水中で放電を生起して水中に水酸ラジカルを生成する電極対6465と、水に超音波を照射することで、水中に生成した水酸ラジカルが変化して生成する過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部94と、上記電極対6465に直流電圧を印加する直流電源70と、上記電極対6465のうちの一方の電極64のみを内部に収容する収容部7273と、上記電極対6465の間の電流経路を形成するための開口74とを有する絶縁部材71と、上記絶縁部材71の開口74を覆う気体相Bを形成する気体形成部7480とを備えている水中放電装置。請求項1において、上記気体形成部7480は、上記電極対6465の間の電流経路を絞ることでジュール熱によって水を気化させて上記気体相Bを生成する上記開口74であることを特徴とする水中放電装置。請求項1において、上記気体形成部7480は、上記収容部7273内に空気を供給する空気供給機構80であることを特徴とする水中放電装置。請求項3において、上記絶縁部材71には、上記収容部7273内の電極と、該収容部7273との間に空間Sが形成され、上記空気供給機構80は、上記空間Sに連通する空気供給路81と、該空気供給路81に設けられる空気ポンプ82とを含むことを特徴とする水中放電装置。請求項1乃至4のいずれか1つにおいて、上記絶縁部材71には、複数の上記開口74が形成され、上記複数の開口74のそれぞれに、対応する上記気体相Bが形成されることを特徴とする水中放電装置。請求項1において、上記電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御する第1制御部1と、上記超音波発生部94の動作を制御する第2制御部5とをさらに備え、上記第1制御部1及び上記第2制御部5は、上記放電が生起される水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6465に印加する電圧のオン又はオフ及び上記超音波発生部94の動作をそれぞれ制御することを特徴とする水中放電装置。請求項6において、上記放電が生起される水中に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ7をさらに備え、上記第1制御部1は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御し、上記第2制御部5は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする水中放電装置。請求項7において、少なくとも上記放電が生起される水中の過酸化水素の濃度が上記上限値を越えた場合には、上記第1制御部1が、上記電極対6465に印加する電圧をオフにして上記放電を停止させるとともに、上記第2制御部5が、上記超音波発生部94を動作させることを特徴とする水中放電装置。請求項6乃至8の何れか1つにおいて、上記第2制御部5は、上記放電が生起される水中に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする水中放電装置。請求項1において、上記電極対6465に印加する電圧のオン又はオフの制御、及び上記超音波発生部94の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、上記制御部は、上記放電が生起される水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6465に印加する電圧のオン又はオフ、及び上記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする水中放電装置。請求項10において、上記制御部は、上記放電が生起される水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、上記電極対6465に印加する電圧をオフにして上記放電を停止させ、上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする水中放電装置。上述したパルス電源を用いた水中放電装置では、電源の複雑化、大型化、高コスト化を招いてしまう。また、パルス電源方式では、水中での放電に伴い騒音や衝撃波が大きくなってしまう。一方、このような問題を解決するために、電極対に常に所定の電圧を印加する直流電源を用いることが考えられる。しかしながら、直流電源を用いる場合、水中での漏れ電流の影響により、電極対の間の電流密度が小さくなってしまい、安定した放電を行うことができないという問題が生じる。本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、直流電源を用いながら安定した放電を行うことができる水中放電装置を提供することである。第1の発明は、水中放電装置を対象とし、水中で放電を生起して水中に水酸ラジカルを生成する電極対6465と、水に超音波を照射することで、水中に生成した水酸ラジカルが変化して生成する過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部94と、上記電極対6465に直流電圧を印加する直流電源70と、上記電極対6465のうちの一方の電極64のみを内部に収容する収容部7273と、上記電極対6465の間の電流経路を形成するための開口74とを有する絶縁部材71と、該絶縁部材71の開口74を覆う気体相Bを形成する気体形成部7480とを備えている。第1の発明では、電極対6465の電源として、直流電源70が用いられる。このため、水中放電装置の電源の簡素化、小型化、低コスト化が図られる。また、放電に伴う騒音の低減、放電に伴う衝撃波の抑制が図られる。一方、このように直流電源70を用いて常に電極対6465に所定の電圧を印加すると、例えばパルス電源と比較して、水中での漏れ電流が大きくなり、所望とする放電を行うことが困難となる。そこで、本発明では、電極対6465のうちの一方の電極64のみを絶縁部材71の収容部7273に収容し、絶縁部材71の開口74に電極対6465の電流経路を形成している。これにより、絶縁部材71の開口74における電流密度が高くなり、漏れ電流が小さくなる。更に、本発明では、気体形成部7480によって形成された気体相Bが、絶縁部材71の開口74を覆う状態となる。つまり、電極対6465の間の電流経路には、開口74を塞ぐようにして気体相Bが介在する。これにより、電極対6465の間の漏れ電流が更に抑制され、電極対6465の間では所望とする放電電圧が確保される。その結果、電極対6465の間では、気体相Bの気体が絶縁破壊して放電が生じる。その結果、気体相B付近では、放電に伴って水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素等が生成される。このため、例えばこれらの成分を水の浄化に利用することができる。更に、本発明は、水に超音波を照射する超音波発生部94を備えている。このため、超音波発生部から水に対して超音波を照射することにより水酸ラジカルから変化した過酸化水素を、除菌能力がより高い水酸ラジカルに再び変換できる。