"A成分である光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物と、B成分であるヒドロキシ基又はカルボキシル基のいずれか一方又は双方を有するポリマーと、C成分である架橋剤とを含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記A成分の光配向性基が光二量化又は光異性化する構造の官能基である、請求項1に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記A成分の光配向性基がシンナモイル基である、請求項1又は請求項2に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記A成分の光配向性基がアゾベンゼン構造の基である、請求項1又は請求項2に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記B成分が、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基のうち少なくとも一方と、カルボキシル基及びフェノール性ヒドロキシ基のうち少なくとも一方とを有するアクリル重合体である、請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記B成分が、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基を有するモノマー及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基を有するモノマーのうち少なくとも一方と、カルボキシル基を有するモノマー及びフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーのうち少なくとも一方とを含むモノマーの重合反応により得られるアクリル共重合体である、請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記B成分がフェノールノボラック樹脂である、請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記B成分がシクロデキストリン又はその誘導体である、請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記B成分がカルボキシル基を有するポリエステル樹脂である、請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記C成分の架橋剤がメチロール基又はアルコキシメチロール基を有する架橋剤である、請求項1乃至請求項9のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。更に、D成分として酸又は熱酸発生剤を含有する、請求項1乃至請求項10のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。更に、E成分として増感剤を含有する、請求項1乃至請求項11のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記A成分と前記B成分との比率が質量比で5:95乃至60:40である、請求項1乃至請求項12のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記A成分と前記B成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部の前記C成分を含有する、請求項1乃至請求項13のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記A成分と前記B成分との合計量の100質量部に基づいて、0.01乃至10質量部の前記D成分を含有する、請求項11乃至請求項14のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記A成分と前記B成分との合計量の100質量部に基づいて、0.1乃至20質量部の前記E成分を含有する、請求項12乃至請求項15のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。前記成分A、前記成分B及び前記成分Cを溶解する溶剤としてグリコール系溶剤又はグリコールエステル系溶剤を更に含有することを特徴とする、請求項1乃至請求項16のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。請求項1乃至請求項17のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物から形成される液晶配向層。請求項1乃至請求項17のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物を用いて得られる位相差層を備えた光デバイス。請求項1乃至請求項17のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物から形成されるパターン化位相差板。しかしながら、特許文献3に記載の液晶配向層は、カラーフィルタのオーバーコート材として用いるには透明性が低いという問題があった。また、ポリイミド及びポリアミック酸はN-メチルピロリドン、γ-ブチロラクトン等の溶剤に可溶であるが、グリコール系溶剤、エステル系溶剤及びケトン系溶剤に対する溶解性が低く、そのような溶剤が用いられるオーバーコート作製ラインへの適用は難しい。特許文献4に記載の技術においては、偏光照射時の光二量化反応率が低いと重合性液晶塗布時にインターミキシングが生じて配向不良となるため、かなりの露光量が必要となる。特許文献5に記載の技術では、エポキシ系架橋剤を数添加しているが、これは液晶のチルト安定性を向上させるためのものであって、ポリマー中にはエポキシ基と反応する部位がない。そのため、重合性液晶を用いた場合、やはり、偏光照射時の光二量化反応率が低いと重合性液晶塗布時にインターミキシングが生じて配向不良となるため、かなりの露光量が必要となる。また、光を照射して液晶配向性を付与する技術において、液晶配向層に通常の偏光UV露光量例えば100mJ/cm2を照射したのでは、光二量化反応率が低く十分に架橋されず、溶剤耐性及び耐熱性が低いものとなる。そのため、前記液晶配向層上に位相差材層を形成するために重合性液晶を塗布した際に、該液晶配向層が溶解し、十分な配向性を示すことは出来なかった。また、光二量化反応率を高くするために露光量を1J/cm2以上に増大させると、重合性液晶の配向性は向上するが、露光時間が大変長くなるため実用的な方法とはいえない。さらに、従来の液晶配向層に用いられる材料は、架橋化部位として光二量化部位しか有しない材料であったため、架橋部位の数が全体として少なく、作られる液晶配向層は充分な耐熱性を持つものとはならない。そのため、位相差材の形成後に200°C以上で行われる表示素子の製造工程の際、液晶配向層が大きく収縮することも懸念される。一方、3Dディスプレイの方式の一つとして円偏光めがね方式が実用化されている。この方式では液晶ディスプレイのパネル上にパターン化位相差板が貼り付けられているが、このパターン化位相差板は一般的に重合性液晶からなる位相差材料を光学パターニングすることで作製される。重合性液晶の光学パターニングは光配向膜に偏光方向が交互に異なる偏光を照射することで行うことが出来る。パターン化位相差板の製造工程ではこの偏光露光工程に時間が費やされるため、生産性を向上させるためには光配向膜の配向感度を向上させる必要があった。また、近年パターン化位相差板を従来のガラス基板からTACトリアセチルセルロース、以下TACと称する。フィルムなどの安価なフィルム上に形成しロールツーロールにて生産することでコスト削減を行う検討がなされている。しかしながら、従来の光配向膜は溶解性が低く、用いられる溶剤にTACフィルムが耐性を持たないことから、これまで直接TACフィルムに塗布できる光配向材料がなかった。