"細胞を培養するための方法において、a.半透過性膜によって区画されておらず、かつ少なくとも一部が非孔性気体透過材料からなる細胞培養装置を形成する工程と、b.前記細胞培養装置に一定体積の媒質と動物の細胞とを入れる工程と、c.前記細胞培養装置を細胞培養のために適切な組成を有する雰囲気ガスを有する細胞培養位置に配置する工程であって、前記媒質は、媒質の最も上位の位置が最も下位の位置よりも2cmを超えた高さにあるように配置する工程と、d.前記媒質中で前記細胞を重力によって沈降させる工程と、e.前記細胞が重力によって前記媒質中で沈降した後に、静止細胞培養の様式にて前記細胞を培養する工程とを備える、細胞を培養するための方法。前記細胞培養装置を前記細胞培養位置に配置した後で前記細胞を静止細胞培養の様式にて培養する工程を含む、請求項1に記載の方法。前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を撹拌するための手段を備えていない、請求項1に記載の方法。前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質の動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項1に記載の方法。前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を混合するため動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項1に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から3.2cmを超えて存在する、請求項1に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から4.0cmを超えて存在する、請求項1に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から5.09cmを超えて存在する、請求項1に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から6.0cmを超えて存在する、請求項1に記載の方法。細胞を培養するための方法において、f.単一区画からなるとともに、少なくとも底部が少なくとも部分的に非孔性気体透過材料からなる細胞培養装置を形成する工程と、g.前記単一区画に一定体積の媒質と動物の細胞とを入れる工程と、h.前記細胞培養装置の底部が前記単一区画の最下面をなす位置に前記細胞培養装置が配置されたときに、前記媒質が前記底部の最も下位の位置から2.0cmを越えてあるように前記媒質の体積を調整する工程と、i.前記細胞培養装置を細胞培養のために適切な組成を有する雰囲気ガスを有する細胞培養位置に配置する工程であって、前記細胞培養装置は前記底部が前記単一区画の前記最下面をなすように配置される、細胞培養位置に配置する工程と、j.前記媒質中で前記細胞を重力によって沈降させる工程と、k.前記細胞が重力によって前記媒質中で沈降した後に、静止細胞培養の様式にて前記細胞を培養する工程とを備える、細胞を培養するための方法。前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を撹拌するための手段を備えていない、請求項10に記載の方法。前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質の動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項10に記載の方法。前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を混合するため動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項10に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から3.2cmを超えて存在する、請求項10に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から4.0cmを超えて存在する、請求項10に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から5.09cmを超えて存在する、請求項10に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から6.0cmを超えて存在する、請求項10に記載の方法。細胞を培養するための方法において、a.半透過性膜によって区画されておらず、かつ少なくとも一部が非孔性で湾曲していない気体透過材料からなる、内部で細胞を培養するための細胞培養装置を形成する工程と、b.単一区画に一定体積の媒質と動物の細胞とを細胞懸濁液ではない方式で入れる工程と、c.前記細胞培養装置を細胞沈降位置に配置して前記細胞のうちの少なくとも一部を前記非構成で湾曲していない気体透過材料の少なくとも一部に沈降させ、及び、前記細胞培養装置が前記細胞沈降位置に配置されたときに、前記媒質が前記底部の最も下位の位置から2.0cmを越えてあるように前記媒質の体積を調整する工程と、d.前記細胞培養装置の底部が前記単一区画の最下面をなす位置に前記細胞培養装置が配置されたときに、前記媒質が前記底部の最も下位の位置から2.0cmを越えてあるように前記媒質の体積を調整する工程と、e.前記細胞培養装置を細胞培養のために適切な組成を有する雰囲気ガスを有する細胞培養位置に配置する工程であって、前記細胞の少なくとも一部が前期非孔性で湾曲していない気体透過材料の少なくとも一部にあるように、細胞培養位置に配置する工程を備える、細胞を培養するための方法。前記細胞培養装置を前記細胞培養位置に配置した後で前記細胞を静止細胞培養の様式にて培養する工程を含む、請求項1に記載の方法。前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を撹拌するための手段を備えていない、請求項1に記載の方法。前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質の動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項1に記載の方法。前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を混合するため動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項1に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から3.2cmを超えて存在する、請求項1に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から4.0cmを超えて存在する、請求項1に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から5.09cmを超えて存在する、請求項1に記載の方法。前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から6.0cmを超えて存在する、請求項1に記載の方法。発明の概要下方気体透過性物質から成る気体透過性装置に関して、培地の高さを、従来の見識により決定される、又は市販されている装置において利用可能な高さよりも増大させることは有益であり得ることが発見された。本発明の発明者等によって、細胞培養培地内の基質の対流は、従来認識されているよりも重要な役割を果たすと予想される。物質移動のための拡散への歴史的な依存は、対流が与える寄与を過小評価しているように見受けられる。このことは、細胞培養培地中のグルコース及び乳酸塩等の基質の移動速度を過小評価することにつながり、従来許容されていたよりも細胞から遠くに存在する培地が細胞に対して有用であり得ることを認識することができないであろう。培地中の基質の移動速度が過小評価されると、細胞から遠すぎると思われている領域内に存在する培地は、無駄であると間違って見なされるであろう。論理的な結論として、装置によって占められる空間を減少させ、より経済的に滅菌、出荷、保管及び廃棄されるようにするために、気体透過性装置が細胞に対して有用であり得るよりも少ない培地を保持するように不必要に構成されることになる。いずれにしても、従来の見識よりも離れた距離に存在している培地がいかに有益であり得るかの例として、試験を実施し、ここで、培地の高さは、従来提言されている高さ、さらには市販されている静止気体透過性装置において可能である高さをはるかに超えて増大された。通常の細胞培養用途の評価マウスハイブリドーマを使用は、従来の見識と比較して培地の高さを増大させることにより、より多くの細胞が、装置の所定の設置面積内に存在することが可能であることを示した。以前には認識されていないこの有益性は、より効率的な細胞培養及びプロセススケールアップを提供するさまざまな細胞培養装置構成を可能にする。本明細書中における本発明の装置及び方法は、装置の壁が気体透過性であり、スカフォールドが存在し、且つ装置が静止モードで操作される場合、気体/液体界面は十分な気体交換に必要ないことを示す。このことは、従来装置における気体の存在に起因する過剰な装置サイズに対する必要性を排除し、且つ気体透過性装置が従来のスカフォールドを一体化することを可能にする。これは、従来装置よりも小さな空間を占めるさまざまな細胞培養装置構成を可能にし、且つこれらの装置をスケールアップに関してより効率的にする。やはり、本発明者等により、対流の役割は寄与因子であり得ることが予期される。また、気体透過性ローラボトルに対する形状構成従来の見識の指示と相反するは、細胞を首尾よく培養することができるということが発見された。この新たな形状は、装置が、従来可能であるよりも多くの培地を収容することを可能にし、それによりスケールアップ効率を改善する幾何形状を得る。このことは、酸素添加のための気体を収容する従来のボトルの無駄な空間を排除し、且つスケールアップ効率の観点で気体透過性ボトルよりも優れる細胞培養装置構成が存在することを可能にする。また、細胞を、従来の見識が提唱するよりも厚いシリコーン気体透過性物質を使用して、効率的に培養することができることが発見された。これらの発見は、細胞を培養する新たな装置及び方法を作り出すことを可能にし、これらは、現在の装置ペトリ皿、マルチウェル組織培養プレート、組織培養フラスコ、マルチシェルフ組織培養フラスコ、ローラボトル、気体透過性ペトリ皿、気体透過性マルチウェルプレート、気体透過性細胞培養用バッグ、区画化気体透過性装置及び気体透過性回転装置等を上回る劇的な効率及びスケールアップの改善を提供することができる。