"アントラセンおよびピレンから選ばれる少なくとも一種の基質とα,α’-ジブロモパラキシレンを、基質とα,α’-ジブロモパラキシレンの量論比基質モル/α,α’-ジブロモパラキシレンモルを1.5~3.0の割合として反応させることを特徴とするピッチの製造方法。無触媒下で反応させることを特徴とする請求項1に記載のピッチの製造方法。反応温度が300°C~350°Cであることを特徴とする請求項1または2に記載のピッチの製造方法。生成したピッチの軟化点が130°C~300°Cであることを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載のピッチの製造方法。生成したピッチのTHFに対する溶解成分が60質量以上、n-ヘキサンに対する溶解成分が17質量以上である請求項1~4のいずれか一項に記載のピッチの製造方法。請求項1に記載の基質とα,α’-ジブロモキシレン由来のベンゼン環の連結がメチレン鎖状構造であることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載のピッチの製造方法。アントラセンおよびピレンから選ばれる少なくとも一種が構造式1:で結合されており、その軟化点が130°C~300°Cであるピッチ。本発明の目的は溶媒への溶解性が高く、高軟化点で光学的等方性を有するピッチの製造方法を提供することにある。本発明者らは上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた。その結果、高軟化点と高溶媒可溶性を同時に達成できる手段として、縮合環の高分子化とその縮合環を分子回転が自由なメチレングループで繋ぐことによって、簡便に高軟化点光学的等方性ピッチを提供することが可能となった。すなわち、本発明は以下の[1]~[7]に関する。[1]アントラセンおよびピレンから選ばれる少なくとも一種の基質とα,α’-ジブロモパラキシレンを、基質とα,α’-ジブロモパラキシレンの量論比基質モル/α,α’-ジブロモパラキシレンモルを1.5~3.0の割合として反応させることを特徴とするピッチの製造方法。[2]無触媒下で反応させることを特徴とする[1]に記載のピッチの製造方法。[3]反応温度が300°C~350°Cであることを特徴とする[1]または[2]に記載のピッチの製造方法。[4]生成したピッチの軟化点が130°C~300°Cであることを特徴とする[1]~[3]のいずれかに記載のピッチの製造方法。[5]生成したピッチのTHFに対する溶解成分が60質量以上、n-ヘキサンに対する溶解成分が17質量以上である[1]~[4]のいずれかに記載のピッチの製造方法。[6][1]に記載の基質とα,α’-ジブロモキシレン由来のベンゼン環の連結がメチレン鎖状構造であることを特徴とする[1]~[5]のいずれかに記載のピッチの製造方法。[7]アントラセンおよびピレンから選ばれる少なくとも一種が構造式1:で結合されており、その軟化点が130°C~300°Cであるピッチ。本発明の方法によれば、簡便に高軟化点光学的等方性ピッチを提供することが出来る。以下、本発明の具体的な実施態様を詳しく説明する。本発明で使用される基質は縮合多環芳香族である、アントラセンおよびピレンから選ばれる少なくとも一種である。これらの基質を熱反応により架橋し、重合するための添加剤としては、α,α’-ジブロモパラキシレンが使用される。基質に対するα,α’-ジブロモパラキシレンの添加量および反応温度は、目的とする光学的等方性ピッチの特性または収率に影響を与えるので、重要な調節因子として機能する。反応温度は300°C~350°Cであることが好ましい。反応温度が300°C未満である場合、重合の効率が低下する問題が起こり得る。また、350°Cを超える場合、目的としたメチレンブリッジによる縮合環の高分子化だけではなく、熱分解による不規則的なラジカル反応が起こって、縮合環のさらなる高縮合化およびラジカル反応による高分子化が進む場合がある。このとき生成したピッチは一部または全部が光学的にメソフェーズ化し、所望の高溶媒溶解性をもつ光学的等方性ピッチが得られないという問題点が起こり得る。これら重合反応は、1段階での反応でも良いし、2段階以上の温度レベルで実施しても良い。本発明において重合反応は無触媒下で行うことが出来る。また、重合反応は、窒素などの不活性ガス雰囲気下、常圧大気圧で行うことが好ましい。重合反応は一般に0.5時間~10時間行われる。