疎水性および疎油性の少なくとも一方を示す耐久性表面部分を有する透明基板において、該耐久性表面部分が、無機ナノ粒子を含み、前記透明基板上に堆積された第1の層、および前記第1の層の上に堆積されたフルオロシラン被覆、を含み、前記耐久性表面部分が、拭い前に測定された該耐久性表面部分の初期接触角から約20未満しか変動しない、100回の拭い後の油接触角および水接触角の一方を有する、透明基板。前記第1の層と前記フルオロシラン被覆との間に配置された、無機酸化物およびシルセスキオキサンの少なくとも一方を含む固定化層をさらに含む、請求項1記載の透明基板。前記固定化層が、前記第1の層の表面的特徴に実質的に従う表面的特徴を有する、請求項2記載の透明基板。前記固定化層が、少なくとも1種類の無機酸化物を含み、前記第1の層中の無機ナノ粒子の平均凝集塊サイズまたは平均粒径の約20以内である厚さを有する、請求項2記載の透明基板。指の接触1回毎に前記耐久性表面部分に移行される液滴により覆われる面積が、指が接触した前記透明基板の前記耐久性表面部分の総面積の約20未満である、請求項1記載の透明基板。前記透明基板が、前記耐久性表面部分の100回の拭い後に、約70超の透過率を有する、および/または前記透明基板が、前記耐久性表面部分の100回の拭い後に、約80未満のヘイズを有する、および/または前記耐久性表面部分が、該耐久性表面部分の100回の拭い後に、約60超の光沢を有する、請求項1記載の透明基板。疎水性および疎油性の少なくとも一方を示す耐久性表面部分を有する透明基板を製造する方法において、透明基板の表面上に、複数の無機ナノ粒子を含む第1の層を形成する工程;前記第1の層上に、シルセスキオキサンおよび無機酸化物の少なくとも一方を含む固定化層を必要に応じて形成する工程;および前記第1の層および前記固定化層の一方の上に、フルオロシランを含む外層を形成して、耐久性表面部分を形成する工程であって、該耐久性表面部分は、拭い前に測定された前記耐久性表面部分の初期接触角から約20未満しか変動しない、100回の拭い後の油接触角および水接触角の一方を有するものである工程、を有してなる方法。前記第1の層を形成する工程が、回転塗り、浸漬被覆、または吹き付け塗りの1つによって、前記透明基板を前記複数のナノ粒子を含む分散体で被覆する工程を含む、請求項7記載の方法。前記分散体がシルセスキオキサンをさらに含む、請求項8記載の方法。前記第1の層上に前記固定化層を形成する工程が、該固定化層を焼き鈍しする工程を含む、請求項7記載の方法。耐久性の疎水性および/または疎油性表面を有する透明基板が提供される。この耐久性の疎水性および/または疎油性表面は、透明基板上に配置された、無機ナノ粒子を含む第1の層、フルオロシランを含む外層、および無機酸化物およびシルセスキオキサンの少なくとも一方を含む随意的な固定化層を含む。この耐久性表面は、例えば、布地やヒトの指での拭いなどの異物との繰返しの接触後に、ヘイズなどの光学的性質、および疎水性および/または疎油性を維持することができる。したがって、本開示の1つの態様は、疎水性および疎油性の少なくとも一方を示す耐久性表面を有する透明基板を提供することにある。この耐久性表面は、透明基板上に堆積された第1の層であって、平均粒径を有する無機ナノ粒子を含み、第1の層の表面的特徴を有する第1の層;および第1の層の上に堆積されたフルオロシラン被覆を含み、この耐久性表面は、拭い前に測定された初期接触角から約20未満しか変動しない、100回の拭い後の油接触角および水接触角の一方を有する。本開示の第2の態様は、疎水性および疎油性の少なくとも一方を示す耐久性表面を有する透明基板を提供することにある。この耐久性表面は、基板上に配置された、平均粒径を有する無機ナノ粒子を含む第1の層;第1の層の上に堆積された固定化層であって、少なくとも1種類の無機酸化物を含み、第1の層中の無機ナノ粒子の平均粒径の約20以内の厚さを有する固定化層;および固定化層上に堆積されたフルオロシラン被覆を含み、この耐久性表面は、拭い前に測定された初期接触角から約20未満しか変動しない、100回の拭い後の油接触角および水接触角の一方を有する。開示の第3の態様は、疎水性および疎油性の少なくとも一方を示す耐久性表面を有する透明基板を提供することにある。この耐久性表面は、複数の無機材料およびシルセスキオキサンを含む、基板上に堆積された少なくとも1つの層;および少なくとも1つの層の上に堆積されたフルオロシラン被覆を含み、この耐久性表面は、拭い前に測定された初期接触角から約20未満しか変動しない、100回の拭い後の油接触角および水接触角の一方を有する。本開示の第4の態様は、疎水性および疎油性の少なくとも一方を示す耐久性表面を有する透明基板を製造する方法を提供する。この方法は、透明基板を提供する工程;この基板の表面上に、複数の無機ナノ粒子を含みかつ表面的特徴を有する第1の層を形成する工程;この第1の層上に、シルセスキオキサンおよび無機酸化物の少なくとも一方を含む固定化層を必要に応じて形成する工程;および第1の層および固定化層の一方の上に、フルオロシランを含む外層を形成して、耐久性表面を形成する工程を有してなる。耐久性表面は、拭い前に測定された初期接触角から約20未満しか変動しない、100回の拭い後の油接触角および水接触角の一方を有する。これらと他の態様、利点、および特徴は、以下の詳細な説明、添付図面、および付随する特許請求の範囲から明白になるであろう。