"対象物を走査する装置であって、ある平面内で移動可能に取り付けられたキャリア本体10であって、照明光ビーム19を前記対象物の、前記平面に平行な第1の対象物平面に集束させる光学素子12を保持するキャリア本体10を有し、前記キャリア本体10を前記光学素子12とともに、前記照明光ビーム19の基準位置における前記照明光ビーム19の中心軸に関して横方向に移動させ、前記照明光ビーム19の焦点領域を前記第1の対象物平面内で移動させる第1の電磁駆動装置2を有する、装置。前記キャリア本体10が、平行ばね機構によって前記平面に平行に移動可能に取り付けられている、請求項1に記載の装置。前記平行ばね機構が2つ以上の平行ばね連係部材5、7,9、11を備える、請求項2に記載の装置。前記平行ばね連係部材5、7、9,11の少なくとも1つが、前記電磁駆動装置2のための電流供給線を形成する、請求項3に記載の装置。前記キャリア本体10がプリント回路基板を備え、その上に前記第1の電磁駆動装置2の少なくとも1つの駆動用構成要素が形成される、請求項1~4のいずれか一項に記載の装置。前記第1の電磁駆動装置2が、第1の駆動用構成要素としてコイル機構3を備え、第2の駆動用構成要素として、少なくとも1つの磁界を発生させる磁界発生機構6を備え、前記コイル機構3または前記磁界発生機構6が前記キャリア本体10に連結固定され、前記2つの駆動用構成要素のうち、前記キャリア本体10に連結されていない方が所定の位置に固定される、請求項1~5のいずれか一項に記載の装置。前記磁界発生機構6が、第1の磁界を発生させる第1の磁界発生装置6a、6bと、前記第1の磁界発生装置から所定の距離だけ離間され、かつ前記第1の磁界と反対方向に向けられる第2の磁界を発生させる第2の磁界発生装置8a、8bとを備え、前記コイル機構3が、第1のコイル4aを有する第1のコイルリード4を備え、その中心が前記2つの磁界発生装置6a、6b、8a、8bの間に位置付けられ、前記第1のコイルリードの一部が前記第1の磁界の中に、一部が前記第2の磁界の中に入り込む、請求項6に記載の装置。前記コイル機構3が、第2のコイル26a、第3のコイル26b、第4のコイル26c、第5のコイル26dを有する第2のコイルリード26を備え、そのうちの2つが同じ回転方向に巻かれる一方で、2つは反対の回転方向に巻かれ、同じ回転方向に巻かれた前記コイルの2つ26a、26cが前記2つの磁界の同じ側に配置され、前記コイルの一方26cが部分的に前記第1の磁界の中に入り込み、他方のコイル26aが部分的に前記第2の磁界の中に入り込み、他の2つのコイル26b、26dが前記2つの磁界の反対側に配置され、これらコイルの一方26dが前記第1の磁界の中に入り込み、他方のコイル26bが前記第2の磁界の中に入り込み、前記第2のコイルから第5のコイル26a、26b、26c、26dのいずれも、前記磁界の、前記第1のコイル4aが配置されている側には配置されていない、請求項7に記載の装置。前記磁界発生機構6が、前記第1の磁界と反対の第3の磁界を発生させる第3の磁界発生装置22bと、前記第2の磁界と反対の第4の磁界を発生させる第4の磁界発生装置24bとを備え、4つの磁界発生装置6b、8b、22b、24bが長方形の角に配置され、長方形に沿った前記磁界発生装置6b、8b、22b、24bの各々が、反対の磁界を有する磁界発生装置6b、8b、22b、24bに隣接し、前記第1のコイルリード4が、前記第1のコイル4aと反対の回転方向に巻かれた第6のコイル4bを備え、その中心が第3と第4の磁界発生装置22b、24bの間に配置され、部分的に前記第3の磁界の中に、また部分的に前記第4の磁界の中に入り込み、前記コイル機構3が、相互に反対の回転方向に巻かれている第7のコイル26fと第8のコイル26eを有する第2のコイルリード26を備え、前記第7のコイル26fの中心が第1と第3の磁界発生装置6b、22bの間に位置付けられ、前記第7のコイル26fが第1と第3の磁界発生装置6b、22bの中に入り込み、前記第8のコイル26eの中心が第2と第4の磁界発生装置8b、24bの間に位置付けられ、前記第8のコイル26eが第2と第4の磁界発生装置8b、24bの中に入り込む、請求項7に記載の装置。前記キャリア本体10の位置を、ひいては前記光学素子12の位置を検出する位置センサを備える、請求項1~9のいずれか一項に記載の装置。