感光性表面に画像を形成する装置であって、第一偏光を有する複数の第一光ビームを同時に生成するように配置された複数の光エミッタと光学要素とを含む第一集積マルチビーム光源であって、該複数の第一光ビームは実質的に平行な光路を通るとともにさらに前記感光性表面上において第一スポットのアレイに入射し、隣接する第一スポットは実質的に均一な処理方向間隔と実質的に均一なスキャン方向間隔とによって隔たれているような第一集積マルチビーム光源と、前記第一偏光とは異なる第二偏光を有し、実質的に平行な光路を通る複数の第二光ビームを同時に生成するように配置された複数の光エミッタと光学要素とを含む第二集積マルチビーム光源であって、前記第二集積マルチビーム光源によって生成された前記光ビームの光路は、前記第一集積マルチビーム光源によって生成された前記光ビームの光路と非平行であり、前記複数の第二光ビームは前記感光性表面上において第二スポットのアレイに入射し、隣接する第二スポットは実質的に均一な処理方向間隔と実質的に均一なスキャン方向間隔とによって隔たれているような第二集積マルチビーム光源と、前記複数の第一及び第二光ビームの両方の光路上に、前記複数の第一光ビームの光路及び前記複数の第二光ビームの光路を互いに実質的に平行とするように配置され、前記第一偏光の光に対して少なくとも一部が透過性であって前記第二偏光の光に対して少なくとも一部が反射性であり、画像経路に前記複数の第一及び第二光ビームの光エネルギーの一部を含む画像ビームアレイを出力する第一偏光光学ビームスプリッタと、を備え、前記第一集積マルチビーム光源及び前記第二集積マルチビーム光源が、前記感光性表面において前記第二光スポットが前記第一光スポットに対して位置的にずれるように配置され、さらに、前記第一光ビームの光エネルギーの一部が第一ビームモニタへ向けられるとともに、前記複数の第二光ビームの光エネルギーの一部が第二ビームモニタへ向けられることを特徴とする装置。前記複数の第一及び第二光ビームがそれぞれ前記第一集積マルチビーム光源及び第二集積マルチビーム光源によってs-偏光光ビームとして発せられ、さらに、前記複数の第一光ビームの光路上で、前記第一集積マルチビーム光源と前記複数の第一光ビームの偏光をs-偏光からp-偏光へと切り替える前記第一偏光光学ビームスプリッタとの間に設置された二分の一波長板を備えることを特徴とする、請求項1に記載の装置。さらに、前記複数の第一光ビームの光路上で、前記第一集積マルチビーム光源と前記第一偏光光学ビームスプリッタとの間に設置された第一非偏光ビームスプリッタと、第一ビーム受光表面を有する第一ビームモニタであって、前記複数の第一光ビームのそれぞれの一部が前記第一非偏光ビームスプリッタによって前記第一ビーム受光表面への経路へ反射され、前記複数の第一光ビームのそれぞれの残りが前記第一非偏光ビームスプリッタによって前記第一偏光ビームスプリッタへの経路に透過されるように位置して設けられた第一ビームモニタと、前記複数の第二光ビームの光路上で、前記第二集積マルチビーム光源と前記第一偏光光学ビームスプリッタとの間に設置された第二非偏光ビームスプリッタと、第二ビーム受光表面を有する第二ビームモニタであって、前記複数の第二光ビームのそれぞれの一部が前記第二非偏光ビームスプリッタによって前記第二ビーム受光表面への経路へ反射され、前記複数の第二光ビームのそれぞれの残りが前記第二非偏光ビームスプリッタによって前記第一偏光ビームスプリッタへの経路に透過されるように位置して設けられた第二ビームモニタと、を備えることを特徴とする、請求項2に記載の装置。さらに、前記第一集積マルチビーム光源を駆動する第一駆動部であって、前記第一ビームモニタからの出力が前記第一集積マルチビーム光源の駆動を制御するために用いられるように、前記第一ビームモニタが概第一駆動部と通信可能に結合されている第一駆動部と、前記第二集積マルチビーム光源を駆動する第二駆動部であって、前記第二ビームモニタからの出力が前記第二集積マルチビーム光源の駆動を制御するために用いられるように、前記第二ビームモニタが該第二駆動部と通信可能に結合されている第二駆動部と、を備えることを特徴とする、請求項3に記載の装置。しかしながら、画像品質を改良したいという要求が現在ずっと存在する。電子写真マーキングシステムは多数の光学要素を含む。これらの光学要素の形状及び取付けの一方または両方における不可避な不正確性、摩耗、環境の変化等により、否応なくフォトレセプタ上の走査線の品質に異常が生じ、画像化の品質が低下することになる。このような異常の一つは、感光体上の走査線間隔の僅かなばらつきである。そういった間隔のばらつきは、たとえ僅かであっても、印刷画像の走査線方向において知覚できるほどの色調のばらつきをもたらしかねず、これは通常はバンディングアーチファクトと呼ばれる。図5は印刷された画像におけるバンディングアーチファクトが現れた画像18における明暗縞を示している。さらに、色混合により、及び人の目がカラーグラデーションにおいて或る非線形性を正確に検知する能力を有していることにより、このようなバンディングはより知覚されやすくなる。別の一般的な画像化品質の問題は、曲線を印刷しようとする際に生成される階段状のパターンであり、これは一般にジャギーとして知られている。