測定光をビームスプリッタで分離して移動鏡および固定鏡に導き、前記移動鏡および前記固定鏡にて反射された各光を前記ビームスプリッタで合波し、合波して得られた測定干渉光を測定光検出器に導く測定光学系と、参照光源からの参照光を前記ビームスプリッタで分離して前記移動鏡および前記固定鏡に導き、前記移動鏡および前記固定鏡にて反射された各光を前記ビームスプリッタで合波し、合波して得られた参照干渉光を参照光検出器に導く参照光学系とを備え、前記参照光検出器での検出結果に基づいて前記移動鏡の位置を検知しながら、前記測定干渉光を計測する干渉計であって、前記参照光源は、半導体レーザ、または前記半導体レーサから出射されるレーザ光を導波路またはファイバを介して射出するレーザ光源で構成されており、前記参照光学系は、前記参照光源から出射されるレーザ光をコリメート光に変換する参照光用コリメート光学系を有しており、前記コリメート光は、前記固定鏡に対して斜めに入射することを特徴とする干渉計。前記参照光検出器での検出結果に基づいて、前記移動鏡での反射光と前記固定鏡での反射光との相対的な傾きの誤差を検知するとともに、前記移動鏡または前記固定鏡を傾けることによって前記誤差を補正する補正部をさらに備え、前記固定鏡に対する前記コリメート光の入射角は、前記補正部によって傾けることができる前記移動鏡または前記固定鏡の傾き角の最大値よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の干渉計。前記補正部は、前記移動鏡を傾けることによって、前記移動鏡での反射光と前記固定鏡での反射光との相対的な傾きの誤差を補正し、前記参照光の光軸と前記測定光の光軸とのなす角度は、前記補正部によって傾けることができる前記移動鏡の傾き角の最大値よりも大きいことを特徴とする請求項2に記載の干渉計。前記補正部は、前記固定鏡を傾けることによって、前記移動鏡での反射光と前記固定鏡での反射光との相対的な傾きの誤差を補正し、前記参照光の光軸と前記測定光の光軸とのなす角度は、前記補正部によって傾けることができる前記固定鏡の傾き角の最大値よりも大きいことを特徴とする請求項2に記載の干渉計。前記固定鏡に対する前記コリメート光の入射角は、前記ビームスプリッタから最も離れた位置にある前記移動鏡に入射する前記測定光の光束内で、前記コリメート光が傾いて前記移動鏡に入射するときの傾き角の最大値以下の角度であることを特徴とする請求項1に記載の干渉計。前記測定光学系は、前記測定光をコリメート光に変換する測定光用コリメート光学系を有しており、前記ビームスプリッタから前記移動鏡が最も離れた位置にあるときの、前記測定光用コリメート光学系から前記移動鏡の前記位置までの距離をfとし、前記測定光用コリメート光学系にてコリメートされた光の光束径をeとすると、前記固定鏡に対する前記参照光学系のコリメート光の入射角は、比e/fに対応する角度よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の干渉計。前記補正部は、前記参照光検出器での検出結果に基づいて、前記移動鏡での反射光と前記固定鏡での反射光との相対的な傾きの誤差を検知する信号処理部と、前記移動鏡または前記固定鏡を傾けることにより、前記移動鏡または前記固定鏡で反射される光の光路を補正する光路補正機構と、前記信号処理部にて検出された前記傾きの誤差に基づいて、前記光路補正機構を制御する制御部とを含んでいることを特徴とする請求項2に記載の干渉計。前記参照光検出器は、分割センサで構成されており、前記補正部は、前記分割センサの各素子からの出力に基づいて、前記測定光の前記移動鏡での反射光と前記固定鏡での反射光との相対的な傾きの誤差を検知することを特徴とする請求項2に記載の干渉計。前記測定光学系は、前記測定光をコリメート光に変換する測定光用コリメート光学系を有しており、前記参照光用コリメート光学系によってコリメート光に変換された参照光の光束径は、前記測定光用コリメート光学系によってコリメート光に変換された測定光の光束径よりも小さいことを特徴とする請求項2に記載の干渉計。請求項1に記載の干渉計と、前記干渉計の前記測定光検出器で前記測定干渉光を受光することによって得られるインターフェログラムをサンプリングしてフーリエ変換し、前記測定光に含まれる波長のスペクトルを生成する演算部とを備えていることを特徴とするフーリエ変換分光分析装置。前記干渉計は、前記参照光学系の前記参照光検出器での検出結果に基づいて、前記インターフェログラムをサンプリングする際のタイミングを示す信号を生成する信号生成部をさらに備えており、前記演算部は、前記測定光として特定波長の光を用いたときの測定干渉光のインターフェログラムを、前記信号生成部からの信号に基づくタイミングでサンプリングしてフーリエ変換したときに得られる波長の、前記特定波長からのずれに基づいて、前記サンプリングのタイミングを補正することを特徴とする請求項10に記載のフーリエ変換分光分析装置。前記測定光は、近赤外光または赤外光であり、前記参照光は、赤色光であることを特徴とする請求項10に記載のフーリエ変換分光分析装置。ところが、特許文献1では、参照光源としてHe-Neレーザを用いている。He-Neレーザは大型であり、波長の安定性を維持するために小型化することが困難である。つまり、特許文献1のように、参照光源としてHe-Neレーザを用いる構成では、装置自体が大型化する。しかも、戻り光の量を減らすべく、参照光源の光出射側に拡大レンズを配置する必要があるため、拡大レンズを用いない構成に比べて部品点数が増大する。温度や衝撃振動に対する感度は各部品ごとに異なるため、部品点数の増大は、光学系全体での誤差を生じやすい。したがって、拡大レンズを用いることなくすなわちコリメート光を利用しながら、参照光源に戻り光が入射するのを回避する構成が望まれる。本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、その目的は、参照光源としてHe-Neレーザを用いない小型の構成で、かつ、拡大レンズを用いることなく、参照光源への戻り光を除去することができ、これによって参照光検出器での検出結果に基づく移動鏡の位置検知を安定して行うことができる干渉計と、その干渉計を備えたフーリエ変換分光分析装置とを提供することにある。