基板と、前記基板の一方の面に形成され、トラッキング制御用の凹凸又は溝を有するサーボ層と、前記基板の前記サーボ層側に予め積層され又は事後的に形成され、トラッキング制御用の凹凸を有しない第1記録再生層と、前記基板の前記サーボ層と反対側に予め積層され又は事後的に形成され、トラッキング制御用の凹凸を有しない第2記録再生層と、を有し、前記第1記録再生層及び前記第2記録再生層は、前記サーボ層を利用してトラッキング制御を行いながら情報が記録されることを特徴とする光記録媒体。前記基板は、光透過性材料によって構成されることを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体。予め積層される前記第1記録再生層と前記サーボ層の間には第1バッファ層が積層されると共に、予め積層される前記第2記録再生層と前記基板との間には第2バッファ層が積層され、前記第1バッファ層と前記第2バッファ層の厚みが、略同じであることを特徴とする、請求項1又は2に記載の光記録媒体。前記サーボ層に照射されるトラッキング用ビームの波長における前記基板の屈折率は、前記第2バッファ層の屈折率より高いことを特徴とする、請求項3に記載の光記録媒体。前記サーボ層に照射されるトラッキング用ビームの波長における前記基板の屈折率は、前記第1バッファ層の屈折率より高いことを特徴とする、請求項3又は4に記載の光記録媒体。前記第1記録再生層と前記第2記録再生層は、前記基板の厚み方向の中心を基準に対称となる位置に予め積層又は事後的に形成されることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれかに記載の光記録媒体。前記第1記録再生層及び前記第2記録再生層は、それぞれ複数備えることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれかに記載の光記録媒体。前記基板から最も遠い前記第1記録再生層の外側に第1カバー層が積層されると共に、前記基板から最も遠い前記第2記録再生層の外側に第2カバー層が積層され、前記第2カバー層の厚みと比較して、前記第1カバー層の厚みが、前記基板の厚さ分だけ大きく設定されていることを特徴とする、請求項1乃至7のいずれかに記載の光記録媒体。前記第1又は第2記録再生層に照射される記録再生用ビームと比較して、前記サーボ層の照射されるトラッキング用ビームが長い波長に設定されており、前記トラッキング用ビームを照射した場合の前記サーボ層の反射率は、仮に前記記録再生用ビームを前記サーボ層に照射した場合の反射率と比較して大きいことを特徴とする、請求項1乃至8のいずれかに記載の光記録媒体。前記基板の厚さが10μm~600μmであることを特徴とする、請求項1乃至9のいずれかに記載の光記録媒体。光透過性材料によって構成される基板の一方の面に対して、トラッキング制御用の凹凸又は溝を有するサーボ層を形成するステップと、前記基板の前記サーボ層側に配置される第1バッファ層と、前記基板の前記サーボ層と反対側に配置される第2バッファ層を、同時に積層するステップと、前記第1バッファ層側に配置されるトラッキング制御用の凹凸を有しない平面構造の第1記録再生層と、前記第2バッファ層側に配置されるトラッキング制御用の凹凸を有しない平面構造の第2記録再生層を、同時に積層するステップと、を有することを特徴とする光記録媒体の製造方法。前記第1記録再生層側に配置される第1カバー層と、前記第2記録再生層側に配置される第2カバー層を、別々に積層するステップを有することを特徴とする、請求項11記載の光記録媒体の製造方法。請求項1乃至10のいずれかに記載の光記録媒体に情報を記録する光記録方法であって、前記サーボ層にトラッキング用ビームを照射してトラッキング制御を行いながら、前記第1記録再生層に記録用ビームを照射して情報を記録するステップと、前記サーボ層にトラッキング用ビームを照射してトラッキング制御を行いながら、前記第2記録再生層に記録用ビームを照射して情報を記録するステップと、を有することを特徴とする光記録媒体の光記録方法。しかし、特許文献3の技術では、記録再生層の層数を増大させると、凹凸や溝を有する記録層の層数が増大するので、結局、媒体構成が複雑となり、偏芯調整などの作業が困難になるという問題があった。また、特許文献1、2の技術では、光記録媒体の製造時において、記録再生層とスペーサ層を交互に積層していく工程を経るため、これらの成膜時の内部応力が光記録媒体の一方の面に片寄る。この結果、光記録媒体に大きな反りや歪みが生じやすいという問題があった。特に、記録再生層の層数が増大させると、内部応力の蓄積量が増大し、光記録媒体の変形量も大きくなる。光記録媒体が変形すると、トラッキング用のビームスポットと、記録再生用のビームスポットがずれてしまい、トラッキング特性が著しく低下するという問題があった。このことから分かるように、特許文献1、2の技術のような、サーボ層と記録再生層を分離させた光記録媒体は、その反りや変形量を一層小さくすることが要求される。反りや変形量を小さくするために、ガラス基板などの超剛性体を用いることも考えられるが、製造コストの増大を招いてしまう。本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、サーボ層と記録再生層を有する光記録媒体に対して、反りや変形を抑制しながらも、効率的に記録再生を行うことが可能な光記録媒体等を提供することを目的としている。本発明者らの鋭意研究によって、上記目的は以下の手段によって達成される。即ち、上記目的を達成する本発明は、基板と、前記基板の一方の面に形成され、トラッキング制御用の凹凸又は溝を有するサーボ層と、前記基板の前記サーボ層側に予め積層され又は事後的に形成され、トラッキング制御用の凹凸を有しない第1記録再生層と、前記基板の前記サーボ層と反対側に予め積層され又は事後的に形成され、トラッキング制御用の凹凸を有しない第2記録再生層と、を有し、前記第1記録再生層及び前記第2記録再生層は、前記サーボ層を利用してトラッキング制御を行いながら情報が記録されることを特徴とする光記録媒体である。