ゼオライトとバインダーとを含有する略球状の触媒前駆体を、水蒸気雰囲気下の回転炉内において連続的に熱処理する方法であって、前記回転炉の加熱領域の炉心管体積vに対する前記加熱領域に存在する前記触媒前駆体の質量wの比率w/vを0.10g/cm3以上に保持して、前記触媒前駆体を熱処理する、触媒前駆体の熱処理方法。前記触媒前駆体は、噴霧乾燥処理を経て得られたものである、請求項1に記載の熱処理方法。前記ゼオライトがMFI型ゼオライトである、請求項1又は2に記載の熱処理方法。請求項1~3のいずれか一項に記載の熱処理方法による工程を有する、触媒の製造方法。請求項4に記載の製造方法により得られた触媒に、エチレン、メタノール、エタノール及びジメチルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む炭化水素原料を接触させる工程を有する、プロピレンの製造方法。特許文献1及び2においては、いずれも水蒸気分圧を維持して水蒸気処理が行われている。しかしながら、水蒸気分圧を維持して水蒸気処理を行っても、得られる触媒は均一な品質を有しておらず、中には、十分な水蒸気処理が施されていないものも含まれる。そのため、触媒全体として、水蒸気処理の効果が十分に得られない場合がある。さらに、上記特許文献には、ゼオライト粉末、あるいは押し出し成形触媒に対する水蒸気処理の記載はあるものの、触媒が略球状である場合に、どのような処理をすべきであるかはこれまで検討されていない。一見すると、成型触媒に比べ、球状を呈した触媒の方が均一な処理をしやすいように考えられる。ところが、本発明者らの検討によれば、上述の特許文献に記載されている条件を参考にしても、略球状の触媒を連続的に熱処理する場合には、水蒸気処理された触媒の状態が不均一になる課題があることが判明した。そこで、本発明は、上記事情にかんがみてなされたものであり、ゼオライトとバインダーとを含有する略球状の触媒前駆体を、回転炉内で連続的に水蒸気処理する熱処理方法であって、その熱処理を経て得られる触媒が従来よりも均一な品質を有することのできる触媒前駆体の熱処理方法、触媒の製造方法、並びに、その触媒を用いるプロピレンの製造方法を提供することを目的とする。本発明者らは、略球状の触媒前駆体は流動性が比較的高いため、回転炉内の場所によって触媒前駆体の移動速度に差が生じ、処理状態が不均一になりやすい結果、得られる触媒が均一な品質を有し難くなるのではないかと考えた。そして、更に鋭意研究を重ねた結果、回転炉内の加熱領域の体積に対する加熱領域に存在する触媒前駆体の質量の比率を高く保持することにより、触媒がより均一な品質を有するようになることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の通りである。[1]ゼオライトとバインダーとを含有する略球状の触媒前駆体を、水蒸気雰囲気下の回転炉内において連続的に熱処理する方法であって、前記回転炉の加熱領域の炉心管体積vに対する前記加熱領域に存在する前記触媒前駆体の質量wの比率w/vを0.10g/cm3以上に保持して、前記触媒前駆体を熱処理する、触媒前駆体の熱処理方法。[2]前記触媒前駆体は、噴霧乾燥処理を経て得られたものである、[1]に記載の熱処理方法。[3]前記ゼオライトがMFI型ゼオライトである、[1]又は[2]に記載の熱処理方法。[4][1]~[3]のいずれか一つに記載の熱処理方法による工程を有する、触媒の製造方法。[5][4]に記載の製造方法により得られた触媒に、エチレン、メタノール、エタノール及びジメチルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む炭化水素原料を接触させる工程を有する、プロピレンの製造方法。本発明によると、ゼオライトとバインダーとを含有する略球状の触媒前駆体を、回転炉内で連続的に水蒸気処理する熱処理方法であって、その熱処理を経て得られる触媒が従来よりも均一な品質を有することのできる触媒前駆体の熱処理方法、触媒の製造方法、並びに、その触媒を用いるプロピレンの製造方法を提供することができる。以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明を実施するための形態以降、本実施形態という。について詳細に説明する。なお、本発明は下記の本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。また、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。本実施形態の触媒前駆体の熱処理方法は、ゼオライトとバインダーとを含有する略球状の触媒前駆体を、水蒸気雰囲気下の回転炉内において連続的に熱処理する方法であって、回転炉の加熱領域の炉心管体積vに対する加熱領域に存在する触媒前駆体の質量wの比率w/vを0.10g/cm3以上に保持して、触媒前駆体を熱処理するものである。ここで、触媒前駆体とは、何らかの化学的変化をもたらすような処理を経て触媒を得る際に、その処理を経る前の物質を指す。1ゼオライトゼオライトとは、結晶性多孔質アルミノケイ酸塩又はメタロケイ酸塩結晶性多孔質アルミノケイ酸塩の骨格を構成するアルミニウム原子の一部又は全部がガリウムGa原子、鉄Fe原子、ホウ素B原子、クロムCr原子、チタンTi原子等の置換可能な元素で置換されたものであり、それらと同様又は類似の構造を有するリン酸塩系多孔質結晶も包含され、後述のシリカライトも包含される。具体的には、小細孔径酸素8員環以下の構造のゼオライトとして、例えば、チャバザイトCHA:国際ゼオライト学会が定めるゼオライトを構造により分類するコードによる表記による。以下同様。、SAPO-34CHA、エリオナイトERI、及びA型LHAが挙げられる。中間細孔径酸素10員環構造のゼオライトとして、例えば、フェリエライトFER、ZSM-11MEL、ZSM-5MFI、シリカライトMFI及びAlPO4-11AELが挙げられる。また、大細孔径酸素12員環構造のゼオライトとして、例えば、X型FAU、Y型FAU、フォージャサイトFAU、β型BEA、モルデナイトMOR、ZSM-12MTW、及びALPO4-5AFIが挙げられる。さらに、超大細孔径酸素14員環以上の構造のゼオライトとして、例えば、UTD-1DON、CIT-5CFI、及びVPI-5VFIが挙げられる。これらのゼオライトは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらのうち、好ましくは、MFI型、及びCHA型のゼオライトである。より好ましくは、MFI型ZSM-5、MFI型シリカライト、及びCHA型SAPO-34である。更に好ましくは、MFI型ZSM-5及びMFI型シリカライトであり、特に好ましくはMFI型ZSM-5である。MFI型ZSM-5は耐熱性が高く、形状選択性や固体酸性の点で好ましい。ゼオライトの組成に特に限定はない。エチレン、メタノール、エタノール及びジメチルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む炭化水素原料からプロピレンを製造する反応以降、プロピレン製造反応ともいう。に触媒として用いる場合、触媒活性及びプロピレン選択率の観点から、例えば、Y型ゼオライトの場合に、好ましいSi/Al比は原子比で1~20である。MFI型ゼオライトの場合に、好ましいSi/Al比は原子比で10~20000であり、より好ましくは10~1000である。