"一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面と基板外面を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面と基板外面を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、シール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁端面およびまたは壁外面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁端面およびまたは壁外面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板は、枠体を介して連結され、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板と、前記枠体との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板は、枠体を介して連結され、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板と、前記枠体との間を第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子。前記シール材により作製した一対の前記基板の基板外面または光学素子全体を覆うようにフィルムを貼合したことを特徴とする請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載の光学素子。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面と基板外面を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面と基板外面を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁端面およびまたは壁外面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁端面およびまたは壁外面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板は、枠体を介して連結され、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板と、前記枠体との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板は、枠体を介して連結され、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板と、前記枠体との間を第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法。前記シール材により作製した一対の前記基板の基板外面または光学素子全体を覆うようにフィルムを貼合することを有することを特徴とする請求項14乃至請求項25のいずれか1項に記載の光学素子の製造方法。しかし、近年、携帯電話、PDA、パブリックディスプレイの薄型化、軽量化および堅牢化の要望が大きくなってきている。そこで、ガラス基板の代わりに、薄くて軽く、しかも強固なプラスチック基板を用いようとする試みがあり、TNTwistedNematic型やSTNSuperTwistedNematic型の液晶表示素子において一部実用化されている。更に、これらの表示装置には、フレキシブルな曲げ性が求められることが多くなってきており、従来のように基板と基板の間にシール材を挟むだけの構造では曲げることによって基板間がはがれたり、浮き上がったりする問題があった。この発明が解決しようとする課題は、例えば、液晶層や有機EL層等の光学効果を有する物質を挟む一対の基板がはがれたり、浮き上がったりすることなく精度良く接合できる光学素子及び光学素子の製造方法を提供することである。前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、この発明は、以下のように構成した。請求項1に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項2に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項3に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面と基板外面を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項4に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面と基板外面を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項5に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項6に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項7に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項8に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項9に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁端面およびまたは壁外面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項10に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁端面およびまたは壁外面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項11に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板は、枠体を介して連結され、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板と、前記枠体との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項12に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持した光学素子であり、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板は、枠体を介して連結され、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板と、前記枠体との間を第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子である。請求項13に記載の発明は、前記シール材により作製した一対の前記基板の基板外面または光学素子全体を覆うようにフィルムを貼合したことを特徴とする請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載の光学素子である。