"角型ウエハから圧電振動片を製造する圧電振動片の製造方法であって、前記角型ウエハの一面に、前記圧電振動片の外形形成時のマスクとなるマスク材膜をスピンコート法により成膜するマスク材膜成膜工程を有し、前記マスク材膜成膜工程は、スピンチャックのウエハ保持部の上面に前記角型ウエハの他面を下方にして保持すると共に、前記ウエハ保持部の周囲に前記角型ウエハの前記他面に対向する整流板を配置し、前記角型ウエハと前記整流板との間を前記マスク材膜の溶剤を含む溶剤雰囲気下に保持することを特徴とする圧電振動片の製造方法。請求項1に記載の圧電振動片の製造方法であって、前記整流板の上面には、上方に向けて開放されるとともに、前記溶剤を貯留する貯留部が形成され、前記マスク材膜成膜工程では、前記貯留部内に貯留された前記溶剤を揮発させることで、前記角型ウエハの他面と前記整流板との間を前記溶剤雰囲気下に保持することを特徴とする圧電振動片の製造方法。請求項2に記載の圧電振動片の製造方法であって、前記マスク材膜成膜工程では、前記角型ウエハの前記他面と前記整流板の前記上面との間に前記整流板の径方向の内側から外側に向かって気流を発生させることを特徴とする圧電振動片の製造方法。請求項1に記載の圧電振動片の製造方法であって、前記角型ウエハと前記整流板との間に前記整流板の径方向の内側から外側に向かって気流を発生させると共に、その上流側から前記溶剤を前記気流に混在させることで、前記ウエハと前記整流板との間を前記溶剤雰囲気下に保持することを特徴とする圧電振動片の製造方法。請求項1から請求項4の何れか1項に記載の圧電振動片の製造方法であって、前記角型ウエハの前記一面に前記マスク材膜を成膜した後、前記角型ウエハ前記一面及び前記他面の表裏を反転させて、前記他面上に対して再度前記マスク材膜成膜工程を行うことを特徴とする圧電振動片の製造方法。請求項1から請求項5の何れか1項に記載の圧電振動片の製造方法であって、前記マスク材膜は、ゴム系材料からなるネガレジストであることを特徴とする圧電振動片の製造方法。角型ウエハの一面に、圧電振動片の外形形成時のマスク材膜をスピンコート法により成膜する際に使用する圧電振動片の製造装置であって、ウエハ保持部の上面で前記角型ウエハを保持して回転させるスピンチャックと、前記ウエハ保持部の周囲に配置され、前記角型ウエハの他面に対向する整流板と、前記角型ウエハと前記整流板との間を前記マスク材膜の溶剤を含む溶剤雰囲気下とする溶剤供給手段と、を備えていることを特徴とする圧電振動片の製造装置。しかしながら、一般的な半導体素子の製造には上述した特許文献1に記載された方法でよいが、圧電振動片の外形形成では、以下のような問題がある。半導体素子の製造では、通常丸型のウエハ650を使用するため、ウエハ650の外縁よりも径方向内側にフィン75を備えた整流板88を用いることで、乱流Fによる浮遊物のウエハ650の下方への回り込みをウエハ650の略全周にわたって抑制できる。これに対して、圧電振動片の外形形成では、通常圧電材料の原石からスライスされた角型のウエハ650を使用する場合がある。この場合、上述のような整流板88では、乱流による浮遊物のウエハ650の下方への回り込みを効果的に抑制できない。理由は以下のとおりである。角型のウエハ650は、回転中心からウエハ650の外縁までの距離が、全外縁に亘って一定となるように形成されていない。例えば、スピンチャック70の回転中心からウエハ650の角部における外縁までの距離と、スピンチャック70の回転中心からウエハ650の側辺中央における外縁までの距離と、が異なっている。このため、回転中心から全周にわたって同一距離を有するフィン75を備えた整流板88では、ウエハ650の角部下方への乱流Fの回り込みと、ウエハ650の側辺下方への乱流Fの回り込みとを同時に抑制することが困難である。さらに、例えば、フォトレジスト材にゴム系のネガレジストを用いた場合、ウエハ650の回転を用いてウエハ650の外周縁に向けて広がるフォトレジスト材は、ウエハ650の外周縁においてウエハ650の外方に向けて振り切られ、糸状の浮遊物以下、糸状浮遊物651となって飛散する。そして、この糸状浮遊物651は、上述した乱流Fの影響によりウエハ650の下面に回り込み、その後、整流板88のフィン75により塞き止められる。この状態が継続されると、フィン75上に糸状浮遊物651が堆積していき、綿飴状の堆積物となる。この場合、糸状浮遊物651や、その堆積物等以下、まとめて堆積物というがフィン75から離脱して、ウエハ650の下面に付着すると、フォトレジスト膜のうち、堆積物等が付着した部分と、それ以外の部分と、の間で膜厚ムラが発生するおそれがある。フォトレジスト膜のうち、膜厚が厚い部分堆積物等の付着部分では、その後フォトリソグラフィ技術により露光した際に、厚さ方向の全体を十分に硬化させることができない。この場合には、露光後の現像時において、膜厚が厚い部分の厚さ方向の全体が溶解される。これにより、フォトレジスト膜により形成されるレジスト膜パターンに表面欠陥が発生する。この表面欠陥を有するレジスト膜パターンをレジストマスクとして金属膜をエッチングすると、表面欠陥に対応した部分の金属膜がエッチングされてしまい、金属膜パターンに表面欠陥が転写される。さらに、表面欠陥が転写された金属膜パターンをメタルマスクとしてウエハをエッチングすると、表面欠陥に対応した部分のウエハ650がエッチングされてしまい、ウエハ650に形成された圧電振動片に表面欠陥が転写される。すなわち、ウエハ650の表面に塗布されたフォトレジスト膜のムラは、フォトレジスト膜のマスクの表面欠陥となり、圧電振動片の外形形成時の不良の原因となる。そこで本発明は、角型ウエハにマスク材膜を成膜する際の堆積物等の付着に起因する膜厚ムラを抑制できる圧電振動片の製造方法、圧電振動片の製造装置の提供を目的とする。上記の課題を解決するため、本発明の圧電振動片の製造方法は、角型ウエハから圧電振動片を製造する圧電振動片の製造方法であって、前記角型ウエハの一面に、前記圧電振動片の外形形成時のマスクとなるマスク材膜をスピンコート法により成膜するマスク材膜成膜工程を有し、前記マスク材膜成膜工程は、スピンチャックのウエハ保持部の上面に前記角型ウエハの他面を下方にして保持すると共に、前記ウエハ保持部の周囲に前記角型ウエハの前記他面に対向する整流板を配置し、前記角型ウエハと前記整流板との間を前記マスク材膜の溶剤を含む溶剤雰囲気下に保持することを特徴としている。本発明によれば、角型ウエハと整流板との間の空間を溶剤雰囲気に保持しているため、角型ウエハの他面側に回り込んだ上述した糸状浮遊物やその堆積物等の乾燥を抑え、溶かすことができる。そのため、堆積物がウエハの他面に付着するのを抑制できる。しかも、仮に角型ウエハの他面に堆積物等が付着したとしても、その堆積物等を早期に溶融して角型ウエハの他面に付着し難くすることができる。