"圧縮端部および反発端部を有し、軸に沿って延設されるとともに、コアを備えるピストンと、互いに軸方向に間隔を空けて配置され、前記コアの周囲に環状に配置されるとともに、磁束を選択的に生成するよう前記コアと係合する一組の電磁石と、磁束を生成するよう前記電磁石のそれぞれの周囲に環状に配置される永久磁石と、前記電磁石および前記永久磁石からの磁束を集中させるよう高い透磁率を有する材料で形成され、前記永久磁石の軸方向間に配置される内側極セグメントと、前記電磁石によって生成される磁束を制御するためのコントローラと、を備える磁気粘性流体減衰アセンブリであって、前記ピストンには、前記ピストンの前記圧縮端部と前記反発端部との軸方向間に延設され、且つ流体が前記ピストンを流れるよう前記極セグメントに隣接して配置されるメインギャップが形成されており、前記磁石からの磁束により前記メインギャップにおいて流体の粘度が変化し、前記コントローラは、前記電磁石に負電流を印加して、メインギャップを通る永久磁石からの磁束を打ち消す非動作状態を設定し、前記コアと前記内側極セグメントとの径方向間には、前記電磁石の軸方向に延設される環状形状を有する閉式補助ギャップが形成され、前記アセンブリが前記非動作状態のとき、前記永久磁石からの磁束が前記メインギャップを通って漏れるのを防止するようになっている、磁気粘性流体減衰アセンブリ。請求項1に記載のアセンブリであって、低い透磁率を有する材料で形成される補助ギャップリングが前記補助ギャップに配置されている、アセンブリ。請求項2に記載のアセンブリであって、前記補助ギャップリングは非磁性ステンレス鋼材料で形成されている、アセンブリ。請求項2に記載のアセンブリであって、前記コアは、前記コアの周囲に環状に延設されるとともに互いに軸方向に間隔を空けて配置される一組の溝を有する、アセンブリ。請求項4に記載のアセンブリであって、前記電磁石のそれぞれは前記溝の一つに配置される、アセンブリ。請求項5に記載のアセンブリであって、前記ピストンは、高い透磁率を有する材料で形成されるとともに互いに軸方向に間隔を空けて配置されて前記電磁石および前記永久磁石からの磁束を集中させる一組の外側極セグメントをさらに有する、アセンブリ。請求項6に記載のアセンブリであって、前記内側極セグメントは、前記外側セグメントの軸方向間に配置される、アセンブリ。請求項7に記載のアセンブリであって、前記ピストンは、高い透磁率を有する材料で形成され、前記極セグメントの周囲に環状に配置されるとともに、前記極セグメントから径方向に間隔を空けて配置されて前記メインギャップを定義する磁束リングをさらに構成する、アセンブリ。請求項8に記載のアセンブリであって、前記ピストンは、非磁性アルミニウム材料で形成され、前記ピストンコアおよび前記磁束リングと係合するとともに前記ピストンの前記両端部に配置される端部プレートをさらに備える、アセンブリ。請求項9に記載のアセンブリであって、前記端部キャップのそれぞれは、前記極セグメントと前記磁束リングとの径方向間に配置されるとともに前記メインギャップと並んで配置される開口部を有する、アセンブリ。請求項10に記載のアセンブリであって、前記外側極セグメントのそれぞれと前記内側極セグメントとは、互いの間に極間隙を形成するよう軸方向に間隔を空けて配置され、極アセンブリを構成する、アセンブリ。請求項11に記載のアセンブリであって、前記永久磁石のそれぞれはリング状であり、前記外側極セグメントの一つと前記内側極セグメントとの間の前記極空隙の一つに挟持されている、アセンブリ。請求項10に記載のアセンブリであって、前記極アセンブリの前記外側極セグメントと前記内側極セグメントとは、内側極シリンダによって構成されている、アセンブリ。請求項13に記載のアセンブリであって、前記極シリンダは、複数のウェブによって互いに周方向に間隔を空けて配置される第一セットの四つの径方向開口スロットと、複数のウェブによって互いに周方向に間隔を空けて配置された第二セットの四つの径方向開口スロットとを含み、前記第一セットの径方向開口スロットは、前記電磁石の一方と並んで軸方向に配置され、前記第二セットの径方向開口スロットは、前記電磁石の他方と並んで軸方向に配置されている、アセンブリ。請求項14に記載のアセンブリであって、前記永久磁石のそれぞれは四つの磁石セグメントで構成されており、前記磁石セグメントのそれぞれは前記極シリンダの前記径方向開口スロットのうちの一つに配置されている、アセンブリ。請求項15に記載のアセンブリであって、前記極アセンブリは、互いに軸方向に並んで配置される前記ウェブの二つを通って前記極シリンダに沿って軸方向に延設されるバイパス溝を形成する、アセンブリ。