"可撓性を有する帯状の基板を長手方向に搬送する基板搬送部を備え、前記基板を搬送しつつ前記基板の上表面に付着した薬液の液切りを行う薬液処理装置において、前記基板搬送部は、前記基板を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第1~第3のローラ組として前記長手方向に沿ってその順に有し、上ローラと下ローラとによって前記基板を挟む挟持位置について、前記第2のローラ組の前記挟持位置が前記第1及び第3のローラ組の前記挟持位置よりも低い位置にあることを特徴とする薬液処理装置。前記第2のローラ組における上ローラの外径が、他の上ローラ及び下ローラの外径よりも大きいことを特徴とする請求項1記載の薬液処理装置。前記第2のローラ組における上ローラの質量が、他の上ローラ及び下ローラの質量よりも大きいことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の薬液処理装置。前記第2のローラ組の上ローラと前記基板の上表面とが、互いに付勢しつつ前記上ローラの軸線まわりの所定角度範囲で前記挟持位置を含み面接触し、前記所定角度範囲における、前記挟持位置に対する前記搬送方向の上流側の角度が、下流側の角度以上とされていることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の薬液処理装置。可撓性を有する帯状の基板を長手方向に搬送する基板搬送部によって前記基板を搬送しつつ前記基板の上表面に付着した薬液の液切りを行う薬液処理方法において、前記基板搬送部を、前記基板を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第1~第3のローラ組として前記長手方向に沿ってその順に有するものとし、前記上表面に薬液が付着した基板を前記第2のローラ組を通過させる際に、前記第2のローラ組における上ローラと下ローラとによって前記基板を挟む挟持位置を、前記第1及び第3のローラ組における前記挟持位置よりも低くしてあることを特徴とする薬液処理方法。前記第2のローラ組における上ローラの外径が、他の上ローラ及び下ローラの外径よりも大きいことを特徴とする請求項5記載の薬液処理方法。前記第2のローラ組における上ローラの質量が、他の上ローラ及び下ローラの質量よりも大きいことを特徴とする請求項5又は請求項6記載の薬液処理方法。前記第2のローラ組の上ローラと前記基板の上表面とが、互いに付勢しつつ前記上ローラの軸線まわりの所定角度範囲で前記挟持位置を含み面接触し、前記所定角度範囲における、前記挟持位置に対する前記搬送方向の上流側の角度が、下流側の角度以上とされていることを特徴とする請求項5~7のいずれか1項に記載の薬液処理方法。特許文献1に記載された技術は、基板の搬送経路における液切りが必要な位置に、搬送高さを他の部位よりも高くした高位部を設けるものである。これにより、基板が高位部に向かう際に、薬液が自重によって搬送元側に戻るので液切りが良好に行える、とされている。しかしながら、この技術では、液切り効果をより高めたい場合、高位部の高さをより増加させることになるため、薬液処理装置の大型化が避けられないという問題がある。また、搬送元側に戻る薬液の多くが基板を伝って戻るため、高位部に向かう基板上に薬液が累積しやすく、結果として良好な液切りがされ難いという問題がある。そこで、本発明が解決しようとする課題は、装置の大型化を抑制し基板上の薬液が累積することなく液切りが良好に行える薬液処理装置及び薬液処理方法を提供することにある。上記の課題を解決するために、本発明は次の構成を有する。1可撓性を有する帯状の基板を長手方向に搬送する基板搬送部を備え、前記基板を搬送しつつ前記基板の上表面に付着した薬液の液切りを行う薬液処理装置において、前記基板搬送部は、前記基板を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第1~第3のローラ組として前記長手方向に沿ってその順に有し、上ローラと下ローラとによって前記基板を挟む挟持位置について、前記第2のローラ組の前記挟持位置が前記第1及び第3のローラ組の前記挟持位置よりも低い位置にあることを特徴とする薬液処理装置である。