その結果、角型ウエハにマスク材膜を成膜する際の膜厚ムラを抑制し、圧電振動片の外形形成時の不良発生を抑制することができる。また、前記整流板の上面には、上方に向けて開放されるとともに、前記溶剤を貯留する貯留部が形成され、前記マスク材膜成膜工程では、前記貯留部内に貯留された前記溶剤を揮発させることで、前記角型ウエハの他面と前記整流板との間を前記溶剤雰囲気下に保持することを特徴としている。本発明によれば、整流板の貯留部内にレジスト溶剤を貯留することで、溶剤の噴霧装置等を別体で設けることなく、溶剤雰囲気を形成できるため、構成の簡素化を図ることができる。また、前記マスク材膜成膜工程では、前記角型ウエハの前記他面と前記整流板の前記上面との間に前記整流板の径方向の内側から外側に向かって気流を発生させることを特徴としている。本発明によれば、貯留部内の溶剤を効率的に揮発または飛散させることができる。これにより、溶剤雰囲気内の溶剤濃度を高めることができるので、角型ウエハの他面側に回り込んだ堆積物等の乾燥を確実に抑え、堆積物等を効率的に溶かすことができる。また、前記角型ウエハと前記整流板との間に前記整流板の径方向の内側から外側に向かって気流を発生させると共に、その上流側から前記溶剤を前記気流に混在させることで、前記ウエハと前記整流板との間を前記溶剤雰囲気下に保持することを特徴としている。本発明によれば、レジスト溶剤が混入された気流をウエハと整流板との間に供給するだけなので、成膜装置内の構成の複雑化を抑えて、ウエハと整流板との間に溶剤雰囲気を簡単に形成できる。また、前記角型ウエハの前記一面に前記マスク材膜を成膜した後、前記角型ウエハ前記一面及び前記他面の表裏を反転させて、前記他面上に対して再度前記マスク材膜成膜工程を行うことを特徴としている。圧電振動片の外形形成の場合、上述のように角型ウエハの全体を利用するため、両面にマスク材膜を成膜している。したがって、マスク材膜成膜前の他面に付着した堆積物等を研磨等では取り除くことができず、付着した堆積物等を除去するためリンス液の塗布やN2ブロー等の追加工程が必要になる。さらに、角型ウエハの表裏を反転した後、再度のマスク材膜成膜工程でマスク材膜を成膜する際、マスク材膜がすでに成膜された面に堆積物等が付着した場合には、付着した堆積物等を取り除くことは非常に困難である。これに対して、本発明によれば、整流板の上面と、マスク材膜の塗布面一面とは反対側の面他面と、の間を溶剤雰囲気に保持できるので、一面と他面とに関わらず、マスク材膜成膜工程における塗布面とは反対側の面への堆積物等の付着を抑制できる。このように、角型ウエハへの堆積物等の付着を確実に防止する本発明は、圧電振動片の外形形成において特に有効である。また、前記マスク材膜は、ゴム系材料からなるネガレジストであることを特徴としている。ゴム系材料からなるネガレジストは粘着性を有するため、上述した糸状浮遊物が発生し易いが、この発明によれば、糸状浮遊物が角型ウエハの他面に付着するのを確実に抑制できる。また、本発明の圧電振動片の製造装置は、角型ウエハの一面に、圧電振動片の外形形成時のマスク材膜をスピンコート法により成膜する際に使用する圧電振動片の製造装置であって、ウエハ保持部の上面で前記角型ウエハを保持して回転させるスピンチャックと、前記ウエハ保持部の周囲に配置され、前記角型ウエハの他面に対向する整流板と、前記角型ウエハと前記整流板との間を前記マスク材膜の溶剤を含む溶剤雰囲気下とする溶剤供給手段と、を備えていることを特徴としている。本発明によれば、角型ウエハと整流板との間の空間を溶剤雰囲気に保持できるため、角型ウエハの他面側に回り込んだ上述した糸状浮遊物やその堆積物等の乾燥を抑え、溶かすことができる。そのため、堆積物がウエハの他面に付着するのを抑制できる。しかも、仮に角型ウエハの他面に堆積物等が付着したとしても、その堆積物等を早期に溶融して角型ウエハの他面に付着し難くすることができる。その結果、角型ウエハにマスク材膜を成膜する際の膜厚ムラを抑制し、圧電振動片の外形形成時の不良発生を抑制することができる。本発明によれば、角型ウエハと整流板との間をレジスト溶剤を含む溶剤雰囲気下とすることにより、ウエハにマスク材膜を成膜する際の堆積物等の付着に起因する膜厚のムラを抑制できる。圧電振動片最初に、本発明の一実施形態に係る圧電振動片を、図面を参照して説明する。図1は、圧電振動片4の平面図である。図2は、図1のA-A線における断面図である。図1に示すように、本実施形態の圧電振動片4は、角型の水晶ウエハ以下角型ウエハという。から形成された音叉型の振動片であり、所定の電圧が印加されたときに振動するものである。この圧電振動片4は、平行に配置された一対の振動腕部10,11と、一対の振動腕部10,11の基端側を一体的に固定する基部12と、一対の振動腕部10,11の両主面上に形成された振動腕溝部18とを備えている。この振動腕溝部18は、振動腕部10,11の長手方向に沿って振動腕部10,11の基端側から略中間付近まで形成されている。圧電振動片4は、一対の振動腕部10,11の外表面上に形成されて一対の振動腕部10,11を振動させる第1の励振電極13及び第2の励振電極14からなる励振電極15と、圧電振動片4をパッケージに実装するために基部12に形成されたマウント電極16,17と、第1の励振電極13及び第2の励振電極14とマウント電極16,17とを電気的接続する引き出し電極19,20と、を有している。励振電極15及び引き出し電極19,20は、マウント電極16,17の下地層と同じ材料のクロムにより単層膜で形成されている。これにより、マウント電極16,17の下地層を成膜するのと同時に、励振電極15及び引き出し電極19,20を成膜することができる。ただし、この場合に限られず、例えば、ニッケルやアルミニウム、チタン等により励振電極15及び引き出し電極19,20を成膜しても構わない。励振電極15は、一対の振動腕部10,11を互いに接近又は離間する方向に所定の共振周波数で振動させる電極である。励振電極15を構成する第1の励振電極13及び第2の励振電極14は、一対の振動腕部10,11の外表面に、それぞれ電気的に切り離された状態でパターニングされて形成されている図2参照。また、第1の励振電極13及び第2の励振電極14は、基部12の両主面上において、それぞれ引き出し電極19,20を介して、マウント電極16,17に電気的に接続されている。マウント電極16,17は、クロムと金との積層膜であり、水晶と密着性の良いクロム膜を下地層として成膜した後に、表面に金の薄膜を仕上げ層として成膜することにより形成される。ただし、この場合に限られず、例えば、クロムとニクロムを下地層として成膜した後に、表面にさらに金の薄膜を仕上げ層として成膜しても構わない。一対の振動腕部10,11の先端には、所定の周波数の範囲内で振動するように調整周波数調整を行うための重り金属膜21が被膜されている。この重り金属膜21は、周波数を粗く調整する際に使用される粗調膜21aと、微小に調整する際に使用される微調膜21bとに分かれている。