"二枚の透明基板の間に液晶とモノマーとの混合物を注入して液晶セルを製作する工程と、補正しようとする収差分布と一致する吸収率分布を有するようにグレースケールマスクを設計する工程と、前記液晶セル上に前記グレースケールマスクを位置させた状態でUV光を照射して、モノマーがポリマーに重合されつつ相分離が起きて、ポリマーが存在する領域と液晶が存在する領域とが分離され、前記補正しようとする収差分布の逆に該当する位相差分布を有する液晶層を前記透明基板の間に形成する工程とを含むことを特徴とする収差補正用の液晶素子の製造方法。前記液晶層は、液晶滴の大きさ及び密度分布が補正しようとする収差分布と一致するナノPDLC構造で形成されることを特徴とする請求項1に記載の収差補正用の液晶素子の製造方法。前記グレースケールマスクは、光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、対物レンズの作動距離の変動時に光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差、対物レンズのシフト時に光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差のうち少なくともいずれか一つの収差分布と一致する吸収率分布や、ポジティブまたはネガティブタイプの2次元のパラボリック吸収率分布を有することを特徴とする請求項2に記載の収差補正用の液晶素子の製造方法。前記グレースケールマスクは、光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、対物レンズの作動距離の変動時に光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差、対物レンズのシフト時に光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差のうち少なくともいずれか一つの収差分布と一致する吸収率分布や、ポジティブまたはネガティブタイプの2次元のパラボリック吸収率分布を有することを特徴とする請求項1に記載の収差補正用の液晶素子の製造方法。前記液晶層は、モノマーが重合されつつ網構造を形成し、液晶がその網の間に入り込むPNLC構造で形成されることを特徴とする請求項1に記載の収差補正用の液晶素子の製造方法。前記グレースケールマスクは、光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、対物レンズの作動距離の変動時に光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差、対物レンズのシフト時に光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差のうち少なくともいずれか一つの収差分布と一致する吸収率分布や、ポジティブまたはネガティブタイプの2次元のパラボリック吸収率分布を有することを特徴とする請求項5に記載の収差補正用の液晶素子の製造方法。本発明の目的は、前記したような問題点を改善するためのものであって、電極パターニングの必要性をなくして配線及び駆動が簡単な収差補正用の液晶素子及びその製造方法、それを備えた光ピックアップ及び光記録及び/または再生機器を提供するところにある。前記の目的を達成するための本発明による収差補正用の液晶素子の製造方法は、二枚の透明基板の間に液晶とモノマーとの混合物を注入して液晶セルを製作する工程と、補正しようとする収差分布と一致する吸収率分布を有するようにグレースケールマスクを設計する工程と、前記液晶セル上に前記グレースケールマスクを位置させた状態でUV光を照射して、モノマーがポリマーに重合されつつ相分離が起きて、ポリマーが存在する領域と液晶が存在する領域とが分離され、前記補正しようとする収差分布の逆に該当する位相差分布を有する液晶層を前記透明基板の間に形成する工程とを含むことを特徴とする。前記液晶層は、液晶滴の大きさ及び密度分布が補正しようとする収差分布と一致するナノPDLC構造で形成される。前記グレースケールマスクは、光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、対物レンズの作動距離の変動時に光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差、対物レンズのシフト時に光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差のうち少なくともいずれか一つの収差分布と一致する吸収率分布や、ポジティブまたはネガティブタイプの2次元のパラボリック吸収率分布を有する。前記グレースケールマスクは、光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、対物レンズの作動距離の変動時に光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差、対物レンズのシフト時に光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差のうち少なくともいずれか一つの収差分布と一致する吸収率分布や、ポジティブまたはネガティブタイプの2次元のパラボリック吸収率分布を有する。