"成分A下記式1で表される構成単位A及び構成単位Bを含み、重量平均分子量が1,000以上10,000以下である共重合体、成分B酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、成分C光酸発生剤、並びに、成分D溶剤を含有し、前記成分Aを0.001~1.00重量含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。式1中、R1及びR3はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R4は水素原子又はアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは構成単位Aと構成単位Bとの重合比を表す重量百分率であり、pは10重量以上80重量以下の数値を表し、qは20重量以上90重量以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、nは1以上10以下の整数を表す。前記Lが、下記式2で表される分岐アルキレン基である、請求項1に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式2中、R5は炭素数1~4のアルキル基を表す。前記R5がエチル基である、請求項2に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記成分Bが、スチレン誘導体、マレイミド誘導体、メタアクリル酸、及び、水酸基含有メタアクリレート化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1つの化合物由来の構成単位を更に有する、請求項1~3のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記酸分解性基が、式Ia、式Ib、式IIa又は式IIbで表される基である、請求項1~4のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式Ia、式Ib、式IIa及び式IIb中、R1はそれぞれ独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R2はそれぞれ独立に、アルキル基を表し、R1とR2とが環を形成してもよく、R3は第三級アルキル基を表し、R4は第三級アルキル基又はtert-ブトキシカルボニル基を表し、Ar1及びAr2はそれぞれ独立に、二価の芳香族基を表し、波線部分は他の構造との結合箇所を表す。前記官能基が、エポキシ基及び/又はオキセタニル基である、請求項1~5のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記官能基が、オキセタニル基である、請求項6に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記成分Cが、オキシムスルホネート化合物である、請求項1~7のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記成分Bが、式OS-3、式OS-4、及び、式OS-5で表される化合物よりなる群から選択された少なくとも1種の化合物である、請求項1~8のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式OS-3~式OS-5中、R1はアルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、R2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はハロゲン原子を表し、R6はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。成分E増感剤を更に含有する、請求項1~9のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記成分Eが、アントラセン誘導体、アクリドン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ベーススチリル誘導体、及び、ジスチリルベンゼン誘導体よりなる群から選ばれた化合物である、請求項10に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記成分Dが、沸点130°C以上160°C未満の溶剤、沸点160°C以上の溶剤、又は、これらの混合物である、請求項1~11のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。1請求項1~12のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布されたポジ型感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程、3活性光線により露光する露光工程、4水性現像液により現像する現像工程、及び、5熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法。請求項13に記載の方法により形成された、硬化膜。層間絶縁膜である、請求項14に記載の硬化膜。請求項14又は15に記載の硬化膜を具備する、有機EL表示装置。請求項14又は15に記載の硬化膜を具備する、液晶表示装置。特許文献1に記載されているような、酸解離性基を有する樹脂を含有する組成物の塗布適性はほとんど検討されていなかった。本発明者らは、このような組成物に対して特定構造のフッ素系界面活性剤が特異的に効果があることを見出し、本発明を完成した。本発明の目的は、塗布性に優れ、現像ムラ及び画素欠陥が少なく、平面性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜の形成方法を提供することである。本発明の上記課題は、以下の<1>、<13>、<14>、<16>又は<17>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>~<12>及び<15>とともに以下に記載する。<1>成分A下記式1で表される構成単位A及び構成単位Bを含み、重量平均分子量が1,000以上10,000以下である共重合体、成分B酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、成分C光酸発生剤、並びに、成分D溶剤を含有し、前記成分Aを0.001~1.00重量含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、式1中、R1及びR3はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R4は水素原子又はアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは構成単位Aと構成単位Bとの重合比を表す重量百分率であり、pは10重量以上80重量以下の数値を表し、qは20重量以上90重量以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、nは1以上10以下の整数を表す。<2>前記Lが、下記式2で表される分岐アルキレン基である、上記<1>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、式2中、R5は炭素数1~4のアルキル基を表す。<3>前記R5がエチル基である、上記<2>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<4>前記成分Bが、スチレン誘導体、マレイミド誘導体、メタアクリル酸、及び、水酸基含有メタアクリレート化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1つの化合物由来の構成単位を更に有する、上記<1>~<3>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<5>前記酸分解性基が、式Ia、式Ib、式IIa又は式IIbで表される基である、上記<1>~<4>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、式Ia、式Ib、式IIa及び式IIb中、R1はそれぞれ独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R2はそれぞれ独立に、アルキル基を表し、R1とR2とが環を形成してもよく、R3は第三級アルキル基を表し、R4は第三級アルキル基又はtert-ブトキシカルボニル基を表し、Ar1及びAr2はそれぞれ独立に、二価の芳香族基を表し、波線部分は他の構造との結合箇所を表す。<6>前記官能基が、エポキシ基及び/又はオキセタニル基である、上記<1>~<6>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<7>前記官能基が、オキセタニル基である、上記<6>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<8>前記成分Cが、オキシムスルホネート化合物である、上記<1>~<7>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<9>前記成分Bが、式OS-3、式OS-4、及び、式OS-5で表される化合物よりなる群から選択された少なくとも1種の化合物である、上記<1>~<8>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、式OS-3~式OS-5中、R1はアルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、R2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はハロゲン原子を表し、R6はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。<10>成分E増感剤を更に含有する、上記<1>~<9>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<11>前記成分Eが、アントラセン誘導体、アクリドン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ベーススチリル誘導体、及び、ジスチリルベンゼン誘導体よりなる群から選ばれた化合物である、上記<10>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<12>前記成分Dが、沸点130°C以上160°C未満の溶剤、沸点160°C以上の溶剤、又は、これらの混合物である、上記<1>~<11>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<13>1上記<1>~<12>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布されたポジ型感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程、3活性光線により露光する露光工程、4水性現像液により現像する現像工程、及び、5熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法、<14>上記<13>に記載の方法により形成された、硬化膜、<15>層間絶縁膜である、上記<14>に記載の硬化膜、<16>上記<14>又は<15>に記載の硬化膜を具備する、有機EL表示装置、<17>上記<14>又は<15>に記載の硬化膜を具備する、液晶表示装置。本発明によれば、塗布性に優れ、現像ムラ及び画素欠陥が少なく、平面性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜の形成方法を提供することができた。以下、本発明のポジ型感光性樹脂組成物について詳細に説明する。ポジ型感光性樹脂組成物本発明のポジ型感光性樹脂組成物以下、単に感光性樹脂組成物ともいう。は、成分A下記式1で表される構成単位A及び構成単位Bを含み、重量平均分子量が1,000以上10,000以下である共重合体、成分B酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、成分C光酸発生剤、並びに、成分D溶剤を含有し、前記成分Aを0.001~1.00重量含有することを特徴とする。式1中、R1及びR3はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R4は水素原子又はアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは、構成単位Aと構成単位Bとの重合比を表す重量百分率であり、pは10重量以上80重量以下の数値を表し、qは20重量以上90重量以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、nは1以上10以下の整数を表す。本発明の感光性樹脂組成物は、ポジ型感光性樹脂組成物である。また、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、化学増幅型のポジ型感光性樹脂組成物化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、活性光線に感応する光酸発生剤として1,2-キノンジアジド化合物を含まない方が好ましい。1,2-キノンジアジド化合物は、逐次型光化学反応によりカルボキシ基を生成するが、その量子収率は必ず1以下である。これに対して本発明で使用する成分C光酸発生剤は、活性光線に感応して生成する酸が保護された酸性基の脱保護に対して触媒として作用するので、1個の光量子の作用で生成した酸が、多数の脱保護反応に寄与し、量子収率は1を超え、例えば、10の数乗のような大きい値となり、いわゆる化学増幅の結果として、高感度が得られる。以下、これら成分A等で示される各成分をそれぞれ、成分A等ともいう。成分A本発明の感光性樹脂組成物は、成分A下記式1で表される構成単位A及び構成単位Bを含み、重量平均分子量が1,000以上10,000以下である共重合体を、感光性樹脂組成物の全重量に対し、0.001~1.00重量含有する。式1中、R1及びR3はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R4は水素原子又はアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは構成単位Aと構成単位Bとの重合比を表す重量百分率であり、pは10重量以上80重量以下の数値を表し、qは20重量以上90重量以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、nは1以上10以下の整数を表す。なお、前記Lの炭素数とは、分岐部分も含めたアルキレン基を構成する全ての炭素数をいう。前記Lは、直鎖アルキレン基であっても、分岐アルキレン基であってもよいが、分岐アルキレン基であることが好ましく、下記式2で表されるアルキレン基であることがより好ましい。ここでR5は、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数1以上3以下のアルキル基が好ましく、炭素数2のアルキル基、すなわち、エチル基がより好ましい。前記p及びqは重合比を表す重量百分率である。pは、10重量以上80重量以下の数値を表し、疎水性-親水性のバランスの点で、20重量以上60重量以下の数値が好ましい。また、qは、20重量以上90重量以下の数値を表し、疎水性-親水性のバランスの点で、40重量以上80重量以下の数値が好ましい。前記rは、6以上18以下の数値が好ましい。また、前記nは、6以上10以下の整数が好ましい。前記R2は、炭素数1又は2の直鎖アルキレン基、すなわち、メチレン基又はエチレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。前記R4は、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。成分Aは、前記構成単位A及び構成単位B以外のその他の構成単位を有していてもよい。その他の構成単位としては、特に制限はなく、公知のエチレン不飽和化合物由来の構成単位を好適に例示できる。成分Aを構成する全モノマー単位中、構成単位Aを形成するモノマー単位の含有量と構成単位Bを形成するモノマー単位の含有量との合計は、90モル以上であることが好ましい。成分Aとして具体的には、以下に示すK-1~K-12を好ましく例示できるが、本発明はこれらに限定されるものではない。成分Aの重量平均分子量Mwは、1,000以上10,000以下であり、塗布性の観点から、1,000以上6,000以下であることが好ましく、1,000以上3,000以下であることがより好ましく、1,200以上2,000以下であることが更に好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、テトラヒドロフランTHF溶剤をキャリアーとしたゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCによるポリスチレン換算重量平均分子量であることが好ましい。