前面基板に導電性の第1電極および第2電極を間に放電ギャップを設けて配置して表示電極を構成するとともに前記表示電極を行方向に複数本配列して設けた前面板と、前記前面板に放電空間を設けて対向配置されかつ前記表示電極と交差する列方向に複数本のデータ電極を形成して交差部分に放電セルを設けた背面板と、前記背面板に設けられかつ前記放電空間を前記放電セル毎に区画する隔壁とを有し、前記第1電極および第2電極は、透明電極と、前記透明電極に電気的に接続するように形成した導電性のバス電極とにより構成され、前記透明電極は前記放電セル毎に短冊状に分割して形成した第1の透明電極領域とストライプ状の第2の透明電極領域とを有し、かつ、前記第2の透明電極領域は前記バス電極よりも前記放電ギャップ側に5μm以上20μm以下の範囲で突出していることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。放電ギャップ側の第1の透明電極領域の先端は曲線を含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。前記第1の透明電極領域は、放電ギャップ側にのみ形成されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。本発明はこのような現状に鑑みなされたもので、微細加工された透明電極の表示品質を改善し、良好なPDPを提供することを目的とする。本発明のプラズマディスプレイパネルは前面基板に導電性の第1電極および第2電極を間に放電ギャップを設けて配置して表示電極を構成するとともに表示電極を行方向に複数本配列して設けた前面板と、前面板に放電空間を設けて対向配置されかつ表示電極と交差する列方向に複数本のデータ電極を形成して交差部分に放電セルを設けた背面板と、背面板に設けられかつ放電空間を放電セル毎に区画する隔壁とを有し、第1電極および第2電極は、透明電極と、透明電極に電気的に接続するように形成した導電性のバス電極とにより構成され、透明電極は放電セル毎に短冊状に分割して形成した第1の透明電極領域とストライプ状の第2の透明電極領域とを有し、かつ、第2の透明電極領域はバス電極よりも放電ギャップ側に5μm以上20μm以下の範囲で突出していることを特徴とする。本発明によれば、パネルの黄変を抑制して、透明電極の微細加工ができるという効果が得られる。実施の形態1以下、本発明の実施の形態1によるPDPについて、図1~図4、図9、図10を用いて説明する。しかし、本発明の実施の態様は実施の形態1に限定されるものではない。1、PDP21の構成まず、本発明の実施の形態1によるPDP21の全体構成について、図1~図3を用いて説明する。図1は本発明の実施の形態1によるPDPにおいて、前面板1と背面板2とを分離した状態で示す分解斜視図、図2は前面板1と背面板2とを貼り合わせてPDP21としたときの放電セル構造を示す断面図である。この図1、図2に示すように、PDP21は、ガラス製の前面板1と背面板2とを、その間に放電空間3を形成するように対向配置することにより構成されている。前面板1は、ガラス製の前面基板4上に導電性の第1電極である走査電極5および第2電極である維持電極6を、間に放電ギャップMGを設けて互いに平行に配置して表示電極7を構成するとともに、その表示電極7を行方向に複数本配列して設け、そして前記走査電極5および維持電極6を覆うようにガラス材料からなる誘電体層8が形成され、その誘電体層8上にはMgOからなる保護膜9が形成されている。走査電極5および維持電極6は、それぞれITOなどの透明電極5a、6aと、この透明電極5a、6aをそれぞれに電気的に接続されるように形成されたAgなどの導電性金属からなる膜厚が数μm程度のバス電極5b、6bとから構成されている。また、背面板2は、ガラス製の背面基板10上に、ガラス材料からなる絶縁体層11で覆われかつ列方向にストライプ状に配列したAgからなる複数本のデータ電極12が設けられ、そして絶縁体層11上には、前面板1と背面板2との間の放電空間3を放電セル毎に区画するためのガラス材料からなる井桁状の隔壁13が設けられている。また、絶縁体層11の表面および隔壁13の側面には、赤色R、緑色G、青色Bの蛍光体層14R、14G、14Bが設けられている。