"ゴム成分中に、30質量~60質量の共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体と、40質量~70質量のジエン系重合体とを含むホース用ゴム組成物。前記ジエン系重合体は、アクリロニトリル-ブタジエンゴムNBRである請求項1に記載のホース用ゴム組成物。前記共重合体における共役ジエン化合物の割合が30mol~80molである、請求項1に記載のホース用ゴム組成物。前記共重合体は、共役ジエン化合物由来部分のシス-1,4結合量が50以上である請求項1または3に記載のホース用ゴム組成物。前記共重合体は、ポリスチレン換算重量平均分子量が10,000~10,000,000の範囲内である請求項1に記載のホース用ゴム組成物。前記共重合体は、分子量分布Mw/Mnが10以下である請求項1に記載のホース用ゴム組成物。前記非共役オレフィンは、非環状オレフィン化合物である請求項1に記載のホース用ゴム組成物。前記非共役オレフィンは、炭素数が2~10である請求項1に記載のホース用ゴム組成物。前記非共役オレフィンは、エチレン、プロピレン及び1-ブテンからなる群より選択される少なくとも一種である請求項7または8に記載のホース用ゴム組成物。前記非共役オレフィンは、エチレンである請求項9に記載のホース用ゴム組成物。前記共役ジエン化合物は、1,3-ブタジエン及びイソプレンからなる群より選択される少なくとも一種である請求項1に記載のホース用ゴム組成物。請求項1に記載のホース用ゴム組成物を用いた油圧ホース。そこで、本発明の目的は、十分な耐候性を有しつつ耐摩耗性に優れたハロゲンフリーのホース用ゴム組成物、及び十分な耐候性を有しつつ耐摩耗性に優れた油圧ホースを提供することにある。本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、ゴム成分として、特定の重合体を特定量配合することにより、十分な耐候性を有しつつ耐摩耗性に優れたハロゲンフリーのゴム組成物が得られ、該ゴム組成物を油圧ホースに適用することで、十分な耐候性を有しつつ耐摩耗性に優れた油圧ホースが得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。即ち、本発明のホース用ゴム組成物は、ゴム成分中に、30質量~60質量の共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体と、40質量~70質量のジエン系重合体とを含むことを特徴とする。ゴム成分中に、30質量~60質量の共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体と、40質量~70質量のジエン系重合体とを含むことにより、耐摩耗性及び耐候性が向上する。ここで、前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体において、単量体として用いる共役ジエン化合物は、二重結合を二つ有し、該二重結合が一つの単結合によって隔てられ、共役した化合物であり、一方、単量体として用いる非共役オレフィンは、共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンである。また、本発明において、ジエン系重合体とは、単量体としてジエンを少なくとも1種用いた重合体であって、前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体ではない重合体を指す。本発明のホース用ゴム組成物において、前記ジエン系重合体はアクリロニトリル-ブタジエンゴムNBRであることが好ましい。本発明のホース用ゴム組成物において、前記共重合体における共役ジエン化合物の割合が30mol~80molであることが好ましい。本発明のホース用ゴム組成物の前記共重合体における共役ジエン化合物由来部分は、シス-1,4結合量が50以上であることが好ましい。本発明のホース用ゴム組成物において、前記共重合体は、ポリスチレン換算重量平均分子量が10,000~10,000,000の範囲内であることが好ましい。本発明のホース用ゴム組成物において、前記共重合体は、分子量分布Mw/Mnが10以下であることが好ましい。本発明のホース用ゴム組成物において、前記非共役オレフィンは、非環状オレフィン化合物であることが好ましい。本発明のホース用ゴム組成物において、前記非共役オレフィンは、炭素数が2~10であることが好ましい。本発明のホース用ゴム組成物において、前記非共役オレフィンは、エチレン、プロピレン及び1-ブテンからなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。特に、前記非共役オレフィンはエチレンであることがより好ましい。本発明のホース用ゴム組成物において、前記共役ジエン化合物は、1,3-ブタジエン及びイソプレンからなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。本発明の油圧ホースは、上記ホース用ゴム組成物を用いたことを特徴とする。本発明によれば、十分な耐候性を有しつつ耐摩耗性に優れたハロゲンフリーのホース用ゴム組成物、及び十分な耐候性を有しつつ耐摩耗性に優れた油圧ホースを提供することができる。ホース用ゴム組成物本発明のホース用ゴム組成物は、少なくとも、i共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体と、iiジエン系重合体、及び任意にiiiその他のゴム成分とを含んでなり、さらに必要に応じて、iv架橋剤、v加硫促進剤、viその他の成分、を含んでなる。<i共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体>前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体は、共重合体におけるモノマー単位成分として非共役オレフィンを含む。前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体において、単量体として用いる共役ジエン化合物は、炭素数が4~12であることが好ましい。該共役ジエン化合物として、具体的には、1,3-ブタジエン、イソプレン、1,3-ペンタジエン、2,3-ジメチルブタジエン等が挙げられ、これらの中でも、1,3-ブタジエン及びイソプレンが特に好ましい。また、これら共役ジエン化合物は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体における前記共役ジエン化合物由来部分の割合としては、30mol~80molが好ましく、前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体における前記共役ジエン化合物由来部分の割合が30mol以上であると、加工性が十分に確保できるので好ましく、80mol以下であると、非共役オレフィンの割合が多くなり、耐候性が向上して好ましい。前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体における前記共役ジエン化合物由来部分のシス-1,4結合量としては、50以上であることが好ましく、92以上であることがより好ましく、95以上であることが特に好ましい。前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体における共役ジエン化合物由来部分のシス-1,4結合量が50以上であれば、低いガラス転移点Tgを保持することができ、これにより、耐亀裂成長性や耐摩耗性等の物性が改良される。なお、前記シス-1,4結合量は、前記共役ジエン化合物由来部分中の量であって、共重合体全体に対する割合ではない。前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の共役ジエン化合物由来部分における共役ジエン化合物の1,2付加体部分3,4付加体部分を含む含量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5以下が好ましく、3以下がより好ましく、2.5以下が特に好ましい。前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の共役ジエン化合物由来部分における共役ジエン化合物の1,2付加体部分3,4付加体部分を含む含量が5以下であると、共重合体の耐候性や耐オゾン性をさらに向上させることができる。一方、前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の共役ジエン化合物由来部分における共役ジエン化合物の1,2付加体部分3,4付加体部分を含む含量が2.5以下であると、共重合体の耐候性や耐オゾン性をさらに向上させることができる。ここで、前記12付加体部分34付加体部分を含む含量は、前記共役ジエン化合物由来部分中の量であって、共重合体全体に対する割合ではない。なお、前記共役ジエン化合物由来部分における共役ジエン化合物の1,2付加体部分3,4付加体部分を含む含量は、共役ジエン化合物がブタジエンの場合、1,2-ビニル結合量と同じ意味である。一方、前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体において、単量体として用いる非共役オレフィンは、共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンであり、前記共重合体の主鎖中に占める二重結合の割合を減らし、結晶性を低下させることでエラストマーとしての設計自由度を高めることが可能となる。また、前記非共役オレフィンとしては、非環状オレフィンであることが好ましく、また、前記非共役オレフィンの炭素数は、2~10であることが好ましい。従って、前記非共役オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン等のα-オレフィンが好適に挙げられ、これらの中でも、エチレン、プロピレン及び1-ブテンが好ましく、エチレンが特に好ましい。α-オレフィンはオレフィンのα位に二重結合を有するため、共役ジエンとの共重合を効率よく行うことができる。これら非共役オレフィンは、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体における前記非共役オレフィン由来部分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、20mol~70molが好ましい。前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体における前記非共役オレフィン由来部分の含有量が、20mol以上であると、耐候性を向上させることができ、70mol以下であると、ジエン系重合体との相溶性を維持して、耐候性及び耐亀裂成長性を向上することができる。前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体において、前記共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは、高分子構造材料への適用の観点から、10,000~10,000,000が好ましく、10,000~1,000,000がより好ましく、50,000~600,000が特に好ましい。ポリスチレン換算重量平均分子量が10,000未満だと、ゴム組成物が破壊され易くなる傾向があり、一方、ポリスチレン換算重量平均分子量が10,000,000を超えると、成形加工性が悪化するおそれがあるためである。また、前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体において、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比で表される分子量分布Mw/Mnは、10以下であることが好ましく、5以下であることがより好ましく、分子量分布Mw/Mnが10を超えると、物性が均質でなくなるためである。ここで、平均分子量及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCによりポリスチレンを標準物質として求めることができる。前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の連鎖構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ブロック共重合体、ランダム共重合体、テーパー共重合体、交互共重合体などが挙げられる。--ブロック共重合体--前記ブロック共重合体の構造は、A-Bx、A-B-Ax及びB-A-Bxここで、Aは、非共役オレフィンの単量体単位からなるブロック部分であり、Bは、共役ジエン化合物の単量体単位からなるブロック部分であり、xは1以上の整数であるのいずれかである。