"線形構造の所望の周期的パターンを基板上に形成された感光性層に印刷するための方法であって、a所望のパターンの周期の2倍の周期を備えていて、第1の方向に対して平行な線形構造のマスクパターンを有するマスクを準備するステップと、b感光層を前記マスクに対して実質的に平行に、前記マスクパターンから分離して配列するステップと、c単波長の実質的に単色光を発生するステップと、d前記マスクパターンを前記光により、前記第1の方向に対して実質的に平行な第1の面で所定の角度範囲にわたり照明するステップであって、当該照明により、マスクを透過する照明の各角度において光がタルボット面間に横断強度分布の範囲を形成し、前記感光層に光照射野の部分を形成し、当該光照射野の部分の重ね合わせ部分が所望のパターンを印刷するステップと、を含む方法において、前記角度範囲は、前記波長、前記分離および前記周期に関連して選択され、前記部分の重ね合わせ部分は、1つの照明角度での光により形成された横断強度分布の範囲の平均に実質的に等価である、方法。請求項1に記載の方法であって、前記マスクパターンの各構造は、前記各角度範囲で光により同時に照明される方法。請求項1に記載の方法であって、前記マスクパターンの各構造は、前記各角度範囲で光により連続的に照明される方法。請求項1に記載の方法であって、前記マスクパターンの構造は同時に照明される方法。請求項1に記載の方法であって、前記マスクパターンの構造は連続的に照明される方法。請求項1に記載の方法であって、前記光は、前記角度範囲にわたり滑らかにまたは急激に変化する強度分布を有する方法。請求項1に記載の方法であって、前記光は、前記角度範囲にわたり実質的に均一または実質的にガウス分布である強度分布を有する方法。請求項1に記載の方法であって、前記角度範囲は、10°から60°の範囲に平均角を有する方法。請求項8に記載の方法であって、前記角度範囲の角度幅は、前記平均角よりも少なくとも二分の一以下である方法。請求項1に記載の方法であって、前記角度範囲は、分析式、コンピュータシミュレーションおよび実験的最適化のうち少なくとも1つを使用して選択される方法。請求項1に記載の方法であって、前記マスクの線形構造は、少なくとも1つの不透明材料と位相シフト材料のラインを備える方法。請求項1に記載の方法であって、前記マスクの線形構造は、厚さが前記構造にわたって変化する透明材料のラインを備える方法。請求項1に記載の方法であって、前記マスクパターンの周期ごとに少なくとも2つの線形構造が存在する方法。請求項1に記載の方法であって、線形構造の所望のパターンの周期と線形構造のマスクパターンの周期とは正確には均一ではなく、前記パターンにわたって緩慢に変化し、前記マスクと所望のマスクとは擬似周期的である方法。請求項1に記載の方法であって、前記マスクは、第2の周期を備える線形構造の第2のパターンを有し、当該線形構造は前記第1の方向に対して平行であり、第2の周期の半分の線形構造である所望の第2のパターンを前記感光性層に付加的に印刷するためのものであり、前記両方のマスクパターンは前記光により所定の角度範囲にわたり照明され、該所定の角度範囲は、前記波長、前記分離および前記2つのマスクパターンの周期に関連して選択され、これにより前記部分の重ね合わせ部分が前記所望の2つのパターンを印刷する方法。線形構造の所望の周期的パターンを基板上に形成された感光性層に印刷するための装置であって、当該装置は、a所望のパターンの周期の2倍の周期を備えていて、第1の方向に対して平行な線形構造のマスクパターンを有するマスクと、b感光層を前記マスクに対して実質的に平行に、前記マスクパターンから分離して配列する手段と、c単波長の実質的に単色光を発生する手段と、d前記マスクパターンを所定の角度範囲にわたり、前記第1の方向に対して実質的に平行な第1の面で前記光により照明する手段と、を有し、これにより前記マスクを透過する照明の各角度において光により、タルボット面間に所定範囲の横断強度分布が形成され、感光層に光照射野の部分が形成され、当該光照射野の部分の重ね合わせ部分により所望のパターンが印刷される装置において、前記所定の角度範囲は、前記波長、前記分離および前記周期に関連して選択され、前記部分の重ね合わせ部分が、照明の1つの角度における光により形成された横断強度分布の範囲の平均に実質的に等価である装置。請求項16に記載の装置であって、前記照明手段が光ビームを形成し、前記マスクパターンにおける前記光ビームの照明角はビームにわたり変化し、前記照明手段は、所望のパターンの印刷中に前記マスクを基準にする前記ビームの走査運動を行う装置。請求項16に記載の装置であって、前記照明手段が光ビームを形成し、前記マスクパターンにおける前記光ビームの照明角は実質的に均一であり、前記照明手段は、所望のパターンの印刷中に前記マスクを基準にして照明角を変化する装置。請求項16に記載の装置であって、前記照明手段が光ビームを形成し、前記マスクパターンにおける前記光ビームの照明角は前記ビームの各ポイントで所定の角度範囲にわたり変化し、前記照明手段は、所望のパターンの印刷中に前記マスクを基準にして前記ビームが実質的に静止するようにする装置。請求項16に記載の装置であって、前記照明手段が光ビームを形成し、該光ビームはビームの各ポイントにおいて所定の照明角度範囲を有し、前記照明手段は、所望のパターンの印刷中に前記マスクを基準にする走査運動を提供する装置。請求項16に記載の装置であって、前記マスクパターンと感光性層との間に液体を付加的に含む装置。したがって本発明の課題は、周期的に一次元である構造のパターンを基板に印刷する方法であって、大きな焦点深度を提供し、露光中にマスクと基板との相対的変位を必要としない方法を提供することである。本発明のさらなる課題は、周期的に一次元である構造のパターンを基板に印刷する方法であって、レーザ光源の使用を可能にする方法を提供することである。高分解能の格子パターンを大きな基板に短時間の印刷時間で印刷する方法を提供することも本発明の特別の課題である。本発明のさらなる課題は、周期的に一次元である構造のパターンを印刷する装置であって、ATLおよびDTL技術の大きな焦点深度が得られ、しかもこれら2つの技術の上記欠点を伴わない装置を提供することである。本発明のさらなる課題は、たとえばバイオセンサのための格子カプラおよび太陽電池のための光カプラのような偏光格子を製造するための方法および装置を提供することである。本発明の第1の側面によれば、タルボット画像形成に関連するフォトリソグラフ方法が、基板の感光層に線形構造の所望の周期的パターンを印刷するために提供される。