"基材と、少なくともブタジエン骨格を有する電荷輸送材料、反応性基を有する電荷輸送材料、及び重合開始剤を含有し前記ブタジエン骨格のモル数に対する前記重合開始剤のモル数の比率が0.25以上2.5以下である組成物の硬化物を含む最外表面層を有し、前記基材上に設けられた1層以上の感光層と、を有する電子写真感光体。前記ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料が、下記一般式1で表され、反応性基を有さない化合物である、請求項1に記載の電子写真感光体。一般式1中、Ar11及びAr12は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、R11からR13は、それぞれ独立に有機基を示し、R11からR13の少なくとも1つの有機基は、その構造中にブタジエン骨格が含まれる。a及びbは、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。前記最外表面層が、フッ素原子を有する樹脂粒子をさらに含む、請求項1又は請求項2に記載の電子写真感光体。請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体を少なくとも備え、画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電する帯電手段と、帯電された前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成手段と、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、前記電子写真感光体の表面に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写手段と、を備えた画像形成装置。本発明の目的は、残留電位の低減と使用による摩耗の低減との両立がなされる電子写真感光体を提供することにある。上記課題は、以下の本発明によって達成される。即ち、請求項1に係る発明は、基材と、少なくともブタジエン骨格を有する電荷輸送材料、反応性基を有する電荷輸送材料、及び重合開始剤を含有し前記ブタジエン骨格のモル数に対する前記重合開始剤のモル数の比率が0.25以上2.5以下である組成物の硬化物を含む最外表面層を有し、前記基材上に設けられた1層以上の感光層と、を有する電子写真感光体である。請求項2に係る発明は、前記ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料が、下記一般式1で表され、反応性基を有さない化合物である、請求項1に記載の電子写真感光体である。一般式1中、Ar11及びAr12は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、R11からR13は、それぞれ独立に有機基を示し、R11からR13の少なくとも1つの有機基は、その構造中にブタジエン骨格が含まれる。a及びbは、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。請求項3に係る発明は、前記最外表面層が、フッ素原子を有する樹脂粒子をさらに含む、請求項1又は請求項2に記載の電子写真感光体である。請求項4に係る発明は、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体を少なくとも備え、画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジである。請求項5に係る発明は、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電する帯電手段と、帯電された前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成手段と、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、前記電子写真感光体の表面に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写手段と、を備えた画像形成装置である。請求項1に係る発明によれば、前記重合開始剤のモル数の比率が前記範囲から外れる場合に比べ、残留電位の低減と使用による摩耗の低減との両立がなされる電子写真感光体が提供される。請求項2に係る発明によれば、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料が前記一般式1で表される化合物ではない場合に比べ、残留電位が低減した電子写真感光体が提供される。請求項3に係る発明によれば、最外表面層がフッ素原子を有する樹脂粒子を含まない場合に比べ、使用による摩耗の低減した電子写真感光体が提供される。請求項4に係る発明によれば、電子写真感光体の最外表面層における前記重合開始剤のモル数の比率が前記範囲から外れる場合に比べ、電子写真感光体における残留電位又は摩耗に伴う画質の劣化が抑制されたプロセスカートリッジが提供される。請求項5に係る発明によれば、電子写真感光体の最外表面層における前記重合開始剤のモル数の比率が前記範囲から外れる場合に比べ、電子写真感光体における残留電位又は摩耗に伴う画質の劣化が抑制された画像形成装置が提供される。以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。[電子写真感光体]本実施形態に係る電子写真感光体以下単に感光体と称する場合があるは、基材と、最外表面層を有し前記基材上に設けられた1層以上の感光層と、を有する。また前記最外表面層は、少なくともブタジエン骨格を有する電荷輸送材料、反応性基を有する電荷輸送材料、及び重合開始剤を含有する組成物以下電荷輸送性組成物と称する場合があるの硬化物を含み、前記組成物中におけるブタジエン骨格のモル数に対する前記重合開始剤のモル数の比率以下重合開始剤のモル比と称する場合があるが0.25以上2.5以下である。本実施形態の感光体は、上記構成であることにより、残留電位の低減と使用による摩耗の低減との両立がなされる。具体的には、本実施形態のように反応性基を有する電荷輸送材料を硬化させた硬化物を感光層に含む感光体では、硬化させる組成物にブタジエン骨格を有する電荷輸送材料をさらに添加することで、残留電位が低減し、電気特性が良好になることが考えられる。その理由は、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料が、π共役系に伴う分子の広がりが大きく、更に、架橋構造体の中で分子運動可能な状態で存在することにより、電荷輸送材料の架橋に伴う電荷輸送能の低下が抑制されるからであると推測される。そして本実施形態では、硬化させる電荷輸送性組成物が、単にブタジエン骨格を有する電荷輸送材料を含むだけでなく、重合開始剤のモル比が前記範囲となっている。そのため、前記重合開始剤のモル比が前記範囲から外れる場合に比べ、残留電位の低減と使用による摩耗の低減との両立がなされる。その理由は定かではないが、以下のように推測される。上記のようにブタジエン骨格を有する電荷輸送材料を用いた場合において、重合開始剤を用いない場合又は前記重合開始剤のモル比が前記範囲下限よりも少ない場合では、機械的強度が低下することが考えられる。その機械的強度の低下の理由は、反応性基を有する電荷輸送材料のラジカル重合反応において、ブタジエン骨格が連鎖移動剤的に作用し、ラジカルを失活させる反応を生じていることにより、重合度が上がりにくくなるからであると推測される。これに対して本実施形態では、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料を用い、かつ、重合開始剤のモル比が前記範囲である。そのため、ブタジエン骨格が失活させたラジカル量よりも多く、重合開始剤がラジカルを発生させることで、重合反応が進行し、重合度が高くなって機械的強度が向上すると考えられる。一方上記のようにブタジエン骨格を有する電荷輸送材料を用いた場合において、重合開始剤のモル比が前記範囲上限よりも多い場合では、残留電位が低減されにくいことが考えられる。この残留電位が低減されにくい理由は、重合開始剤のモル比を増やした場合、架橋密度が高くなることで、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料による電気特性改善効果が小さくなるためであると推測している。これに対して本実施形態では、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料を用いかつ、重合開始剤のモル比が前記範囲である。そのため、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料は、架橋構造の中で分子運動が出来るため、電荷輸送性の低下を抑制する効果が発現すると考えられる。そのため、前記ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料による残留電位の低減に加え、ブタジエン骨格が引き起こすラジカルの失活による重合度の低下が抑制されることで機械的強度が上がり、使用による摩耗も低減されると推測される。本実施形態では、最外表面層がフッ素原子を有する樹脂粒子以下フッ素樹脂粒子と称する場合があるを含むことが望ましい。ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料を用い、かつ、重合開始剤のモル比が前記範囲であることに加え、フッ素樹脂粒子を用いることで、フッ素樹脂粒子を用いない場合に比べてさらに使用による摩耗が低減する。その理由は定かではないが、前記重合開始剤のモル比が前記範囲であることによる前記重合度の向上と、フッ素樹脂粒子の存在によって感光体の表面が他の部材と接触したときの摩擦力が低減することと、の相乗効果によるものであると考えられる。そのため、本実施形態において最外表面層がフッ素樹脂粒子を含む形態においては、従来の感光体において表面層にフッ素樹脂粒子を単に含有させた場合に比べても、さらに感光体の使用による摩耗が低減されるのであると推測される。本実施形態の感光体は、前記の通り、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料を用い、かつ、重合開始剤のモル比が前記範囲であることにより、残留電位の低減と使用による摩耗の低減との両立がなされるものである。そのため、本実施形態の感光体を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置においては、従来の感光体を用いた場合に比べ、感光体における残留電位又は摩耗に伴う画質の劣化が抑制され、長期にわたって良好な画質の画像が形成される。以下、本実施形態に係る電子写真感光体の構成およびその製造方法について詳細に説明する。<電子写真感光体の構成>本実施形態に係る感光体は、感光層として電荷輸送能と電荷発生能とを併せ持つ機能一体型の感光層を備えていてもよいし、電荷輸送層と電荷発生層とを備えた機能分離型の感光層を備えていてもよく、電荷輸送層が2層以上の構成であってもよい。また、下引層などのその他の層を設けてもよい。以下、本実施形態に係る感光体の構成について、図1乃至図3を参照して説明するが、本実施形態は該図1乃至図3によって限定されることはない。図1は、本実施形態に係る感光体の層構成の一例を示す模式断面図であり、図1中、1は基材、2は感光層、2Aは電荷発生層、2B-1及び2B-2は電荷輸送層、4は下引層を表す。図1に示す感光体は、基材1上に、下引層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2B-1、電荷輸送層2B-2がこの順に積層された層構成を有し、感光層2は電荷発生層2A、電荷輸送層2B-1および2B-2の3層から構成される第1の態様。尚、図1に示す感光体においては電荷輸送層2B-2が前記最外表面層すなわち、最外表面を構成する表面感光層であり、該電荷輸送層2B-2が少なくとも前記硬化物すなわち、少なくともブタジエン骨格を有する電荷輸送材料、反応性基を有する電荷輸送材料、及び重合開始剤を含有し、重合開始剤のモル比が前記範囲である電荷輸送性組成物の硬化物を含んで構成される。図2は、本実施形態に係る感光体における層構成の他の例を示す模式断面図であり、図2中に示した符号は、図1中に示したもの同義である。図2に示す感光体は、基材1上に、下引層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2Bがこの順に積層された層構成を有し、感光層2は電荷発生層2Aおよび電荷発生層2Bの2層から構成される第2の態様。尚、図2に示す感光体においては電荷輸送層2Bが前記最外表面層であり、該電荷輸送層2Bが少なくとも前記硬化物を含んで構成される。図3は、本実施形態に係る感光体における層構成の他の例を示す模式断面図であり、図3中、6は機能一体型の感光層を表わし、他は図1中に示したものと同義である。図3に示す感光体は、基材1上に、下引層4、感光層6がこの順に積層された層構成を有し、感光層6は、図2に示す電荷発生層2Aおよび電荷輸送層2Bの機能が一体となった層である第3の態様。尚、図3に示す感光体においては機能一体型の感光層6が前記最外表面層であり、該感光層6が少なくとも前記硬化物を含んで構成される。以下、本実施形態に係る感光体の例として、上記第1乃至第3の様態のそれぞれについて説明する。第1の態様:最外表面層=電荷輸送層2B-2第1の態様に係る感光体は、図1に示す通り、基材1上に、下引層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2B-1、電荷輸送層2B-2がこの順に積層された層構成を有し、電荷輸送層2B-2が前記最外表面層である。電荷輸送層2B-2まず、最外表面層である電荷輸送層2B-2について説明する。本実施形態における最外表面層第1の態様においては電荷輸送層2B-2は、前述の通り、少なくともブタジエン骨格を有する電荷輸送材料、反応性基を有する電荷輸送材料、及び重合開始剤を含有し、重合開始剤のモル比が前記範囲である組成物の硬化物を含む。なお、最外表面層は、前記硬化物以外の材料を含んでもよい。