例えば、炭素数1~20の飽和炭化水素基が挙げられる。具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基等が挙げられる。不飽和炭化水素基としては、例えば、オレイル基を挙げることができる。脂環族炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、4-メチルシクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等を挙げることができる。芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ビフェニル基、α-またはβ-ナフチル基、メチルナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ベンジルフェニル基、ピレニル基、アセナフチル基、フェナレニル基、アセアントリレニル基、テトラヒドロナフチル基、インダニル基、ビフェニリル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアリール炭化水素基等を挙げることができる。チオール化合物の具体例を挙げると、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ウンデカンチオール、ドデカンチオール、トリデカンチオール、ペンタデカンチオール、ヘキサデカンジオール、ヘプタデカンチオール、オクタデカンチオール、ノナデカンチオール、シクロペンチルジオール、ノルボニルチオール、フェニルチオール、トルイルチオール等を挙げることができる。これらの中では、ヘキサデカンチオール、及びオクタデカンチオールが好ましい。なお、チオール化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、チオール化合物とシラン化合物とを組み合わせて、金属粒子の表面を修飾してもよい。シラン化合物の具体例としては、オクチルトリクロロシラン、ノニルトリクロロシラン、デカントリクロロシラン、ウンデカントリクロロシラン、ドデシルトリクロロシラン、トリデシルトリクロロシラン、ヘキサデシルトリクロロシラン、ヘプタデシルトリクロロシラン、オクタデシルトリコロロシラン、ノナデシルトリクロロシラン、シクロペンチルトリクロロシラン、ノルボニルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、オクタデシルジメチルクロロシラン、オクタデシルジメチルメトキシシラン、オクタデシルメトキシジクロロシラン、オクタデシルメチルジクロロシラン、オクタデシルメチルジエトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの中では、オクチルトリクロロシラン、ドデシルトリクロロシラン、及びオクタデシルトリクロロシランが好ましい。なお、シラン化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。金属粒子の粒子径直径は、0.2μm以上60μm以下の範囲にあることが好ましい。これにより、マスク用組成物中の金属粒子の分散を安定に維持できる。金属粒子の使用量は、マスク層中の樹脂100重量部に対して、通常5重量部以上、好ましくは8重量部以上、より好ましくは10重量部以上であり、通常30重量部以下、好ましくは25重量部以下、より好ましくは20重量部以下である。金属粒子の量をこのような範囲にすることにより、遮光部によって紫外線を安定して遮光でき、また、マスク用組成物の取り扱い性を良好にできる。v.溶媒通常、マスク用組成物は溶媒を含む。溶媒に樹脂を溶解させることにより、マスク層の作製を容易に行えるようにするためである。溶媒の例を挙げると、テトラメチル尿素、N,N-ジメチルエチルウレアのようなウレア類、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホン、テトラメチルスルフォンのようなスルホキシドあるいはスルホン類、N,N-ジメチルアセトアミドDMAc、N,N-ジメチルホルムアミドDMF、N,N’-ジエチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドンNMP、γ-ブチルラクトン、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類、またはホスホリルアミド類の非プロトン性溶媒;クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化アルキル類、ベンゼン、トルエン、p-キシレン、m-キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類;フェノール、クレゾールなどのフェノール類;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、p-クレゾールメチルエーテルなどのエーテル類;メチルエチルケトンMEK、メチルイソブチルケトンMIBK、アセトン、ジエチルケトン、ブタノン、ペンタノン、ヘキサノン、ヘプタノン、オクタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノンなどのケトン類等を挙げることができる。なお、溶媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。マスク用組成物に含まれる溶媒の量は、マスク用組成物の固形分濃度が、通常10質量以上、好ましくは15質量以上、より好ましくは20質量以上、また、通常70質量以下、好ましくは60質量以下、より好ましくは50質量以下となる量にする。これにより、マスク用組成物の粘度を適切に設定して、マスク層のパターン形状を所望の形状に印刷することができ、かつ乾燥を完全に行い、フィルムを巻き取ってロールとしたときのフィルム同士のブロッキングを防止することができる。vi.光重合開始剤マスク用組成物は、適宜、光重合開始剤を含んでもよい。光重合開始剤としては例えば、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、ビアセチル、アセトフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンジルイソブチルエーテル、テトラメチルチウラムモノジスルフィド、2,2-アゾビスイソブチロニトリル、2,2-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ-tert-ブチルパーオキサイド、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、メチルベンゾイルフォーメート、2,2-ジエトキシアセトフェノン、β-アイオノン、β-ブロモスチレン、ジアゾアミノベンゼン、α-アミルシンナックアルデヒド、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-ジメチルアミノプロピオフェノン、2-クロロベンゾフェノン、pp′-ジクロロベンゾフェノン、pp′-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn-プロピルエーテル、ベンゾインn-ブチルエーテル、ジフェニルスルフィド、ビス2,6-メトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニル-フォスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイド、2-メチル-1[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン、アントラセンベンゾフェノン、α-クロロアントラキノン、ジフェニルジスルフィド、ヘキサクロルブタジエン、ペンタクロルブタジエン、オクタクロロブテン、1-クロルメチルナフタリン、1,2-オクタンジオン,1-[4-フェニルチオ-2-o-ベンゾイルオキシム]や1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン1-o-アセチルオキシムなどのカルバゾールオキシム化合物、4-メチルフェニル[4-2-メチルプロピルフェニル]ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、3-メチル-2-ブチニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル-p-フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。なお、重合開始剤は、1種類を用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。重合開始剤の量は、マスク層中の樹脂100重量部に対して、好ましくは0.01重量部以上、より好ましくは0.1重量部以上であり、好ましくは20重量部以下、より好ましくは10重量部以下である。vii.架橋剤マスク用組成物は、適宜、架橋剤を含んでもよい。架橋剤としては、例えば、フェノール樹脂、イソシアネート化合物、メラミン樹脂などを挙げることができる。イソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソプロピレンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、シクロヘキサン-1,4ジイソシアネートなどを挙げることができる。フェノール樹脂としては、例えば、フェノール化合物とホルムアルデヒドを酸性または塩基性触媒存在下で反応させて得られるものが挙げられる。また、フェノール樹脂は、ノボラック型のフェノール樹脂を用いてもよく、レゾール型のフェノール樹脂を用いてもよい。フェノール化合物としては、例えば、フェノール;クレゾール、キシレノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール等のアルキルフェノール類;カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン等の多価フェノール類;ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等の多核フェノール類;などをあげることができる。メラミン樹脂としては、たとえば、メチルエーテル化メラミン、エチルエーテル化メラミン、ブチルエーテル化メラミン等のアルキルエーテル化メラミンを挙げることができる。なお、架橋剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。架橋剤の使用量は、マスク層中の樹脂100重量部に対して、通常0.5重量部以上、好ましくは1重量部以上、より好ましくは5重量部以上であり、通常20重量部以下、好ましくは18重量部以下、より好ましくは15重量部以下である。架橋剤の量をこのような範囲にすることにより、遮光部の耐擦傷性、高温条件下での安定性を維持できる。特に、フィルムを巻き取ってロールとした場合のブロッキングを防止することができる。viii.その他の成分マスク用組成物には、本発明の効果を著しく損なわない範囲であれば、樹脂、紫外線吸収剤、着色剤、金属粒子、溶媒、光重合開始剤及び架橋剤以外にその他の成分を含ませてもよい。例えば、マスク用組成物が金属粒子を含む場合、金属粒子の分散性を向上させるために、天然ロジン、不均化ロジン、重合ロジン、変性ロジンなどの、アビエチン酸及びその誘導体を含ませてもよい。また、例えば、マスク用組成物の粘度を調整するために、粘度調整剤を含ませてもよい。粘度調整剤の例を挙げると、例えば、グリセリン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、硬化ひまし油等が挙げられる。