分光センサと、データ処理部と、を備えた膜厚測定装置であって、前記分光センサは、基材上に塗布された膜の分光データを測定し、前記データ処理部は、測定された分光データから測定色特性変数を求め、該測定色特性変数を、膜の厚さ及び屈折率の複数の組の値について求めた複数の組の理論色特性変数と比較して、該測定色特性変数との差が最も小さい理論色特性変数に対応する組の値を使用して該膜の屈折率を定め、該膜の該屈折率を使用して該膜の厚さを定める膜厚測定装置。前記分光センサは、基材上に塗布された膜の透過率分布を測定し、前記データ処理部は、測定された透過率分布から反射率分布を求め、さらに該反射率分布から前記測定色特性変数を求める請求項1に記載の膜厚測定装置。膜の厚さ及び屈折率の複数の組の値について求めた複数の組の理論色特性変数を記憶した記憶部をさらに備える請求項1または2に記載の膜厚測定装置。色特性変数が反射色三刺激値である請求項1から3のいずれかに記載の膜厚測定装置。分光センサと、データ処理部と、を備えた膜厚測定装置によって基材上に塗布された膜の厚さを測定する膜厚測定方法であって、前記分光センサによって、該基材上に塗布された該膜の分光データを測定するステップと、前記データ処理部によって、測定された分光データから測定色特性変数を求めるステップと、該測定色特性変数を、膜の厚さ及び屈折率の複数の組の値について求めた複数の組の理論色特性変数と比較して、該測定色特性変数との差が最も小さい理論色特性変数に対応する組の値を使用して該膜の屈折率を定めるステップと、該膜の該屈折率を使用して該膜の厚さを定めるステップと、を含む膜厚測定方法。前記測定するステップにおいて、前記分光センサは、基材上に塗布された膜の透過率分布を測定し、前記測定色特性変数を求めるステップにおいて、前記データ処理部は、測定された透過率分布から、反射率分布を求め、さらに該反射率分布から前記測定色特性変数を求める請求項5に記載の膜厚測定方法。前記測定するステップにおいて、前記分光センサは、基材上に塗布された膜の分光データを複数の点において測定し、前記測定色特性変数を求めるステップにおいて、前記データ処理部は、該複数の点に対応する複数の測定色特性変数を求め、前記屈折率を定めるステップにおいて、前記データ処理部は、該複数の測定色特性変数を使用して該膜の屈折率を定める請求項5または6に記載の膜厚測定方法。色特性変数が反射色三刺激値である請求項1から3のいずれかに記載の膜厚測定方法。したがって、500nm以下の薄膜を含む膜の膜厚測定に広く使用することのできる簡単な構造の膜厚測定装置及び膜厚測定方法に対するニーズがある。本発明による膜厚測定装置は、分光センサと、データ処理部と、を備えた膜厚測定装置であって、前記分光センサは、基材上に塗布された膜の分光データを測定し、前記データ処理部は、測定された分光データから測定色特性変数を求め、該測定色特性変数を、膜の厚さ及び屈折率の複数の組の値について求めた複数の組の理論色特性変数と比較して、該測定色特性変数との差が最も小さい理論色特性変数に対応する組の値を使用して該膜の屈折率を定め、該膜の該屈折率を使用して該膜の厚さを定める。本発明による膜厚測定装置によれば、基材上に塗布された膜の分光データから求めた測定色特性変数、及び膜の厚さ及び屈折率の複数の組の値について求めた複数の組の理論色特性変数を使用して該膜の屈折率を定めることができるので、該屈折率を使用して膜厚を高い精度で求めることができる。したがって、本発明による膜厚測定装置は、500nm以下の薄膜を含む膜の膜厚測定に広く使用することができる。さらに、本発明による膜厚測定装置の測定部は簡単な構造を有する。本発明の実施形態による膜厚測定装置において、前記分光センサは、基材上に塗布された膜の透過率分布を測定し、前記データ処理部は、測定された透過率分布から反射率分布を求め、さらに該反射率分布から前記測定色特性変数を求める。本実施形態による膜厚測定装置は、基材上に塗布された膜の透過率分布を測定し、該透過率分布から基材上に塗布された膜の反射率分布を求めるので、膜が塗付された基材の面が基準面から傾いた場合でも、膜の反射率分布を測定する場合と比較して基準面の傾きに対する反射率の変化が小さく高い精度で膜厚を測定することができる。