なお、A-B又はB-Aの構造を複数備えるブロック共重合体をマルチブロック共重合体と称する。共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体がブロック共重合体である場合は、非共役オレフィンの単量体からなるブロック部分が静的結晶性を示すため、破断強度等の機械的性質に優れる。--ランダム共重合体--共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体がランダム共重合体である場合は、非共役オレフィンの単量体単位の配列が不規則であるため、共重合体が相分離を起こすことなく、ブロック部分に由来する結晶化温度が観測されない。すなわち、耐熱性などの性質を有する非共役オレフィンを共重合体の主鎖中に導入することが可能になるため、耐熱性が向上する。--テーパー共重合体--前記テーパー共重合体とは、ランダム共重合体とブロック共重合体とが混在してなる共重合体であり、共役ジエン化合物の単量体単位からなるブロック部分及び非共役オレフィンの単量体単位からなるブロック部分のうち少なくとも一方のブロック部分ブロック構造ともいうと、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンの単量体単位が不規則に配列してなるランダム部分ランダム構造というとから構成される共重合体である。前記テーパー共重合体の構造は、共役ジエン化合物成分と非共役オレフィン成分との組成が連続的又は不連続的に分布があることを示す。ここで、非共役オレフィン成分の連鎖構造としては、長鎖高分子量の非共役オレフィンブロック成分を多く含まず、短鎖低分子量の非共役オレフィンブロック成分を多く含むことが好ましい。--交互共重合体--前記交互共重合体は、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとが交互に配列する構造非共役オレフィンをAと、共役ジエン化合物をBとした場合の、-ABABABAB-の分子鎖構造を有する重合体である。本発明においては、共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体がブロック共重合体である場合は、非共役オレフィンの単量体からなるブロック部分が静的結晶性を示すため、破断強度等の機械的性質に優れるので、交互共重合体である場合は、柔軟性と接着性の両立が可能となる。共重合体は、ブロック共重合体及びテーパー共重合体から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。前記ゴム成分中に含まれる前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体としては、30質量~60質量の範囲である必要があり、好ましくは35質量~55質量である。--共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の製造方法--次に、前記共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体を製造することができる製造方法を詳細に説明する。但し、以下に詳述する製造方法は、あくまで例示に過ぎない。本発明に係る共重合体は、重合触媒または重合触媒組成物の存在下、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとを重合させることができる。共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の製造方法においては、後述する重合触媒、または第一、第二、第三重合触媒組成物を用いること以外は、通常の配位イオン重合触媒による重合体の製造方法と同様にして、単量体である共役ジエン化合物と非共役オレフィンを共重合させることができる。本発明において、使用される重合触媒または重合触媒組成物については、後に詳述する。重合方法としては、溶液重合法、懸濁重合法、液相塊状重合法、乳化重合法、気相重合法、固相重合法等の任意の方法を用いることができる。また、重合反応に溶媒を用いる場合、用いられる溶媒は重合反応において不活性であればよく、例えば、トルエン、シクロヘキサン、ノルマルヘキサン、またそれらの混合物等が挙げられる。共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の製造方法は、例えば、1単量体として共役ジエン化合物及び該共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンを含む重合反応系中に、重合触媒組成物の構成成分を別個に提供し、該反応系中において重合触媒組成物としてもよいし、2予め調製された重合触媒組成物を重合反応系中に提供してもよい。また、2においては、助触媒によって活性化されたメタロセン錯体活性種を提供することも含まれる。なお、重合触媒組成物に含まれるメタロセン錯体の使用量は、共役ジエン化合物及び該共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンの合計に対して、0.0001~0.01倍モルの範囲が好ましい。また、本発明に係る共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の製造方法においては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の重合停止剤を用いて、重合を停止させてもよい。本発明に係る製造方法において、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンの重合反応は、不活性ガス、好ましくは窒素ガスやアルゴンガスの雰囲気下において行われることが好ましい。上記重合反応の重合温度は、特に制限されないが、例えば-100°C~200°Cの範囲が好ましく、室温程度とすることもできる。なお、重合温度を上げると、重合反応のシス-1,4選択性が低下することがある。また、上記重合反応の圧力は、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンを十分に重合反応系中に取り込むため、0.1~10.0MPaの範囲が好ましい。また、上記重合反応の反応時間も特に制限されず、例えば1秒~10日の範囲が好ましいが、重合される単量体の種類、触媒の種類、重合温度等の条件によって適宜選択することができる。前記共重合体の製造方法において、上記共役ジエン化合物と該共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンとの重合の際、該非共役オレフィンの圧力は、0.1MPa~10MPaであることが好ましい。該非共役オレフィンの圧力が0.1MPa以上であれば、反応混合物中に非共役オレフィンを効率的に導入することができる。また、非共役オレフィンの圧力を高くし過ぎても、非共役オレフィンを効率的に導入する効果が頭打ちとなるため、非共役オレフィンの圧力を10MPa以下とするのが好ましい。前記共重合体の製造方法において、上記共役ジエン化合物と該共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンとの重合の際、重合開始時における該共役ジエン化合物の濃度mol/lと該非共役オレフィンの濃度mol/lとは、下記式の関係を満たすことが好ましい。非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度の値を1以上とすることで、反応混合物中に非共役オレフィンを効率的に導入することができる。非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度≧1.0さらに好ましくは下記式の関係を満たすことが好ましい。非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度≧1.3さらに好ましくは下記式の関係を満たすことが好ましい。非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度≧1.7本発明に係る製造方法によれば、上記重合触媒または重合触媒組成物を用いること以外は、通常の配位イオン重合触媒による重合体の製造方法と同様にして、単量体である共役ジエン化合物と非共役オレフィンを共重合させることができる。-第一の重合触媒組成物-次に、本発明に係る共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の製造方法において用いられる第一重合触媒組成物について説明する。上記重合触媒組成物としては、下記一般式I:式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ra~Rfは、それぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基又は水素原子を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示すで表されるメタロセン錯体、及び下記一般式II:式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示すで表されるメタロセン錯体、並びに下記一般式III:式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpR’は、無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示し、[B]は、非配位性アニオンを示すで表されるハーフメタロセンカチオン錯体からる群より選択される少なくとも1種類の錯体を含む重合触媒組成物以下、第一重合触媒組成物ともいうが挙げられる。第一重合触媒組成物は、更に、通常のメタロセン錯体を含む重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含んでいてもよい。ここで、メタロセン錯体は、一つ又は二つ以上のシクロペンタジエニル又はその誘導体が中心金属に結合した錯体化合物であり、特に、中心金属に結合したシクロペンタジエニル又はその誘導体が一つであるメタロセン錯体を、ハーフメタロセン錯体と称することがある。なお、重合反応系において、第一重合触媒組成物に含まれる錯体の濃度は0.1~0.0001mol/Lの範囲であることが好ましい。上記一般式I及び式IIで表されるメタロセン錯体において、式中のCpRは、無置換インデニル又は置換インデニルである。インデニル環を基本骨格とするCpRは、C9H7XRX又はC9H11XRXで示され得る。ここで、Xは0~7又は0~11の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。置換インデニルとして、具体的には、2-フェニルインデニル、2-メチルインデニル等が挙げられる。なお、一般式I及び式IIにおける二つのCpRは、それぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体において、式中のCpR’は、無置換もしくは置換のシクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルであり、これらの中でも、無置換もしくは置換のインデニルであることが好ましい。シクロペンタジエニル環を基本骨格とするCpR’は、C5H5XRXで示される。ここで、Xは0~5の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。シクロペンタジエニル環を基本骨格とするCpR’として、具体的には、以下のものが例示される。式中、Rは水素原子、メチル基又はエチル基を示す。一般式IIIにおいて、上記インデニル環を基本骨格とするCpR’は、一般式IのCpRと同様に定義され、好ましい例も同様である。一般式IIIにおいて、上記フルオレニル環を基本骨格とするCpR’は、C13H9XRX又はC13H17XRXで示され得る。ここで、Xは0~9又は0~17の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。一般式I、式II及び式IIIにおける中心金属Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号57~71の15元素が含まれ、これらのいずれでもよい。中心金属Mとしては、サマリウムSm、ネオジムNd、プラセオジムPr、ガドリニウムGd、セリウムCe、ホルミウムHo、スカンジウムSc及びイットリウムYが好適に挙げられる。