矩形の基板にプラズマ処理を施す基板処理装置の処理室内で前記基板を載置する載置台の矩形の載置面の周囲を囲むように設けられたシールド部材の構成部品であって、前記矩形の載置面の一辺に沿って配置される絶縁性の長尺状物からなり、該長尺状物の長さ方向の一端に設けられた固定部と、該固定部とは前記長尺状物の長さ方向に離間して設けられた少なくとも1つのガイド部とを有することを特徴とするシールド部材の構成部品。前記固定部としての固定用のねじ孔によって一端が前記載置台の基材に固定され、他端が前記少なくとも1つのガイド部としての支持用のねじ孔によって変位自在に支持され、前記固定された一端を起点にして前記長尺状物の長さ方向に沿って熱膨張又は熱収縮可能であることを特徴とする請求項1記載のシールド部材の構成部品。前記固定用のねじ孔は、該固定用のねじ孔のある平面上において真円状であり、前記支持用のねじ孔は、該支持用のねじ孔のある平面上において前記長尺状物の長さ方向に長い楕円形若しくは両端が半円である矩形であることを特徴とする請求項2記載のシールド部材の構成部品。前記矩形の載置面の角部はそれぞれアール面による面取り処理が施されており、前記長尺状物の一端の側面に前記面取りされた前記載置面の角部に当接するアール面を有する突起部が設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のシールド部材の構成部品。前記矩形の載置面の角部はそれぞれ平面による面取り処理が施されており、前記長尺状物の一端の側面に前記面取りされた前記載置面の角部に当接する平面を有する突起部が設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のシールド部材の構成部品。前記長尺状物における前記矩形の載置面に対向する側面は、突起部を有さない平面であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のシールド部材の構成部品。前記長尺状物は、他の長尺状物と組み合わせてシールド部材を形成する際に段差構造の嵌め合い部を形成するための突出部を有することを特徴とする請求項1乃至6いずれか1項に記載のシールド部材の構成部品。矩形の基板にプラズマ処理を施す基板処理装置の処理室内で前記基板を載置する載置台の矩形の載置面の周囲を囲むように配置されるシールド部材であって、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の構成部品の組合せ体からなり、前記各構成部品の長さ方向の一端の端面が、隣接する他の構成部品の長さ方向の一端の側面に当接し、他端の側面が、前記隣接する他の構成部品とは異なる隣接する別の構成部品の長さ方向の一端の端面に当接するようにそれぞれ組合せられ、前記各構成部品の長さ方向の一端が前記固定部によって前記載置台の基材に固定され、他端が前記少なくとも1つのガイド部によって変位自在に支持され、前記各構成部品が、前記固定された一端を起点にして前記長尺状物の長さ方向に沿って熱膨張又は熱収縮可能に配列されていることを特徴とするシールド部材。前記固定部としての固定用のねじ孔に装着される固定ねじの締め付けトルクを、前記ガイド部としての支持用のねじ孔に装着される支持ねじの締め付けトルクよりも大きくしたことを特徴とする請求項8記載のシールド部材。前記各構成部品の長さ方向の一端の端面と、前記隣接する他の構成部品の長さ方向の一端の側面との当接部に、前記基板載置面に対して垂直方向及び水平方向からのプラズマの進入を阻止する段差構造の嵌め合い部が形成されていることを特徴とする請求項8又は9記載のシールド部材。前記段差構造の一部は、前記各構成部品の一端の端面と、前記隣接する他の構成部品の前記一端の側面との当接部に形成された凹部に遊嵌される入れ子部材で構成されていることを特徴とする請求項10記載のシールド部材。前記凹部と前記入れ子部材との間に、前記各構成部品の長さ方向に沿った熱膨張又は熱収縮に起因する変位を吸収する隙間が設けられていることを特徴とする請求項11記載のシールド部材。前記凹部における前記入れ子部材の挿入口は、サイドシールド部材で封止することによって前記凹部内へのプラズマの進入が阻止されていることを特徴とする請求項12記載のシールド部材。前記矩形の載置面の角部はそれぞれアール面による面取り処理が施されており、前記各構成部品の一端の側面に前記面取りされた前記載置面の角部に当接するアール面を有する突起部が設けられていることを特徴とする請求項8乃至13のいずれか1項に記載のシールド部材。前記矩形の載置面の角部はそれぞれ平面による面取り処理が施されており、前記各構成部品の一端の側面に前記面取りされた前記載置面の角部に当接する平面を有する突起部が設けられていることを特徴とする請求項8乃至13のいずれか1項に記載のシールド部材。前記矩形の載置面の角部はそれぞれアール面による面取り処理が施されており、各面取り面と、前記各構成部品の一端の端面及び隣接する他の構成部品の前記一端の側面の接合部との隙間を埋める前記構成部品とは独立したアール面を有する隙間嵌合部材を備えていることを特徴とする請求項8乃至13のいずれか1項に記載のシールド部材。前記矩形の載置面の角部はそれぞれ平面による面取り処理が施されており、各面取り面と、前記各構成部品の一端の端面及び隣接する他の構成部品の前記一端の側面の接合部との隙間を埋める前記構成部品とは独立した平面を有する三角柱状の隙間嵌合部材を備えていることを特徴とする請求項8乃至13のいずれか1項に記載のシールド部材。前記三角柱状の隙間嵌合部材の一端に、該三角柱状の隙間嵌合部材が前記載置面の各角部に形成された平面による面取り面と、前記各構成部品の一端の端面及び隣接する他の構成部品の前記一端の側面の接合部との隙間に嵌合された際、前記載置面の各角部の形状を、見かけ上前記載置面の角部をアール面によって面取りした際の形状と同様の形状にするためのアール面を備えた凸部が形成されていることを特徴とする請求項17記載のシールド部材。前記アール面を備えた凸部の端面は、前記載置面と同一平面上にあるか又は前記載置面よりも引っ込んでいることを特徴とする請求項18記載のシールド部材。