"ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層が設けられた光ファイバを製造する方法であって、光ファイバ母材を線引してガラスファイバとし該ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層を設けて元光ファイバとする第1工程と、前記元光ファイバを分割して複数の光ファイバとする第2工程と、前記元光ファイバの少なくとも1箇所で、前記元光ファイバの張力を引張速度1/minで増していって前記元光ファイバが破断するときの張力である破断強度F1、および、半径13mmのマンドレルに巻き付けた前記元光ファイバが破断するまでの時間である破断時間Tを求める第3工程と、前記複数の光ファイバそれぞれの破断強度F2を求める第4工程と、前記破断強度F1kgfおよび前記破断時間TminがT>26×10-11×expなる式を満たす元光ファイバから分割された光ファイバであって前記破断強度F2が55kgf以上である光ファイバを選択する第5工程と、を備えることを特徴とする光ファイバ製造方法。前記光ファイバ母材の外径をD1としたときに、前記光ファイバ母材の098D1~D1の領域におけるOH濃度が10wtppm~10000wtppmであり、前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前において、水分含有量が50wtppm以上20000wtppm以下であり、pHが7以下である、ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。前記第3工程において、前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層に含まれる未反応のシランカップリング剤の量の減少率が01/7日未満である、ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前において、オリゴマーが付加していない非反応性テトラエトキシシランを01wt以上10wt以下含み、アミン系添加剤の含有量が0001wt以下である、ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前において、オリゴマーが付加していない非反応性テトラエトキシシランを03wt以上2wt以下含む、ことを特徴とする請求項4に記載の光ファイバ製造方法。前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層は、光硬化後において破断強伸度が15MPa以上である、ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前においてNビニルモノマーを5wt以上15wt以下含み、光硬化後において、前記一次被覆層のヤング率が02MPa以上1MPa以下であり、前記一次被覆層を取り囲む二次被覆層のヤング率が800MPa以上である、ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層が設けられた光ファイバであって、前記ガラスファイバの外径をd1としたときに、前記ガラスファイバの095d1~d1の領域におけるOH濃度が10wtppm~1000wtppmであり、張力を引張速度1/minで増していって破断するときの張力である破断強度Fkgf、および、半径13mmのマンドレルに巻き付けたときに破断するまでの時間である破断時間Tminが、T>26×10-11×expなる式を満たすとともに、F>55なる式を満たす、ことを特徴とする光ファイバ。前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前において水分含有量が50wtppm以上20000wtppm以下であり、光硬化後においてpHが5以下である、ことを特徴とする請求項8に記載の光ファイバ。前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層に含まれる未反応のシランカップリング剤の量の減少率が01/7日未満である、ことを特徴とする請求項8に記載の光ファイバ。前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層は、光硬化後において破断強伸度が15MPa以上である、ことを特徴とする請求項8に記載の光ファイバ。