被研磨物と、該被研磨物の研磨面に当接される複数本の溝を備えた研磨パッドとを相対的に押し付けて、前記被研磨物の研磨面を研磨する研磨装置であって、前記被研磨物の非研磨面を保持するとともに該被研磨物を所定の軸を中心に回転させる回転手段と、前記研磨パッドを前記被研磨物の研磨面に対して平行移動させる動作手段とを備えることを特徴とする研磨装置。前記動作手段は、前記研磨パッドを、公転軸によって公転、及び/又は自転軸によって自転させる請求項1に記載の研磨装置。前記被研磨物の前記回転手段による回転方向と、前記動作手段による前記研磨パッドの公転方向、及び/又は自転方向とが逆方向に設定されている請求項2に記載の研磨装置。前記被研磨物を前記回転手段とともに所定の方向に搬送する搬送手段を備え、前記研磨パッドは、前記搬送手段による前記被研磨物の搬送経路に所定の間隔を持って複数台配置されている請求項1、2、又は3に記載の研磨装置。前記研磨パッドは、隣接する研磨パッドと回転位相差を持って公転される請求項4に記載の研磨装置。前記回転手段は、円盤状の前記被研磨物を、その質量重心を中心に回転させる請求項4又は5に記載の研磨装置。しかしながら、特許文献1の研磨パッドに特許文献2の溝付き研磨パッドを使用すると、ガラス板の研磨面に研磨パッドの溝が転写して、研磨面に筋状の研磨痕が発生するという問題があった。このため、ガラス板の研磨面を高い平坦度に研磨することが難しいという問題があった。本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、被研磨物の研磨面に研磨パッドの溝が転写することにより発生する研磨痕を緩和することができる研磨装置を提供することを目的とする。本発明は、前記目的を達成するために、被研磨物と、該被研磨物の研磨面に当接される複数本の溝を備えた研磨パッドとを相対的に押し付けて、前記被研磨物の研磨面を研磨する研磨装置であって、前記被研磨物の非研磨面を保持するとともに該被研磨物を所定の軸を中心に回転させる回転手段と、前記研磨パッドを前記被研磨物の研磨面に対して平行移動させる動作手段とを備えることを特徴とする研磨装置を提供する。従来の研磨装置の如く、移動する研磨パッドによって静止した被研磨物を研磨すると、研磨パッドの溝が被研磨物の研磨面に規則的に当たるため、前記研磨痕が発生する。本発明は、被研磨物を回転させることによって、研磨パッドの溝が被研磨物の研磨面に無作為に当たるようになるため、前記研磨痕を緩和することができる。本発明の前記動作手段は、前記研磨パッドを、公転軸によって公転、及び/又は自転軸によって自転させることが好ましい。本発明によれば、研磨パッドを公転、及び/又は自転させて、研磨パッドを被研磨物の研磨面に対して平行移動させる。研磨パッドを公転させるだけで、研磨パッドの溝が被研磨物の研磨面に無作為に当たり、また、公転と自転とを組み合わせれば、より一層無作為に当たるようになるので、研磨面の平坦度が向上する。本発明は、前記被研磨物の前記回転手段による回転方向と、前記動作手段による前記研磨パッドの公転方向、及び/又は自転方向とが逆方向に設定されていることが好ましい。被研磨物の回転方向と研磨パッドの公転方向、及び/又は自転方向とが同方向に設定された研磨装置と、本発明の研磨装置とを比較すると、本発明の研磨装置は、研磨面の任意の一点を通過する研磨パッドの相対速度が、前者の研磨装置と比較して速くなるので、研磨効率が向上し、研磨時間を短縮することができる。本発明は、前記被研磨物を前記回転手段とともに所定の方向に搬送する搬送手段を備え、前記研磨パッドは、前記搬送手段による前記被研磨物の搬送経路に所定の間隔を持って複数台配置されていることが好ましい。本発明は、被研磨物を送りテーブルによって連続的に搬送しながら多数の研磨パッドによって被研磨物の研磨面を研磨する連続式の研磨装置に、被研磨物を回転させる回転手段を適用したものである。