電子顕微鏡像の複数の領域それぞれについてフーリエ変換を行なうことによりフーリエ像を生成し、前記フーリエ像の角度に対する強度を演算し、前記強度に基づいて、前記電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分析することを特徴とする結晶粒方位の分析方法。前記結晶性ドメインの分析は、多変量カーブ分解法を用いることを特徴とする請求項1に記載の分析方法。前記フーリエ像の所定角度範囲内に含まれる前記フーリエ像の強度を積算し、前記角度に対する前記強度の分布を生成し、前記分布に基づいて、前記電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分析することを特徴とする請求項1または2記載の結晶粒方位の分析方法。前記結晶性ドメインの分析は、多変量カーブ分解法を用い、前記電子顕微鏡像内の前記複数の領域の位置にそれぞれ対応する前記分布から、主成分を抽出し、前記抽出された主成分に対する前記複数の領域の位置における濃度を算出し、前記複数の領域の位置のうち特定の主成分に対する濃度が所定値より高い位置を、同じドメインと分類することを特徴とする請求項3記載の結晶粒方位の分析方法。電子顕微鏡像が入力される入力部と、前記電子顕微鏡像の複数の領域それぞれについてフーリエ変換を行なうことによりフーリエ像を生成し、前記フーリエ像の角度に対する強度を演算する演算部と、前記強度に基づいて、前記電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分析する分析部と、を具備することを特徴とする結晶粒方位の分析装置。前記分析部は、多変量カーブ分解法を用いて前記電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分類分けする多変量解析部を含むことを特徴とする請求項5に記載の結晶粒方位の分析装置。多結晶を形成する結晶性ドメインがナノサイズまで微細化すると、ナノサイズの空間分解能が求められる。汎用X線装置による測定では、空間分解能が足りない。ナノサイズのドメインの分析には、電子顕微鏡を用いる方法が有力である。しかしながら、EBSPでは、像のノイズが高いこと、方位決定のアルゴリズムが複雑であることに加え、空間分解能も数十nmであり、要求される空間分解能に一桁足りない。透過型電子顕微鏡は、空間分解能は十分であるものの、ドメインを特定するためには、出現している回折スポットに対して暗視野像を測定することとなる。いずれの方法についても、自動的に結晶性ドメインの分析を行なうことはできない。本結晶粒方位の分析方法および結晶粒方位の分析装置は、結晶性ドメインを自動的に分析することを目的とする。例えば、電子顕微鏡像の複数の領域それぞれについてフーリエ変換を行なうことによりフーリエ像を生成し、前記フーリエ像の角度に対する強度を演算し、前記強度に基づいて、前記電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分析することを特徴とする結晶粒方位の分析方法を用いる。例えば、電子顕微鏡像が入力される入力部と、前記電子顕微鏡像の複数の領域それぞれについてフーリエ変換を行なうことによりフーリエ像を生成し、前記フーリエ像の角度に対する強度を演算する演算部と、前記強度に基づいて、前記電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分析する分析部と、を具備することを特徴とする結晶粒方位の分析装置を用いる。本結晶粒方位の分析方法および結晶粒方位の分析装置によれば、結晶性ドメインを自動的に分析することができる。図面を参照に、実施例について説明する。図1は、透過型電子顕微鏡の模式図である。図1のように、透過型電子顕微鏡20は、チャンバ21、電子銃22、集束レンズ23、対物レンズ24、投影レンズ26および検出器27を備えている。電子銃22から出射された電子ビーム28は、集束レンズ23、対物レンズ24を介し試料25に焦点を結ぶ。試料25を透過した電子ビーム28は、投影レンズ26を介し検出器27に至る。検出器27により、電子顕微鏡像が生成される。電子顕微鏡像はコンピュータ10に出力される。