レーザ光を発振するレーザ光源と、該レーザ光を複数の制御信号で空間的に配列分割して複数のレーザビームとする光変調部と、光変調部からの配列されたレーザビームを縮小投影する投影光学部と、該レーザビームを感光膜に対して走査させる走査手段とを有し、投影光学部の結像部に配列される複数のレーザスポットの夫々が幅方向のサイズが該幅方向と直交する高さ方向のサイズよりも大きい矩形形状を有する矩形レーザスポットとされてなるレーザヘッド部を含むレーザ露光装置を用い、レーザビームを走査させることで、該感光膜に所定長を有するレーザスポット列を形成し、版面に塗布された感光膜を露光して感光される部分と感光されない部分とを形成するための露光方法であり、相前後する走査において、先に走査されたレーザスポット列の幅方向の少なくとも半分の領域が重複露光されるように後のレーザスポット列を走査して露光することを特徴とするレーザ露光方法。前記複数のレーザビームが奇数本であることを特徴とする請求項1記載のレーザ露光方法。請求項1又は2に記載のレーザ露光方法を用いて製造されたことを特徴とする製品。本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、比較的廉価な従来の3200dpi程度の解像度を有するレーザ露光装置と同程度の性能のレーザ露光装置を用いて、グラビア製版、オフセット製版、フレキソ製版等における高解像度のレーザ製版を行うことができ、更には、プリント基板、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の電子部品における回路パターンのレーザ露光や紙幣等における偽造防止用特殊印刷等にも用いることのできる高解像度のレーザ露光方法及びそれを用いて製造された製品を提供することを目的とする。本発明のレーザ露光方法は、レーザ光を発振するレーザ光源と、該レーザ光を複数の制御信号で空間的に配列分割して複数のレーザビームとする光変調部と、光変調部からの配列されたレーザビームを縮小投影する投影光学部と、該レーザビームを感光膜に対して走査させる走査手段とを有し、投影光学部の結像部に配列される複数のレーザスポットの夫々が幅方向のサイズが該幅方向と直交する高さ方向のサイズよりも大きい矩形形状を有する矩形レーザスポットとされてなるレーザヘッド部を含むレーザ露光装置を用い、レーザビームを走査させることで、該感光膜に所定長を有するレーザスポット列を形成し、版面に塗布された感光膜を露光して感光される部分と感光されない部分とを形成するための露光方法であり、相前後する走査において、先に走査されたレーザスポット列の幅方向の少なくとも半分の領域が重複露光されるように後のレーザスポット列を走査して露光することを特徴とする。前記走査手段としては、感光膜に照射されたレーザスポット列の配列方向と交差する方向に相対走査させる主走査方向と、前記主走査方向に対して直交する方向に相対走査させる副走査方向とに走査させる走査手段が好適である。このように露光することで、後に走査されたレーザスポット列から、先に走査されたレーザスポット列との重複露光部分を差し引いた分だけ露光領域が増えることになるため、従来のようにほとんど並列にレーザスポット列を照射するように走査する場合と比べて、露光領域が小さくなるため、高解像度化が実現できる。特に、従来は実現が難しかったレーザスポットの幅方向の高解像度化、すなわち前記レーザ露光装置の副走査方向の高解像度化が実現できる。また、前記複数のレーザビームが奇数本であるのが好ましい。なお、前記レーザ光源としては、半導体レーザであることが好ましい。本発明の製品は、本発明のレーザ露光方法を用いて製造されたことを特徴とする。本発明によれば、比較的廉価な従来の3200dpi程度の解像度を有するレーザ露光装置と同程度の性能のレーザ露光装置を用いて、グラビア製版、オフセット製版、フレキソ製版等における高解像度のレーザ製版を行うことができ、更には、プリント基板、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の電子部品における回路パターンのレーザ露光や紙幣等における偽造防止用特殊印刷等にも用いることのできる高解像度のレーザ露光方法及びそれを用いて製造された製品を提供することができるという著大な効果を奏する。