"有機化合物Eをホスゲン化して生成物Pとする連続工程であって、前記工程は望ましくは円筒状であるピストン型反応器R2にて行われ、前記反応器R2は機械的軸方向攪拌手段を備え、前記反応器R2において消費されるホスゲンは、前記反応器R2の上流側に配置された第1の反応器R1において連続的に生成され、ホスゲンは、前記第1の反応器R1においてCO及びCl2から生成され、前記有機化合物Eを含む少なくとも一つの液相が、望ましくは上流端から、前記反応器R2に連続的に導入され、且つ、前記第1の反応器R1において生成された前記ホスゲンが、望ましくは連続的に、望ましくは上流端から、前記第2の反応器R2に注入され、前記液相は、望ましくは-25°Cと200°Cとの間の温度で且つ軸方向の機械的攪拌の下に、通過時間tが1秒から10分、望ましくは10秒から6分、更に望ましくは40秒から3分の間、1~10気圧、望ましくは1~5気圧のホスゲンの影響に曝されて、ホスゲンが前記液相と反応して前記生成物Pを生成し、前記生成物Pを含む前記液相は前記反応器から除去され、望ましくは、特性熱輸送時間tthermと特性物質輸送時間tmatとの比が1~50の間であるとき、前記反応器の入り口と出口との間における液の温度上昇ΔTは、ΔT/ΔTadΔTadは断熱温度上昇を示すが0.02~0.06の間となる値である、連続ホスゲン化方法。請求項1の方法において、触媒によるホスゲン化工程であることを特徴とする連続ホスゲン化方法。請求項1又は2の方法において、ttherm/tmatが1.5と12との間であるとき、ΔT/ΔTadは0.02と0.2との間であることを特徴とする連続ホスゲン化方法。請求項1~3のいずれか一つにおいて、ttherm/tmatが2と8との間であるとき、ΔT/ΔTadは0.03と0.15との間であることを特徴とする連続ホスゲン化方法。請求項1~4のいずれか一つにおいて、3秒<tmat<10秒であることを特徴とする連続ホスゲン化方法。請求項1~5のいずれか一つにおいて、熱輸送は300W/m2/°Cと700W/m2/°Cとの間であることを特徴とする連続ホスゲン化方法。請求項1~6のいずれか一つにおいて、前記反応器R2の内径は20mmと100mmとの間であり、望ましくは30mmと75mmとの間であり、更に望ましくは40mmと60mmとの間であることを特徴とする連続ホスゲン化方法。請求項1~7のいずれか一つにおいて、前記反応器R2の反応室の長さは、10cmと100cmとの間であり、望ましくは20cmと80cmとの間であることを特徴とする連続ホスゲン化方法。請求項1~8のいずれか一つにおいて、前記有機化合物Eは、前記反応器に導入される前記液相を構成することを特徴とする連続ホスゲン化方法。請求項1~9のいずれか一つにおいて、前記生成物Pは、塩化カルボニル、クロロ蟻酸エステル、酸塩化物、カルバマート、イソシアネート、塩化カルバモイル、尿素及びこれらの誘導体からなる群から選ばれたものである、連続ホスゲン化方法。請求項1~10のいずれか一つにおいて、前記第1の反応器におけるCOガス及びCl2ガスの流量は、前記ホスゲン化の反応器R2におけるホスゲンの消費に応じて制御される、連続ホスゲン化方法。請求項1~11のいずれか一つにおいて、ホスゲンの消費量は、1kg/時間と50kg/時間との間である、連続ホスゲン化方法。請求項1~12のいずれか一つの方法を実施するための装置であって、第1の反応器R1及び第2の反応器R2を備え、前記第1の反応器R1は前記第2の反応器R2の上流側に配置されると共に第1の閉容器C1内に配置され、前記第2の反応器R2は第2の閉容器C2内に配置され、これらの閉容器C1及びC2は壁によって分離されており、前記第1の反応器R1は、ホスゲン生成反応器であって、一酸化炭素ガスのための、流量制御器を備える入り口及び槽と、塩素ガスのための、流量制御器を備える入り口及び槽と、望ましくは管状であり、一酸化炭素塩素混合ガスをホスゲンに変えることのできる固定床触媒を有する反応室と、を備え、前記第2の反応器R2は、管状のホスゲン化反応器であって、その上流端に設けられた第1の反応器R1から来るガス状態の反応生成物のための入り口と、上流端に設けられた前記有機化合物を含む液相のための入り口と、下流側に設けられた前記液相のための出口と、を備え、前記第1の反応器R1及び前記第2の反応器R2は、管によって互いに接続され、これにより前記第1の反応器R1にて生成され且つホスゲンを含む反応生成物が前記第2の反応器R2に輸送され、前記管は、前記管は、前記第1の閉容器C1と前記第2の閉容器C2とを分離する壁を通過しており、前記第2の反応器R2は、ピストン型反応器であって、軸方向攪拌手段を備え、前記第2の反応器R2は、1気圧と10気圧との間、望ましくは1気圧と5気圧との間において動作されることを特徴とする連続ホスゲン化装置。請求項13の装置において、前記第1の閉容器C1及び前記第2の反応器R2は、減圧下に置かれ、内部ガスは常時吸引されると共に、当該ガスに含まれる場合があるホスゲン及び塩素ガスを分解できる湿式スクラバーに通されることを特徴とする連続ホスゲン化装置。