"下記一般式1で表される部分構造を有する重合体を含有することを特徴とする水処理剤。式中、R1は水素原子又はアルキル基を表し、L1は酸素原子、又はNR4を表し、J1は置換又は無置換のアルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基又はアリーレン基を表し、L2はOCO、NR5CO又はSCOを表し、R2は置換又は無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表し、R3はシアノ基、アルキルスルホニル基又はCOR6を表し、R4及びR5は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、R6は置換又は無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表す。前記一般式1のL1が酸素原子、L2がOCOであることを特徴とする請求項1に記載の水処理剤。前記一般式1で表される部分構造を有する重合体が、更に一般式2の部分構造を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の水処理剤。式中、R11は水素原子又はアルキル基を表し、L11は酸素原子、又はNR13を表し、R12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表し、R13は水素原子又はアルキル基を表す。前記一般式1で表される部分構造を有する重合体の数平均分子量が10,000~50,000であることを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の水処理剤。前記水処理剤が不定形の固体粒子であることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の水処理剤。本発明者が低濃度の重金属を含有する被処理液から重金属を回収することを検討したところ、特許文献1のキレート樹脂を用いても、被処理水中に含まれている重金属の濃度が低い場合、回収率が低下するといった問題があり、更にカルシウムイオンが存在すると重金属に対するキレート能力が低下して重金属の回収率が更に低下するといった問題があることが明らかになった。本発明の目的は、被処理液中の重金属の濃度が低く、カルシウムイオンが存在していても、重金属を効率よく捕捉可能で、回収率を向上することができる水処理剤を提供することである。本発明の目的は以下の手段により達成することが出来る。1.下記一般式1で表される部分構造を有する重合体を含有することを特徴とする水処理剤。式中、R1は水素原子又はアルキル基を表し、L1は酸素原子、又はNR4を表し、J1は置換又は無置換のアルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基又はアリーレン基を表し、L2はOCO、NR5CO又はSCOを表し、R2は置換又は無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表し、R3はシアノ基、アルキルスルホニル基又はCOR6を表し、R4及びR5は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、R6は置換又は無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表す。2.前記一般式1のL1が酸素原子、L2がOCOであることを特徴とする前記1に記載の水処理剤。3.前記一般式1で表される部分構造を有する重合体が、更に一般式2の部分構造を有することを特徴とする前記1又は2に記載の水処理剤。式中、R11は水素原子又はアルキル基を表し、L11は酸素原子、又はNR13を表し、R12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表し、R13は水素原子又はアルキル基を表す。4.前記一般式1で表される部分構造を有する重合体の数平均分子量が10,000~50,000であることを特徴とする前記1~3のいずれか一項に記載の水処理剤。5.前記水処理剤が不定形の固体粒子であることを特徴とする前記1~4のいずれか一項に記載の水処理剤。本発明によれば、重金属イオン濃度が低く、カルシウムイオンを含有する被処理液においても、カルシウムイオンの妨害を受けずに、効率よく重金属を捕捉し、回収することが出来る。以下、本発明に係る各構成要素の詳細について、順次説明する。《水処理剤》本発明の水処理剤は、後に詳細に説明する一般式1で表される部分構造を有する重合体を含有することを特徴とする。金属イオンを含有する被処理液に、前記水処理剤を添加することにより、該水処理剤に金属イオンが結合吸着ともいうする。