"基材の少なくとも一方の面側に、SiOxxは、1.2以上、2.0以下及び平均粒径が1.0nm以上、10nm以下の光触媒活性無機粒子を含有するガスバリア層を有することを特徴とするガスバリア性フィルム。前記光触媒活性無機粒子を構成する無機粒子が、チタン、ジルコニウム及びセリウムからの選ばれる少なくとも1種の金属からなるアモルファス酸化物粒子であることを特徴とする請求項1に記載のガスバリア性フィルム。前記ガスバリア層を構成するSiOxxは、1.2以上、2.0以下が、基材上にポリシラザンを含有する塗布液を塗布してポリシラザン層を形成した後、該ポリシラザン層に400nm以下の紫外光を照射してシリカ転化して形成されることを特徴とする請求項1または2に記載のガスバリア性フィルム。前記400nm以下の紫外光を照射する照射光源の少なくとも1種が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVであることを特徴とする請求項3に記載のガスバリア性フィルム。前記400nm以下の紫外光を照射する照射光源が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1とで構成されていることを特徴とする請求項3に記載のガスバリア性フィルム。前記400nm以下の紫外光を照射する照射光源が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1と、波長成分が200nm以上、400nm以下の紫外光を照射する紫外線照射光源UV2とで構成されていることを特徴とする請求項3に記載のガスバリア性フィルム。前記400nm以下の紫外光を照射する時に、空気またはオゾンが前記ポリシラザン層と前記照射光源との空間に存在することを特徴とする請求項3から6のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルム。基材の少なくとも一方の面側に、SiOxxは、1.2以上、2.0以下及び平均粒径が1.0nm以上、10nm以下の光触媒活性無機粒子を含有するガスバリア層を形成するガスバリア性フィルムの製造方法であって、該ガスバリア層を構成するSiOxxは、1.2以上、2.0以下が、基材上にポリシラザンを含有する塗布液を塗布してポリシラザン層を形成した後、該ポリシラザン層に400nm以下の紫外光を照射してシリカ転化して形成し、かつ照射する該400nm以下の紫外光の少なくとも1種が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光VUVであることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。前記光触媒活性無機粒子が、チタン、ジルコニウム及びセリウムからの選ばれる少なくとも1種の金属からなるアモルファス酸化物であることを特徴とする請求項8に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。前記400nm以下の紫外光を照射する照射光源として、1180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、2波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1とを用いてシリカ転化することを特徴とする請求項8または9に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。前記400nm以下の紫外光を照射する照射光源として、1180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、2波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1と、3波長成分が200nm以上、400nm以下の紫外光を照射する紫外線照射光源UV2とを用いてシリカ転化することを特徴とする請求項8または9に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。前記400nm以下の紫外光を、前記ポリシラザン層と前記照射光源との空間に空気またはオゾンが存在する状態で照射することを特徴とする請求項8から11のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。従来のガスバリア性フィルムでは、上述のように十分なガスバリア性を示し、透明性、照射エネルギーの低エネルギー化、あるいはガスバリア層の屈曲性が十分なものがないのが現状であった。本発明者は、基材の少なくとも一方の面にSiOxNy及びシングルナノオーダーの光触媒活性無機粒子1.0nm~10nm以下からなるガスバリア層を有するセラミック膜を形成することにより、上記課題が解決された優れたガスバリア性フィルムが得られることを見出した。すなわち、本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、優れたガスバリア性を有し、透明性、照射エネルギーの低化、ガスバリア層の屈曲性に優れたガスバリア性フィルムとその製造方法を提供することである。本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。1.基材の少なくとも一方の面側に、SiOxxは、1.2以上、2.0以下及び平均粒径が1.0nm以上、10nm以下の光触媒活性無機粒子を含有するガスバリア層を有することを特徴とするガスバリア性フィルム。2.前記光触媒活性無機粒子を構成する無機粒子が、チタン、ジルコニウム及びセリウムからの選ばれる少なくとも1種の金属からなるアモルファス酸化物粒子であることを特徴とする前記1に記載のガスバリア性フィルム。3.前記ガスバリア層を構成するSiOxxは、1.2以上、2.0以下が、基材上にポリシラザンを含有する塗布液を塗布してポリシラザン層を形成した後、該ポリシラザン層に400nm以下の紫外光を照射してシリカ転化して形成されることを特徴とする前記1または2に記載のガスバリア性フィルム。4.前記400nm以下の紫外光を照射する照射光源の少なくとも1種が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVであることを特徴とする前記3に記載のガスバリア性フィルム。5.前記400nm以下の紫外光を照射する照射光源が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1とで構成されていることを特徴とする前記3に記載のガスバリア性フィルム。6.前記400nm以下の紫外光を照射する照射光源が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1と、波長成分が200nm以上、400nm以下の紫外光を照射する紫外線照射光源UV2とで構成されていることを特徴とする前記3に記載のガスバリア性フィルム。7.前記400nm以下の紫外光を照射する時に、空気またはオゾンが前記ポリシラザン層と前記照射光源との空間に存在することを特徴とする前記3から6のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルム。8.基材の少なくとも一方の面側に、SiOxxは、1.2以上、2.0以下及び平均粒径が1.0nm以上、10nm以下の光触媒活性無機粒子を含有するガスバリア層を形成するガスバリア性フィルムの製造方法であって、該ガスバリア層を構成するSiOxxは、1.2以上、2.0以下が、基材上にポリシラザンを含有する塗布液を塗布してポリシラザン層を形成した後、該ポリシラザン層に400nm以下の紫外光を照射してシリカ転化して形成し、かつ照射する該400nm以下の紫外光の少なくとも1種が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光VUVであることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。9.前記光触媒活性無機粒子が、チタン、ジルコニウム及びセリウムからの選ばれる少なくとも1種の金属からなるアモルファス酸化物であることを特徴とする前記8に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。10.前記400nm以下の紫外光を照射する照射光源として、1180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、2波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1とを用いてシリカ転化することを特徴とする前記8または9に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。11.前記400nm以下の紫外光を照射する照射光源として、1180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、2波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1と、3波長成分が200nm以上、400nm以下の紫外光を照射する紫外線照射光源UV2とを用いてシリカ転化することを特徴とする前記8または9に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。12.前記400nm以下の紫外光を、前記ポリシラザン層と前記照射光源との空間に空気またはオゾンが存在する状態で照射することを特徴とする前記8から11のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。本発明により、優れたガスバリア性を有し、透明性、照射エネルギーの低化、ガスバリア層の屈曲性に優れたガスバリア性フィルムとその製造方法を提供することができる。以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、基材の少なくとも一方の面側に、SiOxxは、1.2以上、2.0以下及び平均粒径が1.0nm以上、10nm以下の光触媒活性無機粒子を含有するガスバリア層を有することを特徴とするガスバリア性フィルムにより、透明性、照射エネルギーの低化、ガスバリア層の屈曲性に優れたガスバリア性フィルムを実現できることを見出し、本発明に至った次第である。以下、本発明のガスバリア性フィルム及びその製造方法について、その詳細を説明する。《ガスバリア性フィルム》ガスバリア層本発明のガスバリア性フィルムにおいては、基材の少なくとも一方の面側に、SiOxxは、1.2以上、2.0以下及び平均粒径が1.0nm以上、10nm以下の光触媒活性無機粒子を含有するガスバリア層を有することを特徴とし、更には、該ガスバリア層を構成するSiOxxは、1.2以上、2.0以下の形成方法としては、基材上にポリシラザンを含有する塗布液を塗布してポリシラザン層を形成した後、該ポリシラザン層に下記の1~3で示すような400nm以下の紫外光を照射する照射光源の組み合わせで照射してシリカ転化して形成されることが好ましい。1400nm以下の紫外光を照射する照射光源の少なくとも1種が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVであること、2400nm以下の紫外光を照射する照射光源が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1とで構成されていること、3400nm以下の紫外光を照射する照射光源が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1と、波長成分が200nm以上、400nm以下の紫外光を照射する紫外線照射光源UV2とで構成されていること。更には、空気またはオゾンがポリシラザン層と照射光源との空間に存在する雰囲気下で、上記1~3で示すような400nm以下の紫外光を照射することが好ましい。本発明に係るポリシラザン層は、ポリシラザン及び有機溶剤中に必要に応じて触媒を含むポリシラザン層塗布液を公知の湿式塗布方法により塗布し、この溶剤を蒸発させて除去し、それによって基材上にポリシラザン層を残し、次いで、空気またはオゾンの存在下で、上記のポリシラザン層に400nm以下の紫外光を照射してシリカ転化し、SiOxxは、1.2以上、2.0以下を含むガスバリア層を形成する。本発明に係るポリシラザン層の形成において、ポリシラザンを含むポリシラザン層形成用塗布液を基材上に塗布する方法としては、従来公知の適切な湿式塗布方法が採用され得る。具体例としては、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。