"[A]a1下記式1で示される加水分解性シラン化合物及び下記式2で示される加水分解性シラン化合物を反応させて得られる加水分解縮合物[B]感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤[C]アルコール系溶剤を含有する感放射線性組成物。式1中、R1は炭素数1~4のアルキル基であり、R2は炭素数6~20のアルキル基、炭素数4~20のシクロアルキル基であり、この炭素数6~20のアルキル基は、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、シアノ基で置換されていてもよい。式2中、R3は炭素数1~4のアルキル基であり、R4は炭素数1~5のアルキル基、フェニル基、メタアクリロイルオキシ基、グリシドオキシ基、3、4-エポキシシクロヘキシル基、ビニル基、p-スチリル基であり、pは0~2の整数である。請求項1記載の[A]加水分解縮合物が、a1と、さらにa2一般式2で示される加水分解性シラン化合物からなる加水分解縮合物を含有することを特徴とする請求項1記載の感放射線性組成物。[D]下記式3で示される化合物及び下記式4で示される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種のシラン化合物を含有する請求項1又は請求項2記載の感放射線性組成物。式3中、R5及びR7はそれぞれ独立に炭素数が1~4のアルキル基であり、R6はメチレン基または炭素数2~6のアルキレン基、フェニレン基又は式4で示される基であり、式4中、qはそれぞれ独立に1~4の整数である。式5中、R8、R9及びR10はそれぞれ独立に炭素数が1~4のアルキル基であり、a、b及びcはそれぞれ独立に1~6の整数である。[E]有機粒子、或いは無機粒子のいずれか、またはその両方を含有することを特徴とする請求項1~請求項3に記載の感放射線性組成物。表示素子の保護膜又は層間絶縁膜を形成するために用いられる請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の感放射線性組成物。1請求項5に記載の感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2工程1で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3工程2で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び4工程3で現像された塗膜を加熱する工程を含む表示素子用保護膜又は層間絶縁膜の形成方法。請求項6に記載の感放射線性組成物から形成された表示素子の保護膜又は層間絶縁膜。請求項5に記載の感放射線性組成物から形成された表示素子のタッチパネル用保護膜。本発明は以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、透明性、耐熱性耐熱透明性、感度、屈折率、表面硬度及び耐擦傷性が優れると共に、ITO透明導電膜に対する密着性及び耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成するために好適に用いられ、かつ十分な解像性を有するポリシロキサン系ネガ型感放射線性組成物、その組成物から形成された保護膜及び層間絶縁膜、並びにその保護膜及び層間絶縁膜の形成方法を提供することである。上記課題を解決するためになされた発明は、[A]a1下記式1で示される加水分解性シラン化合物及び下記式2で示される加水分解性シラン化合物を反応させて得られる加水分解縮合物以下、[A-1]成分とも言う。[B]感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤以下、[B]成分とも言う。[C]アルコール系溶剤以下、[C]成分とも言う。を含有する感放射線性組成物である。式1中、R1は炭素数1~4のアルキル基であり、R2は炭素数6~20のアルキル基、炭素数4~20のシクロアルキル基であり、この炭素数6~20のアルキル基は、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、シアノ基で置換されていてもよい。式2中、R3は炭素数1~4のアルキル基であり、R4は炭素数1~5のアルキル基、フェニル基、メタアクリロイルオキシ基、グリシドキシ基、3、4-エポキシシクロヘキシル基、ビニル基、p-スチリル基であり、pは0~2の整数である。当該感放射線性組成物は、ネガ型の感放射線特性を有し、上記[A-1]成分及び[B]成分を含んでいることによって、平坦性、透明性、耐熱性耐熱透明性、表面硬度及び耐擦傷性という一般的な要求特性をバランス良く満たすと同時に、ITO透明導電膜に対する密着性及び耐クラック性が改善された表示素子用保護膜及び層間絶縁膜を形成することができる。また、当該感放射線性組成物は、コンタクトホールを形成可能な解像性を発現すると共に、優れた保存安定性を有する。当該感放射線性組成物から得られた保護膜又は層間絶縁膜は、このように諸特性が優れているため、特に表示素子用として好適に用いられる。当該感放射線性組成物は、[A-1]成分と共にa2一般式2で示される加水分解性シラン化合物からなる加水分解縮合物以下、[A-2]成分とも言う。を含有する感放射線性組成物である。当該感放射線性組成物は、さらに[D]下記式3で示される化合物及び下記式4で示される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種のシラン化合物以下、[D]成分とも言う。を含有することが好ましい。式3中、R5及びR7はそれぞれ独立に炭素数が1~4のアルキル基であり、R6はメチレン基または炭素数2~6のアルキレン基、フェニレン基又は式4で示される基であり、式4中、qは1~4の整数である。式5中、R8、R9及びR10はそれぞれ独立に炭素数が1~4のアルキル基であり、a、b及びcはそれぞれ独立に1~6の整数である。当該感放射線性組成物において、上記[D]成分と共に、[A-1]成分、若しくは[A-1]成分と[A-2]成分を併用して用いることによって、形成される保護膜及び層間絶縁膜のITO透明導電膜に対する密着性及び耐クラック性がさらに改善されると共に、より高い解像性を得ることができる。当該感放射線性組成物は、[E]有機粒子、或いは無機粒子のいずれか、またはその両方を以下、[E]成分とも言う。含有することが好ましい。このように[E]成分をさらに含有することによって、当該感放射線性組成物の屈折率、表面高度、耐擦傷性をより高めることが可能となる。また、本発明の液晶表示素子用保護膜又は層間絶縁膜の形成方法は、1当該感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2工程1で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3工程2で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び4工程3で現像された塗膜を加熱する工程を含んでいる。当該方法においては、優れた解像性を発現する上記感放射線性組成物を用い、感放射線性を利用した露光現像によってパターンを形成することによって、容易に微細かつ精巧なパターンを有する表示素子用保護膜又は層間絶縁膜を形成することができる。またこうして形成された保護膜及び層間絶縁膜は、これらの膜に要求される一般的な特性、すなわち、透明性、耐熱性耐熱透明性、表面硬度及び耐擦傷性、並びにITO透明導電膜に対する密着性及び耐クラック性の全てが、バランス良く優れている。以上説明したように、本発明の感放射線性組成物は、透明性、耐熱性、耐熱透明性、表面硬度及び耐擦傷性という一般的な要求特性をバランス良く満たし、さらにITO透明導電膜に対する密着性及び耐クラック性が改善された表示素子用保護膜及び層間絶縁膜を形成可能である。このように形成された保護膜又は層間絶縁膜は、特に液晶表示素子用として好適に用いることができる。また、当該感放射線性組成物は、コンタクトホールを形成可能な程度の十分な解像性を発現する。さらに、当該感放射線性組成物は、タッチパネル表示素子の保護膜としても、優れた表面硬度及び耐擦傷性を有していることから、好適に用いることができる。本発明の感放射線性組成物は、[A]成分、[B]成分、[C]成分、並びにその他の任意成分[D]成分、[E]成分等を含有する。[A]成分:加水分解縮合物[A]成分の加水分解縮合物はa1下記式1及び2で示される加水分解性シラン化合物からなる加水分解縮合物とa2下記式2で示される加水分解性シラン化合物からなる加水分解縮合物の2種の加水分解縮合物を含むものである。a1としては、下記式1及び2で示される加水分解性シラン化合物からなる加水分解縮合物であることが好ましい。式1中、R1は炭素数1~4のアルキル基であり、R2は炭素数6~20のアルキル基、炭素数4~20のシクロアルキル基であり、この炭素数6~20のアルキル基は、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、シアノ基で置換されていてもよい。式2中、R3は炭素数1~4のアルキル基であり、R4は炭素数1~5のアルキル基、フェニル基、メタアクリロイルオキシ基、グリシドキシ基、3、4-エポキシシクロヘキシル基、ビニル基、p-スチリル基であり、pは0~2の整数である。本願における加水分解性シラン化合物の加水分解性の基とは、通常、無触媒、過剰の水の共存下、室温約25°C~約100°Cの温度範囲内で加熱することにより、加水分解してシラノール基を生成することができる基、又は、シロキサン縮合物を形成することができる基を指す。それに対して、非加水分解性の基とは、そのような加水分解条件下で、加水分解又は縮合を起こさず、安定に存在する基を指す。上記式1、2で示される加水分解性シラン化合物の加水分解反応においては、生成するシロキサンポリマーにおいて一部の加水分解性基が未加水分解の状態で残っていてもよい。また、当該組成物中には一部の加水分解性シラン化合物は、その分子中の一部又は全部の加水分解性基が未加水分解の状態で、かつ他の加水分解性シラン化合物と縮合せずに単量体の状態で残っていてもよい。ここで言う加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物は、加水分解されたシラン化合物の一部のシラノール基同士が反応縮合した加水分解縮合物を意味する。