成分Aの作製方法としては、特に制限はなく、公知の合成方法や重合方法により、作製することができる。成分Aは、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物における成分Aの添加量は、感光性樹脂組成物の全重量に対し、0.001~1.00重量であり、塗布性の観点から、0.005~0.20重量であることが好ましく、0.007~0.15重量であることがより好ましい。成分Aを上記範囲の量添加することにより、優れた塗布性が得られる。大型基板にスリット塗布するのに特に有効である。ここで大型基板とは、1m×1m角以上5m×5m角以下の基板を指す。また、成分Aを上記範囲の量添加することにより、大型基板でも優れた現像性が得られる。さらに、驚くべきことに成分Aを上記範囲の量添加することにより、液晶比抵抗が良好であるという効果が得られることが分かった。成分B成分Bは、酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位とカルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを少なくとも有する樹脂である。成分Bは、上記の各構成単位をそれぞれ、1種単独で有していても、2種以上を有していてもよい。また、成分Bは、上記の各構成単位以外の構成単位を有していてもよい。成分Bは、アルカリ不溶性であり、かつ、酸分解性基が分解したときにアルカリ可溶性となる樹脂であることが好ましい。ここで、酸分解性基とは酸の存在下で分解可能な官能基を意味する。また、アルカリ可溶性とは、化合物樹脂の溶液を基板上に塗布し、90°Cで2分間加熱して形成した塗膜厚さ3μmをディップ現像した際の、23°Cにおける0.4重量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が、0.01μm/秒以上であることをいう。一方、アルカリ不溶性とは、上記溶解速度が0.01μm/秒未満であることをいう。<酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位>成分Bに含まれる酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基以下、単に酸分解性基ともいう。を有する構成単位は、酸により分解解離し、カルボキシル基を生成する式Ia若しくは式IIaで表される構造を有する構成単位、又は、酸により分解しフェノール性水酸基を生成する式Ib若しくは式IIbで表される構造を有する構成単位を含有することが好ましい。式Ia及び式Ib中、R1はそれぞれ独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。R1におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐状であってもよい。R1におけるアルキル基の好ましい炭素数としては、1~20であることが好ましく、1~10であることがより好ましく、1~7であることが更に好ましい。R1におけるシクロアルキル基の好ましい炭素数としては、3~20であることが好ましく、3~10であることがより好ましく、5~7であることが更に好ましい。なお、これら炭素数は、置換基を有する場合、置換基の炭素数も含まれる。R1におけるアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基等を挙げることができる。R1におけるシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。また、R1におけるアルキル基及びシクロアルキル基は、置換基を有していてもよい。前記アルキル基及びシクロアルキル基における置換基としては、炭素数1~10のアルキル基メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、炭素数3~10のシクロアルキル基、炭素数6~10のアリール基、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数1~10のアルコキシ基等が例示でき、これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。また、R1におけるアルキル基又はシクロアルキル基としては、炭素数1~10のアルキル基、炭素数が3~10のシクロアルキル基、又は、炭素数が7~11のアラルキル基が好ましく、炭素数が1~6のアルキル基、炭素数が3~6のシクロアルキル基、又は、ベンジル基がより好ましく、エチル基又はシクロヘキシル基であることが更に好ましく、エチル基であることが特に好ましい。式Ia及び式Ib中、R2はそれぞれ独立に、アルキル基を表す。R2におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐状であってもよい。R2におけるアルキル基の好ましい炭素数としては、1~20であることが好ましく、1~10であることがより好ましく、1~7であることが更に好ましい。なお、これら炭素数は、置換基を有する場合、置換基の炭素数も含まれる。また、R2におけるアルキル基としては、炭素数1~6のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。R1とR2とが環を形成してもよく、その好ましい例としては、飽和炭化水素鎖により環を形成することが好ましく、5員環構造、すなわち、テトラヒドロフラニルエステル構造、又は、6員環構造、すなわち、テトラヒドロピラニルエステル構造を挙げることができる。また、これら環構造は、置換基を有していてもよく、置換基としては、炭素数1~10のアルキル基メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、炭素数3~10のシクロアルキル基、炭素数6~10のアリール基、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数1~10のアルコキシ基等が例示できる。これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。式Ib中、Ar1は、二価の芳香族基を表し、芳香環上にOCHOR1R2を有している。Ar1における二価の芳香族基としては、特に制限はなく、フェニレン基、置換フェニレン基、ナフチレン基、及び、置換ナフチレン基等が例示でき、フェニレン基、又は、置換フェニレン基であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましく、1,4-フェニレン基であることが更に好ましい。また、Ar1における二価の芳香族基は、芳香環上に置換基を有していてもよく、置換基としては、炭素数1~10のアルキル基メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、炭素数3~10のシクロアルキル基、炭素数6~10のアリール基、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数1~10のアルコキシ基等が例示でき、これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。酸分解性基を有する構成単位は、前記式Ia及び/又は式Ibで表される構造を有することが好ましい。カルボキシ基が保護されることにより前記式Iaで表される構造を有する構成単位を形成することができるカルボン酸モノマーとしては、カルボキシ基が保護されることにより酸分解性基を有する構成単位となりうるものであれば用いることができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α-メチル-p-カルボキシスチレン等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸を挙げることができる。また、酸分解性基を有する構成単位としては、これらカルボキシ基が保護されたカルボン酸由来のモノマー単位を好ましいものとして挙げることができる。フェノール性水酸基が保護されることにより前記式Ibで表される構造を有する構成単位を形成することができるフェノール性水酸基を有するモノマーとしては、フェノール性水酸基が保護されることにより酸分解性基を有する構成単位となりうるものであれば用いることができ、例えば、p-ヒドロキシスチレン、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物等を好ましいものとして挙げることができる。これらの中でも、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物がより好ましい。これらの構造の中で、酸分解性基を有する構成単位として、更に好ましいものは、式IIIで表される構成単位である。式III中、R5はアルキル基又はシクロアルキル基を表し、R5の好ましい態様は、式Ia及び式IbにおけるR1の好ましい態様と同様である。また、式III中、R6は水素原子又はメチル基を表す。式IIIで表される構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の好ましい具体例としては、例えば、1-エトキシエチルメタクリレート、1-エトキシエチルアクリレート、1-メトキシエチルメタクリレート、1-メトキシエチルアクリレート、1-n-ブトキシエチルメタクリレート、1-n-ブトキシエチルアクリレート、1-イソブトキシエチルメタクリレート、1-イソブトキシエチルアクリレート、1-2-エチルヘキシルオキシエチルメタクリレート、1-2-エチルヘキシルオキシエチルアクリレート、1-n-プロポキシエチルメタクリレート、1-n-プロポキシエチルアクリレート、1-シクロヘキシルオキシエチルメタクリレート、1-シクロヘキシルオキシエチルアクリレート、1-2-シクロヘキシルエトキシエチルメタクリレート、1-2-シクロヘキシルエトキシエチルアクリレート、1-ベンジルオキシエチルメタクリレート、1-ベンジルオキシエチルアクリレートなどを挙げることができ、特に好ましいものとしては、1-エトキシエチルメタクリレート及び1-エトキシエチルアクリレートである。これらの構成単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて有することができる。酸分解性基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体は、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いることもできる。例えば、下記に示すようにメタアクリル酸を酸触媒の存在下でビニルエーテル化合物と反応させることにより合成することができる。ここで、R5及びR6はそれぞれ、式IIIにおけるR5及びR6に対応する。また、酸分解性基を有する構成単位は、保護されるカルボキシ基又はフェノール性水酸基含有モノマーを後述するモノマーやその前駆体と重合した後に、カルボキシ基又はフェノール性水酸基をビニルエーテル化合物と反応させることによっても形成することができる。なお、このようにして形成される好ましいモノマー単位の具体例は、上記ラジカル重合性単量体の好ましい具体例由来のモノマー単位と同様である。式Iaもしくは式Ibで表される構造の酸分解性基を有する構成単位の中で、酸分解性基を有する構成単位として、下記式IVの構造単位も好ましい。式IV中、R1は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表し、L1はカルボニル基又はフェニレン基を表し、R21~R27はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。また、前記構造の中で、酸分解性基を有する構成単位として、更に好ましいものは下記式IV1~IV4で表される構成単位である。また、酸分解性基を有する構成単位として、下記式IV1又はIV2で表される構成単位が特に好ましく、下記式IV1で表される構成単位が最も好ましい。式IV1~IV4中、R6は水素原子又はメチル基を表す。前記式IIa及び式IIb中、R3は第三級アルキル基を表し、R4は第三級アルキル基又はtert-ブトキシカルボニル基を表し、Ar2は二価の芳香族基を表し、波線部分は他の構造との結合箇所を表す。R3及びR4における第三級アルキル基としては、炭素数が4~20のものが好ましく、炭素数が4~14のものがより好ましく、炭素数が4~8のものが更に好ましい。R3における第三級アルキル基、R4における第三級アルキル基又はtert-ブトキシカルボニル基、Ar2における二価の芳香族基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、炭素数1~10のアルキル基メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、炭素数3~10のシクロアルキル基、炭素数6~10のアリール基、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数1~10のアルコキシ基等が例示できる。これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。また、R3及びR4における第三級アルキル基としては、以下に示す式Vで表される基よりなる群から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましい。-CR9R10R11V式中、R9、R10及びR11はそれぞれ独立に、炭素数1~12のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、炭素数6~12のアリール基又は炭素数7~12のアラルキル基を表し、また、R9、R10及びR11のいずれか2つが互いに結合してそれらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。式VにおけるR9、R10及びR11の炭素数1~12のアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、テキシル基2,3-ジメチル-2-ブチル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基等を挙げることができる。炭素数3~12のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。炭素数6~12のアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、1-ナフチル基等を挙げることができる。炭素数7~12のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、α-メチルベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等を挙げることができる。また、R9、R10及びR11は互いに結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成することができる。R9とR10、R9とR11、又は、R10とR11が結合した場合の環構造としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、テトラヒドロフラニル基、アダマンチル基、及び、テトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。また、式IIaにおけるR3は、炭素数4~12の第三級アルキル基又は2-テトラヒドロピラニル基であることが好ましく、炭素数4~8の第三級アルキル基又は2-テトラヒドロピラニル基であることがより好ましく、t-ブチル基又は2-テトラヒドロピラニル基であることが更に好ましく、t-ブチル基が特に好ましい。また、式IIbにおけるR4は、炭素数4~12の第三級アルキル基、2-テトラヒドロピラニル基、tert-ブトキシカルボニル基であることが好ましく、炭素数4~12の第三級アルキル基又は2-テトラヒドロピラニル基であることがより好ましく、t-ブチル基又は2-テトラヒドロピラニル基であることが更に好ましく、2-テトラヒドロピラニル基が特に好ましい。式IIb中、Ar2は、二価の芳香族基を表し、芳香環上にOCHOR1R2を有している。式IIbにおけるAr2の好ましい態様は、前記式IIaにおけるAr1の好ましい態様と同様である。酸分解性基を有する構成単位は、前記式IIaで表される保護されたカルボキシ基、及び/又は、前記式IIbで表される保護されたフェノール性水酸基を含有することが好ましい。カルボキシ基が保護されることにより前記式IIaで表される構造を有するモノマー単位を形成することができるカルボン酸モノマーとしては、カルボキシ基が保護されることにより酸分解性基を有する構成単位となりうるものであれば用いることができ、例えば、式Iaの説明において前述したカルボン酸モノマーが好ましく挙げられる。