"基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、光源及び該光源から発生した光を平行光線束にする凹面鏡を有する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、前記露光光照射装置から平行光線束の露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、前記露光光照射装置は、前記凹面鏡により平行光線束にされた光を反射してマスクへ照射する平面鏡と、該平面鏡を支持する平面鏡支持装置とを備え、前記平面鏡支持装置は、前記平面鏡の裏面を支持する支持部材と、該支持部材を回転可能に保持する保持具と、該保持具の前記平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を有し、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整し、各支持機構の支持部材が前記平面鏡の裏面を支持する位置を変更して、前記平面鏡により反射される光の平行度を補正し、前記マスクホルダは、露光光が通過する開口と、該開口の周囲全体に連続して配置された壁部と、該壁部の上に搭載された該壁部より大きい透明な天板と、該天板の前記壁部からはみ出た箇所を上方から押す複数の押圧装置とを有し、前記開口の下方にマスクを保持して、天板とマスクとの間に負圧室を形成し、前記マスクホルダの複数の押圧装置は、前記マスクホルダがマスクを保持する前に前記平面鏡支持装置が前記平面鏡により反射される光の平行度を補正するとき、第1の加圧力で前記天板の前記壁部からはみ出た箇所を上方から押し、前記マスクホルダがマスクを保持して負圧室内の空気を抜く際、第1の加圧力より大きな第2の加圧力で前記天板の前記壁部からはみ出た箇所を上方から押すことを特徴とするプロキシミティ露光装置。前記平面鏡支持装置は、各支持機構が、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置されたことを特徴とする請求項1に記載のプロキシミティ露光装置。前記平面鏡支持装置の各支持機構の保持具は、前記平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して、画像取得装置により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、平面鏡の表面と垂直な方向の位置が調整されたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のプロキシミティ露光装置。前記平面鏡支持装置の各支持機構の保持具は、レーザー光を、前記チャック側の複数箇所から、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して前記平面鏡へ照射し、前記平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、平面鏡の表面と垂直な方向の位置が調整されたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のプロキシミティ露光装置。基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、光源及び光源から発生した光を平行光線束にする凹面鏡を有する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から平行光線束の露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の露光光照射方法であって、露光光照射装置に、凹面鏡により平行光線束にされた光を反射してマスクへ照射する平面鏡と、平面鏡を支持する平面鏡支持装置とを設け、平面鏡支持装置に、平面鏡の裏面を支持する支持部材と、支持部材を回転可能に保持する保持具と、保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を設け、マスクホルダに、露光光が通過する開口と、開口の周囲全体に連続して配置された壁部と、壁部の上に搭載された壁部より大きい透明な天板と、天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押す複数の押圧装置とを設け、マスクホルダの開口の下方にマスクを保持する前に、マスクホルダの複数の押圧装置により、第1の加圧力でマスクホルダの天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押しながら、平面鏡支持装置の各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整し、各支持機構の支持部材が平面鏡の裏面を支持する位置を変更して、平面鏡により反射される光の平行度を補正し、マスクホルダの開口の下方にマスクを保持して、マスクホルダの天板とマスクとの間に負圧室を形成し、負圧室内の空気を抜く際、マスクホルダの複数の押圧装置により、第1の加圧力より大きな第2の加圧力でマスクホルダの天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押すことを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。平面鏡支持装置の各支持機構を、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置することを特徴とする請求項5に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して、画像取得装置により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整することを特徴とする請求項5又は請求項6に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。