"プラズマチャンバ内のプラズマエクスカーションを検出するための方法であって、プラズマ処理中に、高周波RF整合回路網と前記プラズマチャンバ内のRF電源用電極との間の一箇所でRF伝送ラインからRF電流を直接検知することと、前記RF電流を電圧信号に変換することと、複数のフィルタを用いて前記電圧信号をフィルタリングして出力電圧信号を得ることと、前記出力電圧信号を、プラズマエクスカーション事象を表す既定電圧値と比較することと、前記出力電圧信号が前記既定電圧値を超える場合にアラーム信号を生成することとを含む方法。前記電圧信号をフィルタリングすることは、約250Hz~約50kHzの周波数のみを通すように構成されたバンドパスフィルタに前記電圧信号を通すことを含む、請求項1に記載の方法。前記電圧信号の前記フィルタリングの前に、前記電圧信号を周波数混合器に通すことを更に含む、請求項1に記載の方法。前記電圧信号の前記フィルタリングの前に、前記電圧信号をデジタル信号に変換することを更に含む、請求項1に記載の方法。前記比較の前に、検知された前記RF電流の大きさの絶対値を測定することを更に含む、請求項1に記載の方法。前記電圧信号をフィルタリングすることは、低域周波数通過フィルタと高域周波数通過フィルタとに前記電圧信号を連続的に通すことを含む、請求項1に記載の方法。前記低域周波数通過フィルタは、約50kHzより低い周波数を通すように構成されており、前記高域周波数通過フィルタは、約250Hzより高い周波数を通すように構成されている、請求項6に記載の方法。データ取得モジュールを用いて前記出力電圧信号を絶えず収集することを更に含む、請求項1に記載の方法。アラーム信号が生成されるときにのみ、データ取得モジュールを用いて前記出力電圧信号を収集することを更に含む、請求項1に記載の方法。プラズマチャンバ内のプラズマエクスカーションを検出するためのシステムであって、1つ又は複数の電流プローブであって、各電流プローブが、プラズマ処理中にRF整合回路網とプラズマチャンバ内のRF電極との間の一箇所で伝送ラインからRF電流を検知するように配置されており、更には前記RF電流を電圧信号に変換するように構成されている、1つ又は複数の電流プローブと、プラズマエクスカーション検出ユニットとを備えており、前記プラズマエクスカーション検出ユニットは、1つ又は複数のエクスカーション検出モジュールであって、各エクスカーション検出モジュールが、前記1つ又は複数の電流プローブのうちの1つから前記電圧信号を受信するように構成されており、前記電圧信号をフィルタリングして出力電圧信号を得るように配置された複数のフィルタを備えており、更には、前記出力電圧信号を既定電圧信号と比較して、前記出力電圧信号が前記既定電圧信号を超える場合にアラーム信号を生成するように構成されたコンパレータを備えている、1つ又は複数のエクスカーション検出モジュールと、ホストコントローラから前記既定電圧信号を受信するように構成されており、且つ前記ホストコントローラに前記アラーム信号を送信するように構成されている1つ又は複数の接続ポートと、前記1つ又は複数のエクスカーション検出モジュールのそれぞれから前記出力電圧信号を収集し、データロギング及び診断システムに転送するように構成されたデータ取得モジュールとを備えている、システム。前記エクスカーション検出モジュールの各々は、約250Hz~約50kHzの周波数を通すように構成されたバンドパスフィルタを備えている、請求項10に記載のシステム。前記コンパレータはデジタルコンパレータである、請求項10に記載のシステム。各エクスカーション検出モジュールは周波数混合器を更に含んでいる、請求項10に記載の方法。前記エクスカーション検出モジュールの各々は低域周波数通過フィルタ及び高域周波数通過フィルタを備えており、前記低域周波数通過フィルタは約50kHzより低い周波数を通すように構成されており、前記高域周波数通過フィルタは約250Hzより高い周波数を通すように構成されている、請求項10に記載のシステム。前記システムは別々の伝送ラインからのRF電流を検知するように構成された少なくとも2つの電流プローブを備えている、請求項10に記載のシステム。