"所定の光を発する第1光源、及び、当該第1光源からの光を縞状の光強度分布を有する第1光パターンに変換する第1格子を有し、当該第1光パターンを第1位置から被計測物に対し照射可能な第1照射手段と、前記第1格子の移送又は切替を制御し、前記第1照射手段から照射する前記第1光パターンの位相を複数通りに変化させる第1格子制御手段と、所定の光を発する第2光源、及び、当該第2光源からの光を縞状の光強度分布を有する第2光パターンに変換する第2格子を有し、当該第2光パターンを前記第1位置とは異なる第2位置から被計測物に対し照射可能な第2照射手段と、前記第2格子の移送又は切替を制御し、前記第2照射手段から照射する前記第2光パターンの位相を複数通りに変化させる第2格子制御手段と、前記第1光パターン又は第2光パターンの照射された前記被計測物からの反射光を撮像可能な撮像手段と、複数通りに位相変化させた前記第1光パターン又は第2光パターンの照射に基づき取得した複数通りの画像データを基に位相シフト法により三次元計測を行う画像処理手段とを備え、前記位相の異なる複数通りの第1光パターンを照射して行われる複数回の撮像処理のうちの1回分である第1撮像処理、又は、前記位相の異なる複数通りの第2光パターンを照射して行われる複数回の撮像処理のうちの1回分である第2撮像処理のうちの一方の撮像処理を実行し、前記一方の撮像処理の終了と同時に、当該一方の撮像処理に係る前記第1格子又は前記第2格子の移送又は切替処理を開始し、前記移送又は切替処理の完了を待つことなく、前記両撮像処理のうちの他方の撮像処理を実行可能としたことを特徴とする三次元計測装置。前記両撮像処理のうちの一方の撮像処理の終了と同時に、当該一方の撮像処理に係る前記第1格子又は前記第2格子の移送又は切替処理を開始すると共に、前記両撮像処理のうちの他方の撮像処理を開始可能としたことを特徴とする請求項1に記載の三次元計測装置。少なくとも前記各撮像処理が行われている間、前記撮像手段と前記被計測物との位置関係が固定されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の三次元計測装置。前記第1光パターンを第1周期の光パターンとすると共に、前記第2光パターンを前記第1周期とは異なる第2周期の光パターンとしたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の三次元計測装置。しかしながら、通常、カメラ等による撮像は、強い照明の下でより短時間に行う方が機械的振動の影響が小さくなることから、比較的短時間例えば2msecで行われる。一方、照明手段における格子の移送は、振動等を避けるため比較的長い時間例えば20msecをかけて行われる。また、格子として液晶シャッタ等を用いた場合でも、その切替制御には上記同様、比較的長い時間を要する。従って、上記特許文献1のように第1照射手段の格子の移送等と、第2照射手段の格子の移送等とを交互に行う構成の下、例えば所定の計測対象範囲につき、2つの光パターンの下で撮像する回数を合計8回各光パターンにつき4回ずつ、1回の撮像にかかる時間をそれぞれ[2msec]、1回の格子の移送にかかる時間をそれぞれ[20msec]と仮定した場合には、図5に示すように、所定の計測対象範囲に係る全ての処理が終了するまでに、第1格子の移送時間[20ms]第2格子の移送時間[20ms]×4回=合計[160msec]といった比較的長い計測時間を要することとなる。さらに、一枚のプリント基板上に計測対象範囲が多数設定されている場合には、当該一枚のプリント基板の計測に要する時間はさらにその数倍となる。そのため、計測時間のさらなる短縮化が求められる。なお、上記課題は、必ずしもプリント基板上に印刷されたクリームハンダ等の高さ計測に限らず、他の三次元計測装置の分野においても内在するものである。本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、位相シフト法を利用した三次元計測を行うにあたり、計測精度の向上を図ると共に、計測時間の短縮化を図ることのできる三次元計測装置を提供することにある。以下、上記課題を解決するのに適した各手段につき項分けして説明する。なお、必要に応じて対応する手段に特有の作用効果を付記する。手段1.