第1の反射部および第2の反射部により構成される光共振器と、前記光共振器内に配置された、利得媒体および該利得媒体からの出射光を異なる空間的位置に分散させる波長分散素子と、を備え、前記第2の反射部が、前記波長分散素子によって異なる空間的位置に分散された波長群の光を反射する側に配され、前記第2の反射部が、前記波長分散素子により与えられる空間的分散の方向に対し非平行な方向に移動可能に構成され、その移動する位置に応じて反射する波長が変化し、時間と共に発振波長が変化する波長掃引光源装置であって、前記第2の反射部は、該第2の反射部が前記非平行な方向へ移動して該第2の反射部上での反射位置が移動した際、該移動する位置に依存した反射率または透過率分布を有し、前記第2の反射部の反射率が、反射させる波長によって異なる反射率分布となるように構成されていることを特徴とする波長掃引光源装置。前記反射率分布をRλとし、前記利得媒体の利得スペクトルをgλとするとき、両者の積であるRλ×gλが使用する波長域において単峰性となることを特徴とする請求項1に記載の波長掃引光源装置。前記反射率分布をRλとし、前記利得媒体の利得スペクトルをgλとするとき、両者の積であるRλ×gλが使用する波長域においてフラットトップ形状となることを特徴とする請求項1に記載の波長掃引光源装置。前記第2の反射部が、回転円板に形成されたスリット状の反射ミラーによって構成され、前記スリット状の反射ミラーは、位置によって異なる反射率分布を持つようにした構造を備えていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の波長掃引光源装置。前記スリット状の反射ミラーにおける前記構造が、金属による微細構造によって構成されていることを特徴とする請求項4に記載の波長掃引光源装置。前記第2の反射部が、回転円板に形成された透過型のスリットと、該透過型のスリットの直下に配置された一様な反射率を持つミラーと、によって構成され、前記透過型のスリットは、位置によって異なる透過率分布を持つようにした構造を備えていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の波長掃引光源装置。前記透過型のスリットにおける前記構造が、吸収体による微細構造によって構成されていることを特徴とする請求項6に記載の波長掃引光源装置。前記透過型のスリットにおける前記構造が、散乱体による微細構造によって構成されていることを特徴とする請求項6に記載の波長掃引光源装置。前記波長分散素子と前記第2の反射部との間には、前記第2の反射部が前記非平行な方向へ移動して該第2の反射部上での反射位置が移動した際における、前記出射光の位置によって異なる透過率分布を持つフィルターが配されていることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の波長掃引光源装置。前記回転円板に形成された前記第2の反射部が、前記回転円板の上面側に形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の波長掃引光源装置。前記回転円板に形成された前記第2の反射部が、前記回転円板の下面側に形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の波長掃引光源装置。光源から出射された光を、測定光と参照光とに分割し、該測定光を被測定対象である被検査物に導くと共に該参照光を参照ミラーに導き、前記被検査物からの前記測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された参照光とによる干渉光を用い、前記被検査物の断層画像を取得する光断層画像取得装置であって、前記光源が、請求項1から11のいずれか1項に記載の波長掃引光源装置によって構成されていることを特徴とする光断層画像取得装置。しかしながら、上記した従来例のものでは、波長に依存した反射率や透過率を持った光学素子を実現するためには、複雑な構成や作製手法が必要とされる。例えば、このような波長に依存した反射率や透過率を持った光学素子を実現する手段として、高屈折率材と低屈折率材を交互に積層した誘電体多層膜が挙げられる。ところが、このような誘電体多層膜により、その特性に共振器内の実効利得を平坦にするような所定の波長選択性を持たせるためには、膜構成の設計が複雑となり、膜厚を精度よく製膜する必要があるなど、それらを作製することが容易ではない。本発明は、上記課題に鑑み、簡易で作製が容易な構成により、共振器内の実効的な利得を所定の形状にでき、発振スペクトルを測定に適した形状にすることが可能となる波長掃引光源装置、該波長掃引光源装置を有する光断層画像取得装置の提供を目的とする。