本発明の実施形態による膜厚測定装置は、膜の厚さ及び屈折率の複数の組の値について求めた複数の組の理論色特性変数を記憶した記憶部をさらに備える。本実施形態による膜厚測定装置においては、基材上に塗布された膜の分光データから求めた測定色特性変数と、記憶部に記憶された、膜の厚さ及び屈折率の複数の組の値に対応する複数の組の理論色特性変数を使用して、簡単、且つ短時間で膜の屈折率を求めることができる。本実施形態による膜厚測定装置においては、色特性変数が反射色三刺激値である。本発明による膜厚測定方法は、分光センサと、データ処理部と、を備えた膜厚測定装置によって基材上に塗布された膜の厚さを測定する膜厚測定方法であって、前記分光センサによって、該基材上に塗布された該膜の分光データを測定するステップと、前記データ処理部によって、測定された分光データから測定色特性変数を求めるステップと、該測定色特性変数を、膜の厚さ及び屈折率の複数の組の値について求めた複数の組の理論色特性変数と比較して、該測定色特性変数との差が最も小さい理論色特性変数に対応する組の値を使用して該膜の屈折率を定めるステップと、該膜の該屈折率を使用して該膜の厚さを定めるステップと、を含む。本発明による膜厚測定方法によれば、基材上に塗布された膜の分光データから求めた測定色特性変数、及び膜の厚さ及び屈折率の複数の組の値について求めた複数の組の理論色特性変数を使用して該膜の屈折率を定めることができるので、該屈折率を使用して膜厚を高い精度で求めることができる。したがって、本発明による膜厚測定方法は、500nm以下の薄膜を含む膜の膜厚測定に広く使用することができる。本発明の実施形態による膜厚測定方法によれば、前記測定するステップにおいて、前記分光センサは、基材上に塗布された膜の透過率分布を測定し、前記測定色特性変数を求めるステップにおいて、前記データ処理部は、測定された透過率分布から、反射率分布を求め、さらに該反射率分布から前記測定色特性変数を求める。本実施形態による膜厚測定方法において、基材上に塗布された膜の透過率分布を測定し、該透過率分布から基材上に塗布された膜の反射率分布を求めるので、膜が塗付された基材の面が基準面から傾いた場合でも、膜の反射率分布を測定する場合と比較して基準面の傾きに対する反射率の変化が小さく高い精度で膜厚を測定することができる。本発明の実施形態による膜厚測定方法によれば、前記測定するステップにおいて、前記分光センサは、基材上に塗布された膜の分光データを複数の点において測定し、前記測定色特性変数を求めるステップにおいて、前記データ処理部は、該複数の点に対応する複数の測定色特性変数を求め、前記屈折率を定めるステップにおいて、前記データ処理部は、該複数の測定色特性変数を使用して該膜の屈折率を定める。本実施形態による膜厚測定方法において、基材上に塗布された膜の分光データを複数の点において測定し、該複数の点の透過率分布から複数の測定色特性変数を求め、該複数の測定色特性変数を使用して該膜の屈折率を定めるので、より高い精度で該膜の屈折率を定めることができる。本実施形態による膜厚測定方法においては、色特性変数が反射色三刺激値である。図1は、本発明の一実施形態による膜厚測定装置100の構成を示す図である。膜厚測定装置100は、測定部110、データ処理部120及び記憶部130を備える。測定部110は、C型フレームからなり、光源111及び分光センサ113を含む。光源111から放出された光は測定対象物300を透過し、分光センサ113によって受け取られる。分光センサ113は、測定対象物300の分光透過率波長に対する透過率の分布を測定する。ここで、測定対象物300は、透明基板上に形成された薄膜である。分光センサ113によって測定されたデータは、データ処理部120に送られる。データ処理部120は、分光センサ113によって測定されたデータ及び記憶部130に記憶されたデータを使用して測定対象物300の薄膜の厚さを求める。図2は、本発明の他の実施形態による膜厚測定装置200の構成を示す図である。膜厚測定装置200は、測定部210、データ処理部220及び記憶部230を備える。測定部210は、光源2111、ビームスプリッタ215及び分光センサ213を含む。光源211からの光は、ビームスプリッタ215によって反射され、測定対象物300に至る。ここで、測定対象物300の測定対象面に照射される光が、測定対象面に垂直に入射するように測定部210を配置する。