"、プラスチック製の光学基材の表面にハ-ドコ-ト層を形成し、同ハ-ドコ-ト層に対して導電性金属酸化物微粒子とSnO2微粒子を揮発性溶媒に分散させた第1の塗布液を塗布し加熱処理をせずに前記揮発性溶媒を揮発して高屈折率層を形成させ、形成された前記高屈折率層上に前記導電性金属酸化物微粒子およびSnO2微粒子の平均粒径よりも小さくない平均粒径の中空シリカ微粒子を拡散させた有機ケイ素化合物を主成分とする第2の塗布液をスピンコ-ト法にて塗布し加熱処理をして前記高屈折率層の上層に低屈折率層を形成するようにしたことを特徴とする帯電防止性反射防止膜を有するプラスチックレンズの製造方法前記高屈折率層はスピンコ-ト法によって成膜させるようにしたことを特徴とする請求項1に記載の帯電防止性反射防止膜を有するプラスチックレンズの製造方法。前記導電性金属酸化物微粒子及びSnO2微粒子の平均粒径は5~15nmであり、前記中空シリカ微粒子の平均粒径は40~80nmであることを特徴とする請求項1又は2に記載の帯電防止性反射防止膜を有するプラスチックレンズの製造方法。前記導電性金属酸化物微粒子は酸化亜鉛と五酸化アンチモンの複合酸化物微粒子以下ZnOSb2O5微粒子と記すであることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の帯電防止性反射防止膜を有するプラスチックレンズの製造方法。前記ZnOSb2O5微粒子と前記SnO2微粒子を総量とする際に前記ZnOSb2O5微粒子の配合比率は重量比で含有割合は30~80重量であることを特徴とする請求項4に記載の帯電防止性反射防止膜を有するプラスチックレンズの製造方法。請求項1~5のいずれかの方法で製造され前記高屈折率層とその上層の前記低屈折率層が前記第2の塗布液が固化したバインダーによって一体的に硬化されていることを特徴とする帯電防止性反射防止膜を有するプラスチックレンズ。例えば、上記特許文献1では高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ別個に硬化させて帯電防止性反射防止膜を構成させているため、成膜に時間がかかり非効率的である。特許文献2では理論上は一液だけで2種類の屈折率層を形成することができることになっているが、微粒子の表面自由エネルギーの差や比重の差だけで2種類の屈折率層にきれいに分別させるためには時間がかかり、しかも必ずしも確実に分別させられるとは限らず、2層に分別したことの確認もできず実際には塗液の調整が非常に面倒である。そのため、より成膜工程が簡単でなおかつ時間がかからずに帯電防止性反射防止膜を基材上に成膜させることができる技術が求められていた。本発明は、上記課題を解消するためになされたものであり、その目的は、簡単に高屈折率層と低屈折率層の2層を同時に固定することができる高性能の帯電防止性反射防止膜を有するプラスチックレンズの製造方法及び同製造方法で製造したプラスチックレンズを提供することにある。上記目的を達成するために、請求項1に記載の発明では、プラスチック製の光学基材の表面にハ-ドコ-ト層を形成し、同ハ-ドコ-ト層に対して導電性金属酸化物微粒子とSnO2微粒子を揮発性溶媒に分散させた第1の塗布液を塗布し加熱処理をせずに前記揮発性溶媒を揮発して高屈折率層を形成させ、形成された前記高屈折率層上に前記導電性金属酸化物微粒子およびSnO2微粒子の平均粒径よりも小さくない平均粒径の中空シリカ微粒子を拡散させた有機ケイ素化合物を主成分とする第2の塗布液をスピンコ-ト法にて塗布し加熱処理をして前記高屈折率層の上層に低屈折率層を形成するようにしたことをその要旨とする。請求項2に記載の発明では請求項1に記載の発明において、前記高屈折率層はスピンコ-ト法によって成膜させるようにしたことをその要旨とする。請求項3に記載の発明では請求項1又は2に記載の発明において、前記導電性金属酸化物微粒子及びSnO2微粒子の平均粒径は5~15nmであり、前記中空シリカ微粒子の平均粒径は40~80nmであることをその要旨とする。請求項4に記載の発明では請求項1~3のいずれかに記載の発明において、前記導電性金属酸化物微粒子は酸化亜鉛と五酸化アンチモンの複合酸化物微粒子ZnOSb2O5微粒子であることをその要旨とする。