"マスクを保持するマスク保持部と、該マスク保持部を駆動するマスク駆動部とを有するマスクステージと、被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記マスクに対向配置される露光領域と前記基板をロード又はアンロードするローディング領域との間で前記基板保持部を駆動する基板駆動部とを有する基板ステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、を備え、前記マスクと前記基板とを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、前記マスクステージには、前記基板保持部が前記露光領域に位置するとき、前記基板保持部に保持された前記基板の端部を検出する反射式センサが配設され、前記基板駆動部は、前記基板保持部の移動量を管理可能なリニアモータであり、前記反射式センサによる前記基板の端部の検出に基づいて、前記基板駆動部の移動量を管理しつつ、前記露光領域と前記ローディング領域間での移動速度より遅い移動速度で前記基板駆動部を駆動し、前記基板保持部を露光位置に移動させることを特徴とする近接露光装置。マスクを保持するマスク保持部と、該マスク保持部を駆動するマスク駆動部とを有するマスクステージと、被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記マスクに対向配置される露光領域と前記基板をロード又はアンロードするローディング領域との間で前記基板保持部を駆動する基板駆動部とを有する基板ステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、を備え前、記マスクと前記基板とを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、前記マスクステージには、前記基板保持部が前記露光領域に位置するとき、前記基板保持部に保持された前記基板の端部を検出する反射式センサが配設され、前記マスク駆動部は、前記マスク保持部の移動量を管理可能なリニアモータであり、前記反射式センサによる前記基板の端部の検出に基づいて、前記マスク駆動部の移動量を管理しつつ、前記マスク駆動部を駆動して、前記マスク保持部を露光位置に移動させることを特徴とする近接露光装置。しかしながら、このような投受光式センサによると、検出する基板の上下方向に比較的広い空間が必要であり、投受光式センサの設置位置が制約されるため、露光装置の任意の位置に設置できず、設置位置が制約される問題があった。このため、ツインステージタイプの露光装置では、基板のローディング領域の近傍、換言すれば露光領域から比較的離れた領域にセンサが配置される。基板位置検出後に、基板ステージの位置を管理しながら露光位置まで基板を搬送するが、高速搬送すると基板ステージの位置を高精度で管理することが難く、高精度で管理するためには、結果としてスループットが低下するという問題があった。また、特許文献1に記載のアライメント方法では、ウェハステージを制御するもので、ウェハの位置情報を制御するものではなく、また、特許文献2に記載のアライメント方法では、基板の位置情報を把握するため、カメラの動かし方や、基板ステージの動かし方について具体的に記載したものではなかった。本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、基板の位置センサを任意の位置に設置することができ、且つスループットを向上させることができる近接露光装置を提供することにある。本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。1マスクを保持するマスク保持部と、該マスク保持部を駆動するマスク駆動部とを有するマスクステージと、被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を駆動する基板駆動部と、を有し、前記マスクに対向配置される露光領域と前記基板をロード又はアンロードするローディング領域との間で移動可能な基板ステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、を備え、前記マスクと前記基板とを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、前記マスクステージには、前記基板保持部が前記露光領域に位置するとき、前記基板保持部に保持された前記基板の端部を検出する反射式センサが配設され、前記基板駆動部は、前記基板保持部の移動量を管理可能なリニアモータであり、前記反射式センサによる前記基板の端部の検出に基づいて、前記基板駆動部の移動量を管理しつつ、前記露光領域と前記ローディング領域間での移動速度より遅い移動速度で前記基板駆動部を駆動し、前記基板保持部を露光位置に移動させることを特徴とする近接露光装置。