"電気活性高分子層と、前記電気活性高分子層の両側に配置された伸縮性電極構造と、前記伸縮性電極構造の1つに固定された不動態層と、を有し、前記伸縮性電極構造は、前記電気活性高分子層の接線弾性係数YEAPよりも小さいか、又は、ほぼ等しい接線弾性係数Yel,1,Yel,2を持ち、前記不動態層は、アクチュエータの引っ張りによって弾性的に変形可能であり、且つ、全ての接線方向において機械的に一様である、前記アクチュエータ。前記不動態層は、前記伸縮性電極構造の1つに直接固定される、請求項1記載のアクチュエータ。前記不動態層の厚さdpは、前記電気活性高分子層の厚さdEAPよりも大きいか、又は、ほぼ等しい、請求項1記載のアクチュエータ。前記不動態層の接線弾性係数Ypと前記電気活性高分子層の接線弾性係数YEAPとの比Yp/YEAPは、最大でも1.1である、請求項1記載のアクチュエータ。前記不動態層は、最大でも0.5MPaの接線弾性係数Ypを持つ、請求項1記載のアクチュエータ。前記電気活性高分子層は、アクリル、ポリ[スチレン-b-エチレン-co-ブチレン-b-スチレン]、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、及び、シリコンを含むグループから選択される材料を有する、請求項1記載のアクチュエータ。前記不動態層は、光反射外面を持つ、請求項1記載のアクチュエータ。前記光反射外面は、前記不動態層に作られたテクスチャードパターン上に配置され、前記テクスチャードパターンの少なくとも1つの幾何学的特性は、前記不動態層の変形によって可変である、請求項7記載のアクチュエータ。前記光反射外面は、前記不動態層に固定された少なくとも1つの金属化された高分子薄膜によって形成される、請求項7記載のアクチュエータ。光学的に透明な部分を有し、前記不動態層の少なくとも1つの光学的特性は、前記不動態層の変形によって可変である、請求項1記載のアクチュエータ。前記少なくとも1つの光学的特性は、減衰、主要点の位置、焦点距離、偏光、及び、散乱のうちの1つである、請求項10記載のアクチュエータ。前記不動態層は、不透明な部分によって範囲が定められた光学的に透明な部分を有し、これにより、可変光アポダイザを定める、請求項11のアクチュエータ。前記不動態層は、光反射パターンを有する、請求項11記載のアクチュエータ。前記不動態層の厚さdpは、10μm乃至5mmの範囲にある、請求項7又は10に記載のアクチュエータ。請求項1記載のアクチュエータを製造する方法であって、複数の副積層板への前記アクチュエータの分割を定めるステップと、少なくとも1つが硬化重合体を有する前記複数の副積層板を供給するステップと、前記アクチュエータを形成するために、前記複数の副積層板を合わせるステップと、を有する、方法。印加された電場に誘電体アクチュエータが反応する態様は、不動態層の追加によって影響され得る。米国特許出願公開第2008/0289952号として公開された出願は、1又は複数の不動態高分子層で被覆されたアクチュエータを有する積層板を開示している。不動態層は、アクチュエータによって不動態層に与えられたせん断力の作用下の作動場における変化に対して間接的に反応する。このため、本願の図1に示されるように、アクチュエータの電極E1,E2間の活性領域Dの膨張は、活性領域Dの境界に対応する隆起縁が積層板TDUの外部表面TDS上に作り出されるように、不動態層PL1,PL2を引き伸ばすストレッチする。なお、電極E1,E2の大きさにおける目に見える違いは、当該タイプの全てのアクチュエータに対して共通する特徴ではないことに留意する。上記ストレッチモードの動きを更に示すため、図2は、2つの電極210,211の間に配置されたEAP層202の上記部分の圧縮ひいては圧縮に伴う平面の引き伸ばしが、ポアソン効果によって、周囲の不動態層201,203の増幅された厚み収縮を、どのように引き起こすのかを示している。活性領域をより薄い形状に引き伸ばすことにより、隆起縁を作り出す材料が活性領域から供給されるため、かかる引き伸ばしは、全てのアプリケーションにおいて許容され得ない。KooJungらのDevelopmentofsoftactuatorbasedwearabletactiledisplayIEEETransRoboticsvol24no3pp549558は、本願の図3によって示されるように、誘電体アクチュエータの一部がバックリング運動可能な誘電体アクチュエータを開示している。