MFI型ゼオライトがメタロケイ酸塩の場合、Alの量に代えて、置換された元素とAlとの合計量を用い、Si/Al比と同様にして勘案する。SAPO-34のようなシリコアルミノリン酸塩の場合には、Si/Al比に代えてAlP/Si比を用い、好ましいAlP/Si比は原子比で2~20000である。プロピレン製造反応の場合、ゼオライトの組成Si/Al比、AlP/Si比などが上記好ましい範囲の下限以上であると、活性が高すぎることによる副反応の助長を抑制できる傾向にあり、上記好ましい範囲の上限以下であると、活性点の数が少なくなることによる活性の低下を抑制できる傾向がある。ゼオライトの陽イオンはNH4、Hであってもよいし、上記反応のプロピレン選択率を高くする観点から、以下の元素のイオンを含んでいてもよい。そのような元素としては、例えば、Li、Na、K及びRbよりなる群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属、Mg、Ca、Sr及びBaよりなる群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ土類金属、Ti、Zr、V、Nb、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Y、La及びCeよりなる群から選ばれる少なくとも1種の遷移金属、並びに、Zn、B、Ga、Sn及びSbが挙げられる。また、脱アルミニウムを抑制する観点から、ゼオライトがPを含む形態であってもよい。これらは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられ、イオン交換や含浸担持によりゼオライトに含ませてもよいし、バインダーと共に成形した後、含ませてもよい。触媒におけるゼオライトの含有量は、上記反応に十分な活性を得やすい観点から、触媒全体の質量を基準として、好ましくは15~65質量であり、より好ましくは30~60質量である。2バインダーバインダーは、上記ゼオライトの結合剤として機能するものであれば特に限定はなく、公知のものであってもよい。好ましいバインダーは、耐熱性の高い多孔質無機酸化物である。具体的には、シリカ、アルミナ、シリカアルミナ、シリカチタニア、チタニア、シリカジルコニア、ジルコニア、カオリン粘土及びケイソウ土が挙げられる。バインダーは多孔体のものに限定されない。多孔体以外のバインダーの例として、リン酸アルミニウムが挙げられる。バインダーは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。触媒を上記反応に用いる場合、反応によるコーク生成を助長する過剰な酸性を有しないようにする観点から、バインダーは好ましくはシリカ及び/又はカオリン粘土であり、より好ましくはシリカである。触媒におけるバインダーの含有量は、触媒をプロピレン製造反応に用いる場合、触媒強度の観点から、触媒全体の質量を基準として、好ましくは35~85質量であり、より好ましくは40~70質量である。3触媒前駆体及び触媒の形状と粒子径本実施形態において、触媒前駆体は略球状の外形を有するものであり、触媒も略球状の外径を有すると好ましい。本明細書において略球状とは、柱状及び錘状のものを除いた形状を意味する。後述する熱処理工程での転がり性の観点では、多面体や燐片形状の中には許容されるものもあるが、工業的に効率よく製造する観点からは、多面体のような成型を要する形状でないことが好ましい。製造効率の観点から、噴霧乾燥は触媒前駆体の製造方法において好ましい乾燥方法である。また、噴霧乾燥スプレードライ処理により得られる粒子は、全て略球状であり、噴霧乾燥処理により得られる粒子は、略球状の粒子に包含される。噴霧乾燥により得られる粒子は球状、略球状の他、楕円体形状もあり、さらには、それらの形状の表面が陥没していたり、それらの形状を有する中空の立体が開口したような形状のものもあるが、これらは、本明細書において球に準ずる形状であり、球状も含めて全て略球状に包含される。陥没したり開口したりした球状を有する触媒粒子は、流動層反応器中での流動性が、陥没及び開口のない球状の触媒粒子と比較して劣ると考えられる。ただし、本明細書において、触媒前駆体が略球状であることを必須とする趣旨は、熱処理時の触媒前駆体粒子の運動が、その粒子に対する加熱の均一性に影響し、最終的に得られる触媒品質の均一性にも影響することにある。触媒前駆体が、互いに接触した状態で転がりながら流れて加熱される工程においては、陥没していたり、球形がいびつになっていたりすることは、形状が柱状又は錘状である場合と比較して、粒子の転がり方に与える影響が遥かに小さい。よって、略球状は、柱状、錘状のものを除いた形状を意味することとする。なお、楕円形の長径に対する短径の比は、球状に近い方が触媒の品質をより均一にすることができるので、0.5~1.0であると好ましく、0.7~1.0であるとより好ましい。粒子表面の状態についても、熱処理における粒子の運動に与える影響は形状因子に比べて僅かであることから、表面が滑らかであっても凹凸を有するものでも差し支えない。触媒前駆体及び触媒が略球状であるか否かは、電子顕微鏡により、視野に100~200個の触媒又は触媒前駆体が含まれるような倍率にして観察することで確認することができる。触媒前駆体及び触媒の平均粒子径は、プロピレン製造反応の流動床触媒用途の場合に良好な反応性が得られる観点から、好ましくは10~500μmであり、より好ましくは20~300μmであり、更に好ましくは20~100μmであり、特に好ましくは30~60μmである。触媒前駆体及び触媒の平均粒子径は、レーザー回折散乱式粒度分析計により測定できる。平均粒子径とは、上記分析計により触媒の粒度分布一定粒度区間内にある粒子の割合を測定し、その全体積を100として粒度分布の累積を求め、累積が50となる点の粒径、すなわち、累積平均径中心径、Median径を意味する。[触媒の製造方法]触媒及び触媒前駆体は、ゼオライトとバインダーを形成する原料以降、バインダー原料ともいう。とを含む原料混合物を噴霧乾燥スプレードライする工程を経ることにより製造することができる。1原料混合物調製工程原料混合物は、好ましくはゼオライトとバインダー原料とを混合して調製される。ゼオライトの一次粒子が二次凝集により数μm~十数μmの塊状粒子を形成している場合、機械的処理又は化学的処理で解凝集してからバインダーと混合することが好ましい。特に簡便である観点から、機械的な粉砕処理が好ましい。ゼオライトの粒子径が0.01~5μm程度になるまで粉砕処理すると、得られる触媒の摩耗強度が高くなる傾向にある。バインダー原料に特に限定はなく、公知のゼオライトを含む触媒を製造するために用いられるバインダー原料であってもよい。バインダー原料としては、例えば、シリカゾル、シリカゲル、ケイ酸ソーダ、ヒュームドシリカ、アルミナゾル、アルミナゲル、シリカアルミナゾル、シリカアルミナゲル、シリカチタニヤゾル、チタニアゾル、シリカジルコニアゾル、ジルコニアゾル、カオリン粘土、ケイソウ土、及びリン酸アルミニウムが挙げられる。これらの中で、好ましくは、シリカゾル及びカオリン粘土であり、より好ましくはシリカゾルである。特に、4~30nmの平均粒子径を有するシリカゾルを用いることが、触媒強度を高める観点から好ましい。バインダー原料は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。原料混合物は、ゼオライトとバインダー原料とを混合後、両者が十分混合する時間と強度で撹拌するのが好ましい。