以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明するが、図示例は例示的に示されたもので、本発明の技術的思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことは言うまでもない。まず、本発明のレーザ露光方法に用いられるレーザ露光装置を装置構成ついて以下に説明する。図3は、本発明のレーザ露光装置の基本的装置構成を示すブロック図である。図中、符号10はレーザ露光装置であり、レーザ露光装置10はレーザビームを感光膜に照射されたレーザスポット列の配列方向と交差する方向に相対走査させる主走査方向と前記主走査方向に対して直交する副走査方向とに走査させる走査手段としての走査機構4を有するレーザヘッド部11を有し、レーザヘッド部11は、レーザ光源1と、レーザ光を幅方向のサイズが該幅方向と直交する高さ方向のサイズよりも大きい矩形形状を有する矩形レーザスポットに成形するビーム成形照射部2とから構成されており、また、製版情報に基づいて、レーザ光源1、ビーム成形照射部2、レーザヘッド部11の走査機構4及び版胴5の動作を制御する制御部3を備えている。製版対象となる版胴5には、その表面に感光材が塗布されて感光膜が形成された版面6とされている。レーザ光源1は、例えば波長830nmの半導体レーザのレーザ発振部を複数有する半導体レーザであり、連続的にレーザ発振する。レーザ光源1から出射されたレーザ光はビーム成形照射部2に入射する。ビーム成形照射部2は、開口成形部7と光変調部8と投影光学部9より構成されている。開口成形部7は、入射したレーザ光のビーム形状を光変調部8の入射開口に合わせて成形し、光変調部8に入射させる。本発明では、レーザスポットの形状を矩形とする必要があるので、ビーム形状も矩形に成形する。なお、ビーム形状を矩形に成形する方法は公知の方法によればよいが、例えば、レーザ光を長方形の孔を有する光弁に通過させるようにすればよい特許文献3参照。光変調部8は、数十から数百の独立した光変調開口を有する液晶型空間変調器や電気駆動される微小ミラーアレイ、或いは音響光学空間変調器などから構成される光変調部であり、製版情報に基づいて複数の信号でレーザ光を空間的に配列分割して光変調制御する。例えば電子駆動される微小ミラーを多数配列した回折格子型ミラーアレイの場合、数エレメントを1チャンネルとして駆動制御され200kHz程度で入射するレーザ光線の光強度変調が可能であり、数百チャンネルくらいの独立した光変調器として使用できるものである。制御部3からの製版情報を付与された変調信号によって個々独立に強度変調され数百チャンネル分の配列されたパルス的回折光として出射する。光変調部8を出射し、それぞれ光変調されたレーザ光は、独立の光変調開口に相当する配列されたレーザ光線になっており、これを投影光学部9に入射させる。投影光学部9は入射光を所定の倍率で縮小投影する複数のレンズで構成された縮小投影光学系であり、レンズ系及びオートフォーカス機能などを有し、光変調部8を入射光源面として版面6上を結像面とする縮小光学系である。光変調部8の位置でのチャンネルの形状で決められるレーザ光ビーム径とレーザ光ビーム間隔を、版面上で所定のレーザスポットとレーザスポット間隔になるように縮小投影する。例えば、投影光学部の縮小比を10対1とすると、光変調部8で50μm径、50μm間隔で配列されたレーザスポット列は版面6上でのレーザスポット列は5μm径で5μm間隔に縮小投影される。図4及び図5によく示される如く、これらのレーザ光源1から投影光学部9までの光学系を搭載しているレーザヘッド部11は、製版情報によって順次版胴5に沿ってシャフト12を介して走査機構4によりレーザビームを感光膜に対して主走査方向と前記主走査方向に対して直交する副走査方向とに走査される。版面6には感光材が塗布され感光膜が形成されている。