"水素と一酸化炭素とを含む混合ガスから酸素化物を合成する酸素化物合成用の触媒において、A成分:ロジウムと、B成分:マンガンと、C成分:リチウムと、D成分:セシウムとを含むことを特徴とする酸素化物合成用の触媒。下記I式で表されることを特徴とする請求項1に記載の酸素化物合成用の触媒。aAbBcCdDI[I式中、AはA成分を表し、BはB成分を表し、CはC成分を表し、DはD成分を表し、a、b、c及びdはモル分率を表し、abcd=1、a=0.1~0.98、b=0.0014~0.67、c=0.0012~0.51、d=0.0024~0.83である。]請求項1又は2に記載の酸素化物合成用の触媒が充填された反応管と、前記混合ガスを前記反応管内に供給する供給手段と、前記反応管から生成物を排出する排出手段とを備えることを特徴とする酸素化物の製造装置。請求項1又は2に記載の酸素化物合成用の触媒に、水素と一酸化炭素とを含む混合ガスを接触させて酸素化物を得ることを特徴とする酸素化物の製造方法。しかしながら、酸素化物合成用の触媒には、酸素化物をより効率的に合成できることが求められている。そこで、本発明は、水素と一酸化炭素との混合ガスから、酸素化物を効率的に合成できる酸素化物合成用の触媒を目的とする。本発明の酸素化物合成用の触媒は、水素と一酸化炭素とを含む混合ガスから酸素化物を合成する酸素化物合成用の触媒において、A成分:ロジウムと、B成分:マンガンと、C成分:リチウムと、D成分:セシウムとを含むことを特徴とする。本発明の酸素化物合成用の触媒は、下記I式で表される触媒であることが好ましい。aAbBcCdDI[I式中、AはA成分を表し、BはB成分を表し、CはC成分を表し、DはD成分を表し、a、b、c及びdはモル分率を表し、abcd=1、a=0.1~0.98、b=0.0014~0.67、c=0.0012~0.51、d=0.0024~0.83である。]本発明の酸素化物の製造装置は、本発明の前記の酸素化物合成用の触媒が充填された反応管と、前記混合ガスを前記反応管に供給する供給手段と、前記反応管から生成物を排出する排出手段とを備えることを特徴とする。本発明の酸素化物の製造方法は、本発明の前記の酸素化物合成用の触媒に、水素と一酸化炭素とを含む混合ガスを接触させて酸素化物を得ることを特徴とする。本稿において酸素化物は、酢酸、エタノール、アセトアルデヒド、メタノール、プロパノール、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル等、炭素原子と水素原子と酸素原子からなる分子を意味する。本発明の酸素化物合成用の触媒は、水素と一酸化炭素との混合ガスから、酸素化物を効率的に合成できる。酸素化物合成用の触媒本発明の酸素化物合成用の触媒以下、単に触媒ということがあるは、A成分:ロジウムと、B成分:マンガンと、C成分:リチウムと、D成分:セシウムとを含むものである。A~D成分を含むことで、酸素化物を効率的に合成できる。加えてアルカリ金属であるC成分とD成分とを併用することで、副生成物の発生を低減し、CO転化率を高め、酸素化物をより効率的に合成できる。なお、CO転化率とは、混合ガス中のCOのモル数のうち、消費されたCOのモル数が占める百分率を意味する。C成分とD成分とを併用することで酸素化物の合成効率が高まる機構については明らかではないが、C成分とD成分とを含むことで、A~D成分が分散性高く、触媒中に存在できるためと推測される。本発明の触媒は、下記I式で表される組成であることが好ましい。aAbBcCdDII式中、AはA成分を表し、BはB成分を表し、CはC成分を表し、DはD成分を表し、a、b、c及びdはモル分率を表し、abcd=1である。I式中のaは、0.1~0.98が好ましく、0.26~0.83がより好ましく、0.33~0.71がさらに好ましい。