"平面状の鏡面を有する鏡面板を四方に配置して接合することで底面が開放された箱形であり、天面側から見て前記鏡面板の全部または一部が天面方向に傾斜され、前記底面側から対象物体を被せて使用するスタジオ装置と、前記スタジオ装置の天面側に配置され、前記スタジオ装置の内部に指定のパターン映像を投影する投影装置と、前記スタジオ装置の天面側に配置され、前記スタジオ装置の内部を撮影する撮影装置と、前記投影装置でパターン映像を投影した状態で前記撮影装置により撮影されたスタジオ装置内の画像から前記スタジオ装置内に配置される対象物体の上面から見た形状及び各鏡面板に映る前後左右の形状を3次元情報として取得し、この3次元情報に基づいて全周3次元画像を作成する画像処理手段と、前記画像処理手段で作成された全周3次元画像を表示する表示手段とを具備し、前記四方に配置される鏡面板は、互いに対向する鏡面それぞれの前面に透過軸が互いに直交する偏光手段を備えることを特徴とする3次元形状計測システム。前記鏡面板は、平面鏡の前面に透過型偏光板を配置してなることを特徴とする請求項1記載の3次元形状計測システム。前記鏡面板は、反射型偏光板であることを特徴とする請求項1記載の3次元形状計測システム。前記鏡面板は、反射面の前面に反射防止フィルムを配置してなることを特徴とする請求項1記載の3次元形状計測システム。平面状の鏡面を有する鏡面板を四方に配置して接合することで底面が開放された箱形であり、天面側から見て前記鏡面板の全部または一部が天面方向に傾斜され、前記底面側から対象物体を被せて使用するスタジオ装置と、前記スタジオ装置の天面側に配置され、前記スタジオ装置の内部に指定のパターン映像を投影する投影装置と、前記スタジオ装置の天面側に配置され、前記スタジオ装置の内部を撮影する撮影装置と、前記投影装置でパターン映像を投影した状態で前記撮影装置により撮影されたスタジオ装置内の画像から前記スタジオ装置内に配置される対象物体の上面から見た形状及び各鏡面板に映る前後左右の形状を3次元情報として取得し、この3次元情報に基づいて全周3次元画像を作成する画像処理手段と、前記画像処理手段で作成された全周3次元画像を表示する表示手段と、前記四方に配置される鏡面板の隣り合う鏡面の反射光の混合を防止する反射光混合防止手段とを具備することを特徴とする3次元形状計測システム。前記反射光混合防止手段は、前記投影装置に対して前記四方に配置される鏡面板の隣り合う鏡面の領域に異なる波長のパターンを投影させ、前記撮影装置の撮影結果から波長別に映像を抽出することを特徴とする請求項5記載の3次元形状計測システム。前記反射光混合防止手段は、前記四方に配置される鏡面板の隣り合う鏡面板をそれぞれ異なるフレームで順次撮影することを特徴とする請求項5記載の3次元形状計測システム。従来の3次元形状計測システムにおいて、複数の鏡面を用いて、対象物体を同時に多方面から見た映像を取得する場合が考えられているが、複数の鏡面を用いて3次元形状計測を行う際に、計測に用いる投影装置からの光源の反射波が、対象物体をすりぬけて特定の鏡面と向かい合う鏡面において再帰反射した場合、その特定鏡面と向かい合う鏡面に映る対象物体の側面に投影され、本来特定鏡面に映る対象物体の側面を計測するための特定鏡面から反射された光と、特定鏡面と向かい合う鏡面に映る対象物体の側面を計測するための特定鏡面と向かい合う鏡面から反射された光が、特定鏡面10nと向かい合う鏡面に映る対象物体の表面上で混合され、3次元形状計測を正確に行うことができない。また、複数の鏡面を用いて3次元形状計測を行う際に、全平面鏡に同時に光やパターン光を投影した場合、隣り合う平面鏡による反射光と上方からの直接光は、互いから共通して投影できる領域に物体が存在した場合、対象物体の表面上で混合され、3次元形状計測を正確に行うことができない。本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、複数の鏡面を用いる場合に、対象物体への多重投影を防止して対象物体の3次元形状を正しく算出することのできる3次元形状計測システムを提供することにある。