以下の説明において、図に示されたいくつかの図面に亘り、類似の参照文字が、類似の部品または対応する部品を指す。別記しない限り、上、下、外方、内方などの用語は、便宜上の単語であり、制限用語と考えるべきではないことも理解されよう。その上、ある群が、要素およびその組合せの群の少なくとも1つを含むと記載されている場合はいつでも、その群は、個別に、または互いとの組合せでのいずれかで、列挙されたそれらの要素のいくつを含む、から実質的になる、またはからなるであろうと理解される。同様に、ある群が、要素およびその組合せの群の少なくとも1つからなると記載されている場合はいつでも、その群は、個別に、または互いとの組合せでのいずれかで、列挙されたそれらの要素のいくつからなるであろうと理解される。別記しない限り、値の範囲が、列挙されている場合、その範囲の上限と下限の両方を含む。ここに用いたように、単数形は、別記しない限り、少なくとも1つまたは1つ以上を意味する。概して図面を特に図1を参照すると、図解は、特定の実施の形態を説明する目的のためであり、本開示または付随の特許請求の範囲をそれに限定することを意図したものではないことが理解されよう。図面は、必ずしも一定の縮尺で描かれておらず、図面の特定の特徴および特定の視野は、明瞭さと簡潔さのために、縮尺と図式で誇張されて示されているかもしれない。ここに用いたように、接触角およびCAという用語は、液滴が基板と接触する点での接線の角度を称する。ここに用いた基板という用語は、以下に限られないが、窓、カバープレート、スクリーン、パネル、およびディスプレイスクリーンの外部、窓、または携帯型電子装置の構造を形成する基板を含むガラス物品を含む。基板とその基板の湿潤特性を記述するために使用される場合、疎水性のおよび疎水性という用語は、基板と水滴との間の接触角が90°より大きい状態を称し、超疎水性のおよび超疎水性という用語は、基板と水滴との間の接触角が150°より大きい状態を称する。同様に、疎油性のおよび疎油性という用語は、基板と油滴との間の接触角が90°より大きい状態を称し、超疎水性のおよび超疎油性という用語は、基板と油滴との間の接触角が150°より大きい状態を称する。極微小工作された構造を有する表面は、その表面と、例えば、布地やヒトの指での拭いなどの異物との繰返しの接触によりナノ粒子が除去されるために、耐久性が欠如することが発見された。したがって、疎水性、疎油性、またはその両方である耐久性表面を有する透明基板が提供される。耐久性表面は、無機ナノ粒子を含む第1の層、およびこの第1の層上のフルオロシラン外側被覆を含む。基板の断面が図1に示されている。疎水性および/または疎油性基板100は、基板110の表面112上に配置された第1の層120およびフルオロシランを含む外層または被覆140を含む耐久性表面115を有する。耐久性表面115は、基板110の表面112と反対の外面115を有し、この耐久性表面115の外面150は、第1の層120の外面122の表面的特徴/プロファイルに実質的に従う表面的特徴および/またはプロファイルを有する。ここに用いたように、従うおよび実質的に従うという用語は、外面150の表面的特徴および/またはプロファイル特徴が、大体はまたは大部分はすなわち、約50超、第1の層120の外面122と実質的に同じRMS粗さ、自己相関、周期性、およびフラクタル寸法を有する外面150でも分かるように、第1の層120の外面122の表面的特徴/プロファイル形状および特徴と一致する、追従する、または対応することを意味する。いくつかの実施の形態において、外面150は、第1の層120の外面122のものの約30以内にある、実質的に同じRMS粗さ、自己相関、周期性、および/またはフラクタル寸法を有する。無機ナノ粒子を含む第1の層120は、基板の表面の疎水性および/または疎油性を向上させる表面粗さおよび表面的特徴を基板に提供する外面122を有する。表面粗さおよび/または表面的特徴例えば、凸部、凹部、溝、細孔、窪み、空隙などの存在は、所定の流体または流体の液滴と平らな基板との間の接触を変えることができ、しばしば、ハスの葉効果またはハス効果と称される。粗くされた固体表面上の液体の湿潤挙動は、ウェルゼル低接触角モデルまたはカシーバクスター高接触角モデルいずれかにより記述することができる。ウェルゼルモデルにおいて、粗くされた固体表面上の流体液滴は、粗くされた固体表面上の窪み、孔、溝、細孔、空隙などの自由空間を貫通し、液滴が粗面上でピン留めされる。ウェルゼルモデルは、滑らかな表面に対する粗くされた固体表面の界面の面積の増加を考慮し、滑らかな表面が疎水性または疎油性である場合、そのような表面を粗くすることによって、疎水性および/または疎油性がさらに増加すると予測する。反対に、滑らかな表面が親水性または親油性である場合、ウェルゼルモデルは、そのような表面を粗くすると、親水性および/または親油性の挙動がさらに増加すると予測する。ウェルゼルモデルとは対照的に、カシーバクスターモデルは、表面を粗くすると、滑らかな固体表面が親水性または疎水性であるか否かにかかわらず、流体液滴の接触角θYが常に増加すると予測する。カシーバクスターモデルは、粗くされた固体表面の自由空間にガスポケットが形成され、それが流体液滴の下に捕捉され、それゆえ、接触角θYの減少と、流体液滴のその表面上または内のピン留めを防ぐ場合を記述する。ヒトの指により印加される圧力などの圧力が流体液滴に印加されると、その流体液滴は、粗面内の自由空間に浸透し、ピン留めされ始める、すなわち、流体液滴がカシーバクスター状態からウェンゼル状態に移行し始める。