"電磁波源と、前記電磁波源から出射した電磁波を回折する回折格子と、前記回折格子からの前記電磁波を遮る遮蔽部と透過させる複数の透過部とを有する遮蔽格子と、前記遮蔽格子を経た電磁波を検出する検出器と、を備えた被検体を撮像する撮像装置であって、前記回折格子は前記電磁波を回折することによって、井桁状の干渉パターンを形成し、前記遮蔽格子には、前記複数の透過部が2次元的に配列しており、前記遮蔽部の一部と前記複数の透過部のうち1つの透過部とからなる単位パターンにおいて、前記単位パターンの面積に対して前記透過部の面積が占める面積比は、0.25より大きいことを特徴とする撮像装置。前記単位パターンの面積に対して前記透過部の面積が占める面積比は、0.25より大きく、0.75より小さいことを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。前記複数の透過部の夫々の断面形状は円形であり、前記単位パターンの面積に対して前記透過部の面積が占める面積比は、0.25より大きく0.71より小さいことを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。前記複数の透過部の夫々の断面形状は正方形であり、前記単位パターンの面積に対して前記透過部の面積が占める面積比は、0.25より大きく0.58より小さいことを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。前記複数の透過部の夫々の断面形状は前記干渉パターンの複数の明部の夫々に対して正方形を45°傾けた形であり、前記単位パターンの面積に対して前記透過部の面積が占める面積比は、0.25より大きく0.75より小さいことを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。前記単位パターンの面積に対して前記透過部の面積が占める面積比は、0.25より大きく0.58より小さい請求項1に記載の撮像装置。前記単位パターンの面積に対して前記透過部の面積が占める面積比は、0.30より大きく0.48より小さい請求項1に記載の撮像装置。前記電磁波源はX線源であり、前記電磁波はX線である請求項1乃至7のいずれか1項に記載の撮像装置。前記回折格子は位相基準部とπシフト部とを有し、前記πシフト部は、前記位相基準部を透過した電磁波との位相差がπラジアンになるように位相をシフトさせて電磁波を透過させ、前記位相基準部と前記πシフト部とが市松格子状に配置されている請求項1乃至8のいずれか1項に記載の撮像装置。前記回折格子は位相基準部とπ/2シフト部とを有し、前記π/2シフト部は、前記位相基準部を透過した電磁波との位相差がπ/2ラジアンになるように位相をシフトさせて電磁波を透過させ、前記位相基準部と前記π/2シフト部とが井桁状に配置されている請求項1乃至8のいずれか1項に記載の撮像装置。前記検出器の検出結果に基づいて被検体の情報を演算する演算部を有する請求項1乃至10のいずれか1項に記載の撮像装置。請求項11に記載の撮像装置と、前記撮像装置に接続された画像表示装置と、を備え、前記画像表示装置は、前記撮像装置が有する前記演算部による演算結果に基づいた画像を表示する、撮像システム。一般的に、キャリア周波数の強度が大きいとノイズの影響を受けにくくなる。そのため、トールボット干渉法を用いて被検体の位相像を得るためにはキャリア周波数の強度は大きいことが望ましい。しかしながら、従来の2次元トールボット干渉法を用いた撮像装置において、キャリア周波数の強度は充分ではなかった。そこで、本発明は2次元トールボット干渉計において、従来よりもキャリア周波数の強度を大きくすることができる撮像装置を提供することを目的とする。