"式:式中、R4は水素、置換されていてもよい低級アルキル但し、置換基は置換されていてもよいアリールではない、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、または置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、CO、O、S、SO、SO2、NRaRaは水素または低級アルキル、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、;Z2は、O、S、SO、SO2、NR5R5は水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、または置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、CO、O、S、SO、SO2、NR5R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、置換されていてもよい低級アルキレンまたは置換されていてもよい低級アルケニレン;XAは、以下の群から選択される基:XA1:単結合、XA2:C=O、およびC=Sから選択される基、XA3:O、S、SO、SO2およびNR1’R1’は水素もしくは低級アルキルから選択されるヘテロ原子基、XA4:XA2およびXA3から選択される同一または異なる、2以上の基が連結して形成される基、XA5:-N=N-、-CR1’=N-、または-N=CR1’-R1’は水素もしくは低級アルキルから選択される基、XA6:置換されていてもよい低級アルキレンまたは置換されていてもよい低級アルケニレン、XA7:XA2、XA3、XA4およびXA5から選択される1またはいずれかの2以上の基が介在しているXA6、ならびにXA8:XA1~XA7の任意の組み合わせからなるスペーサー;Qは、以下の群から選択される基:Q1:置換されていてもよく、縮合していてもよい炭素環式基、およびQ2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基、但し、-XA-Qが-CONR1-X-R2である場合:式中、R1は、水素または低級アルキル;Xは、単結合、O、S、SO、SO2およびNHから選択されるヘテロ原子基、または該ヘテロ原子基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレン;R2は、置換されていてもよいアリールを除く;R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ;R4はZ2部分と一緒になって環を形成してもよく、このとき、化合物QIは以下の式QI-1またはQI-11で示される:式中、A環は置換されていてもよい複素環;R14およびRXは、それぞれ独立して水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、O、S、SO、SO2、NR5R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、または置換されていてもよいアミノカルボニル;破線は結合の存在または非存在を示す;但し、破線が結合の存在を示す場合、RXは存在しない;XAおよびQは前記と同意義;R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ;式中、D環は置換されていてもよい複素環;XAおよびQは前記と同意義;R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ;またZ2は、B1およびB2からなる連結基であってもよく、この時、化合物QIは以下の式QI-Bで示される:式中、破線は結合の存在または非存在を示す;B1およびB2は、いずれか一方はCR20R21、他方はNR22、この場合は破線は存在しない;B2がNR22の場合、R4とR22は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよく;B2がCHR21の場合、R4とR21は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよく;またはB1およびB2は、それぞれ独立してC、CR23、またはNであり、この場合B1およびB2部分は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよい;R20、R21、R22およびR23は、それぞれ独立して、水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、O、S、SO、SO2、NR5R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、置換されていてもよいアミノカルボニル、置換チオウレア、または置換スルホニル;その他の記号は、前記と同意義、で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。-XA-Qにおいて、XAが、-CONR1’-、-CONR1’-XA6-、または-CONR1’-XA7-各記号は前記と同意義である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。Qが、Q2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基である、請求項1または2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。Qが、置換されていてもよく、縮合していてもよい、O、SおよびN原子から選択される1または2以上の同一または異なるヘテロ原子を1から4個含有する5~7員の複素環式基である、請求項3記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。Qが、Q1:置換されていてもよく、縮合していてもよい炭素環式基である、請求項1または2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。Qが、置換されていてもよく、縮合していてもよいシクロアルキルである、請求項1または2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。-XA-Qにおいて、XAが、-CONR1’-、-CONR1’-XA6-、または-CONR1’-XA7-各記号は前記と同意義;Qが、Q2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基、または置換されていてもよく、縮合していてもよいシクロアルキル、である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。R3は水素である、請求項1~7のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。化合物QIが式:QI-1、QI-11、またはQI-Bである、請求項1~8のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。化合物QIが式:QI-1、R3、R14およびRXは水素;破線は結合の非存在を示す、請求項1~7のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。請求項1~10のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物を含有する、医薬組成物。抗HIV薬である、請求項11記載の医薬組成物。