本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、硬化膜形成後には高い溶剤耐性、重合性液晶に対する優れた光配向能、十分な耐熱性、並びに高い透明性を示し、しかも硬化膜形成時においては、カラーフィルタのオーバーコートの作製において適用可能なグリコール系溶剤、ケトン系溶剤又は乳酸エステル系溶剤に溶解できる材料を提供することにある。本発明者は、上記の課題を解決するべく鋭意研究を行った結果、本発明を見出すに至った。すなわち、第1観点として、A成分である光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物と、B成分であるヒドロキシ基又はカルボキシル基のいずれか一方又は双方を有するポリマーと、C成分である架橋剤とを含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第2観点として、前記A成分の光配向性基が光二量化又は光異性化する構造の官能基である、第1観点に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第3観点として、前記A成分の光配向性基がシンナモイル基である、第1観点又は第2観点に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第4観点として、前記A成分の光配向性基がアゾベンゼン構造の基である、第1観点又は第2観点に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第5観点として、前記B成分が、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基のうち少なくとも一方と、カルボキシル基及びフェノール性ヒドロキシ基のうち少なくとも一方とを有するアクリル重合体である、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第6観点として、前記B成分が、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基を有するモノマー及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基を有するモノマーのうち少なくとも一方と、カルボキシル基を有するモノマー及びフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーのうち少なくとも一方とを含むモノマーの重合反応により得られるアクリル共重合体である、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第7観点として、前記B成分がフェノールノボラック樹脂である、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第8観点として、前記B成分がシクロデキストリン又はその誘導体である、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第9観点として、前記B成分がカルボキシル基を有するポリエステル樹脂である、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第10観点として、前記C成分の架橋剤がメチロール基又はアルコキシメチロール基を有する架橋剤である、第1観点乃至第9観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第11観点として、更に、D成分として酸又は熱酸発生剤を含有する、第1観点乃至第10観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第12観点として、更に、E成分として増感剤を含有する、第1観点乃至第11観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第13観点として、前記A成分と前記B成分との比率が質量比で5:95乃至60:40である、第1観点乃至第12観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第14観点として、前記A成分と前記B成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部の前記C成分を含有する、第1観点乃至第13観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第15観点として、前記A成分と前記B成分との合計量の100質量部に基づいて、0.01乃至10質量部の前記D成分を含有する、第11観点乃至第14観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第16観点として、前記A成分と前記B成分との合計量の100質量部に基づいて、0.1乃至20質量部の前記E成分を含有する、第12観点乃至第15観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第17観点として、前記成分A、前記成分B及び前記成分Cを溶解する溶剤としてグリコール系溶剤又はグリコールエステル系溶剤を更に含有することを特徴とする、第1観点乃至第16観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。第18観点として、第1観点乃至第17観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物から形成される液晶配向層に関する。第19観点として、第1観点乃至第17観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物を用いて得られる位相差層を備えた光デバイスに関する。第20観点として、第1観点乃至第17観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物から形成されるパターン化位相差板に関する。本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物は、高い透明性、高い溶剤耐性、高い耐熱性に加えて、光照射による液晶配向能光配向性を有する硬化膜を形成できるため、光配向性の液晶配向膜及びオーバーコートの形成材料として用いることができる。特に、ディスプレイのセル内に位相差材を形成するための重合性液晶を配向させる層とカラーフィルタのオーバーコートの層との両者の特性を兼ね備える重合性液晶配向層を一度に形成することが可能となり、製造工程の簡略化及びプロセス数低減による低コスト化等を実現できる。さらに本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物は、グリコール系溶剤、ケトン系溶剤及び乳酸エステル系溶剤に可溶であることから、これら溶剤を主として使用するカラーフィルタのオーバーコート作製ラインに好適に使用できる。本発明は、前述の透明性、溶剤耐性、耐熱性に加えて、光照射による液晶配向能光配向性の性能向上を図った点に特徴がある。すなわち、本発明はA成分である光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物と、B成分であるヒドロキシ基又はカルボキシル基のいずれか一方又は双方を有するポリマーと、C成分である架橋剤とを含有する、光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。更には、A成分、B成分、C成分に加えて、D成分として酸又は熱酸発生剤、E成分として増感剤をも含有することのできる光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。ここで、光配向性を有する熱硬化膜とは、直線偏向光を照射することにより光学的異方性が誘起される、加熱により硬化した膜をいう。以下、各成分の詳細を説明する。<A成分>A成分は光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物である。