"色毎の感光体ドラムの被走査面上に光ビームを走査する、レーザ走査光学装置であって、光ビームを出射する複数の光源と、各前記光源から出射された光ビームを偏向する偏向手段と、光学異方性を有する材料からなり、前記偏向手段から入射された光ビームを前記被走査面上に結像させる、複数の走査レンズを含む走査レンズ群と、を備え、前記走査レンズ群において、光ビームの光路上で最下流の走査レンズを通過する光ビームの位相差を、進相軸方位と遅相軸方位との位相差とし、さらに、該走査レンズを通過する光ビームにおいて、主光線の通過位置での位相差をR主、上側光線の通過位置での位相差をR上、下側光線の通過位置での位相差をR下とするとき、|R主-R上R下/2|<50nm、かつR主>500nmである、レーザ走査光学装置。前記走査レンズは、光弾性係数が40×10-12Pa-1以上の材料を射出成形されたものである、請求項1に記載のレーザ走査光学装置。前記走査レンズの副走査方向に沿う外形幅は、前記主走査方向の位置によらず実質的に一定であり、該外形幅をH1とし、該走査レンズの芯厚をtとし、前記被走査面上の有効域の中心像高に向かう光ビームについて前記走査レンズへの入射面上での副走査方向の幅をW0とするとき、H1/t>W0×2を満たす、請求項1又は2に記載のレーザ走査光学装置。前記走査レンズは、光軸方向に沿って所定の厚さを有するレンズ形状域と、前記レンズ形状域の副走査方向の外側に存在し、前記レンズ形状域の厚さとは異なる値の光軸方向の厚さを有する無効領域とを有し、前記走査レンズのレンズ形状域幅は、前記主走査方向の位置によらず実質的に一定であり、該レンズ形状域幅をH2とし、該走査レンズの芯厚をtとするとき、5<H2/W0<9を満たす、請求項1~3のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。前記被走査面上の有効域の中心像高に向かう光ビームについて前記走査レンズへの入射面上での副走査方向の幅をW0とするとき、該有効域に向かう任意の光ビームについて、前記走査レンズの入射面における各光ビームの副走査方向に沿う幅の変動は、W0に対し10以下である、請求項1~4のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。前記走査レンズの撓み量を調整可能なホルダ、をさらに備える、請求項1~5のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。ところで、走査レンズ内を光ビームが通過すると、複屈折の作用により、光の進行速度の速い方位進相軸方位と、光の進行速度の遅い方位遅相軸方位との間で位相差が生じる。光ビームの幅内での位相差変化が大きくなると、感光体ドラム上での光ビームの結像性能が悪化する。光弾性係数の小さい材料例えば脂環式オレフィンポリマーを走査レンズに用いた場合、複屈折の発生そのものを小さく抑えることが可能となるため、光ビーム幅内での位相差変化も小さくなる。しかし、光弾性係数の小さい材料は材料単価が高いため、レーザ走査光学装置の製造コスト高の要因となる。一方、コストの観点から、材料単価の安い材料例えばポリカーボネートを用いた場合には、一般的には光弾性係数は大きくなる。このような光弾性係数の大きな材料を用いた場合、大きな複屈折が生じるので、光ビーム幅内での位相差変化も大きくなり、画像品質を低下させるビーム太りが生じる。なお、各特許文献に記載の発明では、複屈折分布の絶対値を小さくする手法が記載されているが、光ビームの幅内での位相差変化量に関しては言及されていない。本発明は、上記課題に鑑み、大きな複屈折が生じる材料を走査レンズに用いた場合でも、光ビーム太りを抑制可能な、レーザ走査光学装置を提供することを目的とする。上記目的を達成するため、本発明の一態様は、色毎の感光体ドラムの被走査面上に光ビームを走査する、レーザ走査光学装置であって、光ビームを出射する複数の光源と、各前記光源から出射された光ビームを偏向する偏向手段と、光学異方性を有する材料からなり、前記偏向手段から入射された光ビームを前記被走査面上に結像させる、複数の走査レンズを含む走査レンズ群と、を備えている。ここで、前記走査レンズ群において、光ビームの光路上で最下流の走査レンズを通過する光ビームの位相差を、進相軸方位と遅相軸方位との位相差とし、さらに、該走査レンズを通過する光ビームにおいて、主光線の通過位置での位相差をR主、上側光線の通過位置での位相差をR上、下側光線の通過位置での位相差をR下とするとき、|R主-R上R下/2|<50nm、かつR主>500nmである。