"水溶液中に溶存する酒石酸COOHCHOHCHOHCOOHを、OHラジカルOHにて酸化分解することに基づき、蓚酸HOOC-COOHを製造する方法であって、次の第1,第2,第3,第4プロセスを順に辿り、該第1プロセスでは、酒石酸のカルボキシル基COOHについて、OHラジカルが、水素原子を奪って酸化し、自身は水に帰すと共に酸素原子を二重結合化させ、もって二酸化炭素CO2を遊離させ、該第2プロセスでは、該第1プロセスの残基について、その炭素原子Cの不対電子に対し、OHラジカルが付加し、もってグリオキサールCHO2が生成され、該第3プロセスでは、グリオキサールについて、OHラジカルが、水素原子を奪って酸化し、自身は水に帰すと共に炭素原子を不対電子有化し、該第4プロセスでは、炭素原子の不対電子にOHラジカルが付加し、もって蓚酸が合成されること、を特徴とする蓚酸の製造方法。請求項1において、合成される蓚酸は、濃度上昇に伴う水の電離HOH-を吸収する形で、そのカルボニル基の分極に基づき2水和物HOOC-COOH2H2Oとなり、飽和すると晶出すること、を特徴とする蓚酸の製造方法。請求項1において、OHラジカルは、フェントン法により、水溶液に対し過酸化水素H2O2と2価の鉄イオンFe2溶液を添加して、生成されること、を特徴とする蓚酸の製造方法。請求項1において、OHラジカルは、マイクロリアクタを利用した光酸化法により、光照射にて光触媒に形成された正孔holeが、水分子を酸化しラジカル分裂させることに基づき、生成されること、を特徴とする蓚酸の製造方法。請求項1において、合成された蓚酸は、事後、OHラジカルにて二酸化炭素CO2へと酸化分解される可能性があるが、酸化分解された二酸化炭素については、その分極化した一方のカルボニル基C=Oに対し、発生期の水素He-が還元付加反応することにより、蓚酸が再合成されること、を特徴とする蓚酸の製造方法。請求項5において、発生期の水素は、水分子がOHラジカルにて酸化分解されることにより、生成されること、を特徴とする蓚酸の製造方法。請求項5において、発生期の水素は、フェントン法について、OHラジカルの生成に際し得られた3価の鉄イオンFe3と過酸化水素との反応にて生成されたヒドロペルオキシラジカルHO2や、過酸化水素とOHラジカルとの反応にて生成されたヒドロペルオキシラジカルに基づき、生成されること、を特徴とする蓚酸の製造方法。ところで、このような従来技術については、次の課題が指摘されていた。従来技術のエチレングリコール酸化法については、原料であるエチレングリコールを予め化学合成し、準備しておかなければならないという問題と共に、蓚酸の製造装置自体の事後処理が面倒であるという指摘があった。すなわちエチレングリコールは、化学的に安定した物質である反面、製造装置内を事後に洗浄,廃水処理する際、その付着残留分が、通常の微生物処理では酸化分解困難である。もって、製造装置を事後に洗浄,廃水処理する際、化学的酸化分解処理を要していた。又、従来技術の一酸化炭素カップリング法や一酸化炭素蟻酸ナトリウム法では、原料として人体に有害な一酸化炭素を使用するので、製造装置の運用に際し、厳重な安全性への配慮が要請されていた。もって、蓚酸製造装置に多くの監視装置や事故防止装置が付設されていた。このように、従来技術の蓚酸の製造方法については、事前の化学合成準備や事後の化学的酸化分解処理、更には監視装置や事故防止装置の付設、等を要しており、製造コスト面に問題が指摘されていた。すなわち、工程が複雑であり、製造効率が悪く、製造設備が大掛りとなり、イニシアルコストやランニングコストが嵩み、製造された蓚酸の単価が、例えば他の汎用基礎化成品に比し高額となっていた。又、製造処理の安定性や確実性にも、問題が指摘されていた。《本発明について》本発明の蓚酸の製造方法は、このような実情に鑑み、上記従来技術の課題を解決すべくなされたものである。そして本発明は、蓚酸が簡単容易に、製造コスト面等に優れて製造可能となる、蓚酸の製造方法を提案することを、目的とする。《各請求項について》このような課題を解決する本発明の技術的手段は、特許請求の範囲に記載したように、次のとおりである。まず、請求項1については、次のとおり。請求項1の蓚酸の製造方法は、水溶液中に溶存する酒石酸COOHCHOHCHOHCOOHを、OHラジカルOHにて酸化分解することに基づき、蓚酸HOOC-COOHを製造する。そして、次の第1,第2,第3,第4プロセスを順に辿る。該第1プロセスでは、酒石酸のカルボキシル基COOHについて、OHラジカルが、水素原子を奪って酸化し、自身は水に帰すと共に酸素原子を二重結合化させ、もって二酸化炭素CO2を遊離させる。