ケイフッ化水素酸を含有する廃液に、無機の炭酸塩または重炭酸塩を添加し、難溶性のケイフッ化物塩を析出させて除去することを特徴とするケイフッ化水素酸含有廃液の処理方法。ホウフッ化水素酸をさらに含有する廃液に、無機の炭酸塩または重炭酸塩を添加し、難溶性のケイフッ化物塩を析出させて除去した後、カリウム塩を添加し、ホウフッ化水素酸のカリウム塩を析出させて除去する請求項1記載の方法。被処理廃液が、フッ化水素酸を用いるガラスの加工および/または洗浄工程から排出される廃液であり、処理液にフッ化水素酸を添加してガラスの加工および/または洗浄工程へ返送するようにされた請求項1または2記載の方法。無機の炭酸塩または重炭酸塩を粉末状またはスラリー状で添加する請求項1ないし3のいずれかに記載の方法。無機の炭酸塩または重炭酸塩を回分式に添加する請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。バブリングまたは水流により攪拌した状態で無機の炭酸塩または重炭酸塩を添加する請求項1ないし5のいずれかに記載の方法。本発明の課題は、前記のような従来の問題点を解決するため、不純物となる成分を添加することなく、ケイフッ化水素酸の除去、さらにはホウフッ化水素酸の除去を効率よく行うことができるとともに、処理液量を増加させることもなく、不純物の少ない処理液を得ることができ、処理液はそのまま回収して再利用することができるケイフッ化水素酸含有廃液の処理方法を提案することである。本発明は次のケイフッ化水素酸含有廃液の処理方法である。1ケイフッ化水素酸を含有する廃液に、無機の炭酸塩または重炭酸塩を添加し、難溶性のケイフッ化物塩を析出させて除去することを特徴とするケイフッ化水素酸含有廃液の処理方法。2ホウフッ化水素酸をさらに含有する廃液に、無機の炭酸塩または重炭酸塩を添加し、難溶性のケイフッ化物塩を析出させて除去した後、カリウム塩を添加し、ホウフッ化水素酸のカリウム塩を析出させて除去する上記1記載の方法。3被処理廃液が、フッ化水素酸を用いるガラスの加工および/または洗浄工程から排出される廃液であり、処理液にフッ化水素酸を添加してガラスの加工および/または洗浄工程へ返送するようにされた上記1または2記載の方法。4無機の炭酸塩または重炭酸塩を粉末状またはスラリー状で添加する上記1ないし3のいずれかに記載の方法。5無機の炭酸塩または重炭酸塩を回分式に添加する上記1ないし4のいずれかに記載の方法。6バブリングまたは水流により攪拌した状態で無機の炭酸塩または重炭酸塩を添加する上記1ないし5のいずれかに記載の方法。本発明において、処理の対象となるケイフッ化水素酸含有廃液は、構成成分としてケイフッ化水素酸H2SiF6を含有する廃液である。このケイフッ化水素酸含有廃液には、フッ化水素酸その他の成分を含んでいてもよい。このようなケイフッ化水素酸含有廃液としては、ガラスの加工および/または洗浄工程、すなわちガラス表面を加工し、または洗浄する工程において、フッ化水素酸HFを含む水溶液を加工液または洗浄液として、加工または洗浄を行う際に排出される廃液があげられるが、他の工程から排出される廃液であってもよい。廃液中のケイフッ化水素酸の濃度は0.01~50w/v、特に1~30w/vの廃液が本発明の処理に適している。本発明において、w/vはg/100mLを意味する。工程がホウケイガラスの加工、洗浄を行う工程である場合は、この工程から排出される廃液は、ケイフッ化水素酸とともにホウフッ化水素酸HBF4を含有する廃液であるが、このような廃液も本発明における処理の対象となる。