入射される粒子ビームを走査して標的に上記粒子ビームを照射する粒子線照射装置において、走査された粒子ビームの一部を遮蔽する粒子ビーム遮蔽体と、この粒子ビーム遮蔽体に上記走査された粒子ビームが当たった時に発生する即信号を検出する即信号検出器と、予め決められた走査パターンによって発生する上記即信号の発生パターンを予測して求めて比較用信号時間パターンとして格納する信号比較装置とを備え、この信号比較装置は、上記予め決められた走査パターンに従って上記粒子ビームを走査して上記標的に上記粒子ビームを照射した時に上記即信号検出器で検出された信号の時間パターンである検出信号時間パターンと、上記格納された比較用信号時間パターンとを比較して、上記粒子ビームの走査または上記粒子ビーム遮蔽体の異常を検出することを特徴とする粒子線照射装置。上記粒子ビーム遮蔽体が、上記標的に上記粒子ビームの横方向照射野を形成するためのコリメータであることを特徴とする請求項1に記載の粒子線照射装置。上記粒子ビームを走査して、当該粒子ビーム自体で上記標的に横方向の照射野を形成する粒子線照射装置であって、上記粒子ビームの走査領域の境界の少なくとも1か所に上記粒子ビーム遮蔽体を設置したことを特徴とする請求項1に記載の粒子線照射装置。上記即信号は、上記粒子ビーム遮蔽体が発生する即放射線信号であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の粒子線照射装置。上記即信号検出器を上記粒子ビーム遮蔽体よりも、上記粒子ビームの下流側に設置したことを特徴とする請求項4に記載の粒子線照射装置。カウンタウエイトを有する回転ガントリー機構を備え、上記即信号検出器を上記カウンタウエイトと一体的に移動するように設置したことを特徴とする請求項5に記載の粒子線照射装置。上記検出信号時間パターンと上記比較用信号時間パターンとの両方、あるいは上記検出信号時間パターンと上記比較用信号時間パターンの差、のいずれかを表示する表示装置を備えたことを特徴とする請求項1に記載の粒子線照射装置。請求項1乃至7のいずれか1項に記載の粒子線照射装置を備えたことを特徴とする粒子線治療装置。非特許文献1や特許文献1に記載された粒子線照射装置では、螺旋ワブラ法を用いるため、単円ワブラ法に比べ、より複雑な走査パターンにてビームスポットを走査させることになる。そのため、照射中に螺旋ワブラシステムが正常に動作しているかどうかを監視することがより複雑になる。本発明の目的は、ワブラシステムやその他の走査機構により粒子ビームを走査して横方向照射野を形成する粒子線照射装置において、簡単な構成で走査機構などの動作をチェックでき、より信頼性の高い粒子線照射装置を提供することである。本発明に係る粒子線照射装置は、走査された粒子ビームの一部を遮蔽する粒子ビーム遮蔽体と、この粒子ビーム遮蔽体に走査された粒子ビームが当たった時に発生する即信号を検出する即信号検出器と、予め決められた走査パターンによって発生する即信号の発生パターンを予測して求めて比較用信号時間パターンとして格納する信号比較装置とを備え、この信号比較装置は、予め決められた走査パターンに従って粒子ビームを走査して標的に粒子ビームを照射した時に即信号検出器で検出された信号の時間パターンである検出信号時間パターンと、格納された比較用信号時間パターンとを比較して、粒子ビームの走査または粒子ビーム遮蔽体の異常を検出するようにしたものである。本発明の粒子線照射装置にあっては、簡単な構成で走査機構などの異常を検出でき、信頼性の高い装置を提供することができる。実施の形態1.図1は、本発明の実施の形態1による粒子線照射装置の概略構成を示すブロック図である。図1の粒子線照射装置の構成および動作を以下に説明する。粒子ビーム加速器図示せずから所定ビームエネルギーを有する粒子ビーム1を得る。例えば粒子線治療では、200MeV程度の陽子ビームや400MeVu程度の炭素線などの粒子ビームを用いる。ワブラ電磁石2通常、X方向に走査するX方向走査電磁石21と、Y方向に走査するY方向走査電磁石22とからなるが、走査電源3により励磁され、入射された粒子ビーム1を所定パターンで走査する。