"熱可塑性ポリマー層又は放射線硬化性ポリマー層を含む、紙幣、カード、IDドキュメントのような有価ドキュメントのための無彩色のセキュリティエレメントであって、該層が、1~100μmのオーダーの寸法を有する、乱反射微小構造でエンボス加工されることを特徴とする、上記の無彩色のセキュリティエレメント。前記熱可塑性の層又は放射線硬化性の層が、支持基板上に設けられることを特徴とする、請求項1に記載の無彩色のセキュリティエレメント。前記乱反射微小構造が組み合わされて、写実的なハーフトーン画像を形成することを特徴とする、請求項1又は2に記載の無彩色のセキュリティエレメント。前記乱反射微小構造が組み合わされて、三次元の奥行きのある外観threedimensionaldepthappearanceを有する画像を形成することを特徴とする、請求項1又は2に記載の無彩色のセキュリティエレメント。前記乱反射微小構造が組み合わされて、紙幣プリント凹版プリント又は透かし模様watermarkに似た画像を形成することを特徴とする、請求項1又は2に記載の無彩色のセキュリティエレメント。前記乱反射微小構造が、写実的なハーフトーン画像及び/又は三次元の奥行きのある外観threedimensionaldepthappearanceを有する画像及び/又は紙幣プリント又は透かし模様に似た画像を形成することを特徴とする、請求項1~5のいずれか一つに記載の無彩色のセキュリティエレメント。前記乱反射微小構造が、金属層、金属合金層、金属化合物層、金属インキ層又は高屈折率層で完全に又は部分的に被覆されることを特徴とする、請求項1~6のいずれか一つに記載の無彩色のセキュリティエレメント。前記乱反射微小構造が、着色された金属化合物で完全に又は部分的に被覆されていることを特徴とする、請求項1~7のいずれか一つに記載の無彩色のセキュリティエレメント。前記乱反射微小構造が、金属層、金属インキ層、金属合金層、金属化合物層又は高屈折率層からなる群から選択される、少なくとも二つの異なる層で被覆されることを特徴とする、請求項7又は8に記載の無彩色のセキュリティエレメント。前記乱反射微小構造が、写実的なハーフトーン画像に配置され、そして部分金属層がハーフトーン画像としても適用されることを特徴とする、請求項1~9のいずれか一つに記載の無彩色のセキュリティエレメント。前記セキュリティエレメントが、蛍光特性、燐光性特性、サーモクロミック特性、変光特性、磁性特性及び/又は導電特性を有する、連続的な又は部分的なコーティングをさらに含むことを特徴とする請求項1~10のいずれか一つに記載の無彩色のセキュリティエレメント。さらに保護層を含む、請求項1~11のいずれか一つに記載の無彩色のセキュリティエレメント。低温封止層又は高温封止層又は自着層のような接着層をさらに含む、請求項1~12のいずれか一つに記載の無彩色のセキュリティエレメント。請求項1~13のいずれか一つに記載の無彩色のセキュリティエレメントを含む有価ドキュメントであって、該セキュリティエレメントが、少なくとも部分的に該有価ドキュメント中へ埋設されることを特徴とする、上記の有価ドキュメント。請求項1~13のいずれか一つに記載の無彩色のセキュリティエレメントを含む有価ドキュメントであって、前記セキュリティエレメントが、支持フィルムを除去するか又は除去せずに有価ドキュメントの表面に適用されることを特徴とする、上記の有価ドキュメント。本発明のセキュリティエレメントを製造する方法であって、次の工程、支持基板を提供する工程、該支持基板を、熱可塑性ポリマーコーティング又は放射線硬化性ポリマーコーティングで被覆する工程、該コーティングを、1~100μmのオーダーの寸法を有する乱反射微小構造でエンボス加工する工程、を含む、上記の方法。前記乱反射微小構造を、金属層、金属インキ層、金属合金層、金属化合物層又は高反屈折率層からなる群から選択される一つ又は少なくとも二つの異なる層で被覆する工程をさらに含む、請求項16に記載の方法。蛍光特性、燐光性特性、サーモクロミック特性、変光特性、磁性特性及び/又は導電特性を有する、連続的な又は部分的なコーティングを適用する工程をさらに含む、請求項16又は17に記載の方法。