混合ガスを利用して反応を遂行する反応室に該混合ガスを加圧して供給する加圧ガス供給システムであって、液体である原料にバブリングガスを噴射して当該原料を気化させることにより原料ガスを生成するバブリングユニットと、前記バブリングユニットで生成された原料ガスが導入されるとともに、該原料ガスとは異なるガスである加圧ガスが導入されることにより、前記反応室よりも高圧の混合ガスを生成する加圧タンクと、前記加圧タンクで生成された混合ガスを、前記加圧タンクと前記反応室との差圧によって前記反応室に供給する混合ガス供給部と、前記加圧タンクで生成された混合ガスが導入されるとともに、該混合ガスに含まれる原料ガスを凝縮させて液体の原料に戻すガス回収部と、前記ガス回収部において凝縮された液体の原料を前記バブリングユニットに導入する原料導入部と、を備えたことを特徴とする加圧ガス供給システム。前記加圧ガスは、前記バブリングガスと同成分のガスであることを特徴とする請求項1に記載の加圧ガス供給システム。前記ガス回収部の内部を減圧する減圧部を備え、前記減圧部によって前記ガス回収部の内部が真空状態に減圧された後に、該ガス回収部と前記加圧タンクとの差圧によって前記混合ガスが前記ガス回収部に導入されることを特徴とする請求項1または2に記載の加圧ガス供給システム。前記減圧部は、前記ガス回収部の内部を真空状態に減圧し、該ガス回収部と前記加圧タンクとの差圧によって前記混合ガスが前記ガス回収部に導入された後に、前記加圧タンクの内部を真空状態に減圧することを特徴とする請求項3に記載の加圧ガス供給システム。混合ガスに基づく金属化合物を基板に蒸着させる反応室と、液体である原料にバブリングガスを噴射して当該原料を気化させることにより前記原料ガスを生成するバブリングユニットと、前記バブリングユニットで生成された原料ガスが導入されるとともに、該原料ガスとは異なるガスである加圧ガスが導入されることにより、前記反応室よりも高圧の混合ガスを生成する加圧タンクと、前記加圧タンクと前記反応室との差圧によって、該加圧タンクで生成された混合ガスを該反応室に供給する混合ガス供給部と、前記加圧タンクで生成された混合ガスが導入されるとともに、該混合ガスに含まれる原料ガスを凝縮させて液体の原料に戻すガス回収部と、前記ガス回収部において凝縮された液体の原料を前記バブリングユニットに導入する原料導入部と、を備えたことを特徴とするMOCVD装置。混合ガスを利用して反応を遂行する反応室に該混合ガスを供給する加圧ガス供給方法であって、バブリングユニットにおいて、液体である原料にバブリングガスを噴射して当該原料を気化させることにより原料ガスを生成するステップと、加圧タンクに前記原料ガスを導入するステップと、前記原料ガスが導入された加圧タンクに、該原料ガスとは異なるガスである加圧ガスを導入することにより、前記反応室よりも高圧の混合ガスを生成するステップと、前記加圧タンクと前記反応室との差圧によって、前記混合ガスを該反応室に供給するステップと、所定の供給停止条件を満たした場合、前記加圧タンクから前記反応室への混合ガスの供給を停止するステップと、ガス回収部において、前記加圧タンクで生成された混合ガスが導入されるとともに、該混合ガスに含まれる原料ガスを凝縮させて液体の原料に戻すステップと、凝縮された液体の原料を前記バブリングユニットに導入するステップと、を有することを特徴とする加圧ガス供給方法。前記供給停止条件は、前記加圧タンクと前記反応室との差圧が所定範囲内になったことであることを特徴とする請求項6に記載の加圧ガス供給方法。前記ガス回収部において、前記加圧タンクで生成された混合ガスが導入されるとともに、該混合ガスに含まれる原料ガスを凝縮させて液体の原料に戻すステップを遂行する前に、前記ガス回収部の内部を真空状態に減圧するステップを有することを特徴とする請求項6または7に記載の加圧ガス供給方法。前記ガス回収部の内部を真空状態に減圧するステップを遂行し、前記ガス回収部において、前記加圧タンクで生成された混合ガスが導入されるとともに、該混合ガスに含まれる原料ガスを凝縮させて液体の原料に戻すステップを遂行した後に、前記加圧タンクの内部を真空状態に減圧するステップを有することを特徴とする請求項8に記載の加圧ガス供給方法。