少なくともひとつの所与の第1中心周波数λ0を中心とするスペクトルバンドにおける入射波の反射によって前記入射波をフィルタするのに適したスペクトルフィルタであって、i貫通オリフィス20を伴う基板10と、ii誘電体から形成される膜30と、を備え、前記膜は前記オリフィス20の上に架けられており、前記膜は、2つの方向D1、D2に繰り返される二次元パターン33の形状に配列された一組のロッドを形成するように構成され、少なくともひとつの方向における前記パターンの繰り返しは周期的または準周期的であって前記中心周波数λ0よりも小さな第1周期T1を伴うスペクトルフィルタ。前記誘電体は、二酸化ケイ素、酸化マンガン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、硫酸亜鉛、三フッ化イットリウムおよびアルミナのなかから選択される、請求項1に記載のスペクトルフィルタ。ロッドの幅はλ0/2nよりも実質的に小さく、nは前記膜を形成する材料の屈折率である、請求項1または2に記載のスペクトルフィルタ。前記ロッドの断面は実質的に円形、正方形または矩形である、請求項1から3のいずれかに記載のスペクトルフィルタ。前記パターンは平行四辺形の形状をとり、前記膜は、第1方向D1と平行な第1ロッド32および第2方向D2と平行な第2ロッド34を伴う二次元格子を形成するよう構成され、前記第1ロッド32は、前記中心周波数λ0よりも小さな前記第1周期T1にしたがう、少なくともひとつのロッド32を含む第1サブパターン320の繰り返しによって形成される、請求項1から4のいずれかに記載のスペクトルフィルタ。前記第1サブパターン320は複数の互いに平行なロッド321、322、323、324を含む、請求項5に記載のスペクトルフィルタ。前記第1方向D1と前記第2方向D2とは実質的に直交する、請求項5または6に記載のスペクトルフィルタ。前記第2ロッド34は、第2周期T2にしたがう、周期毎に少なくともひとつのロッド34を含む第2サブパターン340の繰り返しによって形成される、請求項5から7のいずれかに記載のスペクトルフィルタ。前記第2周期T2は前記中心周波数λ0よりも小さい、請求項8に記載のスペクトルフィルタ。前記第2周期T2は前記第1周期T1と同一であり、前記第1および前記第2サブパターン320、340は似ている、請求項9に記載のスペクトルフィルタ。前記第2周期T2は前記第1周期T1とは異なる、請求項9に記載のスペクトルフィルタ。隣接する2つの第2ロッド34の間の間隔は、前記中心周波数λ0の3倍よりも実質的に大きい、請求項5から8のいずれかに記載のスペクトルフィルタ。前記パターンは、少なくとも3つの異なる方向に配列されたロッドを含む、請求項1から4のいずれかに記載のスペクトルフィルタ。異なる複数の中心周波数をフィルタするのに適した、請求項1から13のいずれかに記載のスペクトルフィルタを複数備えるマルチスペクトルマトリックス40であって、前記複数のスペクトルフィルタの膜は全く同一の基板の上に架けられているマルチスペクトルマトリックス。請求項1から13のいずれかに記載のフィルタまたは請求項14に記載のマルチスペクトルマトリックスと赤外線ディテクタとを備える赤外線イメージングシステムであって、前記フィルタまたは前記マトリックスは透過モードまたは反射モードで使用される赤外線イメージングシステム。前記フィルタまたは前記マトリックスを回転させることで前記フィルタへの前記入射波の入射角を変えることを可能とし、それによってひとつ以上の波長調整可能フィルタを得る手段を備える、請求項15に記載のイメージングシステム。