"検体に含まれる蛍光物質が表面プラズモン共鳴に基づく電場により励起されて発した蛍光を測定する表面プラズモン共鳴蛍光分析装置であって、所定の面の面上に金属膜が形成されたプリズムを有するプリズム部と、前記金属膜により反射されるように前記プリズムの内部に光線を前記所定の面と異なる面から入射させる光源と、前記金属薄膜により前記光線が反射されることによって当該金属膜における前記プリズムと反対の面側で生じる光の強度を測定可能な光測定部と、前記光測定部により測定された光の強度に基づいて前記光源における光線の射出方向を調整する制御部と、を備えることを特徴とする表面プラズモン共鳴蛍光分析装置。前記光測定部は、前記金属膜において生じたプラズモン散乱光の強度を測定することを特徴とする請求項1に記載の表面プラズモン共鳴蛍光分析装置。前記光測定部は、前記金属膜において生じた光を受光する受光部と、入射した光を減衰させて出射する第1の光フィルタと、前記金属膜と前記受光部との間である中間位置とこの中間位置よりも前記金属膜及び前記受光部から離れた待避位置との間で前記第1の光フィルタの位置を切り換える位置切換部と、を有することを特徴とする請求項2に記載の表面プラズモン共鳴蛍光分析装置。前記光測定部は、所定の波長の光を遮る第2の光フィルタを有し、前記位置切換部は、前記第1の光フィルタが前記中間位置のときに前記第2の光フィルタが前記待避位置となり、前記第1の光フィルタが前記待避位置のときに前記第2の光フィルタが前記中間位置となるように、前記第1の光フィルタ及び前記第2の光フィルタの位置をそれぞれ切り換え可能であることを特徴とする請求項3に記載の表面プラズモン共鳴蛍光分析装置。前記金属膜における前記プリズムと反対側の面には、前記検体に含まれる特定の抗原を捕捉可能な捕捉体が固定され、前記光測定部は、前記捕捉体に捕捉された特定の抗原に基づく前記蛍光物質の蛍光の強度を測定することを特徴とする請求項1又は2に記載の表面プラズモン共鳴蛍光分析装置。前記光測定部は、前記金属膜で生じた光を受光する受光部と、所定の波長の光を遮る光フィルタと、を有し、前記光フィルタは、前記金属膜と前記受光部との間である中間位置に配置されることを特徴とする請求項5に記載の表面プラズモン共鳴蛍光分析装置。検体に含まれる蛍光物質が表面プラズモン共鳴に基づく電場により励起されて発した蛍光を測定する表面プラズモン共鳴蛍光分析装置であって、所定の面の面上に金属膜が形成されたプリズムを有するプリズム部を着脱可能に保持する保持部と、前記保持部に前記プリズム部が保持されたときに前記プリズムに向けて光線を射出可能な光源と、前記保持部に前記プリズム部が保持されたときにこのプリズム部の前記金属膜により光線が反射されることによって当該金属膜における前記プリズムと反対の面側で生じる光の強度を測定可能な光測定部と、前記光測定部により測定された光の強度に基づいて前記光源における光線の射出方向を調整する制御部と、を備え、前記保持部は、前記光源から射出された光線が前記プリズムの内部に入射してこの入射した光線が前記金属膜により反射される姿勢となるように前記プリズム部を保持することを特徴とする表面プラズモン共鳴蛍光分析装置。検体に含まれる蛍光物質が表面プラズモン共鳴に基づく電場により励起されて発した蛍光を測定する表面プラズモン共鳴蛍光分析方法であって、所定の面の面上に金属膜が形成されたプリズムに対し、前記金属膜によって反射されるように前記所定の面と異なる面から当該プリズムの内部に光線を入射させ、この光線が前記金属膜により反射された状態で当該金属膜への入射角を変えながら光線を射出する光射出工程と、前記金属膜により光線が反射されることによって当該金属膜における前記プリズムと反対の面側において生じる光を測定する光測定工程と、前記光測定工程において測定された光の強度変化に基づいて前記光線が前記金属薄膜に入射する角度を決定する射出方向決定工程と、前記射出方向決定工程において決定された入射角で光線が前記金属膜に入射するように当該光線を射出する射出工程と、前記金属膜の前記プリズムと反対側の面に接するように前記検体を流し、前記射出工程における光線の射出に基づく前記金属膜のプリズムと反対の面側において生じた蛍光を測定する検査工程と、を備えることを特徴とする表面プラズモン共鳴蛍光分析方法。前記光測定工程は、前記金属膜において生じたプラズモン散乱光の強度を測定することを特徴とする請求項8に記載の表面プラズモン共鳴蛍光分析方法。前記金属膜は、前記検体に含まれる特定の抗原を捕捉可能な捕捉体を前記プリズムと反対側の面に固定され、前記光測定工程は、前記補足体に捕捉された特定の抗原に基づく前記蛍光物質の蛍光の強度を測定することを特徴とする請求項8に記載の表面プラズモン共鳴蛍光分析方法。