2前記第2のローラ組における上ローラの外径が、他の上ローラ及び下ローラの外径よりも大きいことを特徴とする1に記載の薬液処理装置である。3前記第2のローラ組における上ローラの質量が、他の上ローラ及び下ローラの質量よりも大きいことを特徴とする1又は2に記載の薬液処理装置である。4前記第2のローラ組の上ローラと前記基板の上表面とが、互いに付勢しつつ前記上ローラの軸線まわりの所定角度範囲で前記挟持位置を含み面接触し、前記所定角度範囲における、前記挟持位置に対する前記搬送方向の上流側の角度が、下流側の角度以上とされていることを特徴とする1~3のいずれか一つに記載の薬液処理装置である。5可撓性を有する帯状の基板を長手方向に搬送する基板搬送部によって前記基板を搬送しつつ前記基板の上表面に付着した薬液の液切りを行う薬液処理方法において、前記基板搬送部を、前記基板を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第1~第3のローラ組として前記長手方向に沿ってその順に有するものとし、前記上表面に薬液が付着した基板を前記第2のローラ組を通過させる際に、前記第2のローラ組における上ローラと下ローラとによって前記基板を挟む挟持位置を、前記第1及び第3のローラ組における前記挟持位置よりも低くし、かつ、前記第2のローラ組の上ローラによって前記基板の上表面を付勢しつつ前記上ローラの軸線まわりの所定角度範囲で前記挟持位置を含み面接触させることを特徴とする薬液処理方法である。6前記第2のローラ組における上ローラの外径が、他の上ローラ及び下ローラの外径よりも大きいことを特徴とする5に記載の薬液処理方法である。7前記第2のローラ組における上ローラの質量が、他の上ローラ及び下ローラの質量よりも大きいことを特徴とする5又は6に記載の薬液処理方法である。8前記第2のローラ組の上ローラと前記基板の上表面とが、互いに付勢しつつ前記上ローラの軸線まわりの所定角度範囲で前記挟持位置を含み面接触し、前記所定角度範囲における、前記挟持位置に対する前記搬送方向の上流側の角度が、下流側の角度以上とされていることを特徴とする5~7のいずれか一つに記載の薬液処理方法である。本発明によれば、装置の大型化を抑制し基板上の薬液が累積することなく液切りが良好に行える、という効果が得られる。本発明の実施の形態を、好ましい実施例により図1~図6を用いて説明する。図1は、薬液処理装置YSが基板1を搬送している状態を示した側面図である。実施例の薬液処理装置YSは、ロールRLなどから引き出された可撓性を有する帯状の基板1をその長手方向に搬送しながら、基板1の表面1uに薬液LQを供給しその後液切りを行うものとして構成されている。ここで、基板1は、例えば、基板の素材又は完成基板の作成途中の中間体である。薬液処理装置YSは、基板1を矢印DR1で示される左方側上流側から右方側下流側に搬送する基板搬送装置51と、基板搬送装置51で搬送されている基板1に対して薬液LQをスプレーなどで供給する薬液供給装置52と、を有している。また、薬液処理装置YSは、基板1の搬送方向の上流側から下流側に向け、薬液供給部YS1,液切り部YS2,及び洗浄部YS3の三つのブロックを有して構成されている。洗浄部YS3は別の装置として分離されていてもよい。<基板搬送装置51について>基板搬送装置51は、基板1を厚さ方向に対向挟持するローラ組R1~R6と、各ローラ組を回転駆動させる駆動部図示せずと、を有している。基板1に対する上方側のローラ上ローラについては、符号に添字tを付し、下方側のローラ下ローラについては、符号に添字bを付して区別する。例えば、ローラ組R1は、上ローラR1tと下ローラR1bとの組である。ローラ組R1,R2は、薬液供給部YS1に配置され、ローラ組R3~R5は、液切り部YS2に配置され、ローラ組R6は、洗浄部YS3に配置されている。ローラ組R1~R6の内、ローラ組R4を除いたローラ組R1~R3,R5,R6は、基板1を所定の水平面LS内で搬送するように位置決めされている。すなわち、基板1は、ローラ組R4以外のローラ組R1~R3,R5,R6において、傾斜することなく水平に搬送される。薬液処理工程における基板1の搬送速度は、例えば、0.5m~5.0m/秒程度である。