"めっき槽中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置で用いるバッフルプレート本体からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、前記バッフルプレート本体はSi3N4で形成されていることを特徴とするガスワイピング装置用バッフルプレート。前記バッフルプレート本体は、金属板に取付けられていることを特徴とする請求項1記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。前記金属板は、前記バッフルプレート本体を接続するための接続部と、前記金属板の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体を保持するための保持溝部と、からなることを特徴とする請求項2記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。前記接続部は、複数の長手接続板又は一枚の接続板からなり、前記各長手接続板又は一枚の接続板及びボルトによって前記金属板とバッフルプレート本体は接続されていることを特徴とする請求項3記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。前記保持溝部の先端部は、前記バッフルプレート本体の外側曲折部の形状に沿って曲折する曲折溝部を有し、前記バッフルプレート本体の一側の直線部及び前記直線部に続く外側曲折部が前記曲折溝部に挿入されていることを特徴とする請求項3又は4記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。前記金属板は、ステンレスからなることを特徴とする請求項2ないし5の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。請求項1ないし6の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いることを特徴とするガスワイピング方法。従来のガスワイピング装置用バッフルプレートは、以上のように構成されていたため、次のような課題が存在していた。すなわち、図12に示されるように、前記めっき鋼帯5とバッフルプレート11を近づけると、各ワイピングノズル2,3からのワイピングガスの噴流の衝突を防止する効果は大きくなるが、この状態では、図12に示されるように、前記めっき鋼帯5とバッフルプレート11間の衝突噴流によるスプラッシュがバッフルプレート11に固着金属12として付着し、そのまま固着する場合があった。前述のスプラッシュによる溶融金属の固着からなる固着金属12の状態が進行すると、ワイピングガスの噴流に大きい乱流成分C図12が発生することになり、各ワイピングノズル2,3にめっきの溶融亜鉛が飛散して付着し、ワイピングガス圧が部分的に低下することによって、めっき鋼帯5のめっき付着にバラツキが生じ、溶融めっきの部分的なオーバーコートが発生していた。また、このバッフルプレート10,11へのスプラッシュの固着を防止するには、バッフルプレート11をめっき鋼帯5から離間させればよいが、前述のように、スプラッシュの発生量の増大につながるため、相反する課題となっていた。また、前記バッフルプレート11を一般的なセラミックとする案も提供されているが、濡れ性が良いため、前述と同様の課題が発生していた。本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレートは、めっき槽中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置で用いるバッフルプレート本体からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、前記バッフルプレート本体はSi3N4で形成されている構成であり、また、前記バッフルプレート本体は、金属板に取付けられている構成であり、また、前記金属板は、前記バッフルプレート本体を接続するための接続部と、前記金属板の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体を保持するための保持溝部と、からなる構成であり、また、前記接続部は、複数の長手接続板又は一枚の接続板からなり、前記各長手接続板又は一枚の接続板及びボルトによって前記金属板とバッフルプレート本体は接続されている構成であり、また、前記保持溝部の先端部は、前記バッフルプレート本体の外側曲折部の形状に沿って曲折する曲折溝部を有し、前記バッフルプレート本体の一側の直線部及び前記直線部に続く外側曲折部が前記曲折溝部に挿入されている構成であり、また、前記金属板は、ステンレスからなる構成であり、また、請求項1ないし6の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いる方法である。本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びこれを用いたガスワイピング方法は、以上のように構成されていたため、次のような効果を得ることができる。すなわち、めっき槽中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置で用いるバッフルプレート本体からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、前記バッフルプレート本体はSi3N4で形成されていることにより、濡れ性が低く、一般のセラミックよりもスプラッシュによる溶融金属の金属密着性が大幅に低減し、周囲環境であるワイピングガス圧及びバッフルプレート自身の振動によりスプラッシュによる溶融金属が落下するため、溶融めっき鋼帯の品質に影響を及ぼすことなく、スプラッシュの低減を図ることができる。また、前記バッフルプレート本体は、金属板に取付けられていることにより、全体を高価なSi3N4で作らなくて済み、コストダウンとなり、強度も向上し、装置への取付けも容易となる。