真空状態で複数の基材を成膜する真空成膜装置であって、前記基材を支持するための複数の支持部と、前記複数の支持部を支持して搬送する搬送ユニットと、前記搬送ユニットを搬入および搬出するための開口部、および該開口部を開閉するためのドア部を有する、真空状態を形成するための真空槽と、を備え、前記搬送ユニットは、前記複数の支持部を、前記真空槽に対する搬送方向に直列に配置するように支持しており、前記開口部が、前記搬送ユニットの寸法に応じて形成されている真空成膜装置。前記搬送ユニットは、成膜材料を加熱蒸発させ、前記支持部に支持された基材に膜を形成するための1以上の蒸着源を備え、前記支持部および前記蒸着源は、前記搬送方向に直列に配置され、かつ該支持部の間に該蒸着源が配される請求項1に記載の真空成膜装置。前記支持部は、基材を回転自在に支持する請求項1または2に記載の真空成膜装置。前記搬送ユニットを載置し、水平面において前記搬送方向とは異なる方向に該搬送ユニットを移動可能とする移動テーブルを備える請求項1から3のいずれか1項に記載の真空成膜装置。前記ドア部は、前記開口部に対して左右に移動して、該開口部を開閉する請求項1から4のいずれか1項に記載の真空成膜装置。前記ドア部は、一方の側部が前記真空槽とヒンジにより接合されており、該ヒンジを軸に弧を描いて前記開口部を開閉する請求項1から4のいずれか1項に記載の真空成膜装置。しかしながら、上述した従来技術は、成膜処理にかかる時間が長くなるという問題がある。より具体的には、特許文献1、2の真空成膜装置は、一方の扉第1の扉を閉じてその扉に設けられた基材に対して成膜処理を施している間バッチ処理時間の数分間、他方の扉第2の扉は真空槽外の空気外気に晒された状態となる。ここで、真空成膜装置を稼動させ、例えば上述したようなリフレクタの製造を行なうと、扉における真空槽内壁の一部を形成する側の面真空槽内壁側面、すなわち基材が設けられた側の面は、成膜物質で覆われることとなる。この扉の真空槽内壁側面が成膜物質に覆われると非常に水分を吸着しやすい状態となり、この面が外気に晒された時間に応じて、水分吸着量が増大する。このように扉の真空槽内壁側面に水分が吸着すると、水分の排気に時間を要することとなり、バッチ処理時間は長くなってしまう。そこで、水分の吸着量を抑制するためには、成膜物質に覆われた扉の真空槽内壁側面が外気に晒される時間を小さくする必要がある。しかしながら、特許文献1、2の真空成膜装置では、第1の扉を閉じて成膜処理を行なっている間、第2の扉は外気に晒されるとことなり水分が吸着することとなる。そして、第1の扉に設けられた基材に対する成膜処理が終了すると、この扉を開けて成膜された基材の着脱等を行なうとともに、第2の扉を閉め、この扉に設けられた基材の成膜処理を行なう。このとき、第2の扉には多くの水分が吸着しているため、成膜処理時間がより一層、長くなる。また、扉の表面積は基材の治具寸法、ならびに扉に配置する基材数などに依存するが、表面積が大きくなればなるほど、水分の吸着量が増すこととなる。このように、特許文献1、2に開示された真空成膜装置では、扉に基材等を配置する構成であるため、バッチ処理時間の数分間は一方の扉が外気にさらされ、水分吸着量が増大する。また、基材を効率よく配するために、扉の表面積は大きくなり、結果として水分吸着量が大きくなる。したがって、特許文献1、2に開示された真空成膜装置では、吸着した水分を排気する時間が必要となり、成膜処理にかかる時間が長くなる。本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、水分の排気に要する時間を低減させ成膜処理にかかる時間を抑制することができる真空成膜装置を提供することにある。