"一対の主平面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記外周端面は外周側面部と外周面取り部とを有し、前記外周端面において、前記磁気記録媒体用ガラス基板の中心角で15度間隔に設けた計24の外周端面測定箇所で表面粗さRaを測定したとき、前記外周側面部の表面粗さRaの最大値は0.5μm以下、前記外周側面部の表面粗さRaの標準偏差は0.2μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。隣接する外周端面測定箇所における前記外周側面部の表面粗さRaの差は0.3μm以下であることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体用ガラス基板。前記外周面取り部の表面粗さRaの最大値は0.5μm以下、前記外周面取り部の表面粗さRaの標準偏差は0.2μm以下、隣接する外周端面測定箇所における前記外周面取り部の表面粗さRaの差は0.3μm以下、であることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。前記内周端面は内周側面部と内周面取り部とを有し、前記内周端面において、前記磁気記録媒体用ガラス基板の中心角で15度間隔に設けた計24の内周端面測定箇所で表面粗さRaを測定したとき、前記内周側面部、及び、前記内周面取り部の表面粗さRaの最大値は0.5μm以下、前記内周側面部、及び、前記内周面取り部の表面粗さRaの標準偏差は0.2μm以下、隣接する内周端面測定箇所における前記内周側面部、及び、前記内周面取り部の表面粗さRaの差は0.3μm以下、であることを特徴とする請求項1乃至3いずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。前記磁気記録媒体用ガラス基板の表面に磁性層を有する多層膜を成膜したとき、前記多層膜の膜剥がれ発生確率が0.7以下であることを特徴とする請求項1乃至4いずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。しかしながら、従来のガラス基板においては、端面部分の表面粗さRaについては周面全体で均一であるかは評価されていなかったため、局所的に表面粗さRaの高い部分がある場合があり問題であった。また、主平面の平行度が十分ではない、すなわち同一ガラス基板内での板厚分布幅の大きいガラス基板が発生する場合があり、加工精度、歩留まりの点で問題があった。本発明は上記従来技術が有する問題に鑑み、外周端面の側面部の表面粗さRaを複数箇所で測定した場合に、その最大値、標準偏差が所定の範囲内にあり、主平面研磨を行った場合に平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。上記課題を解決するため本発明は、一対の主平面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記外周端面は外周側面部と外周面取り部とを有し、前記外周端面において、前記磁気記録媒体用ガラス基板の中心角で15度間隔に設けた計24の外周端面測定箇所で表面粗さRaを測定したとき、前記外周側面部の表面粗さRaの最大値は0.5μm以下、前記外周側面部の表面粗さRaの標準偏差は0.2μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は、外周側面部の表面粗さ算術平均粗さRaを外周面の複数箇所で測定した場合に表面粗さRaが所定の範囲内になっている。また、表面粗さRaの標準偏差も所定の範囲内になっている。このため、外周側面部は周面に局所的に表面粗さRaの高いところがなく、外周側面部全体として高い平滑度を有するガラス基板となる。また、主平面研磨を行った際に平行度が良好な磁気記録媒体用ガラス基板とすることができる。以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。図1に示すように、磁気記録媒体用ガラス基板10は中央部に中心が同一の円孔部を有する円盤形状を有している。そして、ガラス基板の上下面が主平面11である。図1中、A1とA6は磁気記録媒体用ガラス基板の外径側領域の板厚、A2とA5は磁気記録媒体用ガラス基板の中間領域の板厚、A3とA4は磁気記録媒体用ガラス基板の内径側領域の板厚をそれぞれ示す。