"式1:[式1中、各R1および各R2は、それぞれ独立に、水素原子またはC16アルキル基を表す。L1は、ヘテロ原子を含んでいてもよいn価のC124アルコール残基を表し、nは1~4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。]で示される化合物、マルチトールおよび熱可塑性ポリマーを含有することを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物。式1で示される化合物およびマルチトールの合計量が、熱可塑性ポリマー100質量部に対して0.001~3質量部である請求項1に記載の熱可塑性ポリマー組成物。熱可塑性ポリマーが、スチレン-ブタジエンブロック共重合体である請求項1または2に記載の熱可塑性ポリマー組成物。式1:[式1中、各R1および各R2は、それぞれ独立に、水素原子またはC16アルキル基を表す。L1は、ヘテロ原子を含んでいてもよいn価のC124アルコール残基を表し、nは1~4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。]で示される化合物およびマルチトールを含有することを特徴とする加工安定化剤。式1:[式1中、各R1および各R2は、それぞれ独立に、水素原子またはC16アルキル基を表す。L1は、ヘテロ原子を含んでいてもよいn価のC124アルコール残基を表し、nは1~4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。]で示される化合物およびマルチトールからなることを特徴とする加工安定化剤。式1で示される化合物が、オクタデシル3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、3,9-ビス[2-{3-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロピオニルオキシ}-1,1-ジメチルエチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンおよびペンタエリスリトールテトラキス[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]からなる群から選ばれる少なくとも一つである請求項4または5に記載の加工安定化剤。マルチトールの含有量が、式1で示される化合物およびマルチトールの合計中0.1~95質量である請求項4~6のいずれか一項に記載の加工安定化剤。さらに、式2:[式2中、各R3および各R4は、それぞれ独立に、C18アルキル基、C612アリール基またはC718アラルキル基を表す。R5は、水素原子またはC13アルキル基を表す。R6は、水素原子またはメチル基を表す。]で示される化合物を含有する請求項4~7のいずれか一項に記載の加工安定化剤。請求項4~8のいずれか一項に記載の加工安定化剤および熱可塑性ポリマーを混合することを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物の製造方法。熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性を向上させるための、請求項4~8のいずれか一項に記載の加工安定化剤の使用。加工安定性が一層向上した熱可塑性ポリマー組成物が望まれる。上記課題を解決するため、本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、以下の式1で示される化合物、マルチトールおよび熱可塑性ポリマーを含有する熱可塑性ポリマー組成物は、優れた加工安定性を示すことを見出した。このような知見に基づき、以下の[1]~[10]に記載の発明に至った。[1]式1:[式1中、各R1および各R2は、それぞれ独立に、水素原子またはC16アルキル基を表す。L1は、ヘテロ原子を含んでいてもよいn価のC124アルコール残基を表し、nは1~4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。]で示される化合物、マルチトールおよび熱可塑性ポリマーを含有することを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物。[2]式1で示される化合物およびマルチトールの合計量が、熱可塑性ポリマー100質量部に対して0.001~3質量部である上記[1]に記載の熱可塑性ポリマー組成物。[3]熱可塑性ポリマーが、スチレン-ブタジエンブロック共重合体である上記[1]または[2]に記載の熱可塑性ポリマー組成物。[4]式1:[式1中、各R1および各R2は、それぞれ独立に、水素原子またはC16アルキル基を表す。L1は、ヘテロ原子を含んでいてもよいn価のC124アルコール残基を表し、nは1~4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。]で示される化合物およびマルチトールを含有することを特徴とする加工安定化剤。[5]式1:[式1中、各R1および各R2は、それぞれ独立に、水素原子またはC16アルキル基を表す。L1は、ヘテロ原子を含んでいてもよいn価のC124アルコール残基を表し、nは1~4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。]で示される化合物およびマルチトールからなることを特徴とする加工安定化剤。[6]式1で示される化合物が、オクタデシル3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、3,9-ビス[2-{3-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロピオニルオキシ}-1,1-ジメチルエチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンおよびペンタエリスリトールテトラキス[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]からなる群から選ばれる少なくとも一つである上記[4]または[5]に記載の加工安定化剤。[7]マルチトールの含有量が、式1で示される化合物およびマルチトールの合計中0.1~95質量である上記[4]~[6]のいずれか一つに記載の加工安定化剤。[8]さらに、式2:[式2中、各R3および各R4は、それぞれ独立に、C18アルキル基、C612アリール基またはC718アラルキル基を表す。R5は、水素原子またはC13アルキル基を表す。R6は、水素原子またはメチル基を表す。]で示される化合物を含有する上記[4]~[7]のいずれか一つに記載の加工安定化剤。[9]上記[4]~[8]のいずれか一つに記載の加工安定化剤および熱可塑性ポリマーを混合することを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物の製造方法。[10]熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性を向上させるための、上記[4]~[8]のいずれか一つに記載の加工安定化剤の使用。式1で示される化合物およびマルチトールを併用すれば、熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性を向上させることができる。以下、本発明を順に説明する。なお、本発明において、Cabとは、炭素数がa以上b以下であることを意味する。また以下では、式1で示される化合物等を化合物1等と略称することがある。同様に、後述する式3aで示される2価の基等を2価の基3a等と略称することがある。本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、本発明の加工安定化剤即ち化合物1およびマルチトールを含有することを特徴とする。以下では、まず加工安定化剤について説明し、次いで熱可塑性ポリマー組成物を説明する。本発明の加工安定化剤は、化合物1を含有することを特徴の一つとする。化合物1は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。以下、化合物1について順に説明する。式1中の各R1および各R2は、それぞれ独立に、水素原子またはC16アルキル基を表す。nが2以上である場合、各R1は互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各R2も同様である。C16アルキル基は、鎖状または環状のいずれでもよく、鎖状は直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。C16アルキル基としては、直鎖状C16アルキル基メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、分枝鎖状C36アルキル基例えば、イソプロピル基、イソブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、t-ペンチル基、t-ヘキシル基、環状C36アルキル基即ちC36シクロアルキル基、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。各R1および各R2は、それぞれ独立に、好ましくは直鎖状C16アルキル基または分枝鎖状C36アルキル基、より好ましくはメチル基またはt-ブチル基である。さらに好ましくは、各R1および各R2が全てt-ブチル基である。式1中のL1は、ヘテロ原子を含んでいてもよいn価のC124アルコール残基を表し、nは1~4の整数を表す。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子などが挙げられ、これらヘテロ原子が、n価のC124アルコール残基中の炭素原子と置き換わっていてもよい。即ち、n価のC124アルコール残基は、-O-、-S-、-NR-式中、Rは水素原子または他の置換基例えばC16アルキル基を表す。などを有していてもよい。ヘテロ原子としては、酸素原子が好ましい。n価のC124アルコール残基n=1~4は、鎖状または環状のいずれでもよく、これらの組合せでもよい。鎖状は、直鎖状でも分枝鎖状でもよい。1価のC124アルコール残基としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、t-ブタノール、ヘキサノール、オクタノール、デカノール、ドデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカノール等の残基が挙げられる。2価のC124アルコール残基としては、例えば、エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,8-オクタンジオール、1,10-デカンジオール、1,12-ドデカンジオール、1,14-テトラデカンジオール、1,16-ヘキサデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、3,9-ビス1,1-ジメチル-2-ヒドロキシエチル-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン等の残基が挙げられる。3価のC124アルコール残基としては、例えば、グリセロール等の残基が挙げられる。4価のC124アルコール残基としては、エリスリトール、ペンタエリスリトール等の残基が挙げられる。化合物1としては、例えば、3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオン酸、3-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロピオン酸、または3-3,5-ジシクロヘキシル-4-ヒドロキシフェニルプロピオン酸と、一価または多価アルコールとのエステルが挙げられる。