"少なくとも総アシル置換度2.0~2.5であるセルロースアシレート及び下記一般式FAで表される総平均置換度が3.0~6.5の範囲内である化合物を含有するλ/4板上にハードコート層を設けるハードコート付きλ/4板の製造方法であって、該λ/4板を温水浸漬処理、または水蒸気処理した後連続してハードコート層の塗設を行うことを特徴とするハードコート付きλ/4板の製造方法。式中、R1~R8は、各々独立に、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、若しくは、置換又は無置換のアリールカルボニル基を表し、R1~R8は相互に同じであっても、異なっていてもよい。前記ハードコート層が親水性活性線硬化型樹脂を含有することを特徴とする請求項1に記載のハードコート付きλ/4板の製造方法。前記λ/4板が幅手方向と当該λ/4板の面内の遅相軸のなす角度が40~50°の範囲内となるように斜め延伸処理された長尺状のλ/4板であることを特徴とする請求項1または2に記載のハードコート付きλ/4板の製造方法。前記ハードコート層の表面に少なくとも低屈折率層を有する反射防止層が設けられていることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のハードコート付きλ/4板の製造方法。請求項1~4のいずれか1項に記載のハードコート付きλ/4板の製造方法によって製造されたハードコート付きλ/4板を偏光子の少なくとも一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。請求項5に記載の偏光板を液晶セルの視認側に貼合したことを特徴とする液晶表示装置。請求項6に記載の液晶表示装置と液晶シャッタメガネとからなる立体映像表示装置であって、当該液晶シャッタメガネが、1λ/4板、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている、または2λ/4板、偏光子、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている液晶シャッタメガネであることを特徴とする立体映像表示装置。従って本発明の目的は、視認性に影響する微少スジ、ムラのないハードコート付きλ/4板の製造方法を提供することにあり、かつ該ハードコート付きλ/4板を用いた偏光板、液晶表示装置、及びクロストーク等の視認性が改善された立体映像表示装置を提供するものである。本発明の上記目的は以下の構成により達成される。1.少なくとも総アシル置換度2.0~2.5であるセルロースアシレート及び下記一般式FAで表される総平均置換度が3.0~6.5の範囲内である化合物を含有するλ/4板上にハードコート層を設けるハードコート付きλ/4板の製造方法であって、該λ/4板を温水浸漬処理、または水蒸気処理した後連続してハードコート層の塗設を行うことを特徴とするハードコート付きλ/4板の製造方法。式中、R1~R8は、各々独立に、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、若しくは、置換又は無置換のアリールカルボニル基を表し、R1~R8は相互に同じであっても、異なっていてもよい。2.前記ハードコート層が親水性活性線硬化型樹脂を含有することを特徴とする前記1に記載のハードコート付きλ/4板の製造方法。3.前記λ/4板が幅手方向と当該λ/4板の面内の遅相軸のなす角度が40~50°の範囲内となるように斜め延伸処理された長尺状のλ/4板であることを特徴とする前記1または2に記載のハードコート付きλ/4板の製造方法。4.前記ハードコート層の表面に少なくとも低屈折率層を有する反射防止層が設けられていることを特徴とする前記1~3のいずれか1項に記載のハードコート付きλ/4板の製造方法。5.前記1~4のいずれか1項に記載のハードコート付きλ/4板の製造方法によって製造されたハードコート付きλ/4板を偏光子の少なくとも一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。6.前記5に記載の偏光板を液晶セルの視認側に貼合したことを特徴とする液晶表示装置。7.前記6に記載の液晶表示装置と液晶シャッタメガネとからなる立体映像表示装置であって、当該液晶シャッタメガネが、1λ/4板、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている、または2λ/4板、偏光子、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている液晶シャッタメガネであることを特徴とする立体映像表示装置。本発明によれば、視認性に影響する微少スジ、ムラのないハードコート付きλ/4板の製造方法を提供することができ、かつ該ハードコート付きλ/4板を用いた偏光板、液晶表示装置、及びクロストーク等の視認性が改善された立体映像表示装置を提供することができる。以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明のハードコート付きλ/4板の製造方法は、視認性に影響する微少スジ、ムラのないハードコート付きλ/4板を提供するものであり、少なくとも総アシル置換度2.0~2.5であるセルロースアシレート及び前記一般式FAで表される総平均置換度が3.0~6.5の範囲内である化合物を含有するλ/4板を用いて、該λ/4板上にハードコート層を設ける工程において、該λ/4板を温水浸漬処理、または水蒸気処理した後連続してハードコート層の塗設を行うことを特徴とするものである。前述したように、アセチル基置換度が2.0~2.5のセルロースアセテートフィルムは、延伸処理によって複屈折発現性の高いことが特徴であるが、該延伸処理によって微少スジ、ムラの発生が見られ、該微少スジ、ムラはハードコート層を塗設してもハードコート層表面に残ることから、該ハードコート層表面近傍の屈折率にムラを生じ、特に立体3D画像表示装置では従来の表示装置では問題とならなかったクロストークの原因の一つになることが判明した。特に上記微少スジ、ムラは、λ/4板を幅手方向に対して斜め45°方向に延伸処理を行う場合に発生が顕著になることも判明した。本発明の構成によれば、親水性基の多い低アシル置換度のセルロースアシレートに前記一般式FAで表される総平均置換度が3.0~6.5の範囲内である化合物を含有させ、ハードコート層を塗設する前に温水浸漬処理、または水蒸気処理することによってλ/4板全体をなまし、かつ連続してハードコート層を塗設することで、ハードコート層を硬化する際の収縮によるツレを緩和し微少スジ、ムラのないハードコート付きλ/4板を製造するものである。従って温水浸漬処理、または水蒸気処理からハードコート層を塗設するまでの経過時間が長い場合、例えば長尺状のλ/4板を該温水浸漬処理、または水蒸気処理を実施した後、ロール巻き取りを行い、再度ロールより繰り出してハードコート層を塗設するような場合は本発明の効果が得られない。本発明者らの検討によれば、前記一般式FAで表される総平均置換度が3.0~6.5の範囲内である化合物は、総アシル置換度2.0~2.5であるセルロースアシレートとの相溶性に著しく優れる為比較的多量に含有させることができ、λ/4板を幅手方向に対して斜め45°方向に延伸処理を行った場合においても、その可塑化効果により微少スジ、ムラの発生を効果的に抑制できる。また本発明に係る温水浸漬処理、または水蒸気処理はセルロース分子を柔軟に引き延ばす効果が高いため、ハードコート層を塗布した場合の硬化収縮に伴う微少スジ、ムラの発生を顕著に抑制できるものである。更に、該ハードコート層を構成する硬化樹脂が親水性活性線硬化型樹脂である場合に本発明の効果がより高まることも見出した。以下、本発明を詳細に説明する。<λ/4板>本発明に係るλ/4板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光にまたは、円偏光を直線偏光に変換する機能を有するものをいう。λ/4板は、所定の光の波長通常、可視光領域に対して、層の面内の位相差値Roが約1/4となるように設計されている。本発明に係るλ/4板は、波長590nmで測定した面内方向のリターデーションRo590が110~170nmの範囲である。本発明に係るλ/4板は、可視光の波長の範囲においてほぼ完全な円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において概ね波長の1/4のリターデーションを有する位相差板樹脂フィルムであることが好ましい。可視光の波長の範囲において概ね1/4のリターデーションとは、波長400~700nmにおいて長波長ほどリターデーションが大きく、波長450nmで測定した下記式iで表されるリターデーション値であるRo450と波長590nmで測定したリターデーション値であるRo590が、1<Ro590/Ro450≦1.6を満たすことが好ましい。さらにλ/4板として有効に機能するためには、Ro450が100~125nmの範囲内であり、波長550nmで測定したリターデーション値であるRo550が125~142nmの範囲内であり、Ro590が130~152nmの範囲内の位相差フィルムであることがより好ましい。式i:Ro=nx-ny×d式中、nx、nyは、23°C55RH、450nm、550nm、590nmの各々における屈折率nxフィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう。、nyフィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率であり、dはフィルムの厚さnmである。Roは自動複屈折率計を用いて測定することができる。自動複屈折率計KOBRA-21ADH王子計測機器株製を用いて、23°C、55RHの環境下で、各波長での複屈折率測定によりRoを算出する。λ/4板の遅相軸と偏光子の透過軸との角度が実質的に45°になるように積層すると円偏光板が得られる。実質的に45°とは、40~50°であることを意味する。λ/4板の面内の遅相軸と該偏光子の透過軸との角度は、41~49°であることが好ましく、42~48°であることがより好ましく、43~47°であることが更に好ましく、44~46°であることが最も好ましい。本発明に係るλ/4板が幅手方向と当該λ/4板の面内の遅相軸のなす角度が40~50°の範囲内となるように斜め延伸処理された長尺状のλ/4板であると、長手方向に吸収軸を有する長尺状の偏光子とロールtoロールで貼合することで容易に長尺状の円偏光板を得ることができるため好ましい。本発明に係るλ/4板は熱可塑性樹脂を含有するフィルムであり、用いられる熱可塑性樹脂はセルロースアシレート樹脂である。セルロースアシレート樹脂は、製造上、コスト面、加工のし易さ、透明性、均一性、鹸化処理適性、接着性等の面から好ましいものである。<λ/4板の温水浸漬処理、水蒸気処理>本発明に係るλ/4板は、該λ/4板を温水浸漬処理、または水蒸気処理した後連続してハードコート層の塗設を行うことを特徴とする。温水浸漬処理温水への浸漬方法の一例を図1に示す。後述するλ/4板の製造方法によって製造された長尺状のλ/4板ロールより繰り出されたλ/4板は、ローラーによって搬送されながら温水槽に浸漬され、所定の浸漬処理終了後ローラーによってハードコート層塗設工程にてハードコート層を塗設する。ハードコート層塗設工程前に、該λ/4板は水切りを行っても、また温風などにより乾燥してもよいが、ハードコート層塗設前の該λ/4板の含水率は2~20質量の範囲に制御することが好ましい。含水率をこの範囲に制御することで本発明の効果を得ることができ、かつ20質量を越えた場合に見られるハードコート層の塗布ムラなどを誘引することがない為好ましい。より好ましくは2.5~18質量、特に好ましくは3~16質量である。上記含水率を保持する為に、温水槽からハードコート層塗設工程までの間を恒温恒湿に保つように密閉系にしてもよい。含水率はフィルム中に含まれる水の質量分率であり、実際には水分計の示した水分量μgをWとし、秤量したサンプル量をFmgとすると、含水率質量=0.1×W/Fで表される。温水への浸漬方法の別の一例として、図2のように温水をシャワーノズルからかけても良い。温水温度は40°C以上100°C以下が好ましく、50°C以上95°C以下が更に好ましく、60°C以上90°C以下が特に好ましい。浸漬時間は5秒以上10分以内が好ましく、10秒以上8分以内が更に好ましく、20秒以上6分以内が特に好ましい。温水温度が高く、時間の長い方が本発明の効果を得るのに好都合であるが、温水温度低く、時間の短い方が、フィルムの平面性を悪化させないこともあり、これらの範囲にコントロールすることが好ましい。本発明でいう温水は実質的に水であれば良い。実質的に水とは60質量以上が水からなるものを指し、水以外に有機溶剤、可塑剤、界面活性剤等を含んでも良い。好ましい有機溶剤として炭素数が1から10の水溶性有機溶剤が挙げられる。但し、より好ましくは90質量以上が水であり、更に好ましくは95質量以上が水であり、最も好ましいのは、純水を用いたものである。温水中で窒素などによるバブリングを行ったり、温水を濾過する装置を付加して循環させてもよい。本発明に係るλ/4板を温水浸漬処理を行った後連続してハードコート層を塗設するが、本発明でいう連続とは1秒~5分以内をいい、より好ましくは生産性を考慮すると、10秒~3分以内、さらに好ましくは15秒~1分以内をいう。その際λ/4板を搬送する搬送張力を維持したままハードコート層を塗設することが、本発明の効果を高める上で好ましい。水蒸気処理水蒸気処理は、水蒸気供給機を有し、更に温湿度を一定に保持できる水蒸気処理室を設置しその中で行うことが好ましい。図3は水蒸気処理室の一例である。水蒸気処理室1に本発明に係るλ/4板5が搬送され、ニップロール2、2′によって保持、搬送されたλ/4板は水蒸気ノズル3から水蒸気がλ/4板上に噴射され、次いで処理後エアナイフ4によって余分な水滴が除去されハードコート層塗設工程へ搬送される。水蒸気は上記水蒸気ノズル3等を用いてλ/4板に直接噴射させてもよく、また水蒸気処理室を相対湿度が60RH以上100RH以下になるように水蒸気を噴射して所定の湿度を保ち、その中をλ/4板を一定時間をかけて搬送しながら水蒸気処理してもよい。本発明では絶対湿度が50~1000g/m2の環境でλ/4板と水蒸気が接触することが好ましい。好ましくは300~800g/m2の環境で行うことである。絶対湿度は40°Cで50g/m2、50°Cで80g/m2、90°Cで611g/m2程度である。上記水蒸気処理室にて処理する時間は、5秒以上60分以下であることが好ましい。生産性を考慮すると、より好ましくは10秒以上5分以内である。本発明に係る温水浸漬処理や水蒸気処理を高速に行うため、λ/4板の表面をプラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理や、アルカリ剤等を使用する化学的表面処理を行い濡れ性を上げておくことも好ましい。該表面処理は、化学的表面処理のみ、又は物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。<セルロースアシレートフィルム>本発明に係るλ/4板は、総アシル置換度2.0~2.5であるセルロースアシレートを含有する。セルロースを構成するβ-1,4結合しているグルコース単位は、2位、3位および6位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部をアシル基によりアシル化した重合体ポリマーである。アシル置換度は、2位、3位および6位に位置するセルロースの水酸基がアシル化している割合100のアシル化は置換度1を意味する。なお、アシル基の置換度は、ASTM-D817-96に規定の方法により求めたものである。前記総アシル置換度は、2.1~2.45を満たすことが延伸処理による位相差発現性の観点からより好ましい。セルロースアシレートの総アシル基置換度が2.0を下回る場合には、ドープ粘度の上昇によるフィルム面品質の劣化、延伸張力の上昇によるヘイズアップなどが発生することがある。また、総アシル置換度が2.5を越える場合は、必要な位相差が得られ難い。本発明におけるセルロースアシレートの炭素数2以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イソブタノイル基、tert-ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、tert-ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基アシル基が炭素原子数2~4である場合であり、最も好ましくはアセチル基セルロースアシレートが、セルロースアセテートである場合である。ここでいうアセチル置換度は、セルロースを構成する各無水グルコースの有する3個のヒドロキシル基水酸基のうち、エステル化アセチル化されているヒドロキシル基水酸基の数の平均値をいい、0~3の範囲内の値を示す。本発明において、アセチル基で置換されていない部分は通常ヒドロキシル基水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。本発明に係るセルロースアシレート、セルロースアセテートの数平均分子量Mnは、30000~300000の範囲が得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に50000~200000のものが好ましく用いられる。セルロースアシレート、セルロースアセテートの重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比Mw/Mnの値は、1.4~3.0であることが好ましい。セルロースアシレート、セルロースアセテートの重量平均分子量Mw、数平均分子量Mnは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCを用いて測定した。測定条件は以下の通りである。溶媒:メチレンクロライドカラム:ShodexK806、K805、K803G昭和電工株製を3本接続して使用したカラム温度:25°C試料濃度:0.1質量検出器:RIModel504GLサイエンス社製ポンプ:L6000日立製作所株製流量:1.0ml/min校正曲線:標準ポリスチレンSTKstandardポリスチレン東ソー株製Mw=1000000~500の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。本発明に係るセルロースアシレート、セルロースアセテートの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。またそれらから得られたセルロースアシレート、セルロースアセテートはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。セルロースのアシル化において、アシル化剤としては、酸無水物や酸クロライドを用いた場合、反応溶媒である有機溶媒としては、有機酸、例えば、酢酸、メチレンクロライド等が使用される。