"蒸発源から蒸発した成膜材料を、蒸着マスクのマスク開口部を介して基板上に堆積して、この蒸着マスクにより定められた成膜パターンの蒸着膜が基板上に形成されるように構成した蒸着装置において、前記蒸発源とこの蒸発源に対向状態に配設する前記基板との間に、前記蒸発源から蒸発した前記成膜材料の蒸発粒子の飛散方向を制限する制限用開口部を設けた飛散制限部を有するマスクホルダーを配設し、このマスクホルダーに前記基板と離間状態に配設する前記蒸着マスクを接合させて付設し、前記基板を、前記蒸着マスクを付設した前記マスクホルダー及び前記蒸発源に対して、前記蒸着マスクとの離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、前記蒸発源の蒸発口部は、前記基板の相対移動方向に長くこれと直交する横方向に幅狭いスリット状としたことを特徴とする蒸着装置。減圧雰囲気とする蒸着室内に、前記成膜材料を収めた前記蒸発源と、この蒸発源の前記蒸発口部から蒸発した前記成膜材料の蒸発粒子が通過する前記マスク開口部を設けた前記蒸着マスクとを配設し、前記蒸発口部を複数並設し、前記蒸着マスクと離間状態に位置合わせする前記基板に、前記複数の蒸発口部から飛散する蒸発粒子が前記マスク開口部を通過して堆積し、蒸着マスクにより定められる成膜パターンの蒸着膜が前記基板に形成されるように構成し、この蒸発源とこの蒸発源と対向状態に配設する前記基板との間に、隣接する若しくは離れた位置の前記蒸発口部からの蒸発粒子を通過させない前記制限用開口部を設けた前記飛散制限部を構成する前記マスクホルダーを配設し、このマスクホルダーに前記基板と離間状態に配設する前記蒸着マスクを付設し、前記基板を、前記蒸着マスクを付設した前記マスクホルダー及び前記蒸発源に対してこの蒸着マスクとの離間状態を保持したまま相対移動させて、この相対移動方向に前記蒸着マスクの前記成膜パターンの蒸着膜を連続させて前記基板より小さい前記蒸着マスクでも広範囲に蒸着膜が形成されるように構成したことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。前記基板の相対移動方向に対して直交する横方向に前記蒸発源の前記蒸発口部を複数並設すると共に、前記マスクホルダーに設ける前記飛散制限部の前記制限用開口部を前記横方向に沿って複数並設して、前記各蒸発口部から蒸発する蒸発粒子が、対向する前記制限用開口部のみを通過し更にこの制限用開口部と対向する前記蒸着マスクの前記マスク開口部を介して前記基板上に前記成膜パターンの蒸着膜が形成され、隣り合う若しくは離れた位置の前記蒸発口部からの蒸発粒子は付着捕捉されるようにして前記制限用開口部により前記蒸発粒子の飛散方向が制限されるように構成したことを特徴とする請求項1,2のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記マスクホルダーの前記基板側の端部に、前記蒸着マスクを付設したことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記マスクホルダーの前記基板側の端部に、前記蒸着マスクに張力を付与して張設したことを特徴とする請求項4記載の蒸着装置。前記マスクホルダーは、前記基板の相対移動方向に張力を付与して前記蒸着マスクを張設したことを特徴とする請求項5記載の蒸着装置。前記蒸着マスクは、前記基板の相対移動方向と直交する横方向に複数枚に分割した構成とし、この分割した蒸着マスクを前記マスクホルダーに前記横方向に並設状態に付設したことを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記蒸発源の前記蒸発口部を前記基板の相対移動方向と直交する横方向に複数並設し、この一若しくは複数の蒸発口部毎に夫々対向状態に前記制限用開口部を設けた前記飛散制限部を有する前記マスクホルダーの各制限用開口部を覆うように、前記蒸着マスクをマスクホルダーの前記基板側の端部に付設したことを特徴とする請求項4~7のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記マスクホルダーは、前記基板の相対移動方向に延在して、前記蒸着マスクをマスクホルダーに張設する際に蒸着マスクに付与される張力によるマスクホルダーの変形を防ぐため、張設する方向におけるマスクホルダーの剛性を向上させるリブ部を、前記制限用開口部間に設けた構成としたことを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記マスクホルダーの前記制限用開口部間に、前記基板の相対移動方向に延在する前記リブ部の前記基板側先端面に、前記各制限用開口部に設ける前記蒸着マスクを支承し接合するマスク取付支承面を設けたことを特徴とする請求項1~9のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記マスクホルダーは、前記制限用開口部の形状を、前記基板側の開口面積より前記蒸発源側の開口面積が小さい形状に形成したことを特徴とする請求項1~10のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記基板と前記蒸着マスクとが離間状態で蒸着し、この蒸着マスクにより成膜パターンの蒸着膜が基板に形成される際、この蒸着膜の側端傾斜部分である陰影SHは、前記基板と前記蒸着マスクとのギャップをG,前記蒸発口部の前記横方向の開口幅をφx,この蒸発口部と前記蒸着マスクとの距離をTSとすると、下記の式1で表され、この陰影SHが隣接する蒸着膜との間隔PPに達しないように、前記ギャップGを大きく設定し、前記蒸発口部の前記開口幅φxを小さく設定した構成とすることを特徴とする請求項1~11のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記蒸発源は、前記蒸発材料を加熱する蒸発粒子発生部と、この蒸発粒子発生部から発生した前記蒸発粒子が拡散し圧力を均一化する横長拡散部と、前記横長拡散部に前記基板の相対移動方向と直交する横方向に複数並設する前記蒸発口部とで構成し、前記蒸発源を前記基板の相対移動方向と直交する横方向に一つ若しくは複数並設することを特徴とする請求項1~12のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記横長拡散部の周囲若しくは前記蒸発口部の周囲の少なくとも一方に、前記蒸発源の熱を遮断する熱遮断部を配設したことを特徴とする請求項1~13のいずれか1項記載の蒸着装置。前記横長拡散部で拡散した蒸発粒子が、前記蒸発口部から噴出される際に指向性を持って飛散する導入部を、前記横長拡散部に配設したことを特徴とする請求項1~14のいずれか1項記載の蒸着装置。前記複数の蒸発口部を前記導入部の前記基板側の先端面に設け、この導入部の前記基板側に向けての導入長を、前記基板の相対移動方向と直交する横方向の前記導入部の幅長より長い構成としたことを特徴とする請求項15記載の蒸着装置。前記導入部は、前記横長拡散部から前記基板側に向けて突出させて配設したことを特徴とする請求項15,16のいずれか1項記載の蒸着装置。