前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層は、光硬化後においてゲル分率が80~95の範囲にある、ことを特徴とする請求項8に記載の光ファイバ。前記被覆樹脂層の外径が210μm以下であり、二次被覆層の厚みが10μm以上である、ことを特徴とする請求項8に記載の光ファイバ。動疲労係数が20以上であることを特徴とする請求項8に記載の光ファイバ。外周に圧縮応力が付与されていることを特徴とする請求項8に記載の光ファイバ。従来、極端な小径曲げ付与下での短時間の破断時間についての充分な知見の蓄積がない。小径曲げが付与された際の破断時間を管理した光ファイバおよび製造方法は知られていない。また、小径曲げ付与時の破断強度および破断時間に対する影響は検討されていない。本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、小径の曲げが一時的に与えられた場合であっても破断を抑制することができる光ファイバ、および、そのような光ファイバを製造することができる方法を提供することを目的とする。本発明の光ファイバ製造方法は、ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層が設けられた光ファイバを製造する方法であって、光ファイバ母材を線引してガラスファイバとし該ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層を設けて元光ファイバとする第1工程と、元光ファイバを分割して複数の光ファイバとする第2工程と、元光ファイバの少なくとも1箇所で、元光ファイバの張力を引張速度1/minで増していって元光ファイバが破断するときの張力である破断強度F1、および、半径13mmのマンドレルに巻き付けた元光ファイバが破断するまでの時間である破断時間Tを求める第3工程と、複数の光ファイバそれぞれの破断強度F2を求める第4工程と、破断強度F1kgfおよび破断時間TminがT>26×10-11×expなる式を満たす元光ファイバから分割された光ファイバであって破断強度F2が55kgf以上である光ファイバを選択する第5工程と、を備えることを特徴とする。本発明の光ファイバ製造方法では、光ファイバ母材の外径をD1としたときに、光ファイバ母材の098D1~D1の領域におけるOH濃度が10wtppm~10000wtppmであり、被覆樹脂層のうちガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前において、水分含有量が50wtppm以上20000wtppm以下であり、pHが7以下であるのが好適である。第3工程において、被覆樹脂層のうちガラスファイバの外周に接触している一次被覆層に含まれる未反応のシランカップリング剤の量の減少率が01/7日未満であるのが好適である。本発明の光ファイバ製造方法では、被覆樹脂層のうちガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前において、オリゴマーが付加していない非反応性テトラエトキシシランを01wt以上10wt以下含み、アミン系添加剤の含有量が0001wt以下であるのが好適である。被覆樹脂層のうちガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前において、オリゴマーが付加していない非反応性テトラエトキシシランを03wt以上2wt以下含むのが更に好適である。本発明の光ファイバ製造方法では、被覆樹脂層のうちガラスファイバの外周に接触している一次被覆層は、光硬化後において破断強伸度が15MPa以上であるのが好適である。被覆樹脂層のうちガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前においてNビニルモノマーを5wt以上15wt以下含み、光硬化後において、一次被覆層のヤング率が02MPa以上1MPa以下であり、一次被覆層を取り囲む二次被覆層のヤング率が800MPa以上であるのが好適である。本発明の光ファイバは、ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層が設けられた光ファイバであって、ガラスファイバの外径をd1としたときに、ガラスファイバの095d1~d1の領域におけるOH濃度が10wtppm~1000wtppmであり、張力を引張速度1/minで増していって破断するときの張力である破断強度Fkgf、および、半径13mmのマンドレルに巻き付けたときに破断するまでの時間である破断時間Tminが、T>26×10-11×expなる式を満たすとともに、F>55なる式を満たすことを特徴とする。