"ゴム成分中にブチル系ゴムを60質量以上含むゴム組成物からなる層と、ゴム成分中にジエン系ゴムを60質量以上含むゴム組成物からなる層との間に、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体を含む組成物からなる層を有するゴム積層体。前記共重合体において、共役ジエンの割合が30mol~80molである請求項1に記載のゴム積層体。前記ゴム成分中にブチル系ゴムを60質量以上含むゴム組成物は、偏平粒子を含む請求項1又は2に記載のゴム積層体。前記共重合体は、共役ジエン化合物部分のシス1,4結合量が50以上である請求項1乃至3のいずれか1項に記載のゴム積層体。前記共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量は、10,000~10,000,000である請求項1乃至4のいずれか1項に記載のゴム積層体。前記共重合体の分子量分布Mw/Mnは、10以下である請求項1乃至5のいずれか1項に記載のゴム積層体。前記非共役オレフィンは、非環状オレフィンである請求項1乃至6のいずれか1項に記載のゴム積層体。前記非共役オレフィンの炭素数は、2~10である請求項1又は7に記載のゴム積層体。前記非共役オレフィンは、エチレン、プロピレン及び1-ブテンよりなる群から選択される少なくとも一種である請求項7又は8に記載のゴム積層体。前記共役ジエン化合物は、1,3-ブタジエン及びイソプレンよりなる群から選択される少なくとも一種である請求項1乃至9のいずれか1項に記載のゴム積層体。前記ゴム積層体を構成するいずれの層にも、ゴム成分100質量部に対し、架橋剤0.1質量部~20質量部含む請求項1乃至10のいずれか1項に記載のゴム積層体。請求項1乃至11のいずれか1項に記載のゴム積層体を用いたタイヤインナーライナー。請求項1乃至11のいずれか1項に記載のゴム積層体を用いたホース。本発明者は、このような状況下で、ブチル系ゴム組成物からなる層とジエン系ゴム組成物からなる層との間の接着性を向上するゴム積層体を提供することを目的とする。本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、ブチル系ゴム組成物からなる層とジエン系ゴム組成物からなる層との間に特定の組成物層を配置することにより、本発明の課題を解決し得ることを見出して、本発明を完成させるに至った。即ち、本発明は、ゴム成分中にブチル系ゴムを60質量以上含むゴム組成物からなる層と、ゴム成分中にジエン系ゴムを60質量以上含むゴム組成物からなる層との間に、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体を含む組成物からなる層を有するゴム積層体であることを特徴とする。本発明の共重合体において、共役ジエンの割合が30mol~80molであることが好ましい。前記ゴム成分中にブチル系ゴムを60質量以上含むゴム組成物は、偏平粒子を含んでいてもよい。本発明の共重合体は、共役ジエン化合物部分のシス1,4結合量が50以上であることが好ましい。本発明の共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量は、10,000~10,000,000であることが好ましい。本発明の前記共重合体の分子量分布Mw/Mnは、10以下であることが好ましい。本発明の前記非共役オレフィンは、非環状オレフィンであることが好ましい。本発明の前記非共役オレフィンの炭素数は、2~10であることが好ましい。本発明の前記非共役オレフィンは、エチレン、プロピレン及び1-ブテンよりなる群から選択される少なくとも一種であることが好ましい。本発明の前記共役ジエン化合物は、1,3-ブタジエン及びイソプレンよりなる群から選択される少なくとも一種であることが好ましい。本発明の前記ゴム積層体を構成するいずれの層にも、ゴム成分100質量部に対し、架橋剤0.1質量部~20質量部含むことが好ましい。本発明は、前記ゴム積層体を用いたタイヤインナーライナーである。また、本発明は、前記ゴム積層体を用いたホースである。本発明によれば、ブチル系ゴム組成物からなる層とジエン系ゴム組成物からなる層との間の接着性を向上するゴム積層体を提供することができる。以下、本発明について、詳細に説明する。図1は、本発明の実施形態に係るゴム積層体の断面図である。本発明に係るゴム積層体1は、第1層11と、第2層12と、第1層11と第2層12との間に配置される第3層13とを有する。第1層11は、ゴム成分中にブチル系ゴムを含むゴム組成物からなる。第2層12は、ゴム成分中にジエン系ゴムを含むゴム組成物からなる。第3層13は、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体を含む組成物からなる。本発明に係るゴム積層体1では、ゴム積層体1を構成するいずれの層第1層11、第2層12、第3層13にも、ゴム成分100質量部に対し、架橋剤0.1質量部~20質量部が含まれる。<ブチル系ゴム組成物>次に、第1層11を構成するブチル系ゴム組成物について説明する。本発明に係るブチル系ゴム組成物に用いられるブチル系ゴムとしては、ブチルゴムイソブチレンイソプレン共重合体ゴム、塩化ブチルゴムや臭素化ブチルゴムなどのハロゲン化ブチルゴムが挙げられる。本発明に係るゴム積層体の第1層を構成するゴム組成物は、ゴム成分中に上記ブチル系ゴムを60質量以上含む。本発明において、第1層11を構成するブチル系ゴム組成物は、ゴム成分100質量部に対して、100~350質量部の偏平粒子を含んでいてもよい。ブチル系ゴム組成物に配合される偏平粒子は、押し出し工程や圧延工程に加わる応力により配向し、層構造を形成する。この層構造が障壁となって、空気などのガスの透過経路が長くなる。これにより、第2層12の一方の面から他方の面にガスが透過しにくく、ガス遮断性が向上する。偏平粒子の含有量が100質量部以上であると、ガス遮断性を高める効果が十分に得られ、350質量部以下であると、ブチル系ゴム組成物の加工性が良好である。より好ましくは、200質量部~320質量部である。また、偏平粒子の偏平の程度は、好ましくは、粒径として0.2μm~2μm、および/またはアスペクト比として5~30、より好ましくは8~20である。粒径が0.2μm未満、あるいはアスペクト比が5未満の場合には、層構造を形成し難く、ガス遮断性の改良が不十分となる場合がある。一方、粒径が2μmを超える、あるいはアスペクト比が30を超えると、タイヤ製造時における加工性が悪化するおそれがある。また、偏平粒子は、鉱物であることが好ましい。鉱物のなかでも、カオリン、クレイ、マイカ、長石、シリカ、グラファイト、ベントナイト、アルミナ、およびアルミナの含水複合体などを使用することが好ましい。これらは、単独使用でも、併用でもいずれでもよい。また、偏平粒子は、雲母等のように層状構造をなしていてもよい。<ジエン系ゴム組成物>次に、第2層12を構成するジエン系ゴム組成物について説明する。本発明に係るジエン系ゴム組成物に用いられるジエン系ゴムとしては、天然ゴムNR、合成ポリイソプレンゴムIR、ポリブタジエンゴムBR、スチレン-ブタジエン共重合体ゴムSBR、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体ゴムNBR、エチレン-プロピレン-ジエン三元共重合体ゴムEPDMなどが挙げられる。本発明に係るゴム積層体の第2層を構成するゴム組成物は、ゴム成分中に上記ジエン系ゴムを60質量以上含む。<共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の説明>次に、第3層13を構成する組成物に含まれる共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体について説明する。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の構成本発明において使用する共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の共役ジエン化合物由来部分共役ジエン部分のシス1,4-結合量は、25以上であることが好ましく、50以上であることが好ましい。さらに、共役ジエン化合物由来部分共役ジエン部分のシス1,4-結合量は、好ましくは、92超であり、さらに好ましくは95以上である。共役ジエン化合物部分共役ジエン化合物由来部分のシス-1,4結合量が25以上であれば、低いガラス転移点Tgを保持することができ、これにより、耐亀裂成長性や耐摩耗性等の物性が改良される。共役ジエン化合物由来部分共役ジエン部分のシス1,4-結合含量を92超とすることにより、耐亀裂成長性、耐侯性、耐熱性を向上させることが可能となる。また、共役ジエン化合物由来部分共役ジエン部分のシス1,4-結合含量を95以上とすると、耐亀裂成長性、耐侯性、耐熱性を一層高めることができる。シス-1,4結合量は、共役ジエン化合物由来部分中の量であって、共重合体全体に対する割合ではない。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体における共役ジエン化合物の割合は、30mol~80molであることが好ましい。共役ジエン化合物の割合が30mol以上であれば、ジエン系ゴムとの接着性がより良好となるので好ましく、80mol以下であれば、ブチル系ゴムとの接着性がより良好となるので好ましい。非共役オレフィンとしては、非環状オレフィンであることが好ましい。また、非共役オレフィンの炭素数は、2~10のα-オレフィンであることが好ましい。α-オレフィンは、オレフィンのα位に二重結合を有するため、共役ジエン化合物との共重合を効率よく行うことができる。従って、非共役オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン等のα-オレフィンが好適に挙げられ、これらの中でも、エチレン、プロピレン及び1-ブテンが好ましく、エチレンが更に好ましい。これら非共役オレフィンは、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、オレフィンは、脂肪族不飽和炭化水素で、炭素-炭素二重結合を1個以上有する化合物を指す。共役ジエン化合物は、炭素数が4~12であることが好ましい。この共役ジエン化合物として、具体的には、1,3-ブタジエン、イプレン、1,3-ペンタジエン、2,3-ジメチルブタジエン等が挙げられ、これらの中でも、1,3-ブタジエン及びイソプレンが好ましい。また、これら共役ジエン化合物は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。上述した共役ジエン化合物の具体例のいずれを用いても、同様のメカニズムで本発明の共重合体を調製することができる。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体は、低分子量化の問題が起こることも無く、その重量平均分子量Mwは特に限定されるものでもない。高分子構造材料への適用の観点から、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは、10,000~10,000,000が好ましく、10,000~1,000,000がより好ましく、50,000~600,000が更に好ましい。Mwが10,000,000を超えると成形加工性が悪化するおそれがある。本発明に係る共重合体は、共役ジエン化合物由来部分における共役ジエン化合物の1,2付加体部分3,4付加体部分を含む含量が5以下であることが好ましい。更に好ましくは3以下、より好ましくは2.5以下である。共役ジエン化合物由来部分における共役ジエン化合物の1,2付加体部分3,4付加体部分を含む含量が5以下であると、本発明に係る共重合体の耐侯性や耐オゾン性をさらに向上させることができる。