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度板厚分布としては、磁気記録媒体用ガラス基板の各領域における板厚例えば、A1~A6が均一であるほど優れていることになる。反対に、各領域における板厚が不均一、すなわち板厚分布幅板厚偏差が大きいほど劣ることになる。外周端面12は主平面部分に垂直な外周側面部120と、外周側面部の上下部分に配置され、主平面に対して角度を有する傾斜している外周面取り部121とから構成されている。内周端面13も同様に主平面に垂直な内周側面部130と、内周側面部の上下部分に配置されており主平面に対して角度を有する傾斜している内周面取り部131とから構成されている。そして、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は、磁気記録媒体用ガラス基板の外周端面において、中心角で15度間隔に設けた計24の外周端面測定箇所で表面粗さ算術平均粗さRaを測定したとき、外周側面部の表面粗さRaの最大値が0.5μm以下である。ここで、上記外周側面部の表面粗さRaの最大値は、0.4μm以下であることがより好ましく、0.3μm以下であることがさらに好ましい。特に好ましくは0.2μm以下である。さらに、外周端面の側面部の表面粗さRaの標準偏差が0.2μm以下であることを特徴とするものである。外周端面の側面部の表面粗さRaの標準偏差は0.15μm以下であることがより好ましく、0.1μm以下であることが特に好ましい。ここで、測定箇所について図2を用いて説明する。図2は本発明のガラス基板について上面からみた模式図を示しており、外周端面の測定箇所としては、A~Cの矢印で例示しているように、隣接する測定箇所が、中心角で15度間隔ずつ離れるように例えば図中のa配置されている。そして、磁気記録媒体用ガラス基板の外周側面部の全体で24箇所において測定するものである。また、後述する外周面取り部、内周側面部、内周面取り部の場合も同様に中心角で15度ずつ離れた計24の測定箇所でそれぞれ測定する。本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は上記の24箇所で測定した表面粗さRaの最大値と標準偏差が所定の範囲内にあることを特徴とするものである。係る範囲を有することによって、表面粗さRaが局所的に高い部分がなく、磁気記録媒体用ガラス基板の外周側面部が周全体として均一に平滑なものとなる。さらに、本発明者らは外周側面部が上記要件を充足することによって、主平面の研磨を行った際に平行度の高いガラス基板を得られることを見いだした。これについて以下に説明する。まず、従来技術でも説明したが、主平面を研磨する際、図3Aに示すような、ガラス基板を保持可能なガラス基板保持穴31を有するキャリア主平面研磨用治具30に複数のガラス基板を設置する。次いでガラス基板を設置したキャリア30を、図3Bに示すような両面研磨装置32にセットし、サンギア33、インターナルギア34を所定の回転比率で回転駆動する。これにより、キャリア30を自転させながらサンギア33の周りを公転するように移動させる。このとき、キャリア30に保持されたガラス基板の両主平面は、ガラス基板と対向する面に研磨パッドが装着された上定盤35の研磨面36と下定盤37の研磨面38との間に狭持、押圧され、研磨面とガラス基板との間には砥粒を含有する研磨液研磨スラリが供給されて、ガラス基板の両主平面が同時に研磨されることになる。同時に研磨できるガラス基板の枚数は、キャリア30、両面研磨装置32の大きさによって異なる。例えば22インチのキャリアを使用する22B型両面研磨装置においては、1ロット当たり150~222枚のガラス基板を同時に研磨できる。なお、研磨を行う際、キャリアの全てのガラス基板保持穴31にガラス基板をセットする必要はない。そして、ガラス基板の主平面を研磨する際、キャリアが自転、公転するのに合わせて、セットしたガラス基板もガラス保持穴内で自転することにより、ガラス基板の主平面全体が均一に研磨される。しかしながら、磁気記録媒体用ガラス基板の外周側面部における表面粗さRaにばらつきがある従来のガラス基板の場合、キャリアのガラス保持穴31との摩擦が不均一に発生することになり、ガラス保持穴内で磁気記録媒体用ガラス基板の自転が抑制される場合があった。このため、ガラス基板の主平面全体を均一に研磨できず磁気記録媒体用ガラス基板の平行度が十分ではないガラス基板が発生する場合があった。