"太陽電池の薄膜蒸着装置であって、基板を境界としてチャンバーを第1及び第2の単位チャンバーに区分する位置に基板を取り付ける支持部と、前記第1及び第2の単位チャンバーに蒸着ガスを独立的に注入させる位置に設けられた第1及び第2の蒸着ガス注入部と、前記第1及び第2の単位チャンバー内にそれぞれ備えられ、前記注入された蒸着ガスを分解するための第1及び第2の分解手段と、を備え、前記支持部は、基板の両面それぞれを、前記第1及び第2の単位チャンバーにおいて露出される位置に設けられていることを特徴とする太陽電池の薄膜蒸着装置。前記第1及び第2の単位チャンバーは、前記基板及び前記支持部により分画されることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の薄膜蒸着装置。前記第1及び第2の分解手段は、前記基板の両面のそれぞれから所定の間隔だけ基板面の放線方向に離隔された位置に設けられることを特徴とする請求項2に記載の太陽電池の薄膜蒸着装置。前記分解手段は、熱線またはプラズマ発生部を有することを特徴とする請求項3に記載の太陽電池の薄膜蒸着装置。前記蒸着ガスは、シラン及び水素を含み、蒸着される薄膜に依存するドーピングガスをさらに含むことを特徴とする請求項1から4までのいずれか1項に記載の太陽電池の薄膜蒸着装置。請求項1ないし5のうちいずれか1項に記載の薄膜蒸着装置を複数個備え、前記複数個の蒸着装置により、同じ基板に対する薄膜蒸着工程を順次鯣留ように構成されていることを特徴とする太陽電池の薄膜蒸着システム。前記薄膜蒸着システムは、所定の間隔に離隔された請求項1ないし5のうちいずれか1項に記載の薄膜蒸着装置と、前記薄膜蒸着装置間において基板を通過させる基板移送手段と、を備えることを特徴とする請求項6に記載の太陽電池の薄膜蒸着システム。前記複数個の薄膜蒸着装置による蒸着工程が進められることで、前記基板の両側面に薄膜が同時にまたは順次に蒸着されることを特徴とする請求項6又は7に記載の太陽電池の薄膜蒸着システム。太陽電池基板の両面上に蒸着ガスを注入するステップと、前記注入された蒸着ガスを分解して、前記基板の両面に薄膜を蒸着させるステップと、を含むことを特徴とする太陽電池の製造方法。前記蒸着ガスは、前記基板を境界として分画された単位チャンバーに注入されることを特徴とする請求項9に記載の太陽電池の製造方法。前記基板は、前記単位チャンバーの境界面を構成することを特徴とする請求項10に記載の太陽電池の製造方法。前記蒸着ガスは、前記単位チャンバーに独立的に注入され、前記蒸着工程中で前記基板は回転しないことを特徴とする請求項10に記載の太陽電池の製造方法。前記基板は、第1型不純物がドーピングされたシリコン太陽電池であることを特徴とする請求項12に記載の太陽電池の製造方法。異種接合の太陽電池の製造方法であって、前記太陽電池基板の両面上に、真性の非晶質シリコン薄膜を蒸着させるステップと、前記非晶質シリコン薄膜が蒸着された基板の両側面に、第2導電型不純物及び第1導電型不純物がそれぞれドーピングされた非晶質シリコン層をそれぞれ蒸着させるステップと、前記基板上に透明伝導性の電極層を蒸着させるステップと、を含み、前記方法の各ステップは、請求項9ないし13のうちいずれか一項に記載の方法によって進められることを特徴とする異種接合の太陽電池の製造方法。前記蒸着ステップそれぞれは、流入された蒸着ガスをプラズマまたは熱分解させる方式で進められることを特徴とする請求項14に記載の異種接合の太陽電池の製造方法。前記蒸着ステップそれぞれは、別途の蒸着装置で進められることを特徴とする請求項15に記載の異種接合の太陽電池の製造方法。本発明が解決しようとする課題は、経済性に優れ、かつ、基板の外部への露出時間を短縮して、基板の表面の汚染を低減することができる新たな太陽電池の薄膜蒸着装置及びシステム、それを利用した太陽電池の製造方法を提供することである。また、本発明が解決しようとする他の課題は、経済性に優れ、基板の表面の汚染を最小化することができる異種接合の太陽電池の製造方法、及びこれにより製造された異種接合の太陽電池を応用方法として提供することである。