"少なくとも、低屈折率粒子と、高屈折率粒子と、バインダーマトリックスと、を溶媒に分散させ、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整する塗液調整工程と、前記塗液を透明基材上に塗布する塗布工程と、前記透明基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成する乾燥工程と、を備え、前記透明基材上に、前記透明基材の成分と前記バインダーマトリックスとが混合した混合層を形成し、前記混合層より上層に、前記低屈折率粒子が局在した低屈折率層および前記高屈折率粒子が局在した高屈折率層を形成し、前記高屈折率粒子の比重は前記低屈折率粒子の比重より大きいことを特徴とする反射防止フィルム製造方法。前記塗液は、電離放射線硬化型材料を含む塗液であり、更に、前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化する電離放射線照射工程と、備えることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム製造方法。前記塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合は、5wt以上70wt以下の範囲内にあることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の反射防止フィルム製造方法。透明基材と、前記透明基材上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された反射防止層と、を備え、前記ハードコート層は、前記透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、前記反射防止層は、少なくとも、低屈折率粒子が局在した低屈折率層および高屈折率粒子が局在した高屈折率層、を有することを特徴とする反射防止フィルム。前記混合層と、前記高屈折率層および前記低屈折率層と、は光学的に分離していることを特徴とする請求項4に記載の反射防止フィルム。前記低屈折率層の屈折率が1.29以上1.43以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が100nm以上200nm以下の範囲内であり、前記高屈折率層の屈折率が1.53以上1.65以下の範囲内であり、且つ、前記高屈折率層の光学膜厚が200nm以上400nm以下の範囲内であることを特徴とする請求項4から5のいずれかに記載の反射防止フィルム。観察面側の視感平均反射率は、0.3以上2.0以下の範囲内にあり、観察面側のLab色度系における反射色相は、0.00≦a≦3.00、且つ、-3.00≦b≦3.00を満たすことを特徴とする請求項4から6のいずれかに記載の反射防止フィルム。請求項4から7のいずれかに記載の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする偏光板。請求項4から7のいずれかに記載の反射防止フィルムを備えた表示装置。反射防止フィルムにあっては、多層構成とすることにより反射防止性能といった光学特性やその他の特性をを良好とすることができる。しかしながら、湿式成膜法を用いてハードコート層を有する反射防止フィルムを製造する場合、ハードコート層、反射防止層、など、各層ごとに材料を分散した塗液を調整し、塗液を塗工する必要があった。このため、製造工程数が増加し、製造効率が低下する問題があった。そこで、本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、1回の塗工ワンコートで多層の積層体を形成できる反射防止フィルム製造方法を提供することを目的とする。本発明の一実施形態は、少なくとも、低屈折率粒子と、高屈折率粒子と、バインダーマトリックスと、を溶媒に分散させ、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整する塗液調整工程と、前記塗液を透明基材上に塗布する塗布工程と、前記透明基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成する乾燥工程と、を備え、前記透明基材上に、前記透明基材の成分と前記バインダーマトリックスとが混合した混合層を形成し、前記混合層より上層に、前記低屈折率粒子が局在した低屈折率層および前記高屈折率粒子が局在した高屈折率層を形成し、前記高屈折率粒子の比重は前記低屈折率粒子の比重より大きいことを特徴とする反射防止フィルム製造方法である。また、前記塗液は、電離放射線硬化型材料を含む塗液であり、更に、前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化する電離放射線照射工程と、備えていてもよい。また、前記塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合は、5wt以上70wt以下の範囲にあることが好ましい。本発明の一実施形態は、透明基材と、前記透明基材上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された反射防止層と、を備え、前記ハードコート層は、前記透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、前記反射防止層は、少なくとも、低屈折率粒子が局在した低屈折率層および高屈折率粒子が局在した高屈折率層、を有することを特徴とする反射防止フィルムである。また、前記混合層と、前記高屈折率層および前記低屈折率層と、は光学的に分離していることが好ましい。なお、本明細書において、光学的に分離しているとは、反射防止フィルムの表面から5°の入射角で可視光380nm以上800nm以下での分光反射率を求め、この分光反射率について光学シミュレーションを行った際に、高屈折率層および低屈折率層に起因する分光スペクトルを観測することができる状態をいう。また、前記低屈折率層の屈折率が1.29以上1.43以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が100nm以上200nm以下の範囲内であり、前記高屈折率層の屈折率が1.53以上1.65以下の範囲内であり、且つ、前記高屈折率層の光学膜厚が200nm以上400nm以下の範囲内にあることが好ましい。また、観察面側の視感平均反射率は、0.3以上2.0以下の範囲内にあり、観察面側のLab色度系における反射色相は、0.00≦a≦3.00、且つ、-3.00≦b≦3.00を満たすことが好ましい。本発明の一実施形態は、上述の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする偏光板である。本発明の一実施形態は、上述の反射防止フィルムを備えた表示装置である。本発明の反射防止フィルム製造方法は、低屈折率粒子および高屈折率粒子を分散させた透明基材を溶解または膨潤する成分を含む塗液を透明基材に塗工することより、ワンコートで、透明基材/透明基材が溶解または膨潤した混合層/高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層/がこの順で積層した積層体を形成することが出来る。