"基板上にパターン加工、硬化した有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、100°C以上の温度で加熱処理を行って、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減することを特徴とする不純物の低減方法。加熱処理を行う温度が200°C以上420°C以下である請求項1記載の不純物低減方法。基板上にパターン加工、硬化した有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、塩基性水溶液で洗浄することによって、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減することを特徴とする不純物の低減方法。塩基性水溶液がテトラメチルアンモニウムハイドロオキシド水溶液である請求項3記載の不純物低減方法。基板上にパターン加工、硬化した有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、酸系水溶液で洗浄することによって、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減することを特徴とする不純物の低減方法。酸系水溶液が過酸化水素水を含む溶液である請求項5記載の不純物低減方法。該有機ポリマー樹脂がフッ素を有する耐熱性樹脂であることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の不純物低減方法。フッ素を有する耐熱性樹脂が、ポリイミド前駆体樹脂、エステル結合又はイオン結合で感光基を導入ポリアミド酸、ポリベンゾオキサゾール前駆体樹脂、ポリイミド前駆体-ポリベンゾオキサゾール前駆体共重合物、及び保護基を付けたポリイミド前駆体-ポリベンゾオキサゾール前駆体により構成される感光性樹脂組成物の群から選ばれた耐熱性樹脂である請求項7記載の不純物低減方法。本発明は、有機ポリマー樹脂を基板上にパターン加工、硬化を行った後、得られたパターンを構成する有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、簡便な方法で有機ポリマー中に含まれる不純物を低減する方法を提供するにある。すなわち本発明は、[1]基板上にパターン加工、硬化した有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、100°C以上の温度で加熱処理を行って、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減することを特徴とする不純物の低減方法、[2]加熱処理を行う温度が200°C以上420°C以下である[1]項記載の不純物低減方法、[3]基板上にパターン加工、硬化した有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、塩基性水溶液で洗浄することによって、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減することを特徴とする不純物の低減方法、[4]塩基性水溶液がテトラメチルアンモニウムハイドロオキシド水溶液である[3]項記載の不純物低減方法、[5]基板上にパターン加工、硬化した有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、酸系水溶液で洗浄することによって、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減することを特徴とする不純物の低減方法、[6]酸系水溶液が過酸化水素水を含む溶液である[5]項記載の不純物低減方法。[7]該有機ポリマー樹脂がフッ素を有する耐熱性樹脂である[1]~[6]項のいずれか1項に記載の不純物低減方法、[8]フッ素を有する耐熱性樹脂がポリイミド前駆体樹脂、エステル結合又はイオン結合で感光基を導入ポリアミド酸、ポリベンゾオキサゾール前駆体樹脂、ポリイミド前駆体-ポリベンゾオキサゾール前駆体共重合物、及び保護基を付けたポリイミド前駆体-ポリベンゾオキサゾール前駆体により構成される感光性樹脂組成物の群から選ばれた耐熱性樹脂である[7]項記載の不純物低減方法である。本発明は、有機ポリマー樹脂を基板上にパターン加工、硬化を行った後、得られたパターンに化学反応によって気化した後、簡便な方法で有機ポリマー中に含まれる不純物を低減する方法を提供するにある。以下、実施の形態に基づいて本発明について詳細に説明する。近年、有機ポリマー樹脂が電気部品の絶縁膜や保護膜に盛んに使用されている。しかし有機ポリマー樹脂は金属やハロゲンの不純物を含有することが多い。それら不純物はプロセス工程中の有機ポリマー樹脂が分解し汚染物となる。また電子部品を製造する工程で使用されるガス成分が有機ポリマー樹脂中に残存し、同様に電子部品を腐食させる問題がある。そこで本発明では種々検討の結果、有機ポリマー樹脂中に残存した不純物を以下に述べる簡便な方法を用いることで低減できることを見いだした。