"Ni-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造するために使用される粉末であって、フェライト仮焼粉末とNiO粉末とからなり、前記フェライト仮焼粉末の比表面積が4.0m2/g~14.0m2/gであり、該フェライト仮焼粉末に含まれるスピネルはNiが固溶しておらず、前記スピネルの組成はFe2O3が49.0mol~60.0molであって残部がCuOとZnOであり、CuOのmolに対するZnOのmolの比が1.0~4.0であることを特徴とする粉末。請求項1に記載の粉末から製造されることを特徴とするスラリー。請求項2に記載のスラリーから製造されることを特徴とするNi-Cu-Zn系セラミック焼結体。Ni-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造するために使用される粉末の製造方法であって、NiO粉末を除くFe2O3粉末とCuO粉末とZnO粉末とを混合した混合粉末を得る混合工程と、該混合工程によって得られた混合粉末を仮焼してフェライト仮焼体を得る仮焼工程と、該仮焼工程によって得られたフェライト仮焼体を粉砕してフェライト仮焼粉末を得ると同時に該フェライト仮焼粉末にNiO粉末を混合する粉砕混合工程と、を具備し、前記粉砕混合工程によって得られるフェライト仮焼粉末の比表面積が4.0m2/g~14.0m2/gであり、該フェライト仮焼粉末に含まれるスピネルはNiが固溶しておらず、前記スピネルの組成はFe2O3が49.0mol~60.0molであって残部がCuOとZnOであり、CuOのmolに対するZnOのmolの比が1.0~4.0であることを特徴とする粉末の製造方法。請求項4に記載の粉末の製造方法によって製造される粉末を使用してスラリーを調合する調合工程を具備することを特徴とするスラリー製造方法。請求項5に記載のスラリー製造方法によって製造されるスラリーを使用して成形体を作成し、該成形体を焼成してセラミック焼結体を得る焼成工程を具備することを特徴とするセラミック焼結体製造方法。ところで、ゲルキャスト法によって精密な形状のセラミック成形体を作製するためには、当該セラミック成形体を作製するために使用されるスラリーが型のキャビティの隅々にまで均一に流れ込むことが望まれる。換言すると、スラリー中に分散されているセラミック粉末が型のキャビティの隅々にまで均一に流れ込むことが望まれる。そして、このためには、スラリーの粘度が低いほど好ましい。一方、ゲルキャスト法によって作製したセラミック成形体を焼成して密度の高いセラミック焼結体を得るためには、セラミック成形体中のセラミック粉末濃度が高いことが望まれ、したがって、セラミック成形体を得るために使用されるスラリー中のセラミック粉末濃度が高いことが望まれる。しかしながら、一般的には、スラリー中のセラミック粉末濃度が高くなると、スラリーの粘度が高くなってしまう。このことは、前述したように精密な形状のセラミック成形体を得るという観点からは好ましくない。このように、密度が高く、精密な形状のセラミック焼結体を得るために使用されるスラリーには、当該スラリー中のセラミック粉末濃度が高く且つ当該スラリーの粘度が低いという互いに背反する事項が要求される。そこで、本発明の目的は、フェライト粉末濃度は高く、且つ粘度が低いスラリーを製造することができる粉末および該粉末を製造する方法を提供することにある。上記目的を達成するために、本願の1番目の発明は、Ni-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造するために使用される粉末であって、フェライト仮焼粉末とNiO粉末とからなり、前記フェライト仮焼粉末の比表面積が4.0m2/g~14.0m2/gであり、該フェライト仮焼粉末に含まれるスピネルはNiが固溶しておらず、前記スピネルの組成はFe2O3が49.0mol~60.0molであって残部がCuOとZnOであり、CuOのmolに対するZnOのmolの比が1.0~4.0であることを特徴とする粉末である。この発明によれば、以下の効果が得られる。すなわち、Ni-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造するために使用されるスラリーを製造する粉末として、Fe2O3粉末とNiO粉末とCuO粉末とZnO粉末とを混合し、これら混合された粉末を仮焼して得られるフェライト仮焼粉末が従来から知られている。ところが、この従来のフェライト仮焼粉末の残留磁化を、振動試料型磁力計VSMによって測定してみると、この従来のフェライト仮焼粉末の残留磁化は比較的高くなっている。