"光源と、前記光源からの光束を偏向する偏向手段と、前記光源からの光束を前記偏向手段の偏向反射面近傍に主走査方向に長い線像として結像させる結像光学系と、前記偏向手段により偏向された光束を主走査方向に走査する走査光学系と、を備えた光走査装置において、前記光源から前記偏向手段への光路上に、前記光源からの光束を分割する光束分割手段が配置され、前記結像光学系から前記偏向手段への光路上に、前記光源からの光束の偏光状態を変える平行平板状の光学素子が配置されていることを特徴とする光走査装置。請求項1記載の光走査装置において、前記光源と前記光源から射出された光束を略平行光束とするカップリング光学系の間に偏光状態を変える平行平板状の別の光学素子が配置されていることを特徴とする光走査装置。請求項2記載の光走査装置において、前記光学素子と前記別の光学素子とが前記カップリング光学系の光軸に垂直な面に対して非平行に設置され、前記光学素子の光学面と前記別の光学素子の光学面とが前記垂直な面に対して逆方向に傾いて配置されていることを特徴とする光走査装置。請求項2または3記載の光走査装置において、前記光学素子と前記別の光学素子とが前記カップリング光学系の光軸に垂直な面に対して非平行に設置され、前記光学素子の光学面と前記別の光学素子との光学面が前記垂直な面に対して対称に傾いて配置されていることを特徴とする光走査装置。請求項2乃至4のいずれかに記載の光走査装置において、前記光源と前記別の光学素子とが一体であることを特徴とする光走査装置。請求項2乃至4のいずれかに記載の光走査装置において、前記光源は複数の発光点を有し、前記光源と前記別の光学素子とが別体で構成されていることを特徴とする光走査装置。請求項1乃至6のいずれかに記載の光走査装置において、前記光源は複数の発光点を有し、前記結像光学系から前記偏向手段への光路上にアパーチャが配置されていることを特徴とする光走査装置。請求項7記載の光走査装置において、前記アパーチャがハウジングと一体成形されていることを特徴とする光走査装置。請求項1乃至8のいずれかに記載の光走査装置において、前記光学素子と前記別の光学素子とは、略π/2の位相差を与える波長板であることを特徴とする光走査装置。請求項1乃至9のいずれかに記載の光走査装置において、前記光束分割手段は、偏光状態により光束を分割することを特徴とする光走査装置。光書込装置から像担持体に光書込みを行い、電子写真法により、この像担持体上に静電潜像を形成する画像形成装置であって、前記光書込装置は、請求項1乃至10のいずれかに記載の光走査装置であることを特徴とする画像形成装置。本発明は、以上のような従来技術の問題点を解消するためになされたもので、安定的に光源パワーを得ることができ、高品位な画像出力を維持しつつ、レイアウト性を向上することができる光走査装置および画像形成装置を提供することを目的とする。本発明は、光源と、光源からの光束を偏向する偏向手段と、光源からの光束を偏向手段の偏向反射面近傍に主走査方向に長い線像として結像させる結像光学系と、偏向手段により偏向された光束を主走査方向に走査する走査光学系と、を備えた光走査装置において、光源から偏向手段への光路上に、光源からの光束を分割する光束分割手段が配置され、結像光学系から偏向手段への光路上に、光源からの光束の偏光状態を変える平行平板状の光学素子が配置されていることを特徴とする。本発明によれば、安定的に光源パワーを得ることができ、高品位な画像出力を維持しつつ、レイアウト性を向上することができる。以下、図面を参照しながら本発明にかかる光走査装置および画像形成装置の実施の形態について説明する。先ず、本発明にかかる光走査装置について説明する。[実施形態1]図1は、本発明にかかる光走査装置の実施形態を示す概略斜視図である。