"消弧性ガスが充填された密閉容器内に対向配置された第1のアーク接触子及び第2のアーク接触子を接触又は離反させることで電流の導通又は遮断を切り替えるガス遮断器であって、前記遮断の過程で発生する前記第1のアーク接触子と前記第2のアーク接触子との間の空間に連通すると共に、当該空間に発生するアークプラズマに対して吹き付けられる前記消弧性ガスを収容したパッファ室を有し、前記パッファ室は、前記遮断しようとする電流が所定値超であるか以下であるかに応じて、遮断過程途中以降の容積が不変又は可変の何れかに切り替えられること、を特徴とするガス遮断器。前記パッファ室は、両端が有底の筒形状を有し、このパッファ室の一端面と側面とからなり、前記第1のアーク接触子及び前記第2のアーク接触子の離間に伴って、前記パッファ室の他端面の方向に移動するシリンダ部と、前記他端面からなり、前記シリンダ部の前記側面に対して相対的に摺動可能な浮動ピストン部と、前記浮動ピストン部を前記一端面の方向に付勢する弾性体と、前記シリンダ部の前記側面に設けられ、前記弾性体の付勢力に抗して前記シリンダ部の前記一端面から離反する前記浮動ピストン部の相対的な離反上限を設定するピストン止めと、を備えること、を特徴とする請求項1記載のガス遮断器。前記弾性体は、遮断する前記電流が所定値以下の場合の前記パッファ室内の圧力に対しては長さを維持し、遮断する前記電流が所定値超の場合の前記パッファ室内の圧力に対しては収縮するように強度が設定されていること、を特徴とする請求項2記載のガス遮断器。前記浮動ピストン部は、前記遮断する前記電流が所定値以下の場合には不動であり、前記遮断する前記電流が所定値超の場合には、前記ピストン止めが設定する前記離反上限まで移動すること、を特徴とする請求項2又は3記載のガス遮断器。前記パッファ室の容積は、前記遮断する前記電流が所定値以下の場合には縮小し、前記遮断する前記電流が所定値超の場合には、前記ピストン止めにより一定となること、を特徴とする請求項2乃至4の何れかに記載のガス遮断器。前記浮動ピストン部と前記シリンダ部の相対移動により前記パッファ室が最大且つ一定となったときの容積Vリットルは、IskArmsを定格遮断電流の実効値、K=0.18、及びN=0.6としたとき、0.8×K×IsN<V<1.2×K×IsNであること、を特徴とする請求項2乃至5の何れかに記載のガス遮断器。前記弾性体の付勢力を超える前記パッファ室内の圧力を発生させる前記電流の値は、定格遮断電流の実効値に対する20~50であること、を特徴とする請求項2乃至6の何れかに記載のガス遮断器。前記浮動ピストン部は、前記離反後、前記弾性体の付勢力によって前記パッファ室の圧力低下を打ち消すように戻り、前記パッファ室の圧力低下速度を減少させること、を特徴とする請求項2乃至7の何れかに記載のガス遮断器。前記浮動ピストン部に形成され、前記パッファ室内の圧力が前記密閉容器の充填圧力以下になったときに前記パッファ室へ前記消弧性ガスを供給する貫通孔及びバルブを更に備えること、を特徴とする請求項2乃至8の何れかに記載のガス遮断器。前記弾性体は、圧縮気体が充填された可変体積容器であること、を特徴とする請求項2乃至9の何れかに記載のガス遮断器。前記消弧性ガスは、六フッ化硫黄ガスよりも地球温暖化係数の小さいガスであること、を特徴とする請求項1乃至10の何れかに記載のガス遮断器。以上に述べたパッファ型及び直列パッファ型のガス遮断器におけるアークプラズマ15に対する消弧性ガスの必要吹き付け圧力の遮断電流依存性について図10に示す。図10に示すグラフでは、遮断しようとする電流値を横軸にとり、その電流を遮断するために必要な吹き付け圧力を縦軸にとったものである。