"水素、式HaSiX4-aIを有するハロシラン、及び式RXIIを有する有機ハロゲン化物を式中、RはC1~C10アルキル又はC4~C10シクロアルキルであり、各Xは独立してハロゲンであり、下付き文字aは0、1、又は2である、ハロシランの1つ以上のハロ基の有機ハロゲン化物のR基との置換を可能とするのに効果的な十分な量の触媒の存在下、200~800°Cの温度で混ぜ合わせ、有機ハロシラン及びハロゲン化水素を形成する工程を具える、有機ハロシランの調製プロセスであって、水素のハロシランに対する体積比が1:3~1:0.001であり、水素の有機ハロゲン化物に対する体積比が1:1~1:0.001であり、該触媒を該混ぜ合わせ工程前に任意で水素又はハロシランで処理する、プロセス。前記有機ハロシランが、式RbHcSiX4-b-cを有し、式中、下付き文字bは1、2、又は3であり、下付き文字cは0、1、又は2であり、bcは0、1、2、又は3である、請求項1に記載のプロセス。下付き文字bが1又は2であり、下付き文字cが0である、請求項2に記載のプロセス。Rがメチルであり、Xがクロロであり、aが0である、請求項1に記載のプロセス。前記有機ハロシランを回収する工程をさらに含む、請求項1~4のいずれか1項に記載のプロセス。前記温度が350~550°Cである、請求項1~5のいずれか1項に記載のプロセス。前記有機ハロゲン化物のR基の前記ハロシランのハロ基との交換を可能にするのに効果的な触媒は、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、銅、及び金から選択される少なくとも1つの金属である、請求項1~6のいずれか1項に記載のプロセス。前記触媒が担持触媒であり、その担持材が活性炭である、請求項7に記載のプロセス。前記有機ハロゲン化物の前記R基の前記ハロシランの前記ハロ基との交換を可能にするのに効果的な前記触媒がパラジウム及び銅、パラジウム及び金、パラジウム及びコバルト、パラジウム及びニッケル、銅及びニッケル、銅及びコバルト、銅及び金、並びにニッケル及びコバルトから選択される少なくとも2つの金属である、請求項1~6のいずれか1項に記載のプロセス。前記触媒が担持触媒であり、その担持材が活性炭である、請求項9に記載のプロセス。水素のハロシランに対する前記比が1:0.8~1:0.004であり、水素の有機ハロゲン化物に対する前記比が1:1~1:0.01である、請求項1に記載のプロセス。前記プロセスが連続プロセスであり、前記水素、前記ハロシラン、及び前記有機ハロゲン化物が0.1~100秒の接触時間を有する、請求項1に記載のプロセス。Rがメチルであり、Xがクロロであり、aが0であり、前記触媒がパラジウムブラック上に堆積した銅であり、前記有機ハロシランが式RbHcSiX4-b-cを有し、式中、下付き文字bは2であり、下付き文字cは0である、請求項1に記載のプロセス。Rがメチルであり、Xがクロロであり、aが0であり、前記触媒がパラジウム及び銅であり、前記触媒が活性炭担持材上にあり、前記有機ハロシランが式RbHcSiX4-b-cを有し、式中、下付き文字bは1であり、下付き文字cは0である、請求項1に記載のプロセス。水素、式HaSiX4-aIを有するハロシラン、及び式RXIIを有する有機ハロゲン化物を、ハロシランの1つ以上のハロ基の有機ハロゲン化物のR基での置換を可能にするのに効果的な十分な量の触媒の存在下、200~800°Cの温度で混ぜ合わせ、有機ハロシラン及びハロゲン化水素を形成する工程であって、式中、RはC1~C10アルキル又はC4~C10シクロアルキルであり、各Xは独立してハロゲンであり、下付き文字aは0、1、又は2である工程を具える、有機ハロシランの調製プロセスにおいて、水素のハロシランに対する体積比は1:3~1:0.001であり、水素の有機ハロゲン化物に対する体積比は1:1~1:0.001であり、触媒を該混ぜ合わせ工程前に任意で水素又はハロシランで処理する、プロセス。ハロシラン及び有機ハロゲン化物と混ぜ合わせる水素は、水素ガス、H2である。水素は当技術分野において周知であり、市販されている。ハロシランは式HaSiX4-aIを有し、式中、Xはハロゲンであり、下付き文字aは0、1、又は2であり、あるいは0又は1であり、あるいは0である。ハロ基Xはフルオロ、クロロ、ブロモ、又はヨード、あるいはクロロ、ブロモ、又はヨード、あるいはクロロである。