"基材とその表面に被覆された被膜とからなり、被膜は基材の表面に被覆された中間膜と、中間膜の表面に物理蒸着法により被覆された酸化物膜とを含み、被覆工具の表面に196Nの印加荷重Pでビッカース圧子を押し込んで被覆工具の表面に生じたクラック長さdcμmと、基材の破壊靭性KICMPam05とを測定して、以下の数1の式から求められるクラック係数Rが0.07~0.12m05であることを特徴とする被覆工具。被膜は、ML式中、Mは、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、AlおよびSiの中から選ばれる少なくとも1種の元素を表し、LはCおよびNの中から選ばれる1種または2種の元素を表す、で表される金属化合物からなる、単層膜または2層以上の多層膜で構成される平均膜厚1~6μmの中間膜と、中間膜の表面に被覆された平均膜厚0.01~0.9μmのAlCry2O3式中、yはAlとCrの合計に対するCrの原子比を表し、yは0.1≦y≦0.5を満足する、からなる酸化物膜と、酸化物膜の表面に被覆された、QJ式中、Qは、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、AlおよびSiの中から選ばれる少なくとも1種の元素を表し、JはC、NおよびOの中から選ばれる少なくとも1種の元素を表す、で表される金属化合物からなる、単層膜または2層以上の多層膜で構成される平均膜厚0.2~2μmの上部膜を含む請求項1に記載の被覆工具。被膜は、平均膜厚1~6μmのTiAlxN式中、xはTiとAlの合計に対するAlの原子比を表し、xは0.35≦x≦0.7を満足する、からなる中間膜と、中間膜の表面に被覆された平均膜厚0.01~0.9μmのAlCry2O3式中、yはAlとCrの合計に対するCrの原子比を表し、yは0.1≦y≦0.5を満足する、からなる酸化物膜と、酸化物膜の表面に被覆された平均膜厚0.2~2μmのTiAlzN式中、zはTiとAlの合計に対するAlの原子比を表し、zは0≦z≦0.7を満足する、からなる上部膜を含む請求項2に記載の被覆工具。数1の式から求められるクラック係数Rが0.08~0.11m05である請求項1~3のいずれか1項に記載の被覆工具。中間膜が、TiN、TiCN、TiAlN、TiAlZrN、TiAlCrN及びAlCrNから成る群より選択された少なくとも1種からなる請求項1,2及び4のいずれか1項に記載の被覆工具。中間膜のxが、0.4≦x≦0.6を満足する請求項3または4に記載の被覆工具。中間膜の平均膜厚が、3~6μmである請求項1~6のいずれか1項に記載の被覆工具。中間膜は立方晶である請求項1~7のいずれか1項に記載された被覆工具。Cu-Kα線を用いたX線回折測定における中間膜の回折線の中で、中間膜の200面回折線のピーク強度が最も高い請求項8に記載された被覆工具。中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布はα角80~90度の範囲に最高強度を示す請求項8または9に記載された被覆工具。酸化物膜のyが、0.1≦y≦0.3を満足する請求項2~10のいずれか1項に記載の被覆工具。酸化物膜が、Al05Cr052O3、Al055Cr0452O3、Al06Cr042O3、Al07Cr032O3、Al08Cr022O3およびAl09Cr012O3から成る群より選択された少なくとも1種からなる請求項1~11のいずれか1項に記載の被覆工具。酸化物膜の平均膜厚が、0.1~0.5μmである請求項1~12のいずれか1項に記載の被覆工具。上部膜のzが、0.45≦z≦0.7を満足する請求項3~13のいずれか1項に記載の被覆工具。上部膜が、TiN、TiCN、TiAlN、TiAlZrN、TiAlCrNおよびAlCrNから成る群より選択された少なくとも1種からなる請求項2~14のいずれか1項に記載の被覆工具。上部膜の平均膜厚が、0.4~2μmである請求項2~15のいずれか1項に記載の被覆工具。基材は、WC:75~93体積と、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、Wの炭化物、窒化物およびこれらの相互固溶体の中から選ばれる少なくとも1種からなる立方晶相:0~5体積と、Coを主成分とした結合相:7~20体積とからなり、WCの平均粒径が0.5~2μmの超硬合金である請求項1~16のいずれか1項に記載された被覆工具。基材が、下記数2のフルマンの式で得られるWCの平均粒径が0.5~2μmの超硬合金である請求項1~17のいずれか1項に記載の被覆工具。式中、dmはWCの平均粒径、πは円周率、NLは焼結体の断面組織を撮影した写真から、断面組織上の任意の直線によってヒットされる単位長さあたりのWC数、NSは任意の単位面積内に含まれるWC数である。立方晶相が、Nb,WC、Nb,WCN、Ti,WC、Ti,WCN、Ti,Ta,WC、Ti,Ta,WCN、Ti,Nb,WC、Ti,Nb,WCN、Ti,Ta,Nb,WC、Ti,Ta,Nb,WCN、Ti,Ta,Zr,WC、Ti,Ta,Zr,WCN、Ti,Nb,Zr,WC、Ti,Nb,Zr,WCN、Ti,Ta,Nb,Zr,WCおよびTi,Ta,Nb,Zr,WCNから成る群より選択された少なくとも1種である請求項17または18に記載の被覆工具。Coを主成分とした結合相が、Coからなる結合相またはCoにTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、MoおよびWの中の少なくとも1種がCo合金全体に対して30質量以下固溶したCo合金からなる結合相である請求項17~19のいずれか1項に記載の被覆工具。被覆工具を用いて、鋼の高速度切削加工、ステンレス鋼および難削材などの切削加工を行うと、被覆工具にはアブレシブ摩耗、化学摩耗、凝着摩耗、欠損などが発生する。広い加工領域で切削工具の寿命を延長するためには、1つの性能だけではなく全ての性能をバランスよく改善する必要がある。物理蒸着法により酸化物膜を被覆した被覆工具の従来技術では、酸化物膜の耐クラック性と耐摩耗性を両立できないという問題があった。また物理蒸着法により酸化物膜を被覆した被覆工具の従来技術では、酸化物膜と基材との密着性は十分でなく酸化物膜の優れた耐熱性や耐化学反応性を十分発揮できていなかった。本発明はこのような事情を鑑みてなされたものであり、鋼の高速度切削加工、ステンレス鋼および難削材などの切削加工において長寿命を実現し、金型において長寿命を実現する、被覆工具の提供を目的とする。