上記1式のR1は炭素数1~4のアルキル基であり、R2は炭素数6~20のアルキル基、炭素数4~20のシクロアルキル基であり、この炭素数6~20のアルキル基は、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ハロゲン、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、シアノ基で置換されていてもよい。R2は長鎖アルキル基、シクロアルキル基、置換された長鎖アルキル基等が好ましく、このような置換基を導入することによって、硬化膜に対する外部応力の緩和に効果がある。例えば、R2にメチル基、エチル基等の場合、硬化膜に対する外部応力の緩和が少ないため、硬化膜にクラックひび割れが発生し易くなるが、R2に炭素数12のドデシル基を導入した場合、得られる硬化膜中の外部応力がドデシル基で緩和されるために、硬化膜のクラックを抑制することが可能となる。R2は、炭素数が6~20のアルキル基のうち、特に炭素数8~12であるときが、クラック耐性、表面硬度と配線等に対する密着性を高いレベルで達成できるとともに、加水分解性縮合の反応性の観点からも望ましい。上記1式の具体例としては、n-ヘキシルトリメトキシシラン、n-ヘプチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-ノニルトリメトキシシラン、n-デシルトリメトキシシラン、n-ウンデシルトリメトキシシラン、n-ドデシルトリメトキシシラン、n-ペンタデシルトリメトキシシラン、n-オクタデシルトリメトキシシラン、n-イコサシルトリメトキシシラン、n-ヘキシルトリエトキシシラン、n-ヘプチルトリエトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、n-ノニルトリエトキシシラン、n-デシルトリエトキシシラン、n-ウンデシルトリエトキシシラン、n-ドデシルトリエトキシシラン、1-トリエトキシシリル-6-ヒドロキシ-ヘキサン、1-トリエトキシシリル-10-ヒドロキシ-デカン、1-トリエトキシシリル-12-ヒドロキシ-ドデカン、1-トリエトキシシリル-6-シアノ-ヘキサン、1-トリエトキシシリル-10-シアノ-デカン、1-トリエトキシシリル-12-シアノ-ドデカン、1-トリエトキシシリル-6-カルボキシ-ヘキサン、1-トリエトキシシリル-10-カルボキシ-デカン、1-トリエトキシシリル-12-カルボキシ-ドデカン、1-トリエトキシシリル-6-フェニル-ヘキサン、1-トリエトキシシリル-10-フェニル-デカン、1-トリエトキシシリル-12-ナフチル-ドデカン、1-トリエトキシシリル-6-アミノ-ヘキサン、1-トリエトキシシリル-10-アミノ-デカン、1-トリエトキシシリル-12-アミノ-ドデカン、1-トリエトキシシリル-6-クロロ-ヘキサン、1-トリエトキシシリル-10-クロロ-デカン、1-トリエトキシシリル-12-クロロ-ドデカン、1-トリエトキシシリル-6-ブトキシ-ヘキサン、1-トリエトキシシリル-10-ブトキシ-デカン、1-トリエトキシシリル-12-ブトキシ-ドデカン等が挙げられる。これらのうち特に、表面硬度と配線等に対する密着性を高いレベルで達成できるとともに、加水分解性縮合の反応性の観点からn-ヘキシルトリメトキシシラン、n-ヘプチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-ノニルトリメトキシシラン、n-デシルトリメトキシシラン、n-ウンデシルトリメトキシシラン、n-ドデシルトリメトキシシラン、1-トリエトキシシリル-10-ヒドロキシ-デカン、1-トリエトキシシリル-12-クロロ-ドデカン等が挙げられる。が好ましい。上記2式のR3は炭素数1~4のアルキル基であり、R4は、炭素数1~5のアルキル基、フェニル基、メタアクリロイルオキシ基、グリシドキシ基、3、4-エポキシシクロヘキシル基、ビニル基、p-スチリル基であり、pは0~2の整数である。上記式2で表される加水分解性シラン化合物は、4個の加水分解性基で置換されたシラン化合物、1個の非加水分解性基と3個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物、2個の非加水分解性基と2個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物、又はそれらの混合物を挙げることができる。このような上記式2で表される加水分解性シラン化合物の具体例としては、4個の加水分解性基で置換されたシラン化合物として、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラベンジロキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-i-プロポキシシラン等;1個の非加水分解性基と3個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物として、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ-i-プロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ-i-プロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ-n-プロポキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等;2個の非加水分解性基と2個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物として、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン等をそれぞれ挙げることができる。これらの上記式2で表される加水分解性シラン化合物のうち、4個の加水分解性基で置換されたシラン化合物、及び1個の非加水分解性基と3個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物が好ましく、1個の非加水分解性基と3個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物が特に好ましい。好ましい加水分解性シラン化合物の具体例としては、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ-i-プロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシランが挙げられる。このような加水分解性シラン化合物は、1種単独で使用しても、又は2種以上を組み合わせて使用してもよい。してもよい。上記式1で表される加水分解性シラン化合物及び2で表される加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させる条件は、上記式1及び2で表される加水分解性シラン化合物の少なくとも一部を加水分解して、加水分解性基をシラノール基に変換し、縮合反応を起こさせるものである限り、特に限定されるものではないが、一例として以下のように実施することができる。上記式1で表される加水分解性シラン化合物及び2で表される加水分解性シラン化合物を加水分解縮合に用いられる水は、逆浸透膜処理、イオン交換処理、蒸留等の方法により精製された水を使用することが好ましい。このような精製水を用いることによって、副反応を抑制し、加水分解の反応性を向上させることができる。水の使用量は上記式1及び2で表される加水分解性シラン化合物の加水分解性基-OR2の合計量1モルに対して、好ましくは0.1~3モル、より好ましくは0.3~2モル、さらに好ましくは0.5~1.5モルの量である。このような量の水を用いることによって、加水分解縮合の反応速度を最適化することができる。上記式1で表される加水分解性シラン化合物及び2で表される加水分解性シラン化合物を加水分解縮合に使用することができる溶剤としては、特に限定されるものではないが、通常、後述する感放射線性組成物の調製に用いられる溶剤と同様のものを使用することができる。このような溶剤の好ましい例としては、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピオン酸エステル類が挙げられる。これらの溶剤の中でも、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又は3-メトキシプロピオン酸メチルが、特に好ましい。上記式1で表される加水分解性シラン化合物及び2で表される加水分解性シラン化合物を加水分解縮合反応は、好ましくは酸触媒例えば、塩酸、硫酸、硝酸、蟻酸、シュウ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸、酸性イオン交換樹脂、各種ルイス酸、塩基触媒例えば、アンモニア、1級アミン類、2級アミン類、3級アミン類、ピリジンなどの含窒素化合物;塩基性イオン交換樹脂;水酸化ナトリウムなどの水酸化物;炭酸カリウムなどの炭酸塩;酢酸ナトリウムなどのカルボン酸塩;各種ルイス塩基、又は、アルコキシド例えば、ジルコニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシド等の触媒の存在下で行われる。例えば、アルミニウムアルコキシドとしては、トリ-i-プロポキシアルミニウムを用いることができる。触媒の使用量としては、加水分解縮合反応の促進の観点から、加水分解性シラン化合物のモノマー1モルに対して、好ましくは0.2モル以下であり、より好ましくは0.00001~0.1モルである。上記式1で表される加水分解性シラン化合物及び2で表される加水分解性シラン化合物を加水分解縮合における反応温度及び反応時間は、適宜に設定される。例えば、下記の条件が採用できる。反応温度は、好ましくは40~200°C、より好ましくは50~150°Cである。反応時間は、好ましくは30分~24時間、より好ましくは1~12時間である。このような反応温度及び反応時間とすることによって、加水分解縮合反応を最も効率的に行うことができる。この加水分解縮合においては、反応系内に加水分解性シラン化合物、水及び触媒を一度に添加して反応を一段階で行ってもよく、あるいは、加水分解性シラン化合物、水及び触媒を、数回に分けて反応系内に添加することによって、加水分解及び縮合反応を多段階で行ってもよい。なお、加水分解縮合反応の後には、脱水剤を加え、次いでエバポレーションにかけることによって、水及び生成したアルコールを反応系から除去することができる。この段階で用いられる脱水剤は、一般的に、過剰の水を吸着又は包接して脱水能が完全に消費されるか、またはエバポレーションにより除去されるため、感放射線性組成物に添加される後述の[E]成分の脱水剤の範疇には入らないものとする。