"Aアルカリ水溶液可溶性樹脂、B重合性多官能化合物、C光重合開始剤、及びD溶剤を含むネガ型感光性樹脂組成物であって、前記Aアルカリ水溶液可溶性樹脂が、a1エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸及び/又はエチレン性不飽和結合を有するカルボン酸無水物モノマーと、a2エチレン性不飽和結合を有し、かつ、オキセタン環を有するオキセタンモノマーと、a3エチレン性不飽和結合を有する不飽和モノマー前記a1及びa2のモノマーを除くと、の共重合体から得られた樹脂であることを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。前記Aアルカリ水溶液可溶性樹脂を100質量部としたとき、前記B重合性多官能化合物を50~250質量部、前記C光重合開始剤を1~20質量部含んでなることを特徴とする請求項1記載のネガ型感光性樹脂組成物。前記Aアルカリ水溶液可溶性樹脂は、原料として用いる前記a1~a3成分の合計量に対して、a1エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸及び/又はエチレン性不飽和結合を有するカルボン酸無水物モノマーが10~60質量、a2エチレン性不飽和結合を有するオキセタンモノマーが20~70質量、a3エチレン性不飽和結合を有する不飽和モノマーが20~40質量、の原料を共重合して得られたことを特徴とする請求項1又は2記載のネガ型感光性樹脂組成物。粘度が5~20mPasであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のネガ型感光性樹脂組成物。請求項1乃至4のいずれか1項記載のネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成されたことを特徴とする透明絶縁膜。金属膜を有する半導体基板上に請求項1乃至4のいずれか1項記載のネガ型感光性樹脂組成物を用いてパターン形成した透明絶縁膜を成膜し、前記金属膜をエッチング液塩酸/酸化第二鉄により処理することを特徴とする半導体基板の製造方法。ところが、従来の感光性樹脂においては、その使用により形成保護膜の透明性が低下してしまう問題があった。また、金属配線のエッチングには酸が使用され、樹脂のバリア性が悪い場合に金属配線が腐食してしまうという問題もあった。このような問題から、高透明性、高接着性、高バリア性を持つ感光性樹脂組成物の開発が強く望まれている。本発明は、上記の問題点を解決するために、高感度及び高解像度であり、さらに、高透明性、高接着性、高バリア性を有する感光性樹脂組成物及びこの感光性樹脂組成物を用いて形成される透明絶縁膜を提供することを目的とする。本発明者らは、上記目的を達成するために、鋭意研究を重ねた結果、特定の組成を有する感光性樹脂組成物により、その目的を達成し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。すなわち、本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、Aアルカリ水溶液可溶性樹脂、B重合性多官能化合物、C光重合開始剤、及びD溶剤を含む透明絶縁保護膜形成用ネガ型感光性樹脂組成物であって、前記Aアルカリ水溶液可溶性樹脂が、a1エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸及び/又はエチレン性不飽和結合を有するカルボン酸無水物モノマーと、a2エチレン性不飽和結合を有し、かつ、オキセタン環を有するオキセタンモノマーと、a3エチレン性不飽和結合を有する不飽和モノマー前記a1及びa2のモノマーを除くと、の共重合体から得られた樹脂であることを特徴とするものである。また、本発明の透明絶縁膜は、上記した本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成されたものであり、本発明の半導体基板の製造方法は、金属膜を有する半導体基板上にパターン形成した上記透明絶縁膜を成膜し、前記金属膜をエッチング液塩酸/酸化第二鉄により処理することを特徴とするものである。本発明のネガ型感光性樹脂組成物によれば、高感度及び高解像度を有し、透明性、接着性、バリア性に優れた透明絶縁保護膜を形成することができる。また、このネガ型感光性樹脂組成物を用いて得られた透明絶縁膜及び半導体基板の製造方法によれば、得られる透明絶縁膜が、透明性、接着性に優れているため、半導体基板、特にタッチパネル用途の基板に好適に使用することができ、さらに、金属配線のエッチング処理時のバリア性にも優れているため、半導体基板製造時の金属配線の腐食を抑制することもできる。本発明の高感度及び高解像度を有し、透明性、接着性、バリア性に優れるネガ型感光性樹脂組成物以下、単に感光性樹脂組成物と称することがある。は、Aアルカリ水溶液可溶性樹脂、B重合性多官能化合物、C光重合開始剤、及びD溶剤を含むネガ型感光性樹脂組成物であって、好ましくはAアルカリ水溶液可溶性樹脂100質量部、B重合性多官能化合物50~250質量部、C光重合開始剤1~20質量部を含むネガ型感光性樹脂組成物であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物におけるAアルカリ水溶液可溶性樹脂としては、本成分を含む感光性樹脂組成物に対して現像処理工程に用いられるアルカリ水溶液に対して可溶性を有するものであればよく、特に限定されるものではない。このアルカリ水溶液可溶性樹脂は、反応性官能基を有するものが好ましく、反応性官能基としては、例えば、エポキシ基、メタアクリロイル基等が挙げられる。