ボイラからの排ガスを排出する煙道内に、気化した際に塩化水素とアンモニアとを生成する還元酸化助剤を供給する還元酸化助剤供給手段と、前記排ガス中の窒素酸化物をアンモニアで還元すると共に、塩化水素共存下で水銀を酸化する脱硝触媒を有する還元脱硝装置と、前記排ガス中の硫黄酸化物と前記還元脱硝装置において酸化された水銀を吸収液により吸収除去する湿式脱硫装置と、前記吸収液の酸化還元電位を計測する酸化還元電位計と、前記湿式脱硫装置から排出される脱硫排水中の固体分及び水銀と、液体分とを分離処理する固液分離手段と、前記固液分離手段で分離処理された分離液を前記湿式脱硫装置に戻す分離液返送ラインと、前記湿式脱硫装置に戻される前記分離液に酸化剤を供給する酸化剤供給手段と、前記酸化剤の供給量を調整して前記吸収液の酸化還元電位を制御する制御手段と、を有することを特徴とする排ガス処理装置。前記分離液は、前記固液分離手段で分離された脱水ろ液、又は脱水ろ液から重金属を除去された処理液であることを特徴とする請求項1に記載の排ガス処理装置。前記制御手段は、前記吸収液の酸化還元電位を100mV以上200mV以下の範囲に、又は前記吸収液中の亜硫酸イオンを0.1mmol/L以上2.0mmol/L以下に制御することを特徴とする請求項1または2に記載の排ガス処理装置。前記酸化剤と、前記脱水ろ液、又は前記処理液の何れか一方又は両方と、を混合するための混合槽と、前記混合槽で混合された混合液を前記湿式脱硫装置に戻す混合液返送ラインと、を有し、前記制御手段は、前記混合液の酸化還元電位を計測し、前記混合液に酸化剤を供給して前記混合液の酸化還元電位を100mV以上200mV以下の範囲に、又は前記混合液中の亜硫酸イオンを0.1mmol/L以上2.0mmol/L以下に制御することを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の排ガス処理装置。ボイラからの排ガスを排出する煙道内に、気化した際に塩化水素とアンモニアとを生成する還元酸化助剤を供給する還元酸化助剤供給工程と、前記排ガス中の窒素酸化物をアンモニアで還元すると共に、塩化水素共存下で水銀を酸化する脱硝触媒を有する還元脱硝工程と、前記排ガス中の硫黄酸化物と前記還元脱硝工程において酸化された水銀を吸収液により吸収除去する湿式脱硫工程と、前記吸収液の酸化還元電位を計測する酸化還元電位計測工程と、前記湿式脱硫工程から排出される脱硫排水中の固体分及び水銀と、液体分とを分離処理する固液分離工程と、前記固液分離工程で分離処理された分離液を前記湿式脱硫工程に戻す分離液返送工程と、前記湿式脱硫工程に戻される前記分離液に酸化剤を供給する酸化剤供給工程と、前記酸化剤の供給量を調整して前記吸収液の酸化還元電位を制御する制御工程と、を有することを特徴とする排ガス処理装置のORP制御方法。前記分離液は、固液分離工程で分離された脱水ろ液、又は脱水ろ液から重金属を除去された処理液であることを特徴とする請求項5に記載の排ガス処理装置のORP制御方法。前記制御工程は、前記吸収液の酸化還元電位を100mV以上200mV以下の範囲に、又は前記吸収液中の亜硫酸イオンを0.1mmol/L以上2.0mmol/L以下に制御することを特徴とする請求項5または6に記載の排ガス処理装置のORP制御方法。前記酸化剤と、前記脱水ろ液、又は前記処理液の何れか一方又は両方と、を混合するための混合工程と、前記混合工程で混合された混合液を前記湿式脱硫工程に戻す混合液返送工程と、を有し、前記制御工程は、前記混合液の酸化還元電位を計測し、前記混合液に酸化剤を供給して前記混合液の酸化還元電位を100mV以上200mV以下の範囲に、又は前記混合液中の亜硫酸イオンを0.1mmol/L以上2.0mmol/L以下に制御することを特徴とする請求項5から7の何れか1項に記載の排ガス処理装置のORP制御方法。しかしながら、特許文献1に記載の排煙脱硫装置は、スラリ吸収液に酸化剤を添加するものであるため、スラリ吸収液に含まれる還元性物質酸化阻害物質により添加した酸化剤が消費されてしまうために酸化剤を過剰に供給しなければならない、という問題がある。また、還元性物質酸化阻害物質がスラリ吸収液に含まれていると、適正な量の酸化剤を添加して酸化還元電位ORP:OxidationreductionPotentialを適した範囲内に制御することが難しい、という問題がある。そこで、排ガス中およびスラリ吸収液中に還元性物質酸化阻害物質が存在する場合においては、適正な量の酸化剤で所定の酸化状態酸化還元電位ORP値が100mV以上200mV以下を維持し、0価の水銀Hg0のガス相への再飛散を抑制して排ガス中の水銀を効率的に除去することが望まれている。本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、ボイラからの排ガス中に含まれる水銀を効率的に除去することができ、脱硫における酸化阻害を抑制できる排ガス処理装置及び排ガス処理装置のORP制御方法を提供することを目的とする。