フェノール性水酸基が保護されることにより前記式IIbで表される構造を有するモノマー単位を形成することができるフェノール性水酸基を有するモノマーとしては、フェノール性水酸基が保護されることにより酸分解性基を有する構成単位となりうるものであれば用いることができ、例えば、式Ibの説明において前述したフェノール性水酸基を有するモノマーが好ましく挙げられる。これらの構造の中で、酸分解性基を有する構成単位として特に好ましいものは、下記式VIで表される構成単位である。式VI中、R7は第三級アルキル基を表し、R8は水素原子又はメチル基を表す。なお、式VI中、R7の好ましい態様は、式IIaにおけるR3の好ましい態様と同様である。式VIで表される構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の好ましい具体例としては、例えば、メタクリル酸tert-ブチル、アクリル酸tert-ブチル、メタクリル酸2-メチル-2-アダマンチル、アクリル酸2-メチル-2-アダマンチル、メタクリル酸1-メチルシクロヘキシル、アクリル酸1-メチルシクロヘキシル等を挙げることができ、メタクリル酸tert-ブチル、アクリル酸tert-ブチルが特に好ましい。これらの構成単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。酸分解性基を有する構成単位の好ましい具体例としては、下記のモノマー単位が例示できる。成分Bを構成する全モノマー単位中、酸分解性基を有する構成単位を形成するモノマー単位の含有量は、5~60モルが好ましく、10~50モルが更に好ましく、10~40モルが特に好ましい。上記の割合であると、高感度でかつ露光ラチチュードが広い感光性樹脂組成物が得られる。<カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位>カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基としては、エポキシ基、オキセタニル基、酸無水物基、酸ハライド基、イソシアネート基が挙げられ、このような官能基を含有するラジカル重合性モノマーを使用して成分Bを合成することが好ましい。これら官能基の中で、エポキシ基、及び/又は、オキセタニル基が好ましい。前記エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位としては、脂環エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位であることが好ましく、オキセタニル基を有する構成単位であることがより好ましい。脂環エポキシ基は、脂肪族環とエポキシ環とが縮合環を形成している基であり、具体的には例えば、3,4-エポキシシクロヘキシル基、2,3-エポキシシクロヘキシル基、2,3-エポキシシクロペンチル基等が好ましく挙げられる。オキセタニル基を有する基としては、オキセタン環を有していれば、特に制限はないが、3-エチルオキセタン-3-イルメチル基が好ましく例示できる。エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位は、1つの構成単位中にエポキシ基又はオキセタニル基を少なくとも1つ有していればよく、1つ以上のエポキシ基及び1つ以上オキセタニル基、2つ以上のエポキシ基、又は、2つ以上のオキセタニル基を有していてもよく、特に限定されないが、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を合計1~3つ有することが好ましく、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を合計1又は2つ有することがより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基を1つ有することが更に好ましい。エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第4168443号公報の段落0031~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられる。オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、例えば、特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルなどを挙げることができる。エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。これらのモノマーの中で、更に好ましいものとしては、特許第4168443号公報の段落0034~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物及び特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルであり、特に好ましいものとしては特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルである。これらの中でも好ましいものは、アクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルであり、最も好ましいものはアクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルである。これらの構成単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。成分Bを構成する全モノマー単位中、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位を形成するモノマー単位の含有率は、10~80モルが好ましく、15~70モルが更に好ましく、20~65モルが特に好ましい。上記の割合で含有させることにより、硬化膜の物性が良好となる。これらの構成単位の中で、オキセタニル基を有する構成単位が感光性組成物の貯蔵安定性が優れる点で特に好ましい。<その他の構成単位>本発明の効果を妨げない範囲で、成分Bは、前記構成単位以外の、その他の構成単位を有してもよい。その他の構成単位としては、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する構成単位が好ましく例示できる。カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する構成単位成分Bは、成分Bがアルカリ可溶性にならない範囲でカルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する構成単位を含有することができる。カルボキシ基には、カルボン酸無水物残基も含む。カルボキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、メタアクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸が好ましい。また、カルボン酸無水物残基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸等が好ましい。フェノール性水酸基を有する構成単位を形成するラジカル重合性単量体としては、例えば、p-ヒドロキシスチレン、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物などが好ましい。これらの中でも、メタアクリル酸、ヒドロキシスチレン類がより好ましい。これらの構成単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Rは、水素原子、又は、メチル基を表す。優れた感度、現像性が得られることから、前記成分Bを構成する全モノマー単位中、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する構成単位を形成するモノマー単位の含有率は、0~20モルが好ましく、5~15モルがより好ましい。また、その他の構成単位を形成するラジカル重合性モノマーとしては例えば、特開2004-264623号公報の段落0021~0024に記載の化合物を挙げることができる。これらの中でも、電気特性向上の観点でメタアクリル酸ジシクロペンタニル、メタアクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘキシルのような脂環構造含有のメタアクリル酸エステル類が好ましい。また、透明性の観点からはメタアクリル酸メチルが好ましい。また、エッチング耐性の観点からはスチレンやα-メチルスチレン、クロロメチルスチレン、アセトキシスチレンなどのスチレン類が好ましい。成分Bは、その他の構成単位として、マレイミド誘導体、メタアクリル酸、及び、水酸基含有メタアクリレート化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1つの化合物由来の構成単位を有することが好ましい。マレイミド誘導体としては、N-ブチルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミドが好ましい。水酸基含有メタアクリレート化合物としては、ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレートが好ましい。成分Bを構成する全モノマー単位中、その他の構成単位を形成するモノマー単位の含有率は、0~50モルが好ましく、0~45モルが更に好ましく、5~40モルが特に好ましい。上記の割合で含有させることにより、硬化膜の物性が良好となる。成分Bの重量平均分子量は、1,000~100,000であることが好ましく、2,000~50,000であることがより好ましい。以下、成分Bとして、好ましいものを例示するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、下記に例示した成分Bの重量平均分子量は、2,000~50,000であることが好ましい。メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸tert-ブチル/メタクリル酸グリシジル共重合体メタクリル酸テトラヒドロ-2H-フラン-2-イル/メタクリル酸tert-ブチル/メタクリル酸グリシジル/メタクリル酸共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル/メタクリル酸グリシジル/メタクリル酸共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル/メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル/4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシプロピルエステル共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル/メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル/4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシプロピルエステル/メタクリル酸2-ヒドロキシエチル共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸2-メチル-2-アダマンチル/メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル/4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシプロピルエステル共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸1-メチル-1-シクロヘキシル/メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル/4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシプロピルエステル共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル/メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル/4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシプロピルエステル共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル/メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル/4-ヒドロキシ安息香酸3-メタクリロイルオキシプロピルエステル/メタクリル酸2-ヒドロキシエチル共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/N-シクロヘキシルマレイミド/メタクリル酸グリシジル/メタクリル酸共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸/メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル/メタクリル酸-2-ヒドロキシエチル共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸/メタクリル酸グリシジル/メタクリル酸-2-ヒドロキシエチル共重合体メタクリル酸1-エトキシエチル/メタクリル酸/メタクリル酸グリシジル/メタクリル酸2-ヒドロキシエチル/スチレン共重合体メタクリル酸1-シクロヘキシルオキシエチル/メタクリル酸/メタクリル酸グリシジル/メタクリル酸2-ヒドロキシエチル/スチレン共重合体メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル/メタクリル酸/メタクリル酸グリシジル/メタクリル酸2-ヒドロキシエチル/スチレン共重合体メタクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル/メタクリル酸/メタクリル酸グリシジル/メタクリル酸2-ヒドロキシエチル/スチレン共重合体メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル/メタクリル酸/メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル/メタクリル酸2-ヒドロキシエチル共重合体成分Bは、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物中における成分Bの含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、20~99重量であることが好ましく、40~97重量であることがより好ましく、60~95重量であることが更に好ましい。含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となる。なお、感光性樹脂組成物の固形分量とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量を表す。なお、本発明の感光性樹脂組成物中では、本発明の効果を妨げない範囲で成分B以外の樹脂を併用してもよい。ただし、成分B以外の樹脂の含有量は、現像性の観点から、成分Aの含有量より少ない方が好ましい。成分C光酸発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分C光酸発生剤を含有する。成分Cとしては、公知の光酸発生剤を用いることができる。本発明で使用される光酸発生剤としては、好ましくは波長300nm以上、より好ましくは波長300~450nmの活性光線に感応し、酸を発生する化合物であるが、その化学構造に制限されるものではない。また、例えば、波長300nm以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤であっても、増感剤と併用することによって波長300nm以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。本発明で使用される光酸発生剤としては、pKaが4以下の酸を発生する光酸発生剤が好ましく、pKaが3以下の酸を発生する光酸発生剤がより好ましい。光酸発生剤の例として、トリクロロメチル-s-トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、絶縁性や感度の観点から、オキシムスルホネート化合物を用いることが好ましい。これら光酸発生剤は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。オキシムスルホネート化合物、すなわち、オキシムスルホネート残基を有する化合物としては、式B1のオキシムスルホネート残基を有する化合物が好ましく例示できる。式B1中、R5は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又はハロゲン原子を表す。