また前記硬化物は、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料、反応性基を有する電荷輸送材料、及び重合開始剤以外の材料を含む組成物の硬化物であってもよい。-ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料-ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料としては、その分子構造中にブタジエン骨格を有し、且つ、電荷輸送能を有する材料であれば、いずれの材料も好適に使用される。ここで、電荷輸送能を有する材料とは、タイムオブフライトTOF法で測定したときに、電界強度10V/μmにおける電荷移動度が1×10-10cm2/Vs以上である化合物を意味し、以下同様である。ブタジエン骨格を有し、且つ、電荷輸送能を有する材料としては、例えば、ブタジエン骨格と、ジアリールアミン骨格又はトリアリールアミン骨格と、を有する化合物が挙げられる。ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料の具体例としては、例えば下記一般式1で表わされる化合物が挙げられる。前記一般式1中、Ar11及びAr12は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、R11からR13は、それぞれ独立に有機基を示し、R11からR13の少なくとも1つの有機基は、その構造中にブタジエン骨格が含まれる。a及びbは、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。以下、一般式1で表される化合物について詳細に説明する。一般式1中、Ar11及びAr12は、前記の通り、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。すなわち、aが0の場合、Ar11は置換若しくは未置換のアリール基を示し、aが1又は2の場合、Ar11は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。またbが0の場合、Ar12はアリール基を示し、bが1又は2の場合、Ar12はアリーレン基を示す。Ar11及びAr12は、互いに異なっていてもよいが、同じであることが望ましい。Ar11及びAr12で表されるアリール基としては、例えば芳香環数1以上の1価の基が挙げられ、具体的には、例えばフェニル基、ナフチル基、ベンジル基、トリル基等が挙げられる。またAr11及びAr12で表されるアリーレン基としては、例えば、前記Ar11及びAr12で表されるアリール基の具体例として挙げた基から水素原子を1つ除いた2価の基が挙げられる。一般式1中、R11及びR12は、前記の通り、それぞれ独立に有機基を示す。R11及びR12は、互いに異なっていてもよく、同じでもよい。R11及びR12で表される有機基のうち、ブタジエン骨格を有さない有機基としては、例えば、炭素数1以上10以下のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基等を含み、有機基中に、エーテル基、エステル基、カルボニル基等を含んでも構わない。また、有機基は、直鎖状であっても、分岐していても構わない。R11及びR12で表される有機基のうち、ブタジエン骨格を有する有機基としては、例えば、ブタジエン骨格と置換又は未置換のアリール基とを有する置換基が挙げられる。R11及びR12で表されるブタジエン骨格を有する有機基としては、上記の中でも、ブタジエニレン基が直接Ar11又はAr12に結合する有機基が挙げられ、具体的には、例えば、下記一般式2で表される基が挙げられる。前記一般式2中、Ar13は置換若しくは未置換のアリール基を示し、dは1又は2を示し、はAr11又はAr12に結合する箇所を示す。Ar13で表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、トリル基等が挙げられる。Ar13は、これらの中でも、芳香環が直接ブタジエニレン基に結合した芳香環数1以上の置換又は未置換のアリール基が好ましく、芳香環が直接ブタジエニレン基に結合した置換又は未置換のフェニル基がより好ましく、未置換のフェニル基がさらに好ましい。一般式1中、R13は、前記の通り有機基を示し、具体的には、例えば、下記一般式3で表される基、下記一般式4で表される基、又は下記一般式5で表される基が挙げられる。前記一般式3中、Ar14及びAr15は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、R14及びR15は、それぞれ独立に有機基を示し、e及びfは、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示し、は一般式1のN原子に結合する箇所を示す。前記一般式4中、Ar16は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、R16は有機基を示し、gは0以上2以下の整数を示し、は一般式1のN原子に結合する箇所を示す。前記一般式5中、Ar17及びAr18は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ar19は、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、R17及びR18は、それぞれ独立に有機基を示し、h及びiは、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示し、は一般式1のN原子に結合する箇所を示す。一般式3から一般式5中、Ar14からAr18は、一般式1中のAr11及びAr12と同様の基を表し、具体例及び好ましい形態についても前記Ar11及びAr12の具体例及び好ましい形態と同様である。一般式3から一般式5中、R14からR18は、一般式1中のR11及びR12と同様の基を表し、具体例及び好ましい形態についても前記R11及びR12の具体例及び好ましい形態と同様である。一般式3から一般式5中、Ar19は、前記の通り、置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Ar19で表されるアリーレン基としては、例えば芳香環数1以上の2価の基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、ベンジレン基、トリレン基等のアリール基から水素原子を1つ除いた2価の基が挙げられる。Ar19は、これらの中でも、芳香環が一般式1のN原子に直接結合する置換又は未置換のアリーレン基が好ましく、芳香環が一般式1のN原子及び一般式5のN原子に直接結合する置換又は未置換のアリーレン基がより好ましく、未置換のアリーレン基がさらに好ましく、ビフェニルから水素原子を2つ除いた2価の基が特に好ましい。一般式1で表される化合物は、前記の通り、R11からR13の少なくとも1つの有機基中にブタジエン骨格が含まれる。一般式1で表される化合物1分子中に含まれるブタジエン骨格の数は、特に限定されないが、1以上が挙げられ、1以上10以下が好ましい。また、一般式1で表される化合物のうち、R13が前記一般式3で表される基である化合物は、硬化物を形成する電荷輸送性組成物中に含まれる他の成分例えば、後述する反応性基を有する電荷輸送材料及び重合開始剤との相溶性が良好である。そのため、他のブタジエン骨格を有する電荷輸送材料を用いる場合に比べて、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料の添加量を多くすることで、電気特性がさらに向上残留電位が低減することが考えられる。以下、一般式1で表される化合物の具体例を挙げるが、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料はこれらに限定されるものではない。ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料は、後述する反応性基を有していてもよいが、反応性基を有さないものである方が、電荷輸送性組成物を硬化した後も電荷輸送能が維持されやすいと考えられる。ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料の添加量としては、硬化物を構成する材料全体すなわち電荷輸送性組成物中における固形分全量であり、例えば前記硬化物がブタジエン骨格を有する電荷輸送材料と反応性基を有する電荷輸送材料と重合開始剤とが硬化したものである場合、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料、反応性基を有する電荷輸送材料、及び重合開始剤の合計に対し、10質量以上25質量以下が挙げられ、10質量以上20質量以下であってもよく、15質量以上20質量以下であってもよい。-反応性基を有する電荷輸送材料-反応性基を有する電荷輸送材料は、ブタジエン骨格を有さない化合物であり、反応性基を有し、かつ、電荷輸送能を有する材料であれば特に限定されず、具体的には、例えば、反応性基と電荷輸送性骨格とを有する化合物が挙げられる。前記反応性基としては、例えば炭素二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体的には、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される基が挙げられる。これらの中でも、その反応性に優れる反応性基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、ビニル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つが挙げられる。一方、前記電荷輸送性骨格としては、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格が挙げられ、窒素原子が共役系に含まれる構造を有する骨格が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格がよい。反応性基を有する電荷輸送性材料としては、同一分子内に前記反応性基を2つ以上特に4以上持つ化合物であることがよい。これにより、硬化膜の電気特性電荷輸送性や、帯電性、残留電位の低減等が向上すると共に、これら特性が繰り返し使用によっても維持され易くなり、繰り返し使用による画像濃度ムラ等の画像劣化の発生が抑制され易くなる。また、架橋密度が上がり、より機械的強度の高い硬化膜が得られ易くなる。この反応性基の数は、電荷輸送性組成物の劣化しにくさ及び電気特性の点から、20以下の範囲が挙げられ、10以下の範囲であってもよく、6以下であってもよい。反応性基を有する電荷輸送性材料として具体的には、例えば、下記一般式Aで表される化合物が好適に挙げられる。一般式A中、Ar1~Ar4は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Dは、前記反応性基を含む1価の基を表し、c1~c5はそれぞれ独立に0、1又は2を表し、kは0又は1を表し、Dの総数は1以上6以下である。一般式A中、Dは、前記反応性基を含む1価の基であれば特に限定されず、具体的には、炭素二重結合を含む1価の基が挙げられる。一般式A中のDとしては、硬化膜の機械的強度に優れるといった観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基特に、これら基が末端に有する基が挙げられる。一般式A中のDとしては、上記の中でも、一般式6で表される基であることが望ましい。一般式6中、R21は水素又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、Xは炭素数1以上10以下の2価の有機基を表し、jは0又は1を表し、はAr1~Ar5のいずれかに結合する箇所を示す。一般式6中のXで表される2価の有機基としては、例えば、アルキレン基、-C=O-、-O-C=O-、芳香環、及びこれらを組み合わせた連結基から選択される一つを含む2価の有機基が挙げられる。Xで表される2価の有機基のうち、前記これらを組み合わせた連結基の具体例としては、例えば、-C=O-O-CH2n-但し、nは0又は1以上10以下の整数を表す等が挙げられる。一般式A中のDは、例えば、-CH2k-O-CH2-CH2l-O-CO-CR’=CH2但し、R’は水素原子又はメチル基を表し、kは1以上5以下の整数を表し、lは0又は1を表し、はAr1~Ar5のいずれかに結合する箇所を表す等であってもよい。一般式Aにおいて、Ar1~Ar4は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表す。Ar1~Ar4は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。ここで、置換アリール基における置換基としては、Dで表される基以外のものとして、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数6以上10以下の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。Ar1~Ar4として具体的は、下記式1~7のうちのいずれか一つであることがよい。なお、下記式1~7は、Ar1~Ar4の各々に連結され得る-DC1~-DC4を総括的に表した-DCと共に表す。式1~7中、R1は、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を表す。R2~R4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表す。Arは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Z’は2価の有機連結基を表し、Dは一般式AにおけるDと同様の基を表し、cは0、1、又は2を表し、sは0又は1を表し、tは0以上3以下の整数を表す。ここで、式7中のArとしては、下記構造式8又は9で表されるものがよい。