さらには、共役ジエン化合物部分の1,2付加体3,4付加体を含む含量が2.5以下であると、本発明の共重合体は、耐オゾン性や耐疲労性をさらに向上させることができる。共役ジエン化合物由来部分における共役ジエン化合物の1,2付加体部分x、A-x及びB-xここで、Aは、非共役オレフィンの単量体単位からなるブロック部分であり、Bは、共役ジエン化合物の単量体単位からなるブロック部分であり、xは1以上の整数であるのいずれかである。なお、又はの構造を複数備えるブロック共重合体をマルチブロック共重合体と称する。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体がブロック共重合体である場合は、非共役オレフィンの単量体単位からなるブロック部分が静的結晶性を示すため、破断強度等の機械的性質、ガスバリア性に優れる。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体がランダム共重合体である場合、非共役オレフィンの単量体単位の配列が不規則であるため、共重合体が相分離を起こすことがなく、ブロック部分に由来する結晶化温度が観測されない。すなわち、耐熱性などの性質を有する非共役オレフィンを共重合体の主鎖中に導入することが可能になるため、耐熱性が向上する。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の製造方法次に、本発明に係る共重合体の製造方法を詳細に説明する。但し、以下に詳述する製造方法は、あくまで例示に過ぎない。本発明に係る共重合体は、重合触媒または重合触媒組成物の存在下、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとを重合させることができる。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の製造方法においては、後述する重合触媒、または第一、第二、第三重合触媒組成物を用いること以外は、通常の配位イオン重合触媒による重合体の製造方法と同様にして、重合を行うことができる。本発明において使用される重合触媒または重合触媒組成物については、後述する。重合方法としては、溶液重合法、懸濁重合法、液相塊状重合法、乳化重合法、気相重合法、固相重合法等の任意の方法を用いることができる。また、重合反応に溶媒を用いる場合、用いられる溶媒は重合反応において不活性であればよく、例えば、トルエン、シクロヘキサン、ノルマルヘキサン、またそれらの混合物等が挙げられる。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の製造方法は、例えば、1単量体として共役ジエン化合物及び該共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンを含む重合反応系中に、重合触媒組成物の構成成分を別個に提供し、該反応系中において重合触媒組成物としてもよいし、2予め調製された重合触媒組成物を重合反応系中に提供してもよい。また、2においては、助触媒によって活性化されたメタロセン錯体活性種を提供することも含まれる。なお、重合触媒組成物に含まれるメタロセン錯体の使用量は、共役ジエン化合物及び該共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンの合計に対して、0.0001~0.01倍モルの範囲が好ましい。また、本発明に係る共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の製造方法においては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の重合停止剤を用いて、重合を停止させてもよい。本発明に係る製造方法において、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンの重合反応は、不活性ガス、好ましくは窒素ガスやアルゴンガスの雰囲気下において行われることが好ましい。上記重合反応の重合温度は、特に制限されないが、例えば-100°C~200°Cの範囲が好ましく、室温程度とすることもできる。なお、重合温度を上げると、重合反応のシス-1,4選択性が低下することがある。また、上記重合反応の圧力は、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンを十分に重合反応系中に取り込むため、0.1~10.0MPaの範囲が好ましい。また、上記重合反応の反応時間も特に制限されず、例えば1秒~10日の範囲が好ましいが、重合される単量体の種類、触媒の種類、重合温度等の条件によって適宜選択することができる。本発明に係る製造方法において、上記共役ジエン化合物と該共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンとの重合の際、該非共役オレフィンの圧力は、0.1MPa~10MPaであることが好ましい。該非共役オレフィンの圧力が0.1MPa以上であれば、反応混合物中に非共役オレフィンを効率的に導入することができる。また、非共役オレフィンの圧力を高くし過ぎても、非共役オレフィンを効率的に導入する効果が頭打ちとなるため、非共役オレフィンの圧力を10MPa以下とするのが好ましい。前記共重合体の製造方法において、上記共役ジエン化合物と該共役ジエン化合物以外の非共役オレフィンとの重合の際、重合開始時における該共役ジエン化合物の濃度mol/lと該非共役オレフィンの濃度mol/lとは、下記式の関係を満たすことが好ましい。非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度の値を1以上とすることで、反応混合物中に非共役オレフィンを効率的に導入することができる。非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度≧1.0更に好ましくは、下記式の関係を満たすことが好ましい。非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度≧1.3さらに好ましくは、下記式の関係を満たすことが好ましい。非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度≧1.7本発明に係る製造方法によれば、上記重合触媒または重合触媒組成物を用いること以外は、通常の配位イオン重合触媒による重合体の製造方法と同様にして、単量体である共役ジエン化合物と非共役オレフィンを共重合させることができる。第一重合触媒組成物次に、本発明に係る共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の製造方法において用いられる第一重合触媒組成物について説明する。第一重合触媒組成物としては、下記一般式I:式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ra~Rfは、それぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基又は水素原子を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示すで表されるメタロセン錯体、及び下記一般式II:式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、X’は、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示すで表されるメタロセン錯体、並びに下記一般式III:式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpR’は、無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示し、[B]は、非配位性アニオンを示すで表されるハーフメタロセンカチオン錯体からなる群より選択される少なくとも1種類の錯体を含む重合触媒組成物以下、第一重合触媒組成物ともいうが挙げられる。第一重合触媒組成物は、更に、通常のメタロセン錯体を含む重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含んでいてもよい。ここで、メタロセン錯体は、一つ又は二つ以上のシクロペンタジエニル又はその誘導体が中心金属に結合した錯体化合物である。特に、中心金属に結合したシクロペンタジエニル又はその誘導体が一つであるメタロセン錯体を、ハーフメタロセン錯体と称することがある。なお、重合反応系において、第一重合触媒組成物に含まれる錯体の濃度は0.1~0.0001mol/Lの範囲であることが好ましい。上記一般式I及び式IIで表されるメタロセン錯体において、式中のCpRは、無置換インデニル又は置換インデニルである。インデニル環を基本骨格とするCpRは、C9H7XRX又はC9H11XRXで示され得る。ここで、Xは0~7又は0~11の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられる。また、メタロイド基は、ヒドロカルビル基を有することが好ましい。メタロイド基が有するヒドロカルビル基は、上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。置換インデニルとして、具体的には、2-フェニルインデニル、2-メチルインデニル等が挙げられる。なお、一般式I及び式IIにおける二つのCpRは、それぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体において、式中のCpR’は、無置換もしくは置換のシクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルであり、これらの中でも、無置換もしくは置換のインデニルであることが好ましい。シクロペンタジエニル環を基本骨格とするCpR’は、C5H5XRXで示される。ここで、Xは0~5の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。シクロペンタジエニル環を基本骨格とするCpR’として、具体的には、以下のものが例示される。式中、Rは水素原子、メチル基又はエチル基を示す。一般式IIIにおいて、上記インデニル環を基本骨格とするCpR’は、一般式IのCpRと同様に定義される。好ましい例も同様である。一般式IIIにおいて、上記フルオレニル環を基本骨格とするCpR’は、C13H9XRX又はC13H17XRXで示され得る。ここで、Xは0~9又は0~17の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられる。また、メタロイド基は、ヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は、上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。一般式I、式II及び式IIIにおける中心金属Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号57~71の15元素が含まれ、これらのいずれでもよい。中心金属Mとしては、サマリウムSm、ネオジムNd、プラセオジムPr、ガドリニウムGd、セリウムCe、ホルミウムHo、スカンジウムSc及びイットリウムYが好適に挙げられる。一般式Iで表されるメタロセン錯体は、シリルアミド配位子[-NSiR32]を含む。シリルアミド配位子に含まれるR基一般式IにおけるRa~Rfは、それぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基又は水素原子である。