"少なくとも一方の面に受光素子を備えた撮像素子部を有し、且つ、該撮像素子部を備えた面に立上がる立上壁を有する固体撮像素子用の遮光膜であって、A黒色顔料を含む被分散体と分散剤と有機溶媒とを含み、該被分散体の90以上が15nm以上30nm以下の粒径を有する顔料分散物、B重合性化合物、及びC重合開始剤を含有する感放射線性組成物を、該基板の受光素子を備えた面と、該受光素子を備えた面に立上がる立上壁の表面にスプレー塗布して形成された固体撮像素子用遮光膜。前記スプレー塗布の散布角度がスプレーノズルの吐出口に対し、20°以上160°以下である請求項1に記載の固体撮像素子用遮光膜。前記感放射線性組成物の25°Cにおける粘度が、2mPas以上50mPas以下である請求項1又は請求項2に記載の固体撮像素子用遮光膜。表面粗さRaが10000Å以上70000Å以下である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の固体撮像素子用遮光膜。前記被分散体が、チタンブラックを含有する請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の固体撮像素子用遮光膜。前記被分散体が、チタンブラックとSi原子とを含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有比Si/Tiが0.20以上0.50以下である有する請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の固体撮像素子用遮光膜。A黒色顔料を含む被分散体を含有する顔料分散物、B重合性化合物、及びC重合開始剤を含有し、且つ、前記被分散体の90以上が15nm以上30nm以下の粒径を有する感放射線性組成物を、少なくとも一方の面に受光素子を備えた撮像素子部を有し、且つ、該撮像素子部を備えた面に立上がる立上壁を有する固体撮像素子のシリコン基板と立上壁との表面にスプレー塗布して感放射線性層を形成する工程と、前記感放射線性層を露光する工程と、を有する固体撮像素子用遮光膜の製造方法。前記前記感放射線性層を露光する工程が、前記感放射線性層をパターン状に露光する工程であり、さらに、露光後に現像する工程を有する請求項7に記載の固体撮像素子用遮光膜の製造方法。少なくとも一方の面に受光素子を備えた撮像素子部を有し、且つ、該撮像素子部を備えた面に立上がる立上壁を有する固体撮像素子のシリコン基板及び立上壁の表面に、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の固体撮像素子用遮光膜を有する固体撮像素子。少なくとも一方の面に受光素子を備えた撮像素子部を有し、且つ、該撮像素子部を備えた面に立上がる立上壁を有するシリコン基板と、前記シリコン基板の前記撮像素子部が設けられた面に設けられ、前記撮像素子部の少なくとも1部が露出するようにパターニングされた請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の遮光膜と、前記撮像素子部を有する面の立上がる立上壁表面に設けられた請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の遮光膜と、を有する請求項9に記載の固体撮像素子。しかしながら、従来の遮光膜形成用の感放射線組成物はスピンコートを想定しており、且つ、表面の凹凸についても小さい組成物を想定していたため、平面のみならず、ユニットの側面などの水平面に対し角度を持った面にも効率よく塗布することができる遮光膜が望まれていた。本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、平面上のみならず、角度を持った側壁面等にも容易に形成され、且つ、可視光の遮光と可視光の反射抑制が可能な遮光膜を提供することにある。また、本発明の目的は、可視光の遮光と可視光の反射防止能に優れた遮光膜の製造方法、及び、得られた遮光膜を備えた、可視光の透過や反射によるノイズが低減された固体撮像素子を提供することである。前記課題を解決するための手段は以下の通りである。<1>少なくとも一方の面に受光素子を備えた撮像素子部を有し、且つ、該撮像素子部を備えた面に立上がる立上壁を有する固体撮像素子用の遮光膜であって、A黒色顔料を含む被分散体と分散剤と有機溶媒とを含み、該被分散体の90以上が15nm以上30nm以下の粒径を有する顔料分散物、B重合性化合物、及びC重合開始剤を含有する感放射線性組成物を、該基板の受光素子を備えた面と、該受光素子を備えた面に立上がる立上壁の表面にスプレー塗布して形成された固体撮像素子用遮光膜。<2>前記スプレー塗布の散布角度がスプレーノズルの吐出口に対し、20°以上160°以下である<1>に記載の固体撮像素子用遮光膜。<3>前記感放射線性組成物の25°Cにおける粘度が2mPas以上50mPas以下である<1>又は<2>に記載の固体撮像素子用遮光膜。<4>表面粗さRaが10000Å以上70000Å以下である<1>~<3>のいずれか1項に記載の固体撮像素子用遮光膜。<5>前記被分散体が、チタンブラックを含有する<1>~<4>のいずれか1項に記載の固体撮像素子用遮光膜。<6>前記被分散体が、チタンブラックとSi原子とを含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有比Si/Tiが0.20以上0.50以下である有する<1>~<5>のいずれか1項に記載の固体撮像素子用遮光膜。<7>A黒色顔料を含む被分散体を含有する顔料分散物、B重合性化合物、及びC重合開始剤を含有し、且つ、前記被分散体の90以上が15nm以上30nm以下の粒径を有する感放射線性組成物を、少なくとも一方の面に受光素子を備えた撮像素子部を有し、且つ、該撮像素子部を備えた面に立上がる立上壁を有する固体撮像素子のシリコン基板と立上壁との表面にスプレー塗布して感放射線性層を形成する工程と、前記感放射線性層を露光する工程と、を有する固体撮像素子用遮光膜の製造方法。<8>前記前記感放射線性層を露光する工程が、前記感放射線性層をパターン状に露光する工程であり、さらに、露光後に現像する工程を有する<7>に記載の固体撮像素子用遮光膜の製造方法。<9>少なくとも一方の面に受光素子を備えた撮像素子部を有し、且つ、該撮像素子部を備えた面に立上がる立上壁を有する固体撮像素子のシリコン基板及び立上壁の表面に、<1>~<6>のいずれか1項に記載の固体撮像素子用遮光膜を有する固体撮像素子。<10>少なくとも一方の面に受光素子を備えた撮像素子部を有し、且つ、該撮像素子部を備えた面に立上がる立上壁を有するシリコン基板と、前記シリコン基板の前記撮像素子部が設けられた面に設けられ、前記撮像素子部の少なくとも1部が露出するようにパターニングされた<1>~<6>のいずれか1項に記載の遮光膜と、前記撮像素子部を有する面の立上がる立上壁表面に設けられた<1>~<6>のいずれか1項に記載の遮光膜と、を有する<9>に記載の固体撮像素子。本発明によれば、平面のみならず、角度を持った面にも容易に形成され、且つ、赤外線の遮光と赤外線の反射抑制が可能な遮光膜を提供することができる。また、本発明によれば、赤外遮光能と赤外反射防止能に優れた遮光膜の製造方法、及び、得られた遮光膜を備えた、赤外光によるノイズが低減された固体撮像素子を提供することができる。≪固体撮像素子用遮光膜≫本発明の固体撮像素子用遮光膜は、少なくとも一方の面に受光素子を備えた撮像素子部を有し、且つ、該撮像素子部を備えた面に立上がる立上壁を有する固体撮像素子用の遮光膜であって、A黒色顔料を含む被分散体と分散剤と有機溶媒とを含み、該被分散体の90以上が15nm以上30nm以下の粒径を有する顔料分散物、B重合性化合物、及びC重合開始剤を含有する感放射線性組成物を、該基板の受光素子を備えた面と、該受光素子を備えた面に立上がる立上壁の表面にスプレー塗布して形成されたことを特徴とする。本発明の遮光膜が形成される基板は、図示されない撮像素子部が設けられた平面状の底部12に立上がる立上壁14を有する基板である。図1は、本発明に係る基板10の一態様を示す概略断面図である、本実施形態では、立上壁14は、平面状の底部12の端部に設けられた、平面状の底部12との角度図1中にαで示す角度が90°のものを示すが、立上壁14の角度はこれに限定されず角度αは平面状の底部に対し、0°を超え180°未満のいずれの角度でもよいが、特に垂直に近い角度で立ち上がる立上壁、角度αが45°以上135°以下、特には90°近傍の角度で立ち上がる立上壁に用いたときに、一工程で均一な塗布、遮光膜を形成しうるという本発明の効果が著しいといえる。平面状の基板の底部12に設けられる立上壁14は、例えば、撮像レンズを有するレンズホルダー側面や、複数設けられた受光素子部の隔壁、受光素子面と相対する上部壁などを構成する。本発明の遮光膜形成に用いられる感放射線性組成物は、黒色顔料を含む被分散体の粒径が微細であり、且つ、分散性に優れるため、スプレー塗布に好適に使用される。スプレー塗布適性向上の観点からは、感放射線性組成物は25°Cにおける粘度が2mPas以上50mPas以下の範囲であることが好ましい。ここで、25°Cの粘度は、E型粘度計を使用して測定した値を用いている。25°Cにおける粘度は、5mPas以上40mPas以下の範囲であることがより好ましい。なお、スプレー塗布では、スプレー塗布時のノズル詰まりがないという観点からはスプレー塗布時の粘度は、15mPas以下であることが好ましく、また、水平面以外の面、例えば垂直面などにスプレーにより適用された場合、液だれがなく均一な塗膜を形成しうるという観点からは、粘度は4mPas以上であることが好ましい。粘度は、例えば、感放射線性組成物に含まれるバインダーポリマーの種類や量、有機溶剤の種類や量、固形分の割合などを調整したり、増粘剤を添加したり、することで制御される。スプレー塗布適性に優れた感放射線性組成物の条件としては、黒色顔料を含む被分散体の粒径として、被分散体の90以上が粒径15nm~30nmであること、これらの被分散物の分散性が良好であることなどが挙げられる。近年、固体撮像素子の小型化や薄型化、高感度化に伴い、一方の面以下、第1の主面やオモテ面ともいうに撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面以下、第2の主面や裏面ともいう側から該シリコン基板に入射される赤外光を遮光する要求が強くなっている。また、これらをユニットとして、その側面にも遮光膜を形成するという要求もある。このような観点かは、水平面と垂直面の両方に一工程で遮光膜を形成しうるスプレー塗布法は重要である。ここで、スプレー塗布法により形成された遮光膜は、赤外遮光能及び赤外反射防止能に優れるため、上記要求を満たす遮光膜として好適ではある。本発明におけるスプレー塗布は、公知のスプレー塗布方法及び噴射装置を適用すればよい。本発明において、赤外とは、700nm~1200nmの波長領域を指し、可視光とは400nm~800nmの波長領域を指す。また、赤外光あるいは可視光を遮光するとは、前記した波長領域全域にわたり透過率が10以下である状態を指す。また、可視域の反射を防止するとは、450nm付近の波長領域で、表面の反射率が1以下である状態を指す。反射率は以下に示す方法で測定される。また、本明細書中において撮像素子部とは、複数の撮像素子CCD、CMOS、等が、例えばマトリクス状に配列されている領域を指す。本明細書中では、撮像素子部が設けられたシリコン基板を固体撮像素子や固体撮像素子基板ということがある。前記固体撮像素子には、更に、その他の要素カラーフィルタ、マイクロレンズ等が形成されていてもよい。以下、本発明の遮光膜の形成に用いられる感放射線性組成物に含有される各成分について順次説明する。<A黒色顔料を含む被分散体と分散剤と有機溶媒とを含み、該被分散体の90以上が15nm以上30nm以下の粒径を有する顔料分散物>本発明における顔料分散物は、チタンブラック粒子などの黒色顔料を含む被分散体を含有する。a-1黒色顔料黒色顔料としては、広範な波長領域に吸収を有し、遮光膜の形成に有用な公知の黒色顔料であれば特に制限なく用いられる。本発明に好適に使用される黒色顔料は、以下の吸光度を示すものが好ましく挙げられる。即ち、評価対象顔料を有機溶剤に分散させて調製した顔料分散物を、2.5μmの膜厚となるように、ガラス基板上に塗布して塗膜を形成し、その後、90°C120秒でプリベークを行い、有機溶剤を揮発させて、顔料含有塗膜膜乾燥膜を形成する。形成された膜の波長740nmにおける吸収を測定し、吸光度ABSを得る。得られた膜のABSの値から顔料のみを2.5μm塗布した場合の計算上の吸光度ABSを、顔料と分散剤の重量比率およびそれぞれの比重から顔料と分散剤の体積比率を計算することで算出し、顔料の吸光度ABSrの値が1.0以上となるものを、可視域の遮光性が本発明に係る遮光膜の形成に有用なレベルに到達しているものと考え、本発明における好適な黒色顔料とする。このような黒色顔料としては、例えば、チタンブラックABSr=11.0、カーボンブラックABSr=10.4、、セシウム酸化タングステンABSr=1.1などが挙げられ、チタンブラック粒子を含むことが好ましい。本発明における顔料分散は、黒色顔料を含有する。該黒色顔料は、分散組成物中において被分散体として含有されるものであり、被分散体の90以上が15nm以上30nm以下の粒径を有することを要する。本発明における黒色顔料の好ましい態様としては、チタンブラック粒子が挙げられ、特に被分散体がチタンブラック粒子とSi原子を含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有比が0.20以上0.5以下の範囲であることが好ましい。ここで、本発明における黒色顔料を含む被分散体は、黒色顔料が一次粒子の状態であるもの、凝集体二次粒子の状態であるものの双方を包含する。本発明における被分散体の粒径とは、被分散体の粒子直径を意味し、粒子直径とは、粒子の外表面の投影面積と等しい面積をもつ円の直径である。