"5,000~300,000の分子量Mwを有するポリカーボネートを含むポリマー;キャリア溶媒;及びフラックス剤;を含むTFUポリマー組成物。フラックス剤が、ホルムアルデヒド、ギ酸、2-ニトロ安息香酸、マロン酸、クエン酸、リンゴ酸、及びコハク酸から選択される、請求項1に記載のポリマー組成物。フラックス剤がギ酸である、請求項2に記載のポリマー組成物。ポリカーボネートが、ポリアルキレンカーボネート、或いは立体特異性ノルボルナンジオール及び/又はジメタノールモノマーから形成されるポリマーから選択される、請求項1に記載のポリマー組成物。立体特異性ノルボルナンジオール及び/又はジメタノールモノマーから形成されるポリマーが、エキソ-エキソ-2,3-ポリノルボルナンジメチルカーボネート及びエンド-エンド-2,3-ポリノルボルナンジメチルカーボネートポリマー、1,3-ポリシクロヘキシルカーボネート及びエンド-エキソ-2,3-ポリノルボルナンジメチルカーボネートポリマー、ポリイソソルビルカーボネート及びトランス-2,3-ポリノルボルナンジメチルカーボネートポリマーの1つである、請求項4に記載のポリマー組成物。ポリマーが、式I~XVによって表されるノルボルナンジオールモノマー、ノルボルナンジメタノールモノマー、及びジオールモノマーから誘導される繰り返し単位を含む、請求項1に記載のポリマー組成物。ポリマーがポリマー組成物の15~80重量である、請求項1に記載のポリマー組成物。ギ酸が、ポリマーの全重量を基準として組成物の0.5~10.0重量を構成する、請求項7に記載のポリマー組成物。キャリア溶媒が、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、γ-ブチロラクトンGBL、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、アニソール、アセトン、メチル3-メトキシプロピオネート、テトラヒドロフランTHF、及びこれらの混合物から選択される、請求項1に記載のポリマー組成物。キャリア溶媒がGBLである、請求項9に記載のポリマー組成物。第1の表面上に配置された第1のコンタクト領域を有する第1の基板を与え;第2の表面上に配置された第2のコンタクト領域を有する第2の基板を与え;第1のコンタクト領域の1以上又は第2のコンタクト領域の1以上の上に配置されたハンダプリフォームを与え;ハンダプリフォームの上に重なってそれを封入するTFUポリマーの層を形成し;第1の基板の第1の表面を第2の基板の第2の表面に接触させ、ここで、TFUポリマーの層をその間に配置し、第1のコンタクト領域を第2のコンタクト領域と整列させ、組立前構造物を形成し;そして組立前構造物を、1ハンダプリフォームによって、第1のコンタクト領域の1以上を第2のコンタクト領域の1以上に物理的及び電気的に結合し;及び2第1及び第2の基板に物理的に結合しているポリマーアンダーフィルを形成する;のに有効な温度に加熱する;ことを含む、マイクロエレクトロニクス部品アセンブリを形成する方法。ハンダプリフォームの上に重なってそれを封入するTFUポリマーの層を形成することが、コンタクトパッドの上に配置されているハンダボールを有するマイクロエレクトロニクスデバイスの活性表面の上に重なっているかかる層を形成することを含む、請求項11に記載の方法。0008本明細書において用いる冠詞a、an、及びtheは、明確に且つ明白に1つの指示物に限定していない限り複数の指示物を含む。0009本明細書において用いる基又は複数の基という用語は、化合物及び/又は代表的な化学構造/式に関して用いる場合には、1以上の原子の配列を意味する。0010本明細書において用いる重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mnのようなポリマーの分子量の値は、ポリスチレン標準試料を用いるゲル透過クロマトグラフィーによって求める。0011本明細書において用いる多分散指数PDIの値は、ポリマーの数平均分子量Mnに対する重量平均分子量Mwの比即ちMw/Mnを表す。0012本明細書において用いるポリマーのガラス転移温度Tgの値は、他に示さない限りにおいて、AmericanSocietyforTestingandMaterialsASTM法D3418にしたがって示差走査熱量測定法によって求める。0013本明細書において用いるポリマーの分解温度Tdは、他に示さない限りにおいて、10°C/分の加熱速度での熱重量分析ポリマーの具体的な重量パーセント重量が分解したことを求めるによって求められる温度である。Td5、Td50、及びTd95の用語は、5重量、50重量、及び95重量が分解した温度を示す。0014他に示さない限りにおいて、本明細書において開示されている全ての範囲又は比は、その中に包含されるありとあらゆる部分範囲又は部分比を含むと理解すべきである。例えば、1~10の規定されている範囲又は比は、1の最小値と10の最大値との間及びそれらを含めるのありとあらゆる部分範囲、即ち、1~6.1、3.5~7.8、及び5.5~10などしかしながらこれらに限定されないの、1以上の最小値で始まり、10以下の最大値で終わる全ての部分範囲又は部分比を包含すると考えるべきである。0015運転実施例においては、他に示さない限りにおいて、本明細書及び特許請求の範囲において用いる、成分の量、反応条件等を表す全ての数は、全ての場合において、かかる値を求める際に付き物の不確実さを考慮して用語約によって修飾されていると理解すべきである。0016ポリプロピレンカーボネートのようなポリマーは周知であり、上述の‘134特許及び‘515出願の両方において、かかるポリマーは有効なタッキング剤であることが教示されている。しかしながら、かかるポリプロピレンカーボネートはまた、200°C~280°Cの範囲の温度において熱分解を受けることも知られており、而して、タッキング剤、フラックス剤になることができ、且つアンダーフィルを与えることができる材料が所望の場合においては問題である可能性がある。これは、ハンダ相互接合を形成するために無鉛ハンダ材料を用いる場合には特に言えることである。これは、無鉛ハンダは一般に通常用いられる含鉛ハンダよりも30~40°C高い融点範囲を有するからである。例えば、通常用いられるSn60Pb40ハンダ合金は183~190°Cの融点範囲を有し、一方、下記に与える実施例において用いるSn99.3Cu0.7は227°Cにおいて溶融する。