"基板上に複数の画面パターンが面付けされる反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法であって、少なくとも、1基板上全面に金属膜を成膜する、金属膜形成工程と、2前記金属膜上に無機保護膜を成膜する、無機保護膜形成工程と、3ドライエッチング耐性を有する感光性レジストを用いて、前記無機保護膜上に前記ドライエッチング耐性膜を前記複数の画面にパターン形成する、ドライエッチング耐性膜形成工程と、4前記無機保護膜の前記ドライエッチング耐性膜に被覆されていない部位をドライエッチング処理を行って除去することで、前記無機保護膜を前記複数の画面にパターン形成を行う無機保護膜ドライエッチング工程と、5前記無機保護膜上の前記ドライエッチング耐性膜を剥離する、ドライエッチング耐性膜剥離工程と、6前記基板上の、前記無機保護膜の非被覆部である露出された前記金属膜をエッチング処理にて除去して前記複数の画面にパターン形成する、金属膜エッチング工程と7前記無機保護膜を介して形成された前記金属膜および前記無機保護膜上を含む前記複数の画面にパターン形成された前記基板上の全面に、感光性着色樹脂組成物を塗布乾燥し、所定のマスクを介して露光し、現像し、焼成する着色画素のパターンニング形成を、所望する色数に従って繰り返す、着色層形成工程と、をこの順で含むことを特徴とする反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。前記ドライエッチング耐性膜形成工程3において、アレイ基板との貼り合せ用のアライメントマークおよびアクセサリーマーク等の形状で前記無機保護膜上に前記ドライエッチング耐性膜を同時にパターン形成し、その後、前記無機保護膜ドライエッチング工程4、前記ドライエッチング耐性膜剥離工程5、前記金属膜エッチング工程6を経由することで、前記無機保護膜と同寸同形の金属膜による前記アライメントマークおよび前記アクセサリーマーク等が形成されることを特徴する請求項1に記載する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。前記金属膜エッチング工程6を経てパターニング形成された前記金属膜は、前記無機保護膜に接触している上底部分が前記着色層形成工程7の中で、工程環境に暴露されないことを特徴とする請求項1または2に記載する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。請求項1~3のいずれか1項に記載した反射型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法によって得られることを特徴とする反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板。上記したように、反射材に用いる金属膜はAlの様な高い反射率を有する材質である。この為、金属膜成膜後の次工程にて感光性レジストを用いて保護膜を形成する際、レジスト塗布、溶剤乾燥工程、基板裏面洗浄、ホットプレート工程、露光工程に起因するムラ等が顕著に出現してしまう問題がある。通常、カラーフィルタ基板製造にて使用する材料の塗布ムラ評価を行う際は、クロムCrブランクス材など反射率の高い金属膜のベタ材を用いて評価を行うことが一般的である。そこで、通常の製品において支障のない軽微なレベルのムラであっても反射率の高い金属膜上では顕著に観察することができ、色ムラなどの表示品質の低下につながることになる。この対策として、感光性レジスト材料を塗布することの代替として、均一な皮膜形成が得られやすいCVD方式による窒化珪素SiN膜の成膜がある。しかし、既存の製造方法では、枚葉方式にて1枚のガラス基板上に多面付けの金属膜パターンを形成するにあたり、Al成膜後に感光性レジストを塗布し、フォトリソ法により所定形状のエッチング保護層を形成し、Al膜のエッチング処理を行い、その後エッチンク ゙保護層を剥離し、所定形状のAl金属反射板の多面付けパターン形成を行い、最後にSiN等の保護膜の形成を行っていた。この為、Al膜のパターニング工程におけるエッチンク ゙保護層の剥離時の薬液の暴露や、工程条件の少しのゆらぎなどで発生する腐食等により、Al膜の品質反射率表面荒れムラ等を確保することができない問題があった。本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、反射材である金属膜上における保護膜の塗布等によるムラを回避し、かつ、エッチング保護膜剥離工程における剥離液等の薬液による暴露を回避することで、安定した金属膜層の品質を確保し、枚葉方式の多面付け生産での金属膜の安定した品質を維持できる反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法と、それによって得られるムラの発生しないカラーフィルタ基板を提供することを課題としている。