請求項5に記載の発明では請求項4に記載の発明において、前記ZnOSb2O5微粒子と前記SnO2微粒子を総量とする際に前記ZnOSb2O5微粒子の配合比率は重量比で含有割合は30~80重量であることをその要旨とする。請求項6記載の発明では請求項1~5のいずれかの方法で製造され前記高屈折率層とその上層の前記低屈折率層が前記第2の塗布液が固化したバインダーによって一体的に硬化されていることをその要旨とする。上記のような構成では、まず図1に示すようにハ-ドコ-ト層の上に第1の塗布液を塗布し揮発性溶媒を揮発させることで導電性金属酸化物微粒子とSnO2微粒子とからなる高屈折率層が形成される。そしてその高屈折率層の上にスピンコ-ト法にて第2の塗布液を塗布すると、図2のように有機ケイ素化合物を主成分とするバインダ-成分が導電性高屈折微粒子とSnO2微粒子の隙間にも浸透することとなる。一方、中空シリカ微粒子は高屈折率層の上に堆積して低屈折率層を形成する。そして、加熱処理をすることで第2の塗布液の有機ケイ素化合物が熱硬化してバインダーとして機能し、ハ-ドコ-ト層の上に一体的な高屈折率層と低屈折率層からなる帯電防止性反射防止膜を形成させることができる。本発明の帯電防止性反射防止膜は2層の膜層構造を成している。上層が中空シリカ微粒子からなる低屈折率層であり、下層が導電性金属酸化物微粒子とSnO2微粒子からなる高屈折率層である。中空シリカ微粒子とは内部に中空状に密閉された空洞を有していたり、粒子全体が多孔質で構成されるシリカSiO2粒子の総称である。中空シリカは通常のシリカに比べて屈折率が低く、反射防止膜の素材として好適である。導電性金属酸化物微粒子及びSnO2微粒子は中空シリカ微粒子よりも屈折率が高いことが必要条件となる。更に本発明の目的から中空シリカ微粒子の平均粒径は導電性金属酸化物微粒子及びSnO2微粒子の平均粒径よりも小さくないことが必要である。中空シリカ微粒子が導電性金属酸化物微粒子及びSnO2微粒子よりも小さいとそれらの隙間から中空シリカ微粒子が下層に流下してしまったり、隙間に挟まったりし、界面が明確にできずに反射防止効果が十分得られなくなってしまう可能性があるからである。本発明ではSnO2微粒子は主として高屈折率の発現に寄与し、導電性金属酸化物微粒子が導電性に寄与する。但し、導電性金属酸化物微粒子は中空シリカ微粒子よりも高屈折なので導電性金属酸化物微粒子は導電性と同時に高屈折率の発現にも寄与することとなる。導電性金属酸化物微粒子としては半導体性金属の金属酸化物を使用する。より具体的には例えば、亜鉛アンチモン酸化物ZnOSb2O5、インジウム含有酸化スズITO、アンチモン含有酸化スズATO等が挙げられる。最も好ましいのは亜鉛アンチモン酸化物であり、十分な帯電防止性を発現するためにはSnO2微粒子に対して30重量以上の配合割合であることが好ましい。但し、多すぎれば第2の塗布液のバインダ-成分との相性が悪くなり白濁が生じるため、80重量を超えることは好ましくない。中空シリカ微粒子の平均粒径は一般に10~100nm程度であるが、本発明では40~80nmであることが好ましい。これよりも小径であると空隙率が低くなり、十分な低屈折率を得られないからである。また、これよりも大径であると乱反射による粒子の白化が生じ膜素材として好ましくなくなるからである。また、導電性金属酸化物微粒子の平均粒径は一般に1~100nm程度であるが、本発明では5~15nmであることが好ましい。基本的に中空シリカ微粒子の平均粒径以下である必要があり、これよりも大径であると光の散乱が生じて透過性能が劣化するためである。第1の塗布液の成分である揮発性溶媒としては揮発性溶媒を気化させて、導電性高屈折微粒子のみからなる高屈折率層を形成することを目的とするため、ここではできるだけ揮発性が高く導電性高屈折微粒子と反応しない溶媒が求められる。そのため、揮発性溶媒としては低級アルコールを主体とすることが好ましい。低級アルコールとしては、炭素数1~4程度のアルコールであって、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール等が挙げられる。