実線は、電流遮断に必要な吹き付け圧力を示し、2点鎖線は、パッファ型のガス遮断器における機械的圧縮作用により実現しようとする吹き付け圧力を示し、1点鎖線は、直列パッファ型のガス遮断器における機械的圧縮作用により実現しようとする吹き付け圧力を示し、点線は、直列パッファ型のガス遮断器における自力昇圧作用により実現しようとする吹き付け圧力を示す。実線で示されるように、アークプラズマ15の消弧に必要な消弧性ガスの吹き付け圧力は、パッファ室20、20a、20bの形状や消弧性ガスの種類、遮断までの点弧時間の条件などによって変わるが、定性的には単調増加の傾向にある。従来のパッファ型のガス遮断器では、必要な吹き付け圧力の生成に対する自力昇圧作用の寄与度は小さく、多くは機械的圧縮作用に頼っている。そのため、2点鎖線で示すように、このパッファ型のガス遮断器は、最大の遮断電流、すなわちガス遮断器の定格遮断電流の遮断に必要な吹き付け圧力を機械的圧縮作用のみによって生み出すように設計されねばならない。しかし、このような設計は、操作ロッド5の強力な駆動操作機構を必要とし、また遮断動作時の機械的振動が大きくなり、またコスト高となるといった問題が生じてしまう。その理由は、機械的圧縮によってパッファ室20で生成される吹き付け圧力がピストン部21に対して及ぼす力が駆動操作の反力として作用してしまうためである。この反力に打ち勝ってシリンダ部7を駆動させ、パッファ室20の容積を減少させるには、強力な駆動操作機構を必要とする。直列パッファ型のガス遮断器では、大電流遮断に必要な吹き付け圧力は、点線で示したように、遮断しようとする電流に応じて単調増加するアークプラズマ15の熱による自力昇圧作用によって得られる。一方、小電流遮断に必要な吹き付け圧力は、自力昇圧作用に期待できないために、一点鎖線で示す機械的圧縮作用によって補われる。但し、遮断しようとする電流が所定値以上となると、自力昇圧作用によって吹き付け圧力を確保できるために、排気弁25を開けて貫通孔24を開放することで、1点鎖線で示すように、機械的圧縮により生じる圧縮パッファ室20bの圧力を外部へ逃がす。これによって、機械的圧縮によって生じる駆動操作の反力を無視できる程度に小さくすることができる。そのため、従来のパッファ型のガス遮断器で必要であった強力な駆動操作機構は必要でなくなる。しかしながら、その一方で、直列パッファ型のガス遮断器は、仕切り板28、連通制御弁23、排気弁25等を設ける必要が生じ、構造が複雑になる。また、その分だけ可動部分が重くなり、遮断時に必要な開極速度を得るための駆動力は、従来のパッファ型のガス遮断器よりも大きくなる傾向がある。このため、直列パッファ型のガス遮断器であっても従来のパッファ型と比べて必ずしも劇的な操作駆動力の低減が図れるわけではなかった。また、直列パッファ型のガス遮断器は、従来のパッファ型の遮断器ではおおよそ問題にならなかった小中電流を遮断する際に十分な遮断性能を実現するのが困難であるという問題が明らかになった。まず、第1に、機械的圧縮作用によって消弧性ガスをアークプラズマ15に吹き付けるには、圧縮パッファ室20bから熱パッファ室20aを経由して消弧性ガスを流出させる必要がある。しかし、貫通孔22からアークプラズマ15へと至る流路断面は、熱パッファ室20aで一旦大きく拡がるため、スムーズな消弧性ガスの流れが熱パッファ室20aで妨げられることになる。さらに、この熱パッファ室20aへ流れ込んだ消弧性ガスのエネルギーは、熱パッファ室20aの圧力を圧縮パッファ室20bと同等の圧力にまで上昇されるために消費されてしまうため、アークプラズマ15へ吹き付けられるガス量は、構造的にかなり少なくならざるを得ない。