この方法は、a所望のパターンの周期の2倍の周期を備えていて、第1の方向に対して平行な線形構造のマスクパターンを有するマスクを準備するステップと、b感光層を前記マスクに対して実質的に平行に、前記マスクパターンから分離して配列するステップと、c単波長の実質的に単色光を発生するステップと、d前記マスクパターンを前記光により、前記第1の方向に対して実質的に平行な第1の面で所定の角度範囲にわたり照明するステップであって、マスクを透過する照明の各角度において光がタルボット面間の横断強度分布を形成し、感光層に光照射野の部分を形成し、当該光照射野の部分の重ね合わせ部分が所望のパターンを印刷するステップと、を有する方法であって、前記角度範囲は、前記波長、前記分離および前記周期に関連して選択され、前記部分の重ね合わせ部分は、1つの照明角度での光によりタルボット面間に形成された横断強度分布の範囲の平均に実質的に対応する。前記所定の角度範囲を、1つの角度でマスクパターンを照明することによりタルボット面間に形成される横断強度分布の範囲の平均で、前記基板が露光されるように選択することによって、ATLまたはDTL技術により生じるのと等価の露光が達成される。したがって本発明は、高分解能パターンを大きな被写界深度により印刷するのを可能にすることで、一方向に周期的なパターンに対してATLおよびDTL技術と同じ重要な利点を提供する。レーザを照明源として使用することができるので、ATLの主たる欠点が克服される。さらに露光中にマスクを基準にして基板を相対的に変位する必要がないので、DTLの大きな欠点が克服される。照明角度の異なる光は、マスクの構造を同時または連続的に照明することができる。好ましくは照明角度の異なる光は、所定範囲にわたり滑らかに変化する強度分布を有し、この分布は有利にはガウス分布である。光は前記角度範囲にわたり別の強度分布を有することができ、これは長方形分布のようなより急なまたはより突然の変化を有する分布か、または離散角度の集合により構成されるような不連続分布であって良い。好ましくは角度範囲は、10°から60°の範囲の平均角を有する。有利には角度範囲の角度幅、すなわち最大角と最小角との差は平均角度と比較して小さい。好ましくは、角度範囲は少なくとも1つの分析的公式、照明の角度範囲にわたる光により照明されたマスクパターンを透過した光照射野部分のコンピュータシミュレーション、および実験的最適化を使用して選択される。本発明の第2の側面によれば、タルボット画像形成に関連するフォトリソグラフ装置が、基板の感光層に線形構造の所望の周期的パターンを印刷するために提供される。この装置は、a所望のパターンの周期の2倍の周期を備えていて、第1の方向に対して平行な線形構造のマスクパターンを有するマスクと、b感光層を前記マスクに対して実質的に平行に、前記マスクパターンから分離して配列する手段と、c単波長の実質的に単色光を発生する手段と、d前記マスクパターンを前記光により、前記第1の方向に対して平行な第1の面で前記角度範囲にわたり照明する手段であって、これによりマスクを透過する照明の各角度において光によりタルボット面間の横断強度分布が形成され、感光層に光照射野の部分が形成され、当該光照射野の部分の重ね合わせ部分により所望のパターンが印刷されるようにする手段と、を有する装置であって、前記角度範囲は、前記波長、前記分離および前記周期に関連して選択され、前記部分の重ね合わせは、1つの照明角度での光により形成された横断強度分布の範囲の平均に実質的に対応する。マスクの線形構造は有利には不透明材料のラインまたは位相シフト材料のラインを有する。好ましくはマスクパターンの周期ごとに単一の線形構造が存在するが、パターンの周期ごとに1つまたは複数の材料の複数の線形構造を使用することもできる。好ましくは照明手段が光ビームを形成し、マスクにおけるこの光ビームの照明角がビームにわたって変化し、照明手段は所望のパターンの印刷中にマスクを基準にするビームの走査運動を提供する。走査運動はラスタパターンのような2次元パターンまたは1次元走査とすることができる。走査運動時の変位は好ましくはビーム自体によって行われる。しかし択一的にマスクと基板サブシステムにより実行することもできる。2次元走査パターンの場合は有利には、一部はビームによって、一部はマスクと基板サブシステムによって実行される。択一的に照明手段は光ビームを形成し、この光ビームの照明角はビームにわたって実質的に一定であり、マスクパターンにおけるこのビームの照明角が、所望のパターンの印刷中に所定の角度範囲にわたって変化するようにする。有利には照明手段はマスクパターンにおいてビームを形成し、そのビームの光はビームの各ポイントにおいて所定の照明角範囲を有し、好ましくはビームは所望のパターンの印刷中に実質的に静止している。択一的に照明手段は、マスクパターンにおける光がビームの各ポイントで所定の照明角範囲を有するビームを形成し、所望のパターンの印刷中にビームがマスクを基準に走査されるようにする。走査運動での実際の変位はビームによって、またはマスクと基板によって、または両者の組み合わせによって実行することができる。所定の照明波長を使用してより小さい周期のパターンを印刷するために、浸漬液がマスクパターンと感光層との間に含まれていることも有利である。さらに線形構造の所望のパターンの周期と線形構造のマスクパターンの周期とは、それぞれのパターンにわたって正確に一定である必要はない。しかし周期は実質的に周期的、すなわち擬似周期的である。基板の感光層は、感光性に処理された基板自体の材料内の層とすることができるが、好ましくは基板上にデポジットされた他の材料の層である。デポジットは基板の表面に直接行うことも、1つまたは複数の材料の層を感光層と基板の間に形成または構造化して間接的に行うこともできる。有利には感光層はフォトレジストの層である。本発明の上記側面および他の側面は、添付図面と関連して以下に記載された実施例から明らかとなりより容易に理解される。本発明の基本的コンセプトを表すために使用される図1を参照すると、波長λを有する単色光の視準化されたビーム1が空気からマスク3に入射される。このマスクは、周期pを備える不透明な平行ラインと透明スペースからなる格子パターン2を有する。マスク3は、図示された軸を基準にしてxy面に平行であり、格子パターン2のラインはx軸に対して平行である。ビーム1はマスク3を斜角に照明する。この入射角の成分は、yz面およびxz面ではそれぞれ0°までおよびθiである。ビーム1と格子パターン2の周期的構造との相互作用で、透過回折次数の集合4が発生し0次と1次だけが図示されているが、より高次も存在する、ビームはマスク3から発散する。回折理論の基本原理から、m次の回折次数の角座標φmすなわちm次の回折次数がマスク3に対する垂線と形成する角度は次式により与えられる。sin2φm=sin2θimλ/p2,m=0,±1,±2式3伝搬する回折次数の集合4間の干渉は、マスク3に対して平行な面内に横断強度分布を形成し、この横断強度分布はマスクからの間隔が増大するにつれ発振的に変化する。