"基板を載置する棒状の凸形基板保持部と複数のピン逃げ穴を有する凹形検査領域部とを所定方向に等間隔に交互に複数配置することによって構成された凹凸状のステージ手段であって、前記基板保持部の表面に規則正しく配列された凸形のピン状パターンを複数備えた検査ステージ手段と、前記ピン逃げ穴を通過し前記基板の下面に接触して上昇することによって前記基板を前記基板保持部から離反させて持ち上げる複数のリフトピン手段とを備えたことを特徴とする検査ステージ装置。請求項1に記載の検査ステージ装置において、前記ピン状パターンは、前記基板保持部の全表面に渡って設けられており、前記基板保持部の中央付近に真空吸着及び圧空用の穴を複数備えたことを特徴とする検査ステージ装置。請求項2に記載の検査ステージ装置において、前記真空吸着及び圧空用の穴は、前記基板のサイズに対応した4隅に配置可能な位置にそれぞれ設けられていることを特徴とする検査ステージ装置。請求項1、2又は3に記載の検査ステージ装置において、前記ピン逃げ穴は、前記基板のサイズに対応して一部千鳥配置となっていることを特徴とする検査ステージ装置。請求項1に記載の検査ステージ装置において、真空吸着用の真空吸着用穴と真空状態解放用の圧空用穴を有するプール状の窪み部を前記基板保持部の前記基板の載置面の所定個所に複数備えたことを特徴とする検査ステージ装置。基板を載置する棒状の凸形基板保持部と複数のピン逃げ穴を有する凹形検査領域部とを所定方向に等間隔に交互に複数配置することによって構成された凹凸状のステージ手段であって、前記基板保持部の表面に規則正しく配列された凸形のピン状パターンを複数備えた検査ステージ手段と、前記ピン逃げ穴を通過し前記基板の下面に接触して上昇することによって前記基板を前記基板保持部から離反させて持ち上げる複数のリフトピン手段と前記検査ステージ手段上に載置された前記基板の上側をX方向及びY方向にシフト移動することによって前記矩形状基板の表面を検査する光学系ユニット手段とを備えたことを特徴とする基板検査装置。請求項6に記載の基板検査装置において、前記ピン状パターンは、前記基板保持部の全表面に渡って設けられており、前記基板保持部の中央付近に真空吸着及び圧空用の穴を複数備えたことを特徴とする基板検査装置。請求項7に記載の基板検査装置において、前記真空吸着及び圧空用の穴は、前記基板のサイズに対応した4隅に配置可能な位置にそれぞれ設けられていることを特徴とする基板検査装置。請求項6、7又は8に記載の基板検査装置において、前記ピン逃げ穴は、前記基板のサイズに対応して一部千鳥配置となっていることを特徴とする基板検査装置。請求項6に記載の基板検査装置において、真空吸着用の真空吸着用穴と真空状態解放用の圧空用穴を有するプール状の窪み部を前記基板保持部の前記基板の載置面の所定個所に複数備えたことを特徴とする基板検査装置。基板を検査する検査ステージ装置は、アルミニウム等の金属で作製されることが一般的である。特許文献1に記載のように、ガラス基板とステージ装置の接触面に吸着用の穴を配置すると、ガラス基板をステージ装置へ搭載処理及び取り出し処理の動作を繰り返すことで、吸着穴付近の接触面が摩擦により磨かれ、ガラス基板がステージ装置の接触面に貼り付くという現象が起こり、ガラス基板が破損するという可能性があった。また、FPDFlatPanelDisplay用のガラス基板は、WET洗浄後の残渣や静電気によって、ステージ装置上で吸着を起こす場合がある。基板が吸着した場合には、基板の搬送時に割れなどのエラーを起こすことがあった。特許文献1に記載のステージ装置は、このようなガラス基板と検査ステージの接触面とが接触を繰り返すことによるガラス基板の貼り付き現象などに対する問題については考慮されていなかった。本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、検査ステージに載置される基板の貼り付きを防止することのできる検査ステージ装置及び基板検査装置を提供することを目的とする。本発明に係る検査ステージ装置の第1の特徴は、基板を載置する棒状の凸形基板保持部と複数のピン逃げ穴を有する凹形検査領域部とを所定方向に等間隔に交互に複数配置することによって構成された凹凸状のステージ手段であって、前記基板保持部の表面に規則正しく配列された凸形のピン状パターンを複数備えた検査ステージ手段と、前記ピン逃げ穴を通過し前記基板の下面に接触して上昇することによって前記基板を前記基板保持部から離反させて持ち上げる複数のリフトピン手段とを備えたことにある。