"電子放出源用炭素材料、リン酸系ガラス、および平均粒径が0.1~1.0μmの導電性粒子を含む電子放出源用ペーストであって、リン酸系ガラスがP2O5成分を25~70モル含むものであり、導電性粒子が導電性酸化物を含む粒子、あるいは酸化物表面の一部または全部に導電性酸化物がコーティングされた粒子である電子放出源用ペースト。リン酸系ガラスがP2O5-SnO系、P2O5-SnO-ZnO系またはP2O5-ZnO系である請求項1に記載の電子放出源用ペースト。電子放出源用炭素材料が、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、カーボンナノコイルおよびカーボンナノファイバーからなる群より選ばれる1種以上である請求項1または2のいずれかに記載の電子放出源用ペースト。電子放出源用炭素材料とリン酸系ガラスの合計重量に対するリン酸系ガラスの重量比が0.30~0.90である請求項1~3のいずれかに記載の電子放出源用ペースト。リン酸系ガラスと導電性酸化物粒子の合計重量に対するリン酸系ガラスの重量比が0.30~0.80である請求項1~4のいずれかに記載の電子放出源用ペースト。請求項1~5のいずれかに記載の電子放出源用ペーストを用いて製造された電子放出源。請求項1~5のいずれかに記載の電子放出源用ペーストを用いて製造された電子放出素子。請求項1~5のいずれかに記載の電子放出源用ペーストを用いた電子放出源の製造方法。請求項1~5のいずれかに記載の電子放出源用ペーストを用いた電子放出素子の製造方法。しかし、特許文献1および2に記載の方法では、電子放出源用炭素材料とカソード基板との接着性をより強めるためにガラス粉末の含有量を増すと電子放出源の導電性が低下し、逆に電子放出源の導電性をより向上させるために導電性物質の含有量を増すと電子放出源用炭素材料とカソード基板との接着性が低下するという課題があった。本発明は、上記課題に着目し、電子放出源用炭素材料とカソード電極基板との接着性および電子放出源の導電性をともに良好に保つことができ、低電圧で電子放出可能な電子放出源を提供することを目的とする。すなわち、本発明は電子放出源用炭素材料、リン酸系ガラス、および平均粒径が0.1~1.0μmの導電性粒子を含む電子放出源用ペーストであって、リン酸系ガラスがP2O5成分を25~70モル含むものであり、導電性粒子が導電性酸化物を含む粒子、あるいは酸化物表面の一部または全部に導電性酸化物がコーティングされた粒子である電子放出源用ペーストおよびこれを用いた電子放出源である。本発明によれば、電子放出源用炭素材料とカソード電極基板との強い接着性および電子放出源の導電性をともに良好に保ち、低電圧に電子放出可能な電子放出源を提供することができる。さらに、本発明によれば、耐久性寿命の優れた電子放出源を提供することができる。本発明の電子放出源用ペーストは、電子放出源用炭素材料、リン酸系ガラス、および平均粒径が0.1~1.0μmの導電性粒子を含み、リン酸系ガラスがP2O5成分を25~70モル含むものであり、導電性粒子が導電性酸化物を含む粒子、あるいは酸化物表面の一部または全部に導電性酸化物がコーティングされた粒子以下、導電性酸化物系粒子というである。電子放出源用炭素材料は、カーボンナノチューブ、カーボンナノコイル、カーボンナノホーン、カーボンナノファイバー等を用いることができる。以下の説明では、炭素材料としてカーボンナノチューブ用いた場合を例に詳細に説明するが、その内容は炭素材料をカーボンナノコイル、カーボンナノホーン、カーボンナノファイバー等に置き換えても同様に当てはまる。カーボンナノチューブは、単層、2層、および3層以上の多層カーボンナノチューブの中で、どのカーボンナノチューブを用いてもよい。層数の異なるカーボンナノチューブの混合物としてもよい。また、アモルファスカーボンや触媒金属等の不純物を熱処理や酸処理等によって精製することが好ましい。カーボンナノチューブは、複数のカーボンナノチューブが絡まりあった凝集体として存在していることが多いため、あらかじめボールミルやビーズミルでカーボンナノチューブ粉末を粉砕して用いてもよい。カーボンナノチューブ濃度は、ペーストの固形分に対して0.1~10wtとするとスクリーン印刷等の塗布に適した粘度となるため好ましい。また、本発明の電子放出源用ペーストは、低軟化点ガラスとして一般的な鉛系ガラスやビスマス系ガラスを含む電子放出源用材料や、導電性粒子として金属を含む電子放出源用材料と比較して、耐久性に優れている。