尚、低級アルコールに一部水や高級アルコール、ヘキサン、アセトン等の揮発性溶媒が含まれることを排除するものではない。尚、第1の塗布液中の導電性金属酸化物微粒子及びSnO2微粒子は固形分として1.5~2.5程度が塗布しやすく好ましい。第2の塗布液の成分である中空シリカ微粒子を含有した有機ケイ素化合物、つまり硬化した際のバインダー主成分としての有機ケイ素化合物としては、次式で表される有機ケイ素化合物が用いられる。R1aR2bSiX4ここで、R1は、炭素数1~6のアルキル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリルオキシ基、メルカプト基、アミノ基からなる群から選ばれる有機基を有する炭素数1~6のアルキル基であり、R2は炭素数1~3のアルキル基、アルキレン基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基であり、Xはハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基である。また、a=0または1、b=01または2である。上記式で表される有機ケイ素化合物としては、具体的には、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメチルクロロシラン、αグリシドキシメチルトリメトキシシラン、αグリシドキシエチルトリメトキシシラン、βグリシドキシエチルトリメトキシシラン、γグリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γグリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γグリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γグリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β3,4エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、β3,4エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、γアミノプロピルトリメトキシシラン、γアミノプロピルトリエトキシシラン、Nβアミノエチルγアミノプロピルメチルジメトキキシラン、Nβアミノエチルγアミノプロピルメチルジエトキキシラン等を挙げることができる。これらは、単独で用いても、2種以上を併用することも可能である。また、次式で示される含フッ素有機ケイ素化合物を用いることもできる。含フッ素有機ケイ素化合物を使用することにより低屈折率で耐久性のよいバインダ-が得られる。FCF2nC2H4Si-R33-cXcXcR33-cSi-C2H4CF2mC2H4-SiR33-cXcここで、R3は炭素数1~6のアルキル基、Xはハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、nは4、6、8、10、12、mは4、6、cは2、3である。本発明においては、高屈折率層は湿式、無加熱で形成される。ここで湿式とはディップ法、スプレー法、ロールコート法、スピンコート法の公知の方法で各層用に調整された反射防止処理液を塗布し、乾燥させることで被膜層を形成する方式である。但し、この中では均一な膜厚が得られ乾燥の速いスピンコート法が最も好ましい。一方、低屈折率層はスピンコート法で形成される。高屈折率層がバインダーで固定されていないため、高屈折率層にダメージをなるべく与えずに、なおかつ均一な膜厚でかつ中空シリカ微粒子が均質に分散した膜を形成するためである。本発明の帯電防止性反射防止膜は低屈折率層が形成された段階で加熱される。加熱方法としては熱風、赤外線などで行うことが可能である。加熱温度は適用される光学基材及び使用されるコーティング組成物によって決定されるが、通常は室温から250°C、より好ましくは60°Cから150°Cが使用される。