"樹脂および金属酸化物粒子を含有する樹脂組成物であって、該金属酸化物粒子の平均粒子径が1nm以上、100nm以下であり、該金属酸化物粒子が表面が、配位および/または結合可能な有機化合物により被覆されていることを特徴とするディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物。前記金属酸化物粒子の屈折率が1.7以上であることを特徴とする請求項1記載のディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物。前記金属酸化物粒子の酸化チタニウム、酸化ジルコニウム及び酸化スズからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属酸化物粒子であることを特徴とする請求項1または2に記載のディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物。前記金属酸化物粒子の表面を被覆する配位および/または結合可能な有機化合物が、有機カルボン酸化合物、シラン系化合物、金属カップリング剤、およびエポキシ基含有化合物、からなる群より選ばれる1以上であることを特徴とする請求項1~3何れかに記載のディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物。前記金属酸化物粒子の表面を被覆する配位および/または結合可能な有機化合物が、総炭素数が3以上20以下であることを特徴とする請求項1~4何れかに記載のディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物。前記金属酸化物粒子の表面を被覆する配位および/または結合可能な有機化合物が、有機化合物で被覆した金属酸化物粒子に対して、0.1質量以上30質量以下であることを特徴とする請求項1~5何れかに記載のディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物。前記樹脂組成物中の前記金属酸化物粒子が組成物中の10質量~90質量であることを特徴とする請求項1~6何れかに記載のディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物。請求項1~7何れかに記載のディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物からなる面状成形体。請求項8に記載の面状成形体が積層された積層体。請求項9に記載の面状成形体が積層されたタッチパネル装置。しかしガラスや透明電極、樹脂フィルム等の積層材料は固有の屈折率を有しており、層間での屈折率差が大きい場合には、透過率の低下や描画パターンが視認される場合があった。特にタッチパネルディスプレイでは、透明導電膜として主にITO膜が利用されているが、このITO膜の屈折率は2.0程度と比較的高いため、タッチパネルのセンサー部分の反射率が高くなり、視認性が悪くなっていた。また、パターンを設けてITO電極を配置したITO基板を用いるタッチパネルセンサーでは、ITO電極部分と電極がない部分では反射率が大きく異なるため、電極の描画パターンが反射するため、視認性に劣るという問題があった。本発明では、樹脂および金属酸化物を含有することにより積層体中のフィルム等の樹脂組成物の屈折率を調整することで、層間の屈折率差を低減することを特徴とする。すなわち本発明は、樹脂および金属酸化物粒子を含有する樹脂組成物であって、該金属酸化物粒子の平均粒子径が1nm以上、100nm以下であり、該金属酸化物粒子が表面が、配位および/または結合可能な有機化合物により被覆されている、ディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物である。好ましくは金属酸化物粒子は屈折率が1.7以上であり、酸化チタニウム、酸化ジルコニウム及び酸化スズからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属酸化物粒子である。また、前記金属酸化物粒子の表面を被覆する配位および/または結合可能な有機化合物が、有機カルボン酸化合物、シラン系化合物、金属カップリング剤、エポキシ基含有化合物、からなる群より選ばれる1以上であることが好ましく、総炭素数が3以上20以下であることも好ましく、被覆量は、有機化合物で被覆した金属酸化物粒子に対して、0.1質量以上30質量以下であることガ好ましい。樹脂組成物中の金属酸化物粒子は組成物中の10質量~90質量が好ましい。また本発明は上記ディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物からなる面状成形体であり、該面状成形体は積層体であることが好ましく、タッチパネル装置に好適に使用される。本発明の樹脂組成物は、金属酸化物粒子を含有するため樹脂組成物の屈折率が調整できる。さらに金属酸化物粒子の平均粒子径が1nm以上100nm以下であるため樹脂組成物の透明性が維持される。本発明の金属酸化物粒子の表面が配位および/または結合可能な有機化合物により被覆されているため樹脂への分散性が良好であるとともに、耐熱性、耐紫外線性にも優れている。よって、本発明の金属酸化物粒子は、組成物中で凝集することなくその特性高い屈折率などを発揮できるとともに、高温や紫外光に曝されても変色することがなく、ディスプレイ中の樹脂層や樹脂フィルム層に好適に使用できる。