該第2プロセスでは、該第1プロセスの残基について、その炭素原子Cの不対電子に対し、OHラジカルが付加し、もってグリオキサールCHO2が生成される。該第3プロセスでは、グリオキサールについて、OHラジカルが、水素原子を奪って酸化し、自身は水に帰すと共に炭素原子を不対電子有化する。該第4プロセスでは、炭素原子の不対電子にOHラジカルが付加し、もって蓚酸が合成されること、を特徴とする。請求項2については、次のとおり。請求項2の蓚酸の製造方法では、請求項1において、合成される蓚酸は、濃度上昇に伴う水の電離HOH-を吸収する形で、そのカルボニル基の分極に基づき2水和物HOOC-COOH2H2Oとなり、飽和すると晶出すること、を特徴とする。請求項3については、次のとおり。請求項3の蓚酸の製造方法では、請求項1において、OHラジカルは、フェントン法により、水溶液に対し過酸化水素H2O2と2価の鉄イオンFe2溶液を添加して、生成されること、を特徴とする。請求項4については、次のとおり。請求項4の蓚酸の製造方法では、請求項1において、OHラジカルは、マイクロリアクタを利用した光酸化法により、光照射にて光触媒に形成された正孔holeが、水分子を酸化しラジカル分裂させることに基づき、生成されること、を特徴とする。請求項5については、次のとおり。請求項5の蓚酸の製造方法では、請求項1において、合成された蓚酸は、事後、OHラジカルにて二酸化炭素CO2へと酸化分解される可能性があるが、酸化分解された二酸化炭素については、その分極化した一方のカルボニル基C=Oに対し、発生期の水素He-が還元付加反応することにより、蓚酸が再合成されること、を特徴とする。請求項6については、次のとおり。請求項6の蓚酸の製造方法では、請求項5において、発生期の水素は、水分子がOHラジカルにて酸化分解されることにより、生成されること、を特徴とする。請求項7については、次のとおり。請求項7の蓚酸の製造方法では、請求項5において、発生期の水素は、フェントン法について、OHラジカルの生成に際し得られた3価の鉄イオンFe3と過酸化水素との反応にて生成されたヒドロペルオキシラジカルHO2や、過酸化水素とOHラジカルとの反応にて生成されたヒドロペルオキシラジカルに基づき、生成されること、を特徴とする。《作用等について》本発明は、このような手段よりなるので、次のようになる。1フェントン処理装置のフェントン処理槽や、マイクロリアクタのマイクロ流路に、酒石酸溶存水が供給される。2そしてフェントン処理槽では、OHラジカルが生成される。発生期の水素も、水分子の酸化分解やヒドロペルオキシラジカルを経由して生成される。3他方、マイクロ流路では、OHラジカルが、光触媒への光照射そして水分子の酸化,ラジカル分裂に基づき生成される。発生期の水素も、水分子の酸化分解により生成される。4そして、生成されたOHラジカルが酒石酸を酸化分解することに基づき、グリオキサールを経て蓚酸が合成される。5合成された蓚酸は、更に、次の各ルートを辿ることが考えられる。まず、OHラジカルにて二酸化炭素へと酸化分解される可能性があるが、生成された二酸化炭素は、発生期の水素にて分極,還元されて、元の蓚酸へと再合成,再生,回帰される。6そして、合成され濃度が上昇した蓚酸は2水和物となり、飽和すると晶出する。7他方、合成される蓚酸については、グリオキサールそしてエチレングリコールを生成する還元反応が、進行する可能性もある。8さて上述したように、本発明は、フェントン処理装置や光触媒担持マイクロリアクタを利用し、OHラジカルを生成して酒石酸を酸化分解することに基づき、蓚酸を合成する。更に発生期の水素を生成して、生成される二酸化炭素を元の蓚酸へと再合成させる。このように、簡単容易な構成と工程により、スムーズ,安定的,かつ確実に、蓚酸を製造可能である。9そこで、本発明の蓚酸の製造方法は、次の効果を発揮する。蓚酸が、簡単容易に製造コスト面等に優れて、製造可能となる。すなわち、本発明の製造方法では、フェントン法や光触媒担持マイクロリアクタを利用し、強力な酸化力等と共に簡単容易化された工程や製造設備により、処理の安定性,確実性,イニシアルコスト,ランニングコスト等々に優れつつ、蓚酸を高い収率で大量生産可能となる。更に、工業的価値の高いグリオキサールそしてエチレングリコールへの変換も、容易である。又、前述したこの種従来技術の製造方法のように、事前の化学合成準備や、事後の化学的酸化分解処理、更には監視装置や事故防止装置の付設等も、要することがなく、これらの面からも蓚酸の大幅コストダウン,低価格化が実現される。このように、この種従来技術に存した課題がすべて解決される等、本発明の発揮する効果は、顕著にして大なるものがある。