金属成分として、Co、Crを含有し、該金属成分の素地中に分散した酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットであって、該スパッタリングターゲットの組織が金属素地中に、Co中にCo酸化物が分散した領域Aと該領域Aの周縁にCr酸化物を含む領域Dを有することを特徴とする焼結体スパッタリングターゲット。金属成分として、Crが0.5mol以上45mol以下を含有することを特徴とする請求項1記載の焼結体スパッタリングターゲット。金属成分として、Co、Cr、Ptを含有し、該金属成分の素地中に分散した酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットであって、該スパッタリングターゲットの組織が金属素地中に、Co中にCo酸化物が分散した領域A若しくはPt中Co酸化物が分散した領域B又はCo-Pt中にCo酸化物が分散した領域Cと、該領域A、B又はCの周縁に、Cr酸化物を含む領域Dを有することを特徴とする焼結体スパッタリングターゲット。金属成分として、Crが0.5mol以上30mol以下、Ptが0.5mol以上30mol以下であることを特徴とする請求項3記載の焼結体スパッタリングターゲット。前記Co酸化物は、CoO、Co2O3、Co3O4のいずれか1種以上であることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲット。前記Co酸化物がスパッタリングターゲット中に占める体積率が1vol以上、20vol以下であることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲット。前記焼結体スパッタリングターゲットが、前記領域A、B又はCと前記領域D以外の金属素地に分散する酸化物として、Co、Cr、Mg、B、Al、Si、Ti、V、Mn、Y、Zr、Nb、Ta、Ceから選択した1種以上の元素の酸化物を含有することを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲット。前記焼結体スパッタリングターゲットが、前記以外の金属成分としてB、Ti、V、Nb、Mo、Ru、Ta、W、Ir、Auから選択した1元素以上を、15mol以下含有することを特徴とする請求項1~7いずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲット。相対密度が90以上であることを特徴とする、請求項1~8のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲット。金属成分として、Co、Crを含有し、該金属成分の素地中に分散した酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットの製造方法であって、Co中にCo酸化物が分散した焼結体を粉砕して得た粉末とCo粉末とCr粉末とを混合して得た混合粉末を加圧焼結することにより、該スパッタリングターゲットの組織が金属素地中に、Co中にCo酸化物が分散した領域Aと該領域Aの周縁にCr酸化物を含む領域Dを有することを特徴とする焼結体スパッタリングターゲットの製造方法。金属成分として、Crが0.5mol以上45mol以下を含有することを特徴とする請求項10記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法。金属成分として、Co、Cr、Ptを含有し、該金属成分の素地中に分散した酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットの製造方法であって、Co又はPt若しくはCo-PtにCo酸化物が分散した焼結体を粉砕して得た粉末とCo粉末とPt粉末とCr粉末とを混合して得た混合粉末を加圧焼結することにより、該スパッタリングターゲットの組織が金属素地中に、Co中にCo酸化物が分散した領域A若しくはPt中Co酸化物が分散した領域B又はCo-Pt中にCo酸化物が分散した領域Cと、該領域A、B又はCの周縁に、Cr酸化物を含む領域Dを有することを特徴とする焼結体スパッタリングターゲットの製造方法。金属成分として、Crが0.5mol以上30mol以下、Ptが0.5mol以上30mol以下とすることを特徴とする請求項12記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法。前記Co酸化物として、CoO、Co2O3、Co3O4のいずれか1種以上を用いることを特徴とする請求項10~13のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法。前記Co酸化物がスパッタリングターゲット中に占める体積率を1vol以上、20vol以下とすることを特徴とする請求項10~14のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法。焼結用混合粉末として、さらに前記領域A、B又はCと前記領域D以外の金属素地に分散する酸化物として、Co、Cr、B、Mg、Al、Si、Ti、V、Mn、Y、Zr、Nb、Ta、Ceから選択した1種以上の元素の酸化物を混合して焼結することを特徴とする請求項10~15のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法。前記焼結用金属粉末として、前記以外の金属成分としてB、Ti、V、Nb、Mo、Ru、Ta、W、Ir、Auから選択した1元素以上を、15mol以下含有させて焼結することを特徴とする請求項10~16いずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法。焼結体ターゲットの相対密度を90以上とすることを特徴とする、請求項10~17のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法。Co-Cr-酸化物系ターゲット又はCo-Cr-Pt-酸化物系ターゲットにおいては、酸化物としてSiO2やCr2O3、TiO2が一般的に用いられている。ところが、スパッタ時にターゲット中の金属酸化物が金属と酸素に分離し、分解した金属が磁性結晶粒子内に入り込むことにより磁気特性を低下させることがある。この問題を解決するために、前述の通り一定量のコバルト酸化物をターゲット中に存在させる方法が提案されている。これは、スパッタリング時に分解した金属酸化物の金属元素が、コバルト酸化物が分解して生じた酸素と再結合することにより、安定して金属酸化物が磁性粒子間に偏析するという現象を狙ったものである。この方法は、従来に比べ大きな効果を生むものであった。しかしながら、焼結用の粉末にCo酸化物粉を添加し、焼結によりCo-Cr-酸化物系ターゲット又はCo-Cr-Pt-酸化物系ターゲットを製造しようとすると、焼結温度によって、CrによってCo酸化物が還元され、Cr酸化物が形成されてしまうという問題が生じた。これは、ターゲット中のCo酸化物が消失し、Co酸化物を残存させるという初期の目的を達成できないことを意味した。他方、焼結温度を極端に下げればCo酸化物の残存量は増えることになるが、焼結反応が進まずターゲットの密度を十分に高めることは難しくなる。このような低密度ターゲットはスパッタ時にパーティクルが多く発生するなどの問題がある。本発明は、必要量のコバルト酸化物を残存させると共に、スパッタ時のパーティクル発生が少ない十分な焼結密度を有するCo-Cr-酸化物系及びCo-Cr-Pt-酸化物系磁性材ターゲットを提供することを課題とする。上記の課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究を行った結果、混合する粉末を調整することにより、ターゲット中に必要量のCo酸化物を残存させると共に、十分な焼結密度を有する焼結体スパッタリングターゲットが得られることを見出した。