前記蒸着マスクの前記マスク開口部は、前記基板の前記相対移動方向と直交する横方向に複数並設した構成とし、この各マスク開口部は、前記相対移動方向に長いスリット状に形成若しくは開口部を前記相対移動方向に複数並設し、この相対移動方向のトータル開口長を前記制限用開口部の中央部に比して前記横方向に離れる程長くなるように設定したことを特徴とする請求項1~17のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記蒸着マスクの前記基板側に、前記マスク開口部の一部を塞いで前記各マスク開口部の開口範囲を設定する膜厚補正板を配設したことを特徴とする請求項1~18のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記基板に蒸着される成膜パターンを決する前記蒸着マスクのマスク開口部の前記基板の相対移動方向と直交する横方向における形成間隔Mpxは、前記基板と前記蒸着マスクとのギャップをG、前記蒸着マスクと前記蒸発口部との距離をTS、前記成膜パターンの基板の相対移動方向と直交する横方向における形成間隔をPxとすると下記の式2で表され、成膜パターン形成間隔Pxより狭く設定し、前記蒸着マスクのマスク開口部の前記基板の相対移動方向と直交する横方向における開口寸法Mxは、前記基板と前記蒸着マスクとのギャップをG、前記蒸着マスクと前記蒸発口部との距離をTS、前記蒸着膜の成膜パターンにおける成膜幅をPとすると下記式3で表され、前記蒸着膜の成膜パターン幅Pより広く設定したことを特徴とする請求項1~19のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記蒸着マスクが付設された前記マスクホルダーを、蒸着室と往復自在に移動できる交換室を備えたことを特徴とする請求項1~20のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記交換室内に、前記マスクホルダー若しくはマスクホルダーに付設した前記蒸着マスクの少なくとも一方に付着した成膜材料を洗浄する洗浄機構を備えたことを特徴とする請求項1~21のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記交換室内に、前記マスクホルダー若しくはマスクホルダーに付設した前記蒸着マスクの少なくとも一方に付着した成膜材料を回収する材料回収機構を備えたことを特徴とする請求項1~22のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記制限用開口部に対向状態で配設する前記蒸発源の前記蒸発口部を前記基板の相対移動方向と直交する横方向に複数並設し、この複数並設する蒸発口部の間隔を、前記基板と前記蒸着マスクとのギャップG及び前記蒸発口部と前記蒸着マスクとの距離TS及び前記蒸着マスクの前記マスク開口部の間隔を考慮して設定することで、前記マスク開口部を通過した前記蒸発口部から蒸発した蒸発粒子と、隣接する前記マスク開口部を通過した隣接する前記蒸発口部から蒸発した蒸発粒子とを、前記基板上で重畳させるように構成したことを特徴とする請求項1~23のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記制限用開口部に対向状態で配設する前記蒸発源の前記蒸発口部を前記基板の相対移動方向と直交する横方向に複数並設し、この複数並設する蒸発口部の間隔を、前記基板と前記蒸着マスクとのギャップG及び前記蒸発口部と前記蒸着マスクとの距離TS及び前記蒸着マスクの前記マスク開口部の間隔を考慮して設定することで、前記制限用開口部内の基板の相対移動方向と直交する横方向のマスク開口部は、同一の制限用開口部に対向状態で配設される前記蒸発口部の数に応じて、前記基板の相対移動方向と直交する横方向の成膜パターン数より少なく均等な間隔で構成したことを特徴とする請求項1~24のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記マスクホルダーに付設された前記蒸着マスクを第一の蒸着マスクとし、前記基板と前記第一の蒸着マスクとの間に、第二の蒸着マスクを配設したことを特徴とする請求項1~25のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記制限用開口部内に配設される前記基板の相対移動方向と直交する横方向の前記第二の蒸着マスクのマスク開口部の数は、この第二の蒸着マスクより前記蒸発源側の同一の前記制限用開口部内に配設される基板の相対移動方向と直交する横方向の前記第一の蒸着マスクの前記マスク開口部の数と同じであり、この夫々の蒸着マスクのマスク開口部は、前記基板との距離の相違に対応して異なる形成間隔とし、第二の蒸着マスクのマスク開口部のマスク開口幅は第一の蒸着マスクと比して同一か幅狭くなるように設けたことを特徴とする請求項26記載の蒸着装置。前記第二の蒸着マスクは、これより前記蒸発源側に位置する第一の前記蒸着マスクより線膨張係数が大である材料で形成したことを特徴とする請求項26,27のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記第二の蒸着マスクは、電鋳で形成することを特徴とする請求項26~28のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記制限用開口部内に配設される前記基板の相対移動方向と直交する横方向の前記第二の蒸着マスクの前記マスク開口部の数は、同一の前記制限用開口部内に配設される前記基板の相対移動方向と直交する横方向の第一の前記蒸着マスクのマスク開口部の数より、同一の前記制限用開口部内に配設される前記蒸発口部の数に応じて多く形成したことを特徴とする請求項26~29のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記成膜材料を、有機材料としたことを特徴とする請求項1~30のいずれか1項に記載の蒸着装置。前記請求項1~31のいずれか1項記載の蒸着装置を用いて、前記基板上に前記蒸着マスクにより定められた成膜パターンの蒸着膜を形成することを特徴とする蒸着方法。本発明は、このような様々な問題を解決し、基板の大型化に伴って蒸着マスクを同等に大型化せず基板より小形の蒸着マスクでも、基板を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また、離間状態のまま相対移動させることで構造も簡易で効率良くスピーディーに蒸着でき、また、離間状態のままでも制限用開口部を蒸発源と蒸着マスクとの間に設けることで、蒸発粒子の飛散方向を制限して隣接する若しくは離れた位置の蒸発口部からの蒸発粒子を通過させず成膜パターンの重なりを防止すると共に、この制限用開口部を設けた飛散制限部を有するマスクホルダーに蒸着マスクを付設した構成とし、このマスクホルダーは飛散制限部としてだけでなく蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し、前記蒸発源の蒸発口部は、前記基板の相対移動方向に長くこれと直交する横方向に幅狭いスリット状とすることで、基板と蒸着マスクとを離間状態で相対移動させる構成でありながら、高精度で高レートな蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供することを目的としている。添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。蒸発源1から蒸発した成膜材料を、蒸着マスク2のマスク開口部3を介して基板4上に堆積して、この蒸着マスク2により定められた成膜パターンの蒸着膜が基板4上に形成されるように構成した蒸着装置において、前記蒸発源1とこの蒸発源1に対向状態に配設する前記基板4との間に、前記蒸発源1から蒸発した前記成膜材料の蒸発粒子の飛散方向を制限する制限用開口部5を設けた飛散制限部を有するマスクホルダー6を配設し、このマスクホルダー6に前記基板4と離間状態に配設する前記蒸着マスク2を接合させて付設し、前記基板4を、前記蒸着マスク2を付設した前記マスクホルダー6及び前記蒸発源1に対して、前記蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、前記蒸発源1の蒸発口部8は、前記基板4の相対移動方向に長くこれと直交する横方向に幅狭いスリット状としたことを特徴とする蒸着装置に係るものである。また、減圧雰囲気とする蒸着室7内に、前記成膜材料を収めた前記蒸発源1と、この蒸発源1の前記蒸発口部8から蒸発した前記成膜材料の蒸発粒子が通過する前記マスク開口部3を設けた前記蒸着マスク2とを配設し、前記蒸発口部8を複数並設し、前記蒸着マスク2と離間状態に位置合わせする前記基板4に、前記複数の蒸発口部8から飛散する蒸発粒子が前記マスク開口部3を通過して堆積し、蒸着マスク2により定められる成膜パターンの蒸着膜が前記基板4に形成されるように構成し、この蒸発源1とこの蒸発源1と対向状態に配設する前記基板4との間に、隣接する若しくは離れた位置の前記蒸発口部8からの蒸発粒子を通過させない前記制限用開口部5を設けた前記飛散制限部を構成する前記マスクホルダー6を配設し、このマスクホルダー6に前記基板4と離間状態に配設する前記蒸着マスク2を付設し、前記基板4を、前記蒸着マスク2を付設した前記マスクホルダー6及び前記蒸発源1に対してこの蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動させて、この相対移動方向に前記蒸着マスク2の前記成膜パターンの蒸着膜を連続させて前記基板4より小さい前記蒸着マスク2でも広範囲に蒸着膜が形成されるように構成したことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置に係るものである。