ろ過モジュールを稼働させるためのろ過方法であって、前記モジュールが、少なくとも1つのフィルタエレメントが中に配置されているハウジングであり、前記フィルタエレメントが、前記フィルタエレメントのろ過表面の供給側に前記ハウジング内の第1の空間を画定し、前記ろ過表面の反対側の透過側に第2の空間を画定する、ハウジングと、前記フィルタエレメントの前記供給側の前記第1の空間内に開いている流体供給部と、前記フィルタエレメントの前記透過側の前記第2の空間と流れ的に連通する透過液出口とを備え、前記フィルタエレメントが直立状態に置かれ、前記透過液出口が前記フィルタエレメントの下端部に配置され、前記フィルタエレメントの前記透過側の前記第2の空間内に開いているガス供給部が設けられ、当該ろ過方法が、ろ過されるべき加圧流体を前記フィルタエレメントの前記供給側の前記第1の空間に供給するステップと、前記フィルタエレメントの前記透過側の前記第2の空間からろ過済み透過液を放出するステップと、前記フィルタエレメントの前記透過側の前記第2の空間に加圧ガスを供給するステップとを含む、ろ過方法において、前記第2の空間に加圧ガスを供給する前記ステップが、ろ過中に前記第2の空間から前記第1の空間への透過液の負の逆流を防止するために、前記ろ過中に、ろ過されるべき加圧流体を前記第1の空間に供給する前記ステップおよび前記第2の空間からろ過済み透過液を放出する前記ステップと同時に実行されることを特徴とする、ろ過方法。前記加圧ガスが前記第2の空間の上方部分を満たして、透過液が、もはや前記第2の空間の前記上方部分には存在せず、前記第2の空間の下方部分にのみ存在するようにする、請求項1に記載のろ過方法。前記第1の空間から前記第2の空間への透過液の正の前方流れがろ過中に生じる場合に、前記加圧ガスが前記第2の空間の前記上方部分を満たして、前記第2の空間の前記下方部分内の透過液のレベルが前記フィルタエレメントの高さにつながるようにする、請求項2に記載のろ過方法。前記フィルタエレメントの前記供給側の前記第1の空間と流れ的に連通する保持液出口を有するクロスフローろ過モジュールが使用され、前記保持液出口が、前記流体供給部とは異なるレベルに前記フィルタエレメントに沿って配置され、非ろ過保持液が、前記フィルタエレメントの前記供給側の前記第1の空間から前記保持液出口を通って放出され、したがって、前記流体供給部と前記保持液出口との間の前記流体の圧力降下が生じ、前記流体が前記流体供給部から前記保持液出口に向かって前記フィルタリングエレメントを横切って流れざるをえないようにする、請求項1~3のいずれか一項に記載のろ過方法。前記保持液出口が前記フィルタエレメントの上端部に設けられ、前記流体供給部が前記フィルタエレメントの下端部の配置されているクロスフローろ過モジュールが使用され、前記流体供給と前記保持液出口との間の前記流体の圧力降下が生じ、前記圧力降下が前記フィルタエレメントの前記下端部から前記フィルタエレメントの前記上端部に至る、請求項4に記載のろ過方法。前記ガス供給部が前記透過液出口より高いレベルに配置されているクロスフローろ過モジュールが使用され、前記加圧ガスが前記第2の空間の前記上方部分の中に直接供給される、請求項1~5のいずれか一項に記載のろ過方法。前記ガスが前記フィルタエレメントを貫流するのを防止するために親水性フィルタエレメントが使用される、請求項1~6のいずれか一項に記載のろ過方法。前記ガス供給部を通って前記フィルタエレメントの前記透過側の前記第2の空間内に供給される前記ガスのガス圧力が、制御ユニットにより、ろ過中に前記フィルタエレメントの前記供給側の前記第1の空間内の平均流体圧力と実質的に等しいかまたは前記平均流体圧力より低い値に適合される、請求項1~7のいずれか一項に記載のろ過方法。前記ガス供給部を通って前記第2の空間内に供給される前記ガスの前記ガス圧力が、前記制御ユニットにより、ろ過中に前記透過液出口を通って抜き出される透過液の所望の収率を達成するのに応じて適合される、請求項1~8のいずれか一項に記載のろ過方法。