これに対して、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は、24点の測定箇所で表面粗さRa及びその標準偏差が所定の範囲内であるため、磁気記録媒体用ガラス基板の外周側面部全体で表面粗さRaが略均一である。このため、主平面研磨工程において、ガラス基板がキャリア30のガラス基板保持穴内で均一に自転することができ、主平面の平行度が高い磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが可能になる。上記した要件に加えてさらに、隣接する外周端面測定箇所における外周側面部の表面粗さRaの差が0.3μm以下であることが好ましい。隣接する外周端面測定箇所とは、基準となる外周端面測定箇所の両隣の測定箇所を意味している。図2で具体的に説明すると、測定箇所Bを基準としてみた場合、その両隣のA、Cを指しており、測定箇所Bでの表面粗さRaの値と、測定箇所A及びCでの表面粗さRaの値との差がそれぞれ0.3μm以下であることを意味している。そして、全ての測定箇所で隣接測定箇所との表面粗さRaの差が0.3μm以下であることを意味している。これは、係る規定を充足することによって、外周側面部において表面粗さRaの値が突出した部分がさらに存在しないこととなり、外周側面部全体でより均一な平滑性を有することとなるため好ましい。また、主平面を研磨して得られる磁気記録媒体用ガラス基板の平行度も高くなるためこの点でも好ましい。なお、上記隣接する外周端面測定箇所における外周側面部の表面粗さRaの差は、0.2μm以下であることがより好ましく、0.15μm以下であることがさらに好ましい。特に好ましくは0.1μm以下である。さらに、外周側面部だけではなく、外周面取り部についても、同様に表面粗さRaを測定した場合、表面粗さRaの最大値が0.5μm以下であり、表面粗さRaの標準偏差が0.2μm以下であることが好ましい。上記外周面取り部の表面粗さRaの最大値は、0.4μm以下であることがより好ましく、0.3μm以下であることがさらに好ましい。特に好ましくは、0.2μm以下である。また、外周面取り部の表面粗さRaの標準偏差は、0.15μm以下であることがより好ましく、0.1μm以下であることがさらに好ましい。さらに、隣接する外周端面測定箇所における前記外周面取り部の表面粗さRaの差が0.3μm以下であることが好ましい。隣接する外周端面測定箇所における外周面取り部の表面粗さRaは0.2μm以下であることがより好ましく、0.15μm以下であることがさらに好ましい。特に好ましくは0.1μm以下である。ここで、外周面取り部については図1にあるように、側面部の上下に2箇所存在するが、この場合、いずれか一方のみが上記要件を満たしていれば足りるが、2箇所ともに充足していることがより好ましい。上記要件を満たしている場合、外周端面全体が高い平滑性を有することとなるため、磁気ディスクとして使用した際に、障害が起こりにくくなるため好ましい。さらに、その表面に磁性層を有する多層膜を設け磁気記録媒体磁気ディスクとした際に、膜剥がれが起こりにくくなり、歩留まりが向上するため、この点でも好ましい。また、内周端面においても、中心角で15度間隔に設けた計24の外周端面測定箇所で表面粗さRaを測定したとき、内周側面部、及び、内周面取り部の表面粗さRaの最大値が0.5μm以下であることが好ましい。また、前記内周側面部、及び、内周面取り部の表面粗さRaの標準偏差が0.2μm以下であることが好ましい。さらに、隣接する内周端面測定箇所における内周側面部、及び、内周面取り部の表面粗さRaの差が0.3μm以下であることが好ましい。なお、この場合についても外周端面の場合と同様に測定箇所は内周側面部、内周面取り部のそれぞれについて中心角で15度間隔に離れた測定箇所で測定する。このため、内周側面部、内周面取り部で、測定箇所がそれぞれ24箇所あることになる。また、ここでいう、最大値、標準偏差、隣接する測定箇所間の差は、内周側面部、内周面取り部、それぞれについてみた場合の値を意味している。さらに、内周面取り部は、内周側面部の上下に2箇所存在するが、この場合、いずれか一方のみが上記条件を充足していれば足りるが、2箇所ともに充足していることがより好ましい。内周側面部、及び、内周面取り部が上記要件を満たすことによって、内周端面全体が高い平滑性を有することとなる。そして、磁気記録媒体磁気ディスクとするためには、本発明のガラス基板表面に磁性層を有する多層膜を形成するが、外周端面や、内周端面の平滑性が低いと膜剥がれを生じる場合があり、歩留まりの低下につながる。