"使用される光の波長以下の微細構造を有する位相差板において、面内で位相差が変化する領域を有する第1の位相差板と、面内で位相差が変化する領域を有する第2の位相差板を対向して配置したことを特徴とする位相差板。第2の位相差板の、位相差が変化する領域における面内での位相差の変化量は、対向して配置された第1の位相差板の面内での変化量と絶対値が等しく、符号が逆の特性を有することを特徴とする請求項1に記載の位相差板。第1の位相差板の任意の位置を通過し、それに対向する第2の位相差板を通過した光束の合成の位相差は、面内の光線通過領域に於いて一定な位相差となることを特徴とする請求項1に記載の位相差板。第1の位相差板と第2の位相差板の配置を面内方向で相対的に変動可能な構成とすることを特徴とする請求項3に記載の位相差板。相対的な変動は、面内の平行移動であることを特徴とする請求項4に記載の位相差板。各位相差板における面内方向の位相差の変化量は、合成の位相差量の10以上変化させることを特徴とする請求項1に記載の位相差板。各位相差板における面内方向の位相差の変化量は、各位相差板の平均の位相差量の50以下変化させることを特徴とする請求項1に記載の位相差板。面内の位相差の変化は、面内で位相差板の高さが変化していることを特徴とする請求項1に記載の位相差板。面内の位相差の変化は、面内で微細周期構造の充填率が変化していることを特徴とする請求項1に記載の位相差板。請求項1項に記載の位相差板を用いたことを特徴とする投射型画像表示装置。しかしながら、上述の特許文献2に開示された従来技術では、前述の投射型画像表示装置の位相差板として用いた場合、十分な性能を得ることができず、画像のコントラストが低下してしまう。具体的には、投射型画像表示装置のように、NAの明るい光学系に用いられる位相差板は、全ての入射偏光方位で、所望の位相差特性を実現する必要がある。図15を用いて、課題について簡単に説明する。図15は、図14の偏光ビームスプリッタ22aの偏光分離面で反射されたS偏光の光を表わしている。図中xz断面が図14の紙面に対応する。図から明らかなように、NAを持った光束では、光束の位置によって、位相差板に入射する光束の偏光方向は変化していることとなる。図中141は、位相差板に対してはS偏光、図中142は位相差板に対してはP偏光で入射される光束となる。従って、NAの明るい光束では、全ての偏光方位に対して、所望の位相差特性を実現しないと位相差ずれが発生してしまう。特許文献2は、回転させることで位相差量を調整している。この方式だと特定の偏光方位に対しては、所望の位相差特性とすることは可能であるが、全偏光方位に対して所望の位相差特性とすることは不可能である。そこで、本発明の目的は、全ての偏光方位に対して所望の位相差特性を実現することを可能にした位相差板を提供することである。さらには、そのような、位相差板を用いた高コントラストの投射型画像表示装置を提供することである。上記目的を達成するために、本発明は、使用される光の波長以下の微細構造を有する位相差板において、面内で位相差が変化する領域を有する第1の位相差板と、面内で位相差が変化する領域を有する第2の位相差板を対向して配置したことを特徴とする。上記、面内で位相差が変化するということは、位相差板に特定の入射角、特定の偏光方位で入射する光束に対して、面内で位相差が変化することを意味している。さらに、第2の位相差板の位相差が変化する領域における面内での位相差の変化量は、対向して配置された第1の位相差板の面内での変化量と絶対値が等しく、符号が逆の特性を有することを特徴とする。さらに、第1の位相差板の任意の位置を通過し、それに対向する第2の位相差板を通過した光束の位相差は、面内の特定の領域に於いて一定な位相差となることを特徴とする。さらに、第1の位相差板と第2の位相差板の配置を面内方向で相対的に変動可能な構成とすることを特徴とする。本発明によれば、全ての偏光方位に対して所望の位相差特性を実現することを可能にした位相差板を提供することができる。さらに、そのような、位相差板を用いた高コントラストの投射型画像表示装置を提供することができる。