また、例えば、マスク層の表面の面状態を良化するために、レベリング剤、界面活性剤、消泡剤等を含ませてもよい。また、例えば、印刷時の離型性をよくするために離型剤を含ませてもよい。また、例えば、マスク用組成物の安定性を向上させるために、重合禁止剤を含ませてもよい。さらに、例えば、マスク層の耐久性を向上させるために、酸化防止剤、光安定剤を含ませてもよい。なお、その他の成分は、いずれも、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。2-3.マスク層のパターン長尺の基材フィルムの表面に形成されるマスク層には、遮光部及び透光部からなる所定のマスクパターンが形成される。マスクパターンの具体的な構成は、本発明の位相差板の用途に応じて設定する。本発明の位相差板は立体画像表示装置に適用することが想定されるため、マスクパターンは、通常、面内のある一定の方向に対して平行に延在する帯状の遮光部及び透光部が、それぞれ複数本、周期的に設けられたストライプ状のパターンにする。図2~図4は、いずれも、本発明の一実施形態に係るマスク層を、基材フィルムの厚み方向から見た様子を模式的に示す図である。なお、図2~図4において、遮光部には斜線を付して示す。マスク層20においては、図2に示すように、マスクパターンを基材フィルム10の長尺方向Xに沿って延びるストライプ状にすることで、遮光部21及び透光部22が長尺方向Xに対して平行に延在するようにしてもよい。また、図3に示すように、マスクパターンを基材フィルム10の幅方向Yに沿って延びるストライプ状にすることで、遮光部21及び透光部22が幅方向Yに対して平行に延在するようにしてもよい。さらに、図4に示すように、マスクパターンを基材フィルム10の長尺方向Xに対して傾斜した斜め方向に沿って延びるストライプ状にすることで、遮光部21及び透光部22が長尺方向Xに対して角度θをなす方向に対して平行に延在するようにしてもよい。マスク層のパターンのさらに別の例として、遮光部及び透光部の形状は、より複雑な形状であってもよい。例えば、マスク層における遮光部は、一定の方向に対して平行に延在し且つパターン化された形状と、他の一以上の形状とを組み合わせた形状であってもよい。この場合、透光部の形状は、第1の表面において、遮光部の形状を補完する形状平面における、遮光部の残余の形状とすることができる。図17は、そのような本発明の一実施形態に係るマスク層を、基材フィルムの厚み方向から見た様子を模式的に示す図である。図17において、基材フィルム170のマスク層180の遮光部は、一定の方向に対して平行に延在し且つパターン化された形状181と、それとは別の形状183とが組み合わされた形状を有している。一方透光部182は、それらの残余の部分の形状を有している。遮光部及び透光部がこのような複雑な形状を有すると、本発明の位相差板を、識別フィルム等の用途に好適に利用することができる。図2~図4に示した例のうち、図3及び図4で示したように、基材フィルム10の長尺方向Xに対して交差する方向に沿って延びるストライプ状のマスクパターンを形成すれば、長尺方向Xに対して交差する方向に沿って延びるストライプ状の領域パターンを有する液晶樹脂層を容易に製造できるようになるので、好ましい。すなわち、従来のように露光装置に固定されたマスクを用いて連続的に長尺のパターン位相差板を製造しようとしても、フィルムが常に長尺方向に搬送され続けるので、長尺方向に延びるストライプ状の領域パターン以外の領域パターンを形成することが困難であった。しかし、本発明の位相差板の製造方法では、マスク層が露光対象である液晶樹脂層との位置関係を固定された状態で搬送されるので、前記のような長尺方向Xに対して交差する方向に沿って延びるストライプ状の領域パターンの形成が可能となる。中でも、図4に示すように、遮光部21及び透光部22が長尺方向Xに対して角度θをなす方向に対して平行に延在する場合、前記の角度θは、好ましくは40°以上、より好ましくは43°以上であり、好ましくは50°以下、より好ましくは47°以下である。TN駆動方式の液晶パネルを備えた立体画像表示装置では、液晶パネルの出射側偏光板の偏光透過軸の方向との関係から、パターン位相差板の領域パターンは、前記の偏光透過軸と約45°の角度をなす方向に沿って延びるストライプ状に設定することが求められる。この際、図2又は図3に示すように、マスクパターンが長尺方向Xに平行又は直交する方向へ沿って延びるストライプ状であると、出射側偏光板とパターン位相差板と面内で均一な位相差を有する位相差フィルムとを長尺で貼り合わせ加工した偏光板積層体から立体画像表示装置用のフィルム片を切り出すことが難しい。これに対して、図4に示すように長尺方向Xに対して約45°の角度をなす方向に沿って延びるストライプ状のマスクパターンを形成できれば、液晶樹脂層の領域パターンも長尺方向Xに対して約45°の角度をなす方向に沿って延びるストライプ状となるので、前記のような長尺の偏光板積層体から立体画像表示装置用のフィルム片を斜め45°に容易に切り出すことができるようになり、生産性を向上させることができる。なお、マスクパターンがストライプ状に形成されているので、遮光部21及び透光部22はそれぞれ複数本、形成されることになる。また、遮光部21及び透光部22が延在する方向に対して交差する方向で見た場合には、遮光部21と透光部22とは、交互に設けられることになる。また、マスクパターンは、通常は均一に形成される。ここでマスクパターンが均一であるとは、延在する遮光部21の幅W21及び透光部22の幅W22が均一であることをいう。均一さの程度は、液晶樹脂層の領域パターンに求められる精度にもよるが、マスク層20の有効領域内における遮光部21の幅W21及び透光部22の幅W22それぞれの変動が、±5以内であることが好ましく、±3以内であることがより好ましい。図5は、本発明の一実施形態に係るマスク層を、基材フィルムの厚み方向から見た様子を模式的に示す図である。なお、図5において、遮光部には斜線を付して示す。図5に示すように、前記のマスク層20の有効領域23とは、製造される位相差板において光学的に使用される液晶樹脂層図5では図示せずの領域に対応するマスク層20の領域のことをいい、通常は基材フィルム10の幅方向端部を除いた領域のことをいう。一般に、長尺のフィルムの幅方向端部は運搬等の際に傷つき易いため、実際の製品においては幅方向端部を除く有効領域23を切り取って光学フィルムとして使用する。したがって、マスク層20の有効領域23の寸法精度等が保たれていれば、有効領域23以外の領域24の寸法精度が保たれていなくても、液晶樹脂層において光学的に使用される領域の光学特性が損なわれないので、製品の品質を損ない難い。また、前記のように有効領域23以外の領域24におけるマスクパターンが製品の品質を損なわないことを利用して、基材フィルム10の表面11の有効領域23以外の領域24に、視認できる目印25を形成することが好ましい。通常、マスク層20に形成される遮光部21及び透光部22の幅は小さいので、肉眼では視認が難しい。そこで、肉眼やルーペ等により視認できる大きさの目印25をマスク層20に設ければ、この目印25を用いて遮光部21及び透光部22の位置及び延在方向などを把握できるようになる。また、このような目印25を形成しても、有効領域23以外の領域24であるため、製品の品質を損なうことはない。目印25を簡単に形成する観点からは、目印25は、遮光部21及び透光部22と同様に、マスク用組成物を印刷することによって形成することが好ましい。これにより、工程数を増やすことなく目印25を製造できるので、生産性に優れる。なお、この場合、形成される目印25は、遮光部21と同様の組成を有することになる。目印25の位置、形状及び寸法は任意である。また、目印25は、遮光部21と同等以上に厚く形成してもよく、透光部22の同等以下に薄く形成してもよく、遮光部21と透光部22との間の厚みで形成してもよい。なお、図5においては、基材フィルム10の長尺方向Xに沿って延在する、遮光部21と同様に厚く形成された帯状の目印25の例を図示している。図1に示すように、通常は、マスク層20の厚みを厚くすることにより、液晶樹脂層を硬化させる波長の紫外線を遮光する遮光部21を形成し、マスク層20の厚みを薄くすることにより前記の波長の紫外線を透光する透光部22を形成する。具体的な範囲を挙げると、透光部22の厚みhは、遮光部21の厚みHの、1/10以下であることが好ましく、1/20以下であることがより好ましく、1/50以下であることが特に好ましい。これにより、遮光部21と透光部22との間の紫外線透過量の差を大きくして、後述するように液晶樹脂層に所望の異なる面内位相差を有する領域パターンを安定して形成できる。また、これにより必然的に遮光部21の厚みHも厚くなるので、図6に示すように斜めに入射してくる紫外線A1を遮光部21において効率的に遮蔽することができる。すなわち、透光部22の幅W22が一定で遮光部21の厚みHが厚くなると、入射角厚み方向Zに対して紫外線A1の進行方向がなす角φがより小さい紫外線でなければマスク層20を透光することができなくなる。そうすることで、斜め方向から照射された紫外光A1がマスク層20の裏側にまで大きく入り込むことを防止できるので、露光された領域と露光されなかった領域との境界近傍領域の露光量を精密に制御でき、境界近傍の広い領域において面内位相差が所望の値からずれることによる立体画像表示装置の画質低下を抑制することができる。このような利点は、下記の表1に示すように、遮光部21の厚みHが厚くなるに従ってマスク層20を透光できる紫外線の入射角φが顕著に小さくなることからも、理解できる。なお、表1は、遮光部21の厚みH及び透光部22の幅W22から三角関数により求めた、マスク層20を透光できる紫外線の最大入射角の計算値を示す。また、図6は、マスク層20を備える基材フィルム10の表面近傍を拡大して模式的に示す図である。なお、透光部22には通常は薄いマスク層20が形成される場合が多いが、マスク層20の形成方法によっては透光部22においてマスク層20の厚みをゼロとすることも可能である。したがって、前記の遮光部21に対する透光部22の厚み比の範囲の下限値は、通常はゼロである。なお、透光部22の厚みがゼロである場合、隣り合う遮光部21と遮光部21との間に挟まれた空気層によって透光部22が構成されることになる。また、図1に示すように、遮光部21及び透光部22が延在する方向に対して直交する平面で切った断面において、遮光部21の幅Lと厚みHと比H/Lは、0.5以下が好ましく、0.3以下がより好ましく、0.1以下が特に好ましい。これにより、透光部21に異物が入り込み、抜けにくくなることを防止できる。透光部21に異物が入り込み抜けなくなると、紫外線を照射した際に紫外線が透光せず、遮光されてしまう可能性がある。また、異物が抜けなくなると、基材フィルム10の第2の表面マスク層20とは反対側の面12に液晶層形成用組成物を塗工した場合に、異物の影響で膜厚が不均一となり、所望の位相差を発現できなくなる可能性がある。なお、前記範囲の下限値は、通常0.01以上、好ましくは0.05以上である。遮光部21の幅L及び遮光部22の幅の具体的な範囲は、立体画像表示装置の画素の寸法に合わせて設定すればよい。通常、立体画像表示装置の画素の幅は、通常は100μmから800μm程度である。したがって、遮光部21の幅L及び遮光部22の幅も、通常は、100μm以上800μm以下の範囲で設定することになる。さらに、こうして設定された遮光部21の幅Lの値から比H/Lが前記の範囲に収まるように遮光部21の厚みHを設定すればよい。遮光部21の厚みHの具体的な値としては、400μm以下であることが好ましく、300μm以下であることがより好ましく、200μm以下であることが特に好ましい。下限値としては、1μm以上が好ましく、5μm以上がより好ましく、10μm以上が特に好ましい。