"マスクレイアウトにある1つまたは複数の目標パターンに関してサブ解像度補助パターンSRAFを配置するための方法であって、前記マスクレイアウトについての初期SRAFガイダンスマップを生成することと、前記初期SRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに1回目の1つまたは複数のSRAFのセットを配置することと、前記1回目の1つまたは複数のSRAFのセットと前記1つまたは複数の目標パターンとを使用して、更新されたSRAFガイダンスマップを生成することと、前記更新されたSRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置することと、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、を反復プロセスにおいて、予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされるまで繰り返すことと、を含む、方法。次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、前回の1つまたは複数のSRAFのセットを完全に新たな次の回の1つまたは複数のSRAFのセットに置き換えることを含む、請求項1に記載の方法。次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、前回の1つまたは複数のSRAFのセットの少なくとも一部を保持することと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを取得するために前記前回の1つまたは複数のSRAFのセットを調整することと、を含む、請求項1に記載の方法。補正されたマスクレイアウトを生成するために前記マスクレイアウトにあるもとの目標パターンに光近接効果補正OPCを適用することをさらに含む、請求項1に記載の方法。前記反復プロセスは、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットと前回の補正されたマスクレイアウトとを使用することと、次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回の補正されたマスクレイアウトを生成するために、前記前回の補正されたマスクレイアウトにOPCを適用することと、前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回の補正されたマスクレイアウトを使用することと、を含む、請求項4に記載の方法。前記反復プロセスは、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットともとの目標パターンとを使用することと、次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回のマスクレイアウトを生成することと、前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回のマスクレイアウトを使用することと、を含む、請求項1に記載の方法。前記SRAFガイダンスマップを使用してSRAF配置ルールを生成することをさらに含む、請求項1に記載の方法。前記マスクレイアウトは予め定義されたマスクバイアスを含む、請求項1に記載の方法。前記プロセスウィンドウはフォーカスウィンドウ及び露光ドーズウィンドウの1つまたは複数を含む、請求項1に記載の方法。前記反復プロセスは、リソグラフィ応答を表す予め定義されたコスト関数が前記予め定義されたプロセスウィンドウ条件に関連する最適値に到達するときに終了される、請求項1に記載の方法。前記予め定義されたコスト関数は、イメージログスロープILS、エッジ配置誤差、マスクエラーエンハンスメントファクタ、またはそれらの組み合わせを表す、請求項10に記載の方法。その内部に記録されている命令を有するコンピュータ読み取り可能媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、該命令は実行されたときに、リソグラフィ結像プロセスにおいて結像されるべき複数の目標パターンを有するマスクレイアウトに相当するファイルを生成することをコンピュータに実行させ、前記ファイルの生成は、前記マスクレイアウトについての初期SRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記初期SRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに1回目の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、前記1回目の1つまたは複数のSRAFのセットと前記複数の目標パターンとを使用して、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記更新されたSRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、を反復プロセスにおいて、予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされるまで繰り返すステップと、を含む、コンピュータプログラム製品。次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、前回のSRAFのセットを完全に新たな次の回のSRAFのセットに置き換えることを含む、請求項12に記載のコンピュータプログラム製品。次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、前回の1つまたは複数のSRAFのセットの少なくとも一部を保持することと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを取得するために前記前回の1つまたは複数のSRAFのセットを調整することと、を含む、請求項12に記載のコンピュータプログラム製品。補正されたマスクレイアウトを生成するために前記マスクレイアウトにあるもとの目標パターンに光近接効果補正OPCを適用することをさらに含む、請求項12に記載のコンピュータプログラム製品。本発明が図面を参照して詳細に説明される。各図面は当業者が発明を実施することができるよう発明の例を示すものである。留意すべきは、後述の各図及び例は本発明の範囲を単一の実施例に限定するものではなく、記述または図示された要素のいずれかまたは全てを他の実施例と互いに交換可能である。また、本発明のある要素は公知の構成要素を使用して部分的にまたは完全に実施可能であるが、こうした公知の構成要素は本発明の理解のために必要な部分に限り説明し、公知の要素のその他の部分の詳細な説明は発明を不明確にしないために省略している。