また、前記金属板は、前記バッフルプレート本体を接続するための接続部と、前記金属板の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体を保持するための保持溝部と、からなることにより、バッフルプレート本体を金属板の保持溝部に挿入係合させて保持できるため、金属板とバッフルプレート本体を簡単かつ確実に保持して接続させることができる。また、前記接続部は、複数の長手接続板又は一枚の接続板からなり、前記各長手接続板又は一枚の接続板及びボルトによって前記金属板とバッフルプレート本体は接続されていることにより、万一の交換時においても、バッフルプレート本体の交換が容易である。また、前記保持溝部の先端部は、前記バッフルプレート本体の外側曲折部の形状に沿って曲折する曲折溝部を有し、前記バッフルプレート本体の一側の直線部及び前記直線部に続く外側曲折部が前記曲折溝部に挿入されていることにより、破損しやすいSi3N4の衝撃による破損を防止し、耐久性のあるバッフルプレートとして用いることができる。また、前記金属板は、ステンレスからなることにより、耐久性に優れたバッフルプレートを用いることができる。請求項1ないし6の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いることにより、スプラッシュの少ない安定したガスワイピングを行うことができる。本発明は、バッフルプレートをSi3N4で形成することにより、スプラッシュの発生量を抑え、めっき付着量を均一的にするようにしたガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法を提供することを目的とする。以下、図面と共に本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法の好適な実施の形態について説明する。尚、従来例と同一又は同等部分には、同一符号を付して説明すると共に、図10及び図11の従来構成についても本発明の構成に援用するものとする。図1において符号1で示されるものはガスワイピング装置であり、このガスワイピング装置1に設けられ互いに対向しかつ離間した一対のワイピングノズル2,3間には、図8のめっき槽4中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯5が通過するように構成され、前記各ワイピングノズル2,3からのワイピングガス2a,3aが前記めっき鋼帯5に吹付けられることにより、このめっき鋼帯5に付着するめっき付着量すなわち厚さを一定とするように調整する構成である。前記ガスワイピング装置1のめっき鋼帯5の両端部5a,5b図11で示すには一対のバッフルプレート10,11が設けられているが、図1で図示を省略して一方のバッフルプレート11のみを示している。前記バッフルプレート11は、バッフルプレート本体20のみで構成される場合もあるが、このバッフルプレート本体20はSi3N4で形成されているため、金属板と比較すると衝撃で破損する場合があるため、図2及び図3で示されるように、バッフルプレート本体20受けとしてのステンレス等からなる金属板21に接続部22Aをなす接続板22を介してめっき鋼帯5側に位置しSi3N4からなるバッフルプレート本体20をボルト23によって接続して構成されている。すなわち、金属板21をバッフルプレート本体20の補強材として使用し、耐衝撃性が大きくなるように構成している。前記金属板21は、前記バッフルプレート本体20を接続するための前記接続板22と、前記金属板21の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体20を保持するための保持溝部24とからなり、前記保持溝部24は、前記金属板21のL字型に形成された先端部25に直線状に形成されている。尚、前記保持溝部24は直線状に形成され、前記バッフルプレート本体20は直線部分で組み合わされたほぼ長方形状で形成されている。図4から図7で示される図3のバッフルプレート11の他の形態においては、前記バッフルプレート本体20の一側に直線部30及びこの直線部30に連続する外側曲折部31が形成されている。前記金属板21の一側の先端部25側には、直線状の前記保持溝部24に連続して曲折溝部32が形成されている。前記バッフルプレート本体20は、前記直線部30が前記保持溝部24内に挿入されて嵌合し、前記外側曲折部31が前記曲折溝部32内に挿入されて嵌合することにより、前記バッフルプレート本体20は前記金属板21と接続されてバッフルプレート11が形成される。さらに、前記バッフルプレート本体20と金属板21とは、前記金属板21に設けられた接続部22Aとしての複数の長手接続板35がバッフルプレート本体20の取付孔36に設けられるボルト37を介してバッフルプレート本体20に取付けられることにより、互いに強固に一体接続されている。尚、図4においてノズル高さHとして表示されている位置は、前述の図1における各ワイピングノズル2,3からのワイピングガスを噴射するノズル位置を示している。また、図7は、金属板21からバッフルプレート本体20を除去し、バッフルプレート本体20を新品と交換する又は取付前のような場合を示している。前記バッフルプレート本体20は、前述のように、窒化珪素Si3N4で構成されたファインセラミックよりなるセラミック板であり、一般のセラミックスと比較して耐熱衝撃性、耐化学薬品性に優れ、熱膨張率が低く、高温まで高強度であるという特性を有しており、めっき槽4のめっき液に対して十分な濡れ性を有している。従って、金属が付着する際の400~700度程度の急激な温度変化に耐えることができ、金属との熱膨張率の差が大きいため、金属溶融めっき液とSi3N4との界面が容易に乖離し、Si3N4の焼結組織が密な部分が表面となるように、Ai3N4のバッフルプレート本体20は表面研磨を行った後に用いた方が金属密着性が小さくなる。"