"A重合性単量体およびB重合開始剤を含有し、かつ、前記A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーを実質的に含有しないことを特徴とするインプリント用硬化性組成物。インプリント用硬化性組成物に含まれるA重合性単量体が可溶であり、該A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーが不溶または難溶である溶剤に、該インプリント用硬化性組成物に含まれる、A重合性単量体およびA重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーの合計量が前記溶剤量の10質量となるように混合した際の溶液の濁度が1000ppm以下である、請求項1に記載のインプリント用硬化性組成物。A重合性単量体の1気圧または1気圧に換算した場合における沸点が200°C以上である、請求項1または2に記載のインプリント用硬化性組成物。A重合性単量体が重合性官能基を2つ以上有する重合性単量体である、請求項1~3のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。A重合性単量体が芳香族基および/または脂環炭化水素基を含有する、請求項1~4のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。前記A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーが、ゲルパーミエイションクロマトグラフィーGPCで示差屈折率検出器RI検出器を用いて測定した際にポリマー成分の面積比が1以下であることを特徴とする、請求項1~5のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。前記A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーが、ゲルパーミエイションクロマトグラフィーGPCで示差屈折率検出器RI検出器を用いて測定した際に検出されないことを特徴とする、請求項1~5のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。前記A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーが、ゲルパーミエイションクロマトグラフィーGPCでレーザー光散乱検出器を用いて測定した際にポリマー成分の面積比が50以下であることを特徴とする、請求項1~7のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。前記重合性単量体がメタアクリレートである、請求項1~8のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。請求項1~9のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物であって、前記A重合性単量体を2種類以上含み、かつ、該インプリント用硬化性組成物に含まれるA重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーのいずれも実質的に含有しないことを特徴とする、インプリント用硬化性組成物。A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマー不純物を除去する工程を含むインプリント用重合性単量体の製造方法。A重合性単量体の少なくとも1種が可溶であり、該A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーが不溶または難溶である溶剤と、前記A重合性単量体および該A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーを混合して該A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーを析出させる工程を含有することを特徴とする請求項11に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーが不溶または難溶である溶剤が、アルコール溶剤、炭化水素溶剤、水およびエステル溶剤から選ばれる少なくとも1種を含有する、請求項11または12に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。A重合性単量体の1気圧または1気圧に換算した場合における沸点が200°C以上である、請求項11~13のいずれか1項に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。A重合性単量体が重合性官能基を2つ以上有する重合性単量体である、請求項11~14のいずれか1項に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。A重合性単量体が芳香族基および/または脂環炭化水素基を含有する、請求項11~15のいずれか1項に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。前記重合性単量体がメタアクリレートである、請求項11~16のいずれか1項に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。請求項11~17のいずれか1項に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法を含むインプリント用硬化性組成物の製造方法。請求項11~17のいずれか1項に記載の方法で製造された重合性単量体を含有するインプリント用硬化性組成物。請求項1~10および請求項19のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物を基材上に適応してパターン形成層を形成する工程と、前記パターン形成層表面にモールドを圧接する工程と、前記パターン形成層に光を照射する工程と、を含むことを特徴とするパターン形成方法。前記インプリント用硬化性組成物の基材上に適用する方法が、スピンコーティング法またはインクジェット法である請求項20に記載のパターン形成方法。ここで、インプリント用硬化性組成物の主成分として重合性単量体が用いられる場合、パターン転写性が劣る傾向にあることが分かった。特に、2官能以上の重合性単量体を用いる場合に、パターン転写性が劣る傾向にあることが分かった。本願発明は、かかる課題を解決するものであって、パターン転写性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供することを目的とする。上記課題のもと、本発明者が鋭意検討を行った結果、インプリント用硬化性組成物に用いる、重合性単量体の製造工程に問題があることが分かった。すなわち、重合性単量体を製造する場合、その製造工程において、重合性単量体同士が重合し、ポリマー成分が生成してしまう。このポリマー成分は微量であり、GPCによっても検出できない場合もあるため、市販品においても、そのままの状態で販売されている。しかしながら、本願発明者が検討を行ったところ、この極めて微量なポリマー成分がインプリント用硬化性組成物のパターン転写性には多大なる悪影響を与えることが分かった。そして、かかる問題点を見出すことにより、本発明を完成するに至った。具体的には、下記手段により、上記課題を解決しうることを見出すに至った。1A重合性単量体およびB重合開始剤を含有し、かつ、前記A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーを実質的に含有しないことを特徴とするインプリント用硬化性組成物。2インプリント用硬化性組成物に含まれるA重合性単量体が可溶であり、該A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーが不溶または難溶である溶剤に、該インプリント用硬化性組成物に含まれる、A重合性単量体およびA重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーの合計量が前記溶剤量の10質量となるように混合した際の溶液の濁度が1000ppm以下である、1に記載のインプリント用硬化性組成物。3A重合性単量体の1気圧または1気圧に換算した場合における沸点が200°C以上である、1または2に記載のインプリント用硬化性組成物。4A重合性単量体が重合性官能基を2つ以上有する重合性単量体である、1~3のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。5A重合性単量体が芳香族基および/または脂環炭化水素基を含有する、1~4のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。6前記A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーが、ゲルパーミエイションクロマトグラフィーGPCで示差屈折率検出器RI検出器を用いて測定した際にポリマー成分の面積比が1以下であることを特徴とする、1~5のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。7前記A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーが、ゲルパーミエイションクロマトグラフィーGPCで示差屈折率検出器RI検出器を用いて測定した際に検出されないことを特徴とする、1~5のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。8前記A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーが、ゲルパーミエイションクロマトグラフィーGPCで光散乱検出器を用いて測定した際にポリマー成分の面積比が50以下であることを特徴とする、1~7のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。9前記重合性単量体がメタアクリレートである、1~8のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物。101~9のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物であって、前記A重合性単量体を2種類以上含み、かつ、該インプリント用硬化性組成物に含まれるA重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーのいずれも実質的に含有しないことを特徴とする、インプリント用硬化性組成物。11A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマー不純物を除去する工程を含むインプリント用重合性単量体の製造方法。12A重合性単量体の少なくとも1種が可溶であり、該A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーが不溶または難溶である溶剤と、前記A重合性単量体および該A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーを混合して該A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーを析出させる工程を含有することを特徴とする11に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。13A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーが不溶または難溶である溶剤が、アルコール溶剤、炭化水素溶剤、水およびエステル溶剤から選ばれる少なくとも1種を含有する、11または12に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。14A重合性単量体の1気圧または1気圧に換算した場合における沸点が200°C以上である、11~13のいずれか1項に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。15A重合性単量体が重合性官能基を2つ以上有する重合性単量体である、11~14のいずれか1項に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。16A重合性単量体が芳香族基および/または脂環炭化水素基を含有する、11~15のいずれか1項に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。17前記重合性単量体がメタアクリレートである、11~16のいずれか1項に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法。1811~17のいずれか1項に記載のインプリント用重合性単量体の製造方法を含むインプリント用硬化性組成物の製造方法。1911~17のいずれか1項に記載の方法で製造された重合性単量体を含有するインプリント用硬化性組成物。201~10および19のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物を基材上に適応してパターン形成層を形成する工程と、前記パターン形成層表面にモールドを圧接する工程と、前記パターン形成層に光を照射する工程と、を含むことを特徴とするパターン形成方法。21前記インプリント用硬化性組成物の基材上に適用する方法が、スピンコーティング法またはインクジェット法である20に記載のパターン形成方法。本発明のインプリント用硬化性組成物を用いれば、良好なパターンを形成することができる。特に超微細パターン形成時において、パターンの形成性を向上させることが可能になった。