"偏光子、および該偏光子の両側に配置された2枚の偏光板保護フィルムを含み、前記偏光子の水溶液の下記方法1で測定したpHが4~7であり、60°C、相対湿度95、500時間経時前後において、下記方法1で測定した前記偏光子の水溶液のpH変化が0.4未満であることを特徴とする偏光板。方法1:偏光子40mgを純水15mlに浸漬し100°Cで2時間加熱処理した後の水溶液のpHを測定する。前記偏光板保護フィルムの少なくとも1枚が、樹脂と、オクタノール/水分配係数が3.0以上の有機酸を該樹脂100質量部に対して0.1~20質量部含むことを特徴とする請求項1に記載の偏光板。前記有機酸が、下記一般式1で表される化合物であることを特徴とする請求項2に記載の偏光板。一般式1X-L-R1n一般式1中、Xは酸解離定数が5.5以下の酸性基を表し、Lは単結合または2価以上の連結基を表し、R1は炭素数6~30のアルキル基、炭素数6~30のアルケニル基、炭素数6~30のアルキニル基、炭素数6~30のアリール基または環員数6~30の複素環基を表し、さらに置換基を有していてもよい。nはLが単結合の場合は1であり、Lが2価以上の連結基の場合はLの価数-1である。前記一般式1におけるXが、少なくとも一つのカルボキシル基、スルフォン酸基、スルフィン酸基、リン酸基、スルフォンイミド基、アスコルビン酸基を有することを特徴とする請求項3に記載の偏光板。前記一般式1におけるLが単結合、あるいは、下記ユニット群から選択される2価以上の連結基または下記ユニット群から選択される2以上のユニットを組み合わせて得られる2価以上の連結基であることを特徴とする請求項3または4に記載の偏光板。ユニット:-O-、-CO-、-N-R2-但し、前記R2は炭素数1~5のアルキル基、-CHOH-、-CH2-、-CH=CH-、-SO2-、前記一般式1で表される有機酸が、多価アルコール1分子に脂肪酸1分子と多価カルボン酸1分子が結合した構造を有しており、多価カルボン酸由来の無置換のカルボキシル基を少なくとも1つ有することを特徴とする請求項3~5のいずれか一項に記載の偏光板。前記一般式1で表される有機酸が、下記一般式2で表される多価カルボン酸であることを特徴とする請求項3~6のいずれか一項の樹脂フィルム。一般式2式中、sおよびtは、独立して1,2または3であり、R4は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、または、複素環基を表し、さらに置換基を有していてもよい。但しR4は前記一般式1におけるR1を含む。前記偏光板保護フィルムがセルロースアシレートを含むことを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の偏光板。前記セルロースアシレートの全アシル置換度が2.0~2.97であることを特徴とする請求項8に記載の偏光板。偏光子の両側に2枚の偏光板保護フィルムを積層する工程を含み、前記偏光板保護フィルムのうち少なくとも1枚が、樹脂と、オクタノール/水分配係数が3.0以上の有機酸を該樹脂100質量部に対して0.1~20質量部を含む組成物を用いて製膜されたことを特徴とする偏光板の製造方法。前記有機酸が、下記一般式1で表される化合物であることを特徴とする請求項10に記載の偏光板の製造方法。一般式1X-L-R1n一般式1中、Xは酸解離定数が5.5以下の酸性基を表し、Lは単結合または2価以上の連結基を表し、R1は炭素数6~30のアルキル基、炭素数6~30のアルケニル基、炭素数6~30のアルキニル基、炭素数6~30のアリール基または環員数6~30の複素環基を表し、さらに置換基を有していてもよい。nはLが単結合の場合は1であり、Lが2価以上の連結基の場合はLの価数-1である。前記一般式1におけるXが、少なくとも一つのカルボキシル基、スルフォン酸基、スルフィン酸基、リン酸基、スルフォンイミド基、アスコルビン酸基を有することを特徴とする請求項11に記載の偏光板の製造方法。前記一般式1におけるLが単結合、あるいは、下記ユニット群から選択される2価以上の連結基または下記ユニット群から選択される2以上のユニットを組み合わせて得られる2価以上の連結基であることを特徴とする請求項11または12に記載の偏光板の製造方法。ユニット:-O-、-CO-、-N-R2-但し、前記R2は炭素数1~5のアルキル基、-CHOH-、-CH2-、-CH=CH-、-SO2-、前記一般式1で表される有機酸が、多価アルコール1分子に脂肪酸1分子と多価カルボン酸1分子が結合した構造を有しており、多価カルボン酸由来の無置換のカルボキシル基を少なくとも1つ有することを特徴とする請求項11~13のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。前記一般式1で表される有機酸が、下記一般式2で表される多価カルボン酸であることを特徴とする請求項11~14のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。一般式2式中sおよびtは、独立して1,2または3であり、R4は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、または、複素環基を表し、さらに置換基を有していてもよい。但しR4は前記一般式1におけるR1を含む。前記樹脂がセルロースアシレートを含むことを特徴とする請求項10~15のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。前記セルロースアシレートの全アシル置換度が2.0~2.97であることを特徴とする請求項16に記載の偏光板の製造方法。請求項1~9のいずれか一項に記載の偏光板を少なくとも1枚含むことを特徴とする液晶表示装置。本発明者らが60°Cでの加温乾燥時の耐久性を改善している上記特許文献1に記載の酸解離指数が1.93~4.50の化合物を含む偏光板保護フィルムを、一般的な偏光子と組み合わせた偏光板を製造してその高温高湿下や高温低湿下での直交透過率変化の偏光子耐久性を検討したところ、予想外なことに、高温高湿下の偏光子耐久性は改善されていたが、高温低湿下の偏光子耐久性は逆に悪化してしまうことがわかった。また、本発明者らが上記特許文献4に記載の方法で得られた偏光子を一般的な偏光板保護フィルムと組み合わせた偏光板を製造してその性能を検討したところ、使用する弱酸の濃度を同文献実施例13に記載の程度まで顕著に高くしたとしても、80°C経時条件下での直交透過率変化は依然として大きく、物としても偏光板の性能に不満が残るものであることがわかった。さらに、製造方法の観点からも、弱酸の濃度を顕著に高める必要があるため、製造コストの観点を含め、さらなる改善が求められる方法であることがわかった。また、本発明者らが上記特許文献5に記載の方法で得られた偏光子を一般的な偏光板保護フィルムと組み合わせた偏光板を製造してその性能を検討したところ、偏光子の高温低湿下での直交透過率変化量には不満が残り、依然として大きく物としても偏光板の性能に不満が残るものであることがわかった。すなわち、高温高湿下での偏光子耐久性と、高温低湿下での偏光子耐久性を共に改善された偏光板はこれまで知られておらず、改良が求められていた。本発明の目的は、高温高湿下と高温低湿下での偏光子耐久性が共に改善された偏光板を提供することにある。本発明者らが上記課題を解決することを目的として鋭意研究したところ、偏光子のpHが高温高湿経時下に上昇することが、高温高湿経時における偏光子のクロス透過率上昇の原因であることをつきとめた。さらに、高温高湿経時において偏光板保護フィルムから酸を偏光子へ徐々に移動させることにより、高温高湿経時における偏光子のpHを一定範囲内に制御すれば、高温高湿下では偏光子のクロス透過率の上昇が抑制されることを見出した。一方、高温低湿下については、偏光子自体によるpH変化が小さく、かつ偏光板保護フィルムからの酸の移動も起きないため、偏光子のpHは変化せず、クロス透過率も変化が小さいことを見出すに至った。すなわち、上記課題は、以下の構成の本発明によって解決される。[1]偏光子、および該偏光子の両側に配置された2枚の偏光板保護フィルムを含み、前記偏光子の水溶液の下記方法1で測定したpHが4~7であり、60°C、相対湿度95、500時間経時前後において、下記方法1で測定した前記偏光子の水溶液のpH変化が0.4未満であることを特徴とする偏光板。方法1:偏光子40mgを純水15mlに浸漬し100°Cで2時間加熱処理した後の水溶液のpHを測定する。[2]前記偏光板保護フィルムの少なくとも1枚が、樹脂と、オクタノール/水分配係数が3.0以上の有機酸を該樹脂100質量部に対して0.1~20質量部含むことを特徴とする[1]に記載の偏光板。[3]前記有機酸が、下記一般式1で表される化合物であることを特徴とする[2]に記載の偏光板。一般式1X-L-R1n一般式1中、Xは酸解離定数が5.5以下の酸性基を表し、Lは単結合または2価以上の連結基を表し、R1は炭素数6~30のアルキル基、炭素数6~30のアルケニル基、炭素数6~30のアルキニル基、炭素数6~30のアリール基または環員数6~30の複素環基を表し、さらに置換基を有していてもよい。nはLが単結合の場合は1であり、Lが2価以上の連結基の場合はLの価数-1である。[4]前記一般式1におけるXが、少なくとも一つのカルボキシル基、スルフォン酸基、スルフィン酸基、リン酸基、スルフォンイミド基、アスコルビン酸基を有することを特徴とする[3]に記載の偏光板。[5]前記一般式1におけるLが単結合、あるいは、下記ユニット群から選択される2価以上の連結基または下記ユニット群から選択される2以上のユニットを組み合わせて得られる2価以上の連結基であることを特徴とする[3]または[4]に記載の偏光板。ユニット:-O-、-CO-、-N-R2-但し、前記R2は炭素数1~5のアルキル基、-CHOH-、-CH2-、-CH=CH-、-SO2-、[6]前記一般式1で表される有機酸が、多価アルコール1分子に脂肪酸1分子と多価カルボン酸1分子が結合した構造を有しており、多価カルボン酸由来の無置換のカルボキシル基を少なくとも1つ有することを特徴とする[3]~[5]のいずれか一項に記載の偏光板。[7]前記一般式1で表される有機酸が、下記一般式2で表される多価カルボン酸であることを特徴とする[3]~[6]のいずれか一項の樹脂フィルム。一般式2式中、sおよびtは、独立して1,2または3であり、R4は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、または、複素環基を表し、さらに置換基を有していてもよい。但しR4は前記一般式1におけるR1を含む。[8]前記偏光板保護フィルムがセルロースアシレートを含むことを特徴とする[1]~[7]のいずれか一項に記載の偏光板。[9]前記セルロースアシレートの全アシル置換度が2.0~2.97であることを特徴とする[8]に記載の偏光板。[10]偏光子の両側に2枚の偏光板保護フィルムを積層する工程を含み、前記偏光板保護フィルムのうち少なくとも1枚が、樹脂と、オクタノール/水分配係数が3.0以上の有機酸を該樹脂100質量部に対して0.1~20質量部を含む組成物を用いて製膜されたことを特徴とする偏光板の製造方法。[11]前記有機酸が、下記一般式1で表される化合物であることを特徴とする[10]に記載の偏光板の製造方法。一般式1X-L-R1n一般式1中、Xは酸解離定数が5.5以下の酸性基を表し、Lは単結合または2価以上の連結基を表し、R1は炭素数6~30のアルキル基、炭素数6~30のアルケニル基、炭素数6~30のアルキニル基、炭素数6~30のアリール基または環員数6~30の複素環基を表し、さらに置換基を有していてもよい。nはLが単結合の場合は1であり、Lが2価以上の連結基の場合はLの価数-1である。[12]前記一般式1におけるXが、少なくとも一つのカルボキシル基、スルフォン酸基、スルフィン酸基、リン酸基、スルフォンイミド基、アスコルビン酸基を有することを特徴とする[11]に記載の偏光板の製造方法。[13]前記一般式1におけるLが単結合、あるいは、下記ユニット群から選択される2価以上の連結基または下記ユニット群から選択される2以上のユニットを組み合わせて得られる2価以上の連結基であることを特徴とする[11]または[12]に記載の偏光板の製造方法。ユニット:-O-、-CO-、-N-R2-但し、前記R2は炭素数1~5のアルキル基、-CHOH-、-CH2-、-CH=CH-、-SO2-、[14]前記一般式1で表される有機酸が、多価アルコール1分子に脂肪酸1分子と多価カルボン酸1分子が結合した構造を有しており、多価カルボン酸由来の無置換のカルボキシル基を少なくとも1つ有することを特徴とする[11]~[13]のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。