"架橋点が可動し非イオン性の架橋ポリロタキサンと溶媒とを含有する架橋ポリロタキサンゲルと、前記架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加するための電圧印加用電極とを持つ振動発生部を有し、前記架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加して前記振動発生部を振動させることを特徴としたタッチパネル。前記振動発生部の初期の弾性率がヤング率として30kPa以下である請求項1に記載のタッチパネル。前記溶媒が水である請求項1または2に記載のタッチパネル。前記印加による振動発生部の振動数が0.4~100Hzであり、前記印加による振動発生部の変位の変化量が0.01mm以上である請求項1~3のいずれかに記載のタッチパネル。前記電圧が直流電圧である請求項1~4のいずれかに記載のタッチパネル。前記架橋ポリロタキサンが、シクロデキストリン分子の開口部に直鎖状分子が串刺し状に包接され且つ該シクロデキストリン分子が脱離しないように前記直鎖状分子の両末端にブロック基が配置されるポリロタキサンの少なくとも2分子と、架橋剤とを反応させることによって製造され、前記ポリロタキサンの量が前記架橋剤1質量部に対して1.5~8質量部である請求項1~5のいずれかに記載のタッチパネル。前記溶媒と前記架橋ポリロタキサンとの質量比溶媒:架橋ポリロタキサンが99:1~70:30である請求項1~6のいずれかに記載のタッチパネル。前記架橋ポリロタキサンゲルに含有される架橋ポリロタキサンを製造する際に使用される架橋剤が、アルキレンジオールジグリシジルエーテルである請求項1~7のいずれかに記載のタッチパネル。前記架橋ポリロタキサンゲルに含有される架橋ポリロタキサンを構成する直鎖状分子の末端が非イオン性のブロック基で封鎖されている請求項1~8のいずれかに記載のタッチパネル。前記架橋ポリロタキサンゲルのヤング率が30kPa以下である請求項1~9のいずれかに記載のタッチパネル。さらに、操作時の接触を検出する接触検出部を有する請求項1~10のいずれかに記載のタッチパネル。前記振動発生部がシート状であり、さらに、操作時の接触を検出するシート状の接触検出部と、表示画面とを有し、該シート状の振動発生部と前記シート状の接触検出部とを前記表示画面上に順次積層し、前記シート状の振動発生部は前記電圧印加用電極を前記架橋ポリロタキサンゲルの表面と裏面とに有し、前記表面および前記裏面において前記電圧印加用電極はそれぞれ複数の帯状に等間隔で設けられ、前記表面における前記電圧印加用電極と前記裏面における前記電圧印加用電極とが90度ずれるものであり、前記電圧印加用電極は、前記接触に応じて前記振動発生部を部分的に振動させるためのコントローラに接続され、操作時の接触を前記接触検出部で検出すると前記コントローラによって前記シート状の振動発生部に部分的に直流電流が印加され、前記シート状の振動発生部が部分的に振動することにより感触を操作者にフィードバックすることを特徴とした請求項1~11のいずれかに記載のタッチパネル。前記振動発生部がシート状であり、前記電圧印加用電極が1対の電圧印加用電極であり、前記シート状の振動発生部を複数有し、2つの隣り合う振動発生部の間に隔壁を有し、該シート状の振動発生部と、隔壁とを、シート状の接触検出部の上に順次配置し、操作時の接触を前記接触検出部で検出すると前記シート状の振動発生部に直流電流が印加され、前記シート状の振動発生部が振動することにより感触を操作者にフィードバックすることを特徴とした請求項1~11のいずれかに記載のタッチパネル。前記振動発生部がシート状であり、前記シート状の振動発生部を複数有し、2つの隣り合う振動発生部の間に隔壁を有し、該シート状の振動発生部と、隔壁とを、シート状の接触検出部の上に順次配置し、前記電圧印加用電極は1対の電圧印加用電極であり、前記1対の電圧印加用電極はそれぞれ垂直方向に平面状の部分を少なくとも有する形状であり、前記シート状の振動発生部は前記1対の電圧印加用電極が有する前記垂直方向に平面状の部分をシート状の架橋ポリロタキサンゲルに対して垂直方向に有し、前記1対の電圧印加用電極の間に前記シート状の架橋ポリロタキサンゲルの少なくとも一部または全部があり、前記1対の電圧印加用電極の間にある架橋ポリロタキサンゲルの表面に突起部を有し、前記1対の電圧印加用電極に前記電圧が印加されると前記振動発生部および前記突起部が振動する請求項1~11のいずれかに記載のタッチパネル。前記シート状の接触検出部の下にさらに表示画面を有する請求項13または14に記載のタッチパネル。前記振動発生部の上にさらに保護シートを有する請求項1~15のいずれかに記載のタッチパネル。そこで、本発明は、制御回路なしに任意の場所を振動させることができ、薄型化が可能で、加工性や透明性に優れた触感呈示型のタッチパネル用の薄膜を開発し、入力を受け付けたことを知らせることのできる操作性に優れた触感呈示型のタッチパネルを提供することを目的とする。本願発明者らは、架橋ポリロタキサンゲルが含有する架橋ポリロタキサンの架橋点が可逆的に動くという特徴は、化学ゲルや物理ゲルと比較して、外力による変形に対して均一な網目構造を保持しやすく、このことは振動発生部が薄膜である<1mm場合においても架橋ポリロタキサンゲル中の溶媒の保持と溶媒移動の制御を容易にするのではないかと考えた。そして、架橋ポリロタキサンゲルに対して電場等の外部刺激に応じて所望の場所を振動させることができれば、上記の問題を解決する薄型のタッチパネルが提供できるものとの発想に至った。本願発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、タッチパネルが、架橋点が可動し非イオン性の架橋ポリロタキサンと溶媒とを含有する架橋ポリロタキサンゲルと、前記架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加するための電圧印加用電極とを持つ振動発生部を有し、前記架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加して前記振動発生部を振動させることによって、制御回路なしに任意の場所を振動させることができ、薄型化が可能で、加工性や透明性に優れ、入力を受け付けたことを操作者に知らせることのできる操作性に優れた触感呈示型のタッチパネルとなりうることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、下記1~16を提供する。1.架橋点が可動し非イオン性の架橋ポリロタキサンと溶媒とを含有する架橋ポリロタキサンゲルと、前記架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加するための電圧印加用電極とを持つ振動発生部を有し、前記架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加して前記振動発生部を振動させることを特徴としたタッチパネル。2.前記振動発生部の初期の弾性率がヤング率として30kPa以下である上記1に記載のタッチパネル。3.前記溶媒が水である上記1または2に記載のタッチパネル。4.前記印加による振動発生部の振動数が0.4~100Hzであり、前記印加による振動発生部の変位の変化量が0.01mm以上である上記1~3のいずれかに記載のタッチパネル。5.前記電圧が直流電圧である上記1~4のいずれかに記載のタッチパネル。6.前記架橋ポリロタキサンが、シクロデキストリン分子の開口部に直鎖状分子が串刺し状に包接され且つ該シクロデキストリン分子が脱離しないように前記直鎖状分子の両末端にブロック基が配置されるポリロタキサンの少なくとも2分子と、架橋剤とを反応させることによって製造され、前記ポリロタキサンの量が前記架橋剤1質量部に対して1.5~8質量部である上記1~5のいずれかに記載のタッチパネル。