マスクに形成されたパターンを基板に転写する露光装置であって、前記マスクを保持する第一円筒面を有し、前記第一円筒面の周方向に回転するマスク保持部と、前記基板を搬送する第二円筒面を有し、前記マスク保持部と同一の回転軸を中心として前記第二円筒面の周方向に回転する基板搬送部とを備える露光装置。前記マスク保持部は、前記パターンが前記第一円筒面に沿うように前記マスクを保持し、前記基板搬送部は、前記基板が前記第二円筒面に沿うように前記基板を支持する請求項1に記載の露光装置。前記マスク保持部及び前記基板搬送部は、一体的に設けられている請求項1又は請求項2に記載の露光装置。前記マスク保持部及び前記基板搬送部は、前記回転軸の軸方向にずれた位置に配置されている請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の露光装置。前記マスク保持部及び前記基板搬送部のうち少なくとも一方は、複数設けられている請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の露光装置。前記マスク保持部及び前記基板搬送部は、前記回転軸の軸方向に交互に配置されている請求項5に記載の露光装置。前記マスク保持部及び前記基板搬送部は、前記回転軸を中心軸とする一の円筒部材に設けられている請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の露光装置。前記パターンを前記基板に転写する光学系を更に備え、前記光学系の少なくとも一部は、前記円筒部材の内側に配置されている請求項7に記載の露光装置。前記マスク保持部は、複数設けられ、複数の前記マスク保持部に保持される前記マスクには、異なるパターンが形成され、前記光学系は、異なる前記パターン同士が前記基板上に接続された状態で転写されるように配置されている請求項8に記載の露光装置。前記円筒部材を回転させる回転駆動部を更に備え、前記回転駆動部は、前記円筒部材のうち前記回転軸の軸方向の端部に駆動力を作用させる請求項7から請求項9のうちいずれか一項に記載の露光装置。前記回転駆動部は、移動子及び固定子を有するリニアモータ機構を有し、前記移動子は、前記円筒部材の前記端部に設けられており、前記固定子は、前記円筒部材の前記端部に対向する位置に設けられている請求項10に記載の露光装置。前記回転軸が鉛直方向に沿うように前記円筒部材を保持する保持部を更に備える請求項7から請求項11のうちいずれか一項に記載の露光装置。前記マスク保持部は、前記マスクを前記第一円筒面の周方向に移動させるマスク移動部を有する請求項1から請求項12のうちいずれか一項に記載の露光装置。前記基板搬送部に掛けられる前記基板について前記回転軸の軸方向における位置を調整する調整部を更に備える請求項1から請求項13のうちいずれか一項に記載の露光装置。前記調整部は、前記基板搬送部へ前記基板を案内する案内ローラーと、前記案内ローラーの傾きを調整する傾斜調整部と、を有する請求項14に記載の露光装置。前記調整部は、前記基板の位置を検出する検出部を有する請求項14又は請求項15に記載の露光装置。ところで、表示装置では表示画面の大型化が期待されており、上記のようなロール方式においても、帯状の基板に大型の表示素子を効率的に製造可能とする技術が要望されている。そこで、本発明の態様は、帯状の基板に表示素子を効率的に製造することができる露光装置を提供することを目的とする。本発明の態様に従えば、マスクに形成されたパターンを基板に転写する露光装置であって、マスクを保持する第一円筒面を有し、第一円筒面の周方向に回転するマスク保持部と、基板を搬送する第二円筒面を有し、マスク保持部と同一の回転軸を中心として第二円筒面の周方向に回転する基板搬送部とを備える露光装置が提供される。本発明の態様によれば、帯状の基板に表示素子を効率的に製造することができる露光装置を提供することができる。以下、図面を参照して、本実施の形態を説明する。[第一実施形態]図1は、第一実施形態に係る基板処理装置100の構成を示す模式図である。図1に示すように、基板処理装置100は、帯状の基板例えば、帯状のフィルム部材Sを供給する基板供給部2と、基板Sの表面被処理面Saに対して処理を行う基板処理部3と、基板Sを回収する基板回収部4と、これらの各部を制御する制御部CONTと、を有している。