上記下限値未満であるとA成分の含有量が少なすぎて、酸素化物の合成効率が十分に高まらないおそれがあり、上記上限値超であるとB~D成分の含有量が少なくなりすぎて、酸素化物の合成効率が十分に高まらないおそれがある。I式中のbは、0.0014~0.67が好ましく、0.043~0.58がより好ましく、0.092~0.46がさらに好ましい。上記下限値未満であるとB成分の含有量が少なすぎて、酸素化物の合成効率が十分に高まらないおそれがあり、上記上限値超であるとA成分、C成分、D成分の含有量が少なくなりすぎて、酸素化物の合成効率が十分に高まらないおそれがある。I式中のcは、0.0012~0.51が好ましく、0.033~0.43がより好ましく、0.077~0.34がさらに好ましい。上記下限値未満であるとC成分の含有量が少なすぎて、酸素化物の合成効率が十分に高まらないおそれがあり、上記上限値超であるとA成分、B成分、D成分の含有量が少なくなりすぎて、酸素化物の合成効率が十分に高まらないおそれがある。I式中のdは、0.0024~0.83が好ましく、0.0071~0.24がより好ましく、0.009~0.21がさらに好ましい。上記下限値未満であるとD成分の含有量が少なすぎて、酸素化物の合成効率が十分に高まらないおそれがあり、上記上限値超であるとA~C成分の含有量が少なくなりすぎて、酸素化物の合成効率が十分に高まらないおそれがある。本発明の触媒は、A~D成分がそれぞれ独立して存在していてもよいし、A~D成分が合金を形成していてもよい。本発明の触媒は、A~D成分の集合物であってもよいし、A~D成分が担体に担持された担持触媒であってもよく、担持触媒であることが好ましい。担持触媒とすることで、A~D成分と混合ガスとの接触効率が高まり、酸素化物をより効率的に合成できる。担体としては、金属触媒の担体として周知のものを用いることができ、例えば、シリカ、チタニア、アルミナ、セリア等が挙げられ、中でも、触媒反応の選択率を高める観点、CO転化率を高める観点、比表面積や細孔径が異なる種々の製品が市場で調達できることから、シリカが好ましい。本発明の触媒は、アルデヒド化合物の選択率を高められる。なお、選択率とは、混合ガス中の消費されたCOのモル数のうち、特定の酸素化物へ変換されたCのモル数が占める百分率である。例えば、下記α式によれば、酸素化物である酢酸の選択率は100モルである。一方、下記β式によれば、酸素化物である酢酸の選択率は50モルであり、酸素化物であるアセトアルデヒドの選択率も50モルである。2H22CO→CH3COOHα5H24CO→CH3COOHCH3CHOH2Oβ担体としては、比表面積が10~1000m2/gであり、かつ1nm以上の細孔径を有するものが好ましい。加えて、担体は、粒子径の分布が狭いものが好ましい。担体の平均粒子径は、特に限定されないが、0.5~5000μmが好ましい。本発明の触媒を担持触媒とする場合、担体100質量部に対するA~D成分の合計量は、0.01~10質量部が好ましく、0.1~5質量部がより好ましい。上記下限値未満では、酸素化物の合成効率が低下するおそれがあり、上記上限値超では、A~D成分が均一かつ高分散な状態となりにくく、酸素化物の合成効率が低下するおそれがある。本発明の触媒は、従来公知の貴金属触媒の製造方法に準じて製造される。触媒の製造方法としては、例えば、含浸法、浸漬法、イオン交換法、共沈法、混練法等が挙げられ、中でも含浸法が好ましい。含浸法を用いることで、得られる触媒は、A~D成分がより均一に分散され、混合ガスとの接触効率がより高められ、酸素化物をより効率的に合成できる。