前記位置センサが、前記キャリア本体10の陥凹部92、光源95および光検出器96を備え、前記光源95からの光が前記陥凹部92を通って前記光検出器96に至り、前記光検出器96への光の投射が、前記キャリア本体10の移動の結果として相応に移動し、前記キャリア本体10の実際の位置を検出できる、請求項10に記載の装置。前記キャリア本体10が、前記平面に対して垂直に移動可能に取り付けられ、前記支持本体10を前記平面に対して垂直に移動させる第2の電磁駆動装置59を備える結果、前記照明光ビーム19の焦点が、前記第1の対象物平面から所定の距離だけ離れ、かつ前記平面に平行な第2の対象物平面内で移動可能である、請求項1~11のいずれか一項に記載の装置。照明光ビーム19を発生させる光源22と、前記照明光ビーム19を前記第1または第2の対象物平面内の異なる対象物地点に集束させる、請求項1~12のいずれか一項に記載の装置と、を備える走査顕微鏡。対象物を走査する装置を作動する方法であって、前記装置の第1の電磁駆動装置2が作動されて、前記電磁駆動装置3の駆動用構成要素に接続されたキャリア本体であって、かつ照明光ビーム19を対象物平面の焦点領域へと集束させる光学素子12を保持する前記装置のキャリア本体10が前記対象物平面に平行に移動され、このようにして、前記照明光ビーム19の前記焦点領域が前記対象物平面内で移動される、方法。本発明の課題は、対象物の走査、ひいては光学的検出を低コストで実行できる、対象物を走査する装置、その装置の作動方法および走査顕微鏡を提供することである。上記の課題は、特許請求の範囲の独立項の特徴によって解決される。有利な実施形態は、従属項に記載されている。本発明の特徴は、キャリア本体が、ある平面内で移動可能に取り付けられ、照明光ビームを対象物の、上記の平面に平行な第1の対象物平面上に集束させる光学素子を保持することである。第1の電磁駆動装置は、光学素子とともにキャリア本体を、および第1の対象物平面内では照明光ビームの焦点領域を移動させる。その間、キャリア本体は光学素子とともに、照明光ビームの基準位置における照明光ビームの中心軸に関して横方向に移動される。好ましくは、キャリア本体は光学素子とともに移動され、したがって、焦点領域はその平面内で2つの異なる方向に移動される。これによって、対象物表面または内部の所与の走査野の走査が可能となる。対象物は、好ましくは試料、特に組織試料である。照明光ビームの基準位置は、任意に前もって定められる照明光ビームの所望の固定の位置である。たとえば、照明光ビームそのものが、少なくとも部分的に移動可能な光ファイバを通じて、たとえば光学素子上に向けられることによって移動される場合、照明光ビームの基準位置は光ファイバの可動部の基準位置によって決定される。あるいは、光学素子が光ファイバであり、照明光ビームを移動させることができてもよい。その場合、基準位置はキャリア本体の基準位置、たとえば、キャリア本体がアクチュエータアセンブリの電流がゼロの状態で取る位置によって決定される。キャリア本体を特に精密に懸下させるには、好ましい実施形態において、平行ばね機構が使用される。平行ばね機構は、たとえば、2つ以上の平行ばね連係部材からなる。これらの平行ばね連係部材のうちの1つ以上を、電磁駆動装置のための電流供給線として使用してもよい。すると、電源用の別のケーブルが不要となる。さらに、平行ばね連係部材は、2つの異なる方向への曲げ応力について2つの異なるばね定数を有していてもよいため、キャリア本体と平行ばね連係部材とを含むシステムは、移動方向の違いに応じて異なる本来的な周波数固有周波数を有することになる。その結果、このシステムは、両方向へと互いに独立して共鳴振動させることができる。好ましい実施形態において、キャリア本体はプリント回路基板を含むか、またはそれから形成され、一方、第1の電磁駆動装置の少なくとも1つの駆動用構成要素はそのプリント回路基板上に形成される。それゆえ、キャリア本体は、キャリア本体が光学素子を担持し、それと当時に駆動用構成要素のための基板になるという点で、二重の機能を果たす。他の好ましい実施形態において、第1の電磁駆動装置は、第1の駆動用構成要素としてコイル機構を、また、第2の駆動用構成要素として、少なくとも1つの磁界を発生させる磁界発生機構を備える。コイル機構または磁界発生機構はどちらもキャリア本体に接続され、同時に、これら2つの駆動用構成要素のうち、キャリア本体に接続されない方は固定の位置に配置される。