ソフトウェアで実装されると説明される実施形態はそれに限定されるものではなく、本稿で特に言及しない限り当業者に理解されるように、ハードウェアで実装される実施形態、またはソフトウェアとハードウェアとの組み合わせで実装される実施形態を含み得る。その逆も同様である。本明細書においては、単数形の構成要素で示される実施形態は限定的にみなされるべきではなく、本稿にて明示的にそうではないと述べない限り、本発明はむしろ、その構成要素を複数含む別の実施形態をも包含することを意図しており、その逆も同様である。さらに、出願人は、それを明示しない限りは、本明細書または請求項におけるいかなる用語にも一般的でない特別の意味を与えることを意図していない。また、本発明は、本稿で例示のために言及した公知の構成要素について現在及び将来知られる均等物を包含する。本発明の例示的な実施形態を実装するためのリソグラフィシステムにおける一般環境本発明を議論する前に、較正されるべきシミュレーションプロセス及び結像プロセスの全体について概説する。図1Aは、代表的なリソグラフィ投影システム10を示す。主要な構成要素は、深紫外エキシマレーザ源であってもよい光源12、部分コヒーレンスシグマで表されるを定義し特定のソース成形光学系14、16a、16bを含み得る照明光学系、マスクまたはレチクル18、及びレチクルパターンの像をウェーハ面22に生成する投影光学系16cである。瞳面の調整可能フィルタまたはアパーチャ20がウェーハ面22に入射するビーム角度範囲を制限してもよい。可能な最大角度は投影光学系の開口数NA=sinΘmaxを定義する。リソグラフィシミュレーションシステムにおいて、これらの主要システム構成要素は別個の機能モジュールにより記述される。例えばそれを図1Bに示す。図1Bを参照すると、機能モジュールは、目標設計を定義する設計レイアウトモジュール26、その目標設計を使用して結像プロセスで使用されるべきマスクをどのようにレイアウトするかを定義するマスクレイアウトモジュール28、シミュレーションプロセスで使用される物理的マスクの特性をモデル化するマスクモデルモジュール30、リソグラフィシステムの光学素子の特性を定義する光学モデルモジュール32、及び所与のプロセスで使用されるレジストの特性を定義するレジストモデルモジュール34を含む。知られているように、シミュレーションプロセスの結果は、例えば予測される輪郭及びCDを結果モジュール36において生成する。より具体的には、照明光学系及び投影光学系の特性が光学モデルモジュール32に保存されており、これにはNAシグマσ設定及び任意の特定照明源形状が含まれるがそれに限られない。σまたはシグマはイルミネータの外径及び/または内径である。基板を覆うフォトレジスト層の光学特性、すなわち屈折率、層厚、伝播作用、及び偏光作用、もまた光学モデルモジュール32の一部として保存されていてもよい。最終的に、レジストモデルモジュール34は、レジスト露光、PEB、及び現像中に生じる化学処理の作用を、例えば基板ウェーハに形成されたレジストフィーチャの輪郭を予測するために記述する。シミュレーションの目的は、例えばエッジ配置やクリティカルディメンションCDを正確に予測することにあり、そうして目標設計とそれらを比較することができる。目標設計は一般に、プレOPCのマスクレイアウトとして定義されており、標準化されたデジタルファイル形式例えばGDSIIまたはOASISで提供される。一般に、光学モデルとレジストモデルとの接続は、シミュレートされたレジスト層内部の空間像であり、この像は、基板への投影光、レジスト界面での屈折、及びレジストフィルム積層における多数回の反射から生じる。光強度分布即ち空間像強度が光子の吸収により潜在的なレジスト像へと変換される。これは拡散プロセス及び各種のローディング効果によって更に修正される。フルチップに適用するための十分に高速の効果的なシミュレーション方法は、現実の三次元のレジスト積層での強度分布を二次元の空間及びレジスト像により近似する。背景技術の欄で述べたように、本発明は、SRAFガイダンスマップSGMを最適化することによりマスクレイアウトモジュール28を更新する。SGMを生成する1つの方法は、マスクレイアウトの像勾配マップを計算することと、マスクレイアウト内の各フィールドポイントについて、そのフィールドポイントに配置される仮想ユニットソースの寄与度を計算することと、を含む。SGMの各ピクセルには、計算された仮想ユニットソースの寄与度を表す値が割り当てられる。各ピクセル値は、そのピクセルがSRAFの部分に含まれるとしたときにマスクレイアウト内の目標パターンのエッジ挙動に肯定的に寄与するか否かを表す。SRAFは、生成されたSGMに従ってマスクレイアウトに配置される。マスクレイアウトはプレOPCでもポストOPCであってもよい。SGMに従ってSRAFを配置する際に、予め定義されたSRAF配置ルールに従うようにしてもよい。SGM生成及びSRAF配置の更なる詳細は、参照により援用される係属中の米国特許公開第2008/0301620号に見られる。本発明は、SRAF配置を改良するためにSGMの信号強度を反復的に最適化するための方法を開示する。図2Aは、牛の目照明源に生成したSGM200Aを示す。この照明源はその中心点に例示的なプレOPCの方形コンタクトパッド目標パターン202の位置を合わせている。この目標パターン202を破線の輪郭で示す。SGM200Aは、本発明の手法が適用される前の初期SGMである。方形パターン202の寸法は例えば60nmである。しかし本発明はいかなる形であっても目標パターンの寸法または形状によって限定されるものではない。ふつう、SRAFは比較的高強度の環状領域204に配置される。図2Bは、本発明の手法が適用された最適化されたSGM200Bを示す。追加のSRAFが、本発明の適用により同定された新たに定義される高強度領域206に配置され得る。加えて、もう一方の高強度環状領域の信号強度が本発明の適用により改善されている。本発明の例示的な実施の形態図3Aは、目標パターン202の近傍に配置された例示的な1セットのSRAFであるプリントされない散乱バー304A~Dを示す。図3Aに示す例においては、散乱バー304A~Dは目標パターン202から距離d1離れている。図3Aのレイアウト300Aは典型的に、SGMを生成する既存のシミュレーション方法により生成されている。図3Bは、本発明の改良されたSGM生成アルゴリズムにより生成されたレイアウト300Bを示す。レイアウト300Bは、同一の目標パターン202について異なる1セットのSRAFを含む。シミュレーション位置が目標パターン202の中心点を通る切断線303により示されている。