本発明は、プラズマ処理チャンバのRF電源電極に達する直前のRF電流を直接監視することによって、プラズマ処理中のアーク、マイクロアーク又は他のプラズマ不安定性などのプラズマエクスカーションを検出するためのシステム及び方法を提供する。監視されるRF電流はRF電圧に変換され、その後、一連のアナログフィルタ及び増幅器に通され、プラズマエクスカーション信号を与えることができる。プラズマエクスカーション信号は既定値と比較され、プラズマエクスカーション信号が既定値を超えた時点で、アラーム信号が生成される。その後、操作者に警告することができ、且つ/又は処理システムを停止できるように、アラーム信号がシステムコントローラにフィードバックされる。一実施形態では、デジタルフィルタリング及び処理のために、RF電流は増幅され、デジタル信号に変換される。特定の実施形態では、単一の検出制御ユニットによって複数の処理領域を監視することができる。図1は、本発明を用いることができるPECVDチャンバ100の概略的な断面図である。PECVDチャンバ100は、側壁102と、底壁104と、チャンバ蓋106とを含み、それにより累積的に処理領域108を画定する。ガス分配システム110はチャンバ蓋106を貫通して配置され、処理領域108にガスを供給する。ガス分配システム110は、ガス注入口114を有するガスボックス112を含み、ガス注入口は前駆体源111から処理ガスを受け取り、処理ガスをガスボックス112、及びガスボックス112からの処理ガスを処理領域108に分配するための複数のガス通路118を有するシャワーヘッド116を含む。ガス分配システム110は、処理ガスを所望の温度まで加熱するために、環状の抵抗ヒータなどのガスボックスヒータ120も含むことができる。シャワーヘッド116は、処理領域108内のプラズマ形成を容易にするために、シャワーヘッド116に電気エネルギーを供給するRF電源122に結合される。したがって、シャワーヘッド116は、上側電源用電極としての役割を果たす。RF電源122とシャワーヘッド116との間に自動調整RF整合回路網124が配置される。一実施形態では、RF電力は約13.56MHzの周波数において供給される。底壁104は、ペデスタルヒータ130を支持する心棒128のための通路126を画定する。ペデスタルヒータ130は、処理領域108において基板101を支持するように構成される。ペデスタルヒータ130は、その中に埋め込まれるグランドメッシュ132を含み、グランドメッシュはRFグランドに接続される。したがって、グランドメッシュ132は、シャワーヘッド116とペデスタルヒータ130との間の処理領域108においてプラズマ形成を容易にするグランド電極としての役割を果たす。また、ペデスタルヒータ130は、基板101を所望の処理温度まで加熱する、抵抗加熱素子などの1つ又は複数の加熱素子134も含む。中央処理装置CPU152、メモリ154、支持回路156を含む制御システム150が、チャンバ100の種々の構成要素に結合され、チャンバ100内の処理の制御を容易にする。メモリ154は、チャンバ100又はCPU152に対してローカルに、又はリモートに配置される、ランダムアクセスメモリRAM、リードオンリーメモリROM、フロッピィディスク、ハードディスク又は任意の他の形のデジタル記憶装置などの任意のコンピュータ可読媒体とすることができる。支持回路156は、従来通りにCPU152を支持するためにCPU152に結合される。これらの回路は、キャッシュ、電源、クロック回路、入力/出力回路及びサブシステム等を含む。CPU152によって実行されるときに、メモリ154内に記憶されるソフトウェアルーチン又は一連のプログラム命令によって、チャンバ100はその中でプラズマ処理を実行する。本発明から恩恵を受けることができる堆積チャンバは、炭素をドープされた酸化シリコン、シリコン含有膜、アドバンスドパターンドフィルムadvancedpatteredfilm:APFを含む他の誘電体材料などの酸化物を堆積するように構成されるチャンバを含む。堆積チャンバの一例は、SantaClara、CaliforniaのAppliedMaterials,Inc.から市販されるPRODUCER登録商標チャンバである。