"少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層の無機バリア層を有し、有機層の少なくとも1層は、重合成組成物を硬化してなる有機層1であって、前記重合性組成物を60重量含むプロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセタート液における粘度が1000mPas以上である、バリア性積層体。前記重合性組成物が、芳香環を含む多官能メタアクリレート化合物である、請求項1に記載のバリア性積層体。前記重合性組成物が、下記一般式1で表される重合性化合物を含む、請求項1に記載のバリア性積層体。一般式1中、R1、R2、およびR3は、それぞれ、水素原子またはメチル基を表し、R4、R5、およびR6は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。L1、L2、およびL3は、ぞれぞれ、2価の連結基を表す。nは2以上の整数を表し、m1およびm3は、それぞれ、0~4の整数を、m2は0~3の整数を表す。前記一般式1におけるL1、L2、およびL3は、それぞれ、総炭素数2または3である、請求項1~3のいずれか1項に記載のバリア性積層体。少なくとも2層の有機層と、少なくとも2層の無機バリア層が、交互に積層している、請求項1~4のいずれか1項に記載のバリア性積層体。前記無機バリア層が、珪素および/またはアルミニウムを含む酸化物、窒化物および炭化物の少なくとも1種を含む、請求項1~5のいずれか1項に記載のバリア性積層体。基材フィルム上に、請求項1~6のいずれか1項に記載のバリア性積層体を有するガスバリアフィルム。基材フィルム上に、少なくとも一層のアンカー層を有し、かつ、前記無機バリア層の表面に前記有機層1が設けられている、請求項7に記載のガスバリアフィルム。基材フィルムの表面に前記有機層1を有する、請求項7に記載のガスバリアフィルム。基材フィルム上に、少なくとも一層のアンカー層を有し、該アンカーコート層の表面に前記有機層1を有する、請求項7に記載のガスバリアフィルム。請求項7~10のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを基板として用いたデバイス。請求項1~6のいずれか1項に記載のバリア性積層体または請求項7~10のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを用いて封止したデバイス。前記デバイスが、電子デバイスである、請求項11または12に記載のデバイス。前記デバイスが、有機EL素子または太陽電子素子である、請求項11~13のいずれか1項に記載のデバイス。請求項1~6のいずれか1項に記載のバリア性積層体または請求項7~10のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを用いた封止用袋。前記重合性組成物を層状に適用した後、硬化して有機層1を形成することを含む、請求項1~6のいずれか1項に記載のバリア性積層体の製造方法または請求項7~10のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムの製造方法。ここで、本願発明者が上記特許文献2を検討したところ、有機層を形成する際の有機層の下層となる、基材フィルムや無機バリア層等の上に、図1に示すように、異物1などが存在すると、重合性組成物2をこの上に塗布しても、異物1について、重合性組成物2がはじかれることが分かった。そして、その状態のまま、重合性組成物が硬化し、有機層に欠陥が生じてしまうことが分かった。この欠陥は、バリア性積層体の欠陥につながる。本発明は、かかるバリア性積層体の問題点を解決することを目的としたものであって、欠陥が少なく、バリア性の高いバリア性積層体を提供することを目的とする。かかる状況のもと、本願発明者が鋭意検討を行った結果、有機層を、重合性組成物を硬化して形成し、かつ、かかる重合性組成物として、該重合性組成物の60重量含むプロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセタート液における粘度が1000mPas以上である重合性組成物を用いることにより、かかる問題点を解決しうることを見出した。すなわち、図2に示すように、本発明における重合性組成物を用いると、有機層形成の際、有機層の下層の上に異物1が存在していても、重合性組成物2がその上を覆うように存在することが可能になる。そして、この状態で硬化すると、異物の上にも有機層が形成される。この結果、有機層の表面に欠陥が生じず、結果としてバリア性の高いバリア性積層体を提供することが可能になる。さらに、本願発明者が検討を行ったところ、特定の構造を有する重合性化合物を含む重合性組成物を用いて有機層を形成することにより、顕著に欠陥が減少され、かつ、高いバリア性を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。具体的には、以下の手段<1>により、さらには<2>~<16>により、上記課題は達成された。