ホウフッ化水素酸をさらに含有する廃液の場合、廃液中のホウフッ化水素酸の濃度は0.001~40w/v、特に0.01~20w/vの廃液が本発明の処理に適している。本発明では、このようなケイフッ化水素酸含有廃液に、無機の炭酸塩または重炭酸塩を添加し、ケイフッ化水素酸の無機塩を析出させて除去する。無機の炭酸塩または重炭酸塩としては、ケイフッ化水素酸と反応して難溶性塩を生成する金属、特に1価または2価の金属の炭酸塩または重炭酸塩が好ましく、具体的にはNa2CO3、MgCO3、CaCO3、Rb2CO3、SrCO3、BaCO3、NaHCO3などがあげられ、これらは1種を添加してもよく、また2種以上を同時にまたは別々に添加してもよい。無機の炭酸塩または重炭酸塩をケイフッ化水素酸含有廃液に添加すると、ケイフッ化水素酸は酸性であるため、炭酸塩または重炭酸塩は分解して炭酸ガスを発生し、浮上して除去される。対イオンの金属イオンはケイフッ化物イオンと反応して、難溶性のケイフッ化物塩となって析出するので、固液分離して除去することにより、ケイフッ化水素酸を含まない処理液が得られる。この時の反応は次のI式によるものと推測される。H2SiF6MxCO3→MxSiF6↓H2OCO2↑II式中、MはNa、Mg、Baなどのカチオン原子を表し、xはその原子数を表し、原子数が1の場合は省略される。添加する無機の炭酸塩または重炭酸塩の形態は、粉末、スラリー、水溶液状など任意であるが、処理液を回収して再利用する場合は、処理液が増量しないように、粉末状または高濃度のスラリー状で添加するのが好ましい。この場合、析出するケイフッ化物塩を固液分離する際に除去される水量に相当する水は、この段階で添加することができる。ここで除去される水量は、処理条件により変わるが、一般的には無機の炭酸塩または重炭酸塩添加時のスラリーの固形物濃度として、50w/v以上、好ましくは70w/v以上とすることができ、特に粉末状での添加が好ましい。無機の炭酸塩または重炭酸塩を、粉末状または高濃度のスラリー状で添加する場合、粉末またはスラリー中の炭酸塩または重炭酸塩粒子の表面から前記I式の反応が進行する。このとき炭酸ガスの発生により、炭酸塩または重炭酸塩の粒子表面で生成する難溶性化合物が、粉体等の粒子の表面部より剥離する。これにより粒子の表面部に常に新しい面が露出され、反応が促進される。反応後半において、炭酸ガスの発生量が減ることによる剥離能の低下を補うために、空気等の気体によるバブリング、あるいは水流により攪拌を行うことにより反応は促進される。炭酸塩または重炭酸塩の添加方法は特に限定されないが、一度に添加すると炭酸ガスによる発泡で反応液の界面が急激に上昇する場合は、回分添加とすることができる。回分の間隔は特に限定されないが、1~5分間、好ましくは1~2分間とするのが望ましい。無機の炭酸塩または重炭酸塩は前記I式に示す通り、添加した分だけケイフッ化水素酸と反応し、直ちに難溶性のケイフッ化物塩となって析出するので、除去対象とするケイフッ化水素酸との反応当量に相当する量を添加すればよい。この添加量は正確でなくてもよく、一般的には反応当量を1とした場合、その0.8~2.0倍、好ましくは0.9~1.5倍程度とすることができる。無機の炭酸塩または重炭酸塩を過剰に添加すると、廃液に含まれるフッ化水素酸が中和され、添加する塩がカルシウム塩などの場合には、フッ化カルシウムなどの難溶性の塩が析出するので、添加後の反応液はpH5以下、好ましくはpH2以下となる添加量とするのが好ましい。析出したケイフッ化物塩は易分離性であるため、沈降分離などの一般的な固液分離により、容易に同伴水が少ない状態で分離し、除去することができる。