"第1面部を有する第1部材と、前記第1面部に対向して配置された第2面部を有する第2部材と、を含み、前記第2面部が前記第1面部に沿って相対移動することにより、前記第1及び第2部材の相対的な姿勢変化を許容する部材の支持構造であって、前記第2部材は、前記第2面部を揺動可能に支持する第1揺動支持装置と、前記第2面部と前記第1揺動支持装置とを一体的に揺動可能に支持する第2揺動支持装置と、を備える部材の支持構造。前記第1部材は、前記第1面部を複数有し、前記複数の第1面部は、互いに異なる方向を向いて配置され、前記第2部材は、前記複数の第1面部に対応して前記第2面部を複数有する請求項1に記載の部材の支持構造。前記第1揺動支持装置は、前記第2面部を第1揺動中心回りに揺動可能に支持し、前記第2揺動支持装置は、前記第2面部と前記第1揺動支持装置とを第2揺動中心回りに揺動可能に支持し、前記第1及び第2揺動中心が一致する請求項1又は2に記載の部材の支持構造。前記第1揺動支持装置は、球面軸受け装置である請求項1~3のいずれか一項に記載の部材の支持構造。前記第2揺動支持装置は、弾性ヒンジ装置である請求項4に記載の部材の支持構造。前記第1及び第2部材間に互いに近接する方向の所定の負荷が作用した状態では、前記第2面部が前記弾性ヒンジ装置を介して揺動動作し、前記負荷が低減された状態では、前記第2面部が前記球面軸受け装置を介して揺動動作するように、前記球面軸受け装置において摩擦接触する部材間の摩擦係数が設定される請求項5に記載の部材の支持構造。前記第1及び第2部材間に互いに離間する方向の力を前記第1及び第2部材の一方に作用させる装置が前記第1及び第2部材の他方に設けられる請求項6に記載の部材の支持構造。前記第2面部は、前記第1面部との間に供給される加圧気体の静圧により、非接触状態で前記第1面部に沿って対移動する請求項1~7のいずれか一項に記載の部材の支持構造。前記第1面部と前記第2面部との間に転動体を含む転がり軸受け装置を更に備える請求項1~7のいずれか一項に記載の部材の支持構造。前記第1面部と前記第2面部との間に架設されたヒンジ部材を更に備える請求項1~7のいずれか一項に記載の部材の支持構造。所定の物体を保持する物体保持部材と、前記第1又は第2部材が前記物体保持部材に接続された請求項1~10のいずれか一項に記載の部材の支持構造と、前記物体保持部材に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項11に記載の露光装置。前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が500mm以上である請求項12に記載の露光装置。請求項12又は13に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。請求項11に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第1の観点からすると、第1面部を有する第1部材と、前記第1面部に対向して配置された第2面部を有する第2部材と、を含み、前記第2面部が前記第1面部に沿って相対移動することにより、前記第1及び第2部材の相対的な姿勢変化を許容する部材の支持構造であって、前記第2部材は、前記第2面部を揺動可能に支持する第1揺動支持装置と、前記第2面部と前記第1揺動支持装置とを一体的に揺動可能に支持する第2揺動支持装置と、を備える部材の支持構造である。これによれば、第2部材において、第2面部が第1揺動支持装置を介して揺動可能に支持されるとともに、第2面部と第1揺動支持装置とが第2揺動支持装置を介して揺動可能に支持される。第2面部は、第1揺動支持装置、及び/又は第2揺動支持装置の作用により揺動動作できるので、高精度な微少範囲の揺動動作と広範囲の揺動動作とが可能となる。本発明は、第2の観点からすると、所定の物体を保持する物体保持部材と、前記第1又は第2部材が前記物体保持部材に接続された本発明の第1の観点にかかる部材の支持構造と、前記物体保持部材に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置である。本発明は、第3の観点からすると、本発明の第2の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法である。本発明は、第4の観点からすると、本発明の第2の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法である。以下、一実施形態について、図1~図5Cを用いて説明する。図1には、一実施形態に係る液晶露光装置10の構成が概略的に示されている。液晶露光装置10は、例えば液晶表示装置フラットパネルディスプレイなどに用いられる矩形角型のガラス基板P以下、単に基板Pと称するを露光対象物とするステップアンドスキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。液晶露光装置10は、照明系12、マスクMを保持するマスクステージ14、投影光学系16、表面図1でZ側を向いた面にレジスト感応剤が塗布された基板Pを保持する基板ステージ装置20、及びこれらの制御系等を含む。