薬液処理装置YSが設置されている床面GLから、基板1が搬送される所定の水平面LSの位置までの距離高さを、搬送の基準高さとして図1に示すようにLV1とする。上ローラR1t~R6t及び下ローラR1b~R6b以下、ローラ群とも称するの少なくとも外周面を含む外周面側の所定厚さの部分は、弾性を有するゴム材で形成されている。このゴム材に替えて弾性を有するエラストマ材や発泡材としてもよく、いずれであっても薬液を吸収しない材料であることが望ましい。これは、薬液を吸収する材料とした場合、不使用時に特別な保管が必要になる、経時劣化が速く定期交換が頻繁に必要になる、液切りが良好に行われにくくなる詳細は後述する、などデメリットが多いことによる。下ローラR1b~R6bは、駆動部からの動力が伝達されて回転駆動される。上ローラR1t~R6tは、駆動部とは非連結状態となっており、それぞれの自重によって下方側に付勢しつつ下ローラR1b~R6bとの間で基板1を挟み、下ローラR1b~R6bの回転に伴う基板1の移動によって従動的に回転するようになっている。下ローラR1b~R6bの軸は所定の位置で固定されており、上ローラR1b~R6bの軸は、上下方向に移動可能となっている。また、全ローラ組R1~R6の各上下ローラの内、ローラ組R4の上ローラR4tのみが、他の上下ローラと外径が異なっている。実施例では、上ローラR4t以外の上下ローラはすべて同じ仕様のものが用いられている。詳しくは、上ローラR4tを除く他のすべての上ローラR1t~R3t,R5t,R6t及びすべての下ローラR1b~R6bの外径及び長さ図1の紙面表裏方向の長さは同じとされている。上ローラR4tを除くローラ群の中に、外径又は長さが異なるローラを含んでいてもよいが、用いるローラの種類が増えると共に駆動機構が複雑になるので、コストアップを抑える観点から、上ローラR4tを除くローラ群で用いるローラはすべて同じであることが望ましい。基板搬送装置51は、各ローラ組R1~R6において、上ローラと下ローラとが、鉛直方向図1における上下方向に対向するように配置されている。図2は、図1におけるローラ組R4の軸線CL4t,CL4bを含む鉛直平面位置に相当するA-A断面図であり、理解容易のため、ローラR4t,R4bは外形線のみ示している。ローラR4t,R4bの幅Wbは、基板1の幅Waに対してWa<Wbとなるように設定されている。また、ローラR4t,R4bは、基板1の搬送位置に対し幅方向において中心が一致するように配設されている。この幅Wa,Wbの大小関係と幅方向の中心の一致については、ローラ組R1~R3,R5,R6についてもこのローラ組R4と同様に設定されている。上ローラR4t及び下ローラR4bの外周部は、弾性を有する材料で形成されている。基板1は十分に薄いので、外周部は、図2において基板1を挟んでいる部分は弾性変形して凹み、基板1を挟んでいない部分AR4も、互いに密着した状態になっている。上述のように、ローラR4tの外径D4tは、ローラR4bの外径Dbと異なっており、具体的にはDb<D4tとなっている。幅及び外径の寸法例は、Wa=500mm,Wb=730mm,D4t=40mm,Db=30mmである。ローラR4tは、外径が他のローラよりも大きいこともあって他のローラよりも質量が大きくなっている。質量の例は、ローラR4tが2.0kg、ローラR4bが1.5kgである。ローラR4tの質量調整増加は、外径拡大に加え内部にウエイトを具備することで行ってもよい。ローラ組R4における上ローラR4t及び下ローラR4bの各軸線CL4t,CL4bの位置は、他のローラ組の上下ローラの軸線の位置と比較して地面GLからの高さが異なっている。また、上ローラR4tの外周面R4sは、溝や凹凸などがない平坦な円筒外周面として形成されている。これらの詳しい内容を含め、液切り部YS2のローラ組R3~R5の詳細は後述する。<薬液供給装置52について>薬液供給装置52は、薬液LQを基板1に供給する。薬液の例はエッチング液である。具体的には、図1に示されるように、薬液供給装置52は、薬液供給部YS1において、基板1の上方側と下方側とにそれぞれ薬液を噴出する噴出部2t,2bを備えている。薬液LQbの噴出は、例えばスプレー状に行われる。