前記の一価または多価アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、N,N’-ビスヒドロキシエチルオキサミド、3-チアウンデカノール、3-チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4-ヒドロキシメチル-1-ホスファ-2,6,7-トリオキサビシクロ[2,2,2]オクタン、3,9-ビス1,1-ジメチル-2-ヒドロキシエチル-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンおよびこれらの混合物などが挙げられる。好ましい化合物1は、オクタデシル3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート以下化合物1-1と略称することがある、3,9-ビス[2-{3-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロピオニルオキシ}-1,1-ジメチルエチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン以下化合物1-2と略称することがあるおよびペンタエリスリトールテトラキス[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]以下化合物1-3と略称することがあるである。化合物1-1はイルガノックス登録商標1076BASF社製として、化合物1-2はスミライザー登録商標GA-80住友化学社製として、化合物1-3はイルガノックス登録商標1010BASF社製として市販されている。化合物1は、市販品を使用するか、または公知の方法例えば特許文献1~3に記載の方法に準じて製造することができる。本発明の加工安定化剤は、マルチトールを含有することを特徴の一つとする。マルチトールは、無水物または水和物のいずれでもよい。マルチトールは、例えば、東京化成工業株式会社などから市販されており、市販品をそのまま使用することができる。本発明の加工安定化剤におけるマルチトールの含有量は、化合物1およびマルチトールの合計中、好ましくは0.1質量以上より好ましくは1質量以上、さらに好ましくは2質量以上、特に好ましくは5質量以上、好ましくは95質量以下より好ましくは90質量以下、さらに好ましくは75質量以下、特に好ましくは50質量以下である。本発明の加工安定化剤は、化合物1およびマルチトールからなるものであってもよく、或いは他の成分を含有していてもよい。例えば、本発明の加工安定化剤は、化合物2を含有していてもよい。化合物2は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。以下、化合物2について順に説明する。式2中の各R3および各R4は、それぞれ独立に、C18アルキル基、C612アリール基またはC718アラルキル基を表す。R3は二つ存在するが、各R3は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各R4も同様である。C18アルキル基は、鎖状または環状のいずれでもよく、好ましくは鎖状直鎖状または分枝鎖状、より好ましくは分枝鎖状である。C18アルキル基としては、直鎖状C18アルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基アミル基ともいうなど、分枝鎖状C38アルキル基例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、t-ペンチル基、2-エチルヘキシル基など、環状C38アルキル基即ちC38シクロアルキル基、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。C612アリール基としては、例えばフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などが挙げられる。C718アラルキル基としては、例えばベンジル基、1-フェニルエチル基、2-フェニルエチル基などが挙げられる。各R3および各R4は、それぞれ独立に、好ましくは分枝鎖状C38アルキル基、より好ましくは3級炭素原子を有するC48アルキル基、さらに好ましくはt-ブチル基またはt-ペンチル基、特に好ましくはt-ペンチル基である。式2中のR5は、水素原子またはC13アルキル基を表す。C13アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。C13アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。R5は、好ましくは水素原子またはメチル基である。式2中のR6は、水素原子またはメチル基を表し、好ましくは水素原子である。化合物2としては、例えば、2,4-ジ-t-ブチル-6-[1-3,5-ジ-t-ブチル-2-ヒドロキシフェニルエチル]フェニルメタアクリレート、2-t-ブチル-6-3-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルメタアクリレート、2,4-ジ-t-ペンチル-6-[1-3,5-ジ-t-ペンチル-2-ヒドロキシフェニルエチル]フェニルメタアクリレート、2,4-ジ-t-ブチル-6-3,5-ジ-t-ブチル-2-ヒドロキシ-ベンジルフェニルメタアクリレート、2-t-ブチル-6-3-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-エチルフェニルメタアクリレート、2-t-ペンチル-6-3-t-ペンチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルメタアクリレートなどが挙げられる。ここでメタアクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートを意味する。好ましい化合物2は、2,4-ジ-t-ペンチル-6-[1-3,5-ジ-t-ペンチル-2-ヒドロキシフェニルエチル]フェニルアクリレート以下化合物2-1と略称することがあるおよび2-t-ブチル-6-3-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート以下化合物2-2と略称することがあるである。化合物2-1はスミライザー登録商標GSF住友化学社製として、化合物2-2はスミライザー登録商標GM住友化学社製として市販されている。化合物2は、市販品を使用するか、または公知の方法例えば特開平1-168643号公報または特開昭58-84835号公報に記載の方法に準じて製造することができる。さらに、本発明の加工安定化剤は、式3:[式3中、各R7、各R8、R10およびR11は、それぞれ独立に、水素原子、C18アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基、C712アラルキル基またはフェニル基を表す。各R9は、それぞれ独立に、水素原子またはC18アルキル基を表す。L2は、単結合、硫黄原子または式3a:{式3a中、R12は、水素原子、C18アルキル基またはC58シクロアルキル基を表す。}で示される2価の基を表す。L3は、C28アルキレン基または式3b:{式3b中、L4は、単結合またはC18アルキレン基を表す。は酸素原子側に結合していることを表す。}で示される2価の基を表す。Z1およびZ2のいずれか一方は、ヒドロキシ基、C18アルキル基、C18アルコキシ基またはC712アラルキルオキシ基を表し、他方は、水素原子またはC18アルキル基を表す。]で示される化合物を含有していてもよい。化合物3は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。以下、化合物3について順に説明する。式3中の各R7、各R8、R10およびR11は、それぞれ独立に、水素原子、C18アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基、C712アラルキル基またはフェニル基を表す。R7は二つ存在するが、各R7は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各R8も同様である。R7およびR8のC18アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。R7およびR8のC18アルキル基の炭素数は、好ましくは1以上5以下である。R7およびR8のC18アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、t-ペンチル基、イソオクチル基6-メチルヘプチル基ともいう、t-オクチル基1,1,3,3-テトラメチルブチル基ともいう、2-エチルヘキシル基などが挙げられる。C58シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が挙げられる。C612アルキルシクロアルキル基としては、例えば、1-メチルシクロペンチル基、2-メチルシクロペンチル基、1-メチルシクロヘキシル基、2-メチルシクロヘキシル基、1-メチル-4-イソプロピルシクロヘキシル基などが挙げられる。C712アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、α-メチルベンジル基1-フェニルエチル基ともいう、α,α-ジメチルベンジル基1-メチル-1-フェニルエチル基またはクミル基ともいうなどが挙げられる。各R7およびR10は、それぞれ独立に、好ましくは、C18アルキル基より好ましくは3級炭素原子を有するC48アルキル基、C58シクロアルキル基より好ましくはシクロヘキシル基またはC612アルキルシクロアルキル基より好ましくは1-メチルシクロヘキシル基である。3級炭素原子を有するC48アルキル基としては、t-ブチル基、t-ペンチル基およびt-オクチル基がさらに好ましい。各R8は、それぞれ独立に、好ましくはC18アルキル基、C58シクロアルキル基またはC612アルキルシクロアルキル基であり、より好ましくはC15アルキル基である。C15アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。C15アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、t-ペンチル基などが挙げられる。各R8は、それぞれ独立に、メチル基、t-ブチル基またはt-ペンチル基であることがさらに好ましい。R11は、好ましくは水素原子またはC15アルキル基であり、より好ましくは水素原子またはメチル基である。なお、R11のC15アルキル基としては上述のものが挙げられる。式3中の各R9は、それぞれ独立に、水素原子またはC18アルキル基を表す。R9は二つ存在するが、各R9は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各R9は、好ましくは水素原子またはC15アルキル基であり、より好ましくはメチル基または水素原子である。なお、R9のC18アルキル基およびC15アルキル基としては、上記R7およびR8で説明したものが挙げられる。式3中のL2は、単結合、硫黄原子または式3aで示される2価の基を表し、式3a中のR12は、水素原子、C18アルキル基またはC58シクロアルキル基を表す。R12は、好ましくは水素原子またはC15アルキル基である。なお、R12のC18アルキル基、C15アルキル基およびC58シクロアルキル基としては、上記R7およびR8で説明したものが挙げられる。L2は、好ましくは単結合または2価の基3aであり、より好ましくは単結合である。式3中のL3は、C28アルキレン基または式3bで示される2価の基を表し、式3b中のL4は、単結合またはC18アルキレン基を表す。C28アルキレン基およびC18アルキレン基は、いずれも、直鎖状でも分枝鎖状でもよい。C28アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基-CHCH3CH2-、-CH2CHCH3-、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン基などが挙げられ、C18アルキレン基としては、メチレン基および上述のC28アルキレン基などが挙げられる。L3は、好ましくは、C28アルキレン基、L4が単結合である2価の基3b即ちカルボニル基、またはL4がエチレン基である2価の基3bであり;より好ましくはC28アルキレン基であり;さらに好ましくはトリメチレン基である。