"メタアクリルアミド基と分子内に2つ以上の-OSi繰り返し単位を有する直鎖シロキサニル基とを含むシリコーンメタアクリルアミドモノマー。少なくとも1つの水酸基をさらに含む、請求項1に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。下記一般式aで表される、請求項2に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、R1は水素原子、またはヒドロキシ、酸、エステル、エーテル、チオールおよびこれらの組合せで置換されていてもよい1~20個の炭素原子を有するアルキル基もしくはアリール基を表し、R2はヒドロキシ、酸、エステル、エーテル、チオールおよびこれらの組合せで置換されていてもよい炭素数1~10のアルキレン基またはアリーレン基を表し、R1またはR2の少なくとも1つは水酸基を有し、R3~R9はそれぞれ独立に、いずれもフッ素、ヒドロキシ、酸、エステル、エーテル、チオールおよびこれらの組合せで置換されていてもよい、1~20個の炭素原子を有するアルキル基またはアリール基を表し、nは1~10の範囲の整数である。一般式aのRが水素原子を表す、請求項3に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。一般式aのR1が、水素原子、またはヒドロキシ置換基を有してもよい1~20個の炭素原子を有するアルキル基を表す、請求項3または4に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。R2が、プロピレン基または下記式b-CH2CHOHCH2OCH2CH2CH2-bで表される構造を表す、請求項3~5のいずれか一項に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。R1が2,3-ジヒドロキシプロピル基を表す、請求項5または6に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。R3およびR4、R5およびR6、ならびにR7およびR8の少なくとも1つがメチル基である、請求項3~7のいずれか一項に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。R9が、メチル基、エチル基およびn-ブチル基からなる群より選択される、請求項3~8のいずれか一項に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。nが1~6の整数を表し、かつ分布を有しない、請求項3~9のいずれか一項に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。請求項1~10のいずれか一項に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマーを含むモノマー混合物を重合することにより得られるポリマー。モノマー混合物が、N-モノ-ヒドロキシ置換C1-C20アルキルメタクリルアミドまたはN-モノ-ヒドロキシ置換C6-C20アリールメタクリルアミドをさらに含む、請求項11に記載のポリマー。請求項11または12に記載のポリマーを含む眼用レンズ。請求項11または12に記載のポリマーを含むコンタクトレンズ。R1が、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基またはt-ブチル基より選択され、これらの基のいずれもがヒドロキシ置換されていてもよい、請求項3~9のいずれか一項に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。R2が、非置換であってもよいしヒドロキシ、エーテル基およびそれらの組合せで置換されていてもよい炭素数1~5のアルキレン基より選択される、請求項3~9のいずれか一項に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。R2が、非置換であってもよいしヒドロキシ、エーテル基およびそれらの組合せで置換されていてもよい炭素数3のアルキレン基である、請求項3~9のいずれか一項に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。R3~R9が、1~4個の炭素原子を有するアルキル基より独立して選択される、請求項3~9のいずれか一項に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。R9が、非置換であってもよいしヒドロキシ置換されていてもよい1~4個の炭素原子を有するアルキル基である、請求項3~9のいずれか一項に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。本発明は、重合速度が速いシリコーンメタアクリルアミドモノマー、およびそれにより得られる良好な透明性および形状回復力を有するポリマーに関する。さらに本発明は以下の組成物に関する。すなわち、1メタアクリルアミド基と分子内に2つ以上の-OSi繰り返し単位を有する直鎖シロキサニル基とを含むシリコーンメタアクリルアミドモノマー。2少なくとも1つの水酸基をさらに含む、1に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。3下記一般式aで表される、2に記載のシリコーンメタアクリルアミドモノマー。Rは水素原子またはメチル基を表し、R1は水素原子、またはヒドロキシ、酸、エステル、エーテル、チオールおよびこれらの組合せで置換されていてもよい1~20個の炭素原子を有するアルキル基もしくはアリール基を表し、R2はヒドロキシ、酸、エステル、エーテル、チオールおよびこれらの組合せで置換されていてもよい炭素数1~10のアルキレン基またはアリーレン基を表し、R1またはR2の少なくとも1つは水酸基を有し、R3~R9はそれぞれ独立に、いずれもフッ素、ヒドロキシ、酸、エステル、エーテル、チオールおよびこれらの組合せで置換されていてもよい1~20個の炭素原子を有するアルキル基またはアリール基を表し、nは1~10の範囲の整数である。さらに本発明は、本明細書に記載の少なくとも1種のシリコーンメタアクリルアミドモノマーを含むモノマー混合物を重合することにより得られるポリマー、眼用レンズおよびコンタクトレンズに関する。本発明は、本発明のシリコーンメタアクリルアミドモノマーを含有するため、アクリルアミドモノマー含有量が高く、透明であり、かつ含水率と濡れ性のバランスに優れたシリコーンハイドロゲルを提供できる。このシリコーンハイドロゲルを重合することにより得られるポリマーは、各種医療器具、特にコンタクトレンズ、眼内レンズおよび人工角膜等の眼用レンズ、中でもコンタクトレンズに好適に用いられる。本発明のシリコーンメタアクリルアミドモノマーは、分子内にメタアクリルアミド基および直鎖シロキサニル基を有し、また好ましくは分子内に少なくとも1つの水酸基を有する。シロキサニル基とは少なくとも1つのSi-O-Si結合を有する基を指し、直鎖とは、メタアクリルアミド基を有するアルキル基と結合したケイ素原子から始まる単線状に結合が形成されている構造を指す。言い換えれば、直鎖シロキサニル基を有するシリコーンメタアクリルアミドモノマーとは下記一般式pで表される構造を指す。式p中、Rpはメタアクリルアミド基を有するアルキル基を表す。Ra~Rsはケイ素原子を含まない基を表し、xは2以上の整数を表す。本発明のシリコーンメタアクリルアミドと異なり、従来技術のシリコーンメタアクリルアミドはペンダント鎖内にシリコーンの少なくとも一部を含有していた。式p中、xは2以上の整数を表し、xが小さすぎると十分な酸素透過性が得られず、大きすぎると親水性モノマーとの相溶性が低下し、透明なレンズを得ることがより困難となる。したがって、いくつかの実施形態においては、xは3~7、3~6および3~5の値である。さらに、得られるポリマーの物性の再現性を高めるためにxは分布を有しないことが好ましい。本発明において、分布を有しないという言い回しは、ガスクロマトグラフィーGCFID分析計で測定できるモノマーの場合はGCで測定した際の、あるいはGCでは測定できないような高沸点のモノマーの場合は液体クロマトグラフィーLCRI分析計で測定した際の異なるxの値の種々のピークにおいて、最大ピークの比率が80以上である状態を示す。さらに本明細書において、メタアクリルとはアクリルおよびメタクリルを指し、メタアクリルアミドとはアクリルアミドおよびメタクリルアミドを指す。水酸基を有しない本発明のシリコーンメタアクリルアミドモノマーは、下記式s1、s5およびs6で表されるモノマーを含む。これらモノマーのうち、得られるシリコーンハイドロゲルの低弾性の点からは式s5およびs6で表されるモノマーがより好ましい。本発明においては、モノマーが直鎖シロキサニル基を含むと疎水性が高まって親水性物質との相溶性が劣ってしまう懸念があるが、アミド結合および水酸基を有することによって親水性を高めることができる。しかしながら、水酸基の数が多すぎるとポリマーの弾性率が望ましくないほどに高くなるため、モノマー単位当たりの水酸基の数は、一実施形態においては1~6であり、別の実施形態においては1~3、さらには1または2であり、また得られるポリマーの濡れ性低接触角が特に重要な場合は2である。さらに、直鎖シロキサニル基に加えて分岐シロキサニル基が存在すると、疎水性が望ましくないほどに高くなることがある。したがって、一実施形態においては、分岐シロキサニル基は重合成分を基準として約15重量未満の量で存在し、また他の実施形態においては、分岐シロキサニル基は存在しない。本発明のシリコーンメタアクリルアミドモノマーは、重合速度を高めるために重合性基としてメタアクリルアミド基を有するため、重合速度の上昇が期待できる。親水性物質としてアクリルアミドモノマーを用いる場合、この効果は特に顕著である。このような重合速度の上昇によって、重合を完了させて最終物質を得るために必要な硬化時間が短くなる。アクリルアミド基およびメタクリルアミド基のうち、重合速度をさらに上昇させる点ではアクリルアミド基が好ましい。上記の通り、アミド基が存在すると透明性を確保することは困難であるが、水酸基が存在すればアミド基の存在による透明性の低下を防ぐことができる。詳細は明らかではないが、水酸基は、相溶化剤としての機能に加えて濡れ性を高める機能も果たしていると考えられる。少なくとも1つの水酸基を有する本発明のシリコーンメタアクリルアミドモノマーの好ましい構造の例として、下記一般式aで表されるモノマーが挙げられる。式a中、Rは水素原子またはメチル基を表す。一実施形態においては、Rは水素原子であり、シリコーンメタアクリルアミドが速い重合速度を示す。式a中、R1は水素原子、またはヒドロキシ、酸、エステル、エーテル、チオールおよびこれらの組合せで置換されていてもよい1~20個の炭素原子を有するアルキル基もしくはアリール基を表す。一実施形態においては、R1は水素原子、またはヒドロキシ、酸もしくはエステル基で置換されていてもよい1~5個の炭素原子を有するアルキル基である。別の実施形態においては、R1は1~5個の炭素原子を有するアルキル基であり、非置換であってもよいし少なくとも1つの水酸基で置換されていてもよい。R1の例としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、i-ペンチル基、s-ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、エイコシル基、フェニル基、ナフチル基などが挙げられ、これらは全て上記の通り置換されていてもよい。一実施形態においては、R1はメチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基またはt-ブチル基より選択され、これらの基はいずれもヒドロキシ置換されていてもよい。別の実施形態においては、R1は水素原子、メチル基、エチル基より選択される。水素原子、メチル基およびエチル基によってシリコーンメタアクリルアミドモノマーに高い親水性が付与される。ヒドロキシ置換されたR1基の例としては、2-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシプロピル基、3-ヒドロキシプロピル基、2,3-ジヒドロキシプロピル基、4-ヒドロキシブチル基、2-ヒドロキシ-1,1-ビスヒドロキシメチルエチル基、2-ヒドロキシメチルフェニル基、3-ヒドロキシメチルフェニル基、4-ヒドロキシメチルフェニル基などが挙げられる。