前記ガス供給部を通って前記第2の空間内に供給される前記ガスの前記ガス圧力が、前記制御ユニットにより、前記透過側の透過液の所望の開始レベル、特に、ろ過中の前記フィルタエレメントの前記高さの半分より低いレベル、より詳細には前記高さの5~25のレベルを得るために、ろ過サイクルの初めに適合される、請求項1~9のいずれか一項に記載のろ過方法。前記第2の空間内に供給される前記ガスの前記ガス圧力が、ろ過中に経時的に徐々に下げられる、請求項1~10のいずれか一項に記載のろ過方法。ろ過モジュールを逆洗する方法であって、前記モジュールが、少なくとも1つのフィルタエレメントが中に配置されているハウジングであり、前記フィルタエレメントが、前記フィルタエレメントのろ過表面の供給側に前記ハウジング内の第1の空間を画定し、前記ろ過表面の反対側の透過側に第2の空間を画定する、ハウジングと、前記フィルタエレメントの前記供給側の前記第1の空間内に開いている流体供給部と、前記フィルタエレメントの前記透過側の前記第2の空間と流れ的に連通する透過液出口とを備え、前記フィルタエレメントが直立状態に置かれ、前記透過液出口が前記フィルタエレメントの下端部に配置され、前記フィルタエレメントの前記透過側の前記第2の空間内に開いているガス供給部が設けられ、当該方法が、前記フィルタエレメントの前記透過側の前記第2の空間に加圧洗浄流体を供給するステップと、前記フィルタエレメントの前記供給側の前記第1の空間からろ過済み洗浄流体を放出するステップと、前記フィルタエレメントの前記透過側の前記第2の空間に加圧ガスを供給するステップとを含む、方法において、前記第2の空間に加圧ガスを供給する前記ステップが、逆洗中に前記第1の空間から前記第2の空間への洗浄流体の負の逆流を防止するために、前記逆洗中に、加圧洗浄流体を前記第2の空間に供給する前記ステップおよび前記第1の空間からろ過済み洗浄流体を放出する前記ステップと同時に実行されることを特徴とする方法。請求項1~12のいずれか一項に記載の方法を実行するために設計されたろ過モジュール。本発明は、上述した欠点のうちの1つまたは複数を克服すること、または利用可能な代替方法を提供することを目的としている。特に、本発明は、より長い期間にわたって効果的に使用されうるとともに運転コストが低減される、ろ過モジュールの稼働方法を提供することを目的としている。この目的は、請求項1に記載の、ろ過モジュールを稼働させるためのろ過方法によって達成される。ろ過方法は、少なくとも1つのフィルタエレメントが中に配置されているハウジングを備えるタイプのモジュールを使用する。フィルタエレメントは、フィルタエレメントのろ過表面の供給側にハウジング内の第1の空間を画定し、ろ過表面の反対側、いわゆる透過側に第2の空間を画定する。フィルタエレメントの供給側の第1の空間内に開いている流体供給部が設けられる。フィルタエレメントの透過側の第2の空間と流れ的に連通する透過液出口が設けられる。フィルタエレメントは直立状態に置かれる。透過液出口はフィルタエレメントの下端部に配置される。本発明の考えによれば、フィルタエレメントの透過側の第2の空間内に開いているガス供給部が設けられる。ろ過方法は、ろ過中に第2の空間内に加圧ガスを供給することを含む。次いで、この加圧ガスは第2の空間の上方部分を満たすことができる。これには、第2の空間のこの上方部分に透過液がもはや存在できないという大きな利点がある。この上方部分における局所膜間圧力差TMPが負になった場合でも、透過液がそこに存在していないというだけの理由で、透過側から供給側に逆流するすでにろ過された透過液の負の流束がこの上方部分の位置で生じることはない。このような望ましくない透過液の逆流は、実質的に第2の空間全体が透過液で満たされた場合にのみ起こりうるが、このことは、本発明によればもはやそうである必要はない。したがって、本発明は、透過液の逆流を実質的に低減することを可能にし、さらには完全に防止することも可能にする。このことは、膜エレメントの長さ当たりの透過液の一定の収率を得ることをずっと容易にする。流体供給部に最も近い局所流束の最大値は、最新技術と比較してずっと低くすることができる。正の流束の補償は行われる必要がないか、または少なくともより少ない正の流束の補償が行われる必要がある。