"有機層と、該有機層に隣接する無機バリア層とを有し、前記有機層は、1分子あたり2以上の重合性基を有する重合性化合物を重合させてなるポリマーを含み、かつ、屈折率が1.60以上であり、さらに、前記無機バリア層の屈折率が1.60以上であることを特徴とする、バリア性積層体。前記無機バリア層が、珪素を含む、酸化物、窒化物、炭化物、または、これらの混合物を含む、請求項1に記載のバリア性積層体。前記有機層が、シランカップリング剤を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、請求項1または2に記載のバリア性積層体。前記重合性化合物が、下記一般式1~4から選択される少なくとも1種である、請求項1~3のいずれか1項に記載のバリア性積層体。一般式1一般式1中、Rは、置換基を表し、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。nは、0~5の整数を表し、3つのnのうち、少なくとも1つは1以上の整数であり、さらに、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。Rの少なくとも1つは重合性基を含む。一般式2一般式2中、Rは、水素原子または低級アルキル基を示し、R’は水素原子またはメチル基を示す。nは、0~20の整数である。一般式3一般式3中、Xは下記式3aで示される単位であり、nは0~20までの整数である。式3a式3a中、Rは水素原子または炭素数1~5の直鎖または分岐アルキル基である。一般式4一般式4中、R1およびR2は、それぞれ、水素原子またはメチル基を表し、X1、X2、Y1およびY2は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、またはアリールチオ基を表す。少なくとも2層の有機層と、少なくとも2層の無機バリア層が、交互に積層している、請求項1~4のいずれか1項に記載のバリア性積層体。基材フィルム上に、請求項1~5のいずれか1項に記載のバリア性積層体を有するガスバリアフィルム。請求項1~5のいずれか1項に記載のバリア性積層体または請求項6に記載のガスバリアフィルムを有するデバイス。前記デバイスが、電子デバイスである、請求項7に記載のデバイス。前記デバイスが、有機EL素子または太陽電池素子である、請求項8に記載のデバイス。請求項1~5のいずれか1項に記載のバリア性積層体または請求項6に記載のガスバリアフィルムを用いた封止用袋。本発明は、上記の状況を鑑み、高いバリア性能と透明性の両立という課題を解決することを目的としたものであり、さらにはそのような性能の透明ガスバリアフィルムを低コストで提供することを目的とする。上記課題のもと、発明者が鋭意検討を行った結果、下記手段<1>により、好ましくは、<2>~<10>により、上記課題を解決しうることを見出した。<1>有機層と、該有機層に隣接する無機バリア層とを有し、前記有機層は、1分子あたり2以上の重合性基を有する重合性化合物を重合させてなるポリマーを含み、かつ、屈折率が1.60以上であり、さらに、前記無機バリア層の屈折率が1.60以上であることを特徴とする、バリア性積層体。<2>前記無機バリア層が、珪素を含む、酸化物、窒化物、炭化物、または、これらの混合物を含む、<1>に記載のバリア性積層体。<3>前記有機層が、シランカップリング剤を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、<1>または<2>に記載のバリア性積層体。<4>前記重合性化合物が、下記一般式1~4から選択される少なくとも1種である、<1>~<3>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。一般式1一般式1中、Rは、置換基を表し、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。nは、0~5の整数を表し、3つのnのうち、少なくとも1つは1以上の整数であり、さらに、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。Rの少なくとも1つは重合性基を含む。一般式2一般式2中、Rは、水素原子または低級アルキル基を示し、R’は水素原子またはメチル基を示す。nは、0~20の整数である。一般式3一般式3中、Xは下記式3aで示される単位であり、nは0~20までの整数である。式3a式3a中、Rは水素原子または炭素数1~5の直鎖または分岐アルキル基である。一般式4一般式4中、R1およびR2は、それぞれ、水素原子またはメチル基を表し、X1、X2、Y1およびY2は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、またはアリールチオ基を表す。