正極をSiO2の化学式を有している酸化ケイ素とし、負極をSi3N4の化学式を有している窒化ケイ素又はホウ化ケイ素SiB4又は金とし、正極と負極との間に非水電解質を採用するシリコン二次電池を製造するために、シリコン化合物粉末にゼオライトを混合して、紫外線又は約130°Cに加熱ながら印刷し各電極を製膜してから、当該電極にゼオライトを混合した固体電解質をコーティングした後、両電極を接合して単位セルを作成するシリカ電極二次電池、及び当該製造方法。請求項1において、電極リード金属を基盤にスパッタリングした後、陽極にアモルファスSiO2及び陰極にアモルファスSi3N4を電極リード金属性の基盤に、300MHzより高い例えば550MHzUHF帯の高周波電源を使用した大気圧プラズマ化学蒸着法で薄膜を作成する、当該ケイ素化合物電極の製膜方法。請求項1において、シリコン二次電池モジュールを組み立てるために、単位セルを作成してから直列に接続した直列電池を、シリコンゴム板とカバーを使用して、加圧可能なボルトで締めて密封することを特徴としたシリカ電極二次電池モジュール、及びその製造方法。電極においてケイ素化合物を採用する固体電解質型二次電池に於いて、陽極に酸化ケイ素SiO2、さらにゼオライトを含む固体電解質を、高速で且つ安価に製膜するシリカ電極の二次電池モジュール、及び製造方法を提供する。陽極及び陰極においてケイ素化合物を採用する固体電解質型二次電池に於いて、陽極に酸化ケイ素SiO2、及び陰極にSi3N4を、さらに固体電解質を、高速で且つ安価に製膜するシリコン二次電池モジュールと製造方法を提供できる。多孔質陽極のSiC、及び多孔質陰極のSi3N4を、スパッタリングした金属上に短時間に製膜するために、シリコン化合物粉末にゼオライトを混合して、藤倉化成、又はアサヒ化学研究所、又はハリマ化成が製造販売している導電性ペーストを使用して印刷する。例えば、藤倉化成が製造販売している、ナノ銀粒子を混入している、商品名がドータイトFA353N、又はグラファイトのナノ粒子が混入している、商品名がドータイトFC415を、ドータイトPシンナーを使用して溶解させた導電性インキを使用してグラビア印刷、又は転写印刷、又はオッフセット印刷、又はインクゼット印刷、又はシルク印刷、を使用して、スバッタリングをした金属板上にシルク印刷をして、ポリエステル系の樹脂にて出来ている導電性のインキを、130°C前後に加熱して乾燥させて、各々の電極を作成する。又は、紫外線又は約130°Cに加熱しシルク印刷して各電極を作成する。紫外線UVインキは、紫外線のエネルギーを利用することによって乾燥するインキで、熱乾燥と比較して省エネルギーであり、瞬間硬化であり、生産性向上に貢献できる。ゼオライトを使用した固体電解質は、ゼオライトを非水電解質に混合して、短時間にコーティングできる。シリコン二次電池を組み立てるために、リード金属に製膜した、酸化ケイ素SiO2の正極、及び窒化ケイ素の負極を製造した後、各電極に上記の非水固体電解質を塗布して、張り合わせることにより、当該の単位電池を迅速に組み立て製造できる。単位電池を直列に積層してから、加圧可能なボルトで締めて接合して、気密を維持できるとともに、強い振動や衝撃にも耐え得るように出来る。前記基本構成1のように、正極においては酸化ケイ素SiO2のうち最も安定している化合物を採用しており、負極においては窒化ケイ素のうち安定しているSi3N4による化合物を採用している。正極による充電に際してはケイ素において4価の次に安定した状態は8価であることから、以下のような化学反応が行われることになる。2SiO2→SiO4Sie-逆に放電に際しては、以下のような化学反応が行われることになる。SiO4Sie-→2SiO2陰極においては、窒化ケイ素は最も安定しているSi3N4からケイ素が4価から3価に変化し、窒素が3価から2価に変化することによって、次に安定しているSi2N3という化合物の状態に変化し、以下のような化学式が成立することなる。3Si3N4e-→4Si2N3Si-逆に放電に際しては、以下のような化学反応が行われることになる。4Si2N3Si-→3Si3N4e-したがって、充放電を統一することによって、以下のような化学反応が行われている。2SiO23Si3N4=SiO44Si2N3Si-Siまた下記記載のようなシリコン二次電池を形成してもよい。