[15]前記一般式1で表される有機酸が、下記一般式2で表される多価カルボン酸であることを特徴とする[11]~[14]のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。一般式2式中sおよびtは、独立して1,2または3であり、R4は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、または、複素環基を表し、さらに置換基を有していてもよい。但しR4は前記一般式1におけるR1を含む。[16]前記樹脂がセルロースアシレートを含むことを特徴とする[10]~[15]のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。[17]前記セルロースアシレートの全アシル置換度が2.0~2.97であることを特徴とする[16]に記載の偏光板の製造方法。[18][1]~[9]のいずれか一項に記載の偏光板を少なくとも1枚含むことを特徴とする液晶表示装置。本発明によれば、高温低湿下での偏光子耐久性を悪化させることなく、高温高湿下での偏光子耐久性を改善する偏光板およびその製造方法を提供することができる。また、本発明の偏光板を使用した液晶表示装置を提供することができる。[偏光板]本発明の偏光板は、偏光子、および該偏光子の両側に配置された2枚の偏光板保護フィルムを含み、前記偏光子の水溶液の下記方法1で測定したpHが4~7であり、60°C、相対湿度95、500時間経時前後において、下記方法1で測定した前記偏光子の水溶液のpH変化が0.4未満であることを特徴とする。方法1:偏光子40mgを純水15mlに浸漬し100°Cで2時間加熱処理した後の水溶液のpHを測定する。従来の偏光板は高温高湿経時下に偏光子の水溶液のpHが上昇する場合が多く、これが偏光性能劣化の原因であった。これに対し、本発明の偏光板は、偏光板保護フィルム中に添加した有機酸が高温高湿経時下に偏光子へ移動することにより、偏光子の水溶液のpH上昇を抑制するものである。以下に本発明の偏光板について詳しく説明する。<偏光板の性能>偏光子の水溶液のpH本発明の偏光板は、高温環境下で経時させる前における、前記偏光子の水溶液の前記方法1で測定したpHが4~7である。このような構成とすることで、80°C、Dry環境下に500時間静置させたときの直交単板透過率の変化量を小さくすることができる。前記偏光子の水溶液のpHは4.0~6.5であることが好ましく、4.0~6.0であることがより好ましい本発明の偏光板は、60°C、相対湿度95、500時間経時前後において、前記方法1で測定した前記偏光子の水溶液のpH変化が0.4未満である。このような構成とすることで、80°C、Dry環境下に500時間静置させたときの直交単板透過率の変化量を小さくすることができる。前記偏光子の水溶液のpH変化は0.2以下であることが好ましく、0.1以下であることがより好ましい。直交透過率CT本発明の偏光板は、直交透過率CTがCT≦2.0であることが好ましく、より好ましい範囲としてはCT≦1.3であり、最も好ましくはCT≦0.6単位はいずれもである。直交透過率変化また、偏光板耐久性試験ではその変化量はより小さいほうが好ましい。本発明の偏光板は、60°C、相対湿度95に500時間静置させたときの直交単板透過率の変化量が0.65以下であり、且つ、80°C、Dry環境下調湿をしていない状態であり、本発明における実施例では相対湿度0~20に500時間静置させたときの直交単板透過率の変化量が0.15以下である。60°C、相対湿度95に500時間静置させたときの直交単板透過率の変化量は、0.30以下であることが好ましく、0.25以下であることがより好ましい。一方、80°C、Dry環境下に500時間静置させたときの直交単板透過率の変化量は、0.10以下であることがより好ましい。ここで、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値である。上記直交透過率の変化量の範囲を満たせば、偏光板の高温高湿下および高温低湿下で長時間使用中あるいは保管中の安定性が確保でき、好ましい。本発明において、偏光板の直交透過率CTは、UV3100PC島津製作所社製を用いて測定した。測定では、410nmで測定し、10回測定の平均値を用いた。ここで、偏光板耐久性試験は1偏光板のみと2偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた、2種類の形態で次のように行うことができる。1の偏光板のみの測定は、2つの偏光子の間に前記有機酸を含む偏光板保護フィルムが挟まれるように組み合わせて、互いの吸収軸が直交させたものを2つ用意する。2の偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた形態での測定は、ガラスの上に偏光板を、前記有機酸を含む偏光板保護フィルムがガラス側にくるように貼り付けたサンプル約5cm×5cmを2つ作成する。単板直交透過率測定ではこのサンプルのフィルムの側を光源に向けてセットして測定する。2つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を単板直交透過率とする。本発明の実施例では、上記1および2の試験方法のうち、2の試験方法を採用した。その他の特性本発明の偏光板のその他の好ましい光学特性等については特開2007-086748号公報の0238~0255に記載されており、これらの特性を満たすことが好ましい。<形状構成>本発明の偏光板の形状は、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様例えば、ロール長2500m以上や3900m以上の態様の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、偏光板の幅は1470mm以上とすることが好ましい。本発明の偏光板は、偏光子及びその両面を保護する偏光板保護フィルムで構成されているが、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成されることも好ましい。前記プロテクトフィルム及び前記セパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。以下、本発明の偏光板に用いることができる偏光子と2枚の偏光板保護フィルムの詳細について説明する。<偏光子>まず、本発明の偏光板に用いられる偏光子について説明する。本発明の偏光板に用いることができる前記偏光子としては、本発明における偏光子は、ポリビニルアルコールPVAと二色性分子から構成することが好ましいが、特開平11-248937号公報に記載されているようにPVAやポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子も使用することができる。1-1PVA前記PVAとしては、ポリ酢酸ビニルを鹸化したポリマー素材が好ましいが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分とを含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性PVAも用いることができる。この他、本発明の偏光板には、特許登録第3021494号に記載されている1、2-グリコール結合量が1.5モル以下のPVAフィルム、特開2001-316492号公報に記載されている5μm以上の光学的異物が100cm2当たり500個以下であるPVAフィルム、特開2002-030163号に記載されているフィルムのTD方向の熱水切断温度斑が1.5°C以下であるPVAフィルム、さらにグリセリンなどの3~6価の多価アルコ-ルを1~100重量混合した溶液や、特開平06-289225号公報に記載されている可塑剤を15質量以上混合した溶液から製膜したPVAフィルムを好ましく用いることができる。1-2二色性分子二色性分子はI3やI5などの高次のヨウ素イオンもしくは二色性染料を好ましく使用することができる。本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、偏光板の応用永田良編、CMC出版や工業材料、第28巻、第7号、p.39~p.45に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液および/またはホウ酸水溶液にPVAを浸漬し、PVAに吸着配向した状態で生成することができる。二色性分子として二色性染料を用いる場合は、アゾ系色素が好ましく、特にビスアゾ系とトリスアゾ系色素が好ましい。二色性染料は水溶性のものが好ましく、このため二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入され、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として好ましく用いられる。このような二色性染料の具体例としては、特開2007-086748号公報に記載のものを挙げることができる。1-3有機酸さらに、前記偏光子は本発明の趣旨に反しない限りにおいて、後述する偏光板保護フィルムに含まれている有機酸を、含んでいてもよい。その場合、前記有機酸の含有量は、偏光子の基材フィルムに用いられる樹脂に対して0.01~10質量部であることが好ましい。0.01質量部以上であれば、偏光子耐久性改良効果が得られやすく、また10質量部以下であれば、偏光子中での相分離による白濁をおこしにくい。前記有機酸の含有量は0.1~8質量部であることがより好ましく、0.1~5質量部であることが特に好ましい。本発明の偏光板は、後述する偏光板保護フィルムに前記有機酸が含まれているため、偏光子に有機酸が含まれていなくても、十分に本発明の偏光板の効果を得ることができる。1-4偏光子の膜厚偏光子の延伸前のフィルム膜厚は特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、1μm~1mmが好ましく、20~200μmが特に好ましい。また、特開2002-236212号に記載されているように水中において4倍~6倍の延伸を行った時に発生する応力が10N以下となるような薄いPVAフィルムを使用してもよい。<偏光板保護フィルム>次に、本発明の偏光板に用いられる2枚の偏光板保護フィルムについて説明する。本発明の偏光板に用いることができる偏光板保護フィルムのうち少なくとも1枚は、樹脂と、オクタノール/水分配係数以下logPが3以上の有機酸を該樹脂100質量部に対して0.1~20質量部含有することを特徴とする。このような有機酸を用いることで、前記偏光板保護フィルムは、高温低湿下での偏光子耐久性を悪化させることなく高温高湿下での偏光子耐久性を改善することができる。以下、前記偏光板保護フィルムに用いられる有機酸、フィルム基材、前記偏光板保護フィルムの好ましい特性について説明する。2-1有機酸オクタノール/水分配係数本発明の偏光板は、前記偏光板保護フィルムの少なくとも1枚が、オクタノール/水分配係数が3.0以上の有機酸を含むことが好ましい。本発明の偏光板に用いられる前記偏光板保護フィルムに含まれる有機酸のlogPは、3~7が好ましく、3.5~6がさらに好ましい。logP値を3以上にすることにより、有機酸の偏光子へ移動を高温高湿経時下のみに制御でき、高温低湿下の偏光板耐久性を悪化させることなく、高温高湿下の偏光子耐久性を改良できる。一方、logP値を7以下にすることにより、有機酸添加による偏光板保護フィルムのヘイズ上昇を抑制することができる。オクタノール-水分配係数logP値の測定は、一般にJIS日本工業規格Z7260-1072000に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール-水分配係数logP値は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Crippen’sfragmentation法J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,211987、Viswanadhan’sfragmentation法J.Chem.Inf.Comput.Sci.,29,1631989、Broto’sfragmentation法Eur.J.Med.Chem.-Chim.Theor.,19,711984などを用いることが知られている。