真空槽と、前記真空槽内を真空排気する真空排気部と、真空排気された前記真空槽内に原料液を噴射して、凍結粒子を生成する噴射器と、前記噴射器の下方に配置された加熱冷却棚と、前記加熱冷却棚を、一の回転軸線の周りに所定角度回転させて、前記加熱冷却棚の表面が水平であり、生成された前記凍結粒子が前記表面に堆積する水平姿勢と、前記加熱冷却棚の一端が、前記水平姿勢での前記一端の位置よりも上方であり、かつ前記一端とは逆の他端よりも上方に位置し、前記表面に堆積した前記凍結粒子が落下する傾斜姿勢とのいずれかにする傾斜装置と、を有する凍結真空乾燥装置であって、前記加熱冷却棚の上方に配置され、下端に下部開口が設けられた筒状のカバーと、前記カバーを、前記凍結粒子が前記カバーの内側を落下して前記加熱冷却棚の表面に堆積する下方位置と、前記下方位置より上方の上方位置との間で移動させる移動装置と、を有し、前記カバーが前記下方位置にあるときには、前記加熱冷却棚が前記水平姿勢のときに、前記下部開口が前記加熱冷却棚の表面と対面され、前記加熱冷却棚を前記傾斜姿勢にするときに、前記加熱冷却棚が前記カバーと接触するようになっており、前記カバーが前記上方位置にあるときには、前記加熱冷却棚は前記カバーと接触せずに前記傾斜姿勢にされる凍結真空乾燥装置。前記カバーの内側表面はバフ研磨又は電解研磨のいずれか一方又は両方をされている請求項1記載の凍結真空乾燥装置。前記カバーの内側には、前記カバーの形状を支える梁が設けられ、前記梁の上端面は前記梁の長手方向に沿って稜線が生じるように山型に尖らせて形成された請求項1記載の凍結真空乾燥装置。本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、凍結真空乾燥装置において凍結粒子の回収率を向上させる技術を提供することにある。上記課題を解決するために本発明は、真空槽と、前記真空槽内を真空排気する真空排気部と、真空排気された前記真空槽内に原料液を噴射して、凍結粒子を生成する噴射器と、前記噴射器の下方に配置された加熱冷却棚と、前記加熱冷却棚を、一の回転軸線の周りに所定角度回転させて、前記加熱冷却棚の表面が水平であり、生成された前記凍結粒子が前記表面に堆積する水平姿勢と、前記加熱冷却棚の一端が、前記水平姿勢での前記一端の位置よりも上方であり、かつ前記一端とは逆の他端よりも上方に位置し、前記表面に堆積した前記凍結粒子が落下する傾斜姿勢とのいずれかにする傾斜装置と、を有する凍結真空乾燥装置であって、前記加熱冷却棚の上方に配置され、下端に下部開口が設けられた筒状のカバーと、前記カバーを、前記凍結粒子が前記カバーの内側を落下して前記加熱冷却棚の表面に堆積する下方位置と、前記下方位置より上方の上方位置との間で移動させる移動装置と、を有し、前記カバーが前記下方位置にあるときには、前記加熱冷却棚が前記水平姿勢のときに、前記下部開口が前記加熱冷却棚の表面と対面され、前記加熱冷却棚を前記傾斜姿勢にするときに、前記加熱冷却棚が前記カバーと接触するようになっており、前記カバーが前記上方位置にあるときには、前記加熱冷却棚は前記カバーと接触せずに前記傾斜姿勢にされる凍結真空乾燥装置である。本発明は凍結真空乾燥装置であって、前記カバーの内側表面はバフ研磨又は電解研磨のいずれか一方又は両方をされている凍結真空乾燥装置である。本発明は凍結真空乾燥装置であって、前記カバーの内側には、前記カバーの形状を支える梁が設けられ、前記梁の上端面は前記梁の長手方向に沿って稜線が生じるように山型に尖らせて形成された凍結真空乾燥装置である。凍結真空乾燥装置において凍結粒子の回収率が向上する。<凍結真空乾燥装置の構造>本発明の凍結真空乾燥装置の構造を説明する。図1は、本発明の凍結真空乾燥装置10の内部構成図である。本発明の凍結真空乾燥装置10は、真空槽11と、真空槽11内を真空排気する真空排気部12と、真空槽11内に原料液を噴射する噴射器14と、噴射器14の下方に配置された加熱冷却棚16と、加熱冷却棚16を一の回転軸線17の周りに所定角度回転させる傾斜装置18とを有している。噴射器14は真空槽11内に配置され、原料液が蓄液された原料液タンク15に接続されている。