このため、1回の塗工で透明基材/ハードコート層混合層/反射防止層高屈折率層および低屈折率層、が積層された積層体を形成でき、効率よく反射防止フィルムを製造することが出来る。本発明の反射防止フィルム製造方法は、低屈折率粒子および高屈折率粒子を分散させた透明基材を溶解または膨潤する成分を含む塗液を透明基材に塗工することより1回の塗工で、透明基材/透明基材が溶解または膨潤した混合層/高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層/がこの順で積層した積層体を形成することが出来る。このため、ワンコートで透明基材/ハードコート層混合層/反射防止層高屈折率層および低屈折率層、が積層された積層体を形成でき、効率よく反射防止フィルムを製造することが出来る。本発明の反射防止フィルム製造方法では、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を透明基材上に塗布する。このとき、透明基材を溶解または膨潤させる成分が透明基材へと浸透すると同時にバインダーマトリックスの成分も透明基材側へと浸透する。これにより、透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層が形成される。また、塗液内に分散した低屈折率粒子および高屈折率粒子は、溶解溶融したバインダーマトリックスと比較してかさ高いため、透明基材側には浸透しにくい。よって、低屈折率粒子および高屈折率粒子は表面側へと偏析し混合層と低屈折率層および高屈折率層は層分離する。また、本発明の反射防止フィルム製造方法では、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を透明基材上に塗布するにあたり、透明基材側から塗布した塗液側へ透明基材の成分が移動する。このため、塗布された塗液内では透明基材側から表面側の方向へ物質移動による流れが発生する。このとき、塗液内に分散した低屈折率粒子および高屈折率粒子は、物質移動による流れに沿って拡散移動する。また、高屈折率粒子の比重は低屈折率粒子の比重より大きいことから、低屈折率粒子の方が高屈折率粒子よりも物質移動による流れに沿った移動量は大きくなる。よって、透明基材側に高屈折率粒子が局在した高屈折率層が形成され、表面側に低屈折率粒子が局在した低屈折率層が形成される。上述したように、本発明の反射防止フィルム製造方法では、混合層を形成することにより、1ハードコート層混合層/反射防止層高屈折率層および低屈折率層を好適に層分離出来る、2反射防止層である、高屈折率層と低屈折率層との層分離を促進することが出来る、という効果を奏する。よって、ワンコートで効率よく反射防止フィルムとして利用できる積層体を形成することが出来る。なお、上述の説明のように層形成が行われるため、透明基材/混合層/高屈折率層/低屈折率層の各層ごとの物理的境界は明瞭ではないが、本明細書では、便宜上、それぞれの成分が多く偏在している部位をそれぞれ層として呼称するものとする。以下、本発明の反射防止フィルム製造方法について説明を行う。<塗液調整工程>まず、低屈折率粒子と、高屈折率粒子と、バインダーマトリックスと、を溶媒に分散させ、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整する。ここで、透明基材を溶解または膨潤させる成分は、バインダーマトリックスとして選択した材料および溶媒として選択した材料によって調整してよい。例えば、1透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックスと透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の組み合わせ、2透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックスと透明基材を溶解または膨潤させない溶媒の組み合わせ、3透明基材を溶解または膨潤させないバインダーマトリックスと透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の組み合わせ、のいずれであってもよい。塗液を調整するにあたり、塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合は、5wt以上70wt以下程度の範囲にあることが好ましい。5wt以上70wt以下程度の範囲にあることにより、混合層を形成すると同時に光学的に分離された反射防止層高屈折率層および低屈折率層を好適に形成出来る。5wtより小さい場合、混合層を充分に形成できないことから、光学的に分離された反射防止層高屈折率層および低屈折率層を形成できず好ましくない。また、70wtより大きい場合、1混合層の厚みが増大して反射防止フィルムの硬度が低下する、2低屈折率粒子が過度に凝集して必要以上のヘイズが発生する、などの観点から不適である。低屈折粒子および高屈折粒子は、比重および屈折率が異なる粒子を2種以上選び、比重が小さく屈折率の低い一方を低屈折粒子、比重が大きく屈折率の高い他方を高屈折粒子としてよい。また、低屈折粒子および高屈折粒子は、それぞれ単独の粒子であってもよいし、材料や粒径の異なる複数種類を組み合わせて用いてもよい。低屈折粒子としては、例えば、シリカ粒子、ポリマー粒子、金属フッ化物粒子などを用いてもよい。特に、多孔質シリカ粒子、中空シリカ粒子、中空ポリマー粒子、など空隙を有する粒子は、屈折率が低く、比重が小さく、本発明の反射防止フィルム製造方法に用いる低屈折率粒子として好ましい。また、金属フッ化物粒子としては、MgF2屈折率:1.38、比重3.15などが挙げられる。高屈折粒子としては、例えば、酸化チタンTiO2、屈折率:2.71、比重:4.2~4.3、酸化ジルコニウムZrO2、屈折率:2.10、比重:5.5、酸化セリウムCeO2、屈折率:2.20、比重:7.1、酸化錫SnO2、屈折率:2.00、比重:7.0、アンチモン錫酸化物ATO、屈折率:1.75~1.85、比重:6.6、インジウム錫酸化物ITO、屈折率:1.95~2.00、比重:7.1、酸化アンチモンSb2O5、屈折率:2.04、比重:3.8、アルミニウム亜鉛酸化物AZO、比重:5.0~5.5、ガリウム亜鉛酸化物比重:5.0~5.5、などの粒子を用いてもよい。また、低屈折率粒子および高屈折率粒子の粒径は、1nm以上100nm以下程度の範囲にあることが好ましく、40nm以上80nm以下程度の範囲にあることがより好ましい。粒径が100nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、反射防止層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が1nm未満の場合、粒子の凝集による反射防止層における粒子の不均一性等の問題が生じる。また、低屈折率粒子の比重L1、L2、...、Lnと高屈折率粒子の比重H1、H2、...、Hnの差Hn-Lnが2.0以上であることが好ましい。