その結果、より効果的な水の浄化を可能とする。第2の発明は、第1の発明において、上記気体形成部7480は、上記電極対6465の間の電流経路を絞ることでジュール熱によって水を気化させて上記気体相Bを生成する上記開口74であることを特徴とする。第2の発明では、絶縁部材71の開口74自体が気体形成部を構成する。つまり、絶縁部材71の開口74が絞られると、電極対6465の間の電流経路が狭くなり、この電流経路の電流密度が小さくなる。これにより、開口74内のジュール熱が大きくなり、この開口74内の水が気化して蒸発する。その結果、開口74付近では、この開口74を覆うように気体相Bが形成される。第3の発明では、空気供給機構80が気体形成部を構成する。つまり、空気供給機構80は、一方の電極64を収容する収容部7273内に空気を供給する。この空気は、絶縁部材71の開口74を通じて収容部7273の外部へ流出する。これにより、開口74には、空気供給機構80から供給された空気によって、気体相Bが形成される。以上のように、本発明では、第2の発明のように、電極対6465の間のジュール熱を消費することなく、気体相Bが形成される。よって、水中放電装置の省エネ性の向上が図られる。第4の発明は、第3の発明において、上記絶縁部材71には、上記収容部7273内の電極と、該収容部7273との間に空間Sが形成され、上記空気供給機構80は、上記空間Sに連通する空気供給路81と、該空気供給路81に設けられる空気ポンプ82とを含むことを特徴とする。第4の発明では、空気ポンプ82で搬送された空気が、空気供給路81を通じて空間Sへ供給される。このため、本発明では、絶縁部材71の収容部7273の空間Sも空気で満たされ易くなる。その結果、電極対6465の間のジュール熱が、空間S内の水の気化に消費されてしまうことを未然に回避できる。第5の発明では、第1乃至第4のいずれか1つの発明において、上記絶縁部材71には、複数の上記開口74が形成され、上記複数の開口74のそれぞれに、上記気体相Bが形成されることを特徴とする。第5の発明では、絶縁部材71に複数の開口74が形成され、各開口74が対応する気体相Bによって覆われる。このため、本発明では、各開口74の気体相B付近でそれぞれ放電が行われる。第6の発明は、第1の発明において、上記電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御する第1制御部1と、上記超音波発生部94の動作を制御する第2制御部5とをさらに備え、上記第1制御部1及び上記第2制御部5は、上記放電が生起される水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6465に印加する電圧のオン又はオフ及び上記超音波発生部94の動作をそれぞれ制御することを特徴とする。第6の発明では、水中放電装置から外部へと供給される液体中の過酸化水素の濃度が上限値以下に抑えられるので、過酸化水素を除去するための処理が容易になる。第7の発明は、第6の発明において、上記放電が生起される水中に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ7をさらに備え、上記第1制御部1は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御し、上記第2制御部5は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする。第8の発明は、第7の発明において、少なくとも上記放電が生起される水中の過酸化水素の濃度が上記上限値を越えた場合には、上記第1制御部1が、上記電極対6465に印加する電圧をオフにして上記放電を停止させるとともに、上記第2制御部5が、上記超音波発生部94を動作させることを特徴とする。第9の発明は、第6乃至第8の何れか1つの発明において、上記第2制御部5は、上記放電が生起される水中に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする。第9の発明では、超音波発生部94は液体の過酸化水素濃度が下限値以上である場合にオン状態にされるので、液中の過酸化水素から効率的且つ継続的に水酸ラジカルを生成することができる。第10の発明は、第1の発明において、上記電極対6465に印加する電圧のオン又はオフの制御、及び上記超音波発生部94の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、上記制御部は、上記放電が生起される水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6465に印加する電圧のオン又はオフ、及び上記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする。第11の発明は、第10の発明において、上記制御部は、上記放電が生起される水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、上記電極対6465に印加する電圧をオフにして上記放電を停止させ、上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする。本発明では、直流電源70を用いて放電を行っているので、例えばパルス電源と比較して、電源部の簡素化、低コスト化、小型化を図ることができる。また、パルス電源を用いると、放電に伴って水中で発生する衝撃波や騒音が大きくなってしまう。これに対し、直流電源70を用いると、このような衝撃波や騒音も低減できる。また、本発明では、電極対6465の一方の電極64を絶縁部材71の収容部7273で覆い、更に電極対6465の間の電流経路を形成する開口74を気体相Bによって覆うようにしている。これにより、本発明では、電極対6465の間での漏れ電流を最小限に抑えることができるため、直流電源70を用いても気体相B付近で安定した放電を行うことができる。従って、気体相B付近では、水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素を安定して生成でき、例えばこれらの成分を水の浄化に利用することができる。また、本発明は水に超音波を照射する超音波発生部94を備えている。このため、超音波発生部から水に対して超音波を照射することにより水酸ラジカルから変化した過酸化水素を、除菌能力がより高い水酸ラジカルに再び変換できる。その結果、より効果的な水の浄化を可能とする。第2の発明では、電極対6465の間の電流経路のジュール熱を利用して、開口74内に気体相Bを形成するようにしている。このため、気体相Bを形成するための特別な機器を設ける必要がないため、装置構造の簡素化を図ることができる。第3の発明では、空気供給機構80によって気体相Bに空気を供給することで、気体相Bを形成するようにしている。このため、気体相Bの生成にジュール熱が消費されることがないため、電力消費量を低減できる。第4の発明では、絶縁部材71の収容部7273の空間Sにも空気を供給することで、空間S内にも気体相を形成できる。