式3中のZ1およびZ2のいずれか一方は、ヒドロキシ基、C18アルキル基、C18アルコキシ基またはC712アラルキルオキシ基を表し、他方は、水素原子またはC18アルキル基を表す。なお、Z1およびZ2のC18アルキル基としては、上記R7およびR8で説明したものが挙げられる。C18アルコキシ基は、直鎖状でも分枝鎖状でもよい。C18アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、t-ペンチルオキシ基、イソオクチルオキシ基6-メチルヘプチルオキシ基ともいう、t-オクチルオキシ基1,1,3,3-テトラメチルブチルオキシ基ともいう、2-エチルヘキシルオキシ基などが挙げられる。C712アラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、α-メチルベンジルオキシ基、α,α-ジメチルベンジルオキシ基などが挙げられる。Z1およびZ2のいずれか一方がヒドロキシ基であり、他方が水素原子であることが好ましい。置換基の好ましい組合せとしては、各R7およびR10が、それぞれ独立に、3級炭素原子を有するC48アルキル基、シクロヘキシルまたは1-メチルシクロヘキシル基であり、各R8が、それぞれ独立にC15アルキル基であり、各R9が、それぞれ独立に水素原子またはC15アルキル基であり、R11が水素原子またはC15アルキル基であり、L2が単結合であり、L3がC28アルキレン基であり、Z1およびZ2のいずれか一方がヒドロキシ基であり、他方が水素原子である組合せが挙げられる。この好ましい組合せにおいて、各R7は互いに同じものであることがより好ましい。各R8および各R9も同様である。また、この好ましい組合せにおいて、各R7、各R9およびR10は、共通して、t-ブチル基またはt-ペンチル基特にt-ブチル基であることがさらに好ましい。化合物3としては、例えば、6-[3-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロポキシ]-2,4,8,10-テトラ-t-ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、2,10-ジメチル-4,8-ジ-t-ブチル-6-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロポキシ]-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10-テトラ-t-ブチル-6-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロポキシ]ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、2,4,8,10-テトラ-t-ペンチル-6-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロポキシ]-12-メチル-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,10-ジメチル-4,8-ジ-t-ブチル-6-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ]-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10-テトラ-t-ペンチル-6-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ]-12-メチル-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10-テトラ-t-ブチル-6-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ]-ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、2,10-ジメチル-4,8-ジ-t-ブチル-6-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾイルオキシ-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10-テトラ-t-ブチル-6-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾイルオキシ-12-メチル-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,10-ジメチル-4,8-ジ-t-ブチル-6-[3-3-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニルプロポキシ]-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10-テトラ-t-ブチル-6-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロポキシ]-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,10-ジエチル-4,8-ジ-t-ブチル-6-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロポキシ]-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10-テトラ-t-ブチル-6-[2,2-ジメチル-3-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロポキシ]-ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピンなどが挙げられる。化合物3の中でも、6-[3-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロポキシ]-2,4,8,10-テトラ-t-ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン以下化合物3-1と略称することがあるが好ましい。化合物3-1はスミライザー登録商標GP住友化学社製として市販されている。化合物3は、市販品を使用するか、または公知の方法例えば特開平10-273494号公報に記載の方法に準じて製造することができる。さらに、本発明の加工安定化剤は、式4:[式4中、各R13および各R14は、それぞれ独立に、水素原子、C19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基、C712アラルキル基またはフェニル基を表す。]で示される化合物を含有していてもよい。化合物4は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。以下、化合物4について順に説明する。式4中の各R13および各R14は、それぞれ独立に、水素原子、C19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基、C712アラルキル基またはフェニル基を表す。R13は三つ存在するが、各R13は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各R14も同様である。R13およびR14の位置は、2位および4位であることが好ましい。C19アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。C19アルキル基の炭素数は、好ましくは3以上5以下である。C19アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、t-ペンチル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基などが挙げられる。なお、R13およびR14のC58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基およびC712アラルキル基としては、上述のものが挙げられる。各R13および各R14は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子またはC19アルキル基、より好ましくは水素原子、t-ブチル基またはノニル基、さらに好ましくはt-ブチル基である。化合物4としては、例えば、トリス2,4-ジ-t-ブチルフェニルホスファイト以下化合物4-1と略称することがある、トリフェニルホスファイト、トリス4-ノニルフェニルホスファイト、トリス2,4-ジノニルフェニルホスファイトなどが挙げられる。これらの中でも、化合物4-1が好ましい。化合物4-1は、イルガフォス登録商標168BASF社製として市販されている。さらに、本発明の加工安定化剤は、式5:[式5中、各R15は、それぞれ独立に、水素原子、C19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基、C712アラルキル基またはフェニル基を表す。]で示される化合物を含有していてもよい。化合物5は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。以下、化合物5について順に説明する。式5中の各R15は、それぞれ独立に、水素原子、C19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基、C712アラルキル基またはフェニル基を表す。R15は四つ存在するが、各R15は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。なお、R15のC19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基およびC712アラルキル基としては、上述のものが挙げられる。各R15は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子またはC19アルキル基、より好ましくは水素原子である。化合物5としては、例えば、テトラキス2,4-ジ-t-ブチルフェニル-4,4-ビフェニレンジホスホナイト以下化合物5-1と略称することがある、テトラキス2,4-ジ-t-ブチル-5-メチルフェニル-4,4-ビフェニレンジホスホナイト以下化合物5-2と略称することがあるなどが挙げられる。これらの中でも、化合物5-1が好ましい。化合物5-1は、サンドスタブ登録商標P-EPQクラリアント社製として、化合物5-2は、ヨシノックス登録商標GSY-P101API社製として市販されている。さらに、本発明の加工安定化剤は、式6:[式6中、各R16は、それぞれ独立に、C118アルキル基、またはC19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基およびC712アラルキル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよいフェニル基を表す。]で示される化合物を含有していてもよい。化合物6は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。以下、化合物6について順に説明する。式6中の各R16は、それぞれ独立に、C118アルキル基またはフェニル基を表す。R16のフェニル基は、置換基として、C19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基およびC712アラルキル基からなる群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい。なお、これらのフェニル基の置換基としては、上述のものが挙げられる。また、R16は二つ存在するが、各R16は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。C118アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。