そして、走査電極5および維持電極6とデータ電極12とが交差するように前面板1と背面板2とが対向配置され、前記走査電極5および維持電極6とデータ電極12が交差する交差部分には、図3に示すように、放電セル15が設けられている。また、放電空間3には、放電ガスとして、例えばネオンとキセノンの混合ガスが封入されている。なお、PDP21の構造は上述したものに限られるわけではなく、例えばストライプ状の隔壁を備えたものであってもよい。ここで、図2に示すように、放電セル15を形成する井桁形状の隔壁13は、データ電極12に平行に形成された縦隔壁13aと、この縦隔壁13aに直交するように形成した横隔壁13bとから構成されている。また、この隔壁13内に塗布して形成される蛍光体層14R、14G、14Bは、縦隔壁13aに沿ってストライプ状に青色蛍光体層14B、赤色蛍光体層14R、緑色蛍光体層14Gの順に配列して形成されている。図3はこの図1、図2に示すPDP21の電極配列図である。行方向に長いn本の走査電極Y1、Y2、Y3Yn図1の5およびn本の維持電極X1、X2、X3Xn図1の6が配列され、列方向に長いm本のデータ電極A1Am図1の12が配列されている。そして、1対の走査電極Y1および維持電極X1と1つのデータ電極A1とが交差した部分に放電セル15が形成され、放電セル15は放電空間内にm×n個形成されている。また、前記走査電極Y1および維持電極X1は、図3に示すように、走査電極Y1-維持電極X1-維持電極X2-走査電極Y2の配列で繰り返すパターンで、前面板1に形成されている。そしてこれらの電極のそれぞれは、前面板1、背面板2の画像表示領域外の周辺端部に設けられた接続端子それぞれに接続されている。2、PDP装置の構成と駆動について次に、上述したPDP21を用いたプラズマディスプレイ装置以下、PDP装置と示すの全体構成について説明する。図9はプラズマディスプレイ装置の全体構成を示すブロック図である。このプラズマディスプレイ装置は、図1~図3に示す構成のPDP21、画像信号処理回路22、データ電極駆動回路23、走査電極駆動回路24、維持電極駆動回路25、タイミング発生回路26および電源回路図示せずを備えている。また、データ電極駆動回路23は、PDP21のデータ電極12の一端に接続され、かつ前記データ電極12に電圧を供給するための半導体素子からなる複数のデータドライバを有している。前記データ電極12は、数本ずつのデータ電極12で1ブロックとして複数のブロックに分割し、そのブロック単位で複数のデータドライバをPDP21の下端部の電極引出部に接続して配置している。図9において、画像信号処理回路22は、画像信号sigをサブフィールド毎の画像データに変換する。データ電極駆動回路23はサブフィールド毎の画像データを各データ電極A1~Amに対応する信号に変換し、各データ電極A1~Amを駆動する。タイミング発生回路26は水平同期信号Hおよび垂直同期信号Vをもとにして各種のタイミング信号を発生し、各駆動回路ブロックに供給している。走査電極駆動回路24はタイミング信号にもとづいて走査電極Y1~Ynに駆動電圧波形を供給し、維持電極駆動回路25はタイミング信号にもとづいて維持電極X1~Xnに駆動電圧波形を供給する。なお、維持電極側は、PDP21内、またはPDP21外において共通に接続された後、その共通接続配線が維持電極駆動回路25に接続されている。3、PDP装置の駆動について次に、PDPを駆動するための駆動電圧波形とその動作について図10を用いて説明する。図10はPDP21の各電極に印加する駆動電圧波形を示す図である。本実施の形態によるPDP21においては、1フィールドを複数のサブフィールドに分割し、それぞれのサブフィールドは初期化期間、書込み期間、維持期間を有している。3-1、初期化期間第1サブフィールドの初期化期間では、データ電極A1~Amおよび維持電極X1~Xnを0Vに保持し、走査電極Y1~Ynに対して放電開始電圧以下となる電圧Vi1Vから放電開始電圧を超える電圧Vi2Vに向かって緩やかに上昇するランプ電圧を印加する。すると、すべての放電セルにおいて1回目の微弱な初期化放電を起こし、走査電極Y1~Yn上に負の壁電圧が蓄えられるとともに維持電極X1~Xn上およびデータ電極A1~Am上に正の壁電圧が蓄えられる。