"純水を供給する純水流入管に気体を注入し、前記気体が一定濃度で溶解する気体溶解水を製造する気体溶解水製造装置において、T型管路と、前記T型管路の1つの受口からT型の結合部中心の位置まで挿入されて基部が封止された気体供給管と、前記T型管路の他の1つの受口から前記気体の供給される方向に垂直に純水を供給させる純水流入管と、前記T型管路の前記気体供給管と前記純水流入管のいずれも備えない1つの受口に接続された、第1の純水流出管及び第1の純水流出管の下流に接続された第2の純水流出管からなる純水流出管と、を備えたことを特徴とする気体溶解水製造装置。前記純水の供給流量が、0.1~2L/minであることを特徴とする請求項1に記載の気体溶解水製造装置。前記気体と前記純水が混合された後の流路の一部または全部での純水流が層流であることを特徴とする請求項1又は2記載の気体溶解水製造装置。第2の純水流出管の管径が、第1の純水流出管の管径より大きくされたことを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか1項記載の気体溶解水製造装置。前記純水流出管又は第2の純水流出管におけるレイノルズ数が、2300未満であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の気体溶解水製造装置。前記純水流入管でのレイノルズ数が、2300以上又は第2の純水流出管もしくは前記純水流出管のレイノルズ数の2倍以上、であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の気体溶解水製造装置。前記純水流入管が、前記T型管路の結合部の中央まで挿入されて基部が封止されたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の気体溶解水製造装置。T型管路と、前記T型管路の1つの受口からT型の結合部中心の位置まで挿入されて基部が封止された気体供給管と、前記T型管路の他の1つの受口から前記気体の供給される方向に垂直に純水を供給させる純水流入管と、前記T型管路の前記気体供給管と前記純水流入管のいずれも備えない1つの受口に接続された、第1の純水流出管及び第1の純水流出管の下流に接続された第2の純水流出管からなる純水流出管とを備えた気体溶解水製造装置によって気体溶解水を製造する方法であって、前記気体と前記純水が混合された後の流路の一部または全部での純水流を層流とすることを特徴とする気体溶解水製造方法。ところで、二酸化炭素炭酸は、水に溶解して重炭酸イオンや炭酸イオンを生成する。したがって、水に対する溶解度は比較的大きく、溶解させること自体は容易である。しかし、炭酸の供給量を制御しても、純水の供給圧、供給流量の微小な変動に伴い、実質的な炭酸ガスの供給量が変動してしまうため、比抵抗を所定の値に一定にすることは困難である。従って、フィードバック制御や、純水と予め炭酸ガスを溶解させた高濃度の炭酸ガス溶解水との混合を行うなど、種々の工夫が必要になる。さらに装置を小型化し、小流量の溶解水の製造を行う場合には、この傾向は大きくなり、1MΩcm以下の比抵抗値を安定的に持つ二酸化炭素溶解水を得ることは困難であった。本発明者らは、このような問題に対処して鋭意研究を重ねた結果、純水の流量が小さいと、注入された二酸化炭素の気泡が配管の内壁に付着しやすく、配管内壁に付着した気泡にさらに別の気泡が結合するなどして、壁面にとどまるが、やがて壁面から脱離し、溶解し、その影響で、炭酸ガス濃度が一時的に上昇し、比抵抗値の不安定要因となることを見出した。また、小型の装置では、配管が細くなるため、流量に対して配管中で水が接触する配管の内壁の占める面積が相対的に大きくなり、この現象が顕著になるとの知見も得られた。また、従来の場合においては、速やかに混合させて溶解させるために、純水流は乱流であることが重要であると考えられていたが、小流量の場合にはむしろ、層流であることが有効であるという知見をも得た。