"第1の基板と、前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置される液晶材料と、前記第1の基板の上に配置された複数の柱状スペーサおよび第1の配向膜と、前記第2の基板の上に配置された絶縁層および当該絶縁層の上に配置された第2の配向膜とを有し、前記絶縁層と前記液晶材料との間であり、かつ、前記柱状スペーサと対向する位置に、前記絶縁層および前記第2の配向膜のいずれとも異なる材料からなる柱状スペーサの受け台座部材が配置された液晶表示装置において、前記受け台座部材の中央部分の位置には前記第2の配向膜が形成されておらず、前記受け台座部材の外周部分の位置には前記第2の配向膜の膜厚が、中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布を有していることを特徴とする液晶表示装置。前記第1の基板上に配置された柱状スペーサの中央部分には前記第1の配向膜が形成されておらず、前記受け台座部材の外周部分の位置には前記第1の配向膜の膜厚が、中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布を有していることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。前記第2の配向膜の傾斜型膜厚分布を有している領域が、基板面内の一部に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。前記第2の配向膜の傾斜型膜厚分布を有している領域が、前記受け台座部材の中央部程小さく、外周部方向に向けて拡張していく形状を有していることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。前記第2の配向膜の膜厚傾斜型膜厚分布を有している領域が、受け台座部材の凹部に形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の液晶表示装置。前記受け台座部材は、平面形状が円形または長円形であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の液晶表示装置。前記受け台座部材は、ライン形状であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の液晶表示装置。前記受け台座部材は、透明導電膜からなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の液晶表示装置。前記受け台座部材は、ITOIndium-TinOxideからなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の液晶表示装置。前記液晶表示装置において、前記受け台座部材は、Al、Cu、Ag、Cr、Mo、Ni、Wのいずれかを含む金属薄膜からなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の液晶表示装置。前記受け台座部材の表面には、シランカップリング剤が塗布されていることを特徴とする請求項8乃至10のいずれか1項に記載の液晶表示装置。前記受け台座部材は、その表面がプラズマ処理されていることを特徴とする請求項8乃至10のいずれか1項に記載の液晶表示装置。前記受け台座部材は、含フッ素高分子からなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の液晶表示装置。前記受け台座部材の中央部分の水の接触角は、受け台座部材の外周部分にある前記第2の配向膜が形成されている膜における水の接触角よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の液晶表示装置。前記前記第2の配向膜が形成されていない領域が、前記受け台座部材の外部にまで及んでいることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の液晶表示装置。第1の基板と、前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置される液晶材料と、前記第1の基板の上に配置された複数の柱状スペーサおよび第1の配向膜と、前記第2の基板の上に配置された絶縁層および当該絶縁層の上に配置された第2の配向膜とを有する液晶表示装置であって、前記第1の基板における前記柱状スペーサに対向する部分には前記第2の配向膜は形成されておらず、前記対向する部分の面積は、前記柱状スペーサの先端の面積よりも大きく、前記対向する部分の周辺における前記第2の配向膜が外側に向かって徐々に膜厚が大きくなる傾斜型膜厚分布を有しており、前記対向する部分の周辺の膜厚は、基板面内方向に対しても膜厚分布を有していることを特徴とする液晶表示装置。前記第1の基板上に配置された柱状スペーサの中央部分には前記第1の配向膜が形成されていないことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置。前記柱状スペーサに対向する部分は絶縁層であることを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置。前記柱状スペーサに対向する部分は透明導電膜であることを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置。本発明の課題は、配向膜の削れ抑制、微小輝点不良を防止可能な、より高品質な液晶表示装置を提供することである。本発明は、上記課題を解決するものであり、主な手段は次のとおりである。