すなわち所定の周期間隔で自己画像5またはタルボット画像がマスク3の格子2に形成される。タルボット画像を形成するためには、少なくとも1次の回折光が格子の後に伝播することが必要である。したがって格子の周期および入射ビームの角度を波長に関連して選択することが重要である。1次の回折光の各座標は式3を使用してφ1<90°と計算される。古典的なタルボット画像によれば、0次と1次の回折光の相対位相は連続タルボット画像面5間の2Πにより変化する。0次の回折光は入射ビームの方向に伝播するから、連続画像面5のセパレーションSは、S=λ/cosθi-cosφ1式4により表すことができる。したがってタルボット面5のセパレーションは照明ビーム1の入射角およびθ1に依存するということができ、xz面におけるビーム角の変化は、マスク3の下方に配置された基板6に接近または離間するようにタルボット画像5を変位させる。このことが図2a,b,cにコンピュータシミュレーションの結果として示されており、透過光照射野と入射角との関係性を示す。範囲は照明される格子から10から13μmであり、格子はy値以上500nmの周期である。図2a,b,cはそれぞれ、波長355nmの光により入射角22.5°、24°および25.5°の入射角で照明することにより形成された強度分布を示す。図中の白色破線はタルボット画像面の位置を示し、角度の変化とともにこれらが変位することが明確である。対称性の理由から自己画像は角度が変化してもy方向では変位しないことを述べておく。自己画像はx方向にはわずかに変位するが、これは無視することができるパターンエッジを除いて。なぜならマスク3における格子パターン2のラインは一様であり、x方向に連続しているからである。図3を参照すると、ここではマスク3の格子2の各ポイントではなく、xz面において所定の入射角範囲により照明される。この角度範囲の限界、θ1とθ2は、マスク3からの基板6の間隔d、格子3の周期、およびビーム7の波長およびyz面での0°までの入射角に関連して、連続タルボット面間の横断強度分布の全範囲で基板6が露光されるように選択される。そして、回折光照射野8により基板6で形成される露光はATLおよびDTL技術により形成されるものと同等であり、マスク3の格子2の周期の半分の静止画像すなわち拡張された被写界深度による静止画像が基板6に印刷される。逆に言えば、限界θ1とθ2との間の入射角範囲で、これら角度限界に対するタルボット面のそれぞれのセパレーションがS1と2であるビーム7により格子2が照明されると、基板6は、マスク3からの最小間隔dminにこれが配置されている場合、タルボット面間の全体横断強度分布の平均で露光される。最小間隔dminは、dmin=S1S2/S1-S2式5により規定される。静止画像を形成するための照明ビームに必要な角度幅または収束/拡散角Δθiが入射角θ1の平均角に比較して小さい場合、これはさらに式3および4を使用して導出される。Δθ1≧Scosφ1dsinθi式6ここでdはマスク3からの基板6の間隔、Sは入射角の平均に対する連続するタルボット面のセパレーション、φ1は入射角の平均の光により形成される1次の回折光の角座標である。式6は透過光照明野の1次の回折光に対する角座標しか含んでいないが、それより高次の回折光が存在する場合に必要な角度範囲の評価にも使用することができる。数式により示されるように、マスク3から所定の間隔で配置された基板6に静止画像を形成するために必要な角度幅Δθiは、マスク3における格子2の周期、照明ビーム7の波長が特定のものであっても、特定の値には制限されず、むしろ最小値に関連する。したがって所定の角度範囲にわたる変化によって形成される基板6での横断強度分布の縦方向の変位の大きさが、少なくとも連続タルボット面のセパレーションに等しければ十分である。さらに所定の入射角範囲にわたるビーム強度の分布は均一である必要はなく、種々異なる形を取ることができる。たとえばガウス分布または直交包絡線もしくはガウス包絡線による離散角集合であって良い。他の多くの角度分布の形も考えられ、使用することができる。式6に示された分析的数式は特定の格子周期、照明波長および平均入射角に必要な角度幅の良好な評価を可能にするが、基板6を露光する光照射野のコンピュータシミュレーションを追加でまたは択一的に実行することが推奨される。とりわけ所定の角度範囲にわたる強度分布がガウス形状または他の自明でない形状を有する場合には推奨される。シミュレーションによって角度範囲、格子デザインとりわけ周期、デューティ比、クロムの厚さ、位相シフト層の厚さおよびビーム偏光を、照明波長および特定のリソグラフプロセスの要求に関して最適化することができ、これによりフォトレジストを露光する光照射野が所望のパターンを印刷するために必要な強度とコントラストを有するようになる。1次の回折光が照明された格子から伝播できるためには次数においてφ1<90°であることが必要であるが、このことは基板を露光する光照射野が所望のパターンを印刷するために十分なコントラストを有することを保証するものではない。1次の回折光がたとえばφ1<70°の小さな極座標で伝播すると有利である。この角座標は特定の適用およびフォトレジストプロセスのためのコンピュータシミュレーションによって正確に決定することができる。コンピュータシミュレーションは、GSolverGratingSolverDevelopmentCoによる製品のような市販のプログラムまたはMEEPMITによるのようなフリーウエアを使用して実行することができる。この2つの特定のプログラムは、周期的構造を通って伝播するビームを計算するための理論的方法論に基づいている。すなわちそれぞれ厳密結合波解析法RCWAおよび有限差分時間領域法FDTDである。このようなプログラムを使用してマスク3の格子2の特定の構造を透過する電場分布を、照明ビーム7の特定の波長および入射角について計算することができ、この計算は入射角の所定の範囲にわたって繰り返される。そして基板6で発生される光照射野を照明ビーム7の各角度成分について決定することができ、所定の入射角範囲の照明により形成される基板6での光照射野の重ね合わせを決定するために積分することができる。この積分は、所定の角度範囲にわたる照明の相対的強度の変動を考慮して行うべきである。このストラテジーまたは類似のストラテジーの数学的および計算的詳細は容易に理解され、当業者によって実現することができる。より洗練されたまたはより正確な他の計算的ストラテジーも、本発明の技術思想または実施形態による基板6を露光する積分強度分布のシミュレーションに使用することができる。