処理材を内部に配置する真空容器と、前記真空容器内を真空排気する排気手段と、ガスの流量を制御する流量制御手段と、前記流量制御手段を介して前記真空容器と吸気口が接続される真空ポンプにより構成される減圧手段と、を備え、前記減圧手段は、内部の圧力が前記排気手段により真空排気された前記真空容器内の圧力よりも高く、排気口側から吸気口側へ向かって内部でガスが流通可能に構成されており、前記減圧手段の内部を流通したガスを、前記吸気口から前記流量制御手段を介して前記真空容器へ導入することにより前記真空容器内の圧力を制御することを特徴とする真空装置。前記減圧手段の真空ポンプは、ドライ真空ポンプであることを特徴とする請求項1に記載の真空装置。前記減圧手段の排気口に接続され、減圧手段にガスを供給するガス供給手段を備えたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の真空装置。前記減圧手段の排気口が大気開放されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の真空装置。前記真空容器内の圧力を測定する真空計と、前記真空容器内の圧力があらかじめ設定された制御圧力となるように、前記真空計の出力に基づいて前記流量制御手段を制御する制御装置を備えた請求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載の真空装置。前記減圧手段はダイアフラムポンプであることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1つに記載の真空装置。前記減圧手段はスクロールポンプであることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1つに記載の真空装置。前記減圧手段はメカニカルブースターポンプを含む排気手段であることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1つに記載の真空装置。前記真空容器が、膜材料が積層された積層体を加圧手段により加圧接合し積層接合体を製造するために積層体を固定する積層体固定治具であることを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1つに記載の真空装置。処理材を内部に配置する真空容器と、前記真空容器内を真空排気する排気手段と、ガスの流量を制御する流量制御手段と、前記流量制御手段を介して前記真空容器と吸気口が接続される真空ポンプにより構成される減圧手段と、を備えた真空装置を用意し、前記排気手段により前記真空容器内を前記減圧手段の内部の圧力より低い圧力に真空排気する排気工程と、前記減圧手段の内部を通って排気口側から吸気口側へガスを流通させ、前記減圧手段の内部を流通したガスを前記流量制御手段を介して前記真空容器内へ導入するガス導入工程と、前記流量制御手段を制御することにより、真空容器内の圧力制御をする圧力制御工程と、を備えたことを特徴とする真空容器内の圧力制御方法。処理材を内部に配置する真空容器と、前記真空容器内に連通接続された第1真空ポンプと、前記真空容器内に連通接続され、ガスの流量を制御する流量制御手段と、前記流量制御手段に連通接続され、排気口と吸気口とを連通する内部経路を備える第2真空ポンプと、を備えた真空装置であって、前記第2真空ポンプは、前記内部経路内の圧力が前記第1真空ポンプによって生じる前記真空容器内の真空排気された圧力よりも高く、かつ、前記排気口側から前記吸気口側へ向かって内部でガスが流通可能に構成されており、前記第2真空ポンプ内を流通したガスは、前記流量制御手段を介して前記真空容器へ導入されることを特徴とする真空装置。しかし、上述の技術では、ガス供給手段より供給されたガスが中間室を経由して真空容器に供給されながら、中間室内のガスは第2の真空ポンプにより常時排気されているため、ガス供給手段より供給された導入ガスの大部分が真空容器に到達することなく装置系の外部に排気され、大量にガスを消費しランニングコストが高くなるという問題があった。