開状態と閉状態とを切り替えることのできるシャッター装置であって、互いに直交する2軸を第1軸および第2軸とし、前記第1軸と平行な方向を第1軸方向とし、前記第2軸と平行な方向を第2軸方向としたとき、前記第1軸方向に往復移動可能なシャッター部と、前記シャッター部を前記第1軸方向へ移動させるための駆動部と、前記駆動部と前記シャッター部とを連結する連結部と、前記シャッター部の前記第1軸方向への移動を案内するためのガイド部と、を有し、前記ガイド部は、前記第2軸方向を軸方向とする柱状の本体と、前記本体の軸周りにある側面に溝を備え、前記溝に対して前記連結部が係合しており、前記溝の底面と前記連結部とが点接触または前記第2軸方向に延在するように線接触していることを特徴とするシャッター装置。前記ガイド部は、前記本体を該本体の軸周りに回転させる回転手段を有している請求項1に記載のシャッター装置。前記溝は、円環状である請求項1または2に記載のシャッター装置。前記溝は、前記本体軸を含む断面形状が前記溝の全周において一定である請求項3に記載のシャッター装置。前記溝の前記底面は、前記連結部と点接触するために、突起部を備えている請求項1ないし4のいずれかに記載のシャッター装置。前記溝は、前記第2軸方向に対向し互いに離間している一対の側面を備え、前記一対の側面は、前記第2軸方向に対向している一対の突起部を複数備えている請求項5に記載のシャッター装置。前記シャッター装置は、圧電デバイスの質量調整用シャッター装置である請求項1ないし6のいずれかに記載のシャッター装置。本発明の目的は、シャッター部の移動性に優れるシャッター装置を提供することにある。本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。[適用例1]本発明のシャッター装置は、開状態と閉状態とを切り替えることのできるシャッター装置であって、互いに直交する2軸を第1軸および第2軸とし、前記第1軸と平行な方向を第1軸方向とし、前記第2軸と平行な方向を第2軸方向としたとき、前記第1軸方向に往復移動可能なシャッター部と、前記シャッター部を前記第1軸方向へ移動させるための駆動部と、前記駆動部と前記シャッター部とを連結する連結部と、前記シャッター部の前記第1軸方向への移動を案内するためのガイド部と、を有し、前記ガイド部は、前記第2軸方向を軸方向とする柱状の本体と、前記本体の軸周りにある側面に溝を備え、前記溝に対して前記連結部が係合しており、前記溝の底面と前記連結部とが点接触または前記第2軸方向に延在するように線接触していることを特徴とする。これにより、ガイド溝と連結部の接触面積を小さくすることができるため、ガイド溝と連結部との間に発生する摩擦力を低減することができ、ガイド溝に対して連結部が円滑に摺動する。そのため、シャッター部の移動性が優れるシャッター装置が得られる。[適用例2]本発明のシャッター装置では、前記ガイド部は、前記本体を該本体の軸周りに回転させる回転手段を有していることが好ましい。これにより、回転手段によってガイド部を回転させることで、ガイド溝の底面の連結部と接触する部位を変えることができる。そのため、底面の連結部と接触する接触部の摩耗や平坦化を抑制することができる。その結果、ガイド溝に対する連結部の優れた摺動性を維持することができる。[適用例3]本発明のシャッター装置では、前記溝は、円環状であることが好ましい。これにより、簡単にガイド溝と連結部とを第2軸方向に延在するように接触させることができる。また、ガイド溝の側面と連結部の接触面積を小さく抑えることができる。そのため、連結部がガイド溝に対して摺動する際の、連結部と側面との接触に発生し得る摩擦力を極力抑えることができる。これにより、ガイド溝に対して連結部をより円滑に摺動させることができる。[適用例4]本発明のシャッター装置では、前記溝は、前記本体軸を含む断面形状が前記溝の全周において一定であることが好ましい。これにより、底面の各部位が互いに等しい条件にて連結部と接触することができる。[適用例5]本発明のシャッター装置では、前記溝の前記底面は、前記連結部と点接触するために、突起部を備えていることが好ましい。これにより、簡単な構成でガイド溝の底面突起部と連結部とを点接触させることができる。また、1つの突起部が摩耗した場合には、ガイド部を回転させて他の突起部と連結部とを接触させることにより、ガイド溝に対する連結部の摺動性を回復することができる。[適用例6]本発明のシャッター装置では、前記溝は、前記第2軸方向に対向し互いに離間している一対の側面を備え、前記一対の側面は、前記第2軸方向に対向している一対の突起部を複数備えていることが好ましい。これにより、簡単な構成でガイド溝の側面と連結部とを点接触させることができる。そのため、ガイド溝の側面と連結部とが接触した場合のその接触面積を小さくすることができ、連結部をガイド溝に対してより円滑に摺動させることができる。[適用例7]本発明のシャッター装置では、前記シャッター装置は、圧電デバイスの質量調整用シャッター装置であることが好ましい。これにより、振動デバイスの質量調整をより高精度に行うことができる。以下、本発明のシャッター装置を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。<第1実施形態>図1は、本発明の第1実施形態にかかるシャッター装置を適用した周波数調整装置の概略図、図2および図3は、本発明の第1実施形態にかかるシャッター装置の平面図上面図、図4は、図2に示すシャッター装置の側面図、図5は、図2に示すシャッター装置の作動を説明するための図側面図、図6および図7は、図2に示すシャッター装置が有するガイド部の断面図である。なお、図1は、周波数調整装置の概略を説明するための図であるため、図1に示すシャッター装置1が有する単位シャッター装置2の数は、図2以降に示すシャッター装置が有する単位シャッター装置2の数と異なっている。また、以下では、説明の都合上、図1~図7中の上側を上、下側を下、右側を右、左側を左として説明する。また、図1に示すように、互いに直交する3軸をx軸第1軸、y軸第2軸およびz軸第3軸とし、x軸と平行な方向をx軸方向と言い、y軸と平行な方向をy軸方向と言い、z軸と平行な方向をz軸方向と言う。