"基板ステージに保持された基板の上にパターンを転写する、少なくとも3つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のうち2つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置の基板ステージの移動によって前記一方のリソグラフィ装置に生じる第1振動と、前記第1振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第2振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のうち第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動に起因する前記第1リソグラフィ装置の振動の振動量を、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて算出する算出部と、前記算出部で算出される前記振動量が許容量以下となるように、前記第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御する制御部と、を有することを特徴とするリソグラフィシステム。前記制御部は、前記第1リソグラフィ装置の基板ステージを加速させている加速期間と重ならないように、前記第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの加速を開始する加速開始時刻を制御することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィシステム。前記制御部は、前記第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージを加速させている加速期間が重ならないように、前記第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの加速を開始する加速開始時刻を制御することを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィシステム。前記制御部は、前記第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの加速度の大きさを制御することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のそれぞれは、前記基板ステージの移動によって生じる前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のそれぞれの振動の振動量を計測する計測部を更に有し、前記取得部は、前記計測部の計測結果から前記伝達関数を算出することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のそれぞれは、複数の梁の上に配置され、前記制御部は、前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のうち前記第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージを前記複数の梁の長手方向と平行な方向に移動させる場合に、基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のそれぞれは、複数の梁の上に配置され、前記少なくとも3つのリソグラフィ装置を、前記複数の梁のうち同一の梁の上に配置されたリソグラフィ装置のグループに分類した場合に、前記取得部は、前記分類されたグループのそれぞれについて、当該グループに含まれるリソグラフィ装置のうち2つのリソグラフィ装置について、前記伝達関数を取得することを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。基板ステージに保持された基板の上にパターンを転写する、少なくとも3つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のうち2つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置の基板ステージの移動によって前記一方のリソグラフィ装置に生じる第1振動と、前記第1振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第2振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージを移動させてよいかどうかを、前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のそれぞれについて順次判定する判定部と、を有し、前記判定部は、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて、前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のうち第1リソグラフィ装置の基板ステージの移動に起因する前記第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの振動の振動量と、前記第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージの移動に起因する前記第1リソグラフィ装置の振動の振動量とを算出し、前記算出した全ての振動量が許容量以下となる場合に、前記第1リソグラフィ装置の基板ステージの移動を許可することを特徴とするリソグラフィシステム。