ガラス基材、ならびに客室または住居の日射防護および/または遮熱を可能とするように日射に作用する日射制御性薄膜多層を含んでなり、前記薄膜多層には、800nm超の波長を有する赤外放射線を選択的に吸収する膜が組み込まれており、前記吸収膜は、NbまたはTaから選択されるドーパント元素Xで置換された酸化チタンから成り、その原子パーセント[X/TiX]は、約4から約9の範囲内であり、前記吸収膜の厚さは、約20ナノメートルから約200ナノメートルの範囲内である、自動車用または建築用日射制御性板ガラス。前記原子パーセント[X/TiX]が、約4から約7の範囲内である、請求項1に記載の日射制御性板ガラス。前記吸収膜の厚さが、30から100ナノメートルの範囲内である、請求項1または2に記載の日射制御性板ガラス。Xが、ニオビウムである、請求項1~3のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラス。前記多層が、連続する以下の膜からなり、前記ガラス基材の表面から順に:幾何学的厚さの合計が5から150nmの範囲内であり、前記ガラス基材から来るアルカリ金属イオンのマイグレーションから前記吸収膜を保護するための1または複数の下側膜;NbまたはTa、好ましくはNbから選択されるドーピング元素Xで置換された酸化チタンからなる前記吸収膜;および、1または複数の膜の幾何学的厚さの合計が5から150nmの範囲内である、特に焼き戻しまたはアニーリングなどの熱処理の際に空気中の酸素から前記吸収膜を保護するための1または複数の上側膜、である、請求項1~4のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラス。前記1または複数の下側保護膜および上側保護膜が:Al、Zr、またはBでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Si3N4;窒化アルミニウムAlN;酸化スズ;スズ亜鉛複合酸化物SnyZnzOx;酸化ケイ素SiO2;未ドーピング酸化チタンTiO2;および、酸窒化ケイ素SiOxNyから選択される、請求項1~5のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラス。前記多層が、前記下側および上側保護膜と前記吸収膜との間に、部分的もしくは完全に酸化および/または窒化されていてよく、5nmよりも薄い厚さ、好ましくは3nmよりも薄い厚さを有する金属膜をさらに組み込んでいる、請求項5または6に記載の日射制御性板ガラス。前記金属が、TiまたはNiCr合金から選択される、請求項7に記載の日射制御性板ガラス。前記多層が、連続する以下の膜を含んでなり、前記ガラス基材の表面から順に:厚さが5から150nmの範囲内であり:Al、Zr、またはBでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Si3N4;窒化アルミニウムAlN;酸化スズ;スズ亜鉛複合酸化物SnyZnzOx;酸化ケイ素SiO2;未ドーピング酸化チタンTiO2;および、酸窒化ケイ素SiOxNyから選択される下側膜;Nbで置換された酸化チタンからなる前記吸収膜であって、前記吸収膜中の原子パーセント[Nb/TiNb]は、約4から約7の範囲内であり、その厚さは、30から100nmの範囲内である、前記吸収膜;厚さが5から150nmの範囲内であり:Al、Zr、またはBでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Si3N4;窒化アルミニウムAlN;酸化スズ;スズ亜鉛複合酸化物SnyZnzOx;酸化ケイ素SiO2;未ドーピング酸化チタンTiO2;および、酸窒化ケイ素SiOxNyから選択される上側膜;ならびに、好ましくは、部分的もしくは完全に酸化および/または窒化されていてもよく、前記保護膜と前記吸収膜との間にあり、厚さが2nmよりも薄い金属チタン膜、である、請求項1~8のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラス。前記多層が、連続する以下の膜から成り、前記ガラス基材の表面から順に:厚さが5から100nmの範囲内であるSi3N4膜;部分的もしくは完全に酸化および/または窒化され、幾何学的厚さが2nmよりも薄い金属チタン膜;赤外放射線を吸収する前記膜であって、前記膜は、Nbで置換された酸化チタンからなり、前記吸収膜中の原子パーセント[Nb/TiNb]は、約4から約7の範囲内であり、その厚さは、30から100nmの範囲内である、前記膜;部分的または完全に酸化および/または窒化され、幾何学的厚さが2nmよりも薄い金属チタン膜;ならびに、厚さが5から100nmの範囲内であるSi3N4膜、である、請求項1~9のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラス。請求項1~10のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラスを製造するための方法であって、以下の工程:ガラス基材を製造する工程;および、真空マグネトロンスパッタリング法を用いて前記ガラス基材上に薄膜多層を堆積する工程であって、ここで、NbまたはTaから選択されるドーピング元素Xで置換された酸化チタンからなる前記吸収膜は、NbまたはTaから選択されるドーパント元素Xで置換され、その原子パーセント[X/TiX]が約4から約9の範囲内である酸化チタンからなるターゲットを、アルゴンまたはアルゴンと酸素との混合物の残留雰囲気下にてスパッタリングすることによって得られる、工程、を含んでなる、方法。請求項1~10のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラスを製造するための方法であって、以下の工程:ガラス基材を製造する工程;および、真空マグネトロンスパッタリング法を用いて前記ガラス基材上に薄膜多層を堆積する工程であって、ここで、前記吸収膜は、NbまたはTaから選択されるドーピング元素Xで置換された酸化チタンからなり、金属チタンとNbまたはTaから選択される金属Xとの混合物からなるターゲットであって、前記ターゲット中の原子パーセント[X/TiX]が約4から約9の範囲内であるターゲットを、酸素およびアルゴンの残留雰囲気下にてスパッタリングすることによって得られる、工程、を含んでなる、方法。したがって、本発明の1つの目的は、日射制御特性を付与し、上述の意味での高い選択性、すなわち1よりも非常に高いTL/g比を有する薄膜多層を含んでなる板ガラスを提供することであり、前記多層は、特定のいかなる予防手段も必要とすることなく、耐久性を有する。本発明の別の目的は、日射制御性板ガラスを提供することであり、ここで、前記多層は、特に焼き戻しなどの熱処理の後、特に透過または反射において、特に建築セクターで求められるように、実質的な無彩色、またはそれ以外では、それほど強くない青緑色の色調を保持することができる。本発明における無彩色または青緑色の色調の表現は、L、a、b表色系において、aおよびbの値が、10に近いかまたはそれより低い、および負であることを意味するものとして理解される。したがって、本発明に係る板ガラスでは、光波、すなわち約380から780nmの範囲内の波長を有する光波の透過を促進し、赤外放射線、すなわち780nmよりも長い波長を有する放射線、特に近赤外放射線、すなわち約780nmから約1400nmの範囲内の波長を有する放射線のほとんどを選択的に吸収することにより、それを透過する放射線を選択することが可能であることが有利である。したがって、本発明によれば、この板ガラスで保護された部屋または客室では、明るく照らされた状態を維持すると同時に、そこへ進入する熱の量を最小限に抑えることが可能である。本発明の別の利点によると、本発明に係る多層を備えた板ガラスは、他の公知の日射制御性窓板ガラス、特に銀系多層を含んでなるものと比較して、作製が簡便であり、また作製コストも大きく低減される。より正確には、本発明は、ガラス基材および日射制御性薄膜多層を含んでなる日射制御性板ガラスに関し、前記薄膜多層には、800nm超の波長を有する赤外放射線を選択的に吸収する膜が組み込まれており、前記吸収膜は、NbまたはTaから選択される元素Xで置換された酸化チタンからなり、その原子パーセント[X/TiX]は、約4から約9の範囲内であり、前記吸収膜の厚さは、20から200ナノメートルの範囲内である。