以下では、本発明のシャッター装置を、振動子圧電デバイス9の共振周波数を調整するための周波数調整装置100に適用した場合、すなわち本発明のシャッター装置を振動子9の質量調整用シャッター装置に適用した場合について説明する。ただし、本発明のシャッター装置の用途はこれに限定されない。1.周波数調整装置図1に示す周波数調整装置100は、内部を所望の環境とすることのできるチャンバー110と、開閉状態を切り替え可能なシャッター装置1と、イオンガン120と、遮蔽板130とを有している。なお、周波数調整装置100は、これらに加えて、例えば、振動子9の所定箇所にのみ後述するイオンビームIBが照射されるように、振動子9の所定箇所以外を覆うマスク等を設けてもよい。イオンガン120は、例えば、Ar、Ne等の不活性ガスに電界を作用させて加速させることにより、イオンビームIBを発射するものであり、振動子9の質量を変化させる質量変化手段を構成するものである。このようなイオンガン120は、チャンバー110内にてシャッター装置1よりも下側に位置しており、上方へ向けてイオンビームIBを発射する。また、遮蔽板130は、チャンバー110内にてシャッター装置1よりも上側z軸の方向側に位置しており、後述する複数のシャッター部3のうちの隣り合う一対のシャッター部3の隙間からから上方へ漏れるイオンビームIBを遮断する。また、図2に示すように、シャッター装置1は、複数本実施形態では8つの単位シャッター装置2と、これら複数の単位シャッター装置2を支持する支持部8とを有している。また、複数の単位シャッター装置2は、それぞれ、x軸方向に往復移動摺動可能なシャッター部シャッター板3と、シャッター部3をx軸方向へ往復移動させる駆動部4と、シャッター部3と駆動部4とを連結し、駆動部4からの駆動力をシャッター部3に伝達する連結部5と、シャッター部3の移動を規制する規制手段6と、シャッター部3の移動を案内するガイド部7とを有している。複数の単位シャッター装置2は、それぞれ、独立して駆動が制御されており、イオンビームIBの通過を許容する開状態と、イオンビームIBを遮断する閉状態とを切り替えることができる。このような周波数調整装置100では、1つの単位シャッター装置2の上方に1つの振動子9が位置するように複数の振動子9を配置する。そして、イオンガン120からイオンビームIBを発射するとともに、単位シャッター装置2を開状態とすることにより、振動子9にイオンビームIBを照射し、振動子9の一部例えば、電極の一部を除去する。これにより、振動子9の質量を減らし、その共振周波数を高める。そして、イオンビームIBの照射により、振動子9の共振周波数が所定値となったら、速やかに単位シャッター装置2を閉じ、それ以上イオンビームIBが振動子9に照射されるのを阻止する。このような制御を単位シャッター装置2ごとに独立して制御することにより、各振動子9の共振周波数を独立して調整することができる。なお、周波数調整装置100を用いた振動子9の周波数調整方法については、後に詳しく説明する。次に、シャッター装置1について詳しく説明する。支持部8は、第1ベース板81と、第2ベース板82と、ガイド支持部83とを有している。第1、第2ベース板81、82は、それぞれ、z軸方向を厚さ方向とし、xy平面に広がりを有する板状をなしている。また、第2ベース板82は、第1ベース板81の上方に重なって設けられており、複数の支柱84を介して第1ベース板81に固定されている。また、ガイド支持部83は、ガイド部7が有する一対の本体71、72を支持しており、第1、第2ベース板81、82に対して固定的に設けられている。このような支持部8第1ベース板81、第2ベース板82、ガイド支持部83の構成材料としては、特に限定されず、例えば、鉄、ニッケル、コバルト、銅、マンガン、アルミニウム、マグネシウム等の各種金属、またはこれらのうちの少なくとも1種を含む合金または金属間化合物、さらには、これらの金属の酸化物、窒化物、炭化物等が挙げられる。次いで、単位シャッター装置2の構成について説明するが、複数の単位シャッター装置2の構成は、互いに同様であるため、以下では、1つのシャッター装置1について代表して説明し、他のシャッター装置についてはその説明省略する。シャッター部3は、z軸方向を厚さとする板状をなし、x軸方向に延在している。シャッター部3の幅y軸方向の長さとしては、特に限定されず、振動子9の大きさ等によって異なるが、例えば、1mm以上、2mm以下程度であるのが好ましい。このような幅とすることにより、シャッター部3を十分に小さくすることができる。なお、本実施形態のシャッター部3は、その幅がx軸方向に沿って一定であるが、シャッター部3の形状は、これに限定されず、幅がx軸方向に沿って変化していてもよい。具体的には、イオンビームIBを遮断するのは、図4に示すように、シャッター部3の先端部3aである。そのため、シャッター部3の形状は、少なくとも先端部3aを所定形状所定幅としていればよく、その他の部位例えば中間部、基端部を先端部3aよりも幅の小さい形状としてもよい。このような形状とすることにより、本実施形態と比較してシャッター部3の質量を小さくすることができ、その分シャッター部3の移動速度を高めることができる。このようなシャッター部3は、x軸方向に往復移動可能に設けられているが、シャッター部3の移動距離変位長さとしては、特に限定されず、例えば、1~5mm程度であるのが好ましい。これにより、イオンビームIBの通過の許容と遮断とを選択するのに十分な移動距離とすることができるとともに、シャッター部3の移動距離を抑えることができる。そのため、より素早く短時間で、単位シャッター装置2を開状態から閉状態または閉状態から開状態とすることができる。このようなシャッター部3は、例えば、耐イオンエッチング性に優れる炭素、チタン等を構成材料として構成されている。これにより、イオンビームIBによるシャッター部3の損傷や摩耗を効果的に抑制することができる。また、このような材料で構成することにより、シャッター部3の軽量化を図ることができ、シャッター部3の反応性や移動速度を向上させることができる。なお、シャッター部3は、例えば、鉄、ニッケル、コバルト、銅、マンガン、アルミニウム、マグネシウム等の各種金属、またはこれらのうちの少なくとも1種を含む合金または金属間化合物、さらには、これらの金属の酸化物、窒化物、炭化物等で構成された本体の表面に、耐イオンエッチング性に優れるDLCダイアモンドライクカーボン膜を形成した構成とすることもできる。