<5>少なくとも2層の有機層と、少なくとも2層の無機バリア層が、交互に積層している、<1>~<4>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<6>基材フィルム上に、<1>~<5>のいずれか1項に記載のバリア性積層体を有するガスバリアフィルム。<7><1>~<5>のいずれか1項に記載のバリア性積層体または<6に記載のガスバリアフィルムを有するデバイス。<8>前記デバイスが、電子デバイスである、<7>に記載のデバイス。<9>前記デバイスが、有機EL素子または太陽電池素子である、<8>に記載のデバイス。<10><1>~<5>のいずれか1項に記載のバリア性積層体または<6>に記載のガスバリアフィルムを用いた封止用袋。本発明における有機層を採用することにより、高いバリア性能と透明性の両立したバリア性積層体を提供することが可能になった。以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において~とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。また、本発明における有機EL素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。本明細書において、メタアクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートの両方を含む意味で使用される。本発明において、屈折率は、一般的な慣習に従い、波長589.3nmの光ナトリウムのD線についての値を指す。<バリア性積層体>本発明のガスバリアフィルム積層体は、有機層と、該有機層に隣接する無機バリア層とを有し、前記有機層は、1分子あたり2以上の重合性基を有する重合性化合物を重合させてなるポリマーを含み、かつ、屈折率が1.60以上であり、さらに、前記無機バリア層の屈折率が1.60以上であることを特徴とする。このような態様とすることにより、ガスバリア性能の向上とヘイズの低減を同時に達成することができる。ここで、有機層が無機バリア層に隣接するとは、有機層が、無機バリア層の表面に設けられいるか、無機バリア層が有機層の表面に設けられていることをいう。本発明におけるヘイズの低減効果は、定性的には有機層とそれに隣接する無機バリア層の屈折率差が縮小し、有機層と無機バリア層の界面での光反射が少なくなることに因ると理解される。ここで、隣接する有機層と無機バリア層の屈折率差を小さくするために、屈折率1.60未満の低屈折率の材料を無機バリア層に用いると、高いバリア性能を得にくくなる問題がある。本発明は、この点に鑑み、屈折率1.60以上の高屈折率の材料を無機バリア層に用いて高いバリア性能を確保しつつ、かつ、有機層の屈折率を1.60以上とすることによって、バリア性積層体の透明性を確保している。さらに、有機層の屈折率を1.60以上とすることにより、透明性だけではなく、バリア性能がさらに向上するという、予期していなかった効果も得られる。これについては、屈折率1.60以上となるまで有機層を緻密化すると、無機膜形成時の熱あるいはプラズマ等からのダメージを被りにくいと推定されるが、詳細な点は未解明である。有機層有機層を、本発明の態様である、1分子あたり2以上の重合性基を有する重合性化合物を重合させてなるポリマーを含み、かつ、屈折率を1.60以上とするための具体的手段として、有機層を、以下に示す、一般式1~4の重合性化合物のいずれか1種以上を含む組成物を重合させることにより形成する方法が挙げられる。一般式1一般式1中、Rは、置換基を表し、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。nは、0~5の整数を表し、3つのnのうち、少なくとも1つは1以上の整数であり、さらに、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。Rの少なくとも1つは重合性基を含む。Rの置換基としては、-CR12-R1は水素原子または置換基、-CO-、-O-、フェニレン基、-S-、-C≡C-、-NR2-R2は水素原子または置換基、-CR3=CR4-R3およびR4は、ぞれぞれ、水素原子または置換基の1つ以上と、重合性基との組み合わせからなる基が挙げられ、-CR12-R1は水素原子または置換基、-CO-、-O-および-NR2-R2は水素原子または置換基の1つ以上と、重合性基との組み合わせからなる基が好ましい。