これにより、空間S内において、ジュール熱によって水が気化されることを抑制でき、電力消費量を低減できる。また、空間S内を空気で満たすようにすると、この空間Sにおいても放電を行うことができる。その結果、空間Sでは、放電に伴ってイオン風を生成できるため、このイオン風を利用して活性種や過酸化水素等の拡散を促すことができる。第5の発明では、複数の開口74の各気相部B付近でそれぞれ放電を行うことができる。従って、放電に伴って生成される活性種等を広範囲且つ多量に生成できる。第6の発明によれば、水中放電装置から外部へと供給される液体中の過酸化水素の濃度が上限値以下に抑えられるので、過酸化水素を除去するための処理が容易になる。第7の発明によれば、第1制御部1及び第2制御部5が、貯留槽41内の液体の過酸化水素濃度に応じて放電の制御及び超音波照射の制御をそれぞれ行うので、液体の過酸化水素濃度が所望の範囲内になるよう制御しつつ、浄化処理を行うことができる。第8の発明によれば、液体中の過酸化水素の濃度が上限値を超えた場合に放電を停止させて過酸化水素の生成を停止させるので、液体の過酸化水素濃度を上限値以下にすることができ、処理後の液体からの過酸化水素の除去を容易にすることができる。第9の発明によれば、液体の過酸化水素濃度を下限値以上に制御することができるので、超音波を照射した場合に水酸ラジカルを効率良く発生させることが可能となる。第10の発明によれば、液体中の過酸化水素の濃度が上限値を超えないように制御部によって制御されるので、過酸化水素を除去するための処理を容易にすることができる。第11の発明によれば、液体の過酸化水素濃度を下限値以上に制御することができるので、超音波を照射した場合に水酸ラジカルを効率良く発生させることが可能となる。以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。《発明の実施形態1》本発明の実施形態1に係る水浄化ユニット60は、給湯システム10に搭載されている。まず、給湯システム10の全体構成について、図1を参照しながら説明する。給湯システム10は、浴槽U1やシャワーU2へ温水を供給するシステムである。給湯システム10は、いわゆるヒートポンプ式の給湯器であり、熱源ユニット30と給湯ユニット40とを有している。熱源ユニット30は、圧縮機31と加熱熱交換器32と膨張弁33と室外熱交換器34とを備えている。熱源ユニット30では、圧縮機31、加熱熱交換器32、膨張弁33、及び室外熱交換器34が冷媒配管を介して順に接続され、閉回路となる冷媒回路11が構成される。冷媒回路11には、冷媒として二酸化炭素が充填されている。加熱熱交換器32は、一次側伝熱部32aと二次側伝熱部32bとを有している。一次側伝熱部32aは、圧縮機31と膨張弁33との間の高圧ラインに接続されている。二次側伝熱部32bは、給湯ユニット40側の第1循環流路13に接続されている。加熱熱交換器32では、一次側伝熱部32aを流れる冷媒と、二次側伝熱部32bを流れる水とが熱交換する。室外熱交換器34の近傍には、ファン35が設けられている。室外熱交換器34では、その内部を流れる冷媒と、ファン35が送風する室外空気とが熱交換する。冷媒回路11では、圧縮機31が運転されて冷媒が循環することで、蒸気圧縮式の冷凍サイクルが行われる。即ち、冷媒回路11では、圧縮機31で圧縮された冷媒が、一次側伝熱部32aで放熱し、膨張弁33で減圧される。減圧された冷媒は、室外熱交換器34で蒸発し、圧縮機31に吸入される。この冷凍サイクルは、冷媒としての二酸化炭素を臨界圧力以上まで圧縮する、いわゆる超臨界サイクルである。給湯ユニット40は、給湯タンク41と内部熱交換器42とを備えている。給湯タンク41は、縦長の円筒状の密閉容器で構成されている。給湯タンク41には、円筒形の周壁部41aと、周壁部41aの上側を閉塞する頂壁部41bと、周壁部41aの下側を閉塞する底壁部41cとが形成されている。給湯タンク41には、第1循環流路13と第2循環流路14と供給流路15とが接続されている。また、給湯タンク41には、該給湯タンク41内へ水道水を適宜補給する、給水路20も接続されている。これらの流路13141520は、給湯タンク41と連通する水流路12を構成している。第1循環流路13の始端は、給湯タンク41の周壁部41aの下部に接続され、給湯タンク41内の底壁部41c寄りに開口している。第1循環流路13の終端は、給湯タンク41の周壁部41aの上部に接続され、給湯タンク41内の頂壁部41b寄りに開口している。第1循環流路13には、第1ポンプ43が設けられている。第1ポンプ43は、第1循環流路13の始端側から終端側の方向図1の矢印で示す方向へ水を搬送する搬送機構である。第1循環流路13には、第1ポンプ43の下流側に二次側伝熱部32bが接続されている。第2循環流路14の始端は、給湯タンク41の周壁部41aの下部に接続され、給湯タンク41内の底壁部41c寄りに開口している。第2循環流路14の終端は、給湯タンク41の頂壁部41bに接続され、給湯タンク41内の頂壁部41b寄りに開口している。第2循環流路14には、第2ポンプ44が設けられている。第2ポンプ44は、第2循環流路14の始端側から終端側の方向図1の矢印で示す方向へ水を搬送する搬送機構である。第2循環流路14には、第2ポンプ44の下流側に内部熱交換器42の第1伝熱管42aが接続されている。内部熱交換器42は、第1伝熱管42aと第2伝熱管42bとを有している。第1伝熱管42aは、第2循環流路14に接続されている。第2伝熱管42bは、供給流路15の第3循環流路16に接続されている。供給流路15は、主供給路17、第1分岐路18、第2分岐路19、及び第3循環流路16を含んでいる。主供給路17の始端は給湯タンク41の頂壁部41bに接続され、給湯タンク41内の頂壁部41b寄りに開口している。主供給路17の終端側は、第1分岐路18と第2分岐路19とに分岐している。主供給路17には、第3ポンプ45が設けられている。第3ポンプ45は、主供給路17の始端側から終端側の方向図1の矢印で示す方向へ水を搬送する搬送機構である。第1分岐路18の終端は、第3循環流路16を介して浴槽U1と連通している。つまり、第1分岐路18は、浴槽U1側へ温水を供給するための浴槽側供給路を構成している。第1分岐路18には、第1開閉弁46が設けられている。第2分岐路19の終端は、シャワーU2と接続している。つまり、第2分岐路19は、シャワーU2へ温水を供給するシャワー側供給路を構成している。第2分岐路19には、第2開閉弁47が設けられている。第3循環流路16は、浴槽U1内の水を循環させる浴槽循環流路を構成している。第3循環流路16は、供給循環路16aと返送循環路16bとを有している。供給循環路16aの流出端は、浴槽U1の内部における上方寄りに開口している。返送循環路16bの流入端は、浴槽U1の内部における下方寄りに開口している。供給循環路16aには、第4ポンプ48が設けられている。第4ポンプ48は、主供給路17側の水、又は返送循環路16b側の水を浴槽U1内へ供給する搬送機構である。返送循環路16bには、内部熱交換器42の第2伝熱管42bが接続され、該第2伝熱管42bの下流側に第3開閉弁49が設けられている。