一般式Iで表されるメタロセン錯体は、シリルアミド配位子[-NSiR32]を含む。シリルアミド配位子に含まれるR基一般式IにおけるRa~Rfは、それぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基又は水素原子である。また、Ra~Rfのうち少なくとも一つが水素原子であることが好ましい。Ra~Rfのうち少なくとも一つを水素原子にすることで、触媒の合成が容易になり、また、ケイ素まわりのかさ高さが低くなるため、非共役オレフィンが導入され易くなる。同様の観点から、Ra~Rcのうち少なくとも一つが水素原子であり、Rd~Rfのうち少なくとも一つが水素原子であることが更に好ましい。更に、アルキル基としては、メチル基が好ましい。一般式IIで表されるメタロセン錯体は、シリル配位子[-SiX3]を含む。シリル配位子[-SiX3]に含まれるXは、下記で説明される一般式IIIのXと同様に定義される基であり、好ましい基も同様である。一般式IIIにおいて、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基及び炭素数1~20の炭化水素基からなる群より選択される基である。ここで、上記アルコキシド基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等の脂肪族アルコキシ基;フェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルフェノキシ基、2,6-ジネオペンチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-ネオペンチルフェノキシ基、2-イソプロピル-6-ネオペンチルフェノキシ基等のアリールオキシド基が挙げられ、これらの中でも、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基が好ましい。一般式IIIにおいて、Xが表すチオラート基としては、チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオプロポキシ基、チオn-ブトキシ基、チオイソブトキシ基、チオsec-ブトキシ基、チオtert-ブトキシ基等の脂肪族チオラート基;チオフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルチオフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルチオフェノキシ基、2,6-ジネオペンチルチオフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルチオフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-チオネオペンチルフェノキシ基、2-イソプロピル-6-チオネオペンチルフェノキシ基、2,4,6-トリイソプロピルチオフェノキシ基等のアリールチオラート基が挙げられ、これらの中でも、2,4,6-トリイソプロピルチオフェノキシ基が好ましい。一般式IIIにおいて、Xが表すアミド基としては、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基等の脂肪族アミド基;フェニルアミド基、2,6-ジ-tert-ブチルフェニルアミド基、2,6-ジイソプロピルフェニルアミド基、2,6-ジネオペンチルフェニルアミド基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルフェニルアミド基、2-tert-ブチル-6-ネオペンチルフェニルアミド基、2-イソプロピル-6-ネオペンチルフェニルアミド基、2,4,6-トリ-tert-ブチルフェニルアミド基等のアリールアミド基;ビストリメチルシリルアミド基等のビストリアルキルシリルアミド基が挙げられ、これらの中でも、ビストリメチルシリルアミド基が好ましい。一般式IIIにおいて、Xが表すシリル基としては、トリメチルシリル基、トリストリメチルシリルシリル基、ビストリメチルシリルメチルシリル基、トリメチルシリルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリルビストリメチルシリルシリル基等が挙げられ、これらの中でも、トリストリメチルシリルシリル基が好ましい。一般式IIIにおいて、Xが表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子のいずれでもよいが、塩素原子又は臭素原子が好ましい。また、Xが表す炭素数1~20の炭化水素基として、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等の直鎖又は分枝鎖の脂肪族炭化水素基;フェニル基、トリル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基;ベンジル基等のアラルキル基等の他;トリメチルシリルメチル基、ビストリメチルシリルメチル基等のケイ素原子を含有する炭化水素基等が挙げられ、これらの中でも、メチル基、エチル基、イソブチル基、トリメチルシリルメチル基等が好ましい。一般式IIIにおいて、Xとしては、ビストリメチルシリルアミド基又は炭素数1~20の炭化水素基が好ましい。一般式IIIにおいて、[B]で示される非配位性アニオンとしては、例えば、4価のホウ素アニオンが挙げられる。該4価のホウ素アニオンとして、具体的には、テトラフェニルボレート、テトラキスモノフルオロフェニルボレート、テトラキスジフルオロフェニルボレート、テトラキストリフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロフェニルボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロメチルフェニルボレート、テトラトリルボレート、テトラキシリルボレート、トリフェニル、ペンタフルオロフェニルボレート、[トリスペンタフルオロフェニル、フェニル]ボレート、トリデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート等が挙げられ、これらの中でも、テトラキスペンタフルオロフェニルボレートが好ましい。上記一般式I及び式IIで表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、更に0~3個、好ましくは0~1個の中性ルイス塩基Lを含む。ここで、中性ルイス塩基Lとしては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記錯体が複数の中性ルイス塩基Lを含む場合、中性ルイス塩基Lは、同一であっても異なっていてもよい。また、上記一般式I及び式IIで表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、単量体として存在していてもよく、二量体又はそれ以上の多量体として存在していてもよい。上記一般式Iで表されるメタロセン錯体は、例えば、溶媒中でランタノイドトリスハライド、スカンジウムトリスハライド又はイットリウムトリスハライドを、インデニルの塩例えばカリウム塩やリチウム塩及びビストリアルキルシリルアミドの塩例えば、カリウム塩やリチウム塩と反応させることで得ることができる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間~数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンを用いればよい。以下に、一般式Iで表されるメタロセン錯体を得るための反応例を示す。式中、Xはハライドを示す。上記一般式IIで表されるメタロセン錯体は、例えば、溶媒中でランタノイドトリスハライド、スカンジウムトリスハライド又はイットリウムトリスハライドを、インデニルの塩例えばカリウム塩やリチウム塩及びシリルの塩例えばカリウム塩やリチウム塩と反応させることで得ることができる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間~数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンを用いればよい。以下に、一般式IIで表されるメタロセン錯体を得るための反応例を示す。式中、Xはハライドを示す。上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、例えば、次の反応により得ることができる。ここで、一般式IVで表される化合物において、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpR’は、それぞれ独立して無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示す。また、一般式[A][B]で表されるイオン性化合物において、[A]は、カチオンを示し、[B]は、非配位性アニオンを示す。[A]で表されるカチオンとしては、例えば、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アミンカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等が挙げられる。カルボニウムカチオンとしては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ置換フェニルカルボニウムカチオン等の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリ置換フェニルカルボニルカチオンとして、具体的には、トリメチルフェニルカルボニウムカチオン等が挙げられる。アミンカチオンとしては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウムカチオン;N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムカチオン等のN,N-ジアルキルアニリニウムカチオン;ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンとしては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリメチルフェニルホスホニウムカチオン、トリジメチルフェニルホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらカチオンの中でも、N,N-ジアルキルアニリニウムカチオン又はカルボニウムカチオンが好ましく、N,N-ジアルキルアニリニウムカチオンが特に好ましい。上記反応に用いる一般式[A][B]で表されるイオン性化合物としては、上記の非配位性アニオン及びカチオンからそれぞれ選択し組み合わせた化合物であって、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が好ましい。また、一般式[A][B]で表されるイオン性化合物は、メタロセン錯体に対して0.1~10倍モル加えることが好ましく、約1倍モル加えることが更に好ましい。なお、一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体を重合反応に用いる場合、一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体をそのまま重合反応系中に提供してもよいし、上記反応に用いる一般式IVで表される化合物と一般式[A][B]で表されるイオン性化合物を別個に重合反応系中に提供し、反応系中で一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体を形成させてもよい。また、一般式I又は式IIで表されるメタロセン錯体と一般式[A][B]で表されるイオン性化合物とを組み合わせて使用することにより、反応系中で一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体を形成させることもできる。一般式I及び式IIで表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体の構造は、X線構造解析により決定することが好ましい。上記第一重合触媒組成物に用いることができる助触媒は、通常のメタロセン錯体を含む重合触媒組成物の助触媒として用いられる成分から任意に選択され得る。該助触媒としては、例えば、アルミノキサン、有機アルミニウム化合物、上記のイオン性化合物等が好適に挙げられる。これら助触媒は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。