従って、主に機械的圧縮作用によってアークプラズマ15を消弧させる小電流領域においては、直列パッファ型のガス遮断器の性能が従来のパッファ型と比べて劣ってしまう。第2に、直列パッファ型のガス遮断器において、機械的圧縮を主に作用させることでアークプラズマ15を消弧させるか、自力昇圧作用を主に作用させることでアークプラズマ15を消弧させるかの切り替えは、連通制御弁23が受動的に開閉することにより実現されている。従って、その切り替えがどちらつかずとなる中電流領域においては、連通制御弁23の動作が不安定となり、遮断性能が極めて不安定となるおそれがある。第3に、高速閉路責務を直列パッファ型のガス遮断器によって果たす場合には、大幅に遮断性能が劣化してしまうという課題も生じることとなった。すなわち、圧縮パッファ室20bには、外部から消弧性ガスを吸気させるためのバルブ27及び貫通孔26が設けられているが、熱パッファ室20aには、直接的な吸気手段がない。そのため、連通制御弁23と貫通孔22を利用する必要があるが、一回電流を遮断した直後の熱パッファ室20aには、アークプラズマ15により熱せられた消弧性ガスが充満しており高圧となっている。低温で密度の高い消弧性ガスで熱パッファ室20a内を置換することができなければ、2回目の電流遮断では、高温で低密度の消弧性ガスをアークプラズマ15へ吹き付けることになる。高温、低密度のガスは、消弧性能及び電気絶縁性能が低いため、直列パッファ型のガス遮断器は、高速閉路責務を果たす場合、従来のパッファ型のガス遮断器と比べて大幅に性能が劣ってしまう。以上のように、従来のパッファ型のガス遮断器も直列パッファ型のガス遮断器も全ての電流遮断領域に亘って優れた電流遮断性能を達成しつつ、駆動操作力を抑制でき、機械的信頼性と低コスト化を実現することができなかった。本発明の実施形態は、上記の課題を解消するために提案されたものであり、全ての電流遮断領域に亘って優れた電流遮断性能を達成しつつ、駆動操作力を抑制することのできるガス遮断器を提供することを目的としている。上記の目的を達成するために、実施形態のガス遮断器は、消弧性ガスが充填された密閉容器内に対向配置された第1のアーク接触子及び第2のアーク接触子を接触又は離反させることで電流の導通又は遮断を切り替えるものである。このガス遮断器は、前記遮断の過程で発生する前記第1のアーク接触子と前記第2のアーク接触子との間の空間に連通すると共に、当該空間に発生するアークプラズマに対して吹き付けられる消弧性ガスを収容したパッファ室を有する。このパッファ室は、遮断しようとする電流が所定値超であるか以下であるかに応じて、遮断過程途中以降の容積が不変又は可変の何れかに切り替えられる。例えば、このパッファ室は、シリンダ部と浮動ピストン部と弾性体とピストン止めとを備える。シリンダ部は、両端が有底の筒形状を有し、パッファ室の一端面と側面とからなり、第1のアーク接触子及び第2のアーク接触子の離間に伴って、パッファ室の他端面の方向に移動する。浮動ピストン部は、パッファ室の他端面からなり、シリンダ部の側面に対して相対的に摺動可能となっている。弾性体は、浮動ピストン部を一端面の方向に付勢する。ピストン止めは、シリンダ部の側面に設けられ、弾性体の付勢力に抗してシリンダ部の一端面から離反する浮動ピストン部の相対的な離反上限を設定する。以下、ガス遮断器の実施の形態について、図1乃至7を参照して具体的に説明する。尚、ガス遮断器は、中心軸を回転軸とした回転対称構造を有しており、各図においては、中心線より上側の断面のみを示している。構成図1は、本実施形態に係るガス遮断器を示す断面図であり、電流の導通状態を示している。