基板を所定方向に搬送する搬送部と、前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部と、を備え、前記超音波発振部は、前記基板の裏面に対して液体を表面張力により接触させる液体供給部と、前記液体に超音波振動を付与する振動子と、を含むことを特徴とする基板洗浄装置。前記液体供給部は、前記振動子の超音波振動によって前記液体を収容する液体収容部から溢れ出させた当該液体を前記基板の裏面に接触させることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。前記液体供給部は、前記基板に接触した前記液体を前記液体収容部に循環させる液体循環機構を含むことを特徴とする請求項2に記載の基板洗浄装置。前記振動子が前記基板の搬送方向と交差する幅方向に沿って複数の前記液体収容部の内面にそれぞれ配置され、前記内面の面内における前記配列方向と交差する方向において各々の端部が重なっていることを特徴とする請求項2又は3に記載の基板洗浄装置。前記液体供給部は、前記基板の搬送方向と交差する幅方向の全域に亘って前記液体を接触させることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。前記基板の表面側に対して洗浄液を供給するとともに、該洗浄液を該基板の搬送方向と交差する方向に沿って除去することで基板表面を洗浄する表面側洗浄部を更に備えることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。前記表面側洗浄部は、前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記搬送方向と交差する方向に沿って前記洗浄液の流れを規制することで該洗浄液を前記基板上から除去する規制部と、を含むことを特徴とする請求項6に記載の基板洗浄装置。基板を所定方向に搬送する搬送部と、前記基板の表面側に対して洗浄液を供給するとともに、該洗浄液を該基板の搬送方向と交差する方向に沿って除去して該基板の表面を洗浄する表面側洗浄部と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。前記表面側洗浄部は、前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記搬送方向と交差する方向に沿って前記洗浄液の流れを規制することで該洗浄液を前記基板上から除去する規制部と、を含むことを特徴とする請求項8に記載の基板洗浄装置。前記搬送部により所定方向に搬送されつつ、前記表面側洗浄部による洗浄が行われる前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部をさらに備え、前記超音波発振部は、前記基板の裏面に対して液体を表面張力により接触させる液体供給部と、前記液体に超音波振動を付与する振動子と、を含むことを特徴とする請求項8又は9に記載の基板洗浄装置。前記液体供給部は、前記振動子の超音波振動によって前記液体を収容する液体収容部から溢れ出させた当該液体を前記基板の裏面に接触させることを特徴とする請求項10に記載の基板洗浄装置。前記液体供給部は、前記基板に接触した前記液体を前記液体収容部に循環させる液体循環機構を含むことを特徴とする請求項11に記載の基板洗浄装置。複数の前記振動子が前記基板の搬送方向と交差する幅方向に沿って前記液体収容部の内面に設けられるとともに、隣接する前記振動子同士が前記内面の面内における前記配列方向と交差する方向において各々の端部が重なり合うように配置されていることを特徴とする請求項11又は12に記載の基板洗浄装置。前記液体供給部は、前記基板の搬送方向と交差する幅方向の全域に亘って前記液体を接触させることを特徴とする請求項10~13のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。しかしながら、上記従来技術においては、超音波発振ノズルを用いて超音波を照射するため、基板裏面の広範囲に超音波を照射することができず、より効率的に基板を洗浄できる新たな技術の提供が望まれていた。本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、効率的に洗浄を行うことができる基板洗浄装置を提供することを目的とする。上記目的を達成するため、本発明の第1の態様に係る基板洗浄装置は、基板を所定方向に搬送する搬送部と、前記搬送部により所定方向に搬送される前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部と、を備え、前記超音波発振部は、前記基板の裏面に対して液体を表面張力により接触させる液体供給部と、前記液体に超音波振動を付与する振動子と、を含むことを特徴とする。