"基板上にパターン形成材料によるパターンを形成するパターン形成装置であって、少なくとも1つの吐出口を有するノズル部と、前記ノズル部に接続され、パターン形成材料を収容する収容空間の体積を減少させることにより、前記少なくとも1つの吐出口から前記パターン形成材料を吐出させる吐出駆動部と、基板を、主面に平行な移動方向に、前記ノズル部に対して相対的に移動する移動機構と、前記吐出駆動部および前記移動機構を制御する制御部と、を備え、前記ノズル部からの前記パターン形成材料の吐出方向が、前記基板に向かうに従って前記移動方向へと向かうように傾斜し、前記吐出駆動部が、前記収容空間の体積の変化速度を制御することが可能であり、前記制御部が、前記吐出駆動部および前記移動機構の制御に利用される制御変数の値を記憶する記憶部を備え、前記制御変数が、前記吐出駆動部の初期動作時における前記収容空間の体積の変化速度である初期吐出速度、および、前記初期吐出速度が維持される初期動作時間に対応する初期吐出変数と、前記初期吐出速度よりも小さく、パターンが形成される間における前記収容空間の体積の変化速度に対応する通常吐出速度変数と、前記初期動作が開始されてから前記移動機構による前記基板の移動が開始されるまでの時間に対応する移動待ち時間変数と、パターンが形成される間における前記基板の前記ノズル部に対する相対移動速度に対応する移動速度変数と、を含むことを特徴とするパターン形成装置。請求項1に記載のパターン形成装置であって、前記移動待ち時間変数が示す移動待ち時間が、前記初期動作時間よりも短いことを特徴とするパターン形成装置。基板上にパターン形成材料によるパターンを形成するパターン形成装置であって、少なくとも1つの吐出口を有するノズル部と、前記ノズル部に接続され、パターン形成材料を収容する収容空間の体積を減少させることにより、前記少なくとも1つの吐出口から前記パターン形成材料を吐出させる吐出駆動部と、基板を、主面に平行な移動方向に、前記ノズル部に対して相対的に移動する移動機構と、前記吐出駆動部および前記移動機構を制御する制御部と、を備え、前記ノズル部からの前記パターン形成材料の吐出方向が、前記基板に向かうに従って前記移動方向へと向かうように傾斜し、前記吐出駆動部が、前記収容空間の体積の変化速度を制御することが可能であり、前記制御部が、前記吐出駆動部の制御に利用される制御変数の値を記憶する記憶部を備え、前記制御変数が、前記吐出駆動部による吐出終了時のサックバック動作において、前記収容空間の体積を増加させる変化速度であるサックバック速度、および、前記体積の増加量であるサックバック量に対応するサックバック変数と、前記サックバック動作が開始される前記基板上の位置に対応するサックバック開始位置変数と、を含むことを特徴とするパターン形成装置。請求項3に記載のパターン形成装置であって、前記サックバック速度の絶対値が、パターンが形成される間における前記収容空間の体積の変化速度である通常吐出速度よりも大きいことを特徴とするパターン形成装置。請求項1ないし4のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記パターン形成材料が、チクソ性を有することを特徴とするパターン形成装置。請求項1ないし5のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記パターンが、太陽電池の電極であることを特徴とするパターン形成装置。少なくとも1つの吐出口を有するノズル部と、前記ノズル部に接続され、パターン形成材料を収容する収容空間の体積を減少させることにより、前記少なくとも1つの吐出口から前記パターン形成材料を吐出させる吐出駆動部と、基板を、主面に平行な移動方向に、前記ノズル部に対して相対的に移動する移動機構と、前記吐出駆動部および前記移動機構を制御する制御部と、を備えるパターン形成装置にて実行されるパターン形成方法であって、a初期動作として、初期吐出速度にて前記収容空間の体積を変化させ、前記初期吐出速度を初期動作時間だけ維持した後、前記初期吐出速度よりも小さい通常吐出速度にて前記収容空間の体積を変化させることにより、前記基板に向かうに従って前記移動方向へと向かうように傾斜する吐出方向に、前記ノズル部から前記パターン形成材料を吐出する工程と、b前記a工程と並行して、前記初期動作が開始されてから移動待ち時間が経過した後に、前記移動機構による前記基板の前記ノズル部に対する相対移動を開始する工程と、c前記ノズル部からの前記パターン形成材料の吐出を終了する工程と、d前記c工程の前後または同時に、前記基板の前記ノズル部に対する相対移動を終了する工程と、を含むことを特徴とするパターン形成方法。