本発明に係る3次元形状計測システムは以下のような態様の構成とする。1平面状の鏡面を有する鏡面板を四方に配置して接合することで底面が開放された箱形であり、天面側から見て前記鏡面板の全部または一部が天面方向に傾斜され、前記底面側から対象物体を被せて使用するスタジオ装置と、前記スタジオ装置の天面側に配置され、前記スタジオ装置の内部に指定のパターン映像を投影する投影装置と、前記スタジオ装置の天面側に配置され、前記スタジオ装置の内部を撮影する撮影装置と、前記投影装置でパターン映像を投影した状態で前記撮影装置により撮影されたスタジオ装置内の画像から前記スタジオ装置内に配置される対象物体の上面から見た形状及び各鏡面板に映る前後左右の形状を3次元情報として取得し、この3次元情報に基づいて全周3次元画像を作成する画像処理手段と、前記画像処理手段で作成された全周3次元画像を表示する表示手段とを具備し、前記四方に配置される鏡面板は、互いに対向する鏡面それぞれの前面に透過軸が互いに直交する偏光手段を備える態様とする。21の構成において、前記鏡面板は、平面鏡の前面に透過型偏光板を配置してなる態様とする。31において、前記鏡面板は、反射型偏光板である態様とする。41において、前記鏡面板は、反射面の前面に反射防止フィルムを配置してなる態様とする。5平面状の鏡面を有する鏡面板を四方に配置して接合することで底面が開放された箱形であり、天面側から見て前記鏡面板の全部または一部が天面方向に傾斜され、前記底面側から対象物体を被せて使用するスタジオ装置と、前記スタジオ装置の天面側に配置され、前記スタジオ装置の内部に指定のパターン映像を投影する投影装置と、前記スタジオ装置の天面側に配置され、前記スタジオ装置の内部を撮影する撮影装置と、前記投影装置でパターン映像を投影した状態で前記撮影装置により撮影されたスタジオ装置内の画像から前記スタジオ装置内に配置される対象物体の上面から見た形状及び各鏡面板に映る前後左右の形状を3次元情報として取得し、この3次元情報に基づいて全周3次元画像を作成する画像処理手段と、前記画像処理手段で作成された全周3次元画像を表示する表示手段と、前記四方に配置される鏡面板の隣り合う鏡面の反射光の混合を防止する反射光混合防止手段とを具備する態様とする。65において、前記反射光混合防止手段は、前記投影装置に対して前記四方に配置される鏡面板の隣り合う鏡面の領域に異なる波長のパターンを投影させ、前記撮影装置の撮影結果から波長別に映像を抽出する態様とする。75において、前記反射光混合防止手段は、前記四方に配置される鏡面板の隣り合う鏡面板をそれぞれ異なるフレームで順次撮影する態様とする。本発明によれば、複数の鏡面を用いる場合でも、投影装置からの光源の反射波の再帰反射を防止して、対象物体の3次元形状を正しく算出することのできる3次元形状計測システムを提供することができる。添付の図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。以下に説明する実施の形態は本発明の構成の例であり、本発明は、以下の実施の形態に制限されるものではない。第1の実施形態図1は第1の実施形態に係る3次元形状計測システムの構成を示すブロック図である。このシステムは、スタジオ装置10と計測処理装置11とで構成される。まず、スタジオ装置10は、パネルの一方面を鏡面加工した平面鏡101~104を鏡面が内側になるようにして接合することで、少なくとも底面が開放された箱状となっており、基台に載置した対象物体の上から被せることで、対象物体を撮影するためのスタジオを形成する。天面は天板を備えていてもよいが、その場合には撮影用の穴を形成しておく。側面の平面鏡101~104は天面に対して角度φmだけ内方向に狭まるように傾斜するようになされている。一方、計測処理装置11は、周辺機器の制御及び3次元形状モデルの計測を行う演算制御装置111を備える。