"下記a~e:a少なくとも一種のアルコールと、任意成分としての水と、任意成分としての不活性成分とを含む流れAを反応器に導入し、b反応器内で、アルコールの少なくとも一部を脱水してオレフィンを製造するのに有効な条件下で、上記流れAを酸触媒と接触させ、c反応器から、不活性成分と、少なくとも一種のオレフィンと、水と、任意成分としての未変換アルコールとを含む流れBを回収し、d上記流れBを必要に応じて分留して未変換アルコールを回収し、この未変換アルコールをa段階の反応器へ再循環し、e上記流れBを必要に応じて分留して不活性成分と、水と、オレフィンとを回収し、必要に応じて上記不活性成分および任意成分としての水の一部をa段階の反応器へ再循環する、段階を含む、少なくとも2個の炭素原子を有するアルコールを脱水して対応するオレフィンを製造する方法であって、f触媒の活性サイトの一部を中和可能な成分の有効量を上記流れAに導入するか、上記脱水反応器へ直接導入し、gアルコール変換率またはオレフィン収率またはその両方を高くするために、必要に応じて脱水反応器の温度を調節することを特徴とする方法。下記a~e:a少なくとも一種のアルコールと、任意成分としての水と、任意成分としての不活性成分とを含む流れAを反応器に導入し、b反応器内で、アルコールの少なくとも一部を脱水してオレフィンを製造するのに有効な条件下で、上記流れAを酸触媒と接触させ、c反応器から不活性成分と、少なくとも一種のオレフィンと、水と、任意成分としての未変換アルコールとを含む流れBを回収し、d上記流れBを必要に応じて分留して未変換アルコールを回収し、この未変換アルコールをa段階の反応器へ再循環し、e上記流れBを必要に応じて分留して不活性成分と、水と、オレフィンを回収し、必要に応じて上記不活性成分および任意成分としての水の一部をa段階の反応器へ再循環する、段階を含む、少なくとも2個の炭素原子を有するアルコールを脱水して対応するオレフィンを製造する方法であって、f所望する対応オレフィンの選択性を高くすることができる成分の有効量を上記流れAに導入するか、脱水反応器へ直接導入し、g必要に応じてアルコール変換率またはオレフィン収率またはその両方を高くするために脱水反応器の温度を調節することを特徴とする方法。上記触媒を下記の中から選択する請求項1または2に記載の方法:1Si/Al比が10以上である結晶性シリケートゼオライト、2脱アルミニウム化した結晶性シリケートゼオライト、3燐改質ゼオライト、4シリカアルミナ、5アルミナ、6シリケート化silicated、チタネート化titanated、ジルコネート化zirconatedまたはフッ素化したアルミナまたは7シリコアルミノホスフェート。f段階で導入する成分の一部を、脱水すべきアルコールのフィードストック中に事前に入れておく請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。f段階で導入する成分の全てを、脱水すべきアルコールのフィードストック中に事前に入れておく請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。f段階で導入する成分が、アンモニア、有機アンモニウム塩、ヒドラジン、ニトリル、アミンピリジン、ピロール、ピロリドンおよびピロリジンを含む、アミド、イミン、ジ-イミン、イミド、シアネート、イソシアネート、亜硝酸塩およびニトロソ化合物から成る群の中から選択される請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。f段階で導入する成分がアルデヒド、ケトンおよびカルボン酸エステルから成る群の中から選択される請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。f段階で導入される成分がチオール、硫化物および二硫化物から成る群の中から選択される請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。エタノール脱水プロセスのエタノール変換率は完全に近いが、プロセス効率を良くし、下流の分離/精製のコストのかかる段階を省くためには、高いエタノール変換率を維持しながらC2選択性を高めることが重要である。