"上流ラインから下流ラインヘ基板を移動させながら、基板移動手段によって移動中の前記基板と直交する方向から投光系及び受光系からなる光学系によって検査光を照射すると共に前記基板からの反射光又は散乱光又は透過光を受光し、受光した前記基板からの反射光又は散乱光又は透過光に基づいて前記基板の欠陥を検出し、前記基板の移動速度を検出し、検出された移動速度に基づいて前記基板の欠陥検出位置を補正することを特徴とするインライン基板検査方法。上流ラインから下流ラインヘ基板を移動させながら、投光系及び受光系を有する光学系を基板移動方向と直交する方向へ移動して、投光系からの基板移動方向と直交する方向に所定の幅を有する検査光により走査される基板の走査領域を基板毎に変更し、投光系から基板移動方向と直交する方向に所定の幅を有する検査光を基板へ照射し、受光系が受光した光の強度から、走査領域の基板の欠陥を検出し、検出した走査領域の基板の欠陥データを、走査領域毎に記憶し、基板毎に、新たに検出した走査領域の基板の欠陥データにより、記憶された同じ走査領域の基板の欠陥データを更新して、複数の走査領域の基板の欠陥データから、基板1枚分の欠陥データを作成し、前記基板の移動速度を検出し、検出された移動速度に基づいて前記基板の欠陥データの検出位置を補正することを特徴とするインライン基板検査方法。請求項2に記載のインライン基板検査方法において、作成した基板1枚分の欠陥データに基づき、基板毎に、基板1枚分の欠陥の数が許容値以内かどうかを判定することを特徴とするインライン基板検査方法。請求項1、2又は3のいずれかに記載のインライン基板検査方法において、前記基板の移動方向と直交する方向の基板縁を検出するセンサー手段を前記基板の移動方向に沿って1又は複数設け、前記センサー手段が前記基板縁を検出した時刻に基づいて前記基板の移動速度を検出することを特徴とするインライン基板検査方法。上流ラインから下流ラインヘ基板を移動させる基板移動手段と、前記基板移動手段によって移動中の基板に対して検査光を照射する投光系、及び前記基板からの反射光又は散乱光又は透過光を受光する受光系を有する光学系と、前記光学系を前記基板の移動方向と直交する方向へ移動させて前記基板からの反射光又は散乱光又は透過光に基づいて前記基板の欠陥データを検出する検査手段と、前記基板の移動速度を検出し、検出された移動速度に基づいて前記基板の欠陥データの検出位置を補正する補正手段とを備えたことを特徴とするインライン基板検査装置。上流ラインから下流ラインヘ基板を移動させる基板移動手段と、前記基板移動手段によって移動中の基板に対して検査光を照射する投光系、及び前記基板からの反射光又は散乱光又は透過光を受光する受光系を有する光学系と、前記光学系を基板移動方向と直交する方向へ移動して、前記投光系からの検査光により走査される基板の走査領域を基板毎に変更する光学系移動手段と、前記受光系が受光した光の強度から、走査領域の基板の欠陥を検出する処理手段と、前記処理手段が検出した走査領域の基板の欠陥データを、走査領域毎に記憶する記憶手段と、前記記憶手段を制御し、基板毎に、前記処理手段が新たに検出した走査領域の基板の欠陥データにより、前記記憶手段に記憶された同じ走査領域の基板の欠陥データを更新して、前記記憶手段に記憶された複数の走査領域の基板の欠陥データから、基板1枚分の欠陥データを作成する制御手段と、前記基板の移動速度を検出し、検出された移動速度に基づいて前記基板の欠陥データの検出位置を補正する補正手段とを備えたことを特徴とするインライン基板検査装置。請求項6に記載のインライン基板検査装置において、前記制御手段は、作成した基板1枚分の欠陥データに基づき、基板毎に、基板1枚分の欠陥の数が許容値以内かどうかを判定することを特徴とするインライン基板検査装置。請求項5又は6に記載のインライン基板検査装置において、前記基板の移動方向と直交する方向の基板縁を検出するセンサー手段を前記基板の移動方向に沿って1又は複数設け、前記センサー手段が前記基板縁を検出した時刻に基づいて前記基板の移動速度を検出することを特徴とするインライン基板検査装置。従来のようなインライン工程上でリアルタイムにガラス基板を検査する場合には、検査対象物であるガラス基板をコンベアなどを動力源とする搬送機構によって一定の速度で安定的に搬送することが重要である。この搬送機構による搬送時における検査対象物の移動速度の変化が検査時における位置ズレ誤差等の原因となる。