本発明の好ましい実施形態によると:原子パーセント[X/TiX]は、約4から約7、より好ましくは、約5から約7の範囲内であり;前記吸収膜の厚さは、30から100ナノメートルの範囲内であり;および、Xは、ニオビウムである。好ましくは、本発明によれば、日射制御性板ガラスは、連続する以下の膜からなる多層を含んでなり、ガラス基材の表面から順に:幾何学的厚さの合計が5から150nmの範囲内である、ガラス基材からくるアルカリ金属イオンのマイグレーションから吸収膜を保護するための1または複数の下側膜;NbまたはTa、好ましくはNbから選択されるドーピング元素Xで置換された酸化チタンからなる前記吸収膜;および、1もしくは複数の膜の幾何学的厚さの合計が5から150nmの範囲内である、特に焼き戻しまたはアニーリングなどの熱処理の際に空気中の酸素から吸収膜を保護するための1または複数の上側膜、である。好ましくは、1もしくは複数の下側保護膜および上側保護膜は:Al、Zr、またはBでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Si3N4;窒化アルミニウムAlN;酸化スズ;スズ亜鉛複合酸化物SnyZnzOx;酸化ケイ素SiO2;未ドーピング酸化チタンTiO2;および、酸窒化ケイ素SiOxNyから選択される。本発明の1つの考え得る好ましい実施形態によれば、特に板ガラスが焼き戻しなどの熱処理を受ける必要がある場合、多層には、前記保護膜と吸収膜との間に、部分的または完全に酸化および/または窒化されていてもよく、5nmよりも薄い厚さ、好ましくは3nmよりも薄い厚さ、またはさらには2nmよりも薄い厚さを有する金属膜がさらに組み込まれる。この薄膜は、例えば、Si3N4上側保護膜の堆積の場合と同様に、上側膜が窒素の存在下で反応性スパッタリングによって堆積される場合に、部分的もしくは完全に酸化または窒化され、このようにして吸収膜を保護するものであり、またはそれ以外では、焼き戻し型の熱処理の際に酸化されることになる。前記薄膜は、好ましくは、ニオビウムNb、タンタルTa、チタンTi、クロムCr、ニッケルNi、またはNiCr合金などの前記金属の少なくとも2つの合金、などの金属をベースとするものである。犠牲膜として作用することのみが意図される場合は、光透過率という点で多層に対してできる限り不利とならないように、それは極めて薄くてよく、特に約0.2から1.5nm、好ましくは0.5から1.5nmの厚さであってよい。また、特にTLを低下させた日射制御性板ガラスの製造が意図される場合に、透過光の量を所望されるレベルへ調節するためにもそれが用いられる場合は、場合によってはそれを最大で5nmの厚さとすることも可能である。好ましくは、金属は、TiまたはNiCr合金から選択される。1つの良好に実行される実施形態によれば、多層は、連続する以下の膜を含んでなり、ガラス基材の表面から順に:厚さが5から150nmの範囲内であり:Al、Zr、またはBでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Si3N4;窒化アルミニウムAlN;酸化スズ;スズ亜鉛複合酸化物SnyZnzOx;酸化ケイ素SiO2;未ドーピング酸化チタンTiO2;および、酸窒化ケイ素SiOxNyから選択される下側膜;Nbで置換された酸化チタンからなる前記吸収膜であって、前記吸収膜中の原子パーセント[Nb/TiNb]は、約4から約7の範囲内であり、その厚さは、30から100nmの範囲内である、前記吸収膜;厚さが5から150nmの範囲内であり:Al、Zr、またはBでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Si3N4;窒化アルミニウムAlN;酸化スズ;スズ亜鉛複合酸化物SnyZnzOx;酸化ケイ素SiO2;未ドーピング酸化チタンTiO2;および、酸窒化ケイ素SiOxNyから選択される上側膜;ならびに、好ましくは、部分的または完全に酸化および/または窒化されていてもよく、前記保護膜と前記吸収膜との間にあり、厚さが3nmよりも薄い金属チタン膜、である。