長尺の基材を搬送する搬送ロールと、前記搬送ロール上の前記基材にレジストを転写する転写ロールと、レジスト供給部からレジストを引き上げて前記転写ロールに供給する引き上げロールと、前記転写ロールのレジスト転写領域における長さ方向の両端部に、前記転写ロールを一周するように形成された溝部と、を有することを特徴とするレジスト塗布装置。前記溝部は、前記レジスト転写領域の端縁よりも内側であって、前記端縁から10mm以内の位置に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のレジスト塗布装置。前記レジスト転写領域の各々の端部に、複数本ずつの前記溝部が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のレジスト塗布装置。搬送ロールにより長尺の機材を搬送するとともに、レジスト供給部から引き上げロールを介して転写ロールにレジストを供給し、前記転写ロールにより前記基材に前記レジストを塗布する方法であって、前記転写ロールの長さ方向の両端部に当該転写ロールを一周するように形成された溝部に前記レジストを保持しつつ、前記転写ロールから前記基材に前記レジストを転写することを特徴とするレジスト塗布方法。しかし、上記ピックアップロール方式を用いてレジストを塗布すると、フレキシブルテープの幅方向の両端部において膜厚が不安定になるという課題があった。本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、レジストを均一な厚さに塗布することができるレジスト塗布装置及びレジスト塗布方法を提供することを目的の一つとする。本発明のレジスト塗布装置は、長尺の基材を搬送する搬送ロールと、前記搬送ロール上の前記基材にレジストを転写する転写ロールと、レジスト供給部からレジストを引き上げて前記転写ロールに供給する引き上げロールと、前記転写ロールのレジスト転写領域における長さ方向の両端部に、前記転写ロールを一周するように形成された溝部と、を有することを特徴とする。この構成によれば、転写ロールに溝部が形成されていることで、引き上げロールから供給されたレジストを転写ロール上に保持したときに、溝部の形成位置上に多くのレジストを保持することができる。これにより、従来の転写ロールにおいて発生していたレジストが薄くなる部位の膜厚を増やすことができ、その結果、転写ロール上におけるレジストの分布を均一化することができる。そして、このように均一化されたレジストを基材に転写することで、基材上に均一な膜厚でレジストを塗布することができる。前記溝部は、前記レジスト転写領域の端縁よりも内側であって、前記端縁から10mm以内の位置に形成されている構成としてもよい。この構成によれば、従来の転写ロールにおけるレジストが薄くなる部位に溝部を配置するので、効果的にレジスト膜厚を均一化することができる。前記レジスト転写領域の各々の端部に、複数本ずつの前記溝部が形成されている構成としてもよい。この構成によれば、複数本の溝部のそれぞれでレジスト膜厚を均一化する作用が得られるため、レジスト膜厚をより一層均一化することが可能である。本発明のレジスト塗布方法は、搬送ロールにより長尺の機材を搬送するとともに、レジスト供給部から引き上げロールを介して転写ロールにレジストを供給し、前記転写ロールにより前記基材に前記レジストを塗布する方法であって、前記転写ロールの長さ方向の両端部に当該転写ロールを一周するように形成された溝部に前記レジストを保持しつつ、前記転写ロールから前記基材に前記レジストを転写することを特徴とする。この塗布方法によれば、転写ロールに形成された溝部にレジストを保持した状態で転写を行うので、転写ロール上におけるレジストの分布が均一化された状態で転写が行われ、基材上に均一な膜厚でレジストを塗布することができる。以下、図面を用いて本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせる場合がある。図1は、本実施形態のレジスト塗布装置の全体構成図である。図2は、転写ロールと転写ロール上のフォトレジストの液面形状を示す図である。図3は、フレキシブルテープとフレキシブルテープ上のフォトレジストの液面形状を示す図である。レジスト塗布装置100は、貯蔵容器10と、ポンプ20と、レジスト調質部30と、レジスト塗布部40と、を備えている。貯蔵容器10とポンプ20は配管52を介して接続され、ポンプ20とレジスト調質部30は配管54を介して接続され、レジスト調質部30とレジスト塗布部40は配管56を介して接続され、レジスト塗布部40と貯蔵容器10は配管58を介して接続されており、全体としてフォトレジスト12の循環系を構成している。貯蔵容器10は、液体のフォトレジスト12を貯蔵するタンクである。貯蔵容器10は配管52、58が接続された状態で密閉されている。出口側の配管52は貯蔵容器10の底部付近まで延びており、開口した先端が常にフォトレジスト12中に配置される。