測定対象面に照射された光は、測定対象面に垂直な方向に反射され、測定対象面に照射される光と同じ経路を逆方向に進んでビームスプリッタ215に至り、ビームスプリッタ215を通過して、分光センサ213に受け取られる。分光センサ213は、測定対象物300の分光反射率を測定する。ここで、測定対象物300は、透明基板または不透明基板上に形成された薄膜である。分光センサ213によって測定されたデータは、データ処理部220に送られる。データ処理部220は、分光センサ213によって測定されたデータ及び記憶部230にあらかじめ記憶されたデータを使用して測定対象物300の薄膜の厚さを求める。図1に示した透過型の測定装置は、基材が透明な場合に限り使用することができる。透明型の測定装置の利点については後で説明する。光源111及び211は、発光ダイオード光源、一例として、430nmにピークを持つ紫外発光ダイオード光源と、580nm付近にピークを持つ白色発光ダイオード光源を併用したものであってもよい。分光センサ113及び213は、透過波長可変フィルタとイメージセンサを組み合わせたものであってもよい。透過波長可変フィルタは、入射する白色光の短波長から長波長までの透過波長域が、フィルタの位置によって連続的にまたは段階的に変化する干渉フィルタの一種である。このような分光センサは、たとえば、特許第3618090号に開示されている。データ処理部120及び220の動作の詳細について以下に説明する。図3は、データ処理部120及び220の動作を説明するための流れ図である。図3のステップS1010において、分光センサ113は、基材の分光透過率、すなわち波長に対する透過率分布を測定する。分光センサ213は、基材の分光反射率、すなわち波長に対する反射率分布を測定する。図3のステップS1020において、データ処理部120は、分光センサ113から波長に対する透過率分布のデータを受け取り、以下の式によって波長に対する、基材の反射率分布のデータを得る。上記の式においてRvcalは、透過率から計算された反射率を表し、τは測定された透過率を表す。反射率及び透過率の単位はである。データ処理部220は、分光センサ213から波長に対する、基材の反射率分布のデータを受け取る。ここで、基材の屈折率と反射率との関係について説明する。図6は、基材の多重反射モデルを示す図である。光は、基材面に垂直に入射するが、図6においては、便宜上、斜めに入射するものとしている。基材の厚さDは入射する光の波長に比べて十分に厚いものとする。この場合、基材の内部透過率Tiを考えなければならない。内部透過率はランベルトの法則からで与えられる。ここで、αは定数、k2は消衰係数、λは波長である。図6に示すように、基材表面と裏面の多重繰り返し反射を考えると反射率R及び透過率Tは等比吸収の比:Ti2R02の和となり、以下の式で表せる。R=R0{11-2R0Ti2}T=1-R02Ti3ただし、R0={n1-n22k22}{n1n22k22}4である。ここで、基材の複素屈折率をn2ik2とする。基材に吸収が無い場合は式2、式3及び式4においてTi1、k20として、以下の式が成立する。R=2R05T=1-R0ただし、R0={n1-n2n1n2}27である。ここでn1は基材の周囲の媒質の屈折率である。式5及び7から、基材の屈折率n2と反射率Rとの関係を求めることができる。図7は、基材の屈折率nmと垂直反射率Rvとの関係を示す図である。データ処理部120及び220は、基材の反射率分布のデータから、波長550nmに対応する反射率を求め、この反射率を垂直反射率Rvとして、図7から基材の屈折率nmを求める。図3のステップS1030において、分光センサ113は、基材上に薄膜が形成された測定対象物の分光透過率、すなわち波長に対する透過率分布を測定する。分光センサ213は、基材上に薄膜が形成された測定対象物の分光反射率、すなわち波長に対する反射率Rv分布を測定する。図3のステップS1040において、データ処理部120は、ステップS1020の処理と同様に、測定された透過率分布のデータから計算により反射率Rvcal分布のデータを求める。データ処理部120及び220は、基材上に薄膜が形成された測定対象物の補正反射率分布を求める。ここで、基材上に薄膜が形成された測定対象物のm個mは1以上の整数の点について補正反射率分布を求める。