本発明において、光配向性基とは光二量化又は光異性化する構造部位の官能基をいう。光二量化する構造部位とは、光照射により二量体を形成する構造部位を指し、その具体例としてはシンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等が挙げられる。これらのうち可視光領域での高い透明性及び光二量化反応性を有するシンナモイル基が好ましい。また、光異性化する構造部位とは、光照射によりシス体とトランス体とに変わる構造部位を指し、その具体例としてはアゾベンゼン構造、スチルベン構造等からなる部位が挙げられる。これらのうち反応性の高さからアゾベンゼン構造が好ましい。光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物は下記式で表される。上記式中、X1は単結合を表すか、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、アミノ結合又は尿素結合を介して結合した炭素原子数1乃至18のアルキレン基、フェニレン基、ビフェニレン基又はシクロヘキシレン基を表す。その際、アルキレン基、フェニレン基及びビフェニレン基はハロゲン原子及びシアノ基から選ばれる同一又は相異なった1以上の置換基によって置換されていてもよい。X2は水素原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基又はシクロヘキシル基を表す。その際、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基及びシクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、アミノ結合又は尿素結合を介して結合してもよく、フェニル基及びビフェニル基はハロゲン原子及びシアノ基のいずれかによって置換されていてもよい。R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1乃至4のアルキル基、炭素数1乃至4のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。前記光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物の具体例としては、例えば、4-8-ヒドロキシオクチルオキシけい皮酸メチルエステル、4-6-ヒドロキシヘキシルオキシけい皮酸メチルエステル、4-4-ヒドロキシブチルオキシけい皮酸メチルエステル、4-3-ヒドロキシプロピルオキシけい皮酸メチルエステル、4-2-ヒドロキシエチルオキシけい皮酸メチルエステル、4-ヒドロキシメチルオキシけい皮酸メチルエステル、4-ヒドロキシけい皮酸メチルエステル、4-8-ヒドロキシオクチルオキシけい皮酸エチルエステル、4-6-ヒドロキシヘキシルオキシけい皮酸エチルエステル、4-4-ヒドロキシブチルオキシけい皮酸エチルエステル、4-3-ヒドロキシプロピルオキシけい皮酸エチルエステル、4-2-ヒドロキシエチルオキシけい皮酸エチルエステル、4-ヒドロキシメチルオキシけい皮酸エチルエステル、4-ヒドロキシけい皮酸エチルエステル、4-8-ヒドロキシオクチルオキシけい皮酸フェニルエステル、4-6-ヒドロキシヘキシルオキシけい皮酸フェニルエステル、4-4-ヒドロキシブチルオキシけい皮酸フェニルエステル、4-3-ヒドロキシプロピルオキシけい皮酸フェニルエステル、4-2-ヒドロキシエチルオキシけい皮酸フェニルエステル、4-ヒドロキシメチルオキシけい皮酸フェニルエステル、4-ヒドロキシけい皮酸フェニルエステル、4-8-ヒドロキシオクチルオキシけい皮酸ビフェニルエステル、4-6-ヒドロキシヘキシルオキシけい皮酸ビフェニルエステル、4-4-ヒドロキシブチルオキシけい皮酸ビフェニルエステル、4-3-ヒドロキシプロピルオキシけい皮酸ビフェニルエステル、4-2-ヒドロキシエチルオキシけい皮酸ビフェニルエステル、4-ヒドロキシメチルオキシけい皮酸ビフェニルエステル、4-ヒドロキシけい皮酸ビフェニルエステル、けい皮酸8-ヒドロキオクチルエステル、けい皮酸6-ヒドロキシヘキシルエステル、けい皮酸4-ヒドロキシブチルエステル、けい皮酸3-ヒドロキシプロピルエステル、けい皮酸2-ヒドロキシエチルエステル、けい皮酸ヒドロキシメチルエステル、4-8-ヒドロキシオクチルオキシアゾベンゼン、4-6-ヒドロキシヘキシルオキシアゾベンゼン、4-4-ヒドロキシブチルオキシアゾベンゼン、4-3-ヒドロキシプロピルオキシアゾベンゼン、4-2-ヒドロキシエチルオキシアゾベンゼン、4-ヒドロキシメチルオキシアゾベンゼン、4-ヒドロキシアゾベンゼン、4-8-ヒドロキシオクチルオキシカルコン、4-6-ヒドロキシヘキシルオキシカルコン、4-4-ヒドロキシブチルオキシカルコン、4-3-ヒドロキシプロピルオキシカルコン、4-2-ヒドロキシエチルオキシカルコン、4-ヒドロキシメチルオキシカルコン、4-ヒドロキシカルコン、4’-8-ヒドロキシオクチルオキシカルコン、4’-6-ヒドロキシヘキシルオキシカルコン、4’-4-ヒドロキシブチルオキシカルコン、4’-3-ヒドロキシプロピルオキシカルコン、4’-2-ヒドロキシエチルオキシカルコン、4’-ヒドロキシメチルオキシカルコン、4’-ヒドロキシカルコン、7-8-ヒドロキシオクチルオキシクマリン、7-6-ヒドロキシヘキシルオキシクマリン、7-4-ヒドロキシブチルオキシクマリン、7-3-ヒドロキシプロピルオキシクマリン、7-2-ヒドロキシエチルオキシクマリン、7-ヒドロキシメチルオキシクマリン、7-ヒドロキシクマリン、6-ヒドロキシオクチルオキシクマリン、6-ヒドロキシヘキシルオキシクマリン、6-4-ヒドロキシブチルオキシクマリン、6-3-ヒドロキシプロピルオキシクマリン、6-2-ヒドロキシエチルオキシクマリン、6-ヒドロキシメチルオキシクマリン、6-ヒドロキシクマリンが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、本発明においては、A成分の化合物としては、複数種の光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物の混合物であってもよい。<B成分>B成分はヒドロキシ基又はカルボキシル基のいずれか一方又は双方を有するポリマー以下、特定重合体ともいうである。本発明において、特定重合体としては、ヒドロキシ基又はカルボキシル基のいずれか一方又は双方を有するものであればよく、例えばアクリル重合体、フェノールノボラック樹脂、シクロデキストリン類、セルロース類、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステルなどが挙げられる。このうち、アクリル重合体としてはアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる重合体が適用されうる。B成分の特定重合体としては、好ましくは、例えば、フェノールノボラック樹脂、シクロデキストリン類、セルロース類、ポリエステル、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基のうち少なくとも一方と、カルボキシル基及びフェノール性ヒドロキシ基のうち少なくとも一方とを有するアクリル重合体である。B成分の特定重合体の一種である炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基のうち少なくとも一方と、カルボキシル基及びフェノール性ヒドロキシ基のうち少なくとも一方とを有するアクリル重合体は、斯かる構造を有するアクリル重合体であればよく、アクリル重合体を構成する高分子の主鎖の骨格及び側鎖の種類などについて特に限定されない。炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基のうち少なくとも一方を有する構造単位として、好ましい構造単位は下記式B1で表される。カルボキシル基及びフェノール性ヒドロキシ基のうち少なくとも一方を有する構造単位として、好ましい構造単位は下記式B2で表される。