モノクロロシランを安定な状態で収容することができ、且つ多量のモノクロロシランを収容することができる、内部表面の修飾を有する容器であって、前記内部表面が次の群より選択される容器:a機械的研磨の結果として生じる表面;b電解研磨の結果として生じる表面;c有機分子の疎水性防護層の形成の結果として生じる表面;dステンレス鋼の内部表面を与えることの結果として生じる表面;eアルミニウムの内部表面を与えることの結果として生じる表面;fニッケルの内部表面を与えることの結果として生じる表面;gポリマーコーティングの結果として生じる表面;h酸化ケイ素コーティングを有する表面;iその金属に分子的に結合した結晶性炭素の層を有する表面;j金属フッ化物の保護層を有する表面;kシランへの曝露によって金属に結合させたシランの保護層を有する表面;及びl不活性化ヒドロキシル基を有する表面。次のステップを有する、安定な状態でモノクロロシランを保存するための容器を調製する方法:A入口部及び出口部を有する金属の容器を与えるステップ、ここで前記入口部及び出口部は、単一オリフィスとなることができる;B前記容器の内部表面を、次の群より選択されるプロセスに処理するステップ:a前記内部表面を、粒子状研磨材で機械的研磨するプロセス;b前記内部表面を、電解研磨するプロセス;cシリル化によって有機分子の疎水性防護層を形成するプロセス;dステンレス鋼の内部表面を与えるプロセス;eアルミニウムの内部表面を与えるプロセス;fニッケルの内部表面を与えるプロセス;g前記内部表面を、ポリマーコーティングでコーティングするプロセス;h前記内部表面を、酸化ケイ素コーティングでコーティングするプロセス;i前記内部表面を、前記金属に分子的に結合した結晶性炭素の層でコーティングするプロセス;j前記内部表面と、フッ素を含有する保護流体との接触によって、前記内部表面を、金属フッ化物の層で保護するプロセス;k前記内部表面を、シランへの曝露によって金属に結合させたシランの層で保護するプロセス;l前記内部表面を、前記内部表面上のヒドロキシル基を不活性化することによって保護するプロセス;m前記容器及び前記モノクロロシランを、20°C以下の温度で保持するプロセス;及びa~mの組合せ。容器からのMCSの抜き出しは、通常、容器の上部で気相から行われる。しかし、混合物中のMCS及び不純物の異なる沸点に起因して、比較的低い沸点の化合物、例えばMCS及びSiH4不純物が、抜き出した気体で大部分を占める傾向にあり、比較的高い沸点の化合物、例えばDCSが、液相に選択的に分配される。結果として、DCSは、時間とともに容器の液体の底部liquidheelに濃縮するようになる。それゆえ、抜き出される気体中のDCSのレベルは、MCSが容器から取り出されるにつれて上昇し、これはMCS純度の変動を招く。高品質の窒化物薄膜の堆積プロセスには、常に高いMCS純度を必要としているので、保存中のMCSの分解速度を最小化することが重要である。次に、これは、容器からのMCSの抜き出しの間のDCSレベルの上昇を最小化させる。本発明は、モノクロロシランを安定な状態で収容することができ、且つ多量のモノクロロシランを収容することができる、内部表面の修飾を有する容器であって、上記内部表面が次の群より選択される容器である:a機械的研磨の結果として生じる表面;b電解研磨の結果として生じる表面;c有機分子の疎水性防護層の形成の結果として生じる表面;dステンレス鋼の内部表面を与えることの結果として生じる表面;eアルミニウムの内部表面を与えることの結果として生じる表面;fニッケルの内部表面を与えることの結果として生じる表面;gポリマーコーティングの結果として生じる表面;h酸化ケイ素コーティングを有する表面;iその金属に分子的に結合した結晶性炭素の層を有する表面;j金属フッ化物の保護層passivationlayerを有する表面;kシランへの曝露によって金属に結合させたシランの保護層を有する表面;及びl不活性化ヒドロキシル基を有する表面。