"ステージを移動可能に支持する支持装置において、基台と、前記基台上に、上下方向に移動可能に取り付けられた移動部材と、前記移動部材を、前記上下方向に駆動する駆動手段と、前記ステージと前記移動部材との相対傾動を許容しつつ両者を連結する関節手段と、前記ステージと前記移動部材とを連結するバネ部材とを有し、前記バネ部材は、前記上下方向におけるバネ剛性が、前記上下方向に直交する方向のバネ剛性より低くなっていることを特徴とする支持装置。前記移動部材には前記上下方向に沿って配置されたガイドレールが設けられ、前記基台には、前記ガイドレールに対して相対移動可能なスライダが設けられていることを特徴とする請求項1に記載の支持装置。前記駆動手段は、モータと、前記モータの回転運動を軸線運動に変換する変換機構と、前記変換機構により変換された軸線運動によって、前記上下方向と交差する水平方向に移動可能な楔部材とを有し、前記楔部材が前記水平方向に移動することに応じて、前記移動部材が、前記上下方向に移動するようになっていることを特徴とする請求項1又は2に記載の支持装置。マスクを保持するマスク保持部と、前記マスク保持部を駆動するマスク駆動機構と、基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を駆動する基板駆動機構と、前記マスクを介して前記基板にパターン露光用の光を照射する照射手段と、を有する露光装置であって、前記基板駆動機構は、前記基板保持部を上下方向に駆動可能であるとともに、前記基板保持部の傾きを調整可能とすべく、前記基板保持部の対向する二辺のうち、一方の辺に少なくとも一つ、他方の辺に少なくとも二つそれぞれ配置された上下方向及びチルト調整機構を有し、前記各上下方向及びチルト調整機構は、請求項1~3のいずれか1項に記載の支持装置によって構成されることを特徴とする露光装置。ところで、ステージの3点をZ軸方向に駆動する際における一つの問題は、かかるステージを、Z軸方向に交差する方向X軸方向やY軸方向にどのように拘束するかである。この拘束が強すぎると、ステージの角度調整が困難になる一方で、拘束が弱すぎると、ステージがX軸方向やY軸方向移動してしまい、ステージの位置決めが困難となる。そこで、ステージとこのステージを支持する基台とを、X軸方向やY軸方向には撓みにくくZ軸方向には撓みやすい板バネで連結し、Z軸駆動部によるステージのZ軸方向移動の際、板バネがステージのX軸方向やY軸方向の移動を拘束するが、Z軸方向にはステージの移動を許容するようにした技術が開発されている。しかしながら、板バネは基台に連結されている為、ステージがZ軸方向に移動すると、基台に対して微小ではあるがX軸方向やY軸方向へも移動してしまい、位置決めの再現性が得られないという問題がある。これに対し、E字形状の板バネを用いて、ステージのZ軸方向の移動に対するX軸方向やY軸方向への移動を減少させる技術も開発されているが、板バネの形状変化が大きい場合には、その性能に誤差が出てしまい、ステージの位置が安定しないという問題がある。そこで本発明は、かかる従来技術の課題に鑑み、再現性高くステージの角度調整を行える支持装置及び露光装置を提供することを目的とする。本発明の支持装置は、ステージを移動可能に支持する支持装置において、基台と、前記基台上に、上下方向に移動可能に取り付けられた移動部材と、前記移動部材を、前記上下方向に駆動する駆動手段と、前記ステージと前記移動部材との相対傾動を許容しつつ両者を連結する関節手段と、前記ステージと前記移動部材とを連結するバネ部材とを有し、前記バネ部材は、前記上下方向におけるバネ剛性が、前記上下方向に直交する方向のバネ剛性より低くなっていることを特徴とする。本発明の露光装置は、マスクを保持するマスク保持部と、前記マスク保持部を駆動するマスク駆動機構と、基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を駆動する基板駆動機構と、前記マスクを介して前記基板にパターン露光用の光を照射する照射手段と、を有する露光装置であって、前記基板駆動機構は、前記基板保持部を上下方向に駆動可能であるとともに、前記基板保持部の傾きを調整可能とすべく、前記基板保持部の対向する二辺のうち、一方の辺に少なくとも一つ、他方の辺に少なくとも二つそれぞれ配置された上下方向及びチルト調整機構を有し、前記各上下方向及びチルト調整機構は、前記支持装置によって構成されることを特徴とする。