"処理対象液を貯留可能に構成された処理槽本体と、少なくともその表面部位に光触媒が配設されて前記処理槽本体内に収容された光触媒フィルタと、前記光触媒フィルタに紫外線を照射する光源ランプとを備えた浄化処理槽であって、前記処理槽本体は、貯留した前記処理対象液に前記光触媒フィルタにおける下方側部位が浸り、かつ当該貯留した処理対象液の液面よりも上方に当該光触媒フィルタにおける上方側部位が位置するように当該光触媒フィルタを収容可能に構成されると共に、当該処理槽本体内に導入された前記処理対象液を前記光触媒フィルタにおける前記上方側部位に案内する案内機構を備えて構成され、前記光源ランプは、前記処理槽本体内に貯留された前記処理対象液の液面よりも上方に当該光源ランプにおける少なくとも一部が位置するように当該処理槽本体内に収容されている浄化処理槽。前記処理槽本体内に貯留された前記処理対象液を攪拌する攪拌機構を備えている請求項1記載の浄化処理槽。前記攪拌機構は、前記貯留された処理対象液内に気体を供給して当該供給した気体によって当該処理対象液を攪拌する気体供給機構を備えて構成されている請求項2記載の浄化処理槽。前記光触媒フィルタは、筒状に形成され、前記光源ランプは、前記光触媒フィルタの内側に配設されている請求項1から3のいずれかに記載の浄化処理槽。前記光触媒フィルタは、多孔質体で形成された骨材に前記光触媒がコーティングされて構成されている請求項1から4のいずれかに記載の浄化処理槽。請求項1から5のいずれかに記載の浄化処理槽を備えて前記処理対象液を浄化可能に構成されている浄化処理システム。前記浄化処理槽の上流側に配設された気液分離槽を備え、当該気液分離槽において気体が分離された前記処理対象液を前記浄化処理槽によって浄化する請求項6記載の浄化処理システム。ところが、従来の浄化処理装置には、以下の問題点が存在する。すなわち、従来の浄化処理装置では、光触媒反応容器内において汚染水に浸漬された状態の光触媒に対して紫外線ランプから紫外線を照射することで汚染水を光触媒反応によって浄化する構成が採用されている。この場合、光触媒反応容器内に供給された汚染水は、たとえ、濾過フィルタ等で物理的にフィルタリング可能な粉塵などの異物が除去されて、見た目には透明であっても、紫外線の透過率が低い紫外線の吸収率が高いことが知られている。このため、汚染水に浸漬された状態の光触媒に対して紫外線ランプから紫外線を照射する構成の従来の浄化処理装置では、紫外線ランプから出射された紫外線が汚染水を透過する際に大きく減衰する結果、光触媒に対して十分な量の紫外線を照射するのが困難となっている。また、実際には、異物が含まれた汚染水を処理対象とする場合が多く、このような場合には、異物によって紫外線の透過が物理的に妨げられる結果、光触媒に対して十分な量の紫外線を照射するのが一層困難となる。したがって、従来の浄化処理装置では、紫外線の照射によって光触媒反応を十分に促進させるのが困難となっており、これにより、汚染水の浄化処理能力の向上が困難となっているという問題点がある。この場合、高輝度の紫外線ランプを配設したり、複数の紫外線ランプを配設したりすることにより、光触媒反応を十分に促進し得る十分な量の紫外線を光触媒に照射できる可能性がある。しかしながら、このような構成を採用した場合には、高輝度のランプ、或いは、複数のランプを点灯させるために大量の電力が必要となる結果、浄化処理装置のランニングコストが高騰するという問題が生じる。本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、ランニングコストの高騰を招くことなく、浄化処理能力を十分に向上させ得る浄化処理槽および浄化処理システムを提供することを主目的とする。上記目的を達成すべく、請求項1記載の浄化処理槽は、処理対象液を貯留可能に構成された処理槽本体と、少なくともその表面部位に光触媒が配設されて前記処理槽本体内に収容された光触媒フィルタと、前記光触媒フィルタに紫外線を照射する光源ランプとを備えた浄化処理槽であって、前記処理槽本体は、貯留した前記処理対象液に前記光触媒フィルタにおける下方側部位が浸り、かつ当該貯留した処理対象液の液面よりも上方に当該光触媒フィルタにおける上方側部位が位置するように当該光触媒フィルタを収容可能に構成されると共に、当該処理槽本体内に導入された前記処理対象液を前記光触媒フィルタにおける前記上方側部位に案内する案内機構を備えて構成され、前記光源ランプは、前記処理槽本体内に貯留された前記処理対象液の液面よりも上方に当該光源ランプにおける少なくとも一部が位置するように当該処理槽本体内に収容されている。