"式1:式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾール化合物。式2:式中、R0は、炭素数1~6のアルキル基又はベンジル基を示す。で表されるマロン酸ジエステルを、式3a及び式3b:式中、X1はハロゲン原子を示す。m及びnは、互いに独立して、1又は2を示す。で表されるハロゲノアルキンでアルキル化することにより、式4:式中、R0、m及びnは、上記と同様である。で表される第1中間体を得る第1工程、該第1中間体のエステル部分を還元することにより、式5:式中、m及びnは、上記と同様である。で表される第2中間体を得る第2工程、該第2中間体のヒドロキシ基を保護した後、R1X2及びR2X2式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示す。X2は、ハロゲン原子を示す。で表されるアルキル化剤でアルキル化し、さらにトリフラート化試薬でヒドロキシ基をトリフラートに変換することにより、式6:式中、R1、R2、m及びnは、上記と同様である。で表される第3中間体を得る第3工程、該第3中間体のトリフラートをアジド化剤でアジドに変換することにより、式7:式中、R1、R2、m、n及びxは、上記と同様である。で表される第4中間体を得る第4工程、及び該第4中間体を分子内環化させる第5工程、を含む、請求項1に記載のキラルスピロビストリアゾール化合物の製造方法。式1-1:式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示し、R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1~16のアルキル基、又は置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。X3は、ハロゲン原子、又はN[SO2CF2y1CF3]2式中、yは、1~5の整数を表す。で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドを示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾリウム塩。式1:式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾール化合物を、R3X3及びR4X3式中、R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1~16のアルキル基、又は置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基を示す。X3は、ハロゲン原子を示す。で表されるハロゲン化アルキルと反応させる工程を含み、式1-1において、X3が、N[SO2CF2y1CF3]2式中、yは、1~5の整数を表す。で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドである場合には、さらに、X3アニオンを、M2N[SO2CF2y1CF3]2式中、M2はアルカリ金属を表す。yは、1~5の整数を表す。で表されるアルカリ金属ビスフルオロアルカンスルホニルイミドでカウンターアニオン交換する、請求項3に記載のキラルスピロビストリアゾリウム塩の製造方法。式1-2:式中、R3及びR4は、互いに独立して、置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基である。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベン。式1-1:式中、R1及びR2は、水素原子を示し、R3及びR4は、互いに独立して、置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。X3はハロゲン原子を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾリウム塩を塩基で処理してカルベンを発生させる、請求項5に記載のキラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベンの製造方法。請求項3に記載のキラルスピロビストリアゾリウム塩を含む、イオン性液体。式1-1において、R1及びR2が水素原子であり、R3及びR4が、互いに独立して、置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基であり、X3がハロゲン原子である、請求項3に記載のキラルスピロビストリアゾリウム塩を含む、光学分割剤。請求項5に記載のキラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベンを含む、不斉有機触媒。本発明の主な目的は、新規なキラルスピロビストリアゾール化合物を提供することである。本発明はまた、この新規なキラルスピロビストリアゾール化合物を安価な原料から簡便で収率よく製造することができる方法、及びその用途を提供することを目的とする。本発明者らは、上記した目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、安価で入手容易なマロン酸ジエステルから新規なキラルスピロビストリアゾール化合物を大量に製造する方法を見出し、ここに本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、下記のキラルスピロビストリアゾール化合物等を提供する。項1.式1:式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾール化合物。項2.式2:式中、R0は、炭素数1~6のアルキル基又はベンジル基を示す。で表されるマロン酸ジエステルを、式3a及び式3b:式中、X1はハロゲン原子を示す。m及びnは、互いに独立して、1又は2を示す。で表されるハロゲノアルキンでアルキル化することにより、式4:式中、R0、m及びnは、上記と同様である。で表される第1中間体を得る第1工程、該第1中間体のエステル部分を還元することにより、式5:式中、m及びnは、上記と同様である。で表される第2中間体を得る第2工程、該第2中間体のヒドロキシ基を保護した後、R1X2及びR2X2式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示す。X2は、ハロゲン原子を示す。で表されるアルキル化剤でアルキル化し、さらにトリフラート化試薬でヒドロキシ基をトリフラートに変換することにより、式6:式中、R1、R2、m及びnは、上記と同様である。で表される第3中間体を得る第3工程、該第3中間体のトリフラートをアジド化剤でアジドに変換することにより、式7:式中、R1、R2、m、n及びxは、上記と同様である。