疎水性および/または疎油性である、もしくは指紋耐性である基板は、ハスの葉効果を提供し、それゆえ、流体液滴をカシーバクスター状態;すなわち、粗くされた固体表面上の流体液滴の下にガスポケットが捕捉され、流体液滴のピン留めが避けられる状態;に維持するはずである。その上、そのような表面は、ある程度は、流体液滴に圧力が印加された場合、接触角θYの減少およびウェルゼル状態への移行を防ぐまたは遅らせるはずである。第1の層120の無機ナノ粒子は、いくつかの実施の形態において、以下に限られないが、セリアCeO2、酸化亜鉛ZnO、アルミナAl2O3、シリカSiO2スート、コロイドシリカ球体または球状粒子などの無機酸化物を含む。あるいは、無機ナノ粒子は無機硫化物およびセレン化物を含んでもよい。第1の層120は、耐久性表面115の疎水性および/または疎油性を向上させる表面的特徴および/または粗さを有する表面122を有する。第1の層120は、基板110の表面112にナノ粒子を含む分散液またはスラリーを、この基板110に分散液またはスラリーを回転塗布、吹き付け塗り、または浸漬被覆することの少なくとも1つによって施すことにより形成できる。所望の厚さの第1の層120を得るために、そのような被覆プロセスを多数回繰り返してもよい。図2aおよび2bは、それぞれ、シリカSiO2スートおよび球状シリカ粒子の第1の層120を有するアルカリアルミノケイ酸塩ガラス基板110の断面の走査型電子顕微鏡SEM画像である。図2aに示されたガラス基板は、水中の5質量のシリカスートの分散液中で浸漬被覆した。平均のSiO2スート凝集体サイズは、150nmから250nmまでばらつき、不均一な厚さを有する空隙率の高い浸漬被覆された第1の層120を生成した。図2bに示されたガラス基板は、イソプロピルアルコール中の5質量の球状シリカ粒子のコロイド分散液中で浸漬被覆した。コロイド粒子は、70nmから100nmに及ぶ平均サイズを有し、均一な厚さの単層または複層の第1の層120を形成した。図2a~bの第1の層120の断面図は、側面で見て第1の層120の粗い不規則の外面122を示している。1つの実施の形態において、第1の層120は、ケージ状構造を有する樹脂結合剤をさらに含んで差し支えない。そのような樹脂の非限定的例としては、シルセスキオキサンSSQなどが挙げられる。ここに用いたように、シルセスキオキサンという用語は、実験化学式RSiO15を有する化合物を称し、式中、Rは、水素、もしくはアルキル基、アルケン基、アリール基またはアリーレン基のいずれかである。そのような場合、樹脂結合剤は、無機ナノ粒子を含む分散液またはスラリー中に混ぜられ、次いで、これが、上述した基板110に施される。次いで、第1の層/被覆120は熱処理されて、無機ナノ粒子の周りに樹脂を架橋させる。1つの実施の形態において、第1の層/被覆120は、約300°Cの温度で、いくつかの実施の形態において、約250°Cから約350°Cの範囲の温度で熱処理され、ここで、樹脂ケージ構造は網目構造に転化される。別の実施の形態において、第1の層/被覆120は、少なくとも約350°Cの温度で加熱または焼き鈍しされ、ここで、SSQ樹脂構造は、SiO2ナノ粒子に影響を与えないSi-Hの熱解離によりシリカに転化される。コロイドシリカ球状粒子およびSSQを含む第1の層120を有する、割られたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス基板の断面図および平面図のSEM画像が、それぞれ、図2cおよび2dに示されている。図2cおよび2dに示された第1の層120を得るために、5質量のコロイドシリカ粒子および17質量のSSQを含む混合物を基板110上に回転塗布し、1時間に亘り300°Cで焼き鈍しした。第1の層120のある程度の厚さのばらつきがサンプルに亘り観察されるが、浸漬被覆された混合物は、シリカ粒子間、およびSSQ樹脂を通じてのシリカ粒子とガラス表面との間で、良好な付着を示した。図2cにおける第1の層120の断面図は、側面から見た、第1の層120の粗く不規則な外面122を示している。第1の層120の平面図図2dは、表面122の不規則で粗い表面的特徴を示している。いくつかの実施の形態において、耐久性表面115は、第1の層120とフルオロシラン外層140または被覆との間に配置された固定化層130または被覆をさらに含む。固定化層130は、第1の層120の表面的特徴を固定化し-すなわち、固定し保存し-、第1の層120の外面122の表面的特徴の耐久性を提供する。固定化層130は、以下に限られないが、ジルコニアZrO2、酸化スズSnO2、SiO、およびSiO2などの少なくとも1種類の無機酸化物を含む。1つの実施の形態において、固定化層130は、例えば、いくつかの実施の形態において、その後、焼き鈍しされてもエッチングされてもよいフルオロリン酸スズ系ガラス材料などの、スパッタリングされた無機酸化物層を含む。第1の層120および固定化層130を有するアルカリアルミノケイ酸塩ガラス基板の断面図のSEM画像100倍の倍率が図3に示されている。図3に示された基板110は、160nmの平均凝集塊径を有する凝集したCeO2ナノ粒子の5質量水性分散液で浸漬被覆され、空気乾燥されて、第1の層120を形成した。フルオロリン酸スズ系ガラス材料を含む固定化層130は、スパッタリングにより形成され、177nmの厚さを有した。