水素を用いて一酸化窒素を触媒的還元することによる、ヒドロキシルアミンまたはヒドロキシルアンモニウム塩の製造装置からの排ガスAの後処理方法であって、排ガスAが一酸化窒素、水素、一酸化二窒素、窒素、およびアンモニアを含有し、且つ、排ガスA中に含有される水素の少なくとも一部を排ガスAから、気密性の膜電極接合体を用いて分離し、前記膜電極接合体は、少なくとも1つの選択的にプロトンを伝導する膜、濃縮物側、透過側、および該膜の各々の側の上に、少なくとも1つの電極触媒を有し、該膜の濃縮物側で、水素の少なくとも一部がアノード触媒によってプロトンへと酸化され、且つ、該プロトンが膜を横断した後、透過側でカソード触媒によって、I水素へと還元される、および/またはII酸素と共に水へと変換され、前記酸素は透過側と接触される酸素含有流Oに由来する、前記方法。IおよびIIにより水素を同時に分離する際、IIの際に生じた流の少なくとも一部をIにおいて用いることを特徴とする、請求項1に記載の方法。IIにより水素を分離する際、IIの際に生じた熱の少なくとも一部を、ヒドロキシルアミンまたはヒドロキシルアンモニウム塩の製造装置に供給することを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。水素をIによって、水素参照電極に対して0.05~2000mVの電圧を印加しながら分離することを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。酸素含有流Oが少なくとも15容積の酸素を含有することを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。酸素含有流Oとして、空気を用いることを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。膜電極接合体の電極をガス拡散電極として構成することを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。選択的にプロトンを伝導する膜として、ポリマー膜aを用いることを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。選択的にプロトンを伝導する膜として、担体物質およびリン酸を含有する膜を用いることを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。前記膜が、ポリベンズイミダゾール、テフロンおよび炭化ケイ素からなる群から選択される担体材料を含有することを特徴とする、請求項9に記載の方法。選択的にプロトンを伝導する膜として、セラミック膜cを用いることを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。選択的にプロトンを伝導する膜として、部分フッ素化または過フッ素化された炭化水素ポリマーを用いることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。選択的にプロトンを伝導するポリマー膜として、スルホン化ポリエーテルエーテルケトンS-PEEKを用いることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。水素を、0~200°Cの範囲の温度で分離することを特徴とする、請求項1から10までのいずれか1項に記載の方法。水素を、70~90°Cの範囲の温度で分離することを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。