その理由は、ペースト中においてカーボンナノチューブの分解が生じないためであると推定される。反応ギブズエネルギー変化から導かれるところによれば、カーボンナノチューブの炭素は、鉛系ガラスやビスマス系ガラスを構成する酸化鉛成分や酸化ビスマス成分の酸素により酸化されるが、本発明の電子放出源用ペーストに含まれるガラスによっては酸化されることはない。また、金属を含む電子放出源用材料においては、銀、銅、ニッケル、鉄等の金属粒子が触媒活性をもつことがあり、金属表面に形成された金属酸化物の酸素によりカーボンナノチューブの炭素が酸化されることがある。しかし、本発明における導電性粒子は導電性酸化物を含むものであり、カーボンナノチューブの分解に影響を与えない。リン酸系ガラスは、P2O5-SnO系、P2O5-SnO-ZnO系、P2O5-ZnO系が好ましく挙げられる。後述するように、導電性粒子を構成する成分の少なくとも一部である導電性酸化物として、ITO、SnO、ZnO、AZO、GZO等が好ましく用いられるためである。ガラス構成成分と導電性酸化物成分が共通していることが好ましい。なお、本明細書においてP2O5-SnO系ガラスとは、P2O5成分とSnO成分の合計量がモル表示の酸化物換算で40モル以上であるものをいう。P2O5-SnO-ZnO系、P2O5-ZnO系についても同様に、各成分の合計量がモル表示の酸化物換算で40モル以上であるものをいう。P2O5成分は、ガラス構造としての網目形成酸化物として必須である。P2O5成分の含有量は、モル表示の酸化物換算で25~70が好ましい。再溶融時に結晶化を抑え、また耐水性を維持することができる。より好ましくは30~70である。SnO成分は、ガラスの軟化点を下げ流動性を増加させることができる。SnO成分の含有量は、モル表示の酸化物換算で0~70である。ZnO成分は、ガラスの軟化点を下げ流動性を増加させることができ、ガラスの安定化、化学的耐久性向上の効果がある。ZnO成分の含有量は、モル表示の酸化物換算で0~55である。その他にLi2O、K2O、Na2O、BaO、CaO、B2O3、In2O3、ZrO2、MgO、TiO2、SiO2、Al2O3、SrO成分等を含んでもよい。リン酸系ガラスを含むことが電子放出における耐久性に優れている点について、さらに詳細に説明する。本発明の電子放出源用ペーストに含まれるガラス成分については、aMxOybC=cMdCO21という反応のギブズエネルギー変化を計算したとき、反応が右に進まない成分が好ましい。ここで、Mは金属または半金属、Oは酸素、Cはカーボンナノチューブを構成する炭素グラファイト炭素を代用する、x、y、a、b、c、dは各成分の組成式と化学量論比に対応する係数である。この反応の向きは、以下のように計算することができる。MxOyの生成ギブズエネルギーは、xMy/2O2=MxOyを反応式として、ΔfGMxOyであり、これを酸素1mol当たりの生成ギブズエネルギーに直すと、2x/yMO2=2/yMxOyを反応式として2/yΔfGMxOy=ΔfGO21mol当たりのMxOyで与えられる。また、CO2の生成ギブズエネルギーは、CO2=CO2を反応式として、ΔfGCO2で与えられる。これらを比較するとΔfGCO2-ΔfGO21mol当たりのMxOy≧02のとき、式1の反応は右に進まない。ΔfG=ΔfH-TΔfSであるため、標準生成エンタルピーΔfH0と、標準生成エントロピーΔfS0が分かれば、各温度TKにおける反応の進む向きを知ることができる。以下に、P4O10酸化リンの組成式はP2O5であるが、分子式はP4O10であるとBi2O3を例に具体的に計算する。化学便覧基礎編改訂5版、10章熱的性質、日本化学会編、丸善、2004年のII-291~300ページにある単体と無機化合物の標準生成エンタルピー、標準エントロピー、標準生成ギブズエネルギーT=298.15Kのデータを用いると、各生成ギブズエネルギーは、ΔfGO21mol当たりのBi2O3=-382.7179.7/1000TΔfGO21mol当たりのP4O10=-539.6192.1/1000TΔfGCO2=-393.5-2.9/1000Tである。298.15Kのときに各生成ギブズエネルギーを比較すると、ΔfGCO2-ΔfGO21mol当たりのBi2O3<0ΔfGCO2-ΔfGO21mol当たりのP4O10>0となり、Bi2O3はカーボンナノチューブを分解し、P4O10はカーボンナノチューブを分解させないことが分かる。