金属製基板がメタルラス加工された基板の表面及び裏面の凸部に、排ガス中のダストとの接触を防止するセラミック製酸化物皮膜が形成されていることを特徴とする触媒用金属基板。セラミック製酸化物皮膜が酸化チタン、アルミナ及びシリカから選ばれた1種以上の酸化物で構成されていることを特徴とする請求項1項記載の触媒用金属基板。請求項1項記載の基板に脱硝触媒が担持されていることを特徴とするアルカリ成分含有排ガス中の窒素酸化物除去用触媒。KやNaのようなアルカリ金属は、石炭燃焼時に生じたダスト中に多く含まれ、これが触媒に付着すると、触媒毒であるKやNaが触媒に吸着し、活性成分と反応して触媒が失活する。特にバイオマス燃焼排ガス処理などではアルカリが多いため劣化が早く、触媒交換頻度が著しく多くなる。本発明が解決しようとする課題は、アルカリ成分を含有する排ガス脱硝において、アルカリ成分による触媒劣化を防止できる触媒用金属基板及びそれを用いた板状脱硝触媒を提供することにある。上記課題を達成するため、本願で特許請求される発明は、以下の通りである。1金属製基板がメタルラス加工された基板の表面及び裏面の凸部に、排ガス中のダストとの接触を防止するセラミック製酸化物皮膜が形成されていることを特徴とする触媒用金属基板。2セラミック製酸化物皮膜が酸化チタン、アルミナ及びシリカから選ばれた1種以上の酸化物で構成されていることを特徴とする1項記載の触媒用金属基板。31項記載の基板に脱硝触媒が担持されていることを特徴とするアルカリ成分含有排ガス中の窒素酸化物除去用触媒。石炭燃焼排ガス脱硝では、排ガス中に含まれるKやNaなどのアルカリ成分が触媒上に付着し、触媒成分と反応することにより、性能低下が引き起こされる。このとき、触媒成分をメタルラス基板に担持した板状触媒では、ダストは触媒成分だけでなく、触媒表面に露出した基板表面にも付着する。この際に、触媒表面から露出している基板がガス中のSO3などにより腐食していると、基板表面に付着したダスト中のアルカリ成分が、基板の腐食反応、式により生成した硫酸鉄と式のごとく反応し、可溶性の鉄明礬様化合物を形成する。FeSO3→FeOSO2FeOSO3→FeSO4Fe23K2SO4→2KFe2基板表面に形成した鉄明礬様物は、触媒が吸湿した際に溶出して基板と触媒成分との隙間から触媒中に移動し、Kによる触媒劣化を加速させる。そこで、本発明では、基板表面へのダストの付着を防止するために、図1のごとく、メタルラス基板1のうち触媒表面から露出する凸部に、保護膜2を形成させる。凸部に保護膜2が形成された基板に触媒成分3を担持すると、図2のごとく、触媒表面から基板の露出が防止されるため、排ガスと基板とが接触することがなくなる。このため、ダスト中のアルカリ成分と基板の腐食生成物とが反応することが抑制され、触媒中にアルカリ成分が移動することが大幅に低減される。本発明によれば、触媒毒を含むダストと基板との接触を防止することができるため、板状触媒では、触媒に付着したアルカリのうち基板に付着するアルカリの移動が防止され、アルカリによる劣化が板状を有していない触媒よりも劣化が小さくなる。本発明を実施するに必要な必要最小限の機器を配した基材の製造フローを図3に示す。厚さ01乃至03mmのSUS430製帯状鋼板4は、メタルラス加工機5で、数mmの開口径を有するメタルラス1に加工される。メタルラス1は引き続き脱脂装置6に送られ加工油が加熱または洗浄により除去される。本工程を経たメタルラス1は、保護膜形成工程7でメタルラスのラス目の凸部に処理液を塗布したした後、乾燥熱処理炉8に送られ、引き続き300°C以上に加熱されることにより表面に保護膜2が形成される。保護膜形成工程7は、図4のごとく、処理液を含んだロール9の間にメタルラス1を通過させることにより、ローラー表面の処理液をラス凸部に転写するロール転写方式や図5のごとく、処理液が付着した転写装置用のパッド10の間を通過させることにより、ラスの凸部に転写する方法などがあげられる。このとき、メタルラスのラス目の凸部以外に処理液が塗布されても問題はないが、上記の方法を用いれば、基板の端部のみに処理液を付けるため、全面に担持する場合と比べ処理液が少しで済み、且つ短時間で処理できるため、より高速に処理することが可能となる。なお、従来の基板全面にセラミックを担持する方法では、セラミック製の緻密な膜が厚く形成されているため、基板の網目間に担持される触媒量が少なくなるため、全体として触媒量が少なくなり、その結果劣化が早くなる、緻密な膜と触媒成分との密着性が悪くなるため触媒が剥がれ易くなるが、本発明を用いれば、上記の問題を防止することが可能となる。