"液体トナーのゼログラフィー印刷のための画像形成体であって、基板と;電荷発生層と;電荷移動層と;場合により、オーバーコート層とを備えており;最も外側の層が、複数のセグメントと、複数のリンカーとが共有結合による有機骨格COFとして整列したものを含む耐溶媒性の規則的な構造の有機膜SOFを含む画像形成表面である、画像形成体。前記電荷移動層が前記最も外側の層であり、前記電荷移動層が、約10~約40μmの厚みである、請求項1に記載の画像形成体。前記電荷発生層と前記電荷移動層とがあわさって、約10~約40μmの厚みを有する単一層になっている、請求項1に記載の画像形成体。前記単一層が、前記最も外側の層である、請求項3に記載の画像形成体。前記電荷発生層が、約400nm~約800nmの電磁放射線を吸収する、請求項1に記載の画像形成体。前記SOFがコンポジットSOFである、請求項1に記載の画像形成体。前記SOFが、加えられる機能として電気活性を有する、請求項1に記載の画像形成体。加えられる機能である前記電気活性が、正孔移動性または電子移動性である、請求項7に記載の画像形成体。前記SOF骨格が、キャッピングユニットを含む、請求項1に記載の画像形成体。オーバーコート層を含み、前記最も外側の層が前記オーバーコート層であり、前記オーバーコート層が、約1~約10μmの厚みである、請求項1に記載の画像形成体。実施例1は、2個のビルディングブロック間をエーテル化によって接続する化学を促進するように成分を組み合わせた2型SOFの合成について記載している。酸触媒および加熱作用が存在する状態で、実施例1に記載した方法でSOFを得る。実施例1作業A液体を含む反応混合物の調製。以下のものを混合した。ビルディングブロックであるベンゼン-1,4-ジメタノール[セグメント=p-キシリル;Fg=ヒドロキシル-OH;0.47g、3.4mmol]、第2のビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’-テトラキス4-メトキシメチルフェニルビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N4,N4,N4’,N4’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=メトキシエーテル-OCH3;1.12g、1.7mmol]、17.9gの1-メトキシ-2-プロパノール。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60°Cまで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を0.45μmPTFE膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をp-トルエンスルホン酸の10wt1-メトキシ-2-プロパノール溶液0.31gとして加え、液体を含む反応混合物を得た。作業B反応混合物を濡れた膜として堆積。8milのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化したTiZrMYLAR商標基板の反射側に塗布した。作業C濡れた膜を乾燥SOFに変化させるのを促進すること。濡れた層を支えている金属化したMYLAR商標基板を、あらかじめ130°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約3~6μmの範囲のSOFを得て、これを基板から1個の自立型SOFとして剥離してもよい。SOFの色は緑色であった。このSOFの一部分のフーリエ変換赤外スペクトルを図4に示している。SOF内でパターン化された、用いられる分子ビルディングブロックからのセグメントを含むことを示すために、3つのコントロール実験が行われた。すなわち、実施例1の作業Aと同じ手順を用いて3つの液体反応混合物が調製された。ただし、これら3つの配合物は下記のように修飾された。コントロール反応混合物1;実施例2ビルディングブロックであるベンゼン-1,4-ジメタノールを含まなかった。コントロール反応混合物2;実施例3ビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’-テトラキス4-メトキシメチルフェニルビフェニル-4,4’-ジアミンを含まなかった。コントロール反応混合物3;実施例4触媒であるp-トルエンスルホン酸を含まなかった。実施例2~4は、膜が得られなかった。その代わり、ビルディングブロックの沈殿した粒子が、基板に堆積した。それぞれの3種類のコントロール反応混合物について、実施例1に概略を説明した作業BおよびCを行った。しかし、すべての場合において、SOFは生成せず、単に、基板にビルディングブロックが析出した。これらの結果から、ビルディングブロックは、上に述べた処理条件ではビルディングブロック自体と反応することはできず、プロモーターp-トルエンスルホン酸が存在しない状態では、ビルディングブロックが反応することもできないという結果が得られた。したがって、実施例1に記載した活性は、ビルディングブロックベンゼン-1,4-ジメタノールおよびN4,N4,N4’,N4’-テトラキス4-メトキシメチルフェニルビフェニル-4,4’-ジアミンが、互いに反応するように促進された場合にのみ反応することが可能な活性である。パターン化されたSOFは、セグメントであるp-キシリルおよびN4,N4,N4’,N4’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミンが互いに接続した場合にのみ生じる。フーリエ変換赤外スペクトルを、SOFのコントロール実験の生成物図5と比較すると、出発物質のFgが存在しない特に、ベンゼン-1,4-ジメタノールに由来するヒドロキシルバンドが存在しないことが示され、さらに、上述のようにセグメント間の接続性の進行をさらに支持するものである。また、SOFのスペクトルにヒドロキシルバンドがまったく存在しないことは、非常に高い割合でパターン化されていることを示している。