本発明の波長掃引光源装置は、第1の反射部および第2の反射部により構成される光共振器と、前記光共振器内に配置された、利得媒体および該利得媒体からの出射光を異なる空間的位置に分散させる波長分散素子と、を備え、前記第2の反射部が、前記波長分散素子によって異なる空間的位置に分散された波長群の光を反射する側に配され、前記第2の反射部が、前記波長分散素子により与えられる空間的分散の方向に対し非平行な方向に移動可能に構成され、その移動する位置に応じて反射する波長が変化し、時間と共に発振波長が変化する波長掃引光源装置であって、前記第2の反射部は、該第2の反射部が前記非平行な方向へ移動して該第2の反射部上での反射位置が移動した際、該移動する位置に依存した反射率または透過率分布を有し、前記第2の反射部の反射率が、反射させる波長によって異なる反射率分布となるように構成されていることを特徴とする。また、本発明の光断層画像取得装置は、光源から出射された光を、測定光と参照光とに分割し、該測定光を被測定対象である被検査物に導くと共に該参照光を参照ミラーに導き、前記被検査物からの前記測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された参照光とによる干渉光を用い、前記被検査物の断層画像を取得する光断層画像取得装置であって、前記光源が、上記した波長掃引光源装置によって構成されていることを特徴とする。本発明によれば、簡易で作製が容易な構成により、共振器内の実効的な利得を所定の形状にでき、発振スペクトルを測定に適した形状にすることが可能となる波長掃引光源装置、該波長掃引光源装置を有する光断層画像取得装置を実現することができる。つぎに、本発明の実施形態の波長掃引光源装置について説明する。本実施形態の波長掃引光源装置は、位置に応じた反射率や透過率の分布を持った素子を共振器内に導入し、光路や光学素子の反射透過位置に応じて発振波長が選択されるように構成される。具体的には、波長掃引光源装置は、第1の反射部および第2の反射部により構成される光共振器と、前記光共振器内に配置された、利得媒体および該利得媒体からの出射光を異なる空間的位置に分散させる波長分散素子と、を備る。この第2の反射部は、前記波長分散素子によって異なる空間的位置に分散された波長群の光を反射する側に配される。第2の反射部が、前記波長分散素子により与えられる空間的分散の方向に対し非平行な方向に移動可能に構成されている。そして、空間的分散の方向に対し非平行な方向に移動することで時間とともに異なる波長を反射し、前記利得媒体へ戻し、光共振器内で共振させる。このような構成のもとで、本実施形態の波長掃引光源装置は、前記第2の反射部が、該第2の反射部が前記非平行な方向へ移動して該第2の反射部上での反射位置が移動した際、該移動する位置に依存した反射率または透過率分布を有している。これらにより、前記第2の反射部の反射率が、反射させる波長によって異なる反射率分布となるように構成される。以上の構成によれば、簡易な構成および作製手法で共振器内の実効的な利得を所定の形状にでき、簡易な手法にて発振スペクトル形状を測定に適した所定の形状とすることができる。以下に、本実施形態の波長掃引光源装置の具体的な構成例について、図1を用いて説明する。図1は、回折格子と回転円板上のスリットを用いて波長を選択する波長掃引光源装置の構成例を示す図である。本実施形態の波長掃引光源装置は、図1に示すように、半透膜ミラー第1の反射部101と円板108の上に形成されたスリット状の反射ミラーであるスリットミラー第2の反射部102によって光共振器100が構成されている。その共振器内に利得媒体として半導体光増幅器SOA:SemiconductorOpticalAmplifier103を配置し、回折格子104を半導体光増幅器103とスリットミラー102の間に配置する。なお、図1において、105、106はコリメートレンズを示し、107は集光レンズを示し、各光学素子をつなぐ線分は光束を示す。このような構成のもとで、半導体光増幅器103から出射された光はコリメートレンズ106を通り、回折格子104によって空間的に分散された後、集光レンズ107によって円板108上に集光される。回折格子104によって空間的な分散を受けているため、円板108上では波長によって異なる位置に集光スポットを作る。円板108が一方向に回転することによってスリットミラー102の位置が移動し、その位置に応じて反射する波長が変化し、時間とともに発振波長が変化する波長掃引光源が形成される。図2は、以上の様子を回転円板108の近傍を拡大して示した図である。回折格子104によって空間的に分散され集光レンズ107によって回転円板108上に集光された波長群の光束を両端および中央に代表させ、201、202、203と表す。