このような知見に基づき、本発明は、1金属成分として、Cr、Coを含有し、該金属成分の素地中に分散した酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットであって、該スパッタリングターゲットの組織が金属素地中に、Co中にCo酸化物が分散した領域Aと該領域Aの周縁にCr酸化物を含む領域Dを有することを特徴とする焼結体スパッタリングターゲット2金属成分として、Crが0.5mol以上45mol以下を含有することを特徴とする上記1記載の焼結体スパッタリングターゲット、を提供する。また、本発明は、3金属成分として、Co、Cr、Ptを含有し、該金属成分の素地中に分散した酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットであって、該スパッタリングターゲットの組織が金属素地中に、Co中にCo酸化物が分散した領域A若しくはPt中にCo酸化物が分散した領域B又はCo-Pt中にCo酸化物が分散した領域Cと、該領域A、B又はCの周縁に、Cr酸化物を含む領域Dを有することを特徴とする焼結体スパッタリングターゲット4金属成分として、Crが0.5mol以上30mol以下、Ptが0.5mol以上30mol以下であることを特徴とする上記3記載の焼結体スパッタリングターゲット、を提供する。また、本発明は、5前記Co酸化物は、CoO、Co2O3、Co3O4のいずれか1種以上であることを特徴とする上記1~4のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲット6前記Co酸化物がスパッタリングターゲット中に占める体積率として1vol以上、20vol以下であることを特徴とする上記1~5のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲット、を提供する。また、本発明は、7前記焼結体スパッタリングターゲットが、前記領域A、B又はCと前記領域D以外の金属素地に分散する酸化物として、Co、Cr、B、Mg、Al、Si、Ti、V、Mn、Y、Zr、Nb、Ta、Ceから選択した1種以上の元素の酸化物を含有することを特徴とする上記1~6のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲット、を提供する。また、本発明は、8前記焼結体スパッタリングターゲットが、前記以外の金属成分としてB、Ti、V、Nb、Mo、Ru、Ta、W、Ir、Auから選択した1元素以上を、15mol以下含有することを特徴とする上記1~7いずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲット9相対密度が90以上であることを特徴とする、上記1~8のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲット、を提供する。また、本発明は、10金属成分として、Co、Crを含有し、該金属成分の素地中に分散した酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットの製造方法であって、Co中にCo酸化物が分散した焼結体を粉砕して得た粉末とCo粉末とCr粉末とを混合して得た混合粉末を加圧焼結することにより、該スパッタリングターゲットの組織が金属素地中に、Co中にCo酸化物が分散した領域Aと該領域Aの周縁にCr酸化物を含む領域Dを有することを特徴とする焼結体スパッタリングターゲットの製造方法11金属成分として、Crが0.5mol以上45mol以下を含有することを特徴とする上記10記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法、を提供する。また、本発明は、12金属成分として、Co、Cr、Ptを含有し、該金属成分の素地中に分散した酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットの製造方法であって、Co又はPt若しくはCo-PtにCo酸化物が分散した焼結体を粉砕して得た粉末とCo粉末とPt粉末とCr粉末とを混合して得た混合粉末を加圧焼結することにより、該スパッタリングターゲットの組織が金属素地中に、Co中にCo酸化物が分散した領域A若しくはPt中にCo酸化物が分散した領域B又はCo-Pt中にCo酸化物が分散した領域Cと、該領域A、B又はCの周縁に、Cr酸化物を含む領域Dを有することを特徴とする焼結体スパッタリングターゲットの製造方法13金属成分として、Crが0.5mol以上30mol以下、Ptが0.5mol以上30mol以下とすることを特徴とする上記12記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法、を提供する。また、本発明は、14前記Co酸化物として、CoO、Co2O3、Co3O4のいずれか1種以上を用いることを特徴とする上記10~13のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法15前記Co酸化物がスパッタリングターゲット中に占める体積率を1vol以上、20vol以下とすることを特徴とする上記10~14のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法、を提供する。また、本発明は、16焼結用混合粉末として、さらに前記領域A、B又はCと前記領域D以外の金属素地に分散する酸化物として、Co、Cr、B、Mg、Al、Si、Ti、V、Mn、Y、Zr、Nb、Ta、Ceから選択した1種以上の元素の酸化物を混合して焼結することを特徴とする上記10~15のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法、を提供する。また、本発明は、17前記焼結用金属粉末として、前記以外の金属成分としてB、Ti、V、Nb、Mo、Ru、Ta、W、Ir、Auから選択した1元素以上を、15mol以下含有させて焼結することを特徴とする上記10~16いずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法、18焼結体ターゲットの相対密度を90以上とすることを特徴とする、上記10~17のいずれか一項に記載の焼結体スパッタリングターゲットの製造方法、を提供する。本発明は、Co酸化物が分散した領域A若しくは領域B又は領域Cを有するCo-Cr-酸化物系及びCo-Cr-Pt-酸化物系の焼結体スパッタリングターゲットを提供することができる。Co-Cr系合金又はCo-Cr-Pt系合金の素地マトリックス中に、Co中にCo酸化物が分散した領域A若しくはPt中にCo酸化物が分散した領域B又はCo-Pt中にCo酸化物が分散した領域Cが分散しており、これらの領域A、B又はCの周縁には、焼結中に拡散してきたCrとCo酸化物が反応し、Cr酸化物を含む領域Dが形成される。この場合、焼結原料としてCo中にCo酸化物が分散した焼結体若しくはPt中にCo酸化物が分散した焼結体又はCo-Pt中にCo酸化物が分散した焼結体を粉砕して得た粉末を使用することにより、焼結反応が十分に進む温度域においても、Co酸化物とCrの直接的かつ全面的な接触を抑制する、すなわちCoが緩衝材となり抑制効果を持つものである。これによって、焼結体スパッタリングターゲット中に、Co酸化物が分散した領域を形成することができる。このように、本発明は、必要量のCo酸化物を残存させると共に、スパッタ時のパーティクル発生が少ない十分な焼結密度を有するCo-Cr-酸化物系及びCo-Cr-Pt-酸化物系磁性材ターゲットターゲットを提供することができるという優れた効果を有する。本発明の焼結体スパッタリングターゲットは、金属成分として、Co、Crを含有し、該金属成分の素地中に分散した酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲット又は金属成分として、Co、Cr、Ptを含有し、該金属成分の素地中に分散した酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットからなり、該スパッタリングターゲットの組織が、金属素地中に、Co中にCo酸化物が分散した領域A若しくはPt中にCo酸化物が分散した領域B又はCo-Pt合金中にCo酸化物が分散した領域Cと、これらの領域A、B、Cの周囲にCr酸化物を含む領域Dを有する焼結体スパッタリングターゲットである。