低屈折率粒子の比重と高屈折率粒子の比重の差が2.0以上とすることにより、比重差により低屈折率層と高屈折率層との分離がより好適に促進される。バインダーマトリックスは、透明性や光の屈折率等の光学特性、耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、適宜公知の材料より選択してよい。また、バインダーマトリックスは、複数の樹脂材料が混合された樹脂組成物であってもよい。複数の樹脂材料が混合された樹脂組成物を用いることにより、透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックスと透明基材を溶解または膨潤させないバインダーマトリックスとの比率を調整することで塗液内の透明基材を溶解または膨潤させる成分の量の多寡を調整することが出来、混合層を好適に形成可能な塗液を調整することが出来る。また、後述する<電離放射線照射工程>を行う場合、バインダーマトリックスは電離放射線硬化型材料および光重合開始剤を含む樹脂組成物としてもよい。また、バインダーマトリックスは熱可塑性樹脂を含むことができる。熱可塑性樹脂を含むことにより、反射防止フィルム自体の反りの発生を抑制できる。熱可塑性樹脂としては、例えば、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、などが挙げられる。バインダーマトリックスとして用いる電離放射線硬化型材料としては、メタアクリレート化合物、ウレタンメタアクリレート化合物、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、などが挙げられる。なお、本明細書において、メタアクリレートとはアクリレートとメタクリレートの両方を示すものとする。例えば、ウレタンメタアクリレートはウレタンアクリレートおよびウレタンメタアクリレートの両方を示す。透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックスとしては、例えば、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、などが挙げられる。また、上記樹脂を1種単独であるいは2種以上を組み合わせてバインダーマトリックスとして用いてもよい。透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、透明基材を溶解または膨潤させないバインダーマトリックスとしては、例えば、<1>単官能メタアクリレート化合物:n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、N-ビニルピロリドン、シクロヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、イソデシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、セチルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、3-メトキシブチルメタアクリレート、エチルカルビトールメタアクリレート、リン酸メタアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸メタアクリレート、フェノキシメタアクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシメタアクリレート、ノニルフェノールメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノールメタアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリチレングリコールメタアクリレート、メトキシプロピレングリコールメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、トリフルオロエチルメタアクリレート、テトラフルオロプロピルメタアクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタアクリレート、オクタフルオロプロピルメタアクリレート、オクタフルオロプロピルメタアクリレート、2-アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノメタアクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノメタアクリレート、など、<2>二官能メタアクリレート化合物:ブタンジオールジメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、ノナンジオールジメタアクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジメタアクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレートなどのジメタアクリレート、など<3>三官能以上の多官能メタアクリレート化合物:トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート等のトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパントリメタアクリレート等の3官能のメタアクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサメタアクリレート、等の3官能以上の多官能メタアクリレート化合物、および、これらメタアクリレートの一部をアルキル基やε-カプロラクトンで置換した多官能メタアクリレート化合物誘導体、などが挙げられる。光重合開始剤は、電離放射線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良い。例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、の光重合開始剤を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料100重量部に対して0.1重量部以上10重量部以下程度の範囲内であることが好ましく、さらには1重量部以上7重量部以下程度であることが好ましい。溶媒は、透明基材に選択した材料に応じて、バインダーマトリックスに用いた材料を分散溶解可能な適宜公知の材料を用いてよい。また、溶媒は、複数の材料が混合された混合溶媒であってもよい。混合溶媒を用いることにより、透明基材を溶解または膨潤させる溶媒と透明基材を溶解または膨潤させない溶媒との比率を調整することで塗液内の透明基材を溶解または膨潤させる成分の量の多寡を調整することが出来、混合層を好適に形成可能な塗液を調整することが出来る。混合溶媒を用いる場合、全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の占める比率は、30wt以上90wt以下程度の範囲内にあることが好ましく、40wt以上80wt以下程度の範囲内、50wt以上70wt以下程度の範囲内、がより好ましい。