原料液タンク15から原料液が供給されると、噴射器14は供給された原料液を真空槽11内に噴射できるように構成されている。原料液は、液体成分と、液体成分に溶解された溶質や液体成分中に分散された分散体等の固体成分を含有しており、真空排気された真空槽11内に噴射された原料液は、加熱冷却棚16に到達するまでに、液体成分の少なくとも一部が蒸発して冷却され、少なくとも一部が自己凍結して、原料液と同じ固体成分を含有する凍結粒子が生成される。真空槽11内にはコールドトラップ19が配置され、蒸発した液体成分はコールドトラップ19に付着して捕集されるようになっている。加熱冷却棚16はここでは平板形状に形成されている。加熱冷却棚16の姿勢が、表面が水平な水平姿勢のときには、生成された凍結粒子は加熱冷却棚16の表面に堆積するようになっている。加熱冷却棚16の内部には温度管理された熱媒体が流される流路16aが設けられている。流路16a内に熱媒体が流されると、加熱冷却棚16の表面は所定の温度に加熱又は冷却されるようになっている。加熱冷却棚16の表面に凍結粒子が堆積した状態で、加熱冷却棚16の表面を凍結粒子の融解温度より低い温度に加熱すると、凍結粒子に蒸発潜熱が供給されて、液体成分の昇華が加速される。また凍結粒子が未凍結の部分を含有する場合には、加熱冷却棚16の表面を凍結温度より低い温度に冷却すると、未凍結の部分も凍結することができる。傾斜装置18は、ここでは支持軸18aと油圧駆動装置18bとを有している。支持軸18aは加熱冷却棚16の下方に鉛直に立てられて配置され、支持軸18aの下端は真空槽11の壁面を気密に貫通して、真空槽11の外側に配置された油圧駆動装置18bに取り付けられている。油圧駆動装置18bは、油圧による動力を支持軸18aに伝達して、支持軸18aを上方又は下方に移動できるように構成されている。一の回転軸線17は支持軸18aに対して水平方向に離間した位置に、ここでは加熱冷却棚16の内部を通って水平に配置されている。加熱冷却棚16が水平姿勢のときに、油圧駆動装置18bにより支持軸18aを上昇させると、図2を参照し、支持軸18aの上端は加熱冷却棚16を押し上げて、加熱冷却棚16は一の回転軸線17の周りに所定角度回転し、加熱冷却棚16の一端16bが、水平姿勢での前記一端16bの位置よりも上方であり、かつ前記一端16bとは逆の他端16cよりも上方に位置し、表面に堆積した凍結粒子が落下する傾斜姿勢になる。また、加熱冷却棚16が傾斜姿勢のときに、油圧駆動装置18bにより支持軸18aを降下させると、図1を参照し、加熱冷却棚16は一の回転軸線17の周りに所定角度回転して、加熱冷却棚16の表面が水平であり、生成された凍結粒子が表面に堆積する水平姿勢になる。本実施例では、一の回転軸線17は、加熱冷却棚16の前記一端16bよりも前記他端16cに近い位置に配置されており、加熱冷却棚16を一の回転軸線17の周りに所定角度回転させるときに、前記他端16cの移動範囲は、前記一端16bの移動範囲より小さくなるようにされている。そのため、加熱冷却棚16を傾斜姿勢にするときに、前記他端16cの移動の妨げにならないために加熱冷却棚16の下方に必要とする空間の大きさは、前記一端16bの移動の妨げにならないために加熱冷却棚16の上方に必要とする空間の大きさより小さい。従って、加熱冷却棚16の下方の空間をコンパクトに設計することができるようになっている。加熱冷却棚16の上方には加熱冷却棚16の下方より大きな空間が必要になるが、噴射器14と加熱冷却棚16との間には凍結粒子を生成させるために所定の大きさの空間が予め設けられており、加熱冷却棚16の上方の空間を更に拡大させる必要はない。加熱冷却棚16の下方には、加熱冷却棚16から落下した凍結粒子を回収する回収部が配置されている。本実施例では回収部は、真空槽11の下方に配置された回収槽32と、一端と他端に第一、第二の開口31a、31bがそれぞれ設けられ、第一の開口31aが真空槽11内に露出し、第二の開口31bが回収槽32内に露出する接続管31と、第二の開口31bの閉塞と開放を切り替える弁体35とを有している。回収槽32には副真空排気部38が接続され、回収槽32内を真空排気できるように構成されている。