粒子の投影面積は、電子顕微鏡写真での撮影により得られた面積を測定し、撮影倍率を補正することにより得られる。本発明の遮光膜は、感放射線性組成物を硬化して得られた硬化膜遮光膜中に含有される黒色顔料を含む被分散体についても、その90以上が15nm以上30nm以下の粒径を有するものである。本発明においては、黒色顔料を含む被分散体の90以上が15nm以上30nm以下の粒径を有することで、感放射線性組成物をスプレー塗布する際にノズル詰まりがよくせいされ、形成された遮光膜は均一な膜厚を有する。また、この粒径とすることで、パターン形成時の未露光部の残渣物が低減される。これは、特定粒径とすることで、遮光膜の硬化に使用される放射線の吸収や散乱が軽減され、且つ、粒径の小さい被分散体が、遮光膜の形成における未硬化の感放射線性組成物特に、チタンブラック粒子の除去性向上に寄与するためと考えられる。なお、残渣物は、チタンブラック等の黒色顔料、樹脂成分等の感放射線性組成物に由来する成分を含むものである。本発明における黒色顔料としては、チタンブラック粒子が好ましい。これは、チタンブラック粒子は、紫外から赤外までの広範囲に亘る波長領域の光に対する遮光性に優れ、特に可視光のみならず赤外光に対する遮光性赤外遮光性に優れるためである。A顔料分散物又は感放射線性組成物に含有される被分散体について、その90が15nm以上30nm以下の粒径を有するか否かを判断するには、下記に示す方法1を用いる。また、本発明に係る感放射線性組成物を硬化して得られた硬化膜遮光膜に含有される被分散体について、その90が30nm以下の粒径を有するか否かを判断するには、下記に示す方法2を用いる。<方法1>チタンブラック分散物又は感放射線性組成物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート以下、PGMEAとも略称する。により500倍に希釈し、カーボン薄膜上に滴下、乾燥させて投下型電子顕微鏡を用いて形態観察写真を撮影する。得られた写真から、粒子400個について外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、度数分布を評価する。<方法2>製膜された基板の断面を、走査型電子顕微鏡株日立ハイテクノロジーズ製、S-3400N商品名及びエネルギー分散型X線分析装置EDAX社製Genesis商品名により、形態観察写真及びTiとSiの元素マップを撮影する。得られた写真から、Ti元素が検出されている粒子400個について外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、度数分布を評価する。以下、チタンブラック粒子について、更に詳細に説明する。本発明においてチタンブラック粒子とは、チタン原子を有する黒色粒子であり、好ましくは低次酸化チタンや酸窒化チタン等の黒色粒子である。チタンブラック粒子は、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、粒子表面を修飾することが可能である。粒子表面の修飾としては、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム等で被覆処理が可能であり、また、特開2007-302836号公報に示されるような撥水性物質での処理も可能である。チタンブラック粒子の市販品の例としては、チタンブラック10S、12S、13R、13M、13M-C、13R、13R-N、13M-T商品名:以上、三菱マテリアル電子化成株製、ティラックTilackD商品名:赤穂化成株製などが挙げられる。チタンブラック粒子の製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法特開昭49-5432号公報に記載の方法、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを水素を含む還元雰囲気中で還元する方法特開昭57-205322号公報に記載の方法、二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法特開昭60-65069号公報、特開昭61-201610号公報に記載の方法、二酸化チタン又は水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法特開昭61-201610号公報に記載の方法などがあるが、これらに限定されるものではない。本発明に適用されるチタンブラック粒子としては、一次粒径の小さいものであることが好ましい。本発明に用いられる顔料分散物は、被分散体としてチタンブラック粒子のみを含有するものであってもよく、その他の黒色顔料や吸収調整のための他の色相の顔料を含んで、2種以上の顔料を含有してもよい。また、本発明の効果を損なわない限りにおいて、チタンブラック粒子と共に、分散性、着色性等を調整する目的で、Cu、Fe、Mn、V、Ni等の複合酸化物、酸化コバルト、酸化鉄、カーボンブラック、アニリンブラック等からなる黒色顔料を1種又は2種以上組み合わせて、被分散体として併用してもよい。この場合、被分散体の50質量以上をチタンブラック粒子からなる被分散体が占めることが好ましい。また、被分散体がチタンブラック粒子とSi原子とを含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有比が0.20以上0.50以下の範囲であることが好ましい。被分散体のSi/Tiを0.20以上0.50以下の範囲とするためには、以下のような手段を用いることができる。例えば、酸化チタンとシリカ粒子とを、例えば、酸化チタン100gに対しシリカ粒子を12.5gの比で混合し、分散機を用いて分散することにより分散組成物を得て、この分散組成物を高温例えば、850~1000°Cにて還元処理することにより、チタンブラック粒子を主成分とし、SiとTiとを含有する被分散体を得ることができる。このときすでに還元処理済みのチタンブラックにシリカ粒子を混合するだけでは本発明の効果を奏するSiとTiとを含有する被分散体を得ることができない。また、例えば、特開2008-266045公報の段落番号00056及び同段落番号0016~0021に記載の方法に類似の方法により作製することができる。本発明に係る感放射線性組成物は、顔料分散物に由来する黒色顔料を含む被分散体を含有する。該感放射線性組成物及びこれを硬化して得られた硬化膜遮光膜中に含有されるチタンブラック粒子を含む被分散体についても、被分散体中のSi原子とTi原子との含有比Si/Tiが0.20以上0.50以下の範囲であり、その好ましい範囲についても、上述と同様である。本発明においては、被分散体中のSi原子とTi原子との含有比Si/Tiは、既述のように、0.20以上0.50以下であることが好ましく、0.35以上0.45以下の範囲であることがより好ましい。