本発明の干渉計は、測定光をビームスプリッタで分離して移動鏡および固定鏡に導き、前記移動鏡および前記固定鏡にて反射された各光を前記ビームスプリッタで合波し、合波して得られた測定干渉光を測定光検出器に導く測定光学系と、参照光源からの参照光を前記ビームスプリッタで分離して前記移動鏡および前記固定鏡に導き、前記移動鏡および前記固定鏡にて反射された各光を前記ビームスプリッタで合波し、合波して得られた参照干渉光を参照光検出器に導く参照光学系とを備え、前記参照光検出器での検出結果に基づいて前記移動鏡の位置を検知しながら、前記測定干渉光を計測する干渉計であって、前記参照光源は、半導体レーザ、または前記半導体レーサから出射されるレーザ光を導波路またはファイバを介して射出するレーザ光源で構成されており、前記参照光学系は、前記参照光源から出射されるレーザ光をコリメート光に変換する参照光用コリメート光学系を有しており、前記コリメート光は、前記固定鏡に対して斜めに入射することを特徴としている。本発明によれば、参照光源は、He-Neレーザに比べて小型の半導体レーザやレーザ光源からなり、コリメート光学系を用いる場合でも、小型のコリメート光学系を用いることができるので、小型の干渉計を実現することができる。また、上記のコリメート光は固定鏡に対して斜めに入射するので、固定鏡で反射された参照光がビームスプリッタを介して参照光源側に戻ってきたとしても、その戻り光が、参照光源に入射するのを回避することができる。したがって、従来のように拡大レンズを用いることなく、コリメート光を利用したまま、参照光源でのレーザの発振が不安定になるのを回避して、参照光検出器での検出結果に基づく移動鏡の位置検知を安定して行うことができる。本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。装置の構成図1は、本実施形態のフーリエ変換分光分析装置の概略の構成を模式的に示す説明図である。この装置は、干渉計1と、演算部2と、出力部3とを有して構成されている。干渉計1は、2光路分岐型のマイケルソン干渉計で構成されているが、その詳細については後述する。演算部2は、干渉計1から出力される信号のサンプリング、A/D変換およびフーリエ変換を行い、測定光に含まれる波長のスペクトル、すなわち、波数1/波長ごとの光の強度を示すスペクトルを生成する。出力部3は、演算部2にて生成されたスペクトルを出力例えば表示する。以下、干渉計1の詳細について説明する。干渉計1は、測定光学系10と、参照光学系20と、補正部30とを有している。以下、順に説明する。測定光学系10は、測定用光源11と、測定光用コリメート光学系12と、折り返しミラーMと、BSビームスプリッタ13と、補償板14と、固定鏡15と、移動鏡16と、集光光学系17と、測定光検出器18と、駆動機構19とを備えている。なお、BS13に対する固定鏡15と移動鏡16との位置関係は、逆であってもよい。測定用光源11は、例えば複数波長を含む近赤外光または赤外光を測定光として出射す光源11aと、光源11aに結合される光ファイバ11bとからなるファイバ結合光学系で構成されている。なお、測定用光源11は、光源11aのみで構成されてもよい。測定光用コリメート光学系12は、測定用光源11から出射される測定光をコリメート光に変換してBS13に導く光学系であり、例えばコリメータレンズで構成されている。ここで、コリメート光とは、完全な平行光のほか、略平行光若干の収束光や発散光も含む概念である。つまり、ここでのコリメートとは、光源からの光をコリメート光学系によってBSおよび固定鏡または移動鏡を経てセンサへ導くことを指し、無限遠方へのコリメートに限るものではない。平面波として取り扱いやすくするため、例えば1m以上遠方にコリメートすることが望ましい。折り返しミラーMは、干渉計1をコンパクトに構成すべく、測定光用コリメート光学系12とBS13との間の光路を折り曲げるために設けられている。折り返しミラーMとBS13との間の光路中特に後述する光路合成ミラー23とBS13との間の光路中には、測定光の光束径を規制するための絞りA1が配置されている。BS13は、入射光、すなわち、測定用光源11から出射された光を2つの光に分離して、それぞれを固定鏡15および移動鏡16に導くとともに、固定鏡15および移動鏡16にて反射された各光を合波し、測定干渉光として出射するものであり、例えば分岐比50:50のハーフミラーで構成されている。補償板14は、BS13の厚み分の光路長、および光がBS13を透過する際の屈折による光路シフトを補正するための基板である。なお、干渉計1の組み方次第では、補償板14を不要とすることもできる。集光光学系17は、BS13にて合成されて出射された光を集光して測定光検出器18に導く光学系であり、例えばフォーカスレンズで構成されている。測定光検出器18は、BS13から集光光学系17を介して入射する測定干渉光を受光してインターフェログラム干渉パターンを検出する。駆動機構19は、固定鏡15にて反射される光の光路と、移動鏡16にて反射される光の光路との差光路長の差が変化するように、移動鏡16を光軸方向に平行移動並進させる移動機構であり、例えばVCMボイスコイルモータを用いた電磁式の駆動機構で構成されている。なお、駆動機構19は、平行板ばね式の駆動機構で構成されてもよい。上記の構成において、測定用光源11から出射された測定光は、測定光用コリメート光学系12によってコリメート光に変換された後、折り返しミラーMで反射されてBS13に入射し、BS13での透過および反射によって2光束に分離される。分離された一方の光束は移動鏡16で反射され、他方の光束は固定鏡15で反射され、それぞれ元の光路を逆戻りしてBS13で重ね合わせられ、測定干渉光として補償板14を透過した後、試料図示せずに照射される。このとき、駆動機構19によって移動鏡16を連続的に移動させながら試料に光が照射されるが、BS13から各ミラー移動鏡16、固定鏡15までの光路長の差が波長の整数倍のときは、重ね合わされた光の強度は最大となる。