"露光光を発光する光源と、この光源からの露光光が入射され露光すべきパターンが複数個のパネルに対応して夫々形成された複数個のパターン領域を有するマスクと、マスクを透過した露光光が入射され前記マスクのパターンの正立等倍像を基板上に結像させる複数個のマイクロレンズアレイチップからなるマイクロレンズアレイと、このマイクロレンズアレイを支持するホルダと、前記光源と前記マイクロレンズアレイとの位置関係を固定した状態で、前記マスク及び前記基板を前記光源及び前記マイクロレンズアレイに対して相対的に移動させて前記露光光を前記基板上で第1方向にスキャンする駆動装置と、前記駆動装置及び前記光源を制御する制御装置と、を有し、前記マスクは、前記パターン領域が、前記第1方向に直交する第2方向に複数個配列され、隣接するパターン領域同士は、製造せんとするパネルの前記第2方向の配列ピッチPの整数nn≧2倍のピッチnPで配置されており、前記マイクロレンズアレイは、前記マイクロレンズアレイチップが前記第2方向に配列されており、各マイクロレンズアレイチップは、その前記第2方向の長さが前記パターン領域の前記第2方向の長さよりも長く、前記パターン領域と同数設けられ、各パターン領域の透過光は夫々対応するマイクロレンズアレイチップにより基板に照射されることを特徴とするマイクロレンズアレイを使用した露光装置。前記駆動装置及び前記光源による露光光のスキャン後に、前記基板は前記パネルの前記第2方向の前記配列ピッチPだけ移動され、その後、前記制御装置は、前記駆動装置及び前記光源による露光光のスキャンを行うことを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイを使用した露光装置。露光光を発光する光源と、この光源からの露光光が入射され露光すべきパターンが複数個のパネルに対応して夫々形成された複数個のパターン領域を有するマスクと、マスクを透過した露光光が入射され前記マスクのパターンの正立等倍像を基板上に結像させる複数個のマイクロレンズアレイチップからなるマイクロレンズアレイと、このマイクロレンズアレイを支持するホルダと、前記光源と前記マイクロレンズアレイとの位置関係を固定した状態で、前記マスク及び前記基板を前記光源及び前記マイクロレンズアレイに対して相対的に移動させて前記露光光を前記基板上で第1方向にスキャンする駆動装置と、前記駆動装置及び前記光源を制御する制御装置と、を有し、前記マスクは、前記パターン領域が、前記第1方向に直交する第2方向に複数個配列され、製造せんとするパネルの前記第2方向の配列ピッチPで配列された2以上の整数m個のパターン領域からなるパターン領域群が、そのパターン領域数mと前記配列ピッチPとの積mPの整数nn≧2倍のピッチmnPで配置されており、前記マイクロレンズアレイは、前記マイクロレンズアレイチップが前記第2方向に配列されており、各マイクロレンズアレイチップは、その前記第2方向の長さが前記パターン領域群のパターン領域数mと前記配列ピッチPとの積mPよりも長く、前記パターン領域群と同数設けられ、各パターン領域群の透過光は夫々対応するマイクロレンズアレイチップにより基板に照射されることを特徴とするマイクロレンズアレイを使用した露光装置。前記駆動装置及び前記光源による露光光のスキャン後に、前記基板は前記パターン領域群の前記パターン領域数mと前記配列ピッチPとの積mPだけ移動され、その後、前記制御装置は、前記駆動装置及び前記光源による露光光のスキャンを行うことを特徴とする請求項3に記載のマイクロレンズアレイを使用した露光装置。上述のように、携帯機器用の液晶表示パネルのように、高精細が要求されると共に、小型のパネルの場合、従来のステッパを使用すると、露光パターンのつぎが必要となり、マイクロレンズアレイを使用すると、製造効率が悪いという問題点がある。また、マイクロレンズアレイを使用した露光装置においては、マスクには、各パネルの大きさに合わせたパターンが形成されており、マイクロレンズアレイも、パネルの大きさに合わせたマイクロレンズチップがホルダに固定されて使用されている。従って、大きさが異なるパネルを露光する場合においては、マスクと同時にマイクロレンズチップも取り換える必要があり、製造効率が更に低下するという問題点がある。