本発明者が、物理蒸着法による酸化物膜を含む被膜を被覆した被覆工具の工具寿命の延長について研究したところ、基材と被膜との密着性、被膜でのクラック伝播特性には基材の材質や各界面の特性が影響を及ぼしており、物理蒸着法により酸化物膜を含む被膜を被覆した被覆工具の表面に196Nの印加荷重Pでビッカース圧子を押し込んで被覆工具の表面に生じたクラック長さdcμmと、基材の破壊靭性KICMPam05とを測定して、求められるクラック係数Rが特定の範囲であると、物理蒸着法により酸化物膜を含む被膜を被覆した被覆工具の工具寿命を延長できることが分かった。すなわち、本発明の被覆工具は、基材とその表面に被覆された被膜とからなり、被膜は基材の表面に被覆された中間膜と、中間膜の表面に物理蒸着法により被覆された酸化物膜とを含み、被覆工具の表面に196Nの印加荷重Pでビッカース圧子を押し込んで被覆工具の表面に生じたクラック長さdcμmと、基材の破壊靭性KICMPam05とを測定して、以下の数1の式から求められるクラック係数Rが0.07~0.12m05であることを特徴とするものである。また、本発明の被覆工具は、被膜が、ML式中、Mは、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、AlおよびSiの中から選ばれる少なくとも1種の元素を表し、LはCおよびNの中から選ばれる1種または2種の元素を表す、で表される金属化合物からなる、単層膜または2層以上の多層膜で構成される平均膜厚1~6μmの中間膜と、中間膜の表面に被覆された平均膜厚0.01~0.9μmのAlCry2O3式中、yはAlとCrの合計に対するCrの原子比を表し、yは0.1≦y≦0.5を満足する、からなる酸化物膜と、酸化物膜の表面に被覆された、QJ式中、Qは、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、AlおよびSiの中から選ばれる少なくとも1種の元素を表し、JはC、NおよびOの中から選ばれる少なくとも1種の元素を表す、で表される金属化合物からなる、単層膜または2層以上の多層膜で構成される平均膜厚0.2~2μmの上部膜を含むものであることが好ましい。さらに、本発明の被覆工具は、被膜が、平均膜厚1~6μmのTiAlxN式中、xはTiとAlの合計に対するAlの原子比を表し、xは0.35≦x≦0.7を満足する、からなる中間膜と、中間膜の表面に被覆された平均膜厚0.01~0.9μmのAlCry2O3式中、yはAlとCrの合計に対するCrの原子比を表し、yは0.1≦y≦0.5を満足する、からなる酸化物膜と、酸化物膜の表面に被覆された平均膜厚0.2~2μmのTiAlzN式中、zはTiとAlの合計に対するAlの原子比を表し、zは0≦z≦0.7を満足する、からなる上部膜を含むものであることが好ましい。本発明の被覆工具は、耐摩耗性、耐欠損性および耐酸化性に優れる。本発明の被覆工具を切削工具として用いると工具寿命が長くなるという効果が得られる。特に高速度加工、高送り加工、硬さの高い被削材の加工、難削材の加工などの加工条件が厳しい切削加工において効果が高い。本発明の被覆工具を耐摩工具として用いると工具寿命が長くなるという効果が得られる。クラック係数Rが特定の範囲であると工具寿命を延長できる理由については明らかでないが、被膜でのき裂前方損傷域が発達する応力遮蔽効果による被膜の高靭性化機構に起因し、クラック係数Rが大きいほど高靭性化した膜が破壊エネルギーを分散させるため工具表面でクラックが進展しにくくなると考えられる。すなわち、本発明のクラック係数Rはクラックの進展しにくさを表している。クラック係数Rが0.07m05以上になるとクラックの進展は遅くなり、大きなチッピングの発生が抑制されて工具寿命が向上する効果が得られる。しかしながら、クラック係数Rが0.12m05を超えて大きくなると、被膜と基材との間で剥離が生じやすく、工具寿命が短くなる。そのため、クラック長さdcを90~310μm程度、基材の破壊靭性KICを8~18MPam05程度にそれぞれ調整することで、クラック係数Rを0.07~0.12m05の範囲とした。その中でもクラック係数Rは0.08~0.11m05であると、さらに好ましい。dcは、被覆工具の表面に印加荷重196Nでビッカース圧子を押し込んで被膜の表面に生じたビッカース圧痕の角付近から伸びた4つのクラックのクラック長さdnn=1,2,3,4を下記の数2の式のように合計したものである。図1に示すように、ビッカース圧痕の角付近から伸びたクラック長さdnn=1,2,3,4は、ビッカース圧痕の角付近のクラック発生の起点からクラック先端までの直線距離で測定する。また、ビッカース圧痕の角付近から2本以上のクラックが発生した場合は、最も長いクラック長さを、その角のクラック長さdnn=1,2,3,4として、dcの算出に使用するが、長さが短い2番目以降のクラック長さはdcの算出に使用しない。クラック長さdcは、主に基材の組成および被膜の膜構成と組成と被覆条件により調整できる。クラック長さdcに対する被膜の被覆条件の影響は大きく、酸化物膜、中間膜、上部膜を被覆する際に用いる基材バイアス電圧の絶対値を小さくすると、クラック長さdcを長くすることができる。例えば、酸化物膜を被覆する際に用いるパルスが印加された基材バイアス電圧を-70Vから-40Vにすると、クラック長さdcは約40μm長くなる。本発明の被覆部材の基材として、具体的には焼結合金、セラミックス、cBN焼結体、ダイヤモンド焼結体などを挙げることができる。その中でも、焼結合金は耐欠損性と耐摩耗性に優れるため好ましく、その中でもサーメットおよび超硬合金がさらに好ましく、その中でも超硬合金がさらに好ましく、その中でも、WC:75~93体積と、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、Wの炭化物、窒化物およびこれらの相互固溶体の少なくとも1種からなる立方晶相:0~5体積と、Coを主成分とした結合相:7~20体積とからなり、フルマンの式で得られるWCの平均粒径が0.5~2μmである超硬合金がさらに好ましい。ここで、フルマンの式で得られるWCの平均粒径とは、下記の数3の式式中、dmはWCの平均粒径、πは円周率、NLは焼結体の断面組織を撮影した写真から、断面組織上の任意の直線によってヒットされる単位長さあたりのWC数、NSは任意の単位面積内に含まれるWC数である。を用いて測定されるWCの平均粒径のことである。立方晶相として具体的には、Nb,WC、Nb,WCN、Ti,WC、Ti,WCN、Ti,Ta,WC、Ti,Ta,WCN、Ti,Nb,WC、Ti,Nb,WCN、Ti,Ta,Nb,WC、Ti,Ta,Nb,WCN、Ti,Ta,Zr,WC、Ti,Ta,Zr,WCN、Ti,Nb,Zr,WC、Ti,Nb,Zr,WCN、Ti,Ta,Nb,Zr,WC、Ti,Ta,Nb,Zr,WCNなどを挙げることができる。