第1の主面および第2の主面を有する透光性の基材と、前記第1の主面上にランダムに形成された凸形状を有する複数の構造体と、前記第1の主面上の前記構造体間に形成され、0.9μm以上の表面粗度Raを有する平坦部とを具備する拡散シート。請求項1に記載の拡散シートであって、前記第2の主面は、0.5μm以下の表面粗度Raを有する拡散シート。請求項1に記載の拡散シートであって、前記構造体は、部分球面形状を有する拡散シート。請求項1に記載の拡散シートであって、前記第1の主面に対する前記構造体の充填率は、60以上80以下である拡散シート。第1の主面および第2の主面を有する光透過性の基材と、前記第1の主面にランダムに形成された複数の凸状の構造体と、前記第1の主面上の前記構造体間に形成された、0.9μm以上の表面粗度Raを有する平坦部とを有する拡散シートと、前記第2の主面側に配置された光源とを具備するバックライト。第1の主面および第2の主面を有する光透過性の基材と、前記第1の主面にランダムに形成された複数の凸状の構造体と、前記第1の主面上の前記構造体間に形成された、0.9μm以上の表面粗度Raを有する平坦部とを有する拡散シートと、前記第2の主面側に配置された光源と、前記第1の主面側に配置された液晶パネルとを具備する液晶表示装置。原盤作製用基材の表面上に形成されたレジスト層に対してランダムな露光パターンを形成し、前記ランダムな露光パターンが形成されたレジスト層を現像することで、ランダムパターンの開口部を前記レジスト層に形成し、前記開口部が形成されたレジスト層をマスクとして前記原盤作製用基材をエッチングすることで、前記開口部に対応して形成された凹部と、前記レジスト層で被覆された平坦部とを有する原盤を作製し、0.9μm以上の表面粗度Raとなるように前記平坦部を粗面化し、前記原盤の凹部およびその粗面化された平坦部の形状を透光性の基材の主面に転写することで、凸状の複数の構造体と各構造体間の粗面化された平坦部とを有する拡散シートを作製する拡散シートの製造方法。請求項7に記載の拡散シートの製造方法であって、前記原盤の平坦部を粗面化する工程では、前記平坦部へブラスト粒子を照射するブラスト処理が用いられる拡散シートの製造方法。請求項8に記載の拡散シートの製造方法であって、前記ブラスト処理では、前記凹部の開口径よりも大きな粒子径を有するブラスト粒子が用いられる拡散シートの製造方法。請求項9に記載の拡散シートの製造方法であって、前記凹部の形成後、前記平坦部を粗面化する前に、前記凹部および前記平坦部をクロムめっきで被覆する工程をさらに有する拡散シートの製造方法。近年における液晶表示装置の薄型化の進展により、拡散シートの更なる薄厚化が要求されている。拡散シートは、光源と液晶パネルとの間に配置され、光源から出射された光を拡散することで輝度あるいは輝点のムラを消失させる機能を有する。すなわち、拡散シートは高ヘイズであるほど光の拡散機能が高くなる。以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、光の拡散機能の向上を図ることができる拡散シートおよびこれを備えたバックライト、液晶表示装置ならびに拡散シートの製造方法を提供することにある。上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る拡散シートは、透光性の基材と、複数の構造体と、平坦部とを具備する。上記基材は、第1の主面および第2の主面を有する。上記構造体は、上記第1の主面上にランダムに形成された凸形状を有する。上記平坦部は、上記第1の主面上の上記構造体間に形成され、0.9μm以上の表面粗度Raを有する。上記拡散シートにおいて、上記構造体は基材を透過する光の拡散機能および集光機能を有する。上記構造体は第1の主面上にランダムに形成されているので、モアレの発生は抑制される。また、上記第1の主面上の上記構造体間に形成された平坦部は、0.9μm以上の表面粗度Ra:算術平均粗さを有しており、これにより光の大きな拡散効果が得られる。したがって、上記拡散シートによれば、光の拡散機能の大幅な向上を図ることができる。上記第2の主面は、0.5μm以下の表面粗度Raを有してもよい。これにより、拡散シートのヘイズの上昇を図ることができる。また、第2の主面の低摩擦化により傷つきの防止を図ることができる。本技術の一形態に係るバックライトは、拡散シートと、光源とを具備する。上記拡散シートは、透光性の基材と、複数の構造体と、平坦部とを有する。上記基材は、第1の主面および第2の主面を有する。上記構造体は、上記第1の主面上にランダムに形成された凸形状を有する。上記平坦部は、上記第1の主面上の上記構造体間に形成され、0.9μm以上の表面粗度Raを有する。上記光源は、上記第2の主面側に配置される。本技術の一形態に係る液晶表示装置は、拡散シートと、光源と、液晶パネルとを具備する。上記拡散シートは、透光性の基材と、複数の構造体と、平坦部とを有する。上記基材は、第1の主面および第2の主面を有する。上記構造体は、上記第1の主面上にランダムに形成された凸形状を有する。上記平坦部は、上記第1の主面上の上記構造体間に形成され、0.9μm以上の表面粗度Raを有する。上記光源は、上記第2の主面側に配置される。上記液晶パネルは、上記第1の主面側に配置される。上記バックライトおよび上記液晶表示装置において、上記拡散シートは、光の拡散機能および集光機能を有する。上記構造体は第1の主面上にランダムに形成されているので、モアレの発生は抑制される。また、上記第1の主面上の上記構造体間に形成された平坦部は、0.9μm以上の表面粗度Ra:算術平均粗さを有しているため、光の拡散機能を有する。これにより、光の拡散機能の向上を図ることができる。本技術の一形態に係る拡散シートの製造方法は、原盤作製用基材の表面上に形成されたレジスト層に対してランダムな露光パターンを形成する工程を含む。