"焼結機への原料装入装置は以下からなる:焼結用原料をパレットに供給するための原料供給機構と、その上端が前記原料供給機構の近傍に位置し、そして、その下端が前記パレットの上方に位置する、前記パレットの移動方向とは反対の方向に向けて傾斜しているシュートと、前記シュートは、前記パレットの幅方向に、その上端から下端に向けて互いに所定間隔を空けて平行に配設された複数本のロッドからなり、前記シュートは、その上端からその下端に向けて凹面状に湾曲した形状を有し、前記シュートの水平方向の長さの上端側1/3に対応する範囲における、隣接するロッド間を結ぶ勾配の変化率の平均値は、下端側2/3に対応する範囲における勾配の変化率の平均値に対して1.5倍~10倍である。前記原料供給機構が、ベルト式フィーダーからなる請求の範囲1記載の焼結機への原料装入装置。前記原料供給機構が、原料が装入され、下部に切り出しゲートを有するホッパと、ホッパ下端に設けられたロールフィーダからなる請求の範囲1記載の焼結機への原料装入装置。前記原料供給機構が、原料が装入され、下部に切出しゲートを有するホッパと、ホッパの下端に設けられたロールフィーダと、前記ロールフィーダの下に直線状に配置された複数個のローラーからなる請求の範囲1記載の焼結機への原料装入装置。この発明の目的は、焼結機パレットの原料層内の粒度分布に加えて、成分分布の調節性向上を図り、高品質、高歩留、高生産性が得られるようにするための焼結機への原料装入装置を提供することにある。上記の目的を達成するために、本発明は、焼結用原料をパレットに供給するための原料供給機構と、その上端が前記原料供給機構の近傍に位置し、その下端が前記パレットの上方に位置する、前記パレットの移動方向とは反対の方向に向けて傾斜しているシュートからなる焼結機への原料装入装置を提供する。前記シュートは、前記パレットの幅方向に、その上端から下端に向けて互いに所定間隔を空けて平行に配設された複数本のロッドからなり、その上端からその下端に向けて凹面状に湾曲した形状を有する。前記シュートの水平方向の長さの上端側1/3に対応する範囲における、隣接するロッド間を結ぶ勾配の変化率の平均値は、下端側2/3に対応する範囲における勾配の変化率の平均値に対して1.5倍~10倍である。本発明者等は、隣接するロッド間を結ぶ直線の勾配の変化率概念的にはシュートの形状曲線を2階微分した値に着目し、この勾配の変化率を所定の範囲に設定することで、粒子が進行方向を変えると共にその速度の低下が適切になり、シュートの全長にわたり均一に分散して粒子を落下させることができることを知見した。本発明の焼結機への原料装入装置は、焼結用原料をパレットに供給するための原料供給機構と、その上端が前記原料供給機構の近傍に位置し、そして、その下端が前記パレットの上方に位置する、前記パレットの移動方向とは反対の方向に向けて傾斜しているシュートとからなる。前記シュートは、前記パレットの幅方向に、その上端から下端に向けて互いに所定間隔を空けて平行に配設された複数本のロッドからなり、その上端からその下端に向けて凹面状に湾曲した形状を有する。前記シュートの水平方向の長さの上端側1/3に対応する範囲における、隣接するロッド間を結ぶ勾配の変化率の平均値は、下端側2/3に対応する範囲における勾配の変化率の平均値に対して1.5倍~10倍である。本発明によれば、原料がシュートで適正量落下し、しかも、シュートの装置長方向原料粒子および装入パレットの進行方向での落下量の分布が分散する。したがって、大きな偏析と適当な装入密度の原料層が得られ、焼結歩留りと生産率を向上することができる。以下、添付図面に基づいて、第1の実施形態における原料装入装置について説明する。図3は原料装入装置の概略垂直断面図を示すものである。この原料装入装置は、原料107をパレット105に供給するための原料供給機構と、シュート114とを備える。原料供給機構は、幅方向に均一に原料107を載せて、原料107を矢印の方向に移動するベルト式フィーダ103からなる。