光源からの光を回折することで2次元の干渉パターンを形成する第1の格子と、前記光を遮蔽する遮蔽部と前記光を透過する透過部とが2次元に配列されており、前記干渉パターンの一部を遮蔽する第2の格子と、前記第2の格子を経た前記光を検出する検出器と、前記検出器で検出した前記光の強度分布の周期的パターンに基づいて被検体の位相像又は微分位相像を算出する演算部と、を備え、第1の方向における前記強度分布の周期が前記検出器の検出面上の全ての領域で等しくなるように、前記第1の格子と前記第2の格子とが構成されていることを特徴とする撮像装置。前記第1の方向と交差する第2の方向における前記強度分布の周期が前記検出器の前記検出面上のすべての領域で等しくなるように、前記第1の格子と前記第2の格子とが構成されていることを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。前記第1の方向と前記第2の方向とは垂直に交わることを特徴とする請求項2に記載の撮像装置。前記第1の方向における前記強度分布の周期と、前記第2の方向における前記強度分布の周期が等しいことを特徴とする請求項2または請求項3に記載の撮像装置。前記演算部はフーリエ変換法を用いて前記強度分布を解析することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の撮像装置。前記演算部は前記被検体の前記微分位相像を算出し、前記第1の方向及び前記第2の方向は前記微分位相像の微分方向であることを特徴とする請求項2から5のいずれか1項に記載の撮像装置。前記光は、X線であることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の撮像装置。光源からの光を回折することで2次元の干渉パターンを形成する第1の格子と、前記光を遮蔽する遮蔽部と透過する透過部とが2次元に配列されており、前記干渉パターンの一部を遮蔽する第2の格子と、前記第2の格子を経た前記光を検出する検出器と、前記検出器で検出した前記光の強度分布の周期的パターンに基づいて被検体の位相像又は微分位相像を算出する演算部と、を備え、前記干渉パターンは井桁格子状のパターンであり、前記第2の格子は、前記遮蔽部と前記透過部とが市松格子状に配置されていることを特徴とする撮像装置。光源からの光を回折することで2次元の干渉パターンを形成する第1の格子と、前記光を遮蔽する遮蔽部と透過する透過部とが2次元に配列されており、前記干渉パターンの一部を遮蔽する第2の格子と、前記第2の格子を経た前記光を検出する検出器と、前記検出器で検出した前記光の強度分布の周期的パターンに基づいて被検体の位相像又は微分位相像を算出する演算部と、を備え、前記干渉パターンは井桁格子状のパターンであり、前記第2の格子は、前記遮蔽部と、前記透過部と、前記遮蔽部よりも光を透過させ、前記透過部よりも光を遮蔽する半透過部とを有し、前記遮蔽部と前記透過部と前記半透過部とが夫々市松格子状に並んだベイヤ配列に配置されていることを特徴とする撮像装置。光源からの光を回折することで2次元の干渉パターンを形成する第1の格子と、前記光を遮蔽する遮蔽部と透過する透過部とが2次元に配列されており、前記干渉パターンの一部を遮蔽する第2の格子と、前記第2の格子を経た前記光を検出する検出器と、前記検出器で検出した前記光の強度分布の周期的パターンに基づいて被検体の位相像又は微分位相像を算出する演算部と、を備え、前記干渉パターンは市松格子状のパターンであり、前記第2の格子は、前記遮蔽部と前記透過部とが市松格子状に配置されていることを特徴とする撮像装置。光源からの光を回折することで2次元の干渉パターンを形成する第1の格子と、前記光を遮蔽する遮蔽部と透過する透過部とが2次元に配列されており、前記干渉パターンの一部を遮蔽する第2の格子と、前記第2の格子を経た前記光を検出する検出器と、前記検出器で検出した前記光の強度分布の周期的パターンに基づいて被検体の位相像又は微分位相像を算出する演算部と、を備え、前記干渉パターンは市松格子状のパターンであり、前記第2の格子は、前記遮蔽部と前記透過部とが井桁格子状に配置されていることを特徴とする撮像装置。