また、本発明は、次のステップを有する、安定な状態でモノクロロシランを保存するための容器を調製する方法である:A入口部及び出口部を有する金属の容器を与えるステップ、ここで上記入口部及び出口部は、単一オリフィスとなることができる;B上記容器の内部表面を、次の群より選択されるプロセスに処理するステップ:a上記内部表面を、粒子状研磨材で機械的研磨するプロセス;b上記内部表面を、電解研磨するプロセス;cシリル化によって有機分子の疎水性防護層を形成するプロセス;dステンレス鋼の内部表面を与えるプロセス;eアルミニウムの内部表面を与えるプロセス;fニッケルの内部表面を与えるプロセス;g上記内部表面を、ポリマーコーティングでコーティングするプロセス;h上記内部表面を、酸化ケイ素コーティングでコーティングするプロセス;i上記内部表面を、上記金属に分子的に結合した結晶性炭素の層でコーティングするプロセス;j上記内部表面と、フッ素を含有する保護流体との接触によって、上記内部表面を、金属フッ化物の層で保護するプロセス;k上記内部表面を、シランへの曝露によって金属に結合させたシランの層で保護するプロセス;l上記内部表面を、上記内部表面上のヒドロキシル基を不活性化することによって保護するプロセス;m上記容器及び上記モノクロロシランを、20°C以下の温度で保持するプロセス;及びa~mの組合せ。純粋な99.5超モノクロロシランMCS、ClSiH3は、低温の窒化ケイ素薄膜堆積に有望な前駆体として知られている。しかし、MCSは、鉄製容器の保存中に、他のクロロシランを上回る速度で分解する。そのような分解は、使用中のMCS純度について大きな変動性をもたらす。例えば、20°Cでの通常の分解速度は、44リットルの鉄製容器中のMCS含量を、1ヶ月当たり約10減少させる。1つの反応生成物ジクロロシラン、DCS、H2SiCl2は、膜の堆積プロセスに特に有害である。反応のモデル化は、MCSの、DCS及びシランSiH4への不均化の速度が、気相中では顕著ではなく、むしろ鉄金属表面での触媒反応からのみで、室温で進むことを明らかにする。この反応機構は、鉄製容器に純度を保持しながら良好に保存することができるSiH4及び他のクロロシランに対して、MCSに固有である。様々な容器の表面修飾が、表面反応を許容水準まで低減させることが判明した。そのような修飾としては、機械的研磨及び/又は電解研磨による表面粗さの低減化;炭素鋼からステンレス鋼への表面組成の変更;表面のOH基を不活性化するための、例えば、トリメチルクロロシランクロロトリメチルシラン、CTMS及び/又はヘキサメチルジシラザンHMDSを用いたシリル化;ポリマー、例えば、エチレンテトラフルオロエチレンETFE、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアリーレンエーテルPAE又はパラレンparaleneを用いた表面コーティング;電解めっき、無電解めっき又は化学気相成長例えば、化学気相成長CVD、プラズマ強化化学気相成長PECVD、原子層堆積ALDによる、例えばニッケル、ダイヤモンドライクカーボン又は酸化ケイ素での表面コーティング;置換リンス液、例えば2-プロパノールを用いるシリンダー調製時の水に曝露する表面の最小化、及びDCS、シラン又はフッ素による表面保護が挙げられる。表面修飾の最も良好な組合せは、2桁の大きさを超えて分解速度を低下させることが分かっており、それにより最終ユーザーまで高純度のMCSを保存及び輸送することを可能とする。クロロシランの分解機構は、よく分かっていない。MCSが、SiH4及び高次のクロロシラン、すなわちDCS及びトリクロロシラン式:Cl3SiH、以下TCSとするより、ずっと高い速度で分解することが知られている。