走査電源3は、例えば螺旋パターンを発生させるパターン電源、または鋸波形の電流をワブラ電磁石2に供給するパターン電源である。入射された粒子ビーム1は、ワブラ電磁石2により走査された粒子ビーム4となり、粒子ビームモニタ13が、粒子ビーム4の照射量と粒子ビーム位置を測定する。コリメータ6が、ワブラ電磁石2で形成した横方向線量分布の平坦部分を切り取って患部形状粒子ビームの進行方向から見た形状に合わせた照射野を形成する。粒子ビーム5は、走査された粒子ビーム4のうち、走査されてコリメータ6に当たって遮蔽される粒子ビームを示す。粒子ビームの最大レンジを調整し、粒子ビームの拡大ブラッグピークの遠方停止位置を患部9の境界に一致させるための患者ボラス7が、コリメータ6の下流に配置される。また、ブラッグピークの幅を患部の深さ幅に拡大させるためにはリッジフィルタ図示せずと呼ばれる装置が使われる。患者ボラス7を通過した粒子ビーム4が、患者体表面8を通って、患部9にビームスポット20を形成し、このビームスポット20がワブラ電磁石2により走査されることになる。また、粒子ビーム5がコリメータ6に当たって発生する即放射線γ線、中性子線などを測定する即放射線検出器11が配置される。一方、本発明の実施の形態1による粒子線照射装置は、加速器から得られる粒子ビーム電流の時間変化情報や粒子ビームのオンオフタイミング信号など、加速器から出力される粒子ビームの情報を供給するビーム情報供給部10を備える。さらに、ワブラ周期パターンとコリメータ装置の開口形状を含むパラメータに基づいて予め計算した即放射線信号の時間パターンである比較用信号時間パターンを格納した信号比較装置12を備える。信号比較装置12は、即放射線検出器11によって検出される即放射線信号の時間パターンである検出信号時間パターンと、比較用信号時間パターンとの比較を行う。図2はコリメータ6を粒子ビームの入射方向から見た平面図であり、コリメータ6と走査された粒子ビーム4の位置関係を示す。コリメータ6は4枚のコリメータリーフ61から構成され、各コリメータリーフ61の位置を調整することでコリメータ6の開口領域、すなわち粒子ビームがコリメータ6を通過する領域を決める。図2において斜線で示す領域が、コリメータ6の開口部65で、粒子ビーム4がコリメータ6を通過する領域である。図2において、X、Yはコリメータ面に平行な面における座標軸を示す。また、A1、A2、A3、A4、A5、A6は、走査された粒子ビーム4がコリメータ6に遮蔽されてコリメータ6に当たる部分を示す。このように、コリメータ6は粒子ビーム遮蔽体となっている。符号41で示す直線のパターンは、走査された粒子ビームのコリメータ6の面における軌道パターンの例を示す。図2では粒子ビームの軌道パターン41は、X方向とY方向において、鋸波形の軌道パターンである例を示している。次に、本発明の実施の形態1による粒子線照射装置の動作を説明する。まず、治療計画にて、患部体積にのみ粒子ビームが照射されるように、患者毎にコリメータの開口形状を決定する。図2では、簡単のため最も単純なコリメータ6を示したが、実際には、コリメータは金属などの板からくりぬいて製作する場合や、リーフ位置が可変の自動制御式の多葉コリメータを用いる場合が多い。また、治療計画では、患部の照射で必要な粒子ビームの走査パラメータが決定される。走査パラメータには、用いる走査パターン、走査半径とも呼ばれる走査パターンの最大範囲などが含まれる。粒子ビームの走査で得られる均一照射範囲はコリメータ6の開口部65よりも大きくする必要がある。最終的には、コリメータを通り抜けた粒子ビームのみが患部に到達し、患部形状に一致するように照射野が形成される。次に、決定されたコリメータ6の向きを含むコリメータの開口部形状と、粒子ビーム走査パターンと、走査範囲との情報を用いて、粒子ビーム5がコリメータ6に当たって発生する即放射線を即放射線検出器11が検出して出力すると考えられる即放射線信号の時間パターンを計算する。