"透光性基板上に着色画素が形成されてなり、一画素中の着色画素が、透過型用着色層と反射型用着色層とで構成される半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法であって、前記透光性基板上に着色フォトレジスト層を形成する工程と、前記着色フォトレジスト層の上方からレーザー光を所定の露光領域に照射することでこの着色フォトレジスト層を露光する工程と、前記露光工程による未露光部を現像により除去する現像工程と現像が終了した前記着色フォトレジスト層を加熱焼成することでこの着色フォトレジストからなる前記透過型用着色層と前記反射型用着色層とを形成する工程とを備え、前記露光工程において、前記透過型用着色層と前記反射型用着色層とに対応する前記露光領域を細分化し、これら透過型用着色層と反射型用着色層とが前記加熱工程後において所定の膜厚となるように、前記細分化された露光領域の個々についてレーザー光の照射を選択的に行うことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。前記着色フォトレジスト層を構成する着色フォトレジストは、ネガ型感光性レジストまたはポジ型感光性レジストであって、熱フロー性を有するものであることを特徴とする半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法。前記露光工程において、前記透過型用着色層と前記反射型用着色層とに対応する前記露光領域を格子状に細分化することを特徴とする請求項1または2に記載の半透過型用液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法。上述の特許文献1~3に開示された技術のように、透過型用と反射型用着色層とを同一の着色フォトレジストで形成し、さらに、特許文献4、5に開示された技術のように、直描露光方式の利点を生かして透過型用と反射型用着色層を直描露光方式で形成することを考える。ここで、直描露光方式では、露光中はレーザー発振周波数およびスキャン速度は一定であり、任意の所定領域毎に積算露光量を変更することができない。この為、1回の露光処理において、透過型用と反射型用着色層に対応する個々の所定領域を各々の露光量に調整することによって、透過型用及び反射型用着色層をそれぞれ所定の膜厚のパターンを同時に形成することは困難である。一方、直描露光方式においてスキャン速度やレーザー周波数を変更することで対応しようとした場合、露光タクトが非常に長くなる為、生産性に乏しい為、量産展開には不向きである。本発明は、上述の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、直描露光方式を用いて透過型用と反射型用着色層を形成する際の工程簡略化を図ることの可能な半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法を提供することにある。本発明は、透光性基板上に着色画素が形成されてなり、一画素中の着色画素が、透過型用着色層と反射型用着色層とで構成される半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法に適用され、そして、透光性基板上に着色フォトレジスト層を形成する工程と、着色フォトレジスト層の上方からレーザー光を所定の露光領域に照射することでこの着色フォトレジスト層を露光する工程と、前記露光工程における未露光部を現像により除去する現像工程と、現像が終了した着色フォトレジスト層を加熱焼成することでこの着色フォトレジストからなる透過型用着色層と反射型用着色層とを形成する工程とを設け、この露光工程において、透過型用着色層と反射型用着色層とに対応する露光領域を細分化し、これら透過型用着色層と反射型用着色層とが前記加熱工程後において所定の膜厚となるように、細分化された露光領域の個々についてレーザー光の照射を選択的に行うことを特徴とする。この際、着色フォトレジスト層を構成する着色フォトレジストは、ネガ型感光性レジストまたはポジ型感光性レジストであって、熱フロー性を有するものであることが好ましい。また、露光工程において、透過型用着色層と前記反射型用着色層とに対応する露光領域を格子状に細分化することが好ましい。本発明の半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法によれば、1回の露光処理においてそれぞれ所定の膜厚を有する透過型用着色層と反射型用着色層とを同時に形成することが可能となり、工程簡略化に大きく貢献することができる。以下、図面を参照して、本発明の実施形態について詳細に説明する。第1の実施形態図1は、本発明の第1の実施形態である半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法により製造された半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板以下、適宜カラーフィルタ基板と省略することがあるを示す断面図である。図1において、1は透光性基板、2はこの透光性基板1上に形成されたブラックマトリクス、3、4は同様に透光性基板1上に形成され、ブラックマトリクス2により所定領域に区画された着色層である。着色層は、光透過領域に形成された透過型用着色層3と光反射領域に形成された反射型用着色層4とが隣接して形成されることで構成されている。