以下、本発明を実施するための形態について、詳細に説明する。《説明順序》本発明の蓚酸の製造方法について、まず、前提となるフェントン法,OHラジカルの生成反応,発生期の水素の生成,マイクロリアクタ、等について説明する。それから、蓚酸合成の概要,蓚酸合成の詳細,二酸化炭素の生成その後のルート1,蓚酸の再合成,蓚酸水和物その後のルート2,グリオキサールやエチレングリコールの生成その後のルート3、等の順に説明する。そして最後に、作用等について説明する。《フェントン法》まず図1を参照して、本発明の前提となるフェントン法に基づくOHラジカルの生成について、説明する。すなわち、本発明の蓚酸の製造方法では、OHラジカルOHを生成して、酒石酸COOHCHOHCHOHCOOHを酸化分解することに基づき、蓚酸HOOC-COOHを生成する。OHラジカルの生成法としては、フェントン法が代表的であるので、まずフェントン法について説明する。図示したフェントン処理装置1は、原水槽2,フェントン処理槽3,回収槽4を順に備えており、フェントン処理槽3には、過酸化水素添加手段5,鉄イオン添加手段6,pH調整手段7,8等、が付設されている。このようなフェントン法について、更に詳述する。まず原水槽2には、溶媒である純水H2Oに酒石酸が溶質として溶解された酒石酸溶存水が、原水として準備される。フェントン処理槽3は、pH調整手段7にて硫酸H2SO4や、pH調整手段8にてカセイソーダNaOHが必要に応じ添加され、もって常時pH3~5程度の弱酸性に調整されている。そして、原水槽2からフェントン処理槽3に供給された酒石酸溶存水に対し、反応当初において、過酸化水素添加手段5から過酸化水素H2O2の水溶液が、全量添加される。それから、過酸化水素が添加されたフェントン処理槽3に対し、間欠的に複数サイクル繰り返して、鉄イオン添加手段6から2価の鉄イオンFe2溶液が、分割添加される。すなわち、液中で2価の鉄イオンを生じる物質、例えば硫酸第一鉄7水和物FeSO47H2Oが、このような鉄塩として代表的に使用されるが、その他の無水塩や含水塩、例えば塩化鉄FeCl2やその水和物も使用可能である。なお、鉄イオン添加手段6から添加される鉄イオンとしては、2価の鉄イオンFe2が代表的であるが、これに代え3価の鉄イオンFe3も使用可能である。フェントン処理槽3内では、供給された酒石酸溶存水について、添加された過酸化水素と鉄イオンにて、OHラジカルOHが酸化剤として生成される。OHラジカルつまりヒドロキシラジカルは、周知のように強力な電子奪取力,酸化力,分解力を有すると共に、ラジカルで反応性に富んでおり、反応が激しいだけに存在時間が瞬間的であり、寿命の短い化学種でもある。フェントン法については、以上のとおり。《OHラジカルの生成反応》次に、このようなフェントン法に基づくOHラジカルの生成反応について、説明しておく。フェントン処理装置1のフェントン処理槽3内では、以下の反応式に基づきOHラジカルが生成される。第1に、まず、添加された過酸化水素が、添加された鉄イオンにて還元されて、OHラジカルが生成される。次の化1,化2の反応式を参照。化1と化2の反応式を合成すると、化3の反応式となる。これがフェントン主反応である。第2に、上記第1のようにOHラジカルが生成されると共に、上記化2の反応式の過酸化水素の還元反応にて生成された水酸化イオンOH-が、上記化1の反応式の2価の鉄イオンの酸化反応にて生成された3価の鉄イオンにて酸化されて、OHラジカルが生成される。次の化4,化5の反応式を参照。このように、付随的,副次的,連鎖的な、OHラジカル生成も考えられる。第3に、更に前記化3化1,化2や上記化4,化5の反応式にて生成されたOHラジカルが、溶媒の水と反応して、新たなOHラジカルと水とを生成する反応も、付随的,副次的,連鎖的に考えられる。次の化6,化7の反応式を参照。フェントン法では、このようにフェントン処理槽3において、主反応や各付随的,副次的,連鎖的反応によって、水溶液中に酸化剤であるOHラジカルが生成される。OHラジカルの生成反応については、以上のとおり。《発生期の水素の生成》次に、発生期の水素の生成工程について、図1も参照して説明しておく。酒石酸の酸化分解に基づき合成された蓚酸は、事後、二酸化炭素へと酸化分解される可能性があるが、酸化分解された二酸化炭素は、発生期の水素He-が還元付加反応することにより、蓚酸へと再合成されることになる。フェントン処理装置1のフェントン処理槽3内の水溶液中での発生期の水素の生成については、次の第1又は第2の工程が考えられる。次の第1,第2のいずれかの生成工程により、発生期の水素が生成される。