前記少なくとも3つのリソグラフィ装置は、前記基板の上の樹脂とモールドとを接触させた状態で当該樹脂を硬化させ、硬化した樹脂から前記モールドを剥離することで前記基板の上に前記パターンを転写するインプリント装置であることを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。前記少なくとも3つのリソグラフィ装置は、前記基板に荷電粒子線で描画を行うことで前記基板の上に前記パターンを転写する荷電粒子線描画装置であることを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。前記少なくとも3つのリソグラフィ装置は、前記基板にレチクルのパターンを投影光学系によって投影することで前記基板の上に前記パターンを転写する露光装置であることを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。請求項1乃至11のうちいずれか1項に記載のリソグラフィシステムを用いて基板の上にパターンを転写するステップと、前記パターンが転写された前記基板を加工するステップと、を有することを特徴とする物品の製造方法。しかしながら、特許文献1の技術を実際のリソグラフィ装置に適用すると、ある装置が故障やメンテナンスで稼働を停止した場合、もう一方の装置が稼働可能であったとしても、カウンタマスとして機能する装置がないため、稼働を停止せざるをえない。従って、クラスタ構成において稼働を停止する装置が増加し、全体の稼働率が低下してしまう。また、2つの装置間において実際に力積を一致させるためには、装置の数や設置位置、各装置で発生する振動の周波数成分なども考慮する必要がある。従って、他の装置に影響を与えない程度に力積を一致させることは非常に困難であり、現実的ではない。本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、リソグラフィシステムにおける転写精度の低下の抑制、及び、稼働率の向上に有利な技術を提供することを目的とする。上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのリソグラフィシステムは、基板ステージに保持された基板の上にパターンを転写する、少なくとも3つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のうち2つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置の基板ステージの移動によって前記一方のリソグラフィ装置に生じる第1振動と、前記第1振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第2振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、前記少なくとも3つのリソグラフィ装置のうち第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動に起因する前記第1リソグラフィ装置の振動の振動量を、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて算出する算出部と、前記算出部で算出される前記振動量が許容量以下となるように、前記第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御する制御部と、を有することを特徴とする。本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。本発明によれば、例えば、リソグラフィシステムにおける転写精度の低下の抑制、及び、稼働率の向上に有利な技術を提供することができる。以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。図1a及び図1bは、本発明の一側面としてのリソグラフィシステム1の構成を示す概略図である。リソグラフィシステム1は、図1a及び図1bに示すように、基板の上にパターンを転写するリソグラフィ装置10a、10b及び10cと、リソグラフィ装置10a、10b及び10cを管理する管理部20とを備えている。リソグラフィ装置10a、10b及び10cは、デバイス製造工場の床DFに設置され、基板を保持して移動する基板ステージ移動体11a、11b及び11cをそれぞれ有する。リソグラフィシステム1は、クラスタ構成を採用し、本実施形態では、3つのリソグラフィ装置を備えているが、リソグラフィ装置の数を3つに限定するものではなく、少なくとも3つのリソグラフィ装置を備えていればよい。