イオン液体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを接触することにより水性ガスシフト反応させて一酸化炭素を除去することを特徴とする一酸化炭素除去システム。前記イオン液体を担体表面に吸着又は担持したことを特徴とする請求項1記載の一酸化炭素除去システム。前記担体が、水性ガスシフト反応触媒であることを特徴とした請求項2に記載の一酸化炭素除去システム。前記イオン液体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを混合して接触することを特徴とする請求項1記載の一酸化炭素除去システム。前記イオン液体が、重合性の官能基を有するイオン液体を重合して得られた流動性のないイオン性高分子であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の一酸化炭素除去システム。前記水性ガスシフト反応の反応温度が、100°C以上300°C以下であること特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の一酸化炭素除去システム。前記水性ガスシフト反応の圧力が、0.1MPa以上5MPa以下であることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の一酸化炭素除去システム。水性ガスシフト反応により高効率で一酸化炭素を除去できる技術およびシステムを開発すること。本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を進めた結果、イオン液体を使用することにより、水性ガスシフト反応の平衡を生成系側へ移動させることができ、高効率な一酸化炭素の除去ができることを見出し、本発明を完成させた。すなわち本発明は、以下の構成からなることを特徴とする。1イオン液体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを接触することにより水性ガスシフト反応させて一酸化炭素を除去することを特徴とする一酸化炭素除去システム。2前記イオン液体を担体表面に吸着又は担持したことを特徴とする前記1に記載の一酸化炭素除去システム。3前記担体が、水性ガスシフト反応触媒であることを特徴とした前記2に記載の一酸化炭素除去システム。4前記イオン液体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを混合して接触することを特徴とする前記1に記載の一酸化炭素除去システム。5前記イオン液体が、重合性の官能基を有するイオン液体を重合して得られた流動性のないイオン性高分子であることを特徴とする前記1から4のいずれかに記載の一酸化炭素除去システム。6前記水性ガスシフト反応の反応温度が、100°C以上300°C以下であること特徴とする前記1から5のいずれかに記載の一酸化炭素除去システム。7前記水性ガスシフト反応の圧力が、0.1MPa以上5MPa以下であることを特徴とする前記1から6のいずれかに記載の一酸化炭素除去システム。本発明によれば、イオン液体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを接触することにより水性ガスシフト反応を行うCO変成装置を炭化水素系化合物の水蒸気改質の後段に設けることにより、高効率な一酸化炭素の除去ができる。自動車用および家庭用燃料電池においては、燃料電池本体に併設して水素ガス製造装置を設置する必要があり、水素ガス製造装置の構造を簡略化することにより、燃料電池一式の軽薄短小と製造単価が下がることによる、低価格化が可能となる。イオン液体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを接触することにより水性ガスシフト反応させて一酸化炭素を除去することを特徴とする一酸化炭素除去システムであって、イオン液体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを接触するということは、一酸化炭素と水蒸気がイオン液体の表面に存在すること及びイオン液体中に溶解することである。また、別の局面では水性ガスシフト反応である一酸化炭素と水蒸気との反応がイオン液体の表面もしくはイオン液体中で起こり、二酸化炭素と水素がイオン液体表面もしくはイオン液体中に生成することである。イオン液体中に生成した水素分子はイオン液体に対する溶解度が極めて低いためイオン液体中から放出される。水素分子がイオン液体中からなくなることにより、水性ガスシフト反応の平衡が生成系側に移動して一酸化炭素が除去され、水素ガス中の一酸化炭素濃度が10ppm以下になる。本発明でのイオン液体とはカチオンとアニオンとの組み合わせからなる化合物であって、カチオンには下記に記載の一般式1で表される第4級アンモニウムイオン、一般式2で表されるイミダゾリウムイオン、一般式3で表されるピリジニウムイオン、一般式4で表されるピロリジニウムイオンまたは一般式5で表される第4級ホスホニウムイオンからなる群から選ばれる少なくとも一種のカチオンを用いる。水性ガスシフト反応で一酸化炭素を除去するために使用できるイオン液体としては、一般式1から5に示すイオン液体を単独もしくは2種類以上を混合したものである。