少なくとも1つのデバイス1の少なくとも1つの表面11上にパリレンコーティング2を施す方法であって、パリレンモノマーを含有する第1のガス4を供給し、前記パリレンモノマーを含有する第1のガス4を第1のノズル3によって、少なくとも1つの表面11に供給することによって、前記デバイス1の少なくとも1つの表面11上にパリレンモノマーを析出させ、ここで前記デバイス1は大気圧を有する環境内に配置されている、ことを特徴とする、パリレンコーティングを施す方法。内部でプラズマ64が形成される第2のガス6をプラズマ流65として、前記少なくとも1つの表面11へと導く、請求項1記載の方法。前記デバイス1の前記少なくとも1つの表面11を前記プラズマ流65によって化学的に活性化させる、請求項2記載の方法。パリレンモノマーを含有する前記第1のガス4を前記第1のノズル3外で供給し、内部でプラズマ64が形成される前記第2のガス6をプラズマ流として、前記少なくとも1つの表面11へと導き、パリレンモノマーを含有する前記第1のガス4を、前記第1のノズル3内の前記プラズマ流65に供給する、請求項2または3記載の方法。前記第2のガス6を、内部でプラズマ64が形成される第2のノズル5によって、プラズマ流65として、前記少なくとも1つの表面11へと導く、請求項2または3記載の方法。熱供給および/または前記第1のノズル3内のプラズマによって、前記第1のノズル3内のパリレンダイマーを分解することで前記パリレンモノマーを形成する、請求項1から3および5のいずれか1項記載の方法。前記デバイス1の前記少なくとも1つの表面11をシリコーンおよび/または金属層によって形成する、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。前記第1のガスおよび/または前記第2のガス6は空気、窒素ガスおよび/または希ガスを含有している、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。前記少なくとも1つのデバイス1上にカバー10を配置し、前記カバー10は前記少なくとも1つのデバイス1上で、前記デバイス1の方向で開放されている中空空間12を有しており、当該中空空間内に、パリレンモノマーを含有する前記第1のガス4を導入する、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。前記パリレンモノマーは、フッ素置換パリレンモノマーを含んでいる、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。請求項1から11までのいずれか1項記載の、少なくとも1つのデバイス1の少なくとも1つの表面11上にパリレンコーティング2を施す方法を実施するための装置であって、パリレンモノマーを含有する第1のガス4を、前記デバイス1の少なくとも1つの表面11へと導く第1のノズル3と、前記少なくとも1つのデバイス1を、パリレンモノマーを含有する前記第1のガス4が供給されている間、前記第1のノズル3を通過するように動かす搬送機構9とを有しており、前記デバイス1は、大気圧を有する環境内に配置されている、ことを特徴とする、少なくとも1つのデバイスの少なくとも1つの表面上にパリレンコーティングを施す装置。前記少なくとも1つのデバイス1は複数のデバイス1を含んでおり、当該複数のデバイスは帯状のラダーフレーム結合で配置されており、前記搬送機構9によって前記第1のノズル3を通過するように動かされる、請求項11記載の装置。さらに、前記少なくとも1つのデバイス1上にカバー10を有しており、当該カバーは、前記少なくとも1つのデバイス1上に、少なくとも1つのデバイス1へ向かう方向において開放されている中空空間12を有しており、当該中空空間の内部には、前記第1のノズル3によって、パリレンモノマーを含有する前記第1のガス4が導入され、前記少なくとも1つのデバイス1は前記搬送機構9によって当該中空空間を通過する、請求項11または12記載の装置。前記第1のノズル3によって、内部でプラズマ64が形成される第2のガス6が、プラズマ流65として、前記少なくとも1つの表面11へと導かれ、パリレンモノマーを含有する前記第1のガス4が、当該第1のノズル3内のプラズマ流65に供給される、請求項11から13までのいずれか1項記載の装置。