以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において~とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。なお、本明細書中において、メタアクリレートはアクリレートおよびメタクリレートを表し、メタアクリルはアクリルおよびメタクリルを表し、メタアクリロイルはアクリロイルおよびメタクリロイルを表す。また、本明細書中において、単量体とモノマーとは同義である。本発明における単量体は、オリゴマーおよびポリマーと区別され、重量平均分子量が1,000以下の化合物をいう。本明細書中において、官能基は重合反応に関与する基をいう。また、本発明でいうインプリントは、好ましくは、1nm~10mmのサイズのパターン転写をいい、より好ましくは、およそ10nm~100μmのサイズナノインプリントのパターン転写をいう。尚、本明細書における基原子団の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、アルキル基とは、置換基を有さないアルキル基無置換アルキル基のみならず、置換基を有するアルキル基置換アルキル基をも包含するものである。本発明のインプリント用硬化性組成物はA重合性単量体およびB重合開始剤を含有し、かつ、A重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーを実質的に含有しないことを特徴とする。ここで、A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーとは、A重合性単量体の製造時や保存時、さらには、インプリント用硬化組成物の製造時や保存時などに、A重合性単量体同士が重合してしまうことによって生成してしまう、いわゆる、不純物ポリマーを表す。従って、界面活性剤などのポリマー添加剤とは完全に異なるものである。ここで、ポリマーを実質的に含有しないとは、例えば、A重合性単量体のゲル浸透クロマトグラフィGPC測定において示差屈折率検出器RI検出器を用いて測定した場合に、前記A重合性単量体よりも分子量の大きいA重合性単量体由来の成分の面積比ピーク比が該A重合性単量体成分に対し、通常、1以下であることをいい、好ましくは0.5以下であることをいい、より好ましくは0.1以下であり、さらに好ましくは検出限界以下である。A重合性単量体のゲル浸透クロマトグラフィGPC測定において、RI検出器で検出できない極微量のポリマー成分も光散乱検出器を用いると高感度に検出することができる。光散乱検出器としてはレーザー光散乱検出器および蒸発光散乱検出器ELSDいずれもRI検出器よりも高感度でポリマー成分を検出でき好ましいがより好ましくは、ポリマー成分をより高感度に検出可能なレーザー光散乱検出器が好ましい。すなわち、光散乱の散乱強度は粒子サイズが大きくなれば大きくなるほど強いため、GPC測定においてレーザー光散乱検出器を用いると分子量の大きいポリマーほど大きいピークとして観測されるため、実際のポリマー含量がRI検出器で検出できないくらい微量でも大きなピークとして高感度に検出できる。レーザー光散乱検出器としては多数の検出角度で観測できる多角度光散乱検出器MALSが市販で入手可能である。好ましい様態として、A重合性単量体のGPC測定においてレーザー光散乱検出器を用いて測定した場合に、前記A重合性単量体よりも分子量の大きいA重合性単量体由来の成分の面積比ピーク比が該A重合性単量体成分に対し、通常、50以下であることが挙げられ、より好ましくは30以下であり、さらに好ましくは10以下であり、特に好ましくは検出限界以下である。本発明において、A重合性単量体を2種類以上含む場合、A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーには、それぞれの重合性単量体を由来とするポリマーのほか、2種以上の重合性単量体を由来とするコポリマーも含まれる。本願発明者が検討したところ、重合性単量体の市販品として販売されているもののような、A重合性単量体と該A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーを含む重合性単量体組成物から、極微量のポリマー不純物をGPCで検出するのは困難であることが分かった。そして、GPCで検出できない程度の微量のポリマーでもインプリントのパターンに影響を与えることが分かった。かかる観点から、本発明のインプリント用硬化性組成物が含む重合性単量体組成物は、A重合性単量体が可溶であり、該A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーが不溶または難溶である溶剤に、該重合性単量体組成物を、10質量の濃度で混合した際の溶液の濁度が1000ppm以下であることが好ましい。より好ましい濁度としては、700ppm以下であり、さらに好ましくは500ppm以下であり、よりさらに好ましくは100ppm以下であり、特に好ましくは10ppm以下であり、最も好ましくは1ppm以下である。ここでA重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーが不溶または難溶である溶剤とは、ポリマー成分の溶解度が、例えば、5質量以下、好ましくは1質量以下である溶媒のことを表し、炭化水素溶剤例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、あるいはアルコール溶剤例えば、メタノール、エタノール、1-または2-プロパノール、1-または2-ブタノールを含有する溶剤が好ましい。本発明におけるポリマー成分とは、A重合性単量体よりも分子量の大きい成分を表し、いわゆる、オリゴマーも含む趣旨である。好ましくはGPCにおける重量平均分子量が1万以上、より好ましくは重量平均分子量が3万以上、好ましくは重量平均分子量が5万以上、最も好ましくは10万以上の成分である。特に分子量の大きいポリマーを含有しているとインプリント時のパターン転写性が悪化する。本発明において用いることができる重合性単量体の例本発明に用いるインプリント用硬化性組成物に用いられる重合性単量体の種類は本発明の趣旨を逸脱しない限り特に定めるものではないが、例えば、エチレン性不飽和結合含有基を1~6個有する重合性不飽和単量体;エポキシ化合物、オキセタン化合物;ビニルエーテル化合物;スチレン誘導体;フッ素原子を有する化合物;プロペニルエーテルまたはブテニルエーテル等を挙げることができ、好ましくはメタアクリレート化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物;ビニルエーテル化合物である。前記エチレン性不飽和結合含有基を1~6個有する重合性不飽和単量体1~6官能の重合性不飽和単量体について説明する。まず、エチレン性不飽和結合含有基を1つ有する重合性不飽和単量体としては具体的に、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、N-ビニルピロリジノン、2-アクリロイロキシエチルフタレート、2-アクリロイロキシ2-ヒドロキシエチルフタレート、2-アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、2-アクリロイロキシプロピルフタレート、2-エチル-2-ブチルプロパンジオールアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルカルビトールメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、アクリル酸ダイマー、ベンジルメタアクリレート、1-または2-ナフチルメタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート、セチルメタアクリレート、エチレンオキシド変性以下EOという。クレゾールメタアクリレート、ジプロピレングリコールメタアクリレート、エトキシ化フェニルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタアクリレート、イソミリスチルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタアクリレート、メトキシトリプロピレングリコールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエートアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、オクチルアクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコールアクリレート、エピクロロヒドリン以下ECHという変性フェノキシアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリコールアクリレート、ステアリルアクリレート、EO変性コハク酸アクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、EO変性トリブロモフェニルアクリレート、トリドデシルアクリレート、p-イソプロペニルフェノール、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタムが例示される。前記エチレン性不飽和結合を含有する単官能の重合性単量体の中でも、本発明では単官能メタアクリレート化合物を用いることが、光硬化性の観点から好ましい。単官能メタアクリレート化合物としては、前記エチレン性不飽和結合を含有する単官能の重合性単量体で例示した中における、単官能メタアクリレート化合物類を例示することができる。さらに前記単官能メタアクリレート化合物の中でも、芳香族構造および/または脂環式炭化水素構造を有する単官能メタアクリレートがドライエッチング耐性の観点で好ましく、芳香族構造を有する単官能メタアクリレートがさらに好ましい。このような芳香族構造および/または脂環式炭化水素構造を有する単官能メタアクリレートの中でも、ベンジルメタアクリレート、芳香環上に置換基を有するベンジルメタアクリレート好ましい置換基としては炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、シアノ基、1-または2-ナフチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルメチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルエチルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタアクリレート、イソボロニルメタアクリレート、アダマンチルメタアクリレートが好ましく、ベンジルメタアクリレート、芳香環上に置換基を有するベンジルメタアクリレート、ナフタレン構造を有する単官能メタアクリレート化合物がより好ましく、1-または2-ナフチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルメチルメタアクリレートが特に好ましい。本発明では、重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を2つ以上有する多官能重合性不飽和単量体を用いることも好ましい。本発明で好ましく用いることのできるエチレン性不飽和結合含有基を2つ有する2官能重合性不飽和単量体の例としては、ジエチレングリコールモノエチルエーテルメタアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジメタアクリレート、ジメタアクリル化イソシアヌレート、1,3-ブチレングリコールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、EO変性1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ECH変性1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、アリロキシポリエチレングリコールアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、EO変性ビスフェノールAジメタアクリレート、PO変性ビスフェノールAジメタアクリレート、変性ビスフェノールAジメタアクリレート、EO変性ビスフェノールFジメタアクリレート、ECH変性ヘキサヒドロフタル酸ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、EO変性ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレンオキシド以後POという。変性ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコール、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ECH変性フタル酸ジメタアクリレート、ポリエチレングリコール-テトラメチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコール-テトラメチレングリコールジメタアクリレート、ポリエステルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ECH変性プロピレングリコールジメタアクリレート、シリコーンジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジメタアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、EO変性トリプロピレングリコールジメタアクリレート、トリグリセロールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、ジビニルエチレン尿素、ジビニルプロピレン尿素、o-,m-,p-キシリレンジメタアクリレート、1,3-アダマンタンジアクリレート、ノルボルナンジメタノールジアクリレートが例示される。