"固体材料及び基材を備える構造体を作製するための装置であって、前記装置が、固体材料を受容し及び/又は移動させ、前記固体材料を第2の運動表面に放出するための第1のエンドレス運動表面を有し、-前記表面が、ガスを通過させるための多数の開口部を有し、-前記装置が、前記表面からの前記固体材料の放出を促進するために、前記開口部を通じて前記第1のエンドレス運動表面にガスを適用するためのガス供給システムを備え、-前記ガス供給システムが、一次ガス容器と、前記一次ガス容器に接続される少なくとも1つの二次ガス容器と、場合によっては、二次ガス容器に接続される三次ガス容器と、を備え、前記一次ガス容器が、前記第1のエンドレス運動表面に隣接して、それとガス連通しており、-前記一次ガス容器内の圧力P1と前記二次ガス容器内の圧力P2との間の圧力差が、0を超えかつ40未満であり、好ましくは、前記一次ガス容器内の圧力P1及び前記二次ガス容器内の圧力P2が、いずれも少なくとも1kPaである、装置。固体材料を受容し及び/又は移動させるための第1のエンドレス運動表面を有する、固体材料及び基材を備える構造体を作製する装置であって、-前記表面が、ガスを通過させるための多数の開口部を有し、-前記装置が、前記表面上で前記固体材料の保持を促進するために、前記表面の前記開口部を通じて真空吸引を適用するための真空システムを備え、-前記真空システムが、一次真空ガス容器と、前記一次真空ガス容器に接続される1つ以上の二次真空ガス容器と、場合によっては、二次真空ガス容器に接続される三次真空ガス容器と、を備え、前記一次真空ガス容器が、前記第1のエンドレス運動表面に隣接して、それとガス連通しており、-前記一次真空ガス容器内の圧力P1vと前記二次真空ガス容器内の圧力P2vとの間の差が、0を超えかつ40未満であり、好ましくは、前記一次真空ガス容器内の圧力P1v及び前記二次真空ガス容器内の圧力P2vが、いずれも-1kPa以下である、装置。固体材料の受容領域A及び/又は固体材料の移動領域Bを備え、前記表面上で前記固体材料の保持を促進するために、前記表面の前記開口部を通じて真空吸引を適用するための真空システムを備え、前記真空システムが、一次真空ガス容器と、場合によっては、前記一次真空ガス容器に接続される1つ以上の二次真空ガス容器と、場合によっては、二次真空ガス容器に接続される三次真空ガス容器と、を備え、前記一次真空ガス容器が、前記第1のエンドレス運動表面に隣接して、それとガス連通しており、前記一次真空ガス容器内の圧力P1vと、前記任意の二次真空ガス容器内の圧力P2vとの間の圧力差が、0を超えかつ40未満である、請求項1に記載の装置。前記一次ガス容器及び/又は一次真空ガス容器が、2.0リットル未満、又は例えば1.0リットル未満の容積V1を有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の装置。前記二次ガス容器及び/又は前記二次真空ガス容器が、前記容積V1よりも大きな容積V2を有し、V2が、少なくとも1.3リットル、又は例えば少なくとも2.7リットルである、請求項1~4のいずれか一項に記載の装置。V2が、少なくとも3.0リットルであるか、又は例えば少なくとも3.4リットルであり、場合によっては最大15リットルである、請求項5に記載の装置。P1及びP2が、5kPa~15kPaの範囲内である、請求項1又は3に記載の装置。一次ガス容器と、それに接続される二次ガス容器との間、及び/又は一次真空ガス容器と、それに接続される二次真空ガス容器との間のガス流の平均ガス流量が、少なくとも300Nl/分であり、好ましくは少なくとも400Nl/分である、請求項1~7のいずれか一項に記載の装置。前記一次ガス容器からそれに接続される前記二次ガス容器まで、及び/又は前記一次真空ガス容器からそれに接続される前記二次真空ガス容器までの最大距離Dが、5メートル未満であり、好ましくは2メートル未満である、請求項1~8のいずれか一項に記載の装置。前記二次ガス容器及び/若しくは前記一次ガス容器、並びに/又は前記一次真空ガス容器及び/若しくは前記二次真空ガス容器が、それぞれ1つ以上のガス注入口を有し、前記ガス注入口はそれぞれ少なくとも100mm2の断面表面積を有する、請求項1~9のいずれか一項に記載の装置。前記第1のエンドレス運動表面が、円筒面であり、円筒形ステータの周囲を回転可能に移動し、前記一次ガス容器及び/又は前記一次真空ガス容器が、前記ステータによって収容されるチャンバである、請求項1~10のいずれか一項に記載の装置。前記第1のエンドレス運動表面が、前記固体材料を内部に保持し、そこから前記固体材料を放出するための空隙容積を有する多数のリザーバを備え、前記リザーバのそれぞれが、前記一次ガス容器及び/又は一次真空ガス容器に接続されるか、又は接続可能である、前記開口部のうちの1つ以上を有し、前記第1のエンドレス運動表面の外側表面積の少なくとも30、好ましくは少なくとも40、及び例えば最大55まで、又は場合によってはその中心領域が、前記リザーバを備える、請求項1~11のいずれか一項に記載の装置。請求項1~12のいずれか一項に記載の装置を使用して、固体材料を受容し及び/若しくは移動させるため、又は固体材料を受容し又は移動させ及び第2のエンドレス運動表面に放出するため、あるいはその組み合わせのための方法。前記固体材料が、最大2mm、又は好ましくは、50マイクロメートル~2mm、又は例えば1mmまでの質量メジアン粒径の粒子を有する、粒子状材料である、請求項13に記載の方法。前記第1のエンドレス運動表面が、少なくとも4.5m/秒の表面速度を有する、請求項13又は14に記載の方法。