本発明の光ファイバでは、被覆樹脂層のうちガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前において水分含有量が50wtppm以上20000wtppm以下であり、光硬化後においてpHが5以下であるのが好適である。被覆樹脂層のうちガラスファイバの外周に接触している一次被覆層に含まれる未反応のシランカップリング剤の量の減少率が01/7日未満であるのが好適である。本発明の光ファイバでは、被覆樹脂層のうちガラスファイバの外周に接触している一次被覆層は、光硬化後において破断強伸度が15MPa以上であるのが好適である。被覆樹脂層のうちガラスファイバの外周に接触している一次被覆層は、光硬化後においてゲル分率が80~95の範囲にあるのが好適である。被覆樹脂層の外径が210μm以下であり、二次被覆層の厚みが10μm以上であるのが好適である。動疲労係数が20以上であるのが好適である。また、外周に圧縮応力が付与されているのが好適である。本発明によれば、小径の曲げが光ファイバに一時的に与えられた場合であっても該光ファイバの破断を抑制することができる。以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。汎用的な宅内コードとして外径48mmΦや30mmΦの光コードが好適に用いられる。図1は、小径に曲がり易い外径3mmΦのジャンパーコードおよび宅内コードそれぞれについてU字クラッシュ試験を行って得られた結果を示すグラフである。ジャンパーコードと比べて宅内コードは剛性が高い構造を有している。しかし、両者とも、荷重が増加するに従って、曲げ位置U字先端部での内半径は小さくなり、最終的に上部のコードと下部のコードとが互いに接触した際の光コード内部の光ファイバの最小半径Rminは13mmとなった。すなわち、敷設中や取り扱い中に曲率半径13mm以下の一時的な曲げ歪が光ファイバに与えられる懸念があることがわかる。図2は、光ファイバの曲げ半径と破断確率との関係を示すグラフである。同図に示されるように、曲げ半径24mm以下といった小径の曲げが光ファイバに与えられる場合には、疲労係数を考慮した破断確率による破断より、ガラス本来の強度に依存した破断が急激に増加する。このような小径曲げ付与下における光ファイバの破断は瞬間的または数分の間に起こることが経験的に知られている。その破断時間を管理する方法は知られておらず、一時的な極端な歪に耐える光ファイバを安定的に供給する方法が求められていた。以下に説明する本実施形態の光ファイバおよび光ファイバ製造方法は、このような要求に応えることができ、極端な曲げ歪が光ファイバに与えられた場合であっても歪を開放するまでの時間耐えることができる。本発明者は、光ファイバの被覆樹脂層が同一の樹脂組成である場合、曲率半径24mm以下の大きな歪が光ファイバに与えられる領域の破断時間が光ファイバの引張破断強度に相関することを見出した。図3は、光ファイバの平均破断強度と平均破断時間との関係を示すグラフである。ここでは、28個の光ファイバ母材それぞれを線引して光ファイバを製造して各光ファイバの破断強度および破断時間を求め、母材毎に破断強度および破断時間それぞれの平均を求めた。破断強度は、光ファイバの張力を引張速度1/minで増していって該光ファイバが破断するときの張力として求められた。また、破断時間は、半径13mmのマンドレルに巻き付けた光ファイバが破断するまでの時間として求められた。同図に示されるように、平均破断強度と平均破断時間との間には明瞭な相関が存在する。平均破断強度をF1kgfとし、平均破断時間をTminとしたとき、両者の間の相関は下記1式の形で概略的に表される。A,Bは係数である。T=A×exp...1ここで、小径曲げ時に破断時間が5min以上である光ファイバを得ることができれば、その光ファイバは、敷設や取り扱いの際にキンクしたり踏まれたりするなどして小径の曲げが一時的に与えられた場合であっても、その小径の曲げに因る歪から開放されるまでの時間に破断することが抑制されると考えられる。また、同図から、曲げ半径13mmにおいて破断時間が5min以上である光ファイバを得るために必要な破断強度は55kgf以上であれば良いことが分かる。