保護層及び/又は接着層を適用する工程をさらに含む、請求項16~18のいずれか一つに記載の方法。第二の支持基板を該第一の支持基板に積層させる工程をさらに含む、請求項16~19のいずれか一つに記載の方法。紙幣及び硬貨を含む通貨システムであって、該紙幣及び硬貨が、1~100μmのオーダーの寸法を有する、互いに類似した乱反射微小構造を含むことを特徴とする、上記のシステム。本発明の目的は、簡単に検出できるが、偽造が困難で、散乱エレメントを含まない、紙幣のような有価ドキュメントのための無彩色のエンボス加工されたセキュリティエレメントを提供することである。本発明の更なる目的は、そのようなセキュリティエレメントを製造する方法を提供することである。本発明の更なる目的は、紙幣中のセキュリティエレメント上の構造が硬貨の構造に類似している、硬貨及び紙幣含む通貨システムである。本発明の一局面によれば、熱可塑性ポリマー層又は放射線硬化ポリマー層を含む、紙幣、カード、IDドキュメントのような有価ドキュメントのための無彩色のセキュリティエレメントが提供され、該層が、1~100μmのオーダーの寸法を有する乱反射微小構造でエンボス加工されることを特徴とする。本発明の別の局面によれば、本発明によるセキュリティエレメントの製造方法が提供され、該方法は、少なくとも次の工程、支持基板を提供する工程、該支持基板を、熱可塑性ポリマーコーティング又はUV硬化ポリマーコーティングで被覆する工程、該コーティングを1~100μmのオーダーの寸法を有する乱反射微小構造でエンボス加工する工程、を含む。本発明の無彩色のセキュリティエレメントは、造幣のためのダイスの製造においてもまた使用される構造に基づく。微小構造は、マスタープレートをレーザー彫刻することによって創られ、1~100μmのオーダーの寸法、すなわち、横径及び彫刻深さを有するため、非散乱体制の可視光の波長を十分に超える。マスタープレートは、通常、鏡のような反射面を有し、それ故、低い表面粗度を有する金属又はポリマープレートとして提供される。マスターの製造に使用できる材料は、例えば、ニッケル鋼、真鍮又はPMMA、PC、PSのようなポリマーである。十分な出力のレーザーがマスタープレート表面に衝突する場合、電磁放射線がそのマスタープレートの材料と相互作用し、そしてビームが衝突したそのマスタープレートの一部が、熱的蒸発/溶融又は非熱的アブレーションのいずれかで除去又は変更される。表面からの材料の除去又は表面の局所的な変更に起因して、レーザーの衝突箇所で反射特性が変更され、そして乱反射する、マットな表面仕上げを示す。好ましくは、表面の改変は、アブレーションによる非熱的に行われる。微小構造の横方向及び縦方向の次元は、スポットの寸法、及び使用されるレーザーの種類及び出力によって最終的に決定される。硬貨のための彫刻深さは、数100μm程度の高さであることができる一方で、エンボス加工されたセキュリティフィルムは、通常、支持フィルム及び全ての機能層を含み、全体にわたって40μmを下回る厚さを有する。レーザー彫刻されたマスター構造の縦方向の分解能フィルム表面に対して垂直は、それゆえ、エンボス加工層の厚さによって制限され、そして、典型的には、10μm未満、好ましくは5μm未満そしてより好ましくは2μm未満である。レーザー彫刻された構造の横方向の分解能は、典型的に、100μm未満、好ましくは5μm未満である。変性された表面領域のマットな外観は、個々の彫刻されたドット又はラインにおける材料の摩耗又は融解に起因して、それらのそれぞれのベース層に現れる微小粗さという結果になる場合がある。しかしながら、また、他の点では平坦な表面上の凹んだドット又はラインの単なる存在は、そのドット又はラインの縁で乱反射効果を作り出す。実際上、観察者は両効果の混合を見ることになる。構造は組み合わされてピクセル化された、写実的なラスター画像を形成することができ、これらは、均一な、又は様々な寸法の、鏡のようなかつ乱反射するピクセルドットの図形の配置から、ハーフトーン又は新聞様の画像を作り出すことができる。