上記目的を達成する上記光記録媒体の前記基板は、光透過性材料によって構成されることを特徴とする。上記目的を達成する上記光記録媒体は、予め積層される前記第1記録再生層と前記サーボ層の間には第1バッファ層が積層されると共に、予め積層される前記第2記録再生層と前記基板との間には第2バッファ層が積層され、前記第1バッファ層と前記第2バッファ層の厚みが、略同じであることを特徴とする。上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記サーボ層に照射されるトラッキング用ビームの波長における前記基板の屈折率が、前記第2バッファ層の屈折率より高いことを特徴とする。上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記サーボ層に照射されるトラッキング用ビームの波長における前記基板の屈折率が、前記第1バッファ層の屈折率より高いことを特徴とする。上記目的を達成する上記光記録媒体の前記第1記録再生層と前記第2記録再生層は、前記基板の厚み方向の中心を基準に対称となる位置に予め積層又は事後的に形成されることを特徴とする。上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記第1記録再生層及び前記第2記録再生層をそれぞれ複数備えることを特徴とする。上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記基板から最も遠い前記第1記録再生層の外側に第1カバー層が積層されると共に、前記基板から最も遠い前記第2記録再生層の外側に第2カバー層が積層され、前記第2カバー層の厚みと比較して、前記第1カバー層の厚みが、前記基板の厚さ分だけ大きく設定されていることを特徴とする。上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記第1又は第2記録再生層に照射される記録再生用ビームと比較して、前記サーボ層の照射されるトラッキング用ビームが長い波長に設定されており、前記トラッキング用ビームを照射した場合の前記サーボ層の反射率は、仮に前記記録再生用ビームを前記サーボ層に照射した場合の反射率と比較して大きいことを特徴とする。上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記基板の厚さが10μm~600μmであることを特徴とする。上記目的を達成する本発明は、光透過性材料によって構成される基板の一方の面に対して、トラッキング制御用の凹凸又は溝を有するサーボ層を形成するステップと、前記基板の前記サーボ層側に配置される第1バッファ層と、前記基板の前記サーボ層と反対側に配置される第2バッファ層を、同時に積層するステップと、前記第1バッファ層側に配置されるトラッキング制御用の凹凸を有しない平面構造の第1記録再生層と、前記第2バッファ層側に配置されるトラッキング制御用の凹凸を有しない平面構造の第2記録再生層を、同時に積層するステップと、を有することを特徴とする光記録媒体の製造方法である。上記目的を達成する上記製造方法は、前記第1記録再生層側に配置される第1カバー層と、前記第2記録再生層側に配置される第2カバー層を、別々に積層するステップを有することを特徴とする。上記目的を達成する本発明は、上記光記録媒体に情報を記録する光記録方法であって、前記サーボ層にトラッキング用ビームを照射してトラッキング制御を行いながら、前記第1記録再生層に記録用ビームを照射して情報を記録するステップと、前記サーボ層にトラッキング用ビームを照射してトラッキング制御を行いながら、前記第2記録再生層に記録用ビームを照射して情報を記録するステップと、を有することを特徴とする光記録媒体の光記録方法である。本発明によれば、サーボ層と記録再生層を有する光記録媒体に対して、反りや変形を抑制しながらも、効率的に記録再生を行うことが可能となる。以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。図1には、本発明の実施形態に係る光記録媒体10と、この光記録媒体10の記録再生に用いられる第1、第2光ピックアップ90A、90Bの構成が示されている。第1光ピックアップ90Aは、光記録媒体10の一方の第1表面10A側からビームを照射する。第2光ピックアップ90Bは、光記録媒体10の他方の第2表面30A側からビームを照射する。なお、第1、第2光ピックアップ90A、90Bの内部構成は略同じである。従って、第1光ピックアップ90Aの部品については、図中又は文章中の各符号の末尾にAを付し、第2光ピックアップ90Bの部品については、図中又は文章中の符号の末尾にBを付し、それ以外は同じ符号にする。また、ここでは第1光ピックアップ90Aの内部構成を詳細に説明することで、第2光ピックアップ90Bの説明を省略する。図2に示されるように、第1光ピックアップ90Aは、記録再生用光学系100Aと、トラッキング用光学系200Aを備える。記録再生用光学系100Aは、光記録媒体10の第1記録再生層群14に対して記録再生を行う光学系となる。トラッキング用光学系200Aは、記録再生用光学系100Aを利用して第1記録再生層群14に情報を記録する際に、サーボ層18を利用してトラッキング制御を行う光学系となる。記録再生用光学系100Aの光源101Aから出射された発散性の記録再生用のビーム170Aは、球面収差補正手段193Aを備えたコリメートレンズ153Aを透過し、偏光ビームスプリッタ152Aに入射する。なお、ビーム170Aは青色波長380~450nmここでは405nmとなっている。偏光ビームスプリッタ152Aに入射したビーム170Aは、この偏光ビームスプリッタ152Aを透過して、更に4分の1波長板154Aの透過によって円偏光に変換された後、トラッキング用光学系200Aのビームスプリッタ260Aに入射する。このビームスプリッタ260Aは、透過率が大きく、且つ反射率が小さく設定されている。