磁界発生機構は、磁界を発生する1つまたは複数の磁性要素を有していてもよい。この磁性要素は、1つまたは複数のコイルを形成するように巻かれたコイルリード、および/または永久磁石であってもよい。キャリア本体の現在位置は、キャリア本体の位置を検出する位置センサによって、いつでも容易かつ正確に判断できる。本発明はさらに、光源と対象物を走査する装置を備える走査顕微鏡に関する。以下に、本発明の例示のための実施形態を、概略的な図面を使ってより詳しく説明する。異なる図面間で、同じ構成または機能を有する要素には、同じ参照番号を付与した。図1は、第1の動作状態にある第1の電磁駆動装置2の第1の実施形態を示す。第1の電磁駆動装置2は、コイル機構3と磁界発生機構6を有し、アクチュエータアセンブリと呼ぶこともできる。コイル機構3は、第1のコイルリード4を含む。磁界発生機構6は、上側の第1の磁界発生要素6aと下側の第1の磁界発生要素6bとを含む。第1のコイルリード4はキャリア本体10に連結固定され、キャリア本体10は集束レンズ系12を担持し、保持部材1から、第1のばね要素5と第2の要素7を介して懸下されている。2つのばね要素5、7は平行ばね連係部材であり、平行ばね機構の一部を形成し、それによって、キャリア本体10とそこに連結されている集束レンズ系12は、ある平面内で移動可能に取り付けられる。2つのばね要素5、7のうちの少なくとも一方は、コイル機構3のための電流供給線として使用される。磁界発生機構6は第1の磁界を発生させ、その磁界線15は、図1において上から下に向かう。第1の動作状態では、第1のコイルリード4の電流の束は反時計回り方向である。これは、コイルリード4に、ひいてはキャリア本体10と集束レンズ系12に第1の力を加える。第1の力は、第1の力のベクトル16にしたがって、キャリア本体10を磁界から押し出す。第1の力は、第1のコイルリード4の移動電荷キャリアに作用するローレンツ力によって発生する。図2は、第1の電磁駆動装置2の、図1と同じ実施形態示しているが、駆動装置が第2の動作状態にあり、この状態では第1のコイルリード4を流れる電流の束は第1の動作状態の場合と反対の方向、すなわち時計回り方向である。この第2の動作状態において、コイル機構3と、ひいてはキャリア本体10と集束レンズ系12は磁界に向かって引っ張られる。図2はまた、上側の第1の、および下側の第1の磁性要素6a、6bを通る断面を示しており、これらは、この実施形態において、それぞれ第1と第2の磁気コイル15、17を含む。あるいは、この磁性要素には永久磁石を設けてもよい。図3は、電磁駆動装置の第2の実施形態を示しており、第1のコイルリード4がコイルホルダ21によって所定の位置に固定され、磁界発生機構6、具体的には上側および下側の第1の磁性要素6a、6bがキャリア本体10に取り付けられている。この実施形態でも、第1のコイルリード4の電流は、第1の動作状態においては反時計回り方向に流れ、第1の磁力のベクトル16に対応する力がコイルリード4に加わる。しかしながら、この実施形態ではコイルリード4が固定されているため、磁界発生機構6はキャリア本体10および集束レンズ系12とともに、コイルホルダ21と反対の方向に押される。図4は、第2の動作状態にある第1の電磁駆動装置2の第2の実施形態を示しており、第1のコイルリード4の中の電流の方向は第1の動作状態の場合とは反対である。その結果、力は第1のコイルリード4に対し、磁界発生機構6に向かって加わり、または磁界発生機構6から遠ざかり第1のコイルリード4へと向かい、その結果、キャリア本体10は集束レンズ系12とともに、コイルホルダ21に向かって移動する。この実施形態でも、磁性要素6a、6bはコイルで具現化されている。あるいは、永久磁石を設けてもよい。図5は、第1と第2のばね要素5、7に加えて、第3のばね要素9と第4のばね要素11が設けられている好ましい実施形態を示す。ばね要素5、7、9、11は、キャリア本体10を保持し、それが集束レンズ系12とともに、ある平面内で移動可能に取り付けられている。動作中には普通のことであるが、キャリア本体10が若干撓んだとしても、キャリア本体10はその平面に垂直な方向にわずかに移動するだけであるため、その移動は無視できる。ばね要素5、7、9、11は、キャリア本体10が2方向に移動可能であるが、回転することはできないように具現化される。