マイクロリソグラフィ投影露光装置であって、投影光13を生成する照明システム12と、感光層26上にマスク24を結像させる、複数の光学素子L1~L5;54を含む投影レンズ20と、像側の投影レンズ20の最終光学素子L5;54と感光層26との間に形成され、液浸液34で満たされる液浸空間44とを備え、液浸空間44の区域における温度を選択的に変えるための伝熱要素50;501;502;503;504を設けたことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。伝熱要素50;501は、液浸動作の間に液浸液34と接触するような形で液浸空間44に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の投影露光装置。伝熱要素は加熱ワイヤ501であることを特徴とする請求項2に記載の投影露光装置。液浸空間44は、伝熱要素502が配置されている壁62によって横方向に区画されていることを特徴とする請求項1に記載の投影露光装置。伝熱要素はペルチェ素子503であることを特徴とする請求項1に記載の投影露光装置。伝熱要素503は、伝熱要素503と区域との間で熱放射によって熱が交換されるように、液浸空間44からある距離で配置されていることを特徴とする請求項1に記載の投影露光装置。伝熱要素503と液浸空間44との間に配置されて、熱放射の方向を変化させる方向性光学素子66を設けたこと特徴とする請求項6に記載の投影露光装置。方向性光学素子66は正の屈折力を有することを特徴とする請求項7に記載の投影露光装置。伝熱要素は加熱または冷却される平面放熱器502であることを特徴とする請求項6~8のいずれか1項に記載の投影露光装置。伝熱要素503の温度を測定する熱センサ65を設けたことを特徴とする請求項6~9のいずれか1項に記載の投影露光装置。熱センサ65は伝熱要素の加熱または冷却出力を調整する制御装置に接続されていることを特徴とする請求項10に記載の投影露光装置。伝熱要素504は感光層26が適用される支持体30を位置決めするウェハステージ70に配置されることを特徴とする上記請求項のいずれか1項に記載の投影露光装置。伝熱要素504は感光層26上に照明された明視野58とほぼ同じ対称を有することを特徴とする請求項12に記載の投影露光装置。伝熱要素は、加熱または冷却媒体を前記ウェハステージ70内部で導通させるウェハステージ70に収容された複数のコンジット504を含むことを特徴とする請求項12また13に記載の投影露光装置。マイクロリソグラフィ投影露光装置であって、投影光13を生成する照明システム12と、複数の光学素子L1~L5;54を含み、感光層26上にマスク24を結像させる投影レンズ20と、像側の投影レンズ20の最終光学素子L5;54と感光層26との間に形成されて、液浸液34で満たされる液浸空間44とを備え、液浸空間44を少なくとも部分的に包囲し、投影レンズ20の下面49に配置され、感光層26に向けて延びる、蒸発バリヤ72を設けたことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置。蒸発バリヤ72は互いにある距離をおいて配置されている同心の少なくとも複数のリング741~744を含むことを特徴とする請求項15に記載の投影露光装置。マイクロリソグラフィ用投影露光装置であって、投影光13を生成する照明システム12と、複数の光学素子L1~L5;54を含み、感光層26上にマスク24を結像させる投影レンズ20と、像側の投影レンズ20の最終光学素子L5;54と感光層26との間に形成されて、液浸液34で満たされる液浸空間44とを備え、液浸空間44を包囲し、それと流体連通している外室78が液浸液の蒸気相を含むように構成されているマイクロリソグラフィ用投影露光装置。液浸液の蒸気相を外室78に供給する供給装置84を設けたことを特徴とする請求項17に記載の投影露光装置。外室78における液浸液の蒸気相の圧力は、外室78内で支配的な温度時の液浸液の蒸気相の飽和蒸気圧に少なくともほぼ等しいように調整可能であることを特徴とする請求項17または18に記載の投影露光装置。液浸空間44は液浸空間内に到る管36のための開口96が設けられている壁94によって区画されており、開口96の寸法は、液浸液34が管36と壁94との間に残存する隙間98に進入できるが、粘着力のために前記隙間98から流出できないような量だけ管36の外部寸法よりも大きいことを特徴とする、上記請求項のいずれか1項に記載の投影露光装置。液浸液34用の容器100が液浸空間44の上方に配置され、その液浸空間と流体連通しており、それにより液浸液34は単に重力の結果として容器100から液浸空間44内に流れることができることを特徴とする上記請求項のいずれか1項に記載の投影露光装置。液浸液34を検出する検出器120を設けたこと特徴とする上記請求項のいずれか1項に記載の投影露光装置。検出器120は液浸液34が既定の閉じた領域を離れたかどうかを決定できるように構成されていることを特徴とする請求項22に記載の投影露光装置。閉じた領域は投影レンズ20の下方で感光層26上に配置されることを特徴とする請求項23に記載の投影露光装置。検出器120は互いにほぼ平行して配設された2個の導体122、124を含むことを特徴とする請求項23または24に記載の投影露光装置。検出器120は導体122、124間のキャパシタンスを測定する測定回路126を含むことを特徴とする請求項25に記載の投影露光装置。マイクロリソグラフィ露光装置の投影レンズ20の結像特性を決定する測定装置であって、投影レンズ20の像側に配置される試験光学部品140;140’を備えており、液浸液34が、像側の投影レンズ20の最終光学素子54と試験光学部品140;140’との間に形成された液浸空間44に導入され、測定装置は液浸空間44の区域における温度を選択的に変化させる伝熱要素148を含むことを特徴とする測定装置。試験光学部品140;140’は光に少なくとも部分的に透明な区域150を含み、光に透明な区域150は、その光に透明な区域150が構成されている材料よりも高い熱伝導率を有する材料から構成されている別の区域142’によって少なくとも部分的に包囲されていることとを特徴とする請求項27に記載の測定装置。試験光学部品は点回折干渉計のピンホールマスク140;140’であることを特徴とする請求項28に記載の測定装置。マイクロリソグラフィ投影露光装置10のための投影レンズ20を製造する方法であって、a複数の光学素子から投影レンズを組み立てるステップと、b投影レンズ20の像側に配置される試験光学部品140;140’を含む測定装置に投影レンズを取り付けるステップと、c像側の投影レンズ20の最終光学素子54と試験光学部品140;140’との間に残存する液浸空間44に液浸液34を導入するステップと、d伝熱要素50;501;502;503;504によって液浸空間44の区域における液浸液34の温度を選択的に変化させるステップと、e投影レンズ20の結像特性を決定するステップと、f投影レンズ20の少なくとも1個の光学素子の位置を調整するステップとを含む方法。請求項30に記載の方法を使用して製造された投影レンズ。微細構造化構成部品のマイクロリソグラフィ製造のための方法であって、a投影レンズ20を設けるステップと、b投影レンズ20の物体平面22にマスク24を配置するステップと、c像側の投影レンズ20の最終光学素子L5;54と投影レンズ20の像面22に配置される感光層26との間に形成された液浸空間44に液浸液34を導入するステップと、d伝熱要素50;501;502;503;504によって液浸空間44の区域における液浸液34の温度を選択的に変化させるステップと、eマスク24を感光層26上に投影するステップとを含む方法。液浸液34は、上記請求項32のeに記載のいかなる投影も行われない時間間隔の間にのみポンプによって液浸空間において循環させられることを特徴とする請求項32に記載の方法。請求項32または33に記載の方法によって製造されることを特徴とする微細構造化構成部品。従って、本発明の目的は、液浸液内部の屈折率の不均一から生じる結像欠陥が低減されるように、投影露光装置を改良し、投影レンズの光学測定のための測定装置を改良することである。この目的は、投影露光装置および測定装置が、液浸空間の区域において指定の様態で温度を変化させることができる伝熱要素を含むことにより達成される。本発明は、熱が空間的に指定された様態で液浸液に供給されるか、または抜かれた場合に、液浸空間内部の所望の温度分布が達成できるという発見に基づく。熱がどこで、そしてどの程度まで液浸液に伝達されるか、またはそこから周囲媒体に放散されるかは一般に既知である。温度変動のこれらの原因を慎重に分析すれば、投影光が通過する液浸空間の容積内部の液浸液が、温度分布を変化させるために付加的な措置を取らない場合に有すると予想される温度分布を決定することが可能である。その後、予想された温度分布に基づき、所望の温度分布が確立されるようにどの場所で熱が供給または抜かれなければならないかが決定される。一般に、その狙いは均一な温度分布を達成することである。しかし、不均一ではあるが特定の対称な温度分布を確立することも考慮できるかもしれない。例えば、回転対称の温度分布により、液浸液は、屈折力から免れることにはならないであろうが、インデックスレンズの効果を有することができよう。本発明に従った液浸液の局所加熱または冷却のために、温度安定化構成を含む回路内での液浸液の連続的循環は必要に応じて省いてもよい。このようにして、液浸液の循環によって生じる振動が回避される。それは測定装置の場合に特に有利である。液浸液が一定の間隔で完全に交換されなくてもよい場合、不連続循環を考慮してもよい。これは、液浸液が、露光または測定の休止の間にのみ浄化され随意で付加的に冷却または加熱されながら、ポンプによって循環させられることを意味する。振動の回避に関して、そうした不連続循環は、本発明に従った伝熱要素と無関係でさえ有利に使用される。均一な温度分布が要求される場合、伝熱要素は温度分布が全体として液浸空間の温度分布に対応して対称となるように配置される。