常温よりも低温では硬化又は乾燥が不十分であり、またこれより高温になると基材や膜の黄変などの問題点を生ずる。本発明の帯電防止性反射防止膜では低屈折率層の屈折率は、1.30~1.50が好ましく、1.35~1.45がさらに好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.63~1.75であると好ましく、1.68~1.75であるとさらに好ましい。高屈折率層の膜厚は5~130nmであり、低屈折率層の膜厚は50~200nmが好ましく、特に60~130nmの範囲が好ましい。また、反射防止膜の形成前にはその下層となるハードコート層の表面活性処理としてコロナ処理やプラズマ処理をすることが好ましい。また、本発明に使用されるプラスチック基材としては例えばポリメチルメタクリレート及びその共重合体、ポリカーボネート、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネートCR-39、セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン樹脂、ポリチオウレタン、その他硫黄含有樹脂等が一例として挙げられる。光学基材の用途例としては代表的には眼鏡用のプラスチックレンズが挙げられる。ハードコート層は公知のハードコート層であれば、特に限定されないが、特に耐候性が要求される場合、ハードコート層用の組成物としては下記A~E成分を含有することが好ましい。A.有機ケイ素化合物の加水分解物B.酸化チタンを主成分とする複合金属酸化物微粒子C.ジシアンジアミドD.有機多価カルボン酸E.CoII化合物ここに、A.の有機ケイ素化合物の加水分解物とは、一般式として、R4R5nSiX3nn=0or11で表される有機ケイ素化合物。式中、R4は重合可能な反応基を有する有機基、R5は炭素数1~6の炭化水素基、Xは加水分解基で表される物質である。ここに、R4の具体例として重合可能な反応基の具体例としては、例えばビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、アミノ基等が挙げられる。ここでR4としてはエポキシ基が最も好ましい。エポキシ基が存在することでシラン化合物の加水分解物は開環重合するため、耐擦傷性、耐候性、耐薬品性が向上するためである。また。R5の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等が挙げられる。また、Xは加水分解可能な官能基であり、その具体例として、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。Xとしてはアルコキシ基が最も好ましい。上記有機ケイ素化合物の具体例としては、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリβ-メトキシ-エトシキシラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、γ-グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシル-エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ-アミノプロピルトリアルコキシシラン、N-βアミノエチル-γ-アミノプロピルメチルジアルコキシシラン等が挙げられる。なお、一般式1の有機ケイ素化合物のほかにテトラアルコキシシランやメチルトリアルコキシシラン等を併用して硬度等の物性を調節することも可能である。B.の酸化チタンを主成分とする複合金属酸化物微粒子としては酸化チタン以外の微粒子はシリコン、アルミニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、アンチモン、ニオブ、タンタル、タングステン等から選ばれる1種以上の酸化物であればよい。更に、最表面がアンチモン酸化物で被覆されていることが好ましい。更に、特に酸化ジルコニウム、及び酸化シリコンが酸化チタンに対して一体的結合され、これらからなる複合金属酸化物微粒子の最表面がアンチモン酸化物で被覆されていることがより好ましい。