"基材表面に、シロキサンオリゴマー、オルガノシラン類及びアルキルシリケート類から選択される少なくとも1種Aを含有する硬化性組成物の層を形成し、当該形成された層を、パルス紫外線照射装置を用いて硬化させる方法。請求項1に記載の方法を用いて得られる積層体。基材表面に、一般式1式中、R1、R2、R3、R4は独立して炭素数1~5のアルキル基または、炭素数1~4のアシル基を示し、nは3~20のいずれかの整数を示す。で示されるアルキルシリケート類、及び、一般式2式中、R5は炭素数1~10のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、エポキシ基、アクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、またはイソシアネート基を含有する有機基を示し、R6は炭素数1~5のアルキル基、または、炭素数1~4のアシル基を示し、aは1~3の整数を示す。で示されるオルガノシラン類の少なくとも一方を加水分解縮合して得られるシロキサン化合物Aを含む硬化性組成物の層を形成し、当該形成された層を、パルス紫外線照射装置にて硬化して得られる積層体。活性エネルギー線照射により硬化する方法によれば、短時間に被膜形成が可能であるが、高圧水銀灯による硬化であるため基材に熱がかかり、耐熱性の低いフィルムなどに適用するには問題がある。さらに、上記特許文献中にはシロキサン化合物について言及されていない。本発明の目的は、耐熱性の低い基材にも適用可能であり、かつ生産性の高い硬化方法、及びその方法によって硬化された積層体を提供することにある。本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定構造のシロキサン化合物と開始剤を含有する硬化性組成物をパルス紫外線照射装置を用いて硬化すれば、耐熱性の低い基材にも適用可能であり、かつ生産性の高い硬化方法、及びその方法によって硬化された積層体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、基材表面に、シロキサンオリゴマー、オルガノシラン類及びアルキルシリケート類から選択される少なくとも1種Aを含有する硬化性組成物の層を形成し、当該形成された層を、パルス紫外線照射装置を用いて硬化させる方法である。さらに本発明の一態様は、上記方法を用いて得られる積層体である。さらに本発明の一態様は、基材表面に、一般式1式中、R1、R2、R3及びR4は独立して炭素数1~5のアルキル基または炭素数1~4のアシル基を示し、nは3~20のいずれかの整数を示す。で示されるアルキルシリケート類、及び、一般式2式中、R5は炭素数1~10のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、エポキシ基、メタアクリロイル基、メルカプト基、アミノ基またはイソシアネート基を含有する有機基を示し、R6は炭素数1~5のアルキル基または炭素数1~4のアシル基を示し、aは1~3の整数を示す。で示されるオルガノシラン類の少なくとも一方を加水分解縮合して得られるシロキサン化合物Aを含む硬化性組成物の層を形成し、当該形成された層を、パルス紫外線照射装置にて硬化して得られる積層体である。本発明によれば、耐熱性の低い基材にも適用可能であり、かつ生産性の高い硬化方法、及びその方法によって硬化された積層体を提供できる。本発明のシロキサン化合物Aは、一般式1で示されるアルキルシリケート類と一般式2で示されるオルガノシラン類との少なくとも一方を加水分解縮合して得られる加水分解縮合物である以下、Aと記載。かかるシロキサン化合物は、アルキルシリケート類及びオルガノシラン類の少なくとも一方を予め加水分解縮合することにより、分子間に架橋構造が形成された高分子量化されたオリゴマーであり、組成物における硬化性の向上と、得られる保護被膜に好適な硬化被膜の物性を向上させることができる。また、シロキサン化合物が高分子量化したオリゴマーであることにより、硬化時の重縮合による収縮とそれに伴い発生する応力を低減でき、その結果クラックの低減と、基材との被膜密着性を向上することができる。Aを形成する一般式1で示されるアルキルシリケート類において、式1中、R1、R2、R3、R4は独立して炭素原子数1~5のアルキル基または炭素数1~4のアシル基を示す。これらの基は、相互に同一でもよいし異なっていてもよい。nは、アルキルシリケート類の繰り返し単位の数を表し、3~20のいずれかの整数である。nが3以上であれば、アルキルシリケート類の加水分解縮合により得られるシロキサン化合物の分子量が大きく、得られる硬化性組成物の硬化性、成膜性の低下を抑制することができる。また、nが20以下であれば、加水分解縮合の際にゲル化を抑制することができる。