レーザ光を入射させた光ファイバアレイの出射光からなる光源と、前記光源を整形して多重分割、重畳照射によるプロファイルの均一化と直線偏光化を実施して2次光源を生成するホモジナイズド光学系と、前記2次光源による照射対象への照射、前記照射対象からの光源への戻り光の遮断及び制御信号用ビームの抽出を行うフォーカシング光学系を有することを特徴とする光ファイバアレイを用いたラインビーム照射装置。前記ホモジナイズド光学系は、照射対象方向に、アレイピッチ2nのシリンドリカルレンズアレイとアレイピッチnのポラライジングコンバータを対設して配置ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射装置。前記ホモジナイズド光学系は、コリメートレンズ、シリンドリカルレンズアレイ、ポラライジングコンバータ及びコンデンサレンズを、照射対象方向に順次配置して構成することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射装置。前記フォーカシング光学系は、照射対象方向に直線偏光用ビームスプリッタとλ4板を対設して配置することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射装置。前記フォーカシング光学系は、オートフォーカス制御系と出力測定系を付設することを特徴とする請求項1又は請求項4に記載の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射装置。前記フォーカシング光学系は、コリメートレンズ、ダイクロイックミラー、直線偏光用ビームスプリッタ、λ4板及び対物レンズを、照射対象方向に順次配置した構成するとともに、オートフォーカス制御系と出力測定系を付設することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射装置。レーザ光を入射させた光ファイバアレイの出射光からなる光源と、前記光源を整形して多重分割、重畳照射によるプロファイルの均一化と直線偏光化を実施して2次光源を生成するコリメートレンズ、シリンドリカルレンズアレイ、ポラライジングコンバータ及びコンデンサレンズとからなるホモジナイズド光学系と、前記2次光源による照射対象への照射、前記照射対象からの光源への戻り光の遮断及び制御信号用ビームの抽出を行うコリメートレンズ、ダイクロイックミラー、直線偏光用ビームスプリッタ、λ4板及び対物レンズを、照射対象方向に順次配置した構成するフォーカシング光学系と、前記フォーカシング光学系に付設するオートフォーカス制御系と出力測定系とで構成することを特徴とする光ファイバアレイを用いたラインビーム照射装置。レーザ光を入射させた光ファイバアレイの出力光を光源とし、ホモジナイズド光学系とフォーカシング光学系とからなる光学系のうち、ホモジナイズド光学系において、上記光源を整形して多重分割と重畳照射によるプロファイルの均一化と直線偏光化を実施して2次光源を生成し、フォーカシング光学系において、前記2次光源の照射対象への照射、前記照射対象からの光源への戻り光の遮断及び制御信号用ビームの抽出を行うことを特徴とする光ファイバアレイを用いたラインビーム照射方法。前記ホモジナイズド光学系は、アレイピッチ2nのシリンドリカルレンズアレイとアレイピッチnのポラライジングコンバータを対設して配置ことを特徴とする請求項8に記載の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射方法。前記ホモジナイズド光学系は、コリメートレンズ、シリンドリカルレンズアレイ、ポラライジングコンバータ及びコンデンサレンズを、照射対象方向に順次配置して構成することを特徴とする請求項8に記載の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射方法。