で表される第4中間体を得る第4工程、及び該第4中間体を分子内環化させる第5工程、を含む、上記項1に記載のキラルスピロビストリアゾール化合物の製造方法。項3.式1-1:式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示し、R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1~16のアルキル基、又は置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。X3は、ハロゲン原子、又はN[SO2CF2y1CF3]2式中、yは、1~5の整数を表す。で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドを示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾリウム塩。項4.式1:式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾール化合物を、R3X3及びR4X3式中、R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1~16のアルキル基、又は置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基を示す。X3は、ハロゲン原子を示す。で表されるハロゲン化アルキルと反応させる工程を含み、式1-1において、X3が、N[SO2CF2y1CF3]2式中、yは、1~5の整数を表す。で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドである場合には、さらに、X3アニオンを、M2N[SO2CF2y1CF3]2式中、M2はアルカリ金属を表す。yは、1~5の整数を表す。で表されるアルカリ金属ビスフルオロアルカンスルホニルイミドでカウンターアニオン交換する、上記項3に記載のキラルスピロビストリアゾリウム塩の製造方法。項5.式1-2:式中、R3及びR4は、互いに独立して、置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基である。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベン。項6.式1-1:式中、R1及びR2は、水素原子を示し、R3及びR4は、互いに独立して、置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。X3はハロゲン原子を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾリウム塩を塩基で処理してカルベンを発生させる、上記項5に記載のキラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベンの製造方法。項7.上記項3に記載のキラルスピロビストリアゾリウム塩を含む、イオン性液体。項8.式1-1において、R1及びR2が水素原子であり、R3及びR4が、互いに独立して、置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基であり、X3がハロゲン原子である、上記項3に記載のキラルスピロビストリアゾリウム塩を含む、光学分割剤。項9.上記項5に記載のキラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベンを含む、不斉有機触媒。本発明によれば、安価な原料から簡便な方法で新規なキラルスピロビストリアゾール化合物を製造することができる。このキラルスピロビストリアゾール化合物は、化学修飾が容易であることから、様々な機能性素材に応用可能なキラルスピロ骨格プラットホームとして機能する。キラルスピロビストリアゾール化合物の塩等は、光学分割剤、不斉有機触媒、又はイオン性液体として使用することができる。以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、式1:式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾール化合物である。このキラルスピロビストリアゾール化合物1は新規化合物である。式1において、R1及びR2で示される炭素数1~16のアルキル基としては、炭素数1~16の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数1~10、さらに好ましくは1~6の直鎖アルキル基である。具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、sec-ブチル、イソブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル等が挙げられる。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。m、n及びxは、同一であっても異なっていてもよく、m、n及びxが、すべて1である場合が好ましい。本発明の化合物はラセミ体であるが、通常の光学分割手段を用いて光学分割することにより光学的に純粋な化合物光学活性体を得ることができる。よって、ラセミ体だけでなく、各々の光学活性体も、本発明のキラルスピロビストリアゾール化合物1の範囲に含まれる。上記キラルスピロビストリアゾール化合物は、マロン酸ジエステル2とハロゲノアルキン3a及び3bから、下記に示す5つの工程により製造することができる。以下、製造方法について詳細を説明する。第1工程は、式2:式中、R0は、炭素数1~6のアルキル基又はベンジル基を示す。で表されるマロン酸ジエステルを、式3a及び式3b:式中、X1はハロゲン原子を示す。m及びnは、互いに独立して、1又は2を示す。で表されるハロゲノアルキンでアルキル化することにより、式4:式中、R0、m及びnは、上記と同様である。で表される第1中間体を得る反応である。式2において、R0で示される炭素数1~6のアルキル基としては、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が挙げられる。具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、sec-ブチル、イソブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル等が挙げられる。原料のマロン酸ジエステル2として、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル又はマロン酸ジベンジルを用いることが好ましい。式3a及び式3bにおいて、X1で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。