本発明の請求項1に係る発明は、基板上に複数の画面パターンが面付けされる反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法であって、少なくとも、1基板上全面に金属膜を成膜する、金属膜形成工程と、2前記金属膜上に無機保護膜を成膜する、無機保護膜形成工程と、3ドライエッチング耐性を有する感光性レジストを用いて、前記無機保護膜上に前記ドライエッチング耐性膜を前記複数の画面にパターン形成する、ドライエッチング耐性膜形成工程と、4前記無機保護膜の前記ドライエッチング耐性膜に被覆されていない部位をドライエッチング処理を行って除去することで、前記無機保護膜を前記複数の画面にパターン形成を行う無機保護膜ドライエッチング工程と、5前記無機保護膜上の前記ドライエッチング耐性膜を剥離する、ドライエッチング耐性膜剥離工程と、6前記基板上の、前記無機保護膜の非被覆部である露出された前記金属膜をエッチング処理にて除去して前記複数の画面にパターン形成する、金属膜エッチング工程と7前記無機保護膜を介して形成された前記金属膜および前記無機保護膜上を含む前記複数の画面にパターン形成された前記基板上の全面に、感光性着色樹脂組成物を塗布乾燥し、所定のマスクを介して露光し、現像し、焼成する着色画素のパターンニング形成を、所望する色数に従って繰り返す、着色層形成工程と、をこの順で含むことを特徴とする反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法である。また、本発明の請求項2に係る発明は、前記ドライエッチング耐性膜形成工程3において、アレイ基板との貼り合せ用のアライメントマークおよびアクセサリーマーク等の形状で前記無機保護膜上に前記ドライエッチング耐性膜を同時にパターン形成し、その後、前記無機保護膜ドライエッチング工程4、前記ドライエッチング耐性膜剥離工程5、前記金属膜エッチング工程6を経由することで、前記無機保護膜と同寸同形の金属膜による前記アライメントマークおよび前記アクセサリーマーク等が形成されることを特徴する請求項1に記載する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法である。また、本発明の請求項3に係る発明は、前記金属膜エッチング工程6を経てパターニング形成された前記金属膜は、前記無機保護膜に接触している上底部分が前記着色層形成工程7の中で、工程環境に暴露されないことを特徴とする請求項1または2に記載する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法である。次に、本発明の請求項4に係る発明は、請求項1~3のいずれか1項に記載した反射型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法によって得られることを特徴とする反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板である。本発明においては、上記したように金属膜の成膜後、金属膜エッチング工程以前の工程にて無機保護膜が形成されている為、金属膜エッチング保護膜の形成、エッチング処理およびエッチング保護膜の剥離処理において、金属膜が剥離液等の薬液および周囲環境雰囲気に暴露されることがない。それに対して従来方法では、保護膜としての窒化珪素SiN膜の前工程にて、金属膜のエッチング処理およびエッチング保護膜の剥離処理を行っていた為、金属膜が剥離液等の薬液に暴露されることが回避できなかった。その結果、本発明により、従来問題となっていた、金属膜のパターニング工程におけるエッチンク ゙保護層の剥離時の薬液の暴露や、工程条件の少しのゆらぎによる、金属膜の腐食による反射率の低下、表面荒れムラ等に起因する明るさの低下や表示ムラの発生を解消することが可能となった。また、多面付け基板に必須のアライメントマークおよびアクセサリーマーク等といった精細なパーン形成が同時に形成可能であり、枚葉方式の多面付け量産対応において、安定した品質を確保することが可能となった。さらに、従来方法に比べ、金属膜上の無機保護膜が金属膜エッチング工程でのエッチング保護膜を兼ねる為、金属膜のエッチング工程において通常必要とされるエッチング保護膜工程塗布パターニング剥離等が削減できる利点がある。以下に本発明による反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法を、その一実施形態に基づいて図を用いて説明する。以下の説明で使用する符号は背景技術で既に説明した透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の従来技術と共通する部分については新たな番号を付与させることなく同一の番号を用いる。図2は、本発明による反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法によって得られた反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の一実施形態での構成を部分断面で示した模式図である。図2に示すように、この反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板1は、基板11上に、金属膜18、無機保護膜17、透明着色層14、透明導電膜15が形成されたものである。このカラーフィルタ基板1を、図3に示すように、対向基板として、アレイ基板であるTFT基板2とを一定の間隙で貼り合わせ、液晶3をその間隙注入することで、TFT基板2側から視認する反射型液晶表示装置が得られる。上記した本発明の反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板は、少なくとも以下の工程を経ることで得られる。