触媒調製に用いられるA~D成分の原料化合物としては、酸化物、塩化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、シュウ酸塩、アセチルアセトナート塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミン酢酸塩等の有機塩又はキレート化合物、カルボニル化合物、シクロペンタジエニル化合物、アンミン錯体、アルコキシド化合物、アルキル化合物等、A~D成分の化合物として、各種触媒を調製する際に用いられるものが挙げられる。含浸法について説明する。まず、A~D成分の原料化合物を水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の溶媒に溶解し、得られた溶液含浸液に担体を浸漬する等して、含浸液を担体に付着させる。担体として多孔質体を用いる場合には、含浸液を担体の細孔内に十分浸透させた後、溶媒を蒸発させて触媒とする。含浸液を担体に含浸させる方法としては、全ての原料化合物を溶解した溶液を担体に含浸させる方法同時法、各原料化合物を別個に溶解した溶液を調製し、逐次的に担体に各溶液を含浸させる方法逐次法等が挙げられ、中でも、逐次法が好ましい。逐次法で得られた触媒は、酸素化物をより効率的に合成できる。逐次法としては、例えば、D成分を含む溶液一次含浸液を担体に含浸させ一次含浸工程、これを乾燥してD成分を担体に担持させた一次担持体を得一次担持工程、次いでA~C成分を含む溶液二次含浸液を一次担持体に含浸させ二次含浸工程、これを乾燥する二次担持工程方法が挙げられる。このように、D成分を担体に担持させ、次いでA~C成分を担体に担持させることで、触媒はA~D成分がより高分散なものとなり、酸素化物をより効率的に合成できる。一次担持工程は、例えば、一次含浸液が含浸された担体を乾燥し一次乾燥操作、これを任意の温度で加熱して焼成する一次焼成操作方法が挙げられる。一次乾燥操作における乾燥方法は特に限定されず、例えば、一次含浸液が含浸された担体を任意の温度で加熱する方法が挙げられる。一次乾燥操作における加熱温度は、一次含浸液の溶媒を蒸発できる温度であればよく、溶媒が水であれば、80~120°Cとされる。一次焼成操作における加熱温度は、例えば、300~600°Cとされる。一次焼成操作を行うことで、D成分の原料化合物に含まれていた成分の内、触媒反応に寄与しない成分を十分に揮散し、触媒活性をより高められる。二次担持工程は、例えば、二次含浸液が含浸された一次担持体を乾燥し二次乾燥操作、さらに任意の温度で加熱して焼成する二次焼成操作方法が挙げられる。二次乾燥操作における乾燥方法は特に限定されず、例えば、二次含浸液が含浸された一次担持体を任意の温度で加熱する方法が挙げられる。二次乾燥操作における加熱温度は、二次含浸液の溶媒を蒸発できる温度であればよく、溶媒が水であれば、80~120°Cとされる。二次焼成操作における加熱温度は、例えば、300~600°Cとされる。二次焼成操作を行うことで、A~C成分の原料化合物に含まれていた成分の内、触媒反応に寄与しない成分を十分に揮散し、触媒活性をより高められる。上述の方法によって調製された触媒は、通常、還元処理が施されて活性化され、酸素化物の合成に用いられる。還元処理としては、水素を含む気体に、触媒を接触させる方法が簡便で好ましい。この際、処理温度は、ロジウムが還元される程度の温度、即ち100°C程度であればよいが、好ましくは200~600°Cとされる。加えて、A~D成分を十分に分散させる目的で、低温から徐々にあるいは段階的に昇温しながら水素還元を行ってもよい。また、例えば、一酸化炭素と水との存在下、又はヒドラジン、水素化ホウ素化合物もしくは水素化アルミニウム化合物等の還元剤の存在下で、触媒に還元処理を施してもよい。還元処理における加熱時間は、例えば、1~10時間が好ましく、2~5時間がより好ましい。