成形室として機能する深さdの成形用凹部が上面に設けられた吸液性の下型と、該下型の上面に被さる吸液性の上型とからなり、該成形用凹部の側面と底面との作る辺が、曲率半径×d以上のアールを有していることを特徴とする泥漿鋳込み用の成形型。前記深さdが、15mm以上であることを特徴とする請求項1記載の泥漿鋳込み用の成形型。前記成形用凹部が主部と付属部とから構成されており、該主部が略矩形状の上面を有し、該主部の隣り合う側面が作る4つの辺がそれぞれ曲率半径15mm以上のアールを有し、該主部の側面の1つがこの側面の両端部分のアールの開始部分から終端部分までの任意の位置から該凹部の長手方向外側に突出して付属部を形成し、該突出した付属部の先端部分は曲率半径15mm以上のアールを有すると共に、該付属部の側面と底面との作る辺が曲率半径×d以上のアールを有していることを特徴とする請求項1又は2記載の泥漿鋳込み用の成形型。前記成形用凹部が主部と付属部とから構成されており、該主部が略矩形状の上面を有し、該主部の隣り合う側面が作る4つの辺がそれぞれ曲率半径15mm以上のアールを有し、該主部の側面の1つがこの側面の両端部分のアールの開始部分又は終端部分から該凹部の長手方向外側に突出して付属部を形成し、該突出した付属部の先端部分は曲率半径15mm以上のアールを有すると共に、該付属部の側面と底面との作る辺が曲率半径×d以上のアールを有していることを特徴とする請求項1又は2記載の泥漿鋳込み用の成形型。前記成形型が、溶媒の割合WHが50wt≦WH≦65wtである石膏スラリーを素材として用いて成形した後に、乾燥して形成されたものであることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の泥漿鋳込み用の成形型。前記付属部には、成形体原料のスラリーの鋳込み口が配設されていることを特徴とする請求項3又は4記載の泥漿鋳込み用の成形型。前記上型の下型に対向する面が平面状であるか、又は下型の上面に設けられた凹部に対応する上型の部分に凹部が設けられているものであることを特徴とする請求項1~6のいずれかに記載の泥漿鋳込み用の成形型。セラミック原料粉末、溶媒及び有機添加物を含むスラリーを泥漿鋳込み成形した後に、焼成して板状焼結体を製造する板状焼結体の製造方法において、泥漿鋳込み用の成形型として、成形室として機能する深さdの成形用凹部が上面に設けられた吸液性の下型と、該下型の上面に被さる吸液性の上型とからなり、該成形用凹部の側面と底面との作る辺が、曲率半径×d以上のアールを有している成形型を用いることを特徴とする板状焼結体の製造方法。前記深さdが15mm以上である成形型を用いて泥漿鋳込み成形することを特徴とする請求項8記載の板状焼結体の製造方法。前記成形用凹部が主部と付属部とから構成されており、該主部が略矩形状の上面を有し、該主部の隣り合う側面が作る4つの辺がそれぞれ曲率半径15mm以上のアールを有し、該主部の側面の1つがこの側面の両端部分のアールの開始部分から終端部分までの任意の位置から該凹部の長手方向外側に突出して付属部を形成し、該突出した付属部の先端部分は曲率半径15mm以上のアールを有すると共に、該付属部の側面と底面との作る辺が曲率半径×d以上のアールを有している成形型を用いて泥漿鋳込み成形することを特徴とする請求項8又は9に記載の板状焼結体の製造方法。前記成形用凹部が主部と付属部とから構成されており、該主部が略矩形状の上面を有し、該主部の隣り合う側面が作る4つの辺がそれぞれ曲率半径15mm以上のアールを有し、該主部の側面の1つがこの側面の両端部分のアールの開始部分又は終端部分から該凹部の長手方向外側に突出して付属部を形成し、該突出した付属部の先端部分は曲率半径15mm以上のアールを有すると共に、該付属部の側面と底面との作る辺が曲率半径×d以上のアールを有している成形型を用いて泥漿鋳込み成形することを特徴とする請求項8又は9に記載の板状焼結体の製造方法。前記付属部に配設された成形体原料の鋳込み口からセラミック原料粉末、溶媒及び有機添加物を含むスラリーを鋳込むことを特徴とする請求項10又は11に記載の板状燒結体の製造方法。前記成形型として、溶媒の割合WHが50wt≦WH≦65wtである石膏スラリーを素材として用いて成形した後に、乾燥して形成された型を用いて泥漿鋳込み成形することを特徴とする請求項7~12のいずれかに記載の板状焼結体の製造方法。