さらに本発明者らは、研究を重ねた結果、溶解する気体の気泡径が小さいほど溶解が早くなるため、気体供給管の末端の出口に気体の流路を横切る方向に純水流を噴出させることにより該出口で気泡が発生すると同時にせん断力を気泡に加え、気泡が気体供給管の末端で合体して成長する前にせん断することで、気泡がより小さくなり、溶解が速やかに進むことを見出した。本発明は、かかる知見に基づいてなされたもので、小流量の純水が流れる配管中に気体供給管より気体を圧入して溶解させる際に、気体の噴出する流路に純水流が垂直にあたるように供給させることで、気泡をできるだけ細かくし、その下流では、水流を層流にして配管内壁への気泡の付着を防ぐことにより、1MΩcm以下で安定した比抵抗値を持つ気体溶解水を製造可能にするとともに、小型化も可能にした気体溶解水製造装置を提供しようとするものである。すなわち、本発明の気体溶解水製造装置の第1の実施形態は、純水を供給する純水流入管に気体を注入し、前記気体が一定濃度で溶解する気体溶解水を製造する気体溶解水製造装置において、T型管路と、前記T型管路の1つの受口からT型の結合部中心の位置まで挿入されて基部が封止された気体供給管と、前記T型管路の他の1つの受口から前記気体の供給される方向に垂直に純水を供給させる純水流入管と、前記T型管路の前記気体供給管と前記純水流入管のいずれも備えない1つの受口に接続された、第1の純水流出管及び第1の純水流出管の下流に接続された第2の純水流出管からなる純水流出管と、を備えたことを特徴とする。本発明の気体溶解水製造装置の第2の実施形態は、前記純水流入管が、前記T型管路の結合部の中央まで挿入されて基部が封止されたことを特徴とする。具体的には、前記純水の供給流量が、0.1~2L/minであり、前記気体と前記純水が混合された後の流路の一部または全部での純水流が層流であることが好ましい。さらに具体的には、第2の純水流出管の管径が、第1の純水流出管の管径より大きくされることが好ましい。また、前記純水流出管又は第2の純水流出管におけるレイノルズ数が、2300未満であることが好ましい。また、前記純水流入管でのレイノルズ数が2300以上、又は第2の純水流出管もしくは前記純水流出管のレイノルズ数の2倍以上、であることが好ましい。すなわち、前記気体供給管から供給された気体は、前記純水流入管から乱流で、又は、第2の純水流出管もしくは前記純水流出管のレイノルズ数の2倍以上の層流で、供給された純水と合流し、前記気体と前記純水が混合された後の流路での一部または全部の純水流が層流であり、かつ前記気体と前記純水が垂直方向で混合されるため、供給された気体はせん断されて、速やかに溶解させることができる。また、より具体的には、第1の流出管部と第2の流出管部が、下流側に拡開するテーパー管を介して接続されることが好ましい。また、前記気体は二酸化炭素を用いることができる。すなわち、本発明の気体溶解水製造装置は、レイノルズ数と、配管内流の関係を見出してなされたものであり、所定の流速および配管内径が選択され、レイノルズ数が上記のように決定されることにより、供給された気体が均一に溶解し、比抵抗の安定した気体溶解水を製造することが可能である。本発明の気体溶解水製造方法は、T型管路と、前記T型管路の1つの受口からT型の結合部中心の位置まで挿入されて基部が封止された気体供給管と、前記T型管路の他の1つの受口から前記気体の供給される方向に垂直に純水を供給させる純水流入管と、前記T型管路の前記気体供給管と前記純水流入管のいずれも備えない1つの受口に接続された、第1の純水流出管及び第1の純水流出管の下流に接続された第2の純水流出管からなる純水流出管とを備えた気体溶解水製造装置によって気体溶解水を製造する方法であって、前記気体と前記純水が混合された後の流路の一部または全部での純水流を層流とすることを特徴とする。小流量の純水中に供給された気体を完全に溶解し、1MΩcm以下で安定した比抵抗値を持つ気体溶解水を製造する装置及び方法を提供する。