更に、複数個のパネルを同時に露光する場合においては、マスクとしては、複数個のパターン領域が適長離隔するように形成されたものが使用され、各パターン領域の大きさに対応させたマイクロレンズチップがホルダに固定されて使用されている。このような構成の露光装置を使用して露光すると、各パターン領域間には、露光光が照射されない。よって、この領域は、露光されず、基板材料の広い面積が無駄になるという問題点がある。本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、携帯機器用の液晶表示パネルの大きさに合わせて効率的にマイクロレンズアレイを使用し、基板材料の無駄を低減することができるマイクロレンズアレイを使用した露光装置を提供することを目的とする。本発明に係るマイクロレンズアレイを使用した露光装置は、露光光を発光する光源と、この光源からの露光光が入射され露光すべきパターンが複数個のパネルに対応して夫々形成された複数個のパターン領域を有するマスクと、マスクを透過した露光光が入射され前記マスクのパターンの正立等倍像を基板上に結像させる複数個のマイクロレンズアレイチップからなるマイクロレンズアレイと、このマイクロレンズアレイを支持するホルダと、前記光源と前記マイクロレンズアレイとの位置関係を固定した状態で、前記マスク及び前記基板を前記光源及び前記マイクロレンズアレイに対して相対的に移動させて前記露光光を前記基板上で第1方向にスキャンする駆動装置と、前記駆動装置及び前記光源を制御する制御装置と、を有し、前記マスクは、前記パターン領域が、前記第1方向に直交する第2方向に複数個配列され、隣接するパターン領域同士は、製造せんとするパネルの前記第2方向の配列ピッチPの整数nn≧2倍のピッチnPで配置されており、前記マイクロレンズアレイは、前記マイクロレンズアレイチップが前記第2方向に配列されており、各マイクロレンズアレイチップは、その前記第2方向の長さが前記パターン領域の前記第2方向の長さよりも長く、前記パターン領域と同数設けられ、各パターン領域の透過光は夫々対応するマイクロレンズアレイチップにより基板に照射されることを特徴とする。露光光としては、水銀ランプ光等が使用される。なお、本発明におけるパネルとは、液晶表示パネルの表示画面及びその周辺部を意味し、形成される露光パターンは、表示画面のパターン及びその周辺パターンを含むものである。本発明に係るマイクロレンズアレイを使用した露光装置において、例えば前記駆動装置及び前記光源による露光光のスキャン後に、前記基板は前記パネルの前記第2方向の前記配列ピッチPだけ移動され、その後、前記制御装置は、前記駆動装置及び前記光源による露光光のスキャンを行う。本発明に係る他のマイクロレンズアレイを使用した露光装置は、露光光を発光する光源と、この光源からの露光光が入射され露光すべきパターンが複数個のパネルに対応して夫々形成された複数個のパターン領域を有するマスクと、マスクを透過した露光光が入射され前記マスクのパターンの正立等倍像を基板上に結像させる複数個のマイクロレンズアレイチップからなるマイクロレンズアレイと、このマイクロレンズアレイを支持するホルダと、前記光源と前記マイクロレンズアレイとの位置関係を固定した状態で、前記マスク及び前記基板を前記光源及び前記マイクロレンズアレイに対して相対的に移動させて前記露光光を前記基板上で第1方向にスキャンする駆動装置と、前記駆動装置及び前記光源を制御する制御装置と、を有し、前記マスクは、前記パターン領域が、前記第1方向に直交する第2方向に複数個配列され、製造せんとするパネルの前記第2方向の配列ピッチPで配列された2以上の整数m個のパターン領域からなるパターン領域群が、そのパターン領域数mと前記配列ピッチPとの積mPの整数nn≧2倍のピッチmnPで配置されており、前記マイクロレンズアレイは、前記マイクロレンズアレイチップが前記第2方向に配列されており、各マイクロレンズアレイチップは、その前記第2方向の長さが前記パターン領域群のパターン領域数mと前記配列ピッチPとの積mPよりも長く、前記パターン領域群と同数設けられ、各パターン領域群の透過光は夫々対応するマイクロレンズアレイチップにより基板に照射されることを特徴とする。