内部でプラズマ64が形成される第2のガス6を第2のノズル5によって、プラズマ流65として、少なくとも1つの表面11へと導く、請求項11から13までのいずれか1項記載の装置。実施例および図面において、同じ構成部分または同機能の構成部分にはそれぞれ同じ参照符号を付してある。図示した要素およびこれらの要素の互いの大きさの関係は、基本的に縮尺通りと見なすべきではなく、むしろ個々の要素、例えば層、デバイス、構成素子および領域等は、見やすくおよび/または理解しやすくするため、誇張して厚くまたは大きく図示されていることがある。図1には、1つの実施例に即した、少なくとも1つのデバイスの少なくとも1つの表面上にパリレンコーティングを施す方法100が示されている。この方法100の第1のステップ101では、パリレンモノマーを含有する第1のガスが準備される。次のステップ102ではデバイスが準備される。このデバイスは、大気圧を有する環境内に配置されており、次のステップ103において、その少なくとも1つの表面へ、パリレンモノマーを含有する第1のガスが第1のノズルによって案内される。従って、このパリレンモノマーは少なくとも1つの表面上に析出される。発明のさらなる特徴および実施例を、図2~5における後続の実施例の装置に関連して説明する。図2には、少なくとも1つのデバイス1の少なくとも1つの表面11上にパリレンコーティング2を施す方法を実施する装置200に対する実施例が示されている。コーティングされるべきデバイス1は、図示の実施例では、発光ダイオードLEDであり、これはシリコーンコンパウンドまたはシリコーンから成る光学素子を有している。これは例えばレンズである。少なくとも1つの、コーティングされるべき表面11はここで、シリコーンによって形成される。択一的にまたは付加的に、別の表面またはさらなる表面が装置200によってコーティングされてもよい。上述した実施例に対して択一的または付加的に、コーティングされるべき表面は、例えば電極層として用いられるデバイス1の金属層、例えば銀層によって形成されていてもよい。デバイス1は大気圧を有する環境内に配置されており、殊に装置200とともに閉鎖されたシステム、例えば真空チャンバまたは低圧チャンバ内に設けられているのではない。この装置200は、第1のノズル3を有している。この第1のノズルは第1の容積31と第2の容積32を有している。この第1および第2の容積31、32は開口部34を有する分断壁33によって相互に分断されている。ここでこの開口部34を通じて、第1の容積31と第2の容積32との間でガス交換が行われる。第1のノズル3は、第1のガスを第1の容積31内に案内するためのガス進入口35を有している。これはガス流入方向41によって示されている。別のガス案内エレメント、例えば管、管線路およびホースは、見やすくするために、ここでも後続の実施例においても図示されていない。第1のガスは、図示の実施例では窒素ガスである。第1のガスによって、既に、第1のノズルの外で気化されているパリレンダイマーが第1の体積31内に導入される。これに対して択一的に、当業者に既知の充分に低い温度において固体であり、例えば粉体の形状で存在するパリレンダイマーが既に第1の容積31内に配置されていてもよい。この第1の容積31はこの場合には例えば、相応の加熱部材によって、パリレンダイマーの少なくとも一部が第1の容積31内で気化する充分な温度を有する。パリレンダイマーは第1のガスによってさらに、分断壁33の開口部34を通って案内される。これはガスの流れ方向42によって示されている。分断壁33は加熱部材として形成されている、または相応の加熱部材を有している。従って、開口部34を通るパリレンダイマーがパリレンモノマーに分解される。これによって、第2の容積32内に、以降で参照番号4によって示される、パリレンモノマーを有する第1のガスが供給される。第2の容積32は、例えば加熱部材によって、適切な温度または適切な温度経過特性を有する。これによって、第1のノズル3の第2の容積32内で、パリレンモノマーの不所望な反応が生じないことが保証される。