Ni-CeScSZ燃料極層を製造するステップ、CeScSZ電解質層を製造するステップ、GDCバッファ層を製造するステップ、およびLSCF空気極層を製造するステップを含む固体酸化物形燃料電池単位セルの製造方法。前記Ni-CeScSZ燃料極層、前記CeScSZ電解質層、前記GDCバッファ層は、テープキャスティング方法によって製造される、請求項1に記載の固体酸化物形燃料電池単位セルの製造方法。前記Ni-CeScSZ燃料極層を製造するステップは、NiOおよびCeScSZを60:40の比率で含むスラリーを生成するステップ、テープキャスティングによって燃料極シートを製造するステップ、および前記燃料極シートを積層するステップを含む請求項1に記載の固体酸化物形燃料電池単位セルの製造方法。前記GDCバッファ層を製造するステップは、GDC粉末および添加剤を40:60の比率で含むスラリーを生成するステップ、およびテープキャスティングによって1~10μmの薄膜に製造するステップを含む請求項1に記載の固体酸化物形燃料電池単位セルの製造方法。前記Ni-CeScSZ燃料極層に前記CeScSZ電解質層を積層するステップ、前記CeScSZ電解質層に前記GDCバッファ層を積層するステップ、前記Ni-CeScSZ燃料極層に前記CeScSZ電解質層および前記GDCバッファ層を積層した後にラミネーションを実施するステップ、および前記Ni-CeScSZ燃料極層、前記CeScSZ電解質層、前記GDCバッファ層の集合体に対してか焼および同時焼成を実施するステップがさらに含まれる請求項1に記載の固体酸化物形燃料電池単位セルの製造方法。前記同時焼成は、1300~1500°Cで実施されることを特徴とする、請求項5に記載の固体酸化物形燃料電池単位セルの製造方法。前記か焼は、1000°C付近で行われることを特徴とする、請求項5に記載の固体酸化物形燃料電池単位セルの製造方法。前記空気極層は、スクリーンプリンティング方法によって前記GDC電解質層上に塗布されるステップがさらに含まれる、請求項1に記載の固体酸化物形燃料電池単位セルの製造方法。本発明は、イオン導電性が優れたCeScSZ電解質の特性が最大限に発現されるようにする高密度のGDCバッファ層を製造する技術を提案することを目的とする。また、GDCバッファ層によってCeScSZ電解質およびLSCF空気極の反応を抑制する高密度のGDCバッファ層を製造する技術を提案することを他の目的とする。上述した本発明の目的を達成するために、本発明の実施形態に係る固体酸化物形燃料電池単位セルの製造方法は、Ni-CeScSZ燃料極層を製造するステップ、前記燃料極反応層に積層されるCeScSZ電解質層を製造するステップ、前記電解質層に積層されるGDCバッファ層を製造するステップ、および前記GDCバッファ層に積層されるLSCF空気極層を製造するステップを含む。本発明によれば、電解質のオーム抵抗および分極抵抗が減少するという長所がある。また、CeScSZ電解質およびLSCF空気極の間で発生する異常反応を効率的に制御し、中低温でも高出力を得ることができるという長所がある。さらに、SOFC単位セルの製造工程が減少して製造費用が節減するという長所がある。以下、図面を参照しながら、本発明の具体的な実施形態を詳細に説明する。ただし、本発明の思想がこのような実施形態に制限されるものではなく、本発明の思想は、実施形態をなす構成要素の付加、変更、および削除などによって相違して提案されてもよいが、これも本発明の思想に含まれる。図1は、本発明の実施形態に係るSOFC単位セルの構造を示す図である。図2は、本発明の実施形態に係るSOFC単位セルの製造過程を示すフローチャートである。図1~図4を参照すれば、本実施形態に係るSOFC単位セル1には、燃料極支持体Anodediffusionlayer10と、燃料極反応層Anodeactivelayer20と、電解質層Electrolyte30と、GDCバッファ層GDCbufferlayer40と、空気極層Cathodelayer50が含まれる。