この範囲であると、顔料分散物の製造が容易であり、分散安定性が向上するために、例えば、スプレー塗布適性に優れ、粒子の沈降や凝集に起因するスプレー塗布時の噴霧性の低下が抑制されるために、経時後でもスプレー塗布法による均一な塗膜の形成が可能となり、高い遮光能を有する均一な遮光膜が、水平面のみならず垂直面や局面、あるいは、被塗布面に凹凸があった場合でも均一な遮光膜が容易に形成される。また、上記のような被分散体の粒径が30nm以下であるために、さらにスプレー塗布適性が向上する。また、この被分散体のSi原子が含まれる成分が増すことにより、被分散体と分散剤との相互作用が大きくなり、パターン成形した上面の現像液耐性が向上することによってパターン上面の表面荒れが低減するという利点をも有するものと推測している。また、後述するように、遮光性の調整等を目的として、本発明の効果を損なわない限りにおいて、チタンブラック粒子などの黒色顔料と共に、他の着色剤有機顔料や染料などを所望により併用してもよい。A顔料チタンブラック分散物中のa-1チタンブラック粒子に代表される黒色顔料の含有量は、分散物の全質量に対し、5質量~60質量であることが好ましく、10質量~50質量であることがさらに好ましい。また、感放射線性組成物中のa-1黒色顔料の含有量は、分散物の全質量に対し、2.5質量~30質量であることが好ましく、5質量~20質量であることがさらに好ましいa-2分散剤A顔料分散物及び感放射線性組成物はa-2分散剤を含有する。本発明における分散剤としては、高分子分散剤例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリメタアクリレート、メタアクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。本発明における分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、及びブロック型高分子に分類することができる。本発明における分散剤は、チタンブラック粒子及び所望により併用する顔料等の被分散体の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。一方で、本発明における分散剤は被分散体の表面を改質することで、分散樹脂の吸着を促進させる効果を有する。本発明に用いうる分散剤の具体例としては、BYKChemie社製Disperbyk-101商品名、ポリアミドアミン燐酸塩、107商品名、カルボン酸エステル、110商品名、酸基を含む共重合物、130商品名、ポリアミド、161、162、163、164、165、166、170、180商品名、高分子共重合物、BYK-P104、P105商品名、高分子量不飽和ポリカルボン酸、EFKA社製EFKA4047、4050、4010、4165商品名、ポリウレタン系、EFKA4330、4340商品名、ブロック共重合体、4400、4402商品名、変性ポリアクリレート、5010商品名、ポリエステルアミド、5765商品名、高分子量ポリカルボン酸塩、6220商品名、脂肪酸ポリエステル、6745商品名、フタロシアニン誘導体、6750商品名、アゾ顔料誘導体、味の素ファインテクノ株製アジスパーPB821、PB822商品名、共栄社化学株製フローレンTG-710商品名、ウレタンオリゴマー、ポリフローNo.50E、No.300商品名、アクリル系共重合体、楠本化成株製ディスパロンKS-860、873SN、874、2150商品名、脂肪族多価カルボン酸、7004商品名、ポリエーテルエステル、DA-703-50、DA-705、DA-725商品名、花王株製デモールRN、N商品名、ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物、MS、C、SN-B商品名、芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物、ホモゲノールL-18商品名、高分子ポリカルボン酸、エマルゲン920、930、935、985商品名、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、アセタミン86商品名、ステアリルアミンアセテート、ルーブリゾール社製ソルスパース5000商品名、フタロシアニン誘導体、22000商品名、アゾ顔料誘導体、13240商品名、ポリエステルアミン、3000、17000、27000商品名、末端部に機能部を有する高分子、24000、28000、32000、38500商品名、グラフト型高分子、日光ケミカル社製ニッコールT106商品名、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、MYS-IEX商品名、ポリオキシエチレンモノステアレート等が挙げられる。また、川研ファインケミカル株製ヒノアクトT-8000E商品名などの両性分散剤も挙げられる。これらの分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。分散剤の酸価は、5.0mgKOH/g以上200mgKOH/g以下の範囲であることが好ましく、より好ましくは10mgKOH/g以上150mgKOH/g以下の範囲、更に好ましくは60mgKOH/g以上150mgKOH/g以下の範囲である。分散剤の酸価が200mgKOH/g以下であれば、遮光膜を形成する際の現像時におけるパターン剥離がより効果的に抑えられる。また、分散剤の酸価が5.0mgKOH/g以上であればアルカリ現像性がより良好となる。また、分散剤の酸価が60mgKOH/g以上であれば、チタンブラック粒子の沈降をより抑制でき、粗大粒子数をより少なくすることができ、チタンブラック分散物又は感放射線性組成物の経時安定性をより向上できる。本発明において、分散剤の酸価は、例えば、分散剤中における酸基の平均含有量から算出することができる。また、分散剤の構成成分である酸基を含有するモノマー単位の含有量を変化させることで所望の酸価を有する樹脂を得ることができる。本発明における分散剤の重量平均分子量は、遮光膜を形成する際において、現像時のパターン剥離抑制と現像性の観点から、10,000以上300,000以下であることが好ましく、15,000以上200,000以下であることがより好ましく、20,000以上100,000以下であることが更に好ましく、25,000以上50,000以下であることが特に好ましい。なお、分散剤の重量平均分子量は、例えば、GPCによって測定することができる。グラフト共重合体本発明においては、分散剤として、グラフト共重合体以下、特定樹脂ともいうを用いることも好ましい。分散剤としてグラフト共重合体を用いることで、分散性及び保存安定性をより向上させることができる。グラフト共重合体としては、水素原子を除いた原子数が40~10000の範囲であるグラフト鎖を有するものが好ましい。この場合のグラフト鎖とは、共重合体の主鎖の根元から、主鎖から枝分かれしている基の末端までの部分を示す。この特定樹脂は、チタンブラック粒子に分散性を付与しうる分散樹脂であり、優れた分散性と、グラフト鎖による溶媒との親和性を有するために、チタンブラック粒子の分散性、及び経時後の分散安定性に優れる。