このような温度条件は、使用されるパリレンの種類に依存しており、当業者に既知である。例えば、図示の実施例では、パリレンコーティング2が製造される。これはフッ素によって置換されたパリレンモノマーによって形成される。ガスの流れる方向41に相応して、ガス進入口35を通って継続して流れる第1のガスによって次のことが阻止される。すなわち、パリレンモノマーを含有する第1のガス4が、第1のノズル3の第1の容積31内に戻ることが阻止される。むしろ、この第1のガスはさらにガス排出口36へと流れ、これを通って第1のノズル3から流出する。これはガスが流れる方向43によって示されている。第1のノズル3の示された概略図に対して択一的または付加的に、この第1のノズルは、さらなるまたは異なって配置された容積および/または別のガス案内部を有することができる。第1のノズル3から流出する、第1のパリレンモノマーを有する第1のガス4これはガスが流れる方向45によって示されているによって、少なくとも1つのデバイス1の少なくとも1つの表面11へパリレンモノマーが案内され、少なくとも1つの表面11上にパリレンモノマーが積層される。これは矢印44によって示されている。反応性パリレンモノマーはこれによって、表面11上で重合化される。第1のガスは、場合によっては、表面11上で重合化されないパリレンモノマーとともに表面11およびデバイス1を通過して流れ、例えば、適切な排気装置によって収容および排除される。少なくとも1つのデバイス1は、図示の実施例では、搬送方向99に沿って、第1のノズルを通過する。従って連続的にパリレンコーティング2が施される。これは、パリレンコーティング2を点線によって延ばしていることによっても示されている。図示の実施例に対して択一的に、第1のノズル3をデバイス1に対して動かすことが可能である。デバイス1の大きさが、第1のノズル3から生じるガス流れ方向45の横断面以下である場合には、デバイス1をコーティングの間、第1のノズル3に対して動かないように配置することもできる。さらに、装置200はカバー10を有し得る。これは例えば図5に関連して説明される。後続の実施例において、図2における実施例に即した装置200の修正および変形を示す。従って、後続の説明は主に、装置200と各装置との違いに制限される。図3には、少なくとも1つのデバイス1の少なくとも1つの表面11上にパリレンコーティング2を施す方法を実施する装置300に対する、更なる実施例が示されている。この装置300は、第1のノズル3を有している。このノズルは上述の実施例に即して構成されている。さらに、装置300は、第1のノズルに隣接して第2のノズル5を有している。ここで第1のノズル3は、デバイス1の搬送方向99において第2のノズル5の後方に配置されている。すなわち、コーティングされるべき少なくとも1つの表面11はまず、第2のノズル5を通過し、次に第1のノズル3を通過する。第2のノズル5は第1の容積51と第2の容積52を有しており、これらの容積の間に、開口部54を備えた分断壁53が配置されている。ガス進入口55を介して第2のガス6図示の実施例では窒素ガスまたはアルゴンが第1の容積51内に流入する。これはガスの流れる方向61によって示されている。この第2のガスはさらに、分断壁53の開口部54を通って第2の容積52内に流入する。これはガスの流れる方向62によって示されている。電気的に絶縁性の分断壁53では、電極7が第2の容積52内に配置されている。これは、給電線71によって、高圧原図示されていないに接続されている。第2のノズル5は、第2の容積52の部分領域内で、電極7に対して電気的な絶縁部57を介して電気的に絶縁されている、電気的にアースされているケーシングを有している。電極7と、電気的な絶縁部57によって覆われていない第2のノズル5のケーシングの領域との間のライトアーク放電によって、第2の容積52内で、分断壁53の開口部54を通じて第2の容積52内に流れ込む第2のガス6内でプラズマ64が形成される。これは破線によって示されている。プラズマ64内でイオン化された第2のガス6は、第2のノズル5のガス排出口56を通って、プラズマ流65として、デバイス1の表面11へと案内される。これはガスが流れる方向63によって示されている。