図4は、本発明の、反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造法の一実施形態を部分断面で説明する模式図である。まず、図4aに示すように、無アルカリガラス等の基板11上全面に反射率の高い金属膜18を成膜する。反射率の高い金属にはアルミニウム、銀、白金、ロジウム等があるが、安価で合金とすることで安定性にも優れたアルミニウムとその合金が好ましく使用できる。Al膜はDCマグネトロンスパッタリング法や抵抗加熱の真空蒸着により基板11上全面に成膜する。膜厚としては、少なくとも100nm程度以上必要であり、100nm~200nmが適当である。500nm以上とすることも可能であるが、反射率への寄与は少なく、経済的生産性の点で不利である。基板11としては、石英ガラスや無アルカリガラスなどのガラス基板があり、一般的に無アルカリガラス基板が好適に使用できる。さらに、本発明に係る反射型液晶表示装置が透過型との併用をしない完全反射型液晶表示装置として適用する場合には、光反射層を基板の液晶層側に設けるために、使用する基板が透明であったり、光学的等方性を持つ必要が無く、従来液晶表示装置用の基板として使用できなかった耐熱性に優れたエンジニアリングプラスチック等も使用可能である。次に、図4bに示すように、この金属膜18上に無機保護膜17を成膜する。無機保護膜17としては、カラーフィルタ層を形成するためのカラーレジストの現像液でエッチングされない保護膜として、CVDChemicalVaporDeposition方式を用いた窒化珪素SiNが、製膜の安定性均一性および保護膜としての物性の点で好ましく使用できる。無機保護膜17としては、窒化珪素以外にもSiO2等が使用でき、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、溶液法等で適用可能である。無機保護膜17の厚さは、用いられる無機化合物の種類構成により最適条件が異なるが、300~800nmの範囲が好ましく、その値は適宜選択される。より好ましくは、400~600nmの範囲である。次に、図4cに示すように、ドライエッチング耐性を有する感光性レジストを用いて、公知のフォトリソ法を用いて、無機保護膜17上にドライエッチング耐性膜19を所定の形状にてパターン成膜する。その後、図4dに示すように、公知の活性ガスのプラズマを用いたプラズマエッチング等の方式を用いてドライエッチング処理を行い、ドライエッチング保護膜19に被覆されていない部位のSiN膜等の無機保護膜17のエッチング処理を行って除去する。次いで、図4eに示すように、無機保護膜17上のドライエッチング耐性膜19を剥離して、金属膜18上に無機保護膜17のパターン形成を行う。このドライエッチング耐性膜19の剥離は、公知の湿式剥離方式、あるいは、エッチングスピードをコントロールしたドライエッチング方式が適宜採用できる。次に、図4fに示すように、透明基板11上の、無機保護膜17の非被覆部である露出された金属膜18をエッチング処理にて除去して複数の画面にパターン形成する。この場合も、公知の燐酸、硝酸、酢酸等の酸を混合した混酸を用いたウエットエッチング方式が適宜採用できる。これで、所定の反射層の画面パターンを有した多面付け基板が得られる。本発明の製造方法においては、前述したドライエッチング耐性膜形成工程において、アレイ基板との貼り合せ用のアライメントマークおよびアクセサリーマーク20の形状で、無機保護膜17上にドライエッチング耐性膜19を同時にパターン成膜し、その後、無機保護膜ドライエッチング工程、ドライエッチング耐性膜剥離工程、金属膜エッチング工程を経由することで、無機保護膜17と同寸同形の金属膜18によるアライメントマークおよびアクセサリーマーク20が形成される。そのため、枚葉方式における多面付けカラーフィルタ基板1の製造時の位置合わせ精度の確保や、この多面付け基板を用いたカラーフィルタ基板1を対向基板として、アレイ基板であるTFT基板2とを一定の間隙で貼り合わせる再に、マーク検出が容易であり、パネルを精度良く製造することが可能となる。図5は、本発明に係る、反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造法の概略を斜視で説明する模式図である。図5aに示す金属膜成膜工程、図5bに示す無機保護膜の成膜工程、そして、図5cに示す無機保護膜のドライエッチング処理工程、図5dに示す金属膜のエッチング処理工程、図5eに示す透明着色層RGBの形成工程、図5fに示す透明電極ITOの成膜工程を経て得られた多面付け基板にカラーフィルタを形成した。すなわち、金属膜18を介して形成された無機保護膜17を含むこの複数の画面にパターン形成された多面付け透明基板上の全面に、公知のフォトリソ法を用いて、感光性着色樹脂組成物を塗布乾燥し、所定のマスクを介して露光し、現像し、焼成して着色画素をパターンニング形成する。この工程をRGB等所望する色数に従って繰り返すことで着色層を形成した。その後、この基板に公知の方法にてITO層の形成を行い、先に説明した、図2に示す、反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板1が得られる。ここで、本発明のカラーフィルタ基板では、光が反射して各構成材料を2度透過することになるため、従来の透過型と同じ顔料濃度では暗くなってしまう。