請求項13又は14の装置において、前記第2の反応器R2の内径は20mmと100mmとの間であり、望ましくは30mmと75mmとの間であり、更に望ましくは40mmと60mmとの間であることを特徴とする連続ホスゲン化装置。請求項13~15のいずれか一つの装置において、前記第2の反応器R2における反応室の長さは、10cmと100cmとの間であり、望ましくは20cmと80mとの間であることを特徴とする連続ホスゲン化装置。請求項13~16のいずれか一つの装置において、輸送用の前記管は、ホスゲンを冷却する手段を有することを特徴とする連続ホスゲン化装置。請求項13~17のいずれか一つの装置において、有機化合物のホスゲン化を行う、連続ホスゲン化装置。塩化カルボニル、クロロ蟻酸エステル、酸塩化物、カルバマート、イソシアネート、塩化カルバモイル、尿素及びこれらの誘導体と、カルボナートとからなる群から選ばれた生成物Pを調製する、請求項18の連続ホスゲン化装置の使用方法。精製化学製品の製造、特に、医薬品、香料、植物衛生製品等の有効成分の製造のためには、比較的少数しかホスゲンの直接利用の例はない。より多くの場合、ホスゲンはジホスゲン又はトリホスゲンから製造される。ジホスゲンは標準状態では液体であり、トリホスゲンは結晶を形成する。米国特許6399822号明細書は、ジホスゲン又はトリホスゲンから純粋なホスゲンを生成するための触媒反応を説明している。この特許を実施する装置は、SigmaAldrichcompanyにより発売されており、journalChemFilesvol7no2の4~14ページに説明されている。これは、非常に小規模な利用に適しており、特に、アミノ酸及びペプチドの誘導体化に適している。同様に、最小限の量のホスゲンを発生させるマイクロリアクターに関する出版物がある。このような反応器は、サブミリ単位の装置であって、マイクロエレクトロニクス、特にフォトリソグラフィ及びイオンエッチングの技術に基づいて製造される。従って、マサチューセッツ工科大学の最終技術報告番号AFRLIFRSTR2002295MicroFluidChemicalReactorSystemsDevelopmentScaleUpandDemonstration微小流体化学反応器システム:展開、規模拡大及び実証は、標準状態流量4cm3/分のCl2から微少量のホスゲンを直接合成するマイクロリアクターについて述べている。AlChEJournalvol47p16391647において公開された、SKAjmeraらによる記事Microfabricatedpackedbedreactorforphosgenesynthesisホスゲン合成用の微細加工された充填床反応器は、標準状態流量4.5cm3/分の2COCl2を用いるマイクロリアクターについて述べている。米国特許出願公開20040156762号明細書も、ホスゲンの直接合成にマイクロリアクターを用いることについて述べている。thejournalChemistryTodayvol24n5page5052において公開された、AnnGidnerによる記事ChallengingchemistriesatSaltigoAcompetitiveadvantageincustommanufacturingサルティゴにおける挑戦的化学:注文製造における競争上の利点において、精製化学製品の生産にホスゲンを直接利用する選択肢の開発が要望されている旨が述べられている。しかしながら、ジホスゲン及びトリホスゲンはホスゲンに比べて大幅に高価である。しかし、精製化学製品、例えば薬剤の有効成分、芳香剤又は香料の生産において、原材料の費用は特別に重要な論題となるとは限らない。この理由及び安全上の理由から、前記の産業分野では、ホスゲンの直接利用を伴う工程はほとんど無い。一般に、ホスゲンのような特定物質の利用を避ける代替方法は求められている。これは、例えば、thejournalGreenChemistry6p544556にて公開されたJJenckらによる記事Productsandprocessesforasustainablechemistryareviewofachievementsofprospects持続可能な化学のための製品及び方法:見通しの達成の報告が実証する通りである。時には、ホスゲン代替物、例えばヴィルスマイヤーVilsmeier試薬又はカルボニルジイミダゾールも用いられることがある。本発明は、このような傾向に反して、精製化学製品の製造に適したホスゲン化の装置及び方法を提案する。この方法は、液相の反応器へのホスゲン注入を伴い、これは高圧にて行っても良い。また、大きな、但し限定された量、例えば1~50kg/時、特に1~5kg/時程度、のホスゲンの生成と消費が可能であり、完全に安全な状態にて、特に、ホスゲンを全く貯蔵することなく実施することができる。