少なくとも1つの吐出口を有するノズル部と、前記ノズル部に接続され、パターン形成材料を収容する収容空間の体積を減少させることにより、前記少なくとも1つの吐出口から前記パターン形成材料を吐出させる吐出駆動部と、基板を、主面に平行な移動方向に、前記ノズル部に対して相対的に移動する移動機構と、前記吐出駆動部および前記移動機構を制御する制御部と、を備えるパターン形成装置にて実行されるパターン形成方法であって、a前記ノズル部からの前記パターン形成材料の吐出を開始する工程と、b前記a工程の前後または同時に、前記基板の前記ノズル部に対する相対移動を開始し、前記基板に向かうに従って前記移動方向へと向かうように傾斜する吐出方向に、前記ノズル部から前記パターン形成材料を吐出する工程と、c前記ノズル部が前記基板に対するサックバック開始位置に到達した時に、前記収容空間の体積を、サックバック速度にてサックバック量だけ増大させるサックバック動作を行う工程と、d前記c工程の後または同時に、前記基板の前記ノズル部に対する相対移動を終了する工程と、を含むことを特徴とするパターン形成方法。ところで、パターン形成材料をエアの圧力にて吐出する場合、材料の残量や温度変化による粘度変化により、材料に圧を加えてから実際に吐出が行われるまでの時間が一定とはならない。材料に加える圧を解除してから吐出が停止するまでの時間も一定ではない。線状のパターンを形成する場合、粘度変化は始端部や終端部の形状にも影響を与える。その結果、端部が、例えば、なだらかになりすぎたり、とぎれたり、太くなったり、盛り上がったりする。特に、終端部の材料の量が多くなると、パターン同士が連結したり、パターンを乾燥して焼成する際に材料が縮んで基板からはがれてしまう。本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、材料の残量や温度の影響を低減しつつ、線状のパターンの始端部または終端部の形状を適切なものとし、かつ、これらを所望の位置に形成することを目的としている。請求項1に記載の発明は、基板上にパターン形成材料によるパターンを形成するパターン形成装置であって、少なくとも1つの吐出口を有するノズル部と、前記ノズル部に接続され、パターン形成材料を収容する収容空間の体積を減少させることにより、前記少なくとも1つの吐出口から前記パターン形成材料を吐出させる吐出駆動部と、基板を、主面に平行な移動方向に、前記ノズル部に対して相対的に移動する移動機構と、前記吐出駆動部および前記移動機構を制御する制御部とを備え、前記ノズル部からの前記パターン形成材料の吐出方向が、前記基板に向かうに従って前記移動方向へと向かうように傾斜し、前記吐出駆動部が、前記収容空間の体積の変化速度を制御することが可能であり、前記制御部が、前記吐出駆動部および前記移動機構の制御に利用される制御変数の値を記憶する記憶部を備え、前記制御変数が、前記吐出駆動部の初期動作時における前記収容空間の体積の変化速度である初期吐出速度、および、前記初期吐出速度が維持される初期動作時間に対応する初期吐出変数と、前記初期吐出速度よりも小さく、パターンが形成される間における前記収容空間の体積の変化速度に対応する通常吐出速度変数と、前記初期動作が開始されてから前記移動機構による前記基板の移動が開始されるまでの時間に対応する移動待ち時間変数と、パターンが形成される間における前記基板の前記ノズル部に対する相対移動速度に対応する移動速度変数とを含む。請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のパターン形成装置であって、前記移動待ち時間変数が示す移動待ち時間が、前記初期動作時間よりも短い。