"シリコンを含有する成分と水素とを含有する反応ガスを、1つ又はそれ以上のノズルを用いて少なくとも1本の加熱されたフィラメントロッドを有するリアクター中へ導通し、前記フィラメントロッド上にシリコンを析出させることを含む多結晶シリコンの製造方法であって、前記リアクター中の流動条件を説明するアルキメデス数Arnが、リアクターの空間容積に対するロッド体積の比[単位:パーセント]で示される充填度FGに依存して、5までの充填度FGについては下方へは関数Ar=2000×FG06によりかつ上方へは関数Ar=17000×FG09により区切られた範囲内にあり、かつ5よりも大きい充填度の場合には少なくとも750から多くとも4000までの範囲内であることを特徴とする、多結晶シリコンの製造方法。アルキメデス数が4.5~5.5の充填度までで低下し、かつより高い充填度で一定のままである、請求項1記載の方法。アルキメデス数が6.5~7.5の充填度までで低下し、引き続き一定のままであり、その際に、アルキメデス数は4.5よりも大きい充填度から、1~3の充填度の場合よりも著しく低下する、請求項1記載の方法。アルキメデス数が4.5~5.5の充填度までで低下し、かつより高い充填度で上昇する、請求項1記載の方法。リアクター容積が、温度が300K~700Kである壁により区切られている、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。リアクターの壁に向かい合った少なくとも1本のロッドの面でかつこの少なくとも1本のロッドの長さの半分の高さで測定される温度が1150K~1600Kである、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。シリコン析出後の少なくとも1本のロッドを、リアクターから取り出し、かつ機械加工によりシリコンチャンクへと加工する、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。帯域溶融によりシリコン単結晶を製造するための、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法により製造された多結晶シリコンの使用。チョクラルスキー法による結晶引上げによりシリコン単結晶を製造するための、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法により製造された多結晶シリコンの使用。ブロックキャストによりシリコン結晶を製造するための、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法により製造された多結晶シリコンの使用。この問題から本発明の課題が判明した。本発明の課題は、シリコンを含有する成分と水素とを含有する反応ガスを、1つ又はそれ以上のノズルを用いて少なくとも1本の加熱されたフィラメントロッドを有するリアクター中へ導通し、前記フィラメントロッド上にシリコンを析出させることを含む多結晶シリコンの製造方法によって解決され、前記方法は、前記リアクター中の流動条件を説明するアルキメデス数Arnが、リアクターの空間容積に対するロッド体積の比[単位:パーセント]で示される充填度FGに依存して、5までの充填度FGについては下方へは関数Ar=2000×FG06によりかつ上方へは関数Ar=17000×FG09により区切られた範囲内にあり、かつ5よりも大きい充填度の場合には少なくとも750から多くとも4000までの範囲内であることにより特徴付けられる。本方法を成功させるのに本質的であるのは、強制対流に対する自然対流の比としてリアクター中の流動条件を説明するアルキメデス数が定義された範囲内にあるようにプロセスを導くことである。この範囲は全プロセス期間にわたって定義されている。そのためには、リアクターの充填度に依存したアルキメデス数が示される。リアクターの充填度は、リアクターの空間容積に対するロッドの体積の比[単位:パーセント]を示す。リアクターの空間容積は一定である。充填度は、すなわち、プロセス期間が増加するにつれて増加する、それというのも、ロッドの体積が高まるからである。本方法及びアルキメデス数についての本発明による範囲が、リアクターのサイズから独立していることは特に有利である。それゆえ、本方法は、小さなリアクタータイプだけでなくより大きなリアクタータイプにも適している。本方法は、リアクター中に存在し、かつシリコンが析出されるフィラメントロッドの数及びまた長さからも同じように独立している。アルキメデス数を用いる容器中の流動条件の一般的な説明は、工業熱力学に関する教科書、例えばDittmannFischerHuhnKlingerRepetitoriumdertechnischenThermodydnamikTeubnerVerlagから知られている。アルキメデス数は、リチャードソン数の名前でも知られている。