"落射照明装置で被検物を照明または前記被検物に投影パターンを投影し、光軸方向にスキャンして前記被検物または前記投影パターンを結像光学系の撮像装置で撮像し、前記撮像装置における合焦測度値が最大となる位置を前記被検物の表面位置として高さ値を取得する高さ測定装置の高さ測定方法であって、前記被検物表面の傾斜角度に応じた高さ補正値を角度補正値として予め求め、前記撮像装置の各画素の前記高さ値から前記各画素位置に対応する前記被検物表面の前記傾斜角度を求め、求められた前記傾斜角度に対応する前記高さ補正値を前記角度補正値から求め、求められた高さ補正値を用いて前記各画素に対応する前記被検物の表面の高さ値を補正することを特徴とする高さ測定方法。前記各画素位置に対応する前記被検物表面の傾斜角度を前記各画素の高さ値から求められた前記被検物表面の仮傾斜角度として求め、当該仮傾斜角度に対応する前記高さ補正値を前記各画素の前記高さ値に加減することを特徴とする請求項1に記載の高さ測定方法。前記仮傾斜角度に対応する高さ補正値を加減した前記各画素の高さ値から収束計算により前記各画素位置に対応する前記被検物表面の傾斜角度と高さ補正値とを計算することを特徴とする請求項1または2に記載の高さ測定方法。前記角度補正値は、前記撮像装置で撮像された一画面に対する前記傾斜角度と前記高さ補正値であることを特徴とする請求項1に記載の高さ測定方法。前記一画面に対する前記高さ補正値は、前記各画素位置に対応する前記被検物表面の傾斜角度から求められる最小二乗平面の中心値からのずれ値であることを特徴とする請求項4に記載の高さ測定方法。予め前記高さ補正値を求める際に使用する前記被検物は、基準平面鏡であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の高さ測定方法。予め前記高さ補正値を求める際に使用する前記被検物は、球径が既知の基準球であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の高さ測定方法。前記被検物は、テクスチャーパターンを有し、前記テクスチャーパターンと前記投影パターンの空間周波数は異なり、前記角度補正値は、前記各画素位置に対応する前記被検物表面の傾斜角度と、前記テクスチャーパターンによる高さ値測定結果と前記投影パターンによる高さ値測定結果との差分からなる前記高さ補正値であることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の高さ測定方法。落射照明装置で被検物を照明または前記被検物に投影パターンを投影し、光軸方向にスキャンして前記被検物または前記投影パターンを結像光学系の撮像装置で撮像し、前記撮像装置における合焦測度値が最大となる位置を前記被検物の表面位置として高さ値を取得する高さ測定装置の高さ測定用プログラムであって、請求項1から8のいずれか1項に記載の高さ測定方法をコンピュータに実行させる高さ測定用プログラム。落射照明装置で被検物を照明または前記被検物に投影パターンを投影し、光軸方向にスキャンして前記被検物または前記投影パターンを結像光学系の撮像装置で撮像し、前記撮像装置における合焦測度値が最大となる位置を前記被検物の表面位置として高さ値を取得する高さ測定装置であって、請求項1から8のいずれか1項に記載の高さ測定方法と、請求項9に記載の高さ測定用プログラムを実行するコンピュータとを備えることを特徴とする高さ測定装置。落射照明装置で被検物を照明または前記被検物に投影パターンを投影し、光軸方向にスキャンして前記被検物または前記投影パターンを結像光学系の撮像装置で撮像し、前記撮像装置における合焦測度値が最大となる位置を前記被検物の表面位置として高さ値を取得する高さ測定装置の高さ測定用プログラムであって、コンピュータを、前記被検物表面の傾斜角度に対する高さ補正値を予め角度補正値として取得する取得手段、前記撮像装置で撮像した像の各画素の高さ値から当該各画素位置に対応する前記被検物表面の傾斜角度を求める角度算出手段、求められた当該傾斜角度に対応する前記高さ補正値を前記角度補正値から求め、求められた高さ補正値を前記測定した高さ値に加減する高さ値補正手段、として機能させることを特徴とする高さ測定用プログラム。