本発明において、Coを主成分とした結合相とは、Coからなる結合相またはCoにTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、MoおよびWの中の少なくとも1種がCo合金全体に対して30質量以下固溶したCo合金からなる結合相を意味する。基材の破壊靭性KICは組成や組織によって制御することが可能である。例えば、超硬合金基材の場合、超硬合金の結合相量を増加させることや超硬合金のWCの平均粒径を大きくすることによって超硬合金基材のKICを高くすることができる。例えば、超硬合金の結合相量を8体積から16体積に増加させると、超硬合金基材のKICは約3MPam05高くなる。また、超硬合金のWCの平均粒径を0.8μmから1.5μmに大きくすると、超硬合金基材のKICは約7~9MPam05高くなる。基材のKICは、被膜を除去した後、残留応力のないところで測定する。具体的には、150メッシュのダイヤモンド砥石で被膜を除去した後、さらに1500メッシュのダイヤモンド砥石で基材の表面から深さ20μm以上研磨した後、さらにダイヤモンド粒子の平均粒径が1μm以下のダイヤモンドペーストを用いて鏡面研磨する。基材の鏡面研磨面に対して196Nの印加荷重でビッカース圧子を押し込んで、論文新原皓一,セラミックスの微小圧子圧入破壊その応用と問題点,セラミックス,1985年,Vol20,No1,p1218に記載の下記の数4の式を用いたビッカース圧痕法により基材のKICを測定することができる。但し、上記の数4の式において、KICMPam05は破壊靭性を示し、HMPaはビッカース硬さを示し、aμmは圧痕対角長の半分の長さを示し、cμmはクラック両端の距離の半分の長さを示す。a,cは図2に示すように圧痕対角長の2aと、クラック両端の距離の2cを測定して求められる。本発明の被膜は、基材の表面に被覆された中間膜と、中間膜の表面に被覆された酸化物膜とを含んでいる。中間膜は基材と酸化物膜の密着性を向上させて、耐摩耗性を向上させる。さらに、酸化物膜の表面に上部膜を被覆すると初期摩耗を抑制するので好ましい。本発明の中間膜は、ML但し、Mは、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、AlおよびSiの中から選ばれる少なくとも1種の元素を表し、LはCおよびNの中から選ばれる1種または2種の元素を表す。で表される金属化合物からなると耐摩耗性が向上するので好ましい。本発明の中間膜として具体的にはTiN、TiCN、TiAlN、TiAlZrN、TiAlCrN、AlCrNなどを挙げることができ、更に具体的にはTiN、TiCN、Ti033Al067N、Ti035Al065N、Ti05Al04Zr01N、Ti05Al04Cr01N、Ti055Al045N、Al07Cr03Nなどを挙げることができる。その中でも、本発明の中間膜は、TiAlNであるとさらに好ましく、その中でも、本発明の中間膜は、TiAlxN但し、xはTiとAlの合計に対するAlの原子比を表し、xは0.35≦x≦0.7を満足する。からなる金属化合物であると、さらに好ましい。これは、xが0.35未満になると中間膜の硬さが低下して耐摩耗性が低下する場合があり、xが0.7を超えて多くなるとAlNが含まれるようになり、耐摩耗性が低下する場合があるためである。その中でも0.4≦x≦0.6であると、さらに好ましい。本発明の中間膜の膜構成は、1層の単層膜、2層以上の多層膜のいずれでもよく、多層膜の1種である、組成が異なる厚さ5~100nmの薄膜を交互に積層させた交互積層膜でもよい。本発明の中間膜の平均膜厚が1μm未満になると耐摩耗性が低下する場合があり、本発明の中間膜の平均膜厚が6μmを超えて厚くなると、被膜が剥離しやすくなる場合がある。そのため、本発明の中間膜の平均膜厚は1~6μmであると好ましく、さらに好ましくは3~6μmである。本発明における被膜の平均膜厚は、被膜の断面を光学顕微鏡、走査電子顕微鏡SEMまたは透過電子顕微鏡TEMにより測定することができる。具体的には、光学顕微鏡、走査電子顕微鏡または透過電子顕微鏡で被膜の断面を3箇所以上写真撮影し、写真上で測定した膜厚の平均値を平均膜厚とした。また、被膜の組成は、二次イオン質量分析装置SIMS、エネルギー分散元素分析装置EDS、グロー放電型分析装置GDSなどの元素分析装置を使って測定することができる。本発明の中間膜は立方晶であると耐摩耗性が向上するので好ましい。その中でもCuKα線を用いた2θ/θ法のX線回折測定を2θ=10~140度の範囲で行って得られた中間膜の回折線の中で、200面回折線のピーク強度が最も高いと、耐摩耗性が向上するので好ましい。中間膜の200面回折線のピーク強度を高くするためには、中間膜にAl元素を含有させるとよい。また、中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布はα角80~90度の範囲に最高強度を示すと中間膜上の酸化物膜との密着性が優れ、耐摩耗性がさらに向上するので好ましい。本発明の中間膜にX線回折の正極点図測定を行ったとき、200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布がα角80~90度の範囲に最高強度を示すことは、中間膜を構成している立方晶の結晶の中で、200面が被覆工具表面に対して共に平行に向いている結晶が多いことを示している。中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布はα角80~90度の範囲に最高強度を示すようにするためには、中間膜にAl元素を含有させて、さらに中間膜を被覆する際の基材バイアス電圧の絶対値を大きくするとよい。200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布がα角80~90度の範囲に最高強度を示す被覆工具は、200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布がα角80度未満の範囲に最高強度を示す被覆工具に比較して耐摩耗性をさらに向上させることができる。その理由については明らかでないが、被覆工具の表面に対して平行に向いている200面が中間膜の表面を多く占めるので耐摩耗性がさらに向上すると考えられる。また、酸化物膜との密着性が優れることから酸化物膜の優れた耐酸化性が十分に発揮され、被膜全体の耐摩耗性をさらに向上させると考えられる。本発明の中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布は、Schulzの反射法により測定することができる。