固定化層130は、第1の層120の表面122に実質的に従うまたは対応する表面的特徴および/またはプロファイルを有する外面132を有する。ここに用いたように、実質的に従うは、固定化層130の外面132の表面的特徴および/またはプロファイル特徴が、大体はまたは大部分はすなわち、約50超、第1の層120の外面122と実質的に同じRMS粗さ、自己相関、周期性、およびフラクタル寸法を有する外面132でも分かるように、第1の層120の外面122の表面的特徴/プロファイル特徴と従う、適合する、および/または対応することを意味する。いくつかの実施の形態において、固定化層130の外面132は、第1の層120の外面122のものの約30以内である、RMS粗さ、自己相関、周期性、および/またはフラクタル寸法を実質的に有する。図3に示されるように、中間層130の外面132のプロファイルは、第1の層120の厚さの増減にしがって、第1の層120の外面122のものに実質的に従う。いくつかの実施の形態において、スパッタリングされた無機酸化物固定化層130は、第1の層120中の複数のナノ粒子の平均凝集塊径または粒径の約20以内である厚さを有する。ここで、固定化層130は、付着を促進するために十分に厚いが、第1の層120の外面122の表面的特徴の湿潤挙動に与える影響を最小にするように十分に薄いように調整されるすなわち、選択されたまたは所定の厚さを達成するように、堆積される、またはエッチング、研削、研磨になどによって、他の様式で調節される。吸着された原子または分子が合体して固定化層130を形成する場合、または固定化層130が約50nmの厚さを有する場合、第1の層120を完全に封止することができる。しかしながら、堆積された固定化層130が、第1の層120の湿潤特性、表面的特徴、および/またはプロファイルを覆い隠さず、それゆえ、耐久性表面115の全体の湿潤特性を特色付けるように、固定化層130の厚さを十分に調節すべきである。図4b~dは、第1の層120中のCeO2ナノ粒子の平均凝集塊サイズまたは平均粒径に近いまたはそれに類似の厚さを有する固定化層130を有するアルミノケイ酸塩ガラス基板のSEM画像である。図4aは、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス基板の表面上に直接スパッタリングされたフルオロリン酸スズ系ガラス材料の平面図のSEM画像である。第1の層120により提供される表面的特徴がない場合、固定化層130の表面132の表面的特徴は比較的滑らかである。図4b~4dに示されたサンプルにおいて、固定化層130は、堆積後に、焼き鈍しされたか図4b、未処理であるかすなわち、スパッタリングされた表面は、後に、焼き鈍しもエッチングもされていない図4c、またはエッチングされたか図4dのいずれかである、スパッタリングされたフルオロリン酸スズ系ガラス材料からなる。フルオロリン酸スズ系ガラス材料が直接上にスパッタリングされた図4aガラス基板の表面と比べた場合、固定化層130の表面132の粗い表面的特徴が、図4b~dにおいて明白である。表面132の粗い表面的特徴は、下にある第1の層120の浸漬被覆された外面122の表面的特徴に従う。固定化層130の焼き鈍しされた表面図4bは、未処理の表面図4cほど粗くないが、未処理の第2の表面図4aの耐久性と類似の耐久性を示す。固定化層130の表面132のエッチングされた表面図4dは、あばたのようになっており、したがって、構造的に弱化されている。他の実施の形態において、固定化層130は、第1の層120の塗布、乾燥および/または硬化後に、基板110をSSQ溶液で回転塗り、吹き付け塗り、または浸漬被覆することによって施せるシルセスキオキサン被覆を含む。基板110に、第1の層120を充填し完全に覆う固定化層130を形成するのに十分な量のSSQを提供するために、多数回の被覆工程を行うことができる。固定化層130の塗布後、次いで、表面を約300°Cから約550°Cまでの範囲の温度で熱処理する。1つの実施の形態において、その温度は、SSQ樹脂を架橋させるのに十分であり、約300°Cから約350°Cまでの範囲にある。別の実施の形態において、表面は、シルセスキオキサンをシリカに転化させるのに十分な温度一般に、約550°Cで加熱される。ここに記載した固定化層130および/または第1の層120へのシルセスキオキサンの添加により、第1の層120の表面的特徴により与えられる疎水性および/または疎油性を、ここに記載された100回の拭いのクロックメーター試験におけるような、布地により拭われたときに維持することができる。フルオロシラン外側被覆140は、以下に限られないが、テフロン登録商標またはダウコーニング2604、2624、2634、DKOptoolDSX、シンエツOPTRON、ヘプタデカフルオロシランGelest、FluoroSylCytonix等の他の市販のフルオロポリマーまたはフルオロシランなどの低表面エネルギーポリマーまたはオリゴマーを含む。フルオロシラン被覆は、回転塗り、吹き付け塗り、または浸漬被覆の内の1つにより施される。あるいは、フルオロシラン被覆は、スパッタリングまたは他の物理的または化学的気相成長法によって堆積させても差し支えない。シルセスキオキサン樹脂が第1の層120に含まれる実施の形態、および第1の層120の表面的特徴が、ここに記載されたようにSSQ含有固定化層130と組み合わされる実施の形態は、疎水性および/または疎油性基板100の耐久性表面115に、例えば、ヒトの指などの布地や他の器具で擦られた場合、または酸や塩基による攻撃などの化学的研磨に曝露された場合に向上した耐久性を提供する。