落射照明装置で被検物を照明または前記被検物に投影パターンを投影し、光軸方向にスキャンして前記被検物または前記投影パターンを結像光学系の撮像装置で撮像し、前記撮像装置における合焦測度値が最大となる位置を前記被検物の表面位置として高さ値を取得する高さ測定装置であって、予め取得された前記被検物表面の傾斜角度に対する高さ補正値を角度補正値として保存する保存手段と、前記撮像装置で撮像した像の各画素の高さ値から当該各画素位置に対応する前記被検物表面の傾斜角度を求める角度算出手段と、求められた当該傾斜角度に対応する前記高さ補正値を前記角度補正値から求め、求められた高さ補正値を前記測定した高さ値に加減する高さ値補正手段と、を備えることを特徴とする高さ測定装置。以下、本願の一実施の形態にかかる高さ測定方法、高さ測定プログラム、および高さ測定装置について図面を参照しつつ説明する。なお、以下の実施の形態は、発明の理解を容易にするためのものに過ぎず、本願発明の技術的思想を逸脱しない範囲において当業者により実施可能な付加置換等を施すことを排除することは意図していない。図1、図2において、実施形態にかかる高さ測定装置1は、XYステージ10上にチルト回転ステージ12が載置され、このチルト回転ステージ12上に被検物14が載置される。被検物14は、チルト回転ステージ12によりθ、Φの2軸の傾斜が行われる。チルト回転ステージ12の傾斜角度θ、ΦはθΦ制御部16を介してコンピュータ18で制御される。また、XYステージ10の移動は、XY制御部20を介してコンピュータ18で制御される。計測光学系は、落射照明装置22と結像光学系24とから構成され、計測光学系全体が結像光学系24の光軸Z方向に沿ってZ方向駆動部26で駆動される。Z方向駆動部26は、Z方向駆動制御部28を介してコンピュータ18で駆動が制御される。なお、Z方向への移動は、XYステージ10を移動しても良い。落射照明装置22は、光源22aと、光源からの光を集光して投影パターン22bに照射するレンズ22cと、投影パターン22bからの光をハーフミラー30方向に射出するレンズ22dと、ハーフミラー30で反射された投影パターンを被検物14上に投影する対物レンズ32とから構成されている。投影パターン22bは、格子状パターン、市松模様パターン、ストライプ状パターンなど種々のパタ-ンが使用可能で、被検物14の表面状態あるいは後述する周波数分離法等により適宜選択して投影される。なお、投影パターン22bは落射照明装置22の光軸に挿脱可能であり、光軸から外すと通常の落射照明が可能となる。また、以下の説明では、投影パターンを被検物14に投影した場合について説明するが、通常の落射照明でも同様であることは言うまでもない。被検物14上に投影された投影パターンは、対物レンズ32で集光され、ハーフミラー30を透過して、ズームレンズ34を介して結像レンズ36で複数の画素から成る撮像装置38の撮像面例えば、CCD上に結像される。撮像された被検物14の像は、コンピュータ18の画像処理部で処理され、コンピュータ18のメモリ18bに記憶されると共にディスプレイ18cに表示される。本実施形態にかかる高さ測定装置1は、公知のSFFShapeFromFocusの略、以下同様により被検物14の表面の高さを測定することができる装置である。SFF法では、計測光学系を光軸方向に移動させながら被検物14上に投影された投影パターンの合焦測度値情報である、例えばコントラストが最大となる位置を被検物表面位置として高さ測定を行う。SFF法に付いては公知の方法であり、詳細な説明は省略する。図2に示すように、コンピュータ18は、CPU18a、メモリ18b、SFF高さデータ演算部18e、駆動制御部16、20、28を制御する装置制御部18d、及び各種制御用あるいは演算用のプログラムを含んでいる。またコンピュータ18には、条件等を入力するための入力装置19例えば、キーボード、マウスなどや、ハードディスク等の外部記憶装置21等が接続されている。また、本実施形態にかかる高さ測定装置1では、被検物14の表面の傾斜角度θや高さ値を測定する不図示の接触式測定子以後、テストポイントTPと略記するを配設することが可能であり、このTPで測定した傾斜角度や高さ値をコンピュータ18に取り込み後述する角度補正値を取得することが可能である。このようにして、本実施形態にかかる高さ測定装置1が構成されている。