同図において符号1は光源としての複数の発光点を有する半導体レーザアレイ、22a、2bは入射ミラー、3はカップリングレンズ、4は光束分割手段偏向ビームスプリッタ、55a、5bはシリンドリカルレンズ、66a、6bは開口絞りアパーチャ、7は偏向手段としての偏向器例えば4つの偏向反射面を有するポリゴンミラー、8は走査レンズ、9は光路折返し用のミラー、10は被走査面としての感光体、1111a、11bは偏光状態を変えることのできる平行平板状の第1光学素子λ/4板、12は偏光状態を変えることのできる平行平板状の第2光学素子λ/4板、をそれぞれ示している。ここで、ポリゴンミラー7は、図示しない駆動機構により回転軸を軸として、図中の矢印方向に等角速度回転している。以下、半導体レーザアレイ1から出射された光束がポリゴンミラー7で偏向走査される方向を主走査方向とし、主走査方向と直交する方向を副走査方向とする。半導体レーザアレイ1から射出された発散光束は、λ/4板12を通過し、カップリングレンズ3により略平行光束に変換される。カップリングレンズ3を出た光束は、光束分割手段4に入射する。光束分割手段4に入射した共通の光源からの光束は、それぞれ2つに分割され、光束分割手段4を出射する光束は2本の光束となる。光束分割手段4から射出された2本の光束は、それぞれシリンドリカルレンズ5によりポリゴンミラー7の偏向反射面近傍にてそれぞれ主走査方向に長い線像に変換される。シリンドリカルレンズ5を通過して副走査方向に収束された光束中に、被走査面上感光体10の表面上でのビーム径を安定させるためのアパーチャ6を配置する。アパーチャ6を通過した光束は、さらにλ/4板11を通過してポリゴンミラー7の偏向反射面近傍で主走査方向に長い線像となる。図2は、光走査装置の偏向手段前の光学系の光学配置図であって、aは主走査断面図、bは副走査断面図である。半導体レーザアレイ1から射出される光束のうち、ポリゴンミラー7での偏向方向に対して略p偏光成分を持って射出される光束は、λ/4板12を通過後に略円偏光状態となる。略円偏光状態の光束が偏光ビームスプリッタ4に入射すると、p偏光成分は偏光ビームスプリッタ4を透過し、s偏光成分は偏光ビームスプリッタ4の反射面で反射される。このように、半導体レーザアレイ1からの光束は、p偏光の光束とs偏光の光束の2本の光束に分割され、それぞれポリゴンミラー7の偏向反射面に入射する。ポリゴンミラー7が4面の偏向反射面を持つ場合、ポリゴンミラー7から半導体レーザアレイ1への戻り光束が発生する場合がある。そのため、偏光ビームスプリッタ4とポリゴンミラー7の間にλ/4板11を配備し、半導体レーザアレイ1への戻り光束をカットする必要がある。半導体レーザアレイ1から射出される光束の偏光方向がポリゴンミラー7の偏向方向に対してs偏光その他の直線偏光状態である場合も、同様に光束を50ずつの反射光束と透過光束に分割することができ、かつ、戻り光束をカットすることができる。なお、本実施形態では光源として半導体レーザアレイを用いることにより、半導体レーザアレイから射出される光束の偏光状態をポリゴンミラー7での偏向方向に対して略p偏光状態としている。ここで、光源としてシングルビームの半導体レーザを用いる場合、半導体レーザから射出される光束の偏光状態が略s偏光状態になることがある。この場合であっても、前述の半導体レーザアレイを用いたときと同様の光学配置とすることで、前述の効果を得ることができる。ここで、偏光ビームスプリッタ4からシリンドリカルレンズ5の光路中にλ/4板11を配備すると、λ/4板11を配備するための光路長を確保する必要がある。その結果、光学系全体として光路長が延び、レイアウト性が悪化し、光走査装置が大型化する。一方、シリンドリカルレンズ5からポリゴンミラー7の偏向走査面までの光路の長さは、その他の光学特性によって設定するシリンドリカルレンズ5の焦点距離により決まるため、シリンドリカルレンズ5の焦点距離だけ距離を持たなければならない。そのため、図2bに示すように、λ/4板11をシリンドリカルレンズ5とポリゴンミラー7の間の光路中に配備することで、光学系全体の光路長を短くすることができ、レイアウト性を向上させることが可能となる。