透過型用着色層3では、図略のバックライト装置からの光がこの透過型用着色層3を一度透過するだけであるが、反射型用着色層4では、外光がこの反射型用着色層4を透過し、これも図略の光拡散反射性を有する電極層もしくは反射層にて反射され、再度反射型用着色層4を透過する。従って、透過型用着色層3と反射型用着色層4とが同一の膜厚であると、反射型用着色層4を透過して観察者が視認する画素の明度が低下してしまうため、透過型用着色層3よりも反射型用着色層4の膜厚が薄くなるように形成されている。好ましくは、反射型用着色層4の膜厚は透過型用着色層3のそれの1/2程度とされる。透過型用着色層3のうち、赤色着色層を3R、緑色着色層を3G、青色着色層を3Bと区別し、反射型着色層4のうち、赤色着色層を4R、緑色着色層を4G、青色着色層を4Bと区別して符号を付す。これらによりカラーフィルタ基板が構成されている。透光性基板1としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダガラスなどの無機ガラス、PES、PCなどのプラスチック基板、又はこれらガラス基板やプラスチック基板上に、酸化シリコンや酸化アルミニウム、窒化シリコン、酸窒化シリコンなどの無機薄膜を成膜したものを、使用の目的用途に応じて使い分けて用いることができる。ブラックマトリクス2は、透光性基板1上に黒色の感光性樹脂組成物着色フォトレジストを塗布、乾燥した後に、フォトマスクを用いて所定のパターンに露光し、現像およびポストベークを行うことで形成される。着色層3、4は、複数色の着色層3R、3G、3B、4R、4G、4Bから構成されており、色としては、赤、緑、青RGBの組み合わせあるいはイエロー、マゼンダ、シアンYMCの組み合わせが挙げられる。これに加え、明度を上げるために着色画素の一部を透明な画素とすることができる。着色層3、4の製法としては、スリットコート法やスピンコート法、スピンレス法などの塗布法で着色層3、4を形成し、その後フォトリソグラフィー法によりパターニングするか、インクジェット法や、グラビア印刷法、フレキソ印刷法などの方法が使用できる。しかし、高精細、分光特性の制御性及び再現性等を考慮すれば、透明な樹脂中に顔料、光開始剤、重合性モノマー等と共に適当な溶剤に分散させた感光性着色樹脂組成物着色フォトレジストを透光性基板1上に塗布製膜して特定の色の着色層3R、3G、3B、4R、4G、4Bを形成し、この着色層3R、3G、3B、4R、4G、4Bをパターン露光、現像することで特定色の着色層3R、3G、3B、4R、4G、4Bを形成し、この工程を必要な色数だけ繰り返し行ってカラーフィルタとするフォトリソグラフー法が最も好ましい。ブラックマトリックス2及び着色層3、4形成用の感光性着色樹脂組成物着色フォトレジストは、透明樹脂中に、着色剤となる顔料、光開始剤、重合性モノマー等を適切な溶剤により分散させて製造する。これらを分散させる方法はミルベース、3本ロール、ジェットミル等様々な方法があり特に限定されるものではない。本実施形態に用いることができる感光性着色樹脂組成物の原材料の一例を説明する。<遮光材料>遮光材としては、カーボンブラック、酸化チタン、酸窒化チタンなどの金属酸化物や顔料、その他既知の遮光材料を用いることができる。また、遮光層の色調を調整するために、以下に示す補色の着色顔料を必要に応じて混合してもよい。<着色顔料>赤色着色層もしくは赤色画素を形成するための赤色着色組成物には、例えばC.I.PigmentRed7、9、14、41、48:1、48:2、48:3、48:4、81:1、81:2、81:3、97、122、123、146、149、168、177、178、179、180、184、185、187、192、200、202、208、210、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、246、254、255、264、272、279等の赤色顔料を用いることができる。赤色着色組成物には、黄色顔料、橙色顔料を添加併用することができる。黄色顔料としてはC.I.PigmentYellow1、2、3、4、5、6、10、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、144、146、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等が挙げられる。橙色顔料としてはC.I.PigmentOrange36、43、51、55、59、61、71、73等が挙げられる。緑色着色組成物には、例えばC.I.PigmentGreen7、10、36、37等の緑色顔料を用いることができる。緑色着色組成物には赤色着色組成物と同様の黄色顔料を添加併用することができる。青色着色組成物には、例えばC.I.PigmentBlue15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、80等の青色顔料、好ましくはC.I.PigmentBlue15:6を用いることができる。また、青色着色組成物には、C.I.PigmentViolet1、19、23、27、29、30、32、37、40、42、50等の紫色顔料、好ましくはC.I.PigmentViolet23を添加併用することができる。また、上記着色組成物あるいは有機顔料と組み合わせて、彩度と明度のバランスを取りつつ良好な塗布性、感度、現像性等を確保するために、無機顔料を組み合わせて用いることも可能である。