それらの画像は、通常、ある程度まで二次元の外観によって特徴付けられる。背景照明及び見る角度に依存して、視覚的外観は、暗い鏡のような背景上の明るい彫刻領域か、又は明るい鏡のような背景上のマットな彫刻領域のいずれかを示す。通常は、セキュリティエレメントが傾くと両方の効果を見ることができる。別の実施形態において、典型的に硬貨に見られるエンボス加工に構造を似せることができ、それらは主要な深さを示し、そして、傾いたりねじれたりした際に明るさが変化したり反転したりする。彫刻された構造はまた、流通している既知の紙幣全てに実際に使用されている、凹版印刷プレート上の典型的な彫刻構造に似せるやり方で製造することができる。さらに、彫刻された構造はまた、紙幣の紙中の透かし模様に似せるやり方で製造することもできる。それ故、普通の使用者は、紙幣上に印刷されたセキュリティ特徴又は透かし模様を、ひも又は縞上にエンボス加工されたセキュリティ特徴と一致させることができる。末端使用者に対する利点は、紙幣を製造するための三つの必須要件全てセキュリティ特徴、紙、印刷が、同様の外観を有する同じ画像を含み、そしてそのため、効果的に紙幣の正当性を立証するのに役立つことである。マスタープレートを製作するのに適した方法は、例えば、上記で引用した国際公開第01/70516号パンフレット、同第03/022597号パンフレット、同第2005/077674号パンフレット、同第2009/126030号パンフレットに記載されており、それらの内容は、参照として本発明に包含される。マスターは、次に、上述の微小構造を、支持フィルム上の熱可塑性ポリマーコーティング又はUV硬化性ポリマー位コーティングのいずれか中へ模写するための、エンボス加工ツールシムshimを製造するのに使用される。シムの製造は、典型的に、電鋳法のいくつかの工程、及び反復焼き付けの組み換えを含み、そして最終的に、ロールツーロール方式に使用される円筒状のエンボス加工ツールができる。しかしながら、マスタープレートについて上述したのと同じ方法で、円筒表面を操作するのに十分な出力で設定された適切なレーザー機械を用いて上述の構造を円筒状のツール中に直接彫刻することも可能である。別の特徴生成ルートに使用される、フラットエンボス加工プレートシート加工用又はセグメント化エンボス加工シリンダーのような、その他の種類のエンボス加工ツールは、類似の方法で製造できる。エンボス加工されるポリマー層は、支持基板上に設けることができる。適した支持基板は、例えば、支持フィルム、好ましくは、PI、PP、MOPP、PE、PPS、PEEK、PEK、PEI、PSU、PAEK、LCP、PEN、PBT、PET、PA、PC、COC、POM、ABS、PVC、PTFE、ETFEエチレンテトラフルオロエチレン、PFAテトラフルオロエチレン-パーフルオロプロピルビニルエーテル-フルオロコポリマー、MFAテトラフルオロ-メチレン-パーフルオロプロピルビニルエーテル-フルオロコポリマー、PTFEポリテトラ-フルオロエチレン、PVFフッ化ビニル樹脂、PVDFフッ化ビニリデン樹脂、及びEFEPエチレン-テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン-フルオロターポリマーからなる可撓性ポリマーフィルムである。これらの支持フィルムは、通常、5~700μm、好ましくは5~200μm、特に好ましくは5~50μmの厚さを有する。さらに、5~200μm、好ましくは10~80μm、特に好ましくは20~50μmの厚さを有する、Al-、Cu-、Sn-、Ni-、Fe-又は鋼のような金属フィルムが適した支持基板である。さらには、セルロース不含又はセルロース含有の紙、感熱紙又は、例えば、ポリマーフィルムとの積層体のような紙基板が適した支持基板である。これらの基板は、20~500g/m2、好ましくは40~200g/m2の斤量を有する。支持基板には、次に、熱可塑性又は放射線硬化性、好ましくはUV硬化性のエンボス加工ラッカーが提供される。放射線硬化性エンボス加工ラッカーは、例えば、一般に知られている一種又は多種の異なる光開始剤を含む、ポリエステル系、エポキシ系又はポリウレタン系をベースとする放射線硬化性ラッカー系を含んでなることができる。