処理室内に導入された処理ガスによりプラズマを発生させて被処理基板を処理するプラズマ処理装置の前記処理室内における処理ガスの圧力を制御する圧力制御装置であって、前記処理室内の処理ガスの圧力を検知する検知部と、前記処理室に連通され、前記処理室の中心を通る中心軸を有する排気管と、前記排気管に配された調整弁と、前記検知部により検知される圧力が目標値に一致するように前記調整弁を制御する圧力制御部と、を備え、前記調整弁は、前記排気管に連通された弁口と、前記弁口の形状を、中心が前記排気管の中心軸の近傍に位置した異なる形状に変更する変更部と、前記変更部により変更された前記弁口の開度を調整するスライド弁と、を有し、前記圧力制御部は、前記変更部による前記弁口の形状の変更と、前記スライド弁による前記弁口の開度の調整とを制御することを特徴とする圧力制御装置。前記変更部は、前記弁口より小さい面積の開口を有したオリフィス部を有し、前記オリフィス部を前記弁口へ挿入することで前記弁口の面積を挿入前より小さい面積に変更することを特徴とする請求項1に記載の圧力制御装置。前記変更部は、それぞれ異なる開口形状を有する複数のオリフィス部を有することを特徴とする請求項2に記載の圧力制御装置。前記オリフィス部は、前記スライド弁から離間した位置に挿入され、前記弁口の流路に沿って前記スライド弁に近づくように移動することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の圧力制御装置。前記オリフィス部は、弁口を規定する筒状部材と、前記筒状部材の上流側の端部から外側に延びた第1の中空板と、前記筒状部材の下流側の端部から外側に延びた第2の中空板と、を有することを特徴とする請求項4に記載の圧力制御装置。前記オリフィス部の開口形状は、前記スライド弁のスライドする方向を長手方向とする矩形状であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の圧力制御装置。処理室内に導入された処理ガスによりプラズマを発生させて被処理基板を処理するプラズマ処理装置の前記処理室内における処理ガスの圧力を制御する圧力制御装置であって、前記処理室内の処理ガスの圧力を検知する検知部と、前記処理室に連通され、前記処理室の中心を通る中心軸を有する排気管と、前記排気管に配された調整弁と、前記検知部により検知される圧力が目標値に一致するように前記調整弁を制御する圧力制御部と、を備え、前記調整弁は、前記排気管に連通された弁口と、前記弁口の形状を、中心が前記排気管の中心軸の近傍に位置した異なる形状に変更する変更部と、前記変更部により変更された前記弁口の開度を連続的に変更する絞り機構と、を有し、前記圧力制御部は、前記変更部による前記弁口の形状の変更と、前記絞り機構による前記弁口の開度の連続的な変更とを制御することを特徴とする圧力制御装置。1つの実施形態は、例えば、処理室内の処理ガスの圧力を制御する際の精度を加工条件ごとに向上できる圧力制御装置を提供することを目的とする。1つの実施形態によれば、処理室内に導入された処理ガスによりプラズマを発生させて被処理基板を処理するプラズマ処理装置の処理室内における処理ガスの圧力を制御する圧力制御装置であって、検知部と、排気管と、調整弁と、圧力制御部とを備えた圧力制御装置が提供される。検知部は、処理室内の処理ガスの圧力を検知する。排気管は、処理室に連通され、処理室の中心を通る中心軸を有する。調整弁は、排気管に配されている。圧力制御部は、検知部により検知される圧力が目標値に一致するように調整弁を制御する。調整弁は、弁口と変更部とスライド弁とを有する。弁口は、排気管に連通されている。変更部は、弁口の形状を、中心が排気管の中心軸の近傍に位置した異なる形状に変更する。スライド弁は、変更部により変更された弁口の開度を調整する。圧力制御部は、変更部による弁口の形状の変更と、スライド弁による弁口の開度の調整とを制御する。以下に添付図面を参照して、実施形態にかかる圧力制御装置を詳細に説明する。なお、これらの実施形態により本発明が限定されるものではない。