通常、5~95°Cで0.5~48時間撹拌すると両者は十分に混ざり合った状態になる。原料混合物の固形分濃度は5~60質量に調節するのが好ましい。バインダー原料にシリカゾルを用いる場合、原料混合物に成形助剤として、無機塩を添加するのも好ましい。無機塩の添加により粒子内部に孔のない中実粒子を形成しやすい。無機塩としては、例えば、硝酸アンモニウム、硝酸ナトリウム、硝酸カルシウム、硝酸ジルコニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、及び酢酸アンモニウムが挙げられる。さらに、原料混合物のpH及び/又は粘度を調節する目的で、無機酸及び/又はアルカリを添加することも好ましい。無機酸としては、例えば、硝酸、塩酸及び硫酸が挙げられ、アルカリとしては、例えばアンモニア水が挙げられる。原料混合物の粘度は25°Cで約1~1000cpsの範囲が好ましく、pHは約0.1~10の範囲が好ましい。上述の成形助剤、無機酸及びアルカリは、それぞれ1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。2噴霧乾燥工程原料混合物を噴霧乾燥以下、スプレードライともいう。する方法について述べる。スプレードライとは、溶質と溶媒とを含む原料液を噴霧することにより、原料液の微小な液滴を形成し、その液滴を、加熱したガス流体と接触させることによって液滴から溶媒を蒸発させ、乾燥した溶質を得る乾燥方法である。本実施形態においては、原料混合液を噴霧することにより、原料混合液の微小な液滴を形成し、その液滴を、加熱したガス流体と接触させることによって液滴から揮発成分を取り除き、乾燥した触媒前駆体乾燥体を得る方法である。スプレードライは、一般にはスプレードライヤーを用いて行うことができる。スプレードライヤーとしては、触媒の製造に用いられるスプレードライヤーとして従来知られていたものも用いることができる。図1は、スプレードライヤーの典型的な一例を示す模式図である。スプレードライヤー10は、上記原料混合物を貯蔵する原料液槽1と、送液装置2と、送風装置3と、加熱装置4と、噴霧装置5と、乾燥室6と、乾燥物回収装置7と、サイクロン8と、排風装置9とを主に備える乾燥装置である。原料液槽1は、原料混合物を貯蔵するだけでなく、そこにゼオライトとバインダー原料と、必要に応じてその他の物質とを投入して原料混合物を調製するための容器として用いられてもよい。また、原料液槽1には、撹拌器が設置されていてもよく、その攪拌器で適宜撹拌することにより、原料混合物中の固形分が沈殿したり凝集したりすることを防止することができる。攪拌器は、原料混合物を原料液槽1で調製する場合に、ゼオライト、バインダー原料及び必要に応じて添加される各種の物質を撹拌混合するために用いられてもよい。送液装置2は、原料液槽1と噴霧装置5とを接続するラインに設けられるものであり、原料液槽1から噴霧装置5に原料混合物を送液するための装置である。送液装置2としては、通常、ポンプが用いられる。送風装置3は、乾燥室6内に、液滴の乾燥に用いるガス流体を導入するための装置であり、送風装置3としては、例えば電動送風機を用いることができる。ガス流体としては、例えば、空気、窒素及びヘリウムが挙げられ、好ましくは空気である。加熱装置4は、送風装置3と乾燥室6とを接続するラインに設けられるものであり、送風装置3から送られてきたガス流体を加熱するための装置である。加熱装置としては、例えば電気ヒーターを用いることができる。加熱装置4においては、乾燥室6入口のガス流体温度が所望の温度となるようにガス流体を加熱すればよい。乾燥室6入口のガス流体温度は、好ましくは100~400°C、より好ましくは150~300°Cである。噴霧装置5は、原料液槽1から送液装置2を介して送られてくる原料混合物の液滴を乾燥室6内に噴霧するための装置である。噴霧装置5における原料混合物の噴霧は、例えば、回転円盤方式、二流体ノズル方式、及び高圧ノズル方式により行うことができ、噴霧装置5としては、かかる方式に適合する装置を用いればよい。触媒の粒度分布を狭くする観点から、好ましくは回転円盤方式及び二流体ノズル方式であり、より好ましくは回転円盤方式である。乾燥室6は、その中で、噴霧装置5により噴霧された原料混合物の液滴と、送風装置3から加熱装置4を経由して加熱されて導入されたガス流体とを接触させて、上記液滴から揮発成分を除去する、すなわち上記液滴を乾燥するためのものである。乾燥室6としては、触媒のスプレードライヤーに従来設けられているものを用いることができる。乾燥室6出口後述のサイクロン8への出口のガス流体温度は、好ましくは80~200°C、より好ましくは90~150°Cである。乾燥室6内の圧力は、常圧であっても、減圧であっても、加圧であってもよい。乾燥物回収装置7は、液滴を乾燥して得られた乾燥体を回収するための装置である。乾燥物回収装置7としては、触媒のスプレードライヤーに従来設けられているものを用いることができる。なお、上記乾燥体は、本実施形態に係る触媒前駆体の一態様である。サイクロン8は、乾燥室6から排出されたガス流体に同伴する乾燥体を、ガス流体から分離して回収するための装置である。サイクロン8としては、触媒のスプレードライヤーに従来設けられているものを用いることができる。排風装置9は、乾燥室6内からガス流体を排出させるための装置である。排風装置9としては、例えば電動排風機を用いることができる。触媒及び触媒前駆体の平均粒子径を好ましい範囲に制御するには、スプレードライヤー10における円盤の回転数、二流体ノズルの噴霧ガス量、原料混合物の供給量、ガス流体の供給量、乾燥温度等を調整すればよい。こうして得られた乾燥体触媒前駆体の一態様の形状及び平均粒子径は、後述する焼成、酸性溶液との接触を経た後も実質的に変化がない。3焼成工程焼成工程では、乾燥体、又は乾燥体に後述の熱処理を施したもの以下、乾燥体等という。を焼成することによって、焼成体を得る。この焼成体は触媒前駆体の別の一態様となり得るものであり、また、触媒の一態様ともなり得るものである。乾燥体等の焼成に用いる炉は特に限定されず、公知のものであってもよく、例えば、静置炉、回転炉及び流動焼成炉等で焼成することができる。焼成温度は、好ましくは400~1000°Cであり、より好ましくは600~800°Cである。焼成雰囲気の気体は、好ましくは、空気、窒素、水蒸気及び二酸化炭素等であり、より好ましくは空気である。これらの気体は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。こうして得られた焼成体を、更に酸性溶液と接触させることも好ましい。これにより、バインダーに含まれる微量のアルカリ金属等を焼成体から除去することができる。酸性溶液としては、硝酸、塩酸、及び硫酸水溶液が好ましく、より好ましくは硝酸である。酸性溶液の濃度は、好ましくは0.01~2モル濃度であり、より好ましくは0.1~1モル濃度である。焼成体と酸性溶液との接触時間は、好ましくは0.5~48時間であり、より好ましくは0.5~2時間である。接触時の酸性溶液の温度は、好ましくは5~95°Cであり、より好ましくは室温である。酸性溶液と接触させた後、焼成体をろ過したり、水洗したり、乾燥したりすることが好ましい。また、焼成体に対して、必要に応じてイオン交換を施してもよく、さらに、必要に応じて、焼成体を再度焼成することも可能である。さらに、所望の粒子径の触媒を得るため、焼成体を篩で分級することも好ましい。