式8及び9中、R5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルキル基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、t’はそれぞれ独立に0以上3以下の整数を表す。また、式7中、Z’は2価の有機連結基を表すが、下記式10~17のうちのいずれか一つで表されるものがよい。式10~17中、R7及びR8は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルキル基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Wは2価の基を表し、q及びrはそれぞれ独立に1以上10以下の整数を表し、tはそれぞれ独立に0以上3以下の整数を表す。式16~17中のWとしては、下記18~26で表される2価の基のうちのいずれか一つであることがよい。但し、式25中、uは0以上3以下の整数を表す。また、一般式A中、Ar5は、kが0の時は置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ar1~Ar4の説明で例示されたアリール基と同様のものが挙げられる。また、Ar5は、kが1の時は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ar1~Ar4の説明で例示されたアリール基から目的とする位置の水素原子を1つ除いたアリーレン基が挙げられる。以下、反応性基を有する電荷輸送性材料の具体例を示す。なお、反応性基を有する電荷輸送性材料は、これらにより何ら限定されるものではない。まず、1つの反応性基を有する電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。次に、2つの反応性基を有する電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。次に、3つの反応性基を有する電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。次に、4つから6つの反応性基を有する電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。前記一般式Aで表される化合物は、例えば、特開2010-170077号公報特開2011-70023号公報等に記載の方法と同様の方法で合成される。具体的には、一般式Aで表される化合物は、例えば、前駆体であるアルコールを、対応する反応性基を有する化合物例えば、メタクリル酸、又はメタクリル酸ハロゲン化物等と縮合させて合成する。一般式Aで表される化合物は、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合、例えば、アルコールと、ヒドロキシエチルメタクリレート等の水酸基を有するメタクリル酸誘導体と、の脱水エーテル化などにより合成してもよい。反応性基を有する電荷輸送性材料の添加量としては、電荷輸送性組成物中における固形分全量に対し、10質量以上90質量以下が挙げられ、40質量以上90質量以下であってもよく、40質量以上70質量以下であってもよい。-重合開始剤-重合開始剤としては、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。熱重合開始剤としては、例えば、V-30、V-40、V-59、V-601、V-65、V-70、VE-073、VF-096、Vam-110、Vam-111和光純薬製、OTazo-15、OTazo-30、AIBN、AMBN、ADVN、ACVA大塚化学等のアゾ系開始剤。パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH,パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT-K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーへヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ日油化学社製、カヤケタールAM-C55、トリゴノックス36-C75、ラウロックス、パーカドックスL-W75、パーカドックスCH-50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH-70、ペルカドックスBC-FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD-E85、パーカドックス12-XL25、パーカドックス12-EB20、トリゴノックス22-N70、トリゴノックス22-70E、トリゴノックスD-T50、トリゴノックス423-C70、カヤエステルCND-C70、カヤエステルCND-W50、トリゴノックス23-C70、トリゴノックス23-W50N、トリゴノックス257-C70、カヤエステルP-70、カヤエステルTMPO-70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP-65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF-C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH-C70、カヤカルボンEH-W60、カヤカルボンI-20、カヤカルボンBIC-75、トリゴノックス117、カヤレン6-70化薬アクゾ社製、ルペロックス610、ルペロックス188、ルペロックス844、ルペロックス259、ルペロックス10、ルペロックス701、ルペロックス11、ルペロックス26、ルペロックス80、ルペロックス7、ルペロックス270、ルペロックスP、ルペロックス546、ルペロックス554、ルペロックス575、ルペロックスTANPO、ルペロックス555、ルペロックス570、ルペロックスTAP、ルペロックスTBIC、ルペロックスTBEC、ルペロックスJW、ルペロックスTAIC、ルペロックスTAEC、ルペロックスDC、ルペロックス101、ルペロックスF、ルペロックスDI、ルペロックス130、ルペロックス220、ルペロックス230、ルペロックス233、ルペロックス531等が挙げられる。光重合開始剤としては、例えば、分子内開列型、水素引抜型等が挙げられる。分子内開列型としては、例えば、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系等が挙げられる。具体的には、ベンジルケタール系としては、例えば、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン等が挙げられる。アルキルフェノン系としては、例えば、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、1-[4-2-ヒドロキシエトキシ-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒロドキシ-1-{4-[4-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、アセトフェノン、2-フェニル-2-p-トルエンスルホニルオキシアセトフェノン等が挙げられる。アミノアルキルフェノン系としては、例えば、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-ジメチルアミノプロピオフェノン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1、2-ジメチルアミノ-2-[4-メチルフェニルメチル]-1-[4-4-モルホリニルフェニル]-1-ブタノン等が挙げられる。ホスフィンオキサイド系としては、例えば、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系としては、ビスη5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル-ビス2,6-ジフルオロ-3-1H-ピロール-1-イル-フェニルチタニウム等が挙げられる。オキシム系としては、例えば、1,2-オクタンジオン,1-[4-フェニルチオ-,2-0-ベンゾイルオキシム]、エタノン,1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-,1-0-アセチルオキシム等が挙げられる。水素引抜型としては、例えば、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系等が挙げられる。具体的には、ベンゾフェノン系としては、例えば、2-ベンゾイル安息香酸、2-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、4-ベンゾイル4’-メチルジフェニルスルフィド、p,p’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン系としては、例えば、2,4-ジエチルチオキサンテン-9-オン、2-クロロチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン等が挙げられる。ベンジル系としては、例えば、ベンジル、±-カンファーキノン、p-アニシルなどが挙げられる。重合開始剤は、前記の通り、前記重合開始剤のモル比が0.25以上となるように添加される。すなわち、電荷輸送性組成物に含まれるブタジエン骨格を有する電荷輸送性材料におけるブタジエン骨格の総モル数に対して、電荷輸送性組成物に含まれる重合開始剤のモル数が0.25倍以上となるように、重合開始剤を電荷輸送性組成物に添加させる。前記重合開始剤のモル比は、前記の通り0.25以上2.5以下であり、0.25以上1.1以下が望ましく、0.25以上0.7以下がより望ましい。重合開始剤のモル比が0.25以上である場合は、0.25未満である場合に比べて、摩耗の低減において良好となる。これは、ブタジエン骨格が連鎖移動剤的に作用し、重合反応を阻害することを、重合開始点を増やすことで補い、充分な強度が得られているからであると推測している。一方、重合開始剤のモル比が2.5以下の場合、2.5を超える場合に比べて、残留電位の低減において良好となる。これは、重合開始剤のモル比を増やした場合、架橋密度が高くなることで、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料による電気特性改善効果が小さくなるためであると推測している。即ち、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料は、架橋構造の中で分子運動が出来ることにより、電荷輸送性の低下を抑制する効果が発現すると考えており、架橋密度が高い場合、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料の分子運動が抑制され、電気特性も悪化すると推定している。なお、本実施形態の感光体の最外表面層における前記重合開始剤のモル比を測定する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。具体的には、例えば、まず、感光体の最外表面層を分取し、テトラヒドロフラン中に抽出する。この抽出液を、液体クロマトグラフィー若しくはガスクロマトグラフィー、又はこれらと質量分析装置が接続された所謂LCMS若しくはGCMS等で分析することで、最外表面層に含まれるブタジエン骨格を有する電荷輸送材料の構造及び質量が求められる。そして、これらの値から、電荷輸送性組成物に含まれるブタジエン骨格を有する電荷輸送性材料におけるブタジエン骨格の総モル数が計算によって求まる。一方、最外表面層を形成するために使用した重合開始剤の種類及び質量は、例えば、最外表面層をTOFMS、熱分解GCMS等を用いて分析することで求められ、それらの値から計算により、電荷輸送性組成物に含まれる重合開始剤のモル数が得られる。前記重合開始剤のモル数は、例えば、アルカリで最外表面層を加水分解し、分解物のMSを測定することで、重合開始剤が付加した電荷輸送材料と重合開始剤が付加していない電荷輸送材料との比率から求めてもよい。重合反応は、発生したラジカルが失活することなく連鎖反応を行えるよう、真空、又は、不活性ガス雰囲気下など酸素濃度10以下、望ましくは5以下、より望ましくは1以下の低酸素濃度で行うことが望ましい。-フッ素樹脂粒子-最外表面層は、前記の通りフッ素樹脂粒子を含んでもよい。フッ素樹脂粒子としては、例えば、フルオロオレフィンのホモポリマーや、2種以上の共重合体であって、フルオロオレフィンの1種または2種以上と非フッ素系のモノマーとの共重合体で構成された粒子が挙げられる。フルオロオレフィンとしては、例えばテトラフルオロエチレンTFE、パーフルオロビニルエーテル、ヘキサフルオロプロピレンHFP、クロロトリフルオロエチレンCTFEなどのパーハロオレフィン、フッ化ビニリデンVdF、トリフルオロエチレン、フッ化ビニルなどの非パーフルオロオレフィン等が挙げられ、VdF、TFE、CTFE、HFPなどが好ましい。また上記非フッ素系のモノマーとしては、例えばエチレン、プロピレン、ブテンなどのハイドロカーボン系オレフィン、シクロヘキシルビニルエーテルCHVE、エチルビニルエーテルEVE、ブチルビニルエーテル、メチルビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテル、ポリオキシエチレンアリルエーテルPOEAE、エチルアリルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル、ビニルトリメトキシシランVSi、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリスメトキシエトキシシランなどの反応性α,β-不飽和基を有する有機ケイ素化合物、アクリル酸メチル、アクリル酸エチルなどのアクリル酸エステル、メタアクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどのメタアクリル酸エステル、酢酸ビニル、安息香酸ビニル、ベオバ商品名、シェル社製のビニルエステルなどのビニルエステルなどが挙げられ、アルキルビニルエーテル、アリルビニルエーテル、ビニルエステル、反応性α,β-不飽和基を有する有機ケイ素化合物が好ましい。