このようなアルカリ水溶液可溶性樹脂としては、例えば、a1エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸及び/又はエチレン性不飽和結合を有するカルボン酸無水物モノマーと、a2エチレン性不飽和結合を有し、かつ、オキセタン環を有するオキセタンモノマーと、a3エチレン性不飽和結合を有する不飽和モノマー前記a1及びa2のモノマーを除くと、の共重合体である樹脂を好ましく用いることができる。a1エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸及び/又はエチレン性不飽和結合を有するカルボン酸無水物モノマーと、a2エチレン性不飽和結合を有するオキセタンモノマーと、a3エチレン性不飽和結合を有する不飽和モノマーと、の共重合体は、a1とa2とa3を溶媒中で重合開始剤の存在下にラジカル重合することによって製造することができる。ここで、a1成分としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカルボン酸及びこれらのカルボン酸無水物が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、a2成分としては、例えば、3-メチル-3-オキセタニルメチルアクリレート、3-メチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート、3-エチル-3-オキセタニルメチルアクリレート、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタクリレートなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。この成分にはa1成分は含まれない。また、a3成分としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、sec-ブチルメタクリレート、t-ブチルメタクリレートなどのメタクリル酸アルキルエステル;メチルアクリレート、イソプロピルアクリレートなどのアクリル酸アルキルエステル;シクロヘキシルメタクリレート、2-メチルシクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレートなどのメタクリル酸環状アルキルエステル;シクロヘキシルアクリレート、2-メチルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレートなどのアクリル酸環状アルキルエステル;フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレートなどのメタクリル酸アリールエステル;フェニルアクリレート、ベンジルアクリレートなどのアクリル酸アリールエステル;マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエステル;2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレートなどのヒドロキシアルキルエステル;及びスチレン、α-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、ビニルトルエン、p-メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、1,3-ブタジエン、イソプレン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエンなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。この成分にはa1及びa2成分は含まれない。このとき、Aアルカリ水溶液可溶性樹脂中に含まれるa1~a3成分の割合は、原料であるa1~a3成分の合計量に対して、a1成分が10~60質量、a2成分が20~70質量、a3成分が20~40質量、で配合され共重合したものが好ましく、a1成分が15~25質量、a2成分が35~60質量、a3成分が25~40質量であることがより好ましい。また、上記のa1~a3成分の共重合の際に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類;テトラヒドロフランなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなどのジエチレングリコール類;プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンなどのケトン類;が挙げられる。さらに、a1~a3成分との共重合の際に用いられる溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、3-ヒドロキシプロピオン酸メチル、3-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-ヒドロキシプロピオン酸プロピル、3-ヒドロキシプロピオン酸ブチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-メトキシプロピオン酸ブチル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-エトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸ブチル、2-ブトキシプロピオン酸メチル、2-ブトキシプロピオン酸エチル、2-ブトキシプロピオン酸プロピル、2-ブトキシプロピオン酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸プロピル、3-エトキシプロピオン酸ブチル、3-プロポキシプロピオン酸メチル、3-プロポキシプロピオン酸エチル、3-プロポキシプロピオン酸プロピル、3-プロポキシプロピオン酸ブチル、3-ブトキシプロピオン酸メチル、3-ブトキシプロピオン酸エチル、3-ブトキシプロピオン酸プロピル、3-ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類等が挙げられる。