[触媒前駆体の熱処理方法]本実施形態における触媒前駆体の熱処理方法は、上述のようにして得た乾燥体又は焼成体である触媒前駆体を、水蒸気雰囲気下の回転炉内で、連続的に熱処理する方法である。この熱処理は、上述の焼成工程として採用することもできる。つまり、上記焼成工程を省略し、それに代えて、乾燥体にこの熱処理を施してもよい。また、熱処理を施す焼成体は、上記酸性溶液と接触したものであっても接触していないものであってもよく、焼成体を再度焼成して得られたものであってもよい。これらによっても熱処理の効果を得ることができる。もちろん、乾燥体にこの熱処理を施した後に、更に上記焼成工程、酸性溶液との接触、再度の焼成などを施してもよい。本実施形態の熱処理方法では、略球状の触媒前駆体を、水蒸気雰囲気下の回転炉内で連続的に熱処理する際、加熱領域の炉心管体積vに対する加熱領域に存在する触媒前駆体の質量wの比率w/vを0.10g/cm3以上に保持して熱処理を施す。これにより、熱処理中の触媒前駆体が安定的に流動し、触媒前駆体を均一に熱処理できる結果、従来よりも均一な品質を有する触媒を得ることが可能となる。回転炉とは、触媒前駆体をその炉内に収容した状態で、一軸回転しながら内部の触媒前駆体を加熱する装置を意味する。図2は、本実施形態に係る回転炉を含む熱処理装置の一例を示す。回転炉は、典型的には、図2に示すように、横設された円筒状であって軸方向に回転し、一端側から他端側へ触媒前駆体が筒内を流通する間に、加熱されるようになっている。図2に示す回転炉である熱処理装置20は、両端が開口した炉心管11と、炉心管11の一端からその内部に通じる開口を有し、炉心管11内に触媒前駆体を供給可能なフィーダー12と、炉心管11の他端からその内部に通じる開口を有し、炉心管11からの触媒及び/又は触媒前駆体を回収可能な収容器13とを備える。炉心管11の大部分はヒーター14で覆われており、そのヒーター14で覆われた炉心管11内の空間領域が加熱領域であり、その体積が炉心管体積vである。炉心管11はその管の軸を中心にして回転しながら加熱されるので、フィーダー12から炉心管11に供給された触媒前駆体も炉心管11内で加熱される。炉心管11は収容器13側が少し低くなっているので、触媒前駆体は炉心管11の回転に伴って、流動しながらフィーダー12側から収容器13側へと移動する。炉心管11の収容器13側の端部からは水供給管15が挿入されており、ヒーター14に覆われている炉心管11内の加熱領域まで延設されて、開口している。水供給管15から炉心管11内に供給された水は、ヒーター14の熱によって気化し、炉心管11内で触媒前駆体と接触しながら、フィーダー12側に向かって移動し、排気口17から流出する。ヒーター14に覆われていない炉心管11の端部から水及び/又は水蒸気が供給される場合、水及び/又は水蒸気が収容器13に混入して触媒及び/又は触媒前駆体を凝縮させるといった問題が起こりやすい。それに対し、本実施形態では、水は、炉心管11内の加熱領域から供給されることにより、すぐさま気化して水蒸気の状態で十分に高温の部分に供給されるため、触媒及び/又は触媒前駆体を凝縮させ難い上、供給箇所が収容器13から離れているので、収容器13内への混入も起こり難い。空気供給管16も炉心管11の収容器13側の開口端から挿入されているが、空気については凝縮等の問題を起こさないので、管内に十分な空気量を供給できる限り加熱領域から供給されても端部から供給されてもよい。本明細書において連続的とは、触媒前駆体の供給から、熱処理を経て、触媒及び/又は触媒前駆体の回収までの処理が途切れなく、あるいは、間欠的に行われることを意味する。この場合、ある触媒前駆体は、回転炉に供給されてから、回転炉内の加熱領域を、供給側から回収側に流動しながら移動して、回収側から排出される。触媒を閉鎖された容器内に滞留させて熱処理し、処理後の触媒の一部又は全部を容器外へ取り出すことを何度も繰り返す、いわゆる回分式バッチ式は連続的ではない。すなわち、回分式とは大量の被処理物を処理するのに際し、複数のバッチに分けて同じ処理を繰り返す操作である。一方、連続式とは、大量の被処理物を処理するのに際し、複数のバッチに分けないで、順次連続的に処理する操作である。回分式では被処理物の仕込み毎に装置を開放するため、被処理物やエネルギーの損失を免れず、効率の観点から連続式が優れている。比率w/vは、好ましくは0.10~0.70g/cm3であり、より好ましくは0.10~0.50g/cm3であり、更に好ましくは0.10~0.40g/cm3であり、特に好ましくは0.10~0.30g/cm3である。比率w/vを0.10g/cm3以上にすることで、触媒前駆体が炉心管内で一様な速度で流れやすくなる。また、比率w/vを0.70g/cm3以下にすることにより、炉心管上部に空間が生じ、炉心管内で触媒前駆体による閉塞が起こり難い。また、触媒前駆体が気相部の水蒸気とも接触しやすくなるという効果が得られる。通常、炉心管は円形断面又は多角形断面を有する筒状物であるため、加熱領域の炉心管体積は、炉心管断面積と加熱領域の長さとを乗ずることにより求めることができる。加熱領域に存在する触媒前駆体の質量は下記のようにして測定できる。すなわち、加熱領域に存在する触媒前駆体の質量を把握したい条件と同条件で触媒前駆体を供給し、触媒前駆体の供給量と排出量とが同程度になった、つまり、炉心管内を流通する触媒前駆体の流通量が定常となった段階で、触媒前駆体の供給を停止する。そして、炉心管内に残存した触媒前駆体を炉心管から排出させて、その質量を測定して、加熱領域に存在する触媒前駆体の質量とすることができる。なお、専ら質量測定のために、把握したい条件と条件を揃えて熱処理しない触媒前駆体の計測をすることは必須ではなく、可能であれば、熱処理する際に、処理量を測定するようにしてもよい。比率w/vを0.10g/cm3以上に保持するには、例えば、触媒前駆体の供給量、炉心管の傾斜角、炉心管の回転数を調整すればよい。時間当たりの触媒前駆体の供給量は、炉心管体積と滞留時間とに依存するが、好ましくは0.1~1000kg/hrであり、より好ましくは0.5~500kg/hrであり、更に好ましくは1~300kg/hrである。供給方法は粉体フィーダーにより炉心管内に連続的に供給する方法が好ましい。炉心管の水平からの傾斜角は、好ましくは0~10°であり、より好ましくは0.1~5°であり、更に好ましくは0.5~3°であり、特に好ましくは0.5~1.5°である。炉心管の回転数は、好ましくは5rpm回転/分以下であり、より好ましくは0.1~5rpmであり、更に好ましくは0.5~3rpmである。炉心管の回転は炉心管底部の触媒前駆体と炉心管上部の触媒前駆体との混合に有効であるが、回転数が高すぎると触媒前駆体の炉心管軸方向への流れを加速し、加熱領域での触媒前駆体の滞留時間が短くなり、比率w/vが小さくなる傾向にある。例えば、加熱領域の炉心管体積が5000cm3、炉心管の水平からの傾斜角が1°の回転炉の場合、炉心管の回転数を1rpm、触媒前駆体の供給量を3000g/hrとすることにより、比率w/vを0.10g/cm3以上にすることができる。工業規模の回転炉で実施する場合、炉心管体積に比例して触媒前駆体の供給量を増加させればよい。比率w/vを0.10g/cm3以上に保持することにより、触媒前駆体が炉心管を通過する速度が一様になりやすく、触媒前駆体の熱処理を均一にできると考えられ、これにより、熱処理を経て得られる触媒が従来よりも均一な品質を有することができると推察される。その要因については詳細には不明であるが、本発明者らが推定するメカニズムを下記に述べる。ただし、要因はこれに限定されない。