水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を電解法により製造する装置であって、電解槽の中にカソード板と原料となるインジウム、又は、インジウム合金のアノード板とを、間隔を置いて交互に配列し、該カソード板とアノード板の間であり、かつ各カソード板とアノード板の一方の側縁の近傍位置に、カソード板とアノード板の他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルを配置し、このノズルの開口部より流出させた電解液を、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を電解液中に析出させることを特徴とする水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の電解製造装置。カソード板が、ステンレス板又はチタン板であることを特徴とする請求項1記載の水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の電解製造装置。各カソード板とアノード板の間の、一方の側縁から他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルを、1又は複数個配置し、このノズルの開口部より流出させた電解液を、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を電解液中に析出させることを特徴とする請求項1又は2記載の水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の電解製造装置。電解液中に析出した水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を取り出す装置、該水酸化物を濃縮し、固形分濃縮液と固形分希薄液に分離する装置、該固形分希薄液を前記電解液供給ノズルに分配する装置を有することを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の電解製造装置。前記固形分濃縮液を濾過し、この濾液を前記電解液供給ノズルに分配する装置と、濾過した固形物を乾燥して水酸化インジウム粉末、又は、水酸化インジウムを含む化合物粉末の製造装置を備えることを特徴とする請求項4記載の水酸化インジウム粉末の電解製造装置。電解により水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を製造する方法であって、電解槽の中にカソード板と原料となるインジウム、又は、インジウム合金のアノード板とを、間隔を置いて交互に配列し、該カソード板とアノード板の間であり、かつ各カソード板とアノード板の一方の側縁の下端近傍位置に、カソード板とアノード板の他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルを配置し、このノズルの開口部より流出させた電解液の液流を調節して、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を電解液中に析出させることを特徴とする電解による水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の製造方法。カソード板としてステンレス板又はチタン板を用いて電解することを特徴とする請求項6記載の電解による水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の製造方法。各カソード板とアノード板の間の、一方の側縁から他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルを、1又は複数個配置し、このノズルの開口部より流出させた電解液のそれぞれの液流を調節して、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を電解液中に析出させることを特徴とする請求項6又は7記載の電解による水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の製造方法。電解液中に析出した水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を取り出す工程、該水酸化物を濃縮し、固形分濃縮液と固形分希薄液に分離する工程、該固形分希薄液を前記電解液供給ノズルに分配する工程を、さらに有することを特徴とする請求項6~8のいずれか一項に記載の電解による水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の製造方法。