"プラスチック成形体の表面に、ガスバリア薄膜を形成するガスバリア性プラスチック成形体の製造方法において、前記プラスチック成形体の表面に、発熱体CVD法で、主の原料ガスとして一般式化1で表される有機シラン系化合物を用い、かつ、添加ガスとして酸化ガスを用い、かつ、タンタルTaを主たる構成元素として含む発熱体を用いて、前記ガスバリア薄膜を形成する成膜工程を有することを特徴とするガスバリア性プラスチック成形体の製造方法。化1H3Si‐Cn‐X化1において、nは2又は3であり、XはSiH3、H又はNH2である。前記有機シラン系化合物が、ビニルシランであることを特徴とする請求項1に記載のガスバリア性プラスチック成形体の製造方法。前記酸化ガスが、二酸化炭素を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のガスバリア性プラスチック成形体の製造方法。前記二酸化炭素と前記有機シラン系化合物との混合比が6:100~260:100であることを特徴とする請求項3に記載のガスバリア性プラスチック成形体の製造方法。前記酸化ガスが、酸素を含み、かつ、前記酸素と前記有機シラン系化合物との混合比が4:100~130:100であることを特徴とする請求項1又は2に記載のガスバリア性プラスチック成形体の製造方法。前記プラスチック成形体が、フィルム、シート又は容器であることを特徴とする請求項1~5のいずれか一つに記載のガスバリア性プラスチック成形体の製造方法。前記発熱体は、金属タンタル、タンタル基合金又は炭化タンタルであることを特徴とする請求項1~6のいずれか一つに記載のガスバリア性プラスチック成形体の製造方法。前記成膜工程の後に、雰囲気中に酸化ガスを供給して発熱体を加熱する発熱体の再生工程を有することを特徴とする請求項1~7のいずれか一つに記載のガスバリア性プラスチック成形体の製造方法。SiOx薄膜は、無色透明で、高いガスバリア性を有するため、ガスバリア薄膜として広く適用されている。しかし、SiOx薄膜は、耐水性に課題があることが知られている。SiOx薄膜は、薄膜中に炭素を含有させるとプラスチック基板との密着性が良好となるが、炭素の含有量を多くすると着色の問題があり、用途が限られてしまう。これまで、安全性の高い原料ガスだけを用いて、実質無色で、かつ、ガスバリア性を有するガスバリア薄膜を、発熱体CVD法を用いて形成することはあまり検討されていない。本発明の目的は、プラスチック成形体の表面に、発熱体CVD法で、シランやトリメチルアルミなどを使用する場合と比較して安全性の高い原料ガスだけを用いて、実質無色で、かつ、ガスバリア性を有するガスバリア薄膜を形成する方法を提供することである。本発明に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法は、プラスチック成形体の表面に、ガスバリア薄膜を形成するガスバリア性プラスチック成形体の製造方法において、前記プラスチック成形体の表面に、発熱体CVD法で、主の原料ガスとして一般式化1で表される有機シラン系化合物を用い、かつ、添加ガスとして酸化ガスを用い、かつ、タンタルTaを主たる構成元素として含む発熱体を用いて、前記ガスバリア薄膜を形成する成膜工程を有することを特徴とする。化1H3Si‐Cn‐X化1において、nは2又は3であり、XはSiH3、H又はNH2である。本発明に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法では、前記有機シラン系化合物が、ビニルシランであることが好ましい。ガスバリア性に優れた薄膜を、シラン又はトリメチルアルミなどを使用する場合と比較して安全に、かつ、効率的に形成することができる。本発明に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法では、前記酸化ガスが、二酸化炭素を含むことが好ましい。膜の酸化度合いの制御が可能で、着色が少なくても高いガスバリア性を発揮することができる。特に、二酸化炭素を用いると、膜の酸化度合いの制御が容易であり、いわゆるプロセスウインドウを広く得ることができる。本発明に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法では、前記二酸化炭素と前記有機シラン系化合物との混合比が6:100~260:100である形態を包含する。本発明に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法では、前記酸化ガスが、酸素を含み、かつ、前記酸素と前記有機シラン系化合物との混合比が4:100~130:100である形態を包含する。本発明に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法では、前記プラスチック成形体が、フィルム、シート又は容器である形態を含む。本発明に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法では、前記発熱体は、金属タンタルTa、タンタル基合金又は炭化タンタルTaCxである形態を含む。本発明に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法では、前記成膜工程の後に、雰囲気中に酸化ガスを供給して発熱体を加熱する発熱体の再生工程を有することが好ましい。複数の成形体に同一条件で連続して成膜したときに、後半で成膜したもののガスバリア性が前半で成膜したもののガスバリア性よりも低下するのを抑制することができる。本発明は、プラスチック成形体の表面に、発熱体CVD法で、安全性の高い原料ガスだけを用いて、実質無色で、かつ、ガスバリア性を有する薄膜を形成する方法を提供することができる。次に、本発明について実施形態を示して詳細に説明するが本発明はこれらの記載に限定して解釈されない。本発明の効果を奏する限り、実施形態は種々の変形をしてもよい。まず、プラスチック成形体の表面にガスバリア薄膜を形成することができる成膜装置について説明する。図1は、成膜装置の一形態を示す概略図である。図1に示す成膜装置は、プラスチック成形体が容器である場合に、該容器の内表面に薄膜を成膜できる装置である。図1に示した成膜装置100は、プラスチック成形体としてのプラスチック容器11を収容する真空チャンバ6と、真空チャンバ6を真空引きする排気ポンプ不図示と、プラスチック容器11の内部に挿脱可能に配置され、プラスチック容器11の内部へ原料ガスを供給する、絶縁、かつ、耐熱の材料で形成された原料ガス供給管23と、原料ガス供給管23に支持された発熱体18と、発熱体18に通電して発熱させるヒータ電源20と、を有する。真空チャンバ6は、その内部にプラスチック容器11を収容する空間が形成されており、その空間は薄膜形成のための反応室12となる。真空チャンバ6は、下部チャンバ13と、この下部チャンバ13の上部に着脱自在に取り付けられて下部チャンバ13の内部をOリング14で密閉するようになっている上部チャンバ15とから構成されている。