本発明は、第1に、液相反応によって、ホスゲンをCO及びCl2から発生させると共に該ホスゲンを消費し、有機生成物Pを生成する連続工程に関連しており、前記工程は、2つの連続した反応器R1及びR2により実現され、第1の反応器R1は、気体のCO及びCl2からホスゲンを触媒合成する反応器であり、第2の反応器R2は、ピストン反応器であり、望ましくは円筒状であり、機械的な軸方向攪拌手段を備え、望ましくは化学量論量のCO及びCl2を前記反応器R1に導入して混合ガスを生成する工程と、前記混合ガスを、適切な触媒上に通してホスゲンを生成する工程と、前記ホスゲンを含む混合ガスに、前記第2の反応器R2を通過させる工程と、有機化合物Eを含む少なくとも1つの液相を、望ましくは前記第2の反応器R2の一端に、連続的に供給する工程と、前記液相を、望ましくは-25~200°Cで且つ機械的な軸方向の攪拌の下に、任意で液相に分散された触媒の存在下にて、通過時間tが1秒から10分、望ましくは10秒から6分、更に望ましくは40秒から3分の間、1~10気圧、望ましくは1~5気圧のホスゲンの影響に曝す工程と、前記液相を前記反応器から除去する工程とを備え、望ましくは、特性熱輸送時間characteristicheattransfertimettherm及び特性物質輸送時間characteristicmaterialtransfertimetmatの比が1~50の間であるとき、前記反応器の入り口と出口との間における前記液相の温度上昇ΔTは、ΔT/ΔTadΔTadは断熱温度上昇を示すが0.02~0.06の間となる値である。また、本発明は、前記に説明した工程を実施するための装置にも関係しており、第1の反応器及び第2の反応器を備え、前記第1の反応器は前記第2の反応器の上流側に配置されると共に第1の閉容器C1に配置され、前記第2の反応器R2は閉容器C2に配置され、閉容器C1及びC2は壁によって分離されており、前記第1の反応器R1は、ホスゲン発生器であって、一酸化炭素ガス用の入り口及び流量制御器を有する槽と、塩素ガス用の入り口及び流量制御器を有する槽と、一酸化炭素塩素混合ガスをホスゲンに変えることのできる固定床触媒を備え、望ましくは管状の反応室とを備え、前記第2の反応器R2は、管状のホスゲン化反応器であって、上流側に設けられ、前記第1の反応器R1から来るガス状態の反応生成物のための入り口と、上流側に設けられ、前記有機化合物を含む液相のための入り口と、下流側に設けられた前記液相のための出口とを備え、前記第1の反応器R1と、前記第2の反応器R2とは管によって互いに接続され、これにより前記第1の反応器R1にて生成されたホスゲンを含む反応生成物は前記第2の反応器R2に輸送され、前記管は前記第1の閉容器C1と前記第2の閉容器C2との間の前記壁を通過する。更に、本発明の前記装置において、前記第2の反応器R2は軸方向攪拌手段を備えるピストン反応器であり、前記第2の反応器R2は、1気圧と10気圧との間、望ましくは1気圧と5気圧との間の圧力にて動作する。前記輸送管は、ホスゲンを冷却する手段を含み、およそ30°Cを実現できるのが望ましい。また、本発明は、有機化合物のホスゲン化の発明についての装置の使用にも関係する。精製化学製品の製造に適したホスゲンの生成と消費が可能であり、完全に安全な状態において、特に、ホスゲンを全く貯蔵することなく実施することができる。本発明は、有機化合物をホスゲン化する連続工程に関し、当該工程はピストン型の連続反応器ピストン流れ反応器とも呼ばれるにて実施される。反応器は、長さL、体積Vであり、化学物質は一方の端に入って反応器を通り抜け、少しずつ反応する。本発明の連続工程は、複数の工程を含むものとして表現できる。第1の工程では、CO及びCl2からホスゲンが第1の反応器R1において生成される。前記の化学物質を含む液相が、第2の反応器R2に連続的に導入される。当該反応器の一端に入れられるのが望ましい。この後、前記液相は、-25°Cと200°Cとの間の温度において、軸方向に攪拌されながら、1気圧と10気圧との間望ましくは1気圧と5気圧との間の気圧のホスゲンに曝される。通過時間tは1秒と10分との間望ましくは10秒と6分との間、より望ましくは40秒と3分との間とする。生成物Pを含む液相が反応器R2の下流側端部に到達したら、これを当該下流側端部において取り除く。当該液相は、過剰のCO、CO2又はHClのような反応中に生じたガスを含んでいても良い。また、固体反応生成物又は副生成物を含んでいても良い。ホスゲン化に用いられるホスゲンの生成は、第1の反応器R1において、塩素と一酸化炭素との反応により、通常は活性炭である触媒の存在下にて行われる。他の触媒、例えばハロゲン化金属、炭化ケイ素等を用いることもできる。ホスゲン生成反応は発熱が大きいので、反応器R1を冷却する必要がある。反応は、150°C程度にて行われるのが最も望ましく、より一般的には50°Cと200°Cとの間にて行われる。反応器R1の出口においてホスゲンは冷却され、1気圧と10気圧の間、望ましくは1気圧と5気圧との間の圧力にて約30°Cとされる。この圧力において、ホスゲンは、ピストン型反応器である反応器R2の上流側端部に注入される。通常、反応器R1の出口におけるホスゲン圧は、反応器R2に供給するのに十分である。従って、R1とR2との間に中間ポンプを設けて反応器R2に入るホスゲンの圧力を高める必要は無い。これにより、ホスゲン漏れの危険が少なくなっているので、本発明の工程はより安全である。