一実施形態においては、R1は2-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシプロピル基および2,3-ジヒドロキシプロピル基より選択され、また別の実施形態においては、R1は2,3-ジヒドロキシプロピル基である。2,3-ジヒドロキシプロピル基によってシリコーンメタアクリルアミドに高い親水性が付与される。さらに、シリコーンメタアクリルアミドモノマーを重合することにより得られるポリマーの透明性をさらに高めなければならない場合は、R1は水素原子でないことが好ましい。R2はヒドロキシ、酸、エステル、エーテル、チオールおよびこれらの組合せで置換されていてもよい炭素数1~10の二価のアルキレン基またはアリール基を表す。別の実施形態においては、R2は、非置換であってもよいしヒドロキシ、エーテル基およびそれらの組合せで置換されていてもよい炭素数1~5のアルキレン基より選択される。別の実施形態においては、R2は、非置換であってもよいしヒドロキシ、エーテル基およびそれらの組合せで置換されていてもよい炭素数2~5のアルキレン基より選択され、またさらに別の実施形態においては、R2は、非置換であってもよいしヒドロキシ、エーテル基およびそれらの組合せで置換されていてもよい炭素数3のアルキレン基である。さらに別の実施形態においては、R2は式d:-CH2CHOHCH2-dの基、または下記式b:-CH2CHOHCH2OCH2CH2CH2-bで表される基である。好適なR2基の例としては、そのいずれもが非置換であってもよいし少なくとも1つのヒドロキシで置換されていてもよい、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンタレン基、オクタレン基、デシレン基およびフェニレン基、下記式d:-CH2CHOHCH2-dで表される基ならびに下記式b:-CH2CHOHCH2OCH2CH2CH2-bで表される基が挙げられるこれらのアルキレン基およびアリーレン基は直鎖状であっても分岐状であってもよい。これらのうち、エチレン、プロピレン、ブチレン、式dおよびbで表される基がいくつかの実施形態において好ましく、これらを含むシリコーンメタアクリルアミドが重合して弾性率の低いポリマーが形成される。別の実施形態においては、R2はエチレン基、プロピレン基またはブチレン基より選択され、また別の実施形態においては、R2は、シリコーンメタアクリルアミドモノマーを重合することにより得られるポリマーの疎水性と低い弾性率のバランスを実現する点で、n-プロピレン基である。式a中、R3~R9はそれぞれ独立に、いずれもフッ素、ヒドロキシ、酸、エステル、エーテル、チオールおよびこれらの組合せで置換されていてもよい、1~20個の炭素原子を有するアルキル基またはアリール基を表す。R3~R8の例としては、水素原子、そのいずれもがフッ素、ヒドロキシまたはそれらの組合せで置換されていてもよい、メチル基、エチル基、プロピル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、i-ペンチル基、s-ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、エイコシル基、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。いくつかの実施形態においては1~4個の炭素原子を有するアルキル基が好ましく、また酸素透過性を高める点ではメチル基が最も好ましい。R9はそれぞれ独立に1~20個の炭素原子を有するアルキル基またはアリール基を表す。R9の例としては、水素原子、そのいずれもがフッ素、ヒドロキシまたはそれらの組合せで置換されていてもよい、メチル基、エチル基、プロピル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、i-ペンチル基、s-ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、エイコシル基、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。R9に関しては1~4個の炭素原子を有するアルキル基が好ましく、またいくつかの実施形態においては、シロキサニル基の酸素透過性と耐加水分解性のバランスを基準とすると、非置換であってもよいしヒドロキシ置換されていてもよいn-ブチル基、s-ブチル基またはt-ブチル基が最も好ましい。他の実施形態においては、R9はメチル基またはエチル基であってもよい。式a中、nは1~10の整数を表し、nが小さすぎると望ましい酸素透過性が得られない場合があり、大きすぎると親水性モノマーとの相溶性が低下し、透明なレンズを得ることがより困難になる。したがっていくつかの実施形態においては、nは2~6、2~5および2~4の値である。下限値と好ましい上限値とはどれとどれを組み合わせてもよい。さらに、得られるポリマーの物性の再現性を高めるためにnは分布を有しないことが好ましい。本発明において、分布を有しないという言い回しは、ガスクロマトグラフィーGCFID分析計で測定できるモノマーの場合はGCで測定した際の、あるいはGCでは測定できないような高沸点のモノマーの場合は液体クロマトグラフィーLCRI分析計で測定した際の異なるnの値の種々のピークにおいて、最大ピークの比率が80以上である状態を示す。本発明のシリコーンメタアクリルアミドモノマーは、有機合成化学の当業者に公知のいずれかの方法で調製できる。式aで表されるシリコーンメタアクリルアミドモノマーの調製方法の例としては、下記式a10で表される化合物の、下記式a11で表される直鎖シロキサンによるヒドロシリル化およびヒドロシリル化で得られる下記式a12で表される化合物のメタアクリル化が挙げられる。式a10中、Q1は炭素-炭素二重結合を含み、ヒドロシリル化によって式aのR2に変換される。本発明のシリコーンメタアクリルアミドモノマーの調製方法のより具体的な例の1つとして、下記式a20で表されるモノマーのための方法がある。この調製方法には、アミンによるエポキシドの開環反応、水酸基1つまたは複数の保護、ヒドロシリル化、アクリル化および水酸基1つまたは複数の脱保護が含まれる。式a20中、R、R2、R3~R9およびnは上記式aのものと同じであり、式a20中の-CH2CHOHR11は式a中におけるR1を表す。第1の工程のアミンによるエポキシドの開環反応において、下記式a21で表されるエポキシドを下記式a22で表されるアミンと反応させることによって、式a23で表される化合物を得ることができる。式a22およびa23中、Q2は炭素-炭素二重結合を含み、二重結合のヒドロシリル化によって式a20のR2に変換される。この反応のa22/a21比は、二置換および三置換のアミン副生成物を抑えるためには約1~約5が好ましく、約1.5~約30がより好ましく、約2~約15が最も好ましい。反応の温度は、アミンの揮発を避けるためには約-20°C~約100°Cが好ましく、約0°C~約50°Cがより好ましく、約20°C~約40°Cが最も好ましい。反応の時間は約1時間~約72時間である。第2の工程では、ヒドロシリル化の副反応を避けるために第1の工程からの化合物a23の水酸基1つまたは複数を保護してもよい。保護基の好適な例としてはトリメチルシリル基があるが、トリメチルシリル基は穏和な条件で保護や脱保護をすることができる。塩化トリメチルシリル、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル、N-メチル-N-トリメチルシリルアセトアミドおよびヘキサメチルジシラザン等の、いずれかの公知である水酸基のトリメチルシリル化用試薬を用いることができる。これらの中で、反応後に塩が残存しないためヘキサメチルジシラザンが好ましい。ヘキサメチルジシラザンによるトリメチルシリル化反応の温度は、約40°C~約150°C、より好ましくは約50°C~約130°C、最も好ましくは約70°C~120°Cであり、反応の時間は約0.5時間~約5時間である。次の工程の前に真空蒸留による精製を行うことが好ましい。第3の工程では、第2の工程からの下記式a24P1は保護基を表すで表される化合物を下記式a25で表される直鎖シロキサンと反応させる。式中、R3~R9およびnは式aと同じである。a25/a24の比は約0.5~約2.0、より好ましくは約0.8~約1.2、最も好ましくは0.9~1.1である。好適な触媒としては、白金02,4,6,8-テトラメチル-2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン、白金01,3-ジメチル-1,3-ジビニルジシロキサン、ヘキサクロロ白金IV酸が挙げられ、白金02,4,6,8-テトラメチル-2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン、白金01,3-ジメチル-1,3-ジビニルジシロキサンがより好ましい。触媒は、約1ppm~約10000ppm、より好ましくは約5ppm~約5000ppm、最も好ましくは約10ppm~約1000ppmの量で使用する。反応の温度は約-20°C~約180°Cが好ましく、約-10°C~約150°Cがより好ましく、約0°C~約130°Cが最も好ましい。第4の工程では、第3の工程からの下記式a26で表される化合物のアミノ基をメタアクリロイルハロゲン化物、メタアクリル酸無水物等のアクリル化剤と反応させることができる。メタアクリロイルハロゲン化物を使用する場合、反応の温度は約-80°C~約40°Cが好ましく、約-40°C~約30°Cがより好ましく、約-20°C~約10°Cが最も好ましい。モノマー合成中の重合を避けるために、阻害剤を、1ppm~5000ppm、より好ましくは10ppm~1000ppm、最も好ましくは50ppm~500ppmの量で加えてもよい。好適な阻害剤としては、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ブチル化ヒドロキシトルエン、それらの混合物などが挙げられる。この工程の結果、下記式a27で表されるモノマーが得られる。モノマーa27は、広範囲の疎水性および親水性コモノマーとの相溶性の点で好ましい。モノマーa27は重合後に脱保護してもよく、これによりモノマー混合物中における望ましい相溶性と水酸基に由来するポリマーの望ましい透明性との両方を達成できる。第5の工程では、式a27で表される化合物の水酸基1つまたは複数を脱保護する。脱保護の方法および条件はP1によって決まる。P1がトリメチルシリル基であれば、穏和な反応条件の点で、メタノール中での酢酸による脱保護が好ましい。反応の温度は約20°C~約40°Cが好ましく、反応の時間は約0.5時間~約3時間が好ましい。脱保護後、得られたシリコーンメタアクリルアミドモノマーは、カラムクロマトグラフィー、真空蒸留、分子蒸留、イオン交換樹脂による処理およびこれらの組合せを含む種々の方法で精製できる。この工程の結果、式a20で表されるシリコーンメタアクリルアミドモノマーが得られる。本発明のシリコーンメタアクリルアミドモノマーの調製方法のより具体的な別の例として、下記式a30で表されるモノマーのための方法がある。この調製方法には、アミンによるエポキシドの開環反応、水酸基1つまたは複数の保護、ヒドロシリル化、アクリル化および水酸基1つまたは複数の脱保護が含まれる。式a30中、R、R1、R3~R9およびnは上記式aのものと同じであり、式a30中の-CH2CHOHR21は式a中におけるR1を表す。第1の工程のアミンによるエポキシドの開環反応において、下記式a31で表されるエポキシドを下記式a32で表されるアミンと反応させることによって、式a33で表される化合物を得ることができる。式a31およびa33中、Q3は炭素-炭素二重結合を含み、二重結合のヒドロシリル化によって式a30のR2に変換される。この反応のa32/a31比は、二置換および三置換のアミン副生成物を抑えるためには約1~約5が好ましく、約1.5~約30がより好ましく、約2~約15が最も好ましい。反応の温度は、アミンの揮発を避けるためには約-20°C~約100°Cが好ましく、約0°C~約50°Cがより好ましく、約20°C~約40°Cが最も好ましい。反応の時間は約1時間~約72時間である。第2の工程では、ヒドロシリル化の副反応を避けるために、第1の工程からの化合物a33の水酸基1つまたは複数を保護してもよい。保護基の好適な例としてはトリメチルシリル基があるが、トリメチルシリル基は穏和な条件で保護や脱保護をすることができる。塩化トリメチルシリル、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル、N-メチル-N-トリメチルシリルアセトアミドおよびヘキサメチルジシラザン等の、いずれかの公知である水酸基のトリメチルシリル化用試薬を用いることができる。