"被処理ガス中に含まれる有害ガス成分を燃焼火炎によって除害処理する燃焼除害装置において、有害ガス成分を含む被処理ガスを燃焼チャンバ内に導入する被処理ガス導入ノズルと、該被処理ガス導入ノズルの燃焼チャンバ外周側から前記燃焼チャンバ内に酸化剤を導入する酸化剤導入ノズルと、前記被処理ガス導入ノズルから燃焼チャンバ内に導入された前記被処理ガスと前記酸化剤導入ノズルから燃焼チャンバ内に導入された前記酸化剤とが混合した混合ガスに点火する点火バーナと、前記被処理ガス導入ノズルに前記被処理ガスを供給する被処理ガス供給経路内に、燃焼用燃料となる水素を導入して該水素と前記被処理ガスとを混合させる水素導入部とを備えるとともに、前記酸化剤導入ノズルのノズル軸線を、前記被処理ガス導入ノズルのノズル軸線の延長線上に向かう方向に配置した燃焼除害装置。前記被処理ガスが、有害ガス成分としてアンモニアを含んでいる請求項1記載の燃焼除害装置。前記燃焼チャンバは、外筒と、該外筒の内周に配置されたガス透過性材料からなる内筒とで形成され、前記被処理ガス導入ノズル及び前記酸化剤導入ノズルは前記内筒内に形成された燃焼室内に被処理ガス及び酸化剤を導入する状態で設けられ、前記内筒と前記外筒との間に、前記内筒を透過して燃焼室内に導入される空気が外筒外部から供給される空気室が設けられている請求項1又は2記載の燃焼除害装置。前記点火バーナは、水素を触媒により活性化させて燃焼させるバーナである請求項1乃至3のいずれか1項記載の燃焼除害装置。前記被処理ガスは、工程中の一部で水素を使用するプロセスから排出される排ガスであり、前記プロセスでの水素の使用量が少ないときには、プロセスで使用する水素の少なくとも一部を燃焼用燃料の水素として前記水素導入部から導入する請求項1乃至4のいずれか1項記載の燃焼除害装置。しかし、特許文献1に記載された装置では、排ガス導入ノズルからチャンバ内に導入された排ガスと水素との混合が不十分であり、さらに、燃焼用ガス中の酸素と燃焼速度が早い水素とが急激に反応してしまうため、一般的な大きさのチャンバ内では、水素の燃焼熱で排ガス中のアンモニアを十分に加熱することができず、燃焼速度が水素に比べて極めて遅いアンモニアを燃焼させるという機能を十分に発揮することができなかった。そこで本発明は、有害ガス成分として可燃性ガス成分を含む排ガスなどの被処理ガス中の有害ガス成分を効率よく除害処理することができる燃焼除害装置を提供することを目的としている。上記目的を達成するため、本発明の燃焼除害装置は、被処理ガス中に含まれる有害ガス成分を燃焼火炎によって除害処理する燃焼除害装置において、有害ガス成分を含む被処理ガスを燃焼チャンバ内に導入する被処理ガス導入ノズルと、該被処理ガス導入ノズルの燃焼チャンバ外周側から前記燃焼チャンバ内に酸化剤を導入する酸化剤導入ノズルと、前記被処理ガス導入ノズルから燃焼チャンバ内に導入された前記被処理ガスと前記酸化剤導入ノズルから燃焼チャンバ内に導入された前記酸化剤とが混合した混合ガスに点火する点火バーナと、前記被処理ガス導入ノズルに前記被処理ガスを供給する被処理ガス供給経路内に、燃焼用燃料となる水素を導入して該水素と前記被処理ガスとを混合させる水素導入部とを備えるとともに、前記酸化剤導入ノズルのノズル軸線を、前記被処理ガス導入ノズルのノズル軸線の延長線上に向かう方向に配置したことを特徴としている。本発明の燃焼除害装置は、有害ガス成分としてアンモニアを含んでいる被処理ガスの燃焼除害処理に特に有効であり、また、前記燃焼チャンバは、外筒と、該外筒の内周に配置されたガス透過性材料からなる内筒とで形成され、前記被処理ガス導入ノズル及び前記酸化剤導入ノズルは前記内筒内に形成された燃焼室内に被処理ガス及び酸化剤を導入する状態で設けられ、前記内筒と前記外筒との間に、前記内筒を透過して燃焼室内に導入される空気が外筒外部から供給される空気室が設けられているものが好ましく、前記点火バーナは、水素を触媒により活性化させて燃焼させるバーナを使用することが好ましい。さらに、本発明の燃焼除害装置は、前記被処理ガスが工程中の一部で水素を使用するプロセスから排出される排ガスである場合、前記プロセスでの水素の使用量が少ないときには、プロセスで使用する水素の少なくとも一部を燃焼用燃料の水素として前記水素導入部から導入することができる。本発明の燃焼除害装置によれば、有害ガス成分を含む被処理ガス中に水素を導入混合してからチャンバ内に導入し、酸化剤と混合させて燃焼させるので、有害ガス成分と水素とを十分に接触させることができ、水素の燃焼熱による有害ガス成分の分解を効率よく行うことができる。さらに、炭化水素系の燃料を使用せずに水素を燃焼させて燃焼火炎を生成することにより、二酸化炭素の発生量を大幅に減少させることができる。