レーザー光を、チャック側の複数箇所から、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して平面鏡へ照射し、平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整することを特徴とする請求項5又は請求項6に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。請求項5乃至請求項8のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。プロキシミティ方式では、マスクのパターンを基板に一対一で転写する等倍露光を行うため、プロキシミティ露光装置の露光光照射装置には、露光光を平行光線束にするための光学部品が設けられている。従来、平行光線束を作成する光学部品としては、コリメーションレンズ群と凹面鏡とが知られている。表示用パネルの大画面化に伴い露光領域が大きくなると、これらの光学部品も大型化されるが、コリメーションレンズ群は特に大型になると高価となるので、主に大型の基板の露光を行うプロキシミティ露光装置では、凹面鏡が多く使われている。凹面鏡により平行光線束にされた光は、平面鏡により反射されてマスクへ照射される。プロキシミティ露光装置の露光光照射装置に使用される平面鏡は、ソーダガラス等から成るガラス材の表面に、アルミニウム等から成る反射膜を蒸着して構成されている。露光光照射装置内の平面鏡は、ランプ等の光源、露光光の照度を均一化するフライアイレンズ等のレンズ群、凹面鏡、及びその他の光学部品を限られた空間に効率良く配置するために、水平ではなく、斜めに立てた状態で設置されることが多い。そのため、平面鏡には自重による歪みが発生し、この歪みを矯正しないと、露光光が歪んで露光精度が低下する。また、凹面鏡を用いて平行光線束の露光光を作成する場合、凹面鏡で反射された光は、理想的な平行光とは成らず、球面収差やコマ収差の成分を含む。そのため、露光光を平面鏡で反射してマスクへ照射する際、平面鏡により露光光の平行度を補正する必要がある。マスクの上方に負圧室を設けるプロキシミティ露光装置では、負圧室に負圧を掛けない状態でも、負圧室の天板が自重によって下方へたわみ、負圧室に負圧を掛けると、負圧室の天板が負圧によってさらに下方へたわんでしまう。負圧室の天板がたわむと、露光光照射装置から照射された露光光が天板を透過する際に露光光の平行度が低下して、露光精度が低下するという問題がある。また、従来、平面鏡の調整は、平面鏡から照射された光の位置のずれを検出して行われていた。このとき、マスクがマスクホルダに装着された状態では、平面鏡から照射された光の一部がマスクのパターンに遮られ、平面鏡から照射された光の位置のずれを所望の場所で検出することができない。そのため、平面鏡の調整は、負圧室の天板のみがマスクホルダに装着された状態か、負圧室の天板及びマスクがマスクホルダに装着されていない状態で行われていた。負圧室の天板のみがマスクホルダに装着された状態では、負圧室が形成されないため、負圧室に負圧を掛ける露光時とは天板のたわみ量が異なる。また、負圧室の天板及びマスクがマスクホルダに装着されていない状態では、平面鏡により反射された光が完全に平行ではないとき、平面鏡のある1点で反射された光が照射される位置は、負圧室の天板及びマスクを透過する露光時と異なる。そのため、露光時と同じ条件で平面鏡による露光光の平行度の補正を行うことができなかった。また、従来の平面鏡の支持装置は、平面鏡の外周部分を固定するフレームと、平面鏡の裏面に取り付けた複数の調整ねじとを有し、平面鏡の外周部分をフレームに固定した状態で、複数の調整ねじにより平面鏡の裏面を押し引きして、平面鏡の歪みを矯正していた。しかしながら、平面鏡の外周部分をフレームに固定するため、固定された外周部分近くでは、歪みを精度良く矯正するのが困難であった。また、複数の調整ねじにより平面鏡の裏面を押し引きする際、フレームに固定した箇所に過度の応力が掛かり、平面鏡がフレームに固定した箇所から割れて破損する可能性があった。本発明の課題は、負圧室の天板のたわみを抑制し、かつ、露光時に近い条件で平面鏡による露光光の平行度の補正を行って、マスクへ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させることである。また、本発明の課題は、平面鏡の全面に渡り歪みを精度良く矯正することである。さらに、本発明の課題は、平面鏡の歪みを矯正する際、過度の応力が掛かって平面鏡が破損するのを防止することである。さらに、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を製造することである。本発明のプロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、光源及び光源から発生した光を平行光線束にする凹面鏡を有する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から平行光線束の露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、露光光照射装置が、凹面鏡により平行光線束にされた光を反射してマスクへ照射する平面鏡と、平面鏡を支持する平面鏡支持装置とを備え、平面鏡支持装置が、平面鏡の裏面を支持する支持部材と、支持部材を回転可能に保持する保持具と、保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を有し、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整し、各支持機構の支持部材が平面鏡の裏面を支持する位置を変更して、平面鏡により反射される光の平行度を補正し、マスクホルダが、露光光が通過する開口と、開口の周囲全体に連続して配置された壁部と、壁部の上に搭載された壁部より大きい透明な天板と、天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押す複数の押圧装置とを有し、開口の下方にマスクを保持して、天板とマスクとの間に負圧室を形成し、マスクホルダの複数の押圧装置が、マスクホルダがマスクを保持する前に平面鏡支持装置が平面鏡により反射される光の平行度を補正するとき、第1の加圧力で天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押し、マスクホルダがマスクを保持して負圧室内の空気を抜く際、第1の加圧力より大きな第2の加圧力で天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押すものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、光源及び光源から発生した光を平行光線束にする凹面鏡を有する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から平行光線束の露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の露光光照射方法であって、露光光照射装置に、凹面鏡により平行光線束にされた光を反射してマスクへ照射する平面鏡と、平面鏡を支持する平面鏡支持装置とを設け、平面鏡支持装置に、平面鏡の裏面を支持する支持部材と、支持部材を回転可能に保持する保持具と、保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を設け、マスクホルダに、露光光が通過する開口と、開口の周囲全体に連続して配置された壁部と、壁部の上に搭載された壁部より大きい透明な天板と、天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押す複数の押圧装置とを設け、マスクホルダの開口の下方にマスクを保持する前に、マスクホルダの複数の押圧装置により、第1の加圧力でマスクホルダの天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押しながら、平面鏡支持装置の各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整し、各支持機構の支持部材が平面鏡の裏面を支持する位置を変更して、平面鏡により反射される光の平行度を補正し、マスクホルダの開口の下方にマスクを保持して、マスクホルダの天板とマスクとの間に負圧室を形成し、負圧室内の空気を抜く際、マスクホルダの複数の押圧装置により、第1の加圧力より大きな第2の加圧力でマスクホルダの天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押すものである。平面鏡支持装置が平面鏡により反射される光の平行度を補正するとき、壁部からはみ出た箇所が第1の加圧力で上方から押された天板は、中央部が盛り上がる様に上方へたわもうとし、上方へたわもうとする力と、自重により下方へのたわもうとする力が均衡して、たわみが抑制される。負圧室内の空気を抜く際、壁部からはみ出た箇所が第1の加圧力より大きな第2の加圧力で上方から押された天板は、中央部が盛り上がる様に上方へたわもうとし、上方へたわもうとする力と、負圧室の負圧により下方へ引っ張られる力が均衡して、たわみが抑制される。天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押す加圧力を、露光光の平行度を補正するときよりも、負圧室内の空気を抜く際に大きくするので、露光光の平行度の補正時と露光時とで負圧室の天板のたわみの変化が少なくなり、露光時に近い条件で平面鏡による露光光の平行度の補正が行われる。さらに、平面鏡を支持する平面鏡支持装置に、平面鏡の裏面を支持する支持部材と、支持部材を回転可能に保持する保持具と、保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を設け、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整して、各支持機構の支持部材が平面鏡の裏面を支持する位置を変更するので、平面鏡の全面に渡り歪みを精度良く矯正することができる。また、保持具により支持部材を回転可能に保持するので、保持具の位置を調整する際、支持部材が平面鏡の裏面を支持する箇所に過度の応力が掛からず、平面鏡の破損が防止される。さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、平面鏡支持装置の各支持機構が、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置されたものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法は、平面鏡支持装置の各支持機構を、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置するものである。隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置された各支持機構により、平面鏡を滑らかな曲面状に支持することができ、露光光の平行度の補正が効果的に行われる。さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、平面鏡支持装置の各支持機構の保持具が、平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して、画像取得装置により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、平面鏡の表面と垂直な方向の位置が調整されたものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法は、平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して、画像取得装置により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整するものである。平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して受光するので、露光時に近い条件で平面鏡により反射された光の位置ずれが検出され、平面鏡による露光光の平行度の補正が高精度に行われる。あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置は、平面鏡支持装置の各支持機構の保持具が、レーザー光を、チャック側の複数箇所から、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して平面鏡へ照射し、平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、平面鏡の表面と垂直な方向の位置が調整されたものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法は、レーザー光を、チャック側の複数箇所から、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して平面鏡へ照射し、平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整するものである。露光光照射装置の光源には、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の様に、高圧ガスをバルブ内に封入した放電型のランプが使用されており、これらの光源は、点灯を開始してから照度が安定するまでに時間が掛かり、また発生する光の照度が高く熱量が多い。レーザー光を、チャック側の複数箇所から平面鏡へ照射し、平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整するので、露光光照射装置の光源を点灯することなく、平面鏡による露光光の平行度の補正作業を短時間で安全に行うことができる。また、レーザー光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して平面鏡へ照射するので、露光時に近い条件で平面鏡により反射された光の位置ずれが検出され、平面鏡による露光光の平行度の補正が高精度に行われる。本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うものである。上記のプロキシミティ露光装置又はプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いることにより、マスクへ照射する露光光の平行度が上がり、露光精度が向上するので、高品質な表示用パネル基板が製造される。本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光光照射方法によれば、負圧室の天板のたわみを抑制し、かつ、露光時に近い条件で平面鏡による露光光の平行度の補正を行って、マスクへ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させることができる。さらに、平面鏡を支持する平面鏡支持装置に、平面鏡の裏面を支持する支持部材と、支持部材を回転可能に保持する保持具と、保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を設け、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整して、各支持機構の支持部材が平面鏡の裏面を支持する位置を変更することにより、平面鏡の全面に渡り歪みを精度良く矯正することができる。また、保持具により支持部材を回転可能に保持することにより、保持具の位置を調整する際、支持部材が平面鏡の裏面を支持する箇所に過度の応力が掛かって平面鏡が破損するのを防止することができる。さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光光照射方法によれば、平面鏡支持装置の各支持機構を、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置することにより、露光光の平行度の補正を効果的に行うことができる。さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光光照射方法によれば、平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して、画像取得装置により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整することにより、露光時に近い条件で平面鏡により反射された光の位置ずれを検出して、平面鏡による露光光の平行度の補正を高精度に行うことができる。あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光光照射方法によれば、レーザー光を、チャック側の複数箇所から平面鏡へ照射し、平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整することにより、露光光照射装置の光源を点灯することなく、平面鏡による露光光の平行度の補正作業を短時間で安全に行うことができる。また、レーザー光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して平面鏡へ照射することにより、露光時に近い条件で平面鏡により反射された光の位置ずれを検出して、平面鏡による露光光の平行度の補正を高精度に行うことができる。本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、マスクへ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させることができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。図1は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。プロキシミティ露光装置は、ベース3、Xガイド4、Xステージ5、Yガイド6、Yステージ7、θステージ8、チャック支持台9、チャック10、マスクホルダ20、及び露光光照射装置30を含んで構成されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板1をチャック10へ搬入し、また基板1をチャック10から搬出する基板搬送ロボット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。なお、以下に説明する実施の形態におけるXY方向は例示であって、X方向とY方向とを入れ替えてもよい。図1において、チャック10は、基板1の露光を行う露光位置にある。