ガラスの加工および/または洗浄工程から排出される廃液が、ケイフッ化水素酸とともにホウフッ化水素酸を含有する廃液である場合は、上記の通り無機の炭酸塩または重炭酸塩を添加し難溶性のケイフッ化物塩を析出させて除去した後、カリウム塩を添加し、ホウフッ化水素酸のカリウム塩を析出させ、固液分離により除去することができる。ホウフッ化水素酸はカリウム塩と反応し、難溶性のホウフッ化カリウム塩として析出するが、ケイフッ化水素酸が共存する場合は、カリウム塩はケイフッ化水素酸とも反応しケイフッ化カリウム塩が析出する。ケイフッ化カリウム塩は酸性条件ではゲル化するため、ケイフッ化水素酸とホウフッ化水素酸が共存する廃液の場合は、まずは無機炭酸塩でケイフッ化水素酸塩を析出させて除去し、次いでカリウム塩によりホウフッ化水素酸塩を析出させて除去するのが好ましい。カリウム塩の種類は特に限定されないが、処理後の液重量を増やさないためには、炭酸塩または重炭酸塩が好ましい。カリウムの炭酸塩または重炭酸塩を用いる場合は、前記I式とほぼ同様の下記II式の反応により、ホウフッ化水素酸塩が析出するものと推測される。2HBF4K2CO3→2KBF4↓H2OCO2↑II添加するカリウム塩の形態は、粉末、スラリー、水溶液状など任意であるが、前記無機の炭酸塩または重炭酸塩の場合と同様に、処理液が増量しないように、粉末状または高濃度のスラリー状で添加するのが好ましい。この場合、固形物濃度として、50w/v以上、好ましくは70w/v以上とすることができ、特に粉末状での添加が好ましい。カリウムの炭酸塩または重炭酸塩を、粉末状または高濃度のスラリー状で添加する場合、前記ケイフッ化物塩の場合と同様に、粉末またはスラリー中の炭酸塩または重炭酸塩粒子の表面から反応が進行する。そして炭酸ガスの発生により、炭酸塩または重炭酸塩の粒子表面で生成する難溶性化合物が、粉体等の粒子の表面部より剥離し、反応が促進される。このため空気等の気体によるバブリング、あるいは水流により攪拌を行うことにより反応は促進される。炭酸塩または重炭酸塩の添加方法は特に限定されないが、一度に添加すると炭酸ガスによる発泡で反応液の界面が急激に上昇する場合は、前記ケイフッ化物塩の場合と同様に、回分添加とすることができる。カリウム塩の添加量も前記ケイフッ化物塩の場合と同様であり、除去対象とするケイフッ化水素酸との反応当量を1とした場合、その0.8~2.0倍、好ましくは0.9~1.5倍程度とすることができ、添加後の反応液はpH5以下、好ましくはpH2以下となる添加量とするのが好ましい。析出したホウフッ化水素酸のカリウム塩の分離も、前記ケイフッ化物塩の場合と同様に易分離性であるため、沈降分離などの一般的な固液分離により、容易に同伴水が少ない状態で分離し、除去することができる。上記の処理によりケイフッ化水素酸塩を除去し、あるいはさらにホウフッ化水素酸塩を除去した処理液は不純物を含まないので、そのまま回収して再利用することができる。被処理廃液がフッ化水素酸を用いるガラスの加工および/または洗浄工程から排出される廃液である場合、処理液中のフッ化水素酸は低くなっているので、処理液にフッ化水素酸を添加して加工液または洗浄液を調製し、ガラスの加工工程または洗浄工程へ返送して加工および/または洗浄に供することができる。本発明では、無機の炭酸塩または重炭酸塩の粉体添加により、処理後の液重量もしくは体積を増大させることなくケイフッ化物塩を分離除去できる。炭酸塩または重炭酸塩以外の無機塩例えばアニオンがCl、SO4等の塩に比べ、炭酸塩または重炭酸塩の反応率が高いため、少量の無機炭酸塩でケイフッ化物塩を分離除去できる。