本発明によれば、前記ステージと前記移動部材とを連結するバネ部材において、前記上下方向におけるバネ剛性が、前記上下方向に直交する方向のバネ剛性より低くなっているので、前記ステージの前記上下方向に直交する方向の変位を制限するが、前記上下方向には前記ステージの変位を許容し、更に前記バネ部材が前記移動部材と共に移動するので、前記バネ部材の形状変化を抑えて、前記移動部材の移動に関わらず、安定した前記ステージの位置精度を得ることができる。更に、前記移動部材には前記上下方向に沿って配置されたガイドレールが設けられ、前記基台には、前記ガイドレールに対して相対移動可能なスライダが設けられていると、前記移動部材の移動を精度良く行える。但し、前記移動部材にスライダを設けて、前記基台にガイドレールを設けても良い。更に、前記駆動手段は、モータと、前記モータの回転運動を軸線運動に変換する変換機構と、前記変換機構により変換された軸線運動によって、前記上下方向と交差する水平方向に移動可能な楔部材とを有し、前記楔部材が前記水平方向に移動することに応じて、前記移動部材が、前記上下方向に移動するようになっていると好ましい。以下、本発明に係る支持装置を用いた露光ユニットについて、図面に基づいて詳細に説明する。ここでは、Z軸方向を上下方向とし、X軸方向とY軸方向を水平方向とする。露光ユニットは、第1層を露光する第1の近接露光装置本体と、第2層を露光する第2の近接露光装置本体と、第3層を露光する第3の近接露光装置本体と、第4層を露光する第4の近接露光装置本体と、を有する。ここで、第1~第4の近接露光装置本体は、後述する基板保持部の吸着面が異なる構成であればよいため、第1の近接露光装置本体2についてのみ以下で詳述し、それ以外は省略する。図1に示すように、第1の近接露光装置本体2は、マスクMを保持するマスクステージマスク保持部10と、ガラス基板被露光材Wを保持する基板ステージ基板保持部20と、パターン露光用の照射手段としての照明光学系30と、基板ステージ20をX軸,Y軸,Z軸方向に移動し、且つ基板ステージ20のチルト調整を行う基板ステージ移動機構基板駆動機構40と、マスクステージ10及び基板ステージ移動機構40を支持する装置ベース50と、を備える。なお、ガラス製の基板Wは、マスクMに対向配置されており、このマスクMに描かれたマスクパターンを露光転写すべく表面マスクMの対向面側に感光剤が塗布されている。また、マスクMは、溶融石英からなり、長方形状に形成されている。まず照明光学系30から説明する。照明光学系30は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ31と、この高圧水銀ランプ31から照射された光を集光する凹面鏡32と、この凹面鏡32の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ33と、光路の向きを変えるための平面ミラー35,36及び球面ミラー37と、この平面ミラー36とオプチカルインテグレータ33との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター34と、を備える。そして、照明光学系30では、露光時に露光制御用シャッター34が開制御されると、高圧水銀ランプ31から照射された光が、図1に示す光路Lを経て、マスクステージ10に保持されるマスクM、さらには基板ステージ20に保持される基板Wの表面に対して垂直にパターン露光用の平行光として照射される。これにより、マスクMのマスクパターンが基板W上に露光転写される。マスクステージ10は、図1~図3に示すように、中央部に矩形形状の開口部11aが形成されるマスクステージベース11と、マスクステージベース11の開口部11aにX軸,Y軸,θ方向に移動可能に装着されるマスク保持枠12と、マスク保持枠12に取り付けられ、マスクMを吸着保持するチャック部14と、マスク保持枠12とチャック部とをX軸,Y軸,θ方向に移動させ、このマスク保持枠12に保持されるマスクMの位置を調整するマスク位置調整機構マスク駆動機構16と、を備える。