R5のアルキル基としては、炭素数1~10の直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。R5のアルキル基は、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数6~11のアリール基、炭素数1~10のアルコキシ基、又は、シクロアルキル基7,7-ジメチル-2-オキソノルボルニル基などの有橋式脂環基を含む、好ましくはビシクロアルキル基等で置換されてもよい。R5のアルコキシ基としては、炭素数1~4の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が好ましい。該アルコキシ基は、アルキル基と同じく置換されてもよい。R5のアリール基としては、炭素数6~11のアリール基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましい。R5のアリール基は、炭素数1~5のアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されてもよい。式B1で表されるオキシムスルホネート残基を含有する化合物は、式B2で表されるオキシムスルホネート化合物であることがより好ましい。式B2中、R5は、式B1におけるR5と同義であり、Xは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、mは、0~3の整数を表し、mが2又は3であるとき、複数のXは同一でも異なっていてもよい。Xにおけるアルキル基は、炭素数1~4の、直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。アルコキシ基は、炭素数1~4の直鎖状又は分岐状アルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子は、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。mは、0又は1が好ましい。式B2中、mが1であり、Xがメチル基であり、Xの置換位置がオルト位であり、R5が炭素数1~10の直鎖状アルキル基、7,7-ジメチル-2-オキソノルボルニルメチル基、又は、p-トルイル基である化合物が特に好ましい。式B1で表されるオキシムスルホネート残基を含有する化合物は、式B3で表されるオキシムスルホネート化合物であることもより好ましい。式B3中、R5は式B1におけるR5と同義であり、X’は、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、又はニトロ基を表し、Lは0~5の整数を表す。式B3におけるR5としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-オクチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ-n-プロピル基、パーフルオロ-n-ブチル基、p-トリル基、4-クロロフェニル基又はペンタフルオロフェニル基が好ましく、n-オクチル基が特に好ましい。X’としては、炭素数1~5のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基がより好ましい。Lとしては、0~2の整数が好ましく、0又は1が特に好ましい。オキシムスルホネート化合物の具体例としては、i~viiが挙げられ、1種単独で使用したり、又は、2種類以上を併用することができる。化合物i~viiは、市販品として、入手することができる。また、他の種類の光酸発生剤と組み合わせて使用することもできる。前記式B1で表されるオキシムスルホネート残基を少なくとも1つ有する化合物としては、下記式OS-3、式OS-4、又は、式OS-5で表されるオキシムスルホネート化合物であることも好ましい。式OS-3~OS-5中、R1はアルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、複数存在するR2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はハロゲン原子を表し、複数存在するR6はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。前記式OS-3~OS-5中、R1で表されるアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。前記式OS-3~OS-5中、R1で表されるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。R1で表されるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R1で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基などが挙げられる。また、前記式OS-3~OS-5中、R1で表されるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数6~30のアリール基が好ましい。R1で表されるアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。R1で表されるアリール基としては、フェニル基、p-メチルフェニル基、p-クロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基が好ましい。また、前記式OS-3~OS-5中、R1で表されるヘテロアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数4~30のヘテロアリール基が好ましい。R1で表されるヘテロアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R1で表されるヘテロアリール基は、少なくとも1つの複素芳香環を有していればよく、例えば、複素芳香環とベンゼン環とが縮環していてもよい。R1で表されるヘテロアリール基としては、置換基を有していてもよい、チオフェン環、ピロール環、チアゾール環、イミダゾール環、フラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾチアゾール環、及び、ベンゾイミダゾール環よりなる群から選ばれた環から1つの水素原子を除いた基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R2は、水素原子、アルキル基、又はアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましい。前記式OS-3~OS-5中、化合物中に2以上存在するR2のうち、1つ又は2つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることが好ましく、1つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることがより好ましく、1つがアルキル基であり、かつ残りが水素原子であることが特に好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R2で表されるアルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよい。R2で表されるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基としては、前記R1におけるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基と同様の基が例示できる。前記式OS-3~OS-5中、R2で表されるアルキル基としては、置換基を有してもよい総炭素数1~12のアルキル基であることが好ましく、置換基を有してもよい総炭素数1~6のアルキル基であることがより好ましい。R2で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、n-ヘキシル基、アリル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、メトキシメチル基、ベンジル基が好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、n-ヘキシル基がより好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R2で表されるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数6~30のアリール基であることが好ましい。R2で表されるアリール基としてフェニル基、p-メチルフェニル基、o-クロロフェニル基、p-クロロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基が好ましい。R2で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中でも、塩素原子、臭素原子が好ましい。前記式OS-3~OS-5中、XはO又はSを表し、Oであることが好ましい。前記式OS-3~OS-5において、Xを環員として含む環は、5員環又は6員環である。前記一般式OS-3~OS-5中、nは1又は2を表し、XがOである場合、nは1であることが好ましく、また、XがSである場合、nは2であることが好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R6で表されるアルキル基及びアルキルオキシ基は、置換基を有していてもよい。前記一般式OS-3~OS-5中、R6で表されるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。R6で表されるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R6で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基が好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R6で表されるアルキルオキシ基としては、置換基を有してもよい総炭素数1~30のアルキルオキシ基であることが好ましい。R6で表されるアルキルオキシ基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R6で表されるアルキルオキシ基としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、フェノキシエチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、又は、エトキシエチルオキシ基が好ましい。R6におけるアミノスルホニル基としては、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、メチルフェニルアミノスルホニル基、アミノスルホニル基が挙げられる。R6で表されるアルコキシスルホニル基としては、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、プロピルオキシスルホニル基、ブチルオキシスルホニル基が挙げられる。また、前記式OS-3~OS-5中、mは0~6の整数を表し、0~2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることが特に好ましい。また、前記式OS-3で表される化合物は、下記式OS-6、式OS-10又は式OS-11で表される化合物であることが特に好ましく、前記式OS-4で表される化合物は、下記式OS-7で表される化合物であることが特に好ましく、前記式OS-5で表される化合物は、下記式OS-8又は式OS-9で表される化合物であることが特に好ましい。式OS-6~式OS-11中、R1はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R7は、水素原子又は臭素原子を表し、R8は水素原子、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、R9は水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、R10は水素原子又はメチル基を表す。前記式OS-6~式OS-11におけるR1は、前記式OS-3~式OS-5におけるR1と同義であり、好ましい態様も同様である。前記式OS-6におけるR7は、水素原子又は臭素原子を表し、水素原子であることが好ましい。前記式OS-6~式OS-11におけるR8は、水素原子、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~6のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。前記式OS-8及び式OS-9におけるR9は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、水素原子であることが好ましい。前記式OS-8~式OS-11におけるR10は、水素原子又はメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムの立体構造E,Zについては、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。前記式OS-3~式OS-5で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記例示化合物が挙げられるが、本発明は、これらに限定されるものではない。前記式B1で表されるオキシムスルホネート基を少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物の好適な他の態様としては、下記式OS-1で表される化合物が挙げられる。前記式OS-1中、R1は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、又はヘテロアリール基を表す。R2は、アルキル基、又はアリール基を表す。Xは-O-、-S-、-NH-、-NR5-、-CH2-、-CR6H-、又は-CR6R7-を表し、R5~R7はアルキル基、又はアリール基を表す。R21~R24は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又はアリール基を表す。R21~R24のうち2つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。R21~R24としては、水素原子、ハロゲン原子、及びアルキル基が好ましく、また、R21~R24のうち少なくとも2つが互いに結合してアリール基を形成する態様もまた、好ましく挙げられる。中でも、R21~R24がいずれも水素原子である態様が感度の観点から好ましい。前記した置換基は、いずれも、更に置換基を有していてもよい。前記式OS-1で表される化合物は、下記式OS-2で表される化合物であることがより好ましい。前記式OS-2中、R1、R2、R21~R24は、それぞれ一般式OS-1におけるR1、R2、R21~R24と同義であり、好ましい例もまた同様である。これらの中でも、式OS-1、及び、式OS-2におけるR1がシアノ基、又はアリール基である態様がより好ましく、式OS-2で表され、R1がシアノ基、フェニル基又はナフチル基である態様が最も好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムやベンゾチアゾール環の立体構造E,Z等についてはそれぞれ、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。以下に、本発明に好適に用いることができる前記式OS-1で表される化合物の具体例例示化合物b-1~b-34を示すが、本発明はこれに限定されない。なお、具体例中、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Bnはベンジル基を表し、Phはフェニル基を表す。上記化合物の中でも、感度と安定性との両立の観点から、b-9、b-16、b-31、b-33が好ましい。前記式B1で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物は、下記式2で表される化合物であることが好ましい。R1A-CR2A=N-O-SO2-R3A2式2中、R1Aは、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~4のハロゲン化アルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、2-フリル基、2-チエニル基、炭素数1~4のアルコキシ基又はシアノ基を表し、R1Aが、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基又はアントラ二ル基である場合、これらの基は、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基及びニトロ基からなる群から選ばれた置換基によって置換されていてもよい。R2Aは、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数1~5のハロゲン化アルキル基、炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基、Wで置換されていてもよいフェニル基、Wで置換されていてもよいナフチル基又はWで置換されていてもよいアントラニル基、ジアルキルアミノ基、モルホリノ基、又はシアノ基を表す。R2AとR1Aとは互いに結合して5員環又は6員環を形成してもよく、該5員環又は6員環は1個又は2個の任意の置換基を有してもよいベンゼン環と結合していてもよい。R3Aは、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数1~5のハロゲン化アルキル基、炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基、Wで置換されていてもよいフェニル基、Wで置換されていてもよいナフチル基又はWで置換されていてもよいアントラニル基を表す。Wは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数1~5のハロゲン化アルキル基又は炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基を表す。R1Aで表される炭素数1~6のアルキル基は、直鎖又は分岐鎖アルキル基であってよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソアミル基、n-ヘキシル基、又は2-エチルブチル基が挙げられる。R1Aで表される炭素数1~4のハロゲン化アルキル基としては、例えば、クロロメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、又は2-ブロモプロピル基が挙げられる。R1Aで表される炭素数1~4のアルコキシ基としては、メトキシ基又はエトキシ基が挙げられる。R1Aが、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基又はアントラニル基を表す場合、これらの基は、ハロゲン原子例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、等、水酸基、炭素数1~4のアルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、炭素数1~4のアルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基及びニトロ基からなる群から選ばれた置換基によって置換されていてもよい。R2Aで表される炭素数1~10のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-アミル基、i-アミル基、s-アミル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられる。R2Aで表される炭素数1~10のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、n-アミルオキシ基、n-オクチルオキシ基、n-デシルオキシ基等が挙げられる。R2Aで表される炭素数1~5のハロゲン化アルキル基の具体例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ-n-プロピル基、パーフルオロ-n-ブチル基、パーフルオロ-n-アミル基等が挙げられる。R2Aで表される炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基の具体例としては、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロ-n-プロポキシ基、パーフルオロ-n-ブトキシ基、パーフルオロ-n-アミルオキシ基等が挙げられる。R2Aで表されるWで置換されていてもよいフェニル基の具体例としては、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、o-エチルフェニル基、m-エチルフェニル基、p-エチルフェニル基、p-n-プロピルフェニル基、p-i-プロピルフェニル基、p-n-ブチルフェニル基、p-i-ブチルフェニル基、p-s-ブチルフェニル基、p-t-ブチルフェニル基、p-n-アミルフェニル基、p-i-アミルフェニル基、p-t-アミルフェニル基、o-メトキシフェニル基、m-メトキシフェニル基、p-メトキシフェニル基、o-エトキシフェニル基、m-エトキシフェニル基、p-エトキシフェニル基、p-n-プロポキシフェニル基、p-i-プロポキシフェニル基、p-n-ブトキシフェニル基、p-i-ブトキシフェニル基、p-s-ブトキシフェニル基、p-t-ブトキシフェニル基、p-n-アミルオキシフェニル基、p-i-アミルオキシフェニル基、p-t-アミルオキシフェニル基、p-クロロフェニル基、p-ブロモフェニル基、p-フルオロフェニル基、2,4-ジクロロフェニル基、2,4-ジブロモフェニル基、2,4-ジフルオロフェニル基、2,4,6-ジクロロフェニル基、2,4,6-トリブロモフェニル基、2,4,6-トリフルオロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、p-ビフェニリル基等が挙げられる。R2Aで表されるWで置換されていてもよいナフチル基の具体例としては、2-メチル-1-ナフチル基、3-メチル-1-ナフチル基、4-メチル-1-ナフチル基、5-メチル-1-ナフチル基、6-メチル-1-ナフチル基、7-メチル-1-ナフチル基、8-メチル-1-ナフチル基、1-メチル-2-ナフチル基、3-メチル-2-ナフチル基、4-メチル-2-ナフチル基、5-メチル-2-ナフチル基、6-メチル-2-ナフチル基、7-メチル-2-ナフチル基、8-メチル-2-ナフチル基等が挙げられる。R2Aで表されるWで置換されていてもよいアントラニル基の具体例としては、2-メチル-1-アントラニル基、3-メチル-1-アントラニル基、4-メチル-1-アントラニル基、5-メチル-1-アントラニル基、6-メチル-1-アントラニル基、7-メチル-1-アントラニル基、8-メチル-1-アントラニル基、9-メチル-1-アントラニル基、10-メチル-1-アントラニル基、1-メチル-2-アントラニル基、3-メチル-2-アントラニル基、4-メチル-2-アントラニル基、5-メチル-2-アントラニル基、6-メチル-2-アントラニル基、7-メチル-2-アントラニル基、8-メチル-2-アントラニル基、9-メチル-2-アントラニル基、10-メチル-2-アントラニル基等が挙げられる。R2Aで表されるジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。R3Aで表される炭素数1~10のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-アミル基、i-アミル基、s-アミル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられる。R3Aで表される炭素数1~10のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、n-アミルオキシ基、n-オクチルオキシ基、n-デシルオキシ基等が挙げられる。R3Aで表される炭素数1~5のハロゲン化アルキル基の具体例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ-n-プロピル基、パーフルオロ-n-ブチル基、パーフルオロ-n-アミル基等が挙げられる。R3Aで表される炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基の具体例としては、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロ-n-プロポキシ基、パーフルオロ-n-ブトキシ基、パーフルオロ-n-アミルオキシ基等が挙げられる。R3Aで表されるWで置換されていてもよいフェニル基の具体例としては、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、o-エチルフェニル基、m-エチルフェニル基、p-エチルフェニル基、p-n-プロピルフェニル基、p-i-プロピルフェニル基、p-n-ブチルフェニル基、p-i-ブチルフェニル基、p-s-ブチルフェニル基、p-t-ブチルフェニル基、p-n-アミルフェニル基、p-i-アミルフェニル基、p-t-アミルフェニル基、o-メトキシフェニル基、m-メトキシフェニル基、p-メトキシフェニル基、o-エトキシフェニル基、m-エトキシフェニル基、p-エトキシフェニル基、p-n-プロポキシフェニル基、p-i-プロポキシフェニル基、p-n-ブトキシフェニル基、p-i-ブトキシフェニル基、p-s-ブトキシフェニル基、p-t-ブトキシフェニル基、p-n-アミルオキシフェニル基、p-i-アミルオキシフェニル基、p-t-アミルオキシフェニル基、p-クロロフェニル基、p-ブロモフェニル基、p-フルオロフェニル基、2,4-ジクロロフェニル基、2,4-ジブロモフェニル基、2,4-ジフルオロフェニル基、2,4,6-ジクロロフェニル基、2,4,6-トリブロモフェニル基、2,4,6-トリフルオロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、p-ビフェニリル基等が挙げられる。R3Aで表されるWで置換されていてもよいナフチル基の具体例としては、2-メチル-1-ナフチル基、3-メチル-1-ナフチル基、4-メチル-1-ナフチル基、5-メチル-1-ナフチル基、6-メチル-1-ナフチル基、7-メチル-1-ナフチル基、8-メチル-1-ナフチル基、1-メチル-2-ナフチル基、3-メチル-2-ナフチル基、4-メチル-2-ナフチル基、5-メチル-2-ナフチル基、6-メチル-2-ナフチル基、7-メチル-2-ナフチル基、8-メチル-2-ナフチル基等が挙げられる。R3Aで表されるWで置換されていてもよいアントラニル基の具体例としては、2-メチル-1-アントラニル基、3-メチル-1-アントラニル基、4-メチル-1-アントラニル基、5-メチル-1-アントラニル基、6-メチル-1-アントラニル基、7-メチル-1-アントラニル基、8-メチル-1-アントラニル基、9-メチル-1-アントラニル基、10-メチル-1-アントラニル基、1-メチル-2-アントラニル基、3-メチル-2-アントラニル基、4-メチル-2-アントラニル基、5-メチル-2-アントラニル基、6-メチル-2-アントラニル基、7-メチル-2-アントラニル基、8-メチル-2-アントラニル基、9-メチル-2-アントラニル基、10-メチル-2-アントラニル基等が挙げられる。Wで表される炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数1~5のハロゲン化アルキル基、及び炭素数1~5のハロゲン化アルコキシの具体例としては、R2A又はR3Aで表される炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数1~5のハロゲン化アルキル基、及び炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基の具体例として挙げたものと同様のものが挙げられる。R2AとR1Aとは互いに結合して5員環又は6員環を形成してもよい。R2AとR1Aとが互いに結合して5員環又は6員環を形成する場合、該5員環又は6員環としては、炭素環式基及び複素環式環基が挙げられ、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、ピロール、フラン、チオフェン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピラン、ピリジン、ピラジン、モルホリン、ピペリジン又はピペラジン環であってよい。該5員環又は6員環は、任意の置換基を有してもよいベンゼン環と結合していてもよく、その例としては、テトラヒドロナフタレン、ジヒドロアントラセン、インデン、クロマン、フルオレン、キサンテン又はチオキサンテン環系が挙げられる。該5員環又は6員環は、カルボニル基を含んでもよく、その例としては、シクロヘキサジエノン、ナフタレノン及びアントロン環系が挙げられる。式2で表される化合物の好適な態様の一つは、前記式B2で表される化合物である。式2で表される光酸発止剤の好ましい態様の一つとしては、R1Aが、炭素数1~4のアルキル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、4-ビフェニル基、ナフチル基又はアントラニル基を表し;R2Aが、シアノ基を表し;R3Aが、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数1~5のハロゲン化アルキル基、炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基、Wで置換されていてもよいフェニル基、Wで置換されていてもよいナフチル基又はWで置換されていてもよいアントラニル基を表し、Wは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基基、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数1~5のハロゲン化アルキル基又は炭素数1~5のハロゲン化アルコキシ基を表すものである。式2で表される化合物としては、前記式B3で表される化合物であることが好ましい。式2で表される光酸発生剤のうち、前記式B3で表される光酸発生剤に包含される化合物の好ましい態様としては、式2中、R1Aが、フェニル基又は4-メトキシフェニル基を表し、R2Aがシアノ基を表し、R3Aが、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基又は4-トリル基を表す態様である。以下、式2で表される光酸発生剤のうち、前記式B3で表される光酸発生剤に包含される化合物の特に好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。α-メチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR1A=フェニル基、R2A=-CN基、R3A=メチル基α-エチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR1A=フェニル基、R2A=-CN基、R3A=エチル基α-n-プロピルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR1A=フェニル基、R2A=-CN基、R3A=n-プロピル基α-n-ブチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR1A=フェニル基、R2A=-CN基、R3A=n-ブチル基α-4-トルエンスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR1A=フェニル基、R2A=-CN基、R3A=4-トリル基α-メチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR1A=4-メトキシフェニル基、R2A=-CN基、R3A=メチル基α-エチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR1A=4-メトキシフェニル基、R2A=-CN基、R3A=エチル基α-n-プロピルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR1A=4-メトキシフェニル基、R2A=-CN基、R3A=n-プロピル基α-n-ブチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR1A=4-メトキシフェニル基、R2A=-CN基、R3A=n-ブチル基α-4-トルエンスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR1A=4-メトキシフェニル基、R2A=-CN基、R3A=4-トリル基本発明の感光性樹脂組成物は、活性光線に感応する成分C光酸発生剤として1,2-キノンジアジド化合物を含まないことが好ましい。その理由は、1,2-キノンジアジド化合物は、逐次型光化学反応によりカルボキシル基を生成するが、その量子収率は1以下であり、オキシムスルホネート化合物に比べて感度が低いためである。これに対してオキシムスルホネート化合物は、活性光線に感応して生成する酸が保護された酸性基の脱保護に対して触媒として作用するので、1個の光量子の作用で生成した酸が、多数の脱保護反応に寄与し、量子収率は1を超え、例えば、10の数乗のような大きい値となり、いわゆる化学増幅の結果として、高感度が得られるものと推測される。本発明の感光性樹脂組成物において、成分Cは、感度と透明性の観点から、成分B100重量部に対して、0.1~10重量部使用することが好ましく、0.5~10重量部使用することがより好ましい。