テレフタル酸の製造プロセスにおける酸化反応母液中の微細結晶を酸化反応母液の流通循環運転をしながらセラミックフィルターを用いてクロスフロー方式にて濾過するにあたって、微細結晶濾過運転酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま濾過液による逆洗運転を行うに際し、濾過液による逆洗運転を、運転時間が5~180秒の範囲濾過側と流通路側の差圧が0.10~1.0[MPa]の範囲濾過液の供給線速度が1.0~20[m/hr]の範囲濾過液の温度が、酸化反応母液温~酸化反応母液温35°Cの範囲で行うことを特徴とする濾過運転方法。運転時間が60~1800秒の範囲流通路側と濾過側の差圧が0.05~0.5[MPa]の範囲酸化反応母液のセラミックフィルター流通路内での循環線速度が、流通路入口基準で3000~15000[m/hr]の範囲濾過液の濾過線速度が1.0~4.0[m/hr]の範囲で行う請求項1に記載の濾過運転方法。更に、酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま洗浄溶媒による逆洗運転を行う請求項1又は2に記載の濾過運転方法。の洗浄溶媒による逆洗運転を、運転時間が5~180[秒]の範囲洗浄溶媒による逆洗時の濾過側と流通路側の差圧が0.10~1.0[MPa]の範囲逆洗時の洗浄溶媒の供給線速度が1.0~20[m/hr]の範囲洗浄溶媒の温度が、酸化反応母液温~酸化反応母液温35°Cの範囲で行う請求項3に記載の濾過運転方法。の微細結晶濾過運転およびの濾過液による逆洗運転、からなる運転を繰り返し行い、の濾過液による逆洗運転によっては濾過流量回復を保てなくなった時に、の洗浄溶媒による逆洗運転を行う請求項3又は4に記載の濾過運転方法。洗浄溶媒が含水率0.1~30質量の酢酸である請求項3~5のいずれかに記載の濾過運転方法。濾過液による逆洗時に、セラミックフィルターの循環出口配管側の圧力を下げ、差圧をとり、濾過液を供給する請求項1~6のいずれかに記載の濾過運転方法。このようにテレフタル酸製造プロセスにおける酸化反応母液中のテレフタル酸微細結晶を、セラミックフィルターを用いてクロスフロー方式で濾過する操作において、1セラミックフィルターを長期間目詰まりなく濾過運転できる簡易な濾過運転方法、及び2大量の洗浄溶媒を使用しなくて済む濾過運転方法が見出されていない、という課題があった。本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、安定かつ簡易な濾過運転方法を見出し、本発明に到達した。即ち本発明は、以下の1~7からなる。1テレフタル酸の製造プロセスにおける酸化反応母液中の微細結晶を酸化反応母液の流通循環運転をしながらセラミックフィルターを用いてクロスフロー方式にて濾過するにあたって、微細結晶濾過運転酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま濾過液による逆洗運転を行うに際し、濾過液による逆洗運転を、運転時間が5~180秒の範囲濾過側と流通路側の差圧が0.10~1.0[MPa]の範囲濾過液の供給線速度が1.0~20[m/hr]の範囲濾過液の温度が、酸化反応母液温~酸化反応母液温35°Cの範囲で行うことを特徴とする濾過運転方法。2運転時間が60~1800秒の範囲流通路側と濾過側の差圧が0.05~0.5[MPa]の範囲酸化反応母液のセラミックフィルター流通路内での循環線速度が、流通路入口基準で3000~15000[m/hr]の範囲濾過液の濾過線速度が1.0~4.0[m/hr]の範囲で行う1に記載の濾過運転方法。3更に、酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま洗浄溶媒による逆洗運転を行う1又は2に記載の濾過運転方法4の洗浄溶媒による逆洗運転を、運転時間が5~180[秒]の範囲洗浄溶媒による逆洗時の濾過側と流通路側の差圧が0.10~1.0[MPa]の範囲逆洗時の洗浄溶媒の供給線速度が1.0~20[m/hr]の範囲洗浄溶媒の温度が、酸化反応母液温~酸化反応母液温35°Cの範囲で行う3に記載の濾過運転方法。5の微細結晶濾過運転およびの濾過液による逆洗運転、からなる運転を繰り返し行い、の濾過液による逆洗運転によっては濾過流量回復を保てなくなった時に、の洗浄溶媒による逆洗運転を行う3又は4に記載の濾過運転方法。6洗浄溶媒が含水率0.1~30質量の酢酸である3~5のいずれかに記載の濾過運転方法。7濾過液による逆洗時に、セラミックフィルターの循環出口配管側の圧力を下げ、差圧をとり、濾過液を供給する1~6のいずれかに記載の濾過運転方法。テレフタル酸製造プロセスにおける酸化反応母液中の微細結晶を、セラミックフィルターを用いクロスフロー方式濾過を行うにあたり、限定された条件の操作により、1セラミックフィルターが長期間目詰まりしない運転を簡易にできる、2大量の洗浄溶媒を使用しなくて済む、及び3従来なら、洗浄時に洗浄溶媒と共に廃棄していた洗浄溶媒中のテレフタル酸をも回収できる、という効果を見出した。本発明に用いられるテレフタル酸は、p-フェニレン化合物を液相酸化して得られる。p-フェニレン化合物としてはp-ジアルキルベンゼン類を例示することができ、好ましくはp-キシレンである。前記p-フェニレン化合物の液相酸化反応においては、重金属化合物及び臭素化合物が触媒として用いられる。当該液相酸化反応触媒の重金属化合物にはコバルト化合物及びマンガン化合物の少なくとも一種が含まれ、必要に応じて更にニッケル化合物、セリウム化合物、ジルコニウム化合物などが添加される。これらのコバルト化合物、マンガン化合物及びその他の重金属化合物としては、各々その有機酸塩、水酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩などが例示されるが、特に酢酸塩及び臭化物が好適に用いられる。重金属化合物の濃度は、酸化反応母液中の濃度で規定され、液相酸化反応を促進し得る範囲であれば特に限定されないが、例えばコバルトイオンとして通常100ppm以上、好ましくは200ppm以上であり、上限は1000ppm以下、好ましくは800ppm以下である。また、マンガンイオンについても同様に通常100ppm以上、好ましくは150ppm以上であり、上限は800ppm以下、好ましくは600ppm以下である。前記液相酸化反応触媒の臭素化合物としては、反応系で溶解し、臭化物イオンを発生するものであればいかなるものでもよく、臭化水素、臭化ナトリウム、臭化コバルトなどの無機臭素化合物、または、ブロモ酢酸、テトラブロムエタンなどの有機臭素化合物が例示され、特に臭化水素、臭化コバルトまたは臭化マンガンが好適に用いられる。臭素化合物の濃度は、酸化反応母液中の濃度で規定され、液相酸化反応を促進し得る範囲であれば特に限定されないが、例えば臭化物イオンとして通常300ppm以上、好ましくは500ppm以上であり、上限は1500ppm以下、好ましくは1200ppm以下である。