上部チャンバ15には図示していない上下の駆動機構があり、プラスチック容器11の搬入搬出に伴い上下する。下部チャンバ13の内部空間は、そこに収容されるプラスチック容器11の外形よりも僅かに大きくなるように形成されている。真空チャンバ6の内側、特に下部チャンバ13の内側は、発熱体18の発熱に伴って放射される光の反射を防ぐために、内面28が黒色内壁となっているか、又は内面が表面粗さRmax0.5μm以上の凹凸を有していることが好ましい。表面粗さRmaxは、例えば表面粗さ測定器アルバックテクノ社製、DEKTAX3を用いて測定する。内面28を黒色内壁とするためには、黒ニッケルメッキ黒クロームメッキなどのメッキ処理、レイデント黒染などの化成皮膜処理、又は、黒色塗料を塗布して着色する方法がある。さらに、冷却水が流される冷却管などの冷却手段29を真空チャンバ6の内部又は外部に設けて、下部チャンバ13の温度上昇を防止することが好ましい。真空チャンバ6のうち、特に下部チャンバ13を対象とするのは発熱体18がプラスチック容器11に挿入されているときに、ちょうど下部チャンバ13の内部空間に収容された状態となるからである。光の反射の防止及び真空チャンバ6の冷却を行うことで、プラスチック容器11の温度上昇と、それに伴う熱変形を抑制できる。さらに、通電された発熱体18から発生した放射光が通過できる透明体からなるチャンバ30、例えばガラス製チャンバを下部チャンバ13の内側に配置すると、プラスチック容器11に接するガラス製チャンバの温度が上昇しにくいため、プラスチック容器11に与える熱的影響をさらに軽減させることができる。原料ガス供給管23は、上部チャンバ15の内側天井面の中央において下方に垂下するように支持されている。原料ガス供給管23には、流量調整器24a,24b,24cとバルブ25a,25b,25c,25dを介して原料ガス33及び添加ガス又は必要に応じてキャリアガスが流入される。原料ガス33の供給は、原料ガス33として用いる物質が液体である場合には、バブリング法によって供給することができる。すなわち、原料タンク40a内に収容された出発原料41aに、流量調節器24aで流量制御しながらボンベ42aからバブリングガスを供給し、出発原料41aの蒸気を発生させて原料ガス33として供給する。キャリアガスは、ボンベ42cに収容されて、流量調節器24cで流量制御しながら供給される。図1に示す成膜装置において、原料ガスとして用いる物質が気体である場合には、原料タンク40aを設けずに、原料ガスをボンベ42aに充填して流量調整器24aで流量制御しながら供給する形態に変形をすればよい。原料ガス供給管23は、冷却管を有し、一体に形成されていることが好ましい。このような原料ガス供給管23の構造としては、例えば二重管構造がある。原料ガス供給管23において、二重管の内側管路は原料ガス流路17となっており、その一端は上部チャンバ15に設けられたガス供給口16に接続されていて、その他端はガス吹き出し孔17xとなっている。これにより原料ガスはガス供給口16に接続された原料ガス流路17の先端のガス吹き出し孔17xから吹き出されるようになっている。一方、二重管の外側管路は、原料ガス供給管23を冷却するための冷却水流路27であり、冷却管として役割をなしている。そして、発熱体18が通電され発熱しているとき、原料ガス流路17の温度が上昇する。これを防止するため、冷却水流路27に冷却水が循環している。すなわち、冷却水流路27の一端では、上部チャンバ15に接続された不図示の冷却水供給手段から冷却水の供給がなされ、同時に冷却水供給手段に冷却を終えた冷却水が戻される。一方、冷却水流路27の他端は、ガス吹き出し孔17x付近において封止されていて、ここで冷却水が折り返して戻される。冷却水流路27によって、原料ガス供給管23全体が冷却される。冷却することでプラスチック容器11に与える熱的影響を低減させることができる。したがって、原料ガス供給管23の材質は絶縁体で熱伝導率が大きいものが良い。例えば、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素若しくは酸化アルミニウムを主成分とする材料で形成されたセラミック管であるか、又は、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素若しくは酸化アルミニウムを主成分とする材料で表面が被覆された金属管であることが好ましい。発熱体に安定して通電することができ、耐久性があり、かつ、発熱体で発生した熱を熱伝導によって効率よく排熱させることができる。原料ガス供給管23について、不図示の他形態として、次のようにしてもよい。すなわち、原料ガス供給管を二重管とし、その外側管を原料ガス流路として外側管の側壁に孔、好ましくは複数の孔を開ける。一方、原料ガス供給管の二重管の内側管は、緻密な管で形成し、冷却水流路として冷却水を流す。発熱体は原料ガス供給管の側壁に沿って配線されるが、側壁に沿った部分の発熱体に、外側管の側壁に設けた孔を通った原料ガスが接触し、効率よく化学種を生成させることができる。ガス吹き出し孔17xは、プラスチック容器11の底と離れすぎていると、プラスチック容器11の内部に薄膜を形成することが難しい。本実施形態では、原料ガス供給管23の長さは、ガス吹き出し孔17xからプラスチック容器11の底までの距離L1が5~50mmとなるように形成することが好ましい。膜厚の均一性が向上する。5~50mmの距離で均一な薄膜をプラスチック容器11の内表面に成膜することができる。距離が50mmより大きいとプラスチック容器11の底に薄膜が形成しにくくなる場合がある。また、距離が5mmより小さいと原料ガスの吹き出しができにくくなる場合、又は膜厚分布が不均一になる場合がある。この事実は、理論的にも把握することができる。500mlの容器の場合、容器の胴径が6.4cm、常温の空気の平均自由工程λ=0.68/Pa[cm]から、分子流は圧力<0.106Pa、粘性流は圧力>10.6Pa、中間流は0.106Pa<圧力<10.6Paとなる。成膜時のガス圧5~100Paでは、ガスの流れは中間流から粘性流となり、ガス吹き出し孔17xとプラスチック容器11の底の距離に最適条件があることになる。発熱体18は、発熱体CVD法において、原料ガスの分解を促進する。導電性を有することで、通電によりそれ自体を発熱させることが可能となる。発熱体18は配線形状に形成され、原料ガス供給管23の上部チャンバ15における固定箇所の下方に設けた、配線19と発熱体18との接続箇所となる接続部26aに、発熱体18の一端が接続される。そして先端部分であるガス吹き出し孔17xに設けた絶縁セラミックス部材35で支持される。さらに、折り返して、接続部26bに発熱体18の他端が接続される。このように、発熱体18は原料ガス供給管23の側面に沿って支持されているため、下部チャンバ13の内部空間のほぼ主軸上に位置するように配置されることとなる。図1では、発熱体18は、原料ガス供給管23の軸と平行となるように原料ガス供給管23の周囲に沿って配置した場合を示したが、接続部26aを起点として原料ガス供給管23の側面に螺旋状に巻きつけ、ガス吹き出し孔17x付近に固定された絶縁セラミックス35で支持したあと、接続部26bに向けて折り返して戻してもよい。