これらの中で、反応後に塩が残存しないためヘキサメチルジシラザンが好ましい。ヘキサメチルジシラザンによるトリメチルシリル化反応の温度は、約40°C~約150°C、より好ましくは約50°C~約130°C、最も好ましくは約70°C~120°Cであり、反応の時間は約0.5時間~約5時間である。次の工程の前に真空蒸留による精製を行うことが好ましい。第3の工程では、第2の工程からの下記式a34P2は保護基を表すで表される化合物を下記式a35で表される直鎖シロキサンと反応させる。式中、R3~R9およびnは式aと同じである。a35/a34の比は約0.5~約2.0、より好ましくは約0.8~約1.2、最も好ましくは0.9~1.1である。好適な触媒としては、白金02,4,6,8-テトラメチル-2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン、白金01,3-ジメチル-1,3-ジビニルジシロキサン、ヘキサクロロ白金IV酸が挙げられ、白金02,4,6,8-テトラメチル-2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン、白金01,3-ジメチル-1,3-ジビニルジシロキサンがより好ましい。触媒は、約1ppm~約10000ppm、より好ましくは約5ppm~約5000ppm、最も好ましくは約10ppm~約1000ppmの量で使用する。反応の温度は約-20°C~約180°Cが好ましく、約-10°C~約150°Cがより好ましく、約0°C~約130°Cが最も好ましい。第4の工程では、第3の工程からの下記式a36で表される化合物のアミノ基をメタアクリロイルハロゲン化物、メタアクリル酸無水物等のアクリル化剤と反応させることができる。メタアクリロイルハロゲン化物を使用する場合、反応の温度は約-80°C~約40°Cが好ましく、約-40°C~約30°Cがより好ましく、約-20°C~約10°Cが最も好ましい。モノマー合成中の重合を避けるために、阻害剤を、1ppm~5000ppm、より好ましくは10ppm~1000ppm、最も好ましくは50ppm~500ppmの量で加えてもよい。好適な阻害剤としては、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ブチル化ヒドロキシトルエン、それらの混合物などが挙げられる。この工程の結果、下記式a37で表されるモノマーが得られる。式a37で表されるモノマーは、広範囲の疎水性および親水性コモノマーとの相溶性の点で好ましい。モノマーa37は重合後に脱保護してもよく、これによりモノマー混合物中における望ましい相溶性と水酸基に由来するポリマーの望ましい透明性との両方を達成できる。第5の工程では、式a37で表される化合物の水酸基1つまたは複数を脱保護する。脱保護の方法および条件はP2によって決まる。P2がトリメチルシリル基であれば、穏和な反応条件の点で、メタノール中での酢酸による脱保護が好ましい。反応の温度は約20°C~約40°Cが好ましく、反応の時間は約0.5時間~約3時間が好ましい。脱保護後、得られたシリコーンメタアクリルアミドモノマーは、カラムクロマトグラフィー、真空蒸留、分子蒸留、イオン交換樹脂による処理およびこれらの組合せを含む種々の方法で精製できる。この工程の結果、式a30で表されるシリコーンメタアクリルアミドモノマーが得られる。本発明のポリマーは、シリコーンメタアクリルアミドモノマーを含む基本配合成分の重合によって得られる。含まれるシリコーンメタアクリルアミドモノマーの範囲が小さすぎるとポリマーの酸素透過性が不十分となることがあり、範囲が大きすぎると親水性が不十分となることがあるため、モノマー混合物中のモノマーおよびポリマー成分は30~98重量、いくつかの実施形態においては約40~約80重量、他のほとんどの実施形態においては約50~約70重量である。下限値としては、約30重量、約40重量および約50重量が挙げられる。上限値としては、約98重量、約80重量および約70重量が挙げられる。好ましい下限値と好ましい上限値とはどれとどれを組み合わせてもよい。本発明のポリマーは、少なくとも1種の親水性モノマーと少なくとも1種のシリコーンメタアクリルアミドモノマーとを共重合することにより得ることが好ましい。親水性モノマーの例としては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-2-ヒドロキシエトキシエチルメタアクリレート、グリセリルメタアクリレートおよびポリエチレングリコールモノメタアクリレート等のメタアクリレートモノマー、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル安息香酸等の重合性カルボン酸モノマー、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、N-ビニルアセトアミドおよびN-ビニル-N-メチルアセトアミド等のN-ビニルアミドモノマーならびにメタアクリルアミド、Ν,Ν-ジメチルメタアクリルアミド、N,N-ジエチルメタアクリルアミド、N-イソプロピルメタアクリルアミド、メタアクリロイルモルホリン、N-メトキシメチルメタアクリルアミド、N-ヒドロキシメチルアクリルアミド等のメタアクリルアミドモノマーなどが挙げられる。これらの親水性モノマーの中では、系全体の重合速度が上昇してシリコーンメタアクリルアミドモノマーとの共重合特性が良好になるので、いくつかの実施形態においてはメタアクリルアミドモノマーが好ましく使用される。メタアクリルアミドモノマーのうち、重合速度、および疎水性とシリコーンモノマーとの相溶性のバランスの点で、N,N-ジメチルアクリルアミドが好ましい。使用する親水性モノマーの量の範囲が大きすぎると酸素透過性が低下することがあり、小さすぎるとシリコーンハイドロゲルが硬くなりすぎることがあるため、親水性モノマーの量は、モノマー混合物中のモノマーおよびポリマー成分を基準として約1~約50重量、いくつかの実施形態においては10~40重量、また他の実施形態においては約15~約35重量である。下限値は、約1重量、約10重量および約15重量である。上限値としては、約50重量、約40重量および約35重量が挙げられる。好ましい下限値と好ましい上限値とはどれとどれを組み合わせてもよい。一実施形態においては、本発明のポリマーは、前述の親水性モノマーとは別個に、または前述の親水性モノマーに加えて、分子内に2つ以上の水酸基を有する親水性メタアクリルアミドモノマーを用いてもよい。特に、後述する親水性ポリマーを用いる場合はポリマーの透明性が悪化し易いため、親水性メタアクリルアミドモノマーを用いることが好ましい。親水性メタアクリルアミドモノマーが含まれる場合、その量は、モノマー混合物中のモノマーおよびポリマー成分を基準として約1~約50重量、より好ましくは約1~約30重量、最も好ましくは約1~約15重量である。分子内に2つ以上の水酸基を含む親水性メタアクリルアミドモノマーの例としては、下記一般式c1~c3で表されるモノマーが挙げられる。式c1~c3中、R1はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。一実施形態においては、重合速度を高める点で水素原子が好ましい。またこれらのモノマーのうち、得られるポリマーの透明性を高める点では式c1で表されるモノマーが好ましい。別の実施形態においては、本発明のポリマーは、前述の親水性モノマーとは別個に、親水性の、N-モノ-ヒドロキシ置換C1-20アルキルメタクリルアミドまたはN-モノ-ヒドロキシ置換C6-20アリールメタクリルアミドモノマーを用いてもよい。好ましくは、ポリマーは、前述の親水性モノマーに加えてこれらのモノマーのうちの1つを用いてもよい。一実施形態においては、後述する親水性ポリマーを用いる場合はポリマーの透明性が悪化し易いため、親水性メタクリルアミドモノマーを用いる。親水性メタクリルアミドモノマーの量は、モノマー混合物中のモノマーおよびポリマー成分を基準として約1~約50重量、一実施形態においては約1~約30重量、また別の実施形態においては約1~約15重量である。親水性メタクリルアミドモノマーの例としては、N-ヒドロキシメチルメタクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N-2-ヒドロキシプロピルメタクリルアミド、N-3-ヒドロキシプロピルメタクリルアミド、N-2-ヒドロキシブチルメタクリルアミド、N-3-ヒドロキシブチルメタクリルアミド、N-4-ヒドロキシブチルメタクリルアミド、N-2-ヒドロキシメチルフェニルメタクリルアミド、N-3-ヒドロキシメチルフェニルメタクリルアミド、N-4-ヒドロキシメチルフェニルメタクリルアミドなどが挙げられる。これらのアルキル基およびアリール基は直鎖状であっても分岐状であってもよい。これらのモノマーうち、得られるポリマーの透明性を高める点でN-2-ヒドロキシエチルメタクリルアミドモノマーが好ましい。一実施形態においては、本発明のポリマーを得るためのモノマー混合物は、濡れ性、タンパク質の耐付着性、脂質の耐付着性およびそれらの組合せを高めるために、モノマー混合物のモノマーおよびポリマー成分中約1~約30の分子量約1000以上の親水性ポリマーをさらに含有する。本発明のポリマーに用いられる親水性ポリマーの例としては、ポリ-N-ビニルピロリドン、ポリ-N-ビニル-2-ピペリドン、ポリ-N-ビニル-2-カプロラクタム、ポリ-N-ビニル-3-メチル-2-カプロラクタム、ポリ-N-ビニル-3-メチル-2-ピペリドン、ポリ-N-ビニル-4-メチル-2-ピペリドン、ポリ-N-ビニル-4-メチル-2-カプロラクタム、ポリ-N-ビニル-3-エチル-2-ピロリドン、ポリ-N-ビニル-4,5-ジメチル-2-ピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリ-N-ビニルホルムアミド、ポリ-N-ビニルアセトアミド、ポリ-N-メチル-N-ビニルアセトアミド、ポリ-N,N-ジメチルアクリルアミド、ポリ-N,N-ジエチルアクリルアミド、ポリ-N-イソプロピルアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリアクリルレート、ポリエチレンオキシド、ポリ-2-エチルオキサゾリン、ヘパリン、ポリサッカリド、ポリ-アクリロイルモルホリンならびにこれらの混合物およびコポリマーが挙げられる。ポリビニルピロリドン、ポリ-N,N-ジメチルアクリルアミド、ポリアクリル酸、ポリビニルアルコールならびにこれらの混合物およびコポリマーより選択される親水性ポリマーは、ある特定のシリコーンハイドロゲルの濡れ性を高めるのに特に効果的であり得る。ポリビニルピロリドンおよびポリ-N,N-ジメチルアクリルアミドによって、濡れ性とある特定の配合の重合原液との相溶性のバランスが付与される。好適な湿潤剤の例は、US2006-0072069A1、US6367929およびUS-2008-0045612A1に開示されている。本発明のシリコーンハイドロゲルに用いられる親水性ポリマーの量は、少なすぎると望ましい濡れ性が得られないことがあり、多すぎると親水性ポリマーが重合ベース液に溶解しにくくなることがあるため、その量は、重合混合物中のモノマーおよびポリマー成分の約1~約30重量、約2~約25重量および約3~約20重量である。下限値としては、約1重量、約2重量、好ましくは約3重量および約6重量が挙げられる。上限値としては、約30重量、約25重量、約20重量、約9重量が挙げられる。下限値と上限値とはどれとどれを組み合わせてもよい。本発明のシリコーンハイドロゲルに用いられる親水性ポリマーの分子量の範囲は、小さすぎると望ましい濡れ性が付与されない場合があり、大きすぎると、重合混合物への溶解性が劣る場合があり、重合混合物の粘度が高くなる。分子量は、一実施形態においては約1000ダルトン~約1000万ダルトン、他の実施形態においては約10万ダルトン~約100万ダルトン、また他の実施形態においては約20万ダルトン~約80万ダルトンである。親水性ポリマーがシリコーンハイドロゲルマトリックスと共有結合できる反応性基を少なくとも1つ含む実施形態においては、分子量は少なくとも約2000ダルトン、少なくとも約5,000ダルトンであってもよく、またいくつかの実施形態においては約5,000~約18万ダルトンまたは約5,000ダルトン~約15万ダルトンであってもよい。下限値としては、約1000ダルトン、さらに約10万ダルトン、および約20万ダルトンが挙げられる。上限値としては、約1000万ダルトン、約100万、および約80万ダルトンが挙げられる。好ましい下限値と好ましい上限値とはどれとどれを組み合わせてもよい。