請求項14に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項15に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項16に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面と基板外面を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項17に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面と基板外面を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項18に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、前記光学効果を有する物質をシールするシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項19に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、前記第1のシール材をシールする第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項20に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項21に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁の壁内面と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を、第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項22に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項23に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、前記基板の前記壁と、前記光学効果を有する物質を狭持する他の前記基板との間を第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項24に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板は、枠体を介して連結され、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板と、前記枠体との間をシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項25に記載の発明は、一対の基板間に光学効果を有する物質をシールする第1のシール材を設け、前記一対の基板間に前記光学効果を有する物質を狭持させ、前記一対の基板は、枠体を介して連結され、前記一対の基板の少なくとも1枚の基板と、前記枠体との間を第2のシール材により覆うことを特徴とする光学素子の製造方法である。請求項26に記載の発明は、前記シール材により作製した一対の前記基板の基板外面または光学素子全体を覆うようにフィルムを貼合することを有することを特徴とする請求項14乃至請求項25のいずれか1項に記載の光学素子の製造方法である。前記構成により、この発明は、以下のような効果を有する。請求項1乃至請求項26に記載の発明では、基板間の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子に対する曲げ、捩じりによる光学素子の破壊が生じにくい。同様に、基板間の間隔の変動が抑えられるため、実用上においても、生産工程においても、光学素子に対する曲げ、捩じりによる光学素子の光学特性低下が生じにくい。以下、この発明の光学素子及び光学素子の製造方法の実施の形態について説明する。この発明の実施の形態は、発明の最も好ましい形態を示すものであり、この発明はこれに限定されない。[第1の実施の形態]第1の実施の形態を、図1に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子10Aは、一対の基板11,12間に光学効果を有する物質13を狭持した素子であり、1乃至複数の基板11、12の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、光学効果を有する物質13をシールするシール材14により覆う構造である。この実施の形態の光学素子10Aの製造方法は、一対の基板間11,12に光学効果を有する物質13を狭持させ、1乃至複数の基板11、12の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、光学効果を有する物質13をシールするシール材14により覆う。一対の基板を変形し破壊する場合、基板間にはその間隔を広げようとする力が働く。従来の封止方法のようにシール材が基板内面にのみ接触する配置では、基板とシール材の界面に対して法線方向の力が働くため界面剥離が生じやすい。しかし、この発明のように基板端面をシール材により覆うと、基板端面とシール材の界面に対して平行な方向に力が加わることになり、即ち剪断応力として力が加わることになり、基板とシール材を引き離して界面剥離を生じさせる法線応力とならない。一般に界面の接着力は法線応力より剪断応力のほうが大きいため、この発明のように基板間の封止構造として、シール材と基板の界面の間に働く力が剪断応力となるような構造とすることにより、光学素子の破壊及び基板間隔の変動を抑えることが可能となる。この発明においては、光学効果を有する物質13を狭持する基板内面側に従来のようにシール材が配置されていても良く、基板端面と基板内面の両接触面が機能することにより一対の基板を更に強固に固定する。以下、基板内面に存在するシール材の効果は特に触れないが、同様の効果が存在することは言うまでもない。図1aの実施の形態では、図1hに示すように、基板11と基板12が方形に形成され、基板11の基板外面面積より基板12の基板外面面積が大きいものを用いる。基板12の基板内面12aの外周部にシール材14を設け、このシール材14により囲まれた部分に、光学効果を有する物質13をシール材14の上部が残るように設ける。そして、基板11を、シール材14の上部から押し込み一対の基板11,12の基板内面11a,12a間に光学効果を有する物質13を狭持させる。これにより、基板11の基板端面11bを、光学効果を有する物質13をシールするシール材14により覆う。例えば、基板11が方形の場合には、4個の基板端面をシール材14により覆う。この実施の形態では、基板11の基板端面11bを、光学効果を有する物質13をシールするシール材14が覆っており、基板11の基板端面11bにシール材14が密着して基板11,12間の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子10Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子10Aの破壊が生じにくい。同様に、基板11,12間の間隔の変動が抑えられるため、実用上においても、生産工程においても、光学素子10Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子10Aの光学特性低下が生じにくい。図1bの実施の形態では、図1aの実施の形態と同様に構成されるが、基板12にシール材14を、基板端面12bを覆うように設け、基板11を、シール材14の上部から押し込み一対の基板11,12の基板内面11a,12a間に光学効果を有する物質13を狭持させ、基板11の端面11bを、光学効果を有する物質13をシールするシール材14により覆う。この実施の形態では、基板11の基板端面11bと基板12の基板端面12bを、光学効果を有する物質13をシールするシール材14が覆っており、基板11の基板端面11bと基板12の基板端面12bにシール材14が密着して基板11,12間の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子10Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子10Aの破壊が生じにくく、同様に、基板11,12間の間隔の変動が抑えられる。