また、本発明の金属酸化物粒子の表面が配位および/または結合可能な有機化合物により被覆されていることにより、未被覆の粒子と比較して、粒子表面を疎水性とすることができるため、硬化物とした時の耐水物性、電気特性絶縁性に優れたものとすることができる。本発明のディスプレイ用透明面状成形体用樹脂組成物は、樹脂および金属酸化物粒子を含有し;該金属酸化物粒子の平均粒子径が1nm以上100nm以下であり、;該金属酸化物粒子が表面が、配位および/または結合可能な有機化合物により被覆されていることを特徴とする。本発明で面状とは,膜,フィルム,シート,板等の面を有する全てを含有するものであり、厚みや膜厚には依存しない。また方形,矩形,円形,楕円形,三角形,多角形,異形,あるいはロール態様,積層態様等何れの形状であっても良い。本発明にかかる樹脂は、通常樹脂として用いられるものであれば特に限定されることはないが、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂が挙げられるが詳細は後述する。本発明にかかる樹脂組成物における金属酸化物粒子の配合量としては、組成物中の10質量~90質量の範囲内が好ましい。上記配合量が10質量未満では、樹脂組成物よりなる面状成形体または光学物品の屈折率が低くなるおそれがある。一方、上記配合量が90質量を超えると、組成物の粘度が高くなり、作業性が低下するおそれがある。金属酸化物粒子の配合量のより好ましい上限値は85質量であり、80質量が最も好ましい。また、上記配合量のより好ましい下限値は15質量であり、20質量が最も好ましい。本発明に使用される金属酸化物粒子は、平均粒子径が1nm以上、100nm以下であり、金属酸化物粒子の表面が、配位および/または結合可能な有機化合物により被覆されている。金属酸化物粒子の屈折率は1.5以上であることが好ましく、より好ましくは1.55以上、更に好ましくは1.6以上、更に好ましくは1.65以上、最も好ましくは1.7以上である。このようにすることによって、該金属酸化物粒子を含有する組成物の屈折率を上昇でき、隣接する材料から該組成物へ向けて光が入射する際の全反射を抑制できる。屈折率が1.7以上の酸化物を形成する金属は、例えばAl、Ti、Zr、In、Zn、Sn、La、Yなどであり、好ましくはAl、Ti、Zr、Zn、Snであり、特にZrが好ましい。これらの金属の単独又は複合酸化物の割合が大きくなるほど、屈折率を大きくすることができる。金属酸化物粒子の表面に配位および/または結合可能な有機化合物は、特に限定されないが、有機カルボン酸化合物、シラン系化合物、金属カップリング剤、エポキシ基含有化合物、水酸基含有化合物、アミノ基含有化合物、チオール基含有化合物などが挙げられる。好ましくは有機カルボン酸化合物、シラン系化合物、金属カップリング剤、エポキシ基含有化合物であり、更に好ましくは有機カルボン酸化合物である。金属酸化物粒子の表面に配位および/または結合可能な有機化合物が有機カルボン酸化合物、シラン系化合物、金属カップリング剤、エポキシ基含有化合物である場合には簡便な方法で金属酸化物粒子に被覆でき、安価に製造が可能となる。一方、金属酸化物粒子の表面に配位および/または結合可能な有機化合物の総炭素数は、3以上であることが好ましい。総炭素数を3以上とすることによって、溶媒や樹脂中での分散性を向上できる。分散性の観点からは、R中の総炭素数は多い方が好ましく、その下限値は、4がより好ましく、さらに好ましくは5である。一方、R中の総炭素数の上限は20以下であることが好ましい。このようにすることによって、有機化合物と配位および/または結合した金属酸化物粒子の収率を向上できる。R中の総炭素数の上限は、18がより好ましく、さらに好ましくは16であり、特に10が好ましい。また、有機化合物はハロゲン及び/又はヘテロ原子を有しても良く、直鎖構造、分岐構造、脂環構造、または芳香族環構造であってもよい。有機カルボン酸化合物は分枝鎖を有していることも好ましく、このようにすることによって、金属酸化物粒子の凝集を抑制できる。上記有機カルボン酸化合物は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸、吉草酸、ヘキサン酸、2-エチルヘキサン酸、オクタン酸、ネオデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、乳酸、りんご酸、クエン酸、安息香酸、フタール酸、イソフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、フマル酸、マレイン酸、ピルビン酸等が挙げられ、好ましくはアクリル酸、メタクリル酸、2-エチルヘキサン酸、ネオデカン酸であり、有機カルボン酸化合物は1種のみを用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。上記シラン系化合物は、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシランであり、シラン系化合物は1種のみを用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。