第1の実施形態第1の実施形態にかかる圧力制御装置70を適用したプラズマ処理装置1について図1を用いて説明する。図1は、圧力制御装置70の構成を示すとともに、圧力制御装置70を適用したプラズマ処理装置1の構成を示す図である。プラズマ処理装置1は、処理室90、電極10、プラズマ発生部80、バイアス電圧制御部85、及び圧力制御装置70を備える。処理室90は、処理ガスが導入され、処理ガスによりその内部でプラズマPLが発生されるための室であり、処理容器2により形成されている。処理容器2は、例えば上部中央に形成された給気管を介して、ガス供給制御部図示せずから処理室90へ処理ガスが供給可能なように構成されている。また、処理容器2は、処理室90から圧力制御装置70へ処理済の処理ガスが排気可能なように構成されている。プラズマ発生部80は、処理室90内における電極10から隔てられた空間91にプラズマPLを発生させる。具体的には、プラズマ発生部80は、高周波電源81、マッチングボックス84、アンテナコイル82、及び誘電体壁83を有する。高周波電源81は、高周波電力を発生させてアンテナコイル82へ供給する。マッチングボックス84により高周波電源81とアンテナコイル82との間でインピーダンス整合がとれると、電磁波は処理容器2の上壁を兼ねた誘電体壁83を透過して処理室90内の空間91に導入される。処理室90内の空間91では、処理ガスの放電が起こりプラズマPLが生成され、処理ガスからラジカルとともにイオン例えば、F、CF3などが生成される。バイアス電圧制御部85は、処理室90内の底面側に配された電極10にバイアス電圧を発生させる。具体的には、バイアス電圧制御部85は、高周波電源86、マッチングボックス87を有する。高周波電源86は高周波電力を発生させ、マッチングボックス87によりインピーダンス整合がとれると電極10にバイアス電圧が印加される。電極10は、例えばステンレス、アルミ等の金属で形成され、絶縁材図示せずを介して処理容器2から絶縁されている。電極10上には、シリコンウエーハ等の被処理基板WFが載置される。バイアス電圧が印加されると、プラズマPLとの間に電位差が生じ、プラズマPL領域で発生したイオン例えば、F、CF3などが被処理基板WFに引き込まれ、異方性のエッチング加工が行われる。圧力制御装置70は、処理室90からの処理ガスの排気量を制御することにより、処理室90の圧力を制御する。次に、圧力制御装置70の内部構成について図1を用いて説明する。圧力制御装置70は、圧力センサ検知部20、排気管30、調整弁40、コントローラオリフィス部用の圧力制御部42、及びコントローラスライド弁用の圧力制御部43、及び排気系50を有する。圧力センサ20は、処理室90内の圧力を検知し、その圧力の値の情報を調整弁40へ供給する。圧力センサ20は、例えば、処理室90に連通された検知空間と、その検知空間内に配された検知素子を有する。圧力センサ20は、検知素子を介して検知空間内の圧力を処理室90内の圧力として検知する。排気管30は、処理室90に連通されている。排気管30は、処理室90の中心92を通る中心軸CA上に配置されている。排気管30は、調整弁40に対する上流側の排気管31と、下流側の排気管32とを有する。排気管30の外壁は、例えばステンレスなどの金属で形成されている。調整弁40は、排気管30に配されており、上流側の排気管31を介して処理室90に接続されているとともに、下流側の排気管32を介して排気系50に接続されている。調整弁40は、開度を調整可能な弁であり、圧力センサ20により検知される処理室90内の圧力が目標値になるように、その開度を調整する。これにより、処理室90からの処理ガスの排気量が制御されて、処理室90の圧力が制御される。コントローラ42は、調整弁40における後述のオリフィス部411の駆動を制御する。コントローラ43は、調整弁40における後述の振子式バルブ412の駆動を制御する。排気系50は、排気管30及び調整弁40を介して処理室90から排出された処理ガスを排気する。