また、請求項2記載の浄化処理槽は、請求項1記載の浄化処理槽において、前記処理槽本体内に貯留された前記処理対象液を攪拌する攪拌機構を備えている。さらに、請求項3記載の浄化処理槽は、請求項2記載の浄化処理槽において、前記攪拌機構は、前記貯留された処理対象液内に気体を供給して当該供給した気体によって当該処理対象液を攪拌する気体供給機構を備えて構成されている。また、請求項4記載の浄化処理槽は、請求項1から3のいずれかに記載の浄化処理槽において、前記光触媒フィルタは、筒状に形成され、前記光源ランプは、前記光触媒フィルタの内側に配設されている。さらに、請求項5記載の浄化処理槽は、請求項1から4のいずれかに記載の浄化処理槽において、前記光触媒フィルタは、多孔質体で形成された骨材に前記光触媒がコーティングされて構成されている。また、請求項6記載の浄化処理システムは、請求項1から5のいずれかに記載の浄化処理槽を備えて前記処理対象液を浄化可能に構成されている。また、請求項7記載の浄化処理システムは、請求項6記載の浄化処理システムにおいて、前記浄化処理槽の上流側に配設された気液分離槽を備え、当該気液分離槽において気体が分離された前記処理対象液を前記浄化処理槽によって浄化する。請求項1記載の浄化処理槽では、処理槽本体が、貯留した処理対象液に光触媒フィルタの下方側部位が浸り、かつ貯留した処理対象液の液面よりも上方に光触媒フィルタの上方側部位が位置するように光触媒フィルタを収容可能に構成されると共に、処理槽本体内に導入された処理対象液を光触媒フィルタにおける上方側部位に案内する案内機構を備えて構成され、光源ランプが、処理槽本体内に貯留された処理対象液の液面よりも上方に少なくとも一部が位置するように処理槽本体内に収容されている。また、請求項6記載の浄化処理システムでは、上記の浄化処理槽を備えて処理対象液を浄化可能に構成されている。したがって、請求項1記載の浄化処理槽、および請求項6記載の浄化処理システムによれば、処理槽本体内の上方側において光源ランプからの紫外線が大きく減衰することなく光触媒フィルタに照射され、この光触媒フィルタの上方側部位に処理対象液が案内されて光触媒フィルタを伝って流れるため、光触媒フィルタによる光触媒反応を好適に生じさせて、処理対象液を十分に浄化することができる。また、高輝度の光源を有する光源ランプや、複数の光源ランプを設けることなく、光触媒フィルタに対して十分な量の紫外線を照射することができるため、消費電力の増加を回避して、そのランニングコストを十分に低減することができる。さらに、光触媒フィルタの下方側部位が処理槽本体内の処理対象液に浸った状態となっているため、処理槽本体内に導入された処理対象液が光触媒フィルタを伝って流れ落ちる間だけでなく、この処理対象液が処理槽本体の下方側部位に貯留された状態においても、光触媒フィルタによる光触媒反応によって好適に浄化することができる。また、請求項2記載の浄化処理槽によれば、処理槽本体内に貯留された処理対象液を攪拌する攪拌機構を備えたことにより、貯留された処理対象液を透過する際に紫外線がある程度減衰してしまう処理槽本体の下方側部位において、光触媒フィルタの表面に処理対象液を好適に接触させて、光触媒反応によって十分に浄化することができる。さらに、請求項3記載の浄化処理槽によれば、貯留された処理対象液内に気体を供給して供給した気体によって処理対象液を攪拌する気体供給機構を備えて攪拌機構を構成したことにより、比較的簡易な構成でありながら、貯留された処理対象液を好適に攪拌して光触媒フィルタに接触させることができる。また、貯留された処理対象液内に没する部位に可動機構部品を配設することなく処理対象液を攪拌することができるため、煩雑なメンテナンス作業を不要として、浄化処理槽浄化処理システムの浄化処理能力を長期間に亘って維持することができる。また、請求項4記載の浄化処理槽によれば、光触媒フィルタを筒状に形成すると共に、光源ランプを光触媒フィルタの内側に配設したことにより、光源ランプからの紫外線を光触媒フィルタに対して効率良く、かつ満遍なく照射することができるため、光触媒フィルタの各部に光触媒反応を好適に生じさせることができる。さらに、請求項5記載の浄化処理槽によれば、多孔質体で形成した骨材に光触媒をコーティングして光触媒フィルタを構成したことにより、光触媒の表面積を十分に拡げることができる結果、光源ランプからの紫外線を光触媒に対して一層効率よく照射することができると共に、処理対象液を光触媒に対して効率よく接触させることができるため、一層好適に浄化することができる。