前記フォーカシング光学系は、照射対象方向に、直線偏光用ビームスプリッタとλ4板を対設して配置することを特徴とする請求項8に記載の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射方法。前記フォーカシング光学系は、オートフォーカス制御系と出力測定系を付設することを特徴とする請求項8に記載の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射方法。前記フォーカシング光学系は、コリメートレンズ、ダイクロイックミラー、直線偏光用ビームスプリッタ、λ4板及び対物レンズを、照射対象方向に順次配置した構成するとともに、オートフォーカス制御系と出力測定系を付設することを特徴とする請求項7に記載の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射方法。レーザ光を入射させた光ファイバアレイの出力光を光源とし、ホモジナイズド光学系とフォーカシング光学系とからなる光学系のうち、コリメートレンズ、シリンドリカルレンズアレイ、ポラライジングコンバータ及びコンデンサレンズを、照射対象方向に順次配置して構成するホモジナイズド光学系において、上記光源を整形して多重分割と重畳照射によるプロファイルの均一化と直線偏光化を実施して2次光源を生成し、コリメートレンズ、ダイクロイックミラー、直線偏光用ビームスプリッタ、λ4板及び対物レンズを、照射対象方向に順次配置した構成するフォーカシング光学系と前記フォーカシング光学系に付設するオートフォーカス制御系と出力測定系において、前記2次光源の照射対象への照射、前記照射対象から光源への戻り光の遮断及び制御信号用ビームの抽出を行うことを特徴とする光ファイバアレイを用いたラインビーム照射方法。本発明は、均一なトップフラットで出力の安定したラインビームを照射対象に合焦点し、例えば、シリコン膜の物理的特性を改質したり、結晶に含まれている欠陥を再結晶化により取り除いたりすることを目的とした、光ファイバアレイを用いたラインビーム照射装置及びその照射方法を提供することにある。上記目的を達成するために、本発明は、光ファイバアレイを用いたラインビーム照射装置であって、レーザ光を入射させた光ファイバアレイの出射光からなる光源と、前記光源を整形して多重分割、重畳照射によるプロファイルの均一化と直線偏光化を実施して2次光源を生成するホモジナイズド光学系と、前記2次光源による照射対象への照射、前記照射対象からの光源への戻り光の遮断及び制御信号用ビームの抽出を行うフォーカシング光学系を有することを特徴とする。この構成により、各光学系を目的機能に特化した設計とすることが可能で、系全体をコンパクトに実装することができる。また、この装置によって、低コスト、高精度及び安定稼働が確保できる。また、本発明は、前記ラインビーム照射装置において、前記ホモジナイズド光学系は、照射対象方向に、アレイピッチ2nのシリンドリカルレンズアレイとアレイピッチnのポラライジングコンバータを対設して配置ことを特徴とする。この構成により、シリンドリカルレンズアレイとポラライジングコンバータが補完的な機能を発揮し、光源の多重分割と直線偏光化を同時に達成できる。また、本発明は、前記ラインビーム照射装置において、前記ホモジナイズド光学系は、コリメートレンズ、シリンドリカルレンズアレイ、ポラライジングコンバータ及びコンデンサレンズを、照射対象方向に順次配置して構成することを特徴とする。また、本発明は、前記ラインビーム照射装置において、前記フォーカシング光学系は、照射対象方向に直線偏光用ビームスプリッタとλ4板を対設して配置することを特徴とする。また、本発明は、前記ラインビーム照射装置において、前記フォーカシング光学系は、オートフォーカス制御系と出力測定系を付設することを特徴とする。また、本発明は、前記ラインビーム照射装置において、前記フォーカシング光学系は、コリメートレンズ、ダイクロイックミラー、直線偏光用ビームスプリッタ及び対物レンズを、照射対象方向に順次配置した構成するとともに、オートフォーカス制御系と出力測定系を付設することを特徴とする。