先行電極と後行電極の各々に対して個別に設定された振幅のウィービング軌跡を描くため、先行電極先端の予め決められた制御点と後行電極先端の予め決められた制御点とを結ぶ線に対して略垂直な回転軸を決定するステップと、前記回転軸を中心に溶接トーチが回転動作し、先行電極と後行電極が指定された振幅の往復動作を行うための回転角度を算出するステップと、前記回転軸を中心に前記回転角度で、前記溶接トーチを往復動作させる制御を行うステップを備えたタンデムアーク溶接方法。先行電極の往復動作の振幅は、後行電極の往復動作の振幅よりも小さい請求項1記載のタンデムアーク溶接方法。先行電極と後行電極の各々に対して個別に設定された振幅のウィービング軌跡を描くための、先行電極先端の予め決められた制御点と後行電極先端の予め決められた制御点とを結ぶ線に対して略垂直な回転軸を決定する回転軸決定部と、前記回転軸を中心に溶接トーチが回転し、先行電極と後行電極が指定された振幅の往復動作を行うための回転角度を算出する回転角度算出部と、前記回転軸を中心に前記回転角度で、前記溶接トーチを往復動作させる制御部と、を備えたタンデムアーク溶接システム。先行電極の往復動作の振幅は、後行電極の往復動作の振幅よりも小さい請求項3記載のタンデムアーク溶接システム。しかし、従来のタンデムアーク溶接システムは、通常のウィービングと同じウィービングを行っているだけである。このため、必ずしもタンデムアーク溶接に適したウィービングを行っているわけではないという課題を有していた。例えば、先行電極は、十分な溶け込みを確保するために小振幅のウィービング溶接を行い、あるいは、ウィービングなしの溶接を行い、後行電極は、ビード形状整形のため比較的大きな振幅のウィービング溶接を行いたい場合がある。しかし、従来のタンデムアーク溶接システムでは、トーチを一体のものとしてウィービングを行うのみであるので、先行電極と後行電極のウィービング振幅は同じであり、ウィービング振幅を変えてウィービングすることはできない。本発明は、このような点に鑑み、先行電極と後行電極のウィービング振幅を変えてウィービングすることができるタンデムアーク溶接方法およびタンデムアーク溶接システムを提供することを目的とする。上記課題を解決するために、本発明のタンデムアーク溶接方法は、先行電極と後行電極の各々に対して個別に設定された振幅のウィービング軌跡を描くため、先行電極先端の予め決められた制御点と後行電極先端の予め決められた制御点とを結ぶ線に対して略垂直な回転軸を決定するステップと、前記回転軸を中心に溶接トーチが回転動作し、先行電極と後行電極が指定された振幅の往復動作を行うための回転角度を算出するステップと、前記回転軸を中心に前記回転角度で、前記溶接トーチを往復動作させる制御を行うステップを備えたものである。また、本発明のタンデムアーク溶接方法は、上記に加えて、先行電極の往復動作の振幅は、後行電極の往復動作の振幅よりも小さいものである。本発明のタンデムアーク溶接システムは、先行電極と後行電極の各々に対して個別に設定された振幅のウィービング軌跡を描くための、先行電極先端の予め決められた制御点と後行電極先端の予め決められた制御点とを結ぶ線に対して略垂直な回転軸を決定する回転軸決定部と、前記回転軸を中心に溶接トーチが回転し、先行電極と後行電極が指定された振幅の往復動作を行うための回転角度を算出する回転角度算出部と、前記回転軸を中心に前記回転角度で、前記溶接トーチを往復動作させる制御部と、を備えたものである。また、本発明のタンデムアーク溶接システムは、上記に加えて、先行電極の往復動作の振幅は、後行電極の往復動作の振幅よりも小さいものである。以上のように、本発明は、先行電極と後行電極に別個の振幅の往復動作をさせることにより、タンデムアーク溶接に適したウィービング溶接を行うことができるタンデムアーク溶接方法およびタンデムアーク溶接システムを提供する。以下、本発明を実施するための形態について、図1から図5を用いて説明する。なお、図1と図2は既に説明したものであり、以下では、図3から図5を中心に説明する。実施の形態1本実施の形態1のタンデムアーク溶接システムの概略構成は、図1と同様である。また、本実施の形態1のタンデムアーク溶接の溶接状態は、図2と同様である。従って、図1や図2と同様の箇所については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。そして、本実施の形態1では、図3から図5を中心に説明する。図3は、本実施の形態1のタンデムアーク溶接の仕組みを説明するための図である。図3aに示すように、以下の説明では、溶接してない状態における先行電極53の先端と後行電極54の先端、溶接中では先行アーク55の内部と後行アーク56の内部に、先行電極の制御点aと後行電極の制御点bが存在するものと想定している。なお、以下で説明するように、先行電極の制御点aと後行電極の制御点bは、各々のウィービング軌跡を描く点である。そして、制御点aと制御点bは予め決められたものである。図3bは、図3aのz-z矢視を示す図であり、先行電極の制御点a以下、点aとも呼ぶ。と後行電極の制御点b以下、点bとも呼ぶ。について示している。ここでは、この点aと点bを結ぶ線分を線分lで示しており、その長さは距離dである。そして、点aと点bの存在する平面f図3bの場合は紙面上に線分lに直角な線分m1を考え、その中点を点aと一致させる。同じように、線分lに直角な線分m2を考え、その中点を点bと一致させる。ここで、線分m1の片端と線分m2の片端とを線分lと交差するように結んだ線分jの、線分lとの交点は、線分m1の長さと、線分m2の長さの比で線分lを内分した点であり、これを点oとする。線分m1と線分m2のもう一方の端同士を結んだ線分kも、点oで線分lと交差する。