基板処理部3は、基板供給部2から基板Sが送り出されてから、基板回収部4によって基板Sが回収されるまでの間に、基板Sの表面に各種処理を実行するための基板処理装置100を備える。この基板処理装置100は、基板S上に例えば有機EL素子、液晶表示素子等の表示素子電子デバイスを形成する場合に用いることができる。なお、本実施形態では、図1に示すようにXYZ座標系を設定し、以下では適宜このXYZ座標系を用いて説明を行う。XYZ座標系は、例えば、水平面に沿ってX軸及びY軸が設定され、鉛直方向に沿って上向きにZ軸が設定される。また、基板処理装置100は、全体としてX軸に沿って、そのマイナス側-側からプラス側側へ基板Sを搬送する。その際、帯状の基板Sの幅方向短尺方向は、Y軸方向に設定される。基板処理装置100において処理対象となる基板Sとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔フォイルを用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。基板Sは、例えば200°C程度の熱を受けても寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。基板Sの幅方向短尺方向の寸法は例えば1m~2m程度に形成されており、長さ方向長尺方向の寸法は例えば10m以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えば基板SのY方向の寸法が50cm以下であっても構わないし、2m以上であっても構わない。また、基板SのX方向の寸法が10m以下であっても構わない。基板Sは、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、基板に自重程度の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、自重程度の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、基板Sとしては、1枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。基板供給部2は、例えばロール状に巻かれた基板Sを基板処理部3へ送り出して供給する。この場合、基板供給部2には、基板Sを巻きつける軸部や当該軸部を回転させる回転駆動装置などが設けられる。この他、例えばロール状に巻かれた状態の基板Sを覆うカバー部などが設けられた構成であっても構わない。なお、基板供給部2は、ロール状に巻かれた基板Sを送り出す機構に限定されず、帯状の基板Sをその長さ方向に順次送り出す機構を含むものであればよい。基板回収部4は、基板処理部3が備える基板処理装置100を通過した基板Sを例えばロール状に巻きとって回収する。基板回収部4には、基板供給部2と同様に、基板Sを巻きつけるための軸部や当該軸部を回転させる回転駆動源、回収した基板Sを覆うカバー部などが設けられている。なお、基板処理部3において基板Sがパネル状に切断される場合などには例えば基板Sを重ねた状態に回収するなど、ロール状に巻いた状態とは異なる状態で基板Sを回収する構成であっても構わない。基板処理部3は、基板供給部2から供給される基板Sを基板回収部4へ搬送すると共に、搬送の過程で基板Sの被処理面Saに対して処理を行う。基板処理部3は、処理装置10及び搬送装置20を有している。処理装置10は、基板Sの被処理面Saに対して例えば有機EL素子を形成するための各種装置を有している。このような装置としては、例えば被処理面Sa上に隔壁を形成するための隔壁形成装置、電極を形成するための電極形成装置、発光層を形成するための発光層形成装置などが挙げられる。より具体的には、液滴塗布装置例えばインクジェット型塗布装置など、成膜装置例えば鍍金装置、蒸着装置、スパッタリング装置、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置などが挙げられる。これらの各装置は、基板Sの搬送経路に沿って適宜設けられる。