駆動部4は、シャッター部3をx軸方向に摺動往復移動させるための駆動源である。このような駆動部4としては、シャッター部3をx軸方向に摺動させることができれば特に限定されない。本実施形態では、駆動部4として、直動型のソレノイドアクチュエーターを用いており、本体41と、本体41に対してx軸方向に往復移動することのできるシャフト42とを有している。このようなリニア型ソレノイドアクチュエーターを用いることにより、駆動部4の小型化を図ることができるとともに、駆動部4からの駆動力を効率的にシャッター部3に伝達することができる。駆動部4を構成するソレノイドアクチュエーターとしては、さらには、自己保持型のソレノイドアクチュエーターであるのが好ましい。自己保持型ソレノイドアクチュエーターとは、例えば、ソレノイドアクチュエーターに永久磁石を内蔵させたものであり、無通電状態でも永久磁石の磁力による吸着保持力無励磁吸着力が得られ、長時間の連続保持が可能となる。また、永久磁石の吸着力を利用するため、吸着方向へのシャフト42の移動速度を高めることができる。また、作動時のみの通電であるため、省電力駆動を実現することができ、さらには、コイルの発熱が抑えられる。このような自己保持型ソレノイドアクチュエーターでは、内蔵の永久磁石の磁気力に励磁コイルによる電磁力が加算されるように通電し、吸引力を増加させ可動鉄芯を吸引する。一方、無励時保持吸着状態の可動鉄芯を復帰開放させるには、永久磁石の磁力を打ち消すように、吸引動作と逆極性の電流をコイルに加えて吸着保持力を小さくし、スプリング等の戻し力によって可動鉄芯を引き離す。このような可動鉄心の移動を利用してシャフト42をx軸方向に移動させる。後述するように、駆動部4のシャフト42は、連結部5を介してシャッター部3と連結している。そのため、駆動部4のシャフト42を本体41から突出させるように図2中右側x軸の方向側へ移動させると、それに連動してシャッター部3が図2中右側に移動し、当該移動によって、単位シャッター装置2が開状態から閉状態となる。これと反対に、駆動部4のシャフト42を本体41内へ退避させるように図2中左側x軸の-方向側へ移動させると、それに連動してシャッター部3が図2中左側に移動し、当該移動によって、単位シャッター装置2が閉状態から開状態となる。駆動部4では、シャフト42の図2中右側への移動を、前記可動鉄心を永久磁石に吸引する動作によって行うのが好ましい。前述したように、このような可動鉄心の移動は、永久磁石の吸着力を利用するができ、その移動速度を反対側への移動よりも高くすることができる。そのため、より短い時間で、単位シャッター装置2を開状態から閉状態とすることができ、振動子9が所定の共振周波数となった際にイオンビームIBをより素早く遮断することができる。すなわち、単位シャッター装置2を閉状態とする命令信号を出した時刻と、その命令を受けて単位シャッター装置2が実際に閉状態となった時刻との時間差をより短くすることができるため、振動子9の周波数をより精度よく所定値に合わせ込むことができる。連結部5は、駆動部4のシャフト42とシャッター部3とを連結し、駆動部4からの駆動力、すなわちシャフト42のx軸方向への変位をシャッター部3に伝達する機能を有する。図2に示すように、このような連結部5は、略L字状をなしており、第1連結部51と第2連結部52とにより構成されている。第1連結部51は、x軸方向に延在し、その先端部にてシャッター部3を支持している。具体的には、図4に示すように、第1連結部51の先端部には、x軸方向に離間するとともに、上側z軸の方向側に突出する一対の突起511、512が形成されている。一方、シャッター部3には、一対の突起511、512に係合する一対の貫通孔31、32が形成されており、この貫通孔31、32内に突起511、512を挿入することにより、シャッター部3が第1連結部51に支持されている。ここで、シャッター部3は、第1連結部51に対して着脱自在に支持されているのが好ましい。これにより、消耗品であるシャッター部3の交換を簡単に行うことができる。また、第1連結部51の幅y軸方向の長さは、シャッター部3の幅よりも小さく設計されている。また、シャッター部3の平面視xy平面視にて、第1連結部51の中心軸は、シャッター部3の中心軸と一致している。第2連結部52は、y軸方向に延在しており、第1連結部51の基端部とシャフト42とを連結している。このような形状の連結部5によれば、簡単な構成で、駆動部4のシャフト42と、シャッター部3とをy軸方向にずらすことができる。より具体的には、図2に示すように、シャフト42の駆動軸中心軸x1と、シャッター部3の駆動軸中心軸x2とをy軸方向にずらすことができる。そのため、駆動部4の大きさに関わらず、複数の単位シャッター装置2のシャッター部3をy軸方向に狭いピッチで並設することができる。なお、このような効果については、後に詳細に説明する。また、本実施形態の連結部5では、第1連結部51と第2連結部52とが一体的に形成されている。これにより、連結部5を簡単に形成することができる。このような連結部5は、例えば、板状の長尺部材を、その途中で略直角に折り曲げることにより簡単に形成することができる。なお、図4に示すように、連結部5は、シャッター部3とシャフト42とのz軸方向の位置ずれを補正するために、必要に応じて、その途中にてz軸方向z軸成分を含む方向に延在する部分を有していてもよい。言い換えれば、連結部5は、z軸方向に段差を有するような形状であってもよい。このような連結部5の構成材料としては、特に限定されず、例えば、鉄、ニッケル、コバルト、銅、マンガン、アルミニウム、マグネシウム等の各種金属を用いることができる。これらの中でも、アルミニウムのような軽量で加工性の良い材料を用いるのが好ましい。このような連結部5は、一対の本体71、72によって支持されているとともに、その移動が案内されている。一対の本体71、72については、後に詳細に説明する。規制手段6は、シャッター部3の移動を規制する機能を有する。図2に示すように、このような規制手段6は、第2連結部52をx軸方向にて挟むようにして支持部8に設けられた一対のストッパー61、62を有している。そのため、第2連結部52は、一対のストッパー61、62間にてx軸方向の移動が可能となる。