実施例6作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックである1,6-n-ヘキサンジオール[セグメント=n-ヘキシル;Fg=ヒドロキシル-OH;0.21g、1.8mmol]、第2のビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’-テトラキス4-メトキシメチルフェニルビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N4,N4,N4’,N4’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=メトキシエーテル-OCH3;0.58g、0.87mmol]、8.95gの1-メトキシ-2-プロパノール。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60°Cまで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を0.45μmPTFE膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をp-トルエンスルホン酸の10wt1-メトキシ-2-プロパノール溶液0.16gとして加え、液体を含む反応混合物を得た。作業B20milのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化したTiZrMYLAR商標基板の反射側に塗布した。作業C濡れた層を支えている金属化したMYLAR商標基板を、あらかじめ130°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約4~5μmの範囲のSOFを得て、これを基板から1個の自立型SOFとして剥離してもよい。SOFの色は緑色であった。このSOFの一部分のフーリエ変換赤外スペクトルを図6に示している。実施例9:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックである4,4’-シクロヘキサン1,1-ジイルジフェノール[セグメント=4,4’-シクロヘキサン1,1-ジイルジフェニル;Fg=ヒドロキシル-OH;0.97g、6mmol]、第2のビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’-テトラキス4-メトキシメチルフェニルビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N4,N4,N4’,N4’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=メトキシエーテル-OCH3;1.21g、1.8mmol]、7.51gの1,4-ジオキサン。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60°Cまで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を0.45μmPTFE膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をp-トルエンスルホン酸の10wt1,4-ジオキサン溶液0.22gとして加え、液体を含む反応混合物を得た。作業B10milのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化したTiZrMYLAR商標基板の反射側に塗布した。作業C濡れた層を支えている金属化したMYLAR商標基板を、あらかじめ130°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約12~20μmの範囲のSOFを得て、これを基板から1個の自立膜として剥離してもよい。SOFの色は緑色であった。このSOFの一部分のフーリエ変換赤外スペクトルを図7に示している。実施例26作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックである4,4’,4’’-ニトリロトリスベンゼン-4,1-ジイルトリメタノール[セグメント=4,4’,4’’-ニトリロトリスベンゼン-4,1-ジイルトリメチル;Fg=アルコール-OH;1.48g、4.4mmol]、8.3gの1,4-ジオキサン。混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60°Cまで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を0.45μmPTFE膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をp-トルエンスルホン酸の10wt1,4-ジオキサン溶液0.15gとして加え、液体を含む反応混合物を得た。作業B15milのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化したTiZrMYLAR商標基板の反射側に塗布した。作業C濡れた層を支えている金属化したMYLAR商標基板を、あらかじめ130°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約6~15μmの範囲のSOFを得て、これを基板から1個の自立膜として剥離してもよい。SOFの色は緑色であった。この膜のフーリエ変換赤外スペクトルを図8に示している。二次元X線散乱データを図14に示しており、バックグラウンドより上のシグナルは存在せず、このことは、任意の検出可能な周期を有する規則的な分子が存在しないことを示している。実施例30:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックであるテレフタルアルデヒド[セグメント=ベンゼン;Fg=アルデヒド-CHO;0.18g、1.3mmol]、第2のビルディングブロックであるトリス4-アミノフェニルアミン[セグメント=トリフェニルアミン;Fg=アミン-NH2;0.26g、0.89mmol]、2.5gのテトラヒドロフラン。均一溶液が得られるまで、混合物を振り混ぜた。室温まで冷却したら、溶液を0.45μmPTFE膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をp-トルエンスルホン酸の10wt1-テトラヒドロフラン溶液0.045gとして加え、液体を含む反応混合物を得た。