<1>少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層の無機バリア層を有し、有機層の少なくとも1層は、重合成組成物を硬化してなる有機層1であって、前記重合性組成物を60重量含むプロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセタート液における粘度が1000mPas以上である、バリア性積層体。<2>前記重合性組成物が、芳香環を含む多官能メタアクリレート化合物である、<1>に記載のバリア性積層体。<3>前記重合性組成物が、下記一般式1で表される重合性化合物を含む、<1>に記載のバリア性積層体。一般式1中、R1、R2、およびR3は、それぞれ、水素原子またはメチル基を表し、R4、R5、およびR6は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。L1、L2、およびL3は、ぞれぞれ、2価の連結基を表す。nは2以上の整数を表し、m1およびm3は、それぞれ、0~4の整数を、m2は0~3の整数を表す。<4>前記一般式1におけるL1、L2、およびL3は、それぞれ、総炭素数2または3である、<1>~<3>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<5>少なくとも2層の有機層と、少なくとも2層の無機バリア層が、交互に積層している、<1>~<4>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<6>前記無機バリア層が、珪素および/またはアルミニウムを含む酸化物、窒化物および炭化物の少なくとも1種を含む、<1>~<5>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<7>基材フィルム上に、<1>~<6>のいずれか1項に記載のバリア性積層体を有するガスバリアフィルム。<8>基材フィルム上に、少なくとも一層のアンカー層を有し、かつ、前記無機バリア層の表面に前記有機層1が設けられている、<7>に記載のガスバリアフィルム。<9>基材フィルムの表面に前記有機層1を有する、<7>に記載のガスバリアフィルム。<10>基材フィルム上に、少なくとも一層のアンカー層を有し、該アンカーコート層の表面に前記有機層1を有する、<7>に記載のガスバリアフィルム。<11><7>~<10>のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを基板として用いたデバイス。<12><1>~<6>のいずれか1項に記載のバリア性積層体または<7>~<10>のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを用いて封止したデバイス。<13>前記デバイスが、電子デバイスである、<11>または<12>に記載のデバイス。<14>前記デバイスが、有機EL素子または太陽電子素子である、<11>~<13>のいずれか1項に記載のデバイス。<15><1>~<6>のいずれか1項に記載のバリア性積層体または<7>~<10>のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを用いた封止用袋。<16>前記重合性組成物を層状に適用した後、硬化して有機層1を形成することを含む、<1>~<6>のいずれか1項に記載のバリア性積層体の製造方法または<7>~<10>のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムの製造方法。本発明により、欠陥が少なく、バリア性能が向上したバリア性積層体を提供することが可能になった。以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において~とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。また、本発明における有機EL素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。本明細書において、メタアクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートの両方を含む意味で使用される。本明細書における粘度は、音叉型振動式粘度計SV-10エーアンドデイ社製を用いて測定したものであり、特に述べない限り、25°Cにおける粘度を示している。<バリア性積層体>本発明のバリア性積層体は、少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層の無機バリア層を有し、有機層の少なくとも1層は、重合成組成物を硬化してなる有機層1であって、前記重合性組成物を60重量含むプロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセタート液における粘度が1000mPas以上であることを特徴とする。ここで、重合性組成物を60重量含むプロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセタート液における粘度は、1000mPas以上であることが好ましく、2000mPas以上であることがさらに好ましい。上限は特に定めるものではなく、層状にできる限り特に定めるものではない。例えば、10000mPas以下である。有機層本発明における有機層とは重合性組成物を硬化させてなる層である。