前記液相酸化反応の温度は、好ましくは120~230°C、より好ましくは140~220°C、より好ましくは140~210°C、更に好ましくは160~210°Cの範囲である。反応温度が低すぎる場合には反応中間体が多量に生成スラリー中に残存することになり、反応温度が高すぎる場合には溶媒である水分1~15質量含有酢酸の燃焼損失が大きくなる。前記液相酸化反応における反応器の圧力は、反応温度において反応系が液相を保持できる圧力であれば良く、通常0.1~3.0[MPaG]、好ましくは0.3~3.0[MPaG]、より好ましくは0.3~1.8[MPaG]、更に好ましくは0.6~1.8[MPaG]である。前記液相酸化反応において酸化剤として用いられる分子状酸素含有ガスとしては、空気、不活性ガス希釈された酸素、または酸素富化空気等があげられるが、設備面及びコスト面から通常は空気の使用が好ましい。前記液相酸化反応における酸化反応器で生成した粗テレフタル酸結晶を含む酸化反応スラリーは、好ましくは直列に連結された次の酸化反応器へ送られて、更に酸素含有ガスによって仕上げの酸化反応を経た後、必要に応じて直列に連結された一段以上の晶析槽を経由して落圧、冷却されて次の固液分離工程へ送られる。前記液相酸化反応の例として、例えば、商業規模の装置を使い、含水酢酸中でp-キシレンを酢酸コバルト、酢酸マンガン、臭化水素酸の存在下、空気により液相酸化反応温度200[°C]、反応圧力1.5[MPaG]して粗テレフタル酸スラリーテレフタル酸濃度34重量、分散媒である含水酢酸の水分濃度11重量を得、直列に連結された晶析槽へ導いて順次落圧する例が挙げられる。次に、酸化反応スラリーを冷却してテレフタル酸結晶を分離する。固液分離工程では、液相酸化反応で生成した粗テレフタル酸スラリーが固液分離機によって粗テレフタル酸結晶と酸化反応母液に分離される。この固液分離は通常大気圧下で行われるが、加圧下であっても構わない。固液分離の温度に特段の制約はないが、通常は大気圧下における溶媒の沸点より低い温度、例えば50~115°Cの範囲で行われる。加圧下においては分離温度の上限は160°C、好ましくは150°Cとなる。固液分離機の形式としては遠心分離機、遠心濾過機、真空濾過機などを挙げることができる。固液分離工程で分離された酸化反応母液中にはテレフタル酸を主成分とする粗テレフタル酸微細結晶が含まれているため、セラミックフィルターを用いてクロスフロー方式で濾過することにより、粗テレフタル酸微細結晶を回収できて、テレフタル酸原単位が改善される。また、清澄な酸化反応母液は樹脂を用いた触媒回収プロセスにてそのまま処理することが可能である。一般的なセラミックフィルターは、セラミック多孔体を利用したフィルターであり、物理的強度、耐久性、耐食性に優れるため、例えば水処理や排ガス処理、或いは医薬食品分野などの広範な分野において、液体やガス中の懸濁物質、細菌、粉塵等の除去に用いられている。セラミックフィルターにおいては、セラミック多孔体をそのまま濾材として用いる場合もあるが、濾過性能、流体透過量即ち処理能力の双方を向上させるため、セラミック多孔体を基材支持体として、その表面にセラミックからなる濾過膜を形成することが一般的である。例えば、濾過膜の平均細孔径を0.01~1.0μm程度と小さく構成して濾過性能を確保する一方、基材の平均細孔径を1~数100μm程度に大きく構成して、基材内部の流動抵抗を低下させ、流体透過量即ち処理能力を向上させることが行われている。また、セラミックフィルターは、基材を濾過目的に応じて種々の形状に加工したものが用いられるが、基材を単一の流通路を有するチューブ状、或いは並行する多数の流通路を有するハニカム状モノリス状も含むとしたものが汎用されている。チューブ状、或いはハニカム状基材の表面、例えば流通路の内周面に濾過膜を形成したフィルターは、ハウジング内に収容し、基材外周面側と流通路が開口する基材端面側とをO-リング等で気密的に隔離する構造とすることにより、クロスフロー方式のフィルターとして利用されている。本発明で使用するセラミックフィルターとしては、セラミック多孔体を基材支持体として、基材に並行する多数の流通路を有するハニカム状モノリス状も含むであり、その流通路の内周面にセラミックからなる濾過膜を形成するものが好ましい。濾過膜の平均細孔径としては0.1~5μmが好ましい。このようなセラミックフィルターとしては、市販のものを使用しても良く、例えば日本ガイシ株式会社製のセラミック膜フィルターや日本ポール株式会社製のセラミック膜フィルター、フランスTAMIIndustries社製のセラミック膜フィルター等を例示することができる。また、セラミックフィルターは処理量に応じて、並列にて複数本を配置し使用することもできる。クロスフロー方式のフィルターによれば、気体、液体等の被処理流体を、基材の一方の端面側から流通路内に供給することにより、流通路内周面の濾過膜を透過した濾過流体を基材外周面側から回収することができる。一方、濾過されなかった被処理液体については基材の他方の端面側から回収することが可能になる。このクロスフロー方式での微細結晶濾過運転時間は60~1800秒、好ましくは120~1200秒である。濾過運転時間が60秒以上であればバルブの切り替えが頻繁に発生することもなく、バルブの寿命が保たれる。1800秒以下であれば濾過終期の濾過流量が0.47[m3/hr]より下がることもなく、平均濾過流量が保たれる。それに濾過液による逆洗で濾過性能が回復しやすい。微細結晶濾過運転時の酸化反応母液のセラミックフィルター流通路内での循環線速度は、流通路入口基準で3000~15000[m/hr]の範囲が好ましい。循環線速度が3000[m/hr]以上であれば濾過膜表面に堆積する微細結晶の除去効果が十分である。一方、循環線速度が15000[m/hr]以下であればセラミックフィルターの入口側と出口側の差圧が過大にならず、酸化反応母液を循環するポンプに過大な能力が求められることもなく設備投資額が抑制できる、更にはセラミックフィルターやO-リングが破損する恐れもない。なお、セラミックフィルターが複数の流通路を有する場合、あるいはセラミックフィルターを複数使用する場合、セラミックフィルター流通路内での循環線速度は、全流通路の総断面積に対する平均循環線速度とする。微細結晶濾過運転時の濾過液の濾過線速度は1.0~4.0[m/hr]の範囲が好ましい。濾過線速度が1.0[m/hr]以上であれば濾過性能が十分である。一方、濾過線速度が4.0[m/hr]以下であれば流通路側と濾過側の差圧が過大とならず、セラミックフィルターやO-リングの破損の可能性も小さい。また、微細結晶濾過運転時の流通路側と濾過側の差圧は0.05~0.5[MPa]の範囲が好ましい。差圧が0.05[MPa]以上であれば濾過性能が十分である。一方、差圧が0.5[MPa]以下であればセラミックフィルターやO-リングが破損する恐れが少ない。