本明細書中に開示される或る実施の形態は、培地の高さの増大及び培地容積に対する気体透過性表面積の割合の低減を可能にするために壁高を増大することにより、優れた気体透過性細胞培養装置を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、培地の高さを増大すること及び培地容積に対する気体透過性表面積の割合を低減することにより、気体透過性細胞培養装置を使用する優れた細胞培養法を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、気体透過性物質から少なくとも部分的に成る側壁を介して気体交換を可能にすることにより、優れた細胞培養装置を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、気体透過性物質から少なくとも部分的に成る側壁を介して気体交換を可能にすることにより、気体透過性装置を使用する優れた細胞培養法を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、培地の高さの増大及び培地容積に対する気体透過性表面積の割合の低減を可能にするために壁高を増大することにより、気体透過性マルチウェル組織培養プレートに対する優れた代替物を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、培地の高さの増大及び培地容積に対する気体透過性表面積の割合の低減を可能にするために壁高を増大することにより、気体透過性ペトリ皿に対する優れた代替物を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、より多くの栄養を含むサポートを提供するために培地の高さを増大すること、及び培地容積に対する気体透過性表面積の割合を低減することにより、気体透過性細胞培養用バッグにおける細胞培養の方法に対する優れた代替法を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、培地の高さの増大及び培地容積に対する気体透過性表面積の割合の低減を可能にするために壁高を増大することにより、気体透過性カートリッジに対する優れた代替物を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、培地を従来可能であるよりも気体透過性物質から遠い位置に存在させることを可能にする形状を作製することにより、気体透過性ローラボトルに対する優れた代替物を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、水平位置及び垂直位置で操作することができる優れた気体透過性細胞培養装置を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、培地の高さの増大及び培地容積に対する気体透過性表面積の割合の低減を可能にするために壁高を増大することにより、区画化気体透過性装置に対する優れた代替物を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、培地の高さを増大すること、及び培地容積に対する気体透過性表面積の割合を低減することにより、区画化気体透過性装置を使用する優れた細胞培養法を提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、気体交換のためにシリコーン材料を利用する優れた気体透過性細胞培養装置を、0.013cm0.005インチよりも大きい厚さであるシリコーンを用いて構成することにより、提供する。本明細書中に開示される或る実施の形態は、改善された細胞培養用バッグを提供し、ここでは、気体透過性物質は、0.013cm0.005インチを超える厚さであるシリコーンである。[発明の詳細な説明]従来の細胞培養装置又は方法では考えられていない高さに培地を保持することができる気体透過性装置を構成することにより、取り扱い頻度、労力、滅菌費用、出荷費用、保管費用、インキュベータ用空間の使用、廃棄費用、及び混入の危険性を減らすことを含む利点を生じることができる。また、培地容積に対する気体透過性表面積の割合を、従来の細胞培養装置又は方法では考えられていない割合まで減少させることも、培養効率を増大させ得る。これにより、装置の長さ又は幅を対応して増大させることなく、培地の高さを増大させることが可能となる。好ましい実施形態では、培地の高さを増大させるか、又は培地容積に対する気体透過性表面積の割合を減らすかのいずれかを可能とする措置がとられる。培地の高さを増大させ、且つ培地容積に対する気体透過性表面積の割合を減らすことの両方を可能とする措置がとられる。培地が従来の見識を超えた高さにあることを可能とする気体透過性装置及び方法に関する多種多様な実施形態が可能である。それらは、従来の装置の形態又は完全に新規の形態を取ることができる。形態が最大で50mm径の気体透過性ペトリ皿である場合、培地の高さは、好ましくは0.36cmを上回るべきである。好ましい壁高は、6mmを上回る。形態が50mm径を超える気体透過性ペトリ皿である場合、培地の高さは、好ましくは0.51cmを上回るべきである。好ましい壁高は12mmを上回る。形態が384ウェル以上のマルチウェル組織培養プレートである場合、培地の高さは、好ましくは、0.91cmを上回るべきであり、好ましいウェルの深さは11.5mmを上回る。24ウェル未満~384ウェル未満では、培地の高さは、好ましくは0.97cmを上回るべきであり、好ましいウェルの深さは10.9mmを上回る。24ウェル以下では、培地の高さは、好ましくは1.03cmを上回るべきであり、好ましいウェルの深さは16.5mmを上回る。形態が気体透過性カートリッジである場合、培地の高さ及び壁高は、好ましくは1.27cmを超えるべきである。細胞培養用バッグの形態では、培地の高さは最高点で2.0cm高を超えていることが好ましい。形態が区画化された装置であり、その装置内の培地全てが半透過性膜の上全体に存在する場合、栄養区画の培地の高さは、好ましくは半透過性膜の上の1.0cm高であるべきである。形態が区画化された気体透過性装置である場合、栄養区画の培地の高さは、好ましくは半透過性膜の上の3.8cm高を超えるべきである。従来の見識に比べて、培地容積に対する気体透過性表面積の割合を減らすことを目的とした設計である場合、気体透過性装置及び方法に関する多種多様な実施形態が可能である。それらは、従来の装置の形態又は完全に新規の形態を取ることができる。形態が50mm径以下の気体透過性ペトリ皿である場合、培地容積に対する気体透過性表面積の割合は、好ましくは2.74cm2/mlを下回るべきである。形態が50mm径以上の気体透過性ペトリ皿である場合、培地容積に対する気体透過性表面積の割合は、好ましくは1.96cm2/mlを下回るべきである。形態が384ウェル以上のマルチウェル組織培養プレートである場合、培地容積に対する気体透過性表面積の割合は、好ましくは1.10cm2/mlを下回るべきである。24ウェル未満~384ウェル未満では、培地容積に対する気体透過性表面積の割合は、好ましくは1.03cm2/mlを下回るべきである。24ウェル以下では、培地容積に対する気体透過性表面積の割合は、好ましくは0.97cm2/mlを下回るべきである。形態が、カートリッジの2つの側面が気体透過性である気体透過性カートリッジの場合、培地容積に対する気体透過性表面積の割合は、好ましくは0.79cm2/mlを下回るべきである。細胞培養用バッグの形態では、培地容積に対する気体透過性表面積の割合が1.0cm2/mlを下回ることが好ましい。形態が区画化された装置であり、その装置内の培地全てが半透過性膜の上全体に存在する場合、培地容積に対する気体透過性表面積の割合は、好ましくは1.74cm2/mlを下回るべきである。形態が区画化された装置であり、その装置内の培地全てが半透過性膜の上全体には存在しない場合、培地容積に対する気体透過性表面積の割合は、好ましくは、0.31cm2/mlを下回るべきである。図4Aは、本発明の一実施形態の断面図を示す。気体透過性細胞培養装置10は、細胞20が下方気体透過性物質30上に存在することが可能となるように構成されている。図4Aは、ペトリ皿の形式で組み立てられた気体透過性細胞培養装置10を示すが、培地が従来の見識の高さを超えた高さに位置させることを可能にする、かなり多くの形状及び大きさでも可能である。頂部カバー55を取り外して、培地50を、注入又はピペット操作のいずれかで都合よく気体透過性細胞培養装置10へ添加し、且つ気体透過性細胞培養装置10から除去することを可能とすることができる。しかし、培地50に対するアクセスはまた、細胞培養装置に共通したかなりの数の方法、例えば、蓋、隔壁及び管で行うことができる。閉鎖系が望まれる場合では、気体透過性細胞培養装置10は注入管及び排出管を備えて構成され得る。それらの管は、テルモメディカル社TerumoMedicalCorpサマセット、NJ製の器材等を用いて、滅菌管状材料の結合により、培地源及び廃棄袋と接続され得る。また、隔壁構成又は当業者に既知の任意の他の技法を用いて、密閉容器を作製することもできる。例えば、図4Bに示されるように、気体透過性細胞培養装置10は、隔壁65を備えた密閉容器として代替的に構成され得る。気体透過性細胞培養装置10が培地50で完全に満たされ、且つ細胞が重力により培地50外に沈むことを意図する場合では、気体透過性細胞培養装置10の頂部形状により、培地50が下方気体透過性物質30上に均一な高さで存在することが可能となることが好ましい。それにより、細胞が培地50内で懸濁状態から重力によって沈む場合、下方気体透過性物質30上で細胞の均一な堆積が可能となる。図4Bの構成はこの目的を達成する。下方気体透過性物質、例えば物質30は、任意の膜、フィルム又は気体透過性細胞培養装置に使用される材料、シリコーン、フルオロエチレンポリプロピレン、ポリオレフィン及び酢酸ビニルエチレン共重合体等、であり得る。細胞培養における気体透過性物質及びそれらの使用についての学識に関する広範囲に及ぶ情報源は、さらなる指針例えば、同時係属中の米国特許出願第10/460,850号その全体が本明細書中に援用されるに用いることができる。フィルム及び膜という用語の使用は、気体透過性物質全体にわたる非常に薄い間隔distanceを含意する。また、本発明の実施形態は、記載された装置及び方法の気体透過性物質が、フィルム及び膜に付随した厚さを超える場合に機能することを本発明者等は見出した。したがって、培養物の気体交換に寄与する装置の一部は、本明細書中で気体透過性物質と呼ばれる。気体透過性物質は、気体透過性、透湿性、細胞との所望の細胞相互作用に向けて改変する能力、光学的透明度、物理的強度等を含む多様な特性を基に選択されるべきであることが当業者に認識されよう。細胞培養に首尾よく使用されている気体透過性物質の種類を記載する多種多様の情報が存在する。シリコーンはしばしば、良好な選定子となる。シリコーンには優れた酸素透過性があり、光学観察を可能とし得り、簡単には破壊せず、通常、細胞がシリコーンに結合せず、多種多様な形状に簡単に製造され得る。シリコーンが使用される場合、気体移動が望まれる部位で、約0.508cm0.2インチ未満、約0.254cm0.1インチ未満、約0.127cm0.05インチ未満、又は約0.076cm0.030インチ未満であり得る。材料の最良の選択法は用途による。例えば、低温保存にさらされるであろう用途では、Teflon登録商標が好ましいであろう。細胞が気体透過性物質に付着する接着培養に関しては、WO01/92462号、米国特許第4,939,151号、米国特許第6,297,046号及び米国特許出願第10/183,132号に、指針を与える多くの情報源がある。シリコーンが気体透過性物質として使用される場合、従来の見識を超えて厚さを拡大することは、設計に関する選択肢を拡大し、製造プロセスの費用を削減し、且つ破壊の可能性を最小限にし得る。例えば、大きな表面積を有する一部を成形することは、その一部が非常に薄くなければならない場合、おそらく難しい。なぜなら、成形物のコアと本体との間の非常に小さな間隙に、材料が流れ込まない場合があるからである。