触媒としては、アシル化剤が酸無水物である場合には、硫酸のようなプロトン性触媒が好ましく用いられ、アシル化剤が酸クロライド例えば、CH3CH2COClである場合には、塩基性化合物が用いられる。また一般的なセルロースの混合脂肪酸エステルの工業的合成方法は、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する脂肪酸酢酸、プロピオン酸、吉草酸等またはそれらの酸無水物を含む混合有機酸成分でアシル化する方法である。具体的には特開平10-45804号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。<一般式FAで表される化合物>本発明に係るλ/4板は、少なくとも総アシル置換度2.0~2.5であるセルロースアシレート及び下記一般式FAで表され、総平均置換度が3.0~6.5の範囲内である化合物を含有することで、本発明に係る温水浸漬処理、または水蒸気処理によって視認性に影響する微少スジ、ムラのないハードコート付きλ/4板を得ることができる。一般式FAで表される化合物は、本発明では糖エステル化合物ともいう。本発明に係る一般式FAで表される化合物の平均置換度は3.0~6.5であることが、延伸処理において微少なスジ、ムラを防ぐことに加えてヘイズ上昇を抑制する上でも有効である。平均置換度はより好ましくは4.5~6.5の範囲である。本発明において、一般式FAで表される化合物の置換度とは、一般式FAに含まれる8つの水酸基のうち、水素以外の置換基で置換されている数を表し、すなわち、一般式FAのR1~R8のうち、水素以外の基を含む数を表す。したがって、R1~R8がすべて水素以外の置換基により置換された場合に、置換度は最大値の8.0となり、R1~R8がすべて水素原子である場合には、0.0となる。一般式FAで表される構造を有する化合物は、水酸基の数、OR基の数が固定された単一種の化合物を合成することは困難であり、式中の水酸基の数、OR基の異なる成分が数種類混合された化合物となることが知られているため、本発明における一般式FAの置換度としては、平均置換度を用いることが適当であり、常法により高速液体クロマトグラフィーによって置換度分布を示すチャートの面積比から平均置換度を測定することができる。一般式FAにおいて、R1~R8は、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、或いは、置換又は無置換のアーリルカルボニル基を表し、R1~R8は、同じであっても、異なっていてもよい。本発明に係る糖エステル化合物の合成原料の糖の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、あるいはアラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、1F-フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースあるいはケストース挙げられる。この他、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。本発明に係る糖エステル化合物の合成時に用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は1種類でもよいし2種以上の混合であってもよい。好ましい脂肪族モノカルボン酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環に1~5個のアルキル基もしくはアルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。具体例の一部を以下に示すが、これらは、R1~R8をすべて同じ置換基Rとした場合であって、本発明はこれらに限定されない。本発明に係る糖エステル化合物は、糖エステルに、アシル化剤エステル化剤ともいう、例えば、アセチルクロライドの酸ハロゲン化物、無水酢酸等の無水物を反応させることによって製造することが可能であり、置換度の分布は、アシル化剤の量、添加タイミング、エステル化反応時間の調節によって成されるが、置換度違いの糖エステル化合物の混合、あるいは純粋に単離した置換度違いの化合物を混合することにより、目的の平均置換度、置換度4以下の成分を調整することができる。合成例:本発明に係る化合物の合成撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖34.2g0.1モル、無水安息香酸135.6g0.6モル、ピリジン284.8g3.6モルを仕込み、撹拌下に窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、70°Cで5時間エステル化反応を行った。次に、コルベン内を4×102Pa以下に減圧し、60°Cで過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を1.3×10Pa以下に減圧し、120°Cまで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエン1L、0.5質量の炭酸ナトリウム水溶液300gを添加し、50°Cで30分間撹拌後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水100gを添加し、常温で30分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下4×102Pa以下、60°Cでトルエンを留去させ、化合物A-1、A-2、A-3、A-4及びA-5等の混合物である糖エステル化合物1を得た。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィー-質量分析HPLC-MSで解析したところ、A-1が1.2質量、A-2が13.2質量、A-3が14.2質量、A-4が35.4質量、A-5等が40.0質量であった。平均置換度は5.2であった。同様に、無水安息香酸158.2g0.7モル、146.9g0.65モル、124.3g0.55モルと当モルのピリジンとを反応させて、表1記載のような成分の糖エステルを得た。ついで、得られた混合物の一部を、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することで、それぞれ純度100のA-1、A-2、A-3、A-4及びA-5等を得た。なお、A-5等とは、置換度4以下のすべての成分、つまり置換度4、3、2、1の化合物の混合物であることを意味する。また、平均置換度は、A-5等を置換度4として計算した。本発明においては、ここで作製した方法により所望の平均置換度に近い糖エステルおよび単離したA-1~A-5等を組み合わせ添加することにより、平均置換度を調整した。<HPLC-MSの測定条件>1LC部装置:日本分光株製カラムオーブンJASCOCO-965、ディテクターJASCOUV-970-240nm、ポンプJASCOPU-980、デガッサ-JASCODG-980-50カラム:InertsilODS-3粒子径5μm4.6×250mmジーエルサイエンス株製カラム温度:40°C流速:1ml/min移動相:THF1酢酸:H2O50:50注入量:3μl2MS部装置:LCQDECAThermoQuest株製イオン化法:エレクトロスプレーイオン化ESI法SprayVoltage:5kVCapillary温度:180°CVaporizer温度:450°C<その他の可塑剤>本発明に係るλ/4板は上記化合物以外の可塑剤を含有することも好ましく、一般的に可塑剤として知られる多くの化合物も有用に使用することができる。可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、エステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。そのうち、可塑剤を二種以上用いる場合は、少なくとも一種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2~20価の脂肪族多価アルコールエステルである。本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式aで表される。一般式aR11-OHn但し、R11はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性ヒドロキシル基水酸基を表す。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4-ブタントリオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3-メチルペンタン-1,3,5-トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1~32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は1~20であることが更に好ましく、1~10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステル樹脂との相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基あるいはエトキシ基などのアルコキシ基を1~3個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300~1500であることが好ましく、350~750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステル樹脂との相溶性の点では小さい方が好ましい。多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ-2-エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。多価カルボン酸エステル化合物としては、2価以上、好ましくは2価~20価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は2~20価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は3価~20価であることが好ましい。多価カルボン酸は次の一般式bで表される。一般式bR12COOHm1OHn1式中、R12はm1n1価の有機基、m1は2以上の正の整数、n1は0以上の整数、COOH基はカルボキシル基、OH基はアルコール性またはフェノール性ヒドロキシル基水酸基を表す。好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような3価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。例えば炭素数1~32の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数1~20であることが更に好ましく、炭素数1~10であることが特に好ましい。また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールまたはその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコールまたはその誘導体なども好ましく用いることができる。多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性またはフェノール性のヒドロキシル基水酸基を、モノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数1~32の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数1~20であることが更に好ましく、炭素数1~10であることが特に好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を2個以上持つ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。多価カルボン酸エステル化合物の分子量は特に制限はないが、分子量300~1000の範囲であることが好ましく、350~750の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステル樹脂との相溶性の点では小さい方が好ましい。本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は一種類でも良いし、二種以上の混合であっても良い。本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物の酸価は1mgKOH/g以下であることが好ましく、0.2mgKOH/g以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによって、リターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。なお、酸価とは、試料1g中に含まれる酸試料中に存在するカルボキシル基を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はJISK0070に準拠して測定したものである。<紫外線吸収剤>本発明に係るλ/4板は、表示装置の視認側に配置される場合は、紫外線吸収剤を含むことが耐光性を向上する観点で好ましい。使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平10-182621号、同8-337574号、特開2001-72782号記載の紫外線吸収剤、特開平6-148430号、特開2002-31715号、同2002-169020号、同2002-47357号、同2002-363420号、同2003-113317号記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ、液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。本発明に有用な紫外線吸収剤の具体例として、2-2′-ヒドロキシ-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′-tert-ブチル-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-ブチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′-3′′,4′′,5′′,6′′-テトラヒドロフタルイミドメチル-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2,2-メチレンビス4-1,1,3,3-テトラメチルブチル-6-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェノール、2-2′-ヒドロキシ-3′-tert-ブチル-5′-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-6-直鎖及び側鎖ドデシル-4-メチルフェノール、オクチル-3-3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェニルプロピオネートと2-エチルヘキシル-3-3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェニルプロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビンTINUVIN109、チヌビンTINUVIN171、チヌビンTINUVIN326、チヌビンTINUVIN928何れもBASFジャパン社製を好ましく使用できる。高分子紫外線吸収剤としては、大塚化学社製の反応型紫外線吸収剤RUVA-93を例として挙げることができる。ベンゾフェノン系化合物の具体例として、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5-スルホベンゾフェノン、ビス2-メトキシ-4-ヒドロキシ-5-ベンゾイルフェニルメタン等を挙げることができるが、これらに限定されない。本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。紫外線吸収剤のドープへの添加方法は、ドープ中で紫外線吸収剤を溶解するようなものであれば制限なく使用できるが、本発明においては紫外線吸収剤をメチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等のセルロースエステルに対する良溶媒、又は良溶媒と低級脂肪族アルコールメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のような貧溶媒との混合有機溶媒に溶解し紫外線吸収剤溶液としてセルロースエステル溶液に添加してドープとする方法が好ましい。この場合できるだけドープ溶媒組成と紫外線吸収剤溶液の溶媒組成とを同じとするか近づけることが好ましい。<リターデーション調整剤>本発明に係るλ/4板は、過度な延伸処理による微小スジ、ムラの発生を抑制する観点から、リターデーション発現剤を含むことが好ましい。本発明ではリターデーションを発現するために、円盤状、または棒状化合物からなるものを挙げることができる。上記円盤状化合物、または棒状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物をリターデーション発現剤として好ましく用いることができる。円盤状のリターデーション発現剤は、前記セルロースアシレートを含むポリマー成分100質量部に対して、0.05~20質量部の範囲で使用することが好ましく、1.0~15質量部の範囲で使用することがより好ましく、3.0~10質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。棒状化合物からなるリターデーション発現剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分100質量部に対して0.1~30質量部であることが好ましく、0.5~20質量部であることがさらに好ましい。円盤状化合物は厚み方向のリターデーション発現性において棒状化合物よりも優れているため、特に大きな厚み方向のリターデーションを必要とする場合に好ましく使用される。2種類以上のリターデーション発現剤を併用してもよい。リターデーション発現剤は、250~400nmの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。まず、円盤状化合物について説明する。円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。