図4は、基材上に薄膜が形成された測定対象物の補正反射率分布を求める方法を示す流れ図である。図4のステップS2010において、データ処理部120及び220は、それぞれ、反射率補正係数K1及びK2を求める。反射率補正係数K1及びK2は、基材の反射率Rvcal及びRvが波長によらず常に波長550nmの反射率となるように以下の式によって定める。図4のステップS2020において、データ処理部120は、測定された透過率から求めた反射率Rvcalから以下の式によって補正反射率Rvを計算する。データ処理部220は、測定された反射率Rvから以下の式によって補正反射率Rvcを計算する。図3のステップS1050において、データ処理部120及び220は、m個の補正反射率Rvcからm個の反射色三刺激値を計算する。反射色三刺激値の計算方法は、JISZ8722色の測定方法反射色及び透過色に詳しく説明されている。このようにして得られた反射色三刺激値を測定反射色三刺激値と呼称する。なお、本実施形態では反射色三刺激値を使用するが、反射色三刺激値から計算する色彩値法たとえば、L、a、bを使用することも可能である。本明細書及び特許請求の範囲において、反射色三刺激値など色の特性を表す変数を色特性変数と呼称する。また、測定によって求めた補正反射率から計算された色特性変数を測定色特性変数と呼称する。図3のステップS1060において、データ処理部120及び220は、ステップS1050で求めた測定反射色三刺激値を、予め求めておいた、膜厚及び膜の屈折率ごとの理論反射色三刺激値と比較し、誤差を最小とする膜の屈折率を求める。ここで、膜厚が1乃至200nmの範囲であれば、反射率分布が異なるにもかかわらず反射色三刺激値がほぼ等しくなるメタメリズムという現象は生じることはなく、反射率分布と反射色三刺激値の一方を定めれば他方が定まる関係が成立する。したがって、反射色三刺激値を使用して膜の屈折率を一意的に定めることができる。図5は、図3のステップS1060の処理の詳細を示す流れ図である。図5のステップS3005において、データ処理部120及び220は、膜厚及び膜の屈折率ごとの理論反射色三刺激値を計算し、膜厚及び膜の屈折率ごとの理論反射色三刺激値の表表1を作成し、記憶部130及び230にあらかじめ記憶させておく。ここで、基材の屈折率、基材上に塗布された膜の屈折率及び膜厚と反射率との関係について説明する。この関係から、理論反射率分布が計算され、さらに理論反射率分布から理論反射色三刺激値が計算される。図8は、基材屈折率nm、厚さD上に透明な薄膜屈折率n、膜厚dが成膜されている場合の多重反射モデルを示す図である。薄膜の反射率をR1、基材の反射率をR0とすると、以下の式が成立する。R=R0R1-2R0R11-R0R1ただしR0=n0nm2213式13においてn0=10として、以下の式が成立する。R0=1nm2214ここで、基材の裏面の反射を考慮した時の反射率をRvnmと表すと、式12、14から以下の式が成立する。Rvnm=R0Rv-2R0Rv1-R0Rv15このように、基材屈折率nm、厚さD上に透明な薄膜屈折率n、膜厚dが成膜されている場合の反射率は、基材屈折率nm、塗工材膜屈折率n及び膜厚dにしたがって大きく変化する。図9は、基材nm170上に塗工材n190とn150をd500nm塗工した場合に、式15によって計算した反射率Rvを示す図である。塗工材屈折率nが基材屈折率nmよりも小さな場合には、反射率分布Rvnは基材反射率よりも小さくなり、反射率Rvnの極小値=最小値Rvminは、841となる。塗工材屈折率nが基材屈折率nmよりも大きな場合には、反射率分布Rvnは基材反射率よりも大きくなり、極大値=最大値Rvmaxは、1808となる。屈折率は波長に対して一定としているので、膜厚を変化させても、位相が変化するだけであり、式15によって計算された最大値反射率Rvmax、最小値反射率Rvminの値は変化しない。図10は、表1の構成を示す図である。表1の行は、最小値から最大値まで0.01刻みの膜の屈折率を表す。表1の列は、膜厚の目標値をd0として、d050からd050までの1nm刻みの膜厚を表す。図5のステップS3010において、データ処理部120及び220は、図3のステップS1050において求めたm個の測定反射色三刺激値と、表1の膜厚、膜の屈折率ごとの理論反射色三刺激値との差から、m個の表、表21乃至表2mを作成する。