これらの溶媒は、上記した溶媒を単独で用いてもよいし、2種以上の混合物として用いてもよい。また、a1~a3成分の共重合の際に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用でき、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリルなどのアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、t-ブチルペルオキシピバレート、1,1’-ビス-t-ブチルペルオキシシクロヘキサンなどの有機過酸化物;および過酸化水素などが挙げられる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよい。この共重合の際の温度は、使用する単量体の種類によって異なるが、通常40~150°C程度、好ましくは50~100°Cである。上記のようにして得られたAアルカリ水溶液可溶性樹脂は、質量平均分子量Mwが10,000~30,000の範囲にあることが好ましい。このMwが10,000以上であれば、得られる被膜は現像性、残膜性、パターン形状、耐熱性などが良好であり、一方30,000以下であれば、感度の低下やパターン形状の不良を抑制し得ると共に、感光性樹脂組成物の保存安定性も良好である。より好ましいMwは12,000~18,000である。なお、上記質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法GPC法にて測定したポリスチレン換算の値である。このAアルカリ水溶液可溶性樹脂は、固形分酸価が、50~200mgKOH/gになるように、上記a1、a2及びa3成分の使用割合を選定することが好ましい。該固形分酸価が50mgKOH/g以上であれば良好な現像性を有し、また200mgKOH/g以下であれば残膜率やパターン形状が良好となる。より好ましい固形分酸価は80~150mgKOH/gである。本発明の感光性樹脂組成物におけるB重合性多官能化合物としては、官能基数5以上のものを好ましく用いることができる。このような重合性多官能化合物としては、5官能以上のメタアクリレート、例えば、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレートやジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどが挙げられる。その市販品としては、例えば、アロニックスM-402[東亜合成化学工業株式会社製]、KAYARADDPHA、同DPEA-12、同DPHA-2C、同D-310、同D-330、同DPCA-20、同DPCA-30、同DPCA-60、同DPCA-120[以上、日本化薬株式会社製]、ビームセット700[荒川化学工業株式会社製]、SR299E、SR9041以上、サートマー社製などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、B重合性多官能化合物としては、ガラス転移温度Tgが100°C以上のものも好ましく用いることができる。このような重合性多官能化合物としては、例えば、1,3-ブチレングリコールジメタアクリレート、ジプロビレングリコールジメタアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシメタアクリレート、フェノールノボラック型エポキシメタアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ポリエステルアクリレートなどが挙げられる。その市販品としては、例えば、SR212、SR508、SR368、SR444、SR295、CD540[以上、サートマー社製]、ライトアクリレートNP-A[共栄社化学株式会社製]、リポキシSP-4060、同SP-4010[以上、昭和高分子株式会社製]、アロニックスM-215、同M-305、同M-309、同M-310、同M-315、同M-402、同M-408、同M-450、同M-7100、同M-8030、同M-8060、同M-8100、同M-9050[以上、東亜合成化学工業株式会社製]などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。さらに、B重合性多官能化合物として、5官能以上のウレタン結合を有する重合性化合物を好ましく用いることができる。このような重合性多官能化合物としては、例えば、脂肪族ウレタンメタアクリレート、芳香族ウレタンメタアクリレートなどが挙げられる。その市販品としては、CN-968、CN-975[以上、サートマー社製]、NKオリゴU-15HA、同UA-32、同U-324A、同U-6HA、同UA-100H、同U-6LPA、U-6H[以上、新中村化学工業株式会社製]、ビームセット575[荒川化学工業株式会社製]、アロニックスM-1960[東亜合成化学工業株式会社製]などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明の感光性樹脂組成物におけるB重合性多官能化合物は、Aアルカリ水溶液可溶性樹脂100質量部に対して、50~250質量部の割合で配合される。該B成分の配合量が50質量部以上であれば、架橋反応が充分に進行し、現像による膜減りが生じにくく、一方、250質量部以下であれば、良好な解像性が得られる。該B成分の好ましい配合量は80~200質量部である。