本発明者は、選択的酸サイト等をアクティブに維持したまま、非選択的な酸サイトを汚染することで触媒の活性と選択性を調節する簡便な解決方法を開発した。これは、アルコールフィードに中和剤を加えるスパイキング混合によって達成できる。本発明の第1の具体例は、下記a~e:a少なくとも一種のアルコールと、任意成分としての水と、任意成分としての不活性成分とを含む流れAを反応器に導入し、b反応器内で、アルコールの少なくとも一部を脱水してオレフィンを製造するのに有効な条件下で、上記流れAを酸触媒と接触させ、c反応器から、不活性成分と、少なくとも一種のオレフィンと、水と、任意成分としての未変換アルコールとを含む流れBを回収し、d上記流れBを必要に応じて分留して未変換アルコールを回収し、この未変換アルコールをa段階の反応器へ再循環し、e上記流れBを必要に応じて分留して不活性成分と、水と、オレフィンとを回収し、必要に応じて上記不活性成分および任意成分としての水の一部をa段階の反応器へ再循環する、段階を含む、少なくとも2個の炭素原子を有するアルコールを脱水して対応するオレフィンを製造する方法であって、f触媒の活性サイトの一部を中和可能な成分の有効量を上記流れAに導入するか、上記脱水反応器へ直接導入し、gアルコール変換率またはオレフィン収率またはその両方を高くするために、必要に応じて脱水反応器の温度を調節することを特徴とする方法にある。上記のf段階での添加の結果として所望の対応オレフィンの選択性が上がる。本発明の第2の具体例は、下記a~e:a少なくとも一種のアルコールと、任意成分としての水と、任意成分としての不活性成分とを含む流れAを反応器に導入し、b反応器内で、アルコールの少なくとも一部を脱水してオレフィンを製造するのに有効な条件下で、上記流れAを酸触媒と接触させ、c反応器から不活性成分と、少なくとも一種のオレフィンと、水と、任意成分としての未変換アルコールとを含む流れBを回収し、d上記流れBを必要に応じて分留して未変換アルコールを回収し、この未変換アルコールをa段階の反応器へ再循環し、e上記流れBを必要に応じて分留して不活性成分と、水と、オレフィンを回収し、必要に応じて上記不活性成分および任意成分としての水の一部をa段階の反応器へ再循環する、段階を含む、少なくとも2個の炭素原子を有するアルコールを脱水して対応するオレフィンを製造する方法であって、f所望する対応オレフィンの選択性を高くすることができる成分の有効量を上記流れAに導入するか、脱水反応器へ直接導入し、g必要に応じてアルコール変換率またはオレフィン収率またはその両方を高くするために脱水反応器の温度を調節することを特徴とする方法にある。本発明の一実施例では触媒は下記のいずれかである:1Si/Al比が10以上である結晶性シリケートゼオライト、2脱アルミニウム化した結晶性シリケートゼオライト、3燐改質ゼオライト、4シリカアルミナ、5アルミナ、6シリケート化silicated、チタネート化titanated、ジルコネート化zirconatedまたはフッ素化したアルミナ、または7シリコアルミノホスフェート。本発明の一実施例では、280~500°Cの温度に調節することによって中和成分によって触媒表面上の吸着平衡を壊して触媒の汚染に対する耐性を達成し、バイオマスから得られるアルコール中に含まれる不純物の種類および含有量から独立して最適な触媒安定性が得られるようにする。スパイク成分f段階で導入する成分は基本的に窒素含有化合物であり、この窒素含有化合物は塩基性であるか、脱水反応条件下で塩基性成分に変換できものであり、アンモニア、有機アンモニウム塩、ヒドラジン、ニトリル、アミンピリジン、ピロール、ピロリドンおよびピロリジンを含む、アミド、イミン、ジ-イミン、イミド、シアネート、イソシアネート、亜硝酸塩およびニトロソ化合物、アルデヒド、ケトンおよびカルボン酸エステルおよびこれらの対応チオ化合物チオール、硫化物および二硫化物から成る群の中から選択できる。特定の理論に拘束されるものではないが、添加した中和剤または脱水反応条件下で生成し、フィード中に存在するそれに由来する成分と触媒表面との間に動的平衡が形成されると考えられる。