特に、有害ガス成分が、燃焼速度が遅い可燃性ガス成分であるアンモニアの場合は、アンモニアの分解、燃焼を効果的に促進することができる。さらに、チャンバを二重構造として外側の空気室からガス透過性材料からなる内筒を透過させてチャンバの燃焼室内に空気を導入することにより、燃焼室内に十分な量の酸素を導入して確実な燃焼状態を得られるとともに、空気室内へ外部から空気を常に供給することによって内筒や外筒の温度上昇を抑えることができる。また、点火バーナの燃料にも水素を使用することにより、水素以外の燃料を必要とせず、用役の利用効率を向上させることができる。特に、水素を使用するプロセスから排出される排ガスの除害処理を行う場合、プロセスでの水素の使用量が少ないときに、プロセス用として用意されている水素を燃焼除害装置の水素導入部から導入することにより、プロセス用の水素供給設備からの水素で排ガス中に含まれている有害ガス成分の除害処理を行うことができる。これにより、燃焼除害装置用の水素供給設備を設ける必要がなくなり、除害処理用の設備コストを低減できる。また、プロセスで水素を使用しているときには、プロセスからの排ガス中に水素が含まれているので、水素導入部からの水素導入量を少なくしたり、止めたりしても十分な燃焼状態を得ることができるので、有害ガス成分の除害処理を継続することができ、水素導入部から導入する燃焼用燃料としての水素使用量を削減することができる。本形態例に示す燃焼除害装置10は、軸線を鉛直方向に向けた円筒状の燃焼チャンバ11の天板部に、該燃焼チャンバ11内に被処理ガスを導入するための被処理ガス導入ノズル12と、該被処理ガス導入ノズル12の外周に同心円状に配置された酸化剤導入ノズル13とを設けるとともに、燃焼チャンバ11の周壁を貫通させて点火バーナ14を設けている。さらに、被処理ガス導入ノズル12に被処理ガスを供給する被処理ガス供給経路15には、該被処理ガス供給経路15内に、燃焼用燃料となる水素を導入して該水素と前記被処理ガスとを混合させる水素導入部16が設けられている。燃焼チャンバ11は、密閉された金属製の外筒17と、該外筒17の内周に配置されたガス透過性材料からなる内筒18とによって二重筒構造となっており、内筒18の内周側に燃焼室19が形成され、外筒17と内筒18との間に空気室20が形成されている。外筒17の周壁には、装置外から空気室20内に供給する空気量を調整するためのダンパ21を備えた空気供給口22が設けられており、空気供給口22から空気室20内に外部から空気を供給することにより、多孔板や金網などのガス透過性材料によって形成された内筒18を透過して燃焼室19内に空気を導入するように形成されている。また、燃焼チャンバ11の下端に開口した燃焼ガス排気口には、軸線を水平方向に向けた冷却筒23が連設されている。この冷却筒23の一端には、燃焼排ガスを冷却するための冷却用空気の導入口24がダンパ25を介して設けられ、冷却筒23の他端開口には、必要に応じて冷却手段や固形分分離手段を介して排気管図示せずが接続されている。前記被処理ガス導入ノズル12は、ノズル軸線12aをチャンバ軸線方向に向けて配置されており、チャンバ軸線に沿って下降流で被処理ガスを導入するように形成されている。一方、前記酸化剤導入ノズル13は、被処理ガス導入ノズル12の外周の一つの同心円上に多数のノズル口を配列したものであって、該酸化剤導入ノズル13における各ノズル口のノズル軸線13aは、前記被処理ガス導入ノズル12のノズル軸線の延長線上の一点を焦点として、この焦点に向かう方向に酸化剤を導入するように配置されている。したがって、燃焼除害処理を行う被処理ガスは、被処理ガス導入ノズル12の基部に位置する被処理ガス供給経路15内で水素導入部16から導入される水素と十分に混合した状態で被処理ガス導入ノズル12から燃焼チャンバ11内に導入され、酸化剤導入ノズル13から燃焼チャンバ11内に導入される酸化剤で包み込まれた状態で燃焼チャンバ11内を下方に向かって流れる状態になる。前記点火バーナ14は、水素混合状態の被処理ガスが酸化剤と混合する部分に種火を形成するものであって、この種火によって被処理ガス中の水素と酸化剤中の酸素とを反応させて燃焼火炎を形成する。この点火バーナ14には、化石燃料を用いた通常の点火バーナを用いることもできるが、水素に活性の高い触媒を用いた水素点火バーナを使用することにより、燃焼用燃料の水素の一部を種火形成用として使用できるので、種火形成用の燃料を供給する設備を省略することができる。点火バーナ14の種火で燃焼用燃料の水素が酸化剤と反応して燃焼する際、水素導入部16から導入した水素が被処理ガス中に混合された状態となっているため、被処理ガス中に含まれている有害ガス成分を水素の燃焼熱で効果的に加熱することができ、燃焼速度が遅い有害ガス成分であっても十分に加熱することができ、各種有害ガス成分を熱分解させたり、酸化剤と反応させて燃焼させたりして確実に除害処理することができる。