Schulzの反射法は、図3に示すように2θを回折角として入射角と反射角がそれぞれθである等角度反射の光学系を使用し、試料面内のA軸を中心とするα回転と、試料面法線B軸を中心とするβ回転すなわち試料面内回転により、入射X線に対する試料の方向を変えて回折線の強度分布を測定する方法である。B軸が入射線と回折線とで決まる平面上にあるとき、α角を90度と定義する。α角が90度のときは、図4に示すように正極点図上で中心の点になる。具体的な測定方法として、例えば、株式会社リガク製X線回折装置RINT-TTRIIIの正極点測定プログラムを使用し、下記の測定条件および測定手法により、中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布を測定することができる。[測定条件]1TTRIII水平ゴニオメータ2極点用多目的試料台3走査方法:同心円4β走査範囲:0~360度/5度ピッチ5βスキャンスピード:180度/min6γ振幅:0mm[測定手法Schulzの反射法]1固定角度:中間膜の200面の回折角度を43.0~44.0度とする。2α走査範囲:20~90度5度ステップ3ターゲット:Cu、電圧:50kV、電流:250mA4発散スリット:1/4度5散乱スリット:6mm6発散縦制限スリット:5mm200面に関する正極点図の等高線からも最高強度を示すα角を読みとることができるが、図5に示すように200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布から、最高強度を示すα角を容易に求めることができる。本発明の中間膜の表面に物理蒸着法により被覆される酸化物膜は、AlCry2O3但し、yはAlとCrの合計に対するCrの原子比を表し、yは0.1≦y≦0.5を満足する。からなると、耐熱性および耐化学反応性が向上するので好ましい。これは、yが0.1未満のときは成膜プロセスが不安定で良い膜質が得られない場合があり、yが0.5を超えて多くなると酸化物膜の結晶粒が粗粒化し、耐クラック性が低下する場合があるためである。その中でも0.1≦y≦0.3であると、さらに好ましい。本発明の酸化物膜として具体的にはAl05Cr052O3、Al055Cr0452O3、Al06Cr042O3、Al07Cr032O3、Al08Cr022O3、Al09Cr012O3などを挙げることができる。本発明の酸化物膜の平均膜厚が0.01μm未満のときは酸化物膜としての耐熱性や耐化学反応性が十分に発揮できない場合があり、本発明の酸化物膜の平均膜厚が0.9μmを超えて厚くなると、被膜全体の密着性が低下して耐摩耗性が低下する場合があるので、本発明の酸化物膜の平均膜厚は0.01~0.9μmであることが好ましく、さらに好ましくは0.1~0.5μmである。本発明の上部膜は、QJ但し、Qは、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、AlおよびSiの中から選ばれる少なくとも1種の元素を表し、JはC、NおよびOの中から選ばれる少なくとも1種の元素を表す。で表される金属化合物からなると耐摩耗性が向上するので好ましい。本発明の上部膜として具体的にはTiN、TiCN、TiAlN、TiAlZrN、TiAlCrN、AlCrNなどを挙げることができ、さらに具体的にはTiN、TiCN、Ti033Al067N、Ti035Al065N、Ti05Al04Zr01N、Ti05Al04Cr01N、Ti055Al045N、Al07Cr03Nなどを挙げることができる。その中でも、QはTi、または、TiおよびAlであるとさらに好ましい。その中でも、本発明の上部膜は、TiAlzN但し、zはTiとAlの合計に対するAlの原子比を表し、zは0≦z≦0.7を満足する。からなるとさらに好ましい。これは、zが0.7を超えて多くなるとAlNが含まれるようになり耐摩耗性が低下する場合があるためである。その中でも0.45≦z≦0.7であると、さらに好ましい。本発明の上部膜の膜構成は、1層の単層膜、2層以上の多層膜のいずれでもよく、多層膜の1種である、組成が異なる厚さ5~100nmの薄膜を交互に積層させた交互積層膜でもよい。本発明の上部膜の平均膜厚は、0.2~2μmであると好ましく、さらに好ましくは0.4~2μmである。これは、本発明の上部膜の平均膜厚が0.2μm未満になると、酸化物膜の摩耗が早くなる場合があり、本発明の上部膜の平均膜厚が2μmを超えて厚くなると、被膜と基材との密着性が低下して耐摩耗性が低下する場合があるためである。本発明の被覆工具の表面を機械的処理によって平滑にすることにより、切削加工において、切りくず排出性の向上や切れ刃のチッピング抑制に効果があり、さらに切削寿命を長くすることができる。本発明の被覆工具は、耐摩耗性、耐欠損性および耐酸化性に優れるので、切削工具として優れた性能を示す。切削工具として例えば、インサート、ボールエンドミル、多刃エンドミル、ドリル、カッター、ブローチ、リーマ、ホブ、ルーターなどを挙げることができる。また、本発明の被覆工具は金型、パンチなどの耐摩工具として用いても優れた性能を示す。本発明の被覆工具は、クラック係数Rが0.07~0.12m05になるように基材に被膜を被覆する。例えば、1WC:75~93体積と、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、Wの炭化物、窒化物およびこれらの相互固溶体の少なくとも1種からなる立方晶相:0~5体積と、Coを主成分とした結合相:7~20体積とからなり、WCの平均粒径が0.5~2μmである超硬合金の基材を用意し、2中間膜、酸化物膜、上部膜などの被膜の金属元素の所定の成分比を持つターゲットを設置したアーク放電式イオンプレーティング装置内に基材を装入し、0.5Pa以下の真空中で、ヒーターにより基材温度が500~650°Cになるまで加熱する加熱工程と、3被膜の成膜を阻害する不純物を基材表面から除去するため、アーク放電式イオンプレーティング装置内にArガスを導入して、アーク放電式イオンプレーティング装置内の圧力:0.2~1Pa、Ar雰囲気、基材の直流バイアス電圧:-100~-600Vで基材表面を30~80分間エッチングするエッチング工程と、4アーク放電式イオンプレーティング装置内にN2などの原料ガスを導入して圧力を1~4Paに調整して基材の直流バイアス電圧:-50~-80V、アーク電流:150~200Aで中間膜の金属元素の所定の成分比を持つターゲットにアーク放電を60~360分間行い、中間膜を成膜する中間膜形成工程と、5酸化物膜の金属元素の所定の成分比を持つターゲットにアーク電流:120~170Aでアーク放電を開始し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にO2とN2の混合ガスを供給し、圧力を0