本発明のスパッタリングターゲットの組成を、前述の組成範囲に限定する理由は、垂直磁気記録方式を採用したハードディスク媒体の磁性層材料として好ましい組成となることを考慮したためである。また、スパッタリングターゲットの組織が金属素地マトリックス中に、Co中にCo酸化物が分散した領域A若しくはPt中にCo酸化物が分散した領域B又はCo-Pt合金中にCo酸化物が分散した領域C及びCr酸化物を含む領域Dを有することにより、本発明のスパッタリングターゲットを用いて作製された磁性層は垂直磁気記録媒体として良好なグラニュラー構造を持つ。Co中にCo酸化物が分散した領域A若しくはPt中にCo酸化物が分散した領域B又はCo-Pt中にCo酸化物が分散した領域Cの存在は、本発明の焼結体スパッタリングターゲットにおける重要な構成要件である。そして、前記領域A、B又はCの周囲にCr酸化物を含む領域Dを有することが、本発明の大きな特徴である。このように、Co中にCo酸化物が分散した領域A若しくはPt中にCo酸化物が分散した領域B又はCo-Pt中にCo酸化物が分散した領域Cの周縁には、焼結中に拡散してきたCrとCo酸化物が反応し、Cr酸化物を含む領域Dが形成される。この領域Dにおいて、Cr酸化物は必ずしも均一に分散して形成されるわけではない。Crの拡散によるCr酸化物の形成は、原料粉末の種類、焼結条件によって変化する可能性があるからである。しかし、焼結原料としてCo若しくはPt又はCo-Pt合金中にCo酸化物が分散した焼結体を粉砕して得た粉末を使用することにより、焼結反応が十分に進む温度域においても、Co酸化物とCrの直接的かつ全面的な接触を抑制することができ、最終的には前記領域A、B又はCの周縁に、領域Dが周縁を取り囲む構造を持つようになる。焼結条件によっては、Crの拡散により、領域A、B又はCが消失することにもなるが、このような過度な焼結は避けなければならない。ターゲット中に必要量のCo酸化物を残存させることが、本願発明の目的だからである。これらの領域A、B又はCの形状、又は領域A、B又はCの周縁に形成されたDとの2層の形状は、図2に示すように断面が、円形立体的には球状、楕円形のもの、島状、アメーバー状の異形状形が特定されないのものも存在するが、本発明は、これらを全て包含する。本発明のスパッタリングターゲットは粉末焼結法によって作製されるため、上記の各領域は必ずしも明確に分離することができない場合もあるが、上記の形態を有する組織を、本発明のスパッタリングターゲットにおいて観察することができる。焼結時の相互拡散や原料粉末中に含まれる微量不純物の影響で、Co中にCo酸化物が分散した領域A若しくはPt中にCo酸化物が分散した領域B又はCo-Pt中にCo酸化物が分散した領域Cにおいて、Co又はPt以外の元素やCo酸化物以外の酸化物が確認される場合もあるが、領域Aの主な構成要素はCoとCo酸化物であり、これらが主たる成分として含有されているならば、多少の混入は無視できるものであり、本願発明はこれらを包含するものである。前記Co酸化物としては、CoO、Co2O3、Co3O4のいずれか1種以上を用いることができる。このCo酸化物の存在形態は、特に問題となることはない。前記の通り、Co酸化物が存在することは、上記の通り磁性材の成膜から見て望ましいことであり、スパッタリングターゲット中に占める体積率は1vol以上、20vol以下とすることが良い。この体積率は1vol未満では、その効果を上げるのが難しく、また20volを超える場合には、Co酸化物を特別な条件として存続させることが難しく、また磁気記録膜としての特性を損なうおそれがあるので、上記の範囲とするのが望ましいと言える。垂直磁気記録膜の製造に使用される磁性材スパッタリングターゲットとしては、Co酸化物及びCr酸化物以外の酸化物として、B、Mg、Al、Si、Ti、V、Mn、Y、Zr、Nb、Ta、Ceから選択した1種以上の元素の酸化物を添加することができる。これらの酸化物はコバルト酸化物より標準生成自由エネルギーが大きく、スパッタ時にコバルト酸化物が分解して生じた酸素と再結合して酸化物となって粒界に析出するため、磁性層の材料として好適である。酸化物の添加量としては、Co酸化物及びCr酸化物も含めてスパッタリングターゲット中に占める体積率で40vol以下含有させることが望ましい。これは40volを越えると垂直磁気記録膜用のスパッタリングターゲットとしての特性を低下させる傾向を持つので、上記範囲が好ましい条件と言える。さらに、添加元素としてB、Ti、V、Nb、Mo、Ru、Ta、W、Ir、Auから選択した1元素以上を、スパッタリングターゲットにおける金属成分の配合比として15mol以下含有させることができる。これらはCo、Cr、Ptと共に、垂直磁気記録膜の製造に使用される磁性材として有効な成分であり、これらの元素は磁気記録膜の特性を、さらに向上させるために、必要に応じて添加されるものである。本発明のスパッタリングターゲットは、密度不足によるパーティクル発生を抑制するために、ターゲットの相対密度を90以上とすることができる。より好ましくは95以上であり、本発明は、このように相対密度を向上させることが可能である。ここでの相対密度とは、スパッタリングターゲットの実測密度を計算密度理論密度ともいうで割り返して求めた値である。計算密度とはターゲットの構成成分が互いに拡散あるいは反応せずに混在していると仮定したときの密度で、次式で計算される。式:計算密度=Σ構成成分の分子量×構成成分のモル比/Σ構成成分の分子量×構成成分のモル比/構成成分の文献値密度ここでΣは、ターゲットの構成成分の全てについて、和をとることを意味する。なお、スパッタリングターゲットの実測密度はアルキメデス法で測定される。本発明のスパッタリングターゲットは粉末焼結法により作製される。出発原料として、事前に作製したCo又はPt又はCo-Pt合金中にCo酸化物が分散した焼結体を粉砕して得た粉末を用いる。この粉砕粉の平均粒径は、30~200μmとすることが望ましい。さらに組成調整用として平均粒径が20μm以下の金属Co、Pt、Cr、添加元素粉末を用いることができる。また、単元素の金属粉末だけでなく、合金粉末を用いることもできる。その場合も平均粒径が20μm以下とすることが望ましい。金属粉末の平均粒径が20μm以上の場合、焼結時に焼結の駆動力が少なく焼結体の密度が上がりにくいといった問題が生じるからである。一方、粒径が小さ過ぎると、金属粉末の酸化が促進されて成分組成が範囲内に入らないなどの問題があるため、0.5μm以上とすることがさらに望ましい。これらは、成分組成及び焼結条件温度、圧力によって調整すべきもので、通常行われる好適な範囲である。したがって、上記サイズ以外にすることが当然可能であることは、容易に理解されるべきものである。Co酸化物以外の酸化物粉末としては金属中に微細分散させる必要があるため、最大粒径が5μm以下のものを用いることが望ましい。一方、粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなるため、0.1μm以上のものを用いることがさらに望ましい。まず、上記のCo又はPt若しくはCo-Pt合金中にCo酸化物が分散した焼結体を粉砕して得た粉末、金属粉末及び必要に応じて酸化物粉末を、所望の組成になるように秤量する。次に秤量した粉末をボールミルやミキサーなど既知の方法で混合する。こうして得られた混合粉末をホットプレスで成型焼結する。ホットプレス以外にも、プラズマ放電焼結法、熱間静水圧焼結法を使用することもできる。焼結時の保持温度は、800~1200°Cの範囲に設定する。好ましくは850~1100°Cである。以上の工程により、本発明のスパッタリングターゲット用焼結体を製造することができる。ここで、Co中にCo酸化物CoOが分散した焼結体を粉砕して得た粉末の研磨組織の顕微鏡写真を図1に示す。この図1において、粒子の白い素地マトリックスはCoを示し、やや黒っぽく見える片状の部分は、CoOを示す。このように、Co素地中にCoOが分散している。