2-4.マスク層の形成方法マスク層の形成方法に制限は無く、例えばフォトリソグラフィによって形成してもよいが、製造が容易で生産効率に優れるので、印刷法により形成することが好ましい。具体的には、マスク用組成物をマスクパターンに合わせて印刷することによって遮光部及び透光部を形成することが好ましい。印刷方法としては、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ロータリースクリーン印刷法、グラビアオフセット印刷法およびインクジェット印刷法からなる群より選ばれる少なくとも一つの印刷方法が好ましい。マスク用組成物の印刷後、必要に応じて、乾燥処理を行うことにより溶媒を除去したり、加熱処理又は活性エネルギー線の照射処理によってマスク層を硬化させたりしてもよい。なお、活性エネルギー線は、例えば紫外線、可視光線及びその他の電子線など、マスク用組成物に適合した各種のエネルギー線を用いればよい。また、2回以上の印刷を行ってもよく、例えば、印刷を重ねることで遮光部21及び透光部22の厚みを調整してもよい。これにより、基材フィルム10の表面11に、マスク層20が形成される。形成されたマスク層20には、通常、マスク用組成物に含まれていた成分のうち、溶媒以外の成分固形分が残留する。したがって、遮光部21はマスク用組成物に含まれる固形分を含むことになるので、上述したように紫外線を遮光する作用を発揮できる。基材フィルムの表面にマスク層を形成することにより、図1に示すように、遮光部21及び透光部22を有するマスク層20が形成される。こうして得られた基材10とマスク層20とからなる複層フィルム30を、適宜マスクフィルムと呼ぶ。3.液晶塗布工程図7は、本発明の一実施形態に係る位相差板の製造方法を説明する図である。図7に示すように、本発明の位相差板の製造方法では、マスク層形成工程を行った後で、基材フィルム10の第2の表面マスク層20とは反対側の表面12に、未硬化状態の液晶樹脂層40を設ける工程以下、適宜液晶塗布工程という。を行う。通常は、流体状の液晶層形成用組成物を基材フィルム10の表面12に塗布して、未硬化状態の液晶樹脂層40を形成する。前記の液晶層形成用組成物としては、マスク層20の遮光部21により遮光されるが、透光部22によっては遮光されずに透光する波長の紫外線の照射によって硬化しうるものを用いる。これにより、マスク層20を介して前記の紫外線を照射された場合に、遮光部21で遮光されて紫外線が当たらなかった領域の液晶樹脂層40を硬化させずに、透光部22を透光した紫外線が当たった露光領域の液晶樹脂層40を硬化させることができる。液晶層形成用組成物は、少なくとも液晶化合物を含む。液晶化合物としては、例えば、重合性基を有する棒状液晶化合物、側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。棒状液晶化合物としては、例えば、特開2002-030042号公報、特開2004-204190号公報、特開2005-263789号公報、特開2007-119415号公報、特開2007-186430号公報などに記載された重合性基を有する棒状液晶化合物などが挙げられる。また、側鎖型液晶ポリマー化合物としては、例えば、特開2003-177242号公報などに記載の側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。また、好ましい液晶化合物の例を製品名で挙げると、BASF社製LC242等が挙げられる。なお、液晶化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。液晶層形成用組成物における液晶化合物の屈折率異方性Δnは、好ましくは0.05以上、より好ましくは0.10以上であり、好ましくは0.30以下、より好ましくは0.25以下である。屈折率異方性Δnが0.05未満では所望の光学的機能を得るために液晶樹脂層の厚さが厚くなって配向均一性が低下する可能性があり、また経済コスト的にも不利である。屈折率異方性Δnが0.30より大きいと所望の光学的機能を得るために液晶樹脂層の厚さが薄くなり、厚さ精度に対して不利である。ただし、液晶樹脂層の紫外線吸収スペクトルの長波長側の吸収端が可視域に及ぶ場合がありえるが、該スペクトルの吸収端が可視域に及んでも所望する光学的性能に悪影響を及ぼさない限り、使用可能である。なお、液晶層形成用組成物が液晶化合物を1種類だけ含む場合には、当該液晶化合物の屈折率異方性を、そのまま液晶層形成用組成物における液晶化合物の屈折率異方性とすればよい。また、液晶層形成用組成物が液晶化合物を2種類以上含む場合には、各液晶化合物それぞれの屈折率異方性Δnの値と各液晶化合物の含有比率とから求めた屈折率異方性Δnの値を、液晶層形成用組成物における液晶化合物の屈折率異方性とする。屈折率異方性Δnの値は、セナルモン法により測定すればよい。さらに、液晶層形成用組成物は、製造方法や最終的な性能に対して適正な物性を付与するために、液晶化合物以外にその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分の例を挙げると、有機溶媒、界面活性剤、キラル剤、重合開始剤、紫外線吸収剤、架橋剤、酸化防止剤などが挙げられる。なお、その他の成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。有機溶媒のうち好適な例を挙げると、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、およびエーテル類等が挙げられる。これらの中でも、環状ケトン類、環状エーテル類が、液晶化合物を溶解させやすいために好ましい。環状ケトン溶媒としては、例えば、シクロプロパノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられ、中でもシクロペンタノンが好ましい。環状エーテル溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、1,3-ジオキソラン、1,4-ジオキサン等が挙げられ、中でも1,3-ジオキソランが好ましい。なお、溶媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよく、液晶層形成用組成物としての相溶性や粘性、表面張力の観点などから最適化されることが好ましい。有機溶媒の含有割合は、有機溶媒以外の固形分全量に対する割合として、通常は30重量以上95重量以下とすればよい。界面活性剤としては、配向を阻害しないものを適宜選択して使用することが好ましい。好ましい界面活性剤の例を挙げると、疎水基部分にシロキサン及びフッ化アルキル基等を含有するノニオン系界面活性剤などが挙げられる。中でも、1分子中に2個以上の疎水基部分を持つオリゴマーが特に好適である。これらの界面活性剤の例を製品名で挙げると、OMNOVA社PolyFoxのPF-151N、PF-636、PF-6320、PF-656、PF-6520、PF-3320、PF-651、PF-652;ネオス社フタージェントのFTX-209F、FTX-208G、FTX-204D;セイミケミカル社サーフロンのKH-40等が挙げられる。なお、界面活性剤は、1種類を用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。界面活性剤の配合割合は、液晶層形成用組成物を硬化して得られる液晶樹脂層中における界面活性剤の濃度が0.05重量以上3重量以下となるようにすることが好ましい。界面活性剤の配合割合が0.05重量より少ないと空気界面における配向規制力が低下して配向欠陥が生じる可能性がある。逆に3重量より多い場合には、過剰の界面活性剤が液晶性化合物分子間に入り込み、配向均一性を低下させる可能性がある。キラル剤は、重合性化合物であってもよく、非重合性化合物であってもよい。キラル剤としては、通常、分子内にキラルな炭素原子を有し、液晶化合物の配向を乱さない化合物を使用する。キラル剤の例を挙げると、重合性のキラル剤としてはBASF社製LC756等が挙げられる。また、例えば、特開平11-193287号公報、特開2003-137887号公報などに記載されているものも挙げられる。なお、キラル剤は、1種類を用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。キラル剤は、通常、ツイステッドネマチック相を有する領域を形成する場合に、重合性を有する液晶化合物と併用して用いられる。重合開始剤は、例えば熱重合開始剤を用いてもよいが、通常は光重合開始剤を用いる。光重合開始剤としては、例えば、紫外線又は可視光線によってラジカル又は酸を発生させる化合物を使用すればよい。光重合開始剤の例を挙げると、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、ビアセチル、アセトフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンジルイソブチルエーテル、テトラメチルチウラムモノジスルフィド、2,2-アゾビスイソブチロニトリル、2,2-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ-tert-ブチルパーオキサイド、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、メチルベンゾイルフォーメート、2,2-ジエトキシアセトフェノン、β-アイオノン、β-ブロモスチレン、ジアゾアミノベンゼン、α-アミルシンナックアルデヒド、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-ジメチルアミノプロピオフェノン、2-クロロベンゾフェノン、pp′-ジクロロベンゾフェノン、pp′-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn-プロピルエーテル、ベンゾインn-ブチルエーテル、ジフェニルスルフィド、ビス2,6-メトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニル-フォスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイド、2-メチル-1[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン、アントラセンベンゾフェノン、α-クロロアントラキノン、ジフェニルジスルフィド、ヘキサクロルブタジエン、ペンタクロルブタジエン、オクタクロロブテン、1-クロルメチルナフタリン、1,2-オクタンジオン,1-[4-フェニルチオ-2-o-ベンゾイルオキシム]や1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン1-o-アセチルオキシムなどのカルバゾールオキシム化合物、4-メチルフェニル[4-2-メチルプロピルフェニル]ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、3-メチル-2-ブチニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル-p-フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。なお、重合開始剤は、1種類を用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。さらに、必要に応じて液晶層形成用組成物に、例えば三級アミン化合物等の光増感剤又は重合促進剤を含ませて、液晶層形成用組成物の硬化性をコントロールしてもよい。光重合効率を向上させるためには、液晶化合物及び光重合開始剤などの平均モル吸光係数を適切に選定することが好ましい。