基板ステージ11a、11b及び11cのそれぞれが移動すると、リソグラフィ装置10a、10b及び10cが設置された床DFが振動する。そこで、リソグラフィ装置10a、10b及び10cのそれぞれには、自身の振動の振動量又は振動量に比例する物理量を計測する計測部12a、12b及び12cが配置されている。計測部12a、12b及び12cは、例えば、加速度計、速度計、変位計、力検出計などを含む。計測部12a、12b及び12cは、各リソグラフィ装置内において、除振ユニットに支持された構造体や基板ステージ即ち、振動を発生させる移動体の近傍に配置される。また、計測部12a、12b及び12cは、床DFにおける各リソグラフィ装置の設置場所の近傍に配置してもよく、各リソグラフィ装置の精度に影響する構造物の近傍に配置するとよい。管理部20は、取得部22と、算出部24と、制御部26とを含み、リソグラフィシステム1の全体を管理する。取得部22は、少なくとも3つのリソグラフィ装置、本実施形態では、3つのリソグラフィ装置10a、10b及び10cのうち2つのリソグラフィ装置の組み合わせのそれぞれについて、かかる2つのリソグラフィ装置間の振動の関係を表す伝達関数を取得する。伝達関数は、一方のリソグラフィ装置の基板ステージの移動によって一方のリソグラフィ装置に生じる振動第1振動と、かかる振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって他方のリソグラフィ装置に生じる振動第2振動との関係を表す関数である。取得部22には、例えば、基板ステージ11bが移動したときの計測部12bの計測データと、基板ステージ11bの移動に起因する振動がリソグラフィ装置10aに伝達したときの計測部12aの計測データとが入力される。取得部22は、計測部12a及び12bの計測結果に基づいて、計測部12a及び12bの計測データを入出力値とする伝達関数f10a,10bを算出取得する。同様に、取得部22は、リソグラフィ装置10aとリソグラフィ装置10cとの間の伝達関数f10a,10cやリソグラフィ装置10bとリソグラフィ装置10cとの間の伝達関数f10b,10cを算出取得する。また、取得部22は、リソグラフィ装置10a、10b及び10cの構成部材に関する情報やリソグラフィ装置10a、10b及び10cの設置場所に関する情報などから、シミュレーションによって伝達関数を取得することも可能である。但し、クラスタ構成では、リソグラフィ装置間の距離だけではなく、床DFを構成する梁の位置などによっても伝達関数が変わる。従って、シミュレーションによって伝達関数を取得する場合には、床DFを構成する梁の位置に関する情報なども考慮するとよい。本実施形態では、厳密な意味での伝達関数を、振動伝達を表す係数で代用することも可能である。振動伝達を表す係数とは、ある特定の周波数における振動の入出力値の大きさの比を表す係数である。算出部24は、取得部22で取得された伝達関数に基づいて、第1リソグラフィ装置例えば、リソグラフィ装置10aを除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージの移動に起因する第1リソグラフィ装置における振動の振動量を算出する。例えば、算出部24は、リソグラフィ装置10b又は10cで振動が生じた場合に、伝達関数f10a,10b又はf10a,10cに基づいて、リソグラフィ装置10aに伝達される振動リソグラフィ装置10aで生じる振動の振動量を算出する。制御部26は、算出部24で算出される第1リソグラフィ装置における振動の振動量が許容量以下許容される振動量以下となるように、第1リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージの移動を制御する。3つのリソグラフィ装置10a乃至10cを稼働させる場合を考える。この場合、制御部26は、算出部24で算出されるリソグラフィ装置10aの振動量が許容量以下となるように、例えば、リソグラフィ装置10b及び10cに待機時間を設けて、基板ステージ11b及び11cのそれぞれの加速を開始する加速開始時刻を制御する。本実施形態において、基板ステージの加速とは、基板ステージが加速している加速度がプラスである場合だけではなく、基板ステージが減速している加速度がマイナスである場合も含む。クラスタ構成を採用するリソグラフィシステム1においては、制御部26は、リソグラフィ装置10aの振動量を許容量以下とするだけではなく、リソグラフィ装置10b及び10cの振動量も許容量以下にする必要がある。従って、全てのリソグラフィ装置の振動量を許容量以下に制御するために、リソグラフィシステム1は、図1bに示すように、2つのリソグラフィ装置の組み合わせの全てについて伝達関数を取得できるように構成するとよい。一方、あるリソグラフィ装置例えば、リソグラフィ装置10aの振動量のみを許容量以下に制御すればよい場合には、図1aに示すように、かかるリソグラフィ装置の振動量の制御に必要な伝達関数のみを取得できるように構成してもよい。