本発明では、Crippen’sfragmentation法J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,211987を用いる。ClogP値とは、1-オクタノールと水への分配係数Pの常用対数logPを計算によって求めた値である。ClogP値の計算に用いる方法やソフトウェアについては公知の物を用いることができるが、本発明ではCambridgeSoft社のシステム:ChemDrawProに組み込まれたCLOGPプログラムを用いた。また、ある化合物のlogPの値が、測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Crippen’sfragmentation法により判断することとなる。有機酸の酸解離定数本発明の偏光板に用いられる前記偏光板保護フィルムに含まれる有機酸は、25°Cにおける酸解離定数は6以下であることが好ましく、5以下であることがさらに好ましい。本発明における前記酸解離定数の測定方法としては、丸善株刊実験化学講座第2版の215ページ~217ページに記載のアルカリ適定法を採用した。有機酸の構造前記有機酸としては下記一般式1で表される化合物が好ましい。一般式1X-L-R1n式中、Xは酸解離定数が5.5以下の酸性基を表し、Lは単結合または2価以上の連結基を表し、R1は炭素数6~30のアルキル基、炭素数6~30のアルケニル基、炭素数6~30のアルキニル基、炭素数6~30のアリール基または環員数6~30の複素環基を表し、さらに置換基を有していてもよい。nはLが単結合の場合は1であり、Lが2価以上の連結基の場合はLの価数-1である。前記一般式1で表される有機酸を含む偏光板保護フィルムを用いることで、本発明の偏光板を高温高湿下および高温低湿下で経時させたときの偏光子耐久性を顕著に改善することができる。また、さらに、高温高湿下で経時させる前後の偏光子の水溶液のpHを本発明の範囲に制御することができ、このような効果は通常の無機酸では達成することが困難であった。前記一般式1で表される有機酸において、酸性基である前記X部分により溶液製膜設備ドープを流涎するときの金属支持体からの剥離性を改善することができる。剥離性が低下する機構として、流延するときの金属支持体の金属表面例えば、ステンレスなどと、ドープに含まれるセルロース中の極性部位例えばOH基などとが、直接もしくはドープ中に存在している成分例えば、酸性基を有する化合物または不純物を介して間接的に、水素結合の様な何らかの相互作用を生じさせて金属支持体とドープとの界面の密着力が増大する機構が想定される。この相互作用による剥離性低下機構を想定した場合、前記一般式1で表される有機酸はこの相互作用を低減または切断する作用を発現できると考えられる。さらに、酸性基である前記X部分が支持体の金属表面に付着し、特定の構造の疎水性基である前記R1部分が支持体の金属表面を酸素等の酸化剤からブロックすることにより、前記R1の範囲から外れる疎水性基を有する有機酸に比べて、金属の腐食を防止することができる。一般式1中、Xは酸解離定数が5.5以下の酸を表し、カルボキシル基、スルフォン酸基、スルフィン酸基、リン酸基、スルフォンイミド基、アスコルビン酸基が好ましく、カルボキシル基、スルフォン酸基がさらに好ましく、カルボキシル基が最も好ましい。なお、Xがアスコルビン酸基を表す場合は、アスコルビン酸の水素原子のうち、5位、6位の位置の水素原子が外れてLと連結していることが好ましい。本明細書中、酸解離定数としては、化学便覧、丸善株式会社刊に記載の値を採用する。一般式1中、R1は炭素数6~30のアルキル基置換基を有してもよく、シクロアルキル基であってもよい、炭素数6~30のアルケニル基置換基を有してもよい、炭素数6~30のアルキニル基置換基を有してもよい、炭素数6~30のアリール基置換基を有してもよい、環員数6~30の複素環基置換基を有してもよいを表す。置換基として、ハロゲン原子、アルキル基好ましくは炭素数1~10、より好ましくは1~6、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルフォンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基等が挙げられる。R1はさらに好ましくは、炭素数6~24のアリール基、環員数6~24の複素環基、炭素数8~24のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基であり、最も好ましくは炭素数6~20のアリール基、環員数6~20の複素環基、炭素数10~24の直鎖のアルキル基、アルケニル基である。nが2以上のとき、n個のR1は同一であっても、異なっていてもよい。前記一般式1におけるLは、単結合、あるいは、下記ユニット群から選択される2価以上の連結基または下記ユニット群から選択される2以上のユニットを組み合わせて得られる2価以上の連結基であることが好ましい。ユニット:-O-、-CO-、-N-R2-前記R2は炭素数1~5のアルキル基、-CH=CH-、-CHOH-、-CH2-、-SO2-、一般式1におけるLは、単結合、エステル基由来の連結基-COO-、-OCO-、またはアミド基由来の連結基-CONR2-、-NR2CO-を部分構造として有することが特に好ましい。また、前記Lは、さらに置換基を有していてもよく、該置換基としては特に制限はなく前記R1が有していてもよい置換基を挙げることができるが、その中でも-OH基またはアルキル基より好ましくはカルボキシル基で置換されたアルキル基が好ましい。また、前記R2はさらに置換基を有していてもよく、該置換基としては特に制限はなく前記R1が有していてもよい置換基を挙げることができるが、その中でもカルボキシル基が好ましい。これらの中でも、前記Lはグリセリン由来の基またはイミノジ酢酸-NCH2COOHCH2COOH由来の基を含む連結基であることがより好ましい。前記Lとしては、具体的に以下の構造であることが好ましい。但し、以下においてp、q、rはそれぞれ1~40の整数を表し、1~20であることが好ましく、1~10であることがより好ましく、1~6であることが特に好ましい。また、qは2~4であることがより特に好ましい。L1:-CH2p-CO-O-CH2q-O-;L2:-CH2p-CO-O-CH2q-CHOH-CH2r-O-;L3:-CH2p-CO-O-CH2q-CHOCO-R3-CH2r-O-;L4:-CH2p-CO-O-CH2q-CHOH-CH2r-O-CO-;L4’:-CH2p-CO-O-CH2q-CHOCO-R3-CH2r-O-CO-;L5:-CH2p-NCH2COOH-;L6:-CH2p-NCH2COOH-CH2q-;L7:-CH2p-NCH2COOH-CH2q-O-;L8:-CH2p-NCH2COOH-CH2q-CONH-;L9:-CH2p-NCH2COOH-CH2q-CONH-CH2r-;L10:-CH2p-NCH2COOH-CO-;L11:-CH2p-NCH2COOH-CO-CHCH2COOH-;L12:-CH2p-NCH2COOH-SO2-。なお、上記のLの具体例に含まれるR3は、前記一般式1における前記R1と同義である。すなわち、-CH2p-CO-O-CH2q-CHOCO-R3-CH2r-O-という連結基におけるR3は便宜上Lの内部に記載しているだけであり、連結基LはR3を除いた部分を意味する。つまり、この場合Lは3価である。一般式1で表すと、X-L-R12、[但しLは-CH2p-CO-O-CH2q-CHOCO--CH2r-O-を表す]と記載でき、すなわちこのときの連結基Lは3価の連結基となっている。前記Lと前記Xはエステル結合またはアミド結合で結合していることが好ましく、エステル結合で結合していることがより好ましい。また、前記Xにはエステル結合やアミド結合が存在しない方が好ましい。前記Lと前記R1はエステル結合、エーテル結合またはアミド結合で結合していることが好ましく、エステル結合またはアミド結合で結合していることがより好ましく、エステル結合で結合していることが特に好ましい。また、前記R1にはエステル結合やエーテル結合やアミド結合が存在しない方が好ましい。以下に前記一般式1で表される有機酸の好ましい具体例を以下に挙げる。《脂肪酸》ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、リシノレン酸。《アルキル硫酸》ミリスチル硫酸、セチル硫酸、オレイル硫酸。《アルキルベンゼンスルフォン酸》ドデシルベンゼンスルフォン酸、ペンタデシルベンゼンスルフォン酸。《アルキルナフタレンスルフォン酸》セスキブチルナフタレンスルフォン酸、ジイソブチルナフタレンスルフォン酸。《ジアルキルスルフォコハク酸》ジオクチルスルフォコハク酸、ジヘキシルスルフォコハク酸、ジシクロヘキシルコハク酸、ジアミルスルフォコハク酸、ジトリデシルシクロコハク酸。≪一般式2で表される多価カルボン酸≫前記一般式1で表される有機酸は、下記一般式2で表される多価カルボン酸であることが好ましい。一般式2式中、sおよびtは、独立して1,2または3であり、R4は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、または、複素環基を表し、さらに置換基を有していてもよい。但しR4は前記一般式1におけるR1を含む。sおよびtは、より好ましくは、それぞれ独立して1または2であり、さらに好ましくは1である。R4は、より好ましくは、炭素数1~30のアルキル基置換基を有してもよく、シクロアルキル基であってもよい、炭素数6~30のアリールスルホニル基置換基を有してもよい、アシル基置換基を有してもよいであり、炭素数1~30のアルキル基であることがより好ましく、さらに好ましくは、炭素数1~24のアルキル基置換基を有してもよいであり、特に好ましくは炭素数1~20のアルキル基である。R4が表す基の置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、水酸基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルフォンアミド基、カルボキシル基等が挙げられる。R4が表す基の置換基として、より好ましくは、アルキル基、アシル基、アリール基、カルバモイル基、であり、さらに好ましくは、アリール基、カルバモイル基である。R4が表す基の置換基は、さらに置換基を有していてもよく、該置換基の好ましい範囲は前記R4が表す基の置換基の好ましい範囲と同様である。また、R4として最も好ましいのは、アリール基を置換基として有する炭素数1~24のアルキル基、または、カルバモイル基を置換基として有する炭素数1~24のアルキル基であり、該カルバモイル基はアリール基で置換されていることが好ましい。さらに該アリール基は炭素数1~10のアルキル基で置換されていることが好ましく、炭素数1~8のアルキル基で置換されていることが最も好ましい。前記一般式2で表されるカルボン酸誘導体の具体例としては、例えば式3で表されるN-8391に記載がある。本発明に用いることができるセルロースアシレートの全アシル置換度が2.0~2.97であることが好ましく、2.2~2.95であることがより好ましく、2.3~2.95であることが特に好ましい。本発明に用いられる前記有機酸は、特にこのような全アシル置換度の範囲のセルロースアシレートと併用したときに偏光板耐久性改善効果が高い。本発明に用いることができるセルロースアシレートのアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が特に好ましく、アセチル基がより特に好ましい。2種類以上のアシル基からなる混合脂肪酸エステルも本発明においてセルロースアシレートとして好ましく用いることができる。この場合も、アシル基としてはアセチル基と炭素数が3~4のアシル基が好ましい。また、混合脂肪酸エステルを用いる場合、アセチル基の置換度は2.5未満が好ましく、1.9未満がさらに好ましい。一方、炭素数が3~4のアシル基の置換度は0.1~1.5であることが好ましく、0.2~1.2であることがより好ましく、0.5~1.1であることが特に好ましい。本発明においては、置換基およびまたは置換度の異なる2種のセルロースアシレートを併用、混合して用いてもよいし、後述の共流延法などにより、異なるセルロースアシレートからなる複数層からなるフィルムを形成してもよい。さらに特開2008-20896号公報の0023~0038に記載の脂肪酸アシル基と置換もしくは無置換の芳香族アシル基とを有する混合酸エステルも本発明に好まく用いることができる。