"ガラス基板をイオン化させる第1ステップ;イオン化された前記ガラス基板を誘電加熱する第2ステップ;及び、前記ガラス基板を冷却させる第3ステップ;を含むことを特徴とする強化ガラス製造方法。前記第1ステップでは、前記ガラス基板内のアルカリ酸化物をイオン化させることを特徴とする、請求項1記載の強化ガラス製造方法。前記第1ステップでは、前記ガラス基板にイオナイジングラディエーションIonizingRadiationを照射して前記ガラス基板をイオン化させることを特徴とする、請求項1記載の強化ガラス製造方法。前記イオナイジングラディエーションは、UV、x-ray及びγ-rayのうち少なくとも一つであることを特徴とする、請求項3記載の強化ガラス製造方法。前記誘電加熱は、前記ガラス基板の内部温度を表面温度よりも上昇させるために前記ガラス基板を高周波誘電加熱することを特徴とする、請求項1記載の強化ガラス製造方法。前記ガラス基板を空中浮揚した状態で移送しつつ、前記第1ステップないし第3ステップのうちの少なくとも一つのステップを行うことを特徴とする、請求項1記載の強化ガラス製造方法。ガラス基板をイオン化させるイオナイザーionizer;前記イオナイザーionizerによってイオン化された前記ガラス基板を誘電加熱する誘電加熱部;及び、前記ガラス基板を冷却させる冷却部;を含むことを特徴とする強化ガラス製造装置。前記イオナイザーは、前記ガラス基板のアルカリ酸化物をイオン化させることを特徴とする、請求項7記載の強化ガラス製造装置。前記イオナイザーは、イオナイジングラディエーションIoninzingRadiationを前記ガラス基板に照射して前記ガラス基板をイオン化させることを特徴とする、請求項7記載の強化ガラス製造装置。前記イオナイジングラディエーションは、UV、x-ray及びγ-rayのうち少なくともいずれか一つであることを特徴とする、請求項9記載のガラス製造装置。前記誘電加熱部は、前記ガラス基板の内部温度を表面温度よりも上昇させるために前記ガラス基板を高周波誘電加熱することを特徴とする、請求項7記載の強化ガラス製造装置。前記強化ガラス製造装置は、前記ガラス基板を移送する移送部をさらに含み、前記移送部は、前記ガラス基板を空中浮揚させる基板浮揚部;を含むことを特徴とする、請求項7記載の強化ガラス製造装置。本発明は、前記のような問題点を解決しようとするために提案されたものであり、本発明の目的は、ガラス基板の内外部の温度差を最大に大きくして、急冷却を通じて強化がより完全になされるようにする強化ガラスの製造装置及び方法を提供することである。本発明の他の目的は、強化ガラスの製造時間と生産効率を高めることができる強化ガラスの製造装置及び方法を提供することである。前記のような目的を達成するために、本発明の一様相に係る強化ガラス製造装置は、強化させようとするガラス基板を移送する移送部と、移送部によって移送されるガラス基板にエネルギーを放射してガラス基板のアルカリ酸化物をイオン化させるイオナイザーionizerと、イオナイザーionizerによってアルカリ酸化物がイオン化されたガラス基板の内部温度を上昇させる誘電加熱部とを含む。本発明の付加的な様相に係る強化ガラス製造装置は、移送部が空気を利用してガラス基板を空中浮揚させる基板浮揚部を含むことを特徴とする。前記のような構成によれば、本発明の強化ガラス製造装置は、ガラス基板にエネルギーを放射してガラス基板のアルカリ酸化物をイオン化させるイオナイザーionizerと、イオナイザーionizerによってアルカリ酸化物がイオン化されたガラス基板の内部温度を上昇させる誘電加熱部とを含んで具現されることにより、ガラス基板に一定波長のエネルギーを照射してガラス基板内に非架橋酸素NonBridgingOxygenと自由電子を生成し、こうした自由電子がガラス基板内の高周波吸収率を増加させてガラス基板の内外部の温度差を最大に大きくすることができる有用な効果がある。また、本発明に係る強化ガラス製造装置は、イオナイザーionizerと誘電加熱部を含んで具現されることにより、ガラスの高周波吸収度向上を通じたガラスの昇温時間を短縮させることで、強化ガラスの製造時間と生産効率を高めることができる有用な効果がある。以下、添付された図面を参照しつつ前述した、そして追加的な様相について、後述する好適な実施例を通じて、本発明を当業者が容易に理解し、再現することができるよう、詳細に説明することとする。図1は、本発明に使用される強化ガラス製造装置を説明するための例示図である。図示したところのように、本発明に係る強化ガラス製造装置100は、大きく、移送部110と、イオナイザーionizer120121、122と、誘電加熱部130131、132と、冷却部140とを含んで具現される。移送部110は、強化させようとするガラス基板1を移送する。図1には、移送部110がローラーを含むものを例示しているが、本発明はこれに限定されず、本発明に係る強化ガラス製造装置100は、非接触方式でガラス基板1を移送するように具現することができる。ローラーを使用したガラス基板移送装置の場合、ガラス基板1の表面とローラー面とが接触する過程において、ガラス基板1の表面が損傷するという問題点があった。たとえば、ヒーティングチャンバのように、高温環境でガラス基板1を移送する際にローラーを利用する場合、ガラス基板1の撓みや弛み、スクラッチ、波模様の溝別名、ローラーウェーブ等、外形の変形が生じ得る。