請求項3に記載の発明は、基板上にパターン形成材料によるパターンを形成するパターン形成装置であって、少なくとも1つの吐出口を有するノズル部と、前記ノズル部に接続され、パターン形成材料を収容する収容空間の体積を減少させることにより、前記少なくとも1つの吐出口から前記パターン形成材料を吐出させる吐出駆動部と、基板を、主面に平行な移動方向に、前記ノズル部に対して相対的に移動する移動機構と、前記吐出駆動部および前記移動機構を制御する制御部とを備え、前記ノズル部からの前記パターン形成材料の吐出方向が、前記基板に向かうに従って前記移動方向へと向かうように傾斜し、前記吐出駆動部が、前記収容空間の体積の変化速度を制御することが可能であり、前記制御部が、前記吐出駆動部の制御に利用される制御変数の値を記憶する記憶部を備え、前記制御変数が、前記吐出駆動部による吐出終了時のサックバック動作において、前記収容空間の体積を増加させる変化速度であるサックバック速度、および、前記体積の増加量であるサックバック量に対応するサックバック変数と、前記サックバック動作が開始される前記基板上の位置に対応するサックバック開始位置変数とを含む。請求項4に記載の発明は、請求項3に記載のパターン形成装置であって、前記サックバック速度の絶対値が、パターンが形成される間における前記収容空間の体積の変化速度である通常吐出速度よりも大きい。請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記パターン形成材料が、チクソ性を有する。請求項6に記載の発明は、請求項1ないし5のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記パターンが、太陽電池の電極である。請求項7に記載の発明は、少なくとも1つの吐出口を有するノズル部と、前記ノズル部に接続され、パターン形成材料を収容する収容空間の体積を減少させることにより、前記少なくとも1つの吐出口から前記パターン形成材料を吐出させる吐出駆動部と、基板を、主面に平行な移動方向に、前記ノズル部に対して相対的に移動する移動機構と、前記吐出駆動部および前記移動機構を制御する制御部とを備えるパターン形成装置にて実行されるパターン形成方法であって、a初期動作として、初期吐出速度にて前記収容空間の体積を変化させ、前記初期吐出速度を初期動作時間だけ維持した後、前記初期吐出速度よりも小さい通常吐出速度にて前記収容空間の体積を変化させることにより、前記基板に向かうに従って前記移動方向へと向かうように傾斜する吐出方向に、前記ノズル部から前記パターン形成材料を吐出する工程と、b前記a工程と並行して、前記初期動作が開始されてから移動待ち時間が経過した後に、前記移動機構による前記基板の前記ノズル部に対する相対移動を開始する工程と、c前記ノズル部からの前記パターン形成材料の吐出を終了する工程と、d前記c工程の前後または同時に、前記基板の前記ノズル部に対する相対移動を終了する工程とを含む。請求項8に記載の発明は、少なくとも1つの吐出口を有するノズル部と、前記ノズル部に接続され、パターン形成材料を収容する収容空間の体積を減少させることにより、前記少なくとも1つの吐出口から前記パターン形成材料を吐出させる吐出駆動部と、基板を、主面に平行な移動方向に、前記ノズル部に対して相対的に移動する移動機構と、前記吐出駆動部および前記移動機構を制御する制御部とを備えるパターン形成装置にて実行されるパターン形成方法であって、a前記ノズル部からの前記パターン形成材料の吐出を開始する工程と、b前記a工程の前後または同時に、前記基板の前記ノズル部に対する相対移動を開始し、前記基板に向かうに従って前記移動方向へと向かうように傾斜する吐出方向に、前記ノズル部から前記パターン形成材料を吐出する工程と、c前記ノズル部が前記基板に対するサックバック開始位置に到達した時に、前記収容空間の体積を、サックバック速度にてサックバック量だけ増大させるサックバック動作を行う工程と、d前記c工程の後または同時に、前記基板の前記ノズル部に対する相対移動を終了する工程とを含む。本発明によれば、パターンの始端部の形状を適切なものとし、かつ、所望の位置に始端部を形成することができる。または、パターンの終端部の形状を適切なものとし、かつ、所望の位置に終端部を形成することができる。図1は本発明の一の実施の形態に係るパターン形成装置1を示す図である。パターン形成装置1は、太陽電池用の基板9上にフィンガー電極のパターンを形成する装置である。具体的には、表面に光電変換層を形成した単結晶シリコンウエハの上に、導電性を有する電極配線パターンを形成する。