m及びnは、互いに独立して、1又は2を示す。m及びnは、同一であっても異なっていてもよく、m及びnが、ともに1である場合が好ましい。原料のハロゲノアルキン3a及び3bとして、3-ブロモ-1-プロピンを用いることが好ましい。ハロゲノアルキン3a及び3bは、それぞれ、マロン酸ジエステル2に対して、通常1~2倍モル程度、好ましくは1~1.5倍モル程度添加される。アルキル化反応は、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランTHF等のエーテル類;ジメチルスルホキシドDMSO、ジメチルホルムアミドDMF等の非プロトン性極性溶媒等又はそれらの混合物中で行われる。これらの溶媒の中でも、DMSO、DMF又はTHFが好ましい。アルキル化反応は、塩基存在下で行われる。使用する塩基として、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水素化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等が挙げられる。これらの中で、アルカリ金属の水素化物が好ましく、水素化ナトリウムが特に好ましい。塩基は、マロン酸ジエステル2に対して、通常1~3倍モル程度、好ましくは1.5~2.5倍モル程度使用される。反応温度は、通常、0~50°C程度で行われ、好ましくは15~40°C程度である。室温下で行うことも可能である。反応時間は、通常0.5~5時間程度、好ましくは1~3時間程度である。第2工程は、第1工程で得られた第1中間体のエステル部分を還元することにより、式5:式中、m及びnは、上記と同様である。で表される第2中間体を得る反応である。還元剤として、エステル以外の部分が反応しないものであれば、制限なく用いることができる。例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、ボラン-ジメチルスルフィド錯体等を用いることができる。これらの中で、水素化リチウムアルミニウムが好ましい。還元剤は、第1中間体に対して、通常1~2倍モル程度、好ましくは1~1.5倍モル程度使用される。反応温度は、通常、0~50°C程度で行われ、好ましくは15~40°C程度である。室温下で行うことも可能である。反応時間は、通常0.5~5時間程度、好ましくは1~3時間程度である。第3工程は、第2工程で得られた第2中間体のヒドロキシ基を保護した後、R1X2及びR2X2式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示す。X2は、ハロゲン原子を示す。で表されるアルキル化剤でアルキル化し、さらにトリフラート化試薬でヒドロキシ基をトリフラートに変換することにより、式6:式中、R1、R2、m及びnは、上記と同様である。で表される第3中間体を得る反応である。この第3工程で得られた第3中間体6は新規化合物である。まず、第2中間体のヒドロキシ基を、保護基で保護する。保護基としては、ヒドロキシ基の保護基として慣用される保護基を制限なく用いることができる。例えばtert-ブチルジメチルシリルTBS基、トリメチルシリルTMS基、トリエチルシリルTES基等を挙げることができる。保護基の導入は、常法により行えばよい。次に、アルキル化剤を用いてアルキル化する。アルキル化剤のR1及びR2で示される炭素数1~16のアルキル基としては、炭素数1~16の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数1~10、さらに好ましくは1~6の直鎖アルキル基である。具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、sec-ブチル、イソブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル等が挙げられる。X2で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。アルキル化反応は、第2中間体をn-ブチルリチウム等の塩基で処理した後、アルキル化剤を添加することにより行われる。塩基は、第2中間体に対して、通常2~6倍モル程度、好ましくは3~5倍モル程度使用される。アルキル化剤R1X2及びR2X2は、それぞれ、第2中間体に対して、通常1~3倍モル程度、好ましくは1~2倍モル程度使用される。反応温度は、通常、-100~-20°C程度で行われ、好ましくは-60~-30°C程度である。反応時間は、通常1~6時間程度、好ましくは2~5時間程度である。ここで、保護基を脱保護する。例えば、TBS基を導入した場合には、フッ化テトラn-ブチルアンモニウムTBAF又は三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体BF3OEt2を添加して脱保護すればよい。次に、トリフラート化試薬でヒドロキシ基をトリフラートに変換する。トリフラート化は、触媒量のN,N-ジメチル-4-アミノピリジンDMAPの存在下、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば、ピリジン、ジクロロメタン等又はそれらの混合物中で行われる。トリフラート化試薬として、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸無水物Tf2Oを用いることができる。トリフラート化試薬は、アルキル化された生成物に対して、通常1.5~4倍モル程度、好ましくは2~3倍モル程度使用される。反応温度は、通常、0~50°C程度で行われ、好ましくは15~40°C程度である。室温下で行うことも可能である。反応時間は、通常1分間~2時間程度、好ましくは5~30分間程度である。なお、アルキル化剤のR1及びR2が、ともに水素原子である場合には、第2中間体をトリフラート化するだけで第3中間体を得ることができる。第4工程は、第3工程で得られた第3中間体のトリフラートをアジド化剤でアジドに変換することにより、式7:式中、R1、R2、m、n及びxは、上記と同様である。で表される第4中間体を得る反応である。この第4工程で得られた第4中間体7は新規化合物である。アジド化剤としては、M1CH2x1N3式中、M1は、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属を示す。xは1又は2を示す。で表される有機アジド化合物のアルカリ金属塩を用いることができる。アジド化剤として、アジ化ナトリウムが好ましい。アジド化剤は、第3中間体に対して、通常3~10倍モル程度、好ましくは4~6倍モル程度使用される。アジド化反応は、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランTHF等のエーテル類;ジメチルスルホキシドDMSO、ジメチルホルムアミドDMF等の非プロトン性極性溶媒;アセトン、2-ブタノン等のケトン類等又はそれらの混合物中で行われる。