本発明の感光性樹脂組成物におけるC成分の光重合開始剤については、光反応開始剤として紫外線中のi線365nm、g線436nmにおいて効率よく反応性ラジカルを発生させるものであれば特に限定されない。このような化合物としては、例えば、ベンジル、ジアセチル等のα-ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、チオキサントン-4-スルホン酸、ベンゾフェノン、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、アセトフェノン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、2,2’-ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノンなどのアセトフェノン類、アントラキノン、1,4-ナフトキノン等のキノン類、2,6-ジ4’-ジアジドベンザルシクロヘキサノン、2,6-ジ4’-ジアジドベンザル-4-メチルシクロヘキサノン、2,6-4’-ジアジドベンザル-4-エチルシクロヘキサノン、2,6-4’-ジアジドベンザル-4-ブチルシクロヘキサノン、2,6-4’-ジアジドベンザル-4-t-ブチルシクロヘキサノン等のアジド類、1-フェニル-1,2-ブタジオン-2-o-ベンゾイルオキシム、1-フェニル-プロパンジオン-2-o-メトキシカルボニルオキシム、1-フェニル-2-o-エトキシカルボニルオキシム、1-フェニル-プロパンジオン-2-o-ベンゾイルオキシム、1,3-ジフェニル-プロパントリオン-2-o-エトキシカルボニルオキシム、1-フェニル-3-エトキシ-プロパントリオン-2-o-ベンゾイルオキシム等のオキシム類、N-フェニルグリシン、N-p-エチルフェニルグリシン、N-p-エチルフェニルグリシン等のグリシン誘導体、フェナシルクロライド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリストリクロロメチル-s-トリアジンなどのハロゲン化合物、ジ-t-ブチルパーオキサイドなどの過酸化物などが挙げられる。これらの市販品としては、例えば、IRGACURE-184、同369、同500、同651、同907、同1500、Darocur-1173、同1116、同2959、同1664、同4043[以上、チバスペシャルティケミカルズ社製]、KAYACURE-DETX、同MBP、同DMBI、同EPA、同OA[以上、日本化薬株式会社製]等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明の感光性樹脂組成物におけるC光重合開始剤は、効果及び経済性のバランスなどの点から、Aアルカリ水溶液可溶性樹脂100質量部に対して、1~20質量部、好ましくは3~15質量部の割合で配合される。また、本発明の感光性樹脂組成物においては、光重合開始剤と共に、必要に応じて増感剤を併用することができる。この増感剤としては、例えば、ミヒラーズケトン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、2,5-ビス4’-ジエチルアミノベンザルシクロペンタノン、2,6-ビス4’-ジエチルアミノベンザルシクロヘキサノン、2,6-ビス4’-ジメチルアミノベンザル-4-メチルシクロヘキサノン、2,6-ビス4’-ジエチルアミノベンザル-4-メチルシクロヘキサノン、4,4’-ビスジエチルアミノカルコン、4,4’-ビスジメチルアミノカルコン、p-ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、p-ジメチルアミノベンジリデンインダノン、2-p-ジメチルアミノフェニルビフェニレン-ベンゾチアゾール、2-p-ジメチルアミノフェニルビニレンベンゾチアゾール、1,3-ビス4’-ジメチルアミノベンザルアセトン、3,3’-カルボニル-ビス7-ジエチルアミノクマリン、3-アセチル-7-ジメチルアミノクマリン、3-エトキシカルボニル-7-ジメチルアミノクマリン、3-ベンジロキシカルボニル-7-ジメチルアミノクマリン、3-メトキシカルボニル-7-ジエチルアミノクマリン、3-エトキシカルボニル-7-ジエチルアミノクマリン、N-フェニル-N’-エタノールアミン、N-フェニルエタノールアミン、N-p-トリルジエタノールアミン、N-フェニルエタノールアミン、4-モルホリノベンゾフェノン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトペンゾチアゾール、1-フェニル5-メルカプト-1H-テトラゾールなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、その配合量は、効果及び経済性のバランスなどの点から、Aアルカリ水溶液可溶性樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1~10質量部、より好ましくは0.3~8質量部の範囲である。また、これらの増感剤は使用する波長にあわせて、さらには要求感度に合わせて利用することで各波長における解像度を向上させることができる。本発明の感光性樹脂組成物においては、樹脂の保存安定性を向上させるために、所望により重合禁止剤を配合することができる。この重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ブチルキノンなどのヒドロキノン誘導体を使用することができる。これらの化合物は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、その配合量は、効果及び経済性などの点から、Aアルカリ水溶液可溶性樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1~10質量部、より好ましくは0.2~5質量部の範囲である。