作業B5milのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化したTiZrMYLAR商標基板の反射側に塗布した。作業C濡れた層を支えている金属化したMYLAR商標基板を、あらかじめ120°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約6μmの範囲のSOFを得て、これを基板から1個の自立膜として剥離してもよい。SOFの色は赤色から橙色であった。この膜のフーリエ変換赤外スペクトルを図9に示している。実施例31:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックである4,4’,4’’-ニトリロトリベンズアルデヒド[セグメント=トリフェニルアミン;Fg=アルデヒド-CHO;0.16g、0.4mmol]、第2のビルディングブロックであるトリス4-アミノフェニルアミン[セグメント=トリフェニルアミン;Fg=アミン-NH2;0.14g、0.4mmol]、1.9gのテトラヒドロフラン。均一溶液が得られるまで、混合物を振り混ぜた。室温まで冷却したら、溶液を0.45μmPTFE膜で濾過した。作業B5milのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化したTiZrMYLAR商標基板の反射側に塗布した。作業C濡れた層を支えている金属化したMYLAR商標基板を、あらかじめ120°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約6μmの範囲のSOFを得て、これを基板から1個の自立膜として剥離してもよい。SOFの色は赤色であった。この膜のフーリエ変換赤外スペクトルを図10に示している。実施例36:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックであるトリス-[4-ヒドロキシメチル-フェニル]-アミン[セグメント=トリ-p-トリル-アミン;Fg=ヒドロキシ-OH;5.12g];添加剤であるCymel30355mgおよびSilclean3700210mg、触媒であるNacureXP-357267mg、1-メトキシ-2-プロパノール13.27g。この混合物をローリングウェーブ式回転機で10分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、55°Cで65分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を1μmPTFE膜で濾過した。作業B反応混合物を、カップコーターTsukiagecoatingを用い、引っ張り速度240mm/分で市販の30mmドラム感光体に塗布した。作業C濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ140°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが約6.9μmのSOFを得た。図11は、このSOFオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線PIDCである75msでの電圧露光して測定する。実施例37:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックであるトリス-[4-ヒドロキシメチル-フェニル]-アミン[セグメント=トリ-p-トリル-アミン;Fg=ヒドロキシ-OH;4.65g];添加剤であるCymel30349mgおよびSilclean3700205mg、触媒であるNacureXP-357254mg、1-メトキシ-2-プロパノール12.25g。この混合物をローリングウェーブ式回転機で10分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、55°Cで65分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を1μmPTFE膜で濾過した。ポリエチレンワックス分散物平均粒径=5.5マイクロメートル、i-プロピルアルコール中、固形分40、613mgを反応混合物に加え、これを10分間超音波処理し、回転機で30分間混合した。作業Bこの反応混合物を、カップコーターTsukiagecoatingを用い、引っ張り速度240mm/分で市販の30mmドラム感光体に塗布した。作業C濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ140°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業から、SOFにワックス粒子が均一に組み込まれた、厚みが約6.9μmの膜を得た。図12は、このSOFオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線PIDCである75msでの電圧露光して測定する。実施例38:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックであるN,N,N’,N’-テトラキス-[4-ヒドロキシメチルフェニル]-ビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N,N,N’,N’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=ヒドロキシ-OH;3.36g]、ビルディングブロックであるN,N’-ジフェニル-N,N’-ビス-3-ヒドロキシフェニル-ビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N,N,N’,N’-テトラフェニル-ビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg-ヒドロキシル-OH;5.56g];添加剤であるCymel303480mgおよびSilclean3700383mg、触媒であるNacureXP-357480mg、1-メトキシ-2-プロパノール33.24g。