溶射により形成されて、気孔率が3以下である溶射層と、前記溶射層上に形成されて、1層の超砥粒が結合材により保持されている超砥粒層とを備えた、超砥粒工具。前記結合材はニッケルめっきにより形成される、請求項1に記載の超砥粒工具。前記溶射層は、HVAF溶射法、またはコールドスプレー溶射法により形成される、請求項1または2に記載の超砥粒工具。前記溶射層は、平均粒径が1μm以上300μm以下の金属または合金の少なくとも一つからなる粒子を溶射材とする溶射により形成される、請求項1から3のいずれか1項に記載の超砥粒工具。前記超砥粒工具は、ロータリードレッサである、請求項1から4のいずれか1項に記載の超砥粒工具。請求項1から5のいずれか1項に記載の超砥粒工具の製造方法であって、型枠の内面に超砥粒をニッケルめっきにより埋め込んで超砥粒層を形成する工程と、前記ニッケルめっきの表面に溶射により溶射層を形成する工程とを備えた、超砥粒工具の製造方法。前記超砥粒層は、HVAF溶射法、またはコールドスプレー溶射法により形成される、請求項6に記載の超砥粒工具の製造方法。上記方法で必要なめっき厚みを得るためには、長時間にわたるめっきが必要となる。一方、めっき時間を短縮するために、電流密度を上げ、めっき速度を上げることが考えられる。しかしながら、ロータリードレッサは非常に複雑な形状をしているので、電流密度を上げた場合、めっき厚みの均一性が極端に悪化し、砥粒保持の面から十分なめっき厚みを得ることができない部位が発生する問題があった。その結果、ロータリードレッサの使用時に砥粒の脱落がおこる問題があった。さらに、気孔の多い溶射金属被膜を超砥粒層のマトリックスとした場合は、使用に際して超砥粒層を介して局部的な荷重が溶射金属被膜に伝わり、超砥粒層にクラックが発生し、ついには超砥粒の脱落を起こす問題があった。本発明は、これらの問題点を解決するためになされたものである。すなわち、高精度で、超砥粒の脱落が起こらない長寿命のロータリードレッサを短期間で提供するためになされたものである。この発明に従った超砥粒工具は、溶射により形成されて、気孔率が3以下である溶射層と、溶射層上に形成されて、1層の超砥粒が結合材により保持されている超砥粒層とを備える。このように構成された超砥粒工具では、溶射層の気孔率を低く保っているため、溶射層の強度が向上する。その結果、溶射層による保持されている超砥粒の脱落を防止することができる。好ましくは、結合材はニッケルめっきにより形成される。好ましくは、溶射層は、HVAF溶射法、またはコールドスプレー溶射法により形成される。好ましくは、溶射層は、平均粒径が1μm以上300μm以下の金属または合金の少なくとも一つからなる粒子を溶射材とする溶射により形成される。好ましくは、超砥粒工具は、ロータリードレッサである。この発明に従った超砥粒工具の製造方法は、上記のいずれかの超砥粒工具の製造方法であって、型枠の内面に超砥粒をニッケルめっきにより埋め込んで超砥粒層を形成する工程と、ニッケルめっきの表面に溶射により溶射層を形成する工程とを備える。好ましくは、超砥粒層は、HVAF溶射法、またはコールドスプレー溶射法により形成される。以下、この発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の実施の形態では同一または相当する部分については同一の参照符号を付し、その説明については繰返さない。図1は、この発明の実施の形態に従った、超砥粒層を有するダイヤモンドロータリードレッサの断面図である。図1を参照して、この発明の実施の形態に従ったダイヤモンド工具としてのダイヤモンドロータリードレッサ1は、超砥粒層20と、その超砥粒層20内側に設けられる接合層40と、内側に設けられる台金30とを有する。台金30は、円筒状であり、内部には貫通孔31が設けられる。貫通孔31にシャフトを通し、このシャフトと台金30とを固定することでシャフトと一体的に台金30およびダイヤモンドロータリードレッサ1を回転させることが可能である。