このため、斯くして得られたフェライト仮焼粉末を使用してスラリーが製造されると、フェライト仮焼粉末の比較的高い残留磁化に起因してスラリーの粘度が高くなってしまう。これに関し、本願の発明者の研究から、Fe2O3粉末とNiO粉末とCuO粉末とZnO粉末とを混合して仮焼した時、フェライト中へのNiの固溶量が多くなるにつれて、得られるフェライト仮焼粉末の残留磁化が高くなることが判明した。そして、NiO粉末を除くFe2O3粉末とCuO粉末とZnO粉末とを混合して仮焼し、それによって得られるフェライト仮焼体を粉砕してフェライト仮焼粉末を得るときにNiO粉末を混合し、それによって得られる粉末を主成分としてスラリーを製造すれば、スラリーの粘度が低くなることが判明した。したがって、本発明の粉末は、Niが固溶していないフェライト仮焼粉末とNiO粉末とからなることから、粉末濃度が高いスラリーを製造したとしても、そのスラリーの粘度を低く抑えることができる。また、本願の2番目の発明は、本願の1番目の発明の粉末から製造されることを特徴とするスラリーである。この発明のスラリーは、本願の1番目の発明の粉末を使用して製造されたものであるので、粉末濃度が高く且つ粘性が低いスラリーである。また、本願の3番目の発明は、本願の2番目の発明のスラリーから製造されることを特徴とするNi-Cu-Zn系セラミック焼結体である。この発明のNi-Cu-Zn系セラミック焼結体は、本願の2番目の発明の粉末濃度が高く且つ粘性が低いスラリーを使用して製造されたものであるので、高密度で且つ所望の精密な形状を備えた焼結体である。また、本願の4番目の発明は、Ni-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造するために使用される粉末の製造方法であって、NiO粉末を除くFe2O3粉末とCuO粉末とZnO粉末とを混合した混合粉末を得る混合工程と、該混合工程によって得られた混合粉末を仮焼してフェライト仮焼体を得る仮焼工程と、該仮焼工程によって得られたフェライト仮焼体を粉砕してフェライト仮焼粉末を得ると同時に該フェライト仮焼粉末にNiO粉末を混合する粉砕混合工程と、を具備し、前記粉砕混合工程によって得られるフェライト仮焼粉末の比表面積が4.0m2/g~14.0m2/gであり、該フェライト仮焼粉末に含まれるスピネルはNiが固溶しておらず、前記スピネルの組成はFe2O3が49.0mol~60.0molであって残部がCuOとZnOであり、CuOのmolに対するZnOのmolの比が1.0~4.0であることを特徴とする粉末の製造方法である。この発明の製造方法によれば、本願の1番目の発明に関連して説明したように、粉末濃度が高く且つ粘度が低いスラリーを製造することができる粉末が得られる。また、本願の5番目の発明は、本願の4番目の発明の製造方法によって製造された粉末を使用してスラリーを調合する調合工程を具備することを特徴とするスラリー製造方法である。この発明の製造方法によれば、粉末濃度が高く且つ粘度が低いスラリーを製造することができる。また、本願の6番目の発明は、本願の5番目の発明のスラリー製造方法によって製造されるスラリーを使用して成形体を作成し、該成形体を焼成してセラミック焼結体を得る焼成工程を具備することを特徴とするセラミック焼結体製造方法である。この発明の製造方法によれば、高密度で且つ所望の精密な形状のセラミック焼結体を製造することができる。以下、本発明の粉末の実施形態について説明する。本実施形態の粉末は、Ni-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造するために使用される粉末である。また、本実施形態の粉末は、フェライト仮焼粉末とNiO粉末とからなる。また、フェライト仮焼粉末の比表面積は4.0m2/g~14.0m2/gである。また、フェライト仮焼粉末に含まれるスピネルはNiが固溶していない。また、スピネルの組成はFe2O3が49.0mol~60.0molであって残部がCuOとZnOである。また、スピネル中のCuOとZnOとのmolの比は1.0~4.0である。また、本実施形態の粉末は、図1に示したフローに従って製造される。まず始めに、図1のステップ10に示したように、最終的に得ようとするNi-Cu-Zn系セラミック焼結体を構成することができる原料粉末すなわち、Fe2O3粉末、NiO粉末、CuO粉末、および、ZnO粉末が準備される。このとき、最終的に得ようとするセラミック焼結体における所望のFe、Ni、Cu、および、Znのmolに応じてFe2O3粉末、NiO粉末、CuO粉末、および、ZnO粉末が秤量される。