これらの光開始剤は、異なる波長で、異なる範囲においてエンボス加工ラッカーの硬化を開始させることができる。例えば、第一の光開始剤は、200~400nmの波長を有する放射線によって活性化させることができる一方で、第二の光開始材は、370~600nmの波長を有する放射線によって活性化させることができる。好ましくは、第一の光開始剤が活性化している間に、第二の光開始剤の励起が強すぎることがないように、二つの活性波長の間に十分な隔たりを存在させる。第二の光開始剤が活性化する範囲は、もし、支持基板を介して硬化が行われる場合には、使用されるその支持基板の透過波長範囲内であるべきである。主要な硬化工程には電子ビーム放射を使用することができる。この場合、光開始剤は使用されないが、エンボス加工ラッカー中の架橋プロセスが該電子ビームによって引き起こされる。さらに、放射線硬化性エンボス加工ラッカーとして水ベースワニスが使用できる。好ましくは、ラッカー系はポリエステルベースのものである。エンボス加工ラッカーの厚さは、通常、5~50μm、好ましくは2~10μm、特に好ましくは2~5μmである。表面構造の鋳造は、例えば、上昇させた温度で、エンボス加工ツールを放射線硬化性エンボス加工ラッカー中へ押しつけることによって行われ、これは、ラッカーがゲル状態になるまで第一の光開始剤を活性化させることによって事前に硬化される。水希釈性の放射線硬化性エンボス加工ラッカーが使用される場合、エンボス加工の前に、エンボス加工ラッカーフィルムから水を除去するために、例えば、IRラジエーター又は熱対流乾燥のような乾燥工程を導入する必要があるであろう。支持基板は、好ましくは、温度制御されたクランプシリンダーに取り付けられたエンボス加工ツールと接触するようになる。表面構造のエンボス加工は、好ましくは、被覆された支持基板がエンボス加工ツールに接触した時にのみ、行われる。エンボス加工ラッカーの特性の変化が速すぎたり遅すぎたりするのを回避するために、圧力及び、特に、温度などの工程パラメーターの正確な制御が必要とされる。エンボス加工が行われるのと同時に、エンボス加工ラッカーの最終硬化及びそれに続く完全硬化が行われる。さらに、エンボス加工ラッカーは、熱可塑性ラッカーを含んでなることができる。熱可塑性ラッカーは、熱可塑特性又は安定化特性に影響を及ぼす変性因子を含み得るMMA又はエチルセルロース又は環式オレフィンポリマーをベースとすることができる。ガラス転移温度に影響を及ぼす、ベースポリマーの添加剤に依存して、ラッカーが熱可塑状態にある温度範囲又は硬化特性を変更することができる。MMAをベースとするラッカーは、ガラス転移温度を上昇させる添加剤としてニトロセルロースを好ましく含む。環式オレフィンポリマーをベースとするラッカーは、ポリエチレンワックスを好ましく含む。エチルセルロースをベースとするラッカーは、市場から入手可能な架橋剤を好ましく含む。ラッカー中のベースポリマーの濃度は、ベースポリマーの種類、所望の特性及び変性因子に依存し、そして、通常、4~50重量である。ラッカーは乾燥されるが、好ましくは、制御された上昇した温度及び/又は圧力における従来の熱エンボス加工プロセスにより、乱反射する微小構造でエンボスされる際には未だ熱可塑状態である。エンボス加工後、ラッカー層は放射線により、又は温度を高めることにより、又は架橋層でインプリントすることにより硬化させることができる。エンボス加工されてポリマーコーティングは、普通透明であるが、溶解性又は顔料着色された着色剤によって、セキュリティエレメントの視覚的外観を変えるように着色することができる。エンボス加工されたポリマーコーティングの厚さは、通常、10μ未満、好ましくは5μm未満である。エンボス加工されたポリマーコーティングは、次いで、表面レリーフの反射性を増強させるために、そしてその表面レリーフの鏡のような部分と乱反射部分との間のコントラストを最小化するために金属化される。