ここで発熱体18は、絶縁セラミックス35に引っ掛けることで原料ガス供給管23に固定されている。図1では、発熱体18は、原料ガス供給管23のガス吹き出し孔17x付近において、ガス吹き出し孔17xの出口側に配置されている場合を示した。これによって、ガス吹き出し孔17xから吹き出た原料ガスは発熱体18と接触しやすくなるため、原料ガスを効率よく活性化させることができる。ここで、発熱体18は、原料ガス供給管23の側面から僅かに離して配置することが好ましい。原料ガス供給管23の急激な温度上昇を防止するためである。また、ガス吹き出し孔17xから吹き出た原料ガス及び反応室12にある原料ガスとの接触機会を増やすことができる。この発熱体18を含む原料ガス供給管23の外径は、プラスチック容器の口部21の内径よりも小さいことが必要である。発熱体18を含む原料ガス供給管23をプラスチック容器の口部21から挿入するためである。したがって、必要以上に発熱体18を原料ガス供給管23の表面から離すと、原料ガス供給管23をプラスチック容器の口部21から挿入するときに接触しやすくなってしまう。発熱体18の横幅は、プラスチック容器の口部21から挿入する時の位置ズレを考慮すると、10mm以上、mm以下が適当である。例えば、口部21の内径はおおよそ21.7~39.8mmである。発熱体18は、例えば、通電することで発熱させることができる。図1に示す装置では、発熱体18には、接続部26a,26b及び配線19を介して、ヒータ電源20が接続されている。ヒータ電源20によって発熱体18に電気を流すことで、発熱体18が発熱する。なお、本発明は、発熱体18の発熱方法に限定されない。発熱体18を発熱させたときの上限温度は、その発熱体の軟化温度よりも低温とすることが好ましい。軟化温度以上では、発熱体が変形して制御ができない場合がある。また、プラスチック容器の口部21から容器の肩にかけてはプラスチック容器11の成形時の延伸倍率が小さいため、高温に発熱する発熱体18が近くに配置されると、熱による変形を起こしやすい。実験によれば、配線19と発熱体18との接続箇所である接続部26a,26bの位置を、プラスチック容器の口部21の下端から10mm以上離さないとプラスチック容器11の肩の部分が熱変形を起こし、50mmを超えると、プラスチック容器11の肩の部分に薄膜が形成しにくくなった。そこで発熱体18は、その上端がプラスチック容器の口部21の下端から10~50mm下方に位置するように配置されることが良い。すなわち、接続部26a,26bと口部21の下端との距離L2が10~50mmとなるようにすることが好ましい。容器の肩部の熱変形を抑制できる。また上部チャンバ15の内部空間には、排気管22が真空バルブ8を介して連通されており、図示しない排気ポンプによって真空チャンバ6の内部の反応室12の空気が排気されるようになっている。図1に示す成膜装置は、高周波電源が不要であり、プラズマCVD法の成膜装置よりも装置が安価となる。ガスバリア薄膜92をプラスチック容器の内表面に形成する装置について説明してきたが、ガスバリア薄膜92をプラスチック容器の外表面に形成するには、例えば、特許文献2の図4に示す成膜装置を用いて行うことができる。また、プラスチック成形体がフィルム又はシートである場合には、例えば、反応室12を円筒状としてその内壁にフィルム又はシートを沿わせて固定することで、フィルム又はシートの表面にガスバリア薄膜92を形成することができる。また、真空チャンバ6内にロール状のフィルム又はシートを繰り出すロールと薄膜が形成されたフィルム又はシートを巻き取るロールとからなる巻取装置を設ける変形をしてもよい。また、成膜装置は、図1に示す装置に限定されず、例えば、特許文献2に示すように種々の変形をすることができる。次に、本実施形態に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法について、図1を参照しながら説明する。図2は、本実施形態に係るガスバリア性プラスチック成形体の一例を示す断面図である。本実施形態に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法は、プラスチック成形体91の表面に、ガスバリア薄膜92を形成するガスバリア性プラスチック成形体90の製造方法において、プラスチック成形体91の表面図1では、プラスチック容器11の内表面に、発熱体CVD法で、主の原料ガス33として一般式化1で表される有機シラン系化合物を用い、かつ、添加ガスとして酸化ガスを用い、かつ、タンタルTaを主たる構成元素として含む発熱体18を用いて、ガスバリア薄膜92を形成する成膜工程を有する。化1H3Si‐Cn‐X化1において、nは2又は3であり、XはSiH3、H又はNH2である。成膜装置へのプラスチック成形体の装着まず、ベント不図示を開いて真空チャンバ6内を大気開放する。反応室12には、上部チャンバ15を外した状態で、下部チャンバ13の上部開口部からプラスチック成形体91としてのプラスチック容器11が差し込まれて、収容される。この後、位置決めされた上部チャンバ15が降下し、上部チャンバ15につけられた原料ガス供給管23とそれに固定された発熱体18がプラスチック容器の口部21からプラスチック容器11内に挿入される。そして、上部チャンバ15が下部チャンバ13にOリング14を介して当接することで、反応室12が密閉空間とされる。このとき、下部チャンバ13の内壁面とプラスチック容器11の外壁面との間隔は、ほぼ均一に保たれており、かつ、プラスチック容器11の内壁面と発熱体18との間の間隔も、ほぼ均一に保たれている。プラスチック成形体91は、図1には容器である形態を示したが、これに限定されず、フィルム又はシートである形態を包含する。その形状は、目的及び用途に応じて適宜設定をすることができ、特に限定されない。容器は、蓋、栓若しくはシールして使用する容器、又はそれらを使用せず開口状態で使用する容器を含む。開口部の大きさは、内容物に応じて適宜設定することができる。プラスチック容器は、剛性を適度に有する所定の肉厚を有するプラスチック容器と剛性を有さないシート材によって形成されたプラスチック容器とを含む。本発明は、容器の製造方法に制限されない。内容物は、例えば、水、茶飲料、清涼飲料、炭酸飲料又は果汁飲料などの飲料、液体、粘体、粉末又は固体状の食品である。また、容器は、リターナブル容器又はワンウェイ容器のどちらであってもよい。フィルム又はシートは、長尺なシート状物、カットシートを含む。フィルム又はシートは、延伸又は未延伸であるかを問わない。本発明は、プラスチック成形体91の製造方法に制限されない。