上記下限値未満では、A~D成分の還元が不十分となり、酸素化物の製造効率が低下するおそれがある。上記上限値超では、A~D成分における金属粒子が凝集し、酸素化物の合成効率が低下したり、還元処理におけるエネルギーが過剰になり経済的な不利益が生じたりするおそれがある。一次担持工程の後で二次含浸工程の前に、一次担持体にアルカリ水溶液を接触させて表面処理を施す表面処理工程が設けられていてもよい。表面処理工程を設けることで、一次担持体の表面の一部を水酸化物とし、A成分を含む金属粒子の分散性がより向上するものと推察される。表面処理工程に用いられるアルカリ水溶液は、担体の種類等を勘案して決定でき、例えば、アンモニア水溶液等が挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、D成分の種類や担体の種類等を勘案して決定でき、例えば、0.1~3モル/Lとされる。一次担持体にアルカリ水溶液を接触させる方法は、特に限定されず、例えば、アルカリ水溶液に一次担持体を浸漬する方法、アルカリ水溶液を一次担持体に噴霧等により塗布する方法等が挙げられる。酸素化物合成用の製造装置本発明の酸素化物合成用の製造装置以下、単に製造装置ということがあるは、本発明の触媒が充填された反応管と、混合ガスを反応管内に供給する供給手段と、反応管から生成物を排出する排出手段とを備えるものである。本発明の製造装置の一例について、図1を用いて説明する。図1は、本発明の一実施形態にかかる製造装置10を示す模式図である。製造装置10は、触媒が充填されて反応床2が形成された反応管1と、反応管1に接続された供給管3と、反応管1に接続された排出管4と、反応管1に接続された温度制御部5と、排出管4に設けられた圧力制御部6とを備えるものである。反応管1は、原料ガス及び合成された酸素化物に対して不活性な材料が好ましく、100~500°C程度の加熱、又は10MPa程度の加圧に耐え得る形状のものが好ましい。反応管1としては、例えば、ステンレス製の略円筒形の部材が挙げられる。供給管3は、混合ガスを反応管1内に供給する供給手段であり、例えば、ステンレス製等の配管が挙げられる。排出管4は、反応床2で合成された酸素化物を含む合成ガス生成物を排出する排出手段であり、例えば、ステンレス製等の配管が挙げられる。温度制御部5は、反応管1内の反応床2を任意の温度にできるものであればよく、例えば、電気炉等が挙げられる。圧力制御部6は、反応管1内の圧力を任意の圧力にできるものであればよく、例えば、公知の圧力弁等が挙げられる。また、製造装置10は、マスフロー等、ガスの流量を調整するガス流量制御部等の周知の機器を備えていてもよい。酸素化物の製造方法本発明の酸素化物の製造方法は、混合ガスを触媒に接触させるものである。本発明の酸素化物の製造方法の一例について、図1の製造装置を用いて説明する。まず、反応管1内を任意の温度及び任意の圧力とし、混合ガス20を供給管3から反応管1内に流入させる。混合ガス20は、水素と一酸化炭素とを含むものであれば特に限定されず、例えば、天然ガス、石炭から調製されたものであってもよいし、バイオマスをガス化して得られるバイオマスガス等であってもよい。バイオマスガスは、例えば、粉砕したバイオマスを水蒸気の存在下で加熱例えば、800~1000°Cする等、従来公知の方法で得られる。混合ガス20として、バイオマスガスを用いる場合、混合ガス20を反応管1内に供給する前に、タール分、硫黄分、窒素分、塩素分、水分等の不純物を除去する目的で、ガス精製処理を施してもよい。ガス精製処理としては、例えば、湿式法、乾式法等、当該技術分野で知られる各方式を採用できる。