"水を含む液体を収容する液体収容部と、気体を収容する気体収容部と、前記気体収容部の気体を前記液体収容部へ導く気体通路を有し、前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てる隔壁部と、前記気体収容部に配設された第1電極と、前記液体収容部の液体と接触するように配設された第2電極と、前記気体通路を介して前記気体収容部の気体を前記液体収容部へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する気体供給部と、前記第1電極と前記第2電極との間に所定の電圧を印加して前記第1電極と前記第2電極との間に放電を発生させることにより、前記液体収容部の液体内に圧送された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、前記気体通路の付着物を物理的に除去する付着物除去手段とを備えることを特徴とするプラズマ発生装置。請求項1に記載のプラズマ発生装置であって、前記付着物除去手段は、前記気体収容部内に配設されることを特徴とするプラズマ発生装置。請求項1又は請求項2に記載のプラズマ発生装置であって、前記付着物除去手段は、前記気体通路を常時塞ぐとともに、前記プラズマ電源部により気体がプラズマ化される際にのみ前記気体通路を開放することを特徴とするプラズマ発生装置。請求項1乃至請求項3の何れかに記載のプラズマ発生装置であって、前記気体通路の付着物の量を検知する付着物検知手段をさらに備えることを特徴とするプラズマ発生装置。請求項1に記載のプラズマ発生装置であって、前記付着物除去手段は、前記隔壁部であり、前記隔壁部の変化により前記気体通路の付着物が物理的に除去されることを特徴とするプラズマ発生装置。請求項1乃至請求項5の何れかに記載のプラズマ発生装置を備えることを特徴とする洗浄浄化装置。しかしながら、上述した従来の水中放電装置では、放電発生終了後に気体通路から液体が排出し切れないままで放置されると、水分が蒸発してカルシウム等の不純物汚染物が析出されて気体通路或いは気体通路近傍に付着する。このため、気体通路が目詰まりを起こし、安定した放電が得られなくなる可能性があった。さらに、従来の水中放電装置では、液体に含まれるカルシウム等の不純物の成分によって、液体の電気抵抗値が大きく変動する。この変動により、電極間第1電極と第2電極との間に所定の電圧を印加しても、放電発生にばらつきが生じ、安定した放電を得ることが難しかった。そこで、本発明は、放電発生終了後の気体通路の目詰まりを防止するとともに、不安定な放電をも防止できるプラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置の提供を目的とする。上述した課題を解決するため、本発明は、次のような特徴を有している。まず、本発明の第1の特徴は、水を含む液体を収容する液体収容部と、気体を収容する気体収容部と、前記気体収容部の気体を前記液体収容部へ導く気体通路を有し、前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てる隔壁部と、前記気体収容部に配設された第1電極と、前記液体収容部の液体と接触するように配設された第2電極と、前記気体通路を介して前記気体収容部の気体を前記液体収容部へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する気体供給部と、前記第1電極と前記第2電極との間に所定の電圧を印加して前記第1電極と前記第2電極との間に放電を発生させることにより、前記液体収容部の液体内に圧送された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、前記気体通路の付着物を物理的に除去する付着物除去手段とを備えることを要旨とする。本発明の第2の特徴は、本発明の第1の特徴に係り、前記付着物除去手段は、前記気体収容部内に配設されることを要旨とする。本発明の第3の特徴は、本発明の第1又は第2の特徴に係り、前記付着物除去手段は、前記気体通路を常時塞ぐとともに、前記プラズマ電源部により気体がプラズマ化される際にのみ前記気体通路を開放することを要旨とする。本発明の第4の特徴は、本発明の第1乃至3の特徴に係り、前記気体通路の付着物の量を検知する付着物検知手段をさらに備えることを要旨とする。本発明の第5の特徴は、本発明の第1の特徴に係り、前記付着物除去手段は、前記隔壁部であり、前記隔壁部の変化により前記気体通路の付着物が物理的に除去されることを要旨とする。本発明の第6の特徴は、第1乃至第5の特徴に係るプラズマ発生装置を備えることを要旨とする。本発明のプラズマ発生装置は、気体通路に付着した付着物を物理的に除去する付着物除去手段を備えている。