また、無垢材の骨材に光触媒をコーティングした光触媒フィルタよりも軽量化することができる。また、請求項7記載の浄化処理システムによれば、浄化処理槽の上流側に配設された気液分離槽を備えて、気液分離槽において気体が分離された処理対象液を浄化処理槽によって浄化することにより、浄化処理槽内に導入される以前に大きな油滴を浮上分離させることができるため、光触媒フィルタに目詰まりが生じる事態を招くことなく、処理対象液を一層好適に浄化することができる。以下、添付図面を参照して、本発明に係る浄化処理槽および浄化処理システムの実施の形態について説明する。図1に示す浄化処理システム1は、一例として、エアーコンプレッサや圧縮空気除湿装置などのドレン水発生源から排水されたドレン水W油分等を含んで汚れたドレン水Wを対象とする浄化処理を実行可能に構成されたシステムであって、気液分離槽2、第1処理槽3a、第2処理槽3bおよびエアーポンプ4を備えて構成されている。この場合、本例の浄化処理システム1では、図示しない接続用配管を介して気液分離槽2がドレン水発生源に接続されている。また、この浄化処理システム1では、送水用配管11によって気液分離槽2および第1処理槽3aが相互に接続されると共に、送水用配管12によって第1処理槽3aおよび第2処理槽3bが相互に接続され、かつ、排水用配管13を介して第2処理槽3bが図示しない排水溝または、処理済みのドレン水Wを貯留するタンク等に接続されている。また、上記の送水用配管11,12および排水用配管13には、大気開放口11a,12a,13aがそれぞれ設けられて、後述するドレン水Wの流路内がほぼ大気圧となっている。さらに、この浄化処理システム1では、気液分離槽2よりも第1処理槽3aの方がやや低い位置に配置されると共に、第1処理槽3aよりも第2処理槽3bの方がやや低い位置に配置されている。これにより、この浄化処理システム1では、ドレン水Wを送水するための動力を必要とすることなく、後述するようにして、気液分離槽2から第1処理槽3aにドレン水Wが自然流下によって送水されると共に、第1処理槽3aから第2処理槽3bにドレン水Wが自然流下によって送水され、かつ、第2処理槽3bから排水溝にドレン水Wが自然流下によって排水される。気液分離槽2は、ドレン水W液体と圧縮空気気体とが混ざり合った状態でドレン水発生源から排出される混合流体を液体と気体とに分離させ、かつ、分離させた液体に含まれている油滴を浮上させて分離させるための分離槽であって、容器体21および蓋体22で構成された処理槽本体20を備えている。この場合、容器体21には、分離させたドレン水Wを排水するための排水口21aが設けられ、蓋体22には、上記の混合流体を導入するための導入口22aが設けられている。なお、浄化処理システム1の構成についての理解を容易とするために、容器体21および蓋体22だけの簡易な構成の処理槽本体20で気液分離槽を構成した例について説明するが、上記の気液分離槽2の構成に代えて、混合流体を液体と気体とに分離させ得る各種構成の気液分離槽を採用することができる。第1処理槽3aおよび第2処理槽3b以下、区別しないときには処理槽3ともいうは、浄化処理槽の一例であって、図2に示すように、光触媒フィルタ33、光源ランプ34およびエア供給部36が処理槽本体30内に収容されて構成されている。また、処理槽本体30は、浄化処理したドレン水Wを排水するための排水口31aが設けられた容器体31と、処理対象のドレン水Wを導入するための導入口32aが設けられた蓋体32と、導水板35とを備えて構成されている。この場合、この浄化処理システム1では、送水用配管12および排水用配管13における最高位部位ドレン水Wの流路において最も高い部位が、一例として、処理槽本体30容器体31における高さ方向の上方から1/3程度の部位に位置するように、送水用配管12および排水用配管13が排水口31aに接続されている。言い換えれば、この浄化処理システム1では、第1処理槽3aの処理槽本体30における上方から1/3程度の部位が、送水用配管12における最高位部位と同程度の高さに位置するように第1処理槽3aが配置されると共に、第2処理槽3bの処理槽本体30における上方から1/3程度の部位が、排水用配管13における最高位部位と同程度の高さに位置するように第2処理槽3bが配置されている。