前記液晶層は、モノマーが重合されつつ網構造を形成し、液晶がその網の間に入り込むPNLC構造で形成される。前記グレースケールマスクは、光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、対物レンズの作動距離の変動時に光情報記録媒体の厚さ差により発生する球面収差、光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差、対物レンズのシフト時に光情報記録媒体の傾斜により発生するコマ収差のうち少なくともいずれか一つの収差分布と一致する吸収率分布や、ポジティブまたはネガティブタイプの2次元のパラボリック吸収率分布を有す。本発明によれば、電極のパターニング及び金属電極の蒸着の必要性をなくすので、製作工程が単純化され、これによる補正効果の低下及び透過率の低下の問題などが発生せずに、配線及び駆動が簡単な収差補正用の液晶素子を提供できる。また、本発明によるナノPDLC型の液晶素子によれば、偏光依存性がないので、単一の液晶素子のみでも往復ビームに対する収差補正効果を得ることができる。また、本発明によるPNLC型の液晶素子によれば、応答時間が速い液晶素子を実現できる。以下、添付された図面を参照しつつ、本発明による収差補正用の液晶素子及びその製造方法、それを備えた光ピックアップ及び光記録及び/または再生機器の望ましい実施形態を詳細に説明する。以下の詳細な説明及び特許請求の範囲において、光ディスクの厚さ光情報記録媒体の厚さは、光ディスクの記録及び/または再生光が入射される表面、すなわち光入射面から対象の情報保存面までの厚さをいい、光ディスクの厚さ差光情報記録媒体の厚さ差は、対物レンズ設計値との差をいう。図1は、本発明による収差補正用の液晶素子を備えた光ピックアップの光学的構成の一実施形態を概略的に示す図である。図1に示すように、本発明の一実施形態による光ピックアップは、光源10、光源10から出射された光を集束させて記録媒体、すなわち光ディスク1に光スポットとして結ばせる対物レンズ30、収差を補正するための収差補正用の液晶素子20、及び光ディスク1から反射された光を受光して情報信号及び/またはエラー信号を検出する光検出器40を備える。また、本発明の一実施形態による光ピックアップは、光路変換器で記録光学系での高効率の要求を満足するように、入射光の進路を偏光によって変換するための偏光依存性の光路変換器、例えば偏光ビームスプリッタ14を備えることが望ましい。また、本発明の一実施形態による光ピックアップは、入射光の偏光を変える1/4波長板19をさらに備える。図1において、参照番号12は、3ビーム法や差動プッシュプル法などによりトラッキングエラー信号を検出するように、光源10から出射される光を分岐するグレーティング、参照番号16は、光源10から発散光の形態に出射された光を平行光に変えて対物レンズ30に入射させるコリメーティングレンズ、参照番号15は、非点収差法によりフォーカスエラー信号を検出可能に非点収差を発生させる非点収差レンズである。また、参照番号18は、光路を変えるための反射ミラーである。光源10は、青色波長領域の光、すなわち405nm波長の光を出射することが望ましい。対物レンズ30は、例えばBD規格を満足する高NA、すなわちほぼ0.85のNAを有することが望ましい。前記のように、光源10が青色波長領域の光を出射し、対物レンズ30が0.85のNAを有する場合、本発明による光ピックアップは、高密度の光ディスク、特にBD規格の光ディスクを記録及び/または再生できる。ここで、光源10の波長及び対物レンズ30のNAは、多様に変形されうる。また、本発明による光ピックアップの光学的構成は、多様に変形されうる。例えば、本発明による光ピックアップが片面に複数の記録層を有するDVDを記録及び/または再生可能に、光源10は、DVDに適した赤色波長領域、例えば650nm波長の光を出射し、対物レンズ30は、DVDに適したNA、例えば0.6または0.65のNAを有するように設けられることもある。また、本発明による光ピックアップは、BD、HDDVD及びDVDを互換採用可能に、光源10から複数の波長、例えば高密度の光ディスクに適した青色波長及びDVDに適した赤色波長の光を出射する光源モジュールを備え、対物レンズ30をBD及びDVDに適した有効NAを達成可能に構成するか、または有効NAを調節するための別途の部材をさらに備える。また、本発明による光ピックアップは、図1に示した光学的構成としては、高密度の光ディスクを記録及び/または再生し、DVD及び/またはCDを記録及び/または再生するための付加的な光学的構成をさらに備えることもできる。また、光源10及び対物レンズ30は、本発明による光ピックアップがDVD及びCDを互換して記録及び/または再生するように設けられることもある。一方、前記偏光依存性の光路変換器は、光源10側から入射される光は、対物レンズ30側に向け、光ディスク1から反射された光は、光検出器40側に向ける。図1には、前記偏光依存性の光路変換器として、グレーティング12とコリメーティングレンズ15との間に配置されて、入射光を偏光によって選択的に透過または反射させる偏光ビームスプリッタ14を備えた例を示す。代案として、前記偏光依存性の光路変換器としては、例えば光源10から出射された一偏光はそのまま透過させ、光ディスク1から反射されて入射される他の偏光は、1次または-1次に回折させる偏光ホログラム素子を備えることもできる。