前記水処理剤は、特に重金属との結合が選択的に形成されることが、本発明の目的から好ましい。前記水処理剤と重金属がキレート形成により結合することが、目的の重金属イオンを選択的に結合することが出来ることから好ましい。また、前記水処理剤は固体粒子であることが好ましく、該水処理剤の固体粒子を、金属イオンを含有する被処理液と接触させ、水処理剤の粒子表面に金属イオンを結合させた後、フィルターでろ過することにより、捕捉された金属イオンが被処理液から容易に分離することができる。前記固体粒子のメジアン径は20μm~500μmが好ましい。20μm以上であれば固体粒子と被処理液の分離が容易であり、500μm以下であれば固体粒子の単位体積当たりの表面積を大きくでき、金属を捕捉する能力が高い。なお、メジアン径は下記の粒径測定方法により求めることができる。粒径測定方法前記水処理剤の粒径は下記の方法により求められる。測定サンプル0.5gを0.3界面活性剤ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムエチレンオキシド2付加物溶液に分散させた後、レーザー回析/散乱式粒度分布測定装置LA-300堀場製作所製で粒径を測定し、そのメジアン径を求める。前記固体粒子の形状は、単位体積当たりの表面積を大きく出来ることから、不定形であることが好ましい。更に、該固体粒子は多孔質であることが好ましい。上記のように表面積の大きい水処理剤の固体粒子を製造する方法としては、前記重合体が溶解している溶液から前記重合体を析出させる方法が好ましく、特に前記重合体の溶液に該溶液の溶媒とは異なる溶媒を加えて前記重合体を析出させる方法が好ましい。《一般式1》前記水処理剤は一般式1で表される部分構造を有する重合体を含有する。まず、本発明における一般式1で表される部分構造について説明する。本発明における一般式1において、R1は水素原子又はアルキル基を表し、L1は酸素原子又はNR4を表し、J1は置換又は無置換のアルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基又はアリーレン基を表し、L2はOCO、NR5CO又はSCOを表し、R2は置換又は無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表し、R3はシアノ基、アルキルスルホニル基又はCOR6を表し、R4及びR5は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、R6は置換又は無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表す。前記R1で表されるアルキル基は炭素数1~5の直鎖、又は分岐のアルキル基が好ましく、より好ましくはメチル基である。前記L1は酸素原子又はNR5であり、より好ましくは酸素原子である。前記J1は炭素数1~20のアルキレン基又はアリーレン基であることが好ましく、直鎖であっても分岐であっても良く、置換基を有していても良い。より好ましくは炭素数1~18のアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数2~12のアルキレン基である。次にJ1、R2、R6が有することができる置換基について説明する。置換基としては置換可能であれば特に限定されることは無いが以下のようなものが挙げられる。すなわち、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等、シクロアルキル基例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基例えば、プロパルギル基等、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等、複素環基例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等、アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等、アリールオキシ基例えば、フェノキシ基等、アルキルチオ基例えば、メチルチオ基等、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等、アリールオキシカルボニル基例えば、フェニルオキシカルボニル基等、スルホンアミド基例えば、メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等、スルファモイル基例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2-ピリジルアミノスルホニル基等、ウレタン基例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、2-ピリジルウレイド基等、アシル基例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等、カルバモイル基例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2-ピリジルアミノカルボニル基等、アシルアミノ基例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチルウレイド基等、スルホニル基例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、2-ピリジルスルホニル基等、アミノ基例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2-ピリジルアミノ基等、ハロゲン原子例えば、塩素原子、臭素原子、沃素原子等、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、ホスホノ基例えば、ホスホノエチル基、ホスホノプロピル基、ホスホノオキシエチル基等を挙げることができる。また、これらの置換基はさらにこれらの基で置換されていてもよい。好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルアミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。前記L2は好ましくはOCO、NR5COであり、更に好ましくはOCOである。前記R2は置換又は無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基であり、炭素数1~20であり、直鎖であっても分岐であっても良く、置換基を有していても良い。好ましくは炭素数1~18のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数2~12のアルキル基である。前記R2で表される複素環基としては上記置換基の説明で挙げたピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等が挙げられるが、好ましくはピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基など窒素原子を環内に有する複素環が好ましい。R2として好ましくは炭素数1~18の置換又は無置換のアルキル基、アリール基であり、更に好ましくは炭素数2~12の置換又は無置換のアルキル基であり、直鎖でも分岐でも良い。置換基としては上記置換基が挙げられるが好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルアミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。前記R3は好ましくはシアノ基又はCOR6である。前記R4及びR5で表されるアルキル基は炭素数1~8の直鎖又は分岐のものが好ましく、更に好ましくは炭素数1~4のアルキル基である。また、R4及びR5としては水素原子も好ましい。前記R6は前記R2と同義であり、好ましい範囲も同様である。また、R2とR6は各々独立して同じであっても異なっていてもよい。以下、前記一般式1で表される部分構造の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。《一般式2》前記水処理剤は一般式1で表される部分構造および一般式2で表される部分構造を併せて有する重合体を含有することが、金属捕捉部位相互の間隔が確保でき、水処理剤の添加量を低減した場合にも効率よく機能を発現できる点から好ましい。次に、本発明における一般式2で表される部分構造について説明する。一般式2においてR11は水素原子又はアルキル基を表し、L11は酸素原子、又はNR13を表し、R12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表し、R13は水素原子又はアルキル基を表す。一般式2におけるR11は上述の一般式1におけるR1と好ましい範囲は同様である。一般式2におけるL11は上述の一般式1におけるL1と好ましい範囲は同様である。一般式2におけるR12は上述の一般式1におけるR2と好ましい範囲は同様である。一般式2におけるR13は上述の一般式1におけるR4と好ましい範囲は同様である。以下、前記一般式2で表される部分構造の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。《一般式1で表される部分構造を有する重合体の合成》前記一般式1で表される部分構造を有する重合体は、新実験化学講座丸善等の参考書に記載の方法を用いて容易に合成できるが、その方法は特に制限されない。