以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、本明細書において、純水とは、比抵抗が10MΩcm以上、TOC全有機炭素が0.1mg/L以下の水であり、超純水とは、比抵抗値が17MΩcm以上、TOC全有機炭素が10μg/L以下の水をいう。図1は本発明の第1の実施形態の気体溶解水製造装置11を模式的に示す側断面図であり、二酸化炭素溶解水炭酸水を製造するための装置である。本発明の第1の実施形態の気体溶解水製造装置11は、T型継手12を、直管部12a側を垂直に配置し、枝管部12bに純水流入管13を接続し、直管部12a側の上方に純水流出管14を接続するとともに、直管部12a側の下方から気体供給管15を枝管部12bの中心線上の位置まで挿入し、気体供給管15とT型継手12との間は、封止部材で液密に封止して構成されている。純水流出管14は、純水流入管13と同寸法の第1の純水流出管14aと、第1の流出管部から下流側に拡開するテーパー管部14bを介して接続された第2の純水流出管14cとから構成されている。なお、本実施形態の気体溶解水製造装置11において、T型継手の上方に純水流出管14を配置し、下方から気体供給管15を挿入して構成しているが、純水流出管14を下方に、気体供給管15を上方に配置してもよく、気体供給管15を枝管部12bに設置し、純水流入管13を上方もしくは下方のいずれに設置した場合も、本発明の効果を得ることができる。また、T型継手12の直管部12aを垂直方向以外に設置することもできる。気体供給管15から二酸化炭素ガスが供給され、純水流入管13から小流量の純水が供給され、T型継手12の内部において直交方向で混合される。混合された、気体の気泡を含む純水は、第1の純水流出管14aへ流出し、さらに混合される。T型継手12内から、該管部14a内までの流域で純水流は全体としてレイノルズ数2300以上の乱流とすることが好ましいが、第2の純水流出管14cのレイノルズ数の2倍以上の層流であれば、同様の効果が得られる。気体を溶解させた純水は、続いて第2の純水流出管14c内へ流出する。該管部14c内では純水流は全体としてレイノルズ数2300未満の層流となることが好ましい。供給する水としては、半導体製造工程などにおいて用いられる超純水や、純水などが挙げられる。この装置における純水の流量は、例えば0.2L/minであり、比抵抗は10~18.2MΩcmである。また、二酸化炭素の供給量は0.08mL/min20°C、1気圧においてである。例えば、純水流入管13の寸法は、外径φ6mm,内径φ4mmであり、気体供給管15の外形は約φ2mm、内径はφ0.13mmである。なお、気体供給管15はSUSチューブ等であり、内径は、φ0.5mm以下が好ましく、φ0.3mm以下がより好ましく、小径にするほど二酸化炭素溶解純水の比抵抗値は安定するようになる。第1の純水流出管14aは、純水流を全体として乱流とするために、内部が平滑な円形断面の配管を用いることが好ましい。また、第1の純水流出管14aとして、SUS、PFA、PTFE等で形成された配管を用いることができる。第2の純水流出管14cは、純水流が全体として層流となるように構成されることが好ましい。配管の接続部分では、純水流は乱流となる場合が多いが、テーパー管部14bと第2の流水管14cは、これらの影響を最小限にするように接続されることが好ましい。配管の寸法としては、第2の純水流出管14cの内径は、内部での純水流が層流となる内径とすればよく、好ましくはφ20mm以下、より好ましくはφ15mm以下、さらに好ましくはφ12mm以下である。例えば、純水流出管14の第1の流出管部14aは純水流入管13と同一寸法とされ、第2の流出管部14cの内径はφ10mmとされている。純水流出管14の第1の純水流出管14aは純水流入管13と同寸法であることがT型継手12の構造上好ましいが、同一の寸法に限定されるものではない。