30wtより少ない場合、充分に透明基材を溶解または膨潤できず、好適に混合層を形成することが出来ない。また、90wtより大きい場合、混合層の厚みが増大して反射防止フィルムの硬度が低下する、偏在層の低屈折率粒子が凝集して必要以上のヘイズが発生する、など不適である。透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、透明基材を溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n-ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸n-ペンチル、およびγ-プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、その他としてN-メチル-2-ピロリドンN-メチルピロリドン、炭酸ジメチル、などが挙げられる。また、上記溶媒は1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いてもよい。透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、透明基材を溶解または膨潤させない溶媒としては、例えば、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、n-ヘキサンなどの炭化水素類、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、ジアセトンアルコールなどの一部のケトン類などが挙げられる。また、上記溶媒は1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、塗液に添加剤を添加しても良い。例えば、添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤、などを用いてもよい。<塗布工程>次に、前記塗液を透明基材上に塗布する。透明基材用いる材料は、透明性や光の屈折率等の光学特性、耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、適宜公知の材料より選択してよい。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、6-ナイロン、6,6-ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、などの有機高分子フィルムを用いてもよい。また、透明基材に用いる材料は、添加剤を添加された材料であってもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤、などが挙げられる。また、透明基材用いる材料は、特に、トリアセチルセルロースフィルムからなることが好ましい。トリアセチルセルロースフィルムは、複屈折率が小さく、透明性が良好なフィルムである。このため、特に、液晶ディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムとして、好適に用いることができる。また、透明基材用いる材料は1種または2種以上の材料を混合した混合物、重合体であってもよい。また、透明基材の厚みは25μm以上200μm以下程度の範囲内にあることが好ましく、40μm以上80μm以下程度の範囲内にあることがより好ましい。ただし、本発明の反射防止フィルム製造方法に用いる透明基材の厚みは上記範囲に限定されるものではない。また、透明基材は、複数の層を積層させた多層の基材であってもよい。塗布方法は、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーター、などを用いた塗布方法を用いることができる。<乾燥工程>次に、前記透明基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、塗液内の溶媒を除去し、透明基材上に塗膜を形成する。乾燥は、適宜公知の乾燥手段を用いて行ってよい。例えば、乾燥手段として、加熱、送風、熱風、などを用いることができる。また、乾燥工程は、複数段階の乾燥を行うことが好ましい。本発明の反射防止フィルム製造方法では、塗液によって透明基材を溶解または膨潤することにより混合層を形成するため、塗液を塗工後ただちに急激な乾燥を行うと混合層の形成が阻害される。このため、複数段階の乾燥を行い、段階毎に乾燥条件を変更することで、混合層を形成しつつ、好適に乾燥を行うことが出来る。例えば、一次乾燥した後、二次乾燥を行っても良い。このとき、一次乾燥は、乾燥温度20°C以上30°C以下程度の範囲内で行い、二次乾燥として乾燥温度50°C以上150°C以下程度の範囲内行うことが好ましい。また、乾燥工程では、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間が2秒以上60秒以下程度の範囲内であることが好ましい。塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるという乾燥の初期において、乾燥時間を上記範囲にすることにより、混合層の形成および反射防止層低屈折率層および高屈折率層の偏析を好適に行うことが出来る。乾燥時間が2秒より少ない場合、塗液の急激な乾燥により、反射防止層の偏析が阻害される。また、乾燥時間が60秒より大きい場合、生産にかかるタクトタイムが増加し、コスト増の要因となる。特に、本発明の反射防止フィルム製造方法をロールツーロール方式により実施する場合、乾燥時間が長いと、1透明基材の搬送速度を低下させる、2塗膜を乾燥するための乾燥ユニットを長くする、などが必要となる。このため、乾燥時間が60秒より大きくなると、連続的に製造することが困難となり現実的ではない。なお、塗布された塗液中に含まれる溶媒の量は、重量を測定することにより求めることができる。また、赤外線モニタによっても測定することができる。また、乾燥工程では、溶媒濃度が0.2vol以上10vol以下の溶媒雰囲気下でおこなうことが好ましい。ここで、溶媒濃度は、塗液に含まれる溶媒のうちから選ばれた少なくとも1種類以上の溶媒の濃度をいう。溶媒濃度が0.2volより小さい溶媒雰囲気下の場合、乾燥が急激となり、反射防止層の偏析が阻害される。また、溶媒濃度が10volより大きい溶媒雰囲気下の場合、乾燥時間が増加し、生産にかかるタクトタイムが増加することになり、コスト増の要因となる。<電離放射線照射工程>また、塗液が電離放射線硬化型材料および光重合開始剤を含む塗液の場合、更に、前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化してもよい。電離放射線を照射し、硬化することにより、反射防止フィルム表面に高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。電離放射線としては、紫外線、電子線、などを用いてよい。紫外線硬化の場合、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、などの光源が利用できる。