これらのうち、フッ素化率の高いものが好ましく、ポリテトラフルオロエチレンPTFE、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体FEP、テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体PFA、エチレン-テトラフルオロエチレン共重合体ETFE、エチレン-クロロトリフルオロエチレン共重合体ECTFEなどが好ましい。これらのうちでも、PTFE、FEP、PFAが特に好ましい。フッ素樹脂粒子は、例えばフッ素系単量体を乳化重合などの方法で製造した粒子フッ素樹脂水性分散液をそのまま使用してもよく、水洗した後に乾燥したものを使用してもよい。フッ素樹脂粒子の体積平均粒子径としては、例えば0.01μm以上100μm以下が挙げられ、特に0.03μm以上5μm以下であることが好ましい。尚、上記フッ素樹脂粒子の体積平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定装置LA-700堀場製作所製を用いて測定した値をいう。フッ素樹脂粒子は、市販で入手したものを用いてもよく、例えばPTFE粒子としては、フルオンL173JE旭ガラス社製、ダニイオンTHV-221AZ、ダニイオン9205住友3M社製、ルブロンL2、ルブロンL5ダイキン社製などが挙げられる。最外表面層第1の態様においては電荷輸送層2B-2の固形分全量に対するフッ素系樹脂粒子の含有量は、1質量以上20質量以下が好ましく、1質量以上12質量以下がさらに好ましい。-その他の成分-電荷輸送性組成物は、上記材料のほかに、その他の成分を含んでもよい。その他の成分として、具体的には、例えば、電荷輸送能を有さない反応性モノマー、反応性基を有さない電荷輸送材料、結着樹脂、連鎖移動剤、酸化防止剤、その他添加剤等が挙げられる。--電荷輸送能を有さない反応性モノマー--電荷輸送能を有さない反応性モノマーは、反応性基を有するモノマーであれば特に限定されない。また反応性基としては、例えば前記反応性基を有する電荷輸送材料における反応性基と同様のものが挙げられる。上記電荷輸送能を有さない反応性モノマーとしては、例えば下記一般式7に示す構造を有する化合物が挙げられる。前記一般式7中、R22及びR23は、それぞれ独立に有機基を表す。一般式7で示される電荷輸送能を有さない反応性モノマーとしては、例えば以下のものが挙げられる。尚、以下の例示においてメタアクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味し、例えばイソブチルメタアクリレートは、イソブチルアクリレートとイソブチルメタクリレートの両方を意味する。1官能のモノマーとしては、例えば、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、イソデシルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、カプロラクトンメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、2-2-エトキシエトキシエチルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、エチルカルビトールメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタアクリレートヒドロキシエチル-O-フェニルフェノールメタアクリレート、O-フェニルフェノールグリシジルエーテルメタアクリレート、アルコキシ化アルキルメタアクリレート、3,3,5-トリメチルシクロヘキサントリアクリレート等が挙げられる。2官能モノマーとしては、例えば、1,3-ブチレングリコールジメタアクリレート、1,4-ブタジエングリコールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタアクリレート、アルコキシ化ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート等が挙げられる。3官能モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、脂肪族トリメタアクリレート、アルコキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート等が挙げられる。4官能のモノマーとしてはペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、脂肪族テトラメタアクリレート等が挙げられる。5官能以上のモノマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート等が使用される。電荷輸送能を有さない反応性モノマーは、単独で使用してもよく、2種以上の反応性モノマーを併用してもよい。上記電荷輸送能を有さない反応性モノマーの添加量としては、例えば、硬化物中の重合体における前記電荷輸送能を有さない反応性モノマーに由来する構成単位の割合が、硬化物中の重合体を構成する構成単位全体に対し、質量比で100未満、望ましくは50以下、より望ましくは30以下となるような添加量が挙げられる。--反応性基を有さない電荷輸送材料--反応性基を有さない電荷輸送材料としては、前記ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料のほかに、例えば、p-ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の公知の正孔輸送性化合物が挙げられる。反応性基を有さない電荷輸送材料としては、より望ましくは、下記一般式a-1およびa-2で示されるトリアリールアミン誘導体、又はベンジジン誘導体が挙げられる。上記一般式a-1中、R24は、水素原子またはメチル基を示す。また、mは1または2を意味する。Ar21およびAr22は置換または未置換のアリール基を表す。上記一般式a-2中、R25、R25’は同一でも異なってもよく、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、又は炭素数1以上5以下のアルコキシ基を表す。R26、R26’、R27、R27’は同一でも異なってもよく、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数1以上2以下のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表わす。pおよびrは0から2の整数である。反応性基を有さない電荷輸送材料としては、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリシランなどの反応性基を有さない高分子化合物を用いてもよい。公知の非架橋型高分子電荷輸送材料の中でも、ポリエステル系高分子電荷輸送材料は、特に望ましいものである。高分子電荷輸送材料はそれだけでも成膜し得るが、後述する結着樹脂と混合して成膜してもよい。これらの電荷輸送材料は1種を単独でまたは2種以上を混合して用いてもよいが、これらに限定されるものではない。前記ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料以外の反応性基を有さない電荷輸送材料を用いる場合における添加量としては、前記電荷輸送性組成物における固形分全量に対して15質量以上75質量以下が挙げられ、25質量以上60質量以下がより望ましい。--結着樹脂--結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、スチレン-アルキッド樹脂、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。また、特開平8-176293号公報、特開平8-208820号公報に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材料等の高分子電荷輸送材料を用いてもよい。これらのうち、機械的強度を高める観点から、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が望ましい。結着樹脂を用いる場合、結着樹脂の粘度平均分子量は50000以上であることが望ましく、55000以上であることがより望ましい。これら結着樹脂は1種を単独でまたは2種以上を混合して用いられる。結着樹脂の添加量としては、最外表面層としての機械的強度と電荷輸送能を向上させる観点から、例えば、電荷輸送性組成物における固形分全量に対し、質量比で10以上85以下が望ましく、15以上75以下がより望ましい。--連鎖移動剤--本実施形態において使用される連鎖移動剤としては、例えば、付加開列型連鎖移動剤、チオール類等が使用される。付加開列型連鎖移動剤としては、公知のものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ラジカル重合ハンドブック基礎から新展開まで責任表示:蒲池幹治,遠藤剛監修/相田卓三他編出版地:東京出版者:エヌティ-エス出版年:1999.8に開示されたものが挙げられる。付加開列型連鎖移動剤として具体的には、例えば、α―フェノキシメチルスチレン、α―t-ブチルチオメチルスチレン、α―アルキルチオメチルスチレン、α―t―ブチルペルオキシメチルスチレン、メチル―α―フェノキシメチルアクリレート、メチル―α―ブチルペルオキシメチルアクリレート、メチル―α―ベンジルペルオキシメチルアクリレート、α―ベンジルオキシスチレン、2,4―ジフェニル―4―メチル―1―ペンテン、メチルメタクリレートダイマー、メタクリロニトリルダイマー、メチルメタクルレートダイマー、メタクリロニトリルトリマー、ベンジルジチオベンゾエート、1-フェニルエチルジチオベンゾエート、2-フェニル-2-プロピニルジチオベンゾエート、1-アセトキシエチルジチオベンゾエート、ベンジルジチオアセテート、t-ブチルジチオベンゾエート、2-シアノ-2-プロピニルジチオベンゾエート、クミルジチオベンゾエート、ジチオ脂肪酸エステルジフェニルジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、ジエチルジチオカルバミン酸ベンジルが挙げられ、望ましくは2,4―ジフェニル―4―メチル―1―ペンテン、メチルメタクリレートダイマー、メタクリロニトリルダイマーなどが挙げられ、より望ましくは2,4―ジフェニル―4―メチル―1―ペンテンである。チオール類としては、公知の樹脂、ゴム等の重合、加工、加硫、可塑剤等で用いられる公知の連鎖移動剤であって硫黄原子を含有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、[蒲池幹治、遠藤剛監修、ラジカル重合ハンドブック基礎から新展開まで、エヌティーエス、1999年8月]に開示されたものが挙げられる。硫黄原子を一分子内に有する連鎖移動剤として具体的には、例えば、チオール基を含有する化合物、ジスルフィド基を含有する化合物が挙げられる。チオール基を一つ含有する化合物としては、例えば、アルカンチオール例えば1-プロパンチオール、1-ブタンチオール、1-デカンチオール、1-ドデカンチオール、1-ヘプタンチオール、1-オクタデカンチオール等、アルカンチオールの構造異性体例えば2-ドデカンチオール、t-ドデシルメルカプタン等、チオ安息香酸、チオグリコール酸、チオグリコール酸アンモニウム、チオグリコール酸モノエタノールアミン、β―メルカプトプロピオン酸、メチル―3-メルカプトプロピオネート、2-エチルヘキシル―3-メルカプトプロピオネート、n-オクチル―3-メルカプトプロピオネート、メトキシブチルー3-メルカプトプロピオネート、ステアリル―3-メルカプトプロピオネート等が挙げられる。チオール基を二つ以上含有する化合物としては、例えば、アルカンジチオール例えば1,10-デカンジチオール、1,2-ベンゼンジチオール、1,2-エタンジチオール、1,2-プロパンジチオール等、アルカンジチオールの構造異性体例えば2-メチル-2-オクチル-1,3-プロパンジチオール等、メルカプトプロピオン酸2-エチルヘキシルエステル、メルカプトプロピオン酸トリメチロールプロパンエステル、メルカプトプロピオン酸ペンタエリスリトールエステル、トリス―3-メルカプトプロピオニルオキシーエチル―イソシアヌレート、テトラエチレングリコールビス3-メルカプトプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサキス3-メルカプトプロピオネート等が挙げられる。ジスルフィド基を含有する化合物としては、例えば、ジフェニルスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、ジエチルジチオカルバミン酸エステル等が挙げられる。--酸化防止剤--酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては、電荷輸送性組成物における固形分全体の20質量以下が望ましく、10質量以下がより望ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、イルガノックス1076、イルガノックス1010、イルガノックス1098、イルガノックス245、イルガノックス1330、イルガノックス3114、イルガノックス1076以上、チバジャパン製、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシビフェニル等が挙げられる。ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、サノールLS2626、サノールLS765、サノールLS770、サノールLS744以上、三共ライフテック製、チヌビン144、チヌビン622LD以上、チバジャパン製、マークLA57、マークLA67、マークLA62、マークLA68、マークLA63以上、アデカ社製が挙げられ、チオエーテル系としてスミライザ-TPS、スミライザーTP-D以上、住友化学社製が挙げられ、ホスファイト系としてマーク2112、マークPEP-8、マークPEP-24G、マークPEP-36、マーク329K、マークHP-10以上、アデカ社製等が挙げられる。