式中、R1、R2、R3、R4はお互いに独立して、水素、直鎖もしくは枝分かれ状で飽和もしくは不飽和のアルキル基、シクロアルキル基、またはメチレン基もしくはエチレン基を介して結合したシクロアルキル基またはアリール基のうちのいずれかであり、ここでアルキル基中およびシクロアルキル基中のメチン基、メチレン基が硫黄、窒素もしくは酸素元素のうちのいずれかのヘテロ原子もしくはヘテロ原子を含む複数の元素群によって置き換えられても良く、アリール基中にヘテロ原子もしくはヘテロ原子を含む複数の元素群であっても良い。Xは1価に帯電された塩素、臭素、ヨウ素、BF4、PF6、3PF3、AsF、SbF6、AlCl4、FeCl4、CF3SO22N、NC2N、HCO2、CF3SO3、CH3SO3、HSO4、CF3CO2、CH3CO2、CF3C6H4SO3及びCH3C6H4SO3のうちのいずれかの塩形成アニオンである。一酸化炭素の除去性能の観点から好ましくは、カチオンが一般式5のホスホニウムイオンからなる群から選ばれる少なくとも一種である。イオン液体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを混合して接触するということは、1イオン液体を吸着もしくは担持した担体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを接触することもしくは、2液状のイオン液体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを接触することである。上記1の場合、配管中にイオン液体を吸着もしくは担持した担体を充填しているところに一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを通気することにより、イオン液体と一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを混合して接触することができる。上記2の場合、液状のイオン液体の表面に一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを接触する他に、液状のイオン液体の中に一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを多孔質フィルターから細かな気泡としてバブリングし混合して接触することができる。また、別の局面では中空の撹拌棒および羽で撹拌することにより、一度イオン液体中を透過したガスを繰り返し、イオン液体中に導入して接触することできる。さらに別の局面ではイオン液体を細かな液滴として噴霧しているところに一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを通気して接触することができる。また、1と2の組み合わせもしくは2のいくつかの方法を組み合わせると一酸化炭素除去の効率を高めることができる。本発明の水性ガスシフト反応において上記1の態様に用いられるイオン液体を吸着又は担持するために使用できる担体としては、イオン液体を吸着又は担持できる支持体であれば限定されるものではなくシリカ、ゼオライト、活性炭支持体もしくは水性ガスシフト反応触媒を使用することができる。水性ガスシフト反応の効率からすると、本発明の担体としてはイオン液体の比表面積を大きくできる多孔質の支持体が良い。多孔質支持体の細孔径はミクロ孔2nm以下もしくはメソ孔2~50nmもしくはマクロ孔50nm以上のいずれであっても良く、多孔質支持体はイオン液体を細孔内部の表面まで担持するため、細孔径が2nm以上であることが好ましく、さらに好ましくは10nm以上のメソ孔であることが好ましい。多孔質の支持体としては、耐熱性、細孔径、開孔率の観点からメソポーラスシリカ、活性炭およびゼオライトから選ばれる少なくとも一種が好適である。イオン液体を担体触媒を含むに吸着又は担持したということは、担体触媒を含むの表面もしくは細孔の表面にイオン液体が存在することであり、表面全てにわたり存在しても良く、部分的に存在しても良い。また、イオン液体と担体触媒を含むの界面は化学的および物理的など結合や相互作用の方式により限定されるものではない。本発明のイオン液体を吸着又は担持した担体触媒を含むは、イオン液体を希釈した有機溶媒中に担体触媒を含むを含浸したあと、ろ過乾燥させることにより調製することができる。本発明の担体には、水性ガスシフト反応触媒を担体として用いても良い。本発明の担体として用いる水性ガスシフト反応触媒としては、従来の水系の反応に使用されている触媒であれば、特に限定されるものではない。例えば、400°C前後で使用される高温用触媒としては鉄-クロム系触媒、200°C程度の低温用触媒としては銅-亜鉛系触媒、その他に銅-マグネシウム系触媒や銅-マンガンスピネル触媒を使用することができる。担体に水性ガスシフト反応触媒を用いた場合は、水性ガスシフト反応がより速く進行するという利点がある。イオン液体が担体の表面及び触媒の表面から脱離することを防止するため、イオン液体のカチオン部分に重合性の官能基を有するイオン液体も使用することができる。担体もしくは触媒の表面に重合性の官能基を有するイオン液体を担持した後、重合して得られた流動性のないイオン性高分子化合物を使用すると一酸化炭素除去装置の耐久性を向上することができる。本発明における流動性のないイオン性高分子とは、官能基を有するイオン液体を重合して高分子化したイオン性の固体化合物である。