"コア部とクラッド部を有する光導波路において、コア部が、クラッド部を構成する母体ポリマー材料に下記の特性を有する化合物の気体分子を浸透させた複合体により構成されていることを特徴とする光導波路:気化性を有している、母体ポリマーよりも屈折率が高い、光の伝搬波長域において透明である。浸透させる化合物の飽和蒸気圧が、100°Cにおいて103~150mmHgの範囲にある請求項1に記載の光導波路。コア部とクラッド部を有する光導波路の製造方法において、所定の導波路形状に対応してマスキングされた母体ポリマー材料と下記の特性を有する化合物とを真空密閉容器に入れ、真空密閉容器を加熱することにより、化合物の気体分子を非マスキング部から母体ポリマー材料中に浸透させて、コア部となるべき部分に複合体を形成させる工程;気化性を有している、母体ポリマーよりも屈折率が高い、光の伝搬波長域において透明である、母体ポリマー表面のマスクを除去する工程:上記化合物分子が浸透した母体ポリマー材料表面に母体ポリマー材料を積層して、両者を一体化する工程を備えたことを特徴とする光導波路の製造方法。浸透させる化合物の飽和蒸気圧が、100°Cにおいて103~150mmHgの範囲にある請求項3に記載の光導波路の製造方法。従って、本発明は、コアとクラッドとの界面に荒れを生じさせることなく、かつ容易に作製しうるステップインデックス型光導波路およびその作製方法を提供することを主な目的とする。本発明者は、従来技術の問題点に留意しつつ、研究を進めた結果、高屈折率を有する化合物の気化分子をクラッド基部に浸透させることを着想し、さらに研究を重ねて、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、下記の光導波路とその製造方法を提供する。1.コア部とクラッド部を有する光導波路において、コア部が、クラッド部を構成する母体ポリマー材料に下記の特性を有する化合物の気体分子を浸透させた複合体により構成されていることを特徴とする光導波路:気化性を有している:母体ポリマーよりも屈折率が高い:光の伝搬波長において透明である。2.浸透させる化合物の飽和蒸気圧が、100°Cにおいて103~150mmHgの範囲にある上記項1に記載の光導波路。3.コア部とクラッド部を有する光導波路の製造方法において、所定の導波路形状に対応してマスキングされた母体ポリマー材料と下記の特性を有する化合物とを真空密閉容器に入れ、真空密閉容器を加熱することにより、化合物の気体分子を非マスキング部から母体ポリマー材料中に浸透させて、コア部となるべき部分に複合体を形成させる工程;気化性を有している、母体ポリマーよりも屈折率が高い、光の伝搬波長において透明である、母体ポリマー表面のマスクを除去する工程:上記化合物分子が浸透した母体ポリマー材料表面に母体ポリマー材料を積層して、両者を一体化する工程を備えたことを特徴とする光導波路の製造方法。4.浸透させる化合物の飽和蒸気圧が、100°Cにおいて103~150mmHgの範囲にある上記項3に記載の光導波路の製造方法。本発明による光導波路においては、ポリマー母体中への化合物気体分子の浸透により、クラッド内にコアを形成させるので、クラッドとコアの界面に光散乱の原因となる荒れは存在しない。従って、本発明によれば、量産に適した低損失の光導波路を容易に作製することができる。また、本発明によって作製した光導波路は、高屈折率化合物を一度昇華させるプロセスを経ているので、高屈折率化合物は分子レベルまで分解可能であり、コア部に極めて高純度の化合物を浸透させることが可能である。従って、光導波路の特性を大幅に向上させることができる。以下、本発明の一実施態様を示す図面を参照しつつ、本発明をさらに詳細に説明する。図1に示す様に、まず、クラッド基部材料5の表面に、コアパターンに対応する所定形状の開口を有するマスク15を形成することにより、クラッド基部30を調製する。次いで、図2に示す様に、マスクで被覆されたクラッド基部30と所定の気化性化合物20とを容器10内に収容する。次いで、図3に示す様に、高真空排気装置50を用いて、ガラス管10を真空排気し、バーナー60でガラス管10の開口端を封じて、アンプル11とする図4参照。次いで、図5に示す様に、上記のアンプル11を加熱装置70に入れ、所定の温度と時間で加熱することにより、昇華した高屈折率化合物の気体分子がアンプル11内に充満する。