上記の目的を達成するために、本発明の一側面としての撮像装置は、電磁波源と、前記電磁波源から出射した電磁波を回折する回折格子と、前記回折格子からの前記電磁波を遮る遮蔽部と透過させる複数の透過部とを有する遮蔽格子と、前記遮蔽格子を経た電磁波を検出する検出器と、を備えた被検体を撮像する撮像装置であって、前記回折格子は前記電磁波を回折することによって、井桁状の干渉パターンを形成し、前記遮蔽格子には、前記複数の透過部が2次元的に配列しており、前記遮蔽部の一部と前記複数の透過部のうち1つの透過部とからなる単位パターンにおいて、前記単位パターンの面積に対して前記透過部の面積が占める面積比は、0.25より大きいことを特徴とする。本発明のその他の側面については、以下で説明する実施の形態で明らかにする。本発明によれば、従来よりもキャリア周波数の強度が大きな2次元トールボット干渉法を用いた撮像装置を提供することが可能である。本発明の発明者らは、2次元トールボット干渉法を行うにあたって遮蔽格子の透過部の形状や大きさを検討した。その結果、モアレのキャリア周波数の強度を従来よりも大きくすることが可能になった。尚、本明細書では2次元の干渉パターンを形成し、2次元の遮蔽格子を用いて行うトールボット干渉法を、2次元トールボット干渉法と呼ぶ。以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。本実施形態では電磁波としてX線を用いてトールボット干渉法を行う撮像装置について説明をする。但し、本明細書においてX線とはエネルギーが2~100keVの電磁波を指す。図1は本実施形態におけるX線撮像装置の模式図である。図1に示したX線撮像装置はX線源110と、X線源からのX線を回折する回折格子130と、X線の一部を遮蔽する遮蔽格子150と、遮蔽格子を経たX線を検出する検出器170と、検出器の検出結果に基づいて演算を行う演算部180を備えている。また、この撮像装置は、被検体120の位相情報を持つモアレを撮像することで被検体の位相像を得る。また、図1では被検体120はX線源110と回折格子130との間に置かれているが、回折格子130と遮蔽格子150との間に置かれていても良い。以下で各構成について説明をする。X線源本実施形態のX線撮像装置は電磁波源としてX線源を備えている。X線源110から出射したX線111は、被検体120を透過すると被検体の屈折率や形状に応じて位相が変化する。X線源としては、連続X線を出射するX線源を用いても、特性X線を出射するX線源を用いてもよい。また、X線源110から出射したX線の経路上に、X線を細いビームに分割するための線源格子や波長選択フィルタを配置してもよい。回折格子回折格子130はX線111を回折することで、明部と暗部とからなる干渉パターンを形成する。本明細書では、電磁波の強度が大きい所を明部、小さい所を暗部とする。図1では回折格子130は、被検体120と遮蔽格子150の間に配置されているが、X線源110と被検体120の間に配置しても良い。回折格子130は、位相基準部131と位相シフト部132が2次元的に配置されており、位相シフト部132は、位相基準部131を透過したX線に対して、特定の値だけ位相をシフトさせてX線を透過させる。本明細書では、位相基準部131を透過したX線との位相差がπラジアンになるように位相をシフトさせる位相シフト部をπシフト部、π/2ラジアンだけシフトさせる位相シフト部をπ/2シフト部と呼ぶ。なお、回折格子130を構成する材料はX線の透過率が高い物質が好ましく、例えば、シリコンなどを用いることができる。本実施形態には、井桁状の干渉パターンを形成する回折格子が用いられる。本明細書において井桁状の干渉パターンとは、その一例を図2に示したように複数の明部141aが暗部142aに囲まれて配置されている干渉パターン140aである。また、本明細書において、井桁状の干渉パターンを形成する回折格子を以下のように定義する。まず、位相シフト部の形状が正方形である場合は、その回折格子がX線を回折することによって形成する干渉パターンが井桁状であれば、その回折格子は井桁状の干渉パターンを形成する回折格子であるとする。