波長板19は、光源10から出射された光に対して1/4波長板であることが望ましい。前記収差補正用の液晶素子20は、ポリマーが存在する領域と液晶が存在する領域とが分離され、補正しようとする収差分布に対応する位相差分布を有する液晶層を備える。液晶素子20としては、図4Aを参照にして後述する本発明の一実施形態によって製造された液晶素子を備える。液晶素子20は、その液晶層が、液晶滴の大きさ及び密度分布が補正しようとする収差分布に対応するナノPDLC構造で形成される。ここで、ナノPDLC構造は、液晶滴の大きさをナノメータ単位の大きさとする場合についてのものであって、これについての詳細な説明は後述する。ナノPDLC構造で形成された液晶素子20では、液晶滴の大きさがナノスケール、例えば数十nmから数百nm程度に形成されるので、その液晶素子20は、電場の印加時に入射する光の偏光に関係なく位相差を付与することが可能である。すなわち、液晶素子20は、入射される光の偏光に関係なく位相差を付与できる。この液晶素子20は偏光に関係ないので、その製造時に別途の配向膜ラビング処理を省略することもある。液晶素子20に駆動回路図示せずにより電場を印加すれば、液晶分子の配列が変わり、これにより、補正しようとする収差の逆に該当する位相差分布が得られる。図1には、本発明の一実施形態による光ピックアップが波長板19を備え、液晶素子20が波長板19と対物レンズ30との間に配置されるものと示した。これは、例示的なものであり、液晶素子20は、光路変換器、例えば偏光ビームスプリッタ14と波長板19との間に配置されることもある。また、液晶素子20の偏光に依存しないので、本発明の一実施形態による光ピックアップは、波長板19が省略された構造を有することもできる。本発明の一実施形態による光ピックアップにおいて、光源10から発散光の形態に出射された光は、コリメーティングレンズ16により平行光に変わって対物レンズ30に入射されうる。この場合、液晶素子20にも平行光が入射される。したがって、例えば、光ディスク1の厚さ差による球面収差を補正しようとする場合、液晶素子20は、後述するように、r4に比例する球面収差を補正可能にその逆に該当する位相差分布を有するように形成される。また、本発明の一実施形態による光ピックアップでは、液晶素子20をネガティブまたはポジティブタイプのパラボリック位相差分布を有するように形成し、対物レンズ30に入射される光の発散角を調節することによっても、光ディスク1の厚さ差による球面収差を相殺できる。これは、対物レンズ30に、例えばr2に比例する発散光または収束光を入射させれば、光ディスク1の厚さ差による球面収差を相殺できるという周知されている事実に基づく。このとき、光の発散角の調節は、コリメーティングレンズ16の光軸に沿った位置を調整するか、または別途のレンズ図示せずを利用することによって行われうる。前記したような構成を有する本発明の一実施形態による光ピックアップによれば、収差の補正は、液晶素子20で補正しようとする収差、例えば球面収差と逆になる方向に位相差分布を発生させることによって行われる。したがって、収差が補正された状態で光ディスク1の情報保存面に光スポットが形成される。光ディスク1の情報保存面から反射された光には、液晶素子20で生成された位相差分布に起因した逆収差が存在するが、液晶素子20は、偏光に関係なく入射される光に位相差を発生させるので、その反射光に存在する逆収差は、光が液晶素子20を再び経る間に補正される。したがって、光検出器40に受光される光には、収差、例えば球面収差の補正のために発生させた位相差に起因した収差が残存しなくなる。図2は、本発明による収差補正用の液晶素子を備える光ピックアップの他の実施形態を示す図である。ここで、図1と実質的に同一な機能を行う部材は、同一な参照符号で表示し、その反復的な説明は省略する。図2に示すように、本発明の他の実施形態による光ピックアップでは、一対の液晶素子120,125が収差補正のために利用される。特に、収差補正用の第1液晶素子120は、ポリマーが存在する領域と液晶が存在する領域とが分離され、補正しようとする収差分布に対応する位相差分布を有する液晶層を備える。このとき、前記液晶層は、モノマーが重合されつつ網構造のポリマーを形成し、液晶がその網の間に入り込むPNLC構造で形成される。ここで、PNLC構造についての詳細な説明は後述する。かかるPNLC構造で形成された液晶層を備える第1液晶素子120は、偏光依存性を有する。したがって、本発明の他の実施形態による光ピックアップは、光の偏光を変える波長板19をさらに備え、第1液晶素子120が光路変換器、例えば偏光ビームスプリッタ14と波長板19との間に配置され、第1液晶素子120と実質的に同一な構造を有し、液晶ディレクタのみを第1液晶素子120の場合と直交する方向に配向させた第2液晶素子125をさらに備えることが望ましい。第2液晶素子125は、偏光ビームスプリッタ14と波長板19との間に第1液晶素子120に隣接して配置されうる。図2には、第2液晶素子125が第1液晶素子120と波長板19との間に位置した例を示す。第2液晶素子125は、光路変換器と第1液晶素子120との間に配置されてもよく、光路変換器と光検出器40との間に配置されてもよい。図2に示すように、波長板19を備え、液晶ディレクタの方向が互いに垂直をなす第1液晶素子120及び第2液晶素子125を波長板19と対物レンズ30との間に位置させる場合、進行光の偏光変化は次の通りである。