従って、伝熱要素の回転対称配置が好ましい。走査動作用に設計された投影露光装置によりウェハ上に投影されるような、スリット形状の明視野の場合、例えば、伝熱要素は、異なるように、例えば明視野の幾何学形状に対応して配置することもできる。伝熱要素としては、熱の伝導または放射によって熱を液浸液と交換することに適しているあらゆる物体が原理的に可能である。熱が伝熱要素から液浸液へ、またはその逆へ伝わるかに依存して、液浸液の局所加熱または冷却が行われる。伝熱要素は、例えば液浸空間内部に配置することができ、それによりそれは液浸動作の間に液浸液と接触する。最も単純な例において、伝熱要素はその場合、電気的に絶縁し化学的に保護する層で好適に被覆された電気的に加熱可能な加熱ワイヤである。そのような加熱ワイヤは、それが実際上あらゆる所望の形状を付与できるという有利さがある。その結果、熱は、投影光が通過する容積の外側であるが液浸空間内部のあらゆる所望の場所で液浸液に供給される。投影光は一般に、吸収のために相対的に大きい熱入力を産生するので、加熱ワイヤは、例えば、投影光が通過する容積のまわりに環状構成で配置する。その場合、発熱出力は、投影光が通過する容積における温度勾配が最小限にされるように好適に選定される。付加的なパラメータとしてワイヤ直径が可変であれば、よりいっそう精確に指定された熱入力が可能である。このようにして、発熱出力もまた加熱ワイヤの長手方向延長部に沿って変化させることができる。電気的に加熱可能な加熱ワイヤの代わりに、例えば加熱または冷却した水といった流体加熱媒体が流れるコンジットもまた伝熱要素として使用できる。この場合もまた、加熱または冷却力は流れ横断面を変化させることによってコンジットの長手方向で変えることができる。液浸空間に側方で接している壁によって液浸液が逃げるのを防止すれば、伝熱要素もまたこの壁に配置することができる。この場合もまた、電気的に加熱可能な加熱ワイヤまたは加熱媒体が貫流できるコンジットとしての伝熱要素の構成が考えられる。このようにして、壁はそれ自体で、いわば単一の大きな伝熱要素を形成する。液浸液を局所的に冷却するために、ペルチェ素子が伝熱要素として使用される。特に有利な実施態様において、伝熱要素は、例えば赤外線またはマイクロ波放射といった熱放射によって伝熱要素と区域との間で熱が交換されるような形で、液浸空間から離間される。この場合、伝熱要素は、例えば、好ましくは電気的に加熱可能または冷却可能な平面放熱器の形態とすることができる。放射による伝熱は、伝熱要素と液浸液との間のいかなる直接的な物理的接触が要求されないという、伝導による伝熱に優る利点を有する。従って、伝熱要素は液浸液からより大きい距離で配置される。この実施態様において、狭い液浸空間への、またはそれに隣接しての伝熱要素の設置により起こる可能性のある困難は回避される。この実施態様において熱放射を伝熱要素から液浸液へより選択的に方向づけるために、熱放射の方向を変える、例えばミラーまたはレンズといった1個以上の光学素子を伝熱要素と液浸空間との間に配置してもよい。正の屈折力を有する光学素子を使用することによって、熱放射は指定の様態で、投影レンズとウェハとの間の狭い隙間に、そして液浸空間の所望の区域上に合焦される。原理的に、液浸空間の所望の区域上に熱放射を方向づけるためにこれらの光学素子の1個以上を投影レンズ内部に配置することさえ可能である。この場合、前記熱放射が投影光から分離して像側の投影レンズの最終レンズを出るような形で投影レンズの光ビーム経路に熱放射を結合させることも可能である。適切に選定された光ビーム経路により、熱放射は、投影光が通過する容積を包囲する液浸液の部分容積を専ら加熱し、それにより、この容積の縁端における温度勾配を低減する。その際、熱放射はフォトレジストが反応しない波長を有することのみ保証されればよい。液浸液の温度を非接触式に測定するために、伝熱要素の温度が決定されるが、この場合、伝熱要素の温度は液浸液との熱放射の交換だけによって変えることができる。こうした条件下で、既知の発熱出力と伝熱要素の温度が与えられれば、液浸液の温度に関する結論を引き出すことができる。そのような伝熱要素の温度を測定するために、それは熱センサと接続される。後者は転じて、伝熱要素の加熱または冷却出力を管理する制御装置と信号接続しているかもしれない。走査モードではなくステップバイステップで動作される投影露光装置の場合、感光層の支持体を固定できるウェハステージが、本発明に従った伝熱要素を取り付けるための場所として考えられる。このようにして、支持体は下方から局所的に加熱または冷却される。従って、支持体の上方に位置する液浸液の温度もまた、熱伝導によって変えることができる。この構成はまた、投影光に露光される液浸液の容積を冷却する可能性を付与する。この容積が上方または側方から容易にアクセスできないので、他の冷却手段は一般に困難である。本発明の別の態様によれば、上記の目的は、液浸空間を少なくとも部分的に包囲する蒸発バリヤを感光層の方を向いている投影レンズの下側に配置することにより達成される。