この計算によって求めた即放射線信号の時間パターンが、比較用信号時間パターンである。具体的には、粒子ビーム軌道がコリメータの開口部65を完全に通過している期間は、即放射線信号がゼロである。粒子ビーム軌道がコリメータ6で遮蔽される期間においては、即放射線信号は所定の値を有する。ここで、即放射線信号の大きさはその際のビーム電流強度に比例するが、粒子ビーム電流そのものが時間と共に変動する場合が多いので、計算ではまず即放射線信号の有無をパラメータにする。コリメータが図2に示す単純な4枚のブロックコリメータであり、走査パターンが図2に示す鋸波による場合を例に説明する。図3は、コリメータ6の開口部65の形状と粒子ビームの走査パターンとの情報から計算して得られる即放射線信号の時間パターン、すなわち比較用信号時間パターンの例である。粒子ビーム4がコリメータの開口部65を通過する期間では、コリメータ6による即放射線は観測されず、コリメータ6コリメータリーフ61に粒子ビーム5が遮蔽されている期間では、即放射線が検出され信号が出力されている様子を示している。また、粒子ビーム加速器がシンクロトン加速器である場合は、粒子ビーム電流がパルス状になるため、図3にTで示すビームオフ期間では、コリメータ6による即放射線は観測されない。図3に示すS1信号の幅は図2に示す領域A1における粒子ビーム軌道の長さに比例する。同じように、コリメータリーフ61によって遮蔽された粒子ビーム5によって発生する即放射線が測定される時刻と時間幅が計算で予測できる。そして、図3で示した比較用信号時間パターンを図1に示す信号比較装置12に格納する。続いて、コリメータリーフ61の位置を治療計画で決めた形状になるように設定し、他の照射機器とパラメータも事前に調整設定される。これで、治療開始の準備が整う。次に、ワブラ電磁石2の走査電源3が計画された走査パターンに従ってワブラ電磁石2に電流を送ることにより、ワブラ電磁石2は走査パターンに沿うように励磁される。そして、粒子ビームが加速器から出射され、ビーム輸送系を経て、ワブラ電磁石2に入射される。ワブラ電磁石2に入射された粒子ビーム1は走査パターンに沿って走査され、粒子ビーム4になる。粒子ビーム4はコリメータ6の開口部65を通過し、患者ボラス7と患者体表面8を通り抜けた後、患部9に照射される。一方、コリメータ6で遮蔽された粒子ビーム5はコリメータ6に当たり、コリメータ中の原子核と反応し、即γ線などの即放射線を瞬時に発生する。即放射線は粒子ビーム5がコリメータ6に当たる瞬間に生じるため、その発生タイミングが粒子ビーム4のコリメータの面における軌道パターン41とコリメータ6の開口部65の形状で一義的に決まる。即放射線検出器11がコリメータ6から発生した即放射線を検出する。図4は即放射線を即放射線検出器11で検出した即放射線信号、すなわち検出信号時間パターンの例を示す。図4において、S1、S2、S3、S4、S5、S6はそれぞれ、図2に示した領域A1、A2、A3、A4、A5、A6に対応した部分から発生される即放射線信号である。なお、即放射線は、例えば患部9に粒子ビームが照射されている時に、患部9でも発生するが、その強度はコリメータ6で発生する強度に比較して非常に弱い。図4において弱いノイズのような信号が、患部9で発生する即放射線を即放射線検出器11が検出した信号であり、検出された即放射線がコリメータ6で発生した即放射線がどうかは簡単に区別することができる。この検出された検出信号時間パターンが信号比較装置12に伝送される。信号比較装置12は、検出信号時間パターンと格納されている比較用信号時間パターンとを照合し、走査パターンが計画した通りになっているかを監視する。例えば、走査パターンが周期的である場合、粒子ビームのオン期間粒子ビームが加速器から出力されている期間において、比較用信号時間パターンでの隣り合う信号パルスの最大時間間隔をΔTとした場合、検出信号時間パターンでの隣り合う信号パルスの時間間隔がΔTよりも長い場合、粒子ビームの走査機構に何らかの異常が生じたと判断できる。