20°Cと0°CでのMCSの分解速度は十分に差があるため、アレニウスの式に速度定数をフィッティングすることによって、分解のための活性化エネルギーEaが、22kcal/モル82kJ/モルであると推算することができる。分解機構は、高温すなわち、450°C超の気相に関係する周知のシリレン中間体、及びケイ素表面の分解反応を経由して進行するものと、周囲温度で又は周囲温度付近で高い速度で起こりうる表面触媒反応を経由して進行するものとに分けられる。シリレン中間体分解機構クロロシランに関するシリレン中間体分解経路は、分子軌道MO計算及び実験の試験によって、他者により調査されている。MCSのDCS生成物及びTCS生成物への分解を、予測し、そして測定した。これらの調査では、シリレン中間体を、一次分解反応で形成すると想定した。これらの反応を、石英反応器の壁に中間体の形成を含むものであると考えた。石英反応器での分解を、周囲温度20°Cより大幅に高い温度でのみ、通常観察した。実際に、報告されている活性化エネルギー観測した反応速度から計算して、通常68kcal/モル程度は十分に高く、このプロセスが、室温で進む見込みはほとんどない。例えば、アレニウスの式からの計算は、25°Cで、これらの反応に関する半減期が4.8×1030日と予測する。さらに、石英反応器での場合と同様に、鉄製容器でのMCSの分解中に、反応生成物のDCSは、観測されなかった。それゆえ、このようなシリレン中間体の機構は、周囲温度付近での鉄製容器中で観測された急速な分解プロセスに関して、重要ではないと見込まれる。表面触媒機構鉄製容器の保存中におけるMCSの分解機構は、SiH4及び他のクロロシラン、例えばDCS及びTCSのものとは異なる。他のクロロシランすなわち、DCS、TCS及び四塩化ケイ素STCは、鉄又はステンレス鋼の容器で、高純度を維持して保存及び輸送する場合に、安定であることが周知である。金属性の容器の表面にさらした場合に、SiH4は分解して、水素H2に加えて高次のシランオリゴマー例えば、ジシランSi2H6、トリシランSi3H8等の混合体を形成する場合がある。しかし、ポリシランオリゴマーが、最終的に表面の反応サイトを被覆する防護膜を形成するので、このSiH4の反応は、自己制限的である、対照的に、MCSの分解は、表面触媒反応による、SiH4及びDCSへの不均化ディスミューテーションdismutationとしても知られるを主に含む。MCSのSiH4及びDCSへの不均化は、ルイス酸例えば、AlCl3の触媒によって、又は塩基、例えば三級アミン又は塩基性のマクロ網状ポリマーによって、大きく加速される場合があるこのような触媒プロセスは、商業的用途に関してSiH4を合成するのに日常的に用いられる。ルイス酸及び塩基は、MCSの安定性を低下させる。通常クロモリchromoly又はCRMO低合金鋼として知られる、大部分の鉄マトリックス中に、主な合金化金属として各1.1未満のCr及びMoを含む炭素鋼鉄鋼の41xx類を、容器材料として用いる場合、次の反応が、その酸化した表面で起こると理論立てられる。ClSiH3FeO→SiH3-O-SiH3FeCl2ClSiH3Fe2O3→SiH3-O-SiH3FeCl3FeCl2及びFeCl3の両方が、非常に影響のあるルイス酸触媒である。鉄の酸化物を欠いた研磨した鉄表面での、塩化第一鉄及び塩化第二鉄の生成は、次のように、水分及び/又は酸素の関与が必要であると理論立てられる。ClSiH3H2O→SiH3-O-SiH3HClFeHCl→FeCl2H2FeCl2O2→FeCl3Fe2O3また、水分及び酸素がなくても、MCS中の微量のHClの不純物が、触媒の塩化鉄を形成する場合がある。ある場合には、微量のHClの不純物は、MCSの合成プロセスの副生成物として、MCSに存在している。ルイス酸触媒は、次の種類の中間錯体を経由させる場合があり、これは、金属中心からの解離の際にMCS分子間でHとClとの交換をもたらすと、さらに理論立てられる。