本発明は、固体材料及び例えば基材を備える構造体を製造するための装置であって、前記装置は、固体材料を受容し及び/又は移動させ、固体材料を第2の運動表面に放出するための、例えば、基材であるか、又は基材を含む、第1のエンドレス運動表面を有し、-前記表面は、ガスを通過させるための多数の開口部を有し、-前記装置は、前記表面からの前記固体材料の放出を促進するために、前記開口部を通じて前記第1のエンドレス運動表面にガス例えば、空気を適用するためのガス供給システムを備え、-前記ガス供給システムは、互いに接続される一次ガス容器及び二次ガス容器、並びに場合によっては前記二次ガス容器に接続される三次ガス容器を備え、前記一次ガス容器は、前記第1のエンドレス運動表面に隣接して、それとガス連通しており例えば、しかしながら、二次ガス容器はそれと直接ガス連通しない、-前記一次ガス容器内の圧力P1と、前記二次ガス容器内の圧力P2との間の圧力差が、40未満、又は例えば30未満、又は例えば25未満、又は例えば20未満、又は例えば15未満であるが、前記差は、0を超え、例えば少なくとも0.1又は少なくとも1である、装置に関する。前記一次ガス容器内の圧力P1及び前記二次ガス容器内の圧力P2は、典型的に、いずれも少なくとも1kPaである。前記加圧ガス例えば、空気は、前記第1のエンドレス運動表面の、例えばそのリザーバの開口部を通過して、固体材料に例えば、前記リザーバ内でガス空気圧力を適用し、前記第1のエンドレス運動表面から、例えば、前記リザーバからの、その放出を助ける。これは、本明細書において、噴出空気/噴出方法ステップと称される場合がある。固体材料は、次いで、リザーバ1つ又は複数から、例えば、例として基材であるか又は基材を含む、第2のエンドレス運動表面に放出され、例えば、第2のエンドレス運動表面上に材料が正確に付着される。P1及びP2は、本明細書のいくつかの実施形態において、5kPa~15kPaの範囲内にある。いくつかの実施形態において、前記二次ガス容器は、前記一次ガス容器に、少なくとも300Nl/分、好ましくは少なくとも400Nl/分の流量を有する平均空気流量を提供する。本発明はまた、固体材料及び典型的に基材を備える構造体を製造するための装置であって、固体材料を受容し及び/又は移動させ、例えば、固体材料を放出領域に移動させるための第1のエンドレス運動表面を有し、-前記表面は、ガス例えば、空気を通過させるための多数の開口部を有し、-前記装置は、前記表面上で前記固体材料の保持を促進するために、前記表面の前記開口部を通じて真空吸引を適用するための真空システムを備え、-前記真空システムは、互いに接続される一次真空ガス容器及び二次真空ガス容器、並びに場合によっては前記二次真空ガス容器に接続される三次真空ガス容器を備え、前記一次真空ガス容器は、前記第1のエンドレス運動表面に隣接し更に、例えばそれとガス連通するが、二次真空ガス容器はそれと直接ガス連通しない、-前記一次ガス容器内の圧力P1vと、前記二次ガス容器内の圧力P2vとの間の圧力差が、40未満、又は例えば40未満、又は例えば30未満、又は例えば25未満、又は例えば20未満、又は例えば15未満であるが、0を超え、しかしながら前記差は、0を超え、例えば少なくとも0.1又は少なくとも1である、装置を提供する。前記一次真空ガス容器内の圧力P1vと前記二次真空ガス容器内の圧力P2vは、典型的に、いずれも-1kPa以下である。いくつかの実施形態において、前記一次ガス容器又は一次真空ガス容器は、2.0リットル未満、又は例えば1.0リットル未満の容積V1を有する。二次ガス容器又は二次真空ガス容器は、典型的に、V1よりも大きい容積V2を有する。いくつかの実施形態において、V2は、例えば少なくとも1.3リットル、又は例えば少なくとも2.7リットル、又は例えば少なくとも3.0リットル、又は例えば少なくとも3.4リットルであり、例えば場合によっては最大15リットルである。本明細書に記載の装置はまた、前記一次及び二次ガス容器1つ又は複数の組み合わせ、並びに、例えば、上記及び以下に記載の前記一次及び二次真空ガス容器1つ又は複数を含む、真空システムを有する。典型的に、前記第1のエンドレス運動表面は、円筒面であり、円筒形ステータの周囲を回転可能に移動し、前記一次ガス容器1つ又は複数及び/又は前記一次真空ガス容器1つ又は複数は、前記ステータ内のチャンバ1つ又は複数であるしかしながら、二次ガス容器1つ又は複数及び/又は二次真空ガス容器1つ又は複数は、そうではない。一次ガス容器は、2つ以上の二次ガス容器に接続されてもよい。一次真空ガス容器は、2つ以上の二次ガス容器に接続されてもよい。装置1本発明の装置1は、固体例えば、粒子状材料を受容し及び/若しくは移動させ、並びに/又はそれをそこから放出するための、第1のエンドレス運動表面40を備える。第1のエンドレス運動表面40は、本明細書のいくつかの実施形態において、いずれの時点においても、受容領域A、及び/又は移動領域B、及び/又は放出領域Cを有するか、あるいは、例えば前記領域のそれぞれを有する。第1のエンドレス運動表面40は、本明細書においてMD方向と称される運動例えば、回転方向を有する。第1のエンドレス運動表面は、ガスを通過させ、典型的には固体材料を有意に通過させない、開口部を有する。更に、本明細書に記載の装置は、固体材料を受容するための受容領域A、及び/又は前記固体材料を移動させるための移動領域B、及び/又は前記固体材料を放出するための放出領域Cを有し、本装置の第1のエンドレス運動表面40は、前記領域を通って移動する。前記領域は、以下に記載のように、それらが有する機能、例えば、受容領域Aでは、例として、例えばホッパーであるフィーダー等の1つ以上の源からの固体材料の受容、固体材料の移動例えば、前記受容領域から、例えばそれが放出される、移動領域内の領域へ、放出領域内では、例えば、例として基材又は基材を含む、第2の運動表面80への材料の放出によって、画定することができる。本明細書の方法は対応する方法工程を有する。本装置は、典型的に、定常受容領域A及び/又は定常移動領域B及び定常放出領域Cを有する前記第1のエンドレス運動表面40に隣接する、ステータとも称される定常構成要素を有する。本発明の装置、及びそのステータ、及びその第1のエンドレス運動表面、並びに本発明の方法は、場合によっては、例えばエンドレス運動表面を洗浄するための洗浄領域D等の追加領域を備えてもよく例えば、領域CとAとの間、領域の順序は、したがって、例えばA-B-C-、場合によりD、A-B-C-、場合によりD等であり得る。