上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の請求項1に係る排ガス処理装置は、ボイラからの排ガスを排出する煙道内に、気化した際に塩化水素とアンモニアとを生成する還元酸化助剤を供給する還元酸化助剤供給手段と、前記排ガス中の窒素酸化物をアンモニアで還元すると共に、塩化水素共存下で水銀を酸化する脱硝触媒を有する還元脱硝装置と、前記排ガス中の硫黄酸化物と前記還元脱硝装置において酸化された水銀を吸収液により吸収除去する湿式脱硫装置と、前記吸収液の酸化還元電位を計測する酸化還元電位計と、前記湿式脱硫装置から排出される脱硫排水中の固体分及び水銀と、液体分とを分離処理する固液分離手段と、前記固液分離手段で分離処理された分離液を前記湿式脱硫装置に戻す分離液返送ラインと、前記湿式脱硫装置に戻される前記分離液に酸化剤を供給する酸化剤供給手段と、前記酸化剤の供給量を調整して前記吸収液の酸化還元電位を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。また、本発明の請求項2に係る排ガス処理装置は、上記請求項1において、前記分離液は、前記固液分離手段で分離された脱水ろ液、又は脱水ろ液から重金属を除去された処理液であることを特徴とする。また、本発明の請求項3に係る排ガス処理装置は、上記請求項1又は2において、前記制御手段は、前記吸収液の酸化還元電位を100mV以上200mV以下の範囲に、又は前記吸収液中の亜硫酸イオンを0.1mmol/L以上2.0mmol/L以下に制御することを特徴とする。また、本発明の請求項4に係る排ガス処理装置は、上記請求項1から3の何れかにおいて、前記酸化剤と、前記脱水ろ液、又は前記処理液の何れか一方又は両方と、を混合するための混合槽と、前記混合槽で混合された混合液を前記湿式脱硫装置に戻す混合液返送ラインと、を有し、前記制御手段は、前記混合液の酸化還元電位を計測し、前記混合液に酸化剤を供給して前記混合液の酸化還元電位を100mV以上200mV以下の範囲に、又は前記混合液中の亜硫酸イオンを0.1mmol/L以上2.0mmol/L以下に制御することを特徴とする。また、本発明の請求項5に係る排ガス処理装置のORP制御方法は、ボイラからの排ガスを排出する煙道内に、気化した際に塩化水素とアンモニアとを生成する還元酸化助剤を供給する還元酸化助剤供給工程と、前記排ガス中の窒素酸化物をアンモニアで還元すると共に、塩化水素共存下で水銀を酸化する脱硝触媒を有する還元脱硝工程と、前記排ガス中の硫黄酸化物と前記還元脱硝工程において酸化された水銀を吸収液により吸収除去する湿式脱硫工程と、前記吸収液の酸化還元電位を計測する酸化還元電位計測工程と、前記湿式脱硫工程から排出される脱硫排水中の固体分及び水銀と、液体分とを分離処理する固液分離工程と、前記固液分離工程で分離処理された分離液を前記湿式脱硫工程に戻す分離液返送工程と、前記湿式脱硫工程に戻される前記分離液に酸化剤を供給する酸化剤供給工程と、前記酸化剤の供給量を調整して前記吸収液の酸化還元電位を制御する制御工程と、を有することを特徴とする。また、本発明の請求項6に係る排ガス処理装置のORP制御方法は、上記請求項5において、前記分離液は、固液分離工程で分離された脱水ろ液、又は脱水ろ液から重金属を除去された処理液であることを特徴とする。また、本発明の請求項7に係る排ガス処理装置のORP制御方法は、上記請求項5又は6において、前記制御工程は、前記吸収液の酸化還元電位を100mV以上200mV以下の範囲に、又は前記吸収液中の亜硫酸イオンを0.1mmol/L以上2.0mmol/L以下に制御することを特徴とする。また、本発明の請求項8に係る排ガス処理装置のORP制御方法は、上記請求項5から7の何れかにおいて、前記酸化剤と、前記脱水ろ液、又は前記処理液の何れか一方又は両方と、を混合するための混合工程と、前記混合工程で混合された混合液を前記湿式脱硫工程に戻す混合液返送工程と、を有し、前記制御工程は、前記混合液の酸化還元電位を計測し、前記混合液に酸化剤を供給して前記混合液の酸化還元電位を100mV以上200mV以下の範囲に、又は前記混合液中の亜硫酸イオンを0.1mmol/L以上2.0mmol/L以下に制御することを特徴とする。本発明の排ガス処理装置及び排ガス処理装置のORP制御方法によれば、ボイラからの排ガス中に含まれる水銀を効率的に除去することができ、脱硫における酸化阻害を抑制できるという効果を奏する。以下に、本発明に係る排ガス処理装置及び排ガス処理装置のORP制御方法の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例に記載した内容により限定されるものではない。また、以下に記載した下記実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに以下に記載した下記実施例で開示した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。