周辺機器として、スタジオ装置10の天面側に配置され、スタジオ内部の対象物体に任意の画像を投影する投影装置112及びスタジオ内部全体を撮影する撮影装置113、演算制御装置111で計測された3次元形状モデルを表示する表示装置114を備える。図2は第1の実施形態のスタジオ装置10の具体的な構成を示す図である。図2aに示すように、平面鏡10i本実施形態ではi=4とするの鏡面の手前に偏光板20iを装着する。そして、偏光板20iが装着された平面鏡10iを4枚用意し、図2bに示すように対象物体配置部の四方を囲むように配置する。このとき、互いに対向する平面鏡101,103の鏡面には偏光板201,203をその透過軸が直交するように配置する。同様に、平面鏡102,104の鏡面には、偏光板202,204をその透過軸が直交するように配置する。図3は光の進む経路を平面鏡102と平面鏡104を例にとって具体的に示したものである。透過軸を水平方向に調節した偏光板204を設置した平面鏡104の鏡面に入射した光は、偏光板204によって水平方向成分のみを持つ直線偏光となり、平面鏡104に入射する。鏡面で反射した光も偏光が保たれ、偏光板204を再び通り抜ける。水平方向に偏光を持つ反射波が物体上に投影されずに物体をすり抜けて、鏡面104に向かい合う鏡面、すなわち平面鏡102に達した場合、平面鏡102の手前に設置されている透過軸が垂直方向の偏光板202によって遮断される。逆を考えても同じで、平面鏡102に投影装置112から投影された光は垂直方向成分のみを持つ直線偏光で、平面鏡104の鏡面に入射すると鏡面104の手前に設置された透過軸が水平方向の偏光板204によって遮断される。平面鏡101の鏡面と平面鏡103の鏡面の組みにおいても同様である。このようにして向かい合わせの鏡の間で生じる再帰反射を防ぎ、結局、撮影装置から見て平面鏡10iに映る対象物体の側面には、平面鏡10iと向かい合う平面鏡に投影したパターンが投影されることを防ぐ。ここで、用いる偏光板には透過型偏光板を用いても良いし、平面鏡と鏡を組み合わせる代わりに、反射型偏光板を用いて良い。また、鏡面または反射型偏光板の手前に反射防止フィルムを配置することにより、プロジェクタからのパターン光を高効率で利用することも可能である。図4は上記計測処理システム11の具体的な構成を示すブロック図である。この計測処理システム11は、上記演算制御装置111のバス上に、投影装置112、撮影装置113及び表示装置114をそれぞれインターフェース図示せずを介して接続したものである。演算制御装置111は、本装置の制御及び情報処理を実行するCPU演算処理装置111A、CPU111Aの処理プログラムを格納するためのプログラムメモリ111B、情報処理の作業空間及び取得データ及び演算結果を格納する記憶装置111Cを備え、図5に示す3次元情報の取得処理計測プロセスと、図6に示す3次元形状モデルの作成処理復元プロセスを実行する。これらの処理については後述する。図7は上記計測処理システム11を用いて対象物体Tを計測するときの設置状態と計測状況を示す概念図である。まず、図7aに示すように、スタジオ装置10を底面の開口から対象物体Tに被せ、スタジオ内部のほぼ中央に対象物体Tを配置し、天面中央部に投影装置112及び撮影装置113を配置する。投影装置112はスタジオ内部に向けて指定の画像を投影する。このときの投影の最大広がり角はφpで表される。撮影装置113は、対象物体Tの実像と共に各平面鏡101~104の反射による対象物体Tの虚像を含む5つの像を同時に撮影する。演算制御装置111は撮影装置113で得られた多面画像から3次元形状モデルを計測する。ここで、天面の鉛直方向から角度φmだけ傾斜された一つの平面鏡104について投影装置112からの光路を見ると、図7bに示すように、鏡面から距離Lpに投影装置112から照射された光線のうち、底面から高さh0で反射した光線は、鏡面から距離dだけ離れた場所では高さhとなるので、計測可能な物体の最大サイズは、距離dにおいては高さhとなる。