また、前記基板4の相対移動方向に対して直交する横方向に前記蒸発源1の前記蒸発口部8を複数並設すると共に、前記マスクホルダー6に設ける前記飛散制限部の前記制限用開口部5を前記横方向に沿って複数並設して、前記各蒸発口部8から蒸発する蒸発粒子が、対向する前記制限用開口部5のみを通過し更にこの制限用開口部5と対向する前記蒸着マスク2の前記マスク開口部3を介して前記基板4上に前記成膜パターンの蒸着膜が形成され、隣り合う若しくは離れた位置の前記蒸発口部8からの蒸発粒子は付着捕捉されるようにして前記制限用開口部5により前記蒸発粒子の飛散方向が制限されるように構成したことを特徴とする請求項1,2のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記マスクホルダー6の前記基板4側の端部に、前記蒸着マスク2を付設したことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記マスクホルダー6の前記基板4側の端部に、前記蒸着マスク2に張力を付与して張設したことを特徴とする請求項4記載の蒸着装置に係るものである。また、前記マスクホルダー6は、前記基板4の相対移動方向に張力を付与して前記蒸着マスク2を張設したことを特徴とする請求項5記載の蒸着装置に係るものである。また、前記蒸着マスク2は、前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に複数枚に分割した構成とし、この分割した蒸着マスク2を前記マスクホルダー6に前記横方向に並設状態に付設したことを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記蒸発源1の前記蒸発口部8を前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に複数並設し、この一若しくは複数の蒸発口部8毎に夫々対向状態に前記制限用開口部5を設けた前記飛散制限部を有する前記マスクホルダー6の各制限用開口部5を覆うように、前記蒸着マスク2をマスクホルダー6の前記基板4側の端部に付設したことを特徴とする請求項4~7のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記マスクホルダー6は、前記基板4の相対移動方向に延在して、前記蒸着マスク2をマスクホルダー6に張設する際に蒸着マスク2に付与される張力によるマスクホルダー6の変形を防ぐため、張設する方向におけるマスクホルダー6の剛性を向上させるリブ部24を、前記制限用開口部5間に設けた構成としたことを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記マスクホルダー6の前記制限用開口部5間に、前記基板4の相対移動方向に延在する前記リブ部24の前記基板4側先端面に、前記各制限用開口部5に設ける前記蒸着マスク2を支承し接合するマスク取付支承面23を設けたことを特徴とする請求項1~9のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記マスクホルダー6は、前記制限用開口部5の形状を、前記基板4側の開口面積より前記蒸発源1側の開口面積が小さい形状に形成したことを特徴とする請求項1~10のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記基板4と前記蒸着マスク2とが離間状態で蒸着し、この蒸着マスク2により成膜パターンの蒸着膜が基板4に形成される際、この蒸着膜の側端傾斜部分である陰影SHは、前記基板4と前記蒸着マスク2とのギャップをG,前記蒸発口部8の前記横方向の開口幅をφx,この蒸発口部8と前記蒸着マスク2との距離をTSとすると、下記の式1で表され、この陰影SHが隣接する蒸着膜との間隔PPに達しないように、前記ギャップGを大きく設定し、前記蒸発口部8の前記開口幅φxを小さく設定した構成とすることを特徴とする請求項1~11のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記蒸発源1は、前記蒸発材料を加熱する蒸発粒子発生部26と、この蒸発粒子発生部26から発生した前記蒸発粒子が拡散し圧力を均一化する横長拡散部27と、前記横長拡散部27に前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に複数並設する前記蒸発口部8とで構成し、前記蒸発源1を前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に一つ若しくは複数並設することを特徴とする請求項1~12のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記横長拡散部27の周囲若しくは前記蒸発口部8の周囲の少なくとも一方に、前記蒸発源1の熱を遮断する熱遮断部19を配設したことを特徴とする請求項1~13のいずれか1項記載の蒸着装置に係るものである。また、前記横長拡散部27で拡散した蒸発粒子が、前記蒸発口部8から噴出される際に指向性を持って飛散する導入部28を、前記横長拡散部27に配設したことを特徴とする請求項1~14のいずれか1項記載の蒸着装置に係るものである。また、前記複数の蒸発口部8を前記導入部28の前記基板4側の先端面に設け、この導入部28の前記基板4側に向けての導入長を、前記基板4の相対移動方向と直交する横方向の前記導入部28の幅長より長い構成としたことを特徴とする請求項15記載の蒸着装置に係るものである。また、前記導入部28は、前記横長拡散部27から前記基板4側に向けて突出させて配設したことを特徴とする請求項15,16のいずれか1項記載の蒸着装置に係るものである。また、前記蒸着マスク2の前記マスク開口部3は、前記基板4の前記相対移動方向と直交する横方向に複数並設した構成とし、この各マスク開口部3は、前記相対移動方向に長いスリット状に形成若しくは開口部を前記相対移動方向に複数並設し、この相対移動方向のトータル開口長を前記制限用開口部5の中央部に比して前記横方向に離れる程長くなるように設定したことを特徴とする請求項1~17のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記蒸着マスク2の前記基板4側に、前記マスク開口部3の一部を塞いで前記各マスク開口部3の開口範囲を設定する膜厚補正板29を配設したことを特徴とする請求項1~18のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記基板4に蒸着される成膜パターンを決する前記蒸着マスク2のマスク開口部3の前記基板4の相対移動方向と直交する横方向における形成間隔Mpxは、前記基板4と前記蒸着マスク2とのギャップをG、前記蒸着マスク2と前記蒸発口部8との距離をTS、前記成膜パターンの基板4の相対移動方向と直交する横方向における形成間隔をPxとすると下記の式2で表され、成膜パターン形成間隔Pxより狭く設定し、前記蒸着マスク2のマスク開口部3の前記基板4の相対移動方向と直交する横方向における開口寸法Mxは、前記基板4と前記蒸着マスク2とのギャップをG、前記蒸着マスク2と前記蒸発口部8との距離をTS、前記蒸着膜の成膜パターンにおける成膜幅をPとすると下記式3で表され、前記蒸着膜の成膜パターン幅Pより広く設定したことを特徴とする請求項1~19のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記蒸着マスク2が付設された前記マスクホルダー6を、蒸着室7と往復自在に移動できる交換