最終的に得ようとするNi-Cu-Zn系セラミック焼結体の組成としては、Fe2O3、NiO、CuO、ZnOの合計を100molとして、Fe2O3:47~49mol、NiO:8~33mol、CuO:7~12mol、ZnO:9~36mol、であることが好ましい。この範囲を外れると、焼結体の緻密化度が低下したり、インダクタとしての所望の特性を満たさなかったりする。Ni-Cu-Zn系セラミック焼結体中には、必要に応じてMn、Co、Cr、Bi等の酸化物が含まれていてもよい。これらは、Fe2O3粉末等の原料粉末と同じタイミングで添加されてもよいし、NiO粉末を混合するタイミングで添加されてもよい。また、Ni-Cu-Zn系セラミック焼結体中には、ZrやSi、P、Sなどの不可避的に混入する不純物が含まれていてもよい。次いで、図1のステップ11に示したように、秤量された原料粉末のうち、NiOを除いた原料粉末すなわち、Fe2O3粉末、CuO粉末、および、ZnO粉末が混合される。尚、これら原料粉末の混合は、例えば、純水例えば、イオン交換水を分散媒としたボールミル法による湿式混合によって行われる。次いで、図1のステップ12に示したように、斯くして混合された原料粉末が予め定められた温度すなわち、仮焼温度でもって予め定められた時間に亘って仮焼され、フェライト仮焼体が得られる。ここで、予め定められた温度および予め定められた時間は、CuおよびZnが完全に或いは略完全に固溶する温度および時間に設定される。もちろん、フェライト仮焼体を製造するときに、NiO粉末は使用されていないので、フェライト仮焼体には、Niは固溶していない。次いで、図1のステップ13に示したように、斯くして得られたフェライト仮焼体が粉砕されると同時に該粉砕されたフェライト仮焼体に上記準備されたNiO粉末が混合される。斯くして、フェライト仮焼粉末とNiO粉末とからなる本実施形態の粉末が得られる。また、本実施形態の粉末を使用したセラミック焼結体は、図2に示したフローに従って製造される。まず始めに、図2のステップ20に示したように、図1のフローに従って製造された粉末に、分散媒と分散剤とが混合され、これによって、スラリーが調合される。このとき、スラリー中の粉末濃度が40vol~70volとなるように、スラリーが製造される。次いで、図2のステップ21に示したように、上述したように製造されたスラリーにゲル化剤と触媒と硬化剤とが混合される。次いで、図2のステップ22に示したように、斯くしてゲル化剤と触媒と硬化剤が混合されたスラリーが所望の形状のキャビティを有する型内に注入される。次いで、図2のステップ23に示したように、この型が大気中にて予め定められた時間に亘って放置されることによって、スラリー中の分散媒とゲル化剤と硬化剤とが反応し、スラリーがゲル化し、その後、スラリーが固化してセラミック成形体が作製される。ここで、予め定められた時間は、例えば、12時間~2日間である。このとき使用される分散媒は、水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒等から選択される。分散媒として選択される有機溶媒には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール類、高級アルコール、アセトン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、エチレングリコール等のジオール類、グリセリン等のトリオール類、グルタル酸ジメチル等の多塩基酸エステル、トリアセチン等の2個以上のエステル基を有するエステル類、ポリカルボン酸エステル等のポリエステル系化合物、リン酸エステル、アミン縮合物、ノニオン系特殊アミド化合物等がある。分散媒は、純物質及び混合物のいずれであってもよい。ゲル化剤は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等から選択され、分散媒との相溶性が高く分散媒との反応性が低い物質から選択される。エポキシ樹脂としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール、グリセリンジグリシジルエーテル等を構成モノマーとして含む重合体が選択される。アクリル樹脂としては、アクリルアミド、メタクリル酸、N-ヒドロキシメチルアクリルアミド、アクリル酸アンモニウム塩等を構成モノマーとして含む重合体が選択される。ウレタン樹脂としては、MDI4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート系イソシアネート、HDIヘキサメチレンジイソシアネート系イソシアネート、TDIトリレンジイソシアネート系イシソアネート、IPDIイソホロンジイソシアネート系イソシアネート、イソチオシナート等を構成モノマーとして含む重合体が選択される。