"複数の収容孔それぞれにウエハを収容した搬送可能なトレイを供給及び回収するためのストック部と、前記ストック部から供給される前記トレイに収容された前記ウエハに対してプラズマ処理を実行する処理部と、前記プラズマ処理前の前記トレイが載置されるテーブルを備え、このテーブル上の前記ウエハの位置決めが行われるアライメント部と、前記アライメント部の前記テーブルに載置された前記トレイの各収容孔に収容されたウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの検出を行う収容状態検出部とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。前記トレイを搬送する搬送機構と、前記収容状態検出部が前記テーブルに載置された前記トレイのいずれかの前記収容孔のウエハに位置ずれを起こしていることを検出すると、前記搬送機構により前記テーブル上の前記トレイを前記処理部に搬送することなく前記ストック部に戻す搬送制御部とをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。前記収容状態検出部は、前記テーブルに載置された前記トレイが備える複数の前記収容孔に収容された各ウエハの表面のウエハ側対象点における高さを検出する高さ検出部と、前記高さ検出部により検出された前記ウエハ側対象点における前記ウエハの表面の高さを用いて、各ウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの判定を行う判定部とを備えることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のプラズマ処理装置。前記高さ検出部は、前記ウエハ側対象点と前記収容孔の孔縁を挟んで対向するトレイ側対象点におけるトレイの表面の高さをさらに検出し、前記判定部は、前記ウエハ側測定点における前記ウエハの表面の高さと前記トレイ側対象点における前記トレイの表面の高さとの比較に基づいて、各ウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの判定を行うことを特徴とする、請求項3に記載のプラズマ処理装置。前記判定部は、前記高さ検出部が検出した前記ウエハ側対象点の高さに基づいて各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの判定をさらに行う、請求項3又は請求項4のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。前記収容状態検出部は、前記テーブルに載置された前記トレイが備える複数の前記収容孔に収容された各ウエハを上方から撮像する撮像部と、前記撮像部により得られた画像に基づいて、各ウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの判定を行う判定部手段とを備えることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のプラズマ処理装置。前記判定部は、前記撮像部により得られた画像に基づいて各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの判定をさらに行う、請求項6に記載のプラズマ処理装置。前記テーブルは前記トレイを水平面内で回転させる回転テーブルであり、前記収容状態検出部は、前記回転テーブルによる前記トレイの回転中に、前記トレイが備える前記複数の収容孔に収容された各ウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの検出を行うことを特徴とする、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。前記収容状態検出部が前記トレイのいずれかの前記収容孔の前記ウエハが位置ずれを起こしていることを検出すると警報を発生する警報発生部をさらに備える、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。複数の収容孔それぞれにウエハを収容したトレイを、ストック部からアラインメント部に搬送してテーブルに載置し、前記アライメント部の前記テーブル上の前記トレイの各収容孔内の前記ウエハの収容状態を検出し、前記テーブル上の前記トレイのすべての前記収容孔内に前記ウエハが位置ずれを起こすことなく収容されていれば、前記トレイを前記アラインメント部から処理部に搬送してプラズマ処理を実行し、前記テーブル上の前記トレイのいずれかの前記収容孔の前記ウエハが位置ずれを起こしていれば、前記トレイを前記アラインメント部から前記ストック部に戻す、プラズマ処理方法。しかしながら、上記のように、収容孔を有するトレイによって複数のウエハを一括して支持台に支持させる構成の従来のプラズマ処理装置では、個々の収容孔にウエハが適切に収容されているか否かが重要である。すなわち、トレイの収容孔に収容されたウエハがその収容孔の内縁に乗り上げて位置ずれを起こしている場合、ウエハを冷却する冷却ガスがウエハの下面に十分に行き渡らない。その結果、ウエハが冷却不足の状態で高温のプラズマに晒されることによって、いわゆるレジスト焼けが生じてしまうおそれがある。そこで本発明は、トレイの収容孔に対してウエハが位置ずれを起こした状態でプラズマ処理が実行されるのを防止することを目的とする。本発明の第1の態様は、複数の収容孔それぞれにウエハを収容した搬送可能なトレイを供給及び回収するためのストック部と、前記ストック部から供給される前記トレイに収容された前記ウエハに対してプラズマ処理を実行する処理部と、前記プラズマ処理前の前記トレイが載置されるテーブルを備え、このテーブル上の前記ウエハの位置決めが行われるアライメント部と、前記アライメント部の前記テーブルに載置された前記トレイの各収容孔に収容されたウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの検出を行う収容状態検出部とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置を提供する。具体的には、プラズマ処理装置は、前記トレイを搬送する搬送機構と、前記収容状態検出部が前記テーブルに載置された前記トレイのいずれかの前記収容孔のウエハに位置ずれを起こしていることを検出すると、前記搬送機構により前記テーブル上の前記トレイを前記処理部に搬送することなく前記ストック部に戻す搬送制御部とをさらに備える。処理部でのプラズマ処理前に、トレイは位置決めのためにアラインメント部のテーブルに載置される。テーブル上のトレイに対し、収容状態検出部が各収容孔内のウエハが位置ずれを起こしていない否かの検出を行う。その結果、トレイが備える複数の収容孔のうちウエハが位置ずれを起こしている収容孔がある場合には、そのトレイを処理部でのプラズマ処理に供しないようにすることができる。具体的には、前記収容状態検出部は、前記テーブルに載置された前記トレイが備える複数の前記収容孔に収容された各ウエハの表面のウエハ側対象点における高さを検出する高さ検出部と、前記高さ検出部により検出された前記ウエハ側対象点における前記ウエハの表面の高さを用いて、各ウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの判定を行う判定部とを備える。さらに具体的には、前記高さ検出部は、前記ウエハ側対象点と前記収容孔の孔縁を挟んで対向するトレイ側対象点におけるトレイの表面の高さをさらに検出し、前記判定部は、前記ウエハ側測定点における前記ウエハの表面の高さと前記トレイ側対象点における前記トレイの表面の高さとの比較に基づいて、各ウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの判定を行う。この構成によれば、ウエハ側測定点における前記ウエハの表面の高さと前記トレイ側対象点における前記トレイの表面の高さとを比較することで、ウエハの位置ずれを高精度で実行できる。前記判定部は、前記高さ検出部が検出した前記ウエハ側対象点の高さに基づいて各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの判定をさらに行うことが好ましい。