"氷点下に冷却されたガスハイドレートがハイドレート生成平衡線に達する圧力までは高速例えば、5.4~0.15MPa/min.の脱圧速度で脱圧し、ハイドレートの分解領域では低速例えば、0.06~0.01MPa/min.の速度で脱圧することを特徴とするガスハイドレートの脱圧方法。ハイドレートの分解領域では低速例えば、0.06~0.01MPa/min.の速度で脱圧することを特徴とする請求項1記載のガスハイドレートの脱圧方法。ガスハイドレートが-5°C~-35°Cに冷却されていることを特徴とする請求項1又は2記載のガスハイドレートの脱圧方法。ここで、自己保存効果のメカニズムについて簡単に説明すると、脱圧に伴うガスハイドレートの分解によりガスハイドレート表面に水分子が供給され、この水分子がガスハイドレート分解時の奪熱により凍結して氷膜を形成する。この氷膜がガスハイドレートの分解を抑制する自己保存効果を発現することになる。ところで、本発明者らは、ガスハイドレートを高圧の生成領域から大気圧近傍まで脱圧する実験を図7に示した装置で実施した。図7は、生成条件にあるガスハイドレートを脱圧して、分解挙動を観察する装置の概略構成図である。高圧セル101の中には、真鍮の台座102が設けてある。真鍮の台座102の上には、サンプルsを入れる銅カップ103が設けてある。銅カップ103の上には、サイトグラス104があり、サイトグラス104からサンプルsの分解挙動を観察する。温度調節のために、真鍮の台座102には液体窒素による冷房ライン105が設けてある。温度測定のため、銅カップ103直下に熱伝対106の先端が来る様、真鍮の台座102に穴が開けてある。圧力調整のため、高圧セル101の下流には、圧力計と流量調節弁を設けてある。加圧ラインとして開閉弁を介してレギュレータ付きボンベを設け、排気ラインとして、開閉弁を介して、真空ポンプを設けてある。脱圧する実験を通して脱圧速度によって、例えば、3MPa/min.、1MPa/min.、0.6MPa/min.0.015MPa/min.で脱圧したところ、いずれの場合も、緻密な氷膜とならなかった。その理由については、ハイドレートの分解反応は、吸熱反応であり、ハイドレート自身が急冷されたこと。また、脱圧に伴う断熱膨張によりハイドレート表面が急冷されたため、氷の核生成が支配的となり、緻密な氷膜とならなかったと考えられる。脱圧速度が5.4MPa/min.、3MPa/min.、1MPa/min.、0.6MPa/min.、0.15MPa/min.の場合は、平衡圧力例えば、0.15~0.1MPaを通過する間にガスハイドレートペレット20の表面に氷の微結晶21が出来るためではないかと推察される図4参照。。他方、脱圧速度が0.06MPa/min.の場合は、脱圧直後からガスハイドレートペレット20の表面に緻密な氷膜22が形成されることが分かった図5参照。。図3は、脱圧前のガスハイドレートペレット20の表面を示している。図7に示すように、脱圧時に伴う、ガスハイドレート表面が冷却される熱は、台座に吸収されることになる。本装置の仕様では、0.06MPa/min.で脱圧を行うと、緻密な氷膜が形成されたが、台座の材質で熱容量や熱伝導度が変わることによって多少変動すると考えられる。しかしながら、脱圧速度が0.06MPa/min.図1の一点鎖線h参照。の場合は、脱圧に90分も要するため、実用に供し難いという問題がある。5.4MPa÷0.06MPa/min.=90min.なお、脱圧速度が5.4MPa/min.、3MPa/min.、1MPa/min.、0.6MPa/min.、0.15Pa/min.の場合は、下記の脱圧時間を要する。5.4MPa÷5.4MPa/min.=1min.図1の破線c参照。5.4MPa÷3MPa/min.=1.8min.図1の破線d参照。5.4MPa÷1MPa/min.=5.4min.図1の破線e参照。5.4MPa÷0.6MPa/min.=9min.図1の破線f参照。5.4MPa÷0.15MPa/min.=36min.図1の破線g参照。本発明は、上記のような問題を解消するためになされたものであり、ガスハイドレートをハイドレート生成領域の高圧下から大気圧まで脱圧する場合に、脱圧速度が比較的に速いにも関わらず、ガスハイドレートの表面に緻密な氷膜が形成されるガスハイドレートの脱圧方法を提供することにある。本願の請求項1に係るガスハイドレートの脱圧方法は、氷点下に冷却されたガスハイドレートがハイドレート生成平衡線に達する圧力までは高速例えば、5.4~0.15MPa/min.