具体的に反射率に対する透過率の比率が10倍又はそれ以上に設定される。従って、ビーム170Aはビームスプリッタ260Aを透過して、対物レンズ156Aで収束ビームに変換される。このビーム170Aは、光記録媒体10の内部に形成された、記録再生対象となる第1第1記録再生層群14又はサーボ層18のいずれかに集光される。対物レンズ156Aの開口はアパーチャ155Aで制限され、開口数NAを0.70~0.90ここでは0.85としている。例えば、第1記録再生層群14で反射されたビーム170Aは、対物レンズ156A、ビームスプリッタ260A、及び4分の1波長板154Aを透過して往路とは90度異なる直線偏光に変換された後、偏光ビームスプリッタ152Aで反射される。偏光ビームスプリッタ152Aで反射されたビーム170Aは、集光レンズ159Aを透過して収束光に変換され、シリンドリカルレンズ157Aを経て、光検出器132Aに入射する。ビーム170Aには、シリンドリカルレンズ157Aを透過する際、非点収差が付与される。光検出器132Aは、図示しない4つの受光部を有し、それぞれ受光した光量に応じた電流信号を出力する。これら電流信号から、非点収差法によるフォーカス誤差以下FEとする信号、DPD位相差法によるトラッキング誤差以下TEとする信号、光記録媒体10に記録された情報の再生信号等が生成される。FE信号およびTE信号は、所望のレベルに増幅および位相補償が行われた後、アクチュエータ191Aおよび192Aにフィードバック供給されて、フォーカス制御およびトラッキング制御がなされる。なお、記録再生用光学系100Aによるトラッキング制御は再生時のみ利用される。トラッキング用光学系200Aの光源201Aから出射された、赤色波長630~680nmここでは650nmとなる発散性のトラッキング制御用のビーム270Aは、球面収差補正手段293Aを備えたコリメートレンズ253Aを透過し、偏光ビームスプリッタ252Aに入射する。偏光ビームスプリッタ252Aに入射したビーム270Aは、偏光ビームスプリッタ252Aを透過して、更に4分の1波長板254Aを透過して円偏光に変換された後、ビームスプリッタ260Aで反射される。このビーム270Aは更に対物レンズ156Aで収束ビームに変換されて、光記録媒体10の内部に形成されたサーボ層18に集光される。サーボ層18で反射されたビーム270Aは、対物レンズ156Aを透過してビームスプリッタ260Aで反射し、4分の1波長板254Aにおいて往路とは90度異なる直線偏光に変換された後、偏光ビームスプリッタ252Aで更に反射される。偏光ビームスプリッタ252Aで反射されたビーム270Aは、集光レンズ259Aを透過して収束光に変換され、シリンドリカルレンズ257Aを経て、光検出器232Aに入射する。ビーム270Aには、シリンドリカルレンズ257Aを透過する際、非点収差が付与される。光検出器232Aは、図示しない4つの受光部を有し、それぞれ受光した光量に応じた電流信号を出力する。これら電流信号から、DPD位相差法によるトラッキング誤差TE信号が生成される。なお、サーボ層18にも情報が記録されている場合は、この電流信号から再生信号を生成してもよい。この光検出器232A側では、フォーカス誤差FE信号を生成する必要はないが、勿論、フォーカス誤差FE信号を生成しても良い。なお、既に述べたように、ビームスプリッタ260Aは、透過率が大きく且つ反射率が小さく設定されている。従って、記録再生用光学系100Aの光源101Aから出射され、第1記録再生層群14のいずれかで反射した戻り光の一部は、ビームスプリッタ260Aで反射してトラッキング用光学系200A側に進む。反対に、トラッキング用光学系200Aの光源201Aから出射され、サーボ層18で反射した戻り光の大部分は、ビームスプリッタ260Aを透過して記録再生用光学系100A側に進む可能性がある。記録再生用光学系100Aとトラッキング用光学系200Aにおいて、両者の戻り光が混合する場合であっても、記録再生用光学系100Aとトラッキング用光学系200Aは、光記録媒体10内において互いに異なる焦点位置となるため、各ビーム170A、270Aの拡がり角度が異なる。従って、特に図示しない一定形状のスリットやアパーチャを用いてビーム170A、270Aの一方のみを抽出してから、各光検出器132A、232Aに入射させることで、混合による影響を除去する。もちろん、波長選択性を有するフィルタによってビーム170A、270Aを分離しても良い。とりわけ、記録再生用光学系100Aにおけるビーム170Aの光記録媒体10内の焦点位置と、トラッキング用光学系200Aのビーム270Aの光記録媒体10内の焦点位置の差が、常に一定の範囲内に収まるようにすると、上述のスリットやアパーチャを簡潔な構造にできるので、より簡便にビームの分離が可能となる。焦点距離の差を安定させるためには、記録再生用のビーム170Aの焦点位置と、サーボ用のビーム270Aの焦点位置が近い方が、誤差が小さくなるので好ましいと言える。記録再生用光学系100Aによる第1記録再生層群14への情報の記録時は、トラッキング用光学系200AのTE信号について、所望のレベルに増幅および位相補償が行われた後、アクチュエータ191Aおよび192Aにフィードバック供給されてトラッキング制御がなされる。この結果、トラッキング用光学系200Aのトラッキング制御に基づいて、記録再生用光学系100Aが第1記録再生層群14に情報を記録するようになっている。なお、本実施形態では、第1記録再生層群14に記録済みの情報を再生する際は、第1記録再生層群14上の記録マークを利用して記録再生用光学系100Aが独自にトラッキング制御するようにしている。一方、トラッキング用光学系200Aのトラッキング制御を利用しながら再生することも勿論可能である。第2記録再生層群34への記録再生は、第2光ピックアップ90Bで行われる。図3に示されるように、第2光ピックアップの記録再生用光学系100Bによって、第2記録再生層群34へ情報の記録する際は、トラッキング用光学系200Bをサーボ層18に照射することで得られるTE信号を用いる。