C118アルキル基の炭素数は、好ましくは12以上18以下である。C118アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基などが挙げられる。C19アルキル基で置換されているフェニル基としては、2-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2-t-ブチルフェニル基、4-t-ブチルフェニル基、2-ノニルフェニル基、4-ノニルフェニル基、2,4-ジ-t-ブチルフェニル基、2,4-ジ-ノニルフェニル基、2,6-ジ-t-ブチルフェニル基、2-t-ブチル-4-メチルフェニル基、2-t-ブチル-4-エチルフェニル基、2,5-ジ-t-ブチルフェニル基、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル基などが挙げられる。C58シクロアルキル基で置換されているフェニル基としては、2-シクロペンチルフェニル基、2-シクロヘキシルフェニル基、4-シクロヘキシルフェニル基、2,4-ジシクロヘキシルフェニル基などが挙げられる。C612アルキルシクロアルキル基で置換されているフェニル基としては、2-2-メチルシクロヘキシルフェニル基、4-2-メチルシクロヘキシルフェニル基、2,4-ジ-2-メチルシクロヘキシルフェニル基などが挙げられる。C712アラルキル基で置換されているフェニル基としては、2-ベンジルフェニル基、2-クミルフェニル基、4-クミルフェニル基、2,4-ジクミルフェニル基などが挙げられる。C19アルキル基およびC58シクロアルキル基で置換されているフェニル基としては、2-メチル-4-シクロへキシルフェニル基などが挙げられる。C19アルキル基およびC612アルキルシクロアルキル基で置換されているフェニル基としては、2-メチル-4-2-メチルシクロヘキシルフェニル基などが挙げられる。C19アルキル基およびC712アラルキル基で置換されているフェニル基としては、2-ベンジル-4-メチルフェニル基などが挙げられる。各R16は、それぞれ独立に、好ましくは、オクタデシル基ステアリル基ともいう、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル基、2,4-ジ-t-ブチルフェニル基または2,4-ジクミルフェニル基である。化合物6としては、例えば、ビス2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト以下化合物6-1と略称することがある、ビス2,4-ジ-t-ブチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト以下化合物6-2と略称することがある、ビス2,4-ジクミルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト以下化合物6-3と略称することがある、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト以下化合物6-4と略称することがある、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス2,4-ジ-t-ブチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス2,4-ジ-t-ブチル-6-メチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス2,4,6-トリ-t-ブチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。これらの中でも、化合物6-1、化合物6-2および化合物6-3が好ましい。化合物6-1はアデカスタブ登録商標PEP-36アデカ社製として、化合物6-2はウルトラノックス登録商標626GEプラスチック社製として、化合物6-3はドーヴァーフォスS9228Tドーヴァーケミカル社製として、化合物6-4はアデカスタブ登録商標PEP-8アデカ社製として市販されている。さらに、本発明の加工安定化剤は、式7:[式7中、各R17および各R18は、それぞれ独立に、水素原子、C19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基、C712アラルキル基またはフェニル基を表す。各L5は、それぞれ独立に、単結合、硫黄原子または式7a:{式7a中、R19およびR20は、これらの炭素数合計が7以下であることを条件として、それぞれ独立に、水素原子またはC17アルキル基を表す。}で示される2価の基を表す。各L6は、それぞれ独立に、C28アルキレン基を表す。]で示される化合物を含有していてもよい。化合物7は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。以下、化合物7について順に説明する。式7中の各R17および各R18は、それぞれ独立に、水素原子、C19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基、C712アラルキル基またはフェニル基を表す。R17およびR18のC19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基およびC712アラルキル基としては、上述のものが挙げられる。R17は六つ存在するが、各R17は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各R18も同様である。R17およびR18の位置は、L5が結合しているベンゼン環の炭素原子の位置をそれぞれ1位とした場合、3位および5位であることが好ましい。各R17および各R18は、それぞれ独立に、好ましくはC19アルキル基、より好ましくはt-ブチル基である。式7中の各L5は、それぞれ独立に、単結合、硫黄原子または式7aで示される2価の基を表し、式7a中のR19およびR20は、これらの炭素数合計が7以下であることを条件として、それぞれ独立に、水素原子またはC17アルキル基を表す。L5は三つ存在するが、各L5は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。C17アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。C17アルキル基の炭素数は、好ましくは1以上3以下である。R19およびR20の炭素数合計は、好ましくは3以下である。C17アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t-ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などが挙げられる。2価の基7aとしては、例えば、-CH2-、-CHCH3-、-CHC2H5-、-CCH32-、-CHn-C3H7-などが挙げられる。各L5は、好ましくは-CH2-または単結合、より好ましくは単結合である。式7中の各L6は、それぞれ独立に、C28アルキレン基を表す。L6は三つ存在するが、各L6は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。C28アルキレン基としては、上述のものが挙げられる。各L6は、それぞれ独立に、好ましくは、エチレン基またはトリメチレン基、より好ましくはエチレン基である。化合物7としては、6,6’,6-[ニトリロトリスエチレンオキシ]トリス2,4,8,10-テトラ-t-ブチルジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン以下化合物7-1と略称することがあるが好ましい。化合物7-1はイルガフォス登録商標12BASF社製として市販されている。さらに、本発明の加工安定化剤は、式8:[式8中、各R21および各R22は、それぞれ独立に、水素原子、C19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基、C712アラルキル基またはフェニル基を表す。R23は、C18アルキル基、またはC19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基およびC712アラルキル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよいフェニル基を表す。L7は、単結合、硫黄原子または式8a:{式8a中、R24およびR25は、これらの炭素数合計が7以下であることを条件として、それぞれ独立に、水素原子またはC17アルキル基を表す。}で示される2価の基を表す。]で示される化合物を含有していてもよい。化合物8は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。以下、化合物8について順に説明する。式8中の各R21および各R22は、それぞれ独立に、水素原子、C19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基、C712アラルキル基またはフェニル基を表す。R21およびR22のC19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基およびC712アラルキル基としては、上述のものが挙げられる。R21は二つ存在するが、各R21は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各R22も同様である。R21およびR22の位置は、L7が結合しているベンゼン環の炭素原子の位置をそれぞれ1位とした場合は3位および5位であること、即ち、Oが結合しているベンゼン環の炭素原子の位置をそれぞれ1位とした場合は2位および4位であることが好ましい。各R21および各R22は、それぞれ独立に、好ましくはC19アルキル基、より好ましくはt-ブチル基である。式8中のR23は、C18アルキル基またはフェニル基を表す。R23のフェニル基は、置換基として、C19アルキル基、C58シクロアルキル基、C612アルキルシクロアルキル基およびC712アラルキル基からなる群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい。R23のC18アルキル基および置換基を有するフェニル基としては、上述のものが挙げられる。但し、R23のC18アルキル基の炭素数は、好ましくは4以上8以下である。R23は、好ましくはC18アルキル基、より好ましくはオクチル基である。式8中のL7は、単結合、硫黄原子または式8aで示される2価の基を表し、式8a中のR24およびR25は、これらの炭素数合計が7以下であることを条件として、それぞれ独立に、水素原子またはC17アルキル基を表す。R24およびR25のC17アルキル基としては、上述のものが挙げられる。R24およびR25の炭素数合計は、好ましくは3以下である。2価の基8aの具体例としては、2価の基7aと同じものが挙げられる。L7は、好ましくは-CH2-または単結合、より好ましくは-CH2-である。化合物8としては、例えば、2,2-メチレンビス4,6-ジ-t-ブチルフェニルオクチルホスファイト以下化合物8-1と略称することがあるおよび2,2’-メチレンビス4,6-ジ-t-ブチルフェニル2-エチルヘキシルホスファイトが挙げられる。これらの中で化合物8-1が好ましい。化合物8-1はアデカスタブ登録商標HP-10アデカ社製として市販されている。化合物2~化合物8の中では、化合物2~化合物4が好ましく、化合物2および化合物3がより好ましく、化合物2がさらに好ましい。加工安定化剤が化合物2~化合物8を含有する場合、化合物2~化合物8の各含有量は、化合物1およびマルチトールの合計100質量部に対して、好ましくは0.1質量部以上より好ましくは10質量部以上、さらに好ましくは20質量部以上、好ましくは200質量部以下より好ましくは90質量部以下、さらに好ましくは80質量部以下である。本発明の加工安定化剤は、化合物1およびマルチトール、並びに必要に応じて化合物2~化合物8を含有する。さらに本発明の加工安定化剤は、これら以外の添加剤以下他の添加剤と略称するを含んでいてもよい。