重合性組成物は、少なくとも、重合性化合物を含み、さらに、重合開始剤等の他の成分を含んでいてもよい。重合性化合物本発明における重合性化合物は、好ましくは、ラジカル重合性化合物であり、メタアクリレート化合物がより好ましい。さらに、芳香環を含む多官能メタアクリレートであることが好ましい。バリアフィルム積層体の有機層を構成する化合物としては、芳香環を高密度に含む重合性化合物であると、耐熱性が得られることや、無機層成膜時に表面平滑性が維持されて高いバリア性が得られるためさらに好ましい。また、3官能以上の重合成化合物であると高いガラス転移点をもつ、もしくはガラス転移現象を示さない耐熱性の優れた有機層が得られるため好ましい。これらの性質に加えて、今回の発明である高粘度という性質を満たすための構造として、一般式1の構造が特に有効であることを見出したものである。一般式1中、R1、R2、およびR3は、それぞれ、水素原子またはメチル基を表し、R4、R5、およびR6は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。L1、L2、およびL3は、ぞれぞれ、2価の連結基を表す。nは2以上の整数を表し、m1およびm3は、それぞれ、0~4の整数を、m2は0~3の整数を表す。R4、R5、およびR6としてのハロゲン原子は、塩素原子またはフッ素原子が好ましい。R4、R5、およびR6としてのアルキル基は、炭素数1~6のアルキル基が好ましく、炭素数1~3のアルキル基がより好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、および環状のいずれであってもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がさらに好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ドデシル基等が挙げられる。R4、R5、およびR6は、それぞれ、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基がより好ましい。L1、L2、およびL3は、ぞれぞれ、2価の連結基を表す。2価の連結基とは、アルキレン基例えば、1,3-プロピレン基、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン基、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロピレン基、1,6-ヘキシレン基、1,9-ノニレン基、1,12-ドデシレン基、1,16-ヘキサデシレン基等、アリーレン基例えば、フェニレン基、ナフチレン基、エーテル基、イミノ基、カルボニル基、スルホニル基、およびこれらの2価基が複数個直列に結合した2価残基例えば、アルキレンオキシオキシ基、アリーレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボキシ基、アルキレンカルボニルイミノ基、アルキレンアミノカルボニル基等を挙げることができる。これらの中ではアルキレン基、アルキレンアミノカルボニル基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。L1、L2、およびL3は、それぞれ、置換基を有してもよく、L1、L2、およびL3を置換することのできる置換基の例としては、水酸基、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等、アルケニル基例えば、ビニル基、アリル基、2-ブテニル基、3-ペンテニル基等、アリール基例えば、フェニル基、p-メチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基等、ハロゲン原子例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アシル基例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等、アシルオキシ基例えばアセトキシ基、プロピオンオキシ基、ベンゾイルオキシ基等、アルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等、アリールオキシカルボニル基例えば、フェニルオキシカルボニル基等等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されていてもよい。これらの連結基の中では、アルキレン基、アルキレンアミノカルボニル基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。連結基の長さに関しては、総炭素数として1~3であることが好ましく、総炭素数2または3であることがより好ましい。これは、一般式1の化合物の特性であるプラズマ耐性を保持するために特に好ましい態様である。すなわち、連結基を3以下とすることにより、一般式1における芳香環の効果がより効果的に発揮され、プラズマ耐性が向上する傾向にある。このような理由から、本発明においてL1~L3は、それぞれ、総炭素数1~3のアルキレン基または総炭素数1~3のアルキレンアミノカルボニル基であることが特に好ましく、総炭素数1~3のアルキレン基が最も好ましい。