一方、移動鏡16の移動によって2つの光路長に差が生じている場合には、重ね合わされた光の強度に変化が生じる。試料を透過した光は、集光光学系17にて集光されて測定光検出器18に入射し、そこでインターフェログラムとして検出される。すなわち、図1では、測定光は、一点鎖線で示す光路を進行する。演算部2では、測定光検出器18からの検出信号インターフェログラムをサンプリングし、A/D変換およびフーリエ変換することにより、波数ごとの光の強度を示すスペクトルが生成される。上記のスペクトルは、出力部3にて出力例えば表示され、このスペクトルに基づき、試料の特性材料、構造、成分量などを分析することが可能となる。次に、参照光学系20および補正部30について説明する。参照光学系20は、上記した測定光学系10と構成を一部共有しており、上述したBS13と、補償板14と、固定鏡15と、移動鏡16とに加えて、参照光源21と、参照光用コリメート光学系22と、光路合成ミラー23と、光路分離ミラー24と、参照光検出器25とを有している。参照光源21は、移動鏡16の位置を検出したり、演算部2にてサンプリングのタイミング信号を生成するための光源であり、半導体レーザからなる光源21aと、光源21aに結合される光ファイバ21bとからなるファイバ結合光学系で構成されている。すなわち、参照光源21は、半導体レーサから出射されるレーザ光をファイバまたは導波路を介して射出するレーザ光源で構成されている。上記の半導体レーザは、例えば赤色光を発光するが、測定光近赤外光、赤外光の最短波長よりも短い波長のレーザ光を発光すればよい。なお、参照光源21は、半導体レーザからなる光源21aのみで構成されてもよい。参照光用コリメート光学系22は、参照光源21から出射される参照光レーザ光をコリメート光に変換してBS13に導く光学系であり、例えばコリメートレンズで構成されている。参照光用コリメート光学系22の光出射側には、絞りA2が配置されており、コリメート光の光束径が規制される。なお、参照光用コリメート光学系22を構成するレンズの光射出側の面において、コリメート光を出射する部分以外を黒く塗ることによって、参照光用コリメート光学系22に絞りA2の機能を持たせるようにしてもよい。光路合成ミラー23は、測定用光源11からの光を透過させ、参照光源21からの光を反射させることにより、これらの光の光路を合成するビームコンバイナである。本実施形態では、参照光が固定鏡15に対して斜めに入射するように光路合成ミラー23が配置されている。このため、測定光の光路と参照光の光路とは完全な同軸とはならない。なお、参照光が固定鏡15に斜めに入射する点の詳細については後述する。光路分離ミラー24は、測定用光源11から出射されてBS13を介して入射する光を透過させ、参照光源21から出射されてBS13を介して入射する光を反射させることにより、これらの光の光路を分離するビームスプリッタである。参照光検出器25は、参照光源21から出射されてBS13を介して光路分離ミラー24に入射し、そこで反射された光参照干渉光を検出する検出器であり、例えばCCDよりも応答速度が速い4分割センサで構成されている。光路分離ミラー24と参照光検出器25との間の光路中には、絞りA3が配置されており、この絞りA3によって、参照光検出器25に入射する参照干渉光の光束径が規制される。次に、補正部30について説明する。補正部30は、参照光検出器25での参照干渉光の検出結果に基づいて、移動鏡16での反射光と固定鏡15での反射光との相対的な傾きの誤差チルト誤差、2光路間の傾きを検知するとともに、移動鏡16または固定鏡15を傾けることによってチルト誤差の補正チルト補正を行うものである。駆動機構19による移動鏡16の駆動時に、移動鏡19の並進性が崩れると、上記チルト誤差によって測定干渉光の干渉強度コントラストが低下する。したがって、補正部30によって移動鏡16または固定鏡15を傾けて、上記のチルト誤差を補正することにより、測定干渉光の干渉強度が低下するのを回避することができる。ここで、本実施形態では、光路合成ミラー23の上記配置により、測定光側および参照光側の光軸が完全な同軸とはならないが、同軸に近い配置であるので、1測定用光源11、BS13、移動鏡16、BS13、測定光検出器18の順に進行する光と、測定用光源11、BS13、固定鏡15、BS13、測定光検出器18の順に進行する光とのチルト誤差第1のチルト誤差とも称するは、2参照光源21、BS13、移動鏡16、BS13、参照光検出器25の順に進行する光と、参照光源21、BS13、固定鏡15、BS13、参照光検出器25の順に進行する光との間のチルト誤差第2のチルト誤差とも称するにほとんど近い。したがって、補正部30は、参照光検出器25からの参照干渉光の受光信号に基づいて、第2のチルト誤差を検知して補正することにより、第1のチルト誤差を補正することができる。このような補正部30は、具体的には、信号処理部31と、光路補正機構32と、制御部33とを有して構成されている。制御部33は、例えばCPUで構成され、信号処理部31での検出結果に基づいて光路補正機構32を制御する。信号処理部31は、参照光検出器25にて検出された参照干渉光の強度に基づいて、チルト誤差を検出する。例えば、図2に示すように、参照光検出器25の4つの受光領域4分割センサの各素子を反時計回りにE1~E4とし、全体の受光領域の中心に参照干渉光の光スポットDが位置しているものとする。受光領域E1E2で検出された光の強度の和をA1とし、受光領域E3E4で検出された光の強度の和をA2としたときに、時間経過に対する強度A1A2の変化を示す位相信号として、図3に示す信号が得られたとすると、これらの信号に基づいてチルト誤差特に、一方の光に対する他方の光の相対的な傾き方向および傾き量を検出することができる。この例では、受光領域E1E2と受光領域E3E4とが並ぶ方向図2では上下方向に位相差Δに対応する角度だけチルト誤差が生じていることになる。なお、図3の縦軸の強度は相対値で示している。なお、位相信号の周波数が遅い低い場合、位相比較ではなく強度比から2光路間での光の傾きを検知することもできる。