また、アパーチャ6をハウジング20と一体成形することにより、λ/4板11の位置決めをアパーチャ6で行うことができる。その結果、λ/4板11を単独でハウジング20に位置決めをするよりも、アパーチャ6からλ/4板11までの距離を近づけることが可能となり、より光路長を短くすることができ、レイアウト性を向上させることが可能となる。図3は、平行平板状の光学素子の傾きを説明する図である。同図aは、半導体レーザアレイ1からポリゴンミラー7までの光路の副走査断面図であり、符号50は、カップリングレンズ3の光軸に垂直な面を示している。図3bに示すように、面50に対して半導体レーザアレイ1への戻り光束が発生しないように、λ/4板11、及びλ/4板12を、光束の進行方向の前後方向紙面左右方向に傾けておくことが望ましい。面50に対するλ/4板11の傾き角をθとした場合、λ/4板12の傾き角θ’を面50に対してθとは逆向きとなるように配備することにより、波面収差を低減することができる。また、λ/4板12の傾き角θ’を-θとなるように配備することで、波面収差をさらに低減することができる。なお、本実施形態においては、λ/4板11,12が副走査方向に傾き角θ及びθ’を有している。ただし、これに代えて、λ/4板11,12が主走査方向に傾き角を有する場合も、同様に波面収差を低減する効果が得られる。図4は、平行平板状の光学素子を通過する光束の面内反射について説明する図である。同図aは、平行平板状のλ/4板11を通過する光束が略平行光束である場合の面内反射を説明する図である。λ/4板11に入射した光束は全て透過せず、射出面112で一部が反射され、反射された光束は入射面111で再度反射され、射出面112から射出する。一度も反射せずに透過した光束と、射出面112と入射面111で反射した後の光束の位相が等しい場合は強め合い、位相がπだけ異なる場合は弱め合う。光源の半導体レーザアレイ1は、注入電流により出力される光束の波長が変化し、かつ、媒質中の光路長は波長に依存する屈折率に比例する。そのため、注入電流を変化させていくと、半導体レーザアレイ1から射出される光束の波長が変化し、媒質の屈折率が変化し、位相が変化するため、干渉の影響で光量に揺らぎが生じる。この場合、理想的な注入電流対光出力の比例関係が崩れるため、好ましくない。しかし、図4bに示すように、光束が非平行光束中収束光束中に通過するようにλ/4板11を配置することで、一度も反射せずに透過した光束と射出面112と入射面111で反射した後の光束は重なり合うことがないために、干渉を起こさない。また、同図cに示すように、光束が非平行光束中発散光束中に通過するようにλ/4板12を配置した場合でも、一度も反射せずに透過した光束と射出面122と入射面121で反射した後の光束も重なり合うことがなく、干渉を起こさない。そのため、光束が非平行光束中に通過するようにλ/4板11を配置することで、注入電流を変化させてもλ/4板11の透過率は変化せず、安定的に光量を確保できる。図5は、λ/4板11を通過する光束に対するλ/4板11のサイズを説明する図である。同図aは、光束分割手段4から射出され、シリンドリカルレンズ5に入射するまでの略平行光束中にλ/4板11を配置した場合のλ/4板11のサイズを説明する図である。λ/4板11は、光束幅よりも大きなサイズである必要がある。しかし、同図bに示すように、シリンドリカルレンズ5から射出され、ポリゴンミラー7の偏向反射面までの収束光束中にλ/4板11を配置することで、λ/4板11を通過する光束の光束幅が狭まり、λ/4板11の小型化が可能となる。図6は、λ/4板12を通過する光束に対するλ/4板12のサイズを説明する図である。同図aは、半導体レーザアレイ1から射出された発散光束がカップリングレンズ3を通過し、略平行光束となり、光束分割手段4に入射するまでの略平行光束中にλ/4板12を配置した場合のλ/4板12のサイズを説明する図である。λ/4板12は、光束幅よりも大きなサイズである必要がある。