これらの中で特に、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、o-,m-,p-ベンゼンジメタアクリレート、o-,m-,p-キシリレンジメタアクリレート、等の2官能メタアクリレートが本発明に好適に用いられる。エチレン性不飽和結合含有基を3つ以上有する多官能重合性不飽和単量体の例としては、ECH変性グリセロールトリメタアクリレート、EO変性グリセロールトリメタアクリレート、PO変性グリセロールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、EO変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリスアクリロキシエチルイソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールポリメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート等が挙げられる。これらの中で特に、EO変性グリセロールトリメタアクリレート、PO変性グリセロールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート等の3官能以上の官能メタアクリレートが本発明に好適に用いられる。前記エチレン性不飽和結合を2つ以上有する多官能の重合性不飽和単量体の中でも、本発明では多官能メタアクリレートを用いることが、光硬化性の観点から好ましい。なお、ここでいう多官能メタアクリレートとは、前記2官能メタアクリレートおよび前記3官能以上の官能メタアクリレートを総称するもののことである。多官能メタアクリレートの具体例としては、前記エチレン性不飽和結合を2つ有する多官能重合性不飽和単量体で例示した中、および、前記エチレン性不飽和結合を3つ以上有する多官能重合性不飽和単量体で例示した中における、各種多官能メタアクリレートを例示することができる。前記オキシラン環を有する化合物エポキシ化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。本発明に好ましく使用することのできる前記オキシラン環を有する化合物エポキシ化合物としては、特開2009-73078号公報の段落番号0053に記載のものを好ましく採用することができる。特に、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、14-ブタンジオールジグリシジルエーテル、16-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。グリシジル基含有化合物として好適に使用できる市販品としては、特開2009-73078号公報の段落番号0055に記載のものを好ましく採用することができる。これらは、1種単独で、または2種以上組み合わせて用いることができる。また、これらのオキシラン環を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善KK出版、第四版実験化学講座20有機合成II、213~、平成4年、EdbyAlfredHasfnerThechemistryofheterocycliccompounds-SmallRingHeterocyclespart3OxiranesJohnWileyandSonsAnIntersciencePublicationNewYork1985、吉村、接着、29巻12号、32、1985、吉村、接着、30巻5号、42、1986、吉村、接着、30巻7号、42、1986、特開平11-100378号公報、特許第2906245号公報、特許第2926262号公報などの文献を参考にして合成できる。本発明で用いることができる重合性単量体として、ビニルエーテル化合物も好ましい。ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開2009-73078号公報の段落番号0057に記載のものを好ましく採用することができる。シクロヘキシルビニルエーテル、2-エチルヘキシルビニルエーテルなどの単官能ビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、1,4-ブタンジオールジビニルエーテル、採りメチレングリコールトリビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、1,3-ベンゼンジメタノールジビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテルが好ましい。これらのビニルエーテル化合物は、例えば、StephenCLapinPolymersPaintColourJournal179、321に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。また、本発明で用いることができる重合性単量体としては、スチレン誘導体も採用できる。スチレン誘導体としては、例えば、スチレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、β-メチルスチレン、p-メチル-β-メチルスチレン、α-メチルスチレン、p-メトキシ-β-メチルスチレン、p-ヒドロキシスチレン、等を挙げることができる。本発明で用いることができる重合性単量体として、フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体が挙げられ、フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体化合物を含有することが好ましい。本発明におけるフッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体単量体は、フッ素原子、シリコン原子、または、フッ素原子とシリコン原子の両方を有する基を少なくとも1つと、重合性官能基を少なくとも1つ有する化合物である。重合性官能基としてはメタアクリロイル基、エポキシ基が好ましい。フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体本発明の硬化性組成物はフッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体を含有することが好ましい。本発明におけるフッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体は、フッ素原子、シリコン原子、または、フッ素原子とシリコン原子の両方を有する基を少なくとも1つと、重合性官能基を少なくとも1つ有する化合物である。重合性官能基としてはメタアクリロイル基、エポキシ基が好ましい。本発明のインプリント用硬化性組成物中におけるフッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体の含有量は、特に制限はないが、硬化性向上の観点や、組成物の低粘度化の観点から、全重合性単量体中、0.1~20質量が好ましく、0.2~15質量がより好ましく、0.5~10質量がさらに好ましく、0.5~5質量が特に好ましい。1フッ素原子を有する重合性単量体フッ素原子を有する重合性単量体が有するフッ素原子を有する基としては、フロロアルキル基およびフロロアルキルエーテル基から選ばれる含フッ素基が好ましい。前記フロロアルキル基としては、炭素数が2~20のフロロアルキル基が好ましく、4~8のフロロアルキル基より好ましい。好ましいフロロアルキル基としては、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、ヘプタフロロプロピル基、ヘキサフロロイソプロピル基、ノナフロロブチル基、トリデカフロロヘキシル基、ヘプタデカフロロオクチル基が挙げられる。本発明では、フッ素原子を有する重合性単量体が、トリフロロメチル基構造を有するフッ素原子を有する重合性単量体であることが好ましい。トリフロロメチル基構造を有することで、少ない添加量例えば、10質量以下でも本発明の効果が発現するため、他の成分との相溶性が向上し、ドライエッチング後のラインエッジラフネスが向上する上、繰り返しパターン形成性が向上する。前記フロロアルキルエーテル基としては、前記フロロアルキル基の場合と同様に、トリフロロメチル基を有しているものが好ましく、パーフロロエチレンオキシ基、パーフロロプロピレンオキシ基を含有するものが好ましい。-CFCF3CF2O-などのトリフロロメチル基を有するフロロアルキルエーテルユニットおよび/またはフロロアルキルエーテル基の末端にトリフロロメチル基を有するものが好ましい。前記フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体が有する全フッ素原子の数は、1分子当たり、6~60個が好ましく、より好ましくは9~40個、さらに好ましくは12~40個、特に好ましくは12~20個である。前記フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体は、下記に定義するフッ素含有率が20~60のフッ素原子を有することが好ましく、30~60であることが好ましく、さらに好ましくは35~60である。フッ素含有率を適性範囲とすることで、インプリント用硬化性組成物とした場合、他成分との相溶性に優れ、モールド汚れを低減でき且つ、ドライエッチング後のラインエッジラフネスが向上する上、繰り返しパターン形成性が向上する。本明細書中において、前記フッ素含有率は下記式で表される。前記フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体のフッ素原子を有する基の好ましい一例として、下記一般式Iで表される部分構造を有する化合物が挙げられる。このような部分構造を有する化合物を採用することにより、繰り返しパターン転写を行ってもパターン形成性に優れたインプリント用硬化性組成物が得られ、かつ、該組成物の経時安定性が良好となる。一般式I一般式I中、nは1~8の整数を表し、好ましくは4~6の整数である。前記フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体の好ましい他の一例として、下記一般式IIで表される部分構造を有する化合物が挙げられる。もちろん、一般式Iで表される部分構造と、一般式IIで表される部分構造の両方を有していてもよい。一般式II一般式II中、L1は単結合または炭素数1~8のアルキレン基を表し、L2は炭素数1~8のアルキレン基を表し、m1およびm2はそれぞれ、0または1を表し、m1およびm2の少なくとも一方は1である。m3は1~3の整数を表し、pは1~8の整数を表し、m3が2以上のとき、それぞれの、-CpF2p1は同一であってもよいし異なっていてもよい。前記L1およびL2は、それぞれ、炭素数1~4のアルキレン基であることが好ましい。また、前記アルキレン基は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において置換基を有していてもよい。前記m3は、好ましくは1または2である。前記pは4~6の整数が好ましい。以下に、本発明の組成物で用いられる前記フッ素原子を有する重合性単量体の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。前記フッ素原子を有する重合性単量体としては、トリフルオロエチルアクリレート、ペンタフルオロエチルアクリレート、パーフルオロブチルエチルアクリレート、パーフルオロブチル-ヒドロキシプロピルアクリレート、パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、パーフルオロオクチルエチルアクリレート、テトラフルオロプロピルメタアクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタアクリレート等のフッ素原子を有する単官能重合性単量体が挙げられる。また、前記フッ素原子を有する重合性単量体としては、2,2,3,3,4,4-ヘキサフロロペンタンジメタアクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフロロヘキサンジメタアクリレートなどのフロロアルキレン基を有するジメタアクリレートを有する2以上の重合性官能基を有する多官能重合性単量体も好ましい例として挙げられる。また、含フッ素基、例えばフロロアルキル基、フロロアルキルエーテル基を1分子中に2つ以上有する化合物も好ましく用いることができる。好ましくは、フロロアルキル基およびフロロアルキルエーテル基から選ばれる含フッ素基を少なくとも2つ含有し、かつ、該含フッ素基の少なくとも2つは、炭素数2以上の連結基により隔てられている化合物である。フロロアルキル基としては、炭素数が2以上のフロロアルキル基であることが好ましく、4以上のフロロアルキル基であることがより好ましく、上限値としては特に定めるものではないが、20以下が好ましく、8以下がより好ましく、6以下がさらに好ましい。最も好ましくは炭素数4~6のフロロアルキル基である。また、フロロアルキル基の少なくとも2つは、トリフロロメチル基構造を含有することが好ましい。トリフロロメチル基構造を複数有することで、少ない添加量例えば、10質量以下でも本願発明の効果が発現するため、他の成分との相溶性が向上し、ドライエッチング後のラインエッジラフネスが向上する。同様の観点から、A重合性単量体中にトリフロロメチル基構造を3つ以上含有する化合物も好ましい。より好ましくはトリフロロメチル基構造を3~9個、さらに好ましくは4~6個含有する化合物である。トリフロロメチル基構造を3つ以上含有する化合物としては1つの含フッ素基に2つ以上のトリフロロメチル基を有する分岐のフロロアルキル基、例えば-CHCF32基、-CCF33、-CCH3CF32CH3基などのフロロアルキル基を有する化合物が好ましい。