上記式中、X3及びX4はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、Y1は炭素原子数1乃至4のアルキル基又は炭素原子数1乃至3のヒドロキシアルキル基を表し、Y2はカルボキシル基又はフェノール性ヒドロキシ基を表す。B成分のポリマーは、重量平均分子量が3,000乃至200,000であることが好ましく、4,000乃至150,000であることがより好ましく、5,000乃至100,000であることがさらになお好ましい。重量平均分子量が200,000を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、重量平均分子量が3,000未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性及び耐熱性が低下する場合がある。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにより、標準試料としてポリスチレンを用いて得られる値である。B成分のポリマーの一種であるアクリル重合体の合成方法としては、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基のうち少なくとも一方を有するモノマー以下、b1モノマーともいうとカルボキシル基及びフェノール性ヒドロキシ基のうち少なくとも一方を有するモノマー以下、b2モノマーともいうとを共重合する方法が簡便である。前記炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基を有するモノマーとしては、例えばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルメタクリレート、エチルアクリレート、プロピルメタクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルメタクリレート、ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、t-ブチルメタクリレート、t-ブチルアクリレートが挙げられる。前記炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基を有するモノマーとしては、例えば2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレートが挙げられる。前記カルボキシル基を有するモノマーとしては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ビニル安息香酸が挙げられる。前記フェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えばp-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレン、o-ヒドロキシスチレンが挙げられる。なお、B成分の特定重合体を得る際に用いることができる、ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、前記のもの以外に、例えば、ビニルアルコール、アリルアルコール、エチルビニルカルビトール、1,1-ジメチルアリルアルコール、ビニルカルビトール、ビニルグリコールなどが挙げられる。また、本発明においては、B成分の特定重合体を得る際に、本発明の効果を損なわない限り、ヒドロキシ基及びカルボキシル基のいずれも有さないモノマーを併用することができる。そのようなモノマーとしては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。B成分のポリマーとしてアクリル重合体を得るために用いるb1モノマー及びb2モノマーの使用量は、B成分のポリマーとしてアクリル重合体を得るために用いる全モノマーの合計量に基づいて、b1モノマーが2乃至95モル、b2モノマーが5乃至98モルであることが好ましい。b2モノマーとしてカルボキシル基のみを有するモノマーを用いる場合、B成分のポリマーとしてアクリル重合体を得るために用いる全モノマーの合計量に基づいて、b1モノマーが60乃至95モル、b2モノマーが5乃至40モルであることが好ましい。他方、b2モノマーとしてフェノール性ヒドロキシ基のみを有するモノマーを用いる場合、b1モノマーが2乃至80モル、b2モノマーが20乃至98モルであることが好ましい。b2モノマーが過小の場合は液晶配向性が不充分となり易く、過大の場合はA成分の光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物との相溶性が低下し易い。B成分のポリマーとしてアクリル重合体を得る方法は特に限定されないが、例えば、b1モノマーとb2モノマーと所望によりb1モノマー及びb2モノマー以外のモノマーと重合開始剤等とを共存させた溶剤中において、50乃至110°Cの温度下で重合反応により得られる。その際、用いられる溶剤は、b1モノマーとb2モノマー、所望により用いられるb1モノマー及びb2モノマー以外のモノマー並びに重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する<溶剤>に記載する。前記方法により得られるB成分のポリマーとしてのアクリル重合体は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態である。また、上記方法で得られたB成分のポリマーとしてのアクリル重合体の溶液を、攪拌下のジエチルエーテルや水等に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過洗浄した後に、常圧又は減圧下で、常温乾燥又は加熱乾燥し、B成分のポリマーとしてのアクリル重合体の粉体とすることができる。前記操作により、B成分のポリマーとしてアクリル重合体と共存する重合開始剤及び未反応のモノマーを除去することができ、その結果、精製したB成分のアクリル重合体の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解させ、上記の操作を繰り返し行えば良い。本発明においては、B成分のポリマーの一種であるアクリル重合体は粉体形態で、あるいは精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。また、本発明においては、B成分のポリマーとしては、複数種のヒドロキシ基及びカルボキシル基のいずれか一方又は双方を有するポリマーの混合物であってもよい。<C成分>本発明のC成分は、A成分である化合物のヒドロキシ基及びB成分に含まれるヒドロキシ基及び/又はカルボキシル基部位と結合する架橋剤である。架橋剤としては、エポキシ化合物、メチロール化合物、及びイソシアナート化合物等の化合物が挙げられるが、好ましくはメチロール化合物である。前記メチロール化合物の具体例としては、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン及びアルコキシメチル化メラミン等の化合物が挙げられる。アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、1,3,4,6-テトラキスメトキシメチルグリコールウリル、1,3,4,6-テトラキスブトキシメチルグリコールウリル、1,3,4,6-テトラキスヒドロキシメチルグリコールウリル、1,3-ビスヒドロキシメチル尿素、1,1,3,3-テトラキスブトキシメチル尿素、1,1,3,3-テトラキスメトキシメチル尿素、1,3-ビスヒドロキシメチル-4,5-ジヒドロキシ-2-イミダゾリノン、及び1,3-ビスメトキシメチル-4,5-ジメトキシ-2-イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、日本サイテックインダストリーズ旧三井サイテック株製グリコールウリル化合物商品名:サイメル[登録商標]1170、パウダーリンク[登録商標]1174等の化合物、メチル化尿素樹脂商品名:UFR[登録商標]65、ブチル化尿素樹脂商品名:UFR[登録商標]300、U-VAN10S60、U-VAN10R、U-VAN11HV、DIC旧大日本インキ化学工業株製尿素/ホルムアルデヒド系樹脂高縮合型、商品名:ベッカミン[登録商標]J-300S、同P-955、同N等が挙げられる。