一方、位相シフト部の形状が正方形以外の形状をとるときは、まず位相シフト部の形状を、その位相シフト部を内包する正方形のうち、面積が実際の位相シフト部に最も近い正方形であると仮定する。次に、その仮定した形状の位相シフト部を持つ回折格子がX線を回折することによって形成する干渉パターンが井桁状であれば、その回折格子は井桁状の干渉パターンを形成する回折格子であるとみなす。この定義に従うと、例えば井桁状の干渉パターンを形成する回折格子を作成する際に作成上の誤差により位相シフト部の角が丸まり、実際に形成する干渉パターンが井桁状ではない回折格子も、本明細書では井桁状の干渉パターンを形成する回折格子と呼ぶことになる。また、実際の、あるいは仮定した、正方形の位相シフト部の大きさは、僅かに異なるだけで図2に示したような正方形が並んだ井桁状の干渉パターンは形成されない。しかし、実際の、あるいは仮定した、回折格子の位相シフト部の大きさが、図2に示したような井桁状の干渉パターンを形成する回折格子の位相シフト部の大きさの、0.25倍~2.25倍であれば、その回折格子は井桁状の干渉パターンを形成するとみなす。但し、位相基準部と位相シフト部の配置は、図2に示したような井桁状の干渉パターンを形成する回折格子と同様である必要がある。また、本明細書で言う位相シフト部の大きさとは位相基準部と位相シフト部の大きさの比のことを指す。本実施形態に用いられる回折格子の具体例を図3に示す。位相シフト部の形状が正方形のものとしては、図3aや図3bに示す回折格子を用いることができる。図3aに示した回折格子は、位相基準部131aとπシフト部132aが市松格子状に配置されている。但し、厳密に市松格子状でなくても良い。図3bに記載した回折格子のπシフト部の面積は回折格子1周期分の面積の1/2であるが、π位相シフト部の面積が回折格子1周期分の面積の1/8まで小さくても井桁状の干渉パターンを形成する回折格子とみなす。図3bに示した回折格子は、位相基準部131bとπ/2シフト部132bが井桁状に配置されている。図3bに示した回折格子のπ/2シフト部の面積は回折格子1周期分の面積の1/4であるが、回折格子のπ/2シフト部の面積が、回折格子1周期分の面積の1/8~9/16の範囲内であれば井桁状の干渉パターンを形成する回折格子であるとみなす。位相シフト部の形状が正方形以外の形状のものとしては、図3cに示した回折格子が例に挙げられる。図3cに示した回折格子は位相基準部131cとπシフト部132cを有し、πシフト部が円形である。位相シフト部の形状が正方形でない場合は、前述のように実際の位相シフト部を内包する正方形のうち、面積が実際の位相シフト部に最も近い正方形であると仮定する。つまり、図3cの回折格子の場合は位相シフト部の、円形の直径の長さを1辺の長さとし、且つ4辺がその円形の接線である正方形が図3cの回折格子の位相シフト部の形状であると仮定する。すると、図3cの回折格子は図3aの回折格子と同じ形状になる。仮定した形状の位相シフト部を持つ回折格子がX線を回折すると井桁状の干渉パターンを形成するため、本明細書では図3cに示した回折格子も井桁状の干渉パターンを形成する回折格子であるとする。また、仮定した正方形の位相シフト部の面積も、実際の位相シフト部が正方形である場合と同様に上記の範囲内であれば井桁状の干渉パターンを形成する回折格子であるとする。但し、実際に図3cに示した回折格子が形成する干渉パターンは、図9に示したように明部がぼやけて正方形ではなく、またライン状の明部が点在しており、厳密には井桁状ではない。井桁状の干渉パターンは図3a~図3cに示した回折格子に限らず種々の線源格子と位相格子の組み合わせから形成が可能である。遮蔽格子遮蔽格子150は干渉パターンが形成される位置に配置されており、干渉パターンを形成するX線の一部を遮蔽することによってモアレを形成する。遮蔽格子150は、遮蔽部151と複数の透過部152を有している。但し、遮蔽部は干渉パターンが形成される位置に配置されることでモアレを形成する程度にX線を遮蔽すれば、完全にX線を遮蔽しなくても本実施形態の撮像装置に用いることができる。