以下、本発明の第1実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。本実施形態に係る表面プラズモン共鳴蛍光分析装置以下、単に蛍光分析装置とも称する。は、図1及び図2に示すように、分析素子チッププリズム部20と、分析素子チップ20に向けて光線を射出する光源40と、分析素子チップ20において生じた光を測定する光測定部50と、分析素子チップ20を着脱可能に保持する保持部12とを備える。また、蛍光分析装置10は、患者からの血液等の検体の前処理を行う前処理部図示省略と、光測定部50により測定した光を分析するための演算部14と、演算部14における演算結果等の各種情報を表示するための表示部16とを備える。分析素子チップ20は、プリズム21と、プリズム21の表面に成膜される金属膜25と、金属膜25上を当該金属膜25に接しつつ検体や試薬、洗浄液等の試料溶液以下、単に検体とも称する。が流れる流路31を形成する流路部材30とを備える。プリズム21は、光源40からの光線αをプリズム21の内部に入射させる入射面22と、このプリズム21の内部に入射した光線αを反射する金属膜25が成膜される成膜面所定の面23と、金属膜25で反射された光線αがプリズム21の外部に射出される射出面24とをその表面に含み、透明なガラス又は樹脂により形成されている。本実施形態のプリズム21は、屈折率が1.40~1.75程度の透明なガラス又は樹脂により形成されている。尚、プリズムは、側面視が本実施形態のように三角プリズムの頂角部分を切り取ったような形状でもよく、また、側面視が三角形状であってもよい図1の点線部参照。即ち、プリズムは、入射面と成膜面と射出面とをその表面に含み、入射面からプリズムの内部に入射した光線αが成膜面上の金属膜により全反射され、この光線αを内部で乱反射させずに射出面から外部に射出するような形状であればよい。金属膜25は、プリズム21の成膜面23上に成膜形成された金属製の薄膜である。本実施形態の金属膜25は、金により形成されている。この金属膜25は、光線αを全反射することにより生じるエバネッセント波を増幅するための部材である。即ち、成膜面23上に金属膜25を設けて表面プラズモン共鳴を生じさせることにより、金属膜25のない面成膜面23により光線αを全反射させてエバネッセント波を生じさせた場合に比べ、形成される電場を増強させることができる。本実施形態における電場の増強度電場増強度は、金属膜25がない場合に比べて10倍程度となる図3参照。金属膜25は、膜厚が30~70nmとなるようにスパッタ法や蒸着法、メッキ法等の各種成膜方法により形成されている。尚、金属膜25の素材は、金に限定されず、表面プラズモンを発生させる金属であればよく、例えば、銀、銅、アルミ等合金を含むであってもよい。また、金属膜25の表面プリズムと反対側の面25aには、特定の抗原を捕捉するための捕捉体26が固定されている。この捕捉体26は、表面処理によって金属膜25の表面25aに固定される。流路部材30は、プリズム21の成膜面23上に設けられ、検体が流れる流路31を有する。この流路部材30は、透明な樹脂により形成される。本実施形態の流路部材30は、水平方向に拡がる板状の部材である。流路31は、抗原抗体反応が行われる検出部32と、分析素子チップ20の外部から検出部32へ検体を案内し、又は検出部32から分析素子チップ20の外部へ検体を案内する案内部33とから成る。検出部32は、流路部材30の裏面図1において下側の面30bに設けられた溝とプリズム21上の金属膜25とにより囲まれている。即ち、この検出部32では、検体が金属膜25の表面捕捉体26が固定されている面25aと接しつつ流れる。各案内部33は、一方の端部が流路部材30の表面図1において上側の面30aにおいて開口し、他方の端部前記一方の端部と反対側の端部が検出部32に接続されている。このように案内部33と検出部32と案内部33とが順に繋がることによって一本の流路31が形成される。この流路部材30は、プリズム21と接着剤により接着接合されている。本実施形態では、検出部32を水平方向から囲み且つ流路部材30とプリズム21との間となる位置に、弾性体からなるシール部材35が設けられている。これにより、流路部材30とプリズム21との接合部位からの検体の漏れが防止される。尚、流路部材30とプリズム21との接合は、接着に限定されず、レーザ溶着や超音波溶着、クランプ部材を用いた圧着等であってもよい。また、流路部材30とプリズム21とが液密に接合されていれば、前記検出部32を囲むシール部材35はなくてもよい。