上述した有機金属ガスの基となる有機金属原料は、常温で液体または固体であるが、恒温槽等を利用して有機金属原料を所定温度に維持しておき、有機金属原料にバブリングガスを噴射してバブリングすることで、有機金属原料をガス化している。したがって、タンクに導入された有機金属ガスが圧縮された際に、有機金属ガスの一部が凝縮液化したり、凝結固化したりすることがある。そうすると、特許文献1の技術ではピストンとタンクとの摺動部分に、特許文献2の技術ではベローズ形状の部分に、液化または固化した有機金属原料が付着するおそれがある。そうすると、有機金属原料によって、ピストンとタンクとの摺動性が低下したり、ピストンやタンクが削剥されてしまったり、ベローズ形状の部分による圧縮効率が低下してしまう。そこで本発明は、このような課題に鑑み、簡易な構成で、有機金属原料の液化や固化によって加圧効率の低下を招くことなく、有機金属ガスを安定的に加圧して反応室に供給することが可能な加圧ガス供給システム、MOCVD装置、および、加圧ガス供給方法を提供することを目的としている。上記課題を解決するために、本発明の加圧ガス供給システムは、混合ガスを利用して反応を遂行する反応室に混合ガスを加圧して供給する加圧ガス供給システムであって、液体である原料にバブリングガスを噴射して当該原料を気化させることにより原料ガスを生成するバブリングユニットと、バブリングユニットで生成された原料ガスが導入されるとともに、原料ガスとは異なるガスである加圧ガスが導入されることにより、反応室よりも高圧の混合ガスを生成する加圧タンクと、加圧タンクで生成された混合ガスを、加圧タンクと反応室との差圧によって反応室に供給する混合ガス供給部と、加圧タンクで生成された混合ガスが導入されるとともに、混合ガスに含まれる原料ガスを凝縮させて液体の原料に戻すガス回収部と、ガス回収部において凝縮された液体の原料をバブリングユニットに導入する原料導入部と、を備えたことを特徴とする。加圧ガスは、バブリングガスと同成分のガスであってもよい。ガス回収部の内部を減圧する減圧部を備え、減圧部によってガス回収部の内部が真空状態に減圧された後に、ガス回収部と加圧タンクとの差圧によって混合ガスがガス回収部に導入されてもよい。減圧部は、ガス回収部の内部を真空状態に減圧し、ガス回収部と加圧タンクとの差圧によって混合ガスがガス回収部に導入された後に、加圧タンクの内部を真空状態に減圧してもよい。上記課題を解決するために、本発明のMOCVD装置は、混合ガスに基づく金属化合物を基板に蒸着させる反応室と、液体である原料にバブリングガスを噴射して当該原料を気化させることにより原料ガスを生成するバブリングユニットと、バブリングユニットで生成された原料ガスが導入されるとともに、原料ガスとは異なるガスである加圧ガスが導入されることにより、反応室よりも高圧の混合ガスを生成する加圧タンクと、加圧タンクと反応室との差圧によって、加圧タンクで生成された混合ガスを反応室に供給する混合ガス供給部と、加圧タンクで生成された混合ガスが導入されるとともに、混合ガスに含まれる原料ガスを凝縮させて液体の原料に戻すガス回収部と、ガス回収部において凝縮された液体の原料をバブリングユニットに導入する原料導入部と、を備えたことを特徴とする。上記課題を解決するために、本発明の加圧ガス供給方法は、混合ガスを利用して反応を遂行する反応室に混合ガスを供給する加圧ガス供給方法であって、バブリングユニットにおいて、液体である原料にバブリングガスを噴射して当該原料を気化させることにより原料ガスを生成するステップと、加圧タンクに原料ガスを導入するステップと、原料ガスが導入された加圧タンクに、原料ガスとは異なるガスである加圧ガスを導入することにより、反応室よりも高圧の混合ガスを生成するステップと、加圧タンクと反応室との差圧によって、混合ガスを反応室に供給するステップと、所定の供給停止条件を満たした場合、加圧タンクから反応室への混合ガスの供給を停止するステップと、ガス回収部において、加圧タンクで生成された混合ガスが導入されるとともに、混合ガスに含まれる原料ガスを凝縮させて液体の原料に戻すステップと、凝縮された液体の原料をバブリングユニットに導入するステップと、を有することを特徴とする。供給停止条件は、加圧タンクと反応室との差圧が所定範囲内になったことであってもよい。