制御部3は、製版情報に基づいて、版胴5の回転と、レーザ走査機構4の主走査方向及び副走査方向の制御を可能としている。本発明の露光方法は、このようなレーザ露光装置を用い、レーザビームを主走査方向又は副走査方向に走査させることで、該感光膜に所定長を有するレーザスポット列を形成し、版面に塗布された感光膜を露光して感光される部分と感光されない部分とを形成するための露光方法であり、相前後する走査において、先に走査されたレーザスポット列の幅方向の少なくとも半分の領域が重複露光されるように後のレーザスポット列を走査して露光するものである。前記複数のレーザビームとしては、奇数本が好ましい。版面6は、レーザ照射された部分が感光され、非照射部は感光されないため、版胴5面全体に製版情報が付与される。その後、版胴5は、現像、金属面のエッチング、レジスト剥離、クロムメッキやダイヤモンドライクカーボンなどを用いた硬質皮膜形成処理によって、グラビア印刷版として供される。感光材がポジ型の感光液を使用した場合には、感光された部分が光分解し、ネガ型の感光液を使用した場合には、露光された領域が光硬化して残存し、エッチングすれば露光されなかった領域は取り除かれることとなる。以下に本発明の実施例をあげてさらに具体的に説明するが、各実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。実施例1レーザグラビア製版システムを次のように構成した。版胴グラビアシリンダは円周600mmで幅1100mmのアルミニウム製グラビアシリンダに80μmの銅メッキを施し、表面を鏡面研磨表面粗さRy=0.12μmした。感光液としてはTSER-2104株シンクラボラトリー製造販売のポジ型感光液を用い、感光膜の膜厚3.5μm、塗布後45分間の風乾温度23°Cを行った。感光液塗布装置としてはコーティング-FX-1300株シンクラボラトリー製造販売を用いた。レーザ露光装置として、LaserStream-FX-1300株シンクラボラトリー製造販売を用い、露光パワーを230mJ/cm2とし、露光時シリンダ回転数を200rpmとした。現像液にはTLD現像液株シンクラボラトリー製造販売を用い、現像方法は回転浸漬現像80秒温度25°Cで行った。上記システム構成中のレーザ露光装置のレーザスポット16は矩形であり、208本のレーザビームを照射することができる。このようなレーザ露光装置を用いたレーザ露光方法について、図1及び図2に基づいて説明する。感光膜を塗布したシリンダーを回転させ、まず、シリンダーの回転1周目は、208本のレーザビームのうち、208番目をOFFとして207本のレーザビームで感光膜に所定長を有するレーザスポット列14aを形成して照射し、露光する。シリンダーの回転2周目は、1周目に照射した207本のレーザスポット列の幅方向の半分の領域が重複露光されるように、下記式2に基づいてレーザスポット列14bを副走査する。この場合、感光膜上において、1周目のレーザスポット列14aの幅方向の半分の領域が重ね露光されることになる図2参照。ピッチ25.4/3200×103.5=0.8215mm2次に、シリンダーの回転3周目は、同様にして、2周目に照射した207本のレーザスポット列の幅方向の半分の領域が重複露光されるようにレーザスポット列を副走査する。このようにして、次々に露光していくことで、6400dpi×6400dpiの解像度を有するレーザ露光装置で露光したのと同等の効果が得られる。上記したレーザ露光方法以外は、通常のレーザグラビア製版を行った結果を図6a及び図7に示す。図6a及び図7に示される如く、斜線部分にもほとんど段差やギザギザは表れず、略完全に直線状の斜線を形成でき、極めて精確に微細な露光及び製版を行うことができた。比較例1実施例1と同様のレーザグラビア製版システムを用い、該システム構成中のレーザ露光装置において、図10に示したのと同様のレーザ露光方法を行った以外は、実施例1と同様にして、レーザグラビア製版を行った。その結果を図6b及び図8に示す。図6b及び図8に示される如く、斜線部分には段差によるギザギザが表れており、充分に微細な露光及び製版を行うことはできなかった。