"樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤、チオキサントン化合物及び溶剤を含み、光重合開始剤が、α-アミノケトン化合物、ビイミダゾール化合物及びオキシム化合物含む光重合開始剤であり、チオキサントン化合物の含有量が、α-アミノケトン化合物の含有量100質量部に対して、80質量部以上160質量部以下である感光性樹脂組成物。ビイミダゾール化合物の含有量が、α-アミノケトン化合物の含有量100質量部に対して、50質量部以上400質量部以下である請求項1記載の感光性樹脂組成物。オキシム化合物の含有量が、α-アミノケトン化合物の含有量100質量部に対して、10質量部以上100質量部以下である請求項1又は2記載の感光性樹脂組成物。樹脂が、環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位を含む樹脂である請求項1~3のいずれか一項記載の感光性樹脂組成物。請求項1~4のいずれか一項記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン。請求項5記載のパターンを含む表示装置。フォトスペーサを形成するための請求項1~4のいずれか一項記載の感光性樹脂組成物の使用。しかしながら、従来から提案されている感光性樹脂組成物では、得られるパターンと基板との密着性について必ずしも十分に満足できるものではなかった。本発明は、以下の[1]~[7]を提供するものである。[1]樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤、チオキサントン化合物及び溶剤を含み、光重合開始剤が、α-アミノケトン化合物、ビイミダゾール化合物及びオキシム化合物含む光重合開始剤であり、チオキサントン化合物の含有量が、α-アミノケトン化合物の含有量100質量部に対して、80質量部以上160質量部以下である感光性樹脂組成物。[2]ビイミダゾール化合物の含有量が、α-アミノケトン化合物の含有量100質量部に対して、50質量部以上400質量部以下である[1]記載の感光性樹脂組成物。[3]オキシム化合物の含有量が、α-アミノケトン化合物の含有量100質量部に対して、10質量部以上100質量部以下である[1]又は[2]記載の感光性樹脂組成物。[4]樹脂が、環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位を含む樹脂である[1]~[3]のいずれか一項記載の感光性樹脂組成物。[5][1]~[4]のいずれか一項記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン。[6][5]記載のパターンを含む表示装置。[7]フォトスペーサを形成するための[1]~[4]のいずれか一項記載の感光性樹脂組成物の使用。本発明の感光性樹脂組成物によれば、基板との密着性に優れたパターンを得ることができる。本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂A、光重合性化合物B、光重合開始剤C、光重合開始助剤C1及び溶剤Dを含んで構成され、光重合開始剤Cは、α-アミノケトン化合物、ビイミダゾール化合物及びオキシム化合物を含み、光重合開始助剤C1はチオキサントン化合物を含む。なお、本明細書においては、各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で又は組合せて使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂Aを含む。本発明の感光性樹脂組成物に用いられる樹脂Aとしては、アルカリ溶解性を示す樹脂であることが好ましい。アルカリ溶解性とは、アルカリ化合物の水溶液である現像液に溶解する性質のことをいう。アルカリ溶解性を示す樹脂としては、樹脂A2-1:不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種a以下aという場合があると炭素数2~4の環状エーテル構造を有する不飽和化合物b以下bという場合があるとを重合してなる共重合体、樹脂A2-2:a及びbと共重合可能な単量体cただし、炭素数2~4の環状エーテル構造は有さない。以下cという場合があると、aとbとを重合してなる共重合体、樹脂A2-3:aとcとを重合してなる共重合体、樹脂A2-4:aとcとを重合してなる共重合体にbを反応させて得られる樹脂等が挙げられる。樹脂Aとしては、樹脂A2-1及び樹脂A2-2が好ましい。aとしては、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、o-ビニル安息香酸、m-ビニル安息香酸、p-ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸類;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、3‐ビニルフタル酸、4-ビニルフタル酸、3,4,5,6-テトラヒドロフタル酸、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、1、4-シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸類;メチル-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸、5-カルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-6-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-6-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物類;無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、3-ビニルフタル酸無水物、4-ビニルフタル酸無水物、3,4,5,6-テトラヒドロフタル酸無水物、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、5,6-ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン無水物ハイミック酸無水物等の不飽和ジカルボン酸類無水物;こはく酸モノ2-メタアクリロイルオキシエチル、フタル酸モノ2-メタアクリロイルオキシエチル等の2価以上の多価カルボン酸の不飽和モノメタアクリロイルオキシアルキルエステル類;α-ヒドロキシメチルアクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート類等が挙げられる。これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が共重合反応性の点やアルカリ溶解性の点から好ましく用いられる。本明細書において、メタアクリル酸とは、アクリル酸及びメタクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも1種を表す。メタアクリロイル及びメタアクリレート等の表記も同様の意味を有する。bとしては、例えば、オキシラン環、オキセタン環およびテトラヒドロフラン環オキソラン環からなる群から選ばれる少なくとも1種を有する不飽和化合物が挙げられる。bとしては、炭素数2~4の環状エーテル構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体であることが好ましく、炭素数2~4の環状エーテル構造とメタアクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。bとしては、例えば、オキシラニル基を有する不飽和化合物b1以下b1という場合がある、オキセタニル基を有する不飽和化合物b2以下b2という場合がある、テトラヒドロフリル基を有する不飽和化合物b3以下b3という場合があるなどが挙げられる。