前記濾過では、徐々に濾過膜の表面に微細結晶が堆積し、濾過流量が低下するので、酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま、濾過液による逆洗に切り替える。これは濾過側から流通路側に濾過液を供給することであり、濾過膜の表面に堆積した微細結晶を物理的かつ化学的に除去することを目的としている。濾過液による逆洗では、濾過側と流通路側の差圧は0.10~1.0[MPa]であり、好ましくは0.10~0.80[MPa]の範囲である。濾過側と流通路側の差圧が0.10[MPa]未満ではセラミックフィルターの濾過膜全体に均一に濾過液が流れにくくなり、十分な洗浄効果を得ることができない。一方、濾過側と流通路側の差圧が1.0[MPa]を超えると急激な圧力変動によりセラミックフィルターやそのシール材が破損する可能性が増すので好ましくない。濾過液の供給線速度は1.0~20[m/hr]の範囲であり、より好ましくは2~15[m/hr]の範囲である。濾過液の供給線速度が1.0[m/hr]未満ではセラミックフィルターの濾過膜全体に均一に濾過液が流れにくくなり、十分な洗浄効果を得ることができない。一方、濾過液の供給線速度が20[m/hr]を超えると急激な圧力変動によりセラミックフィルターやそのシール材が破損する可能性が増すので好ましくない。濾過液による逆洗の際に、流通路側の圧力を下げることにより差圧をつけることが好適に行われる。流通路側は酸化反応母液が循環しており、この循環流量を制御するために、濾過モジュールの上流酸化反応母液を濾過モジュールに供給する側の配管と下流酸化反応母液がセラミックフィルターの流通路を通過して濾過モジュールから酸化反応母液槽に戻る配管に設置したコントロールバルブが使われている。この上流と下流のコントロールバルブは循環流量のみならず流通路側の圧力も制御しており、これらを使うことで流通路側の圧力を下げることができる。特に濾過液による逆洗の際には逆洗に使われた濾過液が流通路内で循環する酸化反応母液に合流し、濾過モジュールの下流においての流量が増すために下流のコントロールバルブの開度を大きくすることが好ましく、同時に上流のコントロールバルブの開度を絞り、逆洗に使われた濾過液の流通路への流入による上流での循環流量の変動を抑えることが好ましい。こうすることで流通路全体の圧力を下げることが可能になる。濾過膜の表面に堆積した微細結晶と濾過膜の内部で析出した固形分主にテレフタル酸を除去するためには、逆洗での濾過液の供給時間は長い方が有利である。しかし、濾過運転時間をロスすることを考慮すると、ある程度の時間内に収めることが必要になる。よって濾過液による逆洗運転時間は5~180[秒]の範囲にすることが好ましく、より好ましくは10~150[秒]の範囲である。逆洗で用いる濾過液は流通路を循環する酸化反応母液に混ざることになるため、濾過液の温度は酸化反応母液の温度以上であることが好ましい。また、濾過膜の表面に堆積した微細結晶と濾過膜の内部で析出した固形分主にテレフタル酸を短時間で溶解するためには濾過液の温度は酸化反応母液の温度より高い方がよいが、一方でセラミックフィルターでの極端な温度変化は、セラミックフィルターとフィルターハウジングとの熱膨張率の差に起因するセラミックフィルター破損やO-リング破損を引き起こす可能性がある。よって逆洗に用いる濾過液の温度の上限は、酸化反応母液の温度35°Cが好ましく、より好ましくは酸化反応母液の温度25°Cである。本発明では、の微細結晶濾過運転と、の酸化反応母液流通循環運転を保持したまま濾過液による逆洗運転、を交互に繰り返し行う。前記濾過液による逆洗を繰り返すうちに濾過性能の回復割合が徐々に低下し、最後には所定の濾過性能を取れなくなる。本発明においては、このような場合、酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま、セラミックフィルターを洗浄溶媒による逆洗で洗浄する。本発明で、酸化反応母液の流通循環運転を保持したままの洗浄溶媒による逆洗運転で、用いる洗浄溶媒としては、テレフタル酸を主成分とする微細結晶を溶解する能力が求められており、液相酸化反応の溶媒である酢酸が好適である。該酢酸の含水率は0.1~30質量であることが好ましく、0.1~10質量であることがより好ましい。濾過側から流通路側に洗浄溶媒を供給する洗浄溶媒による逆洗際には、濾過膜の表面に堆積した微細結晶を物理的かつ化学的に除去するために、濾過側と流通路側の差圧は0.10~1.2[MPa]の範囲にすることが好ましく、より好ましくは0.10~1.0[MPa]の範囲である。濾過側と流通路側の差圧が0.10[MPa]以上であればセラミックフィルターの濾過膜全体に均一に洗浄溶媒が流れ、十分な洗浄効果を得ることができる。一方、濾過側と流通路側の差圧が1.2[MPa]以下であれば急激な圧力変動もなくセラミックフィルターやそのシール材が破損する可能性もない。洗浄溶媒の供給線速度は1.0~20[m/hr]の範囲にすることが好ましく、より好ましくは1.0~15[m/hr]の範囲である。洗浄溶媒の供給線速度が1.0[m/hr]以上であればセラミックフィルターの濾過膜全体に均一に洗浄溶媒が流れ、十分な洗浄効果を得ることができる。一方、洗浄溶媒の供給線速度が20[m/hr]以下であれば急激な圧力変動によりセラミックフィルターやそのシール材が破損する可能性がない。濾過膜の表面に堆積した微細結晶と濾過膜の内部で析出した固形分主にテレフタル酸を除去するためには、洗浄溶媒の供給時間は長い方が有利である。しかし、濾過運転時間をロスすること、使用する洗浄溶媒が酸化反応母液に加わることを考慮すると、ある程度の時間内に収めることが必要になる。よって洗浄溶媒による逆洗運転時間は5~180[秒]の範囲にすることが好ましく、より好ましくは5~120[秒]の範囲である。洗浄溶媒は流通路を循環する酸化反応母液に混ざることになるため、洗浄溶媒の温度は酸化反応母液の温度以上であることが好ましい。また、濾過膜の表面に堆積した微細結晶と濾過膜の内部で析出した固形分主にテレフタル酸を短時間で溶解するためには洗浄溶媒の温度は酸化反応母液の温度より高い方がよいが、一方でセラミックフィルターでの極端な温度変化は、セラミックフィルターとフィルターハウジングとの熱膨張率の差に起因するセラミックフィルター破損やO-リング破損を引き起こす可能性がある。よって洗浄溶媒の温度の上限は酸化反応母液の温度35°Cが好ましく、より好ましくは酸化反応母液の温度25°Cである。微細結晶濾過運転、酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま濾過液による逆洗運転、及び酸化反応母液の流通循環運転を保持したまま洗浄溶媒による逆洗運転からなる、セラミックフィルターを用いるクロスフロー方式による本発明の濾過運転方法において、上記、、を行う順番に限定はなく、いかなる順序で運転を行ってもよい。ただし、本発明においては、、を繰り返し行い、によって濾過流量が回復できなくなった時にを行う、、からなる周期運転とすることが好ましい。