基板上に所定の物質を蒸着するための蒸着空間を提供するチャンバと、前記チャンバの一側に設けられ、前記チャンバの内部にガスを供給する複数の供給ポートと、前記チャンバの内部に配置され、前記各供給ポートに接続された複数の供給ラインと、前記複数の供給ラインにそれぞれ接続され、前記チャンバに収容された前記基板の上方に前記複数の供給ラインに沿って前記供給ライン毎に互い違いになるように配置され、かつ前記基板の上面に前記供給ライン毎に互いに異なるガスを噴射する複数の噴射ノズルとを含むことを特徴とするガス混合防止用大面積蒸着装置。前記チャンバの外部に設けられた、前記噴射ノズルを振動させるためのエアシリンダをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記チャンバの外部に設けられ、前記エアシリンダのシリンダロッドと連動して移動する複数のシャフトロッドと、前記チャンバの内部に設けられ、一方の端部が前記シャフトロッドに結合され、他方の端部が前記噴射ノズルに結合された複数のノズルブラケットとをさらに含むことを特徴とする請求項2に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記シャフトロッドは、前記チャンバの上面に3つ設けられており、前記3つのシャフトロッドのうちの2つのシャフトロッドが、前記エアシリンダに接続されており、残りの1つシャフトロッドが、反対側で前記複数のノズルブラケットのうちの1つに接続されていることを特徴とする請求項3に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記エアシリンダの前記シリンダロッドに、スライド移動可能な移動台が接続されており、前記移動台の両側に、前記エアシリンダに接続された前記2つのシャフトロッドが結合されていることを特徴とする請求項4に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記移動台の両側にスライド管が設けられており、前記スライド管は、前記スライド管の移動を案内するガイドバーに挟まれていることを特徴とする請求項5に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記ガイドバーの両側端部が、前記チャンバの上面に設けられた固定台に結合されていることを特徴とする請求項6に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記チャンバの外部に、前記シャフトロッドが通過する密閉された空間を提供し、前記シャフトロッドの両側端部が移動可能に設けられる複数のシャフトハウジングが設けられていることを特徴とする請求項3に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記エアシリンダの前記シリンダロッドと前記シャフトロッドとの間に、軸線誤差による振動を低減させるためのフローティングジョイントが設けられていることを特徴とする請求項3に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記シャフトロッドに、前記エアシリンダの前記シリンダロッドから伝達される衝撃を緩衝するためのベローズが設けられていることを特徴とする請求項3に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記シャフトロッドに、前記ベローズと接触するボールブッシュが設けられていることを特徴とする請求項10に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記エアシリンダは、任意の前記噴射ノズルを、互いに隣接する噴射ノズル間の間隔内で振動させることを特徴とする請求項2に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記供給ラインが、前記チャンバの内部において前記基板の上側に配置された支持体の周縁部に固定されていることを特徴とする請求項1に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記支持体が四角形の枠体であり、前記噴射ノズルは前記支持体の下面側に一列に配置され、前記支持体の内側空間を閉鎖していることを特徴とする請求項13に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記支持体は、前記供給ラインを固定するための固定ブロックを有することを特徴とする請求項13に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