このガス遮断器は、対向接触子1と可動接触子2、及び対向アーク接触子3と可動アーク接触子4とをそれぞれ対向配置させ、消弧性ガスが充填された密閉容器に収納している。密閉容器は、例えば、金属製又は硝子製の容器である。消弧性ガスは、消弧性能及び絶縁性能に優れたガスであり、例えば六フッ化硫黄ガスSF6ガスが挙げられる。但し、SF6ガスは、二酸化炭素ガスの23900倍の地球温暖化効果を有すると言われており、環境保全の観点から、SF6ガスよりも地球温暖化係数の小さいガスを用いるようにしてもよい。この地球温暖化係数の小さいガスとしては、空気、二酸化炭素、酸素、窒素、またはそれらの混合ガス等が挙げられる。対向接触子1と可動接触子2は、それぞれ端面が開口した円筒形状を有する導体であり、互いに開口を向かい合わせて同一軸上に配置されている。対向接触子1の開口縁は内部に膨出しており、この開口縁部分の内径と可動接触子2の外径とは一致する。対向接触子1と可動接触子2とは、相対的に移動が可能となっており、対向接触子1の開口に可動接触子2が差し込まれることで、対向接触子1の内面と可動接触子2の外面とが接触し、電流導通状態となる。対向アーク接触子3は、円柱形状を有する導体であり、可動アーク接触子4は、先端が開口した円筒形状を有する導体である。可動アーク接触子4の先端は、ブラシ状に円周方向に分割されている場合もある。この対向アーク接触子3と可動アーク接触子4は、対向接触子1と可動接触子2の内部に同軸上に対向配置されており、可動アーク接触子4の開口は対向アーク接触子3を向く。可動アーク接触子4の開口縁は内部に膨出しており、開口縁の内径は対向アーク接触子3の外径と一致するか、若干小さい。若干小さい場合は、開口縁部分の厚みが調節され可撓性を有している。この対向アーク接触子3と可動アーク接触子4は、相対的に移動が可能となっており、対向アーク接触子3が可動アーク接触子4に差し込まれることで、電流が導通状態となる。対向接触子1と対向アーク接触子3は、密閉容器に固定され、可動接触子2と可動アーク接触子4は、操作ロッド5に固定支持されている。操作ロッド5は、円筒形状を有し、対向アーク接触子3や可動アーク接触子4と同軸上に配置されている。可動アーク接触子4と操作ロッド5は概略同径であり、可動アーク接触子4は、操作ロッド5の先端に立設している。この操作ロッド5は、図示しない操作駆動機構によって軸方向に押し引きされる。可動接触子2と可動アーク接触子4は、この操作ロッド5の押し引きの程度に応じて、対向接触子2や対向アーク接触子3と接触し、又は離反する。操作ロッド5の周囲には、操作ロッド5を内包するように容積可変のパッファ室6が形成されている。パッファ室6は、操作ロッド5と同心円状に配置されたドーナツ形状を有し両端面が有底の筒である。パッファ室6の内周面は、パッファ室6を貫いて配置される操作ロッド5の周面によって形成されている。更に、パッファ室6は、対向アーク接触子3側の端面である上底及び側壁を形成するシリンダ部7と、下底を形成する浮動ピストン部8とで構成されている。シリンダ部7は、操作ロッド5に固定支持されており、操作ロッド5の押し引きに伴って軸方向に移動が可能となっている。シリンダ部7の上底には、可動アーク接触子4の周囲を囲むようにリング状の貫通孔6aが貫設されており、貫通孔6aは、アークプラズマ発生空間とパッファ室6の内部と連通させる。アークプラズマ発生空間は、可動アーク接触子4と対向アーク接触子3とが離間したときに発生する間の空間である。また、シリンダ部7の上底表面には、可動アーク接触子4を一定の間隔を設けて囲んだ絶縁ノズル14が立設されている。絶縁ノズル14は、パッファ室6からアークプラズマ発生空間までのガス流路を形成している。