無機顔料としては、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら赤色酸化鉄III、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉等が挙げられる。さらに、調色のため、耐熱性を低下させない範囲で染料を含有させることができる。<透明樹脂>透明樹脂は、可視光領域の400~700nmの波長領域において透過率が好ましくは80以上、より好ましくは95以上の樹脂である。透明樹脂には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、および感光性樹脂が含まれる。透明樹脂には、必要に応じて、その前駆体である、放射線照射により硬化して透明樹脂を生成するモノマーもしくはオリゴマーを単独で、または2種以上混合して用いることができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ブチラール樹脂、スチレン-マレイン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、アルキッド樹脂、ポリスチレン、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、セルロース類、ポリエチレン、ポリブタジエン、ポリイミド樹脂等が挙げられる。また、熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フマル酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。感光性樹脂としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の反応性の置換基を有する線状高分子にイソシアネート基、アルデヒド基、エポキシ基等の反応性置換基を有するメタアクリル化合物やケイヒ酸を反応させて、メタアクリロイル基、スチリル基等の光架橋性基を該線状高分子に導入した樹脂が用いられる。また、スチレン-無水マレイン酸共重合物やα-オレフィン-無水マレイン酸共重合物等の酸無水物を含む線状高分子をヒドロキシアルキルメタアクリレート等の水酸基を有するメタアクリル化合物によりハーフエステル化したものも用いられる。重合性モノマーおよびオリゴマーとしては、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、β-カルボキシエチルメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジメタアクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリシクロデカニルメタアクリレート、エステルアクリレート、メチロール化メラミンのメタアクリル酸エステル、エポキシメタアクリレート、ウレタンアクリレート等の各種アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル、メタアクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、メタアクリルアミド、N-ヒドロキシメチルメタアクリルアミド、N-ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。これらは、単独でまたは2種類以上混合して用いることができる。紫外線照射により硬化する場合には、光重合開始剤等が添加される。光重合開始剤としては、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’-テトラt-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、チオキサントン、2-クロルチオキサントン、2-メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物、2,4,6-トリクロロ-s-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-p-メトキシフェニル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-p-トリル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-ピペロニル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-スチリル-s-トリアジン、2-ナフト-1-イル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシ-ナフト-1-イル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2,4-トリクロロメチル-ピペロニル-6-トリアジン、2,4-トリクロロメチル4’-メトキシスチリル-6-トリアジン等のトリアジン系化合物、1,2-オクタンジオン,1-4-フェニルチオ-,2-O-ベンゾイルオキシム、O-アセチル-N-1-フェニル-2-オキソ-2-4’-メトキシ-ナフチルエチリデンヒドロキシルアミン等のオキシムエステル系化合物、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物、9,10-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等が用いられる。