本発明の感光性樹脂組成物は、上記A~C成分及び必要に応じて用いられる増感剤や重合禁止剤、その他添加成分をD溶剤に溶解することにより、通常ワニス状に調製して、使用される。本発明に用いるD溶剤については、上記各成分を均一に溶解し、かつ該成分と反応しないものであればよく、特に制限はない。このような溶剤としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類、テトラヒドロフランなどのエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのジエチレングリコール類、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、トルエンキシレンなどの芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチルなどのエステル類等が挙げられる。これらの溶剤は単独で用いてもよく、2種以上の混合物として用いてもよい。さらに、上記の溶剤とともに、乾燥性の調整のため高沸点溶剤を併用することもできる。併用できる高沸点溶剤としては、例えば、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルホルムアニリド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オクタノール、1-ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、マレイン酸ジエチル、γ-ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。本発明の感光性樹脂組成物においては、溶剤の配合量は、該樹脂組成物における他の構成成分を、例えば、ガラス基板上に塗布するのに適した粘度、例えば、5~20mPasになるように適宜選定すればよい。この感光性樹脂組成物には、これらの成分の他、必要に応じてレベリング剤、シランカップリング剤、充填剤、着色剤、粘度調整剤等の各種添加剤を配合することができる。次に、本発明の透明絶縁膜及び半導体基板の製造方法について説明する。本発明の感光性樹脂組成物におけるAアルカリ水溶液可溶性樹脂と、B重合性多官能化合物は、光照射により発生したラジカルにより重合し、現像液に対して不溶にさせることでコントラストを発生させ、パターンを形成することができる。各種半導体基板ITO、Mo,Al、Ag、Au、Cuの金属薄膜を有するへの適用を考えた場合、まず、上記した本発明の感光性樹脂組成物を対象とする基板上にスピンコーターなどを用いて被膜を形成し、次に、その被膜を90~130°C程度で加熱プリベークする。このとき、塗布方法は公知の方法であれば特に限定されない。得られた被膜上にパターンが描画されているマスクを通過させて365nm、436nmといった活性紫外線を照射する。次いで、この被膜を、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア等の無機アルカリ水溶液やエチルアミン、n-プロピルアミン等の一級アミン、ジエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン等の二級アミン、トリエチルアミン、メチルジメチルアミン等の三級アミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の四級アミンを溶解したアルカリ水溶液を使用して現像処理し、未露光部のみを溶解除去したのち、純水によってリンス洗浄する。現像方式としてはスプレー、パドル、浸漬、超音波等の方式を用いることができる。上記の操作によって対象基板上に所望するネガ型パターンを得ることができる。さらにこの被膜を熱処理することによって、重合性官能基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂と重合性多官能化合物とがさらに架橋し、密着性、耐熱性、耐薬品性等の膜特性に優れた透明絶縁膜を形成することができる。対象基板としては、特にタッチパネル素子用の基板が好ましい。これらの基板には所望により、シランカップリング剤等の薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング処理、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法等の前処理を行うことができる。上記したように半導体基板の製造時に、本発明の透明絶縁膜を保護膜として使用すると、金属配線の形成等の操作においてエッチング液塩酸/第二酸化鉄等の処理の際に、その優れたバリア性から金属配線にエッチング液が付着して残ることを抑制し、確実に保護できる。そのため、金属の腐食等の問題を効率的に低減できる。基板サイズとしては、320mm×400mmの第一世代基板、370mm×4470mmの第二世代基板、550mm×650mmの第三世代基板、680mm×880mm~730mm×920mmの第四世代基板等が挙げられる。次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。製造例1アルカリ水溶液可溶性樹脂Iの製造冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きアクリル酸20質量部、3-メチル-3-オキセタニルメチルアクリレート40質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート40質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体を得た。