本発明で用いられるセルロースアシレートは、250~800の質量平均重合度を有することが好ましく、300~600の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、70000~230000の数平均分子量を有することが好ましく、75000~230000の数平均分子量を有することがさらに好ましく、78000~120000の数平均分子量を有することが最も好ましい。本発明で用いられるセルロースアシレートは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。前記アシル化剤が酸無水物である場合は、反応溶媒として有機酸例えば、酢酸や塩化メチレンが使用される。また、触媒として、硫酸のようなプロトン性触媒を用いることができる。アシル化剤が酸塩化物である場合は、触媒として塩基性化合物を用いることができる。工業的に最も一般的な合成方法では、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する有機酸酢酸、プロピオン酸、酪酸またはそれらの酸無水物無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸を含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステルを合成する。前記方法においては、綿花リンターや木材パルプのようなセルロースは、酢酸のような有機酸で活性化処理した後、硫酸触媒の存在下で、上記のような有機酸成分の混合液を用いてエステル化する場合が多い。有機酸無水物成分は、一般にセルロース中に存在する水酸基の量に対して過剰量で使用する。このエステル化処理では、エステル化反応に加えてセルロース主鎖β1,4-グリコシド結合の加水分解反応解重合反応が進行する。主鎖の加水分解反応が進むとセルロースエステルの重合度が低下し、製造するセルロースエステルフィルムの物性が低下する。そのため、反応温度のような反応条件は、得られるセルロースエステルの重合度や分子量を考慮して決定することが好ましい。2-3偏光板保護フィルムの特性前記偏光板保護フィルムは、以下の特性を満たすことが好ましい。ここで、本発明の偏光板に用いられる2枚の偏光板保護フィルムは、ともに同じ偏光板保護フィルムであっても、異なる偏光板保護フィルムであってもよい。前記その他の偏光板保護フィルムとしては、60°C、相対湿度90、24時間経時後の透湿度が、前記有機酸を含む偏光板保護フィルムとバランスの取れた量であるフィルムを用いることができる。また、その他、含水率、弾性率などを考慮して、前記その他の偏光板保護フィルムを選択することが好ましい。前記その他の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルローストリアセテートフィルムフジタックTD80UF、富士フイルム株製、特開2006-58322号公報に記載の脂環式構造含有重合体樹脂フィルム、特開2009-122644号公報に記載のアクリル系樹脂などを好ましく用いることができる。偏光板保護フィルムの厚み前記有機酸を含む偏光板保護フィルムの厚みは30μm~100μmが好ましく、30μm~80μmより好ましく、35μm~65μmが特に好ましい。一方、有機酸を含まない前記その他の偏光板保護フィルムの膜厚は、30μm~100μmであることが好ましく、35~80μmであることがより好ましく、35~65μmであることが特に好ましい。偏光板保護フィルムの透湿度前記有機酸を含む偏光板保護フィルムの透湿度は、10~500g/m2dayであることが好ましく、100~500g/m2dayであることがより好ましく、200~450g/m2dayであることが特に好ましい。一方、有機酸を含まない前記その他の偏光板保護フィルムの透湿度は、10~500g/m2dayであることが好ましく、100~500g/m2dayであることがより好ましく、200~450g/m2dayであることが特に好ましい。本明細書中における透湿度の値は、JISZ0208の透湿度試験カップ法に準じて、温度40°C、相対湿度92の雰囲気中、面積1m2の試料を24時間に通過する水蒸気の重量gを測定した値である。[偏光板の製造方法]本発明の偏光板の製造方法以下、本発明の製造方法とも言うは、偏光子の両側に2枚の偏光板保護フィルムを積層する工程を含み、前記偏光板保護フィルムのうち少なくとも1枚が、樹脂と、オクタノール/水分配係数が3.0以上の有機酸を該樹脂100質量部に対して0.1~20質量部含む組成物を用いて製膜されたことを特徴とする。以下、本発明の偏光板の製造方法について、偏光板保護フィルムの製造方法、偏光子の製造方法、偏光板保護フィルムと偏光子の積層方法、偏光板の機能化の順に説明する。<偏光板保護フィルムの製造方法>前記有機酸を含む偏光板保護フィルムは、ソルベントキャスト法により製造することができる。以下、前記有機酸を含む偏光板保護フィルムの製造方法について、基材としてセルロースアシレートを用いた態様を例に挙げて説明するが、その他の樹脂を用いた場合も同様に前記有機酸を含む偏光板保護フィルムを製造することができる。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液ドープを用いてフィルムを製造する。前記有機溶媒は、炭素原子数が3~12のエーテル、炭素原子数が3~12のケトン、炭素原子数が3~12のエステルおよび炭素原子数が1~6のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。前記エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。また、前記エーテル、ケトンおよびエステルの官能基すなわち、-O-、-CO-および-COO-のいずれかを2つ以上有する化合物も、前記有機溶媒として用いることができる。前記有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。2種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する溶媒の上述の好ましい炭素原子数範囲内であることが好ましい。前記炭素原子数が3~12のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。前記炭素原子数が3~12のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。前記炭素原子数が3~12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。また、2種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2-エトキシエチルアセテート、2-メトキシエタノールおよび2-ブトキシエタノールが含まれる。炭素原子数が1~6のハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、1または2であることが好ましく、1であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、25~75モルであることが好ましく、30~70モルであることがより好ましく、35~65モルであることがさらに好ましく、40~60モルであることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。また、2種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。セルロースアシレート溶液ドープは、0°C以上の温度常温または高温で処理することからなる一般的な方法で調製することができる。セルロースアシレート溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素特にメチレンクロリドを用いることが好ましい。セルロースアシレート溶液中におけるセルロースアシレートの量は、得られる溶液中に10~40質量含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、10~30質量であることがさらに好ましい。有機溶媒主溶媒中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。セルロースアシレート溶液は、常温0~40°Cでセルロースアシレートと有機溶媒とを撹拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で撹拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、且つ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら撹拌する。加熱温度は、通常は40°C以上であり、好ましくは60~200°Cであり、さらに好ましくは80~110°Cである。各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は撹拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。撹拌は、容器内部に撹拌翼を設けて、これを用いて行うことが好ましい。撹拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。撹拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶媒中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。冷却溶解法により、セルロースアシレート溶液を調製することもできる。冷却溶解法の詳細については、特開2007-86748号公報の0115~0122に記載されている技術を用いることができる。調製したセルロースアシレート溶液ドープから、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造する。ドープにはレターデーション発現剤を添加することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が18~35となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が10°C以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許第2336310号、同2367603号、同2492078号、同2492977号、同2492978号、同2607704号、同2739069号および同2739070号の各明細書、英国特許第640731号および同736892号の各明細書、並びに特公昭45-4554号、同49-5614号、特開昭60-176834号、同60-203430号および同62-115035号の各公報に記載がある。バンドまたはドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行なうことができる。また、得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに100°C~160°Cまで逐次温度を変えた高温風で乾燥して、残留溶媒を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平5-17844号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。調製したセルロースアシレート溶液ドープを用いて2層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が10~40質量の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。2層以上の複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能であり、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。これらは、例えば、特開昭61-158414号、特開平1-122419号、および特開平11-198285号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、2つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによっても、フィルム化することもできる。