0017本発明による幾つかのポリマーの態様は、立体特異性ノルボルナンジオール及び/又はジメタノールモノマーから形成されるポリマーを包含し、一方、他のポリマーの態様は適当なアルキレンカーボネートモノマー並びに上述のノルボルナンジオール及び/又はジメタノールモノマーから誘導されるポリマーを包含する。有利には、幾つかのかかるポリマーの態様は280°Cより高いTd50を有し、一方、他のかかるポリマーの態様は310°Cより高いTd50を有し、更に他のかかるポリマーの態様は340°Cより高いTd50を有する。更に、幾つかのかかるノルボルナンジオール及び/又はジメタノールを含むポリマーの態様は5,000~300,000の範囲の分子量Mwを有し、他のかかる態様は25,000~200,000、更に他のかかる態様は40,000~185,000の範囲のMwを有する。0018上述の立体特異性ノルボルナンジオール及び/又はジメタノールモノマーの幾つかは、下式A、B、又はC:によって表され、これらから選択される。0019式A、B、及びCのそれぞれに関して、nは、独立して0、1、又は2であり;R1、R2、R3、及びR4のそれぞれは、独立して、水素、又は限定なしに1~25個の炭素原子を含むヒドロカルビル基から選択され;R5及びR6のそれぞれは、独立して-CH2p-OHここで、pは、0、1、2、又は3であるから選択され;X及びX’のそれぞれは、独立して、-CH2-、-CH2-CH2-、及び-O-から選択され、ここで、それぞれのX’は、存在する場合にはXの配向と同じか又は反対に配向している。本発明による幾つかの態様に関しては、R5及びR6の少なくとも1つに関して、pは1、2、又は3である。0020本明細書において用いるヒドロカルビルという用語、及びヒドロカルビル基のような同様の用語は、炭素及び場合によっては水素を含む基のラジカルを意味し、非限定的な例は、アルキル、シクロアルキル、ポリシクロアルキル、アリール、アラルキル、アルカリール、アルケニル、シクロアルケニル、ポリシクロアルケニル、アルキニル、シクロアルキニル、及びポリシクロアルキニルである。本明細書において用いるハロヒドロカルビルという用語は、炭素に共有結合している少なくとも1つの水素がハロゲンによって置き換えられているヒドロカルビル基を意味する。本明細書において用いるペルハロカルビルという用語は、全てのかかる水素がハロゲンによって置き換えられているヒドロカルビル基を意味する。更に、本明細書において用いるヘテロヒドロカルビルという用語は、少なくとも1つの炭素原子が、酸素、窒素、及び/又はイオウのようなヘテロ原子で置き換えられているヒドロカルビル基を意味する。0021本明細書において用いるアルキルという用語は、C1~C25の炭素鎖の長さを有する線状又は分岐の非環式又は環式の飽和炭化水素基を意味する。好適なアルキル基の非限定的な例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イソカニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、及びシクロオクチルが挙げられる。本明細書において用いるヘテロシクロアルキルという用語は、環式環の1以上の炭素が、酸素、窒素、及び/又はイオウのようなヘテロ原子で置き換えられているシクロアルキル基を意味する。代表的なヘテロシクロアルキル基としては、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、モルホリニル、及びピペリジニルが挙げられるが、これらに限定されない。0022本明細書において用いるアリールという用語は、限定なしに、フェニル、ビフェニル、ベンジル、キシリル、ナフタレニル、アントラセニルなどの芳香族基を意味する。本明細書において用いるヘテロアリールという用語は、1つ又は複数の芳香環の1以上の炭素が、酸素、窒素、及び/又はイオウのようなヘテロ原子で置き換えられているアリール基を意味する。代表的なヘテロアリール基としては、フラニル、ピラニル、及びピリジニルが挙げられるが、これらに限定されない。0023アルカリール及びアラルキルという用語は、本明細書においては互換的に用いられ、少なくとも1つのアリール基、例えばフェニルで置換されており、C1~C25のアルキル炭素鎖の長さを有する線状又は分岐の非環式アルキル基を意味する。上記の非環式アルキル基はハロアルキル又はペルハロアルキル基であってよいことが更に理解されるであろう。0024本明細書において用いるアルケニルという用語は、1以上の二重結合を有し、C2~C25のアルケニル炭素鎖の長さを有する線状又は分岐の非環式又は環式炭化水素基を意味する。アルケニル基の非限定的な例としては、中でも、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデセニル、及びイソセニルが挙げられる。0025本明細書において用いるアルキニルという用語は、1以上の炭素-炭素三重結合を有し、C2~C25のアルキニル炭素鎖の長さを有する線状又は分岐の非環式又は環式炭化水素基を意味する。代表的なアルキニル基としては、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、ペンチニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル、ウンデシニル、ドデシニル、トリデシニル、テトラデシニル、ペンタデシニル、ヘキサデシニル、ヘプタデシニル、オクタデシニル、ノナデシニル、イソシニルが挙げられるが、これらに限定されない。0026本明細書において用いる線状又は分岐アルキルのような線状又は分岐の基という記述は、メチレン基、線状C2~C25アルキル基のような線状である基、及び分岐C3~C25アルキル基のような適当に分岐している基を含むと理解されるであろう。0027式A、B、及びCに関して、それぞれのX基は頁の外へ上向きに伸びるものとして示される。式Aに関しては、R5及びR6はそれぞれ頁の外へ上向きに伸びるものとして示され、それ自体は互いに対してシスであり、X基に対してエキソである。したがって、式Aは多環式シス-エキソ2,3-ジオールモノマーと呼ばれる。式Bに関しては、R5及びR6はそれぞれ頁の中へ下向きに伸びるものとして示され、それ自体は互いに対してシスであり、X基に対してエンドである。したがって、式Bは多環式シス-エンド2,3-ジオールモノマーと呼ばれる。式Cに関しては、R5は頁の外へ上向きに伸びるものとして示され、X基に対してエキソであり、R6は頁の中へ下向きに伸びるものとして示され、X基に対してエンドであり、互いに対してトランスである。