1第1の基板と、前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置される液晶材料と、前記第1の基板の上に配置された複数の柱状スペーサおよび第1の配向膜と、前記第2の基板の上に配置された絶縁層および当該絶縁層の上に配置された第2の配向膜とを有し、前記絶縁層と前記液晶材料との間であり、かつ、前記柱状スペーサと対向する位置に、前記絶縁層および前記第2の配向膜のいずれとも異なる材料からなる柱状スペーサの受け台座部材が配置された液晶表示装置において、前記受け台座部材の中央部分の位置には前記第2の配向膜が形成されておらず、前記受け台座部材の外周部分の位置には前記第2の配向膜の膜厚が、中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布を有していることを特徴とする液晶表示装置。2第1の基板と、前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置される液晶材料と、前記第1の基板の上に配置された複数の柱状スペーサおよび第1の配向膜と、前記第2の基板の上に配置された絶縁層および当該絶縁層の上に配置された第2の配向膜とを有する液晶表示装置であって、前記第1の基板における前記柱状スペーサに対向する部分には前記第2の配向膜は形成されておらず、前記対向する部分の面積は、前記柱状スペーサの先端の面積よりも大きく、前記対向する部分の周辺における前記第2の配向膜が外側に向かって徐々に膜厚が大きくなる傾斜型膜厚分布を有しており、前記対向する部分の周辺の膜厚は、基板面内方向に対しても膜厚分布を有していることを特徴とする液晶表示装置。本発明により、液晶表示装置の上下基板間を一定間隔に保持している柱状スペーサが対向する位置には液晶配向膜が付着していない構造を実現させることができ、これまで問題となっていた柱状スペーサと対向する位置における接触横ずれによる配向膜削れを抑制し、引いては表示不良の一種である微小輝点不良を防止することができる。以下、本発明について、図面を参照して実施の形態実施例とともに詳細に説明する。なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。最初に、本発明の液晶表示装置の基本的素子構造について、図表を用いて説明する。図1aには、本発明の液晶表示装置の部分的素子構造の断面の一例を示した。本発明の液晶表示装置は、第1の基板1と、第1の基板1と対向配置される第2の基板2と、第1の基板1と第2の基板2との間に配置される液晶材料3と、第1の基板1の上に配置された複数の柱状スペーサ4および第1の配向膜5と、第2の基板2の上に配置された絶縁層6および絶縁層6の上に配置された第2の配向膜7とを有し、絶縁層6と液晶材料5との間であり、かつ、柱状スペーサ4と対向する位置に、絶縁層6および第2の配向膜7のいずれとも異なる材料からなる柱状スペーサの受け台座部材8が配置された液晶表示装置である。この中で、受け台座部材8の中央部分の位置には第2の配向膜7が形成されておらず、受け台座部材8の外周部分の位置には第2の配向膜7の膜厚が、中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布を有している。ここでは、第1の基板1上の第1の配向膜5の膜厚に関しては特段規定はしていない。図1bには、本発明の液晶表示装置の部分的素子構造の断面の別の一例を示した。基本的な部材の構成は図1aと同様であるが、受け台座部材8の中央部分から第2の配向膜7が形成されていない領域が受け台座部材8の外部まで広がっており、その外側に中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布を有している。特に図示はしないが、図1aと図1bの中間的な位置、すなわち受け台座部材8のテーパ部途中や平坦部途中等まで第2の配向膜7が形成されていない場合も形成可能である。但し、柱状スペーサ4と受け台座部材8との接触する面には配向膜8を形成しないことが望ましい。図2aには、本発明の液晶表示装置の部分的素子構造の断面の別の一例を示した。基本的な部材の構成は図1aと同様であるが、柱状スペーサ4上の第1の配向膜5の膜厚が、柱状スペーサの中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布を有している。この場合、柱状スペーサ4の平坦部と受け台座部材8の平坦部ともに配向膜が形成されていない面で接触しているため、上下基板の貼り合わせや、液晶表示素子としての成型後の振動、衝撃、あるいは使用温度環境の変化による上下基板の反り等により、その接触部分で第1の配向膜5または第2の配向膜7が摩擦により剥離する可能性が無くなる。図2bには、本発明の液晶表示装置の部分的素子構造の断面の別の一例を示した。基本的な部材の構成は図1bと同様であるが、柱状スペーサ4上の第1の配向膜5の膜厚が、柱状スペーサ4の中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布を有している。この場合は、受け台座部材8の外側まで第2の配向膜7が形成されていないため、面内方向に柱状スペーサ4と受け台座部材8の位置が多少ずれても、配向膜7が摩擦により剥離する可能性が更に無くなる。図3には、本発明の液晶表示装置の受け台座部材8の平面及び断面の別の一例を示した。図3aは受け台座部材8の平面図を示しているが、ここでは正方形の形をしているものを一例として示した。受け台座部材8の中央部も平坦であり、その四辺にテーパとなっている部分がある。このうち、図3aのA-A’面での断面を示したものが図3bである。この断面で見ると、図1aと同様に中央部には第2の配向膜7は形成されておらず、テーパ部で中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布の配向膜7が形成されている。また、図3aのB-B’面での断面を示したものが図3cである。この断面で見ると、図1bと同様に受け台座部材8中央部からそのやや外側までの領域には第2の配向膜7は形成されておらず、その外側で中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布の配向膜7が形成されている。