排気系50は、ターボポンプ51、排気管52、及びロータリーポンプ53を有する。排気管52はロータリーポンプ53により真空状態に保たれ、排気管32、排気管31、及び処理室90は、ターボポンプ51により排気管52より高い真空状態に保たれる。処理室90より排出された処理ガスは、排気管31、排気管32に導かれた後、ターボポンプ51により排気管52に導かれ、ロータリーポンプ53により排気される。次に、調整弁40の内部構成について図1及び図2を用いて説明する。図2aは、調整弁40の構成を示す分解斜視図であり、図2bは、調整弁40の構成を示す断面図である。調整弁40は、ゲートバルブ41を有する。ゲートバルブ41は、上流側外管413、下流側外管414、収容空間壁415、アクチュエータ軸416、アクチュエータ417、オリフィス部変更部411及び振子式バルブスライド弁412を有する。上流側外管413は、オリフィス部411及び振子式バルブ412の上流側に配され、上流側の排気管31に連通された空間413aを形成している。空間413aの中心軸CA1は、排気管31の中心軸CAと一致している。空間413aの中心軸CA1に垂直な断面積SA1は、排気管31の流路断面積SAに略等しい。下流側外管414は、オリフィス部411及び振子式バルブ412の下流側に配され、下流側の排気管32に連通された空間414aを形成している。空間414aの中心軸CA2は、排気管32の中心軸CAと一致している。空間414aの中心軸CA1に垂直な断面積SA2は、排気管32の流路断面積SAに略等しく、かつ、空間413aの中心軸CA1に垂直な断面積SA1に略等しい。収容空間壁415は、オリフィス部411や振子式バルブ412がアクチュエータ軸416を中心に回動された際に、オリフィス部411や振子式バルブ412を収容するための収容空間415aを形成している。収容空間415aは、排気管30の流路空間413a、空間414aから退避した位置に配されている。アクチュエータ軸416は、オリフィス部411や振子式バルブ412を回動させるために設けられている。アクチュエータ軸416は、オリフィス部411と振子式バルブ412とを独立に回動させる。例えば、アクチュエータ軸416は、軸方向におけるオリフィス部411及び振子式バルブ412にそれぞれ対応した位置に第1の嵌合部及び第2の嵌合部を有し、第1の嵌合部がオリフィス部411に嵌合された際にオリフィス部411を選択的に回動させ、第2の嵌合部が振子式バルブ412に嵌合された際に振子式バルブ412を選択的に回動させる。アクチュエータ417は、コントローラ42及びコントローラ43により制御され、アクチュエータ軸416を介してオリフィス部411や振子式バルブ412を回動させる。アクチュエータ417は、コントローラ42による制御に従い、アクチュエータ軸416の第1の嵌合部をオリフィス部411に嵌合させてオリフィス部411を選択的に回動させ、コントローラ43による制御に従い、アクチュエータ軸416の第2の嵌合部を振子式バルブ412に嵌合させて振子式バルブ412を選択的に回動させる。また、アクチュエータ417は、オリフィス部411や振子式バルブ412を回動させた後に、コントローラ42及びコントローラ43による制御に従い、オリフィス部411や振子式バルブ412を上流側外管413へ押し付けるように移動させ、排気管30の流路空間413a、空間414aの気密性を確保する。オリフィス部411は、例えば振子式バルブ412の下流側に配されており、排気管30の流路断面積SAより小さい面積SA3の弁口411aを有している。オリフィス部411の一端は、収容空間415aまで延び、収容空間415a内でアクチュエータ417の第1の嵌合部に嵌合可能に構成されている。オリフィス部411は、排気管30の流路に挿入可能に構成されている。すなわち、コントローラ42は、第1の嵌合部がオリフィス部411に嵌合された際に、アクチュエータ417及びアクチュエータ軸416を介してオリフィス部411を回動させる。