また、本発明は、前記ラインビーム照射装置において、レーザ光を入射させた光ファイバアレイの出射光からなる光源と、前記光源を整形して多重分割、重畳照射によるプロファイルの均一化と直線偏光化を実施して2次光源を生成するコリメートレンズ、シリンドリカルレンズアレイ、ポラライジングコンバータ及びコンデンサレンズとからなるホモジナイズド光学系と、前記2次光源による照射対象への照射、前記照射対象から光源への戻り光の遮断及び制御信号用ビームの抽出を行うコリメートレンズ、ダイクロイックミラー、直線偏光用ビームスプリッタ、λ4板及び対物レンズを照射対象方向に順次配置した構成するフォーカシング光学系と、前記フォーカシング光学系に付設するオートフォーカス制御系と出力測定系とで構成することを特徴とする。また、本発明は、光ファイバアレイを用いたラインビーム照射方法であって、レーザ光を入射させた光ファイバアレイの出力光を光源とし、ホモジナイズド光学系とフォーカシング光学系とからなる光学系のうち、ホモジナイズド光学系において、上記光源を整形して多重分割と重畳照射によるプロファイルの均一化と直線偏光化を実施して2次光源を生成し、フォーカシング光学系において、前記2次光源の照射対象への照射、前記照射対象から光源への戻り光の遮断及び制御信号用ビームの抽出を行うことを特徴とする。また、本発明は、前記ラインビーム照射方法において、照射対象方向に、アレイピッチ2nのシリンドリカルレンズアレイとアレイピッチnのポラライジングコンバータを対設して配置ことを特徴とする。また、本発明は、前記ラインビーム照射方法において、前記ホモジナイズド光学系は、コリメートレンズ、シリンドリカルレンズアレイ、ポラライジングコンバータ及びコンデンサレンズを、照射対象方向に順次配置して構成することを特徴とする。また、本発明は、前記ラインビーム照射方法において、前記フォーカシング光学系は、照射対象方向に、直線偏光用ビームスプリッタとλ4板を対設して配置することを特徴とする。また、本発明は、前記ラインビーム照射方法において、前記フォーカシング光学系は、オートフォーカス制御系と出力測定系を付設することを特徴とする。また、本発明は、前記ラインビーム照射方法において、前記フォーカシング光学系は、コリメートレンズ、ダイクロイックミラー、直線偏光用ビームスプリッタ、λ4板及び対物レンズを、照射対象方向に順次配置した構成するとともに、オートフォーカス制御系と出力測定系を付設することを特徴とする。また、本発明は、前記ラインビーム照射方法において、レーザ光を入射させた光ファイバアレイの出力光を光源とし、ホモジナイズド光学系とフォーカシング光学系とからなる光学系のうち、コリメートレンズ、シリンドリカルレンズアレイ、ポラライジングコンバータ及びコンデンサレンズを、照射対象方向に順次配置して構成するホモジナイズド光学系において、上記光源を整形して多重分割と重畳照射によるプロファイルの均一化と直線偏光化を実施して2次光源を生成し、コリメートレンズ、ダイクロイックミラー、直線偏光用ビームスプリッタ、λ4板及び対物レンズを、照射対象方向に順次配置した構成するフォーカシング光学系及と前記フォーカシング光学系に付設するオートフォーカス制御系と出力測定系において、前記2次光源の照射対象への照射、前記照射対象から光源への戻り光の遮断及び制御信号用ビームの抽出を行うことを特徴とする。前述の特徴によって、本発明は、スポットプロファイルの均一化が確保でき、照射対象ワークの照射部位における特性のバラツキが低減できる。また、照射ワークから光源への戻り光の遮断ができ、光源ダメージの防止を図ることができる。さらに、制御信号用ビームが安定である為、ラインビームの出力や焦点合わせ精度の向上を一段と図ることができる。以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。図1は、本発明の光ファイバアレイを用いたラインビーム照射装置の構成図である。