パターン形成装置1では、基台11上にステージ移動機構2が設けられ、ステージ移動機構2により基板9を保持するステージ20が、基板9の上側の主面90Z側の主面であり、以下、上面90という。に平行な-X方向に移動する。すなわち、図1中の-X方向が基板9の移動方向である。基台11にはステージ20を跨ぐようにしてフレーム12が固定され、フレーム12にはヘッド移動機構31およびヘッド昇降機構32を介してヘッド部4が取り付けられる。また、ヘッド移動機構31には、光照射部33が取り付けられる。ステージ移動機構2では、モータ21にボールねじ22が接続され、さらに、ステージ20に固定されたナット23がボールねじ22に取り付けられる。ボールねじ22の上方にはガイドレール24が固定され、モータ21が回転すると、ナット23と共にステージ20がガイドレール24に沿って主走査方向であるX方向に滑らかに移動する。ステージ移動機構2には、ステージ20をZ方向を向く軸を中心に回転する回転機構が設けられてもよい。ヘッド移動機構31は、モータと、ボールねじと、ガイドレールとを備え、フレーム12に対してヘッド部4を、基板9の上面90に平行かつ主走査方向に垂直な副走査方向であるY方向に移動する。ヘッド昇降機構32も、モータと、ボールねじと、ガイドレールとを備え、ヘッド移動機構31に対してヘッド部4を、Z方向に移動する。ヘッド部4は、ノズル部41と、パターン形成材料をノズル部41から吐出させる吐出駆動部42とを備える。パターン形成材料は、チクソ性圧力が加えられている間、粘度が低下する性質であり、チクソトロピー性とも呼ばれる。を有するペースト状の材料である。パターン形成材料は光硬化性も有する。パターン形成材料は、例えば、導電性粒子、有機ビヒクル溶剤、樹脂、増粘剤等の混合物および光重合開始剤を含むペースト状の混合液である。導電性粒子は電極の材料となり、例えば、銀粉末である。有機ビヒクルは、樹脂材料であるエチルセルロースおよび有機溶剤を含む。ステージ移動機構2により基板9をノズル部41に対して相対的に移動させながらノズル部41からパターン形成材料を吐出することにより、基板9上にパターン形成材料による線状のパターンが形成される。光照射部33は、ノズル部41に対して基板9の移動方向前側、すなわち、基板9上に吐出された直後のパターン形成材料の上方に位置する。基板9の移動方向は、基板9上における吐出終了位置から吐出開始位置に向かう方向であり、換言すれば、光照射部33は、ノズル部41に対して吐出開始位置側に位置する。光照射部33は光ファイバ331を介して紫外線を発生する光源ユニット332に接続される。ノズル部41は、下端部すなわち、-Z側の端部に複数の同形状の吐出口を有する。複数の吐出口はY方向に一定のピッチにて配列される。光照射部33は基板9に向かって光を出射し、各吐出口から基板9の上面90上に吐出された直後のパターン形成材料に光を照射する。これにより、パターン形成材料は、基板9の上面90上に吐出されつつ硬化する。その結果、アスペクト比の高い、細いパターンを形成することができる。ノズル部41からのパターン形成材料の吐出方向は、基板9に向かうに従って基板9の移動方向へと向かうように傾斜する。すなわち、図1において、-Z方向に向かうに従って-X方向へと傾斜する方向へとパターン形成材料が吐出される。図2は、ヘッド部4を、主走査方向および上面90の法線に垂直な方向である、図1のY方向から示す図である。図3は、ヘッド部4を、副走査方向および吐出方向に垂直な方向から示す図である。図2および図3では、ノズル部41および吐出駆動部42の内部の一部も示している。ノズル部41は、下端に複数の吐出口411を有する。複数の吐出口411は、図1のY方向に配列される。ノズル部41内には、吐出口411の配列方向に延びる内部空間412が設けられ、各吐出口411は内部空間412に連絡する。これにより、上方から内部空間412に流入するパターン形成材料が、各吐出口411から均一に吐出される。吐出駆動部42は、ノズル部41に接続されたシリンジ421と、プランジャピストン422と、プランジャ422に接するロードセル423と、プランジャ422を移動するボールねじ機構424と、モータ425と、モータ425に接続されたエンコーダ426とを備える。シリンジ421は、ボールねじ機構424のフレームに固定される。