その一部を厚くすること、つまりその間隙を広げることは、成形プロセスを容易にすることができる。成形に対する利点があり得ることに加えて、より厚い気体透過性物質はまた、ほとんど破壊しないか又はピンホールを示さない。壁の高さ、例えば壁40は、装置のスケールアップ効率に重要な役割を担っている。従来の静止気体透過性装置では、培地の高さに限界がある。例えば、バッグは壁を備えておらず、指示書は培地の高さを制限し、カートリッジ式装置のみ非常に高さの低い壁を備える例えば、Opticell登録商標カートリッジ、CLINIcell登録商標培養カセット、及びPetaka商標カートリッジ。本発明の目的は、培地の高さを増大させ、それにより装置の効率を増大させることである。壁の高さは、どのくらいの培地が装置に存在できるかを決定し得る。培地を加えることによって、より大きな供給源である基質、及び廃棄生成物用のより大きなシンクを提供する。壁高を高めることにより、スケールアップの間、より多くの培地が必要とされる場合、装置の配置はインキュベータ、フローフード及び生物学的有害廃棄物袋の形状と適合する。さらに、細胞が存在する表面積に対する容積の増大は、存在する細胞当たり、より多くの培地が与えられることを可能とし得る。そのことは、栄養供給の頻度を減らす効果があり、したがって労力及び混入の危険性を減らすことができる。装置設置面積1cm2当たり存在する細胞数を増大させる効果もあり得る。また、培地の容積を増大させる壁を組み立てることは、培地蒸発の影響を小さくする有益な効果もあり得る。培地蒸発は、培地内に存在する溶質の濃度を変えてしまうため、細胞培養では問題となる。既存の気体透過性装置はこのような事象になりやすい。なぜなら、それらの装置の培地容積に対する気体透過性表面積の割合が高いからである。このような事象を防止する試みは、例えば米国特許出願第10/216,554号及び米国特許第5,693,537号に記載されているが、装置内の培地の容積を増大させるだけで、蒸発の影響を減らすことができる。従来の静止気体透過性装置に気体透過性表面積に対する培地容積の割合を増大させた場合、溶質濃度変化の割合は、蒸発がある場合に比例的に減少し得る。好ましい実施形態では、壁は、気体/液体界面に依存した装置の高さを超過した高さに培地を存在させることができるようにすべきであり、通常の静止気体透過性装置の高さを上回ることがより好ましい。例えば、壁40の高さは、3mmを超え、より好ましくは2.0cmを超え、その結果利点を与え得る。従来の気体透過性装置よりもより多くの培地を装置に加える選択肢を装置の使用者に提供することにより、1つの装置当たりより多くの細胞を収容する能力、装置への栄養供給頻度の低減、及び設置面積を増大させることのない装置のスケールアップを含む、多くの利点が生じる。壁は任意の生体適合性材料から構成することができ、液体密封シールliquidtightsealを形成するように下方気体透過性物質と結合させるmate噛み合わせるべきである。下方気体透過性物質を壁と結合させる方法としては、接着結合、ヒートシール、圧縮圧密compressionsqueeze、及び部分間の封止を作り出すために一般的に使用される任意の他の方法が挙げられる。任意選択として、壁及び下方気体透過性物質は、同一の材料で形成され、単一体として製造することができる。例えば、シリコーンが用いられる場合、壁及び下方気体透過性物質は、単一気体透過性部品となるように液体注入成形されるか又はディップ成形され得る。それにより、気体透過性細胞培養装置が、図4Bに示されるように垂直に立てて置かれるか、又は、その上に細胞20が静置している気体透過性壁41を示している図4Cに示されるように、装置の側面を下に置く場合に細胞がその上に存在するような気体透過性面を作る利点がある。或る特定の気体透過性細胞培養装置の側面を下に置くことは、装置が、狭間隔のインキュベータ棚に対して高すぎる場合に、装置のプロファイルprofile:横幅が小さくなるため、インキュベータ用空間を最適に使用するのに役立つことができる。気体透過性細胞培養装置の側面を下に置くことが望ましい場合、装置を円形にする代わりに正方形又は長方形にすれば、装置の側面を下に置いた場合に、細胞が存在する平面が作り出されるであろう。これは、細胞が互いの上に積み重なり、場合によっては危険な勾配を生じることになる、集中局在化領域を防ぐため、有利である。装置の深さと幅の寸法が異なる場合、細胞がその上に存在するような3つの相互性表面領域を利用することができる。また、気体透過性細胞培養装置が配置された位置に応じて3つの代替的な最大培地高が存在する。装置がこれらの代替位置での操作用に組み立てられた場合、装置が置かれる面は気体透過性物質から成ることが好ましい。それにより、この面に重力によって沈む細胞が気体交換に最適な近傍にあることを可能とする。実験室の空間の使用を最も効率的にし、培地内の勾配形成を最小限にし、且つ播種中に下方気体透過性物質上で細胞が均一に堆積することを可能にするために、培地を気体透過性物質上に比較的対称的な形状で保持する、構造的に十分な強度を有する壁が構成されることが好ましい。pH又は混入状態を判定するために、壁は培地の色変化を視覚的に評価することが可能であれば、また有利である。気体透過性細胞培養装置が容易に手で持ち上げられることが可能なように壁が構成されてもよい。壁が気体透過性であることが望ましい場合、また、頑丈な位置に壁を固定するために、別個の独立体が壁の周辺に設置された場合、大部分の壁と気体の接触が阻止されないようにすることが好ましい。気体透過性細胞培養装置は、静止モード又は回転モードのいずれかで機能するように構成され得る。そのようにするためには、気体透過性細胞培養装置は、好ましくは円筒型であるべきである。円筒型に形作られた本体は、装置が標準的なローララックに配置される場合、正方形又は長方形の本体よりもより多くの容積を備える。しかし、非筒状の本体形状でも、本体の周りに円形のハウジングを取り付けることにより、ローララックで機能することができる。使用者に、装置を垂直、水平又は回転位置で機能させる選択を与えることが望ましい場合、気体透過性細胞培養装置の底及び側壁の両方が気体透過性物質から成るべきである。装置が水平、回転又は非回転位置で操作されるだけの場合、費用面でより効率的であり、装置の端面が気体透過性物質から成らない場合に蒸発する表面積を最小限にし得る。気体透過性細胞培養装置が下方気体透過性物質を備えた筒状の形状に構成され、且つその壁が気体透過性物質から成る場合、使用者の選択に応じて装置が垂直に立てて配置されるか、又は回転され得る。最大混合が或る用途例えば、抗体産生時間を減らすように求められる場合であり得るに有益性がある場合、気体透過性細胞培養装置を回転することが有利であり得る。この任意選択性が望まれる場合、気体透過性細胞培養装置の壁は、下方気体透過性物質について記載された同一方法で気体透過性にされるべきである。ボトルの長さ又は直径に制限はないが、気体透過性細胞培養装置が標準的なローララックで機能することができるように壁が標準的なローラボトルの直径と一致している場合、有利であり得る。細胞のせん断を低減させることが望ましい場合、細胞のせん断の一因となり得ないように、装置全体を培地で満たすことによりその装置から気体を除去し得る。ポートは、培地が装置全体を満たす際の混入の危険性を減らす、かなりの数の方法で設計され得る。また、装置が回転されるか、又は装置の側面で機能する場合、側面だけが気体透過性物質から成る必要がある。培地が従来の見識を上回る高さで存在することを可能とする装置によってもたらされる、スケールアップの利点は、本明細書中の生物学的結果を示す実施例を踏まえて、当業者に明らかとなるであろう。スケールアップの効率性の例として、気体透過性細胞培養装置が、垂直位置で操作される円筒型であり、その底部が気体交換に付される場合、直径を倍にすると、容積は、高さが一定に保たれる場合の4倍に増大する。例えば、およそ11.430cm4.5インチ径及び約19.558cm7.7インチ高の装置は、約2Lの培地を収容し得る。装置の直径を約22.860cm9.0インチにすることにより、装置は8Lの培地を収容し得る。装置の直径を約45.720cm18.0インチにすることにより、装置は32Lの培地を収容し得る。したがって、重要なパラメータ、例えば、培地の高さ、及び培地容積に対する気体透過性表面積の割合、を一定に保ちながら、培養容積を容易にスケールアップすることができる。これらのパラメータを一定に保つことにより、小容積用の装置に開発されたプロトコルは、装置の容積が増大してもおそらく不変のままである。気体透過性細胞培養装置が垂直位置で操作され、且つ懸濁細胞が培養される場合、周囲気体が、下方気体透過性物質の下面と比較的非閉塞的に接触し得る場合に利点がある。例えば、棚が穿孔されていないインキュベータ内で、下方気体透過性物質がインキュベータの棚と接触するようにした場合、培養物内及び培養物外への気体の移動が制限され得る。図5の断面図に示される実施形態では、下方気体透過性物質サポート80は、下方気体透過性物質30が気体区画90を維持することにより周囲気体と必ず接触するよう作用する。好ましい実施形態では、培養物をサポートするのに必要とされる気体交換の量を減らさずに下方気体透過性物質サポート80が下方気体透過性物質30と部分的に接触することができるようにすることで、気体区画90が維持される。周囲気体にさらすことに加えて、下方気体透過性物質サポート80は、細胞20がどんなに低い位置でも積み重ならないように実質的に水平な状態で下方気体透過性物質30を維持する。これは、細胞20が下方気体透過性物質30の全体にわたって均等に分布し得る状態に対して、拡散勾配を生じ、且つ細胞増殖を制限するであろう。したがって、下方気体透過性物質サポート80の設計目的は、物質が実質的に水平に保たれることを必要とする多くの場所で、下方気体透過性物質30の下面と十分な気体を接触させたまま、下方気体透過性物質30と接触させることであり得る。当業者は、この目的を達成する多くの方法があることを認識しているであろう。図5に示されるように、突出部110がこの目的を達成する。インサーキットテスターbedofnails:ネイルベッド構成は、十分な気体交換をさせながら、実質的に水平位置で下方気体透過性物質30を維持する1つの方法である。例えば、均等に分布され、且つ下方気体透過性物質サポートから1mm突出する1mm×1mmの正方形は、実質的に水平位置で下方気体透過性物質を保持することができる。突出部110が、図5に示されるように、下方気体透過性物質サポート80の表面の50を占める場合、この構成は、十分な気体交換により、約0.010cm0.004インチ厚のシリコーン膜上で1cm2当たり約1億~1.5億個のマウスハイブリドーマ細胞を培養することを可能とする。また、図5に示されるように、下方の気体出入開口部100は、気体が受動拡散により下方気体透過性物質サポート80の気体区画90に対する出入りを可能にする。これは、気体透過性細胞培養装置10Bを、補助的なポンプ機構を必要とせずに周囲条件下で機能させる。足場95は下方気体透過性物質サポート80を持ち上げ、周囲気体が下方の気体出入開口部100で利用可能になるようにさせる。この情報はまた、装置が回転モード又は非回転モードのいずれかで、装置の側面について記載されるように機能する場合、側壁周辺の気体区画を維持するのに適用される。気体透過性物質に十分な気体の接近を可能にする他の可能性も利用できる。