上記金属カップリング剤は、例えばアルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリ-n-ブトキシド、アルミニウムトリ-sec-ブトキシド、アルミニウムトリ-t-ブトキシドなどのアルミニウムアルコキシド;ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムアルキルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノメタクリレート、アルミニウムステアレートオキサイドトリマー、イソプロポキシアルミニウムアルキルアセトアセテートモノジオクチルホスフェイトなどのアルミニウム系カップリング剤;チタニウム-n-ブトキシド、チタニウムテトラ-t-ブトキシド、チタニウムテトラ-sec-ブトキシド、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトライソブトキシド、チタニウムテトラメトキシド、チタニウムテトラメトキシプロポキシド、チタニウムテトラメトキシフェノキシドなどのチタニウムアルコキシド;イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、テトラオクチルビスジトリデシルホスファイトチタネート、テトライソプロピルビスジオクチルホスフェイトチタネート、イソプロピルトリスジオクチルパイロホスフェイトチタネート、ビスジオクチルパイロホスフェイトオキシアセテートチタネート、ビスジオクチルパイロホスフェイトエチレンチタネートなどのチタン系カップリング剤;ジルコニウムテトラ-n-プロポキシド、ジルコニウムテトラ-t-ブトキシド、ジルコニウムテトラ2-エチルヘキソキシド、ジルコニウムテトライソブトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラ-n-プロポキシド、ジルコニウムテトラ2-メチル-2-ブトキシドなどのジルコニウムアルコキシド;ジルコニウムジ-n-ブトキシドビス-2,4-ペンタンジオネート、ジルコニウムトリ-n-ブトキシドペンタンジオネート、ジルコニウムジメタクリレートジブトキシドなどのジルコニウム化合物;であり、金属カップリング剤は1種のみを用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。上記エポキシ基含有化合物は、例えば3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3 ́,4 ́-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルアジペート、水素化ビスフェノール型エポキシ樹脂、水素化ノボラック型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ε-カプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3 ́,4 ́-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート等が挙げられ、エポキシ基含有化合物は1種のみを用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。上記水酸基含有化合物は、例えばシクロヘキサノール、1-ブタノール、2-ブタノール、メチルシクロヘキサノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ-ノルマル-ブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート、3-ヒドロキシブチルアクリレート、3-ヒドロキシブチルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレート、水酸基含有重合体等が挙げられ、水酸基含有化合物は1種のみを用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。また、本発明では上記有機カルボン酸化合物、シラン系化合物、金属カップリング剤、エポキシ基含有化合物、または他の金属酸化物粒子の表面を被覆する配位および/または結合可能な有機化合物は1種のみを用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。金属酸化物粒子のモノマーやポリマーに対する分散性は、金属酸化物粒子の表面を被覆する配位および/または結合可能な有機化合物の選択により調整が可能であるが、媒体を構成するモノマーに対する親和性を示す基を用いることで、モノマーや当該モノマーからなるポリマーに対する粒子の分散性を改善することができる。例えば、メタアクリル酸やメタアクリル酸エステルなどビニル基を有する被覆剤で粒子を被覆すれば、同じくビニル基を有するメタアクリル酸やメタアクリル酸エステルなどのモノマーに対する粒子の分散性を向上させることができる。また、フェニル基を有する被覆剤で粒子を被覆すれば、スチレンなどのモノマーや、スチレン樹脂やフェノール樹脂などのポリマー、フェニル基を有するモノマーやポリマーに対する分散性を向上させることができる。本発明における有機化合物の被覆量は、有機化合物で被覆した金属酸化物粒子に対して、0.1質量以上であることが好ましい。このようにすることによって、金属酸化物粒子の樹脂媒体や溶媒等への分散性を向上できる。前記結合量は、より好ましくは0.5質量以上であり、さらに好ましくは2質量以上である。結合量が多いと、単位体積当たりに含有される金属酸化物粒子の量が少なくなるため、屈折率向上の効果が十分に発揮できず、好ましくない。そこで前記結合量は、通常30質量以下であり、好ましくは25質量以下であり、より好ましくは20質量以下である。