請求項8乃至19のいずれか1項に記載のシールド部材を備えていることを特徴とする基板載置台。しかしながら、シールド部材を構成するリング構成部品に対して特定の方向に働く作用力を付与するための付勢部材を組み込むことは、必ずしも容易ではない。一方、熱膨張による変形を防止するために、リング構成部品を下部電極の基材に固定する固定ねじの締結力を大きくすると、下部電極基材への締結時又は熱膨張時においてリング構成部品が破損し易くなるという問題がある。本発明の課題は、熱膨張しても下部電極との間に隙間が発生せず、下部電極における異常放電及びエロージョンの発生を防止することができるシールド部材、その構成部品及びシールド部材を備えた基板載置台を提供することにある。上記課題を解決するために、請求項1記載のシールド部材の構成部品は、矩形の基板にプラズマ処理を施す基板処理装置の処理室内で前記基板を載置する載置台の矩形の載置面の周囲を囲むように設けられたシールド部材の構成部品であって、前記矩形の載置面の一辺に沿って配置される絶縁性の長尺状物からなり、該長尺状物の長さ方向の一端に設けられた固定部と、該固定部とは前記長尺状物の長さ方向に離間して設けられた少なくとも1つのガイド部とを有することを特徴とする。請求項2記載のシールド部材の構成部品は、請求項1記載のシールド部材の構成部品であって、前記固定部としての固定用のねじ孔によって一端が前記載置台の基材に固定され、他端が前記少なくとも1つのガイド部としての支持用のねじ孔によって変位自在に支持され、前記固定された一端を起点にして前記長尺状物の長さ方向に沿って熱膨張又は熱収縮可能であることを特徴とする。請求項3記載のシールド部材の構成部品は、請求項2記載のシールド部材の構成部品であって、前記固定用のねじ孔は、該固定用のねじ孔のある平面上において真円状であり、前記支持用のねじ孔は、該支持用のねじ孔のある平面上において前記長尺状物の長さ方向に長い楕円形若しくは両端が半円である矩形であることを特徴とする。請求項4記載のシールド部材の構成部品は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のシールド部材の構成部品であって、前記矩形の載置面の角部はそれぞれアール面による面取り処理が施されており、前記長尺状物の一端の側面に前記面取りされた前記載置面の角部に当接するアール面を有する突起部が設けられていることを特徴とする。請求項5記載のシールド部材の構成部品は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のシールド部材の構成部品であって、前記矩形の載置面の角部はそれぞれ平面による面取り処理が施されており、前記長尺状物の一端の側面に前記面取りされた前記載置面の角部に当接する平面を有する突起部が設けられていることを特徴とする。請求項6記載のシールド部材の構成部品は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のシールド部材の構成部品であって、前記長尺状物における前記矩形の載置面に対向する側面は、突起部を有さない平面であることを特徴とする。請求項7記載のシールド部材の構成部品は、請求項1乃至6いずれか1項に記載のシールド部材の構成部品であって、前記長尺状物は、他の長尺状物と組み合わせてシールド部材を形成する際に段差構造の嵌め合い部を形成するための突出部を有することを特徴とする。上記課題を解決するために、請求項8記載のシールド部材は、矩形の基板にプラズマ処理を施す基板処理装置の処理室内で前記基板を載置する載置台の矩形の載置面の周囲を囲むように配置されるシールド部材であって、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の構成部品の組合せ体からなり、前記各構成部品の長さ方向の一端の端面が、隣接する他の構成部品の長さ方向の一端の側面に当接し、他端の側面が、前記隣接する他の構成部品とは異なる隣接する別の構成部品の長さ方向の一端の端面に当接するようにそれぞれ組合せられ、前記各構成部品の長さ方向の一端が前記固定部によって前記載置台の基材に固定され、他端が前記少なくとも1つのガイド部によって変位自在に支持され、前記各構成部品が、前記固定された一端を起点にして前記長尺状物の長さ方向に沿って熱膨張又は熱収縮可能に配列されていることを特徴とする。請求項9記載のシールド部材は、請求項8記載のシールド部材であって、前記固定部としての固定用のねじ孔に装着される固定ねじの締め付けトルクを、前記ガイド部としての支持用のねじ孔に装着される支持ねじの締め付けトルクよりも大きくしたことを特徴とする。請求項10記載のシールド部材は、請求項8又は9記載のシールド部材であって、前記各構成部品の長さ方向の一端の端面と、前記隣接する他の構成部品の長さ方向の一端の側面との当接部に、前記基板載置面に対して垂直方向及び水平方向からのプラズマの進入を阻止する段差構造の嵌め合い部が形成されていることを特徴とする。請求項11記載のシールド部材は、請求項10記載のシールド部材であって、前記段差構造の一部は、前記各構成部品の一端の端面と、前記隣接する他の構成部品の前記一端の側面との当接部に形成された凹部に遊嵌される入れ子部材で構成されていることを特徴とする。請求項12記載のシールド部材は、請求項11記載のシールド部材であって、前記凹部と前記入れ子部材との間に、前記各構成部品の長さ方向に沿った熱膨張又は熱収縮に起因する変位を吸収する隙間が設けられていることを特徴とする。請求項13記載のシールド部材は、請求項12記載のシールド部材であって、前記凹部における前記入れ子部材の挿入口は、サイドシールド部材で封止することによって前記凹部内へのプラズマの進入が阻止されていることを特徴とする。請求項14記載のシールド部材は、請求項8乃至13のいずれか1項に記載のシールド部材であって、前記矩形の載置面の角部はそれぞれアール面による面取り処理が施されており、前記各構成部品の一端の側面に前記面取りされた前記載置面の角部に当接するアール面を有する突起部が設けられていることを特徴とする。