PRODUCER登録商標チャンバは、炭素をドープされた酸化シリコン及び他の材料を堆積するために用いることができる2つの分離した処理領域を有するPECVDチャンバである。本発明のために有用な例示的なチャンバの更なる詳細は、米国特許第5,855,681号に記述されており、その特許は参照により本明細書に援用される。チャンバ100は概略的にPECVDチャンバとして示されるが、本発明の使用は、プラズマエッチング又はPVDチャンバなどの他のチャンバに関しても同じく有効である場合がある。図2は、本発明の一実施形態による、電流に基づくプラズマエクスカーション検出回路200の概略的なブロック図である。検出回路200はRF電流プローブ202を含み、RF電流プローブ202は、RF整合回路網124と、図1に示されるPECVDチャンバ100内のシャワーヘッド116など、プラズマチャンバ206内の上側電源用電極204との間のRF送電ライン201に結合される。好ましくは、RF電流プローブは、RF送電ライン201が電源用電極204に接続される直前に、RF送電ライン201に結合される。電源用電極204付近のRF電流を直接検出することによって、先に論じられたような従来技術の技法である、RF電力発生器若しくはRF整合回路網図1において、又はその付近において検出するのとは対照的に、プラズマエクスカーションをはるかに高感度に検出できるようになる。RF電流プローブ202は、単ループ変流器又は複ループ変流器とすることができる。RF送電ライン201を通って流れるRF電流は、RF送電ライン201の周囲に、経時的に変化する磁界を生成する。経時的に変化する磁界は更に、RF周波数における経時的に変化する電界を生成する。経時的に変化する電界は、1つ又は複数のループ及び電流プローブ202内の抵抗器を通って流れるRF電流を誘導する。その結果として、後続の処理のために、RF電流がRF電圧に変換される。次に、RF電圧が、例えば、約70kHzを超える周波数をブロックするデュアルRFフィルタ208によってフィルタリングされる。その後、結果として生成された電圧信号は、計測増幅器などの差動増幅器210によって増幅される。差動増幅器210において、差動増幅器210の非反転端子及び反転端子上に存在する場合がある同相雑音例えば、RFによって誘発された雑音が除去される。差動増幅器210の後方に高速バッファ212が配置され、回路200内の信号処理の次のステージのための分離及び信号中継バッファリングの両方を提供する。一実施形態では、高速バッファ212からの電圧信号は、任意選択で1つ又は複数のノッチフィルタ214に通される。一実施形態では、ノッチフィルタ214は60Hzノッチフィルタである。一実施形態では、ノッチフィルタ214は50Hzノッチフィルタである。代替的には、ノッチフィルタ214は、60Hzノッチフィルタ及び50Hzノッチフィルタの両方を含むことができる。電源用電極204は大きな受信用アンテナのように動作するので、その電極は、図1のチャンバ100内に示されるガスボックスヒータ120又はペデスタルヒータ130など、チャンバ206内に存在するヒータからの望ましくない60Hz北アメリカ又は50Hzヨーロッパ/日本雑音を直接捕捉する。この望ましくない雑音は、電圧信号に渡され、1つ又は複数のノッチフィルタ214によって除去することができる。その後、フィルタリングされた電圧信号は、高速バッファ222に転送することができ、高速バッファは後続の信号処理のための分離及び信号バッファリングを提供する。特定の実施形態では、電源用電極204へのRF電流すなわち、プラズマへの入力が検知されるので、チャンバ206内に存在するプラズマ負荷及びヒータからの雑音は無視できるほどであると考えられる。そのような場合には、1つ又は複数のノッチフィルタ214を不要にすることができる。一実施形態では、その後、電圧信号は、例えば約10μs~約1msの時間スケールで、高速プラズマエクスカーション事象を検出するために特に設計された通過帯域を有するアナログバンドパスフィルタ232を通る。例えば、バンドパスフィルタ232の通過帯域は、約250Hzの低域カットオフ及び約50kHzの高域カットオフを有することができる。