本発明の親水性ポリマーの分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーカラム:東ソー株式会社製TSKgelGMPWXL、移動相:水/メタノール=50/50、0.1N硝酸リチウム添加、流速:0.5mL/分、検出器:示差屈折率検出器、分子量標準試料:ポリエチレングリコールにより測定された重量平均分子量Mwで表す。本発明のポリマーの重合に用いるモノマー成分のうち、アクリルアミドモノマー含有量が少なすぎると、全体の重合速度を低下させることから、全アクリルアミドモノマーの量は、いくつかの実施形態においては約90重量以上、約95重量以上、またいくつかの実施形態においては約99重量以上である。本発明のポリマーは、反応性基を2つ以上有するモノマーを共重合成分として含むことができる。この場合、本発明のポリマーは耐溶媒性になる。重合性基を2つ以上有するモノマーの好ましい例としては、エチレングリコールメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、グリセリルトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレートおよびトリメチロールプロパントリメタアクリレート等の二官能または多官能アクリレート類、ならびにΝ,Ν’-メチレンビスアクリルアミド、Ν,Ν’-エチレンビスアクリルアミド、Ν,Ν’-プロピレンビスアクリルアミド等のビスアクリルアミド類などが挙げられる。これらのうち重合速度向上の点からはビスアクリルアミド類が好ましく、その中でもΝ,Ν’-メチレンビスアクリルアミドおよびΝ,Ν’-エチレンビスアクリルアミドが好ましい。重合性基を2つ以上を含有するモノマーの使用量の範囲は、良好なレンズ形状が得られることから、約0.1~約10重量、いくつかの実施形態においては約0.5~約8重量、および約0.8~約5重量である。下限値としては、約0.1重量、約0.5重量および約0.8重量が挙げられる。上限値としては、約10重量、約8重量および約5重量が挙げられる。好ましい下限値と好ましい上限値とはどれとどれを組み合わせてもよい。本発明のポリマーを重合により得る際には、重合を促進するために重合開始剤を加えてもよい。好適な開始剤としては、過酸化物やアゾ化合物等の熱重合開始剤、または光重合開始剤が挙げられる。いくつかの実施形態においては、重合を促進するために光開始剤を加える。熱重合を行う場合は、所望の反応温度に対して最適な分解特性を有する熱重合開始剤を選択して使用する。一般的には10時間半減期温度が約40°C~約120°Cのアゾ系開始剤または過酸化物系開始剤が好ましい。光重合開始剤の例としてはカルボニル化合物、過酸化物、アゾ化合物、硫黄化合物、ハロゲン化合物、金属塩などが挙げられる。光開始剤のより具体的な例としては、芳香族α-ヒドロキシケトン、アルコキシオキシベンゾイン、アセトフェノン、アシルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、および第三級アミンジケトン、これらの混合物などが挙げられる。光開始剤の例としては、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4-4-トリメチルペンチルホスフィンオキシドDMBAPO、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキシドイルガキュア819、2,4,6-トリメチルベンジルジフェニルホスフィンオキシドおよび2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ベンゾインメチルエーテル、およびカンファーキノンとエチル4-N,N-ジメチルアミノベンゾエートとの組合せが挙げられる。市販の可視光開始剤システムとしては、イルガキュア819、イルガキュア1700、イルガキュア1800、イルガキュア819、イルガキュア1850以上、BASF製、およびルシリンTPO開始剤BASF製が挙げられる。市販のUV光開始剤としては、ダロキュア1173およびダロキュア2959BASFが挙げられる。これらの光開始剤や使用してもよい他の光開始剤は、JVCrivelloKDietlikerによるVolumeIIIPhotoinitiatorsforFreeRadicalCationicAnionicPhotopolymerization2ndEditionGBradley編JohnWileyandSonsNewYork1998に開示されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。これらの重合開始剤は単独でもブレンドして用いてもよく、使用量はモノマー成分100重量に対しておよそ1重量である。本発明のコンタクトレンズの形成に使用される反応混合物中に存在してもよい他の成分としては、光の様々な波長、離型剤、反応性染色剤、顔料、これらの組合せ等にさらされると可逆的に変色するかまたは光を反射する染料や化合物を含む、紫外線吸収化合物、医薬化合物、栄養補助化合物、抗菌性化合物、共重合性および非重合性染料が挙げられる。本発明のポリマーを重合により得る際は、重合溶媒を使用できる。溶媒は、有機系、無機系溶媒のいずれであってもよい。本発明のデバイスの調製において有用な溶媒としては、エーテル、エステル、アルカン、ハロゲン化アルキル、シランおよびアルコールが挙げられる。本発明のための希釈剤として有用なエーテルとしてはテトラヒドロフランが挙げられる。本発明に有用なエステルの例としては酢酸エチルが挙げられる。本発明のための希釈剤として有用なハロゲン化アルキルの例としては塩化メチレンが挙げられる。本発明のための希釈剤として有用なシランの例としてはオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。本発明のための希釈剤として有用なアルコールの例としては、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、tert-ブチルアルコール、3-メチル-3-ペンタノール、イソプロパノールおよび3,7-ジメチル-3-オクタノールが挙げられる。本発明に有用な補助希釈剤は米国特許第6,020,445号に開示されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。使用できるものの例としては、水、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール、ブタノール、tert-ブタノール、tert-アミルアルコール、3,7-ジメチル-3-オクタノール、テトラヒドロリナロールおよびその他のアルコール系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレンおよび他のタイプの芳香族炭化水素系溶媒;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、石油エーテル、ケロシン、リグロイン、パラフィンおよび他のタイプの脂肪族炭化水素系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびその他のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、二酢酸エチレングリコールおよび他のエステル系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、トリエチレングリコールジアルキルエーテル、テトラエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコールブロックコポリマー、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコールランダムコポリマーおよび他のタイプのグリコールエーテル系溶媒が挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用できる。これらのうち、アルコール系溶媒およびグリコールエーテル系溶媒は得られたポリマーから溶媒を水による洗浄で容易に除去できる点で好ましい。本発明のポリマーは、単独で所望の形状に成型して使用できるが、他の材料とブレンドしてから成型することもできる。また、成形品の表面にコーティングを施すことが好ましい。本発明のポリマーの用途としては、眼用レンズ、内視鏡、カテーテル、輸液チューブ、気体輸送チューブ、ステント、シース、カフ、チューブコネクター、アクセスポート、排液バッグ、血液回路、創傷被覆材および各種の薬剤担体が挙げられるが、中でもコンタクトレンズ、眼内レンズ、人工角膜、角膜インレーおよび角膜オンレーが好適であり、コンタクトレンズが最も好適である。本発明のポリマーを成型して眼用レンズとして用いる場合、その重合方法および成形方法は次のような標準的な方法でよい。例として、まずシリコーンハイドロゲルを丸棒や板状に成形してから切削加工などによって所望の形状に仕上げる方法、モールド重合法、スピンキャスト法などが挙げられる。一例として、モールド重合法をにより本発明のポリマーから眼用レンズを作製する場合について次に説明する。モノマー組成物を、レンズ形状を有する2枚のモールドの間の空隙に注入する。次に、光重合または熱重合を行ってレンズ形状に賦型する。モールドは樹脂、ガラス、セラミックス、金属等で製作されているが、光重合の場合は光学的に透明な素材が用いられ、通常は樹脂またはガラスが使用される。ポリマーを製造する場合には、2枚の対向するモールドにより空隙が形成されており、その空隙にモノマー組成物が注入される。続いて、空隙にモノマー組成物を充填したモールドは、紫外線、可視光線またはそれらの組合せ等の活性光線を照射されるか、オーブンや液槽に入れて加熱されて、モノマーを重合する。光重合の後に加熱重合したり、逆に加熱重合後に光重合するなど、両者を併用する方法もあり得る。光重合の場合は、例えば水銀ランプや蛍光灯等の光源からの高レベルの光を含む光を短時間通常は1時間以下照射するのが一般的である。熱重合を行う場合には、室温付近から徐々に昇温し、数時間ないし数十時間かけて約60°C~約200°Cの高温まで高めていく条件が、ポリマーの光学的な均一性、品位を保持し、かつ再現性を高めるために好まれる。本発明のポリマーは、随意により種々の方法で改質することができる。用途が眼用レンズであり、かつ内部に親水性ポリマーを含まない場合はレンズの湿潤性を向上させるために改質処理を行ってもよい。具体的な改質方法としては、電磁波光を含む照射、プラズマ照射、蒸着、スパッタリングなどのケミカルベーパーデポジション処理、加熱、モールドトランスファーコーティング、電荷会合chargeassociationコーティング、塩基処理、酸処理、およびその他好適な表面処理剤による処理が挙げられ、またこれらを組み合わせて使用することもできる。これらの改質手段の中で、塩基処理と酸処理が簡単なため好ましい。塩基処理または酸処理の例としては、成型品を塩基性または酸性溶液に接触させる方法、成型品を塩基性または酸性ガスに接触させる方法が挙げられる。より具体的な方法としては、例えば塩基性または酸性溶液に成型品を浸漬する方法、成型品に塩基性もしくは酸性溶液または塩基性もしくは酸性ガスを噴霧する方法、成型品に塩基性または酸性溶液をヘラ、刷毛等で塗布する方法、成型品に塩基性または酸性溶液をスピンコートする方法、ディップコート法などを挙げることができる。最も簡便に大きな改質効果が得られる方法は、成型品を塩基性または酸性溶液に浸漬する方法である。ポリマーを塩基性または酸性溶液に浸漬する際の温度範囲は特に限定されないが、通常は、温度は約-50°C~約300°Cの範囲内である。作業性を考えれば約-10°C~約150°Cの温度範囲がより好ましく、約-5°C~約60°Cの範囲が最も好ましい。下限値は約-50°Cが好ましく、約-10°Cがより好ましく、-約5°Cがさらに好ましい。上限値は約300°C好ましく、約150°Cがより好ましく、約60°Cがさらに好ましい。好ましい下限値と好ましい上限値とはどれとどれを組み合わせてもよい。ポリマーを塩基性または酸性溶液に浸漬する最適時間は温度によっても変化するが、一般には100時間以内が好ましく、24時間以内がより好ましく、12時間以内が最も好ましい。接触時間が長すぎると、作業性および生産性が悪くなるばかりでなく、酸素透過性の低下や機械特性の低下などの悪影響が出る場合がある。塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、各種炭酸塩、各種ホウ酸塩、各種リン酸塩、アンモニア、各種アンモニウム塩、各種アミン類、ならびにポリエチレンイミンおよびポリビニルアミン等の高分子量塩基などが使用可能である。