本発明に係る真空成膜装置は、上記した課題を解決するために、真空状態で複数の基材を成膜する真空成膜装置であって、前記基材を支持するための複数の支持部と、前記複数の支持部を支持して搬送する搬送ユニットと、前記搬送ユニットを搬入および搬出するための開口部、および該開口部を開閉するためのドア部を有する、真空状態を形成するための真空槽と、を備え、前記搬送ユニットは、前記複数の支持部を、前記真空槽に対する搬送方向に直列に配置するように支持しており、前記開口部が、前記搬送ユニットの寸法に応じて形成されている。ここで、基材とは、成膜対象となる構成部材であって、例えば特定の形状に成形された成形体などが挙げられる。上記した構成によると、真空槽は開口部およびドア部を備えるため、この開口部を通じて支持部を支持した搬送ユニットをこの真空槽に搬入したり、真空槽から搬出したりすることができる。また、搬送ユニットは、複数の支持部を搬送方向に直列に配置して支持しているため、この搬送ユニットの寸法は支持している各支持部の寸法に依存することとなる。すなわち、搬送ユニットを搬送方向に対して垂直に切り出した際の断面積は、1つの支持部寸法に応じたものとなる。ここで、開口部の開口寸法は、搬送ユニットの寸法に応じて形成されている。つまり、開口部の開口寸法は搬送ユニットに支持された1つの支持部が真空槽から出し入れできる寸法であり、より具体的には、搬送ユニットを搬送方向に対して垂直に切り出した際の断面積となる。また、この開口部を開閉するためのドア部の寸法も、開口部の開口寸法に合わせて可能な限り小さくすることができる。すなわちドア部の表面積を可能な限り小さくすることができる。ところで、ドア部の真空槽内壁側面は、基材の成膜処理時に生じる成膜物質で覆われ、非常に水分を吸着しやすい状態となる。本発明に係る真空成膜装置では、ドア部の真空槽内壁側面が外気に晒される時間は、搬送ユニットを真空槽に出し入れする間だけである。すなわち、特許文献1、2に開示された真空成膜装置のように、成膜処理時間の間、ドア部扉が外気にさらされるような状態とならず、水分吸着量を低減することができる。さらにまた、上記したようにドア部の表面積を可能な限り小さくすることができるため、ドア部に吸着する水分量を低減することができる。このように、本発明に係る真空成膜装置では、ドア部に吸着する水分量を抑制することができる。よって、本発明に係る真空成膜装置は、水分の排気に要する時間を低減させ成膜処理にかかる時間を抑制することができるという効果を奏する。また、本発明に係る真空成膜装置は、上記した構成において、前記搬送ユニットは、成膜材料を加熱蒸発させ、前記支持部に支持された基材に膜を形成するための1以上の蒸着源を備え、前記支持部および前記蒸着源は、前記搬送方向に直列に配置され、かつ該支持部の間に該蒸着源が配されるように構成されていてもよい。上記した構成によると、複数の支持部が搬送方向に直列に配置されているため、支持部を搬送ユニットにおいて搬送方向に直列に配置させることができる。また、支持部の間には蒸着源が備えられているため、真空状態を形成する真空槽内にて、蒸着源を挟み込む支持部に支持された基材を蒸着法により成膜することができる。また、本発明に係る真空成膜装置は、上記した構成において、前記支持部は、基材を回転自在に支持するように構成されていてもよい。上記した構成によると、支持部が基材を回転自在に支持するため、成膜処理時に基材を回転させて、全体に均一に成膜処理を施すことができる。また、本発明に係る真空成膜装置は、上記した構成において、前記搬送ユニットを載置し、水平面において前記搬送方向とは異なる方向に該搬送ユニットを移動可能とする移動テーブルを備えていてもよい。上記した構成によると、移動テーブルを備えているため、この移動テーブルにより搬送ユニットを別の場所に移動させるとともに、新たな搬送ユニットを真空槽の前に移動させ、真空槽に搬送することができる。すなわち、真空槽に搬入する搬送ユニットの切り替えを効率よく行なうことができる。また、本発明に係る真空成膜装置は、上記した構成において、前記ドア部は、前記開口部に対して左右に移動して、該開口部を開閉するように構成されていてもよい。