"EUV放射源3からの放射14を集光して伝達するためのEUVコレクタ15、33、37であって、-中心軸24に対して回転対称に構成された、前記EUV放射源3の放射を反射するための少なくとも1つのコレクタミラー23、40と、-前記少なくとも1つのコレクタミラー23、40を冷却するための冷却装置26と、を備え、前記冷却装置26が、前記コレクタミラー23、40に対する進路を有する少なくとも1つの冷却要素27を有し、前記進路を前記中心軸24に垂直な平面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向29との間の最大20°の角度bがいずれの場合にも含まれるようにした、ことを特徴とするコレクタ。前記角度bが最大7°である、ことを特徴とする請求項1に記載のコレクタ。前記少なくとも1つの冷却要素27の前記進路を投影したものが、前記予め定めた好ましい方向29に平行である、ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のコレクタ。前記冷却装置26が、少なくとも2つの空間的に分離された冷却要素27を有する、ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のコレクタ。前記冷却要素27の前記進路を前記中心軸24に垂直な平面内に投影したものが、少なくともほぼ、具体的には少なくとも部分的に互いに平行である、ことを特徴とする請求項4に記載のコレクタ。前記冷却要素27を互いに独立して制御することができる、ことを特徴とする請求項4又は請求項5に記載のコレクタ。前記冷却要素27が、冷媒を装填できる冷却水路として構成される、ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載のコレクタ。-請求項1から請求項7のいずれかに記載のコレクタ15、33、37と、-前記コレクタ15、33、37が集光した放射14を用いて、結像光学系9により結像することができる物体フィールド5を照明するための照明光学系4と、を備えることを特徴とする照明系2。前記照明光学系4が、前記物体フィールド5を照明して照らすための明確な照明設定を実現するための数多くの細長いファセット30、35を含む少なくとも1つのファセットミラー17、34を有し、前記好ましい方向29が、少なくとも1つのファセット30、35の長手方向の配向により予め定められる、ことを特徴とする請求項8に記載の照明系2。少なくとも1つのEUV放射源3を含む、ことを特徴とする請求項9に記載の照明系2。-請求項9又は請求項10のいずれかに記載の照明系2と、-前記物体フィールド5を画像フィールド10内に結像するための結像光学系9と、を備えることを特徴とする投影露光系1。マイクロ構造又はナノ構造の部品を製造する方法であって、-レチクル7を提供するステップと、-感光性コーティングを施したウェハ12を提供するステップと、-請求項11に記載の投影露光系1を用いて、前記レチクル7の少なくとも一部を前記ウェハ12上に投影するステップと、-前記ウェハ12上の前記露光された感光性コーティングを現像するステップと、を含むことを特徴とする方法。請求項12に記載の方法により製造される、ことを特徴とする部品。本発明の目的は、コレクタを開発し、このコレクタにより伝達される、物体フィールドを照明するための放射の質が改善されるようにすることである。本発明によれば、この目的は請求項1に記載のコレクタにより達成される。本発明により、物体フィールド面内の光分布は、照明系の入口における正確な強度分布に強く依存することが認められた。コレクタの表面欠陥、及び特にその他の表面変形は、この場合の物体フィールド面内の光分布に大きな影響を及ぼす。照明系を動作させる場合のコレクタミラーの表面変形の主な原因は熱変形である。熱負荷を有効に解消するために、コレクタには冷却概念が与えられる。本発明により、物体フィールド面の光分布は、コレクタミラーの正確な構造、及び詳細には表面変形の方向に様々な感度で依存することも認められた。特に、コレクタの冷却概念を照明系の正確な設計に合致させることにより、レチクル上の光分布を改善することができる。