このマイクロレンズアレイを使用した露光装置において、例えば、前記駆動装置及び前記光源による露光光のスキャン後に、前記基板は前記パターン領域群の前記第2方向の前記長さmPだけ移動され、その後、前記制御装置は、前記駆動装置及び前記光源による露光光のスキャンを行う。本発明の露光装置においては、マスクの第2方向に複数個配列された複数個のパターン領域は、隣接するパターン領域同士が、製造せんとするパネルの第2方向の配列ピッチPの整数nn≧2倍のピッチnPで配置されており、マイクロレンズアレイを構成する複数個のマイクロレンズアレイチップは、その第2方向の長さがパターン領域の第2方向の長さよりも長く、パターン領域と同数設けられ、各パターン領域の透過光は夫々対応するマイクロレンズアレイチップにより基板に照射される。よって、露光光のスキャン後に、基板をパネルの第2方向の配列ピッチPずつ移動させながら、順次駆動装置及び光源による露光光のスキャンを行えば、形成された露光パターンに隣接する未露光の箇所が順次隙間なく露光され、マイクロレンズアレイを有効に使用して、マスクよりも小さな大きさのパネル基板を、高効率で露光することができ、基板材料の無駄も低減することができる。また、マスクの第2方向に複数個配列された複数個のパターン領域が、製造せんとするパネルの第2方向の配列ピッチPで配列された2以上の整数m個のパターン領域からなるパターン領域群を構成し、このパターン領域群のパターン領域数mと配列ピッチPとの積mPの整数nn≧2倍のピッチmnPで配置されている場合においては、マイクロレンズアレイを構成する複数個のマイクロレンズアレイチップは、その第2方向の長さがパターン領域群のパターン領域数mと配列ピッチPとの積mPよりも長く、パターン領域群と同数設けられ、各パターン領域群の透過光は夫々対応するマイクロレンズアレイチップにより基板に照射される。よって、露光光のスキャン後に、基板を、パターン領域群のパターン領域数mと配列ピッチPとの積mPだけ移動させながら、順次駆動装置及び光源による露光光のスキャンを行えば、形成された露光パターンに隣接する未露光の箇所が順次隙間なく露光され、マイクロレンズアレイを有効に使用して、マスクよりも小さな大きさのパネル基板を、高効率で露光することができ、基板材料の無駄も低減することができる。以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照して具体的に説明する。図1aは本発明の実施形態に係るマイクロレンズアレイを使用した露光装置において、マスク及びマイクロレンズアレイの相対的位置関係を示す図、図1bはこれにより露光された基板を示す図、図2は図1の次順の露光工程を示す図である。図3は本発明の実施形態に係るマイクロレンズアレイを使用した露光装置を示す斜視図、図4はマスクステージとマイクロレンズアレイを示す斜視図、図5はマスクステージ全体を示す斜視図である。本実施形態に係る露光装置は、図3に示すように、ガラス基板40を、スキャン方向第1方向1及びこのスキャン方向1に直角の方向第2方向2に移動させることができるX-Yステージ11の上に基板ステージ12が第1方向1に移動可能に設置されている。このX-Yステージ11及び基板ステージ12の上方に、架台13が設置されており、この架台13上に、一例として、4個の光源14が固定設置されている。これらの光源14は、例えば、高圧水銀ランプ光源であり、波長が365nmの紫外光の露光光15を、下方に向けて照射する。この露光光15の照射領域は、図5に示すように矩形である。この露光光15の光源14の下方には、図4に示すように、マスクステージ18が配置されている。架台13には、第2方向2に延びる第1ガイド16が懸架されており、この第1ガイド16に第1方向1に延びる第2ガイド17が懸架されている。第1ガイド16は架台13上に固定されており、第2ガイド17は第2方向2に延びる第1ガイド16上に第2方向2に移動可能に支持されている。