複合金属酸化物微粒子は通常1~100nm程度の平均粒径とされ、好ましくは3~50nm程度、より好ましくは5~15nm程度の平均粒径とされる。複合金属酸化物による微粒子化は酸化チタン単独の場合による光触媒作用を緩和するために行われるものであり、あまり平均粒径が小さいと屈折率の向上が望めず耐擦傷性も悪くなる。一方、平均粒径があまり大きすぎると光の散乱が生じてしまうため上記粒径が望ましい。尚、酸化チタンは無定形であっても結晶型アナタース型、ルチル型、ブルッカイト型等であっても構わない。アンチモン酸化物の被覆層の厚さには特に制限はないが通常上記複合金属酸化物微粒子の径の1/200~1/5の範囲にあることが好ましい。C.のジシアンジアミドは単独で使用するのではなく、有機多価カルボン酸と同時に使用することが耐候性の点で特に好ましい。ジシアンジアミドは有機多価カルボン酸の存在下での耐候性の発現が顕著である。D.の有機多価カルボン酸としての具体例はマレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、無水フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。ジシアンジアミドと有機多価カルボン酸とを同時に使用する場合の相乗効果では特にイタコン酸を使用することが耐候性の点で最も好ましい。E.のCoII2価のコバルト化合物は酸化チタンと同時に存在することで光触媒反応の進行を遅延させその結果ハードコート層成分である高分子物質の分解が抑えられ、ハードコート層の劣化を防止することができる。CoII化合物としては、酸化チタンを含有するハードコート組成剤用の溶媒、例えば、アルコールやプロピレングリコールエーテルに溶解し、かつ上記A成分との相溶性がありその物性を阻害しないものが好ましい。より具体的には、CoIIイオンのキレート化合物が好ましい。CoIIのキレ-ト剤としては特に脂肪族の配位子を有するものが好ましい。脂肪族酸の配位子としては、例えばアセチルアセトン、ジ-n-ブトキシド-モノ-エチルアセテート、ジ-n-ブトキシド-モノ-メチルアセテート、メチルエチルケトオキシム、2,4-ヘキサンジオン、3,5-ヘプタンジオンおよびアセトオキシム等が好ましく用いられる。特に2価のコバルトアセチルアセトネ-トの金属錯体を構成するアセチルアセトンを使用することが耐候性の点で最も好ましく、更にCoII化合物とジシアンジアミド及び有機多価カルボン酸特にイタコン酸の三者が存在することによって耐候性が極めて顕著に向上する。上記ハードコート層を形成するA~Eの成分は次のような配合割合とすることが好ましい。1A及びB有機ケイ素化合物の加水分解物と酸化チタンを主成分とする複合金属酸化物微粒子については固形分比でA:B=8:2~3:72C.ジシアンジアミドについてはABの固形分に対し3~153D.有機多価カルボン酸についてはABの固形分に対し5~254E.CoII化合物についてはABCDの固形分に対し0.1~5.0A成分に比較してB成分が多いほど形成されるハードコート層の屈折率が向上するものの、膜層がもろくなってクラックが生じやすくなる。そのためB成分はA成分との関係から上記の割合が最も好ましい。C成分は少ないと耐候密着性が低下するものの多すぎるとAB成分とのバランスが悪くなり光学性能が低下してしまう。そのため、上記の割合が最も好ましい。また、D成分は少ないと耐候耐クラック性が低下し、多すぎると硬度が低下してしまう。そのため、上記の割合が最も好ましい。E成分は少ないと耐候密着及びクラック性の向上の効果がないため、C、D成分と同時に存在することが必要である。また、E成分が多すぎると着色してしまうため、結局上記の割合が最も好ましい。上記ハードコート組成物には、塗膜の各性能をより改善するために、種々の添加剤を配合することが望ましい。例えば、光学基材との密着性、染色性を向上させるための添加剤としては、硬化剤やエポキシ樹脂、被塗布物に紫外線が到達するのを阻止するための紫外線吸収剤を使用してもよい。