高屈折率化合物の気体分子は、運動エネルギーを有しているため、マスク開口からクラッド基部30内に浸透し、高屈折率化合物の浸透層を形成する。次いで、浸透層を形成されたクラッド基部30内部を室温まで徐冷して、気化性化合物が垂直方向に浸透したクラッド基部40を得る図6参照。次いで、マスクを除去したクラッド基部5の表面に、クラッド基部材料5と同様な大きさのクラッド蓋部80を重ねて、真空容器中で加熱圧着することにより、クラッド基部材料5とクラッド蓋部80とが一体化する図7参照。この様にして、クラッド中に、高屈折率化合物とクラッド基部材料との複合体からなるコアを内包した所望の光導波路90が得られる図8参照。クラッド基材とクラッド蓋材とは、高屈折率化合物との相溶性、光導波路の屈折率の調整などを考慮すれば、同種材料であることが好ましい。一般に、クラッド基部材料よりも高い屈折率を有する化合物は、複数のベンゼン環で構成されているため、融点或いは昇華点が高い。本発明者の研究によれば、100°Cにおける飽和蒸気圧が103~120mmHgである化合物を使用する場合には、その昇華気体によるクラッド基部への浸透により、コア-クラッド間の界面荒れを生じることなく、光伝搬損失の低い光導波路が得られることが明らかとなった。すなわち、化合物の飽和蒸気圧が103mmHgよりも低い場合には、浸透層がコアとしての機能を充分に発揮できないのに対し、150mmHgよりも高い場合には、揮発性が高く、クラッド基部材料を溶解してしまう。高屈折率化合物の飽和蒸気圧は、005~60mmHg程度であることがより好ましい。本発明で使用する高屈折率を有する化合物としては、ベンゼン環含有化合物、複素原子環含有化合物、硫黄原子とベンゼン環とを含有する化合物、硫黄原子と複素原子環とを含有する化合物が挙げられる。ベンゼン環含有化合物類としては、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、アントラセン、ナフトキノン、アントラキノン、安息香酸フェニル、安息香酸ナフタレン、ベンジルベンゾエート、ナフチルベンゾエート、ジフェニルフタレート、ジベンジルフタレート、ベンジルフタレート、トリフェニルフォスフェート、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ベンジルナフタレン、ジフェニルプロパン、スチルベン、アゾベンゼン、ブロモナフタレン、ブロモアントラセン、フルオレン、ジベンゾフルオレン、ピリジン、ビピリジン、ピロール、ビピロールなどが挙げられる。複素原子環含有化合物類としては、ベンゾオキサジアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアジアゾール、ジアリルエテン、ローダミン、クマリン、ジメチルアミノスチリルピランなど挙げられる。硫黄原子とベンゼン環とを含有する化合物類として、ジフェニルサルファイド、ジフェニルスルフォキシド、ジフェニルサルフォン、ジフェニルジサルファイドなどが挙げられる。硫黄原子と複素原子環とを含有する化合物類としては、ビチオフェン、ターチオフェンなどが挙げられる。さらに、本発明においては、上記の各化合物類の骨格に様々な置換基が導入された誘導体も、使用可能である。この様な置換基としては、特に限定されるものではないが、メチル基、エチル基、プロピル基、カルボニル基、メチルエステル基、エチルエステル基、プロピルエステル基、ホルミル基、メチルケトン基、エチルケトン基、プロピルケトン基、-OH基、-CH2OH基、-C2H4OH基、-C3H6OH基、メチルエーテル基、エチルエーテル基、プロピルエーテル基、チオール基、-SCH3基、-SC2H5基、-SC3H7基などが挙げられる。中心に金属を有する錯体では、配位子として、キノリン、メチルジケトン、アセチルアセトン、2,4-ヘキサンジオン、3,5-ヘプタンジオン、6-メチルヘプタン-2,4-ジオン、フルオレニルなどが挙げられる。また中心金属としてアルミニウム、ユーロピウム、銅、チタン、亜鉛、マグネシウム、鉄、イリジウム、エルビウムなどが挙げられる。上記の化合物を浸透させて、コアを内包形成させる母材ポリマーは、通信波長帯において、透明であることが必要である。本発明において、母材ポリマーとは、プラスチックと総称される有機化合物の重合体を意味する。母材ポリマーは、公知の光導波路のクラッド材料として使用されているものが使用可能である。