コンピュータシミュレーションによる最適化および検証に続いて、実験的最適化がたとえば以下の実施形態を使用して実行される。所定の角度範囲にわたってビーム7の強度分布が均一な場合、この角度範囲にわたる入射角の変化によって形成される基板6での横断強度分布の縦方向変位の大きさが、連続タルボット面のセパレーションにほぼ等しくなるようにこの角度範囲を選択するのがもっとも有利である。すなわち、Δθi≒Scosφ1/dsinθi式7この範囲により、マスク3を基準にする基板6のセパレーションの調整が不正確であっても生じる画像の強度が最大となる。基板6上に印刷されるパターン9は実質的に静止しているがすなわち大きな被写界深度を有する、セパレーションが変化すると印刷される格子9のライン幅に揺れが生じる。連続タルボット面のセパレーションの倍数である横断強度分布の変位に対応する角度範囲は、セパレーションの不正確な調整に対してより不感であるという結果を生じる。しかしこれらの実際的実現は、角度範囲またはセパレーションが大きいのでさほど好ましくはない。中間の角度範囲も使用することができるが、印刷されるパターン9があまり静止せず、そのライン幅は基板6とマスクのセパレーションの変動に対してより鋭敏である。角度範囲の選択の影響が、図4と5により明確に示されている。図4には、θ1とθ2との間の入射角範囲にわたり強度が均一に分布するビーム7により照明した格子2によって形成された静止画像が示されている。この図は、周期500nmの格子パターンを透過した光照射野のコンピュータシミュレーションを示す。この格子パターンは、厚さ80nmのクロム層に形成された400nm幅の不透明ラインと、溶融シリカ基板上の100nm幅の透明スペースとを有する。この格子パターンが波長355nmのビームにより照明される。このビームの光はθ1=21°とθ2=24°θ1とθ2は図3のように定義されるの間の入射角範囲にわたり均一に分布しており、入射面に偏光Pを有する。光照射野の部分は、格子パターン2の1つの周期に対応する幅と、光照射野の伝搬方向に50μm長さを示す。マスクに近接する領域ではタルボット画像面と中間逆転面とが良く規定されているが、マスクからの距離が増大すると、所定の入射角範囲により引き起こされるタルボット面の縦方向分散がビーム伝搬方向での変調を低減し、約30μmの距離で変調が最小になる。この距離において、所定の角度範囲にわたる入射角の変化により引き起こされる横断強度分布の縦方向変位の大きさが、連続タルボット面のセパレーションに対応し、式7により規定される種々のパラメータ値の相互依存性に一致する。図4に示された光照射野の部分の中心すなわちy=250nmにおける強度とマスクからの距離の増大との関係性が図5に示されている。この図5から、強度発振のコントラストが距離の増大とともに約30μmで最小に達するまで徐々に低減することが明らかである。図6は、所定の角度範囲にわたる強度分布がガウスプロフィールを有する場合において、マスクを透過した強度分布のコンピュータシミュレーションの結果を示す。マスクのパターンは500nm周期の格子であり、これは厚さ80nmのクロム層に形成された幅400nmの不透明ラインと、溶融シリカ基板上の幅100nmの透明スペースとを交互に有する。この格子が波長355nmの光ビームにより照明される。このビームの平均入射角は22.5°であり、格子ラインに対して平行な面内での角度分布は1.5°のσ値を有するガウス分布である。ビームは入射面でP偏光される。図6に示された光照射野の部分は、格子パターンの1つの周期に対応する幅と、光照射野が伝搬方向に50μmの長さを有する。マスクに近接する領域では、タルボット画像面と中間逆転面とが良く規定されている。しかしマスクからの距離が増大すると、所定の入射角範囲により引き起こされる面の縦方向分散がビーム伝搬方向での変調を低減し、マスクから約30μmの距離を超えると、伝搬方向での強度分布の変調が消失し、真の静止画像が得られる。図6に示された光照射野の部分の中心すなわちy=250nmにおける強度とマスクからの距離の増大との関係性が図7に示されている。強度発振のコントラストがマスクからの距離の増大とともに徐々に低減することがよく示されている。またマスクからの距離が約40μmより大きくなると、強度は一定の安定した値に達することが分かる。照明ビームの所定の角度範囲にわたる強度分布がガウスプロフィールを有する場合、照明の所与の平均角に対して必要なビームの角度幅を評価するために式7を使用することができるが、ガウス分布の±σ値におけるビームの最小角度幅に結果が相当することが推奨される。より正確な最適化と検証のためにはコンピュータシミュレーションを実行すべきである。図8は、図6の伝播する光照射野にわたる強度分布をマスクから50μmの距離で示す。すなわち、縦方向に依存性が消失し、静止画像が形成される領域である。発振の周期はマスクの格子の半分であり、周波数の乗算が達成されており、画像における強度発振のコントラストは約65であり、効率的なリソグラフプロセスに適することが分かる。図4から7に示された結果から、所定の角度範囲にわたる強度分布がガウス分布であるビームを使用するのが、長方形分布のものを使用するより有利であることが明らかである。より一般的には、所定の角度範囲にわたってスムーズに徐々に変化する強度分布が、長方形分布の場合のように鋭く変化する分布よりも印刷されるパターンの焦点深度を増大するためには好ましい。択一的に使用することのできるスムーズな強度分布の別の例はコサイン2乗関数であり、ここではIθ-θi=Iθicos2θ-θiであり、関数の変数が±Π/2に達する箇所で好ましくは切り捨てられる。三角関数は別の例である。照明ビームの角度幅の変化Δθiが、ビームの伝搬方向でマスクの後方で強度発振に及ぼす効果が図9a,9b,9cに示されている。ここで平均入射角θiは維持される。それぞれの図は、伝搬する光照射野の同じy座標での距離の増大ともに強度が変化することを示す。それぞれの図で、平均入射角22.5°、波長355nmのビームにより周期0.5μmの格子が照明されるが、角度幅はそれぞれ異なっている。図9aではガウス角度分布のσ値は1.5°であり、図9bでは3°、図9cでは4.5°である。これらから、照明ビームの角度幅が増大すると平均入射角は同じであっても、静止画像が形成される距離が減少することが分かる。照明ビームの平均入射角θiの変化が、ビーム伝搬方向でマスクの後方で強度発振に及ぼす効果が図10a,10b,10cに示されている。ここではビームの角度幅Δθiは維持される。それぞれの図は、伝搬する光照射野の同じy座標での距離の増大ともに強度が変化することを示す。それぞれの図で、σ値1.5°の角度収束を有する波長355nmのビームにより周期0.5μmの格子が照明されるが、平均入射角の値はそれぞれ異なっている。