Moマトリックス中にNa含有領域が点在し、MoマトリックスとNa含有領域との界面に少なくともMoNa複合酸化物の反応相があることを特徴とする、Na含有Moターゲット。前記MoNa複合酸化物の反応相が層状に存在することを特徴とする、請求項1に記載のNa含有Moターゲット。前記MoNa複合酸化物の反応相の厚みが50~1000nmであることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載のNa含有Moターゲット。前記MoNa複合酸化物がNa2MoO4を含むことを特徴とする、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のNa含有Moターゲット。前記Na含有領域が円柱状のペレットを含むものであり、前記ペレットがターゲットの表面から裏面へ貫くように設置されていることを特徴とする、請求項1~請求項4のいずれか1項に記載のNa含有Moターゲット。前記Na含有領域が、金属Na、Na2O、又はNa2MoO4から選ばれた一種類以上からなるものであることを特徴とする、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載のNa含有Moターゲット。請求項1~請求項6のいずれか1項に記載のNa含有Moターゲットの製造方法であって、Moマトリックス中にNa含有領域を点在させた後、真空中もしくは非酸化雰囲気中で、300~400°Cの熱処理を施すことを特徴とする、Na含有Moターゲットの製造方法。しかしながら、Naを含むMo膜をスパッタリング法により形成できるNaを含むMoターゲットは量産されておらず、入手することは困難であった。したがって、所定の濃度でNaを含むMo膜をスパッタリング法により容易に形成できる、Naを含むMoターゲットおよびその製造方法を提供することが要求されていた。本発明は、カルコパイライト型太陽電池の裏面電極などに好適に用いることのできる所定の濃度でNaを含むMo膜をスパッタリング法により容易に形成できるNa含有Moターゲット及びその製造方法を提供することを課題としている。この課題を解決するために、本発明者らは検討を重ね、以下の発明を為すに至った。1Moマトリックス中にNa含有領域が点在し、MoマトリックスとNa含有領域との界面に少なくともMoNa複合酸化物の反応相があることを特徴とする、Na含有Moターゲット。2前記MoNa複合酸化物の反応相が層状に存在することを特徴とする、1に記載のNa含有Moターゲット。3前記MoNa複合酸化物の反応相の厚みが50~1000nmであることを特徴とする、1又は2に記載のNa含有Moターゲット。4前記MoNa複合酸化物がNa2MoO4を含むことを特徴とする、1~3のいずれか1項に記載のNa含有Moターゲット。5前記Na含有領域が円柱状のペレットを含むものであり、前記ペレットがターゲットの表面から裏面へ貫くように設置されていることを特徴とする、1~4のいずれか1項に記載のNa含有Moターゲット。6前記Na含有領域が、金属Na、Na2O、又はNa2MoO4から選ばれた一種類以上からなるものであることを特徴とする、1~5のいずれか1項に記載のNa含有Moターゲット。71~6のいずれか1項に記載のNa含有Moターゲットの製造方法であって、Moマトリックス中にNa含有領域を点在させた後、真空中もしくは非酸化雰囲気中で、300~400°Cの熱処理を施すことを特徴とする、Na含有Moターゲットの製造方法。本発明によれば、カルコパイライト型太陽電池の裏面電極などに好適に用いることのできる所定の濃度でNaを含むMo膜をスパッタリング法により容易に形成できるNa含有Moターゲットを提供することが可能となる。本発明のNa含有Moターゲットは、MoマトリックスとNa含有領域との界面にMoNa複合酸化物の反応相を有しているので、MoマトリックスとNa含有領域との密着性に優れたものとなる。このことにより、本発明のNa含有Moターゲットは、これを用いてスパッタリング法によりNaを含むMo膜を形成した場合に、容易に良好なNaを含むMo膜を得ることができるものとなる。