あるいは、段階的な機構で、次のようになる:ClSiH3FeCl3→[H2ClSi][FeHCl3]→H2SiCl2[FeHCl2][FeHCl2]ClSiH3→SiH4FeCl3上記の反応連鎖の計算された活性化エネルギーは、25kcal/モルである。これは、測定値の22kcal/モルに近く、周囲温度20°Cで進む見込みがある反応経路であることを示している。DCSの不均化は、次の通りに進む。2H2SiCl2→H3SiClHSiCl3ケイ素に結合する塩素原子の数が多いほど、分子の安定性は高くなり、且つ不均化の可能性が低くなる。この現象を、複数の因子、例えば置換基の立体効果、分子の極性双極子モーメント、電子密度分布等の組合せによって説明することができる。それゆえ、炭素鋼容器中で観測されるMCSの高い分解速度は、MCSと鉄の金属表面との相互作用を必要とする固有の問題として理解される。これは、このような容器の通常の方法に従って洗浄及び調製されている鉄製容器中では著しい分解をしない他のクロロシランとは異なっている。さらに、SiH4とは異なり、MCSは、鉄製容器中で不均化により分解する。この反応は、オリゴマーの表面コーティングにより形成される本質的な自己制限的なものではない。この問題点の解決には、この反応機構の理解と、反応連鎖を打ち切る適切な手段を必要とする。実験データは、保存中のMCSの分解プロセスが、容器の内部表面状態の有力な関数となることを示す。パラメーターの変動、例えば容器の供給メーカー、容器の表面組成炭素鋼対ステンレス鋼、又はポリマー、酸化ケイ素若しくはニッケルのコーティング等、表面化学特性酸化鉄、塩化鉄、ヒドロキシル基又はOH基等の存在、表面積表面粗さ、容器サイズ及び容器構造による表面対堆積比、露出した粒子境界、容器調製方法酸洗浄及び脱イオン水洗浄、及びホットN2乾燥等、使用前の容器の履歴等の変動は、MCSの分解速度に大きな影響を与える堆積速度に影響を与える他のパラメーターとしては、MCS中の微量の不純物、例えばHCl、H2O、O2等の存在、及び周囲温度が挙げられる。それゆえ、MCSの分解速度を、容器表面の状態を制御することによって、最小化させることができる。材料の選択、表面処理及び表面調製が、表面の状態を制御する主な手段である。例えば、ヒドロキシル基を不活性化する、又は上記の触媒の反応連鎖を除外する表面への修飾は、MCSの分解速度を低下させる傾向にある。一般的に、これらの材料の安定化のための二次的な処理方法は、この混合体を製造する会社によって異なる。使用でき、且つ現在使用されている保護方法としては、多くの異なるシリンダーの酸洗浄、研磨材による研磨技術、無反応性金属コーティング例えば、ニッケル、ポリマーコーティング、ガスクロマトグラフィーのカラムを調整する業界から取り入れた不活性化技術、陽極処理及び興味のある成分による単純なシリンダー前処理すなわち、ピックリングが挙げられる。このような制御方法は、他のクロロシラン又は水素化ケイ素を含む他の材料に対するMCSの分解に、特有に影響を与える。本発明は、次の方法の1つ又は組合せを用いる、MCSの容器の内部表面の修飾からなる。a容器の内部表面の粗さを、機械的研磨プロセスによって低下させる。このような研磨を、ショットブラスト、ガラスビーズブラスト又は好ましくは研磨材スラリーの研磨を用いて行うことができる。研磨材スラリーは、腐食抑制液中の、例えばPrecisionFinishing社より入手可能な液体のChemtrol商標類の1種中の、ステンレス鋼若しくはセラミックの球、土星型ペレット又は他の形状の物体から構成することができる。研磨プロセスの1つの実施態様では、複数ステップのプロセスにおいて、ショットブラストを3回行った後に、セラミックペレットを用いて研磨材スラリーの研磨をし、そしてステンレス鋼の加工したペレットを用いて研磨材スラリーの研磨をする。