上記ランダムな露光パターンが形成されたレジスト層を現像することで、ランダムパターンの開口部が上記レジスト層に形成される。上記開口部が形成されたレジスト層をマスクとして上記原盤作製用基材をエッチングすることで、上記開口部に対応して形成された凹部と、上記レジスト層で被覆された平坦部とを有する原盤が作製される。0.9μm以上の表面粗度Raとなるように上記平坦部は粗面化される。上記原盤の凹部およびその粗面化された平坦部の形状を透光性の基材の主面に転写することで、凸状の複数の構造体と各構造体間の粗面化された平坦部とを有する拡散シートが作製される。上記拡散シートの製造方法によれば、光の拡散機能および集光機能を有する構造体と、光の拡散機能を有する平坦部とが主面上に形成された拡散シートが製造される。これにより、光の拡散機能の向上を図ることができる。上記原盤の平坦部を粗面化する工程は、上記平坦部へブラスト粒子を照射するブラスト処理を用いることができる。これ以外にも、レーザ加工やワイヤブラシ加工、原盤表面の研削処理などの他の表面処理法を用いて、原盤の平坦部を粗面化してもよい。上記ブラスト処理において、上記凹部の開口径よりも大きな粒子径を有するブラスト粒子を用いることで、凹部内面の粗面化が阻止される。これにより、拡散シートの構造体の表面平滑性が維持され、正面輝度の低下を抑制することができる。以上述べたように、本技術によれば、光の拡散機能の向上を図ることができる拡散シートを提供することができる。また、当該拡散シートをバックライトまたは液晶表示装置に組み込むことで、輝度ムラが低減されたバックライトまたは液晶表示装置を提供することができる。以下、図面を参照しながら、本技術の実施形態を説明する。<第1の実施形態>[拡散シートの構成]図1Aは本技術の一実施形態に係る拡散シートの要部の概略斜視図、図1Bは上記拡散シートの要部の概略平面図である。本実施形態の拡散シート1は、主面11a第1の主面および主面11b第2の主面を有する基材11と、この基材11の一方の主面11aに形成された凸状の構造体12と、主面11a上の構造体12間に形成された平坦部13とを有する。拡散シート1の裏面側の主面11bは光の入射面を形成し、表面側の主面11aは光の出射面を形成する。拡散シート1の両主面11a、11bは空気と接しており、主面11aは、空気層との界面における屈折率差を利用した光の拡散や集光などの光学機能を有する。特に、構造体12は光の拡散機能および集光機能を有し、平坦部13は光の拡散機能を有する。基材11としては、透明性を有するシートあるいはフィルムなどを用いることができる。基材11の材料としては、例えば、公知の高分子材料を用いることができる。公知の高分子材料としては、例えば、トリアセチルセルロースTAC、ポリエステルTPEE、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリイミドPI、ポリアミドPA、アラミド、ポリエチレンPE、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレンPP、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂PMMA、ポリカーボネートPC、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。基材11は、必要に応じて、フィラー、可塑剤、安定化剤、劣化防止剤、分散剤、難燃剤、紫外線吸収剤などを含んでもよい。基材11の厚さは特に限定されず、生産性の観点からでは例えば25μm~300μmである。基材11の主面11aには、凸状の構造体12がランダム不規則に複数形成されている。構造体12は、基材11の主面11aに一体成形されている。すなわち、拡散シート1は、同一の熱可塑性樹脂材料で形成された単層構造を有する。このような構造を採用することで、多層構造の拡散シートとは異なり界面反射がないため、輝度を向上できる。また、拡散シート1を構成する樹脂をリサイクルして用いることもできる。構造体基材11の主面11aに形成された各構造体12は、同一のまたはほぼ同一の形状を有する。本実施形態において、構造体12は、部分球面形状を有する。部分球面形状とは、球形の一部を切り出した形状である。部分球面形状としては、後述する製造工程における構造体の離型性を考慮すると、半球より小さいものが好ましい。また、部分球面形状には、ほぼ部分球面形状も含まれる。ここで、ほぼ部分球面形状とは、部分球面形状の場合に比して輝度などの光学特性の大幅な低下を招かない範囲において、部分球面形状を若干歪ませた形状である。図2Aは、構造体12の形状について説明するための模式図である。構造体12の大きさは、構造体12を形状転写する方法に応じて選択することができる。形状転写の方法として溶融押出成形法を用いる場合、構造体12の円形状底面の平均直径Dは、例えば50μm以上100μm以下である。平均直径Dが50μm未満であると、転写性が低下する傾向がある。一方、平均直径Dが100μmを超えると、拡散シート1を液晶表示装置に実装した際に、視認性が低下する傾向がある。形状転写の方法としてラミネート転写成形法を用いる場合、構造体12の円形状底面の平均直径Dは、例えば20μm以上50μm以下である。平均直径Dが20μm未満であると、原盤作製が困難となる傾向がある。平均直径Dが50μmを超えると、生産性が低下する傾向がある。ここで、溶融押出成形法とは、加熱溶融された樹脂をシート状に押し出し、ロール原盤の凹凸を形状転写する方法である。また、ラミネート転写成形法とは、熱転写によりエンボスベルトの凹凸をシートに形状転写する方法である。なお、これらの成形法を採用した成形装置の詳細については後述する。