ここで、電極上の壁電圧とは電極を覆う誘電体層や蛍光体層上等に蓄積した壁電荷により生じる電圧を指す。その後、維持電極X1~Xnを正の電圧VhVに保ち、走査電極Y1~Ynに電圧Vi3Vから電圧Vi4Vに向かって緩やかに下降するランプ電圧を印加する。すると、すべての放電セルにおいて2回目の微弱な初期化放電を起こし、走査電極Y1~Yn上と維持電極X1~Xn上との間の壁電圧が弱められ、データ電極A1~Am上の壁電圧も書込み動作に適した値に調整される。3-2、書込み期間続く書込み期間では、走査電極Y1~Ynを一旦VrVに保持する。次に、1行目の走査電極Y1に負の走査パルス電圧VaVを印加するとともに、データ電極A1~Amのうち1行目に表示すべき放電セルのデータ電極Akk=1~mに正の書込みパルス電圧VdVを印加する。このときデータ電極Akと走査電極Y1との交差部の電圧は、外部印加電圧Vd-VaVにデータ電極Ak上の壁電圧と走査電極Y1上の壁電圧とが加算されたものとなり、放電開始電圧を超える。そして、データ電極Akと走査電極Y1との間および維持電極X1と走査電極Y1との間に書込み放電が起こり、この放電セルの走査電極Y1上に正の壁電圧が蓄積され、維持電極X1上に負の壁電圧が蓄積され、データ電極Ak上にも負の壁電圧が蓄積される。このようにして、1行目に表示すべき放電セルで書込み放電を起こして各電極上に壁電圧を蓄積する書込み動作が行われる。一方、書込みパルス電圧VdVを印加しなかったデータ電極A1~Amと走査電極Y1との交差部の電圧は放電開始電圧を超えないので、書込み放電は発生しない。以上の書込み動作をn行目の放電セルに至るまで順次行い、書込み期間が終了する。3-3、維持期間続く維持期間では、走査電極Y1~Ynには第1の電圧として正の維持パルス電圧VsVを、維持電極X1~Xnには第2の電圧として接地電位、すなわち0Vをそれぞれ印加する。このとき書込み放電を起こした放電セルにおいては、走査電極Yii=1~n上と維持電極Xi上との間の電圧は維持パルス電圧VsVに走査電極Yi上の壁電圧と維持電極Xi上の壁電圧とが加算されたものとなり、放電開始電圧を超える。そして、走査電極Yiと維持電極Xiとの間に維持放電が起こり、このとき発生した紫外線により蛍光体層が発光する。そして走査電極Yi上に負の壁電圧が蓄積され、維持電極Xi上に正の壁電圧が蓄積される。このときデータ電極Ak上にも正の壁電圧が蓄積される。書込み期間において書込み放電が起きなかった放電セルでは、維持放電は発生せず、初期化期間の終了時における壁電圧が保持される。続いて、走査電極Y1~Ynには第2の電圧である0Vを、維持電極X1~Xnには第1の電圧である維持パルス電圧VsVをそれぞれ印加する。すると、維持放電を起こした放電セルでは、維持電極Xi上と走査電極Yi上との間の電圧が放電開始電圧を超えるので、再び維持電極Xiと走査電極Yiとの間に維持放電が起こり、維持電極Xi上に負の壁電圧が蓄積され走査電極Yi上に正の壁電圧が蓄積される。3-4、第2のサブフィールド以降以降同様に、走査電極Y1~Ynと維持電極X1~Xnとに交互に輝度重みに応じた数の維持パルスを印加することにより、書込み期間において書込み放電を起こした放電セルで維持放電が継続して行われる。こうして維持期間における維持動作が終了する。続くサブフィールドにおける初期化期間、書込み期間、維持期間の動作も第1サブフィールドにおける動作とほぼ同様のため、説明を省略する。4、PDP21の製造方法4-1、前面板の製造方法フォトリソグラフィ法によって、前面基板4上に、走査電極5および維持電極6が形成される。走査電極5は、インジウム錫酸化物ITOなどの透明電極5aと、透明電極5aに積層された銀Agなどからなるバス電極5bとから構成されている。維持電極6は、ITOなどの透明電極6aと、透明電極6aに積層されたAgなどからなるバス電極6bとから構成されている。バス電極5b、6bの材料には、銀Agと銀を結着させるためのガラスフリットと感光性樹脂と溶剤などを含む電極ペーストが用いられる。まず、スクリーン印刷法などによって、電極ペーストが、透明電極5a、6aが形成された前面基板4に塗布される。