シミュレーションによりレイアウト300Bに生成されたSRAFは、目標パターン202から距離d2離れて配置されている内側の1セットの散乱バー310A~Dと、それに加えて、距離d1に同様であってもなくてもよい距離d1’に配置されてもよい外側の1セットの散乱バー308A~Dと、を含む。一例においてはd1は157nmであってもよく、d2は83nmであってもよいが、本発明の範囲はこうしたd1、d1’、及びd2の例示的な値に限定されない。図3Bにおける散乱バー308A~Dの寸法は図3Aの散乱バー304A~Dの寸法と同様であってもよいしそうでなくてもよい。散乱バー310A~Dの追加により、目標パターン202の結像が改善される。図4は、目標パターン202につきx軸の関数として切断線303に沿う信号プロファイル401~404を示す。信号は局所強度傾斜値を表してもよい。その他の信号値、例えば、クリティカルディメンションにより正規化された局所強度傾斜、強度傾斜の逆数、局所傾斜により除算された強度、局所傾斜の二乗により除算された強度、プロセスフォーカス微分信号などが使用されてもよい。信号プロファイル401~404の中央の落ち込みは、目標パターン202の中心点に位置が合わされている。信号プロファイル401は初期SGMに対応しており、もとのプレOPCマスクレイアウトから生成されたものである。破線内部の領域410において信号プロファイル401は、SRAF配置のために用い得る尾根位置を特定するのに十分な程度の容易に認識可能な勾配を示していない。したがって、初期SGMのみを使用する場合には、リソグラフィシミュレーションは領域410にいかなるSRAFも配置しない可能性がある。信号プロファイル401によって図3Aに示すマスクレイアウト300Aが生じるかもしれない。しかしながら、本発明の反復アルゴリズムを使用する場合には、領域410における信号強度及び信号勾配が漸進的に改善される。プロファイル402、403、404はそれぞれ2回目、3回目、4回目のSGMに対応しており、最適化する反復回数を増やした結果である。プロファイル404は明らかに認識可能な信号の落ち込みを領域410に示している。したがって、領域410にSRAFを配置するために有利である。信号プロファイル404によって、図3Bに示すマスクレイアウト300Bが生じ得る。すなわち領域410に含まれるマスクレイアウトの座標に追加のSRAFの散乱バー310A~Dが配置される。図5は、本発明の例示的実施形態が、目標パターン202周囲の改良されたSRAF生成及び配置の結果として既存のシミュレーション方法に比べてどのようにより良好なプロセスウィンドウを有するかを示すグラフである。図5のX軸は自由度DOFの値を示し、Y軸は露光寛容度ELのパーセント値を示す。破線の曲線504は既存技術のシミュレーション方法による結果を示し、実線の曲線502は本発明のシミュレーション方法による結果を示す。図5に示されるように本発明は、DOF改善を説明するeだけDOFが改善されている。図5に示す例においてはeは71nmであり、68のDOFの改善に相当する。言い換えれば、本発明の実施形態に従ってより総合的な1セットのSRAFを生成しマスクレイアウトにおけるSRAF配置を改良することにより、リソグラフィプロセスにおけるプロセスウィンドウが著しく改善される。図6は、図3Bに示す切断線303に沿うx座標の関数としてのイメージログスロープILS値のプロットを示す。図6のプロットの点0,0は、目標パターン202の中心点である。図6に示されるのは、SRAFが配置されていない場合にはすなわち、既存のSRAF生成アルゴリズムも、本発明のSRAF生成アルゴリズムも使用されていない場合には、ILS値曲線603は、本発明のアルゴリズムに従ってSRAFが配置された場合に得られるILS値曲線604よりも小さいということである。改良されたILSは改良された像コントラストを示す。ILSは、本発明の反復最適化プロセスに使用される1つの可能な目的関数またはコスト関数として使用することができる。その他の可能なコスト関数には、エッジ配置誤差EPE値、マスクエラーエンハンスメントファクタMEEF値、または、ILS、EPE、及びMEEF等の任意の可能な組み合わせが含まれる。図7は、本発明の一実施形態に係る改良されたSRAF生成及び配置のための方法700の例示的なステップを示すプローチャートである。方法700は、もとのマスクレイアウトが取得されるステップ702から始まる。もとのマスクレイアウトは、何らかのOPCが適用される前の目標パターンを備える。ステップ704においては、任意的に、目標パターンにOPCが適用されてもよい。ステップ706においては、初期SGMがプレOPCマスクレイアウトまたはポストOPCマスクレイアウトから生成される。ステップ708においては、1回目のSRAFのセットが初期SGMに基づいて生成される。ステップ710においては、プレOPCのまたはポストOPCの目標パターンと1回目のSRAFのセットとが同時に配置された、変更されたマスクレイアウトが生成される。ステップ712においては、ステップ710の変更されたマスクレイアウトに基づいてSGMが更新される。ステップ714においては、修正された次のSRAFのセットが生成されマスクレイアウトに配置される。ステップ710、712、714は、経路716で示すように、予め定義されたシミュレーション終了条件が満たされるまで反復的に繰り返される。既存技術と比べたときの方法700の主な相違点は、既存技術では初期SGMのみが使用されるのに対し、方法700においてはSGMが漸進的に更新されてより良好に最適化されたSGMを生成し、より総合的で正確に配置されたSRAFのセットの生成が促進される点にある。更新されたSGMを生成する際には、目標パターンプレOPCまたはポストOPCの幾何のみが考慮されるのではなく、変更されたマスクレイアウトに位置する前回のSRAF多角形のセットの幾何も考慮される。このようにして、SGMの信号強度が反復的に強化され、次回のSRAFセットはより簡単にかつ正確に生成され配置される。このSGMの漸進的更新がSGMの信号強度における改善を測定することにより行われることを当業者は理解するであろう。SGMの信号強度の改善は、目標パターンに適切なSRAFを選択したことの結果である。単一のSRAFまたは多数のSRAFがSGM信号強度の改善に寄与してもよい。SRAFのセットとの用語は、1つのSRAFまたは多数のSRAFを包含する。SRAFの前回のセットがSGMを更新するために変更されるときには、そのSRAFのセットの全体が置き換えられてもよいし、あるいはその前回のセットのうち1つのまたは少数のSRAFのみが変更されてもよい。SRAFの変更は、SRAFの寸法の変更、SRAFの数の変更、及び/またはSRAFの位置の変更を含んでもよい。1つの例示的な実施例においては、SRAFの寸法を変えることなくSRAFの位置のみがSGMを更新するために変えられてもよい。