プラスチック成形体91を構成する樹脂は、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂PET、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂PP、シクロオレフィンコポリマー樹脂COC、環状オレフィン共重合、アイオノマー樹脂、ポリ‐4‐メチルペンテン‐1樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン‐ビニルアルコール共重合樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、又は、4弗化エチレン樹脂、アクリロニトリル-スチレン樹脂、アクリロニトリル‐ブタジエン‐スチレン樹脂である。これらは、1種を単層で、又は2種以上を積層して用いることができるが、生産性の点で、単層であることが好ましい。また、樹脂の種類は、PETであることがより好ましい。プラスチック成形体91の厚さは、目的及び用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されない。プラスチック成形体91が、例えば、飲料用ボトルなどの容器である場合には、ボトルの肉厚は、50~500μmであることが好ましく、より好ましくは、100~350μmである。また、包装袋を構成するフィルムである場合には、フィルムの厚さは、3~300μmであることが好ましく、より好ましくは、10~100μmである。プラスチック成形体91が、電子ペーパー又は有機ELなどのフラットパネルディスプレイの基板である場合には、フィルムの厚さは、25~200μmであることが好ましく、より好ましくは、50~100μmである。また、容器を形成するためのシートである場合には、シートの厚さは、50~500μmであることが好ましく、より好ましくは100~350μmである。そして、プラスチック成形体91が、容器である場合には、ガスバリア薄膜92は、その内壁面若しくは外壁面のいずれか一方又は両方に設ける。また、プラスチック成形体91が、フィルムである場合には、ガスバリア薄膜92は、片面又は両面に設ける。圧力調整工程次いでベント不図示を閉じたのち、排気ポンプ不図示を作動させ、真空バルブ8を開とすることにより、反応室12内の空気が排気される。このとき、プラスチック容器11の内部空間のみならずプラスチック容器11の外壁面と下部チャンバ13の内壁面との間の空間も排気されて、真空にされる。すなわち、反応室12全体が排気される。そして反応室12内が必要な圧力、例えば1.0~100Paに到達するまで減圧することが好ましい。より好ましくは、1.4~50Paである。1.0Pa未満では、排気時間がかかる場合がある。また、100Paを超えると、プラスチック容器11内に不純物が多くなり、高いバリア性を付与することができない場合がある。大気圧から、1.4~50Paに到達するように減圧すると、適度な真空圧とともに、大気、装置及び容器に由来する適度な残留水蒸気圧を得ることができ、簡易にバリア性のある酸化薄膜を形成できる。発熱体への通電次に発熱体18を、例えば通電することで発熱させる。発熱体18は、タンタルTaを主たる構成元素として含み、例えば、金属タンタルからなる形態、タンタル及びタングステン、ニオブなどのタンタルと合金を形成するその他の金属の合金からなる形態がある。合金である場合には、タンタルを90質量以上含有することが好ましい。より好ましくは、99質量以上であり、更に好ましくは99.9以上である。発熱体18の発熱温度は、1600°C以上であることが好ましい。より好ましくは、1700°C以上である。また、発熱温度の上限温度は、その発熱体の軟化温度よりも低温とすることが好ましい。軟化温度以上では、発熱体18が変形して制御ができない場合がある。上限温度は、2400°Cが好ましい。より好ましくは、2100°Cである。発熱体18は、炭化タンタルTaCxである形態を包含する。炭化タンタルTaCx中の炭素原子の比率は質量比で0質量を超え6.2質量以下であることが好ましい。より好ましくは、3.2質量を超え6.2質量以下である。このとき、炭化タンタルTaCx中の炭素原子の元素濃度は、0at.atomic、原子を超え50at.以下であることが好ましい。より好ましくは、33at.を超え50at.以下である。ここで、タンタルTaを主たる構成元素として含むとは、発熱体の材料が、タンタル原子を元素濃度で50at.以上含むことをいう。原料ガスの導入この後、ガス流量調整器24aで原料ガス33を所定流量供給し、ガス流量調整器24bで添加ガスを所定流量供給する。さらに、必要に応じてキャリアガスをガス流量調整器24cで流量制御しながら、バルブ25dの手前で原料ガス33に混合する。キャリアガスは、例えば、アルゴン、ヘリウム、窒素などの不活性ガスである。すると、原料ガス33及び添加ガスは、ガス流量調整器24a,24bで流量制御された状態で、又はキャリアガスによって流量が制御された状態で、所定の圧力に減圧されたプラスチック容器11内において、原料ガス供給管23のガス吹き出し孔17xから発熱した発熱体18に向けて吹き出される。このように発熱体18を昇温完了後、原料ガス33の吹き付けを開始することが好ましい。成膜初期から、発熱体18によって十分に活性化された化学種34を生成させることができ、プラスチック成形体との密着性をより高めることができる。原料ガス33として用いる物質が、液体である場合には、バブリング法で供給することができる。バブリング法に用いるバブリングガスは、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガスであり、窒素ガスがより好ましい。すなわち、原料タンク40a内の出発原料41aを、ボンベ42aに充填されたバブリングガスを用いてガス流量調整器24aで流量制御しながらバブリングすると、出発原料41aが気化してバブル中に取り込まれる。こうして、原料ガス33は、バブリングガスと混合した状態で供給される。原料ガス33は、主として、一般式化1で表される有機シラン系化合物である。化1において、n=2のときは、Cnの態様例は、C‐C間が単結合である態様C2H4,C‐C間が二重結合である態様C2H2,C‐C間が三重結合である態様C2である。n=3のときは、Cnの態様例は、C‐C間が単結合である態様C3H6,C‐C間が単結合及び二重結合である態様C3H4,C‐C間が単結合及び三重結合である態様C3H2である。具体的には、一般式化1で表される有機シラン系化合物は、例えば、ビニルシランH3SiC2H3、ジシラブタンH3SiC2H4SiH3、ジシリルアセチレンH3SiC2SiH3、2‐アミノエチルシランH3SiC2H2NH2である。これらは、単独又は組み合わせて使用することができる。この中で、成膜効率が高い点で、ビニルシランがより好ましい。本実施形態では、一般式化1で表される有機シラン系化合物が主原料ガスであれば、副原料ガスを混合した混合ガスを原料ガスとして供給してもよい。ここで、主原料ガスとは、一般式化1で表される有機シラン系化合物の含有量が、原料ガス全体容量に対して50体積以上である。より好ましくは80体積以上、特に好ましくは90体積以上である。副原料ガスを用いることで、原料コストを抑えて、より安価にガスバリア性プラスチック成形体を得ることができる。