すなわち、本発明においてリン酸系ガラスを用いることは好ましい。このような具体例として、SnO、SnO2、In2O3、Li2O2、Li2O、K2O、Na2O、SrO、BaO2、ZnO、B2O3、SiO2、TiO2、BaO、Al2O3、ZrO2、MgO、CaO、Sb4O6、NiO、Fe0.947O、Fe2O3、Fe3O4等が挙げられる。このような成分は298.15Kにおいて式2を満足し、カーボンナノチューブを分解しないため、リン酸系ガラス成分中に含まれていてもよい。一方、Ag2O、CuO、Cu2O、PbO、PbO2、Pb2O3、Pb3O4、Bi2O3等は前記式1で表される反応のギブズエネルギー変化を計算したとき、298.15KにおいてΔfGCO2-ΔfGO21mol当たりのMxOy<0となる成分である。これらはカーボンナノチューブを分解しうるので、リン酸系ガラス成分中に少量なら含まれていてもよいが、できるだけ含有量が少ないことが好ましく、実質的に含まれないことがより好ましい。なお、実質的に含まれないとは、走査型電子顕微鏡S-4800に組み合わされたエネルギー分散型X線分析装置EMAXENERGYEX-250で検出されないことを指す。また、式1で表される反応はペーストの焼成工程においても生じないことが好ましい。そのためには、焼成の最大温度においても式2が満足されることが好ましい。そのような具体例としては、SnO、SnO2、In2O3、Li2O2、Li2O、K2O、Na2O、SrO、BaO2、ZnO、B2O3、SiO2、TiO2、BaO、Al2O3、ZrO2、MgO、CaO等が挙げられる。一方、例えばNiOの場合は、298.15KではΔfGCO2-ΔfGO21mol当たりのNiO=28.8>0であるが、723.15K450°CではΔfGCO2-ΔfGO21mol当たりのNiO=-52.8<0であるため、焼成中にカーボンナノチューブの分解が起こる可能性がある。このような成分としては他に、Sb4O6、Fe0.947O、Fe2O3、Fe3O4等が挙げられる。なお、上記の理由から、本発明の電子放出源用ペーストにおいては、リン酸系ガラスを含まない場合であっても式2を満足するガラスが含まれていれば、電子放出における耐久性に寄与することが理解される。すなわち、ガラス中のMxOyで表される成分の少なくとも一部が、aMxOybC=cMdCO21で表される反応のギブズエネルギー変化を計算したとき、298.15KにおいてΔfGCO2-ΔfGO21mol当たりのMxOy≧02ここで、ΔfGCO2はCO2の生成ギブズエネルギー、ΔfGO21mol当たりのMxOyは酸素1mol当たりのMxOyの生成ギブズエネルギーである。となるガラス成分を含んでいることも、リン酸系ガラスを含む場合と同様、好ましい態様として挙げられる。特に、ガラスが式2を満足する成分のみからなっている場合は、カーボンナノチューブを分解させる成分が含まれないため、電子放出における耐久性をより向上させることができる。なお、ガラスが式2を満足する成分のみからなっている場合とは、式2を満足しない成分が走査型電子顕微鏡S-4800に組み合わされたエネルギー分散型X線分析装置EMAXENERGYEX-250で検出されず、実質的に含まれていないとみなせる場合を含む。一方、リン酸系ガラスと導電性酸化物系粒子を電子放出源用ペースト中に共存させることは、本発明の別の特徴である。一般的に、接着成分としてガラス粉末を含む電子放出源用ペーストは、カソード電極基板に塗布された後、熱処理工程でガラス粉末が軟化することによって、カーボンナノチューブとカソード電極との接着性を得ることができる。しかし、ガラス粉末は絶縁体であるため、カーボンナノチューブとカソード電極との良好な電気的接触が保てず、電子放出可能な電圧が上昇する。一方、導電性を付与するために電子放出源用ペースト中に導電性粒子を添加すると、導電性粒子がガラス粉末による接着を妨げ、カーボンナノチューブとカソード電極との接着性が低下する。特に、導電性粒子として金属や黒鉛等を用いた場合には良好な接着性を保つことは困難であるが、これは、金属や黒鉛等はガラスとの濡れ性等が劣るためと考えられる。接着性が低下すると、後の工程であるテープ剥離法等の活性化工程で電子放出源の剥がれが増加する。