002及び103面を含むとともに100、101、102及び104面を前記002及び103面よりも少ない比率で含む、低摩擦ZnOコーティング。スパッタリングガスとして不活性ガスを含むとともに酸素ガス比率を制御してスパッタリングガス環境中で亜鉛ターゲットを用いたスパッタリングにより作製された、請求項1に記載の低摩擦ZnOコーティング。非極性分子液体中で、コーティング前より摩擦係数が減少する、請求項1または請求項2に記載の低摩擦ZnOコーティング。前記酸素ガス比率を、59より大きく61より小さい酸素ガス比率を有することで、真空中で大気中より低摩擦である、請求項2または請求項3に記載の低摩擦ZnOコーティング。前記酸素ガス比率を、10、30~100とすることで、大気中でコーティング前より低摩擦である、請求項2又は請求項3に記載の低摩擦ZnOコーティング。前記酸素ガス比率を、60~80とすることで、非極性分子溶体中でのボールオンプレート摩擦計による摩擦測定において、垂直荷重及び摺動回数を増加すると摩擦係数が減少する、請求項2または請求項3に記載の低摩擦ZnOコーティング。不活性ガスを含むとともに酸素ガス比率を制御してスパッタリングガス環境中で亜鉛ターゲットを用いたスパッタリングを行う、低摩擦ZnOコーティング作製方法。前記スパッタリングは高周波マグネトロンスパッタリングである、請求項7に記載の低摩擦ZnOコーティング作製方法。前記ZnOコーティングはステンレス鋼基板上に形成される、請求項7または請求項8に記載の低摩擦ZnOコーティング作製方法。前記不活性ガスはアルゴンガスである、請求項7から請求項9の何れか1項に記載の低摩擦ZnOコーティング作製方法。請求項1から請求項5の何れか1項に記載の低摩擦ZnOコーティングを、極性分子が0.001~1.0重量含まれる非極性分子液体中で使用する、低摩擦ZnOコーティングの利用方法。前記極性分子が、パルミチン酸である、請求項11に記載の低摩擦ZnOコーティングの利用方法。本発明の課題は、上述した従来技術の問題点を解消し、一層低摩擦であり、かつ真空中以外の環境でも低摩擦を実現する低摩擦コーティング及びその製造方法を提供することにある。本発明の一側面によれば、002及び103面を含むとともに100、101、102及び104面を前記002及び103面よりも少ない比率で含む、低摩擦ZnOコーティングが与えられる。本発明の他の側面によれば、前記低摩擦ZnOコーティングは、スパッタリングガスとして不活性ガスを含むとともに酸素ガス比率を制御することで、スパッタリングガス環境中で亜鉛ターゲットを用いたスパッタリングにより作製される。この低摩擦ZnOコーティングは、非極性分子液体中で従来にない摩擦現象荷重増加摺動回数増加に伴い摩擦係数が低下を示し、また、低い摩擦係数を示すものである。具体的には、前記酸素ガス比率を、59より大きく61より小さい酸素ガス比率を有することで真空中で大気中より低摩擦である、前記酸素ガス比率を、10、30~100とすることで大気中でコーティング前より低摩擦である、前記酸素ガス比率を、60~80とすることで、非極性分子液体中でのボールオンプレート摩擦計による摩擦測定において、垂直荷重及び摺動回数を増加すると摩擦係数が減少する。本発明の更に他の側面によれば、不活性ガスを含むとともに酸素ガス比率を制御、例えば59より大きく61より小さい酸素ガス比率を有するスパッタリングガス環境中で亜鉛ターゲットを用いたスパッタリングを行う、低摩擦ZnOコーティング作製方法が与えられる。この方法において、前記スパッタリングは高周波マグネトロンスパッタリングであってよい。また、前記ZnOコーティングはステンレス鋼基板上に形成してよい。また、前記不活性ガスはアルゴンガスであってよい。また、前記非極性分子液体はヘキサデカンであってよい。加えて、前記低摩擦ZnOコーティングを、極性分子が0.001~1.0重量含まれる非極性分子液体中で使用する、低摩擦ZnOコーティングの利用方法、さらに前記極性分子が、パルミチン酸である、低摩擦ZnOコーティングの利用方法が与えられる。本発明によれば、従来のZnOコーティングよりも更に低摩擦のZnOコーティングを得ることができ、またこの新規なZnOコーティングは非極性分子液体環境においても大きな摩擦力低減をもたらすことができる。本発明は、基板上にZnOを成膜し、材料の低摩擦化を実現するものである。その非常に大きな特徴は、ZnO材料が本来有するピエゾ効果を活用することにより、圧子からかけられる荷重により反発力を発生させて摩擦力を低減できる点である。