前記固形分濃縮液を濾過し、この濾液を前記電解液供給ノズルに分配する工程と、濾過した固形物を乾燥して水酸化インジウム粉末、又は、水酸化インジウムを含む化合物粉末とする工程を有することを特徴とする請求項9記載の電解による水酸化インジウム粉末、又は、水酸化インジウムを含む化合物粉末の製造方法。電解液の供給速度が、電流値、電解面積、時間あたり、0.01~100.0Lm2A分になるように電解液を流すことを特徴とする請求項6~10記載の水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の製造方法。本発明は、電解により水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を製造する場合に発生する問題、すなわち電解槽の中に、陽極アノードとしてインジウム、又は、インジウム合金板と、陰極カソード板とを配置し、この間に電解液を流して電解を行う際に、アノードの表面に、生成した水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物が付着し、カソードの表面にはインジウム、又は、インジウム合金が電着し、樹枝デンドライト状に伸びて、アノードとカソードがショートするという問題の原因を究明すると同時に、これを解決するための具体的な方策を提起し、生産性の低下や品質の低下を抑制することを目的とするものである。本発明は、上記課題を解決するために、以下の方法を提供するものである。1水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を電解法により製造する装置であって、電解槽の中にカソード板と原料となるインジウム、又は、インジウム合金のアノード板とを、間隔を置いて交互に配列し、該カソード板とアノード板の間であり、かつ各カソード板とアノード板の間の一方の側縁近傍位置に、カソード板とアノード板の他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルを配置し、このノズル開口部より流出させた電解液を、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を電解液中に析出させることを特徴とする水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の電解製造装置。2カソード板が、ステンレス板又はチタン板であることを特徴とする上記1記載の水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の電解製造装置。3各カソード板とアノード板の間の、一方の側縁から他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルを、1又は複数個配置し、このノズルの開口部より流出させた電解液を、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウム又は水酸化インジウムを含む化合物を電解液中に析出させることを特徴とする請求項1又は2記載の水酸化インジウム又は水酸化インジウムを含む化合物の電解製造装置。4電解液中に析出した水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を取り出す装置、該水酸化物を濃縮し、固形分濃縮液と固形分希薄液に分離する装置、該固形分希薄液を前記電解液供給ノズルに分配する装置を有することを特徴とする上記1~3のいずれか一項に記載の水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の電解製造装置。5前記固形分濃縮液を濾過し、この濾液を前記電解液供給ノズルに分配する装置と、濾過した固形物を乾燥して水酸化インジウム粉末、又は、水酸化インジウムを含む化合物粉末の製造装置を備えることを特徴とする上記4記載の水酸化インジウム粉末、又は、水酸化インジウムを含む化合物粉末の電解製造装置。6電解により水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を製造する方法であって、電解槽の中にカソード板と原料となるインジウム、又は、インジウム合金のアノード板とを、間隔を置いて交互に配列し、該カソード板とアノード板の間であり、かつ各カソード板とアノード板の一方の側縁の近傍位置に、カソード板とアノード板の他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルを配置し、このノズルより流出させた電解液の液流を調節して、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を電解液中に析出させることを特徴とする電解による水酸化インジウム又は水酸化インジウムを含む化合物の製造方法。7カソード板としてステンレス板又はチタン板を用いて電解することを特徴とする上記6記載の電解による水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の製造方法。