イオン性高分子が担体もしくは触媒の表面から脱離しない限りにおいては、イオン性高分子の重合度、繰り返し単位、重合組成より限定されるものではない。重合性官能基としてはビニル基、アリル基、メタアクリル基、グリシジル基、アジリジン環、イソシアネート基、共役ジエン、酸無水物、酸塩化物、カルボニル基、水酸基、アミド基、アミノ基、クロロメチル基、エステル基、ホルミル基、ニトリル基、ニトロ基、カルボジイミド基、オキサゾリン基、および無機の重合性官能基としてアルコキシシリル基、シラノール基、ハロゲン化シラン、ポリシラン、金属アルコキシドが使用することができ、一般式1から5のカチオンの部分構造として含まれている。アニオンには1価に帯電した塩素、臭素、ヨウ素、BF4、PF6、3PF3、AsF、SbF6、AlCl4、FeCl4、CF3SO22N、NC2N、HCO2、CF3SO3、CH3SO3、HSO4、CF3CO2、CH3CO2、CF3C6H4SO3、CH3C6H4SO3から選ばれる少なくとも一種のアニオンを用いる。水性ガスシフト反応の反応温度とは、一酸化炭素及び水蒸気を含むガスを接触させるイオン液体もしくはイオン性高分子の温度である。水性ガスシフト反応の平衡を効率的に生成系側へ移動させるためには、水性ガスシフト反応の反応温度は、100°C以上300°C以下であることが好ましく、より好ましくは130°C以上260°C以下であり、さらに好ましくは140°C以上200°C以下である。反応温度が100°Cより低いと反応速度が遅くなり、一酸化炭素及び水蒸気を含むガスとイオン液体もしくはイオン性高分子が接触する回数を増やす必要があり、反応装置が大きなものとなってしまい、水素ガス製造装置の軽薄短小という発明の効果が失われてしまう。水性ガスシフト反応自体は発熱反応であるためより低い反応温度で生成系側に有利な平衡系である。このため、反応温度が300°Cより高いと平衡を効率的に生成系側へ移動させることが難しくなる。水性ガスシフト反応の圧力とは、一酸化炭素及び水蒸気を含むガスの圧力である。水性ガスシフト反応の平衡を効率的に生成系側へ移動させるためには、水性ガスシフト反応の圧力は、0.1MPaから5MPa以下であることが好ましく、より好ましくは3MPa以下、さらに好ましくは1.5MPa以下である。反応の圧力が0.1MPaより低いと一酸化炭素及び水蒸気を含むガスの逆流が起こるため効率的な水性ガスシフト反応ができない。反応圧力が5MPaより高いとイオン液体もしくはイオン性高分子から水素分子が放出されなくなり、平衡を生成系側に移動させることができなくなる。本発明書では、供給ガスの組成は体積を意味する。炭化水素系化合物を水蒸気改質した後の一酸化炭素を含む供給ガスの組成としては、水素20~70、二酸化炭素10~40、一酸化炭素5~20及び水蒸気15~60であり、好ましくは水素28~52、二酸化炭素16~24、一酸化炭素8~12及び水蒸気24~36である。本発明の実施の一形態として、一酸化炭素及び水蒸気を含むガスとイオン液体を担持した支持体とを接触することにより水性ガスシフト反応させて一酸化炭素を除去する装置の概略を図1に示す。イオン液体を担持した支持体11は一酸化炭素を含む配管12の中に充填されている。イオン液体を担持した支持体を充填した配管部分を加熱するため、配管は加熱媒体13中に設置されている。配管12が加熱媒体13を通過する直前と直後にサンプリングバルブ14とサンプリング管15が取り付けられており、サンプリングされたガスはその先の分析計16で組成を分析することができる。イオン液体を担持した担体もしくは触媒の一酸化炭素除去性能はイオン液体を担持した支持体の充填層を透過する前のガス組成と透過後のガス組成を分析計で測定することにより評価できる。ここで、一酸化炭素除去率αはイオン液体を担持した担体もしくは触媒の充填層を透過する前後の供給ガス中の一酸化炭素濃度から以下のように定義するものである。α={透過前のCO濃度-透過後のCO濃度}透過前のCO度×100[トリヘキシルテトラデシルホスホニウムギ酸塩の合成]トリヘキシルテトラデシルホスホニウムクロリドアルドリッチ株製100.06gとギ酸ナトリウム東京化成工業株製26.21gにアセトニトリル2000mLを加えて、懸濁液を窒素雰囲気下室温で5日間撹拌した。白色析出物をセライトでろ過した後、アセトニトリルを減圧留去した。得られた油状生成物を塩化メチレン400mLで抽出し、活性炭処理を行った。塩化メチレンを減圧留去して、塩素アニオンがギ酸アニオンに変換されたトリヘキシルテトラデシルホスホニウムギ酸塩100.03g収率98を得た。[一酸化炭素除去試験]水素、二酸化炭素および一酸化炭素をマスフローメーターで混合して水素57.14、二酸化炭素28.57および一酸化炭素14.29の混合気体を調製した。この混合気体に水蒸気をマスフローメーターで混合して混合気体70、水蒸気30の供給ガスを調製して一酸化炭素除去試験に供した。上記で合成した140°Cのイオン液体トリヘキシルテトラデシルホスホニウムギ酸塩80gに多孔質フィルターを通して0.12MPaの供給ガスを流速40mLminでバブリングして混合、接触させた後すぐに、上記のイオン液体1gを銅-酸化亜鉛触媒20gに担持した140°Cの充填層に通して、供給ガスとイオン液体との接触を行った。イオン液体と接触する前と後のガス組成をガスクロマトグラフトと検知管で分析した。イオン液体と接触した後の供給ガス中の一酸化炭素濃度は10ppmに減少しており、前述の評価方法で算出した一酸化炭素除去率αは、99.8であった。