"液体を貯留する貯留タンク41と、該貯留タンク41内に設けられ、上記貯留タンク41における貯留液中で放電を生起する電極対6464x64y6565x65yと、該電極対6464x64y6565x65yに電圧を印加する電源7070a70b70cとを有し、上記放電によって上記貯留液中に水酸ラジカルを生成して上記貯留液を浄化する放電ユニット62と、上記貯留タンク41内の上記貯留液に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する上記貯留液中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部94と、上記貯留タンク41内の貯留液の温度を検出する温度検出部Se1~Se3と、該温度検出部Se1~Se3が検出した貯留液の温度にしたがって上記放電ユニット62の浄化運転を制御する運転制御部81とを備えていることを特徴とする液浄化装置。請求項1において、上記運転制御部81は、貯留液の温度にしたがって上記放電ユニット62の放電時間を制御するように構成されていることを特徴とする液浄化装置。請求項2において、上記運転制御部81は、貯留液の温度が高くなるにしたがって上記放電ユニット62の放電時間を短くするように構成されていることを特徴とする液浄化装置。請求項1において、上記運転制御部81は、貯留液の温度にしたがって上記放電ユニット62の電極対6464x64y6565x65yに供給する電力を制御するように構成されていることを特徴とする液浄化装置。請求項4において、上記運転制御部81は、貯留液の温度が高くなるにしたがって上記放電ユニット62の電極対6464x64y6565x65yに供給する電力を低下するように構成されていることを特徴とする液浄化装置。請求項1において、上記温度検出部Se1~Se3は、貯留タンク41の複数箇所に設けられる一方、上記運転制御部81は、複数の温度検出部Se1~Se3が検出した貯留液の温度のうち、最も低い温度にしたがって上記放電ユニット62の浄化運転を制御するように構成されていることを特徴とする液浄化装置。請求項1において、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御する第1制御部1と、上記超音波発生部94の動作を制御する第2制御部5とをさらに備え、上記第1制御部1及び上記第2制御部5は、上記貯留タンク41内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ及び上記超音波発生部94の動作をそれぞれ制御することを特徴とする液浄化装置。請求項7において、上記貯留タンク41内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ7をさらに備え、上記第1制御部1は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御し、上記第2制御部5は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする液浄化装置。請求項8において、少なくとも上記貯留液中の過酸化水素の濃度が上記上限値を越えた場合には、上記第1制御部1が、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧をオフにして上記放電を停止させるとともに、上記第2制御部5が、上記超音波発生部94を動作させることを特徴とする液浄化装置。請求項7乃至9の何れか1つにおいて、上記第2制御部5は、上記貯留タンク41内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする液浄化装置。請求項1において、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフの制御、及び上記超音波発生部94の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、上記制御部は、上記貯留タンク41内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ、及び上記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする液浄化装置。請求項11において、上記制御部は、上記貯留タンク41内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧をオフにして上記放電を停止させ、上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする液浄化装置。請求項1乃至12の何れか1つにおいて、上記貯留タンク41内の貯留液中に泡を吐出する吐出手段119と、上記吐出手段119に気体を送る送出手段99とをさらに備え、上記電極対6465は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、上記電源70bは、上記電極対6465にパルス電圧を印加し、上記吐出手段119は、上記電極対6465の間であって、上記貯留タンク41の底部に配置されていることを特徴とする液浄化装置。しかしながら、従来の液浄化装置においては、次亜塩素酸の濃度制御手段を設けて電解時間を単に制御しているのであった。つまり、従来の液浄化装置は、次亜塩素酸の濃度が高い場合、電解時間を短くし、次亜塩素酸の濃度が低い場合、電解時間を長くしているに過ぎない。したがって、従来の液浄化装置のように、次亜塩素酸の濃度に応じて電解時間を制御するのみでは、必ずしも信頼性の高い浄化が行われているとはいえず、且つ必ずしも省エネルギ化が図られているとはいえないという問題があった。本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、信頼性の高い浄化を行うと共に、省エネルギ化を図ることを目的とする。本願発明は、除菌能力が液温の変化にしたがって変化することから、液温にしたがって浄化運転を制御するものである。つまり、放電ユニット62の除菌能力は、水温にしたがって変化する。具体的に、過酸化水素の濃度を一定とした場合、水温が上昇するにしたがって90除菌運転時間が短くなる。つまり、過酸化水素濃度が一定である場合の除菌能力は、水温が上昇するにしたがって高くなる。また、放電ユニット62に起因する過酸化水素の発生量は、水温が上昇するにしたがって高くなる。そこで、本願発明は、水温にしたがって浄化運転を制御するようにした。具体的に、第1の発明は、液体を貯留する貯留タンク41と、該貯留タンク41内に設けられ、上記貯留タンク41における貯留液中で放電を生起する電極対6464x64y6565x65yと、該電極対6464x64y6565x65yに電圧を印加する電源7070a70b70cとを有し、上記放電によって上記貯留液中に水酸ラジカルを生成して上記貯留液を浄化する放電ユニット62と、上記貯留タンク41内の上記貯留液に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する上記貯留液中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部94と、上記貯留タンク41内の貯留液の温度を検出する温度検出部Se1~Se3と、該温度検出部Se1~Se3が検出した貯留液の温度にしたがって上記放電ユニット62の浄化運転を制御する運転制御部81とを備えている。上記第1の発明では、液温にしたがって浄化運転を制御し、除菌能力を変更させることにより、信頼性を向上させ、省エネルギ化を図る。また、本発明は、貯留液に超音波を照射する超音波発生部94を備えているため、超音波発生部から貯留液に対して超音波を照射することにより水酸ラジカルから変化した過酸化水素を、除菌能力がより高い水酸ラジカルに再び変換できる。その結果、より効果的な浄化運転を可能とする。第2の発明は、第1の発明において、上記運転制御部81は、貯留液の温度にしたがって上記放電ユニット62の放電時間を制御するように構成されたものである。上記第2の発明では、貯留液の温度にしたがって放電時間を制御し、除菌能力を変更する。第3の発明は、第2の発明において、上記運転制御部81は、貯留液の温度が高くなるにしたがって上記放電ユニット62の放電時間を短くするように構成されたものである。