nは、重要物性である塗布時の粘度に関連する。粘度が小さいと本発明の効果が得られにくく、大きすぎると塗布しにくいという問題が生ずる。このためnは2~20が好ましく、2~11がより好ましく、4~11がさらに好ましい。m1およびm3は、0~2が好ましく、0または1がより好ましい。m2は0~2が好ましく、0または1がより好ましい。一般式1で表される化合物の分子量は、500以上であることが好ましく、1000以上であることがより好ましい。以下に本発明で用いられる一般式1で表される化合物の例を示す。しかしながら、本発明がこれらに限定されるものではないことは言うまでもない。重合開始剤本発明における重合性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤の含量は、重合性化合物の合計量の0.1モル以上であることが好ましく、0.5~2モルであることがより好ましい。このような組成とすることにより、活性成分生成反応を経由する重合反応を適切に制御することができる。光重合開始剤の例としてはチバスペシャルティーケミカルズ社から市販されているイルガキュアIrgacureシリーズ例えば、イルガキュア651、イルガキュア754、イルガキュア184、イルガキュア2959、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819など、ダロキュアDarocureシリーズ例えば、ダロキュアTPO、ダロキュア1173など、クオンタキュアQuantacurePDO、ランベルティ、ECB型ElectricallyControlledBirefringence、OCB型OpticallyCompensatedBend、CPA型、IPS型InPlaneSwitchingであることが好ましい。太陽電池本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、太陽電池素子の封止フィルムとしても用いることができる。ここで、本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、接着層が太陽電池素子に近い側となるように封止することが好ましい。太陽電池は、ある程度の熱と湿度に耐えることが要求されるが、本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは好適である。本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムが好ましく用いられる太陽電池素子としては、特に制限はないが、例えば、単結晶シリコン系太陽電池素子、多結晶シリコン系太陽電池素子、シングル接合型、またはタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池素子、ガリウムヒ素GaAsやインジウム燐InP等のIII-V族化合物半導体太陽電池素子、カドミウムテルルCdTe等のII-VI族化合物半導体太陽電池素子、銅インジウムセレン系いわゆる、CIS系、銅インジウムガリウムセレン系いわゆる、CIGS系、銅インジウムガリウムセレン硫黄系いわゆる、CIGSS系等のI-III-VI族化合物半導体太陽電池素子、色素増感型太陽電池素子、有機太陽電池素子等が挙げられる。中でも、本発明においては、上記太陽電池素子が、銅インジウムセレン系いわゆる、CIS系、銅インジウムガリウムセレン系いわゆる、CIGS系、銅インジウムガリウムセレン硫黄系いわゆる、CIGSS系等のI-III-VI族化合物半導体太陽電池素子であることが好ましい。その他その他の適用例としては、特表平10-512104号公報に記載の薄膜トランジスタ、特開平5-127822号公報、特開2002-48913号公報等に記載のタッチパネル、特開2000-98326号公報に記載の電子ペーパー、特開平9-18042号公報に記載の太陽電池等が挙げられる。また、ポリエチレンフィルムやポリプロピレンフィルム等の樹脂フィルムと、本発明のバリア性積層体またはガスバリアフィルムを積層して封止用袋として用いることができる。これらの詳細については、特開2005-247409号公報、特開2005-335134号公報等の記載を参酌できる。<光学部材>本発明のガスバリアフィルムを用いる光学部材の例としては円偏光板等が挙げられる。円偏光板本発明におけるガスバリアフィルムを基板としλ/4板と偏光板とを積層し、円偏光板を作製することができる。この場合、λ/4板の遅相軸と偏光板の吸収軸とが45°になるように積層する。このような偏光板は、長手方向MDに対し45°の方向に延伸されているものを用いることが好ましく、例えば、特開2002-865554号公報に記載のものを好適に用いることができる。以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。合成例一般式1で表される化合物は、下記エポキシ化合物をセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン等の溶媒に溶かし、2-エチル-4-イミダゾールまたはトリエチルベンジルアンモニウムクロライド等を触媒として、ハイドロキノン等の重合禁止剤の存在下、アクリル酸又はメタクリル酸と50~120°Cで反応させることにより合成した。