軸に沿って延設され、シリンダ形状を有するとともに、内部が開口しているハウジングと、前記ハウジングの前記開口内部に配置される磁気粘性流体と、圧縮端部と反発端部とを有し、前記ハウジングの前記開口内部に摺動可能に配置され、前記圧縮端部における圧縮チャンバと前記反発端部における反発チャンバとを形成し、シリンダ形状のコアを有するピストンであって、前記コアが前記コアの周囲に環状に延設されるとともに互いに軸方向に間隔を空けて配置される一組の溝を有するピストンと、前記ピストンの前記反発端において前記コアから軸方向に延設されるとともに、円筒穴を有するピストンロッドと、前記溝のそれぞれに配置され磁束を選択的に生成するための電磁石と、前記電磁石によって生成される磁束を制御するためのコントローラと、前記ピストンロッド円筒穴を通って前記コントローラと前記電磁石との間で延設され、前記電磁石と前記コントローラとを電気的に接続する複数のワイヤーと、磁束を生成するよう前記電磁石のそれぞれの周囲に環状に配置される永久磁石と、高い透磁率を有する材料で形成され、前記コアの周囲に配置されるとともに互いに軸方向に間隔を空けて配置される前記電磁石および前記永久磁石からの磁束を集中させる一組の外側極セグメントと、前記電磁石および前記永久磁石からの磁束を集中させるよう高い透磁率を有する材料で形成され、前記外側極セグメントの軸方向間に配置される内側極セグメントと、を備える磁気粘性流体減衰アセンブリであって、前記ピストンは、高い透磁率を有する材料で形成され前記極セグメントの周囲に環状に配置されるとともに前記極セグメントから径方向に間隔を空けて配置されて、流体が前記ピストンを流れるよう、前記メインギャップを形成する磁束リングをさらに含み、前記磁石からの磁束により前記メインギャップにおいて流体の粘度が変化し、前記ピストンは、非磁性アルミニウム材料で形成され、前記ピストンコアと前記磁束リングと係合し前記ピストンの前記両端部に配置される端部プレートをさらに有し、前記端部プレートのそれぞれは、前記極セグメントと前記磁束リングとの径方向間に配置されるとともに前記メインギャップと並んで配置される開口部を有し前記コントローラは、前記電磁石に負電流を印加して、前記メインギャップを通る前記永久磁石からの磁束を打ち消す非動作状態と、電流が前記電磁石を流れないフェイルセーフ動作状態と、前記電磁石に正電流を印加して前記メインギャップを通る磁束を誘導する動作状態と、を設定し、前記ピストンコアおよび前記内側極セグメントは、前記アセンブリが前記非動作状態のとき前記メインギャップを通る前記永久磁石から磁束の漏れを防止するよう、前記電磁石の軸方向間にかつ前記コアと前記内側極セグメントとの径方向間に延設される環状形状を有する閉式補助ギャップを構成し、前記磁気粘性流体減衰アセンブリはさらに、前記補助ギャップに配置され非磁性ステンレス鋼材料で形成される補助ギャップリングを備える、磁気粘性流体減衰アセンブリ。請求項17に記載のアセンブリであって、前記外側極セグメントのそれぞれと前記内側極セグメントとは、互いの間に極間隙を形成するよう軸方向に間隔を空けて配置されており、前記永久磁石のそれぞれは、リング状であり、前記外側極セグメントの一つと前記内側極セグメントとの間の前記環状空隙において挟持されている、アセンブリ。請求項17に記載のアセンブリであって、前記外側極セグメントと前記内側極セグメントとは、内側極シリンダによって構成されており、前記極シリンダは、複数のウェブによって互いに周方向に間隔を空けて配置される第一セットの四つの径方向開口スロットと、複数のウェブによって互いに周方向に間隔を空けて配置された第二セットの四つの径方向開口スロットとを含み、前記第一セットの径方向開口スロットは、前記電磁石の一方と並んで軸方向に配置され、前記第二セットの径方向開口スロットは、前記電磁石の他方と並んで軸方向に配置され、前記永久磁石のそれぞれは四つの磁石セグメントで構成されており、前記磁石セグメントのそれぞれは前記極シリンダの前記径方向開口スロットのうちの一つに配置されており、前記極シリンダは、互いに軸方向に並んで配置される前記ウェブの二つを通って前記シリンダに沿って軸方向に延設されるバイパス溝を形成する、アセンブリ。図面を参照して、磁気粘性流体減衰アセンブリ20を概略的に示す。図面では、対応する部品には同じ符号を付している。アセンブリ20は、軸Aに沿って延設されたシリンダ状のハウジング22を有する。ハウジング22は、磁気粘性流体26が収容入れられている内部開口部24を備える。シリンダ状ピストン28は、ハウジング22の内部開口部24に摺動可能に配置されている。ピストン28とハウジング22は、互いに対応する形状であれば、他の断面形状でもいいことを付言しておく。ピストン28は圧縮端部30と反発端部32とを有する。ハウジング22は、ピストン28の圧縮端部30に圧縮チャンバ34を、ピストン28の反発端部32に反発チャンバ36を形成する。