他の一実施例においては、SRAFの位置を変えることなく1つまたは複数のSRAFの寸法のみが変えられてもよい。更に他の一実施例においては、SRAFの前回のセットの少なくとも一部の位置及び寸法を維持しつつSRAFの数が変えられてもよい。SRAFの数は、予め定義されたプロセスウィンドウ条件を達成するための有効性によって、及びマスク製造ルールチェックMRCの制約によって、決定されてもよい。SGMが何ら改善されなくなったときには、SRAFの追加は有用ではない。繰り返すが、これらの例は例示目的にすぎないこと、及び、SGMに改善が見られるならばその他の可能なSRAFの変更もなし得ることを当業者は理解するであろう。図8A及び図8Bは、最適化方法700の2つの実施例を示す。図8Aのフローチャートは、短いループまたは部分的なループの最適化プロセス800Aを示し、図8Bのフローチャートは、完全なループまたは長いループの最適化プロセス800Bを示す。プロセス800A、800Bは、プロセス700のうちステップ708の後に始まる反復部分のみを示す。プロセス800Aは、もとのOPC無しのマスクレイアウトを取得するステップ802Aから始まる。また、直前の反復ステップからの、すなわちn-1回目の反復ステップからのSRAFも取得される。言い換えれば、ステップ802Aにおける変更されたマスクレイアウトは、もとの目標パターンとn-1回の反復からのSRAFとの和を含む。ステップ804Aにおいては、n回目の反復のためのSGMが、ステップ802Aの変更されたマスクレイアウトに基づいて生成される。ステップ806Aにおいては、n回目の反復のためにステップ804AのSGMからSRAFが生成される。ステップ808Aにおいては、変更されたマスクレイアウトがステップ806AからのSRAFともとのOPC無しの目標パターンとを含んで生成される。ステップ810Aにおいては、ステップ808Aの変更されたマスクレイアウトを使用して、リソグラフィ応答が決定される。このリソグラフィ応答は、コスト関数によって、例えばILS、EPE、またはILSとEPEとの組み合わせによって、定義されていてもよい。リソグラフィ応答はプロセスウィンドウのパラメタに関連している。典型的なプロセスウィンドウパラメタは、フォーカス、露光ドーズ量などである。これらが監視されることのできるリソグラフィ応答及びプロセスウィンドウパラメタの少数の例にすぎないこと、及び本発明の範囲がこうしたリソグラフィ応答及びプロセスウィンドウパラメタの選択には限られないことを当業者は理解するであろう。ステップ812Aにおいては、n回目の反復終了時点現在の変更されたマスクレイアウトによって、所望のプロセスウィンドウが提供されるか否か予め定義されたプロセスウィンドウ条件が満たされるか否かが決定される。プロセスウィンドウ条件が満たされる場合には、反復が終了される。そうでない場合には、経路816Aにより示すように、次回の反復ステップへと反復処理が継続される。ある特定のサイズの予め定義されたプロセスウィンドウが必ずしも反復処理を回していなくても既に提供されているという状況も、予め定義されたプロセスウィンドウ条件に含まれ得ることを当業者は理解するであろう。図8Bに示す方法800Bは、ステップ802Bで使用される初期マスクレイアウトに関して方法800Aとは異なる。もとのマスクレイアウトを使用することに代えて、ステップ802Bにおいては、直前の反復回すなわちn-1回目の反復の終了時に生成された変更されたマスクレイアウトが、ステップ804Bにおけるn回目の反復のためのSGMを生成するために使用される。ステップ804B及びステップ806Bは、ステップ804A及びステップ806Aと同様である。ステップ808Bにおいては、n-1回目の反復からの変更されたマスクレイアウトに更にOPCが適用される。こうしてステップ808Bの終了時における補正された変更されたマスクレイアウトは、ポストOPCの目標パターンOPCがもとの目標パターンにn-1回既に適用されている可能性があるとn回の反復により生成されたSRAFとを含む。ステップ810B、812B、814B、及び経路816Bは、図8Aにおける対応するステップ及び経路と同様である。図7、図8A、図8Bに示す方法が例示的にステップを示すにすぎないことを当業者は理解するであろう。これらすべてのステップがいかなる実施例にも含まれていなければならないわけではなく、また、上述の方法において中間または終端に何らかの適用しうるステップが追加して含まれていてもよい。各ステップの順序が変更されてもよい。次の回のSRAFのセットを反復的に配置する方法は、前回のSRAFのセットを完全に新たな次の回のSRAFのセットと置き換えることを含んでもよい。あるいは、そうした方法は、前回のSRAFのセットの少なくとも一部分を保持することと、その前回のSRAFのセットを次の回のSRAFのセットを取得するために調整することと、を含んでもよい。図9A及び図9Bは、反復によるSRAFの解が唯一のものである必要はないことを示す。例えば、図9Aのレイアウト900Aはコーナーの検討をしていないSRAFの解を示し、図9Bのレイアウト900Bはコーナーの検討をしているSRAFの解を示す。レイアウト900Aは、エッジの位置を合わせた散乱バー905、906その他の同様の散乱バーについては簡明のため符号を付していないを示す。レイアウト900Bはエッジの位置を合わせた散乱バー910、911と、追加されたコーナーSRAF912、913とを示す。エッジ位置を合わせた散乱バー905、906はエッジ位置を合わせた散乱バー911、910と異なる場所に配置されてもよいことに留意されたい。それらの寸法も互いに相違してもよい。図9Dは、コーナーのSRAF及び/またはエッジ位置を合わせた散乱バーの場所及び寸法が反復回数が進む中で変わり得ることを示す。図9Dは、図9Bのレイアウト900Bと図9Cのレイアウト900Cとの相対的な相違を強調するためにレイアウト900Bとレイアウト900Cとを重ね合わせている。図9Dにおいては、レイアウト900CのSRAF例えば散乱バー914、コーナーSRAF916等はハッチングで示されている。図9Eにはレイアウト900Eを示す。前回のレイアウト900Bまたは900Cには現れていない更なる追加のコーナーSRAFが示されている。よって、反復による洗練の結果、追加のSRAFが生成されうることが理解される。ある場合においては、それによって特性の改善が達成されるのであれば、一部のSRAFを捨ててもよい。通常は特性の改善についての相違が連続する2回の反復間で無視しうるときに反復が終了される。図10は、特性改善すなわちプロセスウィンドウの改善の比較を種々のSRAF解に対応して示す。図10のX軸はDOF値を表し、Y軸は露光寛容度の値を表す。