接続管31の回収槽32内に挿入された端部には第二の開口31bを取り囲んで環状の弁座34が密着して固定されている。弁座34は例えばゴムのOリングである。弁体35は弁座34の下方に配置され、一の副回転軸線36の周りに所定角度回転できるように構成されている。図1を参照し、弁体35が弁座34に密着しているときに、弁体35を一の副回転軸線36の周りに所定角度回転させると、図2を参照し、弁体35は弁座34から離間して、第二の開口31bが開放されるようになっている。一方、弁体35が弁座34から離間しているときに、弁体35を一の副回転軸線36の周りに所定角度回転させると、図1を参照し、弁体35の表面は弁座34に押しつけられて環状に密着し、第二の開口31bが閉塞されるようになっている。第一の開口31aは、加熱冷却棚16の前記他端16cの下方に配置され、加熱冷却棚16の表面から落下した凍結粒子は、第一の開口31aの内側に落下するようになっている。弁体35が弁座34から離間しているときには、第一の開口31aを通って接続管31の内側を落下する凍結粒子は、第二の開口31bを通って回収槽32内に移動する。本発明の凍結真空乾燥装置10は、加熱冷却棚16の上方に配置され、下端に下部開口21bが設けられた筒状のカバー21と、カバー21を、凍結粒子がカバー21の内側を降下して加熱冷却棚16の表面に堆積する下方位置と、下方位置より上方の上方位置との間で移動させる移動装置22とを有している。カバー21はここではステンレスで形成され、カバー21の内側表面は電解研磨されており、凍結粒子が付着しにくくされている。カバー21の内側表面は、凍結粒子が付着しにくくされていれば、電解研磨されている場合に限定されず、バフ研磨されていてもよいし、バフ研磨と電解研磨を両方されていてもよい。下部開口21bの内周は加熱冷却棚16の表面の外周より小さく形成されている。加熱冷却棚16が水平姿勢のときには、下方位置での下部開口21bは、上方位置での下部開口21bよりも加熱冷却棚16の表面に近い位置にあり、加熱冷却棚16の表面と対面されるようになっている。図1を参照し、本実施例ではカバー21の上端には上部開口21aが設けられており、カバー21が下方位置にあるときには、噴射器14が上部開口21aの外側に出るように構成されているが、内側に入るように構成してもよい。カバー21が下方位置にあるときに噴射器14が上部開口21aの外側に出る場合には、上部開口21aの内周をできるだけ大きく形成して、カバー21の上端の外周と真空槽11の内周との隙間をできるだけ小さくするのが好ましい。生成された凍結粒子がカバー21の上端の外周と真空槽11の内周との間の隙間を通って加熱冷却棚16の外側に落下することを防止できるからである。カバー21の内側には、カバー21の形状を保持する梁23が設けられ、梁23には一又は複数本の吊り下げ線24の一端が固定されている。梁23の上端面は、梁23の長手方向に沿って稜線が生じるように山型に尖らせて形成されており、梁23の上端面に到達する凍結粒子は滑り落ちて、上端面に堆積しないようになっている。吊り下げ線24の他端は真空槽11の天井を気密に貫通して、真空槽11の外側に配置された移動装置22に接続されている。移動装置22はここでは油圧巻き上げ機であり、吊り下げ線24を巻き上げると、梁23とカバー21は一緒に上方に移動し、吊り下げ線24を巻き下げると、梁23とカバー21は一緒に下方に移動するようになっている。なお、移動装置22の動力源は油圧に限定されず、圧縮空気やモーターを用いてもよい。カバー21が下方位置にあるときには、加熱冷却棚16が水平姿勢のときに、下部開口21bが加熱冷却棚16の表面と対面され、加熱冷却棚16を傾斜姿勢にするときに、加熱冷却棚16がカバー21と接触するようになっている。一方、カバー21が上方位置にあるときには、加熱冷却棚16はカバー21と接触せずに傾斜姿勢にされるようになっている。<凍結真空乾燥装置の使用方法>凍結真空乾燥装置10は制御装置60を有しており、制御装置60は以下の各工程を行うように構成されている。準備工程図1を参照し、真空排気部12により真空槽11内を真空排気し、真空雰囲気にする。以後、真空排気を継続して真空槽11内の真空雰囲気を維持する。