第2の純水流出管14cの寸法も適宜変更できるが、使用される純水流量に対して層流となるだけの内径をもつ配管を用いる必要がある。すなわち、純水と気体が混合される領域では、純水流を乱流とし、気体を速やかに溶解させ、第2の流出管部14c内で純水流を層流とし、配管内壁面へ付着して気泡が結合することを防ぐことができる。第1の純水流出管14aは直線状の配管が好ましく、第1の流出管部で純水流が乱流となり配管の内壁面への気泡の付着が起きることを防ぐため、短いほど好ましく、装置全体を小型化することも可能となる。第2の純水流出管14cの形状はらせん状であってもよい。純水流入管13における純水流のレイノルズ数Re1は2300以上又は、第2の純水流出管のレイノルズ数の2倍以上、とすることが好ましい。第2の純水流出管14c内における純水流のレイノルズ数Re2は好ましくは2300未満、より好ましくは、1500以下である。Re1が2300未満であると気体供給管15の先端出口での純水による気泡のせん断が不十分となり、気泡が大きくなり溶解が不十分になるため溶解水の比抵抗値が安定しない。Re2が2300以上になると気泡が配管の内壁面に付着し、付着した気泡が剥離、溶解するため、溶解水の比抵抗値は安定しない。レイノルズ数を上記のように決定することにより、供給された気体を迅速かつ完全に溶解させて、安定した比抵抗値をもつ気体溶解水を製造することができる。レイノルズ数Reとは、下記1に示されるように、液体の動粘度νm2/s、速度流速Vm/sおよび流体の流れる管の直径dmによって決定される無次元の定数である。Re=Vd/ν...1一般的に配管断面が円形である場合には、層流で流れている流体のReが2700~4000の範囲で流体が層流から乱流に変化し、乱流で流れている流体のReが2000以下になると、乱流から層流に変化することが知られている。本明細書では、レイノルズ数2300以上の純水流を乱流といい、レイノルズ数2300未満の純水流を層流という。図2Aは本発明の第2の実施形態の気体溶解水製造装置21を模式的に示す側断面図であり、二酸化炭素溶解水炭酸水を製造するための装置である。図2Aに示される本発明の第2の実施形態の気体溶解水製造装置21は、T型継手22を、直管部22a側を垂直に配置し、枝管部22bに純水流入管23を直管部の中央まで挿入し、純水流入管23とT型継手22との間は、封止部材で液密に封止されている。また、直管部22a側の下方から気体供給管25を枝管部22bの中心線上の位置まで挿入し、気体供給管25とT型継手22との間は、封止部材で液密に封止するとともに、直管部22a側の上方に純水流出管24を接続して構成されている。本実施形態において、T型継手22の下方から気体供給管25を、上方に純水流出管24を挿入して構成しているが、気体供給管25を上方に、純水流出管24を下方に挿入して構成してもよく、気体供給管25を枝管部22bに設置し、純水流入管23を上方もしくは下方のいずれに設置した場合にも、本発明の効果を得ることができる。また、T型継手の直管部22aを垂直方向以外に設置してもよい。気体供給管25から二酸化炭素ガスが供給され、純水供給管23から小流量の純水が供給され、T型継手22の内部において直交方向で混合される。この装置における純水の流量、比抵抗、二酸化炭素の供給量は、第1の実施形態における装置と同様である。また、純水流入管23の先端ノズル部の寸法は例えば外径φ4mm、内径φ2mmであり、気体供給管25の外径、内径および材質については、第1の実施形態の装置と同様である。この純水流入管23内において水流は全体として乱流である、又は、純水流出管24のレイノルズ数の2倍以上の層流であることが好ましい。なお、純水流入管23の先端噴出口はノズル形状であることが好ましいが、直管状であってもよい。純水流入管23は、その延長線上に気体供給管25の先端出口があるように設置することが好ましく、図2Bに示す、気体供給管25の先端と、純水流入管23の先端の距離Mmmは、下記式2に示される関係であることが望ましい。なお、Rは純水流入管23の内径mmである。