金属酸化物粒子を形成する金属酸化物としては、単一金属の酸化物であっても良いし、2種以上の酸化物の固溶体であってもよいし、或いは複合酸化物であってもよい。単一金属酸化物には、例えば、酸化アルミニウムAl2O3、酸化チタニウムTiO2、酸化ジルコニウムZrO2、酸化インジウムIn2O3、酸化亜鉛ZnO、酸化スズSnO2、酸化ランタンLa2O3、酸化イットリウムY2O3、酸化セリウムCeO2、酸化マグネシウムMgOが含まれ、好ましくは酸化チタニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズである。2種以上の酸化物の固溶体としては、ITO、ATOなどが挙げられる。複合酸化物は、例えばチタン酸バリウムBaTiO3、灰チタン石CaTiO3、スピネルMgAl2O4などである。金属酸化物粒子の粒子径は、X線回折解析から算出される結晶子径及び/又は各種電子顕微鏡観察によって得られた画像を処理することによって測定できる。X線回折解析により算出される金属酸化物粒子の結晶子径は、20nm以下であることが好ましい。このようにすることによって、該金属酸化物粒子を含有する組成物の透明率を向上できる。該結晶子径は、より好ましくは15nm以下であり、さらに好ましくは10nm以下である。該結晶子径の下限は、通常1nm程度である。各種電子顕微鏡観察による粒子径は、金属酸化物粒子を透過型電子顕微鏡TEM、電界放射型透過電子顕微鏡FE-TEM、電界放射型走査電子顕微鏡FE-SEMなどで拡大観察し、無作為に100個の粒子を選択してその長軸方向の長さを測定し、その算術平均を求めることで決定できる。上記電子顕微鏡観察における金属酸化物粒子の平均粒子径平均一次粒子径は、100nm以下が好ましい。このようにすることによって、該金属酸化物粒子を含有する組成物の透明率を向上できる。平均一次粒子径は、より好ましくは50nm以下であり、さらに好ましくは30nm以下、最も好ましくは20nm以下である。平均一次粒子径の下限は、通常1nm程度である。金属酸化物粒子の屈折率は1.7以上であることが好ましい。このようにすることによって、該金属酸化物粒子を含有する組成物の屈折率を上昇でき、隣接する材料から該組成物へ向けて光が入射する際の全反射を抑制できる。屈折率が1.7以上の酸化物を形成する金属は、例えばAl、Ti、Zr、In、Zn、Sn、La、Yなどであり、好ましくはAl、Ti、Zr、Zn、Snであり、特にTi、Zr、Snが好ましい。これらの金属の単独又は複合酸化物の割合が大きくなるほど、屈折率を大きくすることができる。金属酸化物の結晶構造は、例えば立方晶、正方晶、単斜晶などが挙げられる。特に結晶構造全体の70以上が正方晶であることが好ましい。正方晶の割合が多いと屈折率を向上できる。単斜晶に対する正方晶の割合後者/前者は、0.8以上であり、好ましくは1.3以上であり、より好ましくは2.0以上である。また正方晶単独とすることもできる。金属酸化物粒子の形状としては球状、楕円球状、立方体状、直方体状、ピラミッド状、針状、柱状、棒状、筒状、りん片状、板状、薄片状などが挙げられる。溶媒への分散性などを考慮すると、前記形状としては、球状、粒状、柱状などが好ましい。ところで、金属酸化物として酸化ジルコニウムを使用する場合、酸化ジルコニウムは高い屈折率を有しており、その結晶構造としては、単斜晶、正方晶などが挙げられる。酸化ジルコニウムの結晶構造の中で、正方晶が最も高い屈折率を示すことが知られており、より高屈折率が求められる場合は、正方晶の割合が多いことが好ましい。また、これらの結晶構造の含有割合を調整することによって、酸化ジルコニウムの屈折率の調整を行うことも可能である。本発明における金属酸化物粒子は公知の方法により合成すればよいが、金属酸化物粒子の表面に配位および/または結合可能な有機化合物の共存下で水熱合成して金属酸化物粒子を得る方法や、あらかじめ該表面に配位および/または結合可能な有機化合物と金属化合物から金属酸化物前駆体を合成し、該前駆体の水熱合成により金属酸化物粒子を得る方法等が配位および/または結合可能な有機化合物により保護された金属酸化物粒子が簡便に得られることから好ましい合成方法である。水熱合成の圧力は、好ましくは0.5MPa以上であり、より好ましくは0.6MPa以上である。該圧力の上限は、通常3.0MPa以下であり、好ましくは2.0MPa以下、より好ましくは1.5MPa以下、特に好ましくは1.0MPa以下である。水熱合成の反応温度は、100°C以上が好ましく、より好ましくは140°C以上であり、さらに好ましくは160°C以上である。水熱処理温度の上限は特に限定されないが、300°C以下が好ましく、より好ましくは250°C以下であり、さらに好ましくは220°C以下である。水熱処理時間は、例えば5~50時間であり、好ましくは10~40時間である。水熱合成時の雰囲気は限定されないが、好ましくは窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気である。本発明の酸化金属酸化物粒子に有機化合物を配位および/または結合させる方法は上述の金属酸化物前駆体を経由する方法以外にも、例えば、酸化金属酸化物粒子の溶媒分散液に上記被覆剤を添加し加熱処理を行うことで製造可能である。使用する溶媒は酸化金属酸化物粒子に適度な分散性を有するものであれば特に制限されない。例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサンなどを用いることができる。