良好な硬化性、被膜物性が得られ、しかもゲル化の抑制し得ることの点から、nは4~10シリカ換算濃度:約51~54質量に相当の整数であることが好ましい。ここで、シリカ換算濃度とは、アルキルシリケート質量とアルキルシリケート類を完全に加水分解し、縮合させた際に得られるSiO2の質量との比を意味する。一般式1で示されるアルキルシリケート類としては、具体的に、R1~R4がメチル基であるメチルシリケート、R1~R4がエチル基であるエチルシリケート、R1~R4がイソプロピル基であるイソプロピルシリケート、R1~R4がn-プロピル基であるn-プロピルシリケート、R1~R4がn-ブチル基であるn-ブチルシリケート、R1~R4がn-ペンチル基であるn-ペンチルシリケート、R1~R4がアセチル基であるアセチルシリケート等を例示することができる。これらのうち、入手が容易な点、加水分解速度が速い点から、メチルシリケート、エチルシリケートが好ましい。Aを形成する一般式2で示されるオルガノシラン類として、式2中、R5は炭素数1~10のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、エポキシ基、アクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、またはイソシアネート基を含有する有機基を示し、R6は炭素数1~5のアルキル基、または、炭素数1~4のアシル基を示し、aは1~3のいずれかの整数を示す。式中、R5、R6が複数存在する場合、それらは相互に同一であっても異なっていてもよい。R6は、中でも製造が容易な点、加水分解速度が速い点から、メチル基、エチル基が好ましい。一般式2で示されるオルガノシラン類としては、具体的に、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、p-スチリルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン等を挙げることができる。これらのうち、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシランを好ましいものとして挙げることができる。本発明においては、これら1種または2種以上の混合物として使用できる。一般式1で示されるアルキルシリケート類と一般式2で示されるオルガノシラン類の加水分解は、いずれの方法によるものであってもよく、例えば、上記アルキルシリケート類及び上記オルガノシラン類の少なくとも一方をアルコール類と混合し、更に、水をアルコキシル基1モルに対して、例えば0.25~250モル程度加え、これに塩酸や酢酸などの酸を加えて溶液を酸性例えばpH2~5とし、攪拌する方法によることができる。溶剤としては、アルコール類、メチルエチルケトンMEK、テトラヒドロフランTHFなどの極性溶媒を使用できる。溶剤は、アルキルシリケート類とオルガノシラン類とを含む組成物が、1質量~30質量となるように調整できる。また、上記アルキルシリケート類及び上記オルガノシラン類の少なくとも一方をアルコール類と混合し、さらに水をアルコキシル基1モルに対して、例えば0.25~250モル程度加えて、例えば30~100°C等に加熱する方法によることができる。加水分解に際して発生するアルコールは、系外に留去してもよい。加水分解に続く縮合は、加水分解状態にあるアルキルシリケート類やオルガノシラン類を放置することにより進行させることができる。その際、pHを中性付近例えば、pH6~7に制御することにより、縮合の進行を速めることができる。縮合に際して発生する水は、系外に留去してもよい。加水分解縮合における一般式1で示されるアルキルシリケート類と一般式2で示されるオルガノシラン類とを併用する際の混合比率は、オルガノシラン類1モルに対して、アルキルシリケート類0.01~1.0モルが好ましく、0.01~0.1モルがより好ましい。0.01モル以上であれば、得られる硬化物に十分な硬度を付与することができる傾向にある。また、1.0モル以下であれば、合成時のゲル化を防ぐことができる傾向にある。加水分解縮合の際、系中にコロイダルシリカを添加し共縮合しても良い。コロイダルシリカは、サブミクロンサイズのシリカSiO2粒子が水性媒質又は他の分散媒に、通常10~50重量のSiO2濃度で分散している分散物である。コロイダルシリカにおけるシリカ粒子の平均粒径は1~100nmが好ましく、更には2~50nmの範囲であることが、耐摩耗性に優れた硬化被膜を形成することができる点から好ましい。コロイダルシリカの添加量は硬化性組成物100質量部に対して、1~60質量部が好ましく、10~45質量部がより好ましい。1質量部以上であれば、得られる硬化物に十分な硬度を付与することができる傾向にある。また、60モル以下であれば、硬化被膜についてクラックが発生しにくい傾向にある。