図11は、m個の測定反射色三刺激値と、表1の膜厚、膜の屈折率ごとの理論反射色三刺激値との差を示す表21乃至表2mの構成を示す図である。表の行は、最小値から最大値まで0.01刻みの膜の屈折率を表す。表の列は、膜厚の目標値をd0として、d050からd050までの1nm刻みの膜厚を表す。それぞれの行の屈折率及びそれぞれの列の膜厚に対応する上記の差を計算し、表21乃至表2mとして記憶部130または230に記憶させる。図5のステップS3020において、データ処理部120及び220は、m個の表のそれぞれにおいて差を最小とするm個の屈折率n1乃至nm及びm個の膜厚d1乃至dmを求める。図5のステップS3030において、データ処理部120及び220は、m個の屈折率n1乃至nmのそれぞれに対して、表21乃至表2mにおいてそれぞれm個の膜厚d1乃至dmに対応するm個の差を求め、その総和を求める。図12は、m個の屈折率n1乃至nmのそれぞれに対する差の総和を示す表3の構成を示す図である。表3の行は、m個の屈折率n1乃至nmを表す。ここで、m10としている。図5のステップS3040において、データ処理部120及び220は、m個の屈折率n1乃至nmのうち表3の総和を最小とするものを膜の屈折率とする。図5のステップS3050において、データ処理部120及び220は、ステップS3030において求めた屈折率に対応する膜厚が、下限値d050または上限値d050であるか判断する。下限値または上限値でなければ処理を終了する。下限値または上限値であれば、ステップS3060に進む。図5のステップS3060において、データ処理部120及び220は、新たな膜厚の目標値d0を定め、表1を作成する。新たな膜厚の目標値は下限値よりも小さな値または上限値よりも大きな値とする。図3のステップS1070において、データ処理部120及び220は、ステップS1020において求めた基材の屈折率、ステップテップS1040において求めた基材上の膜の反射率分布、及びステップS1060において求めた膜の屈折率を使用して膜厚を求める。膜厚の求め方は、特許4482618号に記載されている。図13は、薄膜の屈折率が基材の屈折率よりも小さい場合の、種々の膜厚について波長と理論反射率との関係を示す図である。図13において、横軸は波長を示し、縦軸は反射率を示す。基材屈折率nm及び膜の屈折率nは以下のとおりである。nm168n146膜厚が70nmよりも小さな場合には、反射率の極小値は生じない。したがって、従来のPV装置によって膜厚を求めることはできない。図14は、薄膜の屈折率が基材の屈折率よりも大きい場合の、種々の膜厚について波長と理論反射率との関係を示す図である。図14において、横軸は波長を示し、縦軸は反射率を示す。基材屈折率nm及び膜の屈折率nは以下のとおりである。nm160n210膜厚が40nmよりも小さな場合には、反射率の極大値は生じない。したがって、従来のPV装置によって膜厚を求めることはできない。図15は、ポリエチレンテレフタレートの基材及び該基材上に形成された無機塗工膜の、測定された反射率分布を示す図である。図15において、横軸は波長を示し、縦軸は反射率を示す。図3に示した方法によって求めた基材の屈折率は、1.683、膜の屈折率は、1.480である。さらに、この膜の屈折率及び基材上に形成された膜の、3個の測定された反射率分布を使用して求めた膜厚は、39.2nm、59.3nm及び92.8nmである。図13において、膜厚は塗工膜厚と記載した。図16は、ポリエチレンテレフタレートの基材及び該基材上に形成された無機塗工膜の、測定された反射率分布を示す図である。図16において、横軸は波長を示し、縦軸は反射率を示す。図3に示した方法によって求めた基材の屈折率は、1.668、膜の屈折率は、1.532である。さらに、この膜の屈折率及び基材上に形成された膜の、4個の測定された反射率分布を使用して求めた膜厚は、131.4nm、121.6nm、113.1nm及び94.5nmである。図14において、膜厚は塗工膜厚と記載した。図14は、本実施形態の膜厚測定装置及び膜厚測定方法によって、約10nmの小さな膜厚の差を十分に検出することができることを示している。