露光位置の上空には、マスク2を保持するマスクホルダ20が設置されている。マスクホルダ20には、露光光が通過する開口が設けられており、開口の下方には、マスク2が装着されている。マスクホルダ20の下面の開口の周囲には、吸着溝が設けられており、マスクホルダ20は、吸着溝により、マスク2の周辺部を真空吸着して保持している。マスクホルダ20に保持されたマスク2の上空には、露光光照射装置30が配置されている。露光時、露光光照射装置30からの露光光がマスク2を透過して基板1へ照射されることにより、マスク2のパターンが基板1の表面に転写され、基板1上にパターンが形成される。チャック10は、Xステージ5及びYステージ7により、露光位置から離れたロード/アンロード位置へ移動される。ロード/アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板1がチャック10へ搬入され、また基板1がチャック10から搬出される。チャック10への基板1のロード及びチャック10からの基板1のアンロードは、チャック10に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック10の内部に収納されており、チャック10の内部から上昇して、基板1をチャック10にロードする際、基板搬送ロボットから基板1を受け取り、基板1をチャック10からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板1を受け渡す。チャック10は、基板1の裏面を真空吸着して支持する。チャック10は、チャック支持台9を介してθステージ8に搭載されており、θステージ8の下にはYステージ7及びXステージ5が設けられている。Xステージ5は、ベース3に設けられたXガイド4に搭載され、Xガイド4に沿ってX方向図1の図面横方向へ移動する。Yステージ7は、Xステージ5に設けられたYガイド6に搭載され、Yガイド6に沿ってY方向図1の図面奥行き方向へ移動する。θステージ8は、Yステージ7に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台9は、θステージ8に搭載され、チャック10を複数箇所で支持する。Xステージ5のX方向への移動及びYステージ7のY方向への移動により、チャック10は、ロード/アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード/アンロード位置において、Xステージ5のX方向への移動、Yステージ7のY方向への移動、及びθステージ8のθ方向への回転により、チャック10に搭載された基板1のプリアライメントが行われる。露光位置において、Xステージ5のX方向への移動及びYステージ7のY方向への移動により、チャック10に搭載された基板1のXY方向へのステップ移動が行われる。また、図示しないZ-チルト機構により、マスクホルダ20をZ方向図1の図面上下方向へ移動及びチルトすることによって、マスク2と基板1とのギャップ合わせが行われる。そして、Xステージ5のX方向への移動、Yステージ7のY方向への移動、及びθステージ8のθ方向への回転により、基板1のアライメントが行われる。なお、本実施の形態では、マスクホルダ20をZ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク2と基板1とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台9にZ-チルト機構を設けて、チャック10をZ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク2と基板1とのギャップ合わせを行ってもよい。露光光照射装置30は、光源31、集光鏡32、第1平面鏡33、フライアイレンズ34、シャッター35、凹面鏡37、第2平面鏡38、照度センサー39、光源制御装置40、電源41、及び後述する平面鏡支持装置50を含んで構成されている。光源31には、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の様に、高圧ガスをバルブ内に封入した放電型のランプが使用されている。光源31の周囲には、光源31から発生した光を集光する集光鏡32が設けられている。光源31から発生した光は、集光鏡32により集光され、第1平面鏡33へ照射される。図2は、第1平面鏡、凹面鏡及び第2平面鏡の配置を上方から見た図である。シャッター35は、基板1の露光を行う時に開き、基板1の露光を行わない時に閉じる。シャッター35が開いているとき、第1平面鏡33で反射された光は、フライアイレンズ34へ入射する。そして、フライアイレンズ34を透過した光は、凹面鏡37で反射されて平行光線束となる。図1において、凹面鏡37で反射されて平行光線束となった光は、第2平面鏡38で反射されて、マスク2へ照射される。後述する平面鏡支持装置50は、第2平面鏡38を、水平ではなく、図1に示す様に斜めに立てた状態で支持している。マスク2へ照射された露光光により、マスク2のパターンが基板1へ転写され、基板1の露光が行われる。シャッター35が閉じているとき、第1平面鏡33からフライアイレンズ34へ照射される光は、シャッター35に遮断され、基板1の露光は行われない。第2平面鏡38の裏側近傍には、照度センサー39が配置されている。第2平面鏡38には、露光光の一部を通過させる小さな開口が設けられている。照度センサー39は、第2平面鏡38の開口を通過した光を受光して、露光光の照度を測定する。照度センサー39の測定結果は、光源制御装置40へ入力される。光源制御装置40は、照度センサー39の測定結果に基づき、電源41から光源31へ供給される電力を制御して、露光光の照度を調節する。以下、本実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を説明する。図3aはマスクホルダの上面図、図3bは図3aのA-A部の一部断面側面図である。図3aにおいて、マスクホルダ20には、露光光が通過する開口20aが設けられており、マスクホルダ20の上面の開口20aの周囲には、開口20aの周囲全体に渡って連続した壁部20bが設けられている。図3bにおいて、壁部20bは、マスクホルダ20の上面の他の部分より盛り上がった段差部となっている。