このように局所最大流束の値が低くなるため、フィルタエレメントは、特に流体供給部に最も近い部分に対して、ずっと遅い速度で汚染される可能性がある。このことは、モジュールの洗浄が必要になる前にモジュールをより長い期間にわたって使用することを可能にする。加えてまたは代替方法では、このとき、起こりうる逆流のマイナス影響を受ける必要なしに、フィルタエレメントの長さ/高さを増大することも可能になる。ろ過モジュールは、あらゆる種類のろ過法、例えばデッドエンドろ過法に使用することができる。しかしながら、本発明は、流体供給部のように、さらにフィルタエレメントの供給側の第1の空間と流れ的に連通する保持液出口が設けられたクロスフローろ過モジュールに使用されることが好ましい。保持液出口は、流体供給部とは異なるレベルでフィルタエレメントに沿って設けられる。ろ過中、流体供給部と保持液出口との間の流体の圧力降下のために、流体は、流体供給部から保持液出口に向かってろ過表面を横切って流れざるをえない。好適には、流体供給部はフィルタエレメントの下方部分または下方部分の近傍に配置され、クロスフローろ過法の場合、保持液出口はフィルタエレメントの上方部分または上方部分の近傍に配置されることが好ましい。このことは、モジュールの底部から最上部までのフィルタエレメントの供給側の第1の空間内に流体の圧力降下を与える。圧力降下のこの方向には、最大局所TMPがフィルタエレメントの下方部分に生じるという効果があり、それによって最大流束がこの下方部分に起こるという効果がある。加圧ガスが第2の空間の上方部分に存在するので、第2の空間の下方部分内の透過液のレベルが、透過液の正の流束が依然として生じているフィルタエレメントの高さにできるだけつながるようにすることが可能である。別の有利な実施形態では、ガス供給部は透過液出口より高いレベルに配置される。このように、ろ過中に第2の空間内に供給されるガスは、透過液の負の逆流を防止するために、このろ過中にガスが満たす必要がある第2の空間の部分に直ちに入る。それにもかかわらず、一実施形態において一定量のガスが透過液と混合されることが望ましい場合、ガス供給部をさらに低いレベルに、すなわち、透過液が実際に流れているレベルに設けることも可能である。ガス供給部は透過液出口より低いレベルにあってもよい。フィルタエレメントは、例えば平面や管などのあらゆる種類の形および形状を有することができ、あらゆる種類の孔径を有することができる。好ましい一実施形態では、フィルタエレメントは膜フィルタエレメントである。膜フィルタエレメントは、0.1~10ミクロンの孔を用いる精密ろ過法に使用することができ、さらに小さい孔が選択された場合、限外ろ過法、ナノろ過法、または逆浸透法にも使用することができる。膜フィルタエレメントの小さい孔径のために、加圧ガスは透過側から供給側に向かって容易に浸透し始めるべきではない。膜フィルタエレメントは親水性にすることが好ましい。このことには、フィルタエレメントの通路、特に膜孔内の毛細管圧のために、ガスがフィルタエレメントを貫流するのを阻止されるという効果がある。膜構造の毛細管特性により、膜がぬれ、ガスが膜に浸潤し始めることができる前に高圧が必要になる。しかし、膜フィルタエレメントは、所望であれば疎水性にすることもできる。別の実施形態では、特定の測定済み制御パラメータに応じて第2の空間の上方部分内の加圧ガスのガス圧力に適合するように設計された制御ユニットが設けられる。これらの制御パラメータは、例えば、透過液出口を通って抜き出される透過液の収率、および/またはモジュール内の1つまたは複数の位置での圧力、および/または第2の空間内の透過液のレベルとすることができる。第1の実施例では、ガス圧力は、制御ユニットにより、ろ過中に透過液出口を通って透過液の一定の所望の収率を引き出し続けることを可能にする値に毎回適合される。実際には、これは、モジュールが動作しているのが長くなり、モジュールのフィルタエレメントが汚染されるほど、ガス圧力は、正の流束が起こるろ過表面に効果的に浸透するレベルが、透過液のレベルとともに上昇し続けることができるように低くされる必要があることを意味する。