被覆耐久性クロック耐性とも称されるは、疎水性および/または疎油性基板100の、布地による繰り返しの擦りに耐える能力を称する。クロック耐性試験は、衣服または布地とタッチスクリーン装置との間の物理的接触を模倣すること、およびそのような処理後の基板上に堆積された被覆の耐久性を決定することが意図される。クロックメーターは、そのような擦りに曝された表面のクロック耐性を決定するために使用される標準的な器具である。クロックメーターは、ガラススライドに、加重アームの端部に取り付けられた擦り先端すなわち指との直接の接触を施す。クロックメーターに設けられた標準的な指は、直径15mmの中実のアクリル棒材である。標準的なクロッキング用の清浄な布きれがこのアクリル製の指に取り付けられる。次いで、指は900gの圧力でサンプル上に置かれ、耐久性/クロック耐性の変化を観察するために、アームがサンプルに亘り繰り返し前後に機械的に動かされる。ここに記載された試験に使用されるクロックメーターは、毎分60回の一定のストローク速度を提供する電動式モデルである。クロックメーター試験は、その内容をここに全て引用する、StandardTestMethodforDeterminationofAbrasionandSudgeResistanceofImagesProducedfromBusinessCopyProductsと題するASTM試験法F1319-94に記載されている。ここに記載された被覆、表面、および基板のクロック耐性または耐久性は、ASTM試験法F1319-94により定義された規定の数の拭い後の光学的測定例えば、ヘイズまたは透過率または化学的測定例えば、水接触角および/または油接触角により決定される。1回の拭いは、擦り先端すなわち指の2ストロークまたは1周期と定義される。1つの実施の形態において、100回の拭い後、ここに記載された疎水性および/または疎油性基板100の耐久性表面115上の油の接触角は、拭い前に測定された表面上の油の初期接触角の値から約20未満しか変動しない。いくつかの実施の形態において、1000回の拭い後、耐久性表面115上の油の接触角は、初期接触角の値から約20未満しか変動しない。同様に、100回の拭い後、ここに記載された疎水性および/または疎油性基板100上の水の接触角は、拭い前に測定された、表面上の水の初期接触角の値から約20未満しか変動しない。他の実施の形態において、1000回の拭い後、基板100の耐久性表面115上の水の接触角は、初期接触角の値から約20未満しか変動せず、他の実施の形態において、5000回の拭い後、初期接触角の値から約20未満しか変動しない。ここに記載された耐久性表面115および透明な疎水性および/または疎油性ガラス基板100も、そのような繰り返しの拭い後に低レベルのヘイズを維持する。1つの実施の形態において、ここに記載された耐久性表面115および透明な疎水性および/または疎油性ガラス基板100。ここに記載された疎水性および/または疎油性基板100の耐久性表面115は、約80未満の、他の実施の形態において、50未満の、さらに他の実施の形態において、約10未満の、ASTM試験法F1319-94により定義されたヘイズを有する。疎水性および/または疎油性ガラス基板100および特にここに記載された耐久性表面115は、指紋耐性でもある。ここに用いたように、抗指紋、抗指紋付着および指紋耐性という用語は、ヒトの指紋に見つけられる流体および他の物質の移行に対する表面の耐性;そのような流体および物質に対する表面の非湿潤性;表面上のヒトの指紋の最小化、隠蔽、またはぼかし;およびそのような要因の組合せを称する。指紋は、皮脂性油例えば、分泌された皮膚の油、脂肪、および蝋、死んだ脂肪産生細胞の残骸、および水性成分の両方を含む。そのような物質の組合せおよび/または混合物も、ここでは、指紋物質と称される。したがって、抗脂肪付着表面は、使用者の指が触れたときに、水と油の移行の両方に対して耐性でなければならない。したがって、そのような表面の湿潤特徴は、表面が疎水性および疎油性の両方であるようなものである。1つの実施の形態において、ヒトの指から、ここに記載された疎水性および/または疎油性基板100の指紋耐性である耐久性表面115に移行する指紋物質の量は、ヒトの指の接触1回当たり約0.02mg未満である。別の実施の形態において、そのような物質は、接触1回当たり0.01mg未満しか移行されない。さらに別の実施の形態において、そのような物質は、接触1回当たり0.005mg未満しか移行されない。指の接触1回当たり移行される液滴により被覆される耐久性表面115の面積は、ヒトの指が接触した疎水性および/または疎油性基板100の耐久性表面115の総面積の約20未満、1つの実施の形態において、約10未満である。ここに用いたように、ヘイズおよび透過ヘイズという用語は、その内容をここに全て引用する、ASTM法D1003に従う±4.0°の角度の円錐の外側に散乱する透過光の百分率を称する。光学的に滑らかな表面について、透過ヘイズは一般にゼロに近い。ここに記載された疎水性および/または疎油性透明基板100の耐久性表面115は、耐久性表面115の100回の拭い後に約80未満のヘイズを有する。第2の実施の形態において、疎水性および/または疎油性透明基板100の耐久性表面115は、耐久性表面115の100回の拭い後に約50未満のヘイズを有し、第3の実施の形態において、その表面の透過ヘイズは、耐久性表面115の100回の拭い後に約10未満である。