以下に、本発明の好ましい実施の形態を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。図1は、本発明の実施形態にかかわる位相差板である。本発明の位相差板1は、第1の位相差板2と、第2の位相差板3が対向して配置した構成となっている。第1の位相差板2は、基板4の上に位相差部5を有している。第2の位相差板3は、基板6の上に位相差部7を有している。位相差部4、位相差部7ともに、使用波長以下の微細な周期構造を有する1次元格子構造となっている。この微細構造により、構造性複屈折特性が発現し、位相差板として機能する。また、本発明の位相差板1は、第1の位相差板の基板側から入射した光束が、第1の位相差板と第2の位相差板を透過し、第2の位相差板の基板側から射出した時点で、所望の位相差特性が得られるような構成となっている。図2は、図1の位相差板のxz断面を表わしている。第1の位相差板の位相差部5は、周期P1の1次元格子である。周期P1は、位相差部5に入射した光束が回折しないための条件から求めることが出来る。回折しない状態に於いて、1次元格子は、構造に起因する複屈折特性が表れる。1次元格子は、第1の媒質8と、第2の媒質9がx方向に繰り返される構造であり、第1の媒質8は幅a1からなる。従って、第2の媒質9の幅はP1-a1である。本構成では、2つの媒質のうち、屈折率の高いほうの媒質を第1の媒質8としている。図2の構成では、第2の媒質9は空気となっている。また、この位相差部5の格子高さは、d1である。本発明では、格子形状が位相差板の面内で変化していることを特徴としている。図2では、格子高さd1が、面内のx方向に変化している構成となっている。そして、その変化量は、x=0からx=xLの領域で、d10からd1xLに向けて線形に増加している。第2の位相差板の位相差部7も、基本的な構成は第1の位相差板の位相差部5と同じで、入射した光束が回折しないように格子周期P2が決定された1次元格子である。1次元格子は、第3の媒質10と、第4の媒質11がx方向に繰り返される構造であり、第3の媒質10は幅a2からなる。従って、第4の媒質11の幅はP2-a2である。本構成では、2つの媒質のうち、屈折率の高いほうの媒質を第3の媒質10としている。図2の構成では、第2の媒質11は空気となっている。また、この位相差部7の格子高さは、d2である。そして、第2に位相差板の位相差部7も、格子形状が位相差板の面内で変化していることを特徴とする。図2にでは、格子高さd2が、面内のx方向に変化している構成となっている。そして、その変化量は、x=0からx=xLの領域で、d20からd2xLに向けて線形に減少している。上述した構成が、素子構成上の本発明を実施するための基本的な形態である。さらに機能の点から、本発明の実施形態について説明するが、その前に、微細構造からなる位相差板の位相差特性について簡単に説明する。微細な周期構造の特性を説明するのに、有効屈折率法EffectiveMediumTheory:EMTを用いる。有効屈折率法は、微細な周期構造を有する構造体の見かけの屈折率これ以降、有効屈折率と呼ぶことにするを求める手法である。微細周期構造の格子の周期方向に対して垂直な偏光方向を有する偏光をTE偏光、格子の周期方向と平行な偏光方向を有する偏光をTM偏光とし、TE偏光、TM偏光の有効屈折率をnpTE,npTMと表す。ここで、フィリングファクターと呼ばれる値を定義する。この値は、格子形状を構成する2つの材料のうち、一方の材料が占める幅aの、格子周期Pに対する割合でFFa=a/Pで表現される。すると、各偏光方向の有効屈折率npTE、npTMは、以下のように表わされる。npTE=SQRT{n12FFan221-FFa}1npTM=1/SQRT{1/n12FFa1/n221-FFa}2ここで、n1は微細周期構造を構成する2つの材料のうち、一方の材料の屈折率、n2は他方の材料の屈折率である。SQRTは内の平方根を表わす。FFaはフィリングファクターである。屈折率差Δnは、Δn=npTE-npTM3で表わされる。