長辺及び前記長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、前記ベース板は、一対の外部電極が形成される第1面と、前記圧電振動片が配置される第2面と、前記一辺の短辺に形成され、前記第1面と前記第2面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、前記一対のキャスタレーションの長辺方向の長さはそれぞれ異なる圧電デバイス。長辺及び前記長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、前記ベース板は、一対の外部電極が形成される第1面と、前記圧電振動片が配置される第2面と、前記一辺の長辺に形成され、前記第1面と前記第2面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、前記一対のキャスタレーションの短辺方向の長さはそれぞれ異なる圧電デバイス。長辺及び前記長辺よりも短い短辺を有する矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、前記ベース板は、一対の外部電極が形成される第1面と、前記圧電振動片が配置される第2面と、前記一辺の短辺に前記長辺が交差する角部に前記長辺方向及び前記短辺方向に形成され、前記第1面と前記第2面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、前記一対のキャスタレーションの前記長辺方向の長さ及び前記短辺方向の長さがそれぞれ異なる圧電デバイス。前記圧電振動片は一対の励振電極と前記励振電極から引き出された一対の引出電極とを含み、前記ベース板の前記第2面は、前記一対の引出電極と電気的に接続する一対の接続電極を含み、前記キャスタレーションは前記一対の外部電極と前記一対の接続電極とを電気的に接続する一対の側面電極を含む請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の圧電デバイス。前記キャスタレーションの断面は、前記第1面から前記第2面に形成された第1曲面と前記第2面から前記第1面に形成された第2曲面と前記第1面と第2面との中間に形成された直線状の突起面とからなり、前記側面電極は、前記第1曲面、前記第2曲面及び前記突起面に形成される請求項4に記載の圧電デバイス。前記第1曲面は前記第2曲面よりも面積が大きい請求項5に記載の圧電デバイス。しかし一方で、このようなキャスタレーションの影響により、例えばプリント基板の曲げ試験を行った場合などにキャスタレーションの一部を起点としてベース板が割れることがある。そのため、圧電デバイスのベース板は、このような曲げの応力に対して強いことが望まれている。そこで本発明は、キャスタレーションが形成されたベース板を有し、曲げの応力に対して強い圧電デバイスを提供する。第1観点の圧電デバイスは、長辺及び長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、ベース板が、一対の外部電極が形成される第1面と、圧電振動片が配置される第2面と、一辺の短辺に形成され第1面と第2面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、一対のキャスタレーションの長辺方向の長さがそれぞれ異なる。第2観点の圧電デバイスは、長辺及び長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、ベース板が、一対の外部電極が形成される第1面と、圧電振動片が配置される第2面と、一辺の長辺に形成され、第1面と第2面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、一対のキャスタレーションの短辺方向の長さがそれぞれ異なる。第3観点の圧電デバイスは、長辺及び長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、ベース板が、一対の外部電極が形成される第1面と、圧電振動片が配置される第2面と、一辺の短辺に長辺が交差する角部に長辺方向及び短辺方向に形成され第1面と第2面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、一対のキャスタレーションの長辺方向の長さ及び短辺方向の長さがそれぞれ異なる。第4観点の圧電デバイスは、第1観点から第3観点において、圧電振動片が一対の励振電極と励振電極から引き出された一対の引出電極とを含み、ベース板の第2面が一対の引出電極と電気的に接続する一対の接続電極を含み、キャスタレーションが一対の外部電極と一対の接続電極とを電気的に接続する一対の側面電極を含む。第5観点の圧電デバイスは、第4観点において、キャスタレーションの断面が、第1面から第2面に形成された第1曲面と第2面から第1面に形成された第2曲面と第1面と第2面との中間に形成された直線状の突起面とからなり、側面電極が第1曲面、第2曲面及び突起面に形成される。第5観点の圧電デバイスは、第4観点において、第1曲面が第2曲面よりも面積が大きい。本発明によれば、キャスタレーションが形成されたベース板を有し、曲げの応力に対して強い圧電デバイスを提供することができる。以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明の範囲は以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。第1実施形態<圧電デバイス100の構成>図1は、圧電デバイス100の分解斜視図である。圧電デバイス100は表面実装型の圧電デバイスであり、プリント基板等に実装されて使用される。圧電デバイス100は主に、リッド板110と、ベース板120aと、圧電振動片130とにより構成されている。リッド板110は例えばセラミック、ガラス又は圧電材等により形成され、ベース板120aはガラス又は圧電材等により形成される。また、圧電振動片130には例えばATカットの水晶材が用いられる。ATカットの水晶材は、主面YZ面が結晶軸XYZのY軸に対して、X軸を中心としてZ軸からY軸方向に35度15分傾斜されている。以下の説明では、ATカットの水晶材の軸方向を基準とし、傾斜された新たな軸をY’軸及びZ’軸として用いる。すなわち、圧電デバイス100において圧電デバイス100の長辺方向をX軸方向、圧電デバイス100の高さ方向をY’軸方向、X及びY’軸方向に垂直な方向をZ’軸方向として説明する。リッド板110は、X軸方向に長辺が伸び、Z’軸方向に短辺が伸びた矩形形状に形成されている。