図10aでは平均角が約15°、図10bでは約22.5°、図10cでは約30°である。これらからも、ビームの入射角が増大すると角度幅は同じであっても、静止画像が形成される距離が減少することが分かる。図9a、9b、9cおよび図10a,10b,10cのシミュレーション結果に示された依存性は、式7から推定することもできる。一方、格子ラインに対して平行な面でのビームの照明角の範囲は、基板に所望の静止画像を露光するために十分でなければならない。入射に直交する面での入射ビームの角度幅は非常に小さな値に制限されるべきであるすなわち実質的に1つの角度に。それにより照明角の範囲は実質的に格子ラインに対して平行の面内となる。しかしこの面での照明角の範囲はマスクに対して垂直である必要はないが、明細書記載のように選択され、実際的に有利であり、明細書の明確性の理由から実施形態で使用されている。この面が選択されると、照明角の範囲は入射角の範囲に正確に対応する。yz面では照明ビームが、印刷パターンへの不都合なしに数度またはそれ以上傾斜することができる。しかし直交面で角度が変化すると、基板での静止画像がこの静止画像のラインに直交する方向に変位し、そのためこの面での角度範囲による露光は画像コントラストを劣化させる。とりわけビーム角がΔωだけ、格子ラインに直交する入射面で変化し、マスクからの基板の距離がdであれば、静止画像はこの距離によりΔxで変化する。Δx=dΔω式8典型的には、画像コントラストの許容できない損失を回避するためにΔxが印刷パターンのライン幅Lの四分の一より小さくなるべき場合、直交面における許容角度範囲を、マスクからの基板の特定の距離dについて評価することができる。Δω≦L/4d式9特定の適用要求に応じてこの条件は厳しくすることも、緩和することもできる。図11を参照すると、この図は本発明の第1実施例を示し、周波数3倍パルスダイオード励起固体レーザDPSS15が、波長355nm、出力約0.5W、直径約1mmの視準化ビーム17を形成する。したがってビーム17は単一横モードすなわちガウス強度プロフィールを有するにあり、xz面図示の軸を参照で偏光される。DPSSレーザのパルス率は好ましくは、照明材料の損傷を避けるために非常に低いエネルギーで>10kHzである。ビーム17は、拡散および集束レンズ19,21を有する第1のビームエクスパンダを通過し、このビームエクスパンダはビームの直径を6mmの値に拡大する。このビームは屈折ビーム変換器22に入射し、この変換器はビームのガウスプロフィールを実質的にシルクハット形、または長方形分布に変換する。すなわち出力ビームは視準化される。ガウス形から長方形へのビーム変換器は、MolecularTechnologyGmbHのような企業から市販されている。変換器22の出力ビームは、拡散レンズ24とそれに続く集束レンズ26を有する第2のビームエクスパンダに入射する。このビームエクスパンダは非常に大きな倍率を有し、中央均一部分にわたって60mmの直径の視準化出力ビームを形成する。このビームは大型ミラー28に向けられ、この大型ミラーはビームを、支持体図示せずに保持されたマスク34に反射する。これにより反射ビーム29はマスク34を、xz面では角度θi=25°で、yz面では約0°で照明する。ミラー28は、コンピュータ制御される電動アクチュエータ32を有するステージ30に取り付けられており、コンピュータ制御によりマスク上のビーム29の角度を±5°で調整することができる。シャッタ18が光学系に含まれており、後続の光学系に入る前にビーム17をブロックすることができる。マスク34は格子パターン36を有している。この格子パターンは20mm×20mmの面積を有し、従来のマスク描画技術を使用して溶融シリカ基板上のクロム層に形成された透明ラインと不透明スペースを交互に有する格子36の平行ラインとスペースは0.5μmの周期を有し、x軸に平行に配向されている。マスク34の下方にはシリコンウェハ38があり、このシリコンウェハには標準iライン感光性フォトレジストの0.5μm厚の層がコーティングされている。ウェハ38は真空チャック40により保持されている。この真空チャックはz軸アクチュエータこの機構は当該分野で周知であるので図面には明示されていないを備えるステージシステム42に取り付けられており、マスク34を基準にしてウェハ38のセパレーションと傾斜を調整することができる。このアクチュエータを使用してたとえば基準ゲージの厚さ、マスク34からのウェハ38のセパレーションがウェハ38の表面にわたり約40μに調整される。シャッタ18の開放とミラー28の回転により露光が開始され、これによりマスク34を照明するビーム29の入射角が、露光の持続中に所要の範囲で走査される。所定の範囲この範囲はミラー回転の均一な速度を使用して得ることができるにわたって均一な強度分布を使用する有利な角度範囲は、関連のパラメータに対するそれぞれの値p=0.5μm、θi=25°、d=40μmそしてλ=355nmを式3、4および7に代入することにより決定することができ、ここからΔθ≒2°、すなわち範囲約24°~26°が得られる。またはその代わりに、上記のようにコンピュータシミュレーション法を使用することもできる。yz面ではマスク34を照明するビーム29の角度が露光中に一定である。したがってこの面でマスク34を照明する光線の角度分布は式9の条件を満たす。露光の終了時にシャッタ18は閉鎖される。露光の持続時間または角度走査の速度は、照明ビーム29の強度と、標準手続きを使用するフォトレジスト処理を基準にして最適化される。標準手続きは、種々の露光量のよる連続露光の実行と、フォトレジストに印刷された周期0.25μmの格子パターン結果の、フォトレジスト現像後での評価とを含む。同じ角度範囲またはガウス分布のような異なる角度範囲にわたる非均一な強度分布は、本実施例の装置を使用して発生することができる。このことは例えば、一定速度での角度走査中にレーザビーム15の出力を変化させるか、またはビーム28の出力は一定に保ってミラー28の回転速度を変化させることによって行われる。このような非均一分布に対しては、要求される角度範囲は好ましくはウェハ38を露光する時間積分強度分布のコンピュータシミュレーションによって決定される。上記の本発明の第1実施形態では、ビーム光29が格子36を所定の入射角範囲で連続的に照明し、ここではビーム光29は実質的に均一の入射角を有し、ビーム29の角度が露光中に変化される。格子36を所定の入射角範囲にわたる光により照明するという例示されたやり方は、光源、光学要素および機械要素の多数の択一的組み合わせを使用しても同等に達成することができることは理解されよう。したがってこの実施形態は、ここで選択された特定の光源、ビーム視準化光学系、ビーム偏光エレメントに制限されるものではない。