フォトマスクパターンの設計データと、該設計データに基づきフォトマスクパターン描画に適用される描画データから行なわれるフォトマスク描画データを検証する場合に、前記設計データと前記描画データから排他的論理和を差分データとして算出し、得られた該差分データについて、パターン描画のグリッドごとに前記設計データと比較参照して、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うフォトマスク描画データの検証方法であって、前記差分データを前記設計データと比較参照し、前記設計データと合致している前記差分データのうち、斜め線部とそれ以外の部分について、データ削除対象を描画装置の描画精度及び描画条件と、フォトマスクの製品仕様と、に基づいて変化させて、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うことを特徴とするフォトマスク描画データの検証方法。フォトマスクパターンの設計データと、該設計データに基づきフォトマスクパターン描画に適用される描画データから行なわれるフォトマスク描画データを検証する場合に、前記設計データと前記描画データから排他的論理和を差分データとして算出し、得られた該差分データについて、パターン描画のグリッドごとに前記設計データと比較参照して、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うフォトマスク描画データの検証装置であって、前記差分データを前記設計データと比較参照し、前記設計データと合致している前記差分データのうち、斜め線部とそれ以外の部分について、データ削除対象を描画装置の描画精度及び描画条件と、フォトマスクの製品仕様と、に基づいて変化させて、前記描画データにおけるデータ異常検出を行う演算手段を備えたことを特徴とするフォトマスク描画データの検証装置。これらの問題を解決するために、本発明では、差分図形の確認負荷を減らし、その結果、異常データの検出精度の向上を図ることが可能なフォトマスク描画データの検証方法及びその検証装置を提供することを目的とする。そこで本発明の請求項1に係る発明は、フォトマスクパターンの設計データと、該設計データに基づきフォトマスクパターン描画に適用される描画データから行なわれるフォトマスク描画データを検証する場合に、前記設計データと前記描画データから排他的論理和を差分データとして算出し、得られた該差分データについて、パターン描画のグリッドごとに前記設計データと比較参照して、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うフォトマスク描画データの検証方法であって、前記差分データを前記設計データと比較参照し、前記設計データと合致している前記差分データのうち、斜め線部とそれ以外の部分について、データ削除対象を描画装置の描画精度及び描画条件と、フォトマスクの製品仕様と、に基づいて変化させて、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うことを特徴とするフォトマスク描画データの検証方法である。本発明の請求項2に係る発明は、フォトマスクパターンの設計データと、該設計データに基づきフォトマスクパターン描画に適用される描画データから行なわれるフォトマスク描画データを検証する場合に、前記設計データと前記描画データから排他的論理和を差分データとして算出し、得られた該差分データについて、パターン描画のグリッドごとに前記設計データと比較参照して、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うフォトマスク描画データの検証装置であって、前記差分データを前記設計データと比較参照し、前記設計データと合致している前記差分データのうち、斜め線部とそれ以外の部分について、データ削除対象を描画装置の描画精度及び描画条件と、フォトマスクの製品仕様と、に基づいて変化させて、前記描画データにおけるデータ異常検出を行う演算手段を備えたことを特徴とするフォトマスク描画データの検証装置である。本発明によれば、差分図形のデータの削減を、斜め線部と斜め線部以外部について、図形の差異によってデータ削除対象を変化させて行うことにより、データ検証の際の擬似差分図形の大幅な削減が可能となり、その結果、データ検証の際の差分図形の確認負荷が減ることでデータ検証の時間が大幅に削減出来るとともに、異常データの検出精度の向上を図ることが出来る。図5は本発明に係るフォトマスク描画データを検証する場合の差分図形の消し込みフローを示す図である。先ず、設計データと描画データのXOR処理S1を行った後、差分図形のデータと前記設計データを比較参照しS1a、グリッドサイズで消し込むことによって差分図形のグリッド以下の差分を消し込むS2。消し込み後の図形がない場合はS3の無し、異常データがなく正常として終了する。一方、消し込み後の図形が有りの場合はS3の有り、ステップS4以降に進む。ステップS4では図形が斜め線部、または斜め線部以外を判別し、斜め線部の場合はS4の斜め線部、ステップS5に移行する。斜め線部以外の場合はS4の斜め線以外部、ステップS7に移行する。ステップS5、S6とステップS7、S8では、図形の差によって面積消しこみと、規格図形での消し込みの程度に差をつけて図形の消し込みを行う。即ちステップS5及びS7では指定サイズ以下の差分図形面積を持つ図形を削除する。この場合の指定サイズとは、描画装置の描画精度と描画条件に基づくものであり、一般的に斜め線部は斜め線以外部よりも小さなサイズであることを指している。ステップS6及びS8では規格を考慮した大きさの差分の削除を行う。この場合の規格とは、フォトマスク製品仕様に定められるフォトマスクの品質に影響を及ぼさない規格を指すもので、例えば、フォトレジストの露光や現像で解像されないサイズを指しており、この場合の規格は、一般的に斜め線部は斜め線以外部よりも小さなサイズであることを指している。ステップS5、S6及びステップS7、S8で消し込みされた後の得られた図形の有無によって、図形がない場合は異常パターンがないと判断し、正常として終了するS10。一方、図形がある場合はS9の有り、異常があると判断され、ユーザへの通知によって確認作業が行われるS11。上記差分図形の消し込みは、差分図形の消し込みプログラムを有する演算手段を備えたコンピュータによって実現することが出来る。このように、斜め線部の図形消し込みにおいては、斜め線以外部よりも消し込みの大きさを指定サイズと規格サイズに基づいて小さくすることにより、図形の消し込みが行われるが、一方、斜め線以外部の差分図形は消し込まれないため、検証時に図形データ確認をすることが出来る。このように本発明によるフォトマスク描画データの検証方法及びその検証装置によれば、差分図形のデータを斜め線部と斜め線以外部とに削除対象を変えて、データ検証することで擬似差分図形の大幅な削減が可能となり、差分図形の確認負荷が減ることで異常データの検出精度向上を図ることが可能となる。