湿式法としては、水酸化ナトリウム法、アンモニア吸収法、石灰石膏法、水酸化マグネシウム法等が挙げられ、乾式法としては、圧力スイング吸着PSA法等の活性炭吸着法、電子ビーム法等が挙げられる。混合ガス20は、水素と一酸化炭素とを主成分とするもの、即ち混合ガス20中の水素と一酸化炭素との合計が、50体積以上であることが好ましく、80体積以上であることがより好ましく、90体積以上であることがさらに好ましく、100体積であってもよい。水素と一酸化炭素との含有量が多いほど、酸素化物の生成量をより高められ、酸素化物をより効率的に製造できる。水素/一酸化炭素で表される体積比以下、H2/CO比ということがあるは、0.1~10が好ましく、0.5~3がより好ましく、1.5~2.5がさらに好ましい。上記範囲内であれば、混合ガスから酸素化物が生成される反応において、化学量論的に適正な範囲となり、酸素化物をより効率的に製造できる。なお、混合ガス20は、水素及び一酸化炭素の他に、メタン、エタン、エチレン、窒素、二酸化炭素、水等を含んでいてもよい。混合ガス20と触媒とを接触させる際の温度反応温度、即ち反応管1内の温度は、例えば、150~450°Cが好ましく、200~400°Cがより好ましく、250~350°Cがさらに好ましい。上記下限値以上であれば、触媒反応の速度を十分に高め、酸素化物をより効率的に製造できる。上記上限値以下であれば、酸素化物の合成反応を主反応とし、酸素化物をより効率的に製造できる。混合ガス20と触媒とを接触させる際の圧力反応圧力、即ち反応管1内の圧力は、例えば、0.5~10MPaが好ましく、1~7.5MPaがより好ましく、2~5MPaがさらに好ましい。上記下限値以上であれば、触媒反応の速度を十分に高め、酸素化物をより効率的に製造できる。上記上限値以下であれば、酸素化物の合成反応を主反応とし、酸素化物をより効率的に製造できる。流入した混合ガス20は、反応床2の触媒と接触しながら流通し、その一部が酸素化物となる。混合ガス20は、反応床2を流通する間、例えば、下記1~5式で表される触媒反応により酸素化物を生成する。3H22CO→CH3CHOH2O14H22CO→CH3CH2OHH2O2H2CH3CHO→CH3CH2OH32H22CO→CH3COOH42H2CH3COOH→CH3CH2OHH2O5そして、この酸素化物を含む合成ガス22は、排出管4から排出される。合成ガス22は、酸素化物を含むものであれば特に限定されないが、酢酸、エタノール及びアセトアルデヒドから選択される1種以上を含むものが好ましい。このようなC2化合物を製造する方法において、本発明の触媒の効果が顕著なためである。混合ガス20の供給速度は、例えば、反応床2における混合ガスの空間速度単位時間当たりガスの供給量を触媒量体積換算で除した値が標準状態換算で10~100000L/L-触媒/hとなるように調節されることが好ましい。空間速度は、目的とする酸素化物に適した反応圧力、反応温度、及び原料である混合ガスの組成を勘案して、適宜調整される。必要に応じ、排出管4から排出された合成ガス22を気液分離器等で処理し、未反応の混合ガス20と酸素化物とを分離してもよい。本実施形態では、固定床の反応床2に混合ガスを接触させているが、例えば、触媒を流動床又は移動床等、固定床以外の形態とし、これに混合ガスを接触させてもよい。本発明では、得られた酸素化物を蒸留等によって、必要成分毎に分離してもよい。また、本発明では、エタノール以外の生成物例えば、酢酸、アセトアルデヒド等、エタノールを除くC2化合物を水素化してエタノールに変換する工程エタノール化工程を設けてもよい。エタノール化工程としては、例えば、アセトアルデヒド、酢酸を含む酸素化物を水素化触媒に接触させてエタノールに変換する方法が挙げられる。