そして、4個のマスクステージ18は相互にその位置関係を保持したまま、第1方向1に延びる第2ガイド17上に第1方向1に移動可能に支持されている。このマスクステージ18には、矩形の開口が形成されており、この開口にマスク20が支持されている。従って、マスク20は、第1ガイド16及び第2ガイド17により、第1方向1に対して、スキャンすることができ、第2方向2に対して、シフトすることができる。このマスク20の下方には、マイクロレンズアレイホルダ21が設置されており、このホルダ21の開口部内に、チップ状のマイクロレンズアレイ22aが複数個支持されており、複数個のマイクロレンズアレイチップ22aからなるマイクロレンズアレイ22が構成されている。マイクロレンズアレイチップ22aは、夫々、多数のマイクロレンズが形成されており、各マイクロレンズにより、マスク20のパターンの正立等倍像が、マイクロレンズアレイ22の下方に配置される基板40上に結像するようになっている。このマイクロレンズアレイ22におけるマイクロレンズの形成領域は、光源14からの露光光15の矩形の照射領域に一致し、露光光15がマスク20の一部の領域を透過した後、マイクロレンズアレイ22により、基板上に投影される。本実施形態においては、露光装置には、マスクステージ18に支持されたマスク20と、基板ステージ12上の基板40とを、同時一体的に第1方向1にスキャンする駆動装置が設けられている。また、基板ステージ12上の基板40は、基板ステージ12を第2方向2に移動させることにより、光源14、マスク20及びマイクロレンズアレイ22に対して、第2方向2にシフト可能に構成されている。なお、基板ステージ12の第2方向2への移動は、手動で行っても基板のシフト用に駆動装置を設け、この駆動装置により行ってもよい。本実施形態においては、複数個のマイクロレンズアレイチップ22aは、第2方向2に配列されてホルダ21に支持されており、ホルダ21は架台13上に固定されている。従って、光源14からの露光光15がマイクロレンズアレイ22により基板40上に集光される状態を保持して、マスク20と基板40とが第1方向1に移動することにより、基板40が露光光15によりスキャンされ、マスクのパターン領域20aに形成されたパターンが基板40上に露光されて転写される。第1の駆動装置によるマスク20及び基板40に対する光源14及びマイクロレンズアレイ22の相対的第1方向1へのスキャンは、図示しない制御装置により制御されている。そして、露光装置は、制御装置により駆動装置及び光源を制御して露光光をスキャンした後、基板40が第2方向2にシフトされると、再度、制御装置により駆動装置及び光源を制御して露光光をスキャンすることを繰り返す。これにより、第1方向1への露光光のスキャンと第2方向2への基板40のシフトとが順次行われて、基板のパターン形成用領域が順次露光されていく。即ち、駆動装置及び光源による露光光のスキャン後に、例えば手動で基板40がパネルの第2方向2の配列ピッチPだけ移動されると、制御装置は、再度、駆動装置及び光源を制御して露光光のスキャンを行う。これにより、露光パターンが形成された領域と第2方向に隣接する領域が順次露光されていく。マスクステージ18に保持されるマスク20の大きさは、例えば、第2方向2の幅が400mmである。そして、マスク20には、露光すべきパターンが複数個のパネルに対応して形成されたパターン領域20aが設けられている。本実施形態においては、パターン領域20aは、第2方向2に複数個配列されており、隣接するパターン領域20a同士は、製造せんとするパネルの第2方向2の配列ピッチPの整数nn≧2倍のピッチnPで配置されており、各パターン領域20aは第1方向1に並ぶ複数個のパネルに対応している。マスク20は、パターン領域20aが形成された領域以外の部分が遮光領域となる。よって、光源14から出射された露光光は、パターン領域20aのみを透過して、マイクロレンズアレイ22に入射する。一方、パターン領域20a以外の部分に照射された露光光15aは、図1に示すように、マスク20に透過されない。本実施形態においては、図1に示すように、マスク20には3個のパターン領域20aが形成されており、パターン領域20aの第2方向2の幅Wpは、製造しようとするパネルの幅と等しく、隣接するパターン領域20a同士は、パネルの配列ピッチPの2倍のピッチ2Pで配置されている。