マスクステージベース11は、装置ベース50上に立設される支柱51、及び支柱51の上端部に設けられるZ軸移動装置52によりZ軸方向に移動可能に支持され、基板ステージ20の上方に配置される。Z軸移動装置52は、例えば、モータ及びボールねじ等からなる電動アクチュエータ、或いは空圧シリンダ等を備え、単純な上下動作を行うことにより、マスクステージ10を所定の位置まで昇降させる。なお、Z軸移動装置52は、マスクMの交換や、ワークチャック21の清掃等の際に使用される。マスク位置調整機構16は、マスク保持枠12のX軸方向に沿う一辺に取り付けられる1台のY軸方向駆動装置16yと、マスク保持枠12のY軸方向に沿う一辺に取り付けられる2台のX軸方向駆動装置16xと、を備える。そして、マスク位置調整機構16では、1台のY軸方向駆動装置16yを駆動させることによりマスク保持枠12をY軸方向に移動させ、2台のX軸方向駆動装置16xを同等に駆動させることによりマスク保持枠12をX軸方向に移動させる。また、2台のX軸方向駆動装置16xのどちらか一方を駆動することによりマスク保持枠12をθ方向に移動Z軸回りの回転させる。さらに、マスクステージベース11の上面には、図3に示すように、マスクMと基板Wとの対向面間のギャップを測定するギャップセンサ17と、チャック部14に保持されるマスクMの取り付け位置を確認するためのマスク用アライメントカメラ18と、が設けられる。これらギャップセンサ17及びマスク用アライメントカメラ18は、移動機構19を介してX軸,Y軸方向に移動可能に保持され、マスク保持枠12内に配置される。なお、マスクステージベース11の上面には、図3に示すように、マスクステージベース11の開口部11aのX軸方向の両端部に、マスクMの両端部を必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ38が設けられる。このマスキングアパーチャ38は、モータ、ボールねじ、及びリニアガイド等からなるマスキングアパーチャ駆動機構39によりX軸方向に移動可能とされて、マスクMの両端部の遮蔽面積を調整する。なお、マスキングアパーチャ38は、開口部11aのX軸方向の両端部だけでなく、開口部11aのY軸方向の両端部に同様に設けてもよい。基板ステージ20は、図1及び図2に示すように、基板ステージ移動機構40上に設置されており、基板Wを基板ステージ20に保持するための吸着面22を上面に有するワークチャック21を備える。なお、ワークチャック21は、真空吸着により基板Wを保持している。基板ステージ移動機構40は、図1及び図2に示すように、基板ステージ20をY軸方向に移動させるY軸送り機構41と、基板ステージ20をX軸方向に移動させるX軸送り機構42と、基板ステージ20のチルト調整を行うと共に、基板ステージ20をZ軸方向に微動させるZ-チルト調整機構上下方向及びチルト調整機構、支持装置43と、を備える。Y軸送り機構41は、装置ベース50の上面にY軸方向に沿って設置される一対のリニアガイド44と、リニアガイド44によりY軸方向に移動可能に支持されるY軸テーブル45と、Y軸テーブル45をY軸方向に移動させるY軸送り駆動装置46と、を備える。そして、Y軸送り駆動装置46のモータ46cを駆動させ、ボールねじ軸46bを回転させることにより、ボールねじナット46aとともにY軸テーブル45をリニアガイド44の案内レール44aに沿って移動させて、基板ステージ20をY軸方向に移動させる。また、X軸送り機構42は、Y軸テーブル45の上面にX軸方向に沿って設置される一対のリニアガイド47と、リニアガイド47によりX軸方向に移動可能に支持されるX軸テーブル48と、X軸テーブル48をX軸方向に移動させるX軸送り駆動装置49と、を備える。そして、X軸送り駆動装置49のモータ49cを駆動させ、ボールねじ軸49bを回転させることにより、不図示のボールねじナットとともにX軸テーブル48をリニアガイド47の案内レール47aに沿って移動させて、基板ステージ20をX軸方向に移動させる。