7.前記溶媒と前記架橋ポリロタキサンとの質量比溶媒:架橋ポリロタキサンが99:1~70:30である上記1~6のいずれかに記載のタッチパネル。8.前記架橋ポリロタキサンゲルに含有される架橋ポリロタキサンを製造する際に使用される架橋剤が、アルキレンジオールジグリシジルエーテルである上記1~7のいずれかに記載のタッチパネル。9.前記架橋ポリロタキサンゲルに含有される架橋ポリロタキサンを構成する直鎖状分子の末端が非イオン性のブロック基で封鎖されている上記1~8のいずれかに記載のタッチパネル。10.前記架橋ポリロタキサンゲルのヤング率が30kPa以下である上記1~9のいずれかに記載のタッチパネル。11.さらに、操作時の接触を検出する接触検出部を有する上記1~10のいずれかに記載のタッチパネル。12.前記振動発生部がシート状であり、さらに、操作時の接触を検出するシート状の接触検出部と、表示画面とを有し、該シート状の振動発生部と前記シート状の接触検出部とを前記表示画面上に順次積層し、前記シート状の振動発生部は前記電圧印加用電極を前記架橋ポリロタキサンゲルの表面と裏面とに有し、前記表面および前記裏面において前記電圧印加用電極はそれぞれ複数の帯状に等間隔で設けられ、前記表面における前記電圧印加用電極と前記裏面における前記電圧印加用電極とが90度ずれるものであり、前記電圧印加用電極は、前記接触に応じて前記振動発生部を部分的に振動させるためのコントローラに接続され、操作時の接触を前記接触検出部で検出すると前記コントローラによって前記シート状の振動発生部に部分的に直流電流が印加され、前記シート状の振動発生部が部分的に振動することにより感触を操作者にフィードバックすることを特徴とした上記1~11のいずれかに記載のタッチパネル。13.前記振動発生部がシート状であり、前記電圧印加用電極が1対の電圧印加用電極であり、前記シート状の振動発生部を複数有し、2つの隣り合う振動発生部の間に隔壁を有し、該シート状の振動発生部と、隔壁とを、シート状の接触検出部の上に順次配置し、操作時の接触を前記接触検出部で検出すると前記シート状の振動発生部に直流電流が印加され、前記シート状の振動発生部が振動することにより感触を操作者にフィードバックすることを特徴とした上記1~11のいずれかに記載のタッチパネル。14.前記振動発生部がシート状であり、前記シート状の振動発生部を複数有し、2つの隣り合う振動発生部の間に隔壁を有し、該シート状の振動発生部と、隔壁とを、シート状の接触検出部の上に順次配置し、前記電圧印加用電極は1対の電圧印加用電極であり、前記1対の電圧印加用電極はそれぞれ垂直方向に平面状の部分を少なくとも有する形状であり、前記シート状の振動発生部は前記1対の電圧印加用電極が有する前記垂直方向に平面状の部分をシート状の架橋ポリロタキサンゲルに対して垂直方向に有し、前記1対の電圧印加用電極の間に前記シート状の架橋ポリロタキサンゲルの少なくとも一部または全部があり、前記1対の電圧印加用電極の間にある架橋ポリロタキサンゲルの表面に突起部を有し、前記1対の電圧印加用電極に前記電圧が印加されると前記振動発生部および前記突起部が振動する上記1~11のいずれかに記載のタッチパネル。15.前記シート状の接触検出部の下にさらに表示画面を有する上記13または14に記載のタッチパネル。16.前記振動発生部の上にさらに保護シートを有する上記1~15のいずれかに記載のタッチパネル。本発明のタッチパネルは、制御回路なしに任意の場所を振動させることができ、薄型化が可能で、加工性や透明性に優れ、入力を受け付けたことを知らせることのできる操作性に優れた触感呈示型のタッチパネルである。本発明について以下詳細に説明する。本発明のタッチパネルは、架橋点が可動し非イオン性の架橋ポリロタキサンと溶媒とを含有する架橋ポリロタキサンゲルと、前記架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加するための電圧印加用電極とを持つ振動発生部を有し、前記架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加して前記振動発生部を振動させることを特徴としたタッチパネルである。振動発生部について以下に説明する。本発明のタッチパネルが有する振動発生部は、架橋点が可動し非イオン性の架橋ポリロタキサンと溶媒とを含有する架橋ポリロタキサンゲルと、前記架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加するための電圧印加用電極とを持ち、前記架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加して前記架橋ポリロタキサンゲルを振動させる。架橋ポリロタキサンゲルについて以下に説明する。振動発生部に使用される架橋ポリロタキサンゲルは、架橋点が可動し非イオン性の架橋ポリロタキサンと溶媒とを含有するゲルである。本発明において使用された架橋ポリロタキサンは、2個以上のポリロタキサン分子を有してなり、ポリロタキサン分子が有する環状分子同士が化学結合を介して架橋する架橋ポリロタキサンである。架橋ポリロタキサンゲルを製造する際に使用されるポリロタキサン分子は回転子としての2つ以上の環状分子、該環状分子の開口部を串刺し状にして包接される軸としての直鎖状分子、及び該串刺し状の環状分子が脱離しないように該直鎖状分子の両端に位置するブロック基を有する。架橋ポリロタキサンが非イオン性であるとは、詳細には、架橋ポリロタキサンゲルを構成するブロック基が非イオン性である例えば、ブロック基自体が非イオン性である、ブロック基が有する置換基が非イオン性であることを意味する。本発明において、架橋ポリロタキサンが有するブロック基は、イオン性の官能基例えば、カルボキシル基、スルホ基、アミノ基、これらの塩ではなく、イオン性の官能基を有さない。架橋ポリロタキサンを製造する際に使用される直鎖状分子架橋ポリロタキサンの主鎖を構成する。としては、例えば、ポリビニルアルコールやポリビニルピロリドン、ポリメタアクリル酸、セルロース系樹脂カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルメチルエーテル、ポリアミン、ポリエチレンイミン、カゼイン、ゼラチン、でんぷん等及び/またはこれらの共重合体のような親水性ポリマー;ポリエチレン、ポリプロピレン、およびその他オレフィン系単量体との共重合樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル-スチレン共重合樹脂等のポリスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレートやメタアクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル-メチルアクリレート共重合樹脂などのアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルブチラール樹脂のような疎水性ポリマー;及びこれらの誘導体又は変性体例えば、末端がカルボン酸変性されたものを挙げることができる。これらのうち、再現安定性振動の発生を再現する安定性。以下同様に優れるという観点から、ポリエチレングリコール、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリプロピレングリコール、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、及びポリプロピレンが好ましく、特にポリエチレングリコールであるのが好ましい。架橋ポリロタキサンを製造する際に使用される原料としての直鎖状分子の重量平均分子量は、再現安定性に優れるという観点から、1万以上であるのがよく、好ましくは2万以上、より好ましくは3.5万以上であるのがよい。