Pt中にCo酸化物が分散した焼結体を粉砕して得た粉末又はCo-Pt合金中にCo酸化物が分散した焼結体を粉砕して得た粉末も、同様の組織を有している。図1に示した粉末とCr粉末とCo粉末を混合した後、該混合粉末を加圧焼結した代表的な組織写真を図2に示す。また、この説明図を、図3に示す。図2及び図3に示すように、焼結体組織はCo中にCoOが分散した領域Aを有している。そして、該領域Aの周縁にCr酸化物を含む領域Dが観察される。このCr酸化物を含む領域Dは、焼結過程で元のCo中にCoOが分散した原料粉中のCoOが、その周囲から拡散してきたCrにより還元され新たに形成されたものである。このCr酸化物を含む領域Dの厚さは、焼結温度が高く焼結時間が長い場合には厚くなり、最後にはCoにCoOが分散した領域Aが消失する。このCo酸化物が分散した領域Aの消失は好ましいことではない。なぜなら上記に述べたように、スパッタリング時に分解した金属酸化物の金属元素が、コバルト酸化物が分解して生じた酸素と再結合することにより、安定して金属酸化物が磁性粒子間に偏析するという効果を得ることができないことを意味するからである。前記図2及び図3では、Co中にCo酸化物が分散した領域Aを有するので、好ましい形態と言える。上記については、焼結体スパッタリングターゲットの組織が、金属素地中にCoにCoOが分散した領域Aを有している場合について説明したが、焼結体スパッタリングターゲット組織が、Pt中にCo酸化物が分散した領域Bを有している又はCo-Pt中にCo酸化物が分散した領域Cを有している場合も、同様の組織と機能を有している。以下、実施例及び比較例に基づいて説明する。なお、本実施例はあくまで一例であり、この例によって何ら制限されるものではない。すなわち、本発明は特許請求の範囲によってのみ制限されるものであり、本発明に含まれる実施例以外の種々の変形を包含するものである。実施例1Co-Cr-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造において、Co-CoO粉を使用した場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末を、さらにCo中にCoOが分散した焼結体を粉砕して得た平均粒径150μmのCo-CoO粉末組成:Co-25molCoOを用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1836.1gとなるように秤量した。重量比:25.39Co-12.06Cr-62.55Co-CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:71Co-14Cr-15CoOmol次に、秤量した金属粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、2時間回転させて混合粉砕した。さらに、ボールミルから取り出した混合粉末をCo-CoO粉末とともにボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。そして遊星運動型ミキサーから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1050°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は97.5であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。79.23Co-9.56Cr-3.01Cr2O3-8.20CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、12.3volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co中にCoOが分散した領域Aとその周囲にCr酸化物を含む領域Dが観察された。以上の結果から、実施例1ではCoOがスパッタリングターゲット中に、一定量残存していることを確認した。比較例1Co-Cr-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造において、Co-CoO粉を使用しない場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのCoO粉末を用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1836.1gとなるように秤量した。重量比:69.32Co-12.06Cr-18.62CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:71Co-14Cr-15CoOmol次に、秤量した金属粉末と酸化物粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、2時間回転させて混合粉砕した。そしてボールミルからから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1050°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は98.1であった。またターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。90.52Co-4.05Cr-5.35Cr2O3-0.08CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、0.1volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co-Cr合金素地中にCr酸化物が均一に分散した組織となっていて、CoOの存在は明確に確認できなかった。以上の結果から、比較例1ではCoOがスパッタリングターゲット中では分解しほとんど残存していないことを確認した。実施例2Co-Cr-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造において、Co-CoO粉を使用した場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、酸化物粉末として平均粒径1μmのSiO2粉末を、さらにCo中にCoOが分散した焼結体を粉砕して得た平均粒径150μmのCo-CoO粉末組成:Co-25molCoOを用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1513.4gとなるように秤量した。秤量比:50.87Co-13.20Cr-6.10SiO2-29.83Co-CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:72Co-15Cr-6SiO2-7CoOmol次に、秤量した金属粉末と酸化物粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。さらに、ボールミルから取り出した混合粉末をCo-CoO粉末とともにボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。そして遊星運動型ミキサーから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は96.3であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。76.83Co-12.1Cr-5.97SiO2-1.12Cr2O3-3.98CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、5.5volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co中にCoOが分散した領域Aとその周囲にCr酸化物を含む領域Dが観察された。