Na含有Moターゲットを作製するに当り、金属NaとMoを混合したターゲットを作製するには、Moの融点や焼結温度がNaの沸点を超えるため、両者を溶融させてターゲットを作製したり、両者の原料粉を混合し、成形、焼結させてターゲットを作製することはできない。そこで、本発明者は、高密度のMo焼結体に機械加工によりターゲットとして使用する面の表面から裏面へと貫通するような円柱状の孔を空けてなるMoマトリックスを形成し、Na含有物質からなる円柱状のペレットをMoマトリックスの円柱状の孔に差し込み、ターゲットの表面から裏面へ貫くようにペレットを設置する方法を検討した。この方法によれば、円柱状のペレットの断面積を変化させることにより、所定の濃度でNaを含むMo膜を形成できるNa含有Moターゲットが得られる。このようなターゲットは、表面を上向きにして使用する場合には、ペレットを孔に差し込むだけでMoマトリックスにペレットが固定されるため、問題はない。しかし、ターゲットを下向きや横向きに使用する方式のスパッタリング装置も多いため、ペレットが落下しないようにMoマトリックスにペレットを固定する必要がある。しかし、ペレットが落下しないようにペレットにテーパーを付けると、ターゲットが消耗するのに伴って、ターゲット表面に露出されるペレットの断面積が変わる。その結果、形成されたNaを含むMo膜に含まれるNaの比率が、ターゲットの消耗度合いにより変わってしまうため、好ましくない。また、ボンディング剤を用いてターゲットの裏側を基材に固定してターゲットを下向きや横向きで使用できるようにする方法もある。この方法では、ボンディングの際の加熱によりペレットが動いてしまい、ターゲットのMoマトリックスの表面とNa含有物質からなるペレットの表面との高さにずれが生じた場合には、ボンディング後にターゲットの表面を研磨する必要が生じてしまう。そこで、本発明者は、ボンディング剤を用いずに、ボンディング温度より高い温度で、予めMoマトリックスにペレットを固定することができれば、Moマトリックスの表面とペレットの表面とに高さのずれを生じさせることなくボンディングによりターゲットを基材に固定できるようになると考え、以下に示す検討を行った。我々は様々な固定方法を検討し、孔の設けられた300°C~400°Cに加熱したMoマトリックスの孔に、Na含有物質からなるペレットを差し込み、300°C~400°Cで所定時間保持する熱処理を施した後に常温に戻す、と言う嵌合処理をすればよいことを見出した。このような勘合処理を行うことにより、150°C~200°Cといったボンディング温度でMoマトリックスの表面とペレットの表面との高さがずれにくいターゲット材を得ることが可能となった。さらに、本発明者は、この嵌合処理の際に、MoマトリックスとNa含有物質からなるペレットとの界面にMoNa複合酸化物の反応相が生じることを見出した。本発明者が検討した結果、この反応相があることで、Na含有物質からなるペレットとMoマトリックスの密着性が向上することが分かった。また、MoマトリックスとNa含有物質からなるペレットとの界面のMoNa複合酸化物の反応相は、MoとNaのスパッタ速度の中間のスパッタ速度である。このため、MoNa複合酸化物の反応相を有するターゲットを用いて、スパッタリング法によりNaを含むMo膜を成膜した場合、成膜中にスパッタ速度差に起因するMoマトリックスとNa含有物質からなるペレットの界面での段差が生じ難くなる。この段差が大きいと、段差の角部で電荷集中を起こして異常放電を起こし易くなる。ターゲットとして、Moマトリックスとペレットとの界面にMoNa複合酸化物の反応相が存在するターゲットを用いることで、スパッタ速度差に起因したターゲット表面の段差を小さくでき、異常放電を抑制でき、容易に良好なNaを含むMo膜が得られる。本発明のNa含有Moターゲットは、Moマトリックス中にNa含有物質からなるペレットなどからなるNa含有領域が点在しているものであり、MoマトリックスとNa含有領域との界面にMoNa複合酸化物の反応相を有するものである。本発明者は、MoNa複合酸化物の反応相を形成する上記嵌合処理条件やNa含有領域の種類を検討することにより、このMoNa複合酸化物の反応相の好適な厚みや成分の範囲を見出した。このことにより、以下に示すように、より一層、MoマトリックスとペレットNa含有領域との密着性が高いNa含有Moターゲットを得ることが可能となった。