本実施形態では、処理装置10として露光装置EXが設けられた場合を例に挙げて説明する。図2は、露光装置EXの構成を示す図である。図2に示すように、露光装置EXは、マスクMに形成されたパターンPmの像を基板Sに投影する装置である。露光装置EXは、図2に示すように、マスクMを照明する照明装置IUと、基板Sに対してパターンPmの拡大像を投影する投影装置PUと、マスクMを保持すると共に基板Sを搬送するドラム装置DRとを有している。照明装置IUは、マスクMに露光光ELIを照明する。照明装置IUは、光源装置21と、照射光学系22とを有している。光源装置21から射出される露光光ELIは、照射光学系22を介してマスクM上のスリット状の領域に照射される。なお、照射光学系22は、図2において簡略化して示されているが、実際には、露光光ELIを導光する複数の光学素子を含んでいる。ドラム装置DRは、回転ドラム円筒部材30及び駆動装置ACMを有している。回転ドラム30は、円筒状に形成されており、中心軸Cを中心として軸周りに回転可能に設けられている。回転ドラム30の外周面30aの一部には、それぞれ中心軸Cを中心とする第一円筒面31及び第二円筒面32が形成されている。第一円筒面31及び第二円筒面32は、中心軸Cの軸方向に並んで形成されている。第一円筒面31及び第二円筒面32は、同一の径を有するように形成されている。回転ドラム30が中心軸Cを中心として軸周りに回転する場合、第一円筒面31及び第二円筒面32は、当該中心軸Cを中心として外周方向に回転することになる。回転ドラム30には、マスク保持部40が設けられている。マスク保持部40は、回転ドラム30の第一円筒面31を含んでいる。マスクMとしては、例えばシート状に形成された透過型マスクが用いられる。マスクMは、パターンPmが第一円筒面31に沿って配置されるように、当該マスクMを保持する。マスクMは、パターンPmが形成されたパターン面を内側に向けて保持される。このため、パターンPmは、実質的に第一円筒面31に一致する面上に配置されることになる。第一円筒面31には、貫通部31a及び貫通部31bが形成されている。貫通部31aは、マスクMが保持される領域内に形成されている。すなわち、マスクMは、貫通部31aを塞ぐように保持されている。貫通部31aは、マスクMを透過した露光光ELIを通過させる。貫通部31bは、中心軸Cを挟んで貫通部31aと対称な位置に形成されている。貫通部31bは、貫通部31aを通過した露光光ELIを通過させ、回転ドラム30の外部に露光光ELI射出する。回転ドラム30には、基板搬送部50が設けられている。基板搬送部50は、回転ドラム30の第二円筒面32を含んでいる。基板搬送部50は、基板Sが第二円筒面32に沿って搬送されるように当該基板Sを支持する。基板Sは、被処理面Saが第二円筒面32の外側に向けられている。基板搬送部50は、回転ドラム30の回転速度と基板Sの搬送速度とが等しくなるように調整する調整部51を有している。調整部51としては、例えば基板Sを第二円筒面32に吸着させる吸着部などが挙げられる。上記のマスク保持部40及び基板搬送部50は、一の回転ドラム30に設けられている。このため、マスク保持部40及び基板搬送部50は、一体的に設けられている。また、マスク保持部40及び基板搬送部50は、回転ドラム30のうち中心軸Cの軸方向に並んで配置されている。このため、マスク保持部40及び基板搬送部50は、中心軸Cの軸方向にずれた位置に配置されている。投影装置PUは、投影光学系PLを有している。投影光学系PLは、マスクMを透過した露光光ELIを基板Sに投影する。投影光学系PLは、リレー系81、レンズ系82、ミラー83、絞り84、ミラー85及びレンズ系86を有している。リレー系81は、回転ドラム30の内部に設けられている。リレー系81は、マスクMを透過し貫通部31aから回転ドラム30の内部に入射された露光光ELIを貫通部31bへと等倍で中継する。リレー系81は、不図示の固定機構を介して、外部に固定されている。レンズ系82、ミラー83、絞り84、ミラー85及びレンズ系86は、回転ドラム30の外部に射出された露光光ELIを基板Sへ導光する。なお、本実施形態では、投影光学系PLは等倍となっている。