平板部内に所定高さの凸状列部と凹状列部山部とを交互に列状に形成したものを複数列形成した板状体に触媒成分を担持した板状触媒エレメントを積層し、枠状のユニット内に格納した触媒構造体であって、前記ユニットの排ガス流路側の端部に前記エレメントの支持部を有し、該エレメント支持部長さLとユニット端部の平板長さlの比lLが20以上で、かつユニット端部の平板長さlが触媒エレメント間の排ガス流路の幅w以下l≦wであることを特徴とする排ガス処理用板状触媒構造体。図10に示す従来の触媒構造体では、図9に示す触媒ユニット4端部の触媒エレメント支持部3と触媒エレメント10の山部2の重なりによっては、図10において、ユニット端部のエレメント支持部3が排ガス流路入口または出口を塞ぐ形となり、ガスが流れにくく、灰やダストが堆積する可能性がある。さらに、触媒ユニット流路中央部よりも、図10の影部に示す触媒ユニット端部のエレメント支持部3とエレメント山部2の重なる部分で灰堆積がおこり、この部分から灰の堆積が拡大する可能性がある。このような場合、触媒ユニット端部の支持部3付近から触媒表面積が減少し、触媒の性能を最大限に発揮されないこととなる。本発明の課題は、上記従来の触媒製造体のユニット端部の触媒エレメント構造を改善し、排ガス中の灰やダストの堆積を防止した板状触媒構造体を提供することである。上記課題を解決するため、本願で特許請求される発明は以下のとおりである。平板部内に所定高さの凸状列部と凹状列部山部とを交互に列状に形成したものを複数列形成した板状体に触媒成分を担持した板状触媒エレメントを積層し、枠状のユニット内に格納した触媒構造体であって、前記ユニットの排ガス流路側の端部に前記エレメントの支持部を有し、該エレメント支持部長さLとユニット端部の平板長さlの比lLが20以上で、かつユニット端部の平板長さlが触媒エレメント間の排ガス流路の幅w以下l≦wであることを特徴とする排ガス処理用板状触媒構造体。本発明によれば、触媒構造体中の触媒エレメントの山部を有しない部分をユニット端部に配置することにより、ガス流速の低下を抑制できるため、流路への灰の堆積を防止でき、触媒の性能を最大限発揮させることができる。本発明者らは、山部2とエレメント端部支持部3の寸法を検討した結果、山部2とユニット端部の支持部3が重ならない構造、つまりユニット端部の支持部3に触媒エレメントの山部2を有しない構造とすることにより、触媒ユニット端部を基点とする灰堆積を低減できることを見出した。すなわち、本発明によれば、ユニット端部のエレメント支持部3の長さLとユニット端部の平板長さlの比lLを20以上とした構造体にすることで、図10の影部8の灰堆積を抑制できるため、触媒の有効面積を維持でき、触媒の性能を最大限発揮させることができる。この効果は、図10のZ型の山部を有する構造体のみならず、図10のW型の山部を有する構造体どちらでも、同様に得ることができる。またユニット端部のエレメント支持部3とユニット端部の平板長lを触媒流路の幅w以下とすることにより、触媒エレメント端部の平板部が図2に示すように湾曲し、積層方向に隣り合うエレメント平板部が接触するのを防ぐことができる。好ましくは、lL20、wlとすれば、隣り合うエレメント平板部の接触が無いため問題がなく、より好ましくは、触媒構造体とした際にエレメントの湾曲が緩和されるように、エレメント端部の平板部が積層した場合に平行平板となるよう加工時に調整すればよい。以下、本発明を実施例および比較例により具体的に説明する。なお、例中の触媒構造体の試験における評価は、形状、灰堆積および有効面積比とし、形状は目視確認、灰堆積状況は、粉体流通試験装置を用いて表1に示す条件で確認した。また有効面積比は、灰堆積前の表面積と灰堆積部分を除いた表面積をもとに算出し、比較例1を10として比較した。ステンレスエキスパンドメタルに触媒成分を塗布し、その後、山部の高さが57mmとなるように加工し、触媒ガス流れ方向長さを500mm、幅を150mmに切断し、図7に示すような触媒エレメントとした。このとき、エレメント支持部の長さLとユニット端部の平板長さlの比lLを20、かつlwした触媒体とした。本例では、各実施例と同等の灰堆積であったが、触媒を積層したときの形状が図5に示すように積層方向に隣り合うエレメントの重なっていることから形状はあまりよくない。本発明の触媒構造体によれば、比較例1に示す従来型の触媒構造体よりも灰堆積がほとんどなく、触媒有効面積も大きい。これは、図1に示すようにエレメント支持部とエレメント山部の重なりを排除して流路を確保した効果と考えられる。