内部熱交換器42では、第1伝熱管42aを流れる水と、第2伝熱管42bを流れる水とが熱交換する。給湯ユニット40では、返送循環路16bを流れる水と比較すると、第2循環流路14を流れる水の温度の方が高くなる。このため、内部熱交換器42では、第1伝熱管42aを流れる水の熱が、第2伝熱管42bを流れる水へ付与される。つまり、第2伝熱管42bは、第3循環流路16を流れる水を加熱する加熱部を構成している。水浄化ユニットの詳細構造給湯システム10は、水浄化ユニット60を備えている。水浄化ユニット60は、水中での放電及び超音波放射によって水中に水酸ラジカル及び過酸化水素等の浄化成分を生成し、この浄化成分によって水の浄化を行うものである。水浄化ユニット60は、水浄化タンク61と、電源部70を含む放電ユニット62と、超音波発生部94とを有している図2を参照。さらに、水浄化ユニット60は、電源部に接続された放電波形発生部3と、電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部と、増幅器9を介して超音波発生部94に所定の周波数の交流電圧を供給する超音波波形発生部8と、超音波波形発生部8を介して超音波発生部94の動作を制御する制御部5と、水浄化タンク61内の水の過酸化水素濃度をモニタするセンサ7とを備えている。なお、図示しないが、センサ7のモニタ結果に基づいて制御部15を制御する中央演算装置CPUが設けられていてもよい。制御部15による放電ユニット62及び超音波発生部94の制御方法については、後に説明する。なお、後述のいわゆるフィードフォワード制御を行う場合、センサ7は必ずしも設けられなくてもよい。水浄化タンク61は、水流路12の水が流入する水浄化流路を構成している。本実施形態の水浄化タンク61は、密閉型の容器状に形成され、第3循環流路16に接続されている。具体的に、水浄化タンク61には、流入管51及び流出管52が接続され、これらの配管5152が供給循環路16aと繋がっている。即ち、水浄化タンク61は、第3循環流路16において、加熱部である第2伝熱管42bの下流側に配設されている。流入管51と流出管52とは、銅管で構成されている。流入管51は、その内壁から銅イオンを生成することで、水浄化タンク61に銅イオンを供給するイオン供給部を構成している。放電ユニット62は、水中で放電を行うための水中放電装置を構成している。放電ユニット62は、電極A64及び電極B65とからなる電極対6465と、この電極対6465に電圧を印加する電源部70と、電極A64を内部に収容する絶縁ケーシング71とを備えている。電極対6465は、水中で放電を生起するためのものである。電極A64は、絶縁ケーシング71の内部に配置されている。電極A64は、上下に扁平な板状に形成されている。電極A64は、電源部70の正極側に接続されている。電極A64は、例えばステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。電極B65は、絶縁ケーシング71の外部に配置されている。電極B65は、電極A64の上方に設けられている。電極B65は、上下に扁平な板状であって、且つ上下に複数の貫通孔66を有するメッシュ形状ないしパンチングメタル形状に構成されている。電極B65は、電極A64と略平行に配設されている。電極B65は、電源部70の負極側に接続されている。電極B65は、例えばステンレス、真鍮等の導電性の金属材料で構成されている。電源部70は、電極対6465に所定の直流電圧を印加する直流電源で構成されている。即ち、電源部70は、電極対6465に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源ではなく、電極対6465に対して数キロボルトの直流電圧を印加する。電源部70のうち、電極B65が接続される負極側は、アースと接続されている。絶縁ケーシング71は、水浄化タンク61の底部に設置されている。絶縁ケーシング71は、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されている。絶縁ケーシング71は、一面上面が開放された容器状のケース本体72と、該ケース本体72の上方の開放部を閉塞する板状の蓋部73とを有している。ケース本体72及び蓋部73は、電極A64を内部に収容する収容部を構成している。ケース本体72は、角型筒状の側壁部72aと、該側壁部72aの底面を閉塞する底部72bとを有している。電極A64は、底部72bの上側に敷設されている。絶縁ケーシング71では、蓋部73と底部72bとの間の上下方向の距離が、電極A64の厚さよりも長くなっている。つまり、電極A64と蓋部73との間には、所定の間隔が確保されている。これにより、絶縁ケーシング71の内部では、電極A64とケース本体72と蓋部73との間に空間Sが形成される。図2及び図3に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73には、該蓋部73を厚さ方向に貫通する1つの開口74が形成されている。この開口74により、電極A64と電極B65との間の電界の形成が許容されている。蓋部73の開口74の内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口74は、電極対6465の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。以上のように、絶縁ケーシング71は、電極対6465のうちの一方の電極電極A64のみを内部に収容し、且つ電流密度集中部としての開口74を有する絶縁部材を構成している。加えて、絶縁ケーシング71の開口74内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡Bが形成される。つまり、絶縁ケーシング71の開口74は、該開口74に気相部としての気泡Bを形成する気相形成部として機能する。超音波発生部94は、板状の圧電セラミックス95と、間に圧電セラミックス95を挟むように設けられた一対の金属板96a96bとで構成される。超音波発生部94を封入するケース97は密閉され、水浄化タンク61の底部に配置されている。超音波発生部94は、電極対6465よりも、水浄化タンク61の給水口に近い位置言い換えれば、注水口から遠い位置に配置される。金属板96a96bには、増幅器9によって増幅された超音波波形発生部8の出力信号交流電圧が供給される。これにより、超音波発生部94は任意の周波数の超音波を水浄化タンク61内の液体に照射する。なお、超音波発生部94は、水浄化タンク61内の水に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてもよい。例えば、図4aに示すように、超音波発生部94が水浄化タンク61の底部外側に設置されていてもよく、水浄化タンク61の内部において、電極対6465よりも注水口に近い位置に設置されていてもよい。超音波発生部94が水浄化タンク61の底部外側に設置されている場合、超音波は水浄化タンク61の壁面を介して液体に伝達される。また、超音波発生部94の構成は、図2に示す例に限られない。