本発明における第1の不純物を低減させる方法は、有機ポリマー樹脂を基板上にパターン加工、硬化を行った後、得られたパターンの加熱処理を行って、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減する方法である。加熱処理を行う温度は100°C以上で行うことができるが、好ましくは200°C以上420°C以下の範囲である。また加熱は有機ポリマー樹脂の硬化工程をそのまま、もう一度繰り返してもかまわない。加熱処理については箱形オーブンやホットプレートを使用することができる。加熱雰囲気は大気中であっても、窒素を流しても良いが、基板の酸化を防ぐため窒素を流した方が好ましい。本発明における第2の不純物を低減させる方法は、有機ポリマー樹脂を基板上にパターン加工、硬化を行った後、得られたパターンを塩基性水溶液で洗浄することによって、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減する方法である。塩基性の水溶液として水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、n-プロピルアミン等の第1アミン類、ジエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン等の第2アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第3アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第4級アンモニウム塩等のアルカリ類の水溶液などを用いることができる。これらの中で好ましくはテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液である。本発明における第3の不純物を低減させる方法は、有機ポリマー樹脂を基板上にパターン加工、硬化を行った後、得られたパターンを酸系水溶液で洗浄することによって、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減する方法である。酸系の水溶液としては、過酸化水素水、塩酸、硝酸、硫酸を用いることができる。これらの中で好ましくは過酸化水素水が含まれる酸系水溶液である。本発明に使用することができる有機ポリマー樹脂としては、フッ素を有する耐熱性樹脂が使用できる。これらのフッ素系の有機ポリマー樹脂は化学反応によって気化する工程においてフッ素イオンとして脱離し、そのままでは腐食などの悪影響を及ぼす。更にフッ素を有する耐熱性樹脂として、好ましくは一般的な非感光性のポリイミド前駆体ポリアミド酸樹脂、ポリアミド酸にエステル結合で感光基を導入したり、ポリイミド酸にイオン結合で感光基を導入したネガ型感光性樹脂前駆体組成物、更に、ポリベンゾオキサゾール前駆体にキノンジアジドスルホン酸エステルを添加したり、フェノール性水酸基を有する閉環型ポリイミドにキノンジアジドスルホン酸エステルを添加したり、ポリイミド前駆体-ポリベンゾオキサゾール前駆体共重合物又は保護基を付けたポリイミド前駆体-ポリベンゾオキサゾール前駆体共重合物にキノンジアジドスルホン酸エステルを添加したポジ型感光性樹脂前駆体組成物等から選ばれた有機ポリマー樹脂を使用できる。これら有機ポリマー樹脂は化学反応によって気化する工程においてイオンとして脱離し、そのままでは腐食などの悪影響を及ぼす。これらの中で有効なのは感光性樹脂組成物である。その中でも特にフッ素を有するポジ型の感光性樹脂前駆体組成物が有効である。これは化学反応によって気化する処理によって分解された場合、フッ素イオンの他に感光材のキノンジアジドスルホン酸エステルからの硫黄由来の不純物もあるため、本発明の効果は更に大きくなる。また、本発明では化学反応によって気化する工程自身が汚染源となる場合についても有効である。化学反応によって気化する工程で例えばフッ素系ガスを用いた場合、フッ素系ガスが有機ポリマー樹脂に浸透して残存し、フッ素イオンとして悪影響を及ぼす。本発明の具体的な方法は、まず有機ポリマー樹脂を該組成物を適当な支持体、例えば、シリコンウェハー、セラミック、アルミ基板等に塗布する。塗布方法としては、スピンナーを用いた回転塗布、スプレーコーターを用いた噴霧塗布、浸漬、印刷、ロールコーティング等がある。次に、60~130°Cでプリベークして塗膜を乾燥後、所望のパターン形状に化学線を照射する。化学線としては、X線、電子線、紫外線、可視光線等が使用できるが、200~500nmの波長のものが好ましい。次に照射部を現像液で溶解除去することによりレリーフパターンを得る。現像液としては、ポジ型の場合、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、n-プロピルアミン等の第1アミン類、ジエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン等の第2アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第3アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第4級アンモニウム塩等のアルカリ類の水溶液、及びこれにメタノール、エタノールのごときアルコール類等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加した水溶液を好適に使用することができる。