上記第3の発明では、貯留液の温度が高くなるにしたがって放電時間を短くし、逆に、貯留液の温度が低くなるにしたがって放電時間を長くし、除菌能力を変更する。第4の発明は、第1の発明において、上記運転制御部81は、貯留液の温度にしたがって上記放電ユニット62の電極対6464x64y6565x65yに供給する電力を制御するように構成されたものである。上記第4の発明では、貯留液の温度にしたがって供給電力を制御し、除菌能力を変更する。第5の発明は、第4の発明において、上記運転制御部81は、貯留液の温度が高くなるにしたがって上記放電ユニット62の電極対6464x64y6565x65yに供給する電力を低下するように構成されたものである。上記第5の発明では、貯留液の温度が高くなるにしたがって供給電力を低下し、逆に、貯留液の温度が低くなるにしたがって供給電力を増加し、除菌能力を変更する。第6の発明は、第1の発明において、上記温度検出部Se1~Se3は、貯留タンク41の複数箇所に設けられる一方、上記運転制御部81は、複数の温度検出部Se1~Se3が検出した貯留液の温度のうち、最も低い温度にしたがって上記放電ユニット62の浄化運転を制御するように構成されたものである。上記第6の発明では、貯留タンク41の最も低い貯留液の温度にしたがって浄化運転を制御し、必要な除菌能力が確保する。第7の発明は、第1の発明において、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御する第1制御部1と、上記超音波発生部94の動作を制御する第2制御部5とをさらに備え、上記第1制御部1及び上記第2制御部5は、上記貯留タンク41内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ及び上記超音波発生部94の動作をそれぞれ制御するように構成されたものである。上記第7の発明では、浄化装置から外部へと供給される液体中の過酸化水素の濃度が上限値以下に抑えられるので、過酸化水素を除去するための処理が容易になる。第8の発明は、第7の発明において、上記貯留タンク41内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ7をさらに備え、上記第1制御部1は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御し、上記第2制御部5は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記超音波発生部94の動作を制御するように構成されたものである。第9の発明は、第8の発明において、少なくとも上記貯留液中の過酸化水素の濃度が上記上限値を越えた場合には、上記第1制御部1が、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧をオフにして上記放電を停止させるとともに、上記第2制御部5が、上記超音波発生部94を動作させるように構成されたものである。第10の発明は、第7乃至9の発明の何れか1つにおいて、上記第2制御部5は、上記貯留タンク41内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にするように構成されたものである。上記第10の発明では、超音波発生部94は液体の過酸化水素濃度が下限値以上である場合にオン状態にされるので、液中の過酸化水素から効率的且つ継続的に水酸ラジカルを生成することができる。第11の発明は、第1の発明において、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフの制御、及び上記超音波発生部94の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、上記制御部は、上記貯留タンク41内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ、及び上記超音波発生部94の動作を制御するように構成されたものである。第12の発明は、第11の発明において、上記制御部は、上記貯留タンク41内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧をオフにして上記放電を停止させ、上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にするように構成されたものである。第13の発明は、第1乃至第12の発明の何れか1つの発明において、上記貯留タンク41内の貯留液中に泡を吐出する吐出手段119と、上記吐出手段119に気体を送る送出手段99とをさらに備え、上記電極対6465は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、上記電源70bは、上記電極対6465にパルス電圧を印加し、上記吐出手段119は、上記電極対6465の間であって、上記貯留タンク41の底部に配置されている。本発明によれば、水温にしたがって放電ユニット62の浄化運転を制御するようにしたために、信頼性の高い浄化を行うことができると共に、省エネルギ化を図ることができる。また、本発明は貯留液に超音波を照射する超音波発生部94を備えている。このため、超音波発生部から貯留液に対して超音波を照射することにより水酸ラジカルから変化した過酸化水素を、除菌能力がより高い水酸ラジカルに再び変換できる。その結果、より効果的な浄化を可能とする。つまり、上記第2及び第3の発明によれば、水温が高い場合には放電ユニット62による除菌能力が高いので、浄化運転を短くすることができることから、過剰な除菌運転を防止することができると共に、運転時間の短縮による省エネルギ化を図ることができる。また逆に、水温が低い場合には放電ユニット62による除菌能力が低いので、浄化運転を長くすることができることから、除菌運転の不足を防止することができる。また、上記第4及び第5の発明によれば、水温が高い場合には放電ユニット62による除菌能力が高いので、放電ユニット62の供給電力を低下することができることから、過剰な除菌運転を防止することができると共に、供給電力の低下による省エネルギ化を図ることができる。また逆に、水温が低い場合には放電ユニット62による除菌能力が低いので、放電ユニット62の供給電力を増大することができることから、除菌運転の不足を防止することができる。また、上記第6の発明によれば、上記放電ユニット62に3つの温度検出部Se1~Se3を設け、この3つの温度検出部Se1~Se3が検出した水温のうち、最も低い温度を選択し、最も低い温度を給湯タンク41の水温と決定するので、除菌運転の不足及び過剰を確実に防止することができる。上記第7の発明によれば、液浄化装置から外部へと供給される液体中の過酸化水素の濃度が上限値以下に抑えられるので、過酸化水素を除去するための処理が容易になる。上記第8の発明によれば、第1制御部1及び第2制御部5が、貯留タンク41内の液体の過酸化水素濃度に応じて放電の制御及び超音波照射の制御をそれぞれ行うので、液体の過酸化水素濃度が所望の範囲内になるよう制御しつつ、浄化処理を行うことができる。上記第9の発明によれば、液体中の過酸化水素の濃度が上限値を超えた場合に放電を停止させて過酸化水素の生成を停止させるので、液体の過酸化水素濃度を上限値以下にすることができ、処理後の液体からの過酸化水素の除去を容易にすることができる。上記第10の発明によれば、液体の過酸化水素濃度を下限値以上に制御することができるので、超音波を照射した場合に水酸ラジカルを効率良く発生させることが可能となる。上記第11の発明によれば、液体中の過酸化水素の濃度が上限値を超えないように制御部によって制御されるので、過酸化水素を除去するための処理を容易にすることができる。上記第12の発明によれば、液体の過酸化水素濃度を下限値以上に制御することができるので、超音波を照射した場合に水酸ラジカルを効率良く発生させることが可能となる。上記第13の発明によれば、電極対6465にパルス電圧を印加する場合であっても放電を生起させることができるので、液中で水酸ラジカルを効率的に発生させ、超音波照射と組み合わせることでより高い浄化効果を得ることができる。以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。