一方、入口側の配管58は、フォトレジスト12の液面よりも上側の空間14に開口している。ポンプ20は、配管52を介して貯蔵容器10からフォトレジスト12を吸い出すとともに、配管54を介してレジスト調質部30へフォトレジスト12を圧送する。ポンプ20としては、公知の液送ポンプであれば特に限定されず用いることができる。レジスト調質部30は、密閉タンク32と、密閉タンク32に配管34を介して接続された真空ポンプ36と、フォトレジスト12をろ過するフィルタ装置39と、を備えている。密閉タンク32は、フォトレジスト12を貯留する内側タンク32bと、内側タンク32bを収容する外側タンク32aとを有する。内側タンク32bには、ポンプ20から延びる配管54とフィルタ装置39とが接続されている。配管54は、内側タンク32bの底部近傍の側壁に設けられた接続部132に接続されている。フィルタ装置39は、内側タンク32bの他の側壁に設けられた接続部133に接続されている。外側タンク32aは、内側タンク32bを内部に密閉することができる真空容器である。外側タンク32aには配管34を介して真空ポンプ36が接続され、真空ポンプ36により空間38内を減圧可能に構成されている。空間38の圧力は1kPa~10kPa程度とすればよい。圧力を低くしすぎるとフォトレジスト12中の溶媒が蒸発して粘度が上昇するためである。フィルタ装置39は、フォトレジスト12に含まれる異物を除去する装置であり、公知のろ過装置を用いることができる。フィルタ装置39としては、50μm以上の大きさの異物や気泡を除去できるものを用いることが好ましい。上記構成のレジスト調質部30は、配管54を介してポンプ20から供給されるフォトレジスト12を内側タンク32bに貯留した状態で、真空ポンプ36により空間38を減圧することで、フォトレジスト12に含まれる気泡を除去する。そして、気泡が除去されたフォトレジスト12を、フィルタ装置39でろ過し、浄化した後、配管56を介してレジスト塗布部40へ供給する。レジスト塗布部40は、レジスト供給部41と、引き上げロール42と、転写ロール44と、搬送ロール45とを備えている。レジスト供給部41は、配管56及び配管58に接続され、上方に開口した皿形の容器である。レジスト供給部41には、レジスト調質部30から配管56を介して流入するフォトレジスト12が貯留される。また、流入量と同量のフォトレジスト12が配管58を介して貯蔵容器10へ排出される。引き上げロール42は、レジスト供給部41に貯留されたフォトレジスト12に部分的に浸される位置に設けられている。引き上げロール42の上方に転写ロール44が配置されている。引き上げロール42と転写ロール44は、それらの周面がほぼ当接する位置に配置されており、互いに逆方向に回転する。転写ロール44の上方に、搬送ロール45が配置されている。転写ロール44と搬送ロール45との間にはフレキシブルテープ基材60を通過させる間隙が設けられている。フレキシブルテープ60は、図3aに示すような長尺の基材であり、例えばポリイミド等の樹脂材料からなるものである。またフレキシブルテープ60の一方の面には、図3bに示すように、厚さ2~5μm程度の銅箔などからなる導電体層62が形成されている。フレキシブルテープ60は、図1に示すように、搬送ロール45に対して導電体層62を外側に向けて架け渡され、搬送ロール45により搬送される。上記構成のレジスト塗布部40では、引き上げロール42の回転によりレジスト供給部41からフォトレジスト12が引き上げられ、引き上げロール42から転写ロール44へフォトレジスト12が受け渡される。そして、搬送ロール45により搬送されるフレキシブルテープ60が搬送ロール45と転写ロール44との間隙を通過する際に、転写ロール44からフレキシブルテープ60へフォトレジスト12が転写される。これにより、図3aに示すように、導電体層62上の所定幅の塗布領域12Aに、フォトレジスト12が塗布される。なお、図3aにおいて塗布領域12Aの外側のフォトレジスト12を塗布しない領域は、アライメントマークや製品情報等からなる識別情報66の形成領域として用いられる。そして、本実施形態のレジスト塗布装置100では、レジスト塗布部40の転写ロール44が、図2aに示す形状を有するものとされており、かかる転写ロール44の作用によって、上記動作によりフレキシブルテープ60上に塗布されるフォトレジスト12の膜厚を均一化することができるものとされている。以下、転写ロール44の作用について、図2及び図3を参照しつつ詳細に説明する。本実施形態の転写ロール44は、図2aに示すように、大略円柱状であり、その中心軸に沿って回転軸50が設けられている。転写ロール44の両端部には、それぞれ溝部44a、44bが形成されている。転写ロール44は、その周面全体がレジスト転写領域44Aとされている。すなわち、周面全体にフォトレジスト12を保持した状態で回転し、フレキシブルテープ60へのフォトレジスト12の転写を行うものとされている。