--その他添加剤--本実施形態では、その他添加剤として、例えば、カップリング剤、フッ素化合物等を用いてもよい。具体的には、例えば、シランカップリング剤、シリコーン系ハードコート剤、フッ素化合物等が挙げられる。シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-βアミノエチルγ-アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が用いられる。市販のシリコーン系ハードコート剤としては、KP-85、X-40-9740、X-8239以上、信越シリコーン社製、AY42-440、AY42-441、AY49-208以上、東レダウコーニング社製等が用いられる。また、トリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3-ヘプタフルオロイソプロポキシプロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H-パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H-パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H-パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の含フッ素化合物を加えてもよい。シランカップリング剤の添加量は特に限定されないが、フッ素化合物の添加量としては、例えば、フッ素を含まない化合物の質量に対して0.25倍以下とすることが望ましい。さらに、特開2001-166510号公報などに開示されている重合性のフッ素化合物などを混合してもよい。また、アルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。また、上記成分を反応させて塗布液を得る際には、単純に混合、溶解させるだけでもよいが、室温20°C以上100°C以下、望ましくは30°C以上80°C以下で、10分以上100時間以下、望ましくは1時間以上50時間以下加温してもよい。また、この際に超音波を照射することも望ましい。更に、最外表面層には、粒子や、有機粒子、無機粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径1nm以上100nm以下、望ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものが使用される。コロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、全固形分全量を基準として、0.1質量以上50質量以下、望ましくは0.1質量以上30質量以下の範囲で用いられる。ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは1nm以上500nm以下、より望ましくは10nm以上100nm以下である。シリコーン粒子の含有量は、全固形分全量を基準として、望ましくは0.1質量以上30質量以下、より望ましくは0.5質量以上10質量以下である。また、その他の粒子としては、第8回ポリマー材料フォーラム講演要旨集p89に示される、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ZnO-Al2O3、SnO2-Sb2O3、In2O3-SnO2、ZnO2-TiO2、ZnO-TiO2、MgO-Al2O3、FeO-TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO、MgO等の金属酸化物が挙げられる。また、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の重合性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5-トリメチル-1,3,5-トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7-テトラメチル-1,3,5,7-テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9-ペンタメチル-1,3,5,7,9-ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;3-3,3,3-トリフルオロプロピルメチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。また、金属、金属酸化物およびカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀およびステンレス等、またはこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。粒子の平均粒径は0.3μm以下、特に0.1μm以下が望ましい。-電荷輸送層2B-2の形成方法-電荷輸送層2B-2の形成方法について説明する。まず、上記電荷輸送性組成物からなる電荷輸送層形成用塗布液を、電荷輸送層2B-1に、塗布する。上記電荷輸送性組成物からなる電荷輸送層形成用塗布液は、例えば、上記各材料を混合し、溶媒によって溶液化することによって得られる。また、上記電荷輸送性組成物からなる電荷輸送層形成用塗布液は、各種粒子を添加してスラリー状の塗布液とすることが膜形成上よい。ここで、各種粒子を添加してスラリー状の塗布液を得る方法としては、例えば、攪拌翼による攪拌法、湿式分散法例えばジェットミル、ビーズミル等等を利用する方法が挙げられる。また、塗布方法としては、例えば、リング塗布法、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット法等の方法が挙げられる。次に、形成した塗膜を例えば加熱処理、光照射処理、又は電子線照射処理により硬化することで、硬化膜を形成する。加熱処理の方法としては、例えば、熱風式乾燥炉等の公知の加熱処理装置によって行う方法が挙げられる。加熱処理、つまり熱による硬化における反応温度としては、例えば、100°C以上180°C以下の範囲が挙げられる。また、反応時間としては、反応温度によって選択されるが、例えば、5分以上1000分以下の範囲が挙げられ、15分以上500分以下の範囲であってもよく、30分以上120分以下の範囲であってもよい。なお、加熱処理、つまり熱による硬化は、重合開始剤から発生したラジカルが失活する前に反応性基の重合反応に寄与させるため、例えば、真空又は不活性ガス雰囲気下例えば酸素濃度が1ppm以上5以下の範囲、5ppm以上3以下の範囲、又は10ppm以上500ppm以下の範囲の雰囲気下で行うことがよい。光照射処理の方法としては、公知の光照射装置によって行う方法が挙げられる。また電子線照射処理の方法としては、公知の電子線照射装置によって行う方法が挙げられる。電子線照射処理を行う場合、例えば、300eV以下のエネルギー照射であることがよいが、瞬時硬化させる場合には、1Mradから5Mradで行なってもよい。電荷輸送層2B-2の膜厚は、望ましくは2μm以上60μm以下、より望ましくは5μm以上50μm以下である。電荷輸送層2B-1第1の態様における電荷輸送層2B-1としては、前述の電荷輸送層2B-2に用いた材料を用いて形成される層がそのまま適用される。但し、第1の態様において最外表面を構成する表面感光層ではない電荷輸送層2B-1においては、必ずしも前述の特定樹脂が表面に付着した含フッ素樹脂粒子を含有しなくともよい。すなわち、電荷輸送層2B-1は、例えば公知の電荷輸送材料と結着樹脂を含んで構成すればよい。基体基体1としては、導電性を有する基体が用いられ、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属または合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、および金属ベルト、または、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属または合金を塗布、蒸着またはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。ここで、導電性とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。第1の態様に係る感光体がレーザープリンターに使用される場合であれば、基体1の表面は中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化することが望ましい。但し、非干渉光を光源に用いる場合には粗面化は特に行わなくてもよい。粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、または回転する砥石に支持体を接触させ、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。また、他の粗面化の方法としては、基体1表面を粗面化することなく、導電性または半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であるため、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中ニッケル等の金属塩を加えてもよいで水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。陽極酸化膜の膜厚については、0.3μm以上15μm以下が望ましい。また、基体1には、酸性水溶液による処理またはベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸およびフッ酸を含む酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が10質量以上11質量以下の範囲、クロム酸が3質量以上5質量以下の範囲、フッ酸が0.5質量以上2質量以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量以上18質量以下の範囲が望ましい。処理温度は42°C以上48°C以下が望ましい。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が望ましい。ベーマイト処理は、90°C以上100°C以下の純水中に5分間以上60分間以下浸漬すること、または90°C以上120°C以下の加熱水蒸気に5分間以上60分間以下接触させることにより行われる。被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が望ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の他種に比べ被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。下引層下引層4は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有した層として構成される。無機粒子としては、粉体抵抗体積抵抗率102Ωcm以上1011Ωcm以下のものが望ましく用いられる。中でも上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子金属酸化物を用いるのが望ましく、特に酸化亜鉛は望ましく用いられる。また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、または、粒子径の異なるものなど2種以上混合して用いてもよい。無機粒子の体積平均粒径は50nm以上2000nm以下望ましくは60以上1000以下の範囲であることが望ましい。また、無機粒子としては、BET法による比表面積が10m2/g以上のものが望ましく用いられる。さらに無機粒子に加えて、アクセプター性化合物を含有させてもよい。アクセプター性化合物としてはいかなるものでも使用し得るが、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン化合物、2-4-ビフェニル-5-4-t-ブチルフェニル-1,3,4-オキサジアゾールや2,5-ビス4-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス4-ジエチルアミノフェニル1,3,4-オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3’,5,5’テトラ-t-ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。さらに、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。これらのアクセプター性化合物の含有量は特に限定されないが、望ましくは無機粒子に対して0.01質量以上20質量以下含有される。さらに0.05質量以上10質量以下が望ましい。アクセプター化合物は、下引層4の塗布時に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、または、湿式法が挙げられる。乾式法にて表面処理を施す場合には無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接または有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理される。添加または噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。添加または噴霧した後、さらに100°C以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については特に限定されない。湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌し、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌または分散したのち、溶剤除去することで処理される。