被研磨物を搬送させない研磨装置によって研磨される被研磨物は、研磨量に応じてスループットが変わり、生産効率が低下する恐れがある。本発明によれば、連続式の研磨装置で被研磨物を研磨するため、研磨量に応じてスループットは変わらず、生産効率の低下を抑えることができる。本発明の前記研磨パッドは、隣接する研磨パッドと回転位相差を持って公転されることが好ましい。本発明によれば、各研磨パッドの回転運動によって被研磨物に作用する負荷を相殺することができるので、被研磨物を均一に研磨することができる。本発明の前記回転手段は、円盤状の前記被研磨物を、その質量重心を中心に回転させることが好ましい。矩形状の被研磨物を連続式の研磨装置に適用した場合、隣接する被研磨物との干渉を防止するために間隔を広げて被研磨物を送りテーブルに搭載しなければならない。これによって、送りテーブルに対する被研磨物の搭載枚数が少なくなるので、生産効率が低下する。これに対して円盤状の被研磨物であって、被研磨物の質量重心を中心に回転させる回転手段は、干渉を防止するために間隔を広げる必要はない。これにより、送りテーブルに対する被研磨物の搭載枚数が矩形状の被研磨物と比較して多くなるので、生産効率が向上する。本発明の研磨装置によれば、被研磨物を回転させるとともに研磨パッドを被研磨物の研磨面に対して平行移動させたので、被研磨物の研磨面に研磨パッドの溝が転写することにより発生する研磨痕を緩和することができる。以下、添付図面に従って本発明に係る研磨装置の好ましい実施の形態を詳説する。図1は、実施の形態の研磨装置10の要部平面図、図2はその側面図である。実施の形態の研磨装置10は、円盤状の被研磨物12を送りテーブル14によって矢印Aで示す方向に連続的に搬送しながら、送りテーブル14の上方に配置された複数の研磨パッド16、16...によって被研磨物12の研磨面を研磨する連続式の研磨装置である。なお、図1、図2には4枚の研磨パッド16、16...が示されているが、連続式の研磨装置の場合には、数十枚の研磨パッド16が矢印Aで示す搬送方向に沿って配置されている。また、本発明の研磨装置は、連続式の研磨装置10に限定されず、ガラス板を搬送しない枚葉式の研磨装置にも適用することができる。研磨装置10は図2の如く、搬送方向に沿ってレール18が敷設され、このレール18に送りテーブル14が走行自在に載置されている。被研磨物12は、送りテーブル14の上面に配置された吸着シート20にその非研磨面が着脱自在に吸着保持されている。また、送りテーブル14の下面には、レール18に平行なラック22が設けられており、このラック22にピニオン搬送手段24が噛合されている。ピニオン24は、レール18側に回転自在に取り付けられるとともに、不図示の駆動モータの回転軸にピニオン24の回転軸25が連結されている。したがって、前記駆動モータの駆動力によりピニオン24が図2の時計周り方向に回転されると、その動力がラック22を介して送りテーブル14に伝達され、送りテーブル14が矢印A方向に所定の速度で搬送される。これにより、被研磨物12と、この被研磨物12を回転させる後述の回転手段とが送りテーブル14とともに矢印A方向に搬送される。なお、レール18の終端位置に送りテーブル14が到着すると、その位置で研磨終了した被研磨物12が吸着シート20から剥がされる。そして、送りテーブル14は、レール18と平行に配設された不図示のローラーコンベアの始端位置に移載され、ローラーコンベアによる返送中に、次に研磨する被研磨物がその吸着シート20に貼り付けられる。その後、送りテーブル14は、ローラーコンベアの終端位置からレール18の始端位置に再移載され、矢印A方向に移動される。図3は、研磨パッド16の要部拡大斜視図である。