フロロアルキルエーテル基としては、トリフロロメチル基を有しているものが好ましく、パーフロロエチレンオキシ基、パーフロロプロピレンオキシ基を含有するものが好ましい。-CFCF3CF2O-などのトリフロロメチル基を有するフロロアルキルエーテルユニットおよび/またはフロロアルキルエーテル基の末端にトリフロロメチル基を有するものが好ましい。A重合性単量体が有する全フッ素原子の数は6~60個が好ましく、より好ましくは9~40個、さらに好ましくは12~40個である。A重合性単量体のフッ素含有率は、30~60が好ましく、より好ましくは35~55であり、さらに好ましくは35~50である。フッ素含有率を適性範囲とすることでモールド汚れを低減でき且つ、ドライエッチング後のラインエッジラフネスが向上する。A重合性単量体が有する含フッ素基のうち少なくとも2つは炭素数2以上の連結基により隔てられていることが好ましい。すなわち、A重合性単量体が含フッ素基を2つ有する場合は、その2つの含フッ素基は炭素数2以上の連結基で隔てられている。A重合性単量体が含フッ素基を3つ以上有する場合は、このうち少なくとも2つが炭素数2以上の連結基で隔てられており、残りの含フッ素基はどのような結合形態を有していても良い。炭素数2以上の連結基はフッ素原子で置換されていない炭素原子を少なくとも2つ有する連結基である。炭素数2以上の連結基中に含まれる官能基としては、アルキレン基、エステル基、スルフィド基、アリーレン基、アミド基およびウレタン基の少なくとも1つを含有する基が例示され、少なくとも、エステル基および/またはスルフィド基を有することがより好ましい。炭素数2以上の連結基は、アルキレン基、エステル基、スルフィド基、アリーレン基、アミド基、ウレタン基およびこれらの組み合わせから選ばれる基が好ましい。これらの基は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、置換基を有していても良い。A重合性単量体の好ましい一例として、一般式A1で表される化合物が挙げられる。一般式A1中、Rfはフロロアルキル基およびフロロアルキルエーテル基から選ばれる含フッ素基を有する官能基を表し、A1は連結基を表す。Yは重合性官能基を表し、好ましくはメタアクリルエステル基、エポキシ基、ビニルエーテル基を表す。xは1~4の整数を表し、好ましくは1または2である。xが2以上の場合、それぞれのYは同一であってもよいし、異なっていてもよい。A1は好ましくはアルキレン基および/またはアリーレン基を有する連結基であり、さらにヘテロ原子を含む連結基を含有していても良い。ヘテロ原子を有する連結基としては-O-、-C=OO-、-S-、-C=O-、-NH-が挙げられる。これらの基は本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において置換基を有していても良いが、有していない方が好ましい。A1は、炭素数2~50であることが好ましく、炭素数4~15であることがより好ましい。A重合性単量体の好ましい一例として、下記一般式Iで表される部分構造を有する化合物が挙げられる。このような部分構造を有する化合物を採用することにより、パターン形成性に優れ、かつ、組成物の経時安定性が良好となる。一般式I中、nは1~8の整数を表し、好ましくは4~6の整数である。A重合性単量体の好ましい他の一例として、下記一般式IIで表される部分構造を有する化合物が挙げられる。もちろん、一般式Iで表される部分構造と、一般式IIで表される部分構造の両方を有していても良い。一般式II中、R2およびR3は、それぞれ炭素数1~8のアルキレン基を表し、それぞれ、炭素数1~4のアルキレン基であることが好ましい。アルキレン基は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において置換基を有していてもよい。m1およびm2はそれぞれ、0または1を表し、m1およびm2の少なくとも一方は1である。m3は1~3の整数を表し、好ましくは1または2である。nは1~8の整数を表し、4~6の整数が好ましい。m3が2以上のとき、それぞれの、-CnF2n1は同一であっても良いし異なっていてもよい。A重合性単量体として好ましくは下記一般式IIIで表される重合性単量体である。一般式III中、R1は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはシアノ基を表し、Aはa1a2価の連結基を表し、a1は1~6の整数を表す。a2は2~6の整数を表し、R2およびR3はそれぞれ炭素数1~8のアルキレン基を表す。m1およびm2はそれぞれ、0または1を表し、m1およびm2の少なくとも一方は1である。m3は1~3の整数を表す。m4およびm5は、それぞれ、0または1を表し、m4およびm5の少なくとも一方は1であり、m1およびm2の両方が1のとき、m4は1である。nは1~8の整数を表す。R1は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはシアノ基を表し、水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。Aはa1a2価の連結基であり、好ましくはアルキレン基および/またはアリーレン基を有する連結基であり、さらにヘテロ原子を含む連結基を含有していても良い。ヘテロ原子を有する連結基としては-O-、-C=OO-、-S-、-C=O-、-NH-が挙げられる。これらの基は本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において置換基を有していても良いが、有していない方が好ましい。Aは、炭素数2~50であることが好ましく、炭素数4~15であることがより好ましい。R2、R3、m1、m2、m3およびnは、一般式IIと同義であり、好ましい範囲も同義である。a1は1~6の整数であり、好ましくは1~3、さらに好ましくは1または2である。a2は2~6の整数であり、好ましくは2または3、さらに好ましくは2である。a1が2以上のとき、それぞれのAは同一であってもよいし、異なっていても良い。a2が2以上のとき、それぞれのR2、R3、m1、m2、m3、m4、m5およびnは同一であっても良いし、異なっていても良い。本発明で用いるA重合性単量体の分子量は、好ましくは500~2000である。また、本発明で用いるA重合性単量体の粘度は、好ましくは600~1500であり、より好ましくは600~1200である。以下に、本発明のインプリント用硬化性組成物で用いられるA重合性単量体の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記式中におけるR1はそれぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子およびシアノ基のいずれかである。2シリコン原子を有する重合性単量体前記シリコン原子を有する重合性単量体が有するシリコン原子を有する官能基としては、トリアルキルシリル基、鎖状シロキサン構造、環状シロキサン構造、籠状シロキサン構造などが挙げられ、他の成分との相溶性、モールド剥離性の観点から、トリメチルシリル基またはジメチルシロキサン構造を有する官能基が好ましい。シリコン原子を有する重合性単量体としては3-トリストリメチルシリルオキシシリルプロピルメタアクリレート、トリメチルシリルエチルメタアクリレート、メタアクリロキシメチルビストリメチルシロキシメチルシラン、メタアクリロキシメチルトリストリメチルシロキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルビストリメチルシロキシメチルシラン、メタアクリロイル基を末端あるいは側鎖に有するポリシロキサン例えば信越化学工業社製X-22-164シリーズ、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-2475などが挙げられる。これらのほか、本発明で用いることができる重合性単量体としては、プロペニルエーテルおよびブテニルエーテルを用いることもできる。前記プロペニルエーテルまたはブテニルエーテルとしては、例えば1-ドデシル-1-プロペニルエーテル、1-ドデシル-1-ブテニルエーテル、1-ブテノキシメチル-2-ノルボルネン、1-4-ジ1-ブテノキシブタン、1,10-ジ1-ブテノキシデカン、1,4-ジ1-ブテノキシメチルシクロヘキサン、ジエチレングリコールジ1-ブテニルエーテル、1,2,3-トリ1-ブテノキシプロパン、プロペニルエーテルプロピレンカーボネート等が挙げられる。これらの重合性単量体の中でも、A重合性単量体としては、メタアクリレート化合物が、組成物粘度、光硬化性の観点から好ましく、アクリレートがより好ましい。また、本発明では、重合性官能基を2つ以上有する多官能重合性単量体が好ましい。本発明では特に、単官能メタアクリレート化合物と多官能メタアクリレート化合物の配合比が、重量比で80/20~0/100が好ましく、70/30~0/100がより好ましく、40/60~0/100であることが好ましい。適切な比率を選択することで、十分な硬化性を有し、且つ組成物が低粘度とすることができる。前記多官能メタアクリレート化合物において、前記2官能メタアクリレートと前記3官能以上のメタアクリレートの比率は、質量比で100/0~20/80が好ましく、より好ましくは100/0~50/50、さらに好ましくは100/0~70/30である。前記3官能以上のメタアクリレートは前記2官能メタアクリレートよりも粘度が高いため、前記2官能メタアクリレートが多い方が本発明のインプリント用硬化性組成物の粘度を下げられるため好ましい。A重合性単量体成分としては芳香族構造および/または脂環炭化水素構造を有する重合性単量体を含有していることがドライエッチング耐性、ドライエッチング後のライエッジラフネスの点で好ましく、芳香族構造および/または脂環炭化水素構造を有する重合性単量体をA重合性単量体成分中50質量以上含有していることがより好ましく、80質量以上含有していることがさらに好ましい。芳香族構造を有する重合性単量体としては芳香族構造を有するメタアクリレート化合物が好ましい。芳香族基を有する重合性単量体として、下記一般式Iで表される単官能メタアクリレート化合物または後述の一般式IIで表される多官能メタアクリレート化合物が好ましい。一般式中、Zは芳香族基を含有する基を表し、R1は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表す。但し、重合性単量体Axが25°Cにおいて液体であるとき、25°Cにおける粘度が500mPas以下である。R1は、好ましくは、水素原子またはアルキル基であり、水素原子またはメチル基が好ましく、硬化性の観点から、水素原子がさらに好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示され、フッ素原子が好ましい。Zは、好ましくは置換基を有していても良いアラルキル基、置換基を有していても良いアリール基、または、これらの基が連結基を介して結合した基である。ここでいう連結基は、ヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよく、好ましくは、-CH2-、-O-、-C=O-、-S-およびこれらの組み合わせからなる基である。Zに含まれる芳香族基としてはフェニル基、ナフチル基が好ましい。Zの分子量としては90~300であることが好ましく、より好ましくは120~250である。一般式Iで表される重合性単量体が25°Cにおいて液体であるときの25°Cにおける粘度としては2~500mPasが好ましく、3~200mPasがより好ましく、3~100mPasが最も好ましい。重合性単量体は25°Cにおいて液体であるか、固体であっても融点が60°C以下であることが好ましく、融点か40°C以下であることがより好ましく、25°Cにおいて液体であることが更に好ましい。Zは-Z1-Z2で表される基であることが好ましい。ここで、Z1は、単結合または炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Z2は、置換基を有していてもよい芳香族基であり、分子量90以上である。Z1は、好ましくは、単結合またはアルキレン基であり、該アルキレン基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Z1は、より好ましくは、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含まないアルキレン基であり、さらに好ましくはメチレン基、エチレン基である。ヘテロ原子を含む連結基としては-O-、-C=O-、-S-およびこれらとアルキレン基の組み合わせからなる基などが挙げられる。また、炭化水素基の炭素数は1~3であることが好ましい。Z2は、2つ以上の芳香族基が、直接にまたは連結基を介して連結した基であることも好ましい。この場合の連結基も、好ましくは、-CH2-、-O-、-C=O-、-S-およびこれらの組み合わせからなる基である。一般式Iで表される重合性単量体の芳香族基が有していても良い置換基としては、置換基の例としては例えばハロゲン原子フッ素原子、クロロ原子、臭素原子、ヨウ素原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、カルボキシル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、ヒドラジノ基、ヘテロ環基などが挙げられる。また、これらの基によってさらに置換されている基も好ましい。一般式Iで表される重合性単量体の光硬化性組成物中における添加量は、10~100質量であることが好ましく、20~100質量であることがより好ましく、30~80質量であることが特に好ましい。一般式Iで表される化合物のうち芳香環上に置換基を有さない化合物の具体例としては、ベンジルメタアクリレート、フェネチルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルメチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルエチルメタアクリレートが好ましい。