すなわち、配向膜7の膜厚傾斜型膜厚分布を有している領域が、基板面内の1部に形成されていてもよい。ここでは、特定のテーパ部分には配向膜7が形成され、別のテーパ部分には配向膜7が形成されていない構造を一例として示したが、一つのテーパ部分の領域内の一部に配向膜7が形成されている構造でもよい。また、受け台座部材8の平面図を示す図3aに示すように、配向膜7の傾斜型膜厚分布を有している領域が、受け台座部材の中央部程小さく、外周部方向に向けて拡張していく形状を有している。このように膜厚傾斜型膜厚分布を有している領域が、基板面内で分布を有することは、その配向膜形成過程で表面張力の違いにより中央部分の配向膜原液が吸引され、受け台座部材8の中央部に配向膜が残留することを抑制するのに有効である。また、配向膜の膜厚傾斜型膜厚分布を有している領域の基板面内で分布が、前記受け台座部材の中央部程小さく、外周部方向に向けて面積が拡張していく形状とすると、受け台座部材8の中央部に配向膜が残留することを一層抑制するのに有効である。図4には、本発明の液晶表示装置の受け台座部材8の平面及び断面の別の一例を示した。図4aは受け台座部材8の平面図を示しているが、ここでは正方形の形をベースにし、凹部を2か所設けたものを一例として示した。このうち、図4aのA-A’面での断面を示したものが図4bである。この断面で見ると、図1aと同様に中央部には第2の配向膜7は形成されておらず、テーパ部で中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布の配向膜7が形成されている。また、図4aのC-C’面での断面を示したものが図4cである。ここでは凹部中央を横切る断面となっているため、図4aのA-A’面よりも配向膜7の傾斜型膜厚分布が急峻となっている。このように、第2の配向膜の膜厚傾斜型膜厚分布を有している領域が、受け台座部材の中央部分よりも凹部に形成されている場合、配向膜形成の過程で受け台座部材8の中央部と凹部とは容易に液切れしやすく、このような凹部を設けていないテーパ部から表面張力の違いにより中央部分の配向膜原液が吸引され、受け台座部材8の中央部に配向膜が残留することを抑制するのに有効である。重要なことは、受け台座部材8の中央部に形成される配向膜原液を受け台座部材8の外部に速やかに吸引除去されるような道筋と表面張力の差を設けることである。また、ここでは受け台座部材8の平面形状が正方形の場合を一例として示したが、その平面形状は長方形やライン状、あるいは、多角形でもよい。また、円形または長円形でもよい。さらには、複数の凹凸を含む形状でもよい。受け台座部材8の断面形状は、順テーパ状となっていることが望ましいが、垂直または逆テーパであってもよい。また、受け台座部材8の素材には、Si、SiO2、Al2O3、有機樹脂、無機樹脂等各種素材を用いることが可能であるが、静電気による配向膜7の塗布性のむらを防止するためには、ある程度導電性を有する素材が望ましい。例えば、各種金属材料でもよく、その中で製造コスト低減のためには、Al、Cu、Ag、Cr、Mo、Ni、Wの中から一つまたは複数組み合わせた金属が選ばれることが望ましい。また、別の導電性を有する素材としては、各種透明導電体でもよく、その中で製造コスト低減のためには、ITO、IZO、ITZO、ZnO、SnO2等の透明導電体で形成してもよく、この中では液晶表示装置の透明電極として用いられているITOを用いることが製造コスト低減のためには望ましい。本発明の液晶表示装置の所望の膜厚分布を有する第1の配向膜5または第2の配向膜7が形成されたかどうかは、以下の方法で確認することができる。配向膜まで作製し終えた段階で、配向膜表面または断面を、走査型電子顕微鏡で観察したり、SEMと組み合わせたエネルギー分散X線分光法EDS,EDXenergydispersiveXrayspectrometryによって元素分布や濃度を調べることで、配向膜の有無や膜厚を検知することができる。次に、本発明の液晶表示装置の作製手順について図表を用いて説明する。図5には、本発明の液晶表示装置の作製手順フローの一例を示した。基板には、例えば事前に表面研磨洗浄した無アルカリガラスを用いることができる。これ以外には通常のホウケイガラスやプラスチック、或いは金属薄板等を組み合わせたもの、或いは液晶表示装置を点灯させるための光源の光を導光するための光学的構造を、適宜使用することも可能である。但し、少なくとも表示させる側の基板は透明基板である必要がある。基板は第1の基板用と第2の基板用の2組を用意する。第1の基板用には、カラーフィルタCFパターン形成、平坦化膜形成、或いはブラックマトリクス形成、透明電極形成等の薄膜形成プロセスを経て、第1の基板1とする。第1の基板1上には、各種感光性樹脂を用いて柱状スペーサ4を形成する。その高さは液晶セルとしてのスペーサに求められる寸法とし、例えば1μmから10μmの範囲から選ばれており、望ましくは3μmから5μmの範囲から選ばれている。その面内の幅は対向する受け台座部材8の幅以上とすることが望ましく、例えば1μmから30μmから選ばれており、望ましくは8μmから20μmの範囲から選ばれている。ここで、柱状スペーサ4の平面形状が正方形や長方形、多角形でもよく、あるいは円形または長円形でもよい。また、複数の凹凸を含む形状でもよい。また、柱状スペーサ4の断面形状は、順テーパ状となっていることが望ましいが、垂直または逆テーパであってもよい。この上に第1の配向膜5を形成する。配向膜材料にはこれまで知られている各種高分子材料から適宜選ぶことができるが、その代表的な材料はポリイミドである。最初に、目的のポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を溶媒に溶かして、溶液を調製する。次に配向膜を形成する下地基板の上にスピンコート、フレクソ印刷、インクジェット印刷等の湿式方法により、溶液を塗布する。