アクチュエータ302,310,311の活性領域320は、リジッド境界フレーム図示省略の内側に固定されるので、周囲の部分321と弾性接触しない。当該固定は、接線方向の膨張を制限し、代わりにアクチュエータを面外にたわませ、バックリングの好適な方向は、不動態層301の存在によって決定される。当該タイプのアクチュエータは、比較的大きいたわみ振幅を達成できる一方、一般的に、鋭い端部を作り出すことができないため、触覚アプリケーションにとっては理想的でない。さらに、バックリングモードのアクチュエータは、矩形又は丸みを帯びた形状などの対称的な形状で最も優れた性能を発揮することが分かっており、従って、不規則過ぎる電極形状とは相性がよくない。本発明の目的は、これらの欠点を克服することであり、限られた範囲内でのみ面内において膨張しつつも比較的鋭い端部を作り出すための作動モードを有するアクチュエータを提供することである。他の目的は、かかるアクチュエータを製造するための効率的な方法を提供することである。本発明の第1の態様によれば、上記目的の少なくとも1つが、電気活性高分子EAP層と、EAP層の両側に配置された伸縮性電極構造とを有するアクチュエータによって達成される。上記電極構造は、柔軟性のシート、板、グリッド、アドレス可能なマトリクス、アドレス可能な点アレイなどの形状を有していてもよい。当該電極構造は、少なくともEAP層と同程度に柔らかいという意味で伸縮性を有する。より正確には、当該電極構造の弾性係数又はヤング係数Yel,1,Yel,2は、EAP層の弾性係数YEAPよりも小さいか、ほぼ同じである。異方性材料の場合、接線方向/面内の変形に対する弾性係数は、最も関連のある弾性係数である。本発明によれば、アクチュエータは、アクチュエータの一方の側即ち、伸縮性電極構造の一方に固定され、且つ、アクチュエータにより引っ張られることによって弾性的に変形可能な不動態層を更に有し、当該不動態層は、全ての接線方向において機械的に一様uniformである。アクチュエータへの不動態層の固定は、層間のせん断力を伝達することを主な目的としており、このため、特定の材料が、人工的な接着手段を用いて添加されてもよいが、材料の他の組み合わせの間の接着力は、2つの表面が接触されると直ぐに生じ得る。電極構造がEAP層の活性領域に対して電圧を印加すると、活性領域は、横断方向に縮み、活性領域が大きくなる傾向がある。アクチュエータの一方の側が機械的に一様なこの一様性は、全ての側面方向において制限されない拡張可能性及び収縮可能性を含む不動態層に固定されるため、アクチュエータは局部的な態様で変形する。より正確には、当該変形は、活性領域及び当該活性領域のごく周辺に局部的に集中するため、当該領域の内部は、元の位置にほぼ平行な向きを保ちながら面外へシフトされる。活性領域の境界及び境界周辺の区域は、厚さ方向においてある程度延びており、一般的には、積層板の面に対して非平行に配される。当該境界区域の曲げのおかげで、圧縮下のEAP層は、周囲の変形をほとんど伴わずに、平衡状態へ緩和され得る。換言すれば、電場によって誘発されるサイズ膨張は、活性領域に実質的に局部化され、当該サイズ膨張の大部分は、EAP層の面から外側へ向かう境界区域の膨張によって吸収される。以下ではダックモード変形と呼ばれる、当該態様で変形可能なアクチュエータを供給することによって、本発明は、第1の目的を果たす。特別な理論モデルを受け入れない場合、この局部化された面外変形を促進するメカニズムの1つは、全ての3次元方向におけるマクスウェルの応力が活性領域において生じるが活性領域を越えては生じないという事実であると考えられている。従って、電極端部が明確に定められた場合、鋭い端部がより容易に現れる。EAP層は、不動態層に隣接していない自由電極に向かってより容易に膨張し、従って、電場が印加される積層板の緩和形態の凸側上に位置されるであろう。本発明の利点は、小さいエネルギー消費で、有意な垂直振幅深いトポグラフィーを作り出すことにある。これは、厚み強化層を具備するストレッチモードのアクチュエータと比較して、より少量の材料が異動されるためである。これは、作動ストレッチモードのアクチュエータにおける厚み強化層が、緩和状態における厚みよりも小さい厚みを持つ形態へ変形されるという事実の結果である。