直鎖状分子の重量平均分子量は20万以下とすることができる。本発明において直鎖状分子の重量平均分子量は、ジメチルスルホキシドを溶媒とするゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCによりポリエチレンオキシド換算で表わされるものである。架橋ポリロタキサンを構成するブロック基としては、例えば、24-ジニトロフェニル基、35-ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類及びピレン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。より具体的には、環状分子としてα-シクロデキストリン、及び直鎖状分子としてポリエチレングリコールを用いる場合、ブロック基を、シクロデキストリン類、24-ジニトロフェニル基、35-ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル基類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類及びピレン類、並びにこれらの誘導体又は変性体とすることができる。また、架橋ポリロタキサンを構成する直鎖状分子の末端は非イオン性のブロック基で封鎖されているのが好ましい態様の1つとして挙げられる。架橋ポリロタキサンを構成する直鎖状分子はその末端において、例えば、エステル結合、アミド結合を介してブロック基と結合することができる。ブロック基は、再現安定性に優れるという観点から、非イオン性のもの、かさ高いものであるのが好ましく、アダマンタン基類がより好ましい。非イオン性のブロック基、かさ高いブロック基としては上記のブロック基と同様のものが挙げられる。架橋ポリロタキサンを構成する環状分子は、ポリロタキサン分子が有する環状分子同士少なくとも2個の環状分子が化学結合単結合、有機基を介して架橋するものを含む。有機基は特に制限されない。有機基は例えば、脂肪族炭化水素基脂肪族炭化水素基は鎖状、分岐状、環状、これらの組み合わせのいずれであってもよく、不飽和結合を有することができる。、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせのいずれであってもよく、酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有することができる。有機基としては、例えば、下記の架橋剤と、ポリロタキサンが有する環状分子が持つ、架橋剤と反応可能な官能基との反応により形成されるものが挙げられる。架橋ポリロタキサンを構成する環状分子は少なくともその一部が架橋剤によって架橋されていればよい。また、架橋剤はその官能基の1つだけが架橋ポリロタキサンを構成する環状分子と反応することができる。この場合架橋剤が有する残りの官能基は環状分子とは未反応なので、1つの架橋剤は1つの環状分子を修飾するのみであり、環状分子同士を架橋しない。架橋ポリロタキサンを製造する際に使用される環状分子は、環状構造、および架橋剤と反応し得る官能基を有する化合物であれば特に制限されない。架橋剤と反応し得る官能基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基が挙げられる。環状分子は具体的には例えば、種々のシクロデキストリン類例えばα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン、γ-シクロデキストリン、ジメチルシクロデキストリン及びグルコシルシクロデキストリン、これらの誘導体又は変性体など、クラウンエーテル類、ベンゾクラウン類、ジベンゾクラウン類、及びジシクロヘキサノクラウン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。これらのうち、架橋反応に利用できる水酸基が豊富に存在するという点、再現安定性に優れるという観点から、シクロデキストリン類が好ましく、特に、α-シクロデキストリンであることが好ましい。架橋ポリロタキサンを製造する際に使用されるポリロタキサンの包接率は、初期の弾性率が適切な範囲となり、電圧印加による振動がより大きく、再現安定性に優れるという観点から、0.01~0.6であるのが好ましく、0.01~0.5であるのがより好ましい。本発明において、包接率は環状分子が直鎖状分子に串刺し状に包接される際に直鎖状分子に包接される環状分子の個数について、直鎖状分子が環状分子を最大限に包接できる個数計算値を1基準値とした場合の基準値に対する値である。実際に製造されたポリロタキサン中の環状分子の数はNMRによって測定することができる。なお、架橋ポリロタキサンを構成する環状分子は非イオン性基によって修飾されていてもよい。環状分子例えばシクロデキストリンを修飾する非イオン性基、環状分子例えばシクロデキストリンを非イオン性基で修飾する方法については、例えば、国際公開第2005/080469号に記載されたものが挙げられる。架橋ポリロタキサンゲルを製造する際に使用される架橋剤は、環状分子が有する官能基と反応可能な基を2個以上有する化合物であれば特に制限されない。環状分子が有する官能基と反応可能な基としては、例えば、ハロゲン原子、エポキシ基、アルデヒド基、カルボキシル基、イソシアネート基、イミダゾール基、ビニル基が挙げられる。架橋剤としては具体的には例えば、塩化シアヌル、トリメソイルクロリド、テレフタロイルクロリド、エピクロロヒドリン、ジブロモベンゼン、グルタールアルデヒド、フェニレンジイソシアネート、ジイソシアン酸トリレン例えば24-ジイソシアン酸トリレン、1,1′カルボニルジイミダゾール、ジグリシジルエーテル例えば、ブタンジオールジグリシジルエーテルのようなアルキレンジオールジグリシジルエーテル及びジビニルスルホンなどを挙げることができる。なかでも、再現安定性に優れ、水溶性の溶媒と相溶できる点で好ましいことから、アルキレンジオールジグリシジルエーテルが好ましく、ブタンジオールジグリシジルエーテルがより好ましい。原料としてのポリロタキサンの量は、初期の弾性率が適切な範囲となり、電圧印加による振動がより大きくなり、再現安定性に優れるという観点から、架橋剤1質量部に対して、1.5~8.0質量部であるのが好ましく、2.0~6.0質量部であるのがより好ましい。架橋ポリロタキサンは、再現安定性に優れるという観点から、直鎖状分子架橋ポリロタキサンの主鎖が、ポリエチレングリコール、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリプロピレングリコール、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン及びポリプロピレンからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、ブロック基がアダマンタン基類であり、直鎖状分子の末端はエステル結合および/またはアミド結合を介してブロック基と結合し、環状分子がシクロデキストリンであり、環状分子の少なくとも一部がアルキレンジオールジグリシジルエーテルによって架橋されているのが好ましい。架橋ポリロタキサンゲルはその製造について特に制限されない。例えば、シクロデキストリン分子の開口部に直鎖状分子が串刺し状に包接され且つ該シクロデキストリン分子が脱離しないように前記直鎖状分子の両末端にブロック基が配置されるポリロタキサンの少なくとも2分子と、架橋剤とを反応させることによって製造する方法が好ましい態様の1つとして挙げられる。また、ポリロタキサンを架橋させる架橋反応と、得られた架橋ポリロタキサンのゲル化を1つの工程で行う方法としては、例えば、原料としてのポリロタキサンと架橋剤との反応を溶媒中において行う方法が挙げられる。