1つの可能な変形例では、マスクを基準にするビームの角度走査が、マスクとウェハサブシステムを1つのユニットとして、静止のビームに対して傾斜させることによって実行される。図12を参照すると、本発明の第2実施形態が概略的に示されている。ここでは周波数3倍ダイオード励起固体レーザ44が、波長355nm、出力約0.5W、直径約1mmの視準化ビーム46を形成する。ビーム46は単一横モードであり、xz面で偏光されている図示の軸を参照。ビーム46は最初に第1のビームエクスパンダを通過する。このビームエクスパンダは、拡散レンズと集束レンズ48,50を有し、ビーム1/e2の半径ビーム強度が軸値の1/e2である箇所の半径を20mmに拡大する。このビームは次にミラー52に入射し、ミラーはこれをy方向に第1のミラー54に向けて反射する。この第1のミラーは走査システム図示せずの第1電動並進ステージに取り付けられたモジュール57の一部である。ミラー54はビームをx方向にシリンダレンズ55に向けて反射する。このシリンダレンズは透過するビームがxz面に収束するよう配向されている。レンズ55の焦点距離は約405mmであり、したがって1/e2光線y方向での最初のビーム光の積分後は角度約±2.8°で収束する。収束ビームはミラー56に入射する。このミラーは、反射されたビーム60がマスク62をxz面でθi=20°の平均入射角で照明し、yz面には実質的に垂直に入射するよう配向されている。シリンダレンズ55とミラー56は、走査システム図示せずの第2の電動ステージに取り付けられたサブモジュール58のコンポーネントである。走査システム自体はモジュール57の一部であり、やはり第1の電動ステージに取り付けられている。第2の電動ステージによって、レンズ55とミラー56はミラー54を基準にしてx方向に移動される図では濃い二重矢印により示されている。一方、第1の電動ステージによって、ミラー54,レンズ55およびミラー56はミラー52を基準にしてy方向に移動される図では濃い矢印により示されている。したがって2つの電動ステージは、x方向でのビーム60の掃引走査とy方向での走査ステップとでビーム60がマスク62にわたりラスタ走査を行うように構成され、コンピュータによって制御されるラスタ走査システムは公知であるので詳細には説明しない。択一的にラスタパターンの掃引走査をy方向に、走査ステップをx方向に実行しても同じ効果が達成されるラスタ以外の2次元走査パターンも別のやり方で同じ効果を達成するために使用することができる。シリンダレンズ55からマスク62までのビーム60の光路長は、マスク62を照明するビーム60の楕円断面が1/e2強度輪郭で約40mm×20mmの大きさを有するように約20cmに構成されている。他の光路長も使用することができるが、マスクがレンズ55の焦点面に接近しすぎてはいけない。なぜならビーム光線の角度が焦点面の近傍でずれることがあり、過度のビーム強度はダメージの原因となるからである。レンズの焦点距離も大きいレンズ55とマスク62の間の光路長も使用することができる。しかしこれによりマスク62は、収束ビームではなく所要の角度範囲を備える拡散ビームにより照明されることとなる。マスク62は、周期0.5μmの平行ラインとスペースからなるパターン64を有し、このラインはx軸に平行に配向されている。マスク62の下方では、標準iライン感光性フォトレジストの層が被覆されたウェハ66が真空チャック上に保持されている。この真空チャックは、ウェハ66の高さとx軸およびy軸周りの傾斜を調整するためのz軸アクチュエータ図示せずに組み込まれている。このアクチュエータと例えば基準ゲージの厚さを使用することにより、ウェハ66は、マスク62に平行に移動され、40μmの距離でマスクから分離される。この分離、前記の照明ビーム60に対する平均入射角20°、マスクにおける格子の周期0.5μm、基板上に静止画像を印刷するために必要な角度の参照範囲により、式3、4および6を使用して約18.6°-21.4°から約2.8度が得られる。上で推奨したようにガウス角度分布の場合、角度範囲は好ましくは±σ値での幅に相当すべきである。これに基づき、強度がその中心値の1/e2になる箇所でのビームの角度幅は約±2.8°とすべきであり、これは上記ビームエクスパンダレンズ48,50とシリンダレンズ55の特別の選択による角度に収束する。関連する適用の特別の要求に必要な角度範囲をより正確に最適化し、検証するために、コンピュータシミュレーションおよび実験的最適化を追加でまたは択一的に実行することができる。yz面ではマスク62を照明するビーム60が視準化され、これによりこの面でマスク62を照明する光線の角度分布は式9の条件を満たす。露光は好ましくは、マスク62のパターン64にわたるビーム60のラスタ走査によって実行される。y方向でのラスタ走査のステップ幅は5mmに選択されている。これはマスク62のパターン64のすべてのポイントにわたり、積分露光強度を極めて均一にするためである。この第1実施例では、この場合はビーム60の出力、走査速度、およびラスタパターンのステップサイズの関数である露光強度が、フォトレジスト処理を基準にして最適化されている。このフォトレジスト処理は、1つまたは複数のウェハの露光シーケンスと、印刷された周期0.25μmの格子の評価により実行される。本発明のこの実施形態では、マスクパターン64の各ポイントを照明するために必要な照明ビーム60の角度範囲が、収束露光ビームの角度範囲とビーム60の走査運動とによって形成され、これらが所望の結果を生むために共同する。本発明の上記第2実施形態では、ビーム光60が格子64の各ポイントを所定の入射角範囲により連続的に照明する。ここで格子64は、ビーム60の入射角が変化する光により照明され、ビーム60は格子64を基準にして並進的に走査される。この実施形態で例示された入射角範囲にわたり格子64を照明するやり方は、光源、光学的および機械的要素の多数の択一的な組み合わせを使用しても同様に実行することができる。したがって本発明はここで選択された光源、ビーム形成光学系および走査コンポーネントに制限されるものではない。例えば走査は、マスクおよびウェハサブシステムをユニットとしてビームを基準に移動することによっても択一的に実行することができる。別の例は、1つの面にガウス分布に類似する角度成分を有し、その光線が直交面で実質的に視準化されるビームを、線形ディフューザRPCPhotonics,Inc等の会社から市販されているを視準化されたビームにより照明することにより得ることである。この場合、光は一方の面で所要の角度分布で散乱され、他方の面で光線は実質的に視準化されたままである。