この位置ズレ誤差の原因には、大きく分けて3つの要素検査開始位置ズレ誤差、検査終了位置ズレ誤差、検出欠陥位置ズレ誤差が存在する。基板搬送時の速度変化によって検査開始位置ズレ誤差と検査終了位置ズレ誤差が発生すると、それによって未検査エリアが発生したり、検査する必要のない部分を検査してしまう不要部分検査が発生していた。また、基板搬送時の速度変化によって検出欠陥位置ズレ誤差が発生し、検査の信頼性を低下させていた。このような基板搬送時における移動速度の変化は、動力源であるコンベアローラとガラスとの間の滑りに要因があるので、その変化量や割合も搬送されるガラス基板ワーク毎に種々変化するものである。従って、このような基板搬送時の速度変化の補正は、ガラス基板ワーク毎にそれぞれリアルタイムで行う必要がある。しかしながら、従来は、基板搬送時の平均速度を計測し、一定の補正量を持って位置補正を行っており、ガラス基板の洗浄状態などにより、搬送コンベアローラとの摩擦力が経時的に変化してもそれに対応することができなかった。この発明は、上述の点に鑑みなされたものであり、製造ライン上を搬送される基板の搬送速度の変化に対応してリアルタイムに位置ズレ誤差を補正することのできるインライン基板検査方法及び装置を提供することを目的とする。本発明に係るインライン基板検査方法の第1の特徴は、上流ラインから下流ラインヘ基板を移動させながら、前記基板移動手段によって移動中の前記基板と直交する方向から投光系及び受光系からなる光学系によって検査光を照射すると共に前記基板からの反射光又は散乱光又は透過光を受光し、受光した前記基板からの反射光又は散乱光又は透過光に基づいて前記基板の欠陥を検出し、前記基板の移動速度を検出し、検出された移動速度に基づいて前記基板の欠陥検出位置を補正することにある。コンベアなどを動力源とする搬送機構を用いた場合、基板搬送時の移動速度はほぼ一定であるのに対して、基板の洗浄状態などによって、コンベアローラとの摩擦力が変化して基板の移動速度が経時的に変化することがある。このような場合でも、この発明では実際に移動する基板の移動速度を検出しているので、検出された基板の実際の移動速度に基づいて基板の欠陥検出位置を補正することによって、位置ズレ誤差の影響を減少させることができる。本発明に係るインライン基板検査方法の第2の特徴は、上流ラインから下流ラインヘ基板を移動させながら、投光系及び受光系を有する光学系を基板移動方向と直交する方向へ移動して、投光系からの基板移動方向と直交する方向に所定の幅を有する検査光により走査される基板の走査領域を基板毎に変更し、投光系から基板移動方向と直交する方向に所定の幅を有する検査光を基板へ照射し、受光系が受光した光の強度から、走査領域の基板の欠陥を検出し、検出した走査領域の基板の欠陥データを、走査領域毎に記憶し、基板毎に、新たに検出した走査領域の基板の欠陥データにより、記憶された同じ走査領域の基板の欠陥データを更新して、複数の走査領域の基板の欠陥データから、基板1枚分の欠陥データを作成し、前記基板の移動速度を検出し、検出された移動速度に基づいて前記基板の欠陥データの検出位置を補正することにある。この発明は、基板毎に異なった走査領域の欠陥データを取得し、その欠陥データを、走査領域毎に記憶し、基板毎に、新たに検出した走査領域の基板の欠陥データにより、記憶された同じ走査領域の基板の欠陥データを更新して、複数の走査領域の基板の欠陥データから、基板1枚分の欠陥データを作成し、インライン内での基板の欠陥の検査をより迅速に行なうようにしたものに、実際に移動する基板の移動速度を検出し、検出された基板の実際の移動速度に基づいて基板の欠陥検出位置を補正するようにしたものである。本発明に係るインライン基板検査方法の第3の特徴は、前記第2の特徴に記載のインライン基板検査方法において、作成した基板1枚分の欠陥データに基づき、基板毎に、基板1枚分の欠陥の数が許容値以内かどうかを判定することにある。これは、作成した基板1枚分の欠陥データに基づき、基板毎に、基板1枚分の欠陥の数が許容値以内かどうかを判定しているので、基板1枚分の欠陥の数が許容値を超える不具合が発生した場合、不具合を基板毎に早期に発見することができる。本発明に係るインライン基板検査方法の第4の特徴は、前記第1、第2又は第3のいずれかに記載のインライン基板検査方法において、前記基板の移動方向と直交する方向の基板縁を検出するセンサー手段を前記基板の移動方向に沿って1又は複数設け、前記センサー手段が前記基板縁を検出した時刻に基づいて前記基板の移動速度を検出することにある。