プラズマ生成容器と、前記プラズマ生成容器内に配置された少なくとも1つのフィラメントと、前記プラズマ生成容器に対向配置され、当該プラズマ生成容器よりイオンビームを引き出す少なくとも1つの電極と、前記プラズマ生成容器の外側に設けられていて、当該プラズマ生成容器の内側領域にカスプ磁場を形成する複数の永久磁石と、前記プラズマ生成容器の内壁に沿って配置された防着板とを備えたイオン源であって、前記防着板には、前記プラズマ生成容器の壁面を介して前記永久磁石と対向する位置に凹部が形成されていることを特徴とするイオン源。前記防着板は、前記プラズマ生成容器の壁面を介して前記永久磁石と対向する位置に座ぐり部が形成された第一の防着板と、当該座ぐり部内に配置された第二の防着板とで構成されていることを特徴とする請求項1記載のイオン源。前記防着板は、前記プラズマ生成容器の壁面を介して前記永久磁石と対向する位置に貫通穴が形成された第一の防着板と、当該第一の防着板と前記プラズマ生成容器の壁面との間に配置され、前記貫通穴を塞ぐ第二の防着板とで構成されていることを特徴とする請求項1記載のイオン源。前記第二の防着板は、高融点材料であることを特徴とする請求項2または3記載のイオン源。前記凹部には、前記プラズマ生成容器の壁面に垂直な方向における前記防着板の厚みが連続して変化する傾斜部が形成されていることを特徴とする請求項1記載のイオン源。図8Aには、特許文献2に示されるイオン源のプラズマ生成容器壁面近傍に形成されるカスプ磁場中を電子eが移動する様子が描かれている。この図において、破線は磁力線を表し、実線は電子の動きを表す。プラズマ生成容器4の内部に配置された図示されないフィラメントより発生された電子eは、プラズマ生成容器4の壁面に近づいた際、壁面近傍に形成されたカスプ磁場によって捕捉され、当該磁場に沿って移動させられる。永久磁石12までの距離がある程度のところまで近づいた時、これまでプラズマ生成容器4の壁面に向かって進行していた電子が壁面から遠ざかる方向に進行するようになる。このような電子eの進行方向の変化は、磁場の弱いところから磁場の強いところへと電子eが進むことで発生する。一般的に、強い磁場の値をBm、弱い磁場の値をB0とした時、これらの比であるBm/B0ミラー比がある値を超えた場合にこのような進行方向の変化が発生する。磁場は永久磁石12に近づくに従って強くなる。その為、永久磁石12の近傍において、電子eの進行方向が変化させられることになる。図8Bには、特許文献2に示されるイオン源のプラズマ生成容器4の内壁に沿って厚みが均一な防着板21を配置した場合において、プラズマ生成容器壁面近傍に形成されるカスプ磁場中を電子eが移動する様子が描かれている。図8Aと同様に、破線は磁力線を表し、実線は電子の動きを表す。この場合、防着板21の厚みの分、図8Aの構成と比べて、電子eが捕捉されるカスプ磁場の領域が狭くなり、永久磁石12から離間した領域に制限されてしまう。永久磁石12に近づくほど磁場は強くなるので、防着板21の厚みが厚くなるほど、磁場の比較的弱い永久磁石12から遠い領域でしか電子eの捕捉が行われなくなる。そうなると、プラズマ生成容器4の壁面に向けて進行する電子eの進行方向が変化するまでに、電子eは防着板21に衝突して消滅してしまうことになる。プラズマの生成には、プラズマ生成容器4の内部に導入された原料ガスと電子eとの衝突が必要とされている。その為、電子eが防着板13に衝突して消滅してしまうと、プラズマの生成効率が低下してしまう。そこで、本発明では、従来の構成に比べて、防着板への電子の衝突を低減し、プラズマの生成効率が向上されたイオン源を提供することを目的とする。本発明のイオン源は、プラズマ生成容器と、前記プラズマ生成容器内に配置された少なくとも1つのフィラメントと、前記プラズマ生成容器に対向配置され、当該プラズマ生成容器よりイオンビームを引き出す少なくとも1つの電極と、前記プラズマ生成容器の外側に設けられていて、当該プラズマ生成容器の内側領域にカスプ磁場を形成する複数の永久磁石と、前記プラズマ生成容器の内壁に沿って配置された防着板とを備えたイオン源であって、前記防着板には、前記プラズマ生成容器の壁面を介して前記永久磁石と対向する位置に凹部が形成されていることを特徴としている。このような構成を用いることで、従来の構成に比べて防着板への電子の衝突を低減させることができ、それによりプラズマの生成効率を向上させることが可能となる。防着板を複数の部材の組み合わせで構成する場合には、前記防着板は、前記プラズマ生成容器の壁面を介して前記永久磁石と対向する位置に座ぐり部が形成された第一の防着板と、当該座ぐり部内に配置された第二の防着板とで構成するようにしても良い。