"基材と、該基材の少なくとも一主面にある樹脂層と、該樹脂層の一主面にあり、無機酸化物を含む無機酸化物層とを備え、上記樹脂層は、シクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む樹脂組成物が硬化されたものであるガスバリア基材。上記シクロアルカン構造含有重合性化合物は、一般式Aで表される重合性化合物である請求項1に記載のガスバリア基材。式中、Aは酸素を含有していてもよい脂肪族炭化水素環を示す。脂肪族炭化水素環は置換基を有していてもよい。Acは光重合性官能基を示す。mは1~2である。上記高酸価フタル酸構造含有重合性化合物は、一般式Bで表される重合性化合物である請求項1に記載のガスバリア基材。式中、R1は炭素数1~3の2価の炭化水素基を示す。Acは光重合性官能基を示す。上記一般式Aで表される重合性化合物は、式1~式3で表されるアクリレートから選ばれた少なくとも1種である請求項2に記載のガスバリア基材。上記一般式Bで表される重合性化合物は、式4で表されるアクリレートである請求項3に記載のガスバリア基材。上記樹脂組成物は、添加剤として、リン酸アクリレートをさらに含み、上記リン酸アクリレートは、式5で表されるアクリレートである請求項1に記載のガスバリア基材。上記樹脂組成物は、開始剤をさらに含み、上記開始剤は、式6または式7で表される化合物を含む請求項1に記載のガスバリア基材。式中、Rはエチル基を示す。上記無機酸化物は、金属酸化物である請求項1に記載のガスバリア基材。上記金属酸化物は、アルミナである請求項8に記載のガスバリア基材。上記基材は、プラスチックフィルムである請求項1に記載のガスバリア基材。上記プラスチックフィルムは、ポリエチレンナフタレートフィルムである請求項10に記載のガスバリア基材。樹脂層と、該樹脂層の一主面にあり、無機酸化物を含む無機酸化物層とを備え、上記樹脂層は、シクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む樹脂組成物が硬化されたものであるガスバリア積層体。本技術の技術分野では、より一層のガスバリア性の向上が求められている。したがって、本技術の目的は、ガスバリア性を向上できるガスバリア基材およびガスバリア積層体を提供することにある。上述した課題を解決するために、本技術は、基材と、基材の少なくとも一主面にある樹脂層と、樹脂層の一主面にあり、無機酸化物を含む無機酸化物層とを備え、樹脂層は、シクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む樹脂組成物が硬化されたものであるガスバリア基材である。本技術は、樹脂層と、樹脂層の一主面にあり、無機酸化物を含む無機酸化物層とを備え、樹脂層は、シクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む樹脂組成物が硬化されたものであるガスバリア積層体である。本技術では、樹脂層がシクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む樹脂組成物が硬化されたものである構成を有する。この構成により、無機酸化物層と樹脂層との密着性親和性が良好であるため、ガスバリア性を向上できる。本技術によれば、ガスバリア性を向上できる。以下、本技術の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、説明は、以下の順で説明する。1.一実施の形態ガスバリア基材の例2.他の実施の形態変形例1.一実施の形態本技術の一実施の形態によるガスバリア基材について説明する。図1は、本技術の一実施の形態によるガスバリア基材を示す断面図である。図1に示すように、このガスバリア基材は、基材1と、基材1の一主面に設けられたガスバリア積層体4とを備える。ガスバリア積層体4は、基材1の一主面に設けられた樹脂層2と、樹脂層2に積層された無機酸化物層3とを備える。なお、図1に示す例は、ガスバリア積層体4が基材1の一主面に設けられた構成であるが、ガスバリア積層体4は、基材1の両主面に設けられた構成であってもよい。基材基材1の材料としては、例えば、公知のプラスチック材料などの公知の高分子材料を用いることができる。公知の高分子材料としては、具体的には例えば、PENポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートPET、トリアセチルセルロースTAC、ポリエステルTPEE、ポリイミドPI、ポリアミドPA、アラミド、ポリエチレンPE、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレンPP、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂PMMA、ポリカーボネートPC、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。基材1の形状としては、例えば、フィルム状、プレート状、ブロック状を挙げることができるが、特にこれらの形状に限定されるものではない。