ここで、水素化触媒としては、当該技術分野で知られる触媒が使用でき、銅、銅-亜鉛、銅-クロム、銅-亜鉛-クロム、鉄、ロジウム-鉄、ロジウム-モリブデン、パラジウム、パラジウム-鉄、パラジウム-モリブデン、イリジウム-鉄、ロジウム-イリジウム-鉄、イリジウム-モリブデン、レニウム-亜鉛、白金、ニッケル、コバルト、ルテニウム、酸化ロジウム、酸化パラジウム、酸化白金、酸化ルテニウム等が挙げられる。これらの水素化触媒は、本発明の触媒に用いられる担体と同様の担体に担持させた担持触媒であってもよく、担持触媒としては、銅、銅-亜鉛、銅-クロム又は銅-亜鉛-クロムをシリカ系担体に担持させた銅系触媒が好適である。担持触媒である水素化触媒の製造方法としては、本発明の触媒と同様に同時法又は逐次法が挙げられる。上述したように、本発明の触媒を用いることで、混合ガスから酸素化物を効率的に合成できる。以下に、実施例を示して本発明を説明するが、本発明は実施例によって限定されるものではない。実施例1硝酸セシウムCsNO30.0073gを含む水溶液一次含浸液1.08mLを、シリカゲル比表面積:310m2/g、平均細孔径:14nm、細孔容量:1.1cm3/g1.0gに滴下して含浸させた一次含浸工程。これを110°Cにて3時間乾燥し一次乾燥操作、さらに450°Cにて3時間焼成して一次担持体とした一次焼成操作,以上、一次担持工程。塩化ロジウムRhCl30.061gと、塩化リチウムLiCl0.0017gと、塩化マンガン四水和物MnCl24H2O0.0159gとを含む水溶液二次含浸液1.08mLを一次担持体に滴下して含浸させ二次含浸工程、110°Cにて3時間乾燥し二次乾燥操作、さらに450°Cにて3時間焼成して触媒を得た二次焼成操作,以上、二次担持工程。得られた触媒は、ロジウム担持率=3質量/SiO2、Rh:Mn:Li:Cs=0.653:0.180:0.090:0.077モル比であった。表中、本例における触媒の製造方法を逐次法と記載する。比較例1塩化ロジウム0.061gと、塩化リチウム0.0017gと、塩化マンガン四水和物0.0159gとを含む水溶液1.08mLを、シリカゲル1gに滴下して含浸させ、110°Cにて3時間乾燥し、さらに450°Cにて3時間焼成して触媒を得た。得られた触媒は、ロジウム担持率=3質量/SiO2、Rh:Mn:Li=0.708:0.194:0.098モル比であった。表中、本例における触媒の製造方法を同時法と記載する。評価方法各例の触媒0.1gを直径2mm、長さ15cmのステンレス製の円筒型の反応管に充填して反応床を形成した。反応床に、常圧で水素を空間速度1200L/L-触媒/hで流通させながら、320°Cで2.5時間加熱し、触媒に還元処理を施した。次いで、反応温度300°C、反応圧力2MPaの条件下で、混合ガスH2/CO比=2を表1に示す空間速度で反応床に流通させて、酸素化物を含む合成ガスの製造を行った。混合ガスを反応床に3時間流通させ、得られた合成ガスを回収し、ガスクロマトグラフィーにより分析した。得られたデータからCO転化率モル、エタノール及びアセトアルデヒドの選択率モル、エタノール及びアセトアルデヒドの生成量g/L-触媒/hを算出し、これらの結果を表1に示す。なお、エタノール及びアセトアルデヒドの生成量は、単位時間当たりの単位触媒体積当たりの質量として表した値である。表1に示すように、本発明を適用した実施例1は、CO転化率が19.3モルであり、酸素化物の総生成量アセトアルデヒドとエタノールの合計量が284g/L-触媒/h以上であった。これに対し、D成分を含まない比較例1は、CO転化率が12.3モルであり、酸素化物の総生成量が177g/L-触媒/hであった。これらの結果から、本発明を適用することで、酸素化物の生成量を著しく高められ、混合ガスから酸素化物を効率的に合成できることが判った。"