請求項15記載のシールド部材は、請求項8乃至13のいずれか1項に記載のシールド部材であって、前記矩形の載置面の角部はそれぞれ平面による面取り処理が施されており、前記各構成部品の一端の側面に前記面取りされた前記載置面の角部に当接する平面を有する突起部が設けられていることを特徴とする。請求項16記載のシールド部材は、請求項8乃至13のいずれか1項に記載のシールド部材であって、前記矩形の載置面の角部はそれぞれアール面による面取り処理が施されており、各面取り面と、前記各構成部品の一端の端面及び隣接する他の構成部品の前記一端の側面の接合部との隙間を埋める前記構成部品とは独立したアール面を有する隙間嵌合部材を備えていることを特徴とする。請求項17記載のシールド部材は、請求項8乃至13のいずれか1項に記載のシールド部材であって、前記矩形の載置面の角部はそれぞれ平面による面取り処理が施されており、各面取り面と、前記各構成部品の一端の端面及び隣接する他の構成部品の前記一端の側面の接合部との隙間を埋める前記構成部品とは独立した平面を有する三角柱状の隙間嵌合部材を備えていることを特徴とする。請求項18記載のシールド部材は、請求項17記載のシールド部材であって、前記三角柱状の隙間嵌合部材の一端に、該三角柱状の隙間嵌合部材が前記載置面の各角部に形成された平面による面取り面と、前記各構成部品の一端の端面及び隣接する他の構成部品の前記一端の側面の接合部との隙間に嵌合された際、前記載置面の各角部の形状を、見かけ上前記載置面の角部をアール面によって面取りした際の形状と同様の形状にするためのアール面を備えた凸部が形成されていることを特徴とする。請求項19記載のシールド部材は、請求項18記載のシールド部材であって、前記アール面を備えた凸部の端面は、前記載置面と同一平面上にあるか又は前記載置面よりも引っ込んでいることを特徴とする。上記課題を解決するために、請求項20記載の基板載置台は、請求項8乃至19のいずれか1項に記載のシールド部材を備えていることを特徴とする。本発明によれば、シールド部材の構成部品が、矩形の載置面の一辺に沿って配置される絶縁性の長尺状物からなり、該長尺状物の長さ方向の一端に設けられた固定部と、該固定部とは長尺状物の長さ方向に離間して設けられた少なくとも1つのガイド部を有するので、この構成部品を、各構成部品の長さ方向の一端の端面が、隣接する他の構成部品の長さ方向の一端の側面に当接し、他端の側面が、隣接する他の構成部品とは異なる隣接する別の構成部品の一端の端面に当接するようにそれぞれ組合せ、各構成部品において他の構成部品と当接する端面のある側の長さ方向の一端を固定部によって載置台の基材に固定し、他端を、ガイド部によって変位自在に支持することにより、各構成部品が、固定された一端を起点にして長尺状物の長さ方向に沿って熱膨張又は熱収縮可能に配列されている。したがって、シールド部材若しくは載置面が加熱されても膨張及び収縮に伴う該シールド部材と下部電極との間における隙間の発生を防止することができ、これによって、シールド部材と下部電極との間にプラズマが進入することによる下部電極の異常放電やエロージョンの発生を防止することができる。また、載置面の角部に平面による面取りを施し三角柱状の嵌合部材を挿入することにより、ガラス基板のオリフラorientationflat:位置合せのための切り欠きが大きい場合やガラス基板を載置する際の位置精度が悪い場合などのように電極上に載置される基板のオリフラの位置によって生じる下部電極のエロージョンを防止することができる。以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実施の形態に係るシールド部材が適用される基板載置台を備えた基板処理装置の概略構成を示す断面図である。この基板処理装置は、例えば、液晶表示装置LCD製造用のガラス基板に所定のプラズマ処理を施すものである。図1において、基板処理装置10は、例えば1辺が数mの矩形のガラス基板G以下、単に基板という。を収容する処理室チャンバ11を有し、該チャンバ11内部の図中下方には基板Gを載置する載置台サセプタ12が配置されている。サセプタ12は、例えば、表面がアルマイト処理されたアルミニウムやステンレス等からなる基材13で構成されており、基材13は絶縁部材14を介してチャンバ11の底部に支持されている。基材13は断面凸型を呈しており、その上部平面は基板Gを載置する基板載置面13aとなっている。基板載置面13aの周囲を囲むようにシールド部材としてのシールドリング15が設けられており、シールドリング15は、例えばアルミナ等の絶縁性セラミックスで構成された長尺状物であるリング構成部品の組合せ体からなっている。基材13の上部は静電電極板16を内蔵し、静電チャックとして機能する。静電電極板16には直流電源17が接続されており、静電電極板16に正の直流電圧が印加されると、基板載置面13aに載置された基板Gにおける静電電極板16側の面以下、裏面という。には負電位が発生し、これによって静電電極板16及び基板Gの裏面の間に電位差が生じ、該電位差に起因するクーロン力又はジョンソンラーベック力により、基板Gが基板載置面13aに吸着保持される。基材13の内部には、基材13及び基板載置面13aに載置された基板Gの温度を調節するための温度調節機構図示省略が設けられている。この温度調節機構に、例えば、冷却水やガルデン登録商標等の冷媒が循環供給され、該冷媒によって冷却された基材13は基板Gを冷却する。基材13の周囲には、シールドリング15と基材13との当接部を含む側面を覆うサイドシールド部材としての絶縁リング18が配置されている。絶縁リング18は絶縁性のセラミックス、例えばアルミナで構成されている。チャンバ11の底壁、絶縁部材14及び基材13を貫通する貫通孔に、昇降ピン21が昇降可能に挿通されている。昇降ピン21は基板載置面13aに載置される基板Gの搬入及び搬出時に作動するものであり、基板Gをチャンバ11内に搬入する際又はチャンバ11から搬出する際には、サセプタ12の上方の搬送位置まで上昇し、それ以外のときには基板載置面13a内に埋設状態で収容されている。