したがって、式Cは、多環式エンド/エキソ2,3-ジオールモノマー、又は多環式トランス2,3-ジオールモノマーと呼ばれる。0028本発明の更なる態様に関しては、式A、B、及びCのそれぞれに関して、nは0であり;R1~R4の3つはそれぞれ水素であり;R1~R4の1つは、独立して、アルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、及びアラルキルから選択され、Xに対してエキソ配向している。例示の目的のために、n=0である場合には、Xは-CH2-であり、R1、R2、及びR3は、それぞれ水素であり、R4は、Xに対してエキソの非水素基であり、R5及びR6は、それぞれ-CH2OHであり、式A、B、及びCは、下式A1、B1、及びC1によって表すことができる。0029式A1、B1、及びC1のそれぞれに関し、R4は、それぞれの場合において独立して、例えばR1~R4に関して本明細書において上記に記載した種類及び例のものなどしかしながらこれらに限定されないのヒドロカルビル基から選択することができる。0030他の有用なジオールモノマーとしては、次式D、E、及びFによって表される多環式ジオールモノマーが挙げられる。0031式D、E、及びFによって表されるそれぞれの更なる多環式ジオールモノマーに関して独立して、mは0、1、又は2であり;Z及びZ’は、それぞれ独立して、-CH2-、-CH2-CH2-、及び-O-から選択され;Zは-CH-であり;R7、R8、R9、及びR10は、それぞれの場合において独立して、水素及びヒドロカルビル基から選択され;R11及びR12は、それぞれの場合において独立して、-CH2p-OHここで、R11及びR12に関しては、pはそれぞれの場合において独立して、0、1、2、又は3から選択されるから選択され;それぞれのZ’は、存在する場合には、それぞれZ又はZの配向と同じか又は反対に配向している。0032式D、E、及びFに関して、それぞれのZ基及びZ基は頁の外へ上向きに伸びるように示される。式Dに関しては、それぞれのZ’は、存在する場合には、それぞれのmに関して独立して、Zの配向に対して同じか又は反対の配向を有する。式E及びFに関しては、それぞれのZ’は、存在する場合には、それぞれのmに関して独立して、Zの配向に対して同じか又は反対の配向を有する。0033それからR7~R10をそれぞれ独立して選択することができるヒドロカルビル基としては、本明細書において上記に列記した種類及び例のものが挙げられるが、これらに限定されない。式D~Fのそれぞれに関し、本発明の幾つかの態様においては、R7~R10の少なくとも1つは、アルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、及びアラルキルから独立して選択される基であり、かかる非水素基からは選択されない他の1つ又は複数のR7~R10基は、存在する場合にはそれぞれ水素である。それからR7~R10のそれぞれを選択することができるアルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、及びアラルキル基の例としては、R1~R4に関して本明細書において上記に列記した種類及び例のものが挙げられるが、これらに限定されない。0034更なる幾つかの態様においては、式D~Fのそれぞれに関し、mは0であり;R7~R10の3つはそれぞれ水素であり;R7~R10の1つは、独立して、アルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、及びアラルキルから選択され、Z又はZに対してエキソ配向している。例示の目的で、m=0の場合には、Zは-CH2-であり、R7、R8、及びR9はそれぞれ水素であり、R10は非水素エキソ基であり、R11及びR12はそれぞれ、式Dに関しては-CH2OHであり、式E及びFに関しては-OHであり、式D~Fは、次式:D1、E1、及びF1によって表すことができる。更なる例示の目的で、m=0の場合には、Zは-CH2-であり、R8、R9、及びR10はそれぞれ水素であり、R7は非水素エキソ基であり、R11及びR12はそれぞれ、式Dに関しては-CH2OHであり、式E及びFに関しては-OHであり、式D~Fは、次式:D1’、E1’、及びF1’によって表すことができる。具体的に示していない限りにおいて、ここで示す全ての式は、そのエナンチオマー及びジアステレオマー類縁体を含むことが理解されるであろう。0035更に他のジオールモノマーとしては、次式Gによって表される多環式ジオールモノマーが挙げられる。0036式Gによって表される多環式ジオールに関しては、Z、R11及びR12は、それぞれ式E~Fに関して本明細書において上記に記載したものである。0037更なるジオールモノマーとしては、次式I~XIIによって表される環式ジオールモノマーが挙げられる。0038式X及びXIIに関しては、R13は、独立して、C1~C6線状アルキル又はC3~C6分岐アルキルなどしかしながらこれらに限定されないのC1~C6アルキルから選択される。0039更なる随意的なポリオールモノマーとしては、2、3、又は4つのヒドロキシル基などしかしながらこれらに限定されないの2つ以上のヒドロキシル基を有するヒドロカルビルが挙げられるが、これらに限定されない。随意的なジオールモノマーの例としては、1,2-エチレンジオール、1,3-プロピレンジオール、及び1,2-プロピレンジオールのようなC1~C25の線状又は分岐アルキレンジオール;並びに、ジ、トリ、テトラ、及びより高級のエチレングリコール、ジ、トリ、テトラ、及びより高級のプロピレングリコールのようなポリアルキレングリコール;が挙げられるが、これらに限定されない。2つより多いヒドロキシル基を有する随意的なポリオールモノマーは、通常は、ヒドロキシル官能性モノマーの全モルを基準として10モル未満、又は5モル未満などしかしながらこれらに限定されないの少量で存在させる。2つより多いヒドロキシル基を有するポリオールモノマーの例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、及びジトリメチロールプロパンが挙げられるが、これらに限定されない。幾つかの態様に関しては、ポリカーボネートポリマーは2つより多いヒドロキシル基を有するポリオールモノマーからは誘導されない。0040式A、B、及びCによって表される多環式2,3-ジオールモノマーは、下記に示す合成式1~6において示されるような当該技術において認められている方法によって製造することができる。