これは、実際に移動する基板の移動速度を、移動中の基板縁を検出するセンサー手段が基板縁を検出した時の時刻に基づいて検出するようにしたものである。センサー手段が1個の場合には、移動中の基板縁の両端を検出することによって、1枚の基板が実際の移動に要した時間すなわち平均的な移動速度をリアルタイムに検出することができる。センサー手段が基板の移動方向に沿って複数設けられている場合には、各センサー手段が基板縁を検出した時の時刻に基づいて各センサー間の移動に要した時間すなわち各センサー間の移動速度を経時的に求めることによって、1枚の基板が実際に移動した際の移動速度の変化を示す近似曲線又は速度変化曲線近似直線又は速度変化直線をリアルタイムに検出することができるので、これに基づいて基板の欠陥検出位置を正確に補正することができる。本発明に係るインライン基板検査装置の第1の特徴は、上流ラインから下流ラインヘ基板を移動させる基板移動手段と、前記基板移動手段によって移動中の基板に対して検査光を照射する投光系、及び前記基板からの反射光又は散乱光又は透過光を受光する受光系を有する光学系と、前記光学系を前記基板の移動方向と直交する方向へ移動させて前記基板からの反射光又は散乱光又は透過光に基づいて前記基板の欠陥データを検出する検査手段と、前記基板の移動速度を検出し、検出された移動速度に基づいて前記基板の欠陥データの検出位置を補正する補正手段とを備えたことにある。これは、前記インライン基板検査方法の第1の特徴に記載のものを実現したインライン基板検査装置の発明である。本発明に係るインライン基板検査装置の第2の特徴は、上流ラインから下流ラインヘ基板を移動させる基板移動手段と、前記基板移動手段によって移動中の基板に対して検査光を照射する投光系、及び前記基板からの反射光又は散乱光又は透過光を受光する受光系を有する光学系と、前記光学系を基板移動方向と直交する方向へ移動して、前記投光系からの検査光により走査される基板の走査領域を基板毎に変更する光学系移動手段と、前記受光系が受光した光の強度から、走査領域の基板の欠陥を検出する処理手段と、前記処理手段が検出した走査領域の基板の欠陥データを、走査領域毎に記憶する記憶手段と、前記記憶手段を制御し、基板毎に、前記処理手段が新たに検出した走査領域の基板の欠陥データにより、前記記憶手段に記憶された同じ走査領域の基板の欠陥データを更新して、前記記憶手段に記憶された複数の走査領域の基板の欠陥データから、基板1枚分の欠陥データを作成する制御手段と、前記基板の移動速度を検出し、検出された移動速度に基づいて前記基板の欠陥データの検出位置を補正する補正手段とを備えたことにある。これは、前記インライン基板検査方法の第2の特徴に記載のものを実現したインライン基板検査装置の発明である。本発明に係るインライン基板検査装置の第3の特徴は、前記第2の特徴に記載のインライン基板検査装置において、前記制御手段は、作成した基板1枚分の欠陥データに基づき、基板毎に、基板1枚分の欠陥の数が許容値以内かどうかを判定することにある。これは、前記インライン基板検査方法の第3の特徴に記載のものを実現したインライン基板検査装置の発明である。本発明に係るインライン基板検査装置の第4の特徴は、前記第1又は第2の特徴に記載のインライン基板検査装置において、前記基板の移動方向と直交する方向の基板縁を検出するセンサー手段を前記基板の移動方向に沿って1又は複数設け、前記センサー手段が前記基板縁を検出した時刻に基づいて前記基板の移動速度を検出することにある。これは、前記インライン基板検査方法の第4の特徴に記載のものを実現したインライン基板検査装置の発明である。本発明によれば、製造ライン上を搬送される基板の搬送速度の変化に対応してリアルタイムに位置ズレ誤差を補正することができるという効果がある。図1は本発明の一実施の形態による基板検査装置の上面図、図2は本発明の一実施の形態による基板検査装置の側面図である。本実施の形態は、検査光が基板の欠陥により散乱された散乱光から基板の欠陥を検出する基板検査装置の例を示している。基板検査装置は、ステージ10、ローラ11、フレーム13,14、光学系移動機構、光学系ユニット20a,20b、焦点調節機構41、検査開始センサー51、区間速度計測センサー52~5n、校正用ステージ61a,61b及び制御系を含んで構成される。なお、以下に説明する実施の形態におけるXY方向は例示であって、X方向とY方向とを入れ替えてもよい。