この混合物をローリングウェーブ式回転機で10分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、55°Cで65分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を1μmPTFE膜で濾過した。作業Bこの反応混合物を、カップコーターTsukiagecoatingを用い、引っ張り速度485mm/分で市販の30mmドラム感光体に塗布した。作業C濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ140°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが6.0~6.2μmの膜を得た。図13は、このSOFオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線PIDCである75msでの電圧露光して測定する。実施例49:作業A反応混合物を含む液体を調製する試み。以下のものを混合した。ビルディングブロックであるトリス-[4-ヒドロキシメチル-フェニル]-アミン[セグメント=トリ-p-トリル-アミン;Fg=ヒドロキシ-OH;5.12g];添加剤であるCymel30355mg、Silclean3700210mg、1-メトキシ-2-プロパノール13.27g。分子ビルディングブロックを完全に溶解する試みにおいて、この混合物を65分かけて55°Cまで加熱した。しかし、完全には溶解しなかった。触媒であるNacureXP-357267mgを加え、不均一な混合物をローリングウェーブ式回転機でさらに10分間混合した。この例では、加熱工程の後に触媒を加えた。溶解していない分子ビルディングブロックの量があるため、コーティング前に溶液を濾過しなかった。作業B濡れた膜としての反応混合物の堆積。反応混合物を、カップコーターTsukiagecoatingを用い、引っ張り速度240mm/分で市販の30mmドラム感光体に塗布した。作業C濡れた膜から乾燥膜への変化を促進。濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ140°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業から、均一な膜は得られなかった。粒子を含む不均一な膜が生成した領域と、まったく膜を形成しない他の領域とが存在していた。実施例50:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックであるtris-[4-ヒドロキシメチル-フェニル]-アミン[セグメント=トリ-p-トリル-アミン;Fg=ヒドロキシ-OH;5.12g];添加剤であるCymel30355mgおよびSilclean3700210mg、触媒であるNacureXP-357267mg、1-メトキシ-2-プロパノール13.27g。この混合物をローリングウェーブ式回転機で10分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、55°Cで65分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を1μmPTFE膜で濾過した。反応混合物の粘度が、加熱工程後に増加した加熱前後の溶液の粘度は測定していなかったことを注記しておく。作業B反応混合物を、カップコーターTsukiagecoatingを用い、引っ張り速度240mm/分で市販の30mmドラム感光体に塗布した。作業C濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ140°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが約6.9μmのSOFを得た。実施例51:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックであるN,N,N’,N’-テトラキス-[4-ヒドロキシメチルフェニル]-ビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N,N,N’,N’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=ヒドロキシ-OH;1.84g]、ビルディングブロックである3,3’-4,4’-ビフェニル-4-イルアザンジイルビス4,1-フェニレンジプロパン-1-オール[セグメント=3,3’-4,4’-ビフェニル-4-イルアザンジイルビス4,1-フェニレンジプロピル;Fg=ヒドロキシ-OH;2.41g、触媒であるp-トルエンスルホン酸10wtドワノール溶液、460mg、1-メトキシ-2-プロパノール16.9g-50ppmのDC510を含有。この混合物をローリングウェーブ式回転機で5分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、70°Cで30分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を1μmPTFE膜で濾過した。作業Bこの反応混合物を、Hiranoウェブコーターを用いて製品をコーティングしたウェブ感光体に塗布した。シリンジポンプの速度:4.5mL/分。作業C濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ130°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に1.5m/分の速度で2分間供給した。これらの作業によって、厚みが2.1マイクロメートルのSOFオーバーコート層を感光体の上に与えた。実施例52:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックであるN,N,N’,N’-テトラキス-[4-ヒドロキシメチルフェニル]-ビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N,N,N’,N’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=ヒドロキシ-OH;5.0g]、ビルディングブロックであるベンゼンジメタノール[セグメント=p-キシリル;Fg-ヒドロキシル-OH;2.32g]、触媒であるp-トルエンスルホン酸10wtドワノール溶液、720mg、1-メトキシ-2-プロパノール22.5g-50ppmのDC510を含有。