0041非限定的な例示の目的で、式Aによって表される多環式シス-エキソ2,3-ジオールモノマーは、下記の合成式1ここでは、nは0であり、R1~R4はそれぞれ水素であり、Xは-CH2-であり、R5及びR6はそれぞれ-CH2OHであるにしたがって製造することができる。0042合成式1を参照すると、エンド-2,3-ノルボルネンジカルボン酸無水物エンド-ナジック酸無水物とも呼ばれる1aを、140~210°Cの温度に、溶融後15分間乃至24時間のような十分な時間曝露し、続いて酢酸エチル又はトルエンからの2回以上の再結晶のような繰り返し再結晶を行って、エキソ-2,3-ノルボルネンジカルボン酸無水物エキソ-ナジック酸無水物とも呼ばれる1bを形成する。水素ガスH2、多孔質炭素上に担持されているパラジウム触媒Pd/C、及び酢酸エチルEtOAcの存在下でシス-エキソ-ナジック酸無水物1bを水素化して、エキソ-2,3-ノルボルナンジカルボン酸無水物1cを形成させる。水素化リチウムアルミニウムLiAlH4及びエチルエーテルEt2Oの存在下でエキソ-2,3-ノルボルナンジカルボン酸無水物1cを還元して、シス-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノールA2を形成させる。0043更なる非限定的な例示の目的で、式Bによって表される多環式シス-エンド2,3-ジオールモノマーは、下記の合成式2ここでは、nは0であり、R1~R4はそれぞれ水素であり、Xは-CH2-であり、R5及びR6はそれぞれ-CH2OHであるにしたがって製造することができる。0044合成式2を参照すると、シス-エンド-2,3-ノルボルネンジカルボン酸無水物エンド-ナジック酸無水物とも呼ばれる1aを、水素ガスH2、多孔質炭素上に担持されているパラジウム触媒Pd/C、及び酢酸エチルEtOAcの存在下で水素化して、エンド-2,3-ノルボルナンジカルボン酸無水物2aを形成させる。水素化リチウムアルミニウムLiAlH4及びエチルエーテルEt2Oの存在下でエンド-2,3-ノルボルナンジカルボン酸無水物2aを還元して、シス-エンド-2,3-ノルボルナンジメタノールB2を形成させる。0045式Cによって表される多環式エンド-エキソ-2,3-ジオールモノマーは、非限定的な例示の目的で与える下記の合成式3ここでは、nは0であり、R1~R4はそれぞれ水素であり、Xは-CH2-であり、R5及びR6はそれぞれ-CH2OHであるにしたがって製造することができる。0046合成式3を参照すると、シクロペンタジエン3aとフマル酸ジエチル3bを、0°Cのような低下した温度においてディールスアルダー反応によって一緒に反応させて、エンド-エキソ-2,3-ノルボルネンビスエチルカルボキシレート3cを形成する。水素ガスH2、多孔質炭素上のパラジウム触媒Pd/C、及び酢酸エチルEtOAcの存在下でエンド-エキソ-2,3-ノルボルネンビスエチルカルボキシレート3cを水素化して、エンド-エキソ-2,3-ノルボルナンビスエチルカルボキシレート3dを形成させる。水素化リチウムアルミニウムLiAlH4及びエチルエーテルEt2Oの存在下でエンド-エキソ-2,3-ノルボルナンビスエチルカルボキシレート3dを還元して、エキソ-エンド-2,3-ノルボルナンジメタノールC2を形成させる。0047式Aによって表される多環式シス-エキソ-2,3-ジオールモノマーは、非限定的な例示の目的で与える下記の合成式4ここでは、nは0であり、R1~R4はそれぞれ水素であり、Xは-CH2-であり、R5は-OHであり、R6は-CH2OHであるにしたがって製造することができる。0048合成式4を参照すると、無水酢酸Ac2O及び触媒量の硫酸H2SO4の存在下で、ヘキサヒドロ-4H-5,8-メタノベンゾ[d]-エキソ-[1,3]ジオキサン4aを、シス-エキソ-3-アセトキシノルボルン-2-イルメチルアセテート4b及びシス-エキソ-3-アセトキシノルボルン-2-イルメトキシメチルアセテート4cに転化させる。中間体4b及び4cを、水及び触媒量の水酸化ナトリウムNaOHの存在下で、シス-エキソ-3-ヒドロキシルメチルノルボルナン-2-イルA3に転化させる。0049式Bによって表される多環式シス-エンド-2,3-ジオールモノマーは、非限定的な例示の目的で与える下記の合成式5ここでは、nは0であり、R1~R4はそれぞれ水素であり、Xは-CH2-であり、R5は-OHであり、R6は-CH2OHであるにしたがって製造することができる。0050合成式5を参照すると、無水酢酸Ac2O及び触媒量の硫酸H2SO4の存在下で、ヘキサヒドロ-4H-5,8-メタノベンゾ[d]-エンド-[1,3]ジオキサン5aを、シス-エンド-3-アセトキシノルボルン-2-イルメチルアセテート5b及びシス-エンド-3-アセトキシノルボルン-2-イルメトキシメチルアセテート5cに転化させる。水及び触媒量の水酸化ナトリウムNaOHの存在下で、中間体5b及び5cをシス-エンド-3-ヒドロキシメチルノルボルナン-2-イルB3に転化させる。0051式D、E、F、及びGによって表される随意的な多環式ジオールは、当該技術において認められている方法によって製造することができる。非限定的な例示の目的で、式Fによって表される随意的な多環式ジオールは、下記の合成式6ここでは、mは0であり、R7~R10はそれぞれ水素であり、Zは-CH2-であり、R11は-OHであり、R12は-CH2OHであるにしたがって合成することができる。0052合成式6を参照すると、ギ酸HCOOH、硫酸H2SO4、及びホルムアルデヒドH2COの存在下で、2,3-ノルボルネン6aを2-ホルミルオキシノルボルン-7-イル-エキソ-メチルホルメート6bに転化させる。次に、水酸化ナトリウムNaOH及びメタノールMeOHの存在下で、中間体6bを7-ヒドロキシメチルノルボルナン-2-エキソ-オールF1に転化させる。0053本発明によるポリカーボネートポリマーの幾つかの態様は、重合実施例1~12の方法などしかしながらこれらに限定されないの当該技術において認められている方法によって製造することができ、式A~G及び/又はI~XVの任意の1つから誘導される単一のタイプの繰り返し単位を含むホモポリマーのようなホモポリマー、或いはランダムコポリマー、又はブロックコポリマー、又は交互コポリマーこれらは、或いは本明細書においてランダムポリマー、ブロックポリマー、及び交互ポリマーと呼ぶから選択することができる。本発明によるランダム、ブロック、及び交互ポリカーボネートコポリマーの幾つかの態様には、式A~Gの少なくとも1つ及び場合によっては式I~XVの少なくとも1つから誘導される2以上のタイプの繰り返し単位を含ませることができる。