所定の光を発する第1光源、及び、当該第1光源からの光を縞状の光強度分布を有する第1光パターンに変換する第1格子を有し、当該第1光パターンを第1位置から被計測物に対し照射可能な第1照射手段と、前記第1格子の移送又は切替を制御し、前記第1照射手段から照射する前記第1光パターンの位相を複数通りに変化させる第1格子制御手段と、所定の光を発する第2光源、及び、当該第2光源からの光を縞状の光強度分布を有する第2光パターンに変換する第2格子を有し、当該第2光パターンを前記第1位置とは異なる第2位置から被計測物に対し照射可能な第2照射手段と、前記第2格子の移送又は切替を制御し、前記第2照射手段から照射する前記第2光パターンの位相を複数通りに変化させる第2格子制御手段と、前記第1光パターン又は第2光パターンの照射された前記被計測物からの反射光を撮像可能な撮像手段と、複数通りに位相変化させた前記第1光パターン又は第2光パターンの照射に基づき取得した複数通りの画像データを基に位相シフト法により三次元計測を行う画像処理手段とを備え、前記位相の異なる複数通りの第1光パターンを照射して行われる複数回の撮像処理のうちの1回分である第1撮像処理、又は、前記位相の異なる複数通りの第2光パターンを照射して行われる複数回の撮像処理のうちの1回分である第2撮像処理のうちの一方の撮像処理を実行し、前記一方の撮像処理の終了後に、当該一方の撮像処理に係る前記第1格子又は前記第2格子の移送又は切替処理を開始し、前記移送又は切替処理の完了を待つことなく、前記両撮像処理のうちの他方の撮像処理を実行可能としたことを特徴とする三次元計測装置。上記手段1によれば、光パターンを2方向から照射することにより、被計測物に光パターンが照射されない影の部分が生じることを極力防止することができる。結果として、計測精度の向上を図ることができる。また、本手段では、第1光パターンの下での1回分の第1撮像処理、又は、第2光パターンの下での1回分の第2撮像処理のうちの一方の撮像処理を実行し、当該一方の撮像処理の終了後に、当該一方の撮像処理に係る格子の移送等を開始し、当該格子の移送等の完了を待つことなく、前記両撮像処理のうちの他方の撮像処理を実行可能な構成となっている。つまり、前記位相の異なる複数通りの第1光パターンを照射して行われる複数回の撮像処理のうちの1回分である第1撮像処理を実行し、前記第1撮像処理の終了後に、前記第1格子の移送又は切替処理を開始し、前記第1格子の移送又は切替処理の完了を待つことなく、前記位相の異なる複数通りの第2光パターンを照射して行われる複数回の撮像処理のうちの1回分である第2撮像処理を実行し、前記第2撮像処理の終了後に、前記第2格子の移送又は切替処理を開始し、前記第2格子の移送又は切替処理の完了を待つことなく、前記第1撮像処理を実行可能な構成となっている。このように、一方の格子の移送等の完了を待つことなく、他方の格子の下での撮像、ひいては当該撮像後の格子の移送等を行うことで、比較的長い時間を要する2つの格子の移送処理を一部で重複して行うことが可能となる。結果として、所定の計測対象範囲につき、三次元計測を行う上で必要な全ての画像データを取得するまでに要する時間を短縮することができる。手段2.前記両撮像処理のうちの一方の撮像処理の終了と同時に、当該一方の撮像処理に係る前記第1格子又は前記第2格子の移送又は切替処理を開始すると共に、前記両撮像処理のうちの他方の撮像処理を開始可能としたことを特徴とする手段1に記載の三次元計測装置。上記手段2によれば、前記第1撮像処理の終了と同時に、前記第1格子の移送又は切替処理を開始すると共に、前記第2撮像処理を開始し、前記第2撮像処理の終了と同時に、前記第2格子の移送又は切替処理を開始すると共に、前記第1撮像処理を開始可能となる。結果として、上記手段1の作用効果をさらに高め、計測時間のさらなる短縮化を図ることができる。例えば、所定の計測対象範囲につき、2つの光パターンの下で撮像する回数を合計8回各光パターンにつき4回ずつ、1回の撮像にかかる時間をそれぞれ[2msec]、1回の格子の移送又は切替にかかる時間をそれぞれ[20msec]と仮定した場合、本手段において、所定の計測対象範囲に係る全ての処理を終了するまでに必要な時間は、第1光パターン照射時の撮像時間[2ms]第2光パターン照射時の撮像時間[2ms]第2格子の移送時間[20ms]×4回=合計[90msec]となる。つまり、第1格子及び第2格子の移送等を交互に行う上記特許文献1の構成に比べて、[70msec約44]の短縮が可能となる。手段3.少なくとも前記各撮像処理が行われている間、前記撮像手段と前記被計測物との位置関係が固定されていることを特徴とする手段1又は2に記載の三次元計測装置。