また、線分jと線分lまたは、線分kと線分lの作る角度rは、tanr=m1m2/2dの関係にある角度である。点oから平面f上の線分lに垂直な軸を立て、その軸周りに線分lを角度rから-rの間で往復回転させると、点aと点bは、線分m1と線分m2に接する円弧を描く。ここで、両円弧の弦の長さは、正確には線分m1と線分m2の長さとは異なるが、差は少ない。従って、以下では、両円弧の弦の長さは、線分m1と線分m2の長さに等しいとして考えることにする。先行電極53の制御点点aと後行電極54の制御点点bが円弧を描く往復回転動作を、タンデムトーチ50のウィービング動作と見ると、各々の円弧の弦がウィービング振幅であり、線分m1の長さが先行電極53の振幅であり、線分m2の長さが後行電極54の振幅である。これらの円弧は、平面f上に描かれるウィービング軌跡である。このことから、平面fをウィービング平面と呼ぶ。タンデムトーチ50を溶接進行方向に移動させ、このとき、同じウィービング平面f上でウィービング軌跡を描くように移動したとすると、図4に示すような軌跡のウィービングを行うことになる。図4の上側が点aの描くウィービング軌跡であり、下側が点bの描くウィービング軌跡である。ここで、各々の軌跡のm1とm2が、ウィービングの振幅である。ちなみに、距離dは、先行電極53と後行電極54との間の電極間距離を示すことになる。なお、ウィービング平面fが水平面にある場合、ウィービング動作の結果、点aと点bが描くウィービング軌跡は、水平面上に描かれる。本実施の形態1は、必ずしもウィービング平面fを水平面に限るものではない。例えば、点aと点bが水平面内にない、つまり、線分lが水平から傾いていてもかまわない。また、点oから立てる回転軸も線分lから任意の方向に立てることが可能である。ただし、回転軸と線分lが垂直でなければ、ウィービング振幅は指定した値とは異なってしまうことになる。なお、先行電極のウィービング振幅を0ゼロと指定した場合、点oは点aと一致する。すなわち、回転軸は先行電極の制御点aを通り、先行電極はウィービングを行わず、後行電極だけがウィービングを行う。後行電極のウィービング振幅を0と指定した場合も同様である。このように、先行電極と後行電極のウィービング振幅の指定を変えることにより、いろいろなウィービングの仕方を指定することができ、所望の溶接に適したウィービングを行わせることができる。なお、ウィービング振幅およびウィービング平面は、動作プログラムの中に予め登録されている情報を元に決定する。例えば、ウィービング振幅は、パラメータとして値をプログラムで指定することが考えられる。ウィービング平面fは、例えば、図5のように、プログラムに登録される溶接線上の教示点が成す溶接線方向を水平面に投影した方向xと鉛直方向z、および、xとyの2方向に直角な方向yで設定できる座標系上に、傾きパラメータh1と傾きパラメータh2を以って指定することができる。以上のように、本実施の形態1によれば、指定されたウィービング平面と指定されたウィービング振幅に応じて、上記のようにウィービングのための回転軸を決定し、さらに、回転角度を算出し、実際に、決定した回転軸と算出した回転角度で往復動作をすることにより、ウィービングを行う。ここで、タンデムアーク溶接システムを構成する制御器20は、記憶部と、回転軸決定部と、回転角度算出部と、制御部を備えている。記憶部は、タンデムアーク溶接システムを動作させるための動作プログラムを記憶するものである。回転軸決定部は、先行電極と後行電極の各々に対して個別に設定された振幅のウィービング軌跡を描くための、先行電極先端の制御点と後行電極先端の制御点を結ぶ線に対して概垂直な回転軸を、動作プログラムに基づいて決定するものである。回転角度算出部は、回転軸決定部で決定された回転軸を中心にタンデムトーチ50が回転し、先行電極と後行電極が指定された振幅の往復動作を行うための回転角度を、動作プログラムに基づいて算出するものである。制御部は、記憶部に記憶された動作プログラムと、回転軸決定部で決定された回転軸と、回転角度算出部で算出された回転角度に基づいて、回転軸決定部で決定された回転軸を中心に回転角度算出部で算出された回転角度でタンデムトーチ50を往復動作させるものである。そして、タンデムアーク溶接システムによるタンデムアーク溶接方法は、先行電極と後行電極の各々に対して個別に設定された振幅のウィービング軌跡を描くための、先行電極先端の制御点と後行電極先端の制御点を結ぶ線に対して概垂直な回転軸を、動作プログラムに基づいて決定するステップと、回転軸決定部で決定された回転軸を中心にタンデムトーチ50が回転し、先行電極と後行電極が指定された振幅の往復動作を行うための回転角度を、動作プログラムに基づいて算出するステップと、記憶部に記憶された動作プログラムと、回転軸決定部で決定された回転軸と、回転角度算出部で算出された回転角度に基づいて、回転軸決定部で決定された回転軸を中心に回転角度算出部で算出された回転角度でタンデムトーチ50を往復動作させるステップを備えたものである。なお、タンデムトーチ50の往復動作は、例えば、溶接ロボットを構成するマニピュレータにタンデムトーチ50を保持させ、溶接ロボットを構成するロボット制御装置である制御器20によりマニピュレータの動作を制御することで、実現することができる。また、動作プログラムは、タンデムアーク溶接システムを所定の動作パターンで動作させ、所定の溶接条件で溶接対象物を溶接させるためのものである。以上のように、本実施の形態1のタンデムアーク溶接方法およびタンデムアーク溶接システムによれば、タンデムトーチ50や近接して配置した2つの単電極溶接トーチを用いたタンデムアーク溶接においても、先行電極と後行電極とで異なるウィービングを行うことができる。