その後、電圧信号はハイパスフィルタ234及び増幅器236を通って、エクスカーション出力信号238を与える。ハイパスフィルタ234は更なるACカップリングを与え、増幅器236において増幅する前に任意のDCオフセットを除去する。このように、このエクスカーション出力信号238は、チャンバ206内のAC雑音からの歪みを伴うことなく、DCバイアス内の任意のスパイクが明瞭に検出可能であるように更にフィルタリングされた信号を与える。それゆえ、エクスカーション出力信号238を用いて、アーク又はマイクロアークなど、チャンバ206内の任意のエクスカーション、すなわち、プラズマ不安定性を検出することができる。一実施形態では、エクスカーション出力信号238はコンパレータ240に給送され、コンパレータにおいて、エクスカーション出力信号238の値が、例えばユーザによって供給されるか又は制御システム150図1内にプログラミングされる値である、既定値239と比較される。エクスカーション出力信号238が非常に短い時間例えば、1ms内に既定値239を超える場合には、コンパレータ240は信号をアナログ/デジタルコンバータ242に渡し、スパイク又はプラズマエクスカーションを知らせるデジタルアラーム信号244が生成される。アラーム信号244は、制御システム150にフィードバックされ、操作者に警告することができ、且つ/又は処理システムを停止することができる。図3は、上記の検出回路200を用いるプラズマエクスカーション検出システム300の一実施形態の概略的なブロック図である。図3に示されるエクスカーション検出システム300は、上記のPRODUCER登録商標チャンバなど、2つの処理領域が監視されることになる実施形態とともに用いるためのものである。しかしながら、単一の処理領域の応用形態にも同じく適用可能である。監視されることになる複数の処理領域を有する応用形態を処理する際に、チャンバ206の各処理領域内の電源用電極204に結合されるRF送電ライン201が単一のRF電流プローブ202によって別々に監視される。各RF電流プローブ202は、ケーブル302を介してデュアルRFフィルタ208に接続される。各RFフィルタ208からの電圧信号は検出制御ユニット304に別々に給送され、検出制御ユニット304は、監視されることになるチャネル206の処理領域毎に別々の検出モジュール306を含む。検出モジュール306はそれぞれ、図2、図5、図6、図7及び図8内の枠250、550、650、750及び850によってそれぞれ囲まれる回路200の構成要素の全てを含む。検出制御ユニット304は、1つ又は複数の既定値239を受信するための制御システム150への接続308と、各検出モジュール306と制御システム150との間のデジタルアラーム信号244の出力とを含む。さらに、検出制御ユニット304は、データ取得ユニットと、USBポートなどのポート309とを含み、ポートはデータロギング及び診断ソフトウェアを有するパーソナルコンピュータ310に接続することができる。一実施形態では、コンピュータ310は、データ取得ポート309を通して、エクスカーション出力信号238を絶えず記録する。別の実施形態では、コンピュータ310は、エクスカーション出力信号238が既定値239を超え、対応する検出モジュール306からアラーム信号244が生成されるときに、診断のために、データ取得ポート309を通して、検出モジュール306のうちの1つからエクスカーション出力信号238を記録するだけである。この機能によって、プラズマ処理中に生成された任意のプラズマエクスカーションの大きさ及び持続時間に関して、自動ロギング及び診断を実行できるようになる。図4A~図4Cは、図2の回路200のコンパレータ240の機能のグラフ表現である。図4Aは、0V~10Vの目盛における既定値239、すなわち、ユーザによってプログラミングされたトリガーレベルのグラフ表現である。この例では、2.5Vの既定値が規定される。この既定値はプロセスレシピに入れられ、システムに単一の正の2.5Vが入れられる場合であっても、±2.5Vの帯域制限として検出制御ユニット304によって解釈される。図4Bは、既定値239が重ねられたエクスカーション出力信号238のグラフ表現である。