インテグラーゼ阻害剤である、請求項11記載の医薬組成物。上記の状況下、新規なインテグラーゼ阻害剤の開発が要望されていた。本発明者らは鋭意検討した結果、新規なピリドン誘導体が強いHIVインテグラーゼ阻害作用を有することを見出した。さらに、本発明化合物及びそれらを含有する医薬が、抗ウイルス薬例:抗レトロウイルス薬、抗HIV薬、抗HTLV-1HumanTcellleukemiavirustype1:ヒトT細胞白血病ウイルス1型薬、抗FIVFelineimmunodeficiencyvirusネコエイズウイルス薬、抗SIVSimianimmunodeficiencyvirusサルエイズウイルス薬、特に抗HIV薬、抗AIDS薬、またはその関連疾患の治療薬等として有用であることを見出し、以下に示す本発明を完成した。1式:式中、R4は水素、置換されていてもよい低級アルキル但し、置換基は置換されていてもよいアリールではない、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、または置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、CO、O、S、SO、SO2、NRaRaは水素または低級アルキル、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい;Z2は、O、S、SO、SO2、NR5R5は水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、または置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、CO、O、S、SO、SO2、NR5R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、置換されていてもよい低級アルキレンまたは置換されていてもよい低級アルケニレン;XAは、以下の群から選択される基:XA1:単結合、XA2:C=O、およびC=Sから選択される基、XA3:O、S、SO、SO2およびNR1’R1’は水素もしくは低級アルキルから選択されるヘテロ原子基、XA4:XA2およびXA3から選択される同一または異なる、2以上の基が連結して形成される基、XA5:-N=N-、-CR1’=N-、または-N=CR1’-R1’は水素もしくは低級アルキルから選択される基、XA6:置換されていてもよい低級アルキレンまたは置換されていてもよい低級アルケニレン、XA7:XA2、XA3、XA4およびXA5から選択される1またはいずれかの2以上の基が介在しているXA6、ならびにXA8:XA1~XA7の任意の組み合わせからなるスペーサー;Qは、以下の群から選択される基:Q1:置換されていてもよく、縮合していてもよい炭素環式基、およびQ2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基、但し、-XA-Qが-CONR1-X-R2である場合:式中、R1は、水素または低級アルキル;Xは、単結合、O、S、SO、SO2およびNHから選択されるヘテロ原子基、または該ヘテロ原子基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレン;R2は、置換されていてもよいアリールを除く;R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ;R4はZ2部分と一緒になって環を形成してもよく、このとき、化合物QIは以下の式QI-1またはQI-11で示される:式中、A環は置換されていてもよい複素環;R14およびRXは、それぞれ独立して水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、O、S、SO、SO2、NR5R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、または置換されていてもよいアミノカルボニル;破線は結合の存在または非存在を示す;但し、破線が結合の存在を示す場合、RXは存在しない;XAおよびQは前記と同意義;R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ;式中、D環は置換されていてもよい複素環;XAおよびQは前記と同意義;R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノ;またZ2は、B1およびB2からなる連結基であってもよく、この時、化合物QIは以下の式QI-Bで示される:式中、破線は結合の存在または非存在を示す;B1およびB2は、いずれか一方はCR20R21、他方はNR22、この場合は破線は存在しない;B2がNR22の場合、R4とR22は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよく;B2がCHR21の場合、R4とR21は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよく;またはB1およびB2は、それぞれ独立してC、CR23、またはNであり、この場合B1およびB2部分は一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよい;R20、R21、R22およびR23は、それぞれ独立して、水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、O、S、SO、SO2、NR5R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、置換されていてもよいアミノカルボニル、置換チオウレア、または置換スルホニル;その他の記号は、前記と同意義、で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。2-XA-Qにおいて、XAが、-CONR1’-、-CONR1’-XA6-、または-CONR1’-XA7-各記号は前記と同意義である、1記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。3Qが、Q2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基である、1または2記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。4Qが、置換されていてもよく、縮合していてもよい、O、SおよびN原子から選択される1または2以上の同一または異なるヘテロ原子を1から4個含有する5~7員の複素環式基である、1~3のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。5Qが、Q1:置換されていてもよく、縮合していてもよい炭素環式基である、1~4のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。6Qが、置換されていてもよく、縮合していてもよいシクロアルキルである、1~5のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。7-XA-Qにおいて、XAが、-CONR1’-、-CONR1’-XA6-、または-CONR1’-XA7-各記号は前記と同意義;Qが、Q2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基、または置換されていてもよく、縮合していてもよいシクロアルキル、である、1~6のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。