1次元格子の高さをdとすると、位相差φはφ=360×Δn×d/λ4と求めることができる。φが180度となるとき、1/2波長板、90度となるときに1/4波長板として機能する。このように、微細格子の形状が決定すると、位相差を導出することが可能である。さらに、この微細周期構造からなる位相差板は、異方性媒質として考えると、1軸性の異方性媒質と見なすことができる。そして、その場合、格子周期方向が1軸性の異方性媒質としての光学軸となる。図3に、本発明の位相差板の位相差特性を概念的に表わす。第1の位相差板で得られる位相差12をφ1、第2の位相差板で得られる位相差13をφ2、合成の位相差板1として得られる位相差14をφtとしている。図2を例にとると、第1の位相差板は、格子高さが、x=0からx=xLに向けて増加している。従って、位相差φ1も、x=0からx=xLに向けて増加する特性となる。一方、第2の位相差板は、格子高さが、x=0からx=xLに向けて減少している。従って、位相差φ2は、x=0からx=xLに向けて減少する特性となる。そして、合成の位相差φtは、2つの位相差板の位相差を加算した特性となるφt=φ1φ2。そして、この合成の位相差φtが、x=0からx=xLの領域で一定の値となることを特徴としている。例えば、1/4波長板の場合は、合成の位相差φtが、x=0からx=xLの領域で90度となる。本発明において、合成の位相差φtが一定の値となるためには、第1の位相差板が、面内で変化する量と、第2の位相差板が、面内で変化する量は、補完的な関係であることが重要である。つまり、位相差の変化量の絶対値が等しく、符号が逆の特性を有する2つの位相差板を用いることである。そうすれば、面内の特定の領域を入射する光束に対し、常に一定の位相差を与えることが可能となる。このように、本発明では、補完的な位相差特性を有する2つの位相差板を配置することで、合成の位相差板として一定の位相差を得ることが特徴である。従って、位相差板の面内で位相差を変化させる手段は、前述した格子高さを変えることに限定されるものではない。また、変化する方向もx方向に限定されるものではない。また、位相差板の構成も基板の上に微細形状が形成された構成に限定されるものではない。基板と位相差部の境界などに反射防止層を付加した構成など、要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。次に、本発明の位相差板に製造ばらつきが生じた場合は、合成の位相差板として所望の位相差が得られるように、2つの位相差板の相対位置を調整することが可能である。以下、位相差特性を用いて説明する。図4に、製造ばらつきが発生した場合の、位相差特性を示す。図4aが、第1の位相差板に製造ばらつきが発生した場合の位相差特性、図4bが、調整後の位相差特性である。図4aは、第1の位相差板の位相差φ1が一律φcだけ低くなった場合である。図中点線は、図3で示した設計値の位相差特性を表わしている。第1の位相差板の位相差φ1が図中15で示すようにφcだけ低くなっているため、合成の位相差φtは、設計値からφcだけ低い特性となってしまう。次に、合成の位相差φtを所望の特性になるように調整することについて説明する。図4bに表わしたように、第2の位相差板を、x方向にx1だけシフトさせる。このようにすると、図中点線で表わした設計の位相差特性に対し、第2の位相差板は、位相差φ2が増加することになる。そして、第1の位相差板で発生した位相差のずれφcを補正するように増加分を調整すれば、合成の位相差φtとしては、所望の特性を得ることができる。補足として、式を用いて調整の方法を説明する。図3の設計値において、第1の位相差板の位相差φ1と第2の位相差板の位相差φ2、合成の位相差φtは、下記のように表現できる。φ1x=φ10Δφ×xφ2x=φt-φ10-Δφ×xφtx=φ1φ2=φt:一定次に、図4aで位相差が一律φcだけ低くなった場合は、以下のように表わせる。φ1’x=φ10Δφ×x-φcφ2x=φt-φ10-Δφ×xφt’x=φ1’φ2=φt-φcさらに、φ2をx方向にx1だけ調整することは、以下のように表わされる。