"ガラス原料を溶解してガラス素材を得る工程と、前記ガラス素材を加熱軟化し、成形型を用いてプレス成形する工程とを含み、前記ガラス原料の溶解を、露点15°C以下の雰囲気で行うことを特徴とする光学素子の製造方法。前記ガラス原料の溶解を、露点0°C以上の雰囲気で行う請求項1記載の光学素子の製造方法。前記ガラス原料の溶解を、露点4°C以上13°C以下の雰囲気で行う請求項1記載の光学素子の製造方法。ガラス素材のβ-OHが0.08mm-1以下となるように前記露点を制御する請求項1乃至3のいずれか1項記載の光学素子の製造方法。ガラス素材のβ-OHが0.06mm-1以上となるように前記露点を制御する請求項1乃至4のいずれか1項記載の光学素子の製造方法。前記ガラスが、ビスマス系ガラスである請求項1乃至5のいずれか1項記載の光学素子の製造方法。ガラス原料を溶解する容器と、前記容器の周囲に露点を制御した雰囲気を形成する手段と、を備えることを特徴とする光学素子の製造装置。本発明は、上記従来の事情に対処したもので、ガラス原料を溶解して得られたガラス素材をプレス成形して光学素子を製造する方法及び装置において、クモリのない光学性能に優れる光学素子を安定して製造でき、製品の歩留まりを向上できる方法及び装置の提供を目的とする。本発明の光学素子の製造方法は、ガラス原料を溶解してガラス素材を得る工程と、前記ガラス素材を加熱軟化し、成形型を用いてプレス成形する工程とを含み、前記ガラス原料の溶解を、露点15°C以下の雰囲気で行うことを特徴とするものである。本発明の光学素子の製造装置は、ガラス原料を溶解する容器と、前記容器の周囲に露点を制御した雰囲気を形成する手段と、を備えることを特徴とするものである。本発明によれば、クモリのない光学性能に優れる光学素子を容易に、かつ安定して製造でき、製品の歩留まりを向上できる。本発明者は、光学素子表面に生じるクモリの原因が、プレス成形温度付近において、表面近傍のガラス構造内に取り込まれた水が水蒸気として大量に発生し、この発生した水蒸気が脱離する際に、光学素子表面に無数のクレーター状の欠陥を残すことにあると考え上記表面欠陥が目視では透明度が失われクモリとして観察される、一定の露点以下の環境でガラス溶解したものについて、プレス成形を行ったところ、前記クレーター状欠陥が著しく改善されることを見出した。そして、このような知見を基にさらに鋭意研究を重ねた結果、ガラス素材からプレス成形法により製造される光学素子の表面に発生するクモリとガラス素材のβ-OHに相関があり、ガラス素材のβ-OHが一定の値より大きくなるとクモリが発生すること、また、そのガラス素材のβ-OHとガラス素材を製造する際のガラス原料の溶解雰囲気の露点との間に明瞭な比例関係があり、溶解雰囲気の露点が高くなるほどβ-OHが大きくなることを実験により確認した。すなわち、図1は、リン酸ビスマス系硝材を用いて調べた、ガラス素材のβ-OHとガラス素材を製造する際のガラス原料の溶解雰囲気の露点との関係を示したグラフである。図1から明らかなように、溶解雰囲気の露点が高くなるほどβ-OHが大きくなっている。なお、このリン酸ビスマス系硝材は後述する実施例で用いたものと同じものである。これらの結果から、ガラス原料の溶解雰囲気の露点が一定の値以下となるように制御することにより、光学素子表面のクモリの発生を抑制できることがわかる。そして、本発明者は、ガラス原料の溶解雰囲気の露点が15°C以下となるように制御することにより、光学素子表面のクモリの発生を抑制できることを見出した。本発明はこのような知見に基づいてなされたものであり、ガラス原料を溶解して光学素材を得る工程と、前記光学素材を加熱軟化し、成形型を用いてプレス成形する工程とを含み、前記ガラス原料の溶解は、露点温度15°C以下の雰囲気で行うことを特徴としている。ここで、上記β-OHは、鏡面研磨された平行平面を持つ板厚dmmのガラス試料について、フーリエ変換赤外分光光度計FT-IRを用いて赤外線吸光スペクトルを測定し、その吸光スペクトルの波数2900~3600m-1の範囲における吸光度のピーク値をA、そのピークのベースラインの前記ピーク位置における吸光度をBとしたとき、次式で定義されるものである。単位はmm-1である。