発明の実施形態1図1に示すように、本実施形態は、給湯システム10に液浄化装置を設けたものである。上記給湯システム10は、浴槽U1及びシャワーU2へ温水を供給するシステムである。給湯システム10は、いわゆるヒートポンプ式の給湯器であり、熱源ユニット30と給湯ユニット40とを有している。上記熱源ユニット30は、圧縮機31と加熱熱交換器32と膨張弁33と室外熱交換器34とを備えている。そして、上記圧縮機31と加熱熱交換器32と膨張弁33と室外熱交換器34とが冷媒配管を介して順に接続され、閉回路の冷媒回路11が構成されている。上記冷媒回路11には、冷媒として二酸化炭素が充填されている。上記加熱熱交換器32は、一次側伝熱部32aと二次側伝熱部32bとを有している。一次側伝熱部32aは、圧縮機31と膨張弁33との間の高圧ラインに接続されている。二次側伝熱部32bは、給湯ユニット40の第1循環流路13に接続されている。加熱熱交換器32は、一次側伝熱部32aを流れる冷媒と、二次側伝熱部32bを流れる水とを熱交換させている。室外熱交換器34の近傍には、ファン35が設けられている。上記冷媒回路11は、圧縮機31を運転して冷媒を循環させて蒸気圧縮式の冷凍サイクルが行われる。即ち、上記圧縮機31で圧縮された冷媒が、一次側伝熱部32aで放熱し、膨張弁33で減圧される。減圧された冷媒は、室外熱交換器34で蒸発し、圧縮機31に吸入される。この冷凍サイクルは、冷媒としての二酸化炭素を臨界圧力以上まで圧縮する、いわゆる超臨界サイクルである。上記給湯ユニット40は、貯留タンクである給湯タンク41と内部熱交換器42とを備えている。該給湯タンク41は、縦長の円筒状の密閉容器で構成されている。給湯タンク41は、円筒形の周壁部41aと、周壁部41aの上側を閉塞する頂壁部41bと、周壁部41aの下側を閉塞する底壁部41cとを備えている。給湯タンク41には、第1循環流路13と第2循環流路14と供給流路15とが接続されている。また、給湯タンク41には、該給湯タンク41内へ水道水を適宜補給する給水流路20も接続されている。これらの流路13,14,15,20は、給湯タンク41と連通する水流路12を構成している。上記第1循環流路13の始端は、給湯タンク41の下部に接続され、第1循環流路13の終端は、給湯タンク41の上部に接続されている。そして、第1循環流路13には、第1ポンプ43が設けられている。第1ポンプ43は、第1循環流路13の始端側から終端側の方向へ水を搬送する搬送機構である。第1循環流路13には、第1ポンプ43の下流側に二次側伝熱部32bが接続されている。上記第2循環流路14の始端は、給湯タンク41の下部に接続され、第2循環流路14の終端は、給湯タンク41の頂壁部41bに接続されている。そして、第2循環流路14には、第2ポンプ44が設けられている。第2ポンプ44は、第2循環流路14の始端側から終端側の方向へ水を搬送する搬送機構である。第2循環流路14には、第2ポンプ44の下流側に内部熱交換器42の第1伝熱管42aが接続されている。上記内部熱交換器42は、第1伝熱管42aと第2伝熱管42bとを有している。第1伝熱管42aは、第2循環流路14に接続されている。第2伝熱管42bは、供給流路15の第3循環流路16に接続されている。上記供給流路15は、主供給路17と第1分岐路18と第2分岐路19と第3循環流路16とを備えている。上記主供給路17の始端は、給湯タンク41の頂壁部41bに接続され、主供給路17の終端側は、第1分岐路18と第2分岐路19とに分岐している。そして、主供給路17には、第3ポンプ45が設けられている。第3ポンプ45は、主供給路17の始端側から終端側の方向へ水を搬送する搬送機構である。上記第1分岐路18の終端は、第3循環流路16を介して浴槽U1と連通している。つまり、第1分岐路18は、浴槽U1側へ温水を供給するための浴槽側供給路を構成している。第1分岐路18には、第1開閉弁46が設けられている。第2分岐路19の終端は、シャワーU2に接続されている。つまり、第2分岐路19は、シャワーU2に温水を供給するシャワー側供給路を構成している。第2分岐路19には、第2開閉弁47が設けられている。上記第3循環流路16は、浴槽U1内の水を循環させる浴槽循環流路を構成している。第3循環流路16は、供給循環路16aと返送循環路16bとを有している。供給循環路16aの流出端は、浴槽U1の内部における上方寄りに開口している。返送循環路16bの流入端は、浴槽U1の内部における下方寄りに開口している。供給循環路16aには、第4ポンプ48が設けられている。第4ポンプ48は、主供給路17側の水、又は返送循環路16b側の水を浴槽U1内へ供給する搬送機構である。返送循環路16bには、内部熱交換器42の第2伝熱管42bが接続され、該第2伝熱管42bの下流側に第3開閉弁49が設けられている。上記内部熱交換器42は、第1伝熱管42aを流れる水と、第2伝熱管42bを流れる水とを熱交換させている。給湯ユニット40では、返送循環路16bを流れる水と比較すると、第2循環流路14を流れる水の温度の方が高くなる。このため、内部熱交換器42では、第1伝熱管42aを流れる水の熱が、第2伝熱管42bを流れる水へ付与される。つまり、第2伝熱管42bは、第3循環流路16を流れる水を加熱する加熱部を構成している。一方、上記給湯タンク41には、3つの温度センサSe1~Se3が設けられている。該温度センサSe1~Se3は、給湯タンク41に貯留された水液体の温度水温を検出する温度検出部を構成している。そして、第1温度センサSe1は、給湯タンク41の下部に設けられ、給湯タンク41の下部の水温を検出している。第2温度センサSe2は、給湯タンク41の中央部に設けられ、給湯タンク41の中央部の水温を検出している。第3温度センサSe3は、給湯タンク41の上部に設けられ、給湯タンク41の上部の水温を検出している。水浄化ユニットの詳細構造上記給湯タンク41には、放電ユニット62及び超音波発生部94が設けられている。つまり、上記給湯タンク41と放電ユニット62と超音波発生部94によって液浄化装置である水浄化ユニット60が構成されている。上記水浄化ユニット60は、貯留タンク41の貯留水の水中で放電と超音波照射を行って水中に水酸ラジカル及び過酸化水素等の浄化成分を生成し、この浄化成分によって貯留水の浄化を行うものである。上記水浄化ユニット60は、図2に示すように、貯留タンク41における内部の底部に高電圧発生部70を含む放電ユニット62と、超音波発生部94とが設けられて構成されている。さらに、水浄化ユニット60は、高電圧発生部に接続された放電波形発生部3と、電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部と、増幅器9を介して超音波発生部94に所定の周波数の交流電圧を供給する超音波波形発生部8と、超音波波形発生部8を介して超音波発生部94の動作を制御する制御部5と、貯留タンク41内の液体の過酸化水素濃度をモニタするセンサ7とを備えている。なお、図示しないが、センサ7のモニタ結果に基づいて制御部15を制御する中央演算装置CPUが設けられていてもよい。制御部15による放電ユニット62及び超音波発生部94の制御方法については、後に説明する。なお、後述のいわゆるフィードフォワード制御を行う場合、センサ7は必ずしも設けられなくてもよい。上記放電ユニット62は、電極A64及び電極B65とからなる電極対64,65と、この電極対64,65に電圧を印加する高電圧発生部70と、電極A64を内部に収容する絶縁ケーシング71とを備えている。上記電極対64,65は、水中で放電を生起するためのものである。上記電極A64は、絶縁ケーシング71の内部に配置されている。電極A64は、上下に扁平な板状に形成されている。電極A64は、高電圧発生部70に接続されている。上記電極A64は、例えば、ステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。上記電極B65は、絶縁ケーシング71の外部に配置されている。上記電極B65は、電極A64の上方に設けられている。電極B65は、上下に扁平な板状であって、且つ上下に複数の貫通孔66を有するメッシュ形状ないしパンチングメタル形状に構成されている。電極B65は、電極A64と略平行に配設されている。電極B65は、高電圧発生部70に接続されている。電極B65は、例えば、ステンレス、真鍮等の導電性の金属材料で構成されている。