光源から発した露光光によりパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、パターンが描画されたマスクを保持するマスクステージと、マスク上のパターンを感光基板上に転写露光する投影光学系と、感光基板を保持するプレートステージとを有する露光装置において、光学特性を調整する光学調整手段と、前記プレートステージ上にあってマスク上のパターンの光学強度分布を計測する2次元センサと、前記2次元センサが観察した結果に基づき前記光学調整手段のうち、少なくとも一つを調整する調整部と、を持ち、前記調整部は同一パターン内の光学強度分布の方向差を調整することにより前記有効光源形状調整手段もしくは前記静止ディストーションばらつき調整手段を調整することを特徴とする露光装置。前記光学調整手段は照明光学系内にあって有効光源の形状を変化させる有効光源形状調整手段であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。前記光学調整手段は投影光学系内にあって静止ディストーションのばらつきを変化させる静止ディストーションばらつき調整手段であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。前記光学調整手段は照明光学系内にあって有効光源の形状を変化させる有効光源形状調整手段と、投影光学系内にあって静止ディストーションのばらつきを変化させる静止ディストーションばらつき調整手段の両方であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。請求項1乃至4の何れか1項に記載の露光装置を使用して基板を露光する工程を有することを特徴とする露光方法。上記の方法によるTFT基板の製造工程のうち、第1レジストパターンにおけるチャネル部のレジスト膜厚の均一性を或る許容誤差範囲内に保つことが重要となっている。しかしながらチャネル部のレジスト膜厚は、その形状を作成する際に用いられた露光装置が持つ特性やマスク製造誤差などの要因によりばらつきやすい。近年の液晶パネルの微細化に伴い、レジスト膜厚がばらつく傾向は顕著になってきている。チャネル部の膜厚が所望の許容範囲から外れると、ディスプレイとしての表示性能が低下してしまったり、別途研磨工程が必要になるなどコストアップの要因となってしまう。通常、露光装置を用いて感光基板の露光を行う際には、フォトマスクおよび感光基板の双方を同期スキャンさせながら露光を行う。第1レジストパターンにおけるチャネル部のレジスト膜厚は、1つの露光領域内においてある特定の分布を持ち、この分布の補正には露光量の調整が有効である。しかし同一パターン内におけるチャネル部のレジスト膜厚にばらつきがある場合には、露光量の調整は有効ではなくなってしまう。その他、液晶パネルの今後の高精細化といった状況を考慮しても、特に同一パターンでのチャネル部の膜厚分布はますますばらつきやすい傾向にあり、膜厚分布の低減のためには露光装置の性能管理について、これまでにない高い負荷を要する状況になりつつある。そこで本発明では、グレイトーンマスクを用いたTFT基板の製造工程において、第1レジストパターンにおけるチャネル部のレジスト膜厚の均一性を確保するための露光装置および露光方法を提案することを目的とする。その目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、光源から発した露光光によりパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、パターンが描画されたマスクを保持するマスクステージと、マスク上のパターンを感光基板上に転写露光する投影光学系と、感光基板を保持するプレートステージとを有する露光装置において、光学特性を調整する光学調整手段と、前記プレートステージ上にあってマスク上のパターンの光学強度分布を計測する2次元センサと、前記2次元センサが観察した結果に基づき前記光学調整手段のうち、少なくとも一つを調整する調整部と、を持ち、前記調整部は同一パターン内の光学強度分布の方向差を調整することにより前記有効光源形状調整手段もしくは前記静止ディストーションばらつき調整手段を調整することを特徴とする。光学特性の調整手段としては、有効光源形状の調整手段もしくは静止ディストーションのばらつき量の調整手段を持つ。これらのうち一つもしくは両方を用いて露光装置の光学特性を調整する。光学像強度分布の方向差を小さくすることで同一のチャネル部のレジスト膜厚分布を調整する。レジスト膜厚分布の調整は、レジストを塗布したガラス基板などに直接露光して結果を観察計測することを繰り返し行って調整してもよいし、マスク上のパターンを露光転写するための感光基板を設置する位置の近傍にCCDなどの2次元センサを配置しておき、その受光部上に結像された光学像を用いて調整を行ってもよい。この場合は、2次元センサ上に結像されたチャネル部の光強度分布を確認し、同一チャネル内の光強度分布が均一になるように、有効光源形状もしくは静止ディストーションのばらつきを変化させて調整を行う。