MoNa複合酸化物の反応相の厚みは、嵌合処理の熱処理温度と保持時間で調整することが可能である。反応相は、層状に生成してペレットNa含有領域とMoマトリックスとの界面を覆っていき、ある程度厚くなると界面全体を覆うことができる。反応相の生成が不十分であると、ペレットとMoマトリックスの界面を反応相が覆うことができず、反応相による密着性向上の効果が十分に得られない。なお、反応相が生成しても、厚みが薄過ぎると反応相がペレットとMoマトリックスとの界面を覆い切れないが、反応相による密着性の向上効果は見られる。しかし、反応相の厚みが薄過ぎると、密着強度として十分に高い値が得られない場合がある。反応相の厚みを50nm以上とすることで、ペレットとMoマトリックスとの界面全てを反応相によって覆うことができ、より優れた密着性が得られる。さらに、反応相の厚みを厚くすれば密着性が向上するが、この厚みが1000nm程度になると密着性向上の効果が飽和する。反応相が1000nmを超えるものである場合、厚い反応相を形成するために、勘合処理において長時間および/または高温の熱処理を行わなければならない。長時間および/または高温の熱処理を行うと、熱処理の影響を受けてペレット自体の軟化が起こり、ペレット形状が変形することでペレットとMoマトリックスバルクとの接触面積が減り、かえって密着性が低下する。以上より、反応相の厚みは50~1000nmが好適な範囲であり、反応層の厚みの下限値は200nm超であることがより好ましい。Na含有領域は、金属Na、Na2O、又はNa2MoO4から選ばれた一種類以上からなるものであることが好ましい。また、本発明者がNa含有領域について、これまで検討した結果、Na含有領域が、金属Naの表面をNa酸化相が覆った状態や、金属Naの表面をMoNa複合酸化物相が覆った状態である場合、300~400°C程度の温度でNa含有領域が比較的安定に存在することを見出した。金属Naの表面を覆うNa酸化相がNa2Oである場合や、MoNa複合酸化物相がNa2MoO4である場合には、特にNa含有領域が安定なものとなり好適であった。この知見を元に、金属NaとNa2OとNa2MoO4から選ばれた一種類以上からなるNa含有物質を用いてペレットを作製した。その結果、金属NaとNa2OとNa2MoO4とから選ばれた一種類以上からなるペレットは、ペレットを作製した際に表面に安定なNa酸化相やMoNa複合酸化物相を形成することができ、Na含有領域を形成するためのペレットとして好適であることが分かった。MoマトリックスとNa含有領域との界面のMoNa複合酸化物の反応相には、化学的に安定なNa2MoO4の他、Na2MoO3を初めとする酸素欠乏状態になったMoNa複合酸化物が含まれるため、これらをNa2MoO4-Xと記載する。得られた反応相の組成分析は、Moマトリックス側からNa含有領域方向へエッチングしながらSIMS二次イオン質量分析装置を用いて分析を繰り返し行ない、膜厚に応じた深さ毎に定量分析を実施し、その結果からXの値を算出できる。MoNa複合酸化物の反応相は、X=0のNa2MoO4-Xのみが存在する際に一番密着力が高くなる。Xが0から1の間の反応相がある場合には、反応相がない場合と比べると密着性は向上するものの、X=0のみの場合よりは密着力が低下する。なお、Na含有領域が金属Naからなるものである場合には、Na2MoO4を主成分とする反応相中でOに対するNaの存在比率が高まることからX=1の反応相の比率が高くなる。逆にNa含有領域がNa2MoO4のみからなる場合には、Moが若干リッチとなるNa2MoO4の反応相が殆どとなることから、NaとOの比率は維持され、X=0の反応相の比率が高くなる。以下、Na含有Moターゲットの製造方法の一例を記載する。先ず、Na含有領域を形成するためのペレットを作製する。ペレットは、Na含有物質の粉末を成形し、真空中、300°C~400°Cの温度で焼結することによって形成できる。ペレットのサイズおよび形状は任意で構わないが、大き過ぎるとNa含有領域の面積が大きくなり、MoバルクMoマトリックスの強度を損ない、ターゲットとしての強度が不足する。このため、ペレットは、ターゲット表面の面積で見て直径25mm以下である円柱状のものであることが好ましい。