混銑車内の溶銑に浸漬ランスを浸漬させ、浸漬ランスから酸素ガスまたは不活性ガスを供給して溶銑を攪拌しながら脱燐処理するにあたり、混銑車の炉口上方に配置する集塵フードに設けられた、前記浸漬ランスの貫通するランス挿入孔及び/またはその周囲に窒素ガスを吹き付けて、ランス挿入孔及びその周囲の雰囲気ガス中の酸素ガス濃度を低減させ、ランス挿入孔から流出する排ガスの燃焼を抑止することを特徴とする、溶銑の脱燐処理における発炎抑制方法。本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、混銑車内の溶銑に浸漬ランスを浸漬させ、浸漬ランスから酸素ガスまたは不活性ガスを供給して溶銑を攪拌しながら脱燐処理する際に、混銑車の炉口上方に配置する集塵フードに設けられた、浸漬ランスの貫通するランス挿入孔から流出する排ガスの燃焼を抑制することのできる、溶銑の脱燐処理における発炎抑制方法を提供することである。上記課題を解決するための本発明の要旨は以下のとおりである。1混銑車内の溶銑に浸漬ランスを浸漬させ、浸漬ランスから酸素ガスまたは不活性ガスを供給して溶銑を攪拌しながら脱燐処理するにあたり、混銑車の炉口上方に配置する集塵フードに設けられた、前記浸漬ランスの貫通するランス挿入孔及び/またはその周囲に窒素ガスを吹き付けて、ランス挿入孔及びその周囲の雰囲気ガス中の酸素ガス濃度を低減させ、ランス挿入孔から流出する排ガスの燃焼を抑止することを特徴とする、溶銑の脱燐処理における発炎抑制方法。本発明によれば、集塵フードに設けられた、浸漬ランスの貫通するランス挿入孔及び/またはその周囲に窒素ガスを吹き付けて、ランス挿入孔及びその周囲の雰囲気ガス中の酸素ガス濃度を低減させるので、ランス挿入孔から排ガスが流出しても、排ガスは燃焼しないまま大気に拡散し、流出する排ガスによる火炎の発生を抑制することが達成される。以下、添付図面を参照して本発明を具体的に説明する。図1は、本発明の実施の形態の1例を示す図であって、本発明を適用して溶銑の脱燐処理を実施する概略図である。図1において、混銑車1の混銑車炉体2には溶銑10が収容されており、この溶銑10に浸漬ランス4が混銑車炉体2の炉口3を介して浸漬され、浸漬ランス4から酸素ガス及びこの酸素ガスを搬送用ガスとして粉体のCaO系精錬剤が吹き込まれ、溶銑10に対して脱燐処理が施されている。この場合、CaO系精錬剤に鉄鉱石などの酸化鉄を混合させ、浸漬ランス4からCaO系精錬剤及び酸化鉄を溶銑中に吹き込むようにしてもよく、また、酸素ガスに替えて不活性ガス例えば窒素ガスを用い、つまり酸素ガスを使用せずに、浸漬ランス4からCaO系精錬剤と酸化鉄とを吹き込むようにしても構わない。脱燐剤として供給する酸素ガスまたは酸化鉄により、溶銑中の燐は酸化されて燐酸化物P2O5となり、供給されるCaO系精錬剤の滓化によって形成される脱燐精錬用スラグに吸収されて脱燐反応が進行する。この場合、溶銑10は4質量以上の炭素を含有するので、溶銑中炭素と供給する酸素ガスまたは酸化鉄との反応脱炭反応も起こり、COガスが発生する。CaO系精錬剤としては、粉状の生石灰単独、或いは、生石灰と蛍石CaF2または酸化アルミニウムAl2O3との混合物などを用いることができる。炉口3の上方には、脱燐処理で発生する排ガス、ダスト、スプラッシュなどを集塵するための集塵フード5が、炉口3を覆うようにして設けられており、集塵フード5は集塵ダクト6を介して集塵機図示せずに連結されている。つまり、集塵機を作動させることにより、脱燐処理中に炉口3から排出される排ガス、ダスト、スプラッシュなどが集塵フード5に集められ、集塵されるようになっている。