また本発明の露光方法では、同一のチャネル部のレジスト膜厚分布を実露光結果の計測もしくは2次元センサを用いて光強度分布を観察した結果を用いて、有効光源形状の調節もしくは静止ディストーションのばらつきを調整することを特徴とする。本発明により、グレイトーンマスクを用いたTFT基板の製造工程において、高画質かつ低価格の液晶パネルを高い歩留まりで生産し続けることが可能な露光装置および露光方法を提供することができる。図1は本発明の一実施の形態を示す露光装置の概略図である。超高圧水銀ランプなどの紫外線を発する光源101から出た光束は、所定の透過率を有するNDフィルタ102により強度を調整され、その後、ハエノ目レンズ等のオプティカルインテグレータ103の光入射面に指向される。ハエノ目レンズは複数の微小レンズの集合からなるものであり、その光射出面近傍に複数の2次光源が形成される。これら2次光源の集合を有効光源と呼ぶ。104は有効光源形状調整絞りである。105はコンデンサレンズであり、オプティカルインテグレータ103の2次光源からの光束でマスキングブレード106をケーラー照明している。マスキングブレード106とマスクMは結像レンズ107、ミラー108、滅像レンズ109共役な位置に配置されており、マスキングブレード106の開口の形状を定めることによりマスクMにおける照明領域の形状と寸法が規定される。図1において、破線で囲まれた各部材により照明光学系1が構成されている。2はマスクMを保持するマスクステージであり、光軸と垂直な方向に動かすことができる。3はマスクM上のパターンを感光材が塗布された基板以下、プレートと称するP上に投影転写するための投影光学系である。投影光学系3の一例として、本発明ではOffner光学系による投影光学系を用いて説明する。マスクMを透過した光束は図1に示すように台形ミラー301、凹面ミラー302、凸面ミラー303、凹面ミラー302、台形ミラー301の順に反射した後にプレートPに到達して、マスクM上のパターンが露光転写される。凸面ミラー303は不図示の駆動機構が設けられており、姿勢を高精度に調整することができるとともに、投影光学系が持つ静止ディストーションのばらつき量を変化させることが可能である。本発明では凸面ミラー303を用いて静止ディストーションのばらつき量を調整しているが、静止ディストーションのばらつき量の調整に用いる光学部品は上記に限らず、静止ディストーションのばらつき量の調整に有効な他の部品を用いても本発明と同様の効果を持つことは言うまでもない。4はプレートPを保持するプレートステージであり、マスクステージ2と同期して駆動される。また、プレートステージ4上には2次元センサ5が配置されており、その受光部はプレートP上にある。プレートステージ4を動作させることにより、マスクM上のパターンを投影した光学強度の分布を観察することが可能である。2次元センサ5へのパターンの結像には、必要に応じて不図示の拡大光学系を用いてもよい。6は調整部であり、2次元センサ5で観察された結果を元に、有効光源形状調整絞り104および凸面ミラー303の駆動量を算出して、グレイトーンマスクにおける同一チャネル部の光強度分布を均一にする。図2は、図1で説明した有効光源形状調整絞り104の概略を説明するものである。この図で光束は紙面に垂直な方向に伝搬し、1041はオプティカルインテグレータ103によって形成された有効光源の概略形状を示すものである。有効光源形状調整絞り104内には、4つの遮光板1042、1043、1044、1045が構成されており、不図示の駆動系によってそれぞれ矢印の方向に移動することができる。これらの遮光板を動かすことにより、有効光源形状の調整、特に縦方向および横方向の有効光源形状の径を調整する。なお本発明においては、有効光源の形状を調節する手段として4枚の遮光板を用いたが、その手段としては上記のものに限定されるものではない。例えば、有効光源形状の縦方向および横方向を独立に変化させられる機構を用いていればよく、シリンドリカルレンズなどを用いて縦方向および横方向に独立にズーム機構を備えた光学系を採用しても同様の効果をもたらすことは言うまでもない。図3は、グレイトーンマスクのパターンの概要を説明するものである。グレイトーンマスクを用いた製造工程では、図3のような形状のパターンがマスクM上に描かれている。図3に格子縞で示される領域を遮光領域クロム部、斜め線で示される領域をグレイトーン領域と呼ぶ。斜め線で示されるグレイトーン領域は、解像しない細線が領域に沿って描画されている、もしくは斜め線の領域全体にわたって光強度透過率20以上60以下のハーフトーン膜が成膜された領域となっている。このパターンを所定の露光量で露光すると、遮光領域のレジスト膜厚が20000Å程度に対して、グレイトーン領域のレジスト膜が3000Å以上7000Å以下の厚さを保った状態のパターンを得ることができる。チャネル部となるのは図3においてグレイトーン領域で示される領域である。チャネル部のレジストの膜厚を均一にするためには、マスクM上に描画されたパターンが結像する位置において、この領域内の光強度分布を或る許容範囲内にする必要がある。図4は、有効光源の形状の差が、露光後の同一チャネル部のレジスト膜厚のばらつきを発生させる原理を説明する図である。