例えばアゾビス-i-ブチロニトリルAIBN、その類縁体を開始剤とするラジカル重合、イオン重合アニオン重合、カチオン重合、重縮合、重付加の何れでもよいが、ラジカル重合が好ましい。ラジカル重合の場合、開始剤としては、過酸化ベンゾイル、AIBN、V-40、V-75等様々あるが、好ましくはAIBNである。開始剤の添加量は、使用するモノマーに対し3~20モルの範囲で用いることが好ましい。重合反応に用いられる溶媒種としては、テトラヒドロフランTHF、トルエン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミドDMFA、アルコールと様々であるが、THF、トルエンが好ましい。無論、無溶媒で反応を行うことも好ましい。反応温度は、開始剤がラジカルを発生できる温度が好ましく、例えばAIBNでれば60°C以上が好ましい。一般式1で表される部分構造を有する重合体は、モノマーとしてエチレン性不飽和基を有する化合物から重合されることが好ましい。前記重合体としては、ホモポリマーでもコポリマーでもよいが、一般式1で表される部分構造および一般式2で表される部分構造を有するコポリマーが好ましい。一般式2で表される部分構造を形成するモノマーとしてはエチレン性不飽和基を有する化合物が好ましい。前記重合体がコポリマーの場合、重合体に含まれる一般式1で表される部分構造とその他の部分構造の単位数の比は任意であるが、好ましくは一般式1の部分構造が20以上である。更に好ましくは30~80である。前記重合体の数平均分子量には得に制限は無いが、GPCゲルパーミッションクロマトグラフィによるスチレン基準の数平均分子量で5,000~100,000であることが好ましく、より好ましくは5,000~50,000であり、更に好ましくは10,000~50,000である。被処理液被処理液がカルシウムなどのアルカリ土類金属イオンを含んでいても、前記水処理剤は、重金属を選択的に吸着するので、他の方法で処理の困難な被処理液でも重金属を捕捉、除去することができる。前記水処理剤により、効率的に吸着される金属イオンとしては、銅Cu2、ニッケルNi2、コバルトCo2、クロムCr3、亜鉛Zn2などの重金属が挙げられる。被処理液の液媒体は水を50以上含有することが、前記水処理剤が被処理液溶解せずフィルターによる分離が容易であることから好ましい。また、被処理液の重金属イオンの総濃度が0.05M以下の低濃度であっても、前記水処理剤は吸着率が高く効率的に重金属を捕捉することが出来る。更に、重金属濃度が0.005M以下の極めて低い濃度の被処理液に対しても、前記水処理剤の吸着率が高いことから、一層、被処理液を重金属の濃度が低い安全な水準にまで浄化することができる。金属イオンの吸着率の測定方法被処理液の初期液5mlに超高純度硝酸関東化学Ultrapurグレードを5ml加え、超純水を用いて50mlに希釈する。ICP用標準液を用いて各金属について1ppm、0.5ppm及び0ppmで測定し、検量線を作成した後、本試料溶液を測定して検量線から初期液の濃度を算出する。吸着濾過後の溶液5mlに超高純度硝酸関東化学Ultrapurグレードを5ml加え、超純水を用いて50mlに希釈する。初期液と同様に、本試料溶液を測定して検量線から含有量を算出する。測定にはエスアイアイナノテクノロジー社製SPS3520UVを使用し、各金属の測定波長を以下の通りとし測定する。Cu:324.754nm、Ni:231.604nm、Co:238.892nm、Cr:283.563nm、Zn:206.200nm、Ca:396.847nm。各金属イオンの吸着率を下記式により求める。吸着率=初期液の濃度-濾液の濃度/初期液の濃度×100[合成例]以下、合成例を挙げて本発明の水処理剤を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。《合成例1》《水処理剤P-19部分構造1-19を有する重合体からなるの合成》1合成ルート2中間体3の合成45gの中間体1に350mlのトルエンを加え、更に50gの中間体2、1.2gのハイドロキノン及び1.7gのp-トルエンスルホン酸1水和物TsOHを加えトルエンおよび副生するメタノールを留去しながら2時間加熱還流を行う。反応終了後、カラムクロマトグラフィー酢酸エチル/n-ヘプタン混合溶液により精製して中間体3を56.8g得た。1H-NMR、MASSスペクトル、IRで同定し、中間体3であることを確認した。3中間体4部分構造1-19を形成するモノマーの合成30gの中間体3、23.3gの塩化カルシウム及び120mlのアセトニトリルの懸濁溶液の中にトリエチルアミンTEA31.9gを加え、30~40°Cでカプリル酸クロライド23.9gを30分で滴下する。滴下終了後2時間撹拌し、水を加え分液、水洗後減圧下で溶媒を回収する。残渣をカラムクロマトグラフィー酢酸エチル/n-ヘプタン混合溶液により精製して31.1gの中間体4を得た。