本明細書において、芳香族環は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族炭化水素環は、6員環すなわち、ベンゼン環であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および1,3,5-トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、縮合ベンゼン環、ビフェニル類が好ましい。特に1,3,5-トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開2001-166144号公報に開示の化合物が好ましく用いられる。リターデーション発現剤が有する芳香族環の炭素数は、2~20であることが好ましく、2~12であることがより好ましく、2~8であることがさらに好ましく、2~6であることが最も好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、a縮合環を形成する場合、b単結合で直結する場合およびc連結基を介して結合する場合に分類できる芳香族環のため、スピロ結合は形成できない。結合関係は、a~cのいずれでもよい。aの縮合環二つ以上の芳香族環の縮合環の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。bの単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。cの連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、-CO-、-O-、-NH-、-S-またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。c1:-CO-O-c2:-CO-NH-c3:-アルキレン-O-c4:-NH-CO-NH-c5:-NH-CO-O-c6:-O-CO-O-c7:-O-アルキレン-O-c8:-CO-アルケニレン-c9:-CO-アルケニレン-NH-c10:-CO-アルケニレン-O-c11:-アルキレン-CO-O-アルキレン-O-CO-アルキレン-c12:-O-アルキレン-CO-O-アルキレン-O-CO-アルキレン-O-c13:-O-CO-アルキレン-CO-O-c14:-NH-CO-アルケニレン-c15:-O-CO-アルケニレン-芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル基の炭素原子数は、1~8であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基を有していてもよい。アルキル基の置換アルキル基を含む例には、メチル基、エチル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基、2-ヒドロキシエチル基、4-カルボキシブチル基、2-メトキシエチル基および2-ジエチルアミノエチル基の各基が含まれる。アルケニル基の炭素原子数は、2~8であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基および1-ヘキセニル基が含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、2~8であることが好ましい。環状アルキニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、1-ブチニル基および1-ヘキシニル基が含まれる。脂肪族アシル基の炭素原子数は、1~10であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基およびブタノイル基が含まれる。脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1~10であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、1~8であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基例えば、アルコキシ基を有していてもよい。アルコキシ基の置換アルコキシ基を含む例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基およびメトキシエトキシ基が含まれる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2~10であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基およびエトキシカルボニル基が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、2~10であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基およびエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。アルキルチオ基の炭素原子数は、1~12であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基およびオクチルチオ基が含まれる。アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1~8であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基およびエタンスルホニル基が含まれる。脂肪族アミド基の炭素原子数は、1~10であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1~8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基およびn-オクタンスルホンアミド基が含まれる。脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、1~10であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基および2-カルボキシエチルアミノ基が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、2~10であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基およびジエチルカルバモイル基が含まれる。脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、1~8であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基およびジエチルスルファモイル基が含まれる。脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、2~10であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基およびモルホリノ基が含まれる。リターデーション発現剤の分子量は、300~800であることが好ましい。円盤状化合物として下記一般式Iで表されるトリアジン化合物を用いることが好ましい。上記一般式I中:R201は、各々独立に、オルト位、メタ位およびパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環または複素環を表す。X201は、各々独立に、単結合または-NR202-を表す。ここで、R202は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。R201が表す芳香族環は、フェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。R201が表す芳香族環はいずれかの置換位置に少なくとも一つの置換基を有してもよい。前記置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基およびアシル基が含まれる。R201が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましく、6員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子または酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環複素環基としては、2-ピリジルまたは4-ピリジルが特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。X201が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましく、5員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子例えば、O、Sを有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。ここで、-C4H9nは、n-C4H9を示す。R202が表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基が好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基がより好ましい。アルキル基の炭素原子数は、1~30であることが好ましく、1~20であることがより好ましく、1~10であることがさらに好ましく、1~8がさらにまた好ましく、1~6であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基およびアシルオキシ基例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が含まれる。R202が表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、2~30であることが好ましく、2~20であることがより好ましく、2~10であることがさらに好ましく、2~8であることがさらにまた好ましく、2~6であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。R202が表す芳香族環基および複素環基は、R201が表す芳香族環および複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基および複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはR201の芳香族環および複素環の置換基と同様である。以下に一般式Iで表される化合物の具体例を挙げるが、こられに限定されない。円盤状化合物としては下記一般式IIで表されるトリフェニレン化合物を好ましく用いることもできる。上記一般式II中、R203~R208は各々独立して、水素原子または置換基を表す。R203~R208が各々表す置換基としては、アルキル基好ましくは炭素数1~40、より好ましくは炭素数1~30、特に好ましくは炭素数1~20のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる、アルケニル基好ましくは、炭素数2~40、より好ましくは炭素数2~30、特に好ましくは炭素数2~20のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、2-ブテニル基、3-ペンテニル基などが挙げられる、アルキニル基好ましくは、炭素数2~40、より好ましくは炭素数2~30、特に好ましくは炭素数2~20のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、3-ペンチニル基などが挙げられる、アリール基好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリール基であり、例えば、フェニル基、p-メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる、置換もしくは無置換のアミノ基好ましくは炭素数0~40、より好ましくは炭素数0~30、特に好ましくは炭素数0~20のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる、アルコキシ基好ましくは炭素数1~40、より好ましくは炭素数1~30、特に好ましくは炭素数1~20のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる、アリールオキシ基好ましくは炭素数6~40、より好ましくは炭素数6~30、特に好ましくは炭素数6~20のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、2-ナフチルオキシ基などが挙げられる、アシル基好ましくは炭素数1~40、より好ましくは炭素数1~30、特に好ましくは炭素数1~20のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる、アルコキシカルボニル基好ましくは炭素数2~40、より好ましくは炭素数2~30、特に好ましくは炭素数2~20のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる、アリールオキシカルボニル基好ましくは炭素数7~40、より好ましくは炭素数7~30、特に好ましくは炭素数7~20のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる、アシルオキシ基好ましくは炭素数2~40、より好ましくは炭素数2~30、特に好ましくは炭素数2~20のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる、アシルアミノ基好ましくは炭素数2~40、より好ましくは炭素数2~30、特に好ましくは炭素数2~20のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる、アルコキシカルボニルアミノ基好ましくは炭素数2~40、より好ましくは炭素数2~30、特に好ましくは炭素数2~20のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる、アリールオキシカルボニルアミノ基好ましくは炭素数7~40、より好ましくは炭素数7~30、特に好ましくは炭素数7~20のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる、スルホニルアミノ基好ましくは炭素数1~40、より好ましくは炭素数1~30、特に好ましくは炭素数1~20のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる、スルファモイル基好ましくは炭素数0~40、より好ましくは炭素数0~30、特に好ましくは炭素数0~20のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる、カルバモイル基好ましくは炭素数1~40、より好ましくは炭素数1~30、特に好ましくは炭素数1~20のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる、アルキルチオ基好ましくは炭素数1~40、より好ましくは炭素数1~30、特に好ましくは炭素数1~20であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基などが挙げられる、アリールチオ基好ましくは、炭素数6~40、より好ましくは炭素数6~30、特に好ましくは炭素数1~20、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる、スルホニル基好ましくは炭素数1~40、より好ましくは炭素数1~30、特に好ましくは炭素数1~20のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる、スルフィニル基好ましくは炭素数1~40、より好ましくは炭素数1~30、特に好ましくは炭素数1~20のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる、ウレイド基好ましくは炭素数1~40、より好ましくは炭素数1~30、特に好ましくは炭素数1~20のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる、リン酸アミド基好ましくは炭素数1~40、より好ましくは炭素数1~30、特に好ましくは炭素数1~20のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは1~12のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、1,3,5-トリアジル基などが挙げられる、シリル基好ましくは、炭素数3~40、より好ましくは炭素数3~30、特に好ましくは、炭素数3~24のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられるが含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。R203~R208が各々表す置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基またはハロゲン原子である。以下に一般式IIで表される化合物の具体例を挙げるが、こられに限定されない。一般式Iで表される化合物は、例えば特開2003-344655号公報に記載の方法、一般式IIで表される化合物は、例えば特開2005-134884号公報に記載の方法等、公知の方法により合成することができる。本発明では前述の円盤状化合物の他に直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができる。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト例えば、WinMOPAC2000、富士通株製を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が140度以上であることを意味する。少なくとも二つの芳香族環を有する棒状化合物としては、下記一般式IIIで表される化合物が好ましい。一般式III:Ar1-L1-Ar2上記一般式IIIにおいて、Ar1およびAr2は、それぞれ独立に、芳香族基である。本明細書において、芳香族基は、アリール基芳香族性炭化水素基、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基を含む。アリール基および置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性ヘテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原子がさらに好ましい。芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基の各基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基例えば、N-メチルカルバモイル基、N-エチルカルバモイル基、N,N-ジメチルカルバモイル基の各基、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基例えば、N-メチルスルファモイル基、N-エチルスルファモイル基、N,N-ジメチルスルファモイル基の各基、ウレイド基、アルキルウレイド基例えば、N-メチルウレイド基、N,N-ジメチルウレイド基、N,N,N′-トリメチルウレイド基の各基、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、s-ブチル基、tert-アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基の各基、アルケニル基例えば、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基の各基、アルキニル基例えば、エチニル基、ブチニル基、アシル基例えば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基の各基、アシルオキシ基例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基の各基、アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基の各基、アリールオキシ基例えば、フェノキシ基、アルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基の各基、アリールオキシカルボニル基例えば、フェノキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基例えば、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基の各基、アリールチオ基例えば、フェニルチオ基、アルキルスルホニル基例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基の各基、アミド基例えば、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基の各基および非芳香族性複素環基例えば、モルホリル基、ピラジニル基が含まれる。なかでも、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基およびアルキル基が挙げられる。アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分およびアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、ウレイド基、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基および非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分およびアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基およびアルコキシ基が好ましい。一般式IIにおいて、L1は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、-O-、-CO-およびそれらの組み合わせからなる基から選ばれる二価の連結基である。アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、1,4-シクロヘキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、1~20であることが好ましく、より好ましくは1~15であり、さらに好ましくは1~10であり、さらに好ましくは1~8であり、最も好ましくは1~6である。アルケニレン基およびアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルケニレン基およびアルキニレン基の炭素原子数は、好ましくは2~10であり、より好ましくは2~8であり、さらに好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4であり、最も好ましくは2ビニレン基またはエチニレン基である。アリーレン基は、炭素原子数は6~20であることが好ましく、より好ましくは6~16であり、さらに好ましくは6~12である。一般式IIIの分子構造において、L1を挟んで、Ar1とAr2とが形成する角度は、140度以上であることが好ましい。棒状化合物としては、下記式一般式IVで表される化合物がさらに好ましい。一般式IV:Ar1-L2-X-L3-Ar2上記一般式IVにおいて、Ar1およびAr2は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義および例は、一般式12のAr1およびAr2と同様である。一般式IVにおいて、L2およびL3は、それぞれ独立に、アルキレン基、-O-、-CO-およびそれらの組み合わせからなる基より選ばれる二価の連結基である。アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、1~10であることが好ましく、より好ましくは1~8であり、さらに好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4であり、1または2メチレン基またはエチレン基であることが最も好ましい。L2およびL3は、-O-CO-または-CO-O-であることが特に好ましい。一般式IVにおいて、Xは、1,4-シクロヘキシレン基、ビニレン基またはエチニレン基である。一般式IIIまたはIVで表される化合物の具体例としては、特開2004-109657号公報の化1~化11に記載の化合物が挙げられる。溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長λmaxが250nmより長波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。棒状化合物は、文献記載の方法を参照して合成できる。文献としては、Mol.Cryst.Liq.Cryst.,53巻、229ページ1979年、同89巻、93ページ1982年、同145巻、111ページ1987年、同170巻、43ページ1989年、J.Am.Chem.Soc.,113巻、1349ページ1991年、同118巻、5346ページ1996年、同92巻、1582ページ1970年、J.Org.Chem.,40巻、420ページ1975年、Tetrahedron、48巻16号、3437ページ1992年を挙げることができる。また、特開2004-50516号公報の11~14頁に記載の棒状芳香族化合物を、前記リターデーション発現剤として用いてもよい。また、リターデーション発現剤として、一種の化合物を単独で、又は二種類以上の化合物を混合して用いることができる。リターデーション発現剤として互いに異なる二種類以上の化合物を用いると、リターデーションの調整範囲が広がり、容易に所望の範囲に調整できるので好ましい。前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法で作製する場合は、前記リターデーション発現剤を、ドープ中に添加してもよい。添加はいずれのタイミングで行ってもよく、例えば、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にリターデーション発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液ドープに添加してもよいし、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。その他、前記各公報に記載されている以外の棒状化合物の好ましい化合物の具体例を以下に示す。前記具体例1~34、41、42は、シクロヘキサン環の1位と4位とに二つの不斉炭素原子を有する。ただし、具体例1、4~34、41、42は、対称なメソ型の分子構造を有するため光学異性体光学活性はなく、幾何異性体トランス型とシス型のみ存在する。具体例1のトランス型1-transとシス型1-cisとを、以下に示す。前述したように、棒状化合物は直線的な分子構造を有することが好ましい。そのため、トランス型の方がシス型よりも好ましい。具体例2および3は、幾何異性体に加えて光学異性体合計4種の異性体を有する。幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。光学異性体については、特に優劣はなく、D、Lあるいはラセミ体のいずれでもよい。具体例43~45では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。上記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。本発明では、必要に応じ、劣化防止剤、剥離促進剤、マット剤、滑剤、前述の可塑剤等を適宜用いることができる。劣化防止剤本発明においてはセルロースアシレート溶液に公知の劣化酸化防止剤、例えば、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール、4,4′-チオビス-6-tert-ブチル-3-メチルフェノール、1,1′-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、2,2′-メチレンビス4-エチル-6-tert-ブチルフェノール、2,5-ジ-tert-ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチル-テトラキス[3-3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]などのフェノール系あるいはヒドロキノン系酸化防止剤を添加することができる。さらに、トリス4-メトキシ-3,5-ジフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス2,4-ジ-tert-ブチルフェニルホスファイト、ビス2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス2,4-ジ-tert-ブチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤をすることが好ましい。劣化防止剤の添加量は、セルロース系樹脂100質量部に対して、0.05~5.0質量部を添加する。剥離促進剤本発明に係るλ/4板には、剥離促進剤を含むことが、より剥離性と高める観点から好ましい。剥離促進剤は、例えば、0.001~1質量の割合で含めることができ、0.5質量以下の添加であれば剥離剤のフィルムからの分離等が発生し難いため好ましく、0.005質量以上であれば所望の剥離低減効果を得ることができるため好ましいため、0.005~0.5質量の割合で含めることが好ましく、0.01~0.3質量の割合で含めることがより好ましい。剥離促進剤としては、公知のものが採用でき、有機、無機の酸性化合物、界面活性剤、キレート剤等を使用することができる。中でも、多価カルボン酸およびそのエステルが効果的であり、特に、クエン酸のエチルエステル類が効果的に使用することができる。マット剤特に本発明に係るλ/4板には、ハンドリングされる際に、傷が付いたり搬送性が悪化することを防止するために、微粒子を添加することが一般に行われる。それらは、マット剤、ブロッキング防止剤あるいはキシミ防止剤と称されて、従来から利用されている。それらは、前述の機能を呈する素材であれば特に限定されず、無機化合物のマット剤であっても、有機化合物のマット剤であってもよい。前記無機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、ケイ素を含む無機化合物例えば、二酸化ケイ素、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムなど、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロングチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズアンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースアシレートフィルムの濁度を低減できるので、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。前記二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルR972、R974、R812、200、300、R202、OX50、TT600以上日本アエロジル株製等の商品名を有する市販品が使用できる。前記酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルR976及びR811以上日本アエロジル株製等の商品名で市販されているものが使用できる。前記有機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。シリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、トスパール105、トスパール108、トスパール120、トスパール145、トスパール3120及びトスパール240以上東芝シリコーン株製等の商品名を有する市販品が使用できる。これらのマット剤をセルロースアシレート溶液へ添加する場合は、特にその方法に限定されずいずれの方法でも所望のセルロースアシレート溶液を得ることができれば問題ない。例えば、セルロースアシレートと溶媒を混合する段階で添加物を含有させてもよいし、セルロースアシレートと溶媒で混合溶液を作製した後に、添加物を添加してもよい。更にはドープを流延する直前に添加混合してもよく、所謂直前添加方法でありその混合はスクリュー式混練をオンラインで設置して用いられる。具体的には、インラインミキサーのような静的混合機が好ましく、また、インラインミキサーとしては、例えば、スタチックミキサーSWJ東レ静止型管内混合器Hi-Mixer東レエンジニアリング製のようなものが好ましい。なお、インライン添加に関しては、濃度ムラ、粒子の凝集等をなくすために、特開2003-053752号公報は、セルロースアシレートフィルムの製造方法において、主原料ドープに異なる組成の添加液を混合する添加ノズル先端とインラインミキサーの始端部の距離Lが、主原料配管内径dの5倍以下とする事で、濃度ムラ、マット粒子等の凝集をなくす発明が記載されている。さらに好ましい態様として、主原料ドープと異なる組成の添加液供給ノズルの先端開口部とインラインミキサーの始端部との間の距離Lが、供給ノズル先端開口部の内径dの10倍以下とし、インラインミキサーが、静的無攪拌型管内混合器または動的攪拌型管内混合器であることが記載されている。さらに具体的には、セルロースアシレートフィルム主原料ドープ/インライン添加液の流量比は、10/1~500/1、好ましくは50/1~200/1であることが開示されている。さらに、添加剤のブリードアウトが少なく、かつ層間の剥離現象もなく、しかも滑り性が良好で透明性に優れた位相差フィルムを目的とした発明の特開2003-014933号にも、添加剤を添加する方法として、溶解釜中に添加してもよいし、溶解釜~共流延ダイまでの間で添加剤や添加剤を溶解または分散した溶液を、送液中のドープに添加してもよいが、後者の場合は混合性を高めるため、スタチックミキサー等の混合手段を設けることが好ましいことが記載されている。本発明に係るλ/4板において、前記マット剤は、多量に添加しなければフィルムのヘイズが大きくならず、実際にLCDに使用した場合、コントラストの低下、輝点の発生等の不都合が生じにくい。また、少なすぎなければ上記のキシミ、耐擦傷性を実現することができる。これらの観点から0.01~5.0質量の割合で含めることが好ましく、0.03~3.0質量の割合で含めることがより好ましく、0.05~1.0質量の割合で含めることが特に好ましい。<λ/4板の製造方法>本発明に係るλ/4板は、セルロースアシレートを含有するフィルムとして溶液流延法、溶融流延法のいずれの方法で製造されてもよいが、溶液流延法により製造することが好ましい。以下、本発明に係るλ/4板の製造方法について説明する。以下、本発明に係るλ/4板をセルロースアシレートフィルムと呼称する場合がある。本発明に係るセルロースアシレートフィルムの製造は、セルロースアシレート、及び前記添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸する工程、更に乾燥する工程、必要であれば得られたフィルムを更に熱処理する工程、冷却後巻き取る工程により行われる。本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムは固形分中に好ましくはセルロースアシレートを60~95質量含有するものである。ドープ調製ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースアシレートの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースアシレートの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10~35質量が好ましく、更に好ましくは、15~25質量である。本発明に用いられるドープの溶剤は、単独で用いても二種以上を併用してもよいが、セルロースアシレートの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースアシレートの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70~98質量であり、貧溶剤が2~30質量である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースアシレートを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するか又は溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースアシレートのアセチル置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースの酢酸エステルアセチル置換度2.4では良溶剤になり、セルロースの酢酸エステルアセチル置換度2.8では貧溶剤となる。