リッド板110の-Y’軸側の面には凹部111が形成されており、凹部111の周囲にはベース板120aに接合される接合面112が形成されている。ベース板120aはX軸方向に長辺が伸び、Z’軸方向に短辺が伸びた矩形形状に形成されている。ベース板120aの-Y’軸側の面である第1面121には、プリント基板等にハンダを介して電気的に接続されるための電極である外部電極125、及び圧電デバイス100に帯電した静電気等を除去するためのアース端子126が形成されている。ベース板120aのY’軸側の面である第2面122には接合材140が形成され、リッド板110の接合面112と接合される。また、ベース板120aには第2面122から-Y’軸方向に凹んだ凹部123が形成されている。さらに、第2面122の一部には圧電振動片130を載置するための載置部124が形成されており、載置部124のY’軸側の面には接続電極128が形成されている。また、ベース板120aの四隅の側面にはキャスタレーション127が形成されている。キャスタレーション127には側面電極129が形成されており、側面電極129は外部電極125及び接続電極128を互いに電気的に接続し、又はアース端子126に電気的に接続される。圧電振動片130は、X軸方向に長辺が伸び、Z’軸方向に短辺が伸びた矩形形状に形成されている。圧電振動片130のY’軸側及び-Y’軸側の面の中央領域には、それぞれ励振電極131が形成されている。また、各励振電極131からは引出電極132が引き出されている。Y’軸側の面に形成されている励振電極131から引き出されている引出電極132は圧電振動片130のY’軸側の面の-X軸側の辺沿いに形成され、さらに圧電振動片130の-X軸側の側面に形成される引出電極132aを介して-Y’軸側の面の-X軸側の辺沿いに形成されている。同様に、-Y’軸側の面に形成されている励振電極131から引き出されている引出電極132は圧電振動片130の-Y’軸側の面のX軸側の辺沿いに形成され、さらに圧電振動片130のX軸側の側面に形成される引出電極132aを介してY’軸側の面のX軸側の辺沿いに形成されている。圧電振動片130は、ベース板120aの接続電極128と引出電極132とが導電性接着剤141図2参照を介して接合されることにより、励振電極131と外部電極125とが電気的に接続される。図2aは、図1のA-A断面図である。圧電デバイス100には、ベース板120aの第2面122とリッド板110の接合面112とが接合材140を介して接合されることにより、圧電デバイス100内に密封されたキャビティ101が形成される。この接合材140には、例えば融点が500度以下のガラス接合材である低融点ガラス又はポリイミド樹脂等の樹脂系接合材などが用いられる。また、圧電振動片130は、キャビティ101のベース板120aの載置部124に、引出電極132と接続電極128とが導電性接着剤141を介して接合されることにより載置される。圧電振動片130が載置部124に載置されることにより、圧電振動片130の励振電極131が、引出電極132、導電性接着剤141、接続電極128、及び側面電極129を介してベース板120aの外部電極125に電気的に接続される。図2bは、圧電振動片130のY’軸側の面の平面図である。圧電振動片130は、X軸方向に長辺、Z’軸方向に短辺を有する矩形形状の平面を有している。圧電振動片130のY’軸側の面の中央領域には励振電極131が形成されており、さらに励振電極131からは-X軸側の辺に引出電極132が引き出されている。-X軸側の辺に引き出された引出電極132は圧電振動片130の-X軸側の辺に沿って形成されており、さらに圧電振動片130の-X軸側の側面に形成されている引出電極132aを介して圧電振動片130の-Y’軸側の面に引き出されている。また、圧電振動片130のY’軸側の面のX軸側の辺には、-Y’軸側の励振電極131から引き出された引出電極132がX軸側の辺に沿って形成されている。図2cは、圧電振動片130の-Y’軸側の面の平面図である。圧電振動片130の-Y’軸側の面の中央領域には励振電極131が形成されており、さらに励振電極131からはX軸側の辺に引出電極132が引き出されている。X軸側の辺に引き出された引出電極132は圧電振動片130のX軸側の辺に沿って形成されており、さらに圧電振動片130のX軸側の側面に形成されている引出電極132aを介して圧電振動片130のY’軸側の面に引き出されている。また、圧電振動片130の-Y’軸側の面の-X軸側の辺には、Y’軸側の励振電極131から引き出された引出電極132が-X軸側の辺に沿って形成されている。図3aは、ベース板120aのY’軸側の電極が示された平面図である。ベース板120aのY’軸側の面には凹部123が形成されており、凹部123を囲むように第2面122が形成されている。また、凹部123のX軸側の-Z’軸側、及び-X軸側のZ’軸側には圧電振動片130を載置するための載置部124が形成されており、載置部124のY’軸側の面には接続電極128が形成されている。一方、ベース板120aの四隅の側面にはそれぞれキャスタレーション127が形成されている。以降の説明においては、X軸側の-Z’軸側のキャスタレーションをキャスタレーション27a、X軸側のZ’軸側のキャスタレーションをキャスタレーション27b、-X軸側の-Z’軸側のキャスタレーションをキャスタレーション27c、-X軸側のZ’軸側のキャスタレーションをキャスタレーション27dとして説明する。キャスタレーション27a及びキャスタレーション27dは、X軸方向に長さLX1、Z’軸方向に長さLZ1の幅に形成されている。一方、キャスタレーション27b及びキャスタレーション27cは、X軸方向に長さLX2、Z’軸方向に長さLZ2の幅に形成されている。長さLX1は長さLX2よりも長く、長さLZ1は長さLZ2よりも短い。また、キャスタレーション27a及びキャスタレーション27dに形成される側面電極129は接続電極128と外部電極125とを電気的に接続しており、キャスタレーション27b及びキャスタレーション27cに形成される側面電極129はアース端子126図3b参照に電気的に接続されている。ベース板120aは、ベース板120aに形成されている各キャスタレーションがX軸方向及びZ’軸方向に隣り合うキャスタレーションとそれぞれZ’軸方向及びX軸方向の長さが異なっている。例えば、キャスタレーション27aはX軸方向に長さLX1に形成されているが、キャスタレーション27aのZ’軸方向に隣り合うキャスタレーション27bのX軸方向の長さはLX2に形成されており、互いにX軸方向に異なる長さに形成されている。