以下、実施例等により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。水分濃度9質量の含水酢酸中で、p-キシレンをコバルトイオン500ppm、マンガンイオン300ppm及び臭化物イオン700ppmの存在下、空気により液相酸化反応反応温度200[°C]、反応圧力1.5[MPaG]させることにより、粗テレフタル酸を含有するスラリーを得た。後酸化反応の後、晶析工程へ導いて放圧し、常圧で100°Cまで冷却した後、ロータリーバキュームフィルターにて固液分離して粗テレフタル酸結晶を分離し、セラミックフィルターを用いるクロスフロー方式による濾過運転に必要な酸化反応母液を準備した。なお、該酸化反応母液は70°Cであった。この酸化反応母液は微細結晶で濁っており、微細結晶の含有率は0.21質量であった。この酸化反応母液の一部を酸化反応母液槽60[m3]より抜き出し、セラミックフィルターによるクロスフロー濾過を行った。循環する母液は酸化反応母液槽に戻し、濾過液は濾過液槽2[m3]に送液した。濾過モジュール7には、日本ガイシ株式会社製のセラミックフィルターをエレメントとして装着した。セラミックフィルター8はモノリス状で、濾過膜の平均細孔径は1.0μm、サイズは30mmΦ×1000mmL。流通路28の外径は4[mm]、孔数は19個。濾過面積は0.2386[m2]。流通路の総断面積は0.0002386m2。なお、実施例中のテレフタル酸廃棄量は酸化反応母液循環流量1.84m3/hr、中の析出テレフタル酸量より算出した。セラミックフィルターを用いるクロスフロー方式の濾過について運転方法を説明する。微細結晶濾過運転図1~図3において、上述の酸化反応母液は酸化反応母液槽1に貯められている。この酸化反応母液は、ポンプ2を用いて循環入口配管6を通して濾過モジュール7の上部基材端面側10に供給される。このとき、コントロールバルブ4にて流量を調節する。濾過モジュール7に供給された酸化反応母液はセラミックフィルター8の流通路28を通過し、下部の基材端面側10、循環出口配管11を通過して酸化反応母液槽1に戻る。このとき、コントロールバルブ13にて流量を調節する。この一連の流れを酸化反応母液循環ラインと呼ぶ。母液循環ラインにおいてはコントロールバルブ4及び13を調整することにより、母液循環流量を調節する。更には、セラミックフィルター8の流通路28側、つまりフィルターの上流側の圧力一次圧を調整する。その圧力は圧力計5、12にて確認する。酸化反応母液の濾過運転は、母液循環ラインを確立した上で、バルブ18を開コントロールバルブ24及び25は閉にすることにより行われる。このとき、酸化反応母液はセラミックフィルター8で濾過されて、濾過側9に微細結晶を除かれた清澄な酸化反応母液が流出し、濾過液出口配管16を通って濾過液槽19に貯められる。濾過運転中のフィルターの下流側の圧力二次圧は圧力計17にて確認する。濾過流量は一次圧と二次圧の濾過差圧、濾過される流体の物性粘度など、及びセラミックフィルター8の濾過性能濾過面積、平均細孔径、目詰まりの程度などによって決まる。濾過差圧ΔP[MPa]は、圧力計5の圧力をP1[MPaG]、圧力計12の圧力をP2[MPaG]、圧力計17の圧力をP3[MPaG]とし、以下の式により算出する。ΔP=P1P2/2-P3濾過液による逆洗運転図1~図3において、微細結晶濾過運転時の濾過流量が低下した時には濾過液による逆洗を行う。まず、バルブ18を閉コントロールバルブ24及び25は閉のままとして濾過運転を停止する母液循環は継続。次にコントロールバルブ24を調節しながら開け、濾過液槽19内の濾過液を、ポンプ20を用いて濾過液逆洗配管23を通して濾過モジュール7の濾過側9に供給する。このとき、必要に応じて該濾過液の温度を熱交換器22にて制御する。また、濾過側9の圧力が流通路28側の圧力より高くなるようにし逆洗差圧、濾過液を濾過側9から流通路28側に通過させて逆洗を行う。この逆洗差圧は-ΔPで定義される。なお、逆洗時にコントロールバルブ4及び13を調節することにより流通路28側の圧力を下げて逆洗差圧を調節することも適宜行われる。洗浄溶媒による逆洗運転図2において、濾過液による逆洗運転で濾過流量が十分に回復しなくなった時は、洗浄溶媒による逆洗を行う。まず、バルブ18とコントロールバルブ24を閉とし母液循環は継続、次にコントロールバルブ25を調節しながら開け、洗浄溶媒を、洗浄溶媒逆洗配管26を通して濾過モジュール7の濾過側9に供給する。このとき、必要に応じて洗浄溶媒の温度を熱交換器27にて制御する。また、濾過側9の圧力が流通路28側の圧力より高くなるようにし、洗浄溶媒を濾過側9から流通路28側に通過させて逆洗を行う。通過した洗浄溶媒は循環する酸化反応母液と混合される。なお、逆洗時にコントロールバルブ4及び13を調節することにより流通路28側の圧力を下げて逆洗差圧を調節することも適宜行われる。また、以下式により微細結晶濾過運転時の平均濾過流量X1、酸化反応母液のセラミックフィルター流通路内での循環線速度LV1および濾過液の濾過線速度LV2を求めた。なお、LV1は平均循環線速度として求めた。濾過モジュール7入口循環流量F[m3/hr]微細結晶濾過運転時間T1[sec]微細結晶濾過運転開始時の濾過流量Xs[m3/hr]微細結晶濾過運転終了時の濾過流量Xt[m3/hr]微細結晶濾過運転時の平均濾過流量X1[m3/hr]=XsXt/2酸化反応母液のセラミックフィルター流通路内での循環線速度LV1[m/hr]=F/0.0002386濾過液の濾過線速度LV2[m/hr]=Xs/0.2386また、微細結晶濾過運転および濾過液による逆洗運転からなる1サイクル中の平均濾過流量V3および逆洗運転時の濾過液の供給線速度LV3を以下により求めた。微細結晶濾過運転における総濾過液量V1[m3]=T1×X1/3600濾過液による逆洗運転時間T2[sec]濾過液による逆洗運転時の逆洗流量X2[m3/hr]濾過液による逆洗運転における総逆洗液量V2[m3]=T2×X2/3600微細結晶濾過運転および濾過液による逆洗運転からなる1サイクルの平均濾過流量V3[m3/hr]=V1-V2/T1T2×3600濾過液による逆洗運転時の供給線速度LV3[m/hr]=X2/0.2386濾過液による逆洗運転での濾過液使用量が多ければ、正味で得られる濾過液が少なくなることとなり、微細結晶濾過運転および濾過液による逆洗運転からなる1サイクルの平均濾過流量V3が小さくなる。<実施例1>微細結晶濾過運転濾過モジュール7に上述の酸化反応母液70°Cを循環入口流量1.84[m3/hr]P1=0.30[MPaG]で供給しダウンフロー、クロスフロー濾過を開始した。微細結晶濾過運転開始時の濾過流量Xsは0.63[m3/hr]P3=0.00[MPaG]であり、循環出口流量は1.21[m3/hr]P2=0.18[MPaG]であった。流通路側と濾過側の差圧はΔP=0.24[MPa]であった。また、内部流通路内での循環線速度及び濾過液の濾過線速度は、それぞれ7706m/hr、2.64m/hrであった。