電子写真マーキングシステムの画像品質を向上させる一つの方法は、集積アレイを形成するレーザ光源の数を単に増やすことによってスキャン解像度を上げることである。しかし、32の個々の光源を有する集積アレイが現在、手頃な値段の標準的ですぐに入手できる装置である一方で、光源が32よりも多い集積レーザアレイはそうではない。従って、32よりも多い光源を有する集積アレイを内蔵するいかなるシステムも、特別に設計作製されたレーザアレイとしての増加コストを負担しなければならない。さらに、アレイに光源を追加すると、光源の間隔が縮小してアレイの製造がより難しく費用のかかるものとなるか、またはより小さな光学倍率が必要となるため、光学システムのアパーチャがレーザの出力ビーム発散に対して小さくなり、従ってレーザごとの出力を増加しなければならなくなる。より出力の大きなレーザは駆動時により熱くなり、寿命がより短く、そしてこの場合も標準的ではない。さらに、集積アレイに各光源を追加するごとに、装置に欠陥が生じ、集積アレイ装置全体が使えなくなるリスクが伴って大きくなる。仮に、単に二以上の集積レーザアレイを隣接させ、それらが生成するビームをスキャン用のスキャニングサブシステムの単一のスポットに向けるとすると、例えば前述した米国特許第7236280号明細書特許文献1に開示されているように、各アレイからのビームは異なる光路を進む。温度変化といった動作上の固有の変動によって、異なる光路に関して異なる変位が生じ、結果として最終的な印刷画像において目に見える印刷アーチファクトが生じることになる。従って、単に集積アレイの光源の数を増やすことも、また、単に二つの集積アレイを共に隣接させて両者の出力をスキャニングサブシステムに向けることも、より高い解像度への要求に対する現実的な対応とはならないという、多くのやむを得ない理由が存在している。よって本開示は、複数の集積光源を再設計することも、またそれらの出力を増大させたりする必要もないマーキングシステムによって生成される画質を改良する装置に関する。多数の集積偏光マルチビーム光源と、偏光ビームスプリッタとを組み合わせて用いることにより、より多くのビームとスポットを生成し、それによって印刷解像度を向上させ、印刷アーチファクトを減少させることを可能にする。本発明に係る感光性表面に画像を形成する装置は、感光性表面に画像を形成する装置であって、第一偏光を有する複数の第一光ビームを同時に生成するように配置された複数の光エミッタと光学要素とを含む第一集積マルチビーム光源であって、該複数の第一光ビームは実質的に平行な光路を通るとともにさらに前記感光性表面上において第一スポットのアレイに入射し、隣接する第一スポットは実質的に均一な処理方向間隔と実質的に均一なスキャン方向間隔とによって隔たれているような第一集積マルチビーム光源と、前記第一偏光とは異なる第二偏光を有し、実質的に平行な光路を通る複数の第二光ビームを同時に生成するように配置された複数の光エミッタと光学要素とを含む第二集積マルチビーム光源であって、前記第二集積マルチビーム光源によって生成された前記光ビームの光路は、前記第一集積マルチビーム光源によって生成された前記光ビームの光路と非平行であり、前記複数の第二光ビームは前記感光性表面上において第二スポットのアレイに入射し、隣接する第二スポットは実質的に均一な処理方向間隔と実質的に均一なスキャン方向間隔とによって隔たれているような第二集積マルチビーム光源と、前記複数の第一及び第二光ビームの両方の光路上に、前記複数の第一光ビームの光路及び前記複数の第二光ビームの光路を互いに実質的に平行とするように配置され、前記第一偏光の光に対して少なくとも一部が透過性であって前記第二偏光の光に対して少なくとも一部が反射性であり、画像経路に前記複数の第一及び第二光ビームの光エネルギーの一部を含む画像ビームアレイを出力する第一偏光光学ビームスプリッタと、を備え、前記第一集積マルチビーム光源及び前記第二集積マルチビーム光源が、前記感光性表面において前記第二光スポットが前記第一光スポットに対して位置的にずれるように配置され、さらに、前記第一光ビームの光エネルギーの一部が第一ビームモニタへ向けられるとともに、前記複数の第二光ビームの光エネルギーの一部が第二ビームモニタへ向けられることを特徴とする装置である。本開示の一形態によれば、個々にアドレス可能な光エミッタを含む二つのs-偏光集積マルチビーム光源が、それぞれが互いに略垂直に光を発射するように位置して配置される。スプリッタは、前記第一レーザビームの光路と前記第二レーザビームの光路とが概して互いに略平行であるようにし得る種類のものであり、さらに、そのスプリッタによって第一偏光は通過させられ、第二偏光は反射される。さらに、スプリッタは、光学システムのアパーチャの二つの集積マルチビーム光源に対するスループットが大まかに、単一の集積マルチビーム光源に対するものと同一であるような種類のものである。一つの実施形態によれば、光学スプリッタはp-偏光を通過させ、s-偏光を反射する偏光ビームスプリッタである。第一集積光源の光路中の光は、少なくともそこからの光ビームエネルギーの一部がスプリッタを通過して画像経路すなわち、感光性表面への経路へと進むようにp-偏光している。第二集積光源の光路からの光は、少なくともそこからの光ビームエネルギーの一部がスプリッタによって画像経路へ反射されるようにs-偏光している。