従来の高さ測定装置1では、SFF測定の際に使用する落射照明装置22や結像光学系24に球面収差等の光学的諸収差があると、被検物14の表面の高さ値が表面の傾斜角度によってずれて測定され、高さ値に誤差を含んでしまうことが見出された。なお、傾斜角度とは、光線が当たった位置での物体接平面の法線と鉛直軸光軸に対応とがなす角度のことを言う。そして、この高さ値の誤差は、光学系に球面収差等の諸収差があるとき、被検物14の表面の傾斜角度に依存して変化する。これは、レンズで構成される光学系では、光軸I付近より周辺部が球面収差等の諸収差が大きいため被検物14の表面の傾斜角度が大きくなるほど表面で反射された光の主光線がレンズの周辺を通過することになり、高さ値の誤差が大きくなることによる。本高さ測定装置1では、このような光学的諸収差に起因する誤差の補正を可能にし、被検物14の表面のより正確な高さ値を測定することを達成するものである。図3A、図3Bは、高さ値の誤差を概念的に示す図である。光学系の諸収差は、一般的に回転対称なので上記傾斜角度も一つの成分を代表として使用することができるが、非対称成分のある光学系では、非対称に伴うn成分の角度データが必要になる。以下の説明では回転対称な場合について述べるが非対称な成分を持つ場合にはそれに対応したデータを持つことは言うまでもない。図3Aは、本高さ測定装置1に不図示のTPを配設して、被検物14の三次元形状を測定した結果の鉛直軸光軸と同等Iを含む断面を示している。被検物14の表面をTPで計測した時には、高さ値に誤差は含まれず真の高さ値Zが得られる。被検物14の位置Pにおける物体接平面kの法線nと鉛直軸Iとのなす角度傾斜角度θは、少なくとも3つのTP測定データから算出することができる。TP計測では、被検物14の表面の高さ値を各位置の傾斜角度θの関数として取得する。これをZθと記す。一方、同じ被検物14の表面の高さ値を本高さ測定装置1で計測した場合、球面収差等の影響で誤差を含んだ高さ値Z’が測定される。図3Bに示すように、計測された被検物14の表面像の高さ値Z’は、被検物14の位置Pに対応する撮像装置38図1参照の画素位置における高さ値として取得される。また、この画素位置における傾斜角度θは、この画素周辺の少なくとも3つの画素の高さ値から算出することができる。ここでも傾斜角度θは、光軸Iと光線が入射した位置の物体接平面の法線nとがなす角度である。このように、本高さ測定装置1では、取得した被検物14の表面像の傾斜角度θと高さ値Z’を取得することができる。これをZ’θと記す。そして、被検物14をTPで計測して取得した高さ値Zθと同じ被検物14を本高さ測定装置1で計測して取得したZ’θとの差分ΔZθを高さ補正値ΔZθとして取得するΔZθ=Z’θ-Zθ。色々な傾斜角度に対して高さ補正値ΔZを取得して種々の傾斜角度θと高さ補正値ΔZとの関係を角度補正値としてコンピュータ18のメモリ18bに保存する。図4は、撮像装置38の一つの画素について種々の傾斜角度θと高さ補正値ΔZの関係をグラフ化した一例である。傾斜角度θが大きくなるに従って高さ補正値ΔZが大きくなる様子が示されている。これは、上述のようにレンズで構成される光学系では、光軸I付近より周辺部が球面収差等の諸収差が大きいため被検物14の表面の傾斜角度θが大きくなるほど表面で反射された光の主光線がレンズの周辺を通過することになり、高さ値の補正値が大きくなることによる。そして、図4に示す傾斜角度と補正値の関係を元に、傾斜角度を測定していない角度については、測定されているデータから補間計算をして求めることで種々の傾斜角度に対する高さ補正値を得ることができる。このように、本高さ測定装置1では、落射照明装置22や結像光学系24の条件に対応する上記角度補正値を予め取得してメモリ18bに保存し、高さ測定装置1で計測した被検物14の表面像の光線入射位置に対応する画素の傾斜角度をこの画素の周辺画素から算出し、算出された傾斜角度に対応する高さ補正値で計測された画素の高さ値を補正することで、被検物14の真の高さ値Z=Z’-ΔZを算出することができる。そして、被検物14の表面全てで同様の処理を行うことで被検物14の高さ値をより正確に取得することが可能になる。図5、図6は、本高さ測定装置1において、上記角度補正値の内容について概念的に示す図である。図5では、角度補正値のデータは、各傾斜角度例えば、θ1~θ5毎に撮像装置38の全ての画素毎に高さ補正値を取得して保存する場合を示す。