ロードセル423は、ボールねじ機構424の移動体427に取り付けられ、移動体427がロードセル423を介してプランジャ422をシリンジ421の底部に向かって押圧する。押圧力はロードセル423にて取得される。モータ425はボールねじ機構424を駆動する。エンコーダ426がモータ425の回転位置を検出することにより、移動体427の位置が検出される。モータ425はサーボモータであり、後述するように、エンコーダ426からの信号を参照して回転速度がフィードバック制御される。以下、モータ425を吐出モータを呼ぶ。シリンジ421およびプランジャ422により、パターン形成材料を収容する収容空間420が形成される。ノズル部41内にもパターン形成材料が充填されている。吐出駆動部42は、収容空間420の体積を減少させることにより、吐出口411からパターン形成材料を吐出する。このとき、モータ425の回転速度を制御することにより、収容空間420の体積の変化速度を制御することが可能である。基板9の移動と同期してパターン形成材料の吐出が行われることにより、図4に示すように、主走査方向に延びる複数の線状のパターン91が基板9上に形成される。1回の主走査が完了すると、基板9は元の位置に戻り、ヘッド部4が副走査方向へと移動し、次の主走査が行われる。これにより、前回の主走査にて形成された複数の線状のパターンに隣接して、次の複数の線状のパターンが形成される。なお、実際には、1回の主走査にて多数の線状のパターン91が形成される。図5は、パターン形成装置1が備える制御部6およびその周辺構成を示す図である。制御部6は、吐出駆動部42、ステージ移動機構2、ヘッド移動機構31およびヘッド昇降機構32の動作を制御する。制御部6は、吐出駆動部42の制御に際し、エンコーダ426からの出力に従って吐出モータ425の回転速度および回転量を制御する。また、制御部6は、これらの構成要素の制御に利用される制御変数611の値を記憶する記憶部61を備える。制御変数611は、制御に利用される様々な値を格納する。制御部6は、制御値受付部62に接続される。制御値受付部62は、装置の使用者からの制御変数の値の入力を受け付け、受け付けられた値は記憶部61に記憶される。図6は、制御変数611の一部を示す図である。制御変数611には、吐出開始位置変数711、初期吐出速度変数712、初期動作時間変数713、移動待ち時間変数714、通常吐出速度変数721、移動速度変数722、サックバック開始位置変数731、サックバック速度変数732およびサックバック量変数733が含まれる。図7は、パターン形成装置1の動作の流れを示す図である。図8は、パターンの形成を開始する際のパターン形成装置1の動作を示す図であり、図9は、パターンの形成を終了する際のパターン形成装置1の動作を示す。パターン形成装置1によるパターン形成が開始される際には、まず、制御部6が、吐出開始位置変数711が格納する吐出開始位置を参照してステージ移動機構2およびヘッド移動機構31を制御することにより、基板9上のパターン形成の開始位置が吐出口411の下方に位置する。吐出開始位置は、パターン形成の開始位置でもある。そして、図8中の時刻T1に示すように、ヘッド昇降機構32がノズル部41を下降し、吐出口411が基板9の上面90に近接するステップS11。同時に、制御部6が初期吐出速度変数712が格納する初期吐出速度Ve1を参照して、初期動作が開始される。初期動作では、制御部6は吐出モータ425を初期速度で回転させる。初期吐出速度Ve1は、初期動作における収容空間420の体積の変化速度を示すが、この変化速度は吐出口411からのパターン形成材料の吐出速度に比例するため、実質的に、パターン形成材料の実際の吐出速度に対応するステップS12。なお、初期吐出速度として、実際の吐出速度が設定されてもよい。後述の通常吐出速度およびサックバック速度に関しても同様である。図7では、ステップS11,S12をこの順に示しているが、これらはほぼ同時に行われる。初期動作が開始されてから移動待ち時間変数714が示す移動待ち時間t1だけ時間が経過すると、制御部6の制御により、ステージ移動機構2がステージ20および基板9の移動を開始するステップS13。換言すれば、基板9のノズル部41に対する相対移動を開始する工程は、吐出の初期動作に並行して行われる。基板9の移動は、移動速度変数722が示す移動速度Vsにて行われる。