実質的に線形の傾きを有しているメインのスキャン波形を生成するよう構成された第1の波生成器;補正波形を生成するよう構成された第2の波生成器;および上記メインのスキャン波形および上記補正波形を足し合わせることによって、ビームのスキャン波形を形成するよう構成された加算器;を備えたイオン注入システムであって、上記補正波形は、高速スキャンの方向に沿ったイオンビームのドーズの不均一性を補償するように、上記メインのスキャン波形の上記傾きを修正するよう構成された波形および振幅を有するように選択される、イオン注入システム。上記ビームのスキャン波形は、上記イオンビームが、ワークピースを横切って動くとき、その速さを徐々に増大させるまたは低減させる、傾きを有している請求項1に記載のイオン注入システム。上記補正波形は二次波形を含んでいる、請求項1に記載のイオン注入システム。上記メインのスキャン波形は、上記イオン注入システムにおける圧力変化による影響を実質的に受けない、請求項1に記載のイオン注入システム。上記第2の波生成器に接続され、かつ、混合比によって上記補正波形の上記振幅を調整するよう構成された調整装置をさらに備えている、請求項1に記載のイオン注入システム。上記調整装置は、可変の補正の減衰器を備えている、請求項5に記載のイオン注入システム。上記混合比は、上記イオンビームの対向する端部に位置する第1の端部のファラデーカップおよび第2の端部のファラデーカップから得られる測定値に基づいて決定される、請求項5に記載のイオン注入システム。上記混合比は、ビームラインに沿って配置された圧力センサから得られる測定値に基づいて決定される、請求項5に記載のイオン注入システム。上記調整装置は、エンドステーションにて測定された圧力に基づく上記補正波形の上記振幅を動的に修正するように構成されている、請求項5に記載のイオン注入システム。上記補正波形の上記波形および上記振幅は、上記第2の波生成器によって受信された実質的に瞬時の圧力の測定値に応えて調整される請求項1に記載のイオン注入システム。イオン注入システムの注入均一性を向上させる方法であって、区分的に線形の傾きを有するメインのスキャン波形を生成する工程;補正波形を生成する工程;およびイオン注入のビームを方向づけるために利用されるビームのスキャン波形を生成するために、上記補正波形を上記メインのスキャン波形に追加する工程;を含み、上記補正波形は、高速スキャンの方向に沿ったイオンビームのドーズの不均一性を補償するように、上記メインのスキャン波形の上記傾きを修正するように設定された波形および振幅を有するように選択される方法。上記メインのスキャン波形と上記補正波形との混合比を変えるために、上記補正波形の上記振幅を調整する工程をさらに含む、請求項11に記載の方法。上記補正波形は二次波形を含んでいる、請求項12に記載の方法。上記二次波形は、V2t=att-112の式にて表わされる、請求項13に記載の方法。上記混合比は、上記イオンビームの端部に位置する第1の端部のファラデーカップおよび上記イオンビームの対向する端部に位置する第2の端部のファラデーカップから得られる測定値に基づいて決定される、請求項12に記載の方法。上記補正波形の上記振幅は、上記補正波形の最大の混合比が、上記メインのスキャン波形の上記振幅にかかわりなく一定に留まるように、上記メインのスキャン波形の振幅に比例して調整される、請求項12に記載の方法。上記混合比は、ビームラインに沿って配置された圧力センサから得られる測定値に基づいて決定される、請求項12に記載の方法。上記方法は、コンピュータ読取り可能な媒体上に具体化されている、請求項12に記載の方法。上記ビームのスキャン波形は、上記イオンビームが、ワークピースを横切って動くとき、その速さを徐々に増大させるまたは低減させる傾きを有している、請求項11に記載の方法。ワークピース上で実質的に均一なイオンビームのスキャンの速度をもたらすように設定された実質的に区分的に線形の傾き、を有するメインのスキャン波形を生成するように構成されている第1の波生成器;補正波形を生成するように構成されている第2の波生成器;および上記メインのスキャン波形および上記補正波形を足し合わせることによってビームのスキャン波形を形成し、ビームのスキャン波形をビームのスキャン装置に供給するよう構成されている加算器;を備えているイオン注入システムであって、上記補正波形は、上記第2の波生成器によって受信された実質的に瞬時の圧力の測定値に応じて上記メインのスキャン波形の上記傾きを修正するように構成された波形および振幅を有するように選択され、上記ビームのスキャン波形は、上記イオンビームが、ワークピースを横切って動くとき、その速さを徐々に増大させるまたは低減させる非線形の傾きを有している、イオン注入システム。