図2aは、リソグラフィ装置10a、10b及び10cのそれぞれの基板ステージ11a、11b及び11cの加速度プロファイル、即ち、基板ステージ11a、11b及び11cの加速度を時系列的に示す図である。図2aを参照するに、基板ステージ11bを加速させている加速期間と基板ステージ11cを加速させている加速期間とが重なっている。この場合、基板ステージ11b及び11cの移動加速に起因する振動がリソグラフィ装置10aに伝達されると、図2bに示すように、それらの振動が重なり合う共振することになる。従って、リソグラフィ装置10aにおける振動の振動量が許容量よりも大きくなってしまう。図2bは、基板ステージ11b及び11cのそれぞれの移動に起因するリソグラフィ装置10aの振動量即ち、計測部12aの計測データを示す図である。そこで、制御部26は、基板ステージ11b及び11cの移動に起因する振動によってリソグラフィ装置10aの振動量が許容量よりも大きくなる場合には、図3aに示すように、基板ステージ11cの加速を開始する加速開始時刻を制御する。具体的には、制御部26は、基板ステージ11bを加速させている加速期間と基板ステージ11cを加速させている加速期間とが重ならないように、基板ステージ11cの加速を開始する加速開始時刻を変更する。この場合、基板ステージ11b及び11cの移動に起因する振動がリソグラフィ装置10aに伝達させても、図3bに示すように、それらの振動が重なり合うことがない。従って、リソグラフィ装置10aにおける振動の振動量を許容量以下に抑制することができる。なお、基板ステージ11bを加速させている加速期間と基板ステージ11cを加速させている加速期間とが重ならないように、基板ステージ11bの加速を開始する加速開始時刻を変更してもよい。また、制御部26は、基板ステージ11b及び11cの少なくとも一方の加速開始時刻に加えて、基板ステージ11b及び11cの少なくとも一方の加速度の大きさを制御することで、リソグラフィ装置10aの振動量を許容量以下にしてもよい。図3bでは、各基板ステージの位相や方向成分の違いを考慮していない。実際には、各基板ステージの位相や方向成分の違いを考慮した上で、リソグラフィ装置10aにおける振動が増幅しないように、各基板ステージの移動を制御する必要がある。このように、本実施形態のリソグラフィシステム1によれば、各リソグラフィ装置の振動量を許容量以下にすることができると共に、あるリソグラフィ装置が稼働を停止した場合であっても他のリソグラフィ装置を稼働させることが可能である。従って、リソグラフィシステム1は、基板に転写されるパターンの転写精度の低下を抑制しながら、稼働率を向上させることができる。また、制御部26は、各リソグラフィ装置の基板ステージを加速させる加速期間を制御することも可能である。例えば、制御部26は、リソグラフィ装置間で振動伝達が大きいリソグラフィ装置に対しては、基板ステージの加速期間を制御することで、他のリソグラフィ装置の基板ステージの加速期間が重なることに起因する振動の増幅を抑制する。一方、制御部26は、リソグラフィ装置間で振動伝達が小さいリソグラフィ装置に対しては、基板ステージの加速期間を過剰に制御せずに、待機時間を短くするなどして基板ステージの加速開始時刻を制御する。これにより、各リソグラフィ装置の振動量を許容量以下に抑制しながら、稼働させるリソグラフィ装置の最適化を行うことができるため、リソグラフィシステムの稼働率を向上させることができる。また、各リソグラフィ装置に許容される振動量は、処理工程によって変化する。例えば、基板ステージに保持された基板にパターンを転写する処理や基板ステージに保持された基板を位置決めする処理では高い処理精度が求められるため、処理精度に影響を与える振動の許容量は小さくなる。そこで、全ての処理工程において、制御部26による基板ステージの制御を行うのではなく、リソグラフィ装置に許容される振動量が小さい処理工程に限定して、制御部26による基板ステージの制御を行ってもよい。これにより、リソグラフィシステム1の稼働率を更に向上させることができる。また、多数のリソグラフィ装置を備えたリソグラフィシステムにおいては、各リソグラフィ装置における振動が重なり合う共振する可能性が高いため、転写精度の低下の抑制や稼働率の向上などの効果を得やすい。図4を参照して、伝達関数を取得するために必要なデータ各リソグラフィ装置の振動量を計測する計測部12a、12b及び12cについて具体的に説明する。計測部12aは、除振ユニット14aに支持された構造体15aに配置された計測器121aと、基板ステージ11aの近傍に配置された計測器122aと、リソグラフィ装置10aの設置場所の近傍に配置された計測器123aで構成される。同様に、計測部12bは、除振ユニット14bに支持された構造体15bに配置された計測器121bと、基板ステージ11bの近傍に配置された計測器122bと、リソグラフィ装置10bの設置場所の近傍に配置された計測器123bで構成される。同様に、計測部12cは、除振ユニット14cに支持された構造体15cに配置された計測器121cと、基板ステージ11cの近傍に配置された計測器122cと、リソグラフィ装置10cの設置場所の近傍に配置された計測器123cで構成される。