また、信号処理部31は、参照光検出器25にて検出された参照干渉光の強度に基づいて、移動鏡16の位置を検出するとともに、サンプリングのタイミングを示すパルス信号を生成する信号生成部としても機能している。参照光検出器25では、移動鏡16の位置光路差に応じて参照干渉光の強度が全体的に明と暗との間で変化するので、信号処理部31は、その強度変化に基づいて移動鏡16の位置を検出することができる。演算部2は、上記パルス信号のサンプリングタイミングに同期して、測定光検出器18からの検出信号インターフェログラムをサンプリングし、デジタルデータに変換することになる。光路補正機構32は、信号処理部31にて検出されたチルト誤差に基づいて、移動鏡16または固定鏡15を傾けることにより、移動鏡16または固定鏡15で反射される光の光路を補正するものである。本実施形態では、光路補正機構32は、図1に示すように、先端が固定鏡15の背面反射面とは反対側の面と連結されて光軸方向に伸縮する複数少なくとも3つの圧電素子32aと、これらの圧電素子32aに電圧を印加して圧電素子32aを伸縮させる駆動部32bとを有して構成されている。信号処理部31での検出結果に基づいて、各圧電素子32aに印加する電圧を制御し、各圧電素子32aを光軸方向に伸縮させることにより、固定鏡15の傾き固定鏡15での反射光の光路を変化させることができ、これによってチルト誤差を補正することができる。上記の構成において、参照光源21から出射された光は、参照光用コリメート光学系22でコリメート光に変換された後、光路合成ミラー23で反射されてBS13に入射し、そこで2光束に分離される。BS13にて分離された一方の光束は移動鏡16で反射され、他方の光束は固定鏡15で反射され、それぞれ元の光路を逆戻りしてBS13で重ね合わせられ、補償板14を透過して光路分離ミラー24に入射し、そこで反射されて参照光検出器25に入射する。すなわち、図1では、参照光は、実線で示す光路を進行する。補正部30の信号処理部31は、上述のように、参照光検出器25にて検出された参照干渉光の強度に基づいてチルト誤差を検出し、制御部33の制御のもとで光路補正機構32が固定鏡15の姿勢BS13に対する角度を調整し、固定鏡15での反射光の光路を補正することになる。チルト誤差の検出と、反射光の光路の補正チルト補正とを繰り返すフィードバック制御を行うことにより、最終的には、チルト誤差を限りなくゼロに近づけることができる。ところで、図4は、フーリエ変換分光分析装置の他の構成を模式的に示す説明図である。同図に示すように、補正部30の光路補正機構32は、信号処理部31にて検出されたチルト誤差に基づいて、移動鏡16で反射される光の光路を補正するようにしてもよい。この場合、各圧電素子32aの先端を移動鏡16の背面に連結し、各圧電素子32aを駆動部32bによって伸縮させることにより、移動鏡16の傾きを変化させて、移動鏡16で反射される光の光路を補正することができる。このとき、移動鏡16の駆動機構19は、駆動部32bの背面各圧電素子32aとは反対側と連結されればよい。各パラメータについて表1~表4は、本実施形態の干渉計1における各パラメータの値を示している。以下、表1~表4を参照しながら、本実施形態の干渉計1についてさらに説明する。なお、以下では、特に断らない限り、コリメート光と記載すれば、参照光のコリメート光を指すものとする。まず、本実施形態の干渉計1では、上述したように、参照光源21として従来のHe-Neレーザを用いる代わりに、半導体レーザからなる光源を用いている。半導体レーザは、He-Neレーザに比べて小型であり、コリメート光学系を用いる場合でも、小型のコリメート光学系を用いることができる。したがって、小型の干渉計1を実現することができる。このことは、表3より、移動鏡16-測定光検出器18間の距離が、約5cm程度表3の項目4789の和であることからも容易に理解できる。また、本実施形態では、表4に示すように、コリメート光の固定鏡15に対する入射角は2.5度となっており、コリメート光は、固定鏡15に対して斜めに入射している。なお、上記の入射角2.5度は、補正部30による固定鏡15の傾き角の最大値角度検出範囲である0.1度6分と、必要な斜め入射角2.0度と、部材の組み付け誤差等によるマージン余分傾き量0.5度とを考慮して設定されている。このように、コリメート光が固定鏡15に対して斜めに入射することにより、固定鏡15での反射光の光路は、固定鏡15への入射光の光路と若干ずれるので、固定鏡15で反射された光がBS13を介して参照光源21側に戻ってきたとしても、その戻り光が、参照光源21に入射するのを回避することができる図1、図4の破線の光路参照。したがって、参照光源21の光出射側に従来のような拡大レンズを配置しなくても、コリメート光を利用しながら、ハーモニック共振によってレーザの発振が不安定になるのを回避することができる。その結果、参照光検出器25での検出結果に基づく移動鏡16の位置検知を安定して行うことができる。したがって、測定光検出部18での測定干渉光の計測を安定して行うことができ、分光分析を安定して行うことができる。実際、参照光の光束径2mm表2の項目1参照に対して、参照光用コリメート光学系22の光射出側参照光源21とは反対側の位置での、戻り光の光軸に垂直な方向のシフト量が2mm表4の項目2参照であることから、参照光源21からの出射光と戻り光とは交差せず、戻り光が参照光源21に入射していないことがわかる。なお、本実施形態では、光路合成コンバイナ23の配置位置角度を調節することによって、コリメート光を固定鏡15に斜め入射させているが、参照光源21および参照光用コリメート光学系22の配置位置を調節することによって、コリメート光を固定鏡15に斜め入射させてもよい。すなわち、参照光源21および参照光用コリメート光学系22の位置を、参照光が測定光学系10と同軸となるように光路合成コンバイナ23に入射する位置からずらすことによって、コリメート光を固定鏡15に斜め入射させてもよい。また、本実施形態では、表4に示すように、固定鏡15に対するコリメート光の入射角2.5度は、チルト補正の際に補正部30によって傾けることができる固定鏡15の傾き角の最大値走査角度範囲0.1度よりも大きい。