ガス回収部において、加圧タンクで生成された混合ガスが導入されるとともに、混合ガスに含まれる原料ガスを凝縮させて液体の原料に戻すステップを遂行する前に、ガス回収部の内部を真空状態に減圧するステップを有してもよい。ガス回収部の内部を真空状態に減圧するステップを遂行し、ガス回収部において、加圧タンクで生成された混合ガスが導入されるとともに、混合ガスに含まれる原料ガスを凝縮させて液体の原料に戻すステップを遂行した後に、加圧タンクの内部を真空状態に減圧するステップを有してもよい。本発明によれば、簡易な構成で、有機金属原料の液化や固化によって加圧効率の低下を招くことなく、有機金属ガスを安定的に加圧して反応室に供給することが可能となる。以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。MOCVD装置100図1は、MOCVDMetalOrganicChemicalVaporDeposition:有機金属気相成長装置100を説明するための説明図である。図1に示すように、MOCVD装置100は、反応部110と、加圧ガス供給システム200とを含んで構成される。ここでは、MOCVD装置100が、基板Wに窒化ガリウムGaNを成膜する場合を例に挙げて説明する。また、MOCVD装置100を構成する各バルブは、不図示のバルブ制御装置による制御指令に応じて開閉し、各流量調整部はバルブ制御装置による制御指令に応じて流量を調整する。反応部110は、反応が遂行される反応室112と、反応室112内に搬入された基板Wを加熱する1組のヒータ114a、114bを含んで構成される。反応室112には、原料ガスXトリメチルガリウムTMGを含む混合ガスMと、反応室112において原料ガスXと反応を遂行する反応ガスYアンモニアNH3と、混合ガスMおよび反応ガスYを希釈して反応室112を所定の圧力例えば、0.85MPa程度に維持する希釈ガスZ例えば、窒素N2とが供給される。具体的に説明すると、混合ガスMは、後述する加圧ガス供給システム200から反応室112に供給される。反応ガスYは、反応ガスYが充填されたガスボンベ等の反応ガス源120から、バルブ120a、流量制御装置MassFlowControllerMFC120b、バルブ120cを介して、反応室112に供給される。希釈ガスZは、希釈ガスZが充填されたガスボンベ等の希釈ガス源122から、バルブ122a、流量制御装置MFC122b、バルブ122cを介して、反応室112に供給される。ここで希釈ガスZは、反応室112で遂行される反応に無関係なガス、例えば、上述した窒素やアルゴン等の不活性ガスであるとよい。このように、反応室112に供給された、混合ガスM原料ガスX、反応ガスY、希釈ガスZの雰囲気下において、ヒータ114a、114bによって基板Wが加熱されると、基板W上に金属化合物窒化ガリウムが蒸着されることになる。また、反応室112には、バルブ210bを介して、加圧ガス供給システム200を構成する減圧部210が接続されている。したがって、反応室112において、原料ガスXと反応ガスYが反応した後の排気ガスEは、減圧部210によって排気されることになる。加圧ガス供給システム200上述したように、加圧ガス供給システム200は、原料ガスXを含む混合ガスMを生成して反応室112に供給する。以下、加圧ガス供給システム200の具体的な構成について説明する。加圧ガス供給システム200は、減圧部210と、バブリングユニット212と、加圧タンク214と、混合ガス供給部216と、ガス回収部220と、原料導入部222とを含んで構成される。減圧部210は、ターボ分子ポンプ等の真空ポンプで構成され、バルブ210aを介して、後述する加圧タンク214を減圧したり、バルブ210bを介して反応室112を減圧したり、バルブ210cを介して後述するガス回収部220を減圧したりする。バブリングユニット212は、液体である原料Lにバブリングガスを噴射して当該原料Lを気化させることにより原料ガスXを生成する。ここで、原料Lは、トリメチルガリウムである。具体的にバブリングユニット212は、バブリング槽212aと、恒温槽212bと、バブリングガス導入管212cと、原料ガス排出管212dを含んで構成される。バブリング槽212aは、原料Lを貯留する。