これは、例えば、特公昭60-27562号、特開昭61-94724号、特開昭61-947245号、特開昭61-104813号、特開昭61-158413号、および、特開平6-134933号の各公報に記載の方法を用いることができる。さらに特開昭56-162617号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。また、2個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭44-20235号公報に記載の方法を挙げることができる。流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート溶液を2種以上用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明におけるセルロースアシレート溶液は、他の機能層例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層などと同時に流延することもできる。有機酸の添加本発明の製造方法は、前記偏光板保護フィルムのうち少なくとも1枚が、樹脂と、オクタノール/水分配係数が3.0以上の有機酸を該樹脂100質量部に対して0.1~20質量部含む組成物を用いて製膜する工程を含む。偏光板保護フィルムの樹脂原料であるセルロースアシレート溶液に対し、前記有機酸を添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、セルロースアシレートの合成時点で添加してもよいし、ドープ調製時セルロースアシレートと混合してもよい。その他の添加剤の添加偏光板保護フィルムには、劣化防止剤例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平3-199201号、同5-1907073号、同5-194789号、同5-271471号、同6-107854号の各公報に記載がある。また、前記劣化防止剤の添加量は、調製する溶液ドープの0.01~1質量であることが好ましく、0.01~0.2質量であることがさらに好ましい。添加量が0.01質量以上であれば、劣化防止剤の効果が十分に発揮されるので好ましく、添加量が1質量以下であれば、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト滲み出しなどが生じにくいので好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエンBHT、トリベンジルアミンTBAを挙げることができる。また、偏光板保護フィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、1次平均粒子径が20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上であるものが好ましい。見かけ比重は90~200g/リットル以上が好ましく、100~200g/リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。これらの微粒子は、通常平均粒子径が0.1~3.0μmの2次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、1次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に0.1~3.0μmの凹凸を形成させる。2次平均粒子径は0.2μm~1.5μmが好ましく、0.4μm~1.2μmがさらに好ましく、0.6μm~1.1μmが最も好ましい。1次、2次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子200個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600以上日本アエロジル株製などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811以上日本アエロジル株製の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でアエロジル200V、アエロジルR972Vが、1次平均粒子径が20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。本発明において2次平均粒子径の小さな粒子を有する偏光板保護フィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレート溶液ドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行い、これを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は5~30質量が好ましく、10~25質量が更に好ましく、15~20質量が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤微粒子の添加量は1m3あたり0.01~1.0gが好ましく、0.03~0.3gが更に好ましく、0.08~0.16gが最も好ましい。使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。本発明における偏光板保護フィルムの製造に用いる巻き取り機は、一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。延伸処理前記偏光板保護フィルムには、延伸処理を行うこともできる。延伸処理により偏光板保護フィルムに所望のレターデーションを付与することが可能である。セルロースアシレートフィルムの延伸方向は幅方向、長手方向のいずれでも好ましい。幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭62-115035号、特開平4-152125号、同4-284211号、同4-298310号、同11-48271号などの各公報に記載されている。フィルムの延伸は、加熱条件下で実施する。フィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸もできる。前記偏光板保護フィルムの延伸は、前記偏光板保護フィルムのガラス転移温度Tgを用いて、Tg-5°C~Tg40°Cの温度で行うことが好ましく、Tg~Tg35°Cであることがより好ましく、Tg10°C~Tg30°Cであることが特に好ましい。乾膜の場合、130°C~200°Cが好ましい。また、流延後にドープ溶剤が残存した状態で延伸を行う場合、乾膜よりも低い温度で延伸が可能となり、この場合、100°C~170°Cが好ましい。前記偏光板保護フィルムの延伸倍率延伸前のフィルムに対する伸び率は、1~200が好ましく、5~150がさらに好ましい。とくに、幅方向に1~200で延伸するのが好ましく、さらに好ましくは5~150、特に好ましくは30~45である。延伸速度は1/分~300/分が好ましく、10/分~300/分がさらに好ましく、30/分~300/分が最も好ましい。また、前記偏光板保護フィルムは、最大延伸倍率まで延伸したのちに、最大延伸倍率より低い延伸倍率で一定時間保持する工程以下、緩和工程と称することがある。を経て製造されることが好ましい。緩和工程における延伸倍率は最大延伸倍率の50~99が好ましく、70~97がさらに好ましく、90~95が最も好ましい。また、緩和工程の時間は1秒~120秒が好ましく、5秒~100秒がさらに好ましい。さらに、前記偏光板保護フィルムは幅方向にフィルムを把持しながら収縮させる収縮工程を含むことにより好ましく製造することができる。フィルムの幅方向に延伸する延伸工程と、フィルムの搬送方向長手方向に収縮させる収縮工程を含むことを特徴とする製造方法においてはパンタグラフ式あるいはリニアモーター式のテンターによって保持し、フィルムの幅方向に延伸しながら搬送方向にはクリップの間隔を徐々に狭めることでフィルムを収縮させることが出来る。前記で説明した方法は、延伸工程と収縮工程の少なくとも一部が、同時に行われているということができる。なお、上記のようなフィルムの長手方向または幅方向のいずれか一方を延伸し、同時にもう一方を収縮させ、同時にフィルムの膜厚を増加させる延伸工程を具体的に行う延伸装置として、市金工業社製FITZ機などを望ましく用いることができる。この装置に関しては特開2001-38802号公報に記載されている。延伸工程における延伸倍率および収縮工程における収縮率としては目的とする面内のレターデーションReおよび厚さ方向のレターデーションRthの値により、任意に適切な値を選択することができるが、延伸工程における延伸倍率が10以上であり、かつ収縮工程における収縮率を5以上とすることが好ましい。特に、フィルムの幅方向に10以上延伸する延伸工程と、フィルムの幅方向にフィルムを把持しながらフィルムの搬送方向を5以上収縮させる収縮工程とを含むことが好ましい。なお、本発明でいう収縮率とは、収縮方向における収縮前のフィルムの長さに対する収縮後のフィルムの収縮した長さの割合を意味する。収縮率としては5~40が好ましく、10~30が特に好ましい。鹸化処理前記偏光板保護フィルムはアルカリ鹸化処理することによりポリビニルアルコールのような偏光子の材料との密着性を付与し、偏光板保護フィルムとして用いることができる。鹸化の方法については、特開2007-86748号公報の0211と0212に記載される方法を用いることができる。例えば前記偏光板保護フィルムに対するアルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。前記アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は0.1~5.0mol/Lの範囲にあることが好ましく、0.5~4.0mol/Lの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温~90°Cの範囲にあることが好ましく、40~70°Cの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ鹸化処理の代わりに、特開平6-94915号公報、特開平6-118232号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。<偏光子の製造方法>本発明の偏光板の製造方法における前記偏光子の製造方法としては、特に制限はないが、例えば、前記PVAをフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。PVAフィルムの製造は、特開2007-86748号公報の0213~0237に記載の方法、特許登録第3342516号明細書、特開平09-328593号公報、特開2001-302817号公報、特開2002-144401号公報等を参考にして行うことができる。具体的には、前記偏光子の製造方法を、PVA系樹脂溶液の調製工程、流延工程、膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程を記載の順序で遂次行うことが特に好ましい。また、前述の工程中あるいは後にオンライン面状検査工程を設けてもよい。PVA系樹脂溶液の調製前記PVA系樹脂溶液の調製工程では、PVA系樹脂を水または有機溶媒に溶解した原液を調製することが好ましい。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、好ましくは5~20質量である。例えば、PVAのウェットケーキを溶解槽に入れ、必要に応じて可塑剤、水を加え、槽底から水蒸気を吹き込みながら攪拌する方法が好ましい。内部樹脂温度は50~150°Cに加温することが好ましく、系内を加圧してもよい。また、前記偏光子中に酸を添加しなくてもよく、添加してもよいが、添加する場合はこの工程で加えることが好ましい。なお、偏光子中に酸を添加する場合は、前記偏光板保護フィルムに含まれる前記有機酸と同じものを用いてもよい。流延前記流延工程は、上記にて調製したPVA系樹脂溶液原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。流延の方法としては、特に制限はないが、加熱した前記PVA系樹脂溶液原液を2軸押し出し機に供給し、ギアポンプにより排出手段好ましくはダイ、より好ましくはT型スリットダイから支持体上に流涎して製膜することが好ましい。また、ダイからの排出される樹脂溶液の温度については特に制限はない。