またネガ型の場合、N―メチルピロリドン、N、N―ジメチルアセトアミドなどの有機溶媒を使用する。現像方法としては、スプレー、パドル、浸漬、超音波等の方式が可能である。次に、現像によって形成したレリーフパターンをリンスする。リンス液としては、蒸留水を使用する。次に加熱処理を行い、閉環させ、耐熱性に富む有機ポリマー樹脂を得る。この得られた有機ポリマー樹脂を化学反応によって気化する工程で処理を行う。該工程としては、反応性ガスを利用した工程、反応性のプラズマを利用した工程、反応性のプラズマにイオンの物理的効果を利用した工程を使用することができるが、これらの工程に限らず、有機ポリマー樹脂を化学反応を用いて気化することができる工程ならすべて適応することは可能である。またこれらの工程を一度通した後に、再び同じ工程を通しても、また、別の工程を通しても、その後で行う先に示した本発明の方法は有効である。以下、実施例により本発明を具体的に説明する。《実施例1》ポリベンゾオキサゾール前駆体の合成温度計、攪拌機、原料仕込口及び窒素ガス導入口を備えた四つ口セパラブルフラスコにジフェニルエーテル-4、4’-ジカルボン酸258.2g1.0モルと1-ヒドロキシベンゾトリアゾール270.3g2.0モルとをN-メチル-2-ピロリドン1500.0gに溶解した後、N-メチル-2-ピロリドン500.0gに溶解したジシクロヘキシルカルボジイミド412.7g2.0モルを反応系の温度を0~5°Cに冷却しながら滴下する。滴下終了後、反応系の温度を室温に戻し、そのまま12時間攪拌した。反応終了後、析出したジシクロヘキシルカルボジウレアをろ過を行うことによって取り除き、次に濾液に純水2000.0gを滴下する。沈殿物を濾集し、イソプロピルアルコールで充分に洗浄した後、真空乾燥を行い、ジフェニルエーテル-4、4’-ジカルボン酸の両末端に1-ヒドロキシベンゾトリアゾールは2モル反応した活性エステルAを得た。次にこのジカルボン酸誘導体A147.7g0.3モルとヘキサフルオロ-2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルプロパン120.9g0.33モルをN-メチル-2-ピロリドン1000.0gに溶解した。その後、反応系を75°Cにして12時間反応した。次にN-メチル-2-ピロリドン50.0gに溶解した5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物11.5g0.07モルを加えて、更に12時間反応した。反応混合液を水/メタノール=3/1の溶液に投入、沈殿物を回収し純水で充分に洗浄した後、真空下で乾燥しポリベンゾオキサゾール前駆体を得た。有機ポリマー樹脂の作製合成したポリベンゾオキサゾール前駆体100g、下記式の構造を有するジアゾキノンQ-125重量部をN-メチル-2-ピロリドン200重量部に溶解した後、0.2μmのテフロン登録商標フィルターで濾過し有機ポリマー樹脂のワニスW―1を得た。不純物低減評価この得られた有機ポリマー樹脂をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布した後、ホットプレートで120°C/4分で乾燥した。次にこのウエハーをオーブン中で窒素雰囲気下で30分/150°C、30分/320°Cの順で加熱、樹脂を硬化させ、硬化後6μmの膜を得た。次にプラズマ装置OPM-EM1000を使用し、酸素ガス200sccmのガスを使用し、600ワットで15分間酸素プラズマ処理した。次にオーブンを用いて300°C/60分、窒素気流下で加熱処理を行った。次にこのポジ型感光性樹脂が付いたウエハーを耐圧容器に入れ、純水を用いて125°C、20時間で抽出を行った。次に純水中のフッ素イオン濃度をイオンクロマトを用いて測定したところ、6インチウエハー1枚あたりから検出されたフッ素イオンは8μgであった。《実施例2》フェノール性水酸基含有閉環型ポリイミドの合成温度計、攪拌機、原料仕込口及び窒素ガス導入口を備えた四つ口セパラブルフラスコにヘキサフルオロ-2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルプロパン292.50.80モルをN-メチル-2-ピロリドン1200.0gに溶解した。次に4,4’―ヘキサフルオロイソプロピリデンフタル酸二無水物173.3g0.39モルと3、3’、4、4’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物125.7g0.39モルを添加して、室温で8時間攪拌した。次に冷却器ディーンースタークトラップをフラスコに取り付け、トルエン100gを加える。次に140°Cで3時間反応した後、180~190°Cまで昇温し、30分加熱を行い、水―トルエンの共沸物を完全に取り除いた。反応終了後、水浴で室温まで下げて目的のポリイミドワニスを得た。