1H-NMR、MASSスペクトル、IRで同定し、中間体4であることを確認した。4水処理剤P-19の合成3.0gの中間体4を脱気した25mlのメタノールに加え、窒素バブリングを行った後に、窒素気流下に0.14gのAIBNを加え12時間加熱還流を行った。反応終了後に冷却し、白濁反応溶液を酢酸エチル300mlに徐々に添加する事で再沈殿を行った。固形分を孔径10μmのフィルターで濾別し、数平均分子量GPC:スチレン基準、下記方法により測定約10,500の例示化合物のP-19を2.79g得た。下記粒径測定方法によりメジアン径を測定したところ、40μmであった。数平均分子量の測定数平均分子量の測定は、GPCゲルパーミエーションクロマトグラフィーを使用し、ポリスチレン換算により求めた。検出器としてウォーターズ製GPCシステムカラム:昭和電工株製、ShodexLF-804によって測定した。溶媒としてジメチルホルムアミド以下、DMFLiBrを0.1M含有を用い、溶媒流量0.8ml/分とした。分析する重合体サンプル約20mgをDMFLiBrを0.1M含有4mlに溶解することによりサンプル調製を行い、80μlをカラムに注入した。カラム温度は40°Cに設定した。検出器としてRI示差屈折率検出器を使用した。粒径測定方法測定サンプル0.5gを0.3界面活性剤ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムエチレンオキシド2付加物溶液に分散させた後、レーザー回析/散乱式粒度分布測定装置LA-300堀場製作所製で粒径を測定し、そのメジアン径を求めた。5水処理剤P-20の合成同様に中間体4を用いてTHF溶媒で反応を行いジイソプロピルエーテルで再沈殿を行い、数平均分子量GPC:スチレン基準約6,800の水処理剤P-20を2.32g得た。上記粒径測定方法により粒径を測定したところそのメジアン径は23μmであった。水処理剤P-1~P-18およびP-21~P-34の合成水処理剤P-19の合成において、中間体4を表1に記載の部分構造を形成するモノマーに代え、AIBNの添加量を変化させた他は、同様に水処理剤P-1~P-18、P-21~P-34についても合成した。上記粒径測定方法によりメジアン径を測定した。下記により分子量を測定し、測定結果を表1に示す。上記水処理剤P-1~P-34の粒子を顕微鏡により観察したところ、形状は不定形であった。《合成例2》《水処理剤P-55の合成》1合成ルート2水処理剤P-55の合成5.0gの中間体4及び1.23gのメタクリル酸メチル部分構造2-34を形成するモノマーを脱気したテトラヒドロフラン250mlに加え、窒素バブリングを行った後に、窒素気流下に0.15gのAIBNを加え12時間加熱還流を行った。反応終了後に濃縮してメタノール300mlに徐々に添加する事で再沈殿を行った。固形分を孔径10μmフィルターで濾別し、4.6gの水処理剤P-55数平均分子量MnGPC:ポリスチレン換算=11,500、共重合比x:y=1:1.2を得た。上記の粒径測定方法により粒径を測定したところ、メジアン径は53μmであった。《合成例3》《水処理剤P-57の合成》1合成ルート2水処理剤P-57の合成5.0gの中間体4及び1.82gのメタクリル酸ヒドロキシエチル部分構造2-43を形成するモノマーを、脱気したテトラヒドロフラン250mlに加え、窒素バブリングを行った後に、窒素気流下に0.15gのAIBNを加え12時間加熱還流を行った。反応終了後に濃縮してヘキサン/ジイソプロピルエーテル=1/1v/v混合溶媒300mlに徐々に添加する事で再沈殿を行った。固形分を孔径10μmのフィルターで濾別し、5.8gの水処理剤P-57数平均分子量MnGPC:ポリスチレン換算=14,200、共重合比x:y=1:1.05を得た。上記の粒径測定方法により粒径を測定したところ、メジアン径は58μmであった。《合成例4》《水処理剤P-61の合成》1合成ルート2水処理剤P-61の合成5.0gの中間体及4及び1.53gのスチレン一般式2の部分構造を形成するモノマーを脱気したテトラヒドロフラン250mlに加え、窒素バブリングを行った後に、窒素気流下に0.15gのAIBNを加え12時間加熱還流を行った。反応終了後に濃縮してメタノール350mlに徐々に添加する事で再沈殿を行った。固形分を孔径10μmのフィルターで濾別し、5.3gの水処理剤P-61数平均分子量MnGPC:ポリスチレン基準=約10,200、共重合比x:y=1:1を得た。上記の粒径測定方法により粒径を測定したところ、メジアン径は62μmであった。尚、合成例における共重合比x:yについては重合反応の際に使用した各モノマーの添加モル比で表している。同様の処方で水処理剤P-35~P-54、P-56、P-58~P-60、および、P-62~P-71についても合成した。その数平均分子量測定結果を表2に示す。