なお、校正用ステージ61a,61bの詳細については別途出願しているので、ここでは、その説明を省略する。図1及び図2において、検査対象である複数の基板1は、ライン内において、搬入コンベア2により基板検査装置へ順番に搬入され、検査後、搬出コンベア3により基板検査装置から順番に搬出される。ステージ10は、搬入コンベア2から各基板1を受け取る。図3は、ステージを上側から見た上面図である。図3に示すように、ステージ10の両端部にそれぞれ直線状に設けられたローラ11は、図3に破線で示した各基板1の裏面の周辺部に接触しながら回転して、各基板1を矢印で示す基板移動方向X方向へ順番に搬送移動させる。図3に示すように、ステージ10の上側端部であってローラ11の設けられている同じ直線状に沿って、ローラ11とローラ11との間並びに右側に位置する11個のローラ11の突出穴の右側に、それぞれ区間速度計測センサー52~5nが設けられている。図1では区間速度計測センサー54,55,5a,5b,5f~5nのみが示してあり、図2では区間速度計測センサー52~5nは点線で示してある。区間速度計測センサー52~5nは、ローラ11によって搬送移動される基板1の基板移動方向側の縁をステージ10側から検出し、その検出信号を図5の信号処理回路50へ出力する。ステージ10の上面には、図示しない複数のエア吹き出し口が設けられている。これらの複数のエア吹き出し口は、ローラ11により搬送移動される各基板1の裏面に対してエアを吹き付るようになっている。各基板1の中央部に吹き付けられるエアの働きによって、各基板1は撓むことなく浮上され、X方向に順番に搬送移動する。図1及び図2に示すように、ローラ11によってX方向に搬送移動される基板1の上方図1の図面奥行き方向の手前側、図2の上側には、基板1の基板移動方向X方向と直交する方向Y方向の幅以上に渡って伸びるフレーム13,14が設置される。このフレーム13,14には、光学系ユニット20a,20bをY方向に移動させる光学系移動機構が搭載される。なお、本実施の形態では、2つの光学系ユニット20a,20bが設けられているが、光学系の数はこれに限らず、1つ又は3つ以上の光学系を設けてもよい。図4は、2つの光学系をY方向に移動させる光学系移動機構の概略構成を示す一部断面側面図である。光学系移動機構は、ガイド15,17、移動台16、並びに磁石板18及びコイル19から成るリニアモータを含んで構成される。断面形状が略L字型のフレーム13,14には、図4の図面奥行き方向Y方向へ伸びるガイド15が2つの光学系ユニット20a,20bを挟むように設けられている。それぞれのガイド15の上側には、移動台16の収納部16cが搭載される。移動台16は、光学系ユニット20a,20bを収納する凹形の収納部16cと、この収納部16cの上端部から水平方向に伸びるアーム部16dとから構成される。収納部16cには、後述する焦点調節機構41を介して、光学系ユニット20a,20bが収納搭載される。フレーム13の上面部両側には、図4の図面奥行き方向Y方向へ伸びるガイド17が設けられている。それぞれのガイド17の上側には、移動台16のアーム部16dが搭載される。フレーム13上面部中央には、リニアモータの固定子である磁石板18が取り付けられている。移動台16のアーム部16dの下側には、リニアモータの可動子であるコイル19が取り付けられている。後述する光学系移動制御回路60からコイル19へ電流を流すと、コイル19の電流と磁石板18の磁界とから、フレミングの左手の法則によって、コイル19に推力ローレンツ力が働き、移動台16がガイド15及びガイド17に沿って移動し、光学系ユニット20a,20bが基板移動方向X方向と直交する図面奥行き方向Y方向へ移動制御される。図5は、光学系及び制御系の概略構成を示す図である。光学系ユニット20a,20bは、検査光を基板1へ照射する投光系、基板1からの反射光を検出する反射光検出系、及び基板1からの散乱光を受光する受光系を含んで構成される。また、制御系は、焦点調節制御回路40、信号処理回路50、光学系移動制御回路60、メモリ70、通報装置80、入出力装置90及びCPU100を含んで構成される。図6は、光学系の投光系及び受光系の概略構成を示す斜視図である。投光系は、レーザー光源21、レンズ群22及びミラー23を含んで構成される。レーザー光源21は、検査光となるレーザー光を発生する。レンズ群22は、レーザー光源21から発生された検査光を集光し、集光した検査光を基板移動方向X方向と直交する方向Y方向へ広げ、広げた検査光を基板移動方向X方向に集束させる。