以上の結果から、実施例2ではCoOがスパッタリングターゲット中に、一定量残存していることを確認した比較例2Co-Cr-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造において、Co-CoO粉を使用しない場合比較例2では金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCoO粉末を用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1513.4gとなるように秤量した。秤量比:71.82Co-13.20Cr-6.10SiO2-8.88CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:72Co-15Cr-6SiO2-7CoOmol次に、秤量した粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。次にボールミルから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は96.9であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。80.80Co-10.5Cr-6.12SiO2-2.51Cr2O3-0.07CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、0.1volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co-Cr合金素地中にSiO2とCr酸化物が均一に分散した組織となっていて、CoOの存在は明確に確認できなかった。以上の結果から、比較例2ではスパッタリングターゲット中にCoOがほとんど残っていないことが確認された。実施例3Co-Cr-Pt-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造において、Co-CoO粉を使用した場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのSiO2粉末を、さらにCo中にCoOが分散した焼結体を粉砕して得た平均粒径150μmのCo-CoO粉末組成:Co-25molCoOを用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1864.6gとなるように秤量した。秤量比:30.48Co-10.34Cr-31.04Pt-4.78SiO2-23.36Co-CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:60Co-15Cr-12Pt-6SiO2-7CoOmol次に、秤量した金属粉末と酸化物粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。さらに、ボールミルから取り出した混合粉末をCo-CoO粉末とともにボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。そして遊星運動型ミキサーから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は95.8であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。63.74Co-12.92Cr-12.13Pt-6.07SiO2-1.12Cr2O3-4.02CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、5.4volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co中にCoOが分散した領域Aとその周囲にCr酸化物を含む領域Dが観察された。以上の結果から、実施例3ではCoOがスパッタリングターゲット中に、一定量残存していることを確認した実施例4Co-Cr-Pt-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造において、Pt-CoO粉を使用した場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのSiO2粉末を、さらにPt中にCoOが分散した焼結体を粉砕して得た平均粒径150μmのPt-CoO粉末組成:Pt-40molCoOを用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1864.6gとなるように秤量した。秤量比:46.89Co-10.34Cr-3.88Pt-4.78SiO2-34.11Pt-CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:60Co-15Cr-12Pt-6SiO2-7CoOmol次に、秤量した金属粉末と酸化物粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。さらに、ボールミルから取り出した混合粉末をPt-CoO粉末とともにボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。そして遊星運動型ミキサーから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は96.1であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。63.29Co-12.99Cr-12.13Pt-6.00SiO2-1.02Cr2O3-4.57CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、6.1volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Pt中にCoOが分散した領域Bとその周囲にCr酸化物を含む領域Dが観察された。以上の結果から、実施例4ではCoOがスパッタリングターゲット中に、一定量残存していることを確認した。実施例5Co-Cr-Pt-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造において、Co-Pt-CoO粉を使用した場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのSiO2粉末を、さらにCo-Pt合金中にCoOが分散した焼結体を粉砕して得た平均粒径150μmのCo-Pt-CoO粉末組成:37.5Co-37.5Pt-25CoOmolを用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1864.6gとなるように秤量した。秤量比:38.68Co-10.34Cr-3.88Pt-4.78SiO2-42.32Co-Pt-CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:60Co-15Cr-12Pt-6SiO2-7CoOmol次に、秤量した金属粉末と酸化物粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。さらに、ボールミルから取り出した混合粉末をCo-Pt-CoO粉末とともにボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。そして遊星運動型ミキサーから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は96.1であった。またターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。63.83Co-12.67Cr-12.08Pt-6.03SiO2-1.18Cr2O3-4.21CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、5.6volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co-Pt中にCoOが分散した領域Cとその周囲にCr酸化物を含む領域Dが観察された。