成分D溶剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分D溶剤を含有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分である成分A~成分C、並びに、更に後述の任意成分を、成分D溶剤に溶解した溶液として調製されることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に使用される成分D溶剤としては、例えば、1エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;2エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類;3エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;4プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;5プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類;6プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;7ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類;8ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;9ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;10ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルメチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類;11ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;12乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n-プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸n-ブチル、乳酸イソブチル、乳酸n-アミル、乳酸イソアミル等の乳酸エステル類;13酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、酢酸n-アミル、酢酸イソアミル、酢酸n-ヘキシル、酢酸2-エチルヘキシル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n-プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸n-ブチル、プロピオン酸イソブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸エチル、酪酸n-プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n-ブチル、酪酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類;14ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチル酪酸エチル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3-メトキシプロピオンメチル、3-メトキシプロピオンエチル、3-エトキシプロピオンメチル、3-エトキシプロピオンエチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、3-メチル-3-メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類;15メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル-n-ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、4-ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;16N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;17γ-ブチロラクトン等のラクトン類等を挙げることができる。また、これらの溶剤に更に必要に応じて、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オクタノール、1-ノナール、ベンジルアルコール、アニソール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の溶剤を添加することもできる。本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ブチレングリコールモノアルキルエーテル類、ブチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ブチレングリコールジアルキルエーテル類、ブチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、例えば、特開2009-258722号公報の段落0074に記載の溶剤が挙げられる。これら溶剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明に用いることができる溶剤は、1種単独又は2種を併用することが好ましく、2種を併用することがより好ましく、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジアルキルエーテル類又はジアセテート類とジエチレングリコールジアルキルエーテル類又はエステル類又はブチレングリコールアルキルエーテルアセテート類とを併用することが更に好ましい。また、成分Dとしては、沸点130°C以上160°C未満の溶剤、沸点160°C以上の溶剤、又は、これらの混合物であることが好ましく、沸点130°C以上160°C未満の溶剤、沸点160°C以上200°C以下の溶剤、又は、これらの混合物であることがより好ましく、沸点130°C以上160°C未満の溶剤と沸点160°C以上200°C以下の溶剤との混合物であることが更に好ましい。沸点130°C以上160°C未満の溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート沸点146°C、プロピレングリコールモノプロピルエーテル沸点150°C、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチル-n-ブチルエーテル沸点155°C、プロピレングリコールメチル-n-プロピルエーテル沸点131°Cが例示できる。沸点160°C以上の溶剤としては、3-エトキシプロピオン酸エチル沸点170°C、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル沸点176°C、1,3―ブチレングリコールジアセテート沸点232°C、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート沸点160°C、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート沸点213°C、3-メトキシブチルエーテルアセテート沸点171°C、ジエチレングリコールジエチルエーテル沸点189°C、ジエチレングリコールジメチルエーテル沸点162°C、プロピレングリコールジアセテート沸点190°C、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート沸点220°C、ジプロピレングリコールジメチルエーテル沸点175°Cが例示できる。本発明の感光性樹脂組成物における成分Dの含有量は、成分B100重量部に対し、50~3,000重量部であることが好ましく、100~2,000重量部であることがより好ましく、150~1,500重量部であることが更に好ましい。<その他の成分>本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、任意成分として、以下に述べる成分E増感剤、成分F酸化防止剤、成分G架橋剤、成分H密着改良剤、成分I塩基性化合物、成分J可塑剤、及び、成分K熱ラジカル発生剤、並びに、熱酸発生剤、紫外線吸収剤、増粘剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤などの公知の添加剤を加えることができる。成分E増感剤本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、成分E増感剤を含有することができる。増感剤を含有することにより、露光感度向上に有効であり、露光光源がg,h線混合線の場合に特に有効である。増感剤としては、アントラセン誘導体、アクリドン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ベーススチリル誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体が好ましい。アントラセン誘導体としては、アントラセン、9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ジクロロアントラセン、2-エチル-9,10-ジメトキシアントラセン、9-ヒドロキシメチルアントラセン、9-ブロモアントラセン、9-クロロアントラセン、9,10-ジブロモアントラセン、2-エチルアントラセン、9,10-ジメトキシアントラセンが好ましい。アクリドン誘導体としては、アクリドン、N-ブチル-2-クロロアクリドン、N-メチルアクリドン、2-メトキシアクリドン、N-エチル-2-メトキシアクリドンが好ましい。チオキサントン誘導体としては、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-クロロチオキサントンが好ましい。クマリン誘導体としては、クマリン-1、クマリン-6H、クマリン-110、クマリン-102が好ましい。ベーススチリル誘導体としては、2-4-ジメチルアミノスチリルベンゾオキサゾール、2-4-ジメチルアミノスチリルベンゾチアゾール、2-4-ジメチルアミノスチリルナフトチアゾールが挙げられる。ジスチリルベンゼン誘導体としては、ジスチリルベンゼン、ジ4-メトキシスチリルベンゼン、ジ3,4,5-トリメトキシスチリルベンゼンが挙げられる。これらの中でも、アントラセン誘導体が好ましく、9,10-ジアルコキシアントラセンアルコキシ基の炭素数1~6がより好ましい。増感剤の具体例としては、下記が挙げられる。なお、下記において、Meはメチル基、Etはエチル基、Buはブチル基を表す。本発明のポジ型感光性樹脂組成物における成分Eの含有量は、成分B100重量部に対して、0.1~10重量部であることが好ましく、0.5~10重量部であることがより好ましい。成分Eの含有量が0.1重量部以上であると、所望の感度が得やすく、また、10重量部以下であると、塗膜の透明性を確保しやすい。成分F酸化防止剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分F酸化防止剤を含有することが好ましい。成分Fとしては、公知の酸化防止剤を含有することができる。成分Fを添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤が好ましい。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブAO-60株ADEKA製、アデカスタブAO-80株ADEKA製、イルガノックス1098チバジャパン株製が挙げられる。成分Fの含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~6重量であることが好ましく、0.2~5重量であることがより好ましく、0.5~4重量であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時の感度も良好となる。また、酸化防止剤以外の添加剤として、高分子添加剤の新展開株日刊工業新聞社に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。成分G架橋剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分G架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤としては、例えば、以下に述べる分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、アルコキシメチル基含有架橋剤、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を添加することができる。架橋剤を添加することにより、硬化膜をより強固な膜とすることができる。<分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物>分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。これらは市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010以上、ジャパンエポキシレジン株製等が挙げられる。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中で好ましいものとしては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。特にビスフェノールA型エポキシ樹脂が好ましい。分子内に2個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンOXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX以上、東亞合成株製を用いることができる。また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することができる。分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物の感光性樹脂組成物への添加量は、成分Bの総量を100重量部としたとき、1~50重量部が好ましく、3~30重量部がより好ましい。<アルコキシメチル基含有架橋剤>アルコキシメチル基含有架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル及びアルコキシメチル化尿素等が好ましい。これらは、それぞれメチロール化メラミン、メチロール化ベンゾグアナミン、メチロール化グリコールウリル、又は、メチロール化尿素のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等を挙げることができるが、アウトガスの発生量の観点から、特にメトキシメチル基が好ましい。これらの中でも、アルコキシメチル基含有架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリルが好ましく、透明性の観点から、アルコキシメチル化グリコールウリルが特に好ましい。これらアルコキシメチル基含有架橋剤は、市販品として入手可能であり、例えば、サイメル300、301、303、370、325、327、701、266、267、238、1141、272、202、1156、1158、1123、1170、1174、UFR65、300以上、三井サイアナミッド株製、ニカラックMX-750、-032、-706、-708、-40、-31、-270、-280、-290、ニカラックMS-11、ニカラックMW-30HM、-100LM、-390、以上、株三和ケミカル製などを好ましく使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物にアルコキシメチル基含有架橋剤を用いる場合のアルコキシメチル基含有架橋剤の添加量は、成分B100重量部に対して、0.05~50重量部であることが好ましく、0.5~10重量部であることがより好ましい。この範囲で添加することにより、現像時の好ましいアルカリ溶解性と、硬化後の膜の優れた耐溶剤性が得られる。<少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物>少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、単官能メタアクリレート、2官能メタアクリレート、3官能以上のメタアクリレートなどのメタアクリレート化合物を好適に用いることができる。単官能メタアクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、カルビトールメタアクリレート、イソボロニルメタアクリレート、3-メトキシブチルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。