例えば、図4bに示すように、金属ケース97aの上部と金属板96とで板状の圧電セラミックス95を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよい。-給湯システムの運転動作-給湯システム10の基本的な運転動作について図1を参照しながら説明する。この給湯システム10では、浴槽内へ温水を供給する給湯運転と、浴槽内の水を循環させながら加熱する追い焚き運転とが行われる。給湯運転給湯運転では、熱源ユニット30の圧縮機31が運転され、冷媒回路11で冷凍サイクルが行われる。給湯ユニット40では、第1ポンプ43及び第3ポンプ45が運転され、第2ポンプ44及び第4ポンプ48が停止状態となる。また、第1開閉弁46、第2開閉弁47が開放状態となり、第3開閉弁49は閉鎖状態となる。第1ポンプ43が運転されると、給湯タンク41内の水が第1循環流路13へ流出する。この水は、加熱熱交換器32の二次側伝熱部32bを流れる。加熱熱交換器32では、一次側伝熱部32aを流れる冷媒の熱が、二次側伝熱部32bを流れる水へ放出され、この水が所定温度まで加熱される。加熱された水は、第1循環流路13を経由して給湯タンク41内に流入する。これにより、給湯タンク41内部には、所定温度の温水が蓄えられる。第3ポンプ45が運転されると、給湯タンク41内の水温水は、主供給路17に流出し、第1分岐路18と第2分岐路19とに分流する。第1分岐路18を流れた水は、第3循環流路16の供給循環路16aに流入する。この水は、水浄化タンク61を通過した後、浴槽U1内へ放出される。これにより、浴槽U1内に所定温度の温水が供給される。一方、第2分岐路19を流れた水は、シャワーU2側に供給される。追い焚き運転追い焚き運転では、熱源ユニット30の圧縮機31が運転され、冷媒回路11で冷凍サイクルが行われる。給湯ユニット40では、第1ポンプ43、第2ポンプ44、及び第4ポンプ48が運転される。また、第1開閉弁46が閉鎖状態となり、第2開閉弁47及び第3開閉弁49が開放状態となる。第1ポンプ43が運転されると、給湯タンク41内の水が第1循環流路13を流れる。これにより、第1循環流路13の水は、加熱熱交換器32で加熱されて給湯タンク41へ返送される。第2ポンプ44が運転されると、給湯タンク41内の水は、第2循環流路14へ流出する。この水は、内部熱交換器42の第1伝熱管42aを流れる。内部熱交換器42では、第1伝熱管42aを流れる水の熱が、第2伝熱管42bを流れる水へ放出される。第1伝熱管42aで放熱した水は、第2循環流路14を経由して給湯タンク41内に流入する。第4ポンプ48が運転されると、浴槽U1の水は第3循環流路16の返送循環路16bへ吸い込まれる。返送循環路16bを流れた水は、内部熱交換器42で加熱された後、水浄化タンク61を通過して浴槽U1へ供給される。これにより、浴槽U1内の水の温度が徐々に高くなっていく。-水浄化ユニットの運転動作-本実施形態の給湯システム10では、水浄化ユニット60が運転されることで、水流路12を流れる水の浄化がなされる。このような水浄化ユニット60による水の浄化動作について詳細に説明する。なお、この水浄化動作は、上述した給湯運転や追い焚き運転時に実行される。図5は、本実施形態の水浄化ユニット60による水処理の基本サイクルを示す図である。同図に示すように、水浄化タンク61内に溜められた水等は、まず、電極対6465間に生起される放電によって浄化される。この際には、放電によって水中に水酸ラジカル等の活性種が生成し、有機物等の分解や殺菌などが行われる図5中のステップSt1、St2。水酸ラジカルは短時間で過酸化水素に変化するステップSt3。次に、超音波発生部94から液体へと任意の周波数の超音波を伝搬させ、水中の過酸化水素を分解し、水酸ラジカルに変化させるステップSt4。ただし、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数が、100kHz以上程度であれば特に好ましい。超音波照射により発生した水酸ラジカルは、再度過酸化水素に変化する。ただし、除菌等、水の浄化反応に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は低下してゆくことになる。なお、上記の液体浄化は、1回ごとに水浄化タンク61内の水を全て入れ替える、いわゆるバッチ処理によって行ってもよい。あるいは、水浄化タンク61への注水と水浄化タンク61からの水の流出を連続的に行う連続処理によって浄化を行ってもよい。まず、放電ユニット62の運転動作について説明する。水浄化ユニット60の運転の開始時には、図2に示すように、絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。電源部70から電極対6465に所定の直流電圧例えば1kVが印加されると、電極対6465の間に電界が形成される。電極A64の周囲は、絶縁ケーシング71で覆われている。このため、電極対6465の間での漏れ電流が抑制されるとともに、開口74内の電流経路の電流密度が上昇した状態となる。開口74内の電流経路の電流密度が上昇すると、開口74内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング71では、開口74の近傍において、水の気化が促進されて気体相としての気泡Bが形成される。この気泡Bは、図6に示すように、開口74のほぼ全域を覆う状態となり、電極B65に導通する負極側の水と、正極側の電極A64との間に気泡Bが介在する。従って、この状態では、気泡Bが、電極A64と電極B65との間での水を介した導電を阻止する抵抗として機能する。これにより、電極A64と電極B65との間の漏れ電流が抑制され、電極対6465間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡B内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。以上のようにして、気泡Bで放電が行われると、水浄化タンク61内の水中では、水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素等が生成される。水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素は、放電に伴う熱によって水浄化タンク61内を対流する。これにより、水中での活性種や過酸化水素の拡散が促される。また、気泡Bで放電が行われると、この放電に伴ってこの気泡Bでイオン風を生成し易くなる。よって、水浄化タンク61内では、このイオン風を利用して、活性種や過酸化水素の拡散効果を更に向上できる。また、上述したように、水浄化タンク61には、流入管51から溶出した銅イオンが供給される。過酸化水素と銅イオンの存在下では、フェントン反応により、銅イオンが触媒的に作用して水酸ラジカルの生成が促進される。これにより、水酸ラジカルによる水の浄化効率が向上する。加えて、銅イオンは菌の繁殖を抑制する効果があるため、水中での殺菌作用も高くなる。以上のようにして、水中に拡散した水酸ラジカル等の活性種は、水中に含まれる被処理成分例えばアンモニア等を酸化分解して水の浄化に利用される。