前記収容状態検出部は、前記テーブルに載置された前記トレイが備える複数の前記収容孔に収容された各ウエハを上方から撮像する撮像部と、前記撮像部により得られた画像に基づいて、各ウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの判定を行う判定部手段とを備えてもよい。前記判定部は、前記撮像部により得られた画像に基づいて各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの判定をさらに行うことが好ましい。前記テーブルは前記トレイを水平面内で回転させる回転テーブルであってもよい。この場合、前記収容状態検出部は、前記回転テーブルによる前記トレイの回転中に、前記トレイが備える前記複数の収容孔に収容された各ウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの検出を行う。この構成により、ウエハ有無検出部が備える向きが固定された1個の高さ検出部による複数の収容孔のウエハの高さ検出又は視野が固定された1個の撮像部による複数の収容孔のウエハの画像取得が可能となる。プラズマ処理装置は、前記収容状態検出部が前記トレイのいずれかの前記収容孔の前記ウエハが位置ずれを起こしていることを検出すると警報を発生する警報発生部をさらに備えてもよい。本発明の第2の態様は、複数の収容孔それぞれにウエハを収容したトレイを、ストック部からアラインメント部に搬送してテーブルに載置し、前記アライメント部の前記テーブル上の前記トレイの各収容孔内の前記ウエハの収容状態を検出し、前記テーブル上の前記トレイのすべての前記収容孔内に前記ウエハが位置ずれを起こすことなく収容されていれば、前記トレイを前記アラインメント部から処理部に搬送してプラズマ処理を実行し、前記テーブル上の前記トレイのいずれかの前記収容孔の前記ウエハが位置ずれを起こしていれば、前記トレイを前記アラインメント部から前記ストック部に戻す、プラズマ処理方法を提供する。本発明では、処理部でウエハに対するプラズマ処理が実行される前のアライメント部におけるトレイの位置決め段階で、トレイが備える複数の収容孔に収容された各ウエハが対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているか否かの検出を行うようになっている。対応する収容孔に対して位置ずれを起こしているウエハがあった場合にはそのトレイを処理部に搬送せずにストック部に戻すことができる。その結果、ウエハが収容孔に対する位置ずれのために冷却不足の状態で高温のプラズマに晒されることがなく、ウエハにレジスト焼けが生じることを防止することができる。実施の形態1図1~図4において、本発明の実施の形態1におけるプラズマ処理装置1は処理対象物に対してプラズマ処理例えばドライエッチングを施すものであり、ストック部2、搬送室搬送部3、アライメント室アラインメント部4、処理室処理部5及び制御装置6図1及び図3を備える。ここで、図3は図2における矢視A-A断面図、図4は図2における矢視B-B断面図である。このプラズマ処理装置1では、処理対象物としてのウエハWを複数枚同時に処理することができるように、図5A及び図5Bに示すような搬送可能なトレイ7が用いられる。このトレイ7は薄板円盤状の部材であり、セラミックス材料等の電気絶縁性材料から形成されている。トレイ7には厚さ方向に貫通して設けられてウエハWよりもやや大きい直径を有する複数ここでは7つの円形の収容孔7aが設けられている。各収容孔7aの内周部の下縁部には、その収容孔7aの内方に張り出したリング状の張り出し部7bが設けられている。張り出し部7bは収容孔7a内に収容されたウエハWの下面の外縁を支持する。ウエハWの外縁が張り出し部7bによって下方から支持されて収容孔7aの内部に収容された状態では、ウエハWの下面は収容孔7aから下方に露出した状態となる図5B。この実施の形態におけるトレイ7は、図5Aに示すように、トレイ7の中心位置に配置された1つの収容孔7aに1枚のウエハWを収容する。また、トレイ7の中心位置を中心とする仮想円CL上に中心が等間隔で並ぶように配置された6つの収容孔7aに6枚のウエハWを収容できるようになっている。図1、図2及び図3において、本実施の形態におけるプラズマ処理装置1のストック部2は、その内部に複数のトレイ7各トレイ7が備える複数の収容孔7aのそれぞれにはウエハWが収容されているを取り出し及び格納可能に収容したカセット21を備えている。カセット21には、ストック部2に設けられた開閉扉22を介して外部からアクセスすることができる。図2、図3及び図4において、搬送室3はストック部2に隣接して設けられており、内部にトレイ7を搬送するための搬送機構30が収容されている。搬送機構30は搬送アーム31を備えている。この搬送アーム31は2つの平行な突起部31aを有して平面視においてU字の形状をなし、上下軸回りに回転自在な回転軸32の上部に設けられた水平移動機構33に取り付けられている。図2、図3及び図4において、水平移動機構33は回転軸32の上端部に固定されて水平面内の方向に延びたベースステージ33aと、ベースステージ33aに対してベースステージ33aの延びる方向に移動自在に設けられた下段ステージ33bと、下段ステージ33bに対してベースステージ33aの延びる方向に移動自在に設けられた上段ステージ33cを備える。搬送アーム31は2つの突起部31aの延びる方向をベースステージ33aの延びる方向と一致させた状態で上段ステージ33cに取り付けられている。搬送アーム31は回転軸32が回転することによって水平面内で回転し、水平移動機構33の下段ステージ33bがベースステージ33aに対して水平面内で移動するのと連動して上段ステージ33cが下段ステージ33bに対して水平面内で移動することによって水平面内で移動する。搬送アーム31の水平面内での回転動作回転軸32の回転動作は、制御装置6が回転軸駆動モータ32a図3、図4及び図6の作動制御を行うことによってなされる。また、搬送アーム31の水平面内での移動動作ベースステージ33aに対する下段ステージ33bの水平面内方向への移動動作及び上段ステージ33cの下段ステージ33bに対する水平面内方向への移動動作は、制御装置6が水平移動機構33の内部に設けられた水平移動機構駆動部33d図6の作動制御を行うことによってなされる。制御装置6は、このように搬送アーム31を水平面内で回転させ、また水平面内で移動させることによって、ストック部2内のトレイ7のアライメント室4への搬送、アライメント室4内のトレイ7の処理室5への搬送、処理室5内のトレイ7のアライメント室4への搬送、及びアライメント室4内のトレイ7のストック部2への搬送を行う。図2及び図4において、アライメント室4は搬送室3に隣接して設けられている。図7にも示すように、アライメント室4は、内部に回転テーブル41、センタリング機構42、透過型の光学式センサ投光器が投光する検査光を受光器が直接受光する形態の光学式センサであるノッチ検出センサ43、反射型の光学式センサ投光する検査光の反射光を自身が受光する形態の光学式センサである4つの高さ検出センサ44A,44B,44C,44D及びトレイ仮置きテーブル45を備えている。図4及び図7において、回転テーブル41は、アライメント室4の底板部4aに対して水平面内で回転自在に設けられており、搬送室3内の搬送アーム31によってストック部2から供給されたトレイ7このトレイ7の各収容孔7aにはウエハWが収容されているが載置される。回転テーブル41は、底板部4aの下方に設けられた回転テーブル駆動モータ46図4及び図6の作動によって回転し、これにより回転テーブル41上のトレイ7が水平面内で回転する。センタリング機構42は、図2、図7及び図8に示すように、アライメント室4の底板部4a上に設けられて水平面内の同一軸上を同期して近接又は離間するように設けられた一対の縦方向部材42aと、各縦方向部材42aに一端側が固定されて縦方向部材42aと直交する水平面内方向に延びた一対の横方向部材42bとを備える。各横方向部材42bに2つずつ立設して計4つの当接部材42cが設けられている。