これらの溶媒の中でも、DMFが好ましい。反応温度は、通常、60~100°C程度で行われ、好ましくは70~90°C程度である。反応時間は、通常0.5~3時間程度、好ましくは1~2時間程度である。第5工程は、第4工程で得られた第4中間体を分子内環化させて、キラルスピロビストリアゾール化合物1を得る反応である。分子内環化反応は、ダブルヒュスゲンHuisgen反応と呼ばれる環化付加反応であって、トルエン、キシレン等の溶媒中で、第4中間体を加熱環流させることにより進行する。反応時間は、通常6~48時間程度、好ましくは10~30時間程度である。あるいは、市販されているマイクロウェーブ反応装置を用いて分子内環化反応を行ってもよい。この場合の反応温度は、通常120~200°C程度、好ましくは150~170°Cであり、反応時間は、通常1~12時間程度、好ましくは2~10時間程度である。このように、キラルスピロビストリアゾール化合物1を、安価なマロン酸ジエステル2から、5工程で効率よく製造することができる。このキラルスピロビストリアゾール化合物1は、化学修飾が容易であることから、様々な機能性素材に応用可能なキラルスピロ骨格プラットホームとして機能する。キラルスピロビストリアゾール化合物1は、式1-1:式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示し、R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1~16のアルキル基、又は置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。X3は、ハロゲン原子、又はN[SO2CF2y1CF3]2式中、yは、1~5の整数を表す。で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドを示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾリウム塩に変換される。式1-1において、R1及びR2で示される炭素数1~16のアルキル基としては、炭素数1~16の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数1~10、さらに好ましくは1~6の直鎖アルキル基である。具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、sec-ブチル、イソブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル等が挙げられる。R3及びR4で示される炭素数1~16のアルキル基は、R1及びR2で示される炭素数1~16のアルキル基と同様である。置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基において、アリール基としてフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アリール基が置換されている場合には、メトキシ等の置換基で置換されているのが好ましい。この場合の置換基の数は、1又は2個が好ましい。置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基として、ベンジル基が好ましい。X3で示されるハロゲン原子として、臭素原子又はヨウ素原子が好ましい。ビスフルオロアルカンスルホニルイミドにおけるyは、1~3の整数が好ましい。ビスフルオロアルカンスルホニルイミドとして、ビストリフルオロメタンスルホニルイミドが好ましい。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。m、n及びxは、同一であっても異なっていてもよく、m、n及びxが、すべて1である場合が好ましい。このようなキラルスピロビストリアゾリウム塩1-1は、広範囲の温度領域で液状であることから、イオン性液体として利用することができる。このキラルスピロビストリアゾリウム塩を含むイオン性液体は、難燃性且つ不揮発性であり、種々の有機化合物又は無機化合物を溶解することができ、さらに反応生成物との分離が容易であることから、新しい反応媒体として利用できる可能性がある。キラルスピロビストリアゾリウム塩1-1をイオン性液体として使用する場合、式1-1中、R1及びR2が、互いに独立して、水素原子又は炭素数1~16のアルキル基であり、R3及びR4が、互いに独立して、炭素数1~16のアルキル基又はベンジル基であることが好ましい。X3が、ヨウ素原子、又はN[SO2CF3]2で表されるビストリフルオロメタンスルホニルイミドであることが好ましい。式1-1において、R1及びR2が水素原子であり、R3及びR4が、互いに独立して、置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基であり、X3がハロゲン原子である光学活性スピロビストリアゾリウム塩は、NMRシフト試薬として機能することから、光学分割剤として利用することができる。さらに、このキラルスピロビストリアゾール化合物は、光学異性体分離カラム等に応用することも可能である。キラルスピロビストリアゾリウム塩1-1を光学分割剤として使用する場合、式1-1中、R3及びR4で示される置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基は、ともにベンジル基が好ましい。X3で示されるハロゲン原子として、臭素原子又はヨウ素原子が好ましい。キラルスピロビストリアゾリウム塩1-1は、式1:式中、R1及びR2は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数1~16のアルキル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾール化合物を、R3X3及びR4X3式中、R3及びR4は、互いに独立して、炭素数1~16のアルキル基、又は置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基を示す。X3は、ハロゲン原子を示す。で表されるハロゲン化アルキルと反応させることにより製造することができる。アルキル化反応は、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば、ジエチルエーテル、THFテトラヒドロフラン等のエーテル類;DMSOジメチルスルホキシド、DMF、アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒;アセトン、2-ブタノン等のケトン類等又はそれらの混合物中において、キラルスピロビストリアゾール化合物1にハロゲン化アルキルを添加し、加熱環流することにより行われる。