例として、本発明に係る日射制御性板ガラスは、連続する以下の膜からなる多層を含んでなり、ガラス基材の表面から順に:厚さが5から100nm、特に5から70nmの範囲内であるSi3N4膜;部分的または完全に酸化および/または窒化され、幾何学的厚さが2nmよりも薄い金属チタン膜;赤外放射線を吸収する前記膜であって、Nbで置換された酸化チタンから成り、前記吸収膜中の原子パーセント[Nb/TiNb]は、約4から約7の範囲内であり、その厚さは、30から100nmの範囲内である膜;部分的または完全に酸化および/または窒化され、幾何学的厚さが2nmよりも薄い金属チタン膜;ならびに、厚さが5から100nm、特に5から70nmの範囲内であるSi3N4膜、である。本発明はまた、日射制御性板ガラスを製造するための方法にも関し、その方法は、以下の工程:ガラス基材を製造する工程;および、真空マグネトロンスパッタリング法を用いてガラス基材上に薄膜多層を堆積する工程であって、ここで、NbまたはTaから選択されるドーピング元素Xで置換された酸化チタンからなるこの吸収膜は、NbまたはTaから選択される元素Xで置換され、その原子パーセント[X/TiX]が約4から約9の範囲内である酸化チタンからなるターゲットを、アルゴンまたはアルゴンと酸素との混合物の残余雰囲気下にてスパッタリングすることによって得られる、工程、を含んでなる。本発明に係る日射制御性板ガラスを製造するための別の選択肢としての方法は、以下の工程:ガラス基材を製造する工程;および、真空マグネトロンスパッタリング法を用いてガラス基材上に薄膜多層を堆積する工程であって、ここで、この吸収膜は、NbまたはTaから選択されるドーピング元素Xで置換された酸化チタンからなるものであり、金属チタンとNbまたはTaから選択される金属Xとの混合物からなるターゲットであって、ターゲット中の原子パーセント[X/TiX]が約4から約9の範囲内であるターゲットを、酸素およびアルゴンの残余雰囲気下にてスパッタリングすることによって得られる、工程、を含んでなる。以下の例は、単に説明のために与えられるものであり、記載されるそれらのいずれの態様においても、本発明の範囲を限定するものではない。比較の目的で、以下の例の多層はすべて、二層板ガラスとして組み付けられるガラス基材上に合成した。多層の膜はすべて、従来のマグネトロンスパッタリング真空蒸着法を用いて堆積した。これらの性能を直接比較する目的で、以下の例で最終的に得られた板ガラスユニットはすべて、厚さが6mmであり、アルゴンを充填した16mm厚の空隙によって分離された2つのPlanilux登録商標ガラス基材からなる二層板ガラスユニットである6/16Ar/6。実施例1:本発明に係る本例では、以下の一連の膜からなる多層を、従来のマグネトロン法を用いてPlanilux登録商標ガラス基材上へ堆積した:ガラス/Si3N440nm/Ti1nm/TiO2:Nb50nm/Ti1nm/Si3N440nm。TiO2膜は、6原子のニオビウムを含んでなるTiO2ターゲット[Nbat/TiatNbat=0.06]のマグネトロンスパッタリングを用いて得た。EPMA電子プローブマイクロ分析およびSIMS二次イオン質量分析を用いて、最終的に得られた膜中のドーピングレベルがターゲットの組成のそれと実質的に同じかどうかを確認した。次に、その多層を備えた基材に、数分間の650°Cへの加熱、および続いての焼き戻しからなる熱処理を施した。この処理は、板ガラスに、焼き戻し、またはそれ以外では曲げ処理を施す必要がある場合に板ガラスが受ける条件を代表するものである。基材を、薄膜多層が多層の面2に位置するように、別のPlanilux登録商標基材と共に、二層板ガラスユニットに組み付けた6/16Ar/6。この二層板ガラスの選択性を判定するために、そのTLおよびgの係数を測定した。比較例1:本例では、例1と実質的に同じ多層を、TiO2膜を堆積するために用いたターゲットが、この場合はニオビウムを含有していなかったこと以外は同じ方法によって得た。この二層板ガラスの選択性を判定するために、そのTLおよびgの係数を、上記と同じ条件下にて測定した。