また、本発明に係る真空成膜装置は、上記した構成において、前記ドア部は、一方の側部が前記真空槽とヒンジにより接合されており、該ヒンジを軸に弧を描いて前記開口部を開閉するように構成されていてもよい。本発明は以上に説明したように構成され、水分の排気に要する時間を低減させ成膜処理にかかる時間を抑制することができるという効果を奏する。以下、本発明の好ましい実施の形態を、図面を参照して説明する。なお、以下では全ての図を通じて同一又は対応する構成部材には同一の参照符号を付して、その説明については省略する。真空成膜装置の構成まず、図1を参照して本実施の形態に係る真空成膜装置100の構成について説明する。図1は本実施の形態に係る真空成膜装置100の概略構成の一例を示す俯瞰図である。本実施形態では、ヘッドライトのリフレクタを構成する樹脂成形体を基材20として用い、真空中において、この基材20の表面にアルミニウムの蒸着膜からなる反射膜と、合成樹脂からなる保護膜とを順次、成膜するバッチ式成膜装置を例に挙げて説明する。図1に示すように、真空成膜装置100は、真空槽1、基材ユニット搬送ユニット2、排気ユニット4、共通ベース5、および搬送ベース6を備えてなる構成である。真空槽1は、その内部に周囲の圧力よりも低い状態真空を形成するための気密な容器であり、本実施形態では略直方体をしている。しかしながら、真空槽1の形状はこのような直方体に限定されるものではなく、所望される真空状態を形成することができる形であれよい。また、真空槽1は基材ユニット2を出し入れすることができるように搬入口開口部10および、この搬入口10の開閉を行なうための搬入口ドアドア部11を有している。本実施形態では搬入口ドア11は引き戸になっており、搬入口10に対して左右にスライドすることで開閉を行なうことができる。また、搬入口ドア11を閉じた際、搬入口10と搬入口ドア11との接触部に密閉性を確保するように、この接触部にシール部材不図示が装着されている。なお、搬入口ドア11は引き戸であったがこれに限定されるものではなく、搬入口ドア11の一方の側部が真空槽1とヒンジにより接合され、このヒンジを軸にして弧を描くようにして開閉することができる開き戸であってもよい。本実施形態では、真空槽1において搬入口10が設けられている側を正面、その対向する面を背面、正面と接する左右の面をそれぞれ左側面、右側面、ならびに上部の面を上面と称するものとする。さらに真空槽1は、図1に示すようにその外観形状において左側面にプラズマ放電電極12を備えている。このプラズマ放電電極12は、真空槽1内に配置された基材20に対してプラズマ重合により成膜を行なう際に、プラズマを放電させるための電極である。排気ユニット4は、真空槽1の内部を真空排気するためのユニットであり、補助真空ポンプルーツポンプ31および油回転ポンプ32と高真空ポンプ油拡散ポンプ33およびコールドトラップ34とを備えてなる構成である。また、これら各種ポンプと真空槽1との間での空気の流通を制御するためにメインバルブ13、粗引きバルブ14、フォアラインバルブ15、ベントバルブ16、およびゲートバルブ17を備える。なお、図1では、ゲートバルブ17およびコールドトラップ34については、紙面の都合上、図示していない。真空排気処理に係る真空槽1とこの排気ユニット4、ならびに図1において真空槽1の上面に設けられたメインバルブ13を含めた他のバルブについての説明は後述する。なお、上述した真空槽1および排気ユニット4は共通ベース5により一緒に支持されている。基材ユニット2は、基材ホルダ支持部23を介して基材20を保持するものであり、搬送ベース6上に設けられた移動テーブル25に載置され、この移動テーブル25とともに移動したり、あるいは移動テーブル25上に設けられたレール第2レール52上を移動したりすることができる。すなわち、搬送ベース6面上において、基材ユニット2の真空槽1への搬送方向に対して垂直となる方向入れ替え方向に第1レール51が設けられている。