これに応じて、オリフィス部411は、排気管30の流路から退避された第1の状態と排気管30の流路へ挿入された第2の状態との間で遷移する。振子式バルブ412は、オリフィス部411の上流側に配されている。振子式バルブ412の一端は、収容空間415aまで延び、収容空間415a内でアクチュエータ417の第2の嵌合部に嵌合可能に構成されている。コントローラ43は、第2の嵌合部が振子式バルブ412に嵌合された際に、アクチュエータ417及びアクチュエータ軸416を介して振子式バルブ412を回動させる。これに応じて、振子式バルブ412は、弁口の開度を調整する。次に、調整弁40の動作について図3及び図4を用いて説明する。図3a、bは、主として、オリフィス部411の動作を示す分解斜視図である。図4a~eは、主として、振子式バルブ412の動作を示す平面図である。図3a、bに示すように、コントローラ42は、第1の状態と第2の状態との間で弁口を変更する。第1の状態では、コントローラ42が、振子式バルブ412の下流側でオリフィス部411を排気管30の流路から退避させて弁口411bの面積を排気管30の流路断面積SAにする。このとき、弁口411bの中心は、排気管30の中心軸CAの近傍に位置している。また、コントローラ43は、振子式バルブ412を排気管30の流路から退避させている図4a参照。第2の状態では、コントローラ42が、振子式バルブ412の下流側でオリフィス部411を排気管30の流路へ挿入して弁口411aの面積を排気管30の流路断面積SAより小さい面積SA3にする。このとき、弁口411aの中心は、排気管30の中心軸CAの近傍に位置している。また、コントローラ43は、振子式バルブ412を排気管30の流路から退避させている図4c参照。コントローラ43は、弁口の開度を調整するように、振子式バルブ412をスライドさせる。上記の第1の状態へ変更された場合、図4a、bに示すように、コントローラ43は、流路断面積SAの弁口411bの開度を調整するように、振子式バルブ412をスライドさせる。このとき、コントローラ43は、図4bに示すように、振子式バルブ412が排気管30の中心軸CAに交差する位置の手前で、弁口411bの開度が弁口411aの面積と略同一面積になるところまで、振子式バルブ412をスライドさせて制御する。これより小さい面積を制御する場合、上記の第2の状態へ変更する。上記の第2の状態へ変更された場合、図4c~eに示すように、コントローラ43は、流路断面積SAより小さい面積SA3の弁口411aの開度を調整するように、振子式バルブ412をスライドさせる。このとき、コントローラ43は、図4eに示すように、振子式バルブ412が排気管30の中心軸CAに交差する位置までスライドさせ例えば弁口411aの全てを塞いでも良い。ここで、仮に、図15に示すように、プラズマ処理装置900の圧力制御装置970が、調整弁940のオリフィス部411及びコントローラ42図2b参照を有しない場合について考える。具体的には、調整弁940が、ゲートバルブ41、及びコントローラ943を有し、コントローラ943が、図16に示すように振子式バルブ9412の駆動を制御する場合について考える。この場合、コントローラ943は、流路断面積SAの弁口411bの開度を調整するように、振子式バルブ9412をスライドさせる。このとき、コントローラ943は、図16a、cに示すように、振子式バルブ412が排気管930の中心軸CA900に交差する位置の手前から、図16dに示すように、振子式バルブ412が排気管930の中心軸CA900に交差する位置までスライドさせることになる。このとき、エッチングレートを速くすることを優先して処理室990の圧力を高くすべき高圧力の加工条件と、エッチング精度を優先して処理室990の圧力を低くすべき低圧力の加工条件とのぞれぞれにおいて、処理室990の圧力を制御する際の精度を向上することが困難になる。すなわち、高圧力の加工条件では、図16b、d、eに示すように、振子式バルブ9412を排気管930の中心軸CA900に交差する位置までスライドさせることになる。