0054上記に記載の幾つかのポリカーボネートポリマーの態様には、式A~Gそれぞれから選択されるか又はかかる式のいずれか1つ又は2つから選択される多環式2,3-ジオールから誘導される繰り返し単位を含ませることができる。0055かかるポリカーボネートポリマーの幾つかの態様が、例えば式A、式B、及び式Cによって表され、これらから選択される2種類の多環式2,3-ジオールモノマーから誘導される繰り返し単位を含む場合には、かかる繰り返し単位のモル比は、1~99、10~90、30~70であってよく、或いはかかる繰り返し単位のモルの合計が100モルであるという条件で、そのような示されている任意の比の中に包含される任意の他の部分比であってよい。0056本発明の幾つかのポリカーボネートポリマーの態様は、例えば式A、式B、及び式Cのそれぞれによって表され、これらから選択されるモノマーを含む。かかる態様は、任意の単一のモルが1であり、任意の単一のモルが98であるモル比、並びにその中に包含される任意の他の部分比を包含すると理解される。限定なしに、かかるモル比としては、かかる繰り返し単位のモルの合計が100モルであるという条件で、1:1:98、10:10:80、及び33.33:33.33:33.33が挙げられる。0057本発明による幾つかのポリカーボネートポリマーの態様に関しては、式A~GのそれぞれのR5及びR6は、独立して、-CH2p-OHここで、pは、0、1、2、又は3であるから選択することができる。一方、他のかかる態様に関しては、R5及びR6の少なくとも1つに関して、pは、独立して1、2、又は3であり、例えば-CH2OHここではpは1であるを与える。更に他のかかる態様においては、R5及びR6のそれぞれに関して、pは、独立して1、2、又は3である。0058下記に与える実施例において、本発明によるポリマー組成物の幾つかの態様を配合するための基本手順を与える。かかるポリマー組成物の幾つかの態様本明細書においては或いはTFUポリマー組成物と呼ぶは、一態様のポリマー、キャリア溶媒、及びフラックス剤、例えばギ酸FAを含む。言及するTFUポリマー組成物のそれぞれを実際に製造し、行った幾つかの評価の結果を報告したと理解すべきであるが、本発明者らは、かかる一般的手順を与えることで、本発明による幾つかの態様は実際に実施化され、それらを基板上に組み立てている間又はその後のマイクロエレクトロニクス部品の保持、並びに優れたハンダ結合を与えるのに十分なフラックス活性の両方を与えるのに有用であることを示すのに十分であると考える。0059本明細書において用いるフラックス剤とは、接合する金属から酸化を除去することによってハンダ付けを容易にする化学洗浄剤を意味すると理解される。フラックス剤としては、酸性、中性、又は塩基性の組成物を挙げることができるが、これらに限定されない。フラックス剤の代表的な態様としては、ホルムアルデヒド、ギ酸、2-ニトロ安息香酸、マロン酸、クエン酸、リンゴ酸、及びコハク酸が挙げられるが、これらに限定されない。他の代表的なフラックス剤としては、シュウ酸、アジピン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、酒石酸、乳酸、マンデル酸、グリセリン酸、吉草酸、カプロン酸、フェニル酢酸、安息香酸、サリチル酸、及びアミノ安息香酸が挙げられる。比較及び理解を容易にするために、下記の実施例においてはフラックス剤としてギ酸FAを用い、かかる実施例は、示されるハンダリフローデータによってFAが優れたフラックスを与えることを示した。更に、本発明のポリマー配合物の幾つかの態様を昇温温度において貯蔵した場合に、FA又は他の通常的に用いられるフラックス剤の存在下でかかる態様のポリマーにおいて見かけのMwの変化を示さないことを示す貯蔵安定性のデータを与える下表5及び6を参照。0060本明細書において用いるキャリア溶媒とは、本発明による選択されたポリマーの幾つかの態様及び選択されたフラックス剤の溶液を形成し、かくして本発明によるポリマー組成物の態様を形成するのに用いる溶媒を意味すると理解される。更に、かかるキャリア溶媒は、選択されたポリマーの態様及び選択されたフラックス剤と実質的に非反応性であることが理解される。即ち、かかるポリマー組成物の態様は、望ましい貯蔵安定性を示し、且つ望ましいタッキング、フラックス、及びアンダーフィルを与える。代表的なキャリア溶媒としては、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、γ-ブチロラクトンGBL、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、アニソール、アセトン、メチル3-メトキシプロピオネート、テトラヒドロフランTHF、及びこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。0061更に、下記に示すハンダリフローデータはスズ-銅共晶ハンダボールSn99.3Cu0.7を用いて得たが、他のタイプのハンダ、特に無鉛ハンダ、例えばSAC305Sn96.5Ag5Cu0.5、MGChemicalから、又はK100及びK100LDSn99.4Cu0.6及びSn99.5Cu0.5、それぞれKesterIncも、任意の特定の配合を調節するか又はしないで有効に用いることができる。更に、本発明者らは、下記に与える実施例によって、単一の有効なTFUポリマー組成物は存在しないが、広範囲のマイクロエレクトロニクス部品アセンブリに使用可能にすることができるポリマーの態様、キャリア溶媒、及びフラックス剤の多くの配合物が存在することを示す。即ち、本発明によるポリマー組成物の幾つかの態様は、分解温度、粘着性、Mw、及びフラックス活性に関して容易に調整して、広範囲のアセンブリ加工のための優れた解決法を与えることができる。0062要約すれば、フラックス剤としてギ酸FAを有する本発明のポリマー組成物の幾つかの態様を調製し、それらのフラックス活性の程度を示すように評価した。表3を参照すると、実施例C1~C3はハンダの広がり又はリフローを示し、即ち広がったハンダの直径は、対照試料C4において示される元のハンダボールの直径の約1.6倍であったことを観察することができる。FAは上述のリフロー実施例に関して用いた唯一のフラックス剤であったが、上述したもののような他の公知のフラックス剤も本発明のTFUポリマー組成物の態様の範囲内であることが理解されるであろう。更に、ハンダフラックス実施例C1~C3は実施例B1~B3の配合物のシリンジ塗布を用いているが、配合物を塗布するための任意の他の適当な方法を用いることができる。