塗布厚さは、目的に応じて適切に設定され得る。例えば、塗布厚さは、乾燥後の厚さが10nm~10μm程度であることが好ましく、さらに好ましくは50nm~1μmである。ポリシラザン層の膜厚が10nm以上であれば十分なバリア性を得ることができ、10μm以下であれば、ポリシラザン層形成時に安定した塗布性を得ることができ、かつ高い光線透過性を実現できる。ポリシラザンはじめに、本発明に係るガスバリア層の構成要素の1つであるSiOxの形成に好適に用いられるポリシラザンについて説明する。本発明に係るガスバリア層の形成に用いられるポリシラザンとは、珪素-窒素結合を有するポリマーであり、Si-N、Si-H、N-H等の結合を有するSiO2、Si3N4及び両方の中間固溶体SiOxNy等のセラミック前駆体無機ポリマーである。本発明に係るガスバリア層中におけるポリシラザンの含有率としては、ガスバリア層の全質量を100としたとき、10質量以上、99質量以下であることが好ましく、更に好ましくは、40質量以上、95質量以下であり、特に好ましくは70質量以上、95質量以下である。本発明に係るポリシラザンとしては、下記一般式Iで表される構造を有する化合物が好ましい。一般式I-SiR1R2-NR3n-上記一般式Iにおいて、R1、R2及びR3は、同一か又は異なり、互いに独立して、水素原子、置換または未置換のアルキル基、アリール基、ビニル基またはトリアルコキシシリルアルキル基であり、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、iso-プロピル基、ブチル基、iso-ブチル基、tert-ブチル基、フェニル基、ビニルき、3-トリエトキシシリルプロピル基及び3-トリメトキシシリルプロピル基からなる群から選択される基である。ここでnは整数であり、nは、一般式Iで表される構造を有するポリシラザンが150~150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。ポリシラザン層の形成に用いるポリシラザン層塗布液には、ポリシラザンとともに触媒を含有することが好ましい。本発明に適用可能な触媒としては、塩基性触媒が好ましく、特に、N,N-ジエチルエタノールアミン、N,N-ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、3-モルホリノプロピルアミン又はN-複素環式化合物が好ましい。また、市販品も用いることができ、例えば、AZエレクトロニックマテリアルズ株製のアクアミカNAX120-20、NN110、NN310、NN320、NL110A、NL120A、NL150A、NP110、NP140、SP140等が挙げられる。添加する触媒の濃度としては、ポリシラザンを基準としたとき、通常0.1~10モル、好ましくは0.5~7モルの範囲である。本発明に一般式Iで表される構造を有する化合物において、好ましい態様の一つは、R1、R2及びR3のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンである。また、本発明に係るポリシラザンとしては、下記一般式IIで表される構造を有する化合物が好ましい。一般式II-SiR1R2-NR3n-SiR4R5-NR6p-上記一般式IIにおいて、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、各々互いに独立して、水素原子、置換あるいは未置換のアルキル基、アリール基、ビニル基、またはトリアルコキシシリルアルキル基を表し、n及びpは整数であり、nは、一般式Iで表される構造を有するポリシラザンが150~150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。上記一般式IIにおいて、特に好ましいものは、R1、R3及びR6が各々水素原子を表し、R2、R4及びR5が各々メチル基を表す化合物、R1、R3及びR6が各々水素原子を表し、R2、R4が各々メチル基を表し、R5がビニル基を表す化合物、R1、R3、R4及びR6が各々水素原子を表し、R2及びR5が各々メチル基を表す化合物である。更には、本発明に係るポリシラザンとしては、下記一般式IIIで表される構造を有する化合物が好ましい。一般式III-SiR1R2-NR3n-SiR4R5-NR6p-SiR7R8-NR9q-上記一般式IIIにおいて、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8及びR9は、各々互いに独立して、水素原子、置換あるいは未置換のアルキル基、アリール基、ビニル基、またはトリアルコキシシリルアルキル基を表す。n、p及びqは各々整数であり、nは、一般式IIIで表される構造を有するポリシラザンが150~150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。上記一般式IIIにおいて、特に好ましいものは、R1、R3及びR6が各々水素原子を表し、R2、R4、R5及びR8が各々メチル基を表し、R9がトリエトキシシリルプロピル基を表し、R7がアルキル基または水素原子を表す化合物である。一方、そのSiと結合する水素原子部分の一部がアルキル基等で置換されたオルガノポリシラザンは、メチル基等のアルキル基を有することにより下地である基材との接着性が改善され、かつ硬くてもろいポリシラザンによるセラミック膜に靭性を持たせることができ、より平均膜厚を厚くした場合でもクラックの発生が抑えられる利点がある。用途に応じて適宜、これらパーヒドロポリシラザンとオルガノポリシラザンを選択してよく、混合して使用することもできる。パーヒドロポリシラザンは、直鎖構造と6及び8員環を中心とする環構造が存在した構造と推定されている。その分子量は数平均分子量Mnで約600~2000程度ポリスチレン換算で、液体または固体の物質があり、その状態は分子量により異なる。これらは有機溶媒に溶解した溶液状態で市販されており、市販品をそのままポリシラザン含有塗布液として使用することができる。低温でセラミック化するポリシラザン化合物の別の例としては、上記ポリシラザンにケイ素アルコキシドを反応させて得られるケイ素アルコキシド付加ポリシラザン特開平5-238827号公報、グリシドールを反応させて得られるグリシドール付加ポリシラザン特開平6-122852号公報、アルコールを反応させて得られるアルコール付加ポリシラザン特開平6-240208号公報、金属カルボン酸塩を反応させて得られる金属カルボン酸塩付加ポリシラザン特開平6-299118号公報、金属を含むアセチルアセトナート錯体を反応させて得られるアセチルアセトナート錯体付加ポリシラザン特開平6-306329号公報、金属微粒子を添加して得られる金属微粒子添加ポリシラザン特開平7-196986号公報等が挙げられる。ポリシラザン層の形成に用いる塗布液には溶剤を用いることができ、溶剤中におけるポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン1~80質量、好ましくは5~50質量、特に好ましくは10~40質量である。溶剤としては、特に、水及び反応性基例えば、ヒドロキシル基、あるいはアミン基等を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機系溶剤が好ましく、非プロトン性の溶剤が好適である。本発明に係るポリシラザン層塗布液に適用可能な溶剤としては、非プロトン性溶剤;例えば、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル類;例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、ケトン類;例えば、アセトン、メチルエチルケトン、エーテル類:例えば、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、モノ-及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテルジグライム類、あるいはこれらの溶剤の混合物を挙げることができる。本発明に係るポリシラザン層塗布液には、必要に応じて下記に挙げる添加剤を用いることができる。例えば、セルロースエーテル類、セルロースエステル類;例えば、エチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセトブチレート等、天然樹脂;例えば、ゴム、ロジン樹脂等、合成樹脂;例えば、重合樹脂等、縮合樹脂;例えば、アミノプラスト、特に尿素樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、ポリシロキサン等である。上記ポリシロキサン塗布液を用いることにより、亀裂及び孔が無いためにガスに対する高いバリア作用に優れる緻密なガラス様の層を製造することができる。基材上に形成するシロキサン層の膜厚は、20nm~2μmであることが好ましい。本発明に係るガスがリア層においては、上記説明したポリシロキサンをシリカ転化して、xが1.2以上、2.0以下であるSiOxとすることが好ましい。本発明においては、ポリシラザン層への400nm以下の紫外光の照射、特には、波長が180nm未満の真空紫外光VUVの照射により、Si-H、N-H結合の切断と、Si-O結合の生成が起こり、シリカ等のセラミックスに転化するが、この転化の度合はIR測定によって、以下に定義する式1により、半定量的に評価することができる。式1SiO/SiN比=転化後のSiO吸光度/転化後のSiN吸光度ここで、SiO吸光度は約1160cm-1、SiN吸光度は約840cm-1の特性吸収より算出する。SiO/SiN比が大きいほどシリカ組成に近いセラミックスへの転化が進んでいることを示す。本発明において、セラミックスへの転化度合の指標となるSiO/SiN比は0.3以上、好ましくは0.5以上とすることが好ましい。0.3未満では期待するガスバリア性が得られないことがあるため好ましくない。本発明においては、SiOxにおけるxが1.2以上、2.0以下であることを特徴とするが、SiOxのxの平均値が1.2~2.0の範囲にある酸化珪素層であれば、酸化珪素の透明性が高く、屈折率が小さい。また、酸化珪素層の厚さが300~900Åであると、光透過率に優れ、表面抵抗が小さい透明導電積層体が構成できる。なお、例えば、SiOSiOxにおけるx=1からなる酸化珪素層は、x=1.2~2.0の酸化珪素からなる層に比較し、屈折率n=2.1が大きく、黄色がかったものとなる。本発明に係るシリカ転化率SiOxにおけるxの測定方法としては、例えば、XPS法を用いて測定することができる。ガスバリア層の金属酸化物SiOxの組成は、XPS表面分析装置を用いて、原子組成比を測定することで測定できる。また、ガスバリア層を切断して切断面をXPS表面分析装置で原子組成比を測定することでも測定することができる。XPS表面分析装置としては、特に限定なく、いかなる機種も使用することができるが、本発明では、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB-200Rを用いた。X線アノードにはMgを用い、出力600W加速電圧15kV、エミッション電流40mAで測定する。光触媒活性無機粒子本発明に係るガスバリア層においては、上記説明したポリシラザンをシリカ転化して形成するSiOxxは、1.2以上、2.0以下と共に、平均粒径が1.0nm以上、10nm以下の光触媒活性無機粒子を含有することを特徴とする。また、本発明に係るシリカ転化前のポリシラザン層において、光触媒活性無機粒子の含有率としては、ポリシラザン層が含有するポリシラザンの総質量を100としたとき、1.0質量以上、70質量以下であることが好ましく、更に好ましくは、1.0質量以上、50質量以下であり、特に好ましくは1.0質量以上、30質量以下である。本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、光触媒活性無機粒子としては、無機酸化物ナノ粒子の前駆体であるアモルファス状の無機酸化物ナノ粒子の表面に、表面処理剤により処理を施した無機酸化物ナノ粒子の少なくとも一部を結晶化した平均粒径が1.0nm以上、10nm以下の表面被覆ナノ粒子であることが好ましく、これらの表面被覆ナノ粒子をガスバリア層に適用することにより、高屈折率、高透明性の双方を維持するとともに、ガスバリア層の形成に用いるガスバリア層塗布液の溶媒であるアルコール、エステル、エーテル、ケトン、アクリルモノマー等からアルキル等までの幅広い範囲の溶解性パラメータの有機溶媒に対しても分散性を向上させることができる。