"水溶性塩の形態で沈着する金属を含有する、消費財および工業物品に銅-錫真鍮の沈着のための、シアン化物を含まない電解質であって、以下のさらなる成分、a1つ以上のアルキルスルホン酸と、bスルホン化または硫酸化芳香族アルキルアリールエーテル化合物の形態にあるイオン湿潤剤と、c錯化剤と、dジアルキルチオエーテル誘導体からなる群から選択される化合物とを含むことを特徴とする電解質。沈着する金属として、銅および錫または銅、錫および亜鉛を含むことを特徴とする請求項1に記載の電解質。前記沈着する金属が、イオン的に溶解した形態で存在し、銅のイオン濃度が、電解質の0.2~10g/lの範囲であり、錫のイオン濃度が、電解質の1.0~20g/lの範囲の濃度であり、存在する場合、亜鉛のイオン濃度が、電解質の1.0~20g/lの範囲であることを特徴とする、請求項1または2に記載の電解質。メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、n-プロパンスルホン酸からなる群から選択される前記アルキルスルホン酸が用いられることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の電解質。前記沈着する金属のアルカンスルホネートが、水溶性塩として用いられることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の電解質。β-ナフトールエトキシレート、ノニルフェノールエトキシレートからなる群から選択されるアルキルアリールエーテル化合物を用いることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の電解質。対応の酸のアルカリ金属塩を用いることを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の電解質。シュウ酸、マロン酸、コハク酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸からなる群から選択される錯化剤を用いることを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の電解質。チオジグリコールプロポキシレート、チオジグリコール、チオジグリセロール、チオジグリコールエトキシレート、チオジエチレンビス3-3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、2-アミノ-4-メチルチオブタン酸、2,2’-チオジエタンチオール、3,3’-チオジプロパンチオール、2,2’-チオジ酢酸、3,3’-チオジプロピオン酸、ジエチル2,2’-チオジアセテート、ジメチル2,2’-チオジアセテート、ジオクチル2,2’-チオジアセテート、ジドデシル2,2’-チオジアセテート、ジドデシル3,3’-チオジプロピオネート、ジメチル3,3’-チオジプロピオネート、ジエチル3,3’-チオジプロピオネート、ジオクチル3,3’-チオジプロピオネート、3,3’-チオジプロパノール、2,2’-チオジエタノール、4,4’-チオジブタノール、1,1’-チオジ-2,1-エタンジイル2-プロピオネート、ジオクタデシル3,3’-チオジプロピオネートからなる群から選択されるジアルキルチオエーテル誘導体を用いることを特徴とする請求項1~8のいずれか一項に記載の電解質。前記電解質のpHが-1~4の範囲にあることを特徴とする請求項1~9のいずれか一項に記載の電解質。水溶性塩の形態で沈着する金属を含有し、コートされる基材を、電解質に浸漬し、適切な電流の流れを与える、消費財および工業物品に銅-錫真鍮を電気化学的に沈着する方法であって、請求項1~10のいずれか一項に記載の電解質を用いることを特徴とする方法。前記電解質を、前記金属の沈着中、20~40°Cの範囲の温度まで加熱することを特徴とする請求項11に記載の方法。1平方デシメートル当たり0.01~100アンペアの範囲である電流密度を設定することを特徴とする、請求項11または12に記載の方法。電解銅、リン含有銅、錫、銅-錫合金、銅-亜鉛合金および銅-錫-亜鉛合金またはこれらのアノードの組み合わせからなる群から選択される材料で構成された可溶性アノードを用いることを特徴とする、請求項11~13いずれか一項に記載の方法。