従来、略球状の触媒前駆体粒子を炉心管にて熱処理する場合、炉心管内の加熱領域にある触媒前駆体層の底部における触媒前駆体は炉心管軸方向に速く流れやすい。一方、触媒前駆体層の上部における触媒前駆体は逆に流れが遅い。これらの結果、加熱領域における触媒前駆体の流れに不均一が生じ、これが均一な熱処理を困難にしている要因と推測される。特に、流動床反応に用いられる触媒を製造する場合、高い流動性を示すような形状、粒径に調整するのが当然であるので、この傾向が一層顕著であると考えられる。これに対し、本発明者らは、加熱領域の炉心管体積に対し触媒前駆体の量をある程度以上存在させると、その触媒前駆体の自重により炉心管軸方向に速く流れやすい炉心管底部の触媒前駆体の流れを抑制し、触媒前駆体層上部の触媒前駆体の流れの速さとの差を小さくし、触媒前駆体層全体が一様に流れるようにできるのではないかと考えた。そして、具体的には、加熱領域の炉心管体積vに対する加熱領域に存在する触媒前駆体の質量wの比率w/vを一定以上にすることで、炉心管内で触媒前駆体層の上部であっても底部であっても均一に熱処理でき、これにより、熱処理を経て得られる触媒が従来よりも均一な品質を有することが可能であることを見出した。また、本実施形態の熱処理方法を経て得られた触媒は、処理方法の異なる触媒に比べて、プロピレン製造反応においてプロピレン収率が高いという、予期し得ない効果を有する。その要因についても詳細には不明であるが、本発明者らは下記のように考えている。ただし、要因はこれに限定されない。不均一に熱処理された触媒は、触媒の一部にゼオライトの脱アルミニウムが不十分な、すなわち酸点の密度が高い触媒を含むため、生成したプロピレンが更にアロマ類のような他の化合物に逐次的に転化しやすくなる。これに対し、均一に熱処理された触媒では、触媒のどの部分もゼオライトの脱アルミニウムが均等であり、酸点密度に偏りがないため、上記の逐次反応が抑制されるものと推定している。炉心管内の加熱領域に存在する触媒前駆体の温度は、脱アルミニウムの程度を制御する観点から、好ましくは400~1000°Cであり、より好ましくは500~900°Cであり、特に好ましくは600~900°Cである。触媒前駆体の温度は炉心管内に熱電対を設置し測定することができる。加熱領域の触媒前駆体の滞留時間は、脱アルミニウムの程度を制御する観点から、好ましくは1分~48時間であり、より好ましくは30分~24時間であり、特に好ましくは30分~6時間である。滞留時間を制御するために、炉心管内に炉心管の軸方向と垂直に邪魔板を設け、触媒前駆体の流れを制御することも好ましい。触媒前駆体のより均一な熱処理を促すために、炉心管内の軸方向に触媒前駆体の掻き上げ羽根を設けることも好ましい。炉心管内の水蒸気濃度は、好ましくは1~100体積であり、より好ましくは10~80体積である。水蒸気の結露に伴う触媒前駆体による装置内閉塞を避ける観点から、更に好ましくは30~70体積である。水蒸気以外の気相部分としては、例えば、空気、窒素及び酸素並びにこれらの混合物が挙げられる。炉心管内の圧力は加圧であっても減圧であってもよい。水蒸気雰囲気の形成は、炉心管内に管を通して水を供給すること等により実施できる。炉心管内の水蒸気を含むガスと触媒前駆体との流れの方向は、並流であっても、向流であってもよい。好ましくは、水蒸気を含むガスと触媒との接触効率が高い観点から向流である。また、熱処理を経た触媒前駆体に対して、必要に応じてイオン交換を施して、触媒を得てもよい。特に、ゼオライトがMFI型の場合、他のゼオライトに比べて脱アルミニウムし難い傾向があるため、やや厳しい条件で熱処理することが好ましい。すなわち、MFI型ゼオライトを含む触媒前駆体を熱処理する場合、熱処理における触媒前駆体の温度は800~900°Cが好ましく、加熱領域の滞留時間は1~6時間が好ましく、炉心管内の水蒸気濃度は50~70体積が好ましい。[熱処理を経た触媒の酸量測定方法]触媒品質の均一性は、触媒に含有されるゼオライトの脱アルミニウムの度合いを酸量として測定することで評価できる。酸量は、TPDTempretureProgramedDesorptionNH3吸着脱離法により測定できる。好適な触媒の酸量は、ゼオライトの種類によって異なる。例えば、ZSM-5を含む触媒をプロピレン製造反応の触媒に用いる場合、酸量は、好ましくは触媒の単位質量g当たり、0.1~500μmolであり、より好ましくは1~100μmolである。酸量が500μmol以下であることにより、上記反応において副生物の生成を抑制しやすくなり、0.1μmol以上であることにより、活性の低下を防止しやすくなる。具体的には、酸量は、測定装置としてTPD-1-ATw日本ベル株製を用いて測定できる。測定方法は、触媒約100mgを測定セルに充填し、その測定セル内にHeガスを50cc/minで流しながら500°Cで1時間加熱する。次いで、100°Cまで冷却後、NH3ガスを測定セルに導入し、NH3圧力100mmHgで30分間保持して、触媒にNH3を吸着させる。NH3ガスの導入を停止した後、測定セル内にHeガスを流しながら600°Cまで10°C/minで昇温し、昇温中に脱離したすなわち、触媒に吸着していたNH3量を質量分析計で測定する。酸量は、下記式に示すように、180°C以上において脱離したNH3量を、測定に用いた触媒量で除して導く。その理由は180°C未満で脱離するNH3は主に物理吸着したNH3であり、触媒酸点に化学吸着したNH3は180°C以上で脱離するためである。触媒酸量μmol/g=180°C以上における脱離NH3量μmol/触媒量g[プロピレンの製造方法]次に、プロピレンの製造方法について述べる。本実施形態の熱処理方法を経た触媒を反応原料と接触させることによりプロピレンを製造することができる。好ましい反応原料は、低級オレフィン及び/又は炭素数1~4の含酸素化合物を含む炭化水素を含有する。低級オレフィンとしては、炭素数1~6のオレフィンが好ましく、例えば、エチレン、2-メチル-プロペン、1-ブテン、cis-2-ブテン、trans-2-ブテン、1-ペンテン、2-ペンテン、2-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ブテン、1-ヘキセン及び2-ヘキセンが挙げられる。炭素数1~4の含酸素化合物としては、炭素数1~4のアルコール、炭素数1~4のエーテルが好ましく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール及びブタノール、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル及びエチルメチルエーテルが挙げられる。炭化水素原料は、より好ましくは、低級オレフィン、炭素数1~4のアルコール及び炭素数1~4のエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含み、更に好ましくは、エチレン、メタノール、エタノール、ジメチルエーテル及びジエチルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含み、特に好ましくは、エチレン、メタノール、エタノール及びジメチルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む。プロピレン製造反応の反応方式は、例えば、固定床反応、移動床反応、流動床反応及びライザー反応方式のいずれの方法であってもよい。