金属酸化物の濃度は適宜調整すればよいが、0.1~50質量程度にするのが好ましい。被覆剤の使用量は適宜調整すればよいが、通常は酸化金属酸化物粒子に対して1~60質量とする。加熱温度は適宜調整すればよいが、通常は30から180°C程度とし、好ましくは40~150°C、より好ましくは50~130°Cとする。反応時間も適宜調整すればよいが、通常は0.1~10時間、好ましくは0.3~3時間程度とする。本発明の樹脂組成物は、媒体である樹脂は熱可塑性樹脂,熱硬化性樹脂,光硬化性樹脂の何れでも採用できる。熱可塑性樹脂としては具体的には、6-ナイロン、66-ナイロン、12-ナイロンなどのポリアミド類;ポリイミド類;ポリウレタン類;ポリエチレン、ポロプロピレンなどのポリオレフィン類;PET、PBT、PENなどのポリエステル類;ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトンなどの芳香族系ポリエーテル類;ポリ塩化ビニル類;ポリ塩化ビニリデン類;ポリ酢酸ビニル類;ポリスチレン類;メタアクリル樹脂系ポリマー;ABS樹脂;ジメチルシリコーン、ジフェニルシリコーン、メチルフェニルシリコーンなどのシリコーン樹脂;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキシシラン、スチリルトリアセトキシシラン、γ-メタアクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタアクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ-メタアクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタアクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルトリメトキシシラン、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルトリエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリプロポキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリブトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシル、3-3,4-エポキシシクロヘキシルプロピルトリメトキシシラン、3-3,4-エポキシシクロヘキシルプロピルトリエトキシシラン、4-3,4-エポキシシクロヘキシルブチルトリメトキシシラン、4-3,4-エポキシシクロヘキシルブチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、フェニルシラントリオール、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシエトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ジフェニルシランジオール、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、トリフェニルシラノール、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロプロピルトリメトキシシラン、パーフルオロプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロペンチルトリメトキシシラン、パーフルオロペンチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリプロポキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリイソプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、ビストリフルオロメチルジメトキシシラン、ビストリフルオロプロピルジメトキシシラン、ビストリフルオロプロピルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン等の加水分解縮合物であるオルガノシラン縮合物;フッ素樹脂;イミドシラン樹脂;等が例示できる。また、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体系樹脂、エチレン-メタアクリル酸エステル共重合体系樹脂などの軟質樹脂や硬質樹脂、なども挙げられる。熱可塑性樹脂を媒体とする場合には公知の混合手段を使用することができ、例えば押出し機での混合や溶液での混合が好適に採用できる。熱硬化性樹脂としては、縮合系熱硬化樹脂として、フェノールホルマリン樹脂、クレゾールホルマリン樹脂などのフェノール樹脂;尿素樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂などのアミノ樹脂;有機オルガノシラン;などを挙げることができ、フェノール系樹脂を採用する場合にはトリアジン環を有する化合物、グアナミン誘導体、シアヌル酸誘導体や、イソシアヌル酸誘導体との併用も好ましい実施形態である。また、ビニル基やヒドロシリル基を含有するシリコーン樹脂も挙げる事ができる。熱または光で硬化する樹脂としては、カチオン重合性基および/またはラジカル重合性基を有する樹脂を用いることも可能である。