強化層の両側は、互いに近づく。対照的に、本発明に従ったアクチュエータは、ほぼ単一の方向横断方向において境界区域を面外にシフトすることによってテクスチャ強化端部を作ることができるので、層の両側は互いにほぼ平行にずらされる。このため、本発明は、より低い局部的応力で動作しつつも、少なくとも触覚の観点から、比較に値するテクスチャ強化を達成するので、必要とされるピーク電圧が低くなり、ライフサイクルエネルギー消費が低減される。本発明の他の利点は、米国特許出願公開第2008/0289952号で開示されたタイプのアクチュエータと比較して、予歪みが与えられたprestrainedアクチュエータ薄膜の使用が必須でないということである。これは、製造を単純化する。予歪みは、ダックモード変形よりむしろ、ストレッチモード変形及び付随する隆起縁の形成に有利に働く。例えば、予歪みは、活性領域の境界周囲のEAP層を厚くすることに寄与し得る。さらに、他の利点は、接線方向において伸縮性を有する電極の使用が必須でないことであり、ダックモードでは、不動態層を接線方向に引き伸ばすことによってではなく、不動態層の一部が落ち込むことによって、端部が作られる。これは、設計者に対してより大きな自由度を提供する。特に、電極が安定して供給されるので、実質的に引き伸ばされない表面、反射面が、アクチュエータ上に直接的に配置され得る。より小さい曲げ剛性、即ち、より小さい剛性率及び厚みを有するアクチュエータ材料にとって、サイズ膨張は、通常、より局部化される。受動被覆passivecoatingの不均衡は、本発明の必須要素ではなく、ダックモード挙動の発生のための絶対条件ではない。むしろ、ダックモード挙動の発生は、積層板の全体的な構造における非対称性の存在によってもたらされる。例えば、二重の不動態層の一方が、比較的、横断方向により柔軟であり、これにより、二重の不動態層の一方の中へシフトする傾向のある活性領域を収容するのに適している場合、同様の挙動が、二重の不動態層によって囲まれたアクチュエータにおいて予期され得る。これと対照的に、テクスチャ強化されたストレッチモードの作動のためのデバイスは、大抵の場合、アクチュエータコアの両側に配置された同様の機械的特性を有する二重の不動態層を特徴とし、このため、デバイスの厚さ方向に亘ってほぼ対称な剛性勾配を保証することによって、曲げたわみが回避される。第2の態様では、本発明は、上記第1の態様に従ったアクチュエータを製造するための方法を提供する。当該方法によって、作り出されるアクチュエータは、概念的に、別個に作り出される2以上の副積層板へ分割される。各副積層板は、1又は複数の層を有し、直接製造によって、又は、作成済みの材料を得ることによって、できる限り並列な別個の手順で供給される。副積層板の準備後、副積層板は、アクチュエータを形成するために合わせられる。積層は、機械的圧縮、化学的接着、熱はんだ又は音響はんだ、ファンデルワールス力などによる表面の自発的な接着の使用、あるいは、当該技術において周知の他の積層方法などによって行なわれてもよい。本発明の第2の目的に関して、当該方法は、副積層板の少なくとも1つが、複数の接着された層を含み、熱処理又は放射線処理された成分、熱硬化又は化学硬化された組織、予め引き伸ばされたprestretched層、予め引き伸ばされたprestretched基板を被覆することによって製造された層、あるいは、時間のかかる態様で製造された又は汚染を回避するために少なくとも1つの他の製造ステップから物理的に分けて製造される必要のある他の任意の成分を有する場合、特に効率を改善する。ある実施形態では、アクチュエータは、EAP層と、EAP層の両側に配置された伸縮性電極構造と、アクチュエータの伸縮性電極構造の1つに直接固定された不動態層とを有する。このため、電極構造の1つのみが、EAP層と不動態層との間に挟まれる。これは、アクチュエータが所望のダックモードで変形することを可能とする。前述のように、不動態層及び/又はアクチュエータの接線方向の膨張能力が、アクチュエータ内に存在する硬い又はリジッドな要素によって抑圧される場合バックリングモードが、促進されるであろう。ある実施形態では、不動態層は、EAP層よりも厚い。かかる設計のアクチュエータは、ダックモードで変形することが証明されている。