"光ファイバを製造する方法において、炉内でプリフォームから裸の光ファイバを線引きする工程、線状非接触芯出し装置により、前記炉の下流で前記裸の光ファイバを芯出しする工程であって、前記光ファイバに強制流体を施して、該光ファイバを浮揚させる工程、および前記裸の光ファイバを被覆する工程、を有してなる方法。前記芯出し装置は、2つの側壁の間の角度が10°から60°の範囲にある少なくとも2つのテーパー状の側壁により画成された領域を有する通路を含み、光ファイバが、前記通路内で該ファイバの下に存在する圧力差の結果として、前記通路の領域内に維持され、該通路内に実質的に浮揚されるように、該領域に流体が強制され、前記裸の光ファイバが、前記通路内で自己位置決めされ、芯出しされることを特徴とする請求項1記載の方法。前記線状非接触芯出し装置が第1と第2の芯出し要素を含み、前記裸の光ファイバを芯出しする工程が、前記第1と第2の芯出し要素内で反対方向に流体を施す工程を含むことを特徴とする請求項2記載の方法。前記強制流体を施す工程が、強制空気を施す工程を含むことを特徴とする請求項1記載の方法。前記芯出し装置が、前記炉から出る前記裸の光ファイバを芯出しするように該光ファイバが線引きされる炉の出口の近くに位置していることを特徴とする請求項1記載の方法。前記炉が処理装置を含み、前記芯出し装置が前記処理装置の出口の近くに位置していることを特徴とする請求項1記載の方法。光ファイバを製造する方法において、炉内でプリフォームから裸の光ファイバを線引きする工程、および強制流体および前記光ファイバを受け入れるための、互いに対する角度が10°から60°の範囲にある少なくとも2つのテーパー状の側壁により画成された通路を含む線状非接触芯出し装置により、前記炉の下流で前記裸の光ファイバを芯出しする工程であって、前記通路内で前記ファイバの下に存在する圧力差の結果として、該ファイバを該通路内に実質的に浮揚させるのに十分な前記強制流体を有する該通路の領域内に該ファイバが維持され、芯出しされる工程、を有してなる方法。前記線状非接触芯出し装置が第1と第2の芯出し要素を含み、前記裸の光ファイバを芯出しする工程が、前記第1と第2の芯出し要素内で反対方向に流体を施す工程を含むことを特徴とする請求項7記載の方法。線状非接触ファイバ芯出し装置において、2つの側壁の間の角度が10°から60°の範囲にある少なくとも2つのテーパー状の側壁により画成された領域を有する通路であって、光ファイバが、前記通路内で該ファイバの下に存在する圧力差の結果として、前記通路の領域内に維持され、該通路内に実質的に浮揚されるように、該領域に流体が強制され、前記裸の光ファイバが、前記通路内で自己位置決めされ、芯出しされるものである通路、を備えた芯出し装置。線状非接触ファイバ芯出し装置において、光ファイバを受け入れるための、円筒開口および第1と第2の端部を画成する側壁を有する管、および前記光ファイバを前記管内に実質的に芯出しされた状態に維持し、該管の側壁との接触を防ぐように、前記光ファイバに向かって半径方向内向きに高圧流体を向けるための、該管の周囲の放射状に位置する複数の流体射出ポート、を備えた芯出し装置。1つの実施の形態によれば、光ファイバを製造する方法が提供される。この方法は、裸の光ファイバを炉内でプリフォームから線引きする工程を含む。この方法は、線状非接触芯出し装置により、炉の下流で裸の光ファイバを芯出しする工程も含む。この芯出しする工程は、光ファイバに強制流体を施して、光ファイバを浮揚させる工程を含む。この方法は、裸の光ファイバを被覆する工程をさらに含む。別の実施の形態によれば、炉内でプリフォームから裸の光ファイバを線引きする工程を含む、光ファイバを製造する方法が提供される。この方法は、線状非接触芯出し装置により、炉の下流で裸の光ファイバを芯出しする工程も含む。この芯出し装置は、強制流体および光ファイバを受け入れるための少なくとも2つのテーパー状の側壁により画成された通路を含む。ファイバは、通路内でファイバの下に存在する圧力差の結果として、ファイバを通路内で実質的に浮揚させるのに十分な強制流体を有する通路の領域内に維持され、芯出しされ、その側壁は、互いに対して、10°から60°の範囲の角度を有する。さらに別の実施の形態によれば、炉内でプリフォームから裸の光ファイバを線引きする工程を含む、光ファイバを製造する方法が提供される。