前記支持体としては、キャストドラムが好ましく、ドラムの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その後、得られたロールの裏面と表面とを乾燥ロールに交互に通過させながら乾燥を行なうことが好ましい。膨潤前記膨潤工程は、水のみで行うことが好ましいが、特開平10-153709号公報に記載されているように、光学性能の安定化および、製造ラインでの偏光板基材のシワ発生回避のために、偏光板基材をホウ酸水溶液により膨潤させて、偏光板基材の膨潤度を管理することもできる。また、膨潤工程の温度、時間は、任意に定めることができるが、10°C~60°C、5秒~2000秒が好ましい。なお、膨潤工程のときにわずかに延伸を行ってもよく、例えば1.3倍程度に延伸する態様が好ましい。染色前記染色工程は、特開2002-86554号公報に記載の方法を用いることができる。また、染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開2002-290025号公報に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度、浴中の延伸倍率、および浴中の浴液を攪拌させながら染色させる方法を用いてもよい。二色性分子として高次のヨウ素イオンを用いる場合、高コントラストの偏光板を得るためには、染色工程はヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液を用いることが好ましい。この場合のヨウ素-ヨウ化カリウム水溶液のヨウ素とヨウ化カリウムの質量比については特開2007-086748号公報に記載の態様を用いることができる。また、特許登録第3145747号明細書に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加してもよい。硬膜前記硬膜工程は、架橋剤溶液に浸漬、または溶液を塗布して架橋剤を含ませるのが好ましい。また、特開平11-52130号公報に記載されているように、硬膜工程を数回に分けて行うこともできる。前記架橋剤としては米国再発行特許第232897号明細書に記載のものが使用でき、特許第3357109号明細書に記載されているように、寸法安定性を向上させるため、架橋剤として多価アルデヒドを使用することもできるが、ホウ酸類が最も好ましく用いられる。硬膜工程に用いる架橋剤としてホウ酸を用いる場合には、ホウ酸-ヨウ化カリウム水溶液に金属イオンを添加してもよい。金属イオンとしては塩化亜鉛が好ましいが、特開2000-35512号公報に記載されているように、塩化亜鉛の変わりに、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などの亜鉛塩を用いることもできる。また、塩化亜鉛を添加したホウ酸-ヨウ化カリウム水溶液を作製し、PVAフィルムを浸漬させて硬膜を行ってもよく、特開2007-086748号公報に記載の方法を用いることができる。なお、ここで、高温環境下における耐久性を高める方法として公知の酸性溶液による浸漬処理を行っても、行なわなくてもよい。前記酸性溶液による処理としては、特開2001-83329号公報、特開平6-254958号公報、国際公開WO2006/095815号公報などに記載の方法を挙げることができる。延伸前記延伸工程は、米国特許2,454,515号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開2002-86554号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は2倍~12倍であり、さらに好ましくは3倍~10倍である。また、延伸倍率と原反厚さと偏光子厚さの関係は特開2002-040256号公報に記載されている保護フィルム貼合後の偏光子膜厚/原反膜厚×全延伸倍率>0.17としたり、最終浴を出た時の偏光子の幅と保護フィルム貼合時の偏光子幅の関係は特開2002-040247号公報に記載されている0.80≦保護フィルム貼合時の偏光子幅/最終浴を出た時の偏光子の幅≦0.95としたりすることも好ましく行うことができる。乾燥前記乾燥工程は、特開2002-86554号公報で公知の方法を使用できるが、好ましい温度範囲は30°C~100°Cであり、好ましい乾燥時間は30秒~60分である。また、特許登録第3148513号明細書に記載されているように、水中退色温度を50°C以上とするような熱処理を行ったり、特開平07-325215号公報や特開平07-325218号公報に記載されているように温湿度管理した雰囲気でエージングしたりすることも好ましく行うことができる。このような工程により、膜厚10~200μmの偏光子を製造することが好ましい。なお、膜厚の制御は、公知の方法で制御することができ、例えば前記流延工程におけるダイスリット幅や、延伸条件を適切な値に設定することで制御できる。<偏光子と偏光板保護フィルムの積層方法>本発明の偏光板の製造方法は、上記にて得られた前記偏光子の両面に、2枚の偏光板保護フィルムを積層する。なお、上述のとおり、本発明の偏光板に用いられる偏光板保護フィルムの内、1枚は前記有機酸を含んでおり、もう1枚は前記有機酸を含まないことが好ましい。本発明の偏光板の製造方法では、偏光板保護フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に、完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法により作製することが好ましい。前記偏光板保護フィルムの処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。本発明の偏光板の偏光板保護フィルムの前記偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸と前記偏光板保護フィルムの遅相軸が実質的に平行となるように貼り合せることが好ましい。ここで、実質的に平行であるとは、前記有機酸を含む偏光板保護フィルムの主屈折率nxの方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが5°以内であることをいい、1°以内、好ましくは0.5°以内であることが好ましい。ずれが1°以内であれば、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下しにくく、光抜けが生じにくく好ましい。<偏光板の機能化>本発明の偏光板は、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア防眩層等の機能層を有する光学フィルムと複合した機能化偏光板としても好ましく使用される。機能化のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、他の機能性光学フィルム、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア層については、特開2007-86748号公報の0257~0276に記載され、これらの記載を基に機能化した偏光板を作成することができる。3-1反射防止フィルム本発明の偏光板は反射防止フィルムと組み合わせて使用することができる。反射防止フィルムは、フッ素系ポリマー等の低屈折率素材を単層付与しただけの反射率1.5程度のフィルム、または薄膜の多層干渉を利用した反射率1以下のフィルムのいずれも使用できる。本発明では、透明支持体上に低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層即ち、高屈折率層、中屈折率層を積層した構成が好ましく使用される。また、日東技報,vol.38,No.1,May,2000,26頁~28頁や特開2002-301783号公報などに記載された反射防止フィルムも好ましく使用できる。各層の屈折率は以下の関係を満足する。高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率反射防止フィルムに用いる透明支持体は、前述の偏光子の保護フィルムに使用する透明ポリマーフィルムを好ましく使用することができる。低屈折率層の屈折率は1.20~1.55であることが好ましく、さらに好ましくは1.30~1.50である。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として使用することが好ましい。耐擦傷性向上のため、シリコーン基を含有する含シリコーン化合物や、フッ素を含有する含フッ素化合物等の素材を用い表面への滑り性を付与することも好ましく行われる。前記含フッ素化合物としては、例えば、特開平9-222503号公報[0018]~[0026]、同11-38202号公報[0019]~[0030]、特開2001-40284号公報[0027]~[0028]、特開2000-284102号公報等に記載の化合物を好ましく使用することができる。前記含シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物が好ましいが、反応性シリコーン例えば、サイラプレーンチッソ株製や両末端にシラノール基含有のポリシロキサン特開平11-258403号公報等を使用することもできる。シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化させてもよい特開昭58-142958号公報、同58-147483号公報、同58-147484号公報、特開平9-157582号公報、同11-106704号公報、特開2000-117902号公報、同2001-48590号公報、同2002-53804号公報記載の化合物等。低屈折率層には、上記以外の添加剤として充填剤例えば、二酸化珪素シリカ、含フッ素粒子フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム等の一次粒子平均径が1~150nmの低屈折率無機化合物、特開平11-3820号公報の[0020]~[0038]に記載の有機微粒子等、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有させることも好ましく行うことができる。前記低屈折率層は、気相法真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等により形成されてもよいが、安価に製造できる点で、塗布法で形成することが好ましい。塗布法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビア法を好ましく使用することができる。低屈折率層の膜厚は、30~200nmであることが好ましく、50~150nmであることがさらに好ましく、60~120nmであることが最も好ましい。中屈折率層および高屈折率層は、平均粒子サイズ100nm以下の高屈折率の無機化合物超微粒子をマトリックス用材料に分散した構成とすることが好ましい。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率1.65以上の無機化合物、例えば、Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等を好ましく使用できる。このような超微粒子は、粒子表面を表面処理剤で処理したりシランカップリング剤等:特開平11-295503号公報、同11-153703号公報、特開2000-9908号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤:特開2001-310432号公報等、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造としたり特開2001-166104号公報等、特定の分散剤を併用する例えば、特開平11-153703号公報、米国特許第6210858B1明細書、特開2002-2776069号公報等等の態様で使用することができる。前記マトリックス用材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等を使用できるが、特開2000-47004号公報、同2001-315242号公報、同2001-31871号公報、同2001-296401号公報等に記載の多官能性材料や、特開2001-293818号公報等に記載の金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜を使用することもできる。