アルコキシメチル化ベンゾグアナミンの具体例としてはテトラメトキシメチルベンゾグアナミン等が挙げられる。市販品として、日本サイテックインダストリーズ旧三井サイテック株製商品名:サイメル[登録商標]1123、株三和ケミカル製商品名:ニカラック[登録商標]BX-4000、同BX-37、同BL-60、同BX-55H等が挙げられる。アルコキシメチル化メラミンの具体例としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。市販品として、日本サイテックインダストリーズ旧三井サイテック株製メトキシメチルタイプメラミン化合物商品名:サイメル[登録商標]300、同301、同303、同350、ブトキシメチルタイプメラミン化合物商品名:マイコート[登録商標]506、同508、三和ケミカル製メトキシメチルタイプメラミン化合物商品名:ニカラック[登録商標]MW-30、同MW-22、同MW-11、同MS-001、同MX-002、同MX-730、同MX-750、同MX-035、ブトキシメチルタイプメラミン化合物商品名:ニカラック[登録商標]MX-45、同MX-410、同MX-302等が挙げられる。また、このようなアミノ基の水素原子がメチロール基又はアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物、尿素化合物、グリコールウリル化合物及びベンゾグアナミン化合物を縮合させて得られる化合物であってもよい。例えば、米国特許第6323310号に記載されているメラミン化合物及びベンゾグアナミン化合物から製造される高分子量の化合物が挙げられる。前記メラミン化合物の市販品としては商品名:サイメル[登録商標]303日本サイテックインダストリーズ三井サイテック株製等が挙げられ、前記ベンゾグアナミン化合物の市販品としては商品名:サイメル[登録商標]1123日本サイテックインダストリーズ三井サイテック株製等が挙げられる。さらに、C成分としては、N-ヒドロキシメチルアクリルアミド、N-メトキシメチルメタクリルアミド、N-エトキシメチルアクリルアミド、N-ブトキシメチルメタクリルアミド等のヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基で置換されたアクリルアミド化合物又はメタクリルアミド化合物を使用して製造されるポリマーも用いることができる。そのようなポリマーとしては、例えば、ポリN-ブトキシメチルアクリルアミド、N-ブトキシメチルアクリルアミドとスチレンとの共重合体、N-ヒドロキシメチルメタクリルアミドとメチルメタクリレートとの共重合体、N-エトキシメチルメタクリルアミドとベンジルメタクリレートとの共重合体、及びN-ブトキシメチルアクリルアミドとベンジルメタクリレートと2-ヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。このようなポリマーの重量平均分子量は、1,000乃至500,000であり、好ましくは2,000乃至200,000であり、より好ましくは3,000乃至150,000であり、更に好ましくは3,000乃至50,000である。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにより、標準試料としてポリスチレンを用いて得られる値である。これらの架橋剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物におけるC成分の架橋剤の含有量は、A成分の化合物とB成分のポリマーとの合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部であることが好ましく、より好ましくは15乃至80質量部である。架橋剤の含有量が過小である場合には、光配向性を有する熱硬化膜形成組成物から得られる硬化膜の溶剤耐性及び耐熱性が低下し、光配向時の感度が低下する。他方、架橋剤の含有量が過大である場合には光配向性及び保存安定性が低下することがある。<D成分>本発明においてはD成分として酸又は熱酸発生剤を含有しても良い。このD成分は、本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の熱硬化反応を促進させることにおいて有効である。D成分としては、スルホン酸基含有化合物、塩酸又はその塩、及びプリベーク又はポストベーク時に熱分解して酸を発生する化合物、すなわち温度80°Cから250°Cで熱分解して酸を発生する化合物であれば特に限定されるものではない。そのような化合物としては例えば、塩酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペンタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p-フェノールスルホン酸、2-ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p-キシレン-2-スルホン酸、m-キシレン-2-スルホン酸、4-エチルベンゼンスルホン酸、1H,1H,2H,2H-パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ2-エトキシエタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン-1-スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸又はその水和物や塩等が挙げられる。熱により酸を発生する化合物としては例えばビストシルオキシエタン、ビストシルオキシプロパン、ビストシルオキシブタン、p-ニトロベンジルトシレート、o-ニトロベンジルトシレート、1,2,3-フェニレントリスメチルスルホネート、p-トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、p-トルエンスルホン酸モルフォニウム塩、p-トルエンスルホン酸エチルエステル、p-トルエンスルホン酸プロピルエステル、p-トルエンスルホン酸ブチルエステル、p-トルエンスルホン酸イソブチルエステル、p-トルエンスルホン酸メチルエステル、p-トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルp-トルエンスルホネート、2,2,2-トリフルオロエチルp-トルエンスルホネート、2-ヒドロキシブチルp-トルエンスルホネート、N-エチル-p-トルエンスルホンアミド、等が挙げられる。本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物におけるD成分の含有量は、A成分の化合物とB成分のポリマーとの合計量の100質量部に対して、好ましくは0.01乃至10質量部、より好ましくは0.1乃至6質量部、更に好ましくは0.5乃至5質量部である。D成分の含有量を0.01質量部以上とすることで、充分な熱硬化性及び溶剤耐性を付与することができ、さらに光照射に対する高い感度をも付与することができる。しかし、10質量部より多い場合、組成物の保存安定性が低下する場合がある。<E成分>本発明においてはE成分として増感剤を含有しても良い。このE成分は、本発明の熱硬化膜形成後の光二量化反応を促進させることにおいて有効である。E成分の増感剤としてはベンゾフェノン、アントラセン、アントラキノン、チオキサントン等及びその誘導体、並びにニトロフェニル化合物等が挙げられる。これらのうち、ベンゾフェノン誘導体及びニトロフェニル化合物が好ましい。好ましい化合物の具体例としては、N,N-ジエチルアミノベンゾフェノン、2-ニトロフルオレン、2-ニトロフルオレノン、5-ニトロアセナフテン、4-ニトロビフェニル、4-ニトロけい皮酸、4-ニトロスチルベン、4-ニトロベンゾフェノン、5-ニトロインドール等があげられる。特に、ベンゾフェノンの誘導体であるN,N-ジエチルアミノベンゾフェノンが好ましい。これらの増感剤は上記のものに限定されるものではない。