以下、露光時にマスクMと基板Pとが投影光学系16に対してそれぞれ相対走査される方向をX軸方向とし、水平面内でX軸に直交する方向をY軸方向、X軸及びY軸に直交する方向をZ軸方向として説明を行う。また、X軸、Y軸、Z軸方向に関する位置を、それぞれX位置、Y位置、Z位置と称して説明を行う。また、X軸回り方向θx方向に関する位置をθx位置、Y軸回り方向θy方向に関する位置をθy位置、Z軸回り方向θz方向に関する位置をθz位置と称して説明を行う。照明系12は、例えば米国特許第5,729,331号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。照明系12は、露光用の照明光ILをマスクMに照射する。照明光ILとしては、例えばi線波長365nm、g線波長436nm、h線波長405nmなどの光あるいは、上記i線、g線、h線の合成光が用いられる。マスクステージ14は、所定の回路パターンが形成されたマスクMを、例えば真空吸着により保持している。マスクステージ14は、例えばリニアモータを含むマスクステージ駆動系不図示により走査方向X軸方向に所定の長ストロークで駆動されるとともに、Y軸方向、及びθz方向に適宜微少駆動される。マスクステージ14のXY平面内の位置情報θz方向の回転量情報を含むは、不図示のレーザ干渉計を含むマスク干渉計システムにより求められる。投影光学系16は、マスクステージ14の下方に配置されている。投影光学系16は、例えば米国特許第6,552,775号明細書に開示された投影光学系と同様に構成されている。すなわち、投影光学系16は例えば両側テレセントリックな等倍系で正立正像を形成する光学系を複数含む、いわゆるマルチレンズ投影光学系であり、Y軸方向を長手方向とする長方形状の単一のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。このため、照明系12からの照明光ILによってマスクM上の照明領域が照明されると、マスクMを通過した照明光ILにより、投影光学系16を介してその照明領域内のマスクMの回路パターンの投影像が、基板P上の照明領域に共役な照明光ILの照射領域に形成される。そして、照明領域照明光ILに対してマスクMが走査方向に駆動されるとともに、露光領域照明光ILに対して基板Pが走査方向に駆動されることで、基板P上の1つのショット領域にマスクMに形成されたパターンが転写される。基板ステージ装置20は、ステージ架台22、ベースフレーム24、Y粗動ステージ26、X粗動ステージ28、Yステップガイド30、重量キャンセル装置32、及び微動ステージ34を含む。ステージ架台22は、平面視Z軸側から見て矩形の板状の部材から成り、不図示の防振装置を介してクリーンルームの床11上に設置されている。ステージ架台22は、液晶露光装置10の装置本体ボディの一部を構成している。上記投影光学系16、マスクステージ14は、装置本体に支持されており、床11から振動的に分離されている。ベースフレーム24は、Y軸方向に延びるYZ平面に平行な板状部材から成り、ステージ架台22のX側及び-X側-X側のベースフレーム24は、紙面奥行き方向に重なっているため不図示に、ステージ架台22に対して所定のクリアランスを介した状態で配置されている。ベースフレーム24は、複数のアジャスタ装置24aを介して高さ位置Z位置調整可能に床11上に設置されている。Y粗動ステージ26は、ベースフレーム24上に搭載されている。Y粗動ステージ26は、一対のXビーム26aを有している。一対のXビーム26aは、それぞれX軸方向に延びるYZ断面矩形の部材から成り、Y軸方向に所定間隔で互いに平行に配置されている。一対のXビーム26aは、X側の端部近傍において、Yキャリッジ26bと称されるY軸方向に延びる平面視矩形の板状部材により連結されている。なお、図1では紙面奥行き方向に重なっているため不図示であるが、一対のXビーム26aの-X側の端部近傍も同様にYキャリッジにより連結されている。Y粗動ステージ26は、ベースフレーム24に固定されたYリニアガイド23aと、Yキャリッジ26bに固定されたYスライド部材23bとから成るYリニアガイド装置により、ベースフレーム24上でY軸方向に直進案内される。また、Y粗動ステージ26は、ベースフレーム24に取り付けられたねじ部25aとYキャリッジ26bに固定されたナット部25bとから成る送りねじ装置により、ベースフレーム24上でY軸方向に所定の長ストロークで駆動される。なお、Y粗動ステージ26をY軸方向に駆動するためのYアクチュエータの種類は、上記送りねじ装置に限らず、例えばリニアモータ、ベルト駆動装置などであっても良い。X粗動ステージ28は、平面視矩形の板状部材から成り、Y粗動ステージ26上に搭載されている。X粗動ステージ28は、Y粗動ステージ26に固定された複数のXリニアガイド27aと、X粗動ステージ28に固定された複数のXスライド部材27bとから成る複数のXリニアガイド装置により、Y粗動ステージ26上でX軸方向に直進案内される。また、X粗動ステージ28は、Y粗動ステージ26に固定された複数のX固定子29a例えば磁石ユニットと、X粗動ステージ28に固定された複数のX可動子29b例えばコイルユニットとから成る複数のXリニアモータにより、Y粗動ステージ26上でX軸方向に所定の長ストロークで駆動される。また、X粗動ステージ28は、上記Xリニアガイド装置の作用により、Y粗動ステージ26と一体的にY軸方向に移動する。