次に塗布した溶液の膜厚が表面張力や下地の凹凸により著しく平坦性が乱されないように予備乾燥する。このような状態にして、基板温度を高温にして、ポリアミド酸の分子構造を熱変化させてイミド化焼成する。次に、ラビングや光により膜表面に配向機能を付与する。このようにして、第1の配向膜5は形成される。第2の基板用には、TFT回路、電極形成等のプロセスを経て、第2の基板2とする。この上に、絶縁層6を形成する。絶縁層6には各種誘電体から適宜選ぶことができ、例えばSiN、SiO2、有機樹脂等から選ぶことができる。ここでは図示しないが、この上に透明電極を形成して画素部分のみパターニングするが、詳細は省略する。この上に受け台座部材8を形成する。その詳細については、前段にて説明した通りである。しかる後、受け台座部材8の中央部分の位置には第2の配向膜7が形成されないようにするための、表面パターニング処理を施す。表面パターニング処理には、1事前に表面クリーニングした後、フッ化アルキルシランを1分子層付着させ、フォトマスクで受け台座部材8以外の領域に紫外線や酸素プラズマを照射してフッ化アルキルシランを除去する方法、2事前に表面クリーニングした後、撥液性のシランカップリング剤を塗布し、フォトマスクで受け台座部材8以外の領域に紫外線や酸素プラズマを照射しシランカップリング剤を除去する方法、3含フッ素フォトレジスト等を用いて、撥液性の受け台座部材8そのものを形成するか、受け台座部材8の撥液性表面コート層を形成する方法、等が挙げられる。用いるフォトマスクの面内パターンによって、撥液性の表面の面内分布が形成され、紫外線照射条件の調整によりそのパターンのエッジ部分をシャープなものにしたり、なだらかなものにしたりすることが可能である。或いは、受け台座部材8の最上層を有機薄膜またはITO薄膜となし、その表面を酸素プラズマ処理によって親水性にしたり、またはCF4プラズマ処理によって疎水性にすることで、配向膜7の付着状態を制御することも可能である。このようにして、受け台座部材8を中心として、表面の撥液性の異なる領域を形成させる。この上に、第2の配向膜7を、第1の配向膜5と同様の手法で形成させる。ここで、下地表面に撥液性の異なる領域が形成されているために、例えば配向膜としてポリイミドを用いる場合、その前駆体であるポリアミド酸溶液を塗布した段階で、溶液をはじいたり、乾燥過程で溶液の嵩が減るにつれて撥液性表面から親液性表面に液が輸送されたりして、最終的にイミド化乾燥した状態で、受け台座部材8上に第2の配向膜7が残留しないようにすることができる。但し、製作条件を誤ると、受け台座部材8上にポリアミド酸溶液の液滴が残留し、それがそのまま乾燥されてしまう場合もある。このようにして薄膜化された第2の配向膜7には同様に配向機能を付与する。次に、第2の配向膜7上に液晶材料3を滴下し、第1の配向膜5の基板と貼り合わせてセル組する。ここで用いる液晶材料や貼り合わせ用の樹脂等は、通常の液晶表示装置製造時に用いられるものを利用することができる。また、セル組した後に液晶を真空封入することも可能である。この後、偏光板、位相差板等の光学フィルムを貼り付け、バックライトや駆動回路電源、フレーム、反射防止膜、等の部材を組み合わせてモジュール化し、付属部品と合わせて、液晶表示装置とする。次に、本発明の配向膜形成用溶媒により高品質化された配向膜を作製された液晶表示装置について、説明する。図6から図9は、本発明に関わる液晶表示装置の概略構成の一例を示す模式図である。図6は、本発明に関わる液晶表示装置の概略構成の一例を示す模式ブロック図である。図7は、液晶表示パネルの1つの画素の回路構成の一例を示す模式回路図である。図8は、液晶表示パネルの概略構成の一例を示す模式平面図である。図9は、図8のA-A’線における断面構成の一例を示す模式断面図である。本発明の配向膜形成用溶媒により高品質化された配向膜は、たとえば、アクティブマトリクス方式の液晶表示装置に適用される。アクティブマトリクス方式の液晶表示装置は、たとえば、携帯型電子機器向けのディスプレイモニター、パーソナルコンピュータ用のディスプレイ、印刷やデザイン向けのディスプレイ、医療用機器のディスプレイ、液晶テレビなどに用いられている。アクティブマトリクス方式の液晶表示装置は、たとえば、図6に示すように、液晶表示パネル101、第1の駆動回路102、第2の駆動回路103、制御回路104、およびバックライト105を有する。液晶表示パネル101は、複数本の走査信号線GLゲート線および複数本の映像信号線DLドレイン線を有し、映像信号線DLは第1の駆動回路102に接続しており、走査信号線GLは第2の駆動回路103に接続している。なお、図6には、複数本の走査信号線GLのうちの一部を示しており、実際の液晶表示パネル101には、さらに多数本の走査信号線GLが密に配置されている。同様に、図6には、複数本の映像信号線DLのうちの一部を示しており、実際の液晶表示パネル101には、さらに多数本の映像信号線DLが密に配置されている。また、液晶表示パネル101の表示領域DAは、多数の画素の集合で構成されており、表示領域DAにおいて1つの画素が占有する領域は、たとえば、隣接する2本の走査信号線GLと隣接する2本の映像信号線DLとで囲まれる領域に相当する。このとき、1つの画素の回路構成は、たとえば、図7に示すような構成になっており、アクティブ素子として機能するTFT素子Tr、画素電極PX、共通電極CT対向電極と呼ぶこともある、液晶層LCを有する。またこのとき、液晶表示パネル1には、たとえば、複数の画素の共通電極CTを共通化する共通化配線CLが設けられている。また、液晶表示パネル101は、たとえば、図8および図9に示すように、アクティブマトリクス基板106と対向基板107の表面に配向膜606および705を形成し、それら配向膜の間に液晶層LC液晶材料を配置した構造になっている。また、ここでは特に図示していないが、配向膜606とアクティブマトリクス基板106の間、または配向膜705と対向基板107の間に、適宜中間層例えば位相差板や色変換層、光拡散層等の光学的中間層を設けてもよい。