別の実施例では、ガス圧力は、制御ユニットにより、ろ過中にフィルタエレメントの供給側の第1の空間内の平均流体圧力と実質的に等しいかまたは平均流体圧力より低い値に毎回適合されうる。これにより、過剰なガスが供給側に向かって流れるのを防止する。これに加えてまたは代替方法では、制御ユニットを、ろ過サイクルの初期のガス圧力を透過側の透過液の一定の最大開始レベルに対応する値に適合させることも可能である。詳細には、この開始レベルは、ろ過中、少なくともフィルタエレメントの半分の高さより低い。より詳細には、この開始レベルは高さの5~25の間にある。ガスは、例えば、空気もしくは炭酸ガスまたは窒素または他の適切なガスとすることができる。例えば、ろ過されるべき流体がビールである場合、炭酸ガスを使用すると、ガスの一部が透過液と混合され、透過液とともに第2の空間を通り過ぎても問題ないという利点がある。本発明は、クロスフローろ過法かデッドエンドろ過法のどちらかを用いたろ過サイクル中に上述の方法を実行するためのろ過モジュールにも関する。本発明の考えは、上述のろ過モジュールの洗浄サイクル中、特にフィルタエレメントの逆洗backwash中に使用することもできる。この種の洗浄サイクルの間、加圧洗浄流体が、例えば、別個の洗浄流体入口を通じて、または透過液出口を洗浄流体貯蔵所に連結することにより、フィルタエレメントの透過側の第2の空間に供給される。次いで、洗浄流体は、フィルタエレメントを逆方向に貫流し、フィルタエレメント内に捕捉されている汚染物を洗い流す。次いで、それによって逆洗された洗浄流体は、洗い落とされた汚染粒子とともに、フィルタエレメントの供給側の第1の空間から、例えば、流体供給部を通って、かつ/またはクロスフローろ過法の場合に保持液出口を通って、あるいは別個の洗浄流体出口によって放出することができる。この洗浄プロセス中に加圧ガスを第2の空間に同時に供給することにより、洗浄流体が最も汚染されているフィルタエレメントの部分に、すなわち、前のろ過サイクル中に最大正流束が起きているフィルタエレメントの下方部分に、最初に流れるようにすることが可能である。したがって、洗浄流体は合目的に方向付けることができる。洗浄流体がフィルタエレメントの最も汚染された下方部分を貫流するようにする加圧ガスがなければ、洗浄流体は、最も抵抗の少ない方法を探すことになり、換言すると、フィルタエレメントの最も汚染の少ない上方部分に最初に流れることになる。したがって、フィルタエレメントの最も汚染されている下方部分がすっかりきれいに流された後、本発明によれば、透過側の洗浄流体のレベルが上昇し、したがってフィルタエレメントのより高い部分を貫流し始めるほどにまでガス圧力を下げ、フィルタエレメントのそのより高い部分をすっかりきれいにし始めることが可能である。概して言えば、これにより逆洗洗浄サイクルの効率を大幅に改善することができる。洗浄流体は、任意の適当な流体、例えば水でよいが、前に得られた透過液自体によって形成されてもよいことに留意されたい。さらなる有利な諸実施形態が従属請求項に記載されている。本発明は、添付の図面を参照して以下でより詳細に扱われるものとする。図1において、流体をろ過するための設備が、貯蔵容器1、供給ポンプ2、再循環ポンプ3、およびクロスフローろ過モジュール4を備える。モジュール4はハウジング5を備え、ハウジング5内には膜フィルタエレメント7が置かれる。エレメント7は完全に直立した状態に置かれ、この位置でエレメント7はハウジング5の底部から最上部まで垂直に延びる。エレメント7は、ハウジング5の内部空間を供給側の第1の空間10と透過側の第2の空間11とに分割する。第1の空間10は、第1の空間10の下側で流体供給部14に連結しており、第1の空間10の上側で保持液出口15に連結している。第2の空間11は、第2の空間11の下側で透過液出口17に連結しており、第2の空間11の上側でガス供給部18に連結している。ガス供給部18には、ポンプ19によってガスバッファ20から加圧ガスを供給することができる。ろ過モジュール4の稼働中、ろ過されるべき流体、例えばろ過されていないビールが、流体供給部14を通って第1の空間10にポンプで送り込まれる。