光学式位置検出装置により、対象物に対して照射光を出射し前記対象物からの反射光を受光することで検出される前記対象物の初期座標情報を取得する座標情報取得部と、撮像部から撮像画像を取得する撮像画像取得部と、前記撮像画像取得部で取得された前記撮像画像のうち、前記初期座標情報により特定され、かつ、前記撮像画像よりも狭い範囲の画像に対して処理を行って、前記対象物の最終座標情報を求める座標演算部と、を含むことを特徴とする位置検出システム。請求項1において、前記座標演算部は、前記最終座標情報として、対象面に対して設定される検出エリアでのX座標情報及びY座標情報を求めることを特徴とする位置検出システム。請求項2において、前記撮像部の光軸と前記対象面とが斜め方向に交差する場合に、前記座標演算部は、前記撮像部に対して設定されるカメラ座標系における座標情報に対して所定の座標変換処理を行うことで、前記検出エリアでのX座標情報及びY座標情報を求めることを特徴とする位置検出システム。請求項3において、前記対象面において、複数のキャリブレーションポイントが設定される場合に、前記座標演算部は、前記キャリブレーションポイントと、前記キャリブレーションポイントに対応するカメラ座標系における対応キャリブレーションポイントとの関係を、キャリブレーション情報として取得し、前記座標演算部は、取得した前記キャリブレーション情報に基づいて前記座標変換処理を行うことを特徴とする位置検出システム。請求項2乃至4のいずれかにおいて、前記座標演算部は、前記撮像画像の情報から得られるカメラ座標系での奥行き特定情報に基づいて、前記対象物の前記検出エリアでのZ座標情報を求めることを特徴とする位置検出システム。請求項5において、前記撮像部は、複数のカメラを有し、前記座標演算部は、前記複数のカメラから取得された複数の撮像画像の視差情報に基づいて得られた奥行き特定情報により、前記検出エリアでの前記Z座標を求めることを特徴とする位置検出システム。請求項5において、前記撮像部は、デプスカメラを有し、前記座標演算部は、前記デプスカメラにより得られた前記奥行き特定情報に基づいて、前記検出エリアでの前記Z座標を求めることを特徴とする位置検出システム。請求項5乃至7のいずれかにおいて、前記座標演算部は、前記カメラ座標系での前記奥行き特定情報に基づいて、前記検出エリアでの前記X座標情報及び前記Y座標情報の少なくとも一方の補正処理を行うことを特徴とする位置検出システム。請求項8において、前記座標演算部は、前記対象物の前記Z座標情報により表される値Zが、Z>0の場合に前記補正処理を行うことを特徴とする位置検出システム。請求項8において、前記座標演算部は、前記対象物の前記Z座標情報により表される値Zが0の場合に前記補正処理をスキップすることを特徴とする位置検出システム。請求項1乃至10において、前記光学式位置検出装置は、前記照射光を出射する出射部と、前記照射光が前記対象物に反射することによる前記反射光を受光する受光部と、前記受光部での受光結果に基づいて前記対象物の前記初期座標情報を検出する検出部と、を含むことを特徴とする位置検出システム。請求項11において、前記出射部は、前記照射光として赤外光を出射し、前記撮像部は、前記撮像画像として、赤外帯域の画像である赤外光帯域画像を撮像し、前記座標演算部は、前記赤外光帯域画像に対して処理を行って、前記対象物の前記最終座標情報を求めることを特徴とする位置検出システム。請求項1乃至12のいずれかに記載の位置検出システムと、画像を表示する表示装置と、を含むことを特徴とする表示システム。請求項1乃至12のいずれかに記載の位置検出システムと、前記位置検出システムからの検出情報に基づいて処理を行う情報処理装置と、前記情報処理装置からの画像データに基づいて画像の表示を行う表示装置と、を含むことを特徴する情報処理システム。本発明の幾つかの態様によれば、光学式位置検出装置と撮像装置を併用することで、高精度な位置検出を実用的なコスト及び処理時間で実現可能な位置検出システム、表示システム及び情報処理システム等を提供することができる。本発明の一態様は、光学式位置検出装置により、対象物に対して照射光を出射し前記対象物からの反射光を受光することで検出される前記対象物の初期座標情報を取得する座標情報取得部と、撮像部から撮像画像を取得する撮像画像取得部と、前記撮像画像取得部で取得された前記撮像画像のうち、前記初期座標情報により特定され、かつ、前記撮像画像よりも狭い範囲の画像に対して処理を行って、前記対象物の最終座標情報を求める座標演算部と、を含む位置検出システムに関係する。本発明の一態様では、光学式位置検出装置により初期座標情報を取得し、取得した初期座標情報により特定され、かつ、撮像画像よりも狭い範囲の画像に対して座標演算処理を行い、最終座標情報を取得する。よって、光学式位置検出装置により狭い範囲に限定した上で画像処理による位置検出を行うため、コストや処理時間の面で実用的なシステムを構築すること等が可能になる。また、本発明の一態様では、前記座標演算部は、前記最終座標情報として、対象面に対して設定される検出エリアでのX座標情報及びY座標情報を求めてもよい。これにより、検出エリアでの座標系におけるX座標情報及びY座標情報を最終座標情報として求めることが可能になる。また、本発明の一態様では、前記撮像部の光軸と前記対象面とが斜め方向に交差する場合に、前記座標演算部は、前記撮像部に対して設定されるカメラ座標系における座標情報に対して所定の座標変換処理を行うことで、前記検出エリアでのX座標情報及びY座標情報を求めてもよい。これにより、斜め方向から対象面を撮像することにより生じる画像の歪みを、座標変換処理により補正すること等が可能になる。また、本発明の一態様では、前記対象面において、複数のキャリブレーションポイントが設定される場合に、前記座標演算部は、前記キャリブレーションポイントと、前記キャリブレーションポイントに対応するカメラ座標系における対応キャリブレーションポイントとの関係を、キャリブレーション情報として取得し、前記座標演算部は、取得した前記キャリブレーション情報に基づいて前記座標変換処理を行ってもよい。これにより、複数のキャリブレーションポイントと、それに対応する対応キャリブレーションポイントとの関係から座標変換処理を行うこと等が可能になる。また、本発明の一態様では、前記座標演算部は、前記撮像画像の情報から得られるカメラ座標系での奥行き特定情報に基づいて、前記対象物の前記検出エリアでのZ座標情報を求めてもよい。これにより、撮像画像から奥行き特定情報を取得し、取得した奥行き特定情報に基づいて検出エリアでの座標系におけるZ座標情報を求めることができる。よって、対象物が対象面に触れているか否かの判定を行うこと等が可能になる。