図4のaは図3のパターンを露光した場合のX-X’方向の光強度分布の断面図の一例であり、また図4のbはY-Y’方向の光強度分布の断面図の一例を示している。図4のa、bとも有効光源形状が異なる2条件での光強度分布を示しており、それぞれ照明σ=0.7および0.5について計算したものである。なお、投影光学系のNA開口率は0.085、露光波長は高圧水銀ランプのi線、h線、g線を用いて計算している。照明σが0.7の時に比較して照明σが0.5の方がチャネル部の光強度が強くなっている。このことは同一の露光量を与えた場合、照明σが小さくなるとチャネル部の光量が多くなり、レジスト膜の厚さが薄くなることを示している。仮に図3で示されるパターンのチャネル部のレジスト膜厚に縦―横差が発生した場合、レジスト膜厚が厚くなった方向に対応する有効光源の径を小さくすることにより、同一チャネル内でのレジスト膜厚の均一性を改善することができる。図5は、露光装置の投影光学系が持つ静止ディストーションのばらつきが変化した場合に、露光後の同一チャネル部のレジスト膜厚のばらつきを発生させる原理を説明する図である。図5のaは図3のパターンを露光した場合のX-X’方向の光強度分布の断面図の一例である。bは図3のパターンを露光した場合のY-Y’方向の光強度分布の断面図の一例である。図5のa、bとも、静止ディストーションのばらつきが0μmの場合とばらつきが1μmの場合の2通りについて示している。静止ディストーションのばらつきが大きくなると、スキャンされながら積算露光された結果の光学像コントラストは低下し、チャネル部の光量が低下する。その結果チャネル部のレジスト膜は厚くなる。これは、同一チャネル部でのレジスト膜厚に方向差が発生した場合、レジスト膜厚が薄くなった方向に対応する静止ディストーションのばらつきを大きくすることにより、同一チャネル内のレジスト膜厚のばらつきを低下させることが可能であることを示している。以上のように、有効光源形状の縦横の差を設けること、もしくは静止ディストーションのばらつきを変化させることで、同一チャネル内のレジスト膜厚のばらつきを調整できる事が明らかにされた。図6は、本発明の露光装置において、2次元センサ5上にグレイトーンマスクのパターンの一部を結像した場合の一例を示したものである。図6上の点線501が2次元センサ5の受光領域全体であり、図3で示されている同一のパターン全体が2次元センサ5内に納まるように撮像される。図6において、グレイトーンマスクの露光の際には、Pos1Pos2およびPos3で示される位置の光強度分布がほぼ均一になるように露光装置の有効光源形状の縦―横の径、もしくは静止ディストーションのばらつきの方向差の調整を行う。本発明では2次元センサを用いて同一チャネル内の光強度分布のばらつきを調整したが、センサ類を用いずに、有効光源や静止ディストーションのばらつきの条件を振って実際に露光し、その結果から最適な条件を探し出すことにより調整を行ってもよい。次に図7を用いて本発明の露光装置を用いた露光方法について説明する。ステップ101にて露光前の確認を開始する。ステップ102にて、実露光の前に2次元センサ5を用いてマスクパターンの光学像を取得する。ステップ103では、取得された光学像から同一のチャネル内の光強度分布を観察して、光強度分布が所定の許容範囲内にあるかを判断する。光強度分布が所定の許容範囲内にある場合には実際に露光しても問題無いと判断し、ステップ104に進み実露光を行うが、光強度分布が所定の許容範囲内にない場合にはステップ105に進む。ステップ105にて調整により結像状態の改善が可能か判断する。有効光源形状や投影光学系内の光学部品の位置の調整を行うと、静止ディストーションの他、非点収差や像面湾曲などが発生する。これらの項目が事前に十分追い込まれて小さい値になっている場合には有効光源の形状の調整や凸面ミラーによる調整の余地があるためステップ106に進むが、調整の余地が無い場合はステップ107に進み、装置を停止させ、サービスマンによる装置調整が必要となる。本実施例ではОffner光学系による投影光学系を用いているが、Оffner光学系では凸面ミラーの位置の変化に伴う結像性能の変化が著しく敏感である。そのため、凸面ミラーをわずかに移動させただけでも非点収差などの管理項目を大幅に低下させる可能性がある。したがってステップ106では凸面ミラーによる調整が可能か否かの判断を行い、問題無い場合にはステップ108に進み、2次元センサ上に結像された光学像を観察しつつ、同一チャネル内の光量ばらつきを低下させるよう凸面ミラーの位置の調整を行う。ステップ106で凸面ミラーによる調整が不可能と判断された場合には、ステップ109に進み、2次元センサ上に結像された光学像を観察しつつ、同一チャネル内の光量ばらつきを低下させるよう有効光源形状の調整を行う。これらのフローを繰り返し、同一チャネル内の光学像強度が十分一致するまで調整を行うことで、グレイトーンマスクを用いたTFT基板の製造工程において、高画質かつ低価格の液晶パネルを高い歩留まりで生産可能な露光装置および露光方法を提供することができる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。