この高さhは次式によって求められる。上記構成において、図8a,bに3次元座標算出のためのパターン画像と取得画像を示し、図9a,bにテクスチャ情報取得のためのパターン画像と取得画像を示し、これらの図と図5及び図6を参照して、以下に上記実施形態の動作を詳細に説明する。まず、ユーザが対象物体に筐体部10を被せ、本装置を起動すると、演算制御装置111ではプログラムメモリ112に格納された図3に示す計測プロセス3次元情報の取得処理のプログラムをロードしてCPU111Aにそのプログラムを実行させる。この計測プロセスでは、まず、投影装置112に図8aに示すストライプ状のパターン画像P1をスタジオ内部に投影させステップS11、そのときのスタジオ内部全体を撮影装置113により撮影させるステップS12。これにより、図8bに示すように、対象物体Tの平面鏡101~104による4つの虚像領域A11~A14及び実像領域A15を含む画像、すなわちスタジオ内部に配置され、ストライプ状のパターン画像P1が投影された対象物体Tを前後左右上方から同時に見た画像A1が得られる。この画像A1は3次元情報として記憶装置111Cに蓄積される。尚、予め、虚像領域A11~A14に関しては、鏡面越しに投影されるパターン画像P1と鏡面越しに撮影される周面画像を用いて、また、実像領域A15に関しては、直接投影装置112から投影されるパターン画像P1と直接撮影装置113で撮影される上面画像を用いて、投影装置112と撮影装置113の間のキャリブレーションをしておくものとする。次に、投影装置112に投影画像の切換を指示しステップS13、投影装置112に図9aに示す白色画像P2をスタジオ内部に投影させステップS14、そのときのスタジオ内部全体を撮影装置113に撮影させるステップS15。これにより、図9bに示すように、対象物体Tの平面鏡101~104による4つの虚像領域A21~A24及び実像領域A25を含む画像、すなわちスタジオ内部に配置され、対象物体Tを前後左右上方から同時に見た画像A2が得られる。この場合、平面鏡101~104によって白色画像を内側に反射させ、対象物体を前後左右上方から照らすようにしているため、これを撮影することにより、影のないテクスチャ画像を得ることができる。この画像A2はテクスチャ情報として記憶装置111Cに蓄積されるステップS16。上記計測プロセスが完了すると、演算制御装置111ではプログラムメモリ111Bに格納された図6に示す復元プロセス3次元形状モデルの作成表示のプログラムをロードしてCPU111Aにそのプログラムを実行させる。この復元プロセスでは、まず、記憶装置111Cから領域A1n,A2nの3次元情報及びテクスチャ情報を読み出すステップS21。この時点で、カウントnをいったん0にリセットしステップS22、さらにカウントnにn1をセットしてステップS23、領域A1n,A2nそれぞれで得られた情報より、方向n=1すなわち領域A11,A21に映る対象物体Tの3次元形状を算出するステップS24。このステップS24の処理をnがn>5となるまで繰り返しステップS25、これによって領域A12,A13,A14,A22,A23,A24それぞれに映る対象物体Tの3次元形状虚像と領域A15,A25の上方から見た対象物体Tの3次元形状実像とが得られる。上記の各領域における3次元形状が取得されると、その5方向の形状を統合して全周3次元モデルを作成しステップS26、表示装置114に表示するステップS27。上記ステップS24,S26による全周3次元モデルの作成方法としては、3次元形状情報とテクスチャ情報の対応する各領域A1n,A2nに対して、それぞれ3次元座標を求める。このとき、3次元形状の復元アルゴリズムは、スリット光投影法や空間コード化法などのアクティブステレオ法を用いるものとする。各方向から見た対象物体の3次元座標が求まったら、これを統合する。予め各領域A1n,A2nに関してキャリブレーションが行われているため、3次元座標を統合する際に各領域間で位置合わせを行う必要はない。