硬化剤は、ゲル化剤と化学的に結合すると共にスラリーの固化を促進する物質であり、ゲル化剤との反応性を考慮して選択される。具体的には、エチレングリコール等の多価アルコール類、テトラメチルエチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ヘキサンジアミン、エチレンジアミン等の重合体、ポリアルキレンポリアミン、1-2-アミノエチルピペラジン等のピペラジン類、ポリオキシプロピレンジアミン等のポリエーテルアミン、N,N ́-メチレンビスアクリルアミド、6-ジメチルアミノ-1-ヘキサノール、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等から選択される。硬化ゲル化させる反応を促進するために6-ジメチルアミノ-1-ヘキサノール等の触媒がさらに添加される。次いで、図2のステップ24に示したように、斯くして作製されたセラミック成形体が型から取り出されるすなわち、離型される。尚、型からセラミック成形体を取り出し易くするために、型のキャビティを画成する壁面上には、型のキャビティにスラリーが流し込まれる前に離型剤が予め塗布されている。次いで、図2のステップ25に示したように、この取り出されたセラミック成形体を予め定められた時間に亘って予め定められた温度の環境に晒されることによって乾燥される。ここで、予め定められた時間は、例えば、数時間である。また、予め定められた温度は、例えば、100°C~150°Cである。なお、必要に応じて乾燥前にプレス等の処理を行ってもよい。次いで、図2のステップ26に示したように、斯くして乾燥されたセラミック成形体が焼成炉内に入れられる。そして、焼成炉内の温度が予め定められた温度に予め定められた時間だけ保持される。ここで、予め定められた温度は、例えば、400°C~600°Cである。また、予め定められた時間は、例えば、数時間である。これによって、セラミック成形体の脱脂が行われる。そして、焼成炉内の温度が予め定められた昇温速度でもって予め定められた温度まで昇温せしめられ、焼成炉内の温度がこの予め定められた温度に予め定められた時間だけ保持される。そして、焼成炉内の温度が予め定められた降温速度でもって大気温度まで降温せしめられる。ここで、予め定められた昇温速度は、例えば、30°C/h~2000°C/hである。また、予め定められた温度は、例えば、700°C~1100°Cである。また、予め定められた降温速度は、例えば、30°C/h~200°C/hである。これによって、セラミック成形体が焼成され、セラミック焼結体が得られる。尚、図2に示したフローでは、ステップ26に示したように、セラミック成形体の脱脂と焼成とが一連の工程でもって行われるが、セラミック成形体の脱脂と焼成とが別々の工程でもって行われてもよい。尚、本実施形態の粉末は、例えば、積層型インダクタやコイル埋設型インダクタの製造に使用される。コイル埋設型インダクタの製造では、本実施形態の粉末の製造とは別に、Ag線からコイルが作製され、このコイルが型のキャビティ内に配置される。一方、本実施形態の粉末を使用してスラリーが製造され、この製造されたスラリーに、上述したように、ゲル化剤と触媒と硬化剤とが混合される。そして、これらゲル化剤と触媒と硬化剤とが混合されたスラリーが、コイルが配置された型のキャビティ内に注入される。そして、この型が大気中にて予め定められた時間に亘って放置され、コイルを内包したセラミック成形体が作製される。そして、この作製されたセラミック成形体が型から取り出され、この取り出されたセラミック成形体が乾燥される。そして、この乾燥されたセラミック成形体が焼成される。斯くして、コイル埋設型インダクタが製造されることになる。また、本実施形態の粉末は、粉末濃度が高く且つ粘度が低いスラリーを製造できるので、テープ成形や、スリップキャスト成形などスラリーを調合する調合工程を具備する公知の成形法にも好適に用いることができる。下の表1に、Fe2O3が47.6mol、NiOが16.3mol、CuOが9.1mol、ZnOが27.0molである組成のNi-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造した場合において、本発明の粉末、それを使用して製造したスラリー、および、それを使用して製造したセラミック焼結体に関する実験データを比較例および実施例として記載し、従来の粉末、それを使用して製造したスラリー、および、それを使用して製造したセラミック焼結体に関する実験データを従来例として記載した。