この実施形態の1例の場合においては、第一及び第二集積光源の両方がs-偏光を生じる。二分の一波長板が第一集積光源の光路中に、第一集積光源及び偏光スプリッタの間に配置される。偏光スプリッタは光の偏光をs-偏光からp-偏光へと回転させる。偏光スプリッタはp-偏光を画像経路へと通過させる。第二集積光源からのs-偏光は、偏光スプリッタによって同様に画像経路へと反射される。従って、第一及び第二集積アレイからの光は画像経路においてほぼ平行とされる。別の実施形態によれば、非偏光ビームスプリッタが第一及び第二集積光源の光路中に位置するように設けられる。各光路の光の一部はそれによって、前記経路から外れた光学センサに向けられる。この実施形態においては、光学センサは、第一及び第二集積マルチビーム光源によって生成された光ビームの光強度又は他の属性を光源ごとに計測するために用いることができる。さらなる実施形態によれば、光学スプリッタは漏洩偏光ビームスプリッタであり、例えばそれに入射した光の5を反射p-偏光させ、又は通過s-偏光させる。第一集積光源の光路は、それからの光の一部がスプリッタを通過して画像経路すなわち、感光性表面への経路へと進む一方で、残りの光漏洩した光がスプリッタによって反射されるようなものである。第二集積光源の光路は、それからの光がスプリッタによって画像経路へと反射される一方で、残りの光漏洩した光がスプリッタを通過するようなものである。さらに、光学センサがスプリッタから光を受けるように位置して設けられる。第一集積アレイの光路はスプリッタによって反射された漏洩光が光学センサに向けられるようなものである。第二集積アレイの光路はスプリッタを通過する漏洩光が光学センサに向けられるようなものである。第一及び第二アレイからのビームは、検出されるビームの光源が例えば時分割多重化によって決定され得るように、光学センサによる検出のタイミングと連動して時間調節される。この実施形態では、光学センサは、第一及び第二集積マルチビーム光源によって生成された光ビームの光強度又は他の属性を光源ごとに測定するために用いることができ、第一及び第二アレイそれぞれのための個々のスプリッタ及びセンサは削除される。図6は、本開示の一形態に係る、本明細書中でアレイ光源サブシステム50というシステムを示す。アレイ光源サブシステム50は、第一集積マルチビーム光源52と第二集積マルチビーム光源54とを含み、それぞれが複数の個々に制御可能なレーザビームを同時に生成する複数のレーザエミッタ個々のエミッタは非図示を含む。まず、第一及び第二集積マルチビーム光源52、54は、第一集積マルチビーム光源52によって発せられたビームの光路が、第二集積マルチビーム光源54によって発せられた光ビームと非平行となるような位置に設けられる。後に詳述するが、ある実施形態においては、第一集積マルチビーム光源52によって発せられたビームは第二集積マルチビーム光源54によって発せられた光ビームにほぼ垂直とすることができる。一例では、第一及び第二集積マルチビーム光源52、54は複数のエミッタが二次元アレイとして配列された垂直共振器面発光レーザVCSELを含む。VCSELは、単独の構造が、その中に、たいていは単一の基板又はダイの上に形成された、複数の個別に制御可能な発光装置を有するように一体化されている。VCSELは単に一例であって、例えば集積端発光装置などの他の構造も採用することができる。レーザが本実施形態の一部を形成するように説明されるが、発光ダイオードLED、有機発光ダイオードOLEDなどの他の多くの形態の非偏光光源が、説明されるレーザ光源の代わりに、適切な偏光フィルタを追加することで同等に置換できることが理解されるであろう。集積マルチビーム光源ごとの、個別に制御可能なエミッタ、すなわちビームの数は設計上の選択事項である。本明細書において開示される概念は、各集積マルチビーム光源において、より少ない又はより多い数のエミッタに直ちに拡張可能であるが、図示上の理由により、光源は32個の個別に制御可能なエミッタを有すると考える。第一及び第二集積マルチビーム光源52、54によって生成される光は偏光される。この偏光は好適には、光源52、54によって発せられたままの光の属性であるが、十分に理解されるように、別個の二分の一波長板など非図示のような光源52、54に関連した光学要素によって偏光が与えられてもよい。一実施形態では、第一及び第二集積マルチビーム光源52、54は垂直共振器面発光固体レーザVCSELである。このVCSELからの偏光した出力は、まとめられた装置におけるVCSELの回転位置とVCSELの出力の性質に依存している。このVCSELはわずかに長円形形状を有するように作製され、及び、またはその代わりに意図的にずれた方向を向いた基板を用いることで、偏光を制御するための十分な非対称性を生成することができる。VCSELはs及びp偏光を決定するために下流の光学システムすなわち、ビームスプリッタ、多角形面などにおける光学表面に関連して、その向きが決められる。光学要素56、58は第一及び第二集積マルチビーム光源52、54の個々のエミッタによって生成されたビームを平行にして、それぞれをビームアレイ60、62に向ける。アパーチャまたは孔形成部材64、66はそれぞれ第一及び第二ビームアレイのビーム幅を限定する。