この方法は、円筒開口および第1と第2の端部を画成する側壁を有する管を通して裸の光ファイバを引っ張る工程も含む。この方法は、光ファイバを実質的に管の中心に維持し、管の側壁との接触を防ぐように、管の周囲の複数の位置から高圧流体を射出する工程をさらに含む。さらに別の実施の形態によれば、線状非接触ファイバ芯出し装置が提供される。この芯出し装置は、2つの側壁の間の角度が10°から60°の範囲にある少なくとも2つのテーパー状の側壁により画成された領域を有する通路を含む。ファイバが、通路内でファイバの下に存在する圧力差の結果として、通路の領域内に維持され、通路内に実質的に浮揚されるように、流体がその領域に強制され、ファイバは、通路内に自己位置決めされ、芯出しされる。さらに別の実施の形態によれば、線状非接触ファイバ芯出し装置が提供される。この芯出し装置は、ファイバを受け入れるための、円筒開口および第1と第2の端部を画成する側壁を有する管を含む。この芯出し装置は、光ファイバを実質的に管内で芯出しされた状態に維持し、管の側壁との接触を防ぐように、光ファイバに向かって半径方向内向きに高圧流体を向けるための、管の周囲に放射状に位置する複数の流体射出ポートも含む。追加の特徴および利点が、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から当業者に容易に明白となるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付図面を含む、ここに記載された実施の形態を実施することによって、認識されるであろう。先の一般的な説明および以下の詳細な説明は、単なる例示であり、請求項の性質および特徴を理解する上での概要または骨子を提供することが意図されていることを理解すべきである。添付図面は、さらなる理解を提供するために含まれており、本明細書に包含され、その一部を構成する。図面は、1つ以上の実施の形態を図解し、説明と共に、様々な実施の形態の原理および動作を説明する働きをする。ここで、現在好ましい実施の形態を詳しく参照する。その実施例が添付図面に図解されている。できる限り、同じまたは同様の部品を称するために、図面全体に亘り同じ参照番号が用いられる。前記光ファイバ製造システムおよび方法は、炉およびファイバ芯出し装置の使用によって、光ファイバを製造する。この光ファイバ製造システムおよび方法の実施の形態が、図1~7と関連してここに記載されており、図面全体に亘り、同様の番号が同じまたは対応する要素を示す。ここで用いた裸の光ファイバという句は、プリフォームから直接線引きされ、その外面に保護被覆層を施す前例えば、裸の光ファイバが高分子系材料により被覆される前の光ファイバを意味する。この光ファイバ製造システムおよび方法により、ここに開示された効果的なファイバ芯出し技法を使用して、欠陥が減少した光ファイバを製造することができる。図1を参照すると、1つの実施の形態による光ファイバ製造システム10が概して示されている。このシステム10は、約2,000°Cの温度まで加熱され得る炉12を含む。ガラス光ファイバプリフォーム14が炉12内に配置され、そこからファイバが線引きされて、裸の光ファイバ20が製造される。プリフォーム14は、どのようなガラスまたは材料から構成されていてもよく、光ファイバの製造に適するようにドープされていてもよい。1つの実施の形態によれば、裸の光ファイバ20がプリフォーム14から一度線引きされたら、裸の光ファイバ20は、ここに処理管と示され記載された徐冷処理装置18内で冷却してもよい。1つの実施の形態によれば、徐冷管または処理装置18は、炉12の出口に一体に連結されて示されている。しかしながら、処理装置18は、他の様式で炉から離れていても、または他の実施の形態によりそこに他の様式で接続されていても差し支えないことが認識されよう。ここに用いたように、処理装置という用語は、裸の光ファイバ20が、25°Cおよび1気圧の圧力での空気中における光ファイバの冷却速度より遅い速度で冷却される線引き炉12の下流にある装置を称し、ここに示され記載された管を含んでもよい。処理装置18は、例えば、約2,100°Cと1,600°Cの間の温度で処理装置18に入り、25°Cおよび1気圧の圧力での空気中における光ファイバの冷却速度より遅い速度で光ファイバ20を冷却するように、炉12の出口に連結されてもよい。ファイバは、好ましくは500°Cより高い温度で処理装置18から出る。