また、本発明の一態様では、前記撮像部は、複数のカメラを有し、前記座標演算部は、前記複数のカメラから取得された複数の撮像画像の視差情報に基づいて得られた奥行き特定情報により、前記検出エリアでの前記Z座標を求めてもよい。これにより、複数のカメラにより複数の撮像画像を取得し、取得した複数の撮像画像の視差情報に基づいて奥行き特定情報を取得すること等が可能になる。また、本発明の一態様では、前記撮像部は、デプスカメラを有し、前記座標演算部は、前記デプスカメラにより得られた前記奥行き特定情報に基づいて、前記検出エリアでの前記Z座標を求めてもよい。これにより、2眼等の複数のカメラを有する撮像装置を用いずに、奥行き特定情報を取得すること等が可能になる。また、本発明の一態様では、前記座標演算部は、前記カメラ座標系での前記奥行き特定情報に基づいて、前記検出エリアでの前記X座標情報及び前記Y座標情報の少なくとも一方の補正処理を行ってもよい。これにより、奥行き特定情報、或いは奥行き特定情報により求められる検出エリアでのZ座標情報に基づいて、検出エリアでのX座標情報及びY座標情報の少なくとも一方の補正処理を行うことが可能になる。よって、対象物が対象面に対して浮いている状況でのずれを補正すること等ができる。また、本発明の一態様では、前記座標演算部は、前記対象物の前記Z座標情報により表される値Zが、Z>0の場合に前記補正処理を行ってもよい。これにより、対象物が対象面に対して浮いている状況でのX座標情報又はY座標情報の真の値からのずれを補正することが可能になる。また、本発明の一態様では、前記座標演算部は、前記対象物の前記Z座標情報により表される値Zが0の場合に前記補正処理をスキップしてもよい。これにより、対象物が対象面に触れている状況では、不要な補正処理をスキップし処理負荷の軽減を図ることが可能になる。また、本発明の一態様では、前記光学式位置検出装置は、前記照射光を出射する出射部と、前記照射光が前記対象物に反射することによる前記反射光を受光する受光部と、前記受光部での受光結果に基づいて前記対象物の前記初期座標情報を検出する検出部と、を含んでもよい。これにより、光学式位置検出装置として、出射部、受光部及び検出部を有する構成を用いることが可能になる。また、本発明の一態様では、前記出射部は、前記照射光として赤外光を出射し、前記撮像部は、前記撮像画像として、赤外帯域の画像である赤外光帯域画像を撮像し、前記座標演算部は、前記赤外光帯域画像に対して処理を行って、前記対象物の前記最終座標情報を求めてもよい。これにより、光学式位置検出装置の出射部で光学式な位置検出のために赤外光を出射するとともに、該赤外光を画像処理による位置検出においても用いることが可能になる。よって、出射部をそれぞれに設ける必要がなくなりシステムの構成を簡単化できる。また、本発明の他の態様は、上述の位置検出システムと、画像を表示する表示装置と、を含む表示システムに関係する。また、本発明の他の態様は、上述の位置検出システムと、前記位置検出システムからの検出情報に基づいて処理を行う情報処理装置と、前記情報処理装置からの画像データに基づいて画像の表示を行う表示装置と、を含む情報処理システムに関係する。以下、本実施形態について説明する。なお、以下に説明する本実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また本実施形態で説明される構成の全てが、本発明の必須構成要件であるとは限らない。1.本実施形態の手法まず、本実施形態の手法について説明する。投写型表示装置プロジェクター、図9のPRにより画像を対象面図9の20に投射した上で、投射した画像とユーザーの用いる対象物オブジェクト、図9のOBの連携によりユーザインターフェースを実現するシステムが考えられる。このようなシステムでは、例えば画像上の任意のマークをさわることにより、表示が切り替わる等の操作を行うことが考えられるため、対象物OBの位置検出手法が重要となってくる。具体的な位置検出手法としては、対象物OBにセンサ等を載せる手法や、光学式位置検出装置を用いる手法及び撮像装置による撮像画像の画像処理を用いる手法等が考えられる。しかしながら、対象物OBにセンサ等を搭載する場合には、専用のオブジェクトを用いる必要が生じてしまい、指等を用いて簡単に操作を行うことができない。また、光学式位置検出装置には精度の点で問題が残る。さらに、撮像画像による画像処理を用いる手法は、精度は高いものの処理負荷が重く、ホワイトボードのような広い範囲を高精度例えばXGAやWXGA等で処理を行うことは現実的ではない。また、電子黒板のようなシステムにおける位置検出装置では、文字を書く操作が行われることが想定されるため、対象物が対象面に触れているか否かを高精度で判定する必要が生じる。しかしながら、通常の撮像装置を用いた位置検出手法では、対象面20からの浮きを正確に判定することが困難であった。そこで、本出願人は以下の手法を提案する。まず、光学式位置検出装置を用いて、対象物OBの概略的な位置初期座標情報を取得しておいて、その概略位置により特定される範囲に対して撮像装置による撮像画像を用いて画像処理を行う。このようにすれば、撮像画像の演算処理量、演算処理時間を抑えることが可能になり、コスト、応答速度ともに実用的なものにすることができる。さらに、撮像装置は、図9に示すように、2つの撮像部500-1及び500-2を有する2眼の撮像装置を用いて奥行き特定情報を取得する。このようにすることで、後述する図12Aのように、対象物OBが対象面20から浮いている場合にも、ΔZを求めることができるため、正確な座標情報を取得することが可能になる。ただし、撮像装置は奥行き特定情報を取得できればよく、2眼の撮像装置に限定されるものではない。以下、まず初期座標情報を求める光学式位置検出装置の構成及び初期座標情報の検出手法について述べる。その後、光学式位置検出装置と撮像装置を連動させた位置検出手法について説明する。具体的には、システム構成例、撮像装置の構成、初期座標情報の取得と処理対象範囲の設定手法、最終座標情報の取得手法の順に説明していく。2.光学式位置検出装置の構成例図1に、本実施形態の光学式位置検出装置100を用いた光学式検出システムの基本的な構成例を示す。図1の光学式位置検出装置100は、検出部200、処理部300、照射部EU及び受光部RUを含む。なお、本実施形態の光学式検出システムは図1の構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素に置き換えたり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。なお、光学式検出システムは、上述したように検出部200や処理部300を含む光学式位置検出装置100として実現される形態には限定されない。