8R3は水素である、1~7のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。9化合物QIが式:QI-1、QI-11、またはQI-Bである、1~8のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。10化合物QIが式:QI-1、R3、R14およびRXは水素;破線は結合の非存在を示す、1~9のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。111~10のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物を含有する、医薬組成物。12抗HIV薬である、11記載の医薬組成物。13インテグラーゼ阻害剤である、11または12記載の医薬組成物。14抗ウイルス的に有効量の1~10のいずれかに記載の化合物をヒトに投与することを特徴とする、ウイルス感染症特に、HIV感染の治療方法。15医薬治療における使用のための1~10のいずれかに記載の化合物。16ウイルス感染症特に、HIV感染の予防または治療のための医薬を製造するための1~10のいずれかに記載の化合物の使用。171~10のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物を製造する方法、システム、装置、キット等。181~10のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物を含有する医薬組成物を調製する方法、システム、装置、キット等。191~10のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物を使用する方法、システム、装置、キット等。本発明化合物は、ウイルス、特にHIVやその耐性ウイルスに対してインテグラーゼ阻害活性および/または細胞増殖阻害活性を有する。よって、インテグラーゼが関与する各種疾患やウイルス感染症例:エイズ等の予防または治療に有用である。より好ましくは、本発明化合物は、新たなHIV耐性ウイルスを発生させにくい。さらに好ましくは、本発明化合物は、溶解性、経口吸収性、代謝安定性、またはバイオアベイラビリティー等に優れており、また細胞毒性や副作用例:変異原性、心電図QT間隔延長の懸念も少ない医薬として有用である。本明細書中で用いる用語を以下に説明する。各用語は単独で又は他の用語と一緒になって以下の意味を有する。低級アルキレンは、炭素数1~6個の直鎖状又は分枝状の低級アルキレンを意味し、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、エチルエチレン、ペンタメチレン又はヘキサメチレン等が挙げられる。好ましくは、炭素数1~4個の直鎖状の低級アルキレンであり、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン又はテトラメチレンが挙げられる。より好ましくはメチレンまたはエチレンである。低級アルケニレンは、上記低級アルキレンに1個又はそれ以上の二重結合を有する炭素数2~6個の直鎖状又は分枝状の低級アルケニレン基を意味し、例えば、ビニレン、プロペニレン又はブテニレンが挙げられる。好ましくは、炭素数2~3個の直鎖状の低級アルケニレンであり、例えば、ビニレン又はプロペニレンが挙げられる。アルキルは、炭素数1~10個の直鎖状又は分枝状のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、nプロピル、イソプロピル、nブチル、イソブチル、secブチル、tertブチル、nぺンチル、イソぺンチル、ネオぺンチル、tertぺンチル、nヘキシル、イソヘキシル、nヘプチル、nオクチル、nノニル、nデシル等が挙げられる。好ましくは、炭素数1~6個の低級アルキル、より好ましくは炭素数1~4個の低級アルキルであり、例えば、メチル、エチル、nプロピル、イソプロピル、nブチル、イソブチル、secブチル、tertブチル、nぺンチル、イソぺンチル、ネオぺンチル、tertぺンチル、nヘキシル、イソヘキシルが挙げられる。低級アルキルが、-N=または=N-で介在されている場合、二重結合が存在していてもよく、例えば、-CH2-N=CH2、-CH=N-CH3等を形成し得る。アルケニルは、上記アルキルに1個又はそれ以上の二重結合を有する炭素数2~8個の直鎖状又は分枝状のアルケニルを意味し、例えば、ビニル、1プロペニル、2プロペニル、1ブテニル、2ブテニル、3ブテニル、13ブタジエニル、3メチル2ブテニル等が挙げられる。好ましくは、炭素数2~6個の低級アルケニル、より好ましくは炭素数2~4個の低級アルケニルである。低級アルケニルオキシは、上記低級アルケニルが結合したオキシを意味し、例えば、ビニルオキシ、1プロペニルオキシ、2プロペニルオキシ、1ブテニルオキシ、2ブテニルオキシ、3ブテニルオキシ、13ブタジエニルオキシ、3メチル2ブテニルオキシ等が例示される。アルキニルは、上記アルキルに1個又はそれ以上の三重結合を有する炭素数2~8個の直鎖状又は分枝状のアルケニルを意味し、例えば、エチニル、プロパルギル等が挙げられる。好ましくは炭素数2~6個の低級アルキニル、より好ましくは炭素数2~4個の低級アルキニルである。炭素環式基は、飽和または不飽和の炭素数3~10個の炭素環式基を意味し、シクロアルキル、シクロアルケニル、およびアリールを包含する。シクロアルキルは、炭素数3~10個の環状飽和炭化水素基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。好ましくは、炭素数3~6個のシクロアルキルである。シクロアルキル低級アルキルは、上記シクロアルキルが置換した低級アルキルを意味し、シクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル等が挙げられる。好ましくは、炭素数3~6個のシクロアルキル低級アルキルである。アリールは、単環芳香族炭化水素基フェニル及び多環芳香族炭化水素基例えば、1ナフチル、2ナフチル、1アントリル、2アントリル、9アントリル、1フェナントリル、2フェナントリル、3フェナントリル、4フェナントリル、9フェナントリル等を意味する。好ましくは、フェニル又はナフチル1ナフチル、2ナフチルが挙げられる。アラルキルまたはアリール低級アルキルは、1~3個の上記アリールが置換した上記低級アルキルを意味し、例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、フェネチル、1ナフチルメチル、2ナフチルメチル等が挙げられる。好ましくは、ベンジルである。アリールオキシは、上記アリールが結合したオキシを意味し、例えば、1ナフチルオキシ、2ナフチルオキシ、1アントリルオキシ、2アントリルオキシ、9アントリルオキシ、1フェナントリルオキシ、2フェナントリルオキシ、3フェナントリルオキシ、4フェナントリルオキシ、9フェナントリルオキシ等を意味する。好ましくは、フェニルオキシ又はナフチルオキシ例:1ナフチルオキシ、2ナフチルオキシが挙げられる。複素環式基は、ヘテロリングまたはヘテロアリールを意味する。ヘテロリングは、窒素原子、酸素原子、リン原子及び/又は硫黄原子を少なくとも1個以上環内に有する、置換可能な任意の位置に結合手を有する非芳香族複素環式基好ましくは5~7員環を意味し、例えば、1ピロリニル、2ピロリニル、3ピロリニル、1ピロリジニル、2ピロリジニル、3ピロリジニル、1イミダゾリニル、2イミダゾリニル、4イミダゾリニル、1イミダゾリジニル、2イミダゾリジニル、4イミダゾリジニル、1ピラゾリニル、3ピラゾリニル、4ピラゾリニル、1ピラゾリジニル、3ピラゾリジニル、4ピラゾリジニル、ピペリジノ、2ピペリジル、3ピペリジル、4ピペリジル、1ピペラジニル、2ピペラジニル、2モルホリニル、3モルホリニル、モルホリノ、テトラヒドロピラニル等が挙げられる。