少なくともひとつの所与の第1中心周波数λ0を中心とするスペクトルバンドにおける入射光波の反射によって前記入射光波をフィルタするのに適したスペクトルフィルタを製造する方法であって、i基板10の一方の面に誘電体の薄い層を設けることと、ii誘電体の前記薄い層をエッチングすることで膜30を得ることであって、前記膜は、2つの方向に繰り返される二次元パターンの形状に配列された一組のロッドを形成するように構成され、少なくともひとつの方向における前記パターンの繰り返しは周期的であって前記中心周波数λ0よりも小さな第1周期T1を伴うことと、iii前記基板の反対の面に前記基板を貫通するオリフィス20をエッチングすることで前記構造化膜30が前記オリフィス20の上に架けられるようにすることと、を含む方法。iv正しく得られたフィルタを希釈された酸の溶液に浸けることで前記ロッドを形成する材料への制御された侵襲を可能とし、前記ロッドの断面を丸めるおよび/または減らすことをさらに含む、請求項17に記載の製造方法。しかしながら、この方法で製造される懸架膜の製造は特に構成の脆さにリンクして困難であり、特に膜のサイズが制限される。さらに、使用中、光学効率についてのこれらのフィルタの安定性は制限されることが示された。これはとりわけ、たとえわずかな大気擾乱に曝された場合でも膜が振動することに起因する。本発明のある目的は、可視放射または赤外線放射のフィルタリングのためのサブ波長誘電膜を伴うスペクトルフィルタを提供することである。このフィルタはとりわけ、改善された堅牢性および使用中の光学効率における高められた安定性を示す。第1の態様によると、本発明は、少なくともひとつの所与の第1中心周波数λ0を中心とするスペクトルバンドにおける入射光波の反射によって入射光波をフィルタするのに適したスペクトルフィルタに関する。このフィルタは、貫通オリフィスを伴う基板と、誘電体から形成される膜と、を備える。膜はオリフィスの上に架けられており、膜は、2つの方向に繰り返される二次元パターンの形状に配列された一組のロッドを形成するように構成され、少なくともひとつの方向におけるパターンの繰り返しは周期的または準周期的であって中心周波数λ0よりも小さな第1周期を伴う。このように製造されたフィルタのロッド構成は、とりわけ従来技術に係るフィルタと比べて、かなり高い堅牢性および光学安定性を示した。例示であって非限定的な態様において、誘電体は、二酸化ケイ素、酸化マンガン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、硫酸亜鉛、三フッ化イットリウムおよびアルミナのなかから選択される。変形例によると、ロッドの幅はλ0/2nよりも実質的に小さく、nは膜を形成する材料の屈折率である。ロッドの断面は実質的に円形、正方形または矩形であってもよい。この場合、より大きな選択性を有するフィルタを得ることが可能となる。本発明の第1の態様の第1の実施の形態によると、パターンは平行四辺形タイプの形状を有する。膜は、第1方向と平行な第1ロッドおよび第2方向と平行な第2ロッドを伴う二次元格子を形成するよう構成され、第1ロッドは、前記第1周期にしたがう、少なくともひとつのロッドを含む第1サブパターンの繰り返しによって形成される。第1サブパターンはひとつまたは複数の互いに平行なロッドを含んでもよい。この場合、フィルタのスペクトル応答を合わせることができる。変形例によると、第1方向と第2方向とは実質的に直交する。変形例によると、第2ロッドは、第2周期にしたがう、周期毎に少なくともひとつのロッドを含む第2サブパターンの繰り返しによって形成される。変形例によると、第2周期は中心周波数λ0よりも小さい。第1例によると、第2周期は第1周期と同一であり、第1および第2サブパターンは似ている。この場合、構成は対称的になり、とりわけ入射波の偏光に不感的なフィルタを製造することが可能となる。第2例によると、第2周期は第1周期とは異なる。この場合、例えば、入射波の偏光にしたがってスペクトル選択的なフィルタが可能となる。変形例によると、隣接する2つの第2ロッドの間の間隔は最小距離となっており、この最小距離は中心周波数λ0の3倍よりも実質的に大きい。