そのため、キャスタレーション27aの-X軸側の端のベース板120a側に凹んだ角部171aとキャスタレーション27bの-X軸側の端のベース板120a側に凹んだ角部171bとを結ぶ直線171は、Z’軸に平行になっていない。また、キャスタレーション27aはZ’軸方向に長さLZ1に形成されているが、-X軸方向に隣り合うキャスタレーション27cは、Z’軸方向に長さLZ2に形成されており、互いにZ’軸方向に異なる長さに形成されている。そのため、キャスタレーション27aのZ’軸側の端のベース板120側に凹んだ角部172aとキャスタレーション27cのZ’軸側の端のベース板120側に凹んだ角部172bとを結ぶ直線172は、X軸に平行になっていない。図3bは、ベース板120aの-Y’軸側の電極が示された平面図である。図3bでは、ベース板120aの-Y’軸側に形成された電極が、Y’軸側から-Y’軸方向にベース板120aを透過して見る形で示されている。ベース板120aの-Y’軸側の面のX軸側の-Z’軸側、及び-X軸側のZ’軸側には外部電極125が形成されている。各外部電極125は、側面電極129を介してY’軸側の面に形成されている接続電極128に電気的に接続されている。また、-Y’軸側の面のX軸側のZ’軸側、及び-X軸側の-Z’軸側にはアース端子126が形成されている。圧電デバイスは、プリント基板に実装されてプリント基板の曲げ試験を行ったときに、ベース板に割れが生じることがある。この割れは、キャスタレーションのベース板の内側に凹んだ角部例えば、図3aの角部171a等に相当を起点として発生し、X軸方向又はZ’軸方向に平行に発生する。また、このような割れはベース板の中心近くを通って発生する確率が高く、X軸方向又はZ’軸方向に隣り合うキャスタレーションの角部同士がX軸又はZ’軸に平行な直線上にあるときに発生し易い。このような傾向から、ベース板にはプリント基板の曲げ試験を行った場合に、キャスタレーションの角部同士を結ぶ直線がベース板の中心近くを通り、直線がX軸又はZ’軸に平行となるときにベース板に強い応力がかかる、又はベース板のキャスタレーションがこのような条件を満たす角部を有している場合に曲げ応力に弱くなると考えられる。圧電デバイス100のベース板120aは、例えば図3aの直線171及び直線172のように、キャスタレーションの角部同士を結びベース板の中心近くを通る直線がX軸又はZ’軸に平行にならないように形成されているため、ベース板120aに割れが生じにくい。また、圧電デバイス100では、キャスタレーションがX軸方向及びZ’軸方向に伸びたL字型に形成されることにより側面電極129の幅を太くすることができ、電極の安定したパターニング及び抵抗値を得ることができる。また、ベース板120aはキャスタレーションの角部同士を結びベース板の中心近くを通る直線がX軸又はZ’軸に平行にならないように形成されたが、キャスタレーションの角部同士を結びベース板の中心近くを通る直線がX軸又はZ’軸のどちらか一方に平行にならないように形成されればベース板に割れを生じ難くすることができる。<圧電デバイス100の作製方法>図4は、圧電デバイス100の作製方法を示したフローチャートである。以下、図4を参照して圧電デバイス100の作製方法を説明する。ステップS101では、圧電振動片130が用意される。圧電振動片130は、図1、図2b及び図2cに示されるように平板の矩形形状に形成され、励振電極131及び引出電極132が形成されている。ステップS102では、ベースウエハが用意される。ベースウエハには複数のベース板が形成されている。以下、図5を参照してベースウエハW120Aについて説明する。図5aは、ベースウエハW120Aの平面図である。ベースウエハW120Aには、ベース板120a及びベース板120bの2種類のベース板が形成されており、それぞれX軸方向及びZ’軸方向に交互に形成されている。また、図5aには、後述のステップS106においてウエハが切断される線であるスクライブライン142が二点鎖線で示されている。図5aでは、ベースウエハW120Aに形成されるベース板120a及びベース板120bが、スクライブライン142によって囲まれて示されている。また、X軸方向に伸びるスクライブライン142とZ’軸方向に伸びるスクライブライン142とが交差する位置には、ベースウエハW120Aを貫通する貫通孔143a又は貫通孔143bが形成されている。貫通孔143aの平面形状は、スクライブライン142の交点を中心にしてZ’軸方向に長く伸びX軸方向に短く伸びた十字型に形成されている。また、貫通孔143bの平面形状は、スクライブライン142の交点を中心にしてZ’軸方向に短く伸びX軸方向に長く伸びた十字型に形成されている。ベース板120aには貫通孔143aがX軸側のZ’軸側に配置されており、ベース板120bは貫通孔143bがX軸側のZ’軸側に配置されている。図5bは、ベース板120bのY’軸側の電極が示された平面図である。ベース板120bのY’軸側の面には凹部123が形成されており、凹部123を囲むように第2面122が形成されている。また、凹部123のX軸側の-Z’軸側、及び-X軸側のZ’軸側には載置部124が形成されており、載置部124のY’軸側の面には接続電極128が形成されている。一方、ベース板120bの四隅にはそれぞれキャスタレーション27a~27dが形成されている。ベース板120bに形成される各キャスタレーション27a~27dのX-Z’平面における形状は、ベース板120aと同様にX軸方向及びZ’軸方向に伸びたL字型に形成されており、各キャスタレーション27a~27dには側面電極129が形成されている。凹部123に形成されている各接続電極128は、側面電極129を介して-Y’軸側の面に形成されている外部電極125図5c参照に電気的に接続されている。図5cは、ベース板120bの-Y’軸側の電極が示された平面図である。図5cでは、ベース板120bの-Y’軸側に形成された電極が、Y’軸側から-Y’軸方向にベース板120bを透過して見る形で示されている。ベース板120bの-Y’軸側の面のX軸側の-Z’軸側、及び-X軸側のZ’軸側には外部電極125が形成されている。各外部電極125は、側面電極129を介してY’軸側の面に形成されている接続電極128に電気的に接続されている。また、-Y’軸側の面のX軸側のZ’軸側、及び-X軸側の-Z’軸側にはアース端子126が形成されており、アース端子126は側面電極129に電気的に接続されている。ベースウエハW120では、貫通孔143aのX軸方向の長さと貫通孔143bのZ’軸方向の長さ、及び貫通孔143aのZ’軸方向の長さと貫通孔143bのX軸方向の長さとが等しい場合、ベース板120a及びベース板129bの長さLX1と長さLZ2との長さが等しく、長さLX2と長さLZ1との長さが等しくなる。