光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する1以上の光学層が設けられた1以上の光学部品を具備し、前記凸部のトップとボトムとの距離をAとして、0.1nm<A<100nmを満足する光学機器。請求項1に記載の光学機器であって、前記隣り合う複数の前記凸部の間隔をBとして、0.02<B/A<1.00を満足する光学機器。請求項2に記載の光学機器であって、前記最外層の膜厚をCとしたとき、0.01<A/C<1.00を満足する光学機器。請求項3に記載の光学機器であって、前記最外層における液滴の接触角をθとしたとき、-0.98<cosθ<0を満足する光学機器。請求項4に記載の光学機器であって、前記最外層に隣接する光学層は光透過性又は光反射性をもつ光学機器。光源と、光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する1以上の光学層が設けられ、前記光源が発する光束の光路を形成する1以上の光学部品と、防塵フィルタが装着された通風孔が設けられ、前記光源及び前記1以上の光学部品を収容する筺体と、前記防塵フィルタが装着された通風孔を通じて前記筺体の外部から前記筺体の内部に空気を取り込み、前記光源により熱される前記1以上の光学部品を冷却する冷却装置とを具備し、前記凸部のトップとボトムとの距離をAとして、0.1nm<A<100nmを満足する画像投射装置。請求項6に記載の画像投射装置であって、前記隣り合う複数の前記凸部の間隔をBとして、0.02<B/A<1.00を満足する画像投射装置。請求項7に記載の画像投射装置であって、前記最外層の膜厚をCとしたとき、0.01<A/C<1.00を満足する画像投射装置。請求項8に記載の画像投射装置であって、前記最外層における液滴の接触角をθとしたとき、-0.98<cosθ<0を満足する画像投射装置。光学部品において、最外層の光学層は、光の散乱を抑制して光の透過率の低下を防ぐことを目的として平滑面に形成される。しかしながら最外層の光学層が平滑面であると、塵埃等と光学部品の表面との接触面積が大きくなるため、塵埃等が光学部品に付着しやすいという問題がある。以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、光の透過率の低下および塵埃の付着による光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることにある。上記課題を解決するため、本発明の一形態に係る光学機器は、光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する1以上の光学層が設けられた1以上の光学部品を具備し、前記凸部のトップとボトムとの距離をAとして、0.1nm<A<100nmを満足する。前記隣り合う複数の前記凸部の間隔をBとして、0.02<B/A<1.00を満足してもよい。前記最外層の膜厚をCとしたとき、0.01<A/C<1.00を満足してもよい。前記最外層における液滴の接触角をθとしたとき、-0.98<cosθ<0を満足してもよい。前記最外層に隣接する光学層は光透過性又は光反射性をもってもよい。上記課題を解決するため、本発明の一形態に係る画像投射装置は、光源と、光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する1以上の光学層が設けられ、前記光源が発する光束の光路を形成する1以上の光学部品と、防塵フィルタが装着された通風孔が設けられ、前記光源及び前記1以上の光学部品を収容する筺体と、前記防塵フィルタが装着された通風孔を通じて前記筺体の外部から前記筺体の内部に空気を取り込み、前記光源により熱される前記1以上の光学部品を冷却する冷却装置とを具備し、前記凸部のトップとボトムとの距離をAとして、0.1nm<A<100nmを満足する。以上のように、本技術によれば、光の透過率の低下および塵埃の付着による光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることが可能である。以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。[画像投射装置]図1は、本技術の一実施形態に係る光学機器を用いた画像投射装置を概略的に示す図である。画像投射装置プロジェクタ100は、照明光学系20光学機器と、投射光学系21とを含む。照明光学系20及び投射光学系21は、筺体22に収納され、封印される。