副原料ガスは、例えば、アセチレン、メタン、エタンである。原料ガス33の供給量は、特に限定されないが、3~200sccmであることが好ましい。より好ましくは、30~500sccmである。バブリング法で供給する場合には、バブリングガスの流量は、3~80sccmであることが好ましく、より好ましくは、10~50sccmである。添加ガスは、酸化ガスを含有する。酸化ガスは、例えば、酸素O2、オゾンO3、水蒸気H2O、二酸化炭素CO2である。この中で、二酸化炭素がより好ましい。本発明では、酸化ガスとして、笑気ガス一酸化二窒素;N2Oを除くことが好ましい。添加ガスの供給量は、酸化ガスの種類によって異なるが、例えば、酸化ガスが二酸化炭素である場合には、二酸化炭素の供給量と原料ガス33の供給量との混合比が、6:100~260:100であることが好ましい。原料ガスの供給量が100に対して、二酸化炭素の供給量が20~200であるCO2:原料ガス=1:5~2:1ことがより好ましく、原料ガスの供給量が100に対して、二酸化炭素の供給量が40~100であるCO2:原料ガス=1:2.5~1:1ことが特に好ましい。また、酸化ガスが酸素である場合には、酸素の供給量と原料ガス33の供給量との混合比が、4:100~130:100であることが好ましい。原料ガスの供給量が100に対して、酸素の供給量が10~100であるO2:原料ガス=1:10~1:1ことがより好ましく、原料ガスの供給量が100に対して、酸素の供給量が12~50であるO2:原料ガス=1:8.3~0.5:1ことが特に好ましい。すなわち、原料ガスの流量が50sccmである場合を例にとって説明すると、酸化ガスが二酸化炭素である場合には、二酸化炭素の流量を、3sccm以上130sccm以下とすることが好ましく、10sccm以上100sccm以下とすることがより好ましく、20sccm以上50sccm以下とすることが特に好ましい。また、酸化ガスが酸素である場合には、酸素の流量を、2sccm以上65sccm以下とすることが好ましく、5sccm以上50sccm以下とすることがより好ましく、6sccm以上25sccm以下とすることが特に好ましい。キャリアガスの流量は、特に限定されないが、0~80sccmであることが好ましい。より好ましくは、5~50sccmである。なお、本明細書において、キャリアガスの流量が0sccmとはキャリアガスを用いず、原料ガス33及び添加ガスだけを供給することを意味し、この場合ではガス流量調整器24cは使用されない。成膜原料ガス33及び添加ガスが発熱体18と接触すると構成元素として、Si、C及びOを含有する化学種34が生成される。この化学種34が、プラスチック容器11の内壁に到達することで、構成元素として少なくともケイ素、炭素及び酸素を含有するガスバリア薄膜を堆積することになる。ガスバリア薄膜の成膜において発熱体18を発熱させて原料ガス33及び添加ガスを発熱体18に吹き付ける時間以降、成膜時間ということもある。は、0.5~10秒であることが好ましく、より好ましくは、1.0~6.0秒である。成膜時の真空チャンバ内の圧力は、例えば1.0~100Paに到達するまで減圧することが好ましい。より好ましくは、1.4~50Paである。発熱体CVD法では、プラスチック容器11と形成される薄膜との密着性は非常によい。原料ガス流路17から水素ガスを導入すると、水素ガスは発熱体18との接触分解反応によって活性化され、この活性種によってプラスチック容器11の表面のクリーニングが行える。より具体的には、活性化水素Hや水素ラジカル原子状水素Hによる水素引き抜き反応やエッチング作用を期待することができ、例えば薄膜の密着性向上に利用することができる。また、原料ガス流路17からNH3ガスを導入すると、発熱体18との接触分解反応によって生じた活性種により、プラスチック容器11の表面を改質して安定化させる表面処理が行える。より具体的には、表面に対する窒素含有官能基の付加や、プラスチックの高分子鎖の架橋反応を期待することができる。成膜の終了薄膜が所定の厚さに達したところで、原料ガス33の供給を止める。次いで、反応室12内を再度排気した後、図示していないリークガスを導入して、反応室12を大気圧にする。この後、上部チャンバ15を開けてプラスチック容器11を取り出す。本実施形態に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法では、ガスバリア薄膜92の膜厚は、5~100nmとなるようにするのが好ましい。より好ましくは、10~85nmであり、特に好ましくは、30~50nmである。5nm未満では、高いガスバリア性を発揮できない場合がある。100nmを超えると、透明性が低下し、薄膜のクラック発生が生じやすくなる場合がある。また、不経済である。発熱体CVD法は、プラズマCVD法など他の化学蒸着法又は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理蒸着PVD法と比べて、装置が単純で、装置自体のコストを抑えることができる。また、発熱体CVD法では、化学種の堆積によってガスバリア薄膜が形成されるため、湿式法と比較して、かさ密度の高い緻密な膜が得られる。原料ガスとして上記の一般式化1で表される有機シラン系化合物を用いて、薄膜を形成する場合、プラズマCVD法を用いると、500mlのペットボトルの酸素透過率を2分の1程度にまでしか抑制できず、実用性能として不十分である。プラズマCVD法によって、DLC又はSiOxからなる薄膜を形成すると、500mlのペットボトルの酸素透過率を10分の1以下にできることが知られているが、炭酸飲料を充填した場合には、ボトルの膨張に伴いガスバリア性が低下していく。具体的には、プラズマCVD法でDLC膜又はSiOx膜を成膜した、500mlのペットボトル樹脂量23gに、4GVガスボリュームの炭酸水を充填して、38°Cの条件化で5日間保持すると、通常、ペットボトルの容量は18~21cm3成膜されていないペットボトルの場合は、22~26cm3膨張し、膨張後の酸素透過率は1.5~2.9倍に増加する。これは、ペットボトルの膨張及び膨張による薄膜のダメージが総合的に現れた結果である。一方、原料ガスとして上記の一般式化1で表される有機シラン系化合物を用いて、薄膜を形成する場合、発熱体CVD法を用いると、500mlのペットボトルにおいて、酸素透過率を例えば、10分の1以下に低減でき、十分な実用性能を得ることができる。また、炭酸飲料を充填した場合には、ボトルの膨張を効果的に抑制でき、かつ、ガスバリア性が実質低下しない。具体的には、発熱体CVD法を用いて成膜した、500mlのペットボトル樹脂量23gに、4GVガスボリュームの炭酸水を充填して、38°Cの条件化で5日間保持すると、通常、ボトル容量は13~17cm3成膜されていないボトルの場合は、22~26cm3しか膨張せず、膨張後の酸素透過率は1.2~1.3倍の増加に留まる。このようにして形成したガスバリア薄膜92は、実質無色である。本明細書において、実質無色とは、JISK7105‐1981プラスチックの光学的特性試験方法における色差である着色度b値を指標として、b値が6以下であるものをいう。