また、電子線硬化の場合、コックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型、などの各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。用いる電子線は、50KeV以上1000KeV以下程度のエネルギーを有するのが好ましく、100KeV以上300KeV以下程度のエネルギーを有する電子線がより好ましい。また、本発明の反射防止フィルム製造方法は、1枚葉状の透明基材に塗布する枚葉方式、2ロール状の透明基材に塗布し、製造された反射防止フィルムを巻き取る、ロールツーロール方式、のいずれの方式で実施しても良い。特に、ロールツーロール方式は反射防止フィルムを連続的に形成でき、本発明の反射防止フィルム製造方法の実施方式として好ましい。例えば、ロールツーロール方式を用いて本発明の反射防止フィルム製造方法の実施する場合、透明基材を、巻き出し部/塗布ユニット/乾燥ユニット/電離放射線照射ユニット/巻き取り部、この順で通過させ、連続走行することにより連続的に反射防止フィルムを製造してもよい。以上より、透明基材/透明基材が溶解または膨潤した混合層/高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層/がこの順で積層した反射防止フィルムを製造することが出来る。以下、本発明の反射防止フィルムについて説明を行う。本発明の反射防止フィルムは、透明基材と、前記透明基材上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された反射防止層と、を備え、前記ハードコート層は、前記透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、前記反射防止層は、少なくとも、低屈折率粒子が局在した低屈折率層および高屈折率粒子が局在した高屈折率層、を有する。本発明の反射防止フィルムでは、混合層は透明基材の成分とバインダーマトリックスの成分とが混合しており、透明基材と混合層との物理的境界は明瞭ではない。このため、各層ごとに塗工して製造された従来の反射防止フィルムと比較して、1層界面による光干渉によって発生する干渉縞、2層界面における物理的剥離、を抑制することが出来る。また、本発明の反射防止フィルムでは、前記混合層と、前記高屈折率層および前記低屈折率層と、は光学的に分離していることが好ましい。本発明の反射防止フィルム製造方法によれば、混合層を形成することにより、混合層と反射防止層高屈折率層および低屈折率層との層分離を促進することが出来る。このため、光学測定を行ったとき混合層と反射防止層とが光学的に分離する程に層分離させることが出来る。なお、本明細書において、光学的に分離しているとは、反射防止フィルムの表面から5°の入射角で可視光380nm以上800nm以下での分光反射率を求め、この分光反射率について光学シミュレーションを行った際に、反射防止層に起因する分光スペクトルを観測することができる状態をいう。また、本発明の反射防止フィルムは、前記低屈折率層の屈折率が1.29以上1.43以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が100nm以上200nm以下の範囲内であり、前記高屈折率層の屈折率が1.53以上1.65以下の範囲内であり、且つ、前記高屈折率層の光学膜厚が200nm以上400nm以下の範囲内であることが好ましい。低屈折率層の光学膜厚を100nm以上200nm以下程度の範囲内とすることにより、低屈折率層の光学膜厚を可視光波長の1/4波長程度とすることが出来る。また、高屈折率層の光学膜厚を200nm以上400nm以下の範囲内とすることにより、高屈折率層の光学膜厚は可視光波長の1/2波長程度とすることが出来る。よって、上記範囲内に低屈折率層および高屈折率層を形成することにより、広い波長域に渡って高い反射防止性能を有する反射防止層とすることができる。また、本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層の光学膜厚が110nm以上140nm以下の範囲、且つ、高屈折率層の光学膜厚が220nm以上280nm以下の範囲であることがより好ましい。低屈折率層および高屈折率層の光学膜厚を上記範囲内に収めたとき、反射防止フィルムの観察面側から求められる分光反射率曲線を500nm近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることができる。分光反射率曲線を500nm近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることで、可視光の波長領域での分光反射率曲線の急峻な上昇を抑制できるため、反射色相が小さく、且つ、色ムラの発生の少ない反射防止フィルムとすることができる。また、混合層、高屈折率層および低屈折率層の3層の合計膜厚は、2.5μm以上15μm以下程度の範囲内にあることが好ましい。2.5μmより小さい場合、十分なハードコート性を備えず、反射防止フィルムの硬度が不十分となってしまい好ましくない。また、15μmより大きい場合、1用いる塗液の量増加によるコスト増、2可撓性の低下、3塗膜の硬化収縮による反射防止フィルムのカールの発生、などの観点から好ましくない。ただし、本発明の反射防止フィルムにおける混合層、高屈折率層および低屈折率層の3層の合計膜厚は上記範囲に限定されるものではない。また、本発明の反射防止フィルムは、観察面側の視感平均反射率は、0.3以上2.0以下程度の範囲内にあることが好ましく、0.3以上1.5以下程度の範囲内であることがより好ましい。観察面側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が2.0より大きい場合、十分な反射防止性能を備える反射防止フィルムとすることができない。また、観察面側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が0.3より小さい場合、光学干渉により反射防止フィルムとして機能することが困難である。また、本発明の反射防止フィルムは、観察面側のLab色度系における反射色相は、0.00≦a≦3.00、且つ、-3.00≦b≦3.00を満たすことが好ましい。反射色相は、a、bが0に近いほど無色に近い。しかしながら、-3.00≦a<0.00は比視感度の高い緑色の領域であり、観察者にとって色味が認識されやすい傾向にある。したがって、本発明の反射防止フィルムにあっては、0.00≦a≦3.00且つ-3.00≦b≦3.00とすることが好ましく、a、bを上記範囲内とすることにより観察者に色味の視認されにくい反射防止フィルムとすることができる。図1に、本発明の反射防止フィルム1の一例を示す。図1は、透明基材20の上層に積層され、ハードコート層として機能する混合層12、混合層12の上層に積層された反射防止層11を備える本発明の反射防止フィルム1の断面模式図である。図1において、反射防止層11は、高屈折率粒子が局在した高屈折率層11b、高屈折率層11bの上層に積層され、低屈折率粒子が局在した低屈折率層11aの2層よりなる。以下、本発明の偏光板について説明を行う。