本発明においては、マイクロレンズアレイチップ22aの第2方向の長さWmは、パターン領域20aの第2方向2の幅Wpよりも長く、各パターン領域20aと同数の3枚のマイクロレンズアレイチップ22aが第2方向2に配列されており、夫々、光源14から出射されマスク20のパターン領域20aを透過した露光光15の全てが、夫々対応するマイクロレンズアレイチップ22aの光学作用を有する部分に入射される。よって、パターン領域20aの透過光が入射される位置にマイクロレンズアレイチップ22aの端縁は存在しない。図1に示すように、ホルダ21に支持されている3枚のマイクロレンズアレイチップ22aは、例えば、第2方向2の長さWmが同一である。次に、上述の如く構成されたマイクロレンズアレイを使用した露光装置の動作について説明する。レジスト膜が形成されたガラス基板40は、基板ステージ12上に搬送されてきて、4個のマスクステージ18に支持されたマスク20と正対する位置に設定される。そして、ガイド16,17並びに基板ステージ12及びX-Yステージ11により、基板40とマスク20とは一定の位置関係を保持して、駆動装置により同時に駆動される。本実施形態においては、図5に示すように、4個のマスクステージ18に夫々マスク20が保持されており、4個の光源14からの4個の露光光15は、各マスク20に入射し、露光光15の矩形の照射領域は、その幅方向の長さが、マスク20の第2方向2スキャン方向に直交する方向の全域の長さに対応するようになっている。この露光光15は、図6に示すように、マスク20及び基板40が、同時一体的に第1方向1に露光光15に対して相対的に移動することにより、露光光15は、マスク20を白抜き矢印にて示すスキャン方向にスキャンする。図7は、マスク20を取り除いた状態を示す斜視図である。この図7に示すように、マスク20の各パターン領域20aを透過した露光光15は、その矩形の照射領域が、マイクロレンズアレイホルダ21の開口部内に支持されたマイクロレンズアレイチップ22aのマイクロレンズ形成領域内にある。そして、この露光光15と、マイクロレンズアレイ22とは、その位置関係が固定されており、マスク20及び基板40が一体的に同時に移動する間に、図7に示すように、露光光15が白抜き矢印にて示すスキャン方向にマスク20及び基板40に対して相対的にスキャンされ、マイクロレンズアレイ22は、マスク20を透過してきた露光光15を基板40上に結像させる図1における符号41aの領域。これにより、図1に示すように、基板40上に、マスク20のパターンが、正立等倍像として転写され、帯状の露光パターン41がレジスト上に形成される。本実施形態においては、マスク20には、3個のパターン領域20aが形成されており、各パターン領域20aは、製造しようとするパネルと第2方向の幅が等しく、隣接するパターン領域20a同士が、製造せんとするパネルの第2方向の配列ピッチPの2倍のピッチ2Pで配置されている。よって、露光パターン41も同様に、第2方向のパターン領域20aの幅Wpと等しい幅で、各露光パターン41同士が2Pのピッチで帯状に3本形成される。マイクロレンズアレイ22は、例えば、幅が150mmで製造される既製のマイクロレンズアレイを、製造しようとする複数種のパネルのいずれのパネルの幅よりも長くなるような長さWmに切断してマイクロレンズアレイチップ22aとし、これを第2方向2に配列して構成されており、各パネルの幅に対応するパターン領域20aのいずれの透過光も、各マイクロレンズアレイチップ22aの光学作用を有するマイクロレンズ部分に入射されるように構成されている。そして、ガラス基板40上のレジスト膜に対する1回のスキャン動作により、3枚のパネルを同時に露光することができ、露光動作を高効率化することができる。また、このとき、各パネルについては、その内部にマイクロレンズアレイチップ22aの継ぎ目は存在しないため、露光パターンにおいて、従来の所謂つぎの処理を行う必要はない。よって、露光パターンに露光ムラが発生することはない。