"金属酸化物を含有する透明導電膜であって、前記金属酸化物は、下記式1に規定する関係を満たすことを特徴とする透明導電膜。金属酸化物は、Zn、Ga、In、Sn、Al、Sb、Cd及びFeからなる群より選択される少なくとも1種の金属の酸化物であることを特徴とする請求項1記載の透明導電膜。請求項1又は2記載の透明導電膜を製造する方法であって、金属酸化物粒子及び溶媒を含有する金属酸化物粒子分散組成物を印刷した後、乾燥又は焼結する工程を有し、かつ、前記金属酸化物粒子は、Zn、Ga、In、Sn、Al、Sb、Cd及びFeからなる群より選択される少なくとも1種の金属の酸化物を含有することを特徴とする透明導電膜の製造方法。金属酸化物粒子は、結晶性粒子であることを特徴とする請求項3記載の透明導電膜の製造方法。金属酸化物粒子分散組成物は、更にバインダー樹脂を含有することを特徴とする請求項3又は4記載の透明導電膜の製造方法。酸素濃度10以下の条件下で、乾燥又は焼結する工程を行うことを特徴とする請求項3、4又は5記載の透明導電膜の製造方法。本発明は、透明性及び電気的特性に優れ、印刷法でも製造可能な透明導電膜を提供することを目的とする。更に、本発明は、該透明導電膜の製造方法を提供することを目的とする。本発明は、金属酸化物を含有する透明導電膜であって、前記金属酸化物は、下記式1に規定する関係を満たすことを特徴とする透明導電膜である。以下に本発明を詳述する。本発明者らは、鋭意検討した結果、透明導電膜において、構成する金属酸化物中の金属の原子数、酸素の原子数及び金属の数平均原子価が所定の関係を満たすものとすることで、電気的特性に優れ、印刷法でも製造可能な透明導電膜が得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。本発明の透明導電膜は、金属酸化物を含有する。上記金属酸化物としては、例えば、Zn、Ga、In、Sn、Al、Sb、Cd及びFeからなる群より選択される少なくとも1種の金属の酸化物が好ましい。具体的には例えば、酸化亜鉛、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化鉄及びこれらに他の金属をドープした金属酸化物からなる群より選択される少なくとも1種を含有することが好ましい。特に、酸化アルミニウム-酸化亜鉛AZO、酸化ガリウム-酸化亜鉛GZO、酸化インジウム-酸化亜鉛IZO、酸化亜鉛-酸化スズZTO、酸化亜鉛ZOが好ましい。また、酸化インジウム-酸化スズ-酸化亜鉛ITZO、酸化インジウム-酸化スズITO、酸化インジウム-酸化ガリウム-酸化亜鉛IGZO等を用いてもよい。上記金属酸化物は、上記式1に規定する関係を有する。式1に規定する関係を満たすことで、透明導電膜中のキャリアを増加させることにより低抵抗の透明導電膜を得ることが出来る。式1中の数平均原子価とは、透明導電膜を構成する個々の金属成分の原子価を組成式中の金属の原子数で乗じた値を加算した後に、組成式中の全金属原子数を加算した値で除した値をいう。例えば、構造式InGaZnO4の場合では、In、Ga、Znの原子価はそれぞれ3、3、2であり、組成式中の原子数は全て1であるから、数平均原子価=3×13×12×1/111=8/3である。また、上記金属酸化物が複数からなる場合は、各金属酸化物が式1の関係を満たす必要がある。本発明の透明導電膜において、透明導電膜中の金属酸化物における酸素の原子数に対する金属の原子数の比率金属の原子数/酸素の原子数の好ましい下限は2/金属酸化物組成式中の金属の数平均原子価の値の1.5倍、好ましい上限は7.0倍である。上記金属の原子数の比率が2/金属酸化物組成式中の金属の数平均原子価の値の1.5倍未満又は7.0倍を超えると、導電特性に優れる透明導電膜を安定して製造できないことがある。本発明の透明導電膜の厚みは、好ましくは0.05~1000μm、より好ましくは0.1~100μmである。これらの範囲内であれば、所望の導電特性を安定して得ることが出来る。本発明の透明導電膜は、例えば、Zn、Ga、In、Sn、Al、Sb、Cd及びFeからなる群より選択される少なくとも1種の金属の酸化物を含有する金属酸化物粒子及び溶媒を含有する金属酸化物粒子分散組成物を印刷した後、乾燥又は焼結する工程を行うことにより作製することができる。このような透明導電膜の製造方法もまた本発明の1つである。本発明の透明導電膜の製造方法において、上記金属酸化物粒子分散組成物は、金属酸化物粒子を含有する。上記金属酸化物粒子は、平均粒子径が1~100nmが好ましい。平均粒子径が1nm未満の粒子は製造が困難となることがあり、平均粒子径が100nmを超えると、得られる金属酸化物粒子分散組成物を用いて印刷しても、所望の膜厚、平滑性等を有する透明導電膜を製造することが難しい。本発明において、金属酸化物粒子は、Zn、Ga、In、Sn、Al、Sb、Cd及びFeからなる群より選択される少なくとも1種の金属の酸化物を含有するものである。具体的には例えば、酸化亜鉛、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化鉄及びこれらに他の金属をドープした金属酸化物からなる群より選択される少なくとも1種を含有することが好ましい。