駆動装置ACTは、制御部CONTからの制御信号に基づいて回転ドラム30の回転速度を調整し、これによってマスクM及び基板Sの搬送速度を調整する。本実施形態では、マスクMは第一円筒面31に沿って回転し、基板Sは第二円筒面32に沿って移動する。第一円筒面31及び第二円筒面32は同径であるため、等しい移動速度となる。図3及び図4は、駆動装置ACTの構成を示す図である。図3は、回転ドラム30をX方向に見たときの図である。図4は、回転ドラム30を-Y方向に見たときの図である。図3及び図4に示すように、駆動装置ACTは、リニアモータ機構60を有している。リニアモータ機構60は、移動子61及び固定子62を有している。移動子61は、回転ドラム30に設けられた磁石部63を有している。磁石部63は、回転ドラム30のうち中心軸Cの軸方向の両端部に設けられている。磁石部63は、回転ドラム30の周方向に沿って並んで配置されている。固定子62は、回転ドラム30のうち中心軸方向の端部に対向する位置に設けられている。固定子62は、不図示の固定機構によって位置が固定されている。固定子62は、回転ドラム30との対向面側にコイル部64を有している。制御部CONTは、コイル部64に対して供給する電流を調整可能である。移動子61の磁石部63と、固定子62のコイル部64との間の磁力の作用により、回転ドラム30が回転するようになっている。このように、駆動装置ACTは、回転ドラム30のうち中心軸Cの端部に対して駆動力を作用させる構成となっている。なお、回転ドラム30の内部には、リレー系P1を固定する固定機構71と、当該固定機構71及び回転ドラム30を支持する支持機構72と、が設けられている。支持機構72は、外部の固定機構などに固定されている。支持機構72と回転ドラム30との間には、ベアリング部73が設けられている。回転ドラム30は、当該ベアリング部73を介して、回転可能に支持されている。の内周面30bに支持されている。このため、回転ドラム30が回転可能となるように、リレー系P1が固定された構成となっている。上記のように構成された基板処理装置100は、制御部CONTの制御により、ロール方式によって有機EL素子、液晶表示素子などの表示素子電子デバイスを製造する。以下、上記構成の基板処理装置100を用いて表示素子を製造する工程を説明する。まず、不図示のローラーに巻き付けられた帯状の基板Sを基板供給部2に取り付ける。制御部CONTは、この状態から基板供給部2から当該基板Sが送り出されるように、不図示のローラーを回転させる。そして、基板処理部3を通過した当該基板Sを基板回収部4に設けられた不図示のローラーで巻き取らせる。この基板供給部2及び基板回収部4を制御することによって、基板Sの被処理面Saを基板処理部3に対して連続的に搬送することができる。制御部CONTは、基板Sが基板供給部2から送り出されてから基板回収部4で巻き取られるまでの間に、基板処理部3の搬送装置20によって基板Sを当該基板処理部3内で適宜搬送させつつ、処理装置10によって表示素子の構成要素を基板S上に順次形成させる。この工程の中で、露光装置EXによって処理を行う場合、まずマスク保持部40にマスクMを取り付ける。また、基板Sが回転ドラム30の基板搬送部50に巻き掛けられた状態とする。次に、制御部CONTは、駆動装置ACTによって回転ドラム30を回転させつつ、光源装置21から露光光ELIを射出させる。回転ドラム30の回転により、マスクMは当該回転ドラム30と一体的に回転方向に移動する。また、回転ドラム30の回転により、基板Sは回転ドラム30と一体的に回転方向に移動する。このとき、制御部CONTは、調整部51を用いることにより、回転ドラム30の回転速度ひいてはマスクMの移動速度と基板Sの移動速度とが等しくなるように制御しても構わない。光源装置21から射出された露光光ELIは、照射光学系22を介して、移動するマスクM上に照射される。当該露光光ELIは、マスクM及び貫通部31aを順に透過し、回転ドラム30の内部に設けられたリレー系81に入射する。リレー系81に入射した露光光ELIは、貫通部31bから射出され、レンズ系P2、ミラーP3、絞りP4、ミラー85及びレンズ系86を介して、移動する基板Sの被処理面Saに投影される。なお、投影光学系PLは、等倍系であるため、パターンPmの等倍像が基板Sの被処理面Saに投影されることになる。