光源40は、分析素子チップ20、詳しくは、プリズム21の入射面22に向けて光線αを射出する光源装置である。この光源40は、半導体レーザやLED等の発光素子41と、発光素子41による光線αの射出方向を変更する角度変更部42と、発光素子41からの光線αを偏光する偏光板図示省略とを有する。角度変更部42は、発光素子41から射出された光線αが入射面22からプリズム21の内部に入射して金属膜25で全反射している状態詳細には、金属膜25の裏面表面25aと反対の側の面側から当該金属膜25を通過してその表面25aで全反射している状態で、この光線αの金属膜25詳細には、金属膜25の表面25aに対する入射角θを変更するように発光素子41による光線αの射出方向を変更させる。詳しくは、角度変更部42は、金属膜25における光線αの反射される位置を変えることなく金属膜25への光線αの入射角θを変更するように、発光素子41の射出方向を変更可能に構成される。本実施形態の角度変更部42は、光測定手段50の制御部58と接続され、この制御部58からの指示信号に従って発光素子41による光線αの射出方向を変更する。偏光板は、プリズム21の成膜面23上に設けられた金属膜25に対してP偏光となるように発光素子41から射出される光線αを偏光する。尚、発光素子41として半導体レーザが用いられる場合、半導体レーザ自身の偏光面が金属膜25に対するP偏光の偏光面と一致するように半導体レーザが配置されれば、偏光板は設けなくてもよい。光測定部50は、金属膜25の表面25a側に生じた光を受光する受光部51と、第1の光フィルタ54と、第2の光フィルタ55と、これら第1の光フィルタ54と第2の光フィルタ55との位置をそれぞれ切り換える位置切換装置位置切換部56と、当該光測定部50の各構成要素や光源40の角度変更部42等の制御を行う制御部58とを備える。受光部51は、光を検出する受光素子52と、レンズ等により構成され、金属膜25の表面25a側で生じた光を受光素子52まで導光する光学系53とを有する。本実施形態では、微弱な光検体中の抗原に標識した蛍光物質を励起させることにより生じた蛍光を検出するため、受光素子52として光電子倍増管いわゆるフォトマル:PhotomultiplierTubeが用いられている。第1の光フィルタ54は、入射した光を減衰させて出射する光フィルタである。本実施形態の第1の光フィルタ54は、減光フィルタNDフィルタである。この第1の光フィルタ54が分析素子チップ20の金属膜25において生じたプラズモン散乱光を減光することにより、微弱な光を検出するための受光素子本実施形態ではフォトマル52によるプラズモン散乱光の測定が可能となる。第2の光フィルタ55は、所定の波長の光を遮るための光フィルタである。本実施形態の第2の光フィルタ55は、ロングパスフィルタである。尚、第2の光フィルタ55は、ロングパスフィルタに限定されず、バンドパスフィルタ等でもよい。この第2の光フィルタ55は、受光部51に蛍光検体中の抗原に標識した蛍光物質を励起させることにより生じた光以外の波長の光例えば、光源40からの光漏れ光やプラズモン散乱光等が入射することを防ぐ。即ち、第2の光フィルタ55は、受光部51に入射する光からノイズ成分を除去し、これにより受光部51における微弱な蛍光の検出精度及び検出感度の向上を図っている。位置切換装置56は、第1の光フィルタ54及び第2の光フィルタ55の位置を中間位置と待避位置との間で切り換える装置である。尚、中間位置は、金属膜25と受光部51との間の位置である。詳しくは、中間位置は、分析素子チップ20と受光部51との間の位置である図1における第1の光フィルタ54の位置。また、待避位置は、中間位置よりも金属膜25及び受光部51から離れた位置図1における第2の光フィルタ55の位置である。詳しくは、待避位置は、金属膜25の表面25a側で生じた光が受光部51に直接入射できるような位置である。具体的に、位置切換装置56は、第1の光フィルタ54が中間位置のときに第2の光フィルタ55が待避位置となり図1参照、第1の光フィルタ54が待避位置のときに第2の光フィルタ55が中間位置となる図2参照ように、第1の光フィルタ54及び第2の光フィルタ55の位置をそれぞれ切り換える。この位置切換装置56は、制御部58と接続され、この制御部58からの指示信号に基づいて第1の光フィルタ54及び第2の光フィルタ55の位置の切り換えを行う。制御部58は、光源40や光測定部50の各構成要素等の制御を行う。具体的に、制御部58は、受光部51により測定された光の強度に基づいて光源40による光線αの射出方向を調整する。