このとき、ベース板120a及びベース板120bに形成される全ての側面電極129の断面の長さが等しくなる。そのため、圧電デバイスが形成された場合、ベース板120a又はベース板120bのいずれが用いられた場合でも電気的な接続が等しくなっている。図4に戻って、ステップS103では、リッドウエハが用意される。リッドウエハには複数のリッド板が形成されている。以下、図6を参照してリッドウエハW110について説明する。図6は、リッドウエハW110の平面図である。リッドウエハW110には、複数のリッド板110が形成されている。図6には、後述のステップS106においてウエハが切断される線であるスクライブライン142が二点鎖線で示されており、リッドウエハW110に形成されている各リッド板110は、スクライブライン142に囲まれて示されている。各リッド板110の-Y’軸側の面には凹部111が形成されている。ステップS104では、ベースウエハW120Aに圧電振動片130が載置される。ベースウエハW120Aに形成されるベース板120a及びベース板120bには、載置部124及び接続電極128がベース板の中の同じ場所に形成されているため、圧電振動片130は、ベース板120a及びベース板120bを判別しなくとも載置部124に載置することができる。ステップS105では、接合材140によりベースウエハW120AとリッドウエハW110とが接合される。ベースウエハW120AとリッドウエハW110との接合は、ベースウエハW120Aの第2面122とリッドウエハW110の接合面112とが互いに接合材140を介して接合される。これにより、ウエハ上に複数の圧電デバイス100が形成される。ステップS106では、ウエハがダイシングにより切断される。ウエハの切断は、スクライブライン142図5及び図6参照に沿って行われ、ウエハに形成された各圧電デバイス100が個別に分けられる。<ベース板の変形例>ベース板及びベースウエハは、キャスタレーション及び貫通孔の形状が異なる様々な変形例が考えられる。以下に、ベース板及びベースウエハの変形例を説明する。図7aは、ベースウエハW120Bの部分平面図である。ベースウエハW120Bには、複数のベース板120c及び複数のベース板120dがX軸方向及びZ’軸方向に交互に形成されている。図7aにはスクライブライン142が示されており、各ベース板120c及びベース板120dは、スクライブライン142に囲まれて示されている。また、X軸方向に伸びるスクライブライン142とZ’軸方向に伸びるスクライブライン142との交点には貫通孔143c及び貫通孔143dが交互に形成されている。ベース板120cのX軸側のZ’軸側の角部には貫通孔143cが形成され、ベース板120dのX軸側のZ’軸側の角部には貫通孔143dが形成されている。貫通孔143cはスクライブライン142の交点からX軸方向及びZ’軸方向に長く伸び、-X軸方向及び-Z’軸方向に短く伸びている。また、貫通孔143dはスクライブライン142の交点からX軸方向及びZ’軸方向に短く伸び、-X軸方向及び-Z’軸方向に長く伸びている。図7bは、ベース板120cの平面図である。ベース板120cのキャスタレーション27aはZ’軸方向に長さLZ1、-X軸方向に長さLX1だけ伸びている。また、キャスタレーション27dは-Z’軸方向に長さLZ2、X軸方向に長さLX2だけ伸びている。キャスタレーション27bは-X軸方向及び-Z’軸方向にそれぞれ長さLX2及び長さLZ1だけ伸び、キャスタレーション27cはX軸方向及びZ’軸方向にそれぞれ長さLX1及び長さLZ2だけ伸びている。ベース板120cでは、長さLX1と長さLZ2との長さが等しく、長さLZ1と長さLX2との長さが等しい。また、長さLX1よりも長さLZ1の方が短い。そのため、キャスタレーション27aの角部171aとキャスタレーション27bの角部171bとを結ぶ直線171と、キャスタレーション27aの角部172aとキャスタレーション27cの角部172cとを結ぶ直線172とは、共にX軸及びZ’軸に平行ではない。図7cは、ベース板120dの平面図である。ベース板120dのキャスタレーション27aはZ’軸方向に長さLZ2、-X軸方向に長さLX2だけ伸びている。また、キャスタレーション27dは-Z’軸方向に長さLZ1、X軸方向に長さLX1だけ伸びている。キャスタレーション27bは-X軸方向及び-Z’軸方向にそれぞれ長さLX1及び長さLZ2だけ伸び、キャスタレーション27cはX軸方向及びZ’軸方向にそれぞれ長さLX2及び長さLZ1だけ伸びている。ベース板120dでは、長さLX1と長さLZ2との長さが等しく、長さLZ1と長さLX2との長さが等しい。また、長さLX1よりも長さLZ1の方が短い。そのため、キャスタレーション27aの角部171aとキャスタレーション27bの角部171bとを結ぶ直線171と、キャスタレーション27aの角部172aとキャスタレーション27cの角部172cとを結ぶ直線172とは、共にX軸及びZ’軸に平行ではない。図8aは、ベースウエハW120Cの部分平面図である。ベースウエハW120Cには、複数のベース板120e及び複数のベース板120fがX軸方向及びZ’軸方向に交互に形成されている。図8aにはスクライブライン142が示されており、各ベース板120e及びベース板120fはスクライブライン142に囲まれて示されている。また、X軸方向に伸びるスクライブライン142とZ’軸方向に伸びるスクライブライン142との交点には貫通孔143e及び貫通孔143fが交互に形成されている。ベース板120eのX軸側のZ’軸側の角部には貫通孔143eが形成され、ベース板120fのX軸側のZ’軸側の角部には貫通孔143fが形成されている。貫通孔143eはスクライブライン142の交点からZ’軸方向及び-Z’軸方向に伸びている。また、貫通孔143fはスクライブライン142の交点からX軸方向及び-X軸方向に短く伸びている。図8bは、ベース板120eの平面図である。ベース板120eのキャスタレーション27aは-X軸方向に長さLX1だけ伸びている。また、キャスタレーション27dはX軸方向に長さLX1だけ伸びている。キャスタレーション27b及びキャスタレーション27cは-Z’軸方向及びZ’軸方向にそれぞれ長さLZ2だけ伸びている。ベース板120eでは、長さLX1と長さLZ2との長さが等しい。また、ベース板120eでは、キャスタレーション27aの角部171aとキャスタレーション27bの角部171bとを結ぶ直線171と、キャスタレーション27aの角部171aとキャスタレーション27cの角部172cとを結ぶ直線172とは、共にX軸及びZ’軸に平行ではない。