β-OH=A-B/d例えば、図2は、図1で用いたものと同じ板厚1mmのリン酸ビスマス系硝材を用いて製造されたガラスについて測定した赤外線吸光スペクトルの一例を示したもので、波数2900~3600m-1の範囲における吸光度のピーク値Aが0.24、そのベースラインの前記ピーク位置における吸光度Bが0.13である。したがって、この例におけるβ-OHは、0.24-0.13=0.11mm-1となる。本発明者は、上記知見に加え、さらに、ガラス素材のβ-OHが小さくなると、プレス成形時の光学素子表面のクモリの発生を抑制できるが、ガラス素材が成形型に貼り付いて、いわゆる押し切り不良の発生する可能性があることを見出した。ここで、押し切り不良とは、一定のタクトでプレス成形する場合に、タクト内で押し切りが完了しないことをいう。そして、本発明者は、ガラス原料の溶解雰囲気の露点が0°C以上となるように制御することにより、かかるガラス素材の成形型への貼り付き、押し切り不良、並びにクモリの発生を抑制し、良品率を向上できる点で好ましいことを見出した。したがって、本発明においては、ガラス原料の溶解を、露点が0°C以上15°C以下の雰囲気で行うことが好ましい。なお、このようにガラス素材のβ-OHが小さくなると、ガラス素材の成形型への貼り付き、押し切り不良が発生するのは、β-OHが小さくなると、ガラスの熱特性、特に屈服点Atが上昇するからと考えられる。すなわち、図3は、図1で用いたものと同じリン酸ビスマス系硝材を対象として、ガラス素材のβ-OHと屈服点Atの関係を調べた結果を示したものであり、β-OHの低下とともに、屈服点Atが上昇しているのがわかる。ちなみに、図3に示したものでは、β-OHが0.1mm-1低下すると、屈服点Atが約1.2°C上昇している。本発明において、ガラス原料の溶解雰囲気の露点を制御する方法としては、溶解雰囲気、例えば、バッチ式の溶解設備では、ガラス原料を溶解するための坩堝等の容器を収容した溶解炉内等に、露点を制御した空気、酸素ガス、二酸化炭素ガス、窒素ガス、ヘリウムガス等のガスを導入する方法の他、溶解雰囲気における露点を測定し、その露点に応じて、乾燥または加湿した空気、酸素ガス、二酸化炭素ガス、窒素ガス等のガスを導入する方法等を使用できる。加湿したガスの導入に変えて、水を直接、溶解炉内等に導入するようにしてもよい。また、連続式溶解設備では、溶解槽、清澄槽等の槽を収容した装置内部に、バッチ式の溶解設備の場合と同様、露点を制御した空気、酸素ガス、二酸化炭素ガス、窒素ガス、ヘリウムガス等のガスを導入する方法、装置内部の露点を測定し、その露点に応じて、乾燥または加湿した空気、酸素ガス、二酸化炭素ガス、窒素ガス等のガスを導入する方法等を使用できる。さらに、バッチ式及び連続式のいずれの場合も、溶解雰囲気の露点を下げる手段として、溶解設備が置かれた部屋または施設内の空調設備を利用することも可能である。ガラス原料の溶解雰囲気の露点は、上記のような手段を単独、または適宜組み合わせることにより、所定の範囲に制御される。本発明においては、成形時のクモリの発生を抑制する観点からは、ガラス原料の溶解雰囲気の露点を13°C以下に制御することが好ましく、ガラス原料を溶解して得られるガラス素材のβ-OHが0.08mm-1以下となるように制御することがより好ましい。また、成形時の押し切り不良の発生を抑制する観点からは、ガラス原料の溶解雰囲気の露点を4°C以上に制御することがより好ましく、ガラス原料を溶解して得られるガラス素材のβ-OHが0.06mm-1以上となるように制御することがより一層好ましい。以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。図4は、本発明の一実施形態の光学素子の製造方法に使用するガラス溶解装置の一例を概略的に示す図である。図4に示すように、このガラス溶解装置は、溶解炉11と、溶解炉11内に収容されたガラス原料12を溶解するための容器である坩堝13と、坩堝13の底部に接続され、溶解したガラスを流出するための流出パイプ14と、溶解炉11内に乾燥ガスまたは加湿ガスを導入するためのガス導入パイプ15とを備える。溶解炉11は、内部に収容した坩堝13を加熱するヒータ等の加熱手段16を備え、また、坩堝13は、ガラス原料12の溶解とともに清澄、均質化をも行うもので、ガラス原料12を撹拌するための撹拌機17を備える。