すなわち、本発明に係る光触媒活性無機粒子として、アモルファス酸化物ナノ粒子コア粒子ともいうの表面に表面処理剤による被覆膜シェル部ともいうが形成された表面被覆ナノ粒子であることが好ましい。前記アモルファス酸化物ナノ粒子の一部が結晶化していることが好ましい。本発明に係る光触媒活性無機粒子の平均粒径としては、1.0nm以上、10nm以下のであることを特徴の1つとする。本発明において、本発明に係る光触媒活性無機粒子の平均粒径は透過型電子顕微鏡TEMを用い、それぞれの粒子の直径を測定することにより求めることができる。具体的には、光触媒活性無機粒子の300個について、高分解能透過型電子顕微鏡を用いて撮影し、各粒子の円相当に換算したときの直径を求め、この平均値を、光触媒活性無機粒子の平均粒径とした。本発明に係る光触媒活性無機粒子における被覆膜の質量は、前記アモルファス酸化物ナノ粒子の質量以下であることが好ましい。以下、本発明に係る光触媒活性無機粒子の代表例である表面被覆ナノ粒子及びその製造方法並びに表面被覆ナノ粒子である分散液の調製方法について説明する。なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。表面被覆ナノ粒子本発明に係る光触媒活性無機粒子の代表例である表面被覆ナノ粒子は、アモルファス酸化物ナノ粒子の表面に表面処理剤による被覆膜が形成された粒子である。ここで、アモルファス酸化物ナノ粒子とは、平均粒子径が10nm以下のアモルファス状の酸化物粒子のことであり、アモルファス状とは、X線回折法により得られたX線回折図形XRDチャートが全体にブロードなハローを示し、結晶固有の回折線が認められないか、極めて微少なピークのみが認められるもののことである。このアモルファス酸化物ナノ粒子は、その一部が結晶化していることが好ましい。このアモルファス酸化物ナノ粒子の結晶子の大きさは、1.0nm以上かつ10nm以下が好ましい。ここで、アモルファス酸化物ナノ粒子の結晶子の大きさを上記の範囲に限定した理由は、結晶子の大きさが1.0nm未満であると、結晶子が小さすぎて結晶化の効果が発現し難くなり、一方、結晶子の大きさが10nmを越えると、結晶化が顕著に現れることとなり、アモルファスと認められなくなるからであり、また、透明性も悪くなるからである。このアモルファス酸化物ナノ粒子を構成する無機粒子としては、特に制限はないが、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化インジウム等が好ましく、さらには、アモルファス酸化物を成分とするものであればよく、アモルファス酸化チタン、アモルファス酸化ジルコニウム、アモルファス酸化セリウム、アモルファス酸化インジウム等、あるいはこれら2種以上の混合物を挙げることができる。特に、アモルファス酸化チタン、アモルファス酸化ジルコニウム、アモルファス酸化セリウムあるいはこれらの混合物が、高透明性、高屈折率の双方を有している点で好ましい。この表面被覆ナノ粒子の被覆膜の質量は、被覆の対象となるアモルファス酸化物ナノ粒子の質量以下であることが好ましく、より好ましくは1/2の質量以下である。ここで、表面被覆ナノ粒子の被覆膜の質量を、アモルファス酸化物ナノ粒子の質量以下とした理由は、被覆膜の質量がアモルファス酸化物ナノ粒子の質量を超えると、この表面被覆ナノ粒子を樹脂中に分散させた場合に、被覆膜の出発原料である表面処理剤が分散媒である樹脂の特性へ及ぼす影響が大きくなり、透明性、屈折率等の複合体特性が低下するからである。アモルファス酸化物ナノ粒子本発明に係る光触媒活性無機粒子の代表例である表面被覆ナノ粒子の製造方法は、アモルファス酸化物ナノ粒子と表面処理剤を含む溶液とを混合し、これらを反応させることにより、前記アモルファス酸化物ナノ粒子の表面に被覆膜を形成し、次いで、熱処理または電磁波照射を施して前記アモルファス酸化物ナノ粒子の一部または全部を結晶化する方法である。このアモルファス酸化物ナノ粒子は、金属アルコキシドを出発原料として合成することができる。このアモルファス酸化物ナノ粒子をアモルファス酸化チタンまたはアモルファス酸化ジルコニウムで構成した場合、この金属アルコキシドとしては、チタンアルコキシドまたはジルコニウムアルコキシドが好適に用いられる。チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラノルマルプロポキシチタン、テトラノルマルブトキシチタン等を挙げることができる。また、ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド、ジルコニウムテトラノルマルブトキシド、ジルコニウムアセテートを挙げることができる。また、セリウムアルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシセリウム、テトライソプロポキシセリウム、テトラブトキシセリウム、メチルトリエトキシセリウム、エチルジエトキシセリウム、ジエチルジエトキシセリウム、ジブチルジエトキシセリウム、ジメチルメトキシセリウム、トリメトキシセリウム、トリエトキシセリウム、トリイソプロポキシセリウム、トリブトキシセリウム、トリイソプロピルエトキシセリウム、イソプロピルジイソプロポキシセリウム等を挙げることができる。これらのアルコキシドのうち、加水分解速度の制御性、および入手容易性を考慮すると、テトライソプロポキシチタン、テトラノルマルプロポキシチタン、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド、テトライソプロポキシセリウムが好適である。上記の金属アルコキシドを、pH調製剤によりpHを調製した水に滴下することにより加水分解する。この加水分解により得られた生成物は、ケーキ状の沈殿を経て、平均粒子径が10nm未満のアモルファス酸化物ナノ粒子となり、水中に分散する。pH調製剤としては、塩酸、酢酸、硝酸、硫酸等の無機酸、あるいは酢酸、蓚酸等の有機酸を用いることができるが、不純物イオン、反応の制御性の観点から、塩酸、酢酸、硝酸のいずれかが好ましい。この水のpHは、金属アルコキシドそれぞれに最適なpHがあるので、用いる金属アルコキシドに合わせて最適なpHに調製する必要があり、概ね1~4の範囲である。なお、pHが低すぎると金属アルコキシドが溶解状態となり、また、高すぎると金属アルコキシドの加水分解物が分散せず凝集するので好ましくない。この金属アルコキシドを加水分解するときの濃度は、0.05mol/kg~3.0mol/kgの範囲であることが好ましい。また、この金属アルコキシドを加水分解するときの反応温度は、20°C~60°Cが好ましい。このように、金属アルコキシドをpH1~4に調整した水に滴下することにより、平均粒子径が10nm未満シングルナノオーダーのアモルファス酸化物ナノ粒子が水に分散した分散液を得ることができる。この分散液からアモルファス酸化物ナノ粒子を分離し乾燥することにより、アモルファス酸化物ナノ粒子を得ることができる。表面処理及び表面処理剤次いで、このアモルファス酸化物ナノ粒子と、表面処理剤を含む溶液とを混合し、これらを反応させることにより、アモルファス酸化物ナノ粒子の表面に被覆膜を形成する。例えば、表面処理剤を、アルコール、pHを調整した水、またはその混合溶液に強攪拌しながら溶解し、得られた表面処理剤溶液に上記のアモルファス酸化物ナノ粒子水分散液を、強攪拌しながら滴下し、表面処理剤とアモルファス酸化物ナノ粒子とを反応させる。この反応により、アモルファス酸化物ナノ粒子の表面には被覆膜が形成され、疎水化される。上記の表面処理剤溶液における表面処理剤の濃度は0.1~20質量が好ましい。また、アモルファス酸化物ナノ粒子水分散液におけるアモルファス酸化物ナノ粒子の濃度は0.1~10質量が好ましい。なお、生産性、反応性を考慮すると、それぞれの濃度は1~10質量の範囲が好ましい。上記の表面処理剤としては、リン酸エステル系界面活性剤、カルボン酸系界面活性剤等の界面活性剤、あるいは、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤が好適に用いられる。このような表面処理剤の中でも、屈折率が比較的高く、かつ反応性の良いものとしては、例えば、2-3,4エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、メチルフェニルシリコーンレジン等が挙げられる。また、ステアリン酸、ベヘン酸、コール酸、マルガリン酸、パルミチン酸、ペンタデシル酸、ミリスチン酸、ラウリン酸、ステアリン酸ナトリウム、ベヘン酸、コール酸、マルガリン酸、パルミチン酸ナトリウム、ペンタデシル酸、ミリスチン酸、ラウリン酸ナトリウム、チオフェニル酢酸、リン酸エステルプライサーフ212C、プライサーフA215C、プライサーフAL、ポリヒドロキシチタンステアレート、イソプロピルチタニウムトリイソステアレート、ジノルマルブトキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスアセチルアセトナートチタン、ジヒドロキシビスラクタートチタン等も挙げられる。アモルファス酸化物ナノ粒子と表面処理剤の混合比は、質量比で、1:0.3~1:2の範囲が好ましく、より好ましくは1:0.6~1:1の範囲である。表面処理剤の量が上記の範囲より少ないと、後述する結晶化時に凝集してしまい溶媒中に分散しなくなるからであり、一方、表面処理剤の量が上記の範囲より多すぎると、表面処理剤により形成された被覆膜の屈折率が反映されて、表面被覆ナノ粒子の屈折率が低下してしまうからである。アモルファス酸化物ナノ粒子と表面処理剤との反応条件としては、反応温度が室温25°C~90°C程度、反応時間が1~24時間程度である。また、この反応の際の攪拌速度としては、300rpm程度でよい。なお、表面処理剤の種類により反応温度及び反応時間の最適な範囲が異なるので、使用する表面処理剤の種類に合わせて最適な反応温度及び反応時間を設定すればよい。このようにして得られた表面被覆ナノ粒子は、被覆膜の質量がアモルファス酸化物ナノ粒子の質量以下、好ましくはアモルファス酸化物ナノ粒子の1/2質量以下になっている。この表面被覆ナノ粒子は、凝集しているので、濾過、遠心分離等で容易に固液分離することができる。この固液分離した固形物を熱処理するか、マイクロ波等の電磁波を照射することにより、表面被覆ナノ粒子の一部を結晶化させることができる。熱処理の場合、100°C~200°Cにて10分~60分である。しかし、乾燥させ過ぎると、結晶化は進むが同時にハードな凝集も生じるので、好ましくは100°C~150°Cにて10分~30分である。一方、電磁波照射の場合、2.45GHz、500~2000Wのマイクロ波を10分~60分照射、好ましくは20分~40分照射する。このようにして得られた一部が結晶化した表面被覆ナノ粒子を、乳鉢等で粉砕し、所定の有機溶媒と混合する。この表面被覆ナノ粒子と有機溶媒とを相溶させるためには、表面被覆ナノ粒子の溶解性パラメータと有機溶媒の溶解性パラメータをできるだけ近い値にしなければならない。この表面被覆ナノ粒子の溶解性パラメータδ単位:MPa1/2は、6.0以上、9.0以下であるから、有機溶媒としては、溶解性パラメータδが7.0以上、15以下の有機溶媒が好ましい。ここで、溶解性パラメータδとは、下記式2で表される。式2δ=√ΔE/V式2中、ΔEは分子凝集エネルギーcal/mol、Vは分子容ml/molで表されるもので、凝集エネルギー密度の平方根に相当する。一般的な溶解性パラメータの値SP値、単位:MPa1/2として、水:23.4、メタノール:14.5、アクリル酸:14.04、2-プロパノ-ル:11.5、メチルエチルケトン:9.3、トルエン:8.9、ヘキサン:7.3、プロピレングリコールモノメチルエーテル:11.3、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:9.2である。この混合物は、懸濁液であるので、これを超音波ホモジナイザー等で超音波壊砕することにより、表面被覆ナノ粒子の含有率が2質量であり、光路長5mmでの可視光線透過率が80以上の表面被覆ナノ粒子分散液を得ることができる。なお、超音波による壊砕時間は、表面処理剤の種類によって異なるが、10分~60分である。この表面被覆ナノ粒子の有機溶媒への分散後の結晶子の大きさは、1.0nm以上、かつ10nm以下であり、より好ましくは2.0nm以上、6.0nm以下である。ここで、分散後の結晶子の大きさを上記の範囲とした理由は、結晶子径が大きくなると分散粒子径も大きくなり、したがって、散乱が大きくなり透光性が悪くなるからである。表面被覆ナノ粒子の評価方法本発明に係る光触媒活性無機粒子の代表例である表面被覆ナノ粒子は、下記の評価方法により評価することができる。