尚、本発明の粉末とは、上述したように、Fe2O3粉末とCuO粉末とZnO粉末とを混合し、この混合した粉末を仮焼してフェライト仮焼体を得た後に、このフェライト仮焼体を粉砕してフェライト仮焼粉末を形成すると同時にNiO粉末を混合して得た粉末であり、従来の粉末とは、Fe2O3粉末とNiO粉末とCuO粉末とZnO粉末とを混合し、この混合した粉末を仮焼してフェライト仮焼体を得た後に、このフェライト仮焼体を粉砕して得たフェライト仮焼粉末である。また、表1において、メディアン径粒度は、比較例および実施例では、本発明の粉末の粒子径分布において質量積算値が50となる粒子径であり、従来例では、フェライト仮焼粉末の粒子径分布において質量積算値が50となる粒子径である。なお、このメディアン径粒度は、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置HORIBA製、LA-750を用い、水を分散媒として測定した。また、比表面積は、比較例および実施例では、本発明の粉末の単位質量当たりの表面積BET値であり、従来例では、フェライト仮焼粉末の単位質量当たりの表面積である。なお、この比表面積は、比表面積測定装置島津製作所製、フローソーブII2300を用いて測定した。また、スピネルの組成は、フェライト仮焼粉末に含まれるスピネルの組成である。なお、このスピネル組成は、以下のようにして算出した。すなわち、混合粉末と仮焼粉末NiO粉末混合後のX線回折分析によってパターンを得て、各粉末において、Fe2O3の014面、NiOの200面、CuOの111面、ZnOの101面の積分強度を求め、各原料について、積分強度比=仮焼粉末の積分強度/混合粉末の積分強度を求め、各原料の反応度=1-仮焼粉末の積分強度/混合粉末の積分強度を算出し、混合した量molに反応度を掛け、全体が100molとなるようにしてスピネル組成を算出した。なお、X線回折分析は、X線回折パターンを2θ/θ法により20.0°~70.0°の範囲で測定することにより行った。また、X線回折装置は、リガク社製のX線回折装置型番RINT2500を用い、Cu-Kα線を線源とし、グラファイトモノクロメータを検出器の手前に設置した。X線発生条件は、50kV-300mA、スキャン幅0.02°、スキャン速度1°/分、発散スリット1°、散乱スリット1°、受光スリット0.3mmとした。また、残留磁化は、フェライト仮焼粉末の残留磁化であって、振動試料型磁力計VSMにおいて磁場の掃引速度を5分/ループとし且つタイムコンスタントを100msとして、15KOeキロエルステッドの最大印加磁場を印加したときの単位質量当たりの残留磁束密度である。なお、この残留磁束密度は、振動試料型磁力計理研電子株式会社製、BHV-525を用いて測定した。また、表1において>20000は、スラリーの粘度が20000cpsよりも高いことを示している。なお、表1における粘度は、フェライトスラリーについて、E型粘度計ブルックフィールド社製、DV-IIを用いて、回転速度0.3rpmにおける粘度スラリー粘度を測定した。スラリーは、粉末100重量部に対して、分散媒としてグルタル酸ジメチル27重量部、トリアセチン3重量部、分散剤としてカルボン酸共重合体2重量部を混合して作製し、粘度測定に供した。このスラリーを使用して、ゲル化剤として4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート6.4重量部、硬化剤としてエチレングリコール0.35重量部、触媒として6-ジメチルアミノ-1-ヘキサノール0.06重量部を添加し、型に流し込み、硬化させセラミック成形体を作製した。また、相対密度は、スラリーを使用して作製したセラミック成形体を900°Cで焼成して最終的に得られたNi-Cu-Zn系セラミック焼結体の相対密度である。尚、本明細書での相対密度は、アルキメデス法で密度を求め、この密度の理論密度に対する比を表示したものである。表1の実験データから以下のことが判る。すなわち、スラリーが型のキャビティ内に注入されたときにスラリーがキャビティの隅々にまで均一に行き渡る粘度の上限である500cps換言すると500cps以下を好適粘度とし、最終的に得られたセラミック焼結体の相対密度として好適な下限の密度である95換言すると95以上を好適相対密度としたとき、粉末濃度40volのスラリーを製造し、そのスラリーを使用してセラミック焼結体を製造した場合、スラリーの粘度が好適粘度以下であって且つセラミック焼結体の相対密度が好適相対密度以上である例は、実施例1-2~1-4、2-1~2-5、3-1のみであり、その他の実施例、比較例および従来例は、いずれも、スラリーの粘度が好適粘度よりも高いか、或いは、セラミック焼結体の相対密度が好適相対密度よりも小さかった。