ハロシランIの例としては、これらに限定されないが、テトラクロロシラン、トリクロロシランHSiCl3、ジクロロシランH2SiCl2、テトラブロモシラン、トリブロモシランHSiBr3、ジブロモシランH2SiBr2、テトラヨードシラン、トリヨードシランHSiI3、ジヨードシランH2SiI2、テトラフルオロシラン、トリフルオロシランHSiF3、ジフルオロシランH2SiF2が挙げられる。本発明のハロシランの調製プロセスは当技術分野おいて知られている。これらの化合物の多くは市販されている。有機ハロゲン化物は式RXIIを有し、式中、RはC1~C10アルキル又はC4~C10シクロアルキルであり、Xはハロシランについて上で定義したとおりであり、ハロシランの場合と同じ又は異なっていてもよい。式II中でRにより表されるアルキル基は一般的には、1~10個の炭素原子、あるいは1~6個の炭素原子、あるいは1~4個の炭素原子を有する。式II中でRにより表されるシクロアルキル基は一般的には、4~10個の炭素原子、あるいは6~8個の炭素原子を有する。少なくとも3個の炭素原子を含有するアルキル基は分岐又は非分岐構造を有することができる。アルキル基の例としては、これらに限定されないが、メチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル、ブチル、1-メチルプロピル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルエチル、ペンチル、1-メチルブチル、1-エチルプロプル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、1,2-ジメチルプロピル、2,2-ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、及びデシルが挙げられる。シクロアルキル基の例としては、これらに限定されないが、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びメチルシクロヘキシルが挙げられる。有機ハロゲン化物の例としては、これらに限定されないが、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、塩化シクロブチル、臭化シクロブチル、塩化シクロヘキシル、及び臭化シクロヘキシルが挙げられる。本発明の有機ハロゲン化物の調製プロセスは当技術分野において知られており、これらの化合物の多くは市販されている。触媒は、ハロシランの1つ以上のハロ基の有機ハロゲン化物のR基での置換を可能にするのに効果的である。本明細書において用いるハロシランの1つ以上のハロ基の有機ハロゲン化物のR基との置換を可能にするのに効果的な触媒とは、存在する場合、水素、ハロシラン、及び有機ハロゲン化物が本発明に従って混ぜ合わされると、有機ハロゲン化物のR基すなわち、アルキル又はシクロアルキル基のハロシランへの移行及びハロシランからのハロ基の除去を可能にすることにより、後述するような有機ハロシランの形成をもたらす触媒を意味する。本明細書において用いる触媒及びハロシランの1つ以上のハロ基の有機ハロゲン化物のR基での置換を可能にするのに効果的な触媒は、置き換え可能に用いられる。触媒は、元素周期表の第IB族又は第VIIIB族、すなわち鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、若しくは金の少なくとも1つの金属、又は少なくとも1つの金属を含有する化合物であり、あるいは、触媒は、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、銅、及び金から選択される少なくとも1つの金属、又は少なくとも1つの金属を含有する金属化合物を含み、あるいは、触媒は、パラジウム及び銅、パラジウム及び金、パラジウム及びコバルト、パラジウム及びニッケル、銅及びニッケル、銅及びコバルト、銅及び金、並びにニッケル及びコバルトから選択される少なくとも2つの金属、又は少なくとも2つの金属を含有する1つ若しくは複数の化合物である。触媒は、担持又は非担持とすることができる。本明細書において用いる担持とは、上述のような金属、又は金属の化合物が担持材の表面全体又は担持材の細孔中に分散していることを意味する。