浮動ピストン部8は、弾性体11を介して浮動支持されている。具体的には、浮動ピストン部8は、軸方向に延びるピストンロッド9を底面に有している。このピストンロッド9は、密閉容器内部に固定された板状部材であるピストン支え10によって支持されている。ピストン支え10には、軸方向に貫設された貫通孔を有し、ピストンロッド9は、その貫通孔内に摺動可能に支持されている。弾性体11は、ピストン支え10の表面と浮動ピストン部8の底面との間に介在する。弾性体11は、例えば圧縮コイルバネであり、端部がそれぞれピストン支え10と浮動ピストン部8に固定されている。この弾性体11は、浮動ピストン部8に対してシリンダ部7の上底方向に付勢力を与える。すなわち、浮動ピストン部8は、弾性体11の付勢力又はこの付勢力に抗する力によって軸方向に移動可能となっている。シリンダ部7の内側面から操作ロッド5の表面までの距離は、シリンダ部7の対向アーク接触子3側において、浮動ピストン部8の内周側面から外周側面までの幅と等しい。すなわち、シリンダ部7の対向アーク接触子3側において、浮動ピストン部8の外側面とシリンダ部7の内側面とは、相対的に摺動可能に当接している。一方、浮動ピストン部8の底面よりもピストン支え10側において、シリンダ部8の内側面から操作ロッド5の表面までの距離は、浮動ピストン部8の内周側面から外周側面までの幅よりも短い。すなわち、シリンダ部7の内側面には、浮動ピストン部8の底面よりもピストン支え10側において内部側に段部が設けられており、この段部は、浮動ピストン部8のピストン止め12となっている。また、浮動ピストン部8には、貫通孔13aが形成されており、この貫通孔13aは、バルブ13bによって開閉される。バルブ13bは、パッファ室6の圧力が密閉容器内に充填される消弧性ガスの充填気圧よりも低い場合に、貫通孔13aを開放する逆止弁である。以上のようなガス遮断器において、パッファ室6の容積について更に詳細に説明する。後述するように、パッファ室6の圧力が浮動ピストン部8に及ぼす力が弾性体11の付勢力を上回ると、浮動ピストン部8は、ピストン支え10の方向に後退し、ピストン止め12に当接する。このとき、浮動ピストン部8のシリンダ部7に対する相対的な離反は抑止され、パッファ室6の容積は最大且つ一定となる。このときのパッファ室6の容積V[リットル]は、以下のように設定される。換言すると、ピストン止め12の形成位置は、以下の容積Vを満たすように定められる。0.8×K×IsN<V<1.2×K×IsNIsは、このガス遮断器が遮断しようとする最大の遮断電流値、すなわち定格遮断電流の実効値[kArms]であり、係数K及びNは、遮断データからの経験値として、K=0.18、N=0.6である。また、図2は、弾性体11が最も圧縮された状態を示す断面図であるが、弾性体11が最も圧縮されて長さLとなったとき、この弾性体11に過大な機械的負荷がかからないように、シリンダ部7の完全遮断位置とピストン止め12との相対的な位置は設定される。尚、シリンダ部7の完全遮断位置とは、定格遮断電流を完全に遮断可能な位置までシリンダ部7が移動したときの位置である。弾性体11の最も圧縮された状態では、シリンダ部7が完全遮断位置に移動し、依然としてパッファ室6内の圧力が高いため、浮動ピストン部8が弾性体11の付勢力に抗してピストン止め12に圧着している状態である。また、後述するように、このような構成のガス遮断器は、遮断しようとする電流に応じて機械的圧縮作用を主とした電流遮断動作と自力昇圧作用を主とした電流遮断動作とに切り替わることとなるが、その閾値電流Icは、定格遮断電流の実効値Isに対して20~50の範囲となるように定められる。