前記燃料極支持体10は、ニッケルオキサイドNiOとイットリアが安定化したジルコニア8YSZが混合したサーメットNiO/8YSZが使用されてもよい。前記燃料極支持体10は、テープキャスティングTapecasting方式によって製造される。前記テープキャスティング方式は、極めて微細なセラミック粉末を水系または非水系溶媒と結合剤、可塑剤、分散剤、消泡剤、界面活性剤などを適正比で混合してセラミックスラリーを製造した後、動く運搬フィルム上に所定の厚さで目的に応じて成形する方法である。前記燃料極支持体10は、約0.5~1.5mmの厚さで積層されてもよい。前記燃料極反応層20は、高イオン導電性CeScSZ電解質に適合したNi-CeScSZ例えば、NiO/1Ce10ScSZを含む。前記燃料極反応層20は、テープキャスティング方式によって製造される。前記燃料極反応層20は、前記燃料極支持体10の上に積層される。一例として、前記燃料極反応層20は、約5~50μmで積層されてもよい。前記燃料極支持体10および前記燃料極反応層20を燃料極層と称してもよい。前記電解質層30は、イオン導電性が優れたCeScSZ電解質例えば、1Ce10ScSZを含む。前記電解質層30は、テープキャスティング方式によって製造される。前記電解質層30は、前記燃料極反応体20上に積層される。一例として、前記薄膜電解質層20は、約2~20μmの厚さで積層されてもよい。前記燃料極支持体10上に前記燃料極反応層20および前記電解質層30が積層されて形成されるものを、燃料極支持体形電解質anode-supportedelectrolyte組立体としてもよい。前記GDCバッファ層40は、GDCGadoliniumdopedceria、例えば、10Gd90Ceを含む。前記GDCバッファ層40は、高イオン導電性電解質CeScSZと高導電空気極LSCF素材の反応性を抑制するために、テープキャスティング方式によって高密度薄膜で製造されてもよい。前記GDCバッファ層40は、前記燃料極支持体形電解質層上に同時焼成によって製造されてもよい。前記GDCバッファ層40は、反応性および電気化学的分極抵抗を抑制するために高密度薄膜で形成され、前記電解質層30および前記空気極層50に適切に接触する。また、前記GDCバッファ層40は、前記燃料極支持体10、燃料極反応体20、および前記電解質層30と同時焼成されてもよい。前記空気極50は、La1-xSrxCoyFe1-yで構成されるランタンストロンチウムコバルトフェライトLanthanumStrontiumCobaltFerrite:以下、LSCFとするおよびGDCを含む。前記空気極50は、前記GDCバッファ層40上にスクリーンプリンティング方法によって塗布される。一例として、前記空気極50は、前記GDCバッファ層40上に約20~50μmで塗布されてもよい。以下、前記単位セル1の製造工程を詳細に説明する。先ず、前記燃料極支持体10のスラリーを生成するために、NiOおよび1CeScSZの比率を60:40に維持し、加工剤、バインダ、および分散剤などの添加剤を含んでスラリーインクを生成するS10。そして、前記スラリーをテープキャスティング方法によって約40μmの厚さの燃料極シートを製造S20し、前記燃料極シートを約40~60枚で積層して約1.0~1.5mmの厚さの燃料極支持体10を生成するS30。その次に、前記燃料極反応層20は、テープキャスティングによって20μmの厚さのフィルムに製作され、前記燃料極支持体10上に積層されてもよい。一例として、前記燃料極反応層20は、20μmの厚さのフィルム1枚で製作されてもよい。その次に、前記電解質層30を前記燃料極反応層20上に積層するS40。前記電解質層30は、表面積20~40m2/gのCeScSZ粉末を使用し、テープキャスティング方法によって約10μmの厚さで製造されてもよい。一例として、前記電解質層30は、テープキャスティングによって製作された10μmの厚さのフィルム1枚であってもよい。そして、前記GDCバッファ層40を前記電解質層30上に積層するS50。