第1の格子が光を回折することによって2次元の干渉パターンを形成する工程と、前記光を遮蔽する遮蔽部と前記光を透過する透過部とが2次元に配列されている第2の格子により前記干渉パターンの一部が遮蔽される工程と、前記第2の格子を経た光の強度分布が検出器により検出される工程と、前記検出器により検出された前記強度分布の周期的パターンを前記演算部により解析して被検体の位相像又は微分位相像を算出する工程と、を備え、第1の方向における前記強度分布の周期を前記検出器の検出面上において一定とし、且つ、第2の方向における前記強度分布の周期が前記検出器の前記検出面上において一定であるように前記第1の格子と前記第2の格子とを構成して前記被検体を位相像又は微分位相像を取得することを特徴とする撮像方法。非特許文献1で開示されている技術は1次元のフーリエ変換法であり、この変換法では、2次元方向の微分位相像を得ることはできない。そこで、タルボ干渉計における第1の格子を2次元構造にすることにより、2次元のパターンを持つ自己像を形成する。そして、その自己像に対応した適切な形状の第2の格子を設置することにより2次元のモアレを出現させることができる。しかし、モアレの周期を波数空間を用いて解析する場合には、どのような形状のモアレでも同様な精度で光の位相を回復できるわけではない。すなわち、モアレの周期を波数空間を用いて解析する方法を用いた位相回復に際しては、第1の格子と第2の格子の組合せによっては、精度の点で必ずしも満足の行く結果が得られないことがある。このため、第1の格子と第2の格子の組合せにより、波数空間を用いて解析する方法に適したモアレを形成することが重要な課題となる。そこで、本発明は、上記課題に鑑み、タルボ干渉によるモアレの周期を波数空間を用いて解析するに当たり、より分解能の高い解析が可能となる撮像装置および撮像方法を提供することを目的とする。本発明の撮像装置は、光源からの光を回折することで2次元の干渉パターンを形成する第1の格子と、前記光を遮蔽する遮蔽部と前記光を透過する透過部とが2次元に配列されており、前記干渉パターンの一部を遮蔽する第2の格子と、前記第2の格子を経た前記光を検出する検出器と、前記検出器で検出した前記光の強度分布の周期的パターンに基づいて被検体の位相像又は微分位相像を算出する演算部と、を備え、第1の方向における前記強度分布の周期が前記検出器の検出面上の全ての領域で等しくなるように、前記第1の格子と前記第2の格子とが構成されていることを特徴とする。また、本発明の撮像方法は、第1の格子が光を回折することによって2次元の干渉パターンを形成する工程と、前記光を遮蔽する遮蔽部と前記光を透過する透過部とが2次元に配列されている第2の格子により前記干渉パターンの一部が遮蔽される工程と、前記第2の格子を経た光の強度分布が検出器により検出される工程と、前記検出器により検出された前記強度分布の周期的パターンを前記演算部により解析して被検体の位相像又は微分位相像を算出する工程と、を備え、第1の方向における前記強度分布の周期を前記検出器の検出面上において一定とし、且つ、第2の方向における前記強度分布の周期が前記検出器の前記検出面上において一定であるように前記第1の格子と前記第2の格子とを構成して前記被検体を位相像又は微分位相像を取得することを特徴とする。本発明によれば、タルボ干渉によるモアレの周期を波数空間を用いて解析するに当たり、より分解能の高い解析が可能となる撮像装置および撮像方法を提供することができる。以下、本発明の実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。本実施形態の撮像装置は、光として波長が10nm以下のX線を用い、タルボ干渉によるモアレの周期的パターンを窓フーリエ変換法により解析し、被検体の位相像又は微分位相像を得る。