すなわち、Y粗動ステージ26とX粗動ステージ28とにより、いわゆるガントリタイプのXY軸ステージ装置が構成されている。Yステップガイド30は、X軸方向に延びるYZ断面矩形の部材から成り、上記一対のXビーム26aの間に配置されている。Yステップガイド30は、上記一対のXビーム26aそれぞれに対して、フレクシャ装置30aを介して接続されており、Y粗動ステージ26と一体的にY軸方向に移動する。Yステップガイド30は、ステージ架台22に固定されたYリニアガイド31aと、Yステップガイド30に固定されたYスライド部材31bとから成るYリニアガイド装置により、ステージ架台22上でY軸方向に直進案内される。上記Xビーム26aの下面は、Yリニアガイド31aの上面よりもZ側に位置しており、Y粗動ステージ26とYステップガイド30とは、上記フレクシャ装置30aにより接続された部分を除き振動的に分離されている。重量キャンセル装置32は、微動ステージ34を下方から支持している。本実施形態の重量キャンセル装置32は、例えば米国特許出願公開第2010/0018950号明細書に開示される重量キャンセル装置と同様に構成されている。すなわち、重量キャンセル装置32は、図2に示されるように、筒状の筐体32aと、筐体32a内に収容された空気ばね32bと、筐体32aに対して複数の平行板ばね装置32cを介してZ軸方向に微少ストロークで移動可能に接続されたZスライド部材32dとを有する。重量キャンセル装置32は、空気ばね32bを用いて微動ステージ34の重量重量加速度による下向き-Z方向の力とほぼ同じ大きさの力を重力方向上向きZ方向に微動ステージ34に対して作用させる。重量キャンセル装置32は、X粗動ステージ28の中央部に形成された開口部28a内に挿入されている。重量キャンセル装置32は、複数のフレクシャ装置32eを介してX粗動ステージ28に機械的に接続されており、X粗動ステージ28と一体的にX軸方向、及び/又はY軸方向に移動する。重量キャンセル装置32は、その下面に取り付けられた複数のエアベアリング32fを介して、Yステップガイド30上に非接触状態で搭載されている。Yステップガイド30は、長手方向X軸方向の寸法が重量キャンセル装置32のX軸方向に関する移動可能距離よりも幾分長く設定されている。重量キャンセル装置32は、X粗動ステージ28と一体的にX軸方向に移動する際には、Yステップガイド30上を移動する。また、重量キャンセル装置32がX粗動ステージ28と一体的にY軸方向に移動する際には、Yステップガイド30がY粗動ステージ26と一体的にY軸方向に移動するので、重量キャンセル装置32がYステップガイド30上から脱落することがない。微動ステージ34は、図1に示されるように、本体部36、基板ホルダ38、及びレベリング装置40を有している。本体部36は、図2に示されるように、高さの低い中空の直方体状箱形の部材から成る。本体部36の下面には、開口部36aが形成されており、レベリング装置40は、上記開口部36aを介して本体部36内に収容されている。図1に戻り、基板ホルダ38は、平面視矩形の板状部材から成り、本体部36の上面に固定されている。基板ホルダ38の上面には、基板Pが載置され、基板ホルダ38は、該基板Pを、例えば真空吸着により吸着保持する。レベリング装置40は、本体部36の重量キャンセル装置32に対する姿勢変化θx、及び/又はθy方向への傾動を許容するための装置である。レベリング装置40の構成については後述する。微動ステージ34は、例えば米国特許出願公開第2010/0018950号明細書に開示されるような微動ステージ駆動系により、X粗動ステージ28に対して3自由度方向X軸、Y軸、θz方向に微少駆動される。微動ステージ駆動系は、X粗動ステージ28に固定された固定子と、本体部36に固定された可動子とから成る複数のボイスコイルモータを含む。複数のボイスコイルモータには、Y軸方向の推力を発生する複数図1では紙面奥行き方向に重なっているのYボイスコイルモータ39y、及びX軸方向の推力を発生する複数のXボイスコイルモータ不図示が含まれる。微動ステージ34は、上記複数のボイスコイルモータが発生する推力によって、X粗動ステージ28に誘導され、これにより、X粗動ステージ28と共にX軸方向、及び/又はY軸方向に所定のストロークで移動する。また、微動ステージ34は、上記複数のボイスコイルモータによりX粗動ステージ28に対して上記3自由度方向に適宜微少駆動される。また、微動ステージ駆動系は、本体部36をθx、θy、及びZ軸方向の3自由度方向に微少駆動するための複数のZボイスコイルモータ39zを有している。複数のZボイスコイルモータ39zは、本体部36の四隅部に対応する箇所に配置されている図1では、4つのZボイスコイルモータ39zのうち2つのみが示され、他の2つは紙面奥行き方向に隠れている。なお、本体部36をθx、及びθy方向に微少駆動できれば、複数のZボイスコイルモータ39zの配置は、これに限られず、例えば同一直線上にない三箇所に配置されても良い。微動ステージ34には、上記重量キャンセル装置32による重力方向上向きの力が作用しており、複数のZボイスコイルモータ39zは、比較的小さな力で本体部36を駆動することができる。