記供給ラインの底面に第1の接続管が結合されており、前記噴射ノズルの上面に前記第1の接続管に対応する第2の接続管が結合されており、前記第1及び第2の接続管がコネクタを介して互いに接続されていることを特徴とする請求項1に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記複数の供給ポートと前記供給ラインとの間にベローズ管が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記噴射ノズルが、同心多重チューブから構成されることを特徴とする請求項1に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記噴射ノズルが、前記供給ラインに接続され、かつ前記供給ラインから供給されたガスを上方に噴射する第1の噴射孔が形成された第1のチューブと、前記第1のチューブを取り囲み、かつ前記第1の噴射孔から噴射されたガスを下方に噴射する第2の噴射孔が形成された第2のチューブとを有することを特徴とする請求項18に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。前記複数の噴射ノズルが、前記基板の長手方向に沿って配置され、四角形をなすことを特徴とする請求項1に記載のガス混合防止用大面積蒸着装置。本発明は、上記の従来技術の問題を解決するためになされたものであって、本発明の目的は、簡単な構造でガスがチャンバに流入する前に互いに混合されることを防止することができるとともに、ガスが均一に混合されてチャンバの内部に均一に噴射されるようにすることにより、コストを節減することができるガス混合防止用大面積蒸着装置を提供することにある。本発明の他の目的は、メンテナンスが簡便なガス混合防止用大面積蒸着装置を提供することにある。上記の目的を達成するための本発明にかかるガス混合防止用大面積蒸着装置は、基板上に所定の物質を蒸着するための蒸着空間を提供するチャンバと、前記チャンバの一側に設けられ、前記チャンバの内部にガスを供給する複数の供給ポートと、前記チャンバの内部に配置され、前記各供給ポートに接続された複数の供給ラインと、前記チャンバに投入された前記基板の上方に配置され、前記各供給ラインに沿って接続され、互いに交互に配置され、それぞれ異なるガスを交互に前記基板の上面に噴射する複数の噴射ノズルとを含むことを特徴とする。本発明にかかるガス混合防止用大面積蒸着装置は、多重チューブ構造の噴射ノズルが適用され、各々のガスが互いに異なる噴射ノズルに供給されるため、ガスがチャンバから噴射されるとき、均一に混合されてチャンバの内部に均一に噴射される。すなわち、簡単な構造でガスがチャンバの内部に流入する前に混合されることを防止することができ、ガスを均一に混合してチャンバの内部に均一に噴射することができるため、コストが節減されるという効果がある。また、噴射ノズルが左右に振動しながらガスを噴射するため、ガスがより均一に混合されてより均一にチャンバ内の基板に噴射されるため、基板に蒸着された膜のクオリティが向上するという効果がある。さらに、各々の噴射ノズルごとに分離して修理または洗浄することができるため、メンテナンス作業が簡便であるという効果がある。後述する本発明に関する詳細な説明は、本発明が実施可能な特定の実施形態を例示する添付図面を参照する。これらの実施形態は、当業者が本発明を実施できるように十分に詳細に説明される。本発明の多様な実施形態は、それぞれ異なるが、相互排他的である必要はないことが理解されなければならない。例えば、ここに記載されている特定の形状、特定の構造、および特性は実施形態に関連し、本発明の精神および範囲を逸脱しない範囲内で他の実施形態で実現可能である。また、各々の開示された実施形態における個別構成要素の位置または配置は、本発明の精神および範囲を逸脱しない範囲内で変更可能であることが理解されなければならない。したがって、後述する詳細な説明は限定的な意味ではなく、本発明の範囲は、適切に説明された場合、その請求項が主張するのと均等のすべての範囲とともに添付した請求項によってのみ限定される。図面に示された実施形態の長さ、面積、厚さ、および形態は、便宜上、誇張されて表現されることもある。以下、添付した図面を参照して本発明の構成を詳細に説明する。図1と図2を参照すると、本発明の一実施形態にかかるガス混合防止用大面積蒸着装置は、チャンバCと、チャンバCの内部に設けられ、基板Aを加熱するヒータの機能を果たすサセプタsusceptorSと、チャンバCの一側に設けられ、基板Aの出入を許容するゲートバルブGと、チャンバCの外部に設けられ、チャンバC内の空気を排気する真空ポンプ図示せずとを含む。