このとき、アクティブマトリクス基板106と対向基板107とは、表示領域DAの外側に設けられた環状のシール材108で接着されており、液晶層LCは、アクティブマトリクス基板106側の配向膜606、対向基板107側の配向膜705、およびシール材108で囲まれた空間に密封されている。またこのとき、バックライト105を有する液晶表示装置の液晶表示パネル101は、アクティブマトリクス基板106、液晶層LC、および対向基板107を挟んで対向配置させた一対の偏光板109a,109bを有する。なお、アクティブマトリクス基板106は、ガラス基板などの絶縁基板の上に走査信号線GL、映像信号線DL、アクティブ素子TFT素子Tr、画素電極PXなどが配置された基板である。また、液晶表示パネル101の駆動方式がIPS方式などの横電界駆動方式である場合、共通電極CTおよび共通化配線CLはアクティブマトリクス基板106に配置されている。また、液晶表示パネル101の駆動方式がTN方式やVAVerticallyAlignment方式などの縦電界駆動方式である場合、共通電極CTは対向基板107に配置されている。縦電界駆動方式の液晶表示パネル101の場合、共通電極CTは、通常、すべての画素で共有される大面積の一枚の平板電極であり、共通化配線CLは設けられていない。また、本発明に関わる液晶表示装置では、液晶層LCが密封された空間に、たとえば、それぞれの画素における液晶層LCの厚さセルギャップということもあるを均一化するための柱状スペーサ110が複数設けられている。この複数の柱状スペーサ110は、たとえば、対向基板107に設けられている。第1の駆動回路102は、映像信号線DLを介してそれぞれの画素の画素電極PXに加える映像信号階調電圧ということもあるを生成する駆動回路であり、一般に、ソースドライバ、データドライバなどと呼ばれている駆動回路である。また、第2の駆動回路103は、走査信号線GLに加える走査信号を生成する駆動回路であり、一般に、ゲートドライバ、走査ドライバなどと呼ばれている駆動回路である。また、制御回路104は、第1の駆動回路102の動作の制御、第2の駆動回路103の動作の制御、およびバックライト105の輝度の制御などを行う回路であり、一般に、TFTコントローラ、タイミングコントローラなどと呼ばれている制御回路である。また、バックライト105は、たとえば、冷陰極蛍光灯などの蛍光灯、または発光ダイオードLEDなどの光源であり、当該バックライト105が発した光は、図示していない反射板、導光板、光拡散板、プリズムシートなどにより面状光線に変換されて液晶表示パネル101に照射される。図10は、本発明によるIPS方式液晶表示パネルの概略構成の一例を示す模式図である。アクティブマトリクス基板106は、ガラス基板601などの絶縁基板の表面に、走査信号線GLおよび共通化配線CLと、それらを覆う第1の絶縁層602が形成されている。第1の絶縁層602の上には、TFT素子Trの半導体層603、映像信号線DL、および画素電極PXと、それらを覆う第2の絶縁層604が形成されている。半導体層603は、走査信号線GLの上に配置されており、走査信号線GLのうちの半導体層603の下部に位置する部分がTFT素子Trのゲート電極として機能する。また、半導体層603は、たとえば、第1のアモルファスシリコンからなる能動層チャネル形成層の上に、第1のアモルファスシリコンとは不純物の種類や濃度が異なる第2のアモルファスシリコンからなるソース拡散層およびドレイン拡散層が積層された構成になっている。またこのとき、映像信号線DLの一部分および画素電極PXの一部分は、それぞれ、半導体層603に乗り上げており、当該半導体層603に乗り上げた部分がTFT素子Trのドレイン電極およびソース電極として機能する。ところで、TFT素子Trのソースとドレインは、バイアスの関係、すなわちTFT素子Trがオンになったときの画素電極PXの電位と映像信号線DLの電位との高低の関係によって入れ替わる。しかしながら、本明細書における以下の説明では、映像信号線DLに接続している電極をドレイン電極といい、画素電極に接続している電極をソース電極という。第2の絶縁層604の上には、表面が平坦化された第3の絶縁層605オーバーコート層が形成されている。第3の絶縁層605の上には、共通電極CTと、共通電極CTおよび第3の絶縁層605を覆う配向膜606が形成されている。共通電極CTは、第1の絶縁層602、第2の絶縁層604、および第3の絶縁層605を貫通するコンタクトホールCHスルーホールを介して共通化配線CLと接続している。また、共通電極CTは、たとえば、平面における画素電極PXとの間隙Pgが7μm程度になるように形成されている。配向膜606は以下の実施例に記載された高分子材料が塗布され、表面に液晶配向能を付与するための表面処理ラビング処理等が施されている。一方、対向基板7は、ガラス基板701などの絶縁基板の表面に、ブラックマトリクス702およびカラーフィルタ703R,703G,703Bと、それらを覆うオーバーコート層704が形成されている。ブラックマトリクス702は、たとえば、表示領域DAに画素単位の開口領域を設けるための格子状の遮光膜である。また、カラーフィルタ703R,703G,703Bは、たとえば、バックライト105からの白色光のうちの特定の波長領域色の光のみを透過する膜であり、液晶表示装置がRGB方式のカラー表示に対応している場合は、赤色の光を透過するカラーフィルタ703R、緑色の光を透過するカラーフィルタ703G、および青色の光を透過するカラーフィルタ703Bが配置されるここでは一つの色の画素について代表して示している。また、オーバーコート層704は、表面が平坦化されている。オーバーコート層704の上には、複数の柱状スペーサ110および配向膜705が形成されている。