構造体12のアスペクト比h/rr:構造体の平均半径、h:構造体の平均高さは、0.85を超え1.50以下であり、好ましくは、0.95以上1.10以下である。アスペクト比h/rが0.85以下であると、1枚または複数枚の拡散シート1をバックライトに使用したときの輝度が低下する傾向がある。一方、アスペクト比h/rが1.50を超えると、転写性が低下する傾向がある。複数枚の拡散シート1をバックライトに使用する場合、複数枚の拡散シートのうち、光源から最も遠くに配置された拡散シート1のアスペクト比が最も大きいことが好ましい。光源から最も遠くに配置された拡散シートのアスペクト比の変化が、バックライトの輝度に与える影響が最も大きいからである。なお、少なくとも1枚の拡散シート1を含む複数枚の光学シートをバックライトに使用する場合、構造体12のアスペクト比h/rは、0.50を超え1.50以下であり、好ましくは、0.55以上1.10以下である。アスペクト比h/rが0.50以下であると、上記複数枚の光学シートをバックライトに使用したときの輝度が低下する傾向がある。一方、アスペクト比が1.50を超えると、転写性が低下する傾向がある。複数枚の拡散シート1を含む複数枚の光学シートをバックライトに使用する場合、複数枚の拡散シートのうち、光源から最も遠くに配置された拡散シートのアスペクト比が最も大きいことが好ましい。光源から最も遠くに配置された拡散シートのアスペクト比の変化が、バックライトの輝度の与える影響が最も大きいからである。基材11の主面11aとの境界近傍における構造体12の側面角度θは、65度以上90度以下であることが好ましい。側面角度θが65度未満であると、輝度が大幅に低下する傾向がある。側面角度θを70度±2度程度にするのが、より高輝度を得る上で好ましい。一方、側面角度θが90度を越えると、構造体12の離型が困難となる傾向がある。ここで、基材11の主面11aとの境界近傍における構造体12の側面角度とは、構造体12をその中心線を通るようにして切断したときに、その切断面の構造体12の輪郭線と平坦部13の輪郭線との交点近傍において、構造体12の輪郭線の接線と平坦部の輪郭線がなす角度をいう。図2Bは、構造体12の他の構成例を示す模式図である。図2Bに示すように、構造体12は、レンズ機能を有する本体部12aと、この本体部12aの底面から基材11に向かって延在された基底部12bとを有してもよい。このように基底部12bを有することで、構造体12の高さにばらつきがある場合でも、構造体12の本体部12aを半球状またはより半球状に近い形状とすることができる。すなわち、上述したように、基材11の主面11aとの境界近傍における構造体12の側面角度を65度以上90度以下の角度範囲にすることができる。したがって、拡散シート1の輝度を向上させることができる。本体部12aの形状としては、部分球面形状であることが好ましい。ここで、本体部12aとは、拡散シート1の面内方向から構造体12およびその構造体間の平坦部を見た場合において、構造体12の輪郭線と構造体間の平坦部13の輪郭線との接線がなす角度が0度以上85度以下の範囲である区画Aのことをいう。また、基底部12bとは、拡散シート1の面内方向から構造体12およびその構造体間の平坦部13を見た場合において、構造体12の輪郭線と構造体間の平坦部13の平坦部の輪郭線との接線がなす角度が85度を越えて90度以下の範囲である区画Bのことをいう。基底部12bの平均長さl区画Bの基材11の主面11aからの高さは、例えば、0<l≦20μmである。基底部12bの平均長さlを0<lとすることで、上述のように、構造体12の高さにばらつきがある場合でも、構造体12の本体部12aを半球状またはより半球状に近い形状とすることができる。基底部12bの平均長さlをl≦20μmとすることで、転写性の低下を抑制することができる。基材11の主面11aに対する構造体12の充填率は、例えば、60以上80以下である。充填率が55未満であると、輝度が低下する傾向がある。一方、充填率が80を超えると、モアレが発生する傾向がある。ここで、モアレには、複数枚の拡散シート1を積層したときに発生するモアレ、拡散シート1を液晶パネルと組み合わせて用いたときに発生するパネルピクセルとのモアレ、また拡散シート1を拡散板と組み合わせて用いたときに発生する拡散板ピッチとのモアレが含まれる。構造体12は、同一の高さ、またはほぼ同一の高さを有している。構造体12の高さのばらつきKは、例えば、0<K≦10、好ましくは、0<K≦8の関係を満たす。構造体12の高さのばらつきKをかかる範囲とすることで、拡散シート1の輝度の向上に寄与することができる。平坦部平坦部13は、基材11の主面11a上の、個々の構造体12の間に形成されている。平坦部13は、各構造体12の底面と同一の平面上に、個々の構造体12の周囲を囲むように形成されている。平坦部13の表面は、適度に粗面化されることで、平坦部13を透過する光の拡散機能を得ることができる。すなわち、平坦部13の表面粗さが大きいほど高いヘイズ値が得られる。一方、ヘイズ値が高いほど正面方向の輝度が低下する傾向にある。拡散シート1のヘイズ値は、拡散シート1の主面11aに占める平坦部13の割合、すなわち構造体12の充填率によっても変化するため、平坦部13の表面粗さは、構造体12bの充填率によって適宜決定することができる。上述のように、構造体12の充填率が60~80の場合、平坦部13の表面粗さは、例えば0.9μm以上の算術平均粗さRaを有する。このように平坦部13の表面粗度を規定することで、輝度の大幅な低下を抑制しつつ、平坦部13を適度なヘイズに調整することが可能となる。すなわち、平坦部13は、0.9μm以上の表面粗度Raに粗面化されることにより、平坦部を粗面化しない場合と比較して、正面輝度の低下率を7以内に抑えつつ、ヘイズを20以上、上昇させることができる。