濾過液による逆洗運転濾過運転を継続したところ、600秒後に濾過流量が0.47[m3/hr]まで下がったので微細結晶濾過運転終了時の濾過流量Xtは0.47[m3/hr]、酸化反応母液の循環を継続したまま濾過液による逆洗を80秒間行った供給線速度は5.28[m/hr]、濾過液の温度70°C。このときのP1=0.27[MPaG]、P2=0.03[MPaG]、P3=0.42[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.27[MPa]であった。また、逆洗流量は1.26[m3/hr]であった。濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき1サイクル目濾過液逆洗直後=2サイクル目のXsの濾過流量は0.63[m3/hr]であり、微細結晶濾過運転および濾過液による逆洗運転からなる1サイクル目の平均濾過流量V3は0.337[m3/hr]であった。2サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量も0.63[m3/hr]であり、2サイクル目の平均濾過流量V3も0.337[m3/hr]であった。3~5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3も、それぞれ2サイクル目と同一であった。更に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる4時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。結果を表1に示す。<実施例2>濾過液による逆洗運転を供給線速度10.6[m/hr]、逆洗運転時間40秒間で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に継続した。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.33[MPaG]、P2=0.05[MPaG]、P3=0.81[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は-ΔP=0.62[MPa]であった。また、逆洗流量は2.52[m3/hr]であった。濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき1サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量は0.63[m3/hr]であり、1サイクル目の平均濾過流量V3は0.358[m3/hr]であった。2サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量も0.63[m3/hr]であり、2サイクル目の平均濾過流量V3も0.358[m3/hr]であった。3~5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3も、それぞれ2サイクル目と同一であった。更に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転40秒間を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる6時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。結果を表1に示す。<実施例3>濾過液による逆洗運転を供給線速度2.64[m/hr]、濾過液の温度80°C、逆洗運転時間120秒間で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に継続した。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.26[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.36[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は-ΔP=0.22[MPa]であった。また、逆洗流量は0.63[m3/hr]であった。濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき1サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量は0.63[m3/hr]であり、1サイクル目の平均濾過流量V3は0.353[m3/hr]であった。2サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量も0.63[m3/hr]であり、2サイクル目の平均濾過流量V3も0.353[m3/hr]であった。3~5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3も、それぞれ2サイクル目と同一であった。更に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転120秒間を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる4時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。結果を表1に示す。<実施例4>濾過液による逆洗運転時に流通路側の圧力を下げるための上流コントロールバルブ4及び下流コントロールバルブ13の開度調整を行わないこと以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に継続した。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.50[MPaG]、P2=0.25[MPaG]、P3=0.63[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は-ΔP=0.26[MPa]であった。濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき1サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量は0.61[m3/hr]までの回復にとどまり、1サイクル目の平均濾過流量V3は0.337[m3/hr]であった。2サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量は0.61[m3/hr]を回復でき、2サイクル目の平均濾過流量V3は0.328[m3/hr]であった。3~5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3は、それぞれ2サイクル目と同一であった。