これらの溶媒の中でも、アセトニトリルが好ましい。ハロゲン化アルキルR3X3及びR4X3は、それぞれ、キラルスピロビストリアゾール化合物1に対して、通常2~10倍モル程度、好ましくは3~6倍モル程度使用される。あるいは、市販されているマイクロウェーブ反応装置を用い、通常100~150°C程度、好ましくは110~140°Cで反応を行ってもよい。上記式1-1において、X3が、N[SO2CF2y1CF3]2式中、yは、1~5の整数を表す。で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドである場合には、さらに、X3アニオンを、M2N[SO2CF2y1CF3]2式中、M2はアルカリ金属を表す。yは、1~5の整数を表す。で表されるアルカリ金属ビスフルオロアルカンスルホニルイミドでカウンターアニオン交換する。カウンターアニオン交換反応は、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランTHF等のエーテル類;ジメチルスルホキシドDMSO、ジメチルホルムアミドDMF等の非プロトン性極性溶媒;アセトン、2-ブタノン等のケトン類;メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒;水等又はそれらの混合物中において、上記アルキル化により得られた生成物を、M2N[SO2CF2y1CF3]2式中、M2はアルカリ金属を表す。yは、1~5の整数を表す。で表されるアルカリ金属ビスフルオロアルカンスルホニルイミドと反応させることにより行われる。上記溶媒の中でも、メタノールが好ましい。M2で示されるアルカリ金属として、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。これらの中で、リチウムが好ましい。ビスフルオロアルカンスルホニルイミドにおけるyは、1~3の整数が好ましい。アルカリ金属ビスフルオロアルカンスルホニルイミドとして、リチウムビストリフルオロメタンスルホニルイミドが好ましい。アルカリ金属ビスフルオロアルカンスルホニルイミドは、上記アルキル化により得られた生成物に対して、通常2~3倍モル程度、好ましくは2.2~2.5倍モル程度使用される。キラルスピロビストリアゾール化合物1は、式1-2:式中、R3及びR4は、互いに独立して、置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基である。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベンに変換することもできる。式1-2において、R3及びR4で示される、置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基は、式1-1の場合と同様である。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。m、n及びxは、同一であっても異なっていてもよく、m、n及びxが、すべて1である場合が好ましい。キラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベン1-2は、光学活性体を用いることで不斉金属配位子として機能するだけでなく、不斉有機触媒として利用することもできる。キラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベン1-2を不斉金属配位子又は不斉有機触媒として使用する場合、式1-2中、R3及びR4で示される置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基は、ともにベンジル基が好ましい。キラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベン1-2は、式1-1:式中、R1及びR2は、水素原子を示し、R3及びR4は、互いに独立して、置換されていてもよいアリール基で置換されたメチル基を示す。m、n及びxは、互いに独立して、1又は2を示す。X3はハロゲン原子を示す。は、ラセミ体であることを示す。で表されるキラルスピロビストリアゾリウム塩を塩基で処理してカルベンを発生させることにより、製造することができる。塩基として、求核性の低い強塩基を使用する。例えば、カリウムtert-ブトキシドKOt-Bu、リチウムジイソプロピルアミドLDA、カリウムヘキサメチルジシラジドKHMDS、リチウム2,2,6,6-テトラメチルピペリジドLiTMP等を用いることができる。これらの中で、カリウムtert-ブトキシドが好ましい。塩基は、上記のキラルスピロビストリアゾリウム塩1-1に対して、通常1.5~3倍モル程度、好ましくは1.5~2.5倍モル程度使用される。反応は、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランTHF等のエーテル類等又はそれらの混合物中で行われる。これらの溶媒の中でも、THFが好ましい。反応温度は、通常、20~60°C程度で行われ、好ましくは30~50°C程度である。反応時間は、通常10分間~3時間程度、好ましくは0.5~1時間程度である。キラルスピロビストリアゾール化合物1、及びキラルスピロビストリアゾリウム塩1-1及びキラルスピロビスN-ヘテロ環状カルベン1-2は、スピロ中心が不斉中心となり、2つの光学異性体が存在する。ラセミ体である場合には、光学異性体分離カラムを使用した高速液体クロマトグラフィー等の光学分割手段を用いて光学分割することにより、光学的に純粋な鏡像異性体を得ることができる。そして、各々の光学的に純粋な鏡像異性体及びラセミ体のいずれについても、本発明の範囲に含む。以下、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。実施例1キラルスピロビストリアゾール化合物1の製造1第1中間体の合成第1工程オーブンで乾燥したフラスコを窒素置換し、NaH、続いてDMSO30mLを加えた。0°Cに冷却後、マロン酸ジメチルを加え、室温にした後、30分間攪拌した。0°Cに冷却後、3-ブロモプロピンを加え、室温にした後、90分間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止後、ジエチルエーテルで3回抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。その後、溶媒を留去し得られた混合物を酢酸エチル及びヘキサンで再結晶することで、第1中間体を定量的に得た。第1中間体のNMRデータは文献TeplyetalTetrahedronLett2009504526に記載されている値と一致した。2第2中間体の合成第2工程オーブンで乾燥したフラスコを窒素置換し、水素化リチウムアルミニウム、続いてTHF100mLを加えた。