液晶露光装置10では、例えば露光動作時において、基板Pの表面の面位置Z位置、θx位置、及びθy位置情報が装置本体ボディに取り付けられた不図示のセンサにより求められる。そして、該センサの出力に基づいて基板Pの表面の面位置が、投影光学系16の焦点深度内となるように、微動ステージ34のZ位置、θx位置、及びθy位置の制御いわゆるオートフォーカス制御が行われる。このため、複数のZボイスコイルモータ39zにより本体部36がθx、及びθy方向に回転される際の回転角度は、微少角度であり、本実施形態では、例えば1mradミリラジアン以下である。本体部36のXY平面内の位置情報θz方向の回転量情報を含むは、不図示レーザ干渉計を含む基板干渉計システムにより、本体部36にミラーベース35aを介して固定されたバーミラー35bを用いて求められる。なお、レーザ干渉計には、微動ステージ34のX位置情報を求めるためのXレーザ干渉計、及び微動ステージ34のY位置情報を求めるためのYレーザ干渉計が含まれる。また、本体部36には、Xレーザ干渉計に対応するXバーミラー、及びYレーザ干渉計に対応するYバーミラーがそれぞれ固定されているが、図1では代表的にYバーミラーのみが示されている。また、微動ステージ34のθx、θy、及びZ軸方向それぞれの位置情報は、図2に示されるように、本体部36の下面に固定された複数のZセンサ37aより、重量キャンセル装置32にアーム状の支持部材37bを介して固定されたターゲット37cを用いて求められる。なお、本実施形態のZセンサ37aには、絶対位置計測用のセンサと相対位置計測用のセンサとが含まれるが、相対位置計測用のセンサのみであっても良い。また、Zセンサ37aを設けず、上記オートフォーカス制御用のセンサの出力に基づいて本体部36のθx位置、θy位置、及びZ位置を制御しても良い。レベリング装置40は、本体部36の天井面に固定されたレベリングダイヤ42と、重量キャンセル装置32に下方から支持されたレベリングカップ44と、レベリングカップ44に取り付けられた複数のエアベアリング46と、を含む。レベリングダイヤ42は、図3Aに示されるように、三角錐の各頂部を切り落としたような形状の部材多面体部材から成り、図2に示されるように、底面が本体部36の天井面に固定されている。なお、図3Aでは、レベリングカップ44、及び後述するフレクシャ装置50の図示が省略されている。レベリングカップ44は、図3Bに示されるように、Z側に開口したカップ状の部材から成り、上記レベリングダイヤ42の下端部三角錐の頂部近傍が上記開口を介してレベリングカップ44内に挿入されている。レベリングカップ44は、下面が平坦に形成されており、図2に示されるように、重量キャンセル装置32のZスライド部材32dの上面に取り付けられた複数のエアベアリング41を介して重量キャンセル装置32に下方から支持されている。レベリングカップ44は、エアベアリング41から噴出される加圧気体の静圧により、重量キャンセル装置32に対して所定のクリアランスを介して浮上しており、レベリング装置40と重量キャンセル装置32とがX軸、及び/又はY軸方向に微少範囲で相対移動可能となっている。複数本実施形態では、上記レベリングダイヤ42の傾斜面に対応して、例えば3つのエアベアリング46は、図3Aに示されるように、Z軸回りにほぼ均等な間隔で配置されている。複数のエアベアリング46それぞれの一面軸受け面は、レベリングダイヤ42の対応する傾斜面に対向して配置され、該傾斜面に加圧気体例えば、空気を噴出する。本体部36、基板ホルダ38それぞれ図3Aでは不図示。図1参照、及びレベリングダイヤ42は、複数のエアベアリング46から噴出される気体の静圧により、レベリングカップ44に対して所定のクリアランスを介して浮上している。エアベアリング46の他面の中央部には、円錐状の凹部48が形成されている。なお、本実施形態では、エアベアリング46の軸受け面は、円形であるが、他の形状例えば矩形であっても良い。また、凹部48は、軸受け面を含む部材に形成されても良いし、軸受け面を含む部材とは別部材であっても良い。ここで、図3Bに示されるように、複数のエアベアリング46は、それぞれレベリングカップ44に対してフレクシャ装置50を介して取り付けられている。フレクシャ装置50は、取り付けボルト52、ヒンジ部54、及び球面部56を有している。フレクシャ装置50は、例えば3つエアベアリング46に対応して、Z軸回りに均等な間隔120°間隔で、例えば3つ設けられている図3Bでは、例えば3つのフレクシャ装置50のうちのひとつは不図示。レベリングカップ44には、フレクシャ装置50を取り付けるためのねじ孔がZ軸回りに複数上記エアベアリング46に対応して、例えば3つ形成されており、取り付けボルト52は、該ねじ孔に螺合している。取り付けボルト52は、一端がレベリングカップ44の内周面側に突き出すとともに、他端がレベリングカップ44の外周面側に突き出している。取り付けボルト52は、水平面XY平面に対して、例えば45°程度の角度を成してレベリングカップ44に取り付けられている。取り付けボルト52の他端側には、弛み防止用のナット53ロックナットが螺合している。なお、取り付けボルト52は、レベリングカップ44に対する取付位置を任意に調整可能な、いわゆるスタッドボルトであるが、これに限られず、例えばレベリングカップ44に対する取り付け位置を規定するフランジを有するボルトであっても良い。