"複数の成膜用固定チャンバーと、1又は2以上の移動チャンバーとを有し、前記複数の成膜用固定チャンバーは、いずれも真空室と真空ポンプ、および扉とを備え、前記真空室内には気化した薄膜材料を放出する薄膜材料放出部があって前記真空室内で基材に所定の膜を蒸着することが可能であり、前記移動チャンバーは、真空室と真空ポンプ、および扉とを備え、移動チャンバーは、移動可能であって且つ基材を搬送可能であり、成膜用固定チャンバーと移動チャンバーは結合離脱が可能であり、前記複数の成膜用固定チャンバーは、列状に並べて配され、移動チャンバーは成膜用固定チャンバーと結合し互いの扉を開いて真空室同士を連通可能であり、成膜用固定チャンバーと移動チャンバーとの間で基材の受け渡しが可能であることを特徴とする有機EL素子の製造装置。2以上の移動チャンバーを有することを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子の製造装置。前記移動チャンバーは、プラズマクリーニング装置を有していることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL素子の製造装置。前記移動チャンバーは、当該チャンバー内に窒素ガスその他の不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置を有していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の有機EL素子の製造装置。前記移動チャンバーは、自走式の台車を有していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の有機EL素子の製造装置。レールを有し、前記移動チャンバーはレールに沿って移動することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の有機EL素子の製造装置。前記移動チャンバーは、基材を加熱及び/又は冷却する加熱装置及び/又は冷却装置を有していることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の有機EL素子の製造装置。移動チャンバーと共に移動する真空ポンプを有し、当該真空ポンプの吸引側は、移動チャンバーの一部であって移動チャンバーが成膜用固定チャンバーと結合した際に成膜用固定チャンバー側の扉と移動チャンバー側の扉との間で挟まれる空間に接続されており、前記空間を真空状態にすることができることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の有機EL素子の製造装置。前記真空ポンプの吸引側と前記空間とを接続する補助吸引回路と、前記真空ポンプの吸引側と移動チャンバーの内部を接続する主吸引回路とを有し、さらに補助吸引回路と主吸引回路にはそれぞれ開閉弁が設けられていることを特徴とする請求項8に記載の有機EL素子の製造装置。前記移動チャンバーは対向する両面に扉を有し、移動チャンバーは両面のどちらの扉でも成膜用固定チャンバーと結合可能であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の有機EL素子の製造装置。前記真空室内に、基材を冷却する基材冷却手段が設けられていることを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の有機EL素子の製造装置。基材冷却手段は冷却面を有し、基材を冷却面に当接させる基材当接手段を有することを特徴とする請求項11に記載の有機EL素子の製造装置。基材当接手段は、移動チャンバーの扉と連動して動作することを特徴とする請求項12に記載の有機EL素子の製造装置。特許文献1に開示された有機EL素子の製造装置は、複数の工程を一つの設備で実施することができる。しかしながら、特許文献1に開示された製造装置は、設備の拡張や工程変更が困難であるという問題がある。すなわちクラスタ方式を採用する製造装置では、各装置を隙間無く環状に配置する必要があるから、新たな工程を実行する装置を後から入れることができない。またインライン方式においても同様であり、新たな工程を実行する装置を後から入れることは困難である。またクラスタ方式を採用する場合においても、インライン方式を採用する場合においても、各工程を円滑に実施することが困難であるという問題がある。すなわち有機EL素子は、基材に複数の薄膜層を積層したものである。そのため有機EL素子を製造するには、基材に複数の薄膜を成膜する必要がある。しかしながら、各層を成膜するために要する時間はまちまちである。そのため律速となる工程の前で待ち時間ができてしまい、工程が滞る。例えば、第2層の成膜に要する時間が第5層の成膜に要する時間の数倍である様な場合が考えられる。この様な場合には、第2層を成膜する成膜装置の数を第5層を成膜する装置よりも増やせば、待ち時間が少なくなり工程の滞りが解消される。しかしながら、クラスタ方式を採用する製造装置は、搬送室の周囲に複数の成膜室を房状クラスタ状に配置するレイアウトであるから、成膜室の数を多くすることは困難である。そのため同一工程の成膜室を複数設置することが困難であり、工程の滞りを解消することができない。またインライン方式は、原則的に各工程を実施する装置が工程順に直列に配列されるから、中途の工程を実施する装置を多くすることはできない。そこで本発明は、設備の拡張や工程変更が容易であり、且つ成膜に要する時間の長短を補うことが可能な有機EL素子の製造装置の開発を課題とする。またもう一つの問題として、特許文献1に記載された有機EL素子の製造装置は、クラスタ方式において、ハンドリングロボットに異常が発生すると、基板の搬送ができなくなり、生産が中断してしまう。ハンドリングロボットは、高い位置決め精度を確保するため搬送室に固定されている。そのため、ハンドリングロボットのメンテナンスが終わるまでは、生産の再開ができない。メンテナンス終了後には、搬送室を再度真空状態としなければならず、時間が掛かり、生産の再開が遅れる。また、特許文献1に記載された有機EL素子の製造装置は、インライン方式において、複数の成膜室同士の間に搬送室が配置されている。すなわち、複数の成膜室等が数珠つなぎ一列状態となっているため、途中の搬送室等に異常が発生すると、生産が中断してしまう。上記した現状に鑑み、本発明は、搬送室に異常が発生した場合でも、生産を継続可能な有機EL素子の製造装置の提供を目的とする。上記課題を解決するための発明は、複数の成膜用固定チャンバーと、1又は2以上の移動チャンバーとを有し、前記複数の成膜用固定チャンバーは、いずれも真空室と真空ポンプ、および扉とを備え、前記真空室内には気化した薄膜材料を放出する薄膜材料放出部があって前記真空室内で基材に所定の膜を蒸着することが可能であり、前記移動チャンバーは、真空室と真空ポンプ、および扉とを備え、移動チャンバーは、移動可能であって且つ基材を搬送可能であり、成膜用固定チャンバーと移動チャンバーは結合離脱が可能であり、前記複数の成膜用固定チャンバーは、列状に並べて配され、移動チャンバーは成膜用固定チャンバーと結合し互いの扉を開いて真空室同士を連通可能であり、成膜用固定チャンバーと移動チャンバーとの間で基材の受け渡しが可能であることを特徴とする有機EL素子の製造装置である。本発明の有機EL素子の製造装置は、2以上の移動チャンバーを有することが望ましい。移動チャンバーとは、従来の搬送室に相当する機能を発揮させるものである。有機EL素子の製造において、従来の搬送室は固定されたままであった。