本願発明者は、以前にも類似の発明を特許出願し、特許文献1として公開されたが、本発明はそれとは異なるものである。すなわち、本願発明者はZnOの結晶配向性を少しずつ系統的に変化させる技術を確立し、それらの摩擦係数の測定を行った。その結果、ある特定の条件の結晶配向性を有するZnOだけが真空中でピエゾ効果による摩擦力低下が起こることを見出した。さらに、その材料を油中で実験ではヘキサデカンを使用。一般には非極性分子からなる液体中で摺動すると真空中よりもさらに顕著に摩擦力低下が起こることを見出した。特に注目すべき点は、荷重を印加した方が、そして摺動回数が増えた方が、摩擦係数が低減することであり、これまでの常識を完全に覆す結果となった。さらに、これに極性分子パルミチン酸をドープすると一層摩擦係数が低下することもわかった。これは、パルミチン酸の電気双極子がクーロン反発力を増大させると考えられる。上述のように、これまでピエゾ効果を有する材料を低摩擦材料として使用すること自体は提案されていた。しかし、実際にはこれらの従来の提案はピエゾ効果を利用したものではなくて、ただ単にピエゾ効果を起こすことができる材料を低摩擦材料として使用するものであった。これとは異なり、本発明は真にピエゾ効果を発現させ低摩擦化に利用することができる。結晶構造的に言えば、ピエゾ効果の発現が最大である002面のZnOコーティングでは実はピエゾ効果による摩擦力低減効果はほとんどあるいは全く発揮されず、002と103などの混晶が必要であることが今回初めて明らかとなった。以下に説明する本発明の実施例においては、本願発明者が開発したコンビナトリアルスパッタコーティングシステムcombinatorialsputtercoatingsystemCOSCOSを使用することによって、結晶配向性を制御しながらZnOコーティングを合成した。このようにして作成されたコーティングの摩擦特性を真空中、大気中、油中、及び添加材分子入り油中の各種環境で測定した。なお、言うまでもないことであるが、本発明はこのような特定の構成、方法に限定されるものではなく、特許請求の範囲のみによって定められる。本実施例においては結晶配向性を制御したZnOコーティングを得るためCOSCOSを使用した。このシステムは全自動で各種成膜制御パラメータを精度よく制御し、成膜条件を多種多様に変化させ、一度に多品種のコーティングを行うことができる。構造的には、多数の試料を円盤状の試料ホルダーに取り付けてチャンバー内に一度に導入し、個々の試料が決められた条件下で成膜されるようにする。このプロセスを一度に導入された複数枚の試料について無人で行うことができるので、条件を少しずつ変更しながら多数の試料を作成する場合に、人的誤差や作製時間を大幅に低減することができる。その具体的構造、動作などは既に当業者によく知られている事項なので、ここで再度説明を与えないが、必要であれば非特許文献6~8を参照されたい。結晶配向性を制御したZnOコーティングを高周波マグネトロンスパッタリングによって合成した。コーティングプロセスにおいて、電力を100Wとし、室温で浮遊電位のオーステナイト系ステンレス鋼基板タイプJIS30420×10×1mm3上にスパッタリングを行った。この基板の表面粗さRyは約10nm株式会社ティディシーであった。Zn製のスパッタターゲット直径50mm、厚さ6mm、純度99.999、HighPurityChemicalCo、アルゴンガス99.999を上回る純度及び酸素ガス99.99を上回る純度を使用してスパッタコーティングを行った。ZnOコーティングの結晶配向性は、高分解能静電容量型圧力計を使用して精密に制御しながら酸素ガスの分圧を変化させることによりうまく制御することができた。基板をアセトンを使って15分間超音波洗浄した。予備スパッタリング時間は15分とし、コーティング厚は結晶厚モニターでモニターしながら、約2μmに固定した。ターゲットと試料の距離を55mmに固定した。また、コーティングの結晶構造を、BraggBrentano構成を使ってCuKα放射によりX線回折計XDR;RigakuRINT2500で解析し、そのスペクトルを材料データベースNIMS;AtomWork非特許文献9を使用して同定した。コーティングの硬さは表面インターフェース切断解析システムsurfaceinterfacecuttinganalysissystemSAICASによって解析した。