上記式1で表される加水分解性シラン化合物及び2で表される加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物の分子量は、移動相にテトラヒドロフランを使用したGPCゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用い、ポリスチレン換算の重量平均分子量として測定することができる。そして、加水分解縮合物の重量平均分子量は、通常500~10000の範囲内の値とするのが好ましく、1000~5000の範囲内の値とするのがさらに好ましい。加水分解縮合物の重量平均分子量の値を500以上とすることによって、感放射線性組成物の塗膜の成膜性を改善することができる。一方、加水分解縮合物の重量平均分子量の値を10000以下とすることによって、感放射線性組成物の感放射線性の低下を防止することができる。本発明では、上記式1で表される加水分解性シラン化合物及び2で表される加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物[A-1]成分とともに上記式2で表される加水分解性シラン化合物を単独で加水分解縮合して得られる加水分解縮合物[A-2]成分を併用して用いることができる。[A-1]成分と[A-2]成分を併用して用いることによって、[A-1]成分を単独で用いた場合に比較して、さらにクラック耐性、表面硬度と配線等に対する密着性を高いレベルで達成することが可能となる。[A-2]成分は、[A-1]成分と同様にして、上記2で表される加水分解性シラン化合物を加水分解縮合することで得られる。[A-1]成分と[A-2]成分の使用割合は、好ましくは[A-1]成分100質量部に対して、[A-2]成分を5~600質量の範囲、特に好ましくは[A-1]成分100質量部に対して、[A-2]成分を20~400質量の範囲である。[A-1]成分100質量部に対して、[A-2]成分を5~600質量の範囲の時、クラック耐性、表面硬度と配線等に対する密着性を高いレベルで達成することが可能となる。[B]成分:感放射線性酸発生剤、感放射線性塩基発生剤[B]成分の感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤は、放射線を照射することにより、[A]成分のシロキサンポリマー好ましくは上記式4で表される加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物と、後述する[D]成分のシラン化合物とを縮合硬化反応させる際の触媒として作用する酸性活性物質又は塩基性活性物質を放出することができる化合物と定義される。なお、[B]成分を分解し、酸性活性物質又は塩基性活性物質のカチオン又はアニオン等を発生するために照射する放射線としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線等を挙げることができる。これらの放射線の中でも、一定のエネルギーレベルを有し、大きな硬化速度を達成可能であり、しかも照射装置が比較的安価かつ小型であることから、紫外線を使用することが好ましい。また、[B]成分の感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤と共に、後述するラジカル重合開始剤を併用することも好ましい。ラジカル重合開始剤から生じる中性の活性物質であるラジカルは、加水分解性シラン化合物の縮合反応を促進することはないが、[A]成分がラジカル重合性の官能基を有する場合に、かかる官能基の重合を促進することができる。[B]成分の感放射線性酸発生剤としては、ジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩及びテトラヒドロチオフェニウム塩が好ましく、特にトリフェニルスルホニウム塩及びテトラヒドロチオフェニウム塩が好ましい。ジフェニルヨードニウム塩の具体例としては、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム-p-トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウム-p-トルエンスルホナート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムカンファースルホン酸等が挙げられる。トリフェニルスルホニウム塩の具体例としては、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホン酸、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム-p-トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムブチルトリス2、6-ジフルオロフェニルボレート等が挙げられる。テトラヒドロチオフェニウム塩の具体例としては、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウム-1,1,2,2-テトラフルオロ-2-ノルボルナン-2-イルエタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウム-2-5-t-ブトキシカルボニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウム-2-6-t-ブトキシカルボニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、1-4,7-ジブトキシ-1-ナフタレニルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホナート等が挙げられる。これらの感放射線性酸発生剤の中でも、感放射線性組成物の放射線感度向上の観点からトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホン酸、1-4,7-ジブトキシ-1-ナフタレニルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホナートが特に好ましい。[B]成分の感放射線性塩基発生剤の例としては、2-ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、[2,6-ジニトロベンジルオキシカルボニル]シクロヘキシルアミン、N-2-ニトロベンジルオキシカルボニルピロリジン、ビス[2-ニトロベンジルオキシカルボニル]ヘキサン-1,6-ジアミン、トリフェニルメタノール、O-カルバモイルヒドロキシアミド、O-カルバモイルオキシム、4-メチルチオベンゾイル-1-メチル-1-モルホリノエタン、4-モルホリノベンゾイル-1-ベンジル-1-ジメチルアミノプロパン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン、ヘキサアンミンコバルトIIIトリストリフェニルメチルボレート等が挙げられる。これらの[B]成分の感放射線性塩基発生剤の中でも、感放射線性組成物の放射線感度向上の観点から、2-ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート及びO-カルバモイルヒドロキシアミドが特に好ましい。[B]成分の感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。[B]成分の使用量は、[A]成分100質量部に対して、好ましくは0.1質量部~20質量部、更に好ましくは0.5質量部~10質量部である。[B]成分の使用量を0.1質量部~20質量部とすることによって、放射線感度、形成される保護膜及び層間絶縁膜の鉛筆硬度、及び耐熱性耐熱透明性がバランス良く優れた感放射線性組成物を得ることができる。[C]成分:アルコール系溶剤当該感放射線性組成物には、プロトン性溶剤であるアルコール系溶剤を含有する。アルコール系溶剤を用いることで、各成分を均一に溶解又は分散することができ、これにより組成物溶液の大型基板への塗工性向上を可能にし、さらに塗布ムラ筋状ムラ、ピン跡ムラ、モヤムラ等の発生を抑制し、膜厚均一性をさらに向上できる。このようなアルコール系溶剤としては、1-ヘキサノール、1-オクタノール、1-ノナノール、1-ドデカノール、16-ヘキサンジオール、18-オクタンジオール等の長鎖アルキルアルコール類;、ベンジルアルコール等の芳香族アルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル類;ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;等を挙げることができる。これらのアルコール系溶剤は、単独若しくは、2種以上併用して使用することができる。これらアルコール系溶剤のうち、特に塗工性向上の観点から、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルが挙げられる。[C]成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。[C]成分の使用量は、[A]成分100質量部に対して、好ましくは5質量部~300質量部、更に好ましくは10質量部~200質量部である。[C]成分の使用量を5質量部~300質量部とすることによって、感放射線性組成物のガラス基板等に対する塗工性向上を可能にし、さらに塗布ムラ筋状ムラ、ピン跡ムラ、モヤムラ等の発生を抑制し、膜厚均一性をさらに向上できる。本願発明においては、アルコール系溶剤と共に、他の溶剤、例えばエーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート類、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類などを挙げることができる。