室16を備えたことを特徴とする請求項1~20のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記交換室16内に、前記マスクホルダー6若しくはマスクホルダー6に付設した前記蒸着マスク2の少なくとも一方に付着した成膜材料を洗浄する洗浄機構を備えたことを特徴とする請求項1~21のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記交換室16内に、前記マスクホルダー6若しくはマスクホルダー6に付設した前記蒸着マスク2の少なくとも一方に付着した成膜材料を回収する材料回収機構を備えたことを特徴とする請求項1~22のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記制限用開口部5に対向状態で配設する前記蒸発源1の前記蒸発口部8を前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に複数並設し、この複数並設する蒸発口部8の間隔を、前記基板4と前記蒸着マスク2とのギャップG及び前記蒸発口部8と前記蒸着マスク2との距離TS及び前記蒸着マスク2の前記マスク開口部3の間隔を考慮して設定することで、前記マスク開口部3を通過した前記蒸発口部8から蒸発した蒸発粒子と、隣接する前記マスク開口部3を通過した隣接する前記蒸発口部8から蒸発した蒸発粒子とを、前記基板4上で重畳させるように構成したことを特徴とする請求項1~23のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記制限用開口部5に対向状態で配設する前記蒸発源1の前記蒸発口部8を前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に複数並設し、この複数並設する蒸発口部8の間隔を、前記基板4と前記蒸着マスク2とのギャップG及び前記蒸発口部8と前記蒸着マスク2との距離TS及び前記蒸着マスク2の前記マスク開口部3の間隔を考慮して設定することで、前記制限用開口部5内の基板4の相対移動方向と直交する横方向のマスク開口部3は、同一の制限用開口部5に対向状態で配設される前記蒸発口部8の数に応じて、前記基板4の相対移動方向と直交する横方向の成膜パターン数より少なく均等な間隔で構成したことを特徴とする請求項1~24のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記マスクホルダー6に付設された前記蒸着マスク2を第一の蒸着マスク2とし、前記基板4と前記第一の蒸着マスク2との間に、第二の蒸着マスク10を配設したことを特徴とする請求項1~25のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記制限用開口部5内に配設される前記基板4の相対移動方向と直交する横方向の前記第二の蒸着マスク10のマスク開口部11の数は、この第二の蒸着マスク10より前記蒸発源1側の同一の前記制限用開口部5内に配設される基板4の相対移動方向と直交する横方向の前記第一の蒸着マスク2の前記マスク開口部3の数と同じであり、この夫々の蒸着マスク2,10のマスク開口部3,11は、前記基板4との距離の相違に対応して異なる形成間隔とし、第二の蒸着マスク10のマスク開口部11のマスク開口幅は第一の蒸着マスク2と比して同一か幅狭くなるように設けたことを特徴とする請求項26記載の蒸着装置に係るものである。また、前記第二の蒸着マスク10は、これより前記蒸発源1側に位置する第一の前記蒸着マスク2より線膨張係数が大である材料で形成したことを特徴とする請求項26,27のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記第二の蒸着マスク10は、電鋳で形成することを特徴とする請求項26~28のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記制限用開口部5内に配設される前記基板4の相対移動方向と直交する横方向の前記第二の蒸着マスク10の前記マスク開口部11の数は、同一の前記制限用開口部5内に配設される前記基板4の相対移動方向と直交する横方向の第一の前記蒸着マスク2のマスク開口部3の数より、同一の前記制限用開口部5内に配設される前記蒸発口部8の数に応じて多く形成したことを特徴とする請求項26~29のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記成膜材料を、有機材料としたことを特徴とする請求項1~30のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。また、前記請求項1~31のいずれか1項記載の蒸着装置を用いて、前記基板4上に前記蒸着マスク2により定められた成膜パターンの蒸着膜を形成することを特徴とする蒸着方法に係るものである。本発明は上述のように構成したから、基板の大型化に伴って蒸着マスクを同等に大型化せず基板より小形の蒸着マスクでも、基板を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また、離間状態のまま相対移動させることで構造も簡易で効率良くスピーディーに蒸着でき、また、離間状態のままでも制限用開口部を蒸発源と蒸着マスクとの間に設けることで、蒸発粒子の飛散方向を制限して隣接する若しくは離れた位置の蒸発口部からの蒸発粒子を通過させず成膜パターンの重なりを防止すると共に、この制限用開口部を設けた飛散制限部を有するマスクホルダーに蒸着マスクを接合させて付設した構成とし、基板と蒸着マスクとを離間状態で相対移動させる構成でありながら高精度の蒸着が行え、蒸発源の蒸発口部の開口幅を狭めることで、基板と蒸着マスクとのギャップの大きさ、蒸発源と蒸着マスクの距離によっても変化する成膜パターンの陰影蒸着膜の側端傾斜部分のはみ出し量を一層抑制することができ、また蒸発口部の開口長を相対移動方向に長くすることで蒸発レートを高くすることができる蒸着装置並びに蒸着方法となる。特に有機ELデバイスの製造にあたり、基板の大型化に対応でき、有機発光層の蒸着も精度良く行え、マスク接触による基板,蒸着マスク,蒸着膜の損傷も防止でき、基板より小さな蒸着マスクにより高精度の蒸着が実現できる有機ELデバイス製造用の蒸着装置並びに蒸着方法となる。また、請求項2記載の発明においては、一層本発明の作用効果が良好に発揮され、一層実用性に優れた蒸着装置となる。また、請求項3記載の発明においては、基板の相対移動方向と直交する横方向に前記蒸発口部と前記制限用開口部を複数並設することで、隣り合う位置の蒸発粒子を通過させず成膜パターンの重なりを防止する構成で大面積の基板に蒸着できる優れた蒸着装置となる。また、請求項4,5記載の発明においては、蒸着マスクを蒸発源から最も離れた基板側の端部でマスクホルダーに付設するので、蒸発源からの輻射熱の入射を抑制でき、また、蒸着マスクに熱応力以上の張力を付与することで、安定的に維持される。また、請求項6記載の発明においては、蒸着マスクに対して基板の相対移動方向に張力を付与するので、蒸着マスクが撓むことがなくなり、撓みによって生じていた成膜誤差がなくなる。また、請求項7記載の発明においては、複数枚に分割した小さな蒸着マスクでも大型の基板に成膜できるので、蒸着マスクの作成が容易となる。また、請求項8記載の発明においては、各蒸発口部毎の膜厚分布特性に基づいてこの蒸着領域毎で均一化を図るように、マスク開口部を個別に設定した蒸着マスクを並設したり、これら蒸着マスクを個別に取り替えたりできるように構成可能となるなど一層実用性に優れる。また、請求項9,10記載の発明においては、基板の相対移動方向に延在させて設けたリブ部によって、蒸着マスクの張力によるマスクホルダーの変形が防止できると共に、蒸着マスクの張力が維持でき、かつ、マスク取付支承面を設けたことで、蒸着マスクのマスクホルダーへの支承接合が強固に行える。また、請求項11記載の発明においては、マスクホルダーの制限用開口部の形状を、基板側の開口面積より蒸発源側の開口面積が小さい形状としたことで、蒸発源から蒸発した成膜材料の蒸発粒子を制限用開口部の蒸発源側でより多く捕捉することができることとなって、制限用開口部側面に付着する成膜材料を低減でき、マスクホルダーを交換した後の付着した成膜材料の剥離回収が容易になる。