インテグラバイオサイエンス社IntegraBiosciencesAG製、例えばCELLine商標製品は、下方のプラスチックサポートから30.48cm1フィート持ち上げたオープンメッシュを用いて、気体透過性膜への気体のアクセスを可能にしている。また、米国特許第5,693,537号もこの特徴に対する付記的なガイダンスを提供している。図5に示される構成では、蓋70が培地出入口60を覆い、混入を防ぐ。O-リング75は、装置が水平位置にあるか、完全に満たされているか、又は偶発的に落下するような場合等、培地50が気体透過性細胞培養装置10Bから漏れないように保証する。或る特定の実施形態では、培地は下方気体透過性物質上全体に存在する必要はない。棚間の距離が制限されたインキュベータでの使用に望まれ得るような、垂直な細胞培養装置のプロファイルを減らすために、培地の一部は下方気体透過性物質の直に上ではない領域に存在し得る。図6の断面図は、垂直位置で操作される場合の気体透過性細胞培養装置10Cのプロファイルを減らすために、壁40Cが下方気体透過性物質30から隔てられた懸濁細胞培養用に構成された実施形態を示す。この構成では、気体透過性細胞培養装置10Cの幅又は直径を単に拡大することにより、装置のプロファイルを減らしながら、細胞が存在する表面積に対する培地容積の割合が一定に保たれ得る。細胞20が、播種、栄養供給及び取り扱いの際に、下方気体透過性物質30上に存在し続けることを確実にするよう留意すべきである。内壁42は、重力により細胞20を下方気体透過性物質30上の領域に維持することにより、このことを達成する。好ましい実施形態では、壁は、3mmを上回る下方気体透過性物質30よりも上の高さに培地を存在させることができるようにすべきである。図7A及び図7Bは、装置内に存在する培地容積に応じて装置の高さを上げるか、又は下げることができる、気体透過性細胞培養装置に関する好ましい実施形態の断面図を示す。図7Aでは、培地50を気体透過性細胞培養装置10Dに加え、浮き胴buoyantshoulder25と接触させる。図7Bでは、培地50は浮き胴25に上方の力を及ぼし、その結果、培地50の容積が増大するに応じて気体透過性細胞培養装置10Dの高さが上がる。示された構成では、壁40Dは気体透過性細胞培養装置10Dの高さを伸縮させるように形作られたベローである。浮き胴25は、培地50よりも密度が小さい任意の生体適合性材料であり得る。また、浮き胴は壁40の一体部分であり得る。気体透過性細胞培養装置10Dを上方に伸長するのに十分な力を発揮するには、培地50の適切な容積を移動させる大きさに作るべきである。この構成では、気体透過性細胞培養装置10Dは、培養を行うのに必要な分だけの空間だけを占め、1つの製品で様々な用途に最適な大きさとなり得る。例えば、ハイブリドーマを培養することに適した培地の容積は、膵島を維持することに適した培地の量とは異なる場合がある。そのような場合、気体透過性細胞培養装置10Dは、各用途に必要な分だけの空間を占めるだけでよい。また、最小容積の状態で、滅菌、出荷、保管、インキュベーション及び廃棄することが可能であり、それにより培養プロセスの費用を削減できる。当業者は、例えば、同時係属中の米国特許出願第10/460,850号で記載されるような多種多様な機械的メカニズム等、浮力以外の装置の形状プロファイルを変更する多くの他の方法があることを認識するであろう。図8は、各ウェルの底部が気体透過性である、気体透過性マルチウェルプレート15に関する実施形態を示す。下方気体透過性物質30Aの特性は、図4Aの実施形態で記載されたものと同一である。6ウェルプレートを示すが、従来の6ウェル、24ウェル、48ウェル、及び96ウェルフォーマットを含む、かなりの数の個々のウェル45を提示することができる。壁40Eは、従来のマルチウェルプレートの壁高を超過する下方気体透過性物質30Aを越える高さに、培地を存在させるように構成されている。それにより、従来のマルチウェルプレートに比べて設置面積を減らしつつ、各ウェルに存在し得る細胞の数を増大させる。例えば、マウスハイブリドーマ細胞は通常、培地1ml当たり1×106個の細胞の密度で存在し得る。ウェルが8.6mm径、培地の高さが2mmである場合、0.12mlの培地では、約0.12×106個の細胞が1つのウェル当たり存在することができる。壁を高くすることにより、1mlの培地がウェルに存在し得る場合、ほぼ5倍もの細胞すなわち、1ml当たり1×106個の細胞をサポートするのに十分な培地が1つのウェル当たり存在し得る。但し、多数の細胞が0.58cm2の表面積すなわち、8.6mm径の気体透過性物質上に存在し得るとする。実施例1は、1×106個を超える多くのマウスハイブリドーマ細胞が、培地容積に依存したこの大きさの表面積に存在し得ることを示す。より多くの培地が、より多くの細胞のサポートができるので、栄養供給の頻度を減らし、培地の組成を変える蒸発速度を低減することができる。壁は任意の生体適合性材料から構成することができ、液体密封シールを形成する方法で、下方気体透過性物質に噛み合わされなければならない。下方気体透過性物質30Aを壁40Eに噛み合わせる方法は、図4Aの実施形態に関して記載されたものと同一である。また、図4Aの実施形態に記載されるように、壁40E及び下方気体透過性物質30Aは同一の材料で形成され、且つ単一体として製造され得る。下方気体透過性物質30Aは、図5に示されるように実質的に水平位置で支えられ得る。ここで、下方気体透過性物質サポート80は、気体区画90と連通する下方気体出入開口部100を備えて構成される。ウェル45の底部のスパンが小さい場合、サポートは不必要である場合がある。なぜなら、気体透過性物質の厚さ及び物理特性によっては、下方気体透過性物質30Aの物理的強度が下方気体透過性物質30Aを適切な水平位置に保持し得るからである。この場合、気体移動が、穿孔されていない棚を備えたインキュベータにおいて問題とならないように、足場95Aを用いて気体透過性マルチウェルプレート15を持ち上げることができる。頂部カバー55Aは、混入を防ぎ、蒸発を最小限にする。図9Aは、一部を切り取った斜視図を示し、図9Bのウェル45Aは、気体透過性マルチウェルプレート16に関する好ましい実施形態のA-Aでの断面図を示す。この実施形態では、ウェルの壁は気体透過性である。6ウェルプレートを示すが、従来の6ウェル、24ウェル、48ウェル、及び96ウェルフォーマットを含む、かなりの数の個々のウェル45Aが提示され得る。従来のマルチウェル組織培養プレートの顕微的付着表面、又は可視光特性のいずれかを保持することが望ましい場合、この構成は有益であり得る。さらに、各ウェル45Aを、細胞培養に使用される従来のマルチウェルプレートの最大の深さよりも深くすることにより、より多くの培地が培養に利用することができ、且つ壁の気体透過性の性質が培養物の適切な気体交換を可能とし、気体/液体界面の位置決めが重要ではないように得る。非気体透過性底部31を液密的に気体透過性壁41と噛み合わせる。この目的を達成する多くの方法がある。例えば、非気体透過性底部31の直径が気体透過性壁41の直径を僅かに上回ると、気体透過性壁41に非気体透過性底部31に対し力が加えられ、それにより液体密封シールを作製することができる。気体透過性壁41は、図4Aの気体透過性物質に関して記載されたような任意の特性を有し得る。しかし、好ましい実施形態では、気体透過性壁41はシリコーンから成る。なぜなら、シリコーンには、液体注入成形により容易に製造される性能、並びに延伸及び非気体透過性底部31に対する液体密封シールを付与する潜在的性能があるからである。非気体透過性底部31は、従来のマルチウェル組織培養プレートで一般に使用される任意のプラスチック、又は当業者には既知の任意の他の細胞付着材料であり得る。気体透過性物質から気体透過性マルチウェルプレート16のウェル底部を含む各ウェルを製造することで、シール接合部がなくて済むため、それほど高価ではないであろう。そのため、接着培養が望まれる場合、適したスカフォールドがウェルの底部に配置され得る。顕微的な評価が望まれる場合、光学的透明度を確実にするように留意すべきである。細胞培養の熟練者当業者に既知のいかなる細胞付着面もウェルに配置され得る。細胞付着面が浮揚性である場合、細胞付着面をウェル内に圧入することにより、細胞付着面を所望の位置に維持させることができる。細胞付着面を適所に保持する多くの他の方法もまた可能である。図10A及び図10Bは、接着細胞を培養する場合、空間をより効率的に利用する気体透過性細胞培養装置の一実施形態の断面図を示す。スカフォールド120は気体透過性細胞培養装置10E内に存在する。側壁40Fは気体透過性物質から成り、そのため装置の側面を介した気体交換が可能である。この様式では、高さが増大するに伴いスカフォールド120が均一に拡大scaleされ得るため、気体透過性細胞培養装置10Eは高さに制限はない。より多くの細胞を培養させるには、装置をより高くし、より多くのスカフォールド120を加えるだけでよい。好ましい実施形態では、各スカフォールド120間の距離は、スケールアップの間、一定に維持される。例えば、スペーサ135を有するスカフォールド120を構成することにより、スカフォールドが等しい距離離れて維持され、且つ気体透過性細胞培養装置10Eの底部と平行に保持され、垂直直線方向にスケールアップされる。ピペット出入開口部125は、気体透過性細胞培養装置10E全体からピペット出入を可能とし、培地が加えられる際にガス抜きをするための開口部を備える。ピペット出入は、中央に示されているが、任意の位置にあることができるか、又は針若しくは隔壁等の任意の他の液体取り扱い形態に有利になるように、完全に取り除くことができる。図10Aでは、各スカフォールド120上の種菌130の容積が等しいので、細胞20Aは種菌130内でよく懸濁されており、且つ各スカフォールド120の上面の周りで均等に分配され得る。スカフォールド120の両面が接着細胞を培養することを意図する場合、図10Aに示されるように、播種は先にスカフォールド120の片面を播種することにより2段階で行われ得る。細胞が重力によって堆積し、スカフォールド120の表面に付着した後、気体透過性細胞培養装置10Eは再播種され、180度回転してスカフォールド120の反対面を露出させる。その後、図10Bに示すように、細胞20Aを固着させ、スカフォールド120の露出面に付着させる。細胞付着後、スカフォールドの片面に播種するには通常24時間未満かかり、利便性convenientのある任意の静止位置、例えば垂直、転置又はその側面上等で装置が操作され得る。必要に応じて、使用者がローラボトルにより等しいフォーマットを望む場合、装置が回転され得る。従来の装置とは異なり、気体交換が気体透過性壁によって生じ、且つ気体/液体界面の必要性がないため、装置は完全に培地で満たされ得る。この様式では、装置は従来の装置よりも、装置の空間の使用に効率的である。なぜなら、培養物の気体交換のために、装置内に気体を存在させる必要がないからである。装置内で培養され得る細胞数に対する制限要因としては、スカフォールド表面積の量、培地が存在する容積、装置の壁に使用される材料の気体透過性及び厚さ、細胞が存在する、装置の気体透過性壁からの距離、並びに培養される細胞の型が挙げられる。気体透過性細胞培養装置を設計する場合に、スカフォールド領域に対する培地容積の割合が重要であることを理解することは、装置のアウトプットを予測する助けと成り得る。例えば、培養がこれまでローラボトルで行われている場合、ローラボトル培養の表面積に対する培地の容積は気体透過性細胞培養装置に再現され得る。