具体例としては、透明な非晶質高分子、例えば、ポリ-4-メチル-1-ペンテン、ポリスチレン、ポリα-メチルスチレン、ポリビニルナフタレン、ポリビニルカルバゾール、スチレン-アクリロニトリル共重合体、ポリビニルピリジン、ポリビニルホルマール、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリメタクリル酸ブチル、ポリメタクリル酸ベンジル、ポリメタクリル酸フェニル、ポリメタクリル酸シクロヘキシル、ポリメタクリル酸;ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ジアリルフタレートプレポリマー、ジアリルイソフタレートプレポリマー、エチレンジメタクリレートプレポリマーなど熱硬化性高分子の前駆体;有機ポリシラン、シリコーン樹脂などが挙げられる。また、上記ポリマー類を構成するモノマーの2種以上による共重合体、さらには、上記モノマーを重水素化したポリマーも挙げられる。特に、可視光源を通信波長の光源とする場合は、ポリメチルメタクリレートPMMAなどのポリメタクリレート誘導体、ビスフェノールAポリカーボネートなどのポリカーボーネート類、ポリシクロオレフィン、エポキシ樹脂、ポリイミドなどが用いられる。これらのなかでも、ポリメタクリレート誘導体がより好ましい。クラッド基材への気化性化合物の浸透量、浸透深さなどは、特に限定されず、クラッド基材の材質、気化性化合物の種類、光導波路に求められる光学的特性などを総合的に勘案して、適宜選択すれば良い。これらの浸透量、浸透深さなどは、加熱温度、加熱時間などを調整することにより、制御できる。浸透量は、コア部の屈折率変化に影響を及ぼすので、クラッド基材の屈折率を考慮して、定めればよい。浸透量は、限定されるものではないが、通常5~20wt程度の範囲とすることが好ましい。浸透深さは、伝搬波長にもよるが、通常5~800μm程度の範囲とすることが好ましい。[実施例1]図1に示す様に、2×10×25mm3のPMMAプレート14915表面に、間隙が100μmのマスク15を施した。次いで、図2に示す様に、このマスクを形成したPMMAプレート30を内径12mmのガラス管10に入れ、安息香酸フェニルnd158、蒸気圧07mmHg05g図2において、20として示すを同管させた。その後、図3および図4に示す様に、高真空排気装置50によってガラス管10を真空排気した後、バーナー60で開放端を封じきって、アンプル11とした。次いで、図5に示す様に、このアンプル11をオーブン70に入れ、100°Cで4時間熱処理した後、室温まで徐冷することにより、図6に示す様に、安息香酸フェニルが直線状に浸透したPMMAプレート40を得た。次いで、同様な大きさの未処理のPMMAプレート80と上記で作製したプレート40とを真空オーブン中で貼り合わせて図7、光導波路90を作製した図8。この光導波路の伝搬損失をカットバック法により測定した結果、035dBcmであった。貼り合わせ時の条件は、01~1mmHgの真空度で、温度140~175°Cであった。[比較例1]図9および図10に示す様に、実施例1と同様にしてマスクを施したPMMAプレート31とベンゼン21とをガラス管12内に同管させた。この時ベンゼンは、排気中に留去されないように、液体窒素で冷却を行った。その後、高真空排気装置51によってガラス管12を真空排気し、バーナー61で封じきって、アンプルとした。このアンプルを100°Cで4時間熱処理した後、室温まで徐冷した。PMMAプレートは溶けており、光導波路は作製できなかった。[実施例2]ガラス管に入れる気化性化合物としてビフェニルnd1587、蒸気圧53mmHgを使用する以外は、実施例1に示す手法に準じて、光導波路を作製した。得られた光導波路の伝搬損失をカットバック法により測定した結果、036dBcmであった。[比較例2]ガラス管に入れる化合物をポリスチレンnd1591、蒸気圧:高すぎるので、測定不能とする以外は、実施例1に示す手法に準じて、光導波路の作製を試みた。ポリスチレンは昇華せず、PMMAに浸透しなかったので、光導波路は得られなかった。[実施例3]ガラス管に入れる気化性化合物としてジフェニルサルファイドnd1633、蒸気圧13mmHgを使用する以外は、実施例1に示す手法に準じて、光導波路を作製した。得られた光導波路の伝搬損失をカットバック法により測定した結果、026dBcmであった。"