また、硬化を促進するための硬化触媒を配合することも可能である。ハードコート組成物を溶媒に溶解又は分散させ、更に必要に応じて希釈溶剤によって希釈させることでハードコート液を作製することができる。希釈溶剤はアルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類等を挙げることができる。ディップ法、スプレー法、ロールコート法、スピンコート法の公知の方法でハードコート液を基材に塗布し、乾燥させ、必要に応じて加熱させることで被膜層を形成する。その膜厚は、通常、約0.5~10.0μmとすることが好ましい。膜厚が薄すぎると、実用的な耐擦傷性を得難く、また、厚すぎると面精度の低下やクラック等の外観的な問題が生じやすくなるためである。また、基材は通常塗布前に前処理を行う。前処理は基材表面の酸アルカリによる脱脂処理、プラズマ処理、超音波洗浄等が挙げられる。これら前処理によって基材表面の層の密着性に影響のある汚れが除去される。また、光学基材とハードコート層との間にはプライマー層を介在させる、つまりハードコート層をプライマー層の上に形成するようにしてもよい。つまり、光学基材の表面にプライマー層が形成されている場合にはプライマー層を光学基材の表面と解釈するものとする。ここにプライマー層はハードコート層とレンズ基材との密着性の向上のためこの位置に配置される連結層であって、例えばウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、有機ケイ素系樹脂等から構成される。プライマー液は水又はアルコール系の溶媒にこれらから選択された樹脂材料と必要に応じて無機酸化物微粒子ゾルを混合させた液である。プライマー層は一般にレンズ基材をプライマー液に浸漬させて成膜させる。ディップ法、スプレー法、ロールコート法、スピンコート法の湿式法を用いることも自由である。また、反射防止膜の上面に更に滑性処理を行うことは自由である。滑性処理とは例えば反応性シリコ-ン化合物や含フッ素有機シラン化合物などを塗布し極薄い10nm以下の厚みの滑性層を形成するものである。上記各請求項に記載の発明によれば、導電性の高屈折率層の上層に低屈折率層を形成させる際に2層を同時にバインダーで固定することとなるため、簡単かつ確実にプラスチックレンズ上に高屈折率層と低屈折率層に分別された帯電防止性反射防止膜を形成させることが可能となる。実施例1<使用レンズについて>ノルボルネンジイソシアネ-ト50重量部、ペンタエリスリト-ルテトラキス3-メルカプトプロピオネ-ト25重量部、ビスメルカプトメチル-369-トリチア-111-ウンデカンジオ-ル25重量部の合計100重量部に対して、触媒としてジブチルチンジクロライド0.03重量部を配合した均一溶液をレンズ用モ-ルドに注入し、20°C~130°Cまで20時間かけ昇温硬化させ、屈折率1.594、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを形成した。これを玉型加工したものを光学基材としてのプラスチックレンズとした。<酸化チタンゾルについて>本実施例において酸化チタン系複合微粒子いわゆる酸化チタンゾルは、商品名ハイネックスAB-20日揮触媒化成製を使用した。ハイネックスAB-20は主成分を酸化チタンとするとともに酸化ジルコニウム及び酸化ケイ素をその他の微粒子として複合微粒子を構成している。より具体的には酸化チタンと酸化ジルコニウムの結合体を酸化チタンと酸化ケイ素の結合体で包囲する構造とされ、更に外方からアンチモン酸化物で被覆されている。固形分濃度25で分散溶媒としてメタノ-ルを使用している。<ハードコート液の調整及びハードコート層の形成>テトラエトキシシランを11重量部、γグリシドキシプロピルトリメトキシシランを76重量部、γグリシドキシプロピルメチルジエトキシシランを22重量部に、メタノ-ル150部加え、氷冷下攪拌しながら0.01N塩酸24部を滴下して加水分解を行い、更に5°Cで1昼夜撹拌したこの溶液をベース溶液とする。