光源52によって発せられたビームの光路には、二分の一波長板68が配置される。本実施形態では、光源52によって発せられた光は好適にはs-偏光している。二分の一波長板68はこの光路中のビームの偏光をp-偏光に回転させる。他の代わりとなる実施形態では、光源52はp-偏光光源であり、光源54はs-偏光光源である。従って、二分の一波長板68が不要となる。光源52によって発せられたビームの光路にはまた、第一ビームスプリッタ70が配置される。加えて、光源54によって発せられたビームの光路には、第二ビームスプリッタ74が配置される。ビームスプリッタ70、74は部分的に金属化されたコーティング、又は非偏光多層誘電体コーティングを有する装置とすることができる。さらに、ペリクルである薄膜、板形、又は立方体形のビームスプリッタを用いることができる。本実施形態によれば、第一ビームアレイ60はスプリッタ70に入り、半反射表面72上に入射し、第二ビームアレイ62はスプリッタ74に入り、半反射表面76に入射する。本実施形態の一具体例では、半反射表面72、76は大まかに95パーセントの入射光エネルギーを透過させ、残りの約5パーセントの光エネルギーを入射角に対して90°で反射する。とはいえ、透過光に対する反射光の割合が他の特定の値となることがあり得る。アレイ光源サブシステム50はまた、第一ビームモニタ78と、第一ビームアレイ60用の関連した収束光学要素80と、第二ビームモニタ82と、第二ビームアレイ62用の関連した収束光学要素84と、を含む。ビームモニタ78、82は例えば、フォトダイオード光学出力モニタを含むものとすることができる。フォトダイオード光学出力モニタの役割については既に述べたものであり、本開示の範囲にとどまるものではない。ビームモニタ78の出力は駆動システム86によって、第一集積マルチビーム光源52によって生成されるビームのビーム出力、位置、他の属性を制御して補正するために分析して用いることができる。同様に、ビームモニタ82の出力は駆動システム88によって、第二集積マルチビーム光源54によって生成されるビームのビーム出力、位置、他の属性を制御して補正するために分析して用いることができる。アレイ光源サブシステム50はさらに、第一及び第二ビームアレイ60、62の光路に配置された偏光ビームスプリッタ90を含む。一実施形態では、スプリッタ90は偏光ビームスプリッタであるが、他の種類の素子もまた、本実施形態におけるスプリッタ90の機能的役割を果たすことができる。本実施形態によれば、第一ビームアレイ60はスプリッタ90に入るが、そこでは主にp-偏光が透過される。このようにして、第一ビームアレイ60のp-偏光は画像経路すなわち、詳細は後述するROSサブシステムの方向に送信される。第一ビームアレイ60のいかなる漏洩s-偏光も、効果的にスプリッタ90によって画像経路の外に反射される。同様に、第二ビームアレイ62のs-偏光はスプリッタ90に入るが、そこでは主にs-偏光が反射される。これにより、第二ビームアレイ62のs-偏光は、スプリッタ90によって透過された第一ビームアレイ60の光の経路に対して通常は垂直に、画像経路へと反射される。第二ビームアレイ62のいかなる漏洩p-偏光も、効果的にスプリッタ90によって画像経路の外に透過される。位置制御光学要素非図示が、第一ビームアレイ60の透過部分と第二ビームアレイ62の反射部分とが、スプリッタ90の後の画像経路において平行となるよう確保する必要があり得る。それには、例えば、スプリッタ90を通過する第一ビームアレイ60の反射角、スプリッタ90の表面からの第二ビームアレイ62の反射角、ブリュースタ角などを考慮する。図7は、例えば偏光ビームスプリッタ90に関して、p-偏光及びs-偏光の両方に関する光波長に対する透過パーセントのグラフである。一実施形態においては、第一及び第二光源52、54は780nmの光を発する。従って、このような例となる偏光ビームスプリッタ90は第一ビームアレイ60のp-偏光を効果的に透過させ、第二ビームアレイ62のs-偏光を効果的に反射するであろう。ビームアレイ60、62はそれぞれが、複数の個々に空間的に分離したレーザビームを含む。アレイ光源サブシステム50の構成要素がさらに、画像経路ROSサブシステムの方向においてスプリッタ90から出射した個々が空間的に分離されたレーザビームが、複数の、p-偏光とs-偏光の両方の個々が空間的に分離されたレーザビームを含む画像ビームアレイ92を形成するような位置に設けられる。これらのビームの間隔については後で詳述するが、この経路において第一集積マルチビーム光源52からのビーム及び第二集積マルチビーム光源54からのビームは通常は平行であるか、又は小さな角度範囲内に分布し、互いに関して様々な量が空間的に重複することに注意する必要がある。上述した実施形態によって、感光性表面に書き込みを行うために使用できるビームの数、したがって、スポットの数が効果的に二倍になる。既に触れたように、典型的な高性能のマーキングシステムは、個別に制御可能な32ものビームの集積マルチビーム光源を採用する。従って、上記の実施形態は個別に制御可能な64ものビームの集積マルチビーム光源を提供する。重要な点として、画像ビームアレイ92の個々のビームの数は効果的に二倍にされるが、光学アパーチャのスループットは従来のシステムよりも増加しない。