また回分添加により、反応液の界面を大きく上昇させることなく、ケイフッ化物塩を分離除去できる。そしてホウフッ化水素酸が含まれている廃液でも、液のゲル化を起こすことなくケイフッ化水素酸およびホウフッ化水素酸を分離除去できる。以上の通り本発明によれば、ケイフッ化水素酸を含有する廃液に、無機の炭酸塩または重炭酸塩を添加し、難溶性のケイフッ化物塩を析出させて除去し、またホウフッ化水素酸をさらに含有する廃液の場合は、無機の炭酸塩または重炭酸塩を添加し、難溶性のケイフッ化物塩を析出させて除去した後、カリウム塩を添加し、ホウフッ化水素酸のカリウム塩を析出させて除去することにより、不純物となる成分を添加することなく、ケイフッ化水素酸の除去、さらにはホウフッ化水素酸の除去を効率よく行うことができるとともに、処理液量を増加させることもなく、不純物の少ない処理液を得ることができ、処理液はそのまま回収して再利用することができるなどの効果がある。以下、本発明の実施形態を図1により説明する。図1において、1はガラス加工洗浄装置、2は加工洗浄液槽、3は第1反応槽、4は無機塩貯槽、5は第1分離槽、6は第1脱水器、7は第2反応槽、8はカリウム塩貯槽、9は第2分離槽、10は第2脱水器である。ガラス加工洗浄装置1は、ガラスの加工および/または洗浄工程を行う装置であり、加工洗浄液槽2からラインL1を通してポンプ11により、フッ化水素酸を含む水溶液を加工液または洗浄液として供給し、ガラス表面の加工および/または洗浄を行うように構成されている。ガラス加工洗浄装置1からケイフッ化水素酸含有廃液が、ラインL2を通して、流量計12で流量を計測しながら第1反応槽3に導入される。第1反応槽3には、無機塩貯槽4からラインL3を通してフィーダ13により無機の炭酸塩または重炭酸塩が供給され、攪拌装置としての散気管14から空気のバブリングにより攪拌しながら反応させて、ケイフッ化水素酸の無機塩を析出させる。ここで発生する炭酸ガスは空気のバブリングにより大気中に放出される。15はpH計であり、その検出したpH信号は流量計12の流量信号とともに制御装置16に入力され、フィーダ13の供給量を反応当量に相当する量に制御する。第1反応槽3の反応液はラインL4を通して第1分離槽5へ導入され、沈降分離により固液分離が行われる。第1分離槽5の分離汚泥はラインL5から第1脱水器6へ供給して脱水され、脱水固形分はラインL6から系外へ排出され、分離液はラインL7から第1反応槽3へ戻される。第1分離槽5の分離液はラインL8から第2反応槽7へ導入され、カリウム塩貯槽8からラインL14を通してフィーダ17によりカリウムの炭酸塩または重炭酸塩が供給され、攪拌装置としての散気管18から空気のバブリングにより攪拌しながら反応させて、ホウフッ化水素酸のカリウム塩を析出させる。ここで発生する炭酸ガスは空気のバブリングにより大気中に放出される。第2反応槽7の反応液はラインL9を通して第2分離槽9へ導入され、沈降分離により固液分離が行われる。第2分離槽9の分離汚泥はラインL10から第2脱水器10へ供給して脱水され、脱水固形分はラインL11から系外へ排出され、分離液はラインL12から第1反応槽3へ戻される。第2分離槽9の分離液は処理液としてラインL13から取出される。この処理液は不純物を含まないのでそのまま回収し、加工洗浄液槽2からラインL1を通してポンプ11により、フッ化水素酸を含む水溶液を添加して加工液または洗浄液を調製し、ガラス加工洗浄装置1に供給し、ガラス表面の加工および/または洗浄工程に供する。以下、本発明の実施例、比較例について説明する。