また、増感剤は単独で又は2種以上の化合物を組み合わせて併用することが可能である。本発明におけるE成分の増感剤の含有量は、A成分の化合物とB成分のポリマーとの合計質量の100質量部に対して0.1乃至20質量部であることが好ましく、より好ましくは0.2乃至10質量部である。この含有量が過小である場合には、増感剤としての効果を充分に得られない場合があり、過大である場合には透過率の低下及び塗膜の荒れが生じることがある。<溶剤>本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物は、主として溶剤に溶解した溶液状態で用いられる。その際に使用する溶剤は、A成分、B成分及びC成分、必要に応じてD成分、E成分及び/又は、後述するその他添加剤を溶解できればよく、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。溶剤の具体例としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ブタノン、3-メチル-2-ペンタノン、2-ペンタノン、2-ヘプタノン、γ-ブチロラクトン、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、及びN-メチルピロリドン等が挙げられる。TACフィルムを用いる場合は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1-プロパノール、ブタノール、2-メチル-1-ブタノール、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が、TACフィルムが耐性を示す溶剤であるという点から好ましい。これらの溶剤は、1種単独で又は2種以上の組合せで使用することができる。これらの溶剤のうち、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、乳酸エチル、乳酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチルはカラーフィルタのオーバーコートの作製ラインで適用可能であり、成膜性が良好で、安全性が高いためより好ましい。<その他添加剤>更に、本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、シランカップリング剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤等を含有することができる。<光配向性を有する熱硬化膜形成組成物>本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物は、A成分の化合物と、B成分のポリマーと、C成分の架橋剤とを含有し、所望によりD成分の酸又は熱酸発生剤、E成分の増感剤、更にその他添加剤のうち一種以上を含有することができる組成物である。そして、通常は、それらが溶剤に溶解した溶液として用いられる。A成分とB成分の配合比は、質量比で5:95乃至60:40が好ましい。B成分の含有量がこの配合比の範囲より過大の場合は液晶配向性が低下し易く、この配合比の範囲より過小の場合は溶剤耐性が低下することにより配向性が低下し易い。本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の好ましい例は、以下のとおりである。[1]:A成分とB成分の配合比が質量比で5:95乃至60:40であり、A成分とB成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部のC成分を含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。[2]:A成分とB成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部のC成分、溶剤を含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。[3]:A成分とB成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部のC成分、0.01乃至5質量部のD成分、溶剤を含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。[4]:A成分とB成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部のC成分、0.01乃至5質量部のD成分、0.1乃至20質量部のE成分、溶剤を含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物を溶液として用いる場合の配合割合、調製方法等を以下に詳述する。本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、1乃至80質量であり、好ましくは3乃至60質量であり、より好ましくは5乃至40質量である。ここで、固形分とは、光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の全成分から溶剤を除いた成分をいう。本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の調製方法は、特に限定されない。調製方法としては、例えば、溶剤に溶解したB成分の溶液にA成分及びC成分、さらにはD成分、E成分を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法、或いは、この調製方法の適当な段階において、必要に応じてその他添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の調製においては、溶剤中の重合反応によって得られる特定重合体の溶液をそのまま使用することができる。この場合、例えば、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基を有するモノマー及び炭素原子数1乃至4のヒドロキシアルキルエステル基を有するモノマーのうち少なくとも一方と、カルボキシル基を有するモノマー及びフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーのうち少なくとも一方とを共重合させて得られるB成分の溶液に前記と同様にA成分及びC成分、D成分、E成分などを入れて均一な溶液とする。この際に、濃度調整を目的としてさらに溶剤を追加投入してもよい。このとき、B成分の生成過程で用いられる溶剤と、光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の濃度調整に用いられる溶剤とは同一であってもよく、また異なってもよい。また、調製された光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の溶液は、孔径が0.2μm程度のフィルタなどを用いて濾過した後、使用することが好ましい。<塗膜、硬化膜及び液晶配向層>本発明の一態様である光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の溶液を基板例えば、シリコン/二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロムなどが被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ITO基板等やフィルム例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム等の上に、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷などによって塗布し、その後、ホットプレート又はオーブン等で予備乾燥プリベークすることにより、塗膜を形成することができる。その後、この塗膜を加熱処理ポストベークすることにより、硬化膜が形成される。プリベークの条件としては、例えば、温度70°C乃至140°C、時間0.4乃至60分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度及び加熱時間が採用される。