これらの光重合開始剤は1種または2種以上混合して用いることができる。光重合開始剤の使用量は、着色組成物の全固形分量を基準として0.5~50重量が好ましく、より好ましくは3~30重量である。さらに、増感剤として、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸2-ジメチルアミノエチル、4-ジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシル、N,N-ジメチルパラトルイジン、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスエチルメチルアミノベンゾフェノン等のアミン系化合物を併用することもできる。これらの増感剤は1種または2種以上混合して用いることができる。増感剤の使用量は、光重合開始剤と増感剤の合計量を基準として0.5~60重量が好ましく、より好ましくは3~40重量である。さらに、連鎖移動剤としての働きをする多官能チオールを含有させることができる。多官能チオールは、チオール基を2個以上有する化合物であればよく、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、1,4-ブタンジオールビスチオプロピオネート、1,4-ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス3-メルカプトブチレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート、1,4-ジメチルメルカプトベンゼン、2、4、6-トリメルカプト-s-トリアジン、2-N,N-ジブチルアミノ-4,6-ジメルカプト-s-トリアジン等が挙げられる。これらの多官能チオールは、1種または2種以上混合して用いることができる。多官能チオールの使用量は、着色組成物の全固形分量を基準として0.1~30重量が好ましく、より好ましくは1~20重量である。0.1質量未満では多官能チオールの添加効果が不充分であり、30質量を越えると感度が高すぎて逆に解像度が低下する。また、必要に応じて有機溶剤を含有することができる。有機溶剤としては、例えばシクロヘキサノン、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、1-メトキシ-2-プロピルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチルベンゼン、エチレングリコールジエチルエーテル、キシレン、エチルセロソルブ、メチル-nアミルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルトルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルケトン、石油系溶剤等が挙げられ、これらを単独でもしくは混合して用いる。着色層3、4を形成する材質としては、より好ましくは熱フロー性を有する感光性ネガ型レジストが用いられる。この感光性ネガ型レジストは、例えばアルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及び重合性モノマーを主成分とするアクリル系感光性樹脂組成物である。あるいは、熱フロー性を有する感光性ポジ型レジストを用いてもよい。次に、図2~図4を参照して、本実施形態の半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法について説明する。まず、透光性基板上1に、黒色の感光性樹脂組成物を塗布、乾燥した後に、フォトマスクを用いて所定のパターンに露光し、現像およびポストベークを行うことで、ブラックマトリックス2を形成する。ブラックマトリックス2の膜厚は、含有するカーボンブラック量から必要な光学濃度を見積もり所望の膜厚に設定することが望ましく、一般には、およそ1~2μm程度である。ブラックマトリックス2の形成方法としては、スピンコート法やスリットコート法、スピンレス法などの塗布法を用いて塗布した後に、上記定法のフォトリソグラフィー法を用いてパターニングするか、インクジェット法、印刷法などを用いて直接にパターン形成をすることも可能である。次に、ブラックマトリックス2を形成した透光性基板上1に、カラーフィルタとなる着色層3、4を形成する。着色層3、4の製法としては、すでに説明したように、スリットコート法やスピンコート法、スピンレス法などの塗布法で着色層3を形成し、その後フォトリソグラフィー法によりパターニングするか、インクジェット法や、グラビア印刷法、フレキソ印刷法などの方法が使用できる。しかし、高精細、分光特性の制御性及び再現性等を考慮すれば、透明な樹脂中に顔料、光開始剤、重合性モノマー等と共に適当な溶剤に分散させた感光性着色樹脂組成物を透明基板上に塗布製膜して特定の色の着色層を形成し、この着色層をパターン露光、現像することで特定色の着色層を形成し、この工程を必要な色数だけ繰り返し行ってカラーフィルタとするフォトリソグラフー法が最も好ましい。具体的には、まず、赤色の感光性樹脂組成物を塗布、減圧乾燥及びプリベーク処理を行うことで、図2に示すように、ブラックマトリクス2を形成した透光性基板1の上面に赤色着色フォトレジスト層5Rを形成する。