コロイダルシリカの分散媒としては、水、有機溶媒、或いは親水性有機溶媒、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;ジアセトンアルコール、ジメチルアセトアミド、キシレン等の少なくとも1種と水との混合溶媒を用いることができる。これらの分散媒の中でも、水、水-メタノール混合溶媒、又は水-エタノール混合溶媒が、分散安定性と、塗布後の分散媒の乾燥性の点で好ましい。このようなコロイダルシリカは、デュポン社DuPont、ナルコケミカル社NalcoChemicalCompany、日産化学工業社、触媒化成工業社のような製造会社から入手可能である。本発明に好適に使用されるコロイダルシリカの具体例としては、例えば、デュポン株式会社、ナルコケミカルカンパニー、日産化学工業株式会社、触媒化成工業株式会社等から入手可能である。本発明に係る硬化性組成物に用いてもよいコロイダルシリカとしては、具体的には、デュポン株式会社製LUDOX商標LS等、ナルコケミカルカンパニー製ナルコーグNalcoag商標1034A、日産化学工業株式会社製スノーテックス商標30、スノーテックス商標40、スノーテックス商標O、MA-ST、IPA-ST、NBAST、IBAST、EG-ST、XBA-ST、NPC-ST及びDMAC-ST、触媒化成工業株式会社製カタロイド商標S30及びカタロイド商標S40等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。Aを硬化させるための開始剤Bとしては、熱硬化系と光硬化系いずれも使用できる。熱硬化系触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、亜硝酸、過塩素酸、スルファミン酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、乳酸、p-トルエンスルホン酸等の有機酸に代表される酸性触媒、前記無機、有機各酸のアルカリ金属塩及び第四級アンモニウム塩、又はトリメチルアミン、n-ブチルアミンに代表されるアミン塩、有機スズ化合物、有機アルミニウム化合物等の有機金属化合物、或いは有機酸の金属塩、等が挙げられる。特に塩酸、酢酸或いはこれらのアルカリ金属塩、第四級アンモニウム塩が好適である。光硬化系触媒としては、ジフェニルヨードニウム系化合物、トリフェニルスルホニウム系化合物、芳香族スルホニウム系化合物、ジアゾジスルホン系化合物等が挙げられる。具体例としては、上市されているイルガキュア商標250チバスペシャルティケミカルズ株製、製品名、アデカオプトマー商標SP-150およびSP-170旭電化工業株製、製品名、サイラキュア商標UVI-6970、サイラキュア商標UVI-6974、サイラキュア商標UVI-6990およびサイラキュ商標アUVI-6950米国ユニオンカーバイド社製、製品名、DAICAT商標IIダイセル化学工業株製、製品名、UVAC1591ダイセルサイテック株製、製品名、CI-2734、CI-2855、CI-2823およびCI-2758日本曹達株製、製品名、サイラキュア商標UVI-6992ダウケミカル日本株製、製品名、サンエイド商標SI-L85、SI-L110、SI-L145、SI-L150、SI-L160、SI-H15、SI-H20、SI-H25、SI-H40、SI-H50、SI-60L、SI-80L、SI-100Lおよび4-ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート三新化学工業株製、製品名、CPI-100PおよびCPI-101Aが挙げられる。硬化触媒としては、熱硬化系、光硬化系を単独で、または2種以上を組み合わせて使用できる。硬化触媒の配合量は特に限定されないが、硬化性組成物100質量部に対して、001~10質量部の範囲内が好ましい。001質量部以上であれば、パルス紫外線の照射によって十分に硬化し、良好な保護被膜に好適な硬化被膜が得られる傾向にある。また、10質量部以下であれば、硬化被膜について、クラックが発生することなく、また着色が抑制され、表面硬度や耐摩耗性が良好となる傾向にある。本発明の硬化性組成物には、硬化触媒、溶剤が含まれ、その他、必要に応じて、無機微粒子、ポリマー、ポリマー微粒子、充填剤、染料、顔料、顔料分散剤、流動調整剤、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、ゲル粒子、微粒子粉などを含有してもよい。塗工膜を形成するには、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソコート法、スクリーン、フローコート法、スプレーコート法、浸漬法等を使用することができる。本発明の硬化性組成物を被膜とする場合、被膜の厚さとして、例えば、0.05~100μm、好ましくは、0.1~50μm等を挙げることができる。