例えば、150mlの培地を用いて既存の培養が従来の850cm2ローラボトルで行われ、且つ気体透過性培養細胞装置が、従来のボトルと同一の外側形状を有している場合、表面積に対する培地容積の割合は一定に保たれ得る。従来の850cm2ローラボトルの形状で構成された気体透過性細胞培養装置は、約2,200mlの培地を保ち得る。それは、従来のローラボトルの150ml培地容積に比べ、培地容積が14.67倍増加する。したがって、12,470cm2である表面積における14.67倍の増加は、相当の表面積に対する培地の割合を等しく維持する必要がある。そのため、気体透過性細胞培養装置が2,200mlの培地を含有し、且つスカフォールド表面積が12,470cm2である場合、通常1つのボトル当たり150mlで操作する約15個の従来の850cm2ローラボトルで培養される細胞と同数の細胞を培養することが予想され得る。また、栄養供給の頻度もほとんど同一であるはずである。細胞の集密性を顕微的に査定する性能は、多くの用途に有用である。最も下のスカフォールドが気体透過性細胞培養装置の底部を成す場合、細胞の集密性を査定するのに用いられ得る。各スカフォールド上に存在する培地の容積が播種の間等しい場合、任意のスカフォールド上に存在する細胞の量は培養中比較的等しくなる。したがって、1つのスカフォールドが他のスカフォールドの代表例となり得る。いくつかの顕微鏡では、最も下のスカフォールドを、逆転させて顕微的に観察できる位置に物理的に移動させる性能は、集密性及び形態を良好に査定しやすくし得る。図11の断面図に示される構成は、このことを達成し得る方法を示す。壁4GHが柔軟性である場合、シリコーン等の多くの気体透過性物質の中から製造されるような場合に、気体透過性細胞培養装置10Fに対して最も下のスカフォールド120の移動を可能とするために襞が付けられ得るpleated。顕微的な評価はまた、図11に示された固定化位置に気体透過性細胞培養装置10Fを製造することにより可能とすることができ、それにより、気体透過性細胞培養装置10Fに対して最も下のスカフォールド120を移動させる必要がなくなる。図10A、図10B及び図11に示されるスカフォールドは平坦であるが、スカフォールドは細胞が付着できるいかなる配置形状であってもよい。例えば、表面を波形に成形することは平面に対して表面積を増大することができ、それにより所定のスカフォールド上に存在し得る接着細胞の量を増大させる。図12Aは、波形に成形された丸状のスカフォールド120Aの斜視図を示す。このスカフォールド120Aは直線方向に波形に成形される。図12BはA-Aでの断面図を示す。図12Cは丸状の波形に成形されたスカフォールド120Bの斜視図を示す。このスカフォールド120Bは、円方向で波形に成形され、図12DはB-Bでの断面図を示す。速い速度の気体移動が非常に活発な細胞をサポートするために必要であるいくつかの用途では、図12Aの構成が優れ得る。なぜなら、図12Cの構成の場合のように、気体移動用のチャネルがスカフォールドの端によって閉塞されないunobstructredためである。気体透過性細胞培養装置が回転される他の用途では、図12Cの構成が優れ得る。なぜなら、その形状が、細胞のせん断を引き起こし得る渦巻きを最小限にし得るからである。構成、顕微的観察の方法、並びに図10A、図11及び図12に記載されたもの等のスカフォールド領域を増大する方法は、マルチウェルフォーマットに一体化され得る。これらの構成は、大きさにおいて完全にスケーリング可能である。図9Bは、スペーサ135により所定の距離離れて維持された複数のスカフォールド120を備えて構成された大表面積ウェル46を示す。それらを通常の伝統的なマルチウェル組織培養プレートのウェルの大きさにすることにより、1つのウェル当たりに存在する接着細胞数を実質的に増大させ得る。壁41Aは気体透過性であることが好ましい。図13は、組織培養フラスコフォーマットと同様のフォーマットで細胞を培養するのに有用である気体透過性細胞培養装置に関する構成の一切断面を示す。この実施形態では、装置の少なくとも1つの壁が気体移動を行う。この装置は、空間をよりコンパクトに使用できるようにしながら、気体透過性細胞培養装置に従来の組織培養フラスコと同一の特質を保持させるので有益である。望ましい特質としては、注入又はピペット操作での培地の搬入及び除去の容易さ、顕微的観察能、混入又はpHの変化を示し得る培地の色の変化が容易に見られること、並びに出荷、保管及びインキュベータ用空間を最も効率的に利用するための装置の積載可能性が挙げられる。しかし、組織培養フラスコ操作に必要とされる気体/液体界面が除かれ、且つ1つ又は複数のスカフォールドが存在し得るため、気体透過性細胞培養装置は組織培養フラスコよりも優れる。図示の実施形態では、気体透過性細胞培養装置12は、少なくとも1つの気体透過性壁200を備えた液体密封外枠から成る。培地出入口60Aは蓋70Aで覆われる。スカフォールド120Dは、種菌と培地が各スカフォールド120Dの間に存在できる間隔を有して、互いに平行に配向される。好ましくは、各スカフォールド上に存在する種菌又は培地を等量にするために、スカフォールド120Dは等間隔に位置付けられる。気体透過性壁200の気体透過性物質は、図4Aに示される実施形態の下方気体透過性物質30に関して記載されたものと同一の特質を有する。好ましい実施形態では、スカフォールド120Dは、従来の組織培養フラスコに存在する物質の特徴と一致した物質の特徴を有する。頂部壁201及び最も底部のスカフォールド120Dは透明であるので、培地の色を視覚的に査定すること、並びに底部のスカフォールド120Dを顕微的に評価することが可能である。後部壁又は他の壁を気体透過性にすることにより、さらに気体移動能を作り出すことができる。それは、気体透過性細胞培養装置12の設置面積をさらに増大させることが可能となる効果を有し得る。例えば、気体透過性壁200の気体移動能が、約12.700cm5インチ幅のスカフォールド120D上に存在する細胞をサポートする場合、反対側の壁を気体透過性にするとスカフォールド120Dが約25.400cm10インチ幅である場合に十分な気体移動能が可能となる。気体透過性細胞培養装置12が垂直方向にスケールアップする機能capacityに制限はない。図14A~図14Eは、細胞を培養する際に、より効率的に空間を利用する別の方法を示す。この構成では、スカフォールド120Eは気体透過性細胞培養装置10G内に存在する。この装置は培地50が加えられると容積を拡大することができる。図14Aでは、気体透過性細胞培養装置10Gが装置自体の重さで崩壊の状態にある。これにより、使用される前に、出荷、滅菌及び保管用の空間を効率的に使用することが可能である。スカフォールド120Fをできる限り互いに近接させる。各スカフォールド120Fは、下方の隣接したスカフォールド120Fに力を及ぼすスプリングアーム145を用いて成形される。圧縮されたスプリングアーム145は拡張しようとするが、気体透過性細胞培養装置10Gの上方部分の重さがスプリング力を上回るため、拡張することができない。図14Bでは、種菌130Aを加えることにより浮き胴25Aに対して働いた力を受けて、気体透過性細胞培養装置10Gの高さが上がっている。浮き胴25Aによる種菌130Aの転移により働く上方への力は、スプリングアーム145Kのスプリング力と組み合わされた場合、気体透過性細胞培養装置10Gの上方部分の重さを上回る。スプリングアーム145がその下方の隣接したスカフォールド120Fに対して及ぼす力のため、スカフォールド120Fが離れて互いに等間隔で保持される。各スカフォールド120F上に直接存在する種菌130Aの体積が、各スカフォールド120F上に堆積され得る細胞の量を表す場合、互いに等間隔を保持することは、播種の際に特に有益である。スカフォールド120Fのそれぞれの上に存在する種菌130Aを等しい体積にすることにより、等しい数の細胞が各スカフォールド120F上に存在することができる。図14Cでは、細胞集団の拡大と栄養要求量の増大に伴う培地50の追加に応じて、図14Bに比べ、気体透過性細胞培養装置10Gの高さを再度上げている。スカフォールド120Fは、スプリングアーム145がその下方の隣接したスカフォールド120Fに対して及ぼす力のため、さらに離れて互いに等間隔で保持される。各スカフォールド120Fの間の一定した距離は、細胞の位置する場所全てにおいて表面積に対する培地50の容積の一定の割合を保障し、勾配形成の可能性を減らす。図14Dにおいて、培地50の除去及び浮き胴25Aの上方への力の喪失により、気体透過性細胞培養装置10Gは崩壊している。気体透過性細胞培養装置は、今は廃棄用に効率的な大きさとなっている。接着細胞の回復が必要な場合では、気体透過性細胞培養装置10Gを崩壊させることは、培地50を除去するとともにトリプシンを加える場合、有益である。この様式では、細胞を回復させるのにわずか少量のトリプシンしか必要とされない。当業者は、気体透過性細胞培養装置10Gの高さを変更する多くの他の方法が適用され得ることを認識するであろう。図14Eの斜視図に示されるように、スプリングアーム145はスカフォールド120F内に直接成形され得る。スプリングアーム145は、少なくとも3つの場所に位置決めすることが好ましく、スカフォールド120Fが平面であり、且つ隣接したスカフォールド120Fに平行のままであることを確実にする。細胞接着につながるあらゆる材料が許容されるが、好ましいスカフォールド120F用の材料はかなり脆性のあるポリスチレンである。したがって、スプリングアーム145が、圧力で亀裂が生じることを防止するために良好な成形部品設計によって構成されることを確実にするよう留意すべきである。応力の低い部品設計の技法は、プラスチック部品設計の熟練者当業者によく知られている。気体透過性細胞培養装置の高さに関係なくスカフォールドの位置を移動することが望まれる場合がある。例えば、伸長しない壁を備えた気体透過性細胞培養装置を構成するほうが、より経済的だが、培養中それぞれのスカフォールド上の表面積に対する培地容積の割合を変更することによってその用途が依然として利益を得られる場合、これは実用的であり得る。図15A~図15Cはそのような目的を達成する一実施形態を示す。明確には、気体透過性細胞培養装置の一部だけが示される。図15Aに示される気体透過性細胞培養装置の一部の上面図では、スカフォールド間の距離を変えるために、3つの持ち上げポストelevationpost160が3つのランプ150のそれぞれを上方に移動するように位置付けされる。スカフォールド間の距離を変える方法は、図15B及び図15Cを検討することにより最もよく理解され得る。図15Bは図15AのA-A断面図を示す。図15Bで示されるように、2つのスカフォールド120G間の距離が最小となる位置のスカフォールド120Gを示す。ランプ150はスカフォールド120Gの頂部から延び、持ち上げポスト160はスカフォールドロケータスクリュー170から延びる。持ち上げポスト160はランプ150の上方への移動を始めていない。スカフォールド間の最小距離は、ランプ150上に存在するスカフォールド120Gの下方面と接触するランプ150の高さによって決まることが分かる。図15Cを参照すると、スカフォールド120Gはそれらの間の距離が最大となる位置にある。スカフォールドロケータスクリュー170が回転矢印180の方向に回転することで、持ち上げポスト160がランプ150を上り、その上に存在するスカフォールド120Gを上昇させる。持ち上げポスト160がランプ150Lの最も高い点に存在する場合、ランプ150の高さと持ち上げポスト160の高さを足したものに等しいスカフォールド120L間の最大距離が達成される。