0°Cに冷却後、第1中間体のTHF溶液を加え、室温に戻した後、75分間攪拌した。水を加えて反応を停止後、セライト濾過し、残渣を酢酸エチルにて洗浄抽出した。得られた濾液を濃縮後、酢酸エチルでシリカゲルのショートカラムを行うと、第2中間体5aが収率81で得られた。第2中間体のNMRデータは、文献SchrocketalJAmChemSoc19941162827に記載されている値と一致した。白色固体1HNMRδ37523820513CNMRδ8027126654202173第3中間体の合成第3工程iヒドロキシ基の保護オーブンで乾燥したフラスコを窒素置換し、第2中間体5a、続いてDMF100mLを加えた。0°Cに冷却後、イミダゾール、及びTBSClを加え、室温にした後、5時間攪拌した。水を加えて反応を停止後、酢酸エチル及びヘキサンを用いて3回抽出操作を行った。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、ヒドロキシ基保護体5a’を定量的に得た。ヒドロキシ基保護体5a’のNMRデータは、文献WidenhoeferetalOrgLett20013385に記載されている値と一致した。黄色油状物1HNMRδ353228195089004613CNMRδ8117016314332592093656iiアルキル化オーブンで乾燥したフラスコを窒素置換し、ヒドロキシ基保護体5a’、続いてTHF40mLを加えた。78°Cに冷却後、nBuLiを加え、50°Cで1時間攪拌した。MeIを加え、1時間攪拌後、室温まで昇温し、さらに1時間攪拌した。水を加えて反応を停止し、反応液を濃縮後、ジクロロメタンで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、アルキル化体5bのTBS保護体を定量的に得た。続いてアルキル化体5bのTBS保護体をフラスコにいれ、THF20mLを加えた。フッ化テトラn-ブチルアンモニウムTBAFを加え、室温で150分間攪拌した。その後、反応混合物を濃縮して、ジクロロメタンと1NHCl水溶液を加え、水層をジクロロメタンで3回抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、アルキル化体5bを収率50で得た。黄色油状物1HNMRδ36822418617713CNMRδ78475067142322335オーブンで乾燥したフラスコを窒素置換し、ヒドロキシ基保護体5a’、続いて、THF15mLを加えた。78°Cに冷却後、nBuLiを加えた。30°Cに昇温後、HMPAを加え、30分間攪拌後、EtIを加え、引き続き30°Cで一晩攪拌した。水と1NHCl水溶液を加えて反応を停止し、ジエチルエーテルで水層を抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。抽出溶媒を留去し、アルキル化体5cのTBS保護体の混合物を得た。得られた混合物をフラスコにいれ、続いてジクロロメタン10mLを加えた。BF3OEt2を3mL加え、室温にて120分間攪拌した。1NHCl水溶液を加え、反応を停止し、酢酸エチルを加え、有機層を飽和NaHCO3水溶液で洗浄した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出溶媒を留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、アルキル化体3cを収率28で得た。黄色油状物1HNMRδ36529722221210813CNMRδ844751666421221141123アルキル化体5cと同様に合成し、アルキル化体5dを収率13で得た。黄色油状物1HNMRδ36726822521313115008813CNMRδ831758669423310220219184135アルキル化体5cと同様に合成し、アルキル化体5eを収率31で得た。黄色油状物1HNMRδ36431722221015011908513CNMRδ830757666422312289285225221187139iiiトリフラート化オーブンで乾燥したフラスコを窒素置換し、第2中間体5a、続いてピリジン5mLを加えた。触媒量のDMAPを加えて、0°Cに冷却後、Tf2Oを加え、室温に昇温後、5分間攪拌した。1NHCl水溶液で反応を停止し、水層をジクロロメタンで抽出後、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、第3中間体を収率83で得た。赤色固体1HNMRδ45625222113CNMRδ1233120111691138759748737414213オーブンで乾燥したフラスコを窒素置換し、アルキル化体5b、続いてピリジン10mLを加えた。触媒量のDMAPを加え、0°Cに冷却後、Tf2Oを加えた。室温に昇温後、5分間攪拌した。1NHCl水溶液で反応を停止した後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。その後、有機溶媒を留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、第3中間体を収率51で得た。黄色油状物1HNMRδ45023817913CNMRδ123312021170113881075670941821734アルキル化体及びから、第3中間体と同様に合成し、第3中間体及びを得た。得られた第3中間体及びは、生成することなく次の反応に用いた。アルキル化体から、第3中間体と同様に合成し、第3中間体を定量的に得た。黄色油状物1HNMRδ45224221615612208813CNMRδ11868577577174183132862852252171851394第4中間体の合成第4工程オーブンで乾燥したフラスコを窒素置換し、第3中間体とNaN3、続いてDMF60mLを加えた。80°Cに昇温後、60分間攪拌した。水で反応を停止後、水層をジエチルエーテルで抽出し、有機層を1NHCl水溶液で洗浄した。抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、第4中間体を収率76で得た。黄色油状物1HNMRδ34523420913CNMRδ789720541417230オーブンで乾燥したフラスコを窒素置換し、第3中間体とNaN3、続いてDMF5mLを加えた。80°Cに昇温後、60分間攪拌した。水で反応を停止後、ジエチルエーテルで抽出し、有機層を1NHCl水溶液で洗浄した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後に、溶媒を留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、第4中間体を収率77で得た。