非芳香族複素環式基は、飽和または不飽和の環である。ヘテロアリールは、単環芳香族複素環式基及び縮合芳香族複素環式基を意味する。単環芳香族複素環式基は、酸素原子、硫黄原子、リン原子および/又は窒素原子を環内に1~4個含んでいてもよい5~8員の芳香環から誘導される、置換可能な任意の位置に結合手を有していてもよい基を意味する。縮合芳香族複素環式基は、酸素原子、硫黄原子、リン原子および/又は窒素原子を環内に1~4個含んでいてもよい5~8員の芳香環が、1~4個の5~8員の芳香族炭素環もしくは他の5~8員の芳香族ヘテロ環と縮合している、置換可能な任意の位置に結合手を有していてもよい基を意味する。ヘテロアリールとしては、例えば、フリル例えば、2フリル、3フリル、チエニル例えば、2チエニル、3チエニル、ピロリル例えば、1ピロリル、2ピロリル、3ピロリル、イミダゾリル例えば、1イミダゾリル、2イミダゾリル、4イミダゾリル、ピラゾリル例えば、1ピラゾリル、3ピラゾリル、4ピラゾリル、トリアゾリル例えば、1,2,4トリアゾール1イル、1,2,4トリアゾール3イル、1,2,4トリアゾール4イル、テトラゾリル例えば、1テトラゾリル、2テトラゾリル、5テトラゾリル、オキサゾリル例えば、2オキサゾリル、4オキサゾリル、5オキサゾリル、イソキサゾリル例えば、3イソキサゾリル、4イソキサゾリル、5イソキサゾリル、チアゾリル例えば、2チアゾリル、4チアゾリル、5チアゾリル、チアジアゾリル、イソチアゾリル例えば、3イソチアゾリル、4イソチアゾリル、5イソチアゾリル、ピリジル例えば、2ピリジル、3ピリジル、4ピリジル、ピリダジニル例えば、3ピリダジニル、4ピリダジニル、ピリミジニル例えば、2ピリミジニル、4ピリミジニル、5ピリミジニル、フラザニル例えば、3フラザニル、ピラジニル例えば、2ピラジニル、オキサジアゾリル例えば、1,3,4オキサジアゾール2イル、ベンゾフリル例えば、2ベンゾbフリル、3ベンゾbフリル、4ベンゾbフリル、5ベンゾbフリル、6ベンゾbフリル、7ベンゾbフリル、ベンゾチエニル例えば、2ベンゾbチエニル、3ベンゾbチエニル、4ベンゾbチエニル、5ベンゾbチエニル、6ベンゾbチエニル、7ベンゾbチエニル、ベンゾイミダゾリル例えば、1ベンゾイミダゾリル、2ベンゾイミダゾリル、4ベンゾイミダゾリル、5ベンゾイミダゾリル、ジベンゾフリル、ベンゾオキサゾリル、キノキサリル例えば、2キノキサリニル、5キノキサリニル、6キノキサリニル、シンノリニル例えば、3シンノリニル、4シンノリニル、5シンノリニル、6シンノリニル、7シンノリニル、8シンノリニル、キナゾリル例えば、2キナゾリニル、4キナゾリニル、5キナゾリニル、6キナゾリニル、7キナゾリニル、8キナゾリニル、キノリル例えば、2キノリル、3キノリル、4キノリル、5キノリル、6キノリル、7キノリル、8キノリル、フタラジニル例えば、1フタラジニル、5フタラジニル、6フタラジニル、イソキノリル例えば、1イソキノリル、3イソキノリル、4イソキノリル、5イソキノリル、6イソキノリル、7イソキノリル、8イソキノリル、プリル、プテリジニル例えば、2プテリジニル、4プテリジニル、6プテリジニル、7プテリジニル、カルバゾリル、フェナントリジニル、アクリジニル例えば、1アクリジニル、2アクリジニル、3アクリジニル、4アクリジニル、9アクリジニル、インドリル例えば、1インドリル、2インドリル、3インドリル、4インドリル、5インドリル、6インドリル、7インドリル、イソインドリル、フェナジニル例えば、1フェナジニル、2フェナジニル又はフェノチアジニル例えば、1フェノチアジニル、2フェノチアジニル、3フェノチアジニル、4フェノチアジニル等が挙げられる。ヘテロサイクルおよび複素環は、上記複素環式基に誘導され得る環を意味する。複素環式基低級アルキルまたはヘテロサイクル低級アルキルとは、上記複素環式基が置換した低級アルキルを意味する。複素環式基オキシとは、上記複素環式基が結合したオキシを意味する。低級アルコキシまたはアルコキシは、上記低級アルキルまたはアルキルが結合したオキシを意味し、例えば、メトキシ、エトキシ、nプロポキシ、イソプロポキシ、nブトキシ、イソブトキシ、tertブトキシなどが挙げられる。低級アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルキル低級アルキルカルボニル、低級アルコキシカルボニル、アリールカルボニル、アリール低級アルキルカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環式基カルボニル、複素環式基低級アルキルカルボニル、および複素環式基オキシカルボニルは、それぞれ前記の低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、低級アルコキシ、アリール、アリール低級アルキル、アリールオキシ、複素環式基、および複素環式基低級アルキルが結合したカルボニルを意味する。置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルキニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、置換されていてもよい低級アルキレン、置換されていてもよい低級アルケニレン、置換されていてもよいリン酸残基、または置換されていてもよい炭素環等が置換基を有する場合、それぞれ同一又は異なる1~4個の、後述の置換基群Bから選択される基で任意の位置が置換されていてもよい。置換基群Bの例としては、例えば、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲンF、Cl、Br、I、ハロ低級アルキル例:CF3、CH2CF3、CH2CCl3、ハロ低級アルコキシ例:OCF3、OCH2CF3、OCH2CCl3、低級アルキル例:メチル、エチル、イソプロピル、tertブチル、低級アルケニル例:ビニル、低級アルキニル例:エチニル、シクロアルキル例:シクロプロピル、シクロアルケニル例:シクロプロペニル、低級アルコキシ例:メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、低級アルケニルオキシ例:ビニルオキシ、アリルオキシ、低級アルコキシカルボニル例:メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tertブトキシカルボニル、ニトロ、ニトロソ、置換されていてもよいアミノ例:アルキルアミノ例:メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、アシルアミノ例:アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アラルキルアミノ例:ベンジルアミノ、トリチルアミノ、ヒドロキシアミノ、アジド、アリール例:フェニル、アラルキル例:ベンジル、シアノ、イソシアノ、イソシアナト、チオシアナト、イソチオシアナト、メルカプト、アルキルチオ例:メチルチオ、アルキルスルホニル例:メタンスルホニル、エタンスルホニル、置換されていてもよいアルキルスルホニルアミノ例:メタンスルホニルアミノ、エタンスルホニルアミノ、N-メチルスルホニル-N’-メチルアミノ、置換されていてもよいカルバモイル例:アルキルカルバモイル例:メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、スルファモイル、アシル例:ホルミル、アセチル、ホルミルオキシ、ハロホルミル、オキサロ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、スルフィノ、スルフォ、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、フタルイミド、オキソ、リン酸残基、リン酸残基で置換された低級アルキルヘテロ原子基が介在していてもよい、リン酸残基で置換されたアリール、リン酸残基で置換されたアラルキル、ヒドロキシ低級アルキル等が挙げられ、より好ましくは、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲンF、Cl、Br、I、ハロ低級アルキル例:CF3、CH2CF3、CH2CCl3、ハロ低級アルコキシ例:OCF3、OCH2CF3、OCH2CCl3、低級アルキル例:メチル、エチル、イソプロピル、tertブチル、低級アルコキシ例:メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、置換されていてもよいアミノ例:アルキルアミノ例:メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、オキソ、またはリン酸残基等が挙げられる。置換されていてもよいアミノ、または置換されていてもよいカルバモイルの置換基としては、モノもしくはジ低級アルキル、低級アルキルカルボニルまたは低級アルキルスルホニル、置換されていてもよい低級アルキル例:メチル、エチル、イソプロピル、ベンジル、カルバモイルアルキル例:カルバモイルメチル、モノまたはジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル例:ジメチルカルバモイルエチル、ヒドロキシ低級アルキル、ヘテロサイクル低級アルキル例:モルホリノエチル、テトラヒドロピラニルエチル、アルコキシカルボニル低級アルキル例:エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルエチル、モノまたはジ低級アルキルアミノ低級アルキル例:ジメチルアミノエチル、低級アルコキシ低級アルキル例えば、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエチル、イソプロポキシエチル等、アシル例:ホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル例:アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、メトキシエチルカルボニル、222トリフルオロエチルカルボニル、エトキシカルボニルメチルカルボニル、低級アルコキシ低級アルキルカルボニル例:メトキシエチルカルボニル、低級アルキルカルバモイル低級アルキルカルボニル例:メチルカルバモイルエチルカルボニル、アルコキシカルボニルアセチル、置換されていてもよいアリールカルボニル例えば、ベンゾイル、トルオイル、置換されていてもよいアラルキル例えば、ベンジル、4フルオロベンジル、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、イソプロピルスルホニル、222トリフルオロエタンスルホニル、ベンジルスルホニル、メトキシエチルスルホニル、低級アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよいアリールスルホニル例:ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル、4フルオロベンゼンスルホニル、シクロアルキル例:シクロプロピル、低級アルキルで置換されていてもよいアリール例:フェニル、トリチル、低級アルキルアミノスルホニル例:メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、低級アルキルアミノカルボニル例:ジメチルアミノカルボニル、低級アルコキシカルボニル例:エトキシカルボニル、シクロアルキルカルボニル例:シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、置換されていてもよいスルファモイル例:スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、低級アルキルカルボニルアミノ例:メチルカルボニルアミノ、ヘテロサイクル例:モルホリノ、テトラヒドロピラニル、置換されていてもよいアミノ例:モノまたはジアルキルアミノ例:ジメチルアミノ、ホルミルアミノ等が挙げられる。置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいアミノカルボニルまたは置換されていてもよいカルバモイル、のアミノ基は、アミノ基の2つの置換基が隣接する窒素原子と共に硫黄原子および/または酸素原子を環内に含有していてもよい含窒素ヘテロサイクル好ましくは5~7員環であり、また好ましくは飽和であるを形成してもよく、該環はオキソまたはヒドロキシで置換されていてもよい。環を形成する硫黄原子はオキソで置換されていてもよい。例えば、ピペラジニル、ピペリジノ、モルホリノ、ピロリジノ、2オキソピペリジノ、2オキソピロリジノ、4ヒドロキシモルホリノ等の5員または6員の環等が好ましい。リン酸残基とは、-POOH2で示される基を意味し、置換されていてもよいリン酸残基とは、そのOH部分および/またはOHの水素部分が置換されていてもよいリン酸残基を意味し、好ましくは以下の式で示される。式中、RAおよびRBはそれぞれ独立して、ORC、NRDRE式中、RC、RDおよびREはそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアリール、または置換されていてもよい複素環式基、またはRDおよびREは一緒になって隣接N原子を含む、置換されていてもよい複素環好ましくは、5~6員環を形成してもよいまたはRAおよびRBは、隣接P原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環好ましくは、5~6員環を形成してもよいより好ましくは、RAおよびRBは共にORCであるか、またはいずれか一方がORCあり、他方がNRDREである。RC、RDおよびREは、好ましくは、それぞれ独立して低級アルキル例:メチル、エチルである。RAおよびRBが隣接P原子と一緒になって形成する、置換されていてもよい複素環は、例えば以下の構造をとり得る。式中、破線は環の一部を示す置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシとして好ましくは、ジ低級アルキル置換されたリン酸残基で置換されたヒドロキシであり、より好ましくは以下の基である。置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノとして好ましくは、ジ低級アルキル置換されたリン酸残基で置換されたアミノであり、より好ましくは以下の基である。置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、および置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキルは、それぞれ上記置換されていてもよいリン酸残基が置換したアリール、アラルキル、および低級アルキルを意味する。上記低級アルキルは、O、S、SO、SO2、NR5R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい。置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリールとして好ましくは、ジ低級アルキル置換されたリン酸残基で置換されたフェニルである。本明細書中、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキルとして好ましくは、ジ低級アルキル置換されたリン酸残基で置換されたベンジルである。本明細書中、置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキルとしては、好ましくは、ジ低級アルキル置換されたリン酸残基で置換されたメチルである。より好ましい態様-XA-Qにおいて、XAは、以下の群から選択される基:XA1:単結合、XA2:C=O、XA3:O、S、SO、SO2およびNR1’R1’は水素もしくは低級アルキルから選択されるヘテロ原子基、XA4:XA2およびXA3から選択される同一または異なる、2以上の基が連結して形成される基例:-CONH-、-CONHNH-、-CONHNHCO-、-CONHO-、-CONHNHSONH-、-CONHNMe-、-NHCONH―、-NHCOO-、XA5:-N=N-、-CR1’=N-、または-N=CR1’-R1’は水素もしくは低級アルキルから選択される基、XA6:置換されていてもよい低級アルキレンまたは置換されていてもよい低級アルケニレン置換基の例:Me、Ph、XA7:XA2、XA3、XA4およびXA5から選択される1またはいずれかの2以上の基が介在しているXA6例:-CONHCH2-、-CONMeCH2-、-CONHCH2CH2O-、-CONHCH2CH2-SO2-、-CONHCH2CH2CH2-、ならびにXA8:XA1~XA7の任意の組み合わせからなるスペーサー;である。XAにおいて、介在とは、XA2、XA3、XA4およびXA5から選択される1またはいずれかの2以上の基が、1低級アルキレンもしくは低級アルケニレンを構成する炭素原子間に存在する場合、2低級アルキレンもしくは低級アルケニレンの末端に存在する場合、または1および2が混在する場合のいずれでもよい。XAは好ましくは、1~5個、より好ましくは1~3個の原子が連結してなるスペーサーである。XAは好ましくは、-CONR1’-、-CONR1’-XA6-、または-CONR1’-XA7-各記号は前記と同意義である。XAは、より好ましくは、-CONHCH2-である。R1’は、水素または低級アルキル、好ましくは水素である。Qは、以下の群から選択される基:Q1:置換されていてもよく、縮合していてもよい炭素環式基、およびQ2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基、である。Qは好ましくは、Q2:置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基である。Qはより好ましくは、置換されていてもよく、縮合していてもよい、O、SおよびN原子から選択される1または2以上の同一または異なるヘテロ原子を1から4個含有する5~7員の複素環式基である。Qは好ましくは、Q1:置換されていてもよく、縮合していてもよい炭素環式基である。Qはより好ましくは、置換されていてもよく、縮合していてもよいシクロアルキルである。Q1の炭素環式基は好ましくは、シクロアルキル好ましくは5~7員であり、その縮合環としてはベンゼン環または単環複素環好ましくは5~7員が例示される。Q2の複素環式基は好ましくは、単環複素環式基好ましくは5~7員、より好ましくは単環芳香族複素環式基例:チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピリジル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラジニル、好ましくはチオフェン、フランである。また該単環複素環式基は、非芳香族複素環式基例:モルホリニル、チオモルホリニル、ピロリジル、ピペリジル、ピペラジル、オキザリルであってもよい。これらの単環複素環式基の縮合環としては、ベンゼン環または他の単環複素環好ましくは5~7員が例示される。Qにおける置換されていてもよいの置換基としては、好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、および低級アルキルカルバモイル、フェニルオキシ、アリール、アラルキル、アリールオキシ、低級アルキレンジオキシ、低級アルケニル、低級アルキニル、メチルスルホニル、後述の置換基群S1からなる群から選択される、同一または異なる1~3個、好ましくは1~2個の置換基が例示される。より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、低級アルキル、および低級アルコキシである。また置換基は、ベンゼン環等と縮合していてもよいスピロ環好ましくは5~7員であってもよい。置換基群S1:置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、CO、O、S、SO、SO2、NRaRaは水素または低級アルキル、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい、低級アルコキシ低級アルキル、置換されていてもよいアミノ低級アルキル置換基:モノもしくはジ低級アルキル、低級アルキルカルボニル、または低級アルキルスルホニル、ハロゲン化低級アルキル、低級アルコキシ、置換されていてもよいカルバモイル置換基:モノもしくはジ低級アルキル、低級アルキルカルボニル、または低級アルキルスルホニル、置換されていてもよい低級アルキルスルホニルアミノ、ハロゲン化低級アルコキシ、およびヒドロキシ低級アルキル。Q2はより好ましくは、置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基好ましくは5~7員、または置換されていてもよく、縮合していてもよいシクロアルキル好ましくは5~7員である。R3としては、化合物QIの薬理活性に悪影響を及ぼさないものであれば種々の置換基であり得、例えば、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基オキシ、または置換されていてもよいアミノが例示される。置換されていてもよいの置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシなどが例示され、より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキル、低級アルコキシ等である。R3はより好ましくは、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニルオキシまたは置換されていてもよいアミノであり、さらに好ましくは水素または低級アルキル例:メチルであり、特に好ましくは水素である。Z2は、好ましくはC、CH、置換されていてもよい低級アルキレン、低級アルケニレン等を示し、Z2およびR4は、一緒になって環を形成してもよく、このとき、化合物QIは以下の化合物QI-1またはQI-11で示される3環性化合物、またはその誘導体である4環性化合物を示す。A環は、少なくとも1個のN原子を含有する置換されていてもよい複素環である。該複素環は好ましくは、O、Sおよび/またはN原子を1~3個、好ましくは2~3個含有する5~7員環であり、より好ましくは前記のヘテロサイクルから選択される。A環の好ましい態様の1つは、置換されていてもよい以下の環である。Zは、CH2、O、S、SO、SO2またはNR19A環は、好ましくはa、bまたはcの環である。Zの好ましい態様の1つは、OまたはNR19である。