比較例2:本例では、CoolLiteKN164のレファレンス名にてSaintGobainGlassFranceから市販されている二層板ガラスユニット6/16Ar/6を用い、その活性膜、すなわち、前記板ガラスを透過する日射に作用する膜は、厚さが約10ナノメートルの銀膜であり、前記銀膜は、二層板ガラスの面2上に堆積された多層中に配置されていた。この市販の二層板ガラスの選択性を判定するために、そのTLおよびgの係数を、上記と同じ条件下にて測定した。比較例3:本例では、CoolLiteST167のレファレンス名にてSaintGobainGlassFranceから市販されている二層板ガラスユニット6/16Ar/6を用い、その活性膜、すなわち、前記板ガラスを透過する日射に作用する膜は、厚さが約15ナノメートルの窒化ニオビウム膜であり、前記窒化ニオビウム膜は、二層板ガラスの面2上に堆積された多層中に配置されていた。この市販の二層板ガラスの選択性を判定するために、そのTLおよびgの係数を、上記と同じ条件下にて測定した。比較例4:本例は、以下の改変部分以外は実施例1と同様に行った:TiO2膜を、約1.7原子のニオビウムを含んでなるTiO2ターゲットを用いたマグネトロンスパッタリング法によって得たこと;および、マグネトロンチャンバーを通すガラス基材の移動速度を、堆積されるTiO2:Nb膜の厚さが300nmに等しくなるように調節したこと。この二層板ガラスの選択性を判定するために、そのTLおよびgの係数を、上記と同じ条件下にて測定した。得られた種々の板ガラスユニットの特性を、標準EN410にしたがって測定し、以下の表1に示す:表1に示されるデータの比較から、厚さ50nmの未ドーピングTiO2膜比較例1は、選択性を持たず、可視光および熱の両方に対して、特に熱赤外に対して、比較的透過性を有すると思われる。しかし、本発明に従い、ドーパントのNbを、約6の高濃度でこの膜へ導入すると実施例1、膜厚を同様に薄く維持することで、板ガラスの選択性を大きく高めることが可能となる。したがって、こうして得られた選択性レベルは、銀膜をベースとするLow‐E多層比較例2で見られた選択性レベルに近づいているが、しかしそれは、近赤外反射モードで作動するものであり、近赤外吸収モードではない。この点で、このような結果は非常に驚くべきものである。本発明に係る例1と比較例3を比較すると、本発明に係る、主として日射の吸収によって機能する活性膜を備えた板ガラスユニットは、同じ原理に従って機能する他の公知の日射制御性膜、特にニオビウム系膜または窒化ニオビウム系膜と比較して、非常に高い選択性を有していることが示される。最後に、本発明に係る例1と比較例4を比較すると、6に近いニオビウムによるドーピングレベルと薄い膜厚50nmとを組み合わせることで、最終的には、ドーピングレベルはより低いが厚さが6倍厚い活性膜を含んでなる多層と比較して、選択性がより高い多層を得ることが可能となることが示される。そのような結果は、TiO2などの透明酸化物膜の赤外反射特性が、その厚さと共に大きく増加することが知られているという点で、予想外なものである。L、a、b系における板ガラスの測色値も、透過、内反射客室側、および外反射外側について測定し、以下の表2に示す。表2に列記したデータは、本発明に係る多層を備えた板ガラスの理想的な測色特性を示しており、例1におけるパラメータaおよびbは、透過においても反射においても、観測者の位置および視る角度に関わらず、すべて負であり、比較的低い。これらの特性は、建築の分野において現在所望されているような、僅かな青緑色または無彩色を有する板ガラスをもたらす。別の利点によると、その活性膜が比較的薄い厚さ、すなわち数十ナノメートルを有するドーピングされた酸化チタンをベースとするものである本発明に係る日射制御性多層は、その製造が、特にマグネトロンスパッタリング真空蒸着法を用いることで、極めて単純であり、安価である。特に、酸化チタン膜の厚さが薄いことは、蒸着チャンバーを通す基材の移動速度が、前記膜の所望される厚さに直接関係することから、生産性の些細とは言えない増加をもたらす。さらに、追加で行った耐久性試験では、そのような膜の単層板ガラスユニットの面2への堆積を、化学的作用水分または機械的作用多層の摩耗によって劣化するリスクなしに、容易に行うことができることが示された。