すなわち、搬送室は真空雰囲気に保つことが必要であり、真空ポンプやハンドリングロボット等の装置を備えた搬送室を移動させるという概念はなかった。本発明で採用する移動チャンバーは、移動可能であって且つ基材を搬送可能である。列状に並べて配された複数の成膜用固定チャンバーと移動チャンバーは結合離脱が可能であり、移動チャンバーは成膜用固定チャンバーと結合し互いの扉を開いて真空室同士を連通可能である。つまり、移動チャンバーと成膜用固定チャンバーとは、互いに真空状態を維持したまま真空室同士を一体化し、1つの真空空間にすることができる。本発明の製造装置では、1つの真空空間において、成膜用固定チャンバーと移動チャンバーとの間で基材の受け渡しができる。すなわち、成膜用固定チャンバーに対して、移動チャンバーの方が移動して結合し、真空雰囲気中で、移動チャンバーから成膜用固定チャンバーへ基材を渡すことができる。そして、基材の蒸着が終了すると、両者は再度結合して、真空雰囲気中で、移動チャンバーが成膜用固定チャンバーから基材を受け取ることができる。前述の移動チャンバーを複数配置することにより、例えば1つの移動チャンバーに異常が発生しても、正常な移動チャンバーと容易に交換ができるので、生産が中断することはない。本発明の有機EL素子の製造装置によれば、移動チャンバーに異常が発生した場合でも、生産を継続可能である。前記移動チャンバーは、プラズマクリーニング装置を有していることが望ましい。プラズマクリーニング装置とは、ガス雰囲気中で行うプラズマ放電により、基材表面に付着したカーボン等の汚れを除去し、基材表面の接着効果を改善可能なものである。プラズマクリーニング装置を用いることにより、有機EL素子を高寿命高品質とすることができる。従来は、プラズマクリーニング装置は、別途の独立した装置たる洗浄室に設けられていた。しかし、基材の洗浄に要する時間は短く、その一方で、洗浄室に対して基材の出し入れを行うのに要する時間の方が長いため、実作業に要する時間に比べて輸送時間が長く無駄が多かった。本発明で採用する移動チャンバーは、プラズマクリーニング装置を有している。すなわち、移動チャンバーで基材の洗浄を行うことができるため、別途の洗浄室を設ける必要がない。このことにより、従来行われていた洗浄室への基材の出し入れに要する時間が不要となる。従って本発明の有機EL素子の製造装置によれば、生産効率の向上が可能である。また本発明で採用する移動チャンバーは、窒素ガスその他の不活性ガスを当該チャンバー内に供給する不活性ガス供給装置を有していることが望ましい。窒素ガスは、化学的に安定した不活性ガスであり、他の物質と反応を起こしにくい。有機EL素子は、最終の封止工程において、窒素ガスその他の不活性ガス雰囲気中でガラスキャップと貼り合わされる。すなわち、窒素ガス供給装置等を用いて、例えば窒素ガスを真空室内に充満させることにより、全ての成膜を終えた基材を、最終の封止工程にスムーズに送ることが可能となる。また、何らかの理由で生産を中断する場合、移動チャンバー内に中間品状態の基材がとどまってしまう事態が想定される。ここで中間品状態の基材が置かれた雰囲気中に水蒸気が含まれていると、基材に積層された薄膜が劣化してしまう。その対策として、移動チャンバー内を真空に保持する方策が考えられる。この様に何らかの理由で生産を中断する場合、移動チャンバーを真空状態で保持する必要がある。そのため、真空ポンプを稼働させ続けることとなるが、真空ポンプを稼働させ続けることは安全上好ましくない。しかし、真空ポンプを停止すると、真空室内に大気が入り込む。その結果、基材に成膜された有機化合物が大気に晒され、大気中に含まれる水分で劣化してしまう。窒素ガスで封止された真空室では、生産途中の基材を劣化させることなく、一定期間保持できる。つまり、窒素ガスを用いることによって、真空ポンプを停止できるため、安全である。本発明の有機EL素子の製造装置は、安全面で優れている。前記移動チャンバーは、自走式の台車を有していることが望ましい。自走式の台車とは、モータ等の駆動装置を備えた台車を指している。すなわち、自走式の台車を有することにより、移動チャンバーの制御を容易に行うことができる。このことにより、いくつかの移動チャンバーを用いて、複数の成膜用固定チャンバーを同時に稼働させることができる。本発明の有機EL素子の製造装置によれば、高度な生産システムを容易に構築できる。有機EL素子の製造装置は、レールを有し、前記移動チャンバーはレールに沿って移動するものであることが望ましい。レールとは、固定された軌道を指している。すなわちレールは位置ズレ等を起こすことがない。レールに沿って移動チャンバーを移動せることにより、繰り返しの位置決め精度を高くすることができる。その結果、移動チャンバーを高速で移動できる。本発明の有機EL素子の製造装置によれば、生産速度を向上できる。移動チャンバーは、基材を加熱及び/又は冷却する加熱装置及び/又は冷却装置を有していることが望ましい。有機化合物は、水分に弱いという特徴がある。そのため、成膜が行われる基材は、予め加熱して水分を除去する必要がある。また、成膜用固定チャンバーにて成膜が行われた直後の基材は、蒸着時に加熱されるため、熱が蓄積されている。有機化合物が成膜された各有機層は、残留熱によりダメージを受ける恐れがある。そのため、成膜後には、基材を冷却する必要がある。すなわち、移動チャンバーが加熱装置及び/又は冷却装置を有することにより、移動チャンバー内で基材を加熱及び/又は冷却することができ、有機層の損傷を防止できる。本発明の有機EL素子の製造装置によれば、高品質の有機EL素子を製造できる。本発明の有機EL素子の製造装置は、移動チャンバーと共に移動する真空ポンプを有し、当該真空ポンプの吸引側は、移動チャンバーの一部であって移動チャンバーが成膜用固定チャンバーと結合した際に成膜用固定チャンバー側の扉と移動チャンバー側の扉との間で挟まれる空間に接続されており、前記空間を真空状態にすることができる構成とすることが望ましい。本発明の有機EL素子の製造装置は、真空ポンプの吸引側と前記空間とを接続する補助吸引回路と、前記真空ポンプの吸引側と移動チャンバーの内部を接続する主吸引回路とを有し、さらに補助吸引回路と主吸引回路にはそれぞれ開閉弁が設けられていることが望ましい。前記移動チャンバーは対向する両面に扉を有し、移動チャンバーは両面のどちらの扉でも成膜用固定チャンバーと結合可能であることが望ましい。前記真空室内に、基材を冷却する基材冷却手段が設けられていることが望ましい。基材冷却手段は冷却面を有し、基材を冷却面に当接させる基材当接手段を有することが望ましい。基材当接手段は、移動チャンバーの扉と連動して動作させる構造とすることが望ましい。本発明の有機EL素子の製造装置は、設備の拡張や変更が容易である。また本発明の有機EL素子の製造装置によれば、移動チャンバーに異常が発生した場合でも、生産を継続可能である。以下、本発明の有機EL素子の製造装置の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の説明は、実施形態の理解を容易にするためのものであり、これによって、本発明が制限して理解されるべきではない。また、各図面において、共通する部品については同一の符号を付すものとする。そのため、一度説明した部品については、その後は説明を省略する。図1に示す有機EL素子の製造装置1は、薄膜素子である有機EL素子を製造するための装置である。有機EL素子の製造装置1は、2基の移動チャンバー2,3と、12基の成膜用固定チャンバー4a~4lと、チャンバー移動装置5と、払出装置10と、洗浄チャンバー11と、金属チャンバー13,14と、レーザーチャンバー15,16と、受取装置17とを有している。