スカフォールドロケータスクリュー170が回転する際、スカフォールド120Gが回転するのを防止することにより、持ち上げポスト160がランプ150を上昇移動する間に、ランプ150を固定位置に留まらせる。これは、さねはぎ配置で気体透過性細胞培養装置壁の内部にスカフォールド120Gを噛み合わせることにより達成することができる。図15Aのスカフォールドの上面図で最もよく示されるように、つまみ212は気体透過性壁40Hから延び、各スカフォールド120Gの溝215と噛み合う。これは、ロケータスクリュー170の回転中にスカフォールド120Gの回転を防止するだけではなく、スカフォールド120Gから気体透過性壁40Hが引き離されるのも阻止する。こうして、気体透過性細胞培養装置の形状が保持される。ロケータスクリュー170は、滅菌ピペットチップにより回転されるように構成され、それにより装置の混入を防ぎ、標準的な実験器具の使用によりスカフォールド間の距離を再配置することを可能にし得る。本発明は以下の非限定的な実施例を参照することによりさらに説明される。実施例培地の高さが細胞増殖及び抗体産生に及ぼす効果下方気体透過性物質から成る装置により、培地の高さを変更することが細胞増殖及び抗体産生に及ぼす影響を査定するため、評価を行った。培地容積に対する気体透過性物質表面積の割合を変更することの効果もまた査定された。下方気体透過性物質及び従来の見識を超えた高さで培地を保持する能力を備えて構成された単区画の試験装置を、従来の見識の範囲内の高さで培地を保持した単区画の対照試験装置と比較した。Si-Cultureバッグ米国特許第5,686,304号に定められた1.6cmという培地の高さの限定に対して比較を行った。対照試験装置は、高さ1.6cmで培地を収容するように構成し、試験装置全てに使用された気体透過性物質は、実際のSi-Culture商標バッグから得られた気体透過性物質から成っていた。管状試験装置105を図16に示されるように構成した。壁40IをUltem1000高温ポリカーボネート円筒型ストックから機械加工し、内径約2.540cm1.00インチ及び外径約3.810cm1.50インチの管が得られた。厚い壁により、壁を介した気体移動が培養を促進しないことを保証した。下方気体透過性物質30Aを、Si-Culture商標バッグから除去されたシリコーンから成る厚さ0.045のシートから製造し、機械加工された管の底部に液密的に固定し、その上に存在する細胞20B用の5.07cm2の生育面積が得られた。下方気体透過性物質サポート80Mもまた、Ultem1000から機械加工した。下方気体透過性物質30Aを、気体区画90Aを保持するメッシュ115により水平位置に保った。メッシュ115は、約2.540cm1インチ当たり16本の約0.051cm0.020インチ径のストランドで構成された。下方気体出入開口部100Aを、5CO2、95R.H.および37Cの周囲環境で気体連通させた。試験装置内に備えた培地50Aの量を異なるものとした時の、細胞20Bを増殖させる装置の生産能力を比較した。壁40Iに密着固定した蓋70Bにより筒状の試験装置105を混入から保護した。試験によって、培地50Aが細胞上約1.6cm、3.2cm、5.6cm、10.2cm、15.3cm、及び20.4cmの高さに存在した場合の結果を比較した。培地50Aは、10のHycloneFBSが添加されたHycloneHyQSFM4MAb-Utilityで構成された。細胞20BはIgGを分泌するマウスハイブリドーマ細胞であり、下方気体透過性物質30A1cm2当たり0.76×106個の播種密度で播種した。周囲条件を5CO2、95R.H.、及び37Cとした。周期的に細胞の計数とモノクローナル抗体産生の測定値をELISAにより取った。表1はその結果を示す。従来の見識を代表する試験装置の対応するパラメータすなわち1.6cmで任意の所定の試験装置で測定された各パラメータを割ると、従来の見識を超えた高さに培地を存在させる利点が明らかに示される。試験装置が1.6cmすなわち、1.25cm2/mlの高さで培地を含有する場合、培地容積に対する気体透過性表面積の割合は、Si-Culture商標バッグの割合で試験装置の割合を割ることにより求められる。表2にこの様式における表1のデータを提示する。表2のデータは、気体透過性細胞培養装置の配置を変更してより多くの培地を細胞上に存在させる利点を明らかに示す。例えば、最後の行は、装置が従来の細胞培養用バッグの12.75倍の高さに培地を保持することができる場合、この装置はそれが占める据付面積1cm2当たり2.91倍の細胞を培養することか可能であり、完全産生時間が2.83倍増加するだけで11.99倍のモノクローナル抗体Mabを産生することを示す。また、培養容積に対する気体透過性物質表面積の割合がSi-Culture商標バッグのものと比較された場合、劇的にその割合が減少し得る。その割合がSi-Culture商標バッグにより使用される割合のわずか4であった場合でさえ、培養物を効率的に増殖させた。これにより、培地の高さを上げつつ、装置の設置面積は固定されたままにさせることを含む、多種多様の装置構成の存在が可能である。また、より多くの培地が気体透過性表面積1cm2当たりに存在するので、蒸発の影響を最小限にさせる。重要なことに、このデータは、培養物が増えるが装置の設置面積は小さいままであり得ることを示す。表3は、試験装置に存在する培地の容積を収容するために必要な装置の設置面積の表面積を示す。1行目は試験装置内の培地容積を示す。2行目は、培地を益々加える際に固定されたままの試験装置の設置面積を示す。3行目は、試験装置に存在する培地の容積を保つために通常のバッグで必要とされ得る設置表面積を示す。この場合、設置面積は、メーカの推奨する培地の高さである1.6cmで1行目の容積を含有する場合のSi-Culture商標バッグに関して示される。4行目は設置面積の差異を示す。例えば、試験装置が103.4mlの培地を含む場合、メーカの推奨に従って操作された場合のSi-Culture商標バッグの設置面積は64.6cm2となり得るが、試験装置の設置面積はわずか5.1cm2で済む。そのため、培地を20.39cmの高さに存在させた試験装置は、ほぼ同一の量のMabを産生するためにSi-Culture商標バッグに必要な設置面積の8の設置面積が必要なだけで済んだ。従来の構成の全てに関連する非常に多くの有益性がある。扱いにくい形状の従来の細胞培養用バッグを除外し、インキュベータ用空間のより効率的な使用、より容易な培地の搬入と除去、及び混入危険性の減少に関連した多種多様な有益性を生じることができる。気体透過性カートリッジに存在する少容積の培地は、カートリッジを高くし、培地容積の許容積に対する気体透過性膜の割合を減らすことにより大幅に増加され得る。それは、スケールアップの際にほとんど構成部品が必要とされないことを可能とする効果を有する。従来の気体透過性のペトリ皿及びマルチウェルプレートのフォーマットに関して、装置の設置面積、又は必要とされる装置の数を増やすことなく、より多くの細胞が1つのユニット当たりで存在し得る。また、栄養供給の頻度を低減させ得る。蒸発の影響を最小限にすることは全ての構成で成し遂げられ得る。なぜなら、培地容積に対する気体透過性表面積の割合が大幅に低減され得るからである。気体透過性シリコーンの厚さが細胞増殖に及ぼす影響米国特許第5,686,304号及び米国特許出願第10/183132号によって記載されたような従来の見識、及びシリコーンを使用する市販の気体透過性製品のデザインは、約0.013cm0.005インチを超える厚さのシリコーンが使用されるべきではないことを指示している。しかし、厚さを増大することは製造面及び製品の信頼性の点で利点がある。したがって、下方シリコーン気体透過性物質の厚さが細胞増殖に及ぼす影響を査定するために評価を行った。従来の見識の物質の厚さを、厚さを増大させた同一の材料と比較した。筒状の試験装置を図16に示されるように構成した。壁をUltem1000高温ポリカーボネート円筒型ストックの中から機械加工し、内径約2.540cm1.00インチ及び外径約3.810cm1.50インチの筒が得られた。下方気体透過性物質の4つのはっきり異なる厚さの構成物を、Si-Culture商標バッグから除去されたシリコーンのシートから作製した。下方気体透過性物質30Aを2重、3重、及び4重の層に製造したが、それは、面の周りに均等に分布されたUV硬化シリコーングルーを用いてシリコーンシートを接着し、シート間に空気の隙間を残さずに積層することにより形成した。硬化後、積層シート及び単一シート対照物を機械加工された筒の底部に液密的に固定し、細胞をその上に存在させる5.07cm2の生育面積を得た。試験を3回行った。下方気体透過性物質30Aを、実施例1で説明したように構成された下方気体透過性物質サポート80により水平位置に保たせた。試験によって、培地が細胞上20.4cmの高さに存在した場合の結果を比較した。培地は10のHycloneFBSを添加したHycloneHyQSFM4MAb-Utilityで構成された。マウスハイブリドーマ細胞を、下方気体透過性物質1cm2当たり4.3×106個の生細胞の播種密度で播種した。周囲条件を5CO2、95R.H.、及び37Cとした。周期的に細胞を計数し、グルコースの測定値を取った。表4はその結果を示す。従来の見識を代表する単一の約0.011cm0.0045インチ厚のシートに関して収集したデータに対してデータを参照することによりデータを正規化した。厚さを劇的に増加させる効果が細胞増殖を支援する能力において著しく負の影響とはならないことがはっきりと分かる。物質の厚さを約4倍、すなわち約0.011cm0.0045インチから約0.041cm0.016インチに増加させた場合、細胞増殖における影響はなかった。シリコーン膜の厚さを5.33倍、すなわち約0.011cm0.0045インチから約0.061cm0.024インチに増加させた場合、生育能は11だけ減少した。同様に、従来の見識を超えた7.33倍の厚さの増大は生育能を21だけ減少させた。モノクローナル抗体の産生のためのハイブリドーマ培養等の多くの細胞培養の用途で、79の生存度が一般に認められている。例えば、CELLine商標製品では、操作説明書に記載されているように、ハイブリドーマ生存度は通常50である。そのため、装置のデザインは、劇的に性能を低下させることなくより厚いシリコーンの壁を収納し得る。単純化された液体注入成形又はより低いピンホール電位等の組み立て及び機能の改善は、厚さの増加による結果であり得る。要約すれば、以前まで可能であると思われていたものよりも厚い壁を備えた高い機能性を有する細胞培養装置の設計が可能である。回転型及び非回転型装置での高い液体の高さでの細胞の培養能従来の見識とは異なる様式で気体透過性細胞培養装置を構成することにより得られる利点を査定するために評価を行った。2つの一般的なフォーマット、すなわち、1非回転型気体透過性装置、及び2回転型気体透過性装置を評価した。非回転型気体透過性装置の構成では、培地の高さは、従来の見識によって課された制限をかなり超えていた。培地容積に対する気体透過性表面積の割合は従来の見識のものよりもかなり低く減少した。回転型気体透過性装置の構成では、最新型の気体透過性回転型ボトルのものよりも、培地を気体透過性壁からさらに離れて存在させ、より多くの培地を1つの装置当たりに存在させた。モノクローナル抗体は通常、細胞培養用バッグ及び回転ボトルを利用して産生される。従来の850cm2のローラボトルは対照物としての機能を果たした。