そして、この第1レール51に案内され移動テーブル25が移動することで、移動テーブル25上に載置された基材ユニット2を入れ替え方向、すなわち、搬入口10に対して左右に移動させることができる。さらにまた、移動テーブル25には搬送方向搬入方向もしくは搬出方向に沿って第2レール52が設けられている。また、真空槽1の内部においてもこの第2レール52と連なるようにレールが設けられており、基材ユニット2は、この第2レール52と、真空槽1内のレール真空槽レール53上を移動することで真空槽1から出たり入ったりすることができる。なお、本実施形態では移動テーブル25は、搬送方向に対して垂直となる方向に移動する構成であるが、移動方向はこれに限定されるものではなく、移動テーブル25上に載置された異なる基材ユニット2をそれぞれ交互に真空槽1に搬入および搬出可能なように搬送方向とは異なる方向に移動できればよい。上記したように移動可能な基材ユニット2は、図1に示すように基材20を保持する基材ホルダ支持部23、基材ホルダ23の間に配置された蒸着源21、基材ホルダ23および蒸着源21を支持する支持ベース24を備えている。基材ホルダ23は、支持ベース24から鉛直方向、上向きに延伸した棒形状の軸部を有しており、この軸部に基材20を取り付けることができるようになっている。本実施形態では、図1に示すように、1つの基材ホルダ23により2つの基材20を固定することができるように構成されている。また、基材ユニット2が真空槽1内の適切な位置に配置されると、不図示の駆動モータに電力が供給され、基材ホルダ23の軸部を中心に基材20を回転自転させることができる。蒸着源21は、真空中で成膜材料を加熱蒸発させ、これを基材20に付着させるものである。蒸着源21は、支持ベース24から鉛直方向、上向きに延伸した2つの蒸着用抵抗加熱電極28と、この鉛直方向に一定間隔で蒸着用抵抗加熱電極28間を橋架する、蒸着材料を蒸発させるためのフィラメント27とから構成されている。本実施形態では、蒸着材料としてアルミニウムまたはその合金が用いられるがこれに限定されるものではない。支持ベース24は、基材ホルダ23および蒸着源21を支持して固定するとともに、移動テーブル25に設けられた第2レール52、および真空槽1内に設けられた真空槽レール53に案内されて移動することができる。すなわち、支持ベース24の側部には第2レール52および真空槽レール53の幅に応じた複数の車輪が設けられており、この車輪によって第2レール52および真空槽レール53上を移動することができる。これによって、基材ユニット2は、搬送方向において真空槽1から出たり入ったりすることができる。真空成膜装置における真空排気処理に係る構成本実施の形態に係る真空成膜装置100は、真空状態とした真空槽1内で基材20にアルミ膜、保護膜等を成膜するように構成されている。そこで、本実施の形態に係る真空成膜装置100は、真空槽1内に基材20が配置されると、この真空槽1内を真空とするように真空排気処理を行なうように構成されている。以下にこの真空排気処理に係る構成について図2、図3を参照して説明する。図2、図3は、本実施の形態に係る真空成膜装置100における真空排気処理に係る構成の一例を示すブロック図である。図2および図3に示すように、排気ユニット4は、補助真空ポンプルーツポンプ31および油回転ポンプ32と高真空ポンプ油拡散ポンプ33およびコールドトラップ34とを備えてなる構成である。また、これら各種ポンプと真空槽1との間での空気の流通を制御するためにメインバルブ13、粗引きバルブ14、フォアラインバルブ15、ベントバルブ16、およびゲートバルブ17を備える。より具体的には、メインバルブ13は、真空槽1と油拡散ポンプ33の排気口との間に形成された排気通路に設けられており、この排気通路の開閉を制御する。粗引きバルブ14は、粗引き排気を行なう際に真空槽1と補助真空ポンプルーツポンプ31および油回転ポンプ32との間の配管の開閉を制御する。また、フォアラインバルブ15は、油拡散ポンプ33と補助真空ポンプ特にルーツポンプ31との間の配管の開閉を制御する。