統合された全周3次元座標において、3次元ドロネー分割などを用いてテクスチャマッピングを行うことで、全周3次元モデルを得る。また、ステップS27における3次元モデルの表示には、モニタやタッチパネル等の2次元ディスプレイを用いればよいが、ARAugmentedRealityディスプレイやHMDHeadMountedDisplayで閲覧してもよいし、3次元ディスプレイで表示してもよい。さらに、上記実施形態では、投影装置112をプロジェクタとし、パターンを投影する3次元計測手段の例として述べたが、投影装置112を点光源や面光源として、陰影の情報shapefromshadingやシルエットの情報shapefromsilhouetteから3次元計測を行うようにしても良い。第2の実施形態次に、第2の実施形態に係る3次元形状計測システムについて説明する。尚、このシステムの構成は、第1の実施形態に係る3次元形状計測システムの構成と同様であり、また、計測する際の装置の設置状況と計測状況を示す概念図も第1の実施形態の場合と同様であるので、ここではその説明を省略する。第2の実施形態に係るシステムの特徴とする点は、隣り合う鏡面の反射光の混合を、復元プロセスまたは計測プロセスにおいて波長分割または時分割によって防ぐことにある。まず、復元プロセスにおいて、波長分割によって反射光の混合を防止する場合について説明する。図10は波長分割による反射光混合防止を実現する復元プロセスにおける処理の流れを示すフローチャートであり、図6に示すフローチャートと異なる点は領域n毎に対応する波長を抽出する処理ステップS28を追加した点にある。この場合、計測プロセスにおいて、図5のステップS11で投影するパターンの波長を、図8における虚像領域A11及びA13に対応する領域ではλA、虚像領域A12及びA14に対応する領域ではλB、実像領域に対応する領域A15ではλCとする。そして、λA、λB、λCを同時に投影したものを撮影しステップS15、3次元形状情報として格納するステップS16。この前提の元で、復元プロセスは第1の実施形態と基本的に同じ処理を行うが、図10に示すように、3次元形状を算出するステップS24に入る前に、3次元座標算出のための取得画像から、領域に対応する波長λA、λB、λCをRGBの明度値や彩度または色相によってフィルタリングして抽出するステップS28。これにより、隣り合う平面鏡による反射光及び上方からの直接光を波長で切り分けることができる。次に、計測プロセスにおいて、時分割によって反射光の混合を防止する場合について説明する。図11は時分割による反射光混合防止を実現する計測プロセスにおける処理の流れを示すフローチャートであり、図5に示すフローチャートと異なる点は、パターン画像投影処理S11と撮影処理S12を領域別に複数回に分けて行うようにした点にある。この場合、まず、虚像領域A11とA13にパターン画像を投影して撮影を行うS111、S121。次に、虚像領域A12とA14にパターン画像を投影して撮影を行うS112,S122。さらに、実像領域A15にパターン画像を投影して撮影を行うS113、S123。このあとの処理は第1の実施形態と同様である。隣り合う平面鏡による反射光のパターン及び上方からの直接光によるパターンを異なるフレームで撮影することにより、これらのパターンが混合することを防ぐことができる。以上のように、上記実施形態1,2に係る3次元形状計測システムによれば、投影装置からの光源の反射波の再帰反射または隣り合う反射面での混合を防止することができるので、複数の鏡面を用いても、対象物体への多重投影を防止することができ、これによって対象物体の3次元形状を正しく算出することができる。尚、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成を削除してもよい。さらに、異なる実施形態例に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。"