シュート114は、その上端がベルト式フィーダ103の排出端近傍に位置し、その下端がパレット105の上方に位置し、パレット105の移動方向とは反対の方向に向けて傾斜している。案内シュート117は、ベルト式フィーダ103の排出端と、シュート114の上端との間に位置する板状のシュートである。原料7がシュート114に適切な角度および速度で進入する場合には、案内シュート117は必ずしも必要でない。図4は、シュートの正面図を示し、図5は、図4のA-A線断面図を示す。シュート114は、パレット105の幅方向に、その上端から下端に向けて互いに所定間隔を空けて平行に配設された複数本のロッド115からなるスクリーン状に形成されている。ロッドにはワイヤ等の線状部材も含まれる。このシュート114は、その上端から下端に向けてなだらかな凹面状に形成されている。また、シュート114は、水平方向の長さLの上端側1/3に対応する範囲L1における、隣接するロッド115間を結ぶ勾配の変化率の平均値が、下端側2/3に対応する範囲L2における勾配の変化率平均値の1.5倍~10倍になるように形成される。連結部材116は、シュート114を構成する複数本のロッド115を、所定間隔を空けて、相互に連結する。この連結部材116は、ロッド115の幅方向に所定間隔を空けて例えば4個取り付けられる。ロッド115の隙間は、全般的にはシュート114の上端側114aのほうが、下端側114bよりも小さいが、上部から下部に向って一様に拡大している必要はない。例えば上端と下端のロッドの途中で、一部で隣接するロッド間隔で、下部側が小さくなり、さらにその下部では再び増大して、上端側より大きなロッド間隔となる様に配置することも可能である。ベルト式フィーダ103の排出端から、案内シュート117を介して排出された原料107は、凹面状に形成されたシュート114上を滑降する際に、原料107の一部の粒子がロッド115に衝突し、次々に進行方向を上方に持ち上げるように曲げられる。このとき、上端側1/3に対応する範囲L1における、隣接するロッド115間を結ぶ勾配の変化率の平均値が、下端側2/3に対応する範囲L2における勾配の変化率の平均値よりも大きく、具体的には1.5倍から10倍になるように、ロッド115を配置すると、粒子が進行方向を変えると共にその速度の低下が適切になり、シュート114の全長にわたり均一に分散して粒子を落下させることができる。すなわち、案内シュート117を介して排出された原料のうち、粗粒の一部は、複数本のロッド115からなるシュート114上を滑降し、また、粗粒の残りの部分は、シュート114下部を構成する複数本のロッド115間の広い隙間から落下して、連続的に移動するパレット105内のグレートバー106上に供給される。一方、細粒の原料は、シュート114上部を構成する複数本のロッド115間の狭い隙間から落下して、パレット105内のグレートバー106上に供給される。したがって、シュート114直下に落下する原料粒子量が装置長方向に分散される。かくして、パレット105内の下層107aに粗粒原料が供給され、上層107bに細粒原料が供給され、しかも細粒原料の層は、上部ほど細粒になる。このため、粒度が偏析した原料層が形成される。また、偏析することで、原料層中のCおよびCaOが下層から上層に向けて次第に多くなり、品質の優れた焼結鉱を高歩留まりで製造することができる。さらに、原料107が分散して落下するので、パレット105上への落下衝撃が低下して、ソフトに装入された通気性のよい原料層を得ることができる。なお、ロッド中心間を結ぶ直線の勾配の変化率は、ロッド配置が関数で定義された曲線上に乗っている場合は、この関数の各ロッド中心位置での2階微分値をもって算出できる。ロッド中心位置の配置が関数で定義されない場合でも簡易的に下記の数式1により算出することができる。{y3-y2x3-x2-y2-y1x2-x1}x3-x1={y3-y2x2-x1-y2-y1x3-x2}{x2-x1x3-x2x3-x1}数式1上記数式1から隣接する3本のロッド中心位置から勾配の変化率を算出してロッドの配置を決定すれば、本発明における効果を奏することができる。