また、取り付けボルト52をレベリングカップ44に対して確実に固定できれば、必ずしも弛み防止用のナット53を用いなくても良い。ヒンジ部54は、棒状部材の長手方向中央部の外周面に周方向の溝が形成されたような形状の部材長手方向中央部がくびれた棒状の部材から成り、一端が取り付けねじ52の一端に固定され、他端に球面部56が固定されている。ヒンジ部54は、例えば熱処理されたばね綱例えば、ニッケルクロムモリブデン鋼により形成されており、弾性変形により、他端側が一端側に対して首振り動作揺動可能となっている。球面部56は、半球体状の部材曲率が一定の部材から成り、底面がヒンジ部54の他端に固定されている。球面部56は、上記エアベアリング46の凹部48に挿入され、外周面と凹部48の内壁面とが線接触しており、凹部48と共に球面軸受け58を構成している。このため、エアベアリング46は、球面部56の曲率中心球面部が完全な球体であると仮定した場合の中心を回りに、球面部56の外周面に沿って摺動することが可能となっている。なお、球面部56とヒンジ部54は大きな曲げ応力が掛かることから、一体で加工成形されることが望ましい。ここで、フレクシャ装置50において、上記球面部56の曲率中心と、上記ヒンジ部54の首振り動作時の揺動中心とが、ほぼ同じとなるように球面部56の曲率あるいはヒンジ部54の寸法が設定されている。このため、フレクシャ装置50では、球面軸受け58の作用によるエアベアリング46の姿勢変化時揺動時の動作と、球面部56とエアベアリング46とが固定されていると仮定した場合におけるヒンジ部54の作用首振り動作によるエアベアリング46の姿勢変化時揺動時の際の動作とは、概ね同じとなる。以下、一例として本体部36図3Bでは不図示。図2参照が複数のZボイスコイルモータ39z図3Bでは不図示。図2参照によりθx方向に駆動される際のレベリング装置40の動作について説明する。図4A、及び図4Bには、図3Bに示されるレベリング装置40が模式化して示されている。図4Aには、基板ホルダ38図4Aでは不図示。図1参照の上面が水平面に平行とされた状態におけるレベリング装置40が示されている。図4Aに示される状態では、複数のエアベアリング46それぞれは、揺動可能範囲の中立ニュートラル位置に位置している。複数のエアベアリング46の軸受け面は、レベリングダイヤ42の対応する傾斜面に所定のクリアランスを介して対向している。図4Aに示される状態から、本体部36図4A及び図4Bでは不図示。図2参照がθx方向に駆動されると、図4Bに示されるように、レベリングダイヤ42の姿勢が変化する。エアベアリング46は、対応するレベリングダイヤ42の傾斜面と軸受け面との間に形成される気体膜気体層を介して非接触で押圧されることにより、ヒンジ部54、及び/又は球面軸受け58それぞれ図4Bでは不図示。図3B参照の作用により、レベリングダイヤ42の対応する傾斜面に対するクリアランスを一定に保ったまま、該傾斜面に平行にレベリングダイヤ42に対して相対移動する。なお、図4Bでは、理解を容易にするため、エアベアリング46の移動量が実際よりも大きく示されている。上述のように、本体部36図4A及び図4Bでは不図示。図2参照のθx方向、及びθy方向の傾動角度は、微少角度例えば1mrad以下であるので、微動ステージ34は一点本実施形態では、微動ステージ34図4Bでは不図示。図1参照の重心位置CGを中心に回転したのと同様に動作することができるすなわち、レベリング装置40では、微動ステージ34の回転中心が上記重心位置CGとほぼ一致するように、複数のエアベアリング46の取付角度仰角が設定されている。これにより、レベリング装置40は、球面軸受け装置と同等に機能することができる。上述のようにして構成された液晶露光装置10図1参照では、不図示の主制御装置の管理の下、不図示のマスクローダによって、マスクステージ14上へのマスクMのロードが行われるとともに、不図示の基板ローダによって、基板ホルダ38上への基板Pのロードが行なわれる。その後、主制御装置により、不図示のアライメント検出系を用いてアライメント計測が実行され、そのアライメント計測の終了後、基板上に設定された複数のショット領域に逐次ステップアンドスキャン方式の露光動作が行なわれる。なお、この露光動作は従来から行われているステップアンドスキャン方式の露光動作と同様であるので、その詳細な説明は省略するものとする。本実施形態の基板ステージ装置20では、上記アライメント動作時、露光動作時などに前述のオートフォーカス制御を行うため、微動ステージ34がθx方向、及び/又はθy方向に適宜駆動される以下、該制御をレベリング制御と称して説明する。ここで、レベリング装置40において、フレクシャ装置50は、エアベアリング46の揺動動作を許容する機構として球面軸受け58、及びヒンジ部54の2つの機構を有している。そして、レベリング装置40では、上記レベリング制御を行う際、凹部48を規定する壁面と球面部56との接触部分に作用する摩擦力により、球面軸受け58が動作しないように上記摩擦力凹部48を規定する壁面と球面部56との間の摩擦係数が設定されている。これにより、レベリング装置40では、上記アライメント動作時、露光動作時などにおけるレベリング制御時には、図5Aに示されるように、ヒンジ部54のみの作用によりエアベアリング46の揺動が許容される。