M≦9.05/R1.02...2Mは小さいほど好ましく、具体的には、5mm以下が好ましく、2mm以下がより好ましい。気体供給管25から供給された気体の気泡は、純水流入管23の先端ノズル部より噴出した純水により、せん断されて微小気泡となるとともに、純水流が全体として乱流であることにより撹拌されるため、速やかに溶解させることができる。純水流出管24は、内径φ6mmであり、該管24内でその水流は全体として層流となっていることが好ましい。T型継手22の下流側には、流入口6a、流出口6bを備えた気体溶解チャンバー6が設置されてもよい。純水流出管24を気体溶解チャンバー6の流入口6aに接続して設置し、内部で気体をさらに溶解させるとともに、純水中の濃度分布をなくすことにより比抵抗値を安定させることができる。気体溶解チャンバー6は、T型継手12、22の下流に設けることが可能であるが、純水流出管14、24又は第2の純水流出管14cに、チャンバー6と同じ体積又は、滞留時間を持たせ同様に機能させることもできる。また、チャンバー6の下流又は純水流出管14、24の下流、すなわち、気泡が完全に溶解した後の配管の管径は、任意に選択できる。気体溶解チャンバー6は、内部で気体を完全に溶解させるためのものであり、例えば、その内径をφ20mmとし、内部の容量が20mLとなるように構成されている。純水流出管24の寸法、気体溶解チャンバー6の内径および流量は装置全体の寸法などに従って、適宜変更することができるが、チャンバー6の体積は、チャンバー6での純水の滞留時間が、2~60秒、より好ましくは、5~30秒、となるように構成することが好ましい。溶解させる気体としては、純水に溶解することができるものであれば限定されず、例えば、二酸化炭素、窒素、酸素、水素などが挙げられる。溶解させる気体が窒素である場合には、溶解水は、半導体製造工程などの超音波洗浄水などとして用いることができる。これらの中でも特に二酸化炭素が好ましく、二酸化炭素溶解水は、純水流出管14、24又は流出口6bから採取され、比抵抗値を比抵抗値測定装置7などにより測定し、半導体製造工程における基板の帯電防止を必要とする工程、洗浄する工程などに用いることができる。また、本発明の気体溶解水製造方法によれば、半導体製造工程等において安定した比抵抗値を持つ気体溶解水を提供することができる。本発明の実施例について説明する。実施例1、2、比較例1~3に使用した気体溶解水製造装置11は、図1に示した第1の実施形態の装置を模擬したものであり、使用した純水、実験装置及び主な実験条件は以下のとおりである。[純水]比抵抗値18MΩcm[溶解させる気体]二酸化炭素ガス[二酸化炭素ガスの供給圧]0.15MPa[水温]20°C[比抵抗測定装置]HE-480R株式会社堀場アドバンスドテクノ社製実施例1純水の流量0.5L/min、二酸化炭素ガスの流量を0.2mL/min20°C、1気圧においてとした。気体供給管15の内径0.13mm、外径2mmとし、純水流入管13は、内径4mm、長さ15mmとした。第1の純水流出管14aの内径4mm、長さ15mmとし、第2の純水流出管14cの内径φ10mm、長さ100mmとした。第2の純水流出管14c内でのレイノルズ数Re12は1050であった。また、純水流入管13内のレイノルズ数Re11は、2600であった。第2の純水流出管14cより流出した二酸化炭素溶解水の比抵抗値を測定し、図3に示した。なお、純水流出管14cの一部をガラス製のものにして、内部を観察したところ、微小気泡が配管の中央部を流れ、次第に消失する様子が確認された。実施例2純水の流量0.2L/min、二酸化炭素ガスの流量を0.08mL/min20°C、1気圧においてとした。その他の条件は、実施例1と同様とした。第2の純水流出管14c内でのレイノルズ数Re22は420であった。また、純水流入管13内でのレイノルズ数Re21は、1050であった。第2の純水流出管14cより流出した二酸化炭素溶解水の比抵抗値を測定し、図4に示した。