"ガラスに孔の高密度アレイを作製する方法において、前記方法が、前面を有するガラス品を提供する工程、及び前記ガラス品の前記前面をUVレーザビームで照射する工程、を含み、前記ビームがレンズによって前記ガラス品の前記前面の±100μm内に集束され、前記ガラス品の前記前面から前記ガラス品に延び込む開孔を形成するため、前記レンズが01~1.5の範囲の開口数を有し、前記孔が5~15μmの範囲の直径及び少なくとも20:1のアスペクト比を有する、ことを特徴とする方法。前記照射する工程が近UVレーザビームを使用する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。前記照射する工程に用いられる前記近UVレーザが335μmの波長で動作させたNd:KGWネオジムドープカリウム-ガドリニウムタングステンレーザであることを特徴とする請求項2に記載の方法。前記照射する工程に用いられる前記レンズの前記開口数が012~014の範囲内にあることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の方法。前記レンズの前記開口数が012~013の範囲内にあることを特徴とする請求項4に記載の方法。前記照射する工程の間、前記レーザを10~20kHzの範囲の周波数で動作させることを特徴とする請求項5に記載の方法。前記照射する工程が前記ガラス品の前記表面をUVレーザビームにより、孔当たり60~120ミリ秒の範囲の持続時間をかけて、照射する工程を含むことを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の方法。前記照射する工程が前記ガラス品の前記表面をUVレーザビームにより、形成される孔を前記ガラス品のちょうど背面まで延びさせるであろう持続時間であるように実験または計算によって決定された持続時間をかけて、照射する工程を含むことを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の方法。前記方法が前記ガラス品をHFHNO3溶液内でエッチングする工程をさらに含むことを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の方法。前記照射する工程の後で前記エッチングする工程の前に前記ガラス品の前記前面を研磨する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載の方法。必要とされていることは、深さを貫通する比較的小さな孔を比較的密な最小ピッチで、また良好な位置決め精度及び適正な小さい直径変動で、形成するための比較的コストが低く信頼性が高いプロセスである。本開示の一態様にしたがえば、ガラスに高密度孔アレイを作製する方法は、前面を有するガラス品を提供する工程、次いでガラス品の前面を、ガラス品の前面の±100μm以内、最も望ましくは前表面の±50μm以内の焦点に集束されたUVレーザビームで照射する工程を含む。レーザを集束するレンズは、ガラス品100の前面102からガラス品100に延び込む開孔を形成し、孔が5~15μmの範囲の直径及び少なくとも20:1のアスペクト比を有するように、03mmと063mmの間のガラス厚に対し、望ましくは01~04の範囲、さらに望ましくは01~015の範囲、さらに一層望ましくは012~013の範囲の、開口数を有する。厚さが01~03mmの範囲の、より薄いガラスに対しては、開口数は望ましくは025~04、さらに望ましくは025~03であり、ビームはガラスの前面の±30μm内に集束されることが好ましい。レーザは約15kHz以下の繰返し数で、また一般にガラス品のちょうど裏面まで延びる開孔を形成するに十分な照射持続時間で、動作させることが望ましい。このようにして作製されたアレイ孔はエッチングによって拡大される。望ましければ、前面はエッチングに先立って研磨することができる。本開示の方法の様々な態様は以下の本文において、直下に簡潔に説明される、図面を参照して説明される。本開示の特定の実施形態の以下の詳細な説明は、同様の構造が同様の参照数字で示される、図面とともに読まれたときに最善に理解され得る。本開示の一態様にしたがえば、厚さが08mm以下であることが望ましく、厚さが01~063mmの範囲にあることが好ましい、薄いガラス品に、直径が200μm以下の孔が300μmをこえない最小ピッチで、直径変動が10μm以下、望ましくは5μm以下に制限され、配置孔中心位置変動が8μm以下、望ましくは4μm以下に制限されて、形成される。孔の最も細い直径すなわちウエスト径は表面における開口の直径の65より小さくはなく、望ましくは80より小さくはない。上記の結果及びその他の有益な結果は、図1~3を全般に参照して説明される、本開示の方法によって得ることができる。ガラスに孔の高密度アレイを作製する方法の一実施形態にしたがえば、方法は、前面102を有するガラス品100を提供する工程、次いで図1に表される照射工程20においてガラス品100の前面をUVレーザビーム24で照射する工程を含む。ビーム24は、ガラス品100の前面102の±100μm以内、最も望ましくは前面102の±50μm以内の焦点に、レンズによって集束されることが最も望ましい。