計測器121a乃至123a、121b乃至123b及び121c乃至123cのそれぞれは、上述したように、加速度計、速度計、変位計及び力検出計の少なくとも1つを含む。リソグラフィ装置間で伝達される振動の関係を表す伝達関数は、入力値と出力値とが1対1の関係にある関数でなければならない。例えば、リソグラフィ装置10bにおける振動を入力とし、リソグラフィ装置10aにおける振動を出力とする伝達関数を取得する場合を考える。この場合、計測器121b乃至123bのうちの1つの計測データと、計測器121a乃至123aのうちの1つの計測データとが必要となる。また、リソグラフィ装置10a及び10bにおける振動を計測している間は、基板ステージ11cを静止させておく必要があるため、伝達関数の取得は、デバイスを製造する前に行うとよい。デバイスを製造する前であれば、リソグラフィ装置10a及び10bの振動量の計測を時間の許す限り行うことが可能であるため、計測データを平均化してノイズの影響を低減することができる。また、基板ステージ11bの加速度を大きくすることで計測データのノイズの影響を低減することも可能である。図5を参照して、リソグラフィシステム1が3つ以上のリソグラフィ装置、具体的には、9つのリソグラフィ装置10a乃至10iを備えている場合について考える。例えば、リソグラフィ装置10aの稼働中に、他のリソグラフィ装置も稼働させようとした場合、制御部26管理部20は、リソグラフィ装置10aと共に稼働させるリソグラフィ装置をリソグラフィ装置10b乃至10iから選択することが可能である。具体的には、制御部26は、取得部22で取得された伝達関数に基づいて、振動量が許容量以下となるリソグラフィ装置をリソグラフィ装置10b乃至10iから選択する。リソグラフィ装置10b及び10dはリソグラフィ装置10aの近傍に設置されているため、リソグラフィ装置10aとリソグラフィ装置10b又は10dとの間の伝達関数は、一般的に、大きくなる。一方、リソグラフィ装置10c及び10gはリソグラフィ装置10aから離れた場所に設置されているため、リソグラフィ装置10aとリソグラフィ装置10c又は10gとの間の伝達関数は、一般的に、小さくなる。従って、リソグラフィ装置10aと共に、リソグラフィ装置10b及び10dを稼働させると、振動が増幅して、リソグラフィ装置10a、10b及び10dのうちいずれかのリソグラフィ装置の振動量が許容量を超える可能性が高くなる。各リソグラフィ装置の振動量を許容量以下にするためには、リソグラフィ装置10aと共に稼働させるリソグラフィ装置の数を減らせばよいが、リソグラフィシステムの稼働率が著しく低下してしまう。そこで、制御部26は、リソグラフィ装置10aと共に稼働させるリソグラフィ装置として、リソグラフィ装置間の伝達関数が小さいリソグラフィ装置10c及び10gを選択する。一般的には、リソグラフィ装置間の距離が長い、或いは、リソグラフィ装置を設置した床DFの剛性が高い場合には、リソグラフィ装置間で伝達される振動が減衰されるため、伝達関数が小さくなる。従って、リソグラフィ装置10aと共にリソグラフィ装置10b及び10dを稼働させる場合と比較して、リソグラフ装置の稼働数は同じでありながら、振動の増幅を抑制してリソグラフィ装置10a、10c及び10gの振動量を許容量以下にすることができる。また、上述したように、振動伝達が大きいリソグラフィ装置に対しては、基板ステージの加速期間を制御することで振動の増幅を抑制することができる。リソグラフィ装置間で伝達される振動の関係を表す伝達関数は、上述したように、振動の伝達経路である床DF、詳細には、床DFを構成する梁の位置にも依存する。リソグラフィ装置が設置される床DFは、一般的に、図6aに示す梁BEを、図6b及び図6cに示すように複数組み合わせて構成される。図6bに示すように、リソグラフィ装置10a、10b及び10cが床DFを構成する梁BEの上に配置されている場合を考える。この場合、リソグラフィ装置10a乃至10cのそれぞれの基板ステージが梁BEの長手方向と平行な方向Y方向に移動する際に生じる振動は、リソグラフィ装置間を伝達しやすい。一方、リソグラフィ装置10a乃至10cのそれぞれの基板ステージが梁BEの長手方向に直交する方向X方向に移動する際に生じる振動は、リソグラフィ装置間を伝達しにくい。これは、梁BEの長手方向に働く圧縮強度が、梁BEの長手方向に直交する方向に働く曲げ強度よりも大きく、梁BEの長手方向の振動が減衰しにくいからである。そこで、制御部26は、リソグラフィ装置の基板ステージを梁BEの長手方向と平行な方向に移動させる場合に限定して、基板ステージの移動基板ステージの加速開始時刻を制御してもよい。図6cに示すように、多数のリソグラフィ装置10a乃至10iが床DFを構成する梁BEの上に配置されている場合を考える。この場合、全てのリソグラフィ装置に関して伝達関数を取得すると、取得部22や算出部24において膨大なデータ計測データなどを扱わなければならない。また、全てのリソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御しようとすると、制御部26による制御が著しく複雑になる。