点405において表されるように、エクスカーション出力信号238は、幾つかの場所において既定値239によって画定される帯域制限を超えるすなわち、2.5Vより大きいか、又は-2.5Vより小さい。図4Cは、エクスカーション出力信号238が、既定値239によって画定される帯域制限を超える点405に対応するアラーム信号244のグラフ表現である。図5は、別の実施形態による、電流に基づくプラズマエクスカーション検出回路500の概略的なブロック図である。エクスカーション検出回路500並びに後続の回路600、700及び800の数多くの態様が、エクスカーション検出回路200と同じであるか、又は類似している。したがって、回路間の同一の構成要素を参照する際に、同一のアイテム番号が用いられる。検出回路500は、RF送電ライン201が電源用電極204に接続される直前に、RF送電ライン201に結合されるRF電流プローブ202を含む。RF電流プローブ202は、検出されたRF電流をRF電圧に変換する。その後、RF電圧は、デュアルRFフィルタ208によってフィルタリングされる。その後、結果として生成された電圧信号は、差動増幅器210によって増幅され、差動増幅器210の非反転端子及び反転端子上に存在する場合がある同相雑音が除去される。結果として生成された電圧信号はハイパスフィルタ234を通り、ハイパスフィルタ234は電圧信号内の任意のDCオフセット又はドリフトを除去する。この時点で電圧信号内のDC成分を除去することによって、後にAC成分を処理するためのダイナミックレンジが大きく拡大することがわかった。ハイパスフィルタ234の後方に高速バッファ212が配置され、信号処理の次のステージのための分離及び信号中継バッファリングの両方を提供する。次に、高速バッファ212からの電圧信号は、図2に関して説明されたように、1つ又は複数のオプションのノッチフィルタ214に通すことができる。その後、電圧信号は、例えば、約55kHzを超える周波数をブロックする4次ローパスフィルタなどのローパスフィルタ516及び増幅器518に通され、フィルタリングされた電圧出力信号520が与えられる。フィルタリングされた電圧出力信号520は、元の電圧信号を可視化するための中間診断信号を与えることができる。フィルタリングされた電圧出力信号520は高速バッファ222に転送され、高速バッファ222は後続の信号処理のための分離及び信号バッファリングを提供する。その後、フィルタリングされた電圧出力信号520は、例えば、約230Hz未満の周波数をブロックする4次ハイパスバンドフィルタなどのハイパスフィルタ524に通される。ローパスフィルタ516とハイパスフィルタ524との組み合わせは、エクスカーション検出回路200において用いられるバンドパスフィルタ232よりも、阻止帯域における大きな注視と、低域カットオフ周波数例えば、230Hz及び高域カットオフ周波数例えば、55kHzの両方の周囲における急峻な遷移とを提供する。その後、電圧信号は、ハイパスフィルタ524から1つ又は複数のノッチフィルタ528に通され、RF伝送ライン201からのRF電流信号内の雑音を更にフィルタリングすることができる。例えば、処理中にガスボックスヒータ120をオン及びオフすることが、幾つかの異なる周波数における信号への雑音の一因となる場合がある。特定の周波数が特定されると、1つ又は複数のノッチフィルタ528を選択して、それらの特定の周波数を除去することができる。その後、フィルタリングされた信号は増幅器236において増幅され、エクスカーション出力信号538が与えられる。その後、エクスカーション出力信号538はコンパレータ240に給送され、コンパレータにおいて、エクスカーション出力538の値が既定値239と比較される。エクスカーション出力信号538が規定された時間内に既定値を超える場合には、コンパレータ240はアナログ/デジタルコンバータ242に信号を渡し、スパイク又はプラズマエクスカーションを知らせるデジタルアラーム信号244を生成する。アラーム信号244は制御システム150にフィードバックすることができ、それにより、操作者に警告することができ、且つ/又は処理システムを停止することができる。