プロット1001は、初期SGM本発明の反復処理を開始する前のものに基づきかつコーナーの検討をしていないSRAFの解についてのDOF-EL曲線を示す。プロット1002は、初期SGM本発明の反復処理を開始する前のものに基づきかつコーナーの検討をしているSRAFの解についてのDOF-EL曲線を示す。プロット1001とプロット1002との間ではDOFの改善はあまりない。ところが、9回の反復後にはDOF値は顕著に改善されている。プロット1003はコーナーの検討をしている9回の反復の結果すなわち、図9Cに示すSRAFの解を示し、プロット1004は更にコーナーの検討をしている10回の反復の結果すなわち、図9Eに示すSRAFの解を示す。DOFの改善はプロット1002とプロット1003との間で顕著5のELにおいておよそ10nmである。しかし、プロット1003とプロット1004との間ではそれほど顕著ではない。したがって、レイアウト900Eの追加されたコーナーSRAF918、920は特性の改善にそれほど寄与していない。よって、10回の反復解ではなく、9回の反復解が最適解として選択され、10回の反復後に反復処理が終了されてもよい。ここまでは、比較的孤立した方形目標パターン202の周囲のSRAF配置を説明した。目標パターン202はその周囲にSRAF配置のための空間を十分に有している。目標パターン202はある配列の一部分であってもよいが、その配列は各デカルト方向にそこまで狭いピッチを有しない。図11A及び図11Bは、非常に大きいマスクレイアウトを示し、このレイアウトはY方向のピッチが非常に狭い。よってY軸に平行なSRAFバー1105は連続するコンタクトパッド間においてX方向に配置されている。その他のSRAFパターンもコンタクトパッド周囲に配置されている。図11Aは、パッチ境界レイアウトの例を示しており、破線の境界線1101、1102が4つのパッチ1150、1160、1170、1180の境界を定めている。破線の円形内部の領域1104は、レイアウト全体について最適SGMを生成することのできない弱い信号強度のために生じたSRAF配置の矛盾例えばSRAF散乱バーが不連続を示す。切断線1103が矛盾領域1104に配置されているのは、本発明の反復最適化プロセスの有効性を証明するためである。図11Bには10回の短いループの反復後を示しており、より良好な最適化されたSGMを作成するために信号強度を強めることにより、領域1104内部及びレイアウトのいずれの領域からも矛盾が取り除かれているSRAF解が取得されている。その結果、良好な結像を得られる。図12は、図11Aに示す切断線1103に沿ってSRAF信号のプロットの比較を示す。信号プロファイル1201は、反復最適化を開始する前の初期SGMに対応する。説明のための領域1210、1212それぞれ破線、一点鎖線の輪郭で示すの内部では、プロファイル1201の信号勾配は正確なエッジでSRAFを配置するのに十分なほど認識可能ではない。ところが、信号プロファイル1202、1203、1204においては連続する反復の結果として信号強度が漸進的に改善されている。3回及び4回の反復で信号強度の変動は、SRAFが配置されるべき尾根部の場所を明確に特定するのに十分に強くなっているそれぞれ信号プロファイル1203、1204で示す。図13は、コンタクトパッド目標パターン202の配列1300を示す。各パターン202の近傍には対応するSRAFが配置されている。各目標パターン202に対応するSRAFがまったく同様である必要はないことに留意されたい。例えば、配列要素1302においては目標パターン202aは対称なSRAFのセット4つの内側散乱バー及び4つの外側散乱バーを有する。ところが配列要素1304においては、目標パターン202bは非対称のSRAFのセット4つの内側散乱バー、4つの中間散乱バー、及び1つの右側のみの最外の散乱バーを有する。こうした非対称性は、配列1300の端部に配置されている1つまたは複数の目標パターンに付随していてもよい。前述のように、複数のSRAFが各目標パターンの周囲に示されているが本発明の範囲はそうしたSRAFの数によって限定されないことを当業者は理解するであろう。最適化されたSRAFのセットは1つだけのSRAFを含むものでもよい。本発明の実施形態を実装するためのコンピュータシステムの詳細図14は、本稿に開示するリソグラフィシミュレーションのためのSGM最適化方法を支援及び/または実装することのできるコンピュータシステム100を示すブロック図である。コンピュータシステム100は、バス102または情報通信のためのその他の通信メカニズムと、情報処理のためにバス102に接続されるプロセッサ104と、を含む。コンピュータシステム100は更に、情報と、プロセッサ104により実行されるべき命令とを保存するためにバス102に接続されるメインメモリ106例えばランダムアクセスメモリRAMまたはその他の動的ストレージデバイスを含む。メインメモリ106は、プロセッサ104により実行されるべき命令の実行中に一時的な変数またはその他の中間的な情報を保存するために使用されてもよい。コンピュータシステム100は更に、静的な情報及びプロセッサ104のための命令を保存するためにバス102に接続されるリードオンリーメモリROM108またはその他の静的ストレージデバイスを含む。ストレージデバイス110例えば磁気ディスクまたは光ディスクが設けられており、情報及び命令の保存のためにバス102に接続されている。コンピュータシステム100は、コンピュータのユーザに情報を表示するためのディスプレイ112例えばブラウン管CRTまたはフラットパネルディスプレイまたはタッチパネルディスプレイにバス102を通じて接続されていてもよい。入力デバイス114は、英数字及びその他のキーを含み、プロセッサ104に情報及びコマンド選択を通信するためにバス102に接続されている。その他の形式のユーザ入力デバイスはカーソル制御部116例えばマウス、トラックボール、またはカーソル方向キーであり、これはプロセッサ104に方向情報及びコマンド選択を通信しディスプレイ112上のカーソル移動を制御するためにある。この入力デバイスは典型的には第1例えばx軸及び第2例えばy軸の2つの軸に2自由度をもち、ある平面での位置特定を当該デバイスに許容する。タッチパネルスクリーンディスプレイが入力デバイスとして使用されてもよい。本発明の一実施形態によれば、シミュレーション処理のいくつかの部分が、メインメモリ106に格納されている1つまたは複数の命令の1つまたは複数の配列を実行するプロセッサ104に応答してコンピュータシステム100により実行されてもよい。こうした命令は、メインメモリ106へと他のコンピュータ読み取り可能媒体例えばストレージデバイス110から読み出されてもよい。メインメモリ106に格納されている命令の配列を実行することにより、本稿に説明する処理の各工程をプロセッサ104に実行させる。