そこで、図6cに示すように、リソグラフィ装置10a乃至10iを、同一の梁BEの上に配置されたリソグラフィ装置のグループ図6cでは、グループGAとグループGBに分類する。そして、取得部22は、分類されたグループのそれぞれについて、グループに含まれるリソグラフィ装置のうち2つのリソグラフィ装置の組み合わせの全てを代表する1つの伝達関数を取得する。これにより、取得部22や算出部24において扱うデータの量を低減させ、制御部26による制御が複雑化することを防止することができる。図6cを参照するに、例えば、グループGA及びGBに含まれるリソグラフィ装置10aを稼働させる場合を考える。この場合、リソグラフィ装置10aの基板ステージをX方向に移動する際には、リソグラフィ装置10a、10d及び10g間の伝達関数を代表する1つの伝達関数に基づいて、リソグラフィ装置10aの基板ステージの移動を制御する。一方、リソグラフィ装置10aの基板ステージをY方向に移動する際には、リソグラフィ装置10a、10b及び10c間の伝達関数を代表する1つの伝達関数に基づいて、リソグラフィ装置10aの基板ステージの移動を制御する。また、制御部26が各リソグラフィ装置の基板ステージの移動加速開始時刻を制御する方法としては、2つの方法が考えらえる。第1の方法は、各リソグラフィ装置の基板ステージの加速開始時刻をスケジューリングして制御する方法である。各リソグラフィ装置の基板ステージの移動プロファイルが予め決められている場合には、リソグラフィ装置間の伝達関数に基づいて、各リソグラフィ装置における振動の振動量を算出することが可能である。従って、各リソグラフィ装置の振動量が許容量以下となるように、各リソグラフィ装置の基板ステージの加速開始時刻及び加速期間をスケジューリングすることが可能である。第2の方法は、各リソグラフィ装置の基板ステージを移動させてよいか即ち、加速を開始してよいかどうかを順次判定する方法である。例えば、図5を参照するに、リソグラフィ装置10aを稼働させる場合を考える。リソグラフィ装置10aは、稼働準備が完了すると、その旨を制御部26に通知する。制御部26は、かかる通知を受けて、取得部22で取得された伝達関数に基づいて、リソグラフィ装置10aの基板ステージの移動に起因するリソグラフィ装置10aを除くリソグラフィ装置10b乃至10iのそれぞれの振動量を算出部24に算出させる。また、制御部26は、取得部22で取得された伝達関数に基づいて、リソグラフィ装置10aを除くリソグラフィ装置10b乃至10iのそれぞれの基板ステージの移動に起因するリソグラフィ装置10aの振動量を算出部24に算出させる。そして、制御部26は、算出部24に算出させた全ての振動量が許容量以下となる場合に、リソグラフィ装置10aの基板ステージの移動を許可する。なお、算出部24に算出させた振動量のうち1つでも許容量を超える場合には、リソグラフィ装置10aを待機させ、全ての振動量が許容量以下となるタイミングでリソグラフィ装置10aの基板ステージの移動を許可する。この場合、制御部26及び算出部24は、リソグラフィシステム1に備えられた各リソグラフィ装置の基板ステージを移動させてよいかどうかを、各リソグラフィ装置について順次判定する判定部として機能する。なお、本実施形態におけるリソグラフィ装置としては、具体的には、インプリント装置、荷電粒子線描画装置、投影露光装置などが考えられる。インプリント装置は、基板の上の樹脂インプリント材とモールド型とを接触させた状態で樹脂を硬化させ、硬化した樹脂からモールドを剥離することで基板の上に前記パターンを転写するリソグラフィ装置である。荷電粒子線描画装置は、基板に荷電粒子線で描画を行うことで基板の上にパターンを転写するリソグラフィ装置である。投影露光装置は、基板にレチクルのパターンを投影光学系によって投影することで基板の上にレチクルのパターンを転写するリソグラフィ装置である。このように、本実施形態のリソグラフィシステム1は、転写精度の低下の抑制、及び、稼働率の向上に有利である。従って、リソグラフィシステム1は、高いスループットで経済性よく高品位な半導体デバイス、LCD素子、撮像素子CCDなど、薄膜磁気ヘッドなどの物品を提供することができる。物品としてのデバイスの製造方法は、リソグラフィシステム1を用いて基板ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板等にパターンを転写するステップを含む。かかる製造方法は、パターンが転写された基板を加工酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等するステップを更に含む。本実施形態では、全ての期間でリソグラフィ装置の振動が許容量以下となるように、各リソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御するリソグラフィシステムについて説明したが、必ずしも全ての期間でなくてもよい。例えば、インプリント装置では、樹脂とモールドとを接触させている期間や位置合わせを行っている期間を制御対象期間として、その期間は振動が許容量以下となるように制御してもよい。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。"