詳細には、本発明による冷却概念では、少なくとも1つの冷却要素を含む冷却装置を提供し、この冷却要素の配向を、この冷却要素の進路の主方向をコレクタの中心軸に垂直な面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向との間の最大20°の角度bが含まれるようにするという点で改善が成されている。コレクタミラーは、楕円ミラー、或いはウォルターI型又はII型のミラーとすることができる。この種のミラーの組み合わせも可能である。コレクタミラーは、互いに内側に配置された複数のミラーシェルの構成の一部とすることができる。冷却装置は、正確に1つの冷却要素を有することができる。この場合、この正確に1つの冷却要素の進路をコレクタミラーの対称軸に垂直な平面内に投影したものと予め定めた好ましい方向との間の角度bは最大20°である。冷却装置が複数の冷却要素を有する場合、これらの冷却要素の50よりも多くの少なくとも一部を、冷却要素の進路をコレクタミラーの対称中心軸に垂直な平面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向との間の最大20°の角度bが含まれるようにする。具体的には、冷却装置の全ての冷却要素がコレクタミラーに対する進路を有し、この進路を中心軸に垂直な平面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向との間の最大20°の角度bが含まれるようにする。フィールドファセットを線形に構成した場合、冷却要素をコレクタミラーに対して、これらの冷却要素の進路を中心軸に垂直な平面内に投影したものが線形になるように配置することができる。フィールドファセットが湾曲し、具体的には環状の弓形である場合、少なくとも1つの冷却要素の進路の投影が、対応する曲率を有することができると好ましい。この場合、進路の投影の主方向は、対応する環状弓の弦により定められる。請求項2によれば、主方向を中心軸に垂直な平面内に投影したものと予め定めた好ましい方向との間の角度は最大7°であることが好ましい。この場合、この好ましい方向は、物体フィールド内に配置された、EUV放射源からの放射を用いて高い質で結像されるオブジェクトの走査方向とすることができる。請求項3によれば、進路の投影は、予め定めた好ましい方向に平行であることが好ましい。冷却要素の進路を予め定めると、物体フィールド面内の強度変調の進路が特定されるので、物体フィールドの走査露光における走査方向に沿った強度変調が統一されるが、照明フィールドが直交走査方向、換言すれば走査方向に対して横向きすなわち垂直に乱れると露光量が局所的に変動するようになり、これは走査露光中にも平均化されない。請求項4によれば、冷却装置は、少なくとも2つの、とりわけ複数の、とりわけ少なくとも3つの、とりわけ少なくとも5つの、好ましくは7つの空間的に分離された冷却要素を有することが好ましい。これにより、コレクタミラーのより的を絞った均一な冷却が可能になる。請求項5に記載の冷却要素を、これらの進路を中心軸に垂直な平面内に投影したものが少なくともほぼ、具体的には少なくとも部分的に互いに平行となるように配置することにより、物体フィールド内の光分布の均一性がさらに改善される。請求項6によれば、別個の冷却要素を互いに独立して制御できることが好ましい。この結果、コレクタミラーの冷却を、照明系の動作中に生じる状態に対してより柔軟に、具体的には動的に適応させることができるようになる。請求項7に記載の冷却要素の冷却水路としての構成は、構造的に単純な可能性を有し、これがコレクタミラーを効率的に冷却するようになる。本発明のさらなる目的として、本発明によるコレクタを含む照明系の構成がある。本発明によれば、この目的は、請求項8に記載の照明系により達成される。この種の照明系の利点は、請求項1~請求項7のいずれかに記載のコレクタについて上述したものと一致する。複数の細長いファセットを含む少なくとも1つのファセットミラーを有する照明光学系を含む照明系では、少なくとも1つの冷却要素を配向するための好ましい方向が、ファセットの長手方向の配向により予め定められる。このファセットは、物体フィールドを照明するためにこの物体フィールド内に投影されるので、この冷却要素の配向により、投影されるファセットの長手方向の配向に垂直な方向に走査露光することで、物体フィールド内の光分布をさらに改善することができる。