1表面被覆ナノ粒子の相同定及び結晶子径の測定X線回折装置を用いて相同定及び結晶子径の測定を行うことにより、相や結晶の微細構造の評価ができる。2表面被覆ナノ粒子の被覆膜の質量表面処理剤の吸着量を測定することにより、被覆膜の質量を算出することができる。まず、表面処理剤単独での不揮発分と灰分を測定し、表面処理剤単独での減少量を計算する。計算は全て質量で行う。表面処理剤単独での不揮発分は、表面処理剤を150°Cにて30分乾燥した後の質量を測定することで求められる。また、表面処理剤単独での灰分は、この表面処理剤を750°Cにて2時間焼成した後の質量を測定することで求められる。次いで、表面被覆ナノ粒子の不揮発分と灰分を測定し、表面被覆ナノ粒子での減少量を計算する。計算は全て質量で行う。表面被覆ナノ粒子の不揮発分は、表面被覆ナノ粒子を150°Cにて30分乾燥した後の質量を測定することで求められる。また、表面被覆ナノ粒子の灰分は、表面被覆ナノ粒子を750°Cにて2時間焼成した後の質量を測定することで求められる。次いで、表面処理剤の不揮発分-表面処理剤の灰分及び、表面被覆ナノ粒子の不揮発分-表面被覆ナノ粒子の灰分を計算し、有機分を算出する。ここでは表面処理剤の有機分:表面処理剤の灰分=表面被覆ナノ粒子の有機分:表面被覆ナノ粒子の表面処理剤由来の無機分から、表面被覆ナノ粒子の表面処理剤由来の無機分が算出される。このようにして、表面被覆ナノ粒子のアモルファス酸化物ナノ粒子由来の無機分と、表面処理剤由来の無機分を算出し、これら表面被覆ナノ粒子のアモルファス酸化物ナノ粒子の無機分と、表面処理剤由来の無機分と有機分の合計量との比から、表面処理剤の吸着量を算出する。この表面処理剤の吸着量と被覆膜の質量との間には一対一対応の関係があるので、表面処理剤の吸着量が分かれば、被覆膜の質量を算出することができる。ポリシラザン層の改質処理本発明のガスバリア性フィルムの製造方法においては、基材の少なくとも一方の面側に、SiOxxは、1.2以上、2.0以下及び平均粒径が1.0nm以上、10nm以下の光触媒活性無機粒子を含有するガスバリア層を形成するガスバリア性フィルムの製造方法であって、該ガスバリア層を構成するSiOxxは、1.2以上、2.0以下が、基材上にポリシラザンを含有する塗布液を塗布してポリシラザン層を形成した後、該ポリシラザン層に400nm以下の紫外光を照射してシリカ転化して形成し、かつ照射する該400nm以下の紫外光の少なくとも1種が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光VUVであることを特徴とする。本発明のガスバリア性フィルムの製造方法において、水分が取り除かれたポリシラザン層は、紫外光の照射による処理で改質する。紫外線紫外光と同義によって生成されるオゾンや活性酸素原子は高い酸化能力を有しており、低温で高い緻密性と絶縁性を有する酸化珪素膜または酸化窒化珪素膜を形成することが可能である。この紫外光照射により、セラミックス化に寄与するO2とH2Oや、紫外線吸収剤、ポリシラザン自身が励起、活性化される。そして、励起したポリシラザンのセラミックス化が促進され、得られるセラミックス膜が緻密になる。紫外光照射は、塗膜形成後であればいずれの時点で実施しても有効である。ポリシラザン層に照射する400nm以下の紫外光の条件としては、1400nm以下の紫外光を照射する照射光源の少なくとも1種が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVであることを特徴の1つするが、更に、上記1の構成に加えて、2400nm以下の紫外光を照射する照射光源が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1とで構成されていること、3400nm以下の紫外光を照射する照射光源が、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVと、波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源UV1と、波長成分が200nm以上、400nm以下の紫外光を照射する紫外線照射光源UV2とで構成されていること、が好ましい態様である。更には、空気またはオゾンがポリシラザン層と照射光源との空間に存在する雰囲気下で、上記1~3で示すような400nm以下の紫外光を照射することが好ましい。本発明に係るポリシラザン含有塗布液により形成されたポリシラザン層は、400nm以下の紫外光を照射する前または照射中に含まれる水分の量が制御されていることが好ましい。改質処理を施すポリシラザ層中に入りうる水分の供給源としては、例えば、基材表面からの移行、あるいは雰囲気中の水蒸気の吸収がある。基材側からポリシラザン層中に移行する水分の制御は、ポリシラザン含有の塗布液を塗布する前に基材を一定の温度湿度環境下で保存して、含水量を所望の値に制御することができる。所望の値は、後述の雰囲気中の湿度によって異なるが、通常、質量として1000ppm以下、好ましくは、300ppm以下である。ポリシラザン含有塗布液を基材上に塗布、乾燥する工程においては、主に有機溶媒を取り除くため、乾燥条件を熱処理等の方法で適宜決めることができ、熱処理温度は迅速処理の観点から高い温度であることが好ましいが、樹脂フィルムである基材に対する熱ダメージを考慮し、温度と処理時間を適宜決定することが好ましい。例えば、基材として、ガラス転位温度Tgが70°Cのポリエチレンテレフタレート基材を用いる場合には、熱処理温度は150°C以下を設定することができる。処理時間は溶媒が除去され、かつ基材への熱ダメージが少なくなるように短時間に設定することが好ましく、熱処理温度が150°C以下であれば30分以内に設定することができる。ポリシラザン含有塗布液を基材上に塗布、乾燥する工程における雰囲気は、比較的低湿に制御されていることが好ましいが、低湿度環境における湿度は温度により変化するので、温度と湿度の関係は露点温度の規定により好ましい形態が示される。好ましい露点温度は4°C以下温度25°C/湿度25で、より好ましい露点温度は-8°C温度25°C/湿度10以下、さらに好ましい露点温度は-31°C温度25°C/湿度1以下である。また、水分を取り除きやすくするため、減圧乾燥してもよい。減圧乾燥における圧力は常圧~0.1MPaを選ぶことができる。ポリシラザンの改質処理:真空紫外光照射処理本発明におけるポリシラザンの改質処理とは、ポリシラザン化合物の一部または全部が、酸化珪素または酸化窒化珪素への転化する反応をいう。ガス、特に水蒸気、酸素および二酸化炭素に対する優れたバリア作用は、第一段階において塗布された非晶質ポリシラザン層が、100°C以下の温度において0.1~10分間内で、ガラス様の二酸化ケイ素網状構造体に首尾良く転化される。それによって、ロールからロールにフィルムを移送させて行うフィルムのコーティングを1m/分以上の移送速度で実施することができる。これに対して、従来公知の方法を用いた場合は、より多くの工程が必要であるか、あるいは転化を、より高い温度及びより長い時間消費量で行わなければならないかのいずれかである。ポリシラザン骨格から三次元SiOx網状構造への酸化的転化を真空紫外線光によって直接開始することによって、単一の段階において非常に短い時間で成功裏にこの転化が行われる。この転化プロセスの機序は、真空紫外線の浸透深さの範囲において、Si-N結合が切断されそして酸素及び水蒸気の存在下において層の転化が起こる程に強く-SiH2-NH-構成要素がそれの吸収によって励起されるということで説明することができる。本発明において好適な放射線源に1つは、180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUV、波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源、波長成分が200nm以上、400nm以下の紫外光を照射する紫外線照射光源であり、例えば、約172nmに最大放射を有するエキシマラジエータ、約185nmに輝線を有する低圧水銀蒸気ランプ、並びに230nm以下の波長成分を有する中圧及び高圧水銀蒸気ランプ、及び約222nmに最大放射を有するエキシマランプである。180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUV180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源VUVとして、例えば約172nmに最大放射を有するXe2エキシマラジエータを使用すると、酸素及び/または水蒸気の存在下において、上記の波長範囲におけるこれらのガスの高い吸光係数の故に光分解によってオゾン並びに酸素ラジカル及びヒドロキシルラジカルが非常に効率よく生じ、これらがポリシラザン層の酸化を促進する。しかし、両機序、すなわちSi-N結合の解裂と、オゾン、酸素ラジカル及びヒドロキシルラジカルの作用は、ポリシラザン層の表面上にもVUV放射線が到達して初めて起こり得る。それゆえ、層表面上に真空紫外光を出来る限り高い線量で適用するためには、場合によっては真空紫外光処理経路を窒素で置換し、そこに酸素及び水蒸気を調整可能な様に供給することによって、上記放射線のパス長の酸素及び水蒸気濃度を相応して目的通りに減少することが上記波長範囲には必要である。真空紫外光の照射は、照射される改質前のポリシラザン層を担持している基材がダメージを受けない範囲で、照射強度や照射時間を設定することが好ましい。基材にプラスチックフィルムを用いた場合を例にとると、例えば、2kW80W/cm×25cmのランプを用い、基材表面の強度が20~300mW/cm2、好ましくは50~200mW/cm2になるように基材-真空紫外線照射ランプ間の距離を設定し、0.1秒~10分間の照射を行うことができる。また、本発明においては、ポリシラザン層を改質してガスバリア層を形成する際の真空紫外光の積算光量としては、1000mJ/cm2以上、10,000mJ/cm2以下であることが好ましい。真空紫外光の積算光量が1000mJ/cm2以上であれば十分なバリア性能を得ることができ、10,000mJ/cm2以下であれば、基材に変形を与えることなく平滑性の高いガスバリア層を形成することができる。一般に、紫外線照射時の基材温度が150°C以上になると、基材がプラスチックフィルム等の場合には、基材が変形したりその強度が劣化したりするなど、基材の特性が損なわれることになる。しかしながら、ポリイミド等の耐熱性の高いフィルムなどの場合には、より高温での改質処理が可能である。従って、この紫外線照射時の基材温度としては、一般的な上限はなく、基材の種類によって当業者が適宜設定することができる。また、紫外線照射雰囲気に特に制限はなく、空気中で実施すればよい。このような真空紫外線の発生手段としては、例えば、エキシマランプ等が挙げられる。また、発生させた紫外線を改質前のポリシラザン層に照射する際には、効率向上と均一な照射を達成する観点から、発生源からの紫外線を反射板で反射させてから改質前のポリシラザン層に当てることもできる。紫外線照射は、バッチ処理にも連続処理にも適合可能であり、使用する基材の形状によって適宜選定することができる。ポリシラザン改質層を有する基材が長尺フィルム状である場合には、これを搬送させながら上記のような紫外線発生源を具備した乾燥ゾーンで連続的に紫外線を照射することによりセラミックス化することができる。紫外線照射に要する時間は、使用する基材やポリシラザン改質層の組成、濃度にもよるが、一般に0.1秒~10分であり、好ましくは0.5秒~3分である。また、本発明に係る真空紫外光VUVを照射する際、空気またはオゾンが存際していることが好ましく、例えば、酸素濃度は300ppm~10000ppm1とすることが好ましく、更に好ましくは、500ppm~5000ppmである。このような酸素濃度の範囲に調整することにより、酸素過多のガスバリア層の生成を防止してバリア性の劣化を防止することができる。真空紫外光VUV照射時にこれら酸素以外のガスとしては、乾燥不活性ガスを用いることができ、特にコストの観点から乾燥窒素ガスにすることが好ましい。空気あるいはオゾン濃度の調整は、照射庫内へ導入する、空気やオゾンガス、不活性ガスの流量を計測し、流量比を変えることで調整可能である。本発明においては、真空紫外光照射による処理は、ポリシラザン化合物内の原子間結合力より大きい100~200nmの光エネルギーを用い、好ましくは100~180nmの波長の光のエネルギーを用い、原子の結合を光量子プロセスと呼ばれる光子のみの作用により、直接切断しながら活性酸素やオゾンによる酸化反応を進行させることで、比較的低温で酸化珪素膜の形成を行う方法である。これに必要な真空紫外光源としては、希ガスエキシマランプが好ましく用いられる。