黄色油状物1HNMRδ33722117813CNMRδ791737545421234353第3中間体から、第4中間体と同様に合成し、第4中間体を得た。得られた第4中間体は、生成することなく次の反応に用いた。第3中間体から、第4中間体と同様に合成し、第4中間体を得た。得られた第4中間体は、生成することなく次の反応に用いた。第3中間体から、第4中間体と同様に合成し、第4中間体を収率73で得た。黄色油状物1HNMRδ34422621615312208913CNMRδ8407455464223132892862342261871405キラルスピロビストリアゾール化合物の合成第5工程オーブンで乾燥したフラスコを窒素置換し、第4中間体及びトルエン300mLを加え、24時間加熱還流した。反応溶媒を留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、キラルスピロビストリアゾール化合物を収率67で得た。白色固体1HNMRδ75246045132231213CNMRδ14031270603562334第4中間体のトルエン溶液をBiotage社製microwave反応装置にて、150°Cで5時間反応を行った。反応溶媒を留去した後、得られた残渣を再結晶により精製し、キラルスピロビストリアゾール化合物を収率53で得た。白色固体1HNMRδ44744231230522813CNMRδ13691359610571339106第4中間体の混合物のトルエン溶液をBiotage社製microwave反応装置にて、170°Cで25時間反応を行った。反応溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製することで、キラルスピロビストリアゾール化合物をアルキル化体3cから三段階、収率75で得た。黄色油状物1HNMRδ44744231630927412713CNMRδ14241353606566341186129第4中間体の混合物のトルエン溶液をBiotage社製microwave反応装置にて、170°Cで25時間反応を行った。反応溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、キラルスピロビストリアゾール化合物をアルキル化体3dから三段階、収率56で得た。黄色油状物1HNMRδ44543931230426415908913CNMRδ14151355607567343309251222137第4中間体のトルエン溶液をBiotage社製microwave反応装置にて、150°Cで10時間反応を行った。反応溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、キラルスピロビストリアゾール化合物を定量的に得た。黄色油状物1HNMRδ45945132431526717215914212509513CNMRδ1422138461957834832729972995261237144実施例2キラルスピロビストリアゾリウム塩1-1の製造キラルスピロビストリアゾール化合物1aのアセトニトリル溶液をオーブンで乾燥したフラスコに入れ、窒素置換し、そこにハロゲン化アルキルR3X3及びR4X3としてMeIを加え、加熱還流した。反応終了後、溶媒を留去し得られた残渣をヘキサン及びジエチルエーテルで洗浄することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11aを定量的に得た。黄色固体1HNMRδ85751750944138037113CNMRδ14651280613586414367ハロゲン化アルキルR3X3及びR4X3としてEtIを用いた以外はキラルスピロビストリアゾリウム塩11aの合成と同様にして、キラルスピロビストリアゾール化合物1aからキラルスピロビストリアゾリウム塩11bを収率80で得た。黄色固体1HNMRδ86652251347538537517113CNMRδ14631267615585513369150ハロゲン化アルキルR3X3及びR4X3としてnBuIを用いた以外はキラルスピロビストリアゾリウム塩11aの合成と同様にして、キラルスピロビストリアゾール化合物1aからキラルスピロビストリアゾリウム塩11cを定量的に得た。黄色固体1HNMRδ90254553348139938719615213910113CNMRδ162914631255122311911159609580544362321196135キラルスピロビストリアゾール化合物1aのアセトニトリル溶液に、nHexIを加えBiotage社製microwave反応装置にて140°Cで4時間反応を行った。反応溶媒を留去した後、残渣をヘキサン及び酢酸エチルで洗浄することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11dを定量的に得た。黄色固体1HNMRδ52651647138837720813115409413CNMRδ1462127012681265617584558371322305269234144キラルスピロビストリアゾール化合物1aのアセトニトリル溶液に、BnBrを加え、Biotage社製microwave反応装置にて110°Cで10時間反応を行った。溶媒を留去した後、残渣をヘキサン及び酢酸エチルで洗浄することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11eを収率71で得た。褐色油状物1HNMRδ86575975774774459151650737636613CNMRδ146713371308130413041268614589584367キラルスピロビストリアゾリウム塩1bのアセトニトリル溶液に、EtIのを加え、Biotage社製microwave反応装置にて130°Cで3時間反応を行った。溶媒を留去した後、残渣をヘキサン及び酢酸エチルで洗浄することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11fを収率97で得た。褐色油状物1HNMRδ51050446237236625716513CNMRδ1440136461358648436314393キラルスピロビストリアゾール化合物1cのアセトニトリル溶液に、EtIを加え、Biotage社製microwave反応装置にて140°Cで4時間反応を行った。溶媒を留去した後、残渣をジクロロメタン及び酢酸エチルで洗浄することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11gを収率82で得た。黄色油状物1HNMRδ50850446038137629716514213CNMRδ14351410610586484372182144112キラルスピロビストリアゾール化合物1dのアセトニトリル溶液に、EtIを加え、Biotage社製microwave反応装置にて140°Cで4時間反応を行った。