"EUV放射線14のためのミラー20;20aであって、少なくとも1つのEUV放射線反射領域23、及び少なくとも2つのEUV放射線透過性領域22、を有するミラー本体21、を備え、前記放射線透過性領域22は、前記少なくとも1つの放射線反射領域23の全体のうちの少なくとも30と重なる区域の境界を定める包絡線35を有する、ことを特徴とするミラー20;20a。前記EUV放射線透過性領域22の各々に対して共役なEUV放射線反射領域23を有し、各EUV放射線透過性領域22が、それとそれぞれ共役な前記EUV放射線反射領域23に対称軸25の回りの回転によって移されることができる、ことを特徴とする請求項1に記載のミラー20;20a。各EUV放射線透過性領域22が、それと共役なそれぞれのEUV放射線反射領域23に対して対称軸25に関して対称に配置されることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載のミラー20;20a。多数の放射線透過性領域22及びそれと共役な放射線反射領域23を特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のミラー20;20a。前記放射線透過性領域22の少なくとも一部が、前記対称軸25の回りの円上に配置されることを特徴とする請求項4に記載のミラー20;20a。前記放射線透過性領域22は、それらの共通重心が前記対称軸25と一致するように配置されることを特徴とする請求項4又は請求項5のいずれか1項に記載のミラー20;20a。EUV放射線14で物体視野5を照明するための照明光学系4であって、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のミラー20a、を備えることを特徴とする照明光学系4。物体視野5を像視野10に結像するための投影光学系9であって、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のミラー20、を備えることを特徴とする投影光学系9。前記ミラー20は、瞳の近くに配置されることを特徴とする請求項8に記載の投影光学系9。EUV投影露光系1のための光学系27であって、EUV放射線14で物体視野5を照明するための第1の光学系4であって、第1の光学系4が、少なくとも1つの瞳ファセットミラー18を有し、かつ第1の光学系4内のEUV放射線が、特定の照明設定を生成する少なくとも1つの特定のビーム進路を有する、前記第1の光学系4と、前記物体視野5を像視野10に結像するための第2の光学系9と、を含み、前記光学系4,9のうちの少なくとも一方が、この光学系9,4内の前記EUV放射線14の少なくとも一部が、少なくとも1つのEUV放射線透過性領域22を通過して誘導されるように、それぞれの他方の光学系9,4のビーム経路に配置された少なくとも1つのEUV放射線透過性領域22を備えた少なくとも1つのミラー20;20aを含む、ことを特徴とする光学系27。前記第1の光学系は、照明光学系4であり、前記第2の光学系は、投影光学系9であり、該投影光学系9は、該照明光学系4内の前記EUV放射線14の少なくとも一部が、少なくとも1つのEUV放射線透過性領域22を通過して誘導されるように、該照明光学系4の前記ビーム経路に配置された少なくとも1つのEUV放射線透過性領域22を備えた少なくとも1つのミラー20を含むことを特徴とする請求項10に記載の光学系27。請求項8又は請求項9のいずれかに記載の投影光学系9を特徴とする請求項10又は請求項11に記載の光学系27。EUV放射線源3と、請求項10から請求項12のいずれか1項に記載の光学系27と、を含むことを特徴とするEUV投影露光系1。微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法であって、レチクル7を準備する段階と、感光コーティングを備えたウェーハ12を準備する段階と、請求項13に記載の投影露光系1を用いて前記レチクル7の少なくとも一部分を前記ウェーハ12上に投影する段階と、前記ウェーハ12上の前記露光された感光コーティングを現像する段階と、を有することを特徴とする方法。