この場合、フィルタは、高められた堅牢性および信頼性を有しつつ、一次元で構造化された膜を伴うフィルタの光学応答と近い光学応答を有する。他の実施の形態によると、パターンは、少なくとも3つの異なる方向に配列されたロッドを含んでもよい。この場合、入射波の偏光に対する所定の程度の不感性を保持しつつ、角度許容性を改善することができる。第2の態様によると、本発明は、異なる複数の中心周波数をフィルタするのに適した、第1の態様に係るスペクトルフィルタを複数備えるマルチスペクトルマトリックスに関する。複数のスペクトルフィルタの膜は全く同一の基板の上に架けられている。そのようなマトリックスは、より大きな寸法を有するのにもかかわらず堅牢性および光学安定性を示す。そのようなマトリックスは一定の厚さを有する。各フィルタのフィルタリング波長はその厚さではなく構造化膜のパターンによって決定される。第3の態様によると、本発明は、第1の態様に係るフィルタまたは第2の態様に係るマルチスペクトルマトリックスと赤外線ディテクタとを備える赤外線イメージングシステムに関する。前記フィルタまたは前記マトリックスは透過モードまたは反射モードで使用される。変形例によると、イメージングシステムは、フィルタまたはマトリックスを回転させることで前記フィルタへの入射波の入射角を変えることを可能とし、それによってひとつ以上の波長調整可能フィルタを得る手段を備える。第4の態様によると、本発明は、少なくともひとつの所与の第1中心周波数λ0を中心とするスペクトルバンドにおける入射波の反射によってフィルタするのに適したスペクトルフィルタを製造する方法に関する。この方法は、基板の一方の面に誘電体の薄い層を設けることと、誘電体の前記薄い層をエッチングすることで膜を得ることであって、膜は、2つの方向に繰り返される二次元パターンの形状に配列された一組のロッドを形成するように構成され、少なくともひとつの方向におけるパターンの繰り返しは周期的または準周期的であって中心周波数λ0よりも小さな周期を伴うことと、基板の反対の面に基板を貫通するオリフィスをエッチングすることで構造化膜がオリフィスの上に架けられるようにすることと、を含む。変形例によると、方法は、ロッドの等方的なエッチングを含む。このエッチングは例えば、正しく得られたフィルタを希釈された酸の溶液に浸けることでロッドを形成する材料への制御された侵襲を可能とし、前記ロッドの断面を制御された態様で丸めるおよび/または減らすことである。図1は、本発明の例示的な実施の形態に係る自己懸架型膜を備えるフィルタの断面図である。これは説明用の図であり、この図では要素は実際のスケール通りには描かれていない。フィルタは基本的に、基板10と、基板10を貫通するオリフィス20と、オリフィス20の上に架けられた構造化膜30と、を備える。膜は誘電体から形成される。誘電体は基本的に、誘電率が正の実数部分およびゼロまたは実数部分と比べて非常に小さい虚数部分を有する材料または積層体を意味するものとして理解されるべきである。膜は二次元パターンの形状に配列された一組のロッドを形成するよう構成される。パターンは2つの方向に繰り返されている。パターンは2つの方向に配列されたロッドを含んでもよい。それは例えば平行六面体や矩形や正方形形状であってもよい。また、六角形形状のようなロッドが少なくとも3つの方向に配列された他の形状をとってもよいし、輪郭にしたがいこの輪郭内に配列されたロッドを伴う複雑な構成を示してもよい。これらは後述される。図1では、第1ロッド32のみが断面で示されている。基板10は例えばケイ素からなる基板であり、その厚さは典型的には数百マイクロメートルのオーダーである。使用中、フィルタは透過モードバンドカットまたは反射モードバンドパスで使用されうる。図2は、例えば図1に示されるタイプの本発明に係るバンドパスフィルタを製造する例示的な方法のステップを単純化して示す。第1ステップS1において、誘電体の層40を基板10の前面入射光を受けるよう意図されている面、図1参照に付着または蒸着させる。