この点が、本発明の工程の利点の一つである。しかしながら、反応によっては、中間ポンプを用いることが必要になる場合もある。例えば、揮発性が非常に高い溶媒を用いた場合である。この場合、本発明の工程において、反応器R2における圧力が200気圧程度の場合まで実施することができる。本発明の工程によると、CO及びCl2のガスが第1の反応器R1に入る流速は、非常に望ましくは概ね量論量のホスゲンが反応器R2に導入されることを考えると、ホスゲン化反応器R2におけるホスゲンの消費に基づいて制御されるのが望ましい。しかしながら、わずかに多くのCOを用いることにより、塩素を含むホスゲンを得るのを避けるのが好ましい。反応器R2の出口におけるホスゲンの消費により、反応器R1の入り口におけるガス流量を制御することを可能にするには、CO及びCl2のそれぞれの入り口に質量流量計を設ける。望ましくは、これらの流量計は、反応器R2が動作していない限りガスを通過させない。反応器R1において発生させたホスゲンは、すぐに反応器R2に輸送される。反応器R2にて行われるホスゲン化反応は、ほとんどの場合、高純度のホスゲンを用いることを要求し、99かそれより高い必要がある。ホスゲン化に用いる反応器R2は、円筒状の形状を有することが望ましい。当該反応器は、軸方向攪拌手段、望ましくは機械的軸方向攪拌手段を備えている必要がある。軸方向攪拌手段とは、反応器の軸に平行な軸を有することにより、反応混合物を長さ方向全体又は大部分にわたって攪拌するあらゆる装置を意味する。これらの軸方向攪拌手段は、一方では、導入された化学種を液相に分散された状態の触媒と共に混合することによって反応を促進し、他方では、熱輸送を促進する。ピストン反応器が有する温度及び濃度プロファイルは、その軸方向に沿って変化しうる。このような反応器は、それぞれ長さがΔLで且つ体積がΔVの基礎反応器を軸方向に連続して並べたものとしてモデル化できる。この反応器の工程条件では、供給される材料の組成と体積流量Fとは均一且つ一定であり、滞在時間、τ=V/F式1は、反応器に入った全ての分子について一定である。この種の反応器は既知である。また、当業者であれば、発熱性の高い反応がピストン型反応器にて行われた場合、直径方向の熱輸送が律速となりうることを知っている。ホスゲン化反応の場合、発熱性が高くなりうるので、熱輸送の制御は重大事項である。本発明の工程は、次の形式の化学反応を伴う。A液体νCOCl2気体→νp生成物式2ここで、νはホスゲンの量論係数であり、νpは生成物の量論係数である。本発明によると、ホスゲン化に供される化学物質は、純粋液か、溶媒液により希釈された液体か、又は、溶媒液により希釈された固体である。一般に、反応器の効率は、熱輸送及び物質輸送を示す二つの特性値によって定まる。このような特性時間は、以下の簡略化された式として定義されている流体力学モデルは同じであり、反応器はピストン反応器であるか又は完全に攪拌された反応器であり、ホスゲン化反応については物質輸送により律速されている。特性熱輸送時間:特性物質輸送時間tmat=1/kLaこれらの式において、次のパラメータが用いられている。液体の密度p、液体の熱容量Cp、下に定義する総括輸送係数K熱交換面積S設計により決まるので、反応器ごとに一定液体側の気-液物質輸送係数kLと、下に定義する比界面積aとの積。特性輸送時間が短いほど、システムは効率よく働き、熱及び物質がそれぞれ高速に輸送される。ここで、当業者にはよく知られている係数Kの決定について簡単に説明する。総括輸送係数K総括交換係数とも呼ばれるは、次の式により定義される。Φ=KSΔTml式5ここで、Sは交換面積この例では、円筒状の反応器であるからS=πDLであり、Dは反応器の内側の半径、Lは反応器の管のうち気体が液体と接触する部分の内側の長さであるであり、ΔTmlは温度差の対数平均である。ΔTml={[Tcoolantoutlet-Tprocessinlet]-[Tcoolantinlet-Tprocessoutlet]}/ln{[Tcoolantoutlet-Tprocessinlet]/[Tcoolantinlet-Tprocessoutlet]}また、Φは、プロセス側の熱流束から得られる仕事率単位ワット、参照温度は25°Cである。各反応において、これらのパラメータは反応器の形状及び流速に依存する。これらは容易に決定できる。係数kLaは、これも当業者には既知であるが、実施形態を不必要に複雑しないように後に例1として説明する方法により決定することができる。本発明の望ましい一実施形態において、次の特性を有するピストン型の連続反応器が用いられる。物質輸送:01s1<kLa<03s1、つまり、3s<tmat<10s熱輸送:K=300~1000W/m2/°C望ましくは300~700W/m2/°C、更に望ましくは、およそ550W/m2/°Cここで、液体の金属に対する半輸送係数partialtransfercoefficientが考慮される。典型的な実施形態において、前記の特性輸送時間は25程度ここで、p=1050kg/m3、Cp=200J/kg/°Cである。