.2~2Paとし、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-20~-60Vにして、アーク電流:120~170Aでアーク放電を1~5分間行い、次にアーク放電式イオンプレーティング装置内にO2ガスのみを供給して、圧力を0.2~2Paとし、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-20~-60Vにして、アーク電流:120~170Aで酸化物膜の金属元素の所定の成分比を持つターゲットにアーク放電を5~50分間行って、酸化物膜を成膜する酸化物膜形成工程と、6アーク放電式イオンプレーティング装置内にN2などの原料ガスを導入して圧力を1~4Paに調整し、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-20~-80Vにして、アーク電流:150~200Aで上部膜の金属元素の所定の成分比を持つターゲットにアーク放電を5~60分間行い、上部膜を成膜する上部膜形成工程とを経ると、クラック係数Rが0.07~0.12m05である本発明の被覆工具を得ることができる。[実施例1]基材として、WC:83.8体積と、Co合金94質量Co-6質量CrのCo合金:16.2体積とからなり、フルマンの式で得られたWCの平均粒径が0.8μmである超硬合金であって形状がISO規格CNMG120408の切削インサートを用意した。発明品1~4については、表1に示す中間膜、酸化物膜、上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットを設置したアーク放電式イオンプレーティング装置内に基材を装入し、0.5Pa以下の真空中でヒーターにより基材温度が600°Cになるまで加熱し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にArガスを導入して、アーク放電式イオンプレーティング装置内の圧力を0.8Paに調節してAr雰囲気とし、基材に対して、直流バイアス電圧:-250VでArエッチングを70分間行った後、アーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して圧力を2~3Paに調整して基材の直流バイアス電圧を-70V、アーク電流:180Aという条件で中間膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を260~300分間行い、表1に示す平均膜厚の中間膜を成膜した。次に酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットにアーク電流:130Aでアーク放電を開始し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にO2とN2の混合ガスを供給し、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-40Vにして、アーク放電を4分間行い、次にO2ガスのみを供給して、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-40Vにして、アーク電流:130Aで酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を15~35分間行い、表1に示す平均膜厚の酸化物膜を成膜した。次にアーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して装置内の圧力を2~3Paに調整し、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-40Vにして、アーク電流:180Aで上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を30~40分間行い、表1に示す平均膜厚の上部膜を成膜した。比較品1~4については、表1に示す中間膜、酸化物膜、上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットを設置したアーク放電式イオンプレーティング装置内に、発明品と同様に基材を装入し、0.5Pa以下の真空中でヒーターにより基材温度が600°Cになるまで加熱し、発明品と同じ条件で基材に対してArエッチングした後、アーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して圧力を2Paに調整して、基材の直流バイアス電圧:-100V、アーク電流:180Aという条件で中間膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を260~280分間行って表1に示す平均膜厚の中間膜を被覆した。次に酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットにアーク電流:130Aでアーク放電を開始し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にO2とN2の混合ガスを供給し、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-70Vにして、アーク電流:130Aでアーク放電を10分間行い、次に、アーク放電式イオンプレーティング装置内にO2ガスのみを供給し、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-70Vにして、アーク電流:130Aで酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を30~35分間行って、表1に示す平均膜厚の酸化物膜を被覆した。次に、比較品1、2については、アーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入し装置内の圧力を2~3Paに調整して、基材の直流バイアス電圧:-40V、アーク電流:180Aという条件で上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を30~60分間行い、表1に示す平均膜厚の上部膜を成膜した。また、比較品3、4については、アーク放電式イオンプレーティング装置内にC2H2とN2の混合ガスを導入して圧力を3Paに調整して、基材の直流バイアス電圧:-90V、アーク電流:180Aで上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を50分間行い、表1に示す平均膜厚の上部膜を成膜した。