これは、摩擦によって揺動する球面軸受58よりも、摩擦がないヒンジ部54の変形による揺動の方がヒステリシスが無く位置決め精度が高いためである。ヒンジ部54は、レベリング制御時に想定されるの範囲内で弾性変形可能なものが用いられている。これに対し、レベリング制御時に、なんらかのトラブルで微動ステージ34図1参照が上記想定される範囲を超えて傾動した場合、レベリング装置40では、図5Bに示されるように、ヒンジ部54と併せて球面軸受け58の作用によりエアベアリング46が傾動する。この場合であっても、レベリングダイヤ42は、重心位置CG回りに回転するので、微動ステージ34図5Bでは不図示。図1参照が重量キャンセル装置32に対して水平方向に相対移動しない。これにより、レベリング装置40すなわち微動ステージ34が重量キャンセル装置32から脱落することが防止される。また、ヒンジ部54に過度の曲げ応力が作用することが防止され、ヒンジ部54の破損、あるいは塑性変形が防止される。次に、図2に戻り、基板ステージ装置20の組み立て手順について説明する。基板ステージ装置20では、Y粗動ステージ26、X粗動ステージ28、Yステップガイド30、及び重量キャンセル装置32が図2に示される配置となるように組み立てられる順序は特に限定されない。次いで、微動ステージ34が、X粗動ステージ28の上方に配置される。この際、レベリング装置40が重量キャンセル装置32に下方から支持されるように、微動ステージ34の重量キャンセル装置32に対する水平方向の位置X位置、Y位置、及びθz位置が位置決めされる。なお、基板ステージ装置20の組み立て時において、レベリングカップ44は、不図示の吊り下げ部材により本体部36の天井面から吊り下げ支持されている。上記微動ステージ34のX粗動ステージ28に対する位置あわせには、X粗動ステージ28に取り付けられた複数のZアクチュエータ60が用いられる。Zアクチュエータ60の種類は、特に限定されないが、Z方向に大きな力を発生できるものが望ましく、本実施形態では、ロッド先端にボールが取り付けられたエアシリンダ装置が用いられている。Zアクチュエータ60は、例えば同一直線上にない3点に配置されている図2では、例えば3つのZアクチュエータ60のうちのひとつは不図示。また、本体部36の下面であって、上記複数のZアクチュエータ60に対向する部分には、それぞれ当接部材62a、62bが固定されている。当接部材62aには、下方に開口した円錐溝が形成されているのに対し、当接部材62bは、平板状に形成されている。当接部材62aは、3つのZアクチュエータ60のうちの2つに対応して設けられており、残りのひとつのZアクチュエータ60に対応して当接部材62bが設けられている。基板ステージ装置20では、Zアクチュエータ60が有するボールを当接部材62aの円錐溝内に挿入することにより、X粗動ステージ28に対して微動ステージ34を容易に位置決めできる。また、微動ステージ34が重量キャンセル装置32と併せて上記複数のZアクチュエータ60に下方から支持されるので、複数のZアクチュエータ60を用いて、微動ステージ34のθx、及びθy方向の位置決めを行うことができる。この際、微動ステージ34において、レベリング装置40が有する複数のエアベアリング46の支持対象物、すなわちレベリングダイヤ42、本体部36、基板ホルダ38図2では不図示。図1参照などを含む系から複数のエアベアリング46に作用する負荷は、複数のZアクチュエータ60によるZ方向の力により、上記露光動作などを行う際に比べて減じられる。なお、この際、空気ばね32b内を減圧し、重量キャンセル装置32が微動ステージ34に作用させるZ方向の力をレベリング制御時露光動作時に比べて減じて力の釣り合いをとると良い。ここで、複数のZアクチュエータ60によるZ方向の力が本体部36に作用している状態では、上記球面部56と凹部48を規定する内壁面との間の摩擦力が減じられる。そして、レベリング装置40では、本体部36に複数のZアクチュエータ60によるZ方向の力が作用している状態で、基板ホルダ38図1参照の上面が水平面と平行となるように本体部36のX粗動ステージ28に対する位置調整以下、初期位置調整と称して説明するが行われる。初期位置調整時に本体部36がθx方向、及びθy方向に移動すると、レベリング装置40では、レベリング制御時と同じように、レベリングダイヤ42によりエアベアリング46が非接触で押圧されることにより、エアベアリング46が揺動する。そして、レベリング装置40では、初期調整時本体部36に複数のZアクチュエータ60によるZ方向の力が作用している状態において、図5Cに示されるように、球面部56と凹部48を規定する内壁面とが摺動するように、球面部56と凹部48を規定する内壁面との間の摩擦係数が設定されている。これにより、本体部36を重量キャンセル装置32に対してθx、及びθy方向に適宜移動させて初期位置調整を行っても、フレクシャ装置50では、ヒンジ部54が弾性変形しないあるいは無視できる程度に変形が小さい。したがって、初期位置調整後の基板ホルダ38の上面が水平面に平行とされた状態微動ステージ34が傾動可能範囲の中立位置に位置した状態では、ヒンジ部54も、弾性変形可能範囲の中立位置に位置している。このように、基板ステージ装置20では、エアベアリング46の揺動可動範囲が狭くなることが抑制され、安定してレベリング制御を行うことができる。