上記表面粗度Raを有する平坦部13の形成方法は、特に限定されない。本実施形態では、後述するように成形装置を用いて拡散シート1が製造される。この際、拡散シート1の主面11aは、成形装置に使用される原盤の形状転写によって形成される。そこで、平坦部13に対応する上記原盤の平坦部を上記範囲の表面粗度に粗面化することで、構造体12と同時に平坦部13を形成するようにしている。なお、平坦部13の粗面化は、平坦部13表面の一様な粗面化に限られず、その表面の局所的な粗面化も含まれる。粗面化の具体的手法としては、平坦部13の表面に微細な凹凸を形成したり、微細な亀裂を生じさせたりすることが含まれる。また、平坦部13の粗度に方向性がある場合は、少なくとも一方向の粗度が0.9μm以上であればよい。その他基材11の裏面側の主面11bは、平坦な面に形成される。この場合、主面11bは平滑面でもよいが、適度に粗面化されることで、摩擦による主面11bの傷つきを抑制することができ、外観上の欠陥を低減することができる。また、主面11bの粗面化により、主面11bにおける光の拡散機能が高まることから、拡散シート1単独でのヘイズ値が上昇し、輝度ムラの低減に貢献することができる。その一方で、主面11bのヘイズの上昇分によって正面輝度が低下する傾向がある。図6はその一例を示す一実験結果であり、拡散シートの裏面のヘイズの上昇に応じて、正面輝度の損失割合が高まることがわかる。したがって、主面11bの表面粗度は、目的とする拡散シート1のヘイズ値、正面輝度特性に応じて設定することができる。また、主面11bの表面粗度は、主面11a側のヘイズ値、特に、平坦部13の表面粗度や構造体12の充填率等も考慮して設定される。構造体12の充填率が60以上80以下であり、平坦部13の表面粗度Raが0.9μm以上である場合、主面11bの表面粗度Raは、例えば0.5μm以下である。[拡散シートの製造方法]次に、図3A~Fを参照しながら、拡散シート1の製造方法の一例について説明する。レジスト層形成工程まず、被加工体である原盤作製用基材21の表面上に、レジスト層22を形成する図3A参照。被加工体である原盤作製用基材21は、例えば金属材料で形成される。原盤作製用基材21の表面にはあらかじめ、銅めっきなどのめっき処理が施されていてもよい。被加工体である原盤作製用基材21の形状としては、例えば、板状、シート状、フィルム状、ブロック状、円柱状、円筒状、円環状などが挙げられる。レジスト層22の材料としては、例えば、無機レジストおよび有機レジストのいずれをも用いることができる。なお、原盤作製用基材21が円柱状または円筒状を有する場合には、それらの外周面にレジスト層22が形成される。露光工程次に、例えば、レーザ光などの光L1をレジスト層22に照射することにより、露光部22aをランダムにレジスト層22に形成する図3B参照。レジスト層22に形成される露光部22aの形状としては、例えば、円形状またはほぼ円形状を挙げることができる。このような形状の露光部を形成する場合、その露光部22aの大きさは、後述する形状転写工程にて用いられる転写方法の種類に応じて選択される。例えば、転写方法として溶融押出成形法が用いられる場合、露光部の底面の平均直径Dは、例えば50μm以上100μm以下である。転写方法としてラミネート転写成形法が用いられる場合、露光部の底面の平均直径Dは、例えば20μm以上50μm以下である。現像工程次に、露光部22aが形成されたレジスト層22を現像する。これにより、露光部22aに応じた開口部22bがレジスト層22に形成される図3C参照。なお、図3Cでは、レジストとしてポジ型レジストを用い、露光部に開口部22bを形成する例が示されているが、レジストはこの例に限定されるものではない。すなわち、レジストとしてネガ型レジストを用い、露光部を残すようにしてもよい。エッチング工程次に、開口部22bが形成されたレジスト層22をマスクとして、原盤作製用基材21の表面をエッチングする。これにより、同一深さ、またはほぼ同一深さの凹部21aが、原盤作製用基材21の表面に形成される図3D参照。エッチングとしては、例えば、ドライエッチングおよびウェットエッチングのいずれをも用いることができるが、設備が簡易である点からすると、ウェットエッチングを用いることが好ましい。また、エッチングとしては、例えば、等方性エッチングおよび異方性エッチングのいずれをも用いることができ、所望とする構造体12の形状に応じて適宜選択することができる。レジスト剥離工程次に、アッシングなどにより、原盤作製用基材表面に形成されたレジスト層22を剥離する図3E参照。これにより、構造体12の反転形状である凹部21aと、レジスト層22で被覆されていた平坦部21bとを含む凹凸面を有する原盤23が得られる。めっき工程次に、必要に応じて、原盤23の凹凸面にめっき処理を施し、ニッケルめっき、ニッケル-リンめっき、クロムめっきなどのめっき層を形成する。本実施形態では、原盤23の凹凸面にクロムめっきが施される。粗面化工程次に、原盤23の平坦部21bを粗面化する。本実施形態では、原盤23の平坦部21bをブラスト処理することで、平坦部21bを粗面化する図3F参照。すなわち、図3Fに示すように、原盤23にブラスト粒子B1を高速で吹き付けることで、平坦部21bの表面を粗くする。ブラスト粒子にはガラス粒子が用いられるが、これに限られず、金属粒子や樹脂粒子などが用いられてもよい。また、ブラスト粒子の照射を受けることで、原盤23の平坦部21bを被覆するクロムめっきに微細な亀裂クラックが発生することがある。このクロムめっきに発生したクラックは、ブラスト粒子との衝突による表面の変形作用とともに平坦部21bの表面粗度を高める機能を果たす。一方、凹部21a内面の粗面化を防ぐため、凹部21aの直径開口径よりも大きな粒子径を有するブラスト粒子が用いられる。