ある実施形態では、不動態層は、EAP層よりも柔らかい。換言すれば、不動態層の弾性係数Ypは、EAP層の弾性係数YEAPよりも小さい。比Yp/YEAPは、最大でも1.1であり、例えば最大でも1であり、例えば最大でも0.75であり、例えば最大でも0.5であり、例えば最大でも0.25であり、例えば最大でも0.1である。当該実施形態は、作動において目立ったダックモードの挙動を達成するために、前述の実施形態と好適に組み合わせられてもよい。ある実施形態では、不動態層は、最大でも0.5MPa、好ましくは最大でも0.4MPa、最も好ましくは最大でも約0.3MPaの接線弾性係数を持つ。当該実施形態は、ダックモードで変形することが証明されている。ある実施形態では、不動態層は、数GPaの接線弾性係数と1.5ミクロンの厚みとを有する上部層を持つ。当該実施形態は、ダックモードで変形することが証明されている。ある実施形態では、EAP層は、アクリル、ポリ[スチレン-b-エチレン-co-ブチレン-b-スチレン]、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、及び、シリコンゴムなどのシリコンから選択される少なくとも1つの材料を含む組成を有する。これらの材料は、EAP材料として、実証済みの好適な特性を持つ。一例を挙げると、これらの材料は、0.5と等しいか、又は、0.5に近いポアソン比を持ち、これは、ほぼ非圧縮性の挙動を保証し、これにより、接線方向の収縮が横断方向の膨張とともに起こり、また、この逆も起こる。特に、これらの材料は、前述の実施形態における不動態層と組み合わせられた場合、ダックモードで振る舞うことが実験的に分かっている。調整可能な反射器が、既に概説された実施形態における特徴と容易に組み合わせられ得る実施形態の他のグループを形成する。かかる実施形態の1つでは、不動態層は、光反射外面を持つ。反射面は、所定の波長範囲の電磁波を反射するように構成される。適切には、反射面は、測定又は画像化目的のために実質的に滑らかであるが、反射器が、ビーム操作、ビーム形成、熱放射の再方向付け、照明のための光集中などの目的で非画像化光学系として機能する場合、より粗い表面が適当である。反射器の形状は、積層板の電極間に印加される電圧を変えることによって調整可能であり、これは、かかる反射器が、幾つかの固定反射器と機能的に等価であることを意味する。特に、反射面の角度は、反射光線の形状特に、反射光線の伝搬方向が制御可能であるように調整され得る。この種類の調整可能な反射器は、例えば、球面又はパラボラ面などの凹面形状の上部表面を形成している、平らでない厚みを有する不動態層のおかげで、既に緩和状態にある曲線形を有していてもよい。上記の反射外面は、蒸着などによる被覆によって、反射粒子の混合などによる不動態層の直接染色によって、又は、反射材料のシートを不動態層上に固定することによって、設けられ得る。反射材料のシートは、適用される場合、好ましくは重合体である。反射材料のシートは、金属化されたポリエチレンテレフタレートなどの、金属化されたポリエステル薄膜であってもよい。特に、アルミニウム被覆されたMylar登録商標又はSteinerfilmが使用され得る。適切には、不動態層の上に配置された反射層は、不動態層の機械的特性に対して制限された影響を持つ。例えば、反射層は、ダックモードの挙動を制限しないように、曲げられる程度に柔軟である。ある実施形態では、調整可能な反射器は、アクチュエータの不動態層に設けられたテクスチャードパターン上に配置され、結果、テクスチャ化された反射器が実現される。アクチュエータの作動によって、反射器の形状ひいてはテクスチャードパターンが変化され得る。さらに、電極構造の形状は、反射器が、滑らかな形状となる非作動とテクスチャ化された形状となる作動との間で切り替えられることを可能とする。例えば、グリッド形状の電極構造は、反射器上に矩形の窪みのアレイを生じさせ得る。透明で、できれば屈折性のアクチュエータは、アクチュエータが、所定の波長範囲の入射させる少なくとも1つの透明な部分を有する実施形態の更に他のグループを形成する。上記アクチュエータは、完全に透明であってもよいし、又は、専用の透明領域を持っていてもよい。上記アクチュエータの作動によって、不動態層は、減衰、屈折領域の主要点の位置、屈折領域の焦点距離、偏光、及び、散乱を含む、修正された光学的特性を得るために変形する。