移送部110は、空気を利用してガラス基板1を空中浮揚させる基板浮揚部を含んで具現することができる。基板浮揚部は、ガラス基板1に空気を供給する空気供給部を含んで具現することができる。イオナイザーionizer120は、移送部110によって移送されるガラス基板1にエネルギーを放射して、ガラス基板1のアルカリ酸化物をイオン化させる。イオナイザーionizer120は、たとえば、UV、x-ray、γ-rayなどの電磁気波を短時間放出し、ガラス基板1内に非架橋酸素Nonbridgingoxygenと自由電子を生成させて、ガラス基板1の導電性を増加させる。イオナイザーionizer120は、ガラス基板1のアルカリ酸化物をイオン化させて、ガラス基板1に高周波誘電加熱をする場合、ガラス基板1の高周波吸収度を高める役割をする。誘電加熱部130は、高周波電極131,132を具備する。誘電加熱部は、マイクロ波、ラジオ波等を利用してガラス基板を誘電加熱することができる。誘電加熱部130は、イオナイザーionizer120によってアルカリ酸化物がイオン化されたガラス基板1の相対的に外表面の温度よりも内部温度を上昇させる。誘電加熱の前に、ガラス基板を通常の方法で加熱するステップを有することもできる。また、ガラス基板のイオナイジングは、こうした通常の加熱ステップの最後の時点で行うことができる。冷却部140は、イオナイザーionizer120と誘電加熱部130を順に通過したガラス基板1を急冷却させる。冷却部140は、一例として、冷却された圧縮空気を供給する空気圧縮部と、空気圧縮部から供給される圧縮空気を噴射ノズルへ案内する空気供給管と、微噴霧water-mistを発生させる微噴霧water-mist発生部と、微噴霧water-mist発生部で発生した微噴霧water-mistを噴霧ノズルへ案内する微噴霧供給管を含んで具現することができる。ここで、微噴霧water-mist発生部は、水槽から水を略1.69MHzの超音波で振動分離して微噴霧water-mistを発生させる。図2は、本発明に使用される強化ガラス製造装置において、一定の波長のエネルギーを照射して、ガラス基板内に非架橋酸素NonBridgingOxygenと自由電子を生成するメカニズムを説明するための例示図である。本来、高周波誘電加熱をガラス基板の熱強化に適用するためには、ガラス基板の高周波吸収度が活性化し得る温度雰囲気を形成及び維持しなければならない。雰囲気温度は、約350°C~500°Cが要求される。絶縁体の誘電率は、大体において高温であるほど誘電損失が増加抵抗減少して、高周波を加える際、内部から昇温し始める。このように、高周波吸収度を活性化するための温度雰囲気を造成するためには、別途の熱供給と時間を必要とする。しかし、本発明に使用される強化ガラス製造装置は、高周波誘電加熱前にイオナイザーionizerを利用してガラス基板の誘電損失を引き起こさせて、高周波誘電加熱が効果的に行われるように具現される。図2に図示したところのように、イオナイザーionizerから、たとえば、UV、x-ray、γ-ray等の電磁気波を短時間放出して、ガラス基板内のアルカリ酸化物から非架橋酸素Nonbridgingoxygen,NB0と自由電子e-を生成させる。ここで、自由電子e-は、電子キャリアChargeCarrierとして作用して、ガラス基板の導電率を増加させる。電子キャリアChargeCarrierが増加したガラス基板に高周波誘電加熱をする場合、ガラス基板1の高周波吸収度が向上して誘電加熱効果が大きく発生することになる。イオン化されたガラス基板は、イオン化されていないガラス基板に比べ、ガラス内部の温度が高く形成されて、冷却時にガラス基板の内部と表面の温度差ΔTが増加し、雰囲気温度約350°C~500°Cを形成及び維持させなくとも、十分に誘電加熱の効率を向上させることができる。図3は、本発明に係る強化ガラス製造方法に関するフローチャートである。図示したところのように、本発明に係る強化ガラス製造方法は、まず、ローディングされたガラス基板を移送するS301。ガラス基板は、移送ローラー、コンベヤーベルトのような接触方式により具現することもでき、空気を利用してガラス基板を空中浮揚させて移送する非接触方式により具現することもできる。その後、移送されたガラス基板にエネルギーを放射して、ガラス基板のアルカリ酸化物をイオン化させるS302。一例として、UV、x-ray又はγ-rayのいずれか一つによりガラス基板にエネルギーを放射して、ガラス基板のアルカリ酸化物をイオン化させることができる。その後、高周波誘電加熱を通じて、アルカリ酸化物がイオン化されたガラス基板の内部温度を上昇させるS303。その後、ガラス基板をクエンチングquenchingさせるS304。これまで、本明細書においては、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を容易に理解し、再現することができるよう、図面に示した実施例を参考に説明してきたが、これは、例示的なものに過ぎず、当該技術分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の実施例から多様な変形及び均等な他の実施例が可能であるという点を理解することができよう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、添付された特許請求の範囲によってのみ定められるべきであろう。"