添加剤であるα,α’-ジブロモパラキシレンは、基質と添加剤の量論比、すなわち基質モル/α,α’-ジブロモパラキシレンモルが1.5~3.0の割合であるように添加される。この量論比が3.0を超える場合、得られたピッチの架橋が不十分となり軟化点が低くなるという問題が起こり得る。またこの量論比が1.5を下回る場合、ピッチの収率が低くなるという問題が起こり得る。本発明のピッチの製造方法では、α,α’-ジブロモパラキシレンのパラ位にある2つのブロモメチル基がラジカル開裂し、生成したラジカルが基質の芳香環の高反応性点のみと反応する。この反応により、基質とα,α’-ジブロモパラキシレン由来のベンゼン環がメチレン鎖状構造メチレンブリッジで連結される。結果として生成物は直線的2次元に広がらないとなり、得られたピッチは熱可塑性を維持する図6参照。このため、溶融点、溶融温度域、溶解性、熱反応性、紡糸性が従来のCOPNA樹脂とは異なるピッチを調製することが出来る。アントラセンとα,α’-ジブロモパラキシレンの縮合反応において生成したピッチについては、1H-NMRにてアントラセンの1、4、5、8、9、10位での添加剤による架橋が観測され、2、3、6、7位での架橋は非常に少ないことが確認される。また、これらのピッチは、TOFMS飛行時間型質量分析装置にて測定される分子量が重量平均分子量で800を超えるものである。尚、前述のとおり、同様の反応をパラトルエンスルホン酸等の酸触媒を用いて実施した場合、添加剤のハロゲン化メチル基がカチオンとなるフリーデルクラフツ型芳香族置換反応が進み、生成したカチオン種が高反応性であるため、芳香環上の置換反応の選択性が低く、結果として3次元ネットワークが形成され熱硬化性樹脂となる。そのため、本発明によって製造されるピッチのような、溶媒への溶解性が高く高軟化点を有する光学的等方性ピッチを得ることは出来ない。本発明により製造されるピッチの軟化点は、基質の種類、基質に対する添加剤の添加量、熱処理温度、熱処理時間などで制御することが出来る。本発明によれば、軟化点が例えば130°C~300°Cのピッチを製造することができる。例えば基質をアントラセンとし、添加剤としてα,α’-ジブロモパラキシレンを使用して、前記の方法にてピッチを製造する場合、光学的等方性ピッチの軟化点は130°C~270°Cの範囲で制御することが出来る。溶媒への溶解性についても基質の種類、基質に対する添加剤の添加量、熱処理温度、熱処理時間などで制御することが出来る。本発明によれば、例えば、THFに対する溶解成分が60質量以上、n-ヘキサンに対する溶解成分が17質量以上のピッチを製造することができる。例えば基質をアントラセンとし、添加剤としてα,α’-ジブロモパラキシレンを使用して、アントラセンとα,α’-ジブロモパラキシレンの量論比アントラセンモル/α,α’-ジブロモパラキシレンモルを1.5~3.0とすることで、調製される光学的等方性ピッチのTHFへの溶解成分の量を、60質量~100質量の範囲で制御することが出来る。また、非極性溶媒であるn-ヘキサンに対しても溶解成分の量を17質量~100質量の範囲で制御することが出来る。なお、n-ヘキサンへの溶解成分の量およびTHFへの溶解成分の量は実施例の項で示したように、一連のソックスレー抽出によって、n-ヘキサン、トルエン、THFによる抽出を順に行ったときの不溶分の量から計算した値である。通常、石油系中質油のC10油分またはメチルナフタレンなどは従来の製造技術では殆どが揮発するためピッチとして得られる収率が非常に低い。一方、本発明ではアントラセンなどのように揮発性が高い炭化水素を使用した場合であっても、α,α’-ジブロモパラキシレンを添加剤として使用することによって高い収率で簡単に高軟化点光学的等方性ピッチを製造することができるという点に特徴がある。特に、石油系中質油のC10油分は、熱重量分析TGA;ThermalGravityAnalysisにおいて200°Cで大部分が揮発する物質であり、その元素分析結果は炭素89.05、水素8.90、窒素1.93、硫黄0.12であり、芳香化度faが51.4である。石油系中質油のC10油分を用いた場合、従来の製造技術ではピッチとして得られる収率が30未満であることから、ピッチを製造するための基質として実用上使用できないことが知られている。以下、実施例を挙げて本発明を説明する。尚、これらの実施例は単に例示的なもので、本発明を限定するものではないことを付言する。