紫外線吸収剤としては、例えば、2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルベンゾエート、ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-2-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル-2-n-ブチルマロネート、4-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ-1-2-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシエチル-2,2,6,6-テトラメチルピペリジンなどのヒンダードアミン系紫外線吸収剤;2-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-3-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-3,5-ジ-t-ブチル-2-ヒドロキシフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-3,5-ジ-t-アミル-2-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤;2,4-ジ-t-ブチルフェニル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエートなどのベンゾエート系紫外線吸収剤;ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系;などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、所望する耐光性を付与するために、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。紫外線吸収剤の配合割合は、液晶性化合物100重量部に対して、通常0.001重量部以上、好ましくは0.01重量部以上であり、通常5重量部以下、好ましくは1重量部以下である。紫外線吸収剤の配合割合が、0.001重量部未満の場合には紫外線吸収能が不十分となり所望する耐光性を得られない可能性があり、5重量部より多い場合には液晶層形成用組成物を紫外線等の活性エネルギー線で硬化させる際に硬化が不十分となり、液晶樹脂層の機械的強度が低くなったり耐熱性が低くなったりする可能性がある。液晶層形成用組成物には、所望する機械的強度に応じて架橋剤を含ませてもよい。架橋剤の例としては、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、2-2-ビニロキシエトキシエチルアクリレート等の多官能アクリレート化合物;グリシジルメタアクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のエポキシ化合物;2,2-ビスヒドロキシメチルブタノール-トリス[3-1-アジリジニルプロピオネート]、4,4-ビスエチレンイミノカルボニルアミノジフェニルメタン、トリメチロールプロパン-トリ-β-アジリジニルプロピオネート等のアジリジン化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導されるイソシアヌレート型イソシアネート、ビウレット型イソシアネート、アダクト型イソシアネート等のイソシアネート化合物;オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物;ビニルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-1,3-ジメチルブチリデン-3-トリエトキシシリル-1-プロパンアミン等のアルコキシシラン化合物;などが挙げられる。なお、架橋剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、液晶層形成用組成物には架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を含ませ、膜強度や耐久性向上に加えて生産性を向上させるようにしてもよい。前記架橋剤の配合割合は、液晶層形成用組成物を硬化して得られる硬化樹脂中における架橋剤の濃度が0.1重量以上20重量以下となるようにすることが好ましい。架橋剤の配合割合が0.1重量より少ないと架橋密度向上の効果が得られない可能性があり、逆に20重量より多いと硬化樹脂層の安定性を低下させる可能性がある。酸化防止剤としては、例えば、テトラキスメチレン-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネートメタン等のフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤などが挙げられる。なお、酸化防止剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。酸化防止剤の配合量は、粘着層の透明性や粘着力が低下しない範囲である。液晶層形成用組成物の塗布方法としては、例えば、リバースグラビアコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法等の方法が挙げられる。液晶層形成用組成物を基材フィルムの表面に塗布することにより、未硬化状態の液晶樹脂層が形成される。液晶層形成用組成物は、基材フィルムの表面に直接に塗布してもよいが、基材フィルムの表面に例えば配向膜等を介して間接的に塗布してもよい。配向膜を用いれば、液晶樹脂層において液晶化合物を容易に配向させることができる。配向膜は、例えば、セルロース、シランカップリング剤、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール、エポキシアクリレート、シラノールオリゴマー、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、ポリオキサゾール、環化ポリイソプレンなどを用いて形成してもよい。なお、これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。配向膜の厚みは、所望する液晶樹脂層の配向均一性が得られる厚みであればよく、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.01μm以上であり、好ましくは5μm以下、より好ましくは2μm以下である。さらに、例えば、特開平6-289374号公報、特開平4-2844号公報、特表2002-507782号公報、特許4022985号公報、米国特許5389698号明細書などに示されるような光配向膜と偏光UVを用いる方法によって、液晶化合物を配向させるようにしてもよい。また、上述した配向膜以外の手段によって、液晶化合物を配向させるようにしてもよい。例えば、配向膜を使用せずに基材フィルムの表面を直接ラビングするような配向処理を施してもよい。通常、基材フィルムの搬送方向とラビング方向は平行になる。なお、前記の配向膜の形成、基材フィルムの表面のラビング等の処理工程は、マスク層形成工程の工程前、工程中及び工程後のいずれの時点で行ってもよいが、液晶塗布工程の工程前に行うことが好ましい。4.配向工程本発明の位相差板の製造方法では、必要に応じて、液晶塗布工程を行った後で液晶樹脂層40の液晶化合物を配向させる工程以下、適宜配向工程という。を行う。配向工程における具体的な操作としては、例えば、オーブン内で未硬化状態の液晶樹脂層40を所定の温度に加熱すればよい。配向工程において液晶樹脂層を加熱する温度は、通常40°C以上、好ましくは50°C以上であり、通常200°C以下、好ましくは140°C以下である。また、加熱処理における処理時間は、通常1秒以上、好ましくは5秒以上であり、通常3分以下、好ましくは120秒以下である。これにより、液晶樹脂層40中の液晶化合物が配向する。また、液晶層形成用組成物に溶媒が含まれていた場合、前記の加熱によって通常は溶媒が乾燥するので、液晶樹脂層40から溶媒が除去される。したがって、配向工程を行うと、通常は液晶樹脂層40を乾燥させる乾燥工程も同時に進行する。通常、液晶樹脂層の配向軸はラビング方向と平行となり、配向軸が遅相軸となる。5.第一の紫外線照射工程図8は、本発明の一実施形態に係る位相差板の製造方法を説明する図である。図8に示すように、本発明の位相差板の製造方法では、液晶塗布工程を行った後に、また、必要に応じて配向工程を行った後に、基材フィルム10の第1の表面側マスク層20側から紫外線A2を照射して、液晶樹脂層40の一部の領域42を硬化させる工程以下、適宜第一の紫外線照射工程という。を行う。紫外線A2の光源60としては、マスク層20の遮光部21で遮光されるが透光部22を透光する波長の紫外線を発光できるものを用いる。光源60として、複数の光源を用いてもよいし、光源60とマスクフィルム30との間に入射光を平行光化する手段を設けてもよい。具体的には、例えば、フライアイレンズ、レンチキュラーレンズなどを設けてもよい。また、光源60とマスクフィルム30との間に、例えば、バンドパスフィルター、減光フィルターを挿入してもよい。好適な光源60の例を挙げると、高圧水銀灯、メタルハライドランプなどが挙げられる。高圧水銀灯は、一般に350nm以上370nm以下の波長領域において強い発光を示す発光スペクトルを有するので、この350nm以上370nm以下の波長の紫外線によって液晶樹脂層40の硬化を行うことが好ましい。そのため、遮光部21及び透光部22を形成する際、遮光部21が少なくとも波長350nm以上370nm以下の紫外光を遮光できるようにし、透光部22が少なくとも波長350nm以上370nm以下の紫外光を透光するようにしておくことが好ましい。光源60から照射された紫外線A2は、マスク層20の遮光部21では遮光される。このため、液晶樹脂層40において、遮光部21の光源60とは反対側の位置の領域41へは紫外線A2は進入しないので、この領域41は露光せず、液晶樹脂層40は硬化しない。他方、光源60から照射された紫外線A2は、マスク層20の透光部22を透光する。このため、液晶樹脂層40において、透光部の光源60とは反対側の位置の領域42へは透光部22を透光した紫外線A2が進入するので、この領域42は露光し、液晶樹脂層40は硬化する。この際、液晶樹脂層40の露光した領域42は配向状態を維持したまま硬化するので、この露光した領域42に、所定の面内位相差を有する領域が形成される。なお、本実施形態では、液晶樹脂層40は所定の異方性を有する配向状態で紫外線A2を照射されることにより、露光した領域40は相対的に大きな面内位相差を有する領域以下、適宜異方性領域となっているものとする。本発明の位相差板の製造方法では、上述したように、マスクと液晶樹脂層との間に空隙クリアランスを設けるのではなく、マスクフィルム30の表面に空気層を介することなく液晶樹脂層40を設けている。このため、斜め方向へ進行する紫外線の影響を抑えて、液晶樹脂層40に形成される領域パターンを精密に制御できる。以下、この利点について図面を示して説明する。図9は、液晶樹脂層40とマスク930との間に空隙990を空けた場合の構成例を模式的に示す図であり、図10は液晶樹脂層40をマスクフィルム30の表面12に設けた場合の構成例を模式的に示す図である。図9に示すように、マスク930を介して液晶樹脂層40に紫外線A3,A4を照射した場合、理想的には、厚み方向に沿って進行する紫外線A3が液晶樹脂層40に当たることにより、マスク930のマスクパターンの形状がそのまま液晶樹脂層40に投影されることが好ましい。しかし、現実には、厚み方向に対して角度φをなす斜め方向に沿って進行する紫外線A4が存在するため、斜め方向に沿って進行する紫外線A4の影響により、液晶樹脂層40にはマスクパターンの形状からずれた像が投影される。