なお、Xe、Kr、Ar、Ne等の希ガスの原子は化学的に結合して分子を形成しないため、不活性ガスと呼ばれる。しかし、放電等によりエネルギーを得た希ガスの原子励起原子は、他の原子と結合して分子を形成することができる。例えば、希ガスがキセノンの場合には、eXe→eXeXeXeXe→Xe2Xeとなり、励起されたエキシマ分子であるXe2が基底状態に遷移するときに172nmのエキシマ光真空紫外光を発光する。エキシマランプの特徴としては、放射が一つの波長に集中し、必要な光以外がほとんど放射されないので効率が高いことが挙げられる。また、余分な光が放射されないので、対象物の温度を低く保つことができる。さらには始動再始動に時間を要さないので、瞬時の点灯点滅が可能である。エキシマ発光を得るには、誘電体バリア放電を用いる方法が知られている。誘電体バリア放電とは、両電極間に誘電体エキシマランプの場合は透明石英を介してガス空間を配し、電極に数10kHzの高周波高電圧を印加することによりガス空間に生じる雷に似た非常に細いmicrodischargeと呼ばれる放電である。また、効率よくエキシマ発光を得る方法としては、誘電体バリア放電以外には無電極電界放電も知られている。無電極電界放電とは、容量性結合による放電であり、別名RF放電とも呼ばれる。ランプと電極及びその配置は、基本的には誘電体バリア放電と同じでよいが、両極間に印加される高周波は数MHzで点灯される。無電極電界放電はこのように空間的にまた時間的に一様な放電が得られる。そして、Xeエキシマランプは、波長の短い172nmの紫外線を単一波長で放射することから、発光効率に優れている。この光は、酸素の吸収係数が大きいため、微量な酸素でラジカルな酸素原子種やオゾンを高濃度で発生することができる。また、有機物の結合を解離させる波長の短い172nmの光のエネルギーは能力が高いことが知られている。この活性酸素やオゾンと紫外線放射が持つ高いエネルギーによって、短時間でポリシラザン膜の改質を実現できる。従って、波長185nm、254nmの紫外線を発する低圧水銀ランプやプラズマ洗浄と比べて、高スループットに伴うプロセス時間の短縮や設備面積の縮小、熱によるダメージを受けやすい有機材料やプラスチック基板、樹脂フィルム等への照射を可能としている。また、エキシマランプは光の発生効率が高いため、低い電力の投入で点灯させることが可能である。また、光による温度上昇の要因となる波長の長い光は発せず、紫外線領域で単一波長のエネルギーを照射するため、照射対象物の表面温度の上昇が抑えられる特徴を有する。このため、熱の影響を受けやすいとされるポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルムを基材とするガスバリア性フィルムへの照射に適している。波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源、波長成分が200nm以上、400nm以下の紫外光を照射する紫外線照射光源本発明に適用可能な波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源、波長成分が200nm以上、400nm以下の紫外光を照射する紫外線照射光源において、例えば、HgLPランプ185nmまたはKrClエキシマランプ222nmからの180nm以下の波長成分を含まないUV光の作用は、Si-N結合に対する直接的な光分解作用に限定され、すなわち、酸素ラジカルまたはヒドロキシルラジカルを生成しない。この場合、吸収は無視し得る程度に過ぎないので、酸素及び水蒸気濃度に関しての制限は要求されない。より短波長の光に対する更に別の利点は、ポリシラザン層中への浸透深度がより大きい点にある。本発明における、VUV放射線及びUV放射線での照射は、同時にまたは相前後してあるいは交互に、200nm以下のVUV放射線、特に180nm以下のVUV放射線、または180~200nmの波長成分を含むVUV放射線を用いて、及び230~300nmの波長成分を含むUV放射線、特に240~280nmの範囲のUV放射線を用いて行われる。この場合、200nm以下の波長成分を含む放射線によって生ずるオゾンが230~300nmの波長成分を含む放射線により分解されて酸素ラジカル活性酸素を生成することによって相乗効果が生じ得る。層の表面上でまたは層自体中で上記のプロセスが進行すると、層の転化プロセスが加速され得る。このような組み合わせのための放射線源としては、約172nmの波長成分を含むXe2エキシマラジエータ及び約254nmもしくは230~280nmの範囲の波長成分を含む水銀低圧もしくは水銀中圧ランプが好適である。本発明の好ましい態様の一つでは、酸化転化プロセスの間に、基材は、赤外線によって50~200°Cの温度被覆するべき基材の耐熱性に依存するに加熱され、そしてこれと同時に放射線に曝される。更に別の好ましい態様の一つでは、転化プロセスの間の照射室中のガス温度は50~200°Cの温度に高められる。そうすることで、被膜が基材上で同時に加熱されて、ポリシラザン層の転化が加速される。ガスバリア性フィルムの構成次いで、本発明のガスバリア性フィルムのその他の構成要素について説明する。基材本発明のガスバリア性フィルムの基材としては、ガスバリア性を有するガスバリア層を保持することができる有機材料で形成されたものであれば特に限定されるものではない。例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリカーボネートPC、ポリアリレート、ポリ塩化ビニルPVC、ポリエチレンPE、ポリプロピレンPP、ポリスチレンPS、ナイロンNy、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド等の各樹脂フィルム、有機無機ハイブリッド構造を有するシルセスキオキサンを基本骨格とした耐熱透明フィルム製品名Sila-DEC、チッソ株式会社製、さらには前記樹脂を2層以上積層して成る樹脂フィルム等を挙げることができる。コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリカーボネートPC等が好ましく用いられ、また、光学的透明性、耐熱性、第1のバリア層、ガスバリア層との密着性の点においては、有機無機ハイブリッド構造を有するシルセスキオキサンを基本骨格とした耐熱透明フィルムが好ましく用いることができる。基材の厚さは10~500μm程度が好ましく、さらに好ましくは25~250μmである。また、本発明に係る基材は、透明であることが好ましい。基材が透明であり、基材上に形成する層も透明であることにより、透明なガスバリア性フィルムとすることが可能となるため、有機EL素子等の透明基板とすることも可能となるからである。また、上記に挙げた樹脂等を用いた基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。本発明に用いられる基材は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材を製造することができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸等の公知の方法により、基材の流れ縦軸方向、または基材の流れ方向と直角横軸方向に延伸することにより延伸基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ2~10倍が好ましい。また、本発明に係る基材においては、ガスバリア層を形成する前にコロナ処理してもよい。アンカーコート層本発明のガスバリア性フィルムにおいては、必要に応じて補助層として、ガスバリア層4と基材2との密着性を向上させ、かつ高い平滑性を得る観点から、基材2上にアンカーコート層を形成してもよい。このアンカーコート層の形成に用いられるアンカーコート剤としては、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコン樹脂及びアルキルチタネート等から選ばれる1種、あるいは2種以上併せて使用することができる。これらのアンカーコート剤には、従来公知の添加剤を加えることもできる。上記のアンカーコート剤は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法により基材上にコーティングし、溶剤、希釈剤等を乾燥除去することによりアンカーコート層を形成することができる。このアンカーコート剤の塗布量としては、乾燥状態で0.1~5g/m2程度が好ましい。平滑層本発明のガスバリア性フィルムは、平滑層を有してもよい。平滑層は突起等が存在する透明樹脂フィルム基材の粗面を平坦化し、あるいは、透明樹脂フィルム基材に存在する突起により、透明の第1のバリア層に生じた凹凸やピンホールを埋めて平坦化するために設けられる。このような平滑層は、基本的には感光性樹脂を硬化させて形成される。平滑層の形成に用いる感光性樹脂としては、例えば、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物を含有する樹脂組成物、アクリレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物を含有する樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、グリセロールメタクリレート等の多官能アクリレートモノマーを溶解させた樹脂組成物等が挙げられる。また、上記のような樹脂組成物の任意の混合物を使用することも可能であり、光重合性不飽和結合を分子内に1個以上有する反応性のモノマーを含有している感光性樹脂であれば特に制限はない。光重合性不飽和結合を分子内に1個以上有する反応性モノマーとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n-プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n-ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert-ブチルアクリレート、n-ペンチルアクリレート、n-ヘキシルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、n-オクチルアクリレート、n-デシルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2-メトリキエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,5-ペンタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサジオールジアクリレート、1,3-プロパンジオールアクリレート、1,4-シクロヘキサンジオールジアクリレート、2,2-ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチルトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピオンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、1,2,4-ブタンジオールトリアクリレート、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、1,10-デカンジオールジメチルアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及び、上記のアクリレートをメタクリレートに換えたもの、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1-ビニル-2-ピロリドン等が挙げられる。上記の反応性モノマーは、1種または2種以上の混合物として、あるいは、その他の化合物との混合物として使用することができる。光重合開始剤感光性樹脂の組成物は、光重合開始剤を含有する。