ここで、フィルム状にはシート状が含まれるものと定義する。ガスバリア基材は、典型的には、例えば、基材1としてフィルム状のプラスチック材料からなるプラスチックフィルムを用いた、ガスバリアフィルムなどである。基材1の中でも、PENポリエチレンナフタレートフィルムは、表面の平滑性がよいため好ましい。樹脂層樹脂層2は、シクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む樹脂材料と、溶剤と、必要に応じて添加剤、開始剤などとを含む樹脂組成物を硬化させたものである。この樹脂層2と無機酸化物層3とから構成されたガスバリア積層体4では、優れた基材1との密着性およびガスバリア性を得ることができる。樹脂層2の厚みは、特に限定されるものではないが、典型的には、例えば、数十nm以上数μm以下、より具体的には、例えば、50nm以上2000nm以下に設定される。樹脂組成物樹脂材料樹脂材料は、シクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む。シクロアルカン構造含有重合性化合物シクロアルカン構造含有重合性化合物は、シクロアルカン構造と少なくとも1つの光重合性官能基とを含有する化合物である。光重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。シクロアルカン構造含有重合性化合物は、典型的には、シクロアルカン構造と、少なくとも1つのアクリロイル基とを有するシクロアルカン構造含有アクリレートである。なお、シクロアルカン構造は、炭化水素のみで構成された環構造に加えて、炭化水素と酸素で構成された酸素含有炭化水素環構造も含む。環構造は、単環構造、橋かけ環構造、スピロ環構造を含む。シクロアルカン構造含有重合性化合物としては、例えば、一般式Aで表される重合性化合物が挙げられる。式中、Aは酸素を含有していてもよい脂肪族炭化水素環を示す。脂肪族炭化水素環は置換基を有していてもよい。Acは光重合性官能基を示す。mは1~2である。一般式Aにおいて、酸素を含有してもよい脂肪族炭化水素環は、単環、橋かけ環またはスピロ環であってもよい。また、光重合性官能基は、例えば、アクリロイル基またはメタクリロイル基などである。一般式Aで表される重合性化合物としては、例えば、式1で表されるアクリレート、式2で表されるアクリレート、式3で表されるアクリレートなどが挙げられる。高酸価フタル酸構造含有重合性化合物高酸価フタル酸構造含有重合性化合物は、高酸価であって、フタル酸構造と少なくとも1つの光重合性反応基とを含有する化合物である。光重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。シクロアルカン構造含有重合性化合物は、典型的には、高酸価であって、フタル酸構造と、少なくとも1つのアクリロイル基とを有する高酸価フタル酸構造含有アクリレートである。例えば、一般式Bで表されるアクリレートが挙げられる。なお、酸価とは、樹脂1gを中和するKOHの量mgであり、高酸価とは、典型的には、例えば、180mgKOH/g以上200mgKOH/g以下であることをいう。高酸価フタル酸構造含有重合性化合物としては、例えば、一般式Bで表される重合性化合物が挙げられる。式中、R1は炭素数1~3の2価の炭化水素基を示す。Acは光重合性官能基を示す。一般式Bにおいて、炭素数1~3の2価の炭化水素基は、例えば、メチレン基、エチレン基、イソプロピレン基などである。光重合性官能基は、例えば、アクリロイル基またはメタクリロイル基などである。一般式Bで表される重合性化合物としては、例えば、式4で表される化合物などが挙げられる。添加剤樹脂組成物は、樹脂層2の平滑性を向上させるために、添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、リン酸アクリレートを用いることができる。リン酸アクリレートとしては、例えば、式5で表されるアクリレートなどが挙げられる。開始剤樹脂組成物は、重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤の例としてはチバスペシャルティーケミカルズ社から市販されているイルガキュア184、イルガキュア127など、ランベルティLamberti社から市販されているエザキュアEzacureシリーズ例えば、2-ヒドロキシ-2-メチル-[4-1-メチルビニルフェニル]プロパノールオリゴマーESACURE-ONE、オリゴマー型のエザキュアKIPシリーズEsacureKIP150などなどが挙げられる。これらの中でも、低揮発性の式6で表されるイルガキュア127、式7で表されるESACURE-ONE、EsacureKIP150が好ましく、式7で表されるESACURE-ONE、EsacureKIP150がより好ましい。より平滑性に優れた樹脂層2を形成することができ、ガスバリア性をより向上できるからである。式中、Rはエチル基を示す。溶剤溶剤としては、使用するアクリレートなどの樹脂原料を溶解可能なものが用いられる。