図1cの実施の形態では、図1iに示すように、基板11と基板12が方形に形成され、基板11の基板外面面積と基板12の基板外面面積が同じものを用い、図1bの実施の形態と同様に構成され、基板11の基板端面11bと基板12の基板端面12bを、光学効果を有する物質13をシールするシール材14が覆っている。図1dの実施の形態では、図1iに示すように、基板11と基板12が方形に形成され、基板11の基板外面面積と基板12の基板外面面積が同じものを用い、基板12の基板端面12bから所定間隔隔てて枠体15を設け、基板12の基板端部12bと枠体15との間にシール材14aを設ける。その後、枠体15により囲まれた部分に、光学効果を有する物質13を設け、さらに基板11を、光学効果を有する物質13の上に設け、この基板11の基板端部11bと枠体15との間にシール材14bを設け、基板11の基板端面11bと基板12の基板端面12bを、光学効果を有する物質13をシールするシール材14a,14bが覆っている。枠体15は、基板11と基板12の間隔より長いものを用いている。図1eの実施の形態では、図1dの実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、枠体15は、基板11と基板12の間隔と同じ長さのものを用いている。図1fの実施の形態では、図1eの実施の形態と同様に枠体15を設け、基板12の基板端部12bと枠体15との間にシール材14を設け、シール材14により囲まれた部分に、光学効果を有する物質13を設け、さらに基板11を、光学効果を有する物質13の上に設け、これによって基板11の基板端面11bと基板12の基板端面12bを、光学効果を有する物質13をシールするシール材14が覆っている。図1gの実施の形態では、1枚の基板16を折り曲げてU字状に形成し、この対向基板部16a,16a間に、光学効果を有する物質13を設ける。この対向基板部16a,16aの基板端面16b,16b間に光学効果を有する物質13をシールするシール材14を設け、これによって基板16の基板端面16b,16bを、光学効果を有する物質13をシールするシール材14が覆っている。[第2の実施の形態]第2の実施の形態を、図2に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子10Bは、一対の基板11,12間に光学効果を有する物質13を狭持した素子であり、一対の基板11,12間に光学効果を有する物質13をシールする第1のシール材14を設け、一対の基板11,12の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、第1のシール材14をシールする第2のシール材90により覆う構造である。この実施の形態の光学素子10Bの製造方法は、基板11または基板12に第1のシール材14を設け、この第1のシール材14に囲まれた領域に光学効果を有する物質13を充填して一対の基板11,12間に光学効果を有する物質13を狭持させる。この基板11の基板端面11bと基板12の基板端面12bを、第1のシール材14をシールする第2のシール材90により覆う。この第2のシール材90は、第1のシール材14に密着させて図2a、また第1のシール材14と間隔を設けて覆うようにしても良い図2b。この第2の実施の形態は、図2a,bに示す実施の形態に限定されず、図2cに示すように、図1aに示す第1の実施の形態に適用でき、一対の基板11,12間に光学効果を有する物質13をシールする第1のシール材14を設け、一対の基板11,12の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面を、第1のシール材14をシールする第2のシール材90により覆う。この第2の実施の形態は、図1b乃至gに示す第1の実施の形態にも同様に適用でき、第1の実施の形態と同様な効果を得ることができる。[第3の実施の形態]第3の実施の形態を、図3に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子20Aは、一対の基板21,22間に光学効果を有する物質23を狭持した素子であり、1乃至複数の基板21、22の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面と基板外面を、光学効果を有する物質23をシールするシール材24により覆う構造である。基板端面をシール材24により覆う効果は前記第1の実施の形態と同様である。シール材24が端面から連続して基板外面を覆うことにより、シール材24が基板間を挟み込む力を生み、基板間隔を広げようとする力に対して更に抵抗力を増す。この実施の形態の光学素子20Aの製造方法は、一対の基板21,22間に光学効果を有する物質23を狭持させ、1乃至複数の基板21,22の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面と基板外表面を、光学効果を有する物質23をシールするシール材24により覆う。図3aの実施の形態では、図1aの実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、基板21の基板端面21bと基板外面21cを、光学効果を有する物質23をシールするシール材24により覆う。シール材24の基板外面21cを覆う部分24aは、基板21を設けた後に、シール材24の端部を基板外面21b側に押圧して設ける。または、基板21をシール材24に圧接することによりシール材24が基板外面21cに拡がるため、その結果基板外面21cを覆う部分24aを設けることも可能である。このシール材24の基板外面21cを覆う部分24aは、光学効果を有する物質23の表示領域を阻害しないように設ける。この実施の形態では、基板21の基板端面21bと基板外面21cを、光学効果を有する物質23をシールするシール材24が覆っており、シール材24の基板外面21cを覆う部分24aによって基板21の基板端面21bにシール材24がより密着して基板21,22間の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子20Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子20Aの破壊が生じにくい。同様に、基板21,22間の間隔の変動が抑えられるため、実用上においても、生産工程においても、光学素子20Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子20Aの光学特性低下が生じにくい。図3bの実施の形態では、図1bの実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、基板21の基板端面21bと基板外面21cを、光学効果を有する物質23をシールするシール材24により覆う。このシール材24の基板外面21cを覆う部分24aは、光学効果を有する物質23の表示領域を阻害しないように設ける。この実施の形態では、基板21の基板端面21bと基板外面21cを、図3aの実施の形態と同様に、光学効果を有する物質23をシールするシール材24が覆っており、シール材24の基板外面21cを覆う部分24aによって基板21の基板端面21bにシール材24がより密着して基板21,22間の剥離が生じにくい。