ここで成膜用固定チャンバー4a~4lが有機層を成膜するものである。金属チャンバー13,14は、裏面電極層を成膜するものである。成膜用固定チャンバー4a~4lと金属チャンバー13,14は内部でガラス基板を真空蒸着する機能を備えている。レーザーチャンバー15,16は、レーザスクライブ装置を備えており、有機層や裏面電極層をレーザスクライブして溝を設ける機能を備えている。図2に示すように、12個の成膜用固定チャンバー4a~4l総括して番号4を付すは、移動チャンバー2,3およびチャンバー移動装置5を挟んで、2列に配置されている。各列には6個の成膜用固定チャンバー4が位置している。即ち6個の成膜用固定チャンバー4a,4c,4e,4g,4i,4kが一つの列を構成して並んでおり、残る6個の成膜用固定チャンバー4b,4d,4f,4h,4j,4lがもう一本の列を構成して並んでいる。そして成膜用固定チャンバー4a~4lの列同士がチャンバー移動装置5等を挟んで向き合っている。個々の成膜用固定チャンバー4a~4lに注目すると、成膜用固定チャンバー4aと成膜用固定チャンバー4bとが向き合い、成膜用固定チャンバー4c,4dが向き合い、成膜用固定チャンバー4e,4fが向き合い、成膜用固定チャンバー4g,4hが向き合い、成膜用固定チャンバー4i,4jが向き合い、成膜用固定チャンバー4k,4lが向き合う。金属チャンバー13,14と、レーザーチャンバー15,16は、成膜用固定チャンバー4の近傍に位置している。そして金属チャンバー13,14がチャンバー移動装置5等を挟んで向き合い、レーザーチャンバー15,16についても同様に向き合っている。各チャンバーは、いずれも筐体を持ち、その内部に個々の機能を発揮する装置が内蔵されている。各チャンバーは、いずれもガラス基板20を出し入れするための開口を有する。そして開口端には、フランジが設けられている。また開口を開閉するシャッター24が設けられている。さらに筐体内には、基材入出装置21が設けられている。以下、順次説明する。図3aに示すように、払出装置10は、筐体10aを有している。筐体10aは、天面、底面、両側面の四方が囲まれた箱体である。筐体10aの正面および背面には、それぞれシャッター24a,24bがそれぞれ設けられている。筐体10aの正面および背面の端部には、各々フランジ10o,10pが設けられている。フランジ10o,10pは四角であり、フランジ10oの4隅の内の対向する2角に穴10qが設けられている。正面および背面のシャッター24a,24bは、いずれもスライド型ゲートバルブと称されるものが採用されており、気密性を備えている。なお、シャッター24a,24bは、真空を保たれるものであれば良く、ドアバルブでも構わない。いずれのシャッター24a,24bについてもそれぞれスライド式の扉25,26を有している。扉25,26は、図3aの矢印の方向に、図示しないモータで開閉する。図3bに示すように、筐体10aの正面側のシャッター24aに属する扉25,26を開くと、筐体10aの正面側に開口10hが現れる。同様に、筐体10aの背面側のシャッター24bに属する扉25,26を開くと、筐体10aの背面側に開口10iが現れる。開口10hと開口10iとは、筐体10aの内部の空間10jを介して、連通している。空間10jには、4列のローラ列130a,131a,130b,131bが設けられている。ローラ列130a,131a,130b,131bは、上下のローラ列が一組となって基材入出装置21が構成されている。本実施形態では、基材入出装置21が2組設けられている。2組の基材入出装置21a,21bは、平行に並んでおり、開口10hおよび開口10iに対して、直交している。図21は、基材入出装置21の斜視図である。基材入出装置21は、上下のローラ列130,131によって構成されており、図22の様にローラ列130,131の間にガラス基板20を走行させるものである。図4は、図3bのA-A断面図である。図4に示すように、各組の基材入出装置21は、それぞれ複数のローラ22を有している。各組の基材入出装置21では、ローラ22は、筐体10a内部の天面10m側のローラ列130と、底面10n側のローラ列131に、それぞれ5個づつ設けられている。上下に設けられたローラ22は、それぞれ上下で直線状に位置している。そして上下のローラ列130,131は対向している。ローラ22は、図示しないモータで回転する。ローラ22を回転させることによって、ガラス基板20基材を立てたまま移動できる。すなわち、払出装置10は、図4の矢印に示す通り、開口10hおよび開口10iのどちらからでも、ガラス基板20を出し入れ可能である。このことにより、払出装置10は、外部から供給されるガラス基板20を空間10j内に装填し、有機EL素子の製造装置1のチャンバー移動装置5側へ払い出すことができる。逆にチャンバー移動装置5側から、有機EL素子の製造装置1の外にガラス基板20を払い出すことができる。受取装置17は、払出装置10と同一の構造の筐体10a及び基材入出装置21を有している。さらに受取装置17は、後述する窒素ガス供給装置50を備えている。受取装置17は、有機EL素子の製造装置1にて製造された有機EL素子を受け取り、最終工程へ払い出す用途に使用される。図5は、洗浄チャンバー11を図示したものである。洗浄チャンバー11は、ガラス基板をプラズマクリーニングするチャンバーである。図5に示すように、洗浄チャンバー11は、筐体11aを有している。筐体11aは、天面、底面、両側面、背面の五方が囲まれた箱体である。筐体11aの正面には、シャッター24が設けられている。なお、筐体11aの正面には、フランジ11bが設けられている。フランジ11bは四角であり、その4隅の内の対向する2角に穴11cが設けられている。筐体11aの内部には、空間11dを有している。図6に示すように、扉25,26を開くと、筐体11aの正面側に開口11eが現れる。洗浄チャンバー11は、プラズマクリーニング装置30と、基材入出装置21と、気体排出装置36とを有している。プラズマクリーニング装置30と、基材入出装置21と、気体排出装置36とは、2組づつ設けられている。2組の基材入出装置21は、2組のプラズマクリーニング装置30を挟んで平行に並んでおり、開口11eに対して直交している。気体排出装置36は、ダクト37と、バルブ38と、真空ポンプ39とを有している。ダクト37は、空間11d内から外へ突出している。ダクト37にはバルブ38を介して真空ポンプ39が接続されている。このことにより、真空ポンプ39は、空間11d内の気体を排出可能である。プラズマクリーニング装置30は、電極31,32と、高周波電源33と、インピーダンスを整合可能なマッチング装置34と、ガス供給管35とを有している。電極31,32は、空間11d内に位置しており、基材入出装置21を跨いで対向配置されている。電極31は、高周波電源33と、マッチング装置34を介して直列に接続されている。図7は、プラズマクリーニング装置30の構造を示す概念図であり、図7aはガラス基板20を装着する前の状態、図7bはガラス基板20を装着した状態である。なお、いずれの図についても基材入出装置21の図示を省略している。図7aに示すように、電極31,32は、板状の電極である。電極31の表面には孔31aが複数設けられている。ガス供給管35は電極31に接続され、孔31aと連通している。図7bに示すように、図示を省略した基材入出装置21を用いて、電極31,32間にガラス基板20を配置する。そして、酸素やアルゴンガス等の気体を、ガス供給管35を通じて電極31に供給する。