上記アルミノキサンとしては、アルキルアミノキサンが好ましく、例えば、メチルアルミノキサンMAO、修飾メチルアルミノキサン等が挙げられる。また、修飾メチルアルミノキサンとしては、MMAO-3A東ソーファインケム社製等が好ましい。なお、上記第一重合触媒組成物におけるアルミノキサンの含有量は、メタロセン錯体の中心金属Mと、アルミノキサンのアルミニウム元素Alとの元素比率Al/Mが、10~1000程度、好ましくは100程度となるようにすることが好ましい。一方、上記有機アルミニウム化合物としては、一般式AlRRR式中、R及びRはそれぞれ独立してC1~C10の炭化水素基又は水素原子であり、RはC1~C10の炭化水素基であるで表される有機アルミニウム化合物が好ましい。上記有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリアルキルアルミニウムが好ましい。また、トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等が挙げられる。なお、上記重合触媒組成物における有機アルミニウム化合物の含有量は、メタロセン錯体に対して1~50倍モルであることが好ましく、約10倍モルであることが更に好ましい。更に、上記重合触媒組成物においては、一般式I及び式IIで表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体をそれぞれ、適切な助触媒と組み合わせることで、シス-1,4結合量や得られる共重合体の分子量を増大できる。-第二の重合触媒組成物-次に、本発明に係る共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の製造方法において用いられる第二重合触媒組成物について説明する。また、上記重合触媒組成物としては、A成分:希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物であって、希土類元素と炭素との結合を有さない該希土類元素化合物又は反応物と、B成分:非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物B-1、アルミノキサンB-2、並びにルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物及び活性ハロゲンを含む有機化合物のうち少なくとも一種のハロゲン化合物B-3よりなる群から選択される少なくとも一種とを含む重合触媒組成物以下、第二重合触媒組成物ともいうを好適に挙げることができる。第二重合触媒組成物が、イオン性化合物B-1及びハロゲン化合物B-3の少なくとも一種を含む場合、該重合触媒組成物は、更に、C成分:下記一般式X:YR1aR2bR3cX[式中、Yは、周期律表第1族、第2族、第12族及び第13族から選択される金属であり、R1及びR2は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R3は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R3は上記R1又はR2と同一又は異なっていてもよく、また、Yが周期律表第1族から選択される金属である場合には、aは1で且つb及びcは0であり、Yが周期律表第2族及び第12族から選択される金属である場合には、a及びbは1で且つcは0であり、Yが周期律表第13族から選択される金属である場合には、a,b及びcは1である]で表される有機金属化合物を含む。前記共重合体の製造方法に用いる第二重合触媒組成物は、上記A成分及びB成分を含むことを要し、ここで、該重合触媒組成物が、上記イオン性化合物B-1及び上記ハロゲン化合物B-3の少なくとも一種を含む場合には、更に、C成分:下記一般式X:YR1aR2bR3cX[式中、Yは、周期律表第1族、第2族、第12族及び第13族から選択される金属であり、R1及びR2は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R3は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R3は上記R1又はR2と同一又は異なっていてもよく、また、Yが周期律表第1族から選択される金属である場合には、aは1で且つb及びcは0であり、Yが周期律表第2族及び第12族から選択される金属である場合には、a及びbは1で且つcは0であり、Yが周期律表第13族から選択される金属である場合には、a,b及びcは1である]で表される有機金属化合物を含むことを要する。上記イオン性化合物B-1及び上記ハロゲン化合物B-3は、A成分へ供給するための炭素原子が存在しないため、該A成分への炭素供給源として、上記C成分が必要となる。なお、上記重合触媒組成物が上記アルミノキサンB-2を含む場合であっても、該重合触媒組成物は、上記C成分を含むことができる。また、上記第二重合触媒組成物は、通常の希土類元素化合物系の重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含んでいてもよい。なお、重合反応系において、第二重合触媒組成物に含まれるA成分の濃度は0.1~0.0001mol/lの範囲であることが好ましい。上記第二重合触媒組成物に用いるA成分は、希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物であり、ここで、希土類元素化合物及び該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物は、希土類元素と炭素との結合を有さない。該希土類元素化合物及び反応物が希土類元素-炭素結合を有さない場合、化合物が安定であり、取り扱いやすい。ここで、希土類元素化合物とは、周期律表中の原子番号57~71の元素から構成されるランタノイド元素又はスカンジウムもしくはイットリウムを含有する化合物である。なお、ランタノイド元素の具体例としては、ランタニウム、セリウム、プラセオジム、ネオジウム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミニウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウムを挙げることができる。なお、上記A成分は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記希土類元素化合物は、希土類金属が2価もしくは3価の塩又は錯体化合物であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子及び有機化合物残基から選択される1種又は2種以上の配位子を含有する希土類元素化合物であることが更に好ましい。更に、上記希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物は、下記一般式XI又はXII:M11X112L11wXIM11X113L11wXII[式中、M11は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、X11は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基、アルデヒド残基、ケトン残基、カルボン酸残基、チオカルボン酸残基又はリン化合物残基を示し、L11は、ルイス塩基を示し、wは、0~3を示す]で表されることができる。上記希土類元素化合物の希土類元素に結合する基配位子として、具体的には、水素原子;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等の脂肪族アルコキシ基;フェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルフェノキシ基、2,6-ジネオペンチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-ネオペンチルフェノキシ基、2-イソプロピル-6-ネオペンチルフェノキシ基;チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオプロポキシ基、チオn-ブトキシ基、チオイソブトキシ基、チオsec-ブトキシ基、チオtert-ブトキシ基等の脂肪族チオラート基;チオフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルチオフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルチオフェノキシ基、2,6-ジネオペンチルチオフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルチオフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-チオネオペンチルフェノキシ基、2-イソプロピル-6-チオネオペンチルフェノキシ基、2,4,6-トリイソプロピルチオフェノキシ基等のアリールチオラート基;ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基等の脂肪族アミド基;フェニルアミド基、2,6-ジ-tert-ブチルフェニルアミド基、2,6-ジイソプロピルフェニルアミド基、2,6-ジネオペンチルフェニルアミド基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルフェニルアミド基、2-tert-ブチル-6-ネオペンチルフェニルアミド基、2-イソプロピル-6-ネオペンチルフェニルアミド基、2,4,6-tert-ブチルフェニルアミド基等のアリールアミド基;ビストリメチルシリルアミド基等のビストリアルキルシリルアミド基;トリメチルシリル基、トリストリメチルシリルシリル基、ビストリメチルシリルメチルシリル基、トリメチルシリルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリルビストリメチルシリルシリル基等のシリル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。更には、サリチルアルデヒド、2-ヒドロキシ-1-ナフトアルデヒド、2-ヒドロキシ-3-ナフトアルデヒド等のアルデヒドの残基;2-ヒドロキシアセトフェノン、2-ヒドロキシブチロフェノン、2-ヒドロキシプロピオフェノン等のヒドロキシフェノンの残基;アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、プロピオニルアセトン、イソブチルアセトン、バレリルアセトン、エチルアセチルアセトン等のジケトンの残基;イソ吉草酸、カプリル酸、オクタン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、シクロペンタンカルボン酸、ナフテン酸、エチルヘキサン酸、ビバール酸、バーサチック酸[シェル化学株製の商品名、C10モノカルボン酸の異性体の混合物から構成される合成酸]、フェニル酢酸、安息香酸、2-ナフトエ酸、マレイン酸、コハク酸等のカルボン酸の残基;ヘキサンチオ酸、2,2-ジメチルブタンチオ酸、デカンチオ酸、チオ安息香酸等のチオカルボン酸の残基、リン酸ジブチル、リン酸ジペンチル、リン酸ジヘキシル、リン酸ジヘプチル、リン酸ジオクチル、リン酸ビス2-エチルヘキシル、リン酸ビス1-メチルヘプチル、リン酸ジラウリル、リン酸ジオレイル、リン酸ジフェニル、リン酸ビスp-ノニルフェニル、リン酸ビスポリエチレングリコール-p-ノニルフェニル、リン酸ブチル2-エチルヘキシル、リン酸1-メチルヘプチル2-エチルヘキシル、リン酸2-エチルヘキシルp-ノニルフェニル等のリン酸エステルの残基;2-エチルヘキシルホスホン酸モノブチル、2-エチルヘキシルホスホン酸モノ-2-エチルヘキシル、フェニルホスホン酸モノ-2-エチルヘキシル、2-エチルヘキシルホスホン酸モノ-p-ノニルフェニル、ホスホン酸モノ-2-エチルヘキシル、ホスホン酸モノ-1-メチルヘプチル、ホスホン酸モノ-p-ノニルフェニル等のホスホン酸エステルの残基、ジブチルホスフィン酸、ビス2-エチルヘキシルホスフィン酸、ビス1-メチルヘプチルホスフィン酸、ジラウリルホスフィン酸、ジオレイルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、ビスp-ノニルフェニルホスフィン酸、ブチル2-エチルヘキシルホスフィン酸、2-エチルヘキシル1-メチルヘプチルホスフィン酸、2-エチルヘキシルp-ノニルフェニルホスフィン酸、ブチルホスフィン酸、2-エチルヘキシルホスフィン酸、1-メチルヘプチルホスフィン酸、オレイルホスフィン酸、ラウリルホスフィン酸、フェニルホスフィン酸、p-ノニルフェニルホスフィン酸等のホスフィン酸の残基を挙げることもできる。