本発明の偏光板は、上述に記載の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする偏光板である。偏光層は、透過したとき偏光させる物性を示す材料を適宜公知の材料から選択して形成してよい。例えば、PVA偏光フィルム、などを用いてもよい。PVA偏光フィルムは、主として延伸配向したポリビニルアルコールフィルム及びその誘導体にヨウ素を配向させて吸着させることにより偏光性能を示すフィルムである。図2に、本発明の偏光板の一例を示す。図2は、本発明の反射防止フィルム1の透明基材側と偏光板透明基材1とで偏光層22を矜持した構成の本発明の偏光板2の模式断面図である。偏光板透明基材1は、本発明の反射防止フィルム1にて用いることが出来る透明基材と同様の材料のものを適宜選択してよい。例えば、偏光板透明基材1として、トリアセチルセルロースからなるフィルムを用いてもよい。以下、本発明の表示装置について説明を行う。本発明の表示装置は、上述に記載の反射防止フィルムを備えた表示装置である。本発明の表示装置は、観察面側に本発明の反射防止フィルムを貼り付けた表示装置や、上述した本発明の偏光板を内部に組み込んだ表示装置、などが挙げられる。また、本発明の表示装置は、本発明の反射防止フィルムおよび偏光板の他に、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルム、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム、などが挙げられる。図3に、本発明の偏光板を内部に組み込んだ透過型液晶ディスプレイを本発明の表示装置の一例として示す。図3は、観察面側から見て、偏光板2/液晶セル3/第二偏光板4/バックライトユニット5、がこの順で配置された表示装置の模式断面図である。偏光板2は、本発明の反射防止フィルム1の透明基材側と偏光板透明基材21とで偏光層22を矜持した構成である。また、第二偏光板は、第二偏光板偏光層42を第二偏光板透明基材上層40と第二偏光板透明基材下層41とで矜持した構成である。また、バックライトユニット5は観察面方向に向け光を投射する。バックライトユニット5から投射した光は、第二偏光板4/液晶セル3/偏光板2を順に透過し、観察面に図柄を表示する。<実施例1>まず、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整した。以下に組成を示す。塗液:実施例1低屈折率粒子:中空シリカ微粒子分散液平均粒子径40nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散2.0重量部。高屈折率粒子:アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液ATO/平均粒子径8nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散6.5重量部。バインダーマトリックス電離放射線硬化型材料:トリメチロールプロパンアクリレート36.7重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート9.2重量部。光重合開始剤:イルガキュア184チバジャパン社製2.4重量部。溶媒:イソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で4:6で混合した混合溶媒43.2重量部。固形分:50wt。塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合:9.2wt。次に、塗液を透明基材上に塗布した。このとき、透明基材は、トリアセチルセルロースフィルム屈折率1.49、厚さ80μmとした。また、ワイヤーバーコーターを用いて塗布した。次に、塗布された塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成した。このとき、一次乾燥し、二次乾燥し、2段階の乾燥を行った。一次乾燥および二次乾燥の乾燥条件を以下に示す。乾燥条件:実施例1一次乾燥:30秒25°Cで室温乾燥。二次乾燥:オーブンで100°C1分乾燥。次に、塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化した。このとき、電離放射線として紫外線を照射した。また、紫外線の照射は、コンベア式紫外線硬化装置を用いて露光量400mJ/cm2とした。以上より、透明基材/混合層/高屈折率層/低屈折率層がこの順で積層された本発明の反射防止フィルムを得た。また、混合層/高屈折率層/低屈折率層の3層を合計した厚みは、5μmであった。<実施例2>実施例1と同様に、反射防止フィルムを製造した。ただし、塗液を以下の組成とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。塗液:実施例2低屈折率粒子:フッ化マグネシウムMgF2微粒子分散液一次粒子径20nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散3.0重量部。高屈折粒子:アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液ATO/平均粒子径8nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散6.5重量部。バインダーマトリックス電離放射線硬化型材料:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA9.1重量部、リメチルプロパンアクリレート36.6重量部。光重合開始剤:イルガキュア184チバジャパン社製2.4重量部。溶媒:アセトンとイソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で7:1:2の割合で混合した混合溶媒42.2重量部。固形分:50wt。塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合:29.5wt。乾燥条件:実施例2一次乾燥:溶剤濃度が2~5volの溶剤雰囲気下にて30秒25°Cで室温乾燥。二次乾燥:オーブンで100°C1分乾燥。一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間は5秒であった。<実施例3>実施例1と同様に、反射防止フィルムを製造した。ただし、塗液を以下の組成とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。塗液:実施例3低屈折率粒子:中空シリカ微粒子分散液平均粒子径40nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散2.0重量部。高屈折粒子:酸化ジルコニウム粒子分散液ZrO2/平均粒子径11nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散5.5重量部。バインダーマトリックス電離放射線硬化型材料:トリメチロールプロパンアクリレート22.8重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート22.8重量部。