具体的には、第2連結部52がストッパー61に接触することにより、シャフト42のそれ以上の突出先端側への移動、すなわちシャッター部3のそれ以上の先端側への移動が規制される。反対に、第2連結部52がストッパー62に接触することにより、シャフト42のそれ以上の退避基端側への移動、すなわちシャッター部3のそれ以上の基端側への移動が規制される。これにより、シャッター部3の移動を規制することができ、シャッター部3を毎回同様の移動距離で移動させることができる。そのため、振動子9の共振周波数の調整を毎回同様に行うことができ、高精度な周波数調整が可能となる。なお、仮に、シャッター部3の移動距離が変化すると、単位シャッター装置2が開状態から閉状態となるまでにかかる時間、より具体的には、単位シャッター装置2を閉状態とするための命令信号を出した時刻から、その命令を受けて実際に単位シャッター装置2が完全に閉状態となるまでの時間が変化する。このように単位シャッター装置2が開状態から閉状態となるまでにかかる時間が変化すると、それに伴って、振動子9へのイオンビームIBの照射時間が変化し、振動子9の質量が必要以上に減少したり、目的値まで減少していなかったりし、振動子9の共振周波数が所定の周波数からずれてしまう。すなわち、シャッター部3の移動距離が変化してしまうと、振動子9の共振周波数を高精度に調整することができなくなるおそれがある。以上、単位シャッター装置2の構成について詳細に説明した。このような構成の単位シャッター装置2は、第2連結部52がストッパー61に当接した状態、すなわち、図5aに示す状態がイオンビームIBの振動子9への照射を遮断する閉状態である。そのため、閉状態から、駆動部4を駆動してシャッター部3を基端側へ移動させると、図5bに示すように、第2連結部52がストッパー62に当接し、シャッター部3がイオンビームIBの振動子9への照射を許容する開状態となる。反対に、開状態から、駆動部4を駆動してシャッター部3を先端側へ移動させると、図5aに示すように、第2連結部52がストッパー61に当接し、前述した閉状態となる。次いで、複数の単位シャッター装置2の配置について説明する。図2に示すように、複数のシャッター部3は、y軸方向に沿って並設されている。なお、隣り合う一対のシャッター部3の離間距離としては、特に限定されないが、0.1mm以上、0.5mm以下程度であるのが好ましい。これにより、複数のシャッター部3を十分に狭いピッチで配列することができるため、シャッター装置1の小型化を図ることができる。また、定められた領域内により多くのシャッター部3を配置することができるため、同時に共振周波数を調整することのできる振動子9の数を多くすることができ、振動子9の共振周波数調整を効率的に行うことができる。また、複数のシャッター部3は、xy平面x軸とy軸とで形成される面と平行な同一平面上に位置している。これにより、シャッター部3とそれに対応する振動子9との離間距離を、複数のシャッター部3間で互いに等しくすることができる。そのため、各振動子9にイオンビームIBを等しい条件で照射することができ、振動子9の共振周波数調整を効率的に行うことができる。仮に、シャッター部3と振動子9との離間距離が複数のシャッター部3間で異なっている場合、すなわち、ある単位シャッター装置2ではシャッター部3と振動子9との離間距離が短く、他の単位シャッター装置2ではシャッター部3と振動子9との離間距離が長い場合、次のような問題が生じる。離間距離が長い方の単位シャッター装置2では、離間距離が短い方の単位シャッター装置2よりも、開状態のシャッター部3を通過したイオンビームIBの回り込みが大きくなる。イオンビームIBの回り込みが大きくなるに連れて、イオンビームIBが振動子9の所定位置に効率的に照射されず振動子9の単位時間当たりの質量減少量が減少したり、振動子9の側面や裏面等の除去を望んでいない部分が除去されたりし、振動子9の共振周波数調整の精度が悪化する。そのため、複数の単位シャッター装置2間でシャッター部3と振動子9との離間距離が異なっていると、複数の振動子9間で質量が減少する速度や、除去される領域が異なり、複数の振動子9を等しい条件で処理することができない。これにより、振動子9の共振周波数調整の精度が低下したり、共振周波数調整が煩雑化したりする。次いで、複数の駆動部4の配置について説明する。第1ベース板81には、図2、図3中の下側から奇数番目に当たる複数のシャッター部33’と連結する駆動部44’が、シャッター部3’の並び順と同順で配置されている。一方、第2ベース板82には、図2、図3中の下側から偶数番目に当たる複数のシャッター部33と連結する駆動部44が、シャッター部3の並び順と同順で配置されている。第1ベース板81に配置されている複数の駆動部4’について説明すると、各駆動部4’の幅y軸方向の長さは、シャッター部3’の幅よりも広い。また、隣り合う一対の駆動部4’の離間距離は、隣り合う一対のシャッター部3’の離間距離よりも広い。そのため、複数の駆動部4’は、複数のシャッター部3’よりもy軸方向に広い領域に広がって配置されている。また、駆動部4’のシャフト42の移動軸x1と当該駆動部4’に対応するシャッター部3’の移動軸x2のy軸方向の離間距離は、図3中下側の単位シャッター装置2’から上側の単位シャッター装置2’に向けて漸増している。そのため、これらを連結する連結部5’の第2連結部52’の長さも、図3中下側の単位シャッター装置2’から上側の単位シャッター装置2’に向けて漸増している。また、複数の駆動部4’は、x軸およびy軸に対して傾いた方向に沿って配列されており、駆動部4’と当該駆動部4’に対応するシャッター部3’とのx軸方向の離間距離は、図3中下側y軸の方向側の単位シャッター装置2’から上側y軸の-方向側の単位シャッター装置2’に向けて漸減している。そのため、これらを連結する連結部5’の第1連結部51’の長さも、図3中下側の単位シャッター装置2’から上側の単位シャッター装置2’に向けて漸減している。このように、複数の連結部5’を、第2連結部52’の長さが長くなるに連れて、第1連結部51’の長さが短くなるように構成することにより、複数の単位シャッター装置2’間での、連結部5’の全長第1連結部51’の長さと第2連結部52’の長さの和のずれを少なくすることができる。そのため、複数の単位シャッター装置2’間で、例えば、連結部5’の重量のずれを少なくすることができ、複数の単位シャッター装置2’の動作性シャッター部3’の移動速度等を互いにほぼ等しくすることができる。