これらの溶剤としては、エーテル類として、例えばテトラヒドロフラン等;ジエチレングリコールアルキルエーテル類として、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等;エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等;プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類として、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等;プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート類として、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート等;芳香族炭化水素類として、例えばトルエン、キシレン等;ケトン類として、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン等;エステル類として、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸i-プロピル、酢酸ブチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、3-ヒドロキシプロピオン酸メチル、3-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-ヒドロキシプロピオン酸プロピル、3-ヒドロキシプロピオン酸ブチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-メトキシプロピオン酸ブチル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル等をそれぞれ挙げることができる。これらの溶剤は、単独で又は混合して用いることができる。[D]成分:シラン化合物[D]成分は、下記式1及び3でそれぞれ示される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種のシラン化合物である。この[D]成分は、当該成分を含む感放射線性組成物に放射線を照射することにより、[B]感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基から発生した酸酸性活性種又は塩基塩基活性種を触媒として、[A]成分のシロキサンポリマー好ましくは上記式4で表される加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物と共に縮合し、硬化物を形成する。式3中、R5及びR7はそれぞれ独立に炭素数が1~4のアルキル基であり、R6はメチレン基または炭素数2~6のアルキレン基、フェニレン基又は式4で示される基であり、式4中、qはそれぞれ独立に1~4の整数である。式5中、R8、R9及びR10はそれぞれ独立に炭素数が1~4のアルキル基であり、a、b及びcはそれぞれ独立に1~6の整数である。式3のR5及びR7の好ましい具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。これらのアルキル基の中でも、メチル基、エチル基がより好ましい。式1のR6の好ましい具体例としてはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基が挙げられる。これらの基の中でも、メチレン基、エチレン基、フェニレン基がより好ましい。また、R6が式4で示される基である場合、式4中のqとしては1又は2が好ましい。[D]成分として、このような好ましい構造の式1のシラン化合物を用いることによって、[A]成分との反応性が向上する。式3のR8、R9及びR10の好ましい具体例としては、[A]成分との反応性の観点から、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。これらのアルキル基の中でも、メチル基がより好ましい。また、式5中のa、b及びcは、[A]成分との反応性や相溶性の観点から、1~3の整数であることが好ましい。当該感放射線性組成物において、[D]成分は、1種単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。式3及び5のシラン化合物のうち、式5で示されるイソシアヌル環を有するシラン化合物がより好ましい。このように一分子中に3個のトリアルコキシシリル基が結合したイソシアヌル環を有するシラン化合物を用いることによって高い放射線感度を示す感放射線性組成物が得られると共に、その組成物から形成される保護膜及び層間絶縁膜の架橋度を向上させることができる。さらに、このようなイソシアヌル環含有シラン化合物を含む感放射線性組成物からは、平坦性が高くかつ密着性に優れ、表示素子に好適に用いられる保護膜及び層間絶縁膜を形成することが可能となる。式3及び5で示されるシラン化合物の具体例としては、ビストリエトキシシリルエタン、ビストリメトキシシリルメタン、ビストリエトキシシリルメタン、ビス-1,2-トリメトキシシリルエタン、、ビス-1,6-トリメトキシシリルヘキサン、ビス-1,6-トリエトキシシリルヘキサン、ビス-1,4-トリメトキシシリルベンゼン、ビス-1,4-トリエトキシシリルベンゼン、1,4-ビストリメトキシシリルメチルベンゼン、1,4-ビストリメトキシシリルエチルベンゼン、1,4-ビストリエトキシシリルメチルベンゼン、1,4-ビストリエトキシシリルエチルベンゼン、トリス-トリメトキシシリルメチルイソシアヌレート、トリス-トリエトキシシリルメチルイソシアヌレート、トリス-2-トリメトキシシリルエチルイソシアヌレート、トリス-2-トリエトキシシリルエチルイソシアヌレート、トリス-3-トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレート、トリス-3-トリエトキシシリルプロピルイソシアヌレート、[ビス2-トリメトキシシリルエチル-3-トリエトキシシリルプロピル]イソシアヌレート、[トリメトキシシリルメチル-2-トリメトキシシリルエチル-3-トリメトキシシリルプロピル]イソシアヌレート等が挙げられる。これらのうち、放射線感度、得られる保護膜及び層間絶縁膜の平坦性向上の観点から、1,4-ビストリメトキシシリルメチルベンゼン、ビストリエトキシシリルエタン、トリス-2-トリメトキシシリルエチルイソシアヌレート、トリス-3-トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレート、トリス-3-トリエトキシシリルプロピルイソシアヌレートが特に好ましい。当該感放射線性組成物中の[D]成分の使用量は、[A]成分100質量部に対して、好ましくは5質量部~70質量部、更に好ましくは25質量部~65質量部である。[D]成分の使用量を5質量部~70質量部とすることによって、放射線感度、及び得られる保護膜及び層間絶縁膜の平坦性がバランス良く優れた感放射線性組成物を得ることができる。[E]有機粒子、無機粒子本発明の感放射線性組成物は、有機粒子、或いは無機粒子のいずれか、またはその両方を含有してもよい以下、E成分とも言う。有機粒子、或いは無機粒子のいずれか、またはその両方を含有することにより、耐擦傷性、クラック耐性等を高めることができる。有機粒子または無機粒子の平均粒径は、0.005~0.1μmの範囲が好ましい。有機粒子と無機微粒子は、粉体状のものを直接、他の成分に添加混合してもよいし、溶媒分散液としたものを他の成分に添加混合して溶剤を留去してもよい。上記有機粒子としては、アクリル系微粒子等の固体状のものが好適に用いられる。アクリル系微粒子としては、例えば、メタクリル酸メチル重合体、メタクリル酸とアルキル化合物の共重合体等が挙げられ、このうち市販されているものとしては、例えば、ゼフィアックF-320、F-301、F-340、F-325、F-351以上、ガンツ化成社製、アクリル系微粒子MP-300綜研化学社製等が挙げられる。また、無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、タルク、モンモリロナイト等を主成分とする粒子が挙げられ、シリカ及びアルミナを主成分とする粒子が好ましい。無機微粒子の形状は、球状、棒状、板状、繊維状、不定形状のいずれであってもよく、また、これらは、中実状、中空状、多孔質状であってもよい。無機微粒子の市販品の例としては、例えば、アドマファインSO-E1、SO-E2、SO-E3、SO-E4、SO-E5、SE3200-SEJ株アドマテックス社製、SS01、SS03、SS15、SS35大阪化成株社製等が挙げられる。無機微粒子は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。このような無機微粒子の具体例としては、シリカ粒子として、メタノールシリカゾル、IPA-ST、MEK-ST、NBA-ST、XBA-ST、DMAC-ST、ST-UP、ST-OUP、ST-20、ST-40、ST-C、ST-N、ST-O、ST-50、ST-OL日産化学工業株社製、ジルコニア粒子としてHXU-110JC、HXU-210C、NZD-3101住友大阪セメント株社製、ID191テイカ株社製、ZRPMA15WT-E05シーアイ化成株社製、酸化チタン粒子としてMT-05、MT-100W、MT-100SA、MT-100HD、MT-300HD、MT-150A、ND138、ND139、ND140、ND154,ND165、ND177、TS-063、TS-103、TS-159テイカ株社製等が挙げられる。無機微粒子は、シランカップリング剤等によって表面処理されていてもよい。このような表面処理を行うことにより、他の成分との相溶性を向上させることができ、組成物中での分散性や機械的強度を向上させることができる。当該感放射線性組成物中の[E]成分の使用量は、[A]成分100質量部に対して、好ましくは1質量部~100質量部、更に好ましくは10質量部~80質量部である。[E]成分の使用量を1質量部~100質量部とすることによって得られる保護膜及び層間絶縁膜の耐擦傷性、クラック耐性等を高めることができる。その他の任意成分本発明の感放射線性組成物は、上記の[A]~[C]成分及び[D]~[E]成分任意成分に加え、所期の効果を損なわない範囲で、必要に応じて[F]酸拡散制御剤、[G]ラジカル重合開始剤、[H]界面活性剤等の他の任意成分を含有することができる。[F]成分の酸拡散制御剤は、感放射線性組成物の[B]成分として感放射線性酸発生剤を用いる場合に、放射線を照射することにより生じた酸性活性物質の組成物塗膜中における拡散を制御し、非露光領域での硬化反応を抑制する作用を有する。[B]成分の感放射線性酸発生剤と共に、このような酸拡散制御剤を用いることにより、感放射線性組成物の解像性層間絶縁膜のコンタクトホールを含めた所望のパターンを精度良く形成可能な感放射線特性をより向上させることができる。酸拡散抑制剤の例としては、モノアルキルアミン類、ジアルキルアミン類、トリアルキルアミン類、芳香族アミン類、アルカノールアミン類、脂肪族アミン類、アミド基含有化合物、ウレア化合物、イミダゾール類、ピリジン類、その他の含窒素複素環化合物等の含窒素化合物が挙げられる。