例えば、付着物除去手段は、気体通路近傍や気体通路内に接触し、気体通路に付着した付着物を除去する。これにより、付着物が気体通路5aを詰まらせてしまうことを確実に回避できる。このため、気体通路の目詰まりを防止できるとともに、不安定な放電現象をも防止できる。従って、安定した放電が得られ、気体を確実にプラズマ化することができ、より安定してオゾンやラジカル等を大量に生成することができ、洗浄浄化作用を高めることが可能となる。次に、本発明に係るプラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の図面の記載において、同一または類似の部分には、同一または類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率などは現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な寸法などは以下の説明を参酌して判断すべきである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれ得る。[第1実施形態]プラズマ発生装置1の構成まず、第1実施形態に係るプラズマ発生装置1の構成について、図面を参照しながら説明する。図1aは、第1実施形態に係るプラズマ発生装置1を模式的に示す全体断面図であり、図1b及び図1cは、第1実施形態に係る気体通路5a近傍を示す拡大図である。図1aに示すように、プラズマ発生装置1は、ケース部材2を備えている。ケース部材2の形状は、例えば円筒形状または角筒形状等とされるが、その形状には限定されない。ケース部材2の内側には、液体収容部3と気体収容部4を隔てる隔壁部5が設けられている。このケース部材2は、隔壁部5によって内部空間が上下に仕切られ、図1aの上方空間を液体収容部3とし、下方空間を気体収容部4としている。液体収容部3には、水を含む液体6が収容される。気体収容部4には、酸素を含む気体が収容される。隔壁部5は、例えばセラミックス部材等で形成されており、気体収容部4の気体を液体収容部3へ導く気体通路5aを有している。この気体通路5aは、気体収容部4から液体収容部3へ気体を送り込むことができる大きさとされている。このため、気体通路5aは、出来るだけ大きい方が良い。しかし、気体通路5aの孔が大き過ぎると、液体収容部3に収容された液体6が気体収容部4へと流れ込んでしまう。そこで、気体の液体収容部3への導入と液体収容部3から気体収容部4への液体6の流入を防止することのできる大きさに気体通路5aを形成することが望ましい。本実施形態では、気体通路5aの孔径を約1μm~10μm程度として、液体収容部3に収容された液体6が気体通路5aから気体収容部4へ漏れ出ることがないようにしている。ケース部材2の側壁2aには、気体収容部4と外部との間を連通する気体導入口7が設けられている。この気体導入口7には、配管8気体導入路が挿通されている。そして、気体収容部4は、配管8を介してケース部材2の外部に設けられた気体供給部9と接続されている。本実施形態では、少なくとも酸素O2を含む気体が、気体供給部9から気体収容部4内に供給される。気体供給部9から供給された気体は、気体通路5aから液体収容部3の液体6内へ圧送される。気体収容部4には、第1電極10が配設されている。一方、液体収容部3には、液体6と接触するように第2電極11が配設されている。これら第1電極10及び第2電極11は、互いに隔壁部5を間に挟んで気体収容部4と液体収容部3にそれぞれ配置された構造となっている。また、これら第1電極10及び第2電極11は、何れも隔壁部5及びケース部材2と非接触状態で配置されている。また、第1電極10及び第2電極11は、何れも略球体とされている。第2電極11は、液体6と接触するように配置されると共にグランドにアースされている。なお、第1電極10及び第2電極11の形状は、略球体に限定されない。また、第1電極10及び第2電極11は、それぞれリード線12を介してプラズマ電源部13に電気的に接続されている。プラズマ電源部13は、第1電極10と第2電極11との間に所定の電圧を印加するようになっている。この電圧印加により、第1電極10と第2電極11との間には、放電が発生する。そして、この放電によって気体通路5aより液体収容部3の液体6内に圧送された気体がプラズマ化される。このようなプラズマ発生装置1は、水分が蒸発してカルシウム等の不純物汚染物が析出されて気体通路5aに付着した付着物Aを物理的に除去する付着物除去手段100をさらに備えている。付着物除去手段100は、液体収容部3内に配設されている。具体的には、付着物除去手段100は、支持部材110と、駆動部材120と、除去部材130とを備えている。支持部材110は、隔壁部5に固定されており、駆動部材120を支持している。駆動部材120は、除去部材130を上下方向に移動可能に支持し、例えば、シリンダー等によって構成されている。