次に、乾燥炉によって、電極ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、電極ペーストが露光される。次に、電極ペーストが現像され、バス電極パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、バス電極パターンが所定の温度で焼成される。つまり、電極パターン中の感光性樹脂が除去される。また、電極パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、バス電極5b、6bが形成される。ここで、電極ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、スパッタ法、蒸着法などを用いることができる。次に、誘電体層8が形成される。誘電体層8の材料には、誘電体ガラスフリットと樹脂と溶剤などを含む誘電体ペーストが用いられる。まずダイコート法などによって、誘電体ペーストが所定の厚みで走査電極5、維持電極6を覆うように前面基板4上に塗布される。次に、乾燥炉によって、誘電体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、誘電体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、誘電体ペースト中の樹脂が除去される。また、誘電体ガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた誘電体ガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、誘電体層8が形成される。ここで、誘電体ペーストをダイコートする方法以外にも、スクリーン印刷法、スピンコート法などを用いることができる。また、誘電体ペーストを用いずに、CVDChemicalVaporDeposition法などによって、誘電体層8となる膜を形成することもできる。次に、誘電体層8上に保護膜9が形成される。以上の工程により前面基板4上に走査電極5、維持電極6、誘電体層8および保護膜9を有する前面板1が完成する。4-2、背面板2の製造方法フォトリソグラフィ法によって、背面基板10上に、データ電極12が形成される。データ電極12の材料には、導電性を確保するための銀Agと銀を結着させるためのガラスフリットと感光性樹脂と溶剤などを含むデータ電極ペーストが用いられる。銀Agは、平均粒径が約1.1μmの小粒子を用いることで、緻密に銀Ag粒子が充填され、データ電極の焼成時による断線を防止することができる。まず、スクリーン印刷法などによって、データ電極ペーストが所定の厚みで背面基板10上に塗布される。次に、乾燥炉によって、データ電極ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、データ電極ペーストが露光される。次に、データ電極ペーストが現像され、データ電極パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、データ電極パターンが所定の温度で焼成される。つまり、データ電極パターン中の感光性樹脂が除去される。また、データ電極パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、データ電極12が形成される。なお、電極ペーストの材料として、TiO2などのフィラーを含むことも可能である。フィラーを含まない場合、ガラス成分の焼結と銀Agの焼結とがほぼ同時に行われるので、銀Agの焼結が不十分なままになってしまう。しかし、フィラーを含むことにより、銀Ag粒子の焼結開始後にガラス成分の焼結が開始するため、銀Ag粒子の焼結が不十分になることを防ぐ。その結果、銀Ag粒子が緻密に充填されたデータ電極が完成する。ここで、データ電極ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、スパッタ法、蒸着法などを用いることができる。次に、絶縁体層11が形成される。絶縁体層11の材料には、絶縁体ガラスフリットと樹脂と溶剤などを含む絶縁体ペーストが用いられる。