図3は、図2に示した光ピックアップの構成で進む光の偏光変化を示す図である。図3に示すように、光源10側から偏光ビームスプリッタ14に入射される一直線偏光、例えばp偏光は、その偏光ビームスプリッタ14の鏡面を透過し、波長板19を経由しつつ一円偏光、例えば右円偏光に変わって光ディスク1側に進む。その一円偏光は、光ディスク1から反射されつつ他の円偏光、例えば左円偏光となり、波長板19を再び経由しつつ他の直線偏光、例えばs偏光となる。この他の直線偏光は、偏光ビームスプリッタ14の鏡面から反射されて光検出器40側に向かう。図3において、参照符号17は、第1液晶素子120及び第2液晶素子125に収差補正のための位相差分布が発生するように電場を印加する駆動回路である。第1液晶素子120及び第2液晶素子125に印加される電場を調節することにより、液晶分子の配列を変え、これにより位相差変化の大きさを調節できる。前記のように波長板19の前方に第1液晶素子120及び第2液晶素子125を位置させる場合、光源10側から第1液晶素子120及び第2液晶素子125に入射される光は、一直線偏光、例えばp偏光となり、光ディスク1の情報保存面から反射された後で波長板19を通過して第2液晶素子125及び第1液晶素子120に入射される光は、他の直線偏光、例えばs偏光となる。一般的に、液晶素子では、ラビングにより整列された液晶分子の長軸方向と入射する光の偏光方向とが一致する場合にのみ、液晶分子の複屈折値が変わる効果を得ることができる。液晶分子の長軸方向が液晶ディレクタの方向に該当し、これはラビング方向と一致する。本発明の他の実施形態の光ピックアップにおいて、光ディスク1側に入射する光とそれから反射された光の偏光状態が互いに直交する構造を有する。したがって、第1液晶素子120は、光ディスク1の情報保存面に入射される光に対する収差を補正するように、電場を印加しないとき、光源10側から入射される光の偏光、例えばp偏光方向と液晶の長軸方向液晶ディレクタの方向とが一致するように形成される。第2液晶素子125は、光ディスク1の情報保存面から反射されて光検出器40側に進む光に対する収差を補正するように、電場を印加しないとき、光ディスク1の情報保存面から反射された後で入射される光の偏光、例えばs偏光方向と液晶の長軸方向とが一致するように形成される。この場合、第1液晶素子120及び第2液晶素子125に電場を印加すれば、光源10側から進む光は、第1液晶素子120を経つつ、補正しようとする収差の逆に該当する位相差分布を有し、第2液晶素子125をその位相差分布の変化なしにそのまま通過する。したがって、収差が補正された状態で光ディスク1の情報保存面に光スポットが形成される。光ディスク1の情報保存面から反射された光には、第1液晶素子120で生成された位相差分布に起因した逆収差が存在するが、光が第2液晶素子125を経る間に補正される。そして、その光は、第1液晶素子120を位相差分布の変化なしにそのまま通過する。したがって、光検出器40に受光される光には、球面収差の補正のために発生させた位相差に起因した収差が残存しなくなる。一方、本発明の他の実施形態による光ピックアップの場合にも、例えば、光ディスク1の厚さ差による球面収差を補正しようとする場合、第1液晶素子120及び第2液晶素子125は、後述するように、r4に比例する球面収差を補正可能にその逆に該当する位相差分布を有するように形成されうる。また、第1液晶素子120及び第2液晶素子125をネガティブまたはポジティブタイプのパラボリック位相差分布を有するように形成し、対物レンズ30に入射される光の発散角を調節することによっても、光ディスク1の厚さ差による球面収差を相殺できる。以上の本発明による光ピックアップにおいて、液晶素子は、光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差、対物レンズ30の作動距離の変動が併行される間に光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差、光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差、対物レンズ30のシフトが併行される間に光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差のうち、少なくともいずれか一つを補正できる位相差分布を有するように形成される。以下では、かかる収差補正用の液晶素子及びその製造方法について詳細に説明する。図4Aは、本発明の一実施形態によるナノPDLC型の液晶素子20’の製造方法を説明するための図である。このナノPDLC型の液晶素子20’は、図1の光ピックアップに液晶素子20として使われうる。図4Aに示すように、二枚の透明基板21,22の間に液晶とモノマーとの混合物を注入した液晶セル上に、補正しようとする収差分布に該当する吸収率分布を有するグレースケールマスク50を位置させる。前記モノマーは、UV光を照射することによりポリマー化可能なUV硬化型のモノマーである。前記混合物には、光重合反応を開始させる開始剤が含まれる。基板21,22には、均一なITO膜図示せずが形成されている。また、基板21,22には、配向膜が形成されるが、この配向膜はラビング処理されうる。前記液晶セルには、電場の印加のための二つのリード線が出ている。そのリード線は、本発明の一実施形態によって製造された液晶素子20’のための駆動回路と連結される。前記液晶セルにUV光を照射すれば、モノマーがポリマーに光重合されつつ相分離が起きて、ポリマーが存在する領域と液晶が存在する領域とが分離され、補正しようとする収差分布に対応する位相差分布を有する液晶層23が得られる。ここで、ポリマー化反応が進められる程度は、照射されるUV光の強度及び照射時間などの変化により調節できる。照射されるUV光の強度が強いほど、ポリマーに重合がよく進められる。これにより、UV光の強度が強い場合には、混合物内のモノマーがポリマー化する比率が大きくなるので、相対的に存在するポリマー領域が大きくなり、逆にUV光の強度が弱い場合には、ポリマー領域が相対的に小さくなる。モノマーと液晶との比率及び照射するUV強度などによって、本実施形態でのナノPDLC型の液晶素子、後述する他の実施形態でのPNLC型の液晶素子が製造されうる。図4Aにおいて、参照番号20’は、液晶セルに液晶層23が形成されて得られる液晶素子を意味する。本実施形態において、液晶層23は、液晶滴の大きさ及び密度分布が補正しようとする収差に対応する位相差分布を表すナノPDLC構造で形成される。このとき、液晶層23には、ナノメータ単位の液晶滴が形成される。かかるナノPDLC構造の液晶層23を形成するために、UV光の強度を既存のPDLCの製造時の強度より相対的にさらに強くし、液晶の濃度を低下する。これにより、液晶滴の大きさが数十ないし数百nm程度であるナノPDLCが得られる。ここで、照射されるUV光の強度が強ければ、ポリマーの形成が促進されて液晶滴の大きさ及び密度が低下し、逆にUV光の強度が弱ければ、ポリマーの形成が減って液晶滴の大きさ及び密度が上昇する現象が表れる。液晶素子20’に一定な電圧を印加した場合、表れる位相の変化位相遅延効果は、屈折率変化と厚さとの積により表現されるので、液晶滴が存在する液晶滴の大きさ及び密度が大きいほど、さらに大きい位相変化を与えることが可能である。したがって、図4Aのように、液晶とモノマーとの混合物が注入された液晶セルにUV光を照射するとき、光が照射される液晶セルの全面に設置するグレースケールマスク50の吸収率分布を、例えば図5Aのように予想される収差の分布と一致するグレースケールを有するように設計しておけば、液晶素子20’内に形成される液晶滴の大きさ及び密度分布を補正しようとする収差の分布と一致させることが可能である。図5Aでは、球面収差の分布と一致する吸収率分布を有するグレースケールマスクの例を示す図である。このように形成された液晶素子20’に均一な電場を印加することによって、液晶素子20’の各領域別に分布する位相の値を補正しようとする収差の逆の位相値を有することが可能になる。したがって、図1を参照にして前述したように、光ピックアップ内に前記の方法で製作された液晶素子20’を導入して電場を印加する場合、電場に比例して補正しようとする収差に相応する位相差が、分布が液晶素子20’に形成されるように設計されるので、単に電場の大きさを調節することのみでも効果的な収差補正が可能になる。また、グレースケールマスク50を図5B及び図5Cのようにネガティブまたはポジティブタイプの2次元のパラボリックタイプとすれば、光ピックアップにおいて、入射ビームまたは反射ビームの発散角の調節方式による収差補正用の液晶素子の製作も可能である。前記のようなナノPDLC構造で形成された液晶素子20’は、基本的に電場の印加時に入射する光の偏光に関係なく位相差を付与する機能を有する。したがって、前記の方法のように補正しようとする収差の分布と一致する吸収率分布を有するグレースケールマスクを利用して、液晶滴の大きさの分布が収差の分布と一致するように形成した収差補正用の液晶素子20’では、入射光の偏光方向に関係なく収差補正効果を得ることができる。したがって、通常的な均質方式の収差補正用の液晶素子の場合、入射光と反射光の偏光状態が互いに直交するので、それぞれのための補正用の液晶素子を二つ使用せねばならないが、図1及び図4Aに示すように、本発明の一実施形態による液晶素子20’の場合には、単一の液晶素子のみでも入射光と反射光の両方に対する収差補正が可能である。したがって、製造コストを低減でき、光ピックアップの小型化及び軽量化にも符合される。また、既存の均質方式の収差補正用の液晶素子の場合、電場の印加による応答時間が数ミリセカンド単位であるに比べて、本発明のように液晶滴の大きさがナノメータ程度である場合、電場の印加及び除去による応答時間が数百マイクロ秒単位に短くなるので、光ピックアップの駆動に非常に有利である。また、本発明は、基本的に液晶滴の分布を予想される球面収差の分布と一致させる方式であるので、既存の収差補正用の液晶素子で必ず必要とするITO電極のパターニング及び金属電極の蒸着の必要性をなくすので、製造工程を大きく単純化して製造コストを低減できる。また、ITO分割電極の形成及び金属電極の添加による透過率の低下及び補正効果の低下を防止できる。また、駆動のために必要なリード線の数が二つに減り、相対的に駆動及び配線方法も非常に単純になる。また、前記した本発明の一実施形態による液晶素子20’の製造時、グレースケールマスク50を図5Aのようにネガティブまたはポジティブタイプの2次元のパラボリックとすれば、光ピックアップにおいて、入射ビームまたは反射ビームの発散角の調節方式によるナノPDLC型の収差補正用の液晶素子も簡単な工程で製作可能である。