第2のガス6のプラズマ流65によって、一方では、デバイス1の少なくとも1つの表面11を浄化することが可能になる。他方では、デバイス1の少なくとも1つの表面11は、このプラズマ流65によって化学的に活性化する。これは、表面11を形成する、反応性分子末端がシリコーン内に形成されることによって行われる。これは、第1のノズル3によって析出される、パリレンモノマーと化学的に結合する。図示の実施例に対して択一的に、第1のノズル3および第2のノズル5を相対的および表面11に対して配向することができ、第2のガス6のプラズマ流65とパリレンモノマーを含有する第1のガス4が空間的に重畳し、重なり、これによって上述した複数のプロセスを同時におよび同じ空間領域および表面領域内で実施することができる。付加的にプラズマが熱を供給することができる。この熱によって、導かれたパリレンモノマーが第1のノズル3外で、表面11上での析出前に不所望の反応を起こすことが阻止される。図4には、別の実施例に即した装置400が示されている。装置400は第1のノズル3を有している。この第1のノズル3は、先行する実施例の第2のノズル5と同様に、第2のガス6内でプラズマ64を形成するように構成されている。これによって、ガス排出口36を通って、プラズマ流65が発生し、これは、少なくとも1つのデバイス1の少なくとも1つの表面11に供給される。この第1のノズル3は、図3における第2のノズル5に関して上述したように、殊に、給電線71を備えた電極7と、電気的絶縁部57と開口部54を備えた分断壁53とを有する。従って、第1のノズル3の第2の容積32内に、上述した実施例の第2のノズル5におけるように、プラズマ64、ひいては第2のガス6のプラズマ流65が形成される。さらに、装置400はガス供給線路8を有している。このガス供給線路8内では、第1のノズル3外で形成され、供給された、パリレンモノマーを有する第1のガス4が、第1のノズル3内の第2のガスのプラズマ64に供給される。これはガスが流れる方向43によって示されている。パリレンモノマーを有する第1のガス4は、外部の気化部材内で形成される図示されていない。この気化部材は例えば、図5の実施例に関連して示される。パリレンモノマーを有する第1のガス4は、ガス排出開口部36を通って、第2のガス6のプラズマ流65とともに排出され、プラズマ流65とともにデバイス1の表面11へと案内される。これによって第2のガス6のプラズマ流65とパリレンモノマーを有する第1のガス4のガス流方向45が重畳する。これによって、図3における先行する実施例と関連して記載されたプロセスが同時に、かつ同じ空間領域および表面領域内で行われる。付加的に第1のノズル3内にプラズマ64は熱を供給することができる。この熱によって、供給されたパリレンモノマーが第1のノズル内で、および/または表面11上での析出前に既に、不所望の反応を起こしてしまうことが阻止される。第1のノズル3の第2の容積32内の必要な温度のコントロールは、殊にプラズマ64に対する適切なプロセスパラメーラによって可能に成る。しかも、第2の容積32内に別の加熱部材を設ける必要はない。図示の実施例に対して択一的に、ガス供給線路8によってパリレンダイマーを有する第1のガスを直接的に、第2のガス6のプラズマ64内に供給することができる、またはパリレンダイマーを有する第1のガスを第1のノズル3に、第2のガス6とともに、ガス進入口35を通じて供給することができる。この場合にはプラズマを例えば、第1のガスおよび第2のガス6内でも形成することができる。プラズマ64の熱およびエネルギーによって、パリレンダイマーはパリレンモノマーに分解される。図示されている実施例に対する別の選択肢として、パリレンダイマーを有する第1のガスのみを、第2のガス6無く、ガス進入口35を通って第1のノズル3内に案内することもできる。ガス供給線路8はこの場合には不要である。第2の容積32内ではこの場合にはプラズマ64が第1のガス内で形成される。これによって、パリレンダイマーがパリレンモノマーに分解される。第1のガスはこの場合には、プラズマ流65として、パリレンモノマーとともに、少なくとも1つの表面11へと案内される。図5には、別の実施例に即した装置500が示されている。