Rが重合性基を有さない置換基である場合、ならびに、R1およびR2で表される置換基としては、それぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基が例示され、水素原子または炭素数5以下のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基が好ましく、水素原子または炭素数3以下のアルキル基がより好ましい。R1は、水素原子または置換基であるが、好ましくは、水素原子またはヒドロキシ基である。Rが結合している位置としては、少なくともパラ位に結合していることが好ましい。nは、それぞれ、0~5の整数を示し、0~2の整数であることが好ましく、0または1であることがより好ましい。本発明では、3つのnがいずれも1であることが特に好ましい。一般式1で表される化合物は、Rの少なくとも2つが同じ構造であることが好ましい。さらに、nはいずれも1であり、3つのRの少なくとも2つが同じ構造であることがより好ましく、nはいずれも1であり、3つのRが同じ構造であることがさらに好ましい。一般式1が有する重合性基は、メタアクリロイル基またはエポキシ基であることが好ましく、メタアクリロイル基であることがより好ましい。一般式1が有する重合性基の数は、3つ以上であることが好ましい。上限は特に定めるものではないが、6つ以下であることが好ましい。本発明では、一般式1で表される化合物を1種類のみ含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含んでいる場合、例えば、同じ構造のRを含み、かつ、該Rの数が異なる化合物およびそれらの異性体を含んでいる組成物が挙げられる。以下に、一般式1で表される化合物の具体例を示すが、これによって本発明が限定されることはない。また、下記化合物では、一般式1の3つのnがいずれも1の場合を例示しているが、一般式1の3つのnのうち、1つまたは2つが0のもの例えば、1官能や2官能化合物等や、3つのnのうち、1つまたは2つが2つ以上のものR1が1つの環に、2つ以上結合しているもの例えば、4官能や5官能化合物等も本発明の好ましい化合物として例示される。一般式2一般式2中、Rは、水素原子または低級アルキル基を示し、R’は水素原子またはメチル基を示す。nは、0~20の整数である。Rとしての低級アルキル基としては、炭素数1~5のアルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。nは、nの値が大きいと、粘度が高く扱いにくいため、0~2が好ましい。一般式3一般式3中、Xは下記式3aで示される単位であり、nは0~20までの整数である。式3a式3a中、Rは水素原子または炭素数1~5の直鎖または分岐アルキル基である。Rは、水素原子、メチル基またはエチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。nは、粘度が高く扱いにくいため、0~2が好ましく、0がより好ましい。一般式4一般式4中、R1およびR2は、それぞれ、水素原子またはメチル基を表し、X1、X2、Y1およびY2は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、またはアリールチオ基を表す。X1、X2、Y1およびY2は、それぞれ、水素原子、炭素数3以下のアルキル基、炭素数3以下のアルコキシ基、または炭素数3以下のアルキルチオ基が好ましく、水素原子がより好ましい。重合性組成物本発明における有機層は、好ましくは、上記一般式1~4のいずれかで表される化合物の少なくとも1種を含む重合性組成物を硬化して得られる。さらに、本発明で用いる重合性組成物は、一般式1~4で表される重合性化合物以外に、その他の重合性化合物、光重合開始剤、溶媒、その他添加剤を含有しても良い。一般式1~4のいずれかで表される重合性化合物およびその他の重合性化合物が、重合性組成物の固形分揮発分が揮発した後の残分中に占める割合は、通常、70質量以上であり、80質量以上であることが好ましく、90質量以上であることがより好ましい。一般式1~4で表される重合性化合物が、重合性組成物の固形分中に占める割合は、50~99質量であることが好ましく、90~98質量がさらに好ましい。本発明において、その他の重合性化合物としては、公知の重合性化合物を広く採用することができ、メタアクリレートが好ましく、芳香族基を含有するメタアクリレートが特に好ましい。本発明において併用することのできるメタアクリレートの具体例としては、以下に示す化合物が例示される。本発明はこれらに限定されない。シランカップリング剤本発明においては、バリア性積層体の湿熱耐久性付与の観点で、無機バリア層と隣接する有機層にシランカップリング剤を添加することが好ましい。