なお、この簡易算出法は3点で定義されるものであるから、シュートの両端のロッドでは勾配の変化率は算出しない。すなわち、n本のロッドからなるシュートではn-2点の勾配変化率につき、水平方向の範囲を考慮して平均値を算出する。このロッドの配置の有効性はロッド上を原料が流れることにより得られるものであるから、物理的に原料が流れ得ない位置に配置したロッドは、シュートの水平長を考慮する際の範囲には含めない。ここで、上端側1/3に対応する範囲L1における、隣接するロッド間を結ぶ勾配変化率の平均値が、下端側2/3に対応する範囲L2における勾配の変化率の平均値に対して10倍よりも大きいと、粒子の減速が大きくなりすぎ、シュート114の途中で全ての原料が落下してしまう。また、1.5倍よりも小さいと、シュート上端側1/3の範囲L1での粒子の減速が小さく、粒子が下端側2/3の範囲L2に大きな滑降速度で進むことになる。範囲L2における勾配の変化率の平均値は、範囲L1における勾配の変化率の平均値よりも小さいため、充分な減速効果を得ることができず、粒子がロッド115間の隙間から落下する割合が低下して、大部分の粒子がシュート114下端から飛び出してしまう。なお、粒子の進行方向を変化し、粒子を減速することなく、ロッド115の隙間から粒子を落下させる割合を制御し、シュート114の直下に均一に粒子を落下させることは、落下させたい部分のロッド115の隙間を調整することで可能であるが、隙間を広げるとすべての粒子が隙間から落下することになり、粒度が偏析した原料層を得ることができない。図6は、第2の実施形態における原料装入装置を示すものである。この原料装入装置において、原料供給機構は、原料107が装入され、側壁下部に切り出しゲート101aを有するホッパ101と、ホッパ101の下端開口に設けられたロールフィーダ102からなっている点が、上記第1の実施形態と異なる。図7は、第3の実施形態における原料装入装置を示すものである。この原料装入装置において、原料供給機構は、原料107が装入され、側壁下部に切出しゲート101aを有するホッパ101と、ホッパ101の下端開口に設けられたロールフィーダ102を有し、さらに第2の実施形態と異なり、ロールフィーダ102の斜め下に設けられたロールフィーダ118を有する。ロールフィーダ118は、切出しゲート101aの斜め下に設けられている。ロールフィーダ118の回転により、原料のシュートへの進入角度、補助的な速度調整が可能である。図8は、第4の実施形態における原料装入装置を示すものである。この原料装入装置において、原料供給機構は、原料107が装入され、側壁下部に切出しゲート101aを有するホッパ101と、ホッパ101の下端開口に設けられたロールフィーダ102を有し、その下に直線状に配置された複数個のローラー119を有する。ローラー119により、原料のシュートへの進入角度が調整可能である。発明の実施例を比較例と対比しながら説明する。図3ないし図5に示す一実施形態の原料装入装置を使用して、パレット内への原料の供給を行った。同装置におけるシュートの構成は以下の通りである。1シュートの形状曲線:y=-{√0.4560.12x}/0.0611.26で、x≧0の部分を用いた。ただしx,yはcm値2ロッドの直径:11.5mm3ロッド数:22本4ロッド間隔:図9に示す。この図において、横軸はロッドの番号、縦軸は隣接するロッドワイヤ間の間隔を示す。ロッドには、上端側から下端側に向けて順番に1,2,3...21と番号を附している。ロッドの間隔は、上端側のほうが下端側よりも小さく設定され、上端側1/3の範囲をすぎた辺りから徐々に広くなるように設定されている。5[水平方向の長さの上端側1/3に対応する範囲における、隣接するロッド間を結ぶ勾配の変化率の平均値]/[水平方向の長さの下端側2/3に対応する範囲L2における、隣接するロッド間を結ぶ勾配の変化率の平均値]=Rとすると、R=6.5シュートの形状曲線を図10に示す。