柱状スペーサ110は、たとえば、頂上部が平坦な円錐台形台形回転体ということもあるであり、アクティブマトリクス基板106の走査信号線GLのうちの、TFT素子Trが配置されている部分および映像信号線DLと交差している部分を除く部分と重なる位置に形成されている。また、配向膜705は、たとえば、ポリイミド系樹脂で形成されており、表面に液晶配向能を付与するための表面処理ラビング処理等が施されている。また、図10の方式の液晶表示パネル101における液晶層LCの液晶分子111は、画素電極PXと共通電極CTの電位が等しい電界無印加時には、ガラス基板601,701の表面にほぼ平行に配向された状態であり、配向膜606,705に施されたラビング処理で規定された初期配向方向に向いた状態でホモジニアス配向している。そして、TFT素子Trをオンにして映像信号線DLに加えられている階調電圧を画素電極PXに書き込み、画素電極PXと共通電極CTとの間の電位差が生じると、図中に示したような電界112電気力線が発生し、画素電極PXと共通電極CTとの電位差に応じた強度の電界112が液晶分子111に印加される。このとき、液晶層LCが持つ誘電異方性と電界112との相互作用により、液晶層LCを構成する液晶分子111は電界112の方向にその向きを変えるので、液晶層LCの屈折異方性が変化する。またこのとき、液晶分子111の向きは、印加する電界112の強度画素電極PXと共通電極CTとの電位差の大きさによって決まる。したがって、液晶表示装置では、たとえば、共通電極CTの電位を固定しておき、画素電極PXに加える階調電圧を画素毎に制御して、それぞれの画素における光透過率を変化させることで、映像や画像の表示を行うことができる。図11は、本発明によるFFS方式液晶表示パネルの概略構成の一例を示す模式図である。アクティブマトリクス基板106は、ガラス基板601などの絶縁基板の表面に、共通電極CT、走査信号線GL、および共通化配線CLと、それらを覆う第1の絶縁層602が形成されている。第1の絶縁層602の上には、TFT素子Trの半導体層603、映像信号線DL、およびソース電極607と、それらを覆う第2の絶縁層604が形成されている。このとき、映像信号線DLの一部分およびソース電極607の一部分は、それぞれ、半導体層603に乗り上げており、ここでは奥行き方向に隠れて図示されないが当該半導体層603に乗り上げた部分がTFT素子Trのドレイン電極およびソース電極として機能する。また、図11の液晶表示パネル1では、第3の絶縁層605が形成されておらず、第2の絶縁層604の上に画素電極PXと、画素電極PXを覆う配向膜606が形成されている。画素電極PXは、第2の絶縁層604を貫通するコンタクトホールCHスルーホールを介してソース電極607と接続している。このとき、ガラス基板601の表面に形成された共通電極CTは、隣接する2本の走査信号線GLと隣接する2本の映像信号線DLで囲まれた領域開口領域に平板状に形成されており、当該平板状の共通電極CTの上に、複数のスリットを有する画素電極PXが積層されている。またこのとき、走査信号線GLの延在方向に並んだ画素の共通電極CTは、共通化配線CLによって共通化されている。一方、図11の液晶表示パネル101における対向基板107は、図10の液晶表示パネル101の対向基板107と同じ構成である。そのため、対向基板107の構成に関する詳細な説明は省略する。図12は、本発明によるVA方式液晶表示パネルの主要部の断面構成の一例を示す模式断面図である。縦電界駆動方式の液晶表示パネル101は、たとえば、図12に示すように、アクティブマトリクス基板106に画素電極PXが形成されており、対向基板107に共通電極CTが形成されている。縦電界駆動方式の1つであるVA方式の液晶表示パネル101の場合、画素電極PXおよび共通電極CTは、たとえば、ITOなどの透明導電体によりベタ形状単純な平板形状に形成されている。このとき、液晶分子110は、画素電極PXと共通電極CTの電位が等しい電界無印加時には、配向膜606,705によりガラス基板601,701の表面に対して垂直に並べられている。そして、画素電極PXと共通電極CTとの間に電位差が生じると、ガラス基板601,701に対してほぼ垂直な電界112電気力線が発生し、液晶分子111が基板601,701に対して平行な方向に倒れ、入射光の偏光状態が変化する。またこのとき、液晶分子111の向きは、印加する電界112の強度によって決まる。したがって、液晶表示装置では、たとえば、共通電極CTの電位を固定しておき、画素電極PXに加える映像信号階調電圧を画素毎に制御して、それぞれの画素における光透過率を変化させることで、映像や画像の表示を行う。また、VA方式の液晶表示パネル101における画素の構成、たとえば、TFT素子Trや画素電極PXの平面形状は、種々の構成が知られており、図12の方式での液晶表示パネル101における画素の構成は、それらの構成のいずれかであればよい。ここでは、その液晶表示パネル101における画素の構成に関する詳細な説明を省略する。本発明は、上記のようなアクティブマトリクス方式の液晶表示装置のうち、液晶表示パネル101、特に、アクティブマトリクス基板106および対向基板107において液晶層LCに接する部分およびその周辺の構成に関する。そのため、本発明には直接関係しない第1の駆動回路102、第2の駆動回路103、制御回路104、およびバックライト105の構成についての詳細な説明は省略する。これら液晶表示装置を製造するためには、既に液晶表示装置に用いられている各種配向膜材料や配向処理方法、各種液晶材料等を用いることが可能であり、それらを液晶表示装置に組立加工する際の各種プロセスを適用することも可能である。以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明の技術的範囲は以下の実施例に限定されるものではない。最初に、本発明の液晶表示装置用の受け台座部材を作製した一例について図表を用いて説明する。ここでは、一例としてIPSパネルを作製した場合の検討結果を示す。