この場合、振子式バルブ9412をわずかに動かしただけで弁口の開口面積が大きく変化してしまい、処理室990からの排気管931、調整弁940、及び排気管932を介した排気量が大幅に変化してしまうので、処理室990の圧力を制御する際の精度を加工条件ごとに向上することが困難になる。それに対して、第1の実施形態では、圧力制御装置70の調整弁40が、オリフィス部411及びコントローラ42を有している。コントローラ42は、オリフィス部411を制御して、弁口の中心が排気管30の中心軸CAの近傍に位置し弁口の面積が互いに異なる複数の弁口411b、411aの間で弁口を変更する。コントローラ43は、振子式バルブ412を制御して、上記のように変更された弁口の開度を調整する。具体的には、コントローラ42は、オリフィス部411を制御して、高圧力の加工条件において小さな面積の弁口に変更し、低圧力の加工条件において大きな面積の弁口に変更する。コントローラ43は、振子式バルブ412を制御して、高圧力の加工条件において小さな面積の弁口の開度を調整し、低圧力の加工条件において大きな面積の弁口の開度を調整する。このとき、エッチングレートを速くすることを優先して処理室90の圧力を高くすべき高圧力の加工条件と、エッチング精度を優先して処理室90の圧力を低くすべき低圧力の加工条件とのぞれぞれにおいて、処理室90の圧力を制御する際の精度を向上することが容易である。すなわち、高圧力の加工条件では、図4c~eに示すように、面積が小さく幅も小さな弁口411aに対して、振子式バルブ412を排気管30の中心軸CAに交差する位置までスライドさせても、振子式バルブ412のスライドの変位量に対する弁口の開口面積の変化量を小さく抑えることができる。この結果、処理室90からの排気管931、調整弁940、及び排気管932を介した排気量の変化量を小さく抑えることができるので、処理室90の圧力を制御する際の精度を加工条件ごとに向上することができる。また、図15に示す圧力制御装置970の調整弁940では、高圧力の加工条件において、図16dに示すように、排気管930の中心軸CA900から大きくシフトした位置のみが開口された状態になる。これにより、図15に矢印で示すように、排気管931から調整弁940へ流れ込む処理ガスの気流が乱れるとともに、調整弁940から排気管932へ流れ出す処理ガスの気流も乱れる。このため、処理室990の圧力を制御する際における圧力の安定化時間が長くなり、エッチングレート等も被処理基板WF例えば、ウエーハ面内で不均一になる傾向にある。すなわち、処理室990の圧力を制御する際の安定化時間を加工条件ごとに短縮することや被処理基板WF例えば、ウエーハ面内で均一に加工することが困難になる。それに対して、第1の実施形態では、コントローラ42が、オリフィス部411を制御して、弁口の中心が排気管30の中心軸CAの近傍に位置し弁口の面積が互いに異なる複数の弁口411b、411aの間で弁口を変更する。そして、高圧力の加工条件でも、図4c~dに示すように、排気管30の中心軸CAの近傍が開口された状態を維持する。これにより、図1に矢印で示すように、排気管31から調整弁40へ流れ込む処理ガスの気流が乱れにくいとともに、調整弁40から排気管32へ流れ出す処理ガスの気流も乱れにくい。このため、処理室90の圧力を制御する際における圧力の安定化時間を短縮でき、エッチングレート等も被処理基板WF例えば、ウエーハ面内で均一にできる。すなわち、処理室90の圧力を制御する際の安定化時間を加工条件ごとに短縮し、被処理基板WF例えば、ウエーハ面内で均一に加工することが容易である。また、第1の実施形態では、オリフィス部411が、排気管の流路断面積より小さい面積の弁口411aを、排気管30の中心軸CAの近傍となるべき位置に有する。そして、コントローラ42は、振子式バルブ412の下流側でオリフィス部411を排気管30の流路から退避させて弁口411bの面積を排気管30の流路断面積にする第1の状態と、振子式バルブ412の下流側でオリフィス部411を排気管30の流路へ挿入して弁口411aの面積を排気管30の流路断面積より小さい面積にする第2の状態との間で弁口を変更する。