加熱温度及び加熱時間は、好ましくは80°C乃至130°C、0.5乃至10分間である。ポストベークとしては、例えば、温度100°C乃至250°Cの範囲の中から選択された加熱温度にて、ホットプレート上の場合には1乃至30分間、オーブン中の場合には5乃至90分間処理するという方法が採られる。本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物を用いて形成される硬化膜の膜厚は、例えば0.06乃至30μmであり、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができる。上記のような条件のもとで、本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物を硬化させることにより、基盤の段差を十分にカバーすることが可能であり、高透明性を有する硬化膜を形成することができる。このようにして形成された光配向性を有する熱硬化膜は偏光UV照射を行うことで液晶材配向層、即ち、液晶性を有する化合物を配向させる層として機能させることができる。偏光UVの照射方法としては、通常150乃至450nmの波長の紫外光~可視光が用いられ、室温又は加熱した状態で垂直又は斜め方向から直線偏光を照射することによって行われる。本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物から形成された液晶配向層は溶剤耐性及び耐熱性を有しているため、液晶配向層上に、位相差材料を塗布した後、液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とし、それを光硬化させ、光学異方性を有する層を形成することができる。位相差材料としては、例えば、重合性基を有する液晶モノマー及びそれを含有する組成物等が用いられる。そして、液晶配向層を形成する基材がフィルムである場合には、光学異方性フィルムとして有用である。このような位相差材料は水平配向、コレステリック配向、垂直配向、ハイブリッド配向等の配向性を有するものがあり、それぞれ必要とされる位相差に応じて使い分けることが出来る。また、上記のようにして形成された液晶配向層を有する2枚の基板を、スペーサーを介して液晶配向層が向かい合うように張り合わせた後、それらの基板の間に、液晶を注入して、液晶が配向した液晶表示素子とすることもできる。そのため、本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物は、各種光学異方性フィルム、液晶表示素子に好適に用いることができる。また、本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物は薄膜トランジスタTFT型液晶表示素子、有機EL素子等の各種ディスプレイにおける保護膜、絶縁膜等の硬化膜を形成する材料としても有用であり、特に、カラーフィルタのオーバーコート材、TFT型液晶素子の層間絶縁膜、有機EL素子の絶縁膜等を形成する材料としても好適である。以下、実施例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。[実施例で用いる略記号]以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。<光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物>CIN1:4-6-ヒドロキシヘキシルオキシけい皮酸メチルエステルCIN2:けい皮酸6-ヒドロキシヘキシルエステルCIN3:4-ヒドロキシけい皮酸メチルエステルAZB1:4-6-ヒドロキシヘキシルオキシアゾベンゼンCIN5:4-6-ヒドロキシヘキシルオキシ-3-メトキシけい皮酸メチルエステルCD:メチル化γ-シクロデキストリンメチル置換率1.825PM溶液PN:フェノールノボラック樹脂群栄化学工業製、商品名:レヂトップPSM-432425PM溶液PM:プロピレングリコールモノメチルエーテル<特定重合体原料>HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレートMMA:メチルメタクリレートMAA:メタクリル酸CHMI:N-シクロヘキシルマレイミドCIN4:4-6-メタクリルオキシヘキシルオキシけい皮酸メチルエステルAIBN:α、α’-アゾビスイソブチロニトリルHBPDA:ビス3,4-ジカルボキシシクロヘキシル二無水物HBPA:2,2-ビス4-ヒドロキシシクロヘキシルプロパンBTEAC:ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド<架橋剤>HMM:ヘキサメトキシメチルメラミンTMGU:1,3,4,6-テトラキスメトキシメチルグリコールウリル<酸又は熱酸発生剤>PTSA:p-トルエンスルホン酸一水和物<増感剤>DEAB:N,N’-ジエチルアミノベンゾフェノン<溶剤>CHN:シクロヘキサノンPM:プロピレングリコールモノメチルエーテルPMA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート以下の合成例に従い得られたアクリル共重合体の数平均分子量及び重量平均分子量は、日本分光株製GPC装置Shodex登録商標カラムKF803L及びKF804Lを用い、溶出溶媒テトラヒドロフランを流量1mL/分でカラム中にカラム温度40°C流して溶離させるという条件で測定した。なお、下記の数平均分子量以下、Mnと称す。及び重量平均分子量以下、Mwと称す。は、ポリスチレン換算値にて表した。<合成例1>CIN448.0g、MMA12.0g、重合触媒としてAIBN1.3gをCHN166.8gに溶解し80°Cにて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液固形分濃度27質量を得たP1。得られたアクリル共重合体のMnは8,700、Mwは18,000であった。<合成例2>MAA2.5g、MMA9.2g、HEMA5.0g、重合触媒としてAIBN0.2gをPM50.7gに溶解し70°Cにて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液固形分濃度25質量を得たP2。得られたアクリル共重合体のMnは19,600、Mwは45,200であった。<合成例3>MAA3.5g、MMA7.0g、HEMA7.0g、重合触媒としてAIBN0.5gをPM53.9gに溶解し75°Cにて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液固形分濃度25質量を得たP3。得られたアクリル共重合体のMnは10,300、Mwは24,600であった。<合成例4>MMA10.5g、CHMI7.0g、重合触媒としてAIBN0.5gをPM53.9gに溶解し75°Cにて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液固形分濃度25質量を得たP4。得られたアクリル共重合体のMnは13,500、Mwは28,400であった。<合成例5>HBPDA12.0g、HBPA10.2g、BTEAC0.22gをPMA54.48gに溶解し125°Cにて19時間反応させることによりポリエステル溶液固形分濃度30.0質量を得たP5。得られたポリエステルのMnは1,980、Mwは3,500であった。<実施例1乃至10及び比較例1乃至4>表1に示す組成にて実施例1乃至10及び比較例1乃至4の各組成物を調製し、それぞれについて、溶剤耐性、配向性、及び透過率の評価を行った。また、実施例7乃至10及び比較例1乃至2の各組成物について、解像度及びTAC上パターンの評価を行った。[溶剤耐性の評価]実施例1乃至実施例6並びに比較例1乃至比較例4の各組成物をシリコンウェハにスピンコーターを用いて塗布した後、温度80°Cで120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚1.1μmの塗膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製F20を用いて測定した。