更に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる2時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。結果を表1に示す。流通路側の圧力を下げるための上流コントロールバルブ4及び下流コントロールバルブ13の開度調整を行わなかったことにより、濾過液逆洗で流通路内に入った濾過液が上部基材端面側からセラミックフィルターへ流入する酸化反応母液流量を減少させてしまい濾過膜の表面に堆積した微細結晶を物理的に取り去る効果が低下したことが原因であった。結果を表1に示す。<比較例1>濾過液による逆洗運転時間を200秒間で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に継続した。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.27[MPaG]、P2=0.03[MPaG]、P3=0.42[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は-ΔP=0.27[MPa]であった。濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき1サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量は0.63[m3/hr]であり、1サイクル目の平均濾過流量V3は0.097[m3/hr]であった。2サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量も0.63[m3/hr]であり、2サイクル目の平均濾過流量V3も0.097[m3/hr]であった。3~5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3も、それぞれ2サイクル目と同一であった。更に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転200秒間を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる4時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。結果を表1に示す。ただし、濾過液による逆洗運転時間が長いために平均濾過流量V3は0.097[m3/hr]であった。平均濾過流量が低いので必要とされるフィルターエレメントの本数が増え、コストアップにつながった。結果を表1に示す。<比較例2>濾過液による逆洗運転を供給線速度0.84[m/hr]、で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に行った。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.18[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.19[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は-ΔP=0.09[MPa]であった。また、逆洗流量は0.20[m3/h]であった。濾過液による逆洗運転を終了して濾過工程に戻したが、微細結晶濾過運転開始時の濾過流量は0.55[m3/hr]までしか回復しなかった。また、微細結晶濾過運転および濾過液による逆洗運転からなる1サイクル目の平均濾過流量V3は0.462[m3/hr]であった。次に、2サイクル目の濾過運転に入ったところ、100秒後に濾過流量が0.50[m3/hr]まで下がって、微細結晶濾過運転時間T1=600秒設定を維持できなくなった。結果を表1に示す。<比較例3>濾過液による逆洗運転を濾過液の温度60°Cで行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に行った。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.27[MPaG]、P2=0.03[MPaG]、P3=0.44[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は-ΔP=0.29[MPa]であった。濾過液による逆洗運転を終了して濾過工程に戻したが、微細結晶濾過運転開始時の濾過流量は0.54[m3/hr]までしか回復しなかった。また1サイクル目の平均濾過流量V3は0.337[m3/hr]であった。次に、2サイクル目の濾過運転に入ったところ、90秒後に濾過流量が0.50[m3/hr]まで下がって、微細結晶濾過運転時間T1=600秒設定を維持できなくなった。結果を表1に示す。濾過液による逆洗運転を濾過液の温度60°Cと低めで行ったため、セラミックフィルター洗浄が十分にできなかったことが原因であった。<比較例4>濾過液による逆洗運転を供給線速度0.84[m/hr]、濾過液の温度80°C、逆洗運転時間400秒間で行なった以外は実施例1と同様に濾過運転と濾過液による逆洗運転を交互に継続した。濾過液による逆洗を行っている時のP1=0.18[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.18[MPaG]であり、濾過側と流通路側の逆洗差圧は-ΔP=0.08[MPa]であった。また、逆洗流量は0.20[m3/hr]であった。濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このとき1サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量は0.63[m3/hr]であり、1サイクル目の平均濾過流量V3は0.250[m3/hr]であった。2サイクル目濾過液逆洗直後の濾過流量も0.63[m3/hr]であり、2サイクル目の平均濾過流量V3も0.250[m3/hr]であった。3~5サイクル目の濾過液逆洗直後の濾過流量および平均濾過流量V3も、それぞれ2サイクル目と同一であった。更に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転400秒間を交互に継続したところ、濾過液逆洗直後の濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなる3時間後までセラミックフィルターの微細結晶濾過性能を維持することができた。ただし、本比較例の運転条件でも、平均濾過流量V3は0.250[m3/hr]であった。平均濾過流量が低いので必要とされるフィルターエレメントの本数が増え、コストアップにつながった。結果を表1に示す。