上記手段3によれば、撮像中における撮像手段と被計測物の位置関係が変化しないため、計測対象範囲の狭小化等を防止することができる。結果として、多数の計測対象範囲が設定されるプリント基板など、被計測物全体の計測にかかる計測時間の短縮化を図ることができる。手段4.前記第1光パターンを第1周期の光パターンとすると共に、前記第2光パターンを前記第1周期とは異なる例えば第1周期よりも長い第2周期の光パターンとしたことを特徴とする手段1乃至3のいずれかに記載の三次元計測装置。上記手段4によれば、長い周期の光パターン例えば第2光パターンを利用するメリットである計測可能な高さレンジを大きくできること、及び、周期の短い光パターン例えば第1光パターンを利用するメリットである分解能の高い高精度な計測を実現できることの双方の効果を得ることができる。結果として、広ダイナミックレンジで高分解能の計測を行うことができ、より高精度な計測を実現することができる。以下、一実施形態について図面を参照しつつ説明する。図1は、本実施形態における三次元計測装置を具備する基板検査装置1を模式的に示す概略構成図である。同図に示すように、基板検査装置1は、計測対象たるクリームハンダの印刷されてなる被計測物としてのプリント基板2を載置するための載置台3と、プリント基板2の表面に対し斜め上方から所定の光パターンを照射するための2つの照明装置第1照射手段としての第1照明装置4A、及び、第2照射手段としての第2照明装置4Bと、プリント基板2上の光パターンの照射された部分を撮像するための撮像手段としてのカメラ5と、基板検査装置1内における各種制御や画像処理、演算処理を実施するための制御装置6とを備えている。制御装置6が本実施形態における画像処理手段を構成する。第1照明装置4Aは、所定の光を発する第1光源4Aaと、当該第1光源4Aaからの光を縞状の光強度分布を有する第1光パターンに変換するための第1格子を形成する第1液晶シャッタ4Abとを備えており、プリント基板2に対し、斜め上方から4分の1ピッチずつ位相変化する縞状の第1光パターンを照射可能となっている。ここで、液晶シャッタ4Abにおける格子態様を切替制御する機構が第1格子制御手段に相当する。同様に、第2照明装置4Bは、所定の光を発する第2光源4Baと、当該第2光源4Baからの光を縞状の光強度分布を有する第2光パターンに変換するための第2格子を形成する第2液晶シャッタ4Bbとを備えており、プリント基板2に対し、斜め上方から4分の1ピッチずつ位相変化する縞状の第2光パターンを照射可能となっている。ここで、液晶シャッタ4Bbにおける格子態様を切替制御する機構が第2格子制御手段に相当する。より詳しくは、各照明装置4A,4Bにおいて、光源4Aa,4Baから発せられた光は光ファイバーにより一対の集光レンズに導かれ、そこで平行光にされる。その平行光が、液晶シャッタ4Ab,4Bbを介して投影レンズに導かれる。そして、投影レンズからプリント基板2に対し縞状の光パターンが照射される。このように、各照明装置4A,4Bに液晶シャッタ4Ab,4Bbを使用することによって、縞状の光パターンを作成した場合に、その照度が理想的な正弦波に近いものが得られ、これにより、三次元計測の計測分解能が向上する。また、光パターンの位相シフトの制御を電気的に行うことができ、制御系のコンパクト化を図ることができる。尚、本実施形態において、各照明装置4A,4Bは、各光パターンが、矩形状のプリント基板2の一対の辺と平行にX軸方向に沿って照射されるよう設定されている。つまり、光パターンの縞が、X軸方向に直交し、かつ、Y軸方向に平行に照射される。また、両照明装置4A,4Bは、カメラ5の撮像方向である略鉛直方向Z軸方向に沿って視た平面視X-Y平面において、プリント基板2を挟んで相対向する位置に配置されている。ここで、第1照明装置4Aが配置された位置が本実施形態における第1位置に相当し、第2照明装置4Bが配置された位置が第2位置に相当する。載置台3には、モータ15,16が設けられており、該モータ15,16が制御装置6により駆動制御されることによって、載置台3上に載置されたプリント基板2が任意の方向X軸方向及びY軸方向へスライドさせられるようになっている。カメラ5は、レンズや撮像素子等からなる。撮像素子としては、CMOSセンサを採用している。勿論、撮像素子はこれに限定されるものではなく、例えばCCDセンサ等を採用してもよい。次に、制御装置6の電気的構成について説明する。