具体的には具体的には、エポキシ樹脂;ウレタンメタアクリレート;エポキシメタアクリレート;ポリエステルメタアクリレート;不飽和ポリエステル;ジビニルベンゼンなどのスチレン系樹脂;フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、シアヌル酸トリアリル、イソシアヌル酸トリアリルなどのアリルエステル系樹脂;エチレングリコールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジオールジメタアクリレート、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、ジメチロール-トリシクロデカンジメタアクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールルジメタアクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジメタアクリル酸付加物、シクロヘキサンジメタノールジメタアクリレート、ノルボルナンジメタノールジメタアクリレート、p-メンタン-1,8-ジオールジメタアクリレート、p-メンタン-2,8-ジオールジメタアクリレート、p-メンタン-3,8-ジオールジメタアクリレート、ビシクロ[2.2.2]-オクタン-1-メチル-4-イソプロピル-5,6-ジメチロールジメタアクリレート、等の2官能メタアクリレート化合物;トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールポリメタアクリレート、テトラペンタエリスリトールポリメタアクリレート、ペンタペンタエリスリトールポリメタアクリレート等の3官能以上のメタアクリレート化合物、などのメタアクリル酸系誘導体;メタアクリル酸2-ビニロキシエチル、メタアクリル酸2-2-ビニロキシエトキシエチル、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパンのエチレンオキシド付加物のトリメタアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物のジメタアクリレートなどのエーテル構造を有するメタアクリル系誘導体;トリエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテルなどのビニルエーテル系化合物;トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテルなどのアリルエーテル、グリセリンジアリルエーテルのアジピン酸エステルなどのアリルエーテル系化合物;アルコキシシリル基を含有するシリコーン樹脂;側鎖型二重結合含有ポリマー;重合性官能基及びケイ素含有基を有するイソシアヌレート化合物;などが挙げられる。熱または光で硬化する樹脂を採用する場合には重合性モノマーや重合開始剤、熱重合促進剤、光増感剤、光重合促進剤などを併用することも好ましい実施態様である。重合性モノマーとしては、特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、スチレン、4-t-ブチルスチレン、α-メチルスチレン、4-クロロスチレン、4-メチルスチレン、4-クロロメチルスチレン、などのスチレン系単量体;メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、1-アダマンチルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、トリフルオロエチルメタアクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタアクリレート、等のメタアクリル酸系誘導体;ヒドロキシブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテルなどのビニルエーテル系単量体;アリルグリシジルエーテル、メチロールメラミンのアリルエーテル、グリセリンジアリルエーテルのアジピン酸エステル、アリルアセタール、メチロールグリオキザールウレインのアリルエーテルなどのアリルエーテル系単量体;マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチルなどのマレイン酸エステル系単量体;フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチルなどのフマル酸エステル系単量体;4-メタアクリロイルオキシメチル-2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン、4-メタアクリロイルオキシメチル-2-メチル-2-イソブチル-1,3-ジオキソラン、4-メタアクリロイルオキシメチル-2-シクロヘキシル-1,3-ジオキソラン、4-メタアクリロイルオキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン、などの1,3-ジオキソラン系単量体;メタアクリロイルモルホリン;N-ビニルホルムアミド;N-ビニルピロリドン;などが挙げられる。これらの重合性単量体は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。これらの重合性単量体のうち、メタアクリル系エステル化合物が好適である。