本実施形態に用いられる遮蔽格子の模式図を図4に示した。図4aに示した遮蔽格子の透過部の断面形状は円形であり、図4bの遮蔽格子の透過部の断面形状は正方形、図4cの遮蔽格子の透過部の断面形状は正方形を干渉パターンの明部に対して45°傾けた形状である。但し、断面形状が正方形とは、干渉パターンの明部が正方形の時に干渉パターンの明部と傾きがそろっている正方形を指し、同様に正方形を45°傾けた形状とは干渉パターンの明部が正方形の時に、干渉パターンの明部に対して45°傾いている形状を指す。干渉パターンの明部が正方形でない場合は、前述の干渉パターンの明部の面積の定義同様、位相格子の位相シフト部の形状が正方形であると仮定して形成される干渉パターンの明部と、遮蔽格子の透過部の傾きを考えればよい。遮蔽格子を面内回転させることでモアレを形成することがあるが、この場合は面内回転させる前の状態で透過部の傾きを考える。以後、本明細書では、正方形が干渉パターンの明部に対して45°傾いている形状をひし形と呼び、それぞれの遮蔽格子を、断面形状に合わせて、以下円形遮蔽格子150a、正方形遮蔽格子150b、ひし形遮蔽格子150cと呼ぶ。本明細書では図4a~図4cに示したように、遮蔽格子の格子周期1つ分の長さを1辺の長さとする正方形を単位パターン153a、153b、153cと呼ぶ。単位パターンについて図4aを用いて説明をする。単位パターンは遮蔽格子の遮蔽部の一部と1つの透過部からなり、単位パターンの1辺の長さLが遮蔽格子の格子周期Dの長さになるように設定される。本実施形態に用いられる遮蔽格子において、単位パターンの面積に対して透過部の面積が占める面積比透過部の面積/単位パターンの面積。以下透過部の面積比と呼ぶ。は、0.25よりも大きい。透過部の面積比が0.71よりも大きく、0.75よりも小さい時、透過部の形状として正方形と円形をとると、キャリア周波数の強度が従来よりも低くなってしまうため、正方形を45°傾けた形状をとることが好ましい。更に、透過部の面積比が0.58よりも大きく、0.71よりも小さい時、透過部の形状として正方形を45°傾けた形状に加えて円形をとっても、従来よりもキャリア周波数の強度を大きくすることができる。更に、透過部の面積比が0.25よりも大きく、0.58よりも小さいとき、透過部の形状は図4に示したような円形、正方形、正方形を45°傾けた形状のどれをとっても従来よりもキャリア周波数の強度を大きくすることができる。本実施形態において、円形遮蔽格子150a、正方形遮蔽格子150b、ひし型遮蔽格子150cの夫々の透過部の面積は、次の条件を満たす。円形遮蔽格子の単位パターン153aにおいて、単位パターンの面積に対して透過部の面積が占める面積比透過部の面積/単位パターンの面積、以下透過部の面積比と呼ぶは、0.25より大きく0.71より小さい。正方形遮蔽格子の単位パターン153bにおいて、透過部の面積比は、0.25より大きく0.58より小さい。ひし形遮蔽格子の単位パターン153cにおいて、透過部の面積比は、0.25より大きく0.75より小さい。尚、円形遮蔽格子やひし形遮蔽格子の場合、透過部の面積比が一定以上になると、隣り合う透過部同士が接し、繋がる。図4cに示したひし形遮蔽格子を例に説明をする。図4cのひし形遮蔽格子の透過部の面積比は0.5であり、隣り合う透過部同士が接している。透過部の面積比が0.5以上になると、隣り合う透過部同士が繋がり、透過部の形状は正確にはひし形ではないが、本明細書ではこのような遮蔽格子もひし形遮蔽格子と呼び、透過部はひし形であるという。但し、透過部の面積比の計算の際には実際の透過部の面積を用いる。つまり、透過部がひし形であるとみなして面積を計算し、その面積を用いて透過部の面積比を計算することはしない。遮蔽格子の透過部の形状が歪んだ場合、すなわち、遮蔽格子の透過部が厳密には正方形や円形でなくても本実施形態の遮蔽格子として用いることができる。遮蔽部を構成する材料はX線をよく遮蔽する物質が好ましく、例えば、金を用いることができる。