そこで、本発明は、高価な質量流量制御器を使用せずに、導入ガスを大量に消費することがなく、真空容器内の圧力を制御することができる真空装置及び真空装置の真空容器内の圧力制御方法を提供することを目的とする。本発明では、上記目的を実現するために、請求項1に記載の発明では、真空装置が、処理材を内部に配置する真空容器と、前記真空容器内を真空排気する排気手段と、ガスの流量を制御する流量制御手段と、前記流量制御手段を介して前記真空容器と吸気口が接続される真空ポンプにより構成される減圧手段と、を備え、前記減圧手段は、内部の圧力が前記排気手段により真空排気された前記真空容器内の圧力よりも高く、排気口側から吸気口側へ向かって内部でガスが流通可能に構成されており、前記減圧手段の内部を流通したガスを、前記吸気口から前記流量制御手段を介して前記真空容器へ導入することにより前記真空容器内の圧力を制御する、という技術的手段を用いる。請求項1に記載の発明によれば、真空容器内を排気手段によって排気し、内部の圧力を減圧手段の内部の圧力よりも低くすることにより、減圧手段の吸気口側の圧力が常に減圧手段の内部の圧力以下であるようにすることで、減圧手段の排気口側から吸気口側へガスを流通させ、減圧手段の内部を流通したガスを、吸気口から流量制御手段を介して真空容器内へ導入することができる。これにより、ガスを減圧手段の到達圧力まで減圧した状態で流量制御手段を介して真空容器に導入することができるため、高価な質量流量制御器を使用しなくても真空容器に導入されるガスの量を精密に制御することができるので、真空容器内の圧力を高精度に制御することができる。また、減圧手段を流通して真空容器に導入されるガスは、全量を真空容器に導入することができるので、ガスを系外に放出して無駄に消費することがなく、ランニングコストを低く抑えることができる。請求項2に記載の発明では、請求項1に記載の真空装置において、前記減圧手段の真空ポンプは、ドライ真空ポンプである、という技術的手段を用いる。請求項2に記載の発明によれば、減圧手段はドライ真空ポンプにより構成されるため、真空容器に導入されるガスが清浄な状態であり、真空容器内が汚染されることがない。請求項3に記載の発明では、請求項1または請求項2に記載の真空装置において、前記減圧手段の排気口に接続され、減圧手段にガスを供給するガス供給手段を備えた、という技術的手段を用いる。請求項3に記載の発明によれば、ガス供給手段から供給されるガスを真空容器に導入することができるので、任意のガスを真空容器内に導入することができる。請求項4に記載の発明では、請求項1または請求項2に記載の真空装置において、前記減圧手段の排気口が大気開放されている、という技術的手段を用いる。真空容器内のガス雰囲気が特定ガスでなければならないような場合でなければ、請求項4に記載の発明のように、減圧手段の排気口が大気開放されている構成を採用することにより、装置構成を簡単にして装置コストを低減することができるとともに、高価なガスを用いる必要がないので安価なランニングコストで真空容器内の圧力を制御することができる。請求項5に記載の発明では、請求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載の真空装置において、前記真空容器内の圧力を測定する真空計と、前記真空容器内の圧力があらかじめ設定された制御圧力となるように、前記真空計の出力に基づいて前記流量制御手段を制御する制御装置を備えた、という技術的手段を用いる。請求項5に記載の発明によれば、手動で流量制御手段を制御しなくても良いため、工数を低減することができるとともに、真空容器の圧力制御を精度よく確実に行なうことができる。請求項6に記載の発明では、請求項1ないし請求項5のいずれか1つに記載の真空装置において、前記減圧手段はダイアフラムポンプである、という技術的手段を用いる。請求項6に記載の発明のように減圧手段がダイアフラムポンプであるように構成すると、ダイアフラムポンプは到達真空度が一般に3×104Paから3×103Pa程度であるため、真空容器の内部の圧力を3×104Paから20Pa程度に制御したい場合に好適に用いることができる。