これら粗調膜21a及び微調膜21bを利用して周波数調整を行うことで、一対の振動腕部10,11の周波数をデバイスの公称周波数の範囲内に収めることができる。圧電振動片の製造方法次に、上述した圧電振動片4の製造工程について、フローチャートを参照しながら以下に説明する。図3は、圧電振動片4の製造工程のフローチャートである。圧電振動片4の製造工程は、角型ウエハ65図4参照に圧電振動片4の外形を形成する外形形成工程S110と、圧電振動片4の振動腕溝部18図2参照となる凹部を形成する振動腕溝部形成工程S130と、各電極を形成する電極等形成工程S140と、圧電振動片4を角型ウエハ65から切り出す個片化工程S150と、を備えている。以下に各工程の詳細を説明する。外形形成工程S110、角型ウエハ図4は、角型ウエハ65の説明図である。本実施形態の圧電振動片4は、角型ウエハ65から形成される。角型ウエハ65は、直方体形状の水晶等の圧電材料の原石を薄く平板状に切断することにより、平面視略長方状に形成される。角型ウエハ65の外縁66は、長辺66aと、短辺66bと、長辺66aと短辺66bとにより形成される角部を面取りした斜辺66cとにより形成されている。外形形成工程S110は、角型ウエハ65の表面に金属膜を成膜する金属膜成膜工程S111と、後述するスピンチャック70図5参照に角型ウエハ65をセットする角型ウエハセット工程S112と、後述するフォトレジスト材85図5参照からなるフォトレジスト膜マスク材膜85a図6B、図7A,B参照を角型ウエハ65上に成膜するフォトレジスト膜成膜工程マスク材膜成膜工程S113と、を有している。さらに、フォトレジスト膜85aからフォトリソグラフィ技術によって後述するレジスト膜パターン85b図7B参照を形成するレジスト膜パターン形成工程S114と、レジスト膜パターン85bをマスクとして後述する金属膜84をエッチングし金属膜パターン84c図7C参照を形成する金属膜パターン形成工程S115と、金属膜パターン84cをマスクとして角型ウエハ65をエッチングする角型ウエハエッチング工程S116と、を有している。金属膜成膜工程S111図6は、角型ウエハ65の断面を示しており、図6Aは金属膜成膜工程S111の説明図である。まず、図6Aに示すように、金属膜成膜工程S111では、ポリッシングが終了し所定の厚みに高精度に仕上げられた角型ウエハ65の両面65a,65bに金属膜84を成膜する。金属膜84は、例えば、クロム等からなる下地膜84aと、金等からなる保護膜84bと、の積層膜であり、それぞれスパッタリング法や蒸着法等により成膜される。なお、金属膜成膜工程S111で成膜された金属膜84は、後の角型ウエハエッチング工程S116、及び振動腕溝部形成工程S130において、角型ウエハ65をエッチングする際のメタルマスクとなる。成膜装置図5は、成膜装置60の側面断面図である。次に、図5に示すように、成膜装置圧電振動片の製造装置60を構成するスピンチャック70に、角型ウエハ65をセットする角型ウエハセット工程S112を行う。以下では、まず成膜装置60を説明した後に、角型ウエハセット工程S112を説明する。なお、図5では、図面を分かりやすくするために、角型ウエハ65の両面65a,65bに成膜された金属膜84の図示を省略している。また、整流板88の構成は説明の便宜上、誇張して図示している。また、以下の説明では、角型ウエハ65の両面65a,65bのうち、角型ウエハセット工程S112で最初に上方に配置された面を第1面一面65aとし、下方に配置された面を第2面他面65bとして説明する。成膜装置60は、角型ウエハ65を保持して回転させるスピンチャック70と、スピンチャック70の周囲に配置される整流部材90と、スピンチャック70及び整流部材90の外側を覆うコータカップ81と、角型ウエハ65に向けてフォトレジスト材85を滴下するノズル79と、を備えている。スピンチャックスピンチャック70は、角型ウエハ65を保持するウエハ保持部72と、ウエハ保持部72からスピンチャック70の回転中心Kに沿って下方に延設された支柱部76と、を備えている。ウエハ保持部72及び支柱部76は、例えば樹脂や金属等により形成される。ウエハ保持部72は、平面視で略円形状をした板状部材である。ウエハ保持部72の直径は、角型ウエハ65の対向する長辺66a間の離間距離よりも小径に形成される。このようにウエハ保持部72を形成することで、ウエハ保持部72に角型ウエハ65を載置した際、ウエハ保持部72の上面72a全体を角型ウエハ65の第2面65bに当接させることができる。なお、ウエハ保持部72の上面72aには、図示しない複数の吸引孔が全面に亘って形成されている。これら吸引孔は、ウエハ保持部72内及び支柱部76に形成された図示しない吸引通路を介して、不図示の真空ポンプに接続されている。そして、真空ポンプで真空引きすることにより、角型ウエハ65は、ウエハ保持部72に負圧吸着されてウエハ保持部72の上面72aに保持される。支柱部76は、中空の円柱状部材であり、ウエハ保持部72と同軸で延設されるとともに、ウエハ保持部72と一体的に形成されている。また、支柱部76は、不図示のモータに接続されている。そして、モータが回転駆動することにより、スピンチャック70の全体が回転中心Kを中心に回転する。なお、整流部材90は、スピンチャック70とは離間して形成されており回転はしない。コータカップコータカップ81は、スピンチャック70及び整流部材90を側方及び下方から囲繞するように形成されている。コータカップ81の下部には、不図示の吸引ポンプと連通する排気口83が設けられており、コータカップ81の内部が吸引ポンプにより吸引されることで、コータカップ81の内部が負圧となるように構成されている。そのため、角型ウエハ65のうち、フォトレジスト材85が塗布される塗布面例えば、第1面65aから飛散したフォトレジスト材85のミストは、排気口83からコータカップ81の外部に排出されるようになっている。整流部材整流部材90は、スピンチャック70のウエハ保持部72の下方に離間状態で配置された整流板88と、整流板88を支持する整流板支柱部89と、を備えている。整流板88は、略円盤状の部材であり、例えばアルミ等の金属により形成される。整流板88の直径は、回転中心Kから角型ウエハ65の外縁66までの最長距離よりも大径に形成されており、角型ウエハ65の外縁66よりも外側に張り出している。整流板88の外周縁部には、外周に向うほど下方に向かって傾斜する傾斜面88cを有するように下面88bからリブ状に突出する傾斜周壁部88dが形成されている。上述した排気口83は、この傾斜周壁部88dよりも内周側で下面88bと上下に対向している。また、整流板88における径方向の中央部には、上述した回転中心Kに沿って開口する開口部95が形成され、この開口部95の内側にスピンチャック70における支柱部76の上端部が配設されている。