容器の次の調製ステップを行うまで、腐食抑制液を、容器の内部表面に残す。研磨材スラリー処理を、鉄表面に冷間加工してマクロの粗さを低下させ、そして約1ミクロンのRaの表面仕上げを与える。そのような研磨は、MCSの分解で使用されうる全体の表面積を小さくし、局在している反応サイト、例えば表面の凹凸部及び粒界不連続部を磨いて除去する。磨くことに加えて、そのような研磨処理は、表面領域付近の不活性不純物及び/又は圧縮応力の組合せの効果により、比較的小さな反応性表面も与える。b容器の内部表面の粗さ及び表面組成を、電解研磨プロセスによって修飾する。電解研磨は、鉄の表面に比較的低い炭素の含量を生成する傾向がある。他の事前のステップなしで、例えば機械的研磨をしないで、電解研磨は、鉄の表面のマクロの粗さを低下させて、約2.6ミクロンのRaの表面仕上げを与える。そのような研磨は、MCSの分解で使用されうる全体の表面積を小さくする。電解研磨を、機械的研磨の後に行う場合、Ra表面粗さは、約0.2ミクロンの低い値に達する場合がある。c上記の分解機構に基づいて、MCSの分解速度を、MCS又はHClと鉄の接触を防ぐ有機分子の疎水性防護層の形成によって、低下させることができる。この効果は、ある種のモノクロロ有機シラン、例えばジメチルクロロシラン、トリメチルクロロシランクロロトリメチルシラン、CTMS及びヘキサメチルジシラザンHMDSを用いるシリル化表面処理によって得られる。他の有機クロロシラン、例えば、オクタデシルトリクロロシラン等も、強い疎水性表面を与えるのに有用である。d容器の内部表面の材料組成を、炭素鋼からステンレス鋼、アルミニウム又はニッケルに変更する。これは、ステンレス鋼、アルミニウム若しくはニッケルの筒から容器を製造すること、あるいはステンレス鋼、アルミニウム若しくはニッケルを容器に成形すること、又は溶接したステンレス鋼若しくはアルミニウムの容器を用いることによって、達成することができる。二次的な外側シースの使用により強化した圧力封止部pressureenvelopeを備えている、ステンレス鋼、アルミニウム又はニッケルの内部クラッド容器を、用いることもできる。そのようなシースとしては、複合材の容器を製造するための、炭素繊維、アラミド繊維又はガラス繊維の包装が挙げられる。クラッド容器を、異なる金属薄板を爆着した後にそれらを容器に形成することによって製造することもできる。また、共押出しによって作られた内部クラッド管を、適切な圧力容器、すなわちMCSを圧力下で適切に収容する容器に形成することもできる。e容器の内部表面を、ポリマー、例えばエチレン-テトラフルオロエチレンコポリマーETFE、例えばテフゼル商標、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアリーレンエーテルPAE又はポリパラキシレン例えば、パラレンでコーティングする。そのような内部コーティングは、溶媒型溶液solvent-bornesolution又はポリマー分散体として、粉体ポリマーのロトモールドによって、化学気相成長によって、また本分野で知られた他の方法によって、適用することができる。内部容器表面への接着性を改良する随意の接着層を使用することもできる。このようなポリマーは、MCSと鉄表面との間に物理的障壁を形成する。活性ヒドロキシル基を有するポリマーは、後に、上述したようなシリル化表面処理によって、不活性化させる。f容器の内部表面を、非鉄金属、例えばニッケルによるコーティングによって、組成について変化させる。ニッケルは、無電解コーティングプロセス、又は電解めっきプロセスによって適用することができる。コーティングは、実質的に純粋な金属とすることができ、又は他の金属若しくは半金族との合金とすることができる。例えば、好ましい実施態様としては、NiPアモルファス合金の無電解堆積が挙げられる。