このベース溶液の合計283重量部の混合物に対して上記ハイネックスAB-20を192重量部、レベリング剤としてのシリコーン系界面活性剤日本ユニカー製SILWETL-7001を0.60重量部、イタコン酸を20.02重量部、ジシアンジアミドを8.33重量部、CoIIのアセチルアセトネートを1.48重量部を加え5°Cで更に1昼夜撹拌して固形分約30のハードコート液を得た。前処理された基材にハードコート組成物をディッピング法引き上げ速度300mm/minにより塗布し、100°C×2時間の条件にて硬化させレンズ基材の両面に膜厚2.0μm、屈折率1.63のハ-ドコ-ト層を得た。<第1の塗布液の調整>SnO2微粒子としてメタノ-ル分散タイプの商品名HX-305-M5固形分30、日産化学工業製233重量部と、ZnOSb2O5微粒子としてイソプロピルアルコ-ル分散タイプの商品名セルナックスCX-Z210IP固形分20、日産化学工業製150重量部とを固形分濃度が2.5重量となるようにイソプロピルアルコ-ルに希釈したものを第1の塗布液とした。SnO2微粒子とZnOSb2O5微粒子は重量比で70:30としたZnOSb2O5微粒子が30。<第2の塗布液の調整>商品名X-12-2510A信越化学工業製をベース溶液とした。X-12-2510Aはいくつかの組成の含フッ素有機ケイ素化合物を主成分とする固形分濃度3の溶液である。このベース液に固形分と中空シリカ微粒子平均粒子径60nm、外殻厚み10nmの合計100重量に対し中空シリカ微粒子が20重量になるように中空シリカゾル20濃度、イソプロピルアルコール溶媒を添加し室温で3日間撹拌し固形分3に調整したものを第2の塗布液とした。<帯電防止性反射防止膜の形成>ハ-ドコ-ト層の上に第1の塗布液1mlを、スピンコート条件:回転数3000rpm回転時間30秒で処理してハ-ドコ-ト層表面に膜厚50nmの高屈折率層を得た。続いて高屈折率層の上に第2の塗布液1mlを、スピンコート条件:回転数1200rpm回転時間30秒で処理して高屈折率層表面に膜厚100nmの低屈折率層を得た。次いで、120°Cで1.5時間加熱硬化することで反射防止膜を形成させた。上記のようにして得られた反射防止膜が形成されたプラスチックレンズについて次のような試験を行った。1反射特性について反射防止膜の一般的な特性として反射特性曲線の600nm付近のボトム位置における反射率の大きさを評価した。2初期外観について初期外観試験として製造初期段階におけるレンズとして好ましくない白濁と、斑点の有無を評価した。外観の判定は目視で行い、○は白濁あるいは斑点が認められず良好な状態、△は白濁あるいは斑点が認められる状態、×は白濁あるいは斑点が多く不良な状態とした。3耐候性について耐候性試験はサンシャインウエザオメータースガ試験機株式会社製にて180時間の紫外線曝露試験を行い、曝露後のクラックの有無を評価した。外観の判定は目視で行い、○はクラックなし、×はクラックが発生、とした。強度については000のスチールウールで塗膜面を500g荷重をかけて10往復擦り、表面状態を確認し、次のように判定した。○反射防止膜が擦り取れない。△反射防止膜が一部擦り取れ、反射色が変色する。×反射防止膜が擦り取られ、白くなる。4帯電性について25°C、湿度30の環境で表面を紙ピュアリ-フで20回擦り、直後の帯電電位を静電気測定器FMX-003:SIMCO製にて測定し以下のように判定した。○絶対値が0.5kV以下△絶対値が0.5~20kV×絶対値が2.0以上これらの結果を表1に示す。実施例2実施例2は実施例1における第1の塗布液のSnO2微粒子とZnOSb2O5微粒子は重量比を50:50ZnOSb2O5微粒子が50としてその他は同じ条件でハードコート層及び反射防止膜を形成させたものである。試験については実施例1と同様に行った。それらの結果を表1に示す。実施例3実施例3は実施例1における第1の塗布液のSnO2微粒子とZnOSb2O5微粒子は重量比を25:75ZnOSb2O5微粒子が75としてその他は同じ条件でハードコート層及び反射防止膜を形成させたものである。試験については実施例1と同様に行った。それらの結果を表1に示す。