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、4,4-ビスジメチルアミンベンゾフェノン、4,4-ビスジエチルアミンベンゾフェノン、α-アミノアセトフェノン、4,4-ジクロロベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4-メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、p-tert-ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2-tert-ブチルアントラキノン、2-アミルアントラキノン、β-クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4-アジドベンジルアセトフェノン、2,6-ビスp-アジドベンジリデンシクロヘキサン、2,6-ビスp-アジドベンジリデン-4-メチルシクロヘキサノン、2-フェニル-1,2-ブタジオン-2-o-メトキシカルボニルオキシム、1-フェニル-プロパンジオン-2-o-エトキシカルボニルオキシム、1,3-ジフェニル-プロパントリオン-2-o-エトキシカルボニルオキシム、1-フェニル-3-エトキシ-プロパントリオン-2-o-ベンゾイルオキシム、ミヒラーケトン、2-メチル[4-メチルチオフェニル]-2-モノフォリノ-1-プロパン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モノフォリノフェニル-ブタノン-1、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n-フェニルチオアクリドン、4,4-アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられ、これらの光重合開始剤を1種または2種以上の組み合わせで使用することができる。平滑層の形成方法は、特に制限はないが、スピンコーティング法、スプレー法、ブレードコーティング法、ディップ法等のウエットコーティング法、あるいは、蒸着法等のドライコーティング法により形成することが好ましい。平滑層の形成では、上述の感光性樹脂に、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤等の添加剤を加えることができる。また、平滑層の積層位置に関係なく、いずれの平滑層においても、成膜性向上及び膜のピンホール発生防止等のために適切な樹脂や添加剤を使用してもよい。感光性樹脂を溶媒に溶解または分散させた塗布液を用いて平滑層を形成する際に使用する溶媒としては、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α-もしくはβ-テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N-メチル-2-ピロリドン、ジエチルケトン、2-ヘプタノン、4-ヘプタノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、2-メトキシエチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、2-エトキシエチルアセテート、3-メトキシブチルアセテート等の酢酸エステル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、3-エトキシプロピオン酸エチル、安息香酸メチル、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。平滑層の平滑性は、JISB0601で規定される表面粗さで表現される値で、最大断面高さRtpが、10nm以上、30nm以下であることが好ましい。10nmよりも小さい場合には、後述のケイ素化合物を塗布する段階で、ワイヤーバー、ワイヤレスバー等の塗布方式で、平滑層表面に塗工手段が接触する場合に、塗布性が損なわれる場合がある。また、30nmよりも大きい場合には、ケイ素化合物を塗布した後の、凹凸を平滑化することが難しくなる場合がある。表面粗さは、AFM原子間力顕微鏡で、極小の先端半径の触針を持つ検出器で連続測定した凹凸の断面曲線から算出され、極小の先端半径の触針により測定方向が数十μmの区間内を多数回測定し、微細な凹凸の振幅に関する粗さである。平滑層への添加剤好ましい態様のひとつは、感光性樹脂中に表面に光重合反応性を有する感光性基が導入された反応性シリカ粒子以下、単に反応性シリカ粒子ともいうを含むものである。ここで、光重合性を有する感光性基としては、メタアクリロイルオキシ基に代表される重合性不飽和基等を挙げることができる。また感光性樹脂は、この反応性シリカ粒子の表面に導入された光重合反応性を有する感光性基と光重合反応可能な化合物、例えば、重合性不飽和基を有する不飽和有機化合物を含むものであってもよい。また感光性樹脂としては、このような反応性シリカ粒子や重合性不飽和基を有する不飽和有機化合物に適宜汎用の希釈溶剤を混合することによって固形分を調整したものを用いることができる。ここで、反応性シリカ粒子の平均粒子径としては、0.001~0.1μmの平均粒子径であることが好ましい。平均粒子径をこのような範囲にすることにより、後述する平均粒子径1~10μmの無機粒子からなるマット剤と組合せて用いることによって、本発明の効果である防眩性と解像性とをバランスよく満たす光学特性と、ハードコート性とを兼ね備えた平滑層を形成し易くなる。なお、このような効果をより得易くする観点からは、さらに平均粒子径として0.001~0.01μmのものを用いることがより好ましい。本発明に用いられる平滑層中には、上述の様な無機粒子を質量比として20以上60以下含有することが好ましい。20以上添加することで、ガスバリア層との密着性が向上する。また60を超えると、フィルムを湾曲させたり、加熱処理を行った場合にクラックが生じたり、ガスバリア性フィルムの透明性や屈折率等の光学的物性に影響を及ぼすことがある。本発明では、重合性不飽和基修飾加水分解性シランが、加水分解性シリル基の加水分解反応によって、シリカ粒子との間に、シリルオキシ基を生成して化学的に結合しているようなものを、反応性シリカ粒子として用いることができる。加水分解性シリル基としては、例えば、アルコキシリル基、アセトキシリル基等のカルボキシリレートシリル基、クロシリル基等のハロゲン化シリル基、アミノシリル基、オキシムシリル基、ヒドリドシリル基等が挙げられる。重合性不飽和基としては、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニイル基、シンナモイル基、マレート基、アクリルアミド基等が挙げられる。本発明において、平滑層の厚さとしては、1~10μm、好ましくは2~7μmであることが望ましい。1μm以上にすることにより、平滑層を有するフィルムとしての平滑性を十分なものにし易くなり、10μm以下にすることにより、平滑フィルムの光学特性のバランスを調整し易くなると共に、平滑層を透明高分子フィルムの一方の面にのみ設けた場合における平滑フィルムのカールを抑え易くすることができるようになる。ブリードアウト防止層本発明のガスバリア性フィルムにおいては、ブリードアウト防止層を設けることができる。ブリードアウト防止層は、平滑層を有するフィルムを加熱した際に、フィルム基材中から未反応のオリゴマー等が表面へ移行して、接触する面を汚染する現象を抑制する目的で、平滑層を有する基材の反対面に設けられる。ブリードアウト防止層は、この機能を有していれば、基本的に平滑層と同じ構成をとっても構わない。ブリードアウト防止層に含ませることが可能な、重合性不飽和基を有する不飽和有機化合物としては、分子中に2個以上の重合性不飽和基を有する多価不飽和有機化合物、あるいは分子中に1個の重合性不飽和基を有する単価不飽和有機化合物等を挙げることができる。ここで、多価不飽和有機化合物としては、例え、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、グリセロールジメタアクリレート、グリセロールトリメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジシクロペンタニルジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート等が挙げられる。また、単価不飽和有機化合物としては、例えばメチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、イソデシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、アリルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、メチルシクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、グリセロールメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、2-2-エトキシエトキシエチルメタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、2-メトキシプロピルメタアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタアクリレート、メトキシトリプロピレングリコールメタアクリレート、メトキシポリプロピレングリコールメタアクリレート、ポリエチレングリコールメタアクリレート、ポリプロピレングリコールメタアクリレート等が挙げられる。その他の添加剤として、マット剤を含有してもよい。マット剤としては、平均粒子径が0.1~5μm程度の無機粒子が好ましい。このような無機粒子としては、シリカ、アルミナ、タルク、クレイ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、二酸化チタン、酸化ジルコニウム等の1種または2種以上を併せて使用することができる。ここで、無機粒子からなるマット剤は、ハードコート剤の固形分100質量部に対して2質量部以上、好ましくは4質量部以上、より好ましくは6質量部以上、20質量部以下、好ましくは18質量部以下、より好ましくは16質量部以下の割合で混合されていることが望ましい。また、ブリードアウト防止層には、ハードコート剤及びマット剤の他の成分として熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、光重合開始剤等を含有させてもよい。このような熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール系樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。また、熱硬化性樹脂としては、アクリルポリオールとイソシアネートプレポリマーとからなる熱硬化性ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。また、電離放射線硬化性樹脂としては、光重合性プレポリマーもしくは光重合性モノマー等の1種または2種以上を混合した電離放射線硬化塗料に、電離放射線紫外線または電子線を照射することで硬化するものを使用することができる。ここで光重合性プレポリマーとしては、1分子中に2個以上のアクリロイル基を有し、架橋硬化することにより3次元網目構造となるアクリル系プレポリマーが特に好ましく使用される。このアクリル系プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート等が使用できる。また光重合性モノマーとしては、上記に記載した多価不飽和有機化合物等が使用できる。また、光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾインベンゾエート、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-4-モルフォリニル-1-プロパン、α-アシロキシムエステル、チオキサンソン類等が挙げられる。以上のようなブリードアウト防止層は、ハードコート剤、マット剤、及び必要に応じて他の成分を配合して、適宜必要に応じて用いる希釈溶剤によって塗布液として調製し、塗布液を基材フィルム表面に従来公知の塗布方法によって塗布した後、電離放射線を照射して硬化させることにより形成することができる。なお、電離放射線を照射する方法としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる100~400nm、好ましくは200~400nmの波長領域の紫外線を照射する、または走査型やカーテン型の電子線加速器から発せられる100nm以下の波長領域の電子線を照射することにより行うことができる。本発明におけるブリードアウト防止層の厚さとしては、1~10μm、好ましくは2~7μmであることが望ましい。1μm以上にすることにより、フィルムとしての耐熱性を十分なものにし易くなり、10μm以下にすることにより、平滑フィルムの光学特性のバランスを調整し易くなると共に、平滑層を透明高分子フィルムの一方の面に設けた場合におけるバリアフィルムのカールを抑え易くすることができるようになる。《ガスバリア性フィルムの特性値の測定方法》本発明のガスバリア性フィルムの各特性値は、下記の方法に従って測定することができる。