上記反応は、反応経過と共に触媒上にコークが生成し活性が劣化する傾向があり、活性の劣化した触媒を反応器から外部に抜き出しやすい観点から流動床反応方式が好ましい。炭化水素原料として、エチレン、メタノール、エタノール及びジメチルエーテルのうちの1種以上を含むものを選択する場合、反応原料全体の質量に対して、エチレンを20質量以上含有するものが好ましく、より好ましくは25質量以上含有するものであり、更に好ましくは50質量を越えて含有するものである。反応原料中のエチレン濃度が20質量以上であると、プロピレンの生成反応速度が向上する傾向にある。なお、炭化水素原料がメタノール、エタノール及びジメチルエーテルのうちの1種以上を含む場合、それらの化合物の各々が脱水反応によりエチレンと水とに分解すると仮定し、エチレンとして勘案して、上記範囲にあれば好ましい。触媒上のコーク生成を抑制する観点から、反応原料に水を存在させることも好ましい。反応原料全体の質量に対して、水分が1質量以上であると好ましく、より好ましくは10~80質量である。炭化水素原料は、上記以外のオレフィン及びパラフィンの少なくとも一方を含んでもよい。パラフィンとしては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン及びノナンが挙げられる。また、オレフィンとしては、例えば、プロピレン、上記以外のペンテン、上記以外のヘキセン、ヘプテン、オクテン及びノネンが挙げられる。オレフィン及びパラフィンは環状であっても、ジエンであってもよく、そのような例として、シクロペンタン、メチルシクロペンタン及びシクロヘキサン等のシクロパラフィン;シクロペンテン、メチルシクロペンテン及びシクロヘキセン等のシクロオレフィン;シクロヘキサジエン、ブタジエン、ペンタジエン及びシクロペンタジエン等のジエンが挙げられる。更に、炭化水素原料は、アセチレン及びメチルアセチレン等のアセチレンを含んでもよいし、t-ブチルアルコール、メチル-t-ブチルエーテル、ジエチルエーテル及びメチルエチルエーテル等の含酸素化合物を含んでもよい。また、反応原料は、通常、キャリアガスやその他のガスを含んでもよく、上記キャリアガス及びその他のガスとしては、例えば、水素、窒素、二酸化炭素、一酸化炭素及びイオウ化合物のうちの少なくとも1種以上が挙げられる。原料のエタノールとして、植物資源から得られるエタノールバイオマスエタノールを用いることもできる。具体的には、サトウキビやトウモロコシ等の発酵により得られるエタノール、廃材、間伐材、稲わら及び農作物等の木質資源から得られるエタノールが挙げられる。プロピレン製造反応の反応温度は、好ましくは300~650°Cであり、より好ましくは400~600°Cである。その反応圧力は、好ましくは0.1~30気圧であり、より好ましくは0.5~10気圧である。反応原料の供給速度は、触媒基準の重量時間空間速度WHSVで、0.1~20hr1が好ましく、より好ましくは0.2~5hr1である。エチレン及び/又はエタノールを含む炭化水素原料を用いる場合、上記反応条件を調節することにより、エチレンの転化率を45~85、好ましくは50~80の範囲に制御することが好ましい。上記のエチレン転化率の範囲では、高いプロピレン収率を得ることができる。本実施形態のプロピレンの製造方法において、反応生成物からプロピレンを分離し、残りのエチレンを含む低沸成分及び/又はブテンを含む高沸成分の少なくとも一部を、原料としてリサイクルすることも好ましい。本実施形態のプロピレンの製造方法において、触媒を長期間反応に用いると、触媒上に炭素質化合物コークが生成し、触媒活性が低下する傾向がある。その場合、触媒を酸素含有ガスと400~700°Cで接触させることにより、触媒上のコークを除去し再生してもよい。その後、再生した触媒を再度、反応に用いることも好ましい。以下に実施例を示して、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記に実施例によって制限されるものではない。[触媒前駆体調製例1]まず、H型ベータゼオライトPQ社製、BEA型ゼオライト、Si/Al比原子比=1430kg、シリカゾルナルコ社製、商品名NalcoDVSZN002、シリカ含有量:34質量88kg、硝酸アンモニウム和光純薬製、特級試薬10kg、及び硝酸和光純薬製、特級試薬4kgを十分に混合して、原料混合物を調製した。得られた原料混合物を、図1に示すのと同様の構成を有するスプレードライヤー大川原化工機製、型式:OC-16により噴霧乾燥し、乾燥体を得た。スプレードライは、原料混合物を15kg/hrで供給し、原料混合物の噴霧を回転円盤方式により、回転数8000rpmの条件で行った。ガス流体として空気を用い、乾燥室入口のガス流体温度は230°C、乾燥室出口のガス流体温度は130°Cとした。回収された乾燥体を、静置型電気炉内にて、空気雰囲気下において、600°Cで1時間焼成して、焼成体を得た。得られた焼成体を1N硝酸アンモニウム水溶液中に投入し、25°Cで1時間イオン交換を行った後、乾燥を行った。こうして得られた触媒前駆体は、50質量のNH4型ベータゼオライトと、50質量のシリカとを含むものであった。これを篩により分級し、平均粒子径Microtrac製レーザー回折散乱式粒度分析計、型式:MT3000により測定。以下同様。が95μmの触媒前駆体を得た。図3に触媒前駆体の電子顕微鏡写真KEYENCE製、型式:VE-9800により測定。以下同様。を示す。図3から分かるように、得られた触媒前駆体は略球状であった。[触媒前駆体調製例2]まず、H型ZSM-5ゼオライトズードケミー社製、MFI型ゼオライト、Si/Al比原子比=1430kg、シリカゾルナルコ社製、商品名Nalco2326、シリカ含有量:15質量200kg、硝酸アンモニウム和光純薬製、特級試薬10kg、及び硝酸和光純薬製、特級試薬4kgを十分に混合して、原料混合物を調製した。得られた原料混合物を、回転円盤の回転数を12000rpmに代えた以外は触媒前駆体調製例1と同様の条件でスプレードライヤーにより噴霧乾燥し、乾燥体を得た。回収された乾燥体を、静置型電気炉内にて、空気雰囲気下において、700°Cで1時間焼成して、焼成体を得た。得られた焼成体を0.1N硝酸水溶液中に投入し、25°Cで1時間イオン交換を行った後、乾燥を行った。こうして得られた触媒前駆体は、50質量のH型ZSM-5ゼオライトと、50質量のシリカとを含むものであった。この触媒前駆体の平均粒子径は52μmであった。図4に触媒前駆体の電子顕微鏡写真を示す。図4から分かるように、得られた触媒前駆体は略球状であった。[触媒前駆体調製例3]まず、リン修飾したH型ZSM-5ゼオライトズードケミー社製のMFI型ゼオライトSi/Al比原子比=120、リン元素含有量=0.5質量を粉砕処理したもの30kg、シリカゾルナルコ社製、商品名Nalco2326、シリカ含有量:15質量200kg、硝酸アンモニウム和光純薬製、特級試薬10kg、及び硝酸和光純薬製、特級試薬4kgを十分に混合して、原料混合物を調製した。得られた原料混合物を、回転円盤の回転数を16000rpmに代えた以外は触媒前駆体調製例1と同様の条件でスプレードライヤーにより噴霧乾燥し、乾燥体を得た。回収された乾燥体を、静置型電気炉内にて、空気雰囲気下において、700°Cで1時間焼成して、焼成体を得た。得られた焼成体を0.1N硝酸水溶液に中に投入し、25°Cで1時間イオン交換を行った後、乾燥を行った。こうして得られた触媒前駆体は、50質量のリン修飾H型ZSM-5ゼオライトと、50質量のシリカとを含むものであった。