具体的には例えば、モールドにゲル化時の溶媒例えば、水、水酸化ナトリウム水溶液、ポリロタキサン、および架橋剤を入れて、室温~50°Cの条件下において10~30時間架橋反応およびゲル化を行う方法が挙げられる。架橋反応後、必要に応じて、モールドから架橋ポリロタキサンゲルを取り出し、これを水で洗浄し、2日間水置換を行うことができる。なお、本発明において溶媒量および系内における架橋剤濃度を一定にして、ポリロタキサンの量を変更することで、架橋ポリロタキサンゲルの架橋密度を制御することができる。この架橋系において架橋剤はポリロタキサンと反応しながら、溶媒によっても失活する。つまり、速度論的に、反応できるポリロタキサンサイトが多ければ、架橋剤はポリロタキサンとより多く反応し、架橋ポリロタキサンゲルの架橋密度をより高くすることができる。本発明において、溶媒として1.5Nの水酸化ナトリウム水溶液3.5mLを使用し、系内の架橋剤濃度を0.21モル/L架橋剤がブタンジオールジグリシジルエーテルである場合その使用量:140μLとし、系内のポリロタキサンの量を0.2~1.2gとすることによって架橋ポリロタキサンゲルの架橋密度を調製することができる。本発明において使用される架橋ポリロタキサンゲルは、架橋ポリロタキサンゲルの架橋密度を制御することができ、架橋密度が高く振動をより顕著にすることができるという観点から、上記の方法で架橋されたものであるのが好ましい。本発明において、得られた架橋ポリロタキサンゲルの架橋密度を表す指標として、架橋ポリロタキサンゲルのヤング率を採用した。架橋ポリロタキサンゲルの製造の際、一定濃度の架橋剤に対して使用するポリロタキサンの量が多いほど、架橋ポリロタキサンゲルの架橋密度を高くすることができ、架橋ポリロタキサンゲルのヤング率を高くすることができる。架橋ポリロタキサンゲルのヤング率については後述する。ポリロタキサンと架橋剤との反応もしくはゲル化に使用することができる溶媒、および/または架橋ポリロタキサンゲルを膨潤させる溶媒としてはプロトン性の極性溶媒を用いることができる。すなわち、水、エタノール、メタノール、2級および3級のアルコール類、ポリエチレングリコールなどを用いることができる。なかでも、初期の弾性率が適切な範囲となり、電圧印加による振動がより大きく、再現安定性に優れるという観点から、特に水が好ましい。ポリロタキサンと架橋剤との反応に使用することができる溶媒として水を使用する場合、水は水酸化ナトリウムのようなアルカリを含有することができる。架橋ポリロタキサンゲルを製造する際に使用されるポリロタキサンはその製造について特に制限されない。例えば国際公開第2005/052026号、国際公開第2005/080469号に記載された方法によって製造することができる。架橋ポリロタキサンゲルおよびその製造方法については例えば国際公開第2005/080469号を本願明細書に援用しこれに記載されたものを本発明において使用することができる。得られた架橋ポリロタキサンゲルにおいて、前記溶媒と前記架橋ポリロタキサンとの質量比溶媒:架橋ポリロタキサンは、初期の弾性率が適切な範囲となり、電圧印加による振動がより大きく、再現安定性に優れるという観点から、99:1~70:30であるのが好ましく、95:5~80:20であるのがより好ましく、90:10~85:15であるのがさらに好ましい。架橋ポリロタキサンは溶媒を含むことにより膨潤することができる。膨潤時又は膨潤前の架橋ポリロタキサン濃度、即ち、架橋ポリロタキサンゲルの単位体積あたりの架橋ポリロタキサンの量は、初期の弾性率が適切な範囲となり、電圧印加による振動がより大きく、再現安定性に優れるという観点から、0.02~0.40g/cm3、好ましくは0.04~0.30g/cm3、より好ましくは0.08~0.20g/cm3であるのがよい。架橋ポリロタキサンゲルはそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。架橋ポリロタキサンゲルの厚さは1mm以下とすることができ、1mm未満であるのが好ましい。また機械的強度を確保できるという観点から0.3mm以上であるのが好ましい。架橋ポリロタキサンゲルの弾性率印加なしの条件下は、再現安定性に優れるという観点から、ヤング率として30kPa以下であるのが好ましい。本願発明者らは、架橋ポリロタキサンゲルの弾性率が上記のような範囲である場合、電圧を印加することによって架橋ポリロタキサンゲルがより振動しやすいことを見出した。振動発生部に使用される電極について以下に説明する。振動発生部に使用される電極はその材料について特に制限されない。例えば、i活性炭、カーボンブラック、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ、気相成長炭素繊維等の炭素材料、ii金、白金、イリジウム、パラジウム、ルテニウム、銀、銅、ニッケルなどの金属類、iii酸化ルテニウム、酸化チタン、酸化スズ、二酸化イリジウム、酸化タンタル、酸化バナジウム、酸化モリブデンなどの金属酸化物、ivポリアセチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン及びこれらの誘導体などのπ共役系導電性高分子などを用いることができる。これらは単独で用いてもよいし、複数を組み合わせてもよい。電極の厚さは特に制限されない。10μm以下とすることができる。本発明のタッチパネルに使用される架橋ポリロタキサンゲルの特徴のひとつとして、その高い透明性が挙げられる。前記電極材料として取り上げた酸化インジウムに少量の酸化スズを混ぜたITOやπ共役系導電性高分子を用いた電極は透明性も高いため、これらの電極を付与することで透明な触感呈示型の振動発生部を得ることができる。電極の形成方法としては特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。すなわち、真空蒸着法、スパッタリング法、電解メッキ法、無電解メッキ法、印刷法、適切なバインダー中に電極材料を溶解もしくは分散させたインキを架橋ポリロタキサンゲル上に塗布する方法、架橋ポリロタキサンゲルと別途作製した電極シート又は金属箔膜とを圧着または溶着により貼り合せる方法、金属板例えばL字状などの形状のもの、薄膜のものを架橋ポリロタキサンゲルに差し込む方法などが挙げられる。特に、金を用いた無電解メッキ法は、電極形成の容易性と形成された電極の安定性の観点から、好適に用いられる。金を用いた無電解メッキ法は従来公知のものが挙げられ、例えば、電極は以下に示すa~eの工程を、3~5回繰り返すことで作製することができる。a架橋ポリロタキサンゲルの洗浄工程、b架橋ポリロタキサンゲルの膨潤工程、c架橋ポリロタキサンゲルへの金属イオンの吸着工程、d金属イオンの還元工程、e電極を有する架橋ポリロタキサンゲルの洗浄工程振動発生部は架橋ポリロタキサンゲルと電圧印加用電極とを持つものであれば特に制限されない。電圧印加用電極は例えば、1対[1つの電極正極に対して1つの電極負極]として、または複数の電極正極に対して複数の電極負極を配置することができる。電圧印加用電極の位置は、例えば、架橋ポリロタキサンゲルの表面上の左右の端部、架橋ポリロタキサンゲルの上下面、架橋ポリロタキサンゲルの両側面、架橋ポリロタキサンゲルの内部とすることができる。電圧印加用電極の位置が架橋ポリロタキサンゲルの上下面である場合、電圧印加用電極の間の距離は1mm以下とすることができ、1mm未満であるのが好ましい。電圧印加用電極の位置が架橋ポリロタキサンゲルの表面上の左右の端部、架橋ポリロタキサンゲルの両側面、架橋ポリロタキサンゲルの内部である場合、電圧印加用電極の間の距離は5mm以下とすることができる。なお正極および/または負極の電極を複数有する場合、隣り合う同じ極の電極の間の距離は特に制限されず、1.5~19mmとすることができる。