なお、これらの配位子は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。上記第二重合触媒組成物に用いるA成分において、上記希土類元素化合物と反応するルイス塩基としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記希土類元素化合物が複数のルイス塩基と反応する場合式XI及びXIIにおいては、wが2又は3である場合、ルイス塩基L11は、同一であっても異なっていてもよい。上記第二重合触媒組成物に用いるB成分は、イオン性化合物B-1、アルミノキサンB-2及びハロゲン化合物B-3よりなる群から選択される少なくとも一種の化合物である。なお、上記第二重合触媒組成物におけるB成分の合計の含有量は、A成分に対して0.1~50倍モルであることが好ましい。上記B-1で表されるイオン性化合物は、非配位性アニオンとカチオンとからなり、上記A成分である希土類元素化合物又はそのルイス塩基との反応物と反応してカチオン性遷移金属化合物を生成できるイオン性化合物等を挙げることができる。ここで、非配位性アニオンとしては、例えば、テトラフェニルボレート、テトラキスモノフルオロフェニルボレート、テトラキスジフルオロフェニルボレート、テトラキストリフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロフェニルボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロメチルフェニルボレート、テトラトリルボレート、テトラキシリルボレート、トリフェニル、ペンタフルオロフェニルボレート、[トリスペンタフルオロフェニル、フェニル]ボレート、トリデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート等が挙げられる。一方、カチオンとしては、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等を挙げることができる。カルボニウムカチオンの具体例としては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ置換フェニルカルボニウムカチオン等の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリ置換フェニルカルボニルカチオンとして、より具体的には、トリメチルフェニルカルボニウムカチオン、トリジメチルフェニルカルボニウムカチオン等が挙げられる。アンモニウムカチオンの具体例としては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン例えば、トリn-ブチルアンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウムカチオン;N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムカチオン等のN,N-ジアルキルアニリニウムカチオン;ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンの具体例としては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリメチルフェニルホスホニウムカチオン、トリジメチルフェニルホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。従って、イオン性化合物としては、上述の非配位性アニオン及びカチオンからそれぞれ選択し組み合わせた化合物が好ましく、具体的には、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が好ましい。また、これらのイオン性化合物は、1種単独で使用することも、2種以上を混合して用いることもできる。なお、上記第二重合触媒組成物におけるイオン性化合物の含有量は、A成分に対して0.1~10倍モルであることが好ましく、約1倍モルであることが更に好ましい。上記B-2で表されるアルミノキサンは、有機アルミニウム化合物と縮合剤とを接触させることによって得られる化合物であり、例えば、一般式:-AlRO-で示される繰り返し単位を有する鎖状アルミノキサン又は環状アルミノキサン式中、Rは炭素数1~10の炭化水素基であり、一部の炭化水素基はハロゲン原子及び/又はアルコキシ基で置換されてもよく、繰り返し単位の重合度は、5以上が好ましく、10以上が更に好ましいを挙げることができる。ここで、Rとして、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基等が挙げられ、これらの中でも、メチル基が好ましい。また、アルミノキサンの原料として用いられる有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム及びその混合物等が挙げられ、トリメチルアルミニウムが特に好ましい。例えば、トリメチルアルミニウムとトリブチルアルミニウムとの混合物を原料として用いたアルミノキサンを好適に用いることができる。なお、上記第二重合触媒組成物におけるアルミノキサンの含有量は、A成分を構成する希土類元素Mと、アルミノキサンのアルミニウム元素Alとの元素比率Al/Mが、10~1000程度となるようにすることが好ましい。上記B-3で表されるハロゲン化合物は、ルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物及び活性ハロゲンを含む有機化合物のうち少なくとも一種からなり、例えば、上記A成分である希土類元素化合物又はそのルイス塩基との反応物と反応して、カチオン性遷移金属化合物やハロゲン化遷移金属化合物や遷移金属中心が電荷不足の化合物を生成することができる。なお、上記第二重合触媒組成物におけるハロゲン化合物の合計の含有量は、A成分に対して1~5倍モルであることが好ましい。上記ルイス酸としては、BC6F53等のホウ素含有ハロゲン化合物、AlC6F53等のアルミニウム含有ハロゲン化合物を使用できる他、周期律表中の第III,IV,V,VI又はVIII族に属する元素を含有するハロゲン化合物を用いることもできる。好ましくはアルミニウムハロゲン化物又は有機金属ハロゲン化物が挙げられる。また、ハロゲン元素としては、塩素又は臭素が好ましい。上記ルイス酸として、具体的には、メチルアルミニウムジブロマイド、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジブロマイド、エチルアルミニウムジクロライド、ブチルアルミニウムジブロマイド、ブチルアルミニウムジクロライド、ジメチルアルミニウムブロマイド、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジブチルアルミニウムブロマイド、ジブチルアルミニウムクロライド、メチルアルミニウムセスキブロマイド、メチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムセスキブロマイド、エチルアルミニウムセスキクロライド、ジブチル錫ジクロライド、アルミニウムトリブロマイド、三塩化アンチモン、五塩化アンチモン、三塩化リン、五塩化リン、四塩化錫、四塩化チタン、六塩化タングステン等が挙げられ、これらの中でも、ジエチルアルミニウムクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、エチルアルミニウムセスキブロマイド、エチルアルミニウムジブロマイドが特に好ましい。上記金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物を構成する金属ハロゲン化物としては、塩化ベリリウム、臭化ベリリウム、ヨウ化ベリリウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、ヨウ化カルシウム、塩化バリウム、臭化バリウム、ヨウ化バリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化カドミウム、臭化カドミウム、ヨウ化カドミウム、塩化水銀、臭化水銀、ヨウ化水銀、塩化マンガン、臭化マンガン、ヨウ化マンガン、塩化レニウム、臭化レニウム、ヨウ化レニウム、塩化銅、ヨウ化銅、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩化金、ヨウ化金、臭化金等が挙げられ、これらの中でも、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化マンガン、塩化亜鉛、塩化銅が好ましく、塩化マグネシウム、塩化マンガン、塩化亜鉛、塩化銅が特に好ましい。また、上記金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物を構成するルイス塩基としては、リン化合物、カルボニル化合物、窒素化合物、エーテル化合物、アルコール等が好ましい。具体的には、リン酸トリブチル、リン酸トリ-2-エチルヘキシル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジエチルホスフィノエタン、ジフェニルホスフィノエタン、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、プロピオニトリルアセトン、バレリルアセトン、エチルアセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸フェニル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジフェニル、酢酸、オクタン酸、2-エチル-ヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、安息香酸、ナフテン酸、バーサチック酸、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、2-エチル-ヘキシルアルコール、オレイルアルコール、ステアリルアルコール、フェノール、ベンジルアルコール、1-デカノール、ラウリルアルコール等が挙げられ、これらの中でも、リン酸トリ-2-エチルヘキシル、リン酸トリクレジル、アセチルアセトン、2-エチルヘキサン酸、バーサチック酸、2-エチルヘキシルアルコール、1-デカノール、ラウリルアルコールが好ましい。上記ルイス塩基は、上記金属ハロゲン化物1モル当り、0.01~30モル、好ましくは0.5~10モルの割合で反応させる。このルイス塩基との反応物を使用すると、ポリマー中に残存する金属を低減することができる。上記活性ハロゲンを含む有機化合物としては、ベンジルクロライド等が挙げられる。上記第二重合触媒組成物に用いるC成分は、下記一般式X:YR1aR2bR3cX[式中、Yは、周期律表第1族、第2族、第12族及び第13族から選択される金属であり、R1及びR2は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R3は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R3は上記R1又はR2と同一又は異なっていてもよく、また、Yが周期律表第1族から選択される金属である場合には、aは1で且つb及びcは0であり、Yが周期律表第2族及び第12族から選択される金属である場合には、a及びbは1で且つcは0であり、Yが周期律表第13族から選択される金属である場合には、a,b及びcは1である]で表される有機金属化合物であり、下記一般式Xa:AlR1R2R3Xa[式中、R1及びR2は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R3は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R3は上記R1又はR2と同一又は異なっていてもよい]で表される有機アルミニウム化合物であることが好ましい。