得られた重合体の質量平均分子量をGPCHLC-8020東ソー株式会社製を用いて測定したところ、ポリスチレン換算で18,000であった。また、固形分酸価を測定したところ、102.8mgKOH/gであった。製造例2アルカリ水溶液可溶性樹脂IIの製造冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きアクリル酸20質量部、3-メチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート40質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート40質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体を得た。得られた重合体の質量平均分子量をGPCHLC-8020東ソー株式会社製を用いて測定したところ、ポリスチレン換算で18,000であった。また、固形分酸価を測定したところ、108.8mgKOH/gであった。製造例3アルカリ水溶液可溶性樹脂IIIの製造冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きアクリル酸15質量部、3-メチル-3-オキセタニルメチルアクリレート55質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート30質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体を得た。得られた重合体の質量平均分子量をGPCHLC-8020東ソー株式会社製を用いて測定したところ、ポリスチレン換算で18,000であった。また、固形分酸価を測定したところ、87.8mgKOH/gであった。製造例4アルカリ水溶液可溶性樹脂IVの製造冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きアクリル酸33質量部、アクリル酸n-ブチルエステル27質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体を得た。得られた共重合体溶液を室温に戻した後、グリシジルメタクリレート40質量部、及びピリジン2質量部を仕込み、100°Cに加熱して撹拌し、反応溶液の酸価が0.5mgKOH/g以下になるまで反応させた。得られた重合体の質量平均分子量をGPCHLC-8020東ソー株式会社製を用いて測定したところ、ポリスチレン換算で18,000であった。また、固形分酸価を測定したところ、102.8mgKOH/gであった。製造例5アルカリ水溶液可溶性樹脂Vの製造冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きアクリル酸33質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート27質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体を得た。得られた共重合体溶液を室温に戻した後、グリシジルメタクリレート40質量部、及びピリジン2質量部を仕込み、100°Cに加熱して撹拌し、反応溶液の酸価が0.5mgKOH/g以下になるまで反応させた。得られた重合体の質量平均分子量をGPCHLC-8020東ソー株式会社製を用いて測定したところ、ポリスチレン換算で18,000であった。また、固形分酸価を測定したところ、104.8mgKOH/gであった。実施例1窒素導入管を備えた反応フラスコに、製造例1で得たアルカリ水溶液可溶性樹脂I100質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル300質量部を投入し、60°Cで3時間撹拌して溶解させた。次に反応液を室温まで冷却し、重合性多官能化合物としてKAYARAD-DPHA日本化薬株式会社製を120質量部、光重合開始剤としてI-907チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製を10質量部添加し、室温で撹拌して溶解させた。この溶液を孔径0.5μmのフィルターで濾過し、感光性樹脂組成物を調製した。実施例2~3及び比較例1~2実施例1と同様の操作により、表1に示す組成を有する各感光性樹脂組成物を調製した。なお、ここで用いた原料は、以下の通りである。重合性多官能化合物:KAYARAD-DPHA日本化薬株式会社製光重合開始剤:I-907チバスペシャリティーケミカル株式会社製溶剤:ジエチレングリコールジメチルエーテル<特性の評価>実施例1~3及び比較例1~2で調製した各感光性樹脂組成物について、以下に示す特性の評価を行った。その結果を表2にまとめて示す。1塗膜性感光性樹脂組成物を、スピンコーターを用いてガラス基板上にコートし、90°Cのベーク板上で2分間加熱して2μmの塗膜を作製した。各サンプルを露光処理しi線365nmのみを透過させるフィルターを用いて、200mJ/cm2の露光量、続いてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドTMAH2.38質量水溶液によってパドル現像を行い、純水にてリンスし、最後にスピン乾燥を行った。この塗膜を温風循環式乾燥機にセットし、100°Cから0.5°C/minの速度で220°Cまで昇温し、220°Cで60分間保持した後、5°C/minの速度で室温まで冷却し、膜厚1.5μmの塗膜を得た。この塗膜を目視による表面状態の観察及び表面粗さ計縦倍率500倍による膜厚均一性評価を、下記の判定基準に従って行った。表面荒れ:目視により平滑か否かを下記基準により評価した。