而して、シリンジ塗布に加えて、代表的な塗布方法としては、とりわけ、スピンコート、噴霧、浸漬コート、及びドクターブレード塗布が挙げられる。0063下記に示す実施例及び表においては、本発明のポリマー組成物の幾つかの態様の幾つかの成分を特定するために、幾つかの商品名及び/又は略号を用いる。殆どの場合にはかかる実施例はかかる成分の正式名称も与えるが、幾つかの成分に関する化学名は実施例において完全に特定していない場合がある。A.ポリマーの合成:重合実施例1:シス-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノール及びシス-エンド-2,3-ノルボルナンジメタノール:0064適当な寸法で適当に装備した多口反応容器に、22.5gのシス-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノール144ミリモル、15.0gのシス-エンド-2,3-ノルボルナンジメタノール96ミリモル、51.3gの炭酸ジフェニル240ミリモル、及び12mgの水素化リチウム1.5ミリモルを加えた。容器の内容物を、窒素スイープ下において反応溶液を形成するのに十分な時間120°Cに加熱してその温度に保持し、次に窒素下において一定の撹拌を行いながら2時間その温度に保持した。次に、反応容器の圧力を等温的に10kPaに低下させ、更に1時間撹拌を継続した。次に、容器の圧力を等温的に0.5kPaに更に低下させ、更に1.5時間撹拌し、続いて反応溶液の温度を180°Cに上昇させ、撹拌しながらその温度を更に1.5時間保持した。次に、反応容器の内容物を室温に冷却し、撹拌しながらテトラヒドロフラン800mLを加え、得られた溶液を濾過した。次に、濾液を8Lの9:1のメタノール:水の溶液に滴加して、所望のポリマーを沈殿させた。沈殿物を単離して、それを更に4Lの9:1のメタノール:水の溶液で洗浄した後、ポリマーを一定重量まで乾燥した。30.7gのポリマーが得られた。ポリマー収率は70であり、その分子量Mwは41,000であり、多分散指数PDIは1.70であった。重合実施例2:1,3-シクロヘキサンジオール及びシス-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノール:0065反応容器に、20.5gの1,3-シクロヘキサンジオール176ミリモルTCIAmericaPortlandOR;15.5gのシス-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノール99ミリモル;56.6gの炭酸ジフェニル264ミリモル;及び13.2mgの水素化リチウム1.7ミリモル;を充填した他は、実施例1において用いた手順にしたがった。28.1gのポリマーが69の収率で得られた。ポリマーは、47,000のMw及び1.75のPDIを有することが分かった。重合実施例3:1,3-シクロヘキサンジオール及びシス-エンド-2,3-ノルボルナンジメタノール::0066反応容器に、19.2gの1,3-シクロヘキサンジオール165ミリモル、TCIAmerica;14.5gのシス-エンド-2,3-ノルボルナンジメタノール93ミリモル;53gの炭酸ジフェニル248ミリモル;及び10.1mgの水素化リチウム1.3ミリモル;を充填した他は、実施例1において用いた手順にしたがった。28.7gのポリマーが76の収率で得られた。ポリマーのMwは38kであり、1.61のPDIを有していた。0067重合実施例1~3から得られたポリカーボネートの特性を下表1及び2にまとめる。表2において、末端Phの欄は、重合中に充填されて取り出されていない炭酸ジフェニル原材料の初期量に基づくフェノールの理論量を示す、連鎖末端フェニル基のモル値であり;モルの欄は、1H-NMR分析によって求めた値を与え、示されるように、シス-エキソ-又はシス-エンド-2,3-ノルボルナンジメタノールモノマーから誘導されたポリマー中のモノマー単位のを示し;可溶性の欄は、目標の樹脂含量RC、20重量のポリマーが示されている溶媒中に可溶であったか又は不溶であったかを定性的に示すものであり、ここでAはアニソールを指し、Gはγ-ブチロラクトンを指す。重合実施例4:シス-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノールホモポリマー:0068反応容器に、25.0g160ミリモルのシス-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノール、及び34.3g185ミリモルの炭酸ジフェニル、並びに6.4mg0.80ミリモルの水素化リチウムを充填した他は、実施例1において用いた手順にしたがった。最初のポリマーの沈殿の後、物質をテトラヒドロフラン中に再溶解し、純粋なメタノール中にもう一度沈殿させた。濾過し、ダイナミック真空オーブン内で乾燥した後、23.5gの白色のポリマーが得られた。ポリマーの特性は次の通りであった:Mw=72k、PDI=3.0、Tg=85°C、Td50=313°C。重合実施例5:5-エキソ-フェニル-シス-エンド-2,3-ノルボルナンジメタノールホモポリマー:0069反応容器に、25.0g108ミリモルの5-エキソ-フェニル-シス-エンド-2,3-ノルボルナンジメタノール、及び23.1g108ミリモルの炭酸ジフェニル、並びに58.0mg0.55ミリモルの炭酸ナトリウムを充填した他は、実施例1において用いた手順にしたがった。沈殿中において、テトラヒドロフラン中のポリマー溶液を純粋なメタノールに滴加した。濾過し、ダイナミック真空オーブン内で乾燥した後、19.6gの白色のポリマーが得られた。ポリマーの特性は次の通りであった:Mw=63k、PDI=2.0、Tg=114°C、Td50=321°C。重合実施例6:5-エキソ-フェニル-シス-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノールホモポリマー:0070反応容器に、10.0g43ミリモルの5-エキソ-フェニル-シス-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノール、及び9.2g43ミリモルの炭酸ジフェニル、並びに1.7mg0.22ミリモルの水素化リチウムを充填した他は、実施例1において用いた手順にしたがった。沈殿中において、塩化メチレンとテトラヒドロフランの混合物中のポリマー溶液を純粋なメタノールに滴加した。