基板載置面13aには、図示省略した複数の伝熱ガス供給孔が開口している。複数の伝熱ガス供給孔は伝熱ガス供給部に接続され、伝熱ガス供給部から伝熱ガスとして、例えばヘリウムHeガスが基板載置面13a及び基板Gの裏面の間隙に供給される。基板載置面13a及び基板Gの裏面の間隙に供給されたヘリウムガスは基板Gの熱をサセプタ12に効果的に伝達する。サセプタ12の基材13には、高周波電力を供給するための高周波電源23が整合器24を介して接続されている。高周波電源23からは、例えば13.56MHzの高周波電力RFが印加され、サセプタ12は下部電極として機能する。整合器24は、サセプタ12からの高周波電力の反射を低減して高周波電力のサセプタ12への印加効率を最大にする。基板処理装置10では、チャンバ11の内側壁とサセプタ12の側面とによって側方排気路26が形成される。この側方排気路26は排気管27を介して排気装置28に接続されている。排気装置28としてのTMPTurboMolecularPump及びDPDryPumpやMBPMechanicalBoosterPumpともに図示省略はチャンバ11内を真空引きして減圧する。具体的には、DP若しくはMBPはチャンバ11内を大気圧から中真空状態例えば、1.3×10Pa0.1Torr以下まで減圧し、TMPはDP若しくはMBPと協働してチャンバ11内を中真空状態より低い圧力である高真空状態例えば、1.3×10-3Pa1.0×10-5Torr以下まで減圧する。なお、チャンバ11内の圧力はAPCバルブ図示省略によって制御される。チャンバ11の天井部分には、サセプタ12と対向するようにシャワーヘッド30が配置されている。シャワーヘッド30は内部空間31を有するとともに、サセプタ12との間の処理空間Sに処理ガスを吐出する複数のガス孔32を有する。シャワーヘッド30は接地されており、下部電極として機能するサセプタ12と共に一対の平行平板電極を構成している。シャワーヘッド30は、ガス供給管36を介して処理ガス供給源39に接続されている。ガス供給管36には、開閉バルブ37及びマスフローコントローラ38が設けられている。また、処理チャンバ11の側壁には基板搬入出口34が設けられており、この基板搬入出口34はゲートバルブ35により開閉可能となっている。そして、このゲートバルブ35を介して処理対象である基板Gが搬入出される。基板処理装置10では、処理ガス供給源39から処理ガス導入管36を介して処理ガスが供給される。供給された処理ガスは、シャワーヘッド30の内部空間31及びガス孔32を介してチャンバ11の処理空間Sへ導入される。導入される処理ガスは、高周波電源23からサセプタ12を介して処理空間Sへ印加されるプラズマ生成用の高周波電力RFによって励起されてプラズマとなる。プラズマ中のイオンは、基板Gに向かって引きこまれ、基板Gに対して所定のプラズマエッチング処理を施す。基板処理装置10の各構成部品の動作は、基板処理装置10が備える制御部図示省略のCPUがプラズマエッチング処理に対応するプログラムに応じて制御する。図2は、本発明の第1の実施の形態に係るシールドリングの構成を示す図であり、図2Aは平面図、図2Bは図2AのII-II線に沿った断面図である。図2Aにおいて、シールドリング15は、下部電極として機能するサセプタ12以下、下部電極という。の矩形の基板載置面13aの周囲を囲むように配置されており、矩形の基板載置面13aの対向する2つの短辺に沿ってそれぞれ配置された長尺状のリング構成部品41、42と、対向する2つの長辺に沿ってそれぞれ配置された長尺状のリング構成部品43、44との組合せ体で構成されている。リング構成部品41~44は、長尺状物の長さ方向の一端である固定端に設けられた固定用のねじ孔45と、該固定用のねじ孔45とは長尺状物の長さ方向に離間して設けられた支持用のねじ孔46を有する。支持用のねじ孔46は少なくとも1つ設けられるが、長尺状物の長さに応じて2つ又はそれ以上設けることもできる。このとき各支持用のねじ孔46は、例えば等間隔に設けることもできる。ここで、固定用のねじ孔45はリング構成部品の固定端を基材13に固定するための固定部として機能するものであり、ねじ孔に垂直な断面において遊びが少なく、平面上における形状が真円状に形成される。一方、支持用のねじ孔46は、固定端に対向する他端である自由端を長尺状物の長さ方向に変位自在にガイドし支持するガイド部として機能するものであり、ねじ孔に垂直な断面において遊びがあり、平面上における形状が楕円形若しくは両端が半円となる矩形に形成される。支持用のねじ孔46における断面の長径は、各構成部材41~44が熱膨張しても、支持用のねじ孔46に装着される支持ねじが構成部材の熱膨張を規制しない程度の長さを有するものとし、長径の長さは、例えば、第5.5世代と呼ばれるFPD用ガラス基板を処理する際には、7mm~10.5mmであることが好ましく、処理するガラス基板のサイズが大きくなるにつれ、より長くすることが好ましい。固定用のねじ孔に装着される固定ねじの締め付けトルクは、支持用のねじ孔に装着される支持ねじの締め付けトルクよりも大きくすることが好ましい。これによって、リング構成部品41~44の固定端41a~44aを確実に固定し、また、自由端41b~44bをルーズに支持して熱膨張時又は熱収縮時のその移動を確保することができる。固定ねじの締め付けトルクは、例えば8×1±0.05kgfcm0.75~0.8Nm程度であり、支持ねじの締め付けトルクは、例えば固定ねじの締め付けトルクよりも若干小さく、例えば6~8kgfcm0.6~0.8Nm程度である。ただし、膨張による延び量を制限する必要がある場合などにおいては、これらのトルクを、セラミックスが破損しない程度の範囲内でより強く締め、シールドリングの移動を制約することも可能である。リング構成部品41の固定端41aの端面は、隣接する他のリング構成部品43の長さ方向の端部43b自由端の側面に当接し、他端である移動端41bの側面が、隣接する他のリング構成部品43とは異なる隣接する別のリング構成部品44の端部44a固定端の端面に当接するように配置されている。リング構成部品42及び44は、それぞれ基板載置面13aの中心点Cに対してリング構成部品41及び43と点対象となるように配置されている。