情報処理装置例えばPC等により、検出部200や処理部300の機能が実現され、照射部EU及び受光部RUと、上記情報処理装置とが連動して動作することにより、光学式検出システムが実現されてもよい。検出部200は、照射光LTが対象物OBにより反射することによる反射光LRの受光結果に基づいて、対象物OBの対象物情報例えば、座標情報や反射率情報を検出する。具体的には例えば、検出部200は、対象物OBが検出されるエリアである検出エリアRDETがX-Y平面に沿ったエリアである場合に、少なくとも検出エリアRDETに存在する対象物OBのX座標情報及びY座標情報を検出する。なお、検出部200による座標情報の検出手法については、後述する。また、具体的には対象物OBの反射率に関する情報である反射率情報を検出する。検出エリアRDETとは、対象物OBが検出されるエリア領域であって、具体的には、例えば照射光LTが対象物OBに反射されることによる反射光LRを、受光部RUが受光して、対象物OBを検出することができるエリアである。より具体的には、受光部RUが反射光LRを受光して対象物OBを検出することが可能であって、かつ、その検出精度について、許容できる範囲の精度が確保できるエリアである。処理部300は、検出部200が検出した対象物情報に基づいて種々の処理を行う。照射部EUは、検出エリアRDETに対して照射光LTを出射する。後述するように、照射部EUは、LED発光ダイオード等の発光素子から成る光源部を含み、光源部が発光することで、例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線を出射する。受光部RUは、照射光LTが対象物OBにより反射することによる反射光LRを受光する。受光部RUは、複数の受光ユニットPDを含んでもよい。受光ユニットPDは、例えばフォトダイオードやフォトトランジスターなどを用いることができる。図2に、本実施形態の受光部RUの具体的な構成例を示す。図2の構成例では、受光部RUは受光ユニットPDを含む。受光ユニットPDは、入射光が入射する角度Y-Z平面上の角度を制限するためのスリット等入射光制限部が設けられ、検出エリアRDETに存在する対象物OBからの反射光LRを受光する。検出部200は、受光ユニットPDの受光結果に基づいて、X座標情報及びY座標情報を検出する。なお、照射部EUは、検出エリアRDETに対して照射光LTを出射する。また検出エリアRDETは、X-Y平面に沿ったエリアである。なお、図2の構成例は1つの受光ユニットで構成されるが、2つ以上の受光ユニットを含む構成としてもよい。図3A、図3Bに、スリットSLT入射光制限部を有する受光ユニットPDの構成例を示す。図3Aに示すように、受光素子PHDの前面にスリットSLTを設けて、入射する入射光を制限する。スリットSLTはX-Y平面に沿って設けられ、入射光が入射するZ方向の角度を制限することができる。すなわち受光ユニットPDは、スリットSLTのスリット幅で規定される所定の角度で入射する入射光を受光することができる。図3Bは、スリットSLTを有する受光ユニットの上から見た平面図である。例えばアルミニウム等の筐体ケース内に配線基板PWBが設けられ、この配線基板PWB上に受光素子PHDが実装される。図4に、本実施形態の照射部EUの詳細な構成例を示す。図4の構成例の照射部EUは、光源部LS1、LS2と、ライトガイドLGと、照射方向設定部LEを含む。また反射シートRSを含む。そして照射方向設定部LEは光学シートPS及びルーバーフィルムLFを含む。なお、本実施形態の照射部EUは、図4の構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素に置き換えたり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。光源部LS1、LS2は、光源光を出射するものであり、LED発光ダイオード等の発光素子を有する。この光源部LS1、LS2は例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線の光源光を放出する。即ち、光源部LS1、LS2が発光する光源光は、ユーザーの指やタッチペン等の対象物により効率的に反射される波長帯域の光や、外乱光となる環境光にあまり含まれない波長帯域の光であることが望ましい。具体的には、人体の表面での反射率が高い波長帯域の光である850nm付近の波長の赤外光や、環境光にあまり含まれない波長帯域の光である950nm付近の赤外光などである。光源部LS1は、図4のF1に示すようライトガイドLGの一端側に設けられる。また第2の光源部LS2は、F2に示すようにライトガイドLGの他端側に設けられる。そして光源部LS1が、ライトガイドLGの一端側F1の光入射面に対して光源光を出射することで、照射光LT1を出射し、第1の照射光強度分布LID1を対象物の検出エリアに形成設定する。一方、光源部LS2が、ライトガイドLGの他端側F2の光入射面に対して第2の光源光を出射することで、第2の照射光LT2を出射し、第1の照射光強度分布LID1とは強度分布が異なる第2の照射光強度分布LID2を検出エリアに形成する。このように照射部EUは、検出エリアRDETでの位置に応じて強度分布が異なる照射光を出射することができる。ライトガイドLG導光部材は、光源部LS1、LS2が発光した光源光を導光するものである。例えばライトガイドLGは、光源部LS1、LS2からの光源光を曲線状の導光経路に沿って導光し、その形状は曲線形状になっている。具体的には図4ではライトガイドLGは円弧形状になっている。なお図4ではライトガイドLGはその中心角が180度の円弧形状になっているが、中心角が180度よりも小さい円弧形状であってもよい。ライトガイドLGは、例えばアクリル樹脂やポリカーボネートなどの透明な樹脂部材等により形成される。ライトガイドLGの外周側及び内周側の少なくとも一方には、ライトガイドLGからの光源光の出光効率を調整するための加工が施されている。加工手法としては、例えば反射ドットを印刷するシルク印刷方式や、スタンパーやインジェクションで凹凸を付ける成型方式や、溝加工方式などの種々の手法を採用できる。プリズムシートPSとルーバーフィルムLFにより実現される照射方向設定部LEは、ライトガイドLGの外周側に設けられ、ライトガイドLGの外周側外周面から出射される光源光を受ける。そして曲線形状円弧形状のライトガイドLGの内周側から外周側へと向かう方向に照射方向が設定された照射光LT1、LT2を出射する。即ち、ライトガイドLGの外周側から出射される光源光の方向を、ライトガイドLGの例えば法線方向半径方向に沿った照射方向に設定規制する。