これにより、弁口の中心が排気管30の中心軸CAの近傍に位置し弁口の面積が互いに異なる複数の弁口411b、411aの間で、弁口を変更することができる。第1の変形例図5a~cに示すように、プラズマ処理装置1iの圧力制御装置70iの調整弁40iにおいて、コントローラ42がオリフィス部411を制御して変更すべき複数の弁口は矩形状の弁口411aiを含んでもよい。具体的には、オリフィス部411は、振子式バルブ412のスライドする方向を長手方向とする矩形状の弁口411aiを有する。そして、コントローラ42は、オリフィス部411を制御して、高圧力の加工条件において小さな面積の弁口411aiに変更し、低圧力の加工条件において大きな面積の弁口411b図4a参照に変更する。コントローラ43は、振子式バルブ412を制御して、高圧力の加工条件において小さな面積の弁口411aiの開度を調整し、低圧力の加工条件において大きな面積の弁口411bの開度を調整する。このとき、エッチングレートを速くすることを優先して処理室90の圧力を高くすべき高圧力の加工条件と、エッチング精度を優先して処理室90の圧力を低くすべき低圧力の加工条件とのぞれぞれにおいて、処理室90の圧力を制御する際の精度を向上することがさらに容易である。すなわち、高圧力の加工条件では、図5a~cに示すように、振子式バルブ412のスライド方向に対して幅が一様である弁口411aiに対して、振子式バルブ412を排気管30の中心軸CAに交差する位置までスライドさせるので、振子式バルブ412のスライドの変位量に対する弁口の開口面積の変化量を一様にすることができる。この結果、処理室90からの排気管31、調整弁40、及び排気管32を介した排気量の変化量を一様にすることができるので、処理室90の圧力を制御する際の精度を加工条件ごとにさらに向上することができる。第2の変形例図6a~bに示すように、プラズマ処理装置1jの圧力制御装置70jの調整弁40jにおいて、ゲートバルブ41j内のオリフィス部411jは振子式バルブ412jより上流側に設けられていても良い。この場合、コントローラ42は、振子式バルブ412jの上流側でオリフィス部411jを排気管30の流路から退避させて弁口411bの面積を排気管30の流路断面積にする第1の状態と、振子式バルブ412jの上流側でオリフィス部411jを排気管30の流路へ挿入して弁口411aの面積を排気管30の流路断面積より小さい面積にする第2の状態との間で弁口を変更する。これによっても、弁口の中心が排気管30の中心軸CAの近傍に位置し弁口の面積が互いに異なる複数の弁口411b、411aの間で、弁口を変更することができる。第3の変形例図7a~cに示すように、プラズマ処理装置1kの圧力制御装置70kの調整弁40kにおいて、オリフィス部411kは振子式バルブ412から離間した位置に配されており、流路に挿入される際に振子式バルブ412に近接した位置へ近づいても良い。具体的には、ゲートバルブ41kはオリフィス部を有せず、オリフィス部411kはゲートバルブ41kと別部材として構成されている。コントローラ42kは、第1の状態において、振子式バルブ412から離間した位置で排気管30の流路からオリフィス部411kを収容空間418ka内に退避させた状態にしている。収容空間418kaは、収容空間壁418kにより形成された空間である。そして、コントローラ42kは、図7a、bに示すように、第1の状態から第2の状態に遷移する際に、振子式バルブ412から離間した位置で排気管30の流路にオリフィス部411kを挿入し、排気管30の流路に沿って振子式バルブ412に近づくようにオリフィス部411kを移動させる。さらに、コントローラ42kは、第2の状態において、オリフィス部411kを、振子式バルブ412の下流側に近接させた状態にする。このように、振子式バルブ412等を含むゲートバルブ41kと別部材としてオリフィス部411kを構成するので、ゲートバルブ41kの仕様に関わらずにオリフィス部411kを構成できるため、オリフィス部411kの設計自由度を向上できる。