<排ガス処理装置>本実施例に係る排ガス処理装置の構成について説明する。図1は、本実施例に係る排ガス処理装置10Aの概略構成図である。図1に示すように、本実施例に係る排ガス処理装置10Aは、ボイラ11から発生した排ガス22中に含まれるNOx、SOx、Hgを除去する排ガス処理装置10Aである。ボイラ11から排出される排ガス22は、還元脱硝装置12、空気予熱器13、集塵器14、湿式脱硫装置15の各装置での工程を経て浄化された後、煙突16から屋外に排出される。排ガス処理装置10Aは、ボイラ11の下流の煙道23内に、還元酸化助剤32として塩化アンモニウムNH4Clを含むNH4Cl溶液を噴霧する還元酸化助剤供給手段31と、排ガス22中のNOxをNH3ガスで還元すると共に、HClガス共存下で金属水銀Hg0を酸化する脱硝触媒を有する還元脱硝装置12と、脱硝された排ガス22を熱交換する空気予熱器AH:Airheater13と、脱硝された排ガス22中の煤塵を除去する集塵器ESPElectrostaticPrecipitator14と、排ガス22中のSOx、及び還元脱硝装置12において酸化された2価のHg2を石灰石膏スラリアルカリ吸収液34を用いて除去する湿式脱硫装置15と、脱硫反応に用いた石灰石膏スラリ34を塔底部15aより抜き出して、固体分である水銀塩HgSO4等を含んだ脱水ケーキ石膏42と分離液脱水ろ液46とに固液分離する固液分離手段41と、分離された分離液脱水ろ液46を再利用するために湿式脱硫装置15に戻す分離液返送ラインL4と、再利用されない分離液脱水ろ液36中の懸濁物、重金属、水銀等44の除去、排出される分離液脱水ろ液36のpH調整などの排水処理を行う排水処理装置43と、湿式脱硫装置15に戻される分離処理された分離液脱水ろ液46に酸化剤供給手段52から酸化剤53を供給して石灰石膏スラリアルカリ吸収液34の酸化還元電位を酸化還元電位計54で計測しながら制御する制御手段51とを具備するものである。なお、図1中、V1~V2は開閉バルブを図示する。還元酸化助剤供給手段酸化還元助剤供給手段31は、還元酸化助剤32として溶液タンク内で所定濃度に調整された塩化アンモニウムNH4Clを含むNH4Cl溶液をボイラ11の後流側で還元脱硝装置12の前流側である煙道23内に供給するものである。本実施例においては、還元酸化助剤32として、一例としてNH4Clを用いているが、本実施例はこれに限定されるものではなく、還元酸化助剤32は気化した際に酸化性ガスと還元性ガスとを生成するものであれば用いることができる。また、本実施例においては、還元酸化助剤32とは、脱硝触媒上において酸化性ガスHClガス共存下で排ガス22中に含まれる金属水銀Hg0を酸化Hg0→Hg2するのに用いられる酸化助剤と、還元性ガスにより脱硝触媒で排ガス22中に含まれるNOxを還元する還元剤として機能するものをいう。本実施例では、酸化性ガスとしてHClガスが用いられ、還元性ガスとしてNH3ガスが用いられている。ボイラ11から排出される排ガス22には、還元酸化助剤供給手段31からNH4Cl溶液が供給される。還元酸化助剤供給手段31は、NH4Cl溶液を排ガス22に液体状で噴霧し、還元脱硝装置12に充填されている脱硝触媒層に充填されている脱硝触媒上で排ガス22中に含まれるNOxを還元すると共に、Hg0を酸化する。噴霧装置のノズルヘッドから煙道23内に噴霧されたNH4Cl溶液の液滴は、排ガス22の高温雰囲気温度により蒸発して気化され、微細なNH4Clの固体粒子を生成し、下記式3のように、HClとNH3とに分解し、昇華する。よって、噴霧装置から噴霧されたNH4Cl溶液は分解されて、HCl、NH3を生じ、NH3ガス、HClガスを煙道23内に供給することができる。NH4Cl→NH3HCl3NH3ガスは還元剤として作用し、HClガスは水銀塩素化剤酸化助剤として作用する。即ち、還元脱硝装置12に充填されている脱硝触媒上で、NH3ガスは下記式4のように排ガス22中のNOxと還元反応が進行し、HClガスは下記式5のように排ガス22中のHg0と酸化反応が進行する。HClガスは脱硝触媒上でNH3を還元脱硝すると共に、金属水銀Hg0を酸化Hg0→Hg2し、水溶性の塩化水銀HgCl2とした後、後流側に設置した湿式の脱硫装置15でHgCl2を水に溶解させて排ガス22中に含まれる水銀を除去する。4NO4NH3O2→4N26H2O4Hg01/2O22HCl→HgCl2H2O5また、本実施例においては、還元酸化助剤32としてNH4Clを用いているが、本実施例はこれに限定されるものではなく、還元酸化助剤32は気化した際に酸化性ガスと還元性ガスとを生成するものであれば用いることができる。NH4Cl以外の臭化アンモニウムNH4Br、ヨウ化アンモニウムNH4Iなどのハロゲン化アンモニウムを還元酸化助剤32として用い、水に溶解した溶液を用いてもよい。