これにより、ライトガイドLGの内周側から外周側に向かう方向に、照射光LT1、LT2が放射状に出射されるようになる。このような照射光LT1、LT2の照射方向の設定は、照射方向設定部LEのプリズムシートPSやルーバーフィルムLFなどにより実現される。例えばプリズムシートPSは、ライトガイドLGの外周側から低視角で出射される光源光の方向を、法線方向側に立ち上げて、出光特性のピークが法線方向になるように設定する。またルーバーフィルムLFは、法線方向以外の方向の光低視角光を遮光カットする。このように本実施形態の照射部EUによれば、ライトガイドLGの両端に光源部LS1、LS2を設け、これらの光源部LS1、LS2を交互に点灯させることで、2つの照射光強度分布を形成することができる。すなわちライトガイドLGの一端側の強度が高くなる照射光強度分布LID1と、ライトガイドLGの他端側の強度が高くなる照射光強度分布LID2を交互に形成することができる。このような照射光強度分布LID1、LID2を形成し、これらの強度分布の照射光による対象物の反射光を受光することで、環境光などの外乱光の影響を最小限に抑えた、より精度の高い対象物の検出が可能になる。即ち、外乱光に含まれる赤外成分を相殺することが可能になり、この赤外成分が対象物の検出に及ぼす悪影響を最小限に抑えることが可能になる。3.光学式位置検出装置による座標検出手法図5A、図5Bは、本実施形態の光学式位置検出装置100による座標情報検出の手法を説明する図である。図5AのE1は、図4の照射光強度分布LID1において、照射光LT1の照射方向の角度と、その角度での照射光LT1の強度との関係を示す図である。図5AのE1では、照射方向が図5BのDD1の方向左方向である場合に強度が最も高くなる。一方、DD3の方向右方向である場合に強度が最も低くなり、DD2の方向ではその中間の強度になる。具体的には方向DD1から方向DD3への角度変化に対して照射光の強度は単調減少しており、例えばリニア直線的に変化している。なお図5Bでは、ライトガイドLGの円弧形状の中心位置が、照射部EUの配置位置PEになっている。また図5AのE2は、図4の照射光強度分布LID2において、照射光LT2の照射方向の角度と、その角度での照射光LT2の強度との関係を示す図である。図5AのE2では、照射方向が図5BのDD3の方向である場合に強度が最も高くなる。一方、DD1の方向である場合に強度が最も低くなり、DD2の方向ではその中間の強度になる。具体的には方向DD3から方向DD1への角度変化に対して照射光の強度は単調減少しており、例えばリニアに変化している。なお図5Aでは照射方向の角度と強度の関係はリニアな関係になっているが、本実施形態はこれに限定されず、例えば双曲線の関係等であってもよい。そして図5Bに示すように、角度φの方向DDBに対象物OBが存在したとする。すると、光源部LS1が発光することで照射光強度分布LID1を形成した場合E1の場合には、図5Aに示すように、DDB角度φの方向に存在する対象物OBの位置での強度はINTaになる。一方、光源部LS2が発光することで照射光強度分布LID2を形成した場合E2の場合には、DDBの方向に存在する対象物OBの位置での強度はINTbになる。従って、これらの強度INTa、INTbの関係を求めることで、対象物OBの位置する方向DDB角度φを特定できる。そして例えば後述する図6A、図6Bの手法により光学式位置検出装置の配置位置PEからの対象物OBの距離を求めれば、求められた距離と方向DDBとに基づいて対象物OBの位置を特定できる。或いは、後述する図7に示すように、照射部EUとして2個の照射ユニットEU1、EU2を設け、EU1、EU2の各照射ユニットに対する対象物OBの方向DDB1φ1、DDB2φ2を求めれば、これらの方向DDB1、DDB2と照射ユニットEU1、EU2間の距離DSとにより、対象物OBの位置を特定できる。このような強度INTa、INTbの関係を求めるために、本実施形態では、受光部RUが、照射光強度分布LID1を形成した際の対象物OBの反射光第1の反射光を受光する。この時の反射光の検出受光量をGaとした場合に、このGaが強度INTaに対応するようになる。また受光部RUが、照射光強度分布LID2を形成した際の対象物OBの反射光第2の反射光を受光する。この時の反射光の検出受光量をGbとした場合に、このGbが強度INTbに対応するようになる。従って、検出受光量GaとGbの関係が求まれば、強度INTa、INTbの関係が求まり、対象物OBの位置する方向DDBを求めることができる。例えば光源部LS1の制御量例えば電流量、変換係数、放出光量を、各々、Ia、k、Eaとする。また光源部LS2の制御量電流量、変換係数、放出光量を、各々、Ib、k、Ebとする。すると下式1、2が成立する。Ea=kIa1Eb=kIb2また光源部LS1からの光源光第1の光源光の減衰係数をfaとし、この光源光に対応する反射光第1の反射光の検出受光量をGaとする。また光源部LS2からの光源光第2の光源光の減衰係数をfbとし、この光源光に対応する反射光第2の反射光の検出受光量をGbとする。すると下式3、4が成立する。Ga=faEa=fakIa3Gb=fbEb=fbkIb4従って、検出受光量Ga、Gbの比は下式5のように表せる。Ga/Gb=fa/fbIa/Ib5ここでGa/Gbは、受光部RUでの受光結果から特定することができ、Ia/Ibは、照射部EUの制御量から特定することができる。そして図5Aの強度INTa、INTbと減衰係数fa、fbとは一意の関係にある。例えば減衰係数fa、fbが小さな値となり、減衰量が大きい場合は、強度INTa、INTbが小さいことを意味する。一方、減衰係数fa、fbが大きな値となり、減衰量が小さい場合は、強度INTa、INTbが大きいことを意味する。従って、上式5から減衰率の比fa/fbを求めることで、対象物の方向、位置等を求めることが可能になる。より具体的には、一方の制御量IaをImに固定し、検出受光量の比Ga/Gbが1になるように、他方の制御量Ibを制御する。例えば光源部LS1、LS2を逆相で交互に点灯させる制御を行い、検出受光量の波形を解析し、検出波形が観測されなくなるようにGa/Gb=1になるように、他方の制御量Ibを制御する。そして、この時の他方の制御量Ib=Imfa/fbから、減衰係数の比fa/fbを求めて、対象物の方向、位置等を求める。また下式6、7のように、Ga/Gb=1になると共に制御量IaとIbの和が一定になるように制御してもよい。Ga/Gb=16Im=IaIb7上式6、7を上式5に代入すると下式8が成立する。Ga/Gb=1=fa/fbIa/Ib=fa/fbIm-Ib/Ib8上式8より、Ibは下式9のように表される。