また、Ra~Rfのうち少なくとも一つが水素原子であることが好ましい。Ra~Rfのうち少なくとも一つを水素原子にすることで、触媒の合成が容易になり、また、ケイ素まわりのかさ高さが低くなるため、非共役オレフィンが導入され易くなる。同様の観点から、Ra~Rcのうち少なくとも一つが水素原子であり、Rd~Rfのうち少なくとも一つが水素原子であることが更に好ましい。更に、アルキル基としては、メチル基が好ましい。一般式IIで表されるメタロセン錯体は、シリル配位子[-SiX’3]を含む。シリル配位子[-SiX’3]に含まれるX’は、下記で説明される一般式IIIのXと同様に定義される基であり、好ましい基も同様である。一般式IIIにおいて、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基及び炭素数1~20の炭化水素基からなる群より選択される基である。ここで、上記アルコキシド基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等の脂肪族アルコキシ基;フェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルフェノキシ基、2,6-ジネオペンチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-ネオペンチルフェノキシ基、2-イソプロピル-6-ネオペンチルフェノキシ基等のアリールオキシド基が挙げられ、これらの中でも、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基が好ましい。一般式IIIにおいて、Xが表すチオラート基としては、チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオプロポキシ基、チオ-n-ブトキシ基、チオイソブトキシ基、チオ-sec-ブトキシ基、チオ-tert-ブトキシ基等の脂肪族チオラート基;チオフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルチオフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルチオフェノキシ基、2,6-ジネオペンチルチオフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルチオフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-チオネオペンチルフェノキシ基、2-イソプロピル-6-チオネオペンチルフェノキシ基、2,4,6-トリイソプロピルチオフェノキシ基等のアリールチオラート基が挙げられ、これらの中でも、2,4,6-トリイソプロピルチオフェノキシ基が好ましい。一般式IIIにおいて、Xが表すアミド基としては、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基等の脂肪族アミド基;フェニルアミド基、2,6-ジ-tert-ブチルフェニルアミド基、2,6-ジイソプロピルフェニルアミド基、2,6-ジネオペンチルフェニルアミド基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルフェニルアミド基、2-tert-ブチル-6-ネオペンチルフェニルアミド基、2-イソプロピル-6-ネオペンチルフェニルアミド基、2,4,6-tert-ブチルフェニルアミド基等のアリールアミド基;ビストリメチルシリルアミド基等のビストリアルキルシリルアミド基が挙げられ、これらの中でも、ビストリメチルシリルアミド基が好ましい。一般式IIIにおいて、Xが表すシリル基としては、トリメチルシリル基、トリストリメチルシリルシリル基、ビストリメチルシリルメチルシリル基、トリメチルシリルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリルビストリメチルシリルシリル基等が挙げられ、これらの中でも、トリストリメチルシリルシリル基が好ましい。一般式IIIにおいて、Xが表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子のいずれでもよいが、塩素原子又は臭素原子が好ましい。また、Xが表す炭素数1~20の炭化水素基として、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等の直鎖又は分枝鎖の脂肪族炭化水素基;フェニル基、トリル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基;ベンジル基等のアラルキル基等の他;トリメチルシリルメチル基、ビストリメチルシリルメチル基等のケイ素原子を含有する炭化水素基等が挙げられ、これらの中でも、メチル基、エチル基、イソブチル基、トリメチルシリルメチル基等が好ましい。一般式IIIにおいて、Xとしては、ビストリメチルシリルアミド基又は炭素数1~20の炭化水素基が好ましい。一般式IIIにおいて、[B]で示される非配位性アニオンとしては、例えば、4価のホウ素アニオンが挙げられる。該4価のホウ素アニオンとして、具体的には、テトラフェニルボレート、テトラキスモノフルオロフェニルボレート、テトラキスジフルオロフェニルボレート、テトラキストリフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロフェニルボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロメチルフェニルボレート、テトラトリルボレート、テトラキシリルボレート、トリフェニル、ペンタフルオロフェニルボレート、[トリスペンタフルオロフェニル、フェニル]ボレート、トリデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート等が挙げられ、これらの中でも、テトラキスペンタフルオロフェニルボレートが好ましい。上記一般式I及び式IIで表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、更に0~3個、好ましくは0~1個の中性ルイス塩基Lを含む。ここで、中性ルイス塩基Lとしては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記錯体が複数の中性ルイス塩基Lを含む場合、中性ルイス塩基Lは、同一であっても異なっていてもよい。また、上記一般式I及び式IIで表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、単量体として存在していてもよく、二量体又はそれ以上の多量体として存在していてもよい。上記一般式Iで表されるメタロセン錯体は、例えば、溶媒中でランタノイドトリスハライド、スカンジウムトリスハライド又はイットリウムトリスハライドを、インデニルの塩例えばカリウム塩やリチウム塩及びビストリアルキルシリルアミドの塩例えばカリウム塩やリチウム塩と反応させることで得ることができる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間~数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンを用いればよい。以下に、一般式Iで表されるメタロセン錯体を得るための反応例を示す。式中、X’’はハライドを示す。上記一般式IIで表されるメタロセン錯体は、例えば、溶媒中でランタノイドトリスハライド、スカンジウムトリスハライド又はイットリウムトリスハライドを、インデニルの塩例えばカリウム塩やリチウム塩及びシリルの塩例えばカリウム塩やリチウム塩と反応させることで得ることができる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間~数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンを用いればよい。以下に、一般式IIで表されるメタロセン錯体を得るための反応例を示す。式中、X’’はハライドを示す。上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、例えば、次の反応により得ることができる。ここで、一般式IVで表される化合物において、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpR’は、それぞれ独立して無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示す。また、一般式[A][B]で表されるイオン性化合物において、[A]は、カチオンを示し、[B]は、非配位性アニオンを示す。[A]で表されるカチオンとしては、例えば、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アミンカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等が挙げられる。カルボニウムカチオンとしては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ置換フェニルカルボニウムカチオン等の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリ置換フェニルカルボニルカチオンとして、具体的には、トリメチルフェニルカルボニウムカチオン等が挙げられる。アミンカチオンとしては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウムカチオン;N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムカチオン等のN,N-ジアルキルアニリニウムカチオン;ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンとしては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリメチルフェニルホスホニウムカチオン、トリジメチルフェニルホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらカチオンの中でも、N,N-ジアルキルアニリニウムカチオン又はカルボニウムカチオンが好ましく、N,N-ジアルキルアニリニウムカチオンが特に好ましい。上記反応に用いる一般式[A][B]で表されるイオン性化合物としては、上記の非配位性アニオン及びカチオンからそれぞれ選択し組み合わせた化合物であって、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が好ましい。また、一般式[A][B]で表されるイオン性化合物は、メタロセン錯体に対して0.1~10倍モル加えることが好ましく、約1倍モル加えることが更に好ましい。なお、一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体を重合反応に用いる場合、一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体をそのまま重合反応系中に提供してもよいし、上記反応に用いる一般式IVで表される化合物と一般式[A][B]で表されるイオン性化合物を別個に重合反応系中に提供し、反応系中で一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体を形成させてもよい。また、一般式I又は式IIで表されるメタロセン錯体と一般式[A][B]で表されるイオン性化合物とを組み合わせて使用することにより、反応系中で一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体を形成させることもできる。