"Crを含有する合金を基材とする耐熱性導電部材であって、前記基材の表面に酸化亜鉛を主材とする保護膜を、スパッタリング法により膜厚0.8μm以上5μm以下の膜厚に形成してある耐熱性導電部材。請求項1に記載の耐熱性導電部材からなる固体酸化物形燃料電池用集電部材。請求項2に記載の固体酸化物形燃料電池用集電部材を導電性セラミックス材料で燃料電池用セルに接合してある固体酸化物形燃料電池。しかし、ZnOは熱膨張率が7×106K130-800°C程度であり、構成部材としてのフェライト系SUSの熱膨張率11~12×106K1等に比べて小さい。SOFCは700°C~800°Cの高温で作動するため、起動停止時には熱膨張率の不一致に伴う応力が各構成材料の界面で発生する。このような応力は、前記保護膜の膜厚が大きいほど顕著に現れ、このような応力を繰り返して受けることによって、前記耐熱性導電部材と前記保護膜は界面で剥離したり、保護膜自体にクラックが生じたりする不具合が起こる可能性がある。一方、上記保護膜を形成する手法として知られている方法としてメッキ法がある。メッキ法では、金属亜鉛のメッキを基材表面に形成した後、そのメッキを酸化して金属亜鉛を酸化亜鉛に変換する工程を経て酸化亜鉛保護膜とすることができる。しかし、このような工程を経ると、酸化工程で酸化亜鉛が形成されるに際して、保護膜と基材との間に空隙が生じ易く、剥離につながるおそれがあり実用的には用いられていない現状にある。そこで、本発明は、Cr被毒の抑制効果を期待することができる保護膜を、基材表面に、より確実に形成する技術を提供することを目的とする。構成本発明の耐熱性導電部材の特徴構成は、Crを含有する合金を基材とする耐熱性導電部材の前記基材表面に酸化亜鉛を主材とする保護膜を、スパッタリング法により膜厚0.8μm以上5μm以下の膜厚に形成してある点にある。また、本発明のSOFC用集電部材の特徴構成は、上記耐熱性導電部材を用いた点にあり、さらに、本発明のSOFCの特徴構成は、上記SOFC用集電部材を導電性セラミックス材料で燃料電池セルに接合してある点にある。作用効果Crを含有する合金を基材とする耐熱性導電部材の前記基材表面に酸化亜鉛を主材とする保護膜を形成すると、前記保護膜は、前記基材から飛散するCrを捕捉して、空気極がCrにより被毒するのを抑制する効果を発揮する。このとき、保護膜をスパッタリング法により作成すると、ディップコート法により保護膜を作成するのに比べて、保護膜を構成する酸化亜鉛粒子径を小さくすることができるとともに、保護膜の膜厚を薄くすることができる。すなわち、薄くて緻密なために強固な保護膜を形成することができる。また、ディップコート法に比べて膜厚のバラツキが生じにくいという利点もある。保護膜の膜厚を薄くすることができると、前記保護膜の熱膨張、熱収縮の影響が現れにくくなり、保護膜と基材との間で熱応力による剥離等のおそれが少なくなる。また、保護膜を緻密に形成することにより飛散するCrを捕捉する能力Cr被毒抑制効果が高められるとともに、保護膜を形成する粒子間の接触点を多く形成することができるから、電気伝導率の面でも有利に働き、燃料電池用の導電部材として好適な特性が期待できる。そのため、ディップコート法により作成された保護膜に比べ緻密な薄膜に形成され、剥離に対する耐久性が高く、かつ、膜厚が薄いにもかかわらず高いCr被毒抑制効果を発揮できる保護膜を形成することができるようになった。ここで、Cr被毒抑制効果は、保護膜の作成方法に基き、薄膜であっても十分なCr被毒抑制効果を発揮するとともに、薄膜とすることで耐剥離性能が高いことが確認されているが、薄すぎるとCr被毒抑制効果が不十分になり易いため、0.8μm以上とすることが好ましく、厚くなりすぎると耐剥離性能が低下するため、5μm以下とすることが好ましく、この範囲の膜厚とすることで、2つの要求性能を両立させることができる。また、長期耐久性を考えると、0.8μm以上3μm未満とすることがさらに好ましい。なお、製造コストに関して、スパッタリング法は一般的に高価であるとされているが、量産性に優れ、工業的にディップコート法に比べて有利であるため、量産効果によりコスト面が不利に働くことは少なくなると考えられている。したがって、スパッタリング法により膜厚0.8μm以上5μm以下の膜厚に形成された耐熱性導電部材は、Cr被毒抑制効果と、耐剥離性能がいずれも優れ、長期使用に対する耐久性、信頼性に選れたSOFC用集電部材として用いることができ、そのSOFC用集電部材を導電性セラミックス材料で燃料電池セルに接合して組み立てることにより長寿命で信頼性の高いSOFCとすることができる。以下に、本発明のSOFCを説明する。