上記の条件を満足しない場合は、コリメート光が固定鏡15に対して斜めに入射していても、チルト補正のために固定鏡15を傾けたときに、その傾き角によっては、コリメート光の入射角がゼロになってしまう場合があり、この場合は、参照光源21への戻り光の入射を回避することができない。したがって、上記の条件を満足することにより、チルト補正のために固定鏡15を傾ける構成であっても、コリメート光を固定鏡15に対して常に斜めに入射させて、参照光源21への戻り光の入射を回避することができる。また、光路中例えばBS13と光路合成ミラー23との間の光路中において、参照光の光軸と測定光の光軸とのなす角度は例えば2.5度であり、この角度は、図4の構成において、補正部30によって傾けることができる移動鏡16の傾き角の最大値0.1度よりも大きい。なお、参照光の光軸とは、参照光の光束の中心光線が進行する光路を指し、測定光の光軸とは、測定光の光束の中心光線が進行する光路を指す。移動鏡16を傾けることによってチルト補正を行う構成において、上記の条件を満足しない場合は、コリメート光が固定鏡15および移動鏡16に対して斜めに入射していても、チルト補正のために移動鏡16を特定の方向移動鏡16の後述する最果ての位置で測定光のビーム中心と参照光のビーム中心とが並ぶ方向に傾けたときに、その傾き角によっては、コリメート光の入射角がゼロになってしまう場合があり、この場合は、参照光源21への戻り光の入射を回避することができない。つまり、戻り光が参照光源21に入射し、カオス的な振る舞いによって参照光検出器25にて信号を検出することができなくなる。しかし、上記の条件を満足することにより、チルト補正のために移動鏡16を特定の方向に傾けても、コリメート光の固定鏡15および移動鏡16に対する斜め入射を実現することができ、参照光源21への戻り光の入射を回避することができる。また、図5aは、BS13と光路合成ミラー23との間の光路中で、参照光の光軸と測定光の光軸とが交差する場合の、上記両光軸のなす角度θを模式的に示している。この図5aは、補正部30によって移動鏡16を傾ける場合は図4の構成に対応しており、補正部30によって固定鏡15を傾ける場合は図1の構成に対応している。なお、参照光の光軸と測定光の光軸とが交差する位置は、絞りA1の位置であってもよいし、それ以外の位置であってもよい。また、参照光の光軸と測定光の光軸とは、同一平面内で交差する位置関係にあってもよいし、ねじれた位置関係にあってもよい。後者の場合、参照光の光軸と測定光の光軸とのなす角度としては、第1の方向でのなす角度と、第1の方向に垂直な第2の方向でのなす角度とを考えてもよい。BS13から移動鏡16が最も離れた位置最果ての位置とも称するにあるときの、上記両光軸の交点から移動鏡16の最果ての位置までの距離をammとし、上記位置における測定光の光束中心と参照光の光束中心との距離をbmmとすると、角度θ=tan-1b/aで表わされる。図4の構成では、a=20mm、b=0.87mmであり、それゆえ、角度θ=tan-1b/a=2.5度となる。上記両光軸が交差する場合、比b/aに対応する角度、すなわち、tan-1b/aは、補正部30によって傾けることができる移動鏡16の傾き角の最大値よりも大きいことが望ましい。このような条件を満足することによっても、コリメート光の固定鏡15および移動鏡16に対する斜め入射を実現して、参照光源21への戻り光の入射を回避できる効果を得ることができる。上記の例では、比b/aに対応する角度2.5度は、移動鏡16の傾き角の最大値0.1度よりも大きくなっており、上記の条件を満足する。また、図5bは、BS13と光路合成ミラー23との間の光路中で、参照光の光軸と測定光の光軸とが交差しない場合の、上記両光軸のなす角度θ’を模式的に示している。上記両光軸が交差しない場合は、以下の条件を満足してもよい。すなわち、BS13から移動鏡16が最も離れた位置最果ての位置にあるときの、参照光用コリメート光学系22から移動鏡16の最果ての位置までの距離をa’mmとし、上記位置における測定光の光束中心と参照光の光束中心との距離をb’mmとしたときに、比b’/a’に対応する角度、すなわち、tan-1b’/a’が、補正部30によって傾けることができる移動鏡16の傾き角の最大値よりも大きければよい。この場合でも、コリメート光の固定鏡15および移動鏡16に対する斜め入射を実現して、参照光源21への戻り光の入射を回避できる効果を得ることができる。すなわち、参照光の光軸と測定光の光軸とのなす角度は、tan-1b/aで表わされる場合もあるし、tan-1b’/a’で表わされる場合もあるが、いずれの場合でも、上記両光軸のなす角度が、補正部30によって傾けることができる移動鏡16の傾き角の最大値よりも大きければ、参照光源21への戻り光の入射を回避することができる。なお、上記両光軸がなす角度は、部品の組み付け誤差0.5度を考慮して設定されていればよく、例えば0.5~2.5度の範囲内で設定可能である。また、補正部30が固定鏡15を傾けることによってチルト補正を行う図1の構成では、BS13と光路合成ミラー23との間の光路中における、参照光の光軸と測定光の光軸とのなす角度が、補正部30によって傾けることができる固定鏡15の傾き角の最大値よりも大きければよい。図1の構成では、参照光の光軸と測定光の光軸とのなす角度は例えば2.5度であり、固定鏡15の傾き角の最大値は0.1度であるため、上記の条件を満足する。固定鏡15を傾けることによってチルト補正を行う構成において、上記の条件を満足しない場合は、コリメート光が固定鏡15に対して斜めに入射していても、チルト補正のために固定鏡15を特定の方向固定鏡15の位置で測定光のビーム中心と参照光のビーム中心とが並ぶ方向に傾けたときに、その傾き角によっては、コリメート光の入射角がゼロになってしまう場合があり、この場合は、参照光源21への戻り光の入射を回避することができず、カオス的な振る舞いによって参照光検出器25にて信号を検出することができなくなる。しかし、上記の条件を満足することにより、チルト補正のために固定鏡15を特定の方向に傾けても、コリメート光の固定鏡15に対する斜め入射を実現することができ、参照光源21への戻り光の入射を回避することができる。