図6は、別の実施形態による、電流に基づくプラズマエクスカーション検出回路600の概略的なブロック図である。検出回路600はRF電流プローブ202を含み、RF電流プローブ202は、RF送電ライン201が電源用電極204に接続される直前に、RF送電ライン201に結合される。RF電流プローブ202は、検出されたRF電流をRF電圧に変換する。その後、電流プローブ202からのRF電圧は、RF電流プローブ202と差動RF増幅器610との間に如何なるRFフィルタリングも用いることなく、差動RF増幅器610によって増幅される。結果として生成されたフィルタリングされていない信号は、13.56MHzなどのRF駆動周波数すなわち、ω0及び雑音若しくはプラズマエクスカーションなどの他の周波数すなわち、ωnの両方を含む。このフィルタリングされていない信号すなわち、ω0ωnは、周波数混合器611の一方の入力に入力され、RF駆動周波数すなわち、ω0が周波数混合器611の他方の入力に入力される。結果として生成された周波数混合器611の出力すなわち、ωn、2ω0ωnは、その後、約10μs~約1msの時間スケールにあるような、プラズマエクスカーション事象を検出するために特に設計された通過帯域を有するアナログバンドパスフィルタ232に通される。例えば、バンドパスフィルタ232の通過帯域は、約250Hzの低域カットオフ及び約50kHzの高域カットオフを有することができる。その後、その信号は、ハイパスフィルタ234を通り、ハイパスフィルタ234はACカップリングを与え、任意のDCオフセットを除去する。その後、その信号は増幅器236に通され、エクスカーション出力信号638が与えられる。その後、エクスカーション出力信号638はコンパレータ240に給送され、コンパレータにおいて、エクスカーション出力信号638の値が既定値239と比較される。エクスカーション出力信号638が規定された時間内に既定値を超える場合には、コンパレータ240はアナログ/デジタルコンバータ242に信号を渡し、スパイク又はプラズマエクスカーションを知らせるデジタルアラーム信号244を生成する。アラーム信号244は制御システム150にフィードバックすることができ、それにより、操作者に警告することができ、且つ/又は処理システムを停止することができる。図7は、別の実施形態による、電流に基づくプラズマエクスカーション検出回路700の概略的なブロック図である。検出回路700はRF電流プローブ202を含み、RF電流プローブ202は、RF送電ライン201が電源用電極204に接続される直前に、RF送電ライン201に結合される。RF電流プローブ202は、検出されたRF電流をRF電圧に変換し、RF電圧は減衰器707に給送され、減衰器707は、RF電流プローブ202かの電圧信号を受信し、低減する。その後、電圧信号はバンドパスフィルタ709に通され、バンドパスフィルタ709は、減衰器707から電圧信号を受信し、フィルタリングする。バンドパスフィルタ709は、約10MHz~約16MHzの通過帯域を有することができる。その後、電圧信号は、Norwood,MAのAnalogDevicesから市販されるAD8363TruPwtRMS電力検出器などのRFRMS検出器713に通される。その後、電圧信号は1つ又は複数のノッチフィルタ214に通され、フィルタリングされた出力電圧V1を与えることができる。その後、フィルタリングされた出力電圧V1は、ローパスフィルタ715例えば、100Hz未満のブロック周波数及び増幅器717に通され、RMS電圧信号719が与えられ、RMS電圧信号719はRF電流プローブ202によって測定されるRF電流の大きさの絶対値を表す。フィルタリングされた出力電圧V1は、約10μs~約1msの時間スケールにあるような、プラズマエクスカーション事象を検出するために特に設計された通過帯域を有するバンドパスフィルタ232にも通される。例えば、バンドパスフィルタ232の通過帯域は、約250Hzの低域カットオフ及び約50kHzの高域カットオフを有することができる。その後、その信号はハイパスフィルタ234を通り、ハイパスフィルタ234はACカップリングを与え、任意のDCオフセットを除去する。