試験装置を図4に示される実施形態に従って構成し、従来の850cm2のCorning登録商標ローラボトルと同一の寸法を有するように寸法を構成した。気体透過性物質は、米国特許第5,686,304号でさらに規定されたようなSi-Culture商標バッグのものと同一であった。非回転型試験装置の気体透過性表面積は装置の底部面の面積に限定され、98cm2であった。側壁は気体透過性ではなかった。回転型試験装置の気体透過性表面積は、装置の円筒の側壁面全体の面積に限定され、850cm2であり、その端部は気体透過性ではなかった。培地は、2.5のHycloneFBSを添加したHycloneSFM4MAbで構成された。各試験装置に、使用される培地1ml当たり細胞密度0.04×106個のマウスハイブリドーマ細胞を播種した。試験装置それぞれに2,050mlの培地を入れた。周囲条件を5CO2、95R.H.、及び37Cとした。従来のローラボトルに、ローラボトルでの使用に推奨される最大量の培地である255mlの培地を入れた。抗体の存在をELISAで確かめた。表5はその結果を示す。表5は、従来のローラボトル対照物と同一容積の空間を占める回転型及び非回転型気体透過性試験装置が、如何に約9倍多くの抗体を産生することができるかを示す。表5はまた、如何に回転型気体透過性フォーマットを使用して、静置型気体透過性対応物に比べて抗体を産生するのに必要な時間の総計を減らすことができるのかを示す。20の時間削減3日が達成された。重要なことに、回転型及び非回転型フォーマットは空間面で効率的な配置で少なくとも9倍の改善を生み出すことができ、従来のローラボトルと比較して、滅菌、出荷、保管、労力、インキュベータ用空間、及び廃棄の費用の削減をもたらす。この結果はまた、従来の見識からかけ離れた様式で気体透過性装置を構成することにより得られる利点を明らかに示す。非回転型試験装置における培地の高さは約20.9cmであり、従来の細胞培養用バッグの推奨された最高高さを10倍超えた高さであった。装置が2.0cmの培地の高さに組み立てられた場合、等量の培地を収容するために、非回転型試験装置の設置面積の10倍を超える1,025cm2の設置面積が必要であったであろう。回転型気体透過性装置の配置の有益性は大変多い。回転型試験装置は従来のローラボトル255mlで推奨される培地の最大容積の8倍近い培地の容積、シンセコン社からのRotaryCellCultureSystem商標の4倍を超える培地容積、MiniPERMの5倍近い培地容積、及びスポウドリィング、シュワルツ及びウルフ他、及びファルケンブルク他の特許提案で可能とされたよりもかなり多くの培地容積を収容した。また、培地は、スポルディング、シュワルツ及びウルフ他の特許提案で特定された限度の2倍を超えた、試験装置の気体透過性壁の任意の部分から最大5.6cmに存在した。回転させるための特別な機器をいずれも必要とする、市販のシンセコン社商標からのRotaryCellSystem商標、及びザルトリウスグループのビバサイエンス社からのminiPERM商標とは異なり、回転型試験装置は標準的なローララック上で機能することができた。そのため、回転型気体透過性装置のスケールアップ効率は他の装置及び手法よりもはるかに優れる。気体/液体界面の非存在下での接着細胞の培養能気体透過性壁を介して生じる気体交換を可能とすることにより、気体/液体界面が存在しない場合の接着細胞の培養能を査定するために評価を行った。試験装置を図17に示されるような様式で構成した。この装置は気体/液体界面により気体が移動する可能性を排除した。気体透過性壁試験装置12は、長方形の液体密封外枠241から成り、1つの気体透過性壁200A及び5つの非気体透過性壁210で構成された。気体透過性壁200Aはシリコーン膜から成り、およそ0.0045の厚さであり、メドトロニック社ミネアポリスから購入した。この膜はメドトロニック社で、Si-Culture商標バッグを製造するために使用される。液体搬入口220及び液体除去口230は、播種及び栄養供給を可能とする。対照Falcon商標T-175組織培養フラスコに相当する接着面を設けるために、底部接着スカフォールド240は、Falcon組織培養フラスコから除去されたプラスチックの断片で構成された。外枠241の内寸法は深さ6cm、幅10cm、及び高さ0.635cmであった。そのため、気体透過性壁200Aは幅10cm及び高さ0.635cmであり、6.35cm2の表面積を生じた。底部接着スカフォールド240は幅10cm及び深さ6cmであり、60cm2の接着面を可能とした。気体透過性壁試験装置12を、播種中、培地で全体的に満たし、それにより全ての気体/液体界面が排除された。そのため、気体交換は気体透過性壁200Aに対しての垂直方向への拡散によって生じるだけとなり得る。60,000個のBHK生細胞98の生存度から成る種物を、10のHycloneFBS及び1のL-グルタミンを添加した38.1mlのEMEM培地に懸濁させた。そのため、播種密度は、利用可能な接着スカフォールド240領域1cm2当たり生細胞10,000個であった。培地の容積に対する気体透過性膜の表面積は0.167cm2/mlであった。接着スカフォールドの表面積に対する気体透過性膜の表面積は0.106cm2/cm2であった。対照T-175組織培養フラスコに同じ播種密度及び生存度で同一の細胞を播種した。気体透過性壁試験装置12及びT-175対照を5CO2、95R.H.、及び37°Cの標準的な細胞培養用インキュベータに配置した。細胞は底部接着スカフォールド240及び対照T-175フラスコ上に重力により沈降し、集密に達するまでその培養物を維持した。試験装置及び対照物の両方が接着スカフォールド全体にわたって集密な単層を示した。視覚的な顕微比較により、気体透過性試験装置12及びT-175対照フラスコの両方の細胞密度はほぼ一致して現れた。T-175フラスコをトリプシン処理し、細胞を計数すると、細胞は1cm2当たりおよそ190,000個の細胞の密度に達していることが確認された。試験装置をライトギムザ染色し、底部接着スカフォールド240全体にわたって細胞分布を確認した。図20は、分布パターンを示し、ここで前は気体透過性壁200に近接しており、中間は気体透過性壁200と反対の非気体透過性壁210の間のほぼ中間であり、且つ後は反対の非気体透過性壁210に近接している。図20は、装置の壁が気体透過性である場合、細胞が気体/液体界面、機械混合、又は潅流の非存在下でスカフォールド上で集密に増殖し得ることをはっきりと示す。そのため、壁による気体移動は、図9A、図9B、図10A、図10B、図11、及び図14A~図14Eに示される装置を含む本明細書中に記載されるタイプの細胞培養装置が十分に機能するために適切である。実施例4はまた、気体透過性細胞培養装置の壁のうちのただ1つが気体透過性物質から成っていればよいことを示しており、よって豊富な装置設計の選択肢が見えてくる。例えば、気体透過性装置は、1つの側壁を気体透過性にすることにより従来のT-フラスコフォーマットに構築されてもよい。この様式では、気体/液体界面が必要とされないので、より多くの培地が培養に利用され得るか又は装置のプロファイルが低減され得る。気体/液体界面の非存在下における、複数の接着スカフォールド上での細胞の培養能気体/液体界面が存在することなく複数のスカフォールド上に接着細胞を培養する能力を査定するために、評価を行った。気体交換は気体透過性装置の壁を介して行われた。気体透過性試験装置は、気体/液体界面による気体移動の可能性を排除した図18に示したような様式で構成された。マルチスカフォールド試験装置14は、1つの気体透過性壁200B及び5つの非気体透過性壁210Aで構成された長方形の液体密封外枠で構成された。気体透過性壁200Bは、0.015厚の成形シリコーン物質で構成された。液体搬入口220A及び液体除去口230Aは播種及び栄養供給を可能とする。接着スカフォールド240Aは、NUNC商標CellFactory細胞培養装置から除去されたプラスチックで構成された。マルチスカフォールド試験装置14の内寸法は長さ15.24cm、幅7.62cm、及び高さ2.54cmであった。そのため、気体透過性壁200Bは幅7.62cm、及び高さ2.54cmであり、19.35cm2の気体透過性物質表面積を生じた。各接着スカフォールド240Aは幅6.6cm、及び長さ15.03cmであり、1つの接着スカフォールド240A当たり99cm2の接着表面積を生じた。マルチスカフォールド試験装置14の1つの試験群では、4つの接着スカフォールド240Aが、これらのスカフォールドのそれぞれの間の間隙を5.08mmとして上下に垂直に配置され、その結果、総接着表面積が1つの装置当たり396cm2となった。このバージョンのマルチスカフォールド試験装置14内の培地の容積は、195mlであった。培地の容積に対する気体透過性膜の表面積は、0.099cm2/mlであった。接着スカフォールド240Aの総表面積に対する気体透過性膜の表面積は、0.049cm2/cm2であった。マルチスカフォールド試験装置14の別の試験群では、5つの接着スカフォールドが、これらのスカフォールドのそれぞれの間の間隙を2.54mmとして上下に垂直に配置され、その結果、総接着表面積が1つの装置当たり495cm2となった。各マルチスカフォールド試験装置内の培地の容積は、170mlであった。培地の容積に対する気体透過性膜の表面積は、0.114cm2/mlであった。接着スカフォールド240Aの総表面積に対する気体透過性膜の表面積は、0.039cm2/cm2であった。マルチスカフォールド気体透過性試験装置14を、播種中、培地で全体的に満たし、それによりいかなる気体/液体界面をも排除した。そのため、気体交換は気体透過性壁に対して垂直方向に拡散することでのみ生じ得る。播種密度は、利用可能な接着スカフォールド領域1cm2当たり15,000個のBHK生細胞であった。培地は、10のHycloneFBS及び1のGibcoPenicillinStreptmycinを添加したGibcoGMEMで構成された。また、対照T-175組織培養フラスコに、同じ播種密度及び生存度で、BHK細胞を30mlの同一の培地組成中に播種した。マルチスカフォールド気体透過性試験装置14及びT-175対照物を5CO2、95R.H.、及び37°Cの標準的な細胞培養インキュベータに配置した。細胞は各接着スカフォールド240A及び対照T-175フラスコ上に重力により沈降し、集密に達するまでその培養物を維持した。4日以内に培養を終結させた。接着スカフォールド240A全てをマルチスカフォールド気体透過性試験装置14から除去した。視覚的な顕微比較により、マルチスカフォールド気体透過性試験装置14及びT-175対照フラスコの両方の試験群の細胞密度がほぼ一致して現れ、およそ95の集密性であった。このことは、培養装置内に気体ヘッドスペースを維持する必要性を排除することにより、空間をさらにより効率的に使用する能力を示す。装置が培養を支援するのに必要とされる培地のみを保持するため、装置のプロファイルが著しく低減され得る。この新規装置は従来のT-フラスコ、NUNC商標CellFactory、及びCorningCellStack商標よりもさらによりコンパクトである。このことは、滅菌、出荷、保管、及び廃棄費用の節約をもたらす。さらに、インキュベータ用空間、及びフローフード用の空間がより効率的に使用される。垂直位置において播種された接着細胞培養に関する気体透過性非回転型細胞培養装置従来のフラスコに比べ、細胞を培養するために1つを超えるスカフォールドを備えて構成された非回転型気体透過性細胞培養装置の性能を評価するために試験装置を構成した。