また透過部を構成する材料はX線をよく透過する物質が好ましく、例えばシリコンを用いてもよいし、または空洞でもよい。遮蔽格子の格子周期は干渉パターンの周期と同一であっても良いし、僅かに異なっても良い。但し、本明細書における干渉パターンの周期を以下のように定義する。X線が平面波である場合、πシフト部を持つ位相格子によって形成された干渉パターンであれば位相格子の周期の1/2、π/2シフト部を持つ位相格子によって形成された干渉パターンであれば位相格子の周期を、干渉パターンの周期とする。それ以外の値位相をシフトさせる位相シフト部を持つ場合は、その値位相をシフトさせる位相シフト部が図3aに示したように厳密に市松格子状に配置されていたと仮定したときに形成される干渉パターンの周期を干渉パターンの周期とする。また、X線が球面波の場合は前述の通り定義した、X線が平面波である場合の干渉パターンの周期にR1R2/R1をかけたものを干渉パターンの周期とする。ここで、R1はX線源から回折格子までの距離、R2は回折格子から遮蔽格子までの距離である。遮蔽格子の格子周期と干渉パターンの周期が同じ場合、遮蔽格子150を面内で回転させることによってモアレを生じさせる。遮蔽格子の格子周期と干渉パターンの周期が僅かに異なる場合は面内回転させなくてもモアレが生じる。遮蔽格子の格子周期は干渉パターンの周期よりも大きくても小さくても良いが、遮蔽格子を製造する観点から見れば、遮蔽格子の格子周期の方が大きい方が容易に製造することができるため好ましい。遮蔽格子の格子周期が干渉パターンの周期と同一以上である時、遮蔽格子の透過部の面積は干渉パターンの明部の面積よりも大きくなる。但し、本明細書における干渉パターンの明部の面積とは、一辺が干渉パターンの周期の長さの正方形の面積の1/4とする。検出器遮蔽格子150を透過したX線によって形成されるモアレ160は検出器170によって検出される。本実施形態において、検出器170はX線を撮像することができる撮像素子であり、例えば、デジタル信号への変換が可能なFPDFlatPanelDetectorやCCDChargCoupledDeviceを用いることができる。演算部演算部180は、まず、検出器170で検出されるモアレ160をフーリエ変換することで、空間周波数スペクトルを算出する。図5は本実施形態において得られる空間周波数スペクトルの模式図である。次に、演算部180は空間周波数スペクトル上のキャリア周波数のピーク510より、位相回復処理を行う。演算部180は、例えば、CPUCentralProcessingUnitを有する。本実施形態のX線撮像装置は演算部を有しているが、検出器で検出した情報を基にフーリエ変換と位相回復処理がおこなえれば、演算部とX線撮像装置が別に設けられていても良い。また、演算部による演算結果に基づいた画像を表示する画像表示装置をX線撮像装置に接続してX線撮像システムを構成しても良い。但し、本明細書においては、演算部を含めたX線撮像装置と、その演算部の演算結果に基づいた画像を表示する画像表示装置をまとめてX線撮像システムと呼ぶ。実施例1では位相シフト部が正方形である回折格子を用いたX線撮像装置について説明をする。以下の構成のX線撮像装置を用い、遮蔽格子の透過部の面積比を変化させて撮像を行った場合、キャリア周波数の強度がどのように変化するのかをシミュレーションによって計算した。また、計算は64×64μm2の領域を8192×8192のメッシュに分割して行った。X線X線は、17.5KeVの単色平面波を用いた。1メッシュの強度を1としたため、計算領域全体で8192×8192=67108864の強度を持つ。ただし、単位は任意単位とする。回折格子回折格子は、図3のaに示した、位相基準部131aとπシフト部132aが市松格子状に配置されているものを用いた。材質はシリコン、格子周期は4μm、厚みは22.4μmとした。この回折格子によって周期2μmの井桁状の干渉パターンが形成される。