これは、凹凸状のステージ手段の基板保持部の基板載置面に、規則正しく配列された凸形のピン状パターンを設けることによって、基板と載置面との接触面積を小さくし、基板が基板保持部の基板載置面に貼り付くのを有効に防止できるようにしたものである。本発明に係る検査ステージ装置の第2の特徴は、前記第1の特徴に記載の検査ステージ装置において、前記ピン状パターンが前記基板保持部の全表面に渡って設けられており、前記基板保持部の中央付近に真空吸着及び圧空用の穴を複数備えたことにある。真空吸着用及び圧空用の穴を基板保持部のほぼ中央付近に設けることによって、基板の吸着を効果的に行うことができるようにしたものである。本発明に係る検査ステージ装置の第3の特徴は、前記第2の特徴に記載の検査ステージ装置において、前記真空吸着及び圧空用の穴が前記基板のサイズに対応した4隅に配置可能な位置にそれぞれ設けられていることにある。これは、真空吸着及び圧空用の穴を基板のサイズに合せその4隅に対応付けて配置することによって、効率的に真空吸着及び圧空用の穴を配置できるようにしたものである。本発明に係る検査ステージ装置の第4の特徴は、前記第1、第2又は第3の特徴に記載の検査ステージ装置において、前記ピン逃げ穴が前記基板のサイズに対応して一部千鳥配置となっていることにある。これは、ピン逃げ穴を千鳥配置とすることによって、種々の大きさのガラス基板に対応できるようにしたものである。本発明に係る検査ステージ装置の第5の特徴は、前記第1の特徴に記載の検査ステージ装置において、真空吸着用の真空吸着用穴と真空状態解放用の圧空用穴を有するプール状の窪み部を前記基板保持部の前記基板の載置面の所定個所に複数備えたことにある。これは、凹凸状のステージ手段の基板保持部の基板載置面にプール状の窪み部を設け、そこに真空吸着用穴と圧空用穴を設けることによって、基板と載置面との接触面積を小さくすると共に真空状態解放用の圧空用穴を別途設けることによって基板がこの窪み部に貼り付くのを有効に防止できるようにしたものである。なお、このプール状窪み部の内側にピン状パターンを設けてもよいし、設けなくてもよい。本発明に係る基板検査装置の第1の特徴は、基板を載置する棒状の凸形基板保持部と複数のピン逃げ穴を有する凹形検査領域部とを所定方向に等間隔に交互に複数配置することによって構成された凹凸状のステージ手段であって、前記基板保持部の表面に規則正しく配列された凸形のピン状パターンを複数備えた検査ステージ手段と、前記ピン逃げ穴を通過し前記基板の下面に接触して上昇することによって前記基板を前記基板保持部から離反させて持ち上げる複数のリフトピン手段と、前記検査ステージ手段上に載置された前記基板の上側をX方向及びY方向にシフト移動することによって前記矩形状基板の表面を検査する光学系ユニット手段とを備えたことにある。これは、前記検査ステージ装置の第1の特徴を利用した基板検査装置の発明である。本発明に係る基板検査装置の第2の特徴は、前記第1の特徴に記載の基板検査装置において、前記ピン状パターンが前記基板保持部の全表面に渡って設けられており、前記基板保持部の中央付近に真空吸着及び圧空用の穴を複数備えたことにある。これは、前記検査ステージ装置の第2の特徴を利用した基板検査装置の発明である。本発明に係る基板検査装置の第3の特徴は、前記第2の特徴に記載の基板検査装置において、前記真空吸着及び圧空用の穴が前記基板のサイズに対応した4隅に配置可能な位置にそれぞれ設けられていることにある。これは、前記検査ステージ装置の第3の特徴を利用した基板検査装置の発明である。本発明に係る基板検査装置の第4の特徴は、前記第1、第2又は第3の特徴に記載の基板検査装置において、前記ピン逃げ穴が前記基板のサイズに対応して一部千鳥配置となっていることにある。これは、前記検査ステージ装置の第4の特徴を利用した基板検査装置の発明である。本発明に係る基板検査装置の第5の特徴は、前記第1の特徴に記載の基板検査装置において、真空吸着用の真空吸着用穴と真空状態解放用の圧空用穴を有するプール状の窪み部を前記基板保持部の前記基板の載置面の所定個所に複数備えたことにある。これは、前記検査ステージ装置の第5の特徴を利用した基板検査装置の発明である。本発明によれば、検査ステージに載置される基板の貼り付きを有効に防止することができるという効果がある。以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。