少なくとも1つのレーザ装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも1つのレーザ装置から出力される少なくとも1つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記少なくとも1つのレーザ光を前記所定の領域で集光させるためのレーザ集光光学系と、前記少なくとも1つのレーザ光の前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正するための光学素子と、を備えるチャンバ装置。前記光学素子は、前記少なくとも1つのレーザ光の前記所定の領域における前記ビーム断面の前記光強度分布が、前記ビーム断面の所定の領域において所定の均一性を有するように、前記光強度分布を補正する、請求項1記載のチャンバ装置。前記所定の領域の面積は、前記チャンバ内の前記所定の領域における前記ターゲット物質の、前記少なくとも1つのレーザ光の進行方向に垂直な断面における最大面積を超える大きさである、請求項2記載のチャンバ装置。前記レーザ光の進行方向に垂直な方向における前記所定の領域の寸法の最小値は、前記チャンバ内の前記所定の領域における前記ターゲット物質の、前記垂直な方向における寸法の最大値に、前記所定の領域における前記ターゲット物質の位置のばらつきの範囲を加えた値以上の大きさである、請求項2記載のチャンバ装置。前記所定の領域において、最も低い光強度と最も高い光強度との差が、前記最も低い光強度と前記最も高い光強度との和の20以下となる、請求項2記載のチャンバ装置。前記チャンバ内に供給されるターゲット物質はドロップレットである、請求項1記載のチャンバ装置。前記ターゲット物質は金属を含む、請求項1記載のチャンバ装置。前記少なくとも1つのレーザ光は前記チャンバ内に供給される前記ターゲット物質を照射するプリパルスレーザ光と、前記プリパルスレーザ光に照射されたターゲット物質を照射するメインパルスレーザ光と、を含み、前記光学素子は、前記プリパルスレーザ光の前記光強度分布を補正する、請求項1記載のチャンバ装置。前記メインパルスレーザ光の前記所定の領域におけるビーム断面の面積は、前記プリパルスレーザ光に照射された前記ターゲット物質の、前記メインパルスレーザ光の進行方向に垂直な断面における最大面積を超える大きさである、請求項8記載のチャンバ装置。前記メインパルスレーザ光の前記所定の領域におけるビーム断面の寸法の最小値は、前記プリパルスレーザ光に照射された前記ターゲット物質の、前記メインパルスレーザ光の進行方向に垂直な方向における寸法の最大値に、前記プリパルスレーザ光に照射された前記ターゲット物質の位置のばらつきの範囲を加えた値以上の大きさである、請求項8記載のチャンバ装置。前記少なくとも1つのレーザ光は前記チャンバ内に供給される前記ターゲット物質を照射するプリパルスレーザ光と、前記プリパルスレーザ光に照射されたターゲット物質を照射するメインパルスレーザ光と、を含み、前記プリパルスレーザ光と前記メインパルスレーザ光とは、略同一方向から前記チャンバ内に入射する、請求項1記載のチャンバ装置。少なくとも1つのレーザ装置と、前記少なくとも1つのレーザ装置から出力される少なくとも1つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記少なくとも1つのレーザ光を前記所定の領域で集光させるためのレーザ集光光学系と、前記少なくとも1つのレーザ光の集光位置におけるビーム断面の光強度分布を補正するための光学素子と、前記レーザ装置における前記少なくとも1つのレーザ光の出力タイミングを制御するためのレーザ制御部と、を備える、極端紫外光生成装置。前記少なくとも1つのレーザ光は前記チャンバ内に供給される前記ターゲット物質を照射するプリパルスレーザ光と、前記プリパルスレーザ光に照射されたターゲット物質を照射するメインパルスレーザ光と、を含み、前記プリパルスレーザ光の光強度は、6.4×109W/cm2以上、3.2×1010W/cm2以下であり、前記レーザ制御部は、前記プリパルスレーザ光が前記ターゲット物質に照射された時点から、0.5~2μSの範囲内のタイミングで、前記メインパルスレーザ光が前記プリパルスレーザ光が照射された前記ターゲット物質に照射されるように、前記メインパルスレーザ光の前記出力タイミングを制御する、請求項12記載の極端紫外光生成装置。前記少なくとも1つのレーザ光は前記チャンバ内に供給される前記ターゲット物質を照射するプリパルスレーザ光と、前記プリパルスレーザ光に照射されたターゲット物質を照射するメインパルスレーザ光と、を含み、前記プリパルスレーザ光のフルーエンスは、10mJ/cm2以上、600mJ/cm2以下であり、前記レーザ制御部は、前記プリパルスレーザ光が前記ターゲット物質に照射された時点から、0.5~2.5μSの範囲内のタイミングで、前記メインパルスレーザ光が前記プリパルスレーザ光が照射された前記ターゲット物質に照射されるように、前記メインパルスレーザ光の前記出力タイミングを制御する、請求項12記載の極端紫外光生成装置。マルチ横モードで発振するマスターオシレータを含む少なくとも1つのレーザ装置と、前記少なくとも1つのレーザ装置から出力される少なくとも1つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記少なくとも1つのレーザ光を前記所定の領域で集光させるためのレーザ集光光学系と、前記レーザ装置における前記少なくとも1つのレーザ光の出力タイミングを制御するためのレーザ制御部と、を備える、極端紫外光生成装置。