しかし、同図bに示すように、半導体レーザアレイ1から射出され、カップリングレンズ3に入射するまでの発散光束中にλ/4板12を配置することで、λ/4板12を通過する光束の光束幅が狭まり、λ/4板12の小型化が可能となる。図7は、光源と第2光学素子の一体化を説明するための図である。同図に示すように、λ/4板12は、半導体レーザアレイ1を覆うキャップ21により保持されている。このように、半導体レーザアレイ1とλ/4板12とをキャップ21を介して一体化することで、λ/4板12はさらに小型化が可能となる。また、キャップ21を介して、半導体レーザアレイ1の位置や角度を調整することで、これらの調整の際に半導体レーザアレイ保持部材不図示が半導体レーザアレイ1のパッケージを直接掴むことがなく、半導体レーザアレイ1の劣化を防止することができる。図8は、光源と第2光学素子とを別体構造としたときの例を説明する図である。同図aは、半導体レーザアレイ1とλ/4板12までのレイアウトの副走査断面図である。同図bは、半導体レーザアレイ1の光軸と垂直方向の断面図である。複数の発光点を有する半導体レーザアレイ1は、複数の発光点間の副走査方向の距離を調節するために、光軸を中心とした角度方向γ方向に回転させる。半導体レーザアレイ1とλ/4板12を別体で構成することにより、半導体レーザアレイ1の位置及び角度、特に、γ方向の調節として、半導体レーザアレイ1の角度を所望の状態にする場合でも、λ/4板12の光学軸が理想状態からずれることのない構成とすることができる。図9は、光源から偏向手段までの主走査断面図である。同図aは、アパーチャ6をシリンドリカルレンズ5よりも半導体レーザアレイ1側の光路中に配置した場合の図である。アパーチャ6からポリゴンミラー7までの光路が長くなると、半導体レーザアレイ1の各発光点からの光束は、主走査方向に距離が生じる。同図bは、アパーチャ6をシリンドリカルレンズ5とポリゴンミラー7の間の光路中に配置した図である。アパーチャ6からポリゴンミラー7までの光路が短くなると、半導体レーザアレイ1の各発光点からの光束は、主走査方向の距離が縮まる。主走査方向の光学特性の発光点間偏差が小さくなることで、被走査面上でのビームスポット径を安定的に保つことができる。また、副走査方向でも同様にポリゴンミラー7の偏向反射面での偏差が小さくなり、ポリゴンミラーの軸倒れやポリゴンミラーの受け部の倒れによる副走査方向のビームピッチばらつきを低減することができる。以上説明した実施の形態によれば、λ/4板11,12を非平行光束中に配置することで、λ/4板11,12の面内反射の干渉による透過率の変動を抑制することができ、安定的に光源パワーを得ることができる。また、λ/4板12を非平行光束中に配置することで、λ/4板12の小型化とレイアウト性を向上することができる。さらに、λ/4板11,12を光束に垂直な面に対して非平行に配置することで、波面収差を低減することができる。さらにまた、半導体レーザアレイ1とλ/4板12を一体化することで、λ/4板12の小型化とレイアウト性を向上することができる。[実施形態2]図10は、本発明にかかる光走査装置の別の実施形態を示す概略斜視図である。同図において符号1は光源としての半導体レーザアレイ、2は入射ミラー、3はカップリングレンズ、4は光束分割手段偏向ビームスプリッタ、55a、5bはシリンドリカルレンズ、66a、6bは開口絞りアパーチャ、70は偏向手段としての偏向器例えば6つの偏向反射面を有するポリゴンミラー、8は走査レンズ、9は光路折返し用のミラー、10は被走査面としての感光体、13は偏光状態を変えることのできる平行平板状の第1光学素子λ/2板、12は偏光状態を変えることのできる平行平板状の第2光学素子λ/4板、をそれぞれ示している。半導体レーザアレイ1から出射した発散光束は、λ/4板12を通過し、カップリングレンズ3により略平行光束に変換される。カップリングレンズ3を出た光束は、光束分割手段4に入射する。