EUV投影マイクロリソグラフィに照明系を利用する場合、EUV投影マイクロリソグラフィは少なくとも1つのEUV放射源を有する。本発明のさらなる目的は、本発明による照明系を含む投影露光系と、この投影露光系を使用して部品を製造する方法と、この方法により製造される部品とを開示することである。本発明によれば、これらの目的は、請求項11に記載の投影露光系と、請求項12に記載の製造法と、請求項13に記載の部品とによって達成される。投影露光系は、スキャナとして構成されることが好ましい。従って、この投影露光系は、物体を結像させること、及び基板上に結像を行うことの両方のために、例えばウェハと、投影露光中に走査方向に移動できるホルダとを有する。これらの主題の利点は、既に上述したものと一致する。以下、添付図面を用いて本発明の実施形態についてより詳細に説明する。図1は、マイクロリソグラフィのための投影露光系1を子午断面で概略的に示す図である。投影露光系1の照明系2は、放射源3とは別に、物体平面6内の物体フィールド5を露光するための照明光学系4を有する。ここでは、物体フィールド5内に配置されレチクルホルダ8により保持された、切り欠いた形でしか示していないレチクル7が露光される。投影光学系9を使用して、像面11内の画像フィールド10内に物体フィールド5を結像する。像面11内の画像フィールド10の領域内に配置されウェハホルダ13により保持された、やはり概略的に示すウェハ12の感光層上に、レチクル7上の構造が結像される。放射源3は、5nm~30nmの範囲の有効放射を放射するEUV放射源である。この放射源3は、例えばGDPP源ガス放電励起プラズマ又はLPP源レーザ励起プラズマなどのプラズマ源であってもよい。放射源3には、シンクロトロンに基づく放射源を使用することもできる。当業者であれば、この種の放射源に関する情報を、例えば米国特許第6,859,515号明細書から見出すことができる。放射源3から放射されたEUV放射14は、コレクタ15によって束ねられる。EUV放射14は、コレクタ15を経た後に中間焦点面16内を伝搬してからフィールドファセットミラー17にぶつかる。フィールドファセットミラー17は、物体平面6と光学的に共役する照明光学系4の平面内に配置される。以下、EUV放射14を照明光又は結像光とも呼ぶ。EUV放射14は、フィールドファセットミラー17を経た後に、瞳ファセットミラー18により反射される。瞳ファセットミラー18は、投影光学系9の瞳面と光学的に共役する照明光学系4の瞳面内に配置される。瞳ファセットミラー18と、ビーム経路の順に示すミラー20、21及び22を含む伝達光学系19の形の結像光学アセンブリ群とを用いて、フィールドファセットミラー17のフィールドファセットを物体フィールド5内に結像する。伝達光学系19の最後のミラー22は、かすり入射ミラーである。瞳ファセットミラー18及び伝達光学系19は、照明光14を物体フィールド5内に転写するための後続する光学系を形成する。特に、瞳ファセットミラー18を投影光学系9の入射瞳内に配置した場合には、伝達光学系9を省くことができる。位置関係を簡単に説明するために、図1にはデカルトxyz座標系を示している。図1では、x軸は図面と垂直にかつ図面の中へ延びる。y軸は右方向に延びる。z軸は下方向に延びる。物体平面6及び像面11は、両方ともxy平面と平行に延びる。レチクルホルダ8は、投影露光中に物体平面6内のy方向と平行な変位方向にレチクル7を移動できるように制御された態様で移動させることができる。これに応じて、像面11内のy方向と平行な変位方向にウェハ12を移動できるように制御された態様でウェハホルダ13を移動させることができる。この結果、一方では物体フィールド5によってレチクル7を走査し、他方では画像フィールド10によってウェハ12を走査することができる。以下、この変位方向を走査方向とも呼ぶ。レチクル7及びウェハ12の走査方向における移動は互いに同期して行われることが好ましい。以下、図2~図4を参照しながらコレクタ15の第1の実施形態についてより詳細に説明する。図1にほんの概略的に示したコレクタ15は、EUV放射源3のEUV放射14を反射するための少なくとも1つのコレクタミラー23を備える。