濾過し、ダイナミック真空オーブン内で乾燥した後、9.1gの白色のポリマーが得られた。ポリマーの特性は次の通りであった:Mw=49k、PDI=2.0、Tg=115°C、Td50=284°C。重合実施例7:トランス-2,3-ノルボルナンジメタノールホモポリマー:0071反応容器に、70.0g448ミリモルのトランス-2,3-ノルボルナンジメタノール、及び96.5g450ミリモルの炭酸ジフェニル、並びに238mg2.24ミリモルの炭酸ナトリウムを充填した他は、実施例1において用いた手順にしたがった。沈殿中において、テトラヒドロフラン中のポリマー溶液を純粋なメタノールに滴加した。濾過し、ダイナミック真空オーブン内で乾燥した後、75.4gの白色のポリマーが得られた。ポリマーの特性は次の通りであった:Mw=177k、PDI=2.1、Tg=81°C、Td50=360°C。重合実施例8:イソソルビドホモポリマー:0072反応容器に、102.3gのイソソルビド0.7モル、CargillIncMinneapolisMinnesota;149.95gの炭酸ジフェニル0.7モル;及び3.0mgの炭酸セシウム0.01ミリモル;を充填した他は、実施例1において用いた手順にしたがった。粗ポリマーをγ-ブチロラクトンGBL中に溶解した。7:3のイソプロパノール:水の中に沈殿させ、濾過し、真空乾燥した後に、約119gのポリイソソルビドホモポリマーが得られた。ポリマーの特性は次の通りであった:Mw=38.5k、PDI=2.61、Tg=167°C、Td50=376°C。重合実施例9:イソソルビド及びトランス-2,3-ノルボルナンジメタノール:0073好適な寸法の磁気スターラーを装備した250mLの丸底フラスコに、次のもの:13.17gのイソソルビド90ミリモル、CargillInc、14.09gのトランス-2,3-ノルボルナンジメタノール90ミリモル、38.63gの炭酸ジフェニル180ミリモル、及び95.6mgの炭酸ナトリウム9.0ミリモル;を加えた。3回、フラスコを1.3kPaに排気して窒素を再充填した。内容物を窒素下に保持し、この時点でフラスコを120°Cの油浴中に浸漬した。窒素スイープ下において反応を120°Cに2時間保持した。次に、フラスコの内容物を、120°Cにおいて10kPaの減圧に1時間かけた。その後、10kPaにおいて油浴の温度を120°Cから180°Cに徐々に上昇させ、その間にフェノールの大部分を留去し、液体窒素冷却トラップ中に回収した。圧力を0.7kPaに徐々に低下させ、反応を180°Cにおいて更に2時間保持した。フラスコの内容物を室温に冷却し、回転振盪させながら150mLのような好適な量のテトラヒドロフラン中に溶解した。溶液をテトラヒドロフランで500mLに更に希釈し、濾過した。濾過した溶液を5Lのメタノールに滴加した。濾過し、真空オーブン70°C、29.4インチ-水の真空度内で18時間乾燥することによって、白色のポリマーが回収された。乾燥ポリマー重量は30.2gであった。ポリマーの特性は次の通りであった:Mw=32k、PDI=1.94、Tg=116°C、Td50=372°C。重合実施例10:イソソルビド及び1,4-シクロヘキサンジメタノール:0074反応容器に、29.04gのイソソルビド199ミリモル、CargillInc、28.7gの1,4-シクロヘキサンジメタノール199ミリモル、85.2gの炭酸ジフェニル398ミリモル、及び211mgの炭酸ナトリウム19.9ミリモルを充填した他は、実施例10において用いた手順にしたがった。乾燥ポリマー重量は65.1gであった。ポリマーの特性は次の通りであった:Mw=72k、PDI=2.84、Tg=110°C、Td50=373°C。重合実施例11:環式ノルボルナンスピロカーボネートホモポリマー:00750°C、窒素雰囲気下において、sec-ブチルリチウム0.21mL、シクロヘキサノン中1.4Mを、トルエン200mL中のスピロ[ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,5’-[1.3]ジオキサン]-2’-オン15g、82.3ミリモルに加えた。反応混合物を0°Cにおいて5時間撹拌し、次に室温に徐々に加温した。室温において撹拌を更に12時間継続し、その後、ポリマーをメタノールから沈殿させ、真空下で乾燥して9gの白色のポリマーを与えた。ポリマーのMwは32kであると求められ、1.63のPDI及び284°CのTd50を有していた。B.フラックス配合物の実施例:実施例B1:GBL中の1,3-シクロヘキサンジオール及びエンド-エンド-2,3-ノルボルナンジメタノールとギ酸からのポリカーボネートの配合物:0076ポリマー実施例3における手順にしたがって製造した乾燥ポリマー4.54gをγ-ブチロラクトンGBLに加えて、12.8gの全重量を有するポリマー溶液樹脂含量35.3重量を与えた。最小で12時間ローラー混合することによって、明澄で粘稠の均一なポリマー溶液が得られた。PTFE製の1.0μmのディスクフィルターを通すことによって粘稠の溶液を濾過し、ブルックフィールド粘度計モデルDVIPrimeで粘度を測定したところ、25°Cにおいて17500cPsであった。次に、ギ酸0.67g、全溶液の5重量を加え、8時間ローラー混合した後に均一な配合物が得られた。実施例B2:GBL中のイソソルビド及びエンド-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノールとギ酸からのポリカーボネートの配合物:0077ポリマー実施例9からの5.25gの乾燥ポリマーを用いて、実施例B1において記載した手順にしたがって本発明の幾つかの態様によるポリカーボネート配合物を調製して、15.0gの基ポリマー溶液樹脂含量35.0重量を与えた。粘度を測定したところ4600cPsであった。加えたギ酸は0.78gであった。実施例B3:GBL中のイソソルビド及び1,4-シクロヘキサンジメタノールとギ酸からのポリカーボネートの配合物:0078ポリマー実施例10からの2.00gの乾燥ポリマーを用いて、実施例B1において記載した手順にしたがって本発明の幾つかの態様によるポリカーボネート配合物を調製して、10.0gの基ポリマー溶液樹脂含量20.0重量を与えた。粘度を測定したところ8000cPsであった。加えたギ酸は0.52gであった。C.GBL中のギ酸を有するハンダフラックスの評価:0079実施例B1~B3の配合物を用いて、それぞれ表3に示す評価C1~C3に関するデータを与えた。