請求項14に記載の方法によって生成された構成要素。本発明の目的は、EUV投影露光系の光学品質の改善が可能であるようなEUV放射線のためのミラーを開発することである。この目的は、請求項1に記載のミラーによって達成される。本発明により、リソグラフィマスクとして使用されるレチクルの反射機能は、照明のために使用されるEUV放射線の特定の入射角から急激に降下することが認識されている。更に、傾斜照明は、重大なテレセントリック誤差を招く。しかし、レチクルの垂直照明の場合、言い換えれば、光軸と平行な照明光学系の主ビームの進路及び光軸に対して垂直なレチクルの向きの場合には、構造制約条件の理由から、照明光学系及び/又は投影光学系内のビーム経路の掩蔽がもたらされる。本明細書では、物体視野点、言い換えれば、レチクルの特定の点の主ビームをこの物体視野点と照明光学系の瞳の中心の間の接続線として定義する。本発明により、EUV放射線のためのミラーに、少なくとも1つのEUV放射線反射領域と、少なくとも2つ、特にそれよりも多く、特に少なくとも3つ、特に少なくとも4つ、特に少なくとも5つのEUV放射線透過性領域とを設けるものとする。この場合、EUV放射線透過性領域は、特にミラー本体内の貫通開口部として構成される。それらの放射線透過性領域は、特にミラー本体において非連結に配置される。放射線透過性領域は、特に、その包絡線が、放射線反射領域の全体の区域のうちの少なくとも30、特に少なくとも40、特に少なくとも50、特に少なくとも60、特に少なくとも70、特に少なくとも80、特に少なくとも90と重なる区域の境界を定めるように、ミラー本体にわたって分散されて配置される。反射領域と透過性領域とがちょうど交換された上述の配列に対して反転したミラー構成が相応に可能である。この反転構成では、多数の特に少なくとも2つ、特に少なくとも3つ、特に少なくとも4つ、特に少なくとも5つのEUV放射線反射領域が設けられる。この場合、それらの放射線反射領域は、特に、非連結に構成することができる。それらの放射線反射領域は、特に交差支柱によって互いに機械的に連結することができる。放射線反射領域は、特に編物型のホルダに適用することができる。このミラー構成では、EUV放射線透過性区域は、ミラーの全区域のうちの特に少なくとも50、特に少なくとも60、特に少なくとも70、特に少なくとも80、特に少なくとも90を構成する。本発明によるミラーを使用すると、照明光学系の高い開口数の場合であっても、レチクルによって反射されたEUV放射線の掩蔽が発生することなく、レチクルを小さい入射角で照明することができる。本発明によるミラーを使用すると、特にレチクルによって反射されたゼロ次の回折次数のEUV放射線を掩蔽なしに投影光学系を通じて誘導することができる。本発明によるミラーを用いて照明ビーム経路と結像ビーム経路との空間分離が可能である。請求項2により、ミラーは、EUV放射線透過性領域の各々に対して関連付けられたEUV放射線反射領域を有する。このEUV放射線反射領域をそれぞれの放射線透過性領域に対して相補的な領域とも呼ぶ。特にミラー上で、特定の放射線透過性領域に関連付けられ、レチクルによって反射されたゼロ次の回折次数の放射線が結像される領域を共役な領域と呼ぶ。相補的な領域及び共役な領域という用語は、本発明を説明する上においてのみ使用するものである。対応する領域は、必ずしも明確な機械的制限を持たない。相補的で、特に共役な領域は、各場合にミラー上の放射線透過性領域に対する所定の位置に配置される。原理的に、レチクル上で反射された特に高次の回折次数の放射線は、ミラーのあらゆる領域上に当たる場合がある。しかし、従来使用されているレチクルの構造を把握している場合には、放射線透過性領域と放射線反射領域とのターゲットを定めた配列により、反射光のどの回折次数がこれらのレチクルの像視野への投影に寄与するかを予め定義することができる。特に、ミラーを明視野照明又は暗視野照明に向けて構成することができる。