本発明の基板洗浄装置によれば、基板の裏面に表面張力により接触する液体を介して超音波振動を付与することができる。よって、超音波振動が液体の接触面積に対応した広範囲にわたって基板の表面側に伝搬するので、基板の表面及び裏面を効率的に洗浄することができる。また、上記基板洗浄装置においては、前記液体供給部は、前記振動子の超音波振動によって前記液体を収容する液体収容部から溢れ出させた当該液体を前記基板の裏面に接触させるのが好ましい。この構成によれば、液体が液体収容部から溢れ出すことで基板の裏面に対して安定的に超音波振動を与えることができる。また、上記基板洗浄装置においては、前記液体供給部は、前記基板に接触した前記液体を前記液体収容部に循環させる液体循環機構を含むのが好ましい。この構成によれば、液体循環機構により液体が循環されるので、液体を再利用することができる。また、上記基板洗浄装置においては、複数の前記振動子が前記基板の搬送方向と交差する幅方向に沿って前記液体収容部の内面に設けられるとともに、隣接する前記振動子同士が前記内面の面内における前記配列方向と交差する方向において各々の端部が重なり合うように配置されているのが好ましい。この構成によれば、隣接する振動士同士が配列方向において各々の端部が重なり合うように液体収容部内に配置されているので、超音波素子による超音波振動の生じる領域の継ぎ目を無くすことができ、基板の幅方向に亘って均一に超音波振動を付与できる。また、上記基板洗浄装置においては、前記液体供給部は、前記基板の搬送方向と交差する幅方向の全域に亘って前記液体を接触させるのが好ましい。この構成によれば、基板裏面の幅方向全域に液体が接触するので、基板表面の幅方向全域に亘って超音波振動を効率的に付与することができる。また、上記基板洗浄装置においては、前記基板の表面側に対して洗浄液を供給するとともに、該洗浄液を該基板の搬送方向と交差する方向に沿って除去することで基板表面を洗浄する表面側洗浄部を更に備えるのが好ましい。この構成によれば、超音波振動により基板表面から除去された異物を表面に供給された洗浄液により除去できる。また、上記基板洗浄装置においては、前記表面側洗浄部は、前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記搬送方向と交差する方向に沿って前記洗浄液の流れを規制することで該洗浄液を前記基板上から除去する規制部と、を含むのが好ましい。この構成によれば、基板の表面を洗浄した洗浄液が基板の搬送方向に流れるといった不具合の発生を防止できる。また、本発明の第2の態様に係る基板洗浄装置は、基板を所定方向に搬送する搬送部と、前記基板の表面側に対して洗浄液を供給するとともに、該洗浄液を該基板の搬送方向と交差する方向に沿って除去して該基板の表面を洗浄する表面側洗浄部と、を備えることを特徴とする。本発明の基板洗浄装置によれば、表面側洗浄部により基板表面から供給した洗浄液により異物を基板の搬送方向と交差する幅方向の全域に亘って除去できる。よって、基板表面の異物を効率的に除去できる。また、上記基板洗浄装置においては、前記表面側洗浄部は、前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記搬送方向と交差する方向に沿って前記洗浄液の流れを規制することで該洗浄液を前記基板上から除去する規制部と、を含むのが好ましい。この構成によれば、規制部によって基板の表面を洗浄した洗浄液が基板の搬送方向に流れるといった不具合の発生を防止できる。また、上記基板洗浄装置においては、前記搬送部により所定方向に搬送されつつ、前記表面側洗浄部による洗浄が行われる前記基板の裏面に超音波を付与することで該基板の表面側を洗浄可能な超音波発振部をさらに備え、前記超音波発振部は、前記基板の裏面に対して液体を表面張力により接触させる液体供給部と、前記液体に超音波振動を付与する振動子と、を含むのが好ましい。この構成によれば、超音波発振部により、基板の裏面に表面張力により接触する液体を介して基板の表面側について液体の接触面積に対応した広範囲に超音波振動を付与することができる。よって、表面側洗浄部との組み合わせによって、基板表面を効率的に洗浄できる。また、上記基板洗浄装置においては、前記液体供給部は、前記振動子の超音波振動によって前記液体を収容する液体収容部から溢れ出させた当該液体を前記基板の裏面に接触させるのが好ましい。