本発明のタッチパネルは、架橋ポリロタキサンゲルに電圧を印加して前記架橋ポリロタキサンゲルを、つまりは振動発生部を振動させる。本発明において、架橋ポリロタキサンゲルまたは振動発生部のヤング率は原子間力顕微鏡AtomicForceMicroscope;AFMを用いて測定された。ある架橋ポリロタキサンゲルとこの架橋ポリロタキサンゲルを持つ振動発生部とにおいて、両者の初期印加なしのヤング率はAFMによる測定の場合同じまたはほぼ同等とすることができる。本発明において、振動発生部架橋ポリロタキサンゲルに印加するための電圧は直流電圧であるのが好ましいこの場合電源は直流電源とすることができる。。電源は-3~3Vの電圧を電極間に印加することができる。電圧は、電圧印加による架橋ポリロタキサンゲル振動発生部の振動を大きくすることができるという観点から、電圧の絶対値が大きいことが好ましく、電圧の絶対値が2Vを超えるのがより好ましい。電圧の印加は、接触操作に関する、機器の回路からの制御信号に応じてコントローラを用いて制御することができる。振動発生部の初期電圧を印加しない状態の弾性率は、電圧印加による振動がより大きく、再現安定性に優れるという観点から、ヤング率として30kPa以下であるのが好ましい。初期電圧を印加しない状態における振動発生部の弾性率が上記のような範囲である場合、振動発生部が電圧の印加によってより振動することができる。印加による振動発生部架橋ポリロタキサンゲルの振動数は、操作者が振動を明確に感知できるという観点から、0.4~100Hzであるのが好ましく、0.40~0.55Hzであるのがより好ましい。印加による振動発生部架橋ポリロタキサンゲルの変位の変化量電圧印加時に架橋ポリロタキサンゲルが振動で変形したときの変位と、変形していないときとの変位の差は、操作者が振動を明確に感知できるという観点から、0.01mm以上であるのが好ましい。振動発生部または架橋ポリロタキサンゲルはその形状について特に制限されない。例えば、平板状平板状、ドーム状、円筒状、半円筒状、シート状とすることができる。架橋ポリロタキサンゲルを上記の形状に対応するモールド内で製造することによって、所望の形状を有する架橋ポリロタキサンゲルを得ることができる。振動発生部における電圧印加用電極の形状として例えば、平板状平面状、帯状のものが挙げられる。電圧印加用電極の形状が帯状である場合、片方の電極の配置をもう片方の電極に対して90度ずらすことができる。電極は架橋ポリロタキサンゲルの、例えば、上下、左右に配置することができる。電圧印加用電極の形状が帯状である場合、正極の電極および/または負極の電極を複数とすることができる。本発明のタッチパネルはさらに、操作時の接触を検出する接触検出部および/または表示画面を有するのが好ましい態様として挙げられる。本発明のタッチパネルにおいて、接触検出部操作者による入力を検知するセンサーとしてはタッチパネルを用いることができる。本発明のタッチパネルにおいて、接触検出部として使用されるタッチパネルは、パネルに接触した操作者の指を検出して操作者による入力を検知する入力手段である。接触検出部として使用されるタッチパネルの具体的構成としては、接触圧力が加わった位置を検出する抵抗膜感圧方式のもの、および接触により表面を伝播する表面弾性波を検出する表面弾性波方式のものを使用しても良い。さらに、赤外線発光ダイオードとフォトトランジスタからなるセンサーを多数設けた赤外線検出方式のタッチパネルを使用することもできる。また、本発明のタッチパネルはさらにコントローラを有するのが好ましい態様の1つとして挙げられる。コントローラは、検知した操作者の押圧に応じて所望の場所振動発生部を振動させるために、電極に電圧をかける場所をコントロールして瞬時に振動発生部電極システムに電圧を印加し、架橋ポリロタキサンゲル薄膜を振動させる。これにより操作者はタッチパネルを押したことを知覚することができる。本発明のタッチパネルは振動発生部を部分的に振動させることができる。具体的には例えば、1つのタッチパネルが1つの振動発生部を有する場合振動発生部の1部分を振動させる態様、1つのタッチパネルが複数の振動発生部を有する場合個々の振動発生部を振動させる態様が挙げられる。振動発生部を添付の図面を用いて以下に説明する。なお本発明は添付の図面に制限されない。図1は本発明のタッチパネルに使用される振動発生部の一実施形態の概略を模式的に表す斜視図である。図1において、振動発生部電極システム100はシート状の架橋ポリロタキサンゲル101と、架橋ポリロタキサンゲル101の上下面の端部図示せずにあり架橋ポリロタキサンゲル101に電圧を印加するための1対の電圧印加用電極103、105と、1対の電圧印加用電極103、105に電圧を印加する電源107とを有する。振動発生部100の動作は、まず、操作者の接触操作に関する機器の回路図示せず。からの制御信号によって電源107が1対の電圧印加用電極103、105を介して電圧を架橋ポリロタキサンゲル101に印加し、架橋ポリロタキサンゲル101が振動し、操作者が振動発生部100の振動を感知することができる。図3は本発明のタッチパネルに使用される振動発生部の別の一実施形態の概略を模式的に表す断面図である。図3において、振動発生部電極システム300はシート状であり、シート状の架橋ポリロタキサンゲル301厚さ1mm以下と、電圧印加用電極303、305を架橋ポリロタキサンゲル301の表面と裏面とにそれぞれ有し、電圧印加用電極303、305はそれぞれ複数の帯状に等間隔で設けられ、電圧印加用電極303と電圧印加用電極305とはその配置が90度ずれており、電圧印加用電極303、305に電圧を印加するための電源307直流電源とを有し、所望の場所を振動させるために電圧印加用電極303、305に電圧をかける場所をコントロールするコントローラ309を有する。帯状の電極の幅L1は0.4~4.8mmであるのが好ましい。隣り合う帯状の電極の間L2は1.5~19.0mmであるのが好ましい。振動発生部300の動作は、まず、操作者の接触操作に関する機器の回路図示せず。からの制御信号によってコントローラ309が作動し所望の場所を振動させるように電源307から電圧印加用電極303のいずれかの帯と、電圧印加用電極305のいずれかの帯との間に選択的に電圧を印加して、架橋ポリロタキサンゲル301のなかの所望の部分操作者が接触した部分が振動して、操作者が振動発生部300の部分的な振動を感知することができる。図7は本発明のタッチパネルに使用される振動発生部の別の一実施形態の概略を模式的に表す断面図である。図7において、振動発生部700電極システムは、架橋ポリロタキサンゲル701厚さ1mm以下と、架橋ポリロタキサンゲル701の両表面に平板状平面状に設けられた1対の電圧印加用電極703、705、電圧を印加する直流電源707から構成される。振動発生部700の動作は、まず、操作者の接触操作に関する機器の回路図示せず。からの制御信号によって電源707から1対の電圧印加用電極703、705を介して電圧を架橋ポリロタキサンゲル701に印加し、架橋ポリロタキサンゲル701が振動して、操作者が振動発生部700の振動を感知することができる。図11は本発明のタッチパネルに使用される振動発生部の別の一実施形態の概略を模式的に表す断面図である。図11において、振動発生部915は架橋ポリロタキサンゲル925厚さ1mm以下と、1対の電圧印加用電極903、905、電圧を印加する直流電源907から構成される。また1対の電圧印加用電極903、905はそれぞれ垂直方向に平面状の部分を少なくとも有する形状図11においてはL字型であり、シート状の振動発生部915は1対の電圧印加用電極903、905をシート状の架橋ポリロタキサンゲル925に対して垂直方向に有し、1対の電圧印加用電極903、905の間にシート状の架橋ポリロタキサンゲル925の少なくとも一部または全部があり、1対の電圧印加用電極903、905の間にある架橋ポリロタキサンゲル901の表面に突起部929を有する。