より詳細に、前記GDCバッファ層40は、CeScSZとLSCFの反応による前記単位セル1の性能低下を防ぐ役割をする。前記GDCバッファ層40を製造するために、先ず、GDC10Gd90Ce、Gadoliniumdopedceria粉末とバインダ、分散剤、溶媒などの添加剤の比率を40:60に維持してスラリーを製造する。そして、前記スラリーをテープキャスティング方法によって約3~5μm水準の薄膜に製造し、これを前記電解質層30上に積層する。前記GDCバッファ層40を前記CeScSZ電解質層30上に積層し、同時に約20分間に渡って70°Cの温度で400kgf/cm2の力でラミネーションlaminationを実施するS60。そして、前記燃料極支持体形電解質およびGDCバッファ層の組立体に対してか焼calcineおよび同時焼成を進行するS70。より詳細に、前記燃料極支持体形電解質は、スラリーのソルベントおよびバインダ除去、または加工剤カーボンの除去のために1000°Cまで昇温させ、約3時間に渡って維持させた後、常温を維持する。前記燃料極支持体形電解質は、1000°C以下では曲がらないが焼結せずに容易に破壊し、1000°C以上では曲がる程度が極めて激しくなる。したがって、前記燃料極支持体形電解質は、1000°C付近でか焼を行うことが好ましい。上述したように、テープキャスティングおよび同時焼成によって製造された燃料極支持体形電解質と前記GDCバッファ層40の組立体に対し、約38g/cm2の力で押しながら約1300~1500°Cで同時焼成する。その次に、LSCFとGDCの比率を60:40に維持する前記空気極50を、前記燃料極支持体形電解質および前記GDCバッファ層40の組立体にスクリーンプリンタ方法によって約30~60μm厚さで塗布するS80。そして、か焼および焼結約1100°Cを実施して前記単位セル1の製作を完了するS90。本実施形態によって製作されたSOFC単位セル1は、CeScSZ電解質とLSCF空気極の間で発生する異常反応を効率的に制御することにより、中低温でも高出力を得ることができるという長所がある。より詳細には、CeScSZ電解質は約800°Cで0.1S/cmを得ることができるため、約10~20μmの厚膜でも高いイオン伝導特性を実現することができる。さらに、高い電気化学的活性と導電性を有したLSCF空気極との反応性を効率的に制御することにより、高出力特性を実現することができる。また、燃料極と電解質層そしてバッファ層に対し、それぞれテープキャスティングおよび組立体の同時焼成によって一括して製造されるため、低い生産費用で単位セルを量産することができる。すなわち、テープキャスティング法を利用して燃料極、薄膜電解質、GDCバッファ層を同時に製造することができるため、単位セルを製造するのに必要な工程が従来の4~5ステップから2ステップに減り、生産費用が節減されるという長所がある。図3は、本発明の実施形態に係る単位セルのSEM断面図である。図4は、図3でGDCバッファ層を拡大した拡大図である、図5は、本発明の実施形態に係る単位セルの電流-電圧の関係を示すグラフである。図6は、本発明の実施形態に係る単位セルのインピーダンスを示すグラフである。図3および図4を参照すれば、上述した過程によって製造された前記単位セル1によれば、前記燃料極支持体10と、前記燃料極反応層20と、前記電解質層30と、前記GDCバッファ層40が積層によって同時焼成され、前記空気極層50が最終的にコーティングされたことを確認することができる。また、前記GDCバッファ層40が前記電解質層30および前記空気極層50の間に極めて緻密であり、薄膜の形態で均一な微細構造を形成することを確認することができる。前記GDCバッファ層40は約1~2μmの高密度薄膜層を形成し、前記CeScSZ電解質層30も約5~7μm水準で高密度薄膜層を形成することを確認することができる。図5のグラフは、前記過程によって製造されたSOFC単位セル1に対し、800°Cで3H2Oを含む水素を前記燃料極反応層20に200ml/minの速度で流れるようにし、空気を前記空気極層50に300ml/minの速度で流れるようにし、2時間還元後のelectricalloaderを利用して製造された電極の電流-電圧I-Vカーブを測定した結果である。