以上より、1母材または複数母材について平均破断強度および平均破断時間を取得して、両者の関係式上記1式を満足することを確認し、各光ファイバについては破断強度を管理することで、所定の破断時間を得ることができる。特に、下記2式を満足する光ファイバであって破断強度が55kgf以上となる光ファイバを使用することで、曲げ半径13mmの場合であっても5分以上の破断時間を得ることができるので、一時的な極端な曲げ歪を開放する処置を行う時間が十分得られる光ファイバのみを使用することが可能となる。T>26×10-11×exp...2本実施形態の光ファイバ製造方法は、ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層が設けられた光ファイバ図4参照を製造する方法であって、光ファイバ母材を線引してガラスファイバとし該ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層を設けて元光ファイバとする第1工程と、元光ファイバを分割して複数の光ファイバとする第2工程と、元光ファイバの少なくとも1箇所で破断強度F1および破断時間Tを求める第3工程と、複数の光ファイバそれぞれの破断強度F2を求める第4工程と、破断強度F1kgfおよび破断時間Tminが上記2式を満たす元光ファイバから分割された光ファイバであって破断強度F2が55kgf以上である光ファイバを選択する第5工程と、を備える。図4は、本実施形態の光ファイバ1の断面図である。光ファイバ1は、ガラスファイバ10の周囲に被覆樹脂層20が設けられたものである。ガラスファイバ10は、コア11およびクラッド12からなる。被覆樹脂層20は、ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層21と、この一次被覆層21を取り囲む二次被覆層22とからなる。引張速度1/minにおいて光ファイバの破断強度F2が59kgf以上であれば、曲げ半径13mmの場合であっても30分以上の破断時間を得ることができる。引張速度1/minにおける光ファイバの破断強度F2が60kgf以上であれば、曲げ半径13mmの場合であっても60分以上の破断時間を得ることができる。また、下記3式を満足する光ファイバであって破断強度が55kgf以上となる光ファイバを使用することで、曲げ半径13mmの場合であっても10分以上の破断時間を得ることができる。これらの場合、一時的な極端な曲げ歪を開放する処置を行う時間が更に十分に得られる。T>46×10-11×exp...3平均破断強度と平均破断時間との間の相関を表す上記1式の係数A,Bは、線引の条件、樹脂塗布の条件、樹脂の組成、線引時からの経過時間により異なる。しかし、特に光ファイバ母材の外周面近傍領域のOH濃度が10wtppm以上10000wtppm以下であり、一次被覆層21の光硬化前に含まれる水分量が50wtppm以上20000wtppm以下であり、樹脂のpHが7以下であれば、一般に75以上の歩留で上記2式に対応できることを本発明者は確認した。光ファイバ1のガラスファイバ10の外周表面近傍のOH濃度は10wtppm~1000wtppmであることが望ましい。アルカリ金属を含まない合成ガラスにおいて、微量のOHは、ガラス破断に直接的な影響を及ぼさない一方、ガラス表層のシランカップリング剤との脱水縮合反応を促進するのでガラス強度を上げる観点から望ましい。しかし、OH濃度が高すぎる場合、微小クラックの応力拡大係数が大きくなり、破断強度および疲労係数の低下につながる。したがって、ガラスファイバ10の外周表面近傍のOH濃度は1000wtppm以下であることが望ましい。具体的には、ガラスファイバの外径をd1としたときに、ガラスファイバの095d1~d1の領域におけるOH濃度が10wtppm~1000wtppmであることが望ましい。ここで、ガラスファイバ10の外周表面近傍のOH濃度は、汎用的に得られる赤外吸収を用いた方式では空間分解能が低いことから検出が困難な場合がある。そこで、線引前の光ファイバ母材の外周表面近傍のOH濃度を測定して管理しても構わない。この場合、光ファイバ化の過程においてOHが拡散するので、光ファイバ母材の外周表面近傍におけるOH濃度は10wtppm~10000wtppmの範囲にあることが望ましい。具体的には、光ファイバ母材の外径をD1としたときに、光ファイバ母材の098D1~D1の領域におけるOH濃度が10wtppm~10000wtppmであることが望ましい。