金属化された層は、熱蒸着、電子ビーム蒸着又はスパッタリングを用いた、公知のPVD法及びCVD法、好ましくはロールツーロール方式の真空ウェッブコーティング法で堆積させることができる。金属粉顔料を含有する印刷インキの使用もまた、真空コーティングされた層に似た視覚的外観を作ることができる。金属層は、Al、Sn、Cu、Zn、Pt、Au、Ag、Cr、Ti、Mo、Fe、Pt、Pd又は合金、例えば、Cu-Al、Cu-Sn、Cu-Zn、Iron-合金、鋼、ステンレス鋼などで好ましく形成される。金属層は、セキュリティエレメントの表面全体に適用できるか、又はセキュリティエレメントの選択された部分にのみ適用することができる。そのような部分的金属化層は、金属蒸着及びそれに続くエッチングにより、又は、例えば、国際公開第99/13195A号パンフレットに記載されているような脱金属化法を用いて製造される。それらの部分金属層はまた、ラスター又は線グリッドの形態で製造でき、その際、ラスタードットは、不透明又は半透明であることができる。好ましくは、グリッドはハーフトーン画像を示す。部分金属層は、反射光で目に見えるセキュリティ特徴エンボス加工金属と、透過光で目に見える特徴部分金属層とをセキュリティエレメントの同じ場所に組み合わせるために、エンボス加工に対抗して適用することができる。セキュリティエレメントの視覚的外観は、明るく研磨された金属硬貨の外観に非常に似ている。金属コーティングの適切な選択により、外観は、同じ合金又は同様の光学特性を有する合金を使用することによって、造幣で使用される材料銀、銅、真鍮、ニッケル等に一致させることができる。さらなる実施形態において、金属コーティングは、広範囲にわたって色相を調整できる、明るい反射カラーを生じる、着色された金属化合物コーティングと置き換えることができる。着色された金属層は、所定の厚さ及び所定の光学パラメータースペクトル吸収、屈折率、透明度を有する金属化合物層及び少なくとも一つの少なくとも部分的に反射する層からなることができる。金属化合物は、所定の又は選択された吸収特性を有し、好ましくは、>1.6の屈折率を有する透明又は半透明な材料を含む。好ましくは、金属の酸化物、硫化物又はフッ化物、又は半導体が使用される。適当な金属化合物の例は、Ti、Zn、Cu、Zr、Al、Cr、Mg、Hf、Si、Y又はTaの酸化物、インジウム-スズ-酸化物ITO、アンチモン-スズ-酸化物ATO、フッ素-スズ-酸化物FTOのような複合酸化物、Zn-クロム酸塩又はZnS、BaF2、MgF2、CaF2である。該少なくとも部分的に反射する層は、Al、Sn、Cu、Zn、Pt、Au、Ag、Cr、Ti、Mo、Fe、Pt、Pd又は合金、例えば、Cu-Al、Cu-Sn、Cu-Zn、鉄-合金、鋼、ステンレスなどからなる金属層から製造される。この層は、好ましくは、従来公知のPVD法又はCVD法を用いて施用される。着色された金属層を、金属化合物層の側から見ると、光は、最初に金属化合物層を通過し、それから、少なくとも部分的に反射するそうで反射し、その後、金属化合物層を再び通過する。視覚的外観は、該少なくとも部分的に反射する層のスペクトル反射特性と組み合わせた、金属化合物層における所定のスペクトル吸収及び干渉によって決定される。したがって、視覚的外観は、以下のパラメーターによって決定される。金属化合物層の光学特性金属化合物層の厚さ少なくとも部分的に反射する層のスペクトル反射特性金属化合物層の光学特性は材料に依存し、該材料は、その層の屈折率及び吸収特性を定義する。例えば、TiOx層は、約2.2の屈折率を有し、CuOx層は2.0の屈折率を有し、そしてMgF2のそれは1.38である。吸収は、金属の固有な特性であり、通常は、特徴、すなわち、所定の波長範囲内の吸収が、他の波長範囲における場合よりも高い、例えば、吸収端が可視光範囲内であるか、又は吸収係数が波長の増大に伴って増大する場合である。吸収係数は化学量論、例えば、酸化物の場合、堆積プロセスの間酸素分圧を制御することによって、影響を受け得る。真空中で酸素を用いずにTiが堆積される場合、約30~50nmの厚さで不透明層が形成され、堆積プロセスの間、酸素が添加される場合、同じ層厚で無視できるほどの吸収を示す化学量論量の酸化化合物TiO2が形成されるまで、その層は、益々透明になる。