この場合、補正データは、測定する傾斜角度の数と画素数とを掛け算した分の数を有することになる。このような全画素に対応する位置の傾斜角度に応じた高さ補正値は、光学系の球面収差等の諸収差による高さ測定値への影響が大きい場合に適している。例えば、光軸付近の画素位置に対して周辺付近の画素位置の角度補正値傾斜角度に対する高さ補正値ΔZが大きくなる場合一傾斜角度θに対する画素毎の高さ補正値ΔZが大きくばらついている場合に相当する、一つの高さ補正値で測定された高さ値を補正すると精度が不足することになり、正確な高さ値を求めることができなくなる虞があるが、全画素に対応する高さ補正値を持つことで高精度の高さ値の補正を行うことができる。このように、全画素に対応する位置の傾斜角度に応じた高さ補正値を持つことで、諸収差の大きな光学系でも高精度の高さ値補正を行うことができる。図6では、角度補正値のデータは、各傾斜角度例えば、θ1~θ5毎に撮像装置38の全ての画素位置の高さ補正値を用いて最小二乗平面を算出し、この最小二乗平面の中心からのずれを代表高さ補正値として取得して保存する場合を示す。この場合、補正データは、測定する傾斜角度の数分のデータを有することになる。このような傾斜角度に応じた代表高さ補正値をデータとして持つのは、光学系の球面収差等の諸収差による高さ測定値への影響が小さい場合に適している。例えば、光軸付近の画素位置に対して周辺付近の画素位置の角度補正値傾斜角度に対する高さ補正値ΔZが小さい場合一傾斜角度θに対する画素毎の高さ補正値ΔZのばらつきが小さい場合に相当する、一つの高さ補正値で測定された高さ値を補正しても高精度で高さ補正を行うことができる。このように、一画面一括で傾斜角度に応じた高さ補正値を持つことで、少ないデータ量で高精度の高さ値補正を行うことができ、高さ測定装置1における計測の高速化を図ることができる。なお、角度補正値を全画素に対応して持つか、画面一括で持つかは、高さ測定装置1の光学系の収差特性により適宜選択すればよい。また、角度補正値は、傾斜角度により全画素データと画面一括データとを混在して持つことも可能である。収差の影響が小さい傾斜角度では画面一括の高さ補正値を持ち、収差の影響が大きい傾斜角度では全画素位置の高さ補正値を持つようにしても良い。これにより角度補正値のデータ量を少なくすることができる。次に、角度補正値の取得方法と、この角度補正値を用いて計測された高さ値の補正方法について、それぞれフローチャートを参照しつつ説明する。第1の角度補正値取得方法図7は、基準平面を用いて角度補正値を取得する第1の角度補正値取得方法を示すフローチャートであり、以下ステップに従って説明する。なお、本取得方法では、基準平面がテクスチャー等のコントラストが得られるものであれば落射照明装置22による投影パターン22bの投影は不要であり、コントラストが得られない鏡面表面の場合には投影パターン22bを投影してSFF測定することは言うまでもない。ステップS1作業者は、高さ測定装置1のチルト回転ステージ12上に基準平面鏡面を載置して、コンピュータ18に測定角度の初期角度値θ0と測定角度間隔値Δθと測定数n、および画素毎の高さ補正値を取得するか否かを入力する。ステップS2XYステージ10とチルト回転ステージ12とがそれぞれXYステージ制御部20、θΦ制御部16を介してコンピュータ18からの指示を受けて基準平面を所定の位置、および初期角度値θ0に設定する。ステップS3コンピュータ18は、不図示のTP装置で基準平面を多点測定し、多点測定した位置に対応する撮像装置38の各画素位置における高さ値を演算し記録する。ステップS4コンピュータ18は、記録されたTP装置による高さ値から最小二乗法等により基準平面の平面式を求める。また、基準平面に垂直な法線を求め、この方線と鉛直軸光軸に相当するとのなす角度を傾斜角度として記録する。ステップS5コンピュータ18は、撮像装置38を用いる高さ測定装置1のSFF測定により、上記基準平面の高さ値を測定し、撮像装置38の各画素位置におけるSFF高さ値として記録する。ステップS6コンピュータ18は、ステップS1で入力されている画素毎の高さ補正値を取得するか否かにより以後の処理を選択する。画素毎の高さ補正値を取得する時はステップS7を、画面一括の高さ補正値を取得する時はステップS8を実行する。