これに対し、リン酸系ガラスと導電性酸化物系粒子中の導電性酸化物が接触すると、強固に接着可能であることが分かった。これは、熱処理工程で導電性酸化物表面がガラス領域に溶解するためであると推定される。したがって、電子放出源の耐久性と、電子放出源用炭素材料とカソード電極基板との強い接着性をともに得るという点においては、リン酸系ガラスと導電性酸化物系粒子を用いることが好ましい。リン酸系ガラスは、熱処理によって有機物を電子放出源用ペースト塗膜から除去する工程において軟化し、カーボンナノチューブとカソード電極基板を接着させることが必要とされる。カーボンナノチューブの耐熱性が500~600°Cであることと、基板として安価なソーダライムガラス歪点約500°Cを用いることを考慮すると、リン酸系ガラスの軟化点は500°C以下が好ましく、400°C以下がさらに好ましい。前記軟化点を有するリン酸系ガラスを用いることで、熱処理工程におけるカーボンナノチューブの焼失を抑制し、ソーダライムガラスなどの安価な基板ガラスを使用することができる。また、電子放出源用ペースト塗膜から有機物を除去するために、リン酸系ガラスの軟化点は320°C以上が好ましい。リン酸系ガラス表面に有機物の焼成残渣が付着しにくくなるからである。なお、本発明におけるガラスの軟化点とは、示差走査熱量計DSCを用いて、アルミナ粉末を標準試料として、室温から20°C/分で昇温して得られたDSC曲線における最初の吸熱ピークのピークトップの温度である。カーボンナノチューブとリン酸系ガラスの合計重量に対するリン酸系ガラスの重量比率は0.30~0.90であることが好ましい。この範囲とすることで、カーボンナノチューブとカソード電極との接着性をより十分に保持しつつ、より低電圧で電子放出できる。リン酸系ガラスは粉末状のものを利用することができる。リン酸系ガラスが電子放出源中で軟化して密なネットワークをつくり、カーボンナノチューブとカソード電極とのより良好な接着性を得る観点、及び電子放出源の表面凹凸を低減する観点から、リン酸系ガラス粉末の平均粒径は1.0μm以下が好ましい。より好ましくは0.8μm以下である。ここで、ガラスの平均粒径とは数平均粒径であり、走査型電子顕微鏡S4800、株日立製作所を用いて測定することができる。本発明における数平均粒径とは、粒子の中心を通る線で最も長いところを粒径として、測定した数で割ることによって得られる平均値とする。各粒子の粒径は20,000倍で測定可能な粒子をランダムに100個選ぶことにより測定する。なお、粒子の粒径が0.1μm以下の粒子数が90以上である場合は、50,000倍で測定可能な粒子をランダムに100個選ぶことにより測定する。平均粒径が0.1μm以上のものは小数第2位を四捨五入し、0.1μmより小さいものは小数第3位を四捨五入する。本発明に用いられる導電性粒子は、導電性酸化物を含む粒子、あるいは酸化物表面の一部または全部に導電性酸化物がコーティングされた粒子である。導電性酸化物としては、ITO、SnO、ZnO、AZO、GZO等が好ましい。また、酸化チタン、酸化ケイ素などの酸化物表面の一部または全部に導電性酸化物がコーティングされたものも好ましい。粒径を制御しやすいという点で酸化物表面の一部または全部に導電性酸化物がコーティングされたものがより好ましく、コーティングしやすいという点で、導電性酸化物がSnOであることがさらに好ましい。さらに、導電性粒子の平均粒径が0.1~1.0μmであることによって良好な導電性を得ることができ、低電圧で電子放出が可能となる。0.1μmよりも小さいと、導電性粒子の接点の数が多くなり、逆に抵抗が増加する。その理由は、接点にはバインダーなどの有機成分の焼成残分などに由来するアモルファスカーボンが堆積することが多いため、接点の数が多くなると導電性粒子間の抵抗が接点の数だけ加算され、直列抵抗が大きくなるためであると推定される。また、1.0μmより大きいと、軟化したガラスが密なネットワーク構造をつくれず、カーボンナノチューブとカソード電極との接着性が低下する。さらに、電子放出源の表面の凹凸が大きくなり、均一な電子放出を得ることが難しくなる。導電性粒子の平均粒径は、より好ましくは0.1~0.6μmである。0.6μm以下では、電子放出源の表面凹凸をさらに小さくすることができる。なお、導電性粒子の平均粒径とは数平均粒径であり、ガラスの場合と同様の方法で測定、算出されるものである。