担持材としては、これらに限定されないが、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、及びケイ素の酸化物が挙げられる。担持材としては、これらに限定されないが、活性炭、炭素ナノチューブ、フラーレン、及び炭素の他の同素形も挙げられる。本発明の担持触媒は、一般的には、金属及び担持材の重量に対して、0.1~100w/w未満の上述の金属、又は金属の化合物、あるいは0.1~50w/wの上述の金属、又は金属の化合物、あるいは0.1~25w/wの上述の金属、あるいは1~25w/wの上述の金属を含む。触媒は、これらに限定されないが、塊、顆粒、薄片、及び粉末を含むさまざまな物理的形態を有することができる。非担持触媒の例としては、これらに限定されないが、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、金、パラジウム及び銅、パラジウム及び金、パラジウム及びコバルト、パラジウム及びニッケル、銅及びニッケル、銅及びコバルト、銅及び金、ニッケル及びコバルト、並びにこれらの金属の塩、例えばPdCl2又はPdCl2及びCuCl2が挙げられる。担持金属触媒の例としては、金属及び担持材の重量に対して、10~25w/wの上述の非担持触媒を活性炭担持材上に有するものが挙げられる。非担持及び担持金属触媒は、当技術分野において知られるプロセスにより製造することができる。例えば、非担持触媒を製造するため、適切な金属を購入後、所望の粒径まで粉砕し、触媒のその他の金属と混合してもよく、又は1つの金属を別の金属上で別の1つの金属上に堆積させた第1金属の塩の還元により還元してもよい例えば、CuCl2をPdブラック上に堆積させた後、500°Cで水素により還元し、銅-パラジウム触媒を形成してもよい。担持金属触媒は、水又は酸のような溶媒中のいずれかの金属塩、又は塩の混合物を製造し、混合物を担持材に塗布し、任意で、金属塩を担持材の表面上で還元することにより調製することができる。例えば、PdCl2及びCuCl2を塩酸中に溶解し、活性炭と混合することができる。過剰な金属塩溶液を次に除去し、活性炭-金属塩混合物を乾燥させることができる。金属塩を次に活性炭上で水素を用いて、一般的には約500°Cで還元し、担持触媒を得ることができる。当業者であれば、添加、還元並びに塩の多段階式添加及びその後の還元のプロセスを行い、担持触媒を調製することもできることを理解するだろう。さらに、金属塩は溶媒中に溶けやすい必要はない。溶媒の作用は、塩を担持材上に堆積させた後、蒸発のような一般的な方法により除去することができることである。担持金属触媒の製造方法については以下の実施例のセクションにも詳細に記載する。これらの触媒のいくつかも市販されている。1つの実施形態では、本発明のプロセスは、例えば、それらの存在下で塩化メチル及びテトラクロロシランが混ぜ合わされる場合金属ハロゲン化物を形成する、アルミニウム又は亜鉛のような反応性金属を含まない。反応器は気体及び固体を混ぜ合わせるのに適したいずれかの反応器とすることができる。反応器形状は充填床、撹拌床、振動床、又は流動床とすることができる。反応を促進するため、反応器は反応帯の温度を制御する手段を有していなければならない。水素、ハロシラン、及び有機ハロゲン化物が触媒の存在下で混ぜ合わされる温度は、一般的には200~800°C、あるいは300~600°C、あるいは350~550°Cである。水素、ハロシラン、及び有機ハロゲン化物が触媒の存在下で混ぜ合わされる圧力は、一般的には200~500°Cの温度で0~2000キロパスカルゲージ圧力kPag、あるいは100~2000kPag、あるいは100~1000kPag、あるいは100~800kPagである。非連続プロセスも考えられるが、本プロセスは一般的には連続プロセスである。本明細書において用いる連続プロセスとは、触媒を含有する反応器に水素、ハロシラン、及び有機ハロゲン化物を連続的に入れ、後述する有機ハロシラン及びハロゲン化水素を反応器から連続的に出すプロセスである。連続プロセスは一般的には触媒活性が所定の下限を割るまで行う。水素、ハロシラン及び有機ハロゲン化物は一般的には、反応器に触媒を入れた後、触媒を含有する反応器に水素、ハロシラン、及び有機ハロゲン化物を連続的に供給することにより、触媒の存在下で混ぜ合わされる。