マルチプロセッシングの構成においては1つまたは複数のプロセッサが、メインメモリ106に格納されている命令の配列の実行のために設けられてもよい。代替的な実施例においては、配線接続の回路が、本発明を実装するために、ソフトウェアの命令に置き換えてまたは組み合わせて使用されてもよい。よって、本発明の実施形態はハードウェア回路とソフトウェアのいかなる特定の組み合わせにも限定されない。本稿で使用される用語コンピュータ読み取り可能媒体は、プロセッサ104への命令実行に参画するいかなる媒体をも指す。こうした媒体は多様な形式を取り得るものであり、不揮発性媒体、揮発性媒体、及び伝送媒体を含みこれらには限れらない。不揮発性媒体は例えば光ディスクまたは磁気ディスク例えばストレージデバイス110を含む。揮発性媒体は動的メモリ例えばメインメモリ106を含む。伝送媒体は同軸ケーブル、銅線、及び光ファイバを含み、バス102を備える配線を含む。伝送媒体は音波または光波の形式をとってもよく、例えば電波周波数RFデータ通信及び赤外IRデータ通信の際に生成されるものであってもよい。ありふれた形式のコンピュータ読み取り可能媒体には例えば、フロッピディスク、フレキシブルディスク、ハードディスク、磁気テープ、その他の任意の磁気媒体、CD-ROM、DVD、その他の任意の光媒体、パンチカード、紙テープ、その他の任意の穴パターンをもつ物理的媒体、RAM、PROM、EPROM、FLASH-EPROM、その他の任意のメモリチップまたはカートリッジ、以下に述べる搬送波、またはその他の任意のコンピュータが読み取り可能な媒体が含まれる。各種形式のコンピュータ読み取り可能媒体は、プロセッサ104に実行のために1つまたは複数の命令の1つまたは複数の配列を運ぶことに関係し得る。例えば、そうした命令は当初、リモートコンピュータの磁気ディスクにあってもよい。リモートコンピュータは自身の動的メモリに命令をロードして、モデムを使用し電話回線を通じて命令を送信することができる。コンピュータシステム100の近傍のモデムは電話回線上のデータを受信し、赤外線送信機を使用してデータを赤外信号に変換することができる。バス102に接続されている赤外検出器は、赤外信号により搬送されたデータを受信することができる。バス102はデータをメインメモリ106に運び、そこからプロセッサ104は命令を読み出して実行する。メインメモリ106により受信された命令は、プロセッサ104による実行前または実行後にストレージデバイス110に保存されてもよい。コンピュータシステム100は好ましくは、バス102に接続されている通信インタフェイス118を更に含む。通信インタフェイス118は、ローカルネットワーク122に接続されているネットワークリンク120に接続される二方向データ通信を提供する。例えば、通信インタフェイス118は、総合デジタル通信網ISDNカード、または電話線の対応形式にデータ通信接続を提供するモデムであってもよい。他の例として、通信インタフェイス118は、互換性のあるLANにデータ通信接続を提供するローカルエリアネットワークLANカードであってもよい。無線リンクが実装されてもよい。こうしたいかなる実装においても、通信インタフェイス118は、各種形式の情報を表すデジタルデータストリームを運ぶ電気信号、電磁気信号、または光信号を送受信する。ネットワークリンク120は典型的に、1つまたは複数のネットワークを通じて他のデータデバイスへのデータ通信を提供する。例えば、ネットワークリンク120は、ローカルネットワーク122を通じてホストコンピュータ124への、またはインターネットサービスプロバイダISP126により運営されるデータ施設への接続を提供してもよい。ISP126は、世界的パケットデータ通信ネットワーク、今やそれはインターネット128と呼ばれているが、を通じてデータ通信サービスを提供する。ローカルネットワーク122及びインターネット128はともに、デジタルデータストリームを運ぶ電気信号、電磁気信号、または光信号を使用する。各種ネットワークを通過する信号、及びネットワークリンク120上の及び通信インタフェイス118を通過する信号は、コンピュータシステム100へと及びコンピュータシステム100からデジタルデータを運ぶものであり、情報を運ぶ搬送波の代表的な形式である。コンピュータシステム100は、ネットワーク、ネットワークリンク120、及び通信インタフェイス118を通じて、プログラムコードを含むメッセージを送信しデータを受信することができる。インターネットの例においては、サーバ130がインターネット128、ISP126、ローカルネットワーク122、及び通信インタフェイス118を通じてアプリケーションプログラムのための要求コードを伝送してもよい。本発明によれば、こうしたダウンロードされたアプリケーションの1つが例えば実施形態に係る照明最適化を提供する。受信されたコードはプロセッサ104により実行されてもよい。後で実行するためにストレージデバイス110またはその他の不揮発性ストレージに受信され保存されてもよい。こうしてコンピュータシステム100は、搬送波の形式でアプリケーションコードを取得してもよい。リソグラフィツールの例図15は、本発明の処理を使用してリソグラフィプロセスのシミュレーションを行うことのできる代表的なリソグラフィ投影装置を模式的に示す図である。この装置は、下記の構成要素を備える。-投影放射ビームPBを供給するための放射システムEx、IL。本具体例においては放射システムは放射源LAを備える。-パターニングデバイス例えばマスクMA例えばレチクルを保持するためのマスクホルダに設けられ、要素PLに関しマスクを正確に位置決めするための第1位置決め装置に接続されている第1物体テーブルパターニングデバイス支持部またはマスクテーブルMT。-基板例えばレジストで覆われたシリコンウェーハWを保持するための基板ホルダに設けられ、要素PLに関し基板を正確に位置決めするための第2位置決め装置に接続されている第2物体テーブル基板テーブルWT。-マスクMAの照射された部位を基板Wの例えば1つまたは複数のダイからなる目標部分Cに結像するための投影系レンズPL例えば屈折光学系、反射光学系、または反射屈折光学系。ここに図示されるのは、例えば透過型マスクをもつ透過型の装置である。しかし一般には、例えば反射型マスクをもつ反射型であってもよい。それに代えて、リソグラフィ装置は、マスク使用の代替例として別種のパターニング手段を有してもよい。そうした例にはプログラマブルミラーアレイまたはLCDマトリックスが含まれる。ソースLA例えば水銀ランプまたはエキシマレーザは放射ビームを生成する。このビームは照明系イルミネータILへと直接送られる。あるいは例えばビームエキスパンダEx等の調整手段を通過してイルミネータILへと送られる。