蒸着は、プラズマ支援ガス相化学蒸着法plasmaassistedgaseousphasechemicaldepositiontechniqueによって行われてもよい。誘電体の層40の厚さは一般に0.5ミクロンから数ミクロンの間にある。誘電体は例えば、窒化ケイ素Si3N4などの窒化物や、炭化ケイ素SiCなどの炭化物や、二酸化ケイ素SiO2、酸化マンガンMnO、アルミナAl2O3などの酸化物や、硫酸亜鉛ZnSなどの硫化物や、三フッ化イットリウムYbF3などのフッ化物であってもよい。第2ステップS2において、例えば所望のパターンを伴う格子を得るためのUVまたは電子リソグラフィ法を使用することで、構造化膜30を形成する。第3ステップS3において、所与のパターン正方形、矩形等、アパーチャにしたがうオリフィス20を基板10の背面にエッチングする。オリフィス20は基板10を貫通する。これにより、膜30はオリフィス20のアパーチャ210の縁部に架けられる。基板10のエッチングは、例えば水酸化テトラメチルアンモニウムTMAHの浴槽における化学エッチングによって行われてもよい。化学浴の前に、基板10の背面は、TMAHのための通路を含む酸化ケイ素SiO2の層で覆われてもよい。これにより、基板の背面の選択的なエッチングが可能となる。基板10の背面に蒸着された酸化ケイ素の層の通路の形状は、エッチングによって得られるオリフィス20の形状とリンクしている。前面および構成をひとつ以上の保護層で保護することも可能である。典型的には、基板10の前面におけるオリフィス20のアパーチャ210の表面積は、数平方ミリメートルから数百平方ミリメートルのオーダーである。上述の方法によると、懸架型の構造化膜30を得ることが可能となる。この膜の二次元パターンは構成に剛性を授けることを可能とする。特に、異なる複数の方向に配列されたロッドの存在により、使用中に振動が発生した場合でもロッドの横方向の動きを妨げることが可能となる。本出願人はこのようにして光学性能レベルにおいてかなり良好な安定性を発見した。これにより、このように製造したフィルタを使用条件下でテストすることが可能となる。これは、従来技術に係る懸架型膜では今まで可能ではなかったものである。上述の方法で、実質的に正方形または矩形の断面を有するロッドを得ることができる。方法の好適な変形例によると、断面形状が丸められた形状に近いロッドを得ることが可能である。このため、サンプルはロッドの等方的エッチングを行う。これは例えばロッドを希釈された酸の溶液に浸けることによってなされる。希釈された酸はロッドを形成する材料を化学的に攻撃する。等方的エッチングは、ロッドのエッジにおいてより速い。これにより、制御された態様で、ロッドの断面を丸めてその断面積を減らすことが可能となる。したがって、非常に小さな断面を有するロッドを容易に製造できる。窒化ケイ素のロッドの場合、この化学エッチングは例えば、フッ化水素酸HFの希釈溶液に数分間浸けることでなされうる。本出願人は、実質的に丸められた断面を有するロッドを用いる場合、特にロッドのサイズおよび粗さが低減されることにより、フィルタ機能においてより良好な選択性を得ることが可能になることを見出した。図3は、本発明に係るフィルタの製造についての、構造化膜の第1例を示す。これは、走査型電子顕微鏡により得られた、上述の方法にしたがい生成された膜のイメージである。本例では、膜30は、第1方向D1と平行な第1ロッド32および第2方向D2と平行な第2ロッド34を伴う二次元格子を形成するよう構成される。第1ロッド32は、第1周期T1で周期的に配列される。第2ロッド34も周期的に配列されるが、その周期T2はT1よりも大きい。2つの方向D1およびD2は実質的に直交する。ロッドは、各方向に繰り返される実質的に矩形のパターン33の形状に配列される。本例では、周期T1およびT2はそれぞれ約3μm、約20μmに等しい。ロッドの幅は約500nmであり、ロッドの断面は実質的に正方形である。