8各カソード板とアノード板の間の、一方の側縁から他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルを、1又は複数個配置し、このノズルの開口部より流出させた電解液のそれぞれの液流を調節して、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウム又は水酸化インジウムを含む化合物を電解液中に析出させることを特徴とする上記6又は7記載の電解による水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の製造方法。9電解液中に析出した水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を取り出す工程、該水酸化物を濃縮し、固形分濃縮液と固形分希薄液に分離する工程、該固形分希薄液を前記電解液供給ノズルに分配する工程を、さらに有することを特徴とする上記6~8のいずれか一項に記載の電解による水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の製造方法。10前記固形分濃縮液を濾過し、この濾液を前記電解液供給ノズルに分配する工程と、濾過した固形物を乾燥して水酸化インジウム粉末、又は、水酸化インジウムを含む化合物粉末とする工程を有することを特徴とする上記9記載の電解による水酸化インジウム粉末、又は、水酸化インジウムを含む化合物粉末の製造方法。11電解液の供給速度が、電流値、電解面積、時間あたり、0.01~100.0Lm2A分になるように電解液を流すことを特徴とする上記6~10記載の水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物の製造方法。電解により水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を製造する際に、アノードの表面に水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を付着させず、またカソードの表面にインジウム、又は、インジウム合金を電着させずに、電解液を回流させ、効率的に水酸化インジウム、又は、水酸化インジウムを含む化合物を製造し、これによって生産性を向上させることができる優れた効果を有する。インジウムInから水酸化インジウムInOH3を製造する電解工程のフローを図1に示す。この図1に示すように、原料となるインジウムを鋳造してインジウムからなるアノード板を製造し、これを電解槽に配置する。電解槽には、ステンレス板又はチタン板からなるカソード板を交互に平行に複数枚配置する。電解槽には、電解液を供給する。電解液には、硝酸アンモニウム水溶液NH4NO3を用いる。なお、電解液については、特に指定されるものではなく、硝酸系水溶液、硫酸系水溶液、塩酸系水溶液或いはその他の電解質等の何れを用いても良いものの、コストや製品の純度維持の面から硝酸アンモニウム水溶液が好ましいと言える。以下の説明では、インジウムInから水酸化インジウムInOH3を製造する例を示すが、インジウム合金のアノードを使用して水酸化インジウムを含む化合物を製造する場合にも、同様に適用できる。インジウム合金の代表例は、ITOに使用するインジウム錫合金やインジウム亜鉛合金がある。これらに他の元素を添加した合金などがあり、本願発明の代表例として示すインジウムInから水酸化インジウムInOH3を製造する例と、同様の現象を生ずる場合の、全てに適用できる。添加元素としては、上記の錫Sn、亜鉛Zn以外に、銅Cu、銀Ag、アンチモンSb、テルルTe、ビスマスBi、タリウムTl、ガリウムGa、ゲルマニウムGe、カドミウムCd等が挙げることができる。電解の際に、これらの添加元素の多くは、インジウムと同様に水酸化物となるが、添加元素の酸化物若しくは添加元素の単体若しくは合金又はこれらの混合物として存在する場合もある。本願発明は、水酸化インジウムに含まれる、これらの化合物混合物を含むの全てを含むものである。電解により、インジウムが溶解し、水酸化インジウムの微細粒子が電解液中に析出する。この電解液中に析出した水酸化インジウムを取り出し、これを濃縮して固形分濃縮液と固形分希薄液に分離する。固形分濃縮液は、濾過、乾燥して、水酸化インジウム粉末を得る。一方、固形分希薄液については、電解液に回流し、液調節をして再利用する。また、前記固形分濃縮液を濾過した濾液についても、電解液に回流し、液調節を行って再利用する。ここで問題となるのは、電解を行う際に、電解槽の中のインジウムからなるアノード板の表面に、生成した水酸化インジウムが付着し、またカソード板の表面にはインジウムが電着し、電解を継続できないという問題があった。このインジウムは、樹枝デンドライト状に伸びて、アノードとカソードがショートするという問題も発生した。