<実施例5>微細結晶濾過運転濾過モジュール7に前述の酸化反応母液約70°Cを循環入口流量1.84[m3/hr]P1=0.30[MPaG]で供給しダウンフロー、クロスフロー濾過を開始した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]P3=0.00[MPaG]であり、循環出口流量は1.21[m3/hr]P2=0.18[MPaG]であった。流通路側と濾過側の差圧はΔP=0.24[MPa]であった。また、内部流通路内での循環線速度及び濾過液の濾過線速度は、それぞれ7706m/hr、2.64m/hrであった。濾過液による逆洗運転濾過運転を継続したところ、600秒後に濾過流量が0.47[m3/hr]まで下がったので、酸化反応母液の循環を継続したまま濾過液による逆洗を80秒間行った逆洗流量1.26[m3/hr]。このときのP1=0.27[MPaG]、P2=0.03[MPaG]、P3=0.42[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.27[MPa]であった。濾過液による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]で、濾過液による濾過線速度は2.64m/hrであった。洗浄溶媒による逆洗運転濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続したところ、4時間後に濾過流量が濾過液による逆洗直後においても0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま洗浄溶媒の酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗を15秒間行った逆洗流量1.00[m3/hr]。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.26[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.40[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.26[MPa]であった。酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。次に、再度、濾過運転と濾過液による逆洗を繰り返し、濾過液による逆洗直後においても0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったために洗浄溶媒による逆洗をするまでの周期は4時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ4時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。<実施例6>実施例5と同様に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続した4時間。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗運転を15秒間行った逆洗流量2.00[m3/hr]。酢酸の供給線速度は8.38[m/hr]。このときのP1=0.32[MPaG]、P2=0.04[MPaG]、P3=0.65[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.47[MPa]であった。酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。また、次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ4時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。<実施例7>実施例5と同様に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続した4時間。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗運転を10秒間行った逆洗流量3.00[m3/hr]。酢酸の供給線速度は12.6[m/hr]。このときのP1=0.33[MPaG]、P2=0.06[MPaG]、P3=0.93[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.74[MPa]であった。酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ4時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。<実施例8>実施例5と同様に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続した4時間。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗運転を60秒間行った逆洗流量0.50[m3/hr]。酢酸の供給線速度は2.09[m/hr]。このときのP1=0.25[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.33[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.20[MPa]であった。酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ4時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。<実施例9>実施例5と同様に濾過運転150秒間と濾過液による逆洗運転20秒間を交互に継続した6時間。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗運転を15秒間行った逆洗流量1.00[m3/hr]。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.26[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.40[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.26[MPa]であった。酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は6時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ6時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。<実施例10>実施例5と同様に濾過運転900秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続した3時間。