水素、ハロシラン、及び有機ハロゲン化物は一般的には同時に反応器に供給されるが、独立したパルスによるような他の混ぜ合わせ方法も考えられる。水素、ハロシラン、及び有機ハロゲン化物は一般的には、反応器において、後述するような、十分な接触時間をもたらす流量で供給される。本明細書において用いる流量とは、体積流量例えば、標準立方センチメートル毎分sccmを意味する。流量は、マスフローコントローラー及び、水素をバブリングする液体ハロシラン又は有機ハロゲン化物を含有するバブラーを用いて制御することができる。水素、ハロシラン及び有機ハロゲン化物の流量は、当技術分野において知られる、独立して制御される流量調節及び測定デバイスの使用によって交互に制御することができる。流量は一般的には特定の反応器容積についての接触時間を制御するために変えられる。本明細書において用いる接触時間とは、反応器における酸素、ハロシラン、及び有機ハロゲン化物の滞留時間すなわち、1反応器容積についてガスが触媒を含む反応器を通過する時間を意味する。十分な接触時間は一般的には、水素、ハロシラン、及び有機ハロゲン化物が反応し、後述する有機ハロシランを形成するのに十分な時間である。例えば、十分な接触時間は一般的には、200~800°Cの温度で0.1~100秒、あるいは0.1~10秒、あるいは2~10秒である。接触時間は一般的には変化する流量により制御される。本発明のプロセスにおいて混ぜ合わされる水素のハロシランに対する体積比は、約25.15°Cの温度及び101.325kPagの圧力で1:3~1:0.001、あるいは1:2~1:0.001、あるいは1:0.8~1:0.004、あるいは1:0.4~1:0.01である。水素のハロシランに対する比は体積比すなわち、v/vであり、標準温度及び圧力について計算される。連続プロセスでは、例えば、体積比は標準温度及び圧力について計算される体積流量の比である。本発明のプロセスにおいて混ぜ合わされる水素の有機ハロゲン化物に対する体積比は、25.15°Cの温度及び101.325kPaの圧力で1:10~1:0.001、あるいは1:1~1:0.01、あるいは1:0.8~1:0.05、あるいは1:0.25~1:0.05である。水素の有機ハロゲン化物に対する比は体積比すなわち、v/vであり、標準温度及び圧力で計算される。連続プロセスでは、例えば、体積比は標準温度及び圧力で計算される体積流量の比である。触媒は十分な量で存在する。本明細書において用いる十分な量の触媒は、水素、ハロシラン、及び有機ハロゲン化物が触媒の存在下で混ぜ合わされる場合、後述する有機ハロシランの形成を可能にするのに十分な触媒である。例えば、十分な量の触媒は反応器容積1cm3当たり少なくとも0.01mgの触媒、あるいは反応器容積1cm3当たり少なくとも0.5mgの触媒、あるいは反応器容積1cm3当たり1~10000mgの触媒である。有機ハロゲン化物又はハロシランが標準温度及び圧力以下で液体である場合、有機ハロシランの生成プロセスは既知の方法により有機ハロゲン化物又はハロシランを予備加熱し、ガス化する工程をさらに含むことができる。あるいは、本プロセスは、反応器において触媒の存在下で混ぜ合わせる工程の前に、液体有機ハロゲン化物又はハロシランによって水素をバブリングし、液体を蒸発させる工程をさらに含むことができる。本プロセスは、本発明による混ぜ合わせ工程の前に、不活性雰囲気中、最高700°C、あるいは最高600°C、あるいは280~525°Cの温度で触媒を予備加熱する工程をさらに含むことができる。本プロセスは、本発明による有機ハロゲン化物との混ぜ合わせ工程の前に、最高700°C、あるいは最高600°C、あるいは280~525°Cの温度で触媒を水素又はハロシランで予備処理し、酸素を除去する工程をさらに含むことができる。触媒の予備処理は、触媒を含有する反応器に水素又はハロシランを記載した温度で供給することにより達成することができる。触媒の水素又はハロシランでの予備処理は、触媒の水素及びハロシラン両方での予備処理も含む。本プロセスは、生成された有機ハロシランを回収する工程をさらに含むことができる。有機ハロシランは、例えば、ガス状有機ハロシランを反応器から除去した後、凝縮することにより回収することができる。生成された有機ハロシランは蒸留により分離することができる。