従って、この望ましい実施形態において、特性輸送時間の比は、2<ttherm/tmat<8となる。本発明によるこの工程において、反応器の入り口と出口との間における液体の温度上昇ΔTは、ここで、ΔTadは断熱温度上昇である。ΔrHは反応のエンタルピーであり、XAは化合物Aの量論係数である。Aが完全に反応する場合つまり、XA=1、式6を次のように書き換えることができる。ここで、Mは次の量論比である。ここで、Pは動作圧力を表し、Heはヘンリー係数を表し、CA0は反応器の入り口における液体の濃度を表す。本発明による工程の工程条件の選択には、三つの値が関わる。非希釈の溶媒における断熱温度上昇純粋な試薬の濃度において計算した量論比次のように定義される希釈係数発明者らは、特定の動作条件によって反応器を動作することにより前記の問題を解決できることを発見した。この動作条件を、以下に量論係数Vp=1の反応の場合について説明する。これは、例えば、クロロ蟻酸エステル化の場合である。これは、流量及び攪拌速度の両方に関する。事実、本発明によると、特性熱輸送時間tthermと特性物質輸送時間tmatとの比が1.5から50の間である時に、反応器の入り口と出口との間における温度上昇ΔTについて、ΔT/ΔTadΔTadは断熱温度上昇を表すが0.02と0.6との間になるように行われる。この工程は、溶媒無しに、つまり、前記の有機化合物が反応器に注入される液相を構成する形によって行うことも可能である。しかしながら、必要なら、特に、ホスゲン化の生成物又は副生成物が固体の場合塩が生じる場合、溶媒を用いても良い。望ましい実施形態では、ttherm/tmatが1.5と12との間である時に、比ΔT/ΔTadは0.02と0.2との間であり、ttherm/tmatが2と8との間である時に、比ΔT/ΔTadは0.03と0.15との間である。反応器内の温度を一定に保つために、反応器R2の加熱又は冷却が調節される。本発明によるホスゲン化工程は円筒形の管状ピストン型反応器R2において行われるのが望ましく、反応器R2の内側の直径は20mmから100mmとするのが良い。100mmを超えると反応の生産性が低下する。これは、大きな交換面を維持するためには流量を低下させなければならないからである。20mm未満の場合、表面積/体積の比が非常に大きくなるが、流量は工業的な生産には不十分となる。ピストン型反応器の内径は30mmと75mmとの間であることが望ましく、40mmと60mmとの間であることが更に望ましい。反応器における反応室の長さは10cmと100cmとの間である。10cm未満の場合、滞在時間が短すぎる。100cmを超える場合、筒状の反応器の機械加工が難しくなり、且つ、反応混合物の攪拌が難しくなる。望ましい長さは、20cmと80cmとの間である。反応器R2は軸方向攪拌手段、特に、機械的軸方向攪拌手段を備えることが望まれる。このためには様々な手段を用いることができる。例えばウォームねじ、スターラー等であるが、これらの機械的攪拌手段は、式1において示したピストン性を妨害してはならない。本発明によるホスゲン化工程は触媒を必要としない。しかしながら、触媒を用いるとすると、少なくとも一つの分散触媒、例えば懸濁液中の粉末を用いることができる。より望ましくは、この粉末は、担体例えばアルミナ、シリカ又は活性炭に適切な金属元素が予め堆積されているものである。本発明の工程は、多数の利点を有する。反応によっては、収率が99に等しいか更に大きい工程条件を見つけることも可能である。この高い収率により、収率が95未満の精製化学製品の合成の際にはしばしば必要になる追加の純化工程が不要になる。しかしながら、全ての反応においてそのような高い収率が得られるわけではない。ホスゲン化の生成物が固体でない場合、溶媒なしで実施することができることもある。反応器は、およそ1から50kg/時、望ましくは1から5kg/時のホスゲンを消費することができる。更に、本発明の工程を実施することができる反応器に必要な費用はバッチ型の反応器の費用に比べて低く、且つ、必要な人員も削減できる。有機化合物のホスゲン化によって得られる前記生成物Pは、塩化カルボニル、クロロギ酸エステル、カルバマート、イソシアネート、塩化カルバモイルcarbamoylchloride、尿素及びこれらの誘導体からなる群から選ばれたものであるのが望ましい。また、酸塩化物acidchlorideを調製することもでき、このためには不均一系触媒heterogeneouscatalystを懸濁液として用いるのが望ましいが、発明者らは塩素化に非常に長い時間がかかることを観測している。この場合、反応の収率は良くない上に、反応器の出口において残留ホスゲンを処理しなければならない。従って、これは望ましい実施形態ではない。クロロ蟻酸エステル酸塩化物カルバマートイソシアネート塩化カルバモイル尿素カーボネート以上の化学式において、R、R1、R2、R3及びR4は、直鎖又は分岐の脂肪族、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、又はシクロアルケニル基等の置換基を示し、いずれの基も1から36の炭素を含むのが望ましい。