また、調整弁40kにおいて、オリフィス部411kは、図7b、cに示すような断面が略コの字型形状の構成であってもよい。具体的には、オリフィス部411kは、筒状部材411k1、第1の中空板411k2、及び第2の中空板411k3を有する。筒状部材411k1は、弁口411kaを規定する。筒状部材411k1は、例えば円筒状の形状を有している。第1の中空板411k2は、筒状部材411k1の上流側の端部から外側に延びている。第2の中空板411k3は、筒状部材411k1の下流側の端部から外側に延びている。ここで、上記のように、オリフィス部411kを振子式バルブ412から離間した位置から振子式バルブ412に近接した位置へ近づけるためには、オリフィス部411kを、排気管30の中心軸CAに沿った方向に厚みを有したものとする必要がある。この場合でも、オリフィス部411kの断面が略コの字型形状の構成になっているので、オリフィス部411kを軽量化することができる。第4の変形例図8a~cに示すように、プラズマ処理装置1の圧力制御装置70nの調整弁40nにおいて排気管30の流路に挿入可能である複数のオリフィス部411、411n1、411n2、411n3が設けられていても良い。オリフィス部411n1は、第1の実施形態と同様のオリフィス部411に比べて小さな面積の弁口411n1aを有する。オリフィス部411n1は、第1の変形例と同様に、振子式バルブ412のスライドする方向を長手方向とする矩形状の弁口411n1aを有していてもよい。オリフィス部411n2は、オリフィス部411に比べて大きな面積の弁口411n2aを有する。オリフィス部411n3は、オリフィス部411、411n2に比べて大きな面積の弁口411n3aを有する。弁口411n3aの面積は、例えば排気管30の流路断面積と同じであっても良い。また、複数のオリフィス部411、411n1、411n2、411n3は、リボルバー式に、いずれかが選択的に排気管30の流路に挿入可能であってもよい。例えば、図8aはオリフィス部411n3が排気管30の流路に挿入された状態を示し、図8bはオリフィス部411n2が排気管30の流路に挿入された状態を示し、図8cはオリフィス部411が排気管30の流路に挿入された状態を示している。なお、図示しないが、オリフィス部411n1も排気管30の流路に挿入可能である。このように、弁口の中心が排気管30の中心軸CAの近傍に位置し弁口の面積が互いに異なる複数の弁口411n1a、411a、411n2a、411n3aの間で、多段階的に、弁口を変更することができる。第2の実施形態次に、第2の実施形態にかかる圧力制御装置170について図9~図12を用いて説明する。図9は、圧力制御装置170の構成を示すとともに、圧力制御装置170を適用したプラズマ処理装置の構成を示す図である。図10は、調整弁140の構成を示す図である。図11及び図12は、絞り機構144の構成を示す図である。以下では、第1の実施形態と異なる部分を中心に説明する。プラズマ処理装置100の圧力制御装置170の調整弁140において、ゲートバルブ141がオリフィス部を有さず、絞り機構144がオリフィス部に代わって弁口を変更する。すなわち、図10aに示すように、絞り機構144は、例えば振子式バルブ412の下流側に配される。コントローラ142は、絞り機構144を制御して、図10a、bに示すように、排気管30の流路断面積から排気管30の流路断面積より小さい面積へ連続的に弁口の面積を変更する。そして、振子式バルブ412及びコントローラ143は、絞り機構144及びコントローラ142により変更された弁口の開度を調整する。具体的には、絞り機構144は、図11に示すように、複数の羽根1441-1~1441-8、及びドーナツ状部材1442を有する。ドーナツ状部材1442は、例えば排気管30の流路断面積SAと同様の面積の開口を有する。