オキシラニル基を有する不飽和化合物b1とは、オキシラニル基を有する重合性化合物を指す。b1は、例えば、鎖式オレフィンをエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体b1-1以下b1-1という場合がある、環式オレフィンをエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体b1-2以下b1-2という場合があるが挙げられる。b1としては、オキシラニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体であることが好ましく、オキシラニル基とメタアクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましく、b1-2とメタアクリロイルオキシ基とを有する単量体がさらに好ましい。b1-1としては、具体的には、グリシジルメタアクリレート、β-メチルグリシジルメタアクリレート、β-エチルグリシジルメタアクリレート、グリシジルビニルエーテル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-メチル-o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-メチル-m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-メチル-p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、2,3-ビスグリシジルオキシメチルスチレン、2,4-ビスグリシジルオキシメチルスチレン、2,5-ビスグリシジルオキシメチルスチレン、2,6-ビスグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,4-トリスグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,5-トリスグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,6-トリスグリシジルオキシメチルスチレン、3,4,5-トリスグリシジルオキシメチルスチレン、2,4,6-トリスグリシジルオキシメチルスチレン、特開平7-248625号公報に記載される化合物等が挙げられる。b1-2としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサン例えば、セロキサイド2000;ダイセル化学工業株製、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート例えば、サイクロマーA400;ダイセル化学工業株製、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート例えば、サイクロマーM100;ダイセル化学工業株製、式Iで表される化合物、式IIで表される化合物等が挙げられる。[式I及び式IIにおいて、R1及びR2は、互いに独立に、水素原子、又は炭素数1~4のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。X1及びX2は、互いに独立に、単結合、-R3-、-R3-O-、-R3-S-、-R3-NH-を表す。R3は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。は、Oとの結合手を表す。]炭素数1~4のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、3-ヒドロキシプロピル基、1-ヒドロキシ-1-メチルエチル基、2-ヒドロキシ-1-メチルエチル基、1-ヒドロキシブチル基、2-ヒドロキシブチル基、3-ヒドロキシブチル基、4-ヒドロキシブチル基等が挙げられる。R1及びR2としては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基等が挙げられる。X1及びX2としては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、-CH2-O-はOとの結合手を表す基、-CH2CH2-O-基が挙げられ、より好ましくは単結合、-CH2CH2-O-基が挙げられる。式Iで表される化合物としては、式I-1~式I-15で表される化合物等が挙げられる。好ましくは式I-1、式I-3、式I-5、式I-7、式I-9、式I-11~式I-15が挙げられる。より好ましくは式I-1、式I-7、式I-9、式I-15が挙げられる。式IIで表される化合物としては、式II-1~式II-15で表される化合物等が挙げられる。好ましくは式II-1、式II-3、式II-5、式II-7、式II-9、式II-11~式II-15が挙げられる。より好ましくは式II-1、式II-7、式II-9、式II-15が挙げられる。式Iで表される化合物及び式IIで表される化合物は、それぞれ単独で用いることができる。また、それらは、任意の比率で混合することができる。混合する場合、その混合比率はモル比で、好ましくは式I:式IIで、5:95~95:5、より好ましくは10:90~90:10、とりわけ好ましくは20:80~80:20である。オキセタニル基を有する不飽和化合物b2としては、オキセタニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体であることが好ましく、オキセタニル基とメタアクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。b2としては、例えば、3-メチル-3-メタクリルロイルオキシメチルオキセタン、3-メチル-3-アクリロイルオキシメチルオキセタン、3-エチル-3-メタクリロイルオキシメチルオキセタン、3-エチル-3-アクリロイルオキシメチルオキセタン、3-メチル-3-メタクリロイルオキシエチルオキセタン、3-メチル-3-アクリロイルオキシエチルオキセタン、3-エチル-3-メタクリロイルオキシエチルオキセタン、3-エチル-3-アクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。テトラヒドロフリル基を有する不飽和化合物b3としては、テトラヒドロフリル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体であることが好ましく、テトラヒドロフリル基とメタアクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。b3としては、具体的には、テトラヒドロフルフリルアクリレート例えば、ビスコートV150、大阪有機化学工業株製、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。cとしては、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート等のメタアクリル酸アルキルエステル類;シクロヘキシルメタアクリレート、2-メチルシクロヘキシルメタアクリレート、トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルメタアクリレート当該技術分野では、慣用名として、ジシクロペンタニルメタアクリレートといわれている。、ジシクロペンタニルオキシエチルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート等のメタアクリル酸シクロアルキルエステル類;フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート等のメタアクリル酸アリール又はアラルキルエステル類;マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル;2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート等のメタアクリル酸ヒドロキシアルキルエステル類;ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-2’-ヒドロキシエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジ2’-ヒドロキシエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジエトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシ-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシ-5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシメチル-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-tert-ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-フェノキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ビスtert-ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ビスシクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン等のビシクロ不飽和化合物類;N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-スクシンイミジル-3-マレイミドベンゾエート、N-スクシンイミジル-4-マレイミドブチレート、N-スクシンイミジル-6-マレイミドカプロエート、N-スクシンイミジル-3-マレイミドプロピオネート、N-9-アクリジニルマレイミド等のジカルボニルイミド誘導体類;スチレン、α-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、ビニルトルエン、p-メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、1,3-ブタジエン、イソプレン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン等が挙げられる。これらのうち、スチレン、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン等が、共重合反応性及びアルカリ溶解性の点から好ましい。樹脂A2-1において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂A2-1を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。aに由来する構造単位;5~60モルより好ましくは10~50モルbに由来する構造単位;40~95モルより好ましくは50~90モル樹脂A2-1の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、保存安定性、現像性、耐溶剤性、耐熱性および機械強度が良好になる傾向がある。樹脂A2-1としては、bがb1である樹脂が好ましく、bがb1-2である樹脂がより好ましい。樹脂A2-1は、例えば、文献高分子合成の実験法大津隆行著発行所株化学同人第1版第1刷1972年3月1日発行に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。具体的には、a及びbの所定量、重合開始剤及び溶剤等を反応容器中に仕込んで、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気で、攪拌、加熱、保温する方法が例示される。なお、ここで用いられる重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているもののいずれをも使用することができる。例えば、重合開始剤としては、アゾ化合物2,2′-アゾビスイソブチロニトリル、2,2′-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル等や有機過酸化物ベンゾイルペルオキシド等が挙げられ、溶剤としては、各単量体を溶解するものであればよく、感光性樹脂組成物の溶剤Dとして後述する溶剤等を用いることができる。なお、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体粉体として取り出したものを使用してもよい。特に、この重合の際に溶剤として、後述する溶剤Dと同一の溶剤を使用することにより、反応後の溶液を感光性樹脂組成物の調整にそのまま使用することができ、感光性樹脂組成物の製造工程を簡略化することができる。樹脂A2-2において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂A2-2を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。aに由来する構造単位;2~40モルより好ましくは5~35モルcに由来する構造単位;1~65モルより好ましくは1~60モルbに由来する構造単位;2~95モルより好ましくは5~80モル樹脂A2-2の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、保存安定性、現像性、耐溶剤性、耐熱性及び機械強度が良好になる傾向がある。樹脂A2-2としては、bがb1である樹脂が好ましく、bがb1-2である樹脂がより好ましい。樹脂A2-2は、樹脂A2-1と同様の方法により製造することができる。樹脂A2-3において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂A2-3を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。aに由来する構造単位;2~40モルより好ましくは5~35モルcに由来する構造単位;60~98モルより好ましくは65~95モル樹脂A2-3の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、保存安定性、現像性、耐溶剤性が良好になる傾向がある。樹脂A2-3は、樹脂A2-1と同様の方法により製造することができる。樹脂A2-4は、aとcとの共重合体に、bを反応させて得られる樹脂である。樹脂A2-4は、例えば、二段階の工程を経て製造することができる。この場合も、上述した文献高分子合成の実験法大津隆行著発行所株化学同人第1版第1刷1972年3月1日発行に記載された方法、特開2001-89533号公報に記載された方法等を参考にして製造することができる。まず、第一段階として、上述した樹脂A2-1の製造方法と同様にして、aとcとの共重合体を得る。この場合、上記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体粉体として取り出したものを使用してもよい。また、上記と同様のポリスチレン換算の重量平均分子量及び分子量分布[重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn]とすることが好ましい。ただし、a及びcに由来する構造単位の比率が、前記の共重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。