ある実施形態では、不動態層は、屈折パターン又は屈折構造を有する。屈折パターンは、不動態層内に直接施された3次元パターンであってもよい。また、屈折パターンは、不動態層の上に取り付けられた、不動態層の屈折率とは異なる屈折率を持つ3次元の屈折体であってもよい。特に、当該屈折体は、球面レンズ又はフレネル型レンズなどのレンズであってもよい。前述の材料の1つが使用される場合、不動態層の適切な厚さは、10μmから5mmまでの範囲にあってもよいが、好ましくは1mmを超えない。なお、本発明は、請求項に記載の特徴の全ての可能な組み合わせに関することに留意すべきである。図4は、本発明の実施形態に従ったアクチュエータの断面図である。電気活性高分子EAP層402の両側に、EAP層402に電場を印加するための、前述した特性を有する第1の電極グリッド410及び第2の電極グリッド411が配置されている。適切な電極材料は、カーボンブラック、単層又は多層カーボンナノチューブ、グラフェン、及び、軟質金属を含む。例えば、光学デバイスなどの透明性が要求されるアプリケーションでは、電極は、グラフェン、ポリアニリンPANI、又は、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェンPEDOTで作られてもよい。電極410,411及びEAP層402は、アクチュエータコアを形成すると考えられている。当該アクチュエータは、アクチュエータコアの上側によって加えられたせん断力により作用されるために、第1の電極グリッド410に固定された不動態層401を更に有する。上記アクチュエータは、ゼロでない電場が、EAP層402を薄い形状、且つ、非圧縮性により、より大きな表面領域に変形させる作動状態で示されている。次いで、アクチュエータは、図示される形状へ緩和され、ここで、表面領域の増大の一部が、境界区域のEAP層402の平面から外側へ向かう伸長によって吸収される。電極グリッドの配置によって定められる活性領域の境界区域に沿って比較的鋭い角が目立っており、この角は、不動態層401の表面上に型押し模様エンボスパターンを生じさせる。図5は、本発明に従ったアクチュエータの他の実施形態の断面図である。EAP層502が、EAP層502の両側に配置され、且つ、電源ユニット510に接続された、アドレス可能な電極構造501,503を備えている。電極構造501,503は、各スイッチ511,513によって電圧源512の各極に個別に接続可能な舌形状の要素図示省略によって形成されてもよい。実施の際には、150Vから4000Vまでの範囲の電圧が電極に印加されてもよい。電極構造501,503の舌形状の要素は、特定の向きで配置されてもよく、結果、スイッチ511,513を然るべき位置に設定することによって、任意の2つの舌の投影が交差する領域に電圧が加えられる。図5に示されるアクチュエータは、不動態層504と、接着層505と、反射被覆506とを更に有し、上面507は、調整可能な形状を具備する反射器として機能し得る。図6は、図5のアクチュエータと幾つかの共通の特徴を有するアクチュエータの断面図である。1つの違いは、反射面606が、不動態層604上に固定された反射薄膜605によって形成されることである。好ましくは、異なるプロセスにおいて予め形成される、当該薄膜は、薄く、柔軟な高分子フォイルである。当該フォイルは、金属被覆されているか、又は、反射粒子を含んでいる。当該フォイルの厚さは、例えば、1.5μmであってもよい。前述のように、本願出願時においてMylar又はSteinerfilmとして販売されているフォイルが、本願の目的のために使用されてもよい。なお、これらの両方の種類のフォイルが、専用の接着手段を用いずに、Silastic登録商標によく接着することに留意すべきである。また、他の実施形態では、これらの種類のフォイルは、上記と同様にダックモードを引き起こすEAP層602に直接的に取り付けられ得る。最後に、本発明は、透明層を含むアクチュエータとして実現されてもよい。図7は、光学アプリケーションに適した屈折アクチュエータの断面図である。当該効果のため、EAP層702は、予め引き伸ばされていないnonprestretchedDowCorningNusil登録商標2186薄膜を含む。