Ib=fa/fafbIm9ここでα=fa/fafbとおくと、上式9は下式10のように表され、減衰係数の比fa/fbは、αを用いて下式11のように表される。Ib=αIm10fa/fb=α/1-α11従って、Ga/Gb=1になると共にIaとIbの和が一定値Imになるように制御すれば、そのときのIb、Imから上式10によりαを求め、求められたαを上式11に代入することで、減衰係数の比fa/fbを求めることができる。これにより、対象物の方向、位置等を求めることが可能になる。そしてGa/Gb=1になると共にIaとIbの和が一定になるように制御することで、外乱光の影響等を相殺することが可能になり、検出精度の向上を図れる。次に本実施形態の光学式検出システムを用いて対象物の座標情報を検出する手法の一例について説明する。図6Aは、光源部LS1、LS2の発光制御についての信号波形例である。信号SLS1は、光源部LS1の発光制御信号であり、信号SLS2は、光源部LS2の発光制御信号であり、これらの信号SLS1、SLS2は逆相の信号になっている。また信号SRCは受光信号である。例えば光源部LS1は、信号SLS1がHレベルの場合に点灯発光し、Lレベルの場合に消灯する。また光源部LS2は、信号SLS2がHレベルの場合に点灯発光し、Lレベルの場合に消灯する。従って図6Aの第1の期間T1では、光源部LS1と光源部LS2が交互に点灯するようになる。即ち光源部LS1が点灯している期間では、光源部LS2は消灯する。これにより図4に示すような照射光強度分布LID1が形成される。一方、光源部LS2が点灯している期間では、光源部LS1は消灯する。これにより図4に示すような照射光強度分布LID2が形成される。このように検出部200は、第1の期間T1において、光源部LS1と光源部LS2を交互に発光点灯させる制御を行う。そしてこの第1の期間T1において、光学式位置検出装置照射部から見た対象物の位置する方向が検出される。具体的には、例えば上述した式6、7のようにGa/Gb=1になると共に制御量IaとIbの和が一定になるような発光制御を、第1の期間T1において行う。そして図5Bに示すように対象物OBの位置する方向DDBを求める。例えば上式10、11から減衰係数の比fa/fbを求め、図5A、図5Bで説明した手法により対象物OBの位置する方向DDBを求める。そして第1の期間T1に続く第2の期間T2では、受光部RUでの受光結果に基づいて対象物OBまでの距離方向DDBに沿った方向での距離を検出する。そして、検出された距離と、対象物OBの方向DDBとに基づいて、対象物の位置を検出する。即ち図5Bにおいて、光学式位置検出装置の配置位置PEから対象物OBまでの距離と、対象物OBの位置する方向DDBを求めれば、対象物OBのX、Y座標位置を特定できる。このように、光源の点灯タイミングと受光タイミングの時間のずれから距離を求め、これと角度結果を併せることで、対象物OBの位置を特定できる。具体的には図6Aでは、発光制御信号SLS1、SLS2による光源部LS1、LS2の発光タイミングから、受光信号SRCがアクティブになるタイミング反射光を受光したタイミングまでの時間Δtを検出する。即ち、光源部LS1、LS2からの光が対象物OBに反射されて受光部RUで受光されるまでの時間Δtを検出する。この時間Δtを検出することで、光の速度は既知であるため、対象物OBまでの距離を検出できる。即ち、光の到達時間のずれ幅時間を測定し、光の速度から距離を求める。なお、光の速度はかなり速いため、電気信号だけでは単純な差分を求めて時間Δtを検出することが難しいという問題もある。このような問題を解決するためには、図6Bに示すように発光制御信号の変調を行うことが望ましい。ここで図6Bは、制御信号SLS1、SLS2の振幅により光の強度電流量を模式的に表している模式的な信号波形例である。具体的には図6Bでは、例えば公知の連続波変調のTOFTimeOfFlight方式で距離を検出する。この連続波変調TOF方式では、一定周期の連続波で強度変調した連続光を用いる。そして、強度変調された光を照射すると共に、反射光を、変調周期よりも短い時間間隔で複数回受光することで、反射光の波形を復調し、照射光と反射光との位相差を求めることで、距離を検出する。なお図6Bにおいて制御信号SLS1、SLS2のいずれか一方に対応する光のみを強度変調してもよい。また図6Bのようなクロック波形ではなく、連続的な三角波やSin波で変調した波形であってもよい。また、連続変調した光としてパルス光を用いるパルス変調のTOF方式で、距離を検出してもよい。距離検出手法の詳細については例えば特開2009-8537号などに開示されている。図7に、本実施形態の照射部EUの変形例を示す。図7では、照射部EUとして第1、第2の照射ユニットEU1、EU2が設けられる。これらの第1、第2の照射ユニットEU1、EU2は、対象物OBの検出エリアRDETの面に沿った方向において所与の距離DSだけ離れて配置される。即ち図1のX軸方向に沿って距離DSだけ離れて配置される。第1の照射ユニットEU1は、照射方向に応じて強度が異なる第1の照射光を放射状に出射する。第2の照射ユニットEU2は、照射方向に応じて強度が異なる第2の照射光を放射状に出射する。受光部RUは、第1の照射ユニットEU1からの第1の照射光が対象物OBに反射されることによる第1の反射光と、第2の照射ユニットEU2からの第2の照射光が対象物OBに反射されることによる第2の反射光を受光する。そして検出部200は、受光部RUでの受光結果に基づいて、対象物OBの位置POBを検出する。具体的には検出部200は、第1の反射光の受光結果に基づいて、第1の照射ユニットEU1に対する対象物OBの方向を第1の方向DDB1角度φ1として検出する。また第2の反射光の受光結果に基づいて、第2の照射ユニットEU2に対する対象物OBの方向を第2の方向DDB2角度φ2として検出する。そして検出された第1の方向DDB1φ1及び第2の方向DDB2φ2と、第1、第2の照射ユニットEU1、EU2の間の距離DSとに基づいて、対象物OBの位置POBを求める。図7の変形例によれば、図6A、図6Bのように光学式位置検出装置と対象物OBとの距離を求めなくても、対象物OBの位置POBを検出できるようになる。4.光学式位置検出装置と撮像装置による座標検出手法4.1システム構成例図8に本実施形態の位置検出システムの構成例を示す。本実施形態の位置検出システム400は、光学式位置検出装置100からの初期座標情報を取得する座標情報取得部410と、撮像部500からの撮像画像を取得する撮像画像取得部420と、座標演算処理を行う座標演算部430と、を含む。座標演算部430は、奥行き特定情報取得部431と、補正部433と、座標変換部435と、を含む。