上記した中で、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリエステル類、シリコーン樹脂、メタアクリル樹脂系ポリマー、フェノール樹脂、エポキシ樹脂がより好ましい。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。なお、本発明の樹脂組成物には、上記した高分子化合物と金属酸化物粒子との組成物だけでなく、上記ポリマーを構成するモノマー、例えば、ジカルボン酸とジアミンの混合物、アクリル酸やメタアクリル酸等の不飽和カルボン酸やそのエステル化合物等と、金属酸化物粒子との組成物も含まれる。また、本発明の樹脂組成物は、ポリマーとモノマーを両方含むものであっても良い。さらに本発明の組成物は必要に応じて、低収縮剤、重合禁止剤、内部離型剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング剤、揺変化剤、カップリング剤、増粘剤、硬化剤、硬化促進剤等の各種添加剤を添加し含むようにしてもよい。本発明の樹脂組成物は、面状に成形することが好ましい。本発明で面状成形体とは,膜,フィルム,シート,板等の面を有する全てを含有するものであり、厚みや膜厚には依存しない。面状に成形することにより後述するディスプレイやタッチパネル装置中への積層が容易となる。本発明によって得られる面状成形体は、屈折率の調整が容易であるため、多層構造を有する表示装置の層間における屈折率差に起因する光の反射散乱を防止することが出来る。さらに本発明の金属酸化物粒子を配合することにより誘電率が向上するため絶縁膜に好適に使用することが出来る。特にタッチパネルディスプレイでは透明導電膜としてITO膜等の高屈折率材料をもちい電極パターンを描画し、絶縁層の挟んでX方向にパターンが描画された第1層とY方向にパターンが描画された第2層の三層構造を有する。本発明の透明面状成形体用樹脂組成物は、描画パターンが見えるのを防止することができ視認性が向上できるため、絶縁層や保護膜等の電極層に接触する層に好適に使用することができる。さらに液晶表示素子や有機EL表示素子などの薄膜トランジスタTFT基板用平坦化膜、半導体素子の層間絶縁膜、固体撮像素子用平坦化膜やマイクロレンズアレイパターン、あるいは光導波路のコアやクラッド材にも好適に採用できる。以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、前記、後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。実施例中の酸化ジルコニウム粒子の物性は、以下の方法により測定した。1結晶構造の解析酸化ジルコニウム粒子の結晶構造は、X線回折装置を用いて解析した。測定条件は以下の通りである。X線源:CuKα0.154nmX線出力設定:50kV、300mAサンプリング幅:0.0200°スキャンスピード:10.0000°/min測定範囲:10~75°測定温度:25°C2正方晶、単斜晶の割合の定量X線回折装置を用いて算出される値を元に、計算ソフトリガク社製、PDXLを用いて参照強度比法RIR法により定量した。3X線回折解析による結晶子径算出結晶子径は、X線回折装置を用いて解析することにより算出し、30°のピークにおける粒子径を酸化ジルコニウム粒子の結晶子径とした。4電子顕微鏡による平均粒子径の測定酸化ジルコニウム粒子の平均一次粒子径は、超高分解能電解放出型走査電子顕微鏡日立ハイテクノロジーズ社製、S-4800で観察することによって測定した。倍率15万倍で酸化ジルコニウム粒子を観察し、任意の100個の粒子について、各粒子の長軸方向の長さを測定し、その平均値を平均一次粒子径とした。5質量減少率の測定TG-DTA熱重量-示唆熱分析装置により、空気雰囲気下、室温から800°Cまで10°C/分で酸化ジルコニウム粒子を昇温し、該粒子の質量減少率を測定した。6透明性評価スライドグラス上に、後で詳述する組成物をアプリケーターで膜厚が100μmになるよう塗工を行い、窒素雰囲気下、高圧水銀ランプで1000mJ/cm2の紫外線を照射することにより硬化させ、硬化物を得た。作製した硬化物に波長400nmの光を照射した際の、厚み方向の光透過率を吸光光度計島津製作所社製分光光度計UV-3100を用いて測定した。7屈折率測定試験スライドグラス上に、後で詳述する組成物をアプリケーターで膜厚が100μmになるよう塗工を行い、窒素雰囲気下、高圧水銀ランプで1000mJ/cm2の紫外線を照射することにより硬化させ、硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率を屈折率計アタゴ社製、DR-M2を用いて、20°Cにおいて、硬化物の波長589nmの光の屈折率を測定した。8誘電率評価銅箔上に、後で詳述する組成物をバーコーターで膜厚が50μmになるよう塗工を行い、窒素雰囲気下、高圧水銀ランプで1000mJ/cm2の紫外線を照射することにより硬化させ、硬化物を得た。更に、表面に金を蒸着して両面に電極が形成された評価用サンプルを作製した。このサンプルの1MHzにおける誘電率をインピーダンスアナライザーヒューレットパッカード社製、商品名HP-4294Aを用いて測定した。製造例12-エチルヘキサン酸で被覆された酸化ジルコニウムナノ粒子の製造2-エチルヘキサン酸ジルコニウムミネラルスピリット溶液782g、第一希元素化学工業社製に純水268gを混合した。得られた混合液を、攪拌機付きオートクレーブ内に仕込み、該オートクレーブ内の雰囲気を窒素ガスで置換した。