2マスクを保持するマスク保持部と、該マスク保持部を駆動するマスク駆動部とを有するマスクステージと、被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を駆動する基板駆動部と、を有し、前記マスクに対向配置される露光領域と前記基板をロード又はアンロードするローディング領域との間で移動可能な基板ステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、を備え、前記マスクと前記基板とを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、前記マスクステージには、前記基板保持部が前記露光領域に位置するとき、前記基板保持部に保持された前記基板の端部を検出する反射式センサが配設され、前記マスク駆動部は、前記マスク保持部の移動量を管理可能なリニアモータであり、前記反射式センサによる前記基板の端部の検出に基づいて、前記マスク駆動部の移動量を管理しつつ、前記マスク駆動部を駆動して、前記マスク保持部を露光位置に移動させることを特徴とする近接露光装置。本発明の近接露光装置によれば、基板の端部を検出するセンサが反射式センサで構成されているので、空間が狭く、投授光式センサの設置が困難なマスクステージにも、基板の端部を検出するセンサを設置することが可能となる。また、反射式センサがマスクステージに配設されているので、ローディング領域と露光領域との間は、基板ステージを高速で移動させ、反射式センサが基板の端部を検出した後、該検出信号に基づいて基板駆動部の移動量を管理しつつ、遅い移動速度で基板ステージを露光位置に移動させるようにしたので、基板搬送時間を短縮することができ、スループットが向上する。また、基板の端部を検出する反射式センサをマスクステージに配設し、ローディング領域から露光領域に搬送される基板の端部を反射式センサが検出した検出信号に基づいて、マスク駆動部の移動量を管理しつつマスク駆動部を駆動して、マスク保持部を露光位置に移動させるようにしたので、ローディング領域及び露光領域間を高速で基板ステージを移動させることができ、これにより、基板搬送時間を短縮してスループットが向上する。以下、本発明に係る近接露光装置の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明の近接露光装置の全体構成を示す概略平面図、図2は近接露光装置の要部正面図、図3は基板ステージの側面図である。図1~図3に示すように、近接露光装置PEは、マスクステージ10、第1基板ステージ11、第2基板ステージ12、照射装置13、プリアライメントユニット14、第1基板ローダ15、第2基板ローダ16、マスクローダ17、及びマスクアライナ18を備え、それぞれ基台21上に載置されている。マスクステージ10は、基台21上に配置された長方形のステージベース23に設けられた複数の支柱22に支持されて、ステージベース23の上方に配設されている。複数の支柱22は、第1及び第2基板ステージ11,12がY方向図1中左右方向に移動してマスクステージ10の下方に進出可能なようにステージベース23の上方にスペースを形成している。マスクステージ10は、中央に矩形の開口25aを有して、マスクステージ10のフレームに対して図示しないマスク駆動部で駆動されてX,Y,θ方向に位置調整可能に支持されたマスク保持部25を備える。マスク保持部25には、下面に複数の吸引孔25bが開設されており、露光すべきパターンを有するマスクMは、開口25aに臨むようにして、真空吸着によって吸引孔25bを介してマスク保持部25に保持される。また、マスクステージ10には、マスク保持部25に対するマスクMの位置を検出するマスク用アライメントカメラ図示せずと、マスクMと基板Wとの間のギャップを検出するギャップセンサ図示せずとが設けられている。