イルミネータILは、ビームの強度分布の外径及び/または内径通常それぞれシグマ-アウタσ-outer、シグマ-インナσ-innerと呼ばれるを設定するためのアジャスタADを備えてもよい。加えてイルミネータILは、インテグレータIN及びコンデンサCOなどの他の要素を備えてもよい。こうしてパターニングデバイス例えばマスクMAに入射するビームPBはその断面に所望の均一性及び所望の強度分布をもつ。図12に関してソースLAはリソグラフィ投影装置のハウジング内部にあってもよいし例えばソースLAが水銀ランプの場合はしばしばそうである、リソグラフィ投影装置から離れており生成した放射ビームが装置へと例えば適切な誘導ミラーによって導かれてもよい。後者の状況はソースLAが例えばKrF、ArF、F2レーザによるエキシマレーザである場合に多い。本発明は少なくともこれら状況の両方を包含する。ビームPBは続いて、パターニングデバイス支持部例えばマスクテーブルMTに保持されるパターニングデバイス例えばマスクMAに阻止される。パターニングデバイス例えばマスクMAにより反射されたビームPBはレンズPLを通過して、基板Wの目標部分Cに集束される。第2の位置決め装置と干渉測定手段IFにより基板テーブルWTを、例えばビームPBの経路に異なる目標部分Cを順次位置決めするように正確に移動させることができる。同様に、第1の位置決め装置PMを使用してビームPBの経路に対してパターニングデバイス例えばマスクMAを、例えばパターニングデバイスライブラリからのパターニングデバイス例えばマスクMAの機械的交換後や露光走査中に正確に位置決めすることができる。一般に物体テーブルMT、WTの移動は、図12には明示されないが、ロングストロークモジュール粗い位置決め用及びショートストロークモジュール精細な位置決め用により実現される。しかし、ウェーハステッパではステップアンドスキャンツールとは異なり、パターニングデバイス支持部例えばマスクテーブルMTはショートストロークのアクチュエータにのみ接続されているか、あるいは固定されていてもよい。図示のツールは2つの異なるモードで使用することができる。ステップモードにおいては、パターニングデバイス支持部例えばマスクテーブルMTが実質的に静止されており、マスクイメージ全体が1回の照射つまり単一フラッシュで目標部分Cに投影される。そして基板テーブルWTがX方向及び/またはY方向に移動されて、異なる目標部分CがビームPBにより照射される。スキャンモードにおいては、所与の目標部分Cが単一フラッシュで露光されないことを除いて、実質的に同じ状況が当てはまる。パターニングデバイス支持部例えばマスクテーブルMTが所与の方向いわゆる走査方向、例えばy方向に速さvで移動可能であり、投影ビームPBにマスクイメージを走査させる。それとともに基板テーブルWTは速さV=Mvで同一方向または逆方向に同時に移動される。MはレンズPLの倍率である通常M=1/4または1/5である。こうして、解像度で妥協することを要せず比較的大きい目標部分Cを露光することができる。本稿に開示される概念は、サブ波長のフィーチャを結像するためのいかなる汎用の光学系をシミュレートまたは数学的にモデル化してもよく、特に、ますます小さいサイズの波長を生成可能とする新興の結像技術に有用であり得る。既に使用段階にある新興技術にはEUV極紫外リソグラフィが含まれ、これは193nm波長をArFレーザの使用により生成可能であり、さらに157nm波長をフッ素レーザの使用により生成可能である。また、EUVリソグラフィは20nm乃至5nmの範囲の波長を、シンクロトロンを使用することにより、またはその範囲の光子を生成するために固体またはプラズマの材料に高エネルギ電子を当てることにより、生成可能である。たいていの物質はこの波長域を吸収するので、モリブデンとシリコンの多層スタックを有する反射性ミラーにより照明が形成される。多層スタックミラーは各層の厚さが4分の1波長であるモリブデン及びシリコンの層の組を40組有する。さらに小さい波長がX線リソグラフィでは生成されうる。典型的にシンクロトロンはX線波長の生成に使用される。たいていの物質はX線波長を吸収するので、吸収材料の薄片がフィーチャをプリントするポジ型レジストか否かネガ型レジストを決める。本稿に開示される概念はシリコンウェーハ等の基板への結像に使用され得るが、いかなる形式のリソグラフィ結像システム例えばシリコンウェーハ以外の基板の結像に使用されるシステムに本開示の概念が使用されてもよい。本発明は後述の各項を使用して更に説明される。1.マスクレイアウトにある1つまたは複数の目標パターンに関してサブ解像度補助パターンSRAFを配置するための信号強度を強めるための方法であって、前記マスクレイアウトについての初期SRAFガイダンスマップを生成することと、前記初期SRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに1回目の1つまたは複数のSRAFのセットを配置することと、前記1回目の1つまたは複数のSRAFのセットの少なくとも一部の数、位置、及び寸法のうち1つまたは複数を変更することと、前記初期SRAFガイダンスマップにおける信号強度の向上を測定することと、更新されたSRAFガイダンスマップを、強化された信号強度により生成することと、を含む、方法。2.前記更新されたSRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置することをさらに含む、項1に記載の方法。3.更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、を反復プロセスにおいて、予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされるまで繰り返すことをさらに含む、項2に記載の方法。4.次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、前回の1つまたは複数のSRAFのセットを完全に新たな次の回の1つまたは複数のSRAFのセットに置き換えることを含む、項3に記載の方法。5.次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、前回の1つまたは複数のSRAFのセットの少なくとも一部を保持することと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを取得するために前記前回の1つまたは複数のSRAFのセットを調整することと、を含む、項3に記載の方法。6.補正されたマスクレイアウトを生成するために前記マスクレイアウトにあるもとの目標パターンに光近接効果補正OPCを適用することをさらに含む、項1に記載の方法。7.