これに加えて、ばね要素5、7、9、10は、キャリア本体とばね要素5、7、9、11を含むシステム全体が、その平面内の第1の方向、たとえばx方向に、その平面内の第2の方向、たとえばy方向とは異なる本来的な周波数、すなわち固有周波数を有するように具現化される。特に、ばね要素5、7、9、11は、異なる2方向への曲げ応力を受けた時に、異なる2つのばね定数を有していてもよい。それゆえ、x方向および/またはy方向の移動は共鳴的な性質であってもよく、その結果、走査速度および/または走査振幅を非共鳴性の励起の場合より格段に増大させることができる。周波数は、ギャップを含まず、所望の画像フィールド全体をカバーするようなリサジュー図形が得られるように選択するべきである。ホルダ1は、好ましくは陥凹部13を有し、これを通じて、照明光ビーム19が集束レンズ系12へと向けられる。集束レンズシステム12は、照明光ビームを焦点領域、特に焦点23に集束させる。あるいは、照明光ビーム19は、たとえば線状焦点等、任意の所望の焦点領域を形成するように集束されてもよい。図6は、第1の電磁駆動装置の第3の実施形態の平面図を示しており、そのうちのコイル機構3と磁界発生機構6の相互に関する配置が特によくわかる。特に、図6は、下側の第1の磁性要素6aのほかに、下側の第2の磁性要素8bも示しており、これは、それに対応する上側の第2の磁性要素図示せずとともに、第1の磁界に平行な第2の磁界を発生させる。第1のコイルリード4が巻かれて、第1のコイル4aを形成する。とりわけ2つの下側の磁性要素6b、8bによって発生される磁界の方向は、対応する磁性要素6b、8bの中の、それぞれ点または×印で示される。第1のコイルリード4に沿った矢印は、第1のコイル4aが巻かれている方向を示す。第1のコイルリード4に電流が流れると、第1のコイル4aは、第1のコイル4aの中の電流の方向に応じて第1または第2の磁界の中または外へと押し動かされる。図7は、第1の電磁駆動装置2の第3の実施形態を示し、この場合、キャリア本体10、ひいては集束レンズ系12は、ある平面内の2方向に移動できる。第2のコイルリード26がこの目的のために設置されている。第2のコイルリード26は、第2のコイル26a、第3のコイル26b、第4のコイル26c、第5のコイル26dを含む。キャリア本体10はプリント回路基板によって形成され、その上に第2~第5のコイル26a~26dがリソグラフィにより形成される。この実施形態において、第1のコイルリード4もまた、キャリア本体10の上にその第1のコイル4aを有するように具現化されている。同じコイルリードの対向するコイルの巻き方は、相互に反対である。その効果として、たとえば電流が第2のコイルリード26の中を流れると、力が一方向のみにコイル、ひいてはキャリア本体10と集束レンズ系12に加わる。すると、第2のコイルリード26の電流の方向に応じて、キャリア本体10は集束レンズ系12とともに図7の上方または下方に移動する。第1のコイルリード4の中の電流の流れにより、この移動をそれに対して垂直に、すなわち図7の左右に制御できる。あるいは、上下方向の移動はまた、試料34を移動させることによっても変換できる。走査工程はラインごと、またはコラムごとに行ってもよく、または空間内のどの方向に行ってもよく、それによって、たとえばある構造に沿った工程を、特に画像で示すことができる。図8は、第1の電磁駆動装置2の第4の実施形態を示し、この場合はまた、集束レンズ系12もその平面内で特別な2方向に移動できる。この目的のために、第1の電磁駆動装置2は、第1と第2の下側磁性要素6b、8bに加えて、第3の下側磁性要素22bと第4の下側磁性要素24bを含み、これらは対応する上側の第3と第4の磁性要素図示せずとともに、それぞれ第3と第4の磁界を発生させる。この実施形態において、第1のコイルリード4は、第1のコイル4aと第6のコイル4bとを含む。第1と第6のコイル4a、4bは、集束レンズ系12に関して反対に配置される。第1のコイル4aは、一部が第1と第2の磁界に貫入する。第6のコイル4bは、一部が第3と第4の磁界に貫入する。第2のコイルリード26は、第7のコイル26eと第8のコイル26fとを含む。第7と第8のコイル26eと26fは、集束レンズ系12に関して相互に反対に配置される。第7のコイル26eは、少なくとも部分的に第2と第4の磁界に貫入する。第8のコイル26fは、少なくとも部分的に第1と第3の磁界に貫入する。