このTE信号によって、記録再生用光学系100Bをトラッキング制御しながら第2記録再生層群34に情報を記録する。図4には、本実施形態の光記録媒体10の断面構造が拡大して示されている。光記録媒体10は、外径が約120mm、厚みが約1.2mmの円盤形状となっている。この光記録媒体10は、第1表面10A側から順番に、第1カバー層11、第1記録再生層群14及び第1中間層群16、第1バッファ層17、サーボ層18、支持基板12、第2バッファ層37、第2記録再生層群34及び第2中間層群36、第2カバー層31、第2表面30Aを備えて構成される。第1記録再生層群14は、ここではL0~L5記録再生層14A~14Fを備えて構成されており、それぞれに情報を記録できる構造となっている。このL0~L5記録再生層14A~14Fは、トラッキング制御用の凹凸や溝を有しない平面構造となっており、記録再生用光学系100から高エネルギーとなる記録用のビーム170が照射されると、記録マークが形成される。なお、この第1記録再生層群14の種類として、情報の追記が出来るが書き換えが出来ない追記型記録再生層と、情報の書換が可能な書換型記録再生層がある。支持基板12は、光記録媒体に求められる厚み約1.2mmを確保するための、厚さが100μm~1200μm、好ましくは100μm~700μmの範囲内となる円盤形状の基板である。具体的に本実施形態では、支持基板12の厚さを500μmに設定し、直径を120mmに設定している。支持基板12における第1表面10A側には、その中心部近傍から外縁部に向けてランド18Aおよびグルーブ18Bが螺旋状に形成される。このランド18Aおよびグルーブ18Bが、トラッキング制御用の凹凸溝となる。この支持基板12における上記凹凸が将来のサーボ層18となる。なお、支持基板12の材料としては種々の材料を用いることが可能であり、例えば、ガラス、セラミックス、樹脂を利用できる。これらのうち成型の容易性の観点から樹脂が好ましい。樹脂としてはポリカーボネイト樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、加工性などの点からポリカーボネイト樹脂やオレフィン樹脂が特に好ましい。支持基板12の上に形成されるサーボ層18は、支持基板12の表面に直接的に形成されるトラッキング制御用の凹凸グルーブおよびランドと、その上に成膜される反射性の層で構成される。特に本実施形態では、反射性の層としてAl、Ag等の金属膜を形成し、単純な光反射膜として機能させている。なお、反射機能に加えて情報を記録可能な記録膜を設ける場合は、後述する記録再生層14A~14Fと略同じ膜構成としてもよい。サーボ層18における隣接するランド18A同士又はグルーブ18B同士のピッチP1は、ここでは0.74μm未満に設定される。具体的にピッチP1は0.6μm~0.7μmの範囲内に設定することが望ましく、より好ましくは0.64μm近傍に設定される。一方で、記録マークのトラックピッチP2は、ランド18A及びグルーブ18BのピッチP1の半分1/2に設定される。即ち、記録マーク間のトラックピッチP2は、0.37μm未満に設定され、望ましくは0.26μm~0.35μmの範囲内に設定され、より好ましくは0.32μm近傍に設定される。結果、記録マーク間のトラックピッチP2は、BD規格との互換性のある0.32μm前後となる。サーボ層18のランド18A同士/グルーブ18B同士のピッチP10.64μm前後は、比較的長い赤色波長領域のビーム270A、270Bで十分なトラッキングができる大きさとなる。本実施形態では、ランド18Aとグルーブ18Bの双方を利用してトラッキングを行う。結果、サーボ層18のピッチP1に対して、記録マークのトラックピッチP2は、その半分の0.32μm前後となる。このように、ランド18Aとグルーブ18Bをそれぞれ利用してトラッキング制御することで、サーボ層18のピッチP2を小さくしなくても、記録再生層群14の記録マークのトラックピッチP2を小さくできる。なお、本実施形態では、このサーボ層18によって、第1光ピックアップ90Aのトラッキング用光学系200Aのビーム270Aと、第2光ピックアップ90Bのトラッキング用光学系200Bのビーム270Bの双方をガイドする。第1バッファ層17は、光透過性のアクリル系の紫外線硬化型樹脂により構成されており、膜厚が238μmに設定されている。第1バッファ層17の第1表面10A側に積層される第1記録再生層群14L0~L5記録再生層14A~14Fは、それぞれ、追記型記録膜の両外側に誘電体膜を積層した3層構造となっている図示省略。なお、このL0~L5記録再生層14A~14Fは、第1光ピックアップ90Aの記録再生用光学系100Aにおける青色波長領域短い波長のビーム170Aに対して光反射率吸収率透過率等が最適化されている。各記録再生層の誘電体膜は、追記型記録膜を保護するという基本機能に加えて、記録マークの形成前後における光学特性の差を拡大させる役割も果たす。なお、ビーム170Aを照射した場合に、この誘電体膜に吸収されるエネルギーが大きいと記録感度が低下しやすい。従って、これを防止するためには、これらの誘電体膜の材料として、380nm~450nm特に405nmの波長領域において低い吸収係数kを有する材料を選択することが好ましい。なお、本実施の形態においては、誘電体膜の材料としてTiO2を用いている。誘電体膜に挟まれる追記型記録膜は不可逆的な記録マークが形成される膜であり、記録マークが形成された部分とそれ以外の部分ブランク領域は、ビーム170Aに対する反射率が大きく異なる。この結果、データの記録再生を行うことができる。追記型記録膜は、Bi及びOを含む材料を主成分として形成される。この追記型記録膜は、無機反応膜として機能し、レーザー光の熱による化学的又は物理的な変化で反射率が大きく異なるようになっている。