前記セラミック原料粉末のBET比表面積Sが7.7m2/g≦S≦9.5m2/gである原料粉末を用いることを特徴とする請求項8~13のいずれかに記載の板状焼結体の製造方法。前記板状燒結体がスパッタリングターゲットであることを特徴とする請求項8~14のいずれかに記載の板状燒結体の製造方法。請求項8~14のいずれかに記載の板状焼結体の製造方法を用いて製造された板状燒結体。請求項8~14のいずれかに記載の板状焼結体の製造方法を用いて製造されたスパッタリングターゲット。本発明は、上記従来技術の不具合を解決するために創作されたものであり、成形体の製造歩留まりを向上し且つ成形時間を改善できる成形型、この成形型を用いて得られた板状焼結体及びその製造方法、並びにこの製造方法により製造されたスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供することを課題とする。上記課題を解決するために、本発明の泥漿鋳込み用の成形型は、成形室として機能する深さdの成形用凹部が上面に設けられた吸液性の下型と、この下型の上面に被さる吸液性の上型とからなり、成形用凹部の側面と底面との作る辺が、曲率半径×d以上のアールを有していることを特徴とする。このように構成された両面着肉法用の成形型の場合、下型及び上型を吸液性にしたことで成形型でのスラリー中の溶媒である水の排水効率が向上され、その結果、成形時間を短くすることができると共に、成形体中に残留した溶媒が成形体の厚さ方向において濃度差を発生することを抑制できるので、成形体が乾燥中に収縮する量が厚さ方向において均等になり、成形体に割れやクラックが発生するのを防止できると共に、以後の工程で成形体を焼成して製造した板状焼結体に反りが発生するのを抑制することができる。また、成形用凹部の隅に、すなわち成形用凹部の側面と底面との作る辺に、曲率半径が×d以上のアールを設けることにより、成形体を成形型から取り外す際に、成形体の外周縁部に発生する割れ及び/又は欠けを防止することができ、その結果、歩留まりを向上することができる。上記成形型における曲率半径が×d未満であると、成形体の外周縁部に発生する割れ及び/又は欠けを防止することができず、歩留まりが悪くなる。上記深さdは15mm以上でよい。深さdが15mm未満であると、得られる板状燒結体の厚さが薄すぎ、経済的ではない。上記成形型において、成形用凹部が主部と付属部とから構成されており、この主部が略矩形状の上面を有し、主部の隣り合う側面が作る4つの辺がそれぞれ曲率半径15mm以上のアールを有し、主部の側面の1つがこの側面の両端部分のアールの開始部分から終端部分までの任意の位置から凹部の長手方向外側に突出して付属部を形成し、この突出した付属部の先端部分は曲率半径15mm以上のアールを有すると共に、付属部の側面と底面との作る辺が曲率半径×d以上のアールを有していることが好ましい。上記付属部の先端部分のアールが15mm未満であると、成形室内でのスラリーの流れが悪くなり、成形室の隅々まで充分にスラリーが供給されない虞がある。また、上記付属部の側面と底面との作る辺のアールが×d未満であると、成形体における付属部に相当する部分にクラックが生じる虞がある。また、上記成形型において、成形用凹部が主部と付属部とから構成されており、この主部が略矩形状の上面を有し、主部の隣り合う側面が作る4つの辺がそれぞれ曲率半径15mm以上のアールを有し、主部の側面の1つがこの側面の両端部分のアールの開始部分又は終端部分から凹部の長手方向外側に突出して付属部を形成し、この突出した付属部の先端部分は曲率半径15mm以上のアールを有すると共に、付属部の側面と底面との作る辺が曲率半径×d以上のアールを有していることが好ましい。上記先端部分のアールが15mm未満であり、また、上記辺のアールが×d未満であると、上記したような問題がある。本発明の成形型は、溶媒である水の割合WHが50wt≦WH≦65wtである石膏スラリーを素材として用いて成形した後に、乾燥して形成されたものであることが好ましい。石膏スラリー中の溶媒である水の割合WHが過剰に大きいと、すなわち65wtを超えると、成形型の吸液量は大きくなるものの、同時に成形型の平均気孔径も大きくなるため、毛細管現象に起因する吸水力が小さくなり、成形体を製造する際の成形時において、スラリー中の溶媒である水の排水効率が悪くなり、成形時間が多くなる虞がある。