かかるナノPDLC型の収差補正用の液晶素子は、応答速度が速く、偏光依存性がないので、単一の液晶素子で往復ビームの補正が可能である。図4Bは、本発明の他の実施形態によるPNLC型の液晶素子120’の製造方法を説明するための図である。そのPNLC型の液晶素子120’は、図2の光ピックアップに液晶素子120,125として使われうる。図4Bに示すように、ナノPNLC型の液晶素子120’の二枚の透明基板121,122の間に液晶とモノマーとの混合物を注入した液晶セル上に、補正しようとする収差分布に該当する吸収率分布を有するグレースケールマスク50を位置させる。前記モノマーは、UV光を照射することによりポリマー化可能なUV硬化型のモノマーである。前記混合物には、光重合反応を開始させる開始剤が含まれる。基板121,122には、均一なITO膜図示せずが形成されている。また、基板121,122には、配向膜が形成されるが、この配向膜はラビング処理される。前記液晶セルには、電場の印加のための二つのリード線が出ている。そのリード線は、本発明の他の実施形態によって製造された液晶素子120’のための駆動回路図示せずと連結される。前記液晶セルにUV光を照射すれば、モノマーがポリマーに重合されつつ相分離が起きて、ポリマーが存在する領域と液晶が存在する領域とが分離され、補正しようとする収差分布に対応する位相差分布を有する液晶層123が得られる。液晶素子120’は、液晶セルに液晶層123が形成されて得られる液晶素子を意味する。液晶層123は、モノマーが重合されつつ網構造を形成し、液晶がその網の間に入り込むPNLC構造で形成される。かかるPNLC構造の液晶層123を形成するために、液晶とモノマーとの混合物で液晶の比率をモノマーの比率に比べて高くし、UV強度を相対的に弱くすれば、モノマーが重合されつつポリマーが網構造を形成し、液晶が網の間に入り込むPNLC構造を形成できる。この場合、ポリマー網の密度は、照射されるUV光の強度に比例する。UV光が強く照射される領域には高密度のポリマー網が形成され、これにより液晶が少なく存在し、UV光が弱く照射される領域には低密度のポリマー網が形成され、これにより液晶が多く存在する。したがって、前述したナノPDLCの場合のように、図5Aに示したような球面収差の分布と一致した吸収率分布を有するグレースケールマスク50を使用した場合、液晶素子120’の液晶層123内に球面収差の分布と一致した液晶密度の分布を得、電場の印加により球面収差と逆符号の位相差を印加してそれを相殺することが可能である。また、かかるPNLC方式でも、グレースケールマスク50を図5B及び図5Cのようにネガティブまたはポジティブの2次元のパラボリックタイプとすれば、光ピックアップにおいて、入射ビームまたは反射ビームの発散角の調節方式による収差補正用の液晶素子の製作も可能である。前記したナノPDLC型の場合、偏光依存性がないため、一つの液晶素子で互いに偏光状態に直交する入射光と反射光とに対する収差補正が可能であるので、一つの液晶素子のみで十分である。しかし、このナノPDLC型の場合、相対的に高い駆動電圧を必要とする。一方、液晶とモノマーとの混合物で液晶の比率をモノマーの比率に比べて高くすれば、モノマーが重合されつつ網構造を形成し、液晶が網の間に入り込むPNLC構造を形成できる。かかるPNLC型の液晶素子の場合、液晶の比率が非常に高いため、相対的に非常に低い電圧下でも駆動が可能になるので、ナノPDLC型の液晶素子の短所である高い駆動電圧の問題を解決できる。しかし、このPNLC型の液晶素子は、偏光依存性を有するので、往復ビームそれぞれに対する別途の液晶素子を使用せねばならない。しかし、この場合にも、本発明の固有の長所である製造工程及び駆動の単純化効果を有する。すなわち、基本的に液晶滴の分布を予想される球面収差の分布と一致させる方式であるので、既存の収差補正用の液晶素子で必ず必要とするITO電極のパターニング及び金属電極の蒸着の必要性をなくすので、製造工程を大きく単純化し、製造コストを低減できる。また、ITO分割電極の形成及び金属電極の添加による透過率の低下及び補正効果の低下を防止できる。また、駆動のために必要なリード線の数が二つに減り、相対的に駆動及び配線方法も非常に単純になる。また、本発明の他の実施形態によるPNLC型の収差補正用の液晶素子の製造方法によれば、前記したように、グレースケールマスク50を図5Bまたは図5Cのようにネガティブまたはポジティブ型の2次元のパラボリック型とすれば、光ピックアップにおいて、入射ビームまたは反射ビームの発散角の調節方式によるPNLC型の収差補正用の液晶素子を簡単な工程で製作して、低電圧駆動の効果を得ることができる。前記のような本発明の一実施形態によるナノPDLC型の液晶素子20’は、例えば液晶としてMerck社のE7no=1.511,ne=1.7400,△n=0.23を30~40wt.、モノマーとしてNOA81n=1.56,Norland社製のUV硬化型のアドへシブを60~70wt.、フォト開始剤としてベンゾフェノンを1wt.ほど含む混合物を使用し、UV強度を500~700mW/cm2とすれば、製造が可能である。前記のような本発明の他の実施形態によるPNLC型の液晶素子120’は、例えば液晶としてMerck社のE44を90wt.、モノマーとしてビスフェノル-A-ジメタアクリレートM1の6wt.