2官能メタアクリレートとしては、例えば、エチレングリコールメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。3官能以上のメタアクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメタアクリロイロキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどが挙げられる。これらの少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。本発明の感光性樹脂組成物における少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用割合は、成分B100重量部に対して、50重量部以下であることが好ましく、30重量部以下であることがより好ましい。このような割合で少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有させることにより、本発明の感光性樹脂組成物から得られる絶縁膜の耐熱性及び表面硬度等を向上させることができる。少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を加える場合には、成分K熱ラジカル発生剤を添加することが好ましい。成分H密着改良剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分H密着改良剤を含有してもよい。本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる密着改良剤は、基材となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物である。具体的には、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。本発明で使用される密着改良剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリアコキシシラン、γ-グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。これらのうち、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシランやγ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが更に好ましい。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらは基板との密着性の向上に有効であるとともに、基板とのテーパー角の調整にも有効である。本発明の感光性樹脂組成物における成分Hの含有量は、成分B100重量部に対して、0.1~20重量部が好ましく、0.5~10重量部がより好ましい。成分I塩基性化合物本発明の感光性樹脂組成物は、成分I塩基性化合物を含有してもよい。塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。塩基性化合物の具体例としては、特開2009-98616号公報の段落0052~0056に記載の化合物が例示できる。本発明に用いることができる塩基性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよいが、2種以上を併用することが好ましく、2種を併用することがより好ましく、複素環式アミンを2種併用することが更に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物における成分Iの含有量は、成分B100重量部に対して、0.001~1重量部であることが好ましく、0.005~0.2重量部であることがより好ましい。成分J可塑剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分J可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリン、ジメチルグリセリンフタレート、酒石酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリアセチルグリセリンなどが挙げられる。本発明の感光性樹脂組成物における成分Jの添加量は、成分B100重量部に対して、0.1~30重量部であることが好ましく、1~10重量部であることがより好ましい。成分K熱ラジカル発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分K熱ラジカル発生剤を含んでいてもよく、前述の少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物のようなエチレン性不飽和化合物を含有する場合、成分K熱ラジカル発生剤を含有することが好ましい。本発明における熱ラジカル発生剤としては、公知の熱ラジカル発生剤を用いることができる。熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、重合性化合物の重合反応を開始又は促進させる化合物である。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する場合がある。好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物等が挙げられる。熱ラジカル発生剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における成分Kの添加量は、膜物性向上の観点から、成分Bを100重量部としたとき、0.01~50重量部が好ましく、0.1~20重量部がより好ましく、0.5~10重量部であることが最も好ましい。硬化膜の形成方法次に、本発明の硬化膜の形成方法を説明する。本発明の硬化膜の形成方法は、以下の1~5の工程を含むことを特徴とする。1本発明のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程2塗布されたポジ型感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程3活性光線により露光する露光工程4水性現像液により現像する現像工程5熱硬化するポストベーク工程以下に各工程を順に説明する。1の塗布工程では、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とすることが好ましい。2の溶剤除去工程では、塗布された上記の膜から、減圧バキューム及び/又は加熱により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させることが好ましい。3の露光工程では、得られた塗膜に波長300nm以上450nm以下の活性光線を照射することが好ましい。この工程では、成分Cが分解し酸が発生する。発生した酸の触媒作用により、成分B中に含まれる酸分解性基が加水分解されて、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基が生成する。酸触媒の生成した領域において、上記の加水分解反応を加速させるために、必要に応じて、露光後加熱処理:PostExposureBake以下、PEBともいう。を行うことができる。PEBにより、酸分解性基からのカルボキシ基生成を促進させることができる。本発明における成分B中の酸分解性基は、酸による分解の活性化エネルギーが低く、露光による酸発生剤由来の酸により容易に分解し、カルボキシ基を生じるため、必ずしもPEBを行うことなく、現像によりポジ画像を形成することもできる。なお、比較的低温でPEBを行うことにより、架橋反応を起こすことなく、酸分解性基の加水分解を促進することもできる。PEBを行う場合の温度は、30°C以上130°C以下であることが好ましく、40°C以上110°C以下がより好ましく、50°C以上80°C以下が特に好ましい。4の現像工程では、遊離したカルボキシ基を有する重合体を、アルカリ性現像液を用いて現像することが好ましい。露光部領域を除去することにより、ポジ画像を形成することができる。5のポストベーク工程において、得られたポジ画像を加熱することにより、成分B中の酸分解性基を熱分解しカルボキシ基を生成させ、エポキシ基及び/又はオキセタニル基と架橋させ、硬化膜を形成することができる。この加熱は、150°C以上の高温に加熱することが好ましく、180~250°Cに加熱することがより好ましく、200~250°Cに加熱することが特に好ましい。加熱時間は、加熱温度などにより適宜設定できるが、10~90分の範囲内とすることが好ましい。ポストベーク工程の前に活性光線、好ましくは紫外線を、現像パターンに全面照射する工程を加えると、活性光線照射により発生する酸により架橋反応を促進することができるため、好ましい。次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法を具体的に説明する。<感光性樹脂組成物の調製方法>成分A~成分Dの必須成分を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解して感光性樹脂組成物を調製する。例えば、成分A~成分Cを、それぞれ予め成分D溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して樹脂組成物を調製することもできる。以上のように調製した組成物溶液は、孔径0.2μmのフィルター等を用いてろ過した後に、使用に供することもできる。<塗布工程及び溶剤除去工程>樹脂組成物を、所定の基板に塗布し、減圧及び/又は加熱プリベークにより溶剤を除去することにより、所望の乾燥塗膜を形成することができる。前記の基板としては、例えば液晶表示素子の製造においては、偏光板、さらに必要に応じてブラックマトリックス層、カラーフィルター層を設け、さらに透明導電回路層を設けたガラス板などが例示できる。基板への塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法等の方法を用いることができる。中でもスリットコート法が大型基板に適するという観点で好ましい。ここで大型基板とは、各辺が1m以上の大きさの基板をいう。また、2溶剤除去工程の加熱条件は、未露光部における成分B中の酸分解性基が分解して、成分Bをアルカリ現像液に可溶性としない範囲であり、各成分の種類や配合比によっても異なるが、好ましくは80~130°Cで30~120秒間程度である。<露光工程>露光工程では、塗膜を設けた基板に所定のパターンを有するマスクを介して、活性光線を照射する。活性光線としては、露光可能であれば特に制限はないが、波長300nm以上450nm以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。露光工程の後、必要に応じて加熱処理PEBを行う。活性光線による露光には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、レーザ発生装置、LED光源などを用いることができる。水銀灯を用いる場合にはg線436nm、i線365nm、h線405nmなどの波長を有する活性光線が好ましく使用できる。水銀灯はレーザに比べると、大面積の露光に適するという点で好ましい。レーザを用いる場合には固体YAGレーザでは343nm、355nmが用いられ、エキシマレーザでは351nmXeFが用いられ、さらに半導体レーザでは375nm、405nmが用いられる。この中でも安定性、コスト等の点から355nm、405nmがより好ましい。レーザは1回あるいは複数回に分けて、塗膜に照射することができる。レーザの1パルス当たりのエネルギー密度は0.1mJ/cm2以上10,000mJ/cm2以下であることが好ましい。塗膜を十分に硬化させるには、0.3mJ/cm2以上がより好ましく、0.5mJ/cm2以上が最も好ましく、アブレーション現象により塗膜を分解させないようにするには、1,000mJ/cm2以下がより好ましく、100mJ/cm2以下が最も好ましい。また、パルス幅は0.1nsec以上30,000nsec以下であることが好ましい。アブレーション現象により色塗膜を分解させないようにするには、0.5nsec以上がより好ましく、1nsec以上が最も好ましく、スキャン露光の際に合わせ精度を向上させるには、1,000nsec以下がより好ましく、50nsec以下が最も好ましい。さらに、レーザの周波数は1~50,000Hzが好ましく、10~1,000Hzがより好ましい。レーザの周波数が1Hz未満では、露光処理時間が多くなり、50,000Hzを超えると、スキャン露光の際に合わせ精度が低下する。露光処理時間を短くするには、10Hz以上がより好ましく、100Hz以上が最も好ましく、スキャン露光の際に合わせ精度を向上させるには、10,000Hz以下がより好ましく、1,000Hz以下が最も好ましい。レーザは水銀灯と比べると、焦点を絞ることが容易であり、露光工程でのパターン形成のマスクが不要でコストダウンできるという点で好ましい。本発明に使用可能な露光装置としては、特に制限はないが市販されているものとしては、Callisto株ブイテクノロジー製やAEGIS株ブイテクノロジー製やDF2200G大日本スクリーン製造株製などが使用可能である。また上記以外の装置も好適に用いられるまた、必要に応じて長波長カットフィルター、短波長カットフィルター、バンドパスフィルターのような分光フィルターを通して照射光を調整することもできる。<現像工程>現像工程では、塩基性現像液アルカリ性現像液を用いて露光部領域を除去して画像パターンを形成することが好ましい。塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類;ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。現像液のpHは、10.0~14.0であることが好ましい。現像時間は、30~180秒間であることが好ましく、また、現像の手法は液盛り法、ディップ法等のいずれでもよい。現像後は、流水洗浄を30~90秒間行い、所望のパターンを形成させることができる。<ポストベーク工程架橋工程>現像により得られた未露光領域に対応するパターンについて、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温度、例えば180~250°Cで所定の時間、例えばホットプレート上なら5~60分間、オーブンならば30~90分間、加熱処理をすることにより、成分Aにおける酸分解性基を分解して、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を発生させ、成分A中の前記官能基と反応して、架橋させることにより、耐熱性、硬度等に優れた保護膜や層間絶縁膜を形成することができる。また、加熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより透明性を向上させることもできる。なお、加熱処理に先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により再露光した後、ポストベークすること再露光/ポストベークにより未露光部分に存在する成分Cから酸を発生させ、架橋工程を促進する触媒として機能させることが好ましい。すなわち、本発明の硬化膜の形成方法は、現像工程とポストベーク工程の間に、活性光線により再露光する再露光工程を含むことが好ましい。再露光工程における露光は、前記露光工程と同様の手段により行えばよいが、前記再露光工程では、基板の本発明の感光性樹脂組成物により膜が形成された側に対し、全面露光を行うことが好ましい。再露光工程の好ましい露光量としては、100~1,000mJ/cm2である。本発明の硬化膜は、本発明の感光性樹脂組成物を硬化して得られた硬化膜であり、層間絶縁膜として好適に用いることができる。また、本発明の硬化膜は、本発明の硬化膜の形成方法により得られた硬化膜であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物により、絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜が得られる。本発明の感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜は、高い透明性を有し、硬化膜物性に優れるため、有機EL表示装置や液晶表示装置の用途に有用である。本発明の有機EL表示装置や液晶表示装置としては、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される保護膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機EL表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。