図2Bにおいて、下部電極12の基材13は断面凸状を呈しており、該断面凸状体の上部平面が基板載置面13aとなり、段差部表面がフランジ部13bとなる。各リング構成部品41~44の固定端41a~44aはそれぞれ固定用のねじ孔45に装着された固定ねじ図示省略によって基材13のフランジ部13bに固定されている。また、各リング構成部品41~44は、支持用のねじ孔46を貫通する支持ねじ図示省略によって自由端41b~44bが、基材13のフランジ部に対して変位自在に支持され、これによって、各リング構成部品41~44は固定端41a~44aを起点にして長尺状物の長さ方向に沿って熱膨張又は熱収縮可能に支持されている。ここで、各リング構成部品41~44の熱膨張又は熱収縮持時における自由端41b~44bの移動方向には隣接するリング構成部品が存在しないので、自由端の移動が妨げられることはない。これによって、熱膨張時における隣接するリング構成部品同士の押し合いを防止して、シールドリング15の変形の発生及び熱収縮によるシールドリング15と基板載置面13aとの間における隙間の発生を防止することができる。下部電極12の基板載置面13aの角部はそれぞれアール状に面取り処理されている。従って、この面取り面とシールドリング15との間の隙間を埋めるために、各構成部品41~44の固定端41a~44aの側面にアール面を有する突起部が設けられている。これによって、面取り面とシールドリング15との間の隙間からプラズマが進入することを防止することができる。また、アール面を有する突起部を固定端側に設けたので、熱膨張又は熱収縮時における隙間の発生を好適に防止することができる。なお、基板載置面13aの角部はアール形状に限らず平坦なC面形状であってもよく、また、この場合は、上記突起部はこれに合わせた平坦な形状となる。図3は、図2のシールドリング15が熱膨張した状態を示す模式図である。図3において、シールドリング15の各構成部材41~44は、固定端41a~44aを固定する固定ねじを起点として自由端41b~44b方向に膨張しており、自由端41b~44bは、熱膨張によって延びた長さに相当する寸法だけ変位している。図4は、図2の下部電極12が熱膨張した状態を示す模式図である。図4において、シールドリング15の各構成部材41~44が基板載置面13aの各辺に一対一で当接するように配置されているので、下部電極12はシールドリング15を構成する各構成部材間に隙間を生じさせない。従って、下部電極12とシールドリング15との間における隙間は発生しない。本実施の形態によれば、シールドリング15の一端である固定端41a~44aを固定用のねじ孔45に装着される固定ねじによって確実に固定し、他端である自由端41b~44bを支持用のねじ孔46に装着される支持ねじによって熱膨張又は熱収縮方向に変位可能に支持すると共に、自由端41b~44bの移動方向に他のリング構成部品が存在しないように組合せたので、シールドリング15がプラズマの連続照射によって加熱され、熱膨張しても内部応力が発生することがない。従って、シールドリング15の変形及びシールドリング15と下部電極12との間に隙間を生じることがなく、隙間にプラズマが進入することによる下部電極12における異常放電、エロージョン等の発生を防止することができる。また、本実施の形態によれば、シールドリング15をリング構成部品41~44の組合せ体で構成したので、各リング構成部品41~44の形状を、例えば略短冊状の簡易形状とすることができる。従って、各リング構成部品及びシールドリングの製作コストを削減することができる。本実施の形態において、リング構成部品は、絶縁性のセラミックス、例えばアルミナAl2O3、イットリア、窒化シリコン、石英などで構成される。リング構成部品41~44における固定用のねじ孔45は、該リング構成部品の固定端から極力近い位置にあることが好ましく、例えば、30~40mm若しくはそれ以下に設けられることが好ましい。固定用のねじ孔45の固定端端面との間隔が300mm以上となると、その部分の熱膨張が無視できなくなり、各リング構成部品の固定端と、該固定端に当接する他のリング構成部品との接合面に歪みが発生する。また、ねじとしては、ステンレスねじ、セラミックスねじ、アルミねじ等が用いられる。本実施の形態において、各リング構成部品41~44を、基材13のフランジ部13bに固定又は変位自在に支持させる締め付け部材としてねじを適用したが、各リング構成部品41~44を基材13のフランジ部13bへ固定又は支持させる締め付け部材としては、ねじの外、固定部分については、例えば、クランプ等による圧接や、各リング構成部材とフランジとの嵌め込み構造による固定など、変異自在部分については各リング構成部材側方の衝立や溝、各リング構成部材とフランジとの嵌め込み式のレール等により一方向に変位を制限することにできるガイド部材などを用いてもよい。次に、第1の実施の形態の変形例について説明する。図5は、第1の実施の形態の変形例としてのシールドリングの構成を示す図である。図5において、この変形例が、第1の実施の形態と異なる点は、シールドリンク15を構成するリング構成部品41~44におけるアール状の突起部を無くしてそれぞれ短冊状のリング構成部品51~54とし、下部電極12の矩形の基板載置面13aの4つの角部と、シールドリング15の各構成部材相互の当接部との間の隙間を埋めるアール面を有する隙間嵌合部材55を別体として設けたものである。このようなシールドリング15においても、第1の実施の形態と同様、シールドリング15と下部電極12の基板載置面13aとの間の隙間をなくして、下部電極12における異常放電やエロージョンの発生を防止することができる。また、本変形例によれば、リング構成部品51~54を単純な短冊形状とすることができるので、材料取りを小さくすることができると共に、アール形状の突起部の破損の虞が少なくて取り扱いが容易である。また、アール面を有する隙間嵌合部材55はプラズマの連続照射を受けて消耗するが、製造及び交換が容易であり、コスト的にもメリットがある。