いくつかの実施の形態において、透明基板の透過率は、耐久性表面115の100回の拭い後に約70超である。ここに用いたように、光沢という用語は、その内容をここに全て引用する、ASTM法D523に従う基準例えば、認定された黒色ガラス基準に対して校正された正反射の測定を称する。ここに記載された疎水性および/または疎油性基板100の耐久性表面115は、約60超の光沢すなわち、60°で基準に対してサンプルから正反射した光の量を有する。いくつかの実施の形態において、透明な疎水性および/または疎油性基板100はガラスからなる。そのガラスは、例えば、ソーダ石灰ガラスもしくは、以下に限られないが、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスまたはアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスなどの、ダウンドローできる任意のガラスであってよい。1つの実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、アルミナ、少なくとも1種類のアルカリ金属、およびいくつかの実施の形態において、50モル超のSiO2、他の実施の形態において、少なくとも58モルの、さらに他の実施の形態において、少なくとも60モルのSiO2を含み、ここで、式中、改質剤はアルカリ金属酸化物である。このカラスは、特別な実施の形態において、約58モルから約72モルのSiO2、約9モルから約17モルのAl2O3、約2モルから約12モルのB2O3、約8モルから約16モルのNa2O、および0モルから約4モルのK2Oを含み、から実質的になり、またはからなり、ここで、式中、改質剤はアルカリ金属酸化物である。別の実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、約61モルから約75モルのSiO2、約7モルから約15モルのAl2O3、0モルから約12モルのB2O3、約9モルから約21モルのNa2O、0モルから約4モルのK2O、0モルから約7モルのMgO、および0モルから約3モルのCaOを含む、から実質的になる、またはからなる。さらに別の実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、約60モルから約70モルのSiO2、約6モルから約14モルのAl2O3、0モルから約15モルのB2O3、0モルから約15モルのLi2O、0モルから約20モルのNa2O、0モルから約10モルのK2O、0モルから約8モルのMgO、0モルから約10モルのCaO、0モルから約5モルのZrO2、0モルから約1モルのSnO2、0モルから約1モルのCeO2、50ppm未満のAs2O3、および50ppm未満のSb2O3を含み、から実質的になり、またはからなり、12モル≦Li2ONa2OK2O≦20モル、および0モル≦MgOCaO≦10モル。さらに別の実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、約64モルから約68モルのSiO2、約12モルから約16モルのNa2O、約8モルから約12モルのAl2O3、0モルから約3モルのB2O3、約2モルから約5モルのK2O、約4モルから約6モルのMgO、および0モルから約5モルのCaOを含み、から実質的になり、またはからなり、ここで、66モル≦SiO2B2O3CaO≦69モル、Na2OK2OB2O3MgOCaOSrO>10モル、5モル≦MgOCaOSrO≦8モル、Na2OB2O3-Al2O3≦2モル、2モル≦Na2O-Al2O3≦6モル、および4モル≦Na2OK2O-Al2O3≦10モル。いくつかの実施の形態において、前記ガラスはリチウムを含まないのに対し、他の実施の形態において、そのようなガラスは、ヒ素、アンチモン、およびバリウムの内の少なくとも1つを含まない。いくつかの実施の形態において、基板は、以下に限られないが、フュージョンドロー、スロットドロー、リドローなどの方法を使用して、ダウンドローされる。透明な疎水性および/または疎油性基板100は、いくつかの実施の形態において、ここに記載された耐久性表面115を形成する前に、化学的または熱的に強化されている。強化された基板は、ある表面から、その表面下にある層の深さまで延在する強化表面層を少なくとも1つ有する。その強化表面層は圧縮圧力下にあるのに対し、ガラス基板の中央領域は、ガラス内の力を釣り合わせるように、張力下、または引張応力下にある。熱的強化ここでは、熱的焼き戻しとも称されるにおいて、基板は、ガラスの歪み点より高いが、ガラスの軟化点より低い温度に加熱され、歪み点より低い温度まで急冷されて、第1の層120、随意的な固定化層130、および外側のフルオロシラン被覆140の形成前に、ガラス基板の表面に強化層が形成される。別の実施の形態において、ガラス基板は、イオン交換として知られているプロセスによって化学的に強化できる。このプロセスにおいて、ガラスの表面層中のイオンは、同じ原子価または酸化状態を有するより大きいイオンにより置き換えられる、すなわち交換される。透明な疎水性および/または疎油性基板100がアルカリアルミノケイ酸塩ガラスまたはアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスを含む、それらの実施の形態において、ガラスの表面層中のイオンおよびより大きいイオンは、Liガラス中に存在する場合、Na、K、RbおよびCsなどの一価のアルカリ金属陽イオンである。