恒温槽212bは、バブリング槽212aに貯留された原料Lを所定温度例えば、0°C~20°Cに維持する。バブリングガス導入管212cは、バルブ212eを介してバブリングガス源212fから供給されたバブリングガスBを、原料Lに噴射する。原料ガス排出管212dは、バブリングガスBによってバブリングされることにより、原料Lが気化した原料ガスXを加圧タンク214に排出する。なお、バブリングガスBは、原料Lと反応しないガス、例えば、窒素やアルゴン等の不活性ガスであるとよい。加圧タンク214には、バルブ212gを介して、原料ガス排出管212dから排出された原料ガスXが導入される。本実施形態において加圧タンク214には、減圧部210によって加圧タンク214の内部が真空状態に減圧された後に、加圧タンク214とバブリングユニット212との差圧によって原料ガスXが導入される。ここで、バブリング槽212aの温度を所定温度にしておけば、原料Lの飽和蒸気圧曲線に基づいて、バブリングユニット212における原料Lの飽和蒸気圧が決定される。そうすると、加圧タンク214には、所定温度における飽和蒸気圧の原料ガスXが、加圧タンク214の容量分導入されることになる。これにより、加圧タンク214に導入される原料ガスXの量を所定値に維持することができる。また、減圧部210が加圧タンク214の内部を真空状態にせず、前回反応室112に供給した混合ガスMに新たな原料ガスXを追加すると、前回反応室112に供給した混合ガスM等の残渣が混入してしまい原料ガスXの濃度が不明になったり、変性した残渣が混入して混合ガスMの成分が不明になったりする。したがって、減圧部210が加圧タンク214の内部を真空状態にした後混合ガスMの残渣が0になった後に、新たな原料ガスXを導入することで、新たに混合ガスMを生成することができ、混合ガスMにおける原料ガスXの濃度や、混合ガスMの成分を高精度に維持することが可能となる。続いて加圧タンク214には、バルブ214aを介して加圧ガス源214bから加圧ガスPが導入される。なお、加圧ガスPは、原料Lと反応しないガス、例えば、窒素やアルゴン等の不活性ガスであるとよい。加圧ガスPは、反応室112よりも高圧な状態例えば、0.95MPaで加圧タンク214に導入されるため、加圧タンク214で生成される、原料ガスXと加圧ガスPとの混合ガスMは、反応室112よりも高圧例えば、0.9MPaとなる。上述したようにバブリングユニット212から導入される原料ガスXは飽和蒸気圧であるため、加圧タンク214に導入する加圧ガスPの容量を所定値に維持しておけば、混合ガスMにおける原料ガスXの濃度を常に所定値に維持することが可能となる。また、加圧タンク214の外周に、ラバーヒータやリボンヒータ等で構成された加温部214cを備えておき、加圧タンク214の温度を所定温度例えば、80°Cに維持してもよい。上述したように、加圧タンク214に導入される原料ガスXは飽和蒸気圧であるため、室温では凝縮してしまうおそれがある。したがって、加圧タンク214の外周に加温部214cを備えておき、加圧タンク214を所定温度に維持することにより、加圧タンク214内における原料ガスXの凝縮を防止することができる。なお、本実施形態において加圧ガスPは、バブリングガスBと同成分のガスここでは、窒素である。バブリングユニット212から導入される原料ガスXには少なからずバブリングガスBが含まれている。したがって、加圧ガスPをバブリングガスBと同成分のガスとすることにより、ガス源212f、214bを1つに纏めることができ、低コスト化を図ることが可能となる。また、加圧タンク214において生成される混合ガスMを原料ガスXと1種類のガス窒素とで構成することができるため、不要な副反応が遂行されてしまうおそれを回避することが可能となる。混合ガス供給部216は、バルブ216aと、流量制御装置MFC216bと、バルブ216cとを含んで構成され、加圧タンク214と反応室112との差圧によって、加圧タンク214から反応室112に混合ガスMを供給する。混合ガス供給部216が流量制御装置216bを備える構成により、加圧タンク214で生成された混合ガスMを、所定流量で安定的に反応室112に供給することができる。ガス回収部220は、回収タンク220aと、冷却部220bとを含んで構成される。