一般式Iで表される化合物としては、下記一般式IIで表される芳香環上に置換基を有する化合物も好ましい。一般式II中、R1は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表し、X1は単結合または炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Y1は分子量15以上の置換基を表し、n1は1~3の整数を表す。Arは、芳香族連結基を表し、フェニレン基またはナフチレン基が好ましい。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。X1は、上記Z1と同義であり、好ましい範囲も同義である。Y1は、分子量15以上の置換基であり、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、シアノ基などが挙げられる。これら置換基は更なる置換基を有していても良い。n1が2のときは、X1は単結合または炭素数1の炭化水素基であることが好ましい。特に、好ましい様態としてはn1が1で、X1は炭素数1~3のアルキレン基である。一般式IIで表される化合物は、さらに好ましくは、IVVのいずれかで表される化合物である。一般式IVで表される化合物一般式IV中、R1は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表す。X2は単結合、または、炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Y2は分子量15以上の芳香族基を有さない置換基を表し、n2は1~3の整数を表す。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。X2は、炭化水素基である場合、炭素数1~3の炭化水素基であることが好ましく、置換または無置換の炭素数1~3のアルキレン基であることが好ましく、無置換の炭素数1~3のアルキレン基であることがより好ましく、メチレン基、エチレン基であることがさらに好ましい。このような炭化水素基を採用することにより、より低粘度で低揮発性を有する光硬化性組成物とすることが可能になる。Y2は分子量15以上の芳香族基を有さない置換基を表し、Y1の分子量の上限は150以下であることが好ましい。Y2としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、シクロヘキシル基などの炭素数1~6のアルキル基、フロロ基、クロロ基、ブロモ基などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、シクロヘキシルオキシ基などの炭素数1~6のアルコキシ基、シアノ基が好ましい例として挙げられる。n2は、1~2の整数であることが好ましい。n2が1の場合、置換基Yはパラ位にあるのが好ましい。また、粘度の観点から、n2が2のときは、X2は単結合もしくは炭素数1の炭化水素基が好ましい。低粘度と低揮発性の両立という観点から、一般式IVで表されるメタアクリレート化合物の分子量は175~250であることが好ましく、185~245であることがより好ましい。また、一般式IVで表されるメタアクリレート化合物の25°Cにおける粘度が50mPas以下であることが好ましく、20mPas以下であることがより好ましい。一般式IVで表される化合物は、反応希釈剤としても好ましく用いることができる。一般式IVで表される化合物の光硬化性組成物中における添加量は、組成物の粘度や硬化後のパターン精度の観点から10質量以上であることが好ましく、15質量以上であることがより好ましく、20質量以上であることが特に好ましい。一方、硬化後のタッキネスや力学強度の観点からは、添加量は95質量以下であることが好ましく、90質量以下であることがより好ましく、85質量以下であることが特に好ましい。以下に、一般式IVで表される化合物を例示するが、本発明がこれらに限定されるものではないことは言うまでも無い。一般式Vで表される化合物一般式V中、R1は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表し、X3は単結合、または、炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Y3は芳香族基を有する置換基を表し、n3は1~3の整数を表す。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。Y3は、芳香族基を有する置換基を表し、芳香族基を有する置換基としては芳香族基が単結合、あるいは連結基を介して一般式Vの芳香環に結合している様態が好ましい。連結基としては、アルキレン基、ヘテロ原子を有する連結基好ましくは-O-、-S-、-C=OO-、あるいはこれらの組み合わせが好ましい例として挙げられ、アルキレン基または-O-ならびにこれらの組み合わせからなる基がより好ましい。芳香族基を有する置換基としてはフェニル基を有する置換基であることが好ましい。フェニル基が単結合または上記連結基を介して結合している様態が好ましく、フェニル基、ベンジル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、フェニルチオ基が特に好ましい。Y3の分子量は好ましくは、230~350である。n3は、好ましくは、1または2であり、より好ましくは1である。一般式Vで表される化合物の、本発明で用いる光硬化性組成物中における添加量は、10質量以上であることが好ましく、20質量以上であることがより好ましく、30質量以上であることが特に好ましい。一方、硬化後のタッキネスや力学強度の観点からは、添加量は90質量以下であることが好ましく、80質量以下であることがより好ましく、70質量以下であることが特に好ましい。以下に、一般式Vで表される化合物を例示するが、本発明がこれらに限定されるものではないことは言うまでも無い。一般式IIで表される多官能メタアクリレート化合物式中Ar2は芳香族基を有するn価の連結基を表し、好ましくはフェニレン基を有する連結基である。X1、R1は前述と同義である。nは1~3を表し、好ましくは1である。一般式IIで表される化合物は一般式VIまたはVIIで表される化合物であることが好ましい。一般式VIで表される化合物一般式VI中、X6はn61価の連結基であり、R1は、それぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子である。R2およびR3は、それぞれ、置換基であり、n4およびn5は、それぞれ、0~4の整数である。n6は1または2であり、X4およびX5は、それぞれ、炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。X6は、単結合またはn61価の連結基を表し、好ましくは、アルキレン基、-O-、-S-、-C=OO-、およびこれらのうちの複数が組み合わさった連結基である。アルキレン基は、炭素数1~8のアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数1~3のアルキレン基である。また、無置換のアルキレン基が好ましい。n6は、好ましくは1である。n6が2のとき、複数存在する、R1、X5、R2は、それぞれ、同一であってもよいし、異なっていても良い。X4およびX5は、は、それぞれ、連結基を含まないアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数1~5のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数1~3のアルキレン基であり、最も好ましくはメチレン基である。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。R2およびR3は、それぞれ、置換基を表し、好ましくは、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基である。アルキル基としては、炭素数1~8のアルキル基が好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示され、フッ素原子が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数1~8のアルコキシ基が好ましい。アシル基としては、炭素数1~8のアシル基が好ましい。アシルオキシ基としては、炭素数1~8のアシルオキシ基が好ましい。アルコキシカルボニル基としては、炭素数1~8のアルコキシカルボニル基が好ましい。n4およびn5は、それぞれ、0~4の整数であり、n4またはn5が2以上のとき、複数存在するR2およびR3は、それぞれ、同一でも異なっていても良い。一般式VIで表される化合物は、下記一般式VIIIで表される化合物が好ましい。X6は、アルキレン基、-O-、-S-および、これらのうちの複数が組み合わさった連結基であり、R1は、それぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子である。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。X6がアルキレン基である場合、炭素数1~8のアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数1~3のアルキレン基である。また、無置換のアルキレン基が好ましい。X6としては、-CH2-、-CH2CH2-、-O-、-S-が好ましい。本発明に用いられる光硬化性組成物中における一般式VIで表される化合物の含有量は、特に制限はないが、光硬化性組成物粘度の観点から、全重合性単量体中、1~100質量が好ましく、5~70質量がさらに好ましく、10~50質量が特に好ましい。以下に、一般式VIで表される化合物を例示するが、本発明がこれらに限定されるものではないことは言うまでも無い。下記式中におけるR1はそれぞれ、一般式VIにおけるR1と同義であり、好ましい範囲も同義であり、特に好ましくは水素原子である。下記一般式VIIIで表される重合性単量体式中、Arは置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、Xは単結合または有機連結基を表し、R1は水素原子またはメチル基を表し、nは2または3を表す。一般式中、前記アリーレン基としてはフェニレン基、ナフチレン基などの炭化水素系アリーレン基;インドール、カルバゾールなどが連結基となったヘテロアリーレン基などが挙げられ、好ましくは炭化水素系アリーレン基であり、さらに好ましくは粘度、エッチング耐性の観点からフェニレン基である。前記アリーレン基は置換基を有していてもよく、好ましい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、水酸基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アミド基、スルホンアミド基が挙げられる。前記Xの有機連結基としては、鎖中にヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基が挙げられる。その中でも、アルキレン基、オキシアルキレン基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。前記Xとしては、単結合またはアルキレン基であることが特に好ましい。前記R1は水素原子またはメチル基であり、好ましくは水素原子である。nは2または3であり、好ましくは2である。前記重合性単量体VIIIが下記一般式I-aまたはI-bで表される重合性単量体であることが、組成物粘度を低下させる観点から好ましい。式中、X1、X2は、それぞれ独立に単結合または炭素数1~3の置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、R1は水素原子またはメチル基を表す。前記一般式I-a中、前記X1は、単結合またはメチレン基であることが好ましく、メチレン基であることが粘度低減の観点からより好ましい。前記X2の好ましい範囲は、前記X1の好ましい範囲と同様である。前記R1は一般式におけるとR1と同義であり、好ましい範囲も同様である。前記重合性単量体は25°Cにおいて液体であると、添加量を増やした際にも異物の発生が抑制でき好ましい。一般式VIIIで表される重合性単量体の具体例を示す。R1は一般式におけるとR1と同義であり、水素原子またはメチル基を表す。なお、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。芳香族構造を有するメタアクリレート化合物としては、ナフタレン構造を有する単官能メタアクリレート化合物、例えば1-または2-ナフチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルメチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルエチルメタアクリレート、芳香環上に置換基を有するベンジルアクリレートなどの単官能アクリレート、カテコールジアクリレート、キシリレングリコールジアクリレートなどの2官能アクリレートが特に好ましい。脂環炭化水素構造を有する重合性単量体としてはイソボロニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、アダマンチルメタアクリレート、トリシクロデカニルメタアクリレート、テトラシクロドデカニルメタアクリレートなどが好ましい。また、A重合性単量体として、メタアクリレートを用いる場合、メタアクリレートよりも、アクリレートの方が好ましい。本発明のインプリント用硬化性組成物中におけるA重合性単量体の総含有量は、硬化性改善、本発明のインプリント用硬化性組成物の粘度改善の観点から、溶剤を除いた全成分中、50~99.5質量が好ましく、70~99質量がさらに好ましく、90~99質量が特に好ましい。