除去部材130は、先端が鋭利状針状に形成されている。この除去部材130は、図1bに示すように、駆動部材120の駆動により上下方向に移動する。すなわち、除去部材130は、上方から下方に移動することによって、気体通路5a内に入り込んで気体通路5aに接触する。これにより、除去部材130は、気体通路5aに付着した付着物Aを除去し、気体通路5aの目詰まりを防止できる。ここで、除去部材130は、必ずしも上下方向に移動するものに限らず、例えば、図1cに示すように、気体通路5a近傍において隔壁部5上を摺動する構成例えば、弾性体からなるワイパーやブラシであってもよい。これにより、除去部材130は、気体通路5a近傍に付着した付着物Aを除去し、気体通路5aの目詰まりが生じ難くなる。プラズマ発生装置1の動作次に、上述したプラズマ発生装置1の動作ヒドロキシラジカルの生成方法について、図面を参照しながら説明する。図2は、第1実施形態に係るプラズマ発生装置1の動作を説明するための一状態を模式的に示す部分拡大断面図である。先ず、気体通路5aを介して気体収容部4の気体を液体収容部3へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を気体収容部4に供給する気体を供給する工程。本実施形態では、空気をベースとして酸素を含有した気体流量約0.01L/min~1.0L/min10cc/min~1000cc/minが、気体供給部9から配管8を介して気体収容部4に送り込まれる。このとき、気体を送り込む圧力は、約0.0098MPa~~0.05MPa程度とされる。このように、気体供給部9は、大気中の気体空気を供給する機能を備えている。なお、気体の供給流量は、気体供給部9に設けた図示せぬ流量制御部によって制御されている。また、気体供給部9に、大気中の気体だけでなく他の種類の気体例えば、酸素濃度が異なる気体を供給できる機能を持たせるようにしてもよい。更には、この気体供給部9に、様々な種類の気体の中から1種類もしくは複数種類の気体を選択的に供給できるように気種制御部を設けてもよい。そして、気体が気体収容部4に供給されることで、気体収容部4の圧力は、大気圧にこの圧力が加わって約0.11MPa~~0.05MPa程度となり、陽圧状態になる。このように、気体収容部4を陽圧とすることで、気体収容部4から気体通路5aを経て液体収容部3へ向う気体の流れが形成される。そして、上述したように酸素を含有した気体を供給することで、図2に示すように、気体通路5aの液体収容部3側において酸素を含む微細な気泡16が成長する気泡を成長させる工程。次に、プラズマ電源部13によって、第1電極10と第2電極11との間に所定の電圧が印加される。なお、印加する電圧としては、大気圧の下においてグロー放電を可能にする電圧パワー:約10W~100W程度が好ましい。このとき、プラズマ電源部13に電圧制御部を設け、第1電極10と第2電極11との間に印加する電圧を制御することが好ましい。そして、第1電極10と第2電極11とに所定の電圧が印加されることで、第1電極10と第2電極11との間には、大気圧以上の圧力の気体雰囲気の下で放電が生じる。なお、大気圧のもとでプラズマを生成する技術については、例えば、文献A岡崎幸子、大気圧グロー放電プラズマとその応用、レビュー講演:20thJSPFAnnualMeetingに報告されている。そして、この放電によって、液体収容部3の液体6中における気体の領域においてプラズマが生成され、液体6に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等が生成されるヒドロキシラジカルを生成する工程。本実施形態では、気泡16内の気体液体収容部3の液体6中における気液境界面近傍の気体に電位差を生じさせてプラズマを生成している。このように、ヒドロキシラジカルが生成され易い気液境界面の近傍に電位差を生じさせることで、より多くのオゾンやヒドロキシラジカル等を生成できるようになる。なお、本実施形態では、気体通路5aの液体6側の気泡16だけでなく、液体収容部3へ送り出された気泡16内でもオゾンやヒドロキシラジカル等を生成することができる。こうして生成されたオゾンやヒドロキシラジカル等は、上述した気泡16の流れに伴って、液体収容部3へ送り出されることになる。本実施形態では、液体収容部3内の液体6の流れにより、ヒドロキシラジカル等を含んだ気泡16を隔壁部5からせん断して液体6中に放出させている気泡放出工程。具体的には、気泡16が成長する液体収容部3では、液体6が導入されることによって液体6の流れ図2の矢印17参照が生じている。図2に示すように、矢印17方向に流れる液体6が、成長する気泡16に当たると、液体6の流れが気泡16にせん断力として作用し、気泡16は気体通路5aから液体6中へ解き放たれる。