上記高電圧発生部70は、例えば電極対64,65に所定の電圧を印加する電源で構成されていてもよい。即ち、高電圧発生部70は、電極対64,65に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源ではなく、電極対64,65に対して常に数キロボルトの電圧を印加する電源であってもよい。また、高電圧発生部70には、電極対64,65の放電電力を一定に制御する定電力制御部が設けられている図示省略。上記絶縁ケーシング71は、貯留タンク41の底部に設置されている。絶縁ケーシング71は、例えば、セラミックス等の絶縁材料で構成されている。絶縁ケーシング71は、一面上面が開放された容器状のケース本体72と、該ケース本体72の上方の開放部を閉塞する板状の蓋部73とを有している。上記ケース本体72は、角型筒状の側壁部72aと、該側壁部72aの底面を閉塞する底部72bとを有している。電極A64は、底部72bの上側に敷設されている。絶縁ケーシング71では、蓋部73と底部72bとの間の上下方向の距離が、電極A64の厚さよりも長くなっている。つまり、電極A64と蓋部73との間には、所定の間隔が確保されている。これにより、絶縁ケーシング71の内部では、電極A64とケース本体72と蓋部73との間に空間Sが形成される。上記絶縁ケーシング71の蓋部73には、図2及び図3に示すように、該蓋部73を厚さ方向に貫通する1つの開口74が形成されている。この開口74により、電極A64と電極B65との間の電界の形成が許容されている。蓋部73の開口74の内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口74は、電極対64,65の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。以上のように、絶縁ケーシング71は、電極対64,65のうちの一方の電極電極A64のみを内部に収容し、且つ電流密度集中部としての開口74を有する絶縁部材を構成している。加えて、絶縁ケーシング71の開口74内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡Bが形成される。つまり、絶縁ケーシング71の開口74は、該開口74に気相部としての気泡Bを形成する気相形成部として機能する。超音波発生部94は、板状の圧電セラミックス95と、間に圧電セラミックス95を挟むように設けられた一対の金属板96a96bとで構成される。超音波発生部94を封入するケース97は密閉され、貯留タンク41の底部に配置されている。超音波発生部94は、電極対6465よりも、貯留タンク41の給水口に近い位置言い換えれば、注水口から遠い位置に配置される。金属板96a96bには、増幅器9によって増幅された超音波波形発生部8の出力信号交流電圧が供給される。これにより、超音波発生部94は任意の周波数の超音波を貯留タンク41内の液体に照射する。なお、超音波発生部94は、貯留タンク41内の液体に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてもよい。例えば、図4aに示すように、超音波発生部94が貯留タンク41の底部外側に設置されていてもよく、貯留タンク41の内部において、電極対6465よりも注水口に近い位置に設置されていてもよい。超音波発生部94が貯留タンク41の底部外側に設置されている場合、超音波は貯留タンク41の壁面を介して液体に伝達される。また、超音波発生部94の構成は、図2に示す例に限られない。例えば、図4bに示すように、金属ケース97aの上部と金属板96とで板状の圧電セラミックス95を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよい。一方、上記放電ユニット62には、コントローラ80が接続されている。該コントローラ80は、3つの温度センサSe1~Se3が接続されると共に、運転制御部81が設けられている。該運転制御部81は、温度センサSe1~Se3が検出した水温にしたがって上記放電ユニット62の浄化運転を制御している。つまり、上記運転制御部81は、温度センサSe1~Se3が検出した水温にしたがって上記放電ユニット62の放電時間を制御している。具体的に、上記運転制御部81は、水温が高くなるにしたがって上記放電ユニット62の放電時間を短くするように構成されている。また、上記運転制御部81は、3つの温度センサSe1~Se3が検出した水温のうち、最も低い温度にしたがって上記放電ユニット62の放電時間を制御している。そこで、水温にしたがって放電時間を制御する基本的原理について説明する。先ず、上記水浄化ユニット60の除菌能力は、水温にしたがって変化する。水浄化ユニット60の過酸化水素の濃度を一定とし、水温を変化させた場合、水温が上昇するにしたがって90除菌運転時間が短くなる。つまり、過酸化水素濃度が一定である水浄化ユニット60の除菌能力は、水温が上昇するにしたがって高くなる。また、水浄化ユニット60の過酸化水素の発生量は、水温が上昇するにしたがって高くなる。そこで、本実施形態では、上述したように、上記運転制御部81は、水温が高くなるにしたがって上記放電ユニット62の放電時間を短くする。そして、上記運転制御部81は、図示しないが、水温決定部と放電時間算出部と放電実行部とを備えている。上記水温決定部は、3つの温度センサSe1~Se3が検出した水温のうち、最も低い温度を選択し、最も低い温度を給湯タンク41の水温と決定する。上記放電時間算出部は、過酸化水素の濃度を一定した場合の除菌能力と水温との関係及び過酸化水素の発生量と水温との関係を示すデータを予め記憶し、水温決定部が決定した水温に基づき放電時間を算出する。上記放電実行部は、放電時間算出部が算出した放電時間が経過するまで放電ユニット62の放電を実行し、放電時間が経過すると放電ユニット62の放電を停止する。なお、図2では、コントローラ80は高電圧発生部70に接続されており、運転制御部81は高電圧発生部70の電極対6465に対する電圧の印可をオン又はオフ制御するが、放電ユニット62の放電時間を制御できれば、これに限られない。例えばコントローラ80が制御部1等に接続されて、運転制御部81は制御部1を介して高電圧発生部70の電極対6465に対する電圧の印可をオン又はオフ制御をしてもよい。また、制御部1がコントローラ80を含んでもよい。-給湯システムの運転動作-次に、上記給湯システム10の基本的な運転動作について図1を参照しながら説明する。この給湯システム10は、浴槽内へ温水を供給する給湯運転と、浴槽内の水を循環させながら加熱する追い炊き運転とが行われる。給湯運転給湯運転では、熱源ユニット30の圧縮機31が運転され、冷媒回路11で冷凍サイクルが行われる。給湯ユニット40では、第1ポンプ43及び第3ポンプ45が運転され、第2ポンプ44及び第4ポンプ48が停止状態となる。また、第1開閉弁46、第2開閉弁47が開放状態となり、第3開閉弁49は閉鎖状態となる。上記第1ポンプ43を運転すると、給湯タンク41内の水が第1循環流路13へ流出する。この水は、加熱熱交換器32の二次側伝熱部32bを流れる。加熱熱交換器32では、一次側伝熱部32aを流れる冷媒の熱が、二次側伝熱部32bを流れる水へ放出され、この水が所定温度まで加熱される。加熱された水は、第1循環流路13を経由して給湯タンク41内に流入する。これにより、給湯タンク41内部には、所定温度の温水が蓄えられる。第3ポンプ45を運転すると、給湯タンク41内の水温水は、主供給路17に流出し、第1分岐路18と第2分岐路19とに分流する。第1分岐路18を流れた水は、第3循環流路16の供給循環路16aに流入する。この水は、供給循環路16aを通過した後、浴槽U1内へ放出される。これにより、浴槽U1内に所定温度の温水が供給される。一方、第2分岐路19を流れた水は、シャワーU2側に供給される。追い炊き運転追い炊き運転では、熱源ユニット30の圧縮機31が運転され、冷媒回路11で冷凍サイクルが行われる。給湯ユニット40では、第1ポンプ43、第2ポンプ44、及び第4ポンプ48が運転される。また、第1開閉弁46が閉鎖状態となり、第2開閉弁47及び第3開閉弁49が開放状態となる。上記第1ポンプ43を運転すると、給湯タンク41内の水が第1循環流路13を流れる。これにより、第1循環流路13の水は、加熱熱交換器32で加熱されて給湯タンク41へ返送される。