ラインビーム照射装置1は、光ファイバアレイ3、コリメートレンズ4、シリンドリカルレンズアレイ5、ポラライジングコンバータ6、シリンドリカルレンズアレイ7及びコンデンサレンズ8のレンズ等で配置するホモジナイズド光学系1Aと、コリメートレンズ9、ダイクロイックミラー10、直線偏光用ビームスプリッタ11、λ4板12及び対物レンズ13で配置するフォーカシング光学系1Bとで構成する。ホモジナイズド光学系1A矢印Aと矢印Bの間は、レーザ光2を入射させた光ファイバアレイ3の出力光を光源とし、コリメートレンズ4、シリンドリカルレンズアレイ5、ポラライジングコンバータ6、シリンドリカルレンズアレイ7及びコンデンサレンズ8を、照射対象方向に順次配置して構成する。ホモジナイズド光学系1Aより照射対象14側に位置するフォーカシング光学系1B矢印Bと矢印Cの間は、コリメートレンズ9、ダイクロイックミラー10、直線偏光用ビームスプリッタ11、λ4板12及び対物レンズ13と、フォーカシング光学系1Bに付属するオートフォーカス制御系1Cと出力測定系1Dとで構成する。シリンドリカルレンズアレイ7を設けたのは、B地点矢印Bの部位に分割光をそろえて結像させるための補助的ポジションにするためである。また、オートフォーカス用別光源1Eをダイクロイックミラー10に入射させる。レーザ光2を光ファイバアレイ3に入射し、その出射光を光源とする。この光源は、コリメートレンズ4で平行光ビームとなる。この状態での平行光ビームは、無偏光である。平行光ビームは、シリンドリカルレンズアレイ5に入射する。ここで、光源分割、重畳照射によるホモジナイズに関しては、光源分割にフライアイレンズのようなレンズアイを用いるのが一般的である。しかし、本発明ではプロフェイルの均一化を行いたいのは、ラインビームの長手方向の一方向のみであるため、シリンドリカルレンズアレイ5を採用した。ただし、ホモジナイズ効果を高めるためには、光源の分割数をできる限り増やす必要がある。シリンドリカルレンズアレイ5では、次のポラライジングコンバータ6との相補により、平行光ビームの多重分割が行われる。そこでポラライジングコンバータ6を図2を用いて説明する。図2は、ポラライジングコンバータ6の概要図であって、レンズ6aとレンズ6bの組み合わせとからなる偏光ビームスプリッタPBSとλ2板とで構成する。具体的には、端部の三角形状のレンズ6a1に対し菱形のレンズ6b1を横方向に順次結合させ、傾斜面6a11を接合面として共通面とする。レンズ6b1の隣にはレンズ6b1と同一のレンズ6b2を接合する。以下レンズ6b3を同様に接合し、その端部に三角形状のレンズ6a2を接合してなる構造に、12板6cがレンズ6b1、レンズ6b3の出力側に所定のピッチ間隔で装備されている。菱形のレンズの数は、任意に設定できる。無偏光の平行光ビームL1L1aが、シリンドリカルレンズアレイ5から偏光ビームスプリッタPBSとλ2板のアレイ構造であるポラライジングコンバータ6のPBS6b1に入射すると、無偏光PSL1の平行光ビームのうち、たとえば、P偏光L2aまたはS偏光のみがそのままPBS6a透過し、S偏光L1cはP偏光L2aと直交方向に反射する。S偏光L1cは、となりのPBSのプリズム斜面6b11で反射してλ2板6c1に向かう。S偏光L2bは、P偏光L2aと同一方向の直線偏光となる。このような透過光、反射光の関係は、レンズ6b3に入射する無偏光L1bL2c、L1d、L2dとλ2板6c2の関係においても同様である。ただし、無偏光は、この図示例ではレンズ6b2、6a2には入射されない。ところで、ポラライジングコンバータ6では、無偏光PSL1を入射できるのは、入射面の半分の領域だけである。このため、用途によっては、入射不可能領域に反射膜を装着させて、戻り光を再利用する等の技術もあるが、本発明では、シリンドリカルレンズアレイ5からの入射光を有効に利用することにした。すなわち、シリンドリカルレンズアレイ5からの出射光は分割および集光されている為、ポラライジングコンバータ6との位置関係を適切に調整することにより、前述の入射不可能領域への入射を回避することが可能である。