液体6中に解き放たれた気泡16は、微細な気泡であるため、大気中に直ぐに放出されることなく液体6の隅々にまで拡散する。そして、拡散した微細な気泡16の一部は、液体6中に溶解する。このとき、気泡16に含まれているオゾン等が液体6中に溶解することで、液体6のオゾン濃度は一気に上昇することになる。また、文献B高橋正好、マイクロバブルとナノバブルによる水環境の改善、アクアネット、2004.6によれば、通常、オゾンや各種のラジカルを含んだ微細な気泡16はマイナスに帯電していることが多いことが報告されている。そのため、気泡16の一部は、液体6中に含まれる有機物、油脂物、染料、たんぱく質、細菌等に吸着する。液体6中の有機物等は、液体6に溶解したオゾン或いは各種のラジカルや有機物等に吸着した気泡16に含まれるオゾンあるいは各種のラジカル等によって分解される。例えば、ヒドロキシラジカル等は、約120kcal/mol程度の比較的大きなエネルギーを有している。このエネルギーは、窒素原子と窒素原子との二重結合N=N、炭素原子と炭素原子との二重結合C=C或いは炭素原子と窒素原子との二重結合C=N等の結合エネルギー~100kcal/molを上回る。そのため、窒素や炭素等の結合からなる有機物等は、このヒドロキシラジカル等によって容易にその結合が切断されて分解されることになる。このような有機物等の分解に寄与するオゾンやヒドロキシラジカル等は、塩素等のような残留性がなく時間とともに消滅するため、環境に配慮した物質でもある。作用効果以上説明した第1実施形態では、付着物除去手段100は、気体通路5aに付着した付着物Aを除去する。具体的には、除去部材130は、気体通路近傍や気体通路内に接触し、気体通路5a或いは気体通路5a近傍に付着した付着物Aを物理的に除去する。これにより、付着物Aが気体通路5aを詰まらせてしまうことを確実に回避できる。このため、気体通路5aの目詰まりを防止できるとともに、不安定な放電現象をも防止できる。従って、安定した放電が得られ、気体を確実にプラズマ化することができ、より安定してオゾンやラジカル等を大量に生成することができ、洗浄浄化作用を高めることが可能となる。また、第1実施形態では、第1電極10が気体収容部4に配設され、第2電極11が液体収容部3中の液体6と接触するように配設される。そして、これら第1電極10と第2電極11と間に放電を発生させている。これにより、液体収容部3の液体6内における気体の領域において、プラズマが生成され、液体6に含まれる水及び気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルが生成される。このような構成によれば、液体6の電気抵抗による影響をそれほど受けることなく第1電極10と第2電極11との間に放電を生じさせることができる。この結果、気体をより確実にプラズマ化することができ、より安定してオゾンやラジカル等を大量に生成することができる。このプラズマ発生装置1を洗浄浄化装置として使用した場合の液体6には、水に不純物等が含まれるため、液体6の電気抵抗値が大きく変動する。しかし、第1実施形態のプラズマ発生装置1では、上述した理由により液体6の電気抵抗値による影響をそれほど受けないため、放電のばらつきが抑えられ、安定してプラズマを発生させることができる。これにより、ラジカル等を安定的に得ることが可能となる。また、第1実施形態では、気体収容部4に酸素を含む気体を導入することで、気体収容部4を陽圧にし、気体収容部4から気体通路5aを経て液体収容部3へ向う気体の流れを形成している。そして、この気体の流れに乗って気体通路5aの液体6に側において成長する気泡16内にオゾンやヒドロキシラジカル等が生成されるようにしている。すなわち、第1実施形態では、気泡16内の気体液体収容部3の液体6中における気液境界面近傍の気体中でオゾンやヒドロキシラジカル等が生成されるようにしている。そして、オゾンやヒドロキシラジカル等を含んだ気体が微細な気泡16として液体6中に拡散されるようにしている。これにより、オゾンや各種のラジカルを発生させた後、これらが消滅する前に極めて短時間で効率的にそのオゾンや各種のラジカルを液体6中に送り込むことができるようになる。そして、オゾンや各種のラジカルを含んだ微細な気泡16が液体6中に拡散することによって、液体6のオゾン濃度が高められ、液体6中に含まれる有機物等に気泡16が吸着する。これにより、液体6中に溶解したオゾンや吸着した気泡16に含まれる各種のラジカルによって、有機物や細菌等を効率的に分解することができる。また、第1実施形態では、第2電極11をアースした状態で第1電極10と第2電極11と間に電圧を印加するようにしている。そのため、万一、使用者等が誤って液体6や第2電極11に触れてしまった場合でも、このプラズマ発生装置1の使用者の感電を防止することができる。