さらに、この溶解装置には、溶解炉11内の雰囲気の露点に応じて、ガス導入パイプ15から溶解炉11内に乾燥ガスまたは加湿ガスを導入されるようになっている。すなわち、溶解炉11内の雰囲気の露点が所定の値より低下した場合には、ガス導入パイプ15から加湿したガスが導入され、逆に、同露点が所定の値より高くなった場合には、ガス導入パイプ15から乾燥したガスが導入され、これにより、溶解炉11内の雰囲気つまり、ガラスの溶解雰囲気の露点は、常に所定の範囲に保持される構成となっている。本実施形態においては、まず、所望の組成となるように各種原料を調合してガラス原料を得る。本実施形態において使用されるガラスは特に限定されるものではないが、特に、高屈折率の光学素子に使用されているビスマス系ガラスが好適である。すなわち、このビスマス系ガラスは、光学素材を高屈折率化でき、それに加えてガラスを軟化させる効果がある酸化ビスマスBi2O3を必須成分として含有するものである。その他の成分としては、例えば、P2O5、B2O5、Li2O、Na2O、K2O、Nb2O5、WO3、TiO2、Al2O3、GeO2、TeO2、Ga2O3、ZrO2、Gd2O3、La2O3、Y2O3、Ta2O5、MgO、CaO、BaO、SrO等が挙げられる。このようなビスマス系ガラスは、プレス成形時に前述したようなクモリや押し切り不良が発生しやすく、本発明を適用した場合に大きな効果が得られることから、本発明に用いる材料として好適である。酸化ビスマスを10モル以上含有するものは、プレス成形時のクモリや押し切り不良がより発生しやすいことからより好適であり、酸化ビスマスを20モル以上含有するものは、プレス成形時のクモリや押し切り不良がさらに発生しやすいことからより一層好適である。本発明による効果が極めて顕著なビスマス系ガラスの具体的な組成例としては、次のものが挙げられる。酸化物基準の質量で、P2O510~18、Bi2O337~64、Nb2O55~25、Na2O4.1超~10、K2O0~2、WO30~20未満、TiO20~3、及びB2O30~2を含み、屈折率ndが1.98以上で、アッベ数νdが20以下のビスマス系ガラス。次に、上記ガラス原料を坩堝13に入れ、溶解炉11内で加熱溶解する。この溶解工程中、溶解炉11内の雰囲気の露点を測定し、その値に基づいて、ガス導入パイプ15から溶解炉11内に乾燥ガスまたは加湿ガスを導入して、溶解炉11内の雰囲気の露点が所定の温度範囲になるように制御する。その後、溶解したガラスを、流出パイプ14より流出させ、プレス成形用のプリフォームを作製する。プリフォームの作製方法は特に限定されるものではなく、従来より知られる種々の方法を使用できる。続いて、得られたプリフォームをガラス素材として、所望の形状にプレス成形して目的の光学素子を得る。この成形工程は特に限定されるものではなく、従来から知られる方法を使用できる。以下、その一例を記載する。まず、工程の説明に先立って、この成形工程に用いる成形型及び成形装置について説明する。成形型20は、図5に示すように、光学素子の上面を成形する上型21と、光学素子の下面を成形する下型22と、上型21及び下型22を内挿し摺動させて、光学素子の中心軸の位置合わせを行う円筒状の内胴23と、内胴23の外周に嵌合され、上型21及び下型22の上下方向の距離を規制するための円筒状の外胴24とから構成されている。上型21及び下型22は、それぞれ円柱状の胴部を基本形状とする部材であり、これらの上型21及び下型22は光学素子を成形するため、上型21には光学素子の上面を形成する上成形面21aが、下型22には光学素子の下面を形成する下成形面22aが形成されている。そして、上型21及び下型22は、これら上成形面21aと下成形面22aとを対向させてなる一対の成形型として使用される。内胴23は、中空円筒形状に形成されており、その中空部分は上記した上型21及び下型22の円柱状の胴部が嵌合可能になっている。この内胴23は、上型21及び下型22を嵌合してプレスする際に、これら上型21及び下型22をそれぞれ上下の開口から摺動可能に挿入され、それらの光学中心軸を同軸上に規制するように位置合わせして、形成される光学素子の光学機能面を同軸のものとする。外胴24は、内胴23と同様に中空円筒形状であるが、その中空部分に内胴23が嵌合され、上型21及び下型22間の距離を規制する。