基板Aの出入のためにゲートバルブGが開放された場合を除いて、チャンバCは、基板Aに所定の物質を蒸着するための密閉された空間を提供する。基板Aは、複数のピンP上に載置されて蒸着される。チャンバC内の上側部位には、ガスを供給する複数の供給ポート100が設けられ、チャンバCの内部には、各供給ポート100に接続され、蒸着ガスが供給される複数の供給ライン110が配置される。供給ライン110は、ガスまたは蒸気などが流れて移動できる管路である。複数の供給ライン110の下方には、複数の噴射ノズル120が設けられる。噴射ノズル120は、供給ライン110の内部を移動するガスを外部に噴射することができるように、噴射孔が形成された管路である。噴射ノズル120は、チャンバCの内部で基板Aの上方に配置される。複数の噴射ノズル120は、各供給ライン110に沿って供給ライン毎に互い違いになるように配置され、供給ライン毎に互いに異なるガスを基板Aの上面に供給する。噴射ノズル120は、基板Aの上方に一列に密に配置され、大面積に相当する基板Aに均一に蒸着ガスを噴射する。複数の噴射ノズル120から噴射される、ライン毎に互いに異なるガスは、噴射領域が重なり合うように噴射され互いに混合される。そして、大面積の基板A上に均一な厚さに蒸着される。図1~図4を参照すると、チャンバCの上面部には、噴射ノズル120を大面積の基板A上で一定に振動させ、基板Aに互いに異なるガスを混合して蒸着させる効率を高めるための振動用エアシリンダ130が配置される。エアシリンダ130は、噴射ノズル120を振動させることができるように、機構的に噴射ノズル120に接続される。すなわち、エアシリンダ130には、エアシリンダ130が提供するストロークだけ線状に移動するシャフトロッド135と、シャフトロッド135に交差して結合され、シャフトロッド135の振動変位を噴射ノズル120に伝達するノズルブラケット140が接続される。エアシリンダ130は、電気的に振動可能なシャフトを有する振動モータに代替できる。また、エアシリンダ130は、モータの回転運動を機構的に往復運動可能な往復機構に代替できる。すなわち、エアシリンダ130は、噴射ノズル120の振動のための往復運動を提供する駆動体である。このとき、シャフトロッド135は、チャンバC上に複数個が設置可能である。図示のように、シャフトロッド135は、チャンバCの上面に3つが設置可能である。3つのシャフトロッド135のうち、左側の2つは、エアシリンダ130と下方にあるノズルブラケット140とに接続され、右側の1つは、下方にあるノズルブラケット140にのみ接続される。シャフトロッド135およびノズルブラケット140は、チャンバCに吊るされた形態で設けられた噴射ノズル120の重量を支えることができ、噴射ノズル120の振動時にバランスを保つことができるように、個数は多様に変更可能である。すなわち、図示した例は、噴射ノズル120の3つの部分を支持しているが、安定性を高めるために、両側の2つの部分を支持する4部分の支持構造として作製してもよく、さらに5または6部分の支持構造として作製してもよい。一方、エアシリンダ130のシリンダロッド131には、スライド移動可能な移動台136が結合され、移動台136の両側には、2つのシャフトロッド135が結合される。また、移動台136の両側には、スライド管137が設けられ、スライド管137は、スライド管137の移動を案内するガイドバー138に挟まれる。このとき、ガイドバー138の両側端部は固定台139に結合され、チャンバC上に固定される。2つのシャフトロッド135は、移動台136を介してエアシリンダ130のシリンダロッド131に接続され、シリンダロッド131によってともに運動する。ガイドバー138とスライド管137は、エアシリンダ131の直線運動を伝達するための他のスライド機構に代替することができる。スライド管137とガイドバー138を採用したのは、スライド運動時において、スライド管137に対するガイドバー138の拘束力がよいからである。図2を参照すると、チャンバCの左側および右側には、シャフトロッド135が設けられる。左側のシャフトロッド135は、エアシリンダ130の駆動力が伝達され、右側のシャフトロッド135は、噴射ノズル120の他の部位に接続され、噴射ノズル120の移動を案内する機能を果たす。ノズルブラケット140は、チャンバCの上部から下方に延び、上端部はシャフトロッド135に結合され、下端部は噴射ノズル120に接続される。エアシリンダ130は、一列に配置された複数の噴射ノズル120が互いに隣接する噴射ノズル120と噴射ノズル120との間で振動するようにする。