多結晶シリコンの析出用のシーメンスリアクターについては、アルキメデス数に関してまだ考察はされていなかった。シリコンの析出の際に使用されるシーメンスリアクターは、特定の容積空間容積を有する容器とみなすことができ、その際に、その容積は、特定の温度T壁を有する壁により区切られている。さらに、この空間は時間と共にシリコンの析出により成長する特定の温度Tロッドを有するロッドを含む。ガスは熱いロッド上で加熱され、かつ上方へ上昇する。壁上でガスは再び冷却され、かつ下方へ下降する。この場合にガスの自然対流という言葉を用いる。付加的に、この空間中へ、反応ガス水素とシリコンとを含有するガス、例えばトリクロロシランとジクロロシランとの混合物は活性状態で-通常底部に取り付けられた-ノズルを介して、定義された流入速度で導入される。その際に、強制対流が引き起こされる。同時に廃ガスは容器から取り出され、その際に、通常、容器中の圧力は一定に保持される。自然対流は浮力をもたらし、強制対流は慣性力をもたらす。これら双方の流動力の相互作用が明らかに、複雑な流動条件と、リアクター中での析出へのそれらの影響とを支配することが見出された。それゆえ、慣性力に対する浮力の比として定義されているアルキメデス数は、流動条件のキャラクタリゼーションに適している。シーメンスリアクター中でのロッドについてのアルキメデス数Arの具体的な誘導はこの箇所では割愛される。次の関係が得られる:Ar=πgL3AdTロッド-T壁/2Q2TロッドT壁ここで、gは重力加速度[ms2]を表し、Lはフィラメントロッドのロッド長さ[m]を表し、Qは運転条件p,T下でのガスの体積流量[m3s]を表し、Adは全てのノズル断面積の和[m2]を表し、Tロッドはロッド温度[K]を表し、かつT壁は壁温度[K]を表す。フィラメントロッドの長さは、析出中に本質的に一定のままである、例えばL=3m。リアクターが、反応ガスの導入のために同じか又は異なる断面積を有する1つ又はそれ以上のノズルを含む場合には、全てのノズル断面積の和Ad単位m2が考慮される。1つ又はそれ以上のノズルの断面積は時間的に可変であってもよい。全ての断面積の和Adは、好ましくは少なくとも5×105m2から約1×102m2までである。ロッド温度は、好ましくは1150K~1600Kである。壁温度は、好ましくは300K~700Kである。体積流量は、運転条件で好ましくは0.001m3s~0.5m3sである。リアクター中の複数本のフィラメントロッドの場合に、アルキメデス数はこれらのロッドの数nの和として算出される。Arnが得られる。そうすると等式は次のとおりである:Arn=nAr本発明による方法は、しかしながら-既に前に述べたように-リアクター中のロッドの数から独立している。本発明者らは、リアクター中のロッドの数を倍増する場合に反応ガスの体積流量を単に倍増しても成功しないことを確認した、それというのも、そのようなプロセスは、請求項に係る範囲を下回る充填度に依存したアルキメデス数の経過を示すからである。このプロセスは、そのうえ、高められた比エネルギー消費と、付加的に高められた割合の倒れかかったロッドとを有する。それに反して例えばノズル配置も適合される場合には、より少ない割合の倒れかかったロッドと、より少ない比エネルギー消費とを達成することが可能である。ロッドの数を倍増する場合のための最適なプロセスがまたしても、本発明による方法において請求項に係る流動条件に相当する流動条件を必要とすることが示された。アルキメデス数が、5までの充填度FGについては下方へは関数Ar=2000×FG06によりかつ上方へは関数Ar=17000×FG09により区切られた範囲内にあり、かつ5よりも大きい充填度の場合には少なくとも750から多くとも4000までの範囲内である全てのプロセスについては、次の有利な技術的効果が同時にかつ再現性を伴って生じることがわかった:ダスト堆積は、技術水準と同じかもしくはより高い平均析出速度で殆ど観察されない。本発明による方法を実施する際に、ロッド漏れ及び/又はブリッジ漏れは生じない。ロッド温度の測定は、本発明の範囲内で、放射高温計を用いて垂直のロッドの表面で、しかも好ましくはリアクターの外壁の最も近くにあるロッドの面で、ロッドの半分の高さで行われる。表面温度は、すなわちロッドの中央で制御される。故に、全リアクター中の最適な流動条件と組み合わせて、ブリッジの漏れは回避される。これらのプロセスの場合の倒れかかったロッドの割合が、技術水準から知られたプロセスの場合よりも本質的に低いことがわかった。本発明によるプロセスを用いて製造された全ての多結晶ロッドは、ロッド長さにわたって技術水準に比べてより少ない直径変化を有していた。そのうえ、シリコンロッドのモルホロジーが、本発明による方法の場合に一方ではロッド上の軸方向の位置から独立しており、かつしかしまた他方では析出設備中のロッドの位置からも独立しており、すなわち全てのロッドが位置から独立してそのような有利なモルホロジーを有することがわかった。