また、ターゲット中にNa含有領域を均一に分散させて点在させることを考えると、小さいペレットを複数用いる方が好ましい。但し、ペレットが小さ過ぎると、ペレットが崩れ易くなる。このことから、ペレットは、ハンドリングに耐えられるよう直径1mm以上の円柱状であることが好ましい。なお、ペレットの形状は円柱状に限定されるものではないが、ターゲットがスパッタされる際のNa含有領域の形状を考慮すると、ペレットの断面形状は四角形、五角形等の多角形等や円形が好ましく、特に円形断面となる円柱状のペレットが好適である。また、ペレットの形状は、ターゲットの厚み方向から見た断面積が一定の柱状であることが好ましい。この場合、スパッタリング法でNaを含むMo膜を形成することによりターゲットが消耗しても、エロージョン領域におけるMoマトリックスとNa含有領域との面積比が変化せず、ターゲットを用いて形成されたNaを含むMo膜中におけるNa含有量が一定となり、所定のNa含有量のNaを含むMo膜を安定して形成できる。また、高密度のMoバルクからなるMoターゲット材を用意し、機械加工によりMoターゲット材にペレットの形状に対応する表面から裏面へと貫通する孔を形成し、Moマトリックスとする。Moマトリックスに形成される孔は、ターゲットのスパッタされる領域であるエロージョン領域に対応する領域に設けられる。Moマトリックスに形成される孔の数は、1つであっても2以上であってもよく、Na含有領域となるペレットの数に対応する数とされ、特に限定されないが、Moマトリックスに形成される孔の数が複数である場合、ターゲットのエロージョン領域に均一に分散して配置されることが好ましい。次に、Moマトリックスにペレットを勘合させる嵌合処理を行う。まず、MoマトリックスをAr又はN2等の非酸化雰囲気又は真空中で300~400°Cに加熱する。そして、300~400°CとされたMoマトリックスの孔にNa含有物質からなるペレットを差し込み、Moマトリックス中にNa含有領域を点在させる。そして、Moマトリックスの温度を、Moマトリックスの孔にペレットを差し込んでから300~400°Cで所定時間保持する熱処理を施す。この嵌合処理において、Moマトリックス中にNa含有領域を点在させた後Moマトリックスの孔にペレットを差し込んだ後、Moマトリックスの温度を所定時間、300~400°Cの熱処理温度で保持することにより、ペレットとMoマトリックスとの界面にMoNa複合酸化物の反応相が生じる。このことにより、Moマトリックスの孔にペレットを差し込んだ後すぐにMoマトリックスの温度を熱処理温度から低下させた場合に比べ、Moマトリックスとペレットの密着性が向上する。なお、この嵌合処理において、Moマトリックスの孔にペレットを差し込んでから保持する温度以下、嵌合温度は300°C未満では、反応相を形成するのに長時間が必要となるため、生産性が低下してしまう。また、嵌合温度が400°Cを超えると、短時間でもペレットが軟化してしまう。そのため、反応相を形成させる嵌合温度は300~400°Cが好適である。なお、嵌合処理の保持時間については、生産性の観点から一時間以下が好ましく、嵌合温度に応じて適宜決定される。嵌合処理の保持時間は、Moマトリックスとペレットとの密着性を向上させる効果が得られるように、5分以上であることが好ましく、嵌合温度が300°C~330°Cでは60分以下、嵌合温度が330°C超~370°Cでは45分以下、嵌合温度が370°C超~400°Cでは30分以下が好ましい。また、嵌合処理の雰囲気中に酸素があると、ペレットに含まれるNaの酸化反応が進み過ぎ、生成された酸化物によってペレットの体積が増加することにより、Moマトリックスの孔にペレットを嵌合できなくなってしまう恐れがある。このことから、嵌合処理は非酸化雰囲気又は真空中で行うことが好ましい。本発明のNa含有Moターゲットを用いてスパッタリング法によりNaを含むMo膜を形成する場合、Naを含むMo膜に含まれるNa含有量は、ターゲットのエロージョン領域の全面積中のMoマトリックスとNa含有領域であるペレットの面積比によって制御することが可能である。実際には、スパッタ装置の構成や投入電力により実効的なスパッタ速度が変化するので、ターゲットを使用する条件に応じて、エロージョン領域におけるMoマトリックスとNa含有領域との面積比を決定すれば良い。