これに対して、外周端面や内周端面の表面粗さRaが上記要件を充足する場合、膜剥がれの発生率が0または、それに近い値となり、高い歩留まりを達成することが可能になるため好ましい。以上に説明してきた本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は、形状付与工程、面取り工程、主平面のラッピング工程、端面研磨工程、主平面研磨工程、精密洗浄工程を有する製造方法により製造することができる。形状付与工程は、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法、または、プレス成形法等で成形されたガラス素基板を円盤形状に加工するものである。ここで、ガラス素基板は特に限定されるものではなく、アモルファスガラスや、結晶化ガラスでもよく、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラスでもよい。そして、面取り工程は、形状付与工程で円盤形状に加工したガラス基板について、内周端面、外周端面に面取りを行う工程である。本工程においては、用いる砥石について限定されるものではなく、必要な研削量、速度等に応じて砥石を選択する。面取り加工は、1段階の加工でもよく、粗加工、仕上げ加工というように2段階の加工でもよく、2段階以上の加工でもよい。また、各段階で用いる砥石は、砥石の番手や結合剤の種類等が異なる砥石を用いて面取り加工してもよい。ただし、面取り加工を行う際、最後の仕上げ面取り工程で用いる砥石として目の粗いものを使用すると、所定の表面粗さRaとするためには、この後の端面研磨工程において研磨量を増加することになる。このため、仕上げ面取り工程においては、例えば番手が400以上のものを使用することが好ましく、500以上のものを使用することがより好ましい。端面研磨工程は、外周端面及び内周端面の側面部と面取り部について研磨を行う工程である。研磨の方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、外周端面及び内周端面に研磨ブラシまたは研磨パッドを当て、これに砥粒を含有する研磨液研磨スラリを供給しながら所望の表面粗さRaになるように研磨を行う。この際、面取り工程で用いた砥石の粗さ番手に応じて所定量研磨することが好ましい。これは、面取り工程でガラス基板の表面に生じた加工変質層傷などを、加工変質層傷などの深さよりも多い研磨量で研磨して加工変質層傷などを除去するためであり、面取り工程で用いた砥石の種類に応じて端面研磨工程での研磨量を決定し、所定の表面粗さRaを有する磁気記録媒体用ガラス基板を得ることができる。具体的には、例えば仕上げの面取り工程で番手が500の砥石を用いた際には、端面の研磨量を30μm以上とすることが好ましく、番手が800の砥石を用いた場合には、端面の研磨量を20μm以上研磨することが好ましい。主平面研磨工程については、既に説明したように、例えば図3に示した両面研磨装置を用いて研磨パッドをガラス基板の主平面の両面に当て、研磨パッドとガラス基板との間に砥粒を含有する研磨液研磨スラリを供給しながらガラス基板を研磨する。そして、精密洗浄工程については、ガラス基板表面に付着したパーティクル等の除去を行い、ガラス基板の乾燥をするものである。上記磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、各工程間にガラス基板洗浄工程間洗浄や、ガラス基板表面のエッチング工程間エッチングを実施してもよい。さらに磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合には、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程例えば、化学強化工程を研磨工程前または研磨工程後、あるいは研磨工程間に実施してもよい。さらに、各研磨工程については、1次研磨のみでもよく、2次研磨、3次研磨等複数段階で研磨を行ってもよい。なお、磁気記録媒体用ガラス基板の外周端面及び内周端面の側面部と面取り部の表面粗さRaは、面取り工程と端面研磨工程において形成される。そのため、主平面研磨工程後や精密洗浄工程後の磁気記録媒体用ガラス基板の外周端面及び内周端面の表面粗さRaは、端面研磨工程後のものと同じである。以上に説明した製造方法により、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板を得ることができる。