また、第1実施形態では、プラズマ電源部13が第1電極10と第2電極11と間に印加する電圧を制御する電圧制御部を備えていれば、安定して放電を発生させることができる。つまり、液体6の電気抵抗が変動してもそれに応じて電圧を変化させることで、安定した放電が得られるようになる。また、第1実施形態では、気体供給部9が、気体の種類を制御する気種制御部を有していれば、オゾンやヒドロキシラジカル等の生成量等の調整を行うことが可能となる。また、気体供給部9が大気中の空気を供給する機能を有していれば、より簡便に気体を供給することができる。さらに、気体の供給流量を気体供給部9に設けた図示せぬ流量制御部によって制御するようにすれば、より安定的にプラズマを生成することができる。[第2実施形態]次に、第2実施形態に係るプラズマ発生装置1Aについて、図面を参照しながら説明する。図3は、第2実施形態に係るプラズマ発生装置1Aを模式的に示す全体断面図である。なお、上述した第1実施形態に係るプラズマ発生装置1と同一部分には同一の符号を付して、相違する部分を主として説明する。第2実施形態に係る付着物除去手段100Aは、第1実施形態に係る付着物除去手段100の構成と異なる。具体的には、図3に示すように、付着物除去手段100Aには、支持部材110と、除去部材130とを備えており、駆動部材120を備えていない。除去部材130は、弾性材からなる支持部材110によって支持されている。この除去部材130は、気体の流れに乗って気体通路5aを通過した気泡16によって振動し、気体通路5aに接触することによって、気体通路5aに付着した付着物Aを除去する。このような第2実施形態では、第1実施形態の作用効果と同様に、付着物Aが気体通路5aを詰まらせてしまうことを確実に回避できる。このため、気体通路5aの目詰まりを防止できるとともに、不安定な放電現象をも防止できる。[第3実施形態]次に、第3実施形態に係るプラズマ発生装置1Bについて、図面を参照しながら説明する。図4は、第3実施形態に係るプラズマ発生装置1Bを模式的に示す全体断面図である。なお、上述した第1実施形態に係るプラズマ発生装置1と同一部分には同一の符号を付して、相違する部分を主として説明する。第3実施形態に係る付着物除去手段100Bは、第1実施形態に係る付着物除去手段100と配置箇所が異なる。具体的には、図4に示すように、付着物除去手段100Bは、気体収容部4内に配設される。この場合であっても、付着物除去手段100は、第1実施形態のように、支持部材110と、駆動部材120と、除去部材130とを備えていてもよく、第2実施形態のように、支持部材110と、除去部材130とを備えていてもよい。このような第3実施形態では、第1,第2実施形態の作用効果と同様に、気体通路5aの目詰まりを防止できるとともに、不安定な放電現象をも防止できる。また、付着物除去手段100Bが気体収容部4内に配設されることによって、付着物除去手段100Bが液体収容部3内に配設される場合と比較して、液体収容部3内のスペースが増大する。このため、液体収容部3内で洗浄物例えば、シェーバーを洗浄スペースが増大し、洗浄浄化作用をより高めることが可能となる。[第4実施形態]次に、第4実施形態に係るプラズマ発生装置1Cについて、図面を参照しながら説明する。図5は、第4実施形態に係るプラズマ発生装置1Cを模式的に示す全体断面図である。なお、上述した第1実施形態に係るプラズマ発生装置1と同一部分には同一の符号を付して、相違する部分を主として説明する。第4実施形態に係る付着物除去手段100Cは、第1実施形態に係る付着物除去手段100の構成及び配置箇所が異なる。具体的には、図5に示すように、付着物除去手段100Cは、気体収容部4内に配設される。この付着物除去手段100Cは、支持部材110と、除去部材130とを備えており、駆動部材120を備えていない。支持部材110は、弾性材によって形成されている。支持部材110は、下側回動部111と、除去部材載置部112と、上側押圧部113とを備えている。下側回動部111は、ケース部材2の底面2bに回動可能に取り付けられている。除去部材載置部112は、下側回動部111に連結され、除去部材130が載置固定されている。上側押圧部113は、除去部材載置部112に連結され、隔壁部5の一部に設けられた弾性変形可能なスイッチ機能を有する弾性隔壁部5bに接触している。なお、第4実施形態では、第1電極10は、気体収容部4内において隔壁部5に接触した状態で配設される。このような付着物除去手段100C除去部材130は、気体通路5aを常時塞ぐとともに、プラズマ電源部13により気体がプラズマ化される際にのみ気体通路5aを開放する。具体的には、液体収容部3内に洗浄物例えば、シェーバーが投入されていないと、除去部材130が気体通路5aを常時塞いでいる。