また、水中に拡散した過酸化水素は、水の殺菌に利用される。給湯運転や追い焚き運転では、このような水浄化動作が適宜実行され、浄化された水が浴槽U1に供給される。これにより、本実施形態の給湯システム10では、浴槽U1内の清浄度が保たれる。次に、放電と超音波処理を組み合わせた水浄化ユニット60の運転制御の具体例について説明する。図7は、水中の過酸化水素の濃度を用いてフィードバック制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。以下の方法では、水中の過酸化水素はセンサ7によって検知される。この方法において、まず水浄化タンク61内に水が溜まった状態で運転を開始する。制御部1は、電極対間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部94はオフ状態にしておく。これにより、水が浄化されるとともに、水中の過酸化水素の濃度が上昇する。次いで、水中の過酸化水素濃度があらかじめ設定された下限値を超えた場合、制御部1は電極対6465への電圧供給を継続させ、制御部は、超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって水が浄化される。放電によって生成される過酸化水素の量は超音波によって分解される過酸化水素の量よりも多いので、この期間中も水中の過酸化水素の濃度は上昇する。次に、水の過酸化水素濃度があらかじめ設定された上限値を超えた場合、制御部1は電極対6465への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部5は、引き続き超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって水が浄化される。この期間中、超音波によって過酸化水素が分解されるので、水中の過酸化水素の濃度は減少する。次いで、水中の過酸化水素濃度が上述の下限値を下回った時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を再開する。これにより、水中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間と超音波照射と放電とを組み合わせる期間とを繰り返すことで、水の過酸化水素濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化する。-実施形態1の効果-実施形態1では、電源部70を用いて放電を行っているので、例えばパルス電源と比較して、電源部の簡素化、低コスト化、小型化を図ることができる。また、パルス電源を用いると、放電に伴って水中で発生する衝撃波や騒音が大きくなってしまう。これに対し、直流電源70を用いると、このような衝撃波や騒音も低減できる。実施形態1では、電極A64を絶縁ケーシング71で収容し、電極対6465の電流経路を形成する開口74を気泡Bで覆うようにしている。これにより、電極対6465の間では、漏れ電流を最小限に抑えることができる。従って、直流電源70で常に所定の直流電圧を電極対6465に印加する構成であっても、気泡Bの近傍で安定した放電を行うことができる。その結果、気泡B付近では、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素を安定して生成でき、水の浄化効率を向上できる。更に、実施形態1では、電極対6465の間の電流経路のジュール熱を利用して、開口74内に気泡Bを形成している。このため、気泡Bを形成するための特別な機器を設ける必要がないため、装置構造の簡素化を図ることができる。さらに、制御部1は、動作開始後に液体の過酸化水素濃度が上限値に達するまでは放電を生起させて水酸ラジカルを発生させ、水を浄化することができる。また、制御部5は、水の過酸化水素濃度が所定の下限値を超える期間中に超音波発生部94をオン状態にする、言い換えれば、過酸化水素濃度が所定の下限値を下回る期間中には超音波発生部94をオフ状態にする。つまり、水中に十分な過酸化水素が存在する場合に超音波によって水酸ラジカルを発生させているので、水を効果的に浄化することができる。さらに、十分な濃度の過酸化水素の存在下で超音波を継続的に照射することで、継続的に水酸ラジカルを生成することができるので、強い浄化能力を所定の期間中維持することができる。さらに、上述の方法によれば、水浄化タンク61から供給される水中の過酸化水素の濃度を上限値以下に抑えることができるので、過酸化水素を除去するための工程を容易にすることができる。本実施形態の水浄化ユニット60によれば、上述のように、水中での放電と、水への超音波照射とを組み合わせることで、水の過酸化水素濃度を上昇させずに浄化能力の向上とを併せて図ることが可能になる。なお、水を連続処理する場合には、超音波発生部94を電極対6465よりも給水口側に配置することにより、放電によって生じた過酸化水素から超音波照射により効果的に水酸ラジカルを発生させることができる。また、図2では、電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部1と、超音波発生部94の動作を制御する制御部5とを別個に設けたが、1つの制御部で電極対6465に印加する電圧のオン又はオフと超音波発生部94の動作とを制御することもできる。なお、本実施形態の水浄化ユニット60では、放電及び超音波照射によって生じる水酸ラジカルによって、水の浄化処理と同時に水浄化タンク61内に繁殖する細菌等を効果的に殺菌することもできる。《発明の実施形態2》実施形態2に係る給湯システム10は、上述した実施形態1と放電ユニット62の構成が異なるものである。以下には、上記実施形態1と異なる点を主として説明する。なお、図8では、図の簡略化のために、実施形態1と異なる部分について示し、超音波発生部94及び電源部70等の実施形態1と同一である部分については省略している。図8に示すように、実施形態2の放電ユニット62には、空気供給機構80が設けられている。空気供給機構80は、開口74に気相部としての気泡Bを形成するための気泡形成部を構成している。具体的に、空気供給機構80は、空気供給路81と、該空気供給路81に接続される空気ポンプ82とを備えている。空気供給路81は、流入端が空気中に開口し、流出端は、絶縁ケーシング71を貫通して空間Sに開口している。実施形態2において、水浄化動作が開始されると、空気ポンプ82が運転されて空気供給路81から空間Sへ空気が供給される。本実施形態では、空気ポンプ82が運転されて所定の設定時間が経過した後に、直流電源70から電極対6465に直流電圧が印加される。この際、空間Sの空気は、開口74より絶縁ケーシング71の外部へ流出するため、この開口74に気泡Bが形成されて放電が行われる図9を参照。実施形態2では、開口74内において水の気化にジュール熱が消費されてしまうことが抑制される。その結果、実施形態2では、ジュール熱の消費に伴って直流電源70の消費電力が大きくなってしまうことが回避され、省エネ性の向上が図られる。また、実施形態2では、空気ポンプ82から供給された空気が、空間S内にも溜まり込むことになる。