回収タンク220aには、加圧タンク214で生成された混合ガスMがバルブ218aを介して導入され、回収タンク220aは、導入された混合ガスMを一時的に貯留する。冷却部220bは、回収タンク220aを、原料Lの凝縮点以下に冷却し、回収タンク220aに貯留された混合ガスMに含まれる原料ガスXを凝縮させて液体の原料Lに戻す。なお、本実施形態において、回収タンク220aには、減圧部210によって回収タンク220aの内部が真空状態に減圧された後に、回収タンク220aと加圧タンク214との差圧によって、バルブ218aを介して混合ガスMが導入される。原料導入部222は、ガス回収部220において凝縮された液体の原料Lをバブリングユニット212に導入する。具体的に説明すると、ガス回収部220には、バルブ214dを介して加圧ガス源214bからキャリアガスCが導入される。そうすると、導入されたキャリアガスCによって、ガス回収部220において凝縮された液体の原料Lが押し出され、原料導入部222、バルブ222aを通じて、バブリングユニット212に導入される。加圧タンク214で生成された混合ガスMは、加圧タンク214と反応室112との差圧によって反応室112に供給されるが、加圧タンク214から反応室112への混合ガスMの供給が持続すると、加圧タンク214と反応室112との差圧は徐々に低下し、最終的に、加圧タンク214と反応室112との差圧は実質的に0になる。そうすると、加圧タンク214から反応室112へ混合ガスMの供給ができなくなるため、再度、加圧タンク214において混合ガスMを生成する必要がある。ここで、上述したように、混合ガスMにおける原料ガスXの濃度や、混合ガスMの成分を高精度に維持するために、減圧部210は加圧タンク214の内部を排気して真空状態にする。しかし、原料Lとしての有機金属化合物は高価であるため、減圧部210によって加圧タンク214に残存した混合ガスMを単純に排気してしまうと、残存した混合ガスMに含まれる原料ガスXが無駄になってしまう。具体的に説明すると、反応を遂行する際の反応室112の雰囲気の圧力が0.85MPaであり、加圧タンク214における混合ガスMの圧力が0.9MPaである場合、その差圧によって混合ガスMが反応室112に供給される。そして、供給に伴って差圧が0となる加圧タンク214の圧力が0.85MPaになると、混合ガスMが加圧タンク214に残存し、排気されてしまうことになる。そこで、ガス回収部220および原料導入部222は、加圧タンク214に大量に残存した混合ガスMに含まれる原料ガスXを再度液化して、原料Lにし、バブリングユニット212に戻す。これにより、原料Lを再利用することができ、無駄なく基板Wを成膜することができる。また、残存した混合ガスMに含まれる原料ガスXを排気することがなくなるため、排気に必要な排気ガス処理装置を省略することができ、MOCVD装置100全体のコストを低減することが可能となる。なお、本実施形態においてキャリアガスCは、加圧ガスPと同成分のガスここでは、窒素である。キャリアガスCを加圧ガスPと同成分のガスとすることにより、ガス源214bを1つに纏めることができ、低コスト化を図ることが可能となる。また、原料Lがトリメチルガリウムのような空気に触れると発火するような物質である場合、キャリアガスCとして原料Lと反応しない窒素や、アルゴン等の不活性ガスを採用する。これにより、ガス回収部220からバブリングユニット212に導入される際に、原料Lが発火したりする等の不要な副反応が遂行されてしまうおそれを回避することが可能となる。加圧ガス供給方法図2は、MOCVD装置100を用いた加圧ガス供給方法の処理の流れを説明するためのフローチャートである。図2に示すように、まず、基板Wが反応室112に搬入され、不図示のバルブ制御装置は、バルブ120a、122aを開状態にしておき、他のバルブ120c、122c、210a、210b、210c、212g、212e、214a、214d、216a、216c、218a、222aを閉状態にしておく。バルブ制御装置がバルブ210bを開にして、減圧部210が反応室112の内部を真空状態にすると、バルブ制御装置はバルブ210bを閉にするS300。なお、本実施形態における加圧ガス供給方法は、ユーザによる停止指示があったときには、そのときに遂行している処理を停止する。