例えば、酸化ケイ素SiO2の微粉末、又は炭化ケイ素の微粉末以下、略して、酸化ケイ素SiO2、酸化ケイ素の微粉末とすると、活性炭の微粉末、又はカーボン、又はグラファイト、又は鉄の微粉末、又はその他の導電性の微粉末以下、略して、活性炭とするを非導電性のアクリル樹脂、又は塩化ビニール樹脂、又はポリカーボネイト樹脂以下、略して、アクリル樹脂、又は導電アクリル樹脂とするなどの樹脂の内部に混入をして成形して導電性のアクリル樹脂板とした導電性の樹脂板で出来ている正電極板21、及び同じアクリル樹脂などの樹脂の内部に窒化ケイ素Si3N4の微粉末と活性炭の微粉末、又はカーボン、又はグラファイト、又は鉄の微粉末、又はその他の導電性の微粉末以下、略して、活性炭とするを非導電性のアクリル樹脂、又は非導電性の塩化ビニール樹脂、又は非導電性のポリカーボネイト樹脂以下、略して、アクリル樹脂とするの内部に混入をして成形して導電性のアクリル樹脂板で出来ている負電極板22との中間に、例えば、信越ポリマー株が製造販売をしている商品名がセプルジーダOC-AE49CLotNo111021又はセプルジーダOC-X301LotNo110907又は藤倉化成株が製造販売している商品名がドータイトFC-415などの導電性の樹脂の内部にゼオライトを混入して出来ている導電性の樹脂板23をサンドイッチ形状に積層したシリコン二次電池を正電極チタン基盤1、及び負電極チタン基盤9を使用して両側面上から正電極板21と負電極板22との中間にゼオライトを混入している導電性の樹脂板23を積層して圧着させて接合させて形成をした構造のシリコン二次電池ならば、図7、図8、及び図9に示しているように、正電極板21とゼオライトを混入して出来ている非水電解質を目的とする導電性の樹脂板23と負電極板22を交互に積層することにより、容易に大電流を充電及び放電することができるシリコン二次電池を形成することができる効果がある。さらに、図5、図6、図7、図8、及び図9に示しているシリコン二次電池を形成する場合、非導電性のアクリル樹脂、又は非導電性の塩化ビニール樹脂、又は非導電性のポリカーボネイト樹脂以下、略して、アクリル樹脂とするなどの樹脂の内部に、例えば、酸化ケイ素SiO2の微粉末、又は信越化学工業株の関係会社の信濃電気精錬株が製造販売している炭化ケイ素粉末で商品名がシナノランダムSERA20LotNoS071116、又は同じく炭化ケイ素粉末で商品名がシナノランダムGP1200LotNo00730221、以下、略して、酸化ケイ素SiO2とするをアクリル樹脂と、例えば、酸化ケイ素SiO2の微粉末が30で、活性炭が30で、アクリル樹脂が30で、酸化ケイ素の微粉末をより一段と多量に混入をする目的にて導電性の接着剤を10混入した酸化ケイ素SiO2とアクリル樹脂を練り上げて酸化ケイ素SiO2の微粉末を混入した導電性のアクリル樹脂板以下、略して正電極板とするを例えば縦方向が10cmで横方向が10cmで厚さが1mmの正電極板21を形成した。また上記にて説明した、正電極板21を形成する内容と同様に、非導電性のアクリル樹脂、又は塩化ビニール樹脂、又はポリカーボネイト樹脂以下、略して、アクリル樹脂とするなどの樹脂の内部に、例えば、負電極板22を窒化ケイ素Si3N4、又はホウ化ケイ素SiB4、又は金、又は信越化学工業株の関係会社の電気化学工業株が製造販売している窒化ケイ素粉末で商品名がSN-9FWSLotNo92772S、又は同じく窒化ケイ素粉末で商品名がSN-9SLotNo:92543、以下、略して、窒化ケイ素とする。と、例えば、窒化ケイ素の微粉末が30で、活性炭が30で、アクリル樹脂が30で、窒化ケイ素の微粉末をより一段と多量に混入をする目的にて導電性の接着剤を10混入した窒化ケイ素粉末とアクリル樹脂を練り上げて混合して、窒化ケイ素粉末入りの導電性のアクリル樹脂板以下、略して負電極板とするを例えば、縦方向が10cmで横方向が10cmで厚さが1mmの負電極板22を形成した。さらに上記にて説明した酸化ケイ素粉末とアクリル樹脂でできている例えば、縦方向が10cmで横方向が10cmで厚さが1mmの正電極板21と窒化ケイ素粉末とアクリル樹脂で出来ている縦方向が10cmで横方向が10cmで厚さが1mmの負電極板22との中間に、例えば上記にて説明した信越ポリマー株が製造販売をしている商品名がセプルジーダOC-AE49CLotNo111021又は同じくセプルジーダOC-X301LotNo110907又は藤倉化成株が製造販売している商品名がドータイトFC-415などの導電性の樹脂の内部に例えば、東ソー株が製造販売している商品名がHSZ-890HOALotNo89HA1501などのゼオライトを混入して混合して練り上げて成形した非水電解質または非電解膜を目的とした導電性の樹脂板23を図5に示しているように正電極板21と負電極板22との中間にサンドイッチ形状に積層して形成をしたシリコン二次電池を両側面上から正電極チタン基盤1及び負電極チタン基盤9を圧着させて接合させた両側面上から例えば4.5Vの充電をすると酸化ケイ素と窒化ケイ素の電位差である2Vボルトの電位差を維持する二次電池が出来た。