図6は、本発明の第2の実施の形態に係るシールドリングの要部の構成を示す説明図であり、図6Aは、要部平面図、図6Bは要部斜視図、図6Cは入れ子部材及び該入れ子部材に載置されたアール部材を示す斜視図、図6Dはサイドシールド部材を説明するための斜視図である。図6において、このシールドリング60は、リング構成部品61及び62と、該リング構成部品61及び62にそれぞれ基板載置面の中心点を基準に点対称の配置された図示省略した2つのリング構成部品とから主として構成されている。このシールドリング60は、各リング構成部品の長さ方向の一端である固定端の端面と、該リング構成部品に隣接する他のリング構成部品の長さ方向の一端の側面との当接部に、基板載置面13aに対して垂直方向及び水平方向からのプラズマの進入を阻止する段差構造の嵌め合い部を形成したものである。すなわち、リング構成部品62の固定端62aの端面、及びリング構成部品61の自由端61bの側面には、それぞれ図中下方が四角柱状に削り取られた段差部62c及び61cが設けられている。これによって、リング構成部品62の固定端62aの端面とリング構成部品61の自由端61bの側面との当接部には、段差部62cと段差部61cとで形成される凹部64が形成される。凹部64には、図6Cに示したような入れ子部材65が遊嵌状に挿入される。凹部64に挿入された入れ子部材65におけるアール面65aは、リング構成部品62と61との当接部からシールドリング60の内側に突出して図示省略した下部電極12の面取りされた矩形の基板載置面13aの面取り面に当接する。入れ子部材65のアール面65aを有する部分の上部には、アール面65aと同様のアール面を有する隙間嵌合部材66が別体として載置され、これによって、下部電極12の基板載置面13aと、隙間嵌合部材66の上面及びリング構成部品62と61の上面とが同一平面を形成するようになる。このとき、入れ子部材65と凹部64との間には、リング構成部品61の熱膨張又は熱収縮による変位を吸収するための隙間67が形成される。入れ子部材65が遊嵌状に挿入された凹部64の入口が開口するサセプタ12の側面には、図6Dに示したように、サイドシールド部材としての絶縁リング68が配置される。従って、下部電極12は、基板載置面13aに対して垂直方向だけでなく、水平方向からもプラズマ照射を受けることがない。本実施の形態によれば、リング構成部品62の固定端62aの端面と、リング構成部品61の自由端61bの側面との当接部は、プラズマの進入を阻止する段差構造を有しているので、下部電極12が直接プラズマの照射を受けることはない。従って、プラズマの照射に基づく異常放電やエロージョンの発生を防止することができる。また、本実施の形態によれば、隙間嵌合部材66が入れ子部材65のアール状部分に載置されているので、隙間嵌合部材66と入れ子部材65との間がラビリンス構造となり、その部分におけるプラズマの進入を阻止することができる。また、本実施の形態によれば、段差構造の一部を入れ子部材で構成することによって、リング部材相互の当接部の構造が比較的単純なものとなる。従って、製作が容易で、取り扱い時の破損の虞も少なくなる。本実施の形態において、入れ子部材65は、リング構成部品61、62及び下部電極12の基材13に固定されることなく、当該部材相互間に形成される凹部64に遊嵌した状態で基材13のフランジ部に載置される。従って、入れ子部材65とリング構成部品61との間には、所定の隙間が生じ、この隙間によってリング構成部品61の熱膨張による変位を吸収することができるのでシールドリングの変形を防止することができ、これによっても下部電極12へのプラズマの照射を防止して下部電極12における異常放電やエロージョンの発生を防止することができる。図7は、本発明の第3の実施の形態に係るシールドリングの要部の構成を示す図であり、図7Aは要部平面図、図7Bは要部正面図、図7Cはリング構成部品の組み立て図である。図7において、このシールドリング70は、リング構成部品の一端の端面と、該リング構成部品に隣接する他のリング構成部品の長さ方向の一端の側面との当接部に、基板載置面13aに対して垂直方向及び水平方向からのプラズマの進入を阻止する段差構造の嵌め合い部を設けたものである。通常、単純な短冊状のリング構成部品を4つ矩形に組み合わせたシールドリングでは、当接するリング構成部品相互間にわずかな隙間が生じ、この隙間からプラズマが進入して下部電極まで到達し、下部電極において異常放電又はエロージョンが発生する原因となる。従って、本実施の形態に係るシールドリング70は、各リング構成部品の当接部に垂直方向及び水平方向からのプラズマの進入を阻止する段差構造の嵌め合い部を有する。リング構成部品72の固定端72aの端面には、図7Cに示したように、基板載置面13aに対して垂直及び水平方向に鈎状となるように2段の段差部が設けられており、リング構成部品71の自由端71bには、この段差部に噛み合うような鈎状の段差部を有する突出部が設けられている。このような段差部の組み合わせによりラビリンス構造が形成される。本実施の形態によれば、リング構成部品相互の当接部に段差構造の嵌め合い部を形成したので、下部電極12への垂直方向及び水平方向からのプラズマの進入が阻止され、これによって、下部電極12における異常放電、エロージョン等のトラブルの発生を回避することができる。本実施の形態において、リング構成部品71と72との当接部、すなわち段差部の嵌め合い部におけるリング構成部品71の熱膨張方向の隙間d1及びd2図7A参照が等しくなるようにし、且つその幅を、リング構成部品71の熱膨張又は熱収縮に起因する変位を吸収するのに十分な幅、例えば1~2mm程度とすることが好ましい。これによって、リング構成部品71及び72における熱膨張が阻害されることがないので、シールドリング70と下部電極12との間における隙間の発生を防止して、下部電極12がプラズマ照射を受けることによるトラブルの発生を回避することができる。本実施の形態において、リング構成部品71と72との当接部におけるリング構成部品の熱膨張方向に対して直角方向の隙間e1及びe2図7A参照は、リング構成部品の組み立てに支障がない程度の隙間であれば良い。