このような問題は、生産効率を上げるために電解電流密度を上げると、水酸化インジウムの付着やインジウムの電着が顕著に発生した。カソード板への水酸化インジウムの付着やアノード板へのインジウムの電着は、それほど強固なものではないが、その付着量が多くなると、次第に剥がれ難くなる傾向を持つものであった。このため、電解の初期において、アノード板とカソード板の各間で、電解液を回流させ、電解液の回流により、カソードへの水酸化インジウムの付着やアノードへのインジウムの電着を阻止する方法テストを行った。図2を用いて従来の電解装置を説明する。この図2に示す左側が電解槽の上面図であり、右側がアノード板とカソード板の中間位置での側面図である。図2に示すように、電解槽の中にアノード陽極板とカソード陰極板を、10~500mmと間隔を置いて配置し、電解液を供給するノズルの供給口を、電解槽上部に配置する。そして、図2の右側の図の矢印で示す方向に、電解液を電解槽の中に供給する。供給電解液の流れの強さ電解液供給速度は、0.5Lm2A分とした。この電解液の流れの強さ電解液供給速度は、アノード、又は、カソードのいずれか一方の電流密度Adm2又はAm2に対する流速L分を表す。以下、電解液の流れの強さ電解液供給速度を表す場合は、同様の意味で使用する。この従来の電解液の供給方法では、カソード板への水酸化インジウムの付着やアノード板へのインジウムの電着が発生した。電解液の流れの強さ電解液供給速度を上記よりも大きくしても、同様な結果となった。このカソード板への水酸化インジウムの付着やアノード板へのインジウムの電着の発生を抑制するために、液流の方向を調節することを考え、いくつかの実験を行った。この水酸化インジウムの電解製造装置の概略説明図を、図3に示す。図3の左側が上方から見た概略説明図上面図であり、右側がアノード板とカソード板の中間位置での側面の概略説明図である。ノズルの配置以外は、図2に示す構造と同一である。そして、図3の右側の図の矢印で示す方向に、電解液を回流させた。この電解液の流れの強さ電解液供給速度は、0.01~100.0Lm2A分とした。図3に示すように、液流を各アノード、カソード間の下から中央に旋回する流れになった。なお、電解液供給速度が0.01Lm2A分より低いと、回流方式でも、上記の問題点を解決できなかった。100.0Lm2A分より高いと、液の循環速度が速くなり、液が乱流となり、アノード表面のインジウムが粗大粒のまま剥離、脱落したり、生成した水酸化物の形状が非常に微細となり、使用不可能であった。この電解液の流れの強さ電解液供給速度は、好ましくは0.1~10.0Lm2A分とするのが良い。図3の液流の制御の結果から分かったことは、図3に示すようなノズルを用いると、カソード板への水酸化インジウムの付着やアノード板へのインジウムの電着が消失した。この原因を究明するために、電解槽内の電解液を調べ、確認したところ、図4の液流の模式図に示すように、カソード板とアノード板の中央部に十分な電解液の流れが生じていることが分かった。この結果、本発明の回流の方法は、極めて効果的であり、簡単な装置の改良で、アノード板への水酸化インジウムの付着やカソード板へのインジウムの電着の発生を効果的に抑制することができ、この付着や電着は、カソード板とアノード板の全ての面で発生は認められなかった。以上から、各カソード板とアノード板の間に、一方の側縁から他方の側縁に向かって電解液を供給し、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させることが、カソード板への水酸化インジウムの付着やアノード板へのインジウムの電着を抑制する有効な手段であり、本発明は、上記のような実験結果に基づくものである。すなわち、電解槽の中にカソード板と原料となるインジウムのアノード板とを、10~500mmの間隔を置いて交互に配列し、該カソード板とアノード板の間であり、かつ各カソード板とアノード板の一方の側縁の近傍位置に、カソード板とアノード板の他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルを配置し、このノズルの開口部より流出させた電解液を、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウムを電解液中に析出させることが有効であることが分かった。なお、電解液を供給するノズルの径口径については、電解槽の大きさ、各カソード板とアノード板の間隔の大きさ、電解液の供給量、ノズルの配置と個数等によって、適宜調節する。したがって、ノズルの径口径は、特に制限を受けるものではない。本発明においては、カソード板として、ステンレス板、又はチタン板を使用することが有効であるが、電解液を汚染しない限りは、他の材料であっても良い。カソード板とアノード板の間については、広い間隙とすることもできるが、このような場合には、液流を増やすことも可能である。