本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライド又は酢酸メチルが挙げられる。また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n-ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水を0.01~2質量含有していることが好ましい。上記記載のドープを調製する時の、セルロースアシレートの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースアシレートを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースアシレートの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45~120°Cであり、60~110°Cがより好ましく、70°C~105°Cが更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースアシレートを溶解させることができる。次に、このセルロースアシレート溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001~0.008mmの濾材がより好ましく、0.003~0.006mmの濾材が更に好ましい。濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン登録商標等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースアシレートに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。輝点異物とは、二枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースアシレートフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点異物のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/m2以下であり、更に好ましくは0~10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差差圧というの上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45~120°Cであり、45~70°Cがより好ましく、45~55°Cであることが更に好ましい。濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。流延工程流延キャスト工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1~4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は-50°C~溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0~100°Cで適宜決定され、5~30°Cが更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。例えば、前記金属支持体から剥離する際に、剥離張力及びその後の搬送張力によってウェブは縦方向に延伸する為、本発明においては流延支持体からウェブを剥離する際は剥離及び搬送張力をできるだけ下げた状態で行うことが好ましい。具体的には、例えば50~170N/m以下にすることが効果的である。その際、20°C以下の冷風を当て、ウェブを急速に固定化することが好ましい。また、セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10~150質量が好ましく、更に好ましくは20~40質量又は60~130質量であり、特に好ましくは、20~30質量又は70~120質量である。残留溶媒量は下記式で定義される。残留溶媒量質量={M-N/N}×100なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115°Cで1時間の加熱後の質量である。また、セルロースアシレートフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量以下であり、特に好ましくは0~0.01質量以下である。乾燥工程フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。セルロースアシレートフィルムの乾燥は、支持体より剥離したフィルムを更に乾燥し、残留溶媒量を3以下にすることが好ましい、更に好ましくは0.5以下である。フィルムを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う事ができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。乾燥温度は40~150°Cの範囲で段階的に高くしていくことが好ましく、50~140°Cの範囲で行うことが寸法安定性を良くするため更に好ましい。また、フィルムの軟化点±20°Cの範囲で10~40分間乾燥することが、吸水弾性率向上の点で好ましい。フィルムの軟化点±20°Cの乾燥中に搬送張力を制御することで、流延方向の吸水弾性率をコントロールすることが出来る。好ましい搬送張力の範囲は80~350N/mであり、80~200N/mが更に好ましい。延伸工程本発明に係るλ/4板は、波長590nmで測定した面内方向のリターデーションRo590が110~170nmの範囲であることが好ましいが、該リターデーションはフィルム延伸によって付与することが好ましい。延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。すなわち、製膜方向に対して横方向に延伸しても、縦方向に延伸しても、両方向に延伸してもよく、さらに両方向に延伸する場合は同時延伸であっても、逐次延伸であってもよい。なお、いわゆるテンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸が行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。本発明においては特に、延伸はフィルム搬送ロールの周速差を利用して搬送方向に行うか、若しくは搬送方向と直交方向幅手方向又はTD方向ともいうにウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で行うことが好ましく、更に左右把持手段によってウェブの把持長把持開始から把持終了までの距離を左右で独立に制御できるテンターを用いることも好ましい。また、本発明では本発明に係るλ/4板又は偏光子のいずれかを、延伸工程でフィルム搬送方向に対して45°方向に延伸することも好ましい。これは、VA型やIPS型液晶表示装置などに用いられる偏光板のように、偏光軸が偏光板の長辺方向あるいは短辺方向に平行である表示装置の表面に設けるλ/4板では、ロール状のポリマーフィルムからなるλ/4板の長手方向と面内の遅相軸との角度が実質的に45°であると、長尺ロール状λ/4板の長手方向もしくは幅手方向にカットしたλ/4板を用いることができるので、フィルムのカットロスが少なく生産上有利であるからである。長手方向と面内の遅相軸との角度が実質的に45°であるλ/4板は、ロール状のセルロースアシレートフィルムを長手方向に対して実質的に45°の方向に延伸処理することにより製造することができる。以下、45°の方向に延伸する方法を説明する。セルロースアシレートフィルムを長手方向に対して実質的に45°の方向に斜め延伸するためには、図4で示されるテンターを用いることが好ましい。図4は、テンターによる斜め延伸を示す模式図である。延伸フィルムの製造は、テンターを用いて行う。このテンターは、フィルムロール繰出しロールから繰り出されるフィルムを、オーブンによる加熱環境下で、その進行方向フィルム幅方向の中点の移動方向に対して斜め方向に拡幅する装置である。このテンターは、オーブンと、フィルムを搬送するための把持具が走行する左右で一対のレールと、該レール上を走行する多数の把持具とを備えている。フィルムロールから繰り出され、テンターの入口部に順次供給されるフィルムの両端を、把持具で把持し、オーブン内にフィルムを導き、テンターの出口部で把持具からフィルムを開放する。把持具から開放されたフィルムは巻芯に巻き取られる。一対のレールは、それぞれ無端状の連続軌道を有し、テンターの出口部でフィルムの把持を開放した把持具は、外側を走行して順次入口部に戻されるようになっている。なお、テンターのレール形状は、製造すべき延伸フィルムに与える配向角、延伸倍率等に応じて、左右で非対称な形状となっており、手動で又は自動で微調整できるようになっている。本発明においては、長尺の熱可塑性樹脂フィルムを延伸し、配向角θが延伸後の巻取り方向に対して、40°~80°の範囲内で、任意の角度に設定できるようになっている。本発明において、テンターの把持具は、前後の把持具と一定間隔を保って、一定速度で走行するようになっている。図4は、斜め延伸するために用いるテンターのレールの軌道レールパターンを示している。セルロースアシレートフィルムの繰出し方向DR1は、延伸後のフィルムの巻取り方向MD方向DR2と異なっており、これにより、比較的大きな配向角をもつ延伸フィルムにおいても広幅で均一な光学特性を得ることが可能となっている。繰出し角度θiは、延伸前のフィルムの繰出し方向DR1と延伸後のフィルムの巻取り方向DR2とのなす角度である。本発明においては、上述のように40°~80°の配向角を持つフィルムを製造するため、繰出し角度θiは、10°<θi<60°、好ましくは15°<θi<50°で設定される。繰出し角度θiを前記範囲とすることにより、得られるフィルムの幅方向の光学特性のバラツキが良好となる小さくなる。。フィルムロール繰出しロールから繰出されたセルロースアシレートフィルムは、テンター入口符号aの位置において、その両端両側を左右の把持具によって順次把持されて、把持具の走行に伴い走行される。テンター入口符号aの位置で、フィルム進行方向繰り出し方向DR1に対して略垂直な方向に相対している左右の把持具CL,CRは、左右非対称なレール上を走行し、予熱ゾーン、延伸ゾーン、熱固定ゾーンを有するオーブンを通過する。ここで、略垂直とは、前述の向かい合う把持具CL,CR同士を結んだ直線とフィルム繰出し方向DR1とがなす角度が、90±1°以内にあることを示す。予熱ゾーンとは、オーブン入口部において、両端を把持した把持具の間隔が一定の間隔を保ったまま走行する区間をさす。延伸ゾーンとは、両端を把持した把持具の間隔が開きだし、再び一定となるまでの区間をさす。また、冷却ゾーンとは、延伸ゾーンより後の把持具の間隔が再び一定となる期間において、ゾーン内の温度がフィルムを構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tg°C以下に設定される区間をさす。各ゾーンの温度は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tgに対し、予熱ゾーンの温度はTg5~Tg20°C、延伸ゾーンの温度はTg~Tg20°C、冷却ゾーンの温度はTg-30~Tg°Cに設定することが好ましい。延伸工程における延伸倍率RW/Woは、好ましくは1.3~3.0倍、より好ましくは1.5~2.8倍である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向厚さムラが小さくなるので好ましい。テンター延伸機の延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差を付けると幅方向厚さムラをさらに良好なレベルにすることが可能になる。なお、Woは延伸前のフィルムの幅、Wは延伸後のフィルムの幅を表す。上記斜め方向に延伸する工程は、製膜工程内オンラインで行ってもよく、また一度フィルムを巻き取った後に繰り出して上記テンターにて行ってもよいオフライン。ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。ウェブの乾燥工程における乾燥温度は好ましくはフィルムのガラス転移点-5°C以下、100°C以上で10分以上60分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は100~200°C、更に好ましくは110~160°Cで乾燥が行われる。所定の熱処理の後、巻き取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。更に、幅手両端部にはナーリング加工をすることが好ましい。ナーリング加工は、加熱されたエンボスロールを押し当てることにより形成することができる。エンボスロールには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。本発明に係るセルロースアシレートフィルムの幅手両端部のナーリングの高さは4~20μm、幅5~20mmが好ましい。また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻き取りの前に設けることが好ましい。ヘイズ本発明に係るセルロースアシレートフィルムは、ヘイズが1未満であることが好ましく、0.5未満であることがより好ましい。ヘイズを1未満とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学フィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。平均含水率本発明に係るセルロースアシレートフィルムは、25°C、相対湿度60における平衡含水率が4以下であることが好ましく、3以下であることがより好ましい。平均含水率を4以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。膜厚本発明に係るセルロースアシレートフィルムは、30~100μmであることが好ましい。30μm以上とすることにより、ウェブ状のフィルムを作成する際のハンドリング性が向上し、好ましい。フィルム長、幅本発明に係るセルロースアシレートフィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、100~10000m程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本発明に係るセルロースアシレートフィルムの幅は1m以上であることが好ましく、更に好ましくは1.4m以上であり、特に1.4~4mであることが好ましい。以上のようにしてセルロースアシレートフィルムである本発明に係るλ/4板を製造することができる。<ハードコート層>本発明に係るλ/4板上には、ハードコート層が設けられており、当該ハードコート層はクリアハードコート層又は防眩性ハードコート層のいずれかであることが好ましい。本発明においては、前記ハードコート層上に、少なくとも低屈折率層を含む反射防止層が視認性を向上させる為に設けられることがより好ましい。本発明に係るハードコート層がクリアハードコート層の場合は、JISB0601で規定される中心線平均粗さRaが0.001~0.1μmのクリアハードコート層であり、Raが0.002~0.05μmであることが好ましい。中心線平均粗さRaは光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製非接触表面微細形状計測装置WYKONT-2000を用いて測定することができる。本発明に係るハードコート層が防眩性である場合は、表面に微細な凹凸形状を有するが、該微細凹凸形状は、ハードコート層に微粒子を含有させることで形成し、下記のような平均粒径0.01μm~4μmの微粒子をハードコート層中に含有させることで形成できる。また、後述するように、該防眩性ハードコート層上に設けられた反射防止層の最表面の表面粗さとして、JISB0601で規定される中心線平均粗さRaが0.08μm~0.5μmの範囲に調整されることが好ましい。本発明に係るハードコート層中に含有される粒子としては、例えば、無機又は有機の微粒子が用いられる。無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができる。また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコーン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、又はポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。本発明では特に、酸化ケイ素微粒子又はポリスチレン系樹脂微粒子であることが好ましい。上記記載の無機又は有機の微粒子は、防眩性ハードコート層の作製に用いられる樹脂等を含む塗布組成物に加えて用いることが好ましい。本発明に係るハードコート層に防眩性を付与するためには、無機又は有機微粒子の含有量は、防眩性ハードコート層作製用の樹脂100質量部に対して、0.1質量部~30質量部が好ましく、更に好ましくは、0.1質量部~20質量部となるように配合することである。より好ましい防眩効果を付与するには、平均粒径0.1μm~1μmの微粒子を防眩性ハードコート層作製用の樹脂100質量部に対して1質量部~15質量部を用いるのが好ましい。又、異なる平均粒径の微粒子を二種以上用いることも好ましい。また、本発明に係るハードコート層には帯電防止剤を含有させることも好ましく、帯電防止剤としては、Sn、Ti、In、Al、Zn、Si、Mg、Ba、Mo、W及びVからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が107Ωcm以下であるような導電性材料が好ましい。前記帯電防止剤としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。金属酸化物の例としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO2、V2O5等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にZnO、In2O3、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加、またSnO2に対しては、Sb、Nb、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01~25molの範囲が好ましいが、0.1~15molの範囲が特に好ましい。また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は107Ωcm以下、特に105Ωcm以下である。