なお、図示の例では、開口部95の内径はウエハ保持部72の外径と同等に形成されている。これにより、整流板88の上面88aのうち開口部95よりも外側の外周部分と、角型ウエハ65における塗布面と反対側の面例えば、第2面65bのうちウエハ保持部72よりも外側の外周部分と、が上下方向で対向して配置されている。整流板支柱部89は、整流板88における開口部95の内周縁から回転中心Kに沿う下方に沿って延設されている。整流板支柱部89は中空に形成されており、その内部にスピンチャック70における支柱部76が遊挿されている。この場合、整流板支柱部89の内周面と、支柱部76の外周面と、の間にはスペースが形成され、上述した開口部95を介してコータカップ81内における整流板88の上面88a側に連通している。本実施形態では、上述したスペースは、不図示のガス供給手段溶剤供給手段から供給される窒素ガス等の不活性ガスや、ドライエアー等により発生する気流Gが流通するバックブロー用の気流通路96として機能している。すなわち、気流Gは、気流通路96内を下方から上方に向かって流通し、整流板88の開口部95からコータカップ81内における整流板88と角型ウエハ65との間に送出される。その後、気流Gは、整流板88の上面88aと角型ウエハ65の第2面65bとの間の空間Sを、径方向の内側から外側に向かって放射状に流通する。整流板88の上面88aには、回転中心Kを中心として、同心円状の複数本実施形態では2本の内周側突起91、及び外周側突起92が形成されている。内周側突起91は、整流板88の上面88aのうち、内周縁寄りの部分から上方に向けて突出しており、整流板88の全周に亘って環状に形成されている。本実施形態において、内周側突起91の上端縁は、ウエハ保持部72の下端面よりも上方に位置しており、支柱部76の上端部及びウエハ保持部72の下端部を外側から囲繞している。また、外周側突起92は、整流板88の上面88aのうち、内周側突起91の外側に位置する部分から上方に向けて突出しており、内周側突起91の全周を外側から囲繞する環状に形成されている。具体的に、外周側突起92は、整流板88のうち径方向の中央部から外周側に向けて上向き傾斜しており、その上端縁が内周側突起91の上端縁と同等の位置に配置されている。ここで、内周側突起91と外周側突起92との間は貯留部溶剤供給手段93となっている。この貯留部93には、レジスト溶剤溶剤94が貯留されている。なお、レジスト溶剤94には、キシレンやエチルベンゼン等が用いられている。本実施形態において、貯留部93内に貯留されたレジスト溶剤94は、上述した気流通路96から送出される気流Gにより揮発または飛散されることで、上述した整流板88の上面88aと角型ウエハ65の第2面65bとの間の空間Sをレジスト溶剤94の溶剤雰囲気に保持できるようになっている。ノズル79は、スピンチャック70の上方でスピンチャック70の回転中心Kと同軸で延在しており、その供給口不図示が下方に向けて開口している。ノズル79は、不図示の供給源から供給されたフォトレジスト材85を、供給口から回転中心K方向に沿う下方に向けて滴下する。角型ウエハセット工程S112このように構成された成膜装置60のスピンチャック70に、金属膜84図6参照が成膜された角型ウエハ65をセットする角型ウエハセット工程S112を行う。角型ウエハセット工程S112では、スピンチャック70のウエハ保持部72に、角型ウエハ65をセットする。具体的には、角型ウエハ65の下方を向く第2面65bと、ウエハ保持部72の上面72aとを当接させ、ウエハ保持部72の上面72aに角型ウエハ65を載置する。角型ウエハ65の第2面65bとウエハ保持部72の上面72aとの間には、不図示の位置決め機構が設けられており、角型ウエハ65の中心軸が、スピンチャック70の回転中心Kと略一致するように載置される。そして、不図示の真空ポンプで真空引きをしてウエハ保持部72により角型ウエハ65の第2面65bを真空吸着して、ウエハ保持部72に角型ウエハ65を固定する。フォトレジスト膜成膜工程S113図6Bはフォトレジスト膜成膜工程S113の説明図である。続いて、図5,6Bに示すように、角型ウエハ65上にフォトレジスト材85をスピンコート法により塗布し、角型ウエハ65にフォトレジスト膜85aを成膜するフォトレジスト膜成膜工程S113を行う。なお、フォトレジスト膜成膜工程S113は、大気中にて行われる。また、本実施形態で塗布されるフォトレジスト材85は、露光された部分が硬化して現像時に残存する、いわゆるネガレジスト材であり、例えば感光性材料からなる環化イソプレン等のゴム系ネガレジスト材が好適に用いられている。フォトレジスト膜成膜工程S113では、不図示のモータを回転駆動させ、スピンチャック70及び角型ウエハ65を高速回転させる。また、ガス供給手段から、窒素ガス等の不活性ガスやドライエアー等を供給し、気流通路96内に気流Gを流通させる。すると、気流Gは、整流板88の開口部95からコータカップ81内における整流板88と角型ウエハ65との間に送出され、その後、整流板88の上面88aと角型ウエハ65の第2面65bとの間の空間Sを、径方向の内側から外側に向かって放射状に流通する。上述した空間Sを気流Gが流通する際、貯留部93内に貯留されたレジスト溶剤94が揮発または飛散することで、空間Sがレジスト溶剤94の溶剤雰囲気に保持される。そして、回転中心Kに沿って角型ウエハ65の上方に配置されたノズル79から、角型ウエハ65における第1面65aの中央部に向かってフォトレジスト材85を滴下する。滴下されたフォトレジスト材85が角型ウエハ65の第1面65aに付着すると、遠心力によって、角型ウエハ65の略中央から外縁66に向かって薄膜状に広がる。これにより、角型ウエハ65の第1面65aにフォトレジスト膜85aが成膜される。ここで、角型ウエハ65の高速回転により乱流Fが発生すると、その乱流Fは角型ウエハ65の下方において径方向の外側から径方向の内側に向かって入り込もうとする。このとき、角型ウエハ65の外縁66において、角型ウエハ65の外方に向けて振り切られたフォトレジスト材85の浮遊物例えば、上述した糸状浮遊物651うち、一部の浮遊物は整流板88の傾斜面88cに沿って下方に案内され、その後コータカップ81の排気口83から成膜装置60の外部に排出される。一方、角型ウエハ65の外方に向けて振り切られたフォトレジスト材85の浮遊物うち、その他の浮遊物は上述した乱流Fの影響により角型ウエハ65の第2面65b側に回り込もうとする。このとき、外周側突起92は、径方向の外側から内側へ向かう乱流Fを滞留させる壁となっている。そのため、角型ウエハ65の第2面65b側に回り込もうとする浮遊物は、外周側突起92により塞き止められ、外周側突起92よりも内側への回り込みが抑制されている。ところで、外周側突起92により塞き止められた浮遊物は、外周側突起92上に堆積していき、綿飴状の堆積物となる。