図2から容易に分かるようにΔTは基本的に、コリメータ6の開口部65の最大開きおよび走査パターンの詳細形状によって決まるから、隣り合う即放射線信号パルスの時間間隔がΔTより長ければ、粒子ビーム軌道の範囲がコリメータの開口部65の内側に変わってしまったことを示唆することになる。また、照射中に、コリメータ6の開口部65が変動してしまった場合、即放射線検出器11によって検出される即放射線の検出信号時間パターンパルスの時間幅、間隔も変わるので、信号比較装置12は照射中にコリメータに異常が起きた場合にも異常を検出できる。粒子線照射装置で用いる周期的走査パターンの走査周期が20Hzから60Hz程度の場合、信号パルスの時間間隔ΔTは25msecから83msec程度になる。即放射線検出器11の応答時間は10μsec程度であり、ΔTに比べて十分速いため、粒子ビームがコリメータエッジを通過するタイミングは十分よい精度で検出できる。図5は粒子ビームの走査パターンに異常が見られた場合で、Y方向における走査量がゼロになって、粒子ビーム軌道42がX方向に沿う線状になってしまった場合を模式的に示している。図6は図5に対応した即放射線検出器11で検出される即放射線の検出信号時間パターンを示す。粒子ビームが両端例えば粒子ビーム位置50において、コリメータ6に遮蔽される期間にのみ強い即放射線が観測されることになる。図6の検出信号時間パターンは、図3に示した比較用信号時間パターンとの違いが明瞭であり、信号比較装置12で容易に異常を判断できる。図7はワブラ電磁石2に異常が生じ、粒子ビームの走査が完全に停止した場合の粒子ビーム51とコリメータの開口部65の位置関係の一例を示す。図8は図7に対応した即放射線検出器11で検出される即放射線の検出信号時間パターンを示す。照射中に、粒子ビームの走査が停止して粒子ビーム43の位置が図7に示すような位置になった場合、図8に示すように、即放射線検出器11ではコリメータ6で発生する即放射線信号は観測されないため、信号比較装置12において、検出信号時間パターンを比較用信号時間パターンと比較することにより走査パターンの異常を検出できる。このように、本発明の実施の形態1による粒子線照射装置では、従来のワブラ走査電源の異常監視と、粒子ビームモニタによる異常監視機能に加えて、簡単なシステム構成で、走査パターンの異常検出を実現できるため、粒子線照射装置の更なる信頼性向上が得られる効果がある。また、本発明によれば、コリメータ6の異常を検出できる効果もある。また、上記ではコリメータ6は4枚のコリメータリーフ61から構成される場合を例にして説明したが、これに限ることがなく、図9に示すような、多数のコリメータリーフ62を用いて開口部65を形成する多葉コリメータの場合でも、本発明の効果を奏するのは言うまでもない。なお、図1において、即放射線検出器11はコリメータ6の上流側に配置する場合を示したが、コリメータ6の下流側に即放射線検出器11を配置しても、効果は同じである。即放射線検出器11を患者の背後、治療台より下流に配置した場合、コリメータ中で起きる原子核反応による即γ線または即中性子線をより効率よく検出できる効果がある。また、上記説明では、粒子ビームの走査パターンが鋸波のパターンの場合を例に説明したが、これに限ることなく、走査パターンは特許文献1または非特許文献1に記載の螺旋状走査パターンの場合でも、同じ効果が得られる。また、上記説明では、粒子ビームブラッグピークを、リッジフィルタを用いて患部の深さ方向の幅まで拡大させる場合を例に説明したが、患部を深さ方向に沿って複数の層状領域に分割して、粒子ビームのエネルギーを層ごとに変えて照射する積層原体照射のように、幅の狭い拡大ブラッグピークを用いて照射を行う治療装置の場合でも、本発明の効果は同じである。また、上記説明では、粒子ビームがシンクロトン加速器から得られた場合を例にしたが、サイクロトロン加速器を用いた粒子線照射装置の場合でも、効果は同じである。なお、上記説明では、即放射線検出器11は即放射線信号を検出する検出器として説明したが、即放射線検出器11は、粒子ビームが、真鍮、鉄などで構成されるコリメータ6に衝突して発生した即信号PromptSignalの内、ガンマー線または中性子信号を含む即信号の全部またはその一部を検出する検出器により構成しても、上記で説明した効果は基本的に同じである。