Z-チルト調整機構43について説明する。図4は、Z-チルト調整機構43の斜視図であり、図5は、Z-チルト調整機構43の側面図であり、図6aは、Z-チルト調整機構43と共に示す基板ステージ20の上面図である。Z-チルト調整機構43は、図6aに示すように、基板ステージ20の対向する二辺のうち、一方の辺に一つ、他方の辺に二つ、合計3カ所に設けられ、3点のZ軸方向の位置を任意に調節することで、基板ステージ20の傾き調整を行えるようになっている。図5に示すZ-チルト調整機構43において、X軸テーブル基台48の上面にハウジング431が固定されている。ハウジング431の端部にはモータ432が取り付けられており、モータ432の回転軸432aは、回転軸432aに対して直列に配置されたボールねじ軸433と、ハウジング431内でカップリング434により連結されている。ボールねじ軸433は、ハウジング431に対して軸受435により回転自在に支持されており、その反対端側は、楔部材436に固定されたナット437に、不図示のボールを介して螺合している。ボールねじ機構433,ナット437,不図示のボールとでボールねじ機構即ち変換機構を構成する。又、X軸テーブル48の上面に、Z軸方向に直交する方向であって、ボールねじ軸433の軸線方向に延在するように一対の片方のみ図示ガイドレール438が設けられている。更に、側面が直角三角形状の楔部材436の両側下部に取り付けられたスライダ436aが、ガイドレール438に係合している。従って、楔部材436は、ガイドレール438に沿ってX軸テーブル48に対してY軸方向に移動可能に配置されている。楔部材436の上部には、ガイドレール436bが、Z軸方向と、ボールねじ軸433の軸線方向とに対して傾くようにX軸テーブルに対して角度βで傾いたβ方向に延在するように取り付けられている。更に、移動部材439の下部に取り付けられたスライダ439aが、ガイドレール436bに係合しており、従って、移動部材439は、ガイドレール436bに沿って楔部材436に対してβ方向に相対移動可能に配置されている。移動部材439は、支持上面439bと、Z軸方向に延在するアーム439cとを有する。支持上面439bには、内周が円錐形状となった下座439dが分解可能に設けられている。又、支持上面439bより上方に延在する支持アーム439cの側面には、Z軸方向に延在する一対の片方のみ図示ガイドレール439eが取り付けられている。ガイドレール439eには、それぞれハウジング431に固定されたスライダ431aが係合している。従って、移動部材439は、ガイドレール439eに沿ってハウジング431に対しても相対移動可能に配置されている。かかる支持構成により、特にアーム439cの支持剛性が高まり、後述するバネ部材450の取り付け位置のX軸方向及びY軸方向における位置精度を確保できる。移動部材439の支持上面439bに対向するようにして、関節手段としてチルト支持部440が設けられている。チルト支持部440の下面には、下座439dに対向して、内周が円錐形状となった上座440aが分解可能に設けられている。下座439dと上座440aとの間には、球体441が配置されて関節手段としての球面座を形成しており、従って、移動部材439とチルト支持部440とは、Z軸方向に直交する方向には互いに拘束されているが、相対的に傾き可能となっている。チルト支持部440の上方には、基板ステージ20の下面に取り付けられる基板支持部442が配置され、チルト支持部440の上平面と、基板支持部442の下平面との間には、多数のボール443が配置されている。従って、チルト支持部440と、基板支持部442とは、Z軸方向に直交する方向には或る範囲で相対移動可能となっているが、基板支持部442を全くフリーとしてしまうと、基板ステージ20を位置決めできない。そこで、本実施の形態では、位置拘束用のバネ部材450を設けている。より具体的には、バネ部材450は、図4に示すように、例えば、SUP3、SUP6、SUP7、SUP9、SUP10、SUP12のような、薄い矩形板状のバネ鋼を素材とし、一辺から中央に向かって延在する平行な一対のスリット450aを有している。