具体的には、本発明の実施の形態において絶縁体ペーストは、ガラス成分20-50、絶縁性フィラー10-50、導電性フィラー0-5、バインダ10-20、溶剤20-30の配合比のものを数種類用いた。絶縁性フィラーとは、シリカやチタニアのような絶縁性をもった物質で構成されたフィラーであり、導電性フィラーは酸化スズやマンガンといった導電性をもった物質で構成されたフィラーである。また絶縁性フィラーとガラス成分の比率を変更することで、絶縁体層の空隙率を変更できる。後述する実験結果においてはこれらの配合比を変更して試料を作成し検討した。特に、ガラス成分40-50、絶縁性フィラー10-20とすることで、背面基板10側から厚み0~50の深さの空隙率の平均値を0.1~1の範囲とする。ここで空隙率とは、絶縁体層の中で絶縁体層11が存在していない部分の体積の割合であって、以下の方法で測定される。1背面板2を割断し、絶縁体層11の断面が露出したサンプルを切り出す2絶縁体層11を二次電子走査型電子顕微鏡SEMにて撮像する3撮像された絶縁体断面の画像から、空隙率を算出するまた絶縁体層の断面は、SEM撮像時のコントラストを上げ、かつ割断時の割れ具合による測定ばらつきを防止するため、空隙部や周辺を樹脂でコートすることが望ましい。本測定は、日立製作所製走査型電子顕微鏡S-3000を用いて行った。算出に用いた撮像は反射電子計測モードで、加速電圧15kV、ワークディスタンス15mmにて行った。絶縁体層11の厚み0~50における空隙率の平均値が1を越えると、放電ガスが外部に漏れ出し、PDPの品質を損ねる。また、絶縁体層11の厚み0~50における空隙率の平均値が0.1より小さいと、絶縁体層11の反射率が著しく小さくなるためPDPの発光輝度が下がることになる。これは、空隙率が小さくなったことによって絶縁体層の空隙の界面において反射する光が少なくなり、前面基板から取り出される光の量が少なくなることに起因する。したがって、空隙率の平均値は、0.1~1の範囲とする。その結果、スパーク発生率を80低減することが可能となる。まず、スクリーン印刷法などによって、絶縁体ペーストが所定の厚みでデータ電極12が形成された背面基板10上にデータ電極12を覆うように塗布される。次に、乾燥炉によって、絶縁体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、絶縁体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、絶縁体ペースト中の樹脂が除去される。また、絶縁体ガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた絶縁体ガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、絶縁体層11が形成される。ここで、絶縁体ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、ダイコート法、スピンコート法などを用いることができる。また、絶縁体ペーストを用いずに、CVDChemicalVaporDeposition法などによって、絶縁体層11となる膜を形成することもできる。次に、フォトリソグラフィ法によって、隔壁13が形成される。隔壁13の材料には、フィラーと、フィラーを結着させるためのガラスフリットと、感光性樹脂と、溶剤などを含む隔壁ペーストが用いられる。まず、ダイコート法などによって、隔壁ペーストが所定の厚みで絶縁体層11上に塗布される。次に、乾燥炉によって、隔壁ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、隔壁ペーストが露光される。次に、隔壁ペーストが現像され、隔壁パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、隔壁パターンが所定の温度で焼成される。つまり、隔壁パターン中の感光性樹脂が除去される。また、隔壁パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、隔壁13が形成される。ここで、フォトリソグラフィ法以外にも、サンドブラスト法などを用いることができる。次に、蛍光体層14が形成される。蛍光体層14の材料には、蛍光体粒子とバインダと溶剤などとを含む蛍光体ペーストが用いられる。