また、上記石膏スラリー中の溶媒である水の割合WHが過剰に小さいと、すなわち50wt未満であると、成形型の吸液量が小さくなるため、成形体を製造する際の成形時において、スラリー中の溶媒である水の排水を十分できないので、満足できる成形体を作製することができない。上記成形型において、付属部には成形体原料のスラリーの鋳込み口が配設されている。本発明の成形型においては、上型の下型に対向する面が平面状であっても良いし、或いは下型の上面に設けられた凹部に対応する上型の部分に凹部が設けられたものでもよい。本発明の板状焼結体の製造方法は、セラミック原料粉末、溶媒及び有機添加物を含むスラリーを泥漿鋳込み成形した後に、焼成して板状焼結体を製造する板状焼結体の製造方法において、泥漿鋳込み用の成形型として、成形室として機能する深さdの成形用凹部が上面に設けられた吸液性の下型と、該下型の上面に被さる吸液性の上型とからなり、該成形用凹部の側面と底面との作る辺が、曲率半径×d以上のアールを有している成形型を用いることを特徴とする。このように構成された成形型を用いることにより、上記したように、成形型でのスラリー中の溶媒である水の排水効率を向上することができ、その結果、上記したような効果を奏することができ、また、所定のアールを有している成形型を用いることにより、成形体製造の歩留まりを向上することができる。また、上記した本発明の製造方法で用いる成形型のその他の構造については、上記成型型について説明した通りである。また、上記付属部に配設された鋳込み口からセラミック原料粉末、溶媒及び有機添加物を含むスラリーを鋳込み、成形体を形成する。本発明の板状焼結体の製造方法で用いるセラミック原料粉末のBET比表面積Sは、7.7m2/g≦S≦9.5m2/gであることが好ましい。セラミック原料粉末のBET比表面積Sが過剰に大きいと、すなわち9.5m2/gを超えると、成形時において、スラリー中の溶媒である水の排水効率が悪くなり、これに起因して成形時間が多くなる虞がある。また、セラミック原料粉末のBET比表面積が過剰に小さいと、すなわち7.7m2/g未満であると、泥漿鋳込み成形した後の成形体を焼成した際に、板状焼結体の相対密度が充分に上昇しない等の問題がある。BET比表面積が小さい場合、特に、本発明の製造方法をスパッタリングターゲットの製造に用いた際に、スパッタリングターゲットの密度を充分に上昇することができないので、焼結密度が充分に上昇しないことに起因するスパッタリングターゲットの不具合、例えば、焼結密度が低いスパッタリングターゲットを用いてスパッタを行っていると、ターゲット表面に異物が発生し、スパッタ成膜中に異常放電とともに異物が飛散して基板上に形成される膜の品質が悪くなる等の不具合が生じる。本発明の板状燒結体の製造方法によれば、燒結密度が高いスパッタリングターゲットを製造することができる。本発明の成形型を用いれば、泥漿鋳込みの両面着肉により、厚さの厚いものでも割れ、クラックの発生もなく、大幅に形成時間が短縮され、そして安定した成形体を得ることができ、その結果、以後の焼成工程を経て、厚みが厚く、高純度、高密度である板状燒結体を大規模な装置を使用せずに、歩留まりよく製造することができるという効果を奏する。本発明によれば、成形室として機能する深さdの成形用凹部が上面に設けられた吸液性の下型と、この下型の上面に被さる吸液性の上型とからなる成型型であって、成形用凹部の側面と底面との作る辺が曲率半径×d以上のアールを有し、成形用凹部が、主部と付属部とから構成され、この主部が略矩形状の上面を有し、主部の隣り合う側面が作る4つの辺がそれぞれ曲率半径15mm以上のアールを有し、主部の側面の1つがこの側面の両端部分のアールの開始部分から終端部分までの任意の位置から凹部の長手方向外側に突出して付属部を形成し、この突出した付属部の先端部分は曲率半径15mm以上のアールを有すると共に、付属部の側面と底面との作る辺が曲率半径×d以上のアールを有している泥漿鋳込み用の成形型を用いて、セラミック原料粉末、溶媒及び有機添加物を含むスラリーを付属部に配設されている成形体原料のスラリーの鋳込み口から成型用凹部へ流し、泥漿鋳込み成形して成形体を作製し、その後、焼成して板状焼結体を製造する方法を提供することができる。まず、以下の比較例で用いる成形型及び本発明に係わる成形型の実施の形態について説明する。