図1の単なる概略図とは対照的に、この少なくとも1つのコレクタミラー23を放射源3の背後のビーム方向に配置することもできる。図1には、放射源3の背後のコレクタミラーの配置を点線により23’で示している。以下、コレクタミラーを参照する場合には、参照数字23を統一して使用する。コレクタミラー23は、いずれの場合にも中心軸24に対して回転対称に構成される。図2~図4に示すコレクタミラー23は、楕円ミラー面25を有する楕円ミラーである。放射源3は、楕円形のミラー面25の焦点内に配置される。楕円形のミラー面25の他方の焦点は、中間焦点面16内に存在する。楕円コレクタミラー23を使用して、放射源3の逆方向に放射される全EUV放射14、換言すれば放射源3から生じて中間焦点16から離れた半空間に侵入する放射を受光して反射する。また、楕円コレクタミラー23は、順方向に放射されるEUV放射14の一部を反射することもできる。順方向に放射されるEUV放射を集光するために、図1に連続線によって概略的に示すコレクタミラー23を、図9及び図10による構成とともに以下でも説明するようなウォルターミラー光学系型とすることもできる。放射源3により放射されコレクタミラー23により反射されるEUV放射14の一部はコレクタミラー23により吸収されるので、投影露光系1の動作中、コレクタミラー23は加熱する恐れがある。これにより、コレクタミラー23が熱変形する可能性がある。この種の変形を最小限に抑えるために、EUVコレクタ15には冷却装置26が設けられる。冷却装置26は、特にコレクタミラー23を冷却するために使用される。冷却装置26は、少なくとも1つの冷却要素27を含む。少なくとも1つの冷却要素27は、例えば冷却水路として構成され、これに冷媒を装填することができる。冷媒としては、冷却ガス又は冷却液を使用することができる。冷媒として、水又はグリコールを提供することが好ましい。図2~図4には、7つの冷却水路を有するコレクタミラー23を示している。しかしながら、異なる数の冷却要素27も可能である。冷却装置26は、少なくとも2つの、とりわけ少なくとも3つの、とりわけ少なくとも5つの、とりわけ少なくとも7つの空間的に分離された冷却要素27を有することが好ましい。冷却要素27は、コレクタ15の基材28と一体化される。この結果、コレクタ15の特に効率的な冷却が可能となる。冷却要素27の構成としては、これらの冷却要素27がコレクタ15上に配置されてコレクタ15と堅固に接続された構成も可能である。冷却要素27は、好ましくは冷却水路として構成され、冷媒が密封されるように構成される。冷却水路に冷媒を装填するために、これらの水路は、図示していない供給及び放出管により、やはり図示していない冷媒リザーバに接続される。位置関係を簡単に説明するために、図2~図8には、いずれの場合にも局所的デカルトxyz座標系を示している。ここでは、いずれの場合にもz方向がコレクタミラー23の領域内のEUV放射14の主な展開方向を指すようにして座標系を配置している。従って、コレクタ15の領域内では、z軸がコレクタミラー23の中心軸24と平行になる。図2では、x方向は右方向に延びる。y方向は上方向に延びる。z方向は、図2の図面と垂直に観察者の方に向かって延びる。図2~図8による局所的xyz座標系のx方向は、図1による大域的xyz座標系のx方向と平行に延びる。物体平面6の領域内では、y方向が走査方向に対応するのに対し、x方向は直交走査方向に対応する。本発明によれば、冷却要素27のコレクタミラー23に対する進路は、これらの進路をxy平面、すなわち中心軸24に垂直な平面内に投影したものが、好ましくはx方向と平行に延びるようにされる。一般に、冷却要素27は、コレクタミラー23に対し、これらの冷却要素の進路を上記で定めたxy平面内に投影したものに、上記で定めた座標系内のx方向に対応する予め定めた好ましい方向29との間の最大20°の、とりわけ最大7°の角度bが含まれるように配置される。上述したように、物体平面6の領域内では、x方向は直交走査方向に対応する。図2に示すように、冷却要素27は、コレクタの基材28内に、これらの冷却要素の進路をxy平面内に投影したものが互いに少なくともほぼ平行となるように配置される。ここで言うほぼ平行とは、2つの冷却要素27の進路をxy平面内に投影したものに最大7°の角度が含まれることを意味すると理解されたい。