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗運転を15秒間行った逆洗流量1.00[m3/hr]。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.26[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.40[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.26[MPa]であった。酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復した。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は3時間であった。つまり、濾過運転と濾過液による逆洗運転を繰り返しながら、かつ3時間の周期で洗浄溶媒による逆洗を行うことにより、セラミックフィルターの濾過性能を維持することができた。結果を表2に示す。<比較例5>実施例5と同様に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続した4時間。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を停止しコントロールバルブ4及び13を閉、次いで抜液バルブ14を開、酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗運転を180秒間行った逆洗流量1.00[m3/hr]。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.00[MPaG]、P2=0.00[MPaG]、P3=0.08[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.08[MPa]であった。洗浄溶媒酢酸を系外に排出する逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]まで回復したが、酢酸の使用量は0.0500[m3]と実施例5の12倍の使用量となった。さらに、酸化反応母液中のテレフタル酸0.46質量が廃棄物として系外に排出された。なお、次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。結果を表2に示す。<比較例6>実施例5と同様に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続した4時間。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を停止しコントロールバルブ4及び13を閉、次いで抜液バルブ14を開、酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗運転を15秒間行った逆洗流量1.00[m3/hr]。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.00[MPaG]、P2=0.00[MPaG]、P3=0.08[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.08[MPa]であった。洗浄溶媒酢酸を系外に排出する逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。酢酸の使用量は0.0042[m3]と実施例5と同じであるが、母液循環がない分、流通路側にある濾過面の上に堆積した微細結晶が除去されにくく、濾過流量は0.52[m3/hr]までしか回復しなかった。そのために、2回目以降の洗浄溶媒による逆洗までの周期は30分間と極端に短くなった。つまり、セラミックフィルターの濾過性能を維持できる運転周期が極端に短くなった。結果を表2に示す。さらに、酸化反応母液中のテレフタル酸5.52質量が廃棄物として系外に排出された。結果を表2に示す。<実施例11>実施例5と同様に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続した4時間。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗運転を180秒間行った逆洗流量1.00[m3/hr]。酢酸の供給線速度は4.19[m/hr]。このときのP1=0.26[MPaG]、P2=0.02[MPaG]、P3=0.40[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.26[MPa]であった。含水酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復したが、酢酸の使用量は0.0500[m3]と実施例5の12倍の使用量となった。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。結果を表2に示す。<実施例12>実施例5と同様に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続した4時間。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗運転を15秒間行った逆洗流量0.20[m3/hr]。酢酸の供給線速度は0.84[m/hr]。このときのP1=0.10[MPaG]、P2=0.09[MPaG]、P3=0.18[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=0.09[MPa]であった。酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。酢酸の使用量は0.00083[m3]と少なく実施例5の0.21倍、濾過流量は0.55[m3/hr]までしか回復しなかった。2回目以降の洗浄溶媒による逆洗までの周期は1時間であった。つまり、セラミックフィルターの濾過性能を維持できる運転周期が極端に短くなった。結果を表2に示す。<実施例13>実施例5と同様に濾過運転600秒間と濾過液による逆洗運転80秒間を交互に継続した4時間。濾過液による逆洗直後における濾過流量が0.50[m3/hr]以上に回復しなくなったので、酸化反応母液の循環を継続したまま酢酸含水率7.1質量、80°Cによる逆洗運転を15秒間行った逆洗流量5.00[m3/hr]。酢酸の供給線速度は20.9[m/hr]。このときのP1=0.40[MPaG]、P2=0.31[MPaG]、P3=1.41[MPaG]であり、濾過側と流通路側の差圧は-ΔP=1.06[MPa]であった。酢酸による逆洗運転を終了し、濾過運転に戻した。このときの濾過流量は0.63[m3/hr]に回復したが、酢酸の使用量は0.0208[m3]と実施例5の5倍の使用量となった。次の洗浄溶媒による逆洗までの周期は4時間であった。結果を表2に示す。