この材料の変化は、MCSの分解に寄与する酸化鉄及び塩化鉄の存在を除外する。g容器の内部表面を、化学気相成長CVDプロセスによって、コーティングして、その金属に分子的に結合した酸化ケイ素又はダイヤモンドライクカーボンの層を生成させる。このプロセスは、SilcoTek社により与えられるSilconert商標処理から構成することができ、耐熱鋼、例えばステンレス鋼に通常適用される高温の酸化ケイ素堆積プロセスである。金属からケイ素への結合プロセスに続いて、任意のクロロシランを用いる表面保護プロセスを行うことができる。代替の堆積プロセスとしては、プラズマ強化化学気相成長PECVD及び原子層堆積ALD、膜堆積の分野で周知の全てのものが挙げられる。h容器の内部表面を、フッ素F2を用いて保護して、金属フッ化物層を生成させる。不活性ガス、例えばN2への希釈混合体、例えば5の希釈混合体中で、F2を金属表面に適用する。フッ素化プロセスを、選択した時間で、周囲温度で適用する。i容器の内部表面を、ピックリングする、又はクロロシラン若しくは水素化ケイ素、例えばSiH4、MCS又はDCSに曝露することによって保護する。この曝露は、好ましくは高温で、例えば55°Cで、選択した期間、例えば1ヶ月間行う。そのような処理は、容器表面のヒドロキシル基を不活性化する有利な効果、及びSiH4保護の場合には上述したような、MCSに非反応性である表面膜を与える有利な効果を有する。本発明は、上記の表面修飾ステップの前に又は後に行う、次のような表面調製ステップをさらに構成する:容器の内部表面を、周囲温度に維持して、非水系の液体、例えばイソプロピルアルコールIPAを用いて、複数回リンスした後、不活性ガス、例えばN2でのパージを用いて容器を乾燥させ、そして選択した期間、高温に保持する。好ましくは、3回のIPAリンスを容器に行う。そして、容器に蓋をして又は容器のバルブを使って、周囲の湿分又は他の不純物へのさらなる曝露を最小化させる。このような改良は、44リットルの容器で、周囲温度20°Cで1ヶ月当たり0.1未満に、MCSの分解速度を低下させる。これは、2桁の大きさを超える改良である。本発明は、MCSの保存の間に、20°C付近又はそれ未満の温度で、充填した容器を維持することを、さらに構成する。好ましくは、容器を、周知の冷却方法によって0°Cで維持する。低温の保存は、上述した表面修飾ステップ及び表面調製ステップと組み合わせて、保存中のMCSの分解を最小化させる。そのような低下させた温度Tでの保存は、MCSの分解プロセスの反応速度を、次のアレニウスの反応速度式によって説明される様式で、低下させる:k=Aexp{-Ea/RT]ここで、kは反応速度定数であり、Aは反応動力学によって決められる頻度因子pre-exponentialfactorであり、且つRは普遍気体定数である。10°C未満への保存温度の低下は、44リットルの容器で、1ヶ月当たり0.01未満に、分解速度を、さらに低下させることができる。これは、3桁の大きさを超える改良である。それゆえ、本発明は、図に記載した次のようなステップを有する:MCS容器1を、表面修飾及び/又は表面調製を含む1以上のプロセスを用いて修飾し2、続いて容器をMCSで充填し3、続いて容器の温度制御をしながら4、容器中のMCSの保存及び輸送をし5、続いて安定且つ高純度のMCSを容器から取り出す6。本明細書に記載した表面修飾、表面調製ステップ及び温度変更は、保存容器に限定されず、その有効期間にMCSと接触するあらゆる表面、例えば限定されないが、反応容器、移送ライン、堆積チャンバー、様々なインライン要素例えば、バルブ、流量計、圧力センサー等に適用することができる。本発明のそのような用途は、MCSの純度をさらに維持し、そしてその合成時から使用場所までのMCSの安定性、及び適用可能であればその回収性及び再利用性を改良する。