φ1’x=φ10Δφ×x-φcφ2’x=φ2x-x1=φt-φ10-Δφ×x-x1φt’x=φ1’φ2=φt-φcΔφ×x1ここで、φc=Δφ×x1となるように、第2の位相差板のシフト量を決定し調整すれば、合成の位相差φt’は所望の特性φtとすることができる。上記説明は、本発明の特徴を解りやすくするために、簡単な特性としている。実際には、第1の位相差板の位相差12と、第2の位相差板の位相差13は、x方向に1次関数的に単調増加、減少するような特性に限定されない。製造ばらつきによる位相差のずれを評価し、そのずれを補正できるように各々の位相差特性を決定すればよい。ただし、製造のばらつきは、微細構造部の媒質の成膜条件で格子高さdがばらついたり、エッチング条件により格子のライン幅aがばらついたりすることが考えられ、これらの製造ばらつきは、位相差板の面内で一律に変動することが多い。従って、上述したように位相差板の位相差特性は、特定の方向に1次関数的に変化させることが好ましい。また、調整の方法として、第1の位相差板と第2の位相差板を異方性媒質と見なした場合に、各々の位相差板が1軸性媒質として作用し、その光学軸の向きが相対的に変わらないように調整を行うことが好ましい。このようにすれば、位相差板に任意の偏光方向で入射した光束に対し、合成の位相差特性として、設計値と同じ所望の位相差特性を得ることが可能となる。以下、図1および図2を参照して、本発明の第1の実施例による位相差板について説明する。可視光の緑帯域光に対して、1/4波長板として機能する位相差板を具体例にとる。表1に、第1の位相差板2と第2の位相差板3における位相差部5,7の微細形状を示す。第1の位相差板2は、基板4がSiO2からなり、位相差部5は、TiO2と空気からなる1次元周期構造である。周期は、緑帯域光に対して、回折光が発生しないよう全域310nmに決定した。また、ライン幅も、全域で213nmとした。格子高さd1については、x=0の位置で189nm、中央で243nm、x=xLの位置で297nmとし、x方向に1次関数的に増加している。xL=15mmとすれば、1mm当たり7.2nm格子高さが変化する形状となっている。また、表1には、波長550nmでの位相差量を参考し示している。1/4波長板として機能する位相差90度に対し、半分の位相差である45度を中心とし、x=0からx=xLの範囲で35度から55度と約20度位相差を変化している。一方、第2の位相差板3は、第1の位相差板と同じ形状でx=0とx=xLの向きが反転している形状である。従って、波長550nmでの位相差は、x=0からx=xLの範囲で55度から35度となっている。これにより、合成の位相差板としてはx=0からx=xLの領域で90度の位相差が得られている。この実施例の形態では、第1の位相差板と第2の位相差板で同じ形状の位相差板を製作し、向きを反転させて配置させてあげれば良いだけなので、製造しやすい形態となっている。次に、図5に上記構成の位相差板における位相差の波長特性を表わす。図5aが、第1の位相差板の特性である。図5bが、第2の位相差板の特性である。図5cが、合成の位相差板の特性である。図5cは、x方向の3箇所での位相差特性が、殆ど重なってしまうため、x0の位相差に対して1度、xLの位相差に対して-1度オフセットさせて表示させている。緑帯域光は、約500nmから600nmの波長域で機能すれば良い。この波長範囲での位相差特性は、約89度から90度と良好な1/4波長板となっている。本発明の第2の実施例として、第1の実施例の位相差板に製造誤差が生じた場合の位相差板の調整方法と位相差特性について説明する。製造誤差として、第1の位相差板の位相差部のライン幅が誤差を持った場合と、格子高さが誤差を持った場合について説明する。表1-2にライン幅が誤差を持った場合の形状と位相差特性を表わす。ライン誤差は、設計値に対して、位相差板の全領域で1.5狭くなった形状とした。この誤差により、第1の位相差板の位相差は、表に示すように、x=0の位置で37.62度、x=xLの位置で59.11度と、2.6度から4.07度と大きく変動している。