以上の結果から、実施例5ではCoOがスパッタリングターゲット中に、一定量残存していることを確認した。比較例3Co-Cr-Pt-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造において、Co-CoO粉、Pt-CoO粉、Co-Pt-CoO粉を使用しない場合比較例3では金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCoO粉末を用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1864.6gとなるように秤量した。秤量比:46.89Co-10.34Cr-31.04Pt-4.78SiO2-6.95CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:60Co-15Cr-12Pt-6SiO2-7CoOmol次に、秤量した粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。次にボールミルから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は96.5であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。68.63Co-10.48Cr-12.30Pt-6.10SiO2-2.46Cr2O3-0.03CoO[mol]ターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、0.04volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co-Cr-Pt素地中にSiO2とCr酸化物が均一に分散した組織となっていて、CoOの存在は明確に確認できなかった。以上の結果から、比較例3ではスパッタリングターゲット中にCoOがほとんど残っていないことが確認された。実施例6Co-Cr-Pt-W-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造においてCo-CoOを使用した場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末、平均粒径2μmのW粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのSiO2粉末を、さらにCo中にCoOが分散した焼結体を粉砕して得た平均粒径150μmのCo-CoO粉末組成:Co-25molCoOを用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1940.6gとなるように秤量した。秤量比:27.52Co-9.19Cr-29.54Pt-6.96W-4.55SiO2-22.24Co-CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:58Co-14Cr-12Pt-3W-6SiO2-7CoOmol次に、秤量した金属粉末と酸化物粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。さらに、ボールミルから取り出した混合粉末をCo-CoO粉末とともにボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。そして遊星運動型ミキサーから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は97.3であった。またターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。61.26Co-12.22Cr-12.14Pt-2.98W-6.03SiO2-0.96Cr2O3-4.41CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、5.8volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co中にCoOが分散した領域Aとその周囲にCr酸化物を含む領域Dが観察された。以上の結果から、実施例6ではCoOがスパッタリングターゲット中に、一定量残存していることを確認した比較例4Co-Cr-Pt-W-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造においてCo-CoOを使用しない場合比較例4では金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末、平均粒径2μmのW粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCoO粉末を用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1940.6gとなるように秤量した。秤量比:43.14Co-9.19Cr-29.54Pt-6.96W-4.55SiO2-6.62CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:58Co-14Cr-12Pt-3W-6SiO2-7CoOmol次に、秤量した粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。次にボールミルから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は97.8であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。66.59Co-9.40Cr-12.25Pt-3.02W-6.10SiO2-2.55Cr2O3-0.09CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、0.1volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co-Cr-Pt-W素地中にSiO2とCr酸化物が均一に分散した組織となっていて、CoOの存在は明確に確認できなかった。以上の結果から、比較例4ではスパッタリングターゲット中にCoOがほとんど残っていないことが確認された。実施例7Co-Cr-Pt-Ru-TiO2-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造においてCo-CoOを使用した場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末、平均粒径5μmのRu粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのTiO2、平均粒径1μmのSiO2を、さらにCo中にCoOが分散した焼結体を粉砕して得た平均粒径150μmのCo-CoO粉末組成:Co-25molCoOを用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1935.3gとなるように秤量した。秤量比:28.26Co-9.44Cr-30.34Pt-3.93Ru-2.07TiO2-3.12SiO2-22.84Co-CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:58Co-14Cr-12Pt-3Ru-2TiO2-4SiO2-7CoOmol次に、秤量した金属粉末と酸化物粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。さらに、ボールミルから取り出した混合粉末をCo-CoO粉末とともにボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。そして遊星運動型ミキサーから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は98.6であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。