これを篩により分級し、平均粒子径が25μmの触媒前駆体を得た。図5に触媒前駆体の電子顕微鏡写真を示す。図5から分かるように、得られた触媒前駆体は略球状であった。[触媒前駆体調製例4]まず、H型ZSM-5ゼオライトズードケミー社製、MFI型ゼオライト、Si/Al比原子比=1430kg、シリカゾルナルコ社製、商品名Nalco2326、シリカ含有量:15質量100kg、カオリン粘土ENGELHARD製、商品名ASP-60015kg、硝酸アンモニウム和光純薬製、特級試薬5kg、及び硝酸和光純薬製、特級試薬2kgを十分に混合して、原料混合物を得た。得られた原料混合物を、触媒前駆体調製例2と同様の条件でスプレードライヤーにより噴霧乾燥し、乾燥体を得た。回収された乾燥体を、静置型電気炉内にて、空気雰囲気下において、700°Cで1時間焼成して、焼成体を得た。得られた焼成体を0.1N硝酸水溶液中に投入し、25°Cで1時間イオン交換を行った後、乾燥を行った。こうして得られた触媒前駆体は、50質量のH型ZSM-5ゼオライトと、25質量のシリカと、25質量のカオリン粘土とを含むものであった。この触媒前駆体の平均粒子径は49μmであった。図6に触媒前駆体の電子顕微鏡写真を示す。図6から分かるように、得られた触媒前駆体は略球状であった。また、一部の粒子は楕円形状であり、表面が開口した形状の粒子も含まれていた。図6のaに示すのは楕円形状の粒子の一例であり、bに示すのは表面に開口のある図中では穴が黒く見える粒子の一例である。[触媒前駆体調製例5]H型ZSM-5ゼオライトズードケミー社製、MFI型ゼオライト、Si/Al比原子比=14500kg、シリカゾルナルコ社製、商品名Nalco2326、シリカ含有量:15質量2667kg、アルミナゾル日産化学製、商品名アルミナ200、アルミナ含有量:10質量1000kg、及び純水2000kgを十分に混合して、原料混合物を調製した。得られた原料混合物を、二流体ノズル方式原料混合物を噴霧ガスにより霧状に噴霧するの噴霧装置を有するスプレードライヤーにより噴霧乾燥し、乾燥体を得た。原料混合物の供給量は80kg/hr、噴霧ガス圧力は0.1MPaで行った。乾燥室入口のガス流体温度は300°C、乾燥室出口のガス流体温度は150°Cとした。回収された乾燥体を、静置型電気炉内にて、空気雰囲気下において、700°Cで1時間焼成して、焼成体を得た。得られた焼成体を0.1N硝酸水溶液中に投入し、25°Cで1時間イオン交換を行った後、乾燥を行った。こうして得られた触媒前駆体は、50質量のH型ZSM-5ゼオライトと、40質量のシリカと、10質量のアルミナとを含むものであった。この触媒前駆体の平均粒子径は42μmであった。図7に触媒前駆体の電子顕微鏡写真を示す。図7から分かるように、得られた触媒前駆体は略球状であった。[実施例1]触媒前駆体調製例1で製造した触媒前駆体を、図2に示すのと同様の構成を備える熱処理装置回転炉に連続的に供給し、熱処理することにより、触媒を得た。回転炉における炉心管として、円形の直径内径8cmφ、加熱領域の長さ100cmのものを用いた。加熱領域の炉心管体積vは、5024cm38/22×π×100であった。触媒前駆体の供給量は2000g/hr、炉心管内の雰囲気は水蒸気雰囲気とした。触媒前駆体の温度を600°C、炉心管の回転数を0.5rpm、炉心管の水平からの傾斜角を1°、水蒸気濃度を50体積残部は空気の条件にして熱処理を行った。この時の加熱領域に存在した触媒前駆体の質量wは1350gであった。したがって、加熱領域の炉心管体積に対する加熱領域に存在する触媒前駆体の質量の比率w/vは1350g/5024cm3=0.27g/cm3であった。触媒前駆体の供給量と触媒の排出量とが安定する、触媒前駆体の供給後3時間経過してから、炉心管出口から排出される触媒を1時間毎に採取し、酸量を測定した。触媒前駆体の供給後3~8時間の触媒酸量を表1に示す。表1及び表2に示す標準偏差は、各時間の触媒酸量のばらつきを表す指標として、下記式Aにより導出した。標準偏差がゼロに近いほど、触媒酸量のばらつきが少なく、触媒が均一な品質を有することを意味する。熱処理後の触媒組成、平均粒子径及び粒子形状は、熱処理前の触媒前駆体と変化がなかった。[実施例2]触媒前駆体調製例2で製造した触媒前駆体を、実施例1で用いたのと同じ熱処理装置回転炉に連続的に供給し、熱処理することにより、触媒を得た。触媒前駆体の供給量は600g/hr、炉心管内の雰囲気は水蒸気雰囲気とした。触媒前駆体の温度を900°C、炉心管の回転数を1rpm、炉心管の水平からの傾斜角を1°、水蒸気濃度を50体積残部は空気の条件にして熱処理を行った。この時の加熱領域に存在した触媒前駆体の質量wは520gであった。したがって、加熱領域の炉心管体積に対する加熱領域に存在する触媒前駆体の質量の比率w/vは520g/5024cm3=0.10g/cm3であった。実施例1と同様にして触媒を採取し、触媒酸量を測定した。結果を表1に示す。熱処理後の触媒組成、平均粒子径及び粒子形状は、熱処理前の触媒前駆体と変化がなかった。[実施例3]触媒前駆体調製例3で製造した触媒前駆体を、実施例1で用いたのと同じ熱処理装置回転炉に連続的に供給し、熱処理することにより、触媒を得た。触媒前駆体の供給量は4500g/hr、炉心管内の雰囲気は水蒸気雰囲気とした。触媒前駆体の温度を800°C、炉心管の回転数を2rpm、炉心管の水平からの傾斜角を1°、水蒸気濃度を50体積残部は空気の条件にして熱処理を行った。この時の加熱領域に存在した触媒の質量wは2500gであった。したがって、加熱領域の炉心管体積に対する加熱領域に存在する触媒前駆体の質量の比率w/vは2500g/5024cm3=0.50g/cm3であった。実施例1と同様にして触媒を採取し、触媒酸量を測定した。結果を表1に示す。熱処理後の触媒組成、平均粒子径及び粒子形状は、熱処理前の触媒前駆体と変化がなかった。[実施例4]触媒前駆体調製例4で製造した触媒前駆体を、実施例1で用いたのと同じ熱処理装置回転炉に連続的に供給し、熱処理することにより、触媒を得た。触媒前駆体の供給量は2000g/hr、炉心管内の雰囲気は水蒸気雰囲気とした。触媒前駆体の温度を700°C、炉心管の回転数を1rpm、炉心管の水平からの傾斜角を0.5°、水蒸気濃度を60体積残部は空気の条件にして熱処理を行った。この時の加熱領域に存在した触媒前駆体の質量wは1450gであった。したがって、加熱領域の炉心管体積に対する加熱領域に存在する触媒前駆体の質量の比率w/vは1450g/5024cm3=0.29g/cm3であった。実施例1と同様にして触媒を採取し、触媒酸量を測定した。結果を表1に示す。熱処理後の触媒組成、平均粒子径及び粒子形状は熱処理前の触媒前駆体と変化がなかった。[実施例5]再現性を確認するために、触媒前駆体調製例2で製造した触媒前駆体を、実施例2における条件と同じ条件で熱処理した。この時の加熱領域に存在した触媒前駆体の質量wは600gであった。したがって、加熱領域の炉心管体積に対する加熱領域に存在する触媒の質量の比率w/vは600g/5024cm3=0.12g/cm3であった。実施例1と同様にして触媒を採取し、触媒酸量を測定した。結果を表1に示す。熱処理後の触媒組成、平均粒子径、粒子形状は熱処理前の触媒前駆体と変化がなかった。[実施例6]触媒前駆体調製例2と同様にして乾燥までを行い触媒前駆体である乾燥体を得た。得られた乾燥体の平均粒子径は52μmであった。次いで、この乾燥体を実施例1で用いたのと同じ熱処理装置回転炉に連続的に供給し、熱処理を経ることにより、触媒を得た。