また、感放射線性組成物としたとき、グラフト鎖の存在により重合性化合物又はその他の併用可能な樹脂などとの親和性を有するので、アルカリ現像で残渣を生じにくくなる。また、この特定樹脂に、さらに、カルボン酸基などのアルカリ可溶性の部分構造を導入することで、アルカリ現像によるパターン形成のために現像性を付与する樹脂としての機能をも付与することができる。従って、前記グラフト共重合体に、アルカリ可溶性の部分構造を導入することで、A顔料分散物は、チタンブラック粒子の分散に不可欠の分散樹脂自体がアルカリ可溶性を有することになる。このようなチタンブラック分散物を含有する感放射線性組成物は、露光部の遮光性に優れたものとなり、且つ、未露光部のアルカリ現像性が向上される。グラフト鎖が長くなると立体反発効果が高くなり分散性は向上するが、一方グラフト鎖が長すぎるとチタンブラックへの吸着力が低下して分散性は低下してしまう。このため、本発明で使用されるグラフト共重合体としては、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が40~10000であることが好ましく、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が50~2000であることがより好ましく、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が60~500であることがさらに好ましい。グラフト鎖のポリマー構造の例としては、ポリメタアクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエーテルなどが挙げられる。グラフト鎖としては、グラフト部位と溶媒との相互作用性を向上させ、それにより分散性を高めるために、ポリメタアクリル、ポリエステル、又はポリエーテルを有するグラフト鎖であることが好ましく、ポリエステル又はポリエーテルを有するグラフト鎖であることがより好ましい。このようなポリマー構造をグラフト鎖として有するマクロモノマーの構造としては、ポリマー主鎖部と反応可能な置換基を有し、且つ本発明の要件を満たしていれば、特に限定されないが、好ましくは、反応性二重結合性基を有するマクロモノマーを好適に使用することができる。特定樹脂の合成に好適に用いられる市販のマクロモノマーとしては、AA-6、AA-10、AB-6、AS-6、AN-6、AW-6、AA-714、AY-707、AY-714、AK-5、AK-30、AK-32、ブレンマーPP-100商品名、日油株製、ブレンマーPP-500商品名、日油株製、ブレンマーPP-800商品名、日油株製、ブレンマーPP-1000商品名、日油株製、ブレンマー55-PET-800商品名、日油株製、ブレンマーPME-4000商品名、日油株製、ブレンマーPSE-400商品名、日油株製、ブレンマーPSE-1300商品名、日油株製、ブレンマー43PAPE-600B商品名、日油株製、などが用いられる。このなかでも、好ましくは、AA-6、AA-10、AB-6、AS-6、AN-6、ブレンマーPME-4000商品名、日油株製などが用いられる。前記グラフト共重合体は、少なくとも下記式1~式4のいずれかで表される構造単位を含むことが好ましく、少なくとも、下記式1A、下記式2A、下記式3A、下記式3B、及び前記4のいずれかで表される構造単位を含むことがより好ましい。式1~式4において、W1、W2、W3、及びW4はそれぞれ独立に酸素原子或いはNHを表す。W1、W2、W3、及びW4は酸素原子であることが好ましい。式1~式4において、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基を表す。X1、X2、X3、X4、及びX5としては、合成上の制約の観点からは、好ましくはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~12のアルキル基であり、それぞれ独立に水素原子又はメチル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。式1~式4において、Y1、Y2、Y3、及びY4は、それぞれ独立に、2価の連結基を表し、該連結基は特に構造上制約されない。Y1、Y2、Y3、又はY4で表される2価の連結基として、具体的には、下記のY-1~Y-21の連結基などが例として挙げられる。下記に示した構造において、A、Bはそれぞれ、式1~式4における左末端基及び右末端基との結合部位を意味する。下記に示した構造のうち、合成の簡便性から、~中、R1、R2、及びR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子例えば、フッ素、塩素、臭素等、又は炭素原子数が1~6のアルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等を表す。R1、R2、及びR3は、より好ましくは、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数が1~3のアルキル基であり、最も好ましくは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基である。R2及びR3は、それぞれ水素原子であることが特に好ましい。Xは、酸素原子-O-又はイミノ基-NH-を表し、酸素原子であることが好ましい。式i~ii中のLは、単結合又は2価の連結基を表す。該2価の連結基の例としては、2価の脂肪族基例えば、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、及び置換アルキニレン基、2価の芳香族基例えば、アリーレン基、及び置換アリーレン基、2価の複素環基及びそれらと酸素原子-O-、硫黄原子-S-、イミノ基-NH-、置換イミノ基-NR31-、ここでR31は脂肪族基、芳香族基又は複素環基又はカルボニル基-CO-のうちの一つ以上との組合せ等が挙げられる。前記2価の脂肪族基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。前記脂肪族基の炭素原子数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~10が更に好ましい。脂肪族基は不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、芳香族基および複素環基が挙げられる。前記2価の芳香族基の炭素原子数は、6~20が好ましく、6~15がさらに好ましく、6~10が最も好ましい。また、前記芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基及び複素環基を挙げられる。前記2価の複素環基は、複素環として5員環又は6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環のうち1つ以上が縮合していてもよい。また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基=O、チオキソ基=S、イミノ基=NH、置換イミノ基=N-R32、ここでR32は脂肪族基、芳香族基または複素環基、脂肪族基、芳香族基及び複素環基を挙げられる。Lは、単結合、アルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む2価の連結基であることが好ましい。オキシアルキレン構造は、オキシエチレン構造又はオキシプロピレン構造であることがより好ましい。また、Lはオキシアルキレン構造を2以上繰り返して含むポリオキシアルキレン構造を含んでいてもよい。ポリオキシアルキレン構造としてはポリオキシエチレン構造又はポリオキシプロピレン構造が好ましい。ポリオキシエチレン構造は、-OCH2CH2n-で表され、nは、2以上の整数が好ましく、2~10の整数であることがより好ましい。式~中、Zは、グラフト部位と別にチタンブラックと相互作用を形成しうる官能基を表し、カルボン酸、第三級アミノ基であることが好ましく、カルボン酸であることがより好ましい。また、Yは、メチン基又は窒素原子を表す。式中、R4、R5、及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子例えば、フッ素、塩素、臭素等、または炭素原子数が1~6のアルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等、-Z、又は-L-Zを表す。ここでL及びZは、上記におけるL及びZと同義であり、好ましい例も同様である。R4、R5、及びR6としては、それぞれ独立に水素原子、又は炭素数が1~3のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。本発明においては、一般式iで表される単量体として、R1、R2、及びR3がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であって、Lがアルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む2価の連結基であって、Xが酸素原子又はイミノ基であって、Zがカルボン酸である化合物が好ましい。また、一般式iiで表される単量体として、R1が水素原子又はメチル基であって、Lがアルキレン基であって、Zがカルボン酸であって、Yがメチン基である化合物が好ましい。また、一般式iiiで表される単量体として、R4、R5、及びR6がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であって、Lが単結合又はアルキレン基であって、Zがカルボン酸である化合物が好ましい。以下に、式~で表される単量体化合物の代表的な例を示す。該単量体の例としては、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物例えば、メタクリル酸2-ヒドロキシエチルとコハク酸無水物の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物とフタル酸無水物の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物とテトラヒドロキシフタル酸無水物の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物と無水トリメリット酸の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物とピロメリット酸無水物の反応物、アクリル酸、アクリル酸ダイマー、アクリル酸オリゴマー、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、4-ビニル安息香酸、ビニルフェノール、4-ヒドロキシフェニルメタクリルアミドなどが挙げられる。特定樹脂中における酸性基を有する単量体などのチタンブラックと相互作用を形成しうる官能基の含有量は、チタンブラックとの相互作用、分散安定性、及び現像液への浸透性の観点から、特定樹脂に対して0.05質量~90質量が好ましく、1.0質量~80質量がより好ましく、10質量~70質量が更に好ましい。さらに、本発明に係るチタンブラックの分散組成物に含まれる特定樹脂は、画像強度などの諸性能を向上する目的で、本発明の効果を損なわない限りにおいて、前記グラフト部位を有する構造単位及びチタンブラックと相互作用を形成しうる官能基に加えて、さらに種々の機能を有する他の構造単位、例えば、分散物に用いられる分散媒との親和性を有する官能基、などを有する構造単位を共重合成分として含むことができる。特定樹脂に共重合可能な共重合成分の例としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などから選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられる。これらを1種あるいは2種以上用いることができ、特定樹脂中、これら共重合成分の好適に使用される含有量は、0モル以上90モル以下であり、特に好ましくは、0モル以上60モル以下である。含有量が前記の範囲において十分なパターン形成が得られる。特定樹脂を合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2-メトキシエチルアセテート、1-メトキシ-2-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。これらの溶媒は単独で用いても2種以上混合して用いてもよい。このような特定樹脂の具体例としては、以下の例示化合物1~55が挙げられる。なお、各構成単位主鎖部分の添数字は質量である。本発明に係るA顔料分散物における分散剤の含有量としては、被分散体チタンブラック粒子を含む被分散体及び他の着色剤を含むの全固形分質量に対して、1質量~90質量が好ましく、3質量~70質量がより好ましい。また、感放射線性組成物における分散剤の含有量としては、被分散体チタンブラック粒子からなる被分散体及び他の着色剤を含むの全固形分質量に対して、1質量~90質量が好ましく、3質量~70質量がより好ましい。a-3有機溶媒本発明に用いられるA顔料分散物は、a-3有機溶媒を含有する。有機溶媒の例としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3-メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられるが、これらに限定されない。有機溶媒は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。有機溶媒を2種以上組み合わせて用いる場合、特に好ましくは、上記の3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される2種以上で構成される混合溶液である。