このような事情は、図10に示すように、液晶樹脂層40をマスクフィルム30の表面12に設けた場合でも同様である。しかし、液晶樹脂層40をマスクフィルム30の表面12に設けた場合には、基材フィルム10の厚みを空隙990図9参照よりも薄くすることができるので、斜め方向に沿って進行する紫外線A4による影響を小さくすることができる。ここで、厚み方向に沿って進行する紫外線A3が液晶樹脂層40に当たる点を点P3とし、斜め方向に沿って進行する紫外線A4が液晶樹脂層40に当たる点を点P4として、これらの点P3と点P4との距離ΔWによって斜め方向に沿って進行する紫外線A4による影響を評価する。例えば前記の角度φを10°とすれば、図9に示すように液晶樹脂層40とマスク930との間に空隙990を空けた場合には、通常はクリアランス990の大きさは1mm程度であるので、点P3と点P4との距離ΔWは約175μmとなる。立体画像表示装置の画素の大きさが通常100μmから800μmであることを考慮すれば、前記のように約175μmという大きさの投影位置のずれが生じることは、画質の低下を招くおそれがあると推察される。これに対し、図10に示す例のように液晶樹脂層40をマスクフィルム30の表面12に設けた場合には、基材フィルム10の厚みを100μm以下にすることが可能であるので、点P3と点P4との距離ΔWを顕著に小さくできる。なお、三角関数により求めたこれらの計算値を、下記の表2に示す。したがって、本発明の位相差板の製造方法では、マスクフィルム30の表面12に液晶樹脂層40を設けることにより、マスク層20と液晶樹脂層40との間には空気層が挟まれることがなくなり、マスク層20と液晶樹脂層40との距離が短くなるので、マスク層20のマスクパターンを液晶樹脂層40に精度よく投影することが可能となる。これにより、露光された領域42と露光されなかった領域41との境界近傍において露光量を精密に制御できるようになるので、前記の境界近傍の面内位相差のずれを抑制することができる。また、本発明の位相差板の製造方法では、マスクフィルム30の表面12に液晶樹脂層40を設けたので、マスク層20の遮光部21及び透光部22と液晶樹脂層40との相対位置が固定されている。このため、基材フィルム10を長尺方向に搬送しながらインラインで連続的に位相差板を製造する場合に、搬送されるフィルムにうねり及び蛇行が生じた場合であっても、マスクパターンを液晶樹脂層40に精密に投影することができる。したがって、インラインで位相差板を製造する場合であっても、液晶樹脂層40における領域パターンを精密且つ簡単に形成することができる。紫外線を照射する際の照射時間、照射量などは、液晶層形成用組成物の組成及び液晶樹脂層の厚みなどに応じて適切に設定すればよいが、照射時間は通常0.01秒から3分の範囲であり、照射量は通常0.01mJ/cm2から50mJ/cm2の範囲である。また、紫外線の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。6.配向変化工程図11は、本発明の一実施形態に係る位相差板の製造方法を説明する図である。図11に示すように、本発明の位相差板の製造方法では、第一の紫外線照射工程を行った後で、液晶樹脂層40の未硬化状態の領域41における配向状態を変化させる工程以下、適宜配向変化工程という。を行う。具体的にどのような配向状態に変化させるかは位相差板の用途に応じて設定すればよい。本実施形態においては、液晶樹脂層40の領域41における面内位相差を約ゼロにすることを目的として、ヒーター50により、液晶樹脂層40を、液晶層形成用組成物の透明点NI点以上に加熱することとする。これにより、液晶化合物分子の配向はランダムになるので、液晶樹脂層40の領域41は等方相となり、その領域41での面内位相差はゼロに近くなる。また、このように加熱した場合でも、異方性領域42は硬化しているために配向状態が維持されるので、異方性領域42における面内位相差が変化しないようになっている。なお、図11においては、ヒーター50は基材フィルム10のマスク層20側に設置した例を示したが、後述する第二の紫外線照射工程において紫外線の照射を妨げない限り、基材フィルム10の液晶樹脂層40にヒーター50を設置してもよいし、連続的に効率よく配向変化を発現するには、第一の紫外線照射工程の後に、NI点以上に保持された加熱炉を通過する加熱工程を設けてもよい。さらに、液晶樹脂層40の領域41における配向状態を変化させる手段は、加熱以外の方法を採用してもよい。7.第二の紫外線照射工程図12は、本発明の一実施形態に係る位相差板の製造方法を説明する図である。図12に示すように、本発明の位相差板の製造方法では、配向変化工程を行った後に、基材フィルム10の第2の表面側マスク層20とは反対側から紫外線A5を照射して、液晶樹脂層40の未硬化状態の領域41を硬化させる工程以下、適宜第二の紫外線照射工程という。を行う。紫外線A5の光源60としては、液晶樹脂層40の領域41を硬化させることができる波長の紫外線を発光できるものを用いる。通常は、第一の紫外線照射工程で用いたのと同様に、高圧水銀灯を用いればよい。光源60から紫外線A5を照射すると、未硬化状態であった領域41は露光し、液晶樹脂層40が硬化する。露光した領域41は配向状態を維持したまま硬化するので、この露光した領域41には所定の面内位相差を有する領域が形成される。なお、本実施形態では、領域41において液晶樹脂層40が等方相となった状態で紫外線A5を照射されることにより、露光した領域41は相対的に小さな面内位相差を有する領域以下、適宜等方性領域となっているものとする。これにより、液晶樹脂層40には、マスク層20の遮光部21に対応した等方性領域41と、透光部22に対応した異方性領域42とからなる領域パターンが形成される。こうして形成された領域パターンは、マスク層20のマスクパターンを精度よく写し取ったものであるので、液晶樹脂層40では所望の位置に所望の面内位相差を精度よく発現させることができる。紫外線を照射する際の照射時間、照射量などは、液晶層形成用組成物の組成及び液晶樹脂層の厚みなどに応じて適切に設定すればよいが、照射量は通常50mJ/cm2から10,000mJ/cm2の範囲である。また、紫外線の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。なお、本実施形態では、ヒーター50による加熱を継続して領域41を等方相に維持しながら第二の紫外線の照射を行ったが、加熱をしなくても領域41の等方相が維持できるのであれば、前記の加熱は行わなくてもよい。8.製造方法に係るその他の事項本発明の位相差板の製造方法において、上述した各工程の操作は、通常、ロール等を用いて長尺の基材フィルムを長尺方向に搬送しながら、インラインで連続的に行う。このようにインラインでの製造を行うことは、製造効率を改善できるので、好ましい。また、上述した実施形態においては、マスク層20の遮光部21に対応した領域41が相対的に小さな面内位相差を有するようにし、透光部22に対応した領域42が相対的に大きな面内位相差を有するようにしたが、逆に、遮光部21に対応した領域41が相対的に大きな面内位相差を有するようにし、透光部22に対応した領域42が相対的に小さな面内位相差を有するようにしてもよい。この場合には、例えば、配向工程において液晶樹脂層40を加熱して透明点NI点以上にし、また、配向変化工程において液晶樹脂層40を冷却して透明点NI点未満の所望の配向性を示す温度にすればよい。また、本発明の位相差板の製造方法においては、更に、上述した以外の工程を行うようにしてもよい。例えば、第二の紫外線照射工程の後に、さらに液晶樹脂層の硬化度を上げるために、第三、第四の紫外線照射工程を行ったり、粘着層あるいは接着層の塗工工程を行ったり、ハードコート層、低反射層の塗工工程を行ったりしてもよい。9.位相差板図13は、本発明の一実施形態に係る位相差板を模式的に示す断面図である。図13に示すように、上述した本発明の位相差板の製造方法によって、長尺の基材フィルム10と、基材フィルム10の第1の表面11に設けられ、遮光部21と透光部22とを有し、遮光部21及び透光部22が一定の方向に対して平行に延在し且つパターン化されたマスク層20と、基材フィルム10の第2の表面マスク層20とは反対側の表面12に設けられ、異なる面内位相差を有する領域41及び42がパターン化された液晶樹脂層40とを備える、位相差板100が得られる。通常は、上述したように、第一の紫外線照射工程において350nm以上370nm以下の波長の紫外線によって領域42における液晶樹脂層40を硬化させるようにする。したがって、得られた位相差板においても、通常は、遮光部21は少なくとも波長350nm以上370nm以下の紫外光を遮光できるようになっており、また、透光部22は当該波長の紫外光を透光するようになっている。位相差板100の液晶樹脂層40において、等方性領域41及び異方性領域42により形成される領域パターンは、遮光部21及び透光部22により形成されるマスク層20のマスクパターンを精度よく写し取ったものであるので、前記のマスクパターンと同様のパターンとなる。したがって、液晶樹脂層40の領域パターンは、例えば、基材フィルム10の長尺方向に沿って延びるストライプ状にしたり、基材フィルム10の幅方向に沿って延びるストライプ状にしたり、基材フィルム10の長尺方向に対して傾斜した斜め方向に沿って延びるストライプ状にしたりできる。また、図17のマスクパターンを使用して作製した位相差板では、液晶樹脂層の等方性領域の形状を、一定の方向に対して平行に延在し且つパターン化された形状と、それとは別の形状とが組み合わされた形状とすることができる。この場合、異方性領域は、それらの残余の部分の形状とすることができる。等方性領域41及び異方性領域42は未硬化状態の液晶樹脂層40を硬化させた領域であるので、位相差板100において等方性領域41と異方性領域42との間には、物質的な連続性がある。したがって、位相差板100の液晶樹脂層40は、例えば空隙などを挟んだ領域が不連続に並ぶ層とは区別される。したがって、位相差板100の液晶樹脂層40は、領域間の空隙による反射及び散乱等を生じない点で光学的に有利であり、また、領域間の空隙を起点とした破損等を生じない点で機械的強度の点でも有利である。液晶樹脂層40の厚みは、液晶層形成用組成物における液晶化合物の屈折率異方性Δnの値に応じて、等方性領域41及び異方性領域42それぞれで所望の面内位相差が得られるように適切な厚みに設定すればよい。通常は、液晶樹脂層40の厚みは、0.5μm以上50μm以下の範囲である。液晶樹脂層40に設けられる各領域41及び42それぞれの面内位相差の具体的な値は、位相差板100の用途に応じて設定すればよい。ただし、位相差板100を立体画像表示装置に適用する場合には、領域41及び42のうちの一方本実施形態では、異方性領域42は、測定波長550nmにおける面内位相差Re550が前記測定波長の約1/2波長となることが好ましい。具体的には、測定波長550nmで測定した面内位相差Re500の値が、245nm以上が好ましく、265nm以上がより好ましく、また、305nm以下が好ましく、285nm以下がより好ましい。さらに、領域41及び42のうちの他方本実施形態では、等方性領域41は、測定波長550nmで測定した面内位相差Re500がほぼゼロであることが好ましい。具体的には、測定波長550nmで測定した面内位相差Re500の値が、1nm以上が好ましく、3nm以上がより好ましく、また、10nm以下が好ましく、5nm以下がより好ましい。なお、前記の面内位相差Reは、式I:Re=nx-ny×d式中、nxは厚み方向に垂直な方向面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表し、nyは厚み方向に垂直な方向面内方向であってnxの方向に直交する方向の屈折率を表し、dは膜厚を表す。