そして、さらに、得られた磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層等を成膜することにより磁気記録媒体磁気ディスクとすることができる。磁気記録媒体には水平磁気記録方式、垂直磁気記録方式があるが、ここでは垂直磁気記録方式を例に手順を以下に説明する。磁気記録媒体は、少なくともその表面に磁性層、保護層、潤滑膜を備えている。そして、垂直磁気記録方式の場合、磁気ヘッドからの記録磁界を環流させる役割を果たす軟磁性材料からなる軟磁性下地層を配するのが一般的である。このため、ガラス基板表面から順に、例えば、軟磁性下地層、非磁性中間層、垂直記録用磁性層、保護層、潤滑膜のように積層されている。各層について以下に説明する。軟磁性下地層としては例えば、CoNiFe、FeCoB、CoCuFe、NiFe、FeAlSi、FeTaN、FeN、FeTaC、CoFeB、CoZrN等が使用できる。そして、非磁性中間層は、Ru,Ru合金等から構成される。この非磁性中間層は垂直記録用磁性層のエピタキシャル成長を容易にするための機能、及び軟磁性下地層と記録用磁性層との間での磁気交換結合を断つ機能を有する。垂直記録用磁性層は、磁化容易軸が基板面に対して垂直方向を向いた磁性膜であり、少なくともCo、Ptを含んでいる。そして、高い固有媒体ノイズの原因となる粒間交換結合を低減するため、良好に隔離された微粒子構造グラニュラー構造とするのが良い。具体的には、CoPt系合金などに酸化物SiO2、SiO、Cr2O3、CoO、Ta2O3、TiO2等や、Cr、B、Cu、Ta、Zrなどを添加したものを用いるのがよい。ここまで説明した軟磁性下地層、非磁性中間層、垂直記録用磁性層はインラインスパッタ法、DCマグネトロンスパッタ法などで連続的に製造することができる。次いで、保護層は垂直記録用磁性層の腐食を防ぎ、かつ、磁気ヘッドが媒体に接触した場合でも媒体表面の損傷を防ぐために設けられたものであり、垂直記録用磁性層の上に設けられる。保護層としてはC、ZrO2、SiO2などを含む材料を用いることができる。その形成方法としては、例えばインラインスパッタ法、CVD法、スピンコート法などを用いることができる。保護層の表面には磁気ヘッドと記録媒体磁気ディスクとの摩擦を低減するために、潤滑層を形成する。潤滑層は、例えばパーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などを用いることができる。潤滑層についてはディップ法、スプレー法などで形成することができる。上記のような方法によって、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の表面に磁性層を有する多層膜を成膜した場合に多層膜の膜剥がれ発生確率が0.7以下であることが好ましく、0.3以下であることがより好ましい。ここでいう、膜剥がれ発生確率は、磁気記録媒体磁気ディスクの製品1000枚中、成膜工程後に膜剥がれが生じていた製品の数の発生確率を示しており、成膜したガラス基板の表面をレーザ顕微鏡によって観察し、磁気記録媒体の膜剥がれ発生の有無を確認して、成膜工程後に膜剥がれが生じていた製品の数をカウントし、膜剥がれ発生確率を算出する。膜剥がれが発生した磁気記録媒体磁気ディスクは、記録の読み書きを安定的に実施することが困難となり、磁気ディスクドライブの歩留りを低下させ問題となる。以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。まず、以下の実施例、比較例における、磁気記録媒体用ガラス基板の評価方法、及び、ガラス基板表面に磁性層などの薄膜を成膜した磁気記録媒の評価方法、について説明する。1外周端面、内周端面の表面粗さ算術平均粗さRa表面粗さ算術平均粗さRaは、レーザ顕微鏡オリンパス社製製品名:LEXTOLS3500を用いて、高さ情報を有する観察画像を撮像し、撮像した観察画像を解析することによって測定した。高さ情報を有するレーザ顕微鏡の観察画像は、20倍の対物レンズを用い、観察領域を640μm×640μmとして撮像した。表面粗さ算術平均粗さRaは、撮像した観察画像640μm×640μmの観察領域の中心部、例えば外周側面部の場合は外周側面部の中心中央線上で、測定長さを640μm、カットオフ値を64μmとして解析して求めた。表面粗さ算術平均粗さRaの測定は、発明を実施するための形態でも説明したように、中心角で15度間隔に設けた計24の測定箇所で測定した。また、各端面に面取り部は側面部の上下に2カ所形成されているが、いずれか一方について測定を行っている。