したがって、この浄化処理システム1では、第1処理槽3a内に導入されたドレン水Wの水位が処理槽本体30における高さ方向の下方から2/3程度となったときに、排水口31aから送水用配管12内に進入しているドレン水Wが第2処理槽3b内に導入され、第2処理槽3b内に導入されたドレン水Wの水位が処理槽本体30における高さ方向の下方から2/3程度となったときに、排水口31aから排水用配管13内に進入しているドレン水Wが排水溝に排水される。これにより、この浄化処理システム1では、両処理槽3の処理槽本体30内に、その高さ方向の2/3を大きく超える量のドレン水Wが貯留されることなく、両処理槽本体30における高さ方向の上方側から1/3程度の空間に空気が存在する状態が維持される。光触媒フィルタ33は、一例として、連続気泡性の原体を焼結して形成した多孔質セラミックスによって円筒状に形成された骨材多孔質体で形成された骨材の一例の表面外周面、内周面および各孔の内壁面にTiO2光触媒の一例がコーティングされて少なくともその表面部位に光触媒が配設されてとの構成の一例、骨材の各孔を介して、光触媒フィルタ33の内側から外側に向かってドレン水Wを通過させるように処理槽本体30内に収容されている。なお、骨材にコーティングする光触媒については、必要に応じて、TiO2に任意の添加物Agなどを添加したものを使用することができる。この場合、本例の処理槽3では、光触媒フィルタ33の高さ筒長が処理槽本体30の高さ容器体31の深さと等しくなるように構成されている。また、本例の処理槽3では、上記したように、処理槽本体30における高さ方向の上方側から1/3程度の空間に空気が存在する状態が維持されるように構成されている。したがって、この処理槽3では、処理槽本体30内に貯留されたドレン水Wに光触媒フィルタ33における下方側部位この例では、下方側の2/3程度が浸り、かつ貯留されたドレン水Wの液面よりも上方に光触媒フィルタ33における上方側部位この例では、上方側の1/3程度が位置した状態となる。光源ランプ34は、光触媒フィルタ33の内側に配設されて、光触媒フィルタ33に対して紫外線を照射する。この場合、本例の光源ランプ34は、一例として、直管型の蛍光管を光源として備えて全体として棒状に形成されている。この光源ランプ34は、一例として、光触媒フィルタ33の筒径方向における中心部に位置するように、導水板35の下面に下向きに取り付けられている。これにより、後述するように、処理槽本体30内にドレン水Wが貯留された状態においては、光源ランプ34の基端部導水板35に固定された側の端部:上端部側の一部が、ドレン水Wの液面よりも上方に位置した状態となる貯留された処理対象液の液面よりも上方に光源ランプにおける少なくとも一部が位置するように処理槽本体内に収容されているとの構成の一例。導水板35は、案内機構の一例であって、光触媒フィルタ33の内径よりもやや小径の円板状に形成されると共に、その板面上面が水平となり、かつ、容器体31に対して蓋体32を装着したときに光触媒フィルタ33の内側に位置するように蓋体32に取り付けられている。この導水板35は、後述するように、導入口32aから処理槽本体30内に導入されたドレン水Wを、その外縁部に向かって展延させるようにして板面に沿って流動させることにより、ドレン水Wを光触媒フィルタ33の上方側部位に案内する。これにより、後述するように、この処理槽3では、処理槽本体30内に導入されたドレン水Wが光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちて貯留される。エア供給部36は、エアーポンプ4と相まって攪拌機構の一例である気体供給機構を構成する。このエア供給部36は、処理槽本体30の底部に配設されると共に、エアーポンプ4からエアーホース4aを介して圧送される空気気体の一例を処理槽本体30内に供給する排出することによって、処理槽本体30内に貯留されているドレン水W内に気泡を生じさせ、この気泡の浮上によってドレン水Wを攪拌する。この浄化処理システム1によってドレン水Wを浄化処理する際には、まず、図示しない接続用配管を介してドレン水発生源と気液分離槽2とを相互に接続すると共に、排水用配管13の下流側端部を排水溝に敷設する。なお、気液分離槽2および両処理槽3の設置や、送水用配管11,12を介しての気液分離槽2および両処理槽3の接続に関しては、既に完了しているものとして説明を省略する。次いで、図示しない電源スイッチを操作して両処理槽3内の光源ランプ34を点灯させて光触媒フィルタ33に対して紫外線を照射させると共に、エアーポンプ4から両処理槽3内のエア供給部36にエアーホース4aを介して空気を供給させる。この際に、この処理槽3では、前述したように、光源ランプ34が光触媒フィルタ33の筒径方向の中心部に位置するように光源ランプ34が設置されている。