曲げられて使用される光ファイバ1としては、ステップ型、W型、トレンチ型といった屈折率分布を有する低曲げ損失の光ファイバが好適に用いられる。また、空気穴や微小な穴の群により屈折率を制御した光ファイバも好適に用いられる。トレンチ型光ファイバでは、接続損失を決定するモードフィールド径をG652に準拠する汎用のシングルモードファイバと同等にあわせつつ、曲げ損失を低減することができる。また、屈折率分布を適切に調節することで、曲げ半径10mmまたは5mmといった小さな曲げ径であっても波長1550nmでの伝送損失が015dB/ターン以下といった小さな曲げ損失を有する光ファイバを実現することもできる。光ファイバ1の製造方法は以下のとおりである。先ず、VAD、OVD、MCVD、PCVDといった気相ガラス合成法により光が導波するコアを作成し、該コアの周囲にVAD、OVD、APVD、ロッドインコラプス法やそれに類する方法によりジャケット層を形成して、光ファイバ母材を形成する。ここでコアとジャケットとの間に更に、VAD、OVD、MCVD、ロッドインコラプス法やそれに類する方法により中間光学クラッド層を設けても良い。このようにして作成した光ファイバ母材を線引タワーに把持し、下端部を作業点以上の温度に加熱し、形成された種ガラスを適宜延伸して紡糸し、紡糸した光ファイバの外径を制御しながら、樹脂を付着させるダイス、樹脂を硬化させるUV炉等を経て光ファイバ素線となし、その光ファイバ素線を巻き取りボビンにより巻き取る。一般的に光ファイバ1ではガラスファイバ10の外周に樹脂被覆層20が設けられる。樹脂被覆層20は、2層構造を有しており、外力が直接にガラスファイバ10に伝わらない様にする一次被覆層21と、外傷を防止する二次被覆層22とを含む。それぞれの樹脂層を塗布するダイスは紡糸工程において直列的に配置されても良い。また、2層を同時に排出するダイスにより塗布しても良く、この場合、線引タワーの高さを低くすることができるので、線引建屋の建造コストを軽減することができる。また、紡糸後のガラスファイバ10の冷却速度を制御する装置を線引炉とダイスとの間に設けることで、ダイスに入る際のガラスファイバ10の表面温度を好適な温度に制御することができる。冷却速度を制御する装置内に流すガスのレイノルズ数は低いほうが、紡糸したファイバへ与えられる乱流の発生による振動が軽減されるので望ましい。また、ガラスファイバの冷却速度を制御することで、レイリ散乱を低減し、伝送損失の低い光ファイバを得ることもできる。樹脂を硬化させるためのUV炉は、UV光の強度のほかに炉内部の温度をフィードバック制御することで、樹脂の硬化速度を適切に制御することができる。UV炉としては、マグネトロンや紫外LEDが好適に用いられる。紫外LEDを用いる場合は、光源そのものは発熱しないので、炉内の温度が適切になる様に温風を入れる機構が別途備えられる。また、樹脂から脱離する成分がUV炉の炉心管の内面に付着し、被覆層に到達するUV光のパワーが線引中に変化するので、予め線引中のUV光パワーの減少度合いをモニタし、被覆層に照射されるUV光のパワーが一定となる様に、線引時間によりUV光パワーを調節しても良い。また、炉心管から漏れ出るUV光をモニタして、被覆層に照射されるUV光のパワーが一定となる様に制御しても良い。これにより、光ファイバ全長において均質な光ファイバの破断強度を得る事ができる。2層の被覆層のうち二次被覆層22の耐外傷性により適宜、二次被覆層22を適切な厚みに設定することが好ましい。一般に、二次被覆層22の厚みは、10μm以上、更に好ましくは20μm以上であることが好ましい。このようにして製造され巻き取りボビンにより巻き取られた光ファイバ1は、必要に応じて被覆層に着色され、光ケーブルや光コードといった最終製品として使用される。破断強度試験では、着色前または着色後の光ファイバを用いて、温度25°Cで湿度50の環境下で該光ファイバに軸方向の引張歪を与え、破断した時の引張強度をモニタする。光ファイバに引張歪を与える際に軸方向のすべりが発生する場合には、適宜破断強度の補正が行われることが望ましい。破断強度試験に用いる光ファイバの長さは、装置にあわせて変更しても良いが、試験の簡便性により5m~30mの間であることが望ましい。好適には25mまたは5mといった長さでの測定が好ましい。本実施形態では、引張速度は、1分当たりに光ファイバが伸びた量を示す。サンプル長25mのときに1分当たり25mm伸びた場合に引張速度1/minとなる。平均破断強度は、N=15以上のサンプルに対し破断強度試験を行って50の光ファイバが破断した引張強度をいう。