また、請求項12記載の発明においては、蒸発口部の開口幅を狭めることで、例えば、RGBの発光層を成膜するような場合に、隣接する蒸着パターン隣接画素に達する程の陰影が生じることを防止でき、またこのように蒸発口部の開口幅を狭めることで基板と蒸着マスクとのギャップを大きくとれることとなり、前述した制限用開口部間のマスク取付支承面を広くとれたり、蒸着マスク自体に温度制御機構を設けたりすることができるなど優れた蒸着装置となる。また、請求項13記載の発明においては、蒸発源に横長拡散部を設け、これに複数の蒸発口部を並設することで、並設された複数の蒸発口部間での圧力の均一化を図れる。また、大型基板に蒸着する場合には、より拡散室の圧力が均一になるように、小さい拡散室を有する蒸発源を前記基板の相対方向と直交する横方向に複数並設するように構成してもよい。また、請求項14記載の発明においては、蒸発源の周囲に、蒸発源からの輻射熱を遮断する、例えば冷却部材などの熱遮断部蒸発源に設ける温度制御部として機能することを配設することで、蒸着マスクの温度上昇を抑制できる。また、請求項15,16記載の発明においては、蒸発粒子の指向性が高められ、指向性の低い蒸発粒子と比較して、一蒸発口部から噴出する蒸発粒子の成膜に利用する材料量が同じであるとすると、成膜有効範囲内の蒸発粒子の飛散角度が全体的に小さくなるので、蒸発粒子が蒸着マスク開口部へ入射する入射角も全体的に小さくなり、基板と蒸着マスクとのギャップの変動に対しての成膜パターン位置の変化量を小さくすることができる。また、請求項17記載の発明においては、横長拡散部から基板側に向けて導入部を突出させて配設させることで、熱遮断部を蒸発口部より蒸発源側に配設することが可能になり、蒸発口部間に熱遮断部を配設しても熱遮断部に蒸発粒子が付着せず、材料使用効率及びメンテナンス性が高い蒸着装置となる。また、請求項18記載の発明においては、基板の相対移動方向によって蒸着マスクのマスク開口部の横方向の配列によって決する成膜パターンの蒸着膜を形成するが、この蒸着マスクのマスク開口部は、基板の相対移動方向には長いトータル開口長を、制限用開口部の中央部例えば蒸発口部と対向する位置から横方向に離れる程長く設定したから、横方向に離れる程単位立体角あたりの蒸着レートが低くなるが、これに対応して開口長が長くなることで膜厚を均一にできる。また、請求項19記載の発明においては、蒸着マスクをマスクホルダーに接合後に、膜厚の補正が必要になった場合、基板側に補正板を配設することで、蒸着マスクの交換をせずに膜厚を均一にできるし、初めから基板の相対移動方向に同一スリット長の蒸着マスクを用い補正板で膜厚を調整するようにしてもよい。また、請求項20記載の発明においては、基板に蒸着される成膜パターンを決する蒸着マスクのマスク開口部の基板の相対移動方向と直交する横方向における形成間隔は、基板と蒸着マスクとのギャップと、蒸着マスクと蒸発口部との距離と、蒸着膜の基板の相対移動方向と直交する横方向の成膜パターン形成間隔で決定され、成膜パターン形成間隔より狭く設定し、蒸着マスクのマスク開口部の基板の相対移動方向と直交する横方向における開口寸法マスク開口幅は、基板と蒸着マスクとのギャップと、蒸着マスクと蒸発口部との距離と、前記蒸着膜の成膜パターン幅で決定され、前記蒸着膜の成膜パターン幅より広く設定することで基板と蒸着マスクとが離間し、これらの間にギャップが存在しても、成膜パターンの位置がずれたり、成膜パターンの幅がずれたりすることがなくなり、成膜パターンの形成精度を高精度にすることができる。また、請求項21記載の発明においては、蒸着マスクが付設されたマスクホルダーを蒸着室と往復自在な交換室を備えることで、マスクホルダーの搬出入が容易となり、マスクホルダーの交換に伴う成膜工程の停止時間が短くなり、蒸着装置の稼動率が向上する。また、請求項22記載の発明においては、交換室に、洗浄機構を備えたことで、マスクホルダー若しくは蒸着マスクに付着した成膜材料を、蒸着装置内で洗浄でき、マスクホルダーや蒸着マスクを再利用することが容易にできる。また、請求項23記載の発明においては、交換室に、材料回収機構を備えたことで、材料を回収して再利用ができ、例えば更に請求項11記載の発明のようにマスクホルダーのリブ部の形状は蒸発源側を大きくすることで、このマスクホルダーの蒸発源側端部に材料が付着し剥離回収が一層簡易となる。また、請求項24記載の発明においては、複数並設する蒸発口部からの蒸発粒子が基板上で重畳することで蒸着レートが高くなり、生産性の高い蒸着装置となる。また、請求項25記載の発明においては、制限用開口部に対向状態で配設する蒸発口部を複数並設することで、複数の蒸発口部から蒸発した蒸発粒子は一つのマスク開口を通過して蒸着できるため、成膜パターンを決するマスク開口部数を減らし、マスク開口部の形成間隔を広げることができるので、蒸着マスクの機械的強度が増し、洗浄時のマスクの破壊や癒着を防止でき、かつマスク取付支承面を広く確保できるので、蒸着マスクとマスクホルダーの接合がより強固に行え、更に温度制御機構として蒸着マスクに設ける冷却媒体路若しくはヒートパイプの設置面積を大きくとれ、蒸発源からの輻射熱による蒸着マスクの温度上昇を防ぐことができる。また、請求項26記載の発明においては、第二の蒸着マスクを設けることで、蒸発源からの輻射熱の入射を第一の蒸着マスクで抑制した上で、第二の蒸着マスクの開口パターンで成膜できるので、第二の蒸着マスクの温度上昇を抑制しつつ一層高精度の蒸着が行える。また、請求項27記載の発明においては、一層確実に陰影を防止でき高精度の蒸着が行える蒸着装置となる。また、請求項28記載の発明においては、蒸着マスクとこれに接合する制限用開口部を設けた飛散制限部を有するマスクホルダーと、場合によってはこれに設けた温度制御機構によって蒸着マスクの温度上昇を抑えて温度を一定に保持することができるので、この蒸着マスクと基板との間に設ける第二の蒸着マスクは、更に温度上昇しにくくなることから、線膨張係数が大きい材料で形成できる。また、請求項29記載の発明においては、第二のマスクは、電鋳で形成すると高精度なマスク開口部を形成でき、これにより一層精度の高いパターンを成膜できる蒸着装置となる。また、請求項30記載の発明においては、第一の蒸着マスクの開口部間隔を広げることで、第一のマスク開口部から入射する輻射熱を減少させることができ、第二マスクの熱膨張を一層抑制することができる。また、第一の蒸着マスクの開口間隔を同じとしても、第二のマスク開口幅は狭くすることにより、高精細な成膜パターンを蒸着できる。また、請求項31記載の発明においては、有機材料の蒸発装置となり、一層実用性に優れる。また、請求項32記載の発明においては、前記作用効果を発揮する優れた蒸着方法となる。好適と考える本発明の実施形態を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。図1において、蒸発源1から蒸発した成膜材料は、飛散制限部として構成したマスクホルダー6の制限用開口部5を通過すると共に、蒸着マスク2のマスク開口部3を介して基板4上に堆積して、この蒸着マスク2により定められた成膜パターンの蒸着膜が基板4上に形成される。この際、前記基板4と前記蒸着マスク2とを離間状態に配設し、この基板4を、前記蒸着マスク2や前記蒸発源1に対してこの離間状態を保持したまま相対移動自在に構成して、この基板4を相対移動させることにより、蒸着マスク2自体よりも広い範囲にこの蒸着マスク2により定められる成膜パターンの蒸着膜が基板4上に形成される。また、この蒸着マスク2と蒸発源1との間に、蒸発源1から蒸発した成膜材料の蒸発粒子の飛散方向を制限する前記制限用開口部5を設けた飛散制限部を有するマスクホルダー6を設けて、制限用開口部5により隣り合う若しくは離れた位置の蒸発口部8からの蒸発粒子を通過させず蒸着マスク2と基板4とが離間状態にあっても成膜パターンの重なりを防止している。また更にこの飛散制限部を構成するマスクホルダー6に蒸着マスク2を接合させて付設した構成としたから、前記蒸発源1からの熱の入射が抑えられマスクホルダー6や蒸着マスク2の温度上昇が抑制され、また、蒸着マスク2が基板4と離間状態であってもこのマスクホルダー6と接合していることで蒸着マスク2の熱はマスクホルダー6へ伝導するから蒸着マスク2を一定の温度に保持する温度保持機能が向上する。