架橋ポリロタキサンゲル901がその表面に突起部929を有することによって操作者が振動を顕著に感じることができる。符号921、923の部分を架橋ポリロタキサンゲル以外の材料とすることができる。架橋ポリロタキサンゲル925は符号921、923の部分を有さなくてもよい。突起部929は架橋ポリロタキサンゲル925と一体的に形成することができる。突起部929は架橋ポリロタキサンゲル929と同じ材質でも異なる材質であってもよい。振動発生部915の動作は、まず、操作者の接触操作に関する機器の回路図示せず。からの制御信号によって電源907から1対の電圧印加用電極903、905を介して電圧を架橋ポリロタキサンゲル925または901に印加し、1対の電圧印加用電極903、905に電圧が印加されると架橋ポリロタキサンゲル925および突起部929が振動して、操作者が振動発生部915および突起部929の振動を感知することができる。本発明のタッチパネルは触感呈示型の入力デバイスを構成する素子構造として使用することができる。本発明のタッチパネル、およびこれを用いて構成される入力デバイスについて添付の図面を用いて以下に説明する。本発明は添付の図面に制限されない。図4は本発明のタッチパネルを用いて構成される入力デバイス装置構成の一実施形態を模式的に示す概略図である。図4において、入力デバイス500はタッチパネル400本発明のタッチパネルを1つ有する。図5は図4に示す入力デバイス500に使用されるタッチパネル400を模式的に示す分解斜視図であり、図6は図4に示す入力デバイス500に使用されるタッチパネル400を模式的に表す断面図である。図5図6において、タッチパネル400は、振動発生部415がシート状であり、シート状の振動発生部415と、さらに、操作時の接触を検出するシート状の接触検出部413と、表示画面411とを有し、シート状の振動発生部415とシート状の接触検出部413とを表示画面411上に順次積層し、シート状の振動発生部415は電圧印加用電極403、405を架橋ポリロタキサンゲル401の表面と裏面とに有し、前記表面および前記裏面において電圧印加用電極403、405はそれぞれ複数の帯状に等間隔で設けられ、前記表面における電圧印加用電極403と前記裏面における電圧印加用電極405とが90度ずれるものであり、前記電圧印加用電極403、405は、前記接触に応じて振動発生部415を部分的に振動させるためのコントローラ409に接続され、操作時の接触を接触検出部413で検出するとコントローラ409によって電源407からシート状の振動発生部415に部分的に直流電流が印加され、シート状の振動発生部415が部分的に振動することにより感触を操作者にフィードバックすることができる。振動発生部415には図3に示す振動発生部300を用いる。振動発生部415の上に必要に応じて保護シート417を配置することができる。タッチパネル400の動作は、まず、操作時の接触を接触検出部413で検出すると、操作者の接触操作に関する機器の回路図示せず。からの制御信号によってコントローラ409が作動し所望の場所を振動させるように電源407から電圧印加用電極403のいずれかの帯と、電圧印加用電極405のいずれかの帯との間に選択的に電圧を印加して、振動発生部415架橋ポリロタキサンゲル401のなかの所望の部分操作者が接触した部分が振動して、感触を操作者にフィードバックすることができる。本発明において、コントローラは、検知した操作者の押圧に応じて瞬時に電極システムに部分的に電圧を印加し、架橋ポリロタキサンゲル薄膜を部分的に振動させることができる。これにより操作者はタッチパネルを押したことを知覚することができる。図8は本発明のタッチパネルを用いて構成される入力デバイス装置構成の別の一実施形態を模式的に示す概略図である。図8において、入力デバイス800はボタン719振動発生部715を複数有し、2つの隣り合うボタン719振動発生部715の間に隔壁819を有するタッチパネル821を持つ。図8に示すタッチパネル821は複数のボタン719振動発生部715と隔壁819とを有することによって各振動発生部715架橋ポリロタキサンゲル701を振動させることができ、これによって部分的なタッチパネルの振動を実現することができる。本願明細書において隔壁は少なくとも隣り合う振動発生部の間に配置されればよく、隣り合うボタンの間に配置することもできる。図9は図8に示すボタン719の一実施形態の概略を模式的に示す分解斜視図であり、図10は図8に示すタッチパネル821を模式的に表す縦方向の断面図である。図9において、ボタン719は、振動発生部715700とシート状の接触検出部713とを順次配置積層する。振動発生部715はシート状であり、振動発生部715には図7に示す振動発生部700を用いる。振動発生部715の上に必要に応じて保護シート717を配置することができる。接触検出部713の下に必要に応じて表示画面図示せず。を配置することができる。ボタン719の動作は、まず、操作時の接触を接触検出部713で検出すると1対の電圧印加用電極703、705を介してシート状の振動発生部715に直流電流が印加され、シート状の振動発生部715架橋ポリロタキサンゲル701が振動することにより感触を操作者にフィードバックすることができる。図10において、タッチパネル821は、振動発生部715がシート状であり、電圧印加用電極が1対の電圧印加用電極703、705であり、シート状の振動発生部715を複数有し、2つの隣り合う振動発生部715の間に隔壁819を有し、シート状の振動発生部715と、隔壁819とを、シート状の接触検出部713の上に順次配置し、操作時の接触を接触検出部713で検出するとシート状の振動発生部715に直流電流が印加され、シート状の振動発生部715が振動することにより感触を操作者にフィードバックすることができる。タッチパネル821は2つの隣り合う振動発生部715少なくとも隣り合う架橋ポリロタキサンゲル701の間に隔壁819を有する。本発明において、保護シートはフィルム状の絶縁材から形成されている。接触検出部713の下に必要に応じて表示画面図示せず。を配置することができる。図13は本発明のタッチパネルの別の一実施形態を模式的に示す横方向の断面図である。図13は、図8に示すボタン719に使用される振動発生部に、図11に示す振動発生部を適用したケースである。図13において、タッチパネル821は、振動発生部915がシート状ほぼシート状であり、シート状の振動発生部915を複数有し、2つの隣り合う振動発生部915の間に隔壁919を有し、シート状の振動発生部915と、隔壁919とを、シート状の接触検出部913の上に順次配置し、電圧印加用電極は1対の電圧印加用電極903、905であり、1対の電圧印加用電極903、905はそれぞれ垂直方向に平面状の部分を少なくとも有する形状L字型であり、シート状の振動発生部915は1対の電圧印加用電極903、905が有する前記垂直方向に平面状の部分をシート状の架橋ポリロタキサンゲル925に対して垂直方向に有し、1対の電圧印加用電極903、905の間にシート状の架橋ポリロタキサンゲル925の少なくとも一部または全部があり、1対の電圧印加用電極903、905の間にある架橋ポリロタキサンゲル925の表面に突起部929を有し、1対の電圧印加用電極903、905に電圧が印加されると振動発生部915架橋ポリロタキサンゲル925および突起部929が振動することができる。図13において、タッチパネル821は振動発生部915を複数有し、2つの隣り合う振動発生部915または少なくとも架橋ポリロタキサンゲル925の間に隔壁919を有し、振動発生部915と、隔壁919とをシート状の接触検出部913の上に順次配置積層する。必要に応じて保護シート917、表示画面911を有することができる。