図2に示すように、制御装置6は、基板検査装置1全体の制御を司るCPU及び入出力インターフェース21、キーボードやマウス、あるいは、タッチパネルで構成される入力手段としての入力装置22、CRTや液晶などの表示画面を有する表示手段としての表示装置23、カメラ5による撮像に基づく画像データを記憶するための画像データ記憶装置24、各種演算結果を記憶するための演算結果記憶装置25、各種情報を予め記憶しておく設定データ記憶装置26を備えている。なお、これら各装置22~26は、CPU及び入出力インターフェース21に対し電気的に接続されている。以下、制御装置6にて実行される三次元計測処理の手順について図3のタイミングチャートを参照して詳しく説明する。制御装置6は、まずモータ15,16を駆動制御してプリント基板2を移動させ、カメラ5の視野をプリント基板2上の所定の検査エリア計測対象範囲に合わせる。なお、検査エリアは、カメラ5の視野の大きさを1単位としてプリント基板2の表面を予め分割しておいた中の1つのエリアである。併せて、制御装置6は、両照明装置4A,4Bの液晶シャッタ4Ab,4Bbを切替制御し、当該両液晶シャッタ4Ab,4Bbに形成される第1格子及び第2格子の位置を所定の基準位置に設定する。第1格子及び第2格子の切替設定が完了すると、制御装置6は、所定のタイミングT1にて、第1撮像処理を開始する。具体的には、第1照明装置4Aの第1光源4Aaを発光させ、第1光パターンの照射を開始すると共に、カメラ5を駆動制御して、当該第1光パターンが照射された検査エリア部分の撮像を開始する。そして、制御装置6は、撮像開始から所定時間本実施形態では2msec経過後のタイミングT2において、第1撮像処理を終了する。つまり、第1光パターンの照射を終了すると共に、当該第1光パターンに係る1回目の撮像を終了する。尚、カメラ5により撮像された画像データは、画像データ記憶装置24へ転送され記憶される。続けて、制御装置6は、前記第1撮像処理の終了と同時に、タイミングT2にて第2撮像処理を開始する。具体的には、第2照明装置4Bの第2光源4Baを発光させ、第2光パターンの照射を開始すると共に、カメラ5を駆動制御して、当該第2光パターンが照射された検査エリア部分の撮像を開始する。これと同時に、制御装置6は、タイミングT2にて第1照明装置4Aの第1液晶シャッタ4Abの切替処理を開始する。具体的には、第1液晶シャッタ4Abに形成される第1格子の位置を前記基準位置から、第1光パターンの位相が4分の1ピッチπ/2分ずれる第2の位置へ切替設定する。そして、制御装置6は、前記第2撮像処理の開始から所定時間本実施形態では2msec経過後のタイミングT3において、第2撮像処理を終了する。つまり、第2光パターンの照射を終了すると共に、当該第2光パターンに係る1回目の撮像を終了する。また、制御装置6は、前記第2撮像処理の終了と同時に、タイミングT3にて第2照明装置4Bの第2液晶シャッタ4Bbの切替処理を開始する。具体的には、第2液晶シャッタ4Bbに形成される第2格子の位置を前記基準位置から、第2光パターンの位相が4分の1ピッチπ/2分ずれる第2の位置へ切替設定する。そして、制御装置6は、前記第1液晶シャッタ4Abの切替処理の開始から所定時間本実施形態では20msec経過後のタイミングT4において、当該切替処理を終了する。同様に、制御装置6は、前記第2液晶シャッタ4Bbの切替処理の開始から所定時間本実施形態では20msec経過後のタイミングT5において、当該切替処理を終了する。以後、上記タイミングT1~T5の処理と同様の処理が複数回繰り返し行われる。つまり、前記第1液晶シャッタ4Abの切替処理の終了と同時に、制御装置6は、タイミングT4にて、上記1回目の第1撮像処理時よりも4分の1ピッチずれた第1光パターンの下で2回目の第1撮像処理を開始し、そこから2msec経過後のタイミングT5にて、当該2回目の第1撮像処理を終了する。また、制御装置6は、前記第2液晶シャッタ4Bbの切替処理の終了、及び、前記2回目の第1撮像処理の終了と同時に、タイミングT5にて、上記2回目の第2撮像処理時よりも4分の1ピッチずれた第2光パターンの下で2回目の第2撮像処理を開始する。このように、上記一連の処理を4回繰り返すことにより、所定の検査エリアにつき三次元計測を行う上で必要な全ての画像データ本実施形態では4画面分ずつ、合計8画面分の画像データを取得することができる。