本実施形態では引張速度1/minの場合について説明しているが、引張速度を1/min以上とした場合にも適用が可能である。但し、引張速度が大きい場合、データの繰り返し再現性が低下する可能性がある。破断時間測定では、着色前または着色後の光ファイバを用いて、温度25°Cで湿度50の環境下において該光ファイバを所定径のマンドレルに巻きつけて保持し、巻きつけ終わってから破断するまでの時間をモニタする。平均破断時間は、N=15以上のサンプルに対し破断時間測定を行って50の光ファイバが破断した時間をいう。本実施形態では、巻きつけるマンドレルの半径が13mmの場合について説明しているが、マンドレルの半径が13mmより大きい場合や小さい場合でも同様の整理が可能である。但し、実用上曲げられる可能性のある径の中で最も厳しい曲げ径の一つである曲率半径13mmとすることで、破断時間の管理が容易となる。次に、本実施形態の光ファイバまたは光ファイバ製造方法の更に好適な態様について説明する。水が存在する場合、応力の存在下でガラスの破断が進むことが知られている。しかし、通常の合成ガラスにおいて、ガラス外周の微量のOHは、ガラス表層のシランカップリング剤との脱水縮合反応を促進するので寧ろガラス強度を上げることができる。一方、OH濃度が高すぎる場合、微小クラックの応力拡大係数が大きくなり、破断強度および疲労係数の低下につながるので、OH濃度は1000wtppm以下であることが望ましい。ここで、光ファイバ外周のOH濃度は、汎用的に得られる赤外吸収を用いた方式では、空間分解能が低いことから検出が困難な場合がある。そこで、線引前の光ファイバ母材の外周098D1~D1の領域のOH濃度を測定し、代替的に管理することができる。ファイバ化の過程においてOHが拡散するので、光ファイバ母材段階のガラス表層におけるOH濃度は10wtppm~10000wtppmの範囲にあることが望ましい。更に好ましくは、このOH濃度は10wtppm~1500wtppmである。また、一次被覆層21の光硬化前の樹脂に含まれる水分量が50wtppm以上20000wtppm以下であり、pHを7以下とすることで、シランカップリング剤の反応を促進し、ガラスの強度を強くしつつ、小径曲げにおける破断時間を伸張することができる。さらに好ましくは、一次被覆層21の光硬化後のpHが5以下である。ガラス外周のOH濃度を調整するには、線引前の光ファイバ母材に酸水素バーナーで火炎研磨する方法がある。この際の酸素流量、水素流量、流量比、母材表面温度を調整することで所望のOH濃度を得ることができる。また、一次被覆層21の樹脂液中に含まれている水分は多いほど、シランカップリング剤の反応を促進できるが、20000wtppm以上と多すぎる場合樹脂液の硬化が発生するので望ましくない。以上の様にすることで、上記2式を満たす光ファイバを高い歩留で得ることが可能となり、高い経済性が得られる。一次被覆層21に含まれる未反応のシランカップリング剤の量の減少率が01/7日未満であるのが好適である。一次被覆層21の光硬化前の樹脂中のテトラエトキシシランについてはガスクロマトグラフィで検出することができる。また、硬化後の一次被覆層21中の未反応なテトラエトキシシランについてもガスクロマトグラフィで検出することができる。ガスクロマトグラフィによる検出は、抽出を行った後に行ったほうが正確な値を得ることができる。硬化後の一次被覆層21中の未反応なシランカップリング材の量の変化が大きい場合、十分にシランカップリング反応が進んでおらず、破断強度が低く、小径曲げにおける破断時間が短くなる場合がある。また、破断強度と破断時間との関係がずれるので、正確な管理が困難となる。そこで、一次被覆層21に含まれる未反応のシランカップリング剤の量の減少率が01/7日未満である光ファイバを選別して使用することで、シランカップリング反応が十分進んだ光ファイバのみを用いることができ、上記2式を満たす光ファイバを高い歩留で得ることが可能となり、高い経済性が得られる。更に好ましくは上記の減少率は005/7日未満である。一次被覆層21となる樹脂は、光硬化前において、オリゴマーが付加していない非反応性テトラエトキシシランを01wt以上10wt以下更に好適には03wt以上2wt以下含み、アミン系添加剤の含有量が0001wt以下であるのが好適である。非反応性テトラエトキシシランは、樹脂の骨格に組み込まれず、ガラス表面と反応できるシランカップリング剤として機能する。