支持基盤の上または中に配列された個々にアドレス指定可能な画素パッドを有する支持基板と、前記個々にアドレス指定可能な画素パッドの上に配置された誘電体層とを含む、静電像部材を提供することと、前記静電像部材に静電気帯電器を用いることと、静電像を生成することを含み、前記静電像は、前記静電像部材の前記誘電体層の表面に前記静電気帯電器を用いている間に印刷されるパターンで、選択された画素パッドを接地することによって、単一のステップで生成される、静電潜像の生成方法。前記個々にアドレス指定可能な画素パッドは、配列状に前記支持基板にパターニングされる、請求項1に記載の方法。前記支持基板は、さらに、前記一連の画素パッドに連結された1つまたは複数のトランジスタを含んでいる、請求項2に記載の方法。前記支持基板は、さらに、前記支持基板の上に、1つのトランジスタに接続されている前記一連の画素パッドの中の各画素パッドと共に配置された一連のトランジスタを含んでいる、請求項2に記載の方法。前記静電像部材の前記誘電体層の前記表面に静電気帯電器を用いている間に印刷されるパターンで、選択された画素パッドを接地することによって、静電像が生成される、請求項2に記載の方法。支持基盤の上または中に配置された個々にアドレス指定可能な画素パッドを有する支持基板と、配列状に前記支持基板にパターニングされる前記個々にアドレス指定可能な画素パッドの上に配置された誘電体層とを含む、静電像部材と、静電気帯電器とを含み、前記静電像部材の前記誘電体層の表面に前記静電気帯電器を用いている間に印刷されるパターンで、選択された画素パッドを接地することによって、静電像が生成される、静電像装置。前記静電気帯電は、静電気帯電器によって前記像装置に配置される、請求項6に記載の静電像装置。前記静電気帯電器は、コロトロン、スコロトロン、および、バイアスをかけられた電荷ローラからなる群から選択される、請求項7に記載の静電像装置。前記誘電体層の厚さは、約1ミクロンから約100ミクロンである、請求項6に記載の静電像装置。前記一連の画素パッドの各画素パッドの幅が100μmであり、分離距離が100μmである、請求項6に記載の静電像装置。本実施形態は、より小さい、より高性能な、および、より効率的な機械となるように、ゼログラフィックマーキングプロセスのディジタル化を提供する。用語光受容体または光伝導体は、通常、用語像部材と同義的に用いられる。用語電子写真のは、電子写真のおよびゼログラフィックを含んでいる。用語電荷輸送分子は、通常、用語正孔輸送分子または電子輸送分子と同義的に用いられる。ここに図示した態様に従って、支持基盤の上または中に配置された個々にアドレス指定可能な画素パッドを有する支持基板と、個々にアドレス指定可能な画素パッドの上に配置された誘電体層とを含む、静電像部材を提供することと、静電像部材に静電気帯電器を用いることと、および、静電像を生成することとを含む、静電潜像の生成方法について提示する。ここで、静電像は、静電像部材の誘電体層の表面に静電気帯電器を用いている間に印刷されるパターンで、選択された画素パッドを接地することによって、単一のステップで生成される。もう1つの実施形態では、支持基盤の上または中に配置された個々にアドレス指定可能な画素パッドを有する支持基板、および、配列状に支持基板にパターニングされる個々にアドレス指定可能な画素パッドの上に配置された誘電体層を含む、静電像部材と、静電気帯電装置とを含み、静電像部材の誘電体層の表面に静電気帯電器を用いている間に印刷されるパターンで、選択された画素パッドを接地することによって静電像が生成される静電像装置について提示する。さらにもう1つの実施形態では、a個々にアドレス指定可能な画素パッドが上または中に配置された支持基板を含む静電像部材と、配列状に支持基板にパターニングされる個々にアドレス指定可能な画素パッドの上に配置された誘電体層と、静電像部材の誘電体層の表面に静電気帯電器を用いている間に印刷されるパターンで、選択された画素パッドを接地することによって静電像が生成される静電気帯電装置とを含んだ静電潜像を受け取るための電荷保持表面を有する静電像装置と、b現像された画像を電荷保持表面に形成するために、静電潜像を現像するための現像剤材料を、電荷保持表面に塗布するための現像部品と、c現像された画像を電荷保持表面から複写基板に転写するための転写部品と、d現像された画像を複写基板に融着するための融着部品とを含んだ記録媒体に画像を形成するための画像形成装置を提示する。光受容体に基づくゼログラフィックプロセスには、制限された電荷移動度および、それ故に、制限されたシステム応答時間および印刷速度、不安定なサイクル、表面の磨耗、側方の電荷移動、光衝撃に対する感度、および、システムにおいてかなりの空間を占め、システムのコストを上げている、コストのかかる光源例えば、ラスタ出力スキャナROSの必要性を含む、いくつかの不都合がある。さらに、レーザー光にさらすことが、画像の歪みを引き起こし、画像解像度を抑制する様々な寄生効果に関連している。