光束分割手段4に入射した共通の光源からの光束は、それぞれ2つに分割され、光束分割手段4を出射する光束は2本の光束となる。光束分割手段4から射出された2本の光束は、それぞれシリンドリカルレンズ5によりポリゴンミラー70の偏向反射面近傍にてそれぞれ主走査方向に長い線像に変換される。シリンドリカルレンズ5を通過して副走査方向に収束された光束中に、被走査面上でのビーム径を安定させるためのアパーチャ6配置する。すなわち、シリンドリカルレンズ5からの光束は、アパーチャ6を通過してポリゴンミラー70の偏向反射面近傍で主走査方向に長い線像となる。ここで、アパーチャ6とポリゴンミラー70の間の光路中、偏光状態によって反射率や透過率が変化する光学素子にとって不利な偏光状態の光束の光路上に、偏光状態が有利となるようにλ/2板13を配備する。図11は、光走査装置の偏向手段ポリゴンミラー70前の光学系の光学配置図であって、aは主走査断面図、bは副走査断面図である。図11aにおいて、半導体レーザアレイ1から射出される光束のうち、ポリゴンミラー70での偏向方向に対して略p偏光成分を持って射出される光束は、λ/4板12を通過後に略円偏光状態となる。略円偏光状態の光束が偏光ビームスプリッタ4に入射すると、p偏光成分は偏光ビームスプリッタ4を透過し、s偏光成分は偏光ビームスプリッタ4の反射面で反射される。それぞれp偏光状態の光束とs偏光状態の光束の2本の光束に分割され、s偏光状態の光束の光路中にのみλ/2板13を配置してp偏光状態にし、p偏光状態の光束をそれぞれポリゴンミラー70の反射面に入射する。本実施形態では、光源として半導体レーザアレイを用いることにより、半導体レーザアレイから射出される光束の偏光状態はポリゴンミラー70での偏向方向に対して略p偏光状態としている。なお、光源としてシングルビームの半導体レーザを用いる場合は、半導体レーザから射出される光束の偏光状態が略s偏光状態にすることがある。この場合でも、前述した配置により前述同様の効果を得ることができる。図11bにおいて、偏光ビームスプリッタ4からシリンドリカルレンズ5の光路中にλ/4板11を配備すると、光学素子を配備するための光路長を確保する必要がある。その結果、光学系全体として光路長が延び、レイアウト性が悪化し、光走査装置が大型化する。一方、シリンドリカルレンズ5からポリゴンミラー70の偏向走査面までの光路の長さは、その他の光学特性によって設定するシリンドリカルレンズ5の焦点距離により決まる。その結果、シリンドリカルレンズ5の焦点距離だけ距離を持たなければならない。そのため、λ/2板13をシリンドリカルレンズ5とポリゴンミラー70の間の光路中に配備することで、光学系全体の光路長を短くすることができ、レイアウト性を向上させることが可能となる。本実施形態では、6面ポリゴンミラーを用いたときに、戻り光束が発生しない入射角に設定しているため、戻り光束の影響を考慮しなくても良い。なお、4面ポリゴンミラーを用いた場合も、戻り光束を発生しないレイアウトにするか、もしくは、戻り光束が発生するタイミングで光源を発光させないようなシステム構成とすれば、本実施例の構成とすることができる。以上説明した実施の形態によれば、偏向状態によって反射率や透過率が変化する光学素子にとって不利な偏向状態の光束の光路上に、偏向状態が有利になるようにλ/4板13を配置することで、光源パワーのロスを低減することができる。その結果、安定的に光源パワーを得ることができる。[実施形態3]図12は、本発明にかかる光走査装置のさらに別の実施形態を示す概略斜視図である。同図において、符号1は光源としての半導体レーザアレイ、3はカップリングレンズ、40は光束分割手段偏向ビームスプリッタ、55a、5bはシリンドリカルレンズ、61は開口絞りアパーチャ、77は偏向手段としての偏向器例えば、4つの偏向反射面を有しており、位相をπ/2異ならせて副走査方向に重ねた位相差ポリゴンミラー、8は走査レンズ、9は光路折返し用のミラー、10は被走査面としての感光体、11は偏光状態を変えることのできる平行平板状の第1光学素子λ/4板、12は偏光状態を変えることのできる平行平板状の第2光学素子λ/4板、をそれぞれ示している。