従って、実施形態2では、空間S内の水がジュール熱によって気化されてしまうことも抑制できる。更に、空間S内を完全に空気で満たすようにすると、電極対6465の間の漏れ電流を一層効果的に回避できる。また、空間Sでも放電を生起させることができ、これに伴いイオン風の発生を促進できる。その結果、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素を一層効果的に水中に拡散させることができる。実施形態1や2の変形例上記実施形態1では、絶縁ケーシング71の蓋部73に1つの開口74が形成されている。しかしながら、例えば図10及び図11に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。この変形例では、絶縁ケーシング71の蓋部73が、略正方形板状に形成され、この蓋部73に複数の開口74が等間隔を置きながら碁盤目状に配列されている。一方、電極A64及び電極B65は、全ての開口74に跨るような正方形板状に形成されている。この変形例においても、各開口74が、電流密度集中部、及び気相形成部として機能する。これにより、電源部70から電極対6465に直流電圧が印加されると、各開口74の電流密度が上昇し、各開口74で気泡Bが形成される。その結果、各気泡Bでそれぞれ放電が生起され、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素が生成される。また、図10及び図11に示す構成において、実施形態2の空気供給機構80を採用することもできる図12を参照。この構成では、空気供給機構80から供給された空気を各開口74に送ることで、各開口74でジュール熱を消費することなく気泡Bをそれぞれ形成することができる。従って、ジュール熱の消費に伴って省エネ性が損なわれてしまうことを回避できる。《発明の実施形態3》実施形態3に係る給湯システム10は、上述した実施形態1や2と放電ユニット62の構成が異なるものである。以下には、上記実施形態1や2と異なる点を主として説明する。なお、図13及び図14では、図の簡略化のために、実施形態1と異なる部分について示し、超音波発生部94及び電源70等の実施形態1と同一である部分については省略している。図13に示すように、実施形態3の放電ユニット62は、水浄化タンク61の外側から内部に向かって挿入されて固定される、いわゆるフランジユニット式に構成されている。また、実施形態3の放電ユニット62は、電極A64と電極B65と絶縁ケーシング71とが一体的に組立てられている。実施形態3の絶縁ケーシング71は、大略の外形が円筒状に形成されている。絶縁ケーシング71は、ケース本体72と蓋部73とを有している。実施形態3のケース本体72は、ガラス質又は樹脂製の絶縁材料で構成されている。ケース本体72は、円筒状の基部76と、該基部76から水浄化タンク61側に向かって突出する筒状壁部77と、該筒状壁部77の外縁部から更に水浄化タンク61側に向かって突出する環状凸部78とを有している。また、ケース本体72には、環状凸部78の先端側に先端筒部79が形成されている。基部76の軸心部には、円柱状の挿入口76aが軸方向に延びて貫通形成されている。筒状壁部77の内側には、挿入口76aと同軸となり、且つ挿入口76aよりも大径となる円柱状の空間Sが形成されている。実施形態3の蓋部73は、略円板状に形成されて環状凸部78の内側に嵌合している。蓋部73は、セラミックス材料で構成されている。蓋部73の軸心には、実施形態1と同様、蓋部73を上下に貫通する円形状の1つの開口74が形成されている。電極A64は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極で構成されている。電極A64は、基部76の挿入口76aに嵌合している。これにより、電極A64は、絶縁ケーシング71の内部に収容されている。実施形態3では、電極A64のうち水浄化タンク61とは反対側の端部が、水浄化タンク61の外部に露出される状態となる。このため、水浄化タンク61の外部に配置される電源部70と、電極A64とを電気配線によって容易に接続することができる。電極A64のうち水浄化タンク61側の端部64aは、絶縁ケーシング71の内部の空間Sに臨んでいる。なお、図13に示す例では、電極A64の端部64aが、挿入口76aの開口面よりも上側水浄化タンク61側に突出しているが、この端部64aの先端面を挿入口76aの開口面と略面一としてもよいし、端部64aを挿入口76aの開口面よりも下側に陥没させてもよい。また、電極A64は、実施形態1と同様、開口74を有する蓋部73との間に所定の間隔が確保されている。電極B65は、円筒状の電極本体65aと、該電極本体65aから径方向外方へ突出する鍔部65bとを有している。電極本体65aは、絶縁ケーシング71のケース本体72に外嵌している。鍔部65bは、水浄化タンク61の壁部に固定されて放電ユニット62を保持する固定部を構成している。放電ユニット62が水浄化タンク61に固定された状態では、電極B65の電極本体65aの一部が浸水された状態となる。電極B65は、電極本体65aよりも小径の内側筒部65cと、該内側筒部65cと電極本体65aとの間に亘って形成される連接部65dとを有している。内側筒部65c及び連接部65dは、水浄化タンク61内の水中に浸漬している。内側筒部65cは、その内部に円柱空間67を形成している。内側筒部65cの軸方向の一端は、蓋部73と当接して該蓋部73を保持する保持部を構成している。また、電極本体65aと内側筒部65cと連接部65dの間には、ケース本体72の先端筒部79が内嵌している。内側筒部65cの軸方向の他端側には、円柱空間67を覆うようにメッシュ状の漏電防止材68が設けられている。この漏電防止材68は、電極B65と接触することで、実質的にアースされている。これにより、漏電防止材68は、水浄化タンク61の内部の空間水中のうち、円柱空間67の内側から外側への漏電を防止している。電極B65は、電極本体65aの一部が水浄化タンク61の外部に露出される状態となる。このため、電源部70と電極B65とを電気配線によって容易に接続することができる。-水浄化ユニットの運転動作-実施形態3の給湯システム10においても、水浄化ユニット60が運転されることで、水流路12を流れる水の浄化がなされる。水浄化ユニット60の運転の開始時には、図13に示すように、絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。電源部70から電極対6465に所定の直流電圧例えば1kVが印加されると、開口74の内部の電流密度が上昇していく。図13に示す状態から、電極対6465へ更に直流電圧が継続して印加されると、開口74内の水が気化されて気泡Bが形成される図14を参照。この状態では、気泡Bが開口74のほぼ全域を覆う状態となり、円柱空間67内の負極側の水と、電極A64との間に気泡Bによる抵抗が付与される。これにより、電極A64と電極B65との間の電位差が保たれ、気泡Bで放電が発生する。その結果、水中では、水酸ラジカルや過酸化水素を生成され、これらの成分が水の浄化に利用される。