前述した問題を解決するために、本発明は、太陽電池の基板に対する薄膜蒸着を一つのチャンバーで基板の両面に進める薄膜蒸着装置及び太陽電池の製造方法を提供する。本発明の一観点によれば、太陽電池の薄膜蒸着装置であって、基板を境界としてチャンバーを第1及び第2の単位チャンバーに区分する位置に基板を取り付ける支持部と、前記第1及び第2の単位チャンバーに蒸着ガスを独立的に注入させる位置に設けられた第1及び第2の蒸着ガス注入部と、前記第1及び第2の単位チャンバー内にそれぞれ備えられ、前記注入された蒸着ガスを分解するための第1及び第2の分解手段と、を備え、前記支持部は、基板の両面それぞれを、前記第1及び第2の単位チャンバーにおいて露出される位置に設けられていることを特徴とする太陽電池の薄膜蒸着装置が提供される。本発明は、上記に記載の薄膜蒸着装置を複数個備え、前記複数個の蒸着装置により、同じ基板に対する薄膜蒸着工程を順次鯣留ように構成されていることを特徴とする太陽電池の薄膜蒸着システムであっても良い。本発明の他の観点によれば、太陽電池基板の両面上に蒸着ガスを注入するステップと、前記注入された蒸着ガスを分解して、前記基板の両面に薄膜を蒸着させるステップと、を含むことを特徴とする太陽電池の製造方法が提供される。本発明では、基板の回転なしに固定された状態で基板の両面蒸着が可能であるため、経済性に優れ、かつ、基板の外部露出時間を短縮して、基板の表面の汚染を最小化することができる。本発明による太陽電池の薄膜蒸着装置及びそれを利用した製造方法は、基板の回転なしに固定された状態で基板の両面蒸着を可能にする。したがって、一面に対して一層のみが積層される従来の技術に比べて、要求される設備の数を画期的に減らすことができ、その結果、本発明による蒸着装置は、従来の技術に比べて経済性に優れる。さらに、蒸着工程の数が減少することで、基板の外部露出時間も短縮し、その結果、基板の表面の汚染を低減することができ、優れた信頼性を有する太陽電池の製造が可能である。以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。以下に説明する実施形態は、当業者に本発明の思想を十分に伝達するために例として提供されるものである。したがって、本発明は、この実施形態に限定されるものではなく、他の形態に具体化されることもある。そして、図面において、構成要素の幅、長さ、厚さなどは、便宜上、誇張されて表現されることもある。明細書の全体にわたって、同じ参照符号は同じ構成要素を表すものとする。図1は、本発明の一実施形態による太陽電池の薄膜蒸着装置の一構成例を示す模式的な図である。図1を参照すれば、本実施の形態による太陽電池の薄膜蒸着装置、より詳細には、太陽電池の薄膜蒸着装置のチャンバー100は、複数個の単位チャンバーを備えるが、図1では、第1及び第2の2つの単位チャンバー110a,110bを備える蒸着装置が示される。2つの単位チャンバー110a,110bには、蒸着のための反応ガスG1,G2がそれぞれ流入される異なる位置に設けられた蒸着ガス注入部120a120bが備えられる。したがって、基板Wの両面に注入されるガスのための蒸着ガス注入部120a120bは、2つの単位チャンバーに独立して備えられ、同一のまたは相異なる種類の蒸着ガスが2つの単位チャンバー110a,110bにそれぞれ注入される通路となる。また、基板の垂直面だけでなく、側面にもガスを注入可能であり、この場合、ノズル形態の蒸着ガス注入部120が使われる。大面積の基板である場合、基板の全体への均一な分散が非常に重要であるので、前記蒸着ガス注入部120は、シャワーノズル形態でありうる。前述したように、本実施の形態による薄膜蒸着装置は、2つの単位チャンバーを区分する境界として基板Wを使用し、これによって、基板Wの両面は、2つの単位チャンバー110a,110bのそれぞれにおいてチャンバー空間に露出される。すなわち、本実施の形態による太陽電池の薄膜蒸着装置は、基板Wを2つの単位チャンバー110a,110bの隔壁の一部として使用し、2つの単位チャンバー110a,110bは、基板W及び基板Wを支持する支持部140により分画される。本実施の形態による蒸着装置は、2つの単位チャンバー110a,110bに注入された同一のまたは相異なる種類の蒸着ガスG1,G2を分解するための分解手段130a130bをさらに備える。