この構成によれば、液体が液体収容部から溢れ出すことで基板の裏面に対して安定的に超音波振動を与えることができる。また、上記基板洗浄装置においては、前記液体供給部は、前記基板に接触した前記液体を前記液体収容部に循環させる液体循環機構を含むのが好ましい。この構成によれば、液体循環機構により液体が循環されるので、液体を再利用することができる。また、上記基板洗浄装置においては、前記振動子が前記基板の搬送方向と交差する幅方向に沿って複数の前記液体収容部の内面にそれぞれ配置され、前記内面の面内における前記配列方向と交差する方向において各々の端部が重なっているのが好ましい。この構成によれば、振動子が配列方向において各々の端部が重なり合うように液体収容部内に配置されているので、超音波素子による超音波振動の生じる領域の継ぎ目を無くすことができ、基板の幅方向に亘って均一に超音波振動を付与できる。また、上記基板洗浄装置においては、前記液体供給部は、前記基板の搬送方向と交差する幅方向の全域に亘って前記液体を接触させるのが好ましい。この構成によれば、基板裏面の幅方向全域に液体が接触するので、基板表面の幅方向全域に亘って超音波振動を効率的に付与することができる。本発明によれば、効率よく洗浄を行うことができる。以下、本発明の一実施形態について図面を参照しつつ説明する。以下の各図において、本実施形態に係る塗布装置の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、XYZ座標系を用いて図中の方向を説明する。当該XYZ座標系においては、図中左右方向をX方向と表記し、平面視でX方向に直交する方向をY方向と表記する。X方向軸及びY方向軸を含む平面に垂直な方向はZ方向と表記する。X方向、Y方向及びZ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が方向であり、矢印の方向とは反対の方向が-方向であるものとして説明する。以下、本発明の基板洗浄装置を適用した基板処理装置に係る実施例について説明する。以下の基板処理装置は、例えばレジスト材料を塗布する液晶表示装置用のガラス基板について、レジスト塗布装置への搬入前に洗浄以下、受け入れ洗浄と称すを行う際に用いられるものである。図1は、本実施形態に係る基板処理装置100の構成を示す平面図である。図1に示すように、基板処理装置100は、アライメント部110、UV処理部120、ブラシ部130、超音波洗浄部140、及びエアーナイフ部150を有している。なお、基板処理装置100においては、基板Sがこれら各構成アライメント部110、UV処理部120、ブラシ部130、超音波洗浄部140、及びエアーナイフ部150間において複数の搬送ローラー49を有する搬送機構TRP図2参照によって搬送されるようになっている。各搬送ローラー49は、例えば不図示のローラー回転制御部によって回転が制御されるようになっている。搬送機構としては、例えばコロ搬送機構を用いても構わないし、基板を浮上させて搬送する不図示の浮上搬送機構を用いても構わない。アライメント部110は、基板Sを収容する収容室111、基板搬入口111a及び基板搬出口111bを有している。収容室111は、基板搬入口111a及び基板搬出口111bは基板Sが通過可能な寸法に形成されている。基板搬入口111aは、収容室111の-X側の壁部に形成されており、例えば基板Sを収容するカートリッジ不図示に接続されている。基板搬出口111bは、収容室111のX側の壁部に形成されている。収容室111内には、アライメント機構113が設けられている。アライメント機構113は、例えば略矩形状の基板Sにおける四隅の端部の少なくとも3箇所に当接する当接ピンを有している。これにより、アライメント機構113は、これら当接ピンを基板Sの端部に当接させることで基板処理装置100内に搬入された基板Sの位置を調整アライメント可能となっている。UV処理部120は、収容室121、紫外線照射部122、基板搬入口121a及び基板搬出口121bを有している。収容室121は、基板搬入口121a及び基板搬出口121bは基板Sが通過可能な寸法に形成されている。基板搬入口121aは、収容室121の-X側の壁部に形成され、基板搬出口121bは、収容室121のX側の壁部に形成されている。収容室121内には、紫外線照射部122が設けられている。紫外線照射部122は、紫外線UV光を基板Sに対して照射するためのものであり、例えば高圧水銀ランプから構成されている。UV処理部120は、紫外線を照射することで基板Sに付着した有機物を除去するようになっている。なお、UV処理部120は、紫外線照射部122が紫外線を照射する際、基板搬入口121a及び基板搬出口121bを閉塞することで収容室121内から紫外線が漏れ出すのを防止する。