図1に本実施形態に用いられる撮像装置を示す。本実施形態の撮像装置は、空間的に可干渉なX線を放出するX線源110、X線を回折することで2次元の干渉パターンを形成する第1の格子130、X線を遮蔽する遮蔽部とX線が透過する透過部が2次元周期的に配列された第2の格子140を備えている。また、第2の格子を経たX線の強度分布を検出する検出器150、検出結果を解析する演算装置160を備えている。本実施形態の撮像装置は光源としてX線源110を備えている。X線源110から出射したX線は、被検体120を透過すると被検体の屈折率及び形状に応じて位相が変化する。図1では、被検体120をX線源110と第1の格子130の間に配置しているが、第1の格子130と第2の格子140の間に配置しても良い。第1の格子130は位相格子と呼ばれる透過型の回折格子で、二種類の透過特性を持った箇所が二次元の周期構造を持つように配置されている。そのため、第1の格子を透過したX線は一定の距離を隔てて明部と暗部が2次元周期的に配列された自己像を形成する。本実施形態に用いられる第1の格子を図2aに示す。但し、図2aは第1の格子の一部を拡大して示した図である。図2aは一方の領域301を透過したX線が、他方の領域302を透過したX線より位相が相対的にπずれることを特徴とした格子であるπ格子。図2bは図2aの位相格子を用いた時に形成される自己像である。自己像は暗部311と明部312が周期p1で井桁格子状に配置されており、この自己像は2次元に周期を持つ。但し、図2bに示した自己像はX線源と第1の格子の間に被検体が置かれていないときの自己像である。以下、特に断りのない限り、本明細書で自己像の形状について説明する際はX線源と第1の格子の間に被検体が置かれていないときの自己像を指す。また、本実施形態では図2aに示した第1の格子を用いて図2bに示した自己像を形成したが、本発明に用いられる第1の格子はこれに限定されず、第1の格子によって形成される自己像もこれに限定されない。X線を用いた位相イメージングを行う場合、第1の格子の周期は数ミクロンメートル程度になる。これは、タルボ干渉計の場合、第1の格子周期をd、入射光の波長をλ、としたとき、タルボ距離と呼ばれる基本距離zが、z=d2/2λ......1で与えられるためである。実際には第1の格子の形状や所望するコントラストによって1式に様々な係数がかかる。しかし、この1式を基準とすると第1の格子と自己像までの距離を装置の大きさと鑑みて数10センチメートル程度にするには、第1の格子の格子周期を数ミクロン程度のオーダーにする必要がある事がわかる。また、その結果自己像の周期も数ミクロンメートル程度になる。一般的に使用されているX線の検出器の分解能は高くても数10ミクロン程度であり、自己像の周期と差がある。そのためこのままでは自己像が撮像できないため本実施形態の撮像装置ではモアレを利用して自己像を強調している。本実施形態では、第2の格子140を用いてモアレを形成している。本実施形態における第2の格子を図3に示す。但し、図3は第2の格子の一部を拡大して示した図である。第2の格子140はX線を遮蔽する遮蔽部802とX線を透過する透過部801が周期p2で市松格子状に配置されており、第2の格子は2次元に周期を持つ。第2の格子140の周期p2は自己像の周期p1とは僅かに異なっており、周期の差異によって明暗のうねり、すなわちモアレが生じる。図2aに示した第1の格子と図3に示した第2の格子を用いて形成されるモアレを図4aに示す。モアレとフーリエ変換については後ほど説明をする。尚、図4aに示したモアレはX線源と第1の格子の間または第1の格子と第2の格子の間に被検体が置かれていないときのモアレである。以下、特に断りのない限り、本明細書でモアレ形状について説明する際はX線源と第1の格子の間または第1の格子と第2の格子の間に被検体が置かれていないときのモアレを指す。