あるいは、表面層中の一価の陽イオンは、Ag、Tl、Cuなどの、アルカリ金属陽イオン以外の一価の陽イオンにより置き換えられてもよい。イオン交換プロセスは、一般に、ガラス物品を、例えば、ガラス中のより小さいイオンと交換すべきより大きいイオンを含有する溶融塩浴などのイオン交換浴中に浸漬する工程を含む。以下に限られないが、浴の組成と温度、浸漬時間、塩浴または複数の浴中のガラスの浸漬回数、多数の塩浴の使用、アニールや洗浄などの追加の工程を含むイオン交換プロセスに関するパラメータは、一般に、ガラスの組成および強化操作により達成すべきガラスの所望の層の深さと圧縮応力により決定される。一例として、アルカリ金属含有ガラスのイオン交換は、以下に限られないが、より大きいアルカリ金属イオンの硝酸塩、硫酸塩、および塩化物などの塩を含有する少なくとも1つの溶融塩浴中の浸漬により行われるであろう。溶融塩浴の温度は、一般に、約380°Cから約450°Cの範囲にあり、一方で、浸漬時間は約15分間から約16時間までに及ぶ。しかしながら、ここに記載されたものと異なる温度および浸漬時間を使用してもよい。そのようなイオン交換処理により、一般に、約200MPaから約800MPaに及ぶ圧縮応力および約100MPa未満の中央張力を有する、約10μmから少なくとも50μmに及ぶ層の深さを有する強化されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラスまたはアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスが得られる。ここに記載されたガラス基板は、以下に限られないが、電話、音楽プレーヤ、ビデオプレーヤなどの手持ち式またはポータブル通信およびエンターテイメント装置のような、ディスプレイおよびタッチ用途のための保護カバーガラスまたは窓として、また情報関連端末IT例えば、ポータブルまたはラップトップコンピュータ装置のためのディスプレイスクリーンまたはタッチセンサ装置として、並びに他の用途において、使用されるであろう。以下の実施例は、本開示の様々な特徴および利点を示しており、その開示または付随の特許請求の範囲をそれに制限することを決して意図していない。実施例1以下の実施例は、セリアナノ粒子を含む第1の層、スパッタリングされたガラス固定化層、およびフルオロシラン外層を有する基板の形成を説明する。アルカリアルミノケイ酸塩ガラス基板を、160nmの平均粒径を有するCeO2ナノ粒子の5質量水性分散液で浸漬被覆し、空気乾燥して、基板上に第1の層を形成した。フルオロリン酸スズ系ガラス材料からなる固定化層をスパッタリングによって第1の層上に形成した。次いで、全てのサンプルをダウコーニングDC2634フルオロシランで被覆した。スパッタリングされたガラス膜は3つの異なる範囲の厚さを有した:50~60nm;170~180nm;および270~280nm。第1の厚さ範囲50~60nmは、群集と粒子の成長または島に近い凝集が堆積された膜に生じる条件とほぼ同じである。第2の厚さ範囲170~180nmは、耐久性表面115の表面的特徴を提供する第1の浸漬被覆された層中のCeO2粒子の平均粒径にほぼ等しい。第3の厚さ範囲270~280nmは、CeO2粒子の平均粒径の2倍にほぼ等しい。同じ厚さを有する浸漬被覆されたサンプルとスパッタリングされたサンプルを、未処理のままそのままにしたか、1分間に亘り3MのHCl中でエッチングしたか、または15分間に亘り180°Cで焼き鈍しした。次いで、全てのサンプルの処理浸漬被覆、スパッタリング、およびフルオロシラン被覆された表面について、油と水の接触角を測定した。次いで、サンプルに100回のクロックメーターによる拭いを行い、水の接触角を再度測定した。様々な組のサンプルについて得た接触角の測定値の結果が表1に列挙されている。表1に報告された接触角は、±2~3°の測定誤差で、5つの独立した接触角の測定値の平均値である。100回のクロックメーターによる拭い後の170~180nmの範囲と270~280nmの範囲のスパッタリングされたガラス膜厚を有するサンプルについて水の接触角は高いままであり、浸漬被覆された膜中のCeO2粒子の平均粒径に最も近い厚さのものの接触角は、100回のクロックメーターによる拭い後に高いままである。170~180nm範囲のスパッタリングされた膜厚を有するサンプルは、焼き鈍しされたサンプルと未処理のサンプルサンプル4および5の繰り返しの拭いから生じた4~5の接触角の損失を示した。エッチングされたサンプルは、クロックメーターによる拭い前に明らかに優れた接触角サンプル6、104°の油の接触角を示したが、その表面は、100回の拭い後のH2Oの接触角における32の減少に反映されるように、より容易に損なわれた。島に近い凝集に似たサンプル1~3第1の範囲の薄膜の厚さ50~60nmは、最初に高い接触角を示したが、クロックメーターの拭い後に30の接触角の損失を経験した。最大の膜厚を有するサンプル第3の範囲、270~280nm、サンプル7、8、9は、スパッタリングされたガラス膜のみを有するガラス基板とは区別できない結果を生じ、これらのサンプルにおけるスパッタリングされた膜厚が、下にある浸漬被覆されたCeO2層の表面的特徴を分かりにくくし、それゆえ、セリア層により提供される湿潤特性の利点をなくすのに十分であることを示した。