ブラシ部130は、洗浄ブラシ131、収容室132、基板搬入口132a及び基板搬出口132bを有している。収容室132は、基板搬入口132a及び基板搬出口132bは基板Sが通過可能な寸法に形成されている。基板搬入口132aは、収容室132の-X側の壁部に形成され、基板搬出口132bは、収容室132のX側の壁部に形成されている。収容室132内には、基板Sの表面を洗浄する上記洗浄ブラシ131が設けられている。洗浄ブラシ131は、上流側ブラシ部134と、下流側ブラシ部135とを有する。上流側ブラシ部134は基板Sの搬送方向における上流側に配置されるものであり、下流側ブラシ部135は基板Sの搬送方向における下流側に配置されるものである。上流側ブラシ部134及び下流側ブラシ部135は、上下方向Z方向において基板Sを挟む一対のブラシローラーからそれぞれ構成されている。ブラシローラーは、ローラー本体にナイロン製のブラシ毛がローラー本体の軸線方向に沿って例えば螺旋状に植設されることで構成される。ブラシローラーは、搬送機構により搬送される基板Sの表面にブラシ毛が当接し、その掃引力により基板Sの表面から異物を除去するようになっている。ブラシローラーの回転方向は時計回り、すなわち基板Sの搬送方向と反対方向に設定される。また、各ブラシローラーは、上下方向に移動可能とされており、各ブラシローラーのブラシ毛の基板Sに対する押し込み量が制御されるようになっている。これにより基板Sに当接したブラシローラーが基板Sに負荷を与えることでダメージを及ぼすのを防止するようにしている。超音波洗浄部140は、本発明の基板洗浄装置により構成されるものである。超音波洗浄部140は、収容室141、基板搬入口141a、基板搬出口141b、第1洗浄部60及び第2洗浄部表面側洗浄部61を含む。超音波洗浄部140は、基板Sに超音波を付与することで該基板Sを洗浄するためのものである。収容室141は、基板搬入口141a及び基板搬出口141bは基板Sが通過可能な寸法に形成されている。基板搬入口141aは、収容室141のX側の壁部に形成されている。基板搬出口141bは、収容室141の-X側の壁部に形成されている。なお、超音波洗浄部140における詳細な説明については後述する。本実施形態では、ブラシ部130と超音波洗浄部140のそれぞれに収容室131、141を設けた構成について説明したが、ブラシ部130及び超音波洗浄部140間において収容室131、141を共通化しても構わない。エアーナイフ部150は、収容室151、吹き出し部152、基板搬入口151a及び基板搬出口151bを有する。収容室151は、基板搬入口151a及び基板搬出口151bは基板Sが通過可能な寸法に形成されている。基板搬入口151aは、収容室151のX側の壁部に形成されている。基板搬出口151bは、収容室151の-X側の壁部に形成されており、受け入れ洗浄後の基板Sに対してレジスト処理を行うレジスト処理装置に接続されている。収容室151内には、基板Sの表面にエアー空気を吹き付けることで超音波洗浄部140による洗浄によって濡れた基板Sの表面を乾燥するための吹き出し部152が設けられている。図2は超音波洗浄部140の構成を示す要部拡大図である。なお、図2においては、図を簡単にするため、収容室141、基板搬入口141a、及び基板搬出口141bについては図示を省略している。図2に示されるように第1洗浄部60は、基板Sの裏面S2に対して洗浄液液体を供給する洗浄液供給部液体供給部62と、洗浄液に超音波振動を付与する振動部超音波発振部63と、洗浄液供給部62に対して洗浄液を循環する洗浄機循環機構液体循環機構64と、を備えている。洗浄液供給部62は、基板Sの裏面S2に対向するように配置される箱型形状からなり、洗浄液SWを貯留するための液体収容部65と、該液体収容部65内に洗浄液SWを供給する洗浄液供給部液体供給部66と、を有している。洗浄液SWとしては、純水、水素水、オゾン水、アルカリイオン水等を用いるのが好ましく、さらに温度を40~50°Cにすると分子の動きが速くなり活性化して洗浄効果が向上する。液体収容部65は、第1液体収容容器65aと第2液体収容容器65bとを含む。第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bは、それぞれ同一の形状から構成されるものであって、第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bは、Z方向側に突出した凸部66を有し、凸部66に形成された開口66aを介して洗浄液SWが基板Sの裏面S2に表面張力により接触可能な位置に配置されている。