マスクステージ10の下面には、第1及び第2基板ステージ11,12に搭載された基板Wに対向するように、複数の反射式センサ20が配設されている。反射式センサ20は、上方から基板Wに向けて照射した光の反射光を検出して基板Wの有無、即ち基板Wの端部を検出する。反射式センサ20は、X軸方向に沿って配置される1つのY軸用反射式センサ20aと、Y軸方向に沿って配置される2つのX軸用反射式センサ20b、20cとから構成される。Y軸用反射式センサ20aは、基板保持部31a、31bに保持された基板WのY軸方向の端部を検出し、X軸用反射式センサ20b、20cは、基板WのX軸方向の端部を検出する。これにより、基板WのX、Y、θ方向の位置を知ることができる。図2及び図3に示すように、第1及び第2基板ステージ11,12は、被露光材としての基板Wを保持する基板保持部31a,31bを上部にそれぞれ有する。また、第1及び第2基板ステージ11,12の下方には、Y軸テーブル33、Y軸送り機構34、X軸テーブル35、X軸送り機構36、及びZ-チルト調整機構37を備える、基板駆動部としての基板ステージ移動機構32,32がそれぞれ設けられる。各基板ステージ移動機構32,32は、ステージベース23に対して第1及び第2基板ステージ11,12をX方向及びY方向に送り駆動するとともに、マスクMと基板Wとの間の隙間を微調整するように、第1及び第2基板ステージ11,12をZ軸方向に微動且つチルトする。具体的に、Y軸送り機構34は、ステージベース23とY軸テーブル33との間に配設されるリニアガイド38と、Y軸リニアモータ39とを備える。リニアガイド38は、ステージベース23上には2本の案内レール40がY軸方向に沿って平行に配置されており、Y軸テーブル33の裏面に取り付けられたスライダ41が転動体図示せずを介して跨架されている。Y軸リニアモータ39は、Y軸方向に沿ってステージベース23上に固定された固定子43と、該固定子43に対向配置されてY軸テーブル33の裏面に取り付けられた可動子44とを有する。2台のY軸テーブル33,33は、それぞれY軸リニアモータ39で駆動されて2本の案内レール40に沿ってY軸方向に移動可能に支持される。Y軸リニアモータ39は、可動子44、即ち、基板保持部31a、31bのY軸方向の移動量を管理可能である。具体的には、所定の時間間隔ごとに、Y軸リニアモータ39に駆動信号を送信する不図示の制御装置をチェックすることで、Y軸リニアモータ39基板保持部31a、31bの位置を知ることができる。更に具体的には、10msの時間間隔でY軸リニアモータ39の位置を読みに行く場合、例えば、Y軸リニアモータ39が1m/secの高速度で移動しているときには、10mmの位置精度でY軸リニアモータ39の位置を知ることができ、また、1mm/secの低速度で移動しているときには、10μmの位置精度でY軸リニアモータ39の位置を知ることができる。X軸送り機構36も同様の構成を有し、図3に示すように、Y軸テーブル33とX軸テーブル35間には、リニアガイド45と、X軸リニアモータ46とが設けられている。Y軸テーブル33上には2本の案内レール47がX軸方向に沿って平行に配置されており、X軸テーブル35の裏面に取り付けられたスライダ48が転動体図示せずを介して跨架される。X軸リニアモータ46は、X軸方向に沿ってY軸テーブル33に固定された固定子50と、該固定子50に対向配置されてX軸テーブル35の裏面に取り付けられた可動子51とを有する。2台のX軸テーブル35,35は、それぞれX軸リニアモータ46で駆動されて2本の案内レール47に沿ってX軸方向に移動可能に支持される。また、X軸リニアモータ46は、Y軸リニアモータ39と同様に、基板保持部31a、31bのX軸方向の移動量を管理可能である。一方、Z-チルト調整機構37は、モータと、ボールねじと、くさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、X軸テーブル35の上面に設置したモータ52によってボールねじ軸53を回転駆動するとともに、ボールねじナット54をくさび状の移動体に組み付け、このくさびの斜面を基板ステージ11,12の下面に突設したくさび55の斜面と係合させている。そして、このボールねじ軸53を回転駆動させると、ボールねじナット54がX軸方向に水平微動し、この水平微動運動が組みつけられたくさび状の移動体の斜面により高精度の上下微動運動に変換される。この可動くさび機構は、X軸方向の一端側に2台、他端側に1台図示せず合計3台設置され、それぞれが独立に駆動制御される。