図13には、本実施例で検討した受け台座部材の構造を示した。ここでは、その平面構造が正方形の受け台座部材を作製した。台座中央部の一辺の長さをxとし、その厚みをzとし、基板面法線と台座テーパ部のなす角をテーパ角θとした。具体的には、あらかじめTFT回路等を作製した第2の基板2上にSiNで絶縁層6まで形成したものを用意する。この上にMoCrをz=150nm成膜し、x=5μmの正方形のフォトマスクパターンとフォトレジストを用いてMoCr層を、受け台座部材として画素領域間の境界部分に燐酸/硝酸/水の混合液をエッチング液としてパターニングした。更に、この上に透明電極としてITOを50nm成膜し、図示はしていないが画素領域に残るようにシュウ酸液をエッチング液としてパターニングした。この際、パターニングされたMoCr層の上にはITOが残らないようにした。このようにして、得られた受け台座部材の形状は、SEM観察によりx=44μm、θ=60°となっていた。次に、これら構造体を形成し終わった基板表面を洗浄し、UV/オゾン照射して表面を清浄にした後、東京応化工業製のフッ素系シランカップリング剤トリクロロシラン溶液を塗布し、余分な溶液はリンス除去した後、乾燥させた。この上にx=45μmの正方形のフォトマスクパターンを位置合わせをして配置後、大気中で紫外線を照射して、フォトマスクに隠されていない領域のシランカップリング剤を除去した。リファレンスとして、このシランカップリング剤とフォトマスクの処理を行わなかった場合も合わせて作製した。この上に、シクロブタン系ジアミン骨格を持つポリアミド酸溶液をスクリーン印刷によって塗布し、70°Cの炉で10分間溶媒を仮蒸発させた後、230°Cの炉で10分間イミド化焼成し、室温で偏光した紫外線を照射し、230°Cの炉で20分間ポストベークして、第2の配向膜7を形成した。仕上がった第2の配向膜7の画素平坦部分における膜厚は100nmであった。得られた第2の配向膜7の形態や膜厚分布を断面SEM観察から測定した。図14には、代表的な第2の配向膜7の断面形態の模式図を示した。シランカップリング剤を塗布した後のフォトマスクを介して紫外線を照射する条件によっては様々な配向膜7の形態を示すことがわかった。例えば、紫外線が弱すぎる場合は、図14aのように受け台座部材全面に配向膜が塊のようにあちこちに付着し、その部分の膜厚はランダムで、ところによってはリファレンス膜厚以上であった。少し紫外線照射条件を強めると、図14bのように受け台座の外部の平坦部の膜は均一となるが、受け台座の上部やエッジ部分には塊が残存する場合となる。更に紫外線照射条件を強めると、図14cのように台座の上面には配向膜がなく、ちょうど台座部材上面の端から配向膜端部が始まるような形態となる場合となった。これよりもわずかに紫外線照射条件を強めると、図14dのように、台座上部から配向膜端部が始まるような形態となった。ちなみにリファレンスでは、図14eのように、台座上部がやや薄い80nmの膜厚の連続した膜の形態となった。これらを図14の記号を用いて、配向膜形態a~eとする。一方、第1の基板1上の柱状スペーサ4は図15に模式的に示すような、厚さz=42μm、上直径x1=16μm、下直径x2=20μm、の円形形状の光硬化性樹脂からなる構造物とした。この上に第1の配向膜5を形成した場合、プロセス条件の最適化で上直径の領域には配向膜がほとんど付着しないような状態が形成できた。すなわち、SEM観察では配向膜は認められないが、EDXではわずかに配向膜由来の窒素原子からのシグナルが検知でき、推定膜厚は1~2nmこのような上下の基板をセル組して、液晶表示装置を構成し、その配向膜の寿命試験を以下の2つの方法で試験した。一つは振動試験である。すなわち、液晶表示装置を振動試験装置に固定した状態で、当該振動試験装置を液晶表示装置の面外方向例えば、IPSパネルではガラス基板601,701の表面の法線方向に動かして液晶表示パネルを振動させた。例えば、液晶表示装置の搬送中に生じる振動を再現するために、振動数が5分間で50Hzから100Hzまで変調スイープするサイン振動を、加速度10Gで30分間加えている。このような振動を加えた後の液晶表示装置を電場を印加せずに顕微鏡観察し、本来ならば均一な黒表示となっている画素中に、配向乱れの輝点が存在していないかどうかを観察し、存在しない場合は良、存在した場合は不良とした。良の場合は再び振動を30分間かけて同様の観察を行い、不良の場合はそこで試験を打ち止めとして、その時点の振動印加回数数を振動試験の寿命とした。振動印加回数100回までで不良とならない場合は、輝点なしとした。もう一つは熱衝撃試験である。すなわち、液晶表示装置を周期的に温度を変えることが可能な恒温槽内に保持し、上限温度85°C、下限温度-30°Cの範囲で、1時間を周期として温度サイクルをかけた。10サイクルかけた後、一度液晶表示装置を恒温槽から取出し、液晶表示装置を電場を印加せずに顕微鏡観察し、本来ならば均一な黒表示となっている画素中に、配向乱れの輝点が存在していないかどうかを観察し、存在しない場合は良、存在した場合は不良とした。良の場合は再び恒温槽で10サイクルかけて同様の観察を行い、不良の場合はそこで試験を打ち止めとして、その時点のサイクル数を熱衝撃試験の寿命とした。サイクル数10000回までで不良とならない場合は、輝点なしとした。図16に示す表1に、これらの試験結果を示した。表1はIPSパネルに対する試験結果である。配向膜形態a~eによって、輝点不良の発生挙動が異なり、受け台座部材8の上に配向膜が残っている場合には早期に輝点不良が発生した。完全に微小輝点が発生しなくなるのには、受け台座部材8の上部には配向膜は残っていないと確実に言える形態cであった。同様の手順で、但し、配向膜材料や液晶材料は適宜変えて、FFSパネルを作製し、同様の寿命試験を行った結果を図17に示す表2に示した。表1と同様に、配向膜端部形態a~eによって、輝点不良の発生挙動が異なり、受け台座部材8の上に配向膜が残っている場合には早期に輝点不良が発生した。