また、第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bの凸部67は他の部分に比べてX方向における幅が狭められた状態に形成されており、基板搬送機構TRPのローラー部材49間に挿入された状態に配置されている。凸部67に形成された開口66aのY方向における幅は、基板Sの搬送方向と交差する方向Y方向の幅よりも大きく構成されており、基板Sの裏面S2の幅方向の全域に洗浄液SWが接触可能とされている図3参照。具体的に第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bはZ方向における上端部凸部67と基板Sの裏面S2との距離が3mm程度となるように配置される。洗浄液供給部66は第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65b内に随時洗浄液SWを供給することで第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65b内から洗浄液SWを溢れ出させる。これにより、基板Sの裏面S2に接触した洗浄液SWは液体収容部65から溢れ出すことで下方に設置される後述の洗浄機循環機構64における受け皿73によって回収される。振動部63は複数の振動子63aを含んでいる。複数の振動子63aは基板Sの搬送方向であるX方向と交差する幅方向Y方向に沿って第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bの底面内面68にそれぞれ配置されている。図3は液体収容部65の底面68に配置された複数の振動子63aを示す図であり、図3aは斜視構成図であり、図3bは断面構成図である。超音波は分散性がないため、洗浄液SW中に超音波を良好に伝搬させるには振動子63aを配置する位置が重要となる。図3aに示されるように、第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bの底面68に設けられた振動子63aは、配列方向Y方向における位置が異なっており、平面視した状態で図3bに示すように千鳥状に配置されている。また、第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bの底面68に設けられた振動子63aは、図3bに示されるように底面68の面内における上記配列方向Y方向と交差する方向X方向において各々の端部が重なった状態となっている。これにより、複数の振動子63aが振動すると第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65b内の洗浄液SWが超音波振動するようになっている。振動子63aの周波数は例えば10K~100KHzに設定することで基板Sに付着しているゴミ等の異物を良好に除去することができる。基板Sの裏面S2には、第2液体収容容器65bから溢れ出した洗浄液SW及び第1液体収容容器65aから溢れ出した洗浄液SWが順に接触し、超音波振動が付与される。各振動子63aは上述のように端部がX方向において一部が重なった状態とされるので、洗浄液SW内を伝搬する超音波振動領域の継ぎ目を無くすことができ、基板Sの幅方向に亘って均一に超音波振動を付与できる。基板Sの裏面S2に付着した異物は超音波振動を伝搬する洗浄液SWの接触により確実に除去されることとなる。また、基板Sの表面S1側においては、裏面S2側から超音波振動が伝搬するので、表面S1に付着した異物が除去されることとなる。第2洗浄部61は、基板Sの表面S1に対して洗浄液を供給する洗浄液噴射部液体供給部71と、基板S上の洗浄液SWを搬送方向X方向と交差する幅方向Y方向に沿って除去することで基板Sの表面S1を洗浄する規制部72と、を備えている。洗浄液噴射部71は例えば第1洗浄部60の液体収容部65第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bから洗浄液SWが供給される。なお、洗浄液噴射部71に洗浄液SWを供給する供給部を別途設けた構成を採用しても構わない。洗浄液噴射部71は、例えば基板Sの搬送方向における上流側-X方向に配置され、上記規制部72は基板Sの搬送方向における下流側X方向に配置されている。基板Sの表面に供給された洗浄液SWは基板Sとともに下流側に搬送され、規制部72によって基板Sの表面S1上から幅方向Y方向に沿って除去される。規制部72としては、洗浄液噴射部71と同様の構成からなり、例えば基板S上にエアーや洗浄液を吹きつけることで基板上から洗浄液SWを良好に除去できるようになっている。