なお、以下に好適な実施の形態を記すが、これら実施の形態はそれぞれ、本発明をより具体的に例示するために記載されたものであって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々変更が可能であり、本発明は、以下の記載に限定されるものではない。SOFCの構成本発明にかかるSOFC用インターコネクタおよびその製造方法の実施の形態について、図面に基づいて説明する。図1および図2に示すSOFC用セルCは、酸化物イオン電導性の固体酸化物の緻密体からなる電解質膜30の一方面側に、酸化物イオンおよび電子電導性の多孔体からなる空気極31を接合するとともに、同電解質膜30の他方面側に電子電導性の多孔体からなる燃料極32を接合してなる単セル3を備える。さらに、SOFC用セルCは、この単セル3を、空気極31または燃料極32に対して電子の授受を行うとともに空気および水素を供給するための溝2が形成された一対の電子電導性の合金からなるインターコネクタ1により、適宜外周縁部においてガスシール体を挟持した状態で挟み込んだ構造を有する。そして、空気極31側の上記溝2が、空気極31とインターコネクタ1とが密着配置されることで、空気極31に空気を供給するための空気流路2aとして機能し、一方、燃料極32側の上記溝2が、燃料極32とインターコネクタ1とが密着配置されることで、燃料極32に水素を供給するための燃料流路2bとして機能する。そして、複数のSOFC用セルCが積層配置された状態で、複数のボルトおよびナットにより積層方向に押圧力を与えて挟持され、セルスタックとなる。このセルスタックにおいて、積層方向の両端部に配置されたインターコネクタ1は、燃料流路2bまたは空気流路2aの一方のみが形成されるものであればよく、その他の中間に配置されたインターコネクタ1は、一方の面に燃料流路2bが形成され他方の面に空気流路2aが形成されるものを利用することができる。なお、かかる積層構造のセルスタックでは、上記インターコネクタ1をセパレータと呼ぶ場合がある。このようなセルスタックの構造を有するSOFCを一般的に平板型SOFCと呼ぶ。本実施の形態では、一例として平板型SOFCについて説明するが、本願発明は、その他の構造のSOFCについても適用可能である。そして、このようなSOFC用セルCを備えたSOFCの作動時には、空気極31に対して隣接するインターコネクタ1に形成された空気流路2aを介して空気を供給するとともに、燃料極32に対して隣接するインターコネクタ1に形成された燃料流路2bを介して水素を供給し、例えば800°C程度の作動温度で作動する。すると、空気極31においてO2が電子eと反応してO2が生成され、そのO2が電解質膜30を通って燃料極32に移動し、燃料極32において供給されたH2がそのO2と反応してH2Oとeとが生成されることで、一対のインターコネクタ1の間に起電力Eが発生し、その起電力Eを外部に取り出し利用することができる。以下、上記SOFC用セルCの各要素の一般的な構成および一般的に利用される材料について説明を加える。<インターコネクタ>これまで説明してきたSOFC用セルCでは、インターコネクタ1の材料としては、電子電導性および耐熱性の優れた材料であるフェライト系ステンレス鋼であるFe-Cr合金や、オーステナイト系ステンレス鋼であるFe-Cr-Ni合金や、ニッケル基合金であるNi-Cr合金などのように、Crを含有する合金が利用されている。中でも、耐還元性、耐酸化性を有しているフェライト系ステンレス鋼材が利用されている。前記インターコネクタ1は、図1、図2に示すように、インターコネクタ1の表面に保護膜12を設けて構成してある。そして、前記各単セル3の間に空気流路2a、燃料流路2bを形成しつつ接続可能にする溝板状に形成してある。前記保護膜12は、導電性セラミックス材料を含有する塗膜形成用材料を、前記インターコネクタ1にスパッタリングにより保護膜12を薄膜として形成してある。前記保護膜12には、ZnOが用いられる。<燃料極>燃料極32は、電極反応を生じさせるものであり、それ自体公知の多孔質の導電性セラミックスにより形成することが好ましい。例えば、希土類元素が固溶したZrO2または希土類元素が固溶したCeO2と、Niおよび/またはNiOとから形成することができる。なお、希土類元素としては、Y、Luルテチウム、Yb、Tmツリウム、Erエルビウム、Hoホルミウム、Dyジスプロシウム、Gd、Sm、Prプラセオジムからなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む希土類酸化物が使用できる。