脱水反応条件下で生成する、非選択的な酸サイトに吸着した中和剤またはそれに由来の成分の量は触媒表面上のその分圧と温度によって決まる。従って、フィード中に添加するか、存在する中和剤の量と反応温度とによって触媒の選択性を高くするための必要条件が満足させられる。非選択的な酸サイトを中和できる有効成分は塩基性でなければならないことは理解できよう。上記の窒素含有化合物の一部は塩基性であり、他は反応条件高温および水の存在下で容易に塩基性窒素化合物に分解する。a段階で導入される流れのアルコールは脱水して対応オレフィンにすることができる任意のアルコールである。その一例としては2~10個の炭素原子を有するアルコールが挙げられる。本発明ではエタノール、プロパノール、ブタノールイソ、nおよび第3級およびフェニルエタノールにするのが有利である。上記の不活性成分は触媒を損なわない任意の成分である。脱水は吸熱反応であるので、不活性成分を用いてエネルギーを与えることができる。不活性成分の一例は10個以下の炭素原子を含む飽和炭化水素、ナフテン、窒素およびCO2の中から選択される。不活性成分の例としては任意の飽和化合物、飽和化合物の合成混合物およびある種の平衡した精製流、例えば、直留ナフサ、ブタン等が挙げられる。不活性成分は3~7個の炭素原子、有利には4~6個の炭素原子を含む飽和炭化水素か、飽和炭化水素の混合物であるのが有利であり、ペンタンであるのが好ましい。アルコール、水および不活性成分のそれぞれの重量比率は例えば5~100/0~95/0~95合計100である。流れAは液体または気体にすることができる。脱水反応器は固定床反応器、移動床反応器または流動床反応器にすることができる。一般的な流動床反応器は石油精製所の流動床触媒クラッキングに用いるFCC型の流動床反応器である。一般的な移動床反応器は連続触媒改質型である。脱水は一対の並列スイング反応器を用いた固定床反応器設備で連続的に実施できる。本発明の種々の好ましい触媒は高い安定性を示すことが確認されており、それによって一方の反応器が運転し、他方の反応器で触媒を再生する2つの並列スイング反応器で脱水プロセスを連続的に行うことができる。また、本発明の触媒は数回再生できる。a段階およびb段階の圧力に関しては、b段階の反応器の圧力は任意の圧力にすることができるが、中程度の圧力で運転するのがより経済的である。一例として反応器の圧力は0.5~30絶対バール50kPa~3MPa、有利には0.5~10絶対バール50kPa~1MPa、有利には0.5~5絶対バール50kPa~0.5MPa、さらに有利には1.2~5絶対バール0.12MPa~0.5MPa、好ましくは1.2~4絶対バール0.12MPa~0.4MPaである。アルコール分圧は4絶対バール0.4MPa以下、さらに有利には0.5~4絶対バール0.05MPa~0.4MPa、好ましくは3.5絶対バール0.35MPa以下、さらに好ましくは2絶対バール0.2MPa以下であるのが有利である。脱水反応器の温度は280~500°C、有利には300~500°C、好ましくは330~450°Cである。この反応温度は実質的に触媒床の平均温度である。エタノール脱水は吸熱反応であるため、十分に高い触媒活性を維持し且つ熱力学平衡を十分に高い変換レベルに移すために反応熱を注入する必要がある。流動床反応器の場合、i触媒循環のない静止流動床では反応温度は触媒床全体でほぼ均一であり、ii変換反応部分と触媒再生部分との間で触媒が循環する循環流動床では、触媒逆混合度に応じて、触媒床の温度は均一条件に近づく逆混合が大か、プラグ流条件に近づきほぼ逆混合なし、従って、変換が進むにつれて減少する温度分布を設定する。固定床または移動床反応器の場合にはアルコールの変換が進むにつれて低下する温度分布を設定する。温度降下従って触媒活性の低下を補償するため、また、熱力学平衡に近づけるために、複数の触媒床を直列に用い、第1床からの反応器流出物をより高い温度に内部加熱し、加熱流出物を第2触媒床に導入して反応熱を導入することができる。固定床反応器を用いる時は多管式反応器を使用し、触媒を反応器シェルに取付けた小径管に充填する。シェル側に加熱媒体を導入して反応器管の壁を介した熱伝達によって所望の反応熱を触媒に与える。