の脱圧速度で脱圧し、ハイドレートの分解領域では低速例えば、0.06~0.01MPa/min.の速度で脱圧することを特徴とするものである。本願の請求項2に係るガスハイドレートの脱圧方法は、ハイドレートの分解領域では低速例えば、0.06~0.01MPa/min.の速度で脱圧することを特徴とするものである。本願の請求項3に係るガスハイドレートの脱圧方法は、ガスハイドレートが-5°C~-35°Cに冷却されていることを特徴とするものである。本発明によれば、ガスハイドレートの脱圧に約10分程度要するが、ガスハイドレートの表面が緻密な氷膜で覆われることから、ガスハイドレートの貯蔵、或いは、運搬に供することが可能になった。以下、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。図2に示すように、本発明に係るガスハイドレートの脱圧方法の実施に適用する脱圧装置1は、脱圧槽2を有し、その上方に第1開閉弁3を設けた供給管4を備え、その下方に第2開閉弁5を設けた排出管6を備えている。また、脱圧槽2の真横に排気管7を設けている。この排気管7は、その途中部に二つのバイパス管8,9を備え、一方のバイパス管8に第1バルブ11を設け、他方のバイパス管9に第2バルブ12を設けている。第1バルブ11は、ガスハイドレートペレットの脱圧速度が5.4MPa/min.になるように設定され、第2バルブ12は、ガスハイドレートペレットの脱圧速度が0.06MPa/min.以下になるように設定されている。第1バルブ11は、脱圧槽2内の圧力がハイドレート生成平衡線上の圧力に達するまでの脱圧速度を規制するものであり、高速例えば、5.4~0.15MPa/min.で脱圧することが望ましい。脱圧速度が1.0MPa/min.未満の場合は、脱圧に時間がかかるので実用上好ましくないため、実用上は、5.4~1.0MPa/min.の範囲がより望ましい。他方、第2バルブ12は、ハイドレートの分解領域での脱圧速度を規制するものであり、低速例えば、0.06~0.01MPa/min.で脱圧することが望ましい。脱圧速度が0.01MPa/min.未満の場合は、脱圧に時間がかかるので実用上好ましくない。また、脱圧槽2は、圧力計13を備え、脱圧槽2内の圧力がハイドレート生成領域の圧力5.4MPaから平衡圧力0.5MPaに低下した時、制御装置14によって第1バルブ11から第2バルブ12に自動的に切り換わるようになっている。他方、ガスハイドレートペレットは、冷却部で、予め、-5°C~-35°Cに冷却されている。次に、上記脱圧装置1を用いてハイドレート生成領域と同等の高圧下5.4MPaにあり、かつ、-20°Cに冷却されているガスハイドレートペレット20を大気圧下に脱圧する場合について説明する。先ず、第1開閉弁3を開いて脱圧槽2内に所定量のガスハイドレートペレット20を導入する。導入後、第1開閉弁3を閉じて脱圧槽2内にガスハイドレートペレット20を閉じ込める。次に、制御装置14の指令により排気管7の第1バルブ11が開いて脱圧槽2内が脱圧される。この脱圧は、例えば、排気管7の経路中に設けた図示しないブロア等によって行われる。この時、脱圧槽2内は、5.4MPa/min.の脱圧速度で脱圧される図1の実線a参照。。脱圧槽2から排出された分解ガスは、ガスハイドレート生成部等に供給される。そして、脱圧槽2内の圧力が平衡圧力0.5MPaに達すると、圧力計13に感知され、制御装置14によって第1バルブ11から第2バルブ12に自動的に切り替わる。第2バルブ12は、上記のように、脱圧速度が低速例えば、0.06~0.01MPa/min.に設定されているため、脱圧槽2内は、低速例えば、0.06~0.01MPa/min.の脱圧速度で脱圧される図1の実線b参照。。この時、ガスハイドレートペレット20の表面は、図5に示すように、緻密な氷膜22によって覆われる。脱圧槽2内の圧力が大気圧0.1MPa近傍に達すると、制御装置14によって第2バルブ12が自動的に閉じられる。次に、第2開閉弁5を開いて脱圧槽2内のガスハイドレートペレット20を排出管7から図示しない貯槽内に払いだす。この場合の脱圧速度は、9.2分となり、充分、実用に供することができる。0.5÷0.06MPa/min.=8.3min.5.4MPa-0.5MPa/5.4MPa/min.8.3min.≒0.908.3min.≒9.2min."