aに由来する構造単位;5~50モルより好ましくは10~45モルcに由来する構造単位;50~95モルより好ましくは55~90モル次に、第二段階として、得られた共重合体に由来するaのカルボン酸及びカルボン酸無水物の一部を、前述のbの環状エーテルと反応させる。環状エーテルの反応性が高く、未反応のbが残存しにくいことから、bとしてはb1又はb2が好ましく、b1-1がより好ましい。具体的には、上記に引き続き、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、aのモル数に対して、5~80モルのb、カルボキシ基と環状エーテルとの反応触媒例えばトリスジメチルアミノメチルフェノール等をa、b及びcの合計量に対して0.001~5質量、及び重合禁止剤例えばハイドロキノン等をa、b及びcの合計量に対して0.001~5質量をフラスコ内に入れて、60~130°Cで、1~10時間反応させ、樹脂A2-4を得ることができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整することができる。また、この場合、bのモル数は、aのモル数に対して、10~75モルとすることが好ましく、より好ましくは15~70モルである。この範囲とすることにより、保存安定性、現像性、耐溶剤性、耐熱性、機械強度及び感度のバランスが良好になる傾向がある。樹脂Aのポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは3,000~100,000、より好ましくは5,000~50,000であり、さらに好ましくは5,000~25,000であり、特に好ましくは5,000~15,000である。樹脂Aの重量平均分子量が、前記の範囲にあると、塗布性が良好となる傾向があり、また現像時に膜減りが生じにくく、さらに現像時に非画素部分の抜け性が良好である傾向にある。樹脂Aの分子量分布[重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn]は、好ましくは1.1~6.0であり、より好ましくは1.2~4.0である。分子量分布が、前記の範囲にあると、現像性に優れる傾向がある。樹脂Aの酸価は、好ましくは20~150mg-KOH/gであり、より好ましくは40~135mg-KOH/g、さらに好ましくは50~135mg-KOH/gであり、特に好ましくは50~90mg-KOH/gである。ここで酸価は樹脂A1gを中和するに必要な水酸化カリウムの量mgとして測定される値であり、水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。樹脂Aの含有量は、樹脂A及び光重合性化合物Bの合計量に対して、好ましくは5~95質量、より好ましくは20~80質量であり、特に好ましくは40~60質量である。樹脂Aの含有量が、前記の範囲にあると、現像性、密着性、耐溶剤性、機械特性が良好になる傾向がある。本発明の感光性樹脂組成物は、光重合性化合物Bを含む。光重合性化合物Bは、光重合開始剤Cから発生した活性ラジカルによって重合しうる化合物であって、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物などであり、好ましくはメタアクリル酸エステル化合物である。エチレン性不飽和結合を1つ有する光重合性化合物Bとしては、前記a、b及びcとして挙げた化合物と同じものが挙げられ、中でも、メタアクリル酸エステル類が好ましい。エチレン性不飽和結合を2つ有する光重合性化合物Bとしては、1,3―ブタンジオールジメタアクリレート、1,3-ブタンジオールメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールAのビスアクリロイロキシエチルエーテル、エトキシ化ビスフェノールAジメタアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、3-メチルペンタンジオールジメタアクリレート等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を3つ以上有する光重合性化合物Bとしては、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、トリペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレートと酸無水物カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、カプロラクトン変性トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタメタアクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリメタアクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレートと酸無水物等が挙げられる。中でも、3官能以上の光重合性化合物Bが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートがより好ましい。光重合性化合物Bの含有量は、樹脂A及び光重合性化合物Bの合計量に対して、好ましくは5~95質量、より好ましくは20~80質量であり、特に好ましくは40~60質量である。光重合性化合物Bの含有量が、前記の範囲にあると、感度や、硬化されたパターンの強度や平滑性、信頼性、機械強度が良好になる傾向がある。本発明の感光性樹脂組成物は、光重合開始剤Cとして、α-アミノケトン化合物、ビイミダゾール化合物及びオキシム化合物を含み、光重合開始助剤C1としてチオキサントン化合物を含む。チオキサントン化合物の含有量は、α-アミノケトン化合物100質量部に対して、80質量部以上160質量部以下である。前記の化合物を前記の量の範囲で含むと、パターンが優れた密着性を有するため、現像時にパターンが基板から剥離しにくくなり、さらに感度が高くなる傾向がある。α-アミノケトン化合物としては、2-メチル-2-モルホリノ-1-4-メチルスルファニルフェニルプロパン-1-オン、2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-2-ベンジルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-[4-メチルフェニルメチル]-1-[4-4-モルホリニルフェニル]-1-ブタノン等が挙げられる。イルガキュア369、907、379以上、チバジャパン社製等の市販品を用いてもよい。ビイミダゾール化合物としては、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2,3-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール例えば、特開平6-75372号公報、特開平6-75373号公報等参照。、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラアルコキシフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラジアルコキシフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラトリアルコキシフェニルビイミダゾール例えば、特公昭48-38403号公報、特開昭62-174204号公報等参照。、4,4’5,5’-位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物例えば、特開平7-10913号公報等参照。等が挙げられる。好ましくは2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2、3-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2、4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾールが挙げられる。