上記第2ポンプ44を運転すると、給湯タンク41内の水は、第2循環流路14へ流出する。この水は、内部熱交換器42の第1伝熱管42aを流れる。内部熱交換器42では、第1伝熱管42aを流れる水の熱が、第2伝熱管42bを流れる水へ放出される。第1伝熱管42aで放熱した水は、第2循環流路14を経由して給湯タンク41内に流入する。上記第4ポンプ48を運転すると、浴槽U1の水は第3循環流路16の返送循環路16bへ吸い込まれる。返送循環路16bを流れた水は、内部熱交換器42で加熱された後、浴槽U1へ供給される。これにより、浴槽U1内の水の温度が徐々に高くなる。-水浄化ユニットの運転動作-本実施形態の給湯システム10では、水浄化ユニット60を運転して給湯タンク41の貯留水の浄化が行われる。図5は、本実施形態の液浄化ユニット60による液体処理の基本サイクルを示す図である。同図に示すように、貯留タンク41内に溜められた水等の液体は、まず、電極対6465間に生起される放電によって浄化される。この際には、放電によって液体中に水酸ラジカル等の活性種が生成し、有機物等の分解や殺菌などが行われる図5中のステップSt1、St2。水酸ラジカルは短時間で過酸化水素に変化するステップSt3。次に、超音波発生部94から液体へと任意の周波数の超音波を伝搬させ、液体中の過酸化水素を分解し、水酸ラジカルに変化させるステップSt4。ただし、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数が、100kHz以上程度であれば特に好ましい。超音波照射により発生した水酸ラジカルは、再度過酸化水素に変化する。ただし、除菌等、液体の浄化反応に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は低下してゆくことになる。なお、上記の液体浄化は、1回ごとに貯留タンク41内の液体を全て入れ替える、いわゆるバッチ処理によって行ってもよい。あるいは、貯留タンク41への注水と貯留タンク41からの液体の流出を連続的に行う連続処理によって浄化を行ってもよい。まず、放電ユニット62の運転動作について説明する。上記水浄化ユニット60の運転の開始時には、図2に示すように、絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。高電圧発生部70から電極対64,65に所定の電圧例えば1kVが印加されると、電極対64,65の間に電界が形成される。電極A64の周囲は、絶縁ケーシング71で覆われている。このため、電極対64,65の間での漏れ電流が抑制されるとともに、開口74内の電流経路の電流密度が上昇した状態となる。上記開口74内の電流密度が上昇すると、開口74内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング71では、開口74の近傍において、水の気化が促進されて気泡Bが形成される。この気泡Bは、図6に示すように、開口74のほぼ全域を覆う状態となり、電極B65側の水と、電極A64との間に気泡Bが介在する。従って、この状態では、気泡Bが、電極A64と電極B65との間での水を介した導電を阻止する抵抗として機能する。これにより、電極A64と電極B65との間の漏れ電流が抑制され、電極対64,65間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡B内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。以上のようにして、気泡Bで放電が行われると、給湯タンク41内の水中では、水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素等が生成される。水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素は、放電に伴う熱によって給湯タンク41内を対流する。これにより、水中での活性種や過酸化水素の拡散が促される。また、気泡Bで放電が行われると、この放電に伴ってこの気泡Bでイオン風を生成し易くなる。よって、給湯タンク41内では、このイオン風を利用して、活性種や過酸化水素の拡散効果を更に向上できる。また、上述したように、給湯タンク41には、第1循環流路13に銅配管を用いると、銅イオンが供給される。過酸化水素と銅イオンの存在下では、フェントン反応により、銅イオンが触媒的に作用して水酸ラジカルの生成が促進される。これにより、水酸ラジカルによる水の浄化効率が向上する。加えて、銅イオンは菌の繁殖を抑制する効果があるため、水中での殺菌作用も高くなる。以上のようにして、水中に拡散した水酸ラジカル等の活性種は、水中に含まれる被処理成分例えばアンモニア等を酸化分解して水の浄化に利用される。また、水中に拡散した過酸化水素は、水の殺菌に利用される。これにより、本実施形態の給湯システム10では、浴槽U1内の清浄度が保たれる。次に、上記放電ユニット62の放電時間の制御について説明する。先ず、上記コントローラ80には、3つの温度センサSe1~Se3が検出した水温データの入力されている。この水温データに基づきコントローラ80が図7に示すように放電ユニット62を制御する。上記放電ユニット62による除菌運転が開始されると、ステップS1において、水温センサが給湯タンク41の水温を検出する。そして、ステップS2において、水温決定部が、3つの温度センサSe1~Se3が検出した水温のうち、最も低い温度を選択し、最も低い温度を給湯タンク41の水温と決定する。続いて、ステップS3において、放電時間算出部は、過酸化水素の濃度を一定した場合の除菌能力と水温との関係及び過酸化水素の発生量と水温との関係を示すデータを予め記憶し、水温決定部が決定した水温に基づき放電時間を算出する。その後、ステップS4において、放電実行部は、放電時間算出部が算出した放電時間が経過するまで放電ユニット62の放電を実行し、放電時間が経過すると放電ユニット62の放電を停止し、除菌運転を終了する。このようにすると、水温にしたがって放電ユニット62の浄化運転を制御するようにしたために、信頼性の高い浄化を行うことができると共に、省エネルギ化を図ることができる。本実施形態では、コントローラ80は、放電ユニット62の放電時間を制御しているが、コントローラ80は、放電ユニット62だけでなく、超音波発生部94の貯留液に対する超音波照射のオン又はオフを制御するように、例えば超音波発生部94等に接続されていてもよい。このようにすると、水温にしたがって、超音波発生部94の超音波照射時間を制御できる。例えば、水温が低い際に、放電ユニット62の放電時間を長くするのと共に、超音波発生部94の超音波照射時間を長くすることにより、効果的に水酸ラジカルを生成することができる。次に、放電と超音波処理を組み合わせた液浄化装置の運転制御の具体例について説明する。図8は、液体中の過酸化水素の濃度を用いてフィードバック制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。以下の方法では、液体中の過酸化水素はセンサ7によって検知される。この方法において、まず貯留タンク41内に液体が溜まった状態で運転を開始する。制御部1は、電極対間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部94はオフ状態にしておく。これにより、液体が浄化されるとともに、液体中の過酸化水素の濃度が上昇する。次いで、液体の過酸化水素濃度があらかじめ設定された下限値を超えた場合、制御部1は電極対6465への電圧供給を継続させ、制御部は、超音波発生部94をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって液体が浄化される。放電によって生成される過酸化水素の量は超音波によって分解される過酸化水素の量よりも多いので、この期間中も液中の過酸化水素の濃度は上昇する。次に、液体の過酸化水素濃度があらかじめ設定された上限値を超えた場合、制御部1は電極対6465への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部5は、引き続き超音波発生部94をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって液体が浄化される。