有機ポリマー樹脂の作製合成したポリイミドワニスに500gに、前記式の構造を有するジアゾキノンQ-140gを溶解した後、0.2μmのテフロン登録商標フィルターで濾過し有機ポリマー樹脂のワニスW―2を得た。不純物低減評価実施例1と同様の方法で分析用サンプルの作成及び処理を行い、フッ素イオンを分析したところ、10μgであった。《実施例3》エステル型感光性ポリイミド前駆体の合成温度計、攪拌機、原料仕込口及び窒素ガス導入口を備えた四つ口セパラブルフラスコに3、3′,4,4′-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物161.1g0.5モル、4,4′-ヘキサフルオロイソプロピリデンフタル酸ニ無水物222.1g0.5モルを2-ヒドロキシエチルメタクリレート260.28g2.0モルをN-メチル-2-ピロリドンに懸濁し、ピリジン166.1g2.1モルを加え、25°Cで10時間反応させた。次に1-ヒドロキシ-1,2,3-ベンゾトリアゾール270.2g2.0モルを加え1時間で完全に溶解した後、反応系を10°C以下に保ちながらN-メチル-2-ピロリドン400gに溶解したジシクロヘキシルカルボジイミド412.6g2.0モルを約20分かけて滴下した。その後25°Cで3時間反応を行った。反応した反応溶液に4,4’-ジアミノジフェニルエーテル190.20.95モル、30°Cで5時間反応を行った。ジシクロヘキシルウレアを濾別した後、反応混合物をメタノールに再沈し、固形物を濾集し、メタノールで洗浄後、48時間減圧乾燥した。有機ポリマー樹脂の作製更に、この得られたポリマー100gを、N-メチル-2-ピロリドン200gに溶解し、更にメチルエーテルハイドロキノン0.1gとN-フェニルグリシン5g、1-フェニル-5-メルカプト-1H-テトラゾール1g、3-2-ベンズイミダゾリル-7-ジエチルアミノクマリン0.5g、テトラエチレングリコールジメタクリレート10gを添加し、0.2μmのテフロン登録商標フィルターで濾過し有機ポリマー樹脂のワニスW―3を得た。不純物低減評価実施例1と同様の方法で分析用サンプルの作成及び処理を行い、フッ素イオンを分析したところ、7μgであった。《実施例4》ポリアミド酸ポリイミド前駆体の合成温度計、攪拌機、原料仕込口及び窒素ガス導入口を備えた四つ口セパラブルフラスコに2、2’―ビス4-4-アミノフェノキシフェニルヘキサフルオロプロパン518.5g1.00モル、1、3-ビス3-アミノプロピル-1、1、3、3-テトラメチルジシロキサン12.4g0.05モルをN-メチル-2-ピロリドン2441gに溶解した。次にこの溶液を氷冷により20°C以下に保ちながら4,4′-ヘキサフルオロイソプロピリデンフタル酸ニ無水物444.2g1.0モルを加えた。その後、5時間反応させポリアミド酸を得た。次に合成したポリイミドワニスを、0.2μmのテフロン登録商標フィルターで濾過し、ワニスW―4を得た。不純物低減評価実施例1と同様の方法で分析用サンプルの作成及び処理を行い、フッ素イオンを分析したところ、13μgであった。《実施例5》ヘキサフルオロ-2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルプロパン219.7g0.6モルをN-メチル-2-ピロリドン1000gに溶解させた後、N-メチル-2-ピロリドン800gに溶解させたトリメリット酸クロライド252.7g1.2モルを5°C以下に冷却しながら加える。更にピリジン113.9g1.44モルを加えて、20°C以下で3時間攪拌する。次に、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル120.1g0.6モルを加えた後、室温で5時間反応させる。次に内温を85°Cに昇温し、3時間攪拌する。反応終了後、濾過した濾液を、水/メタノール=5/1容積比に投入して沈殿を得た。沈殿物をテトラヒドロフラン3000mlに溶解した後、更に0.1塩酸水溶液へ投入し沈殿物を得た。それを濾集し水で充分洗浄した後、真空下で乾燥し、目的のポリアミド樹脂を得た。有機ポリマー樹脂の作製合成したポリアミド樹脂500gに、前記式の構造を有するジアゾキノンQ-140gを溶解した後、0.2μmのテフロン登録商標フィルターで濾過し有機ポリマー樹脂のワニスW―5を得た。不純物低減評価実施例1と同様の方法で分析用サンプルの作成及び処理を行い、フッ素イオンを分析したところ、8μgであった。《実施例6》実施例1の不純物低減評価において、同条件で酸素プラズマ処理を行った後、オーブンを用いて220°C/60分、窒素気流下で加熱処理を行った。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンを分析したところ、12μgであった。《実施例7》実施例1の不純物低減評価において、同条件で酸素プラズマ処理を行った後、オーブンを用いて250°C/60分、窒素気流下で加熱処理を行った。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンを分析したところ、11μgであった。《実施例8》実施例1の不純物低減評価においての300°C/60分の熱処理の代わりに、オーブン中で窒素雰囲気下で30分/150°C、30分/320°Cの順で再度硬化の熱処理を行い、後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンを分析したところ、6μgであった。