本発明のこの第2の態様によれば、液浸空間における温度勾配の形成につながる主要な原因の1つは大部分排除される。蒸発バリヤは、液浸液が周囲ガス容積中に大規模に蒸発するのを防ぐ。この目的で、蒸発バリヤは例えば、互いにある距離をおいて配置されている、例えば円形または多角形の形状を有する1個以上の少なくともほぼ同心のリングを含む。このようにして、周囲ガスとの境界面は、液浸液がほとんど蒸発しない程度に縮小される。本発明のさらなる態様によれば、液浸空間を包囲しそれと流体連通している外室内で液浸液の蒸気相が多くなるという、液浸液の蒸発が完全にまたは少なくとも部分的に防止される。この外室内で液浸液の蒸気相が多くなることによって、外室内の蒸気圧は、ほとんどいずれの液浸液も液相から蒸気相に移行できないほどまで増加される。理想的な場合、外室内の蒸気相の圧力は、外室内で支配的な温度時の蒸気相の飽和蒸気圧に少なくともほぼ等しいように調整される。この場合、蒸気相から凝縮すると同時に、まさに同じ量の液浸液が、液浸液と蒸気相との間の境界面において蒸発する。この平衡の結果、境界面の近傍における液浸液の温度は不変のままである。外室において液浸液の蒸気相を産生するために、外室に液浸液の蒸気相を導入する供給装置を設けてもよい。以下に説明する実施態様は、本発明の全部の上記の態様とともに、またそれらとは独立してでも、有利に使用することができる。液浸液のための供給管は、液浸空間を横方向かつ下方に区画する壁に、例えば締付または圧入により、標準的に確実に接続される。これは外部からの振動を液浸液に伝えるかもしれない。特に測定装置に関して、そのような振動を回避するために、液浸空間内に到る管のための開口をそうした壁に設けることができる。開口の寸法は、液浸液が管と壁との間に残存する隙間に進入できるが、粘着力の結果として前記隙間から流出できないように、管の外部寸法よりも十分に大きい。従って粘着力が開口の領域において壁のシールを生じるが、管はそこで長手方向に変位可能である。管から壁への、そしてそこから液浸液への振動の伝達は、液で充填された隙間によって相当に低減される。加えて、液浸液を検出するための検出器が設けられれば有利である。特に、液浸液がリングまたは容器によって横方向に区画されていない投影露光装置または測定装置に関して、液浸液がそのために設けられた領域内部にまだ存在しているか、または例えば慣性力の結果としてその領域を離れたかどうかを確かめることがしばしば必要である。検出器の助けにより、液浸液が既定の閉じた面を離れたかどうかを決定することが可能かもしれない。この閉じた面は好ましくは、投影レンズの直下の感光層上の面である。そのような検出器は例えば、ループの様態で閉じた面のまわりに好適に置かれた2個のほぼ平行な導体がキャパシタを形成することで、実現させることができる。液浸液が導体間の空間に進入すると、誘電率の増加を引き起こし、それによってキャパシタのキャパシタンスが増加する。このキャパシタンスの増加は、それ自体は既知である、キャパシタンスを測定するための適切な測定回路により単純な方式で検出される。上述した本発明の実施態様は、投影露光装置に関して主に説明した。しかしそれらは、投影レンズを測定するための測定アセンブリが投影露光装置とごくわずかに異なるだけであることから、結像特性を決定するための測定装置に関して等しく有利に使用される。例えば、測定装置はまた、測定光を生成しそれを投影レンズに結合するある種の照明システムを含む。いずれの感光性試験層も測定中に露光されない場合、液浸空間は試験光学部品によって下方に区画される。トワイマングリーンまたはフィゾー干渉計の場合、例えば、この試験光学部品はミラーとすることができ、モアレまたはシヤリング干渉計の場合それは回折格子とすることができ、そしてハルトマンシャックセンサの場合それはグリッドオブポイントgridofpointsマスクとすることができる。液浸液が像側の投影レンズの最終光学素子とそうした試験光学部品との間の隙間に導入される場合、この液浸液の温度安定化もまた要求される。試験光学部品は一般に、走査動作用に設計された投影露光装置におけるウェハと異なり、像面内で移動しないので、液浸空間における液浸液がそのような移動の結果として混合されないことにより、より高い温度勾配が生じる。他方、上述の手段の一部は、走査動きの結果として起きる設計上の困難がそれらの事例で起こらないことから、そうした測定装置に特に適している。液浸空間を下方に区画するそのような静止した試験光学部品は、熱が試験光学部品を通じて指定の様態で放散することを可能にする。例えば、試験光学部品が光に少なくとも部分的に透明である区域を含んでおり、そしてこの区域が少なくとも部分的に別の区域によって包囲されている場合、この他方の区域は光透過性区域が構成される材料よりも高い熱伝導率を有する材料で製作することができる。一例がガラス/金属材料の組合せである。ガラスの区域を包囲している金属は、その上方に位置する液浸液のための効率的な熱放散を保証する。