タッチパネル821は複数の振動発生部915と隔壁919とを有することによって部分的に振動発生部915架橋ポリロタキサンゲル925を振動させることができる。タッチパネル821は個々の振動発生部915を1つのボタン935として有することができる。図12は図8に示すボタンの別の一実施形態の概略を模式的に示す分解斜視図である。図12において、ボタン935719は、振動発生部915と、保護シート917を順次シート状の接触検出部913の上に配置積層する。振動発生部925は、垂直方向に平面状の部分を有する1対の電圧印加用電極903、905L字型を有し、シート状の振動発生部925は1対の電圧印加用電極903、905が有する垂直方向に平面状部分をシート状の架橋ポリロタキサンゲル925に対して垂直方向に有し、1対の電圧印加用電極903、905の間にシート状の架橋ポリロタキサンゲルの少なくとも一部または全部があり、1対の電圧印加用電極903、905の間にある架橋ポリロタキサンゲル901の表面に突起部929を有する。振動発生部915は符号921、符号923の部分において架橋ポリロタキサンゲルを有さなくてもよい。この場合符号921の部分だけを架橋ポリロタキサンゲルとすることができる。接触検出部913の下に必要に応じて表示画面図示せず。を配置することができる。ボタン935の動作は、まず、操作時の接触を接触検出部913で検出すると1対の電圧印加用電極903、905に電圧が印加され、振動発生部915および突起部929が振動して感触を操作者にフィードバックすることができる。以下に、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。[架橋ポリロタキサンゲルの製造]1.未架橋ポリロタキサンの合成ポリロタキサンの合成例:<ポリエチレングリコールのTEMPO酸化によるPEG-カルボン酸の調製>ポリエチレングリコールPEG重量平均分子量:10万10g、TEMPO2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル50mg、及び臭化ナトリウム0.25gを水110mlに溶解した。得られた溶液に市販の次亜塩素酸ナトリウム水溶液有効塩素濃度約52.5mlを添加し、室温で攪拌しながら反応させた。反応が進行すると添加直後から系のpHは急激に減少するが、なるべくpH:10~11を保つように1N-NaOHを添加して調製した。pHの低下は概ね3分以内に見られなくなったが、さらに10分間攪拌した。過剰量のエタノールを添加して反応を終了させた。塩化メチレン50mlでの抽出を3回繰返して無機塩以外の成分を抽出した後、エバポレータで塩化メチレンを留去した。温エタノール250mlに溶解させた後、-4°Cの冷凍庫に一晩おいてPEG-カルボン酸、即ちPEGの両末端をカルボン酸-COOHに置換したもの、を析出させた。析出したPEG-カルボン酸を遠心分離で回収した。この温エタノール溶解-析出-遠心分離のサイクルを数回繰り返し、最後に真空乾燥で乾燥させてPEG-カルボン酸を得た。収率95以上。カルボキシル化率95以上。<PEG-カルボン酸とα-シクロデキストリンを用いた包接錯体の調製>上記で調製したPEG-カルボン酸6g及びα-シクロデキストリンα-CD24gをそれぞれ別々に用意した70°Cの温水100mlに溶解させた後、両者を混合し、その後、冷蔵庫4°C中で3日間静置した。クリーム状に析出した包接錯体を凍結乾燥し回収した。<アダマンタンアミンとBOP試薬反応系を用いた包接錯体の封鎖>上記包接錯体にアダマンタンアミン0.26g、BOP試薬ベンゾトリアゾール-1-イル-オキシ-トリスジメチルアミノホスホニウムヘキサフルオロフォスフェート0.60g、ジイソプロピルエチルアミン0.28mlを脱水ジメチルホルムアミドDMF120mlに溶解した溶液を加え、よく振り混ぜた後、冷蔵庫中で一晩静置した。その後、メタノール120mlを加え、攪拌、遠心分離、上澄みの除去、を行った。次いで、DMF/メタノール=1:1混合溶液200mlを加え、同様の操作を2回行った。さらにメタノール200mlを用いて同様の操作を2回行い、得られた沈澱を真空乾燥した後、ジメチルスルホキシドDMSO140mlに溶解した。この溶液を純水1400ml中に滴下してポリロタキサンを析出させた。析出したポリロタキサンを遠心分離で回収し、真空乾燥した。さらに同様の再沈澱操作を行い、ポリロタキサン16gを得た。得られたポリロタキサンをNMR測定した結果、CDとPEGモノマーとの比モル比は、CD:PEGモノマー=13.5:100であった包接率:0.27。なお、包接率より、理論計算上、該ポリロタキサン1gにつき、シクロデキストリンが0.76ミリモル包接される。得られたポリロタキサンをポリロタキサン1とする。2.ポリロタキサン1の架橋および架橋ポリロタキサンのゲル化上記のようにして得られたポリロタキサン1:0.35g、0.45g、0.53g、0.60g、0.70gをそれぞれ3.5mlの1.5N-NaOH水溶液に溶解し、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテルを140μl架橋剤の濃度として0.21mol/L添加し、撹拌した。均一になった溶液を厚み0.5mmのシート状のモールドに注入し、25°C、20時間反応させた後、モールドから取り出し、水で洗浄し、2日間水置換を行った。得られた架橋ポリロタキサンゲルを上記のポリロタキサン1の使用量の順に架橋ポリロタキサンゲル1~5とする。なお、水で膨潤させて得られた架橋ポリロタキサンゲル1の重量を1とした場合、架橋ポリロタキサンゲル1の含水率は0.91となる。同様に架橋ポリロタキサンゲル2~5含水率はそれぞれ0.88、0.86、0.83、0.80になる。[ハイドロゲルの製造]クラレ製、PVA-124、重合度2400、ケン化度98~99molのポリビニルアルコールPVAを水に溶解して、濃度6のPVA水溶液を作製した。この水溶液を厚さ0.5mm、幅4mm、長さ4mmのシリコン型に流し込み、-15°Cの温度下で10時間放置して水溶液を凍結させた後、5°Cの温度下に24時間放置して氷を融解し、ポリビニルアルコールゲルPVAゲルを得た。得られたPVAゲルをハイドロゲルとする。[オルガノゲルの製造]モメンティブパフォーマンスマテリアルズジャパン社製TSE3070を厚さ0.5mm、幅4mm、長さ4mmのシリコン型に流し込み、80°Cの温度下で3時間放置し、シリコーンゲルを得た。得られたシリコーンゲルをオルガノゲルとする。[イオン性架橋ポリロタキサンゲル]3,5-ジメルカプトメチルピリジンで架橋されたα-シクロデキストリン2量体1gとポリエチレングリコール重量平均分子量:1,500、シグマアルドリッチ社製5mgとを水10mlに加え、超音波を照射しながら室温で混合した。2時間後沈殿物としてα-シクロデキストリン2量体による架橋ポリロタキサンを得た。次に得られた架橋ポリロタキサン1gと過酸化水素水10mLとを混合し、0°Cの条件下で反応させてポリエチレングリコールの末端のヒドロキシ基を酸化させてカルボキシル基とし、その後カルボキシル基と水酸化ナトリウムとを反応させることによって、カルボキシル基をナトリウム塩に変換させ、カルボン酸ナトリウム塩で変性された架橋ポリロタキサンを得た。得られた架橋ポリロタキサンをゲル化してこれをイオン性変性架橋ポリロタキサンゲルとして使用した。[ヤング率の測定]本発明において、架橋ポリロタキサンゲル、振動発生部のヤング率は、原子間力顕微鏡日本ビーコ社製NanoScopeIIIaDimension3000を用い、室温下で測定された。架橋ポリロタキサンゲルのヤング率は、架橋ポリロタキサンゲルを印加なしの条件下でゲル表面のフォースボリューム測定を行い、得られたフォースディスタンスカーブより決定された。