すなわち、弾性体11は、0.2×Is<Ic<0.5×Isとなるように強度が定められる。作用このようなガス遮断器の電流遮断過程について小電流を遮断する過程と大電流を遮断する過程に分けて詳細に説明する。図3は、ガス遮断器が小電流を遮断する過程を示す断面図である。図3に示すように、閾値電流Ic以下の小電流を遮断しようとする場合、ガス遮断器は、まず、駆動操作機構によって操作ロッド5を後退させる。この操作ロッド5の後退に伴って、対向接触子1と可動接触子2、及び対向アーク接触子3と可動アーク接触子4とは、それぞれ離反を開始する。対向アーク接触子3と可動アーク接触子4とが離れると、この対向アーク接触子3と可動アーク接触子4との間の空間にアークプラズマ15が発生する。さらに、操作ロッド5の後退に伴って、シリンダ部7による浮動ピストン部8への接近が開始され、パッファ室6の機械的圧縮が開始される。そのため、パッファ室6の容積Vは減少し、ボイルの法則に従ってパッファ室6の圧力Pは上昇する。このとき、閾値電流Ic以下の電流によって発生するアークプラズマ15の熱エネルギーはそれほど大きくないため、アークプラズマ15により熱せられた消弧性ガスによるパッファ室6の自力昇圧作用は小さい。従って、パッファ室6内の圧力Pが浮動ピストン部8を押し下げる力Faと弾性体11の付勢力Fbとは釣り合い、弾性体11は長さを維持し、浮動ピストン部8は不動である。また、パッファ室6内の圧力Pが浮動ピストン部8に及ぼす力Faは、シリンダ部7に対する駆動反力となるが、自力昇圧作用が小さいために、その圧力Pは比較的小さく、操作ロッド5を後退させるために大きな駆動力は必要ない。図4乃至6は、ガス遮断器が大電流を遮断する過程を示す断面図である。図4は、大電流遮断の初期から中期を示す断面図であり、図5は、大電流遮断の後期を示す断面図であり、図6は、大電流遮断完了後を示す断面図である。図4に示すように、閾値電流Icを上回る電流を遮断するとき、まず、駆動操作機構によって操作ロッド5を後退させる。この操作ロッド5の後退に伴って、対向接触子1と可動接触子2、及び対向アーク接触子3と可動アーク接触子4とは、それぞれ離反を開始する。対向アーク接触子3と可動アーク接触子4とが離れると、この対向アーク接触子3と可動アーク接触子4との間の空間にアークプラズマ15が発生する。大電流により発生したアークプラズマ15は、周囲の消弧性ガスを熱膨張させる。この高温高圧の消弧性ガスは、パッファ室6内に流入する。そのため、パッファ室6内では自力昇圧作用が生じ、パッファ室6内の圧力Pは高まる。そして、パッファ室6内の圧力Pがピストン部8に及ぼす力Faが弾性体11の付勢力Fbを超えると、ピストン部8は、シリンダ部7の内側面を摺動しつつ、シリンダ部7の上底部分から相対的に離れるように、ピストン支え10の方向に後退する。次に、図5は、電流遮断の後期を示しているが、後退したピストン部8は、ピストン止め12に当接し、シリンダ部7との相対的な移動が停止する。このとき、パッファ室6の体積Vは一定となり、その後、自力昇圧作用によるパッファ室6内の圧力Pの上昇が続く。ピストン部8がピストン止め12に当接することにより、一定となったパッファ室6の体積Vは、いわゆる直列パッファ型のガス遮断器における熱パッファ室20aの体積に相当する。従って、自力昇圧作用だけで大電流遮断に必要な吹き付け圧力及び吹き付けガス流量が過不足なく得られる。この大電流遮断においては、ピストン部8はシリンダ部7の内部に設けられたピストン止め12に当接しているだけであり、パッファ室6内部の圧力Pが駆動操作の反力として作用することはない。操作ロッド5に掛かる駆動反力は、たかだか、開極動作に伴い弾性体11を圧縮する力Fbのみとなる。