これにより、後述するように原盤23を用いて作製された拡散シート1の構造体12の表面平滑性が維持され、正面輝度の大幅な低下を抑制することができる。ブラスト処理条件は、原盤23によって形状転写される拡散シート1の主面11aのヘイズ値および正面輝度に影響を与えるため、例えば当該主面11aを構成する構造体12の充填率を考慮して設定される。例えば、図7は、ブラスト粒子の吐出圧力原盤への照射圧力と、当該原盤を用いて形状転写された拡散シート主面11bのヘイズ値との関係を示す一実験結果である。また、図8は、原盤23に対するブラスト粒子B1の吐出圧力と、当該原盤を用いて形状転写された拡散シート主面11bの正面輝度との関係を示す一実験結果である。測定サンプルには、構造体12の充填率が59サンプル1、63サンプル2および74サンプル3の3つのサンプルを用いた。ここでは、ブラスト粒子として粒子径75-90μmのガラスビーズを用い、ブラスト粒子の吐出ノズルと原盤23の平坦部21bとの間の距離は20cmとした。ブラスト粒子の吐出圧は、エアの噴出圧力とした。原盤23は、外周面にクロムめっきが施された円筒形状の原盤を用い、これを軸回りに毎分50回転させながらブラスト粒子を照射した。原盤は、サンプル1~3に対応して3種類準備し、サンプル1作製用原盤の凹部の直径を68μm、サンプル2作製用原盤の凹部の直径を70μm、サンプル3作製用原盤の凹部の直径を76μmとした。図7および図8に示すように、ブラスト粒子の吐出圧力の上昇に伴って、ヘイズ値が上昇する一方、正面輝度が低下する傾向にあることがわかる。図8では正面輝度を、サンプル2の正面輝度を基準とする相対輝度で表した。各サンプルともに、吐出圧力が1kPaを超えると、輝度の低下およびヘイズの上昇が急激に大きくなる。輝度の低下は、ブラスト粒子との衝突作用による凹部21aの縁部の変形が原因であると考えられる。図7および図8から、ブラスト粒子の吐出圧が約0.7~1.3kPaの範囲で、各サンプルについて、輝度低下を4以下に抑えつつ80近くの高ヘイズ化を図ることができる。平坦部21bの表面粗度Raは、平坦部21bに対するブラスト粒子の照射圧吐出圧、ブラスト粒子の粒子径、ブラスト粒子の種類などによって異なる。したがって、所望の表面粗度を得るために、これらの処理条件を考慮する必要がある。例えば、図9に、原盤23に対するブラスト粒子B1の吐出圧力と、当該原盤を用いて形状転写された拡散シート主面11b上の平坦部13の表面粗度Raとの関係を示す一実験結果である。原盤23としては、上記サンプル1~3の作製用原盤を用い、図9には各原盤の平坦部の表面粗度の平均値およびその偏差3σ、-3σをプロットした。図9に示すように、ブラスト粒子の吐出圧力が大きくなるほど平坦部21bの表面粗度Raが上昇する。上記の例のように、ブラスト粒子の吐出圧力が約1.5kPaの範囲内において、0.9μm以上の表面粗度Raを得ることができる。また、ブラスト粒子の粒子径を変更することによって所望の表面粗度を得るようにしてもよい。例えば、粒子径106-125μmのガラスビーズを用いた場合、約1kPaの吐出圧力でもって、原盤の平坦部に0.9μm以上の表面粗度Raを付与することが可能である。次に、図10および図11は、拡散シート主面11aの平坦部13の表面粗度Raと、当該拡散シートのヘイズ値の上昇率および正面輝度の低下率との関係を示す実験結果である。測定サンプルとしては、上記サンプル1~3の作製用原盤を用いて作製された、構造体12の充填率が異なる3つのサンプルを用いた。ヘイズ値の上昇率H1は、ブラスト処理をしていないサンプル1~3を用いて作製された拡散シートのヘイズ値H0からの差分H1-H0とし、正面輝度の低下率は上記拡散シートの正面輝度を基準とする相対比とした。図10および図11に示すように、構造体12の充填率が低いものほど、平坦部13の総面積が増加するため、ヘイズの上昇率は高い。また、構造体12の充填率が高いものほど、輝度の低下率が大きい。これは、構造体12を形成する原盤凹部の縁部の形状変化に起因するものと考えられる。図12および図13は、上記サンプル3を用いて作製された拡散シート11の平坦部13の表面粗度Raと、当該拡散シートのヘイズ値の上昇率および正面輝度の低下率との関係を示す実験結果であり、特に、表面粗度が0.9μm以上のときの関係を示している。図12に示すように、表面粗度が大きくなるにつれてヘイズ値は上昇していくものの、ある程度Ra:0.9μm以上からは、ヘイズアップの効果が小さくなっていく傾向にある。これは、ブラストされる面積は一定であるため、ある程度の粗度により光を拡散させる効果が飽和していると考えられる。同様に図13に示すように、表面粗度が大きくなるにつれて輝度損失は大きくなるものの、ある程度Ra:0.9μm以上からは、輝度損失の傾きは緩くなっていく傾向にある。これは、ブラスト処理による原盤凹部の縁部の形状変化がある一定以上で飽和し、その結果損失輝度が一定値に収束していくものと考えられる。図14は、粒径106~125μmのブラスト粒子を用いて吐出圧力1kPaでブラスト処理した原盤の顕微鏡写真である。円形の構造体を囲む平坦部に、網状に張り巡らされた複数のクラック又は歪みが確認される。また、構造体12を形成する原盤凹部の縁部の形状がブラスト処理によって変化している様子が確認される。図15は、図14に示した原盤を用いて作製した拡散シートの平坦部の表面粗度の測定データである。本例の場合、平坦部の表面粗度Raは、1.3μmであった。測定装置には、ザイゴ株式会社製表面粗さ測定器Newviewシリーズを用いた。以上のように、平坦部13の表面粗度Raが0.9μm以上の範囲で、当該平坦部を粗面化しない場合に比べて、ヘイズ値を20以上、上昇させることができる。これにより、90以上のヘイズ値を有する拡散シートを得ることができる。