また、更に例えば必要に応じてこのマスクホルダー6若しくは蒸着マスク2の少なくとも一方に蒸着マスク2の温度を保持する温度制御機構を設ければ、一層前記マスクホルダー6や蒸着マスク2の温度上昇が抑制され、一層蒸着マスク2を一定の温度に保持する温度保持機能が向上することとなる。従って、この飛散制限部を有するマスクホルダー6は、蒸発粒子の飛散方向の制限機能と同時に温度保持機能をも果たし、蒸着マスク2の温度上昇を抑制でき蒸着マスク2を一定の温度に保持し、熱による蒸着マスク2の歪みも生じにくいこととなる。従って、基板4を、蒸着マスク2,この蒸着マスク2を付設したマスクホルダー6及び蒸発源1に対してこの蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動させることで、蒸着マスク2による前記成膜パターンの蒸着膜をこの相対移動方向に連続させて形成し、基板4より小さい蒸着マスク2でも広範囲に蒸着膜が形成され、且つ隣り合う若しくは離れた位置の蒸発口部8からの入射による成膜パターンの重なりも、熱による歪みなども十分に抑制され高精度の蒸着が行える蒸着装置となる。また、蒸発源1の蒸発口部8の開口幅φxを狭めることで、成膜パターンの陰影SH蒸着膜の側端傾斜部分のはみ出し量を一層抑制することができ、また蒸発口部8の開口長を相対移動方向に長くすることで蒸発レートを高くすることができることとなる。本発明の具体的な実施例1について図面に基づいて説明する。図1は、概略装置の全体図である。本実施例は、減圧雰囲気とする蒸着室7内例えば、真空チャンバー7内に、成膜材料例えば、有機ELデバイス製造のための有機材料を収めた蒸発源1と、この蒸発源1の複数並設した蒸発口部8から蒸発する前記成膜材料の蒸発粒子が通過するマスク開口部3を設けた蒸着マスク2とを配設し、この蒸着マスクと離間状態に位置合わせする基板4に、前記複数の蒸発口部8から飛散する蒸発粒子が前記マスク開口部3を通過して堆積し、この蒸着マスク2により定められる成膜パターンの蒸着膜がこの基板4上に形成されるように構成し、この基板4と蒸発源1との間に、隣り合う若しくは離れた位置の蒸発口部8からの蒸発粒子を通過させないようにする制限用開口部5を設けた飛散制限部を構成するマスクホルダー6を配設し、このマスクホルダー6に基板4と離間状態に配設する前記蒸着マスク2を接合させて付設し、基板4を、蒸着マスク2を付設したマスクホルダー6及び蒸発源1に対して、蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成して、この相対移動方向により蒸着マスク2より広い範囲にこの蒸着マスク2により定められる成膜パターンの蒸着膜が基板4上に連続して形成されるように構成している。即ち、複数の蒸発口部8からの蒸発粒子によって蒸着する構成として、大面積の基板4に蒸着できるようにすると共に、制限用開口部5により隣り合う若しくは離れた位置の蒸発口部8からの入射を防止して蒸着マスク2と基板4とが離間状態にあっても成膜パターンの重なりも防止されるように構成している。また本実施例では、複数の蒸発源1を並設して各蒸発口部8を並設してもよいが、一つの横長な蒸発源1に複数の蒸発口部8を並設した構成とし、前記成膜材料が加熱する蒸発粒子発生部26と、この蒸発粒子発生部26から発生した前記蒸発粒子を拡散させて圧力を均一化する横長拡散部27とで前記蒸発源1を構成し、この横長拡散部27に前記蒸発口部8を前記横方向に複数並設している。更に説明すると、例えば自動るつぼ交換機構により交換自在な蒸発粒子発生部26るつぼ26に成膜材料を収納し、このるつぼ26で加熱されて蒸発した蒸発粒子を一旦停留させて圧力を均一化する横長形の前記横長拡散部27を設け、この横長拡散部27の上部に、相対移動方向に長くこれと直交する横方向に前述のように幅狭いスリット状開口部を多数横方向に沿って並設して前記蒸発口部8を多数配設している。また、横方向に並設する各蒸発口部8を、前記蒸発源1の前記横長拡散部27に突出した導入部28の先端に設け、横長拡散部27の周囲若しくは導入部28間に、蒸発源1の熱を遮断する熱遮断部19を配設している。この熱遮断部19は、熱を遮蔽するものであればよいが、本実施例は冷却板9Dを採用し、冷却媒体を供給する媒体路を有し、冷却媒体が蒸発源1からの熱を奪いながら媒体路を通過して、この熱を交換する熱交換部20Dを設けて、熱遮蔽効果を高めている。また、蒸着マスク2やマスクホルダー6には成膜中に蒸発粒子が次々に付着し、長時間使用すると成膜パターンに影響を及ぼす虞があるため、真空チャンバー7に不図示のゲート弁を介して交換室16例えば、交換用チャンバー16を並設し、真空チャンバー7から蒸着マスク2を付設したマスクホルダー6を取出自在に構成することで、マスクホルダー6の搬出入が容易となり、マスクホルダー6の交換に伴う成膜工程の停止時間が短くなり、蒸着装置の稼働率が向上する。また、前記交換用チャンバー16には、蒸着マスク2付のマスクホルダー6の洗浄機構を備え、付着した成膜材料を剥離させ、材料回収機構17で前記成膜材料を回収し再利用すると共に、成膜材料剥離後の蒸着マスク2付マスクホルダー6の表面に残った成膜材料やパーティクルを除去するために洗浄する。また、蒸着マスク2付のマスクホルダー6は、付着した成膜材料を剥離回収せず、洗浄機構で洗浄するように構成してもよいし、蒸着マスク2付のマスクホルダー6自体を回収して交換するようにしてもよい。また、本実施例は、基板4を透明性基板4としてプラスチックフィルムを使用し、このプラスチックフィルム4上に陰極と、有機物質からなる複数の発光層と、陽極層とを設けた有機ELディスプレイをロールトゥーロール方式で製造する方法において、真空蒸着方式で発光層を蒸着する場合にも有効である。図2は、蒸発源1の斜視図である。蒸発源1は、横長拡散部27に突出形成した導入部28を先端部に設けている。蒸発粒子が噴出する蒸発口部8の開口面積に対して、横長拡散部27の体積を充分大きくすることで、るつぼ26で加熱された蒸発粒子が、横長拡散部27で拡散し圧力が均一になることで、各蒸発口部8からの蒸発粒子が噴出する噴出圧力が均一になる。また、各蒸発口部8の基板4側に向けて突出する導入部28の突出長を、前記基板4の相対移動方向と直交する横方向のこの導入部28の幅長より長くすることで、前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に対する蒸発粒子の指向性を高めると同時に、基板4との相対移動方向には蒸発口部8の開口を広く設けることで、蒸発レートが高くなり生産性の高い蒸着装置となる。また、図3に示すように、導入部28を横長拡散部27内に配設するように構成してもよく、この時、熱遮断部19に蒸発材料が付着してしまうので、蒸発口部8間には熱遮断部19を配設しない方が望ましい。更に、前記蒸発口部8の開口形状の内角Rの値が大きいと、コーナー部分からの蒸発粒子の発生が減少し、蒸発レートが低下するので、前記蒸発口部8の開口形状の内角Rの値は小さい方が望ましい。具体的には、蒸発口部8の基板4と相対移動方向の長さφyを30mm、基板4と直交する横方向の長さφxを2mmとすると、内角Rがない蒸発口部8と内角Rが1mmの蒸発口部のものと比較した。蒸発レートは蒸発口部8の開口面積におおよそ比例するので、開口面積で比較すると、内角Rがない方では、開口面積が60mm2となり、内角Rが1mmあるものでは、56πmm2となり、約1.4蒸発レートが低下する。また、基板4と蒸着マスク2を離間状態で配設し、成膜する場合、図4に示すように蒸着膜の両側端部の傾斜部分である陰影SHが生じる。基板4と蒸着マスク2とのギャップをG、蒸発口部8の前記横方向の開口幅をφx、この蒸発口部8と蒸着マスク2との距離をTSとすると、下記の式1で表され、この陰影SHが隣接する蒸着膜との間隔PPに達しないように、蒸発口部8の開口幅φxを小さく設定してギャップGを大きく設定できるように構成している。具体的には、陰影SHを0.03mm以下に設定し、上記TSを100~300mmとし、上記φxを0.5~3mmで設定すると、ギャップGが1mm以上確保できる。