すなわち、レーザの処理方向のビーム間隔に対する、感光性表面における処理方向のビーム間隔の比率は変化しない。このため、上述の実施形態によれば、個々のレーザエミッタの出力を増加させる必要がない。第一及び第二ビームアレイ60、62を監視するためのビームスプリッタ70、74とともに二分の一波長板68を使用することで、第一及び第二ビームアレイ60、62のそれぞれの光強度が若干減少することはない。しかしながら、感光性表面における全体の強度は、その感光性表面における個々のビームの光強度の合計である。上述した実施形態では、従来のシステムと比較して二倍の数のビームが存在しているため、スプリッタ70、74におけるビーム強度の損失は個々のビームの数の二倍によって相殺されるものを上回る。それで、ビーム毎に要求されるレーザ強度はかなり減少する。さらに、画像ビームアレイ92の一部を形成しない光強度は、自動出力制御APC検知及び、集積マルチビーム光源52、54の出力を監視して制御する他の側面に用いられる。次に図8を参照すると、本説明の他の実施形態に係る、この場合はROSサブシステムであるビームアレイスキャニングサブシステム100に組み込まれたアレイ光源サブシステム50が示されている。アレイ光源サブシステム50は実質的には、上述し、図6に示したものである。画像ビームアレイ96はアレイ光源サブシステム50から出射する。本実施形態によれば、画像ビームアレイ96は最大64の個々に制御可能で空間的に分離した、感光性表面102上に所望のパターンを形成するようにそれぞれが変調されたレーザビームから成る。多面鏡及びレンズアッセンブリ104は多数の光学要素106を含む。この多数の光学要素106は、第一及び第二集積マルチビーム光源52、54によって生成されたビーム用の小型の光路とそれらのビームを調節して補正する役割を有するが、これらの説明は本明細書では割愛する。画像ビームアレイ96を構成するビームはスキャニング光学システムの大部分を通して同一の光路を共有するが、それによって、光学機械的及びビームの照準安定性が促進される。アレイ光源サブシステム50を構成する要素は、例えば感光体などの感光性表面102において、それぞれの光源におけるビームの相対的間隔によってある程度決定される間隔で第一及び第二集積マルチビーム光源52、54によって生成されたビームを光学要素106及び回転多面鏡108がスキャンするように位置して設けられる。すなわち、第一及び第二集積マルチビーム光源52、54における個々のエミッタの互いに対する位置によって、感光性表面上の各ピクセルのスポットの間隔がある程度決定される。具体的には、本開示の一実施形態に係る感光性表面上のスポットの一つの典型的なアレイ110が図9全ての図と同様に、縮尺通りに描かれてはいないに示される。第一集積マルチビーム光源52からのビームが表面102に投影されるスポット112は、第一集積マルチビーム光源52を構成するエミッタの間隔に比例する量だけ互いに空間的に離れている。同様に、第二集積マルチビーム光源54からのビームが表面102に投影されたスポット114は、第二集積マルチビーム光源54を構成するエミッタの間隔に比例する量だけ互いに空間的に離れている。スポット112、114の互いに対する位置は、エミッタと感光性表面102との間にある光学要素だけでなく、とりわけ、第一及び第二集積マルチビーム光源52、54の間の距離であるエミッタ間隔が同一であると仮定した場合に第一及び第二集積マルチビーム光源52、54の互いに対する配置によって決定される量によって変わる。アレイはコリメータレンズ非図示の光軸に対し、かつ、このように互いに対して僅かに偏心し、感光性表面において所望の処理方向ビーム間隔を達成する。一実施形態においては、スキャン方向間隔は、第一及び第二集積マルチビーム光源52、54によって生成されたスポットがスキャン方向において200~300ミクロンの範囲図9に示される実施形態では約249ミクロンとなるように制御される。さらに、一実施形態では、第一及び第二集積マルチビーム光源52、54によって生成されるスポットが処理方向において4~6ミクロンの範囲図9に示される実施形態では約5.292ミクロン4800spiとなる。第一及び第二集積マルチビーム光源52、54の個々のエミッタ間隔の一例が、図1を参照して与えられる。本明細書で論じられる配置や間隔は典型的な実施形態のためのものであり、本明細書で具体的に論じられている以外の間隔もあり得るし、本開示の範囲に含まれる。図10は本開示の別の実施形態に係る、感光性表面102上のスポット112、114の別の配置116を示している。本実施形態では、スポット112、114の列は互いにずれておらず、むしろ共同で段組となっている。しかし、スポットの行は、互いにずれている。例えば、第一及び第二集積マルチビーム光源52、54によって生成されるスポットは処理方向において4~6ミクロンの範囲にあり、図10に示される実施形態ではやはり約5.292ミクロン4880spi離れている。このパターンは、特に各光源52、54が同一のエミッタ間隔を有している例えば図1に関して図示され、説明されたように場合に、第一及び第二集積マルチビーム光源52、54及び関連する光学要素の一方または両方の、相対位置を制御することによって生成することができる。これによって、他の多数のスポット間隔及びパターンが可能であり、考えられる。