乾燥体の供給量は4000g/hr、炉心管内の雰囲気は水蒸気雰囲気とした。乾燥体の温度を800°C、炉心管の回転数を0.5rpm、炉心管の傾斜角を0.5°、水蒸気濃度を30体積残部は空気の条件にして熱処理を行った。この時の加熱領域に存在した触媒前駆体乾燥体の質量wは3500gであった。したがって、加熱領域の炉心管体積に対する加熱領域に存在する触媒前駆体の質量の比率w/vは3500g/5024cm3=0.70g/cm3であった。実施例1において触媒を採取したのと同様にして触媒前駆体を採取し、それを0.1N硝酸水溶液中に投入し、25°Cで1時間イオン交換を行い、触媒を得た。そして、得られた触媒の酸量を測定した。結果を表1に示す。熱処理後の触媒前駆体の平均粒子径及び粒子形状は、熱処理前の乾燥体と変化がなかった。[実施例7]触媒前駆体調製例5で製造した触媒前駆体を、図2に示すのと同様の構成を備える熱処理装置回転炉に連続的に供給し、熱処理することにより、触媒を得た。回転炉における炉心管として、円形の直径内径50cmφ、加熱領域の長さ400cmのものを用いた。加熱領域の炉心管体積vは、785000cm350/22×π×400であった。触媒前駆体の供給量は86000g/hr、炉心管内の雰囲気は水蒸気雰囲気とした。触媒前駆体の温度を800°C、炉心管の回転数を1.0rpm、炉心管の水平からの傾斜角を1°、水蒸気濃度を50体積残部は空気の条件にして熱処理を行った。この時の加熱領域に存在した触媒前駆体の質量wは172700gであった。したがって、加熱領域の炉心管体積に対する加熱領域に存在する触媒前駆体の質量の比率w/vは172700g/785000cm3=0.22g/cm3であった。実施例1と同様にして触媒を採取し、触媒酸量を測定した。結果を表1に示す。熱処理後の触媒組成、平均粒子径及び粒子形状は、熱処理前の触媒前駆体と変化がなかった。[実施例8]実施例2において得られた触媒を目開き32μmの篩により分級し、篩に残った触媒25.0gを内径24mmのステンレス製の流動床反応管に充填した。次に、その反応管内にエチレン/H2/H2O/N2=24/24/33/19体積比の原料ガスを流通させ、反応温度550°C、反応圧力0.14MPaゲージ、WHSV0.4hr1の条件で90時間反応を行った。反応後のガス分析は、反応管と直結したガスクロマトグラフィーで行った。3時間経過後のエチレン転化率は82であり、60時間経過後のエチレン転化率70におけるプロピレン収率は26.0質量であった。なお、エチレン転化率及びプロピレン収率は下式に従って導出した。aエチレン転化率=反応管入口のガス中のエチレン濃度-反応管出口のガス中のエチレン濃度/反応管入口のガス中のエチレン濃度×100bプロピレン収率=反応により生成したプロピレン質量/反応管に供給したエチレン質量×100[実施例9]実施例3において得られた触媒を目開き32μmの篩により分級し、篩に残った触媒25.0gを、内径24mmのステンレス製の流動床反応管に充填した。次に、その反応管内にエタノール/N2=80/20体積比の原料ガスを流通させ、反応温度550°C、反応圧力0.14MPaゲージ、WHSV0.5hr1の条件で80時間反応を行った。反応後のガス分析は、反応管と直結したガスクロマトグラフィーで行った。3時間経過後のエタノール転化率は100であり、60時間経過後のプロピレン収率は27.0質量であった。エタノール転化率及びプロピレン収率は下式に従って導出した。aエタノール転化率=反応管入口のガス中のエタノール濃度-反応管出口のガス中のエタノール濃度/反応管入口のガス中のエタノール濃度×100bプロピレン収率=反応により生成したプロピレン質量/反応管に供給したエチレン質量×100ただし、反応管に供給したエチレン質量は、エタノールが即座にエチレンと水とに分解すると仮定し算出した。[実施例10]実施例3において得られた触媒を目開き32μmの篩により分級し、篩に残った触媒25.0gを、内径24mmのステンレス製の流動床反応管に充填した。次に、その反応管内にメタノール/N2=80/20体積比の原料ガスを流通させ、反応温度550°C、反応圧力0.14MPaゲージ、WHSV0.4hr1の条件で80時間反応を行った。反応後のガス分析は反応器と直結したガスクロマトグラフィーで行った。3時間経過後のメタノール転化率は100であり、90時間経過後のプロピレン収率は29.5質量であった。メタノール転化率及びプロピレン収率は下式に従って導出した。aメタノール転化率=反応管入口のガス中のメタノール濃度-反応管出口のガス中のメタノール濃度/反応管入口のガス中のメタノール濃度×100bプロピレン収率=反応により生成したプロピレン質量/反応管に供給したエチレン質量×100ただし、反応管に供給したエチレン質量は、メタノールが即座にエチレンと水とに分解すると仮定し算出した。[実施例11]実施例3において得られた触媒を圧縮成形後、破砕し、6~16メッシュの大きさに揃えた。この触媒8.56gを、内径15mmのステンレス製の固定床反応管に充填した。次に、その反応管内にジメチルエーテル/N2=65/35体積比の原料ガスを流通させ、反応温度550°C、反応圧力0.14MPaゲージ、WHSV0.7hr1の条件で反応を行った。反応後のガス分析は反応器と直結したガスクロマトグラフィーで行った。3時間経過後のジメチルエーテル転化率は100であり、30時間経過後のプロピレン収率は40.0であった。ジメチルエーテル転化率及びプロピレン収率は下式に従って導出した。aジメチルエーテル転化率=反応管入口のガス中のジメチルエーテル濃度-反応管出口のガス中のジメチルエーテル濃度/反応管入口のガス中のジメチルエーテル濃度×100bプロピレン収率=反応により生成したプロピレン質量/反応管に供給したエチレン質量×100ただし、反応管に供給したエチレン質量は、ジメチルエーテルが即座にエチレンと水とに分解すると仮定し算出した。[比較例1]触媒前駆体調製例2で製造した触媒前駆体を、触媒前駆体の供給量を300g/hrに変更した以外は実施例2と同様の条件で熱処理して触媒を得た。この時の加熱領域に存在した触媒前駆体の質量wは250gであった。したがって、加熱領域の炉心管体積に対する加熱領域の触媒前駆体の質量の比率w/vは250g/5024cm3=0.05g/cm3であった。実施例1と同様にして触媒を採取し、触媒酸量を測定した。結果を表2に示す。熱処理後の触媒組成、平均粒子径及び粒子形状は熱処理前の触媒前駆体と変化がなかった。[比較例2]比較例1において得られた触媒を目開き32μmの篩により分級し、篩に残った触媒25.0gを内径1インチのステンレス製の流動床反応管に充填した。次に、実施例8と同様にして90時間反応を行った。反応後のガス分析は、反応管と直結したガスクロマトグラフィーで行った。3時間経過後のエチレン転化率は85であり、60時間経過後のエチレン転化率70におけるプロピレン収率は24.5質量であった。以上の実施例と比較例との比較から、実施例1~7の触媒の酸量は標準偏差がいずれも2以下であり、ばらつきが少なく、均一に熱処理されていることが分かる。また、実施例2と実施例5との比較により、熱処理の再現性も優れることが分かる。一方、比較例1の触媒では、酸量の標準偏差が8.2であり、ばらつきが大きく、不均一であることが分かる。更に、本発明の方法で熱処理した触媒を用いた実施例8は、本発明の要件を満たさない方法で熱処理した触媒を用いた比較例2より、同一エチレン転化率においてプロピレン収率が高いことが分かる。