上記製造工程では帯状のラスを順次連続的に加工する例を示しているが、工程の処理速度が異なる場合や設置場所の関係から、工程間で帯状ラスを切断して一旦ロール上に巻き取って保管したり、移動して処理してもよいことは言うまででもない。メタルラス基材の材質は、一般的に脱硝触媒の基材として用いられるものであればよく、例えば、SUS430、SUS304、SUS430J1Lが挙げられる。本発明で用いる保護膜形成処理剤は、例えば特開平6246176号明細書記載の処理剤を応用し、ポリビニルアルコールのような水溶性有機ポリマー、シリカゾル、水及び酸化チタン、アルミナ、シリカから選ばれる1種以上から選ばれる酸化物で構成したものを用いることができる。酸化チタン、アルミナ、シリカは微粒子のものが良く、比表面積が数十m2g以下、平均粒径が数μm以下のものが液中に高分散し安定性が高まるので好ましい。本発明において脱硝触媒成分や形態は特に限定されるものではないが、例えば、酸化チタンを主成分とし、これにW、Mo、V、リン、硫酸アルミニウムなどの活性成分を担持した触媒が好適である。表面に皮膜を形成せしめられたメタルラス基材への触媒成分ペーストの担持は、例えば図6に示すフロー図に従って行なうことができる。すなわち、メタルラス基材は公知の方法で得られる脱硝触媒成分ペースト11と共に塗布機12に送られ、上下1対の加圧ローラーを通過させることによりペーストがラス目を埋めるように塗布される。得られた帯状薄板触媒は、成形機13で金型により積層した場合にスペーサーとなる波型がつけられ、その後、切断機14で矩形のエレメントに切断され、工程16で該エレメントが積層されて触媒ユニットにくみ上げられる。得られた触媒ユニットは、通気乾燥後、焼成炉で焼成されて脱硝用触媒として用いられる。以下具体例を用いて本発明を詳細に説明する。実施例1ポリビニルアルコール3kgを水65kgに溶解したものにシリカゾル65kgを混合し、得られた液にチタニア粉末65kgを混合しよく攪拌し、スラリ状の処理液を調製した。これに、100mm×100mmに切断したメタルラスのラス目の凸部に、ハケで上記処理液を担持し、凸部に保護膜を有する基板を得た。実施例2実施例1で用いた処理液のCR50からαアルミナ粉末に変えた以外は実施例1と同様にして基材を得た。実施例3実施例1で用いた処理液のCR50からシリカ粉末に変えた以外は実施例1と同様にして基材を得た。実施例4実施例1で用いたSUS430基材をSUS304基材に変更する以外は実施例1と同様にして基材を得た。触媒例1酸化チタン1200g、三酸化モリブデン216g、メタバナジン酸アンモニウム351g、硫酸アルミニウム13~14水和物3として56~59含有899kg、シリカゾル1297g、と水とをニーダに入れて60分混練、その後シリカアルミナ系セラミック繊維3の添加量は、酸化チタン重量に対して4wtである。触媒例2酸化チタン900g、ヘキサモリブデン酸アンモニウム113g、メタバナジン酸アンモニウム105g、85リン酸53g、シリカゾル109gと水とをニーダに入れて60分混練、その後シリカアルミナ系セラミック無機繊維を用いる以外は実施例4と同様にして触媒を得た。実施例8触媒例2で得られたペーストを、実施例1で得られた基材の上に置き、1対の加圧ローラを通して、メタルラス基材の網目を埋めるように塗布した。これを乾燥後、500°Cで二時間焼成して初期触媒を得た。比較例2実施例8において、本発明による保護膜を形成させないラス基材を用いる以外は実施例8と同様にして触媒を得た。試験例1実施例4~8及び比較例1、2で得られた触媒に、SO3の発生源として硫酸根を15含有する硫酸アルミニウムの水溶液を硫酸アルミニウムとして5wtに成るように含浸後、150°Cで乾燥した。得られた触媒を各々蓋付きの磁性坩堝に入れて450°Cで200時間保持する加速試験を実施した。これとは別に、シリカ粉末富田製薬社製マイコンFに炭酸カリウムをK2Oとして10wt添加し、ボールミルで粉砕混合して模擬灰を得た。得られた模擬灰を、加速試験を実施した後の実施例4~8及び比較例1、2の触媒表面に刷毛で擦り付けながら、触媒両面において実施してTPを得た。電子顕微鏡により基板表面へのカリウムの分布状態を観察した。得られた結果を表1に示す。試験例2実施例4~7及び比較例1、2で得られた触媒を幅20mm幅×100mm長さに3枚切りだし、表2の条件で脱硝率を測定した。また、脱硝触媒は基材から剥がして、それぞれの粉末に含まれるカリウムの濃度を蛍光X線で分析した。得られた結果を表3に示す。表1から分かるように、本発明の緻密な保護膜を施した実施例は、基板表面へのカリウムの付着は認められないが、保護膜を形成していない比較例は、基板表面へのカリウムの付着が認められる。また、第3表から分かるように、実施例の触媒の性能は、比較例の触媒のそれよりも高いことが分かる。