分解手段130a130bは、2つの単位チャンバー110a,110bにそれぞれ備えられ、2つの基板の境界に位置した基板Wと所定の間隔に離隔される。蒸着ガス分解手段は、注入された蒸着ガスを分解して、基板Wの表面上に薄膜を積層させる。図1では、蒸着ガス分解手段130として熱線を使用したが、rf、マイクロウエーブを利用したプラズマ発生部が蒸着ガス分解手段130a130bとしても使われ、これは、いずれも本発明の範囲に属する。本発明の一実施形態において、蒸着ガスは、シリコン薄膜を形成するためのシラン及び水素を含み、蒸着しようとする薄膜の種類によって、適切なドーピングガスをさらに含む。さらに、透明電極物質のような太陽電池の要素素子層を積層するためのガスとして、前述した蒸着ガス分解手段130a130bにより分解される任意のあらゆるガスが本発明の蒸着ガスに属する。図2A及び図2Bは、それぞれ基板を水平及び垂直に構成した蒸着装置の断面図である。図2A及び図2Bを参照すれば、2つの単位チャンバー110a,110bは、垂直または水平に配置され、単位チャンバー110a,110bの境界面の全部または一部は、蒸着対象である基板Wとなる。したがって、単位チャンバー110a,110bの境界を構成する基板Wの両面が単位チャンバー110a,110bのそれぞれの空間内において露出される。図3は、図2Aに示した蒸着装置を利用した基板の両面に薄膜を蒸着する方法を説明するための図面である。図3を参照すれば、2つの単位チャンバー110a,110bの境界隔壁のうち一部は、蒸着対象である基板Wとなり、基板Wは、基板Wの端部を把持することで、基板Wの全体を単位チャンバー110a,110bに固定、支持する支持部140と結束される。蒸着ガス注入部120a120bを通じて注入された蒸着ガスG1,G2は、それぞれ別の分解手段130a130bにより分解された後、基板Wの上部面及び下部面に蒸着されて、薄膜S1,S2を形成する。望ましくは、各単位チャンバー110a110bへのガス注入及び薄膜蒸着は同時に進められるが、順次的な進行方式であってもよい。しかし、少なくとも本実施の形態による薄膜蒸着装置及び方法は、基板Wを裏返すひっくり返すための回転手段と回転ステップとが不要であり、これによって、基板の汚染及び基板に対する機械的負担を減少させることができる。図4は、本発明の一実施形態による蒸着装置を利用して、2つの層を基板Wの両面に積層させるステップを示す図面である。図4を参照すれば、まず、ベア基板Wに第1薄膜410a410bを基板Wの両面にそれぞれ積層する。この時、両面の第1薄膜410a410bの積層は、前述した本実施の形態による蒸着装置及び方法を使用するので、基板をひっくり返す別途の回転手段及びそれを利用した回転ステップが不要である。第1薄膜410a410bが両面に積層された基板Wを、他の蒸着装置に移送させ、移送された基板Wに対する他の両面蒸着工程を進める。これによって、第2薄膜420a420bが、第1薄膜410a410bのそれぞれの上に積層され、第2薄膜420a420bは、基板Wの両面に積層される。しかし、これと異なり、同じチャンバーで複数の両面積層も可能であり、これも本発明の範囲に属する。図5は、本実施の形態による蒸着工程を含む太陽電池の製造方法の段階図である。図5を参照すれば、本実施の形態による太陽電池の製造方法は、太陽電池製造用の基板の両面に蒸着ガスを注入し、注入された蒸着ガスを別途の分解手段で分解した後、分解された反応ガスを基板に蒸着させて、基板上に薄膜を蒸着して製造する。この時、基板は、蒸着ガスが注入される単位チャンバーの境界壁の一部または全部を構成し、単位チャンバーは、基板を境界として分画される。基板が境界の一部または全部を構成する2つの単位チャンバーに注入される蒸着ガスは、単位チャンバーに独立した方式で注入することができる。すなわち、同じ種類または異なる種類の蒸着ガスが2つの単位チャンバーに同時にまたは順次に注入され、この時の注入速度及び圧力などは、チャンバー別に制御可能であり。本実施の形態による薄膜蒸着装置及び方法によって、異種接合の太陽電池を製造することができるが、以下、図面を利用してさらに詳細に説明する。