すると、電極31に設けられた複数の孔31aから気体が噴射され、空間11d内に気体が拡がる。この状態で、電極31,32間にグロー放電を行うと、電極31,32間にプラズマが生じる。すなわち、洗浄チャンバー11は、発生したプラズマを用いて、ガラス基板20の洗浄が可能である。このことにより、洗浄チャンバー11は、ガラス基板20を開口11eから空間11d内に取り入れて洗浄し開口11eから排出することが可能である。つぎに、成膜用固定チャンバー4について説明する。本実施形態では、図2に示すように、12個の成膜用固定チャンバー4a~4lを有している。なお、成膜用固定チャンバー4a~4lは、同一の構成であるため、成膜用固定チャンバー4として説明する。図8に示すように、成膜用固定チャンバー4は、筐体12oを有している。筐体12oは、天面、底面、両側面、背面の五方が囲まれた箱体である。筐体12oの正面には、シャッター24が設けられている。また筐体12o内は真空室となる。筐体12oの正面には、フランジ12pが設けられている。フランジ12pは四角であり、その4隅の内の対向する2角に穴12qが設けられている。筐体12oの内部には、空間12rを有している。空間12rは、真空室12sを成している。図9に示すように、扉25,26を開くと、筐体12oの正面側に開口12tが現れる。成膜用固定チャンバー4は、蒸着装置40と、気体排出装置36と、基材入出装置21とを有している。気体排出装置36とは、筐体12aの底面にあり、蒸着装置40を挟んで2か所に設けられている。気体排出装置36は、ダクト37と、バルブ38と、真空ポンプ39とを有している。すなわち、気体排出装置36は、真空室12h内を真空状態にできる。基材入出装置21は、真空室12s内に2組設けられている。2組の基材入出装置21は、蒸着装置40を挟んで平行に並んでおり、開口12tに対して直交している。蒸着装置40は、蒸発装置41と、制御バルブ44と、蒸気チャンバー42と、2つの薄膜材料放出部43とを有している。2つの薄膜材料放出部43と蒸発装置41とは、制御バルブ44を介して、蒸気チャンバー42で接続されている。蒸発装置41は、公知の坩堝45と気化用電気ヒータ46によって構成されている。蒸発装置41の構造及び機能は、公知のそれと同一であり、坩堝45内に薄膜材料を入れ、電気ヒータ46で薄膜材料を溶融し、さらに気化させることができる。蒸気チャンバー42は、薄膜材料の蒸気が通過する通路として機能するものである。蒸気チャンバー42の外周面には、図示しない保温用ヒータが取り付けられている。制御バルブ44は、蒸気量を調整可能である。図10は蒸着装置40の構造を示す概念図であり、図10aはガラス基板20を装着する前の状態、図10bはガラス基板20を装着した状態である。図10aに示すように、薄膜材料放出部43は、板状であり、正面に複数の孔43aを有している。薄膜材料放出部43は、当業者の間で、エリアソースと称される原料供給方式を採用するものである。薄膜材料放出部43は、シャワープレートとも呼ばれている。なお、薄膜材料放出部43は、エリアソースに限定されるものではなく、リニアソースを用い、リニアソースが上下又は基板進行方向に可動するタイプでも良い。薄膜材料放出部43の内部は空洞であり、薄膜材料放出部43の背面に蒸気チャンバー42が接続されている。そのため、孔43aは、蒸気チャンバー42に連通している。薄膜材料放出部43は、真空室12s内に設置されている。図10bに示すように、図示を省略した基材入出装置21を用いて、薄膜材料放出部43にガラス基板20を対向配置させる。そして、図示を省略した扉25,26を閉め、気体排出装置36を用いて真空室12s内を真空状態とする。この状態で、蒸発装置41で蒸発させた薄膜材料を、蒸気チャンバー42を通じて、薄膜材料放出部43に供給する。その結果、薄膜材料放出部43に設けられた複数の孔43aから、蒸発した薄膜材料が噴出され、ガラス基板20に蒸着する。つぎに、移動チャンバー2,3について説明する。図11に示すように、移動チャンバー2,3は、チャンバー移動装置5の上に載置されている。なお、移動チャンバー2,3は、同一の構成であるので、それらを構成する部材には同一の符号を付すものとし、移動チャンバー3の説明は省略する。移動チャンバー2は、筐体2aを有している。筐体2aは、天面、底面、両側面の四方が囲まれた箱体である。筐体2aの正面および背面には、シャッター24が設けられている。筐体2aの天面には、気体排出装置36と、窒素ガス供給装置50とが設けられている。筐体2aの正面および背面の端部には、各々フランジ2b,2cが設けられている。フランジ2b,2cの大きさは、前述の払出装置10のフランジ10o、洗浄チャンバー11のフランジ11b、成膜用固定チャンバー4のフランジ12pと同一である。フランジ2b,2cは四角であり、その4隅の内の対向する2角にピン2dが設けられている。ピン2dの位置は、前述の払出装置10の穴10q、洗浄チャンバー11の穴11c、成膜用固定チャンバー4の穴12qの位置に相当している。また、フランジ2b,2cには、オーリング28Oリングが装着されている。オーリング28は、公知の密封部材である。オーリング28の断面形状は、図12bのように円形である。オーリング28の断面形状は、台形状でも良く、正方形等の他の多角形でも構わない。なお、オーリング28の代わりに、公知のインフラートシールを用いても構わない。図12aに示すように、扉25,26を開くと、筐体2aの正面側に開口2eが現れ、筐体2aの背面側に開口2fが現れる。開口2eと開口2fの大きさは、前述の払出装置10の開口10h,10i、洗浄チャンバー11の開口11e、成膜用固定チャンバー4の開口12tと同一である。開口2eと開口2fとは、筐体2aの内部の空間2gを介して、連通している。空間2gは、真空室2hを成している。筐体2aの天面に設けられた窒素ガス供給装置50は、本体51と、バルブ53と、ガス供給管52とを有している。ガス供給管52は、筐体2aの天面から真空室2h内に突出している。本体51は、バルブ53を介して、ガス供給管52に接続されている。本体51は、窒素ガスを供給可能である。すなわち、窒素ガス供給装置50は、バルブ53とガス供給管52を通じて、真空室2h内に窒素ガスを供給可能である。筐体2aの天面に設けられた気体排出装置36は、ダクト37と、バルブ38と、真空ポンプ39とを有している。すなわち、気体排出装置36は、真空室2h内を真空状態にできる。真空室2h内には、2組の基材入出装置21と、熱媒体循環温度調節機48とが設けられている。2組の基材入出装置21は、真空室2h内に平行に並んでいる。2組の基材入出装置21が位置する間隔は、前述の払出装置10、洗浄チャンバー11、成膜用固定チャンバー4が各々備える2組の基材入出装置21の間隔と同一である。図12bに示すように、基材入出装置21は、開口2eおよび開口2fに対して、直交している。すなわち、移動チャンバー2は、開口2eおよび開口2fのどちらからでもガラス基板20を出し入れ可能である。図12aに示した熱媒体循環温度調節機48は、加熱機能と冷却機能とを有した温度調節機である。熱媒体循環温度調節機48の内部には、水等の熱媒体の循環路図示せずが設けられており、熱媒体を加熱又は冷却することで、真空室2h内に配置されるガラス基板20を加熱又は冷却することができる。なお、熱媒体循環温度調節機48の代わりに、加熱装置としてパネルヒータやシースヒータ等を用いても構わない。また、冷却装置として、ペルチエ素子を用いたクーラー等を用いても良い。