これらの酸拡散抑制剤の具体例としては、例えばモノアルキルアミン類として、n-ヘキシルアミン、n-ヘプチルアミン、n-オクチルアミン、n-ノニルアミン、n-デシルアミン等;ジアルキルアミン類として、ジ-n-ブチルアミン、ジ-n-ペンチルアミン、ジ-n-ヘキシルアミン、ジ-n-ヘプチルアミン、ジ-n-オクチルアミン、ジ-n-ノニルアミン、ジ-n-デシルアミン等;トリアルキルアミン類として、トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン、トリ-n-ペンチルアミン、トリ-n-ヘキシルアミン、トリ-n-ヘプチルアミン、トリ-n-オクチルアミン、トリ-n-ノニルアミン、トリ-n-デシルアミン等;芳香族アミン類として、アニリン、N-メチルアニリン、N,N-ジメチルアニリン、2-メチルアニリン、3-メチルアニリン、4-メチルアニリン、4-ニトロアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、1-ナフチルアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノジフェニルアミン、2,2’-ビス4-アミノフェニルプロパン、2-3-アミノフェニル-2-4-アミノフェニルプロパン、2-4-アミノフェニル-2-3-ヒドロキシフェニルプロパン、2-4-アミノフェニル-2-4-ヒドロキシフェニルプロパン、1,4-ビス[1-4-アミノフェニル-1-メチルエチル]ベンゼン、1,3-ビス[1-4-アミノフェニル-1-メチルエチル]ベンゼン等;アルカノールアミン類として、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等;脂肪族アミン類として、エチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラキス2-ヒドロキシエチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラキス2-ヒドロキシプロピルエチレンジアミン、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ジメチルアミノエチルアクリルアミド等;アミド基含有化合物として、ホルムアミド、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミド、2-ピロリドン、N-メチルピロリドン等;ウレア化合物として、尿素、メチルウレア、1,1-ジメチルウレア、1,3-ジメチルウレア、1,1,3,3-テトラメチルウレア、1,3-ジフェニルウレア、トリブチルチオウレア等;イミダゾール類としてイミダゾール、ベンズイミダゾール、2-メチルイミダゾール、4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、4-フェニルイミダゾール、4-メチル-2-フェニルイミダゾール等;ピリジン類として、ピリジン、2-メチルピリジン、4-メチルピリジン、2-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2-フェニルピリジン、4-フェニルピリジン、3-メチル-4-フェニルピリジン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、8-オキシキノリン、アクリジン等;その他の含窒素複素環化合物として、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、キノザリン、モルホリン、4-メチルモルホリン、ピペラジン、1,4-ジメチルピペラジン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、2,46-トリ2-ピリジル-1,3,5-トリアジン等をそれぞれ挙げることができる。これらの含窒素化合物の中でも、トリアルキルアミン類及びピリジン類が好ましい。特に好ましいトリアルキルアミン類としては、トリエチルアミン、トリ-n-ブチルアミン、トリ-n-ペンチルアミン、トリ-n-ヘキシルアミン、トリ-n-ヘプチルアミン、トリ-n-オクチルアミンが挙げられる。また、特に好ましいピリジン類としては、2,4,6-トリ2-ピリジル-1、3、5-トリアジン、ピリジン、2-メチルピリジン、4-メチルピリジン、2-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2-フェニルピリジン、4-フェニルピリジン、3-メチル-4-フェニルピリジン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、8-オキシキノリン、アクリジンが挙げられる。このような酸拡散制御剤は、1種を単独で使用することもできるし、あるいは2種以上を混合して使用することもできる。[F]酸拡散制御剤を使用する場合の量は、[A]成分100質量部に対して、通常15質量部以下であり、さらに好ましくは5質量部以下部である。[F]酸拡散制御剤の使用量を5質量部以下とすることによって、感放射線性組成物の放射線感度の低下を抑制しつつ、良好な精度のパターンを有する保護膜又は層間絶縁膜を形成することが可能となる。当該感放射線性組成物において、[B]成分の感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤と併用して、[G]ラジカル重合開始剤ラジカル発生剤を配合してもよい。ラジカル重合開始剤は、放射線を受けることにより分解してラジカルを生じ、このラジカルによってラジカル重合性官能基の重合反応を開始させる機能を有する化合物である。例えば、[A]成分が式1においてメタアクリロイル基を含む化合物である場合、[F]ラジカル重合開始剤を用いることによって、[A]成分同士の重合反応を促進し、硬化膜全体としての架橋度を向上させることができる。このようなラジカル重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、1-4-i-プロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、カルバゾール、キサントン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、1,1-ジメトキシデオキシベンゾイン、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、チオキサントン系化合物、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノ-プロパン-2-オン、2-4-メチルベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン、トリフェニルアミン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリ-メチルペンチルフォスフィンオキサイド、ベンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、ミヒラーケトン、3-メチルアセトフェノン、3,3’,4,4’-テトラt-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム等が挙げられる。このようなラジカル発生剤は、1種を単独で使用することもできるし、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。[G]ラジカル重合開始剤を使用する場合の量は、[A]成分100質量部に対して、好ましくは30質量部以下であり、より好ましくは20質量部以下である。感放射線性組成物における[G]ラジカル重合開始剤の使用量を30質量部以下とすることによって表面硬度、密着性及び耐熱性が高いレベルでバランス良く優れた保護膜及び層間絶縁膜を形成することができる。[H]成分の界面活性剤は、感放射線性組成物の塗布性の改善、塗布ムラの低減、放射線照射部の現像性を改良するために添加することができる。好ましい界面活性剤の例としては、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤が挙げられる。ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類;ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジアルキルエステル類;メタアクリル酸系共重合体類などが挙げられる。メタアクリル酸系共重合体類の例としては、市販されている商品名で、ポリフローNo.57、同No.95共栄社化学株製等を挙げることができる。フッ素系界面活性剤としては、例えば1,1,2,2-テトラフルオロオクチル1,1,2,2-テトラフルオロプロピルエーテル、1,1,2,2-テトラフルオロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ1,1,2,2-テトラフルオロブチルエーテル、ヘキサエチレングリコール1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロペンチルエーテル、オクタプロピレングリコールジ1,1,2,2-テトラフルオロブチルエーテル、ヘキサプロピレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロペンチルエーテル等のフルオロエーテル類;パーフルオロドデシルスルホン酸ナトリウム;1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-デカフルオロドデカン、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロデカン等のフルオロアルカン類;フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム類;フルオロアルキルオキシエチレンエーテル類;フルオロアルキルアンモニウムヨージド類;フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル類;パーフルオロアルキルポリオキシエタノール類;パーフルオロアルキルアルコキシレート類;フッ素系アルキルエステル類等を挙げることができる。