そこで、ろ過されるべき流体は、フィルタエレメント7に沿って保持液出口15に向かって上方に流れる。流体の一部はフィルタエレメント7を貫流し、そこで第2の空間11に入る。このろ過済み透過液は、第2の空間11の下方部分内に蓄積し、そこから透過液出口17を通って放出される。同時に、加圧ガスがガス供給部18を通って第2の空間11に供給される。このガスは第2の空間11の上方部分を満たす。このことは、図2においても明瞭に見ることができる。次に、本発明の好ましい効果について、ろ過モジュール4にガスが供給される状況図2とろ過モジュール4にガスが供給されない状況図3との間の違いを指摘することによって説明するものとする。図3に示されているように、第2の空間11にガスが供給されない場合、第2の空間11はそれ自体を透過液で完全に満たす。例えば、流体供給部14でのろ過されるべき流体の供給圧力が3.0バールbarであり、保持液出口15での残存保持液の出口圧力が2.4バールであり、透過液出口でのろ過済み透過液の出口圧力が2.8バールであるとすると、局所膜間圧力差TMPは計算することができる。TMPは透過/ろ過のための駆動力である。所与の実施例では、局所TMPは、フィルタエレメント7の底部側で最大値0.2バールを有し、フィルタエレメント7に沿って上方に徐々に低下し、ある点でゼロに等しくなり、そこから負になる。局所TMPが正であるフィルタエレメント7の下方部分全体に沿って、透過液の正の流束が第1の空間10から第2の空間11に向かって流れている。局所TMPが負であるフィルタエレメント7の上方部分全体に沿って、すでにろ過された透過液の負の逆流が第2の空間11から第1の空間10に向かって逆流している。図4に、全高750mmのフィルタエレメントを有するビールろ過モジュール用の新しいろ過プロセスの始動時のこうした状況を示す。水平細線Iは、透過液出口17を通ってモジュールから出る透過液の平均流束を示す。この平均流速はこの場合、80L/m2時である。下方に傾斜する太線IIは、所望の平均流束を得るために必要な、フィルタエレメント7の高さにわたって変化する局所流束である。図から分かるように、局所流束は、わずか80L/m2時の所望の平均流束を得ることができるようにするために、4500L/m2時超と-4200L/m2時の間を変化する必要がある。モジュールの上方部分では、大量のすでにろ過された透過液が供給側に逆流している。この大量の逆流は、モジュールの下方部分での透過液の非常に大きな正の流れによって補償される必要がある。しかしながら、モジュールの下方部分における非常に大きな正の流れには、この下方部分が急速に汚染されるという影響がある。図5はわずか10分後の状況を示しており、平均流束が依然として同じ80L/m2時になるよう所望されるものとする。図から分かるように、フィルタエレメントの下方部分に沿った正の流束とフィルタエレメントの上方部分に沿った負の流束との差は依然として非常に大きいが、絶対値は小さくなっている。これは、フィルタエレメント7の大部分が汚染されており、フィルタエレメントを洗浄することが必要になっていることを意味する。図2に示されているように、第2の空間11にガスが供給されると、第2の空間11は、第2の空間11自体を部分的に透過液でかつ部分的にガスで満たすことができる。これに関して、ガスの圧力は、ガスの圧力が透過液の圧力と実質的に等しくなるように制御される。流体供給部14でのろ過されるべき流体の供給圧力が依然として3.0バールであり、保持液出口15での残存保持液の出口圧力が依然として2.4バールであり、かつ透過液出口でのろ過済み透過液の出口圧力が2.8バールに保たれるとすると、局所膜間圧力差TMPは図3のガスがない状況と同じ状態のままである。TMPがゼロに等しい点はろ過プロセスの始動中に同じ高さにあり、局所TMPが正であるフィルタエレメント7の下方部分全体に沿って、透過液の正の流束が依然として第1の空間10から第2の空間11に向かって流れている。しかし、局所TMPが負であるフィルタエレメント7の上方部分全体に沿って、第2の空間11から第1の空間10に向かって逆流するすでにろ過された透過液の負の逆流が生じることはない。