一般式I及び式IIで表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体の構造は、X線構造解析により決定することが好ましい。上記第一重合触媒組成物に用いることができる助触媒は、通常のメタロセン錯体を含む重合触媒組成物の助触媒として用いられる成分から任意に選択され得る。該助触媒としては、例えば、アルミノキサン、有機アルミニウム化合物、上記のイオン性化合物等が好適に挙げられる。これら助触媒は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。上記アルミノキサンとしては、アルキルアミノキサンが好ましく、例えば、メチルアルミノキサンMAO、修飾メチルアルミノキサン等が挙げられる。また、修飾メチルアルミノキサンとしては、MMAO-3A東ソーファインケム社製等が好ましい。なお、上記第一重合触媒組成物におけるアルミノキサンの含有量は、メタロセン錯体の中心金属Mと、アルミノキサンのアルミニウム元素Alとの元素比率Al/Mが、10~1000程度、好ましくは100程度となるようにすることが好ましい。一方、上記有機アルミニウム化合物としては、一般式AlRRR式中、R及びR’はそれぞれ独立してC1~C10の炭化水素基又は水素原子であり、RはC1~C10の炭化水素基であるで表される有機アルミニウム化合物が好ましい。上記有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリアルキルアルミニウムが好ましい。また、トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等が挙げられる。なお、上記重合触媒組成物における有機アルミニウム化合物の含有量は、メタロセン錯体に対して2~50倍モルであることが好ましく、約10倍モルであることが更に好ましい。更に、第一重合触媒組成物においては、一般式I及び式IIで表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式IIIで表されるハーフメタロセンカチオン錯体をそれぞれ、適切な助触媒と組み合わせることで、シス-1,4結合量や得られる共重合体の分子量を増大できる。第二重合触媒組成物次に、本発明に係る共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の製造方法において用いられる第二重合触媒組成物について説明する。第二重合触媒組成物としては、A成分:希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物であって、希土類元素と炭素との結合を有さない該希土類元素化合物又は反応物と、B成分:非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物B-1、アルミノキサンB-2、並びにルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物及び活性ハロゲンを含む有機化合物のうち少なくとも一種のハロゲン化合物B-3よりなる群から選択される少なくとも一種とを含む重合触媒組成物以下、第二重合触媒組成物ともいうを好適に挙げることができる。第二重合触媒組成物が、イオン性化合物B-1及びハロゲン化合物B-3の少なくとも一種を含む場合、第二重合触媒組成物は、更に、C成分:下記一般式X:YR1aR2bR3cX式中、Yは、周期律表第1族、第2族、第12族及び第13族から選択される金属であり、R1及びR2は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R3は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R3は上記R1又はR2と同一又は異なっていてもよく、また、Yが周期律表第1族から選択される金属である場合には、aは1で且つb及びcは0であり、Yが周期律表第2族及び第12族から選択される金属である場合には、a及びbは1で且つcは0であり、Yが周期律表第13族から選択される金属である場合には、a,b及びcは1であるで表される有機金属化合物を含む。前記共重合体の製造方法に用いる第二重合触媒組成物は、上記A成分及びB成分を含むことを要し、ここで、該重合触媒組成物が、上記イオン性化合物B-1及び上記ハロゲン化合物B-3の少なくとも一種を含む場合には、更に、YR1aR2bR3cX式中、Yは、周期律表第1族、第2族、第12族及び第13族から選択される金属であり、R1及びR2は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R3は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R3は上記R1又はR2と同一又は異なっていてもよく、また、Yが周期律表第1族から選択される金属である場合には、aは1で且つb及びcは0であり、Yが周期律表第2族及び第12族から選択される金属である場合には、a及びbは1で且つcは0であり、Yが周期律表第13族から選択される金属である場合には、a,b及びcは1であるで表される有機金属化合物を含むことを要する。上記イオン性化合物B-1及び上記ハロゲン化合物B-3は、A成分へ供給するための炭素原子が存在しないため、該A成分への炭素供給源として、上記C成分が必要となる。なお、上記重合触媒組成物が上記アルミノキサンB-2を含む場合であっても、該重合触媒組成物は、上記C成分を含むことができる。また、上記第二重合触媒組成物は、通常の希土類元素化合物系の重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含んでいてもよい。第二重合触媒組成物に用いるA成分は、希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物であり、ここで、希土類元素化合物及び該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物は、希土類元素と炭素との結合を有さない。該希土類元素化合物及び反応物が希土類元素-炭素結合を有さない場合、化合物が安定であり、取り扱いやすい。ここで、希土類元素化合物とは、周期律表中の原子番号57~71の元素から構成されるランタノイド元素又はスカンジウムもしくはイットリウムを含有する化合物である。なお、ランタノイド元素の具体例としては、ランタニウム、セリウム、プラセオジム、ネオジウム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミニウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウムを挙げることができる。なお、上記A成分は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記希土類元素化合物は、希土類金属が2価もしくは3価の塩又は錯体化合物であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子及び有機化合物残基から選択される1種又は2種以上の配位子を含有する希土類元素化合物であることが更に好ましい。更に、上記希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物は、下記一般式XI又はXII:M11X112L11wXIM11X113L11wXII式中、M11は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、X11は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基、アルデヒド残基、ケトン残基、カルボン酸残基、チオカルボン酸残基又はリン化合物残基を示し、L11は、ルイス塩基を示し、wは、0~3を示すで表されることができる。上記希土類元素化合物の希土類元素に結合する基配位子として、具体的には、水素原子;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等の脂肪族アルコキシ基;フェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルフェノキシ基、2,6-ジネオペンチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-ネオペンチルフェノキシ基、2-イソプロピル-6-ネオペンチルフェノキシ基;チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオプロポキシ基、チオ-n-ブトキシ基、チオイソブトキシ基、チオ-sec-ブトキシ基、チオ-tert-ブトキシ基等の脂肪族チオラート基;チオフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルチオフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルチオフェノキシ基、2,6-ジネオペンチルチオフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルチオフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-チオネオペンチルフェノキシ基、2-イソプロピル-6-チオネオペンチルフェノキシ基、2,4,6-トリイソプロピルチオフェノキシ基等のアリールチオラート基;ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基等の脂肪族アミド基;フェニルアミド基、2,6-ジ-tert-ブチルフェニルアミド基、2,6-ジイソプロピルフェニルアミド基、2,6-ジネオペンチルフェニルアミド基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルフェニルアミド基、2-tert-ブチル-6-ネオペンチルフェニルアミド基、2-イソプロピル-6-ネオペンチルフェニルアミド基、2,4,6-tert-ブチルフェニルアミド基等のアリールアミド基;ビストリメチルシリルアミド基等のビストリアルキルシリルアミド基;トリメチルシリル基、トリストリメチルシリルシリル基、ビストリメチルシリルメチルシリル基、トリメチルシリルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリルビストリメチルシリルシリル基等のシリル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。