従って、本発明の目的は、先行技術に開示された電解質に比べて、生態学的かつ経済的観点の両方から有利である沈着プロセスおよびさらなる電解質を提供することであった。安定した単純な組成を有する電解質により、低電流密度範囲における、理想的な白色の光沢のある真鍮層の沈着に特に注目すべきである。これらの目的および、ここで言及されなかったが、先行技術の当業者に明白なやり方で誘導することのできるさらなる目的は、それぞれ、請求項1および請求項10による電解質および真鍮の沈着のための対応の方法により達成される。それぞれ、請求項1および請求項10を引用する従属請求項は、電解質または方法の好ましい実施形態を表わしている。水溶性塩の形態で沈着する金属、例えば、銅、錫および任意で亜鉛を含有し、以下のさらなる成分、a1つ以上のアルキルスルホン酸と、bスルホン化または硫酸化芳香族アルキルアリールエーテル化合物塩の形態にあるイオン湿潤剤と、c錯化剤と、dジアルキルチオエーテル誘導体からなる群から選択される化合物とを含むことを特徴とする、消費財および工業物品への銅-錫真鍮の沈着のための、シアン化物を含まない電解質の提案は、非常に有利であり、意外にも、述べた目的を達成可能とさせる。この電解質は、消費財および工業物品に、特に、低電流密度範囲において、非常に均一で、非常に明るい銅-錫真鍮の沈着物を生成することを可能とする。用いる電解質は、特に、SnIV沈殿物に関して、良好な安定性を有する。これにより、全く意外なことに、さらなる酸化防止剤の、分配される電解質への添加につながる。従って、好ましい実施形態において、さらなる酸化防止剤、特に、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシノール、フェノールスルホン酸、クレゾールスルホン酸等が本発明の電解質には存在しない。これは、先行技術の観点において、当業者には予測されないことであったであろう。本発明の電解質において、沈着する金属銅および錫または銅、錫および亜鉛は、それらのイオンとして溶液中に存在する。電解質に既に存在しているか、または、対応の金属塩のさらなる導入により、電解質中のアニオン成分の濃度の増大にはつながらない、アニオンと共に、金属が塩として用いられる実施形態が好ましい。従って、それらは、非常に好ましくは、アルキルスルホネート、カーボネート、水酸化物カーボネート、水素カーボネート、水酸化物、オキシ水酸化物、酸化物またはこれらの組み合わせからなる群から好ましくは選択される水溶性塩の形態で導入される。金属は、好ましい実施形態においては、電解質に水溶性アノードの形態で導入することもできることを指摘することができる。これに関して、ここに利点として対応して言及する本発明の方法の実施形態を参照することができる。電解質に導入された塩の種類および量は、得られる装飾真鍮層の色の決定因子となり得、かつ、カスタマー要件に従って設定することができる。沈着する金属は、示されるとおり、消費財および工業物品に装飾真鍮層を適用するために、電解質にイオン的に溶解した形態で存在する。銅のイオン濃度は、電解質の0.2~10g/l、好ましくは、電解質の0.3~4g/lの範囲に設定することができ、錫のイオン濃度は、電解質の1.0~30g/l、好ましくは、電解質の2~20g/lの範囲に設定することができ、存在する場合には、亜鉛のイオン濃度は、電解質の0.5~20g/l、好ましくは、電解質の1~3g/lの範囲に設定することができる。本発明の電解質は、1つ以上のアルキルスルホン酸をベースとする酸性電解質である。電解質中の酸の濃度は、電解質の100~300ml/lの範囲、好ましくは、150~250ml/l、特に好ましくは約200ml/lと変えることができる。電解質中のアルキルスルホン酸としては、かかる目的で当業者であれば想到するであろうものを用いることができる。本件において、アルキルという用語は、1~10、好ましくは、1~5、特に好ましくは、1~3個の炭素原子を有する直鎖または何らかのタイプの分岐アルキルラジカルのことを指す。