ステップS7コンピュータ18は、ステップS3で記録された、TP装置で取得した各画素に対応する位置の高さ値測定データと、ステップS4で記録された、各画素位置におけるSFF高さ値との差分を計算しステップS10を実行する。ステップS8コンピュータ18は、ステップS5で記録された、各画素位置におけるSFF高さ値から、最小二乗平面を計算する。なお、最小二乗平面の計算以外に全画素に対応する位置の高さ値の平均値を算出しても良い。ステップS9コンピュータ18は、ステップS8で算出された最小二乗平面とステップS4で算出された平面式との差分を高さ補正値として算出してステップS10を実行する。なお、高さ補正値として、全画素の高さ値の平均値とステップS4で算出された平面式に置ける平均高さ値との差分を用いても良い。ステップS10コンピュータ18は、各画素に対応する位置における高さ補正値と傾斜角度と関連付けてメモリ18bに角度補正値として保存する。あるいは、コンピュータ18は、角度補正値として傾斜角度に対する画面一括の高さ補正値をメモリ18bに保存する。ステップS11コンピュータ18は、測定数が初期にステップS1で入力した測定数nに達したか否かを判定し、達していなければステップS2に戻り、次の傾斜角度θ=θ0Δθ×nに対する角度補正値を取得する。測定数nに達している場合、角度補正値の取得フローを終了する。以上のステップで、コンピュータ18は第1の角度補正値取得を終了する。取得した角度補正値は、後述するフローにより高さ測定装置1における高さ値補正に使用され、高精度の高さ測定が達成される。第2の角度補正値取得方法図8は、基準平面を用いて角度補正値を取得する第2の角度補正値取得方法を示すフローチャートであり、以下ステップに従って説明する。なお、本取得方法では、基準平面がテクスチャーパターンを有し、落射照明装置22による投影パターン22bを投影してSFF測定し、両者の高さ値測定データから角度補正値を取得するものである。また、第1角度補正値取得方法と同様のステップには同じステップ番号を付し説明する。なお、投影する投影パターン22bとテクスチャーパターンの周波数成分は異なっていることが好ましい。異なる周波数成分のパターンを使うことで高さ計測時における両者の分離が可能となる。ステップS1作業者は、高さ測定装置1のチルト回転ステージ12上に基準平面テクスチャー有りを載置して、コンピュータ18に測定角度の初期角度値θ0と測定角度間隔値Δθと測定数n、および画素毎の高さ補正値を取得するか否かを入力する。ステップS2XYステージ10とチルト回転ステージ12とがそれぞれXYステージ制御部20、θΦ制御部16を介してコンピュータ18からの指示を受けて基準平面を所定の位置、および初期角度値θ0に設定する。ステップS23コンピュータ18は、高さ測定装置1の落射照明装置22で投影パターン22bを表面に投影してSFF測定を行い、撮像装置38の各画素位置に対応する高さ値をSFF高さデータ演算部18eで演算し記録する。このとき高さ測定装置1は、投影パターン22bの周波数成分で高さ値を計測するように設定されている。ステップS24コンピュータ18は、テクスチャーパターンによるSFF測定を行い、撮像装置38の各画素位置に対応する高さ値をSFF高さデータ演算部18eで演算し記録する。このとき高さ測定装置1は、テクスチャーパターンの周波数成分で高さ値を計測するように設定されている。ステップS25コンピュータ18は、ステップS23に記録された基準平面上の投影パターン22bを投影して取得した各画素位置における高さ値とステップS24で記録されたテクスチャーパターンで取得した各画素位置における高さ値との差分を計算し、各画素位置における高さ値の差分を取得する。ステップS26コンピュータ18は、ステップS1で入力されている画素毎の高さ補正値を取得するか否かにより以後の処理を選択する。画素毎の高さ補正値を取得する時はステップS27を、画面一括の高さ補正値を取得する時はステップS28を実行する。ステップS27コンピュータ18は、ステップ25で算出された差分を高さ補正値とし、ステップS10を実行する。ステップS28コンピュータ18は、ステップS23で記録された投影パターン22bを投影して取得した各画素位置における高さ値と、ステップS24で記録されたテクスチャーパターンで取得した各画素位置における高さ値とから、最小二乗平面をそれぞれ計算する。