奥行き特定情報取得部431は、座標情報取得部410からの初期座標情報に基づいて、画像処理を行う対象となる範囲を限定した上で、撮像画像から奥行き特定情報を取得する。補正部433は、奥行き特定情報に基づいてX座標情報及びY座標情報の少なくとも一方の補正処理を行う。座標変換部435は、座標変換を行うことで、斜めからの撮像により歪みが生じた撮像画像の変換処理を行う。光学式位置検出装置100は座標情報取得部410に接続される。撮像部500は撮像画像取得部420に接続される。座標情報取得部410と、撮像画像取得部420は、奥行き特定情報取得部431に接続される。奥行き特定情報取得部431は、補正部に接続される。補正部433は、座標変換部435に接続される。4.2撮像装置の構成次に、本実施形態における撮像装置の構成について説明する。図9に示したように、本実施形態においては例えば、対象面20スクリーンに対して表示画像を投影する投写型表示装置PRプロジェクターに撮像装置が搭載される。ただし、撮像装置の位置はこれに限定されるものではなく、投写型表示装置PRとは別の位置に設けられてもよい。また、本実施形態の画像表示手法は投写型表示装置PRによるものに限定されるものではない。また、本実施形態における撮像装置は、奥行き特定情報を取得可能な構成を取る必要がある。そのため、図9に示したように2つの撮像部500-1及び500-2が所定の距離だけ離れた位置に設けられ、視差情報或いはステレオ画像を取得することが可能な形態となる。それぞれの撮像部で取得される撮像画像の例を、図10A及び図10Bに示す。或いは2眼の撮像装置を用いずに、Time-of-flight方式等により奥行き情報を持った画像を取得可能な撮像装置を用いてもよい。4.3初期座標情報の取得と処理対象範囲の設定本実施形態の手法においては、まず、光学式位置検出装置を用いて、初期座標情報を取得する。例えば本実施形態においては、上述したような光学式位置検出装置を用いて、対象物OBのX座標情報及びY座標情報を取得する。ここで、光学式位置検出装置は、対象面20スクリーンに対して取り付けられてもよいし、投写型表示装置PRに取り付けられてもよい。そして、取得したX座標情報及びY座標情報を対象物OBの初期座標情報とする。この初期座標情報により特定される範囲を、撮像装置による位置検出を行う際の処理対象範囲とする。このようにして、例えば図11に示すように、撮像装置により得られた撮像画像に対する画像処理の対象範囲を、撮像画像全体図11のC2に対応よりも狭い範囲図11のC1に対応に限定することが可能となる。そのため、光学式検出手法等に比べて処理負荷の重い画像処理による検出手法を、現実的な処理時間、コストで実現することが可能になる。初期座標情報から、画像処理の処理対象範囲を特定する手法は種々考えられる。通常は、初期座標情報を含む範囲を設定すればよい。その際には、光学式位置検出装置による座標情報の誤差等が問題にならない程度に広く、かつ、処理負荷が重くなりすぎない程度に狭い領域を指定する。また、図12Aのように対象物OBが対象面20に触れていないような状況では、光学式位置検出装置による初期座標情報はA1に対応する座標となる。それに対して、撮像画像においては、あたかもA2の位置に対象物OBがあるように見える。つまり、撮像画像上では、初期座標情報に対してΔYだけY座標情報がずれることになる。よって、画像処理の処理対象範囲は、ΔYのずれを考慮して中心又は大きさ等を決定する必要がある点に留意する。4.4最終座標情報の取得次に、初期座標情報に基づいて画像処理の処理対象範囲が適切に設定された後に、撮像画像に対する画像処理により、対象物OBの最終座標情報を求める手法について説明する。なお、撮像装置は対象面全面を撮影するものとする。つまり、ここでは処理対象範囲を撮影するものではなく、全面を撮影した上で処理対象範囲のデータを取り込むことになるが、手法はこれに限定されるものではない。4.4.1Z座標情報に基づく補正まずは、撮像画像上での対象物OBの座標を求める。これは、公知の画像処理手法を用いればよい。例えば、対象物OBをテンプレートとしてテンプレートマッチング処理等を行う。これにより、撮像画像上でのX座標情報及びY座標情報を取得することができる。それとともに、Z座標情報を取得する。ここではまず、撮像装置のキャリブレーションを事前に行っておくものとする。ここでのキャリブレーションとは、図12AにおけるΔZ=0つまり図12Bのように対象面20に接している場合に、2つの撮像部図9の500-1及び500-2が取得する撮像画像において、対象物OBの位置が同一になるように設定しておく。つまり、図10Bにおいて、2つの撮像部の位置の違いに基づく視差画像のずれを表すδはΔZが0の時には0となり、ΔZが大きくなるほど大きくなるように設定されることになる。ここで、適切な係数AAは撮像装置の設計やキャリブレーション等により決定されるを設定すれば、ΔZの値は下式12により表される。ΔZ=Aδ12よって、δ=0の場合には、ΔZ=0となり、対象物OBが対象面20に触れていると判定することができる。この場合図12Bのような状態であるため、撮像画像によって得られたX座標情報及びY座標情報は、そのまま真のX座標情報及びY座標情報として用いることができる。それに対して、δ≠0の場合には、ΔZは上式12により求められる0でない値となる。その場合、図12Aのような状態となっているため、Y座標情報は真のY座標情報に比べてΔYだけずれていることになる。このとき、撮像装置及び撮像装置を搭載した投写型表示装置PRの設置位置と方向から、対象面20と撮像装置の光軸方向D1ここではPRの投射方向とほぼ一致するものとするが、これに限定されるものではないとのなす角度θは既知である。よって図よりΔYの値は下式13により求めることができる。ΔY=ΔZ/tanθ13よって、撮像画像から得られたY座標情報を上式13のΔYだけ補正した値が、真のY座標情報となる。なお、この場合X座標情報についての補正は必要ない。今回の座標設定においては、対象物OBが対象面20から浮いていようが触れていようが、X軸方向での位置に変化はないからである。もちろん座標系の設定によってはX座標情報について補正の必要が生じる場合があることは言うまでもない。4.4.2座標変換次に、撮像画像により得られたX座標情報、Y座標情報について、座標変換を行う。なぜなら、本実施形態における撮像画像は、図9のような位置から対象面20を撮像した画像であるため、図13Aに示したように、画像が歪んでしまっているためである。上述してきた撮像部500に対して設定されるX座標情報及びY座標情報は、あくまで、撮像画像上での座標情報であって、画像の歪みの分、実空間における座標情報とは一致しない。そのため、座標変換射影変換を行うことにより、歪みを解消し、実空間における適切な座標情報を求める必要がある。