このような溶剤としては、例えば、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチルなどのケトン類またはカルボン酸エステル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、sec-ブタノール、tert-ブタノールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソランなどのエーテル類を挙げることができる。これらの溶剤は単一でも2成分以上の混合物でもよく、さらに、上記に例示したもの以外の溶剤を樹脂原料の性能が損なわれない範囲で加えることもできる。無機酸化物層無機酸化物層3は、例えば、金属酸化物を含む薄膜状の金属酸化物膜である。金属酸化物膜は、例えば、非結晶性を有する金属酸化物膜である。無機酸化物層3は、無機酸化物を主成分とし、水分および酸素などの外気中に存在する成分をバリアする、水蒸気バリア性、酸素バリア性などのガスバリア性を有する層である。金属酸化物としては、Al、In、Si、Sn、Zn、Ti、Cu、CeおよびTaからなる群から選択された1種以上の金属元素を含む酸化物が挙げられる。これらは、副次的な成分として他の元素を含有していてもよい。より具体的には、例えば、アルミナAl2O3などが挙げられる。無機酸化物層3の厚さは、特に限定されないが、典型的には、例えば5nm以上1000nm以下に設定される。ガスバリア基材の製造方法まず、上述した樹脂組成物を基材1上に塗工後、乾燥する。樹脂組成物の塗工方法は、特に限定されるものではなく、公知の塗工方法を用いることができる。公知の塗工方法としては、例えば、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、ディップ法、スプレーコート法、リバースロールコート法、カーテンコート法、コンマコート法、ナイフコート法、スピンコート法などが挙げられる。硬化工程次に、樹脂組成物に対して、光照射して硬化させる。これにより、基材1上に、樹脂組成物が硬化した樹脂層2が得られる。より具体的には、例えば、電離放射線照射により、基材1上にて乾燥された樹脂組成物を硬化させる。電離放射線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線、電子線などを用いることができ、生産設備の観点から、紫外線が好ましい。積算照射量は、樹脂組成物の硬化特性、ならびに樹脂組成物および基材の黄変抑制などを考慮して適宜選択することが好ましい。また、照射の雰囲気としては、樹脂組成物の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば、空気、窒素、アルゴンなどの不活性ガスの雰囲気が挙げられる。無機酸化物層次に、樹脂組成物が硬化した樹脂層2上に、金属酸化物の薄膜などの無機酸化物層3を形成する。薄膜は、例えば、PVDPhysicalVaporDeposition:物理気相成長法あるいはCVDChemicalVaporDeposition:化学気相成長法などの気相法により形成できる。また、電気めっき、無電界めっき、塗布法、ゾル-ゲル法などの液相法により形成できる。また、SPE固相エピタキシー法、LBLangmuirBlodgett:ラングミュアーブロジェット法などの固相法により形成することができる。PVD法は、薄膜化する薄膜原料を熱やプラズマなどのエネルギーで一旦蒸発気化し、基板上に薄膜化する方法である。PVD法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、MBE分子線エキピタシー法、レーザアブレーション法などが挙げられる。CVD法は、ガスとして供給される薄膜の構成材料に対して、熱、光、プラズマなどのエネルギーを加えて原料ガス分子の分解反応中間生成物を形成し、基板表面での吸着、反応、離脱を経て薄膜を堆積させる方法である。CVD法としては、例えば、熱CVD法、MOCVDMetalOrganicChemicalVaporDeposition:有機金属気相成長法、RFプラズマCVD法、光CVD法、レーザCVD法、LPELiquidPhaseEpitaxy法などが挙げられる。以上により、本技術の一実施の形態によるガスバリア基材を得ることができる。ガスバリア基材を用いたデバイス本技術のガスバリア基材は、空気中の化学成分によって劣化するデバイスに好ましく用いることができる。このようなデバイスの例としては、例えば、電子ペーパー、液晶表示装置、薄膜トランジスタ、タッチパネルなどの電子デバイスが挙げられる。本技術の具体的な実施例について詳細に説明するが、本技術はこれに限定されるものではない。<実施例1>塗料の調製下記樹脂組成物の各成分、溶媒を混合することにより、樹脂組成物塗料を調製した。なお、塗料の調製の際、固形分が30質量となるように調整した。固形分とは、硬化後の樹脂層を構成する全ての成分をいう。具体的には例えば、樹脂材料、添加剤および光重合開始剤などを固形分という。