一方で、液体収容部3内に洗浄物が投入されると、洗浄物が当接することにより弾性隔壁部5bが押し下げられる。これに伴い、上側押圧部113が押し下げられ、下側回動部111及び除去部材載置部112が回動する。そして、除去部材載置部112に載置される除去部材130が気体通路5aから外れて、気体通路5aが開放される。この気体通路5aが開放されているときに、プラズマ電源部13により気体がプラズマ化され、液体収容部3内で洗浄物が洗浄されることとなる。このような第4実施形態では、第1~第3実施形態の作用効果と同様に、気体通路5aの目詰まりを防止できるとともに、不安定な放電現象をも防止できる。また、付着物除去手段100Cは、気体通路5aを常時塞ぐとともに、プラズマ電源部13により気体がプラズマ化される際にのみ気体通路5aを開放することによって、液体収容部3内で洗浄物が洗浄されるときに、必ず気体通路5aに付着した付着物Aが除去される。このため、気体通路5aに付着した付着物Aの量が常に少ない状態で維持することができる。[第5実施形態]次に、第5実施形態に係るプラズマ発生装置1Dについて、図面を参照しながら説明する。図6は、第5実施形態に係るプラズマ発生装置1Dを模式的に示す全体断面図である。なお、上述した第1実施形態に係るプラズマ発生装置1と同一部分には同一の符号を付して、相違する部分を主として説明する。第5実施形態に係る付着物除去手段100Dは、第1実施形態に係る付着物除去手段100の構成及び配置箇所が異なる。具体的には、図6に示すように、付着物除去手段100Dは、気体収容部4内に配設される。この付着物除去手段100Dは、支持部材110と除去部材130とに加えて、気体通路5aの付着物Aの量を検知するセンサ140付着物検知手段をさらに備えている。センサ140は、支持部材110に取り付けられている。このセンサ140は、気体収容部4内の圧力を検知し、所定の圧力であると検知した場合には付着物除去手段100D除去部材130を作動させて気体通路5aに付着した付着物Aを除去させる。ここで、センサ140は、必ずしも支持部材110に取り付けられている必要はなく、気体収容部4内又は液体収容部3内に設けられていてればよい。例えば、センサ140のみが気体収容部4内に設けられ、支持部材110及び除去部材130が液体収容部3内に設けられていてもよい。また、支持部材110、除去部材130及びセンサ140の全てが液体収容部3内に設けられていてもよい。また、センサ140は、必ずしも気体収容部4内の圧力を検知する必要はなく、例えば、液体収容部3内に洗浄物例えば、シェーバーが投入されたことすなわち、プラズマ電源部13により気体がプラズマ化されることを検知して除去部材130を作動させるものであってもよい。このような第5実施形態では、第1~第4実施形態の作用効果と同様に、気体通路5aの目詰まりを防止できるとともに、不安定な放電現象をも防止できる。また、付着物除去手段100Dプラズマ発生装置1Dは、センサ140をさらに備えていることによって、除去部材130が無駄に作動することなく、気体通路5aの目詰まり時のみ、気体通路5aに付着した付着物Aを除去することができる。なお、第5実施形態では、付着物除去手段100Dは、支持部材110と、除去部材130と、センサ140とを備えているものとして説明したが、これに限定されるものではなく、第1実施形態のように、駆動部材120をさらに備えていてもよいことは勿論である。[第6実施形態]次に、第6実施形態に係るプラズマ発生装置1Eについて、図面を参照しながら説明する。図7aは、第6実施形態に係るプラズマ発生装置1Eを模式的に示す全体断面図であり、図7bは、第6実施形態に係る気体通路5a近傍を示す拡大図付着物A除去前であり、図7cは、第6実施形態に係る気体通路5a近傍を示す拡大図付着物A除去中である。なお、上述した第1実施形態に係るプラズマ発生装置1と同一部分には同一の符号を付して、相違する部分を主として説明する。第6実施形態に係る付着物除去手段は、第1実施形態に係る付着物除去手段100の構成及び配置箇所が異なる。具体的には、図7に示すように、付着物除去手段は、弾性体によって形成される隔壁部5自体である。この隔壁部5の変化例えば、振動又は収縮により気体通路5aの付着物Aが除去される。具体的には、気体通路5aに目詰まりが生じる図7b参照と、気体収容部4内の圧力が上昇することに伴い、隔壁部5が弾性変形する。この隔壁部5が弾性変形することに伴い、気体通路5aに付着した付着物Aが除去される図7c参照。このような第6実施形態では、第1~第5実施形態の作用効果と同様に、気体通路5aの目詰まりを防止できるとともに、不安定な放電現象をも防止できる。また、付着物除去手段が弾性体によって形成される隔壁部5自体であり、隔壁部5の変化例えば、振動又は収縮により気体通路5aの付着物Aが除去されることによって、付着物除去手段を別部材として設ける必要がなくなる。