これらのうち、低価格であることおよび処理効果が大きいことからアルカリ金属水酸化物が最も好ましい。酸としては硫酸、リン酸、塩酸および硝酸等の各種無機酸;酢酸、ギ酸、安息香酸およびフェノール等の各種有機酸;ならびにポリアクリル酸およびポリスチレンスルホン酸などの各種高分子量酸が使用可能である。これらのうち、処理効果が大きく他の物性への悪影響が最小限であることから高分子量酸が最も好ましい。塩基性または酸性溶液の溶媒は、無機系、有機系溶媒のいずれであってもよい。例として、水、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリンおよびその他のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびその他の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、石油エーテル、ケロシン、リグロイン、パラフィンおよびその他の脂肪族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびその他のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、フタル酸ジオクチルおよびその他のエステル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジアルキルエーテル、ジエチルグリコールジアルキルエーテル、トリエチレングリコールジアルキルエーテル、テトラエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテルおよび他のエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ジメチルスルホキシドおよびその他の非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、その他のハロゲン系溶媒、フロン系溶媒などが挙げられる。これらのうち、経済性、取り扱いの簡便さ、および化学的安定性などの点で水が最も好ましい。溶媒は2種類以上の混合物であってもよい。本発明においては、使用する塩基性または酸性溶液は、塩基性または酸性物質および溶媒以外の成分を含んでいてもよい。ポリマーは、塩基処理または酸処理の後、洗浄により塩基性または酸性物質を除くことができる。洗浄溶媒は、無機系、有機系溶媒のいずれであってもよい。例として、水、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリンおよびその他のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびその他の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、石油エーテル、ケロシン、リグロイン、パラフィンおよびその他の脂肪族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびその他のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、フタル酸ジオクチルおよびその他のエステル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、トリエチレングリコールジアルキルエーテル、テトラエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテルおよび他のエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ジメチルスルホキシドおよびその他の非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、その他のハロゲン系溶媒、ならびにフロン系溶媒が挙げられる。洗浄溶媒は、2種類以上の混合物であってもよい。洗浄溶媒は、溶媒以外の成分、例えば無機塩類、界面活性剤および洗浄剤を含有してもよい。以上のような改質処理は、ポリマー全体に対して行ってもよく、例えば表面のみに行うなどポリマーの一部のみに行ってもよい。表面のみに改質処理を行った場合には、ポリマー全体の物性を大きく変えることなく表面の濡れ性のみを向上させることができる。本発明のポリマーの含水率の範囲が小さすぎるとシリコーンハイドロゲルは固くなるが、含水率が多すぎるとシリコーンハイドロゲル表面から水分が蒸発し装用者がレンズ装用時にレンズの乾燥感を感じることがあるため、含水率は約20~約50重量が望ましく、約25~約45重量がより好ましく、約30~約40重量が最も好ましい。下限値としては、約20重量、約25重量および約30重量が挙げられる。上限値は、約50重量、約45重量および約40重量である。好ましい下限値と好ましい上限値とはどれとどれを組み合わせてもよい。本発明のポリマーの弾性率は、用途が眼用レンズ、特にソフトコンタクトレンズの場合、快適な装用感を得るためには約200psi以下、いくつかの実施形態においては約150psi未満以下、また他の実施形態においては約100psi未満以下である。本発明のポリマーの伸度は約100以上、いくつかの実施形態においては約150以上、また他の実施形態においては約200以上である。伸度の値が高いほど、シリコーンハイドロゲルが破れにくいことを意味する。本発明のポリマーの弾性率および伸度は、最も狭い部分の幅が5mmのアレイ型サンプルを切り出した後に引張試験機で速度100mm/分で引っ張って測定する。本発明のポリマーの前進接触角は、用途が眼用レンズの場合は、約70°以下、約60°以下、またいくつかの実施形態においては約50°以下である。本発明のポリマーの前進接触角は、レンズ状サンプルから切り出した5mm幅の短冊状サンプルを動的接触角計で浸漬速度7mm/分にて測定することにより得る。本発明のポリマーの酸素透過性に関しては、酸素透過係数が50×10-11cm2/秒mLO2/mLhPa以上、またいくつかの実施形態においては50×10-11cm2/秒mLO2/mLhPa以上であることが望ましい。本発明のポリマーの酸素透過係数はポーラログラフ法により測定された値である。本発明のポリマーの透明性に関しては、用途が眼用レンズの場合、全光線透過率が約85以上、約88以上また約91以上であることが望ましい。本発明のポリマーの全光線透過率は、厚み0.14~0.15mmのレンズ状サンプルから水分を軽く拭き取り、光線透過率測定装置の光路内にサンプルをセットした後、全光線透過率を測定することにより得られる。本発明のポリマーの形状回復性を表す値は、後述する測定方法により測定する応力ゼロ時間である。応力ゼロ時間は、短いほどシリコーンハイドロゲルの形状回復性が良好であることを示し、値は1秒以下が望ましく、0.95秒以下がより好ましく、0.9秒以下が最も好ましい。本発明のポリマーの応力ゼロ時間の測定は以下の方法で行う。幅5mm長さ1.5cmの短冊状サンプルをレンズ中央付近から切り出して、動的粘弾性測定装置で測定した。チャック幅5mmにてサンプルを取り付け、速度100mm/分で5mm引っ張った後、このサンプルを同速度で初期長5mmまで戻す、というこのサイクルを3回繰り返した。サンプルを初期長まで戻す2回目の途中で応力がゼロになった時点から3回目の引っ張りサイクル開始後に応力がかかり始めた応力がゼロでなくなった時点までの時間の長さを求め、応力ゼロ時間とした。本発明のシリコーンモノマーを重合することにより得られるポリマーは、眼用レンズ、内視鏡、カテーテル、輸液チューブ、気体輸送チューブ、ステント、シース、カフ、チューブコネクター、アクセスポート、排液[バッグ]、血液回路、創傷被覆材および各種の薬剤担体等の種々の医療器具に好適であるが、コンタクトレンズ、眼内レンズおよび人工角膜に特に好適である。以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。測定方法1GC測定装置島津製作所GC-18AFID検出器キャピラリーカラムアジレント社HP-ULTRA2長さ25m×内径0.32mm×膜厚0.52マイクロメートル温度プログラム注入口温度:300°C検出器温度:320°Cカラム温度:初期温度50°C1分→10°C/分の速度で温度上昇→300°C14分間保持合計40分キャリアガスヘリウムガス110kPaサンプル調製1mLの溶媒トルエン、2-プロパノールまたは酢酸エチルで希釈した100μLの反応液をサンプルとして用いた。2全光線透過率全光線透過率は、SMカラーコンピュータ型式SM-7-CH、スガ試験機株式会社製を用いて測定した。レンズサンプルの水分を軽く拭き取り、次にサンプルを光路内にセットして測定を行った。ABCデジマチックインジケータID-C112、株式会社ミツトヨ製を用いて厚みを測定し、厚みが0.14~0.15mmであるサンプルを測定した。3弾性率伸度レンズサンプルから、最も狭い部分の幅5mmのアレイ型サンプルを切り出し、ABCデジマチックインジケータID-C112、ミツトヨ製、100mm/分を用いて厚みを測定し、次にテンシロン東洋ボールドウィン社製RTM-100、クロスヘッド速度100mm/分により、弾性率および伸度を測定した。4含水率シリコーンハイドロゲルの含水状態の重量W1、および乾燥状態の重量W2を測定し、次式により含水率を算出した。含水率=W1-W2/W1×100ただし、本発明においてシリコーンハイドロゲルの含水状態とは、シリコーンハイドロゲルを25°Cの食塩水に6時間以上浸漬した状態を意味する。また、シリコーンハイドロゲルの乾燥状態とは真空乾燥機で40°C、16時間以上乾燥を行った状態を意味する。5前進接触角レンズサンプルから、幅5mmの短冊状サンプルを切り出し、レスカ社製動的接触角計WET-6000を用いて動的接触角の測定を行った前進および後退浸漬速度7mm/分。測定値を得た後、前進接触角の値を濡れ性の指標として用いた。6応力ゼロ時間レンズ中央付近から幅5mm、長さ約1.5cmの短冊状サンプルを切り出し、株サン科学製レオメータCR-500DXを用いて測定した。チャック幅5mmにてサンプルを取り付け、速度100mm/分で5mm引っ張った後、このサンプルを同速度で初期長5mmまで戻す、というこのサイクルを3回繰り返した。サンプルを初期長まで戻す2回目の途中で応力がゼロになった時点から3回目の引っ張りサイクル開始後に応力がかかり始めた応力がゼロでなくなった時点までの時間の長さを求め、応力ゼロ時間とした。7DSCによる変換光示差走査熱量測定光DSCにより、反応性モノマー混合物RMMの硬化の熱分析を行った。対象のRMMのサンプル約10mgをDSCパンに計り入れ、空の参照パンと共に、ティーエイインスツルメント社製Q100DSCのステージの上に置いた。分析中、試料室は乾燥窒素でパージ50mL/分した。サンプルを70°Cに加熱し、LED光源約420nm、4.0mW/cm2を起動して光開始剤を活性化し、10分間の等温硬化の間に発生した熱エンタルピー、J/gを測定した。全エンタルピーは、経時的なエンタルピーのDSCトレースの面積の積分に由来し、様々な時点における変換率を計算した。合成例128~30重量パーセントアンモニア水320mLおよびメタノール48mLを500mL四つ口フラスコに入れ、機械式撹拌機、滴下漏斗、還流冷却器およびガラス栓を取り付けた。アリルグリシジルエーテル59.6g、0.522mol/メタノール48mLの溶液を、サーキュレーターにより四つ口フラスコをおよそ25°Cの温度に維持しながらおよそ9時間かけてフラスコに滴下した。GCにより反応の完了を確認した。反応完了後、反応液をエバポレーターで濃縮した。得られた液体を減圧蒸留fullvac、81°Cにより精製した。収量は31.6g46.1収率、GC純度は99.0であった。合成例2合成例1で得た化合物30.0g、0.229mol、ヘキサメチルジシラザン22.2g、0.137mol、BHT0.09gおよびサッカリン0.09gを200mL四つ口フラスコに入れ、100°Cで2時間混合した。GC測定により原料ピークの消失を確認した後で反応を終了した。減圧蒸留fullvac、72°Cによる精製後、収量は39.0g収率83.9、GC純度は99.4であった。合成例3合成例2で得た化合物38.0g、0.187mol、下記式で表される1-n-ブチル-1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-デカメチルペンタシロキサン以下、SiL5B77.2g、0.187mol、白金02,4,6,8-テトラメチル-2.4.6.8-テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体の0.104Mメチルビニルシクロシロキサン溶液アルドリッチ社製、以下、白金テトラ溶液610μLおよびトルエン370μLを200mL四つ口フラスコに入れ、次いで120°Cに加熱して混合した。