そのため、合成の位相差も92.66度から94.13度と1/4波長である90度から大きくずれることになり、1/4波長板として十分な性能が得られない。そこで、中央の位相差が90度になるように、第2の位相差板をx方向にシフトさせる調整を実施する。実施例1では、xL=15mmと設定したので、第2の位相差板はx方向に、位相差が1.33度/mmずつ変化していることになる。第1の位相差板の中央部は48.37度と4503度の設計値に対し、3.34度低下している。従って、第2の位相差板を図2に示すx1の方向に2.5mmシフトさせて調整すれば、中央部の位相差は90度に調整できる。このときのx=0とx=xLの合成の位相差は、89.28度と、90.76度と90度の目標位相差に対し、1度以内の誤差まで改善される。このような調整に於いて、位相差部がx=0からx=xLの領域にだけしか形成されていない場合、x=xLの位置で、調整後には第2の位相差部が存在しなくなり好ましくない。そこで、位相差部としては、調整量を考慮し、必要な位相差領域に対し、広い領域まで位相差部を形成しておくことが重要である。上記調整後の、x=xLの位置での合成の位相差の結果は、x=xLの外側にも、第2の位相差板が形成されているとして計算した。次に、製造誤差として格子高さが誤差を持った場合の形状と位相差特性を、表1-3に表わす。格子高さは、設計値に対して、位相差板の全領域で5.0低くなった形状とした。この条件では、合成の位相差として、88.31度から87.31度と大きくずれている事がわかる。そして、調整後の合成の位相差は89.56度と、90.56度と90度の目標位相差に対し、1度以内の誤差まで改善されている。このときの第2の位相差板の調整量は、1.6mmであり、図2で示すx1とは逆方向にシフトさせる。次に、図6、図7に上記製造誤差が発生した場合の位相差板における位相差の波長特性を表わす。図6aが、ライン幅に誤差が発生した場合の、合成の位相差板の特性である。図6bが、調整後における合成の位相差板の特性である。図7aは、格子高さに誤差が発生した場合の、合成の位相差板の特性である。図7bが、調整後における合成の位相差板の特性である。いずれも調整後の位相差は、90度の目標位相差に対し、2度以内の誤差まで改善されている。以上のように、実施例1の形態では、製造誤差が発生した場合も、適切な調整を行うことで、所望の位相差特性が得られることがわかる。ここで、第1の位相差板の面内の変化量は、製造誤差により発生する位相差のずれと、それを補正するための調整量から適切に設定する必要がある。面内の変化量を少なく取れば、誤差が生じた場合の調整量が大きくなり、素子の大きさが大きくなりすぎる。そこで、面内の変化量は、製造誤差による位相差のばらつき程度にもよるが、所望の合成の位相差に対して10以上は変化させることが好ましい。逆に面内の位相差の変化量が大きい場合は、位相差の小さな箇所と大きな箇所で製造ばらつきが生じた際の位相差の変化量が一律にならず、補正しにくい。そこで、各位相差板で平均の位相差に対し、50以内の変化にすることが好ましい。以下、図8および図9を参照して、本発明の第3の実施例による位相差板について説明する。実施例1と同じく可視光の緑帯域光に対して、1/4波長板として機能する位相差板を具体例にとる。表2に、第1の位相差板2と第2の位相差板3における位相差部5,7の微細形状を示す。第1の位相差板2は、基板4がSiO2からなり、位相差部5は、TiO2と空気からなる1次元周期構造である。周期は、緑帯域光に対して、回折光が発生しないよう全域310nmに決定した。第1の実施例では、位相差を変化させるのに格子高さを変えていたが、本実施例では、格子高さは一定の243nmとし、ライン幅を面内で変化させている。ライン幅a1については、x=0の位置で222nm、中央で213nm、x=xLの位置で203nmとし、x方向に1次関数的に増加している。xL=15mmとすれば、1mm当たり1.3nmライン幅が変化する形状となっている。また、表2には、波長550nmでの位相差量を参考し示している。