b値は、より好ましくは5以下であり、特に好ましくは4以下である。b値は、数1で求めることができる。数1において、X,Y又はZは、三刺激値である。実質的な無色透明性が求められるガスバリア性成形体については、数2で求める、バリア性改良率BarrierImprovementFactor,以降、BIFという。が2以上であることが好ましい。より好ましくは5以上、特に好ましくは8以上である。具体例としては、ガスバリア性プラスチック容器の容器容量を500ミリリットルとするときの酸素透過度が、0.0175cc/容器/日以下であることが好ましい。より好ましくは、0.0058cc/容器/日以下であり、特に好ましくは0.0035cc/容器/日以下である。なお、ガスバリア薄膜92の膜厚及び酸素透過度の評価方法は、実施例の欄で示したとおりである。数2BIF=[薄膜未形成のプラスチック成形体の酸素透過度]/[ガスバリア性プラスチック成形体の酸素透過度]本実施形態において、一般式化1で表される有機シラン系化合物と一緒に酸化ガスを供給する理由は次のとおりである。一般式化1で表される有機シラン系化合物だけを供給すると、得られる薄膜は、構成元素として主にケイ素Si及び炭素Cを含有し、ガスバリア性が非常に高い。しかし、その薄膜は、炭素元素由来の黄金色を呈し、実質無色であることを要する用途には適さない。一方、一般式化1で表される有機シラン系化合物に酸化ガスを適量添加すると、得られる薄膜は、構成元素としてSi及びCに加えて、更に酸素Oを含有し、ガスバリア性が実用範囲にある状態で、実質無色の薄膜を得ることができる。さらに、発熱体としてTa又は炭化タンタルTaCxを用いることで、実質無色で、かつ、ガスバリア性を有する薄膜を、効率よく、安定的に形成することができる。ガスバリア薄膜中のSi、C及びOの合計含有量に対するOの含有量の比{O[at.]/SiCO[at.]}×100を、30~70とすることが好ましい。より好ましくは、40~60である。酸化ガスとしての二酸化炭素は、酸素と比較して酸化力が穏やかであるため、薄膜中の酸素元素の含有量を制御し易く、実質無色で、かつ、高いガスバリア性を有するガスバリア薄膜を安定して得ることができる点で、特に優れている。ガスバリア薄膜は、Si、C及びO以外に、Taタンタルなどの発熱体由来の金属元素、H水素、N窒素などのその他の元素を含んでもよい。本実施形態に係る製造方法で形成したガスバリア性プラスチック成形体は、実質無色で、かつ、高いガスバリア性を有するため、酸素などの影響を受けて劣化しやすく、内容物を目視できることが好まれる内容物、具体例としては、食品、薬品、医薬品、電子部品の包装用途として好適である。本実施形態に係るガスバリア性プラスチック成形体の製造方法では、成膜工程の後に、雰囲気中に酸化ガスを供給して発熱体を加熱する発熱体18の再生工程を有することが好ましい。原料ガスとして有機シラン系化合物及び添加ガスとして酸化ガスを用いて、成膜工程を繰り返し行うと、30回程度で発熱体18の表面で炭化が進行し、ガスバリア薄膜92のガスバリア性が低下する場合がある。この対策として、発熱体18の表面から炭素成分を除去する発熱体18の再生工程を実施することが好ましい。発熱体18の再生工程は、所定の圧力に調整した真空チャンバ6内で、発熱した発熱体18に酸化ガスを接触させることで、発熱体18の表面から炭素成分を容易に除去することができ、連続成膜後のガスバリア薄膜92のガスバリア性が低下することを抑制できる。発熱体18の再生工程は、酸化ガスを供給後、発熱体18を発熱させることが好ましい。酸化ガスは、二酸化炭素であることが好ましい。発熱体18の再生工程は、成膜工程を1回行うごとに行うか又は成膜工程を複数回行った後に行ってもよい。また、発熱体18の再生工程は、成膜工程後、プラスチック成形体を真空チャンバ6から取り出した後に行うことが好ましい。発熱体18の再生工程では、発熱体18の加熱温度は、1900°C以上2500°C以下であることが好ましい。より好ましくは、2000°C以上2400°C以下である。加熱時間は成膜時間の0.5倍以上3.0倍以下であることが好ましい。また、供給する酸化ガスが二酸化炭素である場合、発熱体18の再生工程における真空チャンバ内の圧力以降、再生時の真空圧ということもある。は、1.3Pa以上14Pa未満であることが好ましい。より好ましくは、1.4Pa以上13Pa以下である。再生時の真空圧は、成膜時の真空チャンバ内の原料ガス33の分圧以降、成膜時の原料ガスの分圧ということもある。に対して、1倍を超え9倍以下であることが好ましい。再生時の真空圧が成膜時の原料ガスの分圧の1倍以下では、炭化物の蓄積速度が除去速度を上回り、複数の成形体に連続して成膜したときに、後半で成膜したもののガスバリア性が前半で成膜したもののガスバリア性よりも低下する場合がある。また、再生時の真空圧が成膜時の原料ガスの分圧の9倍を超えると、炭化物の除去に加えて発熱体18の表面の酸化が生じ、酸化成分のガスバリア薄膜中への混入又は蒸発による発熱体18の消耗などによって、連続成膜時に後半に成膜したもののガスバリア性が低下する場合がある。なお、発熱体18の再生工程における酸化ガスの真空チャンバ6内への供給経路は、成膜工程における原料ガスの供給経路と同一とするか、又は原料ガスの供給経路とは異なる経路としてもよい。次に、成膜工程を繰り返したときにガスバリア薄膜のガスバリア性が低下する原理及び発熱体18の再生工程の効果について、発熱体が純度99.5質量の金属タンタルであり、これを2000°Cに加熱して成膜工程を連続100回繰り返し行った場合を例にとって説明する。ここで、発熱体の表面の分析は、発熱体の表面から深さ1μmの元素組成を走査型電子顕微鏡日立製作所社製、SU1510を用いて観察し、同装置付属のエネルギー分散型X線分析装置堀場製作所社製、EMAXENERGYを用いて行った。炭素の元素濃度は、成膜前は1at.未満であったのに対して、成膜工程を連続100回繰り返し後は最大50at.まで増加することを確認した。これを質量換算すると、成膜前は0.13質量未満であり、成膜工程を連続100回繰り返し後は最大で6.2質量であった。発熱体の表面に生成した炭化物の電気抵抗は、発熱体の中心部を形成する金属タンタルの電気抵抗と比べて大きい。したがって、発熱体の表面が炭化すると、当該表面は通電しても温度が上昇しにくくなる。そうすると、ガスバリア薄膜92の形成に十分な温度を確保できなくなり、ガスバリア性の高い緻密な膜が得られない場合がある。発熱体18に印加する電圧を増加して、発熱体の表面まで十分に昇温させることで、PETボトルの場合であれば、ガスバリア性を10倍以上に向上可能なガスバリア薄膜92を形成することができる。しかし、量産工程において発熱体表面の急激な電気抵抗の変化に対応して印加電圧を調整する制御は複雑である。そこで、発熱体18の再生工程を行うことで、印加電圧の複雑な制御が不要となり、成膜工程を連続して行っても、ガスバリア性の高い薄膜を形成しつづけることができる。