すなわち、大電流の遮断においては、直列パッファ型のガス遮断器が有する連通制御弁23を閉じたまま、熱パッファ室20aの自力昇圧作用だけで消弧性ガスの吹き付けを行っている状態となんら相違がない。そして、図6は、大電流遮断完了後を示しているが、パッファ室6内の圧力Pが浮動ピストン部8に及ぼす力Faが下がり、弾性体11の付勢力Fbを下回ると、浮動ピストン部8は、パッファ室6の圧力低下を打ち消すように元の箇所に戻っていく。そのため、パッファ室6の圧力低下速度は減少する。すなわち、浮動ピストン部8が完全に元の箇所に戻るまでは、対向アーク接触子3と可動アーク接触子4との間の空間へのパッファ室6からの消弧性ガスの吹き付けは継続される。さらに、高速閉路責務よる再投入動作時には、バルブ13bを開け、貫通孔13aを開放する。これにより、従来のパッファ型のガス遮断器のように、パッファ室6内が低温で密度の高い消弧性ガスに置換され、2回目の電流遮断が可能となる。図7は、以上のようなガス遮断器における遮断電流依存性について示したグラフである。図7に示すグラフでは、遮断しようとする電流値を横軸にとり、その電流を遮断するために必要な吹き付け圧力を縦軸にとったものである。実線は、電流遮断に必要な吹き付け圧力を示し、1点鎖線は、このガス遮断器における機械的圧縮作用により実現しようとする吹き付け圧力を示し、点線は、自力昇圧作用により実現しようとする吹き付け圧力を示す。図7に示すように、閾値電流Ic以下の小電流の場合には、自力昇圧作用は期待できないため、弾性体11の付勢力により浮動ピストン部8を不動とし、機械的圧縮により必要な吹き付け圧力を得ている。そもそも電流遮断に必要な吹き付け圧力は、大電流遮断時と比べて小さいので、パッファ室6内を比較的小さな圧力Pに昇圧できればよい。そのため、駆動操作の反力もそれほど大きくはなく、強力な操作駆動力も必要ない。閾値電流Ic超の大電流の場合には、自力昇圧作用が期待できるため、浮動ピストン部8をシリンダ部7に設けられたピストン止め12に留め置き、パッファ室6を不変とし、自力昇圧作用によって必要な吹き付け圧力を得る。パッファ室6内の圧力Pは極めて高くなるが、浮動ピストン部8がシリンダ部7と係合しているために、この圧力Pが駆動操作の反力として作用することはない。従って、大電流遮断における駆動力は、弾性体11の圧縮が可能であれば十分であるため、強力な駆動操作機構は必要ない。このように、いずれの電流遮断領域においても、遮断しようとする電流に応じて機械的圧縮もしくは自力昇圧作用が自動的に選択され、電流遮断に必要な吹き付け圧力が過不足なく得られるとともに、強力な駆動操作機構も必要としなくなる。尚、弾性体11の強度は、閾値電流Icが定格遮断電流の実効値Isの20~50の範囲になるように設計されるが、この設計によって駆動操作力の低減と全電流領域に渡る良好な遮断性能とを適正に両立させることができる。すなわち、閾値電流Icを高めにすることは、その分だけ弾性体11の付勢力が強くなるように設計することに相当し、従来のパッファ型のガス遮断器に近づくことを意味する。従って、必要となる駆動操作力が従来のパッファ型のガス遮断器並みに大きくなってしまう。一方、閾値電流Icを低めにすることは、弾性体11の付勢力を弱くするように設計することに相当し,この場合、アークプラズマ15の熱による自力昇圧作用だけで遮断に必要な圧力が得られず、なおかつ機械的圧縮も不十分な、遮断不能の電流領域が生じてしまう。効果以上のように、本実施形態のガス遮断器では、パッファ室6は、遮断しようとする電流が所定値超であるか以下であるかに応じて、遮断過程途中以降の容積が不変又は可変の何れかに切り替えられるようにした。