また、本実施形態では、遮蔽部と透過部が市松格子状に配列された第2の格子140を用いたが、本発明に用いられる第2の格子はこれに限定されない。また、遮蔽部は完全にX線を遮蔽しなくても良いし、透過部は完全にX線を透過しなくても良い。但し、遮蔽部と透過部は自己像に重ねることでモアレを形成することができる程度にX線を遮蔽あるいは透過する必要がある。検出器150はX線の強度を検出することができる撮像素子例えばCCDであり、第2の格子を経たX線の強度分布つまりモアレを検出する。検出器150が検出したX線の強度分布は演算部160によって解析される。本実施形態では、窓関数付フーリエ変換法窓フーリエ変換に基づいた手法を用いて被検体の位相像又は微分位相像を得る。窓フーリエ変換とは、モアレに局所的な値を持つ窓関数をかけながら逐次フーリエ変換を行って位相を決定する処理である。この処理はデータ量が多く、時間がかかるものの、窓関数を用いないフーリエ変換法より正確で精密な位相回復が可能である。ここで、フーリエ変換による位相回復方法についてその概念を簡単に説明する。図14はその概略を示す図である。フーリエ変換法ではモアレをフーリエ成分に分解し、特定の周波数領域に対して解析を行い画像復元する技術である。図14aは解析する前のモアレの一例である。画面201内に周期的なモアレ202が形成されている。このモアレの位置ずれが被検体によるX線の位相変化に関する情報を表している。このモアレ202を画面201全体でフーリエ変換すると図14bのようになる。ここでは、波数空間の原点を画面211の中心に置いている。波数空間上では原点に0次スペクトル212が現れ、その周りに1次スペクトルである213、214、215、216が現れる。原点周りのスペクトルの位置と数はフーリエ変換前のモアレの形状に依存する。このスペクトルのうち少なくとも一つを波面解析に利用する。一般的には1次スペクトル点のどれかを利用する。非特許文献1に従った方法では、この1次スペクトル点の一点とその周囲をカッティングし、これを別の波数空間221上の原点222に移動させる図14c。これを逆フーリエ変換することによって被検体の微分像232が実空間231上に取得できる図14d。この微分像232を積分することによって波面を回復する。上記の方法はフーリエ変換法の一例であって、本発明はこのような解析手法に限定されるものではなく、その他の手法も用いることができる。例えば、波数空間を更に詳しく解析するために複数のスペクトル点を利用しても良い。本実施形態において検出したモアレの強度分布から被検体の位相像または微分位相像を得る解析方法について簡単に説明をする。本実施形態におけるモアレ図4aを検出器150の検出面全体でフーリエ変換したものを概略的に表すと図4bの形となる。図4bには波数空間811の中央に0次スペクトル812が、その周りに1次スペクトル813、814、815、816が存在する。この1次スペクトルから図14で示したように少なくとも一つ以上の任意のスペクトルを解析すると被検体の微分位相像が得られる。また、これを積分すると被検体の位相像が得られる。図4cは図4aのモアレの軸A1と軸B1に沿ったX線の強度分布を示したもので、軸A1に沿った強度分布を実線、軸B1に沿った強度分布を破線で示した。軸B1は軸A1と平行である。図4cに示した通り、軸A1に沿った強度分布と、軸B1に沿った強度分布は形状や振幅は異なるものの、同じ周期を有している。軸B1以外でも同様に、図4aに示したモアレは軸A1と平行な全ての軸に沿った強度分布は、軸A1に沿った強度分布と、同じ周期を有する強度分布が得られる。つまり、図4aの軸A1と平行な方向を第1の方向とすると、図4aに示したモアレは第1の方向において、強度分布の周期がモアレ上検出器の検出面上の全ての領域で等しい。また、このモアレは2次元に周期を有しており、軸A1と垂直な軸C1に沿った強度分布も周期を有している。また、軸A1と同様に軸C1と平行な方向を第2の方向とすると、図4aに示したモアレは上記第1の方向と交差する第2の方向において、強度分布の周期がモアレ上の全ての領域で等しい。