得られた試料の断面組織を光学顕微鏡、走査電子顕微鏡または透過電子顕微鏡で観察して各膜の平均膜厚を測定した。また、試料の断面組織を走査電子顕微鏡付属のエネルギー分散元素分析装置または透過電子顕微鏡付属のエネルギー分散元素分析装置を用いて各膜の組成を測定した。これらの結果は表1に示した。得られた試料について、上部膜と酸化物膜を研磨により除去した後、株式会社リガク製X線回折装置RINT-TTRIIIを用いて、2θ/θ法のX線回折測定を行った。測定条件は管電圧200kV、管電流15mA、X線源CuKα、X線入射スリット5mm、2θの測定範囲を10~140度とした。このとき、全試料の中間膜は立方晶のNaCl型構造であることを確認した。さらに、下記に示す測定条件および測定手法により中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布を測定した。[測定条件]1TTRIII水平ゴニオメータ2極点用多目的試料台3走査方法:同心円4β走査範囲:0~360度/5度ピッチ5βスキャンスピード:180度/min6γ振幅:0mm[測定手法Schulzの反射法]1固定角度:中間膜の200面の回折角度を43.1度とする。2α走査範囲:20~90度5度ステップ3ターゲット:Cu、電圧:50kV、電流:250mA4発散スリット:1/4度5散乱スリット:6mm6発散縦制限スリット:5mm試料の中間膜の回折線の中で最高ピーク高さを示す結晶面と、試料の中間膜の200面の正極点図のα軸のX線強度分布で最高強度を示すα角を測定し、これらの結果を表2に示した。また、クラック長さdcについては、松沢精機株式会社製ビッカース硬度計を用い、印加荷重196N、保持時間15秒の条件で押し込んでできた圧痕を走査電子顕微鏡で1000倍~3000倍の写真撮影をして、写真上でクラック長さdcを測定した。dcは3箇所の平均値とした。これらの結果は表2に示した。得られた試料について、150メッシュのダイヤモンド砥石で被膜を除去した後、さらに1500メッシュのダイヤモンド砥石で基材の表面から深さ21μm研磨した。その後、さらにダイヤモンド粒子の平均粒径が1μmのダイヤモンドペーストを用いて鏡面研磨した。鏡面研磨面にビッカース圧子を印加荷重196Nで押し込んで、ビッカース圧痕法により基材のKICを測定した。次に基材のKICとクラック長さdcからクラック係数Rを計算した。これらの結果は表2に示した。作製した被覆工具の切削性能を評価するため、以下の条件で切削試験した。[切削試験条件]被削材:SUS304円柱状、切削速度:Vc=150m/min、切り込み:ap=2mm、送り:f=0.3mm/rev、切削油:水溶性切削液使用、寿命の判断基準:逃げ面摩耗幅が0.3mmを超えたとき、あるいは刃先が欠損したときを工具寿命とする。表2に示されるように、クラック係数Rが0.08~0.11m05である発明品はクラック係数Rが0.13~0.16m05である比較品の1.2~3.3倍の工具寿命を示す。発明品の中間膜の回折線の中で、200面回折線のX線回折ピーク高さが最も高かった。また、発明品の中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布の最高強度を示すα角は85~90度の範囲であった。比較品3の中間膜は、111面回折線のX線回折ピーク高さが最も高かった。比較品1、2、4の中間膜は、200面回折線のX線回折ピーク高さが最も高かったが、比較品1、2、4の中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布の最高強度を示すα角は70度以下であった。[実施例2]基材として、WC:91.6体積と、Co合金94質量Co-6質量CrのCo合金:8.4体積とからなり、フルマンの式で得られたWCの平均粒径が0.8μmである超硬合金であって形状がISO規格CNMG120408の切削インサートを用意した。発明品5~7については、表3に示す中間膜、酸化物膜、上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットを設置したアーク放電式イオンプレーティング装置内に基材を装入し、0.5Pa以下の真空中でヒーターにより基材温度が600°Cになるまで加熱し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にArガスを導入して、アーク放電式イオンプレーティング装置内の圧力を0.8Paに調節してAr雰囲気とし、基材に対して、直流バイアス電圧:-250VでArエッチングを60分間行った後、アーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して圧力を2~3Paに調整して基材の直流バイアス電圧を-60V、アーク電流:200Aという条件で中間膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を200~210分間行い、表3に示す平均膜厚の中間膜を成膜した。次に酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットにアーク電流:160Aでアーク放電を開始し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にO2とN2の混合ガスを供給し、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-40Vにして、アーク電流:160Aでアーク放電を2分間行い、次にO2ガスのみを供給して、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-40Vにして、アーク電流:160Aで酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を15~35分間行い、表3に示す平均膜厚の酸化物膜を成膜した。次にアーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して装置内の圧力を2~3Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-40Vにして、アーク電流:200Aで上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を30~40分間行い、表3に示す平均膜厚の上部膜を成膜した。