次に、実施例を示しながら本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明は実施例に限定して解釈されない。実施例1プラスチック成形体として、500mlのペットボトル高さ133mm、胴外径64mm、口部外径24.9mm、口部内径21.4mm、肉厚300μm及び樹脂量29gの内表面に、図1に示す成膜装置を用いてガスバリア薄膜を形成した。ガス流量調整器24a~24cからガス供給口16の配管は、アルミナ製の1/4インチ配管で構成した。ペットボトルを真空チャンバ6内に収容し、1.0Paに到達するまで減圧した。次いで、発熱体18として、φ0.5mm、長さ44cmのタンタルワイヤーを2本用い、発熱体18に直流電流を25V印加し、2000°Cに発熱させた。その後、ガス流量調整器24aから原料ガスとしてビニルシランを、流量が50sccmとなるように供給し、原料ガスと同時に、ガス流量調整器24bから添加ガスとして二酸化炭素を、流量が30sccmとなるように供給して、ペットボトルの内表面に薄膜を堆積させた。成膜時の圧力全圧は6Paとし、成膜時間は6秒間とした。このとき、ビニルシランの分圧成膜時の原料ガスの分圧は1.4Paであった。膜厚は、30nmであった。なお、膜厚は、触針式段差計型式:α‐ステップ、ケーエルエーテン社製を用いて測定した値である。実施例2実施例1において、添加ガスの供給量を10sccmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例3実施例1において、添加ガスの供給量を20sccmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例4実施例1において、添加ガスの供給量を50sccmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例5実施例1において、添加ガスの供給量を100sccmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例6実施例1において、添加ガスを二酸化炭素に替えて酸素とし、添加ガスの供給量を5sccmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。ここで、ガスバリア薄膜の膜厚を30nmとするために必要とした成膜時間は、6秒間であった。実施例7実施例6において、添加ガスの供給量を6sccmとした以外は、実施例6に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例8実施例6において、添加ガスの供給量を25sccmとした以外は、実施例6に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例9実施例6において、添加ガスの供給量を50sccmとした以外は、実施例6に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例10実施例1において、薄膜の膜厚を5nmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例11実施例1において、薄膜の膜厚を82nmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例12実施例1において、添加ガスを二酸化炭素に替えて、二酸化炭素と酸素とが9:1で混合した混合ガスとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。表1において、添加ガスの供給量は、二酸化炭素と酸素との混合ガスの供給量を表記した。実施例13実施例1において、原料ガスをビニルシランに替えて、ビニルシランとアセチレンとが1:1で混合した混合ガスとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。表1において、原料ガスの供給量は、ビニルシランとアセチレンとの混合ガスの供給量を表記した。実施例14実施例1において、原料ガスをビニルシランに替えて、ジシラブタンとし、かつ、添加ガスを二酸化炭素に替えて酸素とし、添加ガスの供給量を5sccmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。ここで、ガスバリア薄膜の膜厚を30nmとするために必要とした成膜時間は、8秒間であった。実施例15実施例1において、添加ガスの供給量を3sccmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例16実施例1において、添加ガスの供給量を130sccmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例17実施例1において、添加ガスを二酸化炭素に替えて酸素とし、添加ガスの供給量を2sccmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例18実施例1において、添加ガスを二酸化炭素に替えて酸素とし、添加ガスの供給量を65sccmとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。実施例19実施例1において、熱触媒体をTaCxX=1、TaCx中の炭素原子の質量比率は6.2質量、TaCx中の炭素原子の元素濃度は50at.に替えた以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。比較例1実施例1において、添加ガスを供給しなかった以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。比較例2実施例1において、原料ガスとして、ビニルシランに替えて、モノメチルシランとアセチレンとが1:1で混合した混合ガスとし、添加ガスを供給しなかった以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。比較例3比較例2において、添加ガスとして二酸化炭素を30sccm供給した以外は、比較例2に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成した。比較例4実施例1において、発熱体として、タンタルワイヤーに替えて、イリジウムワイヤーとした以外は、実施例1に準じてペットボトルの内表面に薄膜を形成したが、薄膜の膜厚を厚くすることができず、膜厚は3nm未満であった。得られた実施例及び比較例のガスバリア薄膜を備えるペットボトルについて、次の方法で評価を行った。評価結果を表1に示す。透明性評価-b値b値は、日立製U‐3900形自記分光光度計に同社製60Φ積分球付属装置を取り付けたものを用いて測定した。検知器は、超高感度光電子増倍管及び冷却型PbSを用いた。測定波長は、240nmから840nmの範囲で透過率を測定した。測定箇所は、ペットボトルの底面から60mmの位置とした。