ピストン28は、シリンダ状鋼製磁心コア38を備える。選択された材料が、磁束が延びるよう低磁気抵抗経路を提供する高い透磁率を有する限り、コア38を他の材料で形成することができることを付言しておく。円筒穴42を有するピストンロッド40が、ピストン28の反発端部32におけるピストンコア38から軸方向に延設される。軸方向に間隔をあけて配置された一組の溝44が、コア38の周囲に環状に延設される。電磁石46が、一組の溝44のそれぞれに配置されて、磁束を選択的に生成する。電磁石46は、複数のワイヤー50を通じてコントローラ48に電気的に接続される。複数のワイヤーは、ピストンロッド40円筒穴42を通るよう延設される。これにより、電磁石46によって生成される磁束を制御する。さらに、永久磁石52,152が、磁束を生成するよう電磁石46のそれぞれの周囲に環状に配置される。一組の鋼製外側極セグメント54、154と内側極セグメント56、156とがコア38の周囲に配置される。外側極セグメント54、154は、互いに軸方向に間隔を空けて配置され、それらの軸方向間に内側極セグメント56、156が配置される。コア38と同様に、極セグメント54、154、56、156は鋼で形成される。その高い透磁率により、磁石から磁束が延びる低磁気抵抗経路が提供され、望ましい磁気回路がピストン28に生成される。透磁率が高いものであれば、極セグメント54、154、56、156を他の材料で形成できることを付言しておく。第一の実施可能な形態において、極セグメント54、56と永久磁石52とはそれぞれ別体のリング状構成要素である。ピストン28の組み立ての際に、永久磁石52がそれぞれ、極間隙58において内側極セグメント56と外側極セグメント54の一つとの間に挟持されるよう、極セグメント54、56と永久磁石52とは、一つずつコア38上を摺動されて嵌め込まれる。より製造に適している第二の実施可能な形態においては、図4からよくわかるように、外部極セグメント154および内側極セグメント156は、単一の一体的な極シリンダ60によって構成される。複数のウェブ66によって周方向において互いに間隔を空けて配置された第一セットの四つの径方向開口スロット62および第二セットの四つの径方向開口スロット64がシリンダに機械加工される。スロット62、64のそれぞれのセットは、電磁石46のうちの一つと軸方向に並んで配置される。本形態においては、永久磁石152のそれぞれは四つの磁石セグメント68で構成されており、磁石セグメント68のそれぞれは極シリンダ60の径方向開口スロット62,64のうちの一つに配置される。さらに、極シリンダ60は、互いに軸方向に並んで配置されるウェブ66の二つを通ってシリンダに沿って軸方向に延設されるバイパス溝70を形成する。バイパス溝70の目的は、ピストン28が低速でハウジング22内を摺動するとき、流体が通過する磁束がない領域を提供することにある。組み立ての際に、磁石セグメント68はスロット62、64へと埋設される。磁化されたセグメント68を取り扱うことを回避するために、磁石セグメント68を、スロットに埋設前には磁化せず、埋設後に磁化する。その後、極シリンダ60はコア38に圧入される。ピストン28は、極セグメント54、154、56、156の周囲に環状に配置されるとともに径方向に間隔を空けて配置された磁束リング72をさらに有する。これにより、ピストン28がハウジング22内で摺動するとき、磁気粘性流体26が流れるメインギャップ74が形成される。コア38および極セグメント54、154、56、156と同様、磁束リング72は鋼で形成され、磁束が延びる低磁気抵抗経路を提供する。磁束リング72を、透磁率が高い他の材料で形成できることを付言しておく。磁石から生成される磁束がメインギャップ74を通ることにより、磁気粘性流体26の粘度は高くなる。ピストン28の運動に抵抗を与えるよう得られる減衰力は、流体の粘度に依存する。流体の粘度の増加は減衰力を増加させ、また、流体の粘度の減少は減衰力を減少させる。磁石46、52、152によって生成され、メインギャップ74における流体に作用する磁束を制御することにより、流体の粘度を変化させることができる。異なる減衰特性を提供するために、メインギャップは種々の径方向寸法を有することができることを付言しておく。ピストン28は、ピストンコア38、磁束リング72及びピストンロッド40に係合するアルミニウム端部プレート76をさらに有する。端部プレート76の目的は、構成要素を定位置に保持することにある。端部プレート76が非磁性アルミニウム材料で形成されるので、ピストン28からの磁束の延出を制限する。端部プレート76を、透磁率が低い他の材料で形成できることを付言しておく。端部プレート76のそれぞれは、流体がメインギャップ74とハウジング22との間で流れるよう、外側極セグメント54と磁束リング72との径方向間に配置されるとともにメインギャップ74と並んで配置される開口部78を有する。