まず、第1の生成工程については、次のとおり。この工程において、発生期の水素は、水分子が前述により生成されたOHラジカルにて酸化攻撃され、酸化分解されることにより、生成される。すなわち、フェントン処理槽3内では、下記の化8の反応式のように、OHラジカルは、水分子H2Oから水素原子を奪って酸化分解し、自身は水に回帰すると共に、酸素分子O2を発生させつつ、発生期の水素He-を、生成せしめる。還元剤として機能する発生期の水素発生期の原子状水素,水素ラジカルとも称されるが、生成されて水相に拡散遊離する。なお生成された発生期の水素が、水素分子化することは、3価の鉄イオンが触媒的に作用することにより、抑制されるこの点は、後述する第2の生成工程についても同様。すなわちフェントン法では、フェントン処理槽3内に、前述したように2価の鉄イオンや3価の鉄イオンが存在する化1,化5の反応式を参照。そして、2価の鉄イオンFe2の3価の鉄イオンFe3への酸化時に、電子が放出され、3価の鉄イオンの2価の鉄イオンへの還元時に、電子が捕捉されることに基づき、発生期の水素He-の水素分子H2化が抑制される。一旦捕捉されていた電子が放出され、もってプロトンHと共に発生期の水素となる。第2の生成工程については、次のとおり。この工程において、発生期の水素は、OHラジカルの生成に際し得られた3価の鉄イオンFe3と過酸化水素H2O2との反応にて生成されたヒドロペルオキシラジカルHO2や、過酸化水素とOHラジカルとの反応にて生成されたヒドロペルオキシラジカル、に基づき生成される。すなわち、フェントン処理槽3内では、前記化3化1の反応式の2価の鉄イオンの酸化反応にて生成された3価の鉄イオンと、添加されていた過酸化水素とが、下記の化9の反応式にて反応し、ヒドロペルオキシラジカルが生成される可能性がある。過酸化水素がプロトンHを遊離し、3価の鉄イオンが2価の鉄イオンに還元,再生されると共に、ヒドロペルオキシドHO2に電子1個が付加されたヒドロペルオキシラジカルHO2が生成される。他方、前述により生成されたOHラジカルが、下記の化10の反応式にて、過酸化水素と反応することによっても、ヒドロペルオキシラジカルが生成される可能性もある。OHラジカルが過酸化水素の水素原子を奪って酸化し、自身は水に回帰すると共に、ヒドロペルオキシラジカルを生成せしめる。そして、このように生成されたヒドロペルオキシラジカルは、次の化11の反応式にて、発生期の水素He-と酸素分子とに容易に分解される。このような生成反応に基づき、発生期の水素が生成される。発生期の水素の生成については、以上のとおり。《マイクロリアクタ9に於けるOHラジカル及び発生期の水素の生成について》次に、図2を参照して、光触媒10担持マイクロリアクタ9について、説明する。本発明では、前提となるOHラジカルの生成、更には発生期の水素の生成について、上述したフェントン法に換え、光触媒10担持マイクロリアクタMR9を、採用することも可能である。すなわちOHラジカルが、マイクロリアクタ9を利用した光酸化法により、紫外線等の光照射にて光触媒10に形成された正孔が、水分子を酸化しラジカル分裂させることに基づき生成される。そして発生期の水素は、水分子がOHラジカルにて酸化分解されることにより生成される。このようなマイクロリアクタ9について、更に詳述する。酒石酸溶存水が、原水として原水槽2から、シリンジポンプ等のマイクロポンプ11やマイクロチューブ12を経由して、例えば肉厚2mm程度の3枚重ねのガラスプレート13製のマイクロリアクタ9に形成されたマイクロ流路14に、圧入供給される。もって酒石酸溶存水が、微細構造のマイクロ流路14内を層流となって流れる。マイクロ流路14は、流路幅が数10μm~数1,000μm程度、例えば100μm~500μm程度で、流路深さが数μm~数100μm程度、例えば25μm~100μm程度よりなると共に、図示例ではチャンネル状,略ジグザグ蛇行状に中央のガラスプレート13に刻設形成されている。これと共に、マイクロ流路14に対しては、代表的には、UV-LED等の紫外線照射手段15から、例えば波長20nm~300nm程度の紫外線光量子hνが照射される。なお紫外線照射に代え、例えば波長400nm~700nm程度の可視光線を照射することも可能である。もって、マイクロ流路14に塗布され付着コートされた例えば二酸化チタンよりなる光触媒10は、表面の原子構造の外殻軌道定常軌道の電子e-が、光励起されて励起軌道に移るので、外殻軌道には、電子欠損空孔である正孔holeが形成される。下記化12の反応式を参照。すると、酒石酸溶存水の溶媒である水分子H2Oは、接触する光触媒10の正孔にて、電子e-が引き抜かれ収奪されて酸化され、もって、プロトンHとOHラジカルOHとにラジカル分裂する。