但し、ペレットを固定するためにペレットにテーパーを付けてMoマトリックスの孔にペレットを差し込んだ場合には、スパッタによりターゲットが消耗すると、エロージョン領域におけるMoマトリックスとNa含有領域との面積比が変わるため、スパッタ膜中のMoとNa化合物ペレットの比率も変わっていってしまうため、不適となる。また、ターゲットがロール状のターゲットの場合には、エロージョン領域におけるMoマトリックスとNa含有領域との面積比が、ターゲットが消耗しても一定となるように、消耗するに連れてNa含有領域の面積が小さくなるような形状にすることが好ましい。このことにより、ターゲットを用いて形成されたNaを含むMo膜中におけるNa含有量を一定とすることができ、所定のNa含有量のNaを含むMo膜を安定して形成できる。このような嵌合処理を行うことにより、ペレットと一体化されたMoマトリックスからなるNa含有Moターゲットが得られる。その後、必要に応じて、Na含有Moターゲットの表面を研磨する。本実施形態においては、Moマトリックス中にNa含有領域を点在させ、真空中もしくは非酸化雰囲気中で、300~400°Cの熱処理を施した後、Na含有Moターゲットの表面粗度が数百nm以下となるように、表面研磨を行うことが好ましい。上記の熱処理を行った後に得られたNa含有Moターゲットの表面には、Moマトリックスの高さとペレットの高さとの差に起因する段差が形成される場合がある。上記の熱処理を行った後に、Na含有Moターゲットの表面研磨を行った場合、Na含有Moターゲットの表面に段差が形成されていても、Moマトリックスの高さとペレットの高さとが揃えられるため、Na含有Moターゲットの表面段差に起因するパーティクルの発生を防止できる。また、本実施形態のNa含有Moターゲットは、必要に応じて、例えば150°C~200°Cのボンディング温度でボンディングすることにより、Na含有Moターゲットを基材に固定して用いられる。なお、本実施形態においては、上記の熱処理によってMoマトリックスとペレットとが一体化されているので、上記の温度でボンディングすることによるMoマトリックスの表面とペレットの表面との高さのずれは生じにくく、ターゲットの表面段差に起因するパーティクルの発生は起こり難い。本実施形態のNa含有Moターゲットは、スパッタリング法により所定の濃度でNaを含むMo膜を容易に形成できるものであるので、例えば、カルコパイライト型太陽電池の裏面電極を形成する際などに好適に用いることができる。すなわち、カルコパイライト型太陽電池の裏面電極として、本実施形態のNa含有Moターゲットを用いて所定の濃度でNaを含むMo膜を形成した場合、裏面電極を形成すると同時に、裏面電極内に所定の濃度でNaを容易に含有させることができ、裏面電極上にp型光吸収層を形成することによってp型光吸収層にNaを拡散させることができる。実施例1以下に示す方法により、図1に示すNa含有MoターゲットTを製造した。Na含有物質であるNaとNa2Oの粉末を質量比で80Na:20Na2Oの割合で混合し、直径6mm高さ6mmの円柱状となるように成形し、真空中、400°Cの温度で30分の熱処理を施す焼結を行うことによって、直径5mm高さ5mmの実施例1のペレットを得た。また、直径102.5mm厚み5mmのMoターゲット材を用意し、図1に示すように、Moターゲット材に直径4.9mmの円筒状の複数の貫通孔4を機械加工により形成し、Moマトリックス1とした。なお、各貫通孔4の平面視中心は、図1に示すように、Moマトリックス1と同心の直径70mmの円形7の輪郭上に均等に離間して配置した。また、貫通孔4の面積は、図1に示すエロージョン領域5のMoマトリックス1の面積と貫通孔4の面積との面積比が70:30となるようにした。ちなみに、後述する本スパッタ装置用の直径102.5mmのNa含有MoターゲットTの場合、Na含有MoターゲットTと同心の直径70mm±5mmの中空円盤状部がエロージョン領域5となる。したがって、図1に示すNa含有MoターゲットTと同心の直径70mmの円形7の輪郭は、円盤状のエロージョン領域5の幅方向中心である。その後、嵌合処理を行った。まず、Moマトリックス1および実施例1のペレット3を表1に示す嵌合温度に加熱した真空炉中に保持して加熱した。