回転ドラム30が回転し、マスクMのパターンPmの全面に露光光ELIが照射されることにより、当該露光光ELIの等倍の投影像が基板Sの被処理面Saに投影される。これにより、基板Sの被処理面Saには、パターンPmの露光パターンが形成されることになる。以上のように、本実施形態によれば、マスクMに形成されたパターンPmを帯状の基板Sに転写する露光装置EXであって、マスクMを保持する第一円筒面31を有し、第一円筒面31の周方向に回転するマスク保持部40と、基板Sを搬送する第二円筒面32を有し、マスク保持部40と同一の回転軸である中心軸Cを中心として第二円筒面32の周方向に回転する基板搬送部50とを備えるので、パターンPmの像を帯状の基板Sに効率的に露光することができる。これにより、帯状の基板Sに表示素子を効率的に製造することができる露光装置EXを提供することができる。[第二実施形態]次に、本発明の第二実施形態を説明する。図5は、本実施形態に係る露光装置EX2の構成を示す図である。本実施形態に係る露光装置EX2は、回転ドラム30の中心軸Cの軸方向にマスク保持部40が複数設けられており40A及び40B、複数のマスク保持部40ごとに異なるマスクM1及びM2を保持する構成となっている。図5に示すように、回転ドラム30の外周面30aの一部には、それぞれ中心軸Cを中心とする第一円筒面31、第二円筒面32及び第三円筒面33が形成されている。第一円筒面31、第二円筒面32及び第三円筒面33は、中心軸Cの軸方向に並んで形成されている。第一円筒面31、第二円筒面32及び第三円筒面33は、同一の径を有するように形成されている。回転ドラム30が中心軸Cを中心として軸周りに回転する場合、第一円筒面31、第二円筒面32及び第三円筒面33は、当該中心軸Cを中心として外周方向に回転することになる。回転ドラム30には、マスク保持部40と、基板搬送部50とが設けられている。マスク保持部40は、マスク保持部40A及びマスク保持部40Bを有している。マスク保持部40Aは、回転ドラム30の第一円筒面31を含んでいる。マスク保持部40Aは、パターンPm1が形成されたマスクM1を保持する。マスクM1としては、例えばシート状に形成された透過型マスクが用いられる。マスク保持部40Bは、回転ドラム30の第三円筒面33を含んでいる。マスク保持部40Bは、パターンPm2が形成されたマスクM2を保持する。マスクM2としては、例えばシート状に形成された透過型マスクが用いられる。マスク保持部40A及びマスク保持部40Bは、中心軸Cの軸方向に基板搬送部50を挟んで設けられている。すなわち、中心軸Cの軸方向において、マスク保持部40A、基板搬送部50及びマスク保持部40Bが順に並んでいる。このように、マスク保持部40と基板搬送部50とが中心軸Cの軸方向に交互に配置されている。第一円筒面31には、貫通部31a及び貫通部31bが形成されている。貫通部31aは、マスクM1が保持される領域内に形成されている。すなわち、マスクM1は、貫通部31aを塞ぐように保持されている。貫通部31aは、図5中X側に配置されている。貫通部31aは、マスクM1を透過した露光光ELAを通過させる。貫通部31bは、中心軸Cを挟んで貫通部31aと対称な位置に形成されている。貫通部31bは、貫通部31aを通過した露光光ELAを通過させ、回転ドラム30の外部に露光光ELAを射出する。第三円筒面33には、貫通部33a及び貫通部33bが形成されている。貫通部33aは、マスクM2が保持される領域内に形成されている。すなわち、マスクM2は、貫通部33aを塞ぐように保持されている。貫通部33aは、図5中-X側に配置されている。したがって、マスクM2は、回転ドラム30のうちマスクM1とはX方向の反対側の面に保持されている。貫通部33aは、マスクM2を透過した露光光ELBを通過させる。貫通部33bは、中心軸Cを挟んで貫通部33aと対称な位置に形成されている。貫通部33bは、貫通部33aを通過した露光光ELBを通過させ、回転ドラム30の外部に露光光ELBを射出する。マスクM1及びM2は、各貫通部31a及び33aについて1枚ずつ保持されている。