これらの実施例に関して用いたプロセスは次の通りであった:配合物を、27ゲージの針を用いて、部分的に酸化した表面を有する銅プレート1.7cm×3.4cm上に別々のスポットとして施した。ハンダボールSn99.3Cu0.7、600μmを銅プレート上のそれぞれのスポットの頂部に注意深く移した。プレートをリフローオーブンに通しながら、プレートの周囲の周囲温度を室温から230°C~260°Cの間に2分未満で上昇させることによって、デバイス上に実装したプレート全体を熱リフローにかけた。次に、最終温度を更に2分間保持した後、プレートを室温に戻した。注意深く配置したハンダボールを載置したプレートを移動させている間に、ポリマー組成物のそれぞれのスポットによってその上に配置したハンダボールが所定位置に保持されたことが観察され、而してかかる組成物は有用なタッキング剤であることが示された。リフロー後のハンダ材料の直径を測定したところ930~990μmの範囲であり、これは対照例C4と比較すると優れたフラックス性を示した。対照例C4に関する配合物は、ギ酸を用いない配合物B2であった。実施例C1~C4のハンダリフローの結果を下表3に示す。D.熱安定性実施例:D1:イソソルビド及びエンド-エキソ-2,3-ノルボルナンジメタノールからのポリカーボネートの等温熱重量分析:0080ポリマー実施例9の方法で製造したポリマーMw=32k及び適当な量のγ-ブチロラクトンからポリマー組成物を配合した。組成物を4インチのシリコン基板上にスピンコートし、120°Cにおいて10分間焼成して透明なフィルムを得た。フィルムの試料を基板から剥離し、220°Cにおける等温熱重量分析によって分析した。1時間後の重量損失は当初のフィルム重量と比較して2未満であった。260°Cにおける同様の試料の重量損失は1時間で5未満であり、これはこの材料が200°C~260°Cの範囲内で熱安定性を有していたことを示唆していた。D2:熱リフローによるフィルム厚さの評価:0081ポリマー実施例9の方法で製造したポリマーMw=32k及び適当な量のγ-ブチロラクトンからポリマー組成物を配合した。組成物を4インチのシリコン基板上にスピンコートし、120°Cにおいて10分間焼成して、約2μmの厚さのフィルムを与えた。リフローオーブン内において、プレートの周囲の温度を室温から230°C~260°Cの間に2分間未満で上昇させることによって、シリコン基板を加熱した。基板をその温度に更に2分間保持し、次に室温に冷却した。最終フィルム厚さを記録し、加熱前の当初のフィルム厚さと比較した。表4に示すように、厚さの変動は≦1であり、十分に通常のフィルム厚さ測定誤差の範囲内であり、膜品質の劣化は観察されなかった。全てのデータは、この材料が230°C~260°Cの間で永久的な材料として用いるのに好適であることを示す。E.ギ酸を有する配合物の貯蔵安定性実施例:0082以下の実施例に関しては、γ-ブチロラクトン中のギ酸FAを有する配合物を調製し、65°Cにおいて1週間貯蔵した後に最終分子量Mw最終を求めた。表5におけるMw比は、Mw最終/Mw当初ここで、Mw当初は65°Cに加熱する前に求めた分子量としたの比を見積もることによって求めた。示されるように、それぞれの試料は貯蔵した時間の間は安定性を示した。F.他の酸性フラックス剤を有する配合物の貯蔵安定性実施例:0083下表6に列記する従前公知の酸性フラックス剤のそれぞれに関し、示されている装填量のフラックス剤を用いてγ-ブチロラクトン中のポリプロピレンカーボネートNovomerIncの配合物を調製した。当初Mwを求め、試料を95°Cにおいて48時間貯蔵した後に最終Mwを求め、Mw最終/Mw当初の比を計算した。これらの配合物に関する貯蔵時間は、表5に報告するギ酸配合物の貯蔵安定性実施例に関するものよりも短かったが、これらの配合物を貯蔵したより高い温度を用いているので、これらの貯蔵安定性実施例に関する条件は、少なくともギ酸貯蔵安定性実施例に関する条件と同程度に厳しかったと考えられる。したがって、示されているように、表6に示す配合物のそれぞれは安定性を示した。0084ここまでで、基板に対してマイクロエレクトロニクス部品を取り付けるハンダリフロータイプのためのフラックスを与える能力、及びハンダリフロープロセスの前、その間、及びその後にかかる部品を所定位置に保持するアンダーフィル接合として機能する能力の両方を示す本発明によるTFUポリマー組成物の幾つかの態様が本発明において与えられたことが認識される。更に、かかるTFU組成物は、種々のポリマーの態様を包含することができ、かかる幾つかのポリマーの態様はかかるポリマーのMw及び/又はかかるポリマーの組成を調節することによって所望のTd50を有するように調整することができることが認識される。更に、任意の1以上の上述のフラックス剤を、任意の1以上の上述のポリマーの態様及び任意の1以上の上述のキャリア溶媒と組み合わせて、本発明による所望のTFUポリマー組成物が形成されることが認識される。更に、上記の配合物実施例は20乃至35超のポリマーの重量を示すが、幾つかのTFUポリマー組成物の態様は、15~50のポリマーの重量の範囲、及び10~80の更に他のものを包含し、かかる種々のポリマーの重量は、TFU組成物の所望の粘度、並びにそれから形成される得られるアンダーフィルの特性を選択するのに有効であることが認識される。0085本発明のTFUポリマー組成物は、第1の表面上に配置されている複数の第1のコンタクトを有する第1の基板、例えば第1の表面上に配置されている電気コンタクトパッド又はスルーシリコンビア電気コンタクトパッドを有する半導体ダイが、第2の表面上に配置されている第2の複数のコンタクトパッドを有する第2の基板と電気的及び物理的に接合されており、第1及び第2の複数のコンタクトパッドが少なくとも互いに対して実質的に整列している種々のマイクロエレクトロニクスデバイスアセンブリを形成するために有用であることが更に認識される。電気的及び物理的接合は、ハンダプリフォーム、例えばハンダボールを、第1及び第2の複数のコンタクトパッドの一方又は両方の個々のコンタクトに与え、TFUポリマー組成物を第1及び第2の表面の一方又は両方に施して、TFUポリマー組成物がハンダプリフォームを封入するようにすることによって達成される。更に、物理的及び電気的接合を達成するためには、第1及び第2の基板を、TFUポリマーの層を通して互いに接触させてプリアセンブリ構造を形成し、これを次に、ハンダプリフォームによって第1及び第2の複数のコンタクトの電気的結合が形成されるが、同時にTFUポリマーによってハンダプリフォームが封入され、且つ第1の基板が第2の基板に物理的に結合されるのに有効な温度に加熱する。"