更には、サリチルアルデヒド、2-ヒドロキシ-1-ナフトアルデヒド、2-ヒドロキシ-3-ナフトアルデヒド等のアルデヒドの残基;2’-ヒドロキシアセトフェノン、2’-ヒドロキシブチロフェノン、2’-ヒドロキシプロピオフェノン等のヒドロキシフェノンの残基;アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、プロピオニルアセトン、イソブチルアセトン、バレリルアセトン、エチルアセチルアセトン等のジケトンの残基;イソ吉草酸、カプリル酸、オクタン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、シクロペンタンカルボン酸、ナフテン酸、エチルヘキサン酸、ビバール酸、バーサチック酸[シェル化学株製の商品名、C10モノカルボン酸の異性体の混合物から構成される合成酸]、フェニル酢酸、安息香酸、2-ナフトエ酸、マレイン酸、コハク酸等のカルボン酸の残基;ヘキサンチオ酸、2,2-ジメチルブタンチオ酸、デカンチオ酸、チオ安息香酸等のチオカルボン酸の残基、リン酸ジブチル、リン酸ジペンチル、リン酸ジヘキシル、リン酸ジヘプチル、リン酸ジオクチル、リン酸ビス2-エチルヘキシル、リン酸ビス1-メチルヘプチル、リン酸ジラウリル、リン酸ジオレイル、リン酸ジフェニル、リン酸ビスp-ノニルフェニル、リン酸ビスポリエチレングリコール-p-ノニルフェニル、リン酸ブチル2-エチルヘキシル、リン酸1-メチルヘプチル2-エチルヘキシル、リン酸2-エチルヘキシルp-ノニルフェニル等のリン酸エステルの残基;2-エチルヘキシルホスホン酸モノブチル、2-エチルヘキシルホスホン酸モノ-2-エチルヘキシル、フェニルホスホン酸モノ-2-エチルヘキシル、2-エチルヘキシルホスホン酸モノ-p-ノニルフェニル、ホスホン酸モノ-2-エチルヘキシル、ホスホン酸モノ-1-メチルヘプチル、ホスホン酸モノ-p-ノニルフェニル等のホスホン酸エステルの残基、ジブチルホスフィン酸、ビス2-エチルヘキシルホスフィン酸、ビス1-メチルヘプチルホスフィン酸、ジラウリルホスフィン酸、ジオレイルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、ビスp-ノニルフェニルホスフィン酸、ブチル2-エチルヘキシルホスフィン酸、2-エチルヘキシル1-メチルヘプチルホスフィン酸、2-エチルヘキシルp-ノニルフェニルホスフィン酸、ブチルホスフィン酸、2-エチルヘキシルホスフィン酸、1-メチルヘプチルホスフィン酸、オレイルホスフィン酸、ラウリルホスフィン酸、フェニルホスフィン酸、p-ノニルフェニルホスフィン酸等のホスフィン酸の残基を挙げることもできる。なお、これらの配位子は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。上記第二重合触媒組成物に用いるA成分において、上記希土類元素化合物と反応するルイス塩基としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記希土類元素化合物が複数のルイス塩基と反応する場合式XI及びXIIにおいては、wが2又は3である場合、ルイス塩基L11は、同一であっても異なっていてもよい。上記第二重合触媒組成物に用いるB成分は、イオン性化合物B-1、アルミノキサンB-2及びハロゲン化合物B-3よりなる群から選択される少なくとも一種の化合物である。なお、上記第二重合触媒組成物におけるB成分の合計の含有量は、A成分に対して0.1~50倍モルであることが好ましい。上記B-1で表されるイオン性化合物は、非配位性アニオンとカチオンとからなり、上記A成分である希土類元素化合物又はそのルイス塩基との反応物と反応してカチオン性遷移金属化合物を生成できるイオン性化合物等を挙げることができる。ここで、非配位性アニオンとしては、例えば、テトラフェニルボレート、テトラキスモノフルオロフェニルボレート、テトラキスジフルオロフェニルボレート、テトラキストリフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロフェニルボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロメチルフェニルボレート、テトラトリルボレート、テトラキシリルボレート、トリフェニル、ペンタフルオロフェニルボレート、[トリスペンタフルオロフェニル、フェニル]ボレート、トリデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート等が挙げられる。一方、カチオンとしては、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等を挙げることができる。カルボニウムカチオンの具体例としては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ置換フェニルカルボニウムカチオン等の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリ置換フェニルカルボニルカチオンとして、より具体的には、トリメチルフェニルカルボニウムカチオン、トリジメチルフェニルカルボニウムカチオン等が挙げられる。アンモニウムカチオンの具体例としては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン例えば、トリn-ブチルアンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウムカチオン;N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムカチオン等のN,N-ジアルキルアニリニウムカチオン;ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンの具体例としては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリメチルフェニルホスホニウムカチオン、トリジメチルフェニルホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。従って、イオン性化合物としては、上述の非配位性アニオン及びカチオンからそれぞれ選択し組み合わせた化合物が好ましく、具体的には、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が好ましい。また、これらのイオン性化合物は、1種単独で使用することも、2種以上を混合して用いることもできる。なお、上記第二重合触媒組成物におけるイオン性化合物の含有量は、A成分に対して0.1~10倍モルであることが好ましく、約1倍モルであることが更に好ましい。上記B-2で表されるアルミノキサンは、有機アルミニウム化合物と縮合剤とを接触させることによって得られる化合物であり、例えば、一般式:-AlR’O-で示される繰り返し単位を有する鎖状アルミノキサン又は環状アルミノキサン式中、R’は炭素数1~10の炭化水素基であり、一部の炭化水素基はハロゲン原子及び/又はアルコキシ基で置換されてもよく、繰り返し単位の重合度は、5以上が好ましく、10以上が更に好ましいを挙げることができる。ここで、R’として、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基等が挙げられ、これらの中でも、メチル基が好ましい。また、アルミノキサンの原料として用いられる有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム及びその混合物等が挙げられ、トリメチルアルミニウムが特に好ましい。例えば、トリメチルアルミニウムとトリブチルアルミニウムとの混合物を原料として用いたアルミノキサンを好適に用いることができる。なお、上記第二重合触媒組成物におけるアルミノキサンの含有量は、A成分を構成する希土類元素Mと、アルミノキサンのアルミニウム元素Alとの元素比率Al/Mが、10~1000程度となるようにすることが好ましい。上記B-3で表されるハロゲン化合物は、ルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物及び活性ハロゲンを含む有機化合物のうち少なくとも一種からなり、例えば、上記A成分である希土類元素化合物又はそのルイス塩基との反応物と反応して、カチオン性遷移金属化合物やハロゲン化遷移金属化合物や遷移金属中心が電荷不足の化合物を生成することができる。なお、上記第二重合触媒組成物におけるハロゲン化合物の合計の含有量は、A成分に対して1~5倍モルであることが好ましい。上記ルイス酸としては、BC6F53等のホウ素含有ハロゲン化合物、AlC6F53等のアルミニウム含有ハロゲン化合物を使用できる他、周期律表中の第III,IV,V,VI又はVIII族に属する元素を含有するハロゲン化合物を用いることもできる。好ましくはアルミニウムハロゲン化物又は有機金属ハロゲン化物が挙げられる。また、ハロゲン元素としては、塩素又は臭素が好ましい。上記ルイス酸として、具体的には、メチルアルミニウムジブロマイド、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジブロマイド、エチルアルミニウムジクロライド、ブチルアルミニウムジブロマイド、ブチルアルミニウムジクロライド、ジメチルアルミニウムブロマイド、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジブチルアルミニウムブロマイド、ジブチルアルミニウムクロライド、メチルアルミニウムセスキブロマイド、メチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムセスキブロマイド、エチルアルミニウムセスキクロライド、ジブチル錫ジクロライド、アルミニウムトリブロマイド、三塩化アンチモン、五塩化アンチモン、三塩化リン、五塩化リン、四塩化錫、四塩化チタン、六塩化タングステン等が挙げられ、これらの中でも、ジエチルアルミニウムクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、エチルアルミニウムセスキブロマイド、エチルアルミニウムジブロマイドが特に好ましい。上記金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物を構成する金属ハロゲン化物としては、塩化ベリリウム、臭化ベリリウム、ヨウ化ベリリウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、ヨウ化カルシウム、塩化バリウム、臭化バリウム、ヨウ化バリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化カドミウム、臭化カドミウム、ヨウ化カドミウム、塩化水銀、臭化水銀、ヨウ化水銀、塩化マンガン、臭化マンガン、ヨウ化マンガン、塩化レニウム、臭化レニウム、ヨウ化レニウム、塩化銅、ヨウ化銅、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩化金、ヨウ化金、臭化金等が挙げられ、これらの中でも、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化マンガン、塩化亜鉛、塩化銅が好ましく、塩化マグネシウム、塩化マンガン、塩化亜鉛、塩化銅が特に好ましい。また、上記金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物を構成するルイス塩基としては、リン化合物、カルボニル化合物、窒素化合物、エーテル化合物、アルコール等が好ましい。具体的には、リン酸トリブチル、リン酸トリ-2-エチルヘキシル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジエチルホスフィノエタン、ジフェニルホスフィノエタン、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、プロピオニトリルアセトン、バレリルアセトン、エチルアセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸フェニル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジフェニル、酢酸、オクタン酸、2-エチル-ヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、安息香酸、ナフテン酸、バーサチック酸、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、2-エチル-ヘキシルアルコール、オレイルアルコール、ステアリルアルコール、フェノール、ベンジルアルコール、1-デカノール、ラウリルアルコール等が挙げられ、これらの中でも、リン酸トリ-2-エチルヘキシル、リン酸トリクレジル、アセチルアセトン、2-エチルヘキサン酸、バーサチック酸、2-エチルヘキシルアルコール、1-デカノール、ラウリルアルコールが好ましい。