図4は、図3に示されるスペクトルフィルタについて測定された透過スペクトル41を示す。ここで、入射波の入射面はロッド32と直交し、膜の面の法線に関して定義される入射波の入射角は5度であり、入射電場の偏光は第1ロッド32と平行であるTE偏光。スペクトル応答41は一次元構成について計算されたスペクトル42と比較されている。この一次元構成は、同様な入射波に対して、同じ周期T1で配列された同数の第1ロッド32を有している。本実施の形態にしたがい得られるフィルタは、3.3μm付近で非常に選択的な光学共振現象を示す。カットオフ波長において透過係数は0.03に到達する。本例では、スペクトルは2.9μm付近に第2のディップを示す。この第2のディップの存在は、入射角がゼロでないことにより説明される。2つのピーク2.9μmおよび3.3μmは、垂直入射で期待される約3μmロッド32の配列の周期T1の値に近い波長のカットオフ共振の両側に位置している。したがって、図5は、図3に示されるスペクトルフィルタの透過スペクトルを、複数の入射角それぞれ0度、10度、20度について測定した結果を示す。垂直入射では、3.2μm波長付近を中心としたメインディップが観測される。入射角が増えると、中心波長の両側に2つのディップが現れるのが観測される。第2共振モードの出現は、入射角がゼロでないことにより説明される。したがって、入射角を変更することによって、かつ、中心波長の片側をフィルタすることによって、フィルタ波長を調整することが可能となる。図4におけるスペクトル41とスペクトル42との比較は、図3のタイプの構成によって同じ周期T1および同じ方向D1の一次元構成のフィルタリングに近いフィルタリングを得ることが可能であることを明らかにする。本出願人は実際、波長の3倍と実質的に等しい最小値で離間する第2ロッド34を選択することで、一次元膜の光学的振る舞いと実質的に同等な光学的振る舞いを伴いつつかなり高い堅牢性および安定性を有するバンドパスフィルタを得ることができることを示した。一次元の構造化膜と同様に、カットオフ波長はサブ波長周期で離間するロッド32の周期に依存し、得られるフィルタは偏光を行う。すなわち、共振のメカニズムにより、TE偏光のみが反射される。一方、カットオフ波長で透過した波はTM偏光にしたがい偏光される。そのようなフィルタは、例えばイメージングシステムにおいて、透過モードバンドカットフィルタまたは反射モードバンドパスフィルタで使用されうる。本出願人は、理論および実験の両方により明らかにされた共振反射メカニズムは、多重散乱メカニズムによって説明されうることを示した。言い換えると、構成のジオメトリに依存する所与の波長について、構成の各ロッドによって散乱される波の間にコヒーレンスが観測される。これは、図5に示されるように、前記波長における鏡面反射の観測に反映される。前記波長は入射光と膜の面の法線との間の角度に依存する。例示的なアプリケーションによると、そのようなフィルタはシーンの偏光を解析するために使用されうる。例えば、偏光解析システムは、赤外線スペクトルバンド内の所与のカットオフ波長でのフィルタリングに対して最適化された前記スペクトルフィルタを伴う赤外線イメージングシステムと、フィルタのカットオフ波長を検知するディテクタと、入射波の偏光を回転させるデバイスと、を備えてもよい。入射波が直線偏光成分を含む場合例えば、例えば車両タイプや建物タイプの人工物によって発せられる赤外線放射の場合、透過モードで測定される信号は偏光回転デバイスの位置によって変化するであろうそして、例えば入射偏光がTEの場合には最小となる。入射波が純粋に非偏光である場合典型的には植物タイプの自然物によって発せられる赤外線放射の場合、透過モードの信号は偏光回転デバイスの位置によらず一定となるであろう。本発明の別の変形例によると、第2ロッド34は、第1ロッド32の周期T1のオーダーの周期T2で周期的に配列されてもよい。