研磨パッド16の形状は、板状体である。研磨パッド16の材料は特に限定されず、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、オレフィン系樹脂が例示される。また、被研磨物12の研磨面に当接される研磨パッド16の面には、図3の如く複数本の溝17、17...が備えられている。これらの溝17、17...は平行であり、また、図1の送りテーブル14の移動方向Aに対して直交する方向となるように図2の研磨ヘッド26の下面に取り付けられている。図2に示すように、研磨ヘッド26は、遊星ギヤ機構等の公知の公転運動機構部動作手段28の出力軸に連結されている。また、公転運動機構部28には駆動モータ不図示が搭載され、この駆動モータによって公転運動機構部28が駆動されることにより、前記出力軸が公転運動を行う。これによって、研磨ヘッド26に取り付けられた研磨パッド16は、研磨パッド16の質量重心O点が、公転軸P点を中心に、矢印Bで示す軌跡に沿って移動するように公転駆動される。研磨パッド16の公転動作によって、研磨パッド16が被研磨物12の研磨面に対して平行移動される。なお、公転運動機構部28の前記出力軸に回転を与えるように公転運動機構部28を構成すれば、研磨パッド16は、矢印Bの軌跡に沿って公転しながら自転することができる。一方、被研磨物12を吸着保持する図2の吸着シート20は、回転テーブル回転手段30の上面に貼り付けられている。この回転テーブル30は円盤状に構成されており、その下面中央には回転軸32が連結されている。図4は、回転テーブル30の回転機構部を示した平面図である。図4に示すように、回転軸32は、周面にギヤ34が刻設された円盤36の中央部に立設されている。円盤36は送りテーブル14に回転自在に取り付けられており、また、ギヤ34にはギヤ38が噛合されている。このギヤ34とギヤ38とによってベベルギヤが構成され、ギヤ38の軸40に不図示のモータの出力軸が連結されている。したがって、前記モータが駆動されることにより、その動力がギヤ38からギヤ34を介して円盤36に伝達され、そして円盤36から回転軸32を介して回転テーブル30に伝達されることにより、回転テーブル30が中心軸Qを中心に回転する。これにより、吸着シート20に吸着保持された被研磨物12が中心軸Qを中心に矢印Cで示す反時計周り方向に回転する。次に、実施の形態の研磨装置10の作用について説明する。実施の形態の研磨装置10は、ラック22とピニオン24の送り動作によって送りテーブル14を矢印A方向に搬送しながら、研磨パッド16を公転及び/又は自転させるとともに被研磨物12をその中心に回転させて、被研磨物12の研磨面を多数の研磨パッド16、16...によって連続的に研磨する。従来の研磨装置のように、公転及び/又は自転する研磨パッドによって静止した被研磨物を研磨すると、研磨パッドの溝が被研磨物の研磨面に規則的に当たる。換言すると、研磨パッドは、被研磨物の研磨面全体を均一に研磨せず、研磨面の特定の箇所に偏って研磨する。このため、従来の研磨装置では、被研磨物の研磨面に研磨痕が発生する。これに対して、実施の形態の研磨装置10は、被研磨物12を回転させたので、研磨パッド16の溝17は、被研磨物12の研磨面に無作為に当たるようになる。これにより、実施の形態の研磨装置10は、従来の研磨装置で発生する前記研磨痕を緩和することができる。また、実施の形態の研磨装置10は、研磨パッド16を公転させるだけで、研磨パッド16の溝17が被研磨物12の研磨面に無作為に当たり、また、公転と自転とを組み合わせれば、より一層無作為に当たるようになるので、被研磨物12の研磨面の平坦度が向上する。なお、上記実施の形態では、図5Aの如く被研磨物12の中心と回転テーブル30の中心軸Qとを合致させて、被研磨物12をその中心に回転させるようにしたが、この限りではない。