例えば、複数の噴射ノズル120がそれぞれ20mmの間隔で配置され、互いに異なる2種のガスが交互に噴射されるとしたら、任意の噴射ノズル120の振動変位は最大40mmである。図2、図3および図4を参照すると、チャンバCの左側上面部には、エアシリンダ130のシリンダロッド131とシャフトロッド135との軸線誤差を低減させ振動を減衰させるためのフローティングジョイント141が設けられる。通常、チャンバCの上面部にエアシリンダ130のシリンダロッド131とシャフトロッド135の移動経路を正確に一致させて取り付けることは難しい。仮に、エアシリンダ130のシリンダロッド131とシャフトロッド135の移動経路が直線に一致しない状態で、シリンダロッド131と接続したシャフトロッド135が外れた軸力を繰り返し受けた場合、エアシリンダ130とシャフトロッド135の耐久性が低下する。この場合、フローティングジョイント141は、シリンダロッド131とシャフトロッド135との間の動力伝達軸線が外れた場合、緩衝的な動力伝達を行う。チャンバCの左右側の上面部には、シャフトロッド135が通過する密閉された空間が提供され、シャフトロッド135の両側端部が移動可能に設けられるシャフトハウジング145が設けられる。シャフトハウジング145は、シャフトロッド135の移動経路を密閉する機能を果たすものであって、シャフトハウジング145の両側に突出したシャフトロッド135を取り囲んで閉鎖する密閉ガイド146がシャフトハウジング145に設けられる。密閉ガイド146とシャフトハウジング145との間には、気密を維持するための各種の密閉手段として、金属材質のOリング図示せずやゴムリング図示せずなどがともに設置可能である。シャフトハウジング145の右側に設けられた密閉ガイド146には、エアシリンダ130でシャフトロッド135から伝達される衝撃を緩衝させるベローズ147が設けられる。ベローズ147は、シャフトロッド135が挿入される通路の形成された蛇腹管である。また、左右密閉ガイド146には、シャフトロッド135が挿入されるボールブッシュ148が固定されて設けられる。ボールブッシュ148は、シャフトロッド135の直線運動を案内し、密閉ガイド146の外部に対する気密機能も果たす。図3~図5を参照すると、供給ライン110は、支持体150の周りに固定される。支持体150は、基板A上に位置し、シャフトロッド135に結合されたノズルブラケット140によってチャンバCの内部に吊るされた形態で設けられる。支持体150は、四角形の枠体フレームであり、噴射ノズル120は、支持体150の下面側に一列に配置され、支持体150の内側空間をほとんど閉鎖している。供給ライン110は、固定ブロック151によって支持体150に固定される。固定ブロック151の両側部分には、断面が円形である供給ライン110の半分が挿入されて拘束可能な半円形の溝152が形成される。固定ブロック151は、ねじまたはボルトのような締結手段によって支持体150上に固定される。固定ブロック151は、四角形の支持体150上に配置された供給ライン110に沿って所定の間隔で配設される。図5を参照すると、支持体150の上面側に供給ライン110が設けられ、支持体150の下面側に噴射ノズル120が一列に配置される。各噴射ノズル120は、支持体150の長手方向に相当する横方向と交差する縦方向に設けられる。つまり、複数の噴射ノズル120は基板Aの長手方向に沿って配置され、四角形の基板Aに対応する四角形を形成する。第5.5世代基板Aの場合、噴射ノズル120は、長方形で1500mm×1300mmに対応する面積を提供する。もちろん、噴射ノズル120は、支持体150の長さが短い縦方向に交差して設けられてもよい。図6には、供給ライン110と噴射ノズル120との接続関係が示されている。すなわち、供給ライン110の底面には、第1の接続管161が結合され、噴射ノズル120の上面には、第1の接続管161に対応して第2の接続管162が結合され、第1の接続管161と第2の接続管162とは、コネクタ163を介して互いに接続される。このとき、第1の接続管161は、支持体150図5を参照を貫通してコネクタ163に結合される。コネクタ163は、フィッティング手段である。図7を参照すると、複数の供給ポート100と供給ライン110との間には、ベローズ管164が設けられている。ベローズ管164は、供給ポート100と供給ライン110とを接続し、供給ポート100に対して供給ライン110の左右流動を許容できるように伸縮する。ベローズ管164は、直接供給ライン110に接続されるのではなく、フィッティング接続された他の供給用ポートを介して供給ライン110に接続される。