プリベーク処理の条件は、一例として80°C~120°C、処理時間は90秒~240秒とされる。その後、直描露光方式よりレーザー光を用いて赤色着色フォトレジスト層5Rの所定の露光領域E1、E2に対して選択的にレーザー光24を照射して、赤色着色フォトレジスト層5Rの露光処理を行う。次いで、アルカリ現像液によって現像し、未露光部分を除去する。その後、オーブン焼成を行うことにより、赤色着色層3R、4Rを形成することができる。オーブン焼成の条件は、一例として220°C~240°C、15分~30分とされる。但し、プリベーク処理は感光性樹脂組成物の材質、種類によっては不要である。以下、同一の手順を繰り返すことにより、緑色着色画素層3G、4Gおよび青色着色画素層3B、4B、場合によっては透明画素が形成されたカラーフィルタ基板を得ることができる。各色の塗布膜厚は、分光透過率などを考慮すると通常はプリベーク後の膜厚で1~5μm程度である。現像液にはアルカリ性水溶液を用いる。アルカリ性水溶液の例としては、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、または両者の混合水溶液、もしくはそれらに適当な界面活性剤などを加えたものが挙げられる。現像後、水洗、乾燥して特定色の着色層3、4が得られる。図3は、本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法に用いる、パルス露光可能なレーザスキャニング露光装置直描露光機を示す斜視図である。図3において、表面に感光性材料層図示せずが形成された基板21の被露光領域の上方に、複数図では4個の露光ヘッド22が、一定の方向図2の場合、X方向に沿って並置されている。これらの露光ヘッド22列の下を基板21が当該ヘッド列の並列方向と交差する方向、にスキャン移動し、レーザー発振機23から送られたレーザー光24が個々の露光ヘッド22に分岐され、個々の露光ヘッド22から基板21上の被露光領域へ選択的に照射され、露光が行われる。露光ヘッド22には、図示を省略したCAD機からCAD露光データが送出される。個々の露光ヘッド22内には、例えばDMDDigitalMicroMirrorDeviceのような、微少領域内において選択的にレーザー光24の照射のオン/オフ制御が可能な機構図示略が設けられており、CAD露光データに従って選択的にレーザー光24が照射されることにより、基板21上の微小領域に対して選択的に露光を行うことができる。ここで、本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法においては、最終的に着色フォトレジスト層5R、5G、5Bが露光、現像及び焼成されることで着色層3R、3G、3B、4R、4G、4Bが形成された際に、これら着色層3R、3G、3B、4R、4G、4Bが所定の形状及び膜厚となるように、レーザー光24の照射領域が設定されている。具体的には、図4に示すように、上述のCAD露光データにおいて、露光照射領域を設定する際に、この露光領域を格子状に細分化し、この細分化された個々の微小領域以下、細分化露光領域と称するにおいて選択的にレーザー光24の照射がされるように設定がされている。すなわち、図5において、透過型用着色層3については、対応する露光領域E1の全体においてレーザー光24が照射されるようにCAD露光データが設定されている。ここに、図4中、黒色で表示される領域は、レーザー光24が照射されて露光される領域であり、白色で表示される領域は、レーザー光24が照射されずに露光されない領域を意味している。一方、反射型用着色層4については、透過型用着色層3よりもその膜厚が薄く設定されるので、細分化露光領域において選択的にレーザー光24が照射されるようにCAD露光データの露光領域E2が設定されている。本実施形態においては、露光領域E2全体でみると、図4に示すように、格子状の細分化露光領域において交互にレーザー光24照射のオン/オフが設定されることで、図中市松状あるいはドット状になっている。露光領域E2において個々の細分化露光領域へのレーザー光24照射のオン/オフは、最終的に反射型用着色層4が透過型用着色層3よりも薄い所定の膜厚となるように設定されている。より具体的にいえば、図5に示す露光領域E1、E2に従って露光がされ、現像された後の透過型用着色層3及び反射型用着色層4に対応する部分のパターンは、図5のP1、P2のようになる。ここに、反射型用着色層4に対応するパターンP2においては、その上面において上述のように選択的な露光がされることにより、所定形状および所定残膜の膜厚に形成される。その後、このパターンP1、P2が焼成されることで、図5に示すように、最終的な透過型用着色層3及び反射型用着色層4は、所定の膜厚差をもって形成されることになる。以上説明した本実施形態の半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法によれば、1回の露光処理において透過型用着色層3及びこの透過型用着色層3より膜厚の薄い反射型用着色層4を同時に形成することが可能となり、工程簡略化に大きく貢献することができる。また、フォトマスク等を用いることなく直接描画工程により製造することができるので、コスト削減にも大きく貢献することができる。