また、コリメート光は、固定鏡15に対して斜めに入射することにより、移動鏡16に対しても斜めに入射する。このとき、固定鏡15に対するコリメート光の入射角は、BS13から最も離れた位置最果ての位置にある移動鏡16に入射する測定光の光束内で、コリメート光が傾いて移動鏡16に入射するときの傾き角の最大値以下の角度であることが望ましい。つまり、固定鏡15に対するコリメート光の入射角の上限は、最果ての位置にある移動鏡16に入射する測定光の光束内でコリメート光が傾くことができる角度の最大値に等しい。上記の条件を満足する場合、コリメート光参照光が固定鏡15に対して斜めに入射し、かつ、移動鏡16に対して斜めに入射するときでも、測定光の光路と同等の光路でコリメート光を伝搬させることができる。したがって、測定干渉光の計測時の移動鏡16の位置の変動を、参照光検出器25で確実に検知することができる。なお、測定光の光束径が1mmよりも小さいと、回折によってレーザ光が広がってしまい、光学系を構成するのが困難となる。また、測定光の光束径が10mmよりも大きいと、10mmよりも大きな有効径の反射面を持つ移動鏡16を作製することが必要となる。反射面が大きいと面精度を高精度に保つことが困難となるため、移動鏡16の作製が困難となる。以上のことを考慮すると、測定光の光束径は1mm以上10mm以下とすることが望ましい。また、BS13から移動鏡16が最も離れた位置最果ての位置にあるときの、測定光用コリメート光学系12から移動鏡16の最果ての位置までの距離をfmmとし、測定光用コリメート光学系12にてコリメートされた光の光束径直径をemmとする。fは、参照光用コリメート光学系22から移動鏡16の最果ての位置までの距離と等しく、41.5mm表3の項目124の和表1の項目5の変位量の半分であり、e=5mm表1の項目1参照である。したがって、比e/fに対応する角度、すなわち、tan-1e/fは、6.87度であり、固定鏡15に対するコリメート光参照光の入射角2.5度は、比e/fに対応する角度よりも小さいと言える。このように、固定鏡15に対するコリメート光の入射角が、比e/fに対応する角度よりも小さい場合、反射面例えば固定鏡15の反射面において、測定光の光束径の領域内に、参照光の光束が入る。つまり、測定光と参照光とは、反射面の同じ領域内で反射される。これにより、測定光の情報を参照光によって測定することができる。また、参照光用コリメート光学系22によってコリメート光に変換された参照光の光束径は、2mmであり表2の項目1参照、測定光用コリメート光学系12によってコリメート光に変換された測定光の光束径5mm表1の項目1参照よりも小さい。参照光の光束径が大きいと、チルト誤差に対する参照光検出器25の感度が高くなり、チルト誤差が少し生じただけでも、参照光検出器25で検知される、上記チルト誤差によって生じる干渉縞の本数が増大する。この結果、参照光検出器25での参照干渉光の検出結果に基づいて、補正部30がチルト誤差を検出することができなくなる。しかし、参照光の光束径を測定光の光束径よりも小さくすることにより、チルト誤差に対する感度を、測定光学系10側よりも参照光学系20側で鈍くすることができ、参照光学系20側での、チルト誤差によって生じる干渉縞の本数の増大を抑えることができる。これにより、外部振動や衝撃によってチルト誤差が大きい場合でも、補正部30は、参照光検出器25での参照干渉光の検出結果に基づいて、チルト誤差を確実に検知することが可能となる。サンプリングタイミングの補正について本実施形態では、参照光が固定鏡15および移動鏡16に対して斜めに入射するため、参照光がそれらに垂直に入射する構成に比べて、参照光の干渉強度が最大となる移動鏡16の位置がずれる。つまり、光路差が参照光の波長の整数倍となる位置とは異なる位置に移動鏡があるときに、参照光の干渉強度が最大となる。これは、参照光の波長レーザ発振波長が見かけ上変動しているのと同じである。この結果、参照光検出器25での検出結果に基づいて信号処理部31が生成する信号のパルスサンプリングタイミングも、正規のパルス光路差が参照光の波長の整数倍となるタイミングからずれる。ここで、測定光として特定波長λ0の光輝線スペクトルを用いた場合、サンプリングタイミングが正規のタイミングからずれると、測定干渉光のインターフェログラムを演算部2でフーリエ変換したときに得られるスペクトルでは、図6で示すように、特定波長λ0波数1/λ0の透過率ピーク強度ピークは、波長λ1波数1/λ1にシフトして現れることになる。したがって、波長λ1の特定波長λ0からのずれを見ることで、サンプリングタイミングのずれを容易に把握することができる。そこで、本実施形態では、演算部2が、波長λ1の特定波長λ0からのずれに基づいてサンプリングタイミングを補正するようにしている。これにより、参照光が固定鏡15に対して斜めに入射する構成であっても、上記したレーザ発振波長の見かけ上の変動を抑えることができ、適切なタイミングでサンプリングされたインターフェログラムのフーリエ変換により、分光分析を精度よく行うことができる。測定光および参照光の波長帯域について多くの材料は、指紋領域と呼ばれる近赤外光および赤外光に吸収帯を持つことが多く、そのため、分光分析は、近赤外光および赤外光を用いて行うことが多い。このような分光分析では、測定光学系10および参照光学系20における光透過面例えばBS13の光透過面に反射防止コートARコートを施して光の利用効率を高めることが多い。このとき、反射防止コートの設計上、広い帯域で反射防止特性を持たせることは困難である。また、反射を防止する波長帯域を広くとると、その波長帯域で反射率が上がってしまう。したがって、測定光が近赤外光や赤外光である場合、参照光を赤色光赤色半導体レーザ光として、参照光と測定光の波長帯域を近づけることにより、反射防止コートの設計を容易にすることができる。また、広い波長範囲で所定の分岐比例えば50:50のBS13を構成することは光学設計上困難であるが、上記のように測定光と参照光との波長帯域を近づけることにより、所定の分岐比のビームスプリッタを設計することが容易となる。