R-N-基、R1R2-N-基、R2R3-N-基は、ピロールpyrrole、2-ピロリンpyrroline、3-ピロリンpyrroline、ピロリジンpyrrolidine、イミダゾールimidazole、2-イミダゾリン、イミダゾリジンimidazolidine、ピラゾールpyrazole、2-ピラゾリンpyrazoline、ピラゾリジンpyrroline、1,2,3-トリアゾールtriazole、ピペリジンpiperidine、ピペラジンpiperazine、インドールindole、イソインドールisoindole、インドリノンindolione、1H-インダゾールindazole、ベンゾイミダゾールbenzimidazole、プリンpurine、カルバゾールcarbazole、フェノチアジンphenothiazine、アジリジンaziridine、アゼチジンazetidine、モルホリンmorpholine、チオモルホリンthiomorpholineを表すことができ、置換基無しでも良いし、飽和又は不飽和の置換基により一つ又は多くが置換されていても良いし、一つ又は複数のヘテロ環システムの環特性が維持されているのであれば誘導体でも良い。以下には、これらのヘテロ分子のより複雑な誘導体の例をいくつか示す。インドール誘導体:トリプトファンtryptophan、トリプタミンtryptamine、レセルピンreserpineイミダゾール誘導体:ヒスチジンhistidineプリン誘導体:アデニンadenine、グアニンguanine、テオブロミンtheobromineR-N-基、R1R2-N-基、R2R3-N-基は、ヘテロ環を有する化合物であって環外に共有結合を有する窒素原子を、少なくとも一つ環に含む基を示す。ここでは、ピリダジンpyridazine、ピリミジンpyrimidine、ピラジンpyrazine例えばシトシンcytosine、チミンthymine、ウラシルuracil、キナゾリンquinazoline、キノキサリンquinoxalineキナゾリンquinazoline、フェナジンphenazine、及び1,2,3-オキサジアゾールoxadiazoleが考えられる。以下に、本発明の工程を用い、反応器R2において起こりうる化学反応の例をいくつか示す。11,1’-カルボニルイミダゾール11carbonyldiimidazole、CAS番号530621のイミダゾールからの調製。2クロロメチレンジメチルイミニウムクロリドPreparationofdimethyliminiumchloride、CAS番号3724434ヴィルスマイヤー試薬の調製。31,1’-カルボニル-ジ1,2,4-トリアゾール11carbonyldi、CAS番号41864226の調製。45-クロロ吉草酸クロリド5chlorovaleroylchloride、CAS番号1575617の調製。5フタロイルクロリドphthaloylchloride、CAS番号88959の調製。62-クロロベンズイミダゾール2chlorobenzimidazoleの調製:この例は、本願の工程が複数ステップ合成において如何に的確に利用できるかを示している。7ジフェニルカルボネートdiphenylcarbonate、CAS番号102090の調製。また、本発明は、以上に説明した工程を実施するための装置に関する。当該装置は、第1の反応器R1及び第2の反応器R2を備え、第1の反応器R1は第2の反応器R2の上流側に配置されると共に第1の閉容器C1内に配置され、第2の反応器R2は第2の閉容器C2内に配置され、第1の閉容器C1及びC2は壁によって分離されている。第1の反応器R1は接触ホスゲン生成反応器であり、一酸化炭素ガスの入り口及び流量制御器を有する槽と、塩素ガスの入り口及び流量制御器を有する槽と、望ましくは管状であり、一酸化炭素塩素混合ガスをホスゲンに変えることのできる固定床触媒を有する反応室とを備える。第2の反応器R2は管状の反応器であって、その上流端に設けられた第1の反応器R1から来るガス状態の反応生成物のための入り口と、上流端に設けられたホスゲン化させる有機化合物を含む液相のための入り口と、下流側に設けられたホスゲン化された生成物Pを含む前記液相のための出口とを備える。第1の反応器R1及び第2の反応器R2は管によって互いに接続され、これにより前記第1の反応器R1にて生成され且つホスゲンを含む反応生成物が前記第2の反応器R2に輸送され、前記管は、前記第1の閉容器C1と前記第2の閉容器C2とを分離する壁を通過する。この輸送管は短く、10cmから30cm程度である。輸送管は、少なくとも一つ柔軟な箇所を有し、機械的なストレスに適応できるようになっているのが望ましい。これにより、輸送管と、その反応器R1及びR2との接続部分とについて破損の危険を最小限にできる。更に、第2の反応器R2は、ピストン型反応器であって、軸方向攪拌手段を備える。第2の反応器R2は、1気圧と200気圧との間、望ましくは1気圧と5気圧との間の圧力にて動作される。