特に、無機バリア層が、珪素を含む、酸化物、窒化物、炭化物、または、これらの混合物を含むときに、この効果は効果的に発揮される。これは、無機バリア層との密着性が強化されることによるものと推測される。本発明において、シランカップリング剤は、無機物と反応する加水分解基、および有機物と反応する有機官能基の両方を一分子中にもつ有機ケイ素化合物からなる。無機物と反応する加水分解基としては、メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基、アセトキシ基およびクロロ基などが挙げられる。また、有機物と反応する有機官能基としては、メタアクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、イソシアネート基、アミノ基、およびメルカプト基が挙げられるが、本発明ではメタアクリロイル基を有するシランカップリング剤を用いることが好ましい。該有機ケイ素化合物は、無機物および有機物のいずれとも反応しないアルキル基やフェニル基を有していてもよい。また、有機官能基を有しないケイ素化合物、例えば加水分解基のみを有するアルコキシシランのような化合物と混合することもできる。本発明において、シランカップリング剤は、1種類または2種類以上の混合物であっても良い。本発明において用いられるシランカップリング剤としては、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、2-34-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。本発明では、また、下記一般式5で表されるシランカップリング剤も好ましく用いられる。一般式5一般式5中、R1~R6は、それぞれ、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、R1~R6のうち少なくとも1つは、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基である。R1~R6は、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。R1~R6は、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数1~6のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。R1~R6は、メチル基が特に好ましい。R1~R6のうち少なくとも1つは、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基を有し、R1~R6の2つがラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基であることが好ましい。さらに、R1~R3のなかでラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が1であって、R4~R6のなかでラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が1であることが特に好ましい。一般式5で表されるシランカップリング剤が2つ以上のラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基は、-X-Yで表されることが好ましい。ここで、Xは、単結合、炭素数1~6のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Yは、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、メタアクリロイルオキシ基がより好ましい。また、R1~R6はラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を有しても良い。置換基の例としては、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tertブチル基、nオクチル基、nデシル基、nヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等、アリール基例えば、フェニル基、ナフチル基等、ハロゲン原子例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アシル基例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等、アシルオキシ基例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等、アルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等、アリールオキシカルボニル基例えば、フェニルオキシカルボニル基等、スルホニル基例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等、等が挙げられる。