溶剤除去方法はろ過または蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに100°C以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については特に限定されない。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。また、無機粒子はアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が望ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤も望ましく用いられる。アミノ基を有するシランカップリング剤としてはいかなる物を用いてもよいが、具体的例としてはγ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N-ビスβ-ヒドロキシエチル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。また、シランカップリング剤は2種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピル-トリスβ-メトキシエトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N-ビスβ-ヒドロキシエチル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用し得るが、乾式法または湿式法を用いることがよい。また、アクセプター付与とカップリング剤等による表面処理とを並行して行ってもよい。下引層4中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は、特に限定されないが、無機粒子に対して0.5質量以上10質量以下が望ましい。下引層4に含有される結着樹脂としては、公知のいかなるものでも使用し得るが、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が用いられる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が望ましく用いられる。これらを2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。尚、下引層形成用塗布液中のアクセプター性を付与した金属酸化物とバインダー樹脂、または無機粒子とバインダー樹脂との比率は、特に限定されない。下引層4中には種々の添加剤を用いてもよい。添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。シランカップリング剤は金属酸化物の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いてもよい。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピル-トリスβ-メトキシエトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N-ビスβ-ヒドロキシエチル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-クロルプロピルトリメトキシシラン等である。ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ2-エチルヘキシルチタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート等が挙げられる。これらの化合物は単独で若しくは複数の化合物の混合物または重縮合物として用いてもよい。下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から選択される。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。また、これらの分散に用いる溶剤は単独または2種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。さらにこの下引層4を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、基体1上に下引層4が成膜される。また、下引層4は、ビッカース強度が35以上とされていることが望ましい。さらに、下引層4はいかなる厚さに設定してもよいが、厚さが15μm以上が望ましく、さらに望ましくは15μm以上50μm以下とされていることが望ましい。また、下引層4の表面粗さ十点平均粗さはモアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの1/4nnは上層の屈折率から1/2λまでに調整される。表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。また、表面粗さ調整のために下引層を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。塗布したものを乾燥させて下引層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜し得る温度で行われる。電荷発生層電荷発生層2Aは、少なくとも電荷発生材料および結着樹脂を含有する層であることが望ましい。電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対しては、金属および/または無金属フタロシアニン顔料が望ましく、特に、特開平5-263007号公報、特開平5-279591号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平5-98181号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平5-140472号公報、特開平5-140473号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平4-189873号公報、特開平5-43823号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対してはジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン等がより望ましい。電荷発生材料としては、380nm以上500nmの露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が望ましく、700nm以下800nmの露光波長の光源を用いる場合には、金属および無金属フタロシアニン顔料が望ましい。電荷発生材料としては、600nm以上900nm以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、810nm以上839nm以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を用いることが望ましい。このヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、従来のV型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とは異なるものであり、分光吸収スペクトルの最大ピーク波長を従来のV型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料よりも短波長側にシフトさせたものである。また、上記の810nm以上839nm以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、BET比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が0.20μm以下であることが望ましく、0.01μm以上0.15μm以下であることがより望ましく、一方、BET比表面積が45m2/g以上であることが望ましく、50m2/g以上であることがより望ましく、55m2/g以上120m2/g以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径d50平均粒径でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置LA-700、堀場製作所社製にて測定した値である。また、BET式比表面積測定器島津製作所製:フローソープII2300を用い窒素置換法にて測定した値である。また、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径一次粒子径の最大値は、1.2μm以下であることが望ましく、1.0μm以下であることがより望ましく、更に望ましくは0.3μm以下である。更に、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が0.2μm以下、最大粒径が1.2μm以下であり、且つ、比表面積値が45m2/g以上であることが望ましい。また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、CuKα特性X線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度2θ±0.2°7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°および28.3°に回折ピークを有するものであることが望ましい。また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、25°Cから400°Cまで昇温したときの熱重量減少率が2.0以上4.0以下であることが望ましく、2.5以上3.8以下であることがより望ましい。電荷発生層2Aに使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は1種を単独でまたは2種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で10:1から1:10までの範囲内であることが望ましい。ここで、絶縁性とは、体積抵抗率が1013Ωcm以上であることをいう。電荷発生層2Aは、例えば、上記電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散した塗布液を用いて形成される。分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、n-プロパノール、n-ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは1種を単独でまたは2種以上を混合して用いられる。また、電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法が用いられる。さらにこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、望ましくは0.3μm以下、さらに望ましくは0.15μm以下にすることが有効である。また、電荷発生層2Aを形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。このようにして得られる電荷発生層2Aの膜厚は、望ましくは0.1μm以上5.0μm以下、さらに望ましくは0.2μm以上2.0μm以下である。第2の態様:表面感光層=電荷輸送層2B本実施形態における一例である第2の態様に係る感光体は、図2に示す通り、基体1上に、下引層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2Bがこの順に積層された層構成を有し、電荷輸送層2Bが最外表面を構成する表面感光層である。第2の態様における基体1、下引層4、電荷発生層2Aとしては、前述の図1に示す第1の態様における基体1、下引層4、電荷発生層2Aがそのまま適用される。また、第2の態様における電荷輸送層2Bとしては、第1の態様における電荷輸送層2B-2がそのまま適用される。即ち、第2の態様において表面感光層となる電荷輸送層2-Bは、前述の特定樹脂が表面に付着した含フッ素樹脂粒子を少なくとも含んで構成される。第3の態様:表面感光層=機能一体型の感光層6本実施形態における一例である第3の態様に係る感光体は、図3に示す通り、基体1上に、下引層4、機能一体型の感光層6がこの順に積層された層構成を有し、機能一体型の感光層6が表面感光層である。第3の態様における基体1、下引層4としては、前述の図1に示す第1の態様における基体1、下引層4がそのまま適用される。機能一体型の感光層6第3の態様に係る感光体において、機能一体型の感光層6は最外表面を構成する表面感光層である。第3の態様において表面感光層となる感光層6は、前述の特定樹脂が表面に付着した含フッ素樹脂粒子を少なくとも含んで構成される。なお、本実施形態における感光層6中の電荷発生材料の含有量は、20質量以上50質量以下が望ましい。<電子写真感光体の製造方法>本実施形態に係る電子写真感光体の製造方法は、特に限定されないが、例えば、前述の電荷輸送性組成物からなる電荷輸送層形成用塗布液を、下引層等の他の層を介して基体上に塗布するか又は基体表面に直接塗布した後、乾燥させることで最外表面層を形成する最外表面層形成工程、を有する。尚、硬化工程は、前記の通り、不活性ガス雰囲気下において、100°C以上180°C以下に加熱することが望ましい。[プロセスカートリッジおよび画像形成装置]次に、本実施形態の電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジおよび画像形成装置について説明する。本実施形態のプロセスカートリッジは、潜像保持体の表面の静電潜像を現像して得られたトナー像を記録媒体に転写して、該記録媒体上に画像を形成する画像形成装置に対して着脱自在であり、前記潜像保持体としての前述の本実施形態に係る電子写真感光体を少なくとも備えた構成である。