散乱された光ビームによりマスクを照明することによって、当該角度範囲にわたる平均入射角、照明波長およびパターン周期は上記の条件を満たし、第2実施形態と同じようにマスクにわたりビームを走査することにより、焦点深度の大きな周期パターンがマスクの下方にあるフォトレジスト被覆基板上に均一に印刷される。線形ディフューザは屈折すなわち凸型または凹型シリンダマイクロレンズのアレイからなり、その周期が好ましくはディフューザにわたってランダム化されている場合または回折格子パターンからなり、その周期が好ましくはディフューザにわたってランダム化されている場合により拡散光を形成する。この実施形態の別の変形例では、ビーム成形コンポーネントの種々のセットがxz面でマスクに照明ビームを発生するのに使用される。この照明ビームは図12に示したものと同様であり、ガウス強度分布で収束する。しかしyz面では直径にわたり実質的に均一な強度で視準化されるように配置されており、直径は少なくともパターンと同じ長さである。このようなビーム特性は例えばディフューザプレートを使用して形成することができる。このディフューザプレートはビームを実質的にシルクハット形分布でxy面に大きな角度範囲にわたり拡散させ、直交面に無理できる程度のまたは小さな角度拡散を形成するこれはRPCPhotonics,Incから市販されている強化ディフューザの1つである。このディフューザプレートには、散乱光を視準化するレンズが続いており、他の標準的光学コンポーネントとともにxy面に所要のビーム特性を発生する。このような構成は当業者であれば容易に設計できるである。このビームによるマスクパターンの均一照明はマスクにわたる、x方向でのビームの単一線形走査によって得られる。本発明の第3実施形態を示す図13を参照すると、アルゴンイオンレーザ72がUV光73の視準化ビームを放射する。このビームの波長は364nmであり、直径は2mmである。このビーム73はTEM00モードであり、xz面で偏光されている。ビーム73はシリンダ状の拡散および集束レンズ74,76を含むビームエクスパンダを通過する。ビームエクスパンダはビームの直径をxz面で拡大し、大きさが1/e2の楕円断面の視準化ビームを形成する。この楕円の主軸は34mmである。ビームは焦点距離が100mmのシリンダレンズ78に入射し、このシリンダレンズは光をyz面に集束する。ディフューザプレート80はシリンダレンズ78から約75mmの距離に配置されており、シリンダレンズ78からの収束ビームはディフューザプレート80上に約34mm×0.5mmの大きさの延長ストライプを形成する。ディフューザプレート80はミクロ構造表面を備える溶融シリカ基板を含み、高い伝搬効率を有する照明ビームを約15°×15°の狭い角度円錐形に、この角度にわたり高い均一性を備えるように拡散する。このような拡散特性を有する拡散基板は、例えばRPCPhotonicsInc社から市販されている。ディフューザプレート80は円形であり、その中心は図示しないモータに取り付けられている。モータは、ディフューザプレート80をその面に対して直交する軸を中心に約300rpmの速度で回転する。回転するディフューザから放射する拡散光の円錐体は焦点距離500mmの視準化レンズ84に入射する。yz面で光は実質的にレンズによって視準化され、y方向に約130mmの直径のビームを形成する。xz面では、その長さに沿ってガウス強度分布を有するディフューザプレート80を照明する光の延長ストリップが、視準化レンズ84の後方で照明ビームに所定の角度範囲を挿入する。これによりビームの各ポイントにおいて光線の角度は、レンズ84の軸に平行である平均方向を中心に1/e2光線を基準にして±1.9°の範囲で分布する。レンズ84の出力ビームの100mmまでの中心直径エリアは実質的に均一の強度分布を有する。yz面では、ディフューザを照明する光ストライプの狭い部分とレンズの長い焦点距離が、レンズの後方で光の角度範囲を制限し、この面では±0.5mR相対強度が軸強度の1/e2になる角度でまでである。このビームはミラー86によって反射される。このミラーは、マスク90を照明する反射ビーム68の光の平均角がxz面においては15°の入射角であり、yz面においては0°までであるように傾斜されている。マスク90は50mm×50mmまでの面積の格子パターン92を有する。この格子パターンは周期0.45μmの平行ラインとスペースを有し、ラインはx軸に対して平行に配向されている。マスク90の下方にあるウェハ94には標準iライン感光性フォトレジスト層が被覆されており、ウェハは真空チャック96に装着されている。この真空チャックは、マスク90を基準にしてx軸とy軸を中心にするウェハ94の高さと傾斜を調整するための機構と一体のステージ98に取り付けられている。ステージ98の高さおよび傾斜調節機構と例えば隙間ゲージとを使用して、ウェハ94はこれがマスク90に対して平行になり、マスクから格子92の50μmまでの距離で離れるように移動される。このセパレーション、マスク90上のビーム88の前記平均角15°、および格子92の周期0.45μmにより、ウェハ上に静止画像を印刷するのに必要な最小角度範囲は、式3、4および6を使用して、1.9°までとなる。上で推奨したように、ガウス角度分布の場合、この角度範囲は好ましくは±σ値における幅に対応すべきである。これに基づき、強度が中心値の1/e2である箇所のビームの角度幅は±1.9°までにすべきである。これは上記のように選択されたビームエクスパンダレンズ74,76、ディフューザプレート80および視準化レンズ84の特定の配置構成により形成される収束角である。関与する適用の特別の要求に対して必要な角度範囲をより正確に最適化し、検証するためには、コンピュータシミュレーションと実験的最適化を付加的にまたは択一的に実行することができる。yz面では、冒頭述べたようにマスク90を照明する光の角度範囲が印刷される格子のコントラストを低減しないことが重要である。この面でマスク90を照明する光の角度範囲がガウス分布することと式9とを考慮すると、シリンダレンズ78,ディフューザプレート80および視準化レンズ84の特定の選択および配置構成により形成される角度範囲に対して上記のように決定された約±0.5mRは、ライン幅125nmの所望のパターンを周期0.5μmの格子パターン92から50μmの距離にあるウェハ94に印刷するのに適する。露光はまずディフューザプレート80の回転を開始することにより実行される。このディフューザプレートは、シャッタ28が開放しているときに連続的に移動させるために用いられる。結果として生じるコヒーレントなスペックルパターンはマスク90にわたって均一であり、したがってマスク90にわたる時間積分された露光が均一になる回転により、ディフューザプレートを透過する光は事実上、コヒーレントになる。