本発明の種々の特徴および利益は、添付図面と関連づけてなされる以下の詳細な説明を参照してより容易に理解されるかもしれない。図1は、相当に簡略化した表現で10によって全体として指示されたマイクロリソグラフィ投影露光装置のメリジオナル断面を示している。投影露光装置10は、投影光13を生成するための照明システム12を含み、後者は光源14、16で指示された照明光学系と開口18を備える。例示された実施形態において、投影光13は193nmの波長λを有する。投影露光装置10はまた、多数のレンズを包含する投影レンズ20も含み、そられのうちの一部だけが簡明の理由で図1に例として示されており、それらはL1~L5によって指示されている。投影レンズ20は、投影レンズ20の物体平面22に配置されたマスク24を縮尺して感光層26上に結像させる働きをする。例えばフォトレジストである層26は、投影レンズ20の像面28に配置され支持体30に適用される。支持体30は、トラバース装置によって詳細に図示されていない様態で像面28に平行に移動可能なたらいのような上方に開いた容器32の底部に固定されている。容器32は、投影レンズ20の像側の最終レンズL5が投影露光装置10の動作中に液浸液34に浸漬される液位まで液浸液34が満たされている。レンズの代わりに、投影レンズ20の像側の最終光学素子は、例えば平行平面端板とすることもできる。液浸液34の屈折率は、感光層26の屈折率におおよそ一致する。193nmまたは248nmの波長を有する投影光の場合、例えば、高純度脱イオン水が液浸液34として可能である。157nmといったより短い波長では、例えば、Demnum登録商標やFomblin登録商標を含む商品名で市販されているペルフルオロポリエーテルPEPEが適切である。容器32は入口管36と出口管38によってコンディショニングユニット40に接続されており、その中には循環ポンプおよび、液浸液34を浄化するためのフィルタを含む要素が収容されている。コンディショニングユニット40、入口管36、出口管38、容器32は一緒に、42で指定された液浸装置を形成し、そこでは液浸液34が浄化され一定の温度に維持されながら循環する。液浸液34の温度は、投影レンズ20による結像が基準温度から逸脱した場合に焦点合わせエラーやイメージシェル欠陥によって損なわれるので、できる限り正確に設定されなければならない。そのような結像欠陥は転じて、露光に使用可能なプロセス窓のサイズの縮小につながることがある。図2は、図1に図示された投影露光装置の拡大部分を示しており、ここにさらなる詳細を見ることができる。図2において、投影レンズ20の像側の最終レンズL5と感光層26との間にある隙間以下、液浸空間と呼ぶが44で指定されている。簡明の理由で、液浸空間44の高さh、すなわち投影レンズ20の像側の最終光学素子と感光層26との間の軸方向距離は、図2や他の図で表現された通り相当に誇張されているが、実際には、高さhはせいぜい1または数ミリメートルのオーダである。例示された実施形態で、液浸空間44は、46によって指示された循環方向で投影レンズ20を通過して流れる液浸液34で完全に満たされている。13によって指示された投影光は、像側の最終レンズL5を経て液浸液34に進入し、液浸液34の、図2において灰色に影を付けた容積48の区域を通り抜ける。容積48の形状は、投影レンズ20の開口数NAと、投影レンズ20によって感光層26上に投影される明視野の幾何学形状に依存する。液浸液34は与えられた波長の投影光13についてわずかではあるが吸収があるので、投影光13の一部は容積48内部で吸収される。適切な対策が取られない限り、このようにして放出された熱は、容積48の周囲の液浸空間44の区域内に流入する。そこの温度がより低いからである。外方に放散する熱は、容積48内でも温度勾配の形成につながる。液浸液34の屈折率が温度依存性であるので、容積48内でのこの温度勾配は、屈折率における対応する勾配を生じる。そのような勾配は、ある一定の程度を超えた場合に許容できない結像欠陥となって現れる屈折力を生じる。この作用は、容積48において吸収によって産生される熱が対流によってはまったく運び去られないか、またはわずかに運び去られるにすぎず、液浸空間44の液浸液34がまったく移動しないか、または緩慢に移動するにすぎない場合に特に強く起きる。この理由で、液浸液が大きな流速で循環しない、または永久的に循環しない液浸装置は、これらの熱誘起作用によって特に影響される。さらに、液浸液34と、例えば空気または、ヘリウムまたは窒素といった不活性ガスである周囲ガスまたはガス混合物との間の境界面も温度勾配の形成に関与する。図1、2において47で指定されたこれらの境界面で液浸液34が蒸発し、蒸発熱を消費する。このようにして、液浸液34は、容積48が投影光13によって加熱されている間に境界面49では連続的に冷却される。温度勾配に伴う結像欠陥を低減するか、または完全に回避するために、伝熱要素が設けられる。図1、2の実施形態において、この伝熱要素は、液浸液34に浸漬している投影レンズ20の下面49にはめ込まれた加熱可能リング50として実現される。