比較品5については、表3に示す中間膜、酸化物膜、上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットを設置したアーク放電式イオンプレーティング装置内に、発明品と同様に基材を装入し、0.5Pa以下の真空中でヒーターにより基材温度が600°Cになるまで加熱し、発明品と同じ条件で基材に対してArエッチングした後、アーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して圧力を2Paに調整して、基材の直流バイアス電圧:-30V、アーク電流:180Aという条件で中間膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を210分間行って表3に示す平均膜厚の中間膜を被覆した。次に酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットにアーク電流:190Aでアーク放電を開始し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にO2とN2の混合ガスを供給し、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-70Vにしてアーク電流:190Aでアーク放電を10分間行い、次に、O2ガスのみを供給して、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-70Vにして、アーク電流:190Aで酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を15分間行い、表3に示す平均膜厚の酸化物膜を成膜した。次にアーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して圧力を2~3Paに調整して、基材の直流バイアス電圧:-40V、アーク電流:180Aという条件で上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を20分間行い、表3に示す平均膜厚の上部膜を成膜した。比較品6、7については、表3に示す中間膜、酸化物膜、上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットを設置したアーク放電式イオンプレーティング装置内に、発明品と同様に基材を装入し、0.5Pa以下の真空中でヒーターにより基材温度が600°Cになるまで加熱し、発明品と同じ条件で基材に対してArエッチングした後、アーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して圧力を2Paに調整して、基材の直流バイアス電圧:-100V、アーク電流:200Aという条件で中間膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を200~210分間行って表3に示す平均膜厚の中間膜を被覆した。次に酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットにアーク電流:190Aでアーク放電を開始し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にO2とN2の混合ガスを供給し、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-70Vにして、アーク電流:190Aでアーク放電を10分間行い、次に、O2ガスのみを供給して、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-70Vにして、アーク電流:190Aで酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を30~35分間行い、表3に示す平均膜厚の酸化物膜を成膜した。次にアーク放電式イオンプレーティング装置内にC2H2とN2の混合ガスを導入し装置内の圧力を3Paに調整して、基材の直流バイアス電圧:-90V、アーク電流:180Aで上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を50分間行い、表3に示す平均膜厚の上部膜を成膜した。得られた試料の断面組織を光学顕微鏡、走査電子顕微鏡または透過電子顕微鏡で観察して各膜の平均膜厚を測定した。また、試料の断面組織を走査電子顕微鏡付属のエネルギー分散元素分析装置または透過電子顕微鏡付属のエネルギー分散元素分析装置を用いて各膜の組成を測定した。これらの結果は表3に示した。得られた試料について、上部膜と酸化物膜を研磨により除去した後、実施例1と同様の測定条件で、2θ/θスキャン法のX線回折測定を行った。このとき、全試料の中間膜は立方晶のNaCl型構造であることを確認した。さらに、全試料の中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布を、固定角度:中間膜の200面の回折角度を43.2度とした以外は実施例1と同様に測定した。試料の中間膜の回折線の中で最高ピーク高さを示す結晶面と、試料の中間膜の200面の正極点図のα軸のX線強度分布で最高強度を示すα角を測定し、これらの結果を表4に示した。また、実施例1と同様にして、クラック長さdcを測定した。これらの結果は表4に示した。得られた試料について、実施例1と同様にして基材のKICを測定した。次に基材のKICとクラック長さdcからクラック係数Rを計算した。これらの結果は表4に示した。作製した被覆工具の切削性能を評価するため、以下の条件で切削試験した。[切削試験条件]被削材:SUS304円柱状、切削速度:Vc=200m/min、切り込み:ap=1mm、送り:f=0.2mm/rev、切削油:水溶性切削液使用、寿命の判断基準:逃げ面摩耗幅が0.3mmを超えたとき、あるいは刃先が欠損したときを工具寿命とする。表4に示されるように、クラック係数Rが0.08~0.09m05である発明品はクラック係数Rが0.06m05または0.13m05である比較品の1.2~2.4倍の工具寿命を示す。なお、発明品の中間膜の回折線の中で、200面回折線のX線回折ピーク高さが最も高かった。また、発明品の中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布において最高強度を示すα角は85~90度の範囲であった。比較品6の中間膜は、111面回折線のX線回折ピーク高さが最も高かった。比較品5、7の中間膜は200面回折線のX線回折ピーク高さが最も高かったが、比較品5、7の中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布において最高強度を示すα角は70度以下であった。