図17は、ガラスの基材及び該基材上に形成されたITOIndiumTinOxide膜の、測定された反射率分布を示す図である。図17において、横軸は波長を示し、縦軸は反射率を示す。図3に示した方法によって求めた基材の屈折率は、1.598、膜の屈折率は、2.156である。さらに、この膜の屈折率及び基材上に形成された膜の、4個の測定された反射率分布を使用して求めた膜厚は、56.0nm、54.0nm、32.3nm及び30.3nmである。図18は、ガラスの基材及び該基材上に形成されたITOIndiumTinOxide膜の、測定された反射率分布を示す図である。図18において、横軸は波長を示し、縦軸は反射率を示す。図3に示した方法によって求めた基材の屈折率は、1.598、膜の屈折率は、2.194である。さらに、この膜の屈折率及び基材上に形成された膜の、1個の測定された反射率分布を使用して求めた膜厚は、104.1nmである。図17の膜厚は、56nm以下であり、図18の膜厚は104nmである。したがって、図15の反射率分布と図16の反射率分布は全く異なる。このように全く異なる測定反射率分布から求めた膜の屈折率は、2.156及び2.194である。したがって、屈折率の差の屈折率に対する比は2以下であり、本実施形態による方法の信頼性が高いことが分かる。図1及び図2の膜厚測定装置は、光源111及び211からの光が、測定対象物300の面に垂直に入射するように構成されている。ここで、光源111及び211からの光が、垂直に入射するように配置された面を基準面とする。測定対象物300の面が基準面に対して傾いている場合に、基準面に対する傾斜角度が、図1に示した透過率測定型膜厚測定装置及び図2に示した反射率測定型膜厚測定装置に与える影響について説明する。図19は、基準面の角度を0として基準面の角度を含む4個の傾斜角度について、反射率測定型膜厚測定装置200によって測定された、表面に膜が形成されたガラス板の反射率分布を示す図である。反射率は分光センサ213によって測定されたものである。図20は、基準面の角度以外の3個の傾斜角度の反射率の、基準面の反射率に対する変化率の分布を示す図である。変化率は、以下の式で定義する。ここでは、それぞれ傾斜角θ及び0の場合の反射率である。図18によれば、変化率αは、傾斜角θ=0.52°の場合でも約-14であり、非常に大きい。図21は、基準面の角度を0として基準面の角度を含む4個の傾斜角度について、透過率測定型膜厚測定装置によって求められた、表面に膜が形成されたガラス板の反射率分布を示す図である。反射率は分光センサ113によって測定された透過率から計算したものである。図22は、基準面の角度以外の3個の傾斜角度の反射率の、基準面の反射率に対する変化率の分布を示す図である。変化率は、式12で定義する。図22によれば、変化率αは、傾斜角θ=0.52°の場合に、ほとんどの波長で2以下、傾斜角θ=1.03°及び1.55°の場合に、ほとんどの波長で3以下である。図20の結果と比較すると、傾斜角の影響は極めて小さい。つぎに、ポリエチレンテレフタレートの透明基材上に透明導電性酸化膜を形成したサンプルについて、複数の傾斜角に対して、透過率測定型膜厚測定装置によって反射率分布を求め、さらに膜厚を求めた。図23は基準面の角度を0として基準面の角度を含む4個の傾斜角度について、透過率測定型膜厚測定装置100によって求められた、表面に透明導電性酸化膜TransparentConductiveOxidefilmTCOfilmが形成されたポリエチレンテレフタレートの透明基材の反射率分布を示す図である。反射率は分光センサ113によって測定された透過率から計算したものである。図24は、基準面の角度を0として基準面の角度を含む7個の傾斜角度について、透過率測定型膜厚測定装置100によって求められた、透明導電性酸化膜の膜厚を示す図である。基材の屈折率は、1.621、膜の屈折率は2.21であり、傾斜角が0°の場合の膜厚は、14.7nmである。これに対して、傾斜角が1.29°の場合の膜厚は、16nmであり、水平の場合の膜厚との差は1.3nmである。すなわち、傾斜角が1°以内であれば、膜厚の誤差は1nm以内である。このように、透過率測定型膜厚測定装置は、測定対象物の水平方向を基準とした傾斜角度の変化に対して、高い精度を維持することができる。