規制部72によって基板S上から除去された洗浄液SWは、下方に設置される後述の受け皿によって回収される。なお、規制部72としては基板Sの表面S1に当接することで洗浄液SWの流れを規制するスキージ等を用いることができる。上記洗浄機循環機構64は、第1洗浄部60の液体収容部65第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bから溢れ出た或いは上述のように規制部72によって基板S上から除去された洗浄液SWを受ける受け皿73と、該受け皿73で回収した洗浄液SWを洗浄液供給部62に循環させる循環部74と、を備える。循環部74は、受け皿73及び洗浄液供給部62を接続する配管部75と、該配管部75を介して洗浄液SWを循環させる循環ポンプ76と、を含む。配管部75の途中には、異物除去フィルター77が設けられている。基板Sの裏面S2に接触、或いは基板S上から規制部72によって排除された洗浄液SWは、ゴミ等の異物を含んでいる。異物除去フィルター77はこのような洗浄液SW中に含まれる異物を除去するためのものである。これにより、洗浄液供給部62には異物が除去された洗浄液SWが循環されることとなり、基板Sの裏面S2及び表面S1には異物を含まない洗浄液SWが供給されることとなる。続いて、基板処理装置100による動作を説明する。基板処理装置100は、基板Sがアライメント部110の収容室111の基板搬入口111aを介して内部に搬入される。アライメント部110は、収容室111内に搬入された基板Sについて所定の位置に位置合わせアライメントを行う。アライメント後の基板Sは、搬送機構TRPによりUV処理部120内へと搬入される。具体的に基板Sは、アライメント部110収容室111の基板搬出口111b及び該UV処理部120における収容室121の基板搬入口121aを介してUV処理部120内へと搬入される。UV処理部120は、基板Sが収容室121内に搬入された後、板搬入口121a及び基板搬出口121bを閉塞する。そして、紫外線照射部121を駆動し、基板Sに対して紫外線を照射する。これにより、基板Sの表面に付着している有機物を除去する。紫外線が照射された基板Sは、搬送機構TRPによりブラシ部130内へと搬入される。具体的に基板Sは、UV処理部120収容室121の基板搬出口121b及び該ブラシ部130における収容室132の基板搬入口132aを介して超音波洗浄部140内へと搬入される。超音波洗浄部140は、第1洗浄部60を用いて基板Sの表面の洗浄処理を行う。超音波洗浄部140は、図2に示したように、洗浄液供給部62を駆動することで液体収容部65第1液体収容容器65aと第2液体収容容器65b内から溢れさせた洗浄液SWを基板搬送機構TRPによって搬送される基板Sの裏面S2に接触させる。液体収容部65第1液体収容容器65aと第2液体収容容器65bから溢れ出した洗浄液SWは洗浄機循環機構64の受け皿73によって回収され、液体収容部65第1液体収容容器65aと第2液体収容容器65bに循環される。また、超音波洗浄部140は、振動部63の振動子63aを駆動し、超音波振動を生じさせることで洗浄液SWを介して基板Sの裏面S2に超音波振動を付与する。各振動子63aは図3に示したように端部がZ方向において一部が重なった状態となるように液体収容部65第1液体収容容器65aと第2液体収容容器65bの底面68に配置されているので、洗浄液SW内を伝搬する超音波振動領域の継ぎ目が無くなり、基板Sの幅方向に亘って均一に超音波振動を付与できる。よって、基板Sの裏面S2に付着した異物は超音波振動を伝搬する洗浄液SWの接触により確実に除去される。また、基板Sの表面S1側においては、裏面S2側から超音波振動が伝搬するので、表面S1に付着した異物が除去される。さらに本実施形態では、超音波振動を付与した状態で、超音波洗浄部140は、第2洗浄部61の洗浄液噴射部71から洗浄液SWを基板Sの表面S1に供給するとともに、図4に示すように規制部72により基板Sの表面S1から洗浄液SWを基板Sの幅方向に沿って除去する。このように本実施形態では、基板Sの裏面S2に超音波振動を付与するとともに第2洗浄部61により表面S1に洗浄液SWを供給することで基板Sの表面S1に付着した異物を効率的に除去できる。規制部72によって基板S上から除去された使用済みの洗浄液は、基板Sの下方に設置された受け皿73により回収され、循環部74によって液体収容部65第1液体収容容器65aと第2液体収容容器65bに循環される。