個々に読み取り可能な受光素子エレメントの、好ましくはマトリクス形式の二次元配列からなる、共焦点レーザ走査顕微鏡の調整可能なピンホール。光源と、走査装置及び対物レンズを通る、空間的に限定された、好ましくは点状の照明光点によってプローブを照明する照明ビーム光路と、前記対物レンズ及び前記走査装置を通って検出ビーム光路に達するプローブ光を検知する検出ビーム光路とを備えるレーザ走査顕微鏡において、前記検出ビーム光路には、空間的に限定された検出光点へのプローブ光を1つの面に焦点調節する焦点調節手段が設けられており、前記面には、調整可能なピンホールをシミュレーションするために、個々に読み取り可能な受光素子エレメントの、好ましくはマトリクス形式の二次元配列が設けられている、レーザ走査顕微鏡。少なくとも2つの照明光点による同時多点走査装置と、前記少なくとも2つの照明光点に割り当てられた、少なくとも2つの検出ビーム光路を備える検出器とを備える、請求項2に記載のレーザ走査顕微鏡。前記検出光点を検知する検出エレメントの第1のグループと、該グループの周囲に集められた検出エレメントの第2のグループとが設けられており、前記第2のグループによる光検知が、z焦点調節の調整信号又は焦点ぼけの状態を検知する評価信号を生成する、請求項2又は3に記載のレーザ走査顕微鏡。前記ピンホールの代わりに配置されている受光素子エレメントが個々に読み取られ、前記受光素子エレメント数n-1の前記信号の可変結合により、実質的に検出光点によって検出光が当てられる部分だけが検出されることを特徴とする、好ましくは請求項2~4のいずれか一項に記載のレーザ走査顕微鏡における、調整可能なピンホールの作動方法。走査画像の作成後、検出された前記部分及び/又は読み取られた前記受光素子エレメント数及び前記ピンホールの寸法が縮小又は拡大され、少なくとももう1つの走査画像が、画像範囲の二次元走査により作成される、請求項5に記載の方法。読み取られた前記受光素子エレメントの配置の形が検出光点の形に合わせられることを特徴とする、請求項5または6に記載の方法。前記LSMの作動条件の変更時に、好ましくは光学系の変更時に、又は最初の画像撮影前に、検出光を当てられた前記部分が前記受光素子エレメントの読取りによって検索され、次の検出のために少なくとも部分的に利用される、請求項5~7のいずれか一項に記載の方法。光を当てられた前記部分の検索後、前記部分に共通の対称点又は共通の対称軸を有する検出エレメントグループが検出に利用される、請求項5~8のいずれか一項に記載の方法。前記検出光点を検知する検出エレメントの第1のグループと、該グループの周囲に集められた検出エレメントの第2のグループとが設けられており、前記第2のグループによる光検知が、z焦点調節の調整信号又は焦点ぼけの状態を検知する評価信号を形成する、請求項5~9のいずれか一項に記載の方法。少なくとも2つの照明光点による同時多点走査装置を備えるレーザ走査顕微鏡と、これらの前記2つの照明光点に割り当てられた、少なくとも2つの検出ビーム光路を備える検出器とが作動する、請求項5~10のいずれか一項に記載の方法。図4~図6は、マトリクス状に配置された、個々に読取り可能かつ同時切替え可能な受光素子Eと、このマトリクスに焦点を合わされたビームスポットSと、検出ビームと、アクティブになっている読み取られる検出マトリクスの受光素子EAと、を一緒に示した図である。図2では、ビームスポットSが、唯一の検出器エレメントEAをだけを読み取ることができる範囲及び位置にある。マトリクス上のスポットSの位置は、例えば、個々のエレメントEを交互にオン/オフに切り替えることによって、実際の測定走査プロセス前に検知することができる。この方法で、上述の従来技術で説明されている複雑な修正が省略され、さらに正確な測定が可能となる。図3では、より大きなスポットSを評価するため複数のエレメントEAがアクティブかつ読み取り可能になっており、これらのエレメントは、その作用において、ここでは図2よりも大きなピンホールをシミュレーションしている。図4には、円形から逸脱した楕円体のスポットSが示されているが、このスポットは、アクティブなエレメントEAが相応に楕円体に分布していることにより完全に読み取ることができる。従来の通常のピンホールは一般的に円形、四角形またはひし形の基本形状に限定されていたが、従来技術とは反対に、アクティブな受光素子エレメントの選択により、ほとんど任意にそれぞれのピンホール形状を選ぶことができる。受光素子マトリクスの残りのエレメントEが非アクティブになることにより、散光及びプローブのビーム集束に由来しないその他の不都合な光が抑制される。この場合、アクティブなエレメントを適切に増加又は減少させることにより、走査画像を作るための走査プロセスを繰り返す直前にピンホールサイズを変更することができる。このことは、例えば、いわゆるオーバーサンプリングにおいてピンホールサイズを縮小する場合に用いられ、ここでは特に簡単な方法で実現することができる。もちろん、このオーバーサンプリングの代わりに、ピンホール直径を拡大するアンダーサンプリングも設定することができる。本発明の強みはまさにその変動性にあり、その場合、機械的な調整エレメントを用いる必要がない。これまではピンホールの移動が上述のように複雑に行われていたが、図5に示されているように、以前にアクティブだった受光素子面Ealtは、Sの位置に合わせて、新しい受光素子面Eneuに簡単に移ることができる。このことは、様々なレンズ又は対物レンズを交換するような顕微鏡光学系の変更時に比較的頻繁に行われ、簡単な方法で調整可能であり、自動化することができる。図6には、アクティブな受光素子分布EAの他に、この周りに集まっているさらなる受光素子分布EA1が示されている。このことは、スポットの寸法及び/又は形状を変化させる場合に有利であり得る。このケースは、焦点調節が一定しており、プローブのz調整が行われる場合に当てはまる。この場合、形状又は寸法の変更から高さの情報を導き出すことができる。例えば、スポットSのエレメントEA1に光が当てられた場合、高さ修正再焦点調節の調整信号などを発信することができる。図7には、内蔵回路I1の上に配置されたマトリクス状のAPD配列の実施例が示されており、この内蔵回路I1は、増幅回路I2及びカウンタ回路I3などのその他の回路と共に、例えば相互接続方式で接続することができる。I1は、例えば、個々の光子のカウンタとなることができ、このカウンタは、光子を受光した後の各APDを、各APDが内部のリセット回路によってリセットされる前に検知し、個々のAPDの信号光子を読み取って数えて、I2のルーターリンカーに転送する。I2では、個々に数えられた光パルスの調整可能な結合が行われ、これらの光パルスは、例えば、メインコンピュータの負荷軽減のため、及び評価ユニットコンピュータAE方向への走査プロセスとの同期による画像合成のため、GPUグラフィックプロセッサーを介してI3に伝送される。図8には、図1~図7と同じ方法で配置され、I/Uコンバーターと、A/Dで表されているADコンバーターとによって個々に読み取られる複数のPMTが示されている。APDの代わりにマトリクス状に配置されたPMTを使用する場合は、APDとPMTとの直径比APDは約150μm、PMT20mmにより、同業者によって可能な調整枠内において、光学的条件の変更ビーム拡大が必要であるのは当然のことである。