よって、スポット112、114の特定の間隔及びパターンは設計上の選択の問題であり、本開示の範囲を限定するものではないことが理解される。図11は感光性表面102におけるp-偏光及びs-偏光に関する、スキャン位置に対する相対透過率のグラフである。図からわかるように、透過率は位置に依存しており、p-偏光及びs-偏光の両方に関して非線形である。しかし、位置の非線形依存性を最小にするために、例えば駆動システム86、88内で、又は制御可能な光学要素非図示を介して電子スキャン補正を適用することができる。先の説明は、三つのビームスプリッタ二つはビーム監視のための非偏光スプリッタ、一つはビームアレイ60、62を重ね合わせる偏光スプリッタを必須的に使用するシステムに関するものであった。しかし、本開示の概念を、より少ない数のスプリッタを用いたアレイ光源サブシステムを得るために用いることも可能である。例えば、図12を参照すると、同時に複数の個別制御可能なレーザビームを生成する複数のレーザエミッタ個々のエミッタは非図示をそれぞれが含む第一及び第二集積マルチビーム光源142、144によって構成されたアレイ光源サブシステムが示されている。この場合も、光源142、144からの光出力は、例えばs-偏光に偏光したものとすることができ、または、別個の光学要素非図示を備えて光源の出力を最初に偏光させることもできる。光学要素146、148はそれぞれ第一及び第二集積マルチビーム光源142、144の個々のエミッタによって生成されたビームをビームアレイ150、152に方向付ける。アパーチャまたは孔形成部材154、156はそれぞれ、第一及び第二ビームアレイ150、152のビーム幅を限定する。加えて、二分の一波長板157が第一ビームアレイ150の光路に配置され、第一ビームアレイ150のビームの偏光を上述したようにs-偏光からp-偏光に回転させる。アレイ光源サブシステム140はさらに、第一及び第二集積マルチビーム光源150、152の光路に設けられた立方体形の光学ビームスプリッタ158から成る。スプリッタ158は、選択的に、例えばp-偏光である第一偏光の光を透過させ、例えばs-偏光である第二偏光の光を反射させる偏光スプリッタ部160を含む。こうして、スプリッタ158は第一ビームアレイ150のp-偏光ビームを画像経路へと透過させる。第二ビームアレイ152のs-偏光ビームは偏光スプリッタ部160上に入射し、通常は第一ビームアレイ150のビームの画像経路に平行に、画像経路へと反射させられる。画像経路ROSサブシステムの方向へスプリッタ158を出射した個々が空間的に分離されたビームは、個々が空間的に分離したp-偏光及びs-偏光の両方の複数のビームから成る画像ビームアレイ162を形成する。スプリッタ158はさらに、例えば5の反射性、95の透過性を有する、一部反射性である非偏光の表面164、166を含む。第一ビームアレイ150の光の一部は次いで表面164によって反射され、収束光学要素168を通って、ビームアレイ150を構成する光のビーム強度、質、位置などを評価する第一ビームモニタ170へと進むこれは、例えば所望のビーム出力を得るために光源142の駆動を調節するために用いることができる。。同様に、第二ビームアレイ152の光の一部は表面166によって反射され、収束光学要素172を通って、第二ビームアレイ152を構成する光のビーム強度、質、位置などを評価する第二ビームモニタ174へと進むこれは、例えば所望のビーム出力を得るために光源144の駆動を調整するために用いることができる。。アレイ光源サブシステム140は、例えば、図8に関して示され、説明された種類のビームアレイスキャニングシステム100におけるアレイ光源サブシステム50の代わりをすることができる。アレイ光源サブシステム50と同様に、アレイ光源サブシステム140は、感光性表面に書き込むことができるビームの、すなわちスポットの数を効果的に二倍にし、現在の最先端の32個のエミッタアレイを用いるならば、64もの個々の、個別に制御可能なビームの画像ビームアレイを提供する。もちろん、より多い又は少ない数のエミッタを持った集積装置を用いてもよい。重ね合わされたビームアレイの最終的なビーム数はそれに応じて上下する。感光体における光強度は基本的には、画像ビームアレイ162を構成するビームの出力の合計であるから、二分の一波長板157及び一部反射性表面164、166におけるビーム強度の損失は個々のビームの数が増えることで相殺される分を上回る。そのため、ビーム毎に要求されるレーザ強度はかなり減少する。さらに、画像ビームアレイ162の一部を形成しない光強度は、自動出力制御APC検知及び、集積マルチビーム光源142、144の出力を監視して制御する他の側面に用いられる。上記の説明は、立方体形のビームスプリッタ158に関するものであったが、例えば図15に示されたような、デュアルプレートビームスプリッタを用いた同様の実施形態も考えられる。ここでは、アレイ光源サブシステム140の立方体形ビームスプリッタ158が、アレイ光源サブシステム141のデュアルプレートビームスプリッタ159に置換されている。スプリッタ159はさらに、例えば5の反射性、95の透過性を有する、一部反射性である非偏光の表面165、167を含む。