但し、本明細書におけるモアレ上の全ての領域とは、波数空間を用いた解析例えばフーリエ変換に用いない領域を含まない。フーリエ変換法では正しくX線の波面微分を計算するために微分方向に沿った断面のX線強度分布の周期が等しいことが必要であり、この強度分布の形状は正弦波の形を有していることがより望ましい。上述したように、図4aの軸A1と平行な方向を第1の方向とすると、図4aに示したモアレは第1の方向において、強度分布の周期がモアレ上の全ての領域で等しい。また、図4aの軸C1と平行な方向を第2の方向とすると、図4aに示したモアレは第2の方向においても強度分布の周期がモアレ上の全ての領域で等しい。そのため、第1の方向と第2の方向を微分方向とすると、モアレ上の全ての領域からフーリエ変換によってその周期のスペクトルが抽出できるため、従来と比べて被検体によるX線の位相変化が詳細に解析することが可能となる。尚、微分方向は1つでも良いため、第1の方向又は第2の方向のみを微分方向としても従来微分方向は1つと比べて被検体によるX線の位相変化を詳細に解析することができる。以下に、具体的な実施例及び比較例について説明する。以下の実施例及び比較例では、図13に示すようなシリコン上にパターニングされた厚さ40ミクロンメートルの円形のパターンを被検体として用いた場合に得られる微分位相像を算出し、各実施例と比較例を比較した。尚、図中ではパターンの高さをコントラストで表現している。まず、比較例について説明する。[比較例]図15を用いて本比較例について説明をする。本比較例の撮像装置は実施形態で説明した撮像装置と第2の格子が異なり、それ以外の構成は実施形態の撮像装置と同じである。本比較例の撮像装置は光源としては17.5keVの平行X線を出射するX線源、第1の格子としては図2aに示した位相格子π格子、第2の格子としては図15aに示した構造を有する格子を備え、その他に検出器と、演算部を備えている。図15aは、第2の格子の形状の一部を拡大した概略図である。本比較例の第2の格子は入射したX線が透過する透過部601と、入射したX線が遮蔽する遮蔽部602を有する。第2の格子は第1の格子とは僅かに違う周期を持っており、その差異によって図15bに示すようなモアレが生じる。図15bに示すモアレをフーリエ変換したものの模式図を図15cに示す。図4bと同様に波数空間611の中央に0次スペクトル612と、その周りに1次スペクトル613、614、615、616が存在する。この1次スペクトルから任意のスペクトルを解析し、被検体の微分位相像を算出する。図16は、この本比較例で得られた被検体の微分位相像である。この図では、図13の被検体をx軸横軸方向に微分した形状になる。全体的に形状を再現しているが、細かく見ると本来丸いはずの形状に階段状のノイズジャギーが存在し詳細な形状が再現できていない。これは第1の格子による自己像と第2の格子の組合せによるモアレの形状が波面の回復に適していないためである。図15dは図15aのモアレの軸A5と軸B5に沿ったX線の強度分布を示したもので、軸A5に沿った強度分布を実線、軸B5に沿った強度分布を破線で示した。軸B5は軸A5と平行である。上述したように、フーリエ変換法では微分方向に沿ったX線強度分布の周期が等しいことが必要である。図15dに示すように、軸A5に沿ったX線の強度分布は三角波の形状を有しておりフーリエ変換を用いた解析可能な周期を持っているが、軸B5に沿ったX線の強度分布は軸上において恒常的に0になっており、このB5の軸に関する波面の情報は得られないことになる。そのため、波面が詳細に解析できず図16のような全体的に階段状のジャギーが出現する。[実施例1]図4を用いて実施例1について説明をする。実施例1は実施形態で説明をした撮像装置と同じ構成であり、比較例とは第2の格子が異なる。