以下実施例における分析測定については以下の方法によって行った。<軟化点>ピッチの軟化点は熱機械分析TMA;ThermoMechanicalAnalysisによって決定した。分析機器としてエスエスアイナノテクノロジー社製EXSTARTMA/SS6300を使用した。試料調製としてアルミパン容量100μLにピッチ試料を0.5g入れ、ホットプレート法で測定した軟化点より30°C上昇させた温度で一度軟化させ、アルミパン中に平坦化したピッチ表面を生成した。TMAの測定条件は、不活性雰囲気下、温度:室温から最大500°Cまで、昇温速度:5°C/分、窒素ガス流量:100cc/分であった。また、プローブとして針入プローブを用いて、荷重49mNの一定の力で上部から押した。軟化点はプローブの針入量と温度とのグラフより接線の交点として決定した図4参照。<溶媒への溶解性>丸底フラスコにn-ヘキサン100mLを入れ、円筒ろ紙thimblefilterにピッチの試料1gを入れ、ソックスレー抽出装置によって抽出を行った。抽出時間は6時間とし、円筒ろ紙内のn-ヘキサン不溶分と丸底フラスコ内のn-ヘキサン溶解分をそれぞれ採取し、不溶分は80°Cで1日乾燥させたのち重量測定を行い、n-ヘキサン不溶分率をもとめ、100からこの値を差し引いてn-ヘキサンに対する溶解成分率とした。次に、トルエン100mLに対してn-ヘキサン不溶分試料1gを円筒ろ紙にいれ、ソックスレー抽出装置によって抽出した。抽出時間は6時間とし、円筒ろ紙内のトルエン不溶分と丸底フラスコ内のトルエン溶解分をそれぞれ採取し、不溶分は80°Cで1日乾燥させたのち重量測定を行った。次に、THF100mLに対してトルエン不溶分試料1gを円筒ろ紙にいれ、ソックスレー抽出装置によって抽出した。抽出時間は6時間とし、円筒ろ紙内のTHF不溶分と丸底フラスコ内のTHF溶解分をそれぞれ採取し、不溶分は80°Cで1日乾燥させたのち重量測定を行った。この一連のソックスレー抽出によって、n-ヘキサン溶解分、n-ヘキサン不溶分-トルエン溶解分、トルエン不溶分-THF溶解分、THF不溶分に分取し定量した。THFに対する溶解成分率は100からTHF不溶分率を引いて決定した。<TOFMS測定>分析機器としてアプライドバイオシステムズ社製VoyagerELLITEII/LDI-TOFMSを使用した。試料調製としてTHF溶媒10mLにピッチサンプル0.1gを溶かし、十分攪拌し溶解した。LDI-TOFMS用のサンプルプレートに1mLの試料を載せた。さらに、THFを蒸発乾燥させたのち、TOFMSの測定を行った。測定条件はリニアーモードで、加速電圧20kV、レーザー強度2200LSであった。また、サンプルチャンバーおよび検出器チャンバーの真空度はそれぞれ2.0×10-8Torrおよび2.0×10-9Torrであった。<1H-NMR>分析機器として日本電子社製JNM-600ECAを使用した。試料調製としてガラス製試料管に試料10mgを入れ、パスツールピペットでNMR溶媒であるCDCl3重クロロホルムを試料濃度が30質量になるように加えた。得られた試料をNMR試験管に入れ本装置にて測定を行った。<炭化収率>TGA分析機器としてエスエスアイナノテクノロジー社製EXSTARTG/DTA6000を使用した。試料調製として白金パン容量100μLにピッチ試料を10mg入れ、ガスを流しながらバランスが取れた状態まで待ち、その後熱分析を行った。TGAの測定条件は、不活性雰囲気下、温度:室温から最大800°Cまで、昇温速度:5°C/分、窒素ガス流量:100cc/分であった。TGAチャートにおいて重量変化がなくなり一定の値となった、800°Cでの残留重量を炭化収率とした。実施例1アントラセン和光純薬工業株式会社製、純度>96.0GC基質10gに対して、α,α’-ジブロモパラキシレン東京化成工業株式会社製、純度>98.0GC添加剤4.9gを常温で混合し、窒素を200cc/分で流しながら、大気圧下にて320°Cまで5°C/分の速度で昇温した後、この温度を維持したまま1時間保持した。得られたピッチについてTMA測定装置にて軟化点を測定したところ、203°Cであった。更に、得られたピッチについてソックスレー抽出法により各溶媒への溶解性を測定したところ、n-ヘキサン溶解分が27、n-ヘキサン不溶でトルエン溶解分が53、トルエン不溶でTHF溶解分が7、THF不溶分が13であった。THF溶解成分率は87100-13である。