他の添加剤は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、安定剤、滑剤、金属不活性化剤、造核剤、帯電防止剤、難燃剤、充填剤、顔料、無機充填剤などが挙げられる。酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤化合物1および化合物2を除く、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤化合物3~化合物8を除く、ヒドロキノン系酸化防止剤などが挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、例えば、以下の[1]~[13]に記載するものなどが挙げられる。[1]2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、2,4,6-トリ-t-ブチルフェノール、2,6-ジ-t-ブチルフェノール、2-t-ブチル-4,6-ジメチルフェノール、2,6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェノール、2,6-ジ-t-ブチル-4-n-ブチルフェノール、2,6-ジ-t-ブチル-4-イソブチルフェノール、2,6-ジシクロペンチル-4-メチルフェノール、2-α-メチルシクロヘキシル-4,6-ジメチルフェノール、2,6-ジオクタデシル-4-メチルフェノール、2,4,6-トリシクロヘキシルフェノール、2,6-ジ-t-ブチル-4-メトキシメチルフェノール、2,6-ジ-ノニル-4-メチルフェノール、2,4-ジメチル-6-1’-メチルウンデシル-1’-イルフェノール、2,4-ジメチル-6-1’-メチルヘプタデシル-1’-イルフェノール、2,4-ジメチル-6-1’-メチルトリデシル-1’-イルフェノールなどのアルキル化モノフェノール。[2]2,4-ビスオクチルチオメチル-6-t-ブチルフェノール、2,4-ビスオクチルチオメチル-6-メチルフェノール、2,4-ビスオクチルチオメチル-6-エチルフェノール、2,6-ビスドデシルチオメチル-4-ノニルフェノールなどのアルキルチオメチルフェノール。[3]2,2’-メチレンビス4-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-エチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス[4-メチル-6-α-メチルシクロヘキシルフェノール]、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-シクロヘキシルフェノール、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-ノニルフェノール、2,2’-メチレンビス4,6-ジ-t-ブチルフェノール、2,2’-エチリデンビス4,6-ジ-t-ブチルフェノール、2,2’-エチリデンビス4-イソブチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス[6-α-メチルベンジル-4-ノニルフェノール]、2,2’-メチレンビス[6-α,α-ジメチルベンジル-4-ノニルフェノール]、4,4’-メチレンビス6-t-ブチル-2-メチルフェノール、4,4’-メチレンビス2,6-ジ-t-ブチルフェノール、4,4’-ブチリデンビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、1,1-ビス5-t-ブチル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニルブタン、2,6-ビス3-t-ブチル-5-メチル-2-ヒドロキシベンジル-4-メチルフェノール、1,1,3-トリス5-t-ブチル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニルブタン、1,1-ビス5-t-ブチル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニル-3-n-ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3-ビス3’-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニルブチレート]、ビス3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルジシクロペンタジエン、ビス[2-3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-メチルベンジル-6-t-ブチル-4-メチルフェニル]テレフタレート、1,1-ビス3,5-ジメチル-2-ヒドロキシフェニルブタン、2,2-ビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス5-t-ブチル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニル-4-n-ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5-テトラ5-t-ブチル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニルペンタンなどのアルキリデンビスフェノールおよびその誘導体。[4]4-ヒドロキシラウリル酸アニリド、4-ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチル-N-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルカルバメートなどのアシルアミノフェノール誘導体。[5]2,2’-チオビス6-t-ブチルフェノール、2,2’-チオビス4-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-チオビス4-オクチルフェノール、4,4’-チオビス2-メチル-6-t-ブチルフェノール、4,4’-ビス2,6-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルスルフィドなどのビスヒドロキシフェニルスルフィド。[6]3,5,3’,5’-テトラ-t-ブチル-4,4’-ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル-4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルアミン、ビス4-t-ブチル-3-ヒドロキシ-2,6-ジメチルベンジルジチオテレフタレート、ビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルスルフィド、イソオクチル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルメルカプトアセテートなどのO-ベンジル誘導体、N-ベンジル誘導体およびS-ベンジル誘導体。[7]2,4-ビスn-オクチルチオ-6-4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルアニリノ-1,3,5-トリアジン、2-n-オクチルチオ-4,6-ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルアニリノ-1,3,5-トリアジン、2-n-オクチルチオ-4,6-ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルフェノキシ-1,3,5-トリアジン、2,4,6-トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-フェノキシ-1,3,5-トリアジン、トリス4-t-ブチル-3-ヒドロキシ-2,6-ジメチルベンジルイソシアヌレート、トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルイソシアヌレート、2,4,6-トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルエチル-1,3,5-トリアジン、2,4,6-トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピル-1,3,5-トリアジン、トリス3,5-ジシクロヘキシル-4-ヒドロキシベンジルイソシアヌレート、トリス[2-3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシシンナモイルオキシエチル]イソシアヌレートなどのトリアジン誘導体。[8]ジオクタデシル-2,2-ビス3,5-ジ-t-ブチル-2-ヒドロキシベンジルマロネート、ジオクタデシル-2-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルベンジルマロネート、ジドデシルメルカプトエチル-2,2-ビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルマロネート、ビス[4-1,1,3,3-テトラメチルブチルフェニル]-2,2-ビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルマロネートなどのヒドロキシベンジル化マロネート誘導体。[9]1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルベンゼン、1,4-ビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル-2,3,5,6-テトラメチルベンゼン、2,4,6-トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルフェノールなどの芳香族ヒドロキシベンジル誘導体。[10]ジメチル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル-5-t-ブチル-4-ヒドロキシ-3-メチルベンジルホスホネート、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩などのベンジルホスホネート誘導体。[11]3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル酢酸と、一価または多価アルコール例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、N,N’-ビスヒドロキシエチルオキサミド、3-チアウンデカノール、3-チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4-ヒドロキシメチル-1-ホスファ-2,6,7-トリオキサビシクロ[2,2,2]オクタン、3,9-ビス1,1-ジメチル-2-ヒドロキシエチル-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンまたはこれらの混合物とのエステル。[12]N,N’-ビス[3-3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニルプロピオニル]ヒドラジン、N,N’-ビス[3-3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニルプロピオニル]ヘキサメチレンジアミン、N,N’-ビス[3-3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニルプロピオニル]トリメチレンジアミンなどのβ-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオン酸のアミド。[13]α-トコフェロール、β-トコフェロール、γ-トコフェロール、δ-トコフェロールなどのトコフェロール。イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル3,3’-チオジプロピオネート、トリデシル3,3’-チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3’-チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’-チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3’-チオジプロピオネート、ネオペンタンテトラキス3-ラウリルチオプロピオネートなどが挙げられる。リン系酸化防止剤としては、例えば、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、2,2’-エチリデンビス4,6-ジ-t-ブチルフェニルフルオロホスファイト、ビス2,4-ジ-t-ブチル-6-メチルフェニルエチルホスファイト、ビス2,4-ジ-t-ブチル-6-メチルフェニルメチルホスファイト、2-2,4,6-トリ-t-ブチルフェニル-5-エチル-5-ブチル-1,3,2-オキサホスホリナンなどが挙げられる。ヒドロキノン系酸化防止剤としては、例えば、2,6-ジ-t-ブチル-4-メトキシフェノール、2,5-ジ-t-ブチルヒドロキノン、2,5-ジ-t-ペンチルヒドロキノン、2,6-ジフェニル-4-オクタデシルオキシフェノール、2,6-ジ-t-ブチルヒドロキノン、2,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシアニソール、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルステアレート、ビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルアジペートなどが挙げられる。紫外線吸収剤としては、例えば、以下の[1]~[3]に記載する物などが挙げられる。[1]フェニルサリシレート、4-t-ブチルフェニルサリシレート、2,4-ジ-t-ブチルフェニル3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシベンゾエート、4-t-オクチルフェニルサリシレート、ビス4-t-ブチルベンゾイルレゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、ヘキサデシル3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシベンゾエート、2-メチル-4,6-ジ-t-ブチルフェニル3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシベンゾエートなどのサリシレート誘導体。[2]2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクトキシベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、ビス5-ベンゾイル-4-ヒドロキシ-2-メトキシフェニルメタン、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノンなどの2-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体。[3]2-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-3’,5’-ジ-t-ブチル-2’-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-5’-t-ブチル-2’-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-5’-t-オクチルフェニルベンゾトリアゾール、2-3-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-3’-sec-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-t-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-4’-オクチルオキシフェニルベンゾトリアゾール、2-3’,5’-ジ-t-ペンチル-2’-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-[2’-ヒドロキシ-3’,5’-ビスα,α-ジメチルベンジルフェニル]-2H-ベンゾトリアゾール、2-[3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシフェニル-5’-2-オクチルオキシカルボニルエチルフェニル]-5-クロロベンゾトリアゾール、2-[3’-t-ブチル-5’-[2-2-エチルヘキシルオキシカルボニルエチル]-2’-ヒドロキシフェニル]-5-クロロベンゾトリアゾール、2-[3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-2-メトキシカルボニルエチルフェニル]-5-クロロベンゾトリアゾール、2-[3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-2-メトキシカルボニルエチルフェニル]ベンゾトリアゾール、2-[3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5-2-オクチルオキシカルボニルエチルフェニル]ベンゾトリアゾール、2-[3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-[2-2-エチルヘキシルオキシカルボニルエチル]フェニル]ベンゾトリアゾール、2-[2-ヒドロキシ-3-3,4,5,6-テトラヒドロフタルイミドメチル-5-メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、2-3,5-ジ-t-ブチル-2-ヒドロキシフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-3’-ドデシル-2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニルベンゾトリアゾールおよび2-[3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-2-イソオクチルオキシカルボニルエチルフェニル]ベンゾトリアゾールの混合物、2,2’-メチレンビス[6-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-1,1,3,3-テトラメチルブチルフェノール]、2,2’-メチレンビス[4-t-ブチル-6-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェノール]、ポリ3~11エチレングリコールと2-[3’-t-ブチル-2’-ヒドロキシ-5’-2-メトキシカルボニルエチルフェニル]ベンゾトリアゾールとの縮合物、ポリ3~11エチレングリコールとメチル3-[3-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-5-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル]プロピオネートとの縮合物、2-エチルヘキシル3-[3-t-ブチル-5-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-ヒドロキシフェニル]プロピオネート、オクチル3-[3-t-ブチル-5-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-ヒドロキシフェニル]プロピオネート、メチル3-[3-t-ブチル-5-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-ヒドロキシフェニル]プロピオネート、3-[3-t-ブチル-5-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-ヒドロキシフェニル]プロピオン酸などの2-2’-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール。光安定剤としては、例えば、以下の[1]~[5]に記載する物などが挙げられる。[1]ヒンダードアミン系光安定剤、例えば、以下の[a]~[c]に記載する物。[a]ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルスクシネート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルセバケート、ビスN-オクトキシ-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルセバケート、ビスN-ベンジルオキシ-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルセバケート、ビスN-シクロヘキシルオキシ-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル2-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル-2-ブチルマロネート、ビス1-アクリロイル-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル2,2-ビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルマロネート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルデカンジオエート、2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルメタクリレート、4-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ]-1-[2-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシエチル]-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、2-メチル-2-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルアミノ-N-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルプロピオンアミド、テトラキス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート。[b]1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジノールおよび1-トリデカノールとの混合エステル化物、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジノールおよび1-トリデカノールとの混合エステル化物、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジノールおよび3,9-ビス2-ヒドロキシ-1,1-ジメチルエチル-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンとの混合エステル化物、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジノールおよび3,9-ビス2-ヒドロキシ-1,1-ジメチルエチル-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンとの混合エステル化物。