請求項3により、EUV放射線透過性領域とそれぞれ共役なEUV放射線反射領域は、関連付けられたEUV放射線透過性領域に対する対称軸に関して対称に配置される。この配列は、レチクル上で反射された少なくともゼロ次の回折次数の放射線が、各場合にちょうどEUV放射線反射領域の上に当たることができることを保証するので、明視野用途では有利である。従って、点鏡像照明瞳の少なくとも一部、特に点鏡像照明瞳全体が結像ビーム経路の構成要素である。ミラー、特にEUV放射線反射領域及びEUV放射線透過性領域の配列は、特定の所定のレチクル、特に一般的に使用されるレチクルに適応させることができる。一般的なレチクル構造を有する所定のレチクル、特に結像される構造が既知である場合には、ミラー上のEUV放射線透過性領域の適切な配列により、特に、ゼロ次の回折次数に加えて又はその代わりに、レチクル上で反射された他の回折次数、特に±1次の回折次数の放射線が、各場合にちょうど放射線反射領域の上に当たることをもたらすことができる。以下において領域の対称軸及び対称配列に言及した場合には、これらの用語は、各場合に、ビーム経路の主ビームに対して傾斜したミラー位置において必要な相応に歪曲したミラー構成を意味するとも理解すべきである。本発明によるミラーを使用すると、主ビームの角度CRA、主光線角度が、物体側開口数NAOの逆正弦よりも小さい、すなわち、CRA<arcsinNAOであるようにレチクルを照明することができる。請求項4により、ミラーは、多数の放射線透過性領域及び各場合にそれと共役な放射線反射領域を有する。それによって一方では、多数の異なる照明設定が可能になり、それによって他方では、物体視野を像視野に結像するのに全体に使用される放射線の各個々の放射線透過性領域及びそれと共役なそれぞれの放射線反射領域の相対分量が低減する。個々の特定の放射線透過性領域に関連する回折次数の反射放射線が、偶然に放射線透過性領域上に再度入射し、従って、反射されない場合に、この構成が有する結像品質に対する影響は、それによって低減する。その結果、結像品質を全体的により堅固にすることができる。この目的のために、特に放射線透過性領域は、各場合に全体の光学的使用可能面、言い換えれば、反射ミラー面と比較して可能な限り小さいことが有利である。請求項5に記載の対称軸の回りの円上の放射線透過性領域の配列に起因して、レチクルの特に一様で均一な照明を提供することができる。この場合、放射線透過性領域は、特に円上に等距離的に配置することができる。この場合、奇数個の放射線透過性領域の等距離配列は、ちょうど明視野構成をもたらし、これは、この場合、放射線反射領域が、対称軸に関して各放射線透過性領域と反対であることによる。それに応じて、偶数個の放射線透過性領域の等距離配列は、暗視野構成をもたらし、これは、更に別の放射線透過性領域が、対称軸に関して各放射線透過性領域とちょうど反対であることによる。従って、レチクルによって反射された各放射線透過性領域からのゼロ次の回折次数の放射線は、少なくとも部分的に、特に完全にちょうど放射線透過性領域の上に再度入射し、従って、ミラーによって反射されず、従って、像視野内への物体視野の結像に寄与しない。更に、放射線透過性領域は、対称軸の回りの複数の同心円上に配置することができる。その結果、異なる入射角を有する異なる照明設定が可能になる。それによって干渉効果を低減することができる。請求項6により、放射線透過性領域は、その共通重心が対称軸と一致するように配置される。その結果、照明放射線の主ビームが0°の入射角を有するようにレチクルを照明することが可能になる。本発明の更に別の目的は、EUV照明光学系、及び物体視野を像視野に結像するためのEUV投影光学系を改善することである。これらの目的は、請求項7及び請求項8に記載の特徴によって達成される。この種の照明光学系/投影光学系の利点は、既に上述したものに対応する。請求項9により、ミラーは、瞳の近くに配置される。瞳の近くのミラーMの配列は、次式の条件が満たされる場合に存在する。