前記高屈折率層の屈折率は、1.70~2.20であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、5nm~10μmであることが好ましく、10nm~1μmであることがさらに好ましい。前記中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50~1.70であることが好ましい。前記反射防止フィルムのヘイズは、5以下あることが好ましく、3以下がさらに好ましい。また、膜の強度は、JISK5400に従う鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。3-2輝度向上フィルム本発明の偏光板は、輝度向上フィルムと組み合わせて使用することができる。輝度向上フィルムは、円偏光もしくは直線偏光の分離機能を有しており、偏光板とバックライトとの間に配置され、一方の円偏光もしくは直線偏光をバックライト側に後方反射もしくは後方散乱する。バックライト部からの再反射光は、部分的に偏光状態を変化させ、輝度向上フィルムおよび偏光板に再入射する際、部分的に透過するため、この過程を繰り返すことにより光利用率が向上し、正面輝度が1.4倍程度に向上する。輝度向上フィルムとしては異方性反射方式および異方性散乱方式が知られており、いずれも本発明における偏光板と組み合わせることができる。異方性反射方式では、一軸延伸フィルムと未延伸フィルムとを多重に積層して、延伸方向の屈折率差を大きくすることにより反射率ならびに透過率の異方性を有する輝度向上フィルムが知られており、誘電体ミラーの原理を用いた多層膜方式国際公開第95/17691号パンフレット、国際公開第95/17692号パンフレット、国際公開第95/17699号パンフレットの各明細書記載やコレステリック液晶方式欧州特許606940A2号明細書、特開平8-271731号公報記載が知られている。誘電体ミラーの原理を用いた多層方式の輝度向上フィルムとしてはDBEF―E、DBEF-D、DBEF-Mいずれも3M社製、コレステリック液晶方式の輝度向上フィルムとしてはNIPOCS日東電工株製が本発明で好ましく使用される。NIPOCSについては、日東技報,vol.38,No.1,May,2000,19頁~21頁などを参考にすることができる。また、本発明では国際公開第97/32223号パンフレット、国際公開第97/32224号パンフレット、国際公開第97/32225号パンフレット、国際公開第97/32226号パンフレットの各明細書および特開平9-274108号、同11-174231号の各公報に記載された正の固有複屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーとをブレンドして一軸延伸した異方性散乱方式の輝度向上フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。異方性散乱方式輝度向上フィルムとしては、DRPF-H3M社製が好ましい。本発明の偏光板は、さらに、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア防眩層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けた機能性光学フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。また、これらの機能層は、前述の反射防止フィルムにおける反射防止層、あるいは光学異方性層等と同一層内で相互に複合して使用することも好ましい。これらの機能層は、偏光子側および偏光子と反対面より空気側の面のどちらか片面、または両面に設けて使用できる。3-3ハードコート層本発明の偏光板は耐擦傷性等の力学的強度を付与するため、ハードコート層を透明支持体の表面に設けた機能性光学フィルムと組み合わせることが好ましく行われる。ハードコート層を、前述の反射防止フィルムに適用して用いる場合は、特に、透明支持体と高屈折率層の間に設けることが好ましい。前記ハードコート層は、光および/または熱による硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、または、加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開2002-144913号公報、同2000-9908号公報、国際公開第00/46617号パンフレット等記載のものを好ましく使用することができる。ハードコート層の膜厚は、0.2μm~100μmであることが好ましい。ハードコート層の強度は、JISK5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。また、JISK5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。ハードコート層を形成する材料は、エチレン性不飽和基を含む化合物、開環重合性基を含む化合物を用いることができ、これらの化合物は単独あるいは組み合わせて用いることができる。エチレン性不飽和基を含む化合物の好ましい例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールのポリアクリレート類;ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類;ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を好ましい化合物として挙げることができる。また、市販化合物としては、EB-600、EB-40、EB-140、EB-1150、EB-1290K、IRR214、EB-2220、TMPTA、TMPTMA以上、ダイセルユーシービー株製、UV-6300、UV-1700B以上、日本合成化学工業株製等が挙げられる。また、開環重合性基を含む化合物の好ましい例としては、グリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど、脂環式エポキシ類としてセロキサイド2021P、セロキサイド2081、エポリードGT-301、エポリードGT-401、EHPE3150CE以上、ダイセル化学工業株製、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど、オキセタン類としてOXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX-1009以上、東亞合成株製などが挙げられる。その他にグリシジルメタアクリレートの重合体、或いはグリシジルメタアクリレートと共重合できるモノマーとの共重合体をハードコート層に使用することもできる。ハードコート層には、ハードコート層の硬化収縮の低減、基材との密着性の向上、本発明においてハードコート処理物品のカールを低減するため、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等の酸化物微粒子やポリエチレン、ポリスチレン、ポリメタアクリル酸エステル類、ポリジメチルシロキサン等の架橋粒子、SBR、NBRなどの架橋ゴム微粒子等の有機微粒子等の架橋微粒子を添加することも好ましく行われる。これらの架橋微粒子の平均粒子サイズは、1nm~20000nmであることが好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒状、針状、板状など特に制限無く使用できる。微粒子の添加量は硬化後のハードコート層の60体積以下であることが好ましく、40体積以下がより好ましい。上記で記載した無機微粒子を添加する場合、一般にバインダーポリマーとの親和性が悪いため、ケイ素、アルミニウム、チタニウム等の金属を含有し、かつアルコキシド基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の官能基を有する表面処理剤を用いて表面処理を行うことも好ましく行われる。ハードコート層は、熱または活性エネルギー線を用いて硬化することが好ましく、その中でも放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等の活性エネルギー線を用いることがより好ましく、安全性、生産性を考えると電子線、紫外線を用いることが特に好ましい。熱で硬化させる場合は、プラスチック自身の耐熱性を考えて、加熱温度は140°C以下が好ましく、より好ましくは100°C以下である。3-4前方散乱層前方散乱層は、本発明における偏光板を液晶表示装置に適用した際の、上下左右方向の視野角特性色相と輝度分布改良するために使用される。本発明では、前方散乱層は屈折率の異なる微粒子をバインダー分散した構成が好ましく、例えば、前方散乱係数を特定化した特開11-38208号公報、透明樹脂と微粒子との相対屈折率を特定範囲とした特開2000-199809号公報、ヘイズ値を40以上と規定した特開2002-107512号公報等の構成を使用することができる。また、本発明における偏光板をヘイズの視野角特性を制御するため、住友化学株の技術レポート光機能性フィルム31頁~39頁に記載されたルミスティと組み合わせて使用することも好ましく行うことができる。3-5アンチグレア層アンチグレア防眩層は、反射光を散乱させ映り込みを防止するために使用される。アンチグレア機能は、液晶表示装置の最表面表示側に凹凸を形成することにより得られる。アンチグレア機能を有する光学フィルムのヘイズは、3~30であることが好ましく、5~20であることがさらに好ましく、7~20であることが最も好ましい。フィルム表面に凹凸を形成する方法は、例えば、微粒子を添加して膜表面に凹凸を形成する方法例えば、特開2000-271878号公報等、比較的大きな粒子粒子サイズ0.05~2μmを少量0.1~50質量添加して表面凹凸膜を形成する方法例えば、特開2000-281410号公報、同2000-95893号公報、同2001-100004号公報、同2001-281407号公報等、フィルム表面に物理的に凹凸形状を転写する方法例えば、エンボス加工方法として、特開昭63-278839号公報、特開平11-183710号公報、特開2000-275401号公報等記載等を好ましく使用することができる。液晶表示装置次に本発明の液晶表示装置について説明する。本発明の液晶表示装置は、本発明の偏光板を少なくとも1枚含むことを特徴とする。図1は、本発明の液晶表示装置の例を示す概略図である。図1において、液晶表示装置10は、液晶層5とこの上下に配置された液晶セル上電極基板3および液晶セル下電極基板6とを有する液晶セル、液晶セルの両側に配置された上側偏光板1および下側偏光板8からなる。液晶セルと各偏光板との間にカラーフィルターを配置してもよい。前記液晶表示装置10を透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置する。上側偏光板1および下側偏光板8は、それぞれ2枚の偏光板保護フィルムで偏光子を挟むように積層した構成を有しており、本発明の液晶表示装置10は、少なくとも一方の偏光板が本発明の偏光板であることが好ましい。本発明の液晶表示装置10は、装置の外側液晶セルから遠い側から、一般の透明保護フィルム、偏光子、前記偏光板保護フィルムの順序で積層することが好ましい。液晶表示装置10には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。TFTやMIMのような3端子または2端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置が本発明は有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるSTNモードに代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置でも有効である。VAモード本発明の液晶表示装置の液晶セルはVAモードであることが好ましい。VAモードでは上下基板間に誘電異方性が負で、Δn=0.0813、Δε=-4.6程度の液晶をラビング配向により、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角を、約89°で作製する。図1における液晶層5の厚さdは3.5μm程度に設定してあることが好ましい。ここで厚さdと屈折率異方性Δnとの積Δndの大きさにより白表示時の明るさが変化する。このため最大の明るさを得るためには液晶層の厚みを0.2μm~0.5μmの範囲になるように設定する。液晶セルの上側偏光板1の吸収軸2と下側偏光板8の吸収軸9は略直交に積層する。