式Xの有機アルミニウム化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ-n-プロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリ-n-ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ-t-ブチルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリシクロヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム;水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジ-n-プロピルアルミニウム、水素化ジ-n-ブチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ジヘキシルアルミニウム、水素化ジイソヘキシルアルミニウム、水素化ジオクチルアルミニウム、水素化ジイソオクチルアルミニウム;エチルアルミニウムジハイドライド、n-プロピルアルミニウムジハイドライド、イソブチルアルミニウムジハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好ましい。以上に述べたC成分としての有機アルミニウム化合物は、1種単独で使用することも、2種以上を混合して用いることもできる。なお、上記第二重合触媒組成物における有機アルミニウム化合物の含有量は、A成分に対して1~50倍モルであることが好ましく、約10倍モルであることが更に好ましい。-重合触媒-次に、本発明に係る共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体の製造方法において用いられる重合触媒について説明する。重合触媒としては、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの重合用であり、下記式A:RaMXbQYbA[式中、Rはそれぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、該RはMに配位しており、Mはランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、Xはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該XはM及びQにμ配位しており、Qは周期律表第13族元素を示し、Yはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子を示し、該YはQに配位しており、a及びbは2である]で表されるメタロセン系複合触媒が挙げられる。上記メタロセン系複合触媒の好適例においては、下記式XV:[式中、M1は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、RA及びRBは、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該RA及びRBは、M1及びAlにμ配位しており、RC及びRDは、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子を示す]で表されるメタロセン系複合触媒が挙げられる。上記メタロセン系重合触媒を用いることで、共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体を製造することができる。また、上記メタロセン系複合触媒、例えば予めアルミニウム触媒と複合させてなる触媒を用いることで、共重合体合成時に使用されるアルキルアルミニウムの量を低減したり、無くしたりすることが可能となる。なお、従来の触媒系を用いると、共重合体合成時に大量のアルキルアルミニウムを用いる必要がある。例えば、従来の触媒系では、金属触媒に対して10当量以上のアルキルアルミニウムを用いる必要があるところ、上記メタロセン系複合触媒であれば、5当量程度のアルキルアルミニウムを加えることで、優れた触媒作用が発揮される。上記メタロセン系複合触媒において、上記式A中の金属Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号57~71の15元素が含まれ、これらのいずれでもよい。金属Mとしては、サマリウムSm、ネオジムNd、プラセオジムPr、ガドリニウムGd、セリウムCe、ホルミウムHo、スカンジウムSc及びイットリウムYが好適に挙げられる。上記式Aにおいて、Rは、それぞれ独立して無置換インデニル又は置換インデニルであり、該Rは上記金属Mに配位している。なお、置換インデニル基の具体例としては、例えば、1,2,3-トリメチルインデニル基、ヘプタメチルインデニル基、1,2,4,5,6,7-ヘキサメチルインデニル基等が挙げられる。上記式Aにおいて、Qは、周期律表第13族元素を示し、具体的には、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等が挙げられる。上記式Aにおいて、Xはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該XはM及びQにμ配位している。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。なお、μ配位とは、架橋構造をとる配位様式のことである。上記式Aにおいて、Yはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子を示し、該YはQに配位している。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。上記式XVにおいて、金属M1は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号57~71の15元素が含まれ、これらのいずれでもよい。金属M1としては、サマリウムSm、ネオジムNd、プラセオジムPr、ガドリニウムGd、セリウムCe、ホルミウムHo、スカンジウムSc及びイットリウムYが好適に挙げられる。上記式XVにおいて、CpRは、無置換インデニル又は置換インデニルである。インデニル環を基本骨格とするCpRは、C9H7XRX又はC9H11XRXで示され得る。ここで、Xは0~7又は0~11の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。置換インデニルとして、具体的には、2-フェニルインデニル、2-メチルインデニル等が挙げられる。なお、式XVにおける二つのCpRは、それぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。上記式XVにおいて、RA及びRBは、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該RA及びRBは、M1及Alにμ配位している。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。なお、μ配位とは、架橋構造をとる配位様式のことである。上記式XVにおいて、RC及びRDは、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子である。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。なお、上記メタロセン系複合触媒は、例えば、溶媒中で、下記式XVI:式中、M2は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、RE~RJは、それぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基又は水素原子を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示すで表されるメタロセン錯体を、AlRKRLRMで表される有機アルミニウム化合物と反応させることで得られる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間~数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンやヘキサンを用いればよい。なお、上記メタロセン系複合触媒の構造は、1H-NMRやX線構造解析により決定することが好ましい。上記式XVIで表されるメタロセン錯体において、CpRは、無置換インデニル又は置換インデニルであり、上記式XV中のCpRと同義である。また、上記式XVIにおいて、金属M2は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムであり、上記式XV中の金属M1と同義である。上記式XVIで表されるメタロセン錯体は、シリルアミド配位子[-NSiR32]を含む。シリルアミド配位子に含まれるR基RE~RJ基は、それぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基又は水素原子である。また、RE~RJのうち少なくとも一つが水素原子であることが好ましい。RE~RJのうち少なくとも一つを水素原子にすることで、触媒の合成が容易になる。更に、アルキル基としては、メチル基が好ましい。上記式XVIで表されるメタロセン錯体は、更に0~3個、好ましくは0~1個の中性ルイス塩基Lを含む。ここで、中性ルイス塩基Lとしては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記錯体が複数の中性ルイス塩基Lを含む場合、中性ルイス塩基Lは、同一であっても異なっていてもよい。また、上記式XVIで表されるメタロセン錯体は、単量体として存在していてもよく、二量体又はそれ以上の多量体として存在していてもよい。一方、上記メタロセン系複合触媒の生成に用いる有機アルミニウム化合物は、AlRKRLRMで表され、ここで、RK及びRLは、それぞれ独立して炭素数1~20の1価の炭化水素基又は水素原子で、RMは炭素数1~20の1価の炭化水素基であり、但し、RMは上記RK又はRLと同一でも異なっていてもよい。炭素数1~20の1価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。上記有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ-n-プロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリ-n-ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ-t-ブチルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリシクロヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム;水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジ-n-プロピルアルミニウム、水素化ジ-n-ブチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ジヘキシルアルミニウム、水素化ジイソヘキシルアルミニウム、水素化ジオクチルアルミニウム、水素化ジイソオクチルアルミニウム;エチルアルミニウムジハイドライド、n-プロピルアルミニウムジハイドライド、イソブチルアルミニウムジハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好ましい。また、これら有機アルミニウム化合物は、1種単独で使用することも、2種以上を混合して用いることもできる。なお、上記メタロセン系複合触媒の生成に用いる有機アルミニウム化合物の量は、メタロセン錯体に対して1~50倍モルであることが好ましく、約10倍モルであることが更に好ましい。-第三の重合触媒組成物-また、上記重合触媒組成物は、上記メタロセン系複合触媒と、ホウ素アニオンとを含むことを特徴とし、更に、通常のメタロセン系触媒を含む重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含むことが好ましい。なお、上記メタロセン系複合触媒とホウ素アニオンとを合わせて2成分触媒ともいう。上記第三重合触媒組成物によれば、上記メタロセン系複合触媒と同様に、更にホウ素アニオンを含有するため、各単量体成分の共重合体中での含有量を任意に制御することが可能となる。上記第三重合触媒組成物において、2成分触媒を構成するホウ素アニオンとして、具体的には、4価のホウ素アニオンが挙げられる。例えば、テトラフェニルボレート、テトラキスモノフルオロフェニルボレート、テトラキスジフルオロフェニルボレート、テトラキストリフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロフェニルボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロメチルフェニルボレート、テトラトリルボレート、テトラキシリルボレート、トリフェニル、ペンタフルオロフェニルボレート、[トリスペンタフルオロフェニル、フェニル]ボレート、トリデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート等が挙げられ、これらの中でも、テトラキスペンタフルオロフェニルボレートが好ましい。