オキシム化合物としては、N-ベンゾイルオキシ-1-4-フェニルスルファニルフェニルブタン-1-オン-2-イミン、N-エトキシカルボニルオキシ-1-フェニルプロパン-1-オン-2-イミン、N-ベンゾイルオキシ-1-4-フェニルスルファニルフェニルオクタン-1-オン-2-イミン、N-アセトキシ-1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]エタン-1-イミン、N-アセトキシ-1-[9-エチル-6-{2-メチル-4-3,3-ジメチル-2,4-ジオキサシクロペンタニルメチルオキシベンゾイル}-9H-カルバゾール-3-イル]エタン-1-イミン等が挙げられる。イルガキュアOXE-01、OXE-02以上、チバジャパン社製、N-1919ADEKA社製等の市販品を用いてもよい。チオキサントン化合物としては、2-イソプロピルチオキサントン、4-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン等が挙げられる。光重合開始剤Cとしては、上記以外の光重合開始剤を含んでいてもよいが、感度の点から、含まないことが好ましい。上記以外の光重合開始剤としては、光の作用により重合を開始する化合物であれば特に限定されることなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。上記以外の光重合開始剤としては、例えば、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アルコキシケトン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物等が挙げられる。α-ヒドロキシケトン化合物としては、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-4-2-ヒドロキシエトキシフェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-4-イソプロペニルフェニルプロパン-1-オンのオリゴマー等が挙げられる。α-アルコキシケトン化合物としては、α,α-ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。トリアジン化合物としては、2,4-ビストリクロロメチル-6-4-メトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-4-メトキシナフチル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-ピペロニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6--1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-5-メチルフラン-2-イルエテニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-フラン-2-イルエテニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニルエテニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-3,4-ジメトキシフェニルエテニル-1,3,5-トリアジン等が挙げられる。アシルホスフィンオキサイド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。イルガキュア819チバジャパン社製等の市販品を用いてもよい。光重合開始助剤C1は、光重合開始剤Cと組み合わせて用いられ、光重合開始剤によって重合が開始された光重合性化合物の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤である。光重合開始助剤C1としては、チオキサントン化合物以外の光重合開始助剤を含んでいてもよいが、感度の点から、含まないことが好ましい。チオキサントン化合物以外の光重合開始助剤としては、公知の光重合開始助剤を用いることができる。チオキサントン化合物以外の光重合開始助剤としては、例えば、アミン化合物、チアゾリン化合物、アルコキシアントラセン化合物、カルボン酸化合物等が挙げられる。アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸2-ジメチルアミノエチル、4-ジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシル、N,N-ジメチルパラトルイジン、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン通称ミヒラーズケトン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスエチルメチルアミノベンゾフェノン等が挙げられ、中でも4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノンが好ましい。EAB-F保土谷化学工業株製等の市販品を用いてもよい。チアゾリン化合物としては、式III-1~式III-3で表される化合物等が挙げられる。アルコキシアントラセン化合物としては、9,10-ジメトキシアントラセン、2-エチル-9,10-ジメトキシアントラセン、9,10-ジエトキシアントラセン、2-エチル-9,10-ジエトキシアントラセン、9,10-ジブトキシアントラセン、2-エチル-9,10-ジブトキシアントラセン等が挙げられる。カルボン酸化合物としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、N-フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、N-ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等が挙げられる。α-アミノケトン化合物、ビイミダゾール化合物、オキシム化合物及びチオキサントン化合物のそれぞれの含有量は、α-アミノケトン化合物100質量部に対して、以下の範囲にあることが好ましい。ビイミダゾール化合物;50~400質量部より好ましくは50~300質量部、さらに好ましくは50~200、特に好ましくは50~100オキシム化合物;10~100質量部より好ましくは10~50質量部、さらに好ましくは10~30チオキサントン化合物;80~160質量部より好ましくは80~150質量部、さらに好ましくは80~140前記の化合物を前記の量の範囲で含むと、パターンが優れた密着性を有するため、現像時にパターンが基板から剥離しにくくなり、さらに感度が高くなる傾向がある。α-アミノケトン化合物、ビイミダゾール化合物、オキシム化合物及びチオキサントン化合物の合計量は、樹脂A及び光重合性化合物Bの合計量100質量部に対して、好ましくは1~30質量部、より好ましくは3~20質量部であり、さらに好ましくは4~16質量部であり、特に好ましくは6~13質量部である。α-アミノケトン化合物、ビイミダゾール化合物、オキシム化合物及びチオキサントン化合物の合計量が上記の範囲であると、パターンが優れた密着性を有するため、現像時にパターンが基板から剥離しにくくなる。また、本発明の感光性樹脂組成物は、さらに多官能チオール化合物Tを含有していてもよい。この多官能チオール化合物Tは、分子内に2個以上のスルファニル基を有する化合物である。なかでも、脂肪族炭化水素基に由来する炭素原子と結合するスルファニル基を2個以上有する化合物を用いると、本発明の感光性樹脂組成物は感度が高くなる傾向がある。