続いて、バルブ制御装置がバルブ210aを開にして、減圧部210が加圧タンク214の内部を真空状態にすると、バルブ制御装置はバルブ210aを閉にするS302。そして、バルブ制御装置がバルブ212eを開にすると、バブリングユニット212において、バブリングガス源212fからバブリングガスBが原料Lに噴射され、原料Lが気化されることにより原料ガスXが生成されるS304。ここで、バルブ制御装置がバルブ212gを開にする。そうすると、バブリングユニット212から原料ガス排出管212dを通じて、加圧タンク214に、飽和蒸気圧の原料ガスXが、加圧タンク214の容量分導入されるS306。そして、バルブ制御装置はバルブ212e、212gを閉にして、バルブ214aを開にする。そうすると、ステップS306で原料ガスXが導入された加圧タンク214に、加圧ガス源214bから加圧ガスPが導入されるS308。ここで、加圧ガス源214bから導入される加圧ガスPの圧力を、反応を遂行する際の反応室112の雰囲気の圧力ここでは、0.85MPaよりも高圧ここでは、0.9MPaにする。こうすることで、加圧タンク214において、反応を遂行する際の反応室112よりも高圧な混合ガスMが生成されるS310。そして、バルブ制御装置はバルブ214aを閉にし、バルブ216a、216c、120c、122cを開にする。そうすると、加圧タンク214と反応室112との差圧によって、加圧タンク214から反応室112に混合ガスMが供給され、反応ガス源120から反応ガスYが、希釈ガス源122から希釈ガスZが、反応室112に供給されるS312。なお、この際、バルブ制御装置は流量制御装置120b、122b、216bを調整して、反応室112に導入される、反応ガスY、希釈ガスZ、混合ガスM原料ガスXの割合を所定値にし、反応室112の雰囲気の圧力を0.85MPaに維持する。続いて、ヒータ114a、114bをオンにすることで、混合ガスM、反応ガスY、希釈ガスZの雰囲気下で基板Wが加熱され、基板W上に金属化合物窒化ガリウムが成膜されるS314。そして、所定時間が経過すると、ヒータ114a、114bをオフにして成膜を終了するS316。ここで、所定の供給停止条件を満たしたか否かを判定するS318。ここで供給停止条件は、加圧タンク214と反応室112との差圧が所定範囲内例えば、0Pa~40kPa程度になったこと、例えば、加圧タンク214と反応室112との差圧が実質的に0になったことであり、加圧タンク214の圧力が、反応室112の圧力と実質的に等しくなるまで低下していなければS318におけるNO、加圧タンク214と反応室112との差圧によって、加圧タンク214から反応室112への混合ガスMの供給が維持できる。そこで、このような雰囲気内で反応室112に接続された不図示のゲートバルブを介して、反応室112から成膜済みの基板Wが取り出され、新たな基板Wが反応室112へ搬入されるS320。そして、成膜開始ステップS314に戻って、新たな基板Wの成膜処理を遂行する。一方、加圧タンク214の圧力が、反応室112の圧力と実質的に等しくなるまで低下する0.85MPaになるとS318におけるYES、加圧タンク214と反応室112との差圧がなくなるため、加圧タンク214から反応室112への混合ガスMの供給が停止されるS322。そうすると、バルブ制御装置はバルブ216a、216c、120c、122cを閉にする。そして、加圧タンク214に残存した混合ガスMに含まれる原料ガスXの回収原料ガス回収処理を行うS324。図3は、原料ガス回収処理の具体的な処理の流れを説明するためのフローチャートである。まず、バルブ制御装置がバルブ210cを開にして、減圧部210が回収タンク220aの内部を真空状態にすると、バルブ制御装置はバルブ210cを閉にするS350。そして、バルブ制御装置がバルブ218aを開にすると、加圧タンク214から回収タンク220aに混合ガスMが導入され、回収タンク220aは混合ガスMを貯留するS352。続いて、バルブ制御装置がバルブ218aを閉にし、冷却部220bが回収タンク220aを冷却するS354と、回収タンク220aに貯留された混合ガスMに含まれる原料ガスXが凝縮して、液体の原料Lに戻る。