下記化13の反応式を参照。そして、水相に生成された酸化剤であるOHラジカルは、溶媒の水分子を酸化分解し、もって酸素分子O2を生成,遊離しつつ、還元剤として機能する発生期の水素He-を生成せしめ、自らは水に回帰する。下記化14の反応式を参照。化12,13,14の反応式を合成すると、化15の反応式となる。なお、生成されて水相に遊離した発生期の水素は、光触媒10に形成された正孔に一旦吸着されるか、電子が一旦引き抜かれた後に放電されるので、その水素分子化は抑制され、水相にプロトンが遊離する。マイクロリアクタ9に於けるOHラジカル及び発生期の水素の生成については、以上のとおり。《蓚酸合成の概要》次に、蓚酸合成の概要について説明する。本発明では、水溶液中に溶存する酒石酸HOOC-CH-OH-CH-OH-COOHを、OHラジカルOHにて酸化分解することに基づき、蓚酸HOOC-COOHを製造する。すなわち、酒石酸溶存水が、次の第1,第2,第3,第4プロセスを順に辿ることにより、時間経過と共に蓚酸を合成する。第1プロセスでは、酒石酸のカルボキシル基COOHの水酸基OHについて、OHラジカルが、水素原子Hを奪って酸化する。そして、自身は水H2Oに帰すと共に、酸素原子Oを二重結合化させ、もって二酸化炭素CO2を遊離させる。下記の化16の反応式を参照。第2プロセスでは、第1プロセスの残基の過渡的生成物CHOH2について、その炭素原子Cの不対電子に対し、OHラジカルが付加する。もって、グリオキサールCHO2が生成される。下記の化17の反応式を参照。第3プロセスでは、生成されたグリオキサールについて、OHラジカルが、水素原子Hを奪って酸化する。もって、自身は水H2Oに帰すと共に、炭素原子Cを不対電子有化する。第4プロセスでは、残基の炭素原子の不対電子に、OHラジカルが付加する。もって、蓚酸HOOC-COOHが合成される。第3,第4プロセスについては、下記の化18の反応式を参照。蓚酸合成の概要については、以上のとおり。《蓚酸合成の詳細》次に、このような酸化分解に基づく蓚酸の合成について、図1,図2も参照して、詳述する。前述したように、フェントン処理装置1のフェントン処理槽3内や、光触媒10担持マイクロリアクタ9のマイクロ流路14内には、酒石酸溶存水が供給されると共に、OHラジカルが生成されて水相分散する。酒石酸は、ブドウその他の果実中に存在するが、特に、ブドウ酒発酵の際に沈殿する酒石から作られることが、知られている。そして、2個の水酸基を有するカルボン酸、つまりヒドロキシ酸であり、常温常圧下では無色の結晶であるが、水に易溶であり酒石酸溶存水が容易に得られる。そして、フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内に供給された酒石酸溶存水が、前記した反応式化16,化17,化18の反応式を辿ることにより、蓚酸が合成される。下記の化19,20,21,22は、その構造式のプロセス模式図であり、化19,20が前記化16の反応式に対応し、化21が前記化17の反応式に対応し、化22が前記化18の反応式に対応する。これらの構造式等に基づき、前述した第1~第4プロセスについて更に詳述する。まず第1プロセスについては、次のとおり。化16の反応式や化19の構造式に示したように、酒石酸は、2モルのOHラジカルの酸化攻撃を受ける。もって、その2モルのカルボキシル基COOHの水酸基OHの水素原子2モルを、OHラジカルにより奪われて酸化され、OHラジカルは水に帰す。そして、酸化攻撃直後の残基は、まず、電子移動により過渡的に電子状態が変化する。すなわち、化16の反応式や化20の構造式に示したように、それぞれ水素原子を奪われたカルボキシル基の水酸基の酸素原子2モルは、それぞれ、酸素原子端の不対電子と、C-C結合の対電子の1個ずつの取り分けとにより、炭素原子と2重結合化つまりカルボニル基C=O化する。もって、2モルの二酸化炭素CO2が生成されて、系外に遊離する。第2プロセスについては、次のとおり。上述したように2モルのカルボキシル基が遊離した残基の過渡的生成物CHOH2について、OHラジカルが付加する。すなわち、化17の反応式や化21の構造式に示したように、残基について、不対電子を有する2個の炭素原子炭素ラジカルに、それぞれ、引き続く2モルのOHラジカルが付加する。もって、水と共に2価のアルデヒドであるグリオキサールCHO2が生成される。第3プロセスおよび第4プロセスについては、次のとおり。このように生成された1モルのグリオキサールは、化18の反応式や化22の構造式に示したように反応する。