まず、ディスペンス法などによって、蛍光体ペーストが所定の厚みで隣接する複数の隔壁13間の絶縁体層11上および隔壁13の側面に塗布される。次に、乾燥炉によって、蛍光体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、蛍光体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、蛍光体ペースト中の樹脂が除去される。以上の工程によって、蛍光体層14が形成される。ここで、ディスペンス法以外にも、スクリーン印刷法などを用いることができる。以上の工程により、背面基板10上に、データ電極12、絶縁体層11、隔壁13および蛍光体層14を有する背面板2が完成する。4-3、前面板1と背面板2との組立方法まず、ディスペンス法などによって、背面板2の周囲に封着ペーストが塗布される。封着ペーストは、ビーズと低融点ガラス材料とバインダと溶剤などを含んでいてもよい。塗布された封着ペーストは、封着ペースト層図示せずを形成する。次に乾燥炉によって、封着ペースト層中の溶剤が除去される。その後、封着ペースト層は、約350°Cの温度で仮焼成される。仮焼成によって、封着ペースト層中の樹脂成分などが除去される。次に、表示電極7とデータ電極12とが直交するように、前面板1と背面板2とが対向配置される。さらに、前面板1と背面板2の周縁部が、クリップなどにより押圧した状態で保持される。この状態で、所定の温度で焼成することにより、低融点ガラス材料が溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた低融点ガラス材料がガラス化する。これにより、前面板1と背面板2とが気密封着される。最後に、放電空間にNe、Xeなどを含む放電ガスが封入されることによりPDP21が完成する。5、表示電極について5-1、透明電極の微細構造について次に、本発明のPDP21の表示電極7の構成について、さらに詳細に説明する。図4は、表示電極7を構成する走査電極5および維持電極6について説明するためにさらに詳細に示した図である。また、図4は、前面基板4上から透明電極5a、6aとバス電極5b、6bを見たときの図である。図4に示すように、表示電極7は走査電極5および維持電極6で構成され、走査電極5および維持電極6は、それぞれ透明電極5a、6aと透明電極5a、6aに電気的に接続するように形成した導電性のバス電極5b、6bとにより構成される。そして、透明電極5aはストライプ状に形成した第2の透明電極領域17とそれぞれ放電セル15毎に短冊状に複数に分割して形成された第1の透明電極領域16とが一体となった形状で構成されている。さらに、第1の透明電極領域16は隔壁13で囲まれた放電空間セル内において複数に分割され、放電ギャップMG側に突出した形状となっている。また、同様に、透明電極6aはストライプ状に形成した第2の透明電極領域17とそれぞれ放電セル15毎に短冊状に複数に分割して形成された第1の透明電極領域16とが一体となった形状で構成されている。さらに、第1の透明電極領域16は隔壁13で囲まれた放電空間セル内において複数に分割され、放電ギャップMG側に突出した形状となっている。そして、放電セル15において走査電極5の短冊状の第1の透明電極領域16の先端部と維持電極6の短冊状の第1の透明電極領域16の先端部との間に放電ギャップMGが形成される。ここで、本発明者らが行った実験の結果が説明される。なお、本実験では、2つのパラメータを変更したプラズマディスプレイパネルが作製された。1つ目は、放電ギャップMGを介して向かいあう走査電極及び維持電極の第1の透明電極領域16の幅図中および以下L幅と示される。である。2つ目は、同じ電極において隣り合う透明電極領域16間の幅図中および以下S幅と示される。である。L幅とS幅との変更に応じて、第1の透明電極領域16の幅と隣り合う第1の透明電極領域16間の幅とを合計した1ペアの幅図中および以下P幅と示される。が変更される。また、P幅が変更されることで、1つの放電セル15のピッチ内に設けられる上記ペアの数は変更される。図4に示す電極構造において、L幅14μmの短冊状の第1の透明電極領域16をS幅15μmの間隔で複数本に分割して形成した。