さらに、NH4Clとアンモニア水、または塩酸の混合液を用いてもよい。また、還元酸化助剤32は液体として説明したが、これに限ることはなく気体例えば、塩化水素ガスとアンモニアガスを供給してもよい。また、本実施例においては還元酸化助剤32に代わり、酸化助剤及び還元剤をそれぞれ供給するようにしてもよい。酸化助剤としてはHCl溶液を例示することができるが、本実施例はこれに限定されるものではなく、酸化助剤は気化した際に酸化性ガスを生成するものであれば用いることができる。例えば、臭化水素HBr、ヨウ化水素HIなどのハロゲン化水素などを挙げることができる。また、酸化助剤は液体として説明したが、これに限ることはなく気体例えば、塩化水素ガスを供給してもよい。還元剤としてはNH3溶液を例示することができるが、本実施例はこれに限定されるものではなく、還元剤は気化した際に還元性ガスを生成するものであれば用いることができる。例えば、尿素NH22COなどを挙げることができる。また、還元剤は液体として説明したが、これに限ることはなく気体例えば、アンモニアガスを供給してもよい。NH4Cl溶液、HCl溶液及びNH3溶液をボイラ11の煙道23内に供給する手段は、例えば二流体ノズル等を用いるようにすればよい。なお本実施例はこれに限定されるものではなく、通常の液体噴霧用の噴射ノズルを用いてもよい。またNH4Cl溶液、HCl溶液及びNH3溶液の供給量は任意に調整することができる。煙道23内の排ガス22の温度は、ボイラ11の燃焼条件にもよるが、例えば320°C以上420°C以下が好ましく、320°C以上380°C以下がより好ましく、350°C以上380°C以下が更に好ましい。これはこれらの温度帯において脱硝触媒上でNOxの脱硝反応と、Hgの酸化反応とを効率的に生じさせることができるためである。本実施例においては、還元酸化助剤NH4Cl溶液32と、酸化助剤HCl溶液と、還元剤NH3溶液との何れか一つ以上をボイラ11の後流側で還元脱硝装置12の前流側である煙道23内に供給することができる。例えば、排ガス22成分の含有量によって、NH4Cl溶液でHCl成分が足りない場合には、NH4Cl溶液とHCl溶液の二つを供給してもよいし、HN3成分が足りない場合には、NH4Cl溶液とNH3溶液の二つを供給してもよい。また、HCl溶液とNH3溶液の二つを供給してもよい。さらにNH4Cl溶液、HCl溶液、NH3溶液の三つを供給してもよい。また、還元酸化助剤NH4Cl溶液32の供給だけでNOx、SOx、Hgの除去が可能な場合は、還元酸化助剤NH4Cl溶液32一つを供給してもよい。よって、本実施例に係る排ガス処理装置10Aは、NH4Cl溶液、HCl溶液、NH3溶液の各々の供給量は、排ガス22中に含まれるNOx、SOx、Hgの各々の含有量を求めて、その値によって調整することができる。また図1においては、還元酸化助剤NH4Cl溶液32を、供給するような構成を示しているが、これに限ることはなく、上記の3つの溶液を混合して供給するようにしてもよい。また、HCl溶液、NH3溶液、NH4Cl溶液の他に、還元酸化助剤32を溶解させた溶液、還元剤を溶解させた溶液、酸化助剤水銀塩素化剤を溶解させた溶液を更に、複数混合させて供給するようにしてもよい。還元脱硝装置還元脱硝装置12は、排ガス22中のNOxをNH3ガスで還元すると共に、HClガス共存下で金属水銀Hg0を酸化する脱硝触媒不図示を有するものである。図1に示すように、排ガス22は、例えば、NH4Cl溶液供給手段から煙道23内に噴霧されたNH4Cl溶液の液滴から生じたHClガス、NH3ガスを含んだ後、還元脱硝装置12に送給される。還元脱硝装置12では、NH4Clが分解して生じたNH3ガスはNOxの還元脱硝用に用いられ、HClガスはHgの酸化用に用いられ、NOx及びHgを排ガス22から除去する。即ち、還元脱硝装置12に充填されている脱硝触媒層に充填されている脱硝触媒上でNH3ガスは、下記式6のようにNOxを還元脱硝し、HClガスは、下記式7のようにHgを酸化塩素化する。4NO4NH3O2→4N26H2O6Hg1/2O22HCl→HgCl2H2O7還元脱硝装置12は、脱硝触媒層を1つ備えているが、本実施例はこれに限定されるものではなく、還元脱硝装置12は、脱硝性能に応じて脱硝触媒層の数を適宜変更することができる。排ガス22は、還元脱硝装置12において排ガス22中のNOxの還元とHgの酸化がされた後、排ガス22中の熱を回収する空気予熱器13、熱回収後の排ガス22中の煤塵を除去する集塵器ESP14を通過して除塵された後、湿式脱硫装置15に送られ、脱硫処理される。集塵器14としては、慣性力集塵機、電気集塵機、遠心力集塵機、濾過式集塵機、洗浄集塵機等が挙げられるが、特に限定されない。湿式脱硫装置湿式脱硫装置15は、煤塵が除去された後の排ガス22中のSOx及び酸化された2価のHg2を湿式で除去するものである。