光重合開始剤:イルガキュア184チバジャパン社製2.4重量部。添加剤:変性シリコーンオイルTSF44GE東芝シリコーン製0.5重量部。溶媒:イソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で4:6の割合で混合した混合溶媒44.0重量部。固形分:50wt。塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合:22.8wt。乾燥条件:実施例3一次乾燥:30秒25°Cで室温乾燥。二次乾燥:オーブンで100°C1分乾燥。<実施例4>実施例1と同様に、反射防止フィルムを製造した。ただし、塗液を以下の組成とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。塗液:実施例4低屈折率粒子:中空シリカ微粒子分散液平均粒子径40nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散2.0重量部。高屈折粒子:アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液ATO/平均粒子径8nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散6.5重量部。バインダーマトリックス電離放射線硬化型材料:トリメチロールプロパンアクリレート13.8重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA13.8重量部。光重合開始剤:イルガキュア184チバジャパン社製1.4重量部。溶媒:酢酸エチルとイソプロピルアルコールを重量比で9:1の割合で混合した混合溶媒65.9重量部。固形分:30wt。塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合:59.3wt。乾燥条件:実施例4一次乾燥:溶剤濃度が2~5volの溶剤雰囲気下にて30秒25°Cで室温乾燥。二次乾燥:オーブンで100°C1分乾燥。一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間は12秒であった。<比較例1>実施例1と同様に、反射防止フィルムを製造した。ただし、塗液を以下の組成とし、塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分を含まない塗液とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。低屈折率微粒子:中空シリカ微粒子分散液平均粒子径40nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散2.0重量部。高屈折率粒子:アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液ATO/平均粒子径8nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散6.5重量部。バインダーマトリックス電離放射線硬化型材料:トリメチロールプロパンアクリレート36.7重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA9.1重量部。光重合開始剤:イルガキュア184チバジャパン社製2.4重量部。溶媒:イソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で4:6の割合で混合した混合溶媒43.2重量部。固形分:50wt塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合:0wt。乾燥条件:比較例1一次乾燥:溶剤濃度が2~5volの溶剤雰囲気下にて30秒25°Cで室温乾燥。二次乾燥:オーブンで100°C1分乾燥。一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間は15秒であった。<比較例2>実施例1と同様に、反射防止フィルムを製造した。ただし、塗液を以下の組成とし、塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分を極微量とし、混合層を形成しないものとした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。塗液:比較例2低屈折率粒子:フッ化マグネシウムMgF2微粒子分散液一次粒子径20nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散3.0重量部。高屈折率粒子:アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液ATO/平均粒子径8nm/固形分20wt/イソプロピルアルコール分散6.5重量部。バインダーマトリックス電離放射線硬化型材料:トリメチルプロパンアクリレート36.6重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA4.9重量部。光重合開始剤:イルガキュア184チバジャパン社製2.0重量部。溶媒:アセトンとイソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で1:5:4の割合で混合した混合溶媒42.4重量部。固形分:50wt塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合:4.2wt乾燥条件:比較例2一次乾燥:溶剤濃度が0.1vol以下の開放空間にて30秒25°Cで室温乾燥。二次乾燥:オーブンで100°C1分乾燥。一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が10wt以下となるまでの時間は8秒であった。<比較例3>透明基材/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルムを各層ごとに積層し、反射防止フィルムを得た。まず、透明基材にハードコート層形成用塗液を塗工し、乾燥し、紫外線照射し、透明基材上にハードコート層を形成した。このとき、透明基材はトリアセチルセルロースフィルムを用いた。また、塗工にはワイヤーバーコーターを用いた。また、乾燥条件は、オーブンで80°C1分乾燥とした。また、紫外線照射は、コンベア式紫外線硬化装置を用いて露光量400mJ/cm2とした。また、形成されたハードコート層の厚みは5μmであった。以下、ハードコート層形成用塗液の組成を以下に示す。ハードコート層形成用塗液:比較例3電離放射線硬化型材料:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA10重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレートPETA30重量部、ウレタンアクリレート共栄社化学株式会社製UA-306T10重量部。光重合開始剤:イルガキュア184チバジャパン株式会社製2.5重量部。