アルコールのWHSVは1~20h1、さらに有利には2~20h1、好ましくは5~15h1、さらに好ましくは7~12h1にするのが有利である。流れBは主として水、オレフィン、不活性成分存在する場合および未変換アルコールから成る。この未変換アルコールはできるだけ少なくするべきである。オレフィンは通常の分留手段で回収する。不活性成分が存在する場合には未変換アルコール存在する場合と一緒に流れA中で再循環するのが有利である。b段階の脱水触媒は上記条件下でアルコールを脱水させることができる任意の酸触媒にすることができる。例としてはモレキュラーシーブ、ゼオライト、改質ゼオライト例えばP改質ゼオライト、シリカ-アルミナ、アルミナ、シリケート化、チタネート化、ジルコネート化またはフッ素化したアルミナ、シリコ-アルモホスフェートが挙げられる。本発明の一実施例では、触媒は少なくとも一種の10員環を構造中に含む結晶性シリケートであるのが有利である。例としては下記のものが挙げられる:珪素、アルミニウム、酸素および任意成分としての硼素から成るミクロポーラス材料のMFIZSM-5、シリカライト-1、ボラライトC、TS-1、MELZSM-11、シリカライト-2、ボラライトD、TS-2、SSZ-46、FERフェリエ沸石、FU-9、ZSM-35、MTTZSM-23、MWWMCM-22、PSH-3、ITQ-1、MCM-49、TONZSM-22、Theta-1、NU-10、EUOZSM-50、EU-1、MFSZSM-57およびZSM-48ファミリー。この第1実施例では、触媒A1は結晶性シリケートまたは脱アルミニウム化した結晶性シリケートであるのが有利である。結晶性シリケートはSi/Al比を少なくとも約10にすることができる。結晶性シリケートは、一実施例では、Si/Al比を少なくとも約100にすることができ、結晶性シリケートはMFIおよびMELの中から選択するのが有利である。結晶性シリケートおよび脱アルミニウム化した結晶性シリケートは基本的にH型であるのが有利である。すなわち、マイナー成分約50以下の成分は金属補償イオン、例えばNa、Mg、Ca、La、Ni、Ce、Zn、Coを含むことができる。脱アルミニウム化した結晶性シリケートでは約10重量のアルミニウムを除去するのが有利である。この脱アルミニウム化はスチーム処理で行い、その後に必要に応じて浸出leachingするのが有利である。本発明の他の実施例では、結晶性シリケートはバインダ、好ましくは無機バインダと混合され、所望の形例えばペレットに形成される。バインダは本発明の脱水プロセスで使用する温度、その他の条件に耐久性のあるものが選ばれる。バインダはクレー、シリカ、金属シリケート、金属酸化物例えばZrO2またはシリカと金属酸化物との混合物を含むゲルの中から選択される無機材料である。本発明の一実施例では、触媒はP改質ゼオライト燐改質phosphorusmodifiedゼオライトである。この燐改質モレキュラーシーブは初期Si/Al比が4~500であるのが有利なミクロポーラスモレキュラーシーブのMFI、MOR、MEL、クリノプチロライトまたはFER、MWW、TON、EUO、MFSおよびZSM-48ファミリーをベースにして製造できる。この製法のP改質ゼオライトはSi/Al比が低い30以下の安価な結晶性シリケートをベースにして得ることができる。上記P改質ゼオライトは例えば下記段階を下記順序で行うプロセスで作られる:1HまたはNH4型のMFI、MEL、FER、MOR、クリノプチロライト、MWW、TON、EUO、MFSおよびZSM-48の中からゼオライト有利にはSi/Al比が4~500を選択し、2少なくとも0.05重量のPを導入するのに有効な条件下でPを導入し、3固体存在する場合を液体から分離し、4任意の洗浄段階または任意の乾燥段階または任意の乾燥段階と、その後の洗浄段階を行い、5焼成する。上記のSi/Al比が低いゼオライトは有機テンプレートを用いてまたは用いずに直接添加で製造されている。上記のP改質ゼオライトの製造プロセスは必要に応じてさらにスチーム処理および浸出段階をさらに含むことができる。そのプロセスではスチーム処理後に浸出する。