液晶セル上電極基板3および液晶セル下電極基板6のそれぞれの配向膜の内側には透明電極図示せずが形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層5中の液晶分子は、基板面に対して概略垂直に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態はほとんど変化しない。すなわち、液晶表示装置では、非駆動状態において理想的な黒表示を実現する。これに対し、駆動状態では、液晶分子は基板面に平行な方向に傾斜し、液晶パネルを通過する光はかかる傾斜した液晶分子により偏光状態を変化させる。換言すると、液晶表示装置では、駆動状態において白表示が得られる。なお図1において、符号4および7は、配向制御方向である。ここでは上下基板間に電界が印加されるため、電界方向に垂直に液晶分子が応答するような、誘電率異方性が負の液晶材料を使用することが好ましい。また電極を一方の基板に配置し、電界が基板面に平行の横方向に印加される場合は、液晶材料は正の誘電率異方性を有するものを使用する。またVAモードの液晶表示装置では、TNモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル剤の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。VAモードの特徴は、高速応答であることと、コントラストが高いことである。しかし、コントラストは正面では高いが、斜め方向では劣化する課題がある。黒表示時に液晶分子は基板面に垂直に配向している。正面から観察すると、液晶分子の複屈折はほとんどないため透過率は低く、高コントラストが得られる。しかし、斜めから観察した場合は液晶分子に複屈折が生じる。さらに上下の偏光板吸収軸の交差角が、正面では90°の直交であるが、斜めから見た場合は90°より大きくなる。この2つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じ、コントラストが低下する。前記有機酸を含む偏光板保護フィルムが位相差フィルムである場合、この問題を解決するために光学補償シート位相差フィルムとして、前記偏光板保護フィルムを配置することができる。また白表示時には液晶分子が傾斜しているが、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。これを解決するためには、液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にすることも好ましい。マルチドメイン例えば、VA方式では液晶分子が電界印加により、一つの画素内で異なる複数の領域に傾斜することで視角特性が平均化される。一画素内で配向を分割するには、電極にスリットを設けたり、突起を設け、電界方向を変えたり電界密度に偏りを持たせる。全方向で均等な視野角を得るにはこの分割数を多くすればよいが、4分割、あるいは8分割以上することでほぼ均等な視野角が得られる。特に8分割時は偏光板吸収軸を任意の角度に設定できるので好ましい。また配向分割の領域境界では、液晶分子が応答しづらい。そのためノーマリーブラック表示では黒表示が維持されるため、輝度低下が問題となる。そこで液晶材料にカイラル剤を添加して境界領域を小さくすることが可能である。以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。実施例101偏光板保護フィルムの作製セルロースアシレート溶液の調製下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液1を調製した。―――――――――――――――――――――――――――――――――――セルロースアシレート溶液1の組成―――――――――――――――――――――――――――――――――――アセチル置換度2.40、重合度400のセルロースアセテート100.0質量部重量平均分子量1000の重縮合ポリエステルA17.0質量部有機酸A2.0質量部メチレンクロライド第1溶媒402.0質量部メタノール第2溶媒60.0質量部―――――――――――――――――――――――――――――――――――マット剤溶液2の調製下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液2を調製した。―――――――――――――――――――――――――――――――――――マット剤溶液2の組成―――――――――――――――――――――――――――――――――――平均粒子サイズ20nmのシリカ粒子AEROSILR972、日本アエロジル株製2.0質量部メチレンクロライド第1溶媒75.0質量部メタノール第2溶媒12.7質量部前記セルロースアシレート溶液110.3質量部―――――――――――――――――――――――――――――――――――上記マット剤溶液2の1.3質量部とセルロースアシレート溶液1を98.7質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合した。混合した溶液を、バンド流延機を用いて流延し、80°Cで残留溶媒含量30まで乾燥した後、フィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムは、テンター延伸装置を用いて145°Cの雰囲気下に搬送方向と垂直な方向に30の倍率で延伸した。延伸後のフィルムをさらに140°Cの雰囲気温度で20分乾燥させ、実施例101の偏光板保護フィルムを製造した。製造された偏光板保護フィルムの膜厚は55μmであった。偏光板保護フィルムの鹸化処理作製した実施例101の偏光板保護フィルムを、2.3mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液に、55°Cで3分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、30°Cで0.05mol/Lの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに100°Cの温風で乾燥した。このようにして、実施例101の偏光板保護フィルムについて表面の鹸化処理を行った。偏光板の作製延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて、特開2005-62548号公報に記載の方法で偏光子を作製した。なお、このとき、偏光子はpH4.3程度のホウ酸溶液で架橋処理をしたのみであり、その他に酸性溶液で処理する工程は行わなかった。鹸化処理した実施例101の偏光板保護フィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記にて製造した偏光子の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフィルムフジタックTD80UF、富士フイルム株製に同様の鹸化処理を行った。ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作成した実施例101の偏光板保護フィルムを貼り付けてある側とは反対側の偏光子の面に、鹸化処理後のセルローストリアセテートフィルムを貼り付けた。なお、有機酸を含まない市販のセルローストリアセテートフィルムは膜厚80μm、透湿度400g/m2dayである。この際、偏光子の透過軸と作成した実施例1の偏光板保護フィルムの遅相軸とは平行になるように配置した。また、偏光子の透過軸と市販のセルローストリアセテートフィルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして実施例101の偏光板を作製した。[実施例102~110、比較例201~207]実施例102~110および比較例201~207の偏光板保護フィルムの作製実施例101においてセルロースアシレートの置換度、有機酸の種類および添加量、フィルム厚みを下記表1に記載したとおりに変更した以外は同様にして、実施例102~110および比較例201~207の偏光板保護フィルムを製造した。なお、下記表1中、有機酸の添加量は、セルロースアシレート樹脂100質量部に対する添加量質量部、mmolをそれぞれ表す。また、比較例201で用いたクエン酸は特許4136054号に記載の例示化合物であり、同文献に記載の化合物の効果を追試したものである。また、比較例207は特開2005-62458号公報の実施例5の効果を追試したものである。偏光板保護フィルムの鹸化処理と偏光板の作製実施例102~110の偏光板保護フィルムおよび比較例201~207の偏光板保護フィルムについても、それぞれ実施例101と同様にしてけん化処理および偏光板作製を行い、各実施例および比較例の偏光板を作製した。[評価]偏光板耐久性の評価上記で作製した各実施例および比較例の偏光板について、波長410nmにおける偏光子の直交透過率を本明細書に記載した方法で測定した。その後、60°C、相対湿度95の環境下で500時間保存した後と、80°C、調湿なしで500時間保存した後のそれぞれについて同様の手法で直交透過率を測定した。経時前後の直交透過率の変化を求め、これを偏光子耐久性として下記表1にその結果を記載した。なお、調湿なしの環境下での相対湿度は、0~20の範囲であった。偏光子の水溶液のpH測定偏光子の水溶液のpHは以下の方法により測定した。上記で作製した各実施例および比較例の偏光板を4cm×4cmに切り出し、メチレンクロライド100ccに3時間浸漬、ついでアセトン100ccに3時間浸漬し、偏光板保護フィルムを溶解して取り除いた。残った偏光子PVAを取り出し、イオン交換水15ccの入ったねじ口瓶に入れた。ねじ口瓶のふたを閉め、煮沸状態の湯浴に浸け、2時間加熱して偏光子PVAを溶解した。新電元工業株式会社製のISFETpH計pHBOYKS501を使用して、溶解後のPVA水溶液のpHを測定した。また、60°C、相対湿度95で500時間保存した後においても同様にして偏光子の水溶液のpHを測定した。これらの結果と、両者のpHの差をpH変化として下記表1に記載した。表1の結果から、前記偏光子の水溶液のpHが高温環境下での経時前において4~7であり、60°C、相対湿度95、500時間経時後前後のpH変化が0.4未満である本発明の偏光板は、高温高湿経時後、および高温低湿経時後ともに偏光子の劣化が生じにくいことがわかった。一方、経時前の水溶液のpHが高温環境下での経時前において4未満であり、かつ、60°C、相対湿度95、500時間経時後前後のpH変化が0.4以上である比較例201の偏光板は、高温低湿経時後の偏光子の劣化が大きいことがわかった。また、60°C、相対湿度95、500時間経時後前後のpH変化が0.4以上である比較例202~204の偏光板は、高温高湿経時後の偏光子の劣化が大きいことがわかった。セルロースアセテートプロピオネートを用いたときに、経時前の水溶液のpHが高温環境下での経時前において4未満であり、かつ、60°C、相対湿度95、500時間経時後前後のpH変化が0.4以上である比較例205の偏光板は、高温高湿経時後および高温低湿経時後ともに偏光子の劣化が大きいことが分かった。同様に、セルロースアセテートプロピオネートを用いたときに、60°C、相対湿度95、500時間経時後前後のpH変化が0.4以上である比較例205の偏光板は、高温高湿経時後および高温低湿経時後ともに偏光子の劣化が大きいことが分かった。また、表1の結果から、前記偏光板保護フィルムにlogPが3以上の有機酸を添加することで、偏光板の偏光子の水溶液のpHおよびpH変化量を本発明の範囲に制御できることもわかった。一方、前記偏光板保護フィルムにlogPが3未満の有機酸を添加した場合や、酸を添加しなかった場合には、偏光板の偏光子の水溶液のpHおよびpH変化量が本発明の範囲から外れ、本発明の偏光板を製造できなかった。[実施例301]液晶表示装置の作製市販の液晶テレビSONY株のブラビアJ5000の2枚の偏光板をはがし、視認者側およびバックライト側に本発明の偏光板として、実施例101の偏光板保護フィルムを用いた本発明の偏光板を、実施例101の偏光板保護フィルムがそれぞれ液晶セル側となるように、粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。このようにして作製した本発明の液晶表示装置は市販の液晶テレビに対して、環境湿度を変えても斜めから観察した場合のコントラスト変化および色味変化が小さく、かつ高温高湿下、および高温低湿下の双方において、長時間使用してもコントラストの低下が小さく好ましかった。"