照明光学系20は、光源1を有する。照明光学系20は、さらに、インテグレーター2、偏光変換素子3、集光レンズ4、波長選択性ミラー5a、5b、反射ミラー6a、6b、集光レンズ7a、7b、波長選択性ミラー8、プリズムブロック9a、9b、9c、光変調素子10a、10b、10c及びプリズムブロック11を有する。以下、これらを総称して光学部品2~11と呼ぶこととする。光源1からの光束は、光源共役面に焦点位置を持つインテグレーター2により、二次光源像を形成する。二次光源像から導光される光束は、偏光変換素子3により、一定の偏光方向に揃えられ、集光レンズ4により導光され、波長選択性ミラー5a、5bにより分岐される。波長選択性ミラー5aにより導光される光束は、反射ミラー6aにて反射し、集光レンズ7aにより集光される。集光レンズ7aにより集光された光束は、プリズムブロック9aにて反射し、光変調素子10aにて反射し、波長板図示せずを通ってプリズムブロック9aを透過し、プリズムブロック11にて反射して投射光学系21に至る。一方、波長選択性ミラー5bにより導光される光束は、反射ミラー6bにて反射し、集光レンズ7bにより集光される。集光レンズ7bにより集光された光束は、波長選択性ミラー8により波長ごとに分岐される。波長選択性ミラー8により分岐された光束の一方は、プリズムブロック9bにて反射し、光変調素子10bにて反射し、波長板図示せずを通ってプリズムブロック9bを透過し、プリズムブロック11を透過して投射光学系21に至る。波長選択性ミラー8により分岐された光束の他方は、プリズムブロック9cにて反射し、光変調素子10cにて反射し、波長板図示せずを通ってプリズムブロック9cを透過し、プリズムブロック11にて反射して投射光学系21に至る。光学部品2~11の表面にはそれぞれ、反射防止のための光学層、特定の波長のみを透過あるいは反射する波長選択性を有する光学層、偏光特性を有する光学層など、1以上の光学層が積層される。筺体22には第1の通風孔28が設けられ、第1の通風孔28には、塵埃の侵入を防ぐための第1の防塵フィルタ23が装着される。筺体22内の第1の防塵フィルタ23の近傍には、光源1及び光源1によって熱される照明光学系20に含まれる光学部品2~11を冷却するための冷却ファン24が設けられる。冷却ファン24は、第1の防塵フィルタ23を通じて外部から筺体22内にエアーを取り込み、筺体22内の光源1によって熱される光学部品2~11を冷却する。これにより、光源1の発する熱による光学部品2~11の温度上昇が抑制される。さらに、筺体22には第2の通風孔29が設けられ、第2の通風孔29には、塵埃の侵入を防ぐための第2の防塵フィルタ26が装着される。筺体22内の第2の防塵フィルタ26の近傍には、冷却ファン24が筺体22内に取り込んだエアーを強制的に排気するための排気ファン27が設けられる。筺体22の外部には、第2の通風孔29と連通してダクト25が設けられる。[光学機器が使用される場での塵埃の発生]上記のような光学機器が使用される場の1つとして映画館がある。映画館では、ポップコーンなど油を使用する食物が供され、油分を含んだ塵埃オイルミストが発生する。また、国によっては映画館内での喫煙が認められている場合があり、このような環境では、タバコの煙が塵埃となって浮遊する。また、映画館を含め、様々な環境下では、人の被服等から剥がれ落ちたコットンリンタ綿埃、黄砂などに代表される砂埃、高湿環境下で起こる結露などによる水滴、光学機器内で各動作機構部において金属部品が接触したりすることによって内部から発生する塵埃もある。このように、光学機器が利用される環境において存在する塵埃は、光学機器内の光学部品に到達して、これに付着する可能性がある。特に、プロジェクタなど、発熱量の高い光源を内蔵した機器には、内部を空冷するための冷却ファンが設けられているため、この冷却ファンによって発生する気流にのって塵埃が筺体内に浸入し、光学部品に到達して付着する確率が高くなる。冷却ファンとともに筺体への塵埃の侵入を防ぐ防塵フィルタが設けられていても、防塵フィルタは必ずしも全ての塵埃の侵入を防ぐことができず、結果的に塵埃が防塵フィルタを通過して筺体内に侵入してしまう。上述のように、光学部品2~11の表面には、反射防止のための光学層、波長選択性を有する光学層、偏光特性を有する光学層などの光学層が積層される。塵埃等が光学部品2~11の表面にできるだけ付着しないようにするためには、このような光学層を微小な凹凸のある非平滑面とするのがよい。