PM=DSA/DSADCR≧0.5DSAは、物体視野点から放出されたビームペンシルのミラーMの箇所における部分開口直径であり、DCRは、結像光学系によって結像される有効物体視野の主ビームのミラーMの面上の光学系の基準平面内で測定された最大間隔である。基準平面は、結像光学系の対称平面又は子午平面とすることができる。パラメータPMの定義は、WO2009/024164A1に示されているものに対応する。視野平面内では、PM=0が適用される。瞳平面内では、PM=1が適用される。瞳の近くの配列により、レチクルによって反射された少なくともゼロ次の回折次数の放射線が、各場合に完全に放射線反射領域に当たることを保証することができる。本発明は、更に、EUV投影露光系及びこの種の系のための光学系を改善するという目的に基づいている。この目的は、請求項10から請求項13に記載の特徴によって達成される。利点は、既に上述したものに対応する。本発明の更に別の目的は、投影露光系を用いて構成要素を生成する方法、及び本方法によって製造される構成要素を開示することである。本発明により、これらの目的は、請求項14に記載の製造方法及び請求項15に記載の構成要素によって達成される。これらの主題の利点は、既に上述したものに対応する。本発明の実施形態を図面を用いて以下により詳細に説明する。図1は、マイクロリソグラフィのための投影露光系1の構成要素を子午断面に略示している。投影露光系1の照明系2は、ビーム源3以外に、物体平面6の物体視野5を露光するための照明光学系4を含む。物体視野5では、物体視野5に配置され、区画的にしか示していないレチクルホルダ8によって保持されるレチクル7が露光される。物体視野5を像平面11の像視野10に結像するのに、投影光学系9が使用される。レチクル7上の構造は、像平面11の像視野10の領域に配置され、同じく略示するウェーハホルダ13によって保持されたウェーハ12の感光層上に結像される。放射線源3は、EUV放射線14を放出するEUV放射線源である。EUV放射線源の放出される有効放射線の波長は、5nmと30nmの間にある。リソグラフィに使用され、適切な光源に対して利用可能な他の波長も可能である。放射線源3は、プラズマ光源、例えば、DPP光源又はLPP光源とすることができる。シンクロトロンに基づく放射線源を放射線源3として使用することができる。当業者は、この種の放射線源に関する情報を例えばUS6859515B2に見出されるであろう。EUV放射線源3からのEUV放射線14を束ねるために、コレクター15が設けられる。EUV放射線14を照明光又は結像光とも呼ぶ。照明光学系4は、多数の視野ファセット17を有する視野ファセットミラー16を含む。視野ファセットミラー16は、物体平面6と光学的に共役な照明光学系4の平面に配置される。EUV放射線14は、視野ファセットミラー16によって照明光学系4の瞳ファセットミラー18に反射される。瞳ファセットミラー18は、多数の瞳ファセット19を有する。瞳ファセットミラー18を用いて、視野ファセットミラー16の視野ファセット17は、物体視野5に結像される。視野ファセットミラー16上の各視野ファセット17に対して、瞳ファセットミラー18上に関連付けられたちょうど1つの瞳ファセット19が存在する。視野ファセット17と瞳ファセット19の間には、各場合に光チャンネルが構成される。視野ミラー16、18のうちの少なくとも一方のファセット17、19は切換可能にすることができる。これらのファセットは、特に視野ファセットミラー16、18上に傾斜可能に配置することができる。この場合、ファセット17、19の一部のみ、例えば、最大で30、最大で50、又は最大で70を傾斜可能にすることができる。全てのファセット17。19を傾斜可能にするように達成することができる。切換可能ファセット17、19は、特に視野ファセット17である。視野ファセット17を傾斜させることにより、それぞれの瞳ファセット19への視野ファセット17の割り当て、従って、光チャンネルの構成を変更することができる。