この期間中、超音波によって過酸化水素が分解されるので、液中の過酸化水素の濃度は減少する。次いで、液体の過酸化水素濃度が上述の下限値を下回った時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を再開する。これにより、液中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間と超音波照射と放電とを組み合わせる期間とを繰り返すことで、液体の過酸化水素濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、液体を浄化する。-実施形態1の効果-以上のように、本実施形態1によれば、水温にしたがって放電ユニット62の浄化運転を制御するようにしたために、信頼性の高い浄化を行うことができると共に、省エネルギ化を図ることができる。つまり、水温が高い場合には放電ユニット62による除菌能力が高いので、浄化運転を短くすることができることから、過剰な除菌運転を防止することができると共に、運転時間の短縮による省エネルギ化を図ることができる。また逆に、水温が低い場合には放電ユニット62による除菌能力が低いので、浄化運転を長くすることができることから、除菌運転の不足を防止することができる。また、上記放電ユニット62に3つの温度センサSe1~Se3を設け、この3つの温度センサSe1~Se3が検出した水温のうち、最も低い温度を選択し、最も低い温度を給湯タンク41の水温と決定するので、除菌運転の不足及び過剰を確実に防止することができる。さらに、本実施形態1によれば、制御部1は、動作開始後に液体の過酸化水素濃度が上限値に達するまでは放電を生起させて水酸ラジカルを発生させ、液体を浄化することができる。また、制御部5は、液体の過酸化水素濃度が所定の下限値を超える期間中に超音波発生部94をオン状態にする、言い換えれば、過酸化水素濃度が所定の下限値を下回る期間中には超音波発生部94をオフ状態にする。つまり、液中に十分な過酸化水素が存在する場合に超音波によって水酸ラジカルを発生させているので、液体を効果的に浄化することができる。さらに、十分な濃度の過酸化水素の存在下で超音波を継続的に照射することで、継続的に水酸ラジカルを生成することができるので、強い浄化能力を所定の期間中維持することができる。さらに、上述の方法によれば、貯留タンク41から供給される液体中の過酸化水素の濃度を上限値以下に抑えることができるので、過酸化水素を除去するための工程を容易にすることができる。本実施形態の液浄化装置によれば、上述のように、液中での放電と、液体への超音波照射とを組み合わせることで、液体の過酸化水素濃度を上昇させずに浄化能力の向上とを併せて図ることが可能になる。なお、液体を連続処理する場合には、超音波発生部94を電極対6465よりも給水口側に配置することにより、放電によって生じた過酸化水素から超音波照射により効果的に水酸ラジカルを発生させることができる。また、図2では、電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部1と、超音波発生部94の動作を制御する制御部5とを別個に設けたが、1つの制御部で電極対6465に印加する電圧のオン又はオフと超音波発生部94の動作とを制御することもできる。なお、本実施形態の液浄化装置では、放電及び超音波照射によって生じる水酸ラジカルによって、液体の浄化処理と同時に貯留タンク41内に繁殖する細菌等を効果的に殺菌することもできる。実施形態1の変形例上記実施形態1は、絶縁ケーシング71の蓋部73に1つの開口74が形成されている。しかしながら、例えば、図9及び図10に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。なお、図9では、図の簡略化のために、実施形態1と異なる部分である電極B65及び蓋部73等を示し、超音波発生部94及び高電圧発生部70等の実施形態1と同一である部分については省略している。この変形例では、絶縁ケーシング71の蓋部73が、略正方形板状に形成され、この蓋部73に複数の開口74が等間隔を置きながら碁盤目状に配列されている。一方、電極A64及び電極B65は、全ての開口74に跨るような正方形板状に形成されている。この変形例においても、各開口74が、電流密度集中部、及び気相形成部として機能する。これにより、高電圧発生部70から電極対64,65に電圧が印加されると、各開口74の電流密度が上昇し、各開口74で気泡Bが形成される。その結果、各気泡Bでそれぞれ放電が生起され、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素が生成される。発明の実施形態2実施形態2の給湯システム10は、上述した実施形態1と放電ユニット62の構成が異なるものである。以下には、上記実施形態1と異なる点を主として説明する。なお、図11及び図12では、図の簡略化のために、実施形態1と異なる部分について示し、超音波発生部94及び高電圧発生部70等の実施形態1と同一である部分については省略している。図11に示すように、実施形態2の放電ユニット62は、給湯タンク41の外側から内部に向かって挿入されて固定される、いわゆるフランジユニット式に構成されている。また、実施形態2の放電ユニット62は、電極A64と電極B65と絶縁ケーシング71とが一体的に組立てられている。上記絶縁ケーシング71は、大略の外形が円筒状に形成されている。絶縁ケーシング71は、ケース本体72と蓋部73とを有している。上記ケース本体72は、ガラス質又は樹脂製の絶縁材料で構成されている。ケース本体72は、円筒状の基部76と、該基部76から給湯タンク41側に向かって突出する筒状壁部77と、該筒状壁部77の外縁部から更に給湯タンク41側に向かって突出する環状凸部78とを有している。また、ケース本体72には、環状凸部78の先端側に先端筒部79が一体に形成されている。基部76の軸心部には、円柱状の挿入口76aが軸方向に延びて貫通形成されている。筒状壁部77の内側には、挿入口76aと同軸となり、且つ挿入口76aよりも大径となる円柱状の空間Sが形成されている。上記蓋部73は、略円板状に形成されて環状凸部78の内側に嵌合している。蓋部73は、セラミックス材料で構成されている。蓋部73の軸心には、実施形態1と同様、蓋部73を上下に貫通する円形状の1つの開口74が形成されている。上記電極A64は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極で構成されている。電極A64は、基部76の挿入口76aに嵌合している。これにより、電極A64は、絶縁ケーシング71の内部に収容されている。実施形態2では、電極A64のうち給湯タンク41とは反対側の端部が、給湯タンク41の外部に露出される状態となる。このため、給湯タンク41の外部に配置される電源部70と、電極A64とを電気配線によって容易に接続することができる。上記電極A64のうち給湯タンク41側の端部64aは、絶縁ケーシング71の内部の空間Sに臨んでいる。なお、図11に示す例では、上記電極A64の端部64aが、挿入口76aの開口面よりも上側給湯タンク41側に突出しているが、この端部64aの先端面を挿入口76aの開口面と略面一としてもよいし、端部64aを挿入口76aの開口面よりも下側に陥没させてもよい。また、電極A64は、実施形態1と同様、開口74を有する蓋部73との間に所定の間隔が確保されている。上記電極B65は、円筒状の電極本体65aと、該電極本体65aから径方向外方へ突出する鍔部65bとを有している。電極本体65aは、絶縁ケーシング71のケース本体72に外嵌している。鍔部65bは、給湯タンク41の壁部に固定されて放電ユニット62を保持する固定部を構成している。放電ユニット62が給湯タンク41に固定された状態では、電極B65の電極本体65aの一部が浸水された状態となる。上記電極B65は、電極本体65aよりも小径の内側筒部65cと、該内側筒部65cと電極本体65aとの間に亘って形成される連接部65dとを有している。内側筒部65c及び連接部65dは、給湯タンク41内の水中に浸漬している。内側筒部65cは、その内部に円柱空間67を形成している。内側筒部65cの軸方向の一端は、蓋部73と当接して該蓋部73を保持する保持部を構成している。