具体的な材料としては、Bi-Oを主成分とするか、又は、Bi-M-OただしMは、Mg、Ca、Y、Dy、Ce、Tb、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo、W、Mn、Fe、Zn、Al、In、Si、Ge、Sn、Sb、Li、Na、K、Sr、Ba、Sc、La、Nd、Sm、Gd、Ho、Cr、Co、Ni、Cu、Ga、Pbの中から選択される少なくとも1種の元素を主成分とすることが好ましい。なお、本実施形態では、追記型記録膜の材料として、Bi-Ge-Oを用いている。なお、ここではL0~L5記録再生層14A~14Fにおいて追記型記録膜を採用する場合を示したが、繰り返し記録が可能な相変化記録膜を採用することも可能である。この場合の相変化記録膜は、SbTeGeを主成分とすることが好ましい。第1中間層群16は、第1表面10Aから遠い側から順番にL0~L4中間層16A~16Eを有しており、L0~L5記録再生層14A~14Fの間に積層される。各中間層16A~16Eは、アクリル系またはエポキシ系の紫外線硬化型樹脂によって構成される。このL0~L4中間層16A~16Eの膜厚は、積層数を増大させるためには20μm以下に設定することが好ましく、L0中間層16Aが16μm、L1中間層16Bが12μm、L2中間層16Cが16μm、L3中間層16Dが12μm、L4中間層16Eが16μmとなる。つまり、2種類の膜厚16μm、12μmの中間層が交互に積層されている。この結果、L0~L5記録再生層14A~14Fの層間距離として、光入射面側から順番に第1距離16μmと、この第1距離と異なる第2距離12μmが交互に設定されることになる。また、第1距離と第2距離の差は4μmに設定される。このようにすると、層間クロストークが低減される。勿論、全ての中間層群16の膜厚を同じに設定しても良い。第1カバー層11は、第1中間層群16と同様に光透過性のアクリル系の紫外線硬化型樹脂により構成されており、40μmの膜厚に設定されている。支持基板12における第2表面30A側に形成される第2バッファ層37は、光透過性のアクリル系の紫外線硬化型樹脂により構成されており、膜厚が238μmに設定されている。更に、トラッキング用のビーム270Bの波長条件における第2バッファ層37の屈折率は、同波長における支持基板12の屈折率より低く設定されている。このようにすることで、第2バッファ層37側から入射したトラッキング用のビーム270Bが、支持基板12を透過してサーボ層18に到達しやすくなる。なお、本実施形態では、トラッキング用の270Aの波長条件における第1バッファ層17の屈折率は、同波長における支持基板12の屈折率より低く設定されている。このようにすることで、第2バッファ層37と第1バッファ層17の材料を共通化することが可能となり、後述する成膜プロセスを共通化することが可能となる。また、第1、第2バッファ層17、37は、ビームの波長が短いほど光吸収量が大きくなる材料が選択されている。このようにすることで、青色波長のビーム170A、170Bの光吸収量が大きく、赤色波長のビーム270A、270Bの吸収量が小さくなる。結果、第1、第2バッファ層17、37は、青色波長のビーム170A、170Bがサーボ層18に到達してしまう光量を抑制することができるので、再生時の信号ノイズを低減できる。一方、第1、第2バッファ層17、37は、赤色波長のビーム270A、270Bを積極的に透過することで、トラッキング信号の光量を増大させる。第2バッファ層37の第2表面30A側に積層される第2記録再生層群34L0~L5記録再生層34A~34Fは、それぞれ、追記型記録膜の両外側に誘電体膜を積層した3層構造となっている図示省略。なお、このL0~L5記録再生層34A~34Fは、第2光ピックアップ90Bの記録再生用光学系100Bにおける青色波長領域短い波長のビーム170Bに対して光反射率吸収率透過率等が最適化されている。第2中間層群36は、第2表面30Aから遠い側から順番にL0~L4中間層36A~36Eを有しており、L0~L5記録再生層34A~34Fの間に積層される。各中間層36A~36Eは、アクリル系またはエポキシ系の紫外線硬化型樹脂によって構成される。この中間層36A~36Eの膜厚は、積層数を増大させるためには20μm以下に設定することが好ましく、L0中間層36Aが16μm、L1中間層36Bが12μm、L2中間層36Cが16μm、L3中間層36Dが12μm、L4中間層36Eが16μmとなる。つまり、2種類の膜厚16μm、12μmの中間層が交互に積層されている。この結果、L0~L5記録再生層34A~34Fの層間距離として、第2表面30A側から順番に第1距離16μmと、この第1距離と異なる第2距離12μmが交互に設定されることになる。また、第1距離と第2距離の差は4μmに設定される。このようにすると、層間クロストークが低減される。勿論、全ての第2中間層群36の膜厚を同じに設定しても良い。なお、第2記録再生層群34、第2中間層群36の材料などは、第1記録再生層群14及び第1中間層群16と同じであるので、説明は省略する。第2カバー層31は、第2中間層群36と同様に光透過性のアクリル系の紫外線硬化型樹脂により構成されており、40μmの膜厚に設定されている。上記のように構成される結果、光記録媒体10における支持基板12と第1バッファ層17との境界サーボ層18は、第1表面10Aから350μmの距離に位置する。また、第1記録再生層群14の中で第1表面10Aから最も遠いL0記録再生層14Aは、第1表面10Aから112μmの距離に位置しており、L1記録再生層14Bは第1表面10Aから96μm、L2記録再生層14Cは第1表面10Aから84μm、L3記録再生層14Dは第1表面10Aから68μm、L4記録再生層14Eは第1表面10Aから56μm、そして、第1表面10Aに最も近いL5記録再生層14Fは、第1表面10Aから40μmの距離に位置する。また、第1記録再生層群14の全体的な厚みL0記録再生層14A~L5記録再生層14F間の距離は72μmとなる。