例110個の炭素鋼ガス容器を用いて、約20°Cの周囲温度で、MCSを保存した。容器は、44リットルの内部容積を有していた。全ての容器に液相及び気相の両方のMCSを保存した。容器は、内部表面状態に修飾を有しておらず、又は本発明に関して記載した種類の表面調製法もなかった。容器のMCSの保存期間は、6日~80日の範囲であった。気相のMCSの純度を、熱伝導度型検出器を備えたガスクロマトグラフを用いて、各容器から測定した。各容器に関して、保存期間の初期、及び保存プロセス中の様々な時に、測定を行った。MCSに関する分解による喪失の、全ての容器間での平均の測定された速度は、1ヶ月当たり7.2であった。このMCSは、反応生成物のSiH4及びDCSに転化されていた。これは、これらの容器に関して、分解のおおよその基準速度が、本発明の利益を有していないことを示している。2つの他の炭素鋼容器を用いて、約20°Cの同じ周囲温度で、MCSを保存した。これらの容器も、44リットルの内部容積を有していた。容器に液相及び気相の両方のMCSを保存した。これらの2つの容器は、MCSの保存の前に、本発明の方法による、腐食抑制剤を含むスラリーを用いて機械的に研磨した内部表面を有していた。容器間の保存期間は、37日及び15日であった。気相のMCSの純度を、熱伝導度型検出器を備えたガスクロマトグラフを用いて、各容器から測定した。各容器に関して保存期間の初期、及び保存プロセス中の様々な時に、測定を行った。分解によるMCSの喪失の、2つの容器に関して測定された速度は、それぞれ1ヶ月当たり0.025及び0であった。例22つの炭素鋼容器を用いて、約20°Cの同じ周囲温度で、MCSを保存した。これらの容器も、44リットルの内部容積を有していた。容器に液相及び気相の両方のMCSを保存した。これらの2つの容器は、MCSの保存の前に、本発明の方法による、腐食抑制剤を含む研磨材スラリーを用いて機械的に研磨した内部表面を有しており、そして本発明の方法による、CTMSを用いてシリル化した内部表面を有していた。MCSの保存期間は、各容器で15日であった。気相のMCSの純度を、熱伝導度型検出器を備えたガスクロマトグラフを用いて、各容器から測定した。各容器に関して保存期間の初期、及び保存プロセス中の様々な時に、測定を行った。分解によるMCSの喪失の、2つの容器に関して測定された速度は、両方の容器に関して1ヶ月当たり0であった。例3炭素鋼容器を用いて、約20°Cの同じ周囲温度で、MCSを保存した。この容器も、44リットルの内部容積を有していた。容器に液相及び気相の両方のMCSを保存した。この容器は、MCSの保存の前に、本発明の無電解コーティングの方法を用いてニッケルでコーティングした内部表面を有しており、そして本発明の方法によるシリル化した内部表面を有していた。MCSの保存期間は、40日であった。気相のMCSの純度を、熱伝導度型検出器を備えたガスクロマトグラフを用いて、容器から測定した。容器に関して保存期間の初期、及び保存プロセス中の様々な時に、測定を行った。分解によるMCSの喪失の、その容器に関して測定された速度は、1ヶ月当たり0であった。例419個の炭素鋼ガス容器を用いて、MCSを保存した。これらの容器は、内部表面状態に修飾を有しておらず、又は本発明に関して記載した種類の表面調製法もなかったが、約0°Cの低下させた周囲温度で維持した。これらの容器も、44リットルの内部容積を有していた。容器に液相及び気相の両方のMCSを保存した。MCSの保存期間は、容器間で18日~53日の範囲とした。気相のMCSの純度を、熱伝導度型検出器を備えたガスクロマトグラフを用いて、各容器から測定した。各容器に関して、保存期間の初期、及び保存プロセス中の様々な時に、測定を行った。分解によるMCSの喪失の、全ての容器の間での平均の測定された速度は、1ヶ月当たり0.44であった。例5炭素鋼ガス容器を用いて、約20°Cの周囲温度で、MCSを保存した。