ベントバルブ16は、真空槽1と外気とが連通するように設けられた配管の開閉を制御する。ゲートバルブ17は、真空槽1とコールドトラップ34との間の配管の開閉を制御する。本実施の形態に係る真空成膜装置100では、真空槽1内を大気圧から高真空まで排気するために、粗引き排気と高真空排気とに分けて段階的に排気するように構成されている。まず、油回転ポンプ32およびルーツポンプ31の補助真空ポンプを連続運転させることによって大気圧から高真空ポンプの作動圧力となるまで排気する。なお、油回転ポンプ32は、ロータが1回転する間に油でシールされた空間を排出するように構成された真空ポンプである。また、ルーツポンプ31は、真空槽1と油回転ポンプ32との間に取り付けられ、ブースタポンプとして機能するものでもある。この粗引き排気の段階では、メインバルブ13、フォアラインバルブ15、ベントバルブ16、およびゲートバルブ17が閉じられ、粗引きバルブ14だけが開状態となる。そして、油回転ポンプ32とルーツポンプ31とによって真空槽1内が大気圧から高真空ポンプの作動圧力となるまで排気粗引き排気が行なわれる。真空槽1内が高真空ポンプの作動圧力となると、図3に示すように開状態であった粗引きバルブ14が閉じられ、代わりに、メインバルブ13、フォアラインバルブ15、およびゲートバルブ17を開く。これにより、真空槽1と油拡散ポンプ33とが連通するとともに、油拡散ポンプ33と補助真空ポンプルーツポンプ31および油回転ポンプ32とが連通する。さらにまた、真空槽1とコールドトラップ34とが連通する。そして、油拡散ポンプ33、補助真空ポンプルーツポンプ31および油回転ポンプ32、ならびにコールドトラップ34を連続運転させることによって、所定の真空域にまで真空排気される。なお、油拡散ポンプ33は、油を加熱して蒸気にし、この蒸気を狭い隙間から噴射することにより、油分子が一緒に気体分子を持ち去ることで動作する。また、コールドトラップ34は、真空槽1内に存在する水蒸気を捕集するものである。真空槽1内が所定の真空度に達すると、基材20に対する成膜処理が行なわれる。本実施の形態に係る真空成膜装置100では、基材20に対する反射膜の形成には真空蒸着法が用いられる。すなわち、基材ホルダ23の間に配置された蒸着源21を用いて、基材ホルダ23に固定されている基材20に反射膜を形成する。なお、このとき基材20は、真空槽1内において基材ホルダ23の軸部を中心にして自転しており、これにより基材20の表面に均一に反射膜が形成される。反射膜の形成後、この反射膜の上に保護膜が形成される。この保護膜の形成工程では、プラズマ重合法によって基材20の表面に樹脂膜が形成される。このときも基材20は、真空槽1内において自転することで基材20の表面に均一に保護膜樹脂膜が形成される。このように、基材20に対する所定の成膜処理が終了すると、メインバルブ13、フォアラインバルブ15、およびゲートバルブ17が閉じられ、ベントバルブ16が開かれる。これにより、真空槽1内の圧力を大気圧に戻すことができる。その後、搬入口ドア11を開き、処理済みの基材ユニット2を真空槽1から搬出し、別に準備していた基材ユニット2をその代わりに搬入する。このようにして、搬入口ドア11の開閉により、基材ユニット2の交換を行なう。基材ユニットの搬入および搬出処理次に、再度、図1を参照して上述した基材ユニット2についての搬入および搬出処理に係る構成について説明する。基材ユニット2では、真空槽1への搬送方向に沿って、2つの基材ホルダ23が蒸着源21を挟み込むようにそれぞれ直列に配置されている。この基材ユニット2は、上述したように移動テーブル25に設けられた第2レール52に載置されており、この第2レール52に案内されて、真空槽1に対して出し入れすることができるように構成されている。これにより作業者は、真空槽1へ基材ユニット2を搬入したり、真空槽1に格納されている基材ユニット2を搬出したりすることができる。