Z=NR19の場合、R19は好ましくは、1水素、2置換されていてもよい低級アルキル置換基の例:モノまたはジ低級アルキルで置換されていてもよいアミノ、シクロアルキル、ヒドロキシ、置換されていてもよい複素環式基複素環は好ましくは5~7員環、例:フリル、チエニル、チアゾリル、ピリジル、モルホリノ、イミダゾール;置換基の例:低級アルキル、ハロゲン、置換されていてもよい複素環式基カルボニル複素環は好ましくは5~7員環、例:モルホリノカルボニル、置換されていてもよいフェニル置換基:低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシ、ハロゲン、ハロゲン化低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン化低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニル、アセチルアミノ、カルバモイル、モノまたはジ低級アルキル置換カルバモイル、低級アルキルスルホニルアミノ、低級アルコキシ、カルボニル、ハロゲン、チオール、低級アルキルチオ、3低級アルケニル、4アシル例:低級アルキルカルボニル、5低級アルキルスルホニルである。R19は後述の置換基群S2から選択され得る。A環上のその他の置換基は、R15~R18または後述の置換基群S2から選択され得、好ましくは低級アルキルである。またA環上の置換基部分は後述するように、縮合環またはスピロ環等の環を形成していてもよく、その場合、化合物QIは4環性化合物を包含する。A環はより好ましくは、以下の環のいずれかである。式中、R20~R40は、それぞれ独立して後述の置換基群S2から選択される基、または同一原子に結合するR20~R40のいずれか2つの基は、該原子と一緒になってスピロ環例:置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環を形成してもよく、またはR20およびR22、R23およびR24、R25およびR26、R27およびR29、R30およびR31、R32およびR34、R35およびR36、R37およびR38およびR39およびR40の各組合わせは、隣接原子と一緒になって、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環を形成してもよい。置換基群S2:水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよい複素環式基低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基オキシカルボニル、置換されていてもよいアミノカルボニル、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、または置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、CO、O、S、SO、SO2、NR5R5はR4とは独立してR4と同一の置換基群から選択される、-N=および=N-からなる群から選択されるヘテロ原子基が介在していてもよい。で示される不斉炭素の立体化学は、R-またはS-配置、またはそれらの混合である。一態様において、R20~R40はそれぞれ独立して、好ましくは水素、置換されていてもよい低級アルキル置換基の例:OH、低級アルコキシ、シクロアルキル、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニル、複素環式基、アリール、置換されていてもよいアミノ置換基の例:低級アルキル、アシル、シクロアルキル、置換されていてもよいアリール置換基の例:OH、低級アルキル、または置換されていてもよい複素環式基である。一態様において、R20~R25、R27~R30、およびR32~R39は、それぞれ好ましくは水素、C1-C8アルキル、C6-C14アリールC1-C8アルキル、C6-C14アリールまたはアルコキシである。一態様において、R26、R31およびR40は、それぞれ独立して好ましくは水素、C3-6シクロアルキル、複素環、またはヒドロキシ、C3-6シクロアルキル、アルコキシ、ヘテロアリール、C6-14アリールもしくはアミノで置換されていてもよいC1-8アルキルであり、該アミノは-COC1-8アルキルまたはC1-8アルキルで置換されていてもよい。より好ましい態様を以下に例示する。IA環がの場合、好ましくは、1ZはNR26、R26およびR24は一緒になって複素環を形成し、その他は水素である;2ZはOまたはNR26、R20およびR22またはR23およびR24は、一緒になってフェニルで置換されたシクロアルキルを形成し、その他は水素または置換されていてもよい低級アルキルである。IIA環がの場合、好ましくは、1ZはO、R27またはR28は低級アルキルであり、その他は水素である;2ZはNR31、R30およびR31は一緒になって複素環を形成し、その他は水素であるか、またはR27およびR29は一緒になってシクロアルキルを形成し、その他は水素である;3ZはO、R27およびR29は一緒になって、フェニルと縮合していてもよいシクロアルキルを形成し、その他は水素である。R14およびRxは、それぞれ独立して水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキル、置換されていてもよい低級アルケニル、置換されていてもよい低級アルコキシ、置換されていてもよい低級アルケニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいアリール低級アルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよい複素環式基、置換されていてもよい複素環式基低級アルキル、置換されていてもよい複素環オキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよいアリール低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル、置換されていてもよい複素環カルボニル、置換されていてもよい複素環低級アルキルカルボニル、置換されていてもよい複素環オキシカルボニル、置換されていてもよいアミノカルボニル、置換されていてもよいリン酸残基、置換されていてもよいリン酸残基で置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいリン酸残基で置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいリン酸残基で置換されていてもよいヒドロキシ、置換されていてもよいリン酸残基で置換されたアミノ、または置換されていてもよいリン酸残基で置換された低級アルキル該低級アルキルは、O、S、SO、SO2、NRa1133テトラメチルウロニウムヘキサフルオロフォスフェートメタンアムニウム英語名:21133tetramethyluroniumhexafluorophosphateMethanaminiumTFA:トリフルオロ酢酸Me:メチルEt:エチルBu:ブチルPh:フェニルBn:ベンジル。実施例11アミド1800g145mmolのアセトニトリル溶液80mLに室温下Boc2O100g458mmolおよびDMAP707g578mmolを加えた後、80度加熱下攪拌し、10分おきにBoc2O100g458mmolを追加した。原料が消失した後、2規定の水酸化ナトリウム水溶液578mL115molとエタノール80mLを加え、60度加熱下5時間攪拌した。反応液を減圧留去し得られた残渣に酢酸エチルを加えた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて抽出した。