補足ファイバへのカップリングは、ファイバ端のNAやコア径に依存して決まるが、最も効率よくカップリングするのは、1:1の結合倍率となるバットカップリングの場合である。したがって、薄肉レンズで近似したモデルの場合、レーザ光源の射出開口に光が戻らないための条件は、ファイバコア半径サイズdmmとコリメートレンズ主点位置から反射面までの距離Lmmとによって決まる。すなわち、d/Lの角度Φrad以上の入射角でコリメート光を固定鏡に斜め入射させることで、レーザ光源への戻り光の影響をなくすことができる。例えば、レンズ主点位置から反射面までの距離をL=30mmとし、レーザ光源の射出開口の半径サイズをd=0.012mmとしたとき、戻り光の影響をなくすことができるコリメート光の必要傾き角度固定鏡への入射角Φは、Φ=0.004rad=1.37arcminとなる。本実施形態で参照光源21は、狭帯域化素子を含み、可干渉距離が長く、温度変化に対して波長変動の小さいレーザであることが望ましい。この場合、参照光源21を温度コントロールすることにより、波長変動をかなり小さく抑えて安定させることができ、小型で安定したコヒーレント光源を実現することができる。その結果、本実施形態の干渉計1を用いた計則において、安定した測定結果を得ることができる。ここで、上記の狭帯域化素子としては、参照光源21が出射した光を一部透過し、スペクトル線幅を狭帯域化して一部を反射する機能を有するもの、具体的には、VHGボリュームホログラフィーやFBGファイバーグレーティングなどの回折格子が望ましい。このような回折格子においては、コヒーレント光の発光波長の一部が反射回折光となり、半導体レーザの活性層に導かれることで、誘導放出を引き起こし、発光波長を反射回折光の波長にロックすることができる。反射回折光の波長は、回折格子で決まる幅に制限を受けるため、半導体レーザの発光波長のスペクトル線は、特定のモードに固定され、狭帯域化される。なお、本実施形態では、干渉計1が測定用光源11を内蔵し、測定用光源11から出射される測定光を用いて測定干渉光を得る構成について説明したが、本実施形態の干渉計1は、必ずしも測定用光源11を内蔵していなくてもよい。つまり、測定干渉光を得るための測定光は、干渉計が内蔵している光源から出射される光であってもよいし、干渉計の外部から入射してくる光であってもよい。したがって、例えば、1干渉計の外部で試料に光を当てて、試料を介して得られる光を干渉計に入射させて分光分析を行う場合、2干渉計の外部から導入した光を用いて干渉計にて干渉光を生成し、その干渉光を試料に当てて分光分析を行う場合、3干渉計の外部から入射する光そのものを分析の対象とする場合、のいずれについても、本実施形態の干渉計を適用することが可能である。以上、本実施形態の干渉計は、測定光をビームスプリッタで分離して移動鏡および固定鏡に導き、前記移動鏡および前記固定鏡にて反射された各光を前記ビームスプリッタで合波し、合波して得られた測定干渉光を測定光検出器に導く測定光学系と、参照光源からの参照光を前記ビームスプリッタで分離して前記移動鏡および前記固定鏡に導き、前記移動鏡および前記固定鏡にて反射された各光を前記ビームスプリッタで合波し、合波して得られた参照干渉光を参照光検出器に導く参照光学系とを備え、前記参照光検出器での検出結果に基づいて前記移動鏡の位置を検知しながら、前記測定干渉光を計測する干渉計であって、前記参照光源は、半導体レーザ、または前記半導体レーサから出射されるレーザ光を導波路またはファイバを介して射出するレーザ光源で構成されており、前記参照光学系は、前記参照光源から出射されるレーザ光をコリメート光に変換する参照光用コリメート光学系を有しており、前記コリメート光は、前記固定鏡に対して斜めに入射する構成である。上記の構成によれば、半導体レーザやレーザ光源からなる参照光源は、参照光源として一般的に用いられているHe-Neレーザに比べて小型であり、コリメート光学系を用いる場合でも、小型のコリメート光学系を用いることができるので、小型の干渉計を実現することができる。また、コリメート光は、固定鏡に対して斜めに入射するので、固定鏡での反射光の光路は、固定鏡への入射光の光路と若干ずれる。これにより、固定鏡で反射された参照光がビームスプリッタを介して参照光源側に戻ってきたとしても、その戻り光が、参照光源特に光射出部分に入射するのを回避することができる。したがって、参照光源の光出射側に拡大レンズを配置しなくてもコリメート光を利用しながら、ハーモニック共振によってレーザの発振が不安定になるのを回避することができ、参照光検出器での検出結果に基づく移動鏡の位置検知を安定して行うことができる。本実施形態の干渉計は、前記参照光検出器での検出結果に基づいて、前記移動鏡での反射光と前記固定鏡での反射光との相対的な傾きの誤差を検知するとともに、前記移動鏡または前記固定鏡を傾けることによって前記誤差を補正する補正部をさらに備え、前記固定鏡に対する前記コリメート光の入射角は、前記補正部によって傾けることができる前記移動鏡または前記固定鏡の傾き角の最大値よりも大きいことが望ましい。この構成では、2光路間での傾き誤差の補正チルト補正のために、補正部によって移動鏡または固定鏡を傾けても、コリメート光の固定鏡に対する入射角がゼロ垂直入射となることがない。したがって、補正部によってチルト補正を行う構成であっても、コリメート光を固定鏡に対して常に斜めに入射させて、参照光源への戻り光の入射を回避することができる。本実施形態の干渉計において、前記補正部は、前記移動鏡を傾けることによって、前記移動鏡での反射光と前記固定鏡での反射光との相対的な傾きの誤差を補正し、前記参照光の光軸と前記測定光の光軸とのなす角度は、前記補正部によって傾けることができる前記移動鏡の傾き角の最大値よりも大きいことが望ましい。補正部によって移動鏡を傾けることによってチルト補正を行う構成において、上記の条件を満足していれば、移動鏡を特定の方向に傾けても、戻り光が参照光源に入射するのを回避することができる。本実施形態の干渉計において、前記補正部は、前記固定鏡を傾けることによって、前記移動鏡での反射光と前記固定鏡での反射光との相対的な傾きの誤差を補正し、前記参照光の光軸と前記測定光の光軸とのなす角度は、前記補正部によって傾けることができる前記固定鏡の傾き角の最大値よりも大きいことが望ましい。