一対の縦方向部材42aが互いに近接又は離間すると、これに応じて一対の横方向部材42bが互いに近接又は離間するようになっている。ここで、一対の縦方向部材42aの近接又は離間動作すなわち一対の横方向部材42bの近接又は離間動作は、制御装置6が一対の縦方向部材42aの間に設けられたセンタリング機構駆動部42dの作動制御を行うことによってなされる。制御装置6は、搬送室3内の搬送アーム31を水平面内で移動させ、搬送アーム31によってトレイ7を回転テーブル41に載置させる。その後、制御装置6は、センタリング機構駆動部42dの作動制御を行って一対の縦方向部材42aをしたがって一対の横方向部材42bを互いに近接するように作動させ図8中に示す矢印A、一対の横方向部材42bに立設された計4つの当接部材42cをトレイ7の外縁に当接させてトレイ7を挟み込む図8中の実線で示す当接部材42c参照。これにより回転テーブル41上のトレイ7は、トレイ7の中心位置ct図8が回転テーブル41の中心位置CT図8と一致する位置に移動して、回転テーブル41に対する中心位置合わせセンタリングがなされる。制御装置6は、トレイ7のセンタリングを行った後は、センタリング機構駆動部42dの作動制御を行って、一対の縦方向部材42aをしたがって一対の横方向部材42bを互いに離間するように作動させる。これにより、4つの当接部材42cがトレイ7から離れ、トレイ7が回転テーブル41の回転作動により回転し得るようにする。なお、本実施の形態では、図8に示すように、センタリング機構42によってトレイ7がセンタリングされた状態では、回転テーブル41の外縁はトレイ7の仮想円CLの内部領域に収まるようになっている。図7及び図9において、ノッチ検出センサ43は、アライメント室4の天井部4b図4及び図7に設けられて検査光L1を下方に投光する投光器HSと、投光器HSの直下であって底板部4a上に設けられた受光器JSとを備える。この実施の形態1では、アライメント室4の天井部4bはアクリル板等の透明な部材から成っており、ノッチ検出センサ43は天井部4bの上面側に設けられて投光器HSから投光される検査光L1は天井部4bを透過して下方に照射されるようになっている。しかし、ノッチ検出センサ43の投光器HSは天井部4bの下面側に設けられていてもよい4つの高さ検出センサ44A~44Dについても同じ。図9において、ノッチ検出センサ43の投光器HSは、センタリング機構42によってセンタリングがなされたトレイ7が回転テーブル41により回転されたときに、投光器HSが投光する検査光L1がトレイ7の外縁の一部を切り欠いて形成されたノッチ7cを上下方向に通過し得る位置に配置されている。ノッチ検出センサ43の受光器JSは、投光器HSが投光した検査光L1がノッチ7cを上下方向に通過したときにその検査光L1を受光し得る位置に配置されている。ノッチ検出センサ43は、トレイ7が載置された回転テーブル41が回転されている状態で図9中に示す矢印B、投光器HSから検査光L1を投光しつつ、受光器JSによる検査光L1の受光状態を観察することによって、トレイ7のノッチ7cの位置を検出することができる。制御装置6のアライメント処理部6a図6は、ノッチ検出センサ43によりノッチ7cの位置が検出されたトレイ7の回転角度回転テーブル41の回転軸回りの回転角度を0度原点位置であると認識する。なお、このノッチ7cの検出における回転テーブル41の回転動作は、制御装置6のアライメント処理部6aが回転テーブル駆動モータ46の作動制御を行うことによってなされる。本実施の形態では、ノッチ検出センサ43及び制御装置6のアライメント処理部6aが、回転テーブル41によりトレイ7を回転させながらトレイ7の回転方向の位置決めを行う回転方向位置決め部を構成している。そして、回転方向位置決め部と前述のセンタリング機構42は、アライメント室4内においてテーブル回転テーブル41に対してトレイ7の位置決めを行うトレイ位置決め部を構成する。図7及び図9において、アライメント室4には前述のように、4つの高さ検出センサ44A~44Dが設置されている。これら高さ検出センサ44A~44Dは、レーザー光線等の検査光L2を高さ検出対象点へ向かって照射する照射部と、高さ検出対象点で反射した検査光の位置を検出する受光部を備え、反射した検査光L2の位置から三角測量の原理で高さ検出対象点の高さを計測する。4つの高さ検出センサ44A~44Dはそれぞれ、トレイ7が備える7つの収容孔7aに収容されたウエハWが対応する収容孔7aの孔縁に乗り上げて位置ずれを起こしているか否かを検出するためのものである。これらの高さ検出センサ44A~44Dにより、ウエハWの表面上の外縁に近い数点ここでは4点の高さ検出対象点の高さと、そのウエハW上の高さ検出対象点の近傍に位置するトレイ7上の数点ここでは4点の高さ検出対象点の高さを求める。具体的には、4つの高さ検出センサ44A~44Dはそれぞれ、回転テーブル41上のトレイ7の各収容孔7aに収容されたウエハW又はその収容孔7aの近傍のトレイ7の表面上に検査光L2を照射し、その検査光L2のウエハW又はトレイ7の表面における反射光に基づいてウエハW又はトレイ7の表面上の高さ検出対象点の高さを検出する。ここで、図7に示すように、トレイ仮置きテーブル45には、各高さ検出センサ44A~44Dが照射する検査光L2及び検査光L2のウエハW或いはトレイ7による反射光がトレイ仮置きテーブル45によって遮らなれないようにするため、トレイ仮置きテーブル45の各所には、その厚さ方向に貫通した透孔45aが設けられている。図7及び図9において、4つの高さ検出センサ、すなわち第1の高さ検出センサ44A、第2の高さ検出センサ44B、第3の高さ検出センサ44C及び第4の高さ検出センサ44Dがある。本実施の形態1では、これら4つの高さ検出センサ44A~44Dは、回転テーブル41の中心の直上位置を通って水平面内方向に延びた直線LL上に並んで設けられている。第1の高さ検出センサ44Aは、トレイ7の中央に設けられた収容孔7aと同心であって、この収容孔7aよりも半径がやや小さい仮想円S1図9及び図10上に検査光L2を照射し、仮想円S1上でのウエハWの表面の高さを検出する。第1の高さ検出センサ44Aから検査光L2が照射される向きは固定されている。しかし、回転テーブル41上のトレイ7が水平面内で回転することで、第1の高さ検出センサ44Aは仮想円S1上の複数点におけるウエハWの表面の高さを検出する。詳細には、第1の高さ検出センサ44Aは、仮想円S1上の4つの高さ検出対象点ウエハ側対象点P1,P2,P3,P4の高さを検出する。高さ検出対象点P1~P4は、ウエハWの表面上の外縁の近傍に位置し、平面視でウエハWの中心に対して等角度間隔90°間隔で配置されている。第2の高さ検出センサ44Bは、トレイ7の中央に設けられた収容孔7aと同心であって、この収容孔7aよりも半径がやや大きい仮想円S2図9及び図10上に検査光L2を照射し、仮想円S2上でのトレイ7の表面の高さを検出する。第2の高さ検出センサ44Bから検査光L2が照射される向きは固定されている。しかし、回転テーブル41上のトレイ7が水平面内で回転することで、第2の高さ検査センサ44Bは仮想円S2上の複数点におけるトレイ7の表面の高さを検出する。詳細には、第2の高さ検出センサ44Bは、仮想円S2上の4つの高さ検出対象点トレイ側対象点Q1,Q2,Q3,Q4の高さを検出する。高さ検出対象点Q1~Q4は、中央の収容孔7aの孔縁の近傍に位置し、平面視で収容孔7aの中心に対して等角度間隔90°間隔で配置されている。また、高さ検出対象点Q1~Q4の位置は、高さ検出対象点P1~P4中央の収容孔7aの孔縁を挟んで対向するように設定されている。第3の高さ検出センサ44Cは、トレイ7の周辺位置に並んで設けられた6つの収容孔7aとトレイ7の中心側で接する仮想円SG図9よりも半径がやや大きい仮想円S3図9及び図10上に検査光L2を照射し、仮想円S3上でのウエハWやトレイ7の表面の高さを検出する。第3の高さ検出センサ44Cから検査光L2が照射される向きは固定されている。しかし、回転テーブル41上のトレイ7が水平面内で回転することで、第3の高さ検出センサ44Cは仮想円S3上の複数点における高さを検出する。