リング50から放出された熱が、図2で矢印52によって指示されているように、熱伝導によって液浸液34に伝達される。このようにして、容積48の周囲の液浸空間44の区域は付加的に加熱され、温度勾配の形成を打ち消す。リング50の幾何学形状は、容積48の形状に適応される。矩形の明視野の場合、例えば、伝熱要素50は矩形リングとして構成することもできる。当然、連続的リングを、投影レンズ20の下面49に対応する幾何学形状で分散させた複数の個別の伝熱要素で代替させることも可能である。図3、4は、それぞれ、部分的透視図と軸方向断面による別の実施形態の投影露光装置を示している。この実施形態において、液浸液34は、容器32内に位置しておらず、粘着力だけによって液浸空間44に保持されている。例示した実施形態において、投影レンズ20の像側の最終光学素子は、レンズではなく平行平面端板54である。そこには、ほぼ矩形の横断面を有する56によって指示された投影光ビームが示されている。端板54とその端板54の下の液浸空間44に位置する液浸液34を通過した後、投影光ビーム56は、感光層26上で矩形の明視野58を生成する。この実施形態において、温度勾配は図1、2において示されたものよりもいっそう急激である。というのも、液浸液34と周囲ガスとの間の境界面47がその境界面47は蒸発の結果として比較的冷たいこの場合、容積48によりいっそう近く位置しているからである。加えて、この実施形態において、液浸液34は、循環されず、液浸空間44に長期間にわたり留まる。この場合、温度分布の一定の均一化は、感光層26が露光の間に投影レンズ20を通過して移動させられるときの、矢印60によって示された横動き60の結果としての液浸液34の混合によってのみ付与される。図3、4に例示した実施形態において、主要な温度勾配の形成を打ち消すために、化学的に不活性で電気絶縁性のシーズによって包囲されている環状加熱ワイヤ501を通じて熱が液浸液34に供給される。加熱ワイヤ501は、電源用バッテリおよび制御装置が統合されている制御ユニット62に接続されている。制御ユニット62は、予め定めた値に従って加熱ワイヤ501の発熱出力を調整する機能を有する。制御装置の代わりに、液浸液34の温度を測定するための温度センサを含む温度調節システムを設けてもよい。例示された実施形態において、加熱ワイヤ501は、投影光ビーム56が通り抜ける容積48のまわりに配置されたループの形態であり、それにより容積48の外側に位置する液浸液34が加熱ワイヤ501によって一様に加熱される。加熱ワイヤ501は、容積48のまわりにきちんと配置される。さらに、円形以外の加熱ワイヤ501の形状も、当然、本願の文脈において考えられる。図5は、図3における表現に基づくさらなる実施形態を示しており、温度勾配を低減させるために伝熱要素がどのように構成されるかを示す。この実施形態において、液浸空間44は、投影レンズ20の下面49に固定されたリング62によって横方向で区画されている。リング62は、感光層26が横移動60の間にリング62の下方でやっと移動できる程度まで軸方向下側に延びている。リング62は、相対的に速い横動き60で液浸液34が液浸空間44から逃げないようにする効果がある。加えて、周囲ガスまたはガス混合物との境界面47は著しく縮小され、液浸液34はリング62の下に残っている高さdの狭い隙間を通じてのみ蒸発できるだけである。温度分布を均一にするために、リング62を加熱可能である。この目的で、例えば温水または熱風といった加熱媒体が循環できる環状コンジット502が、リング62の下部に配置される。図6は、さらなる実施形態に従った投影露光装置を部分的な軸方向断面図で示している。この場合、伝熱要素は、電気的に加熱可能であり投影レンズ20の周辺部のまわりに分散された平面放熱器503として実現される。平面放熱器503は、液浸液34を向いている面の側に黒面を、そして反対側に鏡面を有しており、それにより熱放射はほぼ液浸液34にのみ方向づけられる。約40°Cないし80°Cの温度まで加熱されると、平面放熱器503は、液浸液34として使用された水が極めて吸収性となるマイクロ波範囲の波長を有する熱放射を主に放出する。しかし代替として、伝熱要素は、例えば半導体ダイオードまたは半導体レーザーといった、電磁放射を放出する他の構成要素としてもよい。65によって指定されたものが平面放熱器503の温度を測定できる熱センサである。各々の平面放熱器503が、その平面放熱器503によって生成された熱放射を合焦しそれを液浸空間44に向けて方向づける集光レンズ66に関係づけられている。液浸液34は、主に境界面47の領域において熱放射を吸収し、局所的に加熱される。このようにして、蒸発を通じて失われる液浸液34におけるまさしくその場所に熱が発生する。熱放射の波長範囲の吸収係数が大きくなればなるほど、加熱は境界面47の領域により強く集中する。上述の動作モードの逆の実用的な例として、図6に図示された構成はまた、液浸液34を冷却するためにも使用される。