[c]ジメチルスクシネートと1-2-ヒドロキシエチル-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ[6-モルホリノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルイミノヘキサメチレン2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルイミノ]、ポリ[6-1,1,3,3-テトラメチルブチルイミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルイミノヘキサメチレン2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルイミノ]、N,N’-ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルヘキサメチレンジアミンと1,2-ジブロモエタンとの重縮合物、N,N’,4,7-テトラキス[4,6-ビスN-ブチル-N-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルアミノ-1,3,5-トリアジン-2-イル]-4,7-ジアザデカン-1,10ジアミン、N,N’,4-トリス[4,6-ビスN-ブチル-N-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルアミノ-1,3,5-トリアジン-2-イル]-4,7-ジアザデカン-1,10-ジアミン、N,N’,4,7-テトラキス[4,6-ビスN-ブチル-N-1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルアミノ-1,3,5-トリアジン-2-イル]-4,7-ジアザデカン-1,10-ジアミン、N,N’,4-トリス[4,6-ビスN-ブチル-N-1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルアミノ-1,3,5-トリアジン-2-イル]-4,7-ジアザデカン-1,10-ジアミン。[2]エチルα-シアノ-β,β-ジフェニルアクリレート、イソオクチルα-シアノ-β,β-ジフェニルアクリレート、メチルα-カルボメトキシシンナメート、メチルα-シアノ-β-メチル-p-メトキシシンナメート、ブチルα-シアノ-β-メチル-p-メトキシシンナメート、メチルα-カルボメトキシ-p-メトキシシンナメートおよびN-β-カルボメトキシ-β-シアノビニル-2-メチルインドリンなどのアクリレート系光安定剤。[3]2,2’-チオビス-[4-1,1,3,3-テトラメチルブチルフェノール]のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体などのニッケル系光安定剤。[4]4,4’-ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’-ジエトキシオキサニリド、2,2’-ジオクチルオキシ-5,5’-ジ-t-ブチルアニリド、2,2’-ジドデシルオキシ-5,5’-ジ-t-ブチルアニリド、2-エトキシ-2’-エチルオキサニリド、N,N’-ビス3-ジメチルアミノプロピルオキサミド、2-エトキシ-5-t-ブチル-2’-エトキシアニリド、2-エトキシ-5,4’-ジ-t-ブチル-2’-エチルオキサニリドなどのオキサミド系光安定剤。[5]2,4,6-トリス2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシフェニル-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2,4-ジヒドロキシフェニル-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス2-ヒドロキシ-4-プロピルオキシフェニル-6-2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシフェニル-4,6-ビス4-メチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-ドデシルオキシフェニル-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-[2-ヒドロキシ-4-2-ヒドロキシ-3-ブチルオキシプロポキシフェニル]-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-[2-ヒドロキシ-4-2-ヒドロキシ-3-オクチルオキシプロポキシフェニル]-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジンなどの2-2-ヒドロキシフェニル-1,3,5-トリアジン系光安定剤。安定剤としては、例えば、N,N-ジベンジルヒドロキシアミン、N,N-ジエチルヒドロキシアミン、N,N-ジオクチルヒドロキシアミン、N,N-ジラウリルヒドロキシアミン、N,N-ジテトラデシルヒドロキシアミン、N,N-ジヘキサデシルヒドロキシアミン、N,N-ジオクタデシルヒドロキシアミン、N-ヘキサデシル-N-オクタデシルヒドロキシアミン、N-ヘプタデシル-N-オクタデシルヒドロキシアミンなどのヒドロキシアミン類などが挙げられる。滑剤としては、例えば、パラフィン、ワックス等の脂肪族炭化水素、C822高級脂肪酸、C822高級脂肪酸の金属Al、Ca、Mg、Zn塩、C822脂肪族アルコール、ポリグリコール、C422脂肪酸とC418脂肪族1価アルコールとのエステル、C822高級脂肪族アミド、シリコーン油、ロジン誘導体などが挙げられる。上述した他の添加剤の中でも、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤が好ましく、フェノール系酸化防止剤がより好ましい。本発明の加工安定化剤の製造方法としては、例えば、化合物1およびマルチトール、並びに必要に応じて化合物2~化合物8および他の添加剤を、ヘンシェルミキサ、スーパーミキサ、ハイスピードミキサなどの混合機で混合する方法などが挙げられる。このようにして得た混合物加工安定化剤を、さらに押出成形または撹拌造粒に付してもよい。次に本発明の熱可塑性ポリマー組成物について説明する。本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、上記加工安定化剤化合物1およびマルチトール、並びに必要に応じて化合物2~化合物8および他の添加剤と、熱可塑性ポリマーとを含有する。熱可塑性ポリマーは、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。熱可塑性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂高密度ポリエチレンHDPE、低密度ポリエチレンLDPE、直鎖状低密度ポリエチレンLLDPE、エチレン-ビニルアルコール共重合体EVOH、エチレン-アクリル酸エチル共重合体EEA、エチレン-酢酸ビニル共重合体EVAなど、ポリプロピレン系樹脂結晶性プロピレン単独重合体、プロピレン-エチレンランダム共重合体、プロピレン-α-オレフィンランダム共重合体、プロピレン-エチレン-α-オレフィン共重合体、プロピレン単独重合体またはプロピレンを主成分とする共重合体のブロックと、プロピレンおよびエチレンおよび/またはそれ以外のα-オレフィンの共重合体のブロックとからなるポリプロピレン系ブロック共重合体など、メチルペンテンポリマー、ポリスチレン系樹脂ポリスチレンPS、ポリp-メチルスチレン、ポリα-メチルスチレンなどのポリスチレン類、アクリロニトリル-スチレン共重合体SAN、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体ABS、特殊アクリルゴム-アクリロニトリル-スチレン共重合体、アクリロニトリル-塩素化ポリエチレン-スチレン共重合体ACS、スチレン-エチレン-ブチレン-スチレンブロック共重合体SEBS、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体SISなど、ポリブタジエン系樹脂ポリブタジエン;ポリブタジエンゴムBR;スチレン-ブタジエン共重合体SB;スチレン-ブタジエンブロック共重合体SBS;ポリブタジエン、スチレン-ブタジエン共重合体またはSBSで改質した耐衝撃性ポリスチレンHI-PS;スチレン-ブタジエン系熱可塑性エラストマーなど、塩素化ポリエチレンCPE、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、ポリ塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化ビニルPVC、ポリ塩化ビニリデンPVDC、メタクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリアセタールPOM、グラフト化ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂PPS、ポリウレタンPU、ポリアミドPA、ナイロン登録商標とも呼ばれる、例えば、ナイロン6Ny6、ナイロン11Ny11、ナイロン12Ny12、ナイロン610Ny610、ナイロン612Ny612、ナイロンMXD6NyMXD6など、ポリエステル樹脂例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリブチレンテレフタレートPBTなど、ポリ乳酸PLA、ポリカーボネートPC、ポリアクリレート、ポリスルホンPPSU、ポリエーテルエーテルケトンPEEK、ポリエーテルスルホンPES、芳香族ポリエステル、ジアリルフタレートプレポリマー、シリコーン樹脂SI、1,2-ポリブタジエン、ポリイソプレン、ブタジエン-アクリロニトリル共重合体NBR、エチレン-メチルメタクリレート共重合体EMMAなどが挙げられる。これらの中で、成形加工性の良さから、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂およびポリブタジエン系樹脂が好ましく、ポリエチレン系樹脂およびポリブタジエン系樹脂がより好ましく、エチレン-ビニルアルコール共重合体EVOHおよびスチレン-ブタジエンブロック共重合体SBSがさらに好ましい。使用する熱可塑性ポリマーの重量平均分子量Mwに特に限定は無い。熱可塑性ポリマーのMwは、一般に1000以上、30万以下である。このMwは、例えばポリスチレンを標準とするゲル浸透クロマトグラフィーGPCによって測定することができる。熱可塑性ポリマー組成物中の加工安定化剤の含有量は、化合物1およびマルチトールの合計量で定められる。熱可塑性ポリマー組成物中の化合物1およびマルチトールの合計量は、熱可塑性ポリマー100質量部に対して、好ましくは0.001質量部以上より好ましくは0.02質量部以上、さらに好ましくは0.1質量部以上、特に好ましくは0.5質量部以上、好ましくは3質量部以下より好ましくは2質量部以下、さらに好ましくは1質量部以下である。化合物2~化合物8を含む加工安定化剤を使用する場合、熱可塑性ポリマー組成物中の化合物2~化合物8の各含有量は、熱可塑性ポリマー組成物100質量部に対して、好ましくは0.001質量部以上より好ましくは0.02質量部以上、好ましくは3質量部以下より好ましくは2質量部以下である。本発明の熱可塑性ポリマー組成物の製造方法としては、例えば、上述のようにして製造した加工安定化剤と熱可塑性ポリマーとを混合する方法などが挙げられる。この製造方法には、例えば、熱可塑性ポリマーを混錬する際に、化合物1およびマルチトール、並びに必要に応じて化合物2~化合物8および他の添加剤を熱可塑性ポリマーに別々に配合した後、これら即ち本発明の加工安定化剤と熱可塑性ポリマーとを混合する方法も含まれる。加工安定化剤と熱可塑性ポリマーとの混合方法としては、例えば、a加工安定化剤と熱可塑性ポリマーとをドライブレンドし、次いで一軸または多軸押出し機で溶融混練した後、押出しを行って熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得る方法;bシクロへキサンなどの溶剤に加工安定化剤を溶解させて、加工安定化剤の溶液を調製し、この溶液を熱可塑性ポリマー重合終了後のポリマー溶液に添加し、脱溶媒する方法;などが挙げられる。得られた熱可塑性ポリマー組成物は、冷却することなく溶融状態のまま成形機に供給して成形してもよい。