導電性粒子は、ガラスと導電性粒子の合計重量に対するガラスの重量比率が0.30~0.80となることが好ましい。この範囲とすることで、カーボンナノチューブとカソード電極との接着性をより十分に保持しつつ、導電性を良好なものとして、より低電圧で電子放出できる。また、本発明の電子放出源用ペーストは、バインダーと溶媒を含むことが好ましい。さらに必要に応じて分散剤、光硬化性モノマー、紫外線吸収剤、重合禁止剤、増感助剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤やレベリング剤等の添加成分を含んでもよい。バインダーとしては、エチルセルロース、メチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース、ブチルセルロース、ベンジルセルロース、変性セルロースなどのセルロース系樹脂、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、n-ブチルアクリレート、n-ブチルメタクリレート、tert-ブチルアクリレート、tert-ブチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレン、α-メチルスチレン、3-メチルスチレン、4-メチルスチレン、アクリルアミド、メタアクリルアミド、アクリロニトリル、メタアクリロニトリルなど単量体のうち少なくとも1種からなる重合体などのアクリル系樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、プロピレングリコール、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂などが挙げられる。バインダーの熱分解温度は、ガラスの軟化点より20°C以上低いのが好ましい。ガラス表面にバインダーの焼成残渣が付着しにくくなる。従って、バインダーの熱分解温度は、470°C以下が好ましく、さらに好ましくは370°C以下である。ここで、バインダーの熱分解温度は、熱重量測定装置TGA-50、株島津製作所製を用いて、空気雰囲気下流量20ml/分、10°C/分で30°Cから500°Cまで昇温したときの各温度での重量を測定し、室温での重量との比が1重量以下となる温度とする。溶媒としては、バインダー樹脂等有機成分を溶解するものが好ましい。例えば、エチレングリコールやグリセリンに代表されるジオールやトリオールなどの多価アルコールや、エチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールジアルキルエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテートなどのようにアルコールをエーテル化および/またはエステル化した化合物などが挙げられる。より具体的には、テルピネオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオールモノイソブチレート、ブチルカルビトールアセテートなどやこれらのうちの1種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。本発明の電子放出源用ペーストは、各種成分を所定の組成になるよう調合した後、3本ローラー、ボールミル、ビーズミル等の混練機で均質に混合分散することによって作製することができる。ペースト粘度は、ガラス粉末、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤等の添加割合によって適宜調整されるが、その範囲は2~200Pasである。例えば、基板への塗布をスリットダイコーター法やスクリーン印刷法以外にスピンコート法、スプレー法やインクジェット法で行う場合は、0.001~5Pasが好ましい。以下に、本発明の電子放出源用ペーストを用いた電子放出源および電子放出素子の作製方法について説明する。なお、電子放出源および電子放出素子の作製は、その他の公知の方法を用いてもよく、後述する作製方法に限定されない。はじめに電子放出源の作製方法について説明する。電子放出源は、以下に説明するように、本発明の電子放出源用ペーストからなるパターンを基板上に形成後、焼成することにより得られる。まず、本発明の電子放出源用ペーストを用いて基板上に電子放出源のパターンを形成する。