そこで、着色層の厚さを変更する代わりに、着色層の顔料濃度を調整し、所定の色を再現することが好ましい。また、偏光膜も表面に1枚のみ使用する。なお、特開平11-160682号公報で開示されている、液晶と高分子とが互いに分散された液晶高分子複合層からなる反射型液晶表示素子を用いた場合、偏光板が不要であるため、偏光板での光の吸収による光量減少が全く無い。また、従来の透過型液晶表示装置では、各色に着色された透過光の混色を防止するために、遮光膜13を設けていたが、本発明に係る反射型液晶表示装置では、光の反射利用効率の点で必ずしも遮光膜を必要としない。本発明に用いられる感光性着色樹脂組成物は、その必須成分として、光重合性モノマー、樹脂バインダー、重合開始剤、着色剤及び溶剤を含有するものである。また、分散剤、光増感剤、連鎖移動剤などの添加剤を含有するものであっても良い。光重合性モノマーは、露光光線の照射によって重合し、感光性着色組成物の塗布膜を現像液不溶性に変化させるものである。一般には、ラジカルにより重合が誘起されるモノマーである。このような光重合性モノマーとしては、水酸基を有するメタアクリレートと多官能イソシアネートを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレートを用いることができる。光重合性モノマーの含有量は、組成物の総量100質量に対して20質量以下であることが好ましい。また、露光感度、得られる膜厚とパターンの解像性及び耐溶剤性の観点から、1質量以上であることが好ましい。バインダー樹脂は、可視光領域の400~700nmの全波長領域において透過率が好ましくは80以上、より好ましくは95以上の樹脂であり、溶剤可溶性樹脂、またはアルカリ可溶性樹脂が好ましい。溶剤可溶性樹脂は、現像液として用いられる溶剤に対する溶解性が高い樹脂が好ましい。アルカリ可溶性樹脂は酸価を有する樹脂であり、感光性着色組成物をアルカリ現像型とするために用いられる。バインダー樹脂としては、カラーフィルタの製造工程において高温加熱の処理が行われるため、加熱処理においても耐性の良い樹脂を用いることが好ましい。さらに、カラーフィルタの製造工程において、感光性着色組成物の被膜を熱硬化した後に種々の溶剤や薬品による処理も行われるため、硬化被膜としたときに耐溶剤性や耐薬品性に優れる樹脂を用いることが好ましい。アルカリ可溶性樹脂としては、メタアクリル酸共重合体、スチレン-マレイン酸共重合体、カルボキシル基を有するポリエステル樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂としては、溶剤可溶性樹脂またはアルカリ可溶性樹脂に加え、耐熱性や密着性などの特性の付与を目的として、溶剤可溶性、アルカリ可溶性を有しない樹脂を含有させることもできる。着色剤は、透明着色皮膜を着色して、液晶表示装置の表示光を着色するものである。顔料や染料を利用することができるが、耐久性に優れている点で、顔料を使用することが望ましい。顔料としては、有機顔料と無機顔料のいずれであっても良いが、有機顔料が好ましく使用できる。また、その配合量は特に限定されるものではない。着色剤として顔料を使用する場合には、この顔料を分散させるための分散剤を含有させることが望ましい。分散剤としては、界面活性剤等が使用される。感光性着色樹脂組成物に好適に用いられる光重合開始剤としては、例えば、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-4-フェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン等のアセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、等のオキシムエステル系光重合開始剤、ヨードニウムボレート、スルホニウムボレート、アンモニウムボレートなどのオニウムボレート系光重合開始剤、イミダゾール系光重合開始剤等の化合物が用いられる。上記光重合開始剤は、単独あるいは2種以上混合して用いてもよい。本発明に用いられる感光性着色樹脂組成物には、重合開始剤に加えて光重合開始剤の反応性を向上させる目的で、増感剤として下記のような光重合開始剤を併用することも好ましく、例えばα-アシロキシムエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、9,10-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、4,4’-ジエチルイソフタロフェノン、3,3’,4,4’-テトラt-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノン等の化合物を使用することもでき、単独あるいは2種以上を混合して使用してもよい。本発明に用いられる感光性着色樹脂組成物には、重合禁止剤を添加することができる。感光性着色組成物において、重合禁止剤の質量Qに対する光重合開始剤の質量Iの比I/Qは、30以上500未満であり、40以上450未満であることが好ましく、50以上400未満であることがより好ましい。前記比I/Qが30未満の場合は、紫外線照射時に光重合開始剤から発生するラジカルが重合禁止剤により失活される速度が非常に大きくなり、光反射領域が硬化不足となるため、現像工程で感光性着色組成物の被膜が透明基板からはがれやすくなり好ましくない。