本発明の一態様によれば、大きな複屈折が生じる材料を走査レンズに用いた場合でも、光ビーム太りを抑制可能なレーザ走査光学装置を提供することが可能となる。実施形態以下、図面を参照して、本発明の実施形態に係るレーザ走査光学装置について説明する。レーザ走査光学装置の全体構成まず、図1に示すX軸、Y軸、Z軸について説明する。Y軸は、各感光体ドラム40の被走査面で光ビームBが走査される主走査方向Yを示す。Z軸は、主走査方向Yに直交する、光ビームBの副走査方向Zを示す。X軸は、Y軸及びZ軸に直交する方向を示す。レーザ走査光学装置10は、大略的に、Y、M、C、Kの色毎に設けられた感光体ドラム4040y,40m,40c,40kに、光ビームBBy,Bm,Bc,Bkを走査する。ここで、参照符号の右側の添え字y,m,c,kは、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックを表す。例えば、感光体ドラム40yは、イエローの感光体ドラム40を表す。レーザ走査光学装置10は、光源1111y,11m,11c,11k、コリメータレンズ1212y,12m,12c,12k、絞り1313y,13m,13c,13k、合成ミラー1414y,14m,14c,14k、ミラー15、シリンドリカルレンズ16、偏向器17、走査レンズ群20、ミラー2424y,24m,24c,24k,2525y,25m,25c、2626m,26c及び防塵用ウインドウ2727y,27m,27c,27kを備える。光源11y,11m,11c,11kは、上から下へとこの順に並ぶように配置され、光ビームBy,Bm,Bc,Bkを出射する。コリメータレンズ12y,12m,12c,12kは、光源11y,11m,11c,11kの下流側に設けられており、光ビームBy,Bm,Bc,Bkを平行光に変換する。絞り13y,13m,13c,13kはそれぞれ、平行な光ビームBy,Bm,Bc,Bkを副走査方向Zに所定幅を有するように整形する。合成ミラー14y,14m,14cはそれぞれ、光ビームBy,Bm,Bcを反射して、光ビームBy,Bm,Bcの進行方向を合成ミラー14Kで反射された光ビームBkの進行方向に揃える合成手段として機能する。ミラー15は、合成ミラー14により進行方向がそろえられた光ビームBy,Bm,Bc,Bkを反射する。シリンドリカルレンズ16は、光ビームBy,Bm,Bc,Bkが偏向器17のポリゴンミラーの反射面近傍において線状に結像するように、光ビームBy,Bm,Bc,Bkを副走査方向Zに集光する。偏向器17は、ポリゴンミラーと、図示しないモータとにより構成されており、光ビームBy,Bm,Bc,Bkを主走査方向Yに偏向する。走査レンズ群20は、偏向器17により偏向された光ビームBy,Bm,Bc,Bkを感光体ドラム40y,40m,40c,40kの被走査面に結像させる。より詳細には、走査レンズ群20は、感光体ドラム40y,40m,40c,40k上での光ビームBy,Bm,Bc,Bkの走査速度が一定となると共に、光ビームBy,Bm,Bc,Bkのビーム径が均一となる光学特性を有している。そして、走査レンズ群20は、各色で共通の共通走査レンズ21,22と、色毎に設けられる個別走査レンズ2323y,23m,23c,23kとを含む。走査レンズ21,22,23は、この順番で、光ビームBの進行方向の上流光源11側から下流感光体ドラム40に向けて設けられている。ミラー2424y,24m,24c,24k,2525y,25m,25c、2626m,26cは、共通走査レンズ22を通過した光ビームBy,Bm,Bc,Bkを反射して、感光体ドラム40y,40m,40c,40kに導く。より詳細には、光ビームByは、ミラー24yで反射され、個別走査レンズ23yを通過し、更に、ミラー25yで反射され、防塵用ウインドウ27yを通過して感光体ドラム40y上に結像する。光ビームBmは、ミラー24m,25mで反射され、個別走査レンズ23mを通過し、更に、ミラー26mで反射され、防塵用ウインドウ27mを通過して感光体ドラム40m上に結像する。光ビームBcは、ミラー24cで反射され、個別走査レンズ23cを通過し、更に、ミラー25c,26cで反射され、防塵用ウインドウ27cを通過して感光体ドラム40c上に結像する。