また、第2記録再生層群34の中で第2表面30Aから最も遠いL0記録再生層34Aは、第2表面30Aから112μmの距離に位置しており、L1記録再生層34Bは第2表面30Aから96μm、L2記録再生層34Cは第2表面30Aから84μm、L3記録再生層34Dは第2表面30Aから68μm、L4記録再生層34Eは第2表面30Aから56μm、そして、第2表面30Aに最も近いL5記録再生層34Fは、第2表面30Aから40μmの距離に位置する。また、第2記録再生層群34の全体的な厚みL0記録再生層34A~L5記録再生層34F間の距離は72μmとなる。即ち、この光記録媒体10は、サーボ層18が非対称に配置されることを除けば、厚さ方向に対称構造となっている。結果、光記録媒体10を製造時に生じる内部応力が、厚さ方向に対称に発生することから、反りや変形を小さくすることが可能になる。特に、支持基板12を700μm以下、ここでは100μmまで薄くしても、光記録媒体10の反りや変形量を抑制することが可能となる。次に、本実施形態の光記録媒体10の製造方法について説明する。図5Aに示されるように、まず、金属スタンパを用いたポリカーボネイト樹脂の射出成型法により、片面のみにグルーブおよびランドが形成された支持基板12を作製する。射出成形の型を利用して、この支持基板12には、第1記録再生層群14及び第2記録再生層群34のアドレス情報、記録再生パワー等を含む記録条件、各記録再生層の位置又は層間距離など、媒体製造時に予め保持させておくべき基本情報がプリフォーマットされる。具体的には、ランド18A又はグルーブ18Bのウォブルを利用して、基本情報がプリフォームされる。なお、支持基板12の作製は射出成型法に限られず、2P法や他の方法によって作製しても構わない。その後、支持基板12におけるグルーブ及びランドが設けられた側の表面にサーボ層18を形成する。サーボ層18は、トラッキング用光学系200Aの光源に対して反射性のある膜例えばAlやAg等の金属膜をスパッタリング法などによって形成する。次に、図5Bに示されるように、このサーボ層18が形成された支持基板12の両面に、第1バッファ層17及び第2バッファ層37を同時形成する。例えば、粘度調整されたアクリル系またはエポキシ系の紫外線硬化型樹脂をスピンコート法等により支持基板12の両面に皮膜化し、これに対して紫外線を照射して硬化することにより、第1、第2バッファ層17、37を形成する。なお、紫外線硬化性樹脂の代わりに、光透過性樹脂からなる光透過性シートを接着剤や粘着剤等を用いて支持基板12の両面に貼り付けて、第1、第2バッファ層17、37とすることもできる。他にもスプレー、DIP法などによって支持基板12の両面に第1、第2バッファ層17、37を形成することもできる。次に、図5Cに示されるように、第1バッファ層17と第2バッファ層37のそれぞれの上に、第1記録再生層群14のL0記録再生層14Aと、第2記録再生層群34のL0記録再生層34Aを同時に形成する。具体的には、誘電体膜、追記型記録膜、誘電体膜の順に気相成長法を用いて形成する。中でもスパッタリング法を用いることが好ましい。その後、第1記録再生層群14のL0記録再生層14Aの上に、第1中間層群16のL0中間層16Aを形成し、第2記録再生層群34のL0記録再生層34Aの上に第2中間層群36のL0中間層36Aを形成する。これらの形成も同時に行われる。なお、L0中間層16A、34Aは、例えば、粘度調整された紫外線硬化型樹脂をスピンコート法等により皮膜し、その後、この紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射して硬化することにより形成する。この手順を繰り返すことで、第1バッファ層17側には第1記録再生層群14及び第1中間層群16が交互に積層され、第2バッファ層37側には第2記録再生層群34及び第2中間層群36が交互に積層されていく。第1記録再生層群14のL5記録再生層14Fの形成と、第2記録再生層群34のL5記録再生層34Fの形成まで完成したら、図5Dに示されるように、その上に第1及び第2カバー層11、31を同時に形成してこの光記録媒体10が完成する。この第1、第2カバー層11、31は、例えば、粘度調整されたアクリル系またはエポキシ系の紫外線硬化型樹脂をスピンコート法等により皮膜化し、これに対して紫外線を照射して硬化することにより形成する。なお、本実施形態では上記製造方法を説明したが、本発明は上記製造方法に特に限定されるものではなく、他の製造技術を採用することもできる。次に、図6を参照して、光ピックアップ90を用いて、本実施形態の光記録媒体10に情報を記録再生する方法について説明する。<第1記録再生層群への記録>支持基板12のサーボ層18側に隣接する第1記録再生層群14のL0記録再生層14Aに情報を記録する場合、まず、第1光ピックアップ90Aのトラッキング用光学系200Aの赤色波長領域のビーム270Aをサーボ層18に照射してトラッキングを行う。具体的には、図6A、Bに示されるように、サーボ層18におけるグルーブ18B及びランド18Aに対して、ビーム270Aのスポットを照射してトラッキングを行う。この作業と同時に、第1光ピックアップ90Aの記録再生用光学系100Aの青色波長領域の記録用ビーム170AをL0記録再生層14Aに照射する。その結果、グルーブ18B及びランド18Aの双方をトラッキングしながら、このグルーブ18B及びランド18Aに沿って、L0記録再生層14Aに情報が記録される。結果、L0記録再生層14Aに形成される記録マークのトラックピッチP2は、グルーブ18B間又はランド18A間のピッチP1の半分になる。なお、サーボ層18には、光記録媒体10に関する基本仕様や、第1記録再生層群14の積層枚数に関する情報が、記録ピットやBCAバーストカッティングエリアに予め記録されており、赤色波長領域のビーム270Aによって、トラッキング制御の開始前に常に読み出すようになっている。光記録媒体に関する基本情報としては、サーボ層18の位置、各記録再生層の位置、記録再生層群の層間距離に関するルールを含むようになっている。L0記録再生層14Aに対して、必要な情報の記録が完了した後は、今回の追記情報記録に関するアドレス情報、コンテンツ情報等を、このL0記録再生層14Aの一部に予め確保される管理領域に記録しておく。