ゼオライトのスチーム処理によってゼオライト骨格から出たアルミニウムはゼオライトの気孔の内側および外側に酸化アルミニウムとして存在するというということは当業者には知られている。この変態はゼオライトの脱アルミニウム化dealuminationとして知られ、本明細書ではこの用語を用いる。スチーム処理済みのゼオライトを酸溶液で処理して骨格外の酸化アルミニウムを溶解する。この操作は浸出leachingとして知られ、本明細書ではこの用語を用いる。次いで、ゼオライトを有利には濾過分離し、必要に応じて洗浄する。乾燥段階を濾過段階と洗浄段階との間に行うこともできる。洗浄後の溶液は例えば濾過によって固体から分離するか、蒸発させることができる。Pを任意の他の手段、例えば下記特許文献に記載の製法で導入することもできる。米国特許第3,911,041号明細書米国特許第5,573,990号明細書米国特許第6,797,851号明細書P改質ゼオライトを用いた触媒はP改質ゼオライト自体にするか、触媒に最終触媒生成物に追加の硬度または触媒活性を与えるための他の材料を組合せた配合型のP改質ゼオライトにすることができる。成形前に燐の少なくとも一部をゼオライトに導入するのが有利である。特定実施例では、形成したP先駆体を、下記文献に記載の製法に従ってMg、Ca、La、Ni、Ce、Zn、Co、Ag、Fe、Cuから選択される金属でさらに改質することができる。国際特許第WO09092779号公報国際特許第WO09092781号公報固体からの液体の分離は0~90°Cの温度での濾過、0~90°Cの温度での遠心分離、蒸発またはこれらと同等な方法で行うのが有利である。ゼオライトの分離後、洗浄前に、必要に応じてさらに乾燥することができる。この乾燥は40~600°Cの温度で有利には1~10時間行う。この乾燥は静止状態でまたはガス流中で行うことができる。空気、窒素または任意の不活性ガスを使用できる。洗浄段階を冷水<40°Cまたは熱水>40°C且つ<90°Cを用いて濾過中分離段階で実施するか、固体を水溶液1kgの固体/4リットル水溶液に入れ、0.5~10時間還流条件下に処理し、その後、蒸発または濾過を実施することができる。最終平衡段階は静止状態でまたはガス流中で400~800°Cの温度で実施するのが有利である。空気、窒素または任意の不活性ガスを使用できる。本発明の特定実施例では、上記燐改質ゼオライトは下記の段階を下記順序で行うプロセスで作られる:1HまたはNH4型のMFI、MEL、FER、MOR、クリノプチロライト、MWW、TON、EUO、MFSおよびZSM-48の中からゼオライト有利にはSi/Al比が4~500、この実施例では4~30を選択し、2400~870°Cの温度で0.01~200時間、スチーム処理し、3ゼオライトからAlの大部分を除去するのに有効な条件下で酸水溶液で浸出し、4有利には少なくとも0.05重量のPを導入するのに有効な条件下でP源を含む水溶液を用いてPを導入し、5固体を液体から分離し、6任意の洗浄段階または任意の乾燥段階または任意の乾燥段階とその後の洗浄段階を行い、7焼成する。スチーム処理段階と浸出段階との間に、必要に応じてさらに中間段階、例えばシリカ粉末との接触および乾燥を存在させることができる。必要に応じてさらに、燐を含む酸ベースを用いて浸出とPの導入とを同時に行って、浸出させる。選択されたMFI、MEL、FER、MOR、クリノプチロライト、MWW、TON、EUO、MFSおよびZSM-48またはHまたはNH4型のMFI、MEL、FER、MOR、クリノプチロライト、MWW、TON、EUO、MFSおよびZSM-48は初期の原子比Si/Al比が100以下で、この実施例では4~30であるのが有利である。HまたはNH4型への変換自体公知であり、特許文献6米国特許第3,911,041号明細書および特許文献7米国特許第5,573,990号明細書に記載されている。最終的なP含有率は少なくとも0.05重量、好ましくは0.3~7重量であるのが有利である。浸出によって親ゼオライトMFI、MEL、FER、MORおよびクリノプチロライト、MWW、TON、EUO、MFSおよびZSM-48に対して少なくとも10のAlがゼオライトから抽出および除去されているのが有利である。