すなわち、まず2モルのOHラジカルの酸化攻撃を受け、もって、その水素原子2モルをOHラジカルにより奪われて酸化され、炭素原子が不対電子有化すると共に、OHラジカルは水に帰す。そして、炭素原子の不対電子に、それぞれOHラジカル2モルが付加することにより、1モルの蓚酸が合成される。フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内では、このようにして、出発物質である1モルの酒石酸から、1モルの蓚酸が生成物質として合成される。もって、蓚酸の水溶液が、遂時的,連続的に回収槽4に回収される。蓚酸生成の詳細については、以上のとおり。《二酸化炭素の生成その後のルート1》次に、このように合成された蓚酸について、その後のルートの可能性について、図1,図2も参照して説明する。合成された蓚酸は、更にその後、それぞれ遂時的,連鎖的に、次の各ルート1,2,又は3へと、反応等が進行して行く可能性がある。まず、蓚酸合成後のルート1として、二酸化炭素の生成について、説明する。前述により合成された蓚酸HOOC-COOHは、事後、OHラジカルにて二酸化炭素CO2へと、酸化分解される可能性がある。化23は、その構造式のプロセス模式図である。このような二酸化炭素の生成について、上記化23の構造式を参照して更に詳述する。前述したように、フェントン処理装置1のフェントン処理槽3内や、光触媒10担持マイクロリアクタ9のマイクロ流路14内では、所期の通り、水溶液中に蓚酸が合成される。しかし合成された蓚酸は、前述により生成されていたOHラジカルの酸化攻撃を受けることにより、その2モルのカルボキシル基COOHの水酸基OHの水素原子2モルを、OHラジカルにより奪われて酸化され、OHラジカルは水に帰す。そして残基は、電子移動に伴い電子状態が変化する。すなわち、それぞれ水素原子を奪われた酸素原子2モルは、それぞれ、酸素原子端の不対電子と、C-C結合の対電子の1個ずつの取り分けとにより、炭素原子と2重結合化つまりカルボニル基C=O化する。OHラジカルによる酸化雰囲気下では、炭素原子に対する酸素原子の酸化度合いが高められ、分極構造C-O-はカルボニル構造化する。このようにして水溶液中では、1モルの蓚酸が2モルの二酸化炭素へと、酸化分解される可能性がある。二酸化炭素の生成その後のルート1については、以上のとおり。《蓚酸の再合成》次に、蓚酸の再合成について、説明する。フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内において、このように蓚酸が酸化分解されて生成された溶存二酸化炭素は、その分極化する一方のカルボニル基に対し、発生期の水素が還元付加反応することにより、元の蓚酸へと再合成,回帰,再生されることになる。すなわち、生成された二酸化炭素について、一方のカルボニル基C=Oが分極してカチオン化した炭素原子Cとアニオン化した酸素原子O-に対し、発生期の水素He-の電子e-とプロトンHが、それぞれ還元付加反応し、もって、2モルの二酸化炭素の炭素間が単結合することにより、1モルの蓚酸が再合成されることになる。次の化24は、その反応式であり、化25,化26は、その構造式のプロセス模式図である。このような蓚酸の再合成について、更に詳述する。前述したように、フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内では、水溶液中に発生期の水素が生成されることが考えられ、もって還元雰囲気が形成される。還元雰囲気下においては、溶存炭酸ガスつまり二酸化炭素O=C=Oは、次のようになる。すなわち、その共鳴的に移動するいずれか一方のカルボニル基C=Oは、分子式の炭素原子と酸素原子間の電気陰性度2原子間の電子引き付け度の差異に基づき、炭素原子より電気陰性度が強い酸素原子の影響で、部分分極している。カルボニル構造の電子は、カルボニル構造が崩され酸素原子側に引き付けられることで、結合が分極化する酸化雰囲気下のカルボニル構造C=Oから、還元雰囲気下の分極構造C-O-へ。化25の構造式を参照。そして、このように分極した二酸化炭素を、発生期の水素He-が還元攻撃する。すなわち、分極してプラス電荷を帯びカチオン化した炭素原子カルボカチオン,Cに対し、発生期の水素の電子e-が、還元付加反応する。これと共に、マイナス電荷を帯びアニオン化した酸素原子O-に対し、発生期の水素のプロトンHが、還元付加反応する。このように、発生期の水素その生成については、前述した所を参照は、電子とプロトンの供給源となり、両者に連鎖的に弁別され、分極状態の二酸化炭素O=C-O-に取付いて反応する。