或いは、冷却装置として、窒素ガス供給装置50や水素ガス供給装置を用いても構わない。窒素ガスや水素ガスは、ガラス基板20の冷却効果に優れているからである。図12bに示すように、移動チャンバー2は、筐体2aの底面側に、チャンバー間真空引きポンプ回路55を有している。チャンバー間真空引きポンプ回路55は、2つのダクト配管56a,56bと、2つのバルブ57a,57bと、真空ポンプ58から構成されている。チャンバー間真空引きポンプ回路55は、移動チャンバー2が他のチャンバーとドッキングした際に生じるチャンバー間の空間90,91を、真空雰囲気にする装置である。そのため、2つのダクト56は、各々真空室2h外であって開口2e,2fの近傍に設けられている。ダクト56は、シャッター24よりも外側に接続されている。図11に示すように、チャンバー移動装置5は、移動チャンバー2を平面内で前後左右に移動させるものである。チャンバー移動装置5は、一対のレール60と、移動台車65とを有している。レール60の上には、移動台車65が載置されている。移動台車65の上には、移動チャンバー2が固定されている。レール60は、水平方向に延びており、公知の列車用レールと同様の断面形状をしている。レール60は、床面に設けられたまくら木64に、公知のタイプレート等によって固定されている。レール60の間には、長尺のラック62が位置している。ラック62は歯61を有しており、歯61は横向きに設けられている。レール60の端部には、ストッパ63が設けられている。ストッパ63には、公知のショックアブソーバが内蔵されている。移動台車65は、車輪68と、ベース板67と、直線ガイド69と、移動板66とを有している。車輪68は回転可能な状態で、ベース板67に軸支されている。車輪68は、レール60の上に載置されている。ベース板67の一部には張出部70があり、ギヤードモータ等のモータ71が設けられている。モータ71は、ベース板67の下側に位置するピニオンギア72に連結されている。ピニオンギア72は、ラック62の歯61と係合している。すなわち、モータ71を回転させると、ピニオンギア72が回転する。ピニオンギア72は歯61と噛み合っていることから、移動台車65はラック62に沿ってレール60上を自走する。一方、ベース板67の上には、一対の直線ガイド69が固定されている。直線ガイド69は、レール60に対して直交している。直線ガイド69の上には、移動板66が位置している。移動板66の上には、移動チャンバー2が固定されている。図13に示すように、一対の直線ガイド69の間には、電動シリンダ74が位置している。電動シリンダ74は、シャフト75と2つの固定部76とを有している。固定部76はベース板67に固定されている。2つの固定部76は、直線ガイド69の長手方向と同等の長さだけ離れている。シャフト75は、2つの固定部76の間に位置している。シャフト75の両端部は、固定部76に固定されている。電動シリンダ74は、中空状であり、シャフト75に嵌められている。電動シリンダ74は、シャフト75に沿って、図13の矢印の方向にスライド可能である。電動シリンダ74には、移動板66が固定される。移動板66は、直線ガイド69に跨っている。移動板66の上には移動チャンバー2が固定されている。電動シリンダ74を図13の矢印の方向にスライドさせると、移動板66と移動チャンバー2がスライドする。直線ガイド69はレール60に直交していることから、移動チャンバー2はレール60に直交する方向にスライドする。すなわち、移動チャンバー2は、図14の矢印で示す前後左右の方向に、移動可能である。このため、移動チャンバー2は、前述の払出装置10や洗浄チャンバー11、および成膜用固定チャンバー4の内、目的とする位置へレール60に沿って移動できる。前述のチャンバーの前で停止した後、移動チャンバー2を前後方向に移動することにより、前述のチャンバーと近接離反することができる。図15は、成膜用固定チャンバー4に移動チャンバー2が近接して結合した状態を示す。成膜用固定チャンバー4と移動チャンバー2とは、フランジ12pとフランジ2cが接合する。この時、フランジ12pに設けられた2つの穴12qに、フランジ2cが有する2つのピン2dが挿入される。このことにより、成膜用固定チャンバー4と移動チャンバー2とは、位置ズレを生じることがない。また、成膜用固定チャンバー4と移動チャンバー2との結合状態は、図16の断面図で示すことができる。図16に示すように、成膜用固定チャンバー4と移動チャンバー2とは、フランジ12pとフランジ2cとが、オーリング28を挟んで接合されている。オーリング28によって、フランジ12pとフランジ2cとは密封されている。フランジ12pとフランジ2cとの間成膜用固定チャンバー4と移動チャンバー2との間;チャンバー間には、密封された空間90が生じている。空間90内は、チャンバー間真空引きポンプ回路55によって、真空雰囲気にされる。なお、フランジ2bについても、同様である。すなわち、フランジ2bと移動チャンバー2のフランジ12pとが接合した際には、フランジ2bとフランジ12pとの間の空間91も真空雰囲気にされる。成膜用固定チャンバー4と移動チャンバー2とのガラス基板20の移動方法について、図17a~dを用いて説明する。図17aは、成膜用固定チャンバー4と移動チャンバー2とが結合した状態を示す。フランジ12pとフランジ2c同士はオーリング28を挟んで接合している。この時、成膜用固定チャンバー4の開口12tと、移動チャンバー2の開口2fとは対面している。また成膜用固定チャンバー4と移動チャンバー2とが有するシャッター24同士も対面している。この状態において、前述の通り、フランジ12pとフランジ2cとの間の空間90を、チャンバー間真空引きポンプ回路55によって、真空雰囲気にする。また、成膜用固定チャンバー4と移動チャンバー2とは、どちらも気体排出装置36を備えている。このことにより、成膜用固定チャンバー4が有する真空室12sと、移動チャンバー2が有する真空室2hとは、どちらも真空状態にある。図17aでは、移動チャンバー2側の真空室2h内には、ガラス基板20が保持されている。図17bは、図17aの状態から、対面したシャッター24同士を開いた状態を示す。成膜用固定チャンバー4の開口12tと、移動チャンバー2の開口2fとは連通している。その結果、成膜用固定チャンバー4が有する真空室12sと、空間90と、移動チャンバー2が有する真空室2hとが連通して一体化され、1つの空間を成している。真空室12sと、空間90と、真空室2hとは、いずれも真空状態であったので、一体化された空間も真空状態を維持したままである。一体化された空間において、成膜用固定チャンバー4と移動チャンバー2とが有する基材入出装置21を動作させる。すると、ガラス基板20は、図17bに示す矢印の方向へ移動を開始する。図17cは、図17bの状態から、ガラス基板20の移動が完了した状態を示す。ガラス基板20は、一体化された空間である真空室2h内と空間90内とを移動し、真空室12sへと至っている。この時も、真空室12sと、空間90と、真空室2hとは、真空状態を維持したままである。図17dは、図17cの状態から、対面したシャッター24同士を閉めた状態を示す。この時、一体化された空間である真空室12sと、空間90と、真空室2hとは、2つのシャッター24で分断され、それぞれ独立した空間となる。つまり、それぞれ移動チャンバー2、成膜用固定チャンバー4として機能できる。この状態において、チャンバー間真空引きポンプ回路55の真空ポンプ58を停止して、空間90を大気に戻すと、移動チャンバー2は成膜用固定チャンバー4から離脱することができる。