ペットボトルの透過率を測定することにより、ガスバリア薄膜のみの透過率測定を算出することができるが、本実施例のb値は、ペットボトルの吸収率も含めた形で算出したものをそのまま示している。なお、本発明におけるbと目視による相関はおおよそ表2に示す通りである。薄膜未形成のペットボトルのb値は0.6~1.0の範囲内であった。透明性評価の判定基準は、次のとおりである。透明性評価の判定基準:◎:b値が2以下である実用レベル、○:b値が2を超え4以下である実用レベル、△:b値が4を超え6以下である実用下限レベル、×:b値が6を超える実用不適レベル。ガスバリア性評価-BIFBIFは、数2において、実施例又は比較例で得たペットボトルの酸素透過度の値をガスバリア性プラスチック成形体の酸素透過度とし、薄膜未形成のペットボトルの酸素透過度を薄膜未形成のプラスチック成形体の酸素透過度として算出した。酸素透過度は、酸素透過度測定装置型式:Oxtran2/20、ModernControl社製を用いて、23°C、90RHの条件にて測定し、測定開始から24時間コンディショニングし、測定開始から72時間経過後の値とした。なお、薄膜未形成のペットボトルの酸素透過度は、0.0350cc/容器/日であった。ガスバリア性評価の判定基準は、次のとおりである。ガスバリア性評価の判定基準:◎:BIFが8以上である実用レベル、○:BIFが5以上8未満である実用レベル、△:BIFが2以上5未満である実用下限レベル、×:BIFが2未満である実用不適レベル。総合判定総合判定は、前述した透明性判定及びガスバリア性判定のいずれの項目にも×がないものを実用レベルを有するものとして○とし、また、いずれかの項目に×があるものを実用レベルに欠けるものとして×とした。表1に示すように、実施例1~実施例19の薄膜は、いずれも着色度が実用レベルであり、実質無色といえるレベルであった。さらに、実施例1~実施例19の薄膜は、いずれもガスバリア性を有する薄膜であった。実施例1~実施例3は、BIFが9以上であり、かつ、b値が3以下であり、ガスバリア性及び透明性に優れていた。この中で、実施例1は、実施例1~3の中で、b値が最も小さく、特に高い透明性を有していた。実施例4及び実施例5は、b値が2以下で更に透明性に優れていたが、BIFが5未満であり、実施例1~実施例3と比較してガスバリア性が低かった。実施例6~実施例9は、酸化ガスとして酸素を用いたため、酸化ガスとして二酸化炭素ガスを用いた実施例1~実施例5と比較して、酸化ガスの供給量に対するBIFの変化量が急激であった。このことから、酸化ガスとしての二酸化炭素は、制御が容易な点で、酸素よりも好ましいことが確認できた。実施例10は、ガスバリア薄膜の膜厚が実施例1の膜厚よりも薄かったため、実施例1よりもガスバリア性が低かったが、実施例1よりも透明性に優れていた。実施例11は、ガスバリア薄膜の膜厚が実施例1の膜厚よりも厚かったため、実施例1よりも透明性が低かったが、実施例1よりもガスバリア性が高かった。実施例12は、添加ガスとして酸化ガスの混合ガスを用いたが実用レベルを有する薄膜を形成することができた。実施例13は、原料ガスとして副原料ガスを混合したものを用いたが実用レベルを有する薄膜を得ることができた。実施例14は、原料ガスとしてジシラブタンを用いたが実用レベルを有する薄膜を得ることができた。実施例6と実施例14とを比較すると、同じ膜厚を成膜するのに要する時間が実施例6の方が短く、ビニルシランの方が、ジシラブタンよりも成膜効率が高いことが確認できた。実施例19は、実施例1と比較すると、ほぼ同等の透明性及びガスバリア性が得られたことから、炭化タンタルがタンタル同様に有用な発熱体となることが確認できた。比較例1は、添加ガスを供給しなかったため、着色度が実用不適レベルであった。比較例2及び3は、原料ガスとして化1で表される有機シラン系化合物以外の有機シラン系化合物を用いたため、BIFが実用不適であった。比較例4は、発熱体にイリジウムワイヤーを用いたため、BIFが実用不適であった。その理由としては、成膜効率が劣り、ガスバリア薄膜の膜厚を厚くすることができなかったためと考えられる。次に、発熱体18の再生工程の効果を確認するための試験を行った。実施例20実施例1に準じて成膜を100回行い、成膜が1回終了するごとに発熱体18の再生工程を行った。各再生工程は、真空チャンバ6内の圧力が1.0Paの真空圧に到達した時点で、酸化ガスとしてCO2を真空チャンバ6に供給して真空圧を12.5Pa成膜時の原料ガスの分圧が1.4Paであったため、その9倍の真空圧とし、発熱体18を2000°Cで6秒間加熱した。実施例21実施例1に準じて成膜を100回行い、成膜が10回終了するごとに発熱体18の再生工程を行った。各再生工程は、発熱体18の加熱時間を60秒間とした以外は実施例20と同条件で行った。実施例22実施例19に準じて成膜を100回行い、成膜が1回終了するごとに発熱体18の再生工程を行った。各再生工程は、実施例20と同条件で行った。実施例23実施例19に準じて成膜を100回行い、成膜が10回終了するごとに発熱体18の再生工程を行った。各再生工程は、実施例21と同条件で行った。実施例24実施例20において、CO2を真空チャンバ6に供給して真空圧を1.4Pa成膜時の原料ガスの分圧1.4Paの1.0倍の真空圧とした以外は、実施例20と同条件で発熱体18の再生工程を行った。実施例25実施例20において、CO2を真空チャンバ6に供給して真空圧を1.3Pa成膜時の原料ガスの分圧1.4Paの0.93倍の真空圧とした以外は、実施例20と同条件で発熱体18の再生工程を行った。参考例1実施例20において、CO2を真空チャンバ6に供給して真空圧を14Pa成膜時の原料ガスの分圧1.4Paの10.0倍の真空圧とした以外は、実施例20と同条件で発熱体18の再生工程を行った。参考例2実施例1に準じて成膜を100回行い、発熱体18の再生工程は行わなかった。参考例3実施例19に準じて成膜を100回行い、発熱体18の再生工程は行わなかった。BIF測定実施例20~実施例25及び参考例1~参考例3について、成膜が1回目及び100回目のBIFをそれぞれ測定した。BIFの測定方法及び判定基準は、ガスバリア性評価-BIFに記載の方法とした。BIFの測定結果を図3に示す。図3からわかるように、実施例20~実施例25は、いずれも1回目及び100回目ともにBIFが実用レベルであった。特に、実施例20~実施例24は、いずれも1回目及び100回目の成膜でガスバリア性の有意な差異は無く、100回目のBIFが8以上であった。実施例25は、再生時の真空圧が成膜時の原料ガスの分圧よりも低かったため、100回目のBIFが5.8であったが実用レベルを維持していた。これに対して、参考例1~参考例3は、1回目の成膜ではガスバリア性が良好であったが、100回目の成膜ではガスバリア性が大きく低下した。参考例1は、発熱体18の再生工程を行ったが、再生時の真空圧が高すぎたため、発熱体の表面が酸化して連続成膜後のガスバリア性が低下したと考えられる。以上より、発熱体の再生工程を行うことによって、連続成膜適性が向上することが確認できた。"