この場合、上述したように浮遊物糸状浮遊物651や、その堆積物等が外周側突起92から離脱して、角型ウエハ65の第2面65b側に付着するおそれがある。これに対して、本実施形態では、角型ウエハ65の第2面65bと整流板88の上面88aとの間の空間Sを溶剤雰囲気に保持しているため、糸状浮遊物651やその堆積物等の空間Sでの乾燥を抑え、溶かすことができる。そのため、堆積物が角型ウエハ65の第2面65bに付着するのを抑制できる。なお、溶剤雰囲気で溶かされた堆積物等は、貯留部93内のレジスト溶剤94内に混入されたり、排気口83から成膜装置60の外部に排出されたりする。また、本実施形態では、上述した空間Sに、径方向の内側から径方向の外側に向かって、放射状に気流Gを発生させているため、径方向の外側から角型ウエハ65の第2面65b側に回り込もうとする乱流Fを押し戻して乱流Fの回り込みを抑制できる。その後、角型ウエハ65の第1面65a上にフォトレジスト材85が塗布された状態で、角型ウエハ65をプリベークして乾燥させることで、角型ウエハ65の第1面65a上にフォトレジスト膜85aが形成される。続いて、角型ウエハ65の第1面65aにフォトレジスト膜85aを成膜した後、角型ウエハ65の第1面65a及び第2面65bの表裏を反転させ、角型ウエハ65の第2面一面65bに対して、上述した方法と同様の方法により再度フォトレジスト膜成膜工程S113を行う。なお、この際、第1面他面65aへのフォトレジスト膜85aの成膜時と、第2面65bへのフォトレジスト膜85aの成膜時と、で気流Gの圧力を異ならせる等しても良い。ところで、角型ウエハ65のように、両面65a,65b上にフォトレジスト膜85aを成膜する場合、特に、第1面65a上にフォトレジスト膜85aを成膜した後に第2面65b上にフォトレジスト材85を塗布する場合、糸状浮遊物651やその堆積物が第1面65a側のフォトレジスト膜85aに付着し易くなる。これに対して、第2面65b上にフォトレジスト膜85aを成膜する場合には、角型ウエハ65の第1面65aと整流板88との間の空間Sが溶剤雰囲気下に保持されるので、糸状浮遊物651やその堆積物が角型ウエハ65の第1面65aに付着するのを抑制できる。なお、角型ウエハ65の第2面65b側にフォトレジスト膜85aを成膜する場合、第1面65a側はプリベーク後のフォトレジスト膜85aが成膜された状態で溶剤雰囲気に晒されることになる。しかしながら、本実施形態の溶剤雰囲気では、レジスト溶剤94で直接満たされている訳ではなく、貯留部93から揮発または飛散してレジスト溶剤94を含む気流Gによって満たされている。そのため、溶剤雰囲気のレジスト溶剤94の濃度は、堆積物等の乾燥を抑えて十分に溶かせる一方、第1面65a上に形成されたフォトレジスト膜85aが溶かされるおそれがない程度に保たれている。したがって、第1面65a上に既に成膜されたフォトレジスト膜85aが溶かされて欠損するおそれはない。その後、角型ウエハ65の第2面65b上にフォトレジスト材85が塗布された状態で、角型ウエハ65をプリベークして乾燥させることで、角型ウエハ65の第2面65b上にもフォトレジスト膜85aが形成される。以上により、角型ウエハ65の第1面65a及び第2面65bにフォトレジスト膜85aが成膜される。レジスト膜パターン形成工程S114図7Aは、レジスト膜パターン形成工程S114の説明図である。次に、図7Aに示すように、金属膜84に重ねて成膜したフォトレジスト膜85aをフォトリソグラフィ技術によりパターニングするレジスト膜パターン形成工程S114を行う。フォトマスク86は、ガラス等の光透過性を有するフォト基板87の主面87a上に、クロム等の遮光性を有する遮光膜パターン87bが形成されたものである。遮光膜パターン87bは、フォトレジスト膜85aをパターニングするためのものであり、フォト基板87の主面87a上において、圧電振動片4の外形に相当する領域を除く領域に形成されている。レジスト膜パターン形成工程S114では、フォトマスク86を角型ウエハ65の両面65a,65b上にセットし、紫外線Rを照射して露光を行う。上述のとおり、本実施形態のフォトレジスト材85は、紫外線が露光された領域のフォトレジスト膜85aが硬化するネガレジスト材を用いている。したがって、露光後、現像液に浸漬した際、紫外線が露光されず硬化していない領域のフォトレジスト膜85aのみが選択的に除去される。すなわち、現像後の金属膜84上には、圧電振動片4図1参照の外形形状に倣ってフォトレジスト膜85aが残存した状態のレジスト膜パターン85bが複数形成される図7B参照。金属膜パターン形成工程S115図7Bは、金属膜パターン形成工程S115の説明図である。次に、残存したフォトレジスト膜85aのレジスト膜パターン85bをレジストマスクとして、金属膜成膜工程S111で成膜した金属膜84をパターニングする金属膜パターン形成工程S115を行う。本工程では、レジスト膜パターン85bによりマスクされていない金属膜84を選択的にエッチングにより除去する。その後、レジスト膜パターン85bを除去する。これにより、角型ウエハ65の第1面65a及び第2面65b上には、圧電振動片4の外形に対応した金属膜パターン84cが形成される。角型ウエハエッチング工程S116図7Cは、角型ウエハエッチング工程S116の説明図である。図7Cは、エッチング後の角型ウエハ65の説明図である。次に、図7Cに示すように、金属膜パターン84cをメタルマスクとして、角型ウエハ65の両面65a,65bから角型ウエハ65をエッチングする角型ウエハエッチング工程S116を行う。これにより、金属膜パターン84cでマスクされていない領域を選択的に除去し、圧電振動片4の外形形状を有する圧電板4a図8参照を形成できる。なお、図8に示すように、各圧電板4aはエッチング後の角型ウエハ65と連結部4bにより連結されている。以上で、外形形成工程S110が終了する。振動腕溝部形成工程S130次に、各圧電板4aに後の振動腕溝部18図1参照となる凹部を形成する振動腕溝部形成工程S130を行う。具体的には、各圧電板4aの表面に、スプレーコート法等によりフォトレジスト膜不図示を成膜し、フォトリソグラフィ技術によってフォトレジスト膜をパターニングする。続いて、レジスト膜パターンをレジストマスクとして金属膜84のエッチング加工を行い、振動腕溝部18の形成領域を空けた状態で金属膜84をパターニングする。そして、この金属膜84をメタルマスクとして角型ウエハ65をエッチングした後、金属膜84を除去することで、各圧電板4aの主面上に振動腕溝部18を形成できる。以上で、振動腕溝部形成工程S130が終了する。電極等形成工程S140次に、圧電振動片4の外形形状に形成された圧電板4aの外表面に電極等を形成する電極等形成工程S140を行う。電極等形成工程S140では、まず、金属膜の成膜及びパターニングを行って、励振電極15、引き出し電極19,20、マウント電極16,17及び重り金属膜21いずれも図1参照を形成する。