上記のように、本実施形態では、移動チャンバー2と成膜用固定チャンバー4との間で、真空状態を維持したまま、ガラス基板20を受け渡しすることができる。すなわち、移動チャンバー2を用いることにより、前述の払出装置10や洗浄チャンバー11、および成膜用固定チャンバー4等との間で真空状態を維持したまま、ガラス基板20を受け渡しすることができる。有機EL素子の製造装置1を用いたガラス基板20への成膜工程の概要について、図18aを用いて説明する。ガラス基板20は、払出装置10から移動チャンバー2に払い出され、移動チャンバー2によって洗浄チャンバー11に移載される。そしてガラス基板20は、洗浄チャンバー11で洗浄処理される。洗浄後のガラス基板20は、再度移動チャンバー2に戻され、移動チャンバー2によって成膜用固定チャンバー4aへ移動する。成膜用固定チャンバー4aでは、ガラス基板20に1層目の膜が蒸着される。1層目の成膜が完了すると、ガラス基板20は、成膜用固定チャンバー4bへ移動する。成膜用固定チャンバー4bでは、ガラス基板20に2層目の膜が蒸着される。その後、同様に、成膜用固定チャンバー4c~4lの順番で、ガラス基板20に膜を蒸着し、有機EL素子が完成する。つぎに、ガラス基板20への成膜工程について、図18a~c、図19a~cを用いて、詳細に説明する。なお、図18a~c、図19a~cにおいては、ガラス基板20の図示を省略するが、矢印はガラス基板20の移動方向を示す。ガラス基板20への成膜工程は、外部から払出装置10にガラス基板20を導入することから開始される。ここで払出装置10に導入されるガラス基板20には、説明を省略する前工程によって、透明電極層302が成膜されており、さらに説明しないスクライブ工程によって、一定間隔に溝310図33が設けられている。次いで、払出装置10内のガラス基板20を移動チャンバー2側に移す。そして移動チャンバー2を直線ガイド69に沿って前進図では下方向に後退することとなるさせ、移動チャンバー2と洗浄チャンバー11を結合する。すなわち、洗浄チャンバー11は払出装置10に対向する位置にあるから、移動チャンバー2を直線ガイド69に沿って移動させ、先に払出装置10と結合していた側と反対側の開口を洗浄チャンバー11に接続する。そして基材入出装置21を動作させて、ガラス基板20を洗浄チャンバー11に移動させ、ガラス基板を洗浄する。その後、移動チャンバー2をレール60に沿って各チャンバーの列間を直線移動させて、ガラス基板20を成膜用固定チャンバー4a~4lに順次移動し、所定の膜機能層303図33を成膜する。成膜を終えたガラス基板20は、移動チャンバー2によってレーザーチャンバー15,16内に移動され、レーザースクライブ工程を行う。即ち成膜された機能層303に溝311図33を設ける。その後さらに移動チャンバー2によってガラス基板20は、金属チャンバー13,14に移送され、金属チャンバー13,14内で裏面電極層304図33を成膜する。即ち移動チャンバー2をレール60に沿って各チャンバーの列間を直線移動させて金属チャンバー13,14のいずれかの前で停止し、その後に移動チャンバー2を直線ガイド69に沿って前進させ、移動チャンバー2と金属チャンバー13,14を結合する。そして基材入出装置21を動作させて、金属チャンバー13,14内で、裏面電極層304図33を成膜する。そして再度移動チャンバー2によってガラス基板20をレーザーチャンバー15,16内に移動させ、さらに機能層303と裏面電極層304を貫通した共通溝315を形成させる。その後、移動チャンバー2によってガラス基板20を受取装置17に移動させ、次工程にガラス基板20を送る。図18a~c、図19a~cは、前記した工程の代表的な段階を図示したものである。図18aでは、払出装置10に移動チャンバー2が結合している。この状態において、払出装置10から移動チャンバー2へ、ガラス基板20が払い出されている。移動チャンバー2内では、熱媒体循環温度調節機48でガラス基板20が摂氏80~150度に加熱される。加熱によりガラス基板20の水分が除去された後、熱媒体循環温度調節機48でガラス基板20が20~40°Cに冷却される。或いは、窒素ガス供給装置50から真空室2h内に窒素ガスを供給し、真空室2h内の空気と置換することで、水分を含んだ空気を排出し、ガラス基板20の水分を除去しても構わない。ガラス基板20が払い出されている際には、移動チャンバー3は停止したままである。図18bでは、ガラス基板20を保持した移動チャンバー2が、洗浄チャンバー11へ移動している。この状態において、洗浄チャンバー11に移動チャンバー2が結合し、洗浄チャンバー11へガラス基板20が渡される。なお本実施形態では、移動チャンバー2の正面側のシャッター24が開かれて、ガラス基板20が洗浄チャンバー11へ渡される。そして、洗浄チャンバー11内でプラズマクリーニングが施されたガラス基板20は、移動チャンバー2へ戻される。ガラス基板20を洗浄チャンバー11から移動チャンバー2に載せ換える段階では、移動チャンバー3は停止している。図18cでは、洗浄チャンバー11を離れた移動チャンバー2が、有機層を成膜する成膜用固定チャンバー4aへ移動している。この状態において、成膜用固定チャンバー4aに移動チャンバー2が結合し、成膜用固定チャンバー4aへガラス基板20が渡されている。この時、移動チャンバー3は停止したままである。図19aでは、移動チャンバー3が成膜用固定チャンバー4aへ移動し、結合している。そして、成膜用固定チャンバー4a内で成膜されたガラス基板20を、移動チャンバー3が受け取っている。成膜直後のガラス基板20は基板に60~100°C以上の熱が蓄積されている。そのため、移動チャンバー3内では、熱媒体循環温度調節機48でガラス基板20が20~40°Cに冷却される。一方、移動チャンバー2は、払出装置10へ移動し、結合している。そして、前述と同様に、払出装置10から移動チャンバー2へ、ガラス基板20が払い出されている。移動チャンバー2内では、前述と同様に、熱媒体循環温度調節機48でガラス基板20の加熱及び冷却が施される。図19bでは、移動チャンバー3が成膜用固定チャンバー4bへ移動し、結合している。そして、移動チャンバー3から成膜用固定チャンバー4bにガラス基板20が渡されている。一方、移動チャンバー2は、洗浄チャンバー11へ移動している。そして、前述と同様に、洗浄チャンバー11へガラス基板20を渡し、プラズマクリーニングが施された後、移動チャンバー2へ戻される。図19cでは、移動チャンバー3は、移動チャンバー2から干渉されない位置まで離れている。この状態において、移動チャンバー3は、成膜用固定チャンバー4bに搬送したガラス基板20が成膜されるまで待機する。一方、移動チャンバー2は、成膜用固定チャンバー4aへ移動し、結合している。そして、前述と同様に、成膜用固定チャンバー4aへガラス基板20が渡されている。以下、移動チャンバー3は、ガラス基板20を成膜用固定チャンバー4b~4lの順番に搬送し、ガラス基板20に成膜を行う。その間、移動チャンバー3は、移動チャンバー2から搬送される別のガラス基板20を、前述と同様に、成膜用固定チャンバー4aから受け取り、ガラス基板20を成膜用固定チャンバー4b~4lの順番に搬送する。ガラス基板20は、各成膜用固定チャンバー4で成膜される度に、移動チャンバー2又は3内で、熱媒体循環温度調節機48によって冷却される。そして、全ての成膜用固定チャンバー4で成膜を終えると、ガラス基板20は有機EL素子となる。