遮蔽格子遮蔽格子は図4a、図4b、図4cに示したような、円形遮蔽格子、正方形遮蔽格子、ひし形遮蔽格子の3種類を夫々用いた。夫々の遮蔽格子の材質は透過部がシリコン、遮蔽部が金であり、格子周期が2μm、厚みは50μmとした。夫々の遮蔽格子は、0.125ラジアンだけ面内回転させ、周期が16μmのモアレを形成するようにした。また、夫々の遮蔽格子の単位パターンにおいて、透過部の面積比を0.2から0.8まで変化させた。検出器検出器として、分解能が4μmの検出器を用いた。512×512メッシュ分の強度を積算したものを検出器1画素の強度とした。よって、検出器の画素数は16×16となり、モアレの1周期は検出器上で4画素となる。演算部検出器によって得られた検出結果をFFTFastFourierTransform処理して得られる空間周波数スペクトルより、キャリア周波数のピークの強度を求めた。実施例2では位相シフト部が円形である回折格子を用いたX線撮像装置について説明をする。回折格子以外の構成とシミュレーション方法は実施例1と同じである。回折格子回折格子は図3cに示したものを用いた。図3cの回折格子は、πシフト部が円形であり、縦軸と横軸に対して45°傾いて配列されている。材質はシリコン、格子周期は4μm、厚みは22.4μmとした。[比較例1]比較例1として、実施例1と同じ回折格子と、その回折格子に対して従来用いられている遮蔽格子を用いたX線撮像装置のキャリア周波数の強度をシミュレーションによって計算した。遮蔽格子以外は実施例1と同じ構成のX線撮像装置を用いた。遮蔽格子前述の通り、特許文献1に記載の遮蔽格子は、干渉パターンの明部と暗部の配列に対応して遮蔽部と透過部が配列しており、透過部の幅と遮蔽部の幅の比は1:1である。これに倣うと、2次元トールボット干渉法においても、干渉パターンの明部と暗部の配列に対応して透過部と遮蔽部が配列された遮蔽格子を使えば良い。この場合も遮蔽格子の透過部と遮蔽部の幅の比は1:1である。そこで比較例1では、図6に示した、透過部152dの形状が正方形で、透過部の面積比が0.25、格子周期が2μmの遮蔽格子を用いた。151dは遮蔽部である。また、材質は透過部をシリコン、遮蔽部を金とし、厚みは50μmとした。遮蔽格子は、0.125ラジアンだけ面内回転させ、周期が16μmのモアレを形成するようにした。[比較例2]比較例2として、実施例2と同じ回折格子と、その回折格子に対して従来用いられている遮蔽格子を用いたX線撮像装置のキャリア周波数の強度をシミュレーションによって計算した。遮蔽格子以外は実施例2と同じ構成のX線撮像装置を用いた。遮蔽格子比較例1同様、比較例2でも図6に示した、透過部152dの形状が正方形で、透過部の面積比が0.25、格子周期が2μmの遮蔽格子を用いた。151dは遮蔽部である。また、材質は透過部をシリコン、遮蔽部を金とし、厚みは50μmとした。遮蔽格子は、0.125ラジアンだけ面内回転させ、周期が16μmのモアレを形成するようにした。上記シミュレーションの結果を述べる。実施例1において、夫々の遮蔽格子を用いた場合のシミュレーション結果をグラフにして図7に示した。図7のグラフは、縦軸にキャリア周波数の強度、横軸に透過部の面積比をとり、透過部の面積比とキャリア周波数の強度の関係を示している。また、比較例1の構成によって得られるキャリア周波数の強度を直線710として図7に示した。実施例2についても同様に縦軸にキャリア周波数の強度、横軸に透過部の面積比をとってグラフにして図8に示した。また、図8にも比較例2の構成によって得られるキャリア周波数の強度を直線810として示した。図7、図8より、透過部の面積比が0.25より大きいと、比較例1,2よりも強度が大きいキャリア周波数を得ることができることが分かった。尚、比較例1,2よりも強度が大きいキャリア周波数を得ることができる透過部の面積の上限は透過部の形状による。少なくとも、透過部の面積比が0.75より小さい範囲であれば比較例1,2よりも強度が大きいキャリア周波数を得ることができる透過部の形状があることが図7,図8よりわかる。