なお、上記ホウ素アニオンは、カチオンと組み合わされたイオン性化合物として使用することができる。上記カチオンとしては、例えば、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アミンカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等が挙げられる。カルボニウムカチオンとしては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ置換フェニルカルボニウムカチオン等の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリ置換フェニルカルボニルカチオンとして、具体的には、トリメチルフェニルカルボニウムカチオン等が挙げられる。アミンカチオンとしては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウムカチオン;N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムカチオン等のN,N-ジアルキルアニリニウムカチオン;ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンとしては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリメチルフェニルホスホニウムカチオン、トリジメチルフェニルホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらカチオンの中でも、N,N-ジアルキルアニリニウムカチオン又はカルボニウムカチオンが好ましく、N,N-ジアルキルアニリニウムカチオンが特に好ましい。従って、上記イオン性化合物としては、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が好ましい。なお、ホウ素アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物は、上記メタロセン系複合触媒に対して0.1~10倍モル加えることが好ましく、約1倍モル加えることが更に好ましい。なお、上記第三重合触媒組成物においては、上記メタロセン系複合触媒と上記ホウ素アニオンとを用いる必要があるが、上記式XVIで表されるメタロセン触媒と有機アルミニウム化合物を反応させる反応系に、ホウ素アニオンが存在していると、上記式XVのメタロセン系複合触媒を合成することができない。従って、上記第三重合触媒組成物の調製には、該メタロセン系複合触媒を予め合成し、該メタロセン系複合触媒を単離精製してからホウ素アニオンと組み合わせる必要がある。上記第三重合触媒組成物に用いることができる助触媒としては、例えば、上述のAlRKRLRMで表される有機アルミニウム化合物の他、アルミノキサン等が好適に挙げられる。上記アルミノキサンとしては、アルキルアミノキサンが好ましく、例えば、メチルアルミノキサンMAO、修飾メチルアルミノキサン等が挙げられる。また、修飾メチルアルミノキサンとしては、MMAO-3A東ソーファインケム社製等が好ましい。なお、これらアルミノキサンは、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記第一重合触媒組成物又は第二重合触媒組成物を使用しなくても、即ち、通常の配位イオン重合触媒を使用する場合であっても、重合反応系中への単量体の仕込み方を調整することで、前記共重合体を製造することができる。即ち、前記共重合体の第二の製造方法は、非共役オレフィンの存在下において、共役ジエン化合物の投入を制御することで、共重合体の連鎖構造を制御することを特徴とし、これによって、共重合体中の単量体単位の配列を制御することができる。なお、本発明において、重合反応系とは、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの重合が行われる場所を意味し、具体例としては、反応容器等が挙げられる。ここで、共役ジエン化合物の投入方法は、連続投入、分割投入のいずれであってもよく、更には、連続投入及び分割投入を組み合わせてもよい。また、連続投入とは、例えば、一定の添加速度で一定の時間添加することをいう。具体的には、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとを重合させる重合反応系に共役ジエン化合物を分割又は連続投入することで、該重合反応系内の単量体の濃度比を制御することが可能となり、その結果、得られる共重合体中の連鎖構造即ち、単量体単位の配列を特徴づけることが可能となる。また、共役ジエン化合物の投入の際に、非共役オレフィンが重合反応系中に存在することで、共役ジエン化合物単独重合体の生成を抑制することができる。なお、共役ジエン化合物の投入は、非共役オレフィンの重合を開始した後に行ってもよい。例えば、上記第二製造方法によって前記共重合体を製造する場合には、あらかじめ非共役オレフィンの重合を開始した重合反応系に、非共役オレフィンの存在下で共役ジエン化合物を連続投入することが有効となる。特に、上記第二製造方法によってマルチブロック共重合体を製造する場合には、非共役オレフィンを重合反応系中で重合させ、次に、非共役オレフィンの存在下で共役ジエン化合物を該重合反応系中に連続投入するという操作を2回以上繰り返すことが有効となる。上記第二製造方法は、上述のように重合反応系中への単量体の仕込み方を特定する以外は特に限定されず、例えば、溶液重合法、懸濁重合法、液相塊状重合法、乳化重合法、気相重合法、固相重合法等の任意の重合方法を用いることができる。また、上記第二製造方法は、上述のように重合反応系中への単量体の仕込み方を特定する以外は、上記第一製造方法と同様にして、単量体である共役ジエン化合物と非共役オレフィンを共重合させることができる。なお、上記第二製造方法においては、共役ジエン化合物の投入を制御する必要があるが、具体的には、共役ジエン化合物の投入量や共役ジエン化合物の投入回数を制御することが好ましい。また、共役ジエン化合物の投入の制御方法は、例えば、コンピュータ等のプログラムで制御する方法や、タイマー等を用いてアナログで制御する方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、上述のように、共役ジエン化合物の投入方法は、特に限定されず、連続投入、分割投入等が挙げられる。ここで、共役ジエン化合物を分割投入する場合、該共役ジエン化合物の投入回数は、特に限定されないが、1~5回の範囲が好ましい。共役ジエン化合物の投入回数が大きくなり過ぎると、ブロック共重合体とランダム共重合体との区別が困難になる場合がある。また、上記第二製造方法においては、共役ジエン化合物の投入時に、非共役オレフィンが重合反応系に存在していることが必要であるため、非共役オレフィンを重合反応系へ連続的に供給することが好ましい。また、非共役オレフィンの供給方法は、特に限定されるものではない。<iiジエン系重合体>また、本発明のホース用ゴム組成物に用いるゴム成分は、ジエン系重合体を含有する。ジエン系重合体は硫黄架橋系において機械的特性が高いため、これをゴム成分に配合することにより、非ジエン系と比べて耐摩耗性が向上する。具体的なジエン系重合体としては、例えば、天然ゴムNR、スチレン-ブタジエンゴムSBR、アクリロニトリル-ブタジエンゴムNBR、ブタジエンゴムBR、イソプレンゴムIR等が挙げられ、これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中では、特に高い耐油特性を有するアクリロニトリル-ブタジエンゴムNBRを用いることが好ましい。本発明のゴム組成物において、前記ゴム成分中に含まれる前記ジエン系重合体としては、40質量~70質量の範囲である必要があり、好ましくは50質量~70質量である。ゴム成分中に含まれる前記ジエン系重合体が40質量未満では、前記ジエン系重合体が有する機械特性が十分に発揮されないおそれがあり、特にNBRを用いる場合は耐油性が十分に発揮されない。70質量を超えると、非ジエン成分が減ることで、耐候性が十分に発揮されないおそれがあるためである。<iiiその他のゴム成分>また、本発明のゴム組成物は、種々の他の合成ゴムを含むことができ、特に制限はなく、本発明の目的に反しない範囲で、少量例えば、ゴム成分中に10質量以下含むことができる。前記他の合成ゴムとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、多硫化ゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。<iv架橋剤>前記架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、硫黄系架橋剤がより好ましい。前記架橋剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ゴム成分100質量部に対し、0.3質量部~10質量部が好ましい。前記架橋剤の含有量が0.3質量部以上であると、架橋を確実に進行させることができ、10質量部以下であると、一部の架橋剤により混練り中に架橋が進んでしまったり、加硫物の物性が損なわれたりすることを防止することができる。-硫黄系架橋剤-前記硫黄系架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、硫黄、などが挙げられる。前記硫黄の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ゴム成分100質量部に対し、0.3質量部~5質量部が好ましい。前記硫黄の含有量が、0.3質量部未満であると、十分な加硫効果が得られず、目標性能を達成できなくなることがあり、5重量部を超えると、ゴムがもろくなり、ゴムの疲労性能が低下することがある。<v加硫促進剤>前記加硫促進剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジフェニルグアニジン等のグアジニン系、アルデヒド-アミン系、アルデヒド-アンモニア系、メルカプトベンゾチアゾール等のチアゾール系、N,N’-ジシクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド等のスルフェンアミド系、チオ尿素系、テトラメチルチウラムジスルフィド等のチウラム系、ジチオカルバメート系、ザンテート系、などの化合物が使用できる。<viその他の成分>また必要に応じて、カーボンブラック、シリカ、クレー等の補強性充填剤;ポリ2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリン、フェニル-α-ナフチルアミン等のアミン類などの老化防止剤;可塑剤;ワックス類;酸化防止剤;アロマオイル等の軟化剤;滑剤;紫外線吸収剤;分散剤;相溶化剤;均質化剤;ステアリン酸、亜鉛華等の加硫促進助剤;カップリング剤などが挙げられる。-カーボンブラック-前記カーボンブラックとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記カーボンブラックの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ゴム成分100質量部に対し、50質量部~100質量部が好ましい。前記カーボンブラックの含有量が、50質量部未満であると、耐摩耗性が低下することがあり、100質量部を超えると、加工性が低下することがある。<ホース用ゴム組成物の製造方法>本発明のゴム組成物は、上記各成分を、たとえば、開放混合式の練りロール機、密閉式混合機のバンバリーミキサー、ニーダー等の混練機を用いて混練りすることにより得ることができる。油圧ホース本発明の油圧ホースは、上記ホース用ゴム組成物を用いたことを特徴とする。好ましくは、上記ホース用ゴム組成物を外面ゴム層に用いる。具体的には、例えば図1に示すように、内面ゴム層内管ゴム2、補強層3、及び外面ゴム層外被ゴム4のように複数の層によって形成された油圧ホースを製造することができる。上記ホース用ゴム組成物は、前記外面ゴム層外被ゴム4を形成するのに好適である。かかる油圧ホースを製造するには、以下の方法を例示することができる。まず、ホース内径と同程度の直径を有する芯体マンドレルの外側に本発明の内面ゴム層内管ゴム2用のゴム組成物を押出成形して該マンドレルを被覆し、内面ゴム層内管ゴム2を形成する内管押出工程。