図1は、本発明に係る基板検査装置を上側から見た上面図であり、図2は、図1の基板検査装置を紙面手前方向から見た側面図である。ガラス基板検査装置100は、大別して、基台フレーム1、検査ステージ2、光学部3、リフトピン9で構成されている。基台フレーム1は複数の角パイプの溶接構造体から構成され、下部に脚を持つことで床上に設置される。検査ステージ2は基台フレーム1の上部の基板投入口側に寄って固定されている。光学部3は、門型のガントリ構造をしており、基台フレーム1の上部であって、ガラス基板の投入方向に沿って並列設置されているリニアガイド7a、7b上に移動可能に搭載されている。光学部3は、基台フレーム1の側面に設けられた光学部X駆動部図示せずによってガラス基板投入方向であるX方向へ往復動作を行う。光学ヘッド4a,4bは、ガラス基板表面の欠陥や異物の検査を行うものであり、光学部3の側面Y方向に沿って設けられたガイド8a,8bに従って、光学部Y駆動部図示せずによるX方向の動作1回につきX方向と直角方向であるY方向へシフト動作を行うようになっている。この検査は、検査光をガラス基板の表面又は内部に照射し、散乱された散乱光を受光することによって行われる。このとき光学ヘッド4a,4bがガラス基板の表面や内部を検査できるのは検査ステージ2の載置バー間の凹み部分のみである。そのために、一度走査を完了したらガラス基板をY方向にずらして残りの部分を検査している。光学部3のX方向往復動作及びY方向シフト動作、リフトピン9によるガラス基板Y方向のシフト動作によりガラス基板全面の検査を可能とする。図2に示すように基台フレーム1の内部には、リニアガイド12a、12bがY方向並列に設置され、その上にピンY駆動部11及びピン上下駆動部10を搭載した第1リフタ上下基台13が設置されている。検査ステージ2にはガラス基板を持ち上げるためのリフトピン9を通過させるための複数の穴が設けられている。リフトピン9は、ピン上下駆動部10上に搭載されたリフタユニット基台14の上面側に複数本設置されている。リフトピン9は、ガラス基板の受け取り時に上昇し、受け取り後下降することで検査ステージ2へガラス基板の受け渡しを行う。また、リフトピン9が上昇し、ガラス基板を持ち上げ、Y方向へシフト動作を行う。リフタユニット基台14は、第2リフタ上下基台15上のボールベアリング16上に乗っており、X方向及びY方向に自由に移動可能になっている。X方向及びY方向の移動は、図示していないリフタ上下基台15上に取り付けられたX方向アライメントモータ、Y方向アライメントモータの駆動により行われる。リフタ上下基台15は、ピン上下駆動部10の駆動によって上下方向に移動される。リフタ上下基台15を上昇させることでリフタユニット基台14とリフトピン9も上昇し、検査ステージ2上のガラス基板を検査ステージ2を構成する載置バーから離反するように持ち上げ、アライメント及び検査動作時におけるガラス基板のシフト動作を行うことができるようになっている。図3は、図1及び図2の検査ステージの詳細を示す上面図である。検査ステージ2は、X方向に沿った短冊状の載置バーによって凹凸が形成されている。載置バーは、検査ステージ2のY方向に等間隔50~100ミリ間隔で複数列配置されている。すなわち、検査ステージ2は、載置バーとなる凸状のガラス基板保持部201~214と検査領域となる検査凹部221~233が、Y方向に等間隔で順番に配置されている。検査ステージ2にはリフトピン9が上昇できるよう、ピン逃げ穴26が検査凹部221~233の全面渡って配置されている。ピン逃げ穴26は、検査ステージ2の中心から左右対称の位置に配置されている。種々の大きさのガラス基板マルチガラスサイズに対応できるようピン逃げ穴26は一部千鳥配置となっている。具体的には、検査凹部222のピン逃げ穴と、これに隣接する検査凹部221,223のピン逃げ穴とは千鳥配置になっている。互いに隣接する検査凹部225~229のピン逃げ穴も千鳥配置になっている。また、検査凹部232のピン逃げ穴と、これに隣接する検査凹部231,233のピン逃げ穴もそれぞれ千鳥配置になっている。また、ガラス基板保持部205,210に跨がって開いているピン逃げ穴は、ガラス基板のサイズやガラス基板投入用ロボットハンドの位置に対応できるようピンの位置を移動させることが可能な構成になっている。図4は、図3の検査ステージの上半分を拡大して示す図である。