詳細には、冷却要素27の進路をxy平面に投影したものを、いずれの場合にも部分的に平行又は完全に平行とすることができる。特に有利な実施形態では、別個の冷却要素27を互いに独立して制御することができる。具体的には、これらに互いに独立して冷媒を装填することができる。上述したように、照明系2は、コレクタ15及び照明光学系4を備え、この照明光学系4はフィールドファセットミラー17を備える。フィールドファセットミラー17の詳細については、独国特許出願公開第102007041004号明細書の、特に図3を参照されたい。フィールドファセットミラー17は、数多くの細長いファセット30を有する。いずれの場合にも、ファセット30は長方形である。これらは、少なくとも1:2の、とりわけ少なくとも1:3の、好ましくは少なくとも1:5のアスペクト比を有する。このことは、いずれの場合にもファセット30の長辺がファセット30の短辺の長さよりも少なくとも2倍、とりわけ少なくとも3倍、とりわけ少なくとも5倍であることを意味すると理解されたい。ファセット30のアスペクト比は、1:15~1:30の範囲内にあることが格別である。ファセットのアスペクト比は、物体フィールド5のアスペクト比に対応する。放射源3からの放射14は、フィールドファセット30により数多くの放射束に分割される。ファセット30を使用して二次光源を生成する。これらは、瞳ファセットミラー18により物体平面6内に結像される。ファセット30は、フィールドファセットミラー17上に、物体平面6内のこれらのファセット30の像がいずれの場合にもx方向、すなわち直交走査方向と平行に延びるように配置される。このことは、ファセット30の物体平面6内への投影中に、個々のファセットの長辺がx方向、すなわち直交走査方向と平行に延びる一方で、個々のファセット30の短辺がy方向、すなわち走査方向を指すことを意味すると理解されたい。ファセット30を、瞳ファセットミラー18の図示していない瞳ファセットとともに使用して、物体フィールド5を照明して照らすための明確な照明設定を実現する。コレクタ15の図2~図4に示す実施形態によれば、ファセット30の長手方向の配向により、上述した冷却要素27の配向にとって好ましい方向29が予め正確に定められる。換言すれば、好ましい方向29は、ファセット30の長手方向の配向をxy平面内に、すなわち中心軸24に垂直な平面内に投影したものに正確に対応する。ファセット30を傾けずに示す図5による概略図では、ファセット30の長手方向の配向がx方向と一致する。図5には、フィールドファセットミラー17の内部照明限界31も概略的に示している。この照明限界は、例えばコレクタ15の図示していないセンターストップによって生じ得る。フィールドファセットミラー17は、数多くのフィールドファセット群32を有し、さらにこれらは数多くの個々のファセット30で構成される。ファセットミラーのさらなる詳細については、独国特許出願公開第102007041004号明細書の、特に図3を参照されたい。以下、図6~図8を用いて、コレクタ33、及び対応するコレクタ33及びフィールドファセットミラー34を有する照明系2のさらなる実施形態について説明する。これらに対応する、図1~図5を参照しながら既に上述した部品には同一の参照数字を付しており、これらについて再び詳細に説明することはない。コレクタ33図6及び図7を参照は、冷却装置26の冷却要素27の配置を除き、上述のコレクタ15に一致する。フィールドファセットミラー34図8を参照も、数多くのファセット35を含む数多くのフィールドファセット群32を有する。この実施形態では、フィールドファセット群32が縦列方向に配置されている。この実施形態によれば、個々のファセット35はアーチ形である。アーチ形ファセット35のアスペクト比は、上述した実施形態の長方形ファセット30のアスペクト比に対応する。さらに、ファセット35の主方向36は、いずれの場合にも、ファセット35によって提供される円形部分の円弧の弦に平行な方向、換言すれば図8のx方向を意味すると理解されたい。冷却要素27のコレクタミラー23に対する進路は、このアーチ形ファセットに基づいて構成される。