特に好ましいのは、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸およびn-プロパンスルホン酸からなる群から選択されるアルキルスルホン酸を用いるものである。沈着する上述の金属は、水溶性アルカンスルホネート塩の形態で有利に用いられる。消費財を機能向上するために特に好ましいのは、得られるイオン濃度が、それぞれ、電解質1リットル当たり0.3~4グラムの銅、2~20グラムの錫および0~3グラムの亜鉛となるように、メタンスルホン酸の塩として沈着する金属を導入することである。上述したとおり、用いる電解質は、イオン湿潤剤/光沢剤を含有する。湿潤剤は、スルホン化または硫酸化芳香族アルキルアリールエーテル化合物の塩から形成される。かかる湿潤剤は、当業者に良く知られているDiegalvanischeAbscheidungvonZinnundZinnlegierungen、ManfredJordan,EugenG.LeuzeVerlag,BadSaulgau。用いるスルホン化または硫酸化芳香族アルキルアリールエーテル化合物は、酸素橋を介して、アリールラジカルに結合されたアルキル基を含有している。本発明の目的において、アルキルという用語は、本件において、1~10、好ましくは、1~5、特に好ましくは、1~3個の炭素原子を有する直鎖またはあるタイプの分岐アルキルラジカルを含有するラジカルを指す。アリールラジカルとして、当業者は、式C7-C19-アルキルアリール、C6-C18-アリール、C7-C19-アラルキル、C3-C18-ヘテロアリール、C4-C19-アルキルヘテロアリール、C4-C19-ヘテロアラルキルを含むことのできるものを選択することができる。特に好ましいのは、フェノール、ナフトール、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、アニソール、アニリンからなる群から選択されるものである。アリールエトキシレート、特に、β-ナフトールエトキシレート、ノニルフェノールエトキシレートからなる群から選択されるアルキルアリールエーテル化合物を用いるのが特に有利である。スルホン化または硫酸化位置が、化合物の芳香族か、脂肪族部のいずれかに存在し得る。それは、化合物の芳香族部に存在するのが好ましい。対イオンとして、当業者であれば、この目的で考えるであろう全てのカチオンを選択することができる。好ましいのは、対応の酸のアルカリ金属塩またはアンモニウムイオンを用いることである。ナトリウムおよびカリウムからなる群から選択されるのが特に有利である。この添加剤例えば、スルホン化または硫酸化アリールエトキシレートのナトリウム塩、特に、スルホン化および硫酸化アルキルフェノールエトキシレートのNa塩は、沈着する層の光沢を増大し、より高い電流密度の方向に電流密度範囲を広げ、本発明による組み合わせにおいて沈着する層の白色度を少なくとも2L単位増大する。同時に、この光沢剤は、湿潤剤として作用する。言及した湿潤剤は、電解質の0.01~10ml/l、好ましくは、電解質の0.2~5ml/l、特に好ましくは、電解質の0.5~1ml/lの濃度で有利に用いられる。錯化剤も同様に電解質に存在しなければならない。錯化剤には、特に、SnIVイオンが二酸化錫として沈殿するのを防ぐ役割がある。錯化剤を添加しないと、形成された二酸化錫のために、僅かの時間で電解質は混濁する。真鍮沈着物は、その結果、ますます艶消しとなる。微粉砕SnO2による混濁は、他の有機添加剤の消費を大幅に増大する。錯化剤の添加は、電解質が混濁する程度を大幅に減じ、真鍮層の品質は、一定して良好なまま光沢および白色となり、浴の利用が増大し、有機添加剤の消費が最小になる。錯化剤としては、当業者によりこの目的で考えられるであろう化合物を選択することができる。好ましい化合物は、ヒドロキシジカルボンまたはトリカルボン酸をベースとするものである。特に好ましいのは、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸からなる群から選択される錯化剤を用いるものである。特に好ましいのは、これに関してはリンゴ酸である。言及した錯化剤は、電解質の1~300g/l、好ましくは、電解質の20~200g/l、特に好ましくは、電解質の50~150g/lの濃度で有利に用いられる。