ファイバが、徐冷処理装置で処理されない同一設計のファイバと比べて、減衰を減少させるのに十分な時間に亘り徐冷処理装置内で処理されることが好ましい。例えば、コア中の酸化ゲルマニウムが0.5質量パーセント未満である光ファイバについてまた、酸化ゲルマニウムを含まないコアを有するファイバについて、ファイバが、好ましくは、ファイバの温度が1,800°Cと1,200°Cの間にある期間に亘り、より好ましくは、ファイバの温度が1,700°Cと1,200°Cの間にある間、さらにより好ましくは、ファイバの温度が1,600°Cと1,300°Cの間にある間、処理装置内で処理される徐冷される。コア中の酸化ゲルマニウムが0.5質量パーセント超である光ファイバについて、ファイバが、好ましくは、ファイバの温度が1,600°Cと900°Cの間にある期間に亘り、より好ましくは、ファイバの温度が1,500°Cと1,000°Cの間にある間、さらにより好ましくは、ファイバの温度が1,400°Cと1,000°Cの間にある間、処理装置内で処理される徐冷される。しかしながら、この処理装置は大気圧より低い圧力を使用するので、これらの温度範囲はその処理装置内で達成できると同時に、処理装置が大気圧以上にあった場合に加わるであろう量より少ない熱量しか加えられない。処理装置18内でのファイバの平均冷却速度は、処理装置18中へのファイバの入口点でのファイバの表面温度ファイバの入口表面温度から、処理装置18から出るファイバの出口点でのファイバの表面温度を引いたものを、処理装置18内のファイバの総滞在時間で割ったものとして定義される。真空ポンプ22に接続された1つ以上の減圧または真空ポート25を有する徐冷管または処理装置18が示されている。真空ポンプ22は、処理装置18内に減圧または不完全真空を作り出し、図示した実施の形態において、そこに接続された炉12内にも減圧または不完全真空を作り出す。図示した実施の形態において1つの真空ポート25に連結された1つの真空ポンプ22が示されている。しかしながら、処理装置18および/または炉12の1つ以上のチャンバ内に所望の減圧を達成するために、1つ以上の真空ポートおよび/または1つ以上の真空ポンプを用いてもよいことが認識されよう。処理装置18が、裸の光ファイバ20を、それが炉12から出口ポート28に通過するときに、制御環境下で冷却するように構成されていることが都合よい。その上、炉12の入力として、G1と示されている不活性ガスを提供するガス入口16が示されている。そのガスG1は、炉12に到達する周囲空気の量を減少させるために、1つの実施の形態において、アルゴンを含んでよい。別の実施の形態によれば、不活性ガスは窒素を含んでよい。炉12および処理装置18の様々な位置に複数のガス入口を用いてもよいことが認識されよう。図1に示した実施の形態において、プリフォーム14から線引きされた裸の光ファイバ20は、炉12の底部を通って出て、処理装置18を通り、出口28で出口オリフィス26を通って出て、次いで、芯出し装置32を通過する。芯出し装置32の後に、裸の光ファイバ20は、必要に応じて、裸の光ファイバ20を、第1のまたは実質的に垂直な通路に沿った動きから、第2の通路にシフトさせる1つ以上の流体軸受図示せずをさらに通過してもよい。1つ以上の流体軸受としては、その開示をここに引用する、2007年11月26日に出願された米国特許出願第11/986764号米国仮特許出願第60/861587号として出願された、および2007年11月29日に出願された米国特許出願第11/998366号に開示された流体軸受が挙げられる。十分な冷却後、次いで、裸の光ファイバ20は被覆ユニット60に送られ、そこで、裸の光ファイバ20の外面に一次保護被覆層が塗布される。被覆ユニット60を出た後、保護層を備えた光ファイバは、牽引手段またはローラ62などの製造システム10内の様々な処理段階を通り、ファイバ貯蔵スプール64上へと進むことができる。ローラ62の内の1つを用いて、光ファイバがシステム全体を通じて線引きされ、最終的に貯蔵スプール64上に巻き付けられながら、光ファイバに必要な張力を提供してもよい。光ファイバ製造システム10は、所望の冷却速度で線引きされた裸の光ファイバ20を冷却するために、炉12の出口で処理装置18を利用する。処理装置18は、炉の出口の一端から延在する長い管を有し、裸の光ファイバ20がそこを通って出る反対端の出口28に小さなオリフィス26を有する。