というのは、そこに透過液が存在せず、ガスが存在するからである。図6に、この場合も全高750mmのフィルタエレメントを有するビールろ過モジュール用の新しいろ過プロセスの始動時の、本発明によるこうしたガス充填状況を示す。水平細線Iは、透過液出口17を通ってモジュールから出る透過液の同じ平均流束を示す。部分的に下方に傾斜する太線IIは、所望の平均流束を得るために必要な、フィルタエレメント7の高さにわたって変化する局所流束である。図から分かるように、局所流束はこのとき、わずか80L/m2時の所望の平均流束を得ることができるようにするために、1400L/m2時近くと0L/m2時の間を変化するだけでよい。モジュールの上方部分では、すでにろ過された透過液は供給側に逆流していない。補償が行われる必要はないので、モジュールの下方部分だけが、所望の平均流束を得ることができるようにするのに十分な大きさの正の流れを有する必要がある。モジュールの下方部分におけるより低い正の流れには、この下方部分が図3のガスがない状況に比べてはるかにゆっくり汚染されるという効果がある。図7は10分後の状況を示しており、平均流束が依然として同じ80L/m2時になるように所望されるものとする。図から分かるように、正の流束は依然としてフィルタエレメントの比較的小さい下方部分に沿って生じるだけでよく、負の流束は依然としてフィルタエレメントの上方部分に沿って生じることはない。これは、フィルタエレメント7がほとんど汚染されておらず、フィルタエレメントを洗浄する必要が全くないことを意味する。上記は、平均TMPを、一方では最新技術のガスがない状況通常に対して、他方では本発明のガス充填状況流束に対してろ過時間の関数として示す図8によって認められる。これらの状況のそれぞれに対して3つのろ過サイクルが示されており、ろ過サイクルは平均TMPの値が1.2バールに達するとすぐに終わる。次いで、洗浄サイクルが逆洗サイクルの形で始まり、その後で新しいろ過サイクルが開始される。ガスがない状況のためのサイクルはGLで示されており、ガス充填状況のためのサイクルはGFで示されている。図から分かるように、ガス充填状況での方は、フィルタエレメントが、TMPが1.2バールに達するほどひどく汚染されるのに、さらに40を超える時間がかかっている。このことは、50を超える運転コストのコスト削減につながる可能性がある。示されている実施形態のほかにも、あらゆる種類の変形実施形態が考えられる。例えば、モジュールおよびモジュール内に置かれるフィルタエレメントは様々な形状および寸法を有することができる。また、モジュールは、モジュールのフィルタエレメントが部分的に直立した状態に、すなわち、水平に対してある角度で、特に少なくとも45度で置かれるように向きを定めることができる。しかし、フィルタエレメントが垂直に置かれるほど、透過液のレベルはより容易に管理することができる。ハウジング内のただ1つのフィルタエレメントの代わりに、複数のフィルタエレメント、例えば膜管束を使用することも可能である。ろ過モジュールの透過液空間の一部をガスで充填するという考えをビールのろ過に使用する代わりに、あらゆる種類の他の流体、例えば水のろ過に使用することもできる。フィルタエレメントによって保持される必要がある流体中の粒子の量が少なければ、保持液出口のないモジュールデッドエンドろ過法に本発明を使用することも可能である。本明細書の序文に示されているように、本発明は、逆洗流体をフィルタエレメントの最も汚染されている部分に最初に貫流させるのを促進するために、逆洗サイクル中に使用することも可能である。これにより、洗浄プロセスを改善できるだけでなく、そのために使用される大量の逆洗流体および化学物質を節約することもできる。さらに、フィルタエレメントがモジュールハウジングから取り出される完全な清掃活動、および/またはフィルタエレメントの完全な交換は、これから実質的に延期することができる。したがって、本発明は、費用効率が高く効率的で使いやすいろ過モジュール、および、このろ過モジュールをろ過中に、所望であれば洗浄中にも稼働させるための方法を提供する。