詳細には、第3の高さ検出センサ44Cは、トレイ7の周辺位置に並ぶ6つの収容孔7a内のそれぞれについて収容孔7a内のウエハWの表面上の外縁に近い2つの高さ検出対象点ウエハ側対象点U1,U2計12点の高さを検出する。また、第3の高さ検出センサ44Cは、これら6つの収容孔7a内のそれぞれについて2つ高さ検出対象点U1,U2と収容孔7aの孔縁を挟んで対向するトレイ7の表面上の2つの高さ検出対象点トレイ側対象点V1,V2計12点の高さを検出する。第4の高さ検出センサ44Dは、トレイ7の周辺位置に並んで設けられた6つの収容孔7aとトレイ7の外周側で接する仮想円SN図9よりも半径がやや小さい仮想円S4図9及び図10上に検査光L2を照射し、仮想円S4上でのウエハWやトレイ7の表面の高さを検出する。第4の高さ検出センサ44Dから検査光L2が照射される向きは固定されている。しかし、回転テーブル41上のトレイ7が水平面内で回転することで、第4の高さ検出センサ44Dは仮想円S4上の複数点における高さを検出する。詳細には、第4の高さ検出センサ44Dは、トレイ7の周辺位置に並ぶ6つの収容孔7a内のそれぞれについて収容孔7a内のウエハWの表面上の外縁に近い2つの高さ検出対象点ウエハ側対象点X1,X2計12点の高さを検出する。また、第4の高さ検出センサ44Dは、これら6つの収容孔7a内のそれぞれについて2つの高さ検出対象点X1,X2と収容孔7aの孔縁を挟んで対向するトレイ7の表面上の2つの高さ検出対象点トレイ側対象点Y1,Y2計12点の高さを検出する。制御装置6の収容状態判定部6b図6は、トレイ7の中央部の収容孔7aに収容されたウエハWについて、4組の高さ検出対象点、すなわち高さ検出対象点P1とQ1、高さ検出対象点P2とQ2、高さ検出対象点P3とQ3、及び高さ検出対象点P4とQ4の高さの比較を行う。高さ検出対象点P1~P4は第1の高さ検出センサ44Aにより検出され、高さ検出対象点Q1~Q4は第2の高さ検出センサ44Bにより検出される。この高さの比較により、収容状態判定部6bはウエハWの対応する収容孔7aに対する収容状態の判定を行う。詳細には、収容状態判定部6bは、ウエハWがトレイ7の収容孔7aの孔縁に乗り上げて傾いた状態であるか否か、すなわちウエハWが収容孔7aに対する位置ずれを起こしているか否かの判定を行う。また、収容状態判定部6bはトレイ7の周辺位置の6つの収容孔7aのそれぞれに収容されたウエハWについて、対応する4組の高さ検出対象点、すなわち高さ検出対象点U1とV1、高さ検出対象点U2とV2、高さ検出対象点X1とY1、及び高さ検出対象点X2とY2の高さの比較を行う。高さ検出対象点U1,U2,V1,V2は第3の高さ検出センサ44Cにより検出され、高さ検出対象点X1,X2,Y1,Y2は第4の高さ検出センサ44Dにより検出される。この高さの比較により、収容状態判定部6bはウエハWの対応する収容孔7aに対収容状態の判定、すなわち位置ずれを起こしているか否かの判定を行う。収容状態判定部6bによる位置ずれの判定は、具体的には以下のように実行される。まず、ウエハW上の高さ検出対象点における高さとそれに対して収容孔7aの孔縁を挟んで対向するトレイ7上の高さ検出対象点における高さが比較される。例えば、トレイ7の中央のウエハWについては、ウエハW上の高さ検出対象点P1~P4の高さとトレイ7上の高さ検出対象点Q1~Q4の高さがそれぞれ比較される。また、トレイ7の外周側の6つのウエハWについては、ウエハW上の高さ検出対象点U1,U2,X1,X2の高さとトレイ7上の高さ検出対象点V1,V2,Y1,Y2の高さがそれぞれ比較される。具体的には、ウエハW上の高さ検出対象点P1~P4,U1,U2,X1,X2の高さと対応するトレイ7上の高さ検出対象点Q1~Q4,V1,V2,Y1,Y2の高さの差を求める。次に、求めた高さの差を評価する。具体的には、1つのウエハW上の4つの高さ検出対象点の全ておいて、対応するトレイ7側の高さ検出対象の高さに対する差が予め定められた範囲であれば、そのウエハWは対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしていないと判定される。逆に、1つのウエハW上の4つの高さ検出対象点のいずれかにおいて、対応するトレイ7側の高さ検出対象点の高さに対する差が予め定められた範囲よりも大きい場合、そのウエハWは対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしていると判定される。例えば、中央のウエハWについてはウエハW側の高さ検出点対象P1~P4の高さからトレイ側の高さ検出対象点Q1~Q4の高さを引いた差を求め、この差が予め定められた範囲内であるか否かに基づいて位置ずれの有無が判断される。この判断基準に代えて又はこの判断基準に加えて以下の基準も使用できる。1つのウエハW上の4つの高さ検出対象点の対応するトレイ7側の高さ検出対象点の高さに対する差のばらつきが予め定められた範囲に収まる場合は、1つのウエハWの4つの高さ検出対象点について対応するトレイ7側の高さ検出対象点の高さに対する差が概ね同じであるとみなせる。この場合は、そのウエハWは対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしていないと判定される。逆に、1つのウエハW上の4つの高さ検出対象点の対応するトレイ7側の高さ検出対象点の高さに対する差のばらつきが予め定められた範囲に収まらない場合、そのウエハWは対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしていると判定される。以上のように、本実施の形態1におけるプラズマ処理装置1が備える複数ここでは4つの高さ検出センサ44A~44Dは、回転テーブル41に載置されたトレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWの表面上の複数箇所の高さを検出する高さ検出部として機能し、制御装置6の収容状態判定部6bは、高さ検出手段4つの高さ検出センサ44A~44Dにより検出された各ウエハWの表面上の複数箇所の高さに基づいて、トレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか否かの判定を行う判定部として機能する。高さ検出センサ44A~44D高さ検出部と収容状態判定部6b判定部とにより本発明における収容状態検出部が構成されている。なお、高さ検出対象点の高さの検出時における回転テーブル41の回転は、制御装置6の収容状態判定部6bが、回転テーブル駆動モータ46の作動制御を行うことによってなされる。本実施の形態では、ウエハWの高さ検出対象点P1~P3,U1,U2,X1,X2をウエハWの表面上の外縁に近い位置に設定しているので、ウエハWの反りによって位置ずれ判断に影響が及ぶのを最小限にとどめることができる。また、前述のようにウエハWの高さ検出対象点の高さと対応するトレイ7の高さ検出対象点の高さとの差でウエハWの位置ずれを判断するので、回転テーブル41の平行度による誤差、エッチングに伴うトレイ7の消耗による誤差、トレイ7の反りや変形による誤差の影響も排除することができる。図2及び図3において、処理室5は搬送室3とゲートバルブ8を介して繋がっており、ゲートバルブ8を閉じた状態では処理室5は搬送室3とは独立した真空容器として機能する。処理室5は、内部にウエハWをトレイ7ごと支持する支持台としてのサセプタ51を備えるとともに、サセプタ51によって支持されたウエハWに対してプラズマ処理を施すプラズマ処理部52図6を備えている。図11A及び図11Bにおいて、サセプタ51はトレイ載置部51a及びトレイ載置部51aから上方に突出して設けられた複数のウエハ支持部51bを備えている。トレイ載置部51aには、アライメント室4内において回転テーブル41に対するトレイ7の中心位置合わせセンタリングと回転方向の位置決めがなされ、搬送室3内の搬送アーム31によって搬送されたトレイ7このトレイ7の各収容孔7aにはウエハWが収容されているが載置される。各ウエハ支持部51bは、センタリング及び回転方向位置決め後のトレイ7がトレイ載置部51aに載置されると、トレイ7の各収容孔7a内に下方から入り込んで各ウエハWを持ち上げ支持する。