次いで、ゼオライトを洗浄溶液から分離するか洗浄溶液から分離せずに乾燥する。この分離は濾過で行うのが有利である。次いで、ゼオライトを、例えば、400°Cで2~10時間焼成する。スチーム処理段階での温度は好ましくは420~870°C、さらに好ましくは480~760°Cであり、圧力は大気圧であるのが好ましく、水の分圧は13~100kPaにすることができる。スチーム雰囲気は5~100体積のスチームを、0~95体積の不活性ガス、好ましくは窒素と一緒に含むのが好ましい。スチーム処理は、好ましくは0.01~200時間、有利には0.05~200時間、さらに好ましくは0.05~50時間行う。スチーム処理ではアルミナを形成させ、結晶性シリケート骨格中の4面体アルミニウムの量を減少させる。浸出は有機酸、例えばクエン酸、ギ酸、シュウ酸、酒石酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、フタル酸、イソフタル酸、フマル酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチレンジアミン三酢酸、エチレンジアミン四酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、またはこれら酸の塩例えばナトリウム塩またはこれら酸または塩の二種以上の混合物を用いて行うことができる。他の無機酸としては硝酸、塩酸、メタンスルホン酸、燐酸、ホスホン酸、硫酸のような無機酸またはこれら酸の塩例えばナトリウム塩またはアンモニウム塩またはこれら酸または塩の二種以上の混合物が挙げられる。残留P含有率は、P源を含む酸水溶液中のP濃度、乾燥条件および洗浄操作任意で調節できる。乾燥段階は濾過段階と洗浄段階との間に行うことができる。このP改質ゼオライト自体を触媒として使用できる。別の実施例では、このP改質ゼオライトは最終触媒生成物に追加の硬度または触媒活性を与えるその他の材料と組み合わせることによって触媒に配合できる。P改質ゼオライトと混合できる材料は種々の不活性または触媒活性材料または種々の結合剤材料にすることができる。これらの材料としてはカオリン、その他のクレーのような組成物、各種形態の希土類金属、燐酸塩、アルミナまたはアルミナゾル、チタニア、ジルコニア、石英、シリカまたはシリカゾルおよびこれらの混合物が挙げられる。これらの成分は触媒および配合触媒の圧縮強度の増加に有効である。触媒はペレット、球に成形したり、その他の形状に押出したり、噴霧乾燥粒子にすることができる。最終触媒生成物中に含まれるP改質ゼオライトの量は全触媒の10~90重量、好ましくは全触媒の20~70重量である。脱水触媒は特許文献11国際特許第WO2009098262号に記載されている。国際特許第WO2009098262号公報本発明の他の特定の実施例での本発明に適した他の触媒はAELのグループのシリコアルミノホスフェートモレキュラーシーブで、その代表的な例はSAPO-11モレキュラーシーブである。SAPO-11モレキュラーシーブはALPO-11をベースにし、Al/P比は基本的に1原子/原子である。合成中に珪素先駆体を加えてALPO骨格中に珪素を挿入することで、10-員環のモレキュラーシーブのミクロポアの表面に酸サイトができる。珪素の含有量は0.1~10原子であるAlPSiは100。脱水に適した触媒の他のファミリーはアルミナそのものか、シリカ-アルミナ、または珪素、ジルコニウム、チタンまたは蛍石で表面処理して改質したアルミナである。アルミナは一般に広範囲の酸強度分布とルイス-タイプおよびブロンステッドBronstedタイプの酸サイトを有するという特徴を有する。酸強度分布が広範囲であることから多くの反応で触媒作用を示す。そのため所望生成物の選択性が低くなるという結果になることが多い。アルミナ表面上に珪素、ジルコニウム、チタンまたは蛍石を析出させることで触媒の選択性を大きく上げることができる。アルミナベースの触媒製造には適当な市販のアルミナ、好ましくは表面積が10~500m2/グラムでアルカリ含有量が0.5以下のイータまたはガンマアルミナを使用できる。本発明触媒は珪素、ジルコニウムまたはチタンを合計で0.05~10加えて調製される。