本実施形態の制御部58は、分析素子チップ20の金属膜25の表面25a側で生じたプラズモン散乱光の強度に基づいて光源40の光線αの射出方向を調整する。詳しくは、制御部58は、保持部12に分析素子チップ20が保持されたときに、光源40の発光素子41及び角度変更部42を制御して、光線αが金属膜25の裏面側プリズム21側から金属膜25への入射角θを変えつつ金属膜25に入射するように光源40から光線αを射出させる。このとき、受光部51が金属膜25の表面25a側において生じたプラズモン散乱光の強度を検出し、この強度変化に基づいて制御部58が角度変更部42を制御して光源40による光線αの射出方向を調整する。詳しくは、入射角θを変えながら光線αが金属膜25に入射すると、受光部51が検出するプラズモン散乱光の強度は、図3に示すように変化する。制御部58は、この強度変化がピーク最大値となったときの入射角θ5で光線αが金属膜25に入射したときの光源40による光線αの射出方向を求める。そして、制御部58は、発光素子41の向きを調整して光源40がこの射出方向に光線αを射出できるように角度変更部42に指示信号を出力する。また、制御部58は、位置切換装置56に対して、第1の光フィルタ54及び第2の光フィルタ55の位置の切り換え指示を行う。具体的に、制御部58は、前記のプラズモン散乱光を用いた光源40による光線αの射出方向の調整を行うときには、第1の光フィルタ54が中間位置となり、第2の光フィルタ55が退避位置となるように位置切換装置56に指示信号を出力する。一方、制御部58は、蛍光分析装置10において検体の検査を行うときには、第1の光フィルタ54が退避位置となり、第2の光フィルタ55が中間位置となるように位置切換装置56に指示信号を出力する。保持部12は、検体の検査のときに分析素子チップ20を保持する部位である。具体的に、この保持部12は、分析素子チップ20が光源40に対して所定の姿勢となるように分析素子チップ20を着脱可能に保持する。前記所定の姿勢とは、光源40から射出された光線αが入射面22からプリズム21の内部に入射してこのプリズム21の内部に入射した光線αが金属膜25により全反射される姿勢である。前処理部は、試薬チップ60図4参照を受け入れ、この試薬チップ60に注入されている検査対象となる血液等の前処理血球分離や希釈、混合等を行い、処理後の検体を分析素子チップ20に注入する部位である。試薬チップ60には複数の収納部61が設けられ、各収納部61には血液等の他に、試薬、希釈液、洗浄液等が個別に封入されている。演算部14は、検体の検査時において、光測定部50受光部51から送られてきた出力信号を演算してこの光測定部50により測定された蛍光に関する分析を行うための部位である。具体的に、例えば、演算部14は、光測定部50により検出した単位面積あたりの蛍光の数のカウントや時間の経過に伴う蛍光の増加量の算出等を行う。演算部14での演算結果は、この演算部14に接続される表示部16に出力される。表示部16は、演算部14からの出力信号に基づき、演算結果を表示するものである。表示部16は、モニター等のように結果を画面に表示するものでもよく、プリンター等のように結果をプリントアウトするものでもよい。また、表示部16は、これらを組み合わせたものでもよい。このように構成される蛍光分析装置10では、以下のようにして検体の検査が行われる。患者から血液等の検体が採取され、この採取された検体が試薬チップ60に注入される。この検体が注入された試薬チップ60が蛍光分析装置10の前処理部にセットされる。前処理部は、このセットされた試薬チップ60の検体の前処理血球分離や希釈、混合等を行う。次に、蛍光分析装置10は、検体を検査するときの金属膜25への光線αの入射角である測定角を決定する。具体的に、制御部58は、指示信号を位置切換装置56に出力することによって第1の光フィルタ54が中間位置となり第2の光フィルタ55が退避位置となるように第1の光フィルタ54及び第2の光フィルタ55の位置をそれぞれ切り換える図1参照。そして、蛍光分析装置10において前記の処理後の検体が分析素子チップ20に注入された後、制御部58は、光源40に光線αを射出させつつ角度変更部42によってプリズム21の金属膜25に入射する光線αの入射角θを変更する。このとき、光線αがプリズム21内に入射し、この光線αが金属膜25の裏面側から金属膜25を通過してその表面25aにおいて全反射することにより、エバネッセント波が金属膜25の表面25a側に染み出し、これにより、プラズモン散乱光が発生する。光測定部50詳しくは、受光素子フォトマル52は、このプラズモン散乱光の強度を測定する。