また、上記構成とは別に、前記防着板は、前記プラズマ生成容器の壁面を介して前記永久磁石と対向する位置に貫通穴が形成された第一の防着板と、当該第一の防着板と前記プラズマ生成容器の壁面との間に配置され、前記貫通穴を塞ぐ第二の防着板とで構成するようにしても良い。なお、これらの構成において、前記第二の防着板は、高融点材料であることが望ましい。磁場が集中する永久磁石近傍では、プラズマの逃げ道となり部材が高温に熱せられる。その為、第二の防着板の材質を高融点材料にしておくことで、高温に熱せられた場合でも部材の熱変形を抑制させることが期待できる。一方で、前記凹部には、前記プラズマ生成容器の壁面に垂直な方向における前記防着板の厚みが連続して変化する傾斜部が形成されていても良い。このような構成を用いることで、防着板の強度が増すので、強度不足によって生じる防着板の撓み等を抑制させることが期待できる。従来の構成に比べて、防着板への電子の衝突を低減し、プラズマの生成効率を向上させる。図1には本発明が適用されるイオン源1の一例が記載されている。このイオン源1はいわゆるバケット型イオン源と呼ばれるタイプのイオン源の一種である。このイオン源1は長方形状のプラズマ生成容器4を備えており、プラズマ生成容器4より略リボン状のイオンビーム3が引き出される。プラズマ生成容器4には図示されないバルブを介してガス源2が取り付けられており、このガス源2よりイオンビーム3の原料となるガスの供給がなされる。なお、このガス源2には図示されないガス流量調節器マスフローコントローラーが接続されており、これによってガス源2からプラズマ生成容器4内部へのガスの供給量が調整されている。プラズマ生成容器4の一側面には、Y方向に沿って複数のU字型のフィラメント10が取り付けられている。これらのフィラメント10は、フィラメント10の端子間に接続される電源VFを用いて、各フィラメント10に流す電流量の調整が行えるように構成されている。このような構成にしておくことで、イオン源1より引き出されるイオンビーム3の電流密度分布調整が可能となる。フィラメント10に電流を流し、当該フィラメント10を加熱させることによって、そこから電子が放出される。この電子が、プラズマ生成容器4内部に供給されたガスに衝突してガスの電離を引き起こし、プラズマ生成容器4内にプラズマ9が生成される。このイオン源1においては、プラズマ生成容器4の外壁に沿って複数の永久磁石12が取り付けられている。この永久磁石12によって、プラズマ生成容器4の内部領域にカスプ磁場が形成され、フィラメント10より放出された電子が所定領域内に閉じ込められる。イオン源1は引出し電極系として4枚の電極を有しており、プラズマ生成容器4からZ方向に沿って加速電極5、引出し電極6、抑制電極7、接地電極8の順に配置されている。各電極とプラズマ生成容器4との電位は、複数の電源V1~V4によって、それぞれ異なる値に設定されているとともに、各部材間の取り付けは絶縁物11を介してなされている。引出し電極系で用いられる電極には、例えば複数のスリット状の開口が設けられており、これらの開口を通してイオンビーム3の引出しが行なわれる。図1には引出し電極系として4枚の電極を有する構成のイオン源が記載されているが、これに限らず、電極の枚数は少なくとも1枚以上あれば良い。このイオン源1において、プラズマ生成容器4の内側には、その内壁に沿うように防着板13が設けられている。この防着板13のプラズマ生成容器4の壁面に略垂直な方向における厚みは、プラズマ生成容器4の壁面を介して永久磁石12と対向する場所が他の場所に比べて薄くなっている。より具体的な構成については後述するが、このような構成を用いることで、従来の構成に比べてプラズマ生成容器4の内部でのプラズマ9の生成効率を向上させることができる。図2A、Bには、カスプ磁場生成用の複数の永久磁石12がプラズマ生成容器4の外壁に沿って配置されている様子が描かれている。なお、図2Aと図2Bとでは描かれている視点が異なっている。プラズマ生成容器4にはZ方向にイオンビーム3を引き出す為の開口部20を含む面があり、この面を除く他の5面に複数の永久磁石12が取り付けられている。なお、永久磁石12はプラズマ生成容器4に直接取り付けられるようにしてもいいが、各永久磁石12を収納するホルダーを設けておき、このホルダーをプラズマ生成容器4にボルト等を用いて取り付けるようにしておいても良い。図3には、本発明で用いられる防着板の一例が描かれている。この例において、防着板13のプラズマ生成容器4の壁面を介して複数の永久磁石12と対向する場所には、凹部14が形成されている。