マスク20のパターン領域20aの配置により、1回のスキャンにより形成された露光パターン41の間には、パネルの第2の方向の配列ピッチPと同一の幅の未露光の領域が残る。本実施形態においては、1回のスキャンが終わったら、光源14からの露光光15の出射を一旦停止し、基板ステージ12上の基板40を、光源14、マスク20及びマイクロレンズアレイ22に対して、製造しようとするパネルの第2方向の配列ピッチPだけシフトし、その後、露光光15の出射を再開する。このとき、基板40の第2方向2へのシフトは、手動で行うか、又は基板のシフト用に駆動装置が設けられている場合には、駆動装置により行う。そして、図2に示すように、第1方向1における1回目のスキャン方向とは逆方向にスキャンして、未露光の領域を露光する。これにより、未露光の領域が露光され、1回目のスキャンと同様の露光パターン41が形成される。本実施形態においては、マスク20のパターン領域20aは、隣接するパターン領域20a同士が、製造しようとするパネルの第2方向の配列ピッチPの2倍のピッチ2Pで配置されているため、2回のスキャンによる露光パターン41の形成により露光パターン41間には、パネルの配列ピッチPとパネル幅Wpとの差分P-Wpの幅の未露光の領域が残される。この領域は、1枚の基板を複数枚のパネルにダイシングする際に、切断代として使用できる。2回目のスキャンの前に、光源14、マスク20及びマイクロレンズアレイ22の全てが、基板40に対して、相対的に第2方向に移動されるため、2回目のスキャンにより形成された露光パターン41においても、各パネルについては、その内部にマイクロレンズアレイチップ22aの継ぎ目は存在せず、露光パターンにおいて、従来の所謂つぎの処理を行う必要はなく、露光パターンに露光ムラが発生することはない。マスクは、通常、幅が400mm程度であるが、このような長寸のマイクロレンズアレイを製造しようとすると、コストが高くなる。マイクロレンズアレイは、通常、150mm程度の長さ幅のチップ状のものが、単位長あたりの相対的な製造コストは低い。よって、複数枚のマイクロレンズアレイチップをつなぎ合わせて、マスク幅に対応するマイクロレンズアレイを構成するか、又は、マイクロレンズアレイホルダ21に例えば長さが150mmのマイクロレンズアレイチップを設け、このマイクロレンズアレイチップが存在しない領域のマスク部分には、Cr膜を形成して、露光光の透過を遮断するという作業が必要である。後者の場合は、ガラス基板40に使用しない領域パネルとならない領域が生じてしまうので、無駄である。そこで、複数枚のマイクロレンズアレイチップを第2方向に配列して、夫々マスク幅に対応した複数枚のマイクロレンズアレイチップによりマイクロレンズアレイを構成することが好ましい。このとき、本実施形態のように、各マイクロレンズアレイチップ22aの長さを、製造しようとする複数種のパネルのいずれのパネルの幅よりも長くなるような長さWmに切断し、これを第2方向に配列し、製造しようとするパネルの複数種の幅に対応するパターン領域20aのいずれの透過光も、各マイクロレンズアレイチップ22aの光学作用を有するマイクロレンズ部分に入射されるように構成されている。よって、所謂つぎがパネルの露光パターン41内に存在せず、しかも可及的に多数及び他種類のパネルを一度に露光処理できるため、効率的である。なお、第2方向の幅がWpよりも大きい幅Wp2のパネル図8参照を製造する場合において、隣接するパターン領域20a同士を第2方向にパネルの配列ピッチP2の整数倍図8においては2倍のピッチで設け、各パターンのいずれの透過光も、各マイクロレンズアレイチップ22aの光学作用を有するマイクロレンズ部分に入射されるように構成されていれば、上記本発明の効果を得ることができる。また、第2方向の幅がWpよりも小さい幅Wp3のパネル図9及び図10参照を製造する場合においても、隣接するパターン領域20a同士を第2方向にパネルの配列ピッチP3の整数倍図9:3倍、図10:4倍のピッチで設け、各パターンのいずれの透過光も、各マイクロレンズアレイチップ22aの光学作用を有するマイクロレンズ部分に入射されるように構成されていれば、本発明の効果を得ることができる。