次に、圧電板4aの共振周波数の粗調を行う。重り金属膜21の粗調膜21aにレーザ光を照射して一部を蒸発させ、振動腕部10,11の重量を変化させることで行う。以上で、電極等形成工程S140が終了する。個片化工程S150最後に、図9に示すように、角型ウエハ65と各圧電板4aとを連結していた連結部4bを切断して、複数の圧電振動片4を角型ウエハ65から切り離して個片化する個片化工程S150を行う。これにより、1枚の角型ウエハ65から、音叉型の圧電振動片4を一度に複数製造することができる。この時点で、圧電振動片4の製造工程が終了し、圧電振動片4を複数得ることができる。効果本実施形態では、フォトレジスト膜成膜工程S113において、角型ウエハ65と整流板88との間を、レジスト溶剤94を含む溶剤雰囲気下に保持する構成とした。この構成によれば、角型ウエハ65のうち、塗布面とは反対側例えば、第2面65b側に回り込んだ糸状浮遊物651やその堆積物等の乾燥を抑え、堆積物等を溶かすことができる。そのため、堆積物等が角型ウエハ65の第2面65bに付着するのを抑制できる。しかも、仮に角型ウエハ65の第2面65bに堆積物等が付着したとしても、その堆積物等を早期に溶融して角型ウエハ65の第2面65bに付着し難くすることができる。その結果、角型ウエハ65にフォトレジスト膜85aを成膜する際の膜厚ムラを抑制し、圧電振動片4の外形形成時の不良発生を抑制することができる。さらに、本実施形態では、整流板88の貯留部93内にレジスト溶剤94を貯留することで、レジスト溶剤94の噴霧装置等を別体で設けることなく、溶剤雰囲気を形成できるため、構成の簡素化を図ることができる。この場合、角型ウエハ65の第2面65bと整流板88の上面88aとの間の空間Sに整流板88の径方向の内側から外側に向かって放射状に気流Gを発生させてフォトレジスト膜成膜工程S113を行うことで、貯留部93内のレジスト溶剤94を効率的に揮発または飛散させることができる。これにより、溶剤雰囲気内の溶剤濃度を高めることができるので、角型ウエハ65の第2面65b側に回り込んだ堆積物等の乾燥を確実に抑え、堆積物等を効率的に溶かすことができる。また、ゴム系材料からなるネガレジストは粘着性を有するため、上述した糸状浮遊物651が発生し易いが、本実施形態によれば、糸状浮遊物651やその堆積物が角型ウエハ65の第2面65bに付着するのを確実に抑制できる。ここで、半導体デバイスを製造する場合、半導体基板の表面本実施形態の第1面65aに相当のみにレジストパターンを形成し、半導体基板の表面のみを利用することが多い。このため、半導体基板の裏面本実施形態の第2面65bに相当に付着した堆積物は、後工程において取り除くことができる。これに対して、圧電振動片4の外形形成の場合、上述のように角型ウエハ65の全体を利用するため、第1面65a及び第2面65bにフォトレジスト膜85aを成膜している。したがって、フォトレジスト膜85a成膜前の第2面65bに付着した堆積物等を研磨では取り除くことができず、付着した堆積物等を除去するためリンス液の塗布やN2ブロー等の追加工程が必要になる。さらに、角型ウエハ65を反転させた後、再度のフォトレジスト膜成膜工程S113で第2面65bにフォトレジスト膜85aを成膜する際、フォトレジスト膜85aがすでに成膜された第1面65aに堆積物等が付着した場合には、付着した堆積物等を取り除くことは非常に困難である。しかし、本実施形態によれば、整流板88の上面88aと、フォトレジスト材85の塗布面とは反対側の面と、の間を溶剤雰囲気に保持できるので、第1面65aと第2面65bとに関わらず、フォトレジスト膜成膜工程S113における塗布面とは反対側の面への堆積物等の付着を抑制できる。このように、角型ウエハ65への堆積物等の付着を確実に防止する本件発明は、圧電振動片4の外形形成において特に有効である。また、本実施形態によれば、上記製造方法によりフォトレジスト膜85aの膜厚ムラを抑制して、圧電振動片4を精度よく形成できる。したがって、外形不良により廃棄される圧電振動片4が減少するので、圧電振動片4の低コスト化ができる。なお、上述した実施形態では、内周側突起91と外周側突起92との間の貯留部93内にレジスト溶剤94を貯留する構成について説明したが、これに限らず、貯留部93が整流板88の上面に対して窪んでいても構わない。さらに、上述した実施形態では、貯留部93を整流板88の全周に亘って形成する構成について説明したが、これに限らず、周方向に間欠的に形成しても構わない。また、整流板88の径方向に間隔をあけて複数の貯留部93を形成しても構わない。また、上述した実施形態では、貯留部93内のレジスト溶剤94をガス供給手段から供給される気流Gにより、積極的に揮発または飛散させる構成について説明したが、ガス供給手段は設けなくても構わない。また、ガス供給手段から供給される気流Gの流量を調整することにより、溶剤雰囲気でのレジスト溶剤94の濃度を調整する等しても構わない。変形例図9は、変形例の成膜装置を示す側面断面図である。上述した実施形態では、貯留部93にレジスト溶剤94を貯留することで、溶剤雰囲気を形成した場合について説明したが、これに限らず、上述した気流Gにレジスト溶剤94を混入することで溶剤雰囲気を形成することも可能である。具体的には、図9に示すように、本変形例の溶剤供給手段97は、コータカップ81の外部にレジスト溶剤94が充填された貯留タンク98を備え、この貯留タンク98が上述した不図示のガス供給手段に接続されている。そして、溶剤供給手段97では、ガス供給手段から供給される気流Gに貯留タンク98内のレジスト溶剤94を混入しながら、気流通路内にレジスト溶剤94を含んだ気流Gを流通させることで、角型ウエハ65と整流板88との間の空間Sに溶剤雰囲気を形成できる。この構成によれば、レジスト溶剤94が混入された気流Gを角型ウエハ65と整流板88との間に供給するだけなので、成膜装置60内の構成の複雑化を抑えて、角型ウエハ65と整流板88との間に溶剤雰囲気を簡単に形成できる。なお、例えば、第1面65aへのフォトレジスト材85によるフォトレジスト膜85aを成膜する際と、第2面65bへのフォトレジスト材85によるフォトレジスト膜85aを成膜する際と、で気流Gに混入するレジスト溶剤94の量を調整する等してもよい。例えば、堆積物等が付着しやすい第2面65bへのフォトレジスト膜85aの成膜する際には、第1面65aへのフォトレジスト膜85aを成膜する際よりも気流Gに混入するレジスト溶剤94の量を多くする、若しくは、第2面65bへのフォトレジスト膜85aの成膜時にのみレジスト溶剤94を気流Gに混入する等といった濃度調整が可能である。さらに、レジスト溶剤94を気流Gに混入するタイミングを調整することで、角型ウエハ65と整流板88との間のレジスト溶剤94による雰囲気環境の調整をすることも可能である。