第一ビームアレイ150の光の一部は次いで表面165によって反射され、収束光学要素168を通って、ビームアレイ150を構成する光のビーム強度、質、位置などを評価する第一ビームモニタ170へと進むこれは、例えば所望のビーム出力を得るために光源142の駆動を調節するために用いることができる。。同様に、第二ビームアレイ152の光の一部は表面167によって反射され、収束光学要素172を通って、第二ビームアレイ152を構成する光のビーム強度、質、位置などを評価する第二ビームモニタ174へと進むこれは、例えば所望のビーム出力を得るために光源144の駆動を調整するために用いることができる。。ビームスプリッタの数がより少ないアレイ光源サブシステムの別の実施形態を図13に示す。同時に複数の個別制御可能なレーザビームを生成する複数のレーザエミッタ個々のエミッタは非図示からそれぞれが成る第一及び第二集積マルチビーム光源182、184を含むアレイ光源サブシステム180が示されている。この場合も、光源182、184からの光出力は、例えばs-偏光に偏光したものとすることができ、または、別個の光学要素非図示を備えて光源の出力を偏光させることもできる。光学要素186、188はそれぞれ第一及び第二集積マルチビーム光源182、184の個々のエミッタによって生成されたビームをビームアレイ190、192に方向付ける。アパーチャまたは孔形成部材194、196はそれぞれ、第一及び第二ビームアレイ190、192のビーム幅を限定する。加えて、二分の一波長板198が第一ビームアレイ190の光路に配置され、第一ビームアレイ190のビームの偏光を上述したようにs-偏光からp-偏光に回転させる。アレイ光源サブシステム180はさらに、第一及び第二ビームアレイ190、192の光路に設けられた偏光スプリッタ200を含む。偏光スプリッタ200は、選択的に、例えばp-偏光である第一偏光の光を透過させ、例えばs-偏光である第二偏光の光を反射させる。本実施形態では、偏光スプリッタ200はp-偏光の大部分を透過させ、その光の一部を反射させるとともに、s-偏光の大部分を反射してその光の一部を透過させるという意味において漏洩する。一実施形態では、スプリッタ200はp-偏光の約95を透過させ、そのp-偏光の約5を反射させる。そして、s-偏光の約95を反射させ、そのs-偏光の約5を透過させる。ビームアレイ190、192からの個々が空間的に分離したビームの光強度の大部分はスプリッタ200から画像経路ROSサブシステムを向いてへ出射し、個々が空間的に分離した、p-偏光及びs-偏光の両方の複数のビームを含む画像ビームアレイ202を形成する。ビームアレイ190、192からの個々が空間的に分離したビームの光エネルギーの残りはスプリッタ200から画像経路に対して大まかに垂直に出射し、これもまた、個々が空間的に分離した、p-偏光及びs-偏光の両方の複数のビームから成る監視ビームアレイ204を形成する。監視ビームアレイ204は偏光スプリッタ206へ向けられ、そこでビームアレイ204のp-偏光成分とs-偏光成分が分けられる。このp-偏光成分はスプリッタ206によってp-偏光監視ビームアレイ208として収束光学要素210に向けて透過され、そこではビームアレイ208を構成する光のビーム強度、質、位置などを評価する第一ビームモニタ212上にビームアレイ208を集中させるこれはまた、例えば、所望のビーム強度を達成するために光源182の駆動を修正するために使うこともできる。。ビームアレイ204の光のs-偏光した部分は、s-偏光監視ビームアレイ214としてスプリッタ206によって反射され、収束光学要素216を通って、ビームアレイ214を構成する光のビーム強度、質、位置などを評価する第二ビームモニタ218へ進むこれはまた、例えば、所望のビーム強度を達成するために光源184の駆動を修正するために使うこともできる。。このビームアレイ204のp-偏光及びs-偏光成分を分けることにより、光源182、184を個別に操作することを二つのスプリッタのみによって実現でき、アレイ光源サブシステムにおける光学的損失が減少する。アレイ光源サブシステム180は、図8に関して示され、説明された種類のビームアレイスキャニングシステム100におけるアレイ光源サブシステム50の代わりをすることもできる。感光性表面に書き込むことができるビームの数、すなわちスポットの数はこの場合も効果的に二倍にされ、現在の最先端の32個のエミッタアレイを用いるならば、64もの個々の、個別に制御可能なビームの画像ビームアレイを提供できる。もちろん、より多い又は少ない数のエミッタを持った集積装置を用いてもよい。重ね合わされたビームアレイの最終的なビーム数はそれに応じて上下する。感光性表面に向けられない他の光強度の大部分は、自動出力制御APC検知及び、集積マルチビーム光源182、184の出力を監視して制御する他の側面に用いられる。ただ一つだけのスプリッタが必要なアレイ光源サブシステム220の実施形態を図14に示す。アレイ光源サブシステム220は、複数の個別に制御可能なレーザビームを同時に生成する複数のレーザエミッタ個々のエミッタは非図示をそれぞれが含む第一及び第二集積マルチビーム光源222、224を含む。光源222、224からの光出力は例えばs-偏光に偏光されていても良いし、又は別途の光学要素非図示が設けられて光源222、224の出力を偏光してもよい。