半導体レーザアレイ1から出射した発散光束は、λ/4板12を通過し、カップリングレンズ3により略平行光束に変換される。カップリングレンズ3を出た光束は、光束分割手段40に入射する。光束分割手段40に入射した共通の光源からの光束は、それぞれ2つに分割され、光束分割手段40を出射する光束は2本の光束となる。光束分割手段40から射出された2本の光束は、それぞれシリンドリカルレンズ5によりポリゴンミラー77の偏向反射面近傍にてそれぞれ主走査方向に長い線像に変換される。シリンドリカルレンズ5を通過して主走査方向に垂直な副走査方向に収束された光束中にλ/4板11を配備し、λ/4板11を通過した収束光束中に被走査面上でのビーム径を安定させるためのアパーチャ61配置する。すなわち、アパーチャ61を通過した光束は、位相差ポリゴンミラー77の偏向反射面近傍で主走査方向に長い線像となる。図13は、本実施形態の光走査装置の偏向手段位相差ポリゴンミラー77前の光学系の光学配置図であって、aは主走査断面図、bは副走査断面図である。図13aにおいて、偏向手段に位相差ポリゴンミラー77を用いると、位相差ポリゴンミラー77から半導体レーザアレイへの戻り光束が必ず生じる。そのため偏光ビームスプリッタ40とポリゴンミラー77の間にλ/4板11を配備し、半導体レーザアレイ1への戻り光束をカットする必要がある。図13bにおいて、半導体レーザアレイ1から射出される光束は、位相差ポリゴンミラー77の偏向方向に対して略p偏光成分を持って射出され、略p偏光状態の光束はλ/4板12を通過後に略円偏光状態となる。略円偏光状態の光束が偏光ビームスプリッタ40に入射すると、位相差ポリゴンミラー77の偏向方向に対してs偏光成分は偏光ビームスプリッタ40を透過し、p偏光成分は偏光ビームスプリッタ40の反射面で反射される。それぞれs偏光の光束とp偏光の光束の2本の光束に分割され、それぞれλ/4板11と通過した後位相差ポリゴンミラー77の反射面に入射する。λ/4板11を配置することで、位相差ポリゴンミラー77から半導体レーザアレイ1への戻り光束は、光束分割手段40で半導体レーザアレイ1の配置されていない方向に射出される。なお、本実施形態では光源として半導体レーザアレイを用いることにより、半導体レーザアレイから射出される光束の偏光状態は位相差ポリゴンミラー77の偏向方向に対して略p偏光状態としている。ここで、光源としてシングルビームの半導体レーザを用いる場合、半導体レーザから射出される光束の偏光状態が略s偏光状態になることがある。この場合であっても、前述の半導体レーザアレイを用いたときと同様の光学配置することで、前述の効果を得ることができる。また、偏光ビームスプリッタ40からシリンドリカルレンズ5の光路中にλ/4板を配備すると、光学素子を配備するための光路長を確保する必要がある。その結果、光学系全体として光路長が延び、レイアウト性が悪化し、光走査装置が大型化する。一方、シリンドリカルレンズ5から位相差ポリゴンミラー77の偏向走査面までの光路の長さは、その他の光学特性によって設定されるシリンドリカルレンズ5の焦点距離により決まる。その結果、シリンドリカルレンズ5の焦点距離だけ距離を持たなければならない。そこで、λ/4板11をシリンドリカルレンズ5と位相差ポリゴンミラー77の間の光路中に配備することで、光学系全体の光路長を短くすることができ、レイアウト性を向上させることが可能となる。以上説明した実施の形態によれば、λ/4板11をシリンドリカルレンズ5と位相差ポリゴンミラー77の間の光路中に配置することで、レイアウト性を向上させることができる。[実施形態4]次に、本発明にかかる画像形成装置の実施の形態について説明をする。