図8と図9を参照すると、噴射ノズル120は、同心をなす二重チューブで構成される。すなわち、噴射ノズル120は、供給ライン110に接続され、供給ライン110からガスの供給を受けて上方にガスを噴射する第1の噴射孔171aが形成された第1のチューブ171と、第1のチューブ171を取り囲み、下方にガスを噴射する第2の噴射孔172aが形成された第2のチューブ172とから構成される。第1のチューブ171の第1の噴射孔171aは、第2のチューブ172の噴射孔に比べて噴射孔間の間隔が大きく形成される。大体、第1のチューブ171の2つの第1の噴射孔171aは、第2のチューブ172の5つの第2の噴射孔172aに対応して蒸着ガスを供給することができる。第1のチューブ171の第1の噴射孔171aから噴射された蒸着ガスは、第2のチューブ172に沿って移動して均一に広がった状態で下方に流動し、第2のチューブ172の第2の噴射孔172aから下方に均一に噴射される。一方、噴射ノズル120は、三重以上の多重チューブ構造としても作製が可能である。このとき、チューブごとに、ガスを噴射する噴射孔の方向を互いに逆向きにすることが、最終的にガスの均一な噴射に有利である。図10は、図5の平面図であって、図1と図7の2つの供給ポート100に供給された蒸着ガスの流動方向が示されている。参考として、図6および図9に示す矢印は、1つの噴射ノズル120から噴射される蒸着ガスの流動方向を示したものである。図2とともに、図5~図10を参照して、本発明の一実施形態にかかるガス混合防止用大面積蒸着装置のガス混合と流動および蒸着過程を説明する。図2に示す2つの各供給ポート100を介して流入する蒸着ガスのソース原料は、例えば、ZnとO2である。基板AがサセプタSで一定温度に加熱された後、各供給ポート100にはZnとO2のソース原料が流入する。Znのソース原料は、Zn有機化合物のDEZdiethylzincが使用され、O2のソース原料はO2が使用可能である。このとき、DEZは、常温で気体状態ではないため、温度を、例えば100°C程度上昇させて、DEZを固体や液体状態から気体状態に変化させた後、1つの供給ポート100に供給する。O2のソース原料であるO2は、常温で気体状態であるため、他の供給ポート100にそのまま供給する。各ソース原料の蒸着ガスは、各供給ポート100に接続された各供給ライン110に供給され、四角形を形成するように配置された供給ライン110を満たすようになる。その後、各蒸着ガスは、長手方向に延びる各供給ライン110と交差するように配置された噴射ノズル120を介して下方に噴射される。このとき、噴射ノズル120は、二重チューブで構成されているが、第1のチューブ171の第1の噴射孔171aを介して上方に流動し、第2のチューブ172に沿って広がった蒸着ガスは、第2のチューブ172の第2の噴射孔172aを介して下方にある基板Aに噴射される。一方、エアシリンダ130のシリンダロッド131は往復運動し、シリンダロッド131は、シャフトハウジング145に設けられたシャフトロッド135を往復運動させる。シャフトロッド135は、予め設定されたシリンダロッド131のストロークだけ運動しながら、この往復運動によって支持体150に結合されたノズルブラケット140を振動させる。ノズルブラケット140が振動すると、ノズルブラケット140の下部に設けられた噴射ノズル120は両側に往復運動しながら振動する。このとき、複数の噴射ノズル120のうち、任意の噴射ノズル120の振動範囲は、任意の噴射ノズル120と最も隣接する噴射ノズル120間の間隔内で設定可能である。例えば、本実施形態では、複数の噴射ノズル120は、交互するDEZガス噴射ノズル120とO2ガス噴射ノズル120とから構成されるが、任意のDEZガス噴射ノズル120の振動範囲は、任意のDEZガス噴射ノズル120と、それに最も隣接するO2ガス噴射ノズル120との間隔の2倍であり得る。このように、エアシリンダ130の振動により、各噴射ノズル120は往復運動しながら互いに異なる蒸着ガスを噴射し、噴射された蒸着ガスは、上方から下方にジグザグの波形を形成しながら基板A側に到達する。このとき、蒸着ガスのDEZガスとO2ガスは、噴射ノズル120の振動によってより容易に混合されて基板Aに噴射され、酸化/還元などの化学反応により基板A上に一定の厚さのZnOで蒸着される。上記のように記述された本発明の実施形態に関する図面は、詳細な輪郭ラインを省略し、本発明の技術思想に属する部分を容易に知ることができるように概略的に示したものである。また、上記の実施形態は、本発明の技術思想を限定する基準になることはなく、本発明の請求の範囲に含まれた技術事項を理解するための参照的な事項にすぎない。