この時、純水流出管14の一部をガラス製のものにして、内部を観察したところ、微小気泡が配管内の中心を流れ、次第に消失する様子が確認された。比較例1第1の純水流出管14aの内径φ10mm、長さ15mm、第2の純水流出管14cの内径φ10mm、長さ100mmとした。第1の純水流出管14aと第2の純水流出管14c管の内径を同じとして、一体の形状とした。また、純水流入管13は内径φ10mmとした。他は、実施例1と同様とした。なお、純水流入管13内でのレイノルズ数Re31は1050であった。また、第2の純水流出管14c内でのレイノルズ数Re32は1050であった。純水流出管14cより流出した二酸化炭素溶解水の比抵抗値を測定し、図6に示した。なお、純水流出管14の一部をガラス製のものにして、内部を観察したところ、巨大気泡が配管内を全体的に流れ、かつ、その一部は配管の内壁面に接触し、かつ、壁面に付着している様子が確認された。比較例2第1の純水流出管14aの内径φ4mm、長さ15mm、第2の純水流出管14cの内径φ4mm、長さ100mmとした。第1の純水流出管14aと第2の純水流出管14c管の内径を同じとして、一体の形状とした。また、純水流入管13は内径φ4mmとした。他は、実施例1と同様とした。純水流入管13内でのレイノルズ数Re41は2600であった。また、第2の純水流出管14c内でのレイノルズ数Re42は2600であった。第2の純水流出管14cより流出した二酸化炭素溶解水の比抵抗値を測定したところ、図6と同様の結果となった。この時、純水流出管14の一部をガラス製のものにして、内部を観察したところ、微小気泡が配管内を全体的に流れ、かつ、その一部は配管の内壁面部に接触し、かつ、壁面に付着している様子が確認された。比較例3気体供給管15の内径をφ0.8mmとした以外は、実施例2と同様とした。第2の純水流出管14cより流出した二酸化炭素溶解水の比抵抗値を測定し、図7に示した。この時、純水流出管14の一部をガラス製のものにして、内部を観察したところ、巨大気泡が配管の中心を流れ、気泡が消失する様子は確認できなかった。次に、第2の実施形態である気体溶解水製造装置22を用いた実施例3及び比較例4を示す。使用した気体溶解水製造装置2は、図2に示した第2の実施形態の装置を模擬したものであり、使用した純水および実験装置は以下のとおりである。[純水]比抵抗値18MΩcm[純水の流量]0.2L/min[溶解させる気体]二酸化炭素ガス[二酸化炭素ガスの流量]0.08mL/min20°C、1気圧において[二酸化炭素ガスの供給圧]0.15MPa[水温]20°C[比抵抗測定装置]HE-480R株式会社堀場アドバンスドテクノ社製[気体溶解チャンバー]容量20mL、PVC製実施例3第2の実施形態の装置において、純水流入管23を内径φ2.5mmの直管、純水流出管24の内径φ10mm、気体供給管25の内径をφ0.13mmとした。純水流入管23の先端と気体供給管25の距離M1を3mmとした。純水流出管24でのレイノルズ数R52は420であった。また、純水流入管23内でのレイノルズ数R51は1700であった。純水流出管24の下流には気体溶解チャンバー6を設置した。気体溶解チャンバー6の流出口6bから流出した二酸化炭素溶解水の比抵抗値を測定し、図5に示した。なお、純水流出管24の一部をガラス製のものにして、内部を観察したところ、微小気泡が配管の中央部を流れ、次第に消失する様子が確認された。比較例4純水流入管23の先端と気体供給管25の距離M2を10mmとした以外は、実施例2と同様とした。気体溶解チャンバー6の流出口6bから流出した二酸化炭素溶解水の比抵抗値を測定し、図8に示したなお、純水流出管24の一部をガラス製のものにして、内部を観察したところ、巨大気泡が配管内を全体的に流れ、かつ、その一部は配管の内壁面に接触し、かつ、壁面に付着している様子が確認された。実施例1、2、比較例1~3の実験条件を表1に、実施例3、比較例4の実験条件を表2に示す。"