本発明において、基材の形状や材質、厚みは特に限定されず、例えば、従来より樹脂製の成形品に使用し得るものとして知られる各種のものを使用できる。具体的には、ポリメチルメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリポリエステルカ-ボネ-ト樹脂、ポリスチレン樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレ-ト樹脂、ポリメタクリルイミド樹脂、ポリアリルジグリコ-ルカ-ボネ-ト樹脂、ポリオレフィン樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂などが挙げられる。特にポリメチルメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタクリルイミド樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂は、透明性に優れ、かつ耐摩耗性改良要求も強いため、本発明の被覆材組成物を適用するのが特に有効である。また、本発明の保護被膜は、樹脂基材はもとより、金属、缶、紙、木質材、無機質材等の基材にも応用可能である。パルス紫外線の光源としては、石英キセノンタイプのものが、硬化速度、発光の効率などの点から好ましい。一例として、米国XENON社SINTERON商標2000、RC-801等が挙げられる。ランプの形状としては、棒状、リング状、渦巻型、螺旋型、格子型等からワークに合わせて選択できる。パルスエネルギーは3~3000J/Pが好ましく、5~2000J/Pがより好ましい。パルスエネルギーは、硬化樹脂の反応性に合わせて選択することが出来る。1パルスあたりの照射時間は、5μs~3000μs/Pが好ましく、20~2000μs/Pがより好ましい。1パルスあたりの照射時間が長いと熱線によるワークの温度上昇が高くなり好ましくなく、あまりに短くするのは装置の限界に近く、装置寿命等の点で好ましくない。なお、上記パルス紫外線装置を用いる照射は、塗膜を乾燥機にて溶剤乾燥した後に照射してもよい。この場合、乾燥温度は、特に限定されないが、溶剤の沸点の観点から、60°C~150°Cが好ましい。また乾燥時間は、特に限定されないが、生産性の観点から、3分~15分が好ましい。また、上記パルス紫外線装置を用いて照射した後に、更に硬化を進めるために、硬化被膜を加熱してもよい。この場合、温度は、特に限定されないが、硬化温度の観点から、60°C~150°Cが好ましい。また時間は、特に限定されないが、生産性の観点から、3分~30分が好ましい。次に、本発明について実施例を掲げて詳細に説明する。ただし、本発明は実施例に限定されるものではない。[合成例1]シロキサン化合物の合成A-1オルガノシラン類としてメチルトリメトキシシラン多摩化学工業株式会社製、分子量13654.0g、フェニルトリメトキシシラン信越化学工業株式会社製、分子量1986.0gに、イソプロピルアルコール45.0gを加え、攪拌して均一な溶液とした。さらに、水45.0gを加え、攪拌しつつ80°Cで3時間加熱し、加水分解縮合を行った。その後25°Cまで冷却し、24時間攪拌して縮合を進行させ、固形分濃度20質量のシロキサン化合物の溶液150gを得た。[合成例2]シロキサン化合物の合成A-2アルキルシリケート類としてシリカ換算濃度53質量のメチルシリケートコルコート株式会社製、平均約7量体、平均分子量約789、商品名メチルシリケート53A10.0g、メチルトリメトキシシラン多摩化学工業株式会社製、分子量13620.0gに、イソプロピルアルコール10.0gを加え、攪拌して均一な溶液とした。さらに、水10.0gを加え、攪拌しつつ80°Cで3時間加熱し、加水分解-縮合を行った。その後25°Cまで冷却し、24時間攪拌して縮合を進行させ、固形分濃度20質量のシロキサン化合物Aの溶液を得た。なお、ここでの固形分濃度とは、完全に加水分解縮合させたと仮定した際に得られるシロキサン化合物の溶液全体に対する質量百分率を意味する。[合成例3]シロキサン化合物の合成A-3撹拌子及びコンデンサーを備えた300ml4つ口フラスコに、コロイダルシリカデュポン社製商品名Ludox商標TM-5050重量水懸濁液平均粒径20nm16.9gを仕込み、ウォーターバスを用いて内温を25°Cとした。内温25°Cを保ったまま、酢酸10.3gを滴下漏斗より10分かけて滴下し、続けてメチルトリメトキシシラン多摩化学工業株式会社製、分子量13625.3gを2時間かけて滴下し、更に2時間熟成した。イソプロピルアルコール116.3gを加え、内温25°Cで48時間熟成して、固形分濃度が20質量の塗布液を調製した。