つまり、本実施例の撮像装置の光源は17.5keVの平行X線を出射するX線源、第1の格子は図2aに示した位相格子、第2の格子は図3に示した構造を有する格子であり、その他に検出器と、演算部を備えている。上述した通り、第2の格子の周期p2は第1の格子の周期p1とは僅かに異なっており、その差異によって図4aに示したようなモアレが形成され、このモアレをフーリエ変換したものが図4b、モアレ上の軸A1、軸B1に沿ったX線の強度分布が図4cの実線と破線である。図4bの1次スペクトル813、814、815、816から任意のスペクトルを1つ選び、解析し、被検体の微分位相像を算出する。図5は本実施例で得られた微分位相像である。比較例と比べると、1次スペクトルの位置が斜め45度方向にあるため、微分位相像も図16と比べると斜め45度に傾いている。しかし、その違いを除くと図16の微分位相像に比べてエッジのジャギーが目立たず、詳細な形状再現できている。上述の通り、図4cは図4aのモアレの軸A1と軸B1に沿ったX線の強度分布を示したもので、軸A1に沿った強度分布と、軸B1に沿った強度分布は形状や振幅は異なるものの、同じ周期を有している。軸B1以外でも同様であり、図4aの軸A1と平行な方向を第1の方向とすると、図4aに示したモアレは第1の方向において、強度分布の周期がモアレ上の全ての領域で等しい。そのため、第1の方向を微分方向とすると、モアレ上の全ての領域からフーリエ変換によってその周期のスペクトルが抽出できるため波面を詳細に解析することができ、比較例と比べて詳細な形状を解析することが可能となる。[実施例2]実施例2として、半透過部を有する第2の格子を用いた撮像装置について図6を用いて説明する。実施例2の撮像装置は、第2の格子以外は実施例1と同様の構造を持つ。本実施例の第2の格子の構造を図6aに示す。図6aは第2の格子の形状の一部を拡大した模式図である。1001は入射したX線の透過部を表し、1002は遮蔽部を表す。更に、本実施例に用いられる第2の格子には入射したX線のうち50が透過するような半透過部1003が存在する。本実施例の半透過部をX線が透過すると、入射したX線の強度は半分になるが、遮蔽部よりもX線を透過させ、透過部よりもX線を遮蔽すれば良い。本実施例の第2の格子は、遮蔽部と、透過部と、半透過部が図6aに示すように夫々市松格子状に配列されており、遮蔽部と、透過部と、半透過部がいわゆるベイヤ配列に配置されている。実施例1と同様に第2の格子の周期は自己像の周期と僅かに異なり、その差異によって図6bに示すようなモアレが形成される。実施例1同様、このモアレをフーリエ変換したものが図6c、モアレ上の軸A2に沿ったX線の強度分布が図6dの実線、軸B2に沿ったX線の強度分布が図6dの破線である。図6bに示したモアレをフーリエ変換すると図6cの様なスペクトルが出現する。図4bと同様に、図6cも波数空間1011の中央に0次スペクトル1012、その周りに1次スペクトル1013、1014、1015、1016が存在する。図6cの1次スペクトル1013、1014、1015、1016から任意のスペクトルを1つ選び、解析し、被検体の微分位相像を算出する。図7は本実施例で得られた微分位相像である。比較例と同じ位置に1次スペクトルが現れており、図16の微分位相像に比べてエッジのジャギーが目立たず、詳細な形状再現できている。図6dは図6bのモアレの軸A2と軸B2に沿ったX線の強度分布を示したものである。図4aのモアレ同様、図6bのモアレも軸A2と平行な方向を第1の方向とすると、第1の方向において強度分布の周期がモアレ上の全ての領域で等しいため、実施例1同様、比較例と比べて詳細な形状を解析することが可能となる。また、図4aのモアレとは異なり、図6に示す軸B2のモアレは第1の方向において強度分布が振幅や形状も揃っており、モアレ上の全ての領域で同じパターンが同じ周期で繰り返されている。そのため、フーリエ変換によってその周期のスペクトルの抽出が容易にできる。[実施例3]実施例3では実施例1の撮像装置と異なる自己像を形成する撮像装置について図8と図9を用いて説明する。