その結果、2モルの二酸化炭素の炭素の不対電子上述により炭素に還元付加反応した電子同士が、共有電子対となって結合することにより、つまりカルボキシル基COOH間で炭素が単結合することにより、蓚酸HOOC-COOHが二量体として合成される。化26の構造式を参照。フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内では、このようにして、蓚酸が酸化分解して生成された2モルの二酸化炭素が、2モルの発生期の水素にて還元されて、1モルの蓚酸が再合成される。化24の反応式を参照。もって、蓚酸の水溶液が、遂時的,連続的に回収槽4に回収されるようになる。蓚酸の再合成については、以上のとおり。《蓚酸水和物その後のルート2》次に、蓚酸合成後のルート2として、蓚酸水和物について説明する。前述した所に基づき酒石酸から合成される蓚酸は、その濃度上昇に伴う水の電離HOH-を吸収する形で、そのカルボニル基の分極に基づき2水和物HOOC-COOH2H2Oとなり、飽和すると晶出する。化27,化28,化29は、これらの構造式のプロセス模式図である。このような蓚酸水和物について、更に詳述する。フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内では、蓚酸の酸化合成反応が進展し、水溶液中の蓚酸濃度が向上していく。そして蓚酸濃度の上昇は、蓚酸の電離平衡変化を促すが、それに見合う水の電離変化も促す。そして、電離した水HOH-が、蓚酸の2モルのカルボニル基C=Oの部分分極C-O-と反応する。化27の構造式を参照。そして、このような分極が部分的な水の電離を吸収する形で、蓚酸の2水和物HOOC-COOH2H2Oが形成される化28の構造式を参照。つまり、同一炭素原子に接続する2モルの水酸基-OHは、構造水H2Oと、炭素原子に接続する二重結合の酸素原子=Oと、みなせる。そして回収槽4には、このような蓚酸の2水和物が回収される。水溶液中の蓚酸の濃度が更に上昇して飽和点に達すると、蓚酸の2水和物は、液体からの結晶化,固体化が始まり、2水和物結晶として晶出する。化28の構造式を参照。この2分子の結晶水を含む蓚酸の2水和物結晶,結晶蓚酸は、水溶液の系外に出たことになり、2水塩で安定する水の電離で生じている水酸イオンOH-が求核剤となり、そのカチオン化した炭素原子Cに対し、付加和合する。そして、濾過等により取出される。なお結晶水を飛ばすと、粉状の無水和物である無水蓚酸の結晶となる。化29の構造式を参照。蓚酸水和物については、以上のとおり。《グリオキサール,エチレングリコールの生成その後のルート3》次に、蓚酸合成後のルート3として、グリオキサール,エチレングリコールの生成について、説明する。フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内では、前述したように、蓚酸の酸化合成が進展する。そして、このように合成された蓚酸最も簡単な2価のカルボン酸は、グリオキサールCHO2最も簡単な2価のアルデヒド、そして、エチレングリコールHOCH2CH2OH最も簡単な2価のアルコールへと、還元反応される可能性がある。化30,化31,化32,化33は、これらの構造式のプロセス模式図である。このようなグリオキサール,エチレングリコールの生成について、更に詳述する。まず蓚酸は、前述した水和物結晶化前の水溶液中にあることを前提に、その濃度上昇に伴い、カルボニル基C=Oが分極化し電離状態となり易い。化30の構造式を参照。分極化については、前記化27の構造式や発生期の水素による還元雰囲気等について、前述した所を参照。そして、分極してプラス電荷を帯びカチオン化した炭素原子カルボカチオン,Cに対し、ヒドリドイオンH-が還元付加反応する。これと共に、マイナス電荷を帯びアニオン化した酸素原子O-に対し、発生期の水素等のプロトンHが随伴して、還元付加反応する。化30の構造式を参照。もって、グリオキサールOHC-CHOが、生成される。化31の構造式を参照。グリオキサールは、防腐保存液,皮なめし,レーヨン防縮加工等に用いられる。なお、上記したヒドリドイオンH-、つまりH2e-は、水素原子に電子1個が付加して生じたイオンであり、このように陰イオン化した水素は、前述により発生期の水素He-化8,化11,化14,化15等の反応式を参照に基づき、生成される。フェントン法の場合は、添加された2価の鉄イオンFe2と発生期の水素との反応により、3価の鉄イオンFe3と共に生成される。そして、このように生成されたグリオキサールは、融点の15°C以上であれば晶出することなく水溶液として存在するので、前述に準じ、そのカルボニル基が分極化する。化32の構造式を参照。