多官能チオール化合物Tとしては、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、1,4-ビスメチルスルファニルベンゼン、ブタンジオールビス3-スルファニルプロピオネート、ブタンジオールビス3-スルファニルアセテート、エチレングリコールビス3-スルファニルアセテート、トリメチロールプロパントリス3-スルファニルアセテート、ブタンジオールビス3-スルファニルプロピオネート、トリメチロールプロパントリス3-スルファニルプロピオネート、トリメチロールプロパントリス3-スルファニルアセテート、ペンタエリスリトールテトラキス3-スルファニルプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス3-スルファニルアセテート、トリスヒドロキシエチルトリス3-スルファニルプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス3-スルファニルブチレート、1,4-ビス3-スルファニルブチルオキシブタン等が挙げられる。多官能チオール化合物Tの含有量は、光重合開始剤C100質量部に対して、好ましくは0.5~20質量部、より好ましくは1~15質量部である。多官能チオール化合物Tの含有量がこの範囲にあると、感度が高くなり、また現像性が良好になる傾向がある。本発明の感光性樹脂組成物に用いられる溶剤Dは、特に限定されず、当該分野で通常使用される溶剤を用いることができる。例えば、エステル溶剤-COO-を含む溶剤、エステル溶剤以外のエーテル溶剤-O-を含む溶剤、エーテルエステル溶剤-COO-と-O-とを含む溶剤、エステル溶剤以外のケトン溶剤-CO-を含む溶剤、アルコール溶剤、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等の中から選択して用いることができる。エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、2-ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテート、γ-ブチロラクトンなどが挙げられる。エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、3-メトキシ-1-ブタノール、3-メトキシ-3-メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4-ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソールなどが挙げられる。エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-エトキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。ケトン溶剤としては、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、アセトン、2-ブタノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、4-ヘプタノン、4-メチル-2-ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロンなどが挙げられる。アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどが挙げられる。アミド溶剤としては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの溶剤は、単独でも2種類以上を組み合わせて用いてもよい。上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、1atmにおける沸点が120°C以上180°C以下である有機溶剤が好ましい。中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、3-メトキシブチルアセテート、3-メトキシ-1-ブタノール及びこれらを含む混合溶剤が好ましく、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル及び3-メトキシ-1-ブタノールからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む溶剤がより好ましい。感光性樹脂組成物における溶剤Dの含有量は、感光性樹脂組成物に対して、好ましくは60~95質量であり、より好ましくは70~90質量である。言い換えると、感光性樹脂組成物の固形分は、好ましくは5~40質量であり、より好ましくは10~30質量である。ここで、固形分とは、感光性樹脂組成物から溶剤Dを除いた量のことをいう。溶剤Dの含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物を塗布した膜の平坦性が高い傾向がある。本発明の感光性樹脂組成物は界面活性剤Eを含有することが好ましい。界面活性剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンDC3PA、同SH7PA、同DC11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA、ポリエーテル変性シリコーンオイルSH8400商品名:東レダウコーニング株製、KP321、KP322、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341信越化学工業株製、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460モメンティブパフォーマンスマテリアルズジャパン合同会社製等が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、フロリナート登録商標FC430、同FC431住友スリーエム株製、メガファック登録商標F142D、同F171、同F172、同F173、同F177、同F183、同R30DIC株製、エフトップ登録商標EF301、同EF303、同EF351、同EF352三菱マテリアル電子化成株製、サーフロン登録商標S381、同S382、同SC101、同SC105旭硝子株製、E5844株ダイキンファインケミカル研究所製等が挙げられる。フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、メガファック登録商標R08、同BL20、同F475、同F477、同F443DIC株製等が挙げられる。好ましくはメガファック登録商標F475が挙げられる。界面活性剤Eは、感光性樹脂組成物に対して、0.001質量以上02質量以下であり、好ましくは0002質量以上0.1質量以下、より好ましくは001質量以上0.05質量以下である。界面活性剤をこの範囲で含有することにより、塗膜の平坦性を良好にすることができる。本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、連鎖移動剤等の種々の添加剤を併用してもよい。本発明の感光性樹脂組成物は、顔料および染料などの着色剤を実質的に含有しない。すなわち、本発明の感光性樹脂組成物において、組成物全体に対する着色剤の含量は、例えば、1質量未満、好ましくは、0.5質量未満である。また、本発明の感光性樹脂組成物は、光路長が1cmの石英セルに充填し、分光光度計を使用して、測定波長400~700nmの条件下で透過率を測定すると、平均透過率が70以上であり、好ましくは80以上である。本発明の感光性樹脂組成物は、塗膜とした際に、塗膜の平均透過率が90以上であり、さらに95以上となることが好ましい。この平均透過率は、加熱硬化例えば、100~250°C、5分~3時間後の厚みが3μmの塗膜に対して、分光光度計を使用して、測定波長400~700nmの条件下で測定した場合の平均値である。これにより、可視光領域での透明性に優れた塗膜を提供することができる。