この場合、平面放熱器503が、例えばペルチェ素子によって冷却されることだけが必要である。この場合、熱伝導は液浸液34のより暖かい区域から冷却された平面放熱器503への熱放射によって行われる。図6に例示した構成は、平面放熱器503を投影レンズ20の内部に配置させ、放出された熱放射が適切な出口窓を通って軸方向に液浸液34を通り抜けるような形にさらに修正させることもできる。そのような構成は特に測定装置の場合に考慮される。その場合、存在している熱放射のいずれの短波長スペクトル成分も感光層26の露光に寄与する危険がまったくないからである。図7は、別の実施形態に従った投影露光装置の類似の部分を示している。図4、6と異なり、図7は、感光層26の支持体30が取り付けられるウェハステージ70を示している。ウェハステージ70には、例示された実施形態において互いに平行に配置されたコンジット504として実現されている伝熱要素が組み込まれている。例えば湯といった高温流体がコンジット504内を流れると、コンジット504の上方に位置する支持体30と感光層26の区域は加熱される。そこから熱は、前記区域の上方に位置する液浸液34に移る。コンジット504が容積48の軸位置に関して横方向にずらされているので、伝熱は容積48を包囲する液浸空間44の区域にほぼ限定される。このようにして、液浸空間44の液浸液34はほとんど一様に加熱され、それが主要な温度勾配の形成を防ぐ。図8は、いかなる伝熱要素も存在しない投影露光装置の一部を軸方向断面において示している。この場合、液浸液34内での温度分布の均一化は、全体として72によって指定された蒸発バリヤが投影レンズ20の下面49に固定されることにより達成される。蒸発バリヤ72は、合計4個の同心に配置されたリング741、742、743、744よりなり、これらは液浸空間44を横方向に、すなわち光軸に対し垂直に区画している。リング741~744は、図5に図示された実施形態の場合とやはり同様に、リング741~744の自由端が感光層26から離れるような幅を軸方向に有する。このようにして、感光層は蒸発バリヤ72によって損傷を受けることがない。液浸空間44の内部に位置する液浸液34は、リング741と感光層26との間に残存する隙間76を通って逃げないように粘着力によって防止される。リング741~744の千鳥形配列によって、周囲ガスまたはガス混合物が隙間76のまわりに流れ、それによって蒸発を促進することもまた防止される。反対に、蒸発した液浸液34はリング741~744間の隙間に主に残存し、それによって液浸液の蒸気圧がその場所において増加する。周囲ガスの蒸気圧が増加するにつれて蒸発は減少するので、蒸発抑止効果がこのようにして付加的に達成される。これは転じて、比較的小さい温度勾配だけが液浸空間44内部で形成されるという結果をもたらす。図9は、図1に図示されたものに類似の投影露光装置10’の一部を示している。しかし、投影露光装置10’の場合、液浸液34が位置する容器32は、まわり全体が気密式にシールされた室78に収容されている。室78は投影レンズ20が通る開口82を有するフード状カバー80によって実質的に形成されている。加えて、投影露光装置10’は、液浸液34用のタンク86と蒸発器88を含む要素が収容されている供給装置84を含む。供給装置84は、蒸気圧を増加させるために室78に蒸気相の液浸液を導入する機能を有する。この目的で、タンク86から引き出された液浸液が蒸発器88で蒸発し、コンジット90によって室78に供給される。液浸液の蒸気相は、出口92を通じてバルブ制御式に室78から吐出される。室78内部の増加した蒸気圧によって、少量の液浸液34だけが液相の液浸液34と蒸気相との間の境界面47で蒸発する。室78において支配的な温度に飽和蒸気圧が達すると、周囲の蒸気相から逆に凝縮するのとまったく同じ量の液浸液34が境界面47において蒸発する。従って、室78において飽和蒸気圧に達すると、容器32に位置する液浸液34を冷却するいかなる蒸発熱も消費されない。このようにして、図8に図示された実施形態によるものと類似の効果が、蒸発バリヤ72の備えを要することなく得られる。従って、投影露光装置10’は、液浸液34を閉じた循環で液浸空間44内を通して導くことができる。図10は、図9に例示された投影露光装置10’の拡大部分Aを示している。図10において、液浸液34用の入口管36が貫通する容器32の壁94を見ることができる。この目的で、入口管36が容器32の内部に貫通する開口96が壁94に設けられている。開口96の寸法は、液浸液34が浸透できる円周隙間98が入口管36と壁94との間に残るように選定される。他方で、隙間98は、いかなる液浸液34も隙間98を通じて容器32から漏れることができない程度に狭い。このようにして、支持99によって保持されている入口管36は、容器32の壁94に流体中で浮動するように取り付けられている。その結果、例えば入口管中の流れの乱れまたは処理装置40のポンプによって生じ得る管36の振動は、容器32に伝達されない。入口と出口管の上述の衝撃絶縁取付は、特に測定装置にとって重要である。