本発明のいくつかの実施形態において、本明細書の装置1は、前記表面40からの前記固体材料の放出を促進するために、前記第1のエンドレス運動表面40にその前記開口部を通じてガスを適用するためのガス供給システムを備え、前記ガス供給システムは、前記第1のエンドレス運動表面40及び二次ガス容器2に隣接し、互いに接続される一次ガス容器1つ又は複数71C、並びに場合によっては前記二次ガス容器2に接続される三次ガス容器を備える。二次ガス容器2は、前記第1のエンドレス運動表面に隣接しなくてもよい。二次ガス容器は、典型的に定常であるが、典型的には、前記領域C、及び領域A/B、及び場合により更なる領域を有する本装置の前記ステータによって収容されない。二次ガス容器は、直接ではなく、前記一次ガス容器を介して間接的に前記表面とガス連通している。本発明のいくつかの態様において、装置1は、例えば、チャンバである一次ガス容器1つ又は複数71Cを含む放出領域C、及び場合によっては、例えばチャンバである任意の更なる一次ガス容器1つ又は複数71Dを含む洗浄領域Dを有する、定常構成要素を有する。本発明のいくつかの他の態様又は追加の態様において、装置1は、前記表面40上で例えば、又はそのリザーバ50内で前記固体材料の保持を促進するために、前記表面40の前記開口部を通じて真空吸引を適用するための真空システムを備える。前記真空システムは、前記第1のエンドレス運動表面40に隣接する1つ以上の一次真空ガス容器71A、71B1つ又は複数と、それぞれが単一の一次真空ガス容器に接続されるか、又はそれぞれが別個の一次真空チャンバに接続される、1つの以上の二次真空ガス容器3A、3Bと、場合によっては1つ以上の二次真空ガス容器3A、3Bに接続される、1つ以上の三次真空ガス容器とを備えてもよい。二次ガス真空容器1つ又は複数は、前記第1のエンドレス運動表面に隣接していなくてもよい。二次真空ガス容器は、直接ではなく、前記一次真空ガス容器を介して間接的に前記表面とガス連通している。二次ガス容器1つ又は複数は、典型的に定常であるが、典型的には、前記領域C、及び領域A/B、及び場合により更なる領域を有する装置の前記ステータによって収容されない。したがって、本発明のいくつかの態様において、装置1は、以下に更に詳細に記載されるように、一次真空ガス容器71A例えば、チャンバを含む定常構成要素を有する受容領域A、及び/又は一次真空容器例えば、チャンバ71Bを含む定常構成要素を有する移動領域Bを有する。一次ガス容器又は一次真空ガス容器は、2つ以上の二次ガス容器又は二次真空ガス容器にそれぞれ接続され得るが、いくつかの実施形態においては、一次ガス容器又は一次真空ガス容器は、それぞれ単一の二次真空ガス容器に接続される。いくつかの実施形態において、2つ以上の一次ガス容器又は一次真空ガス容器は、それらが、同一の陽圧又は陰圧を要する限り、単一の二次ガス容器又は二次真空ガス容器に接続され得る。しかしながら、好ましい実施形態において、単一の一次ガス容器又は一次真空ガス容器は、それぞれ、1つ以上の二次ガス容器又は2つ以上の二次真空ガス容器に接続される。本明細書の第1のエンドレス運動表面40は、回転してエンドレス運動表面を提供することができる、いずれの運動表面であってもよく、例えば、回転することでエンドレス表面を提供することができ、典型的に、隣接する定常構成要素ステータを回転させる、当該技術分野で既知の輸送ベルト又はドラム又は印刷ロールであってもよい。第1のエンドレス運動表面40は、円筒形の定常構成要素ステータを中心に回転可能であり、次に、例えば前記一次ガス容器1つ又は複数71C場合によっては71D及び/又は一次真空ガス容器1つ又は複数71A、71Bを収容する、ドラム又はロール等の円筒表面であってもよい。第1のエンドレス運動表面40は、リザーバ50、又は好ましい実施形態においては、前記固体材料100を内部に受容し、したがって、前記固体材料100で充填可能な空隙容積を有する、多数のリザーバ50を備えることができる。リザーバ50は、立方体、円筒状、半球状、円錐状、又は他の任意の形状を含む任意の寸法及び形状を有してよい。これは任意の好適な数のリザーバ50であってもよいが、例えば少なくとも20個、又は例えば少なくとも50個である。リザーバ50は同じリザーバ50として存在してもよく、あるいは寸法1つ若しくは複数又は形状が異なってもよい。それらは、前記第1のエンドレス運動表面40の表面全体に、あるパターンで存在してもよく、又は前記表面全体に均一に存在してもよい。リザーバの正確な数、リザーバのパターン、寸法等は、形成される所要の構造体に依存することになるが、例えば、粒子状材料100の粒径、プロセスの速度等にもまた依存する場合がある。一実施形態において、第1のエンドレス運動表面40の外側表面積の少なくとも30、好ましくは少なくとも40、及び例えば最大60、又は例えば最大55、又は例えば最大50が、前記リザーバ50を備える。エンドレス運動表面が、以下に記載の中心領域45を有する場合、これらの割合は、第1のエンドレス運動表面40全体ではなく、中心領域の表面積に基づく割合であってもよい。リザーバ50は、MD方向のリザーバの縦列とCD方向MD方向に垂直な方向の横列として存在してもよい。あるいは、リザーバ50は、例えば、いわゆる交互の横列及び/又は縦列で存在してもよいこれにより、交互のリザーバは横列及び/又は縦列を形成する。あるリザーバ50の中心点前記中心点は第1のエンドレス運動表面40の外側表面の平面内にあると、リザーバの縦列において隣り合うリザーバ50の中心点との間のMD方向の距離は、例えば少なくとも3mm、若しくは例えば少なくとも4mm、若しくは例えば少なくとも6mm、又は例えば最大40mm、若しくは例えば最大30mm、若しくは例えば最大20mmであり得る。