また、本発明の感光性樹脂組成物及び本発明の硬化膜は、前記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、保護膜や層間絶縁膜以外にも、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルタ上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。図1は、有機EL表示装置の一例の構成概念図を示す。ボトムエミッション型の有機EL表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜4を有している。ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3が形成されている。絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmが絶縁膜3上に形成されている。配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。さらに、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上に平坦化層4が形成されている。平坦化膜4上には、ボトムエミッション型の有機EL素子が形成されている。すなわち、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5が、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成されている。また、第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8が形成されており、この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。さらに、図1には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られる。図2は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置10の一例を示す概念的断面図である。このカラー液晶表示装置10は、背面にバックライトユニット12を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた2枚のガラス基板14,15の間に配置されたすべての画素に対応するTFT16の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜17中に形成されたコンタクトホール18を通して、画素電極を形成するITO透明電極19が配線されている。ITO透明電極19の上には、液晶20の層とブラックマトリックスを配置したRGBカラーフィルター22が設けられている。以下、本実施形態の実施例について詳細に説明するが、これらの実施例に本実施形態が限定されるものではない。<重合体B-1の合成>エチルビニルエーテル144.2重量部2モル当量にフェノチアジン0.5重量部を添加し、反応系中を10°C以下に冷却しながらメタクリル酸86.1重量部1モル当量を滴下後、室温25°Cで4時間撹拌した。p-トルエンスルホン酸ピリジニウム5.0重量部を添加後、室温で2時間撹拌し、一夜室温放置した。反応液に炭酸水素ナトリウム5重量部及び硫酸ナトリウム5重量部を添加し、室温で1時間撹拌し、不溶物をろ過後40°C以下で減圧濃縮し、残渣の黄色油状物を減圧蒸留して沸点bp.43~45°C/7mmHg留分のメタクリル酸1-エトキシエチル134.0重量部を無色油状物として得た。得られたメタクリル酸1-エトキシエチル79.1重量部0.5モル当量、グリシジルメタクリレートGMA71.1重量部0.5モル当量及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA125重量部の混合溶液を窒素気流下、70°Cに加熱した。この混合溶液を撹拌しながら、ラジカル重合開始剤V-652,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、和光純薬工業株製及びPGMEAの混合溶液を目標分子量達成に必要な量、2.5時間かけて滴下した。滴下が終了してから、70°Cで4時間反応させることにより重合体B-1のPGMEA溶液固形分濃度:40重量を得た。得られた重合体B-1のゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにより測定した重量平均分子量は、12,000であった。<重合体B-2~B-21の合成>使用した各モノマー及びその使用量を表1に記載のものに変更した以外は、重合体B-1の合成と同様にして、重合体B-2~21をそれぞれ合成した。なお、表1に記載の各共重合比は、モル比で記載している。なお、表1に記載の共重合比はモル比であり、表1中の略号は以下の通りである。MAEVE:メタクリル酸-1-エトキシエチルMACHVE:メタクリル酸-1-シクロヘキシルオキシエチルMATHPE:メタクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イルMATHF:メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イルt-BMA:tert-ブチルメタクリレートGMA:グリシジルメタクリレートOXE-30:メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル大阪有機化学工業株製MAA:メタクリル酸HEMA:メタクリル酸-2-ヒドロキシエチルSt:スチレンPHSEVE:4-1-エトキシエチルオキシスチレンPHStBOC:4-t-ブトキシカルボニルオキシスチレンCHMI:N-シクロヘキシルマレイミドなお、MACHVE、及び、MATHPEは、MAEVE合成法のビニルエーテルをそれぞれ、シクロヘキシルビニルエーテル、ジヒドロピランに変更し合成した。PHSEVEは、MAEVE合成法のメタクリル酸を4-ヒドロキシスチレンに変更し合成した。PHStBOCは、4-ヒドロキシスチレンとt-ブトキシカルボン酸無水物を塩基性条件下で反応させ、抽出後、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製することにより得た。<MATHFメタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イルの合成>メタクリル酸86g、1molを15°Cに冷却しておき、カンファースルホン酸4.6g,0.02molを添加した。その溶液に、2,3-ジヒドロフラン71g、1mol、1.0当量を滴下した。1時間撹拌した後に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液500mLを加え、酢酸エチル500mLで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物をろ過後40°C以下で減圧濃縮し、残渣の黄色油状物を減圧蒸留して沸点bp.54~56°C/3.5mmHg留分のメタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イルMATHF125gを無色油状物として得た収率80。<比較例で使用した重合体B-Xの合成>メタクリル酸1-エトキシエチル79.1重量部0.5モル当量、メタクリル酸メチル30.0重量部0.3モル当量、HEMA26.0重量部0.2モル当量、及びPGMEA125重量部の混合溶液を窒素気流下、70°Cに加熱した。この混合溶液を撹拌しながら、ラジカル重合開始剤V-65和光純薬工業株製、10重量部及びPGMEA100.0重量部の混合溶液を2.5時間かけて滴下した。滴下が終了してから、70°Cで4時間反応させることにより重合体B-XのPGMEA溶液固形分濃度:40重量を得た。得られた重合体B-XのゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにより測定した重量平均分子量は、11,000であった。<比較例で使用した重合体B-Yの合成>使用した各モノマー及びその使用量を表1に記載のものに変更した以外は、重合体B-Xの合成と同様にして、重合体B-Yを合成した。なお、表1に記載の各共重合比は、モル比で記載している。<実施例及び比較例で使用した成分A>実施例及び比較例で使用した成分AK-1~12、及び、比較化合物K-a~hを以下に示す。なお、これらは、公知の合成方法及び重合方法により作製した。1感光性樹脂組成物溶液の調製下記表3~表6に示す各成分を混合して均一な溶液とした後、0.2μmのポアサイズを有するポリテトラフルオロエチレン製フィルターを用いてろ過して、実施例1~100及び比較例1~13の感光性樹脂組成物溶液組成物1~100及び比較組成物1~13をそれぞれ調製した。PAG-1:下記に示すオキシムスルホネート化合物、CGI1397チバスペシャルティケミカルズ社製PAG-2:PAI-1001みどり化学株製PAG-3:PAI-101みどり化学株製PAG-4:CGI1325チバスペシャルティケミカルズ社製PAG-5:下記の化合物PAG-6:下記の化合物PAG-7:下記の化合物PAG-8:下記の化合物S-1:9,10-ジブトキシアントラセン川崎化成工業株製D1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートD2:3-エトキシプロピオン酸エチルD3:プロピレングリコールメチル-n-ブチルエーテルD4:プロピレングリコールメチル-n-プロピルエーテルD5:ジエチレングリコールメチルエチルエーテルD6:プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートD7:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートD8:ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートD9:3-メトキシブチルエーテルアセテートD10:ジエチレングリコールジエチルエーテルD11:ジエチレングリコールジメチルエーテルD12:プロピレングリコールジアセテートD13:ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートD14:ジプロピレングリコールジメチルエーテルD15:1,3-ブチレングリコールジアセテートF1:アデカスタブAO-60株ADEKA製G1:JER-157S70多官能ノボラック型エポキシ樹脂エポキシ当量200~220g/eq、ジャパンエポキシレジン株製塩基性化合物1:4-ジメチルアミノピリジン塩基性化合物2:1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン密着改良剤1:KBM-4033-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株製<塗布性の評価>各実施例及び比較例で調製した感光性樹脂組成物溶液の各々を1,500mm×1,800mmのCr蒸着ガラス基板ガラスはEAGLE2000、コーニング社上にスリットダイにより塗布速度100mm/sec、塗布ギャップ100μm、塗布流速0.5ml/sの条件で乾燥膜厚4μmウェット厚み20μmとなるように塗布し、減圧乾燥チャンバーにて到達真空度0.4Torrとなるように真空乾燥した。この乾燥した基板をホットプレートにて90°C×120secで乾燥させた後、暗所にてNaランプ、白色灯及びグリーンランプを使用して観察し塗布スジ、乾燥ムラを以下の基準で評価した。塗布スジ○:塗布スジが無い△:周端部に僅かにスジ有り×:全面にスジ有り乾燥ムラ○:乾燥ムラ干渉縞が全く観察されない△:僅かに観察されるが許容範囲内×:許容範囲を超える乾燥ムラ干渉縞が観察される<現像ムラの評価>塗布性評価と同様に作製した基板を、株日立ハイテクノロジーズ製G6サイズ露光機LE-9300Sにより、30mJにてパターン露光した後、FHD-5富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株製の21水溶液にて覆い60sec静止した。静止後純水をシャワー状に散布して現像液を洗い流した後自然乾燥させた。乾燥後の基板にて現像ムラの評価を下記の基準で判定した。○:現像ムラ無し△:僅かに見えるが許容範囲である×:全面がムラに覆われる<塗布時に生じる画素欠陥評価>上記基板をAOIタカノ株製カラーフィルター欠陥検査装置にて基板上のハジキ起因の画素欠陥数を計数した。○:基板全面で10ヶ以下△:基板全面で11~25ヶ×:基板全面26ヶ以上<ポストベーク後の面状評価>上記現像済み基板を300mJ/cm2照度20mW/cm2にて全面露光した後コンベクションオーブンで230°C×1時間のポストベークを行った後、表面状態を光学顕微鏡にて観察した。○:表面平坦で凹凸無し△:若干の凹凸はあるが許容範囲内である×:成分の分離が見られ、全面激しい凹凸がある<液晶汚染度評価液晶比抵抗>各実施例及び比較例で調製した感光性樹脂組成物溶液の各々を、100mm×100mmのガラス基板EAGLE2000、コーニング社製に乾燥膜厚4μmウェット厚み20μmとなるようにスピン塗布し、減圧乾燥チャンバーにて到達真空度0.4Torrとなるように真空乾燥した。この乾燥した基板をホットプレートにて90°C×120secで乾燥させた後、300mJ/cm2にて全面露光した後コンベクションオーブンで230°C×1時間のポストベークを行った。完成した塗膜を基板より剥離した後、液晶メルク社製MLC-6608に混入、120°C×5時間加熱した後に超微小電流計株エーディーシー製デジタル超高抵抗/微小電流計8340Aを用いて液晶比抵抗を測定した。評価結果は以下の通りで判定した。○:比抵抗が、何も混入していない液晶と同等である△:比抵抗が、何も混入していない液晶と比較し若干低下するが許容範囲内である×:比抵抗が、何も混入していない液晶と比較し大幅に低下する一般的に、液晶比抵抗は高い数値を示した方が、液晶に対する汚染度が低く、パネルの信頼性という面で優れている。以上の評価を行った結果を以下の表7~表9に記す。実施例101<有機EL表示装置の作製>薄膜トランジスターTFTを用いた有機EL表示装置を以下の方法で作製した図1参照。ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3を形成した。次に、この絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmを絶縁膜3上に形成した。この配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。さらに、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上へ平坦化層4を形成した。絶縁膜3上への平坦化膜4の形成は、実施例13の感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク90°C×2分した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてi線365nmを30mJ/cm2照度20mW/cm2照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、230°Cで60分間の加熱処理を行った。該感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。更に、配線2の平均段差は500nm、作製した平坦化膜4の膜厚は2,000nmであった。次に、得られた平坦化膜4上に、ボトムエミッション型の有機EL素子を形成した。まず、平坦化膜4上にITOからなる第一電極5を、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ITOエッチャントを用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液モノエタノールアミンとジメチルスルホキシドDMSOとの混合液を用いて該レジストパターンを剥離した。こうして得られた第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。次に、第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8を形成した。絶縁膜8には、実施例7の感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で形成した。この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。さらに、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成した。得られた上記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。以上のようにして、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続してなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し信頼性の高い有機EL表示装置であることが分かった。"