図1及びに、比較例で用いる両面着肉法用の成形型を示す。成形型の下型11の平面図を示す図1及び成形型の断面図を示す図1から明らかなように、成型用凹部12は、矩形状の上面を有し、かつ、凹部の隣り合う側面が作る4つの辺がそれぞれアールを有していない主部13と、この主部の側面の1つである13aの所定の位置から凹部12の長手方向外側に突出して形成された付属部14とからなっている。この突出した付属部14の先端部分は曲率半径10mmのアールXを有し、この付属部14の側面と底面との作る辺はアールを有していない。付属部14には成形体原料のスラリーの鋳込み口15が配設されている。図1中、dは凹部12の深さを示し、16は成形型の上型を示す。図2、及びに、本発明に係る成形型の一つの実施の形態を示す。成形型の下型21の平面図を示す図2、成形型の断面図を示す図2及び下型の斜視図を示す図から明らかなように、成型用凹部22は、略矩形状の上面を有し、かつ、凹部の隣り合う側面が作る4つの辺がそれぞれアールA、B、C及びDを有する主部23と、この主部の側面の1つである23aの両端部分のアールA及びBの終端部分近傍から凹部22の長手方向外側に突出して形成された付属部24とからなっている。この突出した付属部24の先端部分は曲率半径15mm以上のアールEを有し、この付属部24の側面24aと底面24bとの作る辺は曲率半径×d以上のアールFを有している。付属部24には成形体原料のスラリーの鋳込み口25が配設されている。図2中、Gは、主部23の側面23b、23c、23dのそれぞれと主部の底面23eとが作る辺のアールを示し、dは凹部22の深さを示し、26は成形型の上型を示す。図3、及びに、本発明に係る成形型の別の実施の形態を示す。成形型の下型31の平面図を示す図3、成形型の断面図を示す図3及び下型の斜視図を示す図から明らかなように、成型用凹部32は、略矩形状の上面を有し、かつ、凹部の隣り合う側面が作る4つの辺がそれぞれアールA、B、C及びDを有する主部33と、この主部の側面の1つである33aの両端部分のアールA及びBの開始部分近傍から凹部32の長手方向外側に突出して形成された付属部34とからなっている。この突出した付属部34の先端部分は曲率半径15mm以上のアールEを有し、この付属部34の側面34aと底面34bとの作る辺は曲率半径×d以上のアールFを有している。付属部34には、成形体原料のスラリーの鋳込み口35が配設されている。図3中、Gは、主部33の側面33b、33c、33dのそれぞれと主部の底面33eとが作る辺のアールを示し、dは凹部32の深さを示し、36は成形型の上型を示す。本発明の成形型においては、上記したように、上型の下型に対向する面が平面状であっても良いし、或いは以下述べるように、下型の上面に設けられた凹部に対応する上型の部分に凹部を設けたものでもよい。図4に示すような構成の上型を有する成形型も本発明に係る成形型のさらに別の実施の形態として含まれ得る。図4に示す成形型の断面図から明らかなように、成形型41は、下型42と上型43とからなる。下型及び上型には、それぞれ、略矩形状の上面/下面を有する成型用凹部44及び45が設けられ、下型と上型とを重ね合わせることにより、これらの凹部同士で成形室が形成されるように構成されている。下型及び上型には、上記した図2及び3の場合と同様に、凹部の隣り合う側面の作る4つの辺及び凹部の側面と底面との作る辺が、それぞれ上記したようなアールを有している。但し、上型のアールは、凹部の隣り合う側面の作る4つの辺の場合、1mm以上であり、凹部の側面と底面との作る辺の場合、1mm以上である。成形体原料のスラリーは、下型及び/又は上型の所定の位置に配設された鋳込み口から鋳込むことができるように構成されていればよい。図4中、dは凹部44と45との合計深さを示す。本発明の板状燒結体を作製する際に用いるスラリー中のセラミックス原料粉末としては、特に制限されるわけではなく、所望の各種燒結体を製造するための既知の原料粉末は全て含まれ得る。例えば、酸化インジウムと酸化スズとの混合粉末、或いは酸化亜鉛と酸化アルミニウムとの混合粉末等を挙げることができる。また、スラリー中に含まれる有機添加物は、バインダー及び分散剤である。バインダー及び分散剤としては、特に制限はなく、本発明のような燒結体を作製する際に、スラリーに添加できるものであれば良い。