例えば、このパッファ室6は、シリンダ部7と浮動ピストン部8と弾性体11とピストン止め12とを備える。シリンダ部7は、両端が有底の筒形状を有し、一端面と側面とからなり、対向アーク接触子3及び可動アーク接触子4の離間に伴って、他端面の方向に移動する。浮動ピストン部8は、他端面からなり、シリンダ部7の側面に対して相対的に摺動可能となっている。弾性体11は、浮動ピストン部8を一端面の方向に付勢する。ピストン止め12は、シリンダ部7の側面に設けられ、弾性体11の付勢力に抗してシリンダ部7の一端面から離反する浮動ピストン部8の相対的な離反上限を設定する。これにより、従来のパッファ型及び直列パッファ型のガス遮断器における全ての欠点を同時に解決することができる。すなわち、大電流遮断は自力昇圧作用を主体に行われるため、従来のパッファ型のガス遮断器に比べて大幅に操作駆動力を低減することができる。従って、機械的信頼性を向上し、同時に低コスト化を実現することができる。一方、直列パッファ型のガス遮断器に比べると、構造がシンプルであり、なおかつ仕切り板28や連通制御弁23などの部品が不要なので可動部重量が増大することなく、低駆動操作力でも遮断時に必要な開極速度を得ることができる。また、小電流の遮断過程は、基本的に従来パッファと同等の形態であるので、十分な遮断性能が得られる。さらに、自力昇圧作用を主に利用する大電流領域の遮断と、機械的圧縮を主に利用する小電流領域の遮断を、一つのパッファ室6で実現し、直列パッファのような不安定な動作が懸念される逆支弁構造を採用しなくてすむので、中間の遮断電流領域においても安定した性能を得ることができる。また、バルブ13及び貫通孔13bを設けておくことで、従来のパッファ型のガス遮断器と同様に投入動作時に消弧性ガスを速やかにパッファ室6内に供給でき、直列パッファの熱パッファ室20aのような閉じた空間がないため、高速再閉路責務を果たす場合においても十分な遮断性能を得ることができる。従って、このガス遮断器は、全ての電流遮断領域に渡って優れた電流遮断性能を達成し、なおかつ、高速再閉路責務においても安定した遮断性能を達成し、同時に駆動操作力を抑制し,機械的信頼性と低コストを同時に満足することができる。[その他の実施の形態]本明細書においては、本発明に係る複数の実施形態を説明したが、これらの実施形態は例として提示したものであって、発明の範囲を限定することを意図していない。具体的には、第1乃至第3の実施形態を全て又はいずれかを組み合わせたものも包含される。以上のような実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の範囲を逸脱しない範囲で、種々の省略や置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。例えば、本発明は、対向アーク接触子3を可動アーク接触子4と反対側へ駆動し、相対的開極速度を向上させようとするいわゆるデュアルモーション機構を用いたタイプのガス遮断器にも適用可能である。また、弾性体11としては、圧縮コイルバネの他、圧縮気体を充填した可変体積容器とすることもできる。圧縮コイルバネを用いる場合、浮動ピストン部8を付勢する力を大きくする必要が生じると、大きな弾性係数を得るために線径が太くて重いバネを使わざるを得ず、圧縮コイルバネの質量による動作ロスが生じ、パッファ室6の圧力Pに応じた浮動ピストン部8の速やかな応答動作が困難となる。しかし、圧縮気体を充填した可変体積容器であれば、気体はバネに比べてはるかに質量が小さいため、圧縮コイルバネに比べて応答動作を速くすることができる。"