図10中、横軸はシュート上端からの水平方向距離cmを示し、横軸はシュート上端からの垂直方向距離cmを示す。この図からシュートは放物線に形成されていることがわかる。次に比較例のシュートの構成について説明する。まず、比較例1について説明する。1シュートの形状曲線:y=0.012x2-1.483xで、x≧0の部分の曲線を用いた。ただしx,yはcm値2ロッドの直径およびロッド数は実施例と同じ3R=1.0比較例1のシュートの形状曲線を図11に示す。図11中、横軸はシュート上端からの水平方向距離cmを示し、横軸はシュート上端からの垂直方向距離cmを示す。この図からシュートは放物線に形成されていることがわかる。比較例を実施例と比較すると、比較例では、シュートの上端側1/3の範囲における勾配の変化率が、シュートの下端側2/3における勾配の変化率に比べ、小さくなっているのがわかる。次に比較例2について説明する。1シュートの形状曲線:y=50000/x123-28.94で、x≧0の部分の曲線を用いた。ただしx,yはcm値2ロッドの直径およびロッド数は実施例と同じ3R=88比較例2のシュートの形状曲線を図12に示す。図12中、横軸はシュート上端からの水平方向距離cmを示し、横軸はシュート上端からの垂直方向距離cmを示す。この図からシュートは3次曲線に形成されていることがわかる。比較例を実施例と比較すると、比較例では、シュートの上端側1/3の範囲における勾配の変化率が、シュートの下端側2/3における勾配の変化率に比べ、極めて大きくなっていることがわかる。図13、図14は、上述した実施例および比較例の装置を使用し、パレット内に原料を供給したときの、層方向の高さと、層中の平均粒径、C、CaOの割合との関係を示すグラフである。まず、平均粒径について説明する。実施例の平均粒径は、層上部から層下部に向けて次第に大きくなる。層上部の粒径と層下部に粒径の差は、4.5mm-2.5mm=2mm程度である。これに対し、比較例1の粒径の差は、4.2mm-2.75mm=1.45mmである。また、比較例2の粒径の差は、4.1mm-2.8mm=1.3mmである。したがって、実施例において、分級効果の大きい、すなわち、粒度偏析の大きい原料層が得られるのがわかる。また、実施例は、層上部から層下部に向けて略一定の比率で、平均粒径が大きくなっているのに対し、比較例1および比較例2は、平均粒径の増加比率が層上部と層下部とで変化してしまう。次に、Cの割合について説明する。実施例のCの割合は、層下部から層上部に向けて次第に大きくなる。層下部の割合と層上部の割合との差は3.75wt.-3.1wt.=0.65wt.程度になる。これに対し、比較例1の割合の差は、3.7wt.-3.25wt.=0.45wt.。また、比較例2の割合の差は、3.7wt.-3.35wt.=0.35wt.である。したがって、実施例では、C偏析の大きい原料層が得られるのがわかる。また、実施例では、層下部から層上部に向けて略一定の比率でC割合が大きくなっているのに対し、比較例1および比較例2では、C割合の変化率が層上部と層下部とで変化してしまう。最後に、CaOの割合について説明する。図13は、上述した実施例および比較例の装置を使用し、パレット内に原料を供給したときの、層方向の高さと、層中のCaOの割合との関係を示すグラフである。実施例のCaOの割合は、層下部から層上部に向けて大きくなる。層下部の割合と層上部の割合との差は10.1wt.-7.9wt.=2.2wt.程度になる。これに対し、比較例1の割合の差は、9.6wt.-8.2wt.=1.4wt.。また、比較例2の割合の差は、9.6wt.-8.5wt.=1.1wt.である。したがって、実施例では、CaO偏析の大きい原料層が得られるのがわかる。また、実施例では、層下部から層上部に向けて略一定の比率でCaO割合が大きくなっているのに対し、比較例1および比較例2では、CaO割合の変化率が層上部と層下部とで変化してしまう。"