湿式脱硫装置15では、排ガス22を装置本体15内の底部の壁面側から送給し、アルカリ吸収液として用いられる石灰石膏スラリ34を石灰石膏スラリ供給手段33からスラリ吸収液供給ラインより装置本体15内に供給し、ノズル15cより塔頂部側15bに向かって噴流させる。装置本体15内の底部側から上昇してくる排ガス22と、ノズル15cから噴流して流下する石灰石膏スラリ34とを対向して気液接触させ、排ガス22中のHgCl2、SOxは石灰石膏スラリ34中に吸収され、排ガス22から分離、除去され、排ガス22は浄化される。石灰石膏スラリ34により浄化された排ガス22は、塔頂部側15bより排出され、その後処理排ガス24として煙突16から外部以下、系外というに排出される。排ガス22の脱硫反応に用いられる石灰石膏スラリ34は、スラリ吸収液供給ラインから湿式脱硫装置15の塔底部15aに供給される。石灰石膏スラリ34は、水に石灰石粉末を溶解させた石灰スラリCaCO3と、石灰と排ガス22中のSOxが反応し更に酸化させた石膏スラリCaSO4と、水とを混合させて生成される。石灰石膏スラリ34は、例えば湿式脱硫装置15の装置本体の塔底部15aに貯留した液を揚水L1したものが用いられる。装置本体15内で排ガス22中のSOxは石灰石膏スラリ34中の石灰CaCO3と下記式8のような反応を生じる。CaCO3SO20.5H2O→CaSO30.5H2OCO28一方、排ガス22中のSOxを吸収した石灰石膏スラリ34は、装置本体15内に供給される水35と混合され、装置本体15の塔底部15aに供給される酸化剤空気53により酸化処理される。このとき、装置本体15内を流下した石灰石膏スラリ34は、水35、酸化剤空気53と下記式9のような反応を生じる。CaSO30.5H2O0.5O21.5H2O→CaSO42H2O9このようにして、排ガス22中のSOxは、湿式脱硫装置15において石膏CaSO42H2Oの形で捕獲される。この際、排ガス22中の塩化水銀HgCl2は水溶性であるので、石灰石膏スラリ34側に移行される。本実施例では、アルカリ吸収液として石灰石膏スラリ34を用いているが、排ガス22中のHgCl2を吸収できるものであれば他の溶液をアルカリ吸収液として用いることができる。石灰石膏方式以外のアルカリ吸収液としては、例えば、水酸化ナトリウム溶液、亜硫酸ナトリウム溶液、アンモニア水、水酸化マグネシウム溶液などを例示することができる。この場合、水銀の除去を促進する方法として、例えば、重金属捕集剤としてキレート剤や高分子系を混合する方法を併用することができる。石灰石膏スラリ34の供給方法は、ノズル15cより塔頂部側15bに向かって噴流させる方法に限定されるものではなく、例えばノズル15cから排ガス22と対向するように流下させてもよい。固液分離手段本実施例では、湿式脱硫装置15の後流側に固液分離手段41を設けている。固液分離手段41は、湿式脱硫装置15の塔底部15aに貯留される脱硫反応に用いた石灰石膏スラリ34を塔底部15aより抜き出しL2、固液分離処理により固体分である塩化水銀HgCl2を含んだ脱水ケーキ石膏42と、液体分である分離液脱水ろ液46とに分離するものである。固液分離手段41としては、例えばベルトフィルタ、重力式沈殿濃縮槽、液体サイクロン、遠心分離機、デカンタ型遠心沈降機などが用いられる。分離された脱水ケーキ石膏42は排ガス処理装置10Aの外部以下、系外というに排出される。また、分離液脱水ろ液46は、返送ラインL4を通って湿式脱硫装置15に返送され、再利用される。再利用されなかった残りの分離液脱水ろ液36は排水処理装置43に送給L3され排水処理される。排水処理装置本実施例では、固液分離手段41の後流側に排水処理装置43を設けている。排水処理装置43は、固液分離手段41から湿式脱硫装置15に返送されなかった残りの分離液脱水ろ液36中の懸濁物、重金属、水銀等44の除去を行うものである。除去された分離液脱水ろ液36中の懸濁物、重金属、水銀等44は系外に排出される。そして懸濁物、重金属、水銀等44が除去された処理液はpH調整などの排水処理が行われる。この排水処理された処理液は排水45として処理される。排水処理装置43における重金属、水銀等44の処理方法としては、例えば、沈殿法、イオン交換法、吸着法などを挙げることができる。沈殿法としては、例えば、重金属捕集剤として硫酸第一鉄と硫化ナトリウム混液沈殿法、キレート剤や凝集剤などを用いる方法や、水銀と選択的に反応する水銀キレートを用いる方法などを挙げることができる。イオン交換法としては、例えば、イオン交換体を用いる方法などを挙げることができる。吸着法としては、例えば、活性炭吸着、キレート樹脂等を用いる方法などを挙げることができる。本実施例は上記のような処理方法に限定されるものではない。また、上記のような排水処理や無害化処理などの最終処理は図示しない最終処理装置により行うようにしてもよい。この最終処理装置における排水処理としては、硫化物凝集沈殿処理装置、キレート剤処理装置、キレート樹脂処理装置、イオン交換樹脂処理装置、活性炭処理装置などの公知の最終処理を行う装置を適用するようにすればよい。