○:平滑×:平滑でなく不均一な格子状の模様や波状の模様がある膜均一性:表面粗さ計により、膜厚を測定して得られた最大膜厚、最小膜厚及び平均膜厚を算出し、下記式よりばらつき率を求めた。算出されたばらつき率を下記基準により評価した。ばらつき率={[最大膜厚-最小膜厚]/平均膜厚}×100○:ばらつき率が10以下×:ばらつき率が10超2硬化後の解像性及びパターンの断面形状各感光性樹脂組成物を、スピンコーターを用いてガラス基板上にコートし、90°Cのべーク板上で2分間加熱して2μmの塗膜を作製した。各サンプルを露光処理しi線365nmのみを透過させるフィルターを用いて、200mJ/cm2の露光量、続いてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドTMAH2.38質量水溶液によってパドル現像を行い、純水にてリンスし、最後にスピン乾燥を行った。この塗膜を温風循環式乾燥機にセットし、100°Cから0.5°C/minの速度で220°Cまで昇温し、220°Cで60分間保持した後、5°C/minの速度で室温まで冷却し、膜厚1.5μmの塗膜を得た。得られたパターンを光学顕微鏡にて観察し、解像性を下記の判定基準に従って評価した。解像性◎:10μm未満のL/S形成○:10~20μmのL/S形成△:20~40μm未満のL/S形成×:40μm以上のL/S形成3透明性各感光性樹脂組成物を、スピンコーターを用いてガラス基板上にコートし、90°Cのべーク板上で2分間加熱して2μmの塗膜を作製した。各サンプルを露光処理しi線365nmのみを透過させるフィルターを用いて、200mJ/cm2の露光量、続いてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドTMAH2.38質量水溶液によってパドル現像を行い、純水にてリンスし、最後にスピン乾燥を行った。この塗膜を温風循環式乾燥機にセットし、100°Cから0.5°C/minの速度で220°Cまで昇温し、220°Cで60分間保持した後、5°C/minの速度で室温まで冷却し、膜厚1.5μmの塗膜を得た。得られた塗膜をUV-Vis分光光度計UV-3150島津製作所製にて300nm~800nmにおける透過率の測定を行い、400nmでの透過率を求めた。ブランクとしては樹脂をコートしていないガラス基板を用いた。4ガラス基板並びにITO膜及びMAM膜との接着性ガラス基板、表面にITO膜を形成したガラス基板、表面にMAM膜を形成したガラス基板、をそれぞれ用意し、各感光性樹脂組成物を、スピンコーターを用いて各基板上にコートし、90°Cのベーク板上で2分間加熱して2μmの塗膜を作製した。各サンプルを露光処理しi線365nmのみを透過させるフィルターを用いて、200mJ/cm2の露光量、続いてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドTMAH2.38質量水溶液によってパドル現像を行い、純水にてリンスし、最後にスピン乾燥を行った。この塗膜を温風循環式乾燥機にセットし、100°Cから0.5°C/minの速度で220°Cまで昇温し、220°Cで60分間保持した後、5°C/minの速度で室温まで冷却し、膜厚1.5μmの塗膜を得た。得られた塗膜表面をJISK5600に基づき1mm角×100個の碁盤目にカットし、セロハンテープを貼った後に引き剥がし、塗膜の接着性を、下記の判定基準に従って評価した。○:剥離なし×:剥離あり5耐熱接着性ガラス基板並びにITO膜及びMAM膜との接着性各感光性樹脂組成物を、スピンコーターを用いてガラス基板、表面にITO膜を形成したガラス基板、表面にMAM膜を形成したガラス基板上に、それぞれコートし、90°Cのベーク板上で2分間加熱して2μmの塗膜を作製した。各サンプルを露光処理しi線365nmのみを透過させるフィルターを用いて、200mJ/cm2の露光量、続いてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドTMAH2.38質量水溶液によってパドル現像を行い、純水にてリンスし、最後にスピン乾燥を行った。この塗膜を温風循環式乾燥機にセットし、100°Cから0.5°C/minの速度で220°Cまで昇温し、220°Cで60分間保持した後、5°C/minの速度で室温まで冷却し、膜厚1.5μmの塗膜を得た。得られた塗膜を250°Cで3時間処理し表面を1mm角×100個の碁盤目にカットし、セロハンテープを貼った後に引き剥がし、塗膜の接着性を、下記の判定基準に従って評価した。○:剥離なし×:剥離あり6バリア性各感光性樹脂組成物を、スピンコーターを用いて表面にAl-Nb配線を有するガラス基板上にコートし、90°Cのベーク板上で2分間加熱して2μmの塗膜を作製した。各サンプルを露光処理しi線365nmのみを透過させるフィルターを用いて、200mJ/cm2の露光量、続いてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドTMAH2.38質量水溶液によってパドル現像を行い、純水にてリンスし、最後にスピン乾燥を行った。この塗膜を温風循環式乾燥機にセットし、100°Cから0.5°C/minの速度で220°Cまで昇温し、220°Cで60分間保持した後、5°C/minの速度で室温まで冷却し、膜厚1.5μmの塗膜を得た。得られた塗膜をエッチング液塩酸/第二酸化鉄で40°C/30分の処理条件で処理した後、顕微鏡にて金属配線の腐食を観察し、下記の判定基準に従って評価した。○:腐食なし×:腐食あり以上の結果から、本発明の感光性樹脂組成物が、高感度で高解像性を有し、さらに、透明性、接着性、バリア性に優れた樹脂を得られることがわかった。このような特性を有する感光性樹脂組成物により形成される樹脂膜は、タッチパネル用の透明絶縁膜を形成するのに適したものである。"