水蒸気透過率の測定前述のJISK7129B法に従って水蒸気透過率を測定には、種々の方法が提案されている。例えば、カップ法、乾湿センサー法Lassy法、赤外線センサー法mocon法が代表として挙げられるが、ガスバリア性が向上するに伴って、これらの方法では測定限界に達する場合があり、以下に示す方法も提案されている。前記以外の水蒸気透過率測定方法1.Ca法ガスバリア性フィルムに金属Caを蒸着し、該フィルムを透過した水分で金属Caが腐食される現象を利用する方法。腐食面積とそこに到達する時間から水蒸気透過率を算出する。2.株MORESCOの提案する方法平成21年12月8日NewsRelease大気圧下の試料空間と超高真空中の質量分析計の間で水蒸気の冷却トラップを介して受け渡す方法。3.HTO法米GeneralAtomics社三重水素を用いて水蒸気透過率を算出する方法。4.A-Starシンガポールの提案する方法国際公開第005/95924号水蒸気または酸素により電気抵抗が変化する材料例えば、Ca、Mgをセンサーに用いて、電気抵抗変化とそれに内在する1/f揺らぎ成分から水蒸気透過率を算出する方法。本発明のガスバリア性フィルムにおいて、水蒸気透過率の測定方法は特に限定するところではないが、本発明においては水蒸気透過率測定方法として、下記Ca法による測定を行った。本発明で用いたCa法蒸着装置:日本電子株製真空蒸着装置JEE-400恒温恒湿度オーブン:YamatoHumidicChamberIG47M水分と反応して腐食する金属:カルシウム粒状水蒸気不透過性の金属:アルミニウムφ3~5mm、粒状水蒸気バリア性評価用セルの作製バリアフィルム試料のガスバリア層面に、真空蒸着装置日本電子製真空蒸着装置JEE-400を用い、透明導電膜を付ける前のバリアフィルム試料の蒸着させたい部分12mm×12mmを9箇所以外をマスクし、金属カルシウムを蒸着させた。その後、真空状態のままマスクを取り去り、シート片側全面にアルミニウムをもう一つの金属蒸着源から蒸着させた。アルミニウム封止後、真空状態を解除し、速やかに乾燥窒素ガス雰囲気下で、厚さ0.2mmの石英ガラスに封止用紫外線硬化樹脂ナガセケムテックス製、を介してアルミニウム封止側と対面させ、紫外線を照射することで、評価用セルを作製した。また、屈曲前後のガスバリア性の変化を確認するために、上記屈曲の処理を行わなかったバリアフィルムについても同様に、水蒸気バリア性評価用セルを作製した。得られた両面を封止した試料を60°C、90RHの高温高湿下で保存し、特開2005-283561号公報に記載の方法に基づき、金属カルシウムの腐蝕量からセル内に透過した水分量を計算した。なお、バリアフィルム面以外からの水蒸気の透過がないことを確認するために、比較試料としてバリアフィルム試料の代わりに、厚さ0.2mmの石英ガラス板を用いて金属カルシウムを蒸着した試料を、同様な60°C、90RHの高温高湿下保存を行い、1000時間経過後でも金属カルシウム腐蝕が発生しないことを確認した。《ガスバリア性フィルムの包装形態》本発明のガスバリア性フィルムは、連続生産しロール形態に巻き取ることができるいわゆるロールトゥロール生産。その際、ガスバリア層を形成した面に保護シートを貼合して巻き取ることが好ましい。特に、本発明のガスバリア性フィルムを有機薄膜デバイスの封止材として用いる場合、表面に付着したゴミパーティクルが原因で欠陥となる場合が多く、クリーン度の高い場所で保護シートを貼合してゴミの付着を防止することは非常に有効である。併せて、巻取り時に入るガスバリア層表面への傷の防止に有効である。保護シートとしては、特に限定するものではないが、膜厚100μm程度の樹脂基板に弱粘着性の接着層を付与した構成の一般的な保護シート、剥離シートを用いることができる。《ガスバリア性フィルムの適用分野》本発明のガスバリア性フィルムは、太陽電池、液晶表示素子、有機EL素子等の電子デバイスを封止する封止フィルムとして用いることができる。このガスバリア性フィルムを封止フィルムとして用いた電子機器である有機ELパネルを一例として簡単に説明する。有機ELパネルは、ガスバリア性フィルムと、ガスバリア性フィルム上に形成されたITOなどの透明電極と、透明電極を介してガスバリア性フィルム上に形成された有機EL素子と、その有機EL素子を覆うように接着剤層を介して配設された対向フィルム等を備えている。なお、透明電極は、有機EL素子の一部を成すともいえる。このガスバリア性フィルムにおけるガスバリア層が形成された面に、透明電極と有機EL素子が形成されるようになっている。また、対向フィルムは、アルミ箔などの金属フィルムのほか、本発明のガスバリア性フィルムを用いてもよい。対向フィルムにガスバリア性フィルムを用いる場合、ガスバリア層が形成された面を有機EL素子に向けて、接着剤層によって貼付するようにすればよい。以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において部あるいはの表示を用いるが、特に断りがない限り質量部あるいは質量を表す。実施例1《光触媒活性無機粒子の調製》光触媒活性無機粒子Aの調製:アモルファス酸化チタンチタニア下記の方法に従って、光触媒活性無機粒子Aとして酸化チタン表面改質剤:3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、無機粒子:アモルファス酸化チタンナノ粒子を調製した。無機粒子アモルファス酸化チタンナノ粒子の調製容量1Lのガラス容器に、45°Cに加温した純水250mlを入れ、撹拌羽にて400rpmで撹拌しながら、チタンテトライソプロポキシド高純度化学社製36gを滴下した。滴下終了後、1時間攪拌を行い、白色水性懸濁液を得た。この白色水性懸濁液に硫酸を滴下してpHを1.5に調整し、次いで、45°Cに保温して、そのまま6時間攪拌を行い、白色水性懸濁液を溶解分散させ、アモルファス酸化チタンナノ粒子水分散液を得た。なお、濃度は灰分測定後、硫酸を用いて調整した。表面処理剤水溶液の調製次いで、容量3Lのガラス容器に純水1470gを投入し、この純水に酢酸を滴下してpHを4.0に調整し、撹拌羽を用いて300rpmで撹拌しながら3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン30gを、20分を要してゆっくり滴下した。滴下終了後30分攪拌し、表面処理剤水溶液とした。無機粒子の表面改質処理次いで、上記調製した表面処理剤水溶液に上記のアモルファス酸化チタンナノ粒子水分散液の300gを、撹拌羽を用いて300rpmで撹拌しながらチューブポンプを用いて20分を要してゆっくり滴下した。滴下終了後60°Cに加温し、6時間攪拌した。その後、吸引濾過により固液分離を行った。回収した固形物60gに10倍量のメタノールを加えて懸濁液を調製し、1時間攪拌した後、再び吸引濾過して固液分離を行い、余剰の3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを除去した。得られた固形分は35gであった。このようにして得られた固形分を、ボックス型乾燥機を用いて120°Cにて10分間乾燥させて、平均粒径が4.5nmの光触媒活性無機粒子Aを調製した。なお、乾燥後の質量は、28gであった。なお、この光触媒活性無機粒子Aの相同定及び結晶子径の測定は、X線回折装置X′PertPROMPDPANalytical社製を用いて行った。次いで、この乾燥粉をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMACに投入し、超音波ホモジナイザーで超音波壊砕することにより分散させて、5質量の光触媒活性無機粒子A水分散液を調製した。光触媒活性無機粒子Bの調製:アモルファス酸化セリウムセリア下記の方法に従って、光触媒活性無機粒子Bとして酸化セリウム表面改質剤:3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、無機粒子:アモルファス酸化セリウムナノ粒子を調製した。無機粒子アモルファス酸化セリウムナノ粒子の調製特開2003-34526号公報に記載の方法に準じて、アモルファス酸化セリウムナノ粒子を調製した。1モル/Lの塩化セリウム水溶液20mlと、1モル/Lのクエン酸水溶液20mlと、脱イオン水20mlとの混合溶液を、70mlの5アンモニア水に滴下し、24時間撹拌した。得られたゾルをそのままテフロン登録商標製ボトルに入れ、真鍮製の密閉容器内にて、80°Cで24時間加熱処理した。処理後、遠心分離により粒子を回収し、脱イオン水で3回、メタノールで2回洗浄した後、凍結乾燥により超微粒子粉末を得た。このようにして得られた超微粒子粉末についてX線回折測定を行ったところ、酸化セリウム単相であることが確認された。この超微粒子粉末の比表面積をBET法により測定したところ、211m2/gであった。さらに、TEM観察を行ったところ、平均粒子径が4.7nmのアモルファス酸化セリウムナノ粒子であることを確認した。粒径分布の標準偏差は0.36nmであり、粒子径のばらつきがない単分散ナノ粒子であった。上記超微粒子粉末を、水溶液中に分散して、5質量のアモルファス酸化セリウムナノ粒子水分散液を調製した。表面処理剤水溶液の調製次いで、容量3Lのガラス容器に純水1470gを投入し、この純水に酢酸を滴下してpHを4.0に調整し、撹拌羽を用いて300rpmで撹拌しながら3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン30gを、20分を要してゆっくり滴下した。滴下終了後30分攪拌し、表面処理剤水溶液とした。無機粒子の表面改質処理次いで、上記調製した表面処理剤水溶液に、上記のアモルファス酸化セリウムナノ粒子水分散液300gを、撹拌羽を用いて300rpmで撹拌しながらチューブポンプを用いて20分を要してゆっくり滴下した。滴下終了後60°Cに加温し、6時間攪拌した。その後、吸引濾過により固液分離を行った。回収した固形物60gに10倍量のメタノールを加えて懸濁液を調製し、1時間攪拌した後、再び吸引濾過して固液分離を行い、余剰の3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを除去した。得られた固形分は35gであった。このようにして得られた固形分を、ボックス型乾燥機を用いて、120°Cにて10分間乾燥させて、光触媒活性無機粒子Bを調製した。なお、乾燥後の質量は、28gであった。この乾燥粉の相同定及び結晶子径の測定を、X線回折装置X′PertPROMPDPANalytical社製を用いて行った。次いで、この乾燥粉をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMACに投入し、超音波ホモジナイザーで超音波壊砕することにより分散させて、5質量の光触媒活性無機粒子B水分散液を調製した。光触媒活性無機粒子Cの調製:アモルファス酸化ジルコニウム下記の方法に従って、光触媒活性無機粒子Cとして酸化ジルコニウム表面改質剤:メチルフェニルシリコーンレジン、無機粒子:アモルファス酸化ジルコニウムナノ粒子を調製した。無機粒子アモルファス酸化ジルコニウムナノ粒子の調製容量1Lのガラス容器に、45°Cに加温した純水250mlを入れ、撹拌羽にて400rpmで撹拌しながら、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド松本製薬工業社製43gを滴下した。滴下終了後、撹拌を1時間行い、白色水性懸濁液を得た。この白色水性懸濁液に酢酸を滴下してpHを3.2に調整し、その後、60°Cに加温して6時間攪拌を行い、白色水性懸濁液を溶解分散させ、アモルファス酸化ジルコニウムナノ粒子水分散液を得た。なお、濃度は、酢酸を用いて調製した。表面処理剤溶液の調製容量1Lのガラス容器にメタノール285gを投入し、このメタノールを、撹拌羽を用いて300rpmで撹拌しながら、メタノール中にメチルフェニルシリコーンレジンKR-213信越化学社製の15gを添加、溶解して、表面処理剤液を調製した。無機粒子の表面改質処理上記調製した表面改質剤溶液に、上記アモルファス酸化ジルコニウムナノ粒子水分散液の300gを、撹拌羽を用いて300rpmで撹拌しながらチューブポンプを用いて、20分を要してゆっくり滴下した。滴下終了後60°Cに加温し、8時間攪拌して、乳白色の液体を得た。次いで、この乳白色の液体を、遠心分離機を用いて回転数8000rpmで30分の遠心分離操作を3回繰り返し、固液分離を行った。回収した固形物の115gに10倍量のメタノールを加えて懸濁液を調製し、1時間攪拌した後、再び上記の遠心分離機を用いて、回転数8000rpmで30分の遠心分離操作を3回繰り返して固液分離を行い、余剰のメチルフェニルシリコーンレジンを除去して、光触媒活性無機粒子Cを得た。