前記反復プロセスは、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットと前回の補正されたマスクレイアウトとを使用することと、次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回の補正されたマスクレイアウトを生成するために、前記前回の補正されたマスクレイアウトにOPCを適用することと、前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回の補正されたマスクレイアウトを使用することと、を含む、項3に記載の方法。8.前記反復プロセスは、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットともとの目標パターンとを使用することと、次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回のマスクレイアウトを生成することと、前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回のマスクレイアウトを使用することと、を含む、項3に記載の方法。9.前記SRAFガイダンスマップを使用してSRAF配置ルールを生成することをさらに含む、項1に記載の方法。10.前記マスクレイアウトは予め定義されたマスクバイアスを含む、項1に記載の方法。11.前記プロセスウィンドウはフォーカスウィンドウ及び露光ドーズウィンドウの1つまたは複数を含む、項3に記載の方法。12.前記反復プロセスは、リソグラフィ応答を表す予め定義されたコスト関数が前記予め定義されたプロセスウィンドウ条件に関連する最適値に到達するときに終了される、項3に記載の方法。13.前記予め定義されたコスト関数は、イメージログスロープILS、エッジ配置誤差、マスクエラーエンハンスメントファクタ、またはそれらの組み合わせを表す、項12に記載の方法。14.その内部に記録されている命令を有するコンピュータ読み取り可能媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、該命令は実行されたときに、リソグラフィ結像プロセスにおいて結像されるべき複数の目標パターンを有するマスクレイアウトに相当するファイルを生成することをコンピュータに実行させ、前記ファイルの生成は、前記マスクレイアウトについての初期SRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記初期SRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに1回目の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、前記1回目の1つまたは複数のSRAFのセットと前記複数の目標パターンとを使用して、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記更新されたSRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、を反復プロセスにおいて、予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされるまで繰り返すステップと、を含む、コンピュータプログラム製品。15.前記方法は、補正されたマスクレイアウトを生成するために前記マスクレイアウトにあるもとの目標パターンに光近接効果補正OPCを適用することをさらに含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。16.前記反復プロセスは、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットと前回の補正されたマスクレイアウトとを使用することと、次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回の補正されたマスクレイアウトを生成するために、前記前回の補正されたマスクレイアウトにOPCを適用することと、前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回の補正されたマスクレイアウトを使用することと、を含む、項15に記載のコンピュータプログラム製品。17.前記反復プロセスは、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットともとの目標パターンとを使用することと、次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回のマスクレイアウトを生成することと、前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回のマスクレイアウトを使用することと、を含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。18.前記SRAFガイダンスマップを使用してSRAF配置ルールを生成することをさらに含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。19.前記マスクレイアウトは予め定義されたマスクバイアスを含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。20.前記プロセスウィンドウはフォーカスウィンドウ及び露光ドーズウィンドウの1つまたは複数を含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。21.前記反復プロセスは、リソグラフィ応答を表す予め定義されたコスト関数が前記予め定義されたプロセスウィンドウ条件に関連する最適値に到達するときに終了される、項14に記載のコンピュータプログラム製品。22.前記予め定義されたコスト関数は、イメージログスロープILS、エッジ配置誤差、マスクエラーエンハンスメントファクタ、またはそれらの組み合わせを表す、項21に記載のコンピュータプログラム製品。23.更新されたSRAFガイダンスマップを反復的に生成するステップは、前回の1つまたは複数のSRAFのセットの少なくとも一部の数、位置、及び寸法のうち1つまたは複数を変更することと、前回のSRAFガイダンスマップを更新するために信号強度の向上を測定することと、を含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。本発明の特定の実施形態が上述されたが、説明したもの以外の態様で本発明が実施されてもよいものと理解されたい。上述の発明の詳細な説明は例示であり限定することを意図していない。よって、当業者であれば後述の請求項の範囲から逸脱することなく本発明の変形例を実施することが可能であろう。"