図8cは、ベース板120fの平面図である。ベース板120fのキャスタレーション27a及びキャスタレーション27dは、それぞれZ’軸方向及び-Z’軸方向に長さLZ2だけ伸びている。また、キャスタレーション27b及びキャスタレーション27cは-X軸方向及びX軸方向にそれぞれ長さLX1だけ伸びている。そのため、キャスタレーション27aの角部171aとキャスタレーション27bの角部171bとを結ぶ直線171と、キャスタレーション27aの角部171aとキャスタレーション27cの角部172cとを結ぶ直線172とは、共にX軸及びZ’軸に平行ではない。図9aは、ベースウエハW120Dの部分平面図である。ベースウエハW120Dには、複数のベース板120g及び複数のベース板120hがX軸方向に交互に形成されている。一方、複数のベース板120g及び複数のベース板120hはZ’軸方向には同じ種類のベース板が並んで形成されている。図9aにはスクライブライン142が示されており、各ベース板120g及びベース板120hは、スクライブライン142に囲まれて示されている。また、X軸方向に伸びるスクライブライン142とZ’軸方向に伸びるスクライブライン142との交点には貫通孔143g及び貫通孔143hが形成されており、X軸方向には交互に、Z’軸方向には同一の貫通孔が形成されている。ベース板120gのX軸側の-Z’軸側の角部には貫通孔143gが形成され、ベース板120hのX軸側のZ’軸側の角部には貫通孔143hが形成されている。貫通孔143gはスクライブライン142の交点からZ’軸方向に伸びており、貫通孔143hはスクライブライン142の交点から-Z’軸方向に伸びている。ベース板120gは、図8cに示されたベース板120fのキャスタレーション27b及びキャスタレーション27cが形成されていない形状に形成されている。また、ベース板120hの載置部124はベース板120gとは異なり凹部123のX軸側のZ’軸側及び-X軸側の-Z’軸側に形成されている。ベース板120hは圧電振動片130がX軸側及び-X軸側の辺に沿って引出電極132が形成されているため、圧電振動片130をベース板に載置する際には、ベース板120hとベース板120gとを区別しなくてもよい。図9bは、ベースウエハW120Eの部分平面図である。ベースウエハW120Eには、複数のベース板120j及び複数のベース板120kがX軸方向及びZ’軸方向に交互に形成されている。図9bにはスクライブライン142が示されており、各ベース板120j及びベース板120kは、スクライブライン142に囲まれて示されている。また、X軸方向に伸びるスクライブライン142とZ’軸方向に伸びるスクライブライン142との交点には貫通孔143jがX軸方向及びZ’軸方向に1つ置きに形成されている。貫通孔143jはスクライブライン142の交点からZ’軸方向及び-Z’軸方向に伸びている。ベース板120jの形状は図9aのベース板120hと同じであり、ベース板120kの形状は図9aのベース板120gと同じである。図9cは、ベースウエハW120Fの部分平面図である。ベースウエハW120Fには、複数のベース板120m及び複数のベース板120nがX軸方向及びZ’軸方向に交互に形成されている。図9cにはスクライブライン142が示されており、各ベース板120m及びベース板120nは、スクライブライン142に囲まれて示されている。また、X軸方向に伸びるスクライブライン142とZ’軸方向に伸びるスクライブライン142との交点には貫通孔143kがX軸方向及びZ’軸方向に1つ置きに形成されている。貫通孔143kはスクライブライン142の交点からZ’軸方向、-Z’軸方向、X軸方向及び-X軸方向にそれぞれ等距離に伸びている。ベース板120m及びベース板120nは、対角線上にある一対のキャスタレーションにX軸方向及びZ’軸方向に溝が伸びることにより形成されている。図9a、図9b及び図9cに示された各ベース板は、一方の対角線上のベース板の角にはキャスタレーションが形成されるが、他方の対角線上のベース板の角にはキャスタレーションが形成されていない。-Y’軸側の面に形成されるアース端子はキャスタレーションに形成される側面電極に電気的に接続されることが必須ではないため、図9a~図9cに示されるように、キャスタレーションは外部電極に接する箇所のみに形成されることができる。このような場合は、X軸方向及びZ’軸方向に隣り合うキャスタレーションが形成されないため、X軸方向及びZ’軸方向に隣り合うキャスタレーションの角部同士を結びベース板の中心近くを通る直線が形成されず、ベース板に割れが生じにくい。第2実施形態圧電デバイスは、外枠が形成された圧電振動片が用いられても良い。以下、外枠が形成された圧電振動片を有する圧電デバイス200について説明する。<圧電デバイス200の構成>図10は、圧電デバイス200の分解斜視図である。圧電デバイス200は主に、リッド板210と、ベース板220aと、圧電振動片230aとにより構成されている。圧電振動片230aは、Y’軸側及び-Y’軸側の面に励振電極231がそれぞれ形成された振動部233と、励振部233を囲む枠部234と、振動部233及び枠部234を連結する連結部235と、により構成されている。振動部233と枠部234との間の連結部235以外の領域には圧電振動片230aをY’軸方向に貫通する貫通溝236が形成されている。Y’軸側の面に形成される励振電極231からは、連結部235、-X軸側のZ’軸側の貫通溝236の側面を介して枠部234の-X軸側のZ’軸側の-Y’軸側の面の角部にまで引出電極232が引き出されている。また、-Y’軸側の面に形成されている励振電極231からは、連結部235を介して枠部234のX軸側の-Z’軸側の-Y’軸側の面の角部にまで引出電極232が引き出されている。ベース板220aは、圧電振動片230aの-Y’軸側の面に配置されている。ベース板220aの-Y’軸側の面である第1面221には外部電極225及びアース端子226が形成されている。また、Y’軸側の面には凹部223と凹部223の周りの第2面222とが形成されている。さらに、第2面222のX軸側の-Z’軸側、及び-X軸側のZ’軸側の角部には接続電極228が形成されている。また、ベース板220aのX軸側の-Z’軸側、及び-X軸側のZ’軸側の角部には、キャスタレーション227が形成されており、キャスタレーション227には側面電極229が形成されており、側面電極229は接続電極228と外部電極225とを電気的に接続している。ベース板220aと圧電振動片230aとは、ベース板220aの第2面222と圧電振動片230aの枠部234の-Y’軸側の面とが接合材140図11参照を介して接合されることにより接合される。