なお、撮像部500に対して設定される座標系及び対象面20に対して設定される座標系を図14に示す。一般的な座標変換である射影変換の式を下式14に示す。下式14において、x’、y’が変換後の座標を表し、x、yが変換前の座標を表すものとする。各hは任意の係数である。射影変換を施した例を図15に示す。射影変換を行うことで、任意の四角形を別の任意の四角形に移すことが可能となる。つまり、図15に示したように、歪んだ撮像画像を歪みのない状態に戻すことができる。この際、係数hについては、キャリブレーション等により求めてもよい。つまり、対象面上の任意の点と、撮像画像上における対応する点との位置関係を求めることにより、射影変換の係数を設定することができる。このようにして求めた、座標変換後のX座標情報、Y座標情報及び、上述したZ座標情報ΔZが本実施形態の手法により求められる最終座標情報となる。以上の本実施形態では、図8に示したように、位置検出システム400は、座標情報取得部410と、撮像画像取得部420と、座標演算部430とを含む。座標情報取得部410は、光学式位置検出装置100により出射された照射光が対象物OBに反射することによる反射光を受光することで検出される対象物OBの初期座標情報を取得する。撮像画像取得部420は、撮像部500から撮像画像を取得する。座標演算部430は、撮像画像取得部420で取得した撮像画像のうち、初期座標情報により特定され、かつ、撮像画像よりも狭い範囲の画像に対して処理を行い、対象物OBの最終座標情報を求める。ここで、光学式位置検出装置100とは、上述したような赤外光を照射する光学式位置検出装置等が考えられるが、これに限定されるものではない。これにより、光学式位置検出装置100による位置検出座標情報の取得にあわせて、撮像画像に対する画像処理による位置検出を用いることが可能になる。上述したように、光学式位置検出装置100は検出する座標情報の精度が、画像処理を用いる手法等に比べて低い。また、画像処理を用いる手法は光学式位置検出装置等を用いる場合に比べて処理負荷が重く、例えば電子黒板システムで用いられる大きさのホワイトボード全体をXGA程度の高精度で処理を行うことは、コスト或いは処理時間の観点から現実的ではない。その点、本実施形態の手法では、まず、光学式位置検出装置100により対象物OBの概略的な座標情報である初期座標情報を求める。その上で、初期座標情報により特定され、かつ、撮像画像よりも狭い範囲図11のC1に対応する範囲に対して画像処理よる位置検出を行う。よって、高精度な位置検出を可能にしつつ、コスト及び処理時間を実用的なものにすることができる。なお、初期座標情報により特定される範囲とは、初期座標情報により表される座標を含む範囲でもよいし、含まない範囲でもよい。また、座標演算部430は、最終座標情報として、対象面20に対して設定される検出エリアでのX座標情報及びY座標情報を求める。ここで、X軸、Y軸及びZ軸は、対象面上の検出エリアに対して設定される座標系の軸であり、最終座標情報はこの座標系において求められる。処理過程で用いる撮像部500に対して設定される座標系カメラ座標系とは異なるため注意が必要である。X軸、Y軸は図14に示したような方向とする。つまり、X軸及びY軸により規定されるXY平面は対象面20を含む平面であり、かつ、鉛直方向の正方向重力方向がY軸正方向に対応する。また、Y軸に直交し、図14において手前方向をX軸正方向とし、XY平面に垂直で、かつ、対象面20の裏側から表側の方向をZ軸正方向とする。ただし、XYZ軸の方向はこれに限定されるものではない。これにより、検出エリアに対して設定された座標系において、X座標情報及びY座標情報を求めることが可能になる。よって、対象面20に表示された画像のどの部分をポインティングしているのか等の情報を取得することができる。また、図9に示したように撮像部500-1及び500-2の光軸と対象面20とが斜め方向に交差する場合に、座標演算部430は、カメラ座標系における座標情報に対して所定の座標変換処理を行うことで、検出エリアでのX座標情報及びY座標情報を求めてもよい。これにより、座標変換処理を行うことで検出エリアでの最終座標情報を求めることが可能になる。図9に示したように、撮像部500の光軸方向と対象面20とが斜め方向に交差する場合には、撮像画像における対象面20の形は歪むことになる。これはつまり、検出エリアでの座標系とカメラ座標系とで軸が一致しないことによる。画像処理による位置検出手法では、まずカメラ座標系での座標情報が取得されるのであるから、これら2つの座標系の間での座標変換処理を行うことで、検出エリアに対して設定された座標系での最終座標情報を求める必要がある。また、対象面20に対して複数のキャリブレーションポイントが設定される場合に、座標演算部430は、キャリブレーションポイントと、カメラ座標系での対応する点である対応キャリブレーションポイントとの関係を、キャリブレーション情報として取得する。そして、座標演算部430は、キャリブレーション情報に基づいて座標変換処理を行ってもよい。これにより、座標変換処理をキャリブレーションに基づいて行うことが可能になる。式14を用いて上述したように、一般的な座標変換処理は係数h或いは座標系間の回転角等を決定する必要がある。その際、対象面20におけるキャリブレーションポイントを設定し、設定したキャリブレーションポイントがカメラ座標系ではどの位置に対応するかという情報を用いることで、係数hを決定することができる。なお、ここではそれぞれのZ軸は特に考慮する必要はなく、各座標系はXY軸のみの平面座標系として取り扱えば十分である。また、座標演算部430は、撮像画像の情報から得られるカメラ座標系での奥行き特定情報に基づいて、検出エリアでの座標系におけるZ座標情報を求める。これにより、検出エリアに対して設定された座標系において、Z座標情報を求めることが可能になる。よって、対象面20に表示された画像のどの部分をポインティングしているかにとどまらず、図12Bのように当該ポインティング対象に触れているのか対象面20に触れているか、図12Aのように浮いた状態なのか等の判定を行うことができる。また、図9に示したように撮像部500は複数のカメラ500-1及び500-2を有し、座標演算部430は、複数のカメラから取得された複数の撮像画像の視差情報に基づいて得られた奥行き特定情報により、検出エリアでのZ座標情報を求めてもよい。ここで、視差とは、2観測地点での位置の違いにより対象点が見える方向が異なることを意味する。つまり、異なる位置に設けられた2つのカメラにより得られる2つの撮像画像においては、対象物OBの位置がずれることになり、ここでは視差情報とは当該画像のずれを表すものとする。