図11Aにおいて、サセプタ51には制御装置6によって制御される昇降ピン駆動機構53図6の作動によって同期して昇降する4つの昇降ピン54が設けられている。これら4つの昇降ピン54の上端部には、トレイ7の下面側に設けられた4つの昇降ピン嵌入孔7d図5A及び図5Bが上方から嵌入し得るようになっている。トレイ7の4つの昇降ピン嵌入孔7dが4つの昇降ピン54に嵌入した状態で図12A及び図13A、4つの昇降ピン54をサセプタ51に対して下降させる図12B及び図13Bの図中に示す矢印C。この下降により、トレイ7はトレイ載置部51aに載置され、トレイ7の各収容孔7aに収容されたウエハWは、各収容孔7a内に下方から入り込んだウエハ支持部51bによって、トレイ7から上方に浮いた状態に支持される図12C及び図13C。図6において、プラズマ処理部52は、いずれも制御装置6によってその動作が制御される、ガス供給源52a、真空排気装置52b、第1の高周波電圧印加装置52c、直流電圧印加装置52d、冷媒循環装置52e、冷却ガス供給装置52f、及び第2の高周波電圧印加装置52gを備える図6。ガス供給源52aは、処理室5内にプラズマ発生用のガスを供給する。真空排気装置52bは、処理室5内のガスを真空排気する。第1の高周波電圧印加装置52cは、処理室5の上方に設けられた誘電コイル55図3に高周波電圧を印加する。直流電圧印加装置52dは、各ウエハ支持部51bに設けた静電吸着用電極56図11Bに直流電圧を印加してウエハ支持部51b上に載置されたウエハWをウエハ支持部51b上に静電吸着させる。冷媒循環装置52eは、サセプタ51内に設けられた冷媒流路57図11B内に温度調節がなされた冷媒を循環させる。冷却ガス供給装置52fは、サセプタ51内に設けられてウエハ支持部51bの上面に開口する冷却ガス供給管路58図11B、図13A、図13B、及び図13C内にウエハWを冷却するための冷却ガス例えばヘリウムガスを供給する。第2の高周波電圧印加装置52gは、処理室5内で発生したプラズマをウエハW側に引き寄せるバイアスを発生させる。次に、このプラズマ処理装置1により複数のウエハWをバッチ処理により一括してプラズマ処理する手順について説明する。制御装置6は先ず、搬送アーム31を移動させて、ストック部2に供給されている複数のトレイ7各トレイ7の各収容孔7aにはウエハWが収容されているのうちの1枚を搬送アーム31により保持させる。その後、制御装置6は、搬送アーム31を作動させてそのトレイ7をアライメント室4内に移動させる図14中に示す矢印D1。さらに制御装置6は搬送アーム31を回転テーブル41の上方で下降させてトレイ7を回転テーブル41上に載置する図14中に示す矢印D2。制御装置6は、トレイ7を回転テーブル41上に載置した後、搬送アーム31を搬送室3内に戻す図14中に示す矢印D3。制御装置6は、上記のようにしてトレイ7をアライメント室4の回転テーブル41に載置したら、センタリング機構駆動部42dの作動制御を行ってセンタリング機構42を作動させ、前述の要領でトレイ7のセンタリングを行う図15に示すステップST1。そして、トレイ7のセンタリングが終わったら回転テーブル41を作動させてトレイ7を水平面内で360度以上回転させながら、ノッチ検出センサ43を用いてトレイ7に設けられたノッチ7cの検出を行う。そして、ノッチ7cを検出したらトレイ7の回転回転テーブル41の回転を停止させてトレイ7の回転方向の原点位置を把握する図15に示すステップST2。制御装置6は、上記ステップST2が終了したら、ノッチ7cの検出が成功したかどうかの判定を行う図15に示すステップST3。そして、その結果、ステップST2におけるノッチ7cの検出に失敗したと判定した場合には、このプラズマ処理装置1に設けられるディスプレイ装置等の表示部警報発生部61図6にエラーメッセージを表示したうえで、トレイ7をストック部2に返却するための待ち状態に入る図15に示すステップST4。なお、ステップST2のノッチ7cの検出における回転テーブル41の回転数は予め定めた所定回数例えば3回までとし、制御装置6は、回転テーブル41を所定回数回転させるまでの間にノッチ7cを検出できなかった場合にはノッチ7cの検出に失敗したとしてステップST3からステップST4に進む。一方、制御装置6の収容状態判定部6bは、ステップST3でノッチ7cの検出に成功したと判定した場合には、トレイ7を原点位置から回転させながら、4つの高さ検出センサ44A~44Dにより、前述の要領で、回転テーブル41に載置されているトレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハW及びトレイ7の表面上の各高さ検出対象点の高さの検出を行う図15に示すステップST5。制御装置6の収容状態判定部6bは、ステップST5の上記検出を行ったら、4つの高さ検出センサ44A~44Dにより検出したウエハW及びトレイ7の表面上の各高さ検出対象点の高さのデータに基づいて、回転テーブル41に載置されたトレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された複数のウエハWのうち、対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしたウエハWがあるか否かを検出する図15に示すステップST6。その結果、制御装置6の収容状態判定部6bにおいて、トレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された複数のウエハWのうち、対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているウエハWが1つでもある少なくとも1つあると判定した場合には、表示部61にエラーメッセージ警告を表示図15に示すステップST4。表示部61に表示するエラーメッセージの態様はオペレータが認識できるものであれば、文字、図形、記号、ランプの点灯等のいずれでもよい。また、表示部61に加えた又は表示部61に代えて音又は音声でエラーメッセージ警告を出力する音響出力部を設けてもよい。また、収容孔7aに対して位置ずれを起こしているウエハWが1つでもある少なくとも1つあると判定した場合、トレイ7をストック部2に返却するための待ち状態に入る図15に示すステップST4。待ち状態はトレイ7をストック部2に返却する条件が充足すると終了する。待ち状態の終了後、制御装置6は回転ステージ41上のトレイ7を搬送機構30の搬送アーム31で保持し、アライメント室4からストック部2のカセット21に戻す。一方、制御装置6の収容状態判定部6bにおいて、ステップST6で、トレイが備える複数の収容孔7aに収容された複数のウエハWのうち、対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているウエハWが1つもなかったと判定した場合には、トレイ7を処理室5に搬送するための待ち状態に入り図15に示すステップST7、アライメント室4内での処理を終了する。このように、本実施の形態1におけるプラズマ処理装置1では、処理室5内でウエハWに対するプラズマ処理が実行される前のアライメント室4内におけるトレイ7の位置決め段階で、トレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか否かの判断を行う。その結果、対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているウエハWがあった場合にはそのトレイ7は処理室5内のサセプタ51に搬送されない。制御装置6は、収容状態判定部6bにより、対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているウエハWが1つもなかったと判定してステップST7の待ち状態になると、搬送アーム31を作動させて回転テーブル41上のトレイ7を保持し、そのトレイ7を搬送室3経由で処理室5のサセプタ51に載置させる。この動作を図16A中の矢印E1と図16Bの矢印E2で示す。このときトレイ7はアライメント室4において回転テーブル41に対する中心位置合わせセンタリングと回転方向の位置決めがなされているので、トレイ7の下面側に設けられた4つの昇降ピン嵌入孔7dにサセプタ51に設けられた4つの昇降ピン54の上端部が嵌入し、トレイ7は4つの昇降ピン54によって支持された状態となる。