また、基板ステージ装置20では、複数の基板Pを連続して露光する際に、上記組み立て時と同じように、複数のZアクチュエータ60を用いて初期位置調整が適宜行うことができる。これにより、露光中に行われるレベリング制御によりヒンジ部54に繰り返し作用する応力がヒンジ部54内に残留蓄積することを抑制できるので、ヒステリシス現象が発生し難く、レベリング装置40の耐久性が向上する。なお、本実施形態では、上記初期位置調整において、X粗動ステージ28が有する複数のZアクチュエータ60を用いて微動ステージ34を重量の一部を支持することにより、レベリング装置40のエアベアリング46に作用する荷重を低減したが、これに限られず、別の治具X粗動ステージ28に対して着脱可能であっても良いし、床11に設置されるようなものであっても良いを用いても良い。なお、上記実施形態に記載のレベリング装置40の構成は、適宜変形が可能である。例えば、上記実施形態では、図2に示されるように、X粗動ステージ28に取り付けられたZアクチュエータ60を用いて本体部36を介してレベリングダイヤ42に対してZ方向の力を作用させたが、これに限られず、図6Aに示される第1の変形例のレベリング装置40aのように、Zアクチュエータ64がレベリングカップ44に取り付けられても良い。Zアクチュエータ64の種類は、特に限定されないが、レベリング装置40aでは、ロッド先端がZ側を向いたエアシリンダが用いられている。また、レベリングダイヤ42の下端部には、Zアクチュエータ64のロッド先端が挿入される凹部42aが形成されている。凹部42aの内径寸法は、ロッド先端の外径寸法よりも大きく設定されており、図6Bに示されるように、レベリングダイヤ42のレベリングカップ44に対する相対移動が可能となっている。レベリング装置40aでは、X粗動ステージ28と微動ステージ34との相対位置に拘わらず、レベリングダイヤ42にZ方向の力を作用させることができ、任意のタイミングで上記初期位置調整を行うことができる。なお、常時Zアクチュエータ64を用いてレベリングダイヤ42にZ方向の力を作用させ、エアベアリング46、及びフレクシャ装置50に作用する荷重を減じるようにしてもよい。また、上記実施形態のレベリング装置40は、図3Bに示されるように、複数のエアベアリング46を用いて非接触でレベリングダイヤ42を支持したが、これに限られず、例えば図7Aに示される第2の変形例のレベリング装置40bのように、転がりガイド装置70を用いて接触状態で支持しても良い。転がりガイド装置70は、図8Aに示されるようにボールリテーナ72に保持された複数のボール74を含む。ボールリテーナ72は、複数の引っ張りばね76により、支持パッド46aの中央に位置するように付勢されている。図7Bに示されるように、支持パッド46aを支持するフレクシャ装置50の構成及び動作は、上記実施形態と同じである。レベリング装置40bでは、転がりガイド装置70の剛性レベリングダイヤ42の傾斜面の法線方向の剛性が上記実施形態のエアベアリング46図3B参照により形成される気体膜に比べて高いので、エアベアリング46に比べて支持パッド46aを小型化できる。また、レベリング装置40bに加圧気体を供給する必要がないので、配管や加圧気体供給装置が必要なく、コストが安い。なお、支持パッド46aをレベリングカップ44に取り付ける際、ボール74が脱落するおそれがある場合には、図8Bに示されるように、ガイド板78と支持パッド46aとの間に転がりガイド装置70を挟み込むとともに、組立て冶具77によりガイド板78を支持パッド46aに固定した状態で、支持パッド46aをレベリングカップ44に取り付けるようにしても良い。この場合、ガイド板78をボルト79によりレベリングダイヤ42に固定することにより、例えばガイド板78に表面を熱処理等によって硬化した鋼材を用いることにより、レベリングダイヤ42には、例えばアルミ合金などの軽量な材料を用いることができ、レベリング装置40cを軽量化することができる。また、転がりガイド装置70のボールリテーナ72としては、図8Cに示されるように、ボール74の直径よりも小径の穴部が複数形成された一対の板部材でボール74を挟む構成のものを用いても良い。また、上記第2の変形例のレベリング装置40bは、転がりガイド装置70が支持パッド46aに取り付けられたが、これに限られず、例えば図9Aに示される第3の変形例のレベリング装置40cのように、転がりガイド装置70がレベリングダイヤ42に取り付けられても良い。この場合、図9Bに示されるように、本体部36を上下逆さにした状態で転がりガイド装置70をレベリングダイヤ42に取り付けることができるので、組み立てが容易である。また、レベリングダイヤ42の回転角度が微少角度であることから、図10Aに示される第4の変形例のレベリング装置40dのように、レベリングダイヤ42と支持パッド46aとを弾性ヒンジ装置80で連結しても良い。弾性ヒンジ装置80は、図11A及び図11Bに示されるように、複数のヒンジ部81を備える。ヒンジ部81は、レベリングダイヤ42図10A参照の傾斜面の法線方向に離間した2つのくびれ部を有しており、図10Bに示されるように、上記傾斜面に平行な方向へのレベリングダイヤ42と支持パッド46aとの相対移動が許容される。