なお、このモータと、ボールねじとの組合せもリニアモータに置き換えられても良い。これにより、Y軸送り機構34は、各基板ステージ11,12の基板保持部31a,31bに保持された基板Wを、個別にマスクステージ10の下方位置に配置された露光位置OEPに配置すべく、第1基板ステージ11を第1ローディング領域WP1と露光領域EP間で案内レール40に沿ってY軸方向に移動させ、第2基板ステージ12を第2ローディング領域WP2と露光領域EP間で案内レール40に沿ってY軸方向に移動させる。また、X軸送り機構36及びY軸送り機構34は、露光領域EPにある基板保持部31a,31bを、マスクMに対してX、Y方向に移動させて第1及び第2基板ステージ11,12を露光位置OEPに移動させる。図2に示すように、照射装置13はマスク保持部25の開口25a上方に配置され、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ、凹面鏡、オプチカルインテグレータ、平面ミラー、球面ミラー、及び露光制御用のシャッター等を備えて構成される。照射装置13は、露光位置OEPに移動した第1及び第2基板ステージ11,12の基板保持部31a,31bに保持された基板Wに、パターン露光用の光をマスクMを介して照射する。これにより、基板Wには、マスクMのマスクパターンが露光転写される。プリアライメントユニット14は、基台21の外側に設置された基板カセット70A,70Bから搬送された基板Wが、第1基板ステージ11または第2基板ステージ12に供給されるのに先立って、マスクMに対する基板Wの位置をプリアライメントするものであり、図中、マスクステージ10の手前側に配置されている。第1基板ローダ15は、図1中プリアライメントユニット14の右側方に配置され、第1基板ステージ11に供給される基板Wを保持してプリアライメントユニット14へ搬送し、またプリアライメントされた基板Wをプリアライメントユニット14から第1基板ステージ11に搬送し、さらに、第1待機位置WP1に位置する第1基板ステージ11上の露光転写後の基板Wを基板カセット70Aへ搬送する。第2基板ローダ16は、図1中プリアライメントユニット14の左側に配置され、第2基板ステージ12に対して、第1基板ローダ15と同様の操作を行う。また、マスクローダ17及びマスクアライナ18は、第1基板ステージ11に対して第1基板ローダ15と対向配置されている。ローダロボットであるマスクローダ17は、基台21の外側に設けられたマスクカセット91からマスクMを搬入し、マスクアライナ18でプリアライメントされたマスクMを第1基板ステージ11へ搬送し、搬送されたマスクMは、第1基板ステージ11によってマスクステージ10へ供給される。次に図4に示すフローチャートを参照して、近接露光装置PEの作動手順について説明する。先ず、ステップS1でローディング領域WPにおいて基板ステージ1112に基板Wを搭載する。ステップS2で基板Wを露光領域EPに移動させるために基板ステージ1112をY軸リニアモータ39で早い速度例えば、1m/secで移動させ、ステップS3でマスクステージ10に配置された反射式センサ20で基板ステージ11、12に搭載された基板Wの端部を検出する。ステップS4で反射式センサ20が検出した基板Wの位置が露光可能範囲露光領域EP内であるかを判別する。具体的には、基板Wの端部が反射式センサ20で検出されることで露光可能範囲内にあることが認識される。ここで、基板Wが露光可能範囲内にない場合、即ち、反射式センサ20で基板Wの端部を検出できない場合には、基板ステージ1112がマスクステージ10の下方に達していないと判断されるので、ステップS2に戻り、Y軸リニアモータ39により基板ステージ1112を早い速度で移動させ、再び反射式センサ20で基板Wの端部の検出を行うループを繰り返す。なお、反射式センサ20は、基板Wが露光可能範囲内に到達したことを検出するためのものであり、その検出精度は比較的粗い精度である。反射式センサ20が基板Wの端部を検出した場合基板Wの位置が露光可能範囲内には、ステップS5で、移動量を管理可能なY軸及びX軸リニアモータ39、46の、その時の位置を読み込み、基板Wが露光可能範囲にあるか否かを判別する。ここでの露光可能範囲にあるか否かの判別は、例えば、アライメントマークなどで可能である。