その後、L0記録再生層14Aに対する情報の記録を再開する場合は、先ず、L0記録再生層14Aの管理領域を再生して、前回の記録が完了した位置を確認し、その位置から記録を継続する。このようにして、L0記録再生層14Aにおけるデータ領域の全てに対して情報の記録が完了するまで、記録作業を継続していく。L0記録再生層14Aのデータ領域への記録が終わったら、L1記録再生層14Bのデータ領域への記録を開始する。なお、L1記録再生層14Bに対して、必要な情報の記録が完了した後は、今回の追記情報記録に関するアドレス情報、コンテンツ情報等を、先ほどのL0記録再生層14Aの管理領域に記録しておく。<第2記録再生層群への記録>支持基板12のサーボ層18と反対側に配置される第2記録再生層群34のL0記録再生層34Aに情報を記録する場合、まず、第2光ピックアップ90Bのトラッキング用光学系200Bの赤色波長領域のビーム270Bを、この支持基板12を透過しながらサーボ層18に照射してトラッキングを行う。具体的には、図6C、図6Dに示されるように、サーボ層18におけるグルーブ18B及びランド18Aに対して、ビーム270Bのスポットを照射してトラッキングを行う。この作業と同時に、第2光ピックアップ90Bの記録再生用光学系100Bの青色波長領域の記録用ビーム170BをL0記録再生層34Aに照射する。その結果、ランド18A及びグルーブ18Bの双方をトラッキングしながら、このランド18A及びグルーブ18Bに沿って、L0記録再生層34Aに情報が記録される。結果、L0記録再生層34Aに形成される記録マークのトラックピッチP2は、ランド18A間又はグルーブ18B間のピッチP1の半分となる。既に述べたように、サーボ層18には、光記録媒体10に関する基本仕様や、第1記録再生層群14の積層枚数に関する情報が、記録ピットやBCAバーストカッティングエリアに予め記録されておいる。従って、赤色波長領域のビーム270Bによって、トラッキング制御の開始前にこれらの情報を常に読み出す。L0記録再生層34Aに対して、必要な情報の記録が完了した後は、今回の追記情報記録に関するアドレス情報、コンテンツ情報等を、このL0記録再生層34Aの一部に予め確保される管理領域に記録しておく。その後、L0記録再生層34Aに対する情報の記録を再開する場合は、先ず、L0記録再生層24Aの管理領域を再生して、前回の記録が完了した位置を確認し、その位置から記録を継続する。このようにして、L0記録再生層34Aにおけるデータ領域の全てに対して情報の記録が完了するまで、記録作業を継続していく。L0記録再生層34Aのデータ領域への記録が終わったら、L1記録再生層34Bのデータ領域への記録を開始する。なお、L2記録再生層34Bに対して、必要な情報の記録が完了した後は、今回の追記情報記録に関するアドレス情報、コンテンツ情報等を、先ほどのL0記録再生層34Aの管理領域に記録しておく。なお、ここではL0記録再生層14A、34Aにおいて、管理領域を確保する場合を例示したが、他の記録再生層を利用することも可能である。また、サーボ層18が記録膜を備える場合には、このサーボ層18に管理領域を確保し、そこに追記情報を記録しておくことが好ましい。この記録は、トラッキング制御を行っているビーム270A、27Bを利用すれば良い。管理情報をサーボ層18に集約させることで、第1記録再生層群14と第2記録再生層群34の双方の管理情報を同時に把握することも可能になる。以上、本実施形態の光記録媒体10によれば、支持基板12の一方の面のみにサーボ層18が形成され、更に、この支持基板12の両面に第1記録再生層群14と第2記録再生層群34が配置されている。結果、第1、第2記録再生層群14、34を形成する際の内部応力が、支持基板12の両側に分散されるので、光記録媒体10の反りや変形を抑制することができる。なお、このように内部応力を分散させることにより、支持基板12の厚さを100μm~1000μmの範囲内に設定しても、光記録媒体10の反りを抑制することが可能となる。この際、支持基板12の両側にトラッキング用の凹凸を形成しようとすると、この支持基板12の製造工程自体が複雑化し、支持基板12の精度が悪化しやすくなる。そこで本実施形態では、トラッキング用の凹凸を支持基板12の片面側に形成し、支持基板12の製造を簡潔化することで精度を高めている。また、サーボ層18を両側の第1、第2記録再生層群14、34で共用するようにしているので、第1、第2記録再生層群14、34の各記録再生層に対して、トラッキング用の凹凸を形成する必要が無くなる。結果、光記録媒体10の形状精度を一層高めることが可能となる。支持基板12の両側に第1記録再生層群14と第2記録再生層群34を配置しているので、記録容量を増大させることも可能になる。更に本光記録媒体10では、この支持基板12を光透過性材料によって構成する。結果、第2光ピックアップ90Bのビーム270Bを、支持基板12を透過させながらサーボ層18に照射することができる。なお、この支持基板12を、光を通さない材料で構成する場合は、第1光ピックアップ90Aのビーム270Aの戻り光を利用して、第2光ピックアップ90Bのトラッキング制御を行うことも可能である。更にこの光記録媒体10では、第1バッファ層17と第2バッファ層37の厚みが、略同じに設定されている。結果、第1、第2バッファ層17、37の形成工程中の支持基板12の反りを抑制することができる。これは、支持基板12を薄くしたり、剛性の低い材料で構成したりできることを意味する。また光記録媒体10の第1記録再生層群14と第2記録再生層群34は、支持基板12の中心を基準として、厚み方向に対称位置に積層されている。従って、第1、第2記録再生層群14、34に生じる内部応力も対称になるので、光記録媒体10の反りを抑制できることになる。特に本実施形態では、光記録媒体10を製作する際に、第1バッファ層17と第2バッファ層37、第1記録再生層群14と第2記録再生層群34、第1中間層群16と第2中間層群36を、両側の面において同時に形成する。