また、移動テーブル25は、搬送ベース6に設けられた第1レール51上に載置されている。この第1レール51は第2レール52とは水平面において略垂直となる方向に延伸するように設けられている。したがって、移動テーブル25は、搬送方向に対して略垂直となる方向入れ替え方向に搬送ベース6の面上を移動することができる。ここで本実施形態では、搬送ベース6の面上に移動テーブル25が設けられており、移動テーブル25に2つの基材ユニット2がそれぞれ載置されている。このため、2つの基材ユニット2のうち、一方を搬入口10に対応する位置に来るように、入れ替え方向にスライドさせる。そして、その後、搬送方向に沿って真空槽1内にこのスライドされた基材ユニット2を搬入することができる。さらに、成膜処理後の基材ユニット2を真空槽1から移動テーブル25上の所定位置まで移動させ、今度は成膜処理が未処理の基材ユニット2が搬入口10に対応する位置となるように、搬送ベース6で入れ替え方向に移動テーブル25を、スライドさせる。このように構成することで、一方の基材ユニット2に対して成膜処理を施している最中に、他方の成膜処理後の基材ユニット2から基材20を取り外し、成膜処理が未処理の新たな基材20を付け替えることができる。ここで、基材ユニット2では、2つの基材ホルダ23が真空槽1に対する搬送方向に沿って、蒸着源21を挟み込むようにそれぞれ配置されている。すなわち、基材ホルダ23、蒸着源21、基材ホルダ23の順に、搬送方向に直列に配置されている。このため、基材ユニット2を平面視したとき、搬送方向が長手となり搬送方向に対して垂直方向となる基材ユニット2の幅は、基材ホルダ23の有する寸法に応じたものとなる。このため、搬入口10の開口幅開口寸法は、基材ユニット2の基材ホルダ23の寸法幅に応じたものとすれば良く、例えば、上述した特許文献1、2のように、真空槽1における基材ユニット2と対向する側の面全体を開口させる必要がない。したがって、この搬入口10を塞ぐ搬入口ドア11の表面積も、真空槽1における基材ユニット2と対向する側の面全体を搬入口10として開口させた構成と比較して小さくすることができる。つまり、本実施の形態に係る真空成膜装置100では、搬入口ドア11の表面積を小さくすることができ、搬入口ドア11の裏面真空槽内壁側面に水分が吸着する量を低減させることができる。また、搬入口ドア11の裏面が外気に触れる時間は、基材ユニット2の搬入および搬出にかかる時間だけである。すなわち、特許文献1、2のように、一方の扉に備えられた基材20の成膜処理を実施している間、他方の扉がずっと外気に晒される構成と比較して、搬入口ドア11が外気に晒されている時間は小さくなる。このため、搬入口ドア11に水分が吸着する量を低減させることができる。また、本実施形態では、図1に示すように基材ユニット2を真空槽1に対して搬入および搬出する際、搬入口ドア11が搬入口10に対して左側に移動するように構成されている。このため、真空槽1の左側側面には、この搬入口ドア11が移動できるように、該搬入口ドア11の幅だけ空間を確保しておくことが必要となる。しかしながら、上述した例えば、特許文献1、2のように、真空槽1において基材ユニット2と対向する側の面全体を開口させる構成と比較して、搬入口ドア11の移動のために予め確保すべき空間は小さくなる。より具体的には、搬入口ドア11の幅が真空槽1の幅の約半分だとすると、同じ設置面積において、本実施の形態に係る真空成膜装置100と、これと同様なサイズであって特許文献1、2と同じ構成の扉を有する真空成膜装置とを設置した場合、前者の方が約1.5倍の数量の装置を設置することができる。さらには、図1に示すように真空槽1の搬入口10が真空槽1の正面の左半分部分に形成されている構成の場合、搬入口ドア11を正面の右側にスライドさせるようにすると、搬入口ドア11の移動のために予め確保すべきスペースはさらに小さくなる。このように本実施の形態に係る真空成膜装置100では、搬入口ドア11の移動のために予め確保すべき空間を低減させることができるため、その設置場所の自由度を高めることができる。