レンズ26は、ガラス品100の前面102からガラス品100に延び込む開孔を形成し、孔が5~15μmの範囲の直径及び少なくとも20:1のアスペクト比を有するように、03mmと063mmの間のガラス厚に対し、望ましくは01~04の範囲、さらに望ましくは01~015の範囲、さらに一層望ましくは012~013の範囲の、開口数を有する。厚さが01~03mmの範囲の、より薄いガラスに対しては、開口数は望ましくは025~0。4、さらに望ましくは025~03であり、ビームはガラスの前面の±30μm内に集束されることが好ましい。レーザは約15kHz以下の繰返し数で、また一般にガラス品のちょうど裏面まで延びる開孔を形成するに十分な照射持続時間で、動作させることが望ましい。図1の照射工程20は、上述したように、200~400nmの範囲、さらに望ましくは、300~400nmの範囲の波長を有するレーザビーム24,最も好ましくは355nmまたはその20nm,好ましくは5nmの範囲内の波長で動作させた、Nd:KGWネオジムドープカリウム-ガドリニウムタングステンレーザ22またはその他のNdドープレーザを用いる、UVレーザビーム24を用いて実施される。レーザ22は5~50kHzの範囲の繰返し数で動作させることが好ましく、繰返し数は10~20kHzの範囲であることがさらに好ましく、12~18kHzの範囲であることが最も好ましい。063mm厚のEaglrXG登録商標ガラスにスルーホールを作製するためには、図1の照射工程20は、ガラス品100の前面102を、UVレーザビーム24を用い、孔当たり8~150ミリ秒の範囲の持続時間で照射することが望ましく、持続時間は孔当たり60~120ミリ秒の範囲にあることがさらに望ましく、孔当たり80~100ミリ秒の範囲にあることが最も望ましい。01mm厚のガラスに対しては約10ミリ秒が望ましく、015mm厚のガラスに対しては25ミリ秒が望ましく、03mm厚のガラスに対しては30ミリ秒が望ましい。ガラスが厚くなるほど、一層長い露光一層多くのパルス数が必要になる。別の実施形態として、持続時間は、その持続時間が得られる孔をガラス品100の背面104までちょうど延びさせるであろうように、実験または計算によるか、またはこれらの組合せによって、選ばれ得ることが望ましい。これにより、UVレーザ照射の下で異なる挙動を有する様々なガラスへの本方法の適用が可能になるであろう。照射後、得られた高アスペクト比開孔は、図1の工程40のエッチング工程において、HFHNO3溶液内でエッチングされ得ることが望ましい。HFHNO3は、何か他のエッチング剤溶液に比較して、200μmもの小さい最小ピッチで隔てられた数1000の孔をもつ基板にわたり均等なエッチングを可能にすることが本研究で示された。望ましい濃度は20HF10HNO3溶液である。必要に応じる工程として、照射工程20の後でエッチング工程40の前に、ガラス品100の前面102に研磨工程60を施すことができる。図2及び3はそれぞれ、本開示の方法に有用な、レーザ露光装置及びエッチングステーションの略図である。ガラス品100は、精度及び再現性が1μm以下の、図2に示されるような電動XYZステージ上に載せることができる。レーザビーム24がレンズ26によりガラス品100の前面102上に集束される。レンズの開口数は理想的にはほぼNA=01より大きくすべきである。発明者等のビーム24は開口数がNA=0125のレンズを用いて境界が明確に定められた損傷領域を形成した。現在好ましいレーザ条件は、繰返し数:15kHz,平均パワー:15W,及び持続時間:90mm秒,である。さらに高い繰返し数では、繰返し数が100kHzの対照プロセスの画像である図9に示されるように、損傷領域は明確に定められた境界をもたない。そのような損傷領域では、準円筒形よりもむしろ円錐形の孔プロファイルが生じる。約15Wより低いパワーでは十分な損傷が生じず、15Wをこえるパワーはかなりの前面損傷を生じさせることができ、そのような前面損傷は漏斗形の孔プロファイルも生じさせる。90ミリ秒トレイン/バーストの15kHzパルスが露光に選ばれ、バースト持続時間は063mm厚EagleXGガラスにおけるガラスの一方の側から他方の側に延びる損傷領域に対して最適化される。バースト持続時間が長くなるほど強い背面損傷が生じ、バースト持続時間が短くなるほど損傷領域長が短くなる。そのようなレーザ条件では、図4の画像に示されるように、直径が7~10μmの開放または中空のマイクロチャネルしか得られない。図9に示される対照プロセスで得られるようなマイクロクラックを有するレーザ損傷領域と比較すると、図4のマイクロチャネルではエッチングされた孔プロファイルにわたってより優れた制御が得られている。ビーム24の焦点の位置は損傷領域形成に重要な役割を果たす。図4に示されるような損傷領域は、ビームがガラス前面から±100μm内に集束されたときに達成され得る。さらに高い一貫性のためには、この範囲は±50μmまで減じられるべきである。ビームが背面の近くに、または背面より先に、集束されると、損傷領域は、図10に示されるように異なって見え、図11の撮影像に示されるように、ウエストを生じさせずに孔をエッチングすることはほとんど不可能になる。好ましいエッチング条件20体積HF10体積HNO3水溶液、10~12分、ほぼ35°Cでの超音波浴内エッチングの下で、得られる孔120は、図6の撮影像に見られるように準円筒形であり、上述した要件を基本的に満たす。