第1ロッド32の、周期T1および方向D1の周期的配列は、方向D1と平行な入射電場成分について、T1の関数である第1カットオフ波長λ1付近でのフィルタ効果を得ることを可能にする。第2ロッド34の、T1に近い周期T2の周期的配列は、方向D2と平行な入射電場成分について、λ1に近い第2カットオフ波長λ2におけるフィルタ効果を得ることを可能にする。このように構成された膜を伴うスペクトルフィルタは、例えば、入射波の偏光を選択することによって生成される選択的波長フィルタリングを可能とする。図6は、上述の方法を使用して製造された例示的な構造化膜30の走査型電子顕微鏡イメージを示す。この膜は、500nmのサイズを有する実質的に正方形の断面を有する第1および第2ロッド32、34を備える。第1および第2ロッドは2つの方向D1、D2とそれぞれ平行であり、それらの方向D1、D2は直交する。第1および第2ロッドは3μmのオーダーの同じ周期Tで配列されている。したがって、本例では、ロッドは各方向に繰り返される実質的に正方形のパターン33の形状に配列される。第1および第2ロッドの周期は同一なので、方向D1およびD2についてのTE偏光で偏光された入射波のカットオフ波長λcは同一である。これによると特に、垂直入射において、入射波の偏光によらずに、透過した放射の波長λcを消すことが可能となる。本例では、第1ロッドおよび第2ロッドは同じ幅および同じ厚さを有する。したがって、共振の幅は、方向D1およびD2の電磁場成分について同等である。したがって、本例では、このように生成されたフィルタの堅牢性および安定性の質に加えて、入射電磁場の偏光によらずに、膜を透過した入射波はスペクトル的にフィルタされる。図7は、図6に示されるようなフィルタの垂直入射で測定された透過スペクトル71、72を示す。透過スペクトル71、72はそれぞれ、電場が方向D1を向いている入射波についてのものと、電場が方向D2を向いている入射波についてのものと、である。これらの曲線は、透過スペクトルが重なり合うことを証明する。上述の例について、そのようなフィルタは例えばイメージングシステムにおいて透過モードまたは反射モードで使用されうる。本発明の別の変形例によると、膜は、第1方向と平行な第1ロッド32および第2方向と平行な第2ロッド34を伴う二次元格子を形成するよう構成されてもよい。第1ロッドは、第1周期T1にしたがう、複数のロッドを含む第1サブパターン320の繰り返しによって形成される。そのような構成によると、第1ロッドの方向と平行な電場成分についてのマルチ共振フィルタを得ることが可能となる。図8Aは、そのような構成の例を示す。本例において、構成30は、第1サブパターン320および第2サブパターン340の、2つの非平行な方向における繰り返しによって得られる。第1サブパターン320は周期毎に2つのロッド321、322を含む。第2サブパターン340は周期毎にひとつのロッド34を含む。図8Aの例では、第1サブパターン320の2つのロッド321、322は同一の断面を有し、その断面は例えば円形である。第1サブパターンの周期と第2サブパターンの周期とは実質的に同一であり、ロッドが配列されるメインのパターンは実質的に正方形である。図8Bに示される実施の形態では、サブパターン320は周期毎に2つのロッド323、324を含むが、ロッド323の断面はロッド324の断面よりも小さい。一般に、構成のロッドの断面を変えることで、カットオフ波長付近の共振の幅を変更することができる。他の実施の形態では、第1サブパターンおよび/または第2サブパターンは3つ以上のロッドを含んでもよい。第1サブパターンのロッドおよび/または第2サブパターンのロッドは、サブパターン内で規則的に離間していてもよいし、不規則に離間していてもよいし、異なる断面を有してもよい。これらの調整により、ナノ構造化膜のスペクトル応答を特定の光学効果が得られるように適応させることが可能となる。