また、図6のグラフは、上述した過程によって製造されたSOFC単位セル1に対し、800°Cで3H2Oを含む水素を前記燃料極反応層20に200ml/minの速度で流れるようにし、空気を前記空気極層50に300ml/minの速度で流れるようにし、2時間還元後の前記電解質層30のオーム抵抗および電極の分極抵抗を測定するためにインピーダンス実験5mV、100kHz~0.01Hzを実施した結果である。図7は、本発明の第1比較例に係るSOFC単位セルのSEM断面図である。図8は、図7でGDCバッファ層を拡大した拡大図である。図9は、本発明の第1比較例に係る単位セルの電流-電圧の関係を示すグラフである。図10は、本発明の第1比較例に係る単位セルのインピーダンスを示すグラフである。図7および図8を参照すれば、本発明の第1比較例は、GDCバッファ層および空気極層がスクリーンプリント方式によって製造されるという点において前記実施形態と差があるが、他の点は上述した実施形態と同じである。また、図7および図8により、前記第1比較例の場合、スクリーンプリンティングによるGDCバッファ層はセルの断面で十分に確認されず、電解質層および空気極の界面に接着性の不良があることを確認することができる。図9および図10のグラフは、前記第1比較例によって製造されたSOFC単位セル1に対し、800°Cで3H2Oを含む水素を前記燃料極反応層20に200ml/minの速度で流れるようにし、空気を前記空気極層50に300ml/minの速度で流れるようにし、2時間還元後のelectricalloaderを利用して製造された電極の電流-電圧I-Vカーブを測定した結果、および前記電解質層30のオーム抵抗および電極の分極抵抗を測定するためにインピーダンス実験5mV、100kHz~0.01Hzを実施した結果である。図11は、本発明の第2比較例に係るSOFC単位セルのSEM断面図である。図12は、図11のGDC電解質層を拡大した拡大図である。図13は、本発明の第2比較例に係る単位セルの電流-電圧の関係を示すグラフである。図14は、本発明の第2比較例に係る単位セルのインピーダンスを示すグラフである。図11および図12を参照すれば、本発明の第2比較例は、電解質層にCeScSZ電解質の代わりにYSZ粉末10m2/gを使用し、空気極層にLSCF/GDC素材の代わりにLSM-YSZ素材を使用し、GDCバッファ層が使用されないという点において前記実施形態と差があるが、他の点は上述した実施形態と同じである。図13および図14のグラフは、前記第2比較例によって製造されたSOFC単位セル1に対し、800°Cで3H2Oを含む水素を前記燃料極反応層20に200ml/minの速度で流れるようにし、空気を前記空気極層50に300ml/minの速度で流れるようにし、2時間還元後のelectricalloaderを利用して製造された電極の電流-電圧I-Vカーブを測定した結果、および前記電解質層30のオーム抵抗および電極の分極抵抗を測定するためにインピーダンス実験5mV、100kHz~0.01Hzを実施した結果である。前記実施形態と前記第1比較例および前記第2比較例の性能を比較するために、前記実施形態、前記第1比較例、および前記第2比較例に対して実施した電流-電圧I-Vカーブを測定した結果およびインピーダンス実験の結果は、次の表1に要約されている。前記表1の結果から、本発明の実施形態の場合、電解質と空気極の間のGDCバッファ層の高密度薄膜特性の形成によって界面特性に対する分極抵抗が極めて低く、相対的に極めて優れた高出力特性が得られたことが分かる。一例として、前記実施形態の場合、700、800°Cの場合にそれぞれ0.62、1.2W/cm2が得られたことが分かる。これは、第1比較例の結果である0.30、0.65W/cm2および第2比較例の結果である0.25、0.7W/cm2の約2倍に近い性能に該当する。