具体的には、この外胴24は、プレス成形時において、上型21及び下型22を互いに接近させて下型22上に置かれたガラス素材1を加圧するときに、その加圧のためのプレス手段30a,30bの加圧面間の距離を規制することで、上型21及び下型22の距離を規制する。ここで、外胴24は、内胴23と同一の中心軸を有する。また、成形装置は、光学素子を成形するための成形室となるチャンバーと、このチャンバー内部に設けた成形型を加熱して光学素材を軟化させる加熱手段と、加熱軟化した光学素材をプレス成形させるプレス手段と、プレス成形による光学素子形状が付与された光学素材を冷却する冷却手段とを備える。加熱手段とプレス手段と冷却手段は、この順に並べられている。成形室であるチャンバーは、その内部において、光学素材を軟化し、変形を容易にするために高温に加熱されるものであり、成形型が酸化されないように、チャンバー内雰囲気を窒素等の不活性ガス雰囲気とする。この不活性ガス雰囲気とするには、チャンバーを密閉構造として内部雰囲気を置換すればよいが、半密閉構造として、不活性ガスを常時チャンバー内に供給して、チャンバー内を陽圧にしながら外部の空気が流入しないようにして不活性ガス雰囲気を維持してもよい。加熱手段は、その内部にヒータが埋め込まれた上下一対の加熱プレートから構成され、成形型に収容された光学素材を軟化させる。この加熱プレートは、上下一対の加熱プレートを成形型の上型、下型にそれぞれ接触させることで、上型及び下型を加熱でき、さらに成形型内部に収容されている光学素材も加熱できる。プレス手段は、その内部にヒータが埋め込まれた上下一対のプレスプレートから構成され、上下のプレスプレート間の距離を狭めることにより、そのプレートの加圧面を成形型と接触させ上型と下型との距離を狭めて、成形型内に収容された光学素材を軟化状態のまま押圧して変形させ、上型及び下型の光学成形面形状を光学素材に付与することで光学素子を成形する。このプレスプレートを用いたプレスは前段階の加熱温度を維持しながら行われる。冷却手段は、その内部にヒータが埋め込まれた上下一対の冷却プレートから構成され、成形型を冷却することにより光学素子形状が付与された光学素材を冷却、固化する。この冷却プレートは、上下一対の冷却プレートを成形型の上型、下型にそれぞれ接触させることで、上型及び下型を冷却し、さらに成形型内部に収容されている光学素材も冷却できる。そして、成形型は、これらの加熱手段、プレス手段、及び冷却手段の各手段間を順次移動しながら所定の処理が施される。この手段間の移動は、ロボットアーム等により行われる。成形工程では、上記成形装置を用い、成形型20内部に、溶解したガラスから作製したプリフォーム1を収容し、加熱プレートにそれぞれ上型21及び下型22を接触させて成形型20を加熱して、光学素材1を軟化させる。次いで、成形型20に収容したプリフォーム1をプレス成形するために、加熱された成形型20をプレス手段であるプレスプレート30b上に移動させ、載置する図5a。その後、プレスプレート30aを押し下げて、プレスプレート30a,30bによりプレス成形するが、プレスプレート30aを下降させると、プレスプレート30aは上型21と接触して上型21を押し下げていく。上型21が押し下げられると、プリフォーム1はその圧力により変形し、プレス成形される。このプレス成形では、プレスプレート30aが外胴24により規制されるまで下降させて押し切られ、プレスプレート30a,30b間の距離は、外胴24の高さにより決定され、このとき、プリフォーム1が所定の厚みになる図5b。この加熱及びプレス工程において、プリフォーム1は、変形が可能な屈伏点At-20°C以上に加熱されるが、一般的には、軟化点SPまで温度を上げるとレンズ表面が白濁するので、屈伏点At-20°Cから軟化点SPの間の温度に設定する。この加熱温度は、光学素材が加圧変形できる温度であればよく、屈伏点At-20°Cと軟化点SPとの中間付近の温度が好ましい。加熱手段及びプレス手段を所定の温度に設定して加熱することで、これらの加熱手段及びプレス手段に接触した上型21及び下型22は、温度が昇温していき設定温度と同じ温度にまで加熱される。