樹脂組成物樹脂材料:DCPAサートーマ社製、SR833、なお、構造式を下記に示す、含有量:95質量開始剤:イルガキュア184Irg184チバケミカル社製、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、なお、構造式を下記に示す、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比樹脂層の形成塗料を、ポリエチレンナフタレートPENフィルム基材帝人デュポンフィルム株社製、Q65Fの一主面上に、塗布厚2~3μm程度でバーコーターにて塗布した後、オーブンで80°C、2分間乾燥したのち、UV照射フージョン、L/S=5m/分、300mJ/cm2にて硬化した、これにより、樹脂層を形成した。アルミナ膜の形成次に、下記条件のスパッタリングにより、50nmのアルミナ膜を樹脂層上に形成した。以上により、実施例1のガスバリアフィルムを得た。スパッタリング条件スパッタリング装置Canon-Anelva社製、C-3103スパッタリングターゲット材料:Al2O3ターゲットサイズ:150mmφ×5mmtスパッタリング方式:RFマグネトロンRF投入パワー:500WArガス流量:100sccmスパッタリングガス圧:0.53Paスパッタリング時間:3050secスパッタリング膜厚50nm到達真空度バックグラウンド圧:およそ5×105Pa温度:室温評価実施例1のガスバリアフィルムについて、以下の表面粗さ測定と水蒸気透過率測定とSEM観察を行った。表面粗さ測定140×105μmのRa算術平均粗さ、Rz最大高さは、非接触三次元粗さ計Zygo社NewView5000で求めた。また1×1μmにおけるRa、RzはSPMNanoScopeIIIa/D-3000、DigitalInstruments社を用いて測定した。測定結果を下記に示す。測定結果アルミナ膜形成前:Ra:0.50nm、Rz:4.41nm140×105μmRa:3.39nm、Rz:5.00nm1×1μmアルミナ膜形成後:Ra:1.07nm、Rz:9.66nm140×105μmRa:0.59nm、Rz:5.40nm1×1μm水蒸気透過率測定水蒸気透過率測定装置として、イリノイ社製水蒸気透過装置model7002を用い、40°C、相対湿度90の条件で測定した。測定結果は、測定装置の測定限界値である0.001g/m2/dayより小さい値を示した。なお、参考としてPENフィルム基材についても、同様に測定したところ、1.8g/m2/dayであった。SEM観察アルミナ膜について、SEMFE-SEM、電界放射型走査電子顕微鏡FieldEmissionScanningElectronMicroscopeを用いて、加速電圧5kV、観察倍率×80k、Pt-Pdスパッタリング4nmで、観察した。図2にSEM像を示す。図2に示すように、樹脂層上に非結晶性のアルミニウム膜が形成されていることが確認できた。<実施例1-1>塗料の調製下記の樹脂組成物の各成分、溶媒を混合して塗料を調製した。なお、塗料の調製の際、固形分が15質量となるように調整した。樹脂組成物樹脂材料:DCPAサートーマ社製、SR833、なお、構造式を下記に示す、含有量:95質量開始剤:Irg184チバケミカル社製、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、なお、構造式を下記に示す、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比樹脂層の形成塗料を、ポリエチレンナフタレートPENフィルム基材帝人デュポンフィルム株社製、Q65Fの一主面上に、塗布厚5μm程度でバーコーターにて塗布した後、オーブンで80°C、2分間乾燥したのち、UV照射フージョン、L/S=5m/分、300mJ/cm2にて硬化した、これにより、樹脂層を形成した。アルミナ膜の形成次に、スパッタリングにより、10nmのアルミナ膜を樹脂層上に形成した。以上により、実施例1-1のガスバリアフィルムを得た。スパッタリング条件スパッタリング装置Canon-Anelva社製、C-3103スパッタリングターゲット材料:Al2O3ターゲットサイズ:150mmφ×5mmtスパッタリング方式:RFマグネトロンRF投入パワー:500WArガス流量:100sccmスパッタリングガス圧:0.53Paスパッタリング時間:610secスパッタリング膜厚10nm、スパッタリングレートに換算すると0.985nm到達真空度バックグラウンド圧:およそ5×105Pa温度:室温<実施例1-2>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:2-メタクリロイロキシエチルフタル酸新中村化学社製、CB-1、なお、構造式を下記に示す、酸価197mgKOH/g、含有量:95質量、開始剤:Irg184、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<実施例2-1>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:DCPA2-アクリオイロシエチルアシッドホスフィート共栄社製、P-1A、なお、構造式を下記に示す、含有量:95質量、開始剤:Irg184、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<実施例2-2>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:CB-1、含有量:95質量添加剤:P-1A、含有量0.1質量開始剤Irg184、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<実施例2-3>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:DCPA、含有量:95質量、開始剤:イルガキュア127Irg127チバケミカル社製、2-ヒロドキシ-1-{4-[4-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、なお、構造式を下記に示す、含有量:5質量、溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<実施例2-4>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:DCPA、含有量:95質量、開始剤:ESCACUREKIP150なお、構造式を下記に示す、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比式中、Rはエチル基を示す。<実施例2-5>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:DCPA、含有量:95質量、開始剤:ESCACUREONEDKSH社製:オリゴ{2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-1-メチルビニルフェニル]プロパノン、なお、構造式を下記に示す}、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比式中、Rはエチル基を示す。<実施例2-6>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:テトラヒドロフルフリルアクリレートサートマー社製、SR285、なお、構造式を下記に示す、含有量:95質量、開始剤:ESCACUREONE、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<実施例2-7>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:シクロヘキサンジメタノールジアクリレートサートマー社製、CD406、なお、構造式を下記に示す、含有量:95質量開始剤:ESCACUREONE、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<比較例1-1>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:TMPTAトリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学社製、なお構造式を下記に示す、含有量:95質量開始剤Irg184:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<比較例1-2>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:TMMTペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学社製、なお、構造式を下記に示す、含有量:95質量開始剤:Irg184、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<比較例1-3>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:CN997芳香族ウレタンアクリレート、サートマー社製、含有量:95質量開始剤:Irg184、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<比較例1-4>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:M215イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート、東亞合成社製、なお、構造式を下記に示す、含有量:95質量開始剤Irg184、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<比較例1-5>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート2.2Bis4-AcryloxyPolyethoxyPhenylPropaneEO3mol新中村化学社製、ABE-300、なお、構造式を下記に示す、含有量:95質量開始剤Irg184、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<比較例1-6>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:9,9-ビス[4-2-アクリロイルオキシエトキシフェニル]フルオレン9,9-Bis[4-2-acryloyloxyethoxypheny]fluorene新中村化学社製、A-BPEF、なお、構造式を下記に示す、含有量:95質量開始剤Irg184、含有量:5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比<比較例1-7>樹脂組成物を以下のものとしたこと以外は、実施例1-1と同様にして、ガスバリアフィルムを得た。樹脂組成物樹脂材料:2,2,2-トリスアクリロイロキシメチルエチルフタル酸新中村化学社製、CBX-1N、なお、構造式を下記に示す、酸価87mgKOH/g、含有量:95質量開始剤:Irg184、含有量5質量溶媒:シクロヘキノンと酢酸ブチルとの混合溶媒混合比1:1質量比評価密着性作製した実施例実施例1-1~2-7および比較例比較例1-1~1-7について、JISK5400の碁盤目1mm間隔×100マスセロハンテープCT24ニチバン株式会社製剥離試験により、ガスバリア積層体樹脂層金属酸化物層の密着性を評価した。判定は100マスの内、剥離しないマス目の数剥離しないマス目の数/100で表し、ガスバリア積層体が剥離しない場合すなわち、100/100の場合を密着性OKと評価した。その結果、全ての実施例、比較例のガスバリアフィルムにおいて、100/100であり、ガスバリア積層体の密着性は良好であった。光学特性HAZE、全光線透過率作製した実施例および比較例について、樹脂層が形成されたPENフィルムのHAZEJISK7136、および全光線透過率TtJISK7361を、HM-150株式会社村上色彩技術研究所製で評価した。その結果、全ての実施例、比較例において、ヘイズ<1、全光線透過率>90のPENフィルム単品と同等の値を示し、樹脂層形成による光学特性はみられなかった。ESCAによる表面分析実施例1-1および比較例1-4のガスバリアフィルムについて、バリア性発現メカニズムを明らかにするためにESCAによる表面分析を行った。ESCAの元素検出データを図3A~Bに示す。図3A~Bに示すように、Cピークはアルミナからは存在せず、UC層樹脂層からのみ検出される。バリア性が良好である実施例1-1は、点線a1に示すC元素樹脂層の検出に要するエッチング時間がより長い一方で、バリア性が不良である比較例1-4は点線a2に示すC元素樹脂層の検出に要するエッチング時間が短い。すなわち、実施例1-1では、比較例1-4よりもアルミナ層が厚く広く存在していることが確認できた。水蒸気透過率測定作製した実施例および比較例について、以下のように、水蒸気透過率測定を行った。すなわち、水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置として、イリノイ社製水蒸気透過装置model7002を用い、40°C、相対湿度90の条件で測定した。測定結果を表1に示す。表1に示すように、シクロアルカン構造含有アクリレートを用いた実施例1-1や、高酸価フタル酸構造含有アクリレートを用いた実施例1-2では、高いバリア性を示した。また、これらのシクロアルカン構造含有アクリレートや高酸価フタル酸構造含有アクリレートは、金属付与剤としての機能を担う添加剤2-アクリオイロシエチルアシッドホスフィート共栄社製、P-1Aの併用が可能であり、併用することにより、バリア性をさらに向上させることができた。また、実施例2-3~実施例2-5より、様々なタイプの開始剤を用いてもバリア性に悪影響を及ぼさないばかりか、低揮発性タイプの開始剤を用いることでバリア特性がさらに向上させることできた。さらに、酸素含有炭化水素環構造含有アクリレートを用いた実施例2-6や他のシクロアルカン構造含有アクリレートを用いた実施例2-7でも、高いバリア性を示した。一方、環構造および酸基も含まない構造のアクリレートを用いた比較例1-1や比較例1-2、ベンゼン環含有アクリレートを用いた比較例1-3、イソシアヌル酸含有アクリレートを用いた比較例1-4、低酸価値フタル酸構造含有アクリレートを用いた比較例1-7では、バリア性が発現しないもしくは低いバリア性になってしまった。以上から、高いバリア性の発現には、シクロアルカン構造または高酸価フタル酸構造含有化合物であることが必須の構成であることが確認できたい。また、以上のことは、[背景技術]の欄で示した特許文献1などに記載されていることと相反する。すなわち、高いバリア性を示すものはベンゼン環構造含有化合物が必須ではないこと示している。開始剤の種類による表面粗さの評価実施例1-1、実施例2-3、実施例2-4、実施例2-5について、真空引きの前後の表面粗さ、Ra算術平均粗さ、Rz最大高さ、突起高さを以下のように測定した。