上述したとおり、本発明の電解質はまた、1つ以上のジアルキルチオエーテル誘導体と混合される。これらの溶剤によって、特に、低電流密度の範囲にある、真鍮合金の沈着の改善につながる。対称置換ジアルキルチオエーテル誘導体、例えば、チオジグリコールプロポキシレートまたはチオジグリコールエトキシレーが、これに関して有利である。アルキルラジカルとしては、この場合もやはり上述したものを用いることができる。アルキルラジカルは、さらに官能基により置換されていてもよい。後者は、好ましくは、ヒドロキシ、カルボン酸エステル、チオール、アミノからなる群から選択することができる。これに関して、特に好ましいのは、例えば、チオジグリコールプロポキシレート、チオジグリコール、チオジグリセロール、チオジグリコールエトキシレート、チオジエチレンビス3-3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、2-アミノ-4-メチルチオブタン酸、2,2’-チオジエタンチオール、3,3’-チオジプロパンチオール、2,2’-チオジ酢酸、3,3’-チオジプロピオン酸、ジエチル2,2’-チオジアセテート、ジメチル2,2’-チオジアセテート、ジオクチル2,2’-チオジアセテート、ジドデシル2,2’-チオジアセテート、ジドデシル3,3’-チオジプロピオネート、ジメチル3,3’-チオジプロピオネート、ジエチル3,3’-チオジプロピオネート、ジオクチル3,3’-チオジプロピオネート、3,3’-チオジプロパノール、2,2’-チオジエタノール、4,4’-チオジブタノール、1,1’-チオジ-2,1-エタンジイル2-プロピオネート、ジオクタデシル3,3’-チオジプロピオネートからなる群から選択される化合物であり、2-アミノ-4-メチルチオブタン酸が非常に好ましいと考えられる。上述したジアルキルチオエーテル誘導体は、電解質の0.01~20g/l、好ましくは、電解質の0.1~5g/l、特に好ましくは、電解質の0.3~1g/lの濃度で有利に用いられる。電解質のpHは、酸の添加のために、強酸範囲にある。-1~4の範囲、好ましくは、-0.5~2の範囲、特に好ましくは、約1のpHとなるように設定される。さらに、本発明は、真鍮合金層を消費財および工業物品へ適用するための電解質沈着方法を提案するものであり、コートされる基材は、本発明による電解質に浸漬され、適切な電流の流れが与えられる。上述した電解質の好ましい実施形態は、ここに示す方法にも同様に適用される。電解質は、好ましくは、20~40°Cの範囲、好ましくは、30°Cの温度まで加熱される。電流密度は、1平方デシメートル当たり0.01~100アンペア[A/dm2]の範囲に設定することができ、これは、めっき設備の種類による。このように、バレルめっきプロセスにおいて、0.01~0.75A/dm2の範囲の電流密度が好ましく、0.025~0.5A/dm2がより好ましく、約0.1~0.3A/dm2が特に好ましい。ラックめっきプロセスにおいては、0.2~10.0A/dm2、特に好ましくは、0.2~5.0A/dm2、非常に特に好ましくは0.25~1.0A/dm2の範囲の電流密度が好ましくは選択される。しかしながら、バレル用途PraktischeGalvanotechnik、EugenG.LeuzeVerlag1997、74ff頁の序論参照が好ましい。本発明の電解質を用いるとき、様々なアノードを用いることができる。可溶性アノードが特に有利である。可溶性アノードとしては、電解銅、リン含有銅、錫、銅-錫合金、銅-亜鉛合金および銅-錫-亜鉛合金からなる群から選択される材料で構成されるアノードを用いるのが好ましい。特に好ましいのは、これらの材料で構成された異なる可溶性アノードの組み合わせである。純粋な銅アノードもまた、この電解質系に用いることができる。しかしながら、アルキルスルホン酸をベースとする銅-錫電解質の好ましいアノードは、<90重量~>50重量の銅含量および>10重量~<50重量の錫含量を有する銅-錫合金である。アノードは、より好ましくは、85~60重量の銅と40~15重量の錫を含む。アノードの銅含量は、より好ましくは、錫含量の約4倍である。