このため、別部材として付着物除去手段を設けるスペースを確保することなく、省スペース化、軽量化及び低コスト化を実現することができる。[第7実施形態]次に、上述した第1実施形態に係るプラズマ発生装置1を用いた小型電機機器の一例について、図面を参照しながら説明する。図8は、第7実施形態に係る洗浄浄化装置40を示す斜視図であり、図9は、第7実施形態に係る洗浄浄化装置40の断面図であり、図10は、図9のA-A断面図である。なお、第7実施形態では、小型電機機器は、電気かみそり小形除毛装置、いわゆるシェーバーのヘッド部を洗浄する洗浄浄化装置である。洗浄浄化装置40の構成図8~図10に示すように、洗浄浄化装置40は、除毛装置の一種である電気かみそり50のヘッド部被洗浄処理対象部51を洗浄するものである。具体的には、洗浄浄化装置40は、ヘッド部51を下向きにした電気かみそり50を挿入するための開口41aを有した筐体41と、開口41aを通じて筐体41内に挿入されたヘッド部51を受容する受け皿42とを備えている。また、洗浄浄化装置40は、液体6を貯留するタンク43と、受け皿42に連通されたオーバーフロー部44と、タンク43内の液体6を液体導入口に循環供給するポンプ45と、を備えている。さらに、液体を濾過するフィルタ46aを有したカートリッジ46と、タンク43内の気密状態を制御するための開閉弁47と、液体6を循環するための循環経路と、を備えている。循環経路は、タンク43に貯留された液体6を受け皿42に導入する配管30液体導入路と、受け皿42から排出される液体をカートリッジ46に導く経路31排出路を有している。また、循環経路は、オーバーフロー部44から排出される液体6をカートリッジ46に導く経路32と、カートリッジ46から排出された液体6をポンプ45に導く経路33とを有している。更に、循環経路は、ポンプ45から送出される液体6をタンク43に導く経路34と、で構成されている。また、タンク43には、気密経路35を介して開閉弁47が接続されている。以下、各構成部品について説明する。筐体41は、後部に電気かみそり50の把持部52と当接するスタンド部41bを有し、開口41aから挿入される電気かみそり50を受け皿42に保持する。スタンド部41bの前面には、図8に示すように、洗浄浄化装置40に電気かみそり50が装着されたことを検知する接点部材41cが設けられている。接点部材41cは、把持部52の背面に設けられた端子52aとの接触により電気かみそり50の装着を検知する。このような検知機能に併せて、電気かみそり50に、各種制御信号や駆動電力を出力する機能を持たせている。筐体41の前部上方には、洗浄後にヘッド部51を乾燥させるためのファン48を収容している。筐体41の前面には、ファン用通気窓41dや、洗浄動作を実行するための動作ボタン41e、動作状態を表示するランプ41f等が設けられている。筐体41の後面側は、タンク43を着装する着装部となっており、タンク43の各口43a、43b、43cと連結される連結口41g、41h、41iを有している。連結口41gは、配管30と繋がっており、連結口41hは経路34と繋がっており、連結口41iは気密経路35と繋がっている。受け皿42は、ヘッド部51の形状に沿うような凹形状とされており、底壁部には貫通孔42bが形成されている。そして、プラズマ発生装置1は、この貫通孔42bを介して液体収容部3が受け皿42の内部空間と連通するようにして、該受け皿42の底壁部背面側に設けられている。この例では、液体収容部3が受け皿42の内部空間と連通するようにプラズマ発生装置1を設け、受け皿42の内部空間もプラズマ発生装置1の液体収容部3として機能する。なお、受け皿42に例えば排水溝等を形成することで、液体収容部3の液体6をよりスムーズに経路31排出路から排出できるようにするのが好ましい。また、受け皿42の底部壁背面側には、ヒータ49が設けられている図10参照。このヒータ49は、ファン48と連動してヘッド部51の乾燥を行う。受け皿42の前方には、オーバーフロー部44が設けられている。受け皿42とオーバーフロー部44は、一体形成されている。オーバーフロー部44の入口は、受け皿42と繋がっており、その出口は経路32と繋がっている。経路32は、オーバーフロー部44の出口から受け皿42の後部に設けられた中継口42aを介してカートリッジ46に至る。タンク43は、吐出口43aおよび流入口43bと、気密状態を開放するための通気口43cとを前面に有しており、通気口43cの開閉により吐出口43aからの液体吐出が制御されている。タンク43は、筐体41の後面側に着脱自在に取り付けられている。そして、タンク43は、筐体41への装着状態では、吐出口43aが連結口41gに連結され、タンク43に貯留された液体を配管液体導入路30から受け皿42に導入できるようになっている。