溶媒を留去した後、残渣をジクロロメタンと酢酸エチルで洗浄することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11hを収率82で得た。黄色油状物1HNMRδ50850446137837329417916515010213CNMRδ14351401610585483372296242235145140キラルスピロビストリアゾール化合物1eのアセトニトリル溶液にnBuIを加え、Biotage社製microwave反応装置にて140°Cで5時間反応を行った。溶媒を留去した後、残渣をヘキサン及び酢酸エチルで洗浄することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11iを収率94で得た。黄色油状物1HNMRδ45945132431526717215914212509513CNMRδ1422138461957834832729972995261237144フラスコのキラルスピロビストリアゾリウム塩11a水溶液に、LiN2を加え、21時間攪拌した。沈殿物を水で洗浄し、乾燥することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11jを定量的に得た。白色固体1HNMRδ85051050243837436613CNMRδ146412781260122711961158611585413365フラスコのキラルスピロビストリアゾリウム塩11b水溶液に、LiN2を加え、21時間攪拌した。沈殿物を水で洗浄し、乾燥することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11kを収率84で得た。無色油状物1HNMRδ85550649847037136216713CNMRδ146212631243122212011180610585512363147フラスコのキラルスピロビストリアゾリウム塩11cのメタノール溶液に、LiN2を加え、12時間攪拌した。反応液に水を加えた後、ジクロロメタンで抽出し、有機溶媒を留去することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11lを定量的に得た。黄色固体1HNMRδ89353852647939538219713709213CNMRδ162914631255122311911159609580544362321196135フラスコのキラルスピロビストリアゾリウム塩11e水溶液に、LiN2を加え、室温で24時間攪拌した。沈殿物を水で洗浄し、乾燥することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11mを定量的に得た。褐色油状物1HNMRδ85375375074774358450449636635813CNMRδ1467133513081304130312661259122711951164612590583364フラスコのキラルスピロビストリアゾリウム塩11e水溶液に、LiNCF32SO22を加え、室温で24時間攪拌した。沈殿物を水で洗浄し、乾燥することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11nを収率79で得た。褐色固体1HNMRδ85475375074574458450549636735719FNMRδ82311481255フラスコのキラルスピロビストリアゾリウム塩11hのメタノール溶液に、LiN2を加え、24時間攪拌した。反応混合物に水を加えた後、酢酸エチルで抽出し、溶媒を留去することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11oを収率73で得た。黄色油状物1HNMRδ48147544735134328016515314009313CNMRδ14281396125612241192116160258148136129123422814613719FNMRδ801フラスコのキラルスピロビストリアゾリウム塩11iのメタノール溶液に、LiN2を加え、20時間攪拌した。溶媒を留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、キラルスピロビストリアゾリウム塩11pを定量的に得た。黄色油状物1HNMRδ50049143727619616915012410008813CNMRδ141813891211117959656951636330930628826123422319513813219FNMRδ789以下に、キラルスピロビストリアゾリウム塩11a~11pの融点又はガラス転移温度を示す。実施例3スピロビストリアゾール化合物の光学分割スピロビストリアゾール化合物1eを、以下の条件で光学分割した。DAICELCHIRALPAKICcolumn測定波長235nm溶出液:塩化メチレンイソプロパノール41流速50mLminFirstpeakinHPLCカラム保持時間24minαD17107SecondpeakinHPLCカラム保持時間44minαD17109スピロビストリアゾール化合物1eのアセトニトリル溶液に、nBuIを加え、38時間加熱還流した。反応液を濃縮した後、残渣をヘキサン及び酢酸エチルで洗浄することで、スピロビストリアゾリウム塩11iを収率94で得た。αD2203フラスコのスピロビストリアゾリウム塩11iのメタノール溶液に、LiN2を加え、室温で24時間攪拌した。溶媒を留去し、水で洗浄した後、スピロビストリアゾリウム塩11pを定量的に得た。αD16816実施例4スピロビストリアゾリウム塩の不斉分子認識試験±-スピロビストリアゾリウム塩84mg0013mmolを18クラウン6103mg0039mmol存在下、20DMSOd6CDCl3中、1HNMR測定を行った。その際、520ppm及び505ppmにスピロ骨格Nメチレン鎖の水素HaとHbのピークが確認された図1a。これにR体の2メトキシ2トリフルオロメチルフェニル酢酸カリウム塩107mg0039mmolを加えると、それぞれのピークがHa520ppm→513ppm514ppm、Hb505ppm→496ppm498ppmに高磁場シフトした図1b。これは、スピロビストリアゾリウムカチオンが光学活性アニオンを分子認識し、ジアステレオマー塩が形成したことを示している。この結果から、スピロビストリアゾリウム塩は、NMRシフト試薬および光学分割剤として機能することが示唆される。実施例5スピロビストリアゾリウム塩1-1の有機分子触媒としての利用光学活性スピロビストリアゾリウム塩のTHF溶液中に、室温下、KOtBuを加えた。その後、ベンズアルデヒドを加え、40°Cで30分間攪拌した。反応液を直接PTLCで分離することでベンゾインを50収率TLC収率、NMR収率で得た。また、生成物のRf値03は市販のベンゾインと完全に一致した。"