また、ダイアフラムポンプは真空ポンプの中でも最も安価な部類の真空ポンプなので、装置コストを抑えることができる。請求項7に記載の発明では、請求項1ないし請求項5のいずれか1つに記載の真空装置において、前記減圧手段はスクロールポンプである、という技術的手段を用いる。請求項7に記載の発明のように減圧手段がスクロールポンプであるように構成すると、スクロールポンプは単体で使用できるドライ真空ポンプの中でも到達圧力が最も低い部類の真空ポンプであり、到達真空度が一般に20Paから1Pa程度であるため、真空容器の内部の圧力を20Paから4.0×102Pa程度に制御したい場合に好適に用いることができる。請求項8に記載の発明では、請求項1ないし請求項5のいずれか1つに記載の真空装置において、前記減圧手段はメカニカルブースターポンプを含む排気手段である、という技術的手段を用いる。請求項8に記載の発明のように減圧手段がメカニカルブースターポンプを含む排気手段であるように構成すると、メカニカルブースターポンプを含む排気手段は到達真空度が一般に4.0×102Pa程度であるため、真空容器の内部の圧力を4.0×102Pa以下に制御したい場合に好適に用いることができる。請求項9に記載の発明では、請求項1ないし請求項8のいずれか1つに記載の真空装置において、前記真空容器が、膜材料が積層された積層体を加圧手段により加圧接合し積層接合体を製造するために積層体を固定する積層体固定治具である、という技術的手段を用いる。固体高分子膜、燃料極膜及び空気極膜を積層、接合してなる固体高分子型燃料電池用の膜-電極接合体Membrane-ElectrodeAssemblyなどの積層接合体を製造する際に積層体を配置した空間を減圧して積層体を固定する方式の積層体固定治具を用いる場合、積層体を配置した空間内の圧力の制御が必要な場合がある。請求項9に記載の発明のように、真空容器を積層体固定治具として構成することにより、このような積層接合体の製造に好適に用いることができる。請求項10に記載の発明では、真空容器内の圧力制御方法において、処理材を内部に配置する真空容器と、前記真空容器内を真空排気する排気手段と、ガスの流量を制御する流量制御手段と、前記流量制御手段を介して前記真空容器と吸気口が接続される真空ポンプにより構成される減圧手段と、を備えた真空装置を用意し、前記排気手段により前記真空容器内を前記減圧手段の内部の圧力より低い圧力に真空排気する排気工程と、前記減圧手段の内部を通って排気口側から吸気口側へガスを流通させ、前記減圧手段の内部を流通したガスを前記流量制御手段を介して前記真空容器内へ導入するガス導入工程と、前記流量制御手段を制御することにより、真空容器内の圧力制御をする圧力制御工程と、を備えた、という技術的手段を用いる。請求項10に記載の発明によれば、排気工程において第1の排気手段により前記真空容器内を前記減圧手段の内部の圧力より低い圧力に真空排気し、ガス導入工程において減圧手段の内部を通って排気口側から吸気口側へガスを流通させ、減圧手段の内部を流通したガスを流量制御手段を介して真空容器内へ導入し、圧力制御工程において流量制御手段を制御することにより、真空容器内の圧力制御をすることができる。これにより、ガスを減圧手段の到達圧力まで減圧した状態で流量制御手段を介して真空容器に導入することができるため、高価な質量流量制御器を使用しなくても真空容器に導入されるガスの量を精密に制御することができるので、真空容器内の圧力を高精度に制御することができる。また、減圧手段を流通して真空容器に導入されるガスは、全量を真空容器に導入することができるので、ガスを系外に放出して無駄に消費することがなく、ランニングコストを低く抑えることができる。請求項11に記載の発明では、処理材を内部に配置する真空容器と、前記真空容器内に連通接続された第1真空ポンプと、前記真空容器内に連通接続され、ガスの流量を制御する流量制御手段と、前記流量制御手段に連通接続され、排気口と吸気口とを連通する内部経路を備える第2真空ポンプと、を備えた真空装置であって、前記第2真空ポンプは、前記内部経路内の圧力が前記第1真空ポンプによって生じる前記真空容器内の真空排気された圧力よりも高く、かつ、前記排気口側から前記吸気口側へ向かって内部でガスが流通可能に構成されており、前記第2真空ポンプ内を流通したガスは、前記流量制御手段を介して前記真空容器へ導入される、という技術的手段を用いる。