これらのフッ素系界面活性剤の市販品としては、エフトップEF301、303、352新秋田化成株製、メガファックF171、172、173大日本インキ株製、フロラードFC430、431住友スリーエム株製、アサヒガードAG710、サーフロンS-382、SC-101、102、103、104、105、106旭硝子株製、FTX-218株ネオス製等を挙げることができる。シリコーン系界面活性剤の例としては、市販されている商品名で、SH200-100cs、SH28PA、SH30PA、ST89PA、SH190東レダウコーニングシリコーン株製、オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業株製等が挙げられる。[H]界面活性剤を使用する場合の量は、[A]成分100質量部に対して、好ましくは10質量部以下である。[H]界面活性剤の使用量を10質量部以下とすることによって、感放射線性組成物の塗布性を最適化することができる。感放射線性組成物本発明の感放射線性組成物は、上記の[A]成分の加水分解性シラン化合物からなる加水分解縮合物、[B]成分の感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤、[C]成分のアルコール系溶剤、及び並びに任意成分[D]成分等を混合することによって調製される。通常、感放射線性組成物は、好ましくは適当な溶剤に溶解又は分散させた状態に調製され、使用される。例えば溶剤中で、[A]、[B]及び[C]成分、並びに任意成分を所定の割合で混合することにより、溶液又は分散液状態の感放射線性組成物を調製することができる。感放射線性組成物を溶液又は分散液状態として調製する場合、液中に占める溶剤以外の成分すなわち[A]、[B]及び[C]成分、並びにその他の任意成分の合計量の割合は、使用目的や所望の膜厚等に応じて任意に設定することができるが、好ましくは5~50質量、より好ましくは10~40質量、さらに好ましくは15~35質量である。保護膜又は層間絶縁膜の形成次に、上記の感放射線性組成物を用いて、基板上に保護膜又は層間絶縁膜の硬化膜を形成する方法について説明する。当該方法は、以下の工程を以下の記載順で含む。1本発明の感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2工程1で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3工程2で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び4工程3で現像された塗膜を加熱する工程。1感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程上記1の工程において、基板上に本発明の感放射線性組成物の溶液又は分散液を塗布した後、好ましくは塗布面を加熱プレベークすることにより溶剤を除去して、塗膜を形成する。使用できる基板の例としては、ガラス、石英、シリコン、樹脂などを挙げることができる。樹脂の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、環状オレフィンの開環重合体及びその水素添加物などを挙げることができる。組成物溶液又は分散液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリットダイ塗布法、バー塗布法などの適宜の方法を採用することができる。これらの塗布方法の中でも、特にスピンコート法又はスリットダイ塗布法が好ましい。プレベークの条件は、各成分の種類、配合割合などによっても異なるが、好ましくは70~120°Cで1~10分間程度とすることができる。2塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程上記2の工程では、形成された塗膜の少なくとも一部に露光する。この場合、塗膜の一部に露光する際には通常、所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光に使用される放射線としては、例えば可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用できる。これらの放射線の中でも、波長が190~450nmの範囲にある放射線が好ましく、特に365nmの紫外線を含む放射線が好ましい。当該工程における露光量は、放射線の波長365nmにおける強度を照度計OAImodel356、OAIOpticalAssociatesInc.製により測定した値として、好ましくは100~10,000J/m2、より好ましくは500~6,000J/m2である。3現像工程上記3の工程では、露光後の塗膜を現像することにより、不要な部分放射線の非照射部分を除去して、所定のパターンを形成する。現像工程に使用される現像液としては、アルカリ塩基性化合物の水溶液が好ましい。アルカリの例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等を挙げることができる。また、このようなアルカリ水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。現像方法としては、例えば、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を利用することができる。現像時間は、感放射線性組成物の組成によって異なるが、好ましくは10~180秒間程度である。このような現像処理に続いて、例えば流水洗浄を30~90秒間行った後、例えば圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、所望のパターンを形成することができる。4加熱工程上記4の工程では、ホットプレート、オーブン等の加熱装置を用い、パターニングされた薄膜を加熱することによって、上記[A]及の縮合反応を促進し、確実に硬化物を得ることができる。加熱温度は、例えば120~250°Cである。加熱時間は、加熱機器の種類により異なるが、例えば、ホットプレート上で加熱工程を行う場合には5~30分間、オーブン中で加熱工程を行う場合には30~90分間とすることができる。2回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。このようにして、目的とする保護膜又は層間絶縁膜に対応するパターン状薄膜を基板の表面上に形成することができる。保護膜又は層間絶縁膜このように形成された保護膜又は層間絶縁膜の膜厚は、好ましくは0.1~8μm、より好ましくは0.1~6μm、さらに好ましくは0.1~4μmである。本発明の感放射線性組成物から形成された保護膜又は層間絶縁膜は、下記の実施例からも明らかにされるように、基板に対するITO密着性、表面硬度、透明性、耐熱透明性、耐擦傷性、クラック耐性及び平坦性の諸特性が優れていると共に、高い解像性を有する感放射線性組成物から形成された精度の良いパターンを有する。そのため、当該保護膜又は層間絶縁膜は、表示素子用として好適に用いられる。以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。以下の各合成例から得られた加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物の数平均分子量Mn及び重量平均分子量Mwは、下記の仕様によるゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCにより測定した。装置:GPC-101昭和電工株製カラム:GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803及びGPC-KF-804昭和電工株製を結合したもの移動相:テトラヒドロフラン[A]成分の加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物の合成例[合成例1]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル25質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン26質量部、フェニルトリメトキシシラン28質量部、n-ヘキシルトリメトキシシラン4質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水19質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-1を得た。加水分解縮合物A-1-1の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2000であり、分子量分布Mw/Mnは2.3であった。[合成例2]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル23質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン16質量部、フェニルトリメトキシシラン26質量部、テトラエトキシシラン13質量部、n-ヘキシルトリメトキシシラン3質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水19質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-2を得た。加水分解縮合物A-1-2の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.400であり、分子量分布Mw/Mnは2.4であった。[合成例3]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル19質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン32質量部、テトラエトキシシラン23質量部、n-ヘキシルトリメトキシシラン4質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水19質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-3を得た。加水分解縮合物A-1-3の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.600であり、分子量分布Mw/Mnは2.4であった。