図6は、本実施の形態による方法によって製造された異種接合の太陽電池の断面図である。図6を参照すれば、中心のシリコン基板、特にn型不純物のような第1型不純物がドーピングされたシリコン基板が、中心基板610の両面上にそれぞれ真性のシリコン薄膜層620a,620bが積層され、真性のシリコン薄膜層620a,620b上に、n型及びp型不純物第1型及び第2型不純物がドーピングされたシリコン薄膜層630a,630bがそれぞれ積層される。本実施の形態において、相異なる種類の不純物でドーピングされた二つの薄膜層630a,630bも、本実施の形態による蒸着装置すなわち、2つの単位チャンバーが基板Wを境界として分離された蒸着装置を通じて積層される。以後、シリコン薄膜層630a,630b上に、透明な伝導性の電極層、例えば、ITO層640a,640bが積層され、透明な伝導性の電極層640a,640bは、中心基板610を中心として両側に積層される。したがって、透明な伝導性の電極層640a,640bも、本実施の形態による蒸着装置を用いて1つの装置で形成することが可能である。従来の技術の蒸着装置チャンバーを使用して、図6のような太陽電池を製造する場合、基板の両面に計6回の蒸着工程が必要であり、このために少なくとも6個の蒸着チャンバーが必要になる。特に、真空チャンバーに進められる蒸着工程の特性上例えば、PECVD、6個の蒸着チャンバーの使用によるコスト負担は相当である。一方、本実施の形態による蒸着装置を使用する場合、総3回の蒸着工程により、同じ構造の太陽電池を製造することができる。したがって、本実施の形態による蒸着装置及び方法は、特に異種接合の太陽電池の製造において、従来の技術に比べて1/2レベルの工程段階数及び装置のみが必要とされるので、工程が経済的である。図7は、前述した異種接合の太陽電池の製造方法の段階図である。図7を参照すれば、まず、シリコン基板610の両面上に、真性のシリコン薄膜620a,620bが積層され、真性のシリコン薄膜620a,620b上に、第1型及び第2型不純物薄膜630a,630bが同じチャンバーで蒸着され、再び第1型及び第2型不純物薄膜630a,630b上に、透明伝導性の薄膜640a,640bが蒸着される。工程の蒸着ステップそれぞれは、1台の連続蒸着装置システムにより進むが、以下、これを詳細に説明する。本発明は、前述した蒸着装置が連続的に連結された蒸着システムを提供し、前記薄膜蒸着システムは、複数個の蒸着装置を所定の間隔に離隔して構成するが、各蒸着装置の間には、両面蒸着後に排出される基板を移送させるための移送手段を備える。本発明による蒸着システム内で、各蒸着装置を経つつ、基板の両面には、薄膜が順次に積層されるが、工程中で基板はひっくり返す必要がない。本発明は、前述した蒸着システムを利用して、異種接合の太陽電池を製造するが、このような工程の模式図は、図8に示す。図8は、本発明の一実施形態による蒸着システムを利用して、異種接合の太陽電池を製造する工程を示す模式図である。図8を参照すれば、まず、装置Aでrfプラズマを利用して流入されるシラン/水素SiH4/H2蒸着ガスを分解する。この時、蒸着ガスは、基板Wに垂直な方向に注入された後、シャワーノズル150a150bを通じて拡散され、このような蒸着ガスの注入及びプラズマの発生は、いずれも基板Wの上下側の単位チャンバー111a,111bで進められる。装置Aで両面蒸着工程が進められた後、チャンバーの内部の気体を排出させ、ゲートバルブを開放する。ゲートバルブの開放後、再び装置Bに基板Wが移送される。装置Bに移送された基板Wは、上下の単位チャンバー112a,112bの境界隔壁を構成し、以後、上下部チャンバー112a,112bには、相異なるドーピングガスB2H6,PH3を含む蒸着ガスがそれぞれ独立的に注入され、注入された蒸着ガスは、それぞれの単位チャンバー112a,112bで分解されて、基板Wのシリコン薄膜上に積層される。以後、装置Cを通じてITOソースがプラズマ分解されて、基板Wの両面に蒸着される。本実施形態による蒸着装置は、rfプラズマにより蒸着ガスを分解する技術構成を提供するが、熱線などによる蒸着ガスの分解も可能であり、これは、本発明の範囲に属する。