2時間後、GC測定により原料が残存していることがわかったため、さらに610μLの白金テトラ溶液を加え、さらに1時間反応を続けた。GCにより原料の消失を確認した後、溶液を室温に冷却してエバポレーターで濃縮した。得られた液体を油拡散ポンプにより減圧蒸留8×10-2Pa、156°Cで精製した。収量は65.5g56.9収率、GC純度は95.0であった。合成例4合成例3で得た化合物64.0g、0.104mol、トリエチルアミン10.5g、0.104molおよびヘキサン170mLを500mL四つ口フラスコに入れ、氷浴-1~2°Cに入れたまま、塩化アクリロイル9.40g、0.104molおよびヘキサン130mLをおよそ6時間かけて滴下漏斗で滴下した。滴下が完了してから40分後にGC測定を行い、原料のほとんど全てが使い尽されたことを確認した。滴下開始1時間後、反応液を濾過し、冷蔵庫で冷却していたヘキサンで沈殿物を洗浄した。濾液に洗浄液を合わせ、分液漏斗に移し、水300mLで3回、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液300mLで2回、また塩化ナトリウムの飽和水溶液300mLで2回洗浄した。硫酸ナトリウムで有機層を一晩乾燥させ、濾過し、次いでエバポレーターで濃縮した。得られた粗生成物の収量は58.7gであった84.3粗収率。実施例1合成例4で得た粗生成物57.0g、0.085mol、メタノール171gおよび酢酸28.5gを300mLナスフラスコに入れ、40°Cでおよそ1時間混合した。原料が使い尽されたことをTLCで確認し、エバポレーターで濃縮後、350mLのヘキサンを加え、溶液を分液漏斗に移した。溶液を、水250mL、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液250mLおよび塩化ナトリウムの飽和水溶液250mLで各2回ずつ洗浄した。硫酸ナトリウムで有機層を一晩乾燥させ、濾過し、次いでエバポレーターで濃縮した。粗生成物の収量は50.83gであった。23.63gの粗生成物をカラムで精製した。使用したシリカゲルの重量は粗生成物の重量のおよそ5倍120gであった。標的スポットが取り除かれるまでヘキサン/酢酸エチル=1/1を用いてTLCで溶出を行った。回収範囲の両端にて数画分をGCにより測定し、全副生成物ピークが1未満である画分の範囲を測定して回収した。6.0mgのBHTと2.0mgのMEHQを加えて濃縮した後、真空ポンプで減圧しながら60°Cでさらに1時間混合して残留溶媒を除去した。NMRにより、溶媒ピークは観察されないことを確認した。収量は20.14g85.2収率、GC純度は95.2であった。合成例5アリルアミン112.4mL、85.54g、1.5molを四つ口フラスコに入れ、還流冷却器、温度計、滴下漏斗および機械式撹拌機を取り付けた。グリシドール2,3-エポキシ-1-プロパノール、37.8g、0.5molを滴下漏斗に加え、30°Cで混合しながらおよそ10分間かけて滴下した。反応の進行を確認するため、滴下が完了した時点から開始して1時間毎にGC測定を行った。滴下が完了してから5時間後、グリシドールピークが1以下になり反応が終了したことを確認した。溶液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留で精製したfullvac、沸点52°C。収量は27.43g41.8収率、GC純度は98.7であった。合成例6合成例5で得た化合物23.2g、0.177mol、ヘキサメチルジシラザン33.89g、0.210mol、BHT72mgおよびサッカリン70mgを四つ口フラスコに入れ、還流冷却器、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。100°Cで2時間反応を行い、反応物が減少したかまたは使い尽されたことをGCで確認してから反応を終了した。反応液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留で精製したfullvac、沸点77°C。収量は36.31g70.2収率、GC純度は98.4であった。合成例7合成例6で得た化合物35.0g、0.127mol、SiL5B52.4g、0.127mol、トルエン263mLおよび白金テトラ溶液350μLを1L三つ口フラスコに入れ、還流冷却器、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。120°Cで反応を行い、その間1時間毎にGC測定を行った。4時間後に原料が残存していたため、さらに350μLの白金テトラ溶液を加えた。さらに4時間溶液を加熱して攪拌した後、反応を終了した。反応液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留で精製した8×10-2Pa、176°C。収量は58.22g66.6収率、GC純度は96.2であった。合成例8合成例7で得た化合物55g、0.080mol、トリエチルアミン8.08g、0.080molおよび酢酸エチル130mLを1L三つ口フラスコに入れ、滴下漏斗、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。塩化アクリロイル7.23g、0.080molおよび酢酸エチル100mLを滴下漏斗に入れた。塩を含んだ氷浴に三つ口フラスコを入れ、内部温度が0°Cまで低下するのを待ってから滴下を開始した。内部温度を-2~3°Cに維持しながらおよそ3時間かけて滴下を行い、滴下完了後反応をさらに1時間続けてから終了した。次いで、冷蔵庫で冷やしておいた少量の冷酢酸エチルで洗浄しながら溶液を濾過した。濾液を分液漏斗に移し、400mLのヘキサンを加えた。この溶液を、水200mLで2回、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液200mLで2回、および塩化ナトリウムの飽和水溶液200mLで2回洗浄した。無水硫酸ナトリウムを有機層に加えて一晩乾燥させた。濾過後、この溶液をエバポレーターで濃縮し粗生成物を得た。粗収率は54.6g、GC純度は88.5であった。実施例2合成例8で得た粗生成物54.6g、0.074mol、3部重量比のメタノール163.8gおよび1/2部重量比の酢酸27.3gを粗生成物の各部に対して加えた後、溶液を40°Cで1時間混合した。反応後、溶液をエバポレーターで濃縮した。得られた液体70.5gを分液漏斗に移し、4部のヘキサン体積比280gを1部の液体に加えた。この溶液を水210mL、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液200mLおよび塩化ナトリウムの飽和水溶液250mLで各2回ずつ洗浄し、次いで有機層を無水硫酸ナトリウムにより一晩乾燥させた。溶液をエバポレーターで濃縮し、35.03gの粗生成物を得た。35gの粗生成物をカラムで精製した。使用したシリカゲルの量は粗生成物の重量の5倍175gであった。溶媒に関しては、不純物が出るまでヘキサン/酢酸エチル=5/1を使用し2.48L、不純物が出たことを確認した後、ヘキサン/酢酸エチル=1/31.6Lで目的物を溶出した。目的物を含有する画分の範囲をTLCで確認し、この範囲の両端部の数画分をGCにより測定し、副生成物が1未満の画分のみを回収した。6.0mgのBHTと2.0mgのMEHQを加え、この溶液をエバポレーターで濃縮した。残存溶媒を除去するため、真空ポンプで1時間減圧しながら溶液を60°Cで攪拌し、NMRにより、残留溶媒ピークは観察されないことを確認した。収量は18.69g43収率、GC純度は95.2であった。合成例940重量メチルアミン水溶液233g、3.0molおよびメタノール35mLを500mL四つ口フラスコに入れ、機械式撹拌機、滴下漏斗、還流冷却器およびガラス栓を取り付けた。アリルグリシジルエーテル34.2g、0.3mol/メタノール35mLの溶液を、サーキュレーターにより四つ口フラスコをおよそ25°Cの温度に維持しながらおよそ5時間かけてフラスコに滴下した。GCにより反応の完了を確認した。反応完了後、反応液をエバポレーターで濃縮した。得られた液体を減圧蒸留fullvac、76°Cにより精製した。収量は35.3g81収率、GC純度は99.2であった。合成例10合成例9で得た化合物16.6g、0.114mol、ヘキサメチルジシラザン11.2g、0.069mol、BHT0.05gおよびサッカリン0.05gを100mL三つ口フラスコに入れ、100°Cで3時間混合した。GC測定により原料ピークの消失を確認した後で反応を終了した。減圧蒸留fullvac、68°Cによる精製後、収量は22.31g90収率、GC純度は99であった。合成例11合成例10で得た化合物5.0g、0.023mol、SiL5B9.50g、0.023mol、トルエン46mLおよび白金テトラ溶液80μLを300mL三つ口フラスコに入れ、還流冷却器、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。50°Cで1.5時間反応を行った。反応液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留で精製した0.02mmHg、135°C。収量は8.3g57収率、GC純度は93であった。合成例12合成例11で得た化合物20.0g、0.032mol、トリエチルアミン3.21g、0.032molおよびヘキサン54mLを200mL三つ口フラスコに入れ、氷浴-10~-5°Cに入れたまま、塩化アクリロイル3.1mL、0.038molおよびヘキサン32mLをおよそ2時間かけて滴下漏斗で滴下した。滴下が完了してから40分後にGC測定を行い、原料のほとんど全てが使い尽されたことを確認した。滴下開始1時間後、反応液を濾過し、冷蔵庫で冷却していたヘキサンで沈殿物を洗浄した。濾液に洗浄液を合わせ、分液漏斗に移し、水50mLで3回、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液50mLで2回、また塩化ナトリウムの飽和水溶液50mLで2回洗浄した。硫酸ナトリウムで有機層を一晩乾燥させ、濾過し、次いでエバポレーターで濃縮した。得られた粗生成物の収量は21.6gであった94粗収率。実施例3合成例12で得た粗生成物12.0g、0.017mol、メタノール36gおよび酢酸5mLを100mLナスフラスコに入れ、40°Cでおよそ1時間混合した。原料が使い尽されたことをTLCで確認し、エバポレーターで濃縮後、350mLのヘキサンを加え、溶液を分液漏斗に移した。溶液を、水40mL、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液40mLおよび塩化ナトリウムの飽和水溶液40mLで各2回ずつ洗浄した。硫酸ナトリウムで有機層を一晩乾燥させ、濾過し、次いでエバポレーターで濃縮した。粗生成物の収量は11.13gであった。10.00gの粗生成物をカラムで精製した。使用したシリカゲルの重量は粗生成物の重量のおよそ5倍50gであった。標的スポットが取り除かれるまでヘキサン/酢酸エチル=1/3を用いてTLCで溶出を行った。回収範囲の両端にて数画分をGCにより測定し、全副生成物ピークが1未満である画分の範囲を測定して回収した。3.0mgのBHTと1.0mgのMEHQを加えて濃縮した後、真空ポンプで減圧しながら60°Cでさらに1時間混合して残留溶媒を除去した。NMRにより、溶媒ピークは観察されないことを確認した。収量は11.4g78収率、GC純度は98であった。合成例13ジアリルアミン2.49mL、0.02mol、SiL5B24.76g、0.06mol、トルエン40mLおよび白金テトラ溶液0.07mLを200mL三つ口フラスコに入れ、還流冷却器、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。100°Cで3時間反応を行った。反応液をエバポレーターで濃縮した後、低沸点不純物を減圧下0.02mmHg、97°Cで留去した。収量は14.46g74収率であった。実施例4合成例13で得た化合物9.2g、0.01mol、トリエチルアミン1.8mL、0.013molおよびヘキサン15mLを100mL三つ口フラスコに入れ、シリンジで塩化アクリロイル1.05mL、0.013molを滴下した。滴下が完了してから40分後にGC測定を行い、原料のほとんど全てが使い尽されたことを確認した。