得られた固形分は70gであった。《ガスバリア性フィルムの作製》ガスバリア性フィルム111の作製ポリシラザン層の形成基材として、ハードコート層付きで熱膨張係数が10×10-4/°CのポリエチレンナフタレートPENフィルム上へ、下記の方法に従ってポリシラザン層1を形成した。ポリシラザン層塗布液1の調製パーヒドロポリシラザンアクアミカNN120-10、無触媒タイプ、AZエレクトロニックマテリアルズ株製の10質量ジブチルエーテル溶液を、ポリオシラザン層塗布液1とした。ポリシラザン層1の形成上記ポリシラザン層塗布液1を、ワイヤレスバーにて、乾燥後の平均膜厚が150nmとなるように塗布し、温度85°C、湿度55RHの雰囲気下で1分間処理して乾燥させ、更に温度25°C、湿度10RH露点温度-8°Cの雰囲気下に10分間保持し、除湿処理を行って、ポリシラザン層1を形成した。ガスバリア層1の形成:紫外光によるポリシラザン層1のシリカ転化処理次いで、上記形成したポリシラザン層1に対し、下記の方法に従って、露点温度が-8°C以下の条件下で、シリカ転化処理を実施した。紫外線照射装置装置:株式会社エムディコム製エキシマ照射装置MODEL:MECL-M-1-200照射波長:172nmランプ封入ガス:Xe改質処理条件稼動ステージ上に固定したポリシラザン層1を形成した基材に対し、以下の条件で改質処理を行って、ガスバリア層1を形成した。エキシマランプ光強度:130mW/cm2172nm試料と光源の距離:1mmステージ加熱温度:70°C照射装置内の酸素濃度:1.0エキシマランプ照射時間:5秒以上により、ガスバリア性フィルム1を作製した。なお、改質処理を施したガスバリア層1は、SiOxにおけるxは、1.82であった。なお、SiOxにおけるxは、前述のVGサイエンティフィックス社製ESCALAB-200Rを用い、XPS法により測定した。ガスバリア性フィルム112の作製上記ガスバリア性フィルム111の作製において、ポリシラザン層塗布液1に代えて、下記ポリシラザン層塗布液2を用いた以外は同様にして、ガスバリア性フィルム112を作製した。ポリシラザン層塗布液2の調製パーヒドロポリシラザンアクアミカNN120-10、無触媒タイプ、AZエレクトロニックマテリアルズ株製の10質量ジブチルエーテル溶液に、上記調製した光触媒活性無機粒子A水分散液を、パーヒドロポリシラザンを100質量としたとき、光触媒活性無機粒子Aが1.0質量となる量を添加し、次いで30分間ホモジナイザーで分散して、ポリシラザン層塗布液2を調製した。このポリシラザン層塗布液2における光触媒活性無機粒子Aとパーヒドロポリシラザンとの質量比率は、1:100である。ガスバリア性フィルム113~117の作製上記ガスバリア性フィルム112のポリシラザン層の形成に用いたポリシラザン層塗布液2において、パーヒドロポリシラザンの含有量を100質量としたときの光触媒活性無機粒子Aの含有比率を、5.0質量、10質量、20質量、30質量、50質量にそれぞれ変更した以外は同様にして、ポリシラザン層塗布液3~7を調製した。次いで、上記ガスバリア性フィルム112の作製において、ポリシラザン層塗布液2に代えて、それぞれポリシラザン層塗布液3~7を用いた以外は同様にして、ガスバリア性フィルム113~117を作製した。ガスバリア性フィルム118~123の作製上記ガスバリア性フィルム112~117のポリシラザン層の形成に用いたポリシラザン層塗布液2~7において、光触媒活性無機粒子Aに代えて、光触媒活性無機粒子Bを用いた以外は同様にして、ポリシラザン層塗布液8~13を調製した。次いで、上記ガスバリア性フィルム112~117の作製において、ポリシラザン層塗布液2~7に代えて、それぞれポリシラザン層塗布液8~13を用いた以外は同様にして、ガスバリア性フィルム118~123を作製した。ガスバリア性フィルム124~127の作製上記ガスバリア性フィルム112~115のポリシラザン層の形成に用いたポリシラザン層塗布液2~5において、光触媒活性無機粒子Aに代えて、光触媒活性無機粒子Cを用いた以外は同様にして、ポリシラザン層塗布液14~17を調製した。次いで、上記ガスバリア性フィルム112~115の作製において、ポリシラザン層塗布液2~5に代えて、それぞれポリシラザン層塗布液14~17を用いた以外は同様にして、ガスバリア性フィルム124~127を作製した。《ガスバリア性フィルムの評価》SiOxにおけるxの測定上記作製した各ガスバリア性フィルムのガスバリア層について、XPS法により測定した。具体的には、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB-200Rを用い、X線アノードとしてMg、出力600W加速電圧15kV、エミッション電流40mAで測定して、SiOxにおけるxを算出した。水蒸気バリア性の評価以下の測定方法に従って、各ガスバリア性フィルムの透過水分量を測定し、下記の基準に従って、水蒸気バリア性を評価した。装置蒸着装置:日本電子株製真空蒸着装置JEE-400恒温恒湿度オーブン:YamatoHumidicChamberIG47M水分と反応して腐食する金属:カルシウム粒状水蒸気不透過性の金属:アルミニウムφ3~5mm、粒状水蒸気バリア性評価用セルの作製試料のガスバリア層面に、真空蒸着装置日本電子製真空蒸着装置JEE-400を用い、透明導電膜を付ける前のガスバリア性フィルム試料の蒸着させたい部分12mm×12mmを9箇所以外をマスクし、金属カルシウムを蒸着させた。その後、真空状態のままマスクを取り去り、シート片側全面にアルミニウムをもう一つの金属蒸着源から蒸着させた。アルミニウム封止後、真空状態を解除し、速やかに乾燥窒素ガス雰囲気下で、厚さ0.2mmの石英ガラスに封止用紫外線硬化樹脂ナガセケムテックス製を介してアルミニウム封止側と対面させ、紫外線を照射することで、評価用セルを作製した。また、屈曲前後のガスバリア性の変化を確認するために、上記屈曲の処理を行わなかったガスバリア性フィルムについても同様に、水蒸気バリア性評価用セルを作製した。得られた両面を封止した試料を60°C、90RHの高温高湿下で保存し、特開2005-283561号公報に記載の方法に基づき、金属カルシウムの腐食量からセル内に透過した水分量を計算した。なお、ガスバリア性フィルム面以外からの水蒸気の透過がないことを確認するために、比較試料としてガスバリア性フィルム試料の代わりに、厚さ0.2mmの石英ガラス板を用いて金属カルシウムを蒸着した試料を、同様な60°C、90RHの高温高湿下保存を行い、1000時間経過後でも金属カルシウム腐食が発生しないことを確認した。以上により測定された各ガスバリア性フィルムの透過水分量を、下記の5段階に分類し、水蒸気バリア性を評価した。5:透過水分量が、1×10-4g/m2/day未満4:透過水分量が、1×10-4g/m2/day以上、1×10-3g/m2/day未満3:透過水分量が、1×10-3g/m2/day以上、1×10-2g/m2/day未満2:透過水分量が、1×10-2g/m2/day以上、1×10-1g/m2/day未満1:透過水分量が、1×10-1g/m2/day以上折り曲げ耐性の評価各ガスバリア性フィルムを、半径が10mmの曲率になるように、180度の角度で100回の屈曲を繰り返した後、上記と同様の方法で透過水分量を測定し、屈曲処理前後での透過水分量の変化より、下式に従って耐劣化度を測定し、下記の基準に従って折り曲げ耐性を評価した。耐劣化度=屈曲試験後の透過水分量/屈曲試験前の透過水分量×1005:耐劣化度が、90以上である4:耐劣化度が、80以上、90未満である3:耐劣化度が、60以上、80未満である2:耐劣化度が、30以上、60未満である1:耐劣化度が、30未満である可視光透過率の測定各ガスバリア性フィルムの可視光透過率を、分光光度計V-570日本分光社製を用いて測定した。以上により得られた結果を、表1に示す。表1に記載の結果より明らかなように、本発明で規定する構成からなるガスバリア性フィルムは、比較例に対し、少ない紫外線照射量においてもガスバリア性、折り曲げ耐性に優れ、高い可視光透過性を有していることが分かる。実施例2《光触媒活性無機粒子の調製》光触媒活性無機粒子A1~A3の調製:酸化チタンチタニア実施例1に記載の光触媒活性無機粒子A平均粒径:4.5nmの調製において、調製時の保温温度をそれぞれ、60°C、75°C、80°Cに変更した以外は同様にして、平均粒径が7.2nmの光触媒活性無機粒子A1、平均粒径が9.1nmの光触媒活性無機粒子A2、平均粒径が12.1nmの光触媒活性無機粒子A3を調製した。光触媒活性無機粒子B1~B3の調製:酸化セリウムセリア実施例1に記載の光触媒活性無機粒子B平均粒径:4.7nmの調製において、調製時のクエン酸水溶液の添加量を、それぞれ15ml、10ml、未添加に変更した以外は同様にして、平均粒径が7.4nmの光触媒活性無機粒子B1、平均粒径が9.2nmの光触媒活性無機粒子B2、平均粒径が10.5nmの光触媒活性無機粒子B3を調製した。《ガスバリア性フィルムの作製》ガスバリア性フィルム211~213の作製実施例1に記載のガスバリア性フィルム114の作製において、光触媒活性無機粒子として、光触媒活性無機粒子A平均粒径:4.5nmに代えて、上記調製した光触媒活性無機粒子A1平均粒径:7.2nm、光触媒活性無機粒子A2平均粒径が9.1nm、光触媒活性無機粒子A3平均粒径が12.1nmをそれぞれ用いた以外は同様にして、ガスバリア性フィルム211~213を作製した。ガスバリア性フィルム214~216の作製実施例1に記載のガスバリア性フィルム120の作製において、光触媒活性無機粒子として、光触媒活性無機粒子B平均粒径:4.7nmに代えて、上記調製した光触媒活性無機粒子B1平均粒径:7.4nm、光触媒活性無機粒子B2平均粒径が9.2nm、光触媒活性無機粒子B3平均粒径が10.5nmをそれぞれ用いた以外は同様にして、ガスバリア性フィルム214~216を作製した。《ガスバリア性フィルムの評価》上記作製したガスバリア性フィルム211~216と、実施例1で作製したガスバリア性フィルム114、120を用い、実施例1に記載の方法と同様にして、SiOxにおけるxの測定、水蒸気バリア性及び折り曲げ耐性の評価、可視光透過率の測定を行い、得られた結果を表2に示す。表2に記載の結果より明らかなように、本発明で規定する平均粒径の範囲内にある光触媒活性無機粒子を用いて作製したガスバリア性フィルムは、比較例に対し、ガスバリア性、折り曲げ耐性及び可視光透過性に優れていることが分かる。実施例3《ガスバリア性フィルムの作製》ガスバリア性フィルム311~321の作製実施例2に記載のガスバリア性フィルム211の作製において、ポリシラザン層のシリカ転化を行う際の紫外線照射光源の種類波長、nm、照射時間秒及び紫外線照射光源の組み合わせを、表3に記載のように変更した以外は同様にして、ガスバリア性フィルム311~321を作製した。なお、表3に記載の紫外線照射光源1~3の詳細な特性及び条件は、以下の通りである。紫外線照射光源1:実施例1で使用した紫外線照射光源波長:172nmXeエキシマランプ光強度:130mW/cm2172nm試料と光源の距離:1mmステージ加熱温度:70°C照射装置内の酸素濃度:1.0Xeエキシマランプ照射時間:表3に記載紫外線照射光源2波長:222nm改質処理条件Xeエキシマランプ光強度:800mW/cm2222nm試料と光源の距離:1mmステージ加熱温度:70°C照射装置内の酸素濃度:1.0Xeエキシマランプ照射時間:表3に記載紫外線照射光源3波長:254nm185nm低圧水銀灯光強度:80mW/cm2254nm185nm試料と光源の距離:1mmステージ加熱温度:70°C照射装置内の酸素濃度:1.0低圧水銀灯照射時間:表3に記載《ガスバリア性フィルムの評価》上記作製したガスバリア性フィルム311~322と、実施例1で作製したガスバリア性フィルム114を用い、実施例1に記載の方法と同様にして、SiOxにおけるxの測定、水蒸気バリア性及び折り曲げ耐性の評価、可視光透過率の測定を行い、得られた結果を表3に示す。表3に記載の結果より明らかなように、紫外線照射条件として、1180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源と、2波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源を用いてシリカ転化すること、あるいは、1180nm未満の波長成分を有する真空紫外線照射光源と、2波長成分が180nm以上、200nm未満の紫外光を照射する紫外線照射光源と、3波長成分が200nm以上、400nm以下の紫外光を照射する紫外線照射光源を用いてシリカ転化すること、により、ガスバリア性、折り曲げ耐性及び可視光透過性がより向上していることが分かる。"