この混合物をローリングウェーブ式回転機で5分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、40°Cで5分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を1μmPTFE膜で濾過した。作業Bこの反応混合物を、Hiranoウェブコーターを用いて製品をコーティングした製品ウェブ感光体に塗布した。シリンジポンプの速度:5mL/分。作業C濡れた層を支えている感光体を、あらかじめ130°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に1.5m/分の速度で2分間供給した。これらの作業によって、厚みが2.2マイクロメートルのSOFオーバーコート層を感光体の上に与えた。実施例53:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックであるN,N,N’,N’-テトラキス-[4-ヒドロキシメチルフェニル]-ビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N,N,N’,N’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=ヒドロキシ-OH;5.0g]、ビルディングブロックであるベンゼンジメタノール[セグメント=p-キシリル;Fg-ヒドロキシル-OH;2.32g]、触媒であるp-トルエンスルホン酸10wtドワノール溶液、720mg、1-メトキシ-2-プロパノール22.5g-50ppmのDC510を含有。この混合物をローリングウェーブ式回転機で5分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、40°Cで5分間加熱した。この混合物を回転機にいれておき、室温まで冷却した。溶液を1μmPTFE膜で濾過した。作業Bこの反応混合物を、Hiranoウェブコーターを用いて製品をコーティングした製品ウェブ感光体に塗布した。シリンジポンプの速度:10mL/分。作業C濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ130°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に1.5m/分の速度で2分間供給した。これらの作業によって、厚みが4.3マイクロメートルのSOFオーバーコート層を感光体の上に与えた。SOFでオーバーコートされた感光体サンプルは、アイソパーC、G、またはMに24時間接触させた後にも、観察可能な損傷はみられなかった。さらに、CTLからのビルディングブロックまたはセグメントの結晶化は観察されなかった。以前のオーバーコート層を用いて観察した場合にも、アイソパーC、G、またはMに24時間接触させた後に結晶化せず、測定可能な損傷は、なんらみられなかった。実施例54:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックである4,4’,4’’-ニトリロトリスベンゼン-4,1-ジイルトリメタノール[セグメント=4,4’,4’’-ニトリロトリスベンゼン-4,1-ジイルトリメチル;Fg=アルコール-OH;1.48g、4.4mmol]、水0.5g、1,4-ジオキサン7.8g。この混合物を振り混ぜ、均一な溶液が得られるまで、60°Cまで加熱した。室温まで冷却したら、溶液を0.45μmPTFE膜で濾過した。濾過した溶液に、酸触媒をp-トルエンスルホン酸の10wt1,4-ジオキサン溶液0.15gとして加え、液体を含む反応混合物を得た。作業B15milのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、金属化したTiZrMYLAR商標基板の反射側に塗布した。作業C濡れた層を支えている金属化したMYLAR商標基板を、あらかじめ130°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約4~10μmの範囲のSOFを得て、これを基板から1個の自立膜として剥離してもよい。SOFの色は緑色であった。二次元X線散乱データを図14に示している。図14からわかるように、2θは、約17.8であり、dは約4.97オングストロームであり、このことは、SOFが、約0.5nmの周期を有する規則的な分子を有することを示す。実施例55:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックである4-ヒドロキシベンジルアルコール[セグメント=トルエン;Fg=ヒドロキシル-OH;0.0272g、0.22mmol]、第2のビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’-テトラキス4-メトキシメチルフェニルビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N4,N4,N4’,N4’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=メトキシエーテル-OCH3;0.0728g、0.11mmol]、0.88gの1-メトキシ-2-プロパノール、シルクリーンの10wt1-メトキシ-2-プロパノール溶液0.01g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、55°Cまで加熱する。室温まで冷却したら、溶液を0.45μmPTFE膜で濾過する。濾過した溶液に、酸触媒をp-トルエンスルホン酸の10wt1-メトキシ-2-プロパノール溶液0.01gとして加え、液体を含む反応混合物を得た。作業B5milのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、アルミニウム基板に塗布した。