上記ルイス塩基は、上記金属ハロゲン化物1モル当り、0.01~30モル、好ましくは0.5~10モルの割合で反応させる。このルイス塩基との反応物を使用すると、ポリマー中に残存する金属を低減することができる。上記活性ハロゲンを含む有機化合物としては、ベンジルクロライド等が挙げられる。上記第二重合触媒組成物に用いるC成分は、下記一般式X:YR1aR2bR3cX式中、Yは、周期律表第1族、第2族、第12族及び第13族から選択される金属であり、R1及びR2は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R3は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R3は上記R1又はR2と同一又は異なっていてもよく、また、Yが周期律表第1族から選択される金属である場合には、aは1で且つb及びcは0であり、Yが周期律表第2族及び第12族から選択される金属である場合には、a及びbは1で且つcは0であり、Yが周期律表第13族から選択される金属である場合には、a,b及びcは1であるで表される有機金属化合物であり、下記一般式Xa:AlR1R2R3Xa[式中、R1及びR2は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R3は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R3は上記R1又はR2と同一又は異なっていてもよい]で表される有機アルミニウム化合物であることが好ましい。式Xの有機アルミニウム化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ-n-プロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリ-n-ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ-t-ブチルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリシクロヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム;水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジ-n-プロピルアルミニウム、水素化ジ-n-ブチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ジヘキシルアルミニウム、水素化ジイソヘキシルアルミニウム、水素化ジオクチルアルミニウム、水素化ジイソオクチルアルミニウム;エチルアルミニウムジハイドライド、n-プロピルアルミニウムジハイドライド、イソブチルアルミニウムジハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好ましい。以上に述べたC成分としての有機アルミニウム化合物は、1種単独で使用することも、2種以上を混合して用いることもできる。なお、上記第二重合触媒組成物における有機アルミニウム化合物の含有量は、A成分に対して1~50倍モルであることが好ましく、約10倍モルであることが更に好ましい。重合触媒次に、本発明に係る共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の製造方法において用いられる重合触媒について説明する。重合触媒としては、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの重合用であり、下記式A:RaMXbQYbA式中、Rはそれぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、該RはMに配位しており、Mはランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、Xはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該XはM及びQにμ配位しており、Qは周期律表第13族元素を示し、Yはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子を示し、該YはQに配位しており、a及びbは2であるで表されるメタロセン系複合触媒が挙げられる。上記メタロセン系複合触媒の好適例においては、下記式XV:式中、M1は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ra及びRbは、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該Ra及びRbは、M1及びAlにμ配位しており、Rc及びRdは、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子を示すで表されるメタロセン系複合触媒が挙げられる。上記メタロセン系重合触媒を用いることで、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体を製造することができる。また、上記メタロセン系複合触媒、例えば予めアルミニウム触媒と複合させてなる触媒を用いることで、共重合体合成時に使用されるアルキルアルミニウムの量を低減したり、無くしたりすることが可能となる。なお、従来の触媒系を用いると、共重合体合成時に大量のアルキルアルミニウムを用いる必要がある。例えば、従来の触媒系では、金属触媒に対して10当量以上のアルキルアルミニウムを用いる必要があるところ、上記メタロセン系複合触媒であれば、5当量程度のアルキルアルミニウムを加えることで、優れた触媒作用が発揮される。上記メタロセン系複合触媒において、上記式A中の金属Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号57~71の15元素が含まれ、これらのいずれでもよい。金属Mとしては、サマリウムSm、ネオジムNd、プラセオジムPr、ガドリニウムGd、セリウムCe、ホルミウムHo、スカンジウムSc及びイットリウムYが好適に挙げられる。上記式Aにおいて、Rは、それぞれ独立して無置換インデニル又は置換インデニルであり、該Rは上記金属Mに配位している。なお、置換インデニル基の具体例としては、例えば、1,2,3-トリメチルインデニル基、ヘプタメチルインデニル基、1,2,4,5,6,7-ヘキサメチルインデニル基等が挙げられる。上記式Aにおいて、Qは、周期律表第13族元素を示し、具体的には、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等が挙げられる。上記式Aにおいて、Xはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該XはM及びQにμ配位している。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。なお、μ配位とは、架橋構造をとる配位様式のことである。上記式Aにおいて、Yはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子を示し、該YはQに配位している。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。上記式XVにおいて、金属M1は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号57~71の15元素が含まれ、これらのいずれでもよい。金属M1としては、サマリウムSm、ネオジムNd、プラセオジムPr、ガドリニウムGd、セリウムCe、ホルミウムHo、スカンジウムSc及びイットリウムYが好適に挙げられる。上記式XVにおいて、CpRは、無置換インデニル又は置換インデニルである。インデニル環を基本骨格とするCpRは、C9H7XRX又はC9H11XRXで示され得る。ここで、Xは0~7又は0~11の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。置換インデニルとして、具体的には、2-フェニルインデニル、2-メチルインデニル等が挙げられる。なお、式XVにおける二つのCpRは、それぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。上記式XVにおいて、RA及びRBは、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該RA及びRは、M1及Alにμ配位している。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。なお、μ配位とは、架橋構造をとる配位様式のことである。上記式XVにおいて、RC及びRDは、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子である。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。なお、上記メタロセン系複合触媒は、例えば、溶媒中で、下記式XVI:式中、M2は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、RE~RJは、それぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基又は水素原子を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示すで表されるメタロセン錯体を、AlRKRLRMで表される有機アルミニウム化合物と反応させることで得られる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間~数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンやヘキサンを用いればよい。なお、上記メタロセン系複合触媒の構造は、1H-NMRやX線構造解析により決定することが好ましい。上記式XVIで表されるメタロセン錯体において、CpRは、無置換インデニル又は置換インデニルであり、上記式XV中のCpRと同義である。また、上記式XVIにおいて、金属M2は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムであり、上記式XV中の金属M1と同義である。上記式XVIで表されるメタロセン錯体は、シリルアミド配位子[-NSiR32]を含む。シリルアミド配位子に含まれるR基RE~RJ基は、それぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基又は水素原子である。また、RE~RJのうち少なくとも一つが水素原子であることが好ましい。RE~RJのうち少なくとも一つを水素原子にすることで、触媒の合成が容易になる。更に、アルキル基としては、メチル基が好ましい。上記式XVIで表されるメタロセン錯体は、更に0~3個、好ましくは0~1個の中性ルイス塩基Lを含む。ここで、中性ルイス塩基Lとしては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記錯体が複数の中性ルイス塩基Lを含む場合、中性ルイス塩基Lは、同一であっても異なっていてもよい。