例えば、上記TSを100mmで上記φxを3mmとすると、ギャップGは1mmとなり、また上記TSを100mmで上記φxを0.6mmまで小さくすると、ギャップGを5mm確保することができる。また、上記TSを300mmとし、上記φxを3mm、ギャップGを1mmとすると、陰影SHを0.01mmまで小さくすることができ、より高精細な成膜パターンに対応できるようにしてもよい。また、前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に幅狭い蒸発口部8を有する蒸発源1を、前記基板4の相対移動方向に複数並設すると、基板4と蒸着マスク2が離間状態で蒸着しても、陰影を抑制しながら蒸発レートを高くすることができるが、成膜パターンの位置ずれが各蒸発口部8夫々の位置ずれの総和になり、前記基板4の相対移動方向に配設する蒸発源1の蒸発口部8の数は最小限に留める方がよい。そのため、本実施例では、図2に示すように、前記基板4の相対移動方向に配設する蒸発口部8は一つとし、前記蒸発口部8は、前記基板4の相対移動方向に長くこれと直交する横方向に幅狭いスリット状とする構成としている。具体的には、搬送成膜時の膜厚Åは、蒸着レートÅ/s/移動速度mm/s×蒸着マスクスリット長mmで表される。蒸発口部8の前記横方向の開口幅φxを1mmとし、図5に示すように、基板4の相対移動方向の長さφyの長さが1mm図5aと60mm図5bで成膜される場合を比較した。蒸発口部8から蒸発し、基板4上に蒸着された膜厚分布が余弦則のcosθの20乗に近似した分布になるとする。蒸発口部8の対向する位置での蒸着レートを1Å/s,移動速度を1mm/s,蒸着マスクスリットの長さを100mmとすると、搬送成膜後の膜厚は、φyが1mmの場合図5aでは、約83.3Åとなり、例えば蒸着膜の目標膜厚を400Åとすると、移動速度が約0.21mm/sとなる。しかし、φyが60mmの場合図5bでは、蒸発口部8のφyが図5aと比較して60倍になるので、基板4上のある地点a,bに蒸着される蒸発粒子の入射角θbはθaの60倍となる。よって、同様に目標膜厚を400Åとすると、移動速度も60倍の約12.5mm/sとなり生産性が向上する。ただし、厳密に言えば、φyが60mmの場合の成膜有効範囲内の蒸着レートはφyが1mmの60倍ではなく、φyの中心から左右対称に端に行くほど蒸発口部8から噴出し、制限用開口部5空間を飛散する蒸発粒子数が中心部と比して減少するので、蒸発レートは低下する。具体的に言うと、図5aの蒸発口部8のc地点から噴出する蒸発粒子が基板4上のa地点に蒸着される蒸発レートの方が、図5bの蒸発口部8のd地点から噴出する蒸発粒子が基板4上のa地点と同様にb地点に蒸着される蒸着レートより高くなる。よって、図6に示すように、成膜有効範囲内の膜厚分布は、bの方が広がる。具体的には、φyが60mmの場合とφyが1mmの60倍の時の膜厚を比較すると、蒸着レート、移動速度、蒸着マスクスリットの長さが同じ場合では、φyが60mmの方が膜厚が約4.1薄くなる。また、本実施例の前記蒸着マスク2の前記マスク開口部3は、図7,図8に示すように前記基板4の前記相対移動方向と直交する横方向に多数並設した構成とし、この各マスク開口部3は、前記相対移動方向に長いスリット状に形成若しくは開口部を前記相対移動方向に複数並設して、この相対移動方向のトータル開口長を横方向の開口長より長く形成している。即ち、蒸着マスク2の各列のマスク開口部3は、相対移動方向に長いスリット状開口部としてもよいし、蒸着マスク2の剛性を高めるため、このマスク開口部3は相対移動方向に長いスリット孔あるいは小孔などの小開口部をこの方向に点在させてトータル開口長総合開口面積を広く確保してもよい。更に、蒸着マスク2の開口スリット若しくはトータル開口長が中央部から横方向に離れるほど長くなるように設定して、中央部から離れるほど蒸着レートが低くなるが、蒸着膜の膜厚が一定になるように設定している。例えば、図9,図10に示すように、前記基板4の相対移動方向と直交する横方向X軸方向のある位置xにおける蒸発粒子の飛散角度をθとすると、xの位置では余弦則cosθに累乗係数nを乗じた近似分布となり、前記基板4の相対移動方向Y軸方向の膜厚分布を勘案し、前記蒸着マスク2のマスク開口部3の形成長が中央部を境に左右対称に長く変化していくように設定している。具体的には、蒸発口部8の寸法が、例えば蒸発口部開口幅φxが1mm、蒸発口部スリット長φyが60mmとし、基板4の相対移動方向と直交する横方向の膜厚分布がcosθの20乗に近似した分布になるとすると、図8に示した膜厚分布となる。蒸発粒子の蒸着マスク2への入射角が大きくなると、前述した誤差の影響が大きくなるので、膜厚が中心の8割まで薄くなる位置まで成膜に使用すると、X軸方向の-30~30の幅60mmが一つのノズルで成膜する成膜有効範囲である。蒸発口部開口中心に対向するマスク位置での基板4の相対移動方向の形成長を100mmとすると、成膜有効範囲の両端である-30,30の位置での蒸着マスク開口長は約146mmとなり、図10に示すように中心から両端に離れるほど左右対称にマスク開口長が長くなる。また、図11に示すように、基板4と蒸着マスク2が離間しているギャップGを利用して、膜厚補正板29を蒸着マスク2の基板4側に配設することで、蒸着マスク2をマスクホルダー6に接合後、更に膜厚補正が必要になった場合でも、蒸着マスク2を貼り替えることなく、蒸着膜の膜厚を補正できる。同様に蒸着マスク2のマスク開口部3を、左右両端に離れるほど基板4の相対移動方向に長いスリット状にせず、同一のスリットにし、図11に示すように所定範囲に開口部を形成しそれ以外を閉塞する膜厚補正板29で補正して図10に示すスリット開口長にするようにしてもよい。また、図12に示すように、基板4に蒸着される成膜パターンを決する蒸着マスク2のマスク開口部3の前記基板4の相対移動方向と直交する横方向の形成ピッチを、前記蒸着膜の成膜パターンのピッチよりも、基板4と蒸着マスク2とのギャップGの大小及び蒸発口部8と蒸着マスク2までの距離TSの大小に応じた相違分だけ狭く設定している。具体的には、図12に示すように、蒸発源の蒸発口部開口中心に対向するマスク位置からマスク開口中心までの距離MPxは、蒸発口部開口中心に対向する基板位置から成膜パターン中心までの距離Pxにα/1αを乗じた分このときα=TS/G小さくなる。従って、例えば上記距離TSを100mm、上記ギャップGを1mmとすると、上記αは100となり、α/1αは約0.99となる。よって、例えばPxを10mmとすると、MPxは9.9mmとなり、MPxはPxより小さい値となる。即ち、基板4と蒸着マスク2とが離間しているため、基板4と蒸着マスク2とのギャップGの大小及び蒸発口部8と蒸着マスク2までの距離TSの大小に応じて、蒸着マスク2のマスク開口部3を通過して基板4上に堆積する蒸着膜の位置は横方向にずれるが、このずれ量を考慮して、蒸着マスク2の開口ピッチを、成膜パターンより狭く設定することで、成膜パターン位置精度の高い蒸着膜を形成できることとなる。また、同様に、図13に示すように蒸着マスク開口幅Mxは、蒸発口部8の開口幅φxがこのマスク開口幅Mxより大きい場合、基板4と蒸着マスク2とのギャップGの大小及び蒸発口部8と蒸着マスク2までの距離TSの大小に応じた相違分だけ広くなる。具体的には、マスク開口幅MxはφxαP/1αで表されるこのときα=TS/G。例えば、蒸着パターン幅Pを0.1mm、TSを100mm、φxを1mmとした場合、マスク開口幅Mxは、Gが3mmでは約0.126mm、Gが5mmでは約0.143mmとなり、蒸着パターン幅Pより広くなる。また、本実施例では、基板4の相対移動方向に延在するリブ部24を設け、このリブ部24の基板4側先端面に、各制限用開口部5に設ける蒸着マスク2を支承し接合するマスク取付支承面23を設けている。例えば、図14に示すように、発光層のR画素を蒸着する場合は、その他のG,B画素幅とその間隔分マスク取付支承面23を設けることができ、基板4と蒸着マスク2とのギャップGが離間していることで、広く確保できる。具体的には、基板4と蒸着マスク2が密着している構成でのマスク取付支承面23は、RGB画素蒸着のための蒸着膜間隔PPと蒸着パターン幅Pを用いて、2P3PPで表される。