光ビームBkは、個別走査レンズ23kを通過し、ミラー24kで反射され、防塵用ウインドウ27kを通過して感光体ドラム40k上に結像する。個別走査レンズの詳細について以下、図2~図5を参照して、走査レンズ群20に含まれる各個別走査レンズ23について詳説する。各個別走査レンズ23は、例えばポリカーボネートのような樹脂を射出成形して製造される。各個別走査レンズ23は、光学異方性複屈折を有し、その光弾性係数は70×10-12Pa-1以上である。各個別走査レンズ23は、複屈折により、光ビームBの副走査方向Zに沿う幅内で大きく位相差を変化させるレンズの典型例である。ここで、位相差とは、光の進行速度の速い方位進相軸方位と、光の進行速度の遅い方位遅相軸方位との間の位相差である。また、各個別走査レンズ23は、上述からも分かるように、光ビームBの光路上で最も下流側に配置されるレンズであり、入射光ビームBの副走査方向Zに沿う幅が最も大きくなるレンズである。また、各個別走査レンズ23は、図4に示すように、レンズ23の副走査方向Zの座面側でホルダ50に位置決めされると共に、座面の対向面側から複数のバネ51で固定される。この状態で、座面側の中央部分に配置されたネジ52を回転させることで、個別走査レンズ23の撓み量を変化させる。これにより、光ビームBが被走査面上で主走査方向Yに曲がらないようにすることが可能となる。個別走査レンズ23y,23kは互いに同一種類であり、個別走査レンズ23m,23cは互いに同一種類である。また、個別走査レンズ23y,23mにおいて光学面形状は互いに異なるが、入射光ビーム幅W0、レンズ外形幅H1、レンズ形状域鏡面域の幅H2及び芯厚tはいずれも同じである。ここで、W0,H1,H2はいずれも、副走査方向Zに沿う寸法である。なお、副走査方向ZにおけるW0H1H2の中心は一致している。ここで、入射光ビーム幅W0を、図5を参照して詳説する。個別走査レンズ23への入射光ビームBは、主光線B0と、上側光線Buと、下側光線Blとを含む。上側光線Bu及び下側光線Blは、入射光ビームBにおいて副走査方向Zに最も上側及び下側の光線である。光ビーム幅W0は、偏向器17側の光ビームBの入射面Fa及び上側光線Buの交点と、入射面Fa及び下側光線Blの交点との間の距離である。換言すると、入射光ビーム幅W0は、被走査面上の有効域の中心像高に向かう光ビームBにおいて、入射面Fa上での副走査方向Zに沿う幅である。ここで、主光線B0の通過位置での位相差をR主とすると、R主>500nmとする。個別走査レンズ23はこのような大きな複屈折による位相差が発生する材料からなる。ここで、図3を再度参照する。H1,H2は、主走査方向Yの位置によらず一定である。レンズ形状域幅H2の外側には、レンズとして機能しない無効領域が存在し、このレンズ形状域の光軸方向X軸方向の厚さと、無効領域の光軸方向の厚さとは異なっている。本実施形態において、W0,H1,H2,tの関係は、次式1,2のように定められる。H1/W0>t×2...15<H2/W0<9...2式1,2を満たすW0、H1、H2及びtの具体的な値の一例を以下に示す。W0:2.1mmH1:18.6mmH2:12.6mmt:4.0mmH1/W0:8.9H2/W0:6.0ここで、式1について検討する。式1を変形すると、次式1’となる。H1/t>W0×2...1’個別走査レンズ23を樹脂成形する際、図6に点線で示すレンズ断面の外周は金型に接する部分であり、この外周から中心部分に向けて樹脂が固化していく。そのため、レンズ断面の外周部分ほど圧力が高い状態で固化し、中心部分は圧力が低い状態で固化する。よって、個別走査レンズ23には、図6に実線で示す応力分布が生じることとなる。式1’の左辺が小さくなると、つまりtが大きくなるかH1が小さくなると、樹脂の固化時の副走査方向Zからの影響矢印Aで示すが、芯厚方向Xの影響矢印Bで示すに対して無視できないレベルとなり、副走査方向Zの位相差分布の発生が懸念される。また、W0が大きくなると、入射光ビーム幅内で位相差分布が発生しやすくなる。そこで、式1’のように、H1とtとの比が、W0の2倍より大きくなるように設定し、これによって、固化時の副走査方向Zからの影響を低減している。図7は、個別走査レンズ23の副走査方向Zの位置横軸に対する位相差縦軸を示すグラフである。図7中には、個別走査レンズ23への入射光ビーム幅W0と、レンズ形状域幅H2も示されている。