<ガスバリアフィルムの作製>ポリエチレンナフタレートフィルム帝人デュポン社製、テオネックスQ65FA、厚さ100μm上に、下表に示す重合性化合物50g、重合開始剤Lamberti社、EsacureKTO461g、シランカップリング剤信越化学工業社、KBM510310g、2-ブタノン400gを含む重合性組成物を乾燥膜厚が1000nmとなるように塗布成膜して、酸素含有量100ppm以下の窒素雰囲気下で紫外線照射量0.5J/cm2で照射して硬化させ、有機層を作製した。実施例1~6、比較例1、2においては、プラズマCVD法を用いて、前記有機層の上に窒化珪素の無機バリア層を形成した。膜厚は40nmであった。また、実施例7と比較例3においては、スパッタリング装置を用いて、前記有機層の上に酸化アルミニウムの無機バリア層を形成した。膜厚は60nmであった。実施例8においては、有機層と無機層を前記と同様の方法で2回ずつ形成し、それぞれ2層とした。このようにして有機層の上に無機バリア層を積層したガスバリアフィルムを作製した。得られたガスバリアフィルムについて、下記手法により欠陥数のカウントとバリア性能の評価を行った。<欠陥数のカウント>作製した各ガスバリアフィルムをHITACHIS-4100型走査型電子顕微鏡を用いて加速電圧5KV、拡大倍率500倍にて1mm角の領域を無作為に100箇所抽出した。選んだ領域内の欠陥数をカウントし、平均値を求めた。このときカウントできた欠陥は、最大長が1μm以上の長さを有する欠陥である。前記平均値を1cm2あたりに換算し、欠陥数とした。<バリア性能>G.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEERらSIDConferenceRecordoftheInternationalDisplayResearchConference1435-1438頁に記載の方法を用いて水蒸気透過率g/m2/dayを測定した。このときの温度は40°C、相対湿度は90とした。結果を下記表に示した。<粘度測定>欠陥数とバリア性能の差が見られた化合物の中からいくつかを選び出し、音叉型振動式粘度計SV-10エーアンドデイ社製を用いて25°Cにおける粘度測定を行った。上記重合性組成物に含まれる化合物は、上述の例示化合物に対応する。上記結果から明らかな通り、本発明のガスバリアフィルムは、欠陥数を少なくすることができ、優れたバリア性が得られることが分かった。実施例9有機EL発光素子での評価バリア性を評価するために、水蒸気や酸素で黒点ダークスポット欠陥を生じる有機EL素子を作成し評価した。まず、ITO膜を有する導電性のガラス基板表面抵抗値10Ω/□を2-プロパノールで洗浄した後、10分間UV-オゾン処理を行った。この基板陽極上に真空蒸着法にて以下の化合物層を順次蒸着した。第1正孔輸送層銅フタロシアニン:膜厚10nm第2正孔輸送層N,N’-ジフェニル-N,N’-ジナフチルベンジジン:膜厚40nm発光層兼電子輸送層トリス8-ヒドロキシキノリナトアルミニウム:膜厚60nm電子注入層フッ化リチウム:膜厚1nmこの上に、金属アルミニウムを100nm蒸着して陰極とし、その上に厚さ3μm窒化珪素膜を平行平板CVD法によって付け、有機EL素子を作成した。次に、熱硬化型接着剤エポテック310、ダイゾーニチモリ株を用いて、作成した有機EL素子上と、実施例1で作製した各ガスバリアフィルムを、バリア層が有機EL素子の側となるように貼り合せ、65°Cで3時間加熱して接着剤を硬化させた。このようにして封止された有機EL素子を各20素子ずつ作成した。作成直後の有機EL素子をソースメジャーユニットSMU2400型、Keithley社製を用いて7Vの電圧を印加して発光させた。顕微鏡を用いて発光面状を観察したところ、いずれの素子もダークスポットの無い均一な発光を与えることが確認された。最後に、各素子を60°C相対湿度90の暗い室内に24時間静置した後、発光面状を観察した。直径300μmよりも大きいダークスポットが観察された素子の比率を故障率と定義し、各素子の故障率を算出した。故障率は、本発明の素子については、いずれも、5以下と良好であった。実施例10太陽電池の作成上記実施例1で作成したガスバリアフィルムを用いて、太陽電池モジュールを作成した。具体的には、太陽電池モジュール用充填剤として、スタンダードキュアタイプのエチレン-酢酸ビニル共重合体を用いた。10cm角の強化ガラス上に厚さ450μmのエチレン-酢酸ビニル共重合体でアモルファス系のシリコン太陽電池セルを挟み込み充填し、さらにその上のガスバリアフィルムを設置することで太陽電池モジュールを作成した。設置条件は、150°Cにて真空引き3分行ったあと、9分間圧着を行った。本方法で作成した太陽電池モジュールは、良好に作動し、85°C、85相対湿度の環境下でも良好な電気出力特性を示した。実施例11封止用袋の作成上記実施例1で作成したガスバリアフィルムを用いて、封止用袋を作成した。ガスバリアフィルムの基材フィルム側と、樹脂フィルムからなるバックポリエチレン製のバッグをヒートシール法によって融着し、封止用袋を作成した。得られた封止用袋に、薬剤として、セファゾリンナトリウム大塚製薬工場製を封入し、40°C相対湿度75の条件で6ヶ月保存して色調の変化を評価したところ、色調に変化はほとんど見られなかった。"