このとき、第1の光フィルタ54が中間位置に配置されているため、金属膜25の表面25a側で生じたプラズモン散乱光は、第1の光フィルタ54を通過することにより減光された状態で受光素子52に到達する。そのため、強い光詳しくは、検体を検査する際に測定する蛍光に比べて強い光が入ることによる受光素子52の故障が防がれる。制御部58は、光測定部50により測定されたプラズモン散乱光における角度依存データ金属膜25への光線αの入射角θと光強度との関係を表すデータ:図3参照に基づき、プラズモン散乱光の強度が最大となる入射角θ5を求める。このプラズモン散乱光の強度が最大のときの金属膜25への光線αの入射角θ5が分れば、制御部58は、電場増強度が最大となる金属膜25への光線αの入射角θを精度よく導出することができる。これは、金属膜25において、表面プラズモン共鳴に起因する金属膜25の表面25a近傍に形成される電場の大きさ電場増強度が最大となるときにプラズモン散乱光の強度が最大となることに基づく。制御部58は、角度変更部42を制御して、光線αが金属膜25に入射する入射角が、プラズモン散乱光の強度が最大のときの入射角θ5即ち、電場増強度が最大となる入射角θ5となるように、光源40から射出される光線αの方向を調整する。次に、制御部58は、各光フィルタ54,55の位置の切り換えを行う。即ち、制御部58の指示信号により、位置切換装置56が、第1の光フィルタ54が退避位置となり第2の光フィルタ55が中間位置となるように第1の光フィルタ54及び第2の光フィルタ55の位置をそれぞれ切り換える図2参照。このように検体の検査を行うときの光線αの射出方向が定まり、第1の光フィルタ54及び第2の光フィルタ55の位置が切り換えられると、蛍光分析装置10は、流路31の検出部32において抗原抗体反応等を行わせる。このとき、蛍光分析装置10は、方向が調整された光源40に光線αを射出させる。この光線αが金属膜25において表面プラズモン共鳴を発生させ、この表面プラズモン共鳴により発生したエバネッセント波による増強電場が流路31の検出部32内に生じる。流路31の検出部32では、当該流路31を流れる検体中の特定の抗原を金属膜25の表面25aに固定された捕捉体26が捕捉する。そして、流路31に蛍光物質を標識された抗体が流されることにより、捕捉体26に捕捉された抗原に蛍光物質が標識される。このとき、検出部32の金属膜25の表面25a近傍には増強電場が形成されているため、この電場によって抗原に標識された蛍光物質が励起されて光る。この蛍光が第2の光フィルタ55を透過することによりノイズ成分が除去されて受光部51に到達し、受光部51の受光素子52が前記ノイズ成分の除去された蛍光を検出する。受光部51は、この検出結果を出力信号として制御部58を介して演算部14に出力する。演算部14は、この出力信号を受信し、この出力信号を演算処理することにより、抗原の定量分析を行う。尚、光測定部50が前記蛍光を測定する際に、制御部58が検体を流路31に流しつつ光源40から光線αを射出させ続け、光測定部50が時間の経過に伴う蛍光点の数の変化や、検体を流す前後での蛍光点の数の変化を測定してもよい。また、制御部58が、流路31に検体を流し終えた後、洗浄剤により流路31内を洗浄し、その後に光源40に光を照射させ、光測定部50が捕捉体26に捉えられた抗原に標識された蛍光物質からの蛍光を検出してもよい。そして、演算部14が演算結果を表示部16に送り、当該表示手段16が演算結果を表示する。このように、プラズモン散乱光に基づいて検体の検査のときの金属膜25への光線αの入射角である測定角θ5を決定する蛍光分析装置10は、金属膜25の表面25a近傍に形成される増強電場の強度が最大となる増強電場最大角θ5を精度よく得ることができる。そのため、蛍光分析装置10は、検体の検査の際に、金属膜25の表面25a近傍の増強電場の強度を最大にすることができる。これにより、蛍光分析装置10は、検体中に含まれる蛍光物質を効果的に発光させることができ、その結果、検体を高感度且つ高精度に検出することができる。しかも、蛍光分析装置10における種々のパラメータが変更されても、蛍光分析装置10は、金属膜25の表面25a近傍の電場強度を最大とする金属膜25への光線αの入射角θ5を精度よく得ることができ、これにより、検査毎の結果のバラつきを抑制することができる。また、蛍光分析装置10において、従来の表面プラズモン共鳴蛍光分析装置のように、分析素子チップの金属膜25により反射された後の光線αを測定する必要がない即ち、プラズモン共鳴角を求める必要がない。このため、蛍光分析装置10には、金属膜25に反射された光線αを測定する光学系を設ける必要がなく、装置の小型化及び省コスト化を図ることができる。