重要なのは、コリメータと衝突してすぐに発生する信号を検出して、その検出信号時間パターンを計算などで求めた比較用信号時間パターンと比較することである。なぜなら、このような即信号の時間パターンはコリメータ6の開口形状及びそのビーム照射方向に対する回転角度位置、と粒子ビーム4、5の走査軌道、粒子ビーム1の強度の時間情報によって決まるからである。また、コリメータ6に特別な材料を塗布または添加して、粒子ビーム5が衝突した際に、信号が発生しやすくなるようにして、それらの信号を検出するようにしても、本発明の効果が得られる。例えば、信号が音波信号でも、可視光信号でも、非可視光信号でも、2次電子信号であってもよいのである。本発明では、これら、γ線、中性子線などの放射線、2次電子、音波、光など、粒子ビーム5がコリメータ粒子ビーム遮蔽体6に衝突して発生する信号を即信号と定義する。即放射線検出器11を、それら目的とする即信号を検出する即信号検出器11とすれば、上記説明の効果が同様に得られる。また、本発明では、コリメータが多葉コリメータの場合、患者ごとにその開口形状が異なる多葉コリメータの形状をベースに即信号の比較用時間パターンを作成するため、照射中の螺旋ワブラシステムの動作の監視に加え、照射中に多葉コリメータの形状が変化した場合も検出できる。また、本発明では、コリメータから発した即γ線信号など、粒子ビームがコリメータに当たって直ちに発生する即信号の時間パターンを監視するので、粒子ビームがコリメータに当たるタイミングとほぼ同時に即信号を検出できる。このため、時間遅れの心配がなく、精度よく粒子ビームの当たるタイミングを検出できる。また、本発明は粒子ビームが当たってコリメータから飛び出すγ線や光などの即信号を検出して、粒子ビームの当たるタイミングを検出するので、粒子線治療で使う数ナノアンペアのビーム電流の場合でも、例えばコリメータ本体を絶縁して浮かすなどの特別な改造を必要とせず、精度よく粒子ビームのコリメータに当たるタイミングを検出できる。このことは、粒子線照射装置に用いるコリメータの複雑化を避ける効果がある。つまり、照射ノズルに設置した多葉コリメータなどのコリメータは従来のままでも、本発明の効果を発揮できる。また、即信号を即γ線などの即放射線とした場合、例えば治療台を挟んで、あるいは照射ノズルの反対側、といったコリメータから離れた位置に即放射線検出器11を設けても、コリメータから発生する即放射線信号を検出することが可能である。実施の形態2.図10は、本発明の実施の形態2による粒子線照射装置の概略構成を示すブロック図である。図10において、図1と同じ符号は図1と同じまたは相当する部分を示す。本実施の形態2は、本発明を、回転ガントリー機構を備えた粒子線照射装置に適用した実施の形態である。図10に示す粒子線照射装置は、回転ガントリーの回転トルクを軽減するためのカウンタウエイト31、治療台32、治療室床33、回転ガントリー回転軸34、および回転ガントリーを構成するように粒子ビームを輸送する回転ガントリー電磁石群35を備えている。この実施の形態2では、即放射線検出器11をカウンタウエイト31と共に回転するフレームに設置した。それ以外は、実施の形態1と同じである。したがって、本実施の形態2の基本動作は実施の形態1と同じである。本実施の形態2では、即放射線検出器11を回転ガントリーのカウンタウエイト31と共に回転するフレームに設置したため、回転ガントリーの回転角度によらず、常にコリメータ6から発生した即放射線信号γ線、中性子線などの前方集中成分を捕えることが可能である。そのため、回転ガントリーのどの照射角度においても、信号ノイズ比のよい即放射線信号を検出することが可能である。実施の形態3.図11は、本発明の実施の形態3による粒子線照射装置の概略構成を示すブロック図である。図11において図1と同一の符号は同一または相当する部分を示す。