処理装置18は、1から10メートルmの、より好ましくは2から8メートルmの範囲の長さを有してよい。いくつかの実施の形態において、管18は、3メートル超、4メートル超、および5メートル超の長さを有してよい。処理装置18の長さをより長くすることにより、ファイバをより速い速度で線引きすることができ、さらに、減衰を所望のように減少させるのに必要な滞在時間が達成される。例えば、20メートル/秒超、25メートル/秒超、いくつかの場合には、30メートル/秒超の速度でファイバを線引きしながら、そのような装置内で減衰を著しく減少させることができる。例えば、1つの実施の形態において、処理装置の長さは約6メートルである。出口オリフィス26に近接した線状非接触ファイバ芯出し装置32は、裸の光ファイバ20が出口オリフィス26を通って進みながら、そのファイバの横のXY位置を安定化させ、したがって、裸の光ファイバ20がオリフィス26の側壁に機械的に触れる可能性を排除する。芯出し装置32は、ファイバ20を、真っ直ぐな線に沿って通過するときに芯出しする線状芯出し装置である。ここに用いたように、線状という用語は、実質的に真っ直ぐな線を称する。芯出し装置32は、出口オリフィス26から1メートル以内に配置されていてよく、好ましくは出口オリフィス26から0.5メートル以内、より好ましくは20センチメートル以内、最も好ましくは15センチメートル以内に配置されている。1つの実施の形態において、芯出し装置32のファイバの入口側要素32Aの上部は、出口オリフィス26の2.54センチメートル1.0インチから15センチメートル5.9インチの範囲内にある。炉12および処理装置18の内部は、真空ポンプ22により1気圧より実質的に低い減圧まで排気される。図示した実施の形態において、真空ポンプ22が、管の出口の上流に位置する真空ポート25でガスを排気する。真空ポンプ22により提供される減圧は、炉12内の時間的に変化する流動を抑圧し、それによって、ファイバの直径を安定化させるためにヘリウムを使用する必要を排除し、管18内の裸の光ファイバ20の対流冷却を抑制し、その管を、ファイバの減衰を改善する徐冷装置にする。炉12の上部を封止し、炉に進入する周囲空気、特に酸素による炉の劣化を避けるために処理装置18の出口オリフィス26に小さい円形開口を設けることによって、周囲空気の進入が最小にされるであろう。出口オリフィス26のサイズは、0.5から5mmの範囲の直径であってよく、裸の光ファイバ20の直径より約4倍超大きくてもよい。残留空気が、出口オリフィス26を通じて引き込まれるかもしれず、炉12のガス入口16で、管18内の真空ポートへと流れる、アルゴンなどの不活性ガスを低レベルで射出することにより、管18を上昇して、炉12に移動するのを阻止されるであろう。出口オリフィス26を通って処理装置18に進入する周囲空気は、超音速であるかもしれない高速でオリフィス26に進入する。この高速空気により、裸の光ファイバ20が振動し、それゆえ、XY方向に横へと動くかもしれない。過剰の横への動きにより裸の光ファイバ20が出口オリフィス26の壁と接触し得、これにより、ファイバの強度が損なわれ、線引きプロセスが妨害されるかもしれない。線状非接触ファイバ芯出し装置32を用いることによって、ファイバ20は、オリフィス26の近傍において横方向またはXY方向に安定化される。芯出し装置32は、機械的に接触せずに、裸の光ファイバ20を芯出しするための線状非接触装置である。機械的接触とは、線引きプロセスにおける固体構成部材との接触を意味する。この光ファイバ製造システム10は、ファイバの直径の制御を改善し、かつ裸の光ファイバ20の機械的構造との接触を防ぎながら、炉12を徐冷管18に連結し、両方の内圧を減少させることによって、冷却速度を減少させることが都合よい。その減圧により、炉12内の熱伝達の対流成分が減少し、対流の安定性が改善される。その効果は、熱伝達がより周期に関係なくかつ空間的に均一であり、これによりファイバの直径の制御が改善されることである。処理装置18内の減圧は、冷却の対流成分を減少させることによって、冷却速度を減少させる。1つの実施の形態によれば、炉12および処理装置18内の減圧は、0.01から0.8気圧7.6から608.0トールの範囲にあってよい。