また、上記実施形態において、フレクシャ装置50は、図3Bに示されるように、取り付けボルト52にヒンジ部54を介して球面軸受け58の一部である球面部56が取り付けられたが、エアベアリング46を2つの首振り機構を介してレベリングカップ44に対して揺動可能に取り付けることができればこれに限られず、例えば図12に示される第5の変形例のレベリング装置40eのように、取り付けボルト52の一端部に凹部48が形成されるとともに、エアベアリング46の他面にヒンジ部54を介して上記凹部48と共に球面軸受け58を構成する球面部56が取り付けられていても良い。また、上記実施形態及びその変形例におけるエアベアリング46あるいは支持パッド46aの支持構造は、レベリング装置40に限られず、その他のエアベアリング例えば重量キャンセル装置32のエアベアリング32f、41の支持構造に適用しても良い。この場合、ヒンジ部54及び球面軸受け58の揺動中心は必ずしも同じでなくても良い。また、レベリングダイヤ42を支持するエアベアリング46あるいは支持パッド46aの数、及び配置は、適宜変更が可能であり、例えばレベリングダイヤ42を四角錐状にし、エアベアリング46を4つ配置しても良い。また、球面軸受け58は、球面部56が凹部48円錐溝を規定する壁面に線接触するピボット軸受け構造であったが、これに限られず球面同士が摺動する面接触構造でも良い。また、上記実施形態のレベリング装置40では、レベリングダイヤ42が本体部36に固定され、レベリングカップ44が重量キャンセル装置32に支持されたが、レベリングダイヤ42及びレベリングカップ44の配置は、上記実施形態とは上下逆レベリングダイヤ42が重量キャンセル装置32に支持され、レベリングカップ44が本体部36に固定されるであっても良い。また、照明光は、ArFエキシマレーザ光波長193nm、KrFエキシマレーザ光波長248nmなどの紫外光や、F2レーザ光波長157nmなどの真空紫外光であっても良い。また、照明光としては、例えばDFB半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム又はエルビウムとイッテルビウムの両方がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ波長:355nm、266nmなどを使用しても良い。また、上記実施形態では、複数本の投影光学ユニットを備えたマルチレンズ方式の投影光学系16である場合について説明したが、投影光学ユニットの本数はこれに限らず、1本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、例えばオフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。また、上記実施形態では投影光学系16として、投影倍率が等倍のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は縮小系及び拡大系のいずれでも良い。また、上記実施形態では、光透過性のマスク基板上に所定の遮光パターン又は位相パターン減光パターンを形成した光透過型マスクが用いられたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第6,778,257号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク可変成形マスク、例えば、非発光型画像表示素子空間光変調器とも呼ばれるの一種であるDMDDigitalMicromirrorDeviceを用いる可変成形マスクを用いても良い。また、露光装置としては、サイズ外径、対角線の長さ、一辺の少なくとも1つを含むが500mm以上の基板、例えば液晶表示素子などのフラットパネルディスプレイ用の大型基板を露光対象物とする露光装置に特に適している。また、露光装置としては、ステップアンドリピート方式の露光装置、ステップアンドスティッチ方式の露光装置にも適用することができる。また、露光装置において、搬出装置により搬出される物体は、露光対象物体である基板などに限られず、マスクなどのパターン保持体原版であっても良い。また、露光装置の用途としては、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びDNAチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、露光対象物がフラットパネルディスプレイ用の基板である場合、その基板の厚さは特に限定されず、例えばフィルム状可撓性を有するシート状の部材のものも含まれる。液晶表示素子あるいは半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマスクあるいはレチクルを製作するステップ、ガラス基板あるいはウエハを製作するステップ、上述した各実施形態の露光装置、及びその露光方法によりマスクレチクルのパターンをガラス基板に転写するリソグラフィステップ、露光されたガラス基板を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ガラス基板上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。"