なお、複数の連結部5’の全長は、互いに等しいのが好ましい。これにより、上記の効果がより顕著となる。これと同様に、第2ベース板82に配置されている複数の駆動部4について説明すると、各駆動部4の幅y軸方向の長さは、シャッター部3の幅よりも広く、隣り合う一対の駆動部4の離間距離は、隣り合う一対のシャッター部3の離間距離よりも広い。そのため、複数の駆動部4は、複数のシャッター部3よりもy軸方向に広い領域に広がって配置されている。また、駆動部4のシャフト42の移動軸x1と当該駆動部4に対応するシャッター部3の移動軸x2のy軸方向の離間距離は、図2中下側y軸の方向側の単位シャッター装置2から上側y軸の-方向側の単位シャッター装置2に向けて漸増している。そのため、これらを連結する連結部5の第2連結部52の長さも、図2中下側の単位シャッター装置2から上側の単位シャッター装置2に向けて漸増している。また、複数の駆動部4は、x軸およびy軸に対して傾いた方向に沿って配列されており、駆動部4と当該駆動部4に対応するシャッター部3とのx軸方向の離間距離は、図2中下側の単位シャッター装置2から上側の単位シャッター装置2に向けて漸減している。そのため、これらを連結する連結部5の第1連結部51の長さも、図2中下側の単位シャッター装置2から上側の単位シャッター装置2に向けて漸減している。このように、複数の連結部5を、第2連結部52の長さが長くなるに連れて、第1連結部51の長さが短くなるように構成することにより、複数の単位シャッター装置2間での、連結部5の全長第1連結部51の長さと第2連結部52の長さの和のずれを少なくすることができる。そのため、複数の単位シャッター装置2間で、例えば、連結部5の重量のずれを少なくすることができ、複数の単位シャッター装置2の動作性シャッター部3の移動速度等を互いにほぼ等しくすることができる。なお、複数の連結部5の全長は、互いに等しいのが好ましく、また、連結部5’の全長とも等しいのが好ましい。これにより、上記の効果がより顕著となる。以上、複数の単位シャッター装置2の配置について説明した。前述したように、各単位シャッター装置2は、駆動部4の移動軸x1とシャッター部3の移動軸x2とがy軸方向にずれている。移動軸x1、x2のy軸方向へのずれ量離間距離は、連結部5の第2連結部52の長さを調節することにより、各単位シャッター装置2で独立して設定することができる。このような構成によれば、複数のシャッター部3の配置と、それに対応する複数の駆動部4の配置とを独立して設定することができる。言い換えれば、複数のシャッター部3の配置を設定する際に、複数の駆動部4の配置を考慮する必要がない。したがって、シャッター部3の小型化を図りつつ、複数のシャッター部3をy軸方向により狭いピッチで並設配列することができる。これにより、シャッター装置1の小型化を図ることができる。また、定められた領域内により多くのシャッター部3を配置することができる。また、本実施形態では、複数の駆動部4が、z軸方向に複数段2段に分かれて支持部8に支持されているため、シャッター装置1のxy平面の広がりを抑えることができ、より一層の小型化を図ることができる。なお、複数の駆動部4は、3段以上に分かれて支持部8に支持されていてもよいし、1段にすべてが支持されていてもよい。何段に分けて支持するかは、チャンバー110の形状や、駆動部4の数、大きさ等によって適宜設定することができる。また、本実施形態では、例えば第1ベース板81において、所定の駆動部4’に対応する連結部5’は、一対のストッパー61、62によって、そのx軸方向への移動が規制されている。なお、ストッパー61は、前記所定の駆動部4’の図2中上側に隣り合う駆動部4’に対応する連結部5’のストッパー62として機能し、ストッパー62は、前記所定の駆動部4’の図2中下側に隣り合う駆動部4’に対応する連結部5’のストッパー61として機能してもよい。これは、第2ベース板82に支持されている駆動部4についても同様である。このように、所定の単位シャッター装置2のストッパー61およびストッパー62が、他の単位シャッター装置2のストッパー62およびストッパー61を兼ねることにより、シャッター装置1の構成部品の点数を削減することができる。そのため、シャッター装置1の小型化を図ることができる。次に、これら複数の単位シャッター装置2のシャッター部3を案内するガイド部7について説明する。図6および図7に示すように、ガイド部7は、一対の本体71、72と、本体71、72を回転させる回転手段73、74を有している。一対の本体71、72は、連結部5第1連結部51を介してシャッター部3を支持し、第1連結部51の移動を案内することによりシャッター部3の移動を案内するよう構成されている。これら一対の本体71、72は、x軸方向に離間して設けられている。これにより、x軸方向に離間する異なる2点にて第1連結部51を支持することができるため、第1連結部51を安定して支持することができるとともに、第1連結部51をz軸方向の変位を抑えつつ、本体71、72に対してx軸方向へ円滑に摺動させることができる。以下、本体71、72について説明するが、一対の本体71、72は、互いに同様の構成であるため、以下では、1つの本体71について説明し、本体72については、その説明省略する。本体71は、柱状の基部711と、基部711の側面外周に開放する複数のガイド溝溝712とで構成されている。また、ガイド溝712は、シャッター装置が有する連結部5シャッター部3の数と等しい数形成されている。なお、ガイド溝712の数は、連結部5の数以上であれば、特に限定されない。基部711は、y軸方向に延在する円柱状をなしている。このような基部711は、その両端にてガイド支持部83に中心軸y1まわりに回動可能に支持されている。このような基部711の構成材料としては特に限定されず、例えば、鉄、ニッケル、コバルト、銅、マンガン、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、鉛、錫、チタン、タングステン等の各種金属、またはこれらのうちの少なくとも1種を含む合金または金属間化合物等が挙げられる。このうち、合金としては、例えば、ステンレス鋼、一般構造用圧延鋼材JISG3101、インコネル、その他ジュラルミン等の各種アルミニウム系合金が挙げられる。