例えば、第1面65aへのフォトレジスト膜85aの成膜時に気流Gにレジスト溶剤94を混入するタイミングと、第2面65bへのフォトレジスト膜85aの成膜時に気流Gにレジスト溶剤94を混入するタイミングと、をそれぞれ調整間隔調整する等してもよい。この際、第1面65aへのフォトレジスト膜85aの成膜時に気流Gにレジスト溶剤94を混入する時間と、第2面65bへの第1面65aへのフォトレジスト膜85aの成膜時に気流Gにレジスト溶剤94を混入する時間と、をそれぞれ調整する等してもよい。圧電振動子次に、上述した製造方法により製造された圧電振動片4を備えたパッケージ9として、圧電振動子1について説明する。図10は、圧電振動子1の外観斜視図である。図11Aは、圧電振動子1の内部構成図であって、リッド基板3を取り外した状態の平面図である。図11Bは、図11AのB-B線における断面図である。図12は、図10に示す圧電振動子1の分解斜視図である。なお、図12においては、図面を見易くするために後述する励振電極13,14、引き出し電極19,20、マウント電極16,17及び重り金属膜21の図示を省略している。図10,11に示すように、本実施形態の圧電振動子1は、ベース基板2及びリッド基板3が接合膜35を介して陽極接合されたパッケージ9と、パッケージ9のキャビティ3aに収納された圧電振動片4と、を備えた表面実装型の圧電振動子1である。図11Bに示すように、ベース基板2及びリッド基板3は、ガラス材料、例えばソーダ石灰ガラスからなる陽極接合可能な基板であり、略板状に形成されている。リッド基板3におけるベース基板2との接合面側には、圧電振動片4を収容するキャビティ3aが形成されている。ベース基板2には、ベース基板2を厚さ方向に貫通し、キャビティ3aの内側と外側とを導通させる貫通電極32,33が形成されている。貫通電極32,33は、ベース基板2を貫通する貫通孔30,31内に配置され、圧電振動片4と外部とを電気的に接続する金属ピン7と、貫通孔30,31と金属ピン7との間に充填される筒体6と、により形成されている。なお、以下には貫通電極32を例にして説明するが、貫通電極33についても同様である。また、貫通電極33、引き回し電極37及び外部電極39の電気的接続についても、貫通電極32、引き回し電極36及び外部電極39と同様となっている。貫通孔30は、ベース基板2の上面U側から下面L側にかけて、内径が次第に大きくなるように形成されており、貫通孔30の中心軸を含む断面形状がテーパ状となるように形成されている。金属ピン7は、銀やニッケル合金、アルミニウム等の金属材料により形成された導電性の棒状部材であり、鍛造やプレス加工により成型される。金属ピン7は、線膨張係数がベース基板2のガラス材料と近い金属、例えば、鉄を58重量パーセント、ニッケルを42重量パーセント含有する合金42アロイで形成することが望ましい。筒体6は、ペースト状のガラスフリットが焼成されたものである。筒体6の中心には、金属ピン7が筒体6を貫通するように配されており、筒体6は、金属ピン7及び貫通孔30に対して強固に固着している。図12に示すように、ベース基板2の上面U側には、一対の引き回し電極36,37がパターニングされている。また、これら一対の引き回し電極36,37上にそれぞれ金等からなるバンプBが形成されており、これらバンプBを利用して圧電振動片4の一対のマウント電極16,17が実装されている。これにより、圧電振動片4の一方のマウント電極17図11A参照が、一方の引き回し電極36を介して一方の貫通電極32に導通し、他方のマウント電極16図11A参照が、他方の引き回し電極37を介して他方の貫通電極33に導通するようになっている。ベース基板2の下面Lには、一対の外部電極38,39が形成されている。一対の外部電極38,39は、ベース基板2の長手方向の両端部に形成され、一対の貫通電極32,33に対してそれぞれ電気的に接続されている。このように構成された圧電振動子1を作動させる場合には、ベース基板2に形成された外部電極38,39に対して、所定の駆動電圧を印加する。これにより、圧電振動片4の第1の励振電極13及び第2の励振電極14に電圧を印加できるので、一対の振動腕部10,11を接近離間させる方向に所定の周波数で振動させることができる。そして、この一対の振動腕部10,11の振動を利用して、時刻源や制御信号のタイミング源、リファレンス信号源等として利用できる。本実施形態によれば、上述した低コストな圧電振動片4を備えているので、低コストな圧電振動子1を得ることができる。発振器次に、本発明に係る発振器の一実施形態について、図13を参照しながら説明する。本実施形態の発振器110は、図13に示すように、圧電振動子1を、集積回路111に電気的に接続された発振子として構成したものである。この発振器110は、コンデンサ等の電子素子部品112が実装された基板113を備えている。基板113には、発振器用の前記集積回路111が実装されており、この集積回路111の近傍に、圧電振動子1の圧電振動片が実装されている。これら電子素子部品112、集積回路111及び圧電振動子1は、図示しない配線パターンによってそれぞれ電気的に接続されている。なお、各構成部品は、図示しない樹脂によりモールドされている。このように構成された発振器110において、圧電振動子1に電圧を印加すると、圧電振動子1内の圧電振動片が振動する。この振動は、圧電振動片が有する圧電特性により電気信号に変換されて、集積回路111に電気信号として入力される。入力された電気信号は、集積回路111によって各種処理がなされ、周波数信号として出力される。これにより、圧電振動子1が発振子として機能する。また、集積回路111の構成を、例えば、RTCリアルタイムクロックモジュール等を要求に応じて選択的に設定することで、時計用単機能発振器等の他、当該機器や外部機器の動作日や時刻を制御したり、時刻やカレンダー等を提供したりする機能を付加できる。本実施形態の発振器110によれば、低コストな圧電振動子1を備えているので、低コストな発振器110を提供できる。電子機器次に、本発明に係る電子機器の一実施形態について、図14を参照して説明する。なお電子機器として、前述した圧電振動子1を有する携帯情報機器120を例にして説明する。始めに本実施形態の携帯情報機器120は、例えば、携帯電話に代表されるものであり、従来技術における腕時計を発展、改良したものである。外観は腕時計に類似し、文字盤に相当する部分に液晶ディスプレイを配し、この画面上に現在の時刻等を表示させることができるものである。また、通信機として利用する場合には、手首から外し、バンドの内側部分に内蔵されたスピーカ及びマイクロフォンによって、従来技術の携帯電話と同様の通信を行うことが可能である。しかしながら、従来の携帯電話と比較して、格段に小型化及び軽量化されている。次に、本実施形態の携帯情報機器120の構成について説明する。この携帯情報機器120は、図14に示すように、圧電振動子1と、電力を供給するための電源部121とを備えている。