また、レンズ形状域の副走査方向Zに沿う両端部では、前述の無効領域との段差の影響で応力分布が変化しているため、位相差は大きく急峻に変化している。しかし、W0とH2の関係が式2の下限を満たしていれば、段差部分の影響は、個別走査レンズ23における実際の光ビームの通過領域には及ばす、入射光ビーム幅W0内における位相差の変化は緩やかになる。これにより、光ビームBの幅W0内での位相差分布を小さくすることが可能となる。ただし、H2の値を必要以上に大きくしすぎると、副走査方向Zの偏肉度最大厚/最小厚が大きくなり、固化までの時間差が大きくなる。その結果、応力分布が発生しやすくなるため、位相差分布も大きくなる。また、個別走査レンズ23の体積も増加し、個別走査レンズ23のコストアップにもつながる。以上の観点から、上式2に示すようにH2/W0<9というように上限が設けられている。ここで、上式1,2の技術的意義を明確にするため、本願発明者は、以下の値を有するポリカーボネート製の個別走査レンズを用いて位相差変化をシミュレーションした。このシミュレーション結果を図8に示す。この個別走査レンズでは、W0とH2の関係が式2の下限を満たしていないため、段差部分の影響が実際の光ビームBの通過領域に及び、入射光ビーム幅W0内における位相差の変化が大きく急峻になっている。また、図9の曲線Caに、式1,2を満たす個別走査レンズ23のビームプロファイルを示す。この個別走査レンズ23の場合、位相差変化量は40nmであり、1/e2ビーム径ピークに対し13.5の径は80μmである。ここで、位相差変化量は、個別走査レンズ23における上側光線Bu,下側光線Bl図5参照の通過位置での位相差をR上,R下とすると、次式3で定義される。位相差変化量=|R主-R上R下/2|...3図9には、比較のため、位相差変化量が無い光ビームのプロファイルが曲線Cb一点鎖線で示されている。この場合、1/e2ビーム径は77μm設計値となる。このように、個別走査レンズ23の1/e2ビーム径は、設計値と実質的に同じであることから、個別走査レンズ23により位相差変化量が概ね50nm未満にすれば、光ビーム幅W0の範囲内ではビーム太りは画像品質に影響のない無視できる範囲内となることが分かる。なお、図9には、位相差変化量が90nmの場合のビームプロファイルも曲線Cc点線で示されている。この場合、1/e2ビーム径が98μmと太くなるため、画像品質に影響が出る恐れがある。また、図10に示すように、個別走査レンズ23によれば、被走査面上の有効域に向かう任意の光ビームB’について、入射面Faでの副走査方向Zの幅W0’の変動が、中心像高HCに向かう光ビームBの副走査方向Zの幅W0に対し10以下となる。なお、シミュレーションの結果、図3の個別走査レンズ23の幅の変動はW0に対し6.7であった。なお、以上の実施形態では、図3のような個別走査レンズ23について説明したが、これに限らず、図11に示すように、個別走査レンズ23の無効領域から光軸方向に平行にリブ231が突出していても構わない。この個別走査レンズ23におけるW0、H1、H2、t、H1/W0及びH2/W0の具体的な値の一例を以下に示す。W0:2.4mmH1:20.0mmH2:12.8mmt:4.0mmH1/W0:8.3H2/W0:5.3また、図11の個別走査レンズ23に、被走査面上の有効域に向かう任意の光ビームB’を入射させ、入射面Faでの副走査方向Zの幅W0’の変動をシミュレートしてみると、W0に対し5.8であった。レーザ走査光学装置の変形例前述の実施形態では、いわゆる片側偏向を採用したレーザ走査光学装置を例に挙げ説明した。これに限らず、個別走査レンズ23は、図12に示すような両側偏向を採用したレーザ走査光学装置へも適用可能である。なお、図12では、本発明の要部にのみ参照符号を付し、さらに、図12において、図1の構成に相当するものには同一の参照符号を付け、それぞれの説明を省略する。図12において、4個の光源1111y,11m,11c,11kからの光ビームBBy,Bm,Bc,Bkは、シリンドリカルレンズ等を介して偏向器17のポリゴンミラーに入射される。偏光器17で主走査方向Yに偏向された各光ビームBy,Bmを各感光体ドラム40y,40m上に結像するための共通走査レンズ21,22と、該レンズ21,22を透過した光束を各感光体ドラム40y,40mに導くための複数枚のミラーと、各光路に個別に配置された個別走査レンズ23y,23mが配置されている。