透過型電子顕微鏡20としては、例えば高分解能透過型電子顕微鏡HRTEMまたは高分解能走査透過型電子顕微鏡STEMを用いることができる。透過型電子顕微鏡としては、原子分解能像が得られる程度の高分解能電子顕微鏡であることが好ましい。図2は、実施例1に係る結晶粒方位の分析装置として機能するコンピュータのブロック図である。コンピュータ10は、CPUCentralProcessingUnit11、表示装置12、入力装置13、出力装置14、主記憶装置15、ハードディスクドライブHDD16、記憶媒体用ドライブ17、通信インターフェース18および内部バス19を備えている。表示装置12は、例えば液晶パネル等の表示パネルを含み、処理結果等を表示する。入力装置13は、例えばキーボード、マウスおよびタッチパネル等であり、処理データ等を入力する。出力装置14は、例えばプリンタであり、処理結果等を出力する。主記憶装置15は、例えばDRAMDynamicRandomAccessMemory等の揮発性メモリであり、処理中のデータを記憶する。HDD16は、例えば電子顕微鏡像データ、処理中または処理後のデータを記憶する。記憶媒体用ドライブ17は、記憶媒体40に格納されたプログラムをインストールする際に用いる。または、処理後のデータを記憶媒体40に記憶させる。通信インターフェース18は、電子顕微鏡20から電子顕微鏡像データを取得する。内部バス19は、コンピュータ10内の各装置を接続する。プログラムを格納するコンピュータ10が読み取り可能な記憶媒体40として可搬型記憶媒体を用いることができる。可搬型記憶媒体としては、例えば、CD-ROMCompactDiscReadOnlyMemoryディスク、DVDDigitalVideoDiscディスク、ブルーレイディスクまたはUSBUniversalSerialBusメモリ等を用いることができる。記憶媒体40として、フラッシュメモリまたはHDD等を用いてもよい。図3は、実施例1に係る結晶粒方位の分析装置の機能ブロック図である。コンピュータ10は、図2に図示した各部材とソフトウエアとの協働により図3のように機能する。入力部30には、電子顕微鏡20から電子顕微鏡像が入力される。演算部32は、電子顕微鏡像の複数の領域それぞれについてフーリエ変換を行なうことにより、フーリエ像を生成し、フーリエ像の角度に対する強度を演算する。分析部38は、フーリエ像の強度に基づいて、電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分析する。分析部38は、さらに、多変量解析部36を含む。多変量解析部36は、多変量カーブ分解法を用いて電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分類する。図4は、実施例1に係る結晶粒方位の分析方法を示すフローチャートである。図5aから図6bは、実施例1におけるデータ処理を示す模式図である。図4のように、入力部30は、電子顕微鏡20から電子顕微鏡像50の2次元データを取得するステップS10。図5aは電子顕微鏡像50の2次元画像を示している。図5aを参照し、電子顕微鏡像50のXおよびYのサイズは、例えば40nm×40nmであり、原子の配列に対応する像が撮像されている。次に、図4のように、演算部32は、電子顕微鏡像50から第1像52を切り出すステップS12。図5aのように、例えば、電子顕微鏡像50のうち3nm×3nmの範囲を第1像52として切り出す。電子顕微鏡像50のうち例えば左上の第1像52aの中心位置座標をX1、Y1とし、第1像52aを切り出す。次に、図4のように、演算部32は、窓関数を演算するステップS14。図5bのように、第1像52aに窓関数を掛ける演算を行なう。これにより、窓関数を掛けた第1像54aが生成される。窓関数は、フーリエ変換した後の像のシグナル-ノイズ比を高めるために用いるものである。ステップS14は行なわなくともよい。次に、図4のように、演算部32は、第1像54をフーリエ変換することにより、フーリエ像である第2像56を生成するステップS16。図5cのように、窓関数を掛けた第1像54aをフーリエ変換することにより第2像56aが得られる。第2像56a中に出現するスポット53は、結晶性ドメインの特定の面方位に起因する。