これは純粋に例として、図4における実施例に示された第1のノズル3を有している。これに対して択一的に装置500が、図2の実施例に従った第1のノズル3または図3の実施例に従った第1のノズル3および第2のノズル5を有していてもよい。装置500はさらに、ライトアーク放電によって、第1のノズル3内の第2のガス内にプラズマを形成するために、高圧源として構成されているプラズマ発生器72を有している。これは、給電線71を介して、第1のノズル3の電極図示されていないと接続されている。さらに装置500は、気化部材48を有している。この内部で、大気圧を有している第1のガス内のパリレンダイマーが気化され、パリレンモノマーに分解される。パリレンモノマーを有するこの第1のガスは、図4に関連して示されているように、ガス供給線路8によって、第1のノズル3内の第2のガスのプラズマ流内に案内される。この装置500はさらに1つの排気システム図示されていないを有している。これによって、汚染物およびもはや必要ではないガスおよびガス成分が気化部材48および装置500から除去される。装置500はコイルーティング装置、いわゆるリールトーリール装置として構成されており、搬送ロールの形態の搬送機構9を有している。この搬送機構によって、複数のデバイス1が搬送方向99に沿って第1のノズル3を通過して、搬送される。複数のデバイス1の搬送はここで、図示の実施例では連続して行われる。これは、容易なプロセス実行および高いスループットを可能にする。複数のデバイス1は、導体の形状をした金属帯の上で、フレーム接続して配置されている。これは、搬送機構9の搬送ロールによって搬送される。ラダーフレーム結合は、デバイス1のコーティング後に、個々のデバイス1に個別化される。上述したように、デバイス1は図示の実施例では、シリコーンコンパウンドを有するオプトエレクトロニクスデバイスとして構成されており、ここで、デバイス1の少なくとも1つのコーティングされるべき表面はシリコーンによって形成される。さらに、デバイス1の別の表面もコーティングされ得る。装置500はさらに、中空空間12を備えたカバー10を有している。この中空空間内に第1のノズル3が突出しており、パリレンモノマーを有する第1のガス並びに、図示の実施例では第2のガスも、プラズマ流として中空空間12内に導入される。中空空間12は、カバーの壁部によって制限されており、半分が開放されている。図5に示されているように、中空空間12は、デバイス1の方向において開放されている。従って、中空空間12内に導入された、パリレンモノマーを有する第1のガスおよび第2のガスのプラズマ流が、デバイス1に供給される。カバー10はデバイス1上に次のように間隔を空けて配置されている、すなわち図示の実施例では第1のガスおよび第2のガスが、カバー12の間、すなわち、殊に中空空間12を制限している壁部とデバイス1との間で、中空空間12から再び排出されるように、配置されている。これによって複数のデバイス1が、閉鎖されたシステム内ではなく、大気圧を有する環境内に配置される。しかし同時に、デバイス1はコーティングの間に、カバー10によって、およびカバー10とデバイス1との間で排出されるガスによって、被害を与える環境影響から保護される。殊にこれによって、周辺空気内の不純物または周辺空気自体の成分例えば空中酸素等と反応性パリレンモノマーの不所望な副反応も回避される。カバー10は図示の実施例ではプラスチックから成る。方法および装置の、図に関連して示された実施例は、択一的または付加的に、一般的な部分に記載されている特徴、実施形態および組み合わせを有することができる。本明細書に示した装置および説明した方法によって、パリレンコーティングが施されたデバイスの大量生産が可能になる。この大量生産のプロセススループットは従来の低圧方法では得られないものである。本発明は、実施例に基づく記載に限定されるものではない。むしろ本発明はあらゆる新規の特徴ならびにそれらの特徴のあらゆる組み合わせを含むものであり、これには殊に特許請求の範囲に記載した特徴の組み合わせ各々が含まれ、このことはそのような特徴または組み合わせ自体が特許請求の範囲あるいは実施例に明示的には記載されていないにしてもあてはまる。