傾斜可能ファセット17、19を有するファセットミラー16、18の更なる詳細は、DE102008009600A1を参照されたい。照明光学系4の更なる詳細は、DE102008009600A1を参照されたい。照明光学系4及び投影光学系9内のEUV放射線14のビーム経路、特に視野ファセットミラー16及び瞳ファセットミラー18の構造配列は、図1からは推測することができない。レチクルホルダ8は、投影露光中に、レチクル7を物体平面6内の変位方向に変位させることができるように制御方式で変位させることができる。それに応じて、ウェーハ12を像平面11内の変位方向に変位させることができるように、ウェーハホルダ13を制御方式で変位させることができる。その結果、レチクル7とウェーハ12とは、一方を物体視野5を通じて、他方を像視野10を通じて走査することができる。下記では、変位方向を走査方向とも呼ぶ。レチクル7とウェーハ12との走査方向の変位は、好ましくは、互いに同期して行うことができる。投影光学系9は、図1には示していない多数の投影ミラーを含む。投影光学系9は、特に少なくとも3つ、特に少なくとも5つの投影ミラーを含む。投影光学系9は、特に少なくとも6つ、7つ、又は8つの投影ミラーを有することができる。投影光学系9は、特に、以下により詳細に説明するミラー20を含む。ミラー20は、多数のEUV放射線透過性領域22及びそれぞれに関連付けられたEUV放射線反射領域23を有するミラー面24を有するミラー本体21を有する。EUV放射線透過性領域22に関連付けられたそれぞれのEUV放射線反射領域23をEUV放射線透過性領域22に対して相補的な領域とも呼ぶ。特に、ミラー20上のレチクル7によって反射された0回折次数の放射線14が結像される特定の放射線透過性領域22に関連付けられた放射線反射領域23を共役領域23と呼ぶ。言うまでもなく、EUV放射線透過性領域22に対して相補的であるEUV放射線反射領域23は、図での確認のために示すそれぞれ共役な領域23だけを含むわけではない。原理的に、相補領域は、各場合に全ミラー面24を含む。ミラー20内の放射線透過性領域22の個数は、特に、瞳ファセットミラー18上の瞳ファセット19の個数にちょうど一致する。しかし、これは絶対に必要なことではない。特に、切換可能ファセット17、19の場合には、放射線透過性領域22の個数は、瞳ファセットミラー18上の瞳ファセット19及び/又は視野ファセットミラー16上の視野ファセット17の個数よりも多くても少なくてもよい。一般的に、ミラー20は、少なくとも2つのEUV放射線透過性領域22を有する。これらは、ミラー本体21内の貫通開口部として構成される。EUV放射線反射領域23は、反射ミラー面24のうちで貫通開口部22から間断なく分離するように構成された部分領域として構成することができる。それらのEUV放射線反射領域23は、特に、連結されることができる。それらのEUV放射線透過性領域22は、特に、ミラー本体21において非連結に配置される。ミラー面24は、凸、平面、又は、凹とすることができる。放射線透過性領域22は、ミラー20の対称軸25から分離して、特に各EUV放射線透過性領域22を対称軸25の回りの回転により、各EUV放射線透過性領域22と共役なそれぞれのEUV放射線反射領域23に移されることができるように配置される。対称軸25は、特にミラー面24に対して垂直である。中心領域では、言い換えれば、対称軸25が貫通する点の領域では、ミラー20、言い換えれば、ミラー面24は特に反射性のものである。原理的には、ミラー20に中心貫通開口部を設けるように考えることができる。ミラー20は、対称軸25に関して離散した、少なくとも2回の回転対称性を有する。ミラー20は、特に、奇数、例えば、3回、5回、又は7回転対称性を有することができる。より高い回の対称性も可能である。奇数の回転対称性の場合には、各EUV放射線透過性領域22は、それに共役なそれぞれのEUV放射線反射領域23に対する対称軸25に関して対称に配置される。貫通開口部22は、瞳ファセットミラー18上の瞳ファセット19の形状にちょうど一致する形状を有する。