すなわち、カソード板とアノード板の間の他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルとして、電解液を供給する1又は複数個のノズルを配置し、このノズルの開口部より流出させた電解液を、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウムを電解液中に析出させることができる。電解液中に析出した水酸化インジウムを取り出す装置、該水酸化物を濃縮し、固形分濃縮液と固形分希薄液に分離する装置、該固形分希薄液を前記電解液供給ノズルに分配する装置を設置し、また前記固形分濃縮液を濾過し、この濾液を前記電解液供給ノズルに分配する装置と、濾過した固形物を乾燥して水酸化インジウム粉末とする水酸化インジウム粉末製造装置を有する電解製造装置とすることもできる。固液分離装置、濾過装置、濾液分配装置、粉末製造装置等は、製造装置のコスト低減のために、本発明の電解装置に随伴させて設置することもできる。本願発明はこれらを包含する。下部ノズル、上部ノズル、又は中間ノズルの開口部より流出させた電解液の液流を調節し、それぞれの液流が、カソード板とアノード板間で、各カソード板とアノード板の一方の側縁から他方の側縁に向かって、弧を描くように回流させる旋回させることが有効である。この場合、電解液の回流は、各カソード板とアノード板の間に均一に流れ、その流れの一部が、カソード板とアノード板の表面に衝接することが必要であると考えられる。しかしながら、カソード板とアノード板の間でカソード板とアノード板の表面全体に回流できれば、その回流の方向は特に制限する必要はないと言える。次に、本発明の実施例について説明する。なお、本実施例はあくまで一例であり、この例に制限されるものではない。すなわち、本発明の技術思想の範囲内で、実施例以外の態様あるいは変形を全て包含するものである。実施例1上記図3に示すような装置を用いて、電解により水酸化インジウムを析出させた。具体的には、電解槽の中に、1000mm×700mm×5mmtのステンレス製カソード板11枚と原料となる1000mm×700mm×50mmtのインジウムからなるアノード板10枚とを交互に10組配列し、該カソード板とアノード板の間を50mmとり、かつ各カソード板とアノード板の間の一方の側縁の下端近傍位置液面から1000mmの位置に、カソード板とアノード板の他方の側縁に向かって電解液を供給するノズルを配置した。そして、図3の右側の図の矢印で示す方向に、電解液を回流させ、このノズルの開口部より流出させた電解液を、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウムを電解液中に析出させた。この電解液の流れの強さ電解液供給速度は、0.1Lm2Aアンペア分とした。図3に示すように、液流が下から上方に旋回する流れとなった。図3に示すような回流の方向によって、カソード板とアノード板の間に電解液の流れの空白部分が発生することがなく、全体的に均一に回流旋回流が生じていることが分かった。この結果、このアノード板への水酸化インジウムの付着やカソード板へのインジウムの電着が抑制できた。カソード板とアノード板の全ての面で発生は認められなかった。なお、この場合アノードにインジウムを使用し、電解により水酸化インジウムを析出させた例を示したが、インジウム―スズなどのインジウム合金を使用してインジウム水酸化物を含む化合物を析出させた場合にも、同様の現象が得られた。以下の実施例においても同様であった。実施例2実施例1と同様な方法で、この電解液の流れの強さ電解液供給速度を、10Lm2A分とした。この場合、実施例1と同様に、このカソード板への水酸化インジウムの付着やアノード板へのインジウムの電着が抑制できた。カソード板とアノード板の全ての面で発生は認められなかった。実施例3実施例1と同様な方法で、この電解液の流れの強さ電解液供給速度を、0.01Lm2A分とした。この場合、カソード板への水酸化インジウムの付着やアノード板へのインジウムの電着が一部起きたが、使用できないことはなかった。実施例4実施例1と同様な方法で、この電解液の流れの強さ電解液供給速度を、50Lm2A分とした。この場合、アノードからインジウム粗大粒が、わずかに剥離したが、使用可能であった。実施例5実施例1と同様な方法で、この電解液の流れの強さ電解液供給速度を、100Lm2A分とした。この場合、アノードにインジウム粗大粒が一部剥離し、さらには微細な水酸化物1100°Cで焙焼後の平均粒径が0.5μm以下が、僅かに発生した。しかし、これ自体は大きな問題ではなく、使用可能であった。実施例6図5に示すような装置を用いて、電解により水酸化インジウムを析出させた。具体的には、実施例1と同様のアノード、カソードを用いて、該カソード板とアノード板の間であり、かつ各カソード板とアノード板の間の一方の側縁の下端近傍位置液面から1000mmの位置と液面から155mmの位置に、カソード板とアノード板の他方の側縁に向かって電解液を供給する下部ノズルと上部ノズルを配置した。