これは、MD方向の隣り合うリザーバ50間のすべてのこのような距離に適用してもよく、あるいはすべてのこのような距離の平均であってもよい。あるリザーバ50の中心点前記中心点は第1のエンドレス運動表面40の外側表面の平面内にあると、リザーバの横列において隣り合うリザーバ50の中心点との間のCD方向の距離も、例えば上記のようなものであり得る。前記縦列は互いに対してほぼ平行かつ互いから等間隔で延伸し得、及び/又は前記横列は互いに対してほぼ平行かつ互いから等間隔で延伸し得る。一実施形態において、リザーバ50のMD方向の寸法第1のエンドレス運動表面40の外側表面にわたって測定したすべてのリザーバ50の平均及び/又は各リザーバの寸法は、少なくとも1mm、又は例えば少なくとも2mm、又は例えば少なくとも4mm、及び例えば最大20mm、又は例えば最大15mmであってもよい。CD方向の寸法は上記と同じ範囲内であってもよく、又は1以上若しくは各リザーバについてMD方向の寸法と同じであってもよい。リザーバ50は、いずれの好適な深さ寸法を有し得、最大深さは、例えば、製造される所望の構造体の厚さ/キャリパー、材料の粒径等に依存し得る。1つのリザーバ50及び/若しくはすべてのリザーバ50の最大深さ、並びに/又は平均最大深さすべてのリザーバ50の全最大深さの平均は、例えば少なくとも1mm、又は例えば少なくとも1.5mm、又は例えば2mm以上、及び例えば最大20mm、又は例えば最大15mm、あるいは本明細書のいくつかの実施形態においては、最大10mm、又は例えば最大5mm、又は例えば最大4mmであってもよい。本明細書における一実施形態によれば、リザーバ50のMD方向の寸法平均及び/又はすべてのリザーバ50は、2~8mm又は3mm~7mmであってもよく、更にリザーバ50の最大深さ及び/又は平均の最大深さは、例えば1.5mm~5mm、又は4mmまでであってもよい。第1のエンドレス運動表面40は任意の好適な幅を有し得るが、例えば、製造される構造体の幅に実質的に対応するMD方向に対して垂直な幅であり得、これは、例えば少なくとも40mm、若しくは例えば少なくとも60mm、又は例えば最大400mm、若しくは例えば最大200mmであってもよい。エンドレス運動表面40が、対向する側面領域と、これらの間の、MD方向の全表面に沿った中央領域45とを有し、前記リザーバ50が、前記中央領域45にのみ存在することが有用である場合がある。これにより表面の幅の寸法は、代わりに中央領域45の幅に適用され得る。本明細書のいくつかの実施形態において、リザーバ50を備えない第1のエンドレス運動表面40は、MD方向延伸領域及びCD方向延伸領域1つ又は複数47を有し、例えば、CD方向延伸領域が、平均リザーバ寸法MD方向の少なくとも2倍、又は例えば少なくとも3倍の寸法MD方向であり、このようなリザーバなし領域1つ又は複数47は、リザーバ1つ又は複数の前端又は製造される構造体の前端に対応するリザーバの横列と、リザーバ1つ又は複数の後端又は装置1によって製造される同一若しくは近接した構造体の後端に対応するリザーバの横列との間に配置されてもよい。このようなリザーバなし領域47の存在は、第1のエンドレス運動表面40から、例えば、例として基材である第2の運動表面80上への固体材料の放出後に、前記固体材料を含まない、例えば基材である前記第2の運動表面上の領域をもたらす。これは、次いで、基材が本明細書の装置1及び方法によって製造される別個の物品に切断され得る領域になり得る。第1のエンドレス運動表面40の特性前記第1のエンドレス運動表面40のMD、半径、幅、リザーバの、又はそれとの表面積等を判定する目的で、リザーバ間の表面積が、このような判定に使用されることを理解されたい。リザーバ間のこの表面積は、本明細書において、前記第1のエンドレス運動表面40の外側表面積と称される。第1のエンドレス運動表面は、そこを通じてガスを通過流れさせるため、例えば、真空吸引を可能にするため、及び/又は加圧された空気噴出空気の通過を可能にするための、開口部を備える。したがって、第1のエンドレス運動表面、例えば、少なくともそのリザーバ50は、前記一次ガス容器1つ又は複数71C、71D、及び/又は前記一次真空ガス容器1つ又は複数71A、71Bに、直接的又は間接的に接続可能であるか、又は接続されている。典型的に、表面のリザーバ50は、そのリザーバ50が、前記一次ガス容器71C、及び/又は一次真空ガス容器1つ又は複数71A、71Bとガス空気連通していることを確実にする、1つ以上の開口部を有する底部表面積をそこに備える。典型的に、各リザーバ50は、前記一次ガス容器1つ又は複数71C、71D、及び/又は前記一次真空ガス容器1つ又は複数71A、71Bに接続されるか、又は接続可能である、少なくとも1つのこのような開口部を有する。第1のエンドレス運動表面40の半径は、製造される構造体、及び製造される構造体の寸法、及び例えば、例としてドラムである第1のエンドレス運動表面40の1サイクル毎に製造される構造体の数に応じて決定され得る。例えば、第1のエンドレス運動表面は、少なくとも40mm、又は少なくとも50mmの半径を有してもよく、例えば最大300mm、又は例えば最大200mmであってもよい。エンドレス運動表面40例えば、ステータによって収容されるに隣接する一次ガス容器1つ又は複数71C、71D、及び/又は一次真空ガス容器71A、71Bは、典型的に、エンドレス運動表面40の半径、したがってステータの半径が限られているために、容積が小さい。更に、固体材料100が、運動表面40によって受容される表面積、受容領域Aは、小さくてもよく、したがって、一次真空ガス容器1つ又は複数71Aは、前記受容領域A内で前記表面に隣接して、領域A内の第1のエンドレス運動表面の内部表面と隣接一致する小さな表面積を有してもよい。同じことが、移動領域B、及び前記領域内で前記表面に隣接する前記領域内の一次真空ガス容器71Bにも適用可能である。