十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、クリアハードコート層又は防眩性ハードコート層の膜厚は0.5μm~15μmの範囲が好ましく、更に好ましくは、1.0μm~7μmである。活性線硬化型樹脂本発明に係るハードコート層は、紫外線等活性線照射により硬化する活性線硬化型樹脂をバインダーとして含有することが好ましい。活性線硬化型樹脂とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性線硬化型樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。本発明に用いられる活性線硬化型樹脂は、親水性活性線硬化型樹脂であることが温水浸漬処理、または水蒸気処理後のハードコート層塗設、硬化工程において微少スジ、ムラを防ぐ観点から好ましい。本発明でいう親水性とは、活性線硬化型樹脂を塗設し硬化した表面の水滴接触角が40°以下である表面を有する場合に、当該活性線硬化型樹脂を親水性と判断するものである。水滴接触角は好ましくは、30°以下であり、さらに好ましくは20°以下の活性線硬化型樹脂であることが好ましい。接触角試験接触角は、JIS-R3257に基づいて、接触角計DM300協和界面化学を用いて、試料に水を3μl滴下して表面の接触角を測定する。好ましい親水性活性線硬化型樹脂は、その例として紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する、2-ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシル基水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59-151110号に記載の、ユニディック17-806DIC株製100部とコロネートL日本ポリウレタン株製1部との混合物等が好ましく用いられる。紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端のヒドロキシル基水酸基やカルボキシル基に2-ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる例えば、特開昭59-151112号。例えば、IRR338ダイセルユーシービー株製等が好ましく用いられる。紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコールメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。例えば、EB11ダイセルユーシービー株製等が好ましく用いられる。紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端のヒドロキシル基水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。例えば、IRR337ダイセルユーシービー株製等が好ましく用いられる。紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性線反応性化合物を示す。aビスフェノールAのグリシジルエーテルこの化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールAとの反応により、重合度の異なる混合物として得られるbビスフェノールA等のフェノール性OHを2個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物c4,4′-メチレンビスフェノールのグリシジルエーテルdノボラック樹脂又はレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物e脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルオキザレート、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアジペート、ビス3,4-エポキシ-6-シクロヘキシルメチルアジペート、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルピメレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-1-メチルシクロヘキシルメチル-3′,4′-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-1-メチル-シクロヘキシルメチル-3′,4′-エポキシ-1′-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-6-メチル-シクロヘキシルメチル-3′,4′-エポキシ-6′-メチル-1′-シクロヘキサンカルボキシレート、2-3,4-エポキシシクロヘキシル-5′,5′-スピロ-3′′,4′′-エポキシシクロヘキサン-メタ-ジオキサンf2塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレートgグリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリエチレングリコール-プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルhポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステルi多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテルj2-フルオロアルキル-1,2-ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のものk含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として2000以下で、好ましくは1000以下である。上記のエポキシ化合物を活性線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、h又はiの多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。エポキシ系活性線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤又は光増感剤は、活性線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。活性線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造又は網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性線反応性樹脂である。本発明に有用な活性線反応性エポキシ樹脂は、活性線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤又は光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。かかる代表的なものは下記一般式aで表される化合物である。一般式a:R1aR2bR3cR4dZwMeXvw-式中、カチオンはオニウムであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、ハロゲン例えばI、Br、Cl、又はN=Nジアゾであり、R1、R2、R3、R4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。a、b、c、dはそれぞれ0~3の整数であって、abcdはZの価数に等しい。Meはハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属metalloidであり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲンであり、wはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、vはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。上記一般式aの陰イオンMeXvw-の具体例としては、テトラフルオロボレートBF4-、テトラフルオロホスフェートPF4-、テトラフルオロアンチモネートSbF4-、テトラフルオロアルセネートAsF4-、テトラクロロアンチモネートSbCl4-等を挙げることができる。また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオンClO4-、トリフルオロメチル亜硫酸イオンCF3SO3-、フルオロスルホン酸イオンFSO3-、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭50-151996号、同50-158680号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50-151997号、同52-30899号、同59-55420号、同55-125105号等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭56-8428号、同56-149402号、同57-192429号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭49-17040号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655号等に記載のチオピリリューム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。また、エポキシアクリレート基を有する活性線反応性化合物の場合は、n-ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物100質量部に対して0.1質量部~15質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは1質量部~10質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。本発明に有用な活性線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性線硬化性エポキシ樹脂プレポリマー100質量部に対して0.1質量部~15質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、1質量部~10質量部の範囲の添加が好ましい。また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性線ラジカル重合開始剤と活性線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。また、本発明に係るハードコート層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素又は硫黄を含む3員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、3,3-ビスクロルメチルオキセタン、3,3-ビスヨードメチルオキセタン、3,3-ビスメトキシメチルオキセタン、3,3-ビスフェノキシメチルオキセタン、3-メチル-3クロルメチルオキセタン、3,3-ビスアセトキシメチルオキセタン、3,3-ビスフルオロメチルオキセタン、3,3-ビスブロモメチルオキセタン、3,3-ジメチルオキセタン等が挙げられる。なお、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。本発明に係るハードコート層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又はゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを上記記載の活性線硬化樹脂に混合して使用することができる。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、-COOM、-OH、-NR2、-NR3X、-SO3M、-OSO3M、-PO3M2、-OPO3Mここで、Mは水素原子、アルカリ金属又はアンモニウム基を、Xはアミン塩を形成する酸を、Rは水素原子、アルキル基を表す等を挙げることができる。本発明に係るハードコート層が活性線硬化型樹脂を含む場合、活性線の照射方法としては、支持体上に、ハードコート層、反射防止層中~高屈折率層及び低屈折率層等の塗設後に活性線を照射してもよいが、ハードコート層塗設時に活性線を照射することが好ましい。本発明に使用する活性線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。波長250nm~420nmの紫外領域に発光スペクトルを持つ光源を使用するのが好ましい。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20mJ/cm2以上が好ましく、更に好ましくは、50mJ/cm2~2000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50mJ/cm2~1000mJ/cm2である。紫外線照射は、ハードコート層と後述する反射防止層を構成する複数の層中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層それぞれに対して1層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。或いはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50~1000keV、好ましくは100~300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。本発明に使用する上記活性線反応性化合物を光重合又は光架橋反応を開始させるには、上記活性線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。本発明に係るハードコート層が活性線硬化樹脂を含有する場合、活性線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α-アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、n-ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤及び/又は光増感剤の使用量は、組成物の1質量~10質量が好ましく、特に好ましくは2.5質量~6質量である。また、活性線硬化樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、4,4′-チオビス6-tert-3-メチルフェノール、4,4′-ブチリデンビス6-tert-ブチル-3-メチルフェノール、1,3,5-トリス3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンジルイソシアヌレート、2,4,6-トリス3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンジルメシチレン、ジ-オクタデシル-4-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。本発明においては、その他適宜、種々の紫外線硬化樹脂を選択して使用することができる。例えば市販品としては、アデカオプトマーKR、BYシリーズのKR-400、KR-410、KR-550、KR-566、KR-567、BY-320B以上、株ADEKA製、コーエイハードのA-101-KK、A-101-WS、C-302、C-401-N、C-501、M-101、M-102、T-102、D-102、NS-101、FT-102Q8、MAG-1-P20、AG-106、M-101-C以上、広栄化学工業株製、セイカビームのPHC2210S、PHCX-9K-3、PHC2213、DP-10、DP-20、DP-30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900以上、大日精化工業株製、KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202以上、ダイセルユーシービー株、RC-5015、RC-5016、RC-5020、RC-5031、RC-5100、RC-5102、RC-5120、RC-5122、RC-5152、RC-5171、RC-5180、RC-5181以上、DIC株製、オーレックスNo.340クリヤ中国塗料株製、サンラッドH-601三洋化成工業株製、SP-1509、SP-1507以上、昭和高分子株製、RCC-15Cグレースジャパン株製、アロニックスM-6100、M-8030、M-8060以上、東亞合成株製、又はその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。活性線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は10質量~95質量であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。本発明に係るハードコート層は界面活性剤を含有することも好ましく、界面活性剤としては、シリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。シリコーン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類のヒドロキシル基水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖ポリオキシエチレン等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性ヒドロキシル基水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖ポリオキシエチレン鎖が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、防眩性ハードコート層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー株製、シリコーン界面活性剤SILWETL-77、L-720、L-7001、L-7002、L-7604、Y-7006、FZ-2101、FZ-2104、FZ-2105、FZ-2110、FZ-2118、FZ-2120、FZ-2122、FZ-2123、FZ-2130、FZ-2154、FZ-2161、FZ-2162、FZ-2163、FZ-2164、FZ-2166、FZ-2191等が挙げられる。