壁部20bの上には、図3aの図面縦方向図3bの図面横方向の寸法が壁部20bより大きい天板21が搭載されている。天板21は、石英ガラス等の透明な材料から成る。図3bに示す様に、マスクホルダ20の下面にマスク2が装着されたとき、マスク2と、マスクホルダ20の壁部20bと、天板21とによって、マスク2の上方に負圧室20cが形成される。マスクホルダ20は、図示しないエア通路から負圧室20c内の空気を抜き、負圧室20cに負圧を掛けることによって、マスク2の自重によるたわみを抑制する。図3aにおいて、マスクホルダ20の上面には、天板21の対向する2辺の近くに、複数の支持台22がそれぞれ設置されており、各支持台22には、押圧装置23がそれぞれ取り付けられている。図4は、押圧装置の側面図である。押圧装置23は、エアシリンダ24、連結部材25、及び押圧部材26を含んで構成されている。エアシリンダ24のロッド24aには、連結部材25を介して押圧部材26が取り付けられている。押圧装置23は、エアシリンダ24のロッド24aを下方へ伸ばして、押圧部材26の先端により、天板21の壁部20bからはみ出た箇所を上方から押す。なお、エアシリンダ24の代わりに、直動モータを用いてもよい。図5は、押圧装置の動作を説明する図である。図5aは、マスク2がマスクホルダ20に装着されていない状態を示している。天板21は、自重により下方へたわんでいる。この状態で、各押圧装置23は、天板21の壁部20bからはみ出た箇所を、第1の加圧力で上方から押す。図5bは、天板21の壁部20bからはみ出た箇所を、第1の加圧力で上方から押した状態を示している。各押圧装置23により、壁部20bからはみ出た箇所が第1の加圧力で上方から押された天板21は、中央部が盛り上がる様に上方へたわもうとし、上方へたわもうとする力と、自重により下方へのたわもうとする力が均衡して、たわみが抑制され、ほぼ平坦になる。図5cは、マスク2がマスクホルダ20に装着されて、負圧室20c内の空気が未だ抜かれていない状態を示している。この状態で、各押圧装置23は、天板21の壁部20bからはみ出た箇所を、第1の加圧力より大きい第2の加圧力で上方から押す。各押圧装置23により、壁部20bからはみ出た箇所が第2の加圧力で上方から押された天板21は、上方へたわもうとする力が自重により下方へのたわもうとする力に打ち勝って、中央部が盛り上がる様に上方へたわむ。図5dは、負圧室20c内の空気が抜かれた状態を示している。負圧室20c内の空気が抜かれて負圧室20cに負圧が掛かると、中央部が盛り上がる様に上方へたわんでいた天板21は、負圧室20cの負圧により下方へ引っ張られ、上方へたわもうとする力と、負圧により下方へ引っ張られる力が均衡して、たわみが抑制され、ほぼ平坦になる。本発明では、図5bに示した状態で、後述する平面鏡支持装置50により、第2平面鏡38の歪みの矯正、及び第2平面鏡38による露光光の平行度の補正を行う。天板21の壁部20bからはみ出た箇所を上方から押す加圧力を、露光光の平行度を補正するときよりも、負圧室20c内の空気を抜く際に大きくするので、露光光の平行度の補正時と露光時とで負圧室20cの天板21のたわみの変化が少なくなり、露光時に近い条件で第2平面鏡38による露光光の平行度の補正が行われる。図6aは平面鏡支持装置の背面図、図6bは図6aのB-B部の一部断面側面図である。平面鏡支持装置50は、縦枠51、横枠52、及び支持機構60を含んで構成されている。図6aに示す様に、2つの縦枠51を複数の横枠52で連結して、フレームが構成されている。図6a,bに示す様に、各横枠52には、複数の支持機構60がそれぞれ設けられている。平面鏡支持装置50は、複数の支持機構60により、第2平面鏡38の裏面を複数箇所で支持している。第2平面鏡38は、ソーダガラス等から成るガラス材の表面に、アルミニウム等から成る反射膜を蒸着して構成されている。図7aは支持機構の側面図、図7bは支持機構の正面図である。支持機構60は、支持部材61、保持具62、止めピン63、ナット64、及び調整具を含んで構成されている。支持部材61は、第2平面鏡38の裏面に取り付けられて、第2平面鏡38の裏面を支持している。図8aは支持部材の上面図、図8bは図8aのC-C部の断面図である。支持部材61には、上方からみて円形の平らな支持部61aと、支持部61aの上面から突き出た2つの受け部61bとが設けられている。支持部61aの下面は、第2平面鏡38の裏面に取り付けられている。各受け部61bには、図8bに示す様に、貫通孔61cが設けられている。図9は、支持部材及び保持具の正面図である。また、図10は図9のD-D部の一部断面側面図である。保持具62は、内輪62a、外輪62b、及びホルダ62cから構成されている。図9において、内輪62aは、球の上下を一部分切り取った形をしており、支持部材61の貫通孔61cとほぼ同じ大きさの貫通孔が設けられている。内輪62aは、支持部材61の2つの受け部61bの間に挿入され、止めピン63及びボルト64により、支持部材61に固定されている。内輪62aの外側には、外輪62b及びホルダ62cが設けられている。外輪62bの内面には、内輪62aの表面に沿った曲面が設けられており、外輪62bは、この曲面を内輪62aの表面に接触させながら回転する。これにより、保持具62は、内輪62aが固定された支持部材61を、図9及び図10に矢印で示す方向に回転可能に保持している。図7a,bにおいて、調整具は、ボルト65、ナット66、及び座金67を含んで構成されている。ボルト65は、横枠52に設けられたねじ穴にねじ込まれ、ナット66及び座金67により横枠52に固定されている。ボルト65の一端には、保持具62のホルダ62cが取り付けられている。ナット66を緩め、ボルト65のねじ込み量を調整して、保持具62の第2平面鏡38の表面と垂直な方向の位置を調整し、各支持機構60の支持部材61が第2平面鏡38の裏面を支持する位置を変更することにより、第2平面鏡38の歪みが矯正され、また第2平面鏡38による露光光の平行度の補正が行われる。