あるいは、又は更に、固体材料が、エンドレス運動表面40から、例えば基材上に放出される放出領域Cは、典型的に小さく、したがって、一次ガス容器は、前記放出領域C内の前記表面に隣接する第1のエンドレス運動表面40の内部表面積と隣接一致する小さい表面積を有してもよい。同じことが、任意の洗浄領域Dに適用可能である。例えば、一次ガス容器1つ又は複数71C、71D、及び/又は一次真空ガス容器1つ又は複数71A、71Bは、それぞれ、2.0リットル未満、又は代替として、1.5リットル未満、又は例えば1.0リットル未満、又は例えば0.7リットル未満、又は例えば0.5リットル未満の容積V1を有する。具体的には、放出領域C内の一次ガス容器71C、及び/又は受容領域A内の一次真空ガス容器71Aは、1.0リットル未満の容積V1を有し得る。エンドレス運動表面40、すなわち、内部の開口部への、及びそこを通るガス流の改善を確保するために、本発明の装置1は、その一態様において、典型的には以下に記載のガス吸入管4を介して前記一次ガス容器71Cに接続される、1つ以上の二次ガス容器1つ又は複数2、及び場合によっては、領域D内の一次ガス容器71Dに接続される二次ガス容器1つ又は複数2Bを備える。一次ガス容器内の圧力P1及び各前記二次ガス容器内の圧力P2は、それぞれ、少なくとも1kPa、又は例えば少なくとも2kPa、又は例えば少なくとも3kPa、又は例えば少なくとも4kPa、又は例えば少なくとも5kPa、並びに例えば最大40kPa、又は例えば最大20kPaであることを要する場合がある。互いに接続される、前記一次ガス容器内の圧力P1と前記二次ガス容器内の圧力P2との間の圧力差は、40未満であるか、又は例えば30未満、又は例えば25未満であり、本明細書のいくつかの実施形態においては、20未満、又は例えば10未満であり、しかしながら、ガス流を確保するためには、P2とP1との間の圧力差は、0を超え、例えば少なくとも0.1、又は例えば少なくとも1.0である必要がある。前記三次ガス容器内の圧力P3は、存在する場合、上述の範囲内であり得、前記二次ガス容器内の圧力P2と前記三次ガス容器内の圧力P3との間の圧力差は、存在する場合、上述のようなものであってもよい。本発明の別の又は代替の態様においては、第1のエンドレス運動表面40、例えば内部の開口部へ、及びそこを通るガス流の改善を確保するために、本発明の装置1は、それぞれが前記一次真空ガス容器1つ又は複数の1つ以上に、典型的にガス吸入管4を介して接続される、1つ以上の二次真空ガス容器3A、3Bを備える。一次ガス容器内の減圧P1vと二次真空ガス容器内の減圧P2vは、-1kPa以下、又は例えば-2kPa以下、又は例えば-3kPa以下、又は-4kPa以下、又は-5kPa以下、及び例えば-40kPa以上、又は例えば-30kPa以上の減圧であることを要する場合がある。前記一次真空ガス容器内の圧力P1v及び前記二次真空ガス容器内の圧力P2vは、いずれも、互いに接続される前記一次真空ガス容器内の圧力P1vと前記二次真空ガス容器内の圧力P2vとの間の圧力差が、40未満、又は例えば30未満、又は例えば25未満であるか、あるいは本明細書のいくつかの実施形態においては、20未満、又は例えば10未満である。しかしながら、ガス流を確保するために、P2vとP1vとの間の圧力差は、0を超え、例えば少なくとも0.1、又は例えば少なくとも1.0である必要がある。三次真空ガス容器内の圧力P3vは、存在する場合、一次真空ガスチャンバに対して上述された範囲内にあり得、前記二次真空ガス容器内の圧力P2vと前記三次真空ガス容器内の圧力P3vとの間の圧力差は、存在する場合、40未満、又は例えば30未満、又は例えば25未満であり得、あるいは、本明細書のいくつかの実施形態においては、20未満、又は例えば10未満であってもよい。本明細書の一次/二次真空ガス容器内の圧力は、BDSensorsGmbHwww.bdsensors.comから入手可能なBDセンサーを使用して測定可能であり、例えば、本明細書のガス容器のガス陽圧、及びそれらの圧力間の差の測定に対しては、BDセンサーモデル0~10VOUT、0~0.4Bar、M12x14PG1/4を使用し、例えば、本明細書の真空ガス容器の真空陰圧及びその差については、BDセンサーモデル0~10VOUT、0~-0.4Bar、M12x14PG1/4を使用して測定することができる。陰圧及び/又は陽圧は、20°Cで測定する。センサーは、参考として、周辺圧力、例えば大気圧で設定され、これは0kPaとして設定される。センサーは、真空ガス容器の外側に配置されるが、ガス容器内に載置された、長さ20cm直径10mmのFesto管を用いてガス容器に接続される。二次真空ガス容器が、接続される一次真空ガス容器の容積V1よりも大きな容積V2を有し、又は2つ以上の二次真空ガス容器が、1つの一次ガス容器に接続される場合、二次ガス容器又は二次真空ガス容器の合わせた容積はV2であり、これは、V1よりも大きく、任意で存在する場合、前記三次真空ガス容器は、V1よりも大きな容積V3を有することが有益な場合がある。V2は、少なくとも1.3リットル、又は例えば少なくとも2.7リットル、又は例えば少なくとも3.4リットル、又は例えば少なくとも4.0リットル、並びに例えば装置1の寸法及び制限に応じて、任意で最大30リットル、又は最大20リットル、又は最大15リットルであることが有益な場合がある。存在する場合、三次ガス容器は、前記範囲内の容積V3を有し得る。前記二次ガス容器1つ又は複数2は、それに接続される前記一次ガス容器71Cに、少なくとも300Nl/分、又は例えば少なくとも400Nl/分の平均ガス例えば、空気流量を提供することができる。更に、存在する場合は、三次ガス容器は、前記二次ガス容器1つ又は複数2に、少なくとも300Nl/分又は例えば少なくとも400Nl/分の平均ガス例えば、空気流量を提供し得る。一次真空ガス容器71A、71Bから、接続される二次真空ガス容器1つ又は複数3、3Bへの平均ガス例えば、空気流量は、少なくとも300Nl/分、又は例えば少なくとも400Nl/分、又は例えば少なくとも500Nl/分、又は例えば少なくとも100Nl/分、又は例えば少なくとも1500Nl/分であり得る。