なお、液体収容部65第1液体収容容器65aと第2液体収容容器65bに循環された洗浄液SWは異物除去フィルター77によって異物が除去されているため、液体収容部65第1液体収容容器65aと第2液体収容容器65bが異物による詰まり等の不良が発生するのを防止できる。超音波洗浄後の基板Sは、搬送機構TRPによりエアーナイフ部150内へと搬入される。具体的に基板Sは、超音波洗浄部140収容室141の基板搬出口141b及び該エアーナイフ部150における収容室151の基板搬入口151aを介してエアーナイフ部150内へと搬入される。エアーナイフ部150は、基板Sが収容室151内に搬入された後、板搬入口151a及び基板搬出口151bを閉塞する。そして、吹き出し部152を駆動し、基板Sに対してエアーを吹き付ける。これにより、基板Sの表面に付着している洗浄液を完全に除去する。以上の処理によって、基板Sにおける受け入れ洗浄処理が終了する。エアーナイフ部150による処理が終了した基板Sは、基板搬出口151bを介して基板処理装置100から搬出され、レジスト処理装置へと搬入される。以上述べたように本実施形態によれば、超音波洗浄部140による洗浄工程において、基板Sの裏面S2に表面張力により接触する洗浄液を介して超音波振動を付与するとともに、超音波振動によって表面S1から剥離した異物を洗浄液で除去するため、基板Sの異物を確実に除去することで洗浄処理を効率的に行うことができる。よって、異物が除去された基板Sに対してレジスト膜を流行に塗布することができる。なお、本発明は上記実施形態に限定されることはなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において適宜変更可能である。例えば、上記基板処理装置100においては、特開2007-54695に開示されるように、超音波洗浄部140の前段として、エアーとともに洗浄液を基板Sの表面に吹き込む処理以下、バブルジェット登録商標処理とも称すを行うことで基板Sの表面に付着している微細なパーティクルを除去するようにしても構わない。このように超音波洗浄の前処理として、バブルジェット登録商標処理を行うことでUV洗浄によって基板Sに付着していた異物を確実に除去することが可能となり、基板Sの洗浄性をより高めることができる。なお、超音波洗浄部140とエアーナイフ部150との間にバブルジェット登録商標処理を行う機構をさらに配置するようにしてもよく、これによればさらに基板Sの洗浄性を高めることができる。また、上記実施形態においては、基板処理装置100をレジスト塗布装置内に基板Sを搬入する前に行う受け入れ洗浄時に適用した場合を例に説明したが、基板処理装置100は受け入れ洗浄以外にも適用可能である。例えば、TFT素子などを形成した基板にレジスト膜を処理する際の前処理洗浄に本発明の超音波洗浄部140を有した基板処理装置100を適用することもできる。この場合、上述の塗布前洗浄を行う場合に比べ、超音波洗浄部140における振動子63aの振動数を高い周波数具体的には、1MHzに設定するのが好ましく、これによれば基板Sに形成されたTFT素子が剥がれ落ちるのを防止できる。また、TFT素子が形成されていない素のガラスからなる基板Sを洗浄する場合は、超音波洗浄部140における振動子63aの振動数を10K~100KHzに設定するのが望ましい。また、基板表面にTFT素子等の配線を形成する配線形成装置とレジスト塗布装置との間といったように各装置の間に基板処理装置100を配置し、各装置間を搬送される途中において基板Sを洗浄するようにしても構わない。このような各装置間に基板処理装置100に配置する場合、基板Sに付着する異物が少ないことから上述したブラシ部130を除いた構成を採用してもよい。また、上記実施形態では、液体収容部65が2つの第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bを有し、第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bの各々において振動子63aが一列ずつ位置を違えて配置された場合を例に挙げたが、本発明はこれに限定されない。例えば、第1液体収容容器65a及び第2液体収容容器65bの各々について振動子63aを複数列ずつ配置するようにしてもよく、この場合においても第2液体収容容器65bの底面68に配置する振動子63aの位置を異ならせるとともに端部がX方向において一部が重なった状態とするのが望ましい。これによれば、振動子63aの数を増加させつつ、振動子63aの各々における端部がX方向において一部が重なった状態とされるので、洗浄液SW内を伝搬する超音波振動領域の継ぎ目を無くすことで基板Sの幅方向に亘って均一で強い超音波振動を付与することができる。