したがって、光源ランプ34から出射された紫外線が光触媒フィルタ33の各部に対して均一に照射される。なお、本例では、比較的大きな孔の多孔質セラミックスを骨材として採用して光触媒フィルタ33が形成されている。したがって、光源ランプ34からの紫外線が光触媒フィルタ33の内周面に照射されるだけでなく、各孔を通過する際に各孔内に照射されると共に、各孔を通過して処理槽本体30の内側で反射された紫外線が光触媒フィルタ33の外周面にも照射される。続いて、ドレン水発生源と気液分離槽2とを接続している接続用配管に設けられたバルブ図示せずを開放操作する。この際には、ドレン水Wおよび圧縮空気の混合流体が導入口22aから処理槽本体20内に導入され、この混合流体が、処理槽本体20内においてドレン水Wと圧縮空気とに分離される。また、分離された圧縮空気は、容器体21と蓋体22との隙間から大気中に開放され、分離されたドレン水Wは、処理槽本体20内に順次貯留される。さらに、貯留されたドレン水Wに含まれている油滴比較的大きな油の塊は、処理槽本体20内において浮上させられてドレン水Wから分離される。一方、気液分離槽2内に規定量のドレン水Wが貯留されたときには、処理槽本体20内における水位の上昇に伴って排水口21aから送水用配管11内に進入しているドレン水Wが導入口32aから第1処理槽3a内に導入される。この際には、導入口32aから導入されたドレン水Wが導水板35の板面に沿って流動させられて光触媒フィルタ33の上端部における内周面に案内される。また、光触媒フィルタ33の上端部に案内されたドレン水Wは、光触媒フィルタ33を伝って処理槽本体30の底部に向かって流れ落ちる。この際に、光源ランプ34の点灯に伴って光触媒フィルタ33に十分な量の紫外線が照射されているため、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちるドレン水Wが、光触媒反応によって十分に浄化される。また、処理槽本体30内にドレン水Wが導入され始めてから暫くの間は、光触媒フィルタ33および光源ランプ34のほぼ全体が空気中に露出した状態となっているため、光源ランプ34から出射された紫外線が大きく減衰することなく、光触媒フィルタ33の筒長方向の全体に対して十分に照射される。これにより、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちるドレン水Wが好適に浄化される。また、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちたドレン水Wは、処理槽本体30内に貯留される。この際に、エア供給部36が水没する程度のドレン水Wが貯留されたときには、エアーポンプ4から供給されている空気が気泡となってドレン水W内に放出される。したがって、第1処理槽3a内に貯留されたドレン水Wが気泡の浮上に伴って攪拌される。この場合、処理槽本体30内のドレン水Wが貯留されている部位においては、光源ランプ34から出射された紫外線がドレン水Wを透過する際にある程度減衰するものの、この紫外線が光触媒フィルタ33に対して照射され続けた状態が維持される。したがって、エア供給部36から供給された排出された空気気泡によって第1処理槽3a内のドレン水Wが攪拌されることで、貯留されているドレン水Wの全体が光触媒フィルタ33の表面に順次接する結果、このドレン水Wが光触媒反応によって十分に浄化される。この場合、本例の処理槽3とは異なり、貯留したドレン水Wの液面よりも上方に光触媒フィルタ33の全体が位置するように処理槽本体を構成した浄化処理槽では図示せず、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちたドレン水W処理槽本体内に貯留されたドレン水Wが光触媒フィルタ33に接しない状態となる。したがって、このような構成を採用する場合、導入されたドレン水Wが光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちる間に浄化を完了させる必要が生じる。これに対して、本例の処理槽3では、貯留したドレン水Wに光触媒フィルタ33の下方側が浸った状態となるように処理槽本体30が構成されている。したがって、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちて処理槽本体30内に貯留されたドレン水Wが光触媒フィルタ33の下方側において生じる光触媒反応によって継続的に浄化処理される。