チタンブラック分散物に含まれる有機溶媒の量としては、該分散物の全量に対し、10質量~80質量であることが好ましく、20質量~70質量であることがより好ましく、30質量~65質量であることが更に好ましい。また、感放射線性組成物に含まれる有機溶媒の量としては、該組成物の全量に対し、10質量~90質量であることが好ましく、20質量~80質量であることがより好ましく、25質量~75質量であることが更に好ましい。B重合性化合物本発明の遮光膜形成に用いられる感放射線性組成物は、重合性化合物を含有する。重合性化合物としては、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100°C以上である化合物であることが好ましい。少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100°C以上である化合物の例としては、例えば、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ヘキサンジオールメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリロイルオキシプロピルエーテル、トリアクリロイロキシエチルイソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後メタアクリレート化したもの、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールのポリメタアクリレート化したもの、特公昭48-41708号、特公昭50-6034号、特開昭51-37193号の各公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号の各公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とメタアクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートを挙げることができる。更に、日本接着協会誌Vol.20、No7、300~308頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用できる。また、特開平10-62986号公報において一般式1及び2としてその具体例と共に記載の、前記多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後にメタアクリレート化した化合物も用いることができる。中でも、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、及びこれらのアクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介してジペンタエリスリトールに連結している構造が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。また、特公昭48-41708号、特開昭51-37193号、特公平2-32293号、及び特公平2-16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号、特公昭56-17654号、特公昭62-39417号、及び特公昭62-39418号の各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63-277653号、特開昭63-260909号、及び特開平1-105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。市販品としては、ウレタンオリゴマーUAS-10、UAB-140商品名、日本製紙ケミカル株製、UA-7200、95Pb-Sn、Pbフリー半田として、Sn-Ag、Sn-Cu、Sn-Ag-Cuなどを用いて形成する。ハンダボール60は、例えば、直径100μm~1000μm好ましくは直径150μm~700μmの球状に形成する。内部電極26及び素子面電極27は、例えば、CMPChemicalMechanicalPolishing、またはフォトリソグラフィー及びエッチングにより、Cu等の金属電極として形成する。金属電極23は、例えば、スパッタ、フォトリソグラフィー、エッチング、及び電解めっきにより、Cu、Au、Al、Ni、W、Pt、Mo、Cu化合物、W化合物、Mo化合物等の金属電極として形成する。金属電極23は、単層構成でも2層以上からなる積層構成であってもよい。金属電極23の膜厚は、例えば、0.1μm~20μm好ましくは0.1μm~10μmとする。シリコン基板10としては特に限定されないが、基板裏面を削ることによって薄くしたシリコン基板を用いることができる。基板の厚さは限定されないが、例えば、厚み20~200μm好ましくは30~150μmのシリコンウエハを用いる。シリコン基板10の貫通孔は、例えば、フォトリソグラフィー及びRIEReactiveIonEtchingにより形成する。以上、前記構造Kの具体例である固体撮像素子基板100について図2及び図3を参照して説明したが、前記構造Kは図2及び図3の形態に限られず、裏面側に金属電極及び遮光膜を有する構成であれば、その構成に特に限定はない。以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部は質量基準である。また、室温は25°Cを指す。チタンブラックの作製粒径15nmの酸化チタンMT-150A商品名:テイカ株製を100g、BET表面積300m2/gのシリカ粒子AEROPERL登録商標300/30エボニック製を25g、及び、Disperbyk190商品名:ビックケミー社製を100g秤量し、イオン電気交換水71gを加えてKURABO製MAZERSTARKK-400Wを使用して、公転回転数1360rpm、自転回転数1047rpmにて20分間処理することにより均一な混合物水溶液を得た。この水溶液を石英容器に充填し、小型ロータリーキルン株式会社モトヤマ製を用いて酸素雰囲気中で920°Cに加熱した後、窒素で雰囲気を置換し、同温度でアンモニアガスを100mL/minで5時間流すことにより窒化還元処理を実施した。終了後回収した粉末を乳鉢で粉砕し、粉末状のSi原子を含むチタンブラックA被分散体を得た。また、チタンブラックAの作製にて使用したシリカ粒子AEROPERLを、それぞれ12.5g、10g、5gとすることにより、それぞれチタンブラックB、チタンブラックC、チタンブラックXを得た。分散剤1の合成500mL三口フラスコに、ε-カプロラクトン600.0g、2-エチル-1-ヘキサノール22.8gを導入し、窒素を吹き込みながら、攪拌溶解した。モノブチル錫オキシド0.1gを加え、100°Cに加熱した。8時間後、ガスクロマトグラフィーにて原料が消失したのを確認後、80°Cまで冷却した。2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール0.1gを添加した後、2-メタクリロイロキシエチルイソシアネート27.2gを添加した。