更に、ギャップGを有することで、蒸発口部8と対向する基板4中心から見て、蒸着パターンの最端の位置と蒸着マスク2のマスク開口部3の最端の位置との差Aが生じる。AはGPxP/2-φx/2/TSGで表され、マスク取付支承面23は、基板4と蒸着マスク2が密着している場合と比較して2A分広くなる。更に具体的に説明すると、例えば蒸着パターン幅Pを0.1mm、蒸着膜間隔PPを0.05mmとした場合、基板4と蒸着マスク2が密着している場合のマスク取付支承面23は0.35mmとなる。しかし、本実施例の基板4と蒸着マスク2が離間状態にある場合では、例えば、上記TSを200mm、上記φxを1mm、上記Pxを30mmとすると、マスク取付支承面23はギャップGが1mmでは約0.64mm、ギャップGが5mmでは約1.79mmとなり、蒸着マスク2を重合してスポット溶接する面積を十分確保できる。本発明の具体的な実施例2について図面に基づいて説明する。図15に示すように、制限用開口部5毎に複数の蒸発口部8を並設し、複数の蒸発口部8からの蒸発粒子が基板4上で重畳することで蒸着レートを高くすることができる。具体的には、制限用開口部5毎に3つの蒸発口部8が配設された構成の場合、中央の蒸発口部8から蒸発した蒸発粒子は、マスク開口部3を通過して基板4上に堆積し、隣接する蒸発口部8から蒸発した蒸発粒子が、隣接するマスク開口部3を通過して前記基板4上の同位置に堆積する。蒸発口部8を複数並設する分、基板4上に重畳される量が多くなり蒸着レートが高くなる。また、前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に3つ並設する蒸発口部8の配設位置精度が良好な場合は、蒸着レートは同一になるが、各蒸発口部8の開口幅φxを1/3にすることで蒸着膜の陰影SHを一層抑制するような構成としてもよい。蒸着膜が基板4上で重畳されるための蒸発口部8の間隔は次の式5によって決定される。Pφx=蒸発口部の間隔、PMx=蒸着マスクのマスク開口部の間隔、G=基板と蒸着マスクの距離、TS=蒸発口部と蒸着マスクの距離具体的には、PMxを0.5mm、Gを4mm、TSを200mmとすると、Pφxは25.5mmとなる。本発明の具体的な実施例3について図面に基づいて説明する。制限用開口部5に対向状態で配設する蒸発口部8を基板4の相対移動方向と直交する横方向に複数並設することで、複数の蒸発口部8から蒸発した蒸発粒子は一つのマスク開口部3を通過して、等間隔の成膜パターンに蒸着できるため、成膜パターンを決するマスク開口部3の数を減らし、マスク開口部3のピッチを広げることができるので、蒸着材マスキング部位の幅が広くでき、蒸着マスク2の機械的強度が増し、洗浄時のマスクの破壊や癒着を防止でき、かつマスク取付支承面23を広く確保できるので、蒸着マスク2とマスクホルダー6の接合がより強固に行える。具体的に言うと、図16に示すように、制限用開口部5内に対向状態で配設する蒸発口部8が奇数3個の場合でも、図17に示すように、制限用開口部5内に対向状態で配設する蒸発口部8が偶数2個の場合でも、制限用開口部5内のマスク開口部3の間隔が均等で、制限用開口部5内の成膜パターン数を蒸発口部8の数で除した数にマスク開口部3の数を減じることができる。更に、図16に示した制限用開口部5内に対向状態で蒸発口部8が奇数3個配設され、制限用開口部5内の成膜パターン数を蒸発口部8の数で除した数にマスク開口部3の数を減じることができる構成では、図18に示すように、マスク開口部3の間隔を1/2にすることで、成膜パターン間隔も1/2にすることができ、より高精度な成膜パターンが蒸着できるようになる。また、図19に示すように、マスク開口部3の数を減らしたため、マスク開口部3があったマスク表面にも媒体路やヒートパイプを配設できるようになり、蒸着マスク2の表面の温度を一定に保持する能力が一層向上し、また図20に示すように、媒体を若しくはヒートパイプの数を増やすのではなく、蒸着マスク2と接触する表面積を増やすことにより、蒸着マスク2の温度を一定に保持するようにしてもよい。更に、マスクホルダー6にも温度制御機構を備えることで、マスクホルダー6に付設している蒸着マスク2の温度を一層保持できるようにしてもよい。複数の蒸発口部8から蒸発した蒸発粒子が、同一のマスク開口部3を通過して、所望の成膜ピッチで蒸着するための蒸発口部8の間隔は次の式5によって決定される。Pφx=蒸発口部の間隔、PMx=蒸着マスクのマスク開口部の間隔、G=基板と蒸着マスクの距離、TS=蒸発口部と蒸着マスクの距離具体的には、PMxを0.5mm、Gを4mm、TSを200mmとすると、Pφxは25.5mmとなり、蒸発口部8を3つ配設すると、マスク開口部ピッチが3倍になるので、PMxは1.5mmとなる。また、図21に示すように、成膜パターンを決するマスク開口部3の数を減らすことで、マスク開口部の間隔を広げることができるので、実施例2に示した成膜パターンを基板4上で重畳させる場合や、制限用開口部5に対向状態に配設する蒸発口部8を1つ配設する場合と比較して、最端のマスク開口部Bが塞がれる分マスク取付支承面23を大きくすることができる。本発明の具体的な実施例4について図面に基づいて説明する。図22に示すように、前記基板4と前記蒸着マスク2との間に、第二の蒸着マスク10を基板4と密着して配設している。よって、本実施例では、蒸発源1、マスクホルダー6及び第一の蒸着マスク2が第二の蒸着マスク10、基板4と相対移動する構成となっているが、第二の蒸着マスク10は第一の蒸着マスク2と基板4の間に離間状態で配設されていてもよく、蒸発源1及びマスクホルダー6に付設した蒸着マスク2と基板4との相対移動において、どちらの相対移動と共にしてもよい。この第二の蒸着マスク10のマスク開口部11は、前記成膜パターンを最終的に決する配列とし、この第二の蒸着マスク10より前記蒸発源1側に位置する前記第一の蒸着マスク2の前記マスク開口部3の幅は、第二の蒸着マスク10と同一かこれより幅広くなるように設けている。また、制限用開口部5内の第二の蒸着マスク10のマスク開口部11の形成間隔は、第一の蒸着マスク2のマスク開口部3の形成間隔より広く形成している。本実施例では、第二の蒸着マスク10を基板4と密着させて配設することで、第一となる前記蒸着マスク2による陰影SHが発生しない。また、蒸発源1からの輻射熱と蒸発粒子が伝導する熱量は第一の蒸着マスク2で吸収され、この第一の蒸着マスク2から放出される放射熱が第二の蒸着マスク10へ伝播するので、第二の蒸着マスク10へ入射する熱量は大幅に減少され、第二の蒸着マスク10の熱膨張を抑制できる。更に、マスクホルダー6に冷却機構を備えることで、第一の蒸着マスク2の温度が一層上昇しないように構成してもよい。従って、本実施例では、第一の蒸着マスク2は、蒸発源1からの熱を第二の蒸着マスク10へ伝播させないようにし、第二のマスク開口部11へ入射する蒸着パターンがずれないように線膨張係数の小さいインバー材で形成し、マスク開口部3はエッチング加工で形成する。第二の蒸着マスク10は、第一の蒸着マスク2が配設されていることで、熱量の入射が大幅に抑制されるから、線膨張係数の大きいニッケルなどで形成しても熱膨張せず、その結果、最終的に決定される成膜パターンの蒸着膜を形成することから、マスク開口部11を高精度に形成できる電鋳法を用いることができる。また、図23に示すように、制限用開口部5毎に複数の蒸発口部8を並設し、複数の蒸発口部8からの蒸発粒子が基板4上で重畳させることで蒸着レートを高くすることができる構成では、製作及び取付精度や蒸発源1加熱時の熱膨張などが原因で、基板4と蒸着マスク2とのギャップG、蒸発口部8と蒸着マスク2との距離TS、基板4の相対移動方向と直交する横方向における蒸発口部8同士の距離が変化することで、複数の蒸発口部8からの蒸発粒子が正確に基板4上に重畳できず、成膜パターンが広がってしまうが、第二の蒸着マスク10を基板4と密着させて配設させることで、第二のマスク開口部11の成膜パターンが形成されるので、上述した位置ずれを許容できる蒸着装置となる。尚、本発明は、実施例1~4に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。"