この場合、分割せずにベタパターンで透明電極を形成した場合に比べ、発光効率を約10向上させることができた。また、L幅20μmの短冊状の第1の透明電極領域16をS幅20μmの間隔で複数本に分割して形成した。この場合も、分割せずにベタパターンで透明電極を形成した場合に比べ、発光効率を約10向上させることができた。さらに、L幅14μmの短冊状の第1の透明電極領域16を、S幅15μm以上の間隔になるように広げたサンプルを作成し、ベタパターンの透明電極を形成した場合と発光効率を比べた場合、表示電極7を覆う誘電体層8の膜厚よりも広い間隔とすることにより、より発光効率を向上させる効果が得られることがわかった。すなわち、第1の透明電極領域16を細幅の短冊状とし、表示電極7を覆う誘電体層8の膜厚より広い間隔で放電セル15内に配置することにより、無効電力を低減させ、発光効率を向上させることができる。なお、図示していないが、表示電極7を構成する走査電極5および維持電極6と隔壁13との配置関係の他の例として短冊状の透明電極5a、6aにおいて、走査電極側の第1の透明電極領域16と維持電極側の第1の透明電極領域16の位置を互い違いに対向させて配置したものであってもよい。5-2、透明電極の膜厚と維持電圧との関係次に、短冊状の第1の透明電極領域16および第2の透明電極領域17を有する透明電極5a、6aと透明電極5a、6aの膜厚について説明する。図5は、前面基板4上から透明電極5a、6aとバス電極5b、6bを見た図である。ここで、図4に示すように、短冊状の第1の透明電極領域16の形状を有する表示電極の構造は、短冊状の第1の透明電極領域16の形状を有さないベタパターンの透明電極の構造に対して、維持期間に走査電極および維持電極に印加される維持電圧Vsが高い。それは、面間容量が低くなり、電荷をためにくくなるためである。また、PDP21のコストダウンのためには、透明電極5a、6aの薄膜化は必須である。しかし、透明電極5a、6aの膜厚を薄膜化すると、バス電極5b、6bと透明電極5a、6aのコンタクト抵抗が急激に上昇してしまい、維持電圧Vsがさらに大きくなる。さらに、短冊状の第1の透明電極領域16を有する構造では、バス電極5b、6bが前面基板4に直接接触する面積が大きくなる。その結果、前面基板4のSnなどの成分とバス電極のAgなどの成分が接触し、結果的にPDP21が黄変してしまう。そこで、図5に示すように透明電極5a、6aの構造は、走査電極および維持電極における放電ギャップMG側の第2の透明電極領域17をバス電極5b、6bの放電ギャップMG側の端辺より5μm以上20μm以下の範囲で、放電ギャップMG側に突出した構造にする。つまり、図5に示すように、第2の透明電極領域17がバス電極5b、6bから突出している領域は、放電ギャップMGを介して向かい合っている。これにより、バス電極5b、6bと透明電極5a、6aとのコンタクト抵抗を抑制できる。つまり、第2の透明電極領域が放電ギャップMG側にバス電極5b、6bのMG側の端辺から突出していない場合と比較して維持電圧Vsがより低い。また、バス電極5b、6bと前面基板4が直接接触する面積は、第2の透明電極領域17が放電ギャップMG側にバス電極5b、6bのMG側の端辺から突出していない場合と比較して小さい。つまり、前面基板4のSnなどの成分とバス電極5b、6bのAgなどの成分が接触する面積がより小さくなるため、PDP21の黄変を抑制することができる。実施の形態2以上、実施の形態1について説明した。しかし、実施の形態1と同様の効果を有する構成は図5に示す構成に限らない。次に実施の形態2について説明する。例えば、実施の形態2を図6に示す。図6は、透明電極5a、6aの放電ギャップMG側とは反対側のIPG側に短冊状の透明電極が形成されていない。つまり、IPG側はベタパターンであり、GM側にしか短冊状の第1の透明電極領域16が形成されていない。そして、図6に示すように、実施の形態2においても、実施の形態1と同様に放電ギャップMG側の第2の透明電極領域17をバス電極5b、6bの放電ギャップMG側の端辺より5μm以上20μm突出した構造である。これにより、バス電極5b、6bと透明電極5a、6aとのコンタクト抵抗を抑制できる。