また、図示しない無害化処理装置としては、例えばセメント固化処理装置を挙げることができる。<酸化還元電位の制御>本実施例における酸化還元電位ORPの制御は、湿式脱硫装置15で脱硫反応に用いた石灰石膏スラリ34を固液分離処理した後の分離液脱水ろ液46に酸化剤53を供給してスラリ吸収液石灰石膏スラリ34のORP制御を行うものである。スラリ吸収液34中には石膏、亜硫酸石膏、炭酸カルシウムなどの固形成分が存在する。ORP制御のために固形成分を含むスラリ吸収液34に酸化剤53を供給した場合、酸化剤53とスラリ吸収液34に含まれる還元性物質例えば、亜硫酸イオンなどが反応して酸化剤53が消費されてしまうため、酸化剤53を過剰に供給しなければ酸化還元電位を制御することが難しい。よって、適正な量の酸化剤53で酸化還元電位を制御するためにスラリ吸収液34ではなく、湿式脱硫装置15に返送されて再利用される分離液脱水ろ液46に酸化剤53を供給するようにしたものである。本実施例の排ガス処理装置10Aは、湿式脱硫装置15本体の底部のスラリ吸収液石灰石膏スラリ34の酸化還元電位ORPを制御する制御手段51と、酸化剤53を供給する酸化剤供給手段52と、酸化還元電位を測定する酸化還元電位計ORP計54とが設けられている。制御手段51は、ORP計54により湿式脱硫装置15の塔底部15aのスラリ吸収液石灰石膏スラリ34の酸化還元電位の値を測定する。測定された酸化還元電位の値に基づいて湿式脱硫装置15の塔底部15aに返送される分離液脱水ろ液46に酸化剤供給手段52から供給する酸化剤53の供給量を調整する。湿式脱硫装置15の塔底部15aに返送される分離液脱水ろ液46に供給される酸化剤53の供給量を調整することで、スラリ吸収液34のORPを制御して、湿式脱硫装置15の塔底部15aに貯留するスラリ吸収液34内に捕集されている酸化されたHgが還元Hg2→Hg0されるのを防止し、煙突16より放散されるのを防止することができる。酸化剤53としては、例えば、空気、酸素O2、過酸化水素H2O2、オゾンO3、塩素酸化合物Cl2、ClO-、マンガン化合物Mn2、Mn4、Mn7、鉄化合物Fe2、Fe3などを挙げることができる。また、酸化剤53の代わりにHg吸収液等を供給するようにしてもよい。湿式脱硫装置15内のスラリ吸収液石灰石膏スラリ34の酸化還元電位は、スラリ吸収液34からのHgの再飛散を防止するためには、例えば0mV以上600mV以下の範囲内にあることが好ましい。さらに好ましくは50mV以上300mV以下、最も好ましくは100mV以上200mV以下の範囲である。さらに最適には150mV以上200mVを下回る未満範囲である。これは酸化還元電位が上記範囲内であればスラリ吸収液34中にHgCl2として捕集されたHgが安定な領域であり、大気中への再飛散を防ぐことができるためである。また、酸化剤53が過酸化水素、オゾン、塩素酸化合物、マンガン化合物、鉄化合物のいずれか一種又はこれらの組み合わせであることにより、一般的な酸化還元電位ORP制御に用いる酸素空気よりも酸化力が強いためスラリ吸収液34中のORP計の電位を少なくとも100mV以上200mV以下の範囲とすることができる。スラリ吸収液34中のORP計の電位を少なくとも100mV以上200mV以下の範囲を維持することにより、酸化水銀Hg2の還元Hg2→Hg0を防止すること、及び、水銀の再飛散を防止することができる。酸化水銀Hg2の還元Hg2→Hg0により水銀の再飛散が問題となるのはORP計の電位が100mV以下の範囲であるため、水銀の還元を防止するにはORP計の電位が100mV以上であれば良いことになる。ORP計の電位を200mV以上とする場合には、供給する酸化剤の量、及び濃度ともに過剰となってしまい、あまり経済的ではない。また、一般的な石炭焚きボイラの排ガス22には、水銀と同様にセレンSeが含まれている場合がある。排ガス22中のセレンは湿式脱硫装置15のスラリ吸収液34に吸収され、排ガス22から除去される。スラリ吸収液34中のセレンの処理方法としては、酸化鉄による共沈法、活性炭や活性アルミナによる吸着法などを挙げることができるが、これは4価のSeIVに対する有効な処理方法であり、6価のSeVIに対する有効な処理方法ではない。一方、ORP計の電位が200mV以上の場合には、4価のSeIVが6価のSeVIに酸化が促進されてしまい、セレンSeの処理が困難な場合があるという問題がある。よって、上述した理由から、酸化還元電位が100mV以上200mVを下回る範囲にすることで、効率的経済的に水銀の還元を防止し、再飛散を低減でき、かつ、セレンSeの処理性の悪化などの副作用を防止することができる。また、本実施例では、スラリ吸収液34のORPを制御の判断の指標としているが、ORPの判断以外に、亜硫酸イオンSO32-濃度を判断の指標とするようにしてもよい。スラリ吸収液34中に含まれる亜硫酸イオンの濃度を制御する場合、亜硫酸イオンの濃度としては、例えば、0.1mmol/L以上2.0mmol/L以下、好ましくは0.5mmol/L以上1.0mmol/L以下、さらに好ましくは1.0mmol/L以下である。