そして、表1に示す嵌合温度とされたMoマトリックス1の貫通孔4に専用冶具を用いて実施例1のペレット3を差し込み、Moマトリックス1中にNa含有領域である実施例1のペレット3を点在させた。そして、Moマトリックス1の貫通孔4に実施例1のペレット3を差し込んでから、Moマトリックス1の温度を表1に示す嵌合温度で表1に示す保持時間で保持する熱処理を施し、常温まで炉冷した。次いで、得られたMoマトリックス1とペレット3との複合体である実施例1-1~1-7、比較例1-1~1-2のNa含有MoターゲットTの表面を研磨してMoマトリックス1とペレット3との高さを揃えた。その後、研磨後の実施例1-1~1-7、比較例1-1~1-2をそれぞれ、180°Cのボンディング温度でボンディングすることにより基材に固定した。基材に固定された実施例1-1~1-7、比較例1-1~1-2のNa含有MoターゲットTをそれぞれ、スパッタ装置L-430Sキヤノンアネルバ製に下向きにセットして、Arフロー0.33PaでRF高周波600W30分間の条件でスパッタを行ない、Naを含むMo膜を形成し、実施例1のペレットの剥がれ落ちの有無を確認した。また、目視により、スパッタ後のターゲットの表面におけるペレットとMoマトリックスとの高さのずれの有無を確認した。また、直径20mm厚み5mmtのMoバルク中央に直径4.9mmの貫通孔を空け、実施例1-1~1-7、比較例1-1~1-2と同様に嵌合処理を行って実施例1のペレットを貫通孔に嵌合し、密着性評価試験材を作製した。密着性評価試験材の表面から1mmの部位で切断し、1mmの高さの試験片と4mmの高さの試験片とを得た。そして、1mmの高さの試験片の切断断面をSEM走査型電子顕微鏡で観察を行ない、反応層の厚みを測定した。さらに、Moマトリックス側からペレット方向へエッチングしながらSIMS分析を繰り返し行ない、膜厚に応じた深さ毎に定量分析を実施し、得られた結果から、反応層に含まれるNa2MoO4-xおよびNa2MoO4の含有量を算出し、反応層に含まれるNa2MoO4-xのうちのNa2MoO4の比率質量比Na2MoO4/Na2MoO4-x×100質量を求めた。また、4mm高さの試験片を保持し、貫通孔に勘合されたペレットを押すようにして、ペレットが押し出された時の押し込み強さで密着強度を評価した。この結果を表1にまとめた。表1の比較例1-1に示すように、嵌合温度が280°Cでは嵌合が不十分で、スパッタ中にペレットが剥がれ落ちてしまった。このため、比較例1-1では、まともな成膜ができなかった。また、比較例1-1では、MoNa複合酸化物の反応相が形成されず、密着強度も測定できなかった。表1の実施例1-1~1-7に示すように、嵌合温度が300~400°CであればMoNa複合酸化物の反応相が形成され、密着強度が0.5MPaを越え、剥がれ落ちることはなかった。特に、実施例1-1~1-3、1-5~1-6のように、保持時間を10分以上とった場合には、反応相が層状に全周を覆うように形成され、密着強度が1.0MPaを越え、ずれを生じることもなかった。表1の比較例1-2に示すように、嵌合温度が420°Cの場合には、ペレットが軟化し、嵌合そのものができなかった。反応相の厚みから見ると、280°Cで嵌合した比較例1-1の場合は反応相ができることがなく、この場合には密着強度は測定できないくらい低かったN/A。しかし、表1の実施例1-4に示すように、全界面を層状に覆ってはいないものの、存在する反応相の平均厚みが32nmである場合には嵌合温度350°Cで保持時間5分間嵌合、剥がれることはなかった。実施例1-1~1-3、1-5~1-6のように、反応相が50nm以上1000nm以下の範囲では密着強度が1.0MPaを超え、ずれを生じることなくしっかりと密着していた。実施例1-7のように、反応相が1000nm超となる場合には嵌合温度400°Cで保持時間30分間嵌合密着強度が低下している。実施例1-7では、密着強度試験後の観察からペレット形状が変形し、ペレットとMoマトリックスとの間に隙間が生じ、ペレットとMoマトリックスとの接触面積の減少により強度が低下することとなった。