例えば、バインダーとしてはポリアクリル酸系化合物製、商品名WE-518固形分含量50、分散剤としてはポリカルボン酸系化合物製、商品名D-305等のアクリル系樹脂を使用できる。さらに、スラリー中に含まれる溶媒は水である。以下、本発明の実施例及び比較例を説明するが、これらの例中で使用したスラリーとしては、次のようにして調製したものを用いた。純度99.99、平均粒径0.3μm、比表面積10m2の酸化インジウム粉と、純度99.99、平均粒径1μm、比表面積5m2の酸化スズ粉とを、重量比9:1で配合し、これに、その合計重量に対して28の重量のイオン交換水並びに各1の重量の市販の分散剤とバインダーを添加して、スラリー濃度78の溶液を作り、以下の実施例及び比較例においてはこのスラリーを共通原料として種々の条件にてITO成形体を製作した。なお、ここで成形体の長さとは、スラリー鋳込み口のある出っ張り部の成形体の肩の所までの長手方向の長さである。かくして得られた成形体に対するその後の焼成工程を経て得られた燒結体は、実施例では、純度99.9、及び理論密度7.15g/cm3に対する相対密度99.8の高密度を有するITO燒結体であった。成形型として、石膏原料に65wtの割合で水を配合して得た石膏原料溶液を用いて成形した後に、乾燥して製作した平均気孔率が1.6である図2に示す成形型であって、下型の成型用凹部の深さdが17mm、この凹部の主部の側面と底面とで作る辺が13mmR、凹部の主部の隣り合う側面が作る辺が15mmRであり、突出した付属部の先端部分が15mmRである型を使用した。この成成形型に上記スラリーを流し、成形圧力3Kg/cm2、成形時間3.5時間にて、厚み17mm、幅200mm、長さ600mm、相対密度55の成形体を得た。次いで、乾燥工程、スラリー鋳込み口部分の切断除去工程、脱脂工程、1600°Cで10時間の焼成工程及び表面加工を経て、厚み12mm、幅150mm、長さ412mmのITO燒結ターゲットを得た。ターゲットの製造は、10枚行ったが、その中で2枚割れたのみであった。成形型として、石膏原料に65wtの割合で水を配合して得た石膏原料溶液を用いて成形した後に、乾燥して製作した平均気孔率が1.6である図3に示す成形型であって、下型の成形用凹部の深さdが17mm、この凹部の主部の側面と底面とで作る辺が9mmR、凹部の主部の隣り合う側面が作る辺が15mmRであり、突出した付属部の先端部分が15mmRである型を使用した。この成形型に上記スラリーを流し、成形圧力3Kg/cm2、成形時間3.5時間にて、厚み17mm、幅200mm、長さ600mm、相対密度55の成形体を得た。次いで、乾燥工程、スラリー鋳込み口部分の切断除去工程、脱脂工程、1600°Cで10時間の焼成工程及び表面加工を経て、厚み12mm、幅150mm、長さ412mmのITO燒結ターゲットを得た。ターゲットの製造は、10枚行ったが、その中で1枚割れたのみであった。成形型として、石膏原料に55wtの割合で水を配合して得た石膏原料溶液を用いて成形した後に、乾燥して製作した平均気孔率が1.3である図3に示す成形型であって、下型の成形用凹部の深さdが24mm、凹部の主部の側面と底面とで作る辺が12mmR、凹部の主部の隣り合う側面が作る辺が15mmRであり、突出した付属部の先端部分が15mmRである型を使用した。この成形型に上記スラリーを流し、成形圧力3Kg/cm2、成形時間6時間にて、厚み24mm、幅200mm、長さ400mm、相対密度55の成形体を得た。次いで、乾燥工程、スラリー鋳込み口部分の切断除去工程、脱脂工程、1600°Cで10時間の焼成工程及び表面加工を経て、厚み18mm、幅150mm、長さ290mmのITO燒結ターゲットを得た。ターゲットの製造は、20枚行ったが、その中で1枚割れたのみであった。成形型として、石膏原料に55wtの割合で水を配合して得た石膏原料溶液を用いて成形した後に、乾燥して製作した平均気孔率が1.3である図3に示す成形型であって、下型の成形用凹部の深さdが24mm、凹部の主部の側面と底面とで作る辺が18mmR、凹部の主部の隣り合う側面が作る辺が20mmRであり、突出した付属部の先端部分が15mmRである型を使用した。この成形型に上記スラリーを流し、成形圧力3Kg/cm2、成形時間6時間にて、厚み24mm、幅200mm、長さ400mm、相対密度55の成形体を得た。