これらの金属の添加はアルミナ製造時に行うか、既に活性化済みのアルミナに加えて行うこともできる。アルミナ製造時に金属を添加する場合には、アルミナの最終沈殿前にアルミニウム先駆体と一緒に金属先駆体を溶かすか、水酸化アルミニウムゲルへ金属先駆体を添加することで行うことができる。好ましい方法は成形したアルミナに金属先駆体を加える方法である。金属先駆体を水または有機の適切な溶剤に溶かし、インシピエント湿式含浸または湿気含浸または所定時間、アルミナを溶剤と接触させ、その後に過剰溶剤を抽出する。また、アルミナを金属先駆体の蒸気と接触させることもできる。適した金属先駆体は珪素、ジルコニウムまたはチタンのハロゲン化物、ジルコニウムまたはチタンのオキシハロゲン化物、珪素、ジルコニウムまたはチタンのアルコキシド、ジルコニウムまたはチタンのオキサレートまたはクエン酸塩または上記の混合物である。溶剤は金属先駆体の溶解度に従って選ばれる。接触は0°C~500°C、好ましくは10°C~200°Cの温度で行うことができる。接触後にアルミナは蒸留水で洗浄し、乾燥し、最後に焼成してアルミナと珪素、ジルコニウムまたはチタンと間の表面反応性を高くし且つ金属先駆体リガンドを除去する。シリケート化、ジルコネート化またはチタネート化またはフッ素化されたアルミナを使用することで、水の存在下での脱水を好ましく行うことができる。アルコールに対する水の重量比は1/25~3/1の範囲である。フッ素化アルミナ自体は公知であり、従来技術に従って作ることができる。f段階の成分は、触媒の非選択的な活性サイトの一部を中和できる化合物その塩基性として直接的か、運転条件下での分解生成物に間接的中和できる化合物の中から選択できる。具体的には、この成分はアンモニア、有機アンモニウム塩、ヒドラジン、ニトリル、アミンピリジン、ピロール、ピロリドンおよびピロリジンを含む、アミド、イミン、ジ-イミン、イミド、シアネート、イソシアネート、亜硝酸塩およびニトロソ化合物から成る群の中から選択できる。本発明の他の実施例では、この成分はアルデヒド、ケトン、カルボン酸エステルから成る群の中から選択できる。本発明のさらに他の実施例では、この成分はチオール、硫化物、二硫化物から成る群の中から選択できる。この量はアルコールに対して0.001ppm~100wppm、有利には0.01wppm~100wppm、より好ましくは0.01~10ppmwtであるのが有利である。中和剤は下記i~viによって反応器中に導入できる:iアルコールフィードストックと混合する、ii残っているアルコールフィードストックと一緒に反応器に後で導入されるアルコールフィードストックの一部と混合する、iiiアルコールフィードストックと一緒に反応器中に後で導入される不活性希釈剤と混合する、ivアルコールフィードストックと一緒に反応器中に後で導入される水と混合する、v反応器に再循環される流れの一つ、例えば非変換アルコール、水または不活性希釈剤と混合する、または、vi中和剤を実質上含まないアルコールのフィードストックを、既に中和剤を0.001wppm~1000wppmの範囲で含んでいるアルコールのフィードストックと混合する。後者の場合、中和剤はアルコールのフィードストックを製造した製造プロセス、例えば、炭水化物または合成ガスを発酵してアルコールにする発酵プロセス痕跡量の中和剤は本質的に製造プロセスの一部で、最終アルコール生成物中に残るに起因する。極端な例では、既に中和剤を適量で含んだアルコールのフィードストックのみを用いる。後者の場合は、反応温度を調節することによって非選択的な酸サイトの影響を和らげる能力によって中和剤の作用を制御できる。他の実施例では、中和剤の活性成分または中和剤自体が、直接または間接的に、触媒と動的平衡し、その一部またはほぼ全てがオレフィン、水および不活性希釈剤と一緒に反応器から出る。その一部またはほぼ全てを一つ流れに濃縮でき、この流れを反応器に再循環する。反応器を出る活性成分の種類に応じて、活性成分は非変換アルコール、不活性希釈剤または水性留分に濃縮でき、最終的には、非変換アルコールおよび不活性希釈剤も含む。この場合には活性成分または中和剤が反応器に再循環され、そこで触媒との動的平衡に寄与する。