ガラス基板20に複数の薄膜材料が蒸着された有機EL素子は、レーザーチャンバー15,16内でレーザースクライブ工程を経て、金属チャンバー13,14内で金属層が蒸着された後、移動チャンバー2又は3に戻される。移動チャンバー2又は3内では、窒素ガス供給装置50で真空室2h内が窒素ガス雰囲気にされる。この時、真空室2h内は、真空状態から大気圧へと戻される。窒素ガス雰囲気になった移動チャンバー2又は3から受取装置17へ、有機EL素子が渡される。そして、受取装置17から、次工程である封止工程へ払い出される。前述のように、有機EL素子の製造装置1は、移動チャンバー2,3を有している。移動チャンバー3は、移動チャンバー2と同一構造のものである。このことにより、移動チャンバー2に異常が発生しても、移動チャンバー3でガラス基板20を搬送可能であり、有機EL素子の製造装置1が停止することはない。図20に示す有機EL素子の製造装置80は、本実施形態の有機EL素子の製造装置1の変形例である。すなわち、前述の有機EL素子の製造装置1に移動チャンバー7,8を追加したものである。移動チャンバー7,8は、移動チャンバー2と同一の構成を有している。移動チャンバー2,3,7,8を備えることにより、複数の成膜用固定チャンバー4を同時に稼働させることができる。そのため、有機EL素子の製造装置80では、高効率の生産システムを構築可能である。上記した実施形態では、成膜用固定チャンバー4a~4lが、単層を成膜する蒸着装置40を備えた例を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、蒸着装置40が複数の坩堝を有して、複数の膜を成膜可能としても構わない。また、1つの成膜用固定チャンバーに複数組のソース薄膜材料放出部43を設置し、複数枚の基板を同時に搬送蒸着しても構わない。以上のように、本発明の有機EL素子の製造装置1,80によれば、移動チャンバー2に異常が発生した場合でも、生産を継続可能である。前記した実施形態では、成膜用固定チャンバー4a~4lは、筐体12o内に、蒸着装置40と、基材入出装置21が設けられたものであるが、これに加えて、基材冷却装置140を内蔵させることが推奨される。図23乃至図27は、成膜用固定チャンバーの変形例を示し、筐体12o内に、基材冷却装置140が内蔵されている。基材冷却装置140は板状であり、表面に冷却面142を備えている。基材冷却装置140は、薄膜材料放出部43に対向する位置に設けられている。なお薄膜材料放出部43と基材冷却装置140の間には、ガラス基板20が挿入される空間がある。薄膜材料放出部43は内部に図示しない冷却液が循環し、冷却面142の温度が一定温度以下に維持される。図23乃至図27に示す成膜用固定チャンバー145は、さらにガラス基板20を冷却面142に当接させる基材当接手段を備えている。すなわち図23乃至図27に示す成膜用固定チャンバー145では、基材入出装置21が可動式となっている。基材入出装置21は、上下2列のローラ列130,131を有しているが、本実施形態では、このローラ列130,131の一部または全体が、基材冷却装置140側に移動する。本実施形態では、図26の様に、ガラス基板20は、薄膜材料放出部43と基材冷却装置140の間の空間に挿入され、その後、基材入出装置21のローラ列130,131の一部又は全部が基材冷却装置140側に移動し、その結果、図27の様にガラス基板20は基材冷却装置140側に移動し、その背面が基材冷却装置140に接触する。そしてこの状態で、蒸着作業を行う。その結果、ガラス基板20の過度の温度上昇が抑制され、成膜材料の変質を防止することができる。ローラ列130,131を基材冷却装置140側に移動させる方法は、任意であり、例えばシリンダーやモータによって、ローラ列130,131を平行移動させる方策が考えられる。また図28に示すように、ローラ列130,131の一端側133をピン135等によって真空室12sの奥側に回動可能に固定し、開口側を水平方向に移動可能な構成とする。そして開口側を薄膜材料放出部43と基材冷却装置140の間で移動させる。その結果、ローラ列130,131の開口側が基材冷却装置140側に近接し、結果的に、ガラス基板20が、基材冷却装置140側に近づく。また基材入出装置21とは別に、ガラス基板20を基材冷却装置140側に寄せる装置を設けてもよい。ガラス基板を基材冷却装置140側に寄せる際の動力であるが、前記したシリンダーや、モータ等を別途設けてもよいが、移動チャンバー2から動力を得る方法や、成膜用固定チャンバー4が必須とする動力を利用してガラス基板を基材冷却装置140側に寄せることも推奨される。即ち成膜用固定チャンバー4内は、真空蒸着を行う部屋であるから、高い清浄度と真空度が要求される。そのためエアーシリンダーやオイルシリンダーを成膜用固定チャンバー4内に入れるべきではない。またモータについても、成膜用固定チャンバー4内に入れることは避けたい。そこで、移動チャンバー2から、動力軸や動力竿を突出させ、これを成膜用固定チャンバー4と嵌合させてガラス基板20を基材冷却装置140側に寄せる。また成膜用固定チャンバー4の動力を活用する場合であれば、例えば、成膜用固定チャンバーの扉25,26が閉じる際の力を利用してガラス基板を基材冷却装置140側に寄せる。例えば、図29、図30の機構図で示すように、扉25,26が開閉する力を利用して基材入出装置21を平行移動させる。すなわち扉25,26にL字状のリンク125,126の一端を回転可能に係合し、他端側を基材入出装置21のローラ列に回転可能に係合させる。そしてリンク125,126の中間部をピン127等によって成膜用固定チャンバー4に対して回動可能に係合させる。図29、図30に示す機構によると、扉25,26が開いた状態の際には基材入出装置21のローラ列131は真空室12sの中央側にあり、扉25,26が閉じるとローラ列131は基材冷却装置140側に移動する。そのため成膜用固定チャンバー内にガラス基板20が入り、扉25,26が閉じるとガラス基板20は基材冷却装置140側に移動し、その背面が基材冷却装置140に接する。図31に示す移動チャンバー99は、移動チャンバー2の変形例である。移動チャンバー99は、先の実施形態で示した移動チャンバー2が有する気体排出装置36に代えて、気体排出装置100を備えたものである。そのため、移動チャンバー99において、移動チャンバー2と同一の部材については同一の番号を付して、重複した説明を省略する。気体排出装置100は、気体を排出するための排出回路101と、排出回路101を作用させる対象空間を選択可能な分岐回路102とを有している。排出回路101は、主回路109と、粗引き回路110の2系統の排出回路から構成されている。主回路109は、主バルブ103と、クライオポンプ104と、再生バルブ105と、再生用粗引きポンプ106とを有している。クライオポンプ104は、気体を冷却して凝縮し、凝縮した気体を内部に貯留可能なポンプであり、一定サイクルで再生工程が必要である。そのため、主回路109は、再生用粗引きポンプ106を備えている。一方、粗引き回路110は、粗引きバルブ107と、粗引きポンプ108とを有している。排出回路101において、主回路109と粗引き回路110とを用いることで、対象空間を高真空にすることができる。なお、高真空とは、10のマイナス4乗~10のマイナス5乗パスカルPa程度の減圧状態を指している。主回路109と粗引き回路110は、それぞれ主バルブ103と粗引きバルブ107の開閉によって、分岐回路102に作用させるかどうかを選択できる。分岐回路102は、補助吸引回路117,118と、主吸引回路119の3系統の回路から構成されている。