複数のガイド溝712は、それぞれ、基部711の側面に開放し、基部711の周方向に延在する円環状リング状をなしている。また、複数のガイド溝712は、y軸方向に離間して等ピッチで形成されている。これら各ガイド溝712には、第1連結部51が摺動可能に係合している。これにより、各ガイド溝712は、第1連結部51のx軸方向への移動を案内するガイドとして機能する。図6に示すように、ガイド溝712は、横断面形状が略U字型であり、底面712aと底面712aに対して直交するとともにy軸方向に対向する一対の側面712bとを有している。このようなガイド溝712には、第1連結部51が摺動可能に係合しており、ガイド溝712の底面712aと第1連結部51の下面とが接触している。これにより、第1連結部51は、底面712aによってz軸方向の変位が防止されるとともに、一対の側面712bによってy軸方向の変位が防止された状態でガイド溝712に支持される。そのため、第1連結部51をガイド溝712に対して円滑かつ安定してx軸方向に摺動させることができる。また、ガイド溝712は、中心軸y1を中心軸とするリング状をなしているため、底面712aと第1連結部51の下面とはy軸方向に延在して線接触している。すなわち、底面712aと第1連結部51との接触部300は、y軸方向に延在する線状直線状をなしている。これにより、底面712aと第1連結部51の接触面積が小さくなり、底面712aと第1連結部51との間に発生するx軸方向の摩擦力を小さくすることができる。そのため、ガイド溝712に対して第1連結部51を円滑に摺動させることができ、これにより、シャッター部3を安定してx軸方向に移動させることができるとともに、その移動速度を高めることができる。なお、前記線接触とは、x軸方向にある程度の幅を有しており、この幅は、例えば0.5mm以下である。言い換えれば、前記線接触には、接触部300のx軸方向の長さが0.5mm以下のものが含まれる。このように、ガイド溝712がリング状をなしていることにより、簡単に接触部300をy軸方向に延在する線状にすることができる。また、本実施形態では、基部711が円柱状をなしているため、ガイド溝712の側面712bと第1連結部51の接触面積を小さく抑えることができる。そのため、第1連結部51がガイド溝712に対して摺動する際の、第1連結部51と側面712bとの接触に発生し得る摩擦力を極力抑えることができる。これにより、ガイド溝712に対して第1連結部51をより円滑に摺動させることができる。また、前述したように、第1連結部51は、その幅y軸方向の長さW1がシャッター部3の幅W2よりも短く設定されている。そのため、接触部300のy軸方向の長さを短くすることができ、底面712aと第1連結部51の接触面積をより小さくすることができる。これにより、底面712aと第1連結部51との間に発生するx軸方向の摩擦力をより小さくすることができ、ガイド溝712に対して第1連結部51をより円滑に摺動させることができる。なお、第1連結部51の幅W1としては、シャッター部3の幅W2よりも小さければ特に限定されないが、0.3mm以上、1.0mm以下程度であるのが好ましい。これにより、第1連結部51の機械的強度を維持しつつ、上記効果をより効果的に発揮することができる。また、ガイド溝712の幅W3は、第1連結部51の幅W2よりも若干大きいのが好ましい。具体的には、ガイド溝712の幅W3は、第1連結部51の幅W1よりも0.05mm以上、0.2mm以下程度大きいのが好ましい。これにより、第1連結部51がガイド溝712に対して摺動する際の、第1連結部51と側面712bとの過度な接触が防止され、第1連結部51と側面712bとの間に発生し得る摩擦力を極力抑えることができる。また、第1連結部51と側面712bとの間に過度に大きい隙間が形成されるのが防止され、第1連結部51のy軸方向の変位を効果的に抑制することができる。そのため、第1連結部51をガイド溝712に対してx軸方向に円滑かつ安定して摺動させることができる。また、図6に示すように、ガイド溝712の幅W3は、シャッター部3の幅W2よりも小さいのが好ましい。これにより、シャッター部3の配設ピッチに合わせてガイド溝712を形成することができるため、複数のシャッター部3をより狭いピッチにてy軸方向に並設することができる。そのため、シャッター装置1の小型化を図ることができる。仮に、ガイド溝712の幅W3がシャッター部3の幅W2よりも大きいと、ガイド溝712の形成ピッチに合わせてシャッター部3をy軸方向に並設しなければならないため、シャッター部3の配設ピッチが大きくなってしまい、シャッター装置1の小型化を図ることができない場合がある。また、ガイド溝712の深さは、特に限定されないが、0.1mm以上、1mm以下程度であるのが好ましい。これにより、側面712bの高さがシャッター部3のx軸方向の移動を案内するのに十分な高さとなるとともに、側面712bと第1連結部51とが接触した場合のその接触面積を小さく抑え、これらの間に発生し得る摩擦力の過度な増大を抑制することができる。そのため、第1連結部51と側面712bとの間に発生し得る摩擦力を極力抑えつつ、第1連結部51をガイド溝712に対してx軸方向に円滑かつ安定して摺動させることができる。本実施形態では、このようなガイド溝712の内面に、第1連結部51との間に発生する摩擦抵抗を低減する被覆層713が形成されている。これにより、第1連結部51とガイド溝712との間に発生する摩擦力をより低減することができ、第1連結部51をガイド溝712に対してx軸方向により円滑かつ安定して摺動させることができる。被覆層713は、例えば、金属メッキ膜で構成することができる。金属メッキ膜により被覆層713を構成することにより、被覆層713に低摩擦性に加えて耐摩耗性を付与することができる。そのため、第1連結部51との摺動による被覆層713の摩耗、劣化を効果的に抑制することができ、ガイド溝712に対する第1連結部51の摺動性の経時変化を抑制することができる。金属メッキ膜としては、特に限定されず、例えば、ニッケルメッキ、モリブデンメッキ、スズメッキ、クロムメッキ、無電解ニッケル被膜中にフッ素樹脂PTFEの微粒子を分散共析させたメッキ、無電解ニッケルメッキ、鉄系合金メッキ、アルミニウム系合金メッキ及び銅系合金メッキからなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。