本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、後述するように、基材、例えば、ガラス、金属、プラスチック等の基板、カラーフィルタ、各種絶縁又は導電膜、駆動回路等を形成したこれらの基板上に塗布することによって、塗膜として形成することができる。塗膜は、乾燥及び硬化したものであることが好ましい。また、得られた塗膜を所望の形状にパターニングして、パターンとして用いることもできる。さらに、これら塗膜又はパターンを、表示装置等の構成部品の一部として形成して使用してもよい。まず、本発明の感光性樹脂組成物を、基材上に、塗布する。塗布は、上述したように、スピンコーター、スリットスピンコーター、スリットコーター、インクジェット、ロールコータ、ディップコーター等の種々の塗布装置を用いて行うことができる。次いで、乾燥又はプリベークして、溶剤等の揮発成分を除去することが好ましい。これにより、平滑な未硬化塗膜を得ることができる。この場合の塗膜の膜厚は、特に限定されず、用いる材料、用途等によって適宜調整することができ、例えば、1~6μm程度が例示される。さらに、得られた未硬化塗膜に、目的のパターンを形成するためのマスクを介して、光、例えば、水銀灯、発光ダイオードから発生する紫外線等を照射する。この際のマスクの形状は特に限定されず、種々の形状が挙げられる。また、マスク透光部の透過率も光源からの光を透すものであれば特に限定されない。パターンの幅や高さ等は、マスクサイズやマスク透光部の透過率等によって、適宜調整することができる。さらに、得られた未硬化塗膜に、目的のパターンを形成するためのマスクを介して、光、例えば、水銀灯、発光ダイオードから発生する紫外線等を照射する。この際のマスクの形状は特に限定されず、種々の形状が挙げられる。また、マスク透光部の透過率も光源からの光を透すものであれば特に限定されない。パターンの幅や高さ等も、マスクサイズやマスク透光部の透過率等によって、適宜調整することができる。近年の露光機では、350nm未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、436nm付近、408nm付近、365nm付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出して、露光面全体に均一に平行光線を照射したりすることができる。このときマスクと基材との正確な位置合わせを行うために、マスクアライナ、ステッパ等の装置を使用してもよい。この後、塗膜をアルカリ水溶液に接触させて所定部分、例えば、非露光部を溶解させ、現像することにより、目的とするパターン形状を得ることができる。現像方法は、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基材を任意の角度に傾けてもよい。現像に使用する現像液は、アルカリ性化合物の水溶液が好ましい。アルカリ性化合物は、無機及び有機のアルカリ性化合物のいずれでもよい。無機アルカリ性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア等が挙げられる。また、有機アルカリ性化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン等が挙げられる。これらの無機及び有機アルカリ性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは0.01~10質量であり、より好ましくは0.03~5質量である。前記アルカリ性化合物の水溶液は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤又はカチオン系界面活性剤のいずれでもよい。ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン/オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン等が挙げられる。アニオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアルキルアリールスルホン酸塩類等が挙げられる。カチオン系界面活性剤としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライドのようなアミン塩又は第四級アンモニウム塩等が挙げられる。アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、好ましくは0.01~10質量の範囲、より好ましくは0.05~8質量、より好ましくは0.1~5質量である。現像後、水洗を行い、さらに必要に応じて、ポストベークを行ってもよい。ポストベークは、例えば、150~240°Cの温度範囲、10~180分間が好ましい。このようにして得られる塗膜又はパターンは、例えば、液晶表示装置に使用されるフォトスペーサ、パターニング可能なオーバーコートとして有用である。また、未硬化塗膜へのパターニング露光の際に、ホール形成用フォトマスクを使用することにより、ホールを形成することができ、層間絶縁膜として有用である。さらに、未硬化塗膜への露光の際に、フォトマスクを使用せず、全面露光及び加熱硬化、又は加熱硬化のみを行うことにより、透明膜を形成することができる。この透明膜は、オーバーコートとして有用である。また、タッチパネル等の表示装置にも用いることができる。これにより、高品質の塗膜又はパターンを備えた表示装置を、高い歩留りで製造することが可能である。本発明の感光性樹脂組成物は、種々の膜及びパターンを形成するための材料、例えば、カラーフィルタ及び/又はアレイ基板の一部を構成する透明膜、パターン、フォトスペーサ、オーバーコート、絶縁膜、液晶配向制御用突起、マイクロレンズ、コート層等を形成するために好適である。また、これらの塗膜又はパターンをその構成部品の一部として備えるカラーフィルタ、アレイ基板等、さらに、これらカラーフィルタ及び/又はアレイ基板等を具備する表示装置、例えば、液晶表示装置、有機EL装置、電子ペーパー等に利用することができる。以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中の及び部は、特記ない限り、質量及び質量部である。合成例1還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた1Lのフラスコ内に窒素を0.02L/分で流して窒素雰囲気とし、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル140質量部を入れ、撹拌しながら70°Cまで加熱した。次いで、メタクリル酸40質量部、3,4-エポキシトリシクロ[5.2.1.02.6]デシルアクリレート式I-1で表される化合物及び式II-1で表される化合物の混合物、モル比=50:50360質量部をジエチレングリコールエチルメチルエーテル190質量部に溶解して、溶液を調製した。得られた溶解液を、滴下ポンプを用いて4時間かけて、70°Cに保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル30質量部をジエチレングリコールエチルメチルエーテル240質量部に溶解した溶液を、別の滴下ポンプを用いて、5時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、4時間、70°Cに保持し、その後室温まで冷却して、共重合体樹脂Aaの溶液を得た。得られた樹脂Aa溶液の固形分は426質量であり、得られた樹脂Aaの重量平均分子量Mwは8.0×103、分子量分布Mw/Mnは191、酸価は60mg-KOH/g固形分換算の酸価であった。合成例2還流冷却器、滴下ロートおよび攪拌機を備えた1Lのフラスコ内に窒素を0.02L/分で流して窒素雰囲気とし、3-メトキシ-1-ブタノール200質量部および3-メトキシブチルアセテート105質量部を入れ、撹拌しながら70°Cまで加熱した。