5時間後、1H-NMRにて原料が消失したのを確認後、室温まで冷却し、固体状の前駆体1下記構造を200g得た。M1であることは、1H-NMR、IR、質量分析により確認した。前記前駆体M1を30.0gと、NKエステルCB-12メタクリロイロキシエチルフタル酸新中村化学製を70.0gと、ドデシルメルカプタン2.3gと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート233.3gとを、窒素置換した三口フラスコに導入し、攪拌機新東科学株:スリーワンモータにて攪拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して75°Cまで昇温した。これに、2,2-アゾビス2-メチルプロピオン酸ジメチル和光純薬株製のV-6010.2gを加え、75°Cにて2時間加熱攪拌を行なった。2時間後、更にV-601を0.2g加えて3時間、加熱攪拌の後、下記分散剤1の30溶液を得た。分散剤1の組成比、酸価、及び重量平均分子量Mwは、以下の通りである。なお、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフGPCにより測定し、ポリスチレン換算で算出した値である。GPCは、HLC-8020GPC東ソー株製を用い、カラムをTSKgelSuperHZM-H、TSKgelSuperHZ4000、TSKgelSuperHZ200東ソー社製として測定した。組成比:x=35質量、y=65質量酸価:80mgKOH/gMw:30,000[実施例1~3、比較例1~3]1.チタンブラック分散組成物の調製下記組成1に示す成分を、攪拌機IKA社製EUROSTARを使用して、15分間混合し、分散物aを得た。組成1a-1被分散体:前記にて作製したチタンブラックA25部a-2分散剤:分散剤1の30溶液25部a-3有機溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート50部得られた分散物aに対し、寿工業株製のウルトラアペックスミルUAM015を使用して下記条件にて分散処理を行い、実施例1の遮光膜形成に用いるチタンブラック分散組成物A日立テクノロジーズ製、及び、INCAEnergyPentaFETx3Oxford社製を用いて、Si原子量、Ti原子量を求め、Si/Ti比を算出した。その結果、各黒色感放射線性組成物中の被分散体におけるSi/Ti比の結果を以下の表1に示す。<被分散体の粒径>黒色感放射線性組成物A、B、C、X、Yを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを溶剤として用いて100倍に希釈し、これをカーボンフォイル上に滴下、乾燥し、これをTEMにより観察することにより被分散体の平均粒径を測定した。その結果、各黒色感放射線性組成物に含まれる被分散体の粒径および、15nm以上30nm以下の粒子割合を以下の表1に示す。遮光膜形成用塗布液1調液直後の黒色組成物Aをスプレー塗布装置の溶液カップに入れて遮光膜形成用塗布液を調製し、以下の塗布および加熱条件でガラス基板に塗布を行い、遮光膜1実施例1の遮光膜を形成した。スプレー塗布装置:GSIクレオス製PS-268スプレー塗布空気圧条件:3000cc/分塗布量:0.2cc/分ノズル径:0.4mmスプレーの吐出口とガラス基板塗布面は垂直の向きに設置。スプレーの吐出口とガラス基板の距離:3cmスプレーの散布角度:90度スプレーの吐出口からガラス基板への法線から左右両方への角度塗布部分の平均膜厚が2.5μmとなるまでスプレー塗布実施し、塗布後ホットプレートにて120°Cで2分加熱した。遮光膜形成用塗布液1の調製において用いた黒色組成物Aを黒色組成物B,C,X,Yにそれぞれ変更した以外は前記と同じようにして、実施例2,3、比較例1,2の遮光膜を作製した比較例3の遮光膜の作製前記で得た黒色組成物Bを、基板上に塗布膜厚が2.5μmとなるようにスピンコートを行い、ホットプレートにて120°Cで2分加熱して遮光膜比較例3を得た。なお、スピンコート法により形成した比較例3の遮光膜の表面粗さは5326Åであった。スプレー塗布の目詰まり評価黒色組成物A,B,C、X,及びYについて、以下の条件でスプレー塗布を行い、目詰まりを評価した。スプレー塗布装置:GSIクレオス製PS-268前記スプレー塗布装置の溶液カップに評価する黒色組成物を入れ、25°Cにて96時間放置した後、上記スプレー塗布装置により以下の条件で塗布を行い、目詰まりが発生するしないを評価した。スプレー塗布空気圧条件:3000cc/分塗布量:0.2cc/分ノズル径:0.4mm表面反射率の測定各サンプルを、日立ハイテクノロジー製分光光度計、U-4100にて、波長450nmで表面反射率を測定し入射角度5度、反射率をにて測定した。特に固体撮像素子用途の場合、4以下の表面反射率ならば実用性があると判断する。実施例1、2、3、比較例1、2、及び3の遮光膜形成時の目詰まり評価結果と、形成された遮光膜の表面反射率を以下に示す。遮光性各サンプルを、日立ハイテクノロジー製分光光度計、U-4100にて、波長550nmにおける透過率を測定し、遮光率の指標とした。表2の結果より、本発明の遮光膜はスプレー塗布適性が良好で、反射防止能に優れることがわかる。他方、同じ黒色感放射線性組成物を用いても、スピンコート法により形成された遮光膜は、反射防止能が実用上のレベルに達していないことが分わかる。なお、スピンコート法により形成された比較例3の遮光膜は、既述のように表面粗さが5326Åであり、本発明の好ましい範囲外である。このため、スプレー塗布法により形成された実施例の遮光膜に比較し、反射防止能が劣ることがわかる。[実施例4~実施例8]前記実施例2において、スプレー塗布装置の吐出口形状を調整し、スプレーの散布角度を20、35,62、118、152°にそれぞれ変更した以外は同様にして塗布膜を作製し、それぞれ実施例4,5,6,7、8として、表面反射率を測定した。その結果を実施例2と共に下記表3に示す。なお、スプレーの散布角度を20度とした実施例4の塗膜の表面粗さは75211Åであった。表3に明らかなように、スプレーノズルの吐出口に対し、20度以上160度以下の範囲においては、いずれも均一塗布が可能であり、表面反射率の優れた遮光膜が形成されることがわかる。なお、スプレー角度が35°においては、若干の塗布ムラが認められた。このことから、スプレー角度が40度~120度が好ましいことが分かる。[実施例9~実施例13]実施例2において、スプレー塗布装置の吐出口とガラス基板の距離を10,5,4,2,1cmにそれぞれ変更して、表面粗さRaの異なるサンプルを作製し、それぞれ実施例8,9,10,11,12とした。ここで表面粗さRaはULVAC製Dektak6M接触式表面形状測定器を使用して、測定を行ったものである。実施例2と合わせて、表面粗さRaの測定結果と、表面反射率を下記表4に示す。表4に示すように、本発明の遮光膜は表面粗さが10000Å以上70000Å以下であり、好ましい表面反射率であることがわかる。"