実施例1-1~1-7、比較例1-1~1-2のターゲットを用いて成膜したスパッタ膜Naを含むMo膜について、SIMS二次イオン質量分析装置を用いてMo含有量およびNa含有量を測定した。その結果、実施例1-1~1-7、比較例1-1~1-2のNaを含むMo膜は、いずれもMo膜中にNaが質量比で18存在していた。成膜後、反応相の厚みが薄いため表面にペレットとMoマトリックスとの高さのずれを生じていた嵌合温度350°Cで保持時間5分間嵌合の実施例1-4のターゲットでは、これを用いてスパッタして得られたスパッタ膜にMoのスプラッシュが散見され、ペレットとMoマトリックスとの嵌合部のずれに伴う異常放電が起こっていたものと考えられる。実施例2Na含有物質であるNaとNa2OとNa2MoO4の3種の粉末を表2に示す比率質量比で混合したものを用いてペレットを形成したこと以外は、実施例1-1と同様にして実施例2-1~2-8のNa含有MoターゲットTを作製した。その後、実施例2-1~2-8のNa含有MoターゲットTをそれぞれ用いて、実施例1-1と同様にしてNaを含むMo膜を形成し、ペレットの剥がれ落ちの有無を確認した。また、実施例1-1と同様にして実施例2-1~2-8のスパッタ膜Naを含むMo膜について、Mo含有量およびNa含有量を測定した。その結果を表2に示す。また、実施例1-1と同様にして実施例2-1~2-8の密着性評価試験材を作製し、実施例1-1と同様にしてターゲットの反応層の厚みを測定し、反応層に含まれるNa2MoO4-xのうちのNa2MoO4の比率を求め、密着強度を評価した。その結果を表2に示す。実施例2-1~2-8では、いずれもペレット全周に反応相が層状に形成されており、スパッタ中に剥がれ落ちたものはなかった。また、実施例2-1~2-8は、いずれも反応相の厚みが50nm以上1000nm以下の範囲であり、密着強度が1.0MPaを超え、しっかりと密着していた。実施例2-1~2-4に示すように、ペレットの材料であるNa含有物質において、Na2MoO4の比率が多くなると、反応相のNa2MoO4-xのうちのNa2MoO4の比率が多くなり、反応相の厚みが増加し、密着強度が向上していた。なお、反応相は実施例2-1~2-8のいずれの場合にもNa2MoO4が主成分となっていた。また、Na含有物質がNa単体の実施例2-5の場合には、Moマトリックスの表面やペレットの表面に形成された酸化層の分の酸素が、Moマトリックスとペレットとの界面に反応相が生じる反応に寄与するため、反応相の一部がNa2MoO3になったり、化学量論的に酸素欠乏状態になっている部分が見られた。実施例2-1~2-8のスパッタ膜Naを含むMo膜では、Mo膜中にNaが表2に示す割合で存在していた。ペレットの材料であるNa含有物質におけるNa2MoO4の比率が多い場合実施例2-2、2-4、2-7には、Mo膜中におけるNa比率が少し下がっていた。実施例3貫通孔の数ペレットの数を変化させて、Moマトリックスの貫通孔の面積を、エロージョン領域のMoマトリックスの面積と貫通孔の面積との面積比が表3に示す割合となるようにしたこと以外は、実施例1-1と同様にして実施例3-1~3-4のNa含有MoターゲットTを作製した。その後、実施例3-1~3-4のNa含有MoターゲットTをそれぞれ用いて、実施例1-1と同様にしてNaを含むMo膜を形成し、ペレットの剥がれ落ちの有無を確認した。また、実施例1-1と同様にして実施例3-1~3-4のスパッタ膜Naを含むMo膜について、Mo含有量およびNa含有量を測定した。その結果を表3に示す。また、実施例1-1と同様にして実施例3-1~3-4の密着性評価試験材を作製し、実施例1-1と同様にしてターゲットの反応層の厚みを測定し、反応層に含まれるNa2MoO4-xのうちのNa2MoO4の比率を求め、密着強度を評価した。その結果を表3に示す。実施例3-1~3-4のいずれの場合にもスパッタ中にペレットが剥れ落ちることはなく、ターゲットにNa2MoO4を主成分とするMoNa複合酸化物の反応相が200nm程度できており、密着強度も十分得られていた。実施例3-1~3-4のスパッタ膜Naを含むMo膜では、Mo膜中にNaが表3に示す割合で存在していた。表3に示す実施例3-1~3-4より、ペレットの数貫通孔の数を増やしNa含有領域の面積比が増加するのに伴い、スパッタ膜中のNa含有量も増加していることが分かる。