次に、本発明における第4の実施の形態について説明する。図8は、本発明の第4の実施の形態に係るシールドリングの構成を示す図である。このシールドリングは、基板載置台の製作精度を高め、且つ下部電極の角部4箇所の溶射面のエロージョンを防止し易くするために、4つの角部に対してそれぞれアール面ではなく、平面による面取り処理が施された基板載置面13aの周囲を囲むように配置されたものである。図8において、シールドリング15は、矩形の基板載置面13aの対向する2つの短辺に沿ってそれぞれ配置された長尺状のリング構成部品81、82と、対向する2つの長辺に沿ってそれぞれ配置された長尺状のリング構成部品83、84との組合せ体で構成されている。リング構成部品81~84は、長尺状物の長さ方向の一端である固定端に設けられた固定用のねじ孔85と、該固定用のねじ孔85とは長尺状物の長さ方向に離間して設けられた支持用のねじ孔86を有する。支持用のねじ孔86は少なくとも1つ設けられるが、長尺状物の長さに応じて2つ又はそれ以上設けることもできる。このとき各支持用のねじ孔86は、例えば等間隔に設けることが好ましい。固定用のねじ孔85はリング構成部品の固定端を基材13に固定するためのものであり、ねじ孔に垂直な断面において遊びが少なく、平面上における形状が真円状に形成される。一方、支持用のねじ孔86は、固定端に対向する他端である自由端を変位自在に支持するものであり、ねじ孔に垂直な断面において長尺状物の長さ方向に長い楕円形若しくは両端が半円となる矩形に形成される。支持用のねじ孔86における断面の長径は、各構成部材81~84が熱膨張しても、支持用のねじ孔86に装着される支持ねじが構成部材の熱膨張を規制しない程度の長さを有するものとし、長径の長さは、例えば、7mm~10.5mmであることが好ましく、処理するガラス基板のサイズが大きくなる従って長くすることが好ましい。リング構成部品81の固定端81aの端面は、隣接する他のリング構成部品83の長さ方向の端部83b自由端の側面に当接し、他端である移動端81bの側面が、隣接する他のリング構成部品83とは異なる隣接する別のリング構成部品84の端部84a固定端の端面に当接するように配置されている。リング構成部品82及び84は、それぞれ基板載置面13aの中心点Cに対してリング構成部品81及び83と点対象となるように配置されている。各リング構成部品81~84の固定端81a~84aはそれぞれ固定用のねじ孔85に装着された固定ねじ図示省略によって図8中、紙面の奥側に配置された下部電極の基材図示省略のフランジ部に固定されている。また、各リング構成部品81~84は、支持用のねじ孔86を貫通する支持ねじ図示省略によって自由端81b~84bが、図8中、紙面の奥側に配置された下部電極の基材図示省略のフランジ部に対して変位自在に支持され、これによって、各リング構成部品81~84は固定端81a~84aを起点にして長尺状物の長さ方向に沿って熱膨張又は熱収縮可能に支持されている。固定用のねじ孔に装着される固定ねじの締め付けトルクは、支持用のねじ孔に装着される支持ねじの締め付けトルクよりも大きくすることが好ましい。これによって、リング構成部品81~84の固定端81a~84aを確実に固定し、また、自由端81b~84bをルーズに支持して熱膨張時又は熱収縮時のその移動を確保することができる。固定ねじの締め付けトルクは、例えば、第1の実施の形態と同様、例えば8×1±0.05kgfcm0.75~0.8Nm程度であり、支持ねじの締め付けトルクは、例えば固定ねじの締め付けトルクよりも若干小さく、例えば6~8kgfcm0.6~0.8Nm程度である。ただし、膨張による延び量を制限する必要がある場合などにおいては、これらのトルクを、セラミックスが破損しない程度の範囲内でより強く締め、シールドリングの移動を制約することも可能である。各リング構成部品81~84を図8で示すように配置することによって、各リング構成部品81~84の熱膨張又は熱収縮持時における自由端81b~84bの移動方向には隣接するリング構成部品が存在しないので、自由端の移動が妨げられることはない。これによって、熱膨張時における隣接するリング構成部品同士の押し合いを防止して、シールドリング15の変形の発生及び熱収縮によるシールドリング15と基板載置面13aとの間における隙間の発生を防止することができる。本実施の形態においては、基板載置面とリング構成部材との当接部の隙間を極力なくして基板載置面へのプラズマの進入を阻止する観点から、製作精度が得られ難いアール面とアール面との当接部を避け、基板載置面の面取り面及び該面取り面に当接する構成部材面がそれぞれ平面となるように構成されている。すなわち、図8に示したように、矩形の基板載置面13aの角部はそれぞれ平面による面取り処理が施されており、各面取り面と、各構成部品81~84の一端の端面及び隣接する他の構成部品の一端の側面の接合部であるシールドリング15の角部との隙間に、基板載置面の面取り面と当接する平面を有する三角柱状の隙間嵌合部材87が嵌合されている。なお、本実施の形態においても、各リング構成部品81~84を基材13に固定または変位自在に支持させるための取り付け方法として、ねじに限定されないことは言うまでも無く、第1の実施の形態の説明において記載した各種方法が使用できる。図9は、第4の実施の形態に適用される隙間嵌合部材87を示す斜視図である。図9において、この隙間嵌合部材87は、各構成部品81~84とは独立に形成されたものである。隙間嵌合部材87は、それぞれ面取り処理が施された基板載置面13aの各角部の面取り面と、シールドリング15の角部とで囲まれた隙間に嵌合して当該隙間をなくすものであり、その高さは、例えば、基板載置面13aを構成する凸状部の高さ図2参照に相当する高さ、又はそれよりも若干低い高さである。このような隙間嵌合部材87を備えたシールド部材は、矩形の基板載置面13aの周囲を囲むように配置されて基板載置台を形成する。本実施の形態によれば、基材13の矩形の基板載置面13aの4つの角部に対し、それぞれ平面による面取り処理を施し、各面取り面と、シールドリング15の角部との隙間を埋める三角柱状の隙間嵌合部材87を備えているので、アール面同士の当接面をなくして構成部材の形状を単純化させることができ、これによって製作精度が向上する。