またシリンドリカルレンズアレイ5ではビームの分割数を増やすほど重畳照射後のホモジナイズ効果が高まるが、ポラライジングコンバータ6では、入射光の数に対し、構造的に出射光の数が倍になる特性がある。したがって、シリンドリカルレンズアレイ5から見ると、出射光の数が結果として倍数になると同時に直線偏光化されたことになり、ポラライジングコンバータ6から見ると、入射不可能領域に対策処理を行うことなく、直線偏光化を達成したことになる。このようなシリンドリカルレンズアレイ5とポラライジングコンバータ6の相補作用は、重畳照射によるラインビーム長手方向のスポットプロファイルの均一化トップフラット化と直線偏光化に効率よく達成することができ、目的とする2次光源が実質的に生成される。ここで2次光源とは、ラインビームを指すが、上述のとおり、本発明では、光ファイバアレイ3の各ファイバからの出射光がコリメートレンズ4によって各光源が混合した平行光として生成され、シリンドリカルレンズアレイ5により多重分割され、ポラライジングコンバータ6によって更に倍数に多重分割される。この結果、重畳照射による光源特性のバラツキが高度に平準化される。従って、ラインビームは長手方向に、きわめてトップフラットで安定化したプロファイルを実現することができる。かかるシリンドリカルレンズアレイ5とポラライジングコンバータ6の相補作用を確実に行うために、本発明は、ポラライジングコンバータ6のアレイピッチnに対し、シリンドリカルアレイ5のアレイピッチを2nになるようデザインされている。したがって、入射不可能領域に反射膜を装着させたり、戻り光対策を考慮する必要もなく、必要とするレーザ光2を有効に活用することができる。さて、ポラライジングコンバータ6から出射されるビームは、第2シリンドリカルレンズアレイ7を経て、コンデンサレンズ8で集光される。次に、ホモジナイズド光学系1Aに続くフォーカシング光学系1Bについて説明する。コンデンサレンズ8で集合されたレーザ光2は、第2コリメートレンズ9、ダイクロイックミラー10、直線偏光用ビームスプリッタ11、λ4板12及び対物レンズ13を透過して、照射対象ワーク14を照射する。また直線偏光用ビームスプリッタ11に入射した光の一部は出力測定系1Dに入射する。照射対象ワーク14に照射される光は、本発明の構造では、円偏光となる。したがって、照射対象ワーク14での偏光方向制御は、本発明では考慮外となる。照射対象ワーク14を照射して発生する反射光戻り光は、再度対物レンズ13、λ4板12を透過して直線偏光用ビームスプリッタ11に戻る。この反射光戻り光は、オートフォーカス制御系1Cに入射する。続いて、フォーカシング光学系1Bに付設するオートフォーカス制御系1Cと出力測定系1Dについて説明する。一般に光ファイバからの出射光は、高い開口数NA、低パワー密度であるため、光源としての品位が低い。そのため、必要とするパワー密度を得るために縮小光学系を通すと、高NAなるがゆえに焦点深度が浅くなる。そのため、ワーク面にレーザスポットの焦点が合うよう対物レンズ13を移動させ、レーザスポットのパワー密度が変化しないようにするオートフォーカス制御系1Cは有用である。また、好感度なワークに対応するため、出力のフィードバック制御に必要な出力測定系1Dも有用である。ところで、出力測定系1Dを確実に機能させるためには、ビームスプリッタの分光精度が高いこと、すなわち光源特性が変化しても分光特性に変動が生じないことが必須である。図3と図4は、無偏光用ビームスプリッタNPBSの分光特性を説明するための図である。図3において、無偏光用ビームスプリッタNPBS15は、三角形のプリズムを組み合わせたもので、縦横直交辺15a、15b、15c、15d、に対し、多層膜を付着させた傾斜面15eを共通面とするプリズムで構成する。NPBS15のプリズム傾斜面に構成した多層膜15eにランダム偏光である入射光16L3は、透過光L4と傾斜面15eよって水平方向の反射光L5に分離される。この場合、透過光17と反射光18はP偏光とS偏光が混在する。