図3cの実施の形態では、図3bの実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、基板21の基板端面21bと基板外面21cを、光学効果を有する物質23をシールするシール材24により覆い、さらに、基板22の基板端面22bと基板外面22cを、光学効果を有する物質23をシールするシール材24により覆う。この実施の形態では、シール材24の基板外面21cを覆う部分24aによって、さらにシール材24の基板外面21cを覆う部分24bによって、基板21の基板端面21bと基板22の基板端面22bにシール材24がより密着して基板21,22間の剥離が生じにくい。図3dの実施の形態では、図3bの実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、基板21と基板22が同じ基板表面積である。図3eの実施の形態では、図3cの実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、基板21と基板22が同じ基板表面積である。図3fの実施の形態では、図1dの実施の形態と同様に構成されるが、枠体25により囲まれた部分にシール材24cを設け、このシール材24cに基板22の端部を押し込むように設ける。これにより、シール材24cは、基板22の基板端面22bと基板外面22cを覆い、このシール材24cの基板外面22cを覆う部分24c1は、光学効果を有する物質23の表示領域を阻害しないように設ける。その後、枠体25により囲まれた部分に、光学効果を有する物質23を設け、さらに基板21を、光学効果を有する物質23の上に設け、この基板21の端部と枠体25との間と、基板外面21cを覆うようにシール材24dを設ける。このシール材24dの基板外面21cを覆う部分24d1は、光学効果を有する物質23の表示領域を阻害しないように設ける。図3gの実施の形態では、図3fの実施の形態と同様に構成されるが、シール材24cは、基板22の基板端面22bと基板外面22cを覆い、さらに枠体25の下端部を覆い、この枠体25の下端部を覆う部分24c2と基板外面22cを覆う部分24c1とにより枠体25に密着される。また、シール材24dは、基板21の基板端面21bと基板外面21cを覆い、さらに枠体25の上端部を覆い、この枠体25の上端部を覆う部分24d2と基板外面21cを覆う部分24d1とにより枠体25に密着される。図3hの実施の形態では、図1gの実施の形態と同様に構成されるが、1枚の基板26の対向基板部26a,26a間に、光学効果を有する物質23をシールするシール材24を設ける。このシール材24は、対向基板部26a,26aの基板端面26b,26bを覆い、さらに端部24e1,24e2が基板外面26c,26cを覆う。[第4の実施の形態]第4の実施の形態を、図4に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子20Bは、一対の基板21,22間に光学効果を有する物質23を狭持した素子であり、一対の基板21,22間に光学効果を有する物質23をシールする第1のシール材24を設け、1乃至複数の基板の少なくとも1枚の基板の1乃至複数の基板端面21bと基板外面21cを、第1のシール材24をシールする第2のシール材90により覆う構造である。この実施の形態の光学素子20Bの製造方法は、基板21または基板22に第1のシール材24を設け、この第1のシール材24に囲まれた領域に光学効果を有する物質23を充填して一対の基板21,22間に光学効果を有する物質23を狭持させる。この基板21の基板端面21bと基板外面21cを、第1のシール材24をシールする第2のシール材90により覆う。この第4の実施の形態は、図4に示す実施の形態に限定されず、図3b乃至hに示す第3の実施の形態にも同様に適用でき、第3の実施の形態と同様な効果を得ることができる。[第5の実施の形態]第5の実施の形態を、図5及び図6に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子30Aは、一対の基板31,32間に光学効果を有する物質33を狭持した素子であり、一対の基板31,32の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、基板の壁の壁内面を、光学効果を有する物質33をシールするシール材34により覆う構造である。基板の壁の壁内面をシール材34により覆う効果は前記第1の実施の形態と同様であり、光学素子を破壊する、即ち基板間隔を広げようとする力がシール材34と基板との界面に剪断応力として働くため、抵抗力を増大させる。この実施の形態の光学素子30Aの製造方法は、一対の基板31,32間に光学効果を有する物質33を狭持させ、一対の基板31,32の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、基板の壁の壁内面を、光学効果を有する物質33をシールするシール材34により覆う。図5aの実施の形態では、図6rに示すように、基板32が方形に形成され、辺に壁32aを有するものを用いる。基板32の壁32aの壁内面32bに光学効果を有する物質33を設け、この光学効果を有する物質33の上に基板31を設ける。そして、基板32の壁32aの壁内面32bと基板31の基板端面31bとの間にシール材34を設け、シール材34により光学効果を有する物質33をシールする。この実施の形態では、基板31の基板端面31b及び基板32の壁内面32bを、光学効果を有する物質33をシールするシール材34が覆っており、基板31の基板端面31b及び基板32の壁内面32bにシール材34が密着して基板31,32の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子30Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子30Aの破壊が生じにくい。同様に、基板31,32間の間隔の変動が抑えられるため、実用上においても、生産工程においても、光学素子30Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子30Aの光学特性低下が生じにくい。図5bの実施の形態では、図5aの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aの壁内面32bに沿って、シール材34を壁32aの高さと同じ高さに設け、このシール材34の内側に光学効果を有する物質33を設ける。そして、光学効果を有する物質33の上に基板31を設け、シール材34が基板31の基板端面31b及び基板32の壁内面32bを覆い、基板31の基板端面31b及び基板32の壁内面32bにシール材34が密着して基板31,32の剥離が生じにくい。図5cの実施の形態では、図5aの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aの壁内面32bと基板31の基板端面31bとの間にシール材34を設け、このシール材34の基板側部34aが基板外面31cを覆い、壁側部34bが壁32aの上端面32a1を覆い、基板31の基板端面31bと壁32aの上端面32a1とにシール材34が密着して基板31,32の剥離が生じにくい。図5dの実施の形態では、図5bの実施の形態と同様に構成されるが、シール材34が、基板31の基板端面31bと基板内面31aとを覆っており、シール材34が密着して基板31,32の剥離が生じにくい。図5eの実施の形態では、図5dの実施の形態と同様に構成されるが、さらに、シール材34の基板側部34aが基板外面31cを覆い、壁側部34bが壁32aの上端面32a1を覆い、基板31の基板端面31bと壁32aの上端面32a1とにシール材34が密着して基板31,32の剥離が生じにくい。