リッド板210は、圧電振動片230aのY’軸側の面に配置される。リッド板210の-Y’軸側には凹部211が形成され、凹部211を囲むように接合面212が形成されている。リッド板210と圧電振動片230aとは、リッド板210の接合面212と圧電振動片230aの枠部234のY’軸側の面とが接合材140図11参照を介して接合されることにより接合される。図11aは、図10のB-B断面図である。圧電デバイス200には、ベース板220a、リッド板210、及び圧電振動片230aが互いに接合されることにより圧電デバイス200内にキャビティ201が形成される。また、圧電振動片230aの圧電振動部233がキャビティ201内に配置されている。圧電振動部233に形成されている励振電極231は、引出電極232とベース板220aの接続電極228とが電気的に接続されることにより、外部電極225に電気的に接続される。ベース板220aのキャスタレーション227は、第1面221から第2面222方向に伸びて形成される第1曲面271と、第2面222から第1面221方向に向かって伸びて形成される第2曲面272と、第1曲面271及び第2曲面272の間に形成されている突起面273と、により構成されている。第1曲面271及び第2曲面272はY’軸方向の断面がベース板220a側に凹んだ曲面を含んでおり、突起面273はY’軸方向の断面が直線になるように形成されている。また、突起面273は、第1曲面271及び第2曲面272よりもベース板220から外側に向かって突き出て形成されている。この、第1曲面271、第2曲面272及び突起面273には側面電極229が形成されており、側面電極229は接続電極228と外部電極225とを電気的に接続している。また、第1面221、外部電極225及びアース端子226図11c参照の表面は、粗面状に形成されている。図11bは、ベース板220aの平面図である。ベース板220aのY’軸側の面には凹部223が形成されており、凹部223を囲むように第2面222が形成されている。また、X軸側の-Z’軸側と-X軸側のZ’軸側とにはキャスタレーション227が形成されている。キャスタレーション227のX-Z’平面における断面は、半径L227の円の一部を含んでおり、キャスタレーション227には側面電極229図11a参照が形成されている。さらに、第2面222のX軸側の-Z’軸側と-X軸側のZ’軸側とには側面電極229に電気的に接続される接続電極228が形成されている。図11cは、-Y’軸側の面の電極が示されているベース板220aの平面図である。図11cでは、ベース板220aの-Y’軸側の面に形成された電極が、Y’軸側から-Y’軸方向にベース板220aを透過して見る形で示されている。ベース板220aの-Y’軸側の面のX軸側の-Z’軸側、及び-X軸側のZ’軸側には外部電極225が形成されている。各外部電極225は、キャスタレーション227に形成される側面電極229図11a参照を介してY’軸側の面に形成されている接続電極228に電気的に接続されている。また、-Y’軸側の面のX軸側のZ’軸側、及び-X軸側の-Z’軸側にはアース端子226が形成されている。<圧電デバイス200の作製方法>図12は、圧電デバイス200の作製方法を示したフローチャートである。以下、図12を参照して圧電デバイス200の作製方法を説明する。ステップS201では、圧電ウエハW230が用意される。圧電ウエハW230には、複数の圧電振動片230a及び複数の圧電振動片230bが形成されている。以下、図13を参照して圧電ウエハW230について説明する。図13は、圧電ウエハW230の平面図である。図13にはスクライブライン142が二点鎖線で示されており、圧電振動片230a及び圧電振動片230bがスクライブライン142に囲まれて示されている。また、圧電振動片230a及び圧電振動片230bはX軸方向及びZ’軸方向に交互に形成されている。圧電振動片230bは、連結部235が振動部233のX軸側のZ’軸側及び-X軸側の-Z’軸側に形成されており、引出電極232が枠部234のX軸側のZ’軸側及び-X軸側の-Z’軸側まで引き出されている。圧電振動片230a及び圧電振動片230bとは、互いにX-Y’平面に対して面対称になる形状を有しており、電気的特性及び振動特性等の違いはない。圧電ウエハW230には、貫通溝236、励振電極231及び引出電極232等が形成されることにより、圧電振動片230a及び圧電振動片230bが形成される。ステップS202では、ベースウエハが用意される。ベースウエハには複数のベース板が形成されている。以下、図14を参照してベースウエハW220Aについて説明し、図15及び図16を参照してベースウエハW220の作製方法について説明する。図14は、ベースウエハW220Aの平面図である。ベースウエハW220Aには、複数のベース板が形成されている。ベースウエハW220Aに形成されるベース板は、ベース板220a及びベース板220bの2種類であり、それぞれX軸方向及びZ’軸方向に交互に形成されている。また、図14には、後述のステップS106においてウエハが切断される線であるスクライブライン142が二点鎖線で示されている。ベースウエハW220Aに形成されるベース板220a及びベース板220bは、このスクライブライン142によって囲まれて示されている。また、X軸方向に伸びるスクライブライン142とZ’軸方向に伸びるスクライブライン142とが交差する位置には、一つ置きにベースウエハW220Aを貫通する貫通孔243aが形成されている。貫通孔243aの平面形状は、スクライブライン142の交点を中心とした円形である。ベース板220aには貫通孔243aがX軸側の-Z’軸側及び-X軸側のZ’軸側に配置されており、ベース板220bは貫通孔243aがX軸側のZ’軸側及び-X軸側の-Z’軸側に配置されている。<<ベースウエハW220Aの作製方法1>>図15は、ベースウエハW220Aの作製方法を示したフローチャートである。図15及び図16に示された各ステップの右横には各ステップを説明するための図が示されている。図15に示される各ステップを説明するための図は、図14に示されたベースウエハW220AのC-C断面に相当する断面図である。以下に図15を用いてベースウエハW220Aの作製方法を説明する。図15のステップS221では、平板状のベースウエハW220AのY’軸側及び-Y’軸側の両面に耐蝕膜150及びフォトレジスト151が形成される。図15aには耐蝕膜150及びフォトレジスト151が形成されたベースウエハW220Aの部分断面図が示されている。図15aに示されるように、ベースウエハW220AのY’軸側及び-Y’軸側の面に耐蝕膜150が形成され、耐蝕膜150の表面にフォトレジスト151が形成される。