特に、酸化アルミニウム-酸化亜鉛AZO、酸化ガリウム-酸化亜鉛GZO、酸化インジウム-酸化亜鉛IZO、酸化亜鉛-酸化スズZTO、酸化亜鉛ZOが好ましい。また、酸化インジウム-酸化スズ-酸化亜鉛ITZO、酸化インジウム-酸化スズITO、酸化インジウム-酸化ガリウム-酸化亜鉛IGZO、酸化ガリウム-酸化亜鉛GZO等を用いてもよい。上記金属酸化物粒子は、結晶性粒子であることが好ましい。上記結晶性粒子とは、アモルファス粒子とは異なり、粒子を構成する金属が規則性を有していることを意味する。上記結晶性粒子である場合の構造は特に限定されず、例えば、単結晶、複数の結晶組成が相分離した混晶、相分離の観察されない混合結晶の何れでもよい。上記金属酸化物粒子分散組成物において、上記金属酸化物粒子の添加量の好ましい下限は0.1重量、好ましい上限は70重量である。上記金属酸化物粒子の添加量が0.1重量未満であると、得られる金属酸化物粒子分散組成物を用いて製膜した場合に、均一な薄膜を製造できないことがある。上記金属酸化物粒子の添加量が70重量を超えると、得られる金属酸化物粒子分散組成物において、上記金属酸化物粒子の分散安定性が充分に得られないことがある。上記金属酸化物粒子を製造する方法としては特に限定されず、噴霧火炎熱分解法、CVD法、PVD法、粉砕法等の乾式法や、還元法、マイクロエマルション法、水熱反応法、ゾルゲル法等の湿式法等が適用可能である。また、上記金属酸化物粒子分散組成物には、Zn、Ga、In、Sn、Al、Sb、Cd及びFeからなる群より選択される少なくとも1種の金属からなる粒子を添加してもよい。これにより、粒子界面の抵抗を低減する等により、特性の向上が可能となる。上記金属酸化物粒子分散組成物は、溶媒を含有する。上記溶媒は水であってもよく、有機溶剤であってもよいが、有機溶剤が好ましい。上記有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、デカノール、シクロヘキサノール、テルピネオール、1-メトキシ-2-プロパノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセトン、エチルケトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ベンジル等のエステル類、メトキシエタノール、エトキシエタノール等のエーテルアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、N,N-ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、ドデシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、ノナデカン、エイコサン、トリメチルペンタン等の長鎖アルカン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン等の環状アルカン等が挙げられる。上記金属酸化物粒子分散組成物は、更にバインダー樹脂を適量添加してもよい。上記バインダー樹脂を添加することにより、グラビア印刷等に更に適したものとすることができる。上記バインダー樹脂は特に限定されないが、例えば、セルロース樹脂、メタアクリル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。なかでも、セルロース樹脂が特に好ましい。上記セルロース樹脂は特に限定されないが、例えば、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロースが好ましい。上記ポリエーテル樹脂は特に限定されず、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。上記ポリアセタール樹脂は特に限定されないが、上記ポリエーテル樹脂と同様にエチレン、プロピレン、テトラメチレン等のユニットを有するポリアセタール樹脂が好ましい。上記メタアクリル樹脂として、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、n-ステアリルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート等のメタアクリルモノマーの単独重合体、及び、これらのメタアクリルモノマーとポリオキシアルキレン構造を有するメタアクリルモノマーとの共重合体が挙げられる。上記ポリオキシアルキレン構造として、例えば、ポリプロピレンオキシド、ポリメチルエチレンオキシド、ポリエチルエチレンオキシド、ポリトリメチレンオキシド、ポリテトラメチレンオキシドが挙げられる。なお、本明細書中、メタアクリレートとは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。上記ポリビニルアセタール樹脂は、アルデヒドによりポリビニルアルコールをアセタール化することで得られるポリビニルアセタール樹脂であることが好ましい。上記ポリビニルアルコールは、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル等のビニルエステルの重合体をケン化することで得られるポリビニルアルコールであることが好ましい。