他の実施の形態によれば、その減圧は、0.02から0.65気圧15.2から494.0トールの範囲、より好ましくは、0.05から0.50気圧38.2から380.0トールの範囲にあってよい。裸の光ファイバ20における光学損失を最大に減少させるために、1,600°Cと1,300°Cの間の温度に関する冷却速度は、ファイバのコアが、できるだけ多くの欠陥、または密度変動を直すことができるように、5,000°C/秒以下、より好ましくは3,000°C/秒以下、最も好ましくは約2,000°C/秒以下であるべきである。一般的な線引き速度で、この冷却速度を達成することは、約6メートル以上の長さの処理装置18により促進される。裸の光ファイバ20が一度1,300°Cに到達したら、そのファイバをより急速に冷却することが望ましく、それゆえ、裸の光ファイバ20は、1,300°C未満、より好ましくは1,200°C未満、いくつかの実施の形態においては、1,100°C未満の温度で処理装置18を出るであろう。ファイバ20は、制御された冷却のために処理装置18内に留まり、500°C超の温度で処理装置18を出る、いくつかの実施の形態においては、800°C超の温度で処理装置18を出る。処理装置18の底部にある出口28での出口オリフィス26は、出口オリフィス26内で裸の光ファイバ20の適切な芯出しを確実にするために、芯出し装置32に近い。第1の実施の形態による、線状非接触光ファイバ芯出し装置32が図2~4により詳しく示されている。一方の側で裸の光ファイバ20を芯出しするための第1の線状芯出し要素32Aを、反対側で裸の光ファイバ20を芯出しするための第2の線状芯出し要素32Bを有する芯出し装置32が図2に示されている。第1と第2の芯出し要素32Aおよび32Bの各々は、図3に示されるような、楔形通路44をもたらす高圧流体空気通路38を有する。この楔形通路44は、1つの実施の形態によれば、10°から60°の範囲にある壁の間の全角θをもたらす対向した角度の付けられた側壁を有する。この範囲は、図3における水平線に対して5°から30°の半角と等しい。別の実施の形態によれば、楔形通路44は、1°から60°の範囲、より好ましくは10°から60°、最も好ましくは40°から60°のそれらの間に全角θをもたらす角度の付けられた側壁を有する。さらに別の実施の形態によれば、全角θは1°から10°の範囲にある。裸の光ファイバ20は、楔形通路44を通って流体供給通路38から吐出される、圧縮空気の形態にある高圧流体によって、楔形通路44内に浮遊されている。そうすることによって、空気ジェットにより供給通路38を通じて供給される圧縮空気45などのガスが、図4に示されるように裸の光ファイバ20の両側で強制的に流れて、芯出し装置32およびその要素32Aと32Bのどの構造との機械的接触も防ぐ様式で裸の光ファイバ20を浮遊させる流体軸受またはエアクッションを形成する。圧縮空気などのこの流体は、裸の光ファイバ20が楔形通路44の領域内で線引き張力下に維持され、実質的に楔形通路内のファイバ20の下に存在する圧力差の結果として、楔形通路44内に浮揚されるように、供給通路38を通じて圧力下に強制され、楔形通路44から排気される。その結果、ファイバ20は、楔形通路44内に自動的に配置され、芯出しされる。図3に示されるように、個々の芯出し要素32Aおよび32Bの各々は、第1の側面部材34と第2の側面部材36から作製されてもよい。空気供給通路38は、部材34と36の界面にあるスロットとして形成してもよい。第1の側面部材34と、第2の側面部材36は、それぞれ、空気通路38から導かれる楔形通路44を一緒に形成する、角度の付けられた壁40、および角度の付けられた壁42を有する。空気供給通路38のスロットおよび楔形通路44は、ファイバ20に適用される空気クッションの有効長LCを画成する深さまたは長さを有する。図3には芯出し要素32Bが示されているが、芯出し要素32Aを、同様であるが、要素32Bに対して180°に向けられた図2に示すように形成してよいことが認識されよう。第1と第2の芯出し要素32Aおよび32Bの各々は、楔形通路44の頂点で供給通路38の出口から周囲環境に流れる高速空気により、容積が広がる通路44内に配置された裸の光ファイバ20を芯出しするための線状または直線部分を提供する。1つの実施の形態によれば、ファイバ20に施される空気の速度は、25メートル/秒m/sから500m/sの範囲にあってよい。