望ましい一実施形態では、本発明にかかる装置の前記の第1の容器C1及び第2の容器C2は、不活性ガス例えば窒素を通気しながら減圧下に置かれ、当該不活性ガスは上下から常に吸引されて湿式スクラバーに通されて、これに含まれる可能性があるホスゲンガス及び塩素ガスを分解するようになっている。第1の容器C1と第2の容器C2との壁による分離が完全に気密である必要は無いが、これら二つの容器は周囲から気密であり、スクラバーを通過する気体の出口だけを有するようになっている必要がある。本発明の装置は、また、適切なデータ処理システムのような制御手段を備える。反応器R1における一酸化炭素及び塩素の流量制御器は、反応器R2におけるホスゲン化反応に必要なホスゲンの量によって制御されるのが望ましい。一実施形態においては、ホスゲンの必要量が計算され、CO及びCl2の気体流量を常に調整し、わずかにCOが多いことを確実にする。本発明の工程は、数多くの利点を有する。本発明の装置における遊離ホスゲンの量は非常に少ないので、ホスゲンの取り扱いは不要になる。多くのホスゲンを含む残留ガスの取り扱いは不要になる。非常に柔軟性に富み、異なる反応機構を実現して非常に多くの種類の分子を非常に良い収率にて生成することを可能にする。反応器R2の大きさを考慮すると、当該装置は精製化学製品の合成に最適である。反応器R2の大きさは一定の最大値を超えることはできない。これは、ピストン型反応器における熱輸送及び/又は物質輸送に限界があるからである。反応器R2は、ホスゲン生成の不規則性を吸収することができる。このような不規則性は、特に、工程が開始されるときに、定常状態が実現する前に起こりうる。例本発明について、以下に例1~3により説明する。これらは、本発明を限定するものではない。例1は、本発明の範囲に含まれない化学反応に関係しているが、これをピストン型反応器のパラメータkLを決定するために使用可能な実験手順を説明するために、ここで用いている。例2及び3は、典型的な二つの反応を説明している。例1これは、反応器のパラメータkLを決定するために使用できる実験方法である。積kLaは、よく知られた化学反応、つまり、ニトロベンゼンを接触水素化によってアニリンにする反応Ph-NO23H2→Ph-NH22H2O、ただしPhはフェニル基を示すに基づいて反応器ごとに決定される。この反応は、溶媒無しに液相にて、初期圧力が2気圧の純粋な水素を気相として行われる。触媒は、重量で5のパラジウムを含む炭素粉末等価球径は約50μmである。触媒の質量濃度は2.5g/lであり、水素化は常温にて行われる。クォーツ圧力計により、水素圧力を時間と共に計測できる。反応器は二重外装を有しており、当該二重外装内に温度制御された水が循環されることによって反応温度を一定に保つことができる。最初、攪拌すること無しに反応器が窒素圧力下に保持され、その後水素によってパージされる。2気圧の水素圧力下にて攪拌を開始し、水素圧力の低下を測定する。圧力が0.5気圧に低下するまで反応を進行させる。その後、攪拌を停止し、装置を水素によって再加圧し、十分後に異なる攪拌速度において測定を繰り返す。行われたテスト毎に、水素圧力の低下を指数法則に従って記録する。つまり、lnPH2/P0=ftを描くことにより直線をプロットし、その傾きから積αkappを得ることができる。攪拌速度に対してこの積αkappに変化がプロットされた場合、漸近的特性が観測される。攪拌速度が小さい場合には、見かけのコンダクタンスは攪拌速度に応じて上昇し、これは、見かけ反応速度が気-液間の輸送に律速されていることを示唆する。攪拌速度が高い場合、平坦域が達成され、これは、輸送が、化学反応の速度、又は、液-固の物質輸送の速度に律速されていることを示唆する。αkapp=f攪拌速度の曲線を用いると、輸送コンダクタンスtransferconductanceの値を見積もることができる。このようなことが、kLaの決定についての理論的な基礎である。液相における水素の蓄積を無視すると、閉じられた反応器における水素の消失流束hydrogendisappearancefluxは、次のように定められる。ここで、φH2は特性水素消失流束specifichydrogendisappearancefluxである。この流束は、反応速度又は移動流束を示すように表現することができる。rvは体積水素反応速度volumetrichydrogenationreactionrate、αは反応器における固体物残留時間overallhydrogentransferconductance、KH2aglobalは気相から触媒表面に対する総水素輸送コンダクタンスoverallhydrogentransferconductanceである。触媒の体積とニトロベンゼン密度はテスト中において不変量であると考えると、反応速度は、水素濃度に対する一次速度則により表すことができる。つまり、となる。気相が純粋な水素であるとき、総輸送コンダクタンスは、気-液及び液-固の部分コンダクタンスの関数として表すことができ、次のようになる:ここで、asは固体の比表面積であり、aLGは気-液の比界面積である。