耐蝕膜150は、ベースウエハW220Aに金属膜をスパッタリングもしくは蒸着などの手法により形成されることにより形成される。耐蝕膜150は、例えばベースウエハW220Aに下地としてニッケルNi、クロムCr、チタンTi又はニッケルタングステンNiW等の膜を形成し、下地の上に金Au及び銀Ag等を成膜することにより形成される。フォトレジスト151は、耐蝕膜150の表面にスピンコートなどの手法で均一に塗布される。ステップS222では、フォトレジスト151が露光及び現像され、耐蝕膜150がエッチングされる。図15bには、フォトレジスト151が露光及び現像され、耐蝕膜150がエッチングされたベースウエハW220Aの断面図が示されている。ステップS222でフォトレジスト151が露光及び現像される領域は、ベースウエハW220のY’軸側の面の凹部223図14参照に対応した凹領域160、-Y’軸側の貫通孔243a図14参照に対応した第1貫通領域161、及びY’軸側の貫通孔243a図14参照に対応した第2貫通領域162である。ステップS223では、ベースウエハW220Aがウエットエッチングされる。図15cには、ウエットエッチングされた後のベースウエハW220の断面図が示されている。ベースウエハW220Aのウエットエッチングされる領域は、凹領域160、第1貫通領域161及び第2貫通領域162である。ベースウエハW220Aはウエットエッチングされることにより凹部223が形成され、第1貫通領域161及び第2貫通領域162にキャスタレーション227の第1曲面271及び第2曲面272に対応する凹みが形成される。ステップS233では、ベースウエハW220が深さHY1だけエッチングされ、ベースウエハW220Aの第1貫通領域161と第2貫通領域162との間170にはベースウエハW220Aが貫通されずに残っている。ステップS224では、ベースウエハW220Aに形成されているフォトレジスト151及び耐蝕膜150が除去され、サンドブラストにより貫通孔243aが形成される。図15dは、貫通孔243aが形成されたベースウエハW220Aの断面図である。サンドブラストは、ベースウエハW220Aの-Y’軸側の面に、-Y’軸側からY’軸方向に研磨材が吹きつけられることにより行われる。ベースウエハW220Aに吹き付けられる研磨材は第1貫通領域161と第2貫通領域162との間170を貫通させることにより、貫通孔243aに突起部273が形成される。また、ベースウエハW220の-Y’軸側の面である第1面221が、例えばベースウエハW220Aの第2面222等のベースウエハW220Aの他の面よりも表面の凹凸の高低差が大きい粗面状に形成される。ステップS225では、ベースウエハW220Aに、接続電極228、外部電極225、アース端子226図11c参照及び側面電極229が形成される。図15eは、電極が形成されたベースウエハW220Aの断面図である。これらの電極は、例えばガラスの表面にクロムCr層が形成され、クロム層の表面に金Au層が蒸着されることにより形成される。また、各ベース板220a及びベース板220bの第1面221は粗面状に形成されているため、外部電極225及びアース端子226の表面も粗面状に形成される。図15に示されたベースウエハW220Aの作製方法では、ベースウエハW220Aに形成される各ベース板220a及びベース板220bのキャスタレーション227に突起部273が形成される。圧電デバイス200のベース板には突起部273が形成されていることにより、圧電デバイス200がハンダを介してプリント基板に実装される際に、ハンダがキャスタレーション227を介してベース板の第2面222に近づくことが阻止される。ハンダがベース板の第2面222に近づいた場合、ハンダの熱により圧電デバイスのキャビティの封止が破られる又は弱くなることが考えられるが、圧電デバイス200では、このようにハンダによるキャビティの封止の破れを防ぐことができる。さらに、外部電極225及びアース端子226の表面も粗面状に形成されることにより、外部電極225及びアース端子226の表面積が広くなってハンダとの接合面積が広がるため、プリント基板等とより強固に接合することができる。<<ベースウエハW220Aの作製方法2>>ベース板のキャスタレーションの第1曲面は、第2曲面よりも大きく形成されてもよい。以下に、第1曲面の面積が第2曲面の面積よりも大きく形成されたベース板を有するベースウエハの作製方法を、図16を参照して説明する。また、この作製方法は、図15のステップS221及びステップS222が共通しているため、図16に示されるフローチャートは図15のステップS222の次のステップとして説明される。図16のステップS233は、図15のステップS222の次のステップである。ステップS233では、ベースウエハW220Aの凹領域160、第1貫通領域161及び第2貫通領域162がウエットエッチングされることにより、凹部223、及び第1貫通領域161及び第2貫通領域162にキャスタレーション227の第1曲面271及び第2曲面272に対応する凹みが形成される。図16aは、ウエットエッチングされたベースウエハW220Aの断面図である。ステップS233でウエットエッチングされるベースウエハW220Aは、深さHY2だけエッチングされる。この深さHY2は、図15のステップS223で示された深さHY1よりも浅い。ステップS234では、ベースウエハW220AのY’軸側の面の耐蝕膜150及びフォトレジスト151が除去され、再びY’軸側の面に耐蝕膜150及びフォトレジスト151が形成される。図16bは、耐蝕膜150及びフォトレジスト151がY’軸側の面の全体に形成されたベースウエハW220Aの断面図である。ステップS234では、ベースウエハW220AのY’軸側の全面に耐蝕膜150及びフォトレジスト151が形成されているが、-Y’軸側の面の第1貫通領域161には耐蝕膜150及びフォトレジスト151が形成されていない。ステップS235では、第1貫通領域161がウエットエッチングされる。図16cは、第1貫通領域161がウエットエッチングされたベースウエハW220Aの断面図である。第1貫通領域161のベースウエハW220Aはさらにウエットエッチングされることにより、第1貫通領域161の溝の深さがHY3となるように形成される。深さHY3は深さHY1及び深さHY2よりも深い。ステップS236では、ベースウエハW220Aの全面に形成されているフォトレジスト151及び耐蝕膜150が除去され、サンドブラストにより貫通孔243aが形成される。図16dは、貫通孔243aが形成されたベースウエハW220Aの断面図である。