ミラー23は、レンズ群22によって集光された検査光を、基板1の表面に斜めに照射する。基板1の表面に照射された検査光は、基板1の表面上において、基板移動方向X方向に集束し、基板移動方向X方向と直交する方向Y方向に所定の幅を持った長尺状の検査光となる。基板1が基板移動方向X方向へ移動することにより、投光系から照射された所定の幅の検査光が基板1を走査することとなり、走査領域の欠陥の検査が行われる。基板1の表面に傷や異物等の欠陥が存在しない場合は、基板1の表面に斜めに照射された検査光の一部は基板1の表面で反射し、残りの検査光は基板1の内部を透過して基板1の裏面から射出する。基板1の表面に傷や異物等の欠陥がある場合は、基板1の表面に照射された検査光の中で基板表面の傷や異物等の欠陥に照射された光は散乱光として散乱し、それ以外の箇所に照射した光は前述と同様に、一部は表面で反射し、残りは透過する。図5において、反射光検出系は、ミラー25、レンズ26、及びCCDラインセンサー27を含んで構成される。基板1の表面からの反射光は、ミラー25を介してレンズ26に入射する。レンズ26は、基板1からの反射光を集束させ、CCDラインセンサー27の受光面に結像させる。このとき、CCDラインセンサー27の受光面における反射光の受光位置は、基板1の表面の高さによって変化する。図5に示す基板1の表面の高さを基準としたとき、基板1の表面の高さが基準より低い場合、基板1の表面で検査光が照射及び反射される位置が図面の左側へ移動し、CCDラインセンサー27の受光面における反射光の受光位置が図面の右側へ移動する。逆に、基板1の表面の高さが基準より高い場合、基板1の表面で検査光が照射及び反射される位置が図面の右側へ移動し、CCDラインセンサー27の受光面における反射光の受光位置が図面の左側へ移動する。CCDラインセンサー27は、受光面で受光した反射光の強度に応じた検出信号を、焦点調節制御回路40へ出力する。焦点調節制御回路40は、CPU100からの指令に従って、CCDラインセンサー27の検出信号に基づき、基板1の表面からの反射光がCCDラインセンサー27の受光面の中心位置で受光される様に、焦点調節機構41を駆動して光学系ユニット20a,20bを移動する。焦点調節機構41は、パルスモータ42、カム43、及びカムフォロア44を含んで構成される。パルスモータ42の回転軸には、偏心したカム43が取り付けられており、光学系ユニット20a,20bには、カムフォロア44が取り付けられている。焦点調節制御回路40からパルスモータ42へ駆動パルスを供給することにより、パルスモータ42が駆動されてカム43が回転し、光学系ユニット20a,20bが上下に移動されて、光学系ユニット20a,20bの焦点位置が制御される。図6において、受光系は、集光レンズ28、結像レンズ29、及びCCDラインセンサー30を含んで構成される。集光レンズ28は、基板1からの散乱光を集光し、結像レンズ29は、集光レンズ28で集光された散乱光をCCDラインセンサー30の受光面に結像させる。図5において、CCDラインセンサー30は、受光面で受光した散乱光の強度に応じた検出信号をディジタル信号に変換して、信号処理回路50へ出力する。図1及び図3において、ステージ10には、光学系ユニット20aの投光系からの検査光が照射される領域に、複数の開口12aが設けられ、光学系ユニット20bの投光系からの検査光が照射される領域に、複数の開口12bが設けられている。開口12aと開口12bは、基板移動方向X方向と直交する方向Y方向において、光学系ユニット20a,20bの投光系からの検査光の幅以上の長さを有し、異なった位置に交互に設けられている。図4において、光学系ユニット20aの投光系から照射され、基板1の内部へ透過して基板1の裏面から射出された検査光は、開口12aを通ってステージ10の下方へ進み、光学系ユニット20aの反射光検出系及び受光系で受光されない。光学系ユニット20bの投光系から照射され、基板1の内部へ透過して基板1の裏面から射出された検査光も、同様に、開口12bを通ってステージ10の下方へ進み、光学系ユニット20bの反射光検出系及び受光系で受光されない。図5において、光学系移動制御回路60は、CPU100からの指令に従って、コイル19へ電流を供給し、光学系ユニット20a,20bを基板移動方向X方向と直交する方向Y方向へ移動して、光学系ユニット20a,20bの投光系からの所定の幅の検査光により走査される基板1の走査領域を基板毎に変更する。