これらの形状は特に円形である。長円形構成、特に楕円構成も可能である。ミラー20上の放射線透過性領域22の配列及び瞳ファセットミラー18上の瞳ファセット19の配列は、有利には互いに対して適合される。放射線透過性領域22は、合わせてミラー面24のうちの最大で50、特に最大で40、特に最大で30、特に最大で20、特に最大で10を覆う。図4A、図4B、及び図5A、図5Bに図示の実施形態において、EUV放射線透過性領域22は、対称軸25の回りの円上に配置される。一般的に、放射線透過性領域22のうちの少なくとも1つの部分は、対称軸25の回りの円上に配置される。これらの部分は、円上に特に等距離的に配置される。これらの部分はまた、対称軸の回りの複数の同心円上に配置されることができる。放射線透過性領域22は、特にその共通重心が対称軸25と一致するように配置される。放射線透過性領域22の全体は、外側包絡線35によって表すことができる。放射線透過性領域22は、特にミラー20上でその外側包絡線35が、全体の区域、言い換えれば、放射線反射領域23の組合せ、特に全ミラー面24のうちの少なくとも30、特に少なくとも40、特に少なくとも50、特に少なくとも60、特に少なくとも70、特に少なくとも80、特に少なくとも90と重なる区域の境界を定めるように配置される。図4A、図4Bには、例示目的で3つの円形放射線透過性領域22を有するミラー20を示している。それに応じて、5つのそれぞれの円形放射線透過性領域22を有するミラー20を図5A、図5Bに示している。更に、図4A及び図5Aには例示目的で、放射線透過性領域22及びそれに共役な放射線反射領域23を各場合に円で取り囲み、順次番号を振って更に示しており、特定の放射線透過性領域22に共役なそれぞれの放射線反射領域23を同じ番号の後にrを付けて表している。共役領域23の取り囲み表示は、例示の役割しか達成せず、実際のミラー20に対するいずれの構造的対応も持たない。特に、全ミラー面24は、レチクル7の構造と、レチクル7によって反射されるそれに関連した回折次数の放射線14の位置とに基づいて、EUV放射線反射領域23を形成することができる。放射線透過性領域22に関連付けられた放射線反射領域23は、特に重ね合わせ及び/又は連結されるように構成することができる。図4A及び図5Aに示すミラー20は、3線回転対称性又は5線回転対称性を有する。従って、放射線透過性領域22は、各場合にそれに共役な放射線反射領域23と対称軸25に関して対称に配置される。図6に記載の実施形態において、ミラー20は、円形の放射線透過性領域22の3つの扇形を有する。図7に記載の実施形態において、ミラー20は、円形の放射線透過性領域の4つの扇形を有する。本発明によるミラー20の機能を図3に略示している。視野ファセット17のうちの1つと瞳ファセット19の間に構成された光チャンネルからのEUV放射線14は、各場合にミラー20を貫通する関連付けられたEUV放射線透過性領域22を通過し、レチクル7上で反射され、特に照明光学系4の射出瞳平面であり、投影光学系9の入射瞳平面である瞳平面26の領域内で、放射線透過性領域22に共役な放射線反射領域23上に入射し、そから、投影光学系9を用いて更に反射される。図2は、例えば、図4A及び図4Bに記載のミラー20によって達成することができるもののようなビーム経路を例示的に示している。各場合に、ミラー20を貫通する貫通開口部22のうちの1つを通過するEUV放射線141、142、及び143を例示的に示している。この点に関して、図2に示すビーム進路は作図面への投影に過ぎず、従って、作図面に対する傾斜を示していないことを示しておく。従って、特にミラー20を通過するビーム141は、ミラー20上に反射して戻されるビーム143と一致せず、ビーム143に対して傾斜する。相応に、ミラー20を通過するビーム143は、ミラー20上に反射して戻されるビーム141に対して傾斜する。更に、ミラーを通過するビーム142は、ミラー20上に反射して戻されるビーム142に対して傾斜する。ミラー20は、特に投影光学系9内の瞳の近くに配置される。