制御装置6は、トレイ7を4つの昇降ピン54に支持させたら、搬送アーム31を処理室5から退去させる図16C中に示す矢印E3。そして、処理室5に設けられたゲートバルブ8を閉止状態にして処理室5を密閉状態にする。制御装置6は、処理室5を密閉状態にしたら、昇降ピン駆動機構53の作動制御を行って4つの昇降ピン54を下降させる。この下降によりトレイ7がサセプタ51のトレイ載置部51aに載置されるとともに、トレイ7の各収容孔7aに収容されたウエハWがサセプタ51のウエハ支持部51bに載置支持される図16C。制御装置6はトレイ7及びウエハWをサセプタ51に載置させたら、ガス供給源52aの作動制御を行って処理室5内にプラズマ発生用のガスを供給する。次いで直流電圧印加装置52dを作動させて、ウエハ支持部51b内の静電吸着用電極56に直流電圧を印加する。これにより、ウエハ支持部51b上のウエハWが静電吸着用電極56に静電吸着される。制御装置6は、処理室5内に供給したプラズマ発生用のガスの圧力が所定の圧力に調圧されたことを検知したら、第1の高周波電圧印加装置52cの作動制御を行って誘電コイル55に高周波電圧を印加する。これにより処理室5内にプラズマが発生する。制御装置6は、各ウエハWがウエハ支持部51b上に静電吸着にて保持された後、冷却ガス供給装置52fを作動させて冷却ガス供給管路58から各ウエハ支持部51bの下面に冷却ガスを充填させる。更に、制御装置6は第2の高周波電圧印加装置52gの作動制御を行って、処理室5内のプラズマがウエハ支持部51b上のウエハWに引き付けられるようにする。これによりウエハWに対するプウエハ処理エッチングが開始される。制御装置6は、ウエハWに対するプラズマ処理が開始されて所定時間が経過したら、第2の高周波電圧印加装置52gによる静電吸着用電極56へのバイアス電圧の印加を停止させて処理室5内でのプラズマ発生を停止させる。次いで、制御装置6は冷却ガス供給装置52fの作動制御を行って冷却ガスの供給を停止させる。冷却ガスの供給停止後、制御装置6はウエハWの下面の冷却ガスの圧力が十分に低下したタイミングで、ガス供給源52aからの処理室5内へのガスの供給を停止させるとともに、第1の高周波電圧印加装置52cによる誘電コイル55への高周波電圧の印加を停止させる。更に、直流電圧印加装置52dによる静電吸着用電極56への直流電圧の印加を停止させて、ウエハWの静電吸着を解除する。ウェウエハ静電吸着を解除した後は、必要に応じて除電処理を実行してウエハWやトレイ7に残った静電気を除去し、処理ウエハでの処理を終了する。上記処理室5内での処理の実行中、制御装置6は、真空排気装置52bによる処理室5内のガスのプラズマ処理装置1の外部への排出動作と、冷媒循環装置52eによる冷媒流路57内への冷媒の循環動作を常時実行する。冷媒ウエハ置52eによる冷媒流路57内への冷媒の循環動作によりサセプタ51を通じてウエハWが冷却され、冷却ガスを通じたウエハWの冷却と相俟って、高いプラズマ処理効率が維持される。なお、制御装置6は、上記のように、処理室5内でのウエハWに対するプラズマ処理を実行している間、搬送アーム31を作動させて、次にプラズマ処理を行うウエハWを収容したトレイ7をストック部2から取り出してアライメント室4に搬入する。また、制御装置6はトレイ7を回転テーブル41上に載置させる。これにより、処理室5内でウエハWに対するプラズマ処理が行われている間、次にプラズマ処理を行うウエハWを収容したトレイ7について、回転テーブル41に対する中心位置合わせセンタリングと回転方向の位置決め及びウエハWの有無検出を実行することができる。制御装置6は、処理室5内でのウエハWに対するプラズマ処理が終了したら、昇降ピン駆動機構53を作動させて4つの昇降ピン54を上昇させ、トレイ7をサセプタ51の上方に持ち上げ支持する。なお、4つの昇降ピン54はその上昇過程でトレイ7の下面側に設けられた昇降ピン嵌入孔7d内に下方から嵌入する。昇降ピン54の上昇作動によりトレイ7をサセプタ51の上方に持ち上げ支持したら、制御装置6はゲートバルブ8を開いて搬送アーム31を処理室5内に進入させる。また、制御装置6は昇降ピン54によって持ち上げ支持されたトレイ7を搬送アーム31によって保持して処理室5から退去させる。そして、そのトレイ5をアライメント室4のトレイ仮置きテーブル45に載置する図16D。図中に示す矢印F1,F2。引き続いて、既に回転テーブル41に対する中心位置合わせセンタリングと回転方向の位置決めが終了している回転テーブル41上のトレイ7次にプラズマ処理を行うウエハWを収容したトレイ7を搬送アーム31によって保持し、アライメント室4から退去させて図16D中に示す矢印F3、そのトレイ7を処理室5内へ搬送する。制御装置6は、次にプラズマ処理を行うウエハWを収容したトレイ7を処理室5内に搬送した後は、搬送アーム31をアライメント室4に進入させ、トレイ仮置きテーブル45上のトレイ7既にプラズマ処理が終了したウエハWを収容したトレイ7を保持してアライメント室4から搬出し、ストック部2に戻す。このように、処理室5から搬出されたトレイ7は一旦トレイ仮置きテーブル45に載置し、冷却してからストック部2に戻す。これによりプラズマ処理によって高温になったウエハWトレイ7が高温状態のままストック部2に戻されることが防止される。また、高温になったウエハWを収容したトレイ7をトレイ仮置きテーブル45に載置したままの状態で、次にプラズマ処理を行うウエハWを収容したトレイ7をアライメント室4から取り出して処理室5へ搬送する。これによりプラズマ処理全体に要する時間を短縮して効率よく作業を行うことができる。仮置きテーブル45に載置したトレイ7をストック部2に戻したら、そのトレイ7に収容されたウエハWについてのバッチ処理が終了する。以上説明したように、本実施の形態1におけるプラズマ処理装置1は、複数の収容孔7aそれぞれにウエハWを収容したトレイ7の位置決めが行われるアライメント室4と、トレイ7の複数の収容孔7aのそれぞれに収容されたウエハWに対してプラズマ処理が行われる処理室5を備える。また、プラズマ処理装置1は、アライメント室4内においてウエハWを収容したトレイ7が載置される回転テーブル41テーブルと、アライメント室4内において回転テーブル41に対するトレイ7の位置決めを行うトレイ位置決め手段ノッチ検出センサ43、制御装置6のアライメント処理部6a及びセンタリング機構42とを備える。さらに、プラズマ処理装置1は、処理室5においてトレイ7を支持するサセプタ51支持台と、処理室5においてサセプタ51に支持されたトレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された複数のウエハWにプラズマ処理を施すプラズマ処理手段としてのプラズマ処理部52とを備える。さらにまた、プラズマ処理装置1は、トレイ位置決め手段による位置決めがなされたトレイ7をアライメント室4の回転テーブル41から処理室5内のサセプタ51へ搬送する搬送手段としての搬送アーム31と、アライメント室4内において回転テーブル41に載置されたトレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか否かの検出を行う位置ずれ検出手段としての4つの高さ検出センサ44A~44D及び制御装置6の収容状態判定部6bを備える。本実施の形態1におけるプラズマ処理装置1では、処理室5内でウエハWに対するプラズマ処理が実行される前のアライメント室4内におけるトレイ7の位置決め段階で、トレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか否かの検出を行うようになっている。その結果、対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているウエハWがあった場合にはそのトレイ7を処理室5内のサセプタ51に搬送しないようにしている。そのため、ウエハWが収容孔7aに対する位置ずれを起こしウエハWの下面に冷却ガスが十分に行き渡らないことに起因してウエハWが冷却不足の状態で高温のプラズマに晒されるようなことがない。