図5、図6および図7からよくわかるように、コントローラ48は非動作状態とフェイルセーフ状態と動作状態とを設定する。これらの状態により、経路と、ピストン28を通る磁束の量と、を制御する。非動作状態となると、負電流が電磁石46に印加され、メインギャップ74を通る永久磁石52,152からの磁束を打ち消し、減衰力が最小となる。フェイルセーフ状態が選択されると、電流は電磁石46に印加されず、永久磁石52,152からの磁束のみがメインギャップ74を通り、減衰力が中間レベルとなる。フェイルセーフ状態を有することが好ましい。電磁石46への電源が失われた場合でも、最低レベルよりも大きい減衰力を提供できるからである。動作状態となると、正電流が電磁石46に印加され、電磁石46および永久磁石52,152によって生成されるメインギャップ74を通る磁束により減衰力が最大となる。コントローラ48は、種々のレベルの減衰を提供するよう、前述の動作状態の間のレベルでも動作できることを付言しておく。ピストンコア38と内側極セグメント56、156とは、電磁石46の軸方向間にかつコア38と内側極セグメント56,156との径方向間に延設される環状形状を有する閉式補助ギャップ80を形成する。補助ギャップ80は、空気層ギャップ、または理想的にはコア38より低い透磁率を有する他の材料が装填されたギャップでもいい。第一の実施可能な形態において、非磁性ステンレス鋼の補助ギャップリング82がこのギャップに配置される。動作の際に、磁石46、52、152から生成される磁束は、磁石間で、補助ギャップ80を通るピストン28のコア38への経路と、メインギャップ74を通る磁束リング72への経路と、の二つの経路を通る。補助ギャップ80は、フロー経路において磁気抵抗が増加した領域をピストン28のコア38に提供し、これにより、より多くの磁束が、コア38を通らずにメインギャップ74を通る方向に向けられる。これは設計上必要な要素である。なぜなら、補助ギャップ80なしでは、装置がフェイルセーフ状態のとき、ほとんどの磁束はメインギャップを避けてコア38へ向かってしまい、減衰力が小さくなりすぎるからである。従来技術には、端部がピストンの外側まで延びている補助ギャップの配置の場合、メインギャップを通る磁束の漏れのために、非動作状態において磁束の完全な打ち消しが不可能であるという問題があった。一方、本発明における補助ギャップ80が磁石、コア38、および極セグメント54、154、56、156によって閉じられるよう配置されているので、アセンブリ20が非動作状態のとき好適にメインギャップ74を通る磁束の漏れを防止できる。これにより、非動作状態における減衰力を低減でき、従来技術より高いターンナップ比を提供できる。さらに、組み立ての際にアセンブリを流体で注入し易くできる従来技術では注入し難く問題であった。アセンブリ20への注入の際には、予め設定されたDC電流で電磁石46を励磁することによって、非動作状態となる。補助ギャップ80の径方向寸法はアセンブリ20の重要な設計パラメータである。補助ギャップが磁石46,52,152とコア38と極セグメントト54、154、56、156の間で配置されるので、補助ギャップ80を異なる径方向寸法で容易に製造することができる。この径方向寸法はアセンブリ20の減衰範囲に対応する。このことは、種々の減衰目的ごとに、減衰範囲が調整されたアセンブリ20を容易に製造することができるので、好ましい。図8に示すように、補助ギャップ80の径方向寸法はアセンブリ20の磁束密度対電流特性の傾きを決定する。補助ギャップ80の径方向寸法を増加させると、メインギャップ74を通る磁束をゼロとする非動作状態のに必要な、電磁石46に印加する大きさが増加する。さらに、補助ギャップ80の径方向寸法を増加させると、アセンブリ20がフェイルセーフ状態のときのメインギャップ74を通る磁束密度減衰力に対応が増加する。さらに、メインギャップ74の径方向寸法を低減させると、アセンブリ20が動作状態のときのメインギャップ74を通る磁束密度減衰力に対応が増加する。もちろん、本発明に多くの変形および変更を上記の教示に基づいて行うことができ、詳細な説明以外にも添付の特許請求の範囲内で実現できる。上記の記載が本発明の新規性が有用となるあらゆる組み合わせにわたることは理解されよう。装置の請求項における語前記の使用は、それが前出されていて、その請求項またはその請求項が従属する請求項の範囲に含まれていることを意味する明確な引用である。前記を使用していないものでも、その請求項またはその請求項が従属する請求項の範囲に含まれている場合もある。さらに、特許請求の範囲における参照符号は理解し易くするためにのみ付されており、限定するものでは決してない。"