上記ビニルエステルは、経済的にみると、酢酸ビニルであることがより好ましい。上記金属酸化物粒子分散組成物において、上記バインダー樹脂の添加量の好ましい下限は0.1重量、好ましい上限は20重量である。上記バインダー樹脂の添加量が0.1重量未満であると、バインダー樹脂の添加による増粘効果が充分に得られないことがある。上記バインダー樹脂の添加量が20重量を超えると、成膜後の性能が低下することがある。上記金属酸化物粒子分散組成物を製造する方法は特に限定されず、例えば、金属酸化物粒子、並びに溶媒に、バインダー樹脂及び種々の添加剤を添加し、3本ロールミル等を用いて更に分散処理を行う方法が挙げられる。また、上記金属酸化物粒子並びに溶媒を、ビーズミル、ボールミル、ブレンダーミル、3本ロールミル等の混合機を用いて混合した後、更に上記バインダー樹脂を添加して上記混合機により混合してもよい。更に、必要に応じて上記金属塩及び/又は有機金属化合物や金属粒子を、直接添加してもよく、溶液とした後に添加してもよい。本発明の透明導電膜の製造方法では、上記金属酸化物粒子分散組成物を所定の印刷工程を用いて印刷した後、乾燥又は焼結等の工程を行うことで、透明導電膜を形成することができる。本発明の透明導電膜の製造方法では、真空蒸着やスパッタリング等の物理的方法を用いる必要がなく、簡便な方法で透明導電膜を製造することができる。上記金属酸化物粒子分散組成物を印刷塗工する方法としては、例えば、スピンコート法、スプレー法、浸漬法、ロールコート法、スクリーン印刷法、コンタクトプリント法、スリットコート法、インクジェット法インクジェット印刷法等が挙げられる。上記印刷は、所望の膜厚を得ることができれば、一度塗りでもよく、重ね塗りでもよい。上記乾燥又は焼結する方法としては、例えば、赤外線加熱、マイクロ波加熱、高周波加熱など既知の活性光線やエネルギー線による処理が挙げられる。また、必要に応じて、不活性雰囲気で上記処理を行ってもよい。本発明の透明導電膜の製造方法では、酸素濃度10以下の条件下で、乾燥又は焼結する工程を行うことが好ましい。このような条件で乾燥又は焼結を行うことで、透明導電膜中の金属酸化物における酸素の原子数に対する金属の原子数の比率金属の原子数/酸素の原子数を安定して大きくすることができ、導電性が高く優れた電気的特性を得ることができる。なお、上記酸素濃度10以下の条件としては、例えば、真空下、窒素雰囲気下、窒素流下、不活性ガス雰囲気下、不活性ガス流下等が挙げられる。本発明によれば、透明性及び電気的特性に優れ、印刷法でも製造可能な透明導電膜を提供することができる。更に、本発明は、該透明導電膜の製造方法を提供することができる。以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。実施例1金属酸化物粒子分散組成物の製造金属酸化物粒子の製造酢酸亜鉛二水和物1重量部をメタノール35重量部に溶解し、60°Cの湯浴中にて攪拌しながら、水酸化カリウム0.5重量部をメタノール15重量部に溶解した液を滴下し、滴下終了後5時間加熱攪拌を続けることにより、酸化亜鉛ナノ粒子分散液を得た。次いで、酸化亜鉛ナノ粒子分散液を遠心分離及び上澄み除去し、沈殿物を回収することによって酸化亜鉛ナノ粒子金属酸化物粒子を得た。得られた酸化亜鉛ナノ粒子1.00重量部を、1-メトキシ-2-プロパノール2.50重量部、クロロホルム6.18重量部及びメタノール0.32重量部からなる混合溶媒に添加し撹拌することにより、金属酸化物粒子分散組成物を作製した。薄膜の製造得られた金属酸化物粒子分散組成物を、スピンコーターを用いてガラス基板に塗布し、600°Cで3時間、窒素流下酸素濃度は0.1程度にて熱処理することにより、薄膜厚み300μmを作製した。なお、熱処理時の酸素濃度は0.1程度であった。実施例2実施例1の薄膜の製造において、600°Cで3時間、真空1×102Pa下にて熱処理を行った以外は実施例1と同様にして、薄膜厚み250μmを作製した。比較例1実施例1の薄膜の製造において、600°Cで3時間、大気下酸素濃度は20程度にて熱処理を行った以外は実施例1と同様にして、薄膜厚み300μmを作製した。<評価>実施例及び比較例で得られた薄膜について、以下の評価を行った。結果を表1に示す。原子数比率実施例及び比較例で得られた薄膜の試料表面にカーボンを蒸着後、集束イオンビームFIBを用いて切片を作製し、これをFE-TEM/EDS日本電子社製、JEM-2010FEFを用いて分析を行うことで、薄膜中の金属の原子数及び酸素の原子数を測定し、その比率を算出した。なお、実施例1、2及び比較例1で使用した金属酸化物は、2/金属酸化物組成式中の金属の数平均原子価の値が1である。導電性の評価実施例及び比較例で得られた薄膜の表面抵抗を表面抵抗計ロレスタAPMCP-T400、三菱化学社製を用いて測定した。結果を表1に示した。透明性の評価実施例及び比較例で得られた薄膜のヘイズ値と全光線透過率とを測定した。結果を表1に示した。なお、ヘイズ値及び全光線透過率は、ヘイズメーターHR-200、村上色彩技術研究所社製を用いて測定した。表1に示すように、実施例で得られた薄膜では、比較例で得られた薄膜と比べて高い導電性が認められた。"