[合成例4]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル22質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン48質量部、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5質量部、n-ヘキシルトリメトキシシラン4質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水21質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-4を得た。加水分解縮合物A-1-4の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.300であり、分子量分布Mw/Mnは2.1であった。[合成例5]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル25質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン25質量部、フェニルトリメトキシシラン27質量部、nデシルトリメトキシシラン5質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水21質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-5を得た。加水分解縮合物A-1-5の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.000であり、分子量分布Mw/Mnは2.1であった。[合成例6]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル23質量部を仕込み、続いて、フェニルトリメトキシシラン25質量部、メチルトリメトキシシラン15質量部、テトラエトキシシラン13質量部、nデシルトリメトキシシラン5質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水18質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-6を得た。加水分解縮合物A-1-6の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.400であり、分子量分布Mw/Mnは2.3であった。[合成例7]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル19質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン32質量部、テトラエトキシシラン23質量部、nデシルトリメトキシシラン5質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水21質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-7を得た。加水分解縮合物A-1-7の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.600であり、分子量分布Mw/Mnは2.3であった。[合成例8]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル21質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン34質量部、テトラメトキシシラン17質量部、nデシルトリメトキシシラン5質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水23質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-8を得た。加水分解縮合物A-1-8の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.600であり、分子量分布Mw/Mnは2.4であった。[合成例9]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル25質量部を仕込み、続いて、フェニルトリメトキシシラン26質量部、メチルトリメトキシシラン22質量部、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン4質量部、nデシルトリメトキシシラン4質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水18質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-9を得た。加水分解縮合物A-1-9の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.000であり、分子量分布Mw/Mnは2.1であった。[合成例10]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル25質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン25質量部、フェニルトリメトキシシラン26質量部、nヘキサデシルトリメトキシシラン6質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水18質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-10を得た。加水分解縮合物A-1-10の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.000であり、分子量分布Mw/Mnは2.0であった。[合成例11]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル24質量部を仕込み、続いて、フェニルトリメトキシシラン25質量部、メチルトリメトキシシラン15質量部、テトラエトキシシラン13質量部、nヘキサデシルトリメトキシシラン5質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水18質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-11を得た。加水分解縮合物A-1-11の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.300であり、分子量分布Mw/Mnは2.3であった。[合成例12]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル20質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン31質量部、テトラエトキシシラン22質量部、nヘキサデシルトリメトキシシラン6質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水21質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-12を得た。加水分解縮合物A-1-12の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.200であり、分子量分布Mw/Mnは2.1であった。[合成例13]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル26質量部を仕込み、続いて、フェニルトリメトキシシラン25質量部、メチルトリメトキシシラン22質量部、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン4質量部、nヘキサデシルトリメトキシシラン6質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水17質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-1-13を得た。加水分解縮合物A-1-13の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.200であり、分子量分布Mw/Mnは2.4であった。[合成例14]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル23質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン35質量部、フェニルトリメトキシシラン22質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水20質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-2-1を得た。加水分解縮合物A-2-1の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.300であり、分子量分布Mw/Mnは2.2であった。[合成例15]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル21質量部を仕込み、続いて、フェニルトリメトキシシラン20質量部、メチルトリメトキシシラン18質量部、テトラエトキシシラン21質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水20質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-2-2を得た。加水分解縮合物A-2-2の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.400であり、分子量分布Mw/Mnは2.2であった。[合成例16]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル24質量部を仕込み、続いて、フェニルトリメトキシシラン21質量部、メチルトリメトキシシラン31質量部、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン4質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水18質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-2-3を得た。加水分解縮合物A-2-3の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.400であり、分子量分布Mw/Mnは2.5であった。