反応物を最初の位置から別の位置に移動させるように設計されたモジュール横移動システムと、反応物と相互作用する1つまたは複数のプロセスガスを供給する1つまたは複数のモジュールのプロセスガス供給システムとを備えた、プロセスチャンバーの横移動システムにて使用するモジュール。加熱炉、ガス化装置、焼却炉、乾燥装置、熱分解炉、高温コンベヤ様システムまたは乾留装置での使用のために設計された、請求項1に記載のモジュール。1つまたは複数のプロセスガスが空気、酸素、蒸気、合成ガス、炭化水素または酸素富化空気である請求項1又は2に記載のモジュール。モジュール横移動システムに備わっている横移動ユニットに棚、台、ラム、すき、スクリュー、キャリアラム、コンベヤ、ベルトまたは歯車が備わった、請求項1~3のいずれか1項に記載のモジュール。ラムが多指型ラムである請求項4に記載のモジュール。さらにオプションとして1つまたは複数のセンサ応答部分に運転的に付随した1つまたは複数の冷却装置を備えている、請求項1~5のいずれか1項に記載のモジュール。1つまたは複数のプロセスガス供給システムがモジュールの上面プレートまたはフェイスプレートを通して1つまたは複数のプロセスガスを供給するように設計されている請求項1~6のいずれか1項に記載のモジュール。モジュール横移動システムに少なくとも油圧ピストンが1つ備わっている、請求項1~7のいずれか1項に記載のモジュール。モジュールがプロセスチャンバーの壁部、またはチャンバーのフロアに挿入するために設計された、請求項1~8のいずれか1項に記載のモジュール。