いま、スリットミラー102が円板108の回転によって方向204に移動するとき、光共振器内を周回する光の波長は時間とともに201、202、203と掃引される。このとき、出射光は半透膜ミラー101の共振器と反対側から得られる。いま、このような波長掃引光源の出射光のスペクトル形状について考える。利得媒体である半導体光増幅器103のゲインスペクトルが、図3aのような形状であるとする。測定用途を考えたとき、波長掃引光源には広い掃引帯域が望まれる。従って、利得媒体のゲインスペクトルにも広い帯域が求められるが、ゲインの帯域を広く取ろうと半導体光増幅器103の活性層を設計すると、一般的には図3aの301ようにショルダーピークが現れ、複峰性の形状となる。これは、利得媒体のエネルギー準位を考えた際に、一組の準位間の遷移だけではなく複数組の準位間の遷移を利用して発光波長の広帯域化を図るためである。そのために、ゲインスペクトルの形状は各組の準位間の遷移によるピーク同士をつないだような形状となる。このような利得媒体を用いて共振器を組み、レーザ発振させたときには出射光のスペクトル形状も複峰性となる。但し、共振器内にある他の光学素子の特性に波長依存性がない、つまり平坦な反射や透過特性を持つものとして考えている。このような複峰性のスペクトル形状を持つ光源を測定に用いることは好ましくない。例えば、OCTOpticalCoherenceTomographyの測定に用いた場合、複峰性の形状が影響を及ぼす。つまり、干渉信号をフーリエ変換した際に、所定の信号成分の周囲にサイドローブが立ち、像の分解能の劣化につながる。以上のことから、測定用の光源を考えた際には、出射光スペクトルの形状は起伏が少なく滑らかなエンベロープを持つ形状である方が望ましい。このようなスペクトル形状を得るためには、共振器内の損失と利得の和によって決定される共振器内の総合的なゲインスペクトルの形状が、図3bのように滑らかな形状であれば良い。そのとき、出射光のスペクトル形状も図3bを反映した形状となる。このような特性を得るためには、光共振器内の光学素子が波長によって異なる反射率や透過率を持ち、利得媒体のゲインスペクトルの起伏を相殺すれば良い。本実施形態では、滑らかなゲインスペクトルの形状を得るために、スリットミラーの反射率が位置によって異なる値となる分布を持つように構成される。このことによって、スリットミラーが回転して切り出す波長に応じて反射率が変化し共振器内の総合的な利得が変化する構成をとっている。つぎに、図4を用いてスリットミラー上の反射率分布について説明する。回転円板の中心から外周方向に向けて反射率が高い側401から低い側402という分布になっている。このようなスリットミラーを配置した回転円板を用いた場合、円板が回転するにしたがって反射位置が移動し、反射する波長に応じて異なる反射率を持つ波長掃引機構を形成する。以上の波長選択の様子について、図5を用いて説明する。図5aは、図4で示したような反射率分布を持つスリットミラー501が配置された回転円板502の構成を示す図である。図2と同様に、この円板502上に集光スポットを持つような、空間的に分散された波長503、504、505の光束がある。このとき、円板502が506に示す方向へ回転した場合について、図5のb、c、dを用いて順に示す。まず、図5bに示すように、スリットミラー501の外周に近い反射率が低い場所で波長503の光を反射し光共振器内で発振する。次に、図5cに示すように、スリットミラー501上の先ほどより中心に近い反射率が高い場所で波長504の光を反射し光共振器内で発振する。さらに、図5dに示すように、スリットミラー501の外周に近い反射率が低い場所で波長505の光を反射し光共振器内で発振する。このようにして、スリットミラー上での反射位置が変わることで波長に依存した形で反射率が変化し、共振器内の総合的な利得が変化する。すなわち、時間によってスリットミラー上での反射位置が変化することにより、位置による反射率分布が波長による反射率分布を形成することになる。この結果、図6aに示すように、スリットミラーの反射率Rλは波長503、504、505に対して異なる値をとり、利得媒体のゲインスペクトル利得スペクトルgλを示す図6bと相殺される。これにより、共振器内の総合的なゲインは図6cのように単峰性の形状となる。つまり、Rλ×gλで表される総合的なゲインスペクトルが図6cのように単峰性となれば良い。すなわち、これらRλとgλの両者の積であるRλ×gλが使用する波長域において単峰性となれば良い。このようなスリットミラーが回転円板上の同一半径上に複数配置されることにより、連続的に波長掃引された光が出射される。出射されるスペクトル形状は単峰性に限らず、フラットトップな形状でも良い。