本発明のインプリント用硬化性組成物は、A重合性単量体成分に関し、より好ましくは25°Cにおける粘度が3~100mPasである重合性単量体の含有量が全重合性単量体に対し80質量以上であることが好ましく、3~70mPasの重合性単量体が80質量以上であることがより好ましく、7~50mPasの重合性単量体が80質量以上であることが特に好ましく、8~30mPasの重合性単量体が80質量以上であることが最も好ましい。本発明のインプリント用硬化性組成物の25°Cにおける粘度は5~50mPasが好ましく、より好ましくは6~40mPas、さらに好ましくは7~30mPas、最も好ましくは8~25mPasである。組成物の粘度を5~50mPasにすることでモールド充填性がより向上し、インプリント時のモールドの圧着圧力が低くても矩形なパターンプロファイルが得られやすくなる。本発明の方法は低粘度な重合性単量体を用いた際に特に効果が顕著である。本発明のインプリント用硬化性組成物に含まれるA重合性単量体は、25°Cにおいて液体である重合性単量体が全重合性単量体中50質量以上であることが経時安定性の観点で好ましい。さらに本発明には、A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマー不純物を除去する工程を含むインプリント用重合性単量体の製造方法、該インプリント用重合性単量体の製造方法を含む、インプリント用硬化性組成物の製造方法、前記インプリント用重合性単量体の製造方法により製造された重合性単量体を含有するインプリント用硬化性組成物が含まれる。A重合性単量体とA重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーを含む重合性単量体組成物から該A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーを除去する工程としては、公知の方法を広く採用できるが、A重合性単量体が可溶であり、A重合性単量体を繰り返し単位として含むポリマーが不溶または難溶である溶剤と、前記重合性単量体組成物を混合してポリマーを析出させる工程を含有していることが好ましい。A重合性単量体組成物を繰り返し単位として含むポリマーが不溶または難溶である溶剤としては、炭化水素溶剤例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、あるいはアルコール溶剤例えば、メタノール、エタノール、1-または2-プロパノール、1-または2-ブタノールを含有する溶剤が好ましい。混合する濃度としては、重合性単量体組成物の濃度として1~99質量が好ましく、3~50質量がより好ましく、5~30質量がさらに好ましく、5~20質量が最も好ましい。ポリマーを析出させる工程の後、通常は、さらに析出したポリマーを除去する。除去する方法としては、ろ過法が好ましい。ろ過媒体としては、濾紙、フィルター、シリカゲル、アルミナ、セライトなどが好ましく、フィルターが好ましい、フィルター材質としては、ポリテトラフロロエチレン製、ポリエチレン製、ナイロン製などが好ましい。フィルターサイズとしては0.005μm~10μmが好ましく、0.01μm~1μmがより好ましい。析出したポリマーを除去した後、そのままの溶液または、濃縮あるいは溶剤置換などの方法によりインプリント用硬化組成物に配合する形態にする。本発明において、重合性単量体を製造する際には、重合禁止剤を添加することが好ましく、濃縮工程よりも前の段階において添加されていることが好ましい。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-tert-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、tert-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス3-メチル-6-tert-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-tert-ブチルフェノール、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩、フェノチアジン、フェノキサジン、4-メトキシナフトール、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシルフリーラジカル、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシルフリーラジカル、ニトロベンゼン、ジメチルアニリン等が挙げられ、好ましくはp-ベンゾキノン、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシルフリーラジカル、4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシルフリーラジカル、フェノチアジンである。これら重合禁止剤は重合性単量体の製造時だけでなく、硬化組成物の保存時においてもポリマー不純物の生成を抑制し、インプリント時のパターン形成性の劣化を抑制する。本発明の技術は、蒸留精製が困難な高沸点の重合性単量体に適用すると特に効果が顕著である。適用するのに好ましい重合性単量体の沸点は、1気圧での沸点が200°C以上であり、より好ましくは250°C以上、さらに好ましくは300°C以上である。1気圧での沸点観測が困難な場合は、減圧状態にて沸点を測定し、減圧度と減圧状態での沸点から1気圧における沸点に換算した値を用いる。本発明の技術は、A重合性単量体が2つ以上の重合性官能基を有する重合性単量体に適用すると特に効果が顕著である。2つ以上の重合性官能基を有する重合性単量体由来のポリマーは架橋構造を有し、高分子量化しやすいため、インプリント時のパターン形成性の劣化が大きく、それの含有量を少なくすることでインプリント時のパターン形成性の劣化を抑制できる。B光重合開始剤本発明のインプリント用硬化性組成物は、光重合開始剤を含む。本発明に用いられる光重合開始剤は、光照射により上述のA重合性単量体を重合する活性種を発生する化合物であればいずれのものでも用いることができる。光重合開始剤としては、カチオン重合開始剤、ラジカル重合開始剤が挙げられ、ラジカル重合開始剤が好ましい。また、本発明において、光重合開始剤は複数種を併用してもよい。本発明に用いられる光重合開始剤の含有量は、溶剤を除く全組成物中、例えば、0.01~15質量であり、好ましくは0.1~12質量であり、さらに好ましくは0.2~7質量である。2種類以上の光重合開始剤を用いる場合は、その合計量が前記範囲となる。光重合開始剤の含有量が0.01質量以上であると、感度、解像性、ラインエッジラフネス性、塗膜強度が向上する傾向にあり好ましい。一方、光重合開始剤の含有量を15質量以下とすると、光透過性、着色性、取り扱い性などが向上する傾向にあり、好ましい。染料および/または顔料を含む系では、これらがラジカルトラップ剤として働くことがあり、光重合性、感度に影響を及ぼす。その点を考慮して、これらの用途では、光重合開始剤の添加量が最適化される。一方で、本発明に用いられる組成物では、染料および/または顔料は必須成分でなく、光重合開始剤の最適範囲がインクジェット用硬化性組成物や液晶ディスプレイカラーフィルタ用硬化性組成物等の分野のものとは異なる場合がある。本発明で使用されるラジカル光重合開始剤としては、例えば、市販されている開始剤を用いることができる。これらの例としては、例えば、特開平2008-105414号公報の段落番号0091に記載のものを好ましく採用することができる。この中でもアセトフェノン系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、オキシムエステル系化合物が硬化感度、吸収特性の観点から好ましい。アセトフェノン系化合物として好ましくはヒドロキシアセトフェノン系化合物、ジアルコキシアセトフェノン系化合物、アミノアセトフェノン系化合物が挙げられる。ヒドロキシアセトフェノン系化合物として好ましくはCiba社から入手可能なIrgacure登録商標2959でもよい。露光は、多重露光も可能であり、膜強度、エッチング耐性を高めるなどの目的でパターン形成した後、全面露光することも可能である。本発明で使用される光重合開始剤は、使用する光源の波長に対して適時に選択する必要があるが、モールド加圧露光中にガスを発生させないものが好ましい。ガスが発生すると、モールドが汚染されるため、頻繁にモールドを洗浄しなければならなくなったり、光硬化性組成物がモールド内で変形し、転写パターン精度を劣化させるなどの問題を生じる。本発明のインプリント用硬化性組成物は、A重合性単量体がラジカル重合性単量体であり、B光重合開始剤が光照射によりラジカルを発生するラジカル重合開始剤であるラジカル重合性硬化性組成物であることが好ましい。その他成分本発明のインプリント用硬化性組成物は、上述の成分の他に種々の目的に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、界面活性剤、酸化防止剤、溶剤、ポリマー成分等その他の成分を含んでいてもよい。-界面活性剤-本発明のインプリント用硬化性組成物には、界面活性剤を含有することが好ましい。本発明に用いられる界面活性剤の含有量は、全組成物中、例えば、0.001~5質量であり、好ましくは0.002~4質量であり、さらに好ましくは、0.005~3質量である。2種類以上の界面活性剤を用いる場合は、その合計量が前記範囲となる。界面活性剤が組成物中0.001~5質量の範囲にあると、塗布の均一性の効果が良好であり、界面活性剤の過多によるモールド転写特性の悪化を招きにくい。前記界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましく、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素シリコーン系界面活性剤の少なくとも1種を含むことが好ましく、フッ素系界面活性剤とシリコーン系界面活性剤との両方または、フッ素シリコーン系界面活性剤を含むことがより好ましく、フッ素シリコーン系界面活性剤を含むことが最も好ましい。尚、前記フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤としては、ノニオン性の界面活性剤が好ましい。ここで、フッ素シリコーン系界面活性剤とは、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤の両方の要件を併せ持つものをいう。このような界面活性剤を用いることによって、半導体素子製造用のシリコンウエハや、液晶素子製造用のガラス角基板、クロム膜、モリブデン膜、モリブデン合金膜、タンタル膜、タンタル合金膜、窒化珪素膜、アモルファスシリコーン膜、酸化錫をドープした酸化インジウムITO膜や酸化錫膜などの、各種の膜が形成される基板上に本発明のインプリント用硬化性組成物を塗布したときに起こるストリエーションや、鱗状の模様レジスト膜の乾燥むらなどの塗布不良の問題を解決するが可能となる。また、モールド凹部のキャビティ内への本発明のインプリント用硬化性組成物の流動性の向上、モールドとレジストとの間の剥離性の向上、レジストと基板間との密着性の向上、組成物の粘度を下げる等が可能になる。特に、本発明のインプリント用硬化性組成物は、前記界面活性剤を添加することにより、塗布均一性を大幅に改良でき、スピンコーターやスリットスキャンコーターを用いた塗布において、基板サイズに依らず良好な塗布適性が得られる。本発明で用いることのできる、ノニオン性のフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素シリコーン系界面活性剤の例としては、特開2008-105414号公報の段落番号0097に記載の界面活性剤が挙げられる。-酸化防止剤-さらに、本発明のインプリント用硬化性組成物には、公知の酸化防止剤を含有することが好ましい。本発明に用いられる酸化防止剤の含有量は、全重合性単量体に対し、例えば、0.01~10質量であり、好ましくは0.2~5質量である。2種類以上の酸化防止剤を用いる場合は、その合計量が前記範囲となる。前記酸化防止剤は、熱や光照射による退色およびオゾン、活性酸素、NOx、SOxXは整数などの各種の酸化性ガスによる退色を抑制するものである。特に本発明では、酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止や、分解による膜厚減少を低減できるという利点がある。このような酸化防止剤としては、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、含窒素複素環メルカプト系化合物、チオエーテル系酸化防止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、チオシアン酸塩類、チオ尿素誘導体、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。この中でも、特にヒンダードフェノール系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤が硬化膜の着色、膜厚減少の観点で好ましい。前記酸化防止剤の市販品としては、商品名Irganox1010、1035、1076、1222以上、チバガイギー株製、商品名AntigeneP、3C、FR、スミライザーS、スミライザーGA80住友化学工業株製、商品名アデカスタブAO70、AO80、AO503株ADEKA製等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、混合して用いてもよい。-重合禁止剤-さらに、本発明のインプリント用硬化性組成物には、重合禁止剤を含有することが好ましい。重合禁止剤の含有量としては、全重合性単量体に対し、0.001~1質量であり、より好ましくは0.005~0.5質量、さらに好ましくは0.008~0.05質量である、重合禁止剤を適切な量配合することで高い硬化感度を維持しつつ経時による粘度変化が抑制できる。