光学的な厚さ屈折率n、幾何学的厚さdの製品が入射光の波長範囲内50~2,000nmの金属化合物の半透明層は、異なる屈折率を有するその隣接する層との上部及び下部の境界面における部分的反射によって生じる干渉効果をもたらす。この結果、ある波長において、色彩効果を示す入射光の選択的増幅又は減衰がもたらされ、これは層の厚さに従って変化する。したがって、所定の材料、例えば、一定の化学量論量を有するTiOx又はCuOxは、層の幾何学的厚さにのみ依存した、異なる色彩を示すことになる。例えば、80nmの厚さを有するCuOx層は、入射白色光の緑色及び青色のスペクトル成分を減じ、そして黄色成分を強めるが、同じ化学量論量の160nmのCuOx層は、入射白色光の赤色及び青色成分を減じ、そして緑色成分を強める。さらに、着色金属層の色は、少なくとも部分的に反射する層の影響を受けることができる。例えば、アルミニウム層は、可視スペクトル範囲全体にわたって連続反射を示すが、銅は赤っぽい色を示す、すなわち、光の赤色成分が、その青色成分よりも強く反射される。当業者であれば、他の金属層が、反射着色金属層の外観にどのように影響するかを見出すことは容易である。本発明のさらに別の実施形態によれば、セキュリティ特徴は、二元金属反射層又は多金属反射層を生じさせるために、二つ又はより多くの、少なくとも部分的に重なるか、又は離間した金属層を含むことができる。好ましくは、異なる金属は、異なる視覚的外観又は色彩を有し、そして金属の組合せ、金属合金、金属化合物及び着色金属層は、視覚的に魅力的な光学的効果を生じさせることができる。同様の二元金属効果は、硬貨により知られており、これは、硬貨の外環に銀様の外観を示し、硬貨の中央部分において真鍮様の外観を示す。金属層の厚さは、通常、1~100nmの範囲内、好ましくは10~50nmの範囲内にある。厚さの選択は、材料及び所望の光学特性に依存する。本発明の他の実施形態によれば、特徴featureは、さらなるセキュリティエレメント、例えば、蛍光特性、燐光特性、サーモクロミック特性、光学的変化特性、磁性特性又は導電特性を有するセキュリティプリントと組み合わせることができる。そのような層の光学特性は、顔料、例えば、可視スペクトル範囲、UVスペクトル範囲又はIRスペクトル範囲で蛍光又は燐光を発する蛍光顔料、液晶のようなエフェクト顔料、虹色、真鍮色及び/又は多層カラーシフト顔料multilayercolorshiftingpigment、並びにサーモクロミック顔料により決定される。これらの顔料は単独で又は様々な組合せで用いることができる。層の磁性特性は、常磁性顔料、反磁性顔料又は強磁性顔料によって与えられる。好ましくは、水性又は溶剤含有の分散剤中で、Fe酸化物、Fe、Ni、Co及びそれらの合金、Baフェライト又はCoフェライト、磁気的に硬質又は軟質のFe化合物又は鋼化合物を含有する、磁性ワニス又はラッカーが使用される。そのような層の導電特性は、グラファイト、カーボンブラックのような導電性顔料、又は導電性有機又は無機ポリマー、金属顔料Cu、Al、Ag、Au、Fe、Crなど、Cu/Zn、Cu/Alなどのような金属合金、ITOなどのようなアモルファス又は結晶性セラミック顔料を含むラッカー又はワニスによって与えられる。さらに、Si、Geのようなドープされた又は非ドープの半導体、又はアモルファス又は結晶性金属酸化物又は金属硫化物のようなイオン性導体を、導電性層含むことができる。さらに、セキュリティエレメントは、欧州特許第1310381号特許文献14にしたがって製造できるホログラム、回折格子、表面レリーフのような回折エレメントを含むことができる。セキュリティエレメントは、片面又は両面をさらに、顔料着色されたか又は顔料着色されていない保護ラッカーで被覆することができる。そのような被覆は、従来技術において良くしられており、そしてセキュリティエレメント物理耐性又は化学体制を増強するために提供される。