基板としては電子放出源を固定するものであればいかなるものでも良いが、安価で入手しやすいという点でガラス基板が好ましい。さらに基板上には導電性を有するカソード電極が形成されていることが好ましい。基板上に電子放出源のパターンを形成する方法としては、一般的なスクリーン印刷法、インクジェット法などの印刷法が好ましく用いられる。また、感光性を付与した電子放出源用ペーストを用いると、フォトリソグラフィーによって微細な電子放出源のパターンを一括で形成することができる。具体的には、スクリーン印刷法またはスリットダイコーター等で基板上に本発明の感光性を付与した電子放出源用ペーストを印刷した後、熱風乾燥機で乾燥して電子放出源用ペーストの塗膜を得る。前記塗膜に対して、上面電子放出源用ペースト側からフォトマスクを通じて紫外線を照射した後、アルカリ現像液や有機現像液などで現像して電子放出源パターンを形成することができる。次に電子放出源のパターンを焼成する。焼成雰囲気は大気中または窒素などの不活性ガス雰囲気中にて、焼成温度は400~500°Cの温度で焼成する。上記のように作製した電子放出源を備えた基板を、アノード電極と蛍光体層を有する前面板と対向させることにより電子放出素子を得ることができる。電子放出素子には、主にアノード電極によって印加される電界によって電子を引き出すダイオード構造と、アノード電極に加えてゲート電極によって電子を引き出すトライオード構造の2つの方法があるが、いずれの方法にも本発明の電子放出源を適用することができる。本発明の電子放出源用ペーストを用いて作製された電子放出源は、例えば走査型電子顕微鏡S-4800に組み合わされたエネルギー分散型X線分析装置EMAXENERGYEX-250等によって、その組成を分析することができる。前記方法を用いた具体的な分析方法としては、まず走査型電子顕微鏡を用いて電子放出源を観察することで、各成分の形状から、例えばファイバー状の構造を持つ電子放出材料、粒子状の導電性酸化物およびマトリックスとしてのガラス成分を概ね特定することができる。さらにエネルギー分散型X線分析装置を用いることで各成分の元素分析を行い、組成を特定することができる。ただし、電子放出源の分析は電子放出源の組成を特定できるものであればいずれの方法を用いても良く、これらの方法に限定されるものではない。以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。各実施例および比較例における電子放出源用ペーストで用いた原料、各実施例および比較例における評価方法は以下の通りである。<電子放出源用ペーストに用いた原料>カーボンナノチューブ:多層カーボンナノチューブシンセンナノテクポート社製、直径10nmを用いた。ガラス粉末:表1~2に記載した9種類の組成のものを用いた。ガラス2-1~2-4は、同じ組成であるが、それぞれの平均粒径がことなるものである。導電性粒子1:導電性酸化物石原産業株製、ET-500W、球状酸化チタンを核としてSnO2/SbOで被覆したもの、平均粒径0.3μmを用いた。導電性粒子2:導電性酸化物三井金属株製、パストランTypeIV酸化錫、平均粒径1.1μmを用いた。導電性粒子3:導電性酸化物石原産業株製、ET-300W、球状酸化チタンを核としてSnO2/SbOで被覆したもの、平均粒径0.05μmを用いた。導電性粒子4:銀三井金属株製、EHD、平均粒径0.5μmを用いた。非導電性粒子1:酸化チタン石原産業株製、CR-EL、平均粒径0.3μmを用いた。バインダー:ポリメタクリル酸iso-ブチルfinepowderh060和光純薬工業株社製溶媒:テルピネオール和光純薬工業株社製。<電子放出源用ペーストの調製>本発明の電子放出源用ペーストは以下の要領で作製した。容積500mlのジルコニア製容器に表3に示す所定量のカーボンナノチューブ、ガラス粉末種類は各実施例、比較例ごとに表4~10のように変更、導電性粒子、バインダー、溶媒を秤量し、0.3mmφのジルコニアビーズ東レ株製トレセラム商品名をそこに加え、遊星式ボールミルフリッチュジャパン株製遊星型ボールミルP-5にて100rpmで予備分散した。ジルコニアビーズを取り除いた混合物を3本ローラーにて混練した。<ガラスおよび導電性酸化物粒子の平均粒径の測定>走査型電子顕微鏡株日立製作所S4800を用い、ガラスおよび導電性酸化物粒子の平均粒径を画像から測長した。