さらに、吐出モータ425の回転が開始されてから初期動作時間変数713が示す初期動作時間t2が経過すると、すなわち、初期吐出速度Ve1が初期動作時間t2だけ維持されると、制御部6の制御により、収容空間420の体積の変化速度が、通常吐出速度変数721が示す通常吐出速度Ve2へと変更される。通常吐出速度Ve2は初期吐出速度Ve1よりも小さく、パターンが形成される間における通常の速度である。これにより、初期吐出動作から通常吐出動作へと移行しステップS14、一定速度での吐出および移動が継続される。制御部6は、サックバック開始位置変数731が示す基板9上のサックバック開始位置に吐出口411が到達したか否かを繰り返し確認しステップS15、吐出口411がサックバック開始位置に到達すると、吐出終了動作としてサックバック動作が開始される。サックバック動作では、図9の時刻T2に示すように、吐出モータ425を逆回転させ、サックバック速度変数732が示すサックバック速度Ve3にて、収容空間420の体積を増大させる。通常吐出速度Ve2が正の値であり、サックバック速度Ve3が負の値として設定される場合、サックバック速度Ve3の絶対値は通常吐出速度Ve2よりも大きく、吐出モータ425は高速に逆回転する。制御部6により、吐出モータ425の逆回転は、サックバック量変数733が示すサックバック量だけ収容空間420の体積が増大するまで行われる。その結果、パターン形成材料が吐出口411から僅かに吸い込まれるステップS16。図9の時刻T3に示すように、サックバック動作による吐出動作の終了と同時に、ステージ移動機構2によるステージ20の移動が停止されステップS17、ヘッド昇降機構32によりノズル部41が上昇するステップS18。時刻T3における基板9上の吐出口411の位置が、パターン形成の終了位置である。図10は、上記動作にて形成されたパターンの始端部を示す図である。パターン形成材料がチクソ性を有する場合、剪断応力を受けると粘性の低下が生じるが、剪断応力を受けた直後は高粘性を維持したままになり、パターン形成材料自体が僅かに弾性を有することから、上記実施の形態では、微小な初期動作時間t2だけ吐出速度を大きくしている。また、初期動作が完了するまで基板9の移動を待つと、始端部にてパターンが太くなるため、移動待ち時間t1を初期動作時間t2よりも小さく設定している。このように、パターン形成装置1では、吐出圧ではなく、収容空間420の体積の変化速度を制御し、かつ、移動待ち時間を設けることにより、図10に示すように、始端部では、パターンに液溜まりが生じてが太くなったり、スロープ状に細くなったりすることなく、適切な形状となる。また、始端部を所望の位置に正確に形成することができる。図11は、上記動作にて形成されたパターンの終端部を示す図である。仮に、基板9の移動の停止と同時に吐出圧によりサックバック動作を行うと、終端部は、液溜まりやパターン形成材料の表面張力の影響により太くなってしまうが、パターン形成装置1では、収容空間420の体積を変化させてサックバックを行い、かつ、基板9の移動の停止前にサックバック動作を行う。これにより、停止直前に余分なパターン形成材料が引き延ばされるようにして、図11に示すように、終端部においても、パターンが太くなったり、細くなったりすることなく、適切な形状となる。また、基板9の停止とサックバック動作の終了とが同時であるため、終端部を所望の位置に正確に形成することができる。パターン形成材料の吐出を、吐出圧の制御ではなく、収容空間420の体積を変化させることにより行うことで、パターン形成材料の温度や材料の残量に依存する水頭差等の影響で粘性や吐出特性が変化する場合であっても、安定して、始端部および終端部の形状や位置を適切なものとすることができる。既述のように、収容空間420の体積変化を利用することによる安定したパターンの形成は、パターン形成材料がチクソ性を有するか否かに関わらず実現される。このようなパターンの端部の形状および位置の高い再現性は、高粘度材料にて高速にパターンを形成する場合であっても実現される。フィンガー電極となるパターンが形成された基板9には、焼成処理が施される。これにより、終端部近傍において光が照射されなかったとしても、パターン全体が確実に硬化する。基板9上にはフィンガー電極と交わるバス電極が形成され、太陽電池の部品となる。