また、参考例として、PENフィルム基材の表面も同様に測定した。表面粗さ測定0.140×0.100μmにおけるRa、Rz、突起高さはSPMNanoScopeIIIa/D-3000、DigitalInstruments社を用いて測定した。測定結果を表2および図4に示す。表2および図4に示すように、高揮発性の開始剤を用いた実施例1-1より、低揮発性の開始剤を用いた実施例2-3~実施例2-5の方が、樹脂層の表面の平滑性に優れており、これにより、バリア性も優れていた。また、実施例2-3より、実施例2-4~実施例2-5方が、樹脂層の表面の平滑性により優れており、これによりバリア性もより優れていた。2他の実施の形態本技術は、上述したこの発明の実施の形態に限定されるものでは無く、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。例えば、上述の実施の形態および実施例において挙げた数値、構造、形状、材料、原料、プロセスなどはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれらと異なる数値、構造、形状、材料、原料、プロセスなどを用いてもよい。例えば、本技術の樹脂組成物は、本技術の要旨を逸脱しない範囲内において、上述したシクロアルカン構造含有重合性化合物、高酸価フタル酸構造含有重合性化合物、添加剤以外の他の重合性化合物を含有していてもよい。なお、背景技術で示した特許文献1の実施例4,8では、リン酸を30wt添加しないと104[g/m2/d]のバリア性は発現しないが、本願発明者の知見では、イリノイ社製水蒸気透過装置model7002を用いた水蒸気透過率測定中に破壊の発生が予測される。また硬度の低下も予想される。特許文献2では、リン酸メタアクリレートを添加しないと密着性が良好にはならないが、本願発明者の知見では、イリノイ社製水蒸気透過装置model7002を用いた、水蒸気透過率測定中に破壊の発生が予測される。また硬度の低下も予想される。特許文献3では、トリフェニレン骨格品は高価であるために生産性が不良。密着性のデータが不在である。特許文献7では、多層構造のために作製プロセスの負荷が大きい。特許文献8では、密着性のデータが不在である。無機酸化物層3は、バリア性を発現できるものであれば特に限定されるものではなく、金属窒化物、金属炭化物、金属酸化窒化物または金属酸化炭化物などの金属化合物の薄膜であってもよい。このような金属化合物としては、より具体的には、例えば、Si、Al、In、Sn、Zn、Ti、Cu、CeおよびTaからなる群から選択された1種以上の金属元素を含む窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物などが挙げられる。これらは副次的な成分として他の元素を含有していてもよい。また、本技術は、以下の構成をとることもできる。[1]基材と、該基材の少なくとも一主面にある樹脂層と、該樹脂層の一主面にあり、無機酸化物を含む無機酸化物層とを備え、上記樹脂層は、シクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む樹脂組成物が硬化されたものであるガスバリア基材。[2]上記シクロアルカン構造含有重合性化合物は、一般式Aで表される重合性化合物である[1]に記載のガスバリア基材。式中、Aは酸素を含有していてもよい脂肪族炭化水素環を示す。脂肪族炭化水素環は置換基を有していてもよい。Acは光重合性官能基を示す。mは1~2である。[3]上記高酸価フタル酸構造含有重合性化合物は、一般式Bで表される重合性化合物である[1]~[2]の何れかに記載のガスバリア基材。式中、R1は炭素数1~3の2価の炭化水素基を示す。Acは光重合性官能基を示す。[4]上記一般式Aで表される重合性化合物は、式1~式3で表されるアクリレートから選ばれた少なくとも1種である[2]に記載のガスバリア基材。[5]上記一般式Bで表される重合性化合物は、式4で表されるアクリレートである[3]に記載のガスバリア基材。[6]上記樹脂組成物は、添加剤として、リン酸アクリレートをさらに含み、上記リン酸アクリレートは、式5で表される化合物である[1]~[5]の何れかに記載のガスバリア基材。[7]上記樹脂組成物は、開始剤をさらに含み、上記開始剤は、式6または式7で表される化合物である[1]~[6]の何れかに記載のガスバリア基材。式中、Rはエチル基を示す。[8]上記無機酸化物は、金属酸化物である[1]~[7]の何れかに記載のガスバリア基材。[9]上記金属酸化物は、アルミナである[8]に記載のガスバリア基材。[10]上記基材は、プラスチックフィルムである[1]~[9]の何れかに記載のガスバリア基材。[11]上記プラスチックフィルムは、ポリエチレンナフタレートフィルムである[10]に記載のガスバリア基材。[12]樹脂層と、該樹脂層の一主面にあり、無機酸化物を含む無機酸化物層とを備え、上記樹脂層は、シクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む樹脂組成物が硬化されたものであるガスバリア積層体。"