また、非反応性テトラエトキシシランは、オリゴマーが付加されていない低分子であることで、樹脂中の移動度を高く保つことができ、カップリング反応速度を高めることができ、線引後のエージング等の必要性を軽減することができる。光硬化前の樹脂液中にオリゴマーが付加していない非反応性テトラエトキシシランは、01wt以上10wtであることが望ましく、更に好ましくは03wt以上2wt以下である。光硬化前の樹脂液中にオリゴマーが付加していない非反応性テトラエトキシシランが10wt以上であると、引き抜き性が悪化する懸念が増加する。また、アミン系添加材を実質的に排除することで、一次被覆層21中の塩基性成分を増加させることが無いので、ガラス本来の強度を低下させることが無い。一次被覆層21は、光硬化後において破断強伸度が15MPa以上であるのが好適である。一次被覆層21の破断強伸度を15MPa以上に保つことで、曲げ半径13mmといった小径曲げが付与された際に樹脂層の破壊が発生せず、敷設後の実使用下での光ファイバの機械的信頼性を維持することができる。更に好ましくは一次被覆層の破断強伸度は2MPa以上、更に好ましくは3MPa以上である。一次被覆層21となる樹脂は、光硬化前においてNビニルモノマーを5wt以上15wt以下含み、光硬化後において、一次被覆層21のヤング率が02MPa以上1MPa以下であり、二次被覆層22のヤング率が800MPa以上であるのが好適である。また、一次被覆層21は、光硬化後においてゲル分率が80~95の範囲にあるのが好適である。Nビニルモノマーを5wt以上15wt以下とすることで、一次被覆層21の破断強伸度を15MPa以上に保つことができる。更に好ましくは、Nビニルモノマーの含有量は7wt以上12wt以下であり、破断強伸度は30MPa以上である。一方、Nビニルモノマーを多く添加すると、同時にヤング率の上昇を招く場合がある。高すぎるヤング率は、マイクロベンドによる伝送損失の増加の原因となるので、望ましくない。一次被覆層21のNビニルモノマーを15wt以下とし、一次被覆層21のヤング率を02MPa以上1MPa以下、二次被覆層22のヤング率を800MPa以上とすることで、マイクロベンドによる伝送損失の増加も同時に防止できる。ヤング率の調整は、線引速度や紫外光ランプ中の温度を調整することで、調整することができる。その際、一次被覆層21のゲル分率を80~95の範囲とすることで、安定的に、小径曲げにおける破断時間が長い光ファイバを得ることができる。被覆樹脂層21の外径が210μm以下であり、二次被覆層22の厚みが10μm以上であるのが好適である。通常の光ファイバ素線の外径は240~250μmであるが、上記2式の範囲を満たしつつ光ファイバ素線外径を210μm以下とすることで、限られたスペースへの配線が可能となる。その際、二次被覆層22の厚みw2を10μm以上とすると、外傷を防ぐことができるので望ましい。更に好ましくは二次被覆層22の厚みw2は15μm以上である。動疲労係数が20以上であるのが好適である。動疲労係数が20以上であることで、小径曲げ時の破断だけでなく、長期的な機械信頼性を確保することができる。更に好ましくは、動疲労係数25以上である。外周に圧縮応力が付与されているのが好適である。光ファイバ外周に圧縮応力が付与することで、光ファイバに与えられる曲げ歪をキャンセルし、破断強度を有為に増加させることができる。図5および図6は、サンプル光ファイバA~Nそれぞれの諸元を纏めた図表である。なお、これらの図において、S1は、線引後に所定日数経過した日に測定した一次被覆層21における未反応のシランカップリング材の量である。S7は、S1測定日から7日間経過した日に測定した一次被覆層21における未反応のシランカップリング材の量である。初めに、シランカップリング材の減少率1-S7/S1が017日未満であることを確認した後、一本の光ファイバ母材から線引きされた一連の光ファイバに対して一回平均破断強度F1kgf、及び平均破断時間Tminを測定し、前記破断強度F1kgfおよび前記破断時間TminがT>26×10-11×expなる式を満足表中で○、×で評価するか判定を行った。○と判定した一連の光ファイバについて、一連の光ファイバを分割した各ボビン毎に破断強度を再度評価しF55kgfとなったものについては、99以上の歩留でR13mm曲げといった布設時の一時的な急峻な曲げにも10分以上耐える十分な破断時間が得られることを確認し、一方、F<55kgfとなったものについては、Tが10分以上となる歩留が16と低いことを確認した。"