さらに、装置外から空気室20内に供給した空気を、内筒18を透過させて燃焼室19内に導入することにより、燃焼室19内での燃焼に必要な酸素量より多くの酸素を燃焼室19の全体に満遍なく供給することができるので、燃焼室19内でのより確実な燃焼状態が得られる。また、空気室20内に外部から空気を常時供給することにより、外筒17や内筒18の温度上昇を抑えることができる。図2は、プロセスガスとして水素とアンモニアとを使用する半導体製造装置MOCVD30に前記燃焼除害装置10を組み込んだ半導体製造設備の一例を示している。なお、以下の説明において、前記形態例に示した燃焼除害装置の構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。また、点火バーナ14には、水素に活性の高い触媒を用いた水素点火バーナを使用している。半導体製造装置30は、有機金属化合物及びアンモニアを原料ガス、水素及び窒素をキャリアガスとして基板表面に化合物半導体薄膜を気相成長させてLEDなどの化合物半導体や太陽電池を製造するものであって、半導体製造装置30のガス入口側には、アンモニア供給源からのアンモニア供給経路31,水素供給源からの水素供給経路32の他、図示しない有機金属化合物供給経路や窒素供給経路などが設けられている。また、半導体製造装置30のガス出口側には、シールガスとして窒素を使用したドライシールド型真空ポンプ33を備えた排ガス経路34が設けられている。アンモニア供給経路31及び水素供給経路32には、ガス供給弁31V,32V及び流量計31F,32Fがそれぞれ設けられており、制御装置35からの指令によってガス供給弁31V,32Vをそれぞれ開閉することにより、半導体製造装置30へのアンモニアや水素の供給状態を制御している。また、水素供給経路32の水素供給源側からは、燃焼除害装置10の水素導入部16に接続する除害装置用水素供給経路36と、点火バーナ14に種火形成用の水素を供給する点火バーナ用水素供給経路37とが分岐している。除害装置用水素供給経路36には、前記制御装置35からの指令によって開閉制御されるガス供給弁36Vと流量計36Fとが設けられており、半導体製造装置30の運転状態に応じて燃焼除害装置10に導入される水素量が調節されている。図3Aに示すように、半導体製造装置30では、化合物半導体薄膜を気相成長させる一工程中に供給ガス量が変化し、工程開始t0から予熱などの予備段階を経て気相成長開始t1までは、アンモニアNH3に対して水素H2の供給量が多く、工程中間で基板への気相成長が始まると、水素H2の供給量が少なくなるとともにアンモニアNH3の供給量が増大する。さらに、工程終了近くで気相成長終了t2となって基板へ気相成長が終了すると、水素H2が大量に供給される状態になるとともに、アンモニアNH3の供給量は略半減した状態になる。また、窒素N2は、工程開始t0から工程終了t3まで一定量が連続して供給されている。このようにして水素の供給量が変化する半導体製造装置30からの排ガスを除害処理する場合、燃焼除害装置10における点火バーナ用水素供給経路37には、種火を形成するために必要な量の水素が連続して供給され、除害装置用水素供給経路36に供給される水素量は、排ガス中の水素量に応じて変化させる。すなわち、図3Bに示すように、工程開始t0から気相成長開始t1までの間の排ガスは、排ガス中に水素が含まれている状態なので、点火バーナ用水素供給経路37に少量L1の水素を供給するだけでよく、気相成長開始t1から気相成長終了t2までの間は、排ガス中の水素量が少なくなるので、点火バーナ用水素の流量L1に加えて、除害装置用水素供給経路36から水素導入部16に十分な燃焼状態を得ることができる比較的大量L2の水素を供給し、気相成長終了t2から工程終了t3までの間は、排ガス中の水素量が増加するので、水素導入部16から水素を導入しなくても十分な燃焼状態を得ることができ、点火バーナ用の少量L1の水素を供給するだけでよい。このように、燃焼除害装置10を半導体製造装置30に組み込み、半導体製造装置30の運転状態に応じて燃焼除害装置10に燃焼用の水素を供給するように形成することにより、燃焼除害装置用としての水素供給設備を設置することなく、燃焼速度が遅いアンモニアの除害処理も確実に行うことができる。また、プロセスで水素を使用しているときには、排ガス中に水素が含まれているので、水素導入部16から燃焼用の水素を供給しなくても燃焼火炎を連続して形成することが可能であり、水素の利用効率を高めることができる。"