特にPM≧0.5、特にPM≧0.7、特にPM≧0.9が適用される。ミラー20は、特に瞳平面26に配置される。それによって瞳ファセットミラー18の瞳ファセット19からミラー20の領域に入射する放射線14が、少なくともほぼ集束され、従って、レチクル7上で反射する関係する少なくともゼロ次の回折次数の放射線が、ミラー20上の所定の限られた領域内に入射することが保証される。例えば、図4、図5、又は図6のいずれか1つに記載の明視野構成の場合には、ミラー20は、レチクル7上で反射される放射線透過性領域22からの少なくともゼロ次の回折次数の放射線14が、ちょうど、放射線透過性領域22と共役な放射線反射領域23上に入射し、従って、投影光学系9によって像視野10に結像されるように構成される。瞳の近くのミラー20の配列に起因して、照明ビーム経路と結像ビーム経路とを少なくとも部分的に、特に完全に互いから空間的に分離することを提供することができる。この分離は、特に全ての視野点に対して同じである。特に、ゼロ次の回折次数のビーム経路は、互いから空間的に完全に分離した領域内に延びている。瞳平面26内へのミラー20の配列とは別に、瞳平面26から分離してミラー20を配置することができる。それによって一般的に照明の視野依存性がもたらされ、言い換えれば、照明は全体の物体視野内でもはや均一ではなくなる。これらの不完全に結像される瞳の効果は、この場合特に、各視野点に対して最小数の回折次数の十分な分量が伝達される限り、近接効果補正OPCとして公知の視野依存かつ構造依存の補正法によって完全に補正することができる。この種の補正法では、単一の事例依存のマスクの構造適合により、ウェーハ上のマスクの像が改善される。特に結像誤差が補償され、従って、補正される。暗視野構成では、レチクル7上で反射されたゼロ次の回折次数の放射線14は、例えば、図7に示すように、ミラー20上にちょうど更に別の放射線透過性領域22上で入射し、従って、ミラー20によって反射されない。本発明による光学系27は、照明光学系4及び投影光学系28を含む。投影光学系28は、EUV放射線14の少なくとも一部分が、照明光学系内でEUV放射線透過性領域22を通過して誘導されるように、照明光学系4のビーム経路に配置された少なくとも1つのEUV放射線透過性領域22を有する少なくとも1つのミラーを含む。従って、言い換えれば、照明光学系4内のビーム経路は、EUV放射線14が、少なくとも1つの放射線透過性領域22を通過した後にレチクル7によって反射され、レチクル7が、投影光学系9によって像視野10に結像されるようにもたらされる。特に、投影光学系28を上述の投影光学系9に従って構成するものとする。投影露光系1を使用する場合には、レチクル7と、照明光14に対する感光コーティングを有するウェーハ12とが準備される。次に、レチクル7の少なくとも1つの部分が、投影露光系1を用いてウェーハ12上に投影される。従って、レチクルは、EUV放射線14の主ビームCRA、主光線角度が、レチクル7上に最大で6°、特に最大で3°、特に最大で1°、特に0°の入射角で入射するようにEUV放射線14で照明される。この場合、入射角は、レチクル7を照明する上で使用されるビーム束の主ビームとレチクル7上の法線29の間の角度として定義される。主ビームの入射角は、特に物体側開口数よりも小さい、すなわち、CRA<arcsinNAOである。レチクル7のウェーハ12上への投影中には、レチクルホルダ8及び/又はウェーハホルダ13を物体平面6又は像平面と平行な方向に変位させることができる。レチクル7及びウェーハ12の変位は、好ましくは、互いに対して同期して行うことができる。最後に、照明光によって露光される感光コーティングが、ウェーハ12上で現像される。このようにして微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素、特に半導体チップが製造される。投影露光系内での使用に対する代替として、本発明によるミラー20は、特に反射リソグラフィマスク又は露光されたウェーハ基板を検査するための検査デバイスに対して使用することができる。