つまり、第2の透明電極領域17が放電ギャップMG側にバス電極5b、6bのMG側の端辺から突出していない場合と比較して維持電圧Vsがより小さい。また、バス電極5b、6bと前面基板4が直接接触する面積は、第2の透明電極領域17が放電ギャップMG側にバス電極5b、6bのMG側の端辺から突出していない場合と比較して小さい。つまり、前面基板4のSnなどの成分とバス電極のAgなどの成分が接触する面積がより小さくなるため、PDP21の黄変を抑制することができる。実験例実施の形態1と実施の形態2におけるPDPの維持電圧と黄変の影響を図7と図8を用いてより詳細に説明する。以下、説明の便宜上、構成1を短冊状の形状を有さないベタパターンのみの形状である透明電極5a、6aを備えるPDPとする。また、構成2を走査電極、維持電極共に短冊状の第1の透明電極領域16と短冊状の形状を有さないベタパターンである第2の透明電極領域17とが一体化した透明電極5a、6aであり、この第2の透明電極領域17のMG側とIPG側がバス電極5b、6bによりそれぞれ覆われている構成を備えるPDPとする。また、構成3を本発明の実施の形態1の場合のPDP例えば図5とし、構成4を本発明の実施の形態2の場合のPDP例えば図6とする。1-1、維持電圧Vs図7は、透明電極5a、6aの膜厚Åと維持電圧差Vとの関係を示したグラフである。図7は、横軸に透明電極5a、6aの膜厚Å、縦軸に□を基準とした維持電圧差Vを示している。具体的に説明すると、□は、構成1の維持電圧Vsを基準としており、維持電圧差を0Vと設定する。◇は比較例として、構成2の維持電圧から構成1の維持電圧Vsを差し引いた□との維持電圧差を示している。また、△は、構成4の維持電圧から構成1の維持電圧Vsを差し引いた□との維持電圧差を示している。図7に示すように、構成2◇は透明電極5a、6aの膜厚が薄膜になるほど、構成1□との維持電圧差が大きい。つまり、構成2◇の場合、維持電圧Vsは透明電極5a、6aの膜厚が薄膜になるほど大きい。一方、構成4△は透明電極5a、6aの膜厚が薄膜であっても、構成1□との維持電圧差は構成2◇に比べて極めて小さい。つまり、構成4△の場合の方が構成2◇より維持電圧Vsをより小さくすることができる。1-2、黄変レベルさらに、各構成における黄変レベルについても実験した。図8は、構成2と構成3と構成4の黄変レベルを示した図である。図8の一番左側から構成2、構成3、構成4の黄変レベルを示している。ここで、構成4の黄変レベルを1とし、基準値とする。図8に示すように、構成2の場合の方が、構成3および構成4よりも黄変レベルが大きい。つまり、構成3および構成4の場合は、放電ギャップMG側に形成される第2の透明電極領域17がMG側にバス電極5b、6bのMG側の端辺から5μm以上20μm以下突出している場合、黄変レベルがより小さいことがわかる。つまり、前面基板のSnなどの成分とバス電極のAgなどの成分が接触する面積がより小さくなるため、PDP21の黄変を抑制していることがわかる。さらに、構成3と構成4とを比較すると、構成4の方が黄変レベルが小さい。このことから、構成3より構成4のほうが、前面基板のSnなどの成分とバス電極のAgなどの成分が接触する面積がより小さくなるため、PDP21の黄変をより抑制していることがわかる。その他の実施の形態以上の説明のように、実施の形態1および実施の形態2について説明した。しかし、上記実施の形態に限らない。つまり、放電ギャップMG側の第2の透明電極領域17がバス電極5b、6bの幅より5μm以上20μm突出した構造であれば同等の効果を有する。また、維持電極、走査電極ともに、放電ギャップMGを形成する短冊状の第1の透明電極領域16の先端部は曲線を含んでいることが望ましい。例えば、第1の透明電極領域16の先端部が丸みを帯びた形状となっていてもよく、その丸みの半径φは、0≦φ≦d/2の範囲を満たしている。これにより、放電ギャップMG付近の第1の透明電極領域16の面積が減少し、走査電極-走査電極間の静電容量を低減させることが可能となる。さらには、無効電力としては、丸みを帯びていない場合と比べて、さらに3も低減することが可能である。尚、放電ギャップMGを形成する短冊状の第1の透明電極領域16の先端部の形状が細くなっていれば、同等以上の効果を実現できる。