例えば、構成は、周期当たり同数のサブパターンを有し、かつ、方向D1と方向D2との二等分線に対して対称であってもよい。この場合、偏光の影響を受けにくいスペクトルフィルタを生成できる。図9Aおよび図9Bは、膜のロッドが配列されうるパターンの変形例を示す。図9Aの例では、パターン33は六角形であり、2つの方向D1、D2に周期T1、T2で周期的に繰り返されている。図9Bの例では、パターン33は複雑である。おおまかには平行四辺形であるが、ひとつのロッドはその平行四辺形の対角線に配置されている。このパターンは、2つの方向D1、D2に周期T1、T2で周期的に繰り返されている。これらの例のいずれにおいても、二次元パターンによって期待される構成の堅牢さに加えて、偏光に対する不感性を維持しつつフィルタの透過モード応答の角度受容性を高めることが期待される。変形例によると、ロッドの配列パターンは準周期的に繰り返されてもよい。すなわち、ゆっくり変化する周期で繰り返されてもよい。実際、パターンの繰り返し数が少なくともフィルタのクオリティ数qualityfigureと等しい場合にフィルタ機能が有効に働くようである。クオリティ数は、中心フィルタ波長の、中間高さにおけるスペクトル幅に対する比として定義される。したがって、典型的には、3μmでのフィルタリングに適し中間高さにおけるスペクトル幅として0.1μmを有するフィルタについて、ひとつのロッドからなるシンプルなパターンについては周期性の方向に少なくとも30のロッドを並べることが目標となるであろう。本出願人は、周期がゆっくりと変化する場合、すなわちクオリティ数と実質的に等しい数のロッドについて得られる中間高さにおけるスペクトル幅よりも実質的に小さい値で変化する場合、フィルタ波長をスリップさせつつフィルタ機能を維持することが可能であることを示した。例えば、周期の変化は、パターンの周期性の方向において距離の線形関数であってもよい。この場合、例えばスペクトロイメージャ機能のための、2つの方向で構造化されたフィルタを生成することが可能となる。第1方向における準周期的繰り返しが提供するフィルタ応答は、カットオフ波長λ0がフィルタの一端から他端へ連続的に変化するものであり、全スペクトル範囲をカバーする。例えば、この第1方向に10mmの長さを有するフィルタは、大気の透過バンドIIの全て3ミクロンから5ミクロンをカバーすることが可能である。このフィルタは、Q本のロッドに亘ってΔλ/5のスペクトルオフセットを有する。Qはクオリティ数であり、Δλは周期フィルタの中間高さにおける幅である。第2方向において、波長の3倍と実質的に等しい最小周期性は例えばフィルタされない透過を提供する。図10は、複数の並置されたスペクトルフィルタ1を備えるマルチスペクトルマトリックス50を示す。フィルタ1は異なるスペクトル応答を示すよう適応されていてもよい。例えば、フィルタ1はいくつかの並びのスペクトルバンドをフィルタするよう適応されていてもよい。これによると、一連の波長バンドに亘ってイメージを解析することが可能となる。薄い層を積層する従来技術と比べて、本発明に係る構造化膜はその光学特性にほとんどよらない厚さを有する。本発明に係る構造化膜のスペクトル応答は、実際、主として懸架構成のロッドの周期によって、および、構成を形成するために選択された材料によって、決定されうる。さらに、生成される構成は2つの方向に繰り返される二次元パターンの形状を有するロッドの配列のおかげでより高い堅牢性およびより高い光学的安定性を備えるので、一定の厚さを有し複数のフィルタを備えるマルチスペクトルマトリックス50の製造が可能となる。所定数の詳細な例示的実施の形態を通じて説明したが、本発明に係るスペクトルフィルタおよびスペクトルフィルタを製造する方法は異なる複数の変形例、変更例および改良例を含む。それらの例は当業者には明らかであろう。これらの異なる変形例、変更例および改良例は、以下の請求の範囲によって規定されるような本発明の範囲内である。