プレス工程では、上記したように成形型20の上から圧力をかけることでプリフォーム1をプレス成形し、これによりプリフォーム1には上型21及び下型22の光学成形面21a、22aが転写され、光学素子形状が付与される。この後、成形型20を冷却プレート上に移動させ、冷却プレートと成形型20を接触させて成形型20を冷却することによって、プリフォーム1を冷却、固化する。このようにして冷却、固化して得られた光学素子は、必要に応じてアニール等の歪みを除去する後処理等が施された後、その外周部を切削する等して所望の外径を有する光学素子形状に加工され、さらに、反射防止コート等が設けられ、最終的な製品とされる。本実施形態の光学素子の製造方法においては、ガラス原料を溶解させる雰囲気の露点を所定の範囲に制御しているので、成形ガラス表面のクモリの発生や、成形時の押し切り不良を容易に防止できる。以下、本発明の実施例等を記載する。例1下記組成質量となるように原料を秤量した。なお、原料には、P2O5の場合はH3PO4、BPO4、BaPO32、NaPO3、KPO3を、B2O3の場合はH3BO3、BPO4またはそれらの組み合わせを、Na2Oの場合はNa2CO3、NaNO3、NaPO3またはそれらの組み合わせを、K2Oの場合はK2CO3、KPO3またはそれらの組み合わせを、Bi2O3、Nb2O5、WO3、TiO2の場合は酸化物を、それぞれ使用した。P2O514.98Bi2O341.64Nb2O523.30Na2O4.64K2O0.64WO311.05TiO21.97B2O31.78秤量した原料を混合し、図4に示すガラス溶解装置の坩堝白金製、容量10Lに入れ、約1050°Cで、約8時間、加熱溶解させた。この間、溶解炉内に露点が0~15°Cを保持するように、溶解炉内に露点-80°Cの乾燥空気を流量1~5L/minで導入した。次いで、この溶解したガラスから常法によりプリフォームを作製し、さらに、図5に示した成形型20を用いて、光学素子を製造した。ここで用いた成形型20は、外胴以外はタングステンカーバイドからなる超硬合金製で、プレス成形により、直径15mm、中心厚さ4mm、周辺厚さ2mmの両凸形状の光学素子が得られるものである。上型は胴部直径17mm、フランジ直径23mm、フランジ厚み3mmであり、下型は胴部直径17mm、フランジ直径23mm、フランジ厚み3mmである。内胴はその円筒状内径が17mmで、上型及び下型とはクリアランスを5μm設け、外径23mm、長さ18mmである。外胴はステンレスSUS316L製で、その円筒状内径23.2mm、外径29mm、長さ24.9mmである。まず、成形型20の内部にプリフォーム1を収容し、510°C程度に予備加熱した後、搬送手段により520°Cに加熱されたプレスプレート30b上に搬送して載置すると同時に、プレスプレート30bと同じ温度に加熱したプレスプレート30aを下降させて上型31に接触させ、上型21、下型22及びプリフォーム1を120秒間加熱して、プリフォーム1を軟化させた。次に、プレスプレート30aをさらに下降させ、上型21及び下型22によりプリフォーム1をプレス成形した。成形時の圧力を約1.5MPaとし、100秒程度押圧して押切った。次に、成形型20を搬送手段により冷却手段上に搬送して載置させ、成形型20全体を冷却した。プリフォーム1が歪点StP以下の温度となったところで、成形型20を冷却手段から水冷手段上に搬送させて載置し、光学素材を室温になるまで冷却した。冷却後、成形型20から取り出し、光学素子を得た。例2溶解炉内へ乾燥空気を導入しなかった以外は、例1と同様にして光学素子を得た。なお、溶解炉内の露点は、溶解工程中、ほぼ16°Cであった。例3溶解炉内へ乾燥空気を大量に導入し、例1と同様にして光学素子を得た。なお、溶解炉内の露点は、溶解工程中、ほぼ-1°Cであった。上記の例で得られた光学素子表面の外観を目視にて観察したところ、例1ではクモリの発生がなく、また、成形時の押し切りも良好であった。これに対し、例2では、成形後の光学素子の表面にクモリの発生が認められた。また、例3では、成形時の押し切り不良が発生し、タクト内で押し切りできず、成形型に成形品が貼り付いた。これにより、ガラス原料の溶解雰囲気の露点を所定の範囲に制御することで、光学素子のクモリの発生及び成形時の押し切り不良の発生を抑制でき、製品の歩留まり向上に有効であることがわかった。"