溶媒:メチルエチルケトン25重量部、酢酸ブチル25重量部。次に、表面処理されたハードコート層上に高屈折率層形成用塗液を塗工し、乾燥し、ハードコート層上に高屈折率層を形成した。このとき、ハードコート層の表面処理はアルカリ処理とした。また、塗工にはワイヤーバーコーターを用いた。また、乾燥条件は、オーブンで120°C1分間加熱乾燥とした。また、形成された高屈折率層の光学膜厚ndは可視光波長の1/4とした。以下、高屈折率層形成用塗液の調整法を示す。高屈折率層形成用塗液:比較例3テトラエトキシシランにイソプロピルアルコールおよび0.1N塩酸を加え、加水分解し、テトラエトキシシラン重合体を含む溶液を得た。テトラエトキシシラン重合体を含む溶液に一次粒子径が8nmのアンチモンドープ酸化スズATO微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、高屈折率層形成用塗液100重量部中にテトラエトキシシランの重合体2.5重量部、アンチモンドープ酸化スズ微粒子2.5重量部を含む高屈折率層形成用塗液を調整した。次に、高屈折率層上に低屈折率層形成用塗液を塗工し、乾燥し、低屈折率層を形成した。このとき、塗工にはワイヤーバーコーターを用いた。また、乾燥条件は、オーブンで120°C1分間加熱乾燥とした。以下、低屈折率層形成用塗液の調整法を示す。低屈折率層形成用塗液:比較例3テトラエトキシシランと1H,1H,2H,2H-パーフルオロオクチルトリメトキシシランとをmol比で95:5となるように混合し、イソプロピルアルコールおよび0.1N塩酸を加え加水分解し、有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液を得た。有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液に内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液一次粒子径30nm/固形分20重量を混合し、イソプロピルアルコールを加え、低屈折率層形成用塗液100重量部中に有機ケイ素化合物2.0重量部、低屈折率シリカ微粒子2.0重量部を含む低屈折率層形成用塗液を得た。以上より、透明基材/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルムを得た。<測定評価>得られた実施例1~4および比較例1~3の反射防止フィルムについて、1混合層の有無、2分光反射率の測定、3視感平均反射率反射色相の測定、4色むら干渉縞の測定、をそれぞれ行った。表1に結果をまとめて示す。混合層の有無反射防止フィルムについて、ミクロトームによる断面出しをし、断面について電子顕微鏡を用いて観察した。このとき、透明基材との境界が不明瞭であると混合層が形成されたものとした。分光反射率の測定反射防止フィルムについて、観察面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布し、自動分光光度計日立製作所製、U-4000を用いて観察面側の分光反射率を測定した。このとき、測定条件は、C光源、2度視野、入射角5°とした。また、得られた分光反射率曲線から光学シミュレーション法により、低屈折率層および高屈折率層の有無、低屈折率層および高屈折率層の光学膜厚、低屈折率層および高屈折率層の屈折率、ハードコート層混合層の屈折率を求めた。反射防止フィルムにおいて、各層ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の厚みは塗液の組成と単位面積あたりの塗布量および断面観測図からの計測などから予測することができる以下、予測された厚みを想定膜厚という。また、光学膜厚ndは対象となる層の屈折率nと層厚dをかけることにより得られる値である。よって、光学シミュレーションにより求められた光学膜厚が想定膜厚よりも厚い場合、低屈折粒子が局在した低屈折率層および高屈折粒子が局在した高屈折率層が形成されたと判断することが出来る。視感平均反射率反射色相の測定反射防止フィルムについて、観察面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布し、自動分光光度計日立製作所製、U-4000を用いて観察面側の分光反射率を測定した。このとき、測定条件は、C光源、2度視野、入射角5°とした。また、得られた分光反射率から平均視感反射率Y、反射色相a、bを算出した。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。色ムラ干渉縞の測定反射防止フィルムについて、観察面側に蛍光灯を映りこませ、反射光を目視観察することにより、色ムラ干渉縞の有無を確認した。なお、本明細書において、色ムラとは反射防止層として機能する高屈折率層および低屈折率層の膜厚ムラに起因して面内の色バラツキが大きくなり、外観不良となる反射色ムラのことをいう。表1より、混合層を形成するほど充分に透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を用いた実施例1~3では、透明基材/混合層/高屈折率層/低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルムをワンコートで製造できることが確認された。また、実施例1~3の反射防止フィルムは、前記低屈折率層の屈折率が1.29以上1.43以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が100nm以上200nm以下の範囲内であり、前記高屈折率層の屈折率が1.53以上1.65以下の範囲内であり、且つ、前記高屈折率層の光学膜厚が200nm以上400nm以下の範囲内であることおよび観察面側の視感平均反射率は、0.3以上2.0以下の範囲内にあり、観察面側のLab色度系における反射色相は、0.00≦a≦3.00、且つ、-3.00≦b≦3.00を満たすことが確認された。このため、反射防止フィルムとして好適に用いることが出来ることが確認された。混合層を形成するほど充分に透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を用いなかった比較例1~2では、高屈折率粒子および低屈折率粒子の偏析が不十分であり、高屈折率層および低屈折率層が光学測定できるほどに層分離されなかった。よって、実施例1~3と比較した場合、混合層を形成することにより、高屈折率層および低屈折率層の層分離が促進される傾向があることが確認された。また、混合層が形成されなかった比較例1~2では、反射防止層として機能する高屈折率層および低屈折率層が充分に形成されなかったことから、干渉縞が確認された。よって、実施例1~3と比較した場合、反射防止フィルムとして用いるには不適であることが確認された。湿式成膜法を用いて各層ごとに製造した比較例3では、ハードコート層と高屈折率層と低屈折率層との膜厚のばらつきに起因する色ムラの発生が確認された。よって、実施例1~3と比較した場合、混合層の形成によって高屈折率粒子および低屈折率粒子を偏析することにより、膜厚のばらつきの少ない高屈折率層および低屈折率層が形成されることが確認された。"