また、上記式XVIで表されるメタロセン錯体は、単量体として存在していてもよく、二量体又はそれ以上の多量体として存在していてもよい。一方、上記メタロセン系複合触媒の生成に用いる有機アルミニウム化合物は、AlRKRLRMで表され、ここで、RK及びRLは、それぞれ独立して炭素数1~20の1価の炭化水素基又は水素原子で、RMは炭素数1~20の1価の炭化水素基であり、但し、RMは上記RK又はRLと同一でも異なっていてもよい。炭素数1~20の1価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。上記有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ-n-プロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリ-n-ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ-t-ブチルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリシクロヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム;水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジ-n-プロピルアルミニウム、水素化ジ-n-ブチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ジヘキシルアルミニウム、水素化ジイソヘキシルアルミニウム、水素化ジオクチルアルミニウム、水素化ジイソオクチルアルミニウム;エチルアルミニウムジハイドライド、n-プロピルアルミニウムジハイドライド、イソブチルアルミニウムジハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好ましい。また、これら有機アルミニウム化合物は、1種単独で使用することも、2種以上を混合して用いることもできる。なお、上記メタロセン系複合触媒の生成に用いる有機アルミニウム化合物の量は、メタロセン錯体に対して1~50倍モルであることが好ましく、約10倍モルであることが更に好ましい。第三重合触媒組成物次に、本発明に係る共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の製造方法において用いられる第三重合触媒組成物について説明する。第三重合触媒組成物は、上記メタロセン系複合触媒と、ホウ素アニオンとを含むことを特徴とし、更に、通常のメタロセン系触媒を含む重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含むことが好ましい。なお、上記メタロセン系複合触媒とホウ素アニオンとを合わせて2成分触媒ともいう。第三重合触媒組成物によれば、上記メタロセン系複合触媒と同様に、更にホウ素アニオンを含有するため、各単量体成分の共重合体中での含有量を任意に制御することが可能となる。第三重合触媒組成物において、2成分触媒を構成するホウ素アニオンとして、具体的には、4価のホウ素アニオンが挙げられる。例えば、テトラフェニルボレート、テトラキスモノフルオロフェニルボレート、テトラキスジフルオロフェニルボレート、テトラキストリフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロフェニルボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、テトラキステトラフルオロメチルフェニルボレート、テトラトリルボレート、テトラキシリルボレート、トリフェニル、ペンタフルオロフェニルボレート、[トリスペンタフルオロフェニル、フェニル]ボレート、トリデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート等が挙げられ、これらの中でも、テトラキスペンタフルオロフェニルボレートが好ましい。なお、上記ホウ素アニオンは、カチオンと組み合わされたイオン性化合物として使用することができる。上記カチオンとしては、例えば、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アミンカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等が挙げられる。カルボニウムカチオンとしては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ置換フェニルカルボニウムカチオン等の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリ置換フェニルカルボニルカチオンとして、具体的には、トリメチルフェニルカルボニウムカチオン等が挙げられる。アミンカチオンとしては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウムカチオン;N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムカチオン等のN,N-ジアルキルアニリニウムカチオン;ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンとしては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリメチルフェニルホスホニウムカチオン、トリジメチルフェニルホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらカチオンの中でも、N,N-ジアルキルアニリニウムカチオン又はカルボニウムカチオンが好ましく、N,N-ジアルキルアニリニウムカチオンが特に好ましい。従って、上記イオン性化合物としては、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が好ましい。なお、ホウ素アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物は、上記メタロセン系複合触媒に対して0.1~10倍モル加えることが好ましく、約1倍モル加えることが更に好ましい。なお、上記第三重合触媒組成物においては、上記メタロセン系複合触媒と上記ホウ素アニオンとを用いる必要があるが、上記式XVIで表されるメタロセン触媒と有機アルミニウム化合物を反応させる反応系に、ホウ素アニオンが存在していると、上記式XVのメタロセン系複合触媒を合成することができない。従って、上記第三重合触媒組成物の調製には、該メタロセン系複合触媒を予め合成し、該メタロセン系複合触媒を単離精製してからホウ素アニオンと組み合わせる必要がある。上記第三重合触媒組成物に用いることができる助触媒としては、例えば、上述のAlRKRLRMで表される有機アルミニウム化合物の他、アルミノキサン等が好適に挙げられる。上記アルミノキサンとしては、アルキルアミノキサンが好ましく、例えば、メチルアルミノキサンMAO、修飾メチルアルミノキサン等が挙げられる。また、修飾メチルアルミノキサンとしては、MMAO-3A東ソーファインケム社製等が好ましい。なお、これらアルミノキサンは、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの交互共重合体は、例えば、特開昭57-3807に記載された重合方法などの公知の方法で製造することができる。<ゴム組成物>本発明に係るゴム組成物としては、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体を含む限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、本発明に係る共重合体以外のゴム成分、無機充填剤、カーボンブラック、架橋剤、などを含むことが好ましい。また、ブチル系ゴム組成物及びジエン系ゴム組成物も同じように上記薬品を含むことが好ましい。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の含有量共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体のゴム成分中の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、3質量以上が好ましい。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体のゴム成分中の含有量が、3質量未満であると、ゴム成分中にブチル系ゴムを含むゴム組成物からなる層と、ゴム成分中にジエン系ゴムを含むゴム組成物からなる層との接着性を高める効果が十分に得られないことがある。ゴム成分共重合体以外のゴム成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体、天然ゴム、各種ブタジエンゴム、各種スチレン-ブタジエン共重合体ゴム、イソプレンゴム、ブチルゴム、イソブチレンとp-メチルスチレンの共重合体の臭化物、ハロゲン化ブチルゴム、アクリロニトリロブタジエンゴム、クロロプレンゴム、エチレン-プロピレン共重合体ゴム、エチレン-プロピレン-ジエン共重合体ゴム、スチレン-イソプレン共重合体ゴム、スチレン-イソプレン-ブタジエン共重合体ゴム、イソプレン-ブタジエン共重合体ゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、アクリルゴム、エピクロルヒドリンゴム、多硫化ゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。補強性充填剤ゴム組成物には、必要に応じて補強性充填剤を配合することができる。補強性充填剤としては、カーボンブラック、無機充填剤、などを挙げることができ、カーボンブラック及び無機充填剤から選択される少なくとも一種が好ましい。無機充填剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シリカ、水酸化アルミニウム、クレー、アルミナ、タルク、マイカ、カオリン、ガラスバルーン、ガラスビーズ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、チタン酸カリウム、硫酸バリウムなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。なお、無機充填剤を用いる時は適宜シランカップリング剤を使用してもよい。補強性充填剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ゴム成分100質量部に対し、5質量部~200質量部が好ましい。補強性充填剤の少なくともいずれかの含有量が、5質量部未満であると、補強性充填剤を入れる効果があまりみられないことがあり、200質量部を超えると前記ゴム成分に補強性充填剤が混ざり込まなくなる傾向があり、ゴム組成物としての性能を低下させることがある。架橋剤架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、硫黄系架橋剤、有機過酸化物系架橋剤、無機架橋剤、ポリアミン架橋剤、樹脂架橋剤、硫黄化合物系架橋剤、オキシム-ニトロソアミン系架橋剤硫黄などが挙げられるが、中でも、タイヤ用ゴム組成物としては硫黄系架橋剤がより好ましい。架橋剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ゴム成分100質量部に対し、0.1質量部~20質量部が好ましい。架橋剤の含有量が0.1質量部未満では、架橋がほとんど進行しなかったり、20質量部を超えると一部の架橋剤により混練り中に架橋が進んでしまう傾向があったり、加硫物の物性が損なわれたりすることがある。