図9は、図8の蒸着装置AからCまえにより進められる基板の蒸着の断面図である。図9を参照すれば、蒸着装置Aでは、真性のシリコン薄膜620a620bが、蒸着装置Bでは、n型及びp型不純物がドーピングされたシリコン薄膜630a,630bそれぞれが、蒸着装置Cでは、ITO電極層640a,640bが基板の両面にそれぞれ積層される。それぞれの積層工程は、前述した蒸着装置を通じた両面蒸着方式である。これまで、本発明について、その望ましい実施形態を中心に説明した。当業者は、本発明の本質的な特性から逸脱しない範囲で変形された形態に具現されることを理解できるであろう。したがって、開示された実施形態を限定的な観点ではなく、説明的な観点であり、それと同等な範囲内にあるあらゆる相違点は、本発明に含まれたものと解釈されなければならない。付記本発明は以下の開示を含む。1太陽電池の薄膜蒸着装置であって、基板を境界として区分される複数個の単位チャンバーと、複数個の単位チャンバーに蒸着ガスを独立的に注入させるための蒸着ガス注入部と、前記単位チャンバー内にそれぞれ備えられ、前記注入された蒸着ガスを分解するための分解手段と、を備え、前記基板の両面それぞれは、前記複数個の単位チャンバーに露出されることを特徴とする太陽電池の薄膜蒸着装置。2前記装置は、二つの単位チャンバーを備え、前記単位チャンバーは、前記基板及び前記基板を支持する支持部により分画されることを特徴とする1に記載の太陽電池の薄膜蒸着装置。3前記分解手段は、前記基板の一側から所定の間隔に離隔されることを特徴とする2に記載の太陽電池の薄膜蒸着装置。4前記分解手段は、熱線またはプラズマ発生部であることを特徴とする3に記載の太陽電池の薄膜蒸着装置。5前記蒸着ガスは、シラン及び水素を含み、蒸着される薄膜によってドーピングガスをさらに含むことを特徴とする1に記載の太陽電池の薄膜蒸着装置。61ないし5のうちいずれか一項に記載の薄膜蒸着装置を複数個備え、前記複数個の蒸着装置により、同じ基板に対する順次的な薄膜蒸着工程が進められることを特徴とする太陽電池の薄膜蒸着システム。7前記薄膜蒸着システムは、所定の間隔に離隔された1ないし5のうちいずれか一項に記載の薄膜蒸着装置と、前記薄膜蒸着装置を通過する基板移送手段と、を備えることを特徴とする6に記載の太陽電池の薄膜蒸着システム。8前記複数個の薄膜蒸着装置による蒸着工程が進められることで、前記基板の両側面に薄膜が同時にまたは順次に蒸着されることを特徴とする6または7に記載の太陽電池の薄膜蒸着システム。9太陽電池基板の両面上に蒸着ガスを注入するステップと、前記注入された蒸着ガスを分解して、前記基板の両面に薄膜を蒸着させるステップと、を含むことを特徴とする太陽電池の製造方法。10前記蒸着ガスは、前記基板を境界として分画された単位チャンバーに注入されることを特徴とする9に記載の太陽電池の製造方法。11前記基板は、前記単位チャンバーの境界面を構成することを特徴とする10に記載の太陽電池の製造方法。12前記蒸着ガスは、前記単位チャンバーに独立的に注入され、前記蒸着工程中で前記基板は回転しないことを特徴とする10に記載の太陽電池の製造方法。13前記基板は、第1型不純物がドーピングされたシリコン太陽電池であることを特徴とする12に記載の太陽電池の製造方法。14異種接合の太陽電池の製造方法であって、前記方法は、前記シリコン基板の両面上に、真性の非晶質シリコン薄膜を蒸着させるステップと、前記非晶質シリコン薄膜が蒸着された基板の両側面に、第2型不純物及び第1型不純物がそれぞれドーピングされた非晶質シリコン層をそれぞれ蒸着させるステップと、前記基板上に透明伝導性の電極層を蒸着させるステップと、を含み、前記方法の各ステップは、9ないし13のうちいずれか一項に記載の方法によって進められることを特徴とする異種接合の太陽電池の製造方法。15前記蒸着ステップそれぞれは、流入された蒸着ガスをプラズマまたは熱分解させる方式で進められることを特徴とする14に記載の異種接合の太陽電池の製造方法。16前記蒸着ステップそれぞれは、別途の蒸着装置で進められることを特徴とする15に記載の異種接合の太陽電池の製造方法。"