次に、本発明の第2実施形態について図5を参照しつつ説明するが、上記第1実施形態と同様の構成には同一符号を用いると共に詳細な説明を省略し、異なる構成についてのみ詳細に説明する。本実施形態に係る蛍光分析装置10Aは、分析素子チッププリズム部20と、光源40と、光測定部50Aと、保持部12と、前処理部図示省略と、演算部14と、表示部16とを備える。光測定部50Aは、受光部51と、光フィルタ55と、制御部58Aとを備える。光フィルタ55は、所定の波長の光を遮るための光フィルタであり、中間位置に配置されている。本実施形態の光フィルタ55は、ロングパスフィルタである。制御部58Aは、光源40や光測定部50Aの各構成要素等の制御を行う。本実施形態の制御部58Aは、保持部12に分析素子チップ20が保持されこの分析素子チップ20に検体が注入されている状態のときに、光源40の発光素子41及び角度変更部42を制御して、光線αが金属膜25に対する入射角θを変えながら金属膜25に入射するように光線αを射出させる。このとき、受光部51が金属膜25の表面25a側において生じた蛍光を検出し、この強度変化に基づいて制御部58Aが角度変更部42を制御して光源40による光線αの射出方向を調整する。尚、蛍光は、分析素子チップ20に検体が流されることにより検体中の抗原が金属膜表面25aの抗体に捕捉され、この捕捉された抗原に標識された蛍光物質が金属膜25に生じた表面プラズモン共鳴により形成された増強電場によって励起されて生じる。詳しくは、検体が流路31に流され、光線αが金属膜25に対する入射角θを変えながら金属膜25に入射すると、受光部51において検出される蛍光の強度は、図3におけるプラズモン散乱光の強度変化と同様に、入射角θの変化に伴って増減する。制御部58Aは、金属膜25への光線αの入射角が、前記強度変化がピーク最大値となったときの入射角θ5となるように光源40による光線αの射出方向を求める。そして、制御部58Aは、発光素子41の向きを調整して光源40が前記求めた射出方向に光線αを射出できるように角度変更部42に指示信号を出力する。このように構成される蛍光分析装置10Aでは、以下のようにして検体の検査が行われる。検体が注入された試薬チップ60が蛍光分析装置10Aの前処理部にセットされ、検体の前処理血球分離や希釈、混合等が行われる。蛍光分析装置10Aは、処理後の検体を分析素子チップ20に注入し、流路31の検出部32において抗原抗体反応等を行わせる。このとき、蛍光分析装置10は、分析素子チップ20への検体の注入と共に、測定角、即ち、検体の検査のときの光源40による光線αの射出方向を決定する。具体的に、制御部58Aは、光源40に光線αを射出させつつ角度変更部42によってプリズム21の成膜面23上に設けられた金属膜25に入射する光線αの入射角θを変更する。このとき、光線αが金属膜25詳しくは、金属膜25の表面25aにより全反射されているため、金属膜25の表面25a近傍にはエバネッセント波による電場が形成されている。一方、流路31の検出部32では、金属膜25に固定された捕捉体26が、抗原抗体反応等により抗原を捕捉する。そして、蛍光物質がこの捕捉された抗原に標識されると、金属膜25の表面25a近傍に形成されている電場によって蛍光物質が励起されて光る。光測定部50詳しくは、受光素子52は、この蛍光の強度を測定する。このとき、光フィルタ55によりノイズ成分が除去された蛍光が光測定部50の受光部51に入射するため、この微弱な蛍光が高感度且つ高精度に測定される。制御部58Aは、光測定部50により測定された蛍光における角度依存データ金属膜25への光線αの入射角θと光強度との関係を表すデータに基づき、蛍光の強度が最大となる金属膜25への光線αの入射角θ5を求める。制御部58Aは、この蛍光の強度が最大のときの金属膜25への光線αの入射角θ5が分れば、電場増強度が最大となる金属膜25への光線αの入射角θを精度よく導出することができる。これは、電場の強さに基づいてこの電場に励起された蛍光物質が発する蛍光の強度が変化するからである。制御部58Aは、角度変更部42を制御して、光線αが金属膜25に入射する入射角が、蛍光の強度が最大となる入射角、即ち、電場増強度が最大となる入射角θ5となるように、光源40から射出される光線αの方向を調整する。このように光源40による光線αの射出方向が調整された後も、検体の分析素子チップ20への注入は続けられ、分析素子チップ20の検出部32で生じる蛍光の測定も続けられる。具体的に、受光部51は、検出部32において生じた蛍光の検出を行い、この検出結果を出力信号として制御部58Aを介して演算部14に出力する。