以下に、一般式5で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。本発明における、シランカップリング剤の量は、重合性組成物の固形分揮発分が揮発した後の残分中に占める割合は、1~20質量が好ましく、2~10質量がより好ましい。重合開始剤本発明における有機層は、通常、重合性芳香族シランカップリング剤等の重合性化合物を含む重合性組成物を塗布硬化させて得られる。本発明では、前記重合性組成物に熱または各種のエネルギー線を照射して重合、架橋させることにより高分子を主成分とする有機層を形成する。エネルギー線の例としては紫外線、可視光線、赤外線、電子線、エックス線、ガンマ線等が挙げられる。このとき、熱で重合させる場合は熱重合開始剤を、紫外線で重合させる場合は光重合開始剤を、可視光線で重合させる場合は光重合開始剤と増感剤を用いる。以上の中では、光重合開始剤を含有する重合性化合物を紫外線で重合、架橋することが好ましい。光重合開始剤を用いる場合、その含量は、重合性化合物の合計量の0.1モル以上であることが好ましく、0.5~2モルであることがより好ましい。このような組成とすることにより、活性成分生成反応を経由する重合反応を適切に制御することができる。光重合開始剤の例としてはチバスペシャルティーケミカルズ社から市販されているイルガキュアIrgacureシリーズ例えば、イルガキュア651、イルガキュア754、イルガキュア184、イルガキュア2959、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819など、ダロキュアDarocureシリーズ例えば、ダロキュアTPO、ダロキュア1173など、クオンタキュアQuantacurePDO、サートマー、ECB型ElectricallyControlledBirefringence、OCB型OpticallyCompensatedBend、CPA型、IPS型InPlaneSwitchingであることが好ましい。その他その他の適用例としては、特表平10-512104号公報に記載の薄膜トランジスタ、特開平5-127822号公報、特開2002-48913号公報等に記載のタッチパネル、特開2000-98326号公報に記載の電子ペーパー、特願平7-160334号公報に記載の太陽電池等が挙げられる。<光学部材>本発明のガスバリアフィルムを用いる光学部材の例としては円偏光板等が挙げられる。円偏光板本発明におけるガスバリアフィルムを基板としλ/4板と偏光板とを積層し、円偏光板を作製することができる。この場合、λ/4板の遅相軸と偏光板の吸収軸とが45°になるように積層する。このような偏光板は、長手方向MDに対し45°の方向に延伸されているものを用いることが好ましく、例えば、特開2002-865554号公報に記載のものを好適に用いることができる。以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。重合性化合物AC44の合成4,4‘‐[1‐[4‐[1‐4-ヒドロキシフェニル‐1‐メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール4.25g、トリエチルアミン3.34g、テトラヒドロフラン7g部を仕込み、0°Cに冷却した。その後、アクリル酸クロリド2.99gを滴下し、反応温度0°Cで1時間撹拌した後、25°Cで3時間撹拌した。この反応混合物に酢酸エチル50mLを加えて希釈し、水50mLで2回洗浄した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液80mLで1回、水50mLで1回、飽和食塩水で1回洗浄し、有機層を分取した。これを無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過した。得られた濾液から溶媒を減圧下に留去して、目的物である重合性化合物AC4472.1gを酢酸エチル溶液として得た。生成物の1HNMRの測定結果は以下のとおりであった。