集塵フード5は炉口3を覆っていることから、炉口3を介して溶銑10に浸漬される浸漬ランス4は、集塵フード5に設けられたランス挿入孔7を通って混銑車炉体2に挿入されるようになっている。尚、浸漬ランス4は、上下移動が可能であり、脱燐処理を実施しないときには、混銑車1の移動を妨げることがないように、その下端部が炉口3の上方の待機位置まで上昇するようになっている。浸漬ランス4の上下移動を容易とするために、浸漬ランス4の外周面とランス挿入孔7の内壁面とには間隙が設けられている。集塵フード5に連結する集塵機は、通常の脱燐処理において炉口3から排出される排ガスを十分に吸引するだけの集塵能力で稼動しているが、酸素ガスや酸化鉄の供給流量が増加するなどによって脱燐処理による排ガスの発生量が一時的に増加した場合、或いは、集塵ダクト6にダストが付着するなどして吸引量が低下した場合には、ランス挿入孔7から排ガスが流出する。排ガスは、溶銑中の炭素と供給する酸素ガスや酸化鉄との反応で生成するCOガスを含有しており、且つ、高温であることから、ランス挿入孔7から流出する排ガスが着火し燃焼することが発生する。これを防止するために、本発明では、ランス挿入孔7の周囲に至る窒素ガス供給管8を設置し、窒素ガス供給管8を介してランス挿入孔7及び/またはその周囲に窒素ガスを吹き付けて、ランス挿入孔7及びその周囲の雰囲気ガス中の酸素ガス濃度を低減させ、ランス挿入孔7から流出する排ガスの燃焼を抑止する。図2に、ランス挿入孔7の周囲の平面拡大図を示す。図2に示すように、ランス挿入孔7の周囲では浸漬ランス4を周囲から取り囲む環状の形状となる窒素ガス供給管8を設置し、この窒素ガス供給管8に配置したノズル9からランス挿入孔7の方向に向けて窒素ガスを噴射し、ランス挿入孔7及びその周囲の雰囲気ガス中の酸素ガス濃度を低減させ、これにより、ランス挿入孔7から流出する排ガスの燃焼を抑止する。燃焼が抑止された排ガスはその後大気中に拡散し、それ以降の燃焼も抑止される。窒素ガス供給管8から供給する窒素ガス流量は特に規定する必要はなく、例えば、100~2000NL/minで十分である。但し、ランス挿入孔7から流出する排ガスの流量が多い場合には不足する場合もあるので、そのようなときには、窒素ガス供給管8から供給する窒素ガス流量を多くすればよい。ランス挿入孔7からの排ガスの流出時期は予測できないので、脱燐処理の全期間に亘って窒素ガス供給管8から窒素ガスを供給する。このようにして脱燐処理を実施することで、窒素ガス供給管8から窒素ガスを供給しない期間には30回/月程度の頻度でランス挿入孔7での火炎発生が起こったが、ランス挿入孔7での火炎発生の頻度を最大でも3回/月程度に抑止することが実現されている。このように、本発明によれば、集塵フード5に設けられた、ランス挿入孔7及び/またはその周囲に窒素ガスを吹き付けて、ランス挿入孔7及びその周囲の雰囲気ガス中の酸素ガス濃度を低減させるので、ランス挿入孔7から排ガスが流出しても、排ガスは燃焼しないまま大気に拡散し、流出する排ガスによる火炎の発生を抑制することが達成される。尚、本発明は上記説明に限定されるものではなく、種々の変更が可能である。例えば、上記説明は浸漬ランス4を介して酸素ガスを供給しているが、浸漬ランス4とは別に上吹きランスを設け、この上吹きランスから酸素ガスを溶銑10の浴面に吹き付けるようにしてもよい。この場合には、上吹きランスと集塵フード5との間隙からも排ガスが流出するので、この部位も窒素ガスを吹き付ける必要がある。また、窒素ガス供給管8にノズル9を設置しているが、ノズル9を設置せずに、環状の窒素ガス供給管8に孔を設ける、或いは、水平方向のスリットを設けるようにしても構わない。