なお、亜硫酸イオン濃度と酸化還元電位ORPは良好な相関性を示すことが分かっているため例えば、特開平11-169657号公報、酸化還元電位ORPの制御により、亜硫酸イオンの濃度の制御も可能である。この場合、例えばORPの値150mV~200mVに対応する亜硫酸イオンSO32-の値は、略1.0mmol/Lである。従って、一点で判断する場合には、亜硫酸イオンSO32-の値は、1.0mmol/Lで判断するようにしてもよい。よって、ORPでの制御の代わりに、亜硫酸イオンSO32-の濃度を判断の指標とすることができる。本実施例における排ガス処理装置10AのORP制御は、スラリ吸収液石灰石膏スラリ34ではなく、湿式脱硫装置15に返送されて再利用される分離液脱水ろ液46に酸化剤53を供給するため、酸化剤53を過剰に供給する必要がなく、適切な量の酸化剤53によりスラリ吸収液34のORPを制御することができる。また、分離液脱水ろ液46を再利用して湿式脱硫装置15に返送するため最小限の排水で済むことから、水工業用水35を多量に補給することなく湿式脱硫装置15内で脱硫排水をリサイクルすることができる。以上説明したように、本実施例1に係る排ガス処理装置10Aは、脱硫反応に用いたスラリ吸収液石灰石膏スラリ34を固液分離処理する固液分離手段41と、分離された分離液脱水ろ液46を再利用するために湿式脱硫装置15に戻す分離液返送ラインL4と、湿式脱硫装置15に返送して再利用する分離液脱水ろ液46に酸化剤供給手段52より酸化剤53を供給してスラリ吸収液34のORP制御をする制御手段51とを有する構成としている。本実施例1に係る排ガス処理装置10Aは、硫黄酸化物SOxと還元脱硝装置12において酸化された2価のHg2を湿式脱硫装置15で除去する際に湿式脱硫装置15に返送する分離液脱水ろ液46に酸化剤53を供給してORP制御を行うようにしたことで排ガス22中に含まれるNOx、SOx、特にHgを効率的に除去することができ、脱硫における酸化阻害を抑制することができる。また、脱硫排水を固液分離した分離液脱水ろ液46を再利用して湿式脱硫装置15に返送するため湿式脱硫装置15内で脱硫排水をリサイクルすることができる。図2は、本実施例に係る排ガス処理装置10Bの概略構成図である。なお、上述した実施例1と同一の構成には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。図2に示すように、本実施例に係る排ガス処理装置10Bは、固液分離手段41で分離された分離液脱水ろ液36をさらに排水処理装置43で処理した処理液47を返送ラインL5により湿式脱硫装置15に返送して、再利用する構成となっている。また、本実施例の酸化還元電位ORPの制御は、脱水ろ液36をさらに排水処理装置43で処理した処理液47に酸化剤53を供給してスラリ吸収液34のORP制御を行うものである。排水処理装置43で処理された処理液47は、脱水ろ液36と比較してさらに重金属、水銀等が除去されており、処理液47を湿式脱硫装置15に戻して再利用する場合、湿式脱硫装置15内のスラリ吸収液石灰石膏スラリ34中に含まれる重金属、水銀等44の濃度を低減させることができる。つまりスラリ吸収液石灰石膏スラリ34中に含まれるトータルの水銀の量を減らすことができる。本実施例2における排ガス処理装置10BのORP制御によれば、スラリ吸収液34中の金属水銀濃度の低下に伴い、排ガス22側へ再飛散する金属水銀の濃度を低下させることができる。その結果として湿式脱硫装置15から排出される処理排ガス24中の水銀濃度の低下を図ることができる。また、処理液47を再利用して湿式脱硫装置15に返送するため最小限の排水で済むことから、水工業用水35を多量に補給することなく湿式脱硫装置15内で脱硫排水をリサイクルすることができる。図3は、本実施例に係る排ガス処理装置10Cの概略構成図である。なお、上述した実施例1及び実施例2と同一の構成には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。図3に示すように、本実施例に係る排ガス処理装置10Cは、固液分離手段41で処理された分離液脱水ろ液46の一部と、分離液脱水ろ液46の残り36を排水処理装置43で処理された分離液処理液47との何れか一方又は両方を返送ラインL4、L5により湿式脱硫装置15に返送して、再利用する構成となっている。また、本実施例の酸化還元電位ORPの制御は、脱水ろ液46、又は処理液47の何れか一方又は両方に酸化剤53を供給して湿式脱硫装置15のスラリ吸収液34のORP制御を行うものである。脱水ろ液46、及び処理液47への酸化剤53の供給は、スラリ吸収液34に含まれる成分の量に基づいて判断して制御するようにする。スラリ吸収液34に含まれる成分としては、例えば石膏、亜硫酸石膏、炭酸カルシウム、水銀、重金属などを挙げることができる。