ここで補助吸引回路117,118は、クライオポンプ104の吸引側と移動チャンバー99が他のチャンバーと接続した際に生じるチャンバー間の空間90,91を接続する配管系統である。また主吸引回路119は、クライオポンプ104の吸引側と、移動チャンバー99内の空間2g真空室2hとを接続する配管系統である。補助吸引回路117は、バルブ111と配管112を有し、配管112は開口2fの近傍に設けられている。補助吸引回路118は、補助吸引回路117と同様に、バルブ115と配管116を有し、配管116は開口2eの近傍に設けられている。配管112,116は、いずれもシャッター24の外側に位置しており、移動チャンバー99の真空室2hの外側に連通している。そのため、補助吸引回路117,118は、いずれも移動チャンバー99が他のチャンバーと接続した際に生じるチャンバー間の空間90,91に、分岐回路102を接続可能である。一方、主吸引回路119は、バルブ113と配管114を有し、配管114は移動チャンバー99内の空間2g真空室2hに連通している。そのため、主吸引回路119は、移動チャンバー99内の空間2g真空室2hに排出回路101を接続可能である。すなわち、排出回路101と分岐回路102を備えた気体排出装置100を用いることで、移動チャンバー99内の空間2g真空室2hを高真空にできると共に、移動チャンバー99の外に生じる空間90,91も高真空にできる。さらに、移動チャンバー99は、前述の移動チャンバー2と同様に、筐体2aの底面側にチャンバー間真空引きポンプ回路55を有している。そのため、移動チャンバー99では、気体排出装置100とチャンバー間真空引きポンプ回路55の両方を用いることで、移動チャンバー99が他のチャンバーと接続した際に生じるチャンバー間の空間90,91を短時間で高真空にできる。その結果、移動チャンバー99と他のチャンバーとの基板の受け渡し時間を短縮できる。なお、移動チャンバー99と他のチャンバーとの間に生じる空間90,91は、図31において大きな空間と見えるように図示されているが、あくまで説明を理解し易くするためのものであり、実際には僅かな空間である。上記した実施形態では、洗浄チャンバー11を別途設けたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図6に示したプラズマクリーニング装置30を、移動チャンバー2に備えても構わない。こうすることにより、移動チャンバー2でガラス基板20の洗浄を行うことができるため、洗浄チャンバー11が不要となる。図32に示す移動チャンバー95は、移動チャンバー2の別の変形例である。移動チャンバー95は、先の実施形態で示した移動チャンバー2が有する熱媒体循環温度調節機48の代わりに、プラズマクリーニング装置30を備えたものである。そのため、移動チャンバー95において、移動チャンバー2と同一の部材については同一の番号を付して重複した説明を省略する。プラズマクリーニング装置30は、前述の通り、ガス供給管35を通じて気体を電極31に供給し、電極31,32間でグロー放電を行ってプラズマを生じさせ、発生したプラズマを用いて、電極31,32間に配置したガラス基板20の洗浄を行うものである。つまり、移動チャンバー95内でガラス基板20の洗浄ができるため、洗浄チャンバー11が不要となる。このことにより、有機EL素子の製造装置1で行われていた洗浄チャンバー11へのガラス基板20の出し入れが不要となり、生産時間を短縮できる。上記実施形態において、移動チャンバー2に窒素ガス供給装置50を設けた構成を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、気体供給装置を設け、窒素ガスのほかに、クリーンドライエアCDA等を真空室2h内に供給しても構わない。窒素ガスと同様に、クリーンドライエアで真空室2h内の空気を置換することで、水分を含んだ空気を排出し、ガラス基板20の水分を除去しても構わない。なお、クリーンドライエアとは、乾燥した低露点の空気であり、清浄度の高い気体である。上記実施形態において、移動チャンバー2に熱媒体循環温度調節機48を設けた構成を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、熱媒体循環温度調節機48の代わりに、加熱装置及び/又は冷却装置を設けても構わない。次に、上述した有機EL素子の製造装置1等によって製造されることが望ましい有機EL装置の構造及びその製造方法について簡単に説明する。以下に例示する有機EL装置300は、集積型の有機EL装置である。集積型有機EL装置300は、短冊状に形成された有機EL素子以下、単位EL素子と称するを電気的に直列に接続したものである。集積型有機EL装置300の層構成は図33の通りであり、複数の溝が設けられていて一つの平面状の有機EL素子が短冊状の単位EL素子に分割されている。即ち、集積型有機EL装置300は、基板301に透明電極層302と機能層303及び裏面電極層304が順次積層されたものであるが、各層に溝310,311,312,313が形成されている。集積型有機EL装置300は、透明電極層302に設けられた第一溝310と、機能層303具体的には正孔注入層210、正孔輸送層211、発光層212、及び電子輸送層213及び裏面電極層304に設けられた共通溝315によって各薄層が区画され、独立した単位EL素子320a,320bが形成されている。そして前記した様に、第二溝311の中に裏面電極層304の一部が進入し、裏面電極層304の一部が透明電極層302と接しており、一つの単位EL素子320aは隣接する単位EL素子320bと電気的に直列に接続されている。集積型有機EL装置300では、各単位素子が全て直列に電気接続され、全ての単位素子が発光する。集積型有機EL装置300を製造する際には、最初の工程として図34aの様にガラス等の透光性を有する基板基材301の上に、透明電極層302を成膜する。そして続いて、第一レーザスクライブ工程を行い、図34bの様に、透明電極層302に対してレーザスクライブによって第一溝310を形成する。次に、この基板301を成膜用固定チャンバー4に入れ、正孔注入層210、正孔輸送層211、発光層212、及び電子輸送層213を順次堆積し、図34cに示すように、機能層303を形成する。なお、必要に応じて、電子輸送層213の上に電子注入層を設けても構わない。この機能層303を形成する際にも本実施形態の有機EL素子の製造装置1等を使用することができる。特に本実施形態の有機EL素子の製造装置1等を採用すれば、前記した正孔注入層210、正孔輸送層211、発光層212、及び電子輸送層213を、一つの有機EL素子の製造装置1で成膜することができるので、高い生産性をもって機能層303の成膜を行うことができる。そして成膜用固定チャンバー4から取り出した基板301に対して第二レーザスクライブ工程を行い、図34dの様に機能層303に第二溝311を形成する。続いて、金属チャンバー13,14に前記基板301を挿入し、図34eの様に機能層303の上に、アルミニウムAlや銀Agなどの金属材料からなる裏面電極層304を形成する。裏面電極層304を形成する工程についても、本発明の有機EL素子の製造装置1等を使用することができる。さらに続いて第三レーザスクライブ工程を行い、図34fの様に裏面電極層304と機能層303の双方に共通溝315を形成する。そしてさらに図示しない給電電極の成形や、その外側における分離溝図示せずの成形、分離溝の外側部分の裏面電極層304等の除去及び封止部による封止の作業が行われて有機EL装置光電変換装置が完成する。"