基板Wが露光可能範囲にないと判断される場合には、ステップS6で、Y軸及びX軸リニアモータ39、46により基板ステージ1112を遅い速度例えば、1mm/secで移動させる。尚、基板ステージ1112の移動に代えてマスクMを移動させることでマスクMと基板Wとの位置合わせを行う場合には、マスクステージ10マスク保持部25をマスク駆動部である不図示のリニアモータで移動させる。ここで、反射式センサ20が基板Wの端部を検出するまでは基板ステージ1112を早い速度で移動させ、反射式センサ20が基板Wの端部を検出した後は、遅い速度で移動させるようにしたのは、10msの時間間隔でリニアモータ39、46の位置を読む取る場合、例えば、1m/secの高速度で移動しているときの読み込み位置精度は10mmであり、1mm/secの低速度で移動しているときの読み込み位置精度は、10μmとなることによる。即ち、基板Wが露光領域EPマスクステージ10下方に達するまでの間は、位置精度が荒くても短時間で露光領域EPに搬送可能な早い速度で移動させ、その後は、精度よく位置合わせするために低速で移動させる。ステップS5で基板Wが露光可能範囲にあると判別されるとステップS7に進み、再び、反射式センサ20で基板Wの端部を検出して露光可能な範囲内であるか否かをチェックする。ここでは、基板Wが露光可能な範囲内にあるはずなので、もし露光可能な範囲内にない場合には、リニアモータが異常な状態であると判断されるので、ステップS2に戻り同様の操作を繰り返し行う。ステップS7で露光可能な範囲内にあることが確認されると、ステップS8で露光処理を行い、ステップS9で予定する全ての基板Wの処理が終了したか否かを判別する。まだ未処理の基板Wが残っている場合には、ステップS10で基板ステージ1112の位置をリニアモータ39、46から読み取り、その値を基板Wを搭載する位置に戻した後、ステップS11でリニアモータ39、46の位置を反射式センサ20の制御部にフィードバックする。これにより、基板ステージ1112の位置を1枚目の基板Wを搭載したときと同じ位置に戻す。次いで、ステップS12でローディング領域WPにおいて基板ステージ1112に2枚目の基板Wを搭載する。以後、同様の操作を未処理の基板Wがなくなるまで行い、全ての基板Wの露光処理が終了したらステップS13で露光処理を終了する。以上説明したように、本実施形態の近接露光装置PEによれば、基板Wの端部を検出するセンサが反射式センサ20で構成されているので、空間が狭く、投授光式センサの設置が困難なマスクステージ10にも、基板Wの端部を検出するセンサの設置が可能となる。また、反射式センサ20がマスクステージ10に配設されているので、ローディング領域WPと露光領域EPとの間は、基板ステージ11、12を高速で移動させ、反射式センサ20が基板Wの端部を検出した後、該検出信号に基づいてY軸リニアモータ39、X軸リニアモータ46の移動量を管理しつつ、遅い移動速度で基板ステージ11、12を露光位置OEPに移動させるようにしたので、基板搬送時間を短縮することができ、スループットが向上する。また、基板Wの端部を検出する反射式センサ20をマスクステージ10に配設し、ローディング領域WPから露光領域EPに搬送される基板Wの端部を反射式センサ20が検出した検出信号に基づいて、マスク駆動部図示せずであるリニアモータの移動量を管理しつつマスク駆動部を駆動して、マスク保持部25を露光位置OEPに移動させるようにしたので、ローディング領域WP及び露光領域EP間を高速で基板ステージ11、12を移動させることができ、これにより、基板搬送時間を短縮してスループットが向上する。尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。例えば、上記説明では、基板保持部31a、31bをY軸リニアモータ39、X軸リニアモータ46で移動させて、基板Wの位置をマスクMに合わせるように説明したが、これに限定されず、基板ステージ11、12を露光領域EPに移動させた後、マスク保持部25をマスク駆動部リニアモータで駆動してマスクMの位置を基板Wに合わせるようにしてもよい。更に、マスク保持部25に対して複数の反射式センサ20を移動可能に配置し、反射センサ20を移動させることで反射式センサ20により露光領域基板Wの端部を検出し、該検出信号に基づいて、基板保持部31a、31bをY軸リニアモータ39、及びX軸リニアモータ46で移動させて、基板Wの位置をマスクMに合わせるようにすることもできる。"