一方、スラリーの粘度が好適粘度以下であったが、相対密度が好適相対密度よりも小さかった実施例1-1、比較例1-1、2-1、3-1、従来例1-1、2-1の粉末を用いて粉末濃度45volのスラリーを製造し、そのスラリーを使用してセラミック焼結体を製造した場合、スラリーの粘度が好適粘度以下であって且つセラミック焼結体の相対密度が好適相対密度以上である例は、実施例1-1のみであり、その他の比較例および従来例は、いずれも、スラリーの粘度が好適粘度よりも高いか、或いは、セラミック焼結体の相対密度が好適相対密度よりも小さかった。そして、実施例と従来例とを比較すると、実施例のスラリーの粘度は、従来例のスラリーの粘度よりも低く、仮焼温度が高いほど従来例のスラリーの粘度よりも大幅に低くなっていることが判る。また、従来例では、仮焼温度が高くなるほど、スラリーの粘度が高くなるのに対し、実施例では、仮焼温度が高くなるほど、スラリーの粘度が低くなることも判る。さらに、フェライト仮焼粉末の比表面積を3.0~16.0m2/gの間で変え、仮焼温度を様々に変えて本発明の粉末を製造し、その粉末を使用してスラリーを製造し、そのスラリーを使用してセラミック焼結体を製造したところ、フェライト仮焼粉末の比表面積が4.0m2/gよりも小さくなると、セラミック焼結体の相対密度は好適相対密度よりも小さくなってしまい、フェライト仮焼粉末の比表面積が14.0m2/gよりも大きくなると、スラリーの粘度が好適粘度よりも高くなってしまった。また、下の表2に、Fe2O3が48.1mol、NiOが12.6mol、CuOが8.0mol、ZnOが31.3molである組成のNi-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造した場合において、表1と同様の実験データを記載した。また、下の表3に、Fe2O3が47.3mol、NiOが28.0mol、CuOが10.2mol、ZnOが14.5molである組成のNi-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造した場合において、表1と同様の実験データを記載した。また、下の表4に、Fe2O3が48.3mol、NiOが8.6mol、CuOが7.4mol、ZnOが35.7molである組成のNi-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造した場合において、表1と同様の実験データを記載した。また、下の表5に、Fe2O3が47.2mol、NiOが32.5mol、CuOが10.6mol、ZnOが9.7molである組成のNi-Cu-Zn系セラミック焼結体を製造した場合において、表1と同様の実験データを記載した。表2~表5の実験データから以下のことが判る。すなわち、粉末濃度40volのスラリーを製造し、そのスラリーを使用してセラミック焼結体を製造した場合、スラリーの粘度が好適粘度以下であって且つセラミック焼結体の相対密度が好適相対密度以上である例は、実施例4-1~4-3、5-1~5-3であり、その他の比較例および従来例は、いずれも、スラリーの粘度が好適粘度よりも高いか、或いは、セラミック焼結体の相対密度が好適相対密度よりも小さかった。そして、実施例と従来例とを比較すると、ここでも、実施例のスラリーの粘度が従来例のスラリーの粘度よりも低く、仮焼温度が高いほど従来例のスラリーの粘度よりも大幅に低くなっていることが判る。また、表1~5の結果から、ZnO/CuOが1.0~4.0の範囲内であった場合に、好適条件すなわち、スラリーの粘度が好適粘度以下であってセラミック焼結体の相対密度が好適相対密度以上であるという条件を満たすことが判る。以上の実験結果から、フェライト仮焼粉末の比表面積を4.0~14.0m2/gとし、フェライト仮焼粉末中のスピネル組成を、Fe2O3が49.0~60molもちろん、NiOは0molであるので、残部はCuOとZnOであるであってZnO/CuOが1.0~4.0であるようにしたとき、スラリーの粘度が好適粘度以下となり且つセラミック焼結体の相対密度が好適相対密度以上となることが判った。すなわち、本発明の粉末を使用してスラリーを製造したとき、そのスラリーの粘度は好適粘度以下であり、そのスラリーを使用してセラミック焼結体を製造したとき、そのセラミック焼結体の相対密度は好適相対密度以上となる。"