次に、本発明の第2実施形態について、図11乃至図14を参照して、説明する。図1乃至図10に示す第1実施形態は、4個のマスク20を4個のマスクステージ18に設置していた場合のものであるが、本第2実施形態は、大きなマスクを使用して、ガラス基板上のレジスト膜を露光しようとするものである。なお、図11乃至図14において、マスクはマイクロレンズアレイ22を示すために図示していないが、マスクステージ42の枠に支持されている。図11に示すように、基板40上に、1個のマスクステージ42に支持された1個のマスク図示せずが配置され、露光光15は、マスクを介してマイクロレンズアレイ22に入射され、マスクを透過した露光光がマイクロレンズアレイ22により、集光されて基板40上に収束し、マスクのパターンの正立等倍像が、基板40上に結像して、露光パターン41が形成される。本実施形態においては、ショット数を基板の大きさに応じて増やすことにより、基板40の全域が露光される。先ず、図11に示すように、基板マスクを縦横4分割して、16の等面積の領域に分割し、各光源14からの各露光光を、その分割領域の左上の領域について、第1実施形態と同様の2ショット図9の場合は3ショット、図10の場合は4ショットの露光を行う。次いで、図12に示すように、露光光15は、その右隣第2方向の右側の基板領域を、第1実施形態と同様にスキャンする。その後、図13に示すように、第1方向に隣接する基板領域を第1実施形態と同様にスキャンする。その後、図14に示すように、第2方向に隣接する基板領域を第1実施形態と同様にスキャンする。これにより、基板40の全領域が露光される。このように、基板が大きい場合においても、基板を第1及び第2方向に順次移動させながら、ショット数を増やして露光することにより、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。次に、本発明の第3実施形態に係るマイクロレンズアレイを使用した露光装置について説明する。第1実施形態においては、マスク20のパターン領域20aは、隣接するパターン領域20a同士が適長離隔して配列されていたが、本実施形態においては、2個のパターン領域20aにより1群のパターン領域群が構成されている。そして、このパターン領域群が、パネルの配列ピッチP3とパターン領域の数2との積、即ち、2P3のピッチで配列されている。また、マイクロレンズアレイチップ22aは、その第2方向の長さWmが、パネルの配列ピッチP3とパターン領域の数2との積2Pよりも長く、各パターン領域群と同数の3枚のマイクロレンズアレイチップ22aが第2方向2に配列されている。その他の構成は、第1実施形態と同様である。図10に示す第1実施形態の変形例においては、隣接するパターン領域20a同士を第2方向にパネルの配列ピッチP3の4倍のピッチで設けている。よって、基板40の前面を露光するためには、駆動装置及び光源によるスキャンを、基板40をシフトさせながら4回実施する必要がある。しかし、本実施形態のように、2個のパターン領域20aを隣接するように配置し、この透過光の全てが1枚のマイクロレンズアレイチップ22aの光学作用を有する部分を透過するように構成することにより、1回のスキャンにより形成される露光パターンの面積は、第1実施形態の2倍となる。本実施形態においては、1回の露光光のスキャン後には、基板40をパネルの配列ピッチP3とパターン領域の数2との積2P3だけ第2の方向にシフトして、再度駆動装置及び光源によるスキャンを行うことにより、2ショットの露光により、基板40の全面を露光できる。本実施形態においては、隣接するパターン領域20aの数は、マイクロレンズアレイチップ22aの第2方向の長さの範囲内で増やすことができ、これにより、露光タクトを短縮することができる。なお、複数個のパターン領域20aによりパターン領域群を構成する場合において、上記実施形態は、一例であり、1のパターン領域群を構成するパターン領域20aの数をmとしたときに、隣接するパターン領域同士を前記mと配列ピッチPとの積mPの整数nn≧2倍のピッチmnPで配置すれば、本実施形態と同様の効果が得られる。"