そして、制御装置6は、4通りに位相変化させた各光パターンの照射に基づき取得した4通りの画像データを基に、背景技術においても説明した公知の位相シフト法により高さ計測三次元計測を行う。このようにして得られた各検査エリア毎の計測データは、制御装置6の演算結果記憶装置25に格納される。そして、当該検査エリア毎の計測データに基づいて、基準面より高くなったクリームハンダの印刷範囲が検出され、この範囲内での各部位の高さを積分することにより、印刷されたクリームハンダの量が算出される。そして、このようにして求めたクリームハンダの位置、面積、高さ又は量等のデータが予め設定データ記憶装置26に記憶されている基準データと比較判定され、この比較結果が許容範囲内にあるか否かによって、その検査エリアにおけるクリームハンダの印刷状態の良否が判定される。かかる処理が行われている間に、制御装置6は、モータ15,16を駆動制御してプリント基板2を次の検査エリアへと移動せしめ、以降、上記一連の処理が、全ての検査エリアで繰り返し行われる。以上詳述したように、本実施形態によれば、光パターンを2方向から照射することにより、プリント基板2に光パターンが照射されない影の部分が生じることを極力防止することができる。結果として、計測精度の向上を図ることができる。また、本実施形態では、第1光パターンの下での1回分の第1撮像処理、又は、第2光パターンの下での1回分の第2撮像処理のうちの一方の撮像処理を実行し、当該一方の撮像処理の終了と同時に、当該一方の撮像処理に係る液晶シャッタ4Ab,4Bbの切替処理を開始し、当該切替処理の完了を待つことなく、両撮像処理のうちの他方の撮像処理を実行する構成となっている。このように、一方の液晶シャッタ4Ab,4Bbの切替処理の完了を待つことなく、他方の液晶シャッタ4Ab,4Bbの下での撮像、ひいては当該撮像後の液晶シャッタ4Ab,4Bbの切替処理を行うことで、比較的長い時間を要する2つの液晶シャッタ4Ab,4Bbの切替処理を一部で重複して行うことが可能となる。これにより、所定の検査エリアにつき、三次元計測を行う上で必要な全ての画像データを取得するまでに要する時間を短縮することができ、より高精度な計測をより短時間で実現することが可能となる。例えば、本実施形態において、所定の検査エリアに係る全ての処理を終了するまでに必要な時間は、第1撮像処理に要する時間[2ms]第2撮像処理に要する時間[2ms]第2格子の切替えに要する時間[20ms]×4回=合計[90msec]となる。さらに、本実施形態では、少なくとも所定の検査エリアに係るデータ取得が行われている間上記各撮像処理が行われている間、プリント基板2が停止されており、カメラ5とプリント基板2との位置関係が固定されている。つまり、撮像中におけるカメラ5とプリント基板2との位置関係が変化しないため、検査エリアの狭小化等を防止することができる。結果として、本実施形態のように多数の検査エリアが設定されるプリント基板2の計測において、計測時間の短縮化を図ることができる。尚、上記実施形態の記載内容に限定されず、例えば次のように実施してもよい。勿論、以下において例示しない他の応用例、変更例も当然可能である。a上記実施形態では、三次元計測装置を、プリント基板2に印刷形成されたクリームハンダの高さを計測する基板検査装置1に具体化したが、これに限らず、例えば基板上に印刷されたハンダバンプや、基板上に実装された電子部品など、他のものの高さを計測する構成に具体化してもよい。b上記実施形態の位相シフト法では、光パターンの位相を4分の1ピッチずつ変化させる構成となっているが、これに限らず、光パターンの位相を3分の1ピッチずつ変化させる構成としてもよい。c上記実施形態では、光源4Aa,4Baからの光を縞状の光パターンに変換するための格子を、液晶シャッタ4Ab,4Bbにより構成すると共に、これを切替制御することにより、光パターンの位相をシフトさせる構成となっている。これに限らず、例えば格子部材をピエゾアクチュエータ等の移送手段により移送させ、光パターンの位相をシフトさせる構成としてもよい。d上記実施形態では、光源4Aa,4Baの波長について特に言及していないが、各光源4Aa,4Baの波長を異ならせた構成としてもよい。例えば第1光源4Aaを第1の波長成分赤色成分を有する光を発する光源とすると共に、第2光源4Baを第2の波長成分緑色成分を有する光を発する光源としてもよい。e上記実施形態では、カメラ5の撮像処理について撮像としか記載していないが、より詳しくは、実質的な撮像にあたる露光処理と、撮像したデータの転送処理とに分けられる。