これにより、複数のカメラを用いて取得した複数の撮像画像の視差情報に基づいて、検出エリアに設定された座標系でのZ座標情報を求めることが可能になる。具体的には図10A、図10B及び式12を用いて上述したように、対象物OBの撮像画像上での位置のずれδから検出エリアでの座標系におけるZ座標ΔZを求めることができる。なお、δから直接求められるのは、カメラ座標系におけるZ座標であるが、カメラ座標系から検出エリアでの座標系へのZ座標の値の変換は容易であり、そのための値も上式12の係数Aに含まれているものとする。また、撮像部500はデプスカメラを有し、座標演算部430は、デプスカメラにより得られた奥行き特定情報に基づいて検出エリアでの座標系におけるZ座標を求めてもよい。ここで、デプスカメラとは、例えばTime-of-flight方式等を用いたカメラが考えられる。これは、赤外光のパスル波或いはサインカーブ波を被写体に照射し、反射光の位相差を検出することで奥行き特定情報を取得するものである。これにより、上述した複数のカメラを用いた場合と同様に、奥行き特定情報を取得でき、検出エリアでの座標系におけるZ座標情報を求めることが可能になる。また、座標演算部430は、カメラ座標系での奥行き特定情報に基づいて、検出エリアでの座標系におけるX座標情報及びY座標情報の少なくとも一方の補正処理を行ってもよい。具体的には、カメラ座標系での奥行き特定情報により求められた検出エリアでの座標系でのZ座標の値が、Z>0の場合は補正処理を行い、Z=0の場合は補正処理をスキップしてもよい。これにより、カメラ座標系での奥行き特定情報に基づいて、検出エリアでの座標系におけるX座標情報及びY座標情報の少なくとも一方の補正処理を行うことが可能になる。図12A、図12Bに示したように対象物OBが対象面20に接しているか浮いているかにより、処理が異なる。図12Aのように対象物OBが対象面20から浮いている場合には、撮像画像から得られるXY座標A1に比べて、実際のXY座標A2はΔYだけずれることになる。そのため、Z>0の場合には、このΔYだけY座標を補正する必要が生じる。それに対し、Z=0の場合には、ずれが生じないため補正も必要ない。なお、上述したカメラ座標系から検出エリア座標系への座標変換処理は補正処理後に行われるものとするが、これに限定されるものではない。また、光学式位置検出装置100は、図1に示したように、照射光を出射する出射部照射部EUと、照射光が対象物OBに反射することによる反射光を受光する受光部RUと、受光部RUでの受光結果に基づいて対象物OBの初期座標情報を検出する検出部200とを含む。これにより、光学式位置検出装置100として、図1~図7を用いて上述したような装置を用いることが可能になる。また、光学式位置検出装置100の出射部は、照射光として赤外光を出射し、撮像部500は、赤外帯域の画像を撮像してもよい。そして、座標演算部430は、赤外光帯域画像に対して処理を行って、前記対象物の前記最終座標情報を求めてもよい。これにより、赤外帯域の画像を用いて画像処理による位置検出を行うことが可能になる。投写型表示装置PRを用いる場合、対象物OBに表示画像が写ってしまうことにより、対象物OBが表示画像にとけ込んでしまうという問題が生じうる。そうでなくとも、縦横の線が多い複雑な表示画像の場合には対象物OBを画像処理から認識することが難しくなってしまう。その点、赤外帯域の画像を用いれば、撮像画像は対象物OBの模様写り込んだ表示画像等を問題にせず対象物OBの形状のみを撮像するため、表示画像の影響を受けることがなくなる。特に、光学式位置検出装置が光学的な位置の検出のために出射する光が赤外光である場合には、光学式位置検出装置での位置検出及び画像処理による位置検出の両方について、同一の赤外光を用いることができる。そのため、個別に赤外光を出射する出射部を設ける必要がなくなり、システムの構成を簡単化することができる。また、本実施形態は、上述してきた位置検出システムと、画像を表示する表示装置とを含む表示システムに関係する。これは具体的には例えば、上述してきたような投写型表示装置PRプロジェクターに撮像部500を搭載し、画像処理による位置検出を行うとともに、光学式位置検出装置100による位置検出手法を併用するシステムに相当する。さらに具体的には、後述する図16の10及び100の構成等が考えられる。これにより、投写型表示装置PRプロジェクターにより画像を対象面20に投射した上で、投射した画像とユーザーの用いる対象物OBオブジェクトの連携によるユーザインターフェースを実現すること等が可能になる。なお、画像の表示は投写型表示装置PRによるものに限定されるわけではない。また、本実施形態は、上述してきた位置検出システムと、位置検出システムからの検出情報に基づいて処理を行う情報処理装置と、情報処理装置からの画像データに基づいて画像の表示を行う表示装置とを含む情報処理システムに関係する。図16に、本実施形態の情報処理システムの構成例を示す。図16の構成例は、光学式位置検出装置100、情報処理装置30及び表示装置10を含む。情報処理装置30は、例えばパーソナルコンピューターPCなどであって、光学式位置検出装置100からの検出情報に基づいて処理を行う。光学式位置検出装置100と情報処理装置30とは、USBケーブルUSBCを介して電気的に接続される。表示装置10は、例えば投射型表示装置プロジェクターなどであって、情報処理装置30からの画像データに基づいて、表示部スクリーン20に画像を表示する。ユーザーは、表示部20に表示された画像を参照しながら、表示画像のアイコン等をポインティングすることで、情報処理装置30に対して必要な情報を入力することができる。なお、図16では、光学式位置検出装置100が表示部20に取り付けられているが、他の場所に取り付けることもできる。例えば、光学式位置検出装置100を表示装置10に取り付けてもよいし、天井や壁などに取り付けてもよい。また、表示装置10としては、投射型表示装置プロジェクターに限定されるものではなく、例えばデジタルサイネージ用表示装置であってもよい。これにより、投写型表示装置PRプロジェクターにより画像を対象面20に投射した上で、投射した画像とユーザーの用いる対象物OBオブジェクトの連携によるユーザインターフェースを実現することが可能になる。その際、位置検出システムによる検出情報の処理及び表示装置に表示する表示画像画像データの処理や制御等を情報処理装置により行うことができる。なお、以上のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また光学式位置検出装置、撮像装置等の構成、動作も本実施形態で説明したものに限定されず、種々の変形実施が可能である。