円形遮蔽格子では透過部の面積比が0.25より大きく0.71より小さい範囲であれば比較例1、2よりも強度が大きいキャリア周波数を得ることができることが分かった。同様に、正方形遮蔽格子を用いた場合、透過部の面積比が0.25より大きく0.58より小さい範囲であれば比較例1、2よりも強度が大きいキャリア周波数を得ることができる。また、ひし形遮蔽格子では0.25より大きく0.75より小さい範囲であれば比較例1、2よりも強度が大きいキャリア周波数を得ることができる。更に、図7、図8より、遮蔽格子の面積比が0.30より大きく、0.70よりも小さい範囲であれば比較例1、2よりも1割程度以上強度が大きいキャリア周波数を得ることができる形状があることが分かった。比較例1、2よりもキャリア周波数のピーク強度が1割程度以上大きくなるためには、円形遮蔽格子、正方形遮蔽格子、ひし形遮蔽格子、の夫々の透過部の面積比は以下の範囲であることが求められる。円形遮蔽格子では透過部の面積比が0.30より大きく0.63よりも小さい範囲であれば比較例の1割程度以上強度が大きいキャリア周波数を得ることができる。正方形遮蔽格子では透過部の面積比が0.33より大きく0.48よりも小さい範囲であれば比較例の1割程度以上強度が大きいキャリア周波数を得ることができる。ひし形遮蔽格子では0.30より大きく0.70よりも小さい範囲であれば比較例の1割程度以上強度が大きいキャリア周波数を得ることができる。遮蔽格子の透過部がこの範囲であると、2次元トールボット干渉法においてより好ましいキャリア周波数の強度を得ることができる。更に、図7、図8より、遮蔽格子の面積比が0.35より大きく、0.65よりも小さい範囲であれば比較例1、2よりも2割程度以上強度が大きいキャリア周波数を得ることができる形状があることが分かった。円形遮蔽格子では透過部の面積比が0.35より大きく0.60よりも小さい範囲であれば比較例1,2よりも強度が大きいキャリア周波数を得ることができる。ひし形遮蔽格子では0.35より大きく0.65よりも小さい範囲であれば比較例1,2よりも2割程度以上強度が大きいキャリア周波数を得ることができる。遮蔽格子の透過部がこの範囲であると、2次元トールボット干渉法においてさらに好ましいキャリア周波数の強度を得ることができる。これらのシミュレーション結果から、透過部の形状が上記3種類以外の形状であっても透過部の面積比が0.25より大きく0.58より小さい範囲であれば従来技術よりも強度が大きいキャリア周波数を得ることができると考えられる。例えば透過部の形状が、ひし形や正方形の角がとれたり、線がゆがんだりして、ひし形あるいは正方形と、円形との間の様な形状であっても良い。そのため、透過部の面積比をこの範囲内にすると透過部の形状を厳密に作製しなくても良い。また、透過部の面積比が0.33よりも大きく、0.48よりも小さい範囲であることがより好ましい。この範囲では、前述のようなひし形や正方形の角がとれたりした形状であっても、従来例である比較例1、2よりもキャリア周波数のピーク強度が1割程度以上大きくなるとかんがえられる。その結果、2次元トールボット干渉法において、比較例1,2よりもより好ましい高さのノイズ耐性を得ることができる。尚、透過部の面積比を大きくすると、検出器により得られる検出結果に含まれる被検体の透過率分布とX線源のむらの影響も大きくなってしまうことがある。そのような場合は、本実施形態の遮蔽格子を用いて、国際出願番号PCT/JP2011/051680に記載されている方法で撮像を行えば、被検体の透過率分布とX線源のむらの影響を抑制しつつキャリア周波数の強度を大きくすることができる。本実施形態ではX線を用いた撮像装置について説明をしたが、本発明にはX線以外の電磁波を用いることもできる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種種の変形および変更が可能である。"