それによって中和剤の補給量を大幅に減らすことができる。脱水反応器の温度の調節は変換率と収率をチェックすることで反応器を管理するオペレータが容易に行える。この調節は約5°Cから50°Cまで、好ましくは約10°Cから40°Cまで、より好ましくは20°Cから40°Cまでの上昇であるのが有利である。エタノール変換率は反応器に導入したエタノール-反応器から出たエタノール/反応器に導入したエタノール比である。エチレン収率は、炭素基準で、反応器から出たエチレン/反応器に導入したエタノール比である。エチレン選択性は、炭素基準で、反応器から出たエチレン/反応器内で変換されたエタノール比である。エチレン純度は、炭素基準で、反応器から出たエチレン/反応器から出たエチレンエタン比である。これは、エチレン純度が、沸点近接化合物を含み、反応器から出た流れに回収されるC2カット中に存在する炭素基準でのエチレンの百分比であることを意味する。C2カットは未変換エタノールおよびアセトアルデヒド存在する場合を含まない。実験:ステンレス鋼反応器管は11mmの内径を有する。この管型反応器に10m1の35-45メッシュのペレットの触媒を入れる。触媒床の前後の空間には1.6mmの不活性アルミナビーズを充填する。温度分布は反応器中にセットしたサーモウェルを用いてモニターした。反応器の温度を60°C/時の速度で窒素下に550°Cまで上げ、550°Cで1時間維持し、次いで、窒素下で初期反応温度まで冷却した。次いで、窒素を下記条件下でフィードに代えた。生成物の分析はオンラインガスクロマトグラフィを用いて実行した。1Surfin96バイオエタノール実施例で用いられるSurfin96バイオエタノールの特徴を[表1]にまとめた。2触媒:触媒は下記の方法で処理された燐改質ゼオライトP-ZSM5である。H-形ゼオライトZSM-5Si/Al=13のサンプルを100H2Oで550°Cで6時間スチーム処理した。スチーム処理した固体を還流条件下4ml/1gゼオライトで2時間、H3PO485重量水溶液と接触させた。次いで、69,9gのCaCO3を導入した。その後、溶液を80°Cで3日間蒸発させ、乾燥した。750gの乾燥サンプルを4015gのBindzilおよび0.01重量の押出し添加剤と一緒に押出した。押出し成形した固体は110°Cで16時間乾燥し、600°Cで10時間、焼成した。次いで触媒をスチーム下に600°Cで2時間平衡化した。比較例1この比較例では、95重量のSurfin96バイオエタノールと5重量の水との混合物を下記の脱水条件下で、触媒上で処理した:2bara絶対バールの出口圧力、7h1のSurfin96バイオエタノールの重量時間空間速度、下降流、400°Cの入口温度。[図1]は時間を関数にしたエタノール変換率とエチレン収率の変化を示し、Surfin96バイオエタノールの場合、下記定義の運転条件下で純粋エタノールの処理時に触媒の非活性化が起こらないことを示している。実施例1本発明この実施例では、バイオエタノールSurfin96に0.8wppmのアセトニトリルをスパイクした混ぜた。95重量のこのスパイクしたエタノールと5重量の水との混合物を下記の脱水条件下に触媒上で処理した:2絶対バールの出口圧力、7h1の粗エタノールの重量時間空間速度、下降流。[図2]は時間を関数にしたエタノール変換率とエチレン収率の変化を示し、制御された量の中和剤この場合はアセトニトリルの使用によって、触媒の活性が抑制される。温度の上昇が要求されるこの場合は430°Cが、エチレン選択性が高くなり、[表3]は示す性能は時間的に損なわれない。実施例2比較例この比較例で用いるバイオエタノールはSurfin96バイオエタノールである。95重量のSurfin96バイオエタノールと5重量の水との混合物を下記の脱水条件下で、触媒上で処理した:2絶対バールの出口圧力、7h1のSurfin96バイオエタノールの重量時間空間速度、下降流、430°C。[図3]は時間を関数にしたエタノール変換率とエチレン収率の変化を示す。脱水触媒の性能は[表4]にまとめた。この結果から、430°CでのSurfin96バイオエタノールの処理時には二次反応オリゴマー化/クラッキングが起こり、最終エチレン選択性に著しい影響を及ぼすことがわかる。"