マスクM1及びM2は、中心軸Cの軸方向につなぎ合わせた場合に全体として所望のパターンPmが形成されるように、それぞれパターンPm1及びPm2が形成されている。換言すると、マスクM1及びM2のそれぞれに形成されているパターンPm1及びPm2を中心軸Cの軸方向所定方向につなぎ合わせることでパターンPmが構成される。照明装置IUは、光源装置21A及び21Bと、照明光学系22A及び22Bとを有する。光源装置21A及び照明光学系22Aは、マスクM1に露光光ELAを照明する。光源装置21B及び照明光学系22Bは、マスクM2に露光光ELBを照明する。なお、露光光ELAがマスクM1に入射する方向は、露光光ELBがマスクM2に入射する方向に対して90°傾いている。投影装置PUは、投影光学系PL1及びPL2を有している。投影光学系PL1は、マスクM1を透過した露光光ELAを基板Sの投影領域PA1に投影する。投影領域PA1は、基板Sの被処理面SaのうちY方向の中央部から-Y側の端部までの領域に亘ってスリット状に形成されている。投影光学系PL1は、リレー系81A、レンズ系82A、ミラー83A、絞り84A、ミラー85A及びレンズ系86Aを有している。リレー系81Aは、回転ドラム30の内部に設けられている。リレー系81Aは、マスクM1を透過し貫通部31aから回転ドラム30の内部に入射された露光光ELAを貫通部31bへと等倍で中継する。リレー系81Aは、不図示の固定機構を介して、外部に固定されている。投影光学系PL2は、マスクM2を透過した露光光ELBを基板Sの投影領域PA2に投影する。投影領域PA2は、基板Sの被処理面SaのうちY方向の中央部からY側の端部までの領域に亘ってスリット状に形成されている。投影光学系PL2は、リレー系81B、レンズ系82B、ミラー83B、絞り84B、ミラー85B及びレンズ系86Bを有している。リレー系81Bは、回転ドラム30の内部に設けられている。リレー系81Bは、マスクM2を透過し貫通部33aから回転ドラム30の内部に入射された露光光ELBを貫通部33bへと等倍で中継する。リレー系81Bは、不図示の固定機構を介して、外部に固定されている。次に、上記のように構成された露光装置EX2の露光動作を説明する。露光動作に当たり、予めマスクM1及びマスクM2を回転ドラム30に装着した状態とし、基板Sが基板搬送部50に巻きかけられた状態としておく。この状態から、制御部CONTは、まず、回転ドラム30を図5の矢印の方向に回転させつつ、光源装置21A及び照明光学系22Aを介してマスクM1のパターンPm1に対して露光光ELAを照射させる。マスクM1を透過した露光光ELAは、貫通部31a、リレー系81A、貫通部31b、レンズ系82A、ミラー83A、絞り84A、ミラー85A及びレンズ系86Aを経て、基板Sの投影領域PA1に投影される。なお、当該基板Sの投影領域PA1に投影される像は、パターンPm1の等倍像である。露光光ELAの投影により、基板Sのうち-Y側半分の領域には、パターンPm1に対応する露光パターンが形成される。マスクM1に対して露光光ELAの照射が開始されてから、回転ドラム30が90°回転された時点で、制御部CONTは、光源装置21B及び照明光学系22Bを介してマスクM2のパターンPm2に対して露光光ELBを照射させる。マスクM2を透過した露光光ELBは、貫通部33a、リレー系81B、貫通部33b、レンズ系82B、ミラー83B、絞り84B、ミラー85B及びレンズ系86Bを経て、基板Sの投影領域PA2に投影される。なお、当該基板Sの投影領域PA2に投影される像は、パターンPm2の等倍像である。露光光ELBの投影により、基板SのうちY側の半分の領域に、パターンPm2に対応する露光パターンが、上記のパターンPm2に対応する露光パターンに接続されるように形成される。以上のように、本実施形態では、回転ドラム30の中心軸Cの軸方向にマスク保持部40が複数設けられており40A及び40B、複数のマスク保持部40ごとに異なるマスクM1及びM2を保持する構成となっているため、パターンPmの像を帯状の基板Sに分割して効率的に露光することができる。これにより、帯状の基板Sに表示素子を効率的に製造することができる。本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。