2平行度平行度は、以下の二つの方法で評価を行っている。平行度は板厚の分布幅を示しており、値が小さいほど板厚が均一であり、すなわち、平行度が優れていることを示している。平行度a平行度aは、レーザ変位計キーエンス社製レーザーヘッドはLK-G15/アンプはLK-G3000Vを用いて測定した。磁気記録媒体用ガラス基板の主平面内で、中心角で90度おきに、外周部、内周部について合計8点板厚測定を行い、最大板厚値と最小板厚値の差を求め、これを平行度aとした。平行度b平行度bは、レーザ干渉計フジノン社製製品名:平面測定用フィゾー干渉計G102を用いて測定した。これは、両主平面から反射した反射光の位相差により形成される干渉縞を観察し、これを解析することによって両主平面の平行度を算出する方法である。具体的には、レーザ干渉計で観察される明暗の干渉縞が等高線となっており、その間隔は光源の波長、入射角により決定される。レーザ干渉計は光の波長を物差しとしているため、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度を高精度に測定できる。平行度bの測定領域は、外径65mm、内径20mmの磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域を含むように設定した。本実施例において、測定領域は、円盤中心部から10.0mm~32.5mm領域に設定した。3膜剥がれ発生確率膜密着性磁気記録媒体用ガラス基板を1000枚準備し、磁気記録媒体用ガラス基板の表面に磁性層等の膜を成膜し、膜剥がれが発生した磁気記録媒体の数をカウントして、膜剥がれ発生確率を求めた。膜剥がれ発生の有無は、レーザ顕微鏡オリンパス社製製品名:LEXTOLS3500用いて、成膜した磁気記録媒体の主平面の内周領域と外周領域を観察して確認した。磁気記録媒体用ガラス基板は、以下の手順で作製した。外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmの磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように、フロート法で成形されたSiO2を主成分とするガラス基板を中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板に加工した。この円盤形状ガラス基板の内周端面と外周端面を、面取り幅0.15mm、面取り角度45°の磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように面取り加工した内周面取り工程、外周面取り工程。面取り加工後、アルミナ砥粒を用いてガラス基板上下主平面をラッピング加工し、砥粒を洗浄除去した。次に、磁気記録媒体用ガラス基板の外周側面部と外周面取り部を、研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液を用いて研磨し、外周側面と外周面取り部の加工変質層傷などを除去し、鏡面となるように外周端面を研磨加工した外周端面研磨工程。外周端面研磨後、磁気記録媒体用ガラス基板の内周側面部と内周面取り部を研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液を用いて研磨し、内周側面部と内周面取り部の加工変質層傷などを除去し、鏡面となるように内周端面を研磨加工した内周端面研磨工程。内周端面研磨したガラス基板は、洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄により、砥粒を洗浄除去する。内周面取り工程及び外周面取り工程の加工方法、外周端面研磨工程及び内周端面研磨工程の加工方法は、後述する例1~例8に記載した。加工したガラス基板の外周端面外周側面部、外周面取り部と内周端面内周側面部、内周面取り部の表面粗さRaを上記方法により測定した。ガラス基板の端面を加工した後、ダイヤモンド砥粒を含有する固定粒工具と研削液を用いて、ガラス基板上下主平面をラッピング加工し、洗浄した。次に、研磨具として硬質ウレタン製の研磨パッドと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液平均粒子直径、以下、平均粒径と略す、約1.3μmの酸化セリウムを含有する研磨液組成物を用いて、22B型両面研磨装置スピードファム社製、製品名:DSM22B-6PV-4MHにより上下主平面を研磨量が20μmとなるようにガラス基板を1次研磨し、酸化セリウムを洗浄除去した。