平面鏡支持装置50に、第2平面鏡38の裏面を支持する支持部材61と、支持部材61を回転可能に保持する保持具62と、保持具62の第2平面鏡38の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構60を設け、各支持機構60の調整具により、各支持機構60の保持具62の位置を調整して、各支持機構60の支持部材61が第2平面鏡38の裏面を支持する位置を変更するので、第2平面鏡38の全面に渡り歪みを精度良く矯正することができる。また、保持具62により支持部材61を回転可能に保持するので、保持具62の位置を調整する際、支持部材61が第2平面鏡38の裏面を支持する箇所に過度の応力が掛からず、第2平面鏡38の破損が防止される。図11は、各支持機構の保持具の位置を調整する手順の一例を説明する図である。マスクと同じ材料及び厚さで、ピンホールを有するパターンが下面に設けられた測定治具70を、図11aに示す様に、露光時のマスク2の高さと同じ高さに設置する。また、CCDカメラ71を、受光面の中心が測定治具70のパパターンのピンポールと一致する様に設置し、CCDカメラ71の焦点を、測定治具70の下面の高さに合わせる。そして、第2平面鏡38により反射された光を、測定治具70のパターンのピンホールを通して、CCDカメラ71により受光する。CCDカメラ71が撮影した画像は、モニタ72に表示される。図11bは、モニタ72の画面の一例を示している。モニタ72の画面には、画面の中心からXY方向に伸びる目盛72aが設けられている。測定治具70のパターンのピンホールを通してCCDカメラ71により受光された光によって、モニタ72の画面にフライアイレンズ34の一部分の像34aが現れる。第2平面鏡38により反射された光が完全に平行である場合、像34aの中心は、モニタ72の画面の中心と一致する。図11bに示す様に、像34aの中心がモニタ72の画面の中心からずれている場合、目盛72aを用いて、像34aの中心位置のずれ量dX,dYを測定する。この測定を複数箇所で行い、像34aの中心位置のずれ量dX,dYが最小と成る様に、各支持機構60の保持具62の位置を調整する。第2平面鏡38により反射された光を、マスク2と同じ材料及び厚さの測定治具70に設けられたピンホールを通して受光するので、露光時に近い条件で第2平面鏡38により反射された光の位置ずれが検出され、第2平面鏡38による露光光の平行度の補正が高精度に行われる。図12及び図13は、各支持機構の保持具の位置を調整する手順の他の例を説明する図である。本実施の形態では、露光光照射装置30の光源31を点灯せず、レーザー光を、チャック10側の複数箇所から第2平面鏡38へ照射して、各支持機構60の保持具62の位置を調整する。まず、図12aに示す様に、レーザー光源80、ビームエキスパンダ81、ミラー82、及び半透明板84をチャック10の表面に設置し、ミラー83をチャック10の上方にチャック10の表面と平行に設置する。そして、レーザー光源80から発生したレーザー光のビーム径をビームエキスパンダ81で広げ、半透明板84を通してミラー82へ照射する。ミラー82で反射されたレーザー光は、ミラー83で反射されてミラー82へ戻り、再びミラー82で反射されて半透明板84へ照射される。ビームエキスパンダ81から半透明板84へ照射されるレーザー光の位置と、ミラー83で折り返されて半透明板84へ照射されるレーザー光の位置とが、半透明板84上で一致する様に、レーザー光源80、ビームエキスパンダ81、及びミラー82の角度を調節して、ミラー82から上方へ反射されるレーザー光の光軸が垂直になる様にする。続いて、ミラー83及び半透明板84を取り外し、マスク2と同じ材料及び厚さの測定治具85を、図12bに示す様に、露光時のマスク2の高さと同じ高さに設置する。また、図13に示す様に、測定器86を露光光照射装置30のフライアイレンズ34の手前に設置する。そして、ミラー82により反射されたレーザー光を測定治具85及び天板21を介して第2平面鏡38へ照射する。測定器86には、ミラー82を設置した位置に対応する箇所にターゲットマークが設けられており、測定器86へ照射されるレーザー光がターゲットマークに重なる様に、各支持機構60の保持具62の位置を調整する。図12bに破線で示す様に、この作業をチャック10上の複数箇所で行う。なお、測定器86には、ターゲットマークに限らず、格子状の目盛等の様なレーザー光の位置ずれが分かるものを設けてもよい。また、測定器86として、CCDカメラ等の画像取得装置を用い、画像取得装置で受光したレーザー光の位置ずれを、画像処理により検出してもよい。露光光照射装置30の光源31には、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の様に、高圧ガスをバルブ内に封入した放電型のランプが使用されており、これらの光源31は、点灯を開始してから照度が安定するまでに時間が掛かり、また発生する光の照度が高く熱量が多い。レーザー光を、チャック10側の複数箇所から第2平面鏡38へ照射し、第2平面鏡38により反射されたレーザー光を受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構60の保持具62の位置を調整するので、露光光照射装置30の光源31を点灯することなく、第2平面鏡38による露光光の平行度の補正作業を短時間で安全に行うことができる。また、レーザー光を、マスク2と同じ材料及び厚さの測定治具85を通して第2平面鏡38へ照射するので、露光時に近い条件で第2平面鏡38により反射された光の位置ずれが検出され、第2平面鏡38による露光光の平行度の補正が高精度に行われる。図6aにおいて、各支持機構60は、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置されている。図14は、第2平面鏡の支持点の配置を示す図である。各支持機構60の支持部材61が第2平面鏡38の裏面を支持する支持点38aを、図14に示す様に破線で結ぶと、各支持機構60が、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置されていることが分かる。図15は、露光光の平行度を補正した状態の第2平面鏡の支持点の一例を示す図である。隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置された各支持機構60により、第2平面鏡38を滑らかな曲面状に支持することができ、露光光の平行度の補正が効果的に行われる。