また、流入口43bが、連結口41hに連結されて経路34によりポンプ45の送出口45aと繋がり、通気口43cが、連結口41iに連結されて気密経路35により開閉弁47と繋がることとなる。カートリッジ46は、フィルタ46aを内部に収容した略箱状体であり、上部に流入口46bを有し、前部に流出口46cを有している。このカートリッジ46は、筐体41の下部後方に着脱自在に設けられており、筐体41への装着状体では、流入口46bが、経路31排出路により排出口41kと繋がっている。また、流入口46bは、経路32によりオーバーフロー部44の出口と繋がっている。そして、流出口46cは、経路33によりポンプ45の吸入口45bと繋がっている。洗浄浄化装置40の動作次に、洗浄浄化装置40の動作について説明する。先ず、タンク43から配管液体導入路30を介して受け皿42およびプラズマ発生装置1の液体収容部3内に液体6を導入する。そして、空気をベースとして酸素を含有した所定流量の気体が、気体供給部9から配管8を介して気体収容部4内に送り込まれる。第1実施形態のプラズマ発生装置1を使用した場合には、制御部14が気体供給部9を制御して、気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力よりも高圧にする。これらにより、気体収容部4が陽圧状態とされ、その気体収容部4から気体通路5aを経て液体収容部3へ向う気体の流れが形成される。次に、第1電極10と第2電極11との間に所定の電圧を印加することで、第1電極10と第2電極11との間において放電が生じる。この放電によって、液体収容部3の液体6中における気体の領域においてプラズマが生成され、液体6に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等が生成される。そして、生成されたオゾンや各種のラジカルは、上述した気体の流れと共に液体収容部3及び受け皿42内に貯留された液体中に送り出されることとなる。このとき、成長する気泡16は、微細化手段によって微細化された気泡16として開口端15から液体中へ解き放たれ、液体中に解き放たれた微細な気泡16は液体の隅々にまで拡散する。すなわち、生成された洗浄液は、ヘッド部51に供給されることとなる。そして、液体6に溶解したオゾン或いはラジカルや、気泡16に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって、ヘッド部51に付着した有機物等が分解される。なお、第7実施形態に係る洗浄浄化装置40では、第1実施形態に係るプラズマ発生装置1が設けられているが、第2~第6実施形態の何れに係るプラズマ発生装置1A~1Eを使用しても同様の効果を得ることができる。つまり、本発明のプラズマ発生装置11A~1Eを使用した洗浄浄化装置40によれば、気体通路5aに目詰まりが無く、安定した放電状態を維持してラジカルを安定して得ることができ、高い洗浄効果が得られる。ここで、第7実施形態に係る洗浄浄化装置40は、第7実施形態で示したものに限らず、例えば、電動歯ブラシの洗浄浄化装置や浄水装置、洗剤等が含まれた水を排水前に浄化する装置等にも適用できることは勿論である。[その他の実施形態]上述したように、本発明の実施形態を通じて本発明の内容を開示したが、この開示の一部をなす論述及び図面は、本発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなる。例えば、本発明の実施形態は、次のように変更することができる。具体的には、プラズマ発生装置1は、第1~第6実施形態の何れかが組み合わされていてもよい。なお、液体収容部3や気体収容部4、その他細部のスペック形状、大きさ、レイアウト等も適宜に変更可能であることは勿論である。また、除去部材130としては、針やワイパー、ブラシであるものとして説明したが、これに限定されるものではなく、気体通路5aに付着した付着物Aを除去できればよく、その他の部材であってもよい。また、気体通路5aが形成された隔壁部5は、セラミックス部材等で形成されているものとして説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、気体と液体を隔壁するガラス板等のような部材を用い、この部材に写真製版とエッチングを施すことによって微細孔気体通路5aを形成したものであってもよい。また、隔壁部5には、1つの気体通路5aが形成されているものとして説明したが、これに限定されるものではなく、複数の気体通路5aが形成されていてもよい。このように、本発明は、ここでは記載していない様々な実施の形態などを含むことは勿論である。したがって、本発明の技術的範囲は、上述の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められる。"