無偏光用ビームスプリッタNPBS15では、このP偏光とS偏光の分光比を完全に一致させることは技術的に困難である。図4は、このような技術的な課題を説明するための例示であって、無偏光用ビームスプリッタNPBS15を用いた場合のNPBSの分光特性例、入射光の偏光比率例及びNPBS出力の相互関係を図示したものである。その結果、NPBS15の出力結果は、同じ入射光量であっても反射光量が10以上も変動する。本発明では、ビームスプリッタに入射する2次光源はすでに直線偏光に変換されているので、直線偏光用ビームスプリッタ11を使用することができ、実用上十分な分光精度が確保されている。さて、本発明は、ランダム偏光のファイバ出射光を平行光とした後、多重分割、重畳照射によってプロファイルの均一化と直線偏光化された2次光源を生成し、本2次光源を用いて従来技術では奏し得ない光学系を再構築することにある。そこで、図5を用いてステップごとに2次光源の生成過程のプロファイルを説明する。図5は、プロファイルのイメージ図であって、aは、図1のA地点A矢印のプロファイル、bは、図1のB地点B矢印におけるプロファイル、そしてcは、図1のC地点C矢印のプロファイルである。各図とも、縦軸はビーム強度を、横軸はスポット位置をあらわす。図5aの段階では、2次光源の生成前の段階であって、出射光長手方向にAL1、AL2、AL3からなるAL、短手方向はASとするはラインビーム生成前であり、各ファイバの出射光は、長手方向、短手方向ともにガウシアン分布に近似の状態のプロファイルになっている。例えば、AL1は、AL1a、AL1b、AL1cで囲繞される三角錐の模式図であるが、実際にはガウシアンモードに近似の放射強度分布を形成する。AL2AL2a、AL2b、AL2cで囲繞される三角錐の模式図、AL3AL3a、AL3b、AL3cで囲繞される三角錐の模式図及びASASa、ASb、AScで囲繞される三角錐の模式図についても同様である。図5bにおいては、ホモジナイズド光学系1Aにおけるレーザ光の多重分割、重畳照射によって2次光源が生成され、かつプロファイルの均一化を図っている。すなわち、2次光源の長手方向は、トップフラットのBLa、BLb、BLcおよびBLdで形成される略等脚台形BLのプロファイルである。BLcがトップフラットをなしている。短手方向はASと同様のガウシアンモードに近似のプロファイルBSBSa、BSb、BScに囲繞された領域である。本発明では、ラインビームの長手方向にのみプロファイルの均一化を行うことにしているので、機能的には十分である。図5cにおいては、フォーカシング光学系1Bの縮小光学制御によってパワー密度を高めたプロファイルとする。すなわち、CLa、CLb、CLcおよびCLdで形成される略等脚台形CLが2次光源の長手方向は、図5bの長手方向より縮小されたプロファイルとなる。また、短手方向はガウシアンモードに近似ながらBSよりシャープなプロファイルCSCSa、CSb、CScに囲繞された領域となっている。本発明においては、不測の入射方向ずれや入射位置ずれが均一化面におけるプロファイルの均一化の悪化を招かぬよう光軸ずれ防止に十分配慮している特にホモジナイズド光学系1A。ところで、特許文献1の技術に関し、各ファイバからの出射光これはガウス分布に近いプロファイルであるを直線偏光化されたラインビームに整形する過程において、本質的にホモジナイズ部と偏光制御部は独立的であって、相互関係はない。一方本発明では、シリンドリカルレンズアレイ5とポラライジングコンバータ6間に補完的な相互関係を持たせることによって、ホモジナイズ効果の飛躍的向上と直線偏光化を図り、2次光源を生成すること、その2次光源をもって光学系を再構築することをもって前述の諸課題を解決しつつ、系全体をコンパクトに実装することが可能となる。本発明の2次光源を生成する構成は、ラインビーム長手短手幅の可変機能やスポットプロファイルの更なるトップフラット化、マーキング用途で異なるスポット形状への可変機能を要求される場合等に有効に対応し得るものである。