なお、最小二乗平面の計算以外に全画素の高さ値の平均値をそれぞれ算出しても良い。ステップS29コンピュータ18は、ステップS28で算出されたそれぞれの最小二乗平面の差分を高さ補正値として算出してステップS10を実行する。なお、高さ補正値として、全画素の高さ値の平均値をそれそれ算出した場合は、両平均値の差分を用いても良い。ステップS10コンピュータ18は、各画素に対応する位置の高さ補正値と傾斜角度と関連付けてメモリ18bに角度補正値として保存する。あるいは、コンピュータ18は、角度補正値として傾斜角度に対する画面一括の高さ補正値をメモリ18bに保存する。ステップS11コンピュータ18は、測定数が初期に入力した測定数nに達したか否かを判定し、達していなければステップS2に戻り、次の傾斜角度θ=θ0Δθ×nに対する角度補正値を取得する。測定数nに達している場合、角度補正値の取得フローを終了する。以上のステップで、コンピュータは第2の角度補正値取得を終了する。取得した角度補正値は、後述するフローにより高さ測定装置1における高さ値補正に使用され、高精度の高さ測定が達成される。第3の角度補正値取得方法図9は、基準球を用いて角度補正値を取得する第3の角度補正値取得方法を示すフローチャートであり、以下ステップに従って説明する。なお、本取得方法では、基準球の面がテクスチャー等のコントラストが得られるものであれば落射照明装置22による投影パターン22bの投影は不要であり、コントラストが得られない鏡面表面の場合には投影パターン22bを投影してSFF測定することは言うまでもない。また、被検物が球体であるため、高さ測定装置1のチルト回転ステージ12使用する必要が無くXYステージ12上から取り外されている。ステップS31作業者は、基準球の表面の位置座標X,Y、座標変位量ΔX、ΔY、測定数nをコンピュータ18に入力する。ステップS32コンピュータ18は、以下のステップの計測を繰り返す。ステップS33コンピュータ18は、XYステージ駆動制御部20を介して高さ測定装置1のXYステージ10を指定の位置に移動し、基準球を光学系の光路中にセットする。ステップS34コンピュータ18は、高さ測定装置1でSFFによる高さ値測定を行い、撮像装置38の各画素位置における高さ値をSFF高さ演算部18eで演算し記録する。ステップS35コンピュータ18は、基準球の表面の各画素位置における真の高さ値とSFFによる各画素位置における測定された高さ値との差分を計算し、高さ補正値として記録する。ここで、基準球の表面の真の高さ値は、前記基準球の表面の位置座標X、Yと、この座標位置における接平面の法線が鉛直軸光軸Iに対応となす傾斜角度とから求められる高さ値である。これは、基準球の半径をR、この傾斜角度をψとすると、真の高さ値Hは、H=R1cosψとなる。なお、上記真の高さ値は、上記方法により求める代わりに表面にテクスチャーを有する基準球を用いて、高さ測定装置1で高さ測定を行った結果の高さ値を用いることもできる。ステップS36コンピュータ18は、ステップS35で求められた各画素位置における傾斜角度と差分から求めた高さ補正値とを対にして記録する。ステップS37コンピュタ-18は、測定回数が初期設定した測定数nに達したか否かを判定し、測定数に達していない場合にはステップS32に戻り、位置座標X,Yに座標変位量ΔX,ΔYを加えた位置座標で以降のステップを実行する。測定回数が、測定数nに達した時は、ステップS38を実行する。ステップS38上記ステップS32からS37間で取得された複数の傾斜角度と高さ補正値を傾斜角度毎にデータを並び替え、計測されていない傾斜角度の高さ補正値を補間処理により求め記録する。ステップS39コンピュータ18は、上記傾斜角度のデータの最小値から最大値までステップS40からS46までの処理を繰り返し実行する。ステップS40コンピュータ18は、指定された傾斜角度最小値から最大値までにおける、高さ補正値を補間処理して記録したデータから抽出する。同一の傾斜角度で高さ補正値が複数個ある場合、それらの平均値をその傾斜角度における高さ補正値とする。ステップS41コンピュータ18は、画素毎の高さ補正値を取得するか否かにより以後の処理を選択する。画素毎の高さ補正値を取得する時はステップS42を、画面一括の高さ補正値を取得する時はステップS43を実行する。