画像形成装置は、後述する各手段を備え、光書込装置としての光走査装置から像担持体である感光体に光書込みを行い、電子写真法により、感光体の表面上に静電潜像を形成する。図14は、本発明にかかる画像形成装置の実施の形態を示す中央断面図である。画像形成装置としてのレーザプリンタは、光走査装置900、画像形成ステーション、転写ベルト906、給紙トレイ907、給紙コロ908、レジストローラ対909、定着ローラ910、排紙トレイ911、排紙ローラ912などを備えている。ここで、光走査装置900は、先に説明した本発明に係る光走査装置である。ここで、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの各色に対応する4つの画像形成ステーションが転写ベルト906の移動方向に並列されている。各画像形成ステーションは、トナー色が異なるだけで、基本的には同一構成である。各画像形成ステーションからのイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックのトナー画像が転写ベルト906上にタイミングを合わせて順次転写され、重ね合わされてカラー多色画像が形成される。画像形成ステーションは、感光体ドラム901と、感光体901の表面を高圧に帯電する帯電チャージャ902、光走査装置900により記録された静電潜像に帯電したトナーを付着して顕像化する現像ローラ903、現像ローラ903にトナーを補給するトナーカートリッジ904、感光体ドラム901の表面に残ったトナーを掻き取り備蓄するクリーニングケース905などで構成されている。感光体ドラム901は、円柱状の部材であり、その表面には感光層が形成されている。すなわち、感光体ドラム901の表面が被走査面である。感光体ドラム901は、紙面時計回りに回転し、この回転方向に沿って、帯電チャージャ902、現像ローラ903、クリーニングケース905が配置されている。光走査装置900は、帯電チャージャ902で帯電された感光体ドラム901の表面を、上位装置例えばパーソナルコンピュータからの画像情報に基づいて変調された光束により走査し、感光体ドラム901の表面に画像情報に対応した潜像を形成する。ここで形成された潜像は、感光体ドラム901の回転に伴って現像ローラ903の方向に移動する。給紙トレイ907には記録紙が格納されている。この給紙トレイ907の近傍には給紙コロ908が配置されており、給紙コロ908は、記録紙を給紙トレイ907から1枚ずつ取り出してレジストローラ対909に搬送する。レジストローラ対909は、給紙コロ908によって取り出された記録紙を一旦保持するとともに、記録紙を感光体ドラム901の回転に合わせて感光体ドラム901と転写チャージャ不図示との間隙に向けて送り出す。転写チャージャには、感光体ドラム901の表面のトナーを電気的に記録紙に引きつけるために、トナーとは逆極性の電圧が印加されている。この電圧により、感光体ドラム901の表面のトナー像が記録紙に転写される。ここで転写された記録紙は、定着ローラ910に送られる。定着ローラ910では、熱と圧力とが記録紙に加えられ、これによってトナーが記録紙上に定着される。ここで定着された記録紙は、排紙ローラ912を介して排紙トレイ911に送られて、排紙トレイ911上に順次スタックされる。感光体ドラム901の表面は、除電ユニット不図示により除電され、クリーニングユニット905により残留トナーが除去された後に、再度帯電チャージャ902に対向する位置に戻る。以上説明した実施の形態によれば、光走査装置900として本発明に係る光走査装置を用いることで、安定的に光源パワーを得ることができ、レイアウト性を向上すると共に、高品位な画像出力を維持することができる。なお、以上説明した実施の形態は、4ステーション構成のフルカラータンデム方式の画像形成装置を例とするものであった。これに代えて、5ステーション以上のタンデム方式の画像形成装置や、モノクロ機においても、本発明の光走査装置を光書込装置として適用することで、前述の効果を得ることができる。"