また、前記比I/Qが500以上の場合は、紫外線照射時に光重合開始剤から発生するラジカルが重合禁止剤により失活される速度が小さくなるため、実効的な紫外線照射量の小さい光反射領も十分硬化し、膜厚の薄い光反射領域を形成することが困難であるため好ましくない。感光性着色組成物に用いられる重合禁止剤としては、カテコール、レゾルシノール、1,4-ヒドロキノン、2-メチルカテコール、3-メチルカテコール、4-メチルカテコール、2-エチルカテコール、3-エチルカテコール、4-エチルカテコール、2-プロピルカテコール、3-プロピルカテコール、4-プロピルカテコール、2-n-ブチルカテコール、3-n-ブチルカテコール、4-n-ブチルカテコール、2-tert-ブチルカテコール、3-tert-ブチルカテコール、4-tert-ブチルカテコール、3,5-ジ-tert-ブチルカテコール等のアルキルカテコール系化合物等が挙げられる。また、本発明に用いられる感光性着色樹脂組成物には、連鎖移動剤としての働きをする多官能チオールを含有させることができる。多官能チオールは、チオール基を2個以上有する化合物であればよい。多官能チオールの使用量は、着色剤100質量部に対し、0.01~50.0質量部が好ましく、より好ましくは005~30.0質量部である。溶剤は、基板上への均一な塗布を可能とすると共に、着色剤を均一に分散させる機能を有するものである。溶剤としては、水溶性有機溶剤等が利用できる。水溶性有機溶剤は、着色剤及び水溶性無機塩を湿潤する働きをするものであり、水に溶解混和し、かつ用いる無機塩を実質的に溶解しないものであれば特に限定されない。ただし、ソルトミリング時に温度が上昇し、溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から、沸点120°C以上の高沸点溶剤が好ましい。水溶性有機溶剤としては、例えば、2-メトキシエタノール、2-ブトキシエタノール、2-イソペンチルオキシエタノール、2-ヘキシルオキシエタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、液状のポリエチレングリコール、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エトキシ-2-プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、液状のポリプロピレングリコール、エチルセロソルブアセテート、1-メトキシ-2-プロピルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジエチルエーテル、エチルセロソルブ、メチルエチルケトン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルケトン、等が挙げられる。水溶性有機溶剤は、着色剤の全質量を基準100質量として、5~1000質量用いることが好ましく、50~500質量用いることが最も好ましい。本発明の感光性着色樹脂組成物は、公知の方法により調製することができる。例えば、光重合性モノマー又は樹脂バインダー、あるいはその両者を溶剤に溶解した溶液に、顔料と分散剤を予め混合して調製した顔料組成物を添加して分散させ、残りの成分を添加する等である。ここで、顔料や分散剤の分散は、三本ロールミル、二本ロールミル、サンドミル、ニーダー、ディゾルバー、ハイスピードミキサー、ホモミキサー、アトライター等の各種分散装置を用いて行うことができる。次に、以上のようにして得られた感光性着色樹脂組成物を基板上に均一に塗布し乾燥させプリベークして塗布膜を形成する。塗布方法としては、スピンコート法、スリットアンドスピンコート法、スピンレス方式、ロールコート等が利用できる。露光はプロキシミティーアライナーによる近接露光方式で行うことができる。露光波長は、通常の超高圧水銀灯より得られる紫外線が多く使用される。露光条件としては、露光量250mJ/cm2、照度25.2mW、露光Gap100μm等が例示できる。本発明が対象とする反射型液晶表示装置は、カラー表示に加え低消費電力ニーズのある産業機器向けのモニターやPDAなどのモバイル使用される。次に、露光された塗布膜を現像する。現像液としては、アルカリ水溶液又は有機アルカリ溶液等のアルカリ現像液が使用できる。アルカリ水溶液としては、炭酸ソーダ、苛性ソーダ等が例示でき、有機アルカリ溶液としては、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン等が例示できる。また、必要に応じて消泡剤や界面活性剤が添加された現像液を使用しても良い。現像処理方法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ浸漬現像法、パドル液盛り現像法等を適用することができる。次に、透明電極としてのITOをスパッタリング法で成膜し、先に述べたカラーフィルタ基板を製造することができる。以上説明したように、本発明の製造方法では、金属膜の成膜後、金属膜エッチング工程以前の工程にて無機保護膜が形成されている為、従来問題となっていた、Al膜のパターニング工程におけるエッチンク ゙保護層の剥離時の薬液の暴露や、工程条件の少しのゆらぎによる、Al膜の腐食による反射率の低下、表面荒れムラ等に起因する明るさの低下や表示ムラの発生を解消することが可能となる。"