第2の実施形態図5は、本発明の第2の実施形態である半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法により製造されたカラーフィルタ基板Cを示す断面図である。なお、以下の説明において、上記第1の実施形態と同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を簡略化する。本実施形態においては、反射型用着色層4R、4G、4Bにそれぞれスルーホール6R、6G、6Bスルーホール全体を指す場合は符号6で代表するが形成されていることを除き、上述の第1の実施形態と同一構成である。次に、図6及び図7を参照して、本実施形態の半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法について説明する。透光性基板1上にブラックマトリクス2を形成する方法については、第1の実施形態のそれと同一であるので説明を簡略化する。次に、ブラックマトリクス2が形成された基板上に、赤色の感光性樹脂組成物を塗布し、減圧乾燥及びプリベーク処理を行うことで、図6に示すように、ブラックマトリクス2が形成された透光性基板1の上面に赤色着色フォトレジスト層5Rを形成する。さらに、図3に示すような直描露光機により、図6に示すように、感光性レジスト材料層5の所定の露光領域E1、E2に対して選択的にレーザー光24を照射して、赤色着色フォトレジスト層5Rの露光処理を行う。次いで、アルカリ現像液によって現像し、未露光部分を除去する。その後、オーブン焼成を行うことにより、赤色着色層3R、4R及びスルーホール6Rを形成することができる。以下、同一の手順を繰り返すことにより、緑色着色画素層3G、4G、スルーホール6G、青色着色画素層3B、4B、及びスルーホール6Bが形成されたカラーフィルタ基板を得ることができる。現像後、水洗および焼成して特定色の着色層3、4及びスルーホール6が得られる。本実施形態の半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法においても、最終的に着色フォトレジスト層5R、5G、5Bが露光、現像及び焼成されることで着色層3R、3G、3B、4R、4G、4B及びスルーホール6R、6G、6Bが形成された際に、これら着色層3R、3G、3B、4R、4G、4B及びスルーホール6R、6G、6Bが所定の形状及び膜厚となるように、レーザー光24の照射領域が設定されている。照射領域の具体例について図7を参照して説明する。図7に示すように、上述のCAD露光データにおいて、透過型用着色層3、反射型用着色層4及びスルーホール6に対応する露光照射領域E1、E2を設定する際に、この露光領域を細分化し、この細分化された個々の微小領域以下、細分化露光領域と称するにおいて選択的にレーザー光24の照射がされるように設定がされている。そして、反射型用着色層4に対応するパターンP2においては、その上面において上述のように選択的な露光がされることにより、所定形状および所定残膜の膜厚に形成されるとともに、スルーホール6に対応する部分の上面についてはレーザー光24による露光がされなかったことにより、スルーホール6が形成されている。その後、このパターンP1、P2が焼成されることで、図5に示すように、最終的な透過型用着色層3、反射型用着色層4及びスルーホール6は、所定の膜厚差をもって形成されることになる。レーザー光24による露光が終了したら、アルカリ現像液によって現像し、未露光部分を除去する。その後、オーブン焼成を行うことにより、図6に示すようなカラーフィルタ基板Cを製造することができる。従って、本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法によっても、1回の露光処理において透過型用着色層3及びこの透過型用着色層3より膜厚の薄い反射型用着色層4及びスルーホール6を同時に形成することが可能となり、工程簡略化に大きく貢献することができる。また、フォトマスク等を用いることなく直接描画工程により製造することができるので、コスト削減にも大きく貢献することができる。なお、本発明の半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板の製造方法は、その細部が上述の各実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。上述の第1の実施形態に対応する半透過型液晶表示用カラーフィルタ基板を製造した。まず、320mm×400mm×0.5tの無アルカリガラス基板上に、ブラックマトリクスを形成した。次いで、この基板上にアクリル系有色透明樹脂からなる感光性レジストをスピンコータにより塗布した。さらに、この感光性レジストを乾燥させた後、90°Cの条件下において180秒プリベーク処理を行った。さらに、LDレーザーダイオード、波長405nm発振器を露光光源とする直描露光機により、所定形状及び膜厚となるようにレーザー描画露光を行った後、炭酸ナトリウム0.15重量、炭酸水素ナトリウム0.05重量、陰イオン系界面活性剤花王社製ペリレックスNBL0.1重量及び水99.7重量からなるアルカリ現像液によりスプレー現像処理を行い、未露光部分を取り除いた後、イオン交換水で洗浄し、この基板を230°Cで30分加熱焼成して、透過型用及び反射型用着色層のパターニング形成を行った。その結果、図1に示すように、所定形状及び所定膜厚の透過型用及び反射型用着色層をパターニング形成することができた。"