また、特許文献1、2に開示した真空成膜装置よりも密集して配置することできる。また、本実施の形態に係る真空成膜装置100では、搬入口ドア11の開閉機構に係る構成、ならびに基材ユニット2の移動に係る構成が上述したように非常に単純な機構であるため、基材20の成膜処理を容易に自動化することもできる。変形例1以下に本実施の形態に係る真空成膜装置100の変形例について、図4および図5を参照して説明する。図4および図5は、本実施の形態の変形例に係る基材ユニット2における基材20の配置の一例を模式的に示す図である。本実施の形態に係る真空成膜装置100が備える基材ユニット2は、図1に示すように、2つの基材ホルダ23を備え、1つの蒸着源21がこれらの基材ホルダ23の間に配置される構成であった。しかしながら、基材ホルダ23、および蒸着源21の個数はこれに限定されるものではない。例えば、図4に示すように、3つの基材ホルダ23と2つの蒸着源21とを備え、3つの基材ホルダ23が一方向搬送方向に配置されそれぞれの間に蒸着源21が配される構成であってもよい。そして、基材ホルダ23により支持されている各基材20は、成膜処理時には基材ホルダ23の軸を中心に自転するように構成されていてもよい。さらには、図5に示すように、各基材ホルダ23について同一平面に複数個の基材20を備えるように構成されていてもよい。そして、基材ホルダ23ごとに形成されるこの基材20群同士の間、すなわち、異なる2つの基材ホルダ23間には蒸着源21がそれぞれ設けられるように構成されていてもよい。より具体的には、各基材ホルダ23において、その中心軸を中心として同一円周上となる位置に、中心軸と同一方向に延伸する複数の自転軸図5の例では4つの自転軸が設けられている。そして、この自転軸に基材20の取り付け治具不図示がそれぞれ設けられており、この治具を介して各自転軸に基材20が取り付けられる構成である。各基材20は、成膜処理時には各基材ホルダ23の中心軸を回転軸として公転するとともに、自転軸を中心に回転するように構成されている。このように、搬送方向に直列に基材ホルダ23を並べた構成とした方が、基材ユニット2の幅あるいは、搬送方向に対して垂直に切り出した断面をより小さくすることができ、結果として搬入口10の開口寸法、ならびにこの搬入口10を開閉する搬入口ドア11の寸法を小さくすることができ、搬入口ドア11に吸着する水分量を低減させる点では好ましい。変形例2また、本実施の形態に係る真空成膜装置100は、搬送ベース6上に移動テーブル25が設けられ、入れ替え方向に左右に移動することで、一方の基材ユニット2が成膜処理を行なっている間に他方の基材ユニット2において基材20の着脱が行なわれる構成であった。しかしながらこの構成に限定されるものではなく、搬送ベース6が一方向に移動するベルトコンベヤであって、基材20が取り付けられた基材ユニット2を載置した移動テーブル25をこのベルトコンベヤ上に所定間隔で並べ、順次、成膜処理を行なう構成であってもよい。すなわち、搬送ベース6によって基材ユニット2を載置した移動テーブル25が搬入口10の前に運ばれると、搬入口ドア11が開いて、基材ユニット2が真空槽1内に搬入される。そして、基材ユニット2に対して成膜処理が施され、真空槽1から搬出されると、新たな基材ユニット2が搬入口10の前に運ばれるとともに、成膜処理後の基材ユニット2は、搬送ベース6の移動先に向かって移動する。このように、基材ユニット2を一定方向に移動する搬送ベース上に所定間隔に並べ、順次、成膜処理を施していく構成であってもよい。上記説明から、当業者にとっては、本発明の多くの改良や他の実施形態が明らかである。従って、上記説明は、例示としてのみ解釈されるべきであり、本発明を実行する最良の態様を当業者に教示する目的で提供されたものである。本発明の精神を逸脱することなく、その構造及び/又は機能の詳細を実質的に変更できる。