図19Aは、気体透過性試験装置260の断面図を示す。スカフォールド120Hを垂直に配置し、一貫した間隙をスペーサ135Bにより各スカフォールド120H間で維持した。壁40Jは気体透過性であり、メドトロニック社ミネアポリスから購入したシリコーンから成り、およそ0.0045の厚さであった。縫合部suture270は気体透過性壁40に力を加え、バルクヘッドガスケット280に気体透過性壁40を押し付け、気体透過性壁40と、上方のバルクヘッド290及び下方のバルクヘッド300との間に液体密封シールを作製した。培地出入口60Bは、気体透過性試験装置260に対する液体の搬入及び除去を可能にした。蓋70Cは混入を防ぎ、操作中は密栓されていた。図19Bはスカフォールド120Hの斜視図を示す。このスカフォールドは組織培養処理されたポリスチレンから作られ、約0.102cm0.040インチの厚さであった。直径約1.905cm0.75インチのピペット出入開口部125Aはピペットの出入を可能とし、スカフォールド120H間で気体がトラップされるのを防いだ。4つのベントスロット190は、トラップされた気体が出るためのさらなる領域を可能とし、気体/液体界面がすべて除去されるのを確実にした。各スカフォールド120Hの片面当たりの表面積は約86cm2であった。気体透過性試験装置260の内径は約11.176cm4.4インチであり、下方バルクヘッド300の内側面から上方上部バルクヘッド290の内側面へ測定した場合の内高は約5.715cm2.25インチであった。そのため、気体透過性物質の表面積は561cm2であった。8つのスカフォールド120Hは、スペーサ135Bを用いて垂直に積層され、スカフォールドそれぞれの間の間隙を約0.635cm0.25インチに維持した。8つのスカフォールド120Hの上面の表面積を合わせると、695cm2であった。気体透過性試験装置260の内容積はおよそ500mlであった。したがって、培地容積に対する気体透過性物質の割合は561cm2/500ml、すなわち1.12cm2/mlであった。1GibcoAminoAcidsSolution及び10HycloneFBSを添加した500mlのGibcoGMEM培地に懸濁させた10.425×106BHK細胞を、気体透過性試験装置260Pに播種し、接着表面積1cm2当たり細胞15,000個の播種密度を生じた。また、対照T-175フラスコにも、30mlの同等培地の接着表面積1cm2当たり15,000個の細胞を播接した。およそ96時間後、培養を完結させた。気体透過性試験装置260を分解し、スカフォールド120Hのそれぞれを顕微的に検査したところ、細胞の集密パターンが8つのスカフォールド120Hのそれぞれの上方面上に存在したことを示唆した。また、顕微的な評価により確認されたように、対照T-175フラスコも集密性であった。T-175フラスコ及び気体透過性試験装置260をトリプシン処理し、標準的な細胞計数技法を用いて、存在する細胞数を測定した。表6はその結果を要約する。表6は、細胞が気体/液体界面の非存在下にもかかわらず新規気体透過性試験装置260で増殖及び健全に生き残ることができたことを示す。各装置によって占められる空間の容積は注目に値する。気体透過性試験装置260の設置面積は100cm2であり、ネックを含めた高さは7.6cmであった。そのため、占められた空間は約760cm3であった。ネックを含めたT-175フラスコの設置面積はおよそ長さ23cm×幅11cmであり、本体は高さ約3.7cmであった。そのため、占められた空間は約936cm3であった。気体透過性試験装置260はT-175フラスコよりも約8.4倍多い細胞を培養したので、同一の時間で同じ量の細胞を得るには8.4個のT-175フラスコを用いることになるであろう。表7は、表6の実験結果に基づいて、気体透過性試験装置260により培養された同数の細胞をT-175フラスコを用いて生成した場合、占められたであろう空間の差異を示す。気体/液体界面を排除する利点は明らかである。10倍を超える空間の減少が気体透過性試験装置260により得られる。このことは、滅菌、出荷、保管、インキュベータ用空間の使用、及び廃棄物処理の費用節約をもたらす。さらに、手で操作されることを必要とする装置の数は著しく減少し、劇的な労力及び混入危険性の低減をもたらす。垂直位置及び反転位置における播種された接着細胞培養に関する気体透過性非回転型細胞培養装置図19Aに示される試験装置を用いて、実施例6で前に規定されたように、細胞がスカフォールドの上面及び底面の両方に接着するかどうかを確かめるために実験を行った。このことは、2段階の播種により完遂し得る。段階1では、垂直位置に配向させたまま、第1の種菌を気体透過性試験装置に配置した。細胞を24時間かけて、スカフォールド上に重力で沈降させ、且つスカフォールドの上面に接着させた。段階2では、第2の種菌を気体透過性試験装置に配置した。気体透過性試験装置を反転させ、第2の種菌の細胞を、スカフォールド上に重力で沈降させ、且つスカフォールドの底面に接着させた。このプロセスを、1cm2当たり15,000個の細胞の密度でスカフォールドの露出表面に播種するのに十分なBHK細胞から成る各播種で行った。培地組成は実施例6に記載されたものと同一であった。1回目の播種と2回目の播種との間の時間間隔は24時間とした。2回目の播種後、培養を72時間で完結させた。装置を分解し、各スカフォールドを顕微的に査定した。細胞を各スカフォールドの上面と底面の両方の上に均一に分布させた。次に、細胞をトリプシンを用いて除去し、計数を行った。表面積1cm2当たり生細胞の平均数量は、144×105であり、99を超える生存度であった。このようにして、細胞を、スカフォールド120の上面及び底面上に接着させ、且つ増殖させることができた。したがって、新規気体透過性細胞培養装置は、従来の装置に比べて大きさをさらに低減させることが可能である。接着細胞培養に関して、あらゆる平面に細胞接着領域を有する多種多様なスカフォールドの配置が存在し得る。スカフォールド間の距離を制限した、垂直位置及び反転位置にて播種された接着細胞培養のための気体透過性非回転型細胞培養装置装置内により大きなスカフォールド領域を挿入することにより、装置の大きさをさらに低減することができるかを確かめるために試験を行った。空間さらに節減するために、各スカフォールドの上方及び下方の面を用いて細胞を培養した。実施例7の気体透過性試験をさらなるスカフォールドを用いて製造した。表面積に対する容積の割合が従来の組織培養フラスコとほぼ同じとなるようにスカフォールドの数及びスカフォールド間の距離を選択した。従来のT-175フラスコに推奨される培地容積は、約16~32mlと異なるインビトロジェンライフテクノロジーInvitrogenLifeTechnologies。このことは、接着表面から約0.09~0.18cmのところに培地が存在することを要求する。この実施例の試験装置は2段階で播種され、細胞を各スカフォールドの上面及び下面上に存在させるようにした。したがって、空間及び労力節約の点で気体透過性細胞培養装置がもたらすことのできる価値の控えめな評価を得るために、各スカフォールド間に0.34cmの培地の高さが存在することを可能にした。この様式では、表面積に対する培地の割合は、T-175フラスコに対して一定に保たれた。事実上、各スカフォールド面はスカフォールド間の培地の半分を利用できた。また、そのスカフォールドに隣接したスカフォールドは、もう半分の培地を利用できた。そのため、スカフォールドの各面に利用可能な培地は、増殖表面1cm2当たり0.17cm高さの従来の組織培養フラスコと一致した。14個のスカフォールドを試験装置に挿入し、およそ0.34cmの等間隔で配置した。0.17cmの高さに存在する30mlの培地を有するT-175フラスコは、対照物として作用した。実施例7に詳細に記載されたように、BHK細胞を用いた播種を2段階で行った。培地組成は、実施例6に記載されたものと同一であった。2回目の播種から72時間後培養を終結させ、装置を分解し、各スカフォールドを上面及び下面上での細胞の分布に関して顕微的に査定した。各スカフォールドは、T-175フラスコのそれとほぼ同じ上面及び下面上での分布パターンを示した。表7は、新規気体透過生細胞培養装置の表面積を増大させることにより、所定の量の細胞を培養するのに必要とされる空間を従来のT-175フラスコと比較して減らす方法の例を示す。例えば、新規の気体透過性細胞培養装置が2,432cm2のスカフォールド表面積を含む場合、等しい表面積を提供するには14個のT-175フラスコが必要とされるであろう。スカフォールド表面積1cm2当たり1.7mmの培地が利用可能であるように意図される場合、新規気体透過生細胞培養装置により占められる空間の容積が決定され得る。表8は、この場合の、各タイプの装置により占められる空間の容積の劇的な差異を示す。気体透過性細胞培養装置が、従来のフラスコと同一の表面積に対する培地の割合を有するように設計される場合、空間のさらにより効率的な使用をもたらすことが分かる。同じ量の細胞が望まれる場合、気体透過性細胞培養装置が占める空間の容積はT-175フラスコが占める空間のわずか1/16である。このことは、滅菌、出荷、保管、及び廃棄に関する費用削減にそのまま言い換えられる。本発明は、例示の目的のために示され、且つ上述される上記の実施形態に限定されず、添付の特許請求の範囲内に含まれるそのいかなる変更又はその変形をも含むことを意図するものであると理解されるべきである。垂直位置にて播種された接着細胞培養に関する気体透過性回転型細胞培養装置図19Aの断面図で示されたように、且つ実施例5でさらに規定されたように、気体透過性試験装置260を構成し、1つを超えるスカフォールドを備えて構成される気体透過性細胞培養装置を回転させる性能を評価した。垂直な非回転位置における気体透過性試験装置260を用いて、1のGibcoAminoAcidsSolution及び10のHycloneFBSを添加した、500mlのGibcoGMEM培地に懸濁させた10.425×106個のBHK細胞を、気体透過性試験装置260内に播種し、接着表面積1cm2当たり15,000個の細胞の播種密度を生じた。また、対照T-175フラスコにも、30mlの同等培地の接着表面積1cm2当たり15,000個の細胞を播種した。およそ24時間後、気体透過性試験装置を、1RPMで回転させた標準なローララック上に配置した。回転開始の3日後、気体透過性試験装置を分解し、スカフォールドのそれぞれを顕微的に試験したところ、細胞の集密パターンが8つのスカフォールドのそれぞれの上面に存在したことを示唆した。対照T-175フラスコもまた、顕微的な評価により確認されたように集密であった。このことは、細胞の増殖が新規の気体透過性細胞装置を回転することにより阻害されないことを示す。そのため、回転型又は非回転型であり得る装置を作製することは、使用者のプロトコル開発により多くの選択肢を可能とする。本明細書中に記載された本発明における精神から逸脱することなく、多様な変更が本開示に対して成され得ることを当業者は認識するであろう。したがって、例示された実施形態及び記載された実施形態に対して本発明の幅を制限することは意図されない。むしろ、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲とその均等物により解釈されるべきである。本明細書中に引用された各刊行物、特許、特許出願、及び参考文献は、ここで参照により本明細書に援用される。"