振動発生部のヤング率は、振動発生部に、印加なしまたは3Vの直流電圧を加えながらの条件下で、振動発生部の表面振動発生部の上面の電極上におけるフォースボリューム測定を行い、得られたフォースディスタンスカーブより決定された。結果を第1表に示す。架橋ポリロタキサンゲルのヤング率は、上記のようにして得られた架橋ポリロタキサンゲル1~5をそれぞれ厚さ0.5mm、幅4mm、長さ4mmの平板状とし、この高分子薄膜を純水で1日膨潤させたものをヤング率の評価サンプルとして用いた。振動発生部のヤング率は、下記のようにして得られた振動発生部を用いて測定された。[振動発生部の作製]上記のようにして得られた架橋ポリロタキサンゲル1~5を用いて図1に示す振動発生部を作製した。まず、架橋ポリロタキサンゲル高分子薄膜101として上記のとおり得られた架橋ポリロタキサンゲル1~3を厚さ0.5mm、幅4mm、長さ8mmの短冊状に切り取り、純水で1日膨潤させた後、試料片の上下面において端部から2mm幅L1の部分を以下の方法金を用いた無電解メッキ法による金メッキにより電極化し、1対の電圧印加用電極103、105を架橋ポリロタキサンゲル101に付与した。電圧印加用電極103、105の厚さは1ミクロンμmである。金を用いた無電解メッキ法による金メッキは、上記のようにして得られた架橋ポリロタキサンゲル1~5を基材としこれに対し、金フェナントロリン錯体溶液2~10g/L中に室温下で基材の上下表面において同じ端部から1mm幅の部分をそれぞれ6時間浸漬した。還元液として、アスコルビン酸ナトリウム水溶液4~6mMを50mL程度作製し、40°Cの金フェナントロリン錯体溶液に5mL加えた。その後30分かけて5°C昇温した時点で還元液を5mL加えた。同様の添加を反応液が60°Cに達するまで行い、液温が60°Cに達した時点で生成したメッキ液をすべて投入し、2時間ほど還元反応を進行させた。生成したメッキ膜を蒸留水で洗浄し、再びメッキ溶液に浸透させた。この操作を3回繰り返すことにより、金メッキした架橋ポリロタキサンゲル振動発生部を得た。得られた振動発生部を振動発生部1~5とする。上記のようにして得られた振動発生部1~3電極システムを用いて高分子薄膜の電場応答性を調べた。[振動数、変位の測定]得られた振動発生部1~3に3Vの直流電圧を印加し、レーザー変位計SUNX社製ANR1257を用いて、固定端から4mmの位置の変位と振動数を測定した。図1に示す振動発生部電極システムとして上記のとおり製造した振動発生部1~3を用い、架橋ポリロタキサンゲルのヤング率と振動数および変位の関係を調べた。架橋ポリロタキサンゲルのヤング率、振動発生部1~3の振動数および変位の関係を第1表に示す。なお架橋ポリロタキサン4および振動発生部4のヤング率は14.7kPaであり、架橋ポリロタキサン5および振動発生部5のヤング率は23.8kPaであった。また第1表においてポリロタキサン使用量は各架橋ポリロタキサンゲルを製造する際に使用されたポリロタキサン1の量である。第2表~第4表についても同様である。第1表に示す結果から明らかなように、架橋ポリロタキサンゲルを使用せず架橋ポリロタキサンゲル以外の材料一般的なハイドロゲル、オルガノゲル、イオン性架橋ポリロタキサンゲルを用いたサンプルではいずれのサンプルも電圧を印加しても振動現象は認められなかった。これに対して、実施例1~3ヤング率が30kPa以下の架橋ポリロタキサンゲルを使用する振動発生部は、電圧の印加によって振動することができる。またこれらの振動発生部は、振動数が0.4Hz以上100Hz以下で、かつ、変位の変化量が0.01mm以上の値を満たすことができ、タッチパネルに使用される振動発生部として特に好適である。また第1表に示す結果から、架橋ポリロタキサンゲルのヤング率が大きくなるほど架橋ポリロタキサンゲルの架橋密度が大きくなるほど、データはないが初めは振動数が上昇すると予想されその後振動数が減少すること、電圧印加前後での変位の変化量が増大しその後減少することを見出した。つづいて、振動発生部2に直流電圧3Vを印加した場合の振動回数と変位の変化率の関係について調査した。結果を図2に示す。図2は振動発生部2の振動回数と変位の変化率との関係を示すグラフである。図2に示す結果から明らかなように、架橋ポリロタキサンゲルを使用する振動発生部は振動回数が増えても変位の変化率の低下が認められなかった。このことから、架橋ポリロタキサンゲルが繰り返し特性に優れていることが示された。PVAゲル、シリコーンゲルは電圧を印加しても振動現象は認められなかった。[触感呈示型の入力デバイスへの適用その1]図3に示す振動発生部電極システムを用いて図5に示すタッチパネルを作製しこれを用いて図4に示す入力デバイスを作製し、その電場応答性を調べた。測定には、上記のとおり得られた架橋ポリロタキサンゲル1、2高分子薄膜を厚さ0.5mm、幅100mm、長さ100mmの短冊状に切り取り、純水で1日膨潤させた後、幅1mmの複数の電圧印加用電極を1mm間隔で高分子薄膜の表面と裏面に90度ずれるように上述のメッキ手法により電極化し、振動発生部を製造した。得られた振動発生部を振動発生部4~5とする。得られた振動発生部4、5を用いて入力デバイスを作製し、これに3Vの直流電圧を印加したときに実際の指に感じるフィードバックの触感の有無を調べた。結果を第2表に示す。第2表に示す結果から明らかなように、架橋ポリロタキサンゲルを使用せず架橋ポリロタキサンゲル以外の材料を使用する比較例4~6はいずれのサンプルもフィードバックの触感は得られなかった。これに対して実施例4、5は良好なフィードバックの触感が得られた。特に実施例5はその触感が顕著であった。[触感呈示型の入力デバイスへの適用]図7に示す振動発生部電極システムを用いて図9に示すボタンを作製しこれを用いて図8に示す、タッチパネル、入力デバイスを作製し、その電場応答性を調べた。測定には、上記のとおり得られた架橋ポリロタキサンゲル1、2高分子薄膜を厚さ0.5mm、幅10mm、長さ10mmの短冊状に切り取り、純水で1日膨潤させた後、高分子薄膜の両面を上述のメッキ手法により電極化し、振動発生部を製造した。得られた振動発生部を振動発生部6~7とする。得られた振動発生部6、7を用いて入力デバイスを作製し、これに3Vの直流電圧を印加したときに実際の指に感じるフィードバックの触感の有無を調べた。結果を第3表に示す。第3表に示す結果から明らかなように、架橋ポリロタキサンゲルを使用せず架橋ポリロタキサンゲル以外の材料用いた比較例7~9はいずれのサンプルもフィードバックの触感は得られなかった。これに対して実施例6、7は良好なフィードバックの触感が得られた。特に実施例7はその触感が顕著であった。[触感呈示型の入力デバイスへの適用]図11に示す振動発生部電極システムを用いて図12に示すボタンを作製しこれを用いて図13に示すタッチパネル、図8に示す入力デバイスを作製し、その電場応答性を調べた。測定には、上記のとおり得られた架橋ポリロタキサンゲル1、2高分子薄膜を厚さ0.5mm、幅10mm、長さ10mmの短冊状に切り取り、純水で1日膨潤させた後、高分子薄膜にL字型の1対の電圧印加用電極を差し込んで、振動発生部を製造した。本実施例において、架橋ポリロタキサンゲルは符号925の部分である。図11においてL31対の電圧印加用電極903、905の間の距離は1mmである。得られた振動発生部を振動発生部8、9とする。得られた振動発生部8、9を用いて入力デバイスを作製し、これに3Vの直流電圧を印加したときに実際の指に感じるフィードバックの触感の有無を調べた。結果を第4表に示す。第4表に示す結果から明らかなように、架橋ポリロタキサンゲルを使用せず架橋ポリロタキサンゲル以外の材料を用いた比較例10~12はいずれのサンプルもフィードバックの触感は得られなかった。これに対して実施例8、9は良好なフィードバックの触感が得られた。特に実施例9はその触感が顕著であった。"