この小さな容器は、通常、レクチャーボトルlecturebottleといわれる種類のものであった。この試験では、気相のMCSのみを、レクチャーボトルに保存した。レクチャーボトルは、内部表面状態に修飾を有しておらず、又は本発明に関して記載した種類の表面調製法もなかった。このレクチャーボトルに関して、MCSの保存期間は、40日であった。気相のMCSの純度を、熱伝導度型検出器を備えたガスクロマトグラフを用いて、レクチャーボトルから測定した。保存期間の初期、及び保存プロセス中の様々な時に、測定を行った。MCSに関する分解による喪失の、このレクチャーボトルに対して測定された速度は、1ヶ月当たり20であった。このMCSは、反応生成物のSiH4及びDCSに転化されていた。これは、レクチャーボトルに関して、分解のおおよその基準速度が、本発明の利益を有していないことを示している。異なる炭素鋼のレクチャーボトルを用いて、約20°Cの同じ周囲温度で、MCSを保存した。このレクチャーボトルは、MCSの保存の前に、本発明によるSilconert商標CVDプロセスを用いて酸化ケイ素でコーティングした内部表面を有していた。このコーティングしたレクチャーボトルに関して、MCSの保存期間は、45日であった。気相のMCSの純度を、熱伝導度型検出器を備えたガスクロマトグラフを用いて、そのコーティングしたレクチャーボトルから測定した。保存期間の初期、及び保存プロセス中の様々な時に、測定を行った。分解によるMCSの喪失の、そのコーティングしたレクチャーボトルに関して測定された速度は、1ヶ月当たり0。6であった。例6ステンレス鋼のガス容器を用いて、約20°Cの周囲温度で、MCSを保存した。その容器は、3.8リットルの内部容積を有していた。容器に液相及び気相の両方のMCSを保存した。その容器は、MCSの保存の前に、本発明による、研磨材スラリーを用いた研磨がされ、電解研磨がされ、且つSilconert商標CVDプロセスを用いた酸化ケイ素でのコーティングがされた、内部表面を有していた。MCSの保存期間は、レクチャーボトルに関して、50日であった。気相のMCSの純度を、熱伝導度型検出器を備えたガスクロマトグラフを用いて、その容器から測定した。保存期間の初期、及び保存プロセス中の様々な時に、測定を行った。分解によるMCSの喪失の、その容器に関して測定された速度は、1ヶ月当たり0.015であった。例73つのステンレス鋼のガス容器を用いて、約20°Cの周囲温度で、MCSを保存した。それらの容器は、3.8リットルの内部容積を有していた。容器に液相及び気相の両方のMCSを保存した。その容器は、MCSの保存の前に、本発明による、研磨材スラリーを用いる研磨がされ、且つ電解研磨がされた内部表面を有していた。MCSの平均の保存期間は、それらの容器に関して、52日であった。気相のMCSの純度を、熱伝導度型検出器を備えたガスクロマトグラフを用いて、容器から測定した。保存期間の初期、及び保存プロセス中の様々な時に、測定を行った。分解によるMCSの喪失の、それらの容器に関して測定された平均の速度は、1ヶ月当たり0.045であった。例8ステンレス鋼のガス容器を用いて、約20°Cの周囲温度で、MCSを保存した。その容器は、3.8リットルの内部容積を有していた。容器に液相及び気相の両方のMCSを保存した。その容器は、MCSの保存の前に、本発明による、研磨材スラリーを用いる研磨がされ、電解研磨がされ、且つCTMSを用いてシリル化された内部表面を有していた。MCSの保存期間は、その容器に関して、53日であった。気相のMCSの純度を、熱伝導度型検出器を備えたガスクロマトグラフを用いて、その容器から測定した。保存期間の初期、及び保存プロセス中の様々な時に、測定を行った。分解によるMCSの喪失の、その容器に関して測定された速度は、1ヶ月当たり0.045であった。