さらに0.2Aアンペアの電流値が流れるシリコン二次電池を形成することができた。このことから大容量のシリコン二次電池を形成するのには図6、図7、図8、及び図9に示しているように正電極板21と非水電解質又は非電解膜を目的とした導電性の樹脂板23と負電極板22とを交互にサンドイッチ形状に直列に積層をすると大容量のシリコン二次電池を形成することが出来ることが判明した。また大容量のシリコン二次電池を形成するのには正電極板21と負電極板22の厚さを、例えば1mm以上、又は2mm以上、又は3mm以上、又は4mm以上、又はmm以上、又は10mm以上とした正電極板21及び同じく同様の厚さが厚い負電極板22を形成すると容易に大容量のシリコン二次電池を形成することが出来ることが判明した。さらに酸化ケイ素粉末、及び窒化ケイ素粉末などの原材料であるシリコンをリチウムなどと比較すると極く安価なので例えば縦方向が100cmで横方向が100cmの大面積のシリコン二次電池を極く安価に形成できる利点がある。さらに、会社の所在地が長野県上高井郡高山村大字中山981の会社名がアスザック株に依頼をして、例えば、酸化ケイ素SiO2が60で、活性炭が40で、素材寸法mmで縦×横×厚みが150×150×2の酸化ケイ素SiO2の微粉末が60で、活性炭が40で出来ている原板を電気炉などの加熱手段を使用して、約1520°Cの高温にて焼き固めて出来ている原板を上記にて説明したアクリル樹脂などの樹脂の内部に酸化ケイ素SiO2の微粉末を混入して成形をした樹脂板で出来ている正電極板21の代わりとして使用してシリコン二次電池を形成すると、容易に高性能のシリコン二次電池を形成することが出来る。また、負電極板22として使用する窒化ケイ素Si3N4に関しては、会社の所在地が埼玉県川口市栄町3-12-6の会社名株タキオンが受注生産しているので、上記にて説明した、正電極板21と全く同じ寸法mmで縦×横×厚みが150×150×2を例えば、窒化ケイ素Si3N4が60で、活性炭が40で出来ている原板を電気炉などの加熱手段を使用して、約1520°Cの高温にて焼き固めて出来ている原板を上記にて説明した、アクリル樹脂などの樹脂の内部に窒化ケイ素Si3N4の微粉末を混入して成形をした樹脂板で出来ている負電極板22の代わりとして使用してシリコン二次電池を形成すると、容易に高性能のシリコン二次電池を形成することが出来る。陽極に酸化ケイ素SiO2粉末、及び陰極にSi3N4粉末を電極リード金属性の10cm正方形基盤に高速で製膜する製法として、電極リード金属2を基盤1にスパターリングした後、陽極にアモルファス酸化ケイ素SiO23、及び陰極にアモルファスSi3N47を、電極リード金属性の基盤にスパッタリング又は大気圧プラズマ化学蒸着CVD法で薄膜を作成し、シリコン化合物粉末にゼオライトを混合してから、紫外線又は約130°Cに加熱し印刷して各電極を製膜してから、当該電極にゼオライトを混合した固体電解質5をコーティングした後、両電極を接合して単位セルを作成して、直列に接続してから加圧可能なボルト18で締めて接合して、シリコン二次電池モジュールを製作した。この二次電池に対し、1cm2当たり06アンペアの電流密度となるような定電流源で充電を行ったところ、充電電圧を1.1Vから1.2Vの範囲にて約1時間で充電することができた。金属性の10cm正方形基電極リード金属2を基盤1にスパッタリングした後、シリコン化合物粉末を大気圧プラズマ化学蒸着CVD法成膜法を採用して、電極と基板の間の小さなギャップにおいて高密度なプラズマを発生させることが可能となるにより、各電極を製膜してから、当該電極にゼオライトを混合した固体電解質をコーティングした後、両電極を接合して単位セルを作成して、直列に接続して電極リード板を取り付けてから、シリコンゴム板とカバーを加圧可能なボルトで締めて密封して、シリコン二次電池モジュールを製作すると、3Vから4Vの範囲にて放電状態を約1時間維持することができた。