次にシャッタ28が、マスク90および特定のフォトレジストプロセスにおける照明ビームの強度に依存する時間の間、開放され、これによりフォトレジストは現像後に所要の構造を形成するに必要な露光量を受ける。以前の実施形態と同じように、露光時間は有利には、1つ又は複数のウェハ上での連続露光と、周期0.225μmの印刷された格子の引き続く評価により実行されるフォトレジストプロセスを基準にして最適化すべきである。本発明の上記第3実施形態では、ビーム光68が所定の入射角度範囲で格子92を同時に照明する。ここで格子92はビーム88の各ポイントで所定の入射角範囲を有する光により照明される。本実施形態により例示される所定の入射角範囲にわたる光により照明される格子92の照明のやり方は、光源、光学的および機械的コンポーネントを択一的に組み合わせても同等に達成することができる。したがって本発明は、ここに選択された光源およびコンポーネントの特定の選択に制限されるものではない。ここに示さない本発明の別の実施形態は、第2実施形態と第3実施形態の組み合わせに係るものであり、その実施形態では、第3実施形態と同じようなビーム成形光学系のセットがビーム発生に使用される。このビームの光はビームの各ポイントにおいて、xz面に所定の角度範囲にわたりガウス強度分布する角度範囲を有する。ただしガウス様の拡散特性を有する従来のディフューザが使用されると、マスクを照明するビームの強度空間変動は均一ではなく、ガウス分布に近似する。したがって他のビーム成形光学コンポーネントが選択され、これによりマスクを照明するビームのサイズはマスクパターンのサイズより格段に小さくなる。第2実施形態に類似する2軸走査システムが、ビームをマスクにわたってラスタパターンまたは等間隔で走査するために用いられる。これは基板上に所望のパターンを印刷するために必要な角度範囲でパターンを均一に照明するためである。この実施形態を使用すると、露光中にディフューザを回転する必要がない。本発明の前記実施形態は、介在媒体が空気であるマスクと基板との配置構成を記述し、これは製造プロセスの点ではもっとも実際的な配置構成であるが、本発明の別の実施形態では異なる屈折率を有する別の媒体も択一的に使用することができる。所定の照明波長を使用してより小さな格子を印刷するために、有利には空気よりも屈折率の高い浸漬液体がマスクと基板との間に挿入される。そのような材料が使用される場合、基板上に所望のパターンを印刷するために必要な照明の角度範囲は、上記数式の修正変形式を使用し、介在材料の屈折率を考慮して評価することができる。必要な修正は、当業者であれば本発明の開示から容易に決定できるである。同様にコンピュータシミュレーション法が、照明の所要の角度範囲をより正確に決定するために使用される場合、マスクと基板との間の媒体の高屈折率を適切に考慮すべきである。浸漬液体は、露光前であってセパレーションを所要の値に調整した後または調整する前に、マスクと基板との間に挿入すべきであり、露光後にはマスクと感光性表面から注意深く除去してクリーニングすべきである。さらに一般的概念の上記記述および詳細な説明は、格子形状のマスクパターンを参照し、この格子のラインはパターンにわたって平行であり、その周期はパターンにわたって均一であるが、本発明およびその実施形態は、パターンにわたりその周期が格子ベクトル方向におよび/またはベクトルに直交する方向に緩慢に変化する格子パターンにも、ラインが特定の方向に対して均一に平行ではない格子パターンにも適用することができる。そのような擬似周期的パターンを印刷するために必要な照明の角度範囲は、好ましくは格子周期の最大値から評価すべきである。周期的パターンについても、範囲の最適化のためにコンピュータシミュレーションを好ましくは使用すべきである。本発明の別の実施形態では、マスクが複数のサブパターンを有し、各サブパターンは線形構造の均一な周期的アレイからなる。しかしサブパターンが異なれば、その周期は同じではない。サブパターンは同時にまたは順次、所定の入射角範囲で照明され、これにより各サブパターンはそれぞれの周期の半分のパターンを基板上のフォトレジスト層に印刷する。この実施形態では、所定の角度範囲にわたる強度変動が実質的にガウス分布に相当し、選択された入射角範囲は好ましくはマスクのサブパターンの最大周期から決定される。本発明のさらなる実施形態では、基板上のフォトレジスタ層の実質的に同じエリアが、同じパターンにより2回の露光と同じ方法を使用して、しかし露光の間に基板の面に直交する軸を中心に基板を180°回転させて2回印刷される。これにより、実質的に正方形または円形構造の2次元周期的パターンがフォトレジスト層に印刷される。加えて上記実施形態では、マスクを照明するビームがマスク上へのその入射面で偏光されるが、本発明の別の実施形態では、マスクを照明するビームが直交面または他の面で偏光されても良い。また択一的に円形偏光または楕円偏光される。上記実施形態に示された光源は、水銀ランプの放射スペクトルのiラインに近い出力波長を有するレーザである。これは、標準iラインフォトレジストと互換性を取るためであるが、他の標準フォトレジストと号慣性のある他の波長を有するレーザも択一的に使用することができる。例えば出力波長が248nmおよび193nmのKrFおよびArFエキシマレーザを本発明の実施形態で、基板にコーティングされた標準DUV感光性フォトレジスタとともに使用することができる。これらの場合、レーザ後方にあるビーム成形コンポーネントを、フォトレジストを照明するビームの所要の入射角範囲を得るために適切に選択すべきである。レーザ以外の光源も、実質的に単色光のビームを発生するために使用することができる。例えば水銀ランプまたは水銀キセノンランプのような放電ランプであって、放射スペクトルの狭いラインを透過させるためにスペクトルフィルタを出力ビームに備える放電ランプも使用することができる。狭帯域LEDも使用することができる。このような光源と後続の光学要素は、マスクを照明するビームが所要の入射角度範囲を有し、フォトレジストの被覆された基板を適切に露光できるようにするため適切に設計し、選択する必要がある。別の実施形態では、マスクを照明する光が1つ以上の照明光源を使用して発生され、例えば2つ以上のレーザ光源が同じ方向で、マスクにわたりそれぞれ2つ以上のビームでの走査に使用され、所定の入射角範囲でのマスクの照明と走査経路は部分的に重なっており、これによりマスクパターンの時間積分された照明は空間的に良好に同一形を有する。上記実施形態は本発明の好ましい実施形態として見なされるが、もちろん種々の変更および修正は、本発明の技術思想を逸脱することなく容易に可能である。たがって本発明はここに説明し、図示した実施例の形態に制限されるものではなく、特許請求の範囲の技術範囲に入るすべての変更を含むものである。"