重合禁止剤は重合性単量体の製造時に添加してもよいし、硬化組成物に後から添加してもよい。-ポリマー成分-本発明のインプリント用硬化性組成物では、架橋密度をさらに高める目的で、前記A重合性単量体よりもさらに分子量の大きい多官能オリゴマーを、本発明の目的を達成する範囲で配合することもできる。光ラジカル重合性を有する多官能オリゴマーとしてはポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシアクリレート等の各種アクリレートオリゴマーが挙げられる。オリゴマー成分の添加量としては、0~30質量が好ましく、より好ましくは0~20質量、さらに好ましくは0~10質量、最も好ましくは0~5質量である。本発明のインプリント用硬化性組成物はドライエッチング耐性、インプリント適性、硬化性等の改良を観点からも、さらにポリマー成分を含有していてもよい。前記ポリマー成分としては側鎖に重合性官能基を有するポリマーが好ましい。前記ポリマー成分の重量平均分子量としては、重合性単量体との相溶性の観点から、2000~100000が好ましく、5000~50000がさらに好ましい。ポリマー成分の添加量としては組成物の溶剤を除く成分に対し、0~30質量が好ましく、より好ましくは0~20質量、さらに好ましくは0~10質量、最も好ましくは2質量以下である。本発明のインプリント用硬化性組成物において溶剤を除く成分中、分子量2000以上のポリマー成分の含有量が30質量以下であると、パターン形成性が向上する。また、パターン形成性の観点から樹脂成分はできる限り少ない方が好ましく、界面活性剤や微量の添加剤を除き、ポリマー成分を含まないことが好ましい。-溶剤-本発明のインプリント用硬化性組成物には、種々の必要に応じて、溶剤を用いることができる。ここで、本明細書中において、溶剤には、前記重合性単量体は含まれない。すなわち、本明細書中において、溶剤は、前記重合性官能基を有しない。特に膜厚500nm以下のパターンを形成する際には溶剤を含有していることが好ましい。好ましい溶剤としては1気圧における沸点が80~200°Cの溶剤である。溶剤の種類としては組成物を溶解可能な溶剤であればいずれも用いることができるが、好ましくはエステル構造、ケトン構造、水酸基、エーテル構造のいずれか1つ以上を有する溶剤である。具体的に、好ましい溶剤としてはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、ガンマブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチルから選ばれる単独あるいは混合溶剤であり、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含有する溶剤が塗布均一性の観点で最も好ましい。本発明の組成物中における前記溶剤の含有量は、溶剤を除く成分の粘度、塗布性、目的とする膜厚によって最適に調整されるが、塗布性改善の観点から、全組成物中99質量以下の範囲で添加することができるが、通常は、実質的に含まない例えば、3質量以下ことが好ましい。但し、膜厚500nm以下のパターンをスピン塗布などの方法で形成する際には、20~99質量の範囲で含めてもよく、40~99質量が好ましく、70~98質量が特に好ましい。本発明のインプリント用硬化性組成物には前記成分の他に必要に応じて離型剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、老化防止剤、可塑剤、密着促進剤、熱重合開始剤、着色剤、エラストマー粒子、光酸増殖剤、光塩基発生剤、塩基性化合物、流動調整剤、消泡剤、分散剤等を添加してもよい。インプリント用硬化性組成物の製造方法本発明のインプリント用硬化性組成物は、上述の各成分を混合して調整することができる。硬化性組成物の混合溶解は、通常、0°C~100°Cの範囲で行われる。また、前記各成分を混合した後、例えば、孔径0.003μm~5.0μmのフィルターで濾過することが好ましい。濾過は、多段階で行ってもよいし、多数回繰り返してもよい。また、濾過した液を再濾過することもできる。濾過に使用するフィルターの材質は、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、フッソ樹脂、ナイロン樹脂などのものが使用できるが特に限定されるものではない。インプリント用硬化性組成物の性質本発明のインプリント用硬化性組成物は溶剤を除く全成分の混合液の粘度が100mPas以下であることが好ましく、より好ましくは1~70mPas、さらに好ましくは2~50mPas、最も好ましくは3~30mPasである。本発明のインプリント用硬化性組成物は、光ナノインプリント法により微細なパターンを低コストかつ高い精度で形成することが可能である。このため、従来のフォトリソグラフィ技術を用いて形成されていたものをさらに高い精度且つ低コストで形成することができる。例えば、基板または支持体上に本発明の組成物を適用し、該組成物からなる層を露光、硬化、必要に応じて乾燥させることによって、液晶ディスプレイLCDなどに用いられる、オーバーコート層や絶縁膜などの永久膜や、半導体集積回路、記録材料、あるいはフラットパネルディスプレイなどのエッチングレジストとして適用することも可能である。液晶ディスプレイLCDなどに用いられる永久膜構造部材用のレジストや電子材料の基板加工に用いられるレジストにおいては、製品の動作を阻害しないようにするため、レジスト中の金属あるいは有機物のイオン性不純物の混入を極力避けることが望ましい。このため、本発明のインプリント用硬化性組成物中における金属または有機物のイオン性不純物の濃度としては、1000ppm以下、好ましくは10ppm以下、さらに好ましくは100ppb以下にすることが好ましい。[パターン形成方法]次に、本発明のインプリント用硬化性組成物を用いたパターン特に、微細凹凸パターンの形成方法について説明する。本発明のパターン形成方法では、本発明のインプリント用硬化性組成物を基板または支持体基材上に設置してパターン形成層を形成する工程と、前記パターン形成層表面にモールドを圧接する工程と、前記パターン形成層に光を照射する工程と、を経て本発明の組成物を硬化することで、微細な凹凸パターンを形成することができる。ここで、本発明のインプリント用硬化性組成物は、光照射後にさらに加熱して硬化させることが好ましい。具体的には、基材基板または支持体上に少なくとも本発明の組成物からなるパターン形成層を設置し、必要に応じて乾燥させて本発明の組成物からなる層パターン形成層を形成してパターン受容体基材上にパターン形成層が設けられたものを作製し、当該パターン受容体のパターン形成層表面にモールドを圧接し、モールドパターンを転写する加工を行い、微細凹凸パターン形成層を光照射により硬化させる。本発明のパターン形成方法による光インプリントリソグラフィは、積層化や多重パターニングもでき、通常の熱インプリントと組み合わせて用いることもできる。以下において、本発明のインプリント用硬化性組成物を用いたパターン形成方法パターン転写方法について具体的に述べる。本発明のパターン形成方法においては、まず、本発明の組成物を基材上に適用好ましくは塗布してパターン形成層を形成する。本発明のインプリント用硬化性組成物を基材上に適用する方法としては、一般によく知られた適用方法、通常は、塗布を採用できる。本発明の適用方法としては、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法、スピンコート法、スリットスキャン法、あるいはインクジェット法などにより基材上に塗膜あるいは液滴を設置することができる。また、本発明の組成物からなるパターン形成層の膜厚は、使用する用途によって異なるが、0.03μm~30μm程度である。また、本発明の組成物を、多重塗布により塗布してもよい。インクジェット法などにより基材上に液滴を設置する方法において、液滴の量は1pl~20pl程度が好ましい。さらに、基材と本発明の組成物からなるパターン形成層との間には、例えば平坦化層等の他の有機層などを形成してもよい。これにより、パターン形成層と基板とが直接接しないことから、基板に対するごみの付着や基板の損傷等を防止することができる。尚、本発明の組成物によって形成されるパターンは、基材上に有機層を設けた場合であっても、有機層との密着性に優れる。本発明のインプリント用硬化性組成物を適用するための基材基板または支持体は、種々の用途によって選択可能であり、例えば、石英、ガラス、光学フィルム、セラミック材料、蒸着膜、磁性膜、反射膜、Ni、Cu、Cr、Feなどの金属基板、紙、SOGSpinOnGlass、ポリエステルフイルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム等のポリマー基板、TFTアレイ基板、PDPの電極板、ガラスや透明プラスチック基板、ITOや金属などの導電性基材、絶縁性基材、シリコン、窒化シリコン、ポリシリコン、酸化シリコン、アモルファスシリコンなどの半導体作製基板など特に制約されない。また、基材の形状も特に限定されるものではなく、板状でもよいし、ロール状でもよい。また、後述のように前記基材としては、モールドとの組み合わせ等に応じて、光透過性、または、非光透過性のものを選択することができる。次いで、本発明のパターン形成方法においては、パターン形成層にパターンを転写するために、パターン形成層表面にモールドを押接する。これにより、モールドの押圧表面にあらかじめ形成された微細なパターンをパターン形成層に転写することができる。また、パターンを有するモールドに本発明の組成物を適用し、基板を押接してもよい。本発明で用いることのできるモールド材について説明する。本発明の組成物を用いた光ナノインプリントリソグラフィは、モールド材および/または基材の少なくとも一方に、光透過性の材料を選択する。本発明に適用される光インプリントリソグラフィでは、基材の上に本発明のインプリント用硬化性組成物を適用してパターン形成層を形成し、この表面に光透過性のモールドを押接し、モールドの裏面から光を照射し、前記パターン形成層を硬化させる。また、光透過性基材上に硬化性組成物を適用し、モールドを押し当て、基材の裏面から光を照射し、硬化性組成物を硬化させることもできる。前記光照射は、モールドを付着させた状態で行ってもよいし、モールド剥離後に行ってもよいが、本発明では、モールドを密着させた状態で行うのが好ましい。本発明で用いることのできるモールドは、転写されるべきパターンを有するモールドが使われる。前記モールド上のパターンは、例えば、フォトリソグラフィや電子線描画法等によって、所望する加工精度に応じてパターンが形成できるが、本発明では、モールドパターン形成方法は特に制限されない。本発明において用いられる光透過性モールド材は、特に限定されないが、所定の強度、耐久性を有するものであればよい。具体的には、ガラス、石英、PMMA、ポリカーボネート樹脂などの光透明性樹脂、透明金属蒸着膜、ポリジメチルシロキサンなどの柔軟膜、光硬化膜、金属膜等が例示される。本発明において光透過性の基材を用いた場合に使われる非光透過型モールド材としては、特に限定されないが、所定の強度を有するものであればよい。具体的には、セラミック材料、蒸着膜、磁性膜、反射膜、Ni、Cu、Cr、Feなどの金属基板、SiC、シリコン、窒化シリコン、ポリシリコン、酸化シリコン、アモルファスシリコンなどの基板などが例示され、特に制約されない。また、モールドの形状も特に制約されるものではなく、板状モールド、ロール状モールドのどちらでもよい。ロール状モールドは、特に転写の連続生産性が必要な場合に適用される。本発明のパターン形成方法で用いられるモールドは、硬化性組成物とモールド表面との剥離性を向上させるために離型処理を行ったものを用いてもよい。このようなモールドとしては、シリコン系やフッソ系などのシランカップリング剤による処理を行ったもの、例えば、ダイキン工業株製のオプツールDSXや、住友スリーエム株製のNovecEGC-1720等、市販の離型剤も好適に用いることができる。本発明の組成物を用いて光インプリントリソグラフィを行う場合、本発明のパターン形成方法では、通常、モールド圧力を10気圧以下で行うのが好ましい。モールド圧力を10気圧以下とすることにより、モールドや基板が変形しにくくパターン精度が向上する傾向にある。また、加圧が低いため装置を縮小できる傾向にある点からも好ましい。モールド圧力は、モールド凸部の硬化性組成物の残膜が少なくなる範囲で、モールド転写の均一性が確保できる領域を選択することが好ましい。本発明のパターン形成方法中、前記パターン形成層に光を照射する工程における光照射の照射量は、硬化に必要な照射量よりも十分大きければよい。硬化に必要な照射量は、硬化性組成物の不飽和結合の消費量や硬化膜のタッキネスを調べて適宜決定される。また、本発明に適用される光インプリントリソグラフィにおいては、光照射の際の基板温度は、通常、室温で行われるが、反応性を高めるために加熱をしながら光照射してもよい。光照射の前段階として、真空状態にしておくと、気泡混入防止、酸素混入による反応性低下の抑制、モールドと硬化性組成物との密着性向上に効果があるため、真空状態で光照射してもよい。また、本発明のパターン形成方法中、光照射時における好ましい真空度は、101Paから1気圧の範囲である。本発明のインプリント用硬化性組成物を硬化させるために用いられる光は特に限定されず、例えば、高エネルギー電離放射線、近紫外、遠紫外、可視、赤外等の領域の波長の光または放射線が挙げられる。高エネルギー電離放射線源としては、例えば、コッククロフト型加速器、ハンデグラーフ型加速器、リニヤーアクセレーター、ベータトロン、サイクロトロン等の加速器によって加速された電子線が工業的に最も便利且つ経済的に使用されるが、その他に放射性同位元素や原子炉等から放射されるγ線、X線、α線、中性子線、陽子線等の放射線も使用できる。