噴出部2t,2bは、それぞれ基板1の上表面1u及び下表面1dに対して薬液LQを満遍なく付着させる。基板1の下表面1dに付着した薬液LQは、自重の作用もあり、ロール組R1,R2を通過することで製造に支障がない程度に排除される。基板1の上表面1uに付着した薬液LQは、液切り部YSにおいて基板1の表面からの排除液切りが行われる。液切り部YS2の底面21は、底面21に落下してきた薬液LQが自重により薬液供給部YS1に向かって流れるように傾斜している。また、薬液供給部YS1と液切り部YS2とを隔てる壁面22の底面21側端部には孔23が形成されている。従って、液切り部YS2で液切りされた薬液LQは、孔23を介して薬液供給部YS1に集められる。薬液供給装置52は、集められた薬液LQを、図示しない回収装置により回収して噴出部2t,2bから再び噴出させて再利用する。<液切りについて>図3は、液切り部YS2に配設されたローラ組R3~R5の拡大図である。液切り部YS2において、ローラ組R3とローラ組R4との搬送方向ピッチP1と、ローラ組R4とローラ組R5との搬送方向ピッチP2とは同じに、すなわちP1=P2に設定されている。上述のように、上ローラR4tを除く、上ローラR3t,R5t及び下ローラR3b~R5bは、外径Dbが等しいローラである。ここで、ローラ組R4は、搬送される基板1を挟持する挟持位置である挟持点KP4の高さ位置が、基準高さLV1に対して距離Haだけ低い位置となるように、外径Dbなる下ローラR4の軸線CL4b位置が設定されている。すなわち、この実施例では、各下ローラR3b~R5bが同じ外径とされているので、軸線CL4bの位置は、他の下ローラR3b,R5bの軸線CL3b,CL5bの位置に対してHaだけ低い位置に設定されている。図3に示されるように、基板1は、搬送元の上流側からローラ組R3による挟持点KP3に至る迄、基準高さLV1の位置で搬送される。挟持点KP3からローラ組R4による挟持点KP4迄については、挟持点KP4が基準高さLV1から距離Haだけ低い位置に設定されているので、基板1は、基準高さLV1の水平面LSに対して角度θAなる傾斜角度で下降するように搬送される。換言すると、基板1の搬送経路において、挟持点KP3と挟持点KP4との間で、基板1の上表面1uは水平面LSに対して角度θAで傾斜する傾斜面1KAとなる。ここで、角度θAは、挟持点KP3と挟持点KP4とを繋ぐ線分と水平面LSとの角度ではなく、下ローラR3bの外周面と上ローラR4tの外周面とを繋ぐ接線LN1図3において二点鎖線のなす角度である。すなわち、角度θAは、接線LN1と下ローラR3bとの接点SP3と、接線LN1と上ローラR4tとの接点SP4Aとを繋ぐ線分と水平面LSとのなす角度である。一方、基板1は、ローラ組R4の挟持点KP4から下流側のローラ組R5による挟持点KP5に至る迄、水平面LSに対して角度θBなる傾斜角度で上昇するように搬送される。換言するならば、搬送経路において、挟持点KP4と挟持点KP5との間で、基板1の上表面1uは、水平面LSに対して角度θBで傾斜する傾斜面1KBとなる。ここで、角度θBは、挟持点KP4と挟持点KP5とを繋ぐ線分と水平面LSとの角度ではなく、上ローラR4tの外周面と下ローラR5bの外周面とを繋ぐ接線LN2図3において二点鎖線のなす角度である。すなわち、角度θBは、接線LN2と上ローラR4tとの接点SP4Bと、接線LN2と下ローラR5bとの接点SP5とを繋ぐ線分と水平面LSとのなす角度である。実施例では、ピッチP1とピッチP2を等しく設定し、かつ、ローラ組R3とローラ組R5の各ローラの外径を等しく設定しているので、θA=θBとなっている。各寸法を、例えば、Db=30mm,D4t=40mm,Ha=15mm,P1=P2=50mmとすると、角度θA=θBは、約19°となる。このように構成されたローラ組R3~R5における薬液LQの具体的な液切り状態について、更に図4及び図5を用いて詳述する。図4は、図3で説明したローラ組R3~R5に対し、薬液LQを合わせて記載した図である。図5は、図4におけるB-B断面図である。図4及び図5において、基板1の表面に付着した薬液の量厚さは、理解容易のため一部誇張して描いている。