よって、収容孔7aに対する位置ずれに起因する冷却不足で、ウエハWにレジスト焼けが生じることを防止することができる。更に、ウエハWの位置ずれ検出を行う位置ずれ検出手段をアライメント室4に配置することにより、プラズマ処理装置1の小型化を図るとともに、アライメント室4内において行われるトレイ7の位置決め動作中に位置ずれ検出を行うことが可能となる。また、本実施の形態1におけるプラズマ処理装置1では、収容状態検出部は、回転テーブル41に載置されたトレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWの表面上の複数箇所の高さを検出する高さ検出部としての4つの高さ検出センサ44A~44Dと、これら4つの高さ検出センサ44A~44Dにより検出された各ウエハWの表面上の複数箇所の高さに基づいて、トレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか否かの判定を行う制御装置6の収容状態判定部6bから成っているので、トレイ7の収容孔7aに対してウエハWが位置ずれを起こしているか否かの検出を安価な構成で実行することができる。また、本実施の形態1におけるプラズマ処理装置1では、収容状態判定部6bは、回転テーブル41によりトレイ7を回転させながら、トレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか否かの検出を行う。これによりウエハWの位置ずれの検出に要する時間を短縮してプラズマ処理装置1における処理作業時間を短縮させることができる。実施の形態2実施の形態2におけるプラズマ処理装置は、図17及び図18に示すように、アライメント室4の天井部4bの上面に設けられた移動機構70に、1つの高さ検出センサ44が取り付けられた構成を有する。高さ検出センサ44は移動機構70によって、回転テーブル41の上方で水平面内方向に直線状に移動し得る。この実施の形態2におけるプラズマ処理装置では、高さ検出センサ44が1つである点が実施の形態1におけるプラズマ処理装置1とは異なるが、他の部分は実施の形態1におけるプラズマ処理装置1と同じである。移動機構70は、アライメント室4の天井部4bに水平面内方向に延びて設けられたガイド部71と、ガイド部71と平行に延びて設けられたボール螺子72と、ボール螺子72と螺合し、ガイド部71によってボール螺子72回りの回転移動が規制された移動部73と、ボール螺子部72を軸回りに回転駆動するボール螺子駆動モータ74を備えている。高さ検出センサ44は移動部73から張り出して設けられた張り出し部75に固定して設けられている。ボール螺子駆動モータ74が制御装置6の収容状態判定部6bによって作動制御がなされて回転駆動すると、移動部73がガイド部71に沿って移動し、高さ検出センサ44が回転テーブル41の上方すなわちトレイ7の上方で水平面内方向に移動する。この実施の形態2におけるプラズマ処理装置では、高さ検出センサ44が実施の形態1における直線LLに沿って移動するように設けられている。制御装置6の収容状態判定部6bが回転テーブル41を回転させつつ図18中に示す矢印B、ボール螺子駆動モータ74の作動制御を行って高さ検出センサ44を直線LLに沿って移動させる。これにより、1つの高さ検出センサ44で実施の形態1と同じ高さ検出対象点のデータを取得することができる。このため、実施の形態2におけるプラズマ処理装置は、実施の形態1におけるプラズマ処理装置1と同様の効果を得ることができる。実施の形態3図19に示す実施の形態3におけるプラズマ処理装置は、実施の形態1及び2におけるプラズマ処理装置とは異なり、高さ検出センサが3つである。具体的には、アライメント室4の天井部4bの上面に3つの高さ検出センサ、すなわち第1の高さ検出センサ44A、第2の高さ検出センサ44B及び第3の高さ検出センサ44Cが実施の形態1における直線LL上に並んで設けられている。図19に示すように、第1の高さ検出センサ44Aは、実施の形態1における仮想円S1図20も参照上の1点に検査光L2を照射してその仮想円S1上の1点に位置したトレイ7が回転することによって通過したウエハWの表面上の外縁に近い3つの高さ検出対象点P1,P2,P3図20の高さを検出する。また、第2の高さ検出センサ44Bは、実施の形態1における仮想円S3上の1点に検査光L2を照射してその仮想円S3上の1点に位置したトレイ7が回転することによって通過した各ウエハWの表面上の外縁に近い1つの高さ検対象点U1図20に示すように高さ検対象点U1計6点あるの高さを検出する。また、第3の高さ検出センサ44Cは、実施の形態1における仮想円S4上の1点に検査光L2を照射してその仮想円S4上の1点に位置したトレイ7が回転することによって通過した各ウエハWの表面上の外縁に近い2つの高さ検出対象点X1,X2図20に示すように検出対象点X1,X2は計12点の高さを検出する。制御装置6の収容状態判定部6bは、トレイ7の各収容孔7aに収容されたウエハWについて、そのウエハW上の3つの高さ検出対象点P1,P2,P3又はU1,X1,X2の高さに基づいて、トレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか傾いているか否かの判定を行う。具体的には、収容状態判定部6bは、1つのウエハW上の3つの高さ検出対象点P1,P2,P3又はU1,X1,X2の高さのばらつきが予め定められた範囲に収まる場合、すなわち3つの高さ対象点の高さが概ね同じであるとみなせる場合には、そのウエハWは対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしていないと判定する。一方、収容状態判定部6bは、1つのウエハW上の3つの高さ検出対象点P1,P2,P3又はU1,X1,X2の高さのばらつきが予め定められた範囲に収まらない場合には、そのウエハWは対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしていると判定する。トレイ7の外周側の6つの収容孔7aについては、実施の形態1と同様に、ウエハW上の高さ検出対象点の高さとそれに対応するトレイ7上の高さ検出対象点の高さとの差に基づいてウエハWが位置ずれを起こしているか否かを判定してもよい。すなわち本実施の形態3におけるプラズマ処理装置が備える複数ここでは3つの高さ検出センサ44A~44Cは、回転テーブル41に載置されたトレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWの表面上の複数箇所の高さを検出する高さ検出部として機能し、制御装置6の収容状態判定部6bは、高さ検出手段3つの高さ検出センサ44A~44Cにより検出された各ウエハWの表面上の複数箇所の高さに基づいて、トレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか否かの判定を行う判定部として機能する。このため実施の形態3におけるプラズマ処理装置は、実施の形態1及び2におけるプラズマ処理装置と同様の効果を得ることができる。実施の形態4実施の形態4におけるプラズマ処理装置は、図21に示すように、実施の形態2において示した移動機構70によって1つの高さ検出センサ44を水平面内方向に移動できるようにすることで、実施の形態3における3つの高さ検出センサ44A~44Cにより検出する7つのウエハWの表面上の各高さ検出対象点における高さを検出するものである。よって、この実施の形態4におけるプラズマ処理装置は、実施の形態1~3におけるプラズマ処理装置と同様の効果を得ることができる。実施の形態5実施の形態5におけるプラズマ処理装置は、図22に示すように、実施の形態2において示した移動機構70によって水平面内方向に移動自在とした3つの高さ検出センサ、すなわち第1の高さ検出センサ44A、第2の高さ検出センサ44B及び第3の高さ検出センサ44Cによって、実施の形態3又は実施の形態4において計測する各ウエハWの高さ検出対象点の高さをウエハWごとに同時に検出するようにしたものである。