ガス流量は、ProbeZS25ZG4HontzschGmbHGottlieb-Daimler-Str.37Waiblingen,Germanyから入手可能を用いて測定され、これは、例えば、以下に記載のガス流量調整器5内、あるいは、例えばガス吸入管1つ又は複数が二次真空ガス容器内に入る、二次ガス容器若しくは二次真空ガス容器のガス吸入口内又はその近くで、流量を正確に測定し、流れを妨げないように配置される。装置1は、典型的に、前記二次ガス容器2、2Bの流量を調整することができる、ガス例えば、空気流量調整器5を備える。ガス流量調整器5は、典型的に、例えば図3及び5に示されるように、一次及び二次ガス容器のガス圧力、並びにその差に悪影響を与えないように、一次真空ガス容器と二次真空ガス容器との間ではなく、二次ガス容器2、2Aの前に設置される。ガス流量調整器5は、上述の圧力センサーに操作可能に接続され、例えば、一次ガス容器のセンサーの出力信号は、調整器に対する入力信号であり得る。更に、又は代替として、二次真空ガス容器3A、3Bはまた、ガス流量調整器5に接続されてもよく、これもまた、一次真空ガス容器71A、71Bの圧力センサーに操作可能に接続され得る。ガス例えば、空気は、例えば、図1、2、及び3に示される、1つ以上のガス吸入管1つ又は複数4に接続することができる1つ以上のガス吸入口1つ又は複数6A、6B、6Cを介して、前記一次ガス容器71C、71Dに入ることができる。前記ガス吸入管1つ又は複数4は、次に、前記二次ガス容器1つ又は複数2、2Bに接続され、典型的にはそれに直接接続される。いくつかの実施形態において、前記一次ガス容器71C、71D内又はそのそれぞれ内に、2つ以上、又は3つ以上のガス吸入口6A、6B、6Cが存在してもよい。前記2つ以上のガス吸入口6A、6B、6Cは、例えば図1に示されるように、2つ以上のガス吸入管4で、前記二次ガス容器2に接続されてもよく、又は例えば、前記2つ以上のガス吸入口6A、6B、6Cは、それぞれガス吸入管4に接続可能であり、次いで、2つ以上のガス吸入管4が、単一のガス吸入管として前記二次ガス容器2に接続される前に接合されてもよい。いくつかの他の実施形態において、例えば、ガス容器71Cに関して、更に任意でガス容器71Dに関してもまた図2に示されるように、前記一次ガス容器71C内に単一のガス吸入口6A、及び例えば前記一次ガス容器71Cと二次ガス容器とを接続する単一のガス吸入管4が存在してもよい。いくつかの実施形態において、前記一次真空ガス容器71A、71B内、又はそのそれぞれに、2つ以上、又は3つ以上のガス吸入口6A、6B、6Cが存在してもよい。前記2つ以上のガス吸入口6A、6B、6Cは、例えば、真空チャンバ71Bに関して図2に示されるように、2つ以上のガス吸入管4で、前記二次真空ガス容器3A、3Bに接続されてもよく、又は、例えば前記2つ以上のガス吸入口6A、6B、6Cのそれぞれは、ガス吸入管4にそれぞれ接続され、前記2つ以上のガス吸入管4が、前記二次真空ガス容器3、3Bに単一のガス吸入管4として接続される前に接合されてもよい。いくつかの他の実施形態においては、例えば、図2で真空チャンバ71Aに関して示されるように、前記一次真空ガス容器1つ又は複数71A、71B内に、単一のガス吸入口6A、並びに例えば一次真空ガス容器71A、71Bと二次真空ガス容器3A、3Bとを接続する単一のガス吸入管4が存在してもよい。本明細書のいくつかの実施形態において、ガス吸入口の表面積を最大化することが有益な場合があり、前記ガス吸入口は、少なくとも100mm2、又は例えば少なくとも300mm2、又は例えば少なくとも500mm2の断面表面積すなわち、一次ガス真空容器71C、71A、71Bの吸入点におけるを有してもよい。1つ以上のガス吸入口6A、6B、6Cが、真空ガス容器内に存在する実施形態については、真空ガス容器の全ガス吸入口6A、6B、6Cの総断面表面積すなわち、一次ガス容器の吸入点においては、例えば少なくとも100mm2、又は例えば少なくとも300mm2、又は例えば少なくとも500mm2である。同じことが、二次ガス容器及び/又は二次真空ガス容器のガス吸入口1つ又は複数に適用可能である。ガス吸入管1つ又は複数4は、例えば少なくとも50mm2、又は例えば少なくとも100mm2、例えば少なくとも300mm2、又は例えば少なくとも500mm2の断面寸法、又は平均断面寸法をそれぞれ有してもよい。1つ又はそれぞれの一次真空ガス容器から、それに接続される二次真空ガス容器までの最大距離Dは、最小限に維持されてもよく、例えば、最大距離D前記一次真空ガス容器内の1つのガス吸入口又は各ガス吸入口から、前記二次真空ガス容器の1つのガス吸入口又は各ガス吸入口までは、12メートル未満、好ましくは5メートル未満、又は例えば2メートル未満、又は例えば1メートル未満、又は例えば50cm未満であってもよい。二次真空ガス容器は、いくつかの実施形態において、第1のエンドレス運動表面にほぼ隣接していてもよいが、その表面と直接ガス連通しておらず、前記ステータ内に存在しない。固体、例えば粒子状の材料100は、第1のエンドレス運動表面40に隣接して配置される開口部によって、フィーダーから第1のエンドレス運動表面40上例えば、そのリザーバ50内に導入され得る。フィーダーは、任意の形態又は形状を有してもよい。フィーダーは、例えば少なくとも1000cm3の容積を有する、材料100を保持するための容器部分と、容器部分から第1のエンドレス運動表面40へ材料を先導する、開口部を画定する1つ以上の壁を有する、例えばパイプ状部分である先導部分と、を有してもよい。フィーダーの開口部と、前記第1のエンドレス運動表面40との間の平均距離は、例えば、10cm未満、又は例えば5cm未満であってもよく、例えば2cm未満又は例えば1cm未満であってもよく、かつ例えば少なくとも0.1mm又は例えば少なくとも1mmであってもよい。