実施例3の撮像装置は、第1の格子と第2の格子以外は実施例1と同様の構造を持つ。本実施例に用いた第1の格子を図8aに示した。但し、図8aは第1の格子の一部を拡大した概略図である。図8aは一方の領域401を透過したx線が、他方の領域402を透過したx線より位相が相対的にπ/2ずれることを特徴とした格子であるπ/2格子。また、図8bは図8aの位相格子を用いた時に形成される自己像である。自己像は暗部411と明部412が周期市松格子チェッカーボード状に配置されており、この自己像は2次元に周期を持つ。本実施例に用いた第2の格子を図9aに示した。但し、図9aは第2の格子の一部を拡大した概略図である。本実施例に用いた第2の格子はX線を透過する透過部1201と、X線を遮蔽する遮蔽部1202が市松格子状に配置されている。第2の格子は第1の格子とは僅かに違う周期を持っており、その差異によって図9bに示したようなモアレが生じる。実施例1同様、このモアレをフーリエ変換したものが図9c、モアレ上の軸A3に沿ったX線の強度分布が図9dの実線、軸B3に沿ったX線の強度分布が図9dの破線である。図9bに示したモアレをフーリエ変換すると図9cの様なスペクトルが出現する。図4bと同様に、同様に、波数空間1203の中央に0次スペクトル1204とその周りに1次スペクトル1205、1206、1207、1208が存在する。図10は本実施例で得られた微分位相像である。比較例と比べると、1次スペクトルの位置が斜め45度方向にあるため、微分位相像も図16と比べると斜め45度に傾いている。しかし、その違いを除くと図16の微分位相像に比べてエッジのジャギーが目立たず、詳細な形状が再現できている。図9dは図9bのモアレの軸A3と軸B3に沿ったX線の強度分布を示したものである。図4aのモアレ同様、図9bのモアレも軸A3と平行な方向を第1の方向とすると、第1の方向において強度分布の周期がモアレ上の全ての領域で等しいため、実施例1同様、比較例と比べて詳細な形状を解析することが可能となる。[実施例4]実施例4では実施例3と同じ第1の格子を用いる撮像装置について図11を用いて説明をする。本実施例は実施例3と用いる第2の格子が異なり、その他の構成は同じである。図11aは第2の格子の一部を拡大した概略図である。本実施例に用いられる第2の格子はX線の透過部1401と遮蔽部1402が井桁格子状に配置されたものが自己像に対して45°回転したような形状を有している。第2の格子は第1の格子とは僅かに違う周期を持っており、その差異によって図11bに示したようなモアレが生じる。実施例1同様、このモアレをフーリエ変換したものが図11c、モアレ上の軸A4に沿ったX線の強度分布が図11dの実線、軸B4に沿ったX線の強度分布が図11dの破線である。図11bに示したモアレをフーリエ変換すると図11cの様なスペクトルが出現する。図4bと同様に、図11cも波数空間に波数空間1411の中央に0次スペクトル1412とその周りに1次スペクトル1413、1414、1415、1416が存在する。図10は本実施例で得られた微分位相像である。比較例と比べると、1次スペクトルの位置が斜め45度方向にあるため、微分位相像も図16と比べると斜め45度に傾いている。しかし、その違いを除くと図16の微分位相像に比べてエッジのジャギーが低減しており、滑らかな曲面が表現されている。図11dは図11bのモアレの軸A4と軸B4に沿ったX線の強度分布を示したものである。図4aのモアレ同様、図11bのモアレも軸A4と平行な方向を第1の方向とすると、第1の方向において強度分布の周期がモアレ上の全ての領域で等しいため、実施例1同様、比較例と比べて詳細な形状を解析することが可能となる。また、強度分布の周期の形状が実施例の中で最もサインカーブに近い。これはフーリエ変換した際にノイズとなる高次のスペクトルが出現しにくいことを示しており、この点においてこの実施例4は波面解析においては実施例1~3よりも適している。