基板1が上ローラR4tと接触している、搬送方向に沿う長さ接触長Lと称するに注目すると、図4に示されるように、接触長Lは、接点SP4Aと接点SP4Bとの間の外周長に相当する。下ローラR4bは、図示しない駆動部から伝達された力でRT1方向に回転する。上ローラR4tは、下ローラR4bとの間に通された基板1を重力による付勢力F4で付勢する。一方、基板1は、ローラ組R4以外のローラ組R1~R3,R5R6によって矢印DR1の方向に搬送されており、その搬送に伴って付与される張力に応じた反発力F1で上ローラR4tを付勢する。上ローラR4tの質量は、その付勢力F4が反発力F1に対して十分勝って基板1を下方に付勢できるように設定されている。従って、上ローラR4は、下ローラR4bに対して基板1を押しつけると共に、基板1の搬送に伴い、軸線CL4tまわりを矢印RT2方向に従動する。この構成において、基板1とローラR4tとは、接触長Lの範囲において、付勢力F4と反発力F1との合力で互いに付勢し合いながら接触する。接触長Lは、上ローラR4tにおけるθAθB分の周長である。すなわち、θA=θB=19°,D4t=40mmの場合、L=13.3mmである。ところで、薬液供給部YS1によって基板1に供給された薬液LQは、主として自重では落下しにくい上表面1uに付着して基板1と共に搬送される。ローラ組R1~R3をそれぞれ通過する際には、上ローラR1t~R3tが上表面1uに密着して薬液LQの通過が阻止されるも、上ローラR1t~R3tと上表面1uとの密着は、ほぼ挟持点KP3のみの点接触実際は図4の紙面表裏方向の奥行きがあるので線接触でしかない。従って、各ローラ組R1~R3を通過する度に薬液LQは減少するものの、十分には排除されない。上述のように、上表面1uは上ローラR4tと接触長Lの範囲で互いに付勢し合って密着している。換言するならば、ローラ組R4の上ローラR4tと基板1の上表面1uとが、互いに付勢しつつ上ローラR4tの軸線CL4tまわりの所定角度範囲θAθBで挟持位置KP4を含み面接触している。このため、基板1がローラ組R4を通過する際、上ローラR4tの外周面R4sと基板1の上表面1uとの間に薬液LQは介在することができない。すなわち、基板1は通過するものの薬液LQは上ローラR4tを通過することができない。そのため、上ローラR4tの接点SP4Aから上流側には、通過できない薬液QLが溜まって薬液溜まりLQTが形成される。図5は、薬液溜まりLQTが形成された状態における図4のB-B断面図である。図4及び図5に示されるように、薬液溜まりLQTは、上ローラR4tの外周面R4sに沿って上方に向け溜まると共に、基板1の幅方向には溢れて縁部1eから下方に液流又は液滴LQEとして落下する。図4及び図5では理解し易いように液滴として記載してある。上ローラR4tの外周面R4sにおける基板1を挟んでいない部分AR4は、下ローラR4bの外周面と密着しているので、この部分AR4からも薬剤LQは通過できない。このように、薬液処理装置YSは、ローラ組4Rにおいて、接触長Lに対応した周面で上表面1uと外周面R4sとが密着しているので、薬液LQのローラ組R4の通過をより確実に阻止することができる。液流LQEなどとして落下した薬液LQは、図1に示されるように、液切り部YS2の底面21を介して回収され再利用される。また、搬送経路において、ローラ組R3とローラ組R4との間は、基板1の上表面1uは傾斜面1kとなっている。このため、上表面1uに付着した薬液LQは、自重によって図4の矢印DR3方向に移動しようとする。従って、薬液溜まりLQTには、上表面1uに付着した薬液LQがより多く集まるので、その分基板1の縁部1eからより多くの薬液が液流LQEなどとして落下する。すなわち、液切れがより良好に行われる。実施例の基板搬送装置51では、ロール組R4とロール組R5との間において、基板1は、ロール組R5に向け上昇する傾斜面1KBとされている。上表面1uに付着したほとんどの薬液LQの液切りがロール組R4によって行われるが、仮にロール組R4を基板1と共に通過した薬液LQが存在したとしても、その薬液LQは基板1に付着したまま上がることはできず、自重によりロール組R4に向け移動する。そのため、薬液LQは、ロール組R4を通過したとしてもロール組R5に到達することはほとんどできない。