また、アール面同士の接合部をなくして平面同士の接合面とすることができるので、部材相互のずれに起因して発生する隙間を極力なくしてプラズマの進入による電極面の損傷をより有効に防止することができる。また、本実施の形態においては、被処理基板として、例えば1つの角部を位置合せのためのオリフラとして面取りした矩形の基板が好適に使用されるが、この場合において、基板載置面13a上に基板を載置させる際、基板載置面13aと基板との間に位置ずれが生じると、通常、基板載置面13aよりも先に隙間嵌合部材87の上部平面が露出する。従って、例え、基板載置面13aと基板との間に位置ずれが生じても、基板載置面13aの溶射表面へのプラズマの進入だけは回避してその損傷を防止することができる。また、4つの角部のいずれをも面取りとしているのは、基板の処理内容等の都合によりオリフラの位置が変更となった場合にも適用可能とするためである。なお、隙間嵌合部材87が損傷した際は、該隙間嵌合部材87のみを交換することによって容易に対処することができる。なお、本実施の形態において、各構成部品81~84の当接部に段差構造の嵌め合い部を形成することができ、該嵌め合い部を形成する場合は、嵌め合い部の構造は第2の実施の形態と同様のものであり隙間嵌合部材87の下には図6の入れ子部材65と同様の部材が設けられるものとし、隙間嵌合部材87は基材13に載置されるものとする。また、本実施の形態によれば、隙間嵌合部材87を上下対称の三角柱状としたので、該隙間嵌合部材87を基板載置面13aの平面状の面取り面とシールドリング15の角部との間の隙間に嵌合させる際、上下方向の向きを考慮する必要がない。従って、当該シールドリング15を有する基板載置台の製作が比較的容易となる。本実施の形態において、リング構成部品81~84は、絶縁性のセラミックス、例えばアルミナAl2O3、イットリア、窒化シリコン、石英などで構成される。リング構成部品81~84における固定用のねじ孔85は、該リング構成部品の固定端から極力近い位置にあることが好ましく、例えば、30~40mm若しくはそれ以下に設けられることが好ましい。固定用のねじ孔85の固定端端面との間隔が広すぎると、その部分の熱膨張が無視できなくなり、各リング構成部品の固定端と、該固定端に当接する他のリング構成部品との接合面に歪みが発生するおそれがある。次に、第4の本実施の形態の第1の変形例について説明する。図10は、第4の本実施の形態の第1の変形例における隙間嵌合部材を示す斜視図である。図10において、隙間嵌合部材88が図9の隙間嵌合部材87と異なるところは、隙間嵌合部材88の一端に、該隙間嵌合部材88が基板載置面13aの各角部に形成された平面による面取り面とシールドリング15の角部との隙間に嵌合された際、基板載置面13aの各角部の形状を、見かけ上基板載置面13aの角部をアール面によって面取りした際の形状と同様の形状にするためのアール面88aを備えた凸部を形成した点である。すなわち、隙間嵌合部材88の一端面には、直線88bと円弧88cとで囲まれた面が所定の高さで突出した凸部が形成されており、この凸部の高さを規定する面がアール面88aとなっている。このような構成の隙間嵌合部材88は、基板載置面13aの各角部に形成された平面による面取り面とシールドリング15の角部との隙間に嵌合され、基板載置台を形成する。本実施の形態の変形例においても、上記実施の形態と同様、アール面同士の接合部をなくして平面同士の接合面とすることができので、部材相互のずれに起因して発生する隙間を極力なくして該隙間からプラズマが進入することによる電極面の損傷を有効に防止することができる。また、本実施の形態の変形例によれば、基板載置面13aの4つの角部における面取り面と、隙間嵌合部材88における直線88aを一辺に含む矩形平面とが当接するように組合せられるので、基板載置面13aの角部の形状を見掛け上アール面によって面取り処理を行った場合の形状と同様の形状となる。隙間嵌合部材88の角部をR面とすることにより、角部の破損を防ぐことができる。また、隙間嵌合部材88を設置した際に、従来の基板載置面の形状と見掛け上同一となることから、基板の温度制御等について従来の装置で調整されてきた各種処理条件をそのまま適用可能であるという利点もある。本実施の形態の変形例において、アール面88aを備えた凸部の端面は、基板載置面13aと同一平面上にあるか又は基板載置面13aよりも引っ込んでいることが好ましい。これによって、基板載置面13aに載置した基板を安定に支持することができる。次に、第4の実施の形態の第2の変形例について説明する。図11は、本実施の形態における第2の変形例に適用されるリング構成部品を示す平面図である。図11において、このリング構成部品91の固定端91aの側面には、平面によって面取り処理された基板載置面13aの角部における面取り面とシールドリング15の角部との間の隙間を埋めるための突起部91cが設けられている。このような構成のリング構成部品91が図8のように組み合わされてシールドリング15を形成する。本実施の形態の変形例によれば、リング構成部品91の突起部91cで、面取り面とシールドリング15との間の隙間を埋めることができるので、該隙間からプラズマが進入することによる下部電極12における異常放電、エロージョン等の発生を有効に防止することができる。上述した各実施の形態において、プラズマ処理が施される基板は、液晶ディスプレイLCD用のガラス基板だけでなく、エレクトロルミネセンスElectroLuminescence;ELディスプレイ、プラズマディスプレイパネルPDP等をはじめとするFPDFlatPanelDisplayに用いる各種基板であってもよい。また、上述の実施形態では、平行平板電極による容量結合型のプラズマ発生方式を用いた装置について説明したが、誘導結合型プラズマ発生方式など他のプラズマ発生方式による装置であっても、基板の載置台とシールドリング若しくはそれに相当する部材を有する装置であれば本願発明を適用できることは言うまでも無い。