これは、測定用の光源として用いた場合に光量の変動が少なく、受光器のダイナミックレンジや特性に左右されずに安定した信号が取れる点で好適である。この場合、Rλ×gλで表される総合的なゲインスペクトルがフラットトップ形状となるよう、反射率分布Rλを設計される。なお、本発明は、上記した本実施形態のスリットミラーの構成に限定されるものではない。例えば、スリットミラーは回転円板の上面側だけでなく、スリットミラーが所定の波長帯域に対して透明な回転円板の下面側に形成された構成でも良い。これは回転円板を形成する基板の面精度を反映し、光学的に平坦な反射面を形成しやすい点で好適である。均一な反射面を持つミラーの直上で回転する透過型のスリットによる構成でも良い。その際、透過型のスリットの透過率に対して位置による分布を設けることにより前記の効果が得られる。また、一様な透過率を持つスリットに対し、直下の反射ミラーが位置による分布を持つ構成でも良い。さらに、回折格子と回転円板の間に位置による透過率分布を持ったフィルターを介することでゲインスペクトルの複峰性を相殺する構成でも良い。いずれにしても、スリットミラーや透過スリット、フィルターなどの光学面に対して、一様に波長依存性を持たせるのではなく、反射位置や透過位置によって波長依存性を持たせた構成であれば良い。以下、本発明の実施例について説明する。[実施例1]実施例1として、本発明を適用したスリットミラーが位置による反射率分布を持つ波長掃引光源装置の構成例について、図7を用いて説明する。本実施例の波長掃引光源装置は、図7に示すように、半透明ミラー第1の反射部701と、回転円板708と、その上に形成されたスリットミラー第2の反射部702と、半導体光増幅器703と、回折格子704と、コリメートレンズ705、706と、集光レンズ707と、を備える。なお、各光学素子をつなぐ線分は光束を示す。そして、半透明ミラー701とスリットミラー702によって光共振器700が形成されている。回折格子704によって空間的に分散された光が集光レンズ707によって回転円板708上の異なる位置に集光スポットを形成し、円板708の回転によりスリットミラー702が移動し、異なる波長を反射することで掃引された波長が得られる光源である。図8を用いて、本実施例のスリットミラーの構成例について説明する。スリットミラーは位置によって異なる反射率を示すように構成されている。このような構成はスリットミラーが金属の微細構造によって形成され、その充填率が位置によって異なることにより得られる。具体的には図8aに示すように、金属ドットの充填率が高いことにより反射率が高い領域801と、充填率が低いことにより反射率が低い領域802からなり、その間は連続的に分布している。充填率の高低は配置されるドットの個数の差や、ドット径の大きさの差によって形成される。このような構造は、EB描画を用いてパターニングし、そこへ金属を蒸着することによって得られる。パターンのサイズによっては、フォトリソグラフィーを用いることも生産性の観点から好適である。反射率の観点から金属には金を用いることが好適である。また、銀を用いることも高反射率の観点から好適であるが、酸化耐性のために二酸化ケイ素などの透明材料を上部にコーティングすることが好ましい。さらに、高反射率かつ加工プロセスの容易性からアルミニウムを用いることも好適である。金属の微細構造は、充填率の調整が容易なことからドット形状が好適である。そのとき、ドットの形状が正方形や三角形、丸であることは偏光に依存した光学特性が生じにくいことから好適である。また、形状が長方形である場合には前記とは逆に偏光を利用して光学特性を設計できる。さらに、金属の微細構造は、図8bに示すようなストライプ状でも良く、同様に高反射率な803と低反射率な804が連続的に分布している構成でも良い。これはパターニングの容易性から加工時のスループット向上の観点で好適である。このような構成のスリットミラーが円板上の同一反形上に複数配置されることで、本発明の実施形態で説明した動作原理により波長掃引光源が構成される。その際に、回折格子による空間的な分散方向とスリットミラーの移動方向の配置にはいくつかの種類を取り得る。例えば、図9aのような配置では波長901、902、903に対してスリットミラー904上の反射位置は外周から中心方向、そして外周方向へと一往復する。また、図9bのような配置では波長901、902、903に対してスリットミラー905上の反射位置は外周から中心方向へと一方向へ移動する。このように空間的な波長分散方向とスリットミラーの移動方向の配置によって、スリットミラーの反射率分布はそれぞれ異なるものとなる。また、反射率分布を持ったスリットミラーが回転円板の裏面側に形成されている構成も、基板の面精度を反映した反射面を得られる点で好適である。