メジアン径は、上記粒径測定方法により測定した。上記水処理剤P-35~P-71の粒子を顕微鏡により観察したところ、形状は不定形であった。なお、表2に記載の一般式1の成分比率は、共重合体の合成において、一般式1以外の部分構造を形成するモノマーの使用モル数と一般式1の部分構造を形成するモノマーの使用モル数の比をx:yとしたときに、y/xy×100を表す。以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。[実施例1]リン酸系緩衝液pH6に、銅Cu2、ニッケルNi2、コバルトCo2、クロムCr3、亜鉛Zn2およびカルシウムCa2の金属イオンを硝酸塩として添加し溶解して、各金属イオンが50mg/L含まれる被処理液Aを調整し、各種金属含量を下記のICP測定方法により測定した。この被処理液A20mlに、本発明の水処理剤P-1を2g添加し、24時間振とう機に掛けて吸着させた。その後、孔径10μmのフィルターで濾過して、濾液の各種金属含量を同様に下記のICP測定方法により測定した。吸着剤への吸着率は、初期液被処理液Aの各種金属の濃度と吸着終了後の濾液の濃度から以下の様に算出した。吸着率=初期液の濃度-濾液の濃度/初期液の濃度×100吸着率の評価基準は以下の様に定めた。A:吸着率が95-100B:吸着率が90-95C:吸着率が80-90D:吸着率が80未満。ICP測定方法被処理液の初期液の溶液5mlに超高純度硝酸関東化学Ultrapurグレードを5ml加え、超純水を用いて50mlに希釈し、試料溶液を作製した。ICP用標準液を用いて各金属について1ppm、0.5ppm及び0ppmで測定し、検量線を作成した後、本試料溶液を測定して検量線から含有量を算出した。測定にはエスアイアイナノテクノロジー社製SPS3520UVを使用し、各金属の測定波長は以下の通り実施した。Cu:324.754nm、Ni:231.604nm、Co:238.892nm、Cr:283.563nm、Zn:206.200nm、Ca:396.847nm。吸着濾過後の濾液についても、5mlに超高純度硝酸関東化学Ultrapurグレードを5ml加え、超純水を用いて50mlに希釈し、試料溶液を作製した。初期液と同様に、測定し検量線から含有量を算出した。[実施例2~16]実施例1において、水処理剤P-1に代えて、表3に記載の水処理剤を用いた他は同様にして実施例2~16を実施した。[実施例17]実施例1の被処理液Aにおいて、カルシウムイオンを添加しなかった以外は同様にして、被処理液Bを調製した。実施例4において、被処理液Aに代えて、被処理液Bを用いた他は同様にして、実施例17を実施した。[実施例18]実施例16において、被処理液Aに代えて、被処理液Bを用いた他は同様にして、実施例18を実施した。実施例1~18の吸着率の評価結果を表3に示す。なお、水処理剤のメジアン径は上記合成例で測定した値を用いた。数平均分子量Mn:約14,000表3から明らかなように、本発明に係る水処理剤は、カルシウムイオンの存在下において、比較化合物よりも、銅Cu2、ニッケルNi2、コバルトCo2、クロムCr3および亜鉛Zn2の金属イオンに対する優れた捕捉吸着能力を発揮することが明らかになった。また、比較の水処理剤はカルシウムイオンが共存すると重金属の吸着率が低下するのに対し、本発明の水処理剤はカルシウムイオン添加の影響を受けないことが分かった。[実施例19~40]実施例1において、水処理剤を表4の記載ように替え、水処理剤の添加量を1gに変更した以外は同様にして実施例19~40を実施した。[実施例41]実施例31において、被処理液Aに代えて、被処理液Bを用いた他は同様にして、実施例41を実施した。[実施例42]実施例39において、被処理液Aに代えて、被処理液Bを用いた他は同様にして、実施例42を実施した。実施例19~42の吸着率の評価結果を表4に示す。なお、水処理剤のメジアン径は上記合成例で測定した値を用いた。x:y=1:1.1比較化合物3特開2010-194509の実施例1の1~3に記載の方法で、高分子担体粒子にポリエチレンイミンを結合し、カルボキシメチル化した比較化合物3特開2010-194509に記載のキレート樹脂Aを合成した。表4から明らかなように、本発明に係る水処理剤は、カルシウムイオンの存在下において、比較化合物2および3よりも、銅Cu2、ニッケルNi2、コバルトCo2、クロムCr3および亜鉛Zn2にたいする優れた捕捉吸着能力を発揮することが明らかになった。また、比較化合物2はカルシウムイオンが共存すると重金属の吸着率が低下するのに対し、本発明の水処理剤はカルシウムイオンが共存しても吸着率が低下しないことが分かった。また、一般式1の部分構造を有するが一般式2の部分構造を有しない水処理剤に対し、一般式1と一般式2の部分構造を有する水処理剤は、添加量が少なくても高い吸着率を発揮することが分かった。"