そして、図5の右側の図の矢印で示す方向に、2種の電解液を回流させ、この下部ノズルと上部ノズルの開口部より流出させた電解液を、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウムを電解液中に析出させた。この電解液の流れの強さ電解液供給速度は、10Lm2A分とした。図5に示すように、液流を上から中央に旋回する流れと、下から中央に旋回する流れの、2種の流れとなった。図5に示すような回流の方向によって、カソード板とアノード板の特定の場所に電解液の流れの空白部分が発生することがなく、全体的に均一に回流旋回流が生じていることが分かった。実施例1との主な相違は、液面から155mmの位置に上部ノズルを設けた点である。この結果、このカソード板への水酸化インジウムの付着やアノード板へのインジウムの電着が抑制できた。カソード板とアノード板の全ての面で発生は認められなかった。なお、図7の液流の模式図に示すように、実施例2と同様に、2段に配置したノズルを使用し、上段のノズルを液面から322mmの位置に配置して、実施例2と同じ実験を行ったところ、実施例2と同様な結果が得られた。実施例7図8に示すような装置を用いて、電解により水酸化インジウムを析出させた。具体的には、実施例1と同様のアノード、カソードを用いて、該カソード板とアノード板の間であり、かつ各カソード板とアノード板の一方の側縁の下端近傍位置液面から1000mmの位置と液面から322mmの位置と上端近傍位置液面から155mmの位置に、カソード板とアノード板の他方の側縁に向かって電解液を供給する下部ノズルと中間ノズルと上部ノズルを配置した。そして、図8の右側の矢印で示す方向に、3種の電解液を回流させ、この下部ノズルと中間ノズルと上部ノズルの開口部より流出させた電解液を、電解槽中の各カソード板とアノード板の間で回流させ、水酸化インジウムを電解液中に析出させた。この電解液の流れの強さ電解液供給速度は、10Lm2A分とした。上部ノズルからの液流を上から下に旋回する流れと、中間ノズルからの上下に分岐して旋回する流れと、下部ノズルからの下から上に旋回する流れの、3種の流れとなった。図8に示すような回流の方向によって、カソード板とアノード板の中央部に電解液の流れの空白部分が発生することがなく、全体的に均一に回流旋回流が生じていることが分かった。実施例2との主な相違は、中間ノズルの開口部を液面から322mmの位置に配置した点であるが、この場合でも、このカソード板への水酸化インジウムの付着やアノード板へのインジウムの電着が抑制できた。カソード板とアノード板の全ての面で発生は認められなかった。比較例1図2に示すような装置を用いて、電解槽の片側液面上から電解液を導入し、電解により水酸化インジウムを析出させた。具体的には、実施例1と同様のアノード、カソードを用いた。この電解液の電解液供給速度は、0.5Lm2A分とした。この結果、このアノード板へ水酸化インジウムが多量に付着し、またカソード板へのインジウムの電着もあり、電解が困難となった。比較例2図2に示すような装置を用いて、電解液供給速度を、10Lm2A分として電解を行った。この結果、アノード板へ水酸化インジウムが付着し、カソード板へインジウムの電着が発生した。この付着や電着は、主としてカソード板とアノード板のほぼ中央部と下部で発生した。電解液の流れの強さ電解液供給速度を上記よりも大きくしても、同様な結果となった。比較例3電解装置を用いて、図2とは対照的に電解槽の片側の底1箇所から電解液を導入し、電解により水酸化インジウムを析出させた。この場合、各カソード板とアノード板の間にノズルを配置し、これらの板の間に電解液を回流させるのではなく、単に図2と同様に、電解槽の底の部分1か所から、電解液を供給した場合である。電解液供給速度を、0.5Lm2A分とした。この結果、アノード板へ水酸化インジウムが付着し、カソード板へインジウムの電着が発生した。この付着や電着は、主としてカソード板とアノード板のほぼ中央部で発生した。電解液の流れの強さ電解液供給速度を上記よりも大きくしても、同様な結果となった。比較例4実施例1と同条件で、電解液供給速度を、0.009Lm2A分とした。この結果、アノード板へ水酸化インジウムが多量に付着し、カソード板へインジウムが電着し、アノードとカソードがショートしてしまい、電解を続けることが困難となった。この付着や電着は、主としてカソード板とアノード板のほぼ中央部で発生した。比較例5実施例1と同条件で、電解液供給速度を、110Lm2A分とした。この結果、アノード板への水酸化インジウムの付着やカソード板へのインジウムの電着はなかったが、アノードからインジウム粗大粒の剥離が多量におこり、さらには微細な水酸化物1100°Cで焙焼後の平均粒径が0.5μm以下が多量に発生し、使用できなかった。