また、副真空排気部38により回収槽32を真空排気し、真空雰囲気にする。以後、真空排気を継続して回収槽32内の真空雰囲気を維持する。弁体35を弁座34に密着させて、接続管31の第二の開口31bを閉塞し、真空槽11の内部空間と回収槽32の内部空間を遮断しておく。凍結粒子生成工程加熱冷却棚16の内部の流路16aに原料液の凍結温度より低い第一の温度の熱媒体を流して、加熱冷却棚16の表面を冷却させておく。傾斜装置18により加熱冷却棚16を水平姿勢にする。次いで、移動装置22によりカバー21を下方位置に配置して、下部開口21bを加熱冷却棚16の表面と対面させる。真空排気された真空槽11内に噴射器14から原料液を噴射させる。噴射された原料液は、加熱冷却棚16に到達するまでに、液体成分の少なくとも一部が蒸発して冷却され、少なくとも一部が凍結した凍結粒子が生成される。蒸発した液体成分は、コールドトラップ19に付着して捕集される。本実施例では、カバー21が下方位置にあるときには、噴射器14は上部開口21aの外側に出るようになっているが、カバー21の上端の外周と真空槽11の内周との間の隙間はできるだけ小さくされており、生成された凍結粒子は上部開口21aの内側に落下する。カバー21の内側表面は電解研磨されており、カバー21の内側表面に接触する凍結粒子は付着せずに滑り落ちる。カバー21の内側を落下する凍結粒子は、水平姿勢にされた加熱冷却棚16の表面のうち、下部開口21bと対面する領域に到達して堆積する。図3を参照し、従来の凍結真空乾燥装置100では、凍結粒子の一部が加熱冷却棚116と真空槽111の内周との隙間に落下するため、回収率が80であったのに対し、図1を参照し、本発明の凍結真空乾燥装置10では、凍結粒子がカバー21の内側を落下して加熱冷却棚16の表面に到達するため、95以上の回収率で凍結粒子を回収できる。カバー21の下端と加熱冷却棚16の表面との間の隙間は小さいほど好ましく、カバー21の下端と加熱冷却棚16の表面とが当接され、隙間がゼロであるのがより好ましい。カバー21の下端と加熱冷却棚16の表面との間に隙間が小さいほど、凍結粒子がカバー21の下端と加熱冷却棚16の表面との間の隙間を通って加熱冷却棚16の外側にこぼれ落ちることを防止できるからである。加熱冷却棚16の表面は原料液の凍結温度より低い第一の温度に冷却されており、堆積した凍結粒子に未凍結の部分が含まれる場合には、追加的に冷却されることにより、未凍結の部分も凍結される。凍結粒子を凍結させた後、加熱冷却棚16の内部の流路16aに第一の温度よりも高く、かつ凍結粒子の融解温度より低い第二の温度の熱媒体を流して、加熱冷却棚16の表面を加熱する。加熱された加熱冷却棚16から凍結粒子に蒸発潜熱が供給され、液体成分の昇華が加速され、凍結粒子の乾燥時間が短縮される。凍結粒子が乾燥すると、乾燥粒子が生成される。凍結粒子の乾燥を終了した後、図2を参照し、移動装置22によりカバー21を上方位置に移動させる。乾燥粒子搬出工程弁体35を弁座34から離間させ、第二の開口31bを開放して、真空槽11の内部空間と回収槽32の内部空間を接続させる。傾斜装置18により加熱冷却棚16を傾斜姿勢にする。加熱冷却棚16はあらかじめ上方位置に配置されており、加熱冷却棚16はカバー21と接触せずに傾斜姿勢になる。加熱冷却棚16の表面に堆積した乾燥粒子は滑り落ちて、第一の開口31aの内側に落下し、接続管31の内側を通って、第二の開口31bから回収槽32内に移動する。乾燥粒子が回収槽32内に移動した後、弁体35を弁座34に密着させて、第二の開口31bを閉塞し、真空槽11の内部空間と回収槽32の内部空間を遮断する。真空槽11の内部空間と回収槽32の内部空間を遮断した後、真空槽11内では、上述の凍結粒子生成工程を行う。一方、真空槽11の内部空間と回収槽32の内部空間を遮断した後、回収槽32内では、副真空排気部38による真空排気を停止して、回収槽32内を大気に開放し、又は不図示のガス導入部から回収槽32内に圧縮ガスを流して、乾燥粒子を回収槽32の外側に搬出する。次いで、副真空排気部38による真空排気を再開して、回収槽32内を真空雰囲気にする。真空槽11内での凍結粒子生成工程が終了した後、上述の乾燥粒子搬出工程を行う。