そして、バルブ制御装置がバルブ222aを開に、バルブ214dを開にすると、加圧ガス源214bからキャリアガスCが回収タンク220aに導入されるS356。そうすると、導入されたキャリアガスCによって、回収タンク220aにおいて凝縮された液体の原料Lが押し出されて、原料導入部222、バルブ222aを通じて、バブリングユニット212に導入されるS358。そして、バルブ制御装置は、バルブ214dおよび222aを閉にする。図2に戻って説明すると、加圧タンク214に残存した混合ガスMに含まれる原料ガスXの回収原料ガス回収処理が行われるとS324、加圧タンク減圧処理S302からの処理を繰り返す。すなわち、加圧タンク214において混合ガスMの生成を再度行うことになる。以上説明したように、本実施形態にかかるMOCVD装置100や、MOCVD装置100を用いた加圧ガス供給方法によれば、加圧タンク214において、原料ガスXに高圧の加圧ガスPを導入するといった簡易な構成で、原料L有機金属原料の液化や固化によって加圧効率の低下を招くことなく、原料ガスX有機金属ガスを安定的に加圧して反応室112に供給することが可能となる。また、ガス回収部220および原料導入部222が原料ガス回収処理を遂行することにより、加圧タンク214に大量に残存した混合ガスMに含まれる原料ガスXを再度液化して、原料Lにし、バブリングユニット212に戻すことができる。これにより、原料Lを再利用することが可能となる。以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば、上述した実施形態では、MOCVD装置として加熱型のMOCVD装置を例に挙げて説明したが、プラズマ発生型のMOCVD装置を採用することもできる。また、上述した実施形態では、バブリングユニット212で利用する原料Lとしてトリメチルガリウムを例に挙げて説明したが、液体の有機金属化合物であればよい。さらに、上述した実施形態では、ガス回収部220が回収タンク220aを備える構成を例に挙げて説明したが、混合ガスMに含まれる原料ガスXを凝縮させて液体の原料Lに戻すことができれば、貯留機能を有さない、例えば、流路のみを形成する管であってもよい。また、ガス回収部220が、加熱機能を有してもよい。この場合、加熱機能によって、回収タンク220aをベーキングし、その後、減圧部210によって回収タンク220aの内部が真空状態に減圧されるとよい。こうすることで、前回、回収タンク220aに残存した混合ガスMが変性してしまい、変性した混合ガスMが新たに導入された混合ガスMに混入してコンタミネーションが生じてしまう可能性を低減できる。さらに、上述した実施形態では、供給停止条件が、加圧タンク214と反応室112との差圧が所定範囲内になったこととした。しかし、加圧タンク214から反応室112への混合ガスMの供給を開始した時点から所定時間が経過したことを供給停止条件とすることもできる。また、上述した実施形態では、減圧部210が回収タンク220aを真空状態に減圧しているが、加圧タンク214から回収タンク220aに混合ガスMを導入することができればよい。例えば、回収タンク220aが大気圧であってもよい。この場合、加圧タンク214に残存した混合ガスMを除去するために、減圧部210が加圧タンク214を真空状態に減圧してからバブリングユニット212から原料Lが導入されるとよい。さらに上述した実施形態では、減圧部210が加圧タンク214を直接減圧する構成を例に挙げて説明したが、減圧部210が、回収タンク220aを経由して加圧タンク214を減圧することもできる。また、上述した実施形態において、混合ガス供給部216は、バルブ216aと、流量制御装置216bと、バルブ216cとを含んで構成される例について説明したが、バルブ210aと流量制御装置216bとの間に、減圧弁をさらに設けてもよい。この場合、混合ガス供給部は、減圧弁の前後の圧力差実質的には、減圧弁の前後の圧力差から、混合ガスが混合ガス供給部を通過するときの圧力損失分を勘案した値を加圧タンクと反応室との差圧とみなして、加圧タンクから反応室に混合ガスを供給するとよい。なお、本明細書の加圧ガス供給方法における各工程は、必ずしもフローチャートとして記載された順序に沿って時系列に処理する必要はなく、並列的あるいはサブルーチンによる処理を含んでもよい。