これはまた、好ましくは、亜鉛等の他の元素が可溶性アノード中に任意で存在するときにも当てはまる。電解質はまた、健康に害のあるいずれの材料も含有せず、このことは、メタンスルホン酸をベースとする他の銅-錫電解質系よりさらに有利である。メタンスルホン酸銅-錫電解質において、特に、酸化防止剤は、錫の酸化を防ぐために、通常、用いられる。酸化防止剤としては、ハイドロキノン発がん性、カテコールおよびレゾルシノール両者とも健康に害があるが用いられることが多い。言及した化学薬品はいずれも本発明の電解質系に用いられていない。さらに酸化防止剤を添加しなくても、電解質は作製するのに十分安定である。本発明において、C6~C18-アリールは、完全に6~18個の炭素原子でできた芳香族系である。特に、かかる系は、フェニル、ナフチル、アントラセニル等からなる群から選択される。C7~C19-アルキルアリールラジカルは、C6~C18-アリールラジカルにC1~C8-アルキルラジカルを含むラジカルである。C7~C19-アラルキルラジカルは、C1~C8-アルキルラジカルにC6~C18-アリールラジカルを有するラジカルである。ここで、ラジカルは、関係する分子に結合している。本発明の目的において、C3~C18-ヘテロアリールラジカルは、少なくとも3個の炭素原子を有する芳香族系である。さらなるヘテロ原子が、芳香族系にさらに存在する。これらは、好ましくは、窒素および/または硫黄である。かかるヘテロ芳香族は、例えば、Bayer-Walter,LehrbuchderOrganischenChemie,S.HirzelVerlag,第22版、703ff頁にあるであろう。本発明の目的において、C4~C19-アルキルヘテロアリールは、C1~C8-アルキル置換基により補われたC3~C18-ヘテロアリールラジカルである。関係する分子への結合は、ヘテロ芳香族を介する。一方、C4~C19-ヘテロアラルキルは、C1~C8-アルキル置換基を介して関係する分子に結合したC3~C18-ヘテロアリールラジカルである。本発明による電解質処方:180ml/lのメタンスルホン酸7060g/lのリンゴ酸20ml/lの銅メタンスルホネート溶液100g/l=電解質中2g/lのCu20ml/lの錫メタンスルホネート溶液300g/l=電解質中6g/lのSn1g/lの2-アミノ-4-メチルチオブタン酸1ml/lの光沢剤スルホネート化および硫酸化アルキルフェノールエトキシレートのナトリウム塩1.200ml/lの脱イオン水を1lのガラスビーカーに入れる。2.次に、180ml/lのメタンスルホン酸70を、激しく攪拌しながら、徐々に添加する。3.次に、60g/lのリンゴ酸を、激しく攪拌しながら、希釈メタンスルホン酸に溶解する。完全溶解後、4.20ml/lの銅メタンスルホネート溶液および20ml/lの錫メタンスルホネート溶液を添加し、脱イオン水により、容積を950mlとする。5.次に、1g/lの2-アミノ-4-メチルチオブタン酸を添加する。これを完全に溶解した後、6.1ml/lの光沢剤を電解質に添加し、脱イオン水により電解質を最終容量1000mlとする。沈着のパラメータ:温度:電解質温度:30°CpH:pH<1バレル用途についての電流密度:バレル用途についての最良の電流密度は、0.1~0.3A/dm2である。アノード:メタンスルホン酸をベースとする銅-錫電解質のアノードは、銅含量が80重量および錫含量が20重量の銅-錫合金アノードである[GoodfellowGmbHより市販されている]。電解質特性:コーティングの特性:コーティング:銅-錫合金組成:70~55の銅、30~45のSn動作条件に応じてコーティングの密度:約8.2g/cm3計算されたもの色:白色、0.1A/dm2で約82~85のL値ジアルキルチオエーテル誘導体に代わるものを用いた実験:1lの電解質の処方方法:2-アミノ-4-メチルチオブタン酸を用いる実験参照操作パラメータ:温度:30°Cアノード:Cu-Sn80/201リットルのガラスビーカー/200rpm/6cmマグネチックスターラーバー/物品の移動0.2A/dm2/10分および0.5A/dm2/5分で0.5dm2の真鍮板実験沈着を行った。ジアルキルチオエーテル誘導体を、これらの実験においては、以下の物質表参照に代えた。"