ステップS42コンピュータ18は、ステップS35で記録された傾斜角度に対応する各画素位置に対応する位置の高さ補正値とし、ステップS45を実行する。ステップS43コンピュータ18は、ステップS35で記録された傾斜角度に対応する各画素位置における高さ補正値から、最小二乗平面を計算する。なお、最小二乗平面の計算以外に全画素の高さ補正値の平均値を算出しても良い。ステップS44コンピュータ18は、ステップS43で算出された撮像装置の各画素位置における最小二乗平面における高さ補正値と基準球の各画素位置における高さとの差分を高さ補正値とし設定しステップS45を実行する。ステップS45コンピュータ18は、計算された高さ補正値と傾斜角度と関連付けてメモリ18bに角度補正値として保存する。この場合、一つの傾斜角度に対して撮像装置の画素数分の高さ補正値が記録される。あるいは、コンピュータ18は、角度補正値として傾斜角度に対する画面一括の高さ補正値をメモリ18bに保存する。ステップS46コンピュータ18は、傾斜角度が最小値から最大値まで行われたか否かを判定し、行われていない場合はステップS39にジャンプする。それ以外の場合は処理を終了する。以上のステップで、コンピュータは第3の角度補正値取得を終了する。取得した角度補正値は、後述するフローにより高さ測定装置1における高さ値補正に使用され、高精度の高さ測定が達成される。高さ値補正方法次に、上記第1から第3の角度補正値取得方法により取得された角度補正値を使用した、本高さ測定装置1の計測した高さ値の補正方法について図10のフローチャートを参照しつつ説明する。ステップS51コンピュータ18はメモリ18bに記憶されている角度補正値データをCPU18cのメモリに読み込む。ステップS52コンピュータ18は、XYステージ10に載置された被検物14について高さ測定装置1でSFF測定を行い、XYステージ10に載置された被検物14の表面の高さ値をSFF高さ演算部18eで演算し記録する。ステップS53コンピュータ18は、ステップS54からS55を繰り返し、全ての画素に対して行い、全画素に対応する位置における傾斜角度を算出する。ステップS54ステップ52において全ての高さ値計測が終了した後、コンピュータ18は、画素位置における被検物14の傾斜角度を対象画素周囲の3つの画素の高さ値から算出する。ステップS55コンピュータ18は、画素位置の算出された傾斜角度に対応する高さ補正値を角度補正値から求め、求められた高さ補正値で画素の高さ値を補正し、補正した高さ値を記録する。なお、高さ値の補正を画素毎に行う場合、コンピュータ18は、図5に示す傾斜角度と全画素に対する高さ補正値を保存した角度補正値を使用する。一方、高さ値の補正を画面一括で行う場合、コンピュータ18は、図6に示す傾斜角度と画面一括の高さ補正値を保存した角度補正値を使用する。ステップS56、S57コンピュータ18は、ステップS55で補正した画素毎の高さ値を用いて再度各画素の傾斜角度を算出する。そして、コンピュータ18は、全画素について、高さ補正する前の高さ値から計算された傾斜角度と、再度計算された傾斜角度との差分を計算し記録する。ステップS58コンピュータ18は、各画素の傾斜角度の差分値を集計する。ステップS59コンピュータ18は、差分値の集計値が予め決められている閾値以下であるか否かの判定をし、閾値以下であれば、計測を終了する。一方、コンピュータ18は、差分の集計値が閾値を超えている場合には、ステップS54にジャンプし以降の処理を繰り返す。このように、傾斜角度を繰り返し計算する収束計算を行うことにより、より正確な傾斜角度を求め、これによりより正確な高さ補正を行うことが可能になる。なお、上記各方法において、処理は、コンピュータ18のSFF高さデータ演算部18eやCPU18aで実行される各プログラムによって行われることは言うまでもない。以上述べたように、本実施形態にかかる高さ測定装置は、予め上記第1から第3のいずれかの角度補正値取得方法によって取得された傾斜角度に応じた高さ補正値からなる角度補正値を持つことで、この高さ補正値を用いて高さ測定装置で測定された被検物の高さ値を補正し、高さ測定装置で使われている光学系の球面収差等の諸収差による高さ値の誤差を補正することができ、高精度の高さ測定を行うことができる。この結果、本高さ測定装置は、被検物の三次元形状をより正確に計測することができる。"