すなわち、光学部品2~11の表面に形成される光学層が微小な凹凸のある非平滑面であると、塵埃等と光学部品2~11の表面とが接する面積が小さくなるので、塵埃等が光学部品2~11の表面に吸着しにくくなり、仮に付着したとしても吸着力が小さいために剥がれ落ちやすい。これに対して、光学層が平滑面であると、塵埃等と光学部品2~11の表面との接触面積が大きくなるため、塵埃等が光学部品2~11に一旦吸着されると定着しやすい。その一方で、光学部品2~11の表面の微小な凹凸は光の散乱を招くことから、光の透過率が低下し、画像の輝度やコントラストの低下を招く。特に、凹凸の山谷高さいわゆるPVPeaktoValley値が大きくなればなるほど、塵埃等の定着を回避できる可能性は増大するものの、散乱する光の割合も増大し光の透過率も低下するため、それだけ光学特性に与える影響も大きくなる。要するに、光学部品2~11の表面に形成される光学層は、微小な凹凸のある非平滑面であることが塵埃等の付着が招く光学特性の低下防止の観点から有利である。その反面、光の散乱による光の透過率の低下防止の観点からは凹凸のない平坦で滑らかな平滑面にするのがよいという相反関係にある。そこで、本実施形態の課題の一つは、光学部品の表面に塵埃や液滴等の障害物が定着することを最小限に抑制することで、光学部品の光学特性の低下、ひいては光学機器の光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることにある。上記課題を解決するため、本実施形態では、光の散乱による光の透過率の低下の最大許容量や、光学機器が利用される環境において支配的に存在する塵埃の大きさなどを考慮して、光学部品の表面に形成する防塵膜の非平滑面のパラメータとして、光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることが可能な範囲を検討し、これを採用した。[光学部品の光学層]図2は、光学部品2~11に形成される光学層の断面を概略的に示す図である。少なくともいずれか1つの光学部品2~11の光学基体39の表面30には、1層以上の光学層31、32が積層される。1層以上の光学層31、32は、それぞれ、反射防止のための光学層、波長選択性を有する光学層、偏光特性を有する光学層などであり、光透過性又は光反射性をもつ。本図は、少なくともいずれか1つの光学部品2~11の光学基体39の表面30に内層31が形成され、最外層32が内層31上に形成された例を示す。なお、最外層32は反射防止のための光学層、波長選択性を有する光学層、偏光特性を有する光学層などであるとしたが、これに限られず、防塵のみを目的として設けられたものであってもよい。最外層32は、例えばフッ素系の光学膜材料など高い撥水性を有する光学膜材料よりなる。最外層32の表面33は、複数の凸部34からなる微小な凹凸をもつ非平滑面に形成される。凹凸の断面形状は、図示のように矩形状の他、たとえばトップ36及びボトム37が先細状になったものや鋸状であってもよい。また、凹凸のサイズ形状は均一に揃っている必要はない。最外層32に微小な凹凸を含む非平滑面を形成する方法としては、例えば、リソグラフィ、ナノインプリント、真空蒸着、スパッタリング、CVDChemicalVaporDeposition、化学気相成長などを挙げることができる。最外層32に設けられた微小な凹凸は、例えば以下の式を満足するように形成される。0.1nm<A<100nm...式10.02<B/A<1.00...式20.01<A/C<1.00...式3-0.98<cosθ<0...式4ただし、Aは、凸部34のトップ36とボトム37との距離PV値、Bは、隣り合う複数の凸部34の間隔、Cは、最外層32の膜厚、θは、最外層32における液滴の接触角である。以下、これらの式1~式4について説明する。[式1について]1式1の上限値A<100nmについてPV値は大きいほど塵埃の付着力が低減し、一旦付着しても剥がれやすくなる。しかしその一方で、PV値が大きくなるほど光の拡散によって光の透過率が低下する。すなわち、凸部34どうしの間の部分以下、凹部35と呼ぶ。に入り込んだ光束は凸部34の側面の壁38、38に当たりながら底に到達するまでに散乱によって減衰する。この減衰はPV値が大きくなればなる程、光束が凸部34の側面の壁38、38に当たって散乱する回数が増大することによって大きくなる。そこでPV値としては光の透過率の低下防止と塵埃の付着防止の両面から理想的な範囲が求められる。