実施例2この実験は、シルセスキオキサンのない様々なシリカナノ粒子/分散体を含む第1の層、およびシリカナノ粒子からなる下層がないシルセスキオキサン層を含む第1の層の接触角および耐久性を実証する。アルカリアルミノケイ酸塩ガラス基板の表面にシリカ粒子を付加するために使用したプロセスが以下に記載されている。3種類の異なるシリカ分散体を調製し、シリカ粒子を含む表面をフルオロシラン被覆で処理した後に水と油の接触角を測定した。シリカ分散体、シリカの粒径、シリカ分散体の浸漬速度、浸漬後の熱処理、水の接触角CA、油のCA、および膜厚または被覆厚を含む実験パラメータが表2に列挙されている。あるプロセスにおいて、シリカスートSiO2、ox-40、DegussaChemicalをアルカリ性溶液中に分散させた。2.5、5、および10質量のシリカスートの分散体を25および100mm/分の速度でガラス基板上に浸漬被覆した。その被覆のSEM画像が図2aに示されている。サンプルについて測定した水の接触角は150°から170°まで様々であり、様々な分散体について、油の接触角は110°から122°まで様々であった。被覆のヘイズ値は6から9までに及び、透過率は93から94に及んだ。別のプロセスにおいて、シリカスートSiO2-catpoly、degussaを、カチオンポリマーを使用して分散させ、ガラス基板上に浸漬被覆した。これらの膜は、それぞれ、140°超および120°超の水と油の接触角を示した。ヘイズレベルは5未満であり、透過率は93から94に及んだ。第3のプロセスにおいて、イソプロピルアルコールIPA中に40~50nm30ST-L、日産化学工業および70~120nm30、ST-ZL、日産化学工業の平均径を有する球状シリカ粒子のコロイド分散体をガラス基板上に浸漬被覆することによって、コロイドシリカ被覆を調製した。表2に示されたデータは、5および30質量の40~50nmおよび70~120nmのコロイドシリカ系それぞれ、ST-LおよびST-ZLについてである。5のST-ZL被覆のSEM画像が図2bに示されている。表2は、Fox-25シルセスキオキサンSSQ溶液およびフルオロシラン被覆を浸漬被覆したガラス基板について測定した、水と油の接触角、および実験パラメータも列挙している。基板を浸漬被覆するのに使用したSSQ溶液は以下であった:Fox-25固体:15~40の水素-シルセスキオキサンH-SSQ、溶媒:40~70のオクタメチルトリシロキサン、15~40のヘキサメチルジシロキサン、および1~5のトルエン;ダウコーニング社により供給;Fox-24固体:15~40の水素-シルセスキオキサンH-SSQ、溶媒:40~70のオクタメチルトリシロキサン、15~40のヘキサメチルジシロキサン、および1~5のトルエン;ダウコーニング社により供給;およびFox-14固体:10~30の水素-シルセスキオキサンH-SSQ、溶媒:60超のメチルイソブチルケトン、および1未満のトルエン;ダウコーニング社により供給。表2に列挙されたサンプル上に堆積された全ての浸漬被覆した被覆は、クロックメーターによる拭いにより除去された。実施例3以下の実施例は、シルセスキオキサンを添加したシリカ粒子またはシリカスートの第1の層の表面的特徴を固定させるための2つのプロセスを説明する。第1のプロセスにおいて、アルカリ性溶液中の5質量のSiO2スートの分散体を25mm/分の速度でアルカリアルミノケイ酸塩ガラス基板上に浸漬被覆した。次いで、被覆した基板を空気乾燥した。SSQの希釈50~70質量溶液すなわち、Fox-24を、トルエンを使用して調製し、浸漬被覆によりSiO2スートが被覆された基板に施した。SSQ溶液による基板の浸漬被覆を繰り返して、スート層中の空隙を充填するのに十分な被覆を提供した。SSQ浸漬被覆を様々な速度で行った。次いで、被覆表面を300°C、350°Cまたは550°Cで熱処理して、SSQ樹脂を架橋させたか300°Cまたは350°Cで、SSQをシリカに転化させた550°Cで。次いで、全てのサンプルにフルオロシランDC2634を被覆した。シリカ分散体、シリカの粒径、シリカ分散体の浸漬速度、SSQ濃度、SSQ溶液の浸漬速度、およびSSQ浸漬後の熱処理温度を含む実験パラメータが表3aに列挙されている。次いで、100回と1000回のクロックメーターによる拭いの前後に、油と水の接触角CAの両方を測定した。100回の拭い後の水と油の両方に関する、接触角の測定値と接触角の損失の結果が表3bに列挙されている。表3から分かるように、いくつかのサンプルサンプルA、C、およびGは、クロックメーターによる拭い試験後に、ほぼ超疎水性および超疎油性のままであった。例えば、サンプルSFX47について、たった12~15の水の接触角の損失しか観察されなかった。クロックメーターによる拭い試験の結果は、高い接触角の維持に関する最良の性能は、SSQ充填層の厚さが、浸漬被覆したシリカスート膜の平均厚に近い場合に得られることを示唆している。反対に、浸漬被覆溶液が70のSSQを含む場合、または浸漬被覆がより速い速度50mm/分で行われた場合に得られた、より厚いSSQ膜が、対照のSSQ被覆基板表2と区別できない接触角を生じた。一般的な実施の形態を説明目的で述べてきたが、先の説明は、本開示または付随の特許請求の範囲に対する制限と考えるべきではない。したがって、本開示または付随の特許請求の範囲から逸脱せずに、様々な改変、適用、および変更が当業者に想起されるであろう。