図7は、基板の走査領域を示す図である。本実施の形態は、基板1の検査領域を44個の走査領域に分割し、2つの光学系ユニット20a,20bを用いて、それぞれ22回ずつの走査を行う例を示している。なお、走査領域の数及び走査回数は、これに限らず、基板の大きさや光学系の数に応じて適宜決定される。図7において、基板1の周辺部の領域NS1,NS2は、ローラ11が接触する検査対象外の領域である。また、基板1の上端部の領域NS2の基板移動方向側の縁図7の右側縁を検査開始センサー51及び区間速度計測センサー52~5nがそれぞれ時系列的に検出する。走査領域SA1~SA22,SB1~SB22は、光学系ユニット20a,20bの走査領域である。本実施の形態では、まず、1枚目の基板1が後述する検査開始センサー51の下方へ達する前に、光学系ユニット20aを走査領域SA1が通過する位置の上空へ移動し、光学系ユニット20bを走査領域SB1が通過する位置の上空へ移動する。そして、1枚目の基板1について、光学系ユニット20aの投光系からの検査光によって、走査領域SA1の走査が行なわれ、光学系ユニット20bの投光系からの検査光によって、走査領域SB1の走査が行なわれる。1枚目の基板の走査が終了した後、2枚目の基板1が後述する検査開始センサー51の下方へ達する前に、光学系ユニット20aを走査領域SA2が通過する位置の上空へ移動し、光学系ユニット20bを走査領域SB2が通過する位置の上空へ移動する。そして、2枚目の基板1について、光学系ユニット20aの投光系からの検査光により、走査領域SA2の走査を行い、光学系ユニット20bの投光系からの検査光により、走査領域SB2の走査を行う。以後、これらの動作を繰り返し、22枚目の基板1について、光学系ユニット20aの投光系からの検査光により、走査領域SA22の走査を行い、光学系ユニット20bの投光系からの検査光により、走査領域SB22の走査を行う。22枚目の基板1の走査が終了した後は、初めに戻り、23枚目~44枚目の基板1の走査を、1枚目~22枚目の基板1の走査と同様に行ってもよい。あるいは、23枚目の基板1の走査を22枚目の基板1の走査と同様に行った後、光学系ユニット20a,20bを逆方向へ移動して、24枚目~44枚目の基板1の走査を、21枚目~1枚目の基板1の走査と同様に行ってもよい。45枚目以降の基板1の走査も同様である。図1及び図2において、検査開始センサー51及び区間速度計測センサー52~5nは、ローラ11により移動される基板1の基板移動方向側の縁を検出し、その検出信号を図5の信号処理回路50へ出力する。一方、図5において、信号処理回路50は、CCDラインセンサー30からのディジタル信号を処理して、走査領域の基板1の欠陥を、予め定めた大きさのランク別に検出し、検出した欠陥の走査領域内での基板移動方向X方向と直交する方向Y方向の位置を検出する。信号処理回路50は、また、検査開始センサー51及び区間速度計測センサー52~5nからの検出信号を入力し、それぞれのセンサー間の検出経過時間に基づき、基板の搬送速度移動速度を検出し、それに基づいて欠陥の基板移動方向X方向の位置を補正して検出する。信号処理回路50は、検出した欠陥データを、CPU100へ出力する。図5において、メモリ70は、CPU100の制御により、信号処理回路50が検出した走査領域の基板1の欠陥データを、走査領域毎に記憶する。通報装置80は、CPU100の制御により、後述する通報を行う。入出力装置90は、後述するライン停止命令を入力し、また、CPU100の制御により、欠陥データ及び後述する判定結果の出力を行う。図8は、本発明の一実施の形態による基板検査装置の動作を示すフローチャートである。まず、ステップS81では、CPU100は、光学系ユニット20a,20bの移動を光学系移動制御回路60へ指令する。光学系移動制御回路60は、CPU100からの指令に従って、コイル19へ電流を供給し、光学系ユニット20a,20bをそれぞれの走査領域が通過する位置の上空へ移動させる。ステップS82では、ローラ11による基板1の移動に伴い、信号処理回路50は、検査開始センサー51からの検出信号の入力に基づき、CCDラインセンサー30からのディジタル信号を処理して、走査領域の基板1の欠陥を検出する。ステップS83では、信号処理回路50は、区間速度計測センサー52~5nからの検出信号の入力に基づき、基板1の搬送速度区間毎の移動速度を検出し、それに基づいて欠陥の基板移動方向X方向の位置を補正する。