電極701,703は、EAP層702に塗布された、PEDOT:PSSポリ3,4-エチレンジオキシチオフェンポリスチレンスルホナートから作られ、ここで、湿潤が適切な界面活性剤によって維持される。モジュール式のフレネル型レンズ構造704は、適切なモールド上にDowCorningNusil2186をドロップキャスティングすることによって別個に作られ、次いで、アクチュエータに固定される。レンズ構造704の形状は、アクチュエータを局部的に変形させるアクチュエータの一部、とりわけ、活性領域と不動態領域との間の境界領域に電圧を印加することによって変えられ得る。当該技術の当業者は、本発明が、上記の好適な実施形態に決して限定されないことを理解する。一方、多くの修正及び変形が、添付の請求項の範囲内で可能である。例えば、本願に開示された実施形態は、材料を置き換えることによって、又は、他の層を加えることによって変形されてもよく、当該変形によっても、電圧を印加された場合、ダックモードのような挙動を示し得る。例これに限定されることはないが、本発明は、図5に示されるタイプのアクチュエータに関する例によって示されるであろう。まず、80μmの厚さのNusil登録商標CF2186の薄膜が、例えば、テフロン登録商標板などの接着防止板の上に、混合したての成分を載せるドクターブレード法によって作られた。積層板のEAP層を形成する、この層は、60°Cで1時間加熱することで硬化された。次に、伸縮性電極が、nヘプタンのカーボンブラック例えば、Monarch登録商標1000をパターン化されたスクリーンを通じてスクリーン印刷することによって、Nusil層の上に作られた。続いて、より厚くより柔らかい高分子例えば、Silasticが、EAP層及び電極の上に、成形又はドクターブレード法により作られた。空気中でSilasticが重合化された後、当該層は、アクチュエーション層の弾性係数よりも低い弾性係数を有するテクスチャ強化層として機能する不動態層を形成した。ここで、Silasticは、約0.3MPaの弾性係数を持つ一方、Nusilは、約1MPaの弾性係数を持つ。触覚アプリケーションでは、当該層の厚さは、好ましくは、100μmから5mmの間であった。より大きな柔軟度が好適である光学アプリケーションでは、当該層の厚さは、0.1μmと1mmとの間で選択された。最後に、反射面を生成するため、15nmのクロムが蒸着され、次いで、160nmのアルミニウムが施された。クロム層は、柔らかい不動態層と反射性のアルミニウムとの間の接着層として機能した。当該方法によって製造されたアクチュエータは、積層板の非対称性によって生じると考えられるダックモードで動作した。電場が印加される活性領域では、アクチュエータの表面が、例えば、非活性領域によって定められるアクチュエータの上面より下方に、最大で200μm落ち込んだ。当該作動は、よく定義された領域で発生した。アクチュエータが、印加された電圧に対して速やかに応答することが観測された。アクチュエータは、1秒間あたり1000作業サイクルを実行可能であった。上記の例は、以下の点について変形されてもよい。EAP層の厚さ:必要な駆動電圧を制限するため、一般的には、200μmより小さい厚みdpが好ましいが、80μmとほぼ等しいか、又は、80μmよりも小さいdpであってもよく、あるいは、40μmとほぼ等しいか、又は、40μmよりも小さいdpであってもよい。EAP材料の選択:代替材料としては、3M登録商標のVHB登録商標4905又は4910などのアクリル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、及び、Wacker登録商標のElastosil登録商標RT625、DowCorningのWL3010、WL5331、HS3、Sylgard登録商標186、184などの幾つかのシリコンゴムがある。電極の形成:代替手段としては、例えば、平ら、波形、パターン化された、又は、穴の開いた、様々な伸縮性の形状を持つ電極系を生成するために、適切にパターン化されたポリジメチルシロキサン判に付着した乾いたカーボンブラック粒子を付与したり、又は、できればイオン注入された金属材料を用いたりすることが含まれる。反射材料の選択:アルミニウムの代わりに、貴金属が反射金属として用いられてもよいし、クロムが、同様の弾性特性及び/又は付着性を有する金属層によって置き換えられてもよい。"