よって、同じドメインに含まれている第2像56は、同じパターンとなる。また、同じ結晶面であっても角度が異なるドメインに含まれる第2像56同士は、スポット53の位置が回転して現れる。次に、図4のように、演算部32は、第2像56から角度に対する強度の分布を生成するステップS18。図6aのように、第2像56aの中心55を中心に一定角度θi例えば6°の範囲に含まれる第2像56の強度の積算を、-90°から90°まで、一定角度θi間隔で求める。ここで、例えば、-Y方向を-90°、Y方向を90°、X方向を0°とする。一定角度θiは、例えば1°等、任意に定めることができる。図6bは、-90°から90°までの角度に対する強度のヒストグラムである。なお、図6bのヒストグラムは例であり、図6aの第2像56aから作成したヒストグラムではない。第2像56内にスポット53のある角度において強度が強くなる。このように、角度に対する強度の分布として、角度に対する強度のヒストグラムを生成する。例えば、第1像52が非晶質の領域の場合、第2像56に強いスポット53が出現しないため、ヒストグラムにはピークが出現しない。第1像52が結晶の領域の場合、第2像56には、面方位特有のスポット53が出現する。よって、ヒストグラムには特定角度においてピークが出現する。次に、図4のように、演算部32は、第1像52aの位置座標X1、Y1と角度と強度の分布を主記憶装置15またはHDD16に記憶させるステップS20。次に、CPU11は、最後の第1像52かを判断するステップS22。Noの場合、第1像52をインクリメントするステップS24。ステップS12に戻る。例えば、図5aにおいて、所定寸法例えば1ピクセルX方向にシフトさせた位置座標がX2、Y1の第1像52bを次の第1像52とする。このように、所定寸法X方向にシフトさせがら第1像52に対応するヒストグラム58を生成する。電子顕微鏡像50の右端の第1像52のヒストグラムを生成した後、第1像52aからY方向に所定寸法例えば1ピクセルシフトさせた位置座標がX1、Y2の第1像52cからヒストグラムを生成する。このようにして、電子顕微鏡像50全体から複数の第1像52を切り出し、第1像52の位置座標に対応したヒストグラムを生成する。図5aにおいて、電子顕微鏡像50の右下の位置座標がXn、Ymの第1像52dを切り出し、ヒストグラムを生成した後、図4のステップS22において、CPU11はYesと判定する。次に、分析部38は、結晶性ドメインの分析を行なうステップS26。実施例1においては、演算部32は、図5aのように、隣接する第1像52が重なるように第1像52を切り取っているが、隣接する第1像52が重ならないように第1像52を切り取ってもよい。しかしながら、精度のよいドメインの分類を行なうためには、隣接する第1像52は重なっていることが好ましい。また、演算部32は、電子顕微鏡像50から任意の第1像52を切り出してもよい。例えば、電子顕微鏡像50のうち、原子配列が観察できる領域を第1像52として切り出してもよい。電子顕微鏡像50のうち、原子配列が観察できない領域を第1像52として切り出さなくてもよい。図7aから図7cは、実施例1において生成されたヒストグラムのデータの例を示す図である。図7aのように、第1像52の位置座標に対応し、角度に対する強度のヒストグラム58が4次元行列データとして生成される。例えば、図7bは、図7aの位置座標X1、Y1におけるヒストグラム58である。図7cは、図7aの位置座標X2、Y1におけるヒストグラム58である。このように、第1像52の個数に対応する数のヒストグラム58が4次元行列データとして、主記憶装置15またはHDD16に格納されている。実施例1では、多変量カーブ分解法を用い、ドメインを分類する方法を説明する。2次元位置座標に対して、ラマンスペクトルを多変量カーブ分解法を用い解析する方法は非特許文献2に記載されている。図8は、多変量解析部が行なう処理を示すフローチャートである。図8のように、分析部38に含まれる多変量解析部36は、1または複数の主成分を抽出するステップS30。次に、多変量解析部36は、各位置座標の濃度分布を算出するステップS32。多変量解析部36は、各位置座標の濃度分布からドメインの分類を行なうステップS34。