その他の成分その他の成分としては、加硫促進剤が挙げられる。加硫促進剤としては、グアジニン系、アルデヒド-アミン系、アルデヒド-アンモニア系、チアゾール系、スルフェンアミド系、チオ尿素系、チウラム系、ジチオカルバメート系、ザンテート系等の化合物が使用できる。また必要に応じて、補強剤、軟化剤、充填剤、加硫助剤、着色剤、難燃剤、滑剤、発泡剤、可塑剤、加工助剤、酸化防止剤、老化防止剤、スコーチ防止剤、紫外線防止剤、帯電防止剤、着色防止剤、その他の配合剤など公知のものをその使用目的に応じて使用することができる。<架橋ゴム組成物>本発明に係る架橋ゴム組成物は、本発明に係るゴム組成物を架橋して得られたものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。架橋の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、温度120°C~200°C、加温時間1分間~900分間が好ましい。<タイヤ>タイヤの構造本発明に係るタイヤ100を図2を用いて説明する。タイヤ100は、一対のビードコア111,112と、スティフナー113,114と、カーカスプライ121とを有する。スティフナー113,114は、ビードコア111,112からタイヤ径方向外側に延在する。カーカスプライ121は、ビードコア111,112において、スティフナー113,114のトレッド幅方向外側に折り返されて、馬蹄形のタイヤケース形状を形成する。カーカスプライ121のタイヤ径方向外側には、複数のベルト層からなるベルト部115が配設されている。ベルト部115のタイヤ径方向外側には、トレッド部118が配設されている。また、カーカスプライ121のタイヤ径方向内側には、空気透過防止層としてインナーライナー130が配設されている。本発明に係るタイヤは、本発明に係るゴム組成物、又は架橋ゴム組成物を用いたものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。本発明に係るゴム組成物、又は架橋ゴム組成物のタイヤにおける適用部位としては、例えば、トレッド、ベーストレッド、サイドウォール、サイド補強ゴム、ビードフィラー、インナーライナーなどが挙げられるが、これに限定されない。これらの適用部位のうち、特にインナーライナーに好適に用いることができる。タイヤの製造方法本発明に係るタイヤの製造方法としては、慣用の方法を用いることができる。例えば、タイヤ成形用ドラム上に未加硫ゴムからなるカーカス層、ベルト層、トレッド層等の通常タイヤ製造に用いられる部材を順次貼り重ね、ドラムを抜き去ってグリーンタイヤとする。次いで、このグリーンタイヤを常法に従って加熱加硫することにより、所望のタイヤを製造することができる。<タイヤ以外の用途>タイヤ用途以外にも、防振ゴム、免震ゴム、ベルトコンベアベルト、ゴムクローラ、各種ホース、発泡体などに本発明に係るゴム組成物、又は架橋ゴム組成物を使用することができる。これらのうち、特にホースに好適に用いることができる。以下の方法で、aエチレン-ブタジエン共重合体EBR及びbプロピレン-ブテン共重合体PBRの交互共重合タイプを製造した。aエチレン-ブタジエン共重合体EBRの製造十分に乾燥した2Lステンレス反応器に、トルエン150mlを添加した後、エチレンを0.8MPaで導入した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビス2-フェニルインデニルガドリニウムビスジメチルシリルアミド[2-PhC9H62GdNSiHMe22]14.5μmol、トリフェニルカルボニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートPh3CBC6F5414.1μmol、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド0.87mmolを仕込み、トルエン5mlに溶解させて触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で14.1μmolとなる量をモノマー溶液へ添加し、50°Cで5分間重合を行った。その後、エチレンの導入圧力を0.2MPa/minの速度で低下させながら、1,3-ブタジエン3.05g0.056molを含むトルエン溶液20mlを添加した後、さらに15分間重合を行った。次に、エチレンの導入圧力を0.8MPaに戻し5分間重合を行い、その後、エチレンの導入圧力を0.2MPa/minの速度で低下させながら、1,3-ブタジエン6.09g0.113molを含むトルエン溶液40mlを添加し、その後さらに30分間重合を行うという操作を計3回繰り返した。重合後、2,2’-メチレンービス4-エチル-6-t-ブチルフェノールNS-55質量のイソプロパノール溶液1mlを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、70°Cで真空乾燥し重合体を得た。得られた共重合体aの収量は24.50gであった。共重合体aについて、ミクロ構造、エチレン含有率、重量平均分子量Mw、分子量分布Mw/Mn、ブロックポリエチレン融点DSCピーク温度及び連鎖構造を下記の方法で測定評価した。重量平均分子量Mwは205,000であり、分子量分布Mw/Mnは9.15であった。シス1,4-結合量は97、1,2-ビニル結合量は1.4、エチレン含量とブタジエン含量とのモル比はエチレン含量34mol/ブタジエン含量66molであった。ブロックポリエチレン融点DSCピーク温度は、121°Cであり、連鎖構造はブロックであった。共重合体のミクロ構造1,2-ビニル結合量、シス-1,4結合量共重合体中のブタジエン部分のミクロ構造1,2-ビニル結合量を、1H-NMRスペクトル100°C、d-テトラクロロエタン標準:6ppmによる1,2-ビニル結合成分5.0-5.1ppmと全体のブタジエン結合成分5-5.6ppmの積分比より求めた。また、共重合体中のブタジエン部分のミクロ構造シス-1,4結合量を、13C-NMRスペクトル100°C、d-テトラクロロエタン標準:73.8ppmによるシス-1,4結合成分26.5-27.5ppmと全体のブタジエン結合成分26.5-27.5ppm31.5-32.5ppmの積分比より求めた。共重合体のエチレン含有率共重合体中のエチレン部分の含有率molを13C-NMRスペクトル100°C、d-テトラクロロエタン標準:73.8ppmによる全体のエチレン結合成分28.5-30.0ppmと全体のブタジエン結合成分26.5-27.5ppm31.5-32.5ppmの積分比より求めた。エチレン部分の含有率molを表1に示す。共重合体の重量平均分子量Mw及び分子量分布Mw/Mnゲルパーミエーションクロマトグラフィー[GPC:東ソー製HLC-8121GPC/HT、カラム:東ソー製GMHHR-HSHT×2本、検出器:示差屈折率計RI]で単分散ポリスチレンを基準として、重合体のポリスチレン換算の重量平均分子量Mw及び分子量分布Mw/Mnを求めた。なお、測定温度は140°Cである。共重合体のブロックポリエチレン融点DSCピーク温度JISK7121-1987に準拠して示差走査熱量測定DSCを行い、DSC曲線を描き、ブロックポリエチレン融点DSCピーク温度を測定した。なお、測定は、単体ポリマーや触媒残渣等の不純物の影響を避けるため、共重合体を大量のテトラヒドロフランに48h浸漬し、テトラヒドロフランに溶解する成分を全て取り除いた後、乾燥したゴム成分をサンプルとして使用した。共重合体の同定文献高分子学会予稿集Vol.42,No.4,Page1347のオゾン分解-GPC法を応用して、連鎖分布の解析を行った。なお、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーは[GPC:東ソー製HLC-8121GPC/HT、カラム:昭和電工製GPCHT-803×2本、検出器:示差屈折率計RI、単分散ポリスチレンを基準、測定温度は140°C]を用いて測定した。その結果、全エチレン成分に対しブロックエチレン成分、即ち、数平均分子量Mnが1000以上のポリエチレン成分が80質量以上であり、共重合体aがブロック共重合体であることを確認した。bプロピレン-ブテン共重合体PBRの交互共重合タイプの製造300gのトルエン、68gのブタジエン及び29gのプロピレンモル比1.8:1の混合物を窒素下で-75°Cに冷却した。5mmolのトリイソブチルアルミニウム及び0.6mmolのバナジル-ジ-2,2-ジメチルプロポキシ-クロリドを添加して、常圧下、重合反応を開始した。反応温度は外部からの冷却により-75°Cに保持した。1.5時間の反応時間後に、8volのアルコールを添加して重合を停止させた。得られた生成物をアルコール中で沈殿させ、洗浄し、次いで減圧下で50°Cで乾燥してプロピレン-ブタジエン共重合体bを得た。共重合体bの収量は70g、Mwは116,000、Mnは52,000であった。共重合体bの重量平均分子量Mw及び分子量分布Mw/Mnは、上記の方法によって、測定した。接着層として、aエチレン-ブタジエン共重合体EBRを含む組成物、bプロピレン-ブテン共重合体PBRの交互共重合タイプからなる組成物、cエチレン-プロピレン-ジエン共重合体EPDMを含む組成物を用いた。これらの組成物を用いて、ゴム成分中にブチル系ゴムを含むゴム組成物と、ゴム成分中にジエン系ゴムを含むゴム組成物との接着性を評価した。ブチル系ゴム組成物として、ブチルゴムIIRを用いた。ジエン系ゴム組成物としてd天然ゴムNR、eブタジエンゴムBR、fスチレン-ブタジエン共重合体SBRを用いた。各ゴム組成物の配合は、表1~表7に示す。表1~表7に示す組成物は、下記のものを使用した。SBR:旭化成株式会社製タフデン2000BR:JSR株式会社製BR01EPDM:住友化学株式会社製エスプレン505カーボンブラック:旭カーボン株式会社製旭♯55N-660老化防止剤:N-1,3-ジメチルブチル-N’-p-フェニレンジアミン、大内新興化学株製、ノックラック6C加硫促進剤CZ-G:N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、大内新興化学株製、ノクセラーCZ-G加硫促進剤DM-P:ジベンゾチアジルジスルフィド、大内新興化学株製、ノクセラーDM-P上述のブチル系ゴムを含むゴム組成物と、ジエン系ゴムを含むゴム組成物と、接着層との組み合わせを異ならせて、実施例1~6、比較例1~3に示すゴム積層体を用意した。なお、ゴム積層体の作成方法は、以下の通りとした。すなわち、ブチル系ゴムを含むゴム組成物、及びジエン系ゴムを含むゴム組成物は、押出成形により、それぞれ厚さ1mm程度のシート状に加工した。共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体を含む組成物、及びEPMDを含む組成物も同様に、押出成形により、厚さ0.5mm程度のシート状に加工した。上記形態のブチル系ゴムを含むゴム組成物と、ジエン系ゴムを含むゴム組成物との間に、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体を含む組成物またはEPMDを含む組成物を配置し、145°Cで30分間プレス及び加硫し、ゴム積層体を得た。得られたゴム積層体の接着性を、JISK6854に準じて測定した。実施例及び比較例のゴム積層体の接着性は、ブチルゴムにジエンゴムを直接積層させたゴム積層体比較例1の接着力をN25mmで測定して得られた値を100とする指標で表した。ゴム組成物と接着層の組み合わせと、ゴム積層体の接着性の評価結果を表8に示す。表8より明らかなように、実施例1~6のゴム積層体の接着性は、従来の接着層EPDMを含む組成物、あるいは接着層を用いないゴム積層体と比べて良好であることが判った。"