このような拡散シートは、サイドライト方式のバックライト装置における導光板の輝点ムラ、あるいは、直下型バックライト装置における光源の輝点ムラの解消に効果的である。また、一枚の拡散シートで所望の高ヘイズが得られるため、拡散シートを複数枚重ね合わせて使用する必要がなくなることから、薄型のバックライト装置を構成することが可能となる。さらに近年、LEDを光源に用いたテレビジョン用途のサイドライト方式バックライト装置の開発が進められている。この種のバックライト装置においては導光板に形成された光拡散用のドットパターンが液晶パネル越しに視認されることが懸念されているが、ヘイズ値が90以上の拡散シートを用いることで、上記ドットパターンの視認を防止することができる。本発明者らは、32インチ液晶パネル用の導光板の一端にLEDを10mm間隔で配置した面発光光源の上に、本実施形態に係る拡散シートと偏光分離素子とを順に配置して導光板のドットパターンの視認性を評価した。その結果、平坦部13の表面粗度Raが0.9μm以上ヘイズ90以上において、ドットパターンが視認されなくなることが確認された。一方、平坦部13の表面粗度Raが0.9μm以上の範囲においても、損失輝度の上昇率は一定範囲に収束し、1.33μm以下の表面粗度Raにおいて輝度低下率は7以下に抑えられることから、輝度の大幅な低下が防止される。特に、LED等の高輝度光源を用いてバックライト装置を構成する場合には、従来の蛍光管CCFLを用いたバックライト装置と比較して輝度を極限まで向上させる必要がなくなるため、損失輝度の多少の上昇は実用上全く問題にならないといえる。形状転写工程次に、例えば、溶融押出成形装置、またはラミネート転写成形装置などの成形装置に、作製した原盤23を取り付ける。次に、原盤23の凹部21aおよび平坦部21bの形状を基材11の一主面に形状転写する図3G参照。以上のようにして、図1に示したように、基材11の主面11a上に、凸状の複数の構造体12と、これら構造体12の間の所定の表面粗度を有する平坦部13とが形成された拡散シート1が製造される。[拡散シートの成形装置]成形装置の第1の例図4Aは、溶融押出成形装置の一構成例を示す模式図である。図4Aに示すように、この溶融押出成形装置30は、押出機31、Tダイ32、成形ロール33、弾性ロール34および冷却ロール35を備える。ここで、成形ロール33が上述の原盤23の一例である。押出機31は、図示を省略したホッパーから供給された樹脂材料を溶融し、Tダイ32に供給する。Tダイ32は直線状の開口を有するダイスであり、押出機31から供給された樹脂材料を、成形しようとするシート幅まで広げて吐出する。成形ロール33は、円柱状の形状を有し、その中心軸を回転軸として回転可能に構成されている。また、成形ロール33は、冷却されることが可能に構成されている。具体的には、成形ロール33は、その内部に油媒体などの冷却媒体を流すための1または2以上の流路を有する。成形ロール33の円柱面には、Tダイ32から吐出されるシートに微細パターンを転写するための凹凸形状が設けられている。この凹凸形状は、例えば、構造体12を基材11に転写するための微細な凹凸形状である。この凹凸形状は、上述したようにフォトリソグラフィ工程とエッチング工程との組合せにより形成することが好ましい。構造体12の高さのばらつきを抑制することができるからである。上記凹凸形状には、図3Gを参照して説明した原盤23の凹凸面が含まれる。弾性ロール34は、円柱状の形状を有し、その中心軸を回転軸として回転可能に構成されている。また、弾性ロール34の表面は弾性変形可能に構成され、成形ロール33と弾性ロール34とによりシートをニップした場合には、成形ロール33と接触する面が押し潰れるようになっている。弾性ロール34は、例えばNiめっきなどからなるシームレスの筒により覆われ、その内部には、弾性ロール34の表面を弾性変形可能とするための弾性体が備えられている。弾性ロール34は、成形ロール33と所定の圧力をもって接するときに表面が弾性変形するものであれば、その構成および材料は限定されるものではない。材料としては、例えばゴム材、金属または複合材などを用いることができる。また、弾性ロール34としては、ロール状のものに限定されず、ベルト状のものを用いることができる。弾性ロール34は、冷却されることが可能に構成されている。具体的には、弾性ロール34は、その内部に水などの冷却媒体を流すための1または2以上の流路を有する。弾性ロール34の表面は、適度に粗面化されていてもよく、この場合、作製される拡散シートの裏面側主面11bの粗面化を図ることができる。弾性ロール34の表面粗度Raは、例えば0.5μm以下である。冷却ロール35は、円柱状の形状を有し、その中心軸を回転軸として回転可能に構成されている。冷却ロール35は、冷却されることが可能に構成されている。具体的には、冷却ロール35は、その内部に水などの冷却媒体を流すための1または2以上の流路を有する。次に、上述の構成を有する溶融押出成形装置30の動作について説明する。まず、樹脂材料を押出機31により溶融してTダイ32に順次供給し、Tダイ32からシートを連続的に吐出させる。次に、Tダイ32から吐出されたシートを成形ロール33と弾性ロール34とによりニップする。これにより、樹脂材料に対して成形ロール33の凹凸形状が転写される。次に、成形ロール33と冷却ロール35とにより基材11をニップしてばたつきを抑えながら、冷却ロール35により成形ロール33から基材11を剥離する。以上により、目的とする拡散シート1を得ることができる。成形装置の第2の例図4Bは、ラミネート転写成形装置の一構成例を示す模式図である。このラミネート転写成形装置40は、加熱ロール41と冷却ロール42とによって回転するエンボスベルト43と、加熱ロール41および冷却ロール42に対向して配置された2つの押圧ロール44によって回転する平坦ベルト45とを備えている。