その後、その信号は増幅器236に通され、エクスカーション出力信号738が与えられる。その後、エクスカーション出力信号738はコンパレータ240に給送され、コンパレータにおいて、エクスカーション出力信号738の値が既定値239と比較される。エクスカーション出力信号738が規定された時間内に既定値を超える場合には、コンパレータ240は信号をアナログ/デジタルコンバータ242に渡し、スパイク又はプラズマエクスカーションを知らせるデジタルアラーム信号244を生成する。アラーム信号244は制御システム150にフィードバックすることができ、それにより、操作者に警告することができ、且つ/又は処理システムを停止することができる。それゆえ、検出回路700は、プラズマ状態を監視し、制御するために、且つプラズマ安定性及びプラズマエクスカーション事象を監視するために用いることができる。図8は、別の実施形態による、電流に基づくプラズマエクスカーション検出回路800の概略的なブロック図である。検出回路800はRF電流プローブ202を含み、RF電流プローブ202は、RF送電ライン201が電源用電極204に接続される直前に、RF送電ライン201に結合される。RF電流プローブ202は検出されたRF電流をRF電圧に変換する。その後、電流プローブ202からのRF電圧は、RF電流プローブ202と差動RF増幅器610との間に如何なるRFフィルタリングも用いることなく、差動RF増幅器610によって増幅される。その後、差動RF増幅器610からのRF電圧は、高速アナログ/デジタルコンバータ820を介してデジタル信号に変換される。その後、デジタルRF信号は、フィールドプログラマブルゲートアレイFPGAに基づく有限インパルス応答フィルタFIRなどのバンドパスデジタルフィルタ832に通される。一実施形態では、バンドパスデジタルフィルタ832は、約12MHz~約14MHzの周波数を通過させるように構成されている。その後、フィルタリングされたRF信号はデジタルシグナルプロセッサDSP840に渡され、デジタルシグナルプロセッサ840において、RF波形が抽出され、スペクトル分析が実行されて、駆動RF周波数、雑音、及びアーク又はプラズマ振動などの任意のエクスカーション信号を含む、全スペクトルが得られる。フィルタリングされたRF信号はDSP840からデジタル/アナログコンバータ841に渡され、アナログエクスカーション出力信号838を生成することができる。既定値239がアナログ/デジタルコンバータ839においてデジタル信号に変換され、DSP840内のフィルタリングされたRF信号と比較される。フィルタリングされたRF信号が規定された時間内に既定値239を超える場合には、スパイク又はプラズマエクスカーションを知らせるために、デジタルアラーム信号244が生成される。アラーム信号244は制御システム150にフィードバックすることができ、それにより、操作者に警告することができ、且つ/又は処理システムを停止することができる。このように、プラズマ処理チャンバのRF電源電極に達する直前のRF電流を直接監視することによって、プラズマ処理中のアーク、マイクロアーク又は他のプラズマ不安定性などのプラズマエクスカーションを検出するためのシステム及び方法が提供される。監視されるRF電流はRF電圧に変換され、その後、一連のアナログフィルタ及び増幅器に通され、プラズマエクスカーション信号を与えることができる。プラズマエクスカーション信号が既定値と比較され、プラズマエクスカーション信号が既定値を超えた時点において、アラーム信号が生成される。その後、操作者に警告することができ、且つ/又は処理システムを停止できるように、アラーム信号はシステムコントローラにフィードバックされる。一実施形態では、デジタルフィルタリング及び処理のために、RF電流は増幅され、デジタル信号に変換される。特定の実施形態では、単一の検出制御ユニットによって複数の処理領域を監視することができる。上述の説明は、本発明の実施形態を対象としているが、本発明の基本的な範囲から逸脱することなく、本発明の他の実施形態及び更なる実施形態を考案することができ、本発明の範囲は添付の特許請求の範囲によって決定される。"