図5fの実施の形態では、図5cの実施の形態と同様に構成されるが、シール材34の壁側部34bが壁32aの上端面32a1の全面を覆い、基板31の基板端面31bと壁32aの上端面32a1とにシール材34が密着して基板31,32の剥離が生じにくい。図5gの実施の形態では、図5eの実施の形態と同様に構成されるが、さらに、シール材34の壁側部34bが壁32aの上端面32a1の全面を覆い、基板31の基板端面31bと壁32aの上端面32a1とにシール材34が密着して基板31,32の剥離が生じにくい。図5hの実施の形態では、図6sに示すように、基板32が方形に形成され、辺に壁32aを有するものを用い、基板31も方形に形成され、辺に壁31dを有するものを用い、基板32の内部に基板31が所定の隙間を有して組み込まれる形状である。この実施の形態は、図3eの実施の形態と同様に構成され、光学効果を有する物質33の上に基板31を設けるが、基板31が辺に壁31dを有し、シール材34が壁31dの壁外面31eを覆い、基板側部34aが基板外面31cを覆い、壁側部34bが壁32aの上端面32a1を覆い、基板31の壁31dの壁外面31e及び基板外面31cと基板32の壁32aの上端面32a1とにシール材34が密着して基板31,32の剥離が生じにくい。図5iの実施の形態では、図5bの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aを高くし、この壁32aの上部32a2を内側に曲げる。この曲げた上部32a2がシール材34と基板外面31cを覆い、基板31,32の剥離が生じにくい。図5jの実施の形態では、図5aの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aを高くし、この壁32aの上部32a2を内側に曲げる。この曲げた上部32a2がシール材34と基板外面31cを覆い、基板31,32の剥離が生じにくい。図6kの実施の形態では、図5bの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aを高くし、この壁32aの上部32a2を内側に曲げる。この曲げた上部32a2がシール材34を覆い、基板31,32の剥離が生じにくい。図6lの実施の形態では、図5aの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aを高くし、この壁32aの上部32a2を内側に曲げる。この曲げた上部32a2がシール材34を覆い、基板31,32の剥離が生じにくい。図6mの実施の形態では、図5aの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aを外側へ傾斜した構造である。基板32の壁32aを傾斜させることによりシール材34を壁32aに形成する際のシール材34の塗設位置精度に余裕が生まれ、生産歩留まりを高めることが可能となる。図6nの実施の形態では、図5bの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aを外側へ傾斜した構造である。図6mと同様の効果と共にシール材と基板31及び32との接触面積が大きくなり接着力を増大させることが可能である。図6oの実施の形態では、図5cの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aを外側へ傾斜した構造である。図6mと同様の効果がある。図6pの実施の形態では、図5dの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aを外側へ傾斜した構造である。図6nと同様の効果がある。図6qの実施の形態では、図5eの実施の形態と同様に構成されるが、基板32の壁32aを外側へ傾斜した構造である。図6nと同様の効果がある。[第6の実施の形態]第6の実施の形態を、図7に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子30Bは、一対の基板31,32間に光学効果を有する物質33を狭持した素子であり、一対の基板31,32間に光学効果を有する物質33をシールする第1のシール材14を設け、基板32の壁の壁内面と、光学効果を有する物質33を狭持する他の基板31との間を、第1のシール材14をシールする第2のシール材90により覆う構造である。この実施の形態の光学素子30Bの製造方法は、基板32に第1のシール材14を設け、この第1のシール材14に囲まれた領域に光学効果を有する物質33を充填して一対の基板31,32間に光学効果を有する物質33を狭持させる。この基板32の壁32aの壁内面と、光学効果を有する物質33を狭持する他の基板31との間を、第1のシール材14をシールする第2のシール材90により覆う。この第6の実施の形態は、図7に示す実施の形態に限定されず、図5b乃至図6qに示す第5の実施の形態にも同様に適用でき、第5の実施の形態と同様な効果を得ることができる。[第7の実施の形態]第7の実施の形態を、図8に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子40Aは、一対の基板41,42間に光学効果を有する物質43を狭持した素子であり、一対の基板41,42の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、基板の壁の壁内面と、光学効果を有する物質43を狭持する他の基板との間をシール材44により覆う構造である。この実施の形態の光学素子40Aの製造方法は、一対の基板41,42間に光学効果を有する物質43を狭持させ、一対の基板41,42の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、基板の壁の壁内面と、光学効果を有する物質43を狭持する他の基板との間をシール材44により覆う。図8aの実施の形態では、図6rに示すものと同様な構造であり、基板42が方形に形成され、辺に壁42aを有するものを用いる。この基板42の壁42aの壁内面42bに光学効果を有する物質43を設け、この光学効果を有する物質43の上に基板41を設け、基板41の基板端面41bは壁42aの壁内面42bに接している。そして、シール材44を、基板41の基板外面41cと基板42の壁42aの上部42a1とに渡って設け、基板42の壁42aの壁内面42bと、光学効果を有する物質43を狭持する基板41との間をシール材44により覆う。この実施の形態では、基板42の壁42aの壁内面42bと、光学効果を有する物質43を狭持する基板41の基板外面41cとの間をシール材44により覆って密着しており、基板41,42の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子40Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子40Aの破壊が生じにくい。同様に、基板41,42間の間隔の変動が抑えられるため、実用上においても、生産工程においても、光学素子40Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子40の光学特性低下が生じにくい。図8bの実施の形態では、図5hの実施の形態と同様に構成されるが、一対の基板41,42の辺に壁41a,42aを有し、基板41の壁41aと基板42の壁42aを合わせた状態にし、基板41の基板内面41dと基板42の基板内面42dに光学効果を有する物質43を充填し、基板41の壁41aと基板42の壁42aの間にシール材44を充填する。シール材44の基板側部44aが基板外面41cを覆い、壁側部44bが壁42aの上端面42a1を覆い、基板41の基板外面41cと基板42の壁42aの上端面42a1とにシール材44が密着して基板41,42の剥離が生じにくい。