これらの問題に対するいくつかの解決策が、長年の間提案されてきたが、問題を完全に解決することができなかった。開示された本実施形態は、通常、従来の画像形成装置よりもかなり少ないステップおよび電気機械部品を必要とする形で、ゼログラフィックマーキングプロセスのディジタル化を提供する今までにない像部材に関するものである。特に、本実施形態は、単一のステップである帯電プロセスで、および、ROSまたは電荷担体を用いることなく、ディジタル的に静電潜像を生成することができる静電潜像生成部材を提供する。潜像は、単一のステップで生成される。ここで、画像に関して印刷されるパターンで、表面が帯電される。静電潜像は帯電中に装置に生成される。なぜなら、例えばROSを介して、印刷されるものと類似した光のパターンに、画像受容体にさらす必要はもはやないからである。さらに、本発明において表面電位を放電しない場合、もはや光生成顔料または電荷輸送分子を含む必要はない。実施形態では、図1に示したように、静電像部材5は、上に誘電体層20が配置された、駆動回路によってアドレス指定された金属画素パッドのシステムを形成するために、電極15に順に接続されているトランジスタ30に接続されたディジタル的にアドレス指定可能な金属画素パッド25を備えた支持基板10を含んでいる。ディジタル的にアドレス指定可能な画素パッド25は、超小型であり、配列状に支持基板10にパターニングされる。ここで、各画素パッドは、個々に、選択的に絶縁されることができるか、あるいは、トランジスタ/電極駆動回路を介して接地接続されることができる。例えばコロトロン、スコロトロン、または、誘電体ギャップ帯電器例えばバイアスをかけられた電荷ロールといった静電気帯電器に装置の誘電体の表面をさらしている間に、画像様式で画素パッドを選択的に接地することによって、像部材の誘電体の表面に静電潜像を生成することができる。このように、プラスまたはマイナスに帯電したイオン化気体が、誘電体層の下で接地された画素パッドに静電気によって選択的に引き付けられる図3。従って、所望の静電像を、帯電プロセス中に誘電体の表面に生成することができる。すなわち、帯電器によって放射される静電気帯電は、接地された画素の領域において、および従って、印刷される画像のパターンで、装置の表面に選択的に引き付けられる図3に示したように。今までにない装置における静電像の形成に続いて、ゼログラフィック電荷領域の現像および転写プロセスは、一枚の紙または他の基板上に画像を印刷するために用られ得る。この点から、電子写真印刷プロセスを、従来のように継続することができる。例えば、像部材の静電像とは逆の電荷を有するトナーを有する、静電潜像の従来の帯電領域の現像に続いて、トナーを受信用の紙に転写および融着する。図4Aおよび図4Bでは、接地された画素にコロナ電荷を引き付けることが示されている。引き付けは、キャパシタの帯電と類似している。図4Aでは、電圧源55コロナ帯電器が、接地電極を有する像部材の領域のすぐ上に位置する場合に生じることを表す回路50が示されている。図示したように、電極60の正の電子電荷正孔が、像部材の表面における正のコロナイオンと類似しており、電極65における負の逆電荷は、接地された画素パッドと類似している。キャパシタ70は、像部材における誘電体層と類似している。図4Bでは、コロナ帯電器が接地電極75を有する像部材の領域上に即座に位置することから離れて移動されると同時に生じるものを代表する回路50が示されている。プラスに帯電したコロナイオンは、回路との接続を切られるときにキャパシタが電荷を保持すると同時に、所定の位置、画素パッドにおける負の逆電荷によって像部材の表面に保持される。これらの原理に基づいて、駆動回路は、コロトロン帯電器が適切な画素パッドを通過する時間の間に適切な画素パッドを選択的に接地する必要があり、これにより、所望の静電像が生成され得る。帯電される画素パッドをコロトロン帯電器が通過して初めて、画素パッドは接地を解除され得る。従って、駆動回路のタイミング、画素パッドの接地の制御、および、コロトロンの動作を同期させる必要がある。言及したように、静電潜像をこのように生成することにより、装置の表面層において電荷輸送分子を取り込む必要がなくなる。このことにより、従来の有機光受容体と比べて磨耗を最小化するように、像部材の表面層を一連の誘電体材料から選択することができるとき、付加的な利点が提供され、従って、装置の寿命が延びる。特定の実施形態では、誘電体層20は、ポリカーボネートを含んでいるが、他の実施形態では、誘電体層20は、任意の誘電体材料を含んでいてもよいが、例えば、シリケートガラス、ポリエポキシド、ポリスチレン-ブロック-ブタジエン-ブロック-スチレンなどに限定されるものではない。実施形態では、誘電体層20の厚さは、約1ミクロンから約100ミクロン、または、約20ミクロンから約40ミクロンである。1実施形態では、誘電体層20の厚さは、30ミクロンである。像部材は、さらに、1つまたは複数の画素パッド25に連結された、電極15および1つまたは複数のトランジスタ30の配置を用い得る。