投影光学系9の像視野10は、この場合、検査デバイスの検査物体視野である。図8に略示すように、本発明によるミラー20は、シュヴァルツシルト光学系30、特にシュヴァルツシルトレンズ系との組合せに使用することができる。シュヴァルツシルトレンズ系は、1次ミラー31と2次ミラー32とを含む。1次ミラー31は、特に凸である。2次ミラー32は、特に凹である。2次ミラー32は、EUV放射線14に対する貫通開口部33を有する。本発明によるミラー20は、この種の系では折り返しミラーとして設けることができる。ミラー20は、特に照明光学系4の一部として投影光学系9のビーム経路に、又は投影光学系9の一部として照明光学系4のビーム経路に配置することができる。ミラー20は交換可能にすることができる。その結果、特に明視野構成と暗視野構成の間で変更することができる。この種の系は、特に反射リソグラフィマスク又は露光されたウェーハ基板を検査するための検査デバイス内に使用することができる。図9は、ミラー20aの反転構成を示している。ミラー20aは、多数の放射線反射領域23を含む。放射線反射領域23は、位相幾何学的に連結されていない。放射線反射領域23は、保持手段34によって互いに対して保持される。保持手段は、特に支柱様の方式に構成される。これらの保持手段は、直線又は弓形、特に円形の弧とすることができる。これらの保持手段は、編物様の方式で構成することができる。保持手段34は、可能な限り僅かな遮蔽しかもたらさないように可能な限り細い。保持手段34は、特に、ミラー20aの全体の面のうちの最大でも30、特に最大でも25、特に最大でも20、特に最大でも15、特に最大でも10、特に最大でも5を構成する区域しか覆わない。保持手段は、特に、アルミニウム、インバー鋼、チタン、銅、セラミック、又は炭素繊維で作成することができる。保持手段34は、特に放射線反射領域23が互いに対して確実に固定されるように寸法決めされる。原則的に、ミラー20aをモノリシックに構成し、すなわち、放射線反射領域23が位相幾何学的に連結されるように考えることができる。この実施形態において、様々な、すなわち、異なる放射線反射領域23に関連付けられた放射線透過性領域22が位相幾何学的に連結されることができる。これらの放射線透過性領域22は、特に、保持手段34から分離して、連結され、特に経路毎に連結されるが、単に連結されるだけのものではない全体領域を形成することができる。言い換えれば、保持手段34から分離した放射線透過性領域22の全体領域が、連結され、特に、経路毎に連結される。しかし、個々の放射線透過性領域22は、保持手段34によって互いから限られた範囲で、特に、少なくとも部分的に分離される。従って、ミラー20aは、同じく多数の、特に少なくとも2つの、特に少なくとも3つの、特に少なくとも4つの放射線透過性領域22を有する。ミラー20aは、特に、照明光学系4の一部である。ミラー20aは、投影光学系9のビーム経路に配置することができる。ミラー20aは、特に、投影光学系9内のEUV放射線14の少なくとも一部分が、少なくとも1つのEUV放射線透過性領域22を通過して誘導されるように投影光学系9のビーム経路に配置される。この場合、放射線反射領域23は、投影光学系9内で掩蔽絞りとして機能することができる。この実施形態において、放射線反射領域23は、放射線反射領域23によってレチクル7上に反射される放射線14が、レチクル7上での反射の後に、言い換えれば、投影光学系9のビーム経路内でちょうど放射線透過性領域22の上に当たるように配置される。これは、すなわち、レチクル7上で反射された所定の回折次数、特にゼロ次の回折次数の放射線14が放射線透過性領域22の上に当たることを意味すると考えられたい。言うまでもなく、放射線反射領域23は、ゼロ次の回折次数に加えて又はその代わりに、レチクル7上で反射された±1次の回折次数の放射線14が放射線透過性領域22の上に当たるようにミラー20a上に配置することができる。"