制御装置6の収容状態判定部6bは、移動機構70によって3つの高さ検出センサ44A~44Cを水平面内方向に一体に移動させるとともに、回転テーブル41によってトレイ7を回転させることにより図22中に示す矢印B、トレイ7が備える7つの収容孔7aに収容された各ウエハWの表面上の3つの高さ検出対象点の高さを検出することができる。よって、この実施の形態5におけるプラズマ処理装置は、実施の形態1~4におけるプラズマ処理装置と同様の効果を得ることができる。実施の形態6実施の形態6におけるプラズマ処理装置は、図23に示すように、上述の実施の形態1~5におけるプラズマ処理装置とは異なり、回転テーブル41に載置されたトレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか否かの検出を行う位置ずれ検出手段が高さ検出センサではなく、撮像手段であるカメラ80となっており、このカメラ80が実施の形態2において示した移動機構70によって、水平面内方向に移動自在となっている。この実施の形態6におけるプラズマ処理装置では、カメラ80が実施の形態1における直線LLに沿って移動するように設けられており、制御装置6の収容状態判定部6bから回転テーブル41を回転させつつ図23中に示す矢印B、ボール螺子駆動モータ74の作動制御を行ってカメラ80を直線LLに沿って移動させながらカメラ80による撮像動作を行わせることにより、1つのカメラ80で7つの収容孔7aに収容された各ウエハWの画像データを取得することができる。そして、制御装置6の収容状態判定部6bは、カメラ80により撮像して得られる各ウエハWの画像に基づいて、トレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか否かの検出を行うことができる。よって、この実施の形態6におけるプラズマ処理装置は、実施の形態1~5におけるプラズマ処理装置と同様の効果を得ることができる。また、この実施の形態6におけるプラズマ処理装置では、位置ずれ検出手段が、回転テーブル41に載置されたトレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWを上方から撮像する撮像手段としてのカメラ80と、カメラ80により撮像して得られる画像に基づいて、トレイ7が備える複数の収容孔7aに収容された各ウエハWが対応する収容孔7aに対して位置ずれを起こしているか否かの判定を行う判定手段制御装置6の収容状態判定部6bから成っているので、実施の形態1~5の場合と同様、トレイ7の収容孔7aに対してウエハWが位置ずれを起こしているか否かの検出を安価な構成で実行することができる。実施の形態7実施の形態7におけるプラズマ処理装置は、収容状態判別部6bが図24においてステップST5とステップS6の間にステップST8の処理を実行する点のみが異なる。このステップST8では、トレイ7が備える複数の収容孔7aの全てにウエハWが存在しているか否かの判断を行う。この判断は、高さ検出センサ44A~44Bで測定された高さ検出対象点P1,P2,P3,U1,U2,X1,X2図10参照で検出されたウエハWの高さに基づいて行われる。例えば、トレイ7の中央のウエハWの場合、3つの高さ検出対象点P1,P2,P3の高さを使用できる。また、トレイ7の外周側の6つのウエハWの場合には、高さ検出対象点U1,U2,X1,X2のうちの3つにおける高さを使用できる。より具体的には、3つ高さ検出対象点のいずれにおいても検出された高さが予め定められた基準高さ回転テーブル41の高さに対応する以下の場合には、収容孔7aにウエハWが存在しないと判定し、それ以外の場合には収容孔7aにウエハWが存在すると判定できる。ステップST8において、トレイ7が備える7つの収容孔7aのうちウエハWが存在しない収容孔7aがあると収容状態判定部6bが判定した場合には、表示部61にエラーメッセージを表示する図24のテップST4。また、この場合には、トレイ7をストック部2に返却するための待ち状態に入る図24のステップST4。待ち状態の終了後、制御装置6は回転ステージ41上のトレイ7を搬送機構30の搬送アーム31で保持し、アライメント室4からストック部2のカセット21に戻す。一方、ステップST8で、トレイ7が備える全ての収容孔7aにウエハWが存在していると収容状態判定部6bが判定した場合には、トレイ7を処理室5に搬送するための待ち状態に入り図24のステップST7、アライメント室4内での処理を終了する。実施の形態6のように高さ検出センサに代えてカメラ80図23参照を使用する場合、トレイ7が備える複数の収容孔7a及びそれに収容されたウエハWをカメラ80で上方から撮像して画像が得られる。収容状態判別部6bはこの画像に基づいて各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの判定図24のステップS8を行うことができる。これまで本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上述の実施の形態に示したものに限定されない。例えば、上述の実施の形態では、トレイ7はその中心位置に配置された1つの収容孔7aに1枚のウエハWを収容するとともに、中心位置を中心とする仮想円CL上に中心が等間隔で並ぶように配置された6つの収容孔7aに6枚のウエハWを収容するようになっていたが、これは一例であり、トレイ7が収容し得るウエハWの枚数や収容孔7aの配置は自由である。また、上述の各実施の形態では、トレイ7の各収容孔7aがトレイ7の厚さ方向に貫通するものであり、ウエハWを収容したトレイ7をサセプタ51のトレイ載置部51aに載置したときに、サセプタ51が備える複数のウエハ支持部51bがトレイ7の各収容孔7aに下方から入り込んでトレイ7の収容孔7a内のウエハWを支持する。そのため、トレイ7は回転テーブル41上でノッチ7cの検出が行われて回転方向の位置決めがなされるようになっていた。トレイ7の収容孔7aがトレイ7の厚さ方向に貫通するものでない場合すなわち収容孔7aが有底である場合。この場合、トレイ7の収容孔7aの底がプラズマに露出されることになるには、サセプタ51にウエハ支持部51bは設けられておらず、トレイ7はサセプタ41のトレイ載置部51aに載置されるだけなのでトレイ7はノッチ7cを有さない。したがって、この語場合にはノッチ検出センサ43も不要となり、トレイ位置決め部も回転方向位置決め部を省いた構成でよい。この場合、アライメント室4においてトレイ7が載置されるテーブルは必ずしも上述のような回転テーブル41であるとは限らず、テーブルが回転テーブル41でない場合にはトレイ7を回転させながらウエハWの位置ずれ検出を行うことはできない。この場合には実施の形態5に示した3つの高さ検出センサ44A~44Cを水平面内で移動させる機構によって3つの高さ検出センサ44を水平面と平行な面内で2次元に移動させるようにすることにより、各ウエハWの表面上の3つの高さ検出対象点の高さ検出を簡便に行うことができるようになる。実施の形態では回転テーブル41を含むトレイ7のアライメントのための機構を独立のアラインメント室4に配置している。しかし、回転テーブル41を含むトレイ7のアライメントのための機構を搬送室3内に配置してもよい。この構成にも本発明を適用できる。ストック部2に関連する具体的な構成は実施の形態のものに限定されない。例えば、図25に示す変形例のプラズマ処理装置1は、ストック部2に隣接して設けられた移載部81を備える。移載部81からストック部2に処理前のウエハWを収容したトレイ7が供給され、これらのトレイ7はウエハWの処理後にストック部2から移載部81に戻される。移載部81内の移載室82には移載ロボット83が収容されている。移載ロボット83は、図25において矢印G1で概念的に示すように、トレイ7の収容孔7aにプラズマ処理前のウエハWを収容する作業、つまりトレイ7へウエハWを移載する作業を実行する。また、移載ロボット83は、図25において矢印G2で概念的に示すように、ドライエッチング済みのウエハWをトレイ7から移載する作業を実行する。さらに、移載ロボット83は、処理前のウエハWを収容したトレイ7を移載部81からストック部2に搬入する作業図25の矢印H1と、処理後のウエハWを収容したトレイ7をストック部2から移載部81に搬出する作業図25の矢印H2とを実行する。"