成形方法は特に限定されるものではなく、例えば、射出成形法、押出成形法、押出ブロー成形法、射出ブロー成形法、二軸延伸ブロー成形法などの成形方法を用いることができる。成形後に冷却することによって、本発明の熱可塑性ポリマー組成物からなる熱可塑性ポリマー成形体が得られる。得られる熱可塑性ポリマー成形体の用途としては、例えば、電子部品例えばコイルボビン、コネクター、スイッチ、抵抗器部品、ソケット、リレー、コンデンサーケース、ヒューズ、モーター、オーブンレンジ、プリント基盤、IC製造装置、ランプなど、自動車部品例えばエアーアウトレットガーニッシュ、フードベント、ディストリビューターキャップ、排ガスコントロールバルブなど、時計部品例えばギア、カムなどの機械部品、地板など、カメラ部品例えば底蓋、鏡胴、レバーなど、レジャー用品の部品例えばリールなど、家電機器ハウジング、照明配線器具、フィルム、ボトル、繊維、浄化槽、便槽、バスタブ、ユニットバス、水タンク、船舶、薬品タンク、パイプ、波板、平板、塗料、化粧版、電気部品封入材、レジンコンクリートなどが挙げられる。以下、実施例等を挙げて本発明をより詳細に説明する。以下の部は、特に説明がない限り、質量基準である。またメルトフローレートをMFRと記載する。[1]原料以下の実施例および比較例で使用する原料は、以下の通りである。化合物1-1:オクタデシル3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネートBASF社製イルガノックス登録商標1076化合物1-2:3,9-ビス[2-{3-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロピオニルオキシ}-1,1-ジメチルエチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン住友化学社製スミライザー登録商標GA-80化合物1-3:ペンタエリスリトールテトラキス[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート]BASF社製イルガノックス登録商標1010マルチトール東京化成工業社製化合物2-1:2,4-ジ-t-ペンチル-6-[1-3,5-ジ-t-ペンチル-2-ヒドロキシフェニルエチル]フェニルアクリレート住友化学社製スミライザー登録商標GSF化合物2-2:2-t-ブチル-6-3-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート住友化学社製スミライザー登録商標GM化合物3-1:6-[3-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロポキシ]-2,4,8,10-テトラ-t-ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン住友化学社製スミライザー登録商標GP化合物4-1:トリス2,4-ジ-t-ブチルフェニルホスファイトBASF社製イルガフォス登録商標168化合物5-1:テトラキス2,4-ジ-t-ブチルフェニル-4,4-ビフェニレンジホスホナイトクラリアント社製サンドスタブ登録商標P-EPQ化合物6-1:ビス2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイトアデカ社製アデカスタブ登録商標PEP-36化合物6-2:ビス2,4-ジ-t-ブチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイトGEプラスチック社製ウルトラノックス登録商標626化合物6-3:ビス2,4-ジクミルフェニルペンタエリスリトールジホスファイトドーヴァーケミカル社製ドーヴァーフォスS9228T化合物7-1:6,6’,6-[ニトリロトリスエチレンオキシ]トリス2,4,8,10-テトラ-t-ブチルジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピンBASF社製イルガフォス登録商標12化合物8-1:2,2-メチレンビス4,6-ジ-t-ブチルフェニルオクチルホスファイトアデカ社製アデカスタブ登録商標HP-10[2]熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の評価以下の実施例および比較例で得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性を以下のようにして評価した。まず、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを用いて、滞留MFR試験を行った。該試験はJISK7210に準拠し、メルトインデクサL217-E14011、テクノセブン社製を、シリンダー内の温度270°Cおよび荷重2.16kgの条件で用いて、滞留前MFRg/10分と滞留後MFRg/10分とを測定した。滞留前MFRは、該シリンダー内に熱可塑性ポリマー組成物のペレットを充填して5分間の予熱時間を取った後に測定した。滞留後MFRは、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを該シリンダー内で予熱時間を含めて合計30分間滞留させた後に測定した。このようにして得られた滞留前MFRと滞留後MFRとから、下記式に基づきMFR変動率を計算した:MFR変動率=滞留後MFR-滞留前MFRの絶対値×100/滞留前MFRMFR変動率が小さいほど、熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性が良好である。実施例1:加工安定化剤の製造表Iに記載する量で、化合物1-1およびマルチトールを混合して、加工安定化剤を製造した。実施例2:加工安定化剤の製造表Iに記載する量で、化合物1-1、マルチトールおよび化合物2-1を混合して、加工安定化剤を製造した。実施例3:熱可塑性ポリマー組成物の製造実施例1で得られた加工安定化剤0.21部と、スチレン-ブタジエンブロック共重合体旭化成社製アサフレックス830100部とをドライブレンドした後、得られた混合物をスクリュー径30mmの単軸押出機田辺プラスチック社製VS30-28型押出機を用いて温度230°Cおよびスクリュー回転数50rpmの条件で混練押出してストランドを得て、このストランドをペレタイザーで切断することによって、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表IIに示す。実施例4:熱可塑性ポリマー組成物の製造実施例1で得られた加工安定化剤に替えて、実施例2で得られた加工安定化剤0.51部を使用したこと以外は実施例3と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表IIに示す。比較例1:熱可塑性ポリマー組成物の製造実施例1で得られた加工安定化剤に替えて、化合物1-10.2部のみを使用したこと以外は実施例3と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表IIに示す。実施例5:加工安定化剤の製造表Iに記載する量で、化合物1-2およびマルチトールを混合して、加工安定化剤を製造した。実施例6:加工安定化剤の製造表Iに記載する量で、化合物1-3およびマルチトールを混合して、加工安定化剤を製造した。実施例7:熱可塑性ポリマー組成物の製造実施例1で得られた加工安定化剤に替えて、実施例5で得られた加工安定化剤0.2部を使用し、スチレン-ブタジエンブロック共重合体に替えて、ポリプロピレン住友化学社製ノーブレン100部を使用したこと以外は実施例3と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表IIに示す。比較例2:熱可塑性ポリマー組成物の製造実施例5で得られた加工安定化剤に替えて、化合物1-20.1部のみを使用したこと以外は実施例7と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表IIに示す。実施例8:熱可塑性ポリマー組成物の製造実施例5で得られた加工安定化剤に替えて、実施例6で得られた加工安定化剤0.2部を使用したこと以外は実施例7と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表IIに示す。比較例3:熱可塑性ポリマー組成物の製造実施例6で得られた加工安定化剤に替えて、化合物1-30.1部のみを使用したこと以外は実施例8と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表IIに示す。表IIに示す結果から、化合物1を単独で使用する場合に比べて、化合物1とマルチトールとを併用することによって、熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性が向上することが分かる。また、化合物1に加えて化合物2を使用する場合も、マルチトールを併用することによって、熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性が向上することが分かる。実施例9~76:加工安定化剤の製造表III-1~III-3に記載の原料を混合することによって、加工安定化剤が得られる。実施例77~141:熱可塑性ポリマー組成物の製造表IV-1およびIV-2に記載の熱可塑性ポリマーおよび加工安定化剤を使用すること以外は実施例3と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットが得られる。表IV-1およびIV-2に記載の熱可塑性ポリマーの略号の意味は、以下の通りである。P-1:高密度ポリエチレンHDPEP-2:低密度ポリエチレンLDPEP-3:直鎖状低密度ポリエチレンLLDPEP-4:エチレン-ビニルアルコール共重合体EVOHP-5:エチレン-アクリル酸エチル共重合体EEAP-6:エチレン-酢酸ビニル共重合体EVAP-7:プロピレン-エチレンランダム共重合体P-8:プロピレン-α-オレフィンランダム共重合体P-9:プロピレン-エチレン-α-オレフィン共重合体P-10:ポリスチレンPSP-11:アクリロニトリル-スチレン共重合体SANP-12:アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体ABSP-13:特殊アクリルゴム-アクリロニトリル-スチレン共重合体P-14:アクリロニトリル-塩素化ポリエチレン-スチレン共重合体ACSP-15:ポリブタジエンゴムBRP-16:スチレン-ブタジエン共重合体SBP-17:スチレン-ブタジエンブロック共重合体SBSP-18:塩素化ポリエチレンCPEP-19:ポリクロロプレンP-20:塩素化ゴムP-21:ポリ塩化ビニルPVCP-22:ポリ塩化ビニリデンPVDCP-23:メタクリル樹脂P-24:フッ素樹脂P-25:ポリアセタールPOMP-26:グラフト化ポリフェニレンエーテル樹脂P-27:ポリフェニレンサルファイド樹脂PPSP-28:ポリウレタンPUP-29:ナイロン6Ny6P-30:ナイロン11Ny11P-31:ナイロン12Ny12P-32:ナイロン610Ny610P-33:ナイロン612Ny612P-34:ナイロンMXD6NyMXD6P-35:ポリエチレンテレフタレートPETP-36:ポリブチレンテレフタレートPBTP-37:ポリ乳酸PLAP-38:ポリカーボネートPCP-39:ポリアクリレートP-40:ポリスルホンPPSUP-41:ポリエーテルエーテルケトンPEEKP-42:ポリエーテルスルホンPESP-43:芳香族ポリエステルP-44:ジアリルフタレートプレポリマーP-45:シリコーン樹脂SIP-46:1,2-ポリブタジエンP-47:ポリイソプレンP-48:ブタジエン-アクリロニトリル共重合体NBRP-49:エチレン-メチルメタクリレート共重合体EMMAP-50:スチレン-エチレン-ブチレン-スチレンブロック共重合体SEBSP-51:スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体SISP-52:スチレン-ブタジエン系熱可塑性エラストマーP-53:ポリ塩化ビニル系熱可塑性エラストマー"