フィーダーは、前記第1のエンドレス運動表面40への前記粒子状材料100の供給が、重力によって助けられるように、前記第1のエンドレス運動表面40の上に配置され得る。この点に関し、フィーダーの開口縁部は、第1のエンドレス運動表面40の真上0°に配置され得、あるいは、第1のエンドレス運動表面40が湾曲している場合、又は更には、例えば図に示されるように円形である場合、前記表面の上方、すなわち、90°~-90°例えば、9時の位置~3時の位置、又は一実施形態においては60°~-60°、又は30°~-30°の任意の位置に配置され得る。受容領域Aは、したがって、前記位置内にあり得る。本明細書における固体材料100は、粒子、薄片、繊維、スフェア、凝集粒子、及び当該技術分野で既知の他の形態を含む、例えば、乾燥状態で流動性を有する、粒子状形態の任意の材料であってもよい。本明細書の一実施形態において、固体材料100は、粒子状の超吸収性材料であり、この材料は、典型的にポリマーであり、また粒子状超吸収性ゲル化材料として既知であり、本明細書でAGMと称される。AGMとは、その重量の少なくとも10倍の0.9生理食塩水を吸収することが可能な粒子状形態のポリマー材料、すなわち、EDANA欧州不織布工業会の遠心保持容量試験、試験方法番号441.2-02、遠心保持容量を用いて測定したCRC値が少なくとも10g/gであるような粒子状形態のポリマー材料のことを指す。本明細書における粒子状AGMは、高い収着能力を有し、例えば、少なくとも20g/g、又は例えば30g/gのCRCを有する。上限値は、例えば、最大150g/g、又は例えば最大100g/gであり得る。本明細書における一実施形態では、前記AGMのポリマーは、内部架橋及び/又は表面架橋されたポリマーである。本明細書の一実施形態において、本明細書の粒子状材料は、ポリアクリル酸/ポリアクリレートポリマーの粒子を含む、あるいは、それらからなる、超吸収性材料であり、例えば、60~90、又は約75の中和度を有し、例えば、表面架橋及び/又は内部架橋及び/又は後架橋されたポリアクリル酸/ポリアクリレートポリマーである、当該技術分野で既知の、例えばナトリウム対イオンを有する。本明細書の一実施形態において、固形材料100は、例えば、例として欧州特許出願公開第A-0691133号に記載の方法によって測定され得る、質量メジアン粒径が、最大2mm、又は更には50マイクロメートル~2mm若しくは1mmまで、又は好ましくは100若しくは200若しくは300若しくは400若しくは500μm、又は1000μmまで若しくは800μmまで若しくは700μmまでである、粒子の形態である。本発明の一実施形態において、粒子状材料100は、50μm~1200μmの粒径を有し、上述の範囲の組み合わせのいずれかの間の質量メジアン粒計を有する粒子の形態である。本発明の更なる、又は別の実施形態では、前記粒子は本質的に球形である。本発明の更に別の又は追加の実施形態において、粒子状材料100は、比較的狭い範囲の粒径を有し、例えば、粒子の大部分例えば、少なくとも80又は好ましくは少なくとも90又は更には少なくとも95が、50μm~1000μm、好ましくは100μm~800μm、より好ましくは200μm~600μmの粒径を有する。本明細書の粒子状材料100は、15重量未満、又は例えば10重量未満、又は例えば8重量未満、又は例えば5重量未満の水を有利に含んでもよい。含水量は、粒子状材料100を摂氏105度で3時間乾燥させ、乾燥後の粒子状材料100の重量喪失によって、含水量を判定する、Edana試験、番号ERT430.1-991999年2月によって判定することができる。本明細書の粒子状AGMは、表面コーティング又は表面処理されたこれには、追加の表面改質工程であり得、本明細書においてコーティング又は表面処理ではなく、表面改質とみなされる、表面架橋は含まれないAGMの粒子であってもよく、このようなコーティング及び表面処理工程は、当該技術分野で既知であり、ケイ酸塩、リン酸塩を含む1つ以上の無機粉末での表面処理、有機非ポリマー粉末でのコーティング、並びにエラストマーポリマー材料又はフィルム形成ポリマー材料を含むポリマー材料でのコーティングが含まれる。固体材料100は、例えば、第1のエンドレス運動表面40によって、第2のエンドレス運動表面80に移動される。これは、例えばベルト又はドラムであってもよく、あるいは、これは、例えば運動基材又はその組み合わせであってもよい。基材は、ウェブ材料であってもよく、基材は、例えばフィルムウェブ等のフィルム及び/若しくは織布ウェブを含み、並びに/又は本明細書のいくつかの好ましい実施形態において、それは、不織布ウェブ等の不織布を含むか、又はそれらである。第2のエンドレス運動表面は、例えば、ドラム又はベルト等である、エンドレス運動表面支持体上に担持される基材の組み合わせであり得る。支持体、又はドラム若しくはベルトは、固体材料及び/又は基材を前記支持体上に保持するための真空システムを備え得る。本発明の装置1及び方法によって製造可能な例えば、吸収性構造体は、したがって、基材と、前記固体材料と、場合によっては追加の構成要素1つ又は複数/材料1つ又は複数とを備え得る。第2のエンドレス運動表面80は、第1のエンドレス運動表面40と同一の表面速度を有してもよく、又は異なる速度を有してもよい。一実施形態において、第1及び/又は第2のエンドレス運動表面は、少なくとも毎分1000部の速度、及び/又は少なくとも4.5m/秒、若しくは例えば少なくとも6m/秒、若しくは例えば少なくとも8m/秒の速度を有してもよい。一実施形態において、第1のエンドレス運動表面40は回転し、第2のエンドレス運動表面80は、例えば、固体材料100が、重力によって上部に放出されるように、第1のエンドレス運動表面40のほぼ下に位置付けられる。放出領域Cは、したがって、重心線上の点で、又はそれとの角度が60°~-60°若しくは30°~-30°で開始してもよい。