滴下開始2時間後、反応液を濾過し、冷蔵庫で冷却していたヘキサンで沈殿物を洗浄した。濾液に洗浄液を合わせ、分液漏斗に移し、水50mLで3回、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液50mLで2回、また塩化ナトリウムの飽和水溶液50mLで2回洗浄した。硫酸ナトリウムで有機層を一晩乾燥させ、濾過し、次いでエバポレーターで濃縮した。得られた粗生成物の収量は9.99gであった。3.1gの粗生成物を分取GPCで精製し、2.06gの、下記式s1で表される精製シリコーンアクリルアミドモノマーを得た。合成例14アリルアミン5.0g、87mmol、SiL5B39.50g、95.7mmol、トルエン100mLおよび白金テトラ溶液100μLを300mL四つ口フラスコに入れ、還流冷却器、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。110°Cで3時間反応を行った。反応液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留で精製した0.17mmHg、118°C。収量は32.93g81収率、GC純度は96であった。実施例5合成例14で得た化合物4.67g、0.01mol、トリエチルアミン1.8mL、0.013molおよびヘキサン15mLを100mL三つ口フラスコに入れ、氷浴-10~-5°Cに入れたまま、塩化アクリロイル1.05mL、0.013molおよびヘキサン32mLをシリンジで滴下した。滴下が完了してから40分後にGC測定を行い、原料のほとんど全てが使い尽されたことを確認した。滴下開始2時間後、反応液を濾過し、冷蔵庫で冷却していたヘキサンで沈殿物を洗浄した。濾液に洗浄液を合わせ、分液漏斗に移し、水50mLで3回、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液50mLで2回、また塩化ナトリウムの飽和水溶液50mLで2回洗浄した。硫酸ナトリウムで有機層を一晩乾燥させ、濾過し、次いでエバポレーターで濃縮した。得られた粗生成物の収量は5.31gであった。粗生成物をカラムクロマトグラフィー溶離液としてヘキサン/酢酸エチル=4/1~2/1、収率:31.3で精製した。合成例15N-メチル-N-アリルアミン5.11g、71.8mmol、SiL5B24.7g、60mmol、トルエン120mLおよび白金テトラ溶液100μLを300mL四つ口フラスコに入れ、還流冷却器、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。110°Cで2時間反応を行った。反応液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留で精製した0.17mmHg、115°C。収量は20.34g70収率、GC純度は96であった。実施例6合成例15で得た化合物4.84g、0.01mol、トリエチルアミン1.8mL、0.013molおよびヘキサン15mLを100mL三つ口フラスコに入れ、氷浴-10~-5°Cに入れたまま、シリンジで塩化アクリロイル1.05mL、0.013molを滴下した。滴下が完了してから40分後にGC測定を行い、原料のほとんど全てが使い尽されたことを確認した。滴下開始2時間後、反応液を濾過し、冷蔵庫で冷却していたヘキサンで沈殿物を洗浄した。濾液に洗浄液を合わせ、分液漏斗に移し、水50mLで3回、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液50mLで2回、また塩化ナトリウムの飽和水溶液50mLで2回洗浄した。硫酸ナトリウムで有機層を一晩乾燥させ、濾過し、次いでエバポレーターで濃縮した。得られた粗生成物の収量は5.45gであった。粗生成物をカラムクロマトグラフィー溶離液としてヘキサン/酢酸エチル=5/1~3/1で精製し、1.06gの精製シリコーンアクリルアミドモノマーを得た。実施例7実施例1で得た、下記式s2で表されるシリコーンモノマー0.925g、56.06重量、Ν,Ν-ジメチルアクリルアミド0.510g、30.91重量、下記式h1で表される親水性アクリルアミドモノマー0.017g、1重量、ポリビニルピロリドンPVPK90、0.132g、8重量、Ν,Ν’-メチレンビスアクリルアミドMBA、0.018g、1.10重量、UV吸収剤2-2’-ヒドロキシ-5’-メタクリロイルオキシエチルフェニル-2H-ベンゾトリアゾール0.036g、2.20重量、3-メチル-3-ペンタノール3M3P、1.350gおよび光開始剤イルガキュア8190.004g、0.25重量をブレンドして混合した。得られたモノマー混合物をアルゴン環境下で脱気した。窒素ガス環境下のグローブボックス中で、レンズ形状を有する透明樹脂フロントカーブ側:ゼオノア、ベースカーブ側:ポリプロピレン製モールドの空隙にモノマー混合物を注入し、光照射フィリップスTL03、1.6mW/cm2、15分間して硬化させることによりレンズを得た。得られたレンズをモールドから剥離し、70体積比2-プロパノールIPA水溶液に室温で70分間浸漬することにより残存モノマーなどの不純物を抽出した。水中に10分間浸漬後、サンプルを5mLバイアル瓶中のホウ酸緩衝液pH7.1~7.3中に沈め、バイアル瓶をオートクレーブに入れて120°Cで30分間煮沸した。得られたレンズサンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、透明で良好な物性バランスを有するレンズが得られた。実施例8シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに実施例2で得た下記式s3のシリコーンアクリルアミドモノマーを用いる以外は、実施例7と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した。得られたレンズサンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、透明で良好な物性バランスを有するレンズが得られた。実施例9シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに実施例3で得た下記式s4のシリコーンアクリルアミドモノマーを用い、モノマー混合物の成分が以下の通りであること以外は、実施例7と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した:シリコーンアクリルアミドモノマーs40.925g、56.06重量、Ν,Ν-ジメチルアクリルアミド0.552g、33.27重量、親水性アクリルアミドモノマーh10.116g、7重量、Ν,Ν’-メチレンビスアクリルアミドMBA、0.018g、1.10重量、UV吸収剤2-2’-ヒドロキシ-5’-メタクリロイルオキシエチルフェニル-2H-ベンゾトリアゾール0.036g、2.20重量、3-メチル-3-ペンタノール3M3P、1.350gおよび光開始剤イルガキュア8190.004g、0.25重量。得られたレンズサンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、比較的透明であり、良好な機械特性バランスを有するレンズが得られた。接触角により測定した濡れ性は、一般的に望まれているものよりも高かった。実施例10モノマー混合物の成分が以下の通りであること以外は、実施例7と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した:シリコーンアクリルアミドモノマーs21.21g、55重量、Ν,Ν-ジメチルアクリルアミド0.78g、35.53重量、ポリビニルピロリドンPVPK90、0.088g、4重量、テトラエチレングリコールジメタクリレートTEGMA、0.066g、3重量、UV吸収剤2-2’-ヒドロキシ-5’-メタクリロイルオキシエチルフェニル-2H-ベンゾトリアゾール0.048g、2.20重量、3-メチル-3-ペンタノール3M3P、1.80gおよび光開始剤イルガキュア8190.006g、0.25重量。得られたレンズサンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、レンズが得られた。含水率および機械特性は良好であったが、全レンズ透過率は低く、望ましくないほどに曇ったレンズを示しており、接触角は一般的に望まれているものよりも高かった。実施例11シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに式s3で表されるシリコーンアクリルアミドモノマーを用いる以外は、実施例10と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した。得られたレンズサンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、レンズが得られた。含水率および機械特性は良好望ましい低弾性などであり、全レンズ透過率は実施例10に比べて向上していた。接触角は一般的に望まれているものよりも高かった。実施例12モノマー混合物の成分が以下の通りであること以外は、実施例7と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した:シリコーンアクリルアミドモノマーs21.21g、55重量、Ν,Ν-ジメチルアクリルアミド0.43g、19.53重量、2-ヒドロキシエチルメタクリレート0.176g、8重量、ポリビニルピロリドンPVPK90、0.264g、12重量、テトラエチレングリコールジメタクリレートTEGMA、0.066g、3重量、UV吸収剤2-2’-ヒドロキシ-5’-メタクリロイルオキシエチルフェニル-2H-ベンゾトリアゾール0.048g、2.20重量、3-メチル-3-ペンタノール3M3P、1.80gおよび光開始剤イルガキュア8190.006g、0.25重量。得られたレンズサンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、透明で良好な物性バランスを有するレンズが得られた。実施例13シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに式s3で表されるシリコーンアクリルアミドモノマーを用いる以外は、実施例12と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した。得られたレンズサンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、透明で良好な物性バランスを有するレンズが得られた。実施例14シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに実施例18で得た下記式s5のシリコーンアクリルアミドモノマーを用い、モノマー混合物の成分が以下の通りであること以外は、実施例7と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した:シリコーンアクリルアミドモノマーs50.925g、56.06重量、Ν,Ν-ジメチルアクリルアミド0.419g、25.27重量、ポリビニルピロリドンPVPK90、0.132g、8重量、親水性アクリルアミドモノマーh10.116g、7重量、Ν,Ν’-メチレンビスアクリルアミドMBA、0.018g、1.10重量、UV吸収剤2-2’-ヒドロキシ-5’-メタクリロイルオキシエチルフェニル-2H-ベンゾトリアゾール0.036g、2.20重量、t-アミルアルコールTAA、1.350gおよび光開始剤イルガキュア8190.004g、0.25重量。得られたレンズサンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、望ましい弾性率を含む良好な物性バランスを有するレンズが得られた。全レンズ透過率は低く、望ましくないほどに曇ったレンズを示していた。実施例15シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに実施例18で得た下記式s6のシリコーンアクリルアミドモノマーを用い、モノマー混合物の成分が以下の通りであること以外は、実施例7と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した:シリコーンアクリルアミドモノマーs60.925g、56.06重量、Ν,Ν-ジメチルアクリルアミド0.419g、25.27重量、ポリビニルピロリドンPVPK90、0.132g、8重量、親水性アクリルアミドモノマーh10.116g、7重量、Ν,Ν’-メチレンビスアクリルアミドMBA、0.018g、1.10重量、UV吸収剤2-2’-ヒドロキシ-5’-メタクリロイルオキシエチルフェニル-2H-ベンゾトリアゾール0.036g、2.20重量、t-アミルアルコールTAA、1.350gおよび光開始剤イルガキュア8190.004g、0.25重量。得られたレンズサンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、望ましい弾性率を含む良好な物性バランスを有するレンズが得られた。全レンズ透過率は低く、望ましくないほどに曇ったレンズを示していた。比較例1シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに下記式t1のシリコーンアクリルアミドモノマーWO05/078482A1の実施例1および2に従って調製を用いる以外は、実施例7と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した。得られたレンズ状サンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、応力ゼロ時間は1秒を超えており形状回復性が十分でなかったことを示している。比較例2シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに下記式t2のシリコーンアクリルアミドモノマーWO05/078482A1の実施例5および6に従って調製を用いる以外は、実施例7と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した。得られたレンズ状サンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、応力ゼロ時間は1秒を超えており形状回復性が十分でなかったことを示している。合成例16合成例6と同じ方法で得た化合物20.0g、0.072mol、ビストリメチルシロキシメチルシラン16g、0.072mol、トルエン150mLおよび白金テトラ溶液200μLを500mL三つ口フラスコに入れ、還流冷却器、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。120°Cで2時間反応を行った。反応液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留で精製したfullvac、160°C。収量は21.13g58.7収率、GC純度は95.7であった。合成例17合成例16で得た化合物20g、0.040mol、トリエチルアミン8.14g、0.040molおよび酢酸エチル130mLを500mL三つ口フラスコに入れ、滴下漏斗、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。塩化アクリロイル7.28g、0.040molおよび酢酸エチル100mLを滴下漏斗に入れた。塩を含んだ氷浴に三つ口フラスコを入れ、内部温度が0°Cまで低下するのを待ってから滴下を開始した。内部温度を-2~3°Cに維持しながらおよそ2時間かけて滴下を行い、滴下完了後反応をさらに1時間続けてから終了した。次いで、冷蔵庫で冷やしておいた少量の冷酢酸エチルで洗浄しながら溶液を濾過した。濾液を分液漏斗に移し、400mLのヘキサンを加えた。この溶液を、水180mLで2回、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液180mLで2回、および塩化ナトリウムの飽和水溶液180mLで2回洗浄した。無水硫酸ナトリウムを有機層に加えて一晩乾燥させた。濾過後、この溶液をエバポレーターで濃縮し粗生成物を得た。粗収率は27.5g125粗収率であった。合成例18合成例17で得た粗生成物26.5g、0.048mol、3部重量比のメタノール79.5gおよび1/2部重量比の酢酸13.3gを粗生成物の各部に対して加えた後、溶液を40°Cで1時間混合した。反応後、溶液をエバポレーターで濃縮した。得られた液体48.5gを分液漏斗に移し、4部のヘキサン体積比190gを1部の液体に加えた。この溶液を水140mL、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液140mLおよび塩化ナトリウムの飽和水溶液170mLで各2回ずつ洗浄し、次いで有機層を無水硫酸ナトリウムにより一晩乾燥させた。溶液をエバポレーターで濃縮し、16.0gの粗生成物を得た。16.0gの粗生成物をカラムで精製した。使用したシリカゲルの量は粗生成物の重量の5倍80gであった。溶媒に関しては、不純物が出るまでヘキサン/酢酸エチル=2/1を使用し500mL、不純物が出たことを確認した後、ヘキサン/酢酸エチル=1/2750mLで目的物を溶出した。目的物を含有する画分の範囲をTLCで確認し、この範囲の両端部の数画分をGCにより測定し、副生成物が1未満の画分のみを回収した。15mgのBHTを加え、この溶液をエバポレーターで濃縮した。残存溶媒を除去するため、真空ポンプで1時間減圧しながら溶液を60°Cで攪拌し、NMRにより、残留溶媒ピークは観察されないことを確認した。収量は7.5g38.3収率、GC純度は97.7であった。合成例193-アミノプロピルトリストリメチルシロキシシラン49g、0.14molを三つ口フラスコに入れ、還流冷却器、温度計および滴下漏斗を取り付けた。グリシドール2,3-エポキシ-1-プロパノール、3.5g、0.05molを滴下漏斗に加え、30°Cで混合しながらおよそ40分間かけて滴下した。反応の進行を確認するため、滴下が完了した時点から開始して1時間毎にGC測定を行った。滴下が完了してから20時間後、グリシドールピークが1以下になり反応が終了したことを確認した。溶液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留で精製したfullvac、沸点190°C。収量は13.65g67.8収率、GC純度は92.8であった。合成例20合成例19で得た化合物12.5g、0.03mol、ヘキサメチルジシラザン10g、0.06molおよびサッカリン250mgを三つ口フラスコに入れ、還流冷却器、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。100°Cで2時間反応を行い、反応物が減少したかまたは使い尽されたことをGCで確認してから反応を終了した。反応液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留で精製したfullvac、沸点170°C。収量は13.3g76収率、GC純度は89.5であった。合成例21合成例20で得た化合物13.0g、0.023mol、トリエチルアミン2.33g、0.023molおよび酢酸エチル50mLを1L三つ口フラスコに入れ、滴下漏斗、温度計および機械式撹拌機を取り付けた。塩化アクリロイル2.1g、0.023molおよび酢酸エチル10mLを滴下漏斗に入れた。塩を含んだ氷浴に三つ口フラスコを入れ、内部温度が0°Cまで低下するのを待ってから滴下を開始した。内部温度を-2~3°Cに維持しながらおよそ1時間かけて滴下を行い、滴下完了後反応をさらに1時間続けてから終了した。次いで、冷蔵庫で冷やしておいた少量の冷酢酸エチルで洗浄しながら溶液を濾過した。濾液を分液漏斗に移し、60mLのヘキサンを加えた。この溶液を、水50mLで2回、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液50mLで2回、および塩化ナトリウムの飽和水溶液50mLで2回洗浄した。無水硫酸ナトリウムを有機層に加えて一晩乾燥させた。濾過後、この溶液をエバポレーターで濃縮し粗生成物を得た。粗収率は14.2g、GC純度は86.1であった。合成例22合成例21で得た粗生成物14.0g、3部重量比のメタノール42.0gおよび1/2部重量比の酢酸7.0gを粗生成物の各部に対して加えた後、溶液を40°Cで4時間混合した。反応後、溶液をエバポレーターで濃縮した。得られた液体16.95gを分液漏斗に移し、4部のヘキサン体積比68.0gを1部の液体に加えた。この溶液を水50mL、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液50mLおよび塩化ナトリウムの飽和水溶液50mLで各2回ずつ洗浄し、次いで有機層を無水硫酸ナトリウムにより一晩乾燥させた。溶液をエバポレーターで濃縮し、9.95gの粗生成物を得た。9.5gの粗生成物をカラムで精製した。使用したシリカゲルの量は粗生成物の重量の5倍50gであった。溶媒に関しては、不純物が出るまでヘキサン/酢酸エチル=2/1を使用し300mL、不純物が出たことを確認した後、ヘキサン/酢酸エチル=1/1500mLで目的物を溶出した。目的物を含有する画分の範囲をTLCで確認し、この範囲の両端部の数画分をGCにより測定し、副生成物が1未満の画分のみを回収した。4.8mgのBHTを加え、この溶液をエバポレーターで濃縮した。残存溶媒を除去するため、真空ポンプで1時間減圧しながら溶液を60°Cで攪拌し、NMRにより、残留溶媒ピークは観察されないことを確認した。収量は3.14g28収率、GC純度は97.8であった。比較例3シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに合成例16で得た下記式t3のシリコーンアクリルアミドモノマーを用いる以外は、実施例7と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した。得られたレンズ状サンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、応力ゼロ時間は1秒を超えており形状回復性が十分でなかったことを示している。比較例4シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに合成例17で得た下記式t4を用いる以外は、実施例7と同様の方法でレンズ状サンプルを作製した。得られたレンズ状サンプルの全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表1に示す通りであり、応力ゼロ時間は1秒を超えており形状回復性が十分でなかったことを示している。実施例16~19非シリコーン系アクリルアミドモノマーとして、式h1で表されるモノマーの代わりに式h5で表される2-ヒドロキシエチルメタクリルアミドHEMAA、モノマーポリマーダジャックラボラトリーズ社ペンシルベニア州より購入を用い、シリコーンモノマーならびにシリコーンモノマー、非シリコーンアクリルアミドおよびΝ,Ν-ジメチルアクリルアミドの組成を表2に示すように変更する以外は、実施例7と同様の方法でレンズサンプルを作製した。得られたサンプルの外観、全光線透過率、含水率、弾性率および伸度は表2に示す通りであった。実施例20モノマー混合物を以下のモル比で調製した:式s2で表されるモノマー32.4mol、Ν,Ν-ジメチルアクリルアミド32.5mol、N-2-ヒドロキシエチルアクリルアミド32.4mol、N,N’-メチレンビスアクリルアミド2.4molおよび光開始剤イルガキュア8190.2mol。このモノマー混合物55重量中に、トリプロピレングリコールメチルエーテルTPME、40重量およびポリビニルピロリドンPVPK90、5重量を加えた。モノマー混合物の重合を、上記のDSC手順を用いて、LED光源約420nm、4.0mW/cm2により乾燥窒素下70°Cで10分間行った。モノマー混合物の重合速度を光DSCにより分析し、図1にSA1RMMと示した。比較例5よりもはるかに速い速度であった。実施例21シリコーンアクリルアミドモノマーとして、式s2で表されるモノマーの代わりに式s3で表されるモノマーを用いる以外は、実施例20と同様の方法でモノマー混合物を調製した。モノマー混合物の重合速度を光DSCにより分析し、図1にSA2RMMと示した。比較例5よりもはるかに速い速度であった。比較例5式s2で表されるシリコーンアクリルアミドモノマーの代わりに下記式u1で表されるシリコーンメタクリレートモノマーWO2008/005229の実施例29に従って調製を用い、2-ヒドロキシエチルアクリルアミドの代わりに2-ヒドロキシエチルメタクリレートを用い、Ν,Ν’-メチレンビスアクリルアミドの代わりにテトラエチレングリコールジメタクリレートを用いる以外は、実施例20と同様の方法でモノマー混合物を調製した。これらのモノマーを実施例20と同じモル比で使用した。モノマー混合物の重合速度を光DSCにより分析し、図1にOHmPDMSRMMと示した。"