[実施例3]基材として、WC:78.6体積と、Nb,WC:2.5体積と、Co合金94質量Co-6質量CrのCo合金:18.9体積とからなり、フルマンの式で得られたWCの平均粒径が1.5μmである超硬合金であって形状がISO規格CNMG120408の切削インサートを用意した。発明品8、9については、表5に示す中間膜、酸化物膜、上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットを設置したアーク放電式イオンプレーティング装置内に基材を装入し、0.5Pa以下の真空中でヒーターにより基材温度が600°Cになるまで加熱し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にArガスを導入して、アーク放電式イオンプレーティング装置内の圧力を0.8Paに調節してAr雰囲気とし、基材に対して、直流バイアス電圧:-250VでArエッチングを60分間行った後、アーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して圧力を2~3Paに調整して基材の直流バイアス電圧を-50V、アーク電流:150Aという条件で中間膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を140~180分間行い、表5に示す平均膜厚の中間膜を成膜した。次に酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットにアーク電流:160Aでアーク放電を開始し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にO2とN2の混合ガスを供給し、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-40Vにして、アーク電流:160Aでアーク放電を5分間行い、次に、O2ガスのみを供給して、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-40Vにして、アーク電流:160Aで酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を15~35分間行い、表5に示す平均膜厚の酸化物膜を成膜した。次にアーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して装置内の圧力を2~3Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-40Vにして、アーク電流:150Aで上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を30~60分間行い、表5に示す平均膜厚の上部膜を成膜した。比較品8、9については、表5に示す中間膜、酸化物膜、上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットを設置したアーク放電式イオンプレーティング装置内に、発明品と同様に基材を装入し、0.5Pa以下の真空中でヒーターにより基材温度が600°Cになるまで加熱し、発明品と同じ条件で基材に対してArエッチングした後、アーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入して圧力を2Paに調整して、基材の直流バイアス電圧:-100V、アーク電流:150Aという条件で中間膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を140分間行って表5に示す平均膜厚の中間膜を被覆した。次に酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットにアーク電流:160Aでアーク放電を開始し、アーク放電式イオンプレーティング装置内にO2とN2の混合ガスを供給し、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-70Vにして、アーク放電を10分間行い、次に、O2ガスのみを供給して、圧力を0.5~1Paに調整して、基材のバイアス電圧をパルスが印加されたバイアス電圧:-70Vにして、アーク電流:160Aで酸化物膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を30~35分間行い、表5に示す平均膜厚の酸化物膜を成膜した。次にアーク放電式イオンプレーティング装置内にN2ガスを導入し装置内の圧力を2~3Paに調整して、基材の直流バイアス電圧:-40V、アーク電流:150Aという条件で上部膜の金属元素の成分比を持つターゲットに対してアーク放電を30~60分間行い、表5に示す平均膜厚の上部膜を成膜した。得られた試料の断面組織を光学顕微鏡、走査電子顕微鏡または透過電子顕微鏡で観察して各膜の平均膜厚を測定した。また、試料の断面組織を走査電子顕微鏡付属のエネルギー分散元素分析装置または透過電子顕微鏡付属のエネルギー分散元素分析装置を用いて各膜の組成を測定した。これらの結果は表5に示した。得られた試料について、上部膜と酸化物膜を研磨により除去した後、実施例1と同様の測定条件で、2θ/θ法のX線回折測定を行った。このとき、全試料の中間膜は、立方晶のNaCl型構造であり中間膜の中で200面回折線のピーク高さが最も高いことを確認した。さらに、中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布を実施例1と同様にして測定した。試料の中間膜の回折線の中で最高ピーク高さを示す結晶面と、試料の中間膜の200面の正極点図のα軸のX線強度分布で最高強度を示すα角を測定し、これらの結果を表6に示した。また、実施例1と同様にして、クラック長さdcを測定した。これらの結果は表6に示した。得られた試料について、ダイヤモンド砥石で基材の表面から深さ23μm研磨した以外は実施例1と同様にして基材のKICを測定した。次に基材のKICとクラック長さdcからクラック係数Rを計算した。これらの結果は表6に示した。作製した被覆工具の切削性能を評価するため、実施例1と同一の条件で切削試験した。表6に示されるように、クラック係数Rが0.11~0.12m05である発明品は、クラック係数Rが0.13~0.14m05である比較品の1.4~2倍の工具寿命を示す。なお、発明品の中間膜の回折線の中で200面回折線のX線回折ピーク高さが最も高かった。また、発明品の中間膜の200面に関する正極点図のα軸のX線強度分布最高強度を示すα角は90度であった。一方、比較品8、9の中間膜は200面回折線のX線回折ピーク高さが最も高かったが、比較品8、9の中間膜のα角は70度以下であった。"