この塗膜を温度130°Cで5分間ホットプレート上でポストベークを行い、膜厚1.0μmの硬化膜を形成した。この硬化膜をCHN又はNMP中に60秒間浸漬させた後、それぞれ温度100°Cにて60秒間乾燥し、膜厚を測定した。CHN又はNMP浸漬後の膜厚変化がないものを○、浸漬後に膜厚の減少が見られたものを×とした。[配向感度配向性の評価]実施例1乃至実施例6並びに比較例1乃至比較例4の各組成物をITO基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度80°Cで120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い膜厚1.1μmの塗膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製F20を用いて測定した。この塗膜を温度130°Cで5分間ホットプレート上でポストベークを行い硬化膜を形成した。この硬化膜に300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。この基板上に液晶モノマーからなる位相差材料溶液をスピンコーターを用いて塗布した後、80°Cで60秒間ホットプレート上においてプリベークを行い膜厚0.25μmの塗膜を形成した。この基板を窒素雰囲気下1000mJcm2で露光した。作製した基板を偏向板に挟み、配向性を示すのに必要な偏光UVの313nmでの露光量を配向感度とした。1000mJ/cm2以上で配向しないものは配向せずとした。[光透過率透明性の評価]実施例1乃至実施例6並びに比較例1乃至比較例4の各組成物を石英基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度80°Cで120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い膜厚1.0μmの塗膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製F20を用いて測定した。この塗膜を温度130°Cで5分間熱風循環式オーブン中でポストベークを行い硬化膜を形成した。この硬化膜を紫外線可視分光光度計株島津製作所製SHIMADSUUV-2550型番を用いて波長400nmの光に対する透過率を測定した。[評価の結果]以上の評価を行った結果を、次の表2に示す。実施例1乃至6は、耐熱性、透明性が高く、CHN、NMPのいずれに対しても耐性がみられた。またいずれも少ない露光量で配向性を示した。比較例1乃至4では十分な溶剤耐性が得られず配向感度も大きく低下した。[溶剤耐性の評価]実施例7乃至実施例10並びに比較例1乃至比較例2の各組成物をシリコンウェハにスピンコーターを用いて塗布した後、温度130°Cで60秒間ホットプレート上においてベークを行い、膜厚0.2μmの硬化膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製F20を用いて測定した。この硬化膜をCHN又はNMP中に60秒間浸漬させた後、それぞれ温度100°Cにて60秒間乾燥し、膜厚を測定した。CHN又はNMP浸漬後の膜厚変化がないものを○、浸漬後に膜厚の減少が見られたものを×とした。[配向感度配向性の評価]実施例7乃至実施例10並びに比較例1乃至比較例2の各組成物をITO基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度130°Cで60秒間ホットプレート上においてベークを行い、膜厚0.2μmの硬化膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製F20を用いて測定した。この硬化膜に300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。この基板上に液晶モノマーからなる位相差材料溶液をスピンコーターを用いて塗布した後、80°Cで60秒間ホットプレート上においてベークを行い膜厚1.0μmの塗膜を形成した。この基板を窒素雰囲気下1000mJcm2で露光した。作製した基板を偏向板に挟み、配向性を示すのに必要な偏光UVの313nmでの露光量を配向感度とした。1000mJ/cm2以上で配向しないものは配向せずとした。[光透過率透明性の評価]実施例7乃至実施例10並びに比較例1乃至比較例2の各組成物を石英基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度130°Cで60秒間ホットプレート上においてベークを行い、膜厚0.2μmの硬化膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製F20を用いて測定した。この硬化膜を紫外線可視分光光度計株島津製作所製SHIMADSUUV-2550型番を用いて波長400nmの光に対する透過率を測定した。[解像度の評価]実施例7乃至実施例10並びに比較例1乃至比較例2の各組成物をガラス基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度130°Cで60秒間ホットプレート上においてベークを行い、膜厚0.2μmの硬化膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製F20を用いて測定した。この硬化膜に10μm、15μm、30μm、100μm、300μmのラインスペースパターンからなるフォトマスクを介し45度の方向の300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。続いてフォトマスクを取り除き-45度の方向の300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。照射量は1回目の露光は配向感度の2倍、2回目の露光は配向感度と同じ露光量とした。この基板上に液晶モノマーからなる位相差材料溶液をスピンコーターを用いて塗布した後、80°Cで60秒間ホットプレート上においてベークを行い膜厚1.0μmの塗膜を形成した。この基板を窒素雰囲気下1000mJcm2で露光した。作製した基板を直交した偏向板に挟み、全てのラインが欠陥なく配向している最小の線幅を解像度とした。[TAC上パターンの評価]実施例7乃至実施例10並びに比較例1乃至比較例2の各組成物をTACフィルム上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度130°Cで60秒間ホットプレート上においてベークを行い、膜厚0.2μmの硬化膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製F20を用いて測定した。この硬化膜に100μmのラインスペースパターンからなるフォトマスクを介し45度の方向の300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。続いてフォトマスクを取り除き-45度の方向の300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。照射量は1回目の露光は配向感度の2倍、2回目の露光は配向感度と同じ露光量とした。この基板上に液晶モノマーからなる位相差材料溶液をスピンコーターを用いて塗布した後、80°Cで60秒間ホットプレート上においてベークを行い膜厚1.0μmの塗膜を形成した。この基板を窒素雰囲気下1000mJcm2で露光した。作製した基板を直交した偏向板に挟み、全てのラインが欠陥なく配向しているものを○、配向欠陥の見られるものを×とした。[評価の結果]以上の評価を行った結果を、次の表3に示す。実施例7乃至10は、透明性が高く、CHN、NMPのいずれに対しても耐性がみられた。またいずれも少ない露光量で配向性を示し、高解像度で光学パターニングを行うことが出来た。さらにTACフィルム上でもパターンを形成することができた。比較例1、2では十分な溶剤耐性が得られず配向感度も大きく低下した。"