コントローラ142は、図11aに示すように複数の羽根1441-1~1441-8がドーナツ状部材1442の開口を全開するように制御して排気管30の流路断面積SAの弁口1442bにした状態から、図11b、cに示すように複数の羽根1441-1~1441-8がドーナツ状部材1442の開口を徐々に塞ぐように制御する。これにより、排気管30の流路断面積1442bから排気管30の流路断面積より小さい面積1442a等へ連続的に弁口の面積を変更する。さらに具体的には、絞り機構144は、図12aに示すように、各羽根1441-1~1441-8がそれぞれ裏面側に突起部1441-1a~1441-8aを有し、図12bに示すように、ドーナツ状部材1442が表面側に各突起部1441-1a~1441-8aに対応したレール1442-1a~1442-8aを有する。すなわち、コントローラ142は、アクチュエータ図示せずを介してドーナツ状部材1442を回転させることなどにより、図12cに示すように、各羽根1441-1~1441-8の突起部1441-1a~1441-8aをドーナツ状部材1442のレール1442-1a~1442-8a上で走行させる。例えば、図12cにおいて、ドーナツ状部材1442を時計回りに回転させると、各羽根1441-1~1441-8がドーナツ状部材1442の開口に近づく方向に走行する。これにより、複数の羽根1441-1~1441-8がドーナツ状部材1442の開口を徐々に開く。このとき、図12dに示すように、レール1442-1a~1442-8a上にボールベアリング1443を設けると、複数の羽根1441-1~1441-8をスムーズに走行させることができる。以上のように、第2の実施形態では、コントローラ142が、絞り機構144を制御して、排気管30の流路断面積から排気管30の流路断面積より小さい面積へ連続的に弁口の面積を変更する。これにより、弁口の中心が排気管30の中心軸CAの近傍に位置し弁口の面積が互いに異なる多数の弁口の間で、さらに多段階的に、弁口を変更することができる。第3の実施形態次に、第3の実施形態にかかる圧力制御装置270について図13及び図14を用いて説明する。図13は、圧力制御装置270の構成を示すとともに、圧力制御装置270を適用したプラズマ処理装置200の構成を示す図である。図14は、調整弁240の構成を示す図である。以下では、第1の実施形態と異なる部分を中心に説明する。プラズマ処理装置200の圧力制御装置270の調整弁240において、ゲートバルブ241が振子式バルブの代わりに開閉のみを行うシャッター413を有し、絞り機構244が振子式バルブに代わって弁口の開度を調整する。すなわち、絞り機構244は、粗動機構図示せず及び微動機構図示せずを有し、例えば図14aに示すように、シャッター413の下流側に配される。圧力を制御する際、図14aに示すように、コントローラ242は、シャッター413を完全開の状態にし、コントローラ243及び245は、絞り機構244を制御して、弁口の中心が排気管30の中心軸CAの近傍に位置した状態を維持しながら、その変更された弁口の開度を調整する。コントローラ243は、粗動機構を介して絞り機構244の開度を大まかに調整し、コントローラ245は、微動機構を介して絞り機構244の開度を微細に調整する。処理室90を排気管32より排気側と遮断する場合、コントローラ243は絞り機構244を一番絞った状態にするが、絞り機構の密閉性が悪いと処理室90を遮断できない場合がある。このような場合、図14bに示すように、コントローラ242はシャッター413を完全閉の状態にする。シャッター413で密閉性を確保するのは容易なため、処理室90を遮断状態にすることができる。このように、第3の実施形態では、弁口の中心が排気管30の中心軸の近傍に位置した状態を維持しながら弁口の開度を調整するので、弁口の開度を調整する際における処理ガスの気流がさらに乱れにくくなっている。これにより、処理室90の圧力を制御する際における圧力の安定化時間をさらに短縮でき、さらに連続的かつ精密に弁口の開度を変更することができる。本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。