1HNMRデータ化合物1の合成化合物1を合成は、先ず、水酸化ナトリウム存在下、下記1-1のアントロン化合物X、Yは水素原子と、エピクロロヒドリンをメタノール溶媒中で65°C加熱することで、下記1-2のオキシアントラセン化合物X、Yは水素原子を合成した。ついでこれに、10°C下でメタルハライドランプ中心波長365nmの光を照射することで二量化し、下記1-3のアントラセン骨格を有するジグリシジルオキシ化合物X1、X2、Y1、Y2は水素原子を合成すした。最後に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの溶媒で、ハイドロキノン500ppmを重合禁止剤として存在させた下で90~120°Cの温度範囲でアクリル酸と反応させて、アクリル基を導入することで、化合物1を合成した。化合物2の合成化合物2の合成は、先ず、下記式のRが水素原子であるビスフェニルフェノールフルオレン化合物にエピクロルヒドリンを作用させ、さらに、下記に示すビスフェニルフェノールフルオレン型エポキシ化合物Xは前記のビスフェニルフェノールフルオレン化合物を合成した。これにアクリル酸を反応させることにより、ビスフェニルフェノールフルオレン型のエポキシアクリレート樹脂である化合物2を合成した。上記ビスフェニルフェノールフルオレン化合物とエピクロルヒドリンとの反応は、50~120°Cの温度範囲において行い、アクリル酸との反応は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの溶媒で、ハイドロキノン500ppmを重合禁止剤としての存在させた下90~120°Cの温度範囲で行なった。化合物4の合成化合物1は、下記式に示される両末端がグリシジルエーテル化されたエポキシ化合物を、セロソルブアセテート等の溶媒に溶かし、2-エチル-4-イミダゾールを触媒として、メチルハイドロキノン500ppmを重合禁止剤としての存在させた下、アクリル酸と110~120°Cで反応させることにより合成された。実施例1ガスバリアフィルムの作製ポリエチレンテレフタレートフィルム東洋紡績社製、コスモシャインA4300、厚さ100μm上に、後述する有機層および無機バリア層を、この順番で交互に積層することにより、ガスバリアフィルムを作製した。後述する表に示すとおり、有機層および無機バリア層を1組積層した1スタック品と2組積層した2スタック品の2通りの積層形態のガスバリアフィルムを作製した。有機層の形成固形分となる、重合性化合物、必要に応じて、シランカップリング剤信越化学工業株製のKBM5103または、下記に示すシランカップリング剤1と、重合開始剤Lamberti社製、EsacureKTO46を、下記表に示す組成で含有し、2-ブタノンを溶媒とする、固形分濃度15質量の重合性組成物を作製した。成膜後の膜厚が1.5μmとなるように塗布し、酸素含有量100ppm以下の窒素雰囲気下で、主要波長365nmの紫外線を照射量0.6J/cm2で照射して光重合で硬化させ、有機層を作製した。成膜後の有機層の屈折率は、直径100mmのSiウエハ上に、前述の方法で有機層を作製したサンプルを、米国JAWoollam社製分光エリプソメトリM200Uを使用して、入射波と反射波の偏光の位相差と反射振幅比角を測定し、同機のデータベース上で解析処理することにより求めた。シランカップリング剤1無機バリア層の形成アンモニア、シラン、水素を原料ガスとするプラズマCVD法を用い、前記で作製した有機層表面に、膜厚35nmの窒化珪素屈折率1.95を成膜した。上記表中、化合物3は、下記化合物である東亜合成株製、アロニックスM-309。ガスバリアフィルムの性能評価得られたガスバリアフィルムについて、下記手法により、透明性ヘイズ、バリア性能水蒸気透過率、および湿熱耐久性湿熱経時後のバリア性能を評価した。[透明性の評価]透明性は、JIS-K7105に準拠し、スガ試験機株社製ヘーズメーターHZ-1を使用し測定した、ヘイズ値で評価した。ヘイズ値が小さいほど、透明性が良い。[バリア性能の評価]GNISATO、PCPBOUTEN、PJSLIKKERVEERらSIDConferenceRecordoftheInternationalDisplayResearchConference14351438頁に記載の方法を用いて測定した水蒸気透過率g/m2/dayで評価した。水蒸気供給側の雰囲気は、40°C、相対湿度は90とした。[湿熱耐久性の評価]作製したガスバリアフィルムを、85°C85RH雰囲気下で2000時間経時させた後に、前述した[バリア性能の評価]と同じ方法でバリア性能を評価した。経時前性能に対して水蒸気透過率の上昇幅が少ないほど、湿熱耐久性が良い。これらの結果を下記表に示す。上記結果から明らかなとおり、本発明の有機層を用いたガスバリアフィルムは、ヘイズ値が小さく透明性が良好で、バリア性能に優れている。