得られたピッチについてTOFMSにて分子量測定を行ったところ、図1のANT/DBX3.0に示す様なプロファイルが得られた。更に、ピッチの1H-NMRスペクトルを図2に示す。得られた1H-NMRスペクトルにおいては、アントラセンの1、4、5、8、9、10位への添加剤の架橋が観測され、2、3、6、7位への架橋は非常に少ないことから、調製されたピッチの構造は図6に示す様な構造を有しているものと考えられる。この様なメチレンブリッジにより連結されたアントラセンは分子回転が容易である為、結果として高軟化点でありながら、高い溶媒溶解性を有するピッチが生成しているものと推定される。得られたピッチについて、TGA装置により重量減少を測定した結果を図3のANT/DBX3.0に示す。800°C炭化収率は40程度であった。実施例2α,α’-ジブロモパラキシレンを10gとしたこと以外は実施例1と同様の方法により実験を行った。得られたピッチの軟化点は266°Cであった。また溶媒への溶解度は、ヘキサン溶解分が17、ヘキサン不溶でトルエン溶解分が28、トルエン不溶でTHF溶解分が15、THF不溶分が40であった。THF溶解成分率は60である。TOFMS測定による分子量プロファイルは、図1のANT/DBX1.5に示すものであった。得られたピッチのTGA測定の結果は図3のANT/DBX1.5に示すものであった。この場合の800°C炭化収率は45程度であった。実施例3アントラセンの代わりにピレン東京化成工業株式会社製、純度>97.0GC10.0gと、α,α’-ジブロモパラキシレン4.3gを用いたこと以外は実施例1と同様の方法により実験を行った。その結果、得られたピッチの軟化点は133°Cであった。また溶媒への溶解度は、ヘキサン溶解分が0、ヘキサン不溶でトルエン溶解分が85、トルエン不溶でTHF溶解分が15、THF不溶分が0であった。THF溶解成分率は100である。比較例1アントラセン和光純薬工業株式会社製、純度>96.0GC10gを、窒素を200cc/分で流しながら、大気圧下にて320°Cまで5°C/分の速度で昇温した後、この温度を維持したまま1時間保持した。生成物はなく、すべてのアントラセンが揮発した。比較例2加圧下7気圧にて熱処理をしたこと以外は比較例1と同様の方法により実験を行った。その結果得られた物質は固形分でありピッチは得られなかった。この固体の溶媒への溶解度は、ヘキサン溶解分は0、ヘキサン不溶でトルエン溶解分が0、トルエン不溶でTHF溶解分が20、THF不溶分が80であった。THF溶解成分率は20である。比較例3α,α’-ジブロモパラキシレンを2.5gとしたこと以外は実施例1と同様の方法により実験を行った。得られたピッチの軟化点は103°Cであった。また溶媒への溶解度は、ヘキサン溶解分が59、ヘキサン不溶でトルエン溶解分が40、トルエン不溶でTHF溶解分が1、THF不溶分が0であった。THF溶解成分率は100である。TOFMS測定による分子量プロファイルは、図1のANT/DBX6.0に示すものであった。得られたピッチのTGA測定の結果は図3のANT/DBX6.0に示すものであった。この場合の800°C炭化収率は20程度であった。比較例4α,α’-ジブロモパラキシレンを14.8gとしたこと以外は実施例1と同様の方法により実験を行った。この場合、得られた物質は固体状でありピッチは得られなかった。この固体の溶媒への溶解度は、ヘキサン溶解分が0、ヘキサン不溶でトルエン溶解分が28、トルエン不溶でTHF溶解分が12、THF不溶分が60であった。THF溶解成分は40である。比較例5アントラセンの代わりにナフタレン和光純薬工業株式会社製、純度>99.0GC10.0gと、α,α’-ジブロモパラキシレン10.0gを用いたこと以外は実施例1と同様の方法により実験を行った。その結果、得られたピッチの軟化点は90°Cであった。また溶媒への溶解度は、ヘキサン溶解分が20、ヘキサン不溶でトルエン溶解分が80、トルエン不溶でTHF溶解分が0、THF不溶分が0であった。THF溶解成分率は100である。比較例6アントラセンの代わりにフェナンスレン東京化成工業株式会社製、純度>95.0GC10.0gと、α,α’-ジブロモパラキシレン10.0gを用いたこと以外は実施例1と同様の方法により実験を行った。その結果、得られたピッチの軟化点は92°Cであった。また溶媒への溶解度は、ヘキサン溶解分が30、ヘキサン不溶でトルエン溶解分が69、トルエン不溶でTHF溶解分が1、THF不溶分が0であった。THF溶解成分率は100である。"