例えば図5Bに示すように、1枚の被研磨物12Aの中心P1を回転テーブル30の回転中心Qに対してオフセットして被研磨物12を公転させてもよく、また、図5Cに示すように、3枚又は4枚の被研磨物12B、12B...の各中心P2を回転テーブル30の回転中心Qに対してオフセットして3枚の被研磨物12B、12B...を公転させてもよい。図5B、図5Cの如く被研磨物12A、12Bを公転させることにより、図5Aで示した自転型のものと比較して、研磨パッド16の溝17が被研磨物12の研磨面に当たる無作為性が増すので、被研磨物12の研磨面の平坦度がより一層向上する。更に、実施の形態の研磨装置10では、図1の如く、被研磨物12の矢印Bで示す時計周りの公転方向と、研磨パッド16の矢印Cで示す反時計周りの回転方向及び/又は自転方向とが逆方向に設定されている。ここで、被研磨物の自転方向と研磨パッドの公転方向及び/又は自転方向とが同方向に設定された研磨装置と、実施の形態の研磨装置10とを比較する。実施の形態の研磨装置10は、被研磨物12の研磨面の任意の一点を通過する研磨パッド16の相対速度が、前者の研磨装置と比較して速くなる。これにより、実施の形態の研磨装置10は、前者の研磨装置よりも研磨効率が向上し、研磨時間を短縮することができる。一方で、連続式の研磨装置であって被研磨物が回転しない特許文献1の研磨装置では、被研磨物に対する研磨パッドの接触面積が大きくなるに従って研磨圧力が低くなり、前記接触面積が小さくなるに従って研磨圧力が高くなる傾向がある。このため、特許文献1の研磨装置では、被研磨物の内側の研磨代が外側よりも小さくなるので、研磨面に研磨代の分布が発生する。これに対して実施の形態の研磨装置10は、被研磨物12を回転させるとともに研磨パッド16を平行移動させるため、研磨代の分布を緩和できるという利点がある。また、実施の形態の研磨パッド16、16...は、隣接する研磨パッド16と回転位相差を持って公転されている。つまり、図1の如く、被研磨物12の搬送中に1枚の被研磨物12に対して2台の研磨パッド16、16が当接して研磨を行う場合には、各研磨パッド16、16の質量重心Oの回転位相差を180度に設定する。また、1枚の被研磨物12に対して4台の研磨パッド16、16...が当接して研磨を行う場合には、各研磨パッド16、16...の質量重心Oの回転位相差を90度に設定する。これにより、各研磨パッド16、16...の回転運動によって被研磨物12に作用する負荷を相殺することができるので、被研磨物12を均一に研磨することができる。なお、実施の形態では形状が円盤状の被研磨物12を例示したが、被研磨物12の形状は円盤状に限定されるものではなく矩形状であってもよい。しかしながら、図6Aに示すように、矩形状の被研磨物12Cを連続式の研磨装置に適用した場合、送りテーブル14に対する被研磨物12Cの搭載枚数が少なくなるので、生産効率が低下する。つまり、矩形状の被研磨物12Cをその質量重心を中心に回転させた場合図中の一点鎖線は被研磨物12Cのエッジの回転軌跡を示す、隣接する被研磨物12Cとの干渉を防止するために隣接する被研磨物12Cの間隔を広げて被研磨物12Cを送りテーブル14に搭載しなければならない。これにより、送りテーブル14に対する被研磨物12Cの搭載枚数が少なくなるので、生産効率が低下する。これに対して図6Bに示すように、円盤状の被研磨物12であって、被研磨物12の質量重心を中心に回転させる回転テーブル30図2参照を有する連続式の研磨装置10では、干渉を防止するために隣接する被研磨物12の間隔を広げる必要はない。これにより、送りテーブル14に対する被研磨物12の搭載枚数が、矩形状の被研磨物12Cと比較して多くなるので、生産効率が向上する。