一般に使用される反射防止膜などの光学膜の可視光領域の光の透過率は99以上であるなどの理由から、表面に微小な凹凸を有する最外層32の光の透過率も99以上とすることが1つの目標値となる。また、複数の光学レンズで構成される光学系の全体としての光の透過率は、各レンズに設けられた光学層の光の透過率を光路上に存在する光学層の数だけ掛け合わせた値となる。例えば、6個の光学レンズの両面に光の透過率99.1の光学層が設けられる場合、光学系の全体の光の透過率は90であるが、6個の光学レンズの両面に光の透過率98.1の光学層を設けた場合には、光学系の全体の光の透過率は80にまで低下する。このように光学系全体の光の透過率への指数関数的な影響を考慮すれば、最外層32の光の透過率は99以上であることが望ましい。図3はPV値と反射率との関係を示す表である。同図は、塵埃のないクリーンな環境下で波長550nmの光源を用いて測定したPV値と反射率との関係を示す表である。この表に示すように、PV値が大きくなるにつれて反射率も高くなる。そしてPV値が103nmのときの反射率は0.9であるが、PV値が219nmになると反射率が1.9まで増大し、光学系全体の光の透過率への指数関数的な影響が大きくなる。逆にPV値が27nmのときの反射率は0.8であり、PV値が103nmのときの反射率0.9に対して顕著な違いが現れない。以上の理由から、PV値の上限は100nm程度が妥当と考えられる。2式1の下限値0.1nm<AについてPV値の下限値である0.1nmは、光学層の表面への微細加工の限界に基づく値である。また、PV値が0.1nmより大きければ、塵埃の吸着力を落とすことができ、防塵膜としての機能が最低限確保される。以上のように、光学部品2~11の光学基体39の最外の光学層32に、PV値Aとして式1を満足する微小な凹凸を形成することで、所要の光の透過率及び光学部品の表面の所要の防塵効果を確保することができ、これにより光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることができる。[式2について]1式2の上限値B/A<1.00について隣り合う複数の凸部34の間隔以下、凸部間隔と呼ぶ。より粒径が小さい塵埃などは、凸部34同士の間の部分凹部35に入り込む可能性が高い。凹部35に入り込んだ塵埃は、ボトム37や側面の壁38に接触するので、例えばトップ36に付着した塵埃に比べて定着力が高くなり、取り除くことが困難になる。凹部35への塵埃の侵入を防ぐためには、凸部間隔を塵埃の大きさよりも小さく設定すればよい。有効な防塵効果を得るには、凸部間隔を可及的小さく設定するのがよく、要するに、画像投射装置100が使用される環境下に支配的に存在する塵埃の大きさよりも小さく設定するのがよい。ここで、光学部品2~11に付着する塵埃の種類は、画像投射装置100が使用される環境によって異なり、黄砂などの砂や綿埃などに代表される砂埃、タバコの煙に含まれる化学物質など様々である。例えば、タバコの塵埃は、粒径1~20nmの範囲のものが殆どであり、平均粒径は6.5nmである例えば、非特許文献1参照。。また、浮遊粉塵に含まれる黄砂の微小粒子の平均粒径は0.6μm、粗大粒子の平均粒径は4.8μmである例えば、非特許文献2参照。。例えば、国によっては映画館での喫煙が認められている場合があるが、このような環境下で画像投射装置100を使用する場合、タバコの塵埃が光学部品2~11に付着するのを防止することが望まれる。そこで、凸部間隔を例えば2nmとすることで、粒径2nm以上の塵埃が凹部35に入り込むのを防止することができる。上述のように、タバコの塵埃は粒径1~20nmのものが圧倒的に多いので、凸部間隔を例えば2nmとすることで、大部分のタバコの塵埃が凹部35に入り込むのを防止することができ、その結果、タバコの塵埃の最外層32への付着を防止することができる。凸部間隔を塵埃の粒径より小さく設定するのに加えて、PV値Aを凸部間隔Bより大きくするB/A<1.00ことで、塵埃が最外層32にさらに定着しにくくなる。その理由は以下のとおりである。すなわち、凸部間隔が塵埃の粒径より小さいと、塵埃全体としては凹部35内に入り込まないまでも、塵埃が凹部35の入り口に引っかかるようにして凹部35に部分的に入り込むことがある。凸部間隔が塵埃の粒径より小さく且つPV値が小さい凹部35が浅いと、凹部35に部分的に入り込んだ塵埃がボトム37など凹部35の内壁に付着して凹部35から離脱しにくくなる。