で表される値である。面内位相差Reは、市販の位相差測定装置例えば、王子計測機器社製、KOBRA-21ADHあるいはセナルモン法を用いて測定できる。位相差板100は、少なくとも基材フィルム10、マスク層20及び液晶樹脂層40を備えていれば、本発明の効果を著しく損なわない限り他の層を備えていてもよい。例えば、基材フィルム10と液晶樹脂層40との間に配向膜図示せず。を備えていてもよく、最表面に保護フィルム図示せず。を設けてもよい。ただし、本発明においてはマスク層20と液晶樹脂層40との間の距離が小さいことが好ましいので、マスク層20と液晶樹脂層40との間には空気層が存在しないことが好ましい。通常、位相差板100は、長尺方向に巻き取ることにより、ロールフィルムとして保存及び運搬される。そして、使用時には、このロールフィルムから必要量を引き出し、所望の形状及び寸法に切り出したり打ち抜いたりして使用される。10.積層体本発明の位相差板は、使用時には、通常、液晶樹脂層を基材フィルムから剥がし、剥がした液晶樹脂層を光学フィルムとして使用する。この際、光学樹脂層を他の部材と貼り合わせるために、液晶樹脂層の表面に粘着層又は接着層を設ける場合がある。この場合には、例えば、本発明の位相差板の液晶樹脂層の表面に粘着層又は接着層を設ける工程と、液晶樹脂層から基材フィルムを剥がす工程とを行えばよい。これにより、粘着層又は接着層と液晶樹脂層との積層体が得られる。例えば、液晶樹脂層を1/4波長板及び偏光板、あるいは反射型直線偏光板、反射型円偏光板等の光学フィルムと貼り合わせる場合には、位相差板の液晶樹脂層の表面に粘着層又は接着層を設け、粘着層又は接着層を介して光学フィルムと位相差板とを貼り合わせ、その後で、基材フィルム及びマスク層を液晶樹脂層から剥がせばよい。また、例えば、粘着層又は接着層を液晶樹脂層の表面に設ける代わりに、光学フィルムの貼り合わせ面に設けてから光学フィルムと液晶樹脂層とを貼り合わせるようにしてもよい。これにより、ロールトゥロールによって光学フィルムと位相差板とを連続的に貼り合わせることができるため、枚葉方式で貼り合わせる場合と比べて製造効率を改善できる。なお、マスク層に目印が形成されている場合、貼り合わせの際には、前記の目印を用いて位置合わせをすると、位置合わせを容易に行うことができる。粘着層及び接着層に使用される粘着剤及び接着剤の例としては、例えば、硬化によって常温下で粘着性を失う狭義の接着剤ホットメルト接着剤、UV硬化型粘着剤、EB型硬化粘着剤等を含む。、粘着性を失わない粘着剤感圧接着剤等などが挙げられる。接着剤の選択に特に制限は無いが、通常は透明性の高い接着剤を用いる。また、製造工程の時間短縮のために、貼り合わせ直後から物性が変化しない粘着剤か、速やかに硬化する接着剤例えば、ホットメルト接着剤、UV硬化型接着剤、EB硬化型接着剤等が好ましい。さらに製品の信頼性と機械的強度を確保するためには、UV硬化型接着剤及びEB硬化型接着剤が特に好ましい。粘着剤及び接着剤の例を挙げると、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド、ポリビニルエーテル、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチレン-酢酸ビニル系、エチレン-アクリル酸エステル系、エチレン-塩化ビニル系、スチレン-ブタジエン-スチレン等の合成ゴム系、エポキシ系、シリコーン系等の粘着剤及び接着剤が挙げられる。なお、接着剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。粘着層及び接着層には、本発明の効果を著しく損なわない限り、添加剤を含ませてもよい。添加剤の例を挙げると、例えば、光拡散剤が挙げられる。光拡散剤は光線を拡散させる性質を有する粒子であり、無機フィラーと有機フィラーとに大別できる。無機フィラーとしては、例えば、ガラス、シリカ、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、マグネシウムシリケート、およびこれらの混合物等が挙げられる。有機フィラーとしては、例えば、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリシロキサン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体、アクリロニトリル、及びこれらの架橋物等が挙げられる。これらの中でも、有機フィラーとしては、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリシロキサン樹脂、及びこれらの架橋物からなる微粒子が、高分散性、高耐熱性、成形時の着色黄変がない点で好ましい。これらの中でも、より透明性に優れる点でアクリル樹脂の架橋物からなる微粒子がより好ましい。また、光拡散剤として2種類以上の素材からなるものを用いてもよいし、2種類以上の光拡散剤を組み合わせて用いてもよい。光拡散剤の量は、未硬化状態の粘着剤又は接着剤に含まれる固形分100重量部に対して、通常0.5重量部以上20重量部以下である。光拡散剤の具体的な量は、所望のヘイズ値と粘着剤又は接着剤の膜厚とで決定される。ヘイズ値JISK7361-1に準拠して、日本電色工業社製濁度計NDH-300Aを用いて測定は3以下が好ましい。粘着剤及び接着剤の厚みは、光学特性、信頼性及び機械的強度を損なわない限りにおいて、任意に選択できるが、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは50μm以下である。100μmよりも厚いと透過率が低くなったり接着層の硬化が不十分となって信頼性及び機械的強度が低くなったりする可能性がある。0.5μmよりも薄いと、貼り合わせる部材の表面凹凸の影響等によって、貼り合わせ工程で気泡が混入する可能性がある。また、紫外線の影響を小さくするための前述の紫外線吸収剤を含ませてもよい。さらに、液晶樹脂層の表面の耐擦傷性例えば、スチールウール試験や表面硬度例えば、鉛筆硬度試験の観点から、使用される粘着層及び接着層の硬さは高い方が好ましく、単体で測定した場合の鉛筆硬度がHB以上の範囲が好ましい。11.用途本発明の位相差板は、例えば、立体画像表示装置に適用できる。この場合、通常は、基材フィルムから液晶樹脂層を剥がし、この液晶樹脂層をパターン位相差板として用いることになる。以下、その立体画像表示装置の一例について図面を示して説明する。図14は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置としての立体画像表示装置及び偏光メガネの構成を模式的に示す分解図である。なお、図14においては、図中左側に縦置きされた立体画像表示装置を、図中右側から見ている様子を、鉛直上方から見下ろした構成を示す。図14に示すように、立体画像表示装置200は、液晶パネル210と、1/4波長板220と、本発明の位相差板の液晶樹脂層からなるパターン位相差板230とを、この順に備える。液晶パネル210は、光源図示せず。に近い順に、直線偏光板である光源側偏光板211と、液晶セル212と、直線偏光板である視認側偏光板213とを備え、液晶パネル210を透過した光が直線偏光となって液晶パネル210の視認側表面から出射するようになっている。1/4波長板220は、透過光に対して約1/4波長の面内位相差を与える位相差フィルムであって、面内に一様な位相差を有する。1/4波長板220の遅相軸は、視認側偏光板213の偏光透過軸に対して45°の角度をなす方向である。この1/4波長板220の面内位相差は、測定波長550nmにおいて、その波長範囲の中心値の1/4の値から、通常±65nm、好ましくは±30nm、より好ましくは±10nmの範囲であるか、または、中心値の3/4の値から通常±65nm、好ましくは±30nm、より好ましくは±10nmの範囲となっている。この1/4波長板220を透過することにより、光の偏光状態は直線偏光から円偏光に変換されるようになっている。パターン位相差板230は、画面の長手方向に沿って延びるストライプ状の領域パターンが形成された液晶樹脂層からなり、画面の長手方向に対して平行且つ均一に設けられた帯状の異方性領域231と帯状の等方性領域232とを有する。ここで、異方性領域231の面内位相差は透過光の約1/2波長であり、異方性領域231を透過する円偏光の向きを反転させるようになっている。異方性領域231の遅相軸は、視認側偏光板213の偏光透過軸に対して直交方向である。他方、等方性領域の面内位相差はゼロであり、等方性領域232を透過する光の偏光状態を実質的に変えないようになっている。ここで、実質的に偏光状態を変えないとは、入射した偏光が直線偏光である場合にはそのまま直線偏光として透過させ、入射した偏光が円偏光である場合にはそのまま円偏光で出射されることを意味する。なお、図14においては、異方性領域231と等方性領域232との区別のために、異方性領域231に斜線を付して示す。他方、偏光メガネ300は、1/2波長板310、1/4波長板320及び直線偏光板330をこの順に備える。1/2波長板310遅相軸は、立体画像表示装置側のパターン位相差板230の異方性領域231の遅相軸と直交し、1/4波長板320の遅相軸は、立体画像表示装置の1/4波長板220の遅相軸と直交するように設ける。直線偏光板330の偏光透過軸は、立体画像表示装置側の視認側偏光板213の偏光透過軸と平行あるいは直交するように設ける。ただし、1/2波長板310は右目レンズ部分に設けられているが、左目レンズ部分には設けられていない。このような波長板の配置とすることで、右目に到達する光Lと左目に到達する光Lが通過してきた波長板の構成は、立体画像表示装置200と偏光メガネ300との間を境にして対称となる。こうすることで、各々の波長板で発生する波長分散を解消して、右目に到達する光Lと左目に到達する光Lの波長分散は、入射光L矢印A210の偏光と同じになり、右目と左目で見る映像の色味に差異が生じることはない。図14に示した立体画像表示装置200及び偏光メガネ300は上述したように構成されているので、液晶パネル210から出射する光Lの偏光状態は、矢印A210で示すような直線偏光となる。直線偏光となった光Lは、1/4波長板220を透過し、矢印A220で示すような円偏光となる。このような円偏光となった光Lがパターン位相差板230に入射すると、異方性領域231を透過する光Lは円偏光の向きを反転されられるが、等方性領域232を透過する光は円偏光の向きを反転させられない。したがって、異方性領域231を透過する光Lと等方性領域232を透過する光Lとは、矢印A231及びA232で示すように、円偏光の向きが逆向きとなった状態でパターン位相差板230から出射する。異方性領域231を透過した光Lが偏光メガネ300の右目レンズ部分に入射すると、その光Lは、矢印A310で示すように1/2波長板310を透過する際に円偏光の向きを反転させられ、矢印A320で示すように1/4波長板320によって直線偏光に変換されて、直線偏光板330に入射する。この際、異方性領域231を透過した光Lが1/4波長板320を透過することにより変換される直線偏光の向きと、矢印A330で示す直線偏光板330の偏光透過軸の向きとは平行になっている。したがって、異方性領域231を透過した光Lは、使用者の右目で視認される。また、等方性領域232を透過した光Lが偏光メガネ300の左目レンズ部分に入射すると、その光Lは、矢印A320で示すように1/4波長板320によって直線偏光に変換されて、直線偏光板330に入射する。この際、等方性領域232を透過した光Lが1/4波長板320を透過することにより変換される直線偏光の向きと、矢印A330で示す直線偏光板330の偏光透過軸の向きとは平行になっている。したがって、等方性領域232を透過した光Lは、使用者の左目で視認されるようになっている。