作業C濡れた層を支えているアルミニウム基板を、あらかじめ140°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。実施例56:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックである4-ヒドロキシメチル安息香酸[セグメント=4-メチルベンズアルデヒド;Fg=ヒドロキシル-OH;0.0314g、0.206mmol]、第2のビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’-テトラキス4-メトキシメチルフェニルビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N4,N4,N4’,N4’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=メトキシエーテル-OCH3;0.0686g、0.103mmol]、0.88gの1-メトキシ-2-プロパノール、シルクリーンの10wt1-メトキシ-2-プロパノール溶液0.01g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、55°Cまで加熱する。室温まで冷却したら、溶液を0.45μmPTFE膜で濾過する。濾過した溶液に、酸触媒をp-トルエンスルホン酸の10wt1-メトキシ-2-プロパノール溶液0.01gとして加え、液体を含む反応混合物を得た。作業B5milのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、アルミニウム基板に塗布した。作業C濡れた層を支えているアルミニウム基板支持体を、あらかじめ140°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。実施例57:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックである1,4-ジアミノベンゼン[セグメント=ベンゼン;Fg=アミン-NH2;0.14g、1.3mmol]、第2のビルディングブロックである1,3,5-トリホルミルベンゼン[セグメント=ベンゼン;Fg=アルデヒド-CHO;0.144g、0.89mmol]、2.8gのNMP。均一溶液が得られるまで、この混合物を振り混ぜる。室温まで冷却したら、溶液を0.45μmPTFE膜で濾過する。濾過した溶液に、酸触媒をp-トルエンスルホン酸の2.5wtNMP0.02gとして加え、液体を含む反応混合物を得た。作業B反応混合物を、速度を変えることが可能なスピンコーターの回転ユニットに取り付けた石英プレートに、100RPMで30分間回転させ、塗布した。作業C濡れた層を支えている石英プレートを、あらかじめ180°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、120分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが400nmの黄色の膜が得られ、これを水に浸し、基板から剥離することができる。実施例58:実施例1に記載したプロセスおよびビルディングブロックに関し、コンポジットSOFを調製した。これらの場合、使用した溶媒はジオキサンであった。すべてのSOFを調製し、20milのバードバーを用い、濡れた層を堆積させ、この濡れた層の変化を130°Cで40分間促進させることによって、金属化したMYLAR基板に、反応混合物中の合計固形保持率30、第2の成分からの固形保持率が10になるように塗布した。濡れた層からSOFを形成する変化を促進させる前に、第2の成分を反応混合物に含ませることによって、第2の成分を導入した。6種類の異なるコンポジットSOFを製造し、それぞれ異なる第2の成分を含んでいた:コンポジットSOF1は、正孔移動分子N4,N4’-ジフェニル-N4,N4’-ジ-m-トリル-[1,1’-ビフェニル]-4,4’-ジアミンを含み、コンポジットSOF2は、ポリマーポリスチレンを含み、コンポジットSOF3は、ナノ粒子C60Buckminsterフラーレンを含み、コンポジットSOF4は、有機低分子ビフェニルを含み、コンポジットSOF5は、金属粒子銅微粉末を含み、コンポジットSOF6は、電子受容体キノンを含む。いくつかの第2の成分は、反応混合物に可溶性であり、いくつかは反応混合物に分散した可溶性ではなかった。製造した6種類のコンポジットSOFは、実質的にピンホールのないSOFであり、コンポジット材料がSOFに組み込まれていた。いくつかの場合例えば、銅微粉末コンポジットSOFの場合、第2の成分ドーパントの分散物は、目でみて明らかであった。これらのSOFの厚みは、15~25マイクロメートルの範囲であった。実施例59:作業A液体を含む反応混合物の調製:以下のものを混合した。SOFビルディングブロックであるトリス-4-ヒドロキシメチルトリフェニルアミン[セグメント=トリフェニルアミン;Fg=ヒドロキシ-OH;0.200g];フォトクロミック分子1~5以下を参照0.02g、触媒であるp-トルエンスルホン酸0.01g;1-メトキシ-2-プロパノール0.760g。この混合物をローリングウェーブ式回転機で10分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、55°Cで5分間加熱した。この溶液を1μmPTFE膜で濾過した。作業B反応混合物を濡れた膜として堆積:5milのギャップを有するバードバーを取り付けた等速ドローダウン式コーティング機を用い、反応混合物を、3milMYLAR基板に塗布した。作業C濡れた膜から乾燥SOFへの変化を促進。濡れた層を支えているMylarシートを、あらかじめ120°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、5分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが3~5μmの膜を得た。以下のフォトクロミック分子をSOFに組み込んだ。すべての配合物は、実質的にピンホールのない膜を形成したが、表2以下からわかるように、フォトクロミック分子4および5が最もよい性能を発揮した。