特に、これらの中でも、無電解ニッケル被膜中にフッ素樹脂PTFEの微粒子を分散共析させたメッキが好ましい。このメッキは、他の金属メッキ膜と比較して低摩擦性と耐摩耗性のバランスがよく、これらを同時に十分に高いレベルで発揮することができる。金属メッキ膜の製法として、例えば電解メッキや無電解メッキを用いることができる。なお、被覆層713は、金属メッキ膜で構成されているのに限定されず、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエステルPET、PBT等、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂PTFE、ETFE等、またはこれらの複合材料から構成されている樹脂膜であってもよい。このような樹脂膜によっても、低摩擦性を発揮することができる。基部711の直径としては、特に限定されず、例えば、3mm以上、10mm以下程度であるのが好ましい。これにより、ガイド溝712の深さを過度に深くしなくても、すなわち前述した好ましい範囲である0.1~1mmの範囲としたときにも、ガイド溝712の底面712aの曲率を十分に大きくすることができる。そのため、第1連結部51と底面712aとの接触面積接触部300のx軸方向の長さをより小さくすることができ、これらの間の摩擦抵抗をより低減することができる。そのため、第1連結部51をガイド溝712に対してより円滑かつ安定して摺動させることができる。以上、本体71について説明した。このような構成の本体71、72は、その両端にてガイド支持部83に回転可能に支持軸支されている。これら本体71、72は、回転手段73、74によって回転させることができる。回転手段73、74は、モーター例えば、ステッピングモーター等の駆動源を有しており、この駆動源の駆動によって本体71、72をy軸中心軸まわりに回転させることができる。これら回転手段73、74は、独立して制御可能であり、本体71、72を独立して回転させることができる。このような回転手段73、74を有することにより、次のような効果を発揮することができる。すなわち、ガイド溝712の底面712aに対して第1連結部51が摺動し、その摺動が繰り返されることにより、摺動により発生する摩擦によって底面712aの接触部300が摩耗し、接触部300の表面粗さが荒くなったり、接触部300が平坦化したりする。このような問題が生じると、底面712aと第1連結部51との間の摩擦抵抗が増大し、ガイド溝712に対する第1連結部51の摺動性が悪化する。そこで、例えば接触部300の摩耗が許容範囲を超えた場合に、回転手段73、74によって本体71、72を回転させ、底面712aの異なる位置を新たな接触部300として使用することにより、接触部300の摩耗に起因する底面712aと第1連結部51との間の摩擦抵抗の増大を抑制することができる。そのため、ガイド溝712に対する第1連結部51の優れた摺動性を維持することができる。特に、ガイド溝712は、円環状をなし、その延在方向の全域にて底面712aの曲率が等しい。また、その深さ側面712bの高さもガイド溝712の延在方向の全域にて等しい。すなわち、横断面形状がガイド溝712の延在方向の全域にて等しい。そのため、底面712aの各部位は、互いに等しい条件にて第1連結部51と接触することができる。したがって、底面712aの延在方向の全域を同じ条件にて新たな接触部300として利用することができ、本体71の長寿命化を図ることができる。以上、ガイド部7について説明したが、回転手段73、74によるガイド71、72の回転は必要時にもみ行い、それ以外では、本体71、72は、回転が生じないようにガイド支持部83に支持されている。また、例えば、本体71、72は、手動で回転させてもよく、この場合には、回転手段73、74を省略してもよい。以上、周波数調整装置100について説明した。2.周波数調整方法次に、前述した周波数調整装置100を用いた振動子9の周波数調整方法について説明する。周波数調整装置100による振動子9の周波数調整は、1つのシャッター部3の直上に1つの振動子9が位置するように、複数の振動子9をチャンバー110内に配置し、チャンバー110内を減圧状態好ましくは、真空状態とした状態にて行われる。また、振動子9の共振周波数を断続的に検知しながら行われ、この検知結果は、リアルタイムに図示しない制御手段に送られる。複数の振動子9は、それぞれ、板状またはシート状のキャリアに支持されているのが好ましい。そして、この状態にて、以下のようにして、振動子9の周波数を調整する。各振動子9の周波数調整の方法は、互いに同様であるため、以下では、1つの振動子9の周波数を調整する方法について説明し、他の振動子9の周波数を調整する方法については、その説明を省略する。まず、単位シャッター装置2を閉状態とする。次に、イオンガン120をONとし、イオンビームIBを上方に向けて発射する。そして、イオンビームIBが安定するまで、単位シャッター装置2を閉状態としたまま放置する。次に、単位シャッター装置2を開状態とする。単位シャッター装置2を開状態とすると、イオンビームIBが振動子9に照射され、振動子9の一部、より具体的には電極の一部が除去され、これに伴う振動子9の質量の減少によって、振動子9の共振周波数が徐々に上昇する。次に、振動子9の共振周波数が所定の周波数となったときに、単位シャッター装置2を閉状態とする。以上の工程により、振動子9の共振周波数の調整が終了する。このように、シャッター装置1を用いて振動子9の周波数調整質量調整を行うことにより、振動子9の周波数調整をより高精度に行うことができる。具体的には、シャッター装置1では、前述したように、ガイド溝712に対する第1連結部51の摺動性が優れており、シャッター部3の移動速度が速いため、例えば、周波数調整を終了するために、単位シャッター装置2を閉状態する命令信号を出力した時刻から、その命令を受けて単位シャッター装置2が閉状態となる時刻までの時間差をより小さくすることができる。その結果、振動子9の共振周波数の目的値からのずれをより小さくすることができ、振動子9の周波数調整を高精度に行うことができる。