従って、カメラ5として、一般のCCDカメラ等を用いた場合には、露光中にデータ転送を行うことができないため、上記実施形態のように第1撮像処理及び第2撮像処理を連続して行う場合には、図4aに示す例のように、露光処理とデータ転送処理とを交互に繰り返すこととなる。これに対し、カメラ5として、CMOSカメラや、データ転送中に露光可能な機能を持ったCCDカメラ等を用いた場合には、露光処理とデータ転送処理とを一部で重複して行うことができるため、撮像時間ひいては計測時間の短縮化を図ることができる。具体的に、露光時間が転送時間よりも短く設定されている場合には、図4bに示す例のように、第1の露光により取得した第1のデータ転送中に、第2の露光が終了しないぎりぎりのタイミングで、当該第2の露光を開始すれば、第1の露光により取得したデータの消失を防止しつつ、第1撮像処理及び第2撮像処理に要する撮像時間を極力短くすることができる。一方、露光時間が転送時間よりも長く設定されている場合には、図4cに示す例のように、第1の露光の終了直後に第2の露光を開始すれば、第1撮像処理及び第2撮像処理に要する撮像時間を極力短くすることができる。f上記実施形態では、第1撮像処理の終了と同時に第2撮像処理を開始する構成となっているが、これに限らず、例えば第1撮像処理が終了した後、所定時間例えば1msec経過後に第2撮像処理を開始する構成としてもよい。同様に、上記実施形態では、第1撮像処理第2撮像処理の終了と同時に第1液晶シャッタ4Ab第2液晶シャッタ4Bbの切替処理を開始する構成となっているが、これに限らず、例えば第1撮像処理が終了した後、所定時間例えば1msec経過後に第1液晶シャッタ4Abの切替処理を開始する構成としてもよい。g上記実施形態では、各光パターンの周期縞ピッチについて特に言及していないが、各光パターンの周期を異ならせた構成としてもよい。例えば第1光パターンを第1周期例えば600μmの光パターンとすると共に、第2光パターンを前記第1周期よりも長い第2周期例えば800μmの光パターンとしてもよい。このように周期の短い第1光パターンと、周期の長い第2光パターンとを組合わせて計測を行うようにすれば、長い周期の第2光パターンを利用するメリットである計測可能な高さレンジを大きくできること、及び、周期の短い第1光パターンを利用するメリットである分解能の高い高精度な計測を実現できることの双方の効果を得ることができる。結果として、広ダイナミックレンジで高分解能の計測を行うことができ、より高精度な計測を実現することができる。ここで、1種類1方向のみならず、同種同周期の光パターンを複数方向から照射する構成としてもよい。例えば、上記実施形態のように相対向して配置される第1照明装置4A及び第2照明装置4Bを2組備え、当該4つの照明装置4A,4Bを、プリント基板2を中心に90°間隔で配置した構成としてもよい。但し、かかる構成では、第1光パターン又は第2光パターンのいずれか一方しか照射されない領域が生じてしまうおそれもある。これに対し、例えば第1照明装置4A及び第2照明装置4Bをそれぞれ2つずつ備えると共に、当該第1照明装置4A及び第2照明装置4Bがプリント基板2を中心に90°間隔で交互に配置される構成、つまり2つの第1照明装置4Aが相対向するように配置されると共に、2つの第2照明装置4Bが相対向するように配置された構成としてもよい。かかる構成により、第1光パターン又は第2光パターンのいずれか一方しか照射されない領域が生じる割合を極力減らすことができる。結果として、より精度の高い計測を行うことができる。h上記実施形態では、各光パターンが、矩形状のプリント基板2の一対の辺と平行にX軸方向に沿って照射される。つまり、光パターンの縞が、X軸方向に直交し、かつ、Y軸方向に平行に照射される構成となっている。これに限らず、例えば、光パターンの縞が、矩形状のプリント基板2やカメラ5の撮像視野検査エリアの各辺に対し斜め例えば平面視斜め45度に交差するように照射される構成としてもよい。i上記実施形態では、照明装置4A,4Bが、カメラ5の撮像方向である略鉛直方向Z軸方向に沿って視た平面視X-Y平面において、プリント基板2を挟んで相対向する位置に、プリント基板2を中心に平面視等間隔で配置されている。これに限らず、照明装置4A,4Bの配置は、各光パターンが照射されない影の部分が生じないよう、プリント基板2の構成等に応じて任意に設定可能である。"