図8cの実施の形態では、図8aの実施の形態と同様に構成されるが、基板42の壁42aの上部42a2を内側に曲げ、基板41の基板外面41cと基板42の壁42aの上部42a2との間にシール材44を充填し、基板41の基板外面41cと基板42の壁42aの上部42a2とにシール材44が密着して基板41,42の剥離が生じにくい。図8dの実施の形態では、図8cの実施の形態と同様に構成されるが、基板42の壁42aの上部42a2を内側に曲げないで、基板41の基板外面41cと基板42の壁42aの上部42a2との間にシール材44を充填し、基板41の基板外面41cと基板42の壁42aの上部42a2とにシール材44が密着して基板41,42の剥離が生じにくい。図8eの実施の形態では、図8bの実施の形態と同様に構成されるが、一対の基板41,42の辺に壁41a,42aを有し、基板41の壁41aと基板42の壁42aを合わせた状態にし、基板41の基板内面41dと基板42の基板内面42dに光学効果を有する物質43を充填し、基板41の壁41aと基板42の壁42aの間にシール材44を充填する。シール材44が壁41aの壁外面41a5と壁42aの壁内面42a4とにシール材44が密着して基板41,42の剥離が生じにくい。図8fの実施の形態では、図8hに示すように、基板41と基板42が方形に形成され、3辺に壁42aを有するものを用い、図8eの実施の形態と同様に構成されるが、基板41の一方の壁41aの壁内面41a4と基板42の一方の壁42aの壁外面42a5を合わせ、基板41の他方の壁41aの壁外面41a5と基板42の他方の壁42aの壁内面42a4を合わせ、それぞれの壁41aと壁42aとの間に光学効果を有する物質43を充填し、シール材44が密着して基板41,42の剥離が生じにくい。図8gの実施の形態では、図8fの実施の形態と同様に構成されるが、一方のシール材44の基板側部44aが基板外面41cを覆い、壁側部44bが壁42aの上端面42a1を覆い、他方のシール材44の基板側部44aが基板外面42cを覆い、壁側部44bが壁41aの上端面41a1を覆い、それぞれのシール材44が密着して基板41,42の剥離が生じにくい。[第8の実施の形態]第8の実施の形態を、図9に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子40Bは、一対の基板41,42間に光学効果を有する物質43を狭持した素子であり、一対の基板41,42間に光学効果を有する物質43をシールする第1のシール材14を設け、この基板42は辺に壁42aを有し、基板42の壁42aの壁内面と、光学効果を有する物質43を狭持する他の基板41との間を、第2のシール材90により覆う構造である。この実施の形態の光学素子40Bの製造方法は、基板42に第1のシール材14を設け、この第1のシール材14に囲まれた領域に光学効果を有する物質43を充填して一対の基板41,42間に光学効果を有する物質43を狭持させる。この基板42は辺に壁42aを有し、基板42の壁42aの壁内面と、光学効果を有する物質43を狭持する他の基板41との間を、第2のシール材90により覆う。この第8の実施の形態は、図9に示す実施の形態に限定されず、図8b乃至gに示す第7の実施の形態にも同様に適用でき、第7の実施の形態と同様な効果を得ることができる。[第9の実施の形態]第9の実施の形態を、図10に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子50Aは、一対の基板51,52間に光学効果を有する物質53を狭持した素子であり、一対の基板51,52の少なくとも1枚の基板は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、基板の壁の壁端面およびまたは壁外面と、光学効果を有する物質53を狭持する他の基板との間をシール材54により覆う構造である。この実施の形態の光学素子50Aの製造方法は、一対の基板51,52間に光学効果を有する物質53を狭持させ、一対の基板の少なくとも1枚の基板51,52は、基板の1乃至複数の辺に壁を有し、基板の壁の壁外面と、光学効果を有する物質53を狭持する他の基板との間をシール材54により覆う。図10aの実施の形態では、基板51が辺に壁51aを有し、この壁51aは外側に傾斜した皿状に形成され、この基板51と基板52との間に光学効果を有する物質53が充填され、シール材54を基板51の壁51aの壁端面51a1と、基板52の基板端面52bとの間に設け、基板51の壁51aと、光学効果を有する物質53を狭持する他の基板52との間をシール材54により覆う。この実施の形態では、シール材54を基板51の壁51aの端面51a1と、基板52の端面52bとの間に設け、基板51の壁51aと、光学効果を有する物質53を狭持する他の基板52との間をシール材54により覆って密着しており、基板51,52の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子50Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子50Aの破壊が生じにくい。図10bの実施の形態では、図10aの実施の形態と同様に構成されるが、基板51の壁51aの上端面51a1を基板52の基板内面52aに当接し、シール材54を基板51の壁51aの外側51bと、基板52の基板端面52bとに設け、基板51の壁51aと、光学効果を有する物質53を狭持する他の基板52との間をシール材54により覆って密着しており、基板51,52の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子50Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子50Aの破壊が生じにくい。同様に、基板51,52間の間隔の変動が抑えられるため、実用上においても、生産工程においても、光学素子50Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子50Aの光学特性低下が生じにくい。[第10の実施の形態]第10の実施の形態を、図11に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子50Bは、一対の基板51,52間に光学効果を有する物質53を狭持した素子であり、一対の基板51,52間に光学効果を有する物質53をシールする第1のシール材14を設け、一対の基板の少なくとも1枚の基板51は、基板51の1乃至複数の辺に壁51aを有し、基板51の壁51aと、光学効果を有する物質53を狭持する他の基板52との間を第2のシール材90により覆う構造である。この実施の形態の光学素子50Bの製造方法は、基板52に第1のシール材14を設け、この第1のシール材14に囲まれた領域に光学効果を有する物質53を充填して一対の基板51,52間に光学効果を有する物質53を狭持させる。一対の基板の少なくとも1枚の基板51は、基板51の1乃至複数の辺に壁51aを有し、基板51の壁51aと、光学効果を有する物質53を狭持する他の基板52との間を第2のシール材90により覆う。この第10の実施の形態は、図11に示す実施の形態に限定されず、図10bに示す第9の実施の形態にも同様に適用でき、第9の実施の形態と同様な効果を得ることができる。[第11の実施の形態]第11の実施の形態を、図12に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子60Aは、一対の基板61,62間に光学効果を有する物質63を狭持した素子であり、一対の基板61,62は、枠体65を介して連結され、一対の基板61,62の少なくとも1枚の基板と、枠体65との間をシール材により覆う構造である。