上に記載及び例示した有機ハロシランの調製プロセスにより生成される有機ハロシランは、式RbHcSiX4-b-cを有し、式中、R及びXは有機ハロゲン化物について上で定義及び例示したとおりであり、下付き文字bは1、2、又は3、あるいはbは1又は2であり、下付き文字cは0、1、又は2、あるいは0又は1、あるいは0であり、bcの合計は1、2、又は3である。本プロセスに従って調製される有機ハロシランの例としては、これらに限定されないが、ジメチルジクロロシランすなわち、CH32SiCl2、ジメチルジブロモシラン、ジエチルジクロロシラン、ジエチルジブロモシラン、メチルトリクロロシランすなわち、CH3SiCl3、メチルトリブロモシランすなわち、CH3SiBr3、及びメチルジクロロシランCH3HSiCl2が挙げられる。本プロセスに従って生成されるハロゲン化水素は式HXを有し、式中、Xはハロシラン及び有機ハロゲン化物について上で定義したとおりである。ハロゲン化水素は凝縮、蒸留、又は他の手段によって有機ハロシランから分離し、回収又は他の化学プロセスに供給することができる。本発明のプロセスはハロシランから有機ハロシランを生成する。本プロセスは非0価ケイ素からハロシランを生成するので、本発明のプロセスは0価ケイ素を用いる現行プロセスよりも経済的に有機ハロシランを生成することができる。さらに、本発明のプロセスは費用のかかる廃棄を要する金属ハロゲン化物副産物を生成しない。本発明のプロセスは有機ハロシランを生成し、これは既知のポリ有機シロキサン生成プロセスにおいて加水分解することができる。こうして生成されるポリ有機シロキサンは多くの産業及び用途に用いられる。以下の実施例は本発明のプロセスをより良く示すために提供するのであって、添付の特許請求の範囲に記載する本発明を限定するものとみなすべきでない。とくに指定のない限り、実施例において報告される部及びパーセントはすべて重量による。以下の表は実施例において用いる略語について記載する。以下は実施例において用いた方法及び物質の説明である。触媒を、PdCl2及びCuCl2のような金属のハロゲン化物を濃塩酸中に溶解することにより調製した。いくつかの場合、追加の水を溶液に添加し、金属ハロゲン化物の完全な溶解を確保した。調製した溶液を測った量の活性炭顆粒に添加した。混合物を真空下に20分間置いた。真空を除去した後、過剰な液体を活性炭顆粒から静かに取り出した。次に、顆粒をオーブンにおいて一晩150°Cでブロット乾燥及び乾燥させた。乾燥後、顆粒を測り、顆粒上の金属の重量を差により割り出した。その後顆粒を管状反応器中に入れ、反応器を水素でパージした。次に、触媒を水素流下、500°Cで2時間還元した。その後触媒を、一般的には塩化メチルを導入し、反応を開始させる前に、触媒をH2及びSiCl4に1~5時間曝露することにより活性化した。反応装置はフロー反応器中に4.8mm内径の石英ガラス管を備えた。反応器管をLindberg/BlueMinimite2.54cm管状炉を用いて加熱した。OmegaFMA5500マスフローコントローラーを用い、ガス流量を制御した。ステンレス鋼SiCl4バブラーを用い、SiCl4をH2ガス流中に導入した。H2ガス流中のSiCl4の量を、周知の熱力学原理を用いる計算に基づき、バブラー中のSiCl4の温度を変化させることにより調節した。反応器からの流出物をViciの作動6方向バルブに通過させた。反応生成物を、平行に2つの30mSPB-オクチルカラムSupelco、250μm内径、0.25μm厚分離相コーティングを有するAgilentTechnologies7890Aガスクロマトグラフィー-質量分析GC-MSを用いて分析した。GCは、試料を同じ注入ポートから各カラムに注入することができるように、平行の2つのカラムで構成した。1つのカラムは質量分析検出器、Agilent7895Cに接続して試料中の成分を同定し、他のカラムは熱伝導度検出器TCDに接続して成分を定量化した。GC-MSのカラムをAgilentLTMモジュールにより加熱した。GC-MSを反応器管から出る物質に合わせて設定し、採った試料を一定の100μLループを有する6方向バルブによってすぐに試験した。この構成は反応を継続しながら反応条件を変える効果を割り出すことを可能にする。