61.91Co-12.16Cr-12.14Pt-2.98Ru-1.96TiO2-4.03SiO2-0.96Cr2O3-3.86CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、5.3volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co中にCoOが分散した領域Aとその周囲にCr酸化物を含む領域Dが観察された。以上の結果から、実施例7ではCoOがスパッタリングターゲット中に、一定量残存していることを確認した比較例5Co-Cr-Pt-Ru-TiO2-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造においてCo-CoOを使用しない場合比較例5では金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末、平均粒径5μmのRu粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCoO粉末を用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1935.3gとなるように秤量した。秤量比:44.30Co-9.44Cr-30.34Pt-3.93Ru-2.07TiO2-3.12SiO2-6.80CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:58Co-14Cr-12Pt-3Ru-2TiO2-4SiO2-7CoOmol次に、秤量した粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。次にボールミルから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は98.3であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。66.66Co-8.99Cr-12.28Pt-3.02Ru-2.00TiO2-4.07SiO2-2.96Cr2O3-0.02CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、0.03volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co-Cr-Pt-Ru素地中にTiO2とSiO2とCr酸化物が均一に分散した組織となっていて、CoOの存在は明確に確認できなかった。以上の結果から、比較例5ではスパッタリングターゲット中にCoOがほとんど残っていないことが確認された。実施例8Co-Cr-Pt-B2O3-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造においてCo-CoOを使用した場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末を、酸化物粉末として平均粒径20μmのB2O3、平均粒径1μmのSiO2を、さらにCo中にCoOが分散した焼結体を粉砕して得た平均粒径150μmのCo-CoO粉末組成:Co-25molCoOを用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1900.0gとなるように秤量した。秤量比:30.36Co-9.62Cr-30.93Pt-1.84B2O3-3.97SiO2-23.28Co-CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:60Co-14Cr-12Pt-2B2O3-5SiO2-7CoOmol次に、秤量した金属粉末と酸化物粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。さらに、ボールミルから取り出した混合粉末をCo-CoO粉末とともにボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。そして遊星運動型ミキサーから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1000°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は98.2であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。65.32Co-11.29Cr-12.20Pt-1.93B2O3-5.10SiO2-1.32Cr2O3-2.84CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、3.6volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co中にCoOが分散した領域Aとその周囲にCr酸化物を含む領域Dが観察された。以上の結果から、実施例8ではCoOがスパッタリングターゲット中に、一定量残存していることを確認した比較例6Co-Cr-Pt-B2O3-SiO2-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造においてCo-CoOを使用しない場合比較例6では金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末を、酸化物粉末として平均粒径20μmのB2O3粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCoO粉末を用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が1900.0gとなるように秤量した。秤量比:46.71Co-9.62Cr-30.93Pt-1.84B2O3-3.97SiO2-6.93CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:60Co-14Cr-12Pt-2B2O3-5SiO2-7CoOmol次に、秤量した粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。次にボールミルから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1000°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は98.4であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。分子量比:68.58Co-9.48Cr-12.32Pt-1.95B2O3-5.21SiO2-2.36Cr2O3-0.10CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、0.1volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co-Cr-Pt素地中にB2O3とSiO2とCr酸化物が均一に分散した組織となっていて、CoOの存在は明確に確認できなかった。以上の結果から、比較例6ではスパッタリングターゲット中にCoOがほとんど残っていないことが確認された。実施例9Co-Cr-Pt-Ta2O5-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造においてCo-CoOを使用した場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末を、酸化物粉末として平均粒径2μmのTa2O5を、さらにCo中にCoOが分散した焼結体を粉砕して得た平均粒径150μmのCo-CoO粉末組成:Co-25molCoOを用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が2290.0gとなるように秤量した。