そして、表面に複数の凹部43Aを有するエンボスベルト43と、立体形状のない平坦ベルト45との間隙に、形状付与前の基材11を挿入可能になっている。ここで、エンボスベルト43が上述の原盤23の一例である。エンボスベルト43には、図3Gを参照して説明した原盤23を用いることができる。この場合、凹部43Aは、原盤23の凹部21aおよび平坦部21bを含む凹凸面で形成される。また、平坦ベルトの表面を粗面化することで、作製される拡散シートの裏面主面11bに適度な表面粗度を付与することができる。次に、上述の構成を有するラミネート転写成形装置40の動作について説明する。まず、エンボスベルト43および平坦ベルト45を回転させて、加熱ロール41の側から両者の間隙に形状付与前の基材11を挿入する。これにより、加熱ロール41の熱により基材11の一主面が一瞬だけ溶融し、基材11の一主面に凹部43Aが形状転写される。その後、冷却ロール42によって、凹部43Aが形状転写された基材11の表面が冷却され、表面形状が固定される。すなわち、基材11の一主面に複数の構造体12が形成される。以上により、目的とする拡散シート1を得ることができる。本実施形態の拡散シート1によれば、構造体12が主面11a上にランダムに形成されているので、モアレの発生を抑制することができる。また、主面11a上の構造体12間に形成された平坦部13は、0.9μm以上の表面粗度Raを有しているため、平坦部13を透過する光の拡散機能を有する。これにより、正面方向の輝度の大幅な低下を抑制しつつ、光の拡散機能の向上を図ることができる。本実施形態によれば、正面方向の輝度の低下を抑制しつつ、光の拡散機能を高めることができるため、拡散シートのうねりに起因する輝度ムラが視認されにくくなる。このため、拡散シート1の薄厚化の要求にも十分に応えることが可能となる。さらに、主面11bおよび平坦部13の表面粗度を調整することで、構造体12の充填率を80以上にした場合でもモアレの発生を阻止することが可能となる。<第2の実施形態>[液晶表示装置の構成]第1の構成例図5Aは、本技術の第2の実施形態に係る液晶表示装置の第1の構成例を示す模式図である。図5Aに示すように、この液晶表示装置は、光を出射するバックライト6と、バックライト6から出射された光を時間的空間的に変調して画像を表示する液晶パネル7とを備える。以下、液晶表示装置を構成するバックライト6および液晶パネル7について順次説明する。バックライトバックライト6としては、例えば、直下型バックライト、エッジ型バックライト、平面光源型バックライトを用いることができる。なお、図5Aでは、バックライト6が直下型バックライトである場合が例示されている。バックライト6は、例えば、反射シート4、光源5、拡散板3、2枚の拡散シート1、およびレンズシート2を備える。反射シート4は、液晶表示装置の表示面とは反対の側となる背面側に配置される。光源5と液晶パネル7との間に、拡散板3、拡散シート1、レンズシート2および拡散シート1が、光源5から液晶パネル7に向かってこの順序で配置されている。光源5としては、例えば、冷陰極蛍光管ColdCathodeFluorescentLamp:CCFL、熱陰極蛍光管HotCathodeFluorescentLamp:HCFL、有機エレクトロルミネッセンスOrganicElectroLuminescence:OEL、無機エレクトロルミネッセンスInorganicElectroLuminescence:IEL、発光ダイオードLightEmittingDiode:LEDなどが用いられる。反射シート4は、光源5から出射された光を拡散や反射などすることにより、光の利用効率を高めるためのものである。反射シート4としては、例えば、拡散反射白色系の反射シート、鏡面反射系の反射シートなどを用いることができる。拡散反射系の反射シート4としては、例えば、白色ポリエステルフィルム、界面多重反射シート例えば超白色ポリエステルフィルムなどを用いることができる。鏡面反射系の反射シート4としては、例えば、銀Ag薄膜フィルムなどの金属薄膜フィルムを用いることができる。レンズシート2は、光源5からの拡散光を集光し、輝度を向上させるためのものである。レンズシート2としては、例えば、鋭角なプリズム頂部を有するプリズムシート、プリズムの頂部に丸みを付与したプリズムシート、ランダムプリズムパターンが一主面に形成されたプリズムシート、均一なウェブパターンが一主面に形成された光学シートウェブシートなどを用いることができる。拡散シート1には、上述の第1の実施形態に係る拡散シートが用いられる。拡散シート1は、一方の主面11aが液晶パネル7側に、他方の主面11bを光源5側にそれぞれ向けて配置される。液晶パネル液晶パネル7としては、例えば、ツイステッドネマチックTwistedNematic:TNモード、スーパーツイステッドネマチックSuperTwistedNematic:STNモード、垂直配向VerticallyAligned:VAモード、水平配列InPlaneSwitching:IPSモード、光学補償ベンド配向OpticallyCompensatedBirefringence:OCBモード、強誘電性FerroelectricLiquidCrystal:FLCモード、高分子分散型液晶PolymerDispersedLiquidCrystal:PDLCモード、相転移型ゲストホストPhaseChangeGuestHost:PCGHモードなどの表示モードのものを用いることができる。また、バックライト6は、反射型偏光子図示省略をさらに備えることで、光源5から放射される光を有効利用することが可能となり、液晶表示装置の輝度を高め、消費電力を小さくすることができる。反射型偏光子は、液晶パネル7と隣り合うように、液晶パネル側に配置される。反射型偏光子は、直交する偏光成分の一方のみを通過させ、他方を反射するものである。