実施例1では、図7aに示したデータのうち、第1像52の位置座標に対して、分布例えばヒストグラムを非特許文献2と同様の多変量カーブ分解法を用い結晶性ドメインの分類を行なう。図9は、図7の多次元行列データのうち2次元位置座標を1次元に配列した図である。図9のように、2次元座標X1、Y1、...、X1、Y2、...Xn、Ymを1次元座標1、...、n1、...、n×mに変換する。1次元位置座標に対応し、各ヒストグラムデータが関連付けられた行列データDとなる。ここで、主成分行列Sと濃度分布行列Cとを用い、データD=CSTとする。主成分は、抽出されたヒストグラムの主成分である。濃度は、各位置データにおける主成分の割合である。例えば、ドメインDAに対応する主成分PAとドメインDBに対応する主成分PBが抽出された場合を考える。例えば、座標1のヒストグラムが、主成分PAが80、主成分PBが20の場合、座標1のヒストグラムは主成分PAのヒストグラム×0.8主成分PBのヒストグラム×0.2で表される。図8のステップS30においては、多変量解析部36は、行列データDから1または複数の主成分を抽出する。次に、ステップS32において、多変量解析部36は各位置座標の濃度分布行列Cを算出する。図9の1次元座標を元の2次元位置座標に戻し、主成分毎に各位置座標に対する濃度の2次元画像を得る。図10aおよび図10bは、主成分毎の濃度の2次元画像の例である。図10aは、主成分PAの2次元画像60aである。位置座標X、Yは、図5aの電子顕微鏡像50の位置座標に対応する。図10a中の領域62は、主成分PAの濃度が所定値より高い領域である。この領域62は、主に主成分PAのヒストグラムを得ることができる領域である。同様に、図10bは、主成分PBの2次元画像60bである。図10b中の領域64は、主成分PBの濃度が所定値より高い領域である。この領域64は、主に主成分PBのヒストグラムを得ることができる領域である。図11は、電子顕微鏡像50に、図10aの領域62と図10bの領域64を重ねた図である。図8のステップS34において、図11のように、電子顕微鏡像50のうち領域62は、主成分PAのヒストグラムが得られるドメインDAである。電子顕微鏡像50のうち領域64は、主成分PBのヒストグラムが得られるドメインDBである。このようにして、電子顕微鏡像50内のドメインDAとDBとを分類することができる。実施例1によれば、図4のステップS12およびS16のように、電子顕微鏡像50の複数の領域それぞれについてフーリエ変換を行なうことによりフーリエ像例えば第2像56を生成する。ステップS18のように、第2像56の角度に対する強度を演算する。ステップS26のように、強度に基づいて、電子顕微鏡像50内の結晶性ドメインを分析する。第2像56の角度に対する強度は、第1像52が同じドメイン内であれば同じとなる。よって、フーリエ変換した第2像56の角度を用いてドメインを分析することにより、多結晶試料等の結晶性ドメインを自動的に分析することができる。また、結晶性ドメインの分析方法として、実施例1のように例えば多変量カーブ分解法を用いることができる。多変量カーブ分解法以外の多変量解析法を用いてもよい。さらに、図6aおよび図6bのように、第2像56の所定角度範囲θi内に含まれる第2像56の強度を積算し、角度に対する強度の分布を生成する。図4のステップS26において、この分布に基づいて、電子顕微鏡像50内の結晶性ドメインを分析する。このように、角度に対する強度の分布を用いることにより、簡単に、ドメインの分析を行なうことができる。さらに、多変量カーブ分解法を用いる場合、図8のステップS30のように、電子顕微鏡像50内の複数の領域の位置にそれぞれ対応する分布から、主成分を抽出する。ステップS32のように、抽出された主成分に対する各位置の濃度を算出する。図11のように、特定の主成分に対する濃度が所定値より高い位置を、同じドメインと分類する。このようにして、結晶性ドメインの分類を行なうことができる。なお、図6bの例のように、角度に対する強度の分布は、角度範囲が180度の分布であればよい。第2像56は、点対称の像となるためである。さらに、対称性の高い結晶については、角度範囲が狭くともよい。また、実施例1においては、角度に対する強度の分布としてヒストグラムを例に説明したが、ヒストグラム以外にも、分布を表現するものであればよい。