演算部14は、この出力信号を受信し、これを演算処理することにより、抗原の定量分析を行う。そして、演算部14は、演算結果を表示部16に送り、当該表示部16はこの演算結果を表示する。このように、蛍光に基づいて測定角θ5を決定する蛍光分析装置10Aも、金属膜25の表面25a近傍に形成される増強電場の強度が最大となる増強電場最大角θ5を精度よく得られる。そのため、蛍光分析装置10Aは、検体の検査の際に、金属膜25の表面25a近傍の増強電場の強度を最大にすることができ、これにより検体中に含まれる蛍光物質を効果的に発光させることができる結果、検体を高感度且つ高精度に検査することができる。しかも、当該蛍光分析装置10Aにおける種々のパラメータが変更されても、蛍光分析装置10Aは、金属膜25の表面25a近傍の電場強度を最大とする金属膜25への光線αの入射角θ5を精度よく得ることができ。その結果、蛍光分析装置10Aは、検査毎の結果のバラつきを抑制することができる。さらに、蛍光分析装置10Aは、第1実施形態の蛍光分析装置10のように、測定角θ5を決定するためにプラズモン散乱光を測定する必要がないため、第1の光フィルタ54や第1の光フィルタ54及び第2の光フィルタ55の位置切換装置56図1参照等を設けなくてもよい。これにより、蛍光分析装置10Aは、装置のより小型化及び省コスト化を図ることができる。尚、本発明の表面プラズモン共鳴蛍光分析装置及び表面プラズモン共鳴蛍光分析方法は、上記第1及び第2実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記第1及び第2実施形態において蛍光分析装置10,10Aの構成に分析素子チップ20が含まれるが、蛍光分析装置の構成に分析素子チップが含まれなくてもよい。即ち、蛍光分析装置は、他の分析装置に用いられる分析素子チップを使用して検査を行うように構成されてもよい。第1実施形態の蛍光分析装置10は、プラズモン散乱光と蛍光とを共通の受光素子フォトマル52を用いて測定するために、第1の光フィルタ54と、この光フィルタの位置の切り換えを行う位置切換装置56とを備えているが、これに限定されない。即ち、蛍光分析装置は、第1の光フィルタ54を用いず、強い光プラズモン散乱光を受光するための受光素子例えば、CCDと微弱な光蛍光を受光するための受光素子例えば、フォトマルとを備え、測定する光によってこれらの受光素子の位置を切り換えるように構成されてもよい。[実施の形態の概要]以上の実施形態をまとめると、以下の通りである。本実施形態に係る表面プラズモン共鳴蛍光分析装置は、検体に含まれる蛍光物質が表面プラズモン共鳴に基づく電場により励起されて発した蛍光を測定する表面プラズモン共鳴蛍光分析装置であって、所定の面の面上に金属膜が形成されたプリズムを有するプリズム部と、前記金属膜により反射されるように前記プリズムの内部に光線を前記所定の面と異なる面から入射させる光源と、前記金属薄膜により前記光線が反射されることによって当該金属膜における前記プリズムと反対の面側で生じる光の強度を測定可能な光測定部と、前記光測定部により測定された光の強度に基づいて前記光源における光線の射出方向を調整する制御部と、を備える。かかる構成によれば、表面プラズモン共鳴によって金属膜の表面プリズムと反対側の面近傍に形成される電場の強度が最大となる金属膜への光線の入射角即ち、光源における光線の射出方向が精度よく得られる。そのため、検体の検査のときに、金属膜の表面近傍の電場強度を最大にすることができ、これにより検体中に含まれる蛍光物質を効果的に発光させることができる結果、高感度且つ高精度の検体の検査が可能となる。しかも、当該蛍光分析装置における種々のパラメータが変更されても、蛍光分析装置は、金属膜の表面近傍の電場強度を最大とする金属膜への光線の入射角を精度よく得ることができ、その結果、検査毎の結果のバラつきを抑制することができる。さらに、蛍光分析装置は、従来の蛍光分析装置のように、プリズム部の所定の面で反射された後の光線を測定する必要がない。このため、蛍光分析装置に前記反射された光線を測定する光学系を設ける必要がなく、蛍光分析装置の小型化及び省コスト化を図ることができる。上記の表面プラズモン共鳴蛍光分析装置において、前記光測定部は、前記金属膜において生じたプラズモン散乱光の強度を測定してもよく、また、前記金属膜における前記プリズムと反対側の面には、前記検体に含まれる特定の抗原を捕捉可能な捕捉体が固定され、前記光測定部は、前記捕捉体に捕捉された特定の抗原に基づく前記蛍光物質の蛍光の強度を測定してもよい。