例えば、上記第一実施形態では、マスク保持部40と基板搬送部50とが1つずつ配置された回転ドラム30が1つ用いられた構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、図6に示すように、複数、ここでは2つの回転ドラム30A及び回転ドラム30Bを当該中心軸Cの軸方向に並んで配置させる構成としても構わない。この構成においては、回転ドラム30Aと回転ドラム30BとがY方向に連結され、複数の回転ドラム30は、駆動装置ACTによって一体的に回転可能となっているが、これに限られることは無い。例えば、回転ドラム30Aと回転ドラム30Bとが中心軸Cの軸方向に離れて配置された構成であっても構わない。また、各回転ドラム30A及び30Bに対しては、上記実施形態と同様に、投影光学系PLAリレー系81A、レンズ系82A、ミラー83A、ミラー85A、レンズ系86A及びPLBリレー系81B、レンズ系82B、ミラー83B、ミラー85B、レンズ系86Bが設けられている。また、Y側の基板搬送部50Aを通過した基板Sは、搬送ローラーR1~R4によって-Y側の基板搬送部50Bに搬送されるようになっている。このため、基板Sに対して連続して露光処理を行うことができる。なお、搬送ローラーR1~R4の位置を調整することにより、基板搬送部50Aから基板搬送部50Bまでの基板Sの搬送距離を調整することができる。このため、基板搬送部50Aにおいて形成される露光パターン、及び、基板搬送部50Bにおいて形成される露光パターン、の基板S上の配置を調整することができる。例えば、各露光パターンが基板Sの搬送方向に交互に並ぶように露光処理を行うことも可能であるし、同一の露光パターンを重ねて形成するように露光処理を行うことも可能である。また、Y側のマスク保持部40Aに保持されたマスクMAのパターンPmAと、-Y側のマスク保持部40Bに保持されたマスクMBのパターンPmBとが異なるパターンであっても構わない。この場合、搬送ローラーR1~R4の位置を調整することにより、例えば図7に示すように、マスクMAのパターンPmAに対応する露光パターンXAと、マスクMBのパターンPmBに対応する露光パターンXBとが、基板Sの搬送方向に交互に並んで形成されるように露光処理を行うことができる。また、図8及び図9に示すように、回転ドラム30の中心軸Cが鉛直方向に沿って配置された構成であっても構わない。図8及び図9に示すように、露光装置EXは、回転ドラム30を保持する保持部35を有している。保持部35は、回転ドラム30の鉛直方向の下側において回転ドラム30を回転可能に保持している。回転ドラム30は、駆動装置ACTにより、図8において反時計回りの方向に回転する。中心軸Cが鉛直方向に沿うように回転ドラム30を配置した場合、基板Sが鉛直方向の下側にずれるのを防ぐ必要がある。この場合の構成として、例えば基板Sの搬送経路において回転ドラム30の上流側にエアターンバー91、傾斜ローラー92が設けられている。傾斜ローラー92は、図9に示すように、鉛直方向に対して傾斜可能に設けられた案内部材92aと、案内部材92aを傾斜させた状態で保持する保持部92bとを有している。案内部材92aの傾斜角度は、制御部CONTによって制御可能である。この構成においては、エアターンバー91を介して搬送された基板Sの傾きを、傾斜ローラー92によって調整することができる。なお、図8及び図9に示すように、回転ドラム30に掛けられた基板Sのうち鉛直方向の上端及び下端の位置を検出する検出部95が設けられた構成であっても構わない。この構成においては、検出部95の検出結果に応じて制御部CONTが傾斜ローラー92の傾斜角度を調整することにより、基板Sの傾きを調整することができる。また、図10に示すように、回転ドラム30のマスク保持部40にマスクMを移動させることが可能な移動機構41が設けられた構成であっても構わない。この場合、第一円筒面31の周方向に沿った溝部42が形成されており、移動機構41は当該溝部42に沿って移動可能となっている。また、移動機構41は、マスクMを吸着する不図示の吸着部を有している。このため、マスクMを吸着した状態で第一円筒面31の周方向に移動することで、マスクMの位置を調整することができる。