[実施例2]実施例2として、透過率が位置による分布を持つ透過型のスリットを用いたスリットミラーによる波長掃引光源装置の構成例について、図10を用いて説明する。本実施例の波長掃引光源装置は、図10に示すように、実施例1とほぼ同様な構成を持つ光共振器1000において、つぎのように構成されている。スリットミラーの部分が透過型のスリット1001を配した回転円板1002と、その直下の面全体で一様な反射率を持つ反射ミラー1003とによる構成第2の反射部を備える。この透過型のスリット1001が位置によって異なる透過率分布を持つことにより本発明の効果が得られる。すなわち、共振器内の総合的な利得が単峰性となる。このような透過率分布を持つスリットは、実施例1に記載のスリットミラーにおいて、金属ドットやストライプ構造を吸収体や散乱体に置き換えた構成で形成される。吸収体は酸化チタンや酸化クロム、酸化スズなど、吸収特性を持つ酸化金属で構成されることが好ましい。また、シリコンなども吸収体として好適である。さらに散乱体としては金属や誘電体の微小球を形成したパターンに充填し、その上部に二酸化ケイ素などでコーティングした構成からなる。このような透過スリットと一様な反射ミラーからなる構成は、反射ミラーの面が回転せず、共振器長が変動しないので、レーザ発振の安定性の面から好適である。反射ミラーは回転円板上の表面に限らず裏面に形成されていることも、基板の面精度を反映した反射面を得られる点で好適である。[実施例3]実施例3として、共振器内に位置によって透過率分布が異なるフィルターを配した波長掃引光源装置の構成例について、図11を用いて説明する。本実施例の光共振器1100は、図11aに示すように、一様な反射率を持つスリットミラーが配置された回転円板1104によって構成することができる。また、本実施例の光共振器1100は、図11bに示すように、一様な透過率を持つスリットが配置された回転円板1105の直下に、一様な反射率を持つミラー1106を配置して構成するようにしても良い。いずれの構成においても、本実施例では集光レンズ1102と回転円板の中間に、位置によって異なる透過率分布を持つフィルター1101が配置されている。回折格子1103によって空間的に分散された波長群の光は集光レンズ1102を透過した後、異なる光路を通って回転円板上へ集光される。よって、前記の位置にフィルター1101を配置することによって、波長により異なる透過率を感じ、スリットミラーもしくは透過スリットが移動することによって共振器内の総合的な利得が単峰性となる。このようなフィルター1101は実施例2に記載の方法によって同様に作製される。このようにフィルターを配した構成は、位置による透過率分布を持った光学素子を一つ作製すれば良いので、コストの面で低コスト化を図ることができ好適である。[実施例4]実施例4として、本発明の波長可変光源装置を備えたSS-OCTSwept-SourceOpticalCoherenceTomographyによる光断層画像取得装置に関して、図12を用いて説明する。波長可変光源1201から出射された光をカプラ1202を通じて被測定対象である被検査物1203へと導かれるサンプル光測定光1204と、固定ミラー1205へと導かれる参照光1206とに分割する。分割されたあと、サンプル光1204はコリメータレンズ1207と走査鏡1208および対物レンズ1209を経て、被検査物1203へと導かれる。被検査物1203の深さ情報を持って反射された光は戻り光としてもと来た光路を戻り、再びカプラ1202に戻る。一方、参照光1206はコリメータレンズ1210、対物レンズ1211を通過したのち参照ミラーである固定ミラー1205にて反射され、この反射光がもと来た光路を戻り再びカプラ1202へと戻りサンプル光と共にフォトダイオード1212へと導かれ干渉信号干渉光を生成する。計算処理機1213においてこの干渉信号を光源走査信号をもとに再配列し、フーリエ変換を中心とした信号処理をすることで深さ方向の断層画像を取得することができる。本発明に係る波長掃引光源を用いることで、出射光のスペクトル形状が単峰性な測定に適したものを用いることができ、測定時のS/N比を向上させるという観点から好適である。OCTにおいては、測定した干渉信号を波数に対しフーリエ変換し、その周波数成分の強度から反射位置を導出する。このとき、スペクトル形状に凹凸が存在するとその形状に応じた信号がフーリエ変換後にも重畳されるため好ましくない。また、測定用光源のスペクトルが単峰性ではない場合、フーリエ変換した信号の両側にサイドローブが出現し、本来の反射位置を示す信号の分解能を劣化させるため、本発明に係る光源装置を用いることは分解能向上の観点からも好適である。