また、電極本体65aと内側筒部65cと連接部65dの間には、ケース本体72の先端筒部79が内嵌している。内側筒部65cの軸方向の他端側には、円柱空間67を覆うようにメッシュ状の漏電防止材68が設けられている。この漏電防止材68は、電極B65と接触することで、実質的にアースされている。これにより、漏電防止材68は、給湯タンク41の内部の空間水中のうち、円柱空間67の内側から外側への漏電を防止している。上記電極B65は、電極本体65aの一部が給湯タンク41の外部に露出される状態となる。このため、高電圧発生部70と電極B65とを電気配線によって容易に接続することができる。その他、超音波発生部94及び運転制御部81などの構成は、実施形態1と同様である。-水浄化ユニットの運転動作-実施形態2の給湯システム10においても、水浄化ユニット60が運転されることで、水流路12を流れる水の浄化がなされる。水浄化ユニット60の運転の開始時には、図11に示すように、絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。電源部70から電極対64,65に所定の電圧例えば1kVが印加されると、開口74の内部の電流密度が上昇していく。図11に示す状態から、電極対64,65へ更に電圧が継続して印加されると、開口74内の水が気化されて気泡Bが形成される図12を参照。この状態では、気泡Bが開口74のほぼ全域を覆う状態となり、円柱空間67内の負極側の水と、電極A64との間に気泡Bによる抵抗が付与される。これにより、電極A64と電極B65との間の電位差が保たれ、気泡Bで放電が発生する。その結果、水中では、水酸ラジカルや過酸化水素を生成され、これらの成分が水の浄化に利用される。その他、超音波発生部94及び運転制御部81などの動作及び効果は、上記実施形態1と同様である。実施形態2の変形例上記実施形態2では、円板状の蓋部73の軸心に1つの開口74を形成しているが、この蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。図13に示す例では、蓋部73の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、5つの開口74が等間隔置きに配列されている。このように蓋部73に複数の開口74を形成することで、各開口74の近傍でそれぞれ放電を生起させることができる。発明の実施形態3以下、本発明の実施形態3に係る液浄化装置の運転動作について説明する。なお、本実施形態の液状化装置の構成は実施形態1と同様の構成である。図14は、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いてフィードフォワード制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。ここで用いられる液浄化装置には、必ずしもセンサ7が設けられていなくてもよい。ただし、放電のみを行った場合に貯留タンク41内の液体の過酸化水素濃度が0から下限値に達するまでに要する時間T1、放電と超音波照射とを同時に行った場合に液体の過酸化水素濃度が下限値から上限値になるまでに要する時間T2、超音波照射のみを行った場合に上限値から下限値に達するのに要する時間T3を、それぞれあらかじめ測定しておき、それらの測定データを制御部15内部又は外部に設けられたメモリ図示せずに記憶させておく。制御部15は測定データに基づいて以下の制御を行う。制御部15の内部又は外部には、時間をカウントするタイマを設けておく。本実施形態に係る方法において、まず制御部1は、電極対間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部94はオフ状態にしておく。これにより、液体が浄化されるとともに、液体中の過酸化水素の濃度が上昇する。次いで、運転開始から時間T1が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を継続させ、制御部は、超音波発生部94をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって液体が浄化される。この期間中も液中の過酸化水素の濃度は上昇する。次に、時間T2が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部5は、引き続き超音波発生部94をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって液体が浄化される。この期間中、液中の過酸化水素の濃度は減少する。次いで、さらに時間T3が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を再開し、この状態を時間T2の間継続する。これにより、液中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間時間T3と超音波照射と放電とを組み合わせる期間時間T2とを繰り返すことで、液体の過酸化水素濃度を下限値以上且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、液体を浄化する。以上の方法によっても液体中の過酸化水素の濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、液体を浄化することができる。なお、これは運転動作の一実施形態であって、他の方法によっても液体の浄化を行うことができる。発明の実施形態4図15は、本発明の実施形態4における液浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態1に係る液浄化装置と同様の構成については同一の符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図15では図示を省略しているが、実際には本実施形態の液浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態1に係る液浄化装置と異なる点について説明する。本実施形態の液浄化装置は、貯留タンク41と、貯留タンク41内に配置された電極対64x65xと、電極対64x65xに接続された高電圧発生部電源部70aと、貯留タンク41の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。電極64xは絶縁ケーシング71aの内部に収納され、電極65xは絶縁ケーシング71bの内部に収納されている。電極64x及び電極65xは、それぞれ扁平な板状に形成されている。また、電極64x及び電極65xはステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。高電圧発生部70aは、数キロボルト程度の電圧を電極対64x65xに供給する。絶縁ケーシング71a71bは、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されており、図2に示す絶縁ケーシング71と同様の構成を有している。すなわち、絶縁ケーシング71aは、一面図15では右側の面が開放された容器状のケース本体180aと、該ケース本体180aの上記開放部を閉塞する板状の蓋部73aとを有している。また、絶縁ケーシング71bは、一面図15では左側の面が開放された容器状のケース本体180bと、該ケース本体180bの上記開放部を閉塞する板状の蓋部73bとを有している。絶縁ケーシング71aの蓋部73aには、該蓋部73aを厚さ方向に貫通する1つの開口74aが形成されている。絶縁ケーシング71bの蓋部73bにも、該蓋部73bを厚さ方向に貫通する1つの開口74bが形成されている。これらの開口74a74bにより、電極64xと電極65xとの間の電界の形成が許容されている。開口74a74bの内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口74a74bは、電極対64x65xの間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。絶縁ケーシング71a71bは、貯留タンク41内の互いに対向する側面に、蓋部73a73b同士が対向するように設置されている。言い換えれば、電極64xと電極65xとは互いに対向するよう配置されている。