この実施の形態の光学素子60Aの製造方法は、一対の基板61,62間に光学効果を有する物質63を狭持させ、一対の基板61,62は、枠体65を介して連結され、一対の基板61,62の少なくとも1枚の基板と、枠体65との間をシール材により覆う。図12の実施の形態では、基板61と基板62が同じ基板表面積であり、この基板62の周囲を、所定間隔隔てて枠体65を設け、この枠体65により囲まれた部分に、光学効果を有する物質63を設け、さらに基板61を、光学効果を有する物質63の上に設ける。この基板61の基板外面61cと枠体65の端部65aとの間にシール材64aを設け、この基板62の基板外面62cと枠体65の端部65bとの間にシール材64bを設け、このシール材64aとシール材64bとによってシールされるため、基板61,62の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子60に対する曲げ、捩じりによる光学素子60Aの破壊が生じにくい。同様に、基板61,62間の間隔の変動が抑えられるため、実用上においても、生産工程においても、光学素子60Aに対する曲げ、捩じりによる光学素子60Aの光学特性低下が生じにくい。[第12の実施の形態]第12の実施の形態を、図13に基づいて説明する。この実施の形態の光学素子60Bは、一対の基板61,62間に光学効果を有する物質63を狭持した素子であり、一対の基板61,62間に光学効果を有する物質63をシールする第1のシール材14を設け、一対の基板61,62は、枠体65を介して連結され、一対の基板61,62と、枠体65との間を第2のシール材90a,90bにより覆う構造である。この実施の形態の光学素子60Bの製造方法は、基板62に第1のシール材14を設け、この第1のシール材14に囲まれた領域に光学効果を有する物質63を充填して一対の基板61,62間に光学効果を有する物質63を狭持させる。一対の基板61,62は、枠体65を介して連結され、一対の基板61,62と、枠体65との間を第2のシール材90a,90bにより覆い、第11の実施の形態と同様な効果を得ることができる。[第13の実施の形態]第13の実施の形態を、図14aに基づいて説明する。上述の第1から第12の実施の形態で得られた光学素子全体を覆うようにフィルム75,76を、接着剤または粘着剤77を介して貼合する。このフィルム75,76によって基板71,72間の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子70に対する曲げ、捩じりによる光学素子70の破壊が生じにくく、同様に、基板71,72間の間隔の変動が抑えられる。また、特に好ましくは図14bに示すように、上述の第1から第12の実施の形態で得られた光学素子70の一対の基板71,72の基板外面71c,72cに、シール材74を覆うようにフィルム75,76を、接着剤77を介して貼合する。フィルム75,76は、光学素子70の表示領域Eを覆わないようにしており、このフィルム75,76によって基板71の基板端面71bと基板72の基板端面72bにシール材74が密着して基板71,72間の剥離が生じにくく、実用上においても、生産工程においても光学素子70に対する曲げ、捩じりによる光学素子70の破壊が生じにくく、同様に、基板71,72間の間隔の変動が抑えられる。基板基板は、方形のシート状のものが好ましく、また方形のシート状で辺に壁を有するものなどが用いられ、透明電極や接続端子パターンなどを有する。基板の材質は、プラスチックなどの可撓性材料、ガラスなどで形成される。また、2枚1組で用いる基板のうち少なくとも1枚が可撓性の基板であることが好ましい。また、壁および枠体の材質は基板と同じ材質でもよいが、熱膨張係数などの熱特性や表面の接着特性などの差により光学素子の光学的及び力学的特性が損なわなければ異なる材質であっても差し支えない。壁は基板上に後から形成してもよく、シール材またはシール材のような流動性の有る材料を塗設し硬化する方法が用いられる。シール材光学効果を有する物質をシールするシール材及び第1のシール材に求められる特性は光学効果を有する物質によって異なる。一般に上記のシール材は、室温での弾性率が低いものでも、高いものでもよいが、水蒸気や酸素などのガスを透過しにくく、基板間の接着性に富み、シール材の硬化前後においてシール材に起因する成分によってこの発明の光学効果を有する物質を汚染しないことが必要である。例えば、光学効果を有する物質として液晶を用いた場合には、液晶滴下工法により液晶表示素子を製造することが多く、未硬化のシール材が液晶と接触するため、シール材には液晶への低溶解性が求められる。また溶解しないまでも製造した液晶表示素子のシールパターンに変形が生じ、液晶がシールパターン中に差し込まれる現象差し込み現象が生じて近傍の液晶の配向を乱すため、液晶に対する非親和性が要求される。また、光学効果を有する物質として有機ELエレクトロルミネセンス材料を用いた場合には、水蒸気バリア性が強く求められ、またシール材から発生するガス成分が表示特性を劣化させるため、シール材の未硬化成分が残りにくい組成が求められる。シール材の組成としては、特に限定されないが、例えば、主剤のモノマーとしてエポキシ系、アクリル系、ウレタン系など種々のモノマーが用いられる他、組成の一つとしてアクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステルやポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系、ゴム系等、適宜なポリマーをベースポリマーとしたものを用いることができる。特に、基板との接着性、耐熱性、耐湿性、および光学効果を有する物質に対する低汚染性等に優れるものが好ましい。また、温度20°Cから30°Cの範囲における、硬化後のシール材の弾性率が1×107Pa以上となる組成を用いることで、低汚染性、ガスバリアー性に優れたシール材とすることができる。温度20°Cから30°Cの範囲における弾性率が1×107Pa以下の室温での弾性率が低いものを用いることで、特に基板が大きいサイズでは、搬送中にたわむなどにより引き剥がされる力がかかりやすく、周囲特に四隅から剥離しやすくなるが、シール材によって剥離を防ぐことができる。室温での弾性率が低いシール材としては、例えば特開平10-265547号公報に記載のシール材組成物が用いられる。このシール材組成物は、シール材が主剤、硬化剤に分かれる二液タイプの構成の場合、主剤にエポキシ樹脂と共にa分子内に脂肪族エステル結合を含む脂肪族環状エポキシ樹脂を配合し、硬化剤側にはエポキシ樹脂硬化剤と共にb3官能チオール化合物を配合する。この結果、シール材組成物は、架橋密度を下げることが可能となり、柔軟性、可撓性を付与することが可能となり、可撓性の基板の持つフレキシビリティに追随可能な硬化物を与えることが可能となった。シール材は、ディスペンサーを用いて、シリンジに入れた液状のものを用い、ディスペンサーの開口部からを吐出させて塗布する。このディスペンサーは、開口部列の幅方向、各位置の開口部の吐出量のバラツキが小さいものを用い、シリンジに入れた液状のシール材を押し出しながら塗布することで、簡単かつ確実に付与することができる。光学効果を有する物質をシールする第1のシール材をシールする第2のシール材は、基板に対する接着性があれば任意の材料を用いることができ、第1のシールと同じものを用いることができるが、特に、温度20°Cから30°Cの範囲における弾性率が1×107Pa以下の室温での弾性率が低いものを用いることで、特に基板が大きいサイズでは、搬送中にたわむなどにより引き剥がされる力がかかりやすく、周囲特に四隅から剥離しやすくなるが、シール材によって剥離を防ぐことができる。また、第13の実施の形態で用いられる接着剤または粘着剤はフィルムと基板との接着性が良好で、透明性の良好なものが好ましい。