以上説明した実施の形態によれば、負圧室20cの天板21のたわみを抑制し、かつ、露光時に近い条件で第2平面鏡38による露光光の平行度の補正を行って、マスク2へ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させることができる。さらに、平面鏡支持装置50に、第2平面鏡38の裏面を支持する支持部材61と、支持部材61を回転可能に保持する保持具62と、保持具62の第2平面鏡38の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構60を設け、各支持機構60の調整具により、各支持機構60の保持具62の位置を調整して、各支持機構60の支持部材61が第2平面鏡38の裏面を支持する位置を変更することにより、第2平面鏡38の全面に渡り歪みを精度良く矯正することができる。また、保持具62により支持部材61を回転可能に保持することにより、保持具62の位置を調整する際、支持部材61が第2平面鏡38の裏面を支持する箇所に過度の応力が掛かって第2平面鏡38が破損するのを防止することができる。さらに、平面鏡支持装置50の各支持機構60を、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置することにより、露光光の平行度の補正を効果的に行うことができる。さらに、図11に示した実施の形態によれば、第2平面鏡38により反射された光を、マスク2と同じ材料及び厚さの測定治具70に設けられたピンホールのパターンを通して、CCDカメラ71により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構60の調整具により、各支持機構60の保持具62の位置を調整することにより、露光時に近い条件で第2平面鏡38により反射された光の位置ずれを検出して、第2平面鏡38による露光光の平行度の補正を高精度に行うことができる。あるいは、図12及び図13に示した実施の形態によれば、レーザー光を、チャック10側の複数箇所から第2平面鏡38へ照射し、第2平面鏡38により反射されたレーザー光を測定器86により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構60の調整具により、各支持機構60の保持具62の位置を調整することにより、露光光照射装置30の光源31を点灯することなく、第2平面鏡38による露光光の平行度の補正作業を短時間で安全に行うことができる。また、レーザー光を、マスク2と同じ材料及び厚さの測定治具85を通して第2平面鏡38へ照射することにより、露光時に近い条件で第2平面鏡38により反射された光の位置ずれを検出して、第2平面鏡38による露光光の平行度の補正を高精度に行うことができる。本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うことにより、マスクへ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させることができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。例えば、図16は、液晶ディスプレイ装置のTFT基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程ステップ101では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長CVD法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程ステップ102では、ロール塗布法等により感光樹脂材料フォトレジストを塗布して、薄膜形成工程ステップ101で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程ステップ103では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程ステップ104では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程ステップ105では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程ステップ101で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程ステップ106では、エッチング工程ステップ105でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄/乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にTFTアレイが形成される。また、図17は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程ステップ201では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程ステップ202では、染色法や顔料分散法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、R、G、Bの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程ステップ203では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程ステップ204では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄/乾燥工程が実施される。図16に示したTFT基板の製造工程では、露光工程ステップ103において、図17に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程ステップ201及び着色パターン形成工程ステップ202の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又はプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を適用することができる。"