結果、紫外線硬化時の発生する内部応力が、支持基板12の両側に均等に作用するので、光記録媒体10の反りを一層低減できることになる。この光記録媒体10では、トラッキング用の270Bの波長条件における支持基板12の屈折率が、同波長における第2バッファ層37の屈折率より高く設定されている。このようにすることで、第2バッファ層37側から入射したトラッキング用のビーム270Bの集光点が、支持基板12を透過してサーボ層18に到達しやすくなる。結果、第2光ピックアップ90Bのトラッキング制御を確実に行うことが出来るようになる。更に光記録媒体10では、トラッキング用の赤色波長のビーム270A、270Bを照射した場合のサーボ層18の反射率は、仮に記録再生用のビーム170A、170Bをサーボ層18に照射した場合の反射率と比較して大きく設定されている。具体的にこれを実現する為に、第1、第2バッファ層17、37に関して、ビームの波長が短いほど光吸収量が大きくなる材料が選択されている。このようにすると、青色波長となる記録再生用のビーム170A、170Bが、仮にサーボ層18側に入射しても、第1、第2バッファ層17、37で吸収され易いのでサーボ層18に到達する光量サーボ層18からの反射光量を抑制できる。一方、赤色波長となるトラッキング用のビーム270A、270Bは、第1、第2バッファ層17、37を積極的に透過できるので、サーボ層18に到達する光量サーボ層18からの反射光量を増大させることができる。結果、再生信号の品質を高めると同時に、安定したトラッキング制御を実現できる。なお、本実施形態では、第1、第2バッファ層17、37において、赤色波長と青色波長で光吸収率が異なる特性を付与し、結果的に、サーボ層18の反射率が、トラッキング用ビームと記録再生用ビームで異なるようにしたが、本発明はこれに限定されない。例えば、サーボ層18に形成される反射膜自体に、波長によって反射率が異なるような波長選択特性を付与するようにしても良い。また、第1、第2バッファ層17、37とは別に、光透過率や吸収率の波長選択特性を有するフィルタ層を別途形成するようにしても良い。更に、従来のように複数のサーボ層を光記録媒体内に形成すると、どのサーボ層を利用してどの記録再生層を記録するか等の取り決めが複雑となり、記録再生制御が混乱しやすい。そこで本実施形態のように、一つのサーボ層18を、第1記録再生層群14と第2記録再生層群34で共用すると、記録再生制御が簡潔化されるので、記録再生エラーを低減する事も可能になる。なお、上記実施形態では、第1カバー層11と第2カバー層31の厚さを同じにする場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば図7に示される光記録媒体10のように、第1カバー層11と第2カバー層31の厚みを異ならせることも好ましい。具体的には、第2カバー層31の厚みと比較して、第1カバー層11の厚みを支持基板12の厚さ分だけ大きく設定する。このようにすることで、サーボ層18が、光記録媒体10の厚さ方向の中心に配置することになる。結果、第1光ピックアップ90Aと第2光ピックアップ90Bにおいて、トラッキング用光学系200A、200Bの焦点距離を一致させることが可能となる。なお、この光記録媒体10を製作する際は、厚さの異なる第1カバー層11と第2カバー層31を別々に積層することが好ましい。これらを同時に積層しなくても、支持基板12や第1、第2バッファ層17、37、第1記録再生層群14及び第1中間層群16、第2記録再生層群34及び第2中間層群36によって、既にある程度の剛性が確保されているので、光記録媒体10の反りや変形が十分に抑制される。また、図8に示される光記録媒体10のように、第1、第2バッファ層17、37の厚みを変えたり、第1、第2記録再生層群14、34の層間距離や積層数を変えたりすることで、結果としてサーボ層18を、厚さ方向の中心に位置させることも可能である。また、第1カバー層11と第2カバー層31の屈折率をそれぞれ変えたり、第1、第2記録再生層群14、34の層間の屈折率を変えたりすることで、結果としてサーボ層18を、厚さ方向の光学距離としての中心に位置させることも可能である。更に上記実施形態では、第1、第2記録再生層群14、34の各記録再生層として、予め記録膜が成膜されている場合に限って示したが、本発明はこれに限定されない。例えば図9に示される光記録媒体10のように、将来の第1、第2記録再生層群となり得る場所の全体を、所定の厚みを有する第1、第2バルク層13、33とすることができる。この第1、第2バルク層13、33に記録用ビーム170A、170Bが照射されると、ビームスポットの焦点部分のみが状態変化をおこして記録マークが形成される。即ち、本発明における光記録媒体は、ビームが照射される記録再生層が予め形成されたものに限られず、平面領域に記録マークが随時形成され、この記録マークの集合体として、第1、第2記録再生層群14、34が事後的に多層構成される場合も含んでいる。光記録媒体10にバルク層13、33の構造を採用することにより、バルク層13、33の範囲内であれば、記録再生層の位置を自由に設定できる。例えば、図9に示されるように、第1バルク層13と第2バルク層33の厚さや配置が互いに異なっていても、第1、第2記録再生層群14、34の第1、第2表面10A、30Aからの距離を、互いに一致させることもできる。なお、ここでは第1、第2バルク層13、33を採用する際に、カバー層を省略する構造を例示したが、この他にもバッファ層を省略することもできる。なお、本実施形態では、トラッキング用のビーム270A、270Bの波長と、記録再生用のビーム170A、170Bの波長が赤色と青色で異なる場合を示したが、本発明はこれに限定されず、トラッキング用と記録再生用の間で同じ波長領域のビームを採用しても良い。また本実施形態では、記録再生層群において、2種類の層間距離16μm、12μmを交互に設定する場合を示したが、本発明はこれに限定されず、3種類以上の層間距離を組み合わせても良い。勿論、全て同じ膜厚に設定しても良い。