光学要素226、228は光源222、224の個々のエミッタによって生成されたビームをそれぞれビームアレイ230、232に向ける。アパーチャまたは孔形成部材234、236は第一及び第二ビームアレイ230、232のビーム幅を制限する。加えて、第一ビームアレイ230の光路には二分の一波長板238が配置され、上述したように第一ビームアレイ230のビームの偏光をs-偏光からp-偏光へと回転させる。アレイ光源サブシステム220はさらに、第一及び第二ビームアレイ230、232の光路に設けられた偏光スプリッタ240を含む。偏光スプリッタ240は選択的に、例えばp-偏光である第一偏光の光を透過させ、例えばs-偏光である第二偏光の光を反射させる。本実施形態においてもまた、偏光スプリッタ240はp-偏光の大部分を透過させるがその光の一部を反射させ、また、同様にs-偏光の大部分を反射させるがその光の一部を透過させるという意味において漏洩する。一実施形態では、スプリッタ240はp-偏光の約95を透過させ、そのp-偏光の約5を反射させる。そして、s-偏光の約95を反射させ、そのs-偏光の約5を透過させる。ビームアレイ230、232からの個々が角度的に分離したビームの光エネルギーの大部分はスプリッタ240から画像経路ROSサブシステムを向いてへ出射し、個々が空間的に分離した、p-偏光及びs-偏光の両方の複数のビームを含む画像ビームアレイ242を形成する。ビームアレイ230、232からの個々が角度的に分離したビームの光エネルギーの残りはスプリッタ240から画像経路に対して大まかに垂直に出射し、これもまた、個々が空間的に分離した、p-偏光及びs-偏光の両方の複数のビームを含む監視ビームアレイ244を形成する。監視ビームアレイ244は収束光学要素246に向けられて、収束光学要素246はビームアレイ244を、ビームアレイ244を構成する光のビーム強度、質、位置などを評価するビームモニタ248上に収束させる。本実施形態では、光源222と224が同調して駆動され、それらの駆動は、ビームモニタ248によって検知されたビームの光源が第一集積マルチビーム光源222及び第二集積マルチビーム光源224のいずれかとして決定されるように、監視ビームアレイ244の検知のタイミングと協調している。検知した光の光源を決定する一つの方法として、時分割多重化を利用することができる。ビームモニタ248からのデータは、感光性表面での所望のビーム特性を得るために、光源222、224を個別に駆動するように適切な駆動装置250によって用いることができる。時間領域においてビームアレイ204のp-偏光及びs偏光成分を分割することによって、ただ一つだけの光学スプリッタによって、光源222、224を操作することができ、アレイ光源サブシステムにおける光学的損失がさらに減少する。アレイ光源サブシステム220は、図8に関して示され、説明された種類のビームアレイスキャニングシステム100におけるアレイ光源サブシステム50の代わりをすることもできる。感光性表面に書き込むことができるビームの数、すなわちスポットの数はこの場合も効果的に二倍にされ、現在の最先端の32個のエミッタアレイを用いるならば、64もの個々の、個別に制御可能なビームの画像ビームアレイを提供できるもちろん、より多い又は少ない数のエミッタを持った集積装置を用いてもよい。重ね合わされたビームアレイの最終的なビーム数はそれに応じて上下する。。感光性表面に向けられない他の光強度の大部分は、自動出力制御APC検知及び、集積マルチビーム光源222、224の出力を監視して制御する他の側面に用いられる。最後に、図16に示された本開示の他の形態として、コントローラ304の制御のもとで、ビームアレイスキャニングサブシステム308へ画像ビームアレイ306を出力する、少なくとも二つの集積マルチビーム光源非図示と少なくとも一つのスプリッタ非図示のアレイ光源サブシステム302とを含む画像化システム300が提供される。そして、ビームアレイスキャニングサブシステム308は、画像ビームアレイ306を、各種のシステム光学要素非図示を介して最終的に例えば感光体310の表面のような感光性表面へと向ける。パルス出力されてスキャンされる画像ビームアレイ306は次いで紙のような画像基材312へと移送可能な感光体310上で潜像を形成する。本明細書では、集積アレイのレーザ光源の数を増加させる必要なくスキャン解像度を高めた電子写真マーキングシステムが開示されていることが十分に理解されるであろう。二つの光源からのビームを重ね合わせるために偏光及びビーム分割を用いて、ビーム監視をも行いつつ画像ビームアレイを得る、様々な実施形態が開示された。このような実施形態における構成要素は能動的に又は受動的に、1、2または3の自由度において、互いに整列させてもよい。さらに、これらの実施形態における多くの表面は実質上は平行又は垂直であり、それによってアレイ光源サブシステムの製造を簡単にしている。ビーム重ね合わせアッセンブリは、角度間隔においてビーム間隔を実質的に変えず、また、位置間隔においてもビーム間隔を実質的に変えることはない例えば、複合的な効果が平行板と等しいような屈折素子をビームは通過する。。さらに、上述した実施形態の二つの入力区間は、偏光分割層によって形成される対称面に関して互いが実質的に対称である。