また、本実施形態の画像形成装置は、前述の本実施形態に係る電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置と、前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、を備えた構成である。なお、本実施形態の画像形成装置は、各色のトナーに対応した感光体を複数有するいわゆるタンデム機であってもよく、この場合、全ての感光体が本実施形態の電子写真感光体であることが望ましい。また、トナー像の転写は、中間転写体を利用した中間転写方式であってもよい。図4は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置100は、図4に示すように。電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9と、転写装置40と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8、現像装置11およびクリーニング装置13を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレードクリーニング部材を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。また、潤滑材14を感光体7の表面に供給する繊維状部材132ロール状、クリーニングをアシストする繊維状部材133平ブラシ状を用いた例を示してあるが、これらは使用しても、使用しなくてもよい。帯電装置8としては、例えば、帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。なお、図示しないが、電子写真感光体7の周囲には、電子写真感光体7の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。露光装置9としては、例えば、感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、780nmに発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザーや青色レーザーとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。現像装置11としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤または二成分系現像剤等を接触または非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤または二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。以下、現像装置11に使用されるトナーについて説明する。本実施形態の画像形成装置に用いられるトナーは、平均形状係数ML2/A×π/4×100、ここでMLは粒子の最大長を表し、Aは粒子の投影面積を表すが100以上150以下であることが望ましく、105以上145以下であることがより望ましく、110以上140以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が3μm以上12μm以下であることが望ましく、3.5μm以上9μm以下であることがさらに望ましい。トナーは、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤および離型剤、やその他更に帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法;混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法;結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法;結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法;結着樹脂と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤および離型剤を含有することが望ましく、更にシリカや帯電制御剤を含有してもよい。トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα-メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン-アクリル酸アルキル共重合体、スチレン-メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン-アクリロニトリル共重合体、スチレン-ブタジエン共重合体、スチレン-無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルコイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、C.I.ピグメントレッド48:1、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド57:1、C.I.ピグメントイエロー97、C.I.ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントブルー15:1、C.I.ピグメントブルー15:3等を代表的なものとして例示される。離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示される。また、帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が用いられる。湿式製法でトナーを製造する場合、水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナーおよび磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。現像装置11に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子および上記外添剤をヘンシェルミキサーまたはVブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。現像装置11に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類やカルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス、ミツロウの動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物、石油系ワックス、およびそれらの変性物が使用される。これらは、1種を単独で、または2種以上を併用して使用される。但し、平均粒径としては0.1μm以上10μm以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は望ましくは0.05質量以上2.0質量以下、より望ましくは0.1質量以上1.5質量以下の範囲である。現像装置11に用いるトナーには、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビスジオクチルパイロフォスフェートオキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ-2-アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ-2-アミノエチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-β-N-ビニルベンジルアミノエチルγ-アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、o-メチルフェニルトリメトキシシラン、p-メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等が挙げられる。粒子径としては、個数平均粒子径で望ましくは5nm以上1000nm以下、より望ましくは5nm以上800nm以下、さらに望ましくは5nm以上700nm以下でのものが使用される。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が0.6質量以上であることが望ましい。トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、1次粒径が40nm以下の小径無機酸化物を用い、更にそれより大径の無機酸化物を添加することが望ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものが使用されるが、シリカと酸化チタンを併用することが望ましい。また、小径無機粒子については表面処理してもよい。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも望ましい。また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれ等の表面に樹脂を被覆したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、必要に応じて設定される。転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。中間転写体50としては、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの中間転写ベルトが使用される。また、中間転写体50の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものが用いられる。画像形成装置100は、上述した各装置の他に、例えば、感光体7に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。図5は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略断面図である。画像形成装置120は、図5に示すように、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。また、本実施形態に係る画像形成装置プロセスカートリッジにおいて、現像装置は、電子写真感光体の移動方向回転方向に対して逆方向に移動回転する現像剤保持体である現像ローラを有してもよい。ここで、現像ローラは表面に現像剤を保持する円筒状の現像スリーブを有しており、また、現像装置はこの現像スリーブに供給する現像剤の量を規制する規制部材を有する構成のものが挙げられる。現像装置の現像ローラを電子写真感光体の回転方向に対して逆方向に移動回転させることで、現像ローラと電子写真感光体との間に留まるトナーで電子写真感光体表面が摺擦される。また、本実施形態の画像形成装置においては、現像スリーブと感光体との間隔を200μm以上600μm以下とすることが望ましく、300μm以上500μm以下とすることがより望ましい。また、現像スリーブと上述の現像剤量を規制する規制部材である規制ブレードとの間隔を300μm以上1000μm以下とすることが望ましく、400μm以上750μm以下とすることがより望ましい。更に、現像ロール表面の移動速度の絶対値を、感光体表面の移動速度の絶対値プロセススピードの1.5倍以上2.5倍以下とすることが望ましく、1.7倍以上2.0倍以下とすることがより望ましい。また、本実施形態に係る画像形成装置プロセスカートリッジにおいて、現像装置現像手段は、磁性体を有する現像剤保持体を備え、磁性キャリアおよびトナーを含む2成分系現像剤で静電潜像を現像するものであることが望ましい。以下、実施例および比較例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。尚、以下において部は、特に断りのない限り質量基準である。[実施例1]下引層4の形成酸化亜鉛平均粒子径:70nm、テイカ社製、比表面積値:15m2/g100部をテトラヒドロフラン500部と攪拌混合し、シランカップリング剤としてKBM503信越化学社製1.3部を添加し、2時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、120°Cで3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤で表面処理した酸化亜鉛粒子を得た。前記シランカップリング剤で表面処理した酸化亜鉛粒子110部を、500部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン0.6部を50部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50°Cにて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに60°Cで減圧乾燥することでアリザリン付与酸化亜鉛を得た。このアリザリン付与酸化亜鉛60部と硬化剤ブロック化イソシアネート、スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製13.5部とブチラール樹脂エスレックBM-1、積水化学社製15部とをメチルエチルケトン85部に溶解した溶液38部と、メチルエチルケトン25部と、を混合し、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間分散して分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート0.005部、シリコーン樹脂粒子トスパール145、GE東芝シリコーン社製40部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この下引層形成用塗布液を浸漬塗布法にて直径30mm、長さ340mm、肉厚1mmのアルミニウム基材上に塗布し、170°C、40分の乾燥硬化を行い厚さ18μmの下引層を得た。