さらに、異方性領域231を透過した光Lが偏光メガネ300の左目レンズ部分に入射すると、その光Lは、1/4波長板320によって直線偏光に変換されて、直線偏光板330に入射する。また、等方性領域232を透過した光Lが偏光メガネ300の右目レンズ部分に入射すると、その光Lは、1/2波長板310を透過する際に円偏光の向きを反転させられ、1/4波長板320によって直線偏光に変換されて、直線偏光板330に入射する。しかし、これらの光の直線偏光の向きは、直線偏光板330の偏光透過軸の向きとは、直交する。このため、異方性領域231を透過した光Lは左目レンズ部分を透過できず、等方性領域232を透過した光Lは右目レンズ部分を透過できない。このように、使用者は、異方性領域231及び等方性領域232を透過した光の一方を右目で視て、また、異方性領域231及び等方性領域232を透過した光の他方を左目で視ることになる。このようにして、右目用の画像と左目用の画像とを表示することにより、使用者は、立体画像を視認できる。この際、立体画像表示装置200は本発明の位相差板の液晶樹脂層からなるパターン位相差板230を備えているので、画素の位置に合わせて異方性領域231及び等方性領域232の位相差を精度よく発現させることが可能である。したがって、立体画像表示装置200の画質を向上させることができる。なお、上記の立体画像表示装置200は、更に変更して実施してもよい。例えば、1/4波長板220とパターン位相差板230との順番を入れ替えて、1/4波長板220をパターン位相差板230よりも視認側に設けてもよい。また、例えば、立体画像表示装置200に、拡散フィルム、輝度向上フィルム、接着層、粘着層、ハードコート層、反射防止膜、保護層などを設けてもよい。さらに、偏光メガネ300の右目レンズ部分と左目レンズ部分の構成を入れ替えて実施してもよい。その他の用途として、本発明の位相差板は、識別フィルムの製造に用いることができる。具体的には、本発明の位相差板の液晶樹脂層を、反射型円偏光板の面上に転写し、液晶樹脂層と反射型円偏光板とを有する積層体とし、これを識別フィルムの用途に用いることができる。この例において、積層体は、液晶樹脂層と反射型円偏光板との間には、必要に応じて、粘着剤または接着剤の層を有していてもよい。本発明の位相差板を識別フィルムの製造に用いる場合、位相差板のマスク層としては、図17に示すような複雑な形状を有するものを好適に用いることができる。図18は、そのような図17に示すマスク層を用いて製造した液晶樹脂層を含む識別フィルムの一例を模式的に示す分解平面図である。図18において、識別フィルムは、液晶樹脂層370及び反射型円偏光板383を有している。液晶樹脂層は、等方性領域381と、異方性領域382とを有している。図18~図20においては、図示のため、液晶樹脂層370と反射型円偏光板383とは離隔して状態で図示されているが、実際の製品においては、これらは直接又は他の任意の層を介して固着したものとすることができる。図18に示す識別フィルムは、自然光のもとで直接観察した場合、模様は特に観察されないが、円偏光板を介して観察すると、等方性領域381及び異方性領域382に基づく模様が観察される。図19は、図18に示す識別フィルムの使用の一例を模式的に示す分解断面図である。図19においては、識別フィルムを、左円偏光板を介して観察している。図19において、等方性領域381上の入射光A11は、左円偏光板384を透過し、左円偏光A12となり、等方性領域381に入射し、左円偏光A13として出射する。左円偏光A13は、反射型円偏光板383を透過し、左円偏光A14として出射する。一方、異方性領域382上の入射光B11は、左円偏光板384を透過し、左円偏光B12となり、異方性領域382に入射し、右円偏光B13として出射する。右円偏光B13は、反射型円偏光板383において反射し、上向きの左円偏光B14となり、異方性領域382を再び透過して右円偏光B15となり、さらに右円偏光B16として出射する。その結果、等方性領域に対応する部分は暗く、異方性領域に対応する部分は明るく観察される。図20は、図18に示す識別フィルムの使用の別の一例を模式的に示す分解断面図である。図20においては、識別フィルムを、右円偏光板を介して観察している。図20において、等方性領域381上の入射光A21は、右円偏光板385を透過し、右円偏光A22となり、等方性領域381に入射し、右円偏光A23として出射する。右円偏光A23は、反射型円偏光板383において反射し、上向きの左円偏光A24となり、等方性領域381を再び透過して左円偏光A25となり、さらに右円偏光A26として出射する。一方、異方性領域382上の入射光B21は、右円偏光板385を透過し、右円偏光B22となり、異方性領域382に入射し、左円偏光B23として出射する。左円偏光B23は、反射型円偏光板383を透過し、左円偏光B24として出射する。その結果、等方性領域に対応する部分は明るく、異方性領域に対応する部分は暗く観察される。このような識別フィルムは、円偏光フィルターを介して観察した場合のみ模様を識別することができるため、通常の観察では観察できない製品間の識別の標識、又は偽造防止のための標識として用いることができる。以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲において任意に変更して実施できる。なお、以下の説明において、量を表す部及びは、特に断らない限り重量基準である。また、以下の説明において温度及び圧力について特に断らない限り、操作は常温常圧の環境において行った。[実施例1]A.マスクフィルムの製造マスク用組成物の調製アクリル樹脂綜研化学社製、製品名サーモラックSU28166.7部と、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤BASF社製、製品名TINUVIN92840部と、架橋剤旭化成ケミカルズ社製、製品名TPA10012.9と、溶媒としてメチルエチルケトン46.2部とを混合し、液体状のマスク用組成物を調製した。マスク層の形成図15は、実施例1において使用したグラビアロールの表面形状を説明する模式的な断面図である。なお、図15においては、グラビアロールの回転軸を含む平面でグラビアロールを切った断面における表面近傍部分を示してある。円周方向に対して平行に延在する溝ラインを表面にストライプ状に形成したグラビアロールを用意した。図15に示すように、このグラビアロール400は、その表面に、軸方向においてライン410及び凸部スペース420を交互に有し、前記のライン410の幅W410及びスペース420の幅W420は、いずれも300μmである。図16は、実施例1においてマスク層を作製する際に使用したグラビアコーターを模式的に示す図である。図16に示すように、インキパン510、ファニッシャーロール520、ドクターブレード530及び圧胴ロール540を備えるグラビアコーター500に、用意したグラビアロール400を取り付けた。また、インキパン510に、前記のマスク用組成物を給液した。このグラビアコーター500では、インキパン510内のマスク用組成物がファニッシャーロール520によってグラビアロール400に供給され、ドクターブレード530でライン410図15参照に収まりきらないマスク用組成物が掻き落とされた後、ライン410中のマスク用組成物がグラビアロール400と圧胴ロール540との接触部分550においてフィルム560に転写されるようになっている。グラビアコーターのフィルム供給部巻き出し部に、基材フィルムとしてノルボルネン樹脂のフィルム日本ゼオン社製、製品名ゼオノアフィルムZF14-100を取り付けた。基材フィルムを搬送しながら、インラインで、基材フィルムの片面第1の表面に濡れ指数56dyne/cmとなるようにコロナ放電処理ライン速度10m/min、出力0.6kWを施し、コロナ放電処理を施した面に速度比1.0で回転しているグラビアロールからマスク用組成物を基材フィルムに転写し、70°Cにて2分乾燥ゾーンにて乾燥させて、基材フィルムの第1の表面にマスク層を形成した。このマスクフィルムにおいては、グラビアロールのラインに当たった部分にはマスク用組成物が厚く転写されて遮光部が形成され、グラビアロールのスペースに当たった部分にはマスク用組成物が薄く転写されて透光部が形成された。これにより、基材フィルムの長尺方向に対して平行に延在した遮光部及び透光部が、均一な幅及び間隔でパターン化されたマスク層を備えるマスクフィルムが得られた。得られたマスクフィルムは、巻き取り張力150Nテーパー率0.2にて、2000mの長さだけ巻き取り、ロールにした。B.位相差板の製造液晶層形成用組成物の用意重合性液晶化合物BASF社製、製品名LC24230部と、重合開始剤チバジャパン社製、製品名IrgOXE022部と、液晶性を示さない化合物1と、架橋剤としてトリメチロールプロパントリアクリレート2部と、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤ネオス社製、製品名フタージェント209F0.04部と、溶媒としてシクロペンタノン60部からなる液晶層形成用組成物を調製した。液晶樹脂層の形成温度23°Cにおいて、第2の面側マスクフィルムのマスク層を形成したのとは反対側の面に、ラビング処理を施し、用意した液晶層形成用組成物を4ワイヤーバーを使用して塗布して、塗膜として未硬化状態の液晶樹脂層を形成した。前記の液晶樹脂層を65°Cで2分間配向処理して、液晶樹脂層中の重合性液晶化合物を配向させた。その後、液晶樹脂層に対して、基材フィルムの第1の表面側マスク層側から0.1~45mJ/cm2の微弱な紫外線を照射した。マスク層の遮光部の裏側の位置には露光されなかったために液晶樹脂層は未硬化状態のままであるが、マスク層の透光部の裏側の位置には露光されたために液晶樹脂層が硬化した。これにより、液晶樹脂層の露光部分において、1/2波長の面内位相差を有する樹脂領域異方性領域を形成した。次に、液晶樹脂層を90°Cで10秒間加温処理して、液晶樹脂層の未硬化状態の部分すなわち、マスク層の遮光部の裏側の位置の部分の液晶相を等方相に転移させた。この状態を維持しながら、基材フィルムの第2の面側液晶樹脂層側から窒素雰囲気下で液晶樹脂層に対して2000mJ/cm2の紫外線を照射して、液晶樹脂層の未硬化部分を硬化させた。これにより、1/2波長の面内位相差を有する樹脂領域異方性領域と、面内位相差が小さい樹脂領域等方性領域とを、同一面内に有する位相差板を得た。形成された液晶樹脂層の乾燥膜厚は、1.5μmであった。なお、前記の液晶樹脂層を形成する操作は、搬送ロール等によってマスクフィルムを搬送しながらインラインで行った。C.評価位相差の測定セナルモン法により、波長546nmの光に対する液晶樹脂層の異方性領域と等方性領域の面内位相差を測定した。結果を表3に示す。遮光部及び透光部の寸法の測定得られた位相差板を、遮光部及び透光部が延在する方向に対して直交する平面で切り、その断面を顕微鏡で観察することによって、マスク層の遮光部の厚み及び幅、並びに、透光部の厚みを測定した。その結果から、透光部の厚み/遮光部の厚みで表される比、並びに、遮光部の幅Lと厚みHと比H/Lを測定した。結果を表3に示す。遮光部の長波長側吸収端の測定前記で測定した遮光部の厚みになるように、印刷に使用したのと同じマスク用組成物を、同じ基材フィルムに、A4サイズで全面に塗工、乾燥して、遮光層を前記厚み分積層したフィルムを得た。該フィルムを紫外可視分光光度計V-550日本分光社製で測定して、マスク層の遮光部の長波長側吸収端を測定した。ここで長波長側吸収端とは、その遮光部を透過する光の透過率が1未満になった長波長側の末端波長のことを意味する。結果を表3に示す。[実施例2]前記のマスク用組成物の調製の項において、アクリル樹脂の代わりにポリエステル樹脂荒川化学社製、製品名アラキード7046232.6部を用いたこと、架橋剤を使用しなかったこと、及び、溶媒であるメチルエチルケトンの使用量を17.4部に変更したこと以外は実施例1と同様にして、位相差板を製造し、評価を行った。