ステップS84では、CPU100は、メモリ70を制御し、検出した走査領域の基板の欠陥データ位置補正されたものを、走査領域毎に記憶し、基板毎に信号処理回路50が新たに検出した走査領域の基板1の欠陥データにより、メモリ70に記憶された同じ走査領域の基板1の欠陥データを更新する。ステップS85では、CPU100は、基板毎に、メモリ100に記憶された複数の走査領域の基板1の欠陥データから、基板1枚分の欠陥データを作成する。ステップS86では、CPU100は、作成した基板1枚分の欠陥データに基づき、基板毎に、基板1枚分の欠陥の数が許容値以内かどうかを判定する。この判定は、欠陥の大きさのランク別に行ってもよく、あるいは欠陥の大きさのランクに関わらずに基板1枚分の全欠陥を対象に行ってもよい。基板1枚分の欠陥の数が許容値以内であったyes判定の場合は、ステップS8aへ進み、基板1枚分の欠陥の数が許容値を超えていたno判定の場合は、ステップS87へ進む。ステップS87では、基板1枚分の欠陥の数が許容値を超えていた場合に該当するので、CPU100は、通報装置80を制御して、ライン管理者又はライン制御設備へ、基板1枚分の欠陥の数が許容値を超えていた旨の通報を行う。ステップS88では、CPU100は、ライン管理者又はライン制御設備から入出力装置90へライン停止命令が入力されたかどうかを判定し、ライン停止命令が入力されないno判定の場合は、ステップS8aへ進み、ライン停止命令が入力されたyes判定の場合は、ステップS89へ進む。ステップS89では、CPU100は、入出力装置90を制御して、欠陥データ及び判定結果の出力を行い、処理をストップする。ステップS8aでは、基板1枚分の欠陥の数が許容値以内であった場合、又はライン停止命令が入力されない場合に該当するので、CPU100は、入出力装置90を制御して、基板毎に、欠陥データ及び判定結果の出力を行う。欠陥データの出力は、例えば、欠陥の大きさ及び位置を示すマップを、モニタ用ディスプレイで表示し又プリンタで印刷し、あるいは、欠陥の大きさのランク別に、各走査領域の欠陥の数及び基板1枚分の欠陥の数を、モニタ用ディスプレイで表示し又プリンタで印刷して行う。ステップS8bでは、CPU100は、全基板の検査が終了したかどうかを判定し、終了していないno判定の場合はステップS81へ戻り、終了したyes判定の場合は処理をストップする。図9は、図8の基板速度に基づく位置補正処理の詳細を示すフローチャートである。まず、ステップS90では、CPU100は、検査開始センサー51がローラ11により移動される基板1の基板移動方向側の縁を検出することによって検査を開始する。このとき、検査開始センサー51が基板1の基板移動方向側の縁を検出した時刻t0を記憶すると共に検査範囲検査エリアを最大速度誤差に合わせて広く測定を行う。ステップS91では、第1区間速度計測センサー52がローラ11により移動される基板1の基板移動方向側の縁を検出した時点でオン又はオフとなるので、そのオン又はオフ時刻t1を記録し、検査開始センサー51と第1区間速度計測センサー52との離間距離を時刻t0から時刻t1までの経過時間で除算することによって、検査開始センサー51から第1区間速度計測センサー52までの平均速度V1を算出し、それをメモリ100に格納する。ステップS92では、第2区間速度計測センサー53がローラ11により移動される基板1の基板移動方向側の縁を検出した時点でオン又はオフとなるので、そのオン又はオフ時刻t2を記録し、第1区間速度計測センサー52と第2区間速度計測センサー53との離間距離を時刻t1から時刻t2までの経過時間で除算することによって、第1区間速度計測センサー52から第2区間速度計測センサー53までの平均速度V2を算出し、それをメモリ100に格納する。ステップS93では、第3区間速度計測センサー54がローラ11により移動される基板1の基板移動方向側の縁を検出した時点でオン又はオフとなるので、そのオン又はオフ時刻t3を記録し、第2区間速度計測センサー53と第3区間速度計測センサー54との離間距離を時刻t2から時刻t3までの経過時間で除算することによって、第2区間速度計測センサー53から第3区間速度計測センサー54までの平均速度V3を算出し、それをメモリ100に格納する。このステップS94からステップS9mまでは、ステップS92,ステップS93と同様の処理を第4区間速度計測センサー54~第m区間速度計測センサー5mに対してそれぞれ行う。