また、SUPERSILWETSS-2801、SS-2802、SS-2803、SS-2804、SS-2805等が挙げられる。また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を1つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー株製、シリコーン界面活性剤ABNSILWETFZ-2203、FZ-2207、FZ-2208等が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることができる。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、N-パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3-フルオロアルキルオキシ-1-アルキルスルホン酸ナトリウム、3-ω-フルオロアルカノイル-N-エチルアミノ-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、N-3-パーフルオロオクタンスルホンアミドプロピル-N,N-ジメチル-N-カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、N-プロピル-N-2-ヒドロキシエチルパーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル-N-エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビスN-パーフルオロオクチルスルホニル-N-エチルアミノエチル等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。好ましい添加量はハードコート層の塗布液に含まれる固形分当たり0.01~3.0であり、より好ましくは0.02~1.0である。他の界面活性剤を併用して用いることもでき、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。本発明にハードコート層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、又は混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノC1~C4アルキルエーテル又はプロピレングリコールモノC1~C4アルキルエーテルエステルを5質量以上、更に好ましくは5質量~80質量以上含有する溶媒が用いられる。ハードコート層組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター、スプレーコート、インクジェット法等公知の方法を用いることができる。塗布量はウエット膜厚で5μm~30μmが適当で、好ましくは10μm~20μmである。塗布速度は10m/分~200m/分が好ましい。ハードコート層組成物は塗布乾燥された後、紫外線や電子線等の活性線を照射され硬化処理されることが好ましいが、前記活性線の照射時間は0.5秒~5分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、3秒~2分である。<反射防止層>本発明のハードコート層付きλ/4板のハードコート層上には、反射防止層を設けることが視認性向上のため好ましい。用いられる反射防止層は低屈折率層のみの単層構成でもよいが、多層の屈折率層を設けることも好ましい。λ/4板上にハードコート層を有し、その表面上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層できる。反射防止層は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成したり、特に好ましくは、3層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる3層を、中屈折率層支持体又は防眩性ハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましい。又は、2層以上の高屈折率層と2層以上の低屈折率層とを交互に積層した4層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。本発明に係る反射防止層の好ましい層構成の例を下記に示す。ここで/は積層配置されていることを示している。λ/4板/クリアハードコート層/低屈折率層λ/4板/クリアハードコート層/高屈折率層/低屈折率層λ/4板/クリアハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層λ/4板/防眩性ハードコート層/低屈折率層λ/4板/防眩性ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層λ/4板/防眩性ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低屈折率層の上に、更に防汚層を設けることもできる。防汚層としては、含フッ素有機化合物が好ましく用いられる。光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。また、上記層構成では、適宜中間層を設けてもよく、例えば導電性ポリマー微粒子例えば架橋カチオン微粒子又は金属酸化物微粒子例えば、SnO2、ITO等を含む帯電防止層等は好ましい。低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層は公知の構成で形成することができるが、特に低屈折率層は中空球状シリカ系微粒子が好適に用いられることが好ましく、I多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、又はII内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体又は多孔質物質で充填された空洞粒子が用いられる。上記、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層に関しては、特開2005-266051号公報に詳述されている。反射防止層を構成する各屈折率層の膜厚としては、各々1nm~200nmの範囲が好ましく、更に好ましくは、5nm~150nmであるが、各層の屈折率に応じて、各々適切な膜厚を選択することが好ましい。本発明に用いられる反射防止層は、450nm~650nmにおける平均反射率が1以下であることが好ましく、特に好ましくは0.5以下である。また、この範囲における最低反射率は0.00~0.3にあることが特に好ましい。反射防止層の屈折率と膜厚は、分光反射率の測定より計算して算出することができる。また、作製した低反射フィルムの反射光学特性は、分光光度計を用い、5度正反射の条件にて反射率を測定することができる。<偏光板>本発明のハードコート付きλ/4板を利用した偏光板は、ハードコート付きλ/4板のλ/4板側が偏光子に貼合されており、かつ偏光子の吸収軸と該ハードコート付きλ/4板の遅相軸が実質的に45°の傾きをもって貼合されて円偏光板とすることが好ましい。本発明に係る偏光板は、偏光子としてヨウ素、又は二色性染料をドープしたポリビニルアルコールを延伸したものを使用し、ハードコート層/λ/4板/偏光子、またはハードコート層/λ/4板/偏光子/光学フィルムの構成で貼合して製造することができる。上記光学フィルムは、特に限定されるものではないが、ポリマーフィルムであることが好ましく、製造が容易であること、光学的に均一性であること、光学的に透明性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホンポリエーテルスルホンも含む系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム,ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリビニルアセタール系樹脂フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらのフィルムは溶液流延法或いは溶融法で製膜されたフィルムが好ましく用いられる。これらのうちセルロースエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンポリエーテルスルホンを含む、シクロオレフィンポリマーフィルムが好ましく、本発明においては、特にセルロースエステルフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムが、製造上、コスト面、透明性、均一性、接着性等の面から好ましい。例えば、市販のセルロースエステルフィルムとしては、コニカミノルタタックKC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC16UR、KC4UE、KC8UE、KC4FR-1、KC4FR-2以上コニカミノルタオプト株製などが好ましく用いられる。また、該光学フィルムは下記要件1を満たす光学フィルム、または下記要件2を満たす光学フィルムであることが好ましい。1下記式Iにより定義される面内リターデーション値Ro590が20~150nmの範囲内であり、かつ下記式IIにより定義される厚さ方向のリターデーション値Rt590が70~400nmnmの範囲内である。2下記式Iにより定義される面内リターデーション値Ro590が0~5nmの範囲内であり、かつ下記式IIにより定義される厚さ方向のリターデーション値Rt590が-10~10nmの範囲内である。式I:Ro590=nx-ny×dnm式II:Rt590={nxny/2-nz}×dnm上式中、Ro590は測定波長590nmにおけるフィルム内の面内リターデーション値を表し、Rt590は測定波長590nmにおけるフィルム内の厚さ方向のリターデーション値を表す。また、dは光学フィルムの厚さnmを表し、nxは測定波長590nmにおけるフィルムの面内の最大の屈折率を表す。nyは測定波長590nmにおけるフィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率を表し、nzは測定波長590nmにおける厚さ方向におけるフィルムの屈折率を表す。上記Ro、Rtは自動複屈折率計を用いて測定することができる。自動複屈折率計KOBRA-21ADH王子計測機器株製を用いて、23°C、55RHの環境下で複屈折率測定によりRo、Rtを算出する。光学フィルムが1の要件を満たす場合は後述するVA型液晶表示装置に好適に用いることができる。光学フィルムが2の要件を満たす場合は後述するIPS型液晶表示装置に好適に用いることができる。本発明に係る偏光板に好ましく用いられる偏光子としては、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが挙げられ、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。ポリビニルアルコール系フィルムとしては、エチレンで変性された変性ポリビニルアルコール系フィルムが好ましく用いられる。偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。延伸は、フィルム製膜方向に一軸延伸を行うか、またはフィルム製膜方向に対して前述の斜め延伸装置を用いて斜め45°方向に延伸することが好ましい。偏光子の膜厚は5~40μm、好ましくは5~30μmであり、特に好ましくは5~20μmである。偏光板は一般的な方法で作製することができる。アルカリ鹸化処理した本発明のハードコート付きλ/4板は、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には、前記光学フィルムを同様に鹸化処理して貼合することが好ましい。本発明のハードコート付きλ/4板の作製において、長手方向から45°の方向に延伸して作製されたハードコート付きλ/4フィルムの場合には、偏光膜の吸収軸が長手方向に位置している偏光子と、偏光子の長手方向とλ/4板の遅相軸が10°以上90°未満、より好ましくは20°以上70°未満、更に好ましくは40°以上50°未満、特に好ましくは44°以上46°未満になるように、ロールツーロールで連続的に貼り合わせることができる。また、本発明のハードコート付きλ/4板の作製において、長手方向に延伸して作製されたハードコート付きλ/4板と、長手方向に吸収軸を有する偏光子とを貼合する場合には、貼合する前に本発明のハードコート付きλ/4板と偏光子を各々打ち抜き、偏光膜の吸収軸とλ/4板の遅相軸が10°以上90°未満、より好ましくは20°以上70°未満、更に好ましくは40°以上50°未満、特に好ましくは44°以上46°未満になるように、枚葉で貼り合わせることができる。偏光板は、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。<液晶表示装置>本発明に係る液晶表示装置は、偏光板が液晶セルよりも視認側に配置され、液晶セル、偏光子、λ/4板、ハードコート層がこの順になるように設けられていることが好ましい。または、液晶セル、光学フィルム、偏光子、λ/4板、ハードコート層がこの順になるように設けられていることが好ましい。本発明に係る偏光板を液晶セルの視認側の面に貼合した液晶表示装置とすることによって、偏光サングラス等偏光作用のある光学部材を通して観察した場合でも表示画像が偏光軸の方向によって見え難くなるのを低減でき、使用環境に対してより耐久性が高い本発明に係る液晶表示装置を作製することができる。本発明に係る偏光板は反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型PVA型、MVA型、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。立体画像表示装置本発明のハードコート付きλ/4板は、立体画像表示装置において種々の態様において用いることができる。例えば、液晶表示装置と液晶シャッタメガネとからなる立体画像表示装置であって、当該液晶シャッタメガネが、1ハードコート付きλ/4板、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている、又は2ハードコート付きλ/4板、偏光子、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている液晶シャッタメガネであることを特徴とする態様の立体画像表示装置において用いることができる。上記1の態様メガネの偏光板が一枚の方式の立体画像表示装置の模式図を図5に示す。また、上記2の態様メガネの偏光板が二枚の方式の模式図を図6に示す。なお、いずれの態様の場合も、液晶表示装置の前側偏光板は、λ/4板、偏光子、及び光学フィルムセル、及び偏光子がこの順に設けられている構成になっている。本発明においては、上記の態様構成により、立体3D画像観賞時に首を傾けた際のクロストーク若しくは輝度低下及び色味変化を低減でき、使用環境に対して優れた視認性を保つことが可能で、使用環境に対してより耐久性が高い立体画像表示装置とすることができる。以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例1<ハードコート付きλ/4板101の作製>λ/4板の作製微粒子分散液1微粒子アエロジルR972V日本アエロジル株製11質量部エタノール89質量部以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。微粒子添加液1メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線株製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。メチレンクロライド99質量部微粒子分散液15質量部下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙株製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。主ドープ液の組成メチレンクロライド340質量部エタノール64質量部アセチル基置換度が2.45のジアセチルセルロース100質量部トリフェニルホスフェートTPP10質量部ビフェニルジフェニルホスフェートBDP5質量部位相差発現剤円盤状化合物I-22.5質量部紫外線吸収剤チヌビン928BASFジャパン株製2質量部微粒子添加液11質量部以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度33°C、2000mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30°Cに制御した。ステンレスベルト支持体上で、流延キャストしたフィルム中の残留溶媒量が75になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力130N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。剥離したセルロースアセテートフィルムを、剥離後、特開2009-214441号公報の実施例1に記載の装置延伸機A:図11を用い、温度170°C、倍率1.5倍で遅相軸がフィルム幅方向と45°をなす様に斜め方向に延伸を行った。次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は130°Cで、搬送張力は100N/mとした。以上のようにして、乾燥膜厚50μm、長さ3000mのλ/4板を得た。ハードコート層の塗布次いで上記作製したλ/4板に下記ハードコート層塗布液をダイコートし、80°Cで乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して硬化後の膜厚が6μmになるようにクリアハードコート層を設け、ハードコート付きλ/4板101を作製した。ハードコート層用塗布液アセトン45質量部酢酸エチル45質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル10質量部ウレタンアクリレートDICユニディックRS27-921100質量部1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンイルガキュア184、BASFジャパン社製5質量部2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モノフォリノ-1-オンイルガキュア907、BASFジャパン社製3質量部BYK-331シリコーン界面活性剤、ビックケミージャパン株製0.5質量部尚、ウレタンアクリレートDICユニディックRS27-921の塗布硬化した表面の水滴接触角は40°以下であり、親水性活性線硬化型樹脂であることを確認した。