換言すれば、この実施形態の冷却要素27のコレクタミラー23に対する進路は、この進路をxy平面内に、すなわち中心軸24に垂直な平面内に投影したものがアーチ形、詳細には円形部分の円弧となり、この主方向が予め定めた好ましい方向29に、換言すれば図6のx方向に平行となるようにされる。上述した実施形態によれば、ここでは好ましい方向29が、ファセット35の主方向36を投影したものによって定められる。一般的には、冷却要素27の進路を投影したもの、詳細には冷却要素27の進路をxy平面内に投影したものの主方向に、好ましい方向29との間の最大20°の、特に最大7°の角度bが含まれる。冷却要素27のアーチ形部分の数は、フィールドファセットミラー34上のフィールドファセット群32の縦列の数に正確に対応することが好ましい。以下、図9及び図10を用いてコレクタ37のさらなる実施形態について説明する。この実施形態によれば、コレクタ37は、互いに内側に位置する複数のミラーシェル40を有し、これらの1つを図9及び図10に示している。対応するコレクタは、例えば独国特許出願公開第102007041004号明細書から公知であり、本明細書ではこれを参照する。コレクタ37は、例えば、1つのミラーシェル40、2つのミラーシェル40、又は互いに内側に位置する2つよりも多くのミラーシェル40、具体的には互いに内側に位置する3つ、4つ、5つ又はさらに多くのミラーシェル40を有する。互いに内側に位置するミラーシェル40は、I型又はII型ウォルター光学系を形成する。これらは中心軸24の周囲に延びるねじれ領域38を有し、これについては図10に概略的にのみ示す。ミラーシェル40は、かすり入射のために設計される。従って、EUV放射14のミラーシェル40上への入射角は限界角度未満となる。かすり反射されたEUV14は、ミラーシェル40によって、いずれの場合にも正確に2回、すなわちねじれ領域38の前で1回、ねじれ領域38の後で1回反射される。この種のコレクタ37は、国際公開第2009/095219号及び国際公開第2009/095220号から公知である。ミラーシェル40は、これらの軸24の周囲の中心領域内に、いずれの場合にも貫通口39を有する。冷却要素27は、この貫通口39の位置ではy方向に延び、これらの要素自体に折り返すことができる。この代替として、貫通口39を通過する冷媒用の供給及び/又は放出管も可能である。いずれの場合にも、コレクタ37は、放射源3の半空間内に中間焦点面16の方を向いて配置される。当然ながら、この実施形態において、図6及び図7で説明した湾曲部分を含む冷却要素27の実施形態による湾曲したファセットを含むフィールドファセットの場合の冷却要素27を構成することもできる。均一性Uは、物体フィールド5の照明の質を定量化するための特性の1つである。均一性Uは、次式によって求められ、式中、SEmax及びSEminは、物体フィールド5のフィールド高さにわたる最大又は最小走査集積エネルギーを示す。均一性Uの値が小さいほど、物体フィールド5の照明はより均一となり、従ってより良好となる。コレクタ15、33、37の冷却装置26の冷却要素27の進路が物体フィールド5の照明の均一性Uに及ぼす影響を図11に一例として示す。ここでは、破曲線により、冷却要素を中心軸24に対して回転対称に構成した冷却装置の場合の物体平面6内の強度分布の均一性Uを、放射状に距離を置いたフィールドの乱れの局所的波長λの関数として示している。連続線は、本発明による冷却装置26の影響を対応して示している。本発明による冷却要素27を配置することにより、物体平面6内の強度分布の均一性Uが大幅に改善されることが明確に理解できる。上述したコレクタの変形例の1つを含む投影露光系1を使用する場合、レチクル7と、照明光14のための感光性コーティングを施したウェハ12とが提供される。この結果、投影露光系1により、レチクル7の少なくとも一部がウェハ12上に投影される。レチクル7のウェハ12上への投影中には、レチクルホルダ8及び/又はウェハホルダ13を物体平面6に平行な方向又は像面11に平行な方向に移動することができる。レチクル7及びウェハ12の移動は、互いに同期して実行できることが好ましい。最終的に、照明光14によって露光されたウェハ12上の感光層を現像する。このようにして、マイクロ構造又はナノ構造部品、具体的には半導体チップを製造する。"