このような希土類酸化物の具体例としては、Y2O3、Lu2O3、Yb2O3、Tm2O3、Er2O3、Ho2O3、Dy2O3、Gd2O3、Sm2O3、Pr2O3を例示することができ、Niおよび/またはNiOとの固溶、反応がほとんどなく、また、熱膨張係数が電解質膜30とほとんど同程度であり、かつ安価であるという点から、Y2O3、Yb2O3が好ましい。燃料極32中の希土類元素が固溶したZrO2または希土類元素が固溶しているCeO2の含有量は、35~65体積の範囲にあるのが好ましく、またNiあるいはNiOの含有量は、65~35体積であるのが好ましい。さらに、この燃料極32の開気孔率は、15以上、特に20~40の範囲にあるのが好ましい。<電解質膜>電解質膜30は、3~15モルのYイットリウム、Scスカンジウム、Ybイッテルビウム等の希土類元素を含有した部分安定化あるいは安定化ZrO2からなる緻密質なセラミックスを用いるのが好ましい。また、希土類元素としては、安価であるという点からYが好ましい。さらに、電解質膜30は、ガス透過を防止するという点から、相対密度アルキメデス法によるが93以上、特に95以上の緻密質であることが望ましい。なお、電解質膜30と後述する空気極31の間に、電解質膜30と空気極31との接合を強固とするとともに、電解質膜30の成分と空気極31の成分とが反応して電気抵抗の高い反応層が形成されることを抑制する目的で中間層を備えることもできる。ここで、中間層としては、Ceセリウムと他の希土類元素とを含有する組成にて形成することができる。<空気極>上記空気極31の材料としては、LaMO3例えばM=Mn,Fe,Co中のLaの一部をアルカリ土類金属AEAE=Sr,Caで置換したLa,AEMO3のペロブスカイト型酸化物を利用することができる。上記燃料極32の材料としては、Niとイットリア安定化ジルコニアYSZとのサーメットを利用することができ、さらに、電解質膜30の材料としては、イットリア安定化ジルコニアYSZを利用することができる。また、空気極31は、ガス透過性を有する必要があり、したがって、空気極31を形成する導電性セラミックスペロブスカイト型酸化物は、開気孔率が20以上、特に30~50の範囲にあることが好ましい。<単セル>なお、前記電解質膜30は厚さ数μm~数百μm程度であり、その両面にそれぞれ厚さ数μm~数百μm程度の燃料極32、および、厚さ数μm~数百μm程度の空気極31を一体に焼結して単セル3を構成する。この単セル3とインターコネクタ1とを順次積層し、空気極31とインターコネクタ1との間に、厚さ数μm~数十μm程度の保護膜12を介在させつつ一体化することにより、SOFC用セルCが作成される。前記保護膜12と前記空気極31とを直列に接続する場合、前記保護膜12および前記空気極31に対して親和性の高い材料からなる接着層図3,4における15を設けて焼成一体化することにより、容易に多数の単セル3を備えたSOFC用セルC図1参照を得ることができる。また、このSOFC用セルCは、その製造工程において、インターコネクタ1と空気極31および燃料極32との間の接触抵抗をできるだけ小さくするなどの目的で、それらを積層配置した状態で、作動温度よりも高い1000°C~1150°C程度の焼成温度で焼成する焼成処理を行う場合がある。前記接着層を構成する材料としては、La,Sr,Pr,Sm,Fe,Co,Mn,およびNiから選ばれる金属を含むペロブスカイト型酸化物を主材とする、空気極31と近似する組成の導電性セラミックス材料が好適に用いられる。次に、上記インターコネクタ1に本発明の保護膜12を形成してあるSOFCの実施の形態および比較例について、以下に詳細に説明する。実施例1図2に示すように、Crを22wt質量を示す、以下同じ含むフェライト系SUS部材からなるインターコネクタ1の基材11aの表面に、反応性マグネトロンスパッタによりZnOからなる保護膜12を設けた試験片を作成した。膜厚は0.8μmとした。その後、接着層15空気極用材料を1000°C~1150°Cで2時間焼き付けて、SOFCセルを作成した。その結果、図3に示すように、保護膜は、インターコネクタ1の基材11a表面に緻密かつ均一に形成されていることがわかった。なお、図3~図9において15で示す層は、前の説明における接着層であり、具体的には。基材11aに保護膜12を形成してなる試験片を各種測定装置に配置固定する便宜上設けられている。前記保護膜12に電流を流して、電気抵抗測定を行い、800°C×200hr保持した後、断面を電子線マイクロアナライザーEPMAによりフェライト系SUSから空気極へのCrの拡散度合を分析した。図4に示すように、上記保護膜12によると、Crの飛散がほとんど観測されておらず、Cr飛散抑制効果が発揮されていることがわかる。また、このSOFCセルの電気抵抗は78.0mV800°Cにおいて0.96A/cm2の電流を流通させたときの初期電圧降下として測定であり、SOFCセルとして充分な導電性を発揮することがわかった。