実施形態3の変形例上記実施形態3の構成において、図15に示すように、実施形態2の空気供給機構80を採用するようにしてもよい。この構成では、開口74や空間Sにおいて、ジュール熱によって水が気化されてしまうことを抑制でき、省エネ性を向上できる。また、上記実施形態3では、円板状の蓋部73の軸心に1つの開口74を形成しているが、この蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。図16に示す例では、蓋部73の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、5つの開口74が等間隔置きに配列されている。このように蓋部73に複数の開口74を形成することで、各開口74の近傍でそれぞれ放電を生起させることができる。《発明の実施形態4》以下、本発明の実施形態4における水浄化ユニット60の運転動作について説明する。図17は、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いてフィードフォワード制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。ここで用いられる水浄化ユニット60には、必ずしもセンサ7が設けられていなくてもよい。ただし、放電のみを行った場合に水浄化タンク61内の水の過酸化水素濃度が0から下限値に達するまでに要する時間T1、放電と超音波照射とを同時に行った場合に水の過酸化水素濃度が下限値から上限値になるまでに要する時間T2、超音波照射のみを行った場合に上限値から下限値に達するのに要する時間T3を、それぞれあらかじめ測定しておき、それらの測定データを制御部15内部又は外部に設けられたメモリ図示せずに記憶させておく。制御部15は測定データに基づいて以下の制御を行う。制御部15の内部又は外部には、時間をカウントするタイマを設けておく。本実施形態に係る方法において、まず制御部1は、電極対間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部94はオフ状態にしておく。これにより、水が浄化されるとともに、水中の過酸化水素の濃度が上昇する。次いで、運転開始から時間T1が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を継続させ、制御部は、超音波発生部94をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって水が浄化される。この期間中も水中の過酸化水素の濃度は上昇する。次に、時間T2が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部5は、引き続き超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって水が浄化される。この期間中、水中の過酸化水素の濃度は減少する。次いで、さらに時間T3が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を再開し、この状態を時間T2の間継続する。これにより、水中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間時間T3と超音波照射と放電とを組み合わせる期間時間T2とを繰り返すことで、水の過酸化水素濃度を下限値以上且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化する。以上の方法によっても水中の過酸化水素の濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化することができる。なお、これは運転動作の一変形例であって、他の方法によっても水の浄化を行うことができる。《その他の実施形態》上記実施形態については、以下のような構成としてもよい。給湯システムの構成上記実施形態の給湯システム10を図18に示すような、他の方式としてもよい。具体的に、図18に示す例の給湯システム10は、加熱熱交換器32と第1ポンプ43とが、熱源ユニット30や給湯ユニット40と異なるユニットハイドロボックス30aに収容されている。また、この例では、給湯タンク41の内部に、コイル型熱交換器13aが収容されている。コイル型熱交換器13aは、給湯タンク41の底壁部41c寄りに配設されている。コイル型熱交換器13aでは、熱媒体としての水が流れる伝熱管が、給湯タンク41の周壁部41aに沿うように螺旋状に形成されている。コイル型熱交換器13aは、一端が第1循環流路13の始端に接続し、他端が第1循環流路13の終端に接続している。図18に示す給湯システム10では、加熱熱交換器32で加熱された水が、コイル型熱交換器13aを流れる。これにより、コイル型熱交換器13aの伝熱管を流れる水の熱が、伝熱管の外部へ放出される。その結果、給湯タンク41内に貯留された水が加熱され、温水が生成される。放電ユニットの構成上述した各実施形態の電源部70には、放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部を用いている。しかしながら、定電力制御部に代えて、放電時の放電電流を一定に制御する定電流制御部を設けることもできる。この定電流制御を行うと、水の導電率によらず放電が安定するため、スパークの発生も未然に回避できる。また、上述した各実施形態では、電源部70の正極に電極A64を接続し、電源部70の負極に電極B65を接続している。しかしながら、電源部70の負極に電極A64を接続し、電源部70の正極に電極B65を接続することで、電極対6465の間で、いわゆるマイナス放電を行うようにしてもよい。イオン供給部の構成上述した各実施形態では、水浄化タンク61の流入管51を銅管とすることで、流入管51を銅イオンのイオン供給部としている。しかしながら、イオン供給部としては、例えば鉄イオンを生成する鉄製の配管を用いることもできる。鉄イオンも銅イオンと同様、過酸化水素の存在下でフェントン反応を促進させるため、水酸ラジカルの生成量を増大できる。銅管や鉄管は、水浄化タンク61と連通する水流路12であれば、他の箇所に設けることもできる。具体的に、上記実施形態1や2においては、例えば内部熱交換器42の少なくとも第2伝熱管42bを銅管で構成することができる。また、例えば銅片や鉄片を水浄化タンク61内に浸漬することで、これらをイオン供給部とすることもできる。水浄化タンクの配置上記実施形態と異なる位置に水浄化タンク61を接続してもよい。具体的には、第1循環流路13、第2循環流路14、供給流路15、給水路20等に水浄化タンク61を接続してもよい。水中放電装置の用途上述した水中放電装置60は、給湯システム10の水を浄化する用途に適用されている。しかしながら、水を浄化するものであれば、他の用途に適用することもできる。これらの用途としては、例えば空気調和装置のドレン水の浄化、加湿器の加湿タンク水の浄化、除湿器で補足された水の浄化等があげられる。また、水中放電装置60は、放電によって得られた水を所定の洗浄対象に供給ないし噴霧することで、この洗浄対象を洗浄する用途に適用することもできる。