図9は、走査ユニット31として、前述の、対象物、特に試料34の走査装置を有する走査顕微鏡を示す。走査顕微鏡は、照明光ビーム19を生成する光源29を有する。照明光ビーム19は平行化され、ビームスプリッタ30により集束レンズ系12へと偏向される。集束レンズ系12はその間、上から十分に照明されるため、どの走査位置についても、照明光ビーム19は集束レンズ系を同じ方向に通過する。キャリア本体10は、シャッタまたはマスクとして機能する。集束レンズ系12は、集束された照明光ビーム32をスライドガラス36の上に載置された試料34へと向ける。第1のコイルリード4の第1と第6のコイル4a、4bはキャリア本体10の上に、各々がキャリア本体10の陥凹部27の周縁を取り囲むように取り付けられる。第1の磁界発生機構6と第2の磁界発生機構33は上下の第2の磁性要素を含み、走査ユニット31の筐体と一体形成されており、これを、対象物を走査する装置とも呼んでよい。試料34から発せられた検出光ビーム44は、ビームスプリッタ30を通じて検出レンズ46へと向けられ、これによって検出光ビーム34は検出シャッタを通って検出器50へと向けられる。検出光ビーム44は、とりわけ、たとえばラマン効果、特に非線形ラマン効果による試料34の蛍光発光効果の結果として生成される。測定値を対応する画素位置に割り当てるには、従来の共焦点顕微鏡で使用されるものと同じ方法を用いる。本発明による装置を使用できる顕微鏡法またはその方法で観察できる効果には、たとえば、SRS誘導ラマン散乱法、FLIM蛍光寿命イメージング法、SHG光第2高調波発生法、FRAP光褪色後蛍光回復法、FRET蛍光共鳴エネルギー移動法、FCS蛍光相関分光法がある。図10は、図9による走査顕微鏡の実施形態を示しており、この中では、走査ユニット31が垂直ばね要素68によって、キャリア本体10が移動可能に取り付けられている平面に対して垂直に移動できるように取り付けられている。特に、この実施形態の走査顕微鏡は、走査顕微鏡の筐体に接続された第3の磁界発生機構60を備える。第3の磁界発生機構は、垂直キャリア本体64に連結された垂直コイル62を介して、垂直コイル62の電流の流れに関係なく、走査動作31の全体をスライドガラス36に対して垂直方向に移動させるように協働する。このようにして、対象物内の焦点23をz方向に移動させることができる。その結果、平坦な領域だけでなく、体積全体を光学的に走査することが可能となる。あるいは、試料もまたz方向に移動してよい。図11は、上から見たキャリア本体10の詳細図である。この図は、集束レンズ系12、陥凹部27、第1と第2のコイル26a、26bを示している。そのほかに、キャリア本体は2つの陥凹部92を有する。陥凹部92は、図12に示される単純な位置センサの一部である。図12は、キャリア本体10の陥凹部92を有するキャリア本体10を示している。散乱ディスク94が位置センサの光源95とキャリア本体10の間に配置されている。キャリア本体10を越えて、4つの異なる感光領域を有する光検出器96が設けられている。中心位置の光源95からの光は、光を、陥凹部92を通じて光検出器96へと投射する。投射位置に応じて、キャリア本体10の位置を測定できる。それゆえ、調節ループによって、キャリア本体10の実際の位置を所望の位置に特に正確にマッチさせることができる。光検出器96は、たとえば、4分割ダイオードを有する位置敏感型シリコン検出器PSDであってもよい。あるいは、位置センサはまた、容量型、誘導型または磁気抵抗センサAMR/GMRセンサであってもよい。好ましくは、2つの位置センサを、集束レンズ系12の位置に関して対称に配置する。本発明は、上記の実施形態に限定されない。たとえば、キャリア本体を平面内で移動できる、コイルと磁界のどのような組合せも可能である。特に、各コイルが個別のコイルリードを有していてもよく、その結果、キャリア本体をはるかに正確に偏向させ、または回転させることさえでき、それによって、たとえば偶発的なあらゆる回転を補償できる。さらに、永久磁石を使って磁界を発生させてもよい。集束レンズ系12を上から照明する必要はない。他の光源を設けてもよい。集束レンズ系12と試料34の間に浸漬剤、特に走査ユニット内の内側浸漬剤および/または走査ユニット外の外側浸漬剤を塗布してもよい。あるいは、またはこれに加えて、集束レンズ系12はまた、試料34から見て、内側に湾曲したレンズを含んでいてもよい。"