スリット450aの末端には、応力緩和用の丸穴450d図6c参照が形成されていると好ましく、丸穴450dの直径Dは、スリット450aの幅をtとすると、t≦D≦2tに設定されることが好ましい。スリット450aに挟まれた中央部450bの縁部は、Z軸方向に基板支持部442の下面位置まで延在した、移動部材439のアーム439cの上面にボルトB1で固定されている。一方、スリット450aの両側である周辺部450cの縁部は、基板支持部442の下面にボルトB2で固定されている図5参照。尚、中央部450b及び周辺部450cを取り付けた縁部と反対側の縁部は、拘束されずフリーとなっている。また、図6cに示すように、中央部450bの長さは、周辺部450cの長さよりも短く形成されており、中央部450bの縁部から突出する周辺部450cの部分には傾斜面450eが形成されている。スリット450aの延出方向に対するこの傾斜面450eの傾斜角θは、0°≦θ<90°であればよく、周辺部450cの剛性を考慮すると0°≦θ≦60°であることが好ましく、さらに、バネ部材450の軽量化と周辺部450cの剛性の両方を考慮すると、30°≦θ≦60°に設定されることがより好ましい。次に、Z-チルト調整機構43の動作について説明する。不図示の制御装置からモータ432に駆動信号を送信すると、回転軸432aが回転するので、かかる回転運動はカップリング434を介してボールねじ軸433に伝達される。すると、回転を固定されたナット437との間に相対回動が生じ、これによりナット437に軸線方向力が伝達され、ナット437は楔部材436と共にボールねじ軸433の軸線方向に移動する。楔部材436がボールねじ軸433の軸線方向に移動すると、移動部材439も同方向に力を受けるが、移動部材439は、Z軸方向への移動のみが許容されているため、楔部材436に対してβ方向に相対移動しつつ、ガイドレール439e上をスライダ431aが相対滑動することで、ハウジング431に対してZ軸方向上下にに移動する。これにより、球面座、チルト支持部440,基板支持部442を介して基板ステージ20をZ軸方向に移動させることができる。ここで、3つのZ-チルト調整機構43のZ軸方向駆動量が異なる場合、X軸テーブル48に対して基板ステージ20が傾くことになるが、かかる傾きは、球面座が作用することで、移動部材439に対してチルト支持部440が傾くことで許容されることとなる。又、X軸テーブル48に対して基板ステージ20がX軸方向又はY軸方向に微小に移動する場合、ボール443がこれを許容するようになっている。一方、X軸テーブル48に対して基板ステージ20がX軸方向又はY軸方向に無制限に移動することを抑制すべく、バネ部材450が機能する。即ち、スリット450aの内方端側で連結された中央部450bと周辺部450cは、それぞれ片持ち状であり互いにV字状に逆方向に容易に撓むことで、移動部材439に対して基板支持部442が傾くことは許容する。一方、X軸方向及びY軸方向バネ部材450の面方向には、バネ部材450は剛性が高く変形しにくい為、移動部材439に対して基板支持部442が移動することを抑制する。これにより、X軸テーブル48に対して基板ステージ20がZ軸方向に移動しても、X軸方向又はY軸方向の位置決め精度を確保できる。特に、X軸方向の位置決め精度を確保するためには、中央部450bの剛性が得られるように、中央部450bの幅aをバネ部材450の幅Lの1/2未満a<L/2とすることが好ましい図6b参照。また、図6cに示すように、中央部450bの長さXは、周辺部450cの長さをX1とすると、X≦X1/2に設定されることで、中央部450bの剛性をさらに高めることができる。さらに、図6aにおいて、基板ステージ20の対向する二辺のうち、一方の辺に設けられたZ-チルト調整機構43Aにおけるバネ部材450のばね剛性は、他方の辺に設けられた二つのZ-チルト調整機構43Bにおけるバネ部材450のばね剛性よりも大きく設定されることが好ましく、Z-チルト調整機構43Bにおけるバネ部材450のばね剛性の2倍に設定されることがより好ましい。