そして、ヒドリドイオンやプロトンが還元付加反応することにより、常温下で液体のエチレングリコールが生成される。化33の構造式を参照。エチレングリコールは、周知のように、PET樹脂,ポリエステル,不凍液,ダイナマイト,溶媒等々、プラスチック,合成繊維,その他の原料として広く用いられる。グリオキサール,エチレングリコールの生成その後のルート3については、以上のとおり。《作用等》本発明の蓚酸の製造方法は、以上説明したように構成されている。そこで、以下のようになる。1フェントン処理装置1やマイクロリアクタ9について、酒石酸HOOC-CH-OH-CH-OH-COOHの溶存水が、原水槽2からフェントン処理槽3やマイクロ流路14に、供給される図1,図2を参照。2フェントン処理装置1のフェントン処理槽3内では図1を参照、前提となるOHラジカルOHが、過酸化水素H2O2と2価の鉄イオンFe2溶液を用いるフェントン法に基づき、生成される化1~7を参照。なお発生期の水素He-も、OHラジカルが水分子を酸化分解することにより化8を参照、又は、OHラジカルが過酸化水素と反応しヒドロペルオキシラジカルHO2を経由することにより、生成される化10,化11を参照。ヒドロペルオキシラジカルそして発生期の水素は、3価の鉄イオンFe3と過酸化水素の反応によっても、生成される化9,化11を参照。3他方、マイクロリアクタ9のマイクロ流路14内では図2を参照、前提となるOHラジカルが、光触媒10への紫外線等の光照射そして水分子の酸化,ラジカル分裂に基づき、生成される化12,化13を参照。なお発生期の水素も、OHラジカルによる水分子の酸化分解にて、生成される化14,化15を参照。4もって、フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内において、OHラジカルが、水溶液中に溶存する酒石酸を酸化分解することに基づいて、蓚酸HOOC-COOHが合成される化16,化17,化18を参照。すなわち、1モルの酒石酸のカルボキシル基COOHについて、OHラジカルが水素原子Hを奪って酸化すると共に、その酸素原子Oを二重結合化させ、もって二酸化炭素CO2として遊離させる。そして、残基の炭素原子Cの不対電子にOHラジカルが付加して、グリオキサールCHO2が生成される。それからグリオキサールについて、OHラジカルが水素原子を奪って酸化すると共に、その炭素原子を不対電子有化し、この不対電子にOHラジカルが付加することにより、1モルの蓚酸が合成される化19,化20,化21,化22を参照。5フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内において、このように酒石酸の酸化分解等に基づいて合成された蓚酸は、更にその後、それぞれ遂時的,連鎖的に、次の各ルート1,2,又は3を辿る可能性がある。まず、合成後のルート1として、合成された蓚酸は、OHラジカルにて二酸化炭素CO2へと酸化分解される可能性がある化23を参照。そして、このように生成された二酸化炭素は、発生期の水素He-にて分極,還元されて、元の蓚酸へと再生,回帰される化24,化25,化26を参照。6合成後のルート2として、フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内において、このように合成されて行く蓚酸は、濃度上昇に伴い次のようになる。すなわち蓚酸は、濃度上昇に伴う水の電離HOH-を吸収する形で、そのカルボニル基C=Oの分極に基づき2水和物HOOC-COOH2H2Oとなり、飽和すると晶出する化27,化28,化29を参照。7更に、合成後のルート3として、フェントン処理槽3内やマイクロ流路14内において合成される蓚酸については、次のように還元される可能性もある。すなわち蓚酸について、カルボニル基の分極と、ヒドリドイオンH-やプロトンHの還元付加反応とに基づき、グリオキサールCHO2、そしてエチレングリコールHOCH2CH2OHを生成する反応が、進行することも考えられる化30,化31,化32,化33を参照。8以上のように、本発明の蓚酸の製造方法は、フェントン処理装置1や光触媒10担持マイクロリアクタ9を利用し、OHラジカルを生成して、酒石酸を酸化分解することに基づき、蓚酸を合成する。更に、生成される発生期の水素にて、事後生成される二酸化炭素を元の蓚酸へと再合成,回帰,再生せしめる。このように、フェントン法やマイクロリアクタを利用することにより、簡単容易な構成の製造設備と、強力な酸化力等によるスムーズな工程とにより、蓚酸が、安定的かつ確実に高い収率で製造可能となる。本発明の作用等については、以上のとおり。"