ガラス基板保持部202~207には、真空吸着用穴24と圧空用穴25を底面に有するプール状窪み部241~251が配置されている。プール状窪み部241~251はそれぞれマルチサイズのガラス基板に対応できるように、各世代の代表的なガラス基板サイズに対し4隅に配置可能な位置設けられている。プール状窪み部241~251の配置は検査ステージ2の中心から左右対称となっている。真空吸着は、ガラス基板サイズによってそのエリアを切り替え可能な構造になっている。図5は、図4におけるプール状窪みの詳細を示す拡大図であり、図5Aは上面図であり、図5BはA-A断面図である。ガラス基板保持部201の表面には、その長手方向に沿った凹形溝部が形成されている。この凹形溝部の両側は非常に狭くなっており、検査ステージ2とガラス基板の接触面積を極力削減することができ、ガラス基板の貼り付き現象を防ぐ働きがある。プール状窪み部242は、周囲が凹形溝部の両端部と同じ高さで構成され、真空吸着用穴24と圧空用穴25とが底面に設けられている。真空吸着用穴24と圧空用穴25は共に同じ断面形状をしている。このような検査ステージ2は、ガラス基板を受け取ると瞬時に真空吸着用穴24によってガラス基板の真空吸着を行い、ガラス基板の固定及び反りの矯正を行う。本発明では、このようなガラス基板の吸着をプール状窪み部242の底面に設けられた真空吸着用穴24により行う。これにより従来と比較し、ガラス基板を吸着する面積を大きくとることが可能となると共に、真空吸着部付近における検査ステージ2とガラス基板との接触面積を極力少なくすることができる。その際、検査ステージ2とガラス基板の接触を防ぐよう、真空圧は真空圧制御器を使用し管理を行う。これによって、従来のガラス基板との接触面に真空穴を設ける構造におけるガラス基板を吸着する際に発生する吸着部付近での貼り付きを有効に防ぐことが可能となる。ガラス基板をリフトピン9の上昇により持ち上げる際には、プール状窪み部242の底面の設けられた圧空用穴25により真空破壊を行う。真空吸着用穴24と圧空用穴25を別に設けることで、瞬時に真空破壊を行うことが可能である。以上により、ガラス基板と検査ステージの貼り付きが抑えられ、ガラス基板の破損を防ぐことが可能となる。図6は、検査ステージのガラス基板保持部の第1の変形例を示す図である。この変形例では、検査ステージ2におけるガラス基板保持部の表面に2個の打ち込み穴27a、27bと真空吸着用穴28を設けている。打ち込み穴27a、27bには、樹脂で製作したパッドが打ち込まれている。打ち込み穴27a、27bに打ち込まれた樹脂部でガラス基板の保持を確実に行うことが可能となる。また、樹脂部の磨耗に伴うパッドの交換も容易に行うことが可能である。図7は、検査ステージのガラス基板保持部の第2の変形例を示す図である。検査ステージ2におけるガラス基板保持部の全表面に規則正しく配列された凸形のピン状パターン29を複数設け、その中央付近に真空吸着及び圧空用穴30を備えた円状パターン31を設けている。ガラス基板保持部の表面形状をピン状パターン29にすることで、接触面積を大幅に削減することができる。なお、真空吸着及び圧空用穴30は、上述のプール状窪み部と同様に、マルチサイズのガラス基板に対応できるように、各世代の代表的なガラス基板サイズに対し4隅に配置可能な位置設けてもよい。また、図5のプール状窪み部をガラス基板サイズに対し4隅に配置し、このプール状窪み部以外のガラス基板保持部の表面に図7のピン状パターンを設けるようにしてもよい。すなわち、図7において、真空吸着及び圧空用穴30に代えて、プール状窪み部を設けてもよい。これによって、真空吸着用穴24と圧空用穴25とによって瞬時に真空破壊を行うことができるようになる。さらに、この場合、プール状窪み部にも図7のピン状パターンを設けてもよい。図7において、ピン状パターン29の大きさは直径約1~3[mm]、高さ0.2~0.5[mm]の凸形形状が好ましく、その取り付けピッチは、20~50[mm]が好ましい。また、円状パターン31の大きさは直径約4~8[mm]が好ましく、真空吸着及び圧空用穴30のサイズは直径約1~3[mm]が好ましい。これによって、ガラス基板保持部に載置されたガラス基板のたわみ量を小さくすることができ、ガラス基板の平面精度を十分に保持することできるという効果があり、さらに基板の貼り付きを有効に防止することもできる。なお、図5では、プール状窪み部及び凹形溝部の両側以外の場所に図7のピン状パターンを設けるようにしてもよい。"