さらに、セキュリティエレメントは、その片面又は両面に接着層、例えば、顔料着色されたか又は顔料着色されていない、低温封止層又は高温封止層又は自着層を設けることができる。上述のようなセキュリティエレメントは、さらなるセキュリティエレメントを含み得るさらなる支持基板に積層させることができる。セキュリティエレメントは、縞、線条、小片の形態で製造することができ、そして天然又は合成紙上に適用するか、又はその中へ少なくとも部分的に埋設して有価書類のための基板を製造することができる。さらに、プラスチックカードクレジットカード、IDカード等又は渡航書類パスポート、ビザ等における使用もまた可能である。さらなる実施形態において、セキュリティエレメントは、片面又は両面から、基板中の凹み又は穴において可視的であることができる。セキュリティエレメントは、基板中へ部分的に埋設するか又は接着層の助けにより基板上へ施用することができ、それにより、セキュリティエレメントの支持基板は、機能層が紙に移された際に、セキュリティエレメント上に留まらせるか又は剥離させることができる。造幣及び紙幣製造プロセスにおいて同一の構造を使用することができるため、硬貨及び紙幣の光学的外観は、公に対し、同一の一次レベル特徴を与えるよう整合させることができるため、新規な通貨システムを創出することができる。図1は、本発明の特許請求の範囲に記載の、セキュリティエレメント2を有する有価書類1を示しており、該セキュリティエレメントは有価書類の表面に適用されている。有価書類は、セキュリティエレメントのセキュリティ特徴4に似せた凹版プリント3の形態の別のセキュリティエレメントを含む。セキュリティエレメント2は、エンボス加工されていない部分金属層5をさらに備える。図2は、図1のセキュリティ書類の断面図を示している。セキュリティエレメント2は、有価書類1の表目に適用され、そして接着層9により固着されている。該接着層は、典型的に、ヒートシール接着材あり、上昇した温度により活性化される。セキュリティエレメントは、本質的に三つの層からなる。すなわち、無彩色表面レリーフ構造を有するエンボス加工ラッカー6、少なくとも表面レリーフ構造の領域中に適用される部分金属層8、及び接着層9である。観察者は、セキュリティエレメントを、透明なエンボス加工ラッカー6を通して観察し、そして、金属層8からの反射光を見る。金属層8が、エンボス加工ラッカー6と接着層9との間で保護されているため、図2に示すフィルムのセットアップは、高度に耐久性のある有価書類における使用に非常に適している。図3は、紙幣表面へ転送される前のセキュリティエレメント2を示している。セキュリティエレメント2の層は、連続工程において支持基板10上に製造される。転送プロセスの間、セキュリティエレメントの接着剤で被覆された面は、有価書類の基板と接触することになる。圧力の行使及び/又は上昇した温度により、接着層9は活性化され、そしてセキュリティエレメント2を基板表面へ固着させる。支持基板10はその後除去される。通常、セキュリティエレメント2の厚さは、支持フィルムの厚さよりもずっと薄い。それゆえ、基板からのセキュリティフィルム2の除去は、それを破壊せずには不可能である。図4は、金属層8の堆積後の、エンボス加工ラッカー6の微小構造化表面の概略的拡大図を示している。表面は、低粗度表面を有するスペクトル反射領域11と、ランダム粗度の表面を有する乱反射領域12とに分割することができる。そのような表面上において、光反射の三つの異なるモードを識別することができる。領域13:入射光が鏡面反射される、すなわち、入射及び反射が同一である。この領域は、鏡様の光学的外観を示す。領域14:表面のランダムな不規則部分において、入射光が乱反射されるか又は散乱される。表面のトポグラフィーの非周期性に起因して、非散乱効果が見られる。この領域の光学的外観はマットな仕上げである。領域15:入射光が表面レリーフの端で散乱される。入射光の一部は表面から反射される一方、その他の部分は、観察者から反射され離れる。見る角度に依存して、エンボス加工の側壁からの反射は、斜角度見ることができる。これは、セキュリティエレメントの反射率が、傾斜の際に反転し得る状況をもたらす。"