同様に、偏光器17で主走査方向Yに偏向された各光ビームBc,Bkを、各感光体ドラム40c,40k上に結像するための共通走査レンズ21,22と、これらレンズ21,22を透過した光束を各感光体ドラム40c,40kに導くための複数枚のミラーと、各光路に個別に配置された個別走査レンズ23c,23kが配置されている。付記以上の実施形態では、各個別走査レンズ23に対するR主、R上、R下、H1,H2及びtについて説明した。しかし、個別走査レンズ23に限らず、共通走査レンズ21,2が、複屈折により、光ビームBの副走査方向Zに沿う幅内で大きく位相差を変化させるレンズであるのであれば、共通走査レンズ21,22にR主、R上、R下、H1,H2及びtを適用しても構わない。個別走査レンズの作用効果について一般的に、複屈折は、高分子の配向状態に依存する配向複屈折と、成形時に発生する応力に依存する応力複屈折の2つに分けられる。このうち、応力複屈折の作用について説明する。複屈折により発生する位相差をR、成形により発生する応力分布をΔσ、材料の光弾性係数をCtとした場合、Rは次式4で表される。R=Ct×Δσ...4つまり、同じ応力分布が発生した場合、光弾性係数が大きいほど、大きな位相差分布が発生することになる。樹脂成形においては、金型に接している部分から樹脂が固まっていき、最後に中心部分が固化する。つまり、周辺部ほど圧力が高い状態で固化し、中央部は圧力が低い状態で固化するので、応力分布が発生することになる。一般的に、走査レンズは、偏向方向である主走査方向Yに長く、その垂直方向である副走査方向Zに短い略矩形形状を有する。このような形状に起因して、走査レンズへの入射ビーム幅内で位相差分布は、主走査方向Yでは発生しにくいが、副走査方向Zでは発生しやすい。特に、2次以上の位相差分布が発生すると、光ビームが太くなってしまう。そこで、本実施形態では、図5に示すように、個別走査レンズ23のいずれかを通過する光ビームBの位相差を、進相軸方位と遅相軸方位との位相差とし、さらに、該走査レンズ23を通過する光ビームBにおいて、主光線B0の通過位置での位相差をR主、上側光線Buの通過位置での位相差をR上、下側光線Blの通過位置での位相差をR下とするとき、|R主-R上R下/2|<50nm、かつR主>500nmとする。この条件を満たせば、個別走査レンズ23は、500nmを超える位相差が発生する材料で製造しても、光ビーム幅W0での位相差変化が50nm未満であるため、ビーム太りは画像品質に実質的に影響のないものとすることができる。例えば、コストの観点から個別走査レンズ23に、光弾性係数が40×10-12Pa-1以上の低コストな材料を用いた場合、応力複屈折が大きくなり、光ビームの位相差も大きくなり、その結果、R主>500nmの条件を満たすこととなる。また、|R主-R上R下/2|<50nmという条件を満たすためには、個別走査レンズ23のW0,H1,tを適切に選ぶ必要がある。本実施形態では、W0,H1,tは、前式1を満たすように選ばれる。これによって、前述したとおり、個別走査レンズ23の固化時における副走査方向Zからの影響を低減している。また、|R主-R上R下/2|<50nmという条件を満たすためには、個別走査レンズ23のW0,H2を適切に選ぶ必要がある。本実施形態では、W0,H2は、前式2を満たすように選ばれる。これによって、前述したとおり、レンズ形状域と無効領域との段差の影響が、個別走査レンズ23における実際の光ビームの通過領域には及ばす、入射光ビーム幅W0内における位相差の変化は緩やかになる。これにより、光ビームBの幅W0内での位相差分布を小さくすることが可能となる。また、主走査方向Yに走査される各光ビームBの副走査方向Zに沿う幅の変動は、W0に対し10以下とすることで、個別走査レンズ23の主走査方向Yの位置による複屈折の影響がほぼ均等になる。また、本実施形態では個別走査レンズ23の通過光ビームBはホルダ50により主走査方向Yに曲がらないよう調整されている。この時、もし、仮に、大きなレンズ外形幅H1、レンズ形状域鏡面域の幅H2及び芯厚tの個別通過レンズ23が設計されてしまうと、該レンズを撓ませるために大きな外力が必要となる。この外力により複屈折の状態が変化し、位相差分布も変わってしまうことが予想される。この観点でも、前式1,2を満たす技術的意味合いは大きなものとなる。"