紫外線源としては、例えば、紫外線螢光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯、太陽灯、LED等が挙げられる。放射線には、例えばマイクロ波、EUVが含まれる。また、LED、半導体レーザー光、あるいは248nmのKrFエキシマレーザー光や193nmArFエキシマレーザーなどの半導体の微細加工で用いられているレーザー光も本発明に好適に用いることができる。これらの光は、モノクロ光を用いてもよいし、複数の波長の異なる光でもよい。露光に際しては、露光照度を1mW/cm2~50mW/cm2の範囲にすることが好ましい。1mW/cm2以上とすることにより、露光時間を短縮することができるため生産性が向上し、50mW/cm2以下とすることにより、副反応が生じることによる永久膜の特性の劣化を抑止できる傾向にあり好ましい。露光量は5mJ/cm2~1000mJ/cm2の範囲にすることが望ましい。5mJ/cm2未満では、露光マージンが狭くなり、光硬化が不十分となりモールドへの未反応物の付着などの問題が発生しやすくなる。一方、1000mJ/cm2を超えると組成物の分解による永久膜の劣化の恐れが生じる。さらに、露光に際しては、酸素によるラジカル重合の阻害を防ぐため、チッソやアルゴンなどの不活性ガスを流して、酸素濃度を100mg/L未満に制御してもよい。本発明のパターン形成方法においては、光照射によりパターン形成層を硬化させた後、必要におうじて硬化させたパターンに熱を加えてさらに硬化させる工程を含んでいてもよい。光照射後に本発明の組成物を加熱硬化させる熱としては、150~280°Cが好ましく、200~250°Cがより好ましい。また、熱を付与する時間としては、5~60分間が好ましく、15~45分間がさらに好ましい。[パターン]上述のように本発明のパターン形成方法によって形成されたパターンは、液晶ディスプレイLCDなどに用いられる永久膜構造部材用のレジストやエッチングレジストとして使用することができる。また、前記永久膜は、製造後にガロン瓶やコート瓶などの容器にボトリングし、輸送、保管されるが、この場合に、劣化を防ぐ目的で、容器内を不活性なチッソ、またはアルゴンなどで置換しておいてもよい。また、輸送、保管に際しては、常温でもよいが、より永久膜の変質を防ぐため、-20°Cから0°Cの範囲に温度制御してもよい。勿論、反応が進行しないレベルで遮光することが好ましい。また、本発明のインプリント用硬化性組成物を用いたパターンは、耐溶剤性も良好である。本発明のインプリント用硬化性組成物は多種の溶剤に対する耐性が高いことが好ましいが、一般的な基板製造工程時に用いられる溶剤、例えば、25°CのN-メチルピロリドン溶媒に10分間浸漬した場合に膜厚変動を起こさないことが特に好ましい。本発明のパターン形成方法によって形成されたパターンは、エッチングレジストとしても有用である。本発明のインプリント用硬化性組成物をエッチングレジストとして利用する場合には、まず、基材として例えばSiO2等の薄膜が形成されたシリコンウエハ等を用い、基材上に本発明のパターン形成方法によってナノオーダーの微細なパターンを形成する。その後、ウェットエッチングの場合にはフッ化水素等、ドライエッチングの場合にはCF4等のエッチングガスを用いてエッチングすることにより、基材上に所望のパターンを形成することができる。本発明のインプリント用硬化性組成物は、フッ化炭素等を用いるドライエッチングに対するエッチング耐性も良好であることが好ましい。以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。本実施例におけるGPC測定ではWaters社製2695セパレーションモジュールを用い、カラムとしてはShodex社製KF-805を3本連結したものを用いた。溶離液としてテトラヒドロフランを用い流速は40°Cで1mL/minとした。検出器としてはRI検出器WATERS社製、2414またはレーザー光散乱検出器として多角度光散乱検出器WyattTechnology社製、DAWN-EOSにWyattQelsを接続し90度散乱光を観測を用いた。濁度は三菱化学社製-PT-706Dを用いて測定した。本実施例で用いた重合性単量体の25°Cにおける粘度および1気圧における沸点を下記表1に示した。粘度の測定は、東機産業株社製のRE-80L型回転粘度計を用い、25±0.2°Cで測定した。R1重合性単量体:m-キシリレンジアクリレートの合成蒸留水1000mlに水酸化ナトリウム411gを加え、これに氷冷下アクリル酸781gを滴下して加えた。これにベンジルトリブチルアンモニウムクロリド107g、α,α’-ジクロロメタキシレン600g加え、85°Cで7時間反応させた。反応液に酢酸エチル1600ml加え有機層を1塩酸水溶液、1テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、蒸留水で洗浄し、有機層を溶剤含量が1質量以下になるまで真空濃縮し、重合性単量体R1-1を含む粗生成物重合性単量体組成物を得た。未精製の重合性単量体R1-1を含む粗生成物をR1-1とする。R1-1の25°Cにおける粘度は10.5mPasであった。R1-1の1気圧における沸点は300°C以上であった。得られたR1-1をGPCにてポリマー含量を測定したところ、標準ポリスチレン換算における重量平均分子量25万のポリマー成分が1.1検出された。R1-1を酢酸エチル/ヘキサン=50/50体積比に溶解させ、10質量の濃度の溶液を作成した。この溶液は白濁が見られ、濁度は1100ppmであった。R1-1を重合開始剤V-601和光純薬工業社製を用いて重合し、ポリマーを得た。このポリマーは酢酸エチル/ヘキサン=50/50体積比およびメタノールに不溶であり、溶解度は1質量以下であった。R1-1の精製上記で得られたR1-140gを酢酸エチル100ml/ヘキサン100mlの混合液に溶解させた。この溶液を0.1μmのテトラフロロエチレンフィルターでろ過し固体成分を除去した。除去された固体をGPCにより分析したところ、重量平均分子量25万のポリマー成分であった。ろ過した溶液に重合禁止剤として4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシルフリーラジカル0.004g添加し、濃縮し、重合性単量体をR1-2を得た。R1-2の粘度は25°Cにおいて9.5mPasであった。R1-2をGPCにてポリマー含量を測定したところ、ポリマー成分は検出されなかった。R1-2を酢酸エチル/ヘキサン=50/50体積比に溶解させ、10質量の濃度の溶液を作成した。この溶液は白濁が見られず、濁度は0.5ppmであった。R1-1とR1-2を混合し、ポリマー含量の異なる重合性単量体組成物R1-3~R1-6を作成した。インプリント用硬化性組成物の調製上記R1-1~R1-6に下記光重合開始剤P-22質量、パーフロロヘキシルエチルアクリレート1質量、下記界面活性剤W-10.1質量、下記界面活性剤W-20.04質量を配合して、硬化性組成物を調製した。<光重合開始剤>P-1:IRGACURE-379EGチバスペシャルティケミカルス社製P-2:2,4,6-トリメチルベンゾイル-エトキシフェニル-ホスフィンオキシドBASF社製:LucirinTPO-LP-3:IRGACURE-OXE01チバスペシャルティケミカルス社製<界面活性剤>W-1:フッ素系界面活性剤トーケムプロダクツ株製:フッ素系界面活性剤W-2:シリコーン系界面活性剤大日本インキ化学工業株製:メガファックペインタッド31<パターン形成性評価>上記で調整した硬化性組成物をシリコン基板上にスピンコートして塗布膜を作成し、これに40nmのライン/スペース1/1を有し、溝深さが80nmのパターンを有し、表面がパーフロロポリエーテル構造を有するシランカップリング剤ダイキン社製、オプツールHD1100で離型処理されたモールドを乗せ、窒素気流下1MPaの圧力でモールドを組成物に押し付けながら365nmの光を含有する水銀ランプ光にて、露光照度10mW/cm2、露光量200mJ/cm2で硬化させ、硬化後、ゆっくりモールドを剥がした。得られたパターンを走査型顕微鏡にて観察し、I直径1μm以上の範囲に渡ってパターン転写ができていない巨大なパターン欠陥、および、IIパターンの欠け、倒れ、剥がれなどのパターン欠損を以下のように評価した。I直径1μm以上の範囲に渡ってパターン転写ができていない巨大なパターン欠陥a:巨大なパターン欠陥が全く見られなかったb:巨大なパターン欠陥がわずかに見られた。c:巨大なパターン欠陥が多数見られた。IIパターンの欠け、倒れ、剥がれなどの微小なパターン欠損A:パターンの欠損が全くみられなかった。B:パターンの欠損がわずかに見られた。C:パターンの欠損が多数見られた。R2重合性単量体:2-ナフチルメチルアクリレートの合成窒素気流下2-メチルナフタレン600gを酢酸エチル6000mlに溶解させこれに、1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン422gを加え40°Cに加熱した。これに和光純薬工業製V-65を7.4g、添加し40°Cで7時間反応した。その後反応液を65°Cで3時間反応し、放冷した。反応液を炭酸水素ナトリウム水溶液、蒸留水で洗浄した後、濃縮した。これにイソプロパノール3600ml加え、30分攪拌した後、蒸留水900mlを加え更に30分攪拌した。析出した固体をろ取し、これにイソプロパノール1800ml加え、30分攪拌した後、蒸留水450mlを加え更に30分攪拌した。固体をろ取、乾燥すると2-ブロモメチルナフタレンが300g得られた。蒸留水200mlに水酸化ナトリウム81.4gを加え、これに氷冷下アクリル酸147gを滴下して加えた。これにベンジルトリブチルアンモニウムクロリド42.4g、2-ブロモメチルナフタレン300g加え、75°Cで2時間反応させた。反応液に酢酸エチル/ヘキサン=2/8体積比800ml加え有機層を1塩酸水溶液、1テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、蒸留水で洗浄し、有機層を溶剤含量が1質量以下になるまで真空濃縮し、重合性単量体組成物R2-1を得た。R2-1の25°Cにおける粘度は11.8mPasであった。R2-1の1気圧における沸点は約300°Cであった。上記で得られたR2-1をGPCにてポリマー含量を測定RI検出したところ、標準ポリスチレン換算における重量平均分子量19万のポリマー成分が1.1検出された。重合性単量体R2-1をヘキサンに溶解させ、10質量の濃度の溶液を作成した。この溶液は白濁が見られ、濁度は1300ppmであった。R2-1を重合開始剤V-601和光純薬工業社製を用いて重合し、重量平均分子量8万のポリマーを得た。このポリマーはヘキサンおよびメタノールに不溶であり、溶解度は1質量以下であった。R2-1の精製R2-140gをヘキサン200mlに溶解させた。この溶液を0.1μmのテトラフロロエチレンフィルターでろ過し固体成分を除去した。除去された固体をGPCにより分析RI検出したところ、重量平均分子量20万のポリマー成分であった。ろ過した溶液に重合禁止剤としてp-ベンゾキノン0.004g添加し、濃縮した、重合性単量体R2-2を得た。R2-2の粘度は25°Cにおいて10.3mPasであった。得られた重合性単量体R2-2をGPCにてポリマー含量を測定RI検出したところ、ポリマー成分は検出されなかった。R2-2をヘキサンに溶解させ、10質量の濃度の溶液を作成した。この溶液は白濁が見られず、濁度は0.3ppmであった。下表に示す重合性単量体組成物に上記光重合開始剤P-12質量、下記化合物RX1質量を配合し、硬化性組成物を調製した。2種類の重合性単量体組成物の配合比は、カッコで示した。硬化性組成物を前述の方法にてパターン形成性を評価した。化合物RX実施例6および比較例2の組成物を富士フイルムダイマティックス社製インクジェットプリンターを用いて、シリコンウェハ上にノズルあたり1plの液滴量で、100μm間隔の正方配列となるように、吐出タイミングを制御して光硬化性組成物を吐出した。4インチウェハー10枚全面に連続吐出した後の不吐出ノズルの割合で吐出性を評価した。数値が小さいほど連続吐出した際の吐出不良が少なく良好である。また、4インチウェハー10枚に連続吐出し、10枚目のウェハーに25°C1気圧下前記モールドをのせ、窒素気流下1分間静置後にモールド側から水銀ランプを用い300mJ/cm2の条件で露光し、露光後、モールドを離し、パターンを得た。パターン形成性を前述の方法にて評価した。実施例の組成物はインクジェット法を用いて基板に硬化組成物を設置し、パターン転写を行った際にも吐出性が良好で、且つパターン形成性が良好である。以下に示す重合性単量体の市販品をメタノールに溶解させ、20質量溶液を作成した。これを0.1μmのテトラフロロエチレンフィルターでろ過し固体成分を除去した。これに重合禁止剤としてフェノチアジンを300ppm添加し、残留溶剤を1質量以下になるように真空濃縮を行った。精製前後の重合性単量体の市販品についてそれぞれGPCでポリマー含量測定RI検出および10メタノール溶液での濁度を測定した。上記重合性単量体の製造元は以下のとおりである。ノナンジオールジアクリレート:大阪有機化学株製、ビスコート260イソボロニルアクリレート:大阪有機化学株製、IBXAトリメチロールプロパントリアクリレート:東亞合成株製、アロニックスM-309トリシクロデカンジメタノールジアクリレート:新中村化学株製、NKエステルA-DCP上記の市販品の重合性単量体およびその精製品である重合性単量体に光重合開始剤P-32質量、アクリル変性シリコーンオイル信越化学製:X-22-164AS2質量を加え、硬化性組成物を調製した。得られた硬化性組成物を前述の方法にてパターン形成性を評価した。2種類の重合性単量体組成物の配合比は、カッコで示した。硬化性組成物を前述の方法にてパターン形成性を評価した。上記表から明らかなとおり、本発明のインプリント用硬化性組成物は、パターン形成性に優れていることが分かった。これに対し、比較例のインプリント用硬化性組成物は、極めて微量のポリマーが含まれているだけにも関わらず、パターン形成性が劣ることが分かった。"