なお、バス電極が予め形成されている基板に対して、パターン形成装置1によりフィンガー電極が形成されてもよい。以上、本発明の一の実施の形態に係るパターン形成装置1の構成および動作について説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。上記実施の形態にて説明した各種制御変数は、同等の他の制御変数に様々に置き換えられてよい。例えば、初期吐出速度変数712と初期動作時間変数713に代えて、初期動作における収容空間420の体積の変化量を示す変数と初期吐出速度変数712とが用いられてもよい。初期動作は、初期吐出速度、初期動作時間、初期動作における収容空間420の体積の変化量のうちのいずれか2つにより表現することができる。したがって、記憶部61では、これらの値のうちの2つを格納する変数が初期吐出変数として設定される。サックバック動作においても同様に、サックバック速度変数732とサックバック量変数733に代えて、サックバックが行われる時間を格納する変数とサックバック速度変数732とが利用されてもよい。サックバック動作は、サックバック速度、サックバック時間、サックバック量のうちのいずれか2つにより表現することができる。したがって、記憶部61では、これらの値のうちの2つを格納する変数がサックバック変数として設定される。また、各種変数に格納される値は、その変数に対応する値であれば、その変数の名称とは異なる様々な物理量が格納されてよい。例えば、移動待ち時間変数714には、制御部6内のクロック数が格納されてもよく、移動速度変数722には、モータ21の回転速度が格納されてもよい。サックバック開始位置変数731には、基板9上の絶対位置ではなく、パターンの終端位置からの相対位置が格納されてもよい。あるいは、パターン始端位置からの相対位置が格納されてもよい。上記実施の形態では、移動待ち時間t1が初期動作時間t2よりも短いが、パターン形成材料の特性によっては、移動待ち時間t1は初期動作時間t2よりも長くても同じでもよい。基板9の移動の停止は実質的にサックバック動作以後であれば、サックバック動作の終了と同時でなくてもよい。すなわち、基板9の停止は、サックバック動作の開始以後に行われるのであれば、サックバック動作の終了後でもよい。上記実施の形態にて説明した制御のうち、吐出開始時の動作および吐出終了時の動作の一方のみがパターン形成装置1に採用されてもよい。吐出開始時の上記制御だけが採用される場合、吐出を終了する工程と基板9の移動を停止する工程との順序は、いずれか先でも同時でもよい。吐出終了時の上記制御だけが採用される場合、吐出を開始する工程と、基板9の移動を開始する工程との順序は、いずれか先でも同時でもよい。初期動作時間t2はパターン形成材料の粘度に依存する。サックバック開始位置とパターンの終端位置との間の距離もパターン形成材料の粘度に依存する。したがって、初期動作時間t2と相対的なサックバック開始位置とには相関性がある。このため、初期動作時間t2に応じてサックバック開始位置が自動的に決定されてもよい。上記実施の形態では、基板9がノズル部41に対して主走査方向に移動するが、ノズル部41が基板9に対して移動してもよい。すなわち、ノズル部41に対する基板9の移動は、相対的なものであればよい。また、ノズル部41を昇降させる代わりに、ステージ21を昇降させる機構が設けられてもよい。上記実施の形態では、モータ425としてサーボモータを用いることにより、収容空間420の体積の変化速度を制御するが、モータ425にステッピングモータを利用し、ボールねじ機構424にリニアスケールを設けることにより、収容空間420の体積の変化速度が制御されてもよい。また、モータ425に代えてリニアモータが用いられてもよい。ノズル部41の吐出口411の数は1つでもよい。パターン形成材料として、光硬化性を有さない材料が使用されてもよい。パターン形成装置1では、基板9の両面にパターンが形成されてもよい。パターン形成装置1により、フィンガー電極以外の電極が形成されてもよい。ガラス基板上に形成された薄膜太陽電池や、太陽電池以外のデバイスにパターンを形成する際にも、パターン形成装置1は利用可能である。上記実施形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。"