実施例2は、実施例1の具体例である。図12は、実施例2の電子顕微鏡像である。図12の電子顕微鏡像50は、多結晶試料をSTEM法を用い観察した像である。図13は、実施例2の第2像の例を示す像である。図13の第2像A~Hは、それぞれ図12の電子顕微鏡像50から切り出した各第1像A~Hをフーリエ変換することにより生成された第2像A~Hである。図13のように、第2像A~Hはそれぞれ異なるパターンを示している。図14は、実施例2の主成分の濃度分布の2次元画像を示す図である。図12の電子顕微鏡像50について、実施例1の方法を用い、16個の主成分を抽出した。図14の各画像は、各主成分P1~P16の2次元画像60である。なお、図14は、出力したカラー画像を白黒画像として図示しているため、必ずしも画像の濃淡と濃度とは対応しない。例えば、図14のP1~P4、P6の領域70は、濃度が所定値より高い領域を示している。また、主成分P1~P16のうち、主成分P7、P10およびP14は、図6bのようなヒストグラムにおいて強いピークは出現しなかった。よって、主成分P7、P10およびP14は、非晶質領域の主成分であることがわかる。図15は、実施例2の電子顕微鏡像中の分類したドメインを示す図である。図14の主成分P1~P4、P6内の濃度の高い領域70を、電子顕微鏡像50に重ねて表示した。主成分P1~P4およびP6に対応する領域70はそれぞれ1つの結晶性ドメインを形成している。これらの結晶性ドメインは、同様の格子縞が形成されているが、格子縞の角度が異なるドメインであることがわかる。実施例2のように、実際の電子顕微鏡像を用い、結晶性ドメインの分類を自動で行なうことができる。以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形変更が可能である。実施例1~2を含む実施形態に関し、さらに以下の付記を開示する。付記1:電子顕微鏡像の複数の領域それぞれについてフーリエ変換を行なうことによりフーリエ像を生成し、前記フーリエ像の角度に対する強度を演算し、前記強度に基づいて、前記電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分析することを特徴とする結晶粒方位の分析方法。付記2:前記結晶性ドメインの分析は、多変量カーブ分解法を用いることを特徴とする付記1に記載の分析方法。付記3:前記フーリエ像の所定角度範囲内に含まれる前記フーリエ像の強度を積算し、前記角度に対する前記強度の分布を生成し、前記分布に基づいて、前記電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分析することを特徴とする付記1または2記載の結晶粒方位の分析方法。付記4:前記結晶性ドメインの分析は、多変量カーブ分解法を用い、前記電子顕微鏡像内の前記複数の領域の位置にそれぞれ対応する前記分布から、主成分を抽出し、前記抽出された主成分に対する前記複数の領域の位置における濃度を算出し、前記複数の領域の位置のうち特定の主成分に対する濃度が所定値より高い位置を、同じドメインと分類することを特徴とする付記3記載の結晶粒方位の分析方法。付記5:前記角度は、前記フーリエ像の中心を中心とする角度であることを特徴とする付記3または4記載の結晶粒方位の分析方法。付記6:前記分布は、前記角度の範囲が180度であることを特徴等する付記5記載の結晶粒方位の分析方法。付記7:前記分布は、前記角度に対する前記強度のヒストグラムであることを特徴とする付記3から6のいずれか一項に記載の結晶粒方位の分析方法。付記8:電子顕微鏡像が入力される入力部と、前記電子顕微鏡像の複数の領域それぞれについてフーリエ変換を行なうことによりフーリエ像を生成し、前記フーリエ像の角度に対する強度を演算する演算部と、前記強度に基づいて、前記電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分析する分析部と、を具備することを特徴とする結晶粒方位の分析装置。付記9:前記分析部は、多変量カーブ分解法を用いて前記電子顕微鏡像内の結晶性ドメインを分類分けする多変量解析部を含むことを特徴とする付記8に記載の結晶粒方位の分析装置。