また、最小限の水工業用水35の補給で済むように湿式脱硫装置15から排出される脱硫排水等の水バランスを考慮することが好ましい。本実施例3における排ガス処理装置10CのORP制御によれば、スラリ吸収液34中の金属水銀濃度の低下に伴い、排ガス22側へ再飛散する金属水銀の濃度を低下させることができる。その結果として湿式脱硫装置15から排出される処理排ガス24中の水銀濃度の低下を図ることができる。また、脱水ろ液46、及び処理液47を再利用して湿式脱硫装置15に返送するため最小限の排水で済むことから、水工業用水35を多量に補給することなく湿式脱硫装置15内で脱硫排水をリサイクルすることができる。次に、図4~図6を参照して本実施例に係る排ガス処理装置10D~10Fについて説明する。図4~図6は、本実施例に係る排ガス処理装置10D~10Fの概略構成図である。なお、上述した実施例1~3と同一の構成には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。図4~図6に示すように、本実施例に係る排ガス処理装置10D~10Fは、実施例1~3の構成に加えて、固液分離手段41で処理された分離液脱水ろ液46、及び排水処理装置43で処理された処理液47を湿式脱硫装置15に返送する返送ラインL4、L5の途中に酸化剤53と、分離液脱水ろ液46、又は処理液47の何れか一方又は両方と、を混合するための混合槽48と、混合槽48の混合液49を湿式脱硫装置15に供給する供給ラインL6と、を設けた構成となっている。本実施例の酸化還元電位ORPの制御は、混合槽48に酸化剤53を供給して酸化還元電位を制御した混合液49を湿式脱硫装置15のスラリ吸収液34に供給してスラリ吸収液34のORP制御を行うものである。混合槽48で混合された混合液49の酸化還元電位は、湿式脱硫装置15でのスラリ吸収液34からのHgの再飛散を防止するためには、例えば0mV以上600mV以下の範囲内にあることが好ましい。さらに好ましくは50mV以上300mV以下、最も好ましくは100mV以上200mV以下の範囲である。さらに最適には150mV以上200mV以下の範囲である。本実施例では、湿式脱硫装置15のスラリ吸収液34に供給される混合液49の酸化還元電位が上記の範囲内であるため、例えば、酸化還元電位を100mV以上200mV以下の範囲にORP制御した場合、湿式脱硫装置15のスラリ吸収液34の酸化還元電位は200mVを下回ることになり、200mV以上となることはない。よって、混合液49の酸化還元電位が上記範囲内であれば湿式脱硫装置15のスラリ吸収液34中にHgCl2として捕集されたHgが安定な領域であり、大気中への再飛散を防ぐことができる。さらに好ましくは酸化還元電位を150mV以上200mV以下の範囲にすることで、効率的経済的に水銀の還元を防止し、再飛散を低減でき、かつ、実施例1において説明したようにセレンSeの処理性の悪化などの副作用を防止することができる。本実施例4における排ガス処理装置10D~10FのORP制御によれば、スラリ吸収液34中の金属水銀濃度の低下に伴い、排ガス22側へ再飛散する金属水銀の濃度を低下させることができる。その結果として湿式脱硫装置15から排出される処理排ガス24中の水銀濃度の低下を図ることができる。また、分離液脱水ろ液46及び処理液47を再利用して湿式脱硫装置15に返送するため最小限の排水で済むことから、水工業用水35を多量に補給することなく湿式脱硫装置15内で脱硫排水をリサイクルすることができる。また、スラリ吸収液34に供給する前の混合槽48で混合された混合液49の酸化還元電位を100mV以上200mV以下の範囲内に制御することから湿式脱硫装置15のスラリ吸収液34の酸化還元電位は200mVを下回ることになり、200mV以上となることはない。以上説明したように、本実施例に係る排ガス処理装置10は、硫黄酸化物SOxと還元脱硝装置12において酸化された2価のHg2を湿式脱硫装置15で除去する際に分離液脱水ろ液46、処理液47に酸化剤53を供給してスラリ吸収液34のORP制御を行うようにしたことで排ガス22中に含まれるNOx、SOx、特にHgを効率的に除去することができ、脱硫における酸化阻害を抑制できる。また、本実施例における排ガス処理装置10のORP制御によれば、スラリ吸収液34中の金属水銀濃度の低下に伴い、排ガス22側へ再飛散する金属水銀の濃度を低下させることができる。その結果として湿式脱硫装置15から排出される処理排ガス24中の水銀濃度の低下を図ることができる。さらに、本実施例のORP制御によれば、効率的経済的に水銀の還元を防止し、再飛散を低減でき、かつ、セレンSeの処理性の悪化などの副作用を防止することができる。また、分離液脱水ろ液46、処理液47を再利用して湿式脱硫装置15に返送するため最小限の排水で済むことから、水工業用水35を多量に補給することなく湿式脱硫装置15内で脱硫排水をリサイクルすることができる。