第1の実施例と同じく、1/4波長板として機能する位相差90度に対し、半分の位相差である45度を中心とし、x=0からx=xLの範囲で35度から55度と約20度位相差を変化させている。一方、第2の位相差板3は、第1の位相差板と同じ形状でx=0とx=xLの向きが反転している形状である。従って、波長550nmでの位相差は、x=0からx=xLの範囲で55度から35度となっている。これにより、合成の位相差板としてはx=0からx=xLの領域で90度の位相差が得られている。この実施例の形態では、第1の位相差板と第2の位相差板で同じ形状の位相差板を製作し、向きを反転させて配置させてあげれば良いだけなので、製造しやすい形態となっている。次に、図10に上記構成の位相差板における位相差の波長特性を表わす。図10aが、第1の位相差板の特性である。図10bが、第2の位相差板の特性である。図10cが、合成の位相差板の特性である。図10cは、x方向の3箇所での位相差特性が、殆ど重なってしまうため、x0の位相差に対して1度、xLの位相差に対して-1度オフセットさせて表示させている。緑帯域光は、約500nmから600nmの波長域で機能すれば良い。この波長範囲での位相差特性は、約89度から90度と良好な1/4波長板となっている。本発明の第4の実施例として、第3の実施例の位相差板に製造誤差が生じた場合の位相差板の調整方法と位相差特性について説明する。製造誤差として、第1の位相差板の位相差部のライン幅が誤差を持った場合と、格子高さが誤差を持った場合について説明する。表2-2にライン幅が誤差を持った場合の形状と位相差特性を表わす。ライン誤差は、設計値に対して、位相差板の全領域で1.5狭くなった形状とした。この誤差により、第1の位相差板の位相差は、表に示すように、x=0の位置で38.55度、x=xLの位置で58.03度と、3.0度から3.6度と大きく変動している。そのため、合成の位相差も93.55度から93.04度と1/4波長である90度から大きくずれることになり、1/4波長板として十分な性能が得られない。そこで、中央の位相差が90度になるように、第2の位相差板をx方向にシフトさせる調整を実施する。実施例1では、xL=15mmと設定したので、第2の位相差板はx方向に、位相差が約1.33度/mmずつ変化していることになる。第1の位相差板の中央部は48.37度と4503度の設計値に対し、3.34度低化している。従って、第2の位相差板を図2に示すx1の方向に2.5mmシフトさせて調整すれば、中央部の位相差は90度に調整できる。このときのx=0とx=xLの合成の位相差は、90.31度と、89.99度と90度の目標位相差に対し、0.5度以内の誤差まで改善される。このような調整に於いて、位相差部がx=0からx=xLの領域にだけしか形成されていない場合、x=xLの位置で、調整後には第2の位相差部が存在しなくなり好ましくない。そこで、位相差部としては、調整量を考慮し、必要な位相差領域に対し、広い領域まで位相差部を形成しておくことが重要である。上記調整後の、x=xLの位置での合成の位相差の結果は、x=xLの外側にも、第2の位相差板が形成されているとして計算した。次に、製造誤差として格子高さが誤差を持った場合の形状と位相差特性を、表2-3に表わす。格子高さは、設計値に対して、位相差板の全領域で5.0低くなった形状とした。この条件では、合成の位相差として、88.26度から87.26度と大きくずれている事がわかる。そして、調整後の合成の位相差は90.37度と、89.50度と90度の目標位相差に対し、0.5度以内の誤差まで改善されている。このときの第2の位相差板の調整量は、1.6mmであり、図2で示すx1とは逆方向にシフトさせる。次に、図11、図12に上記製造誤差が発生した場合の位相差板における位相差の波長特性を表わす。図11aが、ライン幅に誤差が発生した場合の、合成の位相差板の特性である。図11bが、調整後における合成の位相差板の特性である。図12aは、格子高さに誤差が発生した場合の、合成の位相差板の特性である。図12bが、調整後における合成の位相差板の特性である。いずれも調整後の位相差は、90度の目標位相差に対し、2度以内の誤差まで改善されている。