一方、第1処理槽3a内に貯留されたドレン水Wの水位が処理槽本体30容器体31における高さ方向の上方から1/3程度に達したときには、排水口31aから送水用配管12内に進入しているドレン水Wが第2処理槽3b内に導入される。この際には、気液分離槽2から第1処理槽3a内に導入されたドレン水Wと同様にして、導入口32aから第2処理槽3b内に導入されたドレン水Wが導水板35によって光触媒フィルタ33の上端部における内周面に案内され、光触媒フィルタ33を伝って処理槽本体30の底部に向かって流れ落ちる際に、光触媒反応によって十分に浄化される。なお、この際に、第2処理槽3b内において生じる浄化処理のプロセスについては、上記の第1処理槽3a内における浄化処理のプロセスと同様であるため、その説明を省略する。この場合、第1処理槽3aから第2処理槽3bにドレン水Wが順次送水されている状態において、第1処理槽3aでは、処理槽本体30容器体31における高さ方向の上方側から1/3程度の空間に空気が存在する状態が維持される。したがって、この空間内においては、光源ランプ34から出射された紫外線が大きく減衰することなく、光触媒フィルタ33に対して十分に照射される。これにより、第1処理槽3aにおける処理槽本体30の上方側から1/3程度の範囲において、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちるドレン水Wが十分に浄化される状態が維持される。また、第1処理槽3aにおける下方側から2/3の範囲においても、光触媒フィルタ33に対して紫外線が照射され続けているため、エア供給部36から供給された空気気泡によってドレン水Wが攪拌されることで、このドレン水Wが光触媒フィルタ33に対して好適に接する結果、十分に浄化される。また、第2処理槽3b内に貯留されたドレン水Wの水位が処理槽本体30容器体31における高さ方向の上方から1/3程度に達したときには、排水口31aから排水用配管13内に進入しているドレン水Wが排水溝に排水される。この際に、第2処理槽3bから排水溝にドレン水Wが順次排水されている状態において、第2処理槽3bでは、処理槽本体30容器体31における高さ方向の上方側から1/3程度の空間に空気が存在する状態が維持される。したがって、前述した第1処理槽3a内と同様にして、処理槽本体30の上方側から1/3程度の範囲において、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちるドレン水Wが十分に浄化される状態が維持される。また、第2処理槽3bにおける下方側から2/3の範囲においても、前述した第1処理槽3a内と同様にして、光触媒フィルタ33に対して紫外線が照射され続けているため、エア供給部36から供給された排出された空気気泡によってドレン水Wが攪拌されることで、このドレン水Wが光触媒フィルタ33に対して好適に接する結果、十分に浄化される。このように、この処理槽3では、処理槽本体30が、貯留したドレン水Wに光触媒フィルタ33の下方側部位が浸り、かつ貯留したドレン水Wの液面よりも上方に光触媒フィルタ33の上方側部位が位置するように光触媒フィルタ33を収容可能に構成されると共に、処理槽本体30内に導入されたドレン水Wを光触媒フィルタ33における上方側部位に案内する導水板35を備えて構成され、光源ランプ34が、処理槽本体30内に貯留されたドレン水Wの液面よりも上方に少なくとも一部が位置するように処理槽本体30内に収容されている。また、この浄化処理システム1では、上記の処理槽3を備えてドレン水Wを浄化可能に構成されている。したがって、この処理槽3、および処理槽3を備えた浄化処理システム1によれば、処理槽本体30内の上方側において光源ランプ34からの紫外線が大きく減衰することなく光触媒フィルタ33に照射され、この光触媒フィルタ33の上方側部位にドレン水Wが案内されて光触媒フィルタ33を伝って流れるため、光触媒フィルタ33による光触媒反応を好適に生じさせて、ドレン水Wを十分に浄化することができる。また、高輝度の光源を有する光源ランプや、複数の光源ランプを設けることなく、光触媒フィルタ33に対して十分な量の紫外線を照射することができるため、消費電力の増加を回避して、そのランニングコストを十分に低減することができる。さらに、光触媒フィルタ33の下方側部位が処理槽本体30内のドレン水Wに浸った状態となっているため、処理槽本体30内に導入されたドレン水Wが光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちる間だけでなく、このドレン水Wが処理槽本体30の下方側部位に貯留された状態においても、光触媒フィルタ33による光触媒反応によって好適に浄化することができる。