実施例1合成例1の目的物A-1を500g固形分100g、硬化剤としてSI-100を0.02g、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル125g、レベリング剤としてL-7001東レダウコーニング株社製、シリコーン系レベリング剤0.05gを混合し、硬化性組成物を得た。PMMA板の上に、適量滴下し、バーコーティング法バーコーター26にて塗布した。引き続いて、温風乾燥機にて90°C、5分放置し、溶剤を揮発させ、硬化性樹脂層を形成した。更に、パルス紫外線照射装置で電圧3800V、1パルス当たり168μ秒、1パルス当たり207Jの条件で、25秒間照射し、硬化被膜を得た。硬化時間は25秒であった。被膜の評価以上のようにして得た2層構造の保護被膜を有するポリメチルメタクリル樹脂を、以下の方法により評価した。結果を表1に示す。1硬化時間光硬化の場合、硬化時間には、プレキュア、ポストキュアも含んだ合計時間とする。○:10分以下△:10分を超えて30分以下×:30分を超える2外観目視にて試験片の透明性、白化の有無を観察し、以下の基準により評価した。○:透明で、白化の欠陥の無いもの良好。×:不透明な部分のあったもの、白化、シワ等の欠陥があったもの不良。3SiOH/SiCH3ピーク面積比ニコレー社製サンダードーム使用ATR結晶;Ge結晶、赤外光入射角;45度を取り付けたフーリエ変換赤外吸収分光計ニコレー社製、商品名:Niclet4700を用いて測定した。シロキサン結合に由来するピーク面積960cm1~1240cm1/Si-CH3に由来するピーク面積1250cm1~1300cm1の値を算出した。○:0.40以下×:0.40を超える4硬度<マルテンス硬さ>FischerscopeHM2000を用いて測定した。測定に使用する圧子は、ダイヤモンド製の四角錐型、対面角135度のものを用いた。23°C、相対湿度50環境下、荷重をF、経過時間をtとした時にこの圧子を硬化物に対しdF/dt2が一定となるよう20秒間で1mNまで荷重後、5秒間クリープさせ、その後荷重時と同じ条件で除重させる測定条件において、マルテンス硬さは、荷重を、接触ゼロ点を超えて侵入した圧子の表面積で除した値で求めた。実施例2~4表1に記載のものを用いること以外は実施例1と同様にして硬化被膜を得た。実施例5表1に記載のものを用いること以外は実施例1と同様にして硬化性組成物を得た。PMMAフィルム厚み100μmの上に、適量滴下し、バーコーティング法バーコーター26にて塗布した。引き続いて、パルス紫外線照射装置で電圧3800V、1パルス当たり168μ秒、1パルス当たり207Jの条件で、25秒間照射し、硬化被膜を得た。実施例6~7表1に記載のものを用いること以外は実施例5と同様にして硬化被膜を得た。比較例1表2に記載のものを用いること以外は実施例1と同様にして硬化性組成物を得た。PMMA板の上に、適量滴下し、バーコーティング法バーコーター26にて塗布した。引き続いて、温風乾燥機にて90°C、10分放置し、溶剤を揮発させ、硬化性樹脂層を形成した。更に、高圧水銀灯株式会社オーク製作所製、紫外線照射装置、ハンディーUV-1200、QRU-2161型にて、約1,000mJ/cm2の紫外線を照射し、膜厚約6μmの硬化被膜を得た。なお、紫外線照射量は、紫外線光量計株式会社オーク製作所製、UV-351型、ピーク感度波長360nmにて測定した。引き続いて、温風乾燥機にて90°C、10分硬化させ、硬化被膜を得た。硬化時間は、25分であった。比較例2表2に記載のものを用いること以外は実施例1と同様にして硬化性組成物を得た。PMMA板の上に、適量滴下し、バーコーティング法バーコーター26にて塗布した。引き続いて、温風乾燥機にて90°C、120分放置し、硬化被膜を形成した。硬化時間は、120分であった。比較例3~4表2に記載のものを用いること以外は実施例1と同様にして硬化被膜を得た。表1、2中の略号は、以下の通りである。A-1:合成例1で得られたシロキサン化合物A-2:合成例2で得られたシロキサン化合物A-3:合成例3で得られたシロキサン化合物SI-100:光感応性酸発生剤三新化学工業株製、サンエイドSI-100SI-B3:4-ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートPGM:1-メトキシ-2-プロパノールL-7001:シリコーン系界面活性剤東レダウコーニング株製、L-7001上記実施例1~7の結果より、本発明の方法および積層体は、生産性が高く、基材の種類や厚みによらず、硬度や外観に優れた積層体が得られることが確認された。一方、比較例1、2~4の結果より、外観にダメージを与えない範囲の従来の硬化方法では、十分な硬度を得ることはできなかった。また、比較例2の結果より、熱硬化手法では、生産性に劣ることが確認された。以上、本発明に係る方法および積層体が、上記課題を解決し、非常に優れたものであって、この積層体が、従来透明ガラスを用いていた広い用途において使用可能であることが示された。"