《実施例9》実施例1の不純物低減評価において酸素プラズマ処理において酸素ガス200sccmのガスを使用し、400ワットで10分間酸素プラズマ処理した。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンを分析したところ、5μgであった。《実施例10》実施例1の不純物低減評価において酸素プラズマ処理においてCF4/O2=160/40sccmの混合ガスを使用し、400ワットで10分間プラズマ処理した。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンを分析したところ、5μgであった。《実施例11》実施例1の不純物低減評価において、同条件で酸素プラズマ処理を行った後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド2.38で10秒洗浄した後、純水で1分間リンスし、60°Cで1時間乾燥させた。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンを分析したところ、13μgであった。実施例12~15については表2に示したように有機ポリマー樹脂の種類を変えて実験した。実施例16~17については塩基性溶液をテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド2.38の代わりに、それぞれ25NaOH水溶液、10KOH水溶液を用いて実験した。実施例18については実施例9と同じ化学反応によって気化する条件で処理を行った後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド2.38で10秒洗浄した後、純水で1分間リンスし、60°Cで1時間乾燥させた。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンの分析を行った。実施例19については実施例10と同じ化学反応によって気化する条件で処理を行った後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド2.38で10秒洗浄した後、純水で1分間リンスし、60°Cで1時間乾燥させた後、純水で1分間リンスし、60°Cで1時間乾燥させた。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンの分析を行った。《実施例20》実施例1の不純物低減評価において、同条件で酸素プラズマ処理を行った後、過酸化水素水で10秒洗浄した後、純水で1分間リンスし、60°Cで1時間乾燥させた。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオン濃度を分析したところ、13μgであった。実施例21~24については表3に示したように有機ポリマー樹脂の種類を変えて実験した。実施例25~26については酸性溶液を過酸化水素水の代わりに、それぞれ硫酸/過酸化水素水=4/4wt、塩酸/過酸化水素水/水=1/1/10wtを用いて実験した。実施例27については実施例9と同じ化学反応によって気化する条件で処理を行った後、過酸化水素水で10秒洗浄した後、純水で1分間リンスし、60°Cで1時間乾燥させた。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンの分析を行った。実施例28については実施例10と同じ化学反応によって気化する条件で処理を行った後、過酸化水素水で10秒洗浄した後、純水で1分間リンスし、60°Cで1時間乾燥させた後、純水で1分間リンスし、60°Cで1時間乾燥させた。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンの分析を行った。《比較例1》実施例1の不純物低減評価において、300°C/60分の加熱処理を行わないで後は実施例1と同様の評価を行い、フッ素イオンを分析したところ、35μgであった。《比較例2》実施例2の不純物低減評価において、300°C/60分の加熱処理を行わないで後は実施例1と同様の評価を行い、フッ素イオンを分析したところ、41μgであった。《比較例3》実施例3の不純物低減評価において、300°C/60分の加熱処理を行わないで後は実施例1と同様の評価を行い、フッ素イオンを分析したところ、30μgであった。《比較例4》実施例4の不純物低減評価において、300°C/60分の加熱処理を行わないで後は実施例1と同様の評価を行い、フッ素イオンを分析したところ、38μgであった。《比較例5》実施例5の不純物低減評価において、300°C/60分の加熱処理を行わないで後は実施例1と同様の評価を行い、フッ素イオンを分析したところ、34μgであった。《比較例6》実施例1の不純物低減評価において、同条件で酸素プラズマ処理を行った後、純水だけで3分間リンスし、60°Cで1時間乾燥させた。後は実施例1と全く同様の操作を行い、フッ素イオンを分析したところ、30μgであった。"