溝部44a、44bは、レジスト転写領域44Aの幅方向の端縁転写ロール44の軸方向の端縁よりも内側に、転写ロール44の軸周りに一周するように形成されている。ここで、従来の転写ロールを用いた場合に生じる膜厚の不均一について説明する。図2cは、溝部44a、44bが形成されていない円柱状の転写ロール144の断面構造と、転写ロール144上に保持されたフォトレジスト12の液面形状を示す図である。図3cは、転写ロール144を用いてフォトレジスト12をフレキシブルテープ60に塗布したときの液面形状を示す図である。図2cに示す転写ロール144を用いた場合に、周面上にフォトレジスト12を保持すると、転写ロール144の軸方向の端縁144aにおける表面張力により、近傍の部位よりもフォトレジスト12が厚くなる凸部112が形成される。また、凸部112のすぐ内側中央側に、近傍の部位よりもフォトレジスト12が薄くなる凹部113が形成される。上記のような形状で転写ロール144上に分布したフォトレジスト12を、フレキシブルテープ60上に転写すると、図3cに示すように、図2cに示した分布がほぼそのまま転写される。すなわち、フレキシブルテープ60上のフォトレジスト12においても、塗布領域12Aの両端に、他の部位よりもフォトレジスト12が厚い部分である凸部212がそれぞれ形成され、凸部212のすぐ内側テープ中央側に、フォトレジスト12が他の部位よりも薄い部分である凹部213がそれぞれ形成される。フレキシブルテープ60上のフォトレジスト12が図3cに示す分布を有する場合、特に凹部213が導電体層62のパターニング精度や回路基板の製造コスト等に影響する。具体的には、幅方向両端の凸部212は、塗布領域12Aの端縁から1~3mmの露光範囲外の領域に位置するため、パターニング精度等に影響しないが、凹部213は、凸部212の内側端からさらに5~10mm程度の範囲に形成されるため、通常は露光範囲に含まれてしまう。そして、凹部213のフォトレジスト12が最も薄い部分では、塗布領域12Aの中央部の半分程度の膜厚になってしまうため、パターニング精度が低下し、配線寸法がばらついてしまう。一方、凹部213が形成された領域を露光範囲から外すと、無駄になるフレキシブルテープ60が大きくなり、製造コストが上昇してしまう。一方、本実施形態の転写ロール44では、その周面にフォトレジスト12を保持すると、図2bに示すように、レジスト転写領域44Aの両端部に、近傍の部位よりもフォトレジスト12が厚い部分である第1の凸部110が形成される点は転写ロール144の場合と同様であるが、第1の凸部110の内側レジスト転写領域44Aの中央側に、第2の凸部111が形成される。第2の凸部111は、それぞれ溝部44a、44bの形成位置に対応して形成される。これは、詳細は不明であるが、以下の理由によると考えられる。転写ロール44の端縁部には、転写ロール44末端の角部140と、溝部44a44bにより形成される2つの角部141、142が存在している。これらの角部では、表面張力が作用する方向が転写ロール44の周面上とは異なるため、図2bに示すように、フォトレジスト12がそれぞれの角部140~141に引き込まれるように流動する。その結果、末端の角部140の作用により第1の凸部110が形成されるとともに、溝部44a44bの角部141、142により第2の凸部111が形成されるものと考えられる。また、転写ロール44に形成された溝部44a、44b内にフォトレジスト12が保持されるため、溝部44a、44bよりも外側へはフォトレジスト12が流動しにくくなるとも考えられる。第2の凸部111は、溝部44a、44bの形成位置に対応して形成されるため、溝部44a、44bの形成位置によってフォトレジスト12の分布形状を制御することができる。したがって、従来の転写ロール144において凹部113が形成されていた領域に溝部44a、44bを形成すれば、先に記載の凹部113を緩和する作用を得ることができる。具体的には、凹部113は、転写ロール144の端縁から1~10mm程度の範囲の領域に形成されるので、溝部44a、44bを、上記範囲内に形成することで、第2の凸部111による膜厚均一化効果を得ることができる。より詳細には、溝部44a44bの形成位置図2aに示す距離SWは、転写ロール44端縁からの10mm以内の範囲とすることが好ましい。また、図2aに示す距離Sは、凸部112の幅と同程度1mm~3mmとすればよい。また、溝部44a44bの幅Wや深さDは、特に限定されない。幅Wは10mmから距離Sを差し引いた範囲7~9mm内で任意に設定することができ、深さDも転写ロール44の径に応じて形成可能な範囲内で任意に設定することができる。ただし、幅Wと深さDのいずれか一方でも大きくしすぎると、溝部44a44b内で転写ロール44の周方向にフォトレジスト12が流動し、第2の凸部111が形成されなくなるおそれがある。したがって実用的な範囲としては、幅Wは1~5mm、深さDは0.5~5mmの範囲である。