次いで、乾燥工程、スラリー鋳込み口部分の切断除去工程、脱脂工程、1600°Cで10時間の焼成工程及び表面加工を経て、厚み18mm、幅150mm、長さ290mmのITO燒結ターゲットを得た。ターゲットの製造は、50枚行ったが、割れの発生はなかった。比較例1成形型として、石膏原料に65wtの割合で水を配合して得た石膏原料溶液を用いて成形した後に、乾燥して製作した平均気孔率が1.6である図1に示す成形型であって、下型の凹部の深さdが24mmである型を使用した。この成形型に上記スラリーを流し、成形圧力3Kg/cm2、成形時間8時間にて、厚み24mm、幅200mm、長さ400mm、相対密度55の成形体を得た。次いで、乾燥工程、スラリー鋳込み口部分の切断除去工程、脱脂工程、1600°Cで10時間の焼成工程及び表面加工を経て、厚み18mm、幅150mm、長さ290mmのITO燒結ターゲットを得た。ターゲットの製造は、10枚行ったが、その中で6枚が割れた。比較例2成形型として、石膏原料に65wtの割合で水を配合して得た石膏原料溶液を用いて成形した後に、乾燥して製作した平均気孔率が1.6である図2に示す成形型であって、下型の成形用凹部の深さdが17mm、凹部の主部の側面と底面とで作る辺が5mmR、凹部の主部の隣り合う側面が作る辺が5mmRであり、突出した付属部の先端部分が12mmRである型を使用した。この成形型に上記スラリーを流し、成形圧力3Kg/cm2、成形時間4.5時間にて、厚み17mm、幅200mm、長さ600mm、相対密度55の成形体を得た。次いで、乾燥工程、スラリー鋳込み口部分の切断除去工程、脱脂工程、1600°Cで10時間の焼成工程及び表面加工を経て、厚み12mm、幅150mm、長さ412mmのITO燒結ターゲットを得た。ターゲットの製造は、10枚行ったが、その中で6枚が割れた。比較例3成形型として、石膏原料に65wtの割合で水を配合して得た石膏原料溶液を用いて成形した後に、乾燥して製作した平均気孔率が1.6である図3に示す成形型であって、下型の成形用凹部の深さdが24mm、凹部の主部の側面と底面とで作る辺が8mmR、凹部の主部の隣り合う側面が作る辺が5mmRであり、突出した付属部の先端部分が10mmRである型を使用した。この成形型に上記スラリーを流し、成形圧力3Kg/cm2、成形時間8時間にて、厚み24mm、幅200mm、長さ400mm、相対密度55の成形体を得た。次いで、乾燥工程、スラリー鋳込み口部分の切断除去工程、脱脂工程、1600°Cで10時間の焼成工程及び表面加工を経て、厚み18mm、幅150mm、長さ290mmのITO燒結ターゲットを得た。ターゲットの製造は、10枚行ったが、その中で6枚が割れた。石膏原料に添加する水の割合を45~70wtの間で変化させたこと以外は、実施例1記載と同様にして成形型を製作し、また、成形時間を変化させたこと以外は同様の成形条件に従って成形体を得、次いで、乾燥工程、スラリー鋳込み口部分の切断除去工程、脱脂工程、1600°Cで10時間の焼成工程及び表面加工を行い、ITO燒結ターゲットを得た。成形体の製造個数に対するの割合を評価した。その結果を表1に示す。表1から明らかなように、石膏原料溶液に対する水の割合WHが50wt≦WH≦65wt、好ましくは50wt≦WH≦60wtである石膏スラリーを素材として用いて成形した後に、乾燥して形成された成形型を使用して成形体を得、次いで焼成して燒結体を作製した場合、/が少なく歩留まりが良いことが分かる。相対密度99.5以上の高密度ITO燒結体を得るためには、ITO原料の粒径、特に粒子の形態であるBET値の影響が大きいことから、本実施例では、BET値の異なる3種のセラミック原料粉末を用意し、水の添加量、製作した成形型、成形条件、成形体の焼成条件を実施例1と同様にして、厚みが12mmのITO燒結体ターゲットを製作した。下記に示すBET比表面積は、酸化インジウム90重量と酸化スズ10重量との混合粉末に対する値である。得られた燒結体に対して、/の割合を評価した。その結果を表2に示す。表2から明らかなように、セラミック原料粉末のBET比表面積Sが7.7m2/g≦S≦9.5m2/g、好ましくは8.2m2/g≦S≦9.5m2/gであるスラリーを素材として用いて成形した後に、乾燥して製作された燒結体の場合、/が少なく歩留まりが良いことが分かる。