反応速度論chemicalkinetics及び動力学physicalkineticsによる表現を組み合わせると、反応器の特性水素消失流束は次のように表される:ここで、αkappは見かけのコンダクタンスであって、反応速度論による律速を構成すると共に、動力学による律速も構成する。5を1に代入すると、下記が得られる:これを積分すると、次のようになる。閉鎖系における水素圧力の変化を解釈することにより、系の見かけのコンダクタンスを決定することができる。後者により、気-液間輸送コンダクタンスの値を決定することができる。例2第1の反応器R1において、流束8.0g/分つまり、0.113mol/分のCl2と、3.3g/分つまり、0.118mol/分のCOCO/Cl2のモル比約1.050に対応するが、本発明の反応器にて反応する。第1の反応器を出る流束は、11.1g/分のホスゲンと、過剰の0.2g/lのCOを含む。8時間の安定した状態の運転において、5.4kgのホスゲンが、3.8kgのCl2と1.7kgのCOとから生成され、0.1kgの過剰のCOが回収される。第2の反応器R2内において、第1の反応器R1にて生成された流束11.1g/分つまり、0.113mol/分のホスゲンが、28.1g/分つまり、0.412mol/分のイミダゾールの酢酸エチル溶液と反応するイミダゾール/COCl2のモル比約4.0に対応する。この溶液は、連続した流束としてとして第2の反応器に導入される。反応器に導入される溶液は60°Cから65°Cである。反応自体は、75°Cから80°Cにて行われる。反応器を出る溶液は、35°Cから40°Cに保たれた槽に集められる。反応中、白い沈殿、17.3g/分のイミダゾール塩酸塩が生じる。この後、バッチ工程により、13.4g/分の1,1’-カルボニルイミダゾールを回収する。8時間の反応により、約5.4kgのホスゲン、13.5kgのイミダゾール及び72.9kgの酢酸エチル溶媒が消費される。反応器の滞留時間Tsは、0.7分と計算される。反応のスキームは以下の通りである。例3第1の反応器R1において、流束9.0g/分つまり、0.127mol/分のCl2と、3.7g/分つまり、0.133mol/分のCOCO/Cl2のモル比約1.050に対応するが、本発明の半導体装置中にて反応する。第1の反応器を出る流束は、12.5g/分のホスゲンと、0.2g/lの過剰のCOを含む。8時間の安定した状態の運転において、6.0kgのホスゲンが、4.3kgのCl2と1.8kgのCOとから生成され、0.1kgの過剰のCOが回収される。第2の反応器R2内において、第1の反応器R1にて生成された流束12.5g/分つまり、0.133mol/分のホスゲンが、245.1g/分のCH2Cl2及び18.8g/lつまり、0.257mol/分のジメチルホルムアミドDMF、CAS番号68122を含む液相と反応する。DMFに対して重量で7.1であり、連続した流束として第2の反応器R2に導入されるDMF/COCl2のモル比約2に対応する。反応器に導入される溶液は、-5°Cから5°Cである。反応自体は、0°Cから5°Cにて行われる。反応器を出る溶液は、0°Cから5°Cに保たれた槽に集められる。反応中、16.3g/分のクロロメチレンジメチルイミニウムクロリド一般にヴィルスマイヤー試薬呼ばれる。CAS番号3724434が生じる。二酸化炭素の発生量は5.6g/分である。この後、バッチ工程により、クロロメチレンジメチルイミニウムクロリドを回収する。8時間の反応により、約6kgのホスゲン、約9.0kgのDMF及び117.7kgの溶媒CH2Cl2が消費される。反応器の滞留時間Tsは、0.6分と計算される。反応のスキームは以下の通りである。例4第1の反応器R1において、流束48.6g/分つまり、0.686mol/分のCl2と、20.0g/分つまり、0.718mol/分のCOCO/Cl2のモル比約1.050に対応するが、本発明の反応器にて反応する。第1の反応器R1を出る流束は、67.5g/分のホスゲンと、0.2g/lの過剰のCOを含む。8時間の安定した状態の運転において、32.4kgのホスゲンが、23.2kgのCl2と9.7kgのCOとから生成され、0.5kgの過剰のCOが回収される。第2の反応器R2において、第1の反応器R1にて生成された流束67.5g/分つまり、0.674mol/分のトルエン中のシクロヘキサノールと反応する。これは、連続した流束として導入される。当該溶液は、10°Cから40°Cの間の温度にて導入される。第2の反応器R2の反応温度は、15°Cから45°Cに維持される。溶液は、モル等量のトリエチルアミンTEAを含み、生成されるHClが捕獲されるようになっている。また、このTEAは、第2の反応器の出口において物質の流束を受け入れる槽にも含ませている。反応生成物、つまりシクロヘキシルクロロホルマートCAS番号13248549、を含む溶液は、反応器R2の出口において、30°C程度に保たれた槽に集められる。洗浄及び抽出により、シクロヘキシルクロロホルマートを単離することができる。更に、要求される品質に応じて蒸留により純度を上げることができる。8時間の反応により、32kgのホスゲンが消費され、12.3kgのシクロヘキシルクロロホルマートが生成される。反応のスキームは以下の通りである。"