秤量比:34.51Co-9.84Cr-27.69Pt-13.07Ta2O5-14.89Co-CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:64.5Co-16Cr-12Pt-2.5Ta2O5-5CoOmol次に、秤量した金属粉末と酸化物粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。さらに、ボールミルから取り出した混合粉末をCo-CoO粉末とともにボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。そして遊星運動型ミキサーから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は99.3であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。68.50Co-13.98Cr-12.10Pt-2.57Ta2O5-1.02Cr2O3-1.83CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、2.5volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co中にCoOが分散した領域Aとその周囲にCr酸化物を含む領域Dが観察された。以上の結果から、実施例9ではCoOがスパッタリングターゲット中に、一定量残存していることを確認した比較例7Co-Cr-Pt-Ta2O5-Cr2O3-CoOスパッタリングターゲットの製造においてCo-CoOを使用しない場合比較例7では金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末を、酸化物粉末として平均粒径2μmのTa2O5粉末、平均粒径1μmのCoO粉末を用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が2290.0gとなるように秤量した。秤量比:44.97Co-9.84Cr-27.69Pt-13.07Ta2O5-4.43CoOwtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:64.5Co-16Cr-12Pt-2.5Ta2O5-5CoOmol次に、秤量した粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。次にボールミルから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は99.6であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。70.82Co-12.75Cr-12.25Pt-2.55Ta2O5-1.60Cr2O3-0.03CoOmolターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、0.04volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co-Cr-Pt素地中にTa2O5とCr酸化物が均一に分散した組織となっていて、CoOの存在は明確に確認できなかった。以上の結果から、比較例7ではスパッタリングターゲット中にCoOがほとんど残っていないことが確認された。実施例10Co-Cr-Pt-SiO2-Cr2O3-Co3O4スパッタリングターゲットの製造においてPt-Co3O4を使用した場合金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末を、酸化物粉末として平均粒径2μmのSiO2粉末を、さらにPt中にCo3O4が分散した焼結体を粉砕して得た平均粒径150μmのPt-Co3O4粉末組成:Pt-10molCo3O4を用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が2090.0gとなるように秤量した。秤量比:46.12Co-7.63Cr-16.70Pt-5.14SiO2-24.41Pt-Co3O4wtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:64Co-12Cr-16Pt-7SiO2-1Co3O4mol次に、秤量した金属粉末と酸化物粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。さらに、ボールミルから取り出した混合粉末をPt-Co3O4粉末とともにボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。そして遊星運動型ミキサーから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は96.8であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。65.69Co-10.17Cr-15.95Pt-7.02SiO2-0.80Cr2O3-0.37Co3O4molターゲット組成から算出したCo酸化物の体積率は、1.7volであった。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Pt中にCo3O4が分散した領域Bとその周囲にCr酸化物を含む領域Dが観察された。以上の結果から、実施例10ではCo3O4がスパッタリングターゲット中に、一定量残存していることを確認した比較例8Co-Cr-Pt-SiO2-Cr2O3-Co3O4スパッタリングターゲットの製造においてPt-Co3O4を使用しない場合比較例8では金属粉末として平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径3μmのPt粉末を、酸化物粉末として平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCo3O4粉末を用意した。これらの粉末を以下の重量比で合計重量が2090.0gとなるように秤量した。秤量比:46.12Co-7.63Cr-38.17Pt-5.14SiO2-2.94Co3O4wtまた、このときの重量比を分子量比で表すと以下のとおりであった。分子量比:64Co-12Cr-16Pt-7SiO2-1Co3O4mol次に、秤量した粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合粉砕した。次にボールミルから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度300°C/時間、保持温度1100°C、保持時間2時間とし、昇温開始時から保持終了まで30MPaで加圧した。また保持終了後は自然冷却させた。こうして作製された焼結体を旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のスパッタリングターゲットを得た。このときのスパッタリングターゲットの相対密度は97.3であった。またスパッタリングターゲットから採取した小片をICP発光分光分析装置で組成分析し、その分析結果をもとにスパッタリングターゲットの組成を計算したところ、以下の通りであった。66.72Co-9.20Cr-15.87Pt-6.98SiO2-1.23Cr2O3-0.00Co3O4molCo3O4は存在しないので、0.00とした。またスパッタリングターゲットの一部を切り出し、その断面を研磨して組織を観察したところ、Co-Cr-Pt素地中にSiO2とCr酸化物が均一に分散した組織となっていて、Co3O4の存在は明確に確認できなかった。以上の結果から、比較例8ではスパッタリングターゲット中にCo3O4がほとんど残っていないことが確認された。上記実施例については代表的な例を示すものであり、特に請求項に記載する酸化コバルトの量が全てを網羅している訳ではないが、スパッタリングターゲット中に占めるCo酸化物の体積率が1vol以上、20vol以下の範囲において、上記に記載した実施例と同様の効果を確認している。