比較例1~2、実施例1~3:炭酸塩添加試験;ケイフッ化水素酸H2SiF6が6w/v、フッ化水素酸HFが4w/v、ホウフッ化水素酸HBF4が8w/v含まれる溶液500mLに、以下の炭酸塩を粉末で添加した。すなわち添加した無機塩は、比較例1が食塩NaCl、比較例2が塩化バリウムBaCl2、実施例1が炭酸ナトリウムNa2CO3、実施例2が炭酸バリウムBaCO3であり、実施例3は炭酸ナトリウムNa2CO3を添加し、空気によるバブリングを併用した。添加量は各例とも、ケイフッ化水素酸に対する反応当量に相当する量当量比で1.0である。添加後、スターラで2時間攪拌し、上澄みのフッ化水素酸HFおよびケイフッ化水素酸の濃度を測定した。試験結果を表1に示す。表1より、塩化物を添加した比較例1~2に比べ、炭酸塩を添加した実施例1~2は、ケイフッ化水素酸除去率が高くなることが確認された。このときフッ化水素酸濃度は低下しなかったことから、処理液を洗浄液として再利用することも有効であることが確認された。また空気によるバブリングを併用した実施例3は、バブリングを併用しない実施例1~2に比べて除去率が向上し、バブリングが除去率の向上に有効であることが確認された。実施例1、4~6:炭酸塩添加時の液界面上昇試験;ケイフッ化水素酸H2SiF6が6w/v、フッ化水素酸HFが4w/v、ホウフッ化水素酸HBF4が8w/v含まれる溶液500mLに、炭酸ナトリウムNa2CO3を粉末で回分添加した。添加量は、ケイフッ化水素酸に対する反応当量に相当する量当量比で1.0とし、添加時の溶液界面の上昇を、最大界面高さで測定した。添加条件は、実施例4が1分間隔で当量比0.1に相当する量、実施例5が1分間隔で当量比0.25に相当する量、実施例6が1分間隔で当量比0.5に相当する量を回分添加した。試験結果を、無機塩添加前の溶液の界面高さを1.0としたときの最大界面高さで表2に示す。回分添加せずに当量比1.0に相当する量を一度に添加した実施例1の結果も表2に示した。炭酸ナトリウムを添加すると、炭酸ガスの発生により溶液界面が一時的に急上昇し、発泡が終わると元の界面まで低下したが、表2に示すように、回分添加しない実施例1よりも、回分添加した実施例4~6の方が、最大界面高さは低く、炭酸ガスの発生により反応槽から反応液が溢れるリスクが低いことがわかる。この場合、各回分の添加量が少ない方が最大界面高さは低くなることがわかる。比較例3、実施例7:ホウフッ化水素酸除去試験;ケイフッ化水素酸H2SiF6が6w/v、フッ化水素酸HFが4w/v、ホウフッ化水素酸HBF4が8w/v含まれる溶液500mLに、以下の炭酸塩を粉末で添加し、反応後上澄みのケイフッ化水素酸およびホウフッ化水素酸の濃度を測定した。添加条件は、比較例3では、炭酸カリウムK2CO3をケイフッ化水素酸とホウフッ化水素酸の全量が反応する等モル量添加した。また実施例7では、炭酸ナトリウムNa2CO3をケイフッ化水素酸に対し等モル量添加して2時間攪拌した。その後、炭酸カリウムK2CO3をホウフッ化水素酸と等モル量添加した。その結果、比較例3では、溶液全体がゲル化し、固液分離できない状態となった。一方、実施例7では、ゲル化は起きず、上澄みのH2SiF6濃度は0.15w/v、HBF4濃度は0.80w/vとなった。以上の結果より、ケイフッ化水素酸とホウフッ化水素酸を含有する廃液の場合、ケイフッ化水素酸を炭酸塩または重炭酸塩と反応させて除去した後に、ホウフッ化水素酸をカリウム塩と反応させて除去することにより、ゲル化を防止して、ケイフッ化水素酸およびホウフッ化水素酸を効果的に除去できることが分かる。