また、この処理槽3、および処理槽3を備えた浄化処理システム1によれば、処理槽本体30内に貯留されたドレン水Wを攪拌する攪拌機構を備えたことにより、貯留されたドレン水Wを透過する際に紫外線がある程度減衰してしまう処理槽本体30の下方側部位において、光触媒フィルタ33の表面にドレン水Wを好適に接触させて、光触媒反応によって十分に浄化することができる。さらに、この処理槽3、および処理槽3を備えた浄化処理システム1によれば、貯留されたドレン水W内に気体を供給して、その気体気泡によってドレン水Wを攪拌するエア供給部36を備えて攪拌機構を構成したことにより、比較的簡易な構成でありながら、貯留されたドレン水Wを好適に攪拌して光触媒フィルタ33に接触させることができる。また、貯留されたドレン水W内に没する部位に可動機構部品を配設することなくドレン水Wを攪拌することができるため、煩雑なメンテナンス作業を不要として、処理槽3浄化処理システム1の浄化処理能力を長期間に亘って維持することができる。また、この処理槽3、および処理槽3を備えた浄化処理システム1によれば、光触媒フィルタ33を筒状本例では、円筒形に形成すると共に、光源ランプ34を光触媒フィルタ33の内側に配設したことにより、光源ランプ34からの紫外線を光触媒フィルタ33に対して効率良く、かつ満遍なく照射することができるため、光触媒フィルタ33の各部に光触媒反応を好適に生じさせることができる。さらに、この処理槽3、および処理槽3を備えた浄化処理システム1によれば、多孔質体で形成した骨材本例では、多孔質セラミックスに光触媒をコーティングして光触媒フィルタ33を構成したことにより、光触媒の表面積を十分に拡げることができる結果、光源ランプ34からの紫外線を光触媒に対して一層効率よく照射することができると共に、ドレン水Wを光触媒に対して効率よく接触させることができるため、一層好適に浄化することができる。また、無垢材の骨材に光触媒をコーティングした光触媒フィルタよりも軽量化することができる。また、この浄化処理システム1によれば、処理槽3の上流側に配設された気液分離槽2を備えて、気液分離槽2において気体が分離されたドレン水Wを処理槽3によって浄化することにより、両処理槽3内に導入される以前に大きな油滴を浮上分離させることができるため、光触媒フィルタ33に目詰まりが生じる事態を招くことなく、ドレン水Wを一層好適に浄化することができる。なお、浄化処理槽および浄化処理システムの構成は、上記した処理槽3や浄化処理システム1の構成に限定されるものではない。例えば、第1処理槽3aおよび第2処理槽3bの2つの処理槽3を備えて構成した浄化処理システム1を例に挙げて説明したが、1つの浄化処理槽処理槽3を備えて浄化処理システムを構成したり、3つ以上の任意の数の浄化処理槽処理槽3を備えて浄化処理システムを構成したりすることができる図示せず。この場合、1つの浄化処理槽を備えて浄化処理システムを構成する場合には、一例として、上記の浄化処理システム1における第1処理槽3aの排水口31aに排水用配管13を接続する。また、3つ以上の複数の浄化処理槽を備えて浄化処理システムを構成する場合には、一例として、上流側の浄化処理槽と、下流側の浄化処理槽との接続関係や位置関係を、上記の浄化処理システム1における第1処理槽3aおよび第2処理槽3bの接続関係や位置関係と同様に構成する。また、貯留されたドレン水W内に供給した気体によってドレン水Wを攪拌するエア供給部36を備えて攪拌機構を構成した例について説明したが、攪拌機構の構成は、この例に限定されない。例えば、図3に示す浄化処理システム1Aは、前述した浄化処理システム1における処理槽3に代えて、処理槽5浄化処理槽の他の一例を備えて構成されている。この処理槽5では、処理槽3におけるエア供給部36に代えて、モータ5bによって回転させられるプロペラ5aを備え攪拌機構の他の一例、このプロペラ5aによって、処理槽本体30内に貯留されているドレン水Wを攪拌する構成が採用されている。なお、この浄化処理システム1A、および後に説明する浄化処理システム1B,1C図4,5参照は、浄化処理槽の構成が相違する点を除き、浄化処理システム1と同様に構成されている。なお、図3では、モータ5bをプロペラ5aと共に処理槽本体30内に設置した例を図示しているが、モータ5bを処理槽本体30の外部に設置してもよい。