上記のように溝部44a、44bを凹部113に対応する位置に形成した場合に、フォトレジスト12の液面に形成される第1の凸部110は、転写ロール144を用いた場合の凸部112よりも液面が低くなる。また、第2の凸部111は、その両側の部位と比較すると液面が高くなるが、レジスト転写領域44Aの中央部における液面と同程度の高さとなる。そして、第2の凸部111の両側の液面は、従来の凹部113における液面よりも高くなる。これは、従来の転写ロール144では凸部112のみに引き寄せられていたフォトレジスト12が、本実施形態の転写ロール44では第1の凸部110と第2の凸部111にそれぞれ引き寄せられるため、フォトレジスト12の偏在が解消されるためである。そして、図2bに示す分布を有する転写ロール44上のフォトレジスト12を、フレキシブルテープ60上に転写すると、図3bに示すように、転写ロール44上の分布がほぼそのまま転写される。すなわち、導電体層62上の塗布領域12Aの両端に第1の凸部210が形成されるとともに、第1の凸部210よりも内側に、第2の凸部211が形成される。図3bに示すフォトレジスト12において、第1の凸部210の液面高さは、図3cに示す凸部212よりも低くなり、第2の凸部211の液面高さは凹部213よりも高く、塗布領域12A中央部の液面高さとほぼ同等になる。その結果、図3bに示すように、極端にフォトレジスト12が薄くなる凹部が形成されなくなり、フォトレジスト12の膜厚が均一化される。上記作用によれば、フレキシブルテープ60上の広い範囲をパターン形成領域として使用可能となる。例えば、フォトレジスト12の膜厚の変動幅が、塗布領域12A中央部の膜厚に対して30以内である領域を、パターン形成領域として使用する場合を考える。そうすると、図3bに示す本実施形態の例では、塗布領域12Aに近い幅の領域62Aをパターン形成領域として使用することが可能であり、図3cに示す従来の例における領域62Bよりも広い範囲を使用することができる。以上、詳細に説明したように、本実施形態のレジスト塗布装置100及びレジスト塗布装置100を用いたレジスト塗布方法によれば、転写ロール44に形成された溝部44a、44b内にフォトレジスト12を保持させ、溝部44a、44bに対応する位置のフォトレジスト12の液面に第2の凸部111が形成された状態とするので、転写ロール44上に保持されたフォトレジスト12の膜厚を均一化することができる。そして、かかる状態のフォトレジスト12をフレキシブルテープ60上に転写する結果、均一な膜厚でフレキシブルテープ60上に塗布されたフォトレジスト12を得ることができる。次に、図4は、変形例に係る転写ロールを示す図である。図4に示すように、転写ロール44xとして、レジスト転写領域44Aの両端部に、それぞれ2本ずつの溝部が形成されたものを用いてもよい。図4に示す例では、転写ロール44の一方の端部側に、図2aに示した溝部44aの半分の幅の溝部44c、44dが形成され、他方の端部側に、溝部44bの半分の幅の溝部44e、44fが形成されている。上記のように4本の溝部44c~44fが形成された転写ロール44xとすることで、フォトレジスト12を保持したときにフォトレジスト12と接するロールの角部を増やすことができる。したがって、図2aに示した構成の転写ロール44を用いた場合よりもフォトレジスト12の膜厚を均一化する効果を大きくすることができる。なお、本例では転写ロール44xの両端部に2本ずつの溝部を形成した場合について説明したが、これに限られるものではない。例えば、転写ロールの両端に3本以上ずつの溝部を形成してもよい。また本例では溝部44c、44d溝部44e、44fの幅が同一であるとしたが、これらの幅を異ならせてもよい。溝部の幅をそれぞれの溝部毎に調整することで、溝部の開口端の角部の間隔を調整することができるので、これにより、フォトレジスト12の膜厚分布をより細かく制御することが可能である。また本例では溝部44c、44d溝部44e、44fの深さが同一であるとしたが、これらの深さを異ならせてもよい。溝部の深さをそれぞれの溝部毎に調整することで、溝部毎のフォトレジスト12の保持量を異ならせることができるので、フォトレジスト12の膜厚分布をより細かく制御することができる。また転写ロールの両端に3本以上ずつの溝部が形成されている場合に、溝部同士の間隔をそれぞれ異ならせてもよい。これにより、溝部の開口端の角部の間隔を異ならせることができ、フォトレジスト12の膜厚分布をより細かく制御することができる。また上記実施形態及び変形例では、溝部44a~44fの幅方向の断面形状が矩形状である場合について説明したが、溝部44a~44fの断面形状としては任意の形状を選択することができる。例えば、断面三角形状、断面多角形状、断面曲線形状半円形、半楕円形等などを適用することができる。あるいは、より複雑な形状の溝部としてもよく、例えば、溝部44a、44bの底壁部に、さらに1本又は複数本の溝が形成されている形状とすることもできる。