結果を表3に示す。[実施例3]前記のマスク用組成物の調製の項において、アクリル樹脂の代わりにポリアミド樹脂富士化成工業社製、製品名トーマイド92100部を用いたこと、架橋剤を使用しなかったこと、並びに、溶媒としてメチルエチルケトンの代わりにn-プロピルアルコール40部とトルエン60部の混合溶媒を用いたこと以外は実施例1と同様にして、位相差板を製造し、評価を行った。結果を表3に示す。[実施例4]前記のマスク用組成物の調製の項において、紫外線吸収剤を使用しなかったこと、及び、着色剤クラリアントジャパン社製、製品名RSBlue45を10部添加したこと以外は実施例1と同様にして、位相差板を製造し、評価を行った。結果を表3に示す。[実施例5]前記のマスク層の形成の項において、マスク用組成物として、銀粒子含有量50、粒子径0.5μmを含むポリエステル樹脂藤倉化成社製、製品名FA333をそのまま用いたこと以外は実施例1と同様にして、位相差板を製造し、評価を行った。結果を表3に示す。[実施例6]前記のマスク層の形成の項において、グラビアロールの表面に形成するライン及びスペースが延在する方向を、グラビアロールの円周方向に対して45°の角度をなす方向に変更することにより、マスク層の遮光部及び透光部が延在する方向を、基材フィルムの長尺方向に対して45°の角度をなす方向に変更したこと以外は実施例1と同様にして、位相差板を製造し、評価を行った。結果を表4に示す。[実施例7]前記のマスク層の形成の項において、グラビアロールの表面に形成するラインの深さを変更したこと以外は実施例1と同様にして、位相差板を製造し、評価を行った。結果を表4に示す。[実施例8]前記のマスク層の形成の項において、グラビアロールの表面に形成するラインの幅を変更したこと以外は実施例1と同様にして、位相差板を製造し、評価を行った。結果を表4に示す。[実施例9]前記のマスク層の形成の項において、印刷方法をオフセットグラビア印刷法に変更したこと、並びに、前記のマスク用組成物の調製の項において、アクリル樹脂サーモラックSU28の代わりにアクリル樹脂サーモラックEF61綜研化学社製198部を用いたこと、架橋剤の量を10.8部に変更したこと、および、メチルエチルケトンの量を12.8部に変更したこと以外は実施例1と同様にして、位相差板を製造し、評価を行った。結果を表4に示す。実施例9で行ったオフセットグラビア印刷では、マスク用組成物をグラビアロールの表面からフィルムに直接転写するのではなく、ブランケットを介して転写するようになっている。したがって、本実施例では、グラビアロールの表面からマクス用組成物がブランケットに転写されることでブランケットの表面にマスク用組成物のパターンが形成され、このパターン化されたマスク用組成物がブランケットからフィルムに転写されるようになっている。[比較例1]前記のマスク用組成物の調製の項において、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤BASF社製、製品名TINUVIN928の添加量を20部に変更した以外は、実施例1と同様にして、位相差板を製造し、評価を行った。結果を表4に示す。[実施例1~9及び比較例1についての検討]実施例1~9においては、マスク層の遮光部に対応する等方性領域の面内位相差を小さくすることができたが、比較例1においては実施例の約10倍と大きな面内位相差になった。これは、異方性領域を形成するために基材フィルムの第1の面側マスク層側から紫外線の照射を行った際に、本来であれば硬化しないはずの遮光部の裏側の領域において液晶樹脂層が硬化したために生じた現象であると考えられる。また、実施例7においては異方性領域の面内位相差が他の実施例よりも小さくなっていることから、異方性領域の面内位相差を所望の範囲に精度よく収めるためには、透光部の厚みと遮光部の厚みとの比を適切に設定することが好ましいことが分かる。さらに、実施例1と実施例8とは、遮光部の厚みHと幅Lとの比H/L以外に違いは無いが、これらの等方性領域の面内位相差を比較すると実施例8の方が大きくなっている。このことから、等方性領域の面内位相差を所望の範囲に精度よく収めるためには、遮光部の厚みHと幅Lとの比H/Lを適切に設定することが好ましいことが分かる。[実施例10]D.1/2波長板の製造マスクフィルムの代わりに、マスク層を有さない基材フィルム日本ゼオン社製、製品名ゼオノアフィルムZF14-100をそのまま用いこと以外は、前記の液晶樹脂層の形成の項と同様にして、基材フィルムと液晶樹脂層とを備える位相差フィルムを製造した。この位相差フィルムは、1/2波長の面内位相差を有するものであるので、以下、適宜1/2波長板と呼ぶ。なお、得られた1/2波長板の液晶樹脂層は、その全ての領域が、1/2波長の面内位相差を有する異方性領域であった。E.円偏光板1の製造アクリル粘着剤綜研化学社製、製品名SKダイン2094に硬化剤綜研化学社製、製品名E-AXを、アクリル粘着剤中のポリマー100重量部に対して5重量部の割合で添加したものを用意した。以下、これを適宜PSAと略称する。偏光板サンリッツ社製、製品名HLC2-5618上に、PSAを介して、第一の位相差フィルム日本ゼオン社製、製品名斜め延伸ゼオノアフィルム;配向角45°;測定波長550nmでの面内位相差141nm複屈折計測装置王子計測機器製KOBRA-WISTを用いて測定を貼合して、円偏光板1を得た。なお、前記の第一の位相差フィルムは、透過光の1/4波長の面内位相差を有するので、以下、適宜1/4波長板と呼ぶ。F.円偏光板2の製造円偏光板1の1/4波長板上にPSAを介して、前記のD.1/2波長板の製造で得られた1/2波長板を貼合して、円偏光板2を得た。G.偏光メガネ1の製造円偏光板1と円偏光板2とが観察者の左右それぞれの視野上に並ぶように配置することで、偏光メガネ1を得た。この際、円偏光板1は、実施例10の評価用ディスプレイ後述するに対応して、評価用ディスプレイ側から、1/4波長板、PSAの層及び偏光板の順序で積層した状態となるようにした。また、円偏光板1の偏光板の透過軸方向は、評価用ディスプレイの視認側偏光板の透過軸方向と平行になるように配置した。さらに、円偏光板1の1/4波長板の遅相軸方向は、評価用ディスプレイの位相差フィルム積層体1を構成する1/4波長板の遅相軸方向と直交する方向となるように配置した。また、円偏光板2は、実施例10の評価用ディスプレイ後述するに対応して、評価用ディスプレイ側から、1/2波長板、PSAの層、1/4波長板、PSAの層及び偏光板の順序で積層した状態となるようにした。また、円偏光板2の偏光板の透過軸方向は、評価用ディスプレイの視認側偏光板の透過軸方向と平行になるように配置した。また、円偏光板2の1/4波長板の遅相軸方向は、評価用ディスプレイの位相差フィルム積層体1を構成する1/4波長板の遅相軸方向と直交する方向となるように配置した。さらに、円偏光板2の1/2波長板の遅相軸方向は、評価用ディスプレイの位相差フィルム積層体1を構成する実施例1で得られた位相差板の液晶樹脂層の異方性領域の遅相軸方向と直交する方向となるように配置した。H.偏光板積層体1の製造長尺の1/4波長板日本ゼオン社製、製品名斜め延伸ゼオノアフィルムの片面に、濡れ指数56dyne/cmとなるようにコロナ放電処理を施した。このコロナ放電処理面と、実施例1で製造した位相差板の液晶樹脂層とを向かい合うように、長尺方向を合わせて、PSAで貼り合わせて、位相差フィルム積層体1を製造した。PSAからなる粘着層の厚みは20μmであった。上記で得られた位相差フィルム積層体1の1/4波長板の、実施例1で製造した位相差板を貼り合わせたのとは反対側の面と、偏光板サンリッツ社製、製品名HLC2-5618とを向き合うように、長尺方向を合わせて、PSAで貼り合わせて、偏光板積層体1を得た。得られた偏光板積層体1を、偏光板積層体1の長尺方向が長手方向となるように32インチサイズで打ち抜きし、その後、マスクフィルムを剥離した。I.ディスプレイによる評価評価用ディスプレイSONY社製、BRAVIAEX70032インチの液晶セルの視認側に設けられた視認側偏光板を剥離した。評価用ディスプレイの画素位置と、打ち抜いてマスクフィルムを剥離した偏光板積層体1の液晶樹脂層の異方性領域及び等方性領域の位置とが対応するように、円偏光板1を介して透過光で観察しながら位置合わせを実施した。その後、評価用ディスプレイの液晶セルと偏光板積層体1の偏光板側とを、PSAを用いて貼り合わせた。評価用ディスプレイにパーソナルコンピュータを接続し、パーソナルコンピュータから評価用画像を入力して画像を表示させた。表示された画像を、前記の偏光メガネ1を介して目視評価を実施し、良好な立体画像が得られることを確認した。[実施例11]J.偏光メガネ2の製造1/4波長板、1/2波長板、及び偏光板の光学軸遅相軸、偏光透過軸の方向を、実施例11の評価用ディスプレイ後述するに対応するように配置したこと以外は、実施例10の偏光メガネ1と同様にして、偏光メガネ2を製造した。K.偏光板積層体2の製造実施例1で製造した位相差板の代わりに、実施例6で製造した位相差板を用いたこと以外は、実施例10の位相差フィルム積層体1と同様にして、位相差フィルム積層体2を製造した。位相差フィルム積層体1の代わりに位相差フィルム2を用いたこと以外は、実施例10の偏光板積層体1と同様にして、偏光板積層体2を製造した。この偏光板積層体2を、長尺方向に対して45°の角度をなす方向が長手方向となるように32インチサイズで打ち抜きし、その後、マスクフィルムを剥離した。L.ディスプレイによる評価評価用ディスプレイをFUJITSU社製の製品名ESPRIMOFH20インチに変更したこと、偏光板積層体1の代わりに偏光板積層体2を用いたこと、および、偏光メガネ1の代わりに偏光メガネ2を用いたこと以外は実施例10と同様にして、評価を行った。表示された画像を偏光メガネ2を介して目視評価を実施し、良好な立体画像が得られることを確認した。[実施例12]M.偏光メガネ3の製造1/4波長板、1/2波長板、及び偏光板の光学軸遅相軸、偏光透過軸の方向を、実施例12の評価用ディスプレイ後述するに対応するように配置したこと以外は、実施例10の偏光メガネ1と同様にして、偏光メガネ3を製造した。N.位相差フィルム積層体3の製造長尺の1/4波長板として、斜め延伸ゼオノアフィルム日本ゼオン社製の代わりに、縦延伸ゼオノアフィルム日本ゼオン社製;配向角0°;測定波長550nmでの面内位相差138nm複屈折計測装置王子計測機器製KOBRA-WISTを用いて測定を用いたこと以外は、実施例10の位相差フィルム積層体1と同様にして、位相差フィルム積層体3を製造した。位相差フィルム積層体3を、長尺方向が長手方向となるように32インチサイズで打ち抜きし、その後、マスクフィルムを剥離した。O.ディスプレイによる評価評価用ディスプレイFUJITSU社製ESPRIMOFH20インチの液晶セルの視認側に設けられた視認側偏光板上に、評価用ディスプレイの画素位置と、打ち抜きしマスクフィルムを剥離した位相差フィルム積層体3の液晶樹脂層の異方性領域及び等方性領域の位置とが対応するように、円偏光板1を介して透過光で観察しながら位置合わせを実施した。その後、評価用ディスプレイの前記の視認側偏光板と、位置合わせした位相差フィルム積層体3の液晶樹脂層側とを、PSAを用いて貼り合わせた。評価用ディスプレイにパーソナルコンピュータを接続し、パーソナルコンピュータから評価用画像を入力して画像を表示させた。表示された画像を、前記の偏光メガネ3を介して目視評価を実施し、良好な立体画像が得られることを確認した。[比較例2]実施例1で製造した位相差板の代わりに、比較例1で製造した位相差板を使用したこと以外は実施例10と同様にして、評価用ディスプレイを用意し、画像の目視評価を行った。その結果、立体画像が得られることは確認できなかった。"