水層に2規定の塩酸水溶液を加え酸性にした後、クロロホルムにて抽出し、有機層を飽和硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム:メタノール=955にて精製した。得られた残渣の塩化メチレン―ジエチルエーテル混合溶液より固化させることでカルボン酸3を白色固体として得た358g64。1HNMRδ135146156208224395398415428493506519537542728740756762832ESIMSMH計算値385実測値385。2カルボン酸3150mg0390mmolのTHF溶液3mLに室温下トリエチルアミン162μL117mmolを加え、10分攪拌した。冷却下-15度、クロロギ酸イソブチル154μL117mmolをゆっくりと滴下後、50分攪拌した。シクロヘキシルメチルアミン508μL390mmolを加えた後、ゆっくりと室温まで昇温させながら3時間攪拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、水にて洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム:メタノール=982にて精製した。得られた白色固体をTHF-メタノール溶液112mLに溶解し、パラジウム炭素180mg00170mmolを加えた後、室温、水素雰囲気下において2時間攪拌した。反応液をセライトろ過した後、溶媒を減圧留去し得られた残渣を高速液体クロマトグラフィー03ギ酸アセトニトリル:03ギ酸水溶液=2080~50505分にて精製し目的物である化合物A-49を白色固体として得た106mg70。1HNMRδ090132145149185215232326332402403407412427494506526829100010111239ESIMSMH計算値390実測値390。実施例2カルボン酸320mg0052mmolおよびHATU30mg0079mmolのピリジン溶液400μLに室温下ジイソプロピルエチルアミンDIPEA36μL021mmolを加え、10分攪拌した。反応液に2アミノメチルチオフェン59mg0052mmolを加えた後、室温で5時間攪拌した。反応液にクロロホルム-メタノール91溶液および炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機層と水層を分離した。水層をクロロホルム-メタノール91溶液にて洗浄し、合わせた有機層を減圧留去した。得られた残渣にTFA400μLを加え、室温で5時間攪拌した。反応液を減圧留去して得られた残渣を高速液体クロマトグラフにて精製し、目的物である化合物A-39を黄色固体として得た44mg22。ESIMSMH計算値390実測値390。実施例3具体的化合物および物性データMSを以下に記載した。実施例4具体的化合物を以下に記載した。試験例1インテグラーゼ阻害活性試験方法1DNA溶液の調製特許文献2の試験例1に記載の方法と同一の方法で、基質DNA溶液2pmolμlおよびターゲットDNA溶液を調製した。ターゲットDNA各溶液は、一旦煮沸後、ゆるやかに温度を下げて相補鎖同士をアニーリングさせてから用いた。基質DNAとターゲットDNAの各配列は、同試験例に記載の通りである。2阻害率IC50値の測定ImmobilizerStreptavidinPlatesに基質DNA溶液2pmolμl50μlを加え、振盪下、室温で60分間吸着させた後、リン酸バッファーで2回洗浄した。次に上記方法で調製した各ウエルに、バッファー組成:150mMMOPS75mMMnCl250mM2メルカプトエタノール25グリセロール500μgmlウシ血清アルブミンフラクションV12μl、蒸留水39μlから調製した反応溶液51μlを加えた。次にインテグラーゼ溶液30pmol9μlを加え、良く混合した。ネガティブコントロールNCとしてのウエルには、希釈液組成:20mMMOPS400mMグルタミン酸カリウム1mMEDTA01NP4020グリセロール1mMDTT4M尿素9μlを加えプレートミキサーを用いて良く混合した。プレートを30°Cで60分インキュベート後、反応液を捨て、200μlの洗浄バッファー組成:150mMMOPS50mM2メルカプトエタノール25グリセロール500μgmlウシ血清アルブミンフラクションVで3回洗浄した。次に各ウエルにバッファー組成:150mMMOPS75mMMgCl250mM2メルカプトエタノール25グリセロール500μgmlウシ血清アルブミンフラクションV12μl、蒸留水41μlから調製した反応溶液53μlを加える。さらに各ウエルに被検化合物のDMSO溶液6μlを加え、ポジティブコントロールとしてのウエルには、DMSO6μlを加え、プレートミキサーを用いてよく混合する。プレートを30°Cで60分インキュベート後、ターゲットDNA1μlを加え、プレートミキサーを用いてよく混合した。各プレートを30°Cで10分間インキュベート後、反応液を捨て、リン酸バッファーで2回洗浄した。次にアルカリフォスファターゼ標識した抗ジゴキシゲニン抗体ヒツジFabフラグメント:ベーリンガー社製を抗体希釈液で2000倍に希釈して100μl加え、30°Cで1時間結合させた後、005Tween20を含むリン酸バッファーで2回、リン酸バッファーで2回、順次洗浄した。次に、アルカリフォスファターゼ呈色バッファー組成:09mMパラニトロフェニルホスフェート1mMMgCl21MジエタノールアミンpH98を150μl加えて30°Cで1時間反応させ、各ウエルの吸光度OD405nmを測定し、以下の計算式に従い阻害率IC50を求めた。阻害率=1001-Cabs:化合物のウエルの吸光度NCabs:NCの吸光度PCabs:PCの吸光度結果試験例2抗HIV活性試験方法HeLaCD4細胞懸濁液をアッセイプレートの各ウエルに分注した。37°C、5CO2の条件下で1時間インキュベーション後、化合物希釈液を各ウエルに加えた但し、細胞コントロールを除く。培養液を細胞コントロールのウエルには加えた。プレートを37°C、5CO2の条件下で3日間培養した。各ウエルから培養液を吸引後、レポーターアッセイキットβgalの細胞溶解液100μLをすべてのウエルに加えて、プレートを80°Cで凍結させて細胞を完全に溶解させた。プレートを室温下に置いて細胞懸濁液を解凍させた後、1200rpm、5分間、室温で遠心したKubotacentrifugeKR600P。各ウエルから20μLの上澄液を96ウエルブラックプレートに分注し、レポーターアッセイキットβgalの発光試薬100μLを各ウエルに加えた。プレートを室温で1時間、インキュベーションした。各ウエルの発光強度をマイクロベータートリラックス装置MicroBetaTRILUXinstrumentで測定した。HIV感染を50阻止する濃度concを計算して、EC50値を求めた。結果製剤例活性成分なる用語は、本発明化合物、その互変異性体、それらの製薬的に許容される又はそれらの溶媒和物を意味する。製剤例1硬質ゼラチンカプセルは次の成分を用いて製造する:用量mg/カプセル活性成分250デンプン乾燥200ステアリン酸マグネシウム10合計460mg製剤例2錠剤は下記の成分を用いて製造する:用量mg/カプセル活性成分250セルロース微結晶400二酸化ケイ素ヒューム10ステアリン酸5合計665mg成分を混合し、圧縮して各重量665mgの錠剤にする。以上のように、本発明の好ましい実施形態を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。当業者は、本発明の具体的な好ましい実施形態の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。"