実施例2上記実施例1における保護膜の膜厚を3μmとしたSOFCセルを作成し、同様にフェライト系SUSから空気極へのCrの拡散度合を分析した。図5に示すように、上記保護膜12によると、Crの飛散がほとんど観測されておらず、Cr飛散抑制効果が発揮されていることがわかる。なお、この図面において、合金におけるCr濃度は約22であり、空気極において色調が最も薄い領域のCr濃度はほぼ0図面において空気極での薄いグレーの領域である。また、これら分布を示す図面において、写真図の横幅が約130μmに相当している。また、このSOFCセルの電気抵抗は108.9mVであった。比較例1上記実施例1において保護膜を設けないSOFCセルを作成し、同様にフェライト系SUSから空気極へのCrの拡散度合を分析した。図6に示すように、上記保護膜がない場合、Crの飛散が多く観測され、Crの拡散は抑制できないことがわかる。なお、この図面において、合金におけるCr濃度は約22であり、空気極において色調が最も薄い領域のCr濃度はほぼ0図面において空気極での薄いグレーの領域である。また、これら分布を示す図面において、写真図の横幅が約130μmに相当している。また、このSOFCセルの電気抵抗は83.7mVであった。比較例2上記実施例1における保護膜の膜厚を0.4μmとしたSOFCセルを作成し、同様にフェライト系SUSから空気極へのCrの拡散度合を分析した。このように、電気抵抗も低かったものの、Crの拡散は抑制できておらず、良好な結果は得られなかった。図7に示すように、上記保護膜が薄い場合、Crの飛散が観測され、Crの拡散抑制効果が十分ではないことがわかる。なお、この図面において、合金におけるCr濃度は約22であり、空気極において色調が最も薄い領域のCr濃度はほぼ0図面において空気極での薄いグレーの領域である。また、これら分布を示す図面において、写真図の横幅が約130μmに相当している。また、このSOFCセルの電気抵抗は92.4mVであった。以上から、スパッタリング法により作成されたZnO膜はCr拡散を抑制するためには、0.8μm程度必要であることがわかった。また、合金表面に保護膜を形成する場合、最も薄い部分を3μm程度とすると、5.0μm程度までのバラツキを生じるが、個の程度の膜厚であれば、実用上問題となるような電気抵抗にはならないこともわかった。比較例3Crを22wt含むフェライト系SUS部材にZnO粉末を溶媒中で分散させたコーティング液を調製し、SUS部材を浸漬させ、900°C~1100°Cで2時間焼き付けてSUS部材表面にZnO膜を形成した。形成した膜の厚みは、過基材の角部近傍でほとんど厚みのない部分があったり、平坦な面部において異常に分厚い部分があるなどバラツキが大きく、平均約10μm前後であった。その後、空気極用材料を1000°C~1150°Cで2時間焼き付けて、SOFCセルを構成し、電流を流して、電気抵抗測定を行った。断面を電子線マイクロアナライザーEPMAによりフェライト系SUSから空気極へのCrの拡散度合を分析した。図8に示すように、ディップコート法により作成された保護膜では、Crの拡散は抑制できているものの、部分的に角部近傍で膜厚が非常に薄く、劣化し易い部分があり図9、また、電気抵抗初期電圧降下は149mVと高く、導電性が十分とは言えないことから、保護膜の性能として改善の余地があることがわかった。なお、この図面において、合金におけるCr濃度は約22であり、空気極において色調が最も薄い領域のCr濃度はほぼ0図面において空気極での薄いグレーの領域である。また、これら分布を示す図面において、写真図の横幅が約130μmに相当している。ここで、3.0μmの膜厚がサーマルサイクル特性に課題を生じるかどうかを検証するための評価を行った。実施例3実施例2のSOFCセルを用い、SOFCセルを950°C加湿10-20中で動作温度まで加熱し、一定時間保持後一旦室温まで戻す動作サイクルを繰り返すサーマルサイクル評価試験を行い、保護膜の剥離の有無を肉眼で確認した。これは実使用環境よりも厳しい加速条件である。この結果、スパッタリング法により作成された保護膜は950°C540時間の耐久試験によっても剥離が生じず長期間問題なく使用できることがわかった。比較例4比較例3のSOFCセルを用い、実施例3と同様のサーマルサイクル評価試験を行ったところ、950°Cでは、100時間にて保護膜の剥離が観測された。また、試験条件を900°Cとしても、300時間にて保護膜の剥離が観測されることがわかった。なお、試験後剥離箇所の特定を行うためにサンプルの断面観察を行ったところ、ZnO層と空気極材料層の界面で剥離が生じていることがわかった。"