例えばCapstoneFS-10のような、界面活性剤を酸に加えると、ガラスからのエッチング生成物を流し去るに役立ち得る。図7及び8に示される上面図及び底面図は、また図6の撮影像の側面図も、必要に応じる前面研磨工程60が用いられたときに得られる孔の画像である。これらの画像に示される試料において、前面は、エッチング工程に先立って前面損傷を除去するためにほぼ80μm研磨されている。そのような研磨がなければ、孔の前面開孔はさらに不規則な形状を有し得る。図3はエッチング工程40に有用な酸エッチング装置42の略図である。図3において、装置42は、水のような、音響エネルギー伝達液体46をその中に入れている外槽44を備える。酸槽48が液体46によって支持され、酸または混酸50がその中に入れられる。照射され、アニールされたガラス板100が酸または混酸50内に浸漬される。エッチングプロセス中、外槽44に音響エネルギーがエネルギー変換器52によって印加され、介在する槽及び液体を通して、ガラス板100に伝達される。エッチングにより、エッチ孔100の直径及びその形状が決定される。例えば、エッチングが低酸濃度1体積HF1体積HCl水溶液を用いて1時間なされた場合、孔120はかなり小さくなる。底面直径は19μmであり、上面直径は65μmである。そのような条件の下でガラス厚は10μm減じて063μmから062μmになる。より高い酸濃度を用いると、図6~8に示される、直径が約100μmの孔が形成される。得られる孔の寸法に影響を与えるエッチングパラメータには、酸濃度、エッチング剤処方すなわち酸の選択、エッチング時間及び溶液の温度がある。酸または混酸には、HFのみ1~30体積、またはHF1~30体積と、HCl1~50体積、H2SO41~20体積、HNO31~40体積及びH3PO41~40体積との組合せを含めることができる。酸の温度は25~60°Cの範囲にあることが好ましい。超音波印加またはその他のタイプの例えばスプレイエッチングのような撹拌が、微細孔内の溶液対流のため及びウエスト領域におけるエッチング高速化のために、望ましい。提案される手法により、斜行孔の形成も可能になる。レーザビームがガラス試料上に角度をなして向けられれば、損傷領域及びエッチ孔の方位も表面に角度をなして定められるであろう。レーザ装置の構成は、図12のガラス板100の簡略な断面図に示される孔120のような、ガラス表面に垂直な孔と斜行する孔のいずれも有する、アレイの作成を可能にするであろうような態様に設計することができる。望ましければ、図13のガラス板100上の孔120に9簡略に示されるような様々な形状に孔形状を変えるための手段として、ビーム整形を用いることもできる。楕円形ビームで照射することによって楕円形の孔が形成されており、アパーチャ及び結像、ビームの重畳及び/またはその他の手法及び手法の組合せによるビーム整形によってその他の形状が可能である。望ましければ、上述したスルーホールに加えて、露光時間の短縮により、図12にも示されるような、同じ基板上のいずれのタイプの孔も含む、盲孔の作製が可能になる。盲孔は、例えばレーザバースト持続時間を90ミリ秒からほぼ10~20ミリ秒に短縮すると生じるであろう。生じる損傷領域は、上述した7~10μmのマイクロチャネルに関する損傷領域と同様であり、ガラスの前面に始まってガラス内部の、短縮された持続時間と全持続時間の間の比の関数である、いくらかの長さまで延びる。そのような損傷跡のエッチングにより盲孔が形成されるであろう。同じ孔アレイ内に異なる深さのスルーホールと盲孔の組合せを形成することができる。ガラス表面に耐酸性フィルム/コーティングを施すことにより、孔形状をさらに一層改善することができる。このコーティングはいくつかの機能、aレーザアブレーション屑からの表面保護、b露光領域周囲のガラス表面への機械的損傷の軽減、cエッチング中のガラス薄化の防止、したがって孔アスペクト比の向上、を果たすことができる。そのようなフィルム/コーティングは除去可能とすることができ、あるいは以降の処理の妨げにならなければガラス上に残しておくことができる。好ましくは、普通に及び一般にのような語句は、本明細書に用いられる場合、特許請求される本発明の範囲を限定するため、あるいは特許請求される本発明の構造または機能にある特徴が必須であるか、肝要であるかまたは重要であることさえも意味するためには用いられていないことに注意されたい。むしろ、これらの語句は、本開示のある実施形態の特定の態様を識別すること、あるいは、本開示の特定の実施形態に用いられても用いられなくとも差し支えない、代わりのまたは追加の特徴を強調することが目的とされているに過ぎない。本開示の主題を詳細に、またその特定の実施形態を参照することで、説明したが、添付される特許請求の範囲に定められる本発明の範囲を逸脱することなく様々な改変及び変形が可能であることが明らかであろう。さらに詳しくは、本開示のいくつかの態様は好ましいかまたは特に有利であるとして本明細書に識別されるが、本開示がそのような態様に限定される必要はないと考えられる。添付される特許請求項の1つ以上において語句~を特徴とするが転換句として用いられていることに注意されたい。本発明を定める目的のため、この語句は構造の一連の特徴の叙述を導入するために用いられる制約の無い転換句として特許請求項に導入されており、より普通に用いられる制約の無い前置句~を含むと同様の態様で解されるべきであることに注意されたい。"