図11は、全体として10によって指示された投影露光装置の別の実施形態の一部を図式的に示している。投影露光装置10において、衝撃を回避するために、液浸液34は、ポンプによって容器32内に導かれるのではなく、重力によってのみ行われる。この目的で、液浸液34用のタンク100は液浸空間44の上方に配置されている。バルブ104によって制御される液浸液34は、タンク100から容器32に導かれる。一般にポンプの使用では完全に回避できない、流速や振動の周期的変動が、投影露光装置102では起こらない。この実施形態において、容器32からの出口管38は、液浸液34が第2のバルブ108を通過した後に回収される中間タンク106に接続されている。そこから液浸液は、ポンプ110によってコンディショニングユニット40を経てタンク100に戻される。タンク100と中間タンク108によってポンプ110が容器32の液浸液34から分離されているので、ポンプ110によって発生する流速の変動は、中間タンク106とタンク100との間の管系に閉じ込められる。ポンプによって生じる衝撃を回避する別の可能性は、投影の休止の間だけに容器32の液浸液34を循環させることにある。その場合、図11に示された容器100と106は省くことができる。図12、13は、さらなる実施形態に従った投影露光装置10をそれぞれ透視図と軸方向断面で示している。投影露光装置10は、液浸空間44からの液浸液34の望ましくない流出を検出する、全体として120によって指示された検出器を含む。この目的で、検出器120は、軸方向で互いに平行に配置され、測定回路126と接続された2個の導電性ループ122、124を有する。2個の導電性ループ122、124はキャパシタを形成し、そのキャパシタンスは導電性ループ122、124間に位置する誘電材料を含むファクタに依存する。例えば、液浸液が脱イオン水であり周囲ガスが空気である場合、誘電率の差は約80である。液浸空間44からの液浸液34が、128で指示されているように、導電性ループ122、124間の隙間に進入した場合、導電性ループ122、124間に存在する媒体の誘電率はその場所で局所的に増加する。導電性ループ122、124によって形成されたキャパシタのキャパシタンスの随伴する上昇は、測定回路126によって検出される。既定のしきい値を超えた場合、測定回路126は、例えば、液浸液が導電性ループ122、124によって形成された領域の外部に通り出たことを指示する信号を生成できる。上記の実施形態は投影露光装置に関して検討した。しかしそれらは、適宜若干の修正により、投影レンズの光学結像特性を決定できる測定装置に移植可能である。そのような測定装置は一般に、感光層26のための支持30の代わりに、投影レンズ20の像側に配置される試験光学部品を含む。この試験光学部品は、例えば、ミラー、回折格子、CCDセンサまたは感光性試験層とすることができる。そのような測定装置は、投影露光装置の照明システムに取って代わる別個の光源を含む場合が多い。本発明の上述の実施形態および態様のいくつかは、特定の測定装置で特に有利に使用される。シヤリング干渉計に関して、これは、例えば図3~5に示した変形例の場合や図10に示した管の浮動取付の場合に有利であり、図11に例示した引力を利用した循環はモアレ干渉計で特に有利である。図14は、軸方向断面において点回折干渉計PDIのピンホールマスクを図式的に例示している。そのような点回折干渉計や、それによって必要とされるピンホールマスクは、従来技術においてそれ自体は既知であり、従ってそのさらなる詳細の説明は省略できる。ピンホールマスク140は、半透明層144が加えられたガラス体142から構成される。ピンホールマスク140のほぼ中心に、半透明層144における小さいピンホール開口146がある。測定光に露光される容積48を包囲する区域における前記半透明層144の上方に位置する液浸空間44の液浸液34を加熱できるようにするために、例えば温水といった流体加熱媒体が貫流するコンジット148がガラス支持体142に組み込まれている。このようにして、ガラス支持体142の周辺部は一様に加熱され、それによってその上方に位置する液浸液34の温度は局所的に増加する。図15は、図14に対応する図で、140’によって指示されたピンホールマスクの別の実施形態を示している。この実施形態において、ピンホールマスク140は、その中心にガラス挿入物150が組み込まれている金属支持体142’より構成される。例えば円錐台の形態を有するとしてよいこのガラス挿入物150は、測定光が金属支持体142’の周囲の金属に到達することなくガラス挿入物150を通り抜けることができるような寸法にされている。測定光が通り抜ける容積48が半透明層144を介して金属支持体142’に大部分接しており、その小部分だけがガラス挿入物150に接しているので、測定光の吸収により容積48において解放された熱は、金属支持体142’を通じて効率的に放散される。このようにして、金属支持体142’の高い熱伝導率は、液浸空間44内でわずかな温度勾配のみを許すことに寄与する。