いずれかの芯出し要素32Aまたは32Bによる芯出しが施されるファイバ要素の長さLCは、0.5センチメートルから100センチメートルの範囲、例えば、より好ましくは0.5センチメートルから10センチメートル、最も好ましくは0.5センチメートルから2センチメートルなどの、数ミリメートルと数センチメートルの間であり得る。芯出し要素32Aおよび32Bは、壁の間の方向に強力な芯出し力を生じるが、他の方向には揚力しか生じず、それよって、空気通路38の出口から離れるように裸の光ファイバ20を強制する。図示されるように複数の対の線状芯出し要素32Aおよび32Bを組み合わせることによって、ファイバの張力の変動にほとんどまたは全く影響せずに、裸の光ファイバ20を反対の横方向に芯出しすることができる。芯出し力を増加させる必要がある場合には、複数の対の線状芯出し要素32Aおよび32Bを直列に用いることができ、芯出し効果を方向に依存しなくするために、各後の対を、前の対に対して裸の光ファイバ20の周りに0°と180°の間のいくらか回転させる。第2の実施の形態による、線状非接触光ファイバ芯出し装置132が、図5から7に示されている。芯出し装置132は、処理装置18を出る裸の光ファイバ20を芯出しするために、図1に示された芯出し装置32の代わりに使用してもよく、または光ファイバを芯出しするために光ファイバ製造システム10の他の場所に使用してもよい。この実施の形態において、芯出し管要素136が、芯出し力の角度依存性を非常に低くするために用いられる。管136は、円筒開口を画成する側壁、および裸の光ファイバ20を受け入れ、排出するための第1と第2の反対の端部を有する。その上、芯出し装置132は、管136の側壁の周囲に放射状に配置され、光ファイバ20を管136内に実質的に芯出しし、管136の側壁との機械的接触を防ぐように、裸の光ファイバ20に向かって半径方向内向きに、空気145などの高圧流体を方向付けるための空気ジェットと流体連通して接続するように適合された複数の流体吐出ポート134を備えている。図示した実施の形態において、空気ジェットを備えた図示せず流体吐出ポート134は、少なくとも8個の等角に離れた流体吐出ポート134を含む。この実施の形態において、裸の光ファイバ20は、ファイバの直径DFより1倍から20倍大きい直径を有する直線の円形管136の内部に位置しているであろう。1つの実施の形態によれば、管136は、1ミリメートル未満の円形断面内径を有してよく、これは、約125マイクロメートルの外径を有する裸の光ファイバ20にうまく働く。1つの実施の形態において、ファイバ20の外径DFに対する管136の内径DTの比は、20:1未満、より好ましくは10:1未満である。管136内にその軸に沿っていくつかのスロット孔またはポート134があってよく、一連の空気ジェット流がファイバ20と管136の内壁との間の間隙に入ることができる。ファイバ20を配置することによって、管136内の空気流145が変化するかもしれず、これにより、概して、圧力成分および摩擦成分の両方を有する芯出し力が生じ、それによって、裸の光ファイバ20が管136内に芯出しされる。1つの実施の形態によれば、管136は、50cm未満、より好ましくは25cm未満などの長さLTを有してよい。流体吐出ポート134は、管の長さLTの90パーセント未満の長さLPを有してよい。1つの実施の形態によれば、線状非接触光ファイバ芯出し装置32および132が、裸の光ファイバ20の出口オリフィス26の壁または他の構造との機械的接触を防ぐように、処理装置18の出口オリフィス26を出る裸の光ファイバ20を都合よく芯出しすることが認識されよう。線状非接触光ファイバ芯出し装置32または132は、裸の光ファイバ20を芯出しするために、光ファイバ製造システム10内の他の位置に用いてもよいことが理解されよう。その上、裸の光ファイバ20を芯出しするために用いられる強制空気が、処理装置18における制御された冷却後に、光ファイバ20が芯出し装置32または132を通過するときに、その光ファイバ20の冷却速度を増加させることが認識されよう。芯出し装置32または132の下流で、光ファイバ20は、1つ以上の流体軸受を通過してよく、また線引き機構により線引きされ、スプールに巻き付けられる前に、被覆ユニットにより被覆されてもよい。請求項の精神または範囲から逸脱せずに、様々な改変および変更を行えることが当業者には明白であろう。"