さらに、本発明の有機層にシランカップリング剤を適量用いることにより、比較例に対し大幅に湿熱耐久性を改善できることが分かった。また、本発明の有機層/無機バリア層が1スタック品のバリア性能は水蒸気透過率1×104g/m2/day未満に到達しており、水蒸気透過率1×104g/m2/dayのバリアフイルム基板を、スタック数節減で低コスト化して作製することも可能である。実施例2実施例1の試料102、104において、無機バリア層の材質と厚みを表3に示すように変更したガスバリアフィルムを作製し、バリア性能水蒸気透過率を評価した。窒化珪素は実施例1で用いたプラズマCVD法、酸化アルミ屈折率1.63はスパッタリング法、酸化珪素屈折率1.45は電子ビーム蒸着法でそれぞれ成膜した。上記結果より、低屈折率の二酸化珪素の無機バリア層を用いた試料は、高屈折率の窒化珪素、酸化アルミの無機バリア層を用いた試料に対しバリア性能が大きく劣ることが判る。本発明の要件の1つである高屈折率無機バリア層の重要性は上記結果で、明らかである。また、屈折率が1.60以上であれば、酸化アルミからなる無機バリア層でも、優れたバリア性を示すことがわかった。但し、窒化珪素からなる無機バリア層の方が選りすぐれたバリア性能を示した。一方、上記結果より有機層を本発明の態様とすることによる水蒸気透過率の低下率を計算してみると、本発明における無機層バリア層の厚み35nmの場合は50強低下するが、無機層バリア層の厚みが13nmの場合は低下率が30強、無機層バリア層の厚みが90nmの場合は低下率が40弱しか低下しないことがわかる。このことは、本発明の効果が最も顕著に発揮される無機バリア層の厚み領域が35nmの周辺であることを示している。本発明者らの検討では無機バリア層の厚みが20~50nmの領域で最も効果が顕著に発揮されることがわかった。有機EL発光素子での評価バリア性を評価するために、水蒸気や酸素で黒点ダークスポット欠陥を生じる有機EL素子を作成し評価した。まず、ITO膜を有する導電性のガラス基板表面抵抗値10Ω/□を2-プロパノールで洗浄した後、10分間UV-オゾン処理を行った。この基板陽極上に真空蒸着法にて以下の化合物層を順次蒸着した。第1正孔輸送層銅フタロシアニン:膜厚10nm第2正孔輸送層N,N’-ジフェニル-N,N’-ジナフチルベンジジン:膜厚40nm発光層兼電子輸送層トリス8-ヒドロキシキノリナトアルミニウム:膜厚60nm電子注入層フッ化リチウム:膜厚1nmこの上に、金属アルミニウムを100nm蒸着して陰極とし、その上に厚さ3μm窒化珪素膜を平行平板CVD法によって付け、有機EL素子を作成した。次に、熱硬化型接着剤エポテック310、ダイゾーニチモリ株を用いて、作成した有機EL素子上と、上記で作製した各ガスバリアフィルムを、バリア層が有機EL素子の側となるように貼り合せ、65°Cで3時間加熱して接着剤を硬化させた。このようにして封止された有機EL素子を各20素子ずつ作成した。作成直後の有機EL素子をソースメジャーユニットSMU2400型、Keithley社製を用いて7Vの電圧を印加して発光させた。顕微鏡を用いて発光面状を観察したところ、いずれの素子もダークスポットの無い均一な発光を与えることが確認された。最後に、各素子を60°C相対湿度90の暗い室内に24時間静置した後、発光面状を観察した。直径300μmよりも大きいダークスポットが観察された素子の比率を故障率と定義し、各素子の故障率を算出した。故障率は、本発明の素子については、いずれも、5以下と良好であった。太陽電池の作成上記実施例1で作成したガスバリアフィルムを用いて、太陽電池モジュールを作成した。具体的には、太陽電池モジュール用充填剤として、スタンダードキュアタイプのエチレン-酢酸ビニル共重合体を用いた。10cm角の強化ガラス上に厚さ450μmのエチレン-酢酸ビニル共重合体でアモルファス系のシリコン太陽電池セルを挟み込み充填し、さらにその上のガスバリアフィルムを設置することで太陽電池モジュールを作成した。設置条件は、150°Cにて真空引き3分行ったあと、9分間圧着を行った。本方法で作成した太陽電池モジュールは、良好に作動し、85°C、85相対湿度の環境下でも良好な電気出力特性を示した。封止用袋の作成上記実施例1で作成したガスバリアフィルムを用いて、封止用袋を作成した。ガスバリアフィルムの基材フィルム側と、樹脂フィルムからなるバックポリエチレン製のバッグをヒートシール法によって融着し、封止用袋を作成した。得られた封止用袋に、薬剤として、セファゾリンナトリウム大塚製薬工場製を封入し、40°C相対湿度75の条件で6ヶ月保存して色調の変化を評価したところ、色調に変化はほとんど見られなかった。"