なお、この実施の形態では、台金30に貫通孔31が設けられる構成が開示されているが、貫通孔31は必ずしも設けられていなくてもよい。接合層40は、台金30と、超砥粒層20とを接合するための層であり、台金30および溶射層23の両方に密着性のよい材料で構成される。溶射層23は、金属を溶射することにより構成される。溶射層23は、金属のみで構成されていてもよく、金属と他の物質との複合体であってもよい。溶射層23表面には超砥粒層20が形成されている。超砥粒層20においては、超砥粒21が結合材22により保持されている。超砥粒21は、たとえばダイヤモンドまたは立方晶窒化硼素を採用することができる。結合材22は、超砥粒21を保持する働きを有する。超砥粒層20の表面にはワークを加工するための凹部28が形成されている。次に、図1で示すダイヤモンドロータリードレッサの製造方法について説明する。図2から図6は、図1で示す、実施の形態に従ったダイヤモンドロータリードレッサの製造方法を説明するための断面図である。図2を参照して、まず母型10を作製する。母型10は円筒状であり、その内周面12に凸部11が形成されている。凸部11は図1で示す凹部28に嵌まり合う形状とされている。図3を参照して、母型10の内周面12にダイヤモンドまたは立方晶窒化硼素からなる超砥粒21を仮固定する。仮固定の際には複数の超砥粒21が所定の間隔を隔てて配置される。図4を参照して、仮固定された超砥粒21を結合材22で保持する。結合材22は、たとえばニッケルで構成されており、ニッケルめっきにより超砥粒21を埋め込む。これにより超砥粒層20を形成する。図5を参照して、超砥粒層20に接触するように溶射により溶射層23を形成する。このとき溶射する金属としては、銅、ニッケル、アルミニウムおよび錫またはこれらの任意の組合せの金属を用いることができる。図6を参照して、溶射層23内側に台金30を位置決めする。そして台金30と溶射層23とを接合層40で接合し、さらに母型10を除去することにより、図1で示す、実施の形態に従った超砥粒層を有するダイヤモンドロータリードレッサ1が完成する。すなわち、この発明の実施の形態に従った超砥粒工具としてのダイヤモンドロータリードレッサ1は、溶射により形成されて、気孔率が3以下である溶射層23と、溶射層23上に形成されて、1層の超砥粒21が結合材22により保持されている超砥粒層20とを備える。結合材22はニッケルめっきにより形成される。溶射層23は、HVAF溶射法またはコールドスプレー溶射法により形成される。溶射層23は、平均粒径が1μm以上300μm以下の金属または合金の少なくとも1つからなる粒子を溶射材とする溶射により形成される。コールドスプレー溶射法は、他の溶射法と異なり溶射材を溶融させることなく、固体のまま基材に衝突させるため溶射層の温度上昇が少ない。従ってダイヤモンドロータリードレッサの製造工程において、熱膨張による寸法変化から生じる残留応力を低く抑えることができるので、高精度なダイヤモンドロータリードレッサを製造することができる。さらに超音速で粒子を基材に衝突させるため、気孔の少ない膜を得ることができる。酸化が少なく緻密な膜が得られるために、熱伝導性に優れた膜を得ることができる。熱による材料の変質等が無いため、付着しなかった材料を再度使用できる。コーティング時にヒュームの発生を防止することできる。平均粒径の測定は、超砥粒層20の表面をSEM走査型電子顕微鏡で撮影し、超砥粒21が50個含まれる写真において、各々の超砥粒21の長径を超砥粒21の直径とみなして、その50個の直径の算術平均を平均粒径とする。気孔率の測定に関しては、溶射層23の実測密度と、溶射層23の理論密度気孔率0との比率を充填率とし、1-充填率を気孔率とする。今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。