これにより、剛性に偏りがなくなり、位置決め精度を向上することができる。さらに、バネ部材450の幅Lは、バネ部材450の剛性によって基板ステージ20を支持するのに十分に耐えうるように、基板ステージ20の幅をL ́とすると、0.1≦L/L ́≦0.5に設定されることが好ましい。更に本実施の形態によれば、バネ部材450が移動部材439のアーム439cの上面と、基板支持部442の下面に取り付けられて、Z軸方向に一体的に移動するので、ハウジング431と連結する場合に比べバネ部材450の形状変化を抑えられ、従って移動部材439の移動に関わらず、安定した基板ステージ20の位置精度を得ることができる。以上により、基板ステージ20のZ軸,チルト方向の位置を微調整して、マスクMと基板Wとを所定の間隔を存して平行に対向させることができる。さらに、第1の近接露光装置本体2には、図1及び図2に示すように、基板ステージ20の位置を検出する位置測定装置であるレーザ測長装置60が設けられる。このレーザ測長装置60は、基板ステージ移動機構40の駆動に際して発生する基板ステージ20の移動距離を測定するものである。レーザ測長装置60は、ステー71に固定されて基板ステージ20のX軸方向側面に沿うように配設されるX軸用ミラー64と、ステー71に固定されて基板ステージ20のY軸方向側面に沿うように配設されるY軸用ミラー65と、装置ベース50のX軸方向端部に配設され、レーザ光計測光をX軸用ミラー64に照射し、X軸用ミラー64により反射されたレーザ光を受光して、基板ステージ20の位置を計測するX軸測長器測長器61及びヨーイング測定器測長器62と、装置ベース50のY軸方向端部に配設され、レーザ光をY軸用ミラー65に照射し、Y軸用ミラー65により反射されたレーザ光を受光して、基板ステージ20の位置を計測する1台のY軸測長器測長器63と、を備える。そして、レーザ測長装置60では、X軸測長器61、ヨーイング測定器62、及びY軸測長器63からX軸用ミラー64及びY軸用ミラー65に照射されたレーザ光が、X軸用ミラー64及びY軸用ミラー65で反射されることにより、基板ステージ20のX軸,Y軸方向の位置が高精度に計測される。また、X軸方向の位置データはX軸測長器61により、θ方向の位置はヨーイング測定器62により測定される。なお、基板ステージ20の位置は、レーザ測長装置60により測定されたX軸方向位置、Y軸方向位置、及びθ方向の位置を加味して、適宜補正を加えることにより算出されるので、その結果に基づき、基板ステージ移動機構40は、基板Wの位置を調整できる。以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更改良が可能であることはもちろんである。上記実施の形態では、駆動手段は、モータ432と、モータ432の回転運動を軸線運動に変換するボールねじ機構で構成される変換機構と、変換機構により変換された軸線運動によって、Y軸方向に移動可能な楔部材436とを有しているが、本発明の駆動手段は、これに限定されるものではない。例えば、図7に示す第1変形例のように、駆動手段は、駆動部材500に固定された可動子501と、固定子502によって構成されるリニアモータであってもよく、これにより、軸線運動する駆動部材500に固定された楔部材436がY軸方向に移動することに応じて、移動部材439が、上下方向に移動する。また、本発明のバネ部材は、図8に示す第2変形例のように、複数枚のバネ部材450を重ねることによって構成されてもよい。さらに、本発明の上下方向及びチルト調整機構は、基板保持部を上下方向に駆動するとともに、基板保持部の傾きを調整するように構成されればよく、基板保持部の対向する二辺のうち、一方の辺に少なくとも一つ、他方の辺に少なくとも二つ有する構成であればよい。なお、本発明は、2010年5月7日出願の日本特許出願特願2010-107100、2011年4月26日出願の日本特許出願特願2011-098044及び2011年4月26日出願の日本特許出願特願2011-098045に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。"