とRM-82の4wt.との混合物、フォト開始剤の少量を含む混合物を使用し、UV強度を約45mW/cm2とすれば、製造が可能である。前記の配合を基準にして液晶とモノマーとの比率、UV光の強度及び照射時間を適切に変化させれば、ナノPDLCまたはPNLC構造の液晶素子のうち一つを得ることができる。ここで表した配合及び照射されるUV光の強度は、例示的に表したものであり、その混合物の配合及び照射されるUV光の強度などは多様に変形されうる。以上では、本発明による収差補正用の液晶素子が球面収差を補正するように形成された場合を例として説明及び図示したが、本発明がこれに限定されるものではなく、本発明による収差補正用の液晶素子は、図6Aないし図10Bに示したような多様な収差を補正するように多様に形成されうる。図6Aは、光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差の2次元分布を示す図であり、図6Bは、図6Aの球面収差の1次元分布を示す図である。光軸を中心に半径方向の座標をrと表示すれば、光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差は、図6A及び図6Bに示したようにr4に比例する。したがって、r4に比例する吸収率分布を有するグレースケールマスク50を使用して液晶素子20,120,125の液晶層を形成すれば、その球面収差と逆になる位相差分布を表す液晶素子を形成できる。図7Aは、対物レンズ30の作動距離の変動時に光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差の2次元分布を示す図であり、図7Bは、図7Aの球面収差の1次元分布を示す図である。フォーカス駆動により上下に移動して対物レンズ30の作動距離が変動されるとき、光軸を中心に半径方向の座標をrと表示すれば、光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差の場合、対物レンズ30の作動距離の変動によりr4-r2に収差を減少できる。ここで、r2は、対物レンズ30の上下移動に起因した項である。したがって、r4-r2に比例する吸収率分布を有するグレースケールマスク50を使用して液晶素子20,120,125の液晶層を形成すれば、対物レンズ30の作動距離の変動が行われる間に、光ディスク1の厚さ差による球面収差と逆になる位相差分布を表す液晶素子を形成できる。図8Aは、光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差の2次元分布を示す図であり、図8Bは、図8Aのコマ収差の1次元分布を示す図である。光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差は、r3に比例する。コマ収差は、r3×cosφここで、φは方位角に該当し、これに該当する吸収率分布を有するグレースケールマスク50を使用して液晶素子20,120,125の液晶層を形成すれば、光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差と逆になる位相差分布を表す液晶素子を形成できる。図9Aは、対物レンズ30のシフト時に光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差の2次元分布を示す図であり、図9Bは、図9Aのコマ収差の1次元分布を示す図である。光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差の場合、対物レンズ30のシフトによりr3-2/3×rに収差を減少できる。2/3×rは、対物レンズ30のシフトに起因した項である。このときのコマ収差r3-2/3×r×cosφに該当する吸収率分布を有するグレースケールマスク50を使用して液晶素子20,120,125の液晶層を形成すれば、対物レンズ30のシフトが同時に行われるとき、光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差と逆になる位相差分布を表す液晶素子を形成できる。一方、対物レンズ30にr2に比例する発散光または収束光を入射させれば、光ディスク1の厚さ差による球面収差を相殺できることが周知されている。図10Aは、パラボリック2次元分布を示す図であり、図10Bは、図10Aの1次元分布を示す図である。図10A及び図10Bに示すように、光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差の場合、対物レンズ30にr2に比例する発散光または収束光を入射させれば、球面収差を相殺できるので、r2に比例する吸収率分布を有するグレースケールマスク50を使用して液晶素子20,120,125の液晶層を形成し、対物レンズ30に発散光または収束光を入射させれば、光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差と逆になる位相差分布を表す液晶素子を形成できる。以上では、図6Aないし図10Bを参照にして一つの収差、すなわち球面収差またはコマ収差のみを補正できる液晶素子を形成することについて説明したが、本発明によれば、二つ以上の収差が複合されるように発生する場合にも、この複合された収差を補正できる液晶素子を製造できる。