接触角試験接触角は、JIS-R3257に基づいて、接触角計DM300協和界面化学を用いて、試料に水を3μl滴下して表面の接触角を測定する。<ハードコート付きλ/4板102の作製>ハードコート付きλ/4板101の作製において、λ/4板を図3に示す水蒸気処理室に導入して、表面に70°Cの水蒸気を3分間噴射し、該水蒸気処理室から30秒を経て前記ハードコート層を塗布し、ハードコート付きλ/4板102を作製した。<ハードコート付きλ/4板103の作製>ハードコート付きλ/4板102の作製において、λ/4板を以下の主ドープ液に変更し、水蒸気処理を行った以外は同様にして、ハードコート付きλ/4板103を作製した。主ドープ液の組成メチレンクロライド340質量部エタノール64質量部アセチル基置換度が2.45のジアセチルセルロース100質量部一般式FAで表される化合物FA-610質量部紫外線吸収剤チヌビン928BASFジャパン株製2質量部微粒子添加液11質量部<ハードコート付きλ/4板104の作製>ハードコート付きλ/4板103の作製において、λ/4板を以下の主ドープ液に変更し、水蒸気処理を行った以外は同様にして、ハードコート付きλ/4板104を作製した。主ドープ液の組成メチレンクロライド340質量部エタノール64質量部アセチル基置換度が2.45のジアセチルセルロース100質量部一般式FAで表される化合物FA-610質量部位相差発現剤円盤状化合物I-22.5質量部紫外線吸収剤チヌビン928BASFジャパン株製2質量部微粒子添加液11質量部<ハードコート付きλ/4板105~123の作製>ハードコート付きλ/4板104の作製において、ジアセチルセルロースのアセチル基置換度、一般式FAで表される化合物の種類、可塑剤の種類、位相差発現剤の種類、膜厚、延伸方向、水蒸気または温水による浸漬処理条件、水蒸気または温水浸漬処理をした後からハードコート層を塗布するまでの時間を、表2に記載のように変更した以外は同様にして、ハードコート付きλ/4板105~123を作製した。尚、延伸方向のMDとはウェブの搬送方向と平行な方向を表し、温水浸漬とは図1の処理槽を用いて温水による浸漬処理を行ったことを表す。ハードコート付きλ/4板121~123は、λ/4板作製時の延伸前に水蒸気処理を行い、延伸、乾燥後ロール状に巻き取り、翌日ロールから繰り出してハードコート層を塗布した。また、ポリエステルa、ポリエステルbとは、以下の化合物を表し、その添加量はいずれも10質量部とした。ポリエステルaの合成窒素雰囲気下、2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル19.2g、1,2-プロピレングリコール14.9g、テトライソプロピルチタネート20mgを混合し、生成するメタノールを留去しながら165°Cで1時間攪拌を行った。更に185°Cで1時間攪拌を行った後、195°Cに昇温して18時間攪拌を行った。次に、170°Cまで降温し、未反応物の1,2-プロピレングリコールを減圧留去することにより、ポリエステルポリオールaを得た。酸価:0.2数平均分子量:1020分散度:1.6分子量300~1800の成分含有率:48ヒドロキシル水酸基価:110水酸基含有量:1001H-NMRにより、末端にメチルエステル残基がないことを確認した。<ポリエステルbの合成>窒素雰囲気下、テレフタル酸ジメチル4.85g、1,2-プロピレングリコール4.4g、p-トルイル酸6.8g、テトライソプロピルチタネート10mgを混合し、140°Cで2時間攪拌を行った後、更に210°Cで16時間攪拌を行った。次に、170°Cまで降温し、未反応物の1,2-プロピレングリコールを減圧留去することにより、ポリエステルbを得た。酸価:0.1数平均分子量:490分散度:1.4分子量300~1800の成分含有率:90ヒドロキシル水酸基価:0.1水酸基含有量:0.04ポリエステルbはジカルボン酸に対してモノカルボン酸が2倍モル使用されているため末端がトルイル酸エステルになっている。評価《リターデーションRo、Rtの測定》得られたフィルムから試料35mm×35mmを切り出し、23°C,55RH環境下で2時間調湿し、自動複屈折計KOBRA21DH、王子計測株で、590nmにおける測定した値から下記式によってRo590、Rt590を求めた。式I:Ro590=nx-ny×dnm式II:Rt590={nxny/2-nz}×dnm上式中、Ro590は測定波長590nmにおけるフィルム内の面内リターデーション値を表し、Rt590は測定波長590nmにおけるフィルム内の厚さ方向のリターデーション値を表す。また、dは光学フィルムの厚さnmを表し、nxは測定波長590nmにおけるフィルムの面内の最大の屈折率を表す。nyは測定波長590nmにおけるフィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率を表し、nzは測定波長590nmにおける厚さ方向におけるフィルムの屈折率を表す。《微少スジ、ムラの評価》作製したハードコート付きλ/4板について、微少スジ、ムラを下記の基準に従い目視でランク評価した。微少スジ、ムラ○:微少スジ、ムラが全くない実用可△:弱い微少スジ、ムラが有り程度の弱いものは実用可×:強いスジ、ムラ有り実用不可ハードコート付きλ/4板の構成、及び評価結果を表2に示す。表2から、本発明に係るハードコート付きλ/4板103~116は比較例に対して、λ/4板としての適切なリターデーションを有し、かつ本発明に係る水蒸気処理、または温水を用いる浸漬処理によって、ハードコート層塗布後の微少スジ、ムラに優れることが明かである。実施例2実施例1のハードコート付きλ/4板104の作製において、水蒸気処理温度を80°C、処理時間を50秒、ハードコート層塗布までの時間を40秒に変更し、更にハードコート層に用いる活性線硬化型樹脂の種類を表3に示した化合物を用いた以外は同様にして、ハードコート付きλ/4板124~132を作製した。用いた活性線硬化型樹脂の親水性について実施例1と同様に水滴接触角を測定した結果、40°以下であり親水性を有する化合物を○、親水性が無い化合物を×とした。また、作製したハードコート付きλ/4板124~132の微少ムラについて、実施例1と同様にして評価して、表3に示した。表3より親水性活性線硬化型樹脂をハードコート層に用いることで、本発明に係る水蒸気処理による微少スジ、ムラの発生が効果的に改善されることが分かる。実施例3作製したハードコート付きλ/4板のハードコート層の上に更に下記反射防止層を設け、反射防止層付きλ/4板101ar~132arを作製した。<反射防止層の塗布>中屈折率層の塗布ハードコート層表面上に、下記中屈折率層塗布液をダイコートし、80°Cで乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して、硬化後の膜厚が110nmとなるように中屈折率層を設けた。屈折率は1.60であった。中屈折率層塗布液粒子分散液Aの作製メタノール分散アンチモン複酸化物コロイド固形分60、日産化学工業株製アンチモン酸亜鉛ゾル、商品名:セルナックスCX-Z610M-F26.0kgにイソプロピルアルコール12.0kgを攪拌しながら徐々に添加し、粒子分散液Aを調製した。PGMEプロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部イソプロピルアルコール25質量部メチルエチルケトン25質量部ペンタエリスリトールトリアクリレート0.9質量部ペンタエリスリトールテトラアクリレート1.0質量部ウレタンアクリレート商品名:U-4HA新中村化学工業社製0.6質量部粒子分散液A20質量部1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンイルガキュア184、BASFジャパン社製0.4質量部2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モノフォリノプロパン-1-オンイルガキュア907、BASFジャパン社製0.2質量部10FZ-2207、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液日本ユニカー社製0.4質量部低屈折率層の塗布上記中屈折率層上に、下記の低屈折率層塗布液をダイコートし、80°Cで乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して膜厚が92nmになるように低屈折率層を設け、反射防止層を作製した。屈折率は1.38であった。低屈折率層塗布液テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製テトラエトキシシラン230g商品名:KBE04、信越化学工業社製とエタノール440gを混合し、これに2酢酸水溶液120gを添加した後に、室温25°Cにて26時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。プロピレングリコールモノメチルエーテル430質量部イソプロピルアルコール430質量部テトラエトキシシラン加水分解物A120質量部γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン商品名:KBM503、信越化学工業社製3.0質量部イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル固形分20、触媒化成工業社製シリカゾル、商品名:ELCOMV-820940質量部アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート川研ファインケミカル社製3.0質量部10FZ-2207、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液日本ユニカー社製3.0質量部<偏光子保護用光学フィルムの作製>光学フィルム150の作製微粒子分散液1微粒子アエロジルR972V日本アエロジル株製11質量部エタノール89質量部以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。微粒子添加液1メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線株製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。メチレンクロライド99質量部微粒子分散液15質量部下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙株製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。主ドープ液の組成メチレンクロライド340質量部エタノール64質量部セルロースエステルセルロースアセテートプロピオネートアシル基総置換度2.75、アセチル基置換度0.19、プロピオニル基置換度2.56、Mw=200000100質量部一般式FAで表される化合物FA-210質量部ポリエステルb2.5質量部紫外線吸収剤チヌビン928BASFジャパン株製2.3質量部微粒子添加液11質量部上記組成物を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度33°C、2000mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30°Cに制御した。ステンレスベルト支持体上で、流延キャストしたフィルム中の残留溶媒量が75になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力130N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。その後170°Cに設定されたテンターにより幅手方向に1.4倍の延伸を行い、次いで130°Cに設定された乾燥ゾーンで30分間搬送させて乾燥を行い、幅2m、かつ端部に幅1cm、高さ8μmのナーリングを有する膜厚40μmの光学フィルム150を作製し、3000mで巻き取った。光学フィルム150のリターデーション値Ro590、Rt590は、各々50nm、130nmであった。光学フィルム151の作製主ドープ液の組成アクリル樹脂A:BR100アクリル樹脂、三菱レイヨン株製70質量部セルロースエステル樹脂B:セルロースエステルセルロースアセテートプロピオネートアシル基総置換度2.75、アセチル基置換度0.19、プロピオニル基置換度2.56、Mw=20000030質量部塩化メチレン264質量部エタノール36質量部上記作製したドープ液を、ベルト流延装置を用い、温度22°C、2m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒濃度残留溶剤量が100になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力162N/mでステンレスバンド支持体上から剥離した。この際、流延から剥離までに要した時間は100秒であった。剥離したアクリル樹脂のウェブを35°Cで溶媒を蒸発させ、1.6m幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に1.1倍に延伸しながら、135°Cの乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶媒濃度は10質量であった。テンターで延伸後130°Cで5分間緩和を行った後、120°C、130°Cの乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1.5m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm高さ5μmのナーリング加工を施し、初期張力220N/m、終張力110N/mで内径6インチコアに巻き取り、膜厚40μm、巻数は3000mのアクリル樹脂含有光学フィルム151を得た。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるMD方向の延伸倍率は1.1倍であった。光学フィルム151のリターデーション値Ro590、Rt590は、各々3nm、5nmであった。<偏光板201~240の作製>厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸温度110°C、延伸倍率5倍した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68°Cの水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し、長尺状の偏光子を得た。次いで、下記工程1~5に従って偏光子と前記反射防止層付きλ/4板101ar~132arと、裏面側には光学フィルム150、または光学フィルム151をロールtoロールで貼り合わせて偏光子の吸収軸とλ/4板の遅相軸が45°傾いている長尺状の偏光板201~240を作製した。工程1:60°Cの2モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に90秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したλ/4板101ar~132arを得た。工程2:前記偏光子を固形分2質量のポリビニルアルコール接着剤槽中に1~2秒浸漬した。工程3:工程2で偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したλ/4板101ar~132arの上にのせて配置した。工程4:工程3で積層したλ/4板101ar~132arと偏光子と光学フィルム150、または光学フィルム151を圧力20~30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。工程5:80°Cの乾燥機中に工程4で作製した偏光子とλ/4板101ar~132arと光学フィルム150、または光学フィルム151とを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、それぞれ、λ/4板101ar~132arに対応する偏光板201~240を作製した。尚、反射防止層付きλ/4板116arはMD延伸により遅相軸が長手方向に平行であったため、斜め45°方向に切り出したものを使用した。<液晶表示装置の作製>視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。SONY製60型ディスプレイBRAVIALX900の予め貼合されていた前面板を剥がして、パネル前面の偏光板と前面板の間にあった充填剤を除去し、予め貼合されていたパネル前側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板201~240をそれぞれ液晶セルのガラス面の前面に貼合した。その際、その偏光板の貼合の向きは、λ/4板の面が、視認側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、それぞれ、偏光板201~240に対応する液晶表示装置301~340を各々作製した。3DメガネSONY製3DメガネTDG-BR100のパネル側に実施例1で作製したハードコート付きλ/4板104を貼合した。作製した液晶表示装置について3D映像視聴時の首を傾けた際のクロストークについて評価した。《3D映像視聴時の首を傾けた際のクロストークの評価》23°C55RHの環境で、各々の液晶表示装置のバックライトを点灯させた直後、3Dメガネをかけて、メガネが25°傾いた状態になるよう首を傾けた状態で3D映像を視聴し、クロストークを下記基準で評価した。◎:クロストークがまったくない○:非常に弱いクロストークが見えるが実用上問題はない△:弱いクロストークが見える×:クロストークがはっきり見える。《コントラストムラ》23°C55RHの環境で、各々の液晶表示装置のバックライトを1時間連続点灯した後、測定を行った。測定にはELDIM社製EZ-Contrast160Dを用いて、液晶表示装置で白表示と黒表示の表示画面の法線方向からの輝度を測定し、その比を正面コントラストとした。正面コントラスト=表示装置の法線方向から測定した白表示の輝度/表示装置の法線方向から測定した黒表示の輝度液晶表示装置の任意の10点の正面コントラストを測定し、以下の基準にて評価した。コントラストムラはハードコートフィルムに発生するしわやゆがみによって発生する。◎:正面コントラストのばらつきがなく、ムラもない○:正面コントラストのばらつきが1~5未満のばらつきであり、ムラが小さい△:正面コントラストが5~10未満のばらつきであり、ムラがややある×:正面コントラストが10以上のばらつきであり、ムラが大きい以上の評価結果を表4に示す。表4に示した結果から、特に斜め延伸により製造されるλ/4板に発生する微小スジ、ムラを解消し、首を傾けた際のクロストーク若しくは正面コントラストのばらつきを低減でき、視認性に優れた立体映像表示装置が得られることが明らかである。"