同様の手順で、但し配向膜材料や液晶材料は適宜変えて、VAパネルを作製し、同様の寿命試験を行った結果を図18に示す表3に示した。表1と同様に、配向膜端部形態a~eによって、輝点不良の発生挙動が異なり、受け台座部材8の上に配向膜が残っている場合には早期に輝点不良が発生した。このように、本発明の液晶表示装置のごとく、受け台座部材の中央部分の位置には配向膜が形成されておらず、受け台座部材の外周部分の位置には配向膜の膜厚が、中央部分から外部に向けて徐々に増加していく傾斜型膜厚分布を有していることを特徴とする液晶表示装置においては、微小輝点の発生が抑制されることが確認された。次に、本発明の液晶表示装置用の受け台座部材の別の形態を作製した一例について図表を用いて説明する。図19には、実施例2で用いた受け台座部材と部分的に撥液性を賦与するためのフォトマスク遮光部との配置を示した。受け台座部材は、実施例1と同じものを用い、同じ撥液性を付与するためのシランカップリング剤を塗布しているが、それを部分的に除去するためのフォトマスクのパターンを、実施例1の正方形から、2つの円形が示すフォトマスク遮光領域9,9’に変更した。すなわち、実施例1では受け台座部材の中央部は配向膜のポリアミド酸溶液が付着しないような撥液パターンとなっていたが、実施例2では受け台座部材の中央部は撥液性が得られないパターンであり、その近くに撥液性の領域を持たせる形となっているところに特徴がある。ここで、受け台座部材の正方形の一辺の長さx=44μmで、フォトマスクの遮光領域はその中心がx/2の位置だけ外側にあり、ここで、円の半径をr=1、2、3μmのものを選んだ。シランカップリング剤塗布後の紫外線照射量は、実施例1での配向膜形態a~eを得るのに用いた照射量と同じとして、それぞれの記号を用いた。図20に示す表4に、受け台座部材8中央部の断面SEM像から読み取った、配向膜の膜厚島状に分布している時はその中で最も厚いところを示した。リファレンスは、実施例1同様に、シランカップリング剤処理をしない場合である。今回はシランカップリング剤処理後の紫外線照射を施さないと、シランカップリング剤が表面に残って撥液性を示す表面となるが、紫外線照射量が増えるとシランカップリング剤が分解除去されて、親液性の表面に変質する。従って、十分紫外線照射された場合に、受け台座部材8には一様な配向膜層が形成されるはずである。確かに、r=1μmの場合は徐々にリファレンスのeの膜厚に近づいていくことがわかったが、r=2μmと3μmでは膜厚がリファレンス以上に減少し、条件dでは配向膜が残留しないことがわかった。すなわち、図19に示すように、親水性の領域周辺に向かって、w1→w2と増加することによって、親水性の液晶表示装置が外側に移動し、結果的に台座部材の中央部には、配向膜が残留しないことになる。以上のことから、本発明の液晶表示装置において、第2の配向膜の膜厚傾斜型膜厚分布を有している領域が、基板面内で分布を有するように配置すると、受け台座部材の中央部分の位置には配向膜が形成されていない状態を実現できることが確認された。図21には、本発明の柱状スペーサ近傍の別の形態の一例を示した。これまでは柱状スペーサ4の対向する位置には受け台座部材8が設けられていたが、特別な受け台座部材8を設けず、既に形成されている部材、例えば透明電極やゲート配線、映像信号線、平坦化膜等の部材を利用して、柱状スペーサを受ける構造も形成可能である。第2の基板において、柱状スペーサ4と接する部分には第2の配向膜7は存在していない。このような、第2の配向膜7が存在しない部分の形成方法は、実施例1で述べたような、1フッ化アルキルシランをパターニングする方法、2シランカップリング剤を紫外線等によってパターニングする方法、3酸素プラズマあるいはCF4プラズマを用いる方法等がある。直接柱状スペーサ4と接する部分には、透明導電膜が存在していてもよいし、絶縁層が存在していてもよい。ここではそのような部材を柱状スペーサ対向位置表面9として示した。このような柱状スペーサ対向位置表面9にあっては、受け台座部材のような凸構造である必要性はなく、単純な平坦な表面であってもよい。柱状スペーサ対向位置表面9の面積は、柱状スペーサ4の先端の面積よりも大きい。柱状スペーサ対向位置表面9の周辺には第2の配向膜7が存在するが、この第2の配向膜7は、柱状スペーサ対向位置表面9の周辺から外側に向かって膜厚が徐々に増加する傾斜型膜厚分布を有している。また、柱状スペーサ対向位置表面9の周辺において、平面方向に膜厚の分布を有している場合もある。あるいは、図19に示すように、柱状スペーサ対向位置表面9の両サイドに撥液性の領域を形成し、親水性の領域を柱状スペーサ対向位置表面9の中央部分から周辺に向かうにしたがって、大きくすることによって、柱状スペーサ対向位置表面9から第2の配向膜7を除去する方法を用いることが出来る。図19は台座部材が存在する場合であるが、本実施例のように、台座部材が存在しない場合であっても同様な原理を用いて柱状スペーサ対向位置表面9に第2の配向膜7を形成させないようにすることが出来る。すなわち、受け台座部材を特に設けない場合であっても、親水性の領域と撥液性の領域の使い分けによって、柱状スペーサ対向位置表面9に配向膜を存在させないようにすることが出来る。この時、図21aのように、柱状スペーサ上の対向位置表面と接する部分に第1の配向膜5が残っている場合と、図21bのように残っていない場合とがあるが、より望ましくは図21bのように残っていない場合であり、このような状態を実現するために同様の手段によって、柱状スペーサ上に配向膜が付着しないようにすることも可能である。一番望ましい状態は、柱状スペーサ上および対向位置表面のいずれにも配向膜が付着していない状態であり、付着が多くなると膜削れによる異物発生、表示不良を引き起こす可能性が高まる。以上の説明では、親水性という言葉を用いているが、これは、撥液性と対するものであり、親液性という言葉で置き換えてもよい。"