請求項11に記載の発明によれば、真空容器内を第1真空ポンプによって真空排気し、内部の圧力を第2真空ポンプの排気口と吸気口とを連通する内部経路よりも低くすることにより、第2真空ポンプの吸気口側の圧力が常に第2真空ポンプの内部経路の圧力以下であるようにすることで、内部経路において排気口側から吸気口側へガスを流通させ、第2真空ポンプ内を流通したガスを、吸気口から流量制御手段を介して真空容器内へ導入することができる。これにより、ガスを第2真空ポンプの内部経路の到達圧力まで減圧した状態で流量制御手段を介して真空容器に導入することができるため、高価な質量流量制御器を使用しなくても真空容器に導入されるガスの量を精密に制御することができるので、真空容器内の圧力を高精度に制御することができる。また、第2真空ポンプ内を流通して真空容器に導入されるガスは、全量を真空容器に導入することができるので、ガスを系外に放出して無駄に消費することがなく、ランニングコストを低く抑えることができる。第1実施形態次に本発明について図面を参照して説明する。図1に示すように、本発明の真空装置1は、真空中で処理する処理材を内部に配置する真空容器2と、真空容器2の内部の圧力を測定する真空計3と、真空容器2を真空排気する第1真空ポンプ4と、弁の開度を制御することによってガス流量を制御することができるコンダクタンスバルブ5と、コンダクタンスバルブ5を介して真空容器2に接続される第2真空ポンプ6と、真空容器2に導入するためのガスを供給するガス供給手段7と、真空計3の出力に基づいてコンダクタンスバルブ5の開度を制御することにより真空容器2の内部の圧力をあらかじめ設定された制御圧力に制御する制御装置8と、を備えている。ここで、第1真空ポンプ4が請求項1の排気手段に、第2真空ポンプ6が減圧手段に、コンダクタンスバルブ5が流量制御手段に、それぞれ相当する。第1真空ポンプ4は、真空容器2の制御圧力を考慮して選定される。本実施形態では、真空容器2の内部の圧力を4.0×102Pa以下に減圧するために、ターボモレキュラーポンプに補助ポンプとしてロータリーポンプを組み合わせた排気手段を採用した。なお、第1真空ポンプ4としては、ドライ真空ポンプ、ウェット真空ポンプなど各種形式のポンプを採用することができる。第2真空ポンプ6は、内部の圧力が第1真空ポンプ4で減圧された真空容器2の内部の圧力制御圧力よりも高くなるように選定されたドライ真空ポンプである。第2真空ポンプ6の吸気口6aはコンダクタンスバルブ5を介して真空容器2に接続され、排気口6bはガス供給手段7に接続されている。ここで、第2真空ポンプ6の内部の圧力とは、後述するように、ガス供給手段7から供給されるガスが流通する排気口6bと吸気口6aとを連通する内部経路の真空度のことを示す。第2真空ポンプ6は、ガス供給手段7により供給されるガスが、ポンプ内部で排気口6bから吸気口6aに向かって流通可能に構成されており、ダイアフラムポンプ、スクロールポンプや、メカニカルブースターポンプにスクロールポンプを組み合わせるなどのメカニカルブースターポンプを含む排気手段、などを用いることができる。ここで、図中には示していないが、排気口6b側に連通して排気用に分岐した配管を設けることもできる。ガス供給手段7は、真空容器2で必要とされる雰囲気を形成するためのガス例えば不活性ガスを供給するための、例えば圧力ゲージを備えたボンベなどにより構成される。真空容器2、第1真空ポンプ4、第2真空ポンプ6及びガス供給手段7の間には、適宜バルブを設けることができる。本構成の真空装置1による真空容器2の圧力制御方法について説明する。まず、図2に示す排気工程では、第1真空ポンプ4及び第2真空ポンプ6を起動させ、真空容器2の内部を、制御装置8において設定された制御圧力例えば4.0×102Pa以下の103Pa程度まで真空排気する。