次いで、メタクリル酸60質量部、3,4-エポキシトリシクロ[5.2.1.02.6]デシルアクリレート式I-1で表される化合物及び式II-1で表される化合物を、モル比=50:50240質量部を、3-メトキシブチルアセテート140質量部に溶解して溶液を調製し、該溶解液を、滴下ロートを用いて4時間かけて、70°Cに保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル30質量部を3-メトキシブチルアセテート225質量部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて4時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、4時間、70°Cに保持し、その後室温まで冷却して、固形分32.6質量、酸価34.3mg-KOH/g固形分換算の酸価105mg-KOH/gの共重合体樹脂Abの溶液を得た。得られた樹脂Abの重量平均分子量Mwは、13,400、分子量分布Mw/Mnは2.50であった。得られた樹脂Aa及び樹脂Abの重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mnの測定は、GPC法を用いて、以下の条件で行なった。装置;K2479株島津製作所製カラム;SHIMADZUShim-packGPC-80Mカラム温度;40°C溶媒;THFテトラヒドロフラン流速;1.0mL/min検出器;RI上記で得られたポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量の比Mw/Mnを分子量分布とした。実施例1~7、参考例1及び比較例1表1の組成物を混合して、感光性樹脂組成物1~9を得た。なお、表1中、樹脂Aは、固形分換算の質量部を表す。光重合性化合物Ba;ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートA-DPH;新中村化学工業株製光重合性化合物Bb;トリメチロールプロパントリアクリレートA-TMMT;新中村化学工業株製光重合開始剤Ca;2,2’-ビスo-クロロフェニル-4,5,4’,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール;ビイミダゾール化合物光重合開始剤Cb;2-ジメチルアミノ-2-[4-メチルフェニルメチル]-1-[4-4-モルホリニルフェニル]-1-ブタノンIRGACURE379EG;チバジャパン社製;α-アミノケトン化合物光重合開始剤Cc;オキシム化合物N-1919;ADEKA社製;オキシム化合物光重合開始剤Cd;2-メチル-2-モルホリノ-1-4-メチルスルファニルフェニルプロパン-1-オンIRGACURE907;チバジャパン社製;α-アミノケトン化合物光重合開始助剤C1;2,4-ジエチルチオキサントンKAYACUREDETX-S;日本化薬株製;チオキサントン化合物溶剤Da;3メトキシ-1-ブタノール溶剤Db;ジエチレングリコールエチルメチルエーテル溶剤Dc;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤Dd;3-エトキシエチルプロピオネート溶剤De;3-メトキシブチルアセテート界面活性剤E;ポリエーテル変性シリコーンオイル東レダウコーニング株製;SH8400溶剤Dは、感光性樹脂組成物の固形分量が表1の固形分量となるように混合し、溶剤D中の溶剤成分Da~Deの値は、溶剤D中での質量比を表す。界面活性剤Eの含有量は、感光性樹脂組成物全量に対する質量比を表す。<パターン形成>2インチ角のガラス基板1737;コーニング社製を、中性洗剤、水及びアルコールで順次洗浄してから乾燥した。このガラス基板上に、感光性樹脂組成物を、60mJ/cm2の露光量365nm基準で露光し、現像、水洗、ポストベーク後の膜厚が3.0μmになるようにスピンコートし、次にクリーンオーブン中、80°Cで2分間プリベークした。冷却後、この感光性樹脂組成物を塗布した基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を200μmとし、露光機TME-150RSK;トプコン株製、光源;超高圧水銀灯を用いて、大気雰囲気下、60mJ/cm2の露光量365nm基準で光照射した。なお、このときの感光性樹脂組成物への照射は、超高圧水銀灯からの放射光を、光学フィルタUV-33;旭テクノグラス株製を通過させて、使用した。また、フォトマスクとして、パターン1辺が3μm~15μmである正方形の透光部を有し、当該正方形の間隔が100μmで、5600個ずつ形成されているすなわち透光部が同一平面上に形成されたフォトマスクを用いた。ここで、フォトマスクに形成されているパターンをフォトマスクパターンという。光照射後、非イオン系界面活性剤0.12と水酸化カリウム0.04を含む水系現像液に前記塗膜を23°Cで60秒間スプレー現像し、水洗後、オーブン中、235°Cで15分間ポストベークを行い、パターンを得た。<密着性評価>得られたパターンについて、光学顕微鏡AxioImagerMAT;カールツァイス株製で、5μm以下のフォトマスクパターンから得られるパターンが、剥離せず基板上に全て残っている場合は○、1個でも剥離している場合は×と、表2に記した。5μm以下のフォトマスクパターンから得られるパターンが、基板上に残っている場合、密着性は良好であると判断できる。<感度>1辺が13μmの正方形の透光部を有し、当該正方形の間隔が100μmであるフォトマスクを用いて、露光量をそれぞれ20mJ/cm2、40mJ/cm2、60mJ/cm2及び80mJ/cm2に代える以外は上記と同様にして、パターンを得た。得られた各パターンについて、パターン底部の幅を、三次元非接触表面形状計測システムMicromapMM527NPSM100型;株菱化システム社製で測定した。測定された値から直線近似により、幅31μmとなるときの露光量を計算した。この計算値を感度として、表2に記した。感度は値が小さいほど露光時間が短くできるため好ましいが、20mJ/cm2未満では露光量の振れに伴い、パターンの幅が変化しやすくなるため、逆に好ましくない。<組成物の透過率>得られた感光性樹脂組成物について、それぞれ、紫外可視近赤外分光光度計V-650;日本分光株製石英セル、光路長;1cmを用いて、400~700nmにおける平均透過率を測定した。結果を表2に示す。<塗膜の透過率>得られた感光性樹脂組成物を用いて、それぞれ、硬化後の膜厚が3μmになるように、以下の条件で塗膜を作製した。2インチ角のガラス基板1737;コーニング社製を、中性洗剤、水及びアルコールで順次洗浄してから乾燥した。このガラス基板上に、感光性樹脂組成物を、ポストベーク後の膜厚が3.0μmになるようにスピンコートし、次にクリーンオーブン中、90°Cで10分間プリベークした。冷却後、露光機TME-150RSK;トプコン株製、光源;超高圧水銀灯を用いて、大気雰囲気下、露光量60mJ/cm2365nm基準の光を照射した。なお、このときの感光性樹脂組成物への照射は、超高圧水銀灯からの放射光を、光学フィルタUV-35;朝日分光株製を通過させて行った。光照射後、非イオン系界面活性剤0.12と水酸化カリウム0.04を含む水系現像液に前記塗膜を23°Cで60秒間浸漬揺動して現像し、その後、オーブン中、235°Cで15分加熱して塗膜を得た。得られた膜について、顕微分光測光装置OSP-SP200;OLYMPUS社製を用いて、400~700nmにおける平均透過率を測定した。透過率が高くなることは、吸収が小さくなることを意味する。結果を表2に示す。実施例のとおり、本発明の感光性樹脂組成物は、得られるパターンと基板との密着性が良好であることがわかる。このような感光性樹脂組成物を用いてパターンを形成し、それらを利用することにより、歩留まりよく表示装置等を製造することが可能となる。"