分子4および5を用いたフォトクロミックSOFのUV-可視光スペクトルは、明らかに、フォトクロミックSOF膜の着色能UVAで書き込んだ後、約600nmに中心がある広範囲の吸収が存在、および消去能を示している可視光で消去すると、約600nmの吸収が消失。フォトクロミック応答は、書き込み/消去速度および画像のコントラストという観点で、ポリマーマトリックス系と匹敵するものであった。このことは、SOF膜が、これらのDTE型のフォトクロミック材料の性能に影響を与えないことを示している。化学薬品/環境/機械力に対する安定性を試験するために、フォトクロミックSOFをアセトン中に15分間置いた。実験による観察結果を以下の表表3に詳細に示す。分子5を含むフォトクロミックSOFは、膜の一体性およびフォトクロミック挙動を完全に保存している。分子4を含むフォトクロミックSOFは、フォトクロミック成分がしみ出し、その結果、フォトクロミック活性が失われる。分子5を含むフォトクロミックSOFをアセトンに入れ、5分間超音波処理した。これは、ポリマーフォトクロミック系は耐えられないであろう厳しい試験である。溶媒を除去した後、分子5を含むフォトクロミックSOFは、本質的に、SOFの完全性を保っており、UVLEDデバイスにさらされた場合とほぼ同じレベル書き込んでいるすなわち、フォトクロミック活性は保存されている。SOF構造に化学結合しているフォトクロミック分子5から誘導されるフォトクロミックSOFは、SOFからしみ出さず、厳しい化学薬品アセトン溶媒に耐えることができ、機械的超音波によるストレスにも耐えることができる。実施例60:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックであるN,N,N’,N’-テトラキス-[4-ヒドロキシメチルフェニル]-ビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N,N,N’,N’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=ヒドロキシ-OH;表4に列挙した量で]、表4に示されているようなキャッピングユニット;添加剤であるSilclean3700、触媒であるNacureXP-357およびドワノール。この混合物をローリングウェーブ式回転機で10分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、65°Cで60分間加熱した。この混合物を回転機に入れ、室温まで冷却した。この溶液を1μmPTFE膜で濾過した。作業B反応混合物をアルミニウム基板に塗布した。作業C濡れた層を支えているアルミニウム基板を、あらかじめ140°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業から、4~10μmの厚みを有する膜を得た。上述のすべての配合物は、眼で観察して、ピンホールのないSOFが得られていた。SOFのFT-IR分光法は、膜で検出された-OH基が、大きく弱まっているか、または完全に失われているため、THM-TBDビルディングブロックとキャッピングユニットとの結合はうまくいっており、効率的であることを示していた。キャッピングされたSOFの熱安定性は、キャッピングユニットを含まないTHM-TBDSOFに匹敵していた。400°Cまでは分解はみられず、このことは、高度に結合した材料であるという指標である。膜の機械特性は、キャッピング基を導入することによって大きく影響を受けた。自立型の膜で、応力-ひずみデータを集めることによって、キャッピングされたSOF膜の機械特性を評価した。一般的に、キャッピングユニットを含むSOF膜は、靱性が大きく、THM-TBDのみから構築された純粋なSOF膜よりも線形応力-ひずみ曲線が小さかった。この機械データは、キャッピングユニットをSOFに入れることによって得られる微視的なレベルでの変化が、膜の巨視的なレベルに直接影響を及ぼしていることを明らかに示している。実施例61:作業A以下のものを混合した。ビルディングブロックであるN,N,N’,N’-テトラキス-[4-ヒドロキシメチルフェニル]-ビフェニル-4,4’-ジアミン[セグメント=N,N,N’,N’-テトラ-p-トリルビフェニル-4,4’-ジアミン;Fg=ヒドロキシ-OH;表5~8に列挙した量で]、キャッピングユニット、添加剤であるSilclean3700、触媒であるNacureXP-357、ドワノール表3~6に示されるように。この混合物をローリングウェーブ式回転機で10分間混合し、次いで、均一溶液が得られるまで、65°Cで60分間加熱した。この混合物を回転機に入れ、室温まで冷却した。この溶液を1μmPTFE膜で濾過した。作業Bこの反応混合物を、カップコーターTsukiagecoatingを用い、引っ張り速度485mm/分で市販の30mmドラム感光体に塗布した。作業C濡れた層を支えている感光体ドラムを、あらかじめ140°Cまで加熱しておいた能動的に排気する乾燥機に急速に移し、40分間放置して加熱した。これらの作業から、厚みが6~7μmの膜が得られた。上述のすべての配合物は、眼で観察して、ピンホールのないSOFが得られていた。SOFのFT-IR分光法は、膜で検出された-OH基が、大きく弱まっているか、または完全に失われているため、THM-TBDビルディングブロックとキャッピングユニットとの結合はうまくいっており、効率的であることを示していた。図15は、このキャッピングされたSOFオーバーコート層の光伝導性をあらわす光放電曲線PIDCである75msでの電圧露光して測定する。このデバイスの電気特性は優れている低Vrおよびサイクルアップなし。それぞれ、図15および図16のPIDCおよび繰り返しデータを参照。キャッピングされたSOFOCLのBCR摩耗データは、両方の種類のキャッピングユニットについてキャッピングユニットの保持量という観点で、最も大きな摩耗率を示す。高保持量と低保持量とで、摩耗の程度および違いは小さく、このことは、キャッピングユニット保持量をさらに増やすことによって摩耗率が大きくなることにはかなりの自由度が存在することを示しており、また、必要なHTMの量費用を下げるだろう。印刷試験には、印刷品質の問題はなんら存在せず、オーバーコーティングされていないP/Rデバイスと本質的に同じである。"