電気めっき後のめっき部品を加熱炉内で加熱して脱水素処理する方法であって、加熱炉内のめっき部品を目的温度まで昇温する昇温工程と、目的温度に達しためっき部品を一端冷却する冷却工程と、再度めっき部品を目的温度まで昇温する再昇温工程を有することを特徴とするめっき部品の脱水素処理方法。該目的温度が、150~250°Cであることを特徴とする請求項1記載のめっき部品の脱水素処理方法。本発明の目的は前記の問題を解決し、従来の加熱炉に特別な追加設備を設けることなく、短時間で効率よく吸蔵水素を除去できるめっき部品の脱水素処理方法を提供することである。上記課題を解決するためになされた本発明のめっき部品の脱水素処理方法は、電気めっき後のめっき部品を加熱炉内で加熱して脱水素処理する方法であって、加熱炉内のめっき部品を目的温度まで昇温する昇温工程と、目的温度に達しためっき部品を一端冷却する冷却工程と、再度めっき部品を目的温度まで昇温する再昇温工程を有することを特徴とするものである。請求項2記載の発明は、請求項1記載のめっき部品の脱水素処理方法において、該目的温度が、150~250°Cであることを特徴とするものである。図2には、めっき部品の加熱による水素の放出挙動を示すグラフを示している。図2のグラフは、加熱開始後約35分で、目的の200°Cにまで昇温を行い、その後60分間200°Cを維持した時間―温度曲線と、各時間に放出された水放出素量との関係を示すものである。図2から、昇温とともに水放出素スピード単位時間当たりの水放出素量も増加するが、200°Cでの定温保持状態においては水放出素スピードが減少することが読み取れる。本願発明は、当該現象に着目してなされたものであり、加熱炉内のめっき部品を目的温度まで昇温する昇温工程と、目的温度に達しためっき部品を一端冷却する冷却工程と、再度めっき部品を目的温度まで昇温する再昇温工程を有する構成、すなわち、複数回の昇温工程を繰り返すことにより、水素放出を速やかに促し、従来の加熱炉に特別な追加設備を設けることなく、短時間で効率よく吸蔵水素を除去可能としている。以下に本発明の好ましい実施形態を示す。本発明は、電気めっき後のめっき部品を加熱炉内で加熱して脱水素処理する方法に関するものである。図3に示すように、電気めっき後のめっき部品は加熱炉内に挿入され200°Cまで昇温される。図3に示す該加熱炉は、加熱手段3を備えた加熱ゾーン1と、加熱手段3を備えない非加熱ゾーン2が繰り返し配置されている。本実施形態では、図3に示すように、めっき部品を、加熱手段3を備えた加熱ゾーン1内で搬送しながら200°Cまで昇温した後、加熱手段3を備えない非加熱ゾーン2で搬送させて一端冷却し、その後、再び、加熱手段3を備えた加熱ゾーン1で200°Cまで昇温し、最後に、再び加熱手段3を備えない非加熱ゾーン2で搬送させて冷却する処理を行っている。本発明は、前記のように、昇温とともに水放出素スピード単位時間当たりの水放出素量も増加するが、定温保持状態においては水放出素スピードが減少するという、図2から得られた知見に基づきなされたものであり、複数回の昇温工程を繰り返すことにより、水素放出を速やかに促し、短時間で効率よく吸蔵水素を除去可能としている。本発明では、炉の形態、昇温方法、冷却方法は特に限定されず、例えば、昇温工程で使用する加熱手段3として、電気ヒータ、ガスバーナー、高周波加熱などを用いることができる。本発明の方法により、図4に示す時間―温度曲線に従って、めっき部品サンプルの脱水素処理を行った。図4に示すように、時間―温度曲線の昇温工程において放出水素量の増加が認められた。図5には、脱水素処理後のめっき部品中に含まれる残存水素量を調べるために、図4の処理を経ためっき部品サンプルを、再度、図5に示す時間―温度曲線に従って加熱し、水素放出量を調べた結果を示している。比較例として、図6に、従来の脱水素処理図1の時間―温度曲線に従う処理を経ためっき部品サンプルを、再度、図6に示す時間―温度曲線に従って加熱し、水素放出量を調べた結果を示している。本発明の方法によれば、図4に示すように、処理時間の短縮を図ることができる。また、図5図6に示すように、本発明の方法と従来の方法との間に、処理後の脱水素処理後のめっき部品中に含まれる残存水素量の違いは殆ど認められない。以上、図4~6により、本発明によれば、短時間で効率よく吸蔵水素を除去することができることが確認された。