電極15およびトランジスタ30の配置により、電極15およびトランジスタ30は、液晶表示装置におけるトランジスタ背面配線板と同様に、支持基板10に埋設されて、基板表面に配置された画素パッドに連結され得る。あるいは、駆動回路の電極15およびトランジスタ30の配置により、電極15およびトランジスタ30は、画素パッドが支持基板に配置されるように、支持基板から完全に分離されて、金属性のリード線を介して外部電極/トランジスタの駆動回路に接続され得る。画素パッドの大きさおよびパッド間の分離距離は、静電潜像および結局のところ生成され得る印刷画像の解像度を決定する。1実施形態では、画素パッドの幅が100μmで、分離距離が100μmであるとき、約125ドットパーインチの解像度が得られ、もう1つの実施形態では、画素パッドの幅が40μmで、分離距離が40μmであるとき、約300ドットパーインチの解像度が得られていた。他の実施形態では、画素パッドの幅が10μmで、分離距離が10μmであるとき、よりよい解像度が得られていた。図3では、静電像部材5と例えばコロナ帯電器といった静電気帯電器40とを含んだ静電像装置35が示されている。静電像部材5は、ディジタル的にアドレス指定可能な電極15を上に並べた支持基板10と、ディジタル的にアドレス指定可能な電極の上に配置された誘電体層20とを含んでおり、ディジタル的にアドレス指定可能な電極は、画素の配列状に支持基板にパターニングされる。イオン化気体は、誘電体層20を介して接地電極15に引き付けられる45。静電像部材を、画像形成装置において用いることができる。このような実施形態では、画像形成装置は、したように、静電潜像を受け取るための電荷保持表面を有する静電像部材と、現像された画像を電荷保持表面に形成するために、静電潜像を現像するための現像剤材料を、電荷保持表面に塗布するための現像部品と、現像された画像を電荷保持表面から複写基板に転写するための転写部品と、現像された画像を複写基板に融着するための融着部品と、を含んでいる。本実施形態は、従来の光受容体に基づくシステムを超えた様々な利点を提示する。特に、静電像の形成には、光受容体設計によって内在する、光誘起放電および電荷輸送を必要としない。さらに、高分子バインダの有機半導体からなる比較的軟らかい電荷輸送層の代わりに硬い誘電体材料を使用するので、本実施形態の磨耗はより少ない。最後に、光放電による画像化よりもむしろ帯電と潜像形成とが同時に起こるため、高速化が実現され得る。開示された本実施形態の現像を、さらに、非限定的な実施例において以下に実証する。実施例1プロトタイプの製造ゼロックス社が現在製造している二重層光受容体と同様のプロトタイプの像部材を製造した。しかし、本実施形態を具体化するために、実験室ベースの製造手順を用いた。シャドウマスクを用いた物理的気相成長法によって、5cmx5cmホウ素シリケートガラス基板に銀からなる画素パッドをパターニングした。寸法が3cmx100μmで、分離距離が100μmである全部で5つの画素パッドを、基板に並べて配置した。次に、12gのジクロロメタンに対して1gのポリカーボネートを入れた溶液から、30μmの厚さのポリカーボネート層を、電極の上でブレードによって被覆する。電極の終端をむき出しのまま残すことを確実に行うことにより、誘電体ポリカーボネート層の使用に続いて、電気的接続を行うことができた。次に、被覆された装置を、室温で1時間、空気中で乾燥させることができ、次に、いかなる残留溶媒をも除去するために、120°Cの炉の中で30分間熱処理した。実施例2プロトタイプの実証実施例1のプロトタイプによって、図3に示したものと同様の印刷がなされた。装置の第1電極を選択的に接地し、次に、正コロナを放射するコロトロン約5000Vにバイアスをかけられた金属線の下に像部材を通した。コロトロンが帯電した後、接地電極を接地から切断し、次に、像部材の表面のキャリアにマイナスに摩擦帯電したトナーを振りかけることによって、静電潜像を現像した。次に、圧縮空気をひと吹きすることによって、余分なトナーおよびキャリアを除去した。この実験に用いられる基本的な現像プロセスの非制御状態のために、現像後に像部材上に認められた現像過多およびキャリアがあった。改変されたゼロックスDC12プリンタにおいて像部材を印刷したとき、現像過多およびキャリアビードの持ち出しの改善が見られた。この場合、電極を接地することができ、次に、DC12消費者交換可能部品CRUに挿入することができる適切な空のドラムに、像部材を備え付けた。次に、代表例のドラムを有するCRUを、DC12プリンタに挿入した。さらに、通常の負のコロナイオン化気体の代わりに正のコロナイオン化気体を放射するために、プリンタのコロナ帯電器を改変した。得られる印刷物は、ゼログラフィックエンジンの特定の部品およびパラメータを改変することによって、現像過多およびキャリアビードの持ち出しに対処することができるということを示して、改善を実証した。