従って、図9ではこれらの処理を点線で示し、図示は省略してある。ステップS9nでは、第n区間速度計測センサー5nがローラ11により移動される基板1の基板移動方向側の縁を検出した時点でオン又はオフとなるので、そのオン又はオフ時刻tnを記録し、第m区間速度計測センサー5mと第n区間速度計測センサー5nとの離間距離を時刻tmから時刻tnまでの経過時間で除算することによって、第m区間速度計測センサー5mから第n区間速度計測センサー5nまでの平均速度Vnを算出し、それをメモリ100に格納する。ステップS9oでは、第n区間速度計測センサー5nが基板1の基板移動方向側の縁を検出した時点で検査を終了させる。ステップS9pでは、ステップS91~ステップS9nで取得した各区間の平均速度V1~Vnに基づいて近似曲線又は速度変化曲線近似直線又は速度変化直線を生成する。この実施の形態では、第1区間から第n区間までの23区間について、基板1の搬送速度が計測される。ステップS9qでは、前のステップS9pで作成した23区間の近似曲線又は速度変化曲線近似直線又は速度変化直線に基づいて広く測定した検出データを補正し、正確な検査エリアとその座標位置を算出し、それをステップS85の処理にて、走査領域の基板の欠陥データとして、走査領域毎に記憶又は更新する。以上説明した実施の形態によれば、検出した走査領域の基板の欠陥データを、走査領域毎に記憶し、基板毎に、新たに検出した走査領域の基板の欠陥データにより、記憶された同じ走査領域の基板の欠陥データを更新してステップS84、複数の走査領域の基板の欠陥データから、基板1枚分の欠陥データを作成するステップS85ことにより、基板1枚分の欠陥データを基板毎に得ることができるので、ライン内での基板の欠陥の検査をより迅速に行うことができる。また、上述の実施の形態では、基板搬送時の平均速度を計測し、一定の補正量を持って位置補正を行っているステップS83ので、基板1の洗浄状態などにより、搬送コンベアローラとの摩擦力が経時で変化して搬送速度が変化してもリアルタイムにそれに対応することができる。さらに、以上説明した実施の形態によれば、作成した基板1枚分の欠陥データに基づき、基板毎に、基板1枚分の欠陥の数が許容値以内かどうかを判定するステップS86ことにより、基板1枚分の欠陥の数が許容値を超える不具合が発生した場合、不具合を基板毎に早期に発見することができる。上述の実施の形態では、1個の検査開始センサー51と22個の区間速度計測センサー52~5nを用いて基板1の搬送速度を23区間に分けて計測する場合について説明したが、この区間数は一例であり、基板1の搬送速度を正確に計測するのであれば、区間速度計測センサーすなわち区間数を増やせばよい。また、区間速度計測センサーを設けることなく、1個の検査開始センサー51のみを使用して、検査開始時に基板1の移動方向側の縁を検出し、検査終了時に基板1の移動方向と反対側の縁を検出し、それぞれの検査開始時から検査終了時までの時間を用いて基板1全体の移動平均速度を測定し、それを用いて位置補正を行うようにしてもよい。また、検査開始センサー51の位置を基板移動方向側について検出光学系の検出位置と一致、若しくは検出位置の直前に配置することで、搬送速度の測定誤差を小さくすることができる。また、基板1の搬送速度を検出するセンサーとして、検出光学系で基板1の縁信号を信号処理によって検出することによって実現してもよい。さらに、基板1にパターン等を設け、そのパターンを検出することによって搬送速度を計測するようにしてもよい。また、上述の実施の形態では、検査開始センサー51が光学系ユニット20aのフレーム13にだけ設けられている場合について説明したが光学系ユニット20bのフレーム14にも同様の検査開始センサーを設けてもよいし、又は区間速度計測センサー57~59のいずれかを検査開始センサーとして兼用してもよい。ステージ側に区間速度計測センサーを複数設けた場合には、フレームに検査開始センサー51を設けなくても、ステージ側の区間速度計測センサーの最初のものを検査開始センターとして兼用してもよい。上述の実施の形態では、基板移動手段であるステージ10によって移動中の基板1と直交する方向へ投光系及び受光系からなる光学系ユニット20a,20bを移動させる場合について説明したが、基板1と直交する方向に複数の光学系を配置して、光学系ユニットを移動させることなく固定した状態で検査光を照射するようにしてもよい。"