第2真空ポンプ6としてスクロールポンプを用いた場合には、第2真空ポンプ6の内部の圧力到達真空度は1~20Pa程度であり、真空容器2内は第2真空ポンプ6の内部の圧力より低い圧力に真空排気される。続くガス導入工程では、第2真空ポンプ6と真空容器2とを接続し、ガス供給手段7により第2真空ポンプ6にガスを供給する。すると、吸気口6a側が排気口6b側よりも低圧となるため、ガス供給手段7から供給されるガスが第2真空ポンプ6の内部を通って排気口6bから吸気口6aに向かって流通され、コンダクタンスバルブ5を通じて真空容器2内に導入される。続く圧力制御工程では、コンダクタンスバルブ5の開度を制御することにより、真空容器2内の圧力制御をする。本実施形態では、制御装置8は、真空計3からの出力に基づいてコンダクタンスバルブ5の開度を調整し、真空容器2内の圧力をあらかじめ設定された制御圧力になるように制御する。以上の工程により、真空容器2内の圧力を制御することができる。第2真空ポンプ6は、真空容器2の制御圧力などを考慮して適宜選択することができる。ダイアフラムポンプは到達真空度が一般に3×104Paから3×103Pa程度であるため、真空容器2の内部の圧力を3×104Paから20Pa程度に制御したい場合に好適に用いることができる。また、ダイアフラムポンプは真空ポンプの中でも最も安価な部類の真空ポンプなので、装置コストを抑えることができる。スクロールポンプは単体で使用できるドライ真空ポンプの中でも到達圧力が最も低い部類の真空ポンプであり、到達真空度が一般に20Paから1Pa程度であるため、真空容器2の内部の圧力を20Paから4.0×102Pa程度に制御したい場合に好適に用いることができる。メカニカルブースターポンプを含む排気手段は到達真空度が一般に4.0×102Pa程度であるため、真空容器2の内部の圧力を4.0×102Pa以下に制御したい場合に好適に用いることができる。本実施形態では、真空装置1が制御装置8を備えた構成について示したが、制御装置8を備えずにコンダクタンスバルブ5を手動で調整する構成を採用することもできる。また、流量制御手段としてコンダクタンスバルブ5を用いたが、これに限定されるものではなく、例えば電空レギュレータなどを採用することができる。[第1実施形態の効果]本実施形態の真空装置1及び真空装置1の真空容器2内の圧力制御方法によれば、ガスを第2真空ポンプ6の到達圧力まで減圧した状態でコンダクタンスバルブ5を介して真空容器2に導入することができるため、高価な質量流量制御器を使用しなくても真空容器2に導入されるガスの量を精密に制御することができるので、真空容器2内の圧力を高精度に制御することができる。また、第2真空ポンプ6の内部を流通して真空容器2に導入されるガスは、全量を真空容器2に導入することができるので、ガスを系外に放出して無駄に消費することがなく、ランニングコストを低く抑えることができる。更に、第2真空ポンプ6はドライ真空ポンプにより構成されるため、真空容器2に導入されるガスが清浄な状態であり、真空容器2内が汚染されることがない。第2実施形態本実施形態では、真空容器2として、膜材料が積層された積層体をロール式プレスなどの加圧手段により加圧接合し積層接合体を製造するために積層体を固定する積層体固定治具を採用した場合について以下に説明する。ここで、積層接合体の例としては、固体高分子膜、燃料極膜及び空気極膜を積層、接合してなる固体高分子型燃料電池用の膜-電極接合体Membrane-ElectrodeAssemblyが挙げられる。積層体固定治具の一実施例について、図3ないし5を参照して説明する。積層体固定治具100は、第1真空ポンプ4及び第2真空ポンプ6と接続される第1固定部材10、第1固定部材10に組み合わせて用いられる第2固定部材20及びシール部材30を備えている。第1固定部材10は、ロール式プレスなどの加圧手段への搬送方向に略平行に配置される角柱状に形成された第1柱状部材11、11の間に、可撓性を有する帯状の部材からなる第1シート部材12が張り渡されて形成されている。第1シート部材12は例えば金属材料であるステンレス鋼からなる。