絶縁ケーシング71a71bの開口74a74b内では、電流経路の電流密度が上昇することで、液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。つまり、絶縁ケーシング71a71bの開口74a74bは、該開口74a74bに気相部としての気泡を形成する気相形成部として機能する。この構成により、電圧が電極対64x65xに供給された場合に電極対64x65x間の気泡内に放電を生起させることができる。なお、超音波発生部94の具体的な構成は実施形態1に係る液浄化装置と同様である。本実施形態の液浄化装置を、図8又は図14に示す方法で運転することにより、液中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、貯留タンク41内の液体を効果的に浄化することができる。発明の実施形態5図16は、本発明の実施形態5における液浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態1に係る液浄化装置と同様の構成については同一の符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図16では図示を省略しているが、実際には本実施形態の液浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態1に係る液浄化装置と異なる点について説明する。本実施形態の液浄化装置は、貯留タンク41と、貯留タンク41内に配置された電極対6465と、電極対6465に接続された高電圧発生部電源部70bと、貯留タンク41の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。本実施形態の液浄化装置においては、電極A64及び電極B65がそれぞれ高電圧発生部70bの正極側及び負極側にそれぞれ接続され、高電圧発生部70bから電極対6465に高電圧のパルス電圧が供給される点が実施形態1に係る液浄化装置と異なっている。また、電極A64を囲む絶縁ケーシングは設けられない。電極A64及び電極B65は共に板状であり、貯留タンク41内の側面に、互いに対向するように設置される。さらに、液浄化装置には、例えば貯留タンク41の底部など、少なくとも電極対6465の間であって、電極対6465よりも低い位置に設けられたノズル吐出手段119と、ノズル119に空気等の気体を送るエアポンプ送出手段99とが設けられている。エアポンプ99によって貯留タンク41内の気体は、ノズル119を介して循環される。ただし、エアポンプ99によって貯留タンク41内に外部から気体を供給してもよい。超音波発生部94の構成は実施形態1に係る液浄化装置と同様であり、貯留タンク41の底部に設置されていてもよいが、貯留タンク41内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。少なくとも放電処理を行う期間中、ノズル119から液体中へと泡が吐出される。液中に泡が存在する状態で電極対6465にパルス電圧を供給することにより、泡の内部で放電が生起され、水酸ラジカルが生成する。本実施形態の液浄化装置では、実施形態1に係る液浄化装置と基本的に同じ方法、すなわち図8又は図14に示す方法で、放電と超音波照射とを組み合わせた液体浄化が行われる。ただし、図8又は図14に示す放電処理の期間中は、高電圧発生部70bから電極対6465へとパルス電圧が間欠的に供給され、電極対6465間に間欠的に放電が生起される。以上の構成及び方法によれば、電極対6465間にパルス放電を発生させる場合でも、効率良く水酸ラジカルを発生させることができるので、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。発明の実施形態6図17は、本発明の実施形態6における液浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態1、実施形態4に係る液浄化装置と同様の構成については同一の符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図17では図示を省略しているが、実際には本実施形態の液浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態4に係る液浄化装置と異なる点について説明する。本実施形態の液浄化装置は、貯留タンク41と、貯留タンク41内に配置された電極対64y65yと、電極対64y65yに接続された高電圧発生部電源部70cと、貯留タンク41の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。電極64yと電極65yとは、それぞれ貯留タンク41内の側面に、互いに対向するように設置されている。電極64yは、少なくとも1つの導電部164と、導電部164を囲む絶縁部165とを有している。電極65yは、少なくとも1つの導電部166と、導電部166を囲む絶縁部167とを有している以上のように、電極64yにおける導電部164の露出面、及び電極65yにおける導電部166の露出面の面積は小さいので、電圧を電極対64y65yに供給した場合には導電部164166の表面で電流密度の集中部が形成される。そのため、導電部164166の表面では液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。この泡によって導電部164166の露出面が覆われた状態で高電圧発生部70cからの電圧供給を継続することにより、泡の内部で放電が生起される。なお、超音波発生部94の具体的な構成は実施形態1に係る液浄化装置と同様である。本実施形態の液浄化装置を、図8又は図14に示す方法で運転することにより、液中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、貯留タンク41内の液体を効果的に浄化することができる。以上の構成によっても、電極対64y65y間での放電と、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。その他の実施形態本発明は、上記各実施形態について、以下のような構成としてもよい。上記各実施形態において、運転制御部81は、放電ユニット62の放電時間を制御するように構成した。しかしながら、上記運転制御部81は、上記放電ユニット62の電極対64,65に供給する電力を制御するように構成してもよい。つまり、上記運転制御部81は、貯留液の温度が高くなるにしたがって上記放電ユニット62の電極対64,65に供給する電力を低下するように構成してもよい。例えば、上記運転制御部81は、水温決定部と、実施形態1の放電時間算出部に代わる電力算出部と、放電実行部とを備えている。上記水温決定部は、例えば、3つの温度センサSe1~Se3が検出した水温のうち、最も低い温度を選択し、最も低い温度を給湯タンク41の水温と決定する。上記電力算出部は、過酸化水素の濃度を一定した場合の除菌能力と水温との関係及び過酸化水素の発生量と水温との関係を示すデータを予め記憶し、水温決定部が決定した水温に基づき電極対64,65に供給する電力、例えば、供給電流または印加電圧を算出する。上記放電実行部は、電力算出部が算出した電流値または電圧値に放電ユニット62を制御する。この結果、水温が高い場合には放電ユニット62による除菌能力が高いので、放電ユニット62の供給電力を低下することができることから、過剰な除菌運転を防止することができると共に、供給電力の低下による省エネルギ化を図ることができる。また逆に、水温が低い場合には放電ユニット62による除菌能力が低いので、放電ユニット62の供給電力を増大することができることから、除菌運転の不足を防止することができる。その他の構成、作用及び効果は実施形態1と同じである。また、上記各実施形態は、放電ユニット62を備えた給湯システム10について説明したが、本発明が浄化する液体は、給湯水に限られず、水耕栽培の水は各種の溶液であってもよいことは勿論である。また、温度検出部は、3つの温度センサSe1~Se3に限られず、1つの温度センサであってもよく、さらに、3つ以上の温度センサであってもよい。尚、以上の実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。"