サンドブラストは、ベースウエハW220Aの-Y’軸側の面に、-Y’軸側からY’軸方向に研磨材が吹きつけられることにより行われる。ベースウエハW220Aに吹き付けられる研磨材は第1貫通領域161と第2貫通領域162との間170図16c参照を貫通させることにより、貫通孔243aに突起部273が形成される。また、ベースウエハW220Aの-Y’軸側の面である第1面221を、例えばベースウエハW220Aの第2面222等のベースウエハW220Aの他の面よりも表面の凹凸の高低差が大きい粗面状に形成される。また、貫通孔243aの第1貫通領域161のX軸方向の幅WX1は、貫通孔243aの第2貫通領域162のX軸方向の幅WX2よりも大きく形成されている。ステップS237では、ベースウエハW220Aに、接続電極228、外部電極225、アース端子226図11c参照及び側面電極229が形成される。図16eには、電極が形成されたベースウエハW220Aの断面図が示されている。これらの電極は、例えばガラスの表面にクロムCr層が形成され、クロム層の表面に金Au層が蒸着されることにより形成される。また、各ベース板の第1面221は粗面状に形成されているため、外部電極225及びアース端子226の表面も粗面状に形成される。図16に示されたベースウエハW220Aの作製方法では、ベースウエハW220Aに形成される各ベース板のキャスタレーションに突起部273が形成される。そのため、図15に示された作製方法により形成されたベース板と同様に、突起部273が形成されていることにより、圧電デバイス200がハンダを介してプリント基板に実装される際にハンダがキャスタレーションを介してベース板の第2面222に近づくことが阻止されている。図16の方法により作製されたベース板は、さらに貫通孔243aの第1貫通領域161が広く形成されることにより第1曲面271の面積が大きくなるため、ハンダが第2面222にさらに届きにくくなる。また、貫通孔243aの第2貫通領域162のエッチング量が少なくなることにより、第2貫通領域162のX軸方向の幅WX2を狭く形成することができる。すなわち、ベース板の第2面222の面積を広く取ることができて接合材140の塗布面積を広くすることができるため、キャビティの封止をより強固にすることができる。図12に戻って、ステップS203では、リッドウエハが用意される。リッドウエハには、複数のリッド板210が形成されている。リッドウエハは、図6に示されたリッドウエハW110と同様に-Y’軸側の面に凹部211が形成されることにより形成される。ステップS204では、ベースウエハW220Aと圧電ウエハW230とが接合される。ベースウエハW220Aと圧電ウエハW230との接合では、圧電振動片230aとベース板220aとが重なり、圧電振動片230bとベース板220bとが重なるように行われる。ステップS205では、接合材140により圧電ウエハW230とリッドウエハとが接合される。圧電ウエハW230とリッドウエハとの接合は、圧電ウエハW230のY’軸側の面とリッドウエハW210の接合面212とが互いに接合材140を介して接合される。ステップS206では、ウエハがダイシングにより切断される。ウエハの切断は、スクライブライン142図5及び図6参照に沿って行われ、ウエハに形成された各圧電デバイス200が個別に分断される。<ベース板及びベースウエハの変形例>ベース板及びベースウエハは、キャスタレーション及び貫通孔の形状が異なる様々な変形例が考えられる。以下に、ベース板及びベースウエハの変形例を説明する。図17aは、ベースウエハW220Bの平面図である。ベースウエハW220Bには、複数のベース板220c及び複数のベース板220dがX軸方向及びZ’軸方向に交互に形成されている。図17aにはスクライブライン142が示されており、各ベース板220c及びベース板220dは、スクライブライン142に囲まれて示されている。また、X軸方向に伸びるスクライブライン142とZ’軸方向に伸びるスクライブライン142との交点には貫通孔243a及び貫通孔243bが交互に形成されている。貫通孔243aはベース板220cのX軸側の-Z’軸側の角部、及びベース板220dのX軸側のZ’軸側の角部に形成されており、貫通孔243aの周りには接続電極228が形成されている。貫通孔243bは貫通孔243aよりもその半径が小さくなるように形成されている。貫通孔243a及び貫通孔243bには側面電極229が形成されている。図17bは、ベース板220cの平面図である。ベース板220cのキャスタレーション27a及びキャスタレーション27dは、半径L227の円の一部が形成され、キャスタレーション27b及びキャスタレーション27cは、半径L227bの円の一部が形成される。半径L227は半径L227bよりも大きいため、ベース板220cではX軸方向又はZ’軸方向に隣り合うキャスタレーション間にX軸又はZ’軸に平行な応力がかかり難くなっており、ベース板220cに割れが生じにくい。図17cは、-Y’軸側の面の電極が示されたベース板220cの平面図である。図17cでは、-Y’軸側の面に形成される電極をY’軸側から-Y’軸側にベース板220cを透過して見ている。ベース板220cの-Y’軸側の面のX軸側の-Z’軸側、及び-X軸側のZ’軸側には外部電極225が形成されている。各外部電極225は、キャスタレーションに形成される側面電極229を介してY’軸側の面に形成されている接続電極228に電気的に接続されている。また、-Y’軸側の面のX軸側のZ’軸側、及び-X軸側の-Z’軸側にはアース端子226が形成されており、側面電極229に電気的に接続されている。ベース板220dは、ベース板220cとX-Y’平面に対して面対称に形成されている。ベース板220c及びベース板220dは、アース端子226に接続されている側面電極229が形成されていることにより、圧電デバイスがハンダを介してプリント基板等に接続された場合に、ハンダは側面電極229にも形成されるため、アース端子226に接合されるハンダの状態を確認することができる。以上、本発明の最適な実施形態について詳細に説明したが、当業者に明らかなように、本発明はその技術的範囲内において実施形態に様々な変更変形を加えて実施することができる。例えば、上記の実施形態では、ベース板に外部電極とアース端子とが形成されていたが、外部電極のみが形成されていても良い。また、上記の実施形態では圧電振動片にATカットの水晶振動片である場合を示したが、同じように厚みすべりモードで振動するBTカット、又は音叉型水晶振動片などであっても同様に適用できる。さらに圧電振動片は水晶材のみならず、タンタル酸リチウムやニオブ酸リチウムあるいは圧電セラミックを含む圧電材に基本的に適用できる。