反射型偏光子としては、例えば有機多層膜、無機多層膜または液晶多層膜などの積層体を用いることができる。第2の構成例図5Bは、本技術の第2の実施形態に係る液晶表示装置の第2の構成例を示す模式図である。図5Bに示すように、バックライト6は、拡散板3および3枚の拡散シート1を備える。これら拡散板3、3枚の拡散シート1は、光源5から液晶パネル7に向かってこの順序で配置されている。この第2の構成例において、上記以外のことは、第1の構成例を同様である。第3の構成例図5Cは、本技術の第2の実施形態に係る液晶表示装置の第3の構成例を示す模式図である。図5Cに示すように、バックライト6は、拡散板3、レンズシート2および拡散シート1を備える。これら拡散板3、レンズシート2および拡散シート1は、光源5から液晶パネル7に向かってこの順序で配置されている。この第3の構成例において、上記以外のことは、第1の構成例と同様である。本実施形態によれば、バックライト6が第1の実施形態に係る拡散シート1を備えているので、光源5の輝度ムラを効果的に改善しつつ液晶表示装置の輝度を向上させることができる。また、レンズシート2を拡散シート1に置き換えることも可能である。以上、本技術の実施形態について説明したが、本技術はこれに限定されることはなく、本技術の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。例えば以上の実施形態では、拡散シート製造用の原盤の粗面化処理にブラスト処理を用いたが、これに代えて、ワイヤブラシ加工、レーザ加工、研削加工等の各種表面処理法を用いて原盤の粗面化処理を実施してもよい。加工方法によらず、平坦部13はその表面粗度Raで規定される。加工形状は特に限定されず、球状、プリズム状、格子状など何れの形状であってもよい。例えば図16A、Bは、平坦部13の表面に断面略三角形状のプリズム13pが形成された拡散シート2を模式的に示す要部の側断面図および斜視図である。プリズム形状に平坦部13を形成することによって、平坦部における光の拡散効果を得ることができる。また、このときの平坦部13の表面粗度は、プリズム13pの稜線方向と配列方向とで異なり得るが、両方向のうち少なくとも一方向が0.9μm以上の表面粗度Raを有していればよい。構造体12の表面粗度Raは、要求されるヘイズ値と許容される損失輝度との関係において適宜設定することができ、例えば3.5μm以下とすることができる。また、構造体12は部分球面形状のものに限られない。例えば図17に、部分球面形状の構造体を形成した後、当該構造体の表面に微細な溝形状を付与した例を示す。これにより、球面部における光の拡散効果と、溝部における集光機能とを有する構造体を形成することができる。拡散シートの成形方法は、上述した溶融押出成形装置、ラミネート転写成形装置に限られず、例えば熱プレス装置などの他の成形装置を用いてもよい。また、上述の実施形態において挙げた構成、方法、形状、材料および数値などはあくまでも一例に過ぎず、必要に応じてこれらと異なる構成、方法、形状、材料および数値などを用いてもよい。なお、本技術は以下のような構成も採ることができる。1第1の主面および第2の主面を有する透光性の基材と、前記第1の主面上にランダムに形成された凸形状を有する複数の構造体と、前記第1の主面上の前記構造体間に形成され、0.9μm以上の表面粗度Raを有する平坦部とを具備する拡散シート。2前記1に記載の拡散シートであって、前記第2の主面は、0.5μm以下の表面粗度Raを有する拡散シート。3前記1又は2に記載の拡散シートであって、前記構造体は、部分球面形状を有する拡散シート。4前記1から3のいずれか一項に記載の拡散シートであって、前記第1の主面に対する前記構造体の充填率は、60以上80以下である拡散シート。5第1の主面および第2の主面を有する光透過性の基材と、前記第1の主面にランダムに形成された複数の凸状の構造体と、前記第1の主面上の前記構造体間に形成された、0.9μm以上の表面粗度Raを有する平坦部とを有する拡散シートと、前記第2の主面側に配置された光源とを具備するバックライト。6第1の主面および第2の主面を有する光透過性の基材と、前記第1の主面にランダムに形成された複数の凸状の構造体と、前記第1の主面上の前記構造体間に形成された、0.9μm以上の表面粗度Raを有する平坦部とを有する拡散シートと、前記第2の主面側に配置された光源と、前記第1の主面側に配置された液晶パネルとを具備する液晶表示装置。7原盤作製用基材の表面上に形成されたレジスト層に対してランダムな露光パターンを形成し、前記ランダムな露光パターンが形成されたレジスト層を現像することで、ランダムパターンの開口部を前記レジスト層に形成し、前記開口部が形成されたレジスト層をマスクとして前記原盤作製用基材をエッチングすることで、前記開口部に対応して形成された凹部と、前記レジスト層で被覆された平坦部とを有する原盤を作製し、0.9μm以上の表面粗度Raとなるように前記平坦部を粗面化し、前記原盤の凹部およびその粗面化された平坦部の形状を透光性の基材の主面に転写することで、凸状の複数の構造体と各構造体間の粗面化された平坦部とを有する拡散シートを作製する拡散シートの製造方法。8前記7に記載の拡散シートの製造方法であって、前記原盤の平坦部を粗面化する工程では、前記平坦部へブラスト粒子を照射するブラスト処理が用いられる拡散シートの製造方法。9前記8に記載の拡散シートの製造方法であって、前記ブラスト処理では、前記凹部の開口径よりも大きな粒子径を有するブラスト粒子が用いられる拡散シートの製造方法。10前記7~9のいずれか一項に記載の拡散シートの製造方法であって、前記凹部の形成後、前記平坦部を粗面化する前に、前記凹部および前記平坦部をクロムめっきで被覆する工程をさらに有する拡散シートの製造方法。