その後、混合液を180°Cまで加熱し、該温度で16時間保持オートクレーブ内圧力は0.94MPaして反応させ、酸化ジルコニウム粒子を生成した。続いて、反応後の混合液を取り出し、底部に溜まった沈殿物を濾別してアセトンで洗浄した後に、乾燥した。乾燥後の前記沈殿物100gをトルエン800mLに分散させたところ、白濁溶液となった。次に、精製工程として、定量濾紙アドバンテック東洋社製、No.5Cにて再度濾過し、沈殿物中の粗大粒子などを除去した。さらに、濾液を減圧濃縮してトルエンを除去することで白色の酸化ジルコニウム粒子を回収した。得られた酸化ジルコニウム粒子の結晶構造を確認したところ、正方晶と単斜晶に帰属される回折線が検出され、回折線の強度から、正方晶と単斜晶の割合は54/46で、その粒子径結晶子径は5nmであった。電子顕微鏡により測定して得られた酸化ジルコニウム粒子の平均粒子径平均一次粒子径は、12nmであった。また、得られた酸化ジルコニウム粒子を、赤外吸収スペクトルによって分析したところ、C-H由来の吸収と、COOH由来の吸収が確認できた。当該吸収は、酸化ジルコニウム粒子に被覆され―ている2-エチルヘキサン酸及び/又は2-エチルヘキサン酸由来のカルボキシレートに起因するものと考えられる。さらに上記した5質量減少率の測定に従って測定した酸化ジルコニウム粒子の質量減少率は、12質量だった。従って、酸化ジルコニウム粒子に被覆された2-エチルヘキサン酸及び/又は2-エチルヘキサン酸由来のカルボキシレートは、酸化ジルコニウム粒子全体の12質量であることが分かった。製造例22-エチルヘキサン酸と3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランで被覆された酸化ジルコニウムナノ粒子の製造上記製造例1で得られた酸化ジルコニウムナノ粒子10gをトルエン90gに分散させて透明溶液を調整した。当該溶液に表面処理剤として3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン1.5g、信越化学工業社製、KBM-5103を添加し、90°Cで1時間加熱還流した。次いで、還流処理後の溶液にn-ヘキサンを添加することで分散粒子を凝集させて溶液を白濁させた。白濁液から凝集粒子を濾紙により分離後、室温で加熱乾燥し、2-エチルヘキサン酸と3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランで表面処理された酸化ジルコニウムナノ粒子を調整した。得られた被覆酸化ジルコニウム粒子の結晶構造を確認したところ、正方晶と単斜晶に帰属される回折線が検出され、回折線の強度から、正方晶と単斜晶の割合は54/46で、その粒子径結晶子径は5nmであった。電子顕微鏡により測定して得られた酸化ジルコニウム粒子の平均粒子径平均一次粒子径は、12nmであった。さらに赤外吸収スペクトルにより分析したところ、C-H由来の吸収とCOOH由来の吸収に加えてSi-O-C由来の吸収が認められた。これら吸収は、酸化ジルコニウムナノ粒子を被覆している2-エチルヘキサン酸と3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランに由来するものと考えられる。さらに上記した5質量減少率の測定に従って測定した酸化ジルコニウム粒子の質量減少率は、17質量であった。よって、酸化ジルコニウムナノ粒子を被覆していた2-エチルヘキサン酸と3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランは、粒子全体の17質量であることが確認された。また、当該ナノ粒子を蛍光X線分析装置により分析し、Si含有量を測定することで被覆層における3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランを定量した。さらに、CHNコーダ分析装置によりナノ粒子中の全C含量を測定し、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン由来のC量を差し引くことで2-エチルヘキサン酸由来のC量を算出し、被覆層における2-エチルヘキサン酸量を求めた。その結果、被覆層における2-エチルヘキサン酸に対する3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランの存在比率は、モル比で1.5であった。実施例1茶色褐色ガラス瓶に製造例2で合成したアクリル基含有ジルコニアナノ粒子7.5g、ライトアクリレートIB-XAイソボルニルアクリレート、共栄社化学社製10.0g、ライトアクリレートTMP-Aトリメチロールプロパントリアクリレート、共栄社化学社製2.5g、DAROCUR1173光ラジカル重合開始剤、チバジャパン製0.4g、メチルエチルケトン10.0gを仕込み、均一になるまで撹拌を行い、無機酸化物微粒子含有組成物を得た。実施例2表1に示した配合割合で行った以外は、実施例1と同様の手法で組成物を得た。比較例1表1に示した配合割合で行った以外は、実施例1と同様の手法で組成物を得た。表1に配合割合、及び得られた実施例1の無機酸化物微粒子含有組成物、及び比較例1の組成物の透過率、屈折率、誘電率を測定した結果を示す。表1中の略号は以下の通りである。IBX-A:ライトアクリレートIB-XATMP-A:ライトアクリレートTMP-Aトリメチロールプロパントリアクルレート、共栄社化学社製DAROCUR1173:2-ヒドロキシ-2メチル-1フェニル-プロパン-1-オンチバジャパン社製"