本明細書の一実施形態において、基材は、例えば不織布ウェブ等の不織布であり、本明細書で使用する際の不織布とは、一方向又はランダムに配向された繊維を、摩擦及び/又は粘着及び/又は接着により結合させて製造されたシート又はウェブを指し、紙、及び、織る、編む、タフティング、スティッチボンディングされた製品は除く。繊維は天然のものでも人工のものでもよく、ステープル又は連続フィラメントであってもよく、あるいはその場で形成することもできる。市販の繊維は、約0.001mm未満~約0.2mmを超える範囲の直径を有し、いくつかの異なる形態、すなわち、短繊維ステープル又は細断繊維として知られる、連続単繊維フィラメント又はモノフィラメント、撚り合わせていない連続フィラメントの束タウ糸、及び連続フィラメントの撚り束編み糸として提供されている。繊維は、例えば異なるポリマーがシートとコアとを形成する、例えばシート/コアの構成を有する複合繊維であってもよい。不織布は、メルトブローイング、スパンボンディング、溶剤紡糸、電界紡糸、及びカーディングなどの多くのプロセスによって形成することができる。不織布の坪量は、通常、1平方メートル当たりのグラム数gsmで表される。基材は、例えば、フィルム層と1つ以上の不織布層不織積層体との積層体であってもよく、又は2つ以上の不織布層の不織積層体であってもよい。本明細書における不織布は親水性繊維で形成することができる。親水性とは、繊維の表面に付着する水性の液体例えば、水性の体液によって濡らされうる繊維又は繊維の表面のことを述べて言うものである。親水性及び濡れ性は、一般的に、流体の接触角、及び例えば不織布を通過する流体の裏抜け時間によって定義される。これは、RobertF.Gouldによって編集された、Contactangle,wettabilityandadhesionと題されるAmericanChemicalSocietyの出版物著作権1964年に詳細に説明される。繊維又は繊維の表面は、流体と繊維又はその表面との間の接触角が90°未満のとき、又は流体が繊維の表面全体に自然に広がる傾向があるときに流体によって濡らされているすなわち、親水性といわれ、通常は両方の条件が共存する。逆に、接触角が90°より大きい場合及び流体が繊維の表面全体に自然に広がらない場合は、繊維又は繊維の表面は疎水性であるとみなされる。本明細書における基材は、空気透過性であってもよい。不織布ウェブは、EDANA法140-1-99125Pa、38.3cm2によって判定される空気透過性が、例えば、40又は50~300又は200m3/m2×分であり得る。基材はまた、空気透過性が低いものであってもよく、例えば、真空を含む運動表面上に効果的に保持されるように空気不透過性であってよい。本明細書において有用なフィルムは、微小孔を備え得る。ある実行において、基材は、不織布ウェブ、例えば、SMS又はSMMS型の積層体である。基材は、例えば20を超える、又は例えば100を超えるが、例えば200以下の、CD方向の延伸率及び/又はMD方向の延伸率を有し得る。CD方向の延伸率に対するMD方向の延伸率の比は、所定の荷重下において1:2以下である。基材は、少なくとも部分的に、固体材料100を基材に接着するために、接着剤を含んでもよい。接着剤を有する基材に真空をより効果的に作用させるため、接着剤を所定のパターンで塗布することによって、基材の部分は接着剤を含まず、基材の部分は接着剤を含むようにしてもよい。固体材料100の、第2のエンドレス運動表面への移動後、前記表面は、本発明の装置1の一部であり得る更に追加のユニット1つ又は複数に、固体材料100を移動させて、固体材料100及び/又は基材に更なる材料を塗布させることができ、その関連プロセスの工程は、本発明の方法/プロセスの一部であり得る。これには、例えば、更なる接着ユニットによって塗布される1つ以上の更なる接着剤1つ又は複数、及び/又は、例えば、更なる基材を担持する、切断ユニット等の更なる回転支持体によって適用される更なる基材が含まれる。一実施形態において、固体材料100の、前記基材への放出後、基材は、固体材料100又はその部分を被覆するために、接着材料、及び/又は熱可塑性材料、及び/又は接着熱可塑性材料を、例えば繊維形状で塗布するユニットに移動させる。別の又は更なる実施形態において、固体材料を伴う基材は、固体材料100上に、又は場合によっては前記接着材料及び/若しくは熱可塑性材料及び/若しくは熱可塑性接着材料上に、更なる基材を塗布するユニットに移動させる。前記更なる基材は、前記基材を前記固体材料100により良好に接着するために、固体材料100又は場合により、前記熱可塑性材料及び/若しくは接着材料及び/若しくは熱可塑性接着材料と接触する側面上に、接着剤を含んでもよい。基材は、それ自体に、又は更なる基材若しくはカバーシートに、例えば、超音波結合、熱結合、又は例えばスプレー接着剤結合等の接着剤結合等の任意の手段によって、接合することができる。結合領域は、基材110の表面積の、例えば少なくとも1、又は例えば少なくとも2、又は例えば少なくとも5であってもよいが、例えば50以下、又は30以下である。好ましくは、結合領域は、基本的に粒子状材料100を全く含まない。したがって、結果として得られる、粒子状材料を有する基材は、本明細書の構造体のウェブであり得、それは、次いで、構造体のウェブを、個々の構造体、例えば、吸収性物品若しくは部分的吸収性物品に切断する切断ユニットに移動させることができる。このような吸収性コア又は部分的吸収性物品は、次いで、更なる吸収性物品構成要素と組み合わされて、最終的な吸収性物品を形成してもよい。方法本発明はまた、上述及び本明細書に請求される、装置1を使用する方法に関する。装置1の上述の特徴のいずれも、本発明の方法に適用される。本明細書に開示した寸法及び値は、記述された正確な数値に厳しく限定されるものと理解すべきでない。むしろ、特に言及しない限り、そのようなそれぞれの寸法は、記述された値と、その値の周辺の機能的に同等の範囲との両方を意味することを意図する。例えば、40mmとして開示された寸法は、約40mmを意味することを意図する。"