第1シート部材12はシール部材30とともに、それぞれの端部が、板状の第1押さえ部材13により、第1柱状部材11の長手方向に延びる面の1つ図5Aにそれぞれ固定されている。第1柱状部材11には、排気ポート16を介して真空ポンプに接続され、後述する収容空間Sと連通する排気路14が形成されている。ここで、一方の第1柱状部材11は排気ポート16を介して第1真空ポンプ4に接続され、他方の第1柱状部材11は排気ポート16を介して第2真空ポンプ6に接続されている。第1シート部材12の第1柱状部材11と当接する領域には、排気路14が開口する位置に対応して排気孔12aが貫通形成されている。排気孔12aは各第1柱状部材11にそれぞれ形成されており、真空パッド15を介して排気路14にそれぞれ連通している。第1柱状部材11には、対向して配置される第2柱状部材21の位置決めを行う位置決めピン17が設けられている。第2固定部材20は、第1柱状部材11と対向して配置される第2柱状部材21、21の間に、可撓性を有する帯状の部材からなる第2シート部材22が張り渡されて形成されている。第2柱状部材21、21間の第2シート部材22の外形は、第1柱状部材11、11間の第1シート部材12の外形と略同一になるように形成されている。第2シート部材22は、第2柱状部材21に沿って折り曲げられ、側面より押さえ板23を介して第2押さえ部材24により固定されている。図5A及びCに示すように、第2押さえ部材24には、押さえ板23に挿通され押さえ板23を第2柱状部材21に押圧して第2シート部材22を固定するための固定ねじ25と、第2柱状部材21に押圧する位置を調節するための調節ビス26と、が設けられている。第2押さえ部材24には、第1固定部材10の位置決めピン17を挿通して第2固定部材20の位置決めを行うための位置決め穴27が貫通形成されている。シール部材30は、第1柱状部材11、11と第2柱状部材21、21とにより対向するように位置決めされた第1シート部材12と第2シート部材22との間に配置される。シール部材30には、第1シート部材12と第2シート部材22とが対向して形成される空間を積層体Wが収容可能に区画する収容部30aと、収容部30aと連通して形成され、第1シート部材12、第2シート部材22及び収容部30aにより区画された密閉空間である収容空間Sの内部を排気するために形成された排気部30bと、が形成されている。シール部材30は、第1シート部材12と第2シート部材22との間に挟みこまれることにより、収容空間Sの側壁の役割を果たす。排気部30bは、収容部30aと連通して第1柱状部材11側に向かって突出して、第1シート部材12の排気孔12aが面するように形成されている。また、収容部30aに収容された積層体Wが移動しないように収容部30aより小さく形成されている。積層体固定治具100は、上述の構成により、収容空間Sに積層体Wを配置し、第1真空ポンプ4により収容空間Sを排気し、コンダクタンスバルブ5、第2真空ポンプ6、ガス供給手段7により収容空間Sの内部を所定の圧力に制御することにより、第1シート部材12及び第2シート部材22を収容空間Sに配置された積層体Wに密着させて積層体Wを固定することができる。ここで、収容空間Sの内部を所定の圧力に制御することができるので、第1シート部材12及び第2シート部材22が積層体Wに密着し固定する力を制御することができる。そして、固定された積層体Wをロール式プレス装置などの加圧手段により加圧して接合し、積層接合体を製造することができる。なお、本実施例で示した構造の積層体固定治具以外にも、積層体を配置した空間を減圧して積層体を固定する方式の積層体固定治具を真空容器として採用することができる。[第2実施形態の効果]固体高分子膜、燃料極膜及び空気極膜を積層、接合してなる固体高分子型燃料電池用の膜-電極接合体Membrane-ElectrodeAssemblyなどの積層接合体を製造する際に積層体を配置した空間を減圧して積層体を固定する方式の積層体固定治具を用いる場合、積層体を配置した空間内の圧力の制御が必要な場合がある。本実施形態のように、真空容器2を積層体固定治具100として構成することにより、このような積層接合体の製造に好適に用いることができる。