電荷発生層2Aの形成電荷発生物質として用いたCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度2θ±0.2°が少なくとも7.3 ゚,16.0 ゚,24.9 ゚,28.0 ゚の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15部と、結着樹脂として用いた塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体樹脂VMCH、日本ユニカー社製10部と、n-酢酸ブチル200部と、からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散して分散液を得た。得られた分散液に、n-酢酸ブチル175部と、メチルエチルケトン180部と、を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、23°Cで乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。電荷輸送層2B最外表面層の形成ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料前記具体例B-10:15部反応性基を有する電荷輸送材料前記具体例iv-16:60部ジメチル11’アゾビス1シクロヘキサンカルボキシレートアゾ系熱重合開始剤、和光純薬社製、品番:VE-073:5部ビスフェノールZポリカーボネート樹脂PCZ、粘度平均分子量:4万:25部テトラヒドロフランTHF:300部トルエン:50部上記材料を混合して電荷輸送層形成用塗布液を調製した。この塗布液を電荷発生層の上に浸漬塗布法により塗布し、23°Cで5分間風乾した。次いで、窒素雰囲気下において165°Cで20分加熱し、電荷輸送層2Bを有する感光体を得た。この電荷輸送層2Bの膜厚は23μmであった。[実施例2から実施例7]前記実施例1の最外表面層である電荷輸送層2Bの形成において用いたブタジエン骨格を有する電荷輸送材料、反応性基を有する電荷輸送材料、重合開始剤、結着樹脂、及びその他添加剤について、種類及び含有量を下記表1に示すごとく変更した以外は、実施例1と同様にして感光体を作製した。また、実施例1から実施例7で用いた電荷輸送層形成用塗布液電荷輸送性組成物における重合開始剤のモル比ブタジエン骨格を有する電荷輸送性材料におけるブタジエン骨格の総モル数に対する重合開始剤のモル数の比率を併せて表1に示す。なお、表1において、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料の種類の欄に記載された番号は、前記ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料の具体例の番号を示す。また、表1において、反応性基を有する電荷輸送材料の種類の欄に記載された番号は、前記反応性基を有する電荷輸送材料の具体例の番号を示す。また表1において、重合開始剤の種類の欄に記載されたP-1からP-4はそれぞれ下記構造式P-1からP-4で表される化合物を示す。また表1において、結着樹脂の種類の欄に記載されたPCZはビスフェノールZポリカーボネート樹脂平均分子量:4万を示し、PSはポリスチレンMeltIndex7.5を示す。またPCZとPSとの併記は、これらの混合物を用いたことを示す。また表1において、その他添加剤の種類の欄に記載されたBHTは3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシトルエン酸化防止材料を示し、BDETPMはビス4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニルフェニルメタン酸化防止材料を示し、E-1は下記構造式E-1で表される化合物反応性基を有さない電荷輸送材料を示し、E-2は下記構造式E-2で表される化合物ブタジエン骨格を有さない電荷輸送材料を示す。また表1中-は、対応する材料を用いていないことを示す。[実施例8]実施例1と同様にしてアルミニウム基材上に下引層及び電荷発生層を形成した。電荷輸送層2B-1の形成電荷輸送材料CTM-1:N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス3-メチルフェニル-[1,1’]ビフェニル-4,4’-ジアミン:3.5部電荷輸送材料CTM-2:N,N’-ビス3,4-ジメチルフェニル-ビフェニル-4-アミン:1.5部ビスフェノールZポリカーボネート樹脂粘度平均分子量:4万:5.0部上記材料をクロルベンゼン40部に加えて溶解し、塗布液を調液した。この塗布液を電荷発生層2A上に浸漬塗布法により塗布し、130°Cで45分間乾燥させ、非架橋型の電荷輸送層2B-1を形成した。電荷輸送層2B-1の膜厚は20μmであった。電荷輸送層2B-2最外表面層の形成ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料前記具体例B-2:10部反応性を有する電荷輸送材料前記具体例iv-17:90部ジメチル11’アゾビス1シクロヘキサンカルボキシレートアゾ系熱重合開始剤、和光純薬社製、品番:VE-073:5部テトラヒドロフランTHF:150部トルエン:150部上記材料を混合して電荷輸送層形成用塗布液を調製した。この塗布液を電荷輸送層2B-1の上にインクジェット法により塗布し、次いで、窒素雰囲気下において165°Cで20分加熱し、電荷輸送層2B-2を有する感光体を得た。この電荷輸送層2B-2の膜厚は6μmであった。また、実施例8で用いた電荷輸送層形成用塗布液電荷輸送性組成物における重合開始剤のモル比ブタジエン骨格を有する電荷輸送性材料におけるブタジエン骨格の総モル数に対する重合開始剤のモル数の比率は1.01であった。[実施例9]実施例1と同様にしてアルミニウム基材上に下引層及び電荷発生層を形成した。電荷輸送層2B-1の形成電荷輸送材料CTM-1:N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス3-メチルフェニル-[1,1’]ビフェニル-4,4’-ジアミン:3.5部電荷輸送材料CTM-2:N,N’-ビス3,4-ジメチルフェニル-ビフェニル-4-アミン:1.5部ビスフェノールZポリカーボネート樹脂粘度平均分子量:4万:5.0部上記材料をクロルベンゼン40部に加えて溶解し、塗布液を調液した。この塗布液を電荷発生層2A上に浸漬塗布法により塗布し、130°Cで45分間乾燥させ、非架橋型の電荷輸送層2B-1を形成した。電荷輸送層2B-1の膜厚は20μmであった。電荷輸送層2B-2最外表面層の形成ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料前記具体例B-2:10部反応性を有する電荷輸送材料前記具体例iv-17:90部ジメチル11’アゾビス1シクロヘキサンカルボキシレートアゾ系熱重合開始剤、和光純薬社製、品番:VE-073:5部BHT3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシトルエン、酸化防止材料:1部テトラヒドロフランTHF:150部トルエン:150部上記材料を混合して塗布液1を調整した。ポリテトラフルオロエチレンフッ素樹脂粒子、ダイキン社製、品番:ルブロンL2:30部分散剤東亜合成社製、品番:GF300:1.5部テトラヒドロフランTHF:150部トルエン:150部上記材料を混合し、超音波ホモジナイザーに30分掛けて、塗布液2を調整した。塗布液1に対して塗布液213.7部を混合し、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。この塗布液を電荷輸送層2B-1の上にインクジェット法により塗布し、次いで、窒素雰囲気下において165°Cで20分加熱し、電荷輸送層2B-2を有する感光体を得た。この電荷輸送層2B-2の膜厚は5μmであった。また、実施例9で用いた電荷輸送層形成用塗布液電荷輸送性組成物における重合開始剤のモル比ブタジエン骨格を有する電荷輸送性材料におけるブタジエン骨格の総モル数に対する重合開始剤のモル数の比率は1.01であった。[比較例1から比較例3]前記実施例1の最外表面層である電荷輸送層2Bの形成において用いたブタジエン骨格を有する電荷輸送材料、反応性基を有する電荷輸送材料、重合開始剤、結着樹脂、及びその他添加剤について、種類及び含有量を下記表2に示すごとく変更した以外は、実施例1と同様にして感光体を作製した。また、比較例1から比較例3で用いた電荷輸送層形成用塗布液電荷輸送性組成物における重合開始剤のモル比ブタジエン骨格を有する電荷輸送性材料におけるブタジエン骨格の総モル数に対する重合開始剤のモル数の比率を併せて表2に示す。なお、表2において、ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料の種類の欄に記載された番号は、前記ブタジエン骨格を有する電荷輸送材料の具体例の番号を示す。また、表2において、反応性基を有する電荷輸送材料の種類の欄に記載された番号は、前記反応性基を有する電荷輸送材料の具体例の番号を示す。また表2において、重合開始剤の種類の欄に記載されたP-1からP-4はそれぞれ上記構造式P-1からP-4で表される化合物を示す。また表2において、結着樹脂の種類の欄に記載されたPCZはビスフェノールZポリカーボネート樹脂平均分子量:4万を示す。また表2において、その他添加剤の種類の欄に記載されたBHTは3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシトルエン酸化防止材料を示し、BDETPMはビス4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニルフェニルメタン酸化防止材料を示し、E-1は上記構造式E-1で表される化合物反応性基を有さない電荷輸送材料を示す。また表2中-は、対応する材料を用いていないこと、又は対応する値が存在しないことを示す。[比較例4]実施例9と同様にしてアルミニウム基材上に下引層、電荷発生層、及び電荷輸送層2B-1を形成した。電荷輸送層2B-2最外表面層の形成重合開始剤であるジメチル11’アゾビス1シクロヘキサンカルボキシレートの添加量を1部にした以外は、実施例9と同様にして、電荷輸送層2B-2を有する感光体を得た。この電荷輸送層2B-2の膜厚は5μmであった。また、比較例4で用いた電荷輸送層形成用塗布液電荷輸送性組成物における重合開始剤のモル比ブタジエン骨格を有する電荷輸送性材料におけるブタジエン骨格の総モル数に対する重合開始剤のモル数の比率は0.20であった。[感光体評価方法]-感光体を用いた印字評価-上記実施例及び比較例にて作製した電子写真感光体を、DocuCentreColor400CP富士ゼロックス社製に装着して印字評価を実施した。まず、低温低湿18°C、20RH環境下において画像評価パターンを出力し評価画像1とした。引き続き、連続して25000枚の印字パターンを出力した。次いで、高温高湿28°C、60RH環境下にて25000枚の印字パターンを出力した。更に、常温常湿23°C、50RH環境下に戻し、更に50000枚の印字パターンを出力した。最後に画像評価パターンを出力し、評価画像2とした。なお、上記画像評価パターン及び印字パターンの形成に用いた記録媒体は、A4普通紙富士ゼロックス社製P紙である。また、上記画像評価パターンは、評価画像1及び評価画像2のいずれも、A4サイズ内に、6ポイントの明朝体文字、8ポイントの明朝体文字、10ポイントの明朝体文字、2on2offの細線画像すなわち2ドットラインと2ドットスペースとの繰り返しである細線画像、及び100濃度画像のパッチを有したパターンである。また上記印字パターンはいずれも、A4サイズを100濃度画像領域、50濃度画像領域、及び非印字領域に3分割したものである。すなわち上記印刷パターンは、前記100濃度画像領域、50濃度画像領域、及び非印字領域が同時に出力されるように、記録媒体送り方向に平行な線によって3分割されたものである。よって上記印字パターンの出力時には、感光体表面のうち特定の領域に前記100濃度画像が形成され続け、他の特定の領域に前記50濃度画像が形成され続け、その他の領域には画像が形成されない状態となる。残留電位が高くなると、感光体表面の電位が打ち消されなくなるため、トナーが乗らなくなり、結果として、画像濃度が低く、文字が解像できなくなる。また上記印字パターンのように濃度の異なる3パターンをそれぞれ連続して通紙すると、パターンごとに感光体の摩耗量が異なり、差が生じるため、画像濃度、文字解像度にも差が生じる。よって、上記印字評価を行うことにより、感光体の残留電位又は摩耗に伴う画質の劣化が抑制されたか否かが顕著にあらわれる。<長期画像安定性残留電位又は摩耗に伴う画質の劣化の評価>長期画像安定性評価は、評価画像2を評価画像1と比較し画質の劣化度合いを目視にて評価した。A:非常に良好A:良好目視では変化は確認できないが、拡大画像では変化を確認B:画質劣化は確認し得るが、許容レベルC:画質劣化が生じており、問題となるレベル<電気特性残留電位の評価>電気特性評価は低温低湿18°C、20RH環境下、グリッド印加電圧-700Vのスコロトロン帯電器で感光体をマイナス帯電させ、次いで帯電させた感光体に780nmの半導体レーザーを用いて、10mJ/m2の光量にてフラッシュ露光をした。露光後、10秒後の感光体表面の電位Vを測定し、この値を残留電位の値とした。A:-100V以上A:-200V以上-100V未満B:-300V以上-200V未満C:-300V未満<機械的強度摩耗の評価>ランニング前後で膜厚を測定し、膜厚変化量を算出した。具体的には、前記評価画像1の出力前における最外表面層の膜厚の平均値と、前記評価画像2の出力後における最外表面層の膜厚の平均値と、を比較し、膜厚変化量を求めた。なお、前記膜厚の平均値は、FisherscopemmsFisherInstruments社製を用いて124点具体的には、1cm間隔で31点×4点の膜厚を測定し、平均することで膜厚の平均値とした。A:膜厚変化量が250nm未満。A:膜厚変化量が250nm以上500nm未満。B:膜厚変化量が500nm以上1μm未満。C:膜厚変化量が1μm以上。実施例及び比較例で得られた感光体について上記評価を行った結果を表3に示す。以上の結果から、本実施例では比較例に比べ、残留電位の低減と使用による摩耗の低減との両立がなされていることがわかる。"