なお、本実施例では、1ロットで216枚のガラス基板を同時に研磨した。1次研磨後のガラス基板は、研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、上記の酸化セリウム砥粒よりも平均粒径が小さい酸化セリウム砥粒を含有する研磨液平均粒径約0.5μmの酸化セリウムを主成分とする研磨液組成物を用いて、22B型両面研磨装置により上下主平面を研磨量が5μmとなるように研磨し、酸化セリウムを洗浄除去した。2次研磨後のガラス基板は、3次研磨を行う。3次研磨は研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、コロイダルシリカを含有する研磨液一次粒子の平均粒径が20~30nmのコロイダルシリカを主成分とする研磨液組成物を用いて、22B型両面研磨装置により上下主平面を研磨量が1μmとなるように研磨加工した。3次研磨したガラス基板は、洗剤を用いたスクラブ洗浄、洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い精密洗浄、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥した。洗浄乾燥した後、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度aと、平行度bを測定した。また、洗浄乾燥した後の磁気記録媒体用ガラス基板の外周端面外周側面部、外周面取り部と内周端面内周側面部、内周面取り部の表面粗さRaを上記方法により測定し、外周端面研磨工程及び内周端面研磨工程の後に測定した表面粗さRaと同じ値であることを確認した。得られた磁気記録媒体用ガラス基板の表面に磁性層を有する多層膜を成膜して磁気記録媒体とし、磁気記録媒体用ガラス基板に対する多層膜の密着性を評価した。磁気記録媒体用ガラス基板の表面に磁性層を有する多層膜の形成は、以下の手順で実施した。成膜前洗浄を行った磁気記録媒体用ガラス基板の表面に、インライン型スパッタリング装置を用いて、軟磁性下地層としてNiFe層、非磁性中間層としてRu層、垂直磁気記録層としてCoCrPtSiO2のグラニュラ構造層を、順次積層した。次に、CVD法にてダイヤモンドライクカーボン膜を保護層として形成した。その後、ディップ法によってパーフルオロポリエーテルを有する潤滑膜を形成した。内周面取り工程及び外周面取り工程の加工条件、外周端面研磨工程及び内周端面研磨工程の加工条件を、例1~例8に記載した。例1~5は実施例、例6~例8は比較例である。例1~例8の加工条件で加工したガラス基板の外周端面外周側面部、外周面取り部と内周端面内周側面部、内周面取り部の表面粗さRaと、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度a及び平行度bと、磁気記録媒体の膜剥がれ発生確率と、を表1に示した。例1中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板の内周端面、外周端面に、面取り加工を行う。面取り工程では、面取り部と側面部の形状を有する外周端面用ダイヤモンド砥石と内周端面用ダイヤモンド砥石とを用いて、外周端面と内周端面とを同時に研削し、面取り加工した。また、面取り加工の研削速度と加工面の品質を両立するため、面取り加工は粗加工と、仕上げ加工との2段加工で行なった。面取り工程の仕上げ加工は、外周端面用ダイヤモンド砥石と内周端面用ダイヤモンド砥石は共に番手が800のレジンメタル複合ボンド砥石と研削液を用いて行った。面取り工程後、ガラス基板の主平面をラッピング加工を行い、外周端面面取り部、側面部と、内周端面面取り部、側面部を端面研磨した。端面研磨は、研磨具として研磨ブラシと研磨液を用いて実施した。例1において、外周端面の研磨量は30μm、内周端面の研磨量は20μmとした。上述したように、端面加工後のガラス基板に主平面研磨と精密洗浄を施し、磁気記録媒体用ガラス基板を得た。また、磁気記録媒体用ガラス基板の表面に磁性層を有する多層膜を成膜して磁気記録媒体とし、磁気記録媒体用ガラス基板に対する多層膜の膜密着性を評価した。例2面取り工程の仕上げ砥石として、外周端面用砥石と内周端面用砥石として共に番手が600の電着砥石を用いて行った以外は、例1と同じ条件で面取り加工した。外周端面面取り部、側面部と内周端面面取り部、側面部の端面研磨は、外周端面の研磨量を40μm、内周端面の研磨量を30μm、とした以外は、例1と同じ条件で実施した。