このように検体の検査前の金属膜において生じるプラズモン散乱光が用いられても、また、検体の検査中の金属膜の表面近傍において生じる光が用いられても、表面プラズモン共鳴によって金属膜の表面近傍に形成される電場の強度が最大となる金属膜への光線の入射角が精度よく得られる。尚、金属膜の表面近傍において生じる光は、金属膜の表面の捕捉体が捕捉した検体中の特定の抗原に標識された蛍光物質が励起することにより生じる蛍光である。検体の検査のときの金属膜への光線の入射角即ち、測定角を決定するためにプラズモン散乱光が用いられる場合、前記光測定部は、前記金属膜において生じた光を受光する受光部と、入射した光を減衰させて出射する第1の光フィルタと、前記金属膜と前記受光部との間である中間位置とこの中間位置よりも前記金属膜及び前記受光部から離れた待避位置との間で前記第1の光フィルタの位置を切り換える位置切換部と、を有することが好ましい。かかる構成によれば、金属膜の表面近傍の電場強度を最大にする金属膜への光線の入射角を求めるためのプラズモン散乱光の測定と、検体に含まれる蛍光物質の蛍光の測定とを共通の受光部により測定することが可能となる。具体的には、プラズモン散乱光は、抗原に標識された蛍光物質を発光させたときの光量に比べて光量の非常に大きな光である。そのため、プラズモン散乱光の測定の際にこの光が第1のフィルタを通って減光されることにより、蛍光を受光するための受光部がプラズモン散乱光を測定可能となる。また、前記光測定部は、所定の波長の光を遮る第2の光フィルタを有し、前記位置切換部は、前記第1の光フィルタが前記中間位置のときに前記第2の光フィルタが前記待避位置となり、前記第1の光フィルタが前記待避位置のときに前記第2の光フィルタが前記中間位置となるように、前記第1の光フィルタ及び前記第2の光フィルタの位置をそれぞれ切り換え可能であることが好ましい。かかる構成によれば、プラズモン散乱光の測定と検体に含まれる蛍光物質の蛍光の測定とが共通の受光部により測定できると共に、微弱な光である蛍光の測定がより高感度且つ高精度に行われる。即ち、プラズモン散乱光の測定の際には、中間位置に第1のフィルタが移動することによりプラズモン散乱光が減光されて受光部に到達し、蛍光の測定の際には、中間位置に第2のフィルタが移動することにより受光部への蛍光以外の波長の光ノイズ成分が遮られ、これにより蛍光の測定感度及び精度が向上する。一方、測定角を決定するのに検体に含まれる蛍光物質を励起させた光蛍光が用いられる場合、前記光測定部は、前記金属膜で生じた光を受光する受光部と、所定の波長の光を遮る光フィルタと、を有し、前記光フィルタは、前記金属膜と前記受光部との間である中間位置に配置されることが好ましい。かかる構成によれば、受光部への蛍光以外の波長の光ノイズ成分が遮られ、微弱な光である蛍光の測定がより高感度且つ高精度に行われる。また、本実施形態に係る表面プラズモン共鳴蛍光分析装置は、検体に含まれる蛍光物質が表面プラズモン共鳴に基づく電場により励起されて発した蛍光を測定する表面プラズモン共鳴蛍光分析装置であって、所定の面の面上に金属膜が形成されたプリズムを有するプリズム部を着脱可能に保持する保持部と、前記保持部に前記プリズム部が保持されたときに前記プリズムに向けて光線を射出可能な光源と、前記保持部に前記プリズム部が保持されたときにこのプリズム部の前記金属膜により光線が反射されることによって当該金属膜における前記プリズムと反対の面側で生じる光の強度を測定可能な光測定部と、前記光測定部により測定された光の強度に基づいて前記光源における光線の射出方向を調整する制御部と、を備える。そして、前記保持部は、前記光源から射出された光線が前記プリズムの内部に入射してこの入射した光線が前記金属膜により反射される姿勢となるように前記プリズム部を保持する。かかる構成によれば、前記プリズム部を保持部に保持させることにより、表面プラズモン共鳴によって金属膜の表面プリズムと反対側の面近傍に形成される電場の強度が最大となる金属膜への光線の入射角即ち、光源による光線の射出方向が精度よく得られる。上記の表面プラズモン共鳴蛍光分析方法において、前記光測定工程は、前記金属膜において生じたプラズモン散乱光の強度を測定してもよく、また、前記金属膜が、前記検体に含まれる特定の抗原を捕捉可能な捕捉体を前記プリズムと反対側の面に固定され、前記光測定工程は、前記補足体に捕捉された特定の抗原に基づく前記蛍光物質の蛍光の強度を測定してもよい。このように検体の検査前の金属膜において生じるプラズモン散乱光が用いられても、また、検体の検査中の金属膜の表面近傍において生じる光が用いられても、表面プラズモン共鳴によって金属膜の表面近傍に形成される電場の強度が最大となる金属膜への光線の入射角が精度よく得られる。"