実施例において用いた触媒を製造するのに用いた活性炭及びPdCl299.9、CuCl22H2O99.9のような金属ハロゲン化物化合物は、SigmaAldrichミズーリ州セントルイスから購入した。触媒を製造するのに用いたすべての金属ハロゲン化物は99.9より高い化学純度又は得られる最高純度を含んでいた。流量比を標準温度及び圧力での水素、SiCl4、及び塩化メチルの体積流量を用いて割り出した。実施例1担持触媒を上述の方法に従って調製した。担持触媒は活性炭上に17のパラジウム及び1.18の銅を含有させた。触媒を水素及びSiCl4で1時間、500°C、100sccmの水素流量、1:2.49の水素のSiCl4に対する流量比、及び大気圧で処理した。1時間後、塩化メチルを以下の表の各種条件で水素及び四塩化ケイ素を有する反応管に導入した。条件を10分毎に変え、GC試験のための試料を特定の反応条件での10分後に採った。この実施例は温度、流量比、及び接触時間をどのように変えるかがMeSiCl3への変換に影響を及ぼすことを示す。条件及び分析結果は以下の表に記載する。実施例2~40水素、塩化メチル及び四塩化ケイ素を、異なる温度、ガス流量比、及び接触時間で、上述の手順に従って調製した各種非担持及び担持金属触媒の存在下で混ぜ合わせた。活性炭を実施例2~10、12~25、27、29、及び31~40において用いる担持材とした。実施例11、26、28、及び30は触媒担持材を含有しなかった。結果、反応条件、ガス流量比、及び触媒構成を以下の表に記載する。実施例41Pdブラック上に0.53のCuを有する非担持二金属触媒を、0.0123gのCuCl22H2Oを10mLの脱イオン水中に溶解することにより調製した。この溶液1.03mLを0.1077gの高表面積PdブラックSigma-Aldrichに添加した。真空を20分間吸引し、溶液をPdブラックの細孔中に注入し、粒子を定着させた後、0.56mLの溶液を除去し、Pdブラックと混合した0.47mLのCuCl22H2O溶液を残した。溶液を50°Cで2時間真空乾燥した。調製したままの触媒はPdブラック上に0.20重量のCu金属量を含有した。次に、触媒をすぐに管状反応器中に入れた後、H2でパージし、500°C、100sccmの水素流下で2時間還元した。その後触媒をH2及びSiCl4に550°Cで1時間曝露した。その後H2、SiCl4、及びMeClを反応器中に導入することにより反応を開始させた。試料を採り、上述したように試験した。550°C、0psig、1:0.05のH2のMeClに対する流量比、1:0.42のH2のSiCl4に対する流量比、及び約0.4秒の接触時間で、反応は、SiCl4流に対して、約4のMe2SiCl2、及び2.14のMeSiCl3を生成した。実施例42フロー反応器中、上述のように調製した活性炭上に13.2のPd及び0.92のCuを有する触媒約0.5gを、上述のように反応器管に入れた。水素及びSiCl4を触媒に500°Cで1時間流すことにより触媒を活性させた後、H2、SiCl4及び1-クロロプロパンを反応器中に流し入れることにより反応を開始させた。液体1-クロロプロパン及びSiCl4を含有するバブラーによって水素をバブリングすることにより、1-クロロプロパン及びSiCl4を水素流に添加した。反応器から試料を採り、上述のようにGC-MSにより分析した。反応温度、水素の流量、及びSiCl4/1-クロロプロパンバブラー温度を変えながら、反応を行った。触媒活性化及び反応を大気圧で行った。この実施例は、本発明のプロセスを用い、テトラクロロシランからプロピルトリクロロシランを製造することができることを示す。試験した各種条件での結果を以下の表に記載する。実施例43フロー反応器中、上述のように調製した約0.5gの活性炭上に18.8重量のPd及び2.0重量のCuを含む担持触媒を、上述のように反応器管に入れた。触媒を活性化させた後、H2、SiCl4及びクロロエタンを適当な条件で反応器中に流し入れることにより反応を開始させた。試料を採り、上述のようにGC-MSにより分析した。反応温度、水素の流量、クロロエタンの流量、SiCl4バブラー温度及び圧力を変えながら反応を行った。触媒活性化を大気圧で行った。この実施例は、本発明のプロセスを用い、テトラクロロシランからエチルトリクロロシランを製造することができること、及び圧力、温度及び流量比を変える効果を示す。各種条件での結果を以下の表に記載する。"