比較例1比較例1では上記実施例1における第1の塗布液のSnO2微粒子とZnOSb2O5微粒子は重量比を100:0つまり、ZnOSb2O5微粒子を使用しなかったとしてその他は同じ条件でハードコート層及び反射防止膜を形成させたものである。試験については実施例1と同様に行った。それらの結果を表2に示す。比較例2比較例2では上記実施例1における第2の塗布液として中空シリカ微粒子を使用せず上記X-12-2510Aのみを使用して、高屈折率層表面に膜厚100nmの低屈折率層を形成させた。試験については実施例1と同様に行った。それらの結果を表2に示す。比較例3比較例3では第1の塗布液のSnO2微粒子の代わりにルチル型のTiO2微粒子を使用した。TiO2微粒子とZnOSb2O5微粒子は重量比で50:50とし、固形分濃度が2.5重量となるようにメチルアルコールに希釈したものを第1の塗布液とした。その他は同じ条件でハードコート層及び反射防止膜を形成させたものである。試験については実施例1と同様に行った。それらの結果を表2に示す。比較例4比較例4では比較例3と同じ第1の塗布液におけるTiO2微粒子とZnOSb2O5微粒子は重量比を25:75としてその他は同じ条件でハードコート層及び反射防止膜を形成させたものである。試験については実施例1と同様に行った。それらの結果を表2に示す。比較例5比較例5では第1の塗布液のSnO2微粒子の代わりにアナターゼ型のTiO2微粒子を使用した。TiO2微粒子とZnOSb2O5微粒子は重量比で50:50とし、固形分濃度が2.5重量となるようにメチルアルコールに希釈したものを第1の塗布液とした。TiO2微粒子とZnOSb2O5微粒子は重量比で50:50とした。その他は同じ条件でハードコート層及び反射防止膜を形成させたものである。試験については実施例1と同様に行った。それらの結果を表2に示す。比較例6比較例6では第1の塗布液に使用したHX-305-M5の代わりにSnO2源として以下のものを使用した。すなわちSnO2微粉末粒径10-30nm5.0重量部と、プロピレグリコールモノメチルエーテル10重量部と、エチルアルコール85.0重量部を混合し、これに界面活性剤旭電化工業社製、アデカコールCS141Eを添加して混合し、その後、この溶液を超音波ホモジナイザーを用いて10分間分散させ、均一塗料とした。SnO2微粒子とZnOSb2O5微粒子は重量比で50:50とし、固形分濃度が3.0重量となるようにエチルアルコールに希釈したものを第1の塗布液とした。その他は同じ条件でハードコート層及び反射防止膜を形成させたものである。試験については実施例1と同様に行った。それらの結果を表2に示す。比較例7比較例7では上記実施例1における第1の塗布液を使用せずつまり、高屈折率層を形成させず、実施例1と同じ第2の塗布液を使用して実施例1と同様の操作でハードコート層の上に膜厚100nmの低屈折率層を形成させた。試験については実施例1と同様に行った。それらの結果を表2に示す。<結果>上記各試験の結果、実施例はいずれも良好な反射特性を示し、初期の白濁斑点も見られず、耐候性も良かった。但し、実施例1では若干帯電性に劣るという結果であった。つまり、ZnOSb2O5微粒子が他の実施例に比べて配合割合が少なかったことに起因するものと考えられる。比較例については、比較例1では導電性金属酸化物微粒子としてのZnOSb2O5微粒子がないため、帯電防止性能は明らかに良くなかった。また、比較例1では帯電防止性能のみならず、初期外観や耐候性におけるクラック発生も見られ良くなかった。比較例2では中空シリカ微粒子が存在しないため、充分な反射防止特性が得られなかった。また、比較例3ではZnOSb2O5微粒子を50重量配合しているにも関わらず、帯電防止性能が不良であることから、帯電防止の観点からZnOSb2O5微粒子と相性のよいのはSnO2微粒子であると考えられる。また、比較例3~5では初期外観や耐候性でも実施例に比べて劣る。比較例6では耐候性が際立って劣るが、これは第1の塗布液中に界面活性剤が混入しているためと考えられる。そのため実施例のように揮発性溶媒だけで溶液を調整することが好ましいといえる。比較例7では高屈折率層がないため、実施例に比べて反射特性が不良であり帯電防止性能も発揮することもなかった。"