従って、ロール組R3~R5により、薬液LQの液切りが極めて良好に行える。実施例における液切り部YS2を通過し洗浄部YS3に供給された基板1は、薬液LQをほとんど伴っていないので、洗浄がより確実に、高効率で行われる。ところで、フレキシブルの基板51を最初に通すセッティング作業において、基板51は柔軟で腰がないため、基板搬送装置51の経路によっては各ロール組を通過させる際にその先端を人為的に誘導しなければならない。そこで、図6に示されるように、基板51の先端に堅い板24を繋いでセッティング作業を行う場合がある。板24は例えばGEガラスエポキシ樹脂で形成される。ロール組R4の下方側へのシフト量距離Haを、下ローラR3bの半径以下とし、傾斜角度θA=19°程度と設定した場合、板24の長さLtをピッチP1に応じて最適例えばP1の半分程度にしておけば、ロール組R3を通過した後、ロール組R4の上下ローラR4t,R4b間に自然に誘導される。従って、基板51のセッティングが容易に行える。すなわち、Ha≦Db/2とすると、基板1の搬送経路に対する基板1の初期通しが比較的容易に行えるようになるので好ましい。上述から明らかなように、液切れは、接触長Lが長いほど良好に行われるまた、液切れは、上ローラR4tと基板1とが互いに付勢し合う力が大きい程、良好に行われる。従って、上ローラR4tの外径はより大きい方が好ましい。また、上ローラR4tの質量はより大きい方が好ましい。また、基板1の搬送における張力はより大きい方が好ましい。液切れをより良好に行うために、上ローラR4tの基板1の上表面1uに接触する部位の材質は、弾性を有していると密着性が高まるので好ましい。その材質がゴム材であることは好ましい。また、搬送経路において、上ローラR4t直前の基板1は、搬送方向に対して下り勾配で傾斜していることが好ましい。また、搬送経路において、上ローラR4t直後の基板1は、搬送方向に対して登り勾配で傾斜していることが好ましい。実施例によれば、液切りを更に強力に実施したい場合、一つの方法として、上ローラ4Rtの質量を増加させればよく、装置の大型化を伴わずに実現することができる。実施例によれば、ローラ組R4において溢れた薬液LQは基板1を伝って上流側に移動することなく下方へ落下するので、薬液溜まりLQTに薬液LQが滞留することはない。従って、良好な液切りが実行できる。本発明の実施例は、上述した構成及び手順に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において変形例としてもよいのは言うまでもない。搬送される基板1は、精度よく水平面上を搬送されていなくてもよく、概ね水平面上で搬送されていればよい。実施例では、所角度範囲について、挟持点PK4に対し上流側の角度θAと下流側の角度θBとがそれぞれ等しく設定されたものを説明したが、これに限るものではない。上流側の角度θAをより大きくすることで、より多くの薬液LQが自重によって薬液溜まりLQTを形成し、基板1から溢れて落下する液流LQEの量が増加する。その結果、液切りがより良好に行われる。すなわち、挟持点PK4に対する上流側と下流側との基板1の搬送面搬送高さを一致させる場合、所定角度範囲θAθBは、上流側の角度θAと下流側の角度θBとの関係が、θA≧θBただし、θB≠0°であるとよりよい。挟持点PK4に対する上流側と下流側との基板1の搬送面搬送高さを一致させなくてもよい場合は、θBが0ゼロ°であってもよい。従って、その場合は、θA≧θBただし、θA≠0°,B≧0°であるとよりよい。搬送経路上の基板1を、少なくともローラ組R4を通過する際に、搬送方向DR1に対して左右いずれかに傾斜するようにしてもよい。具体的には、上ローラ4Rt及び下ローラ4Rbを円錐台形状に形成し、大径側が互いに逆方向となるように配置する。あるいは、上ローラ4Rt及び下ローラ4Rbは円筒形状のままで、各軸線CL4t,CL4bを傾斜させる。これらの方法により、上ローラ4Rtと下ローラ4Rbとによる基板1の挟持線は水平に対して傾斜する。この傾斜により、薬液溜まりLQTの薬液LQが基板1からさらに良好に落下し易くなるので、液切れがさらに良好に実行できる。"