以上のように、実施例3の形態においても、製造誤差が発生した場合に適切な調整を行うことで、所望の位相差特性が得られることがわかる。本実施例の形態においても、第1の位相差板の面内の変化量は、製造誤差により発生する位相差のずれと、それを補正するための調整量から適切に設定する必要がある。面内の変化量を少なく取れば、誤差が生じた場合の調整量が大きくなり、素子の大きさが大きくなりすぎる。そこで、面内の変化量は、製造誤差による位相差のばらつき程度にもよるが、所望の位相差に対して10以上は変化させることが好ましい。逆に面内の位相差の変化量が大きい場合は、位相差の小さな箇所と大きな箇所で製造ばらつきが生じた際の位相差の変化量が一律にならず、補正しにくい。そこで、各位相差板で平均の位相差に対し、50以内の変化にすることが好ましい。また、本実施例の形態は、ライン幅を変えることで位相差を変化させている。前述した式の通り、ライン幅を変えると見かけの有効屈折率が変化し、位相差を変化させることができる。しかし、ライン幅と屈折率は線形に変化していない。そこで、位相差の変化を面内で一次関数的に変化させたい場合は、ライン幅は、非線形に変化させたほうが調整上は好ましい。以上の実施例の形態では、緑帯域で機能する1/4波長板を例にとって説明を行ったが、青帯域や赤帯域の1/4波長板、1/2波長板など様々な用途の位相差板にも利用できることはいうまでもない。以下、図13を用いて、本発明の第5の実施例による位相差板について説明する。図13aは、図2と同じく、位相差板のxz断面である。図13bは、yz断面、図13cは、第1の位相差板2のxy断面、図13dは、第2の位相差板のxy断面となっている。本実施形態では、1次元周期方向図中x方向に直交する方向に、微細格子のライン幅を変化させる形態である。この形態では、実施例2や実施例4で説明したような製造誤差が発生した場合、y方向にシフトさせて調整することになる。位相差板のサイズや、調整量を考慮し、位相差を変化させる方向を実施例1の形態にするか、本実施例の形態にするかは決定すればよい。以下、本発明の第6の実施例による位相差板について説明する。前述の実施例では、位相差を面内で変化させるのに、位相差板の高さや微細格子のライン幅を変化させていた。本実施形態では、微細格子を構成する媒質の少なくとも一方の屈折率を変化させる形態である。この場合も、面内で位相差を変化させることは可能である。製法としては、屈折率分布を有した基板に微細格子を形成すれば、本実施例の形態は実現できる。本実施例では、屈折率分布を与える方向と、微細格子の周期方向を任意に設定することが可能である。しかし、屈折率変化を与える方向と、微細格子の周期方向を平行または、直交させるのが性能的には、微細格子が1軸性の結晶として機能するので好ましい。以上、本発明の位相差板の好ましい実施形態について実施例1から6で説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。また、当然のことだが、本発明の構成は、光線使用領域内で実施されていれば良く、光線使用領域外の形状は任意の形状を有していても構わない。第7の実施例の形態として、本発明の位相差板1を投射型表示装置に用いた光学系が考えられる。図14の従来構成の投射型表示装置における1/4波長板を本発明の位相差板に置き換えれば良い。この際に、位相差板1として別の工程で第1の位相差板2と第2の位相差板の位置調整を行い、所望の性能となった位相差板1を、図中各位相差板の位置に用いればよい。或いは、第1の位相差板と第2の位相差板を投射型表示装置の光学系に適用したあと、全系での性能を見ながら、第1の位相差板と第2の位相差板の調整を行っても良い。いずれの場合も、本発明の位相差板を用いると、位相差特性に優れるので、コントラストの高い良好な光学性能を有する光学系を提供することが可能となる。また、本発明は、微細周期構造部3の材料として、SiO2やTiO2などの無機の材質を使用している。そのため、従来の有機フィルムから構成される1/4波長板に比べ、耐熱性に優れた光学系を提供することが可能となる。"