また、図4に示す浄化処理システム1Bは、前述した浄化処理システム1における処理槽3に代えて、処理槽6浄化処理槽のさらに他の一例を備えて構成されている。この処理槽6では、処理槽3におけるエア供給部36や、処理槽5におけるプロペラ5aおよびモータ5bに代えて、処理槽本体30内に貯留されているドレン水Wをウォーターポンプ6bによって循環させるための循環用配管6aを備えて構成されている攪拌機構のさらに他の一例。この場合、循環用配管6aは、一例として、容器体31の底部からドレン水Wを取水して、蓋体32の導入口32aから処理槽本体30内に排水するように配管されている。このような攪拌機構を備えた処理槽5,6浄化処理システム1A,1Bにおいても、前述した処理槽3浄化処理システム1と同様にして、貯留されたドレン水Wを透過する際に紫外線がある程度減衰してしまう処理槽本体30の下方側部位において、光触媒フィルタ33の表面にドレン水Wを好適に接触させて、光触媒反応によって十分に浄化することができる。さらに、筒状の光触媒フィルタ33における内側にドレン水Wを導入すると共に、この光触媒フィルタ33の外側に位置する排水口31aからドレン水Wを排水する構成を例に挙げて説明したが、筒状の光触媒フィルタの外側にドレン水Wを導入すると共に、この光触媒フィルタの内側に設けた排水口からドレン水Wを排水する構成を採用することもできる。このような構成を採用した場合においても、上記の浄化処理システム1処理槽3と同様にドレン水Wを十分に浄化することができる。また、筒状の光触媒フィルタ33を備えて構成した処理槽3,5,6を例に挙げて説明したが、図5に示す浄化処理システム1Cの処理槽7浄化処理槽のさらに他の一例のように、例えば平板状の多孔質セラミックスの表面にTiO2がコーティングされて構成された光触媒フィルタ33aを備えて構成することもできる。この処理槽7浄化処理システム1Cでは、一例として、光触媒フィルタ33aによって処理槽本体30が左右方向に仕切られると共に、この光触媒フィルタ33aによって仕切られた左右方向のいずれか一方の空間この例では、左方の空間から他方の空間この例では、右方の空間に向かって光触媒フィルタ33aを通過させてドレン水Wを流動させる構成が採用されている。このような構成を採用した場合においても、処理槽本体30内の上方側において光源ランプ34からの紫外線が大きく減衰することなく光触媒フィルタ33aに照射され、この光触媒フィルタ33aの上方側部位にドレン水Wが案内されて光触媒フィルタ33aを伝って流れるため、光触媒フィルタ33aによる光触媒反応を好適に生じさせて、ドレン水Wを十分に浄化することができる。さらに、多孔質セラミックスを骨材として用いた光触媒フィルタ33,33aを例に挙げて説明したが、多孔質の金属やガラス等の任意の骨材に光触媒をコーティングして光触媒フィルタを構成することができる。また、処理槽本体30内に貯留されたドレン水Wが光触媒フィルタ33,33aを通過するように構成した例について説明したが、処理対象液が光触媒フィルタの表面に接するだけで、処理対象液の一部または全部が光触媒フィルタを通過しないように構成することもできる。このような構成を採用する場合には、その表面に微細凹凸が形成された骨材例えば独立気泡性の原体を焼結して形成した多孔質セラミックスで形成した骨材を用いて形成した光触媒フィルタを採用することで、光触媒の表面積が広い分だけ、処理対象液を好適に浄化することができる。この場合、処理対象液が光触媒フィルタを通過しない構成においては、光触媒フィルタの全体を光触媒で構成することもできるし、また、金属、セラミックスおよびガラス等で形成した無垢材多孔質ではない骨材の表面に光触媒をコーティングして光触媒フィルタを構成することもできる。なお、光触媒フィルタの全体を光触媒で構成したり、任意の無垢材に光触媒をコーティングして光触媒フィルタを構成したりする場合には、これらの光触媒フィルタの表面を凹凸させることで、光触媒の表面積を拡げるのが好ましい。また、直管型の光源を有する光源ランプ34に代えて、球状の光源ランプを有する光源ランプ図示せずを採用することもできる。このような光源ランプを採用する場合には、光源ランプの全体が、貯水されているドレン水Wから露出するように処理槽本体内に設置するのが好ましい。また、気液分離槽2を備えて構成した浄化処理システム1,1A~1Cを例に挙げて説明したが、気液分離槽を設けることなく浄化処理システムを構成することもできる。加えて、濾過フィルタや吸着フィルタ等の各種フィルタと、本願発明に係る浄化処理槽とを相互に接続して浄化処理システムを構成することもできる。"