電源部121は、例えば、リチウム二次電池からなっている。この電源部121には、各種制御を行う制御部122と、時刻等のカウントを行う計時部123と、外部との通信を行う通信部124と、各種情報を表示する表示部125と、それぞれの機能部の電圧を検出する電圧検出部126とが並列に接続されている。そして、電源部121によって、各機能部に電力が供給されるようになっている。制御部122は、各機能部を制御して音声データの送信や受信、現在時刻の計測、表示等、システム全体の動作制御を行う。また、制御部122は、予めプログラムが書き込まれたROMと、該ROMに書き込まれたプログラムを読み出して実行するCPUと、該CPUのワークエリアとして使用されるRAM等とを備えている。計時部123は、発振回路やレジスタ回路、カウンタ回路、インターフェース回路等を内蔵する集積回路と、圧電振動子1とを備えている。圧電振動子1に電圧を印加すると圧電振動片4が振動し、該振動が水晶の有する圧電特性により電気信号に変換されて、発振回路に電気信号として入力される。発振回路の出力は二値化され、レジスタ回路とカウンタ回路とにより計数される。そして、インターフェース回路を介して、制御部122と信号の送受信が行われ、表示部125に、現在時刻や現在日付或いはカレンダー情報等が表示される。通信部124は、従来の携帯電話と同様の機能を有し、無線部127、音声処理部128、切替部129、増幅部130、音声入出力部131、電話番号入力部132、着信音発生部133及び呼制御メモリ部134を備えている。無線部127は、音声データ等の各種データを、アンテナ135を介して基地局と送受信のやりとりを行う。音声処理部128は、無線部127又は増幅部130から入力された音声信号を符号化及び複号化する。増幅部130は、音声処理部128又は音声入出力部131から入力された信号を、所定のレベルまで増幅する。音声入出力部131は、スピーカやマイクロフォン等からなり、着信音や受話音声を拡声したり、音声を集音したりする。また、着信音発生部133は、基地局からの呼び出しに応じて着信音を生成する。切替部129は、着信時に限って、音声処理部128に接続されている増幅部130を着信音発生部133に切り替えることによって、着信音発生部133において生成された着信音が増幅部130を介して音声入出力部131に出力される。なお、呼制御メモリ部134は、通信の発着呼制御に係るプログラムを格納する。また、電話番号入力部132は、例えば、0から9の番号キー及びその他のキーを備えており、これら番号キー等を押下することにより、通話先の電話番号等が入力される。電圧検出部126は、電源部121によって制御部122等の各機能部に対して加えられている電圧が、所定の値を下回った場合に、その電圧降下を検出して制御部122に通知する。このときの所定の電圧値は、通信部124を安定して動作させるために必要な最低限の電圧として予め設定されている値であり、例えば、3V程度となる。電圧検出部126から電圧降下の通知を受けた制御部122は、無線部127、音声処理部128、切替部129及び着信音発生部133の動作を禁止する。特に、消費電力の大きな無線部127の動作停止は、必須となる。更に、表示部125に、通信部124が電池残量の不足により使用不能になった旨が表示される。すなわち、電圧検出部126と制御部122とによって、通信部124の動作を禁止し、その旨を表示部125に表示できる。この表示は、文字メッセージであっても良いが、より直感的な表示として、表示部125の表示面の上部に表示された電話アイコンに、×バツ印を付けるようにしても良い。なお、通信部124の機能に係る部分の電源を、選択的に遮断できる電源遮断部136を備えることで、通信部124の機能をより確実に停止できる。本実施形態の携帯情報機器120によれば、低コストな圧電振動子1を備えているので、低コストな携帯情報機器120を提供できる。電波時計次に、本発明に係る電波時計の一実施形態について、図15を参照して説明する。本実施形態の電波時計140は、図15に示すように、フィルタ部141に電気的に接続された圧電振動子1を備えたものであり、時計情報を含む標準の電波を受信して、正確な時刻に自動修正して表示する機能を備えた時計である。日本国内には、福島県40kHzと佐賀県60kHzとに、標準の電波を送信する送信所送信局があり、それぞれ標準電波を送信している。40kHz若しくは60kHzのような長波は、地表を伝播する性質と、電離層と地表とを反射しながら伝播する性質とを併せもつため、伝播範囲が広く、前述した2つの送信所で日本国内を全て網羅している。以下、電波時計140の機能的構成について詳細に説明する。アンテナ142は、40kHz若しくは60kHzの長波の標準電波を受信する。長波の標準電波は、タイムコードと呼ばれる時刻情報を、40kHz若しくは60kHzの搬送波にAM変調をかけたものである。受信された長波の標準電波は、アンプ143によって増幅され、複数の圧電振動子1を有するフィルタ部141によって濾波、同調される。本実施形態における圧電振動子1は、前記搬送周波数と同一の40kHz及び60kHzの共振周波数を有する水晶振動子部148、149をそれぞれ備えている。更に、濾波された所定周波数の信号は、検波、整流回路144により検波復調される。続いて、波形整形回路145を介してタイムコードが取り出され、CPU146でカウントされる。CPU146では、現在の年や積算日、曜日、時刻等の情報を読み取る。読み取られた情報は、RTC147に反映され、正確な時刻情報が表示される。搬送波は、40kHz若しくは60kHzであるから、水晶振動子部148、149は、前述した音叉型の構造を持つ振動子が好適である。なお、前述の説明は、日本国内の例で示したが、長波の標準電波の周波数は、海外では異なっている。例えば、ドイツでは77.5KHzの標準電波が用いられている。従って、海外でも対応可能な電波時計140を携帯機器に組み込む場合には、さらに日本の場合とは異なる周波数の圧電振動子1を必要とする。本実施形態の電波時計140によれば、低コストな圧電振動子1を備えているので、低コストな電波時計140を提供できる。なお、この発明は上述した実施の形態に限られるものではない。本実施形態の圧電振動片4の製造方法では、音叉型の圧電振動片4を製造しているが、本発明の製造方法により製造される圧電振動片4は音叉型に限られず、例えば、ATカット型の圧電振動片厚み滑り振動片であってもよい。また、本発明の製造方法により、圧電振動片以外の電子部品を製造してもよい。本実施形態の圧電振動片4の製造方法では、フォトレジスト材85を成膜しているが、フォトレジスト膜85a以外のマスク材膜を成膜してもよい。また、フォトレジスト材85としてネガレジスト材を用いているが、フォトレジスト材85はネガレジスト材に限られず、ポジレジスト材を用いてもよい。"