本実施の形態3では、即放射線検出器11にて検出した即放射線信号を、所定閾値Thと比較する回路である比較器14を通して、即放射線信号を高さが一定の信号に変換する、すなわち即放射線信号を2値化する。図12Aに示すパターンは、図3に示した、即放射線検出器11で測定された即放射線信号そのものである。この即放射線信号に対して、図12AのThで示すレベル以上の信号が測定された場合に出力を出す処理を行う。例えば、比較器14として一般的な比較器コンパレータの入力に、図12Aの信号を入力し、比較器14の比較レベルとしてThに相当するレベルを設定すれば、比較器の出力として図12Bのような2値化された出力が得られる。閾値Th以下のレベルの検出即放射線信号の即放射線は、コリメータ6で発生した以外の即放射線、例えば照射対象物である患部で発生した即放射線であるため、そのような信号レベルの即放射線を検出対象から除く処理を行うことができる。本実施の形態3によれば、コリメータ6に粒子ビームが当たっているかどうかは処理された即放射線信号の有無で判断できるため、一層検出信号時間パターンを把握しやすく、比較用信号時間パターンと比較しやすくなる。よって、照射中に照射システムの動作をより容易に監視できる効果が得られる。実施の形態4.図13は本発明の実施の形態4による粒子線照射装置の概略構成を示すブロック図である。図13において、図11と同一符号は同一または相当する部分を示す。図13において、15は表示装置であり、例えば、検出信号時間パターンと比較用信号時間パターンとを表示装置15に表示する。図14は、表示装置15に表示される画面のイメージである。本実施の形態4では、照射中に測定した検出信号時間パターンを、治療室や、操作室などに設けた表示装置15に表示することによって、照射中において、粒子線照射装置の動作の様子を直感的に監視できる。尚、照射に用いたコリメータ形状、回転角度位置、粒子ビームの走査パターン、粒子ビーム電流時間情報などに基づいて計算して得られる比較用信号時間パターンを、検出信号時間パターンと共に表示装置15に表示することによって、照射中に、より容易に粒子線照射システムの動作を監視することが可能である。図14では、上段に検出信号時間パターンを、下段に比較用信号時間パターンを表示する場合の例を示したが、これに限るものではなく、両者を重ね合わせて表示する、または、その差違いを表示するようにしてもよい。実施の形態5.図15は、本発明の実施の形態5による粒子線照射装置の要部を示すイメージ図である。図15は実施の形態1における図2に相当する位置での粒子ビームの軌道などを示す図である。粒子線照射装置では、横方向の照射野形成を、粒子ビームを走査する走査電磁石のみで行う、ステップスキャン照射方法など、コリメータを用いずに粒子ビーム自体で横方向の照射野形成を行う照射方法がある。この場合、コリメータがないため、粒子ビームが当たって即信号を発生するものがないため、実施の形態1~4のような即信号を得ることができない。そこで、本実施の形態5における粒子線照射装置では、コリメータを用いない構成において、照射野形成に影響しない程度に粒子ビームの極一部を遮蔽して即信号を発生する、粒子ビーム遮蔽体を、走査電磁石の下流に少なくとも一つ設置する。すなわち、図15に示すように、粒子ビーム遮蔽体63を、走査された粒子ビーム軌道44によって形成される走査領域66の境界で、例えば図15において粒子ビーム51で示すように、粒子ビームの一部のみ当たる位置に設置する。走査パターンと、走査開始時間などのタイミング情報から、どの時刻に、粒子ビーム遮蔽体63にビームが当たるかが事前に予測し計算できる。予測した、粒子ビーム遮蔽体63で発生される即γ線などの即信号を比較用信号時間パターンとして、信号比較装置12に格納する。この比較用信号時間パターンを照射中に即信号検出器11で検出した検出信号時間パターンと比較し、照射システムの健全性をクロースチェックできる。以上のように、本発明は、ワブラシステムに限らず、予め決められた走査パターンによって粒子ビームを走査する粒子線照射装置全般に適用できる。