補正部によって固定鏡を傾けることによってチルト補正を行う構成において、上記の条件を満足していれば、固定鏡を特定の方向に傾けても、戻り光が参照光源に入射するのを回避することができる。本実施形態の干渉計において、前記固定鏡に対する前記コリメート光の入射角は、前記ビームスプリッタから最も離れた位置にある前記移動鏡に入射する前記測定光の光束内で、前記コリメート光が傾いて前記移動鏡に入射するときの傾き角の最大値以下の角度であることが望ましい。この場合、コリメート光が固定鏡に対して斜めに入射する構成であっても、測定光の光路と同等の光路でコリメート光を伝搬させることができ、測定干渉光の計測時の移動鏡の位置の変動を、参照光検出器で確実に検知することができる。本実施形態の干渉計において、前記測定光学系は、前記測定光をコリメート光に変換する測定光用コリメート光学系を有しており、前記ビームスプリッタから前記移動鏡が最も離れた位置にあるときの、前記測定光用コリメート光学系から前記移動鏡の前記位置までの距離をfとし、前記測定光用コリメート光学系にてコリメートされた光の光束径をeとすると、前記固定鏡に対する前記参照光学系のコリメート光の入射角は、比e/fに対応する角度よりも小さいことが望ましい。上記の条件を満足する場合、反射面例えば固定鏡の反射面において、測定光の光束径の領域内に参照光の光束が入り、測定光と参照光とが反射面の同じ領域内で反射されるので、測定光の情報を参照光によって測定することができる。本実施形態の干渉計において、前記補正部は、前記参照光検出器での検出結果に基づいて、前記移動鏡での反射光と前記固定鏡での反射光との相対的な傾きの誤差を検知する信号処理部と、前記移動鏡または前記固定鏡を傾けることにより、前記移動鏡または前記固定鏡で反射される光の光路を補正する光路補正機構と、前記信号処理部にて検出された前記傾きの誤差に基づいて、前記光路補正機構を制御する制御部とを含んでいてもよい。信号処理部にて検出されたチルト誤差に基づいて、制御部が光路補正機構を制御し、光路補正機構が移動鏡または固定鏡での反射光の光路を補正することにより、チルト補正を確実に行うことができる。本実施形態の干渉計において、前記参照光検出器は、分割センサで構成されており、前記補正部は、前記分割センサの各素子からの出力に基づいて、前記測定光の前記移動鏡での反射光と前記固定鏡での反射光との相対的な傾きの誤差を検知することが望ましい。補正部は分割センサの各素子からの出力例えば位相差に基づいて、一方の光に対する他方の光の傾き方向および傾き量を検知することができ、その検知結果に基づいて、チルト補正を確実に行うことができる。本実施形態の干渉計において、前記測定光学系は、前記測定光をコリメート光に変換する測定光用コリメート光学系を有しており、前記参照光用コリメート光学系によってコリメート光に変換された参照光の光束径は、前記測定光用コリメート光学系によってコリメート光に変換された測定光の光束径よりも小さいことが望ましい。この構成では、参照光学系における、固定鏡での反射光と移動鏡での反射光との相対的な傾きの誤差チルト誤差に対する感度を、測定光学系におけるチルト誤差に対する感度よりも鈍くすることができ、参照光検出器での、チルト誤差による干渉縞の本数の増大を抑えることができる。これにより、外部振動や衝撃によってチルト誤差が大きい場合でも、補正部は、参照光学系の参照光検出器での検出結果に基づいて、チルト誤差を確実に検知することができる。本実施形態のフーリエ変換分光分析装置は、上述した本実施形態の干渉計と、前記干渉計の前記測定光検出器で前記測定干渉光を受光することによって得られるインターフェログラムをサンプリングしてフーリエ変換し、前記測定光に含まれる波長のスペクトルを生成する演算部とを備えていることが望ましい。上述したように、本実施形態の干渉計によれば、戻り光によってレーザの発振が不安定になるのを回避して、移動鏡の位置検知を安定して行うことができる。したがって、このような干渉計の測定光検出器で得られるインターフェログラムを演算部でサンプリングしてフーリエ変換するフーリエ変換分光分析装置FTIRでは、移動鏡の位置検知に基づく分光分析を安定して行うことができる。本実施形態のフーリエ変換分光分析装置において、前記干渉計は、前記参照光学系の前記参照光検出器での検出結果に基づいて、前記インターフェログラムをサンプリングする際のタイミングを示す信号を生成する信号生成部をさらに備えており、前記演算部は、前記測定光として特定波長の光を用いたときの測定干渉光のインターフェログラムを、前記信号生成部からの信号に基づくタイミングでサンプリングしてフーリエ変換したときに得られる波長の、前記特定波長からのずれに基づいて、前記サンプリングのタイミングを補正することが望ましい。本実施形態の干渉計では、参照光が固定鏡および移動鏡に対して斜めに入射するため、光路差が参照光の波長の整数倍となる位置からずれた位置に移動鏡があるときに、参照光の干渉強度が最大となる。これは、参照光の波長が見かけ上変動しているのと同じである。この結果、参照光検出器での検出結果に基づいて生成される信号のサンプリングタイミングも、正規のタイミングからずれる。しかし、このサンプリングタイミングのずれは、測定光として特定波長の光輝線スペクトルを用い、測定干渉光のインターフェログラムをフーリエ変換したときに得られる波長の特定波長からのずれを見ることで、容易に把握することができる。したがって、このようなフーリエ変換後の波長の特定波長からのずれに基づいてサンプリングタイミングを補正することにより、参照光が固定鏡に対して斜めに入射する構成であっても、レーザ発振波長の見かけ上の変動を抑えて、分光分析を精度よく行うことができる。本実施形態のフーリエ変換分光分析装置において、前記測定光は、近赤外光または赤外光であり、前記参照光は、赤色光であることが望ましい。測定光と参照光との波長帯域が近いので、ビームスプリッタの光透過面に反射防止コートを施して光利用効率を高める場合でも、反射を防止する波長帯域を狭くすることができ、反射防止コートの設計を容易にすることができる。