例えば、図6Aの球面収差及び図8Aのコマ収差の2次元分布の和に該当する吸収率分布を有するグレースケールマスクを利用して液晶素子を製造すれば、光ディスク1の厚さ差による球面収差及び光ディスク1の傾斜によるコマ収差を同時に補正できる液晶素子を得ることができる。前記のように、本発明による収差補正用の液晶素子20,120,125は、光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差、対物レンズ30の作動距離の変動時に光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差、光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差、対物レンズ30のシフト時に光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差のうち少なくともいずれか一つの収差分布に該当する吸収率分布を有するグレースケールマスク50を使用して製造されうる。また、液晶素子20,120,125は、ポジティブまたはネガティブタイプの2次元のパラボリック吸収率分布を有するグレースケールマスク50を使用して製造されうる。また、これにより製造された本発明による収差補正用の液晶素子20,120,125は、光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差、対物レンズ30の作動距離の変動時に光ディスク1の厚さ差により発生する球面収差、光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差、対物レンズ30のシフト時に光ディスク1の傾斜により発生するコマ収差のうち少なくともいずれか一つの収差の逆に該当する位相差分布を有してその収差を補正できる。また、本発明による液晶素子20,120,125をポジティブまたはネガティブタイプの2次元のパラボリック吸収率分布を有するグレースケールマスク50を使用して製造すれば、液晶素子20,120,125は、そのグレースケールマスク50の吸収率分布の逆に該当する2次元のパラボリック位相差分布を有し、収束光または発散光を対物レンズ30に入射させれば、光ディスク1の厚さ差による球面収差を補正できる。前記したように、液晶、UV硬化型のモノマー及び光重合反応を開始させる開始剤からなる混合物を空いている液晶セルに注入し、補正しようとする収差の分布と一致する吸収率分布を有するか、またはポジティブまたはネガティブタイプの2次元のパラボリック吸収率分布を有するグレースケールマスクを通じてUV光を液晶セルに照射すれば、所望の収差を補正できる液晶素子を得ることができる。かかる液晶素子を利用すれば、光ピックアップは、光ディスク1の厚さ差による球面収差及び光ディスク1の傾斜によるコマ収差のうち少なくともいずれか一つを補正できる。図11は、本発明による光ピックアップを採用した光記録及び/または再生機器の構成を概略的に示す図である。図11に示すように、光記録及び/または再生機器は、光情報記録媒体である光ディスク1を回転させるためのスピンドルモータ455、光ディスク1の半径方向に移動可能に設置されて、光ディスクに記録された情報を再生及び/または記録する光ピックアップ450、スピンドルモータ455及び光ピックアップ450を駆動するための駆動部457、及び光ピックアップ450のフォーカス及びトラッキングサーボなどを制御するための制御部459を備える。ここで、参照番号452はターンテーブル、453は光ディスク1をチャッキングするためのクランプを表す。光ピックアップ450は、図1を参照にして前述した本発明の一実施形態または図2を参照にして前述した本発明の他の実施形態による光ピックアップの光学系構造を有する。光ディスク1から反射された光は、光ピックアップ450に設けられた光検出器を通じて検出され、光電変換されて電気的信号に変わり、この電気的信号は、駆動部457を通じて制御部459に入力される。駆動部457は、スピンドルモータ455の回転速度を制御し、入力された信号を増幅させ、光ピックアップ450を駆動する。制御部459は、駆動部457から入力された信号に基づいて調節されたフォーカスサーボ及びトラッキングサーボ命令を再び駆動部457に送信し、光ピックアップ450のフォーカシング及びトラッキング動作を具現する。かかる本発明による光ピックアップを採用した光記録及び/または再生機器では、光ディスク1の記録及び/または再生時、前記したように液晶素子20,120,125’に電圧を印加して、光ディスク1の厚さ差及び/または光ディスク1の傾斜などにより発生する収差に逆になる位相差分布を発生させることによって、収差を補正する。以上、本願発明は、例示的な実施形態を参照にして説明及び図示したが、本発明の技術的思想の範囲内で多様に変形されうるということを本技術分野の当業者は十分に理解できるであろう。例えば、液晶素子が図1、図2、図3、図4A、図4B及び図11と関連して説明された方式で利用される限り、光ピックアップでの構成要素の他の配列が利用されうる。付加的に、光記録及び/または再生機器の構成要素は、図11と異なる構成を有することもできる。したがって、本発明は、前述した多様な例示的な実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に含まれるあらゆる実施形態を含む。"