光学効果を有する物質光学効果を有する物質は、電気により作動するものが用いられ、この光学効果を有する物質によって光学素子は、例えば液晶表示素子、EL素子、マイクロカプセル素子、電子粉流体素子、エレクトロウェッティング素子、電気泳動素子などがある。このような光学素子を用いた表示装置としては、液晶表示装置、有機EL表示装置、電気泳動式表示装置などである。液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有し、一般的な液晶表示装置としては、入射側の偏光板と出射側の偏光板の基板と、電気により作動する部位の液晶とを有するものが代表的である。有機EL表示装置は、液晶表示装置と比べ、高速応答速度、広視野角、自発光素子特有の視認性の良さ、また駆動可能な温度範囲が広いなどのディスプレイとして有利な特性を数多く有する。この有機EL表示装置は、基板上に形成された各画素内に、基板側から下部電極、光学効果を有する物質により作動する部位の有機EL層、および上部電極が積層された構成を備え、有機EL層に電流を流すことによって発光する有機ELからの光を、少なくとも電極のうち一方の電極透光性の導電膜を通して認識するようになっている。電気泳動式表示装置は、電気泳動現象を利用した表示装置の一つとして、マイクロカプセル型電気泳動方式が実用化されている。この方式の表示装置は、透明溶媒が満たされた電気により作動する部位のマイクロカプセル中に正、負に帯電した白い粒子と黒い粒子を入れ、外部電圧の印加によってそれぞれの粒子を表示面に引き上げて画像を形成するものである。[実施例]実施例1図15乃至図23は液晶ディスプレイの断面構造を示した図である。図15の基板4にITO等からなる透明電極や接続端子パターンを、スパッタ法により成膜した後に、フォトリソグラフィー法によりパターニングすることによって形成する。基板4はポリスルホンなどの耐熱性に優れたポリマーフィルムまたは無機材料により補強されたポリマーフィルムである。透明電極の表面には、ポリイミド配向膜等も印刷法により予め皮膜形成し配向処理する。更に、基板4に、導電材を形成する。導電材は、カーボンペーストを材料とし、ディスペンサーによって、接続端子パターンと信号線電極の電気的接続部に形成する。その後、基板4の上に、紫外線硬化樹脂、又は紫外線及び熱の併用によって硬化する樹脂、又は熱硬化性樹脂、例えばアクリル樹脂やエポキシ樹脂等からなる、光学効果を有する物質をシールするシール材1を、ディスペンサー等の塗布ツールを用いて矩形枠状に形成する。次に、液晶材料2を滴下注入法によって基板4に供給する。すなわち、基板4の表面に形成した矩形枠状のシール材1の内側に、液晶材料2を滴下する。別の基板3にはフォトリソグラフィー法によりカラーフィルター及びスペーサや導電膜を形成する。その後、基板3を液晶が滴下された基板4の上に真空下で重ね合わせる。基板3は各辺の長さが、基板4より短い寸法とし、例えば短辺は6mm、長辺は10mm短くしてあり、基板3と基板4とを重ねると3辺は3mmずつ3の方が短く、残り1辺は7mmほど短くなるように配置する。基板3と基板4との寸法差を適当に考慮することにより基板4の接続端子と外部回路との接続を行うことが可能である。基板3の端部は基板4の上に矩形状に描画されたシール部材のほぼ中央になるように合わせる。重ね合わされた基板3と基板4からなる液晶セルを大気圧下に取り出すと、基板3と基板4とは気圧差により密着し、圧力を受けたシール部材1は基板3の端部を覆うまで押し出される図15。この時、ディスペンスされたシール部材1の量や幅を調整することにより、また基板3と基板4との寸法差を調整することにより寸法差がないことも含む、また基板3とシール材1との重なり幅を調整することにより、圧力を受けたシール材1が基板3の端部のみならず基板3の基板外面を覆うまで押し広げられるようにすることも可能である図16。また、同様に基板4の端部にまで押し広げられたり、基板4の基板外面まで押し広げられるようにすることも可能である図17乃至図22。この場合には従来の封止方法と同じ位置に、光学効果を有する物質をシールする第1のシール材5を描画した後、同一のまたは別の第2のシール材1を基板端部に形成してもよい図23。続いて、第1のシール材5及び第2のシール材1を紫外線照射や加熱によって硬化させ、液晶ディスプレイを得た。得られた液晶ディスプレイは曲率半径50mmに曲げても、基板間の剥離により内部の液晶が外部に漏れることはなかった。比較例一方、図24に示す通常のシール方法で封止した液晶ディスプレイは曲率半径100mmで曲げると基板間が剥離し内部の液晶が外部に漏れ出した。実施例2実施例1と同様に液晶ディスプレイを作製した。図25に示すように、得られた液晶ディスプレイの端部に可撓性のある補強フィルム6を接着剤7により貼合した。補強フィルム6は、液晶ディスプレイの表示領域を狭めることのないような位置に、液晶ディスプレイよりはみ出す寸法で、例えば0.5~5mmほどはみ出す寸法で貼合する必要がある。補強フィルム6の材質は可撓性があればどのような材質でも使用できるが、例えば、基板3または基板4と同じ材質のフィルムが挙げられる。ここで用いられるフィルム及び接着剤は、基板と接着し易く、液晶ディスプレイの特性を損なわないものを選ぶ必要がある。得られた液晶ディスプレイは曲率半径30mmに曲げても、基板間の剥離により内部の液晶が外部に漏れることはなかった。実施例3図26は液晶ディスプレイの断面構造を示した図である。図26の基板4には実施例1と同様にITO等からなる透明電極や接続端子パターンを、スパッタ法およびフォトリソグラフィー法によりパターン形成し、透明電極の表面に、ポリイミド配向膜等を形成し配向処理する。基板4に、導電材を接続端子パターンと信号線電極の電気的接続部に形成する。その後、基板4の上に壁5を形成する。壁5は、紫外線硬化樹脂、又は紫外線及び熱の併用によって硬化する樹脂、又は熱硬化性樹脂、例えばアクリル樹脂やエポキシ樹脂等からなる材料を用いて形成する。例えば光学効果を有する物質をシールするシール材1と同じ材料を用い、ディスペンサー等の塗布ツールを用いて矩形枠状に形成し硬化する。壁5の内側に光学効果を有する物質をシールするシール材1をディスペンサー等の塗布ツールを用いて矩形枠状に形成する。次に、液晶材料2を滴下注入法によって基板4に供給する。すなわち、基板4の表面に形成した矩形枠状のシール材1の内側に、液晶材料2を滴下する。別の基板3にはフォトリソグラフィー法によりカラーフィルター及びスペーサや導電膜を形成する。その後、基板3を液晶が滴下された基板4の上に真空下で重ね合わせる。基板3は各辺の長さが、基板4より短い寸法とし、例えば短辺は6mm、長辺は10mm短くしてあり、基板3と基板4とを重ねると3辺は3mmずつ3の方が短く、残り1辺は7mmほど短くなるように配置する。基板3と4との寸法差を適当に考慮することにより基板4の接続端子と外部回路との接続を行う事が可能である。基板3の端部は基板4の上に矩形状に描画されたシール部材のほぼ中央になるように合わせる。重ね合わされた基板3と基板4からなる液晶セルを大気圧下に取り出すと、基板3と基板4とは気圧差により密着し、圧力を受けたシール部材1は基板3の端部を覆うまで押し出される図26。この時、ディスペンスされたシール部材1の量や幅を調整することにより、また基板3と基板4との寸法差を調整することにより、また基板3とシール材1との重なり幅を調整することにより、圧力を受けたシール材1が基板3の端部のみならず基板3の基板外面を覆うまで押し広げられるようにすることも可能である。また、同様に基板4の壁の端部にまで押し広げることも可能である。続いて、シール材1を紫外線照射や加熱によって硬化させ、液晶ディスプレイを得た。得られた液晶ディスプレイは曲率半径50mmに曲げても、基板間の剥離により内部の液晶が外部に漏れることはなかった。"