以下に本発明は図に基づいて説明される。比較例曲線4は、欧州特許出願公開第2067744号明細書から知られたプロセスについての充填度に依存したアルキメデス数を示す。その際に、アルキメデス数の算出に必要とされ、かつ前記明細書に開示されていない全てのパラメーターについては、常用の値を仮定するか又は計算した。ノズル面積を、速度データ及び閉じたノズルの割合から計算した。結果は第1表に示されている。点41、42、43、44、45及び46は図1に示されている。欧州特許出願公開第2067744号明細書からのプロセスについてのアルキメデス数の経過は、アルキメデス数についての本発明による範囲を明らかに下回り、かつ全く異なる特性を示し、この特性は反応ガスの流入速度の変更に起因されるようである。ここでは、特に高められた割合の倒れかかったロッドが示される。また、析出速度は、より不均一なモルホロジーが受け入れられる場合にのみ十分に高い。アルキメデス数の増加によりこれらの問題を取り除くことができたという事実は意外である。また、独国特許出願公開第2912661号明細書に記載されたプロセスは、本発明による範囲を下回る充填度に依存したアルキメデス数の経過を示す欧州特許出願公開第2067744号明細書からのプロセスに類似、しかしながらその特殊な経過を有しない。このプロセスにおいて2ジェットノズルを使用した。その際に、以下の公開されたパラメーターを使用した:点7は図1に示されている。独国特許出願公開第2912661号明細書に記載されたロッドジオメトリーの均一性に関する利点は、たしかにそのようなプロセスの場合に観察されることができるが、しかしながらこのプロセスは、かなりの他の欠点を示す。例えば、比エネルギー消費は、アルキメデス数に関して本発明による範囲内であるプロセスの場合よりも明らかに高い。本発明によるプロセスは、それに反して、10~20だけより少ない比エネルギー消費を有する。そのうえ、このプロセスは同様に、明らかに高められた割合の倒れかかったロッドを示す。倒れかかったロッドの割合は、独国特許出願公開第2912661号明細書並びに欧州特許出願公開第2067744号明細書によるプロセスの場合に、本発明による範囲内のアルキメデス数の経過を有する本発明によるプロセスの場合よりも約50~100だけ高い。例本発明による3つの異なるプロセスを示す。その際に、リアクター容積及びロッドの数に関して相違する異なるリアクターを使用した。これらのうちの一方のプロセス例1の場合に、48本のロッド及び12.7m3のリアクター容積を有するリアクターを使用した。他方のプロセス例2の場合に、10m3のリアクター容積中で24本のロッド上に析出させた。3番目のプロセス例3の場合に、リアクター容積は5.9m3に過ぎなかったが、しかし同様に24本のロッドを有していた。ロッド長さは、全てのプロセスの場合に2.9~3.1mであった。第3表には、図1に示された曲線1の3個の点11、12及び13のパラメーターが記載されている。壁温度T壁は一定で393Kであった。ノズルの断面積は4.185×103m2で一定のままである。第2欄にリアクターの充填度が示されている。ロッド温度Tロッドは、0.16の充填度での1326Kから19の充填度での1302Kに減少した。Qは、運転条件下での反応ガストリクロロシラン及び水素の体積流量[m3s]を意味する。これはまず最初に増加し、ついで一定のままである。Arnは、アルキメデス数を意味する。この場合に、アルキメデス数は10.76の充填度と19.06の充填度との間で本質的に一定のままである。このことは、0.192m3sで一定のままである反応ガスの体積流量についても当てはまる。第4表には、図1に示された曲線2例2の3個の点21、22及び23のパラメーターが記載されている。リアクター中の壁温度T壁はこの場合にも一定で393Kであった。ノズルの断面積も、この場合に2.161×103m2で一定のままであった。ロッド温度Tロッドは、0.106の充填度での1364Kから17.98の充填度での1306Kに減少した。この場合に、アルキメデス数は5.03の充填度と17.98の充填度との間で1332から2671に上昇する。第5表には、図1に示された曲線3例3の4個の点31、32、33及び34のパラメーターが記載されている。リアクター中の壁温度T壁はこの場合にも一定で393Kであった。ノズルの断面積も、この場合に8.18×104m2で一定のままであった。ロッド温度は、0.197の充填度での1299Kから21.1の充填度での1233Kに減少した。曲線3例3の場合に、アルキメデス数は3.604の充填度と6.5の充填度との間で3.604未満の充填度についてよりも著しく低下する。6.5の充填度から、アルキメデス数の経過は本質的に一定である。ここでは反応ガスの体積流量も0.058m3sで一定のままである。"