例3面取り工程の仕上げ砥石として、外周端面用砥石と内周端面用砥石として共に番手が500の電着砥石を用いて行った以外は、例1と同じ条件で面取り加工した。外周端面面取り部、側面部と内周端面面取り部、側面部の端面研磨は、外周端面の研磨量を40μm、内周端面研磨量を30μm、とした以外は例1と同じ条件で端面実施した。例4面取り工程の仕上げ砥石として、外周端面用砥石と内周端面用砥石として共に番手が500の電着砥石を用いて行った以外は、例1と同じ条件で面取り加工した。外周端面面取り部、側面部と内周端面面取り部、側面部の端面研磨は、外周端面の研磨量を40μm、内周端面研磨量を30μmとした以外は例1と同じ条件で実施した。端面研磨後、フッ酸硝酸混合溶液にガラス基板を浸漬し、ディスク全体をエッチング量が7μmとなるようにエッチングした。例5面取り工程の仕上げ砥石として、外周端面用砥石と内周端面用砥石として共に番手が500の電着砥石を用いて行った以外は、例1と同じ条件で面取り加工した。内周端面面取り部、側面部は、内周端面研磨を行う前に、フッ酸硝酸混合用液により内周端面をエッチング量が15μmになるようにエッチングし、内周端面の研磨量を7μmとしたこと以外は、例1と同じ条件で内周端面研磨した。一方、外周端面面取り部、側面部は、外周端面の研磨量を40μmとしたこと以外は例1と同じ条件で外周端面研磨した。例6面取り工程の仕上げ砥石として、外周端面用砥石には番手が325、内周端面用砥石には番手が500の電着砥石をそれぞれ用いて行った以外は、例1と同じ条件で面取り加工した。外周端面面取り部、側面部と内周端面面取り部、側面部の端面研磨は、外周端面の研磨量を40μm、内周端面研磨量を30μm、とした以外は例1と同じ条件で端面研磨した。例7面取り工程の仕上げ砥石として、外周端面用砥石と内周端面用砥石として番手が500の電着砥石を用いて行った以外は、例1と同じ条件で面取り加工した。外周端面面取り部、側面部と内周端面面取り部、側面部の端面研磨は、外周端面の研磨量を10μm、内周端面研磨量を30μm、とした以外は例1と同じ条件で端面研磨した。例8面取り工程の仕上げ砥石として、外周端面用砥石は番手が325の、内周端面用砥石は番手が500の電着砥石を用いて行った以外は、例1と同じ条件で面取り加工した。外周端面面取り部、側面部と内周端面面取り部、側面部の端面研磨は、外周端面の研磨量を20μm、内周端面研磨量を30μm、とした以外は例1と同じ条件で端面研磨した。以上の例1~5の結果によると、面取り工程の仕上げ加工に用いた仕上げ砥石の番手に応じた研磨量を確保することなどによって、本発明の規定を充足するガラス基板が得られることが分かる。そして、外周側面部の表面粗さRaの最大値、及び、表面粗さRaの標準偏差が本発明の規定を充足している場合、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度a、平行度bが小さくなっており、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板が得られることを確認できた。さらに、内周側面部、内周面取り部の表面粗さRaの最大値、該表面粗さRaの標準偏差が所定の範囲内にあり、隣接測定箇所との差が小さい例1~4については、特に磁気記録媒体とした場合の膜剥がれ発生確率が0になっており、磁気記録媒体の歩留まりの向上が確認できた。また、例6~8の結果と、例1~5とを比較すると、外周側面部の表面粗さRaの最大値、該表面粗さRaの標準偏差が本発明の規定を充足しない例6~8のガラス基板は、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度a、平行度bが悪くなることが分かる。これは、発明を実施するための形態で説明したように、外周側面部が本発明の規定を充足しないガラス基板は、主平面研磨工程において上下の主平面が均一に研磨されなかったためと考えられる。さらに、磁気記録媒体とした際の膜剥がれ発生確率も例6~8の試料は例1~5と比較して悪化していた。以上のように本発明の磁気記録媒体用ガラス基板においては、その外周端面の側面部は周面全体として高い平滑度を有するガラス基板となる。そして、その主平面についても平行度に優れたガラス基板とすることができる。また、係る磁気記録媒体用ガラス基板を用いて磁気記録媒体とした場合、膜剥がれ発生確率が極めて低くなるため、磁気記録媒体製造工程における歩留まりを高めコストを低減することが可能になる。"