平均粒径とは、粒子の中心を通る線で最も長いところを粒径として、測定した数で割ることによって得られる平均値とした。各粒子の粒径は20,000倍で測定可能な粒子をランダムに100個選ぶことにより測定した。なお、粒子の粒径が0.1μm以下の粒子数が90以上である場合は、50,000倍で測定可能な粒子をランダムに100個選ぶことにより測定した。平均粒径が、0.1μm以上のものは、小数第2位を四捨五入し、0.1μmより小さいものは、小数第3位を四捨五入した。<ガラス軟化点の測定>ガラス粉末約50mgを白金セルに入れ、示差走査熱量計株島津製作所製DSC-50を用いて、アルミナ粉末を標準試料として、室温から20°C/分で昇温して得られたDSC曲線において、最初の吸熱ピークのピークトップの温度を軟化点とした。<電子放出源の作製>電子放出源用ペーストを、ITO薄膜を形成したソーダライムガラス基板に、SUS325メッシュのスクリーン版を用いて、1mm×1mmの角型パターンを25個スクリーン印刷した。100°Cで10分乾燥後、大気中にて450°Cで焼成した。<接着性評価>1mm×1mmの角型に印刷、焼成された25個の電子放出源に剥離接着強さ0.5N/20mmのテープを貼り、180°Cの角度を保ちながら速度300mm/分で引き剥がすことで電子放出源とカソード電極基板との接着性を評価した。25個の電子放出源のなかで50以上の面積が剥がれているカソード基板が暴露されている個数を接着性の指標とした。具体的には、50以上の面積が剥がれているものが0個のものを最良A、1個であるものを良B、2個であるものを可C、3個以上であるものを不可Dとした。<電子放出開始電界強度の測定>真空度を5×10-4Paにした真空チャンバー内に、電子放出源が形成された基板と、銅板を、200μmのスペーサーフィルムを挟んで対向させ、電圧印可装置菊水電子工業株製耐電圧/絶縁抵抗試験器TOS9201によって10V/秒で電圧印加した。得られた電流電圧曲線から電流密度が1mA/cm2に達する電界強度を求めた。電界強度が小数第2位を四捨五入して2.0V以下であるものを最良A、2.1V以上2.4V以下であるものを良B、2.5V以上であるものを不可Dとした。<電子放出に対する耐久性>真空度を5×10-4Paにした真空チャンバー内に、25個の1mm×1mmの電子放出源が形成された基板と、銅板を、200μmのスペーサーフィルムを挟んで対向させ、電圧印可装置菊水電子工業株製耐電圧/絶縁抵抗試験器TOS9201によって電流密度が1mA/cm2になるような電圧に固定し、電流値が初期値の50に減衰した時間を電子放出に対する耐久性の指標とした。小数第1位を四捨五入して45時間以上であるものを最良A、40時間以上44時間以下であるものを良B、30時間以上39時間以下であるものを可C、29時間以下であるものを不可Dとした。実施例1~7、比較例1~2ガラス種の効果結果を表4~5に示した。実施例1~7では、いずれの場合も接着性、電子放出開始電界強度、電子放出に対する耐久性のうち2項目以上が良好であり、評価が著しく劣る項目はなかった。接着性は特に優れていた。一方、比較例1では電子放出開始電界強度は良好であったが、他の2項目が劣っており、比較例2では、電子放出に対する耐久性が著しく劣っていた。実施例2、8~10ガラス粒径の効果結果を表6に示した実施例2は再掲。いずれの場合も接着性、電子放出開始電界強度、電子放出に対する耐久性が良好であった。実施例2、11~14カーボンナノチューブとガラスの合計重量に対するガラス重量比の効果結果を表7に示した実施例2は再掲。いずれの場合も接着性、電子放出開始電界強度、電子放出に対する耐久性のうち2項目以上が良好であり、評価が著しく劣る項目はなかった。実施例2、13、15~22導電性粒子とガラスの合計重量に対するガラス重量比の効果結果を表8~9に示した実施例2、13は再掲。いずれの場合も接着性、電子放出開始電界強度、電子放出に対する耐久性のうち2項目以上が良好であり、評価が著しく劣る項目はなかった。比較例3~4導電性粒子の粒径の効果結果を表10に示した。比較例3では接着性が著しく劣っていた。比較例4では電子放出開始電界強度が著しく劣っていた。比較例5~6導電性粒子種の効果結果を表10に示した。比較例5では接着性および電子放出に対する耐久性が著しく劣っていた。比較例6では接着性および電子放出開始電界強度が著しく劣っていた。"