次に、該内管押出工程で形成した内面ゴム層2の外側に、所定本数のブラスめっきワイヤを編み上げて補強層3を積層し編上げ工程、該補強層3の外側に本発明のホース用ゴム組成物を押出成形し、外面ゴム層外被ゴム4を形成する外被押出工程。さらに、該外被押出工程で形成した外面ゴム層4の外側を樹脂で被覆し樹脂モールド被覆工程、これを通常の条件で加硫する加硫工程。加硫後、上記被覆樹脂を剥離し樹脂モールド剥離工程、マンドレルを取り除くマンドレル抜出工程ことにより、内面ゴム層2と外面ゴム層4との間に補強層3を有するホース1が得られる。なお、ホース1の構造は、上記のように内側から内面ゴム層2、補強層3及び外面ゴム層4を順次積層した3層構造としてもよいし、更に強度等が必要な場合は、特に図示しないが、上記補強層を2層とし、この2層の補強層の間に中間層中間ゴムを配した5層構造とすることもでき、これらの構造はホースの要求特性等に応じて適宜設定することができる。また、上記補強層は全てブラスめっきワイヤで形成される必要はなく、一部繊維で形成される補強層を用いることもできる。以下、本発明について、実施例に基づき具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。共重合体の分析方法及びゴム組成物の評価方法を以下に示す。<共重合体の分析方法>1共重合体のミクロ構造1,2-ビニル結合量、シス-1,4結合量共重合体中のブタジエン部分のミクロ構造1,2-ビニル結合量を、1H-NMRスペクトル100°C、d-テトラクロロエタン標準:6ppmにより1,2-ビニル結合成分5.0-5.1ppmと全体のブタジエン結合成分5-5.6ppmの積分比より求めた。また、共重合体中のブタジエン部分のミクロ構造シス-1,4結合量を、13C-NMRスペクトル100°C、d-テトラクロロエタン標準:73.8ppmによるシス-1,4結合成分26.5-27.5ppmと全体のブタジエン結合成分26.5-27.5ppm31.5-32.5ppmの積分比より求めた。2共重合体のエチレン由来部分の含有率共重合体中のエチレン由来部分の含有率molを13C-NMRスペクトル100°C、d-テトラクロロエタン標準:73.8ppmによる全体のエチレン結合成分28.5-30.0ppmと全体のブタジエン結合成分26.5-27.5ppm31.5-32.5ppmの積分比より求めた。3共重合体の重量平均分子量Mw及び分子量分布Mw/Mnゲルパーミエーションクロマトグラフィー[GPC:東ソー製HLC-8121GPC/HT、カラム:東ソー製GMHHR-HSHT×2本、検出器:示差屈折率計RI]で単分散ポリスチレンを基準として、重合体のポリスチレン換算の重量平均分子量Mw及び分子量分布Mw/Mnを求めた。なお、測定温度は140°Cである。4共重合体のブロックポリエチレン融解温度DSCピーク温度JISK7121-1987に準拠して示差走査熱量測定DSCを行い、DSC曲線を描き、ブロックポリエチレン融解温度DSCピーク温度を測定した。なお、測定は、単体ポリマーや触媒残渣等の不純物の影響をさけるため、共重合体を大量のテトラヒドロフランに48h浸漬し、テトラヒドロフランに溶解する成分を全て取り除いた後、乾燥したゴム成分をサンプルとして使用した。5共重合体の同定文献高分子学会予稿集Vol.42,No.4,Page1347のオゾン分解-GPC法を応用して、連鎖分布の解析を行った。なお、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーは[GPC:東ソー製HLC-8121GPC/HT、カラム:昭和電工製GPCHT-803×2本、検出器:示差屈折率計RI、単分散ポリスチレンを基準、測定温度は140°C]を用いて測定した。<ゴム組成物の評価方法>1耐摩耗性試験前記耐摩耗性DIN摩耗量は、JISK6264に準じて測定した。DIN型摩耗試験機を使用して室温でホース用ゴム組成物試料の摩耗量を測定し、後述する比較例1を100として指数表示した。指数値が小さいほど、耐摩耗性が良好であることを示す。2耐候性試験JISK6259の5.静的オゾン劣化試験に準拠し、40°C、50pphm、20伸長、72時間の条件で測定した。また、6.動的オゾン劣化試験に準拠し、40°C、50pphm、20伸長、72時間の条件で測定した。測定にはスガ試験機製オゾンウェザーメーターを使用した。なお、表1に評価結果の見方を示す。3耐油性JISK6258に準じて耐油性評価を行い、体積変化を測定した。ホース用ゴム組成物試料を、IRM903号油に100°Cにて72時間含浸し、含浸前後での比重を測定した。測定結果を用いて体積膨張率を算出し、後述する比較例1を100として指数表示した。指数値が小さいほど、耐油性が良好であることを示す。4接着性未加硫のホース用ゴム組成物試料を150mm×150mm×2mmのシートに圧延し、Φ0.33mm×100mmに切断したブラスメッキワイヤ7本を隙間なく並べ、テープで固定した状態で150°C×60分の条件で加硫した。加硫後、試料を取り出して室温で24時間放置し、その後、ワイヤ7本中、端の2本を除いた5本を90°Cで一度に引き剥がし、接着性を確認した。この時のゴムの付着率を質量で算出した。この値が大きいほど、接着性が良好であることを示す。<エチレン-ブタジエン共重合体EBR1の調製>十分に乾燥した400mL耐圧ガラス反応器に、トルエン溶液160mLを添加した後、エチレンを0.8MPaで導入した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビス2-フェニルインデニルガドリニウムビスジメチルシリルアミド[2-PhC9H62GdNSiHMe22]28.5μmol、ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート[Me2NHPhBC6F54]34.2μmol、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド1.43mmolを仕込み、トルエン8mLに溶解させて触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で28.2μmolとなる量をモノマー溶液へ添加し、室温で5分間重合を行った。その後、エチレンの導入圧力を0.2MPa/minの速度で低下させながら、1,3-ブタジエン15.23g0.28molを含むトルエン溶液100mLを添加した後、さらに90分間重合を行った。重合後、22-メチレン-ビス4-エチル-6-t-ブチルフェノールNS-55質量のイソプロパノール溶液1mLを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、70°Cで真空乾燥し、共重合体EBR1、ブロック共重合体を得た。得られたEBR1の収量は12.50gであった。得られたEBR1について、ミクロ構造、エチレン含有率、重量平均分子量Mw、分子量分布Mw/Mn、ブロックポリエチレン融解温度DSCピーク温度及び連鎖構造を上記の方法で測定評価を行った。EBR1の13C-NMRスペクトルチャートを図2に、DSC曲線を図3に示す。<エチレン-ブタジエン共重合体EBR2の調製>十分に乾燥した400ml耐圧ガラス反応器に、トルエン溶液100mlを添加した後、エチレンを0.8MPaで導入した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビス2-フェニルインデニルガドリニウムビスジメチルシリルアミド[2-PhC9H62GdNSiHMe22]28.5μmol、ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート[Me2NHPhBC6F54]34.2μmol、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド1.43mmolを仕込み、トルエン8mlに溶解させて触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で28.2μmolとなる量をモノマー溶液へ添加し、室温で5分間重合を行った。その後、エチレンの導入圧力を0.2MPa/minの速度で低下させながら、1,3-ブタジエン4.57g0.085molを含むトルエン溶液30mlを添加した後、さらに60分間重合を行った。次に、エチレンの導入圧力を0.8MPaに戻し5分間重合を行い、その後エチレンの導入圧力を0.2MPa/minの速度で低下させながら、1,3-ブタジエン4.57g0.085molを含むトルエン溶液30mlを添加し、その後さらに60分間重合を行うという操作を計3回繰り返した。重合後、2,2-メチレン-ビス4-エチル-6-t-ブチルフェノールNS-55質量のイソプロパノール溶液1mlを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、70°Cで真空乾燥し、共重合体EBR2、マルチブロック共重合体を得た。得られたEBR2の収量は14.00gであった。得られたEBR2について、ミクロ構造、エチレン含有率、重量平均分子量Mw、分子量分布Mw/Mn、ブロックポリエチレン融解温度DSCピーク温度及び連鎖構造を上記の方法で測定評価した。<エチレン-ブタジエン共重合体EBR3の調製>十分に乾燥した2Lステンレス反応器に、トルエン150mlを添加した後、エチレンを0.8MPaで導入した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビス2-フェニルインデニルガドリニウムビスジメチルシリルアミド[2-PhC9H62GdNSiHMe22]14.5μmol、トリフェニルカルボニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートPh3CBC6F5414.1μmol、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド0.87mmolを仕込み、トルエン5mlに溶解させて触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で14.1μmolとなる量をモノマー溶液へ添加し、50°Cで5分間重合を行った。その後、エチレンの導入圧力を0.2MPa/minの速度で低下させながら、1,3-ブタジエン3.05g0.056molを含むトルエン溶液20mlを添加した後、さらに15分間重合を行った。次に、エチレンの導入圧力を0.8MPaに戻し5分間重合を行い、その後、エチレンの導入圧力を0.2MPa/minの速度で低下させながら、1,3-ブタジエン6.09g0.113molを含むトルエン溶液40mlを添加し、その後さらに30分間重合を行うという操作を計3回繰り返した。重合後、2,2-メチレンービス4-エチル-6-t-ブチルフェノールNS-55質量のイソプロパノール溶液1mlを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、70°Cで真空乾燥し、重合体EBR3、マルチブロック共重合体を得た。得られたEBR3の収量は24.50gであった。得られたEBR3について、ミクロ構造、エチレン含有率、重量平均分子量Mw、分子量分布Mw/Mn、ブロックポリエチレン融解温度DSCピーク温度及び連鎖構造を上記の方法で測定評価した。EBR3のDSC曲線を図4に示す。<エチレン-ブタジエン共重合体EBR4の調製>EBR3の調整において、ビス2-フェニルインデニルガドリニウムビスジメチルシリルアミド[2-PhC9H62GdNSiHMe22]を用いる代わりに、ビス2-フェニル-1-メチルインデニルガドリニウムビスジメチルシリルアミド[2-Ph-1-MeC9H52GdNSiHMe22]を用いること以外は同様の方法で実験を行い、共重合体EBR4、マルチブロック共重合体を得た。得られたEBR4の収量は28.55gであった。得られたEBR4について、ミクロ構造、エチレン含有率、重量平均分子量Mw、分子量分布Mw/Mn、ブロックポリエチレン融解温度DSCピーク温度及び連鎖構造を上記の方法で測定評価した。EBR1~4についての各種測定評価結果を表2に示す。なお、共重合体における共役ジエン化合物ブタジエンの割合は、表2より、100-エチレン含有率で表されることに留意されたい。<実施例1~6、比較例1~5>ゴム成分とその他の配合剤を表3に示す配合処方で混練り混合し、未加硫のゴム組成物を調製した。そして、得られたゴム組成物を150°C×60分間の条件で加硫硬化させて、ホース用ゴム組成物試料を作製した。作製した上記ホース用ゴム組成物試料につき、上記方法により耐摩耗性、耐候性、耐油性及び接着性を評価した。その結果を表3に示す。表3の結果から明らかなように、実施例のゴム組成物は、比較例1のゴム組成物に比べ、十分な耐候性を有しつつ耐摩耗性に優れることがわかった。"