この凹部14を形成しておくことによって、防着板13の厚みが薄くなるので、その分、カスプ磁場による電子の捕捉領域を拡大させることが可能となる。その結果、厚みが均一である防着板21を備えた従来の構成に比べて、防着板13への電子の衝突を低減し、プラズマの生成効率を向上させることが可能となる。なお、この図3および後述する図4~図6の手前側に描かれる防着板13と永久磁石12の断面は、図2に描かれているプラズマ生成容器4の一側面を複数の永久磁石12の短辺方向に沿って切断した時の切断面に相当する。図4には、本発明で用いられる防着板13の別の例が描かれている。この例では、防着板13は第一の防着板15と第二の防着板16とから構成されている。第一の防着板15には、プラズマ生成容器4を介して永久磁石12と対向する位置に座ぐり部17が形成されていて、この座ぐり部17内に第二の防着板16が配置されることで、先述の凹部14が形成される。このように複数の部材を用いて防着板13を構成しても良い。なお、防着板13のプラズマ生成容器4の壁面を介して永久磁石12と対向する場所には、局所的なプラズマの逃げ道が形成され、高温に加熱される。その為、このような場所に配置される第二の防着板16をモリブデンやタングステン等の高融点材料で構成しておくことが望ましい。図5A、Bには、本発明で用いられる防着板13の他の例が描かれている。第一の防着板15のプラズマ生成容器4を介して永久磁石12と対向する場所に貫通穴18が形成されており、この貫通穴18を塞ぐように、第一の防着板15とプラズマ生成容器4の壁面との間に第二の防着板16を配置することで、先述の凹部14が形成されている。図5Aでは、各貫通穴18を個別に塞ぐように第二の防着板16が配置されているが、図5Bに示すように大きな第二の防着板16を用いて、複数の貫通穴18をまとめて塞ぐように構成しておいても良い。その方が、防着板13の構成を簡素にすることができる。なお、この第二の防着板16の材質は、先の例と同じく高融点材料を用いることが望ましい。<その他変形例>図6には、図3に示した防着板の変形例が描かれている。この例で示される防着板13の構成は図3に示された防着板13の構成とほぼ同一であって、図6の防着板13に形成される凹部14は傾斜部19を有しているのに対して、図3の防着板13に形成される凹部14にはそのような傾斜部19が存在してない点が異なっている。この傾斜部19は、プラズマ生成容器4の壁面に垂直な方向での防着板13の厚みが、プラズマ生成容器4の壁面に沿って、プラズマ生成容器4の壁面を介して永久磁石12と対向する位置に近づくにつれて徐々に薄くなるように構成されている。複数の永久磁石12間で発生するカスプ磁場は、永久磁石12からおおよそ放射状に広がる。そして、プラズマ生成容器4の壁面近傍では、電子がカスプ磁場に沿って移動する。その為、このような電子の移動を妨げないように放射状に発生するカスプ磁場を避けるようにして防着板13の形状を工夫することが考えられる。図7Aには図3に示される防着板13の凹部を拡大した図が、図7Bには図6に示される防着板13の凹部を拡大した図が、それぞれ示されている。これらの図を比較すればわかるように、図7Aに比べて図7Bのような傾斜部19を有する構成の方が、図7Bにハッチングで示されている部分の面積分だけ、防着板13の面積を大きくしておくことができる。防着板の面積が大きいと、その分、防着板13の強度が増すので、強度不足によって生じる撓み等の悪影響を抑制することが期待できる。なお、図中の永久磁石12より伸びる矢印は、磁力線を表す。図6の例では、永久磁石12が配置される位置とプラズマ生成容器4の壁面を介して対向する場所に向かうにつれて、防着板13の厚みが線形的に減少するような傾斜部19が形成されていたが、これに限らず、防着板13の厚みが非線形的に減少するような傾斜部19が形成されていても良い。また、図3~図7に示す本発明の実施形態では、防着板13とプラズマ生成容器4の内壁面とが接触している、これらの部材間には空間が設けられるようにしておいても良い。さらに、先の実施形態では、プラズマ生成容器4の形状を長方形状としたが、これに限らず、プラズマ生成容器4の形状は、円柱形状や正方形状、あるいは、それ以外の多角形状であっても良い。また、カスプ磁場形成用の永久磁石12の例として図2に示す構成を挙げたが、磁石の配置はこれに限られない。その他、プラズマ生成容器4内に配置されるフィラメント10の本数は、少なくとも1本以上あれば良い。前述した以外に、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行っても良いのはもちろんである。