また、連結部5のガイド溝712に対する摺動性の低下を抑制することができ、シャッター部3の移動速度をほぼ一定に保つことができる。そのため、単位シャッター装置2を閉状態する命令信号を出力した時刻から、その命令を受けて単位シャッター装置2が閉状態となる時刻までの時間差を毎回ほぼ一定に保つことができる。これにより、前記時間差に基づいた前記命令の出力タイミングの補正を簡単に行うことができ、振動子9の周波数調整を高精度に行うことができる。<第2実施形態>次に、本発明のシャッター装置の第2実施形態について説明する。図8は、本発明の第2実施形態に係るシャッター装置が有するガイド部の平面図である。以下、第2実施形態のシャッター装置について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。本発明の第2実施形態にかかるシャッター装置は、ガイド部の構成が異なる以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、前述した第1実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。なお、本体71、72は、互いに同様の構成であるため、以下では、本体71について代表して説明し、本体72については、その説明を省略する。図8に示すように、本実施形態の本体71が有するガイド溝712の底面712aは、径方向に突出する複数の突起部714を有している。複数の突起部714は、基部711の周方向に等間隔に離間して形成されている。また、複数の突起部714は、それぞれ、湾曲凸面で構成された先端部714aを有している。図8に示すように、本体71は、これら複数の突起のうちの1つの突起部714がz軸方向上側を向き、その先端部714aと第1連結部51とが点接触している。これにより、例えば前述した第1実施形態と比較して、第1連結部51と底面712aとの接触面積をより小さくすることができ、底面712aと第1連結部51との間に発生するx軸方向の摩擦力を小さくすることができる。そのため、ガイド溝712に対して第1連結部51をより円滑に摺動させることができ、シャッター部3をより安定してx軸方向に移動させることができるとともに、その移動速度をより高めることができる。なお、前記点接触とは、ある程度の面積を持って接触している場合も含み、その面積としては、例えば、0.1mm2以下程度である。第1連結部51と接触している突起部714が摩耗すると、別の突起部714が第1連結部51と接触するように回転手段73によって本体71を回転させる。これにより、底面712aと第1連結部51との間の摩擦抵抗の増大を防止し、ガイド溝712に対する第1連結部51の優れた摺動性を維持することができる。以上のような第2実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を奏することができる。<第3実施形態>次に、本発明のシャッター装置の第3実施形態について説明する。図9は、本発明の第3実施形態に係るシャッター装置が有するガイド部の平面図である。以下、第3実施形態のシャッター装置について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。本発明の第3実施形態にかかるシャッター装置は、ガイド部の構成が異なる以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、前述した第1実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。なお、本体71、72は、互いに同様の構成であるため、以下では、本体71について代表して説明し、本体72については、その説明を省略する。図9に示すように、本実施形態の本体71が有するガイド溝712の両側面712bは、基部711の周方向に等間隔に離間して形成された複数の突出部716を有している。また、複数の突出部716は、ガイド溝712の内側へ向けて突出するとともに、互にy軸方向に対向する一対の突起部715から構成されている。一対の突起部715は、それぞれ湾曲凸面で構成された先端部715aを有している。図9に示すように、このような構成のガイド溝712は、これら複数の突出部716のうちの1つの突出部716が第1連結部51を挟み込むように、第1連結部51を支持している。すなわち、本体71は、所定の突出部716が有する一対の突起部715の間に第1連結部51が位置するように、第1連結部51を支持している。そのため、第1連結部51と側面712bとが接触する場合、これらは点接触する。これにより、例えば前述した第1実施形態と比較して、第1連結部51と側面712bとが接触した場合のその接触面積をより小さくすることができ、側面712bと第1連結部51との間に発生し得るx軸方向の摩擦力を小さくすることができる。そのため、ガイド溝712に対して第1連結部51をより円滑に摺動させることができる。なお、前記点接触とは、ある程度の面積を持って接触している場合も含み、その面積としては、例えば、0.1mm2以下程度である。第1連結部51と接触し得る突出部716一対の突起部715が摩耗すると、別の突出部716が第1連結部51と接触するように回転手段73によって本体71を回転させる。これにより、側面712bと第1連結部51との間に発生し得る摩擦抵抗の増大を防止し、ガイド溝712に対する第1連結部51の優れた摺動性を維持することができる。以上のような第3実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を奏することができる。以上、本発明のシャッター装置について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。また、各実施形態を適宜組み合わせてもよい。また、前述した実施形態では、イオンビームによって振動子の質量を減少させることにより振動子の共振周波数を変更する方法について説明したが、これに限定されず、例えば蒸着によって金属粒子を振動子に付着させ、振動子の質量を増加させることにより、振動子の共振周波数を変更してもよい。また、前述した実施形態では、シャッター装置が複数のシャッター部単位シャッター装置を有しているが、シャッター部単位シャッター装置の数としては、特に限定されず、1つであってもよい。