しかしながら、凸部間隔が塵埃の粒径より小さく且つPV値が大きいと、塵埃が凹部35に部分的に入り込んでも、ボトム37など凹部35の内壁に付着しないため、塵埃が光学部品2~11に定着しにくいからである。以上のように、画像投射装置100の使用される環境に支配的に存在する塵埃の粒径より凸部間隔を小さく設定することで、環境に支配的に存在する大部分の塵埃が凹部35に定着しにくくなる。さらに、PV値Aを凸部間隔Bより大きくするB/A<1.00ことで、塵埃が凹部35にさらに定着しにくくなる。これにより光学部品2~11に塵埃が定着するのを防止し、光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることができる。例えば、タバコの塵埃が支配的に存在する環境下で画像投射装置100を使用する場合、タバコの塵埃は粒径1~20nmのものが圧倒的に多いので、凸部間隔をB<2nm且つB/A<1.00とすれば、粒径2nm以上の塵埃すなわち大部分のタバコの塵埃が光学部品2~11に付着するのを防止し、光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることができる。2式2の下限値0.02<B/AについてPV値Aが式1の上限値である100nmであるときの凸部間隔Bの下限値は2nmであり、これは、光学層の表面への微細加工の限界に基づく値である。[式3について]1式3の上限値A/C<1.00について最外層32の膜厚がPV値より小さいと、凹部35が最外層32に隣接する内層31に達してしまう。凹部35を最外層32内に形成するには、最外層32の膜厚CをPV値Aより大きくする、すなわちA/C<1.00とするのがよい。2式3の下限値0.01<A/Cについて式1によればPV値Aの下限値は0.1nm<Aである。PV値Aが0.1nmの凹部35を形成するには、最外層32の膜厚Cが10nm以上であればよく、すなわち、0.01<A/Cとするのがよい。[式4について]1式4の上限値cosθ<0についてcosθ>0であると、濡れ性が高く、凹凸を形成しても液滴が凹凸に侵入してしまうので、cosθ<0とするのがよい。2式4の下限値-0.98<cosθについてcosθ=-1は最外層32に液球が乗ることを示し、高い撥水性を示す。このような液滴はそもそも最外層32に付着しにくいので表面に凹凸を形成する必要がない。一方、-0.98<cosθであると濡れ性が高く、表面に凹凸を形成する必要がある。なお、本技術は以下のような構成も採ることができる。1光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する1以上の光学層が設けられた1以上の光学部品を具備し、前記凸部のトップとボトムとの距離をAとして、0.1nm<A<100nmを満足する光学機器。2前記1に記載の光学機器であって、前記隣り合う複数の前記凸部の間隔をBとして、0.02<B/A<1.00を満足する光学機器。3前記1又は2に記載の光学機器であって、前記最外層の膜厚をCとしたとき、0.01<A/C<1.00を満足する光学機器。4前記1から3のうちいずれか1つに記載の光学機器であって、前記最外層における液滴の接触角をθとしたとき、-0.98<cosθ<0を満足する光学機器。5前記1から4のうちいずれか1つに記載の光学機器であって、前記最外層に隣接する光学層は光透過性又は光反射性をもつ光学機器。6光源と、光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する1以上の光学層が設けられ、前記光源が発する光束の光路を形成する1以上の光学部品と、防塵フィルタが装着された通風孔が設けられ、前記光源及び前記1以上の光学部品を収容する筺体と、前記防塵フィルタが装着された通風孔を通じて前記筺体の外部から前記筺体の内部に空気を取り込み、前記光源により熱される前記1以上の光学部品を冷却する冷却装置とを具備し、前記凸部のトップとボトムとの距離をAとして、0.1nm<A<100nmを満足する画像投射装置。7前記6に記載の画像投射装置であって、前記隣り合う複数の前記凸部の間隔をBとして、0.02<B/A<1.00を満足する画像投射装置。8前記6又は7に記載の画像投射装置であって、前記最外層の膜厚をCとしたとき、0.01<A/C<1.00を満足する画像投射装置。9前記6から8のうちいずれか1つに記載の画像投射装置であって、前記最外層における液滴の接触角をθとしたとき、-0.98<cosθ<0を満足する画像投射装置。