[合成例17]撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル24質量部を仕込み、続いて、フェニルトリメトキシシラン21質量部、メチルトリメトキシシラン31質量部、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、9質量部を仕込み、溶液温度が60°Cになるまで加熱した。溶液温度が60°Cに到達後、ギ酸0.1質量部、イオン交換水19質量部を仕込み、75°Cになるまで加熱し、30分保持した。次いでトリエチルアミンを0.1質量部仕込み、75°Cのまま1.5時間保持した。45°Cに冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル28質量部を加え、1時間攪拌した。さらに溶液温度を40°Cにし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物A-2-4を得た。加水分解縮合物A-2-4の固形分濃度は35質量であり、得られた加水分解縮合物の重量平均分子量Mwは2.200であり、分子量分布Mw/Mnは2.2であった。感放射線性組成物の調製及び保護膜、層間絶縁膜の形成実施例1合成例1で得られた加水分解縮合物A-1を含む溶液加水分解縮合物A-1100質量部固形分に相当する量に、[B]成分としてB-11-4,7-ジブトキシ-1-ナフタレニルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホナート5質量部、[C]成分としてC-1プロピレングリコールモノメチルエーテル100質量部を加え、固形分濃度が25質量になるように感放射線性組成物を調製した。[実施例2~31及び比較例1~3]各成分の種類及び量を表1に記載の通りとした他は、実施例1と同様にして感放射線性組成物を調製した。次いで、このように調製した感放射線性組成物を使用し、実施例1と同様にして保護膜及び層間絶縁膜を形成した。この感放射線性組成物を、スピンナーを用いてSiO2ディップガラス基板に塗布した後、ホットプレート上で90°C、2分間プレベークして塗膜を形成した後述のITO密着性評価においてはITO付基板を用いた。次いで、得られた塗膜に5,000J/m2の露光量で紫外線を露光した。続いて、2.38質量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、25°Cで80秒現像した後、純水で1分間洗浄し、さらに230°Cのオーブン中で60分間加熱することにより、膜厚2.0μmの保護膜を形成した。また、加熱後の膜厚が3.0μmになるように塗膜形成時のスピンナーの回転数を調節し、20μm、30μm、40μm、50μmのサイズのコンタクトホールパターンを有するフォトマスクを介して、露光ギャップ基板とフォトマスクの間隔を150μmで露光した以外は、上記の保護膜形成と同様にして、層間絶縁膜を形成した。以下、保護膜と層間絶縁膜に共通する評価の場合、保護膜と層間絶縁膜を硬化膜と記載する。物性評価実施例1~31、比較例1~3で形成された保護膜の透明性、耐熱透明性、鉛筆硬度、耐擦傷性、クラック性、耐熱クラック性、ITO密着性、感度、屈折率、並びに感放射線性組成物の解像性層間絶縁膜の解像度及び保存安定性の評価方法を以下に説明する。感放射線性組成物の解像性は、組成物が層間絶縁膜の精密なコンタクトホールを形成可能な性能の評価を与えると同時に、層間絶縁膜の解像度としての評価を与えるものである。1硬化膜の透明性の評価各実施例及び比較例にて上記のように形成した保護膜を有する基板について、分光光度計日立製作所株製の150-20型ダブルビームを用い、波長400~800nmの光線透過率を測定した。波長400~800nmの光線透過率の最小値を、透明性の評価として表1、表2に示した。この値が95以上のとき、保護膜の透明性は良好であると言える。層間絶縁膜の場合、膜厚3.0μmが保護膜と異なるだけであるので、層間絶縁膜の透明性の評価は、保護膜の透明性の評価と同様であると判断した。2硬化膜の耐熱透明性の評価各実施例及び比較例にて上記のように形成した保護膜を有する基板について、クリーンオーブン中にて250°Cで1時間加熱し、加熱前後の光線透過率を、上記1保護膜の透明性の評価に記載した方法で測定した。下記式に従って算出した耐熱透明性を表1、表2に示した。この値が4以下のとき、保護膜の耐熱透明性は良好であると言える。耐熱透明性=加熱前の光線透過率-加熱後の光線透過率3硬化膜の鉛筆硬度表面硬度の測定各実施例及び比較例にて上記のように形成した保護膜を有する基板について、JISK-5400-1990の8.4.1鉛筆引っかき試験により保護膜の鉛筆硬度表面硬度を測定し、結果を表1、表2に示した。この値が4H又はそれより大きいとき、保護膜の表面硬度は良好であると言える。層間絶縁膜の場合、膜厚3.0μmが保護膜と異なるだけであるので、層間絶縁膜の鉛筆硬度の評価は、保護膜の鉛筆硬度の評価と同様であると判断した。4硬化膜の耐擦傷性の評価各実施例及び比較例にて上記のように形成した保護膜を有する基板について、学振型磨耗試験機を用い、スチールウール0000の上に200gの荷重をかけて10往復させた。擦傷の状況を肉眼で以下の判定基準で評価し、結果を表1、表2に示した。判定基準◎:全く傷がつかない○:1~3本の傷がつく△:4~10本の傷がつく×:10本以上の傷がつく◎又は○であれば、良好な耐擦傷性を有すると言える。層間絶縁膜の場合、膜厚3.0μmが保護膜と異なるだけであるので、層間絶縁膜の耐擦傷性の評価は、保護膜の耐擦傷性の評価と同様であると判断した。5硬化膜のクラック発生有無の確認耐クラック性の評価各実施例及び比較例にて上記のように形成した保護膜を有する基板について、23°Cで24時間放置し、その保護膜表面にクラックが発生しているか、レーザー顕微鏡キーエンス製VK-8500を用いて確認した。以下の判定基準で評価し、結果を表1、表2に示した。判定基準◎:全くクラックがない○:1~3個のクラックがある△:4~10個のクラックがある×:10個以上のクラックがある◎又は○であれば、クラック発生有無の確認結果は良好であると言える。6硬化膜の耐熱クラック性の評価各実施例及び比較例にて上記のように形成した保護膜を有する基板について、300°Cで30分追加焼成を行い、その後23°Cで24時間放置し、その保護膜表面にクラックが発生しているか、レーザー顕微鏡キーエンス製VK-8500を用いて確認した。以下の判定基準で評価し、、結果を表1、表2に示した。判定基準◎:全くクラックがない○:1~3個のクラックがある△:4~10個のクラックがある×:10個以上のクラックがある7硬化膜のITOインジウムすず酸化物密着性の評価ITO付基板を用いた以外は、各実施例及び比較例にて上記のように保護膜を形成し、プレッシャークッカー試験120°C、湿度100、4時間を行った。その後、JISK-5400-1990の8.5.3付着性碁盤目テープ法を行い、碁盤目100個中で残った碁盤目の数を求め、保護膜のITO密着性を評価した。結果を表1に示した。碁盤目100個中で残った碁盤目の数が80個以下の場合に、ITO密着性は不良と言える。層間絶縁膜の場合、膜厚3.0μmが保護膜と異なるだけであるので、層間絶縁膜のITO密着性の評価は、保護膜のITO密着性の評価と同様であると判断した。結果を表1、表2に示した。8硬化膜の感度の評価上記にて得られた塗膜に対し、露光機TME-400PRJトプコン社製を用い、10μm/30μmのラインアンドスペースのパターンを有するマスクを介して露光量を変化させて露光を行った後、2.38質量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて25°C、80秒間、浸漬法で現像した。次いで、超純水で1分間流水洗浄を行い、乾燥させてガラス基板上にパターンを形成した。このとき、10μm/30μmのラインアンドスペースのパターンが剥離せず残るのに必要な最小露光量を測定した。この最小露光量を放射線感度として、結果を表1、表2に示した。最小露光量が500J/m2以下の時、感度は良好であると言える。9硬化膜の屈折率の評価アッベ屈折計を用いて、上記硬化膜の光線透過率透明性の評価の方法によって得られた硬化膜の25°C、633nmの光線における屈折率を測定した。結果を表1、表2に示した。10感放射線性組成物の解像性層間絶縁膜の解像度の評価各実施例及び比較例における上記の層間絶縁膜の形成において、30μm以下のコンタクトホールパターンを解像できれば、解像性は良好であると言える。解像可能であったコンタクトホールパターンサイズを、表1、表2に示した。。なお、表1、表2において、[B]感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤、[C]アルコール系溶剤、[D]シラン化合物、[E]有機粒子または無機粒子をそれぞれ以下のものを表す。B-1:1-4,7-ジブトキシ-1-ナフタレニルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホナートB-2:トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナートB-3:2-ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメートC-1:プロピレングリコールモノメチルエーテルC-2:プロピレングリコールモノブチルエーテルD-1:1,4-ビストリメトキシシリルメチルベンゼンD-2:ビストリエトキシシリルエタンD-3:トリス-3-トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレートE-1:ポリメタクリル酸メチル系微粒子商品名MP-300、綜研化学株社製E-2:オルガノゾル商品名IPA-ST、日産化学工業株社製E-3:Zrゾル商品名ID191、テイカ株社製E-4:TiOゾル商品名TS-103、テイカ株社製表1、表2に示した。の結果から明らかなように、[A]、[B]及び[C]成分を含む実施例1~31の感放射線性組成物から形成された保護膜または層間絶縁膜は、これらの成分のうちのいずれかを欠く比較例1~3の感放射線性組成物から形成された保護膜または層間絶縁膜と比べて、透明性、耐熱透明性、鉛筆硬度、耐擦傷性、耐クラック性、ITO密着性において、バランス良く優れていた。また、実施例1~31の感放射線性組成物は、比較例1~3の感放射線性組成物と比べて、層間絶縁膜におけるコンタクトホールを形成するための解像性が高いことすなわち、層間絶縁膜の解像度が優れていることが分かった。"