コーティングの摩擦特性を、BowdenLebenenタイプに基づいたボールオンプレート真空摩擦計非特許文献10~12を使用して、大気圧N2ガス流環境下で、ならびに1×10-5Pa及び7×10-6Paの真空中で測定した。Ryが約40nmのオーステナイト系ステンレス鋼タイプJIS304製の鋼球状プローブ直径3mmを摩擦試験に使用した。操作速度及び摺動距離は夫々0.5mm/s及び5mmであった。更に、従来のボールオンプレート滑り摩擦試験機新東科学株式会社、HEIDONtypeHSS2000を使用し、パラメータ、つまり垂直荷重及び摺動サイクル数をさまざまに変化させることにより、大気、油n-ヘキサデカン及び何通りかの濃度のパルミチン酸分子を混入した油の下でのこの特性も測定した。COSCOSを使ってスパッタリングガス中の酸素ガスの分圧を変化させることにより、ZnOコーティングの結晶配向性をうまく制御することができた。ステンレス鋼基板上のZnOコーティングのX線回折スペクトルを図1a及びbに示す。これらのスペクトルの右側の縦軸に示す数字が、スパッタリングガス中の酸素ガスの分圧を全体の圧力に対する百分率で表したものつまり酸素ガスの混合比である。酸素分圧が10の場合の試料のスペクトル中には、ZnOの9個のピーク、すなわち100、002、101、102、110、103、112、004及び104が、ステンレス鋼基板からのピークとともに現れた。酸素ガスの混合比を変化させるにつれて、各面のピーク強度も次第に変化した。図2は、ZnOと基板の間の剥離強度を示す。観察は3回行い、その平均値をグラフ中にプロットした。エラーバーは各データ点についての最大誤差値を示す。酸素ガスの混合比が10~70の範囲ではこの比が増加するについて剥離強度はわずかに増加し、70~100の範囲では急激に増加した。これはコーティングプロセス中の試料へ注入される酸素イオンの量とエネルギーに関係する可能性がある。図3a及びbはスパッタリングガス中の酸素ガス比混合比に依存して摩擦係数が変化する様子を示すものであり、大気圧N2ガス流という条件下で、及び超高真空UHV約1×10-5Pa24時間真空引き及び約7×10-6Pa48時間真空引きの場合のデータを示す。摩擦測定は各試料について10回行った。摺動を3回行った後、係数値が安定した。そこで、その後の8回の測定の平均値としてグラフプロット中の摩擦係数の各々の値を計算した。エラーバーは一つの標準偏差値を示す。摩擦係数は荷重及び環境条件の変化とともに著しく変化した。酸素比10~50の試料については、UHVにおける摩擦係数は大気中における値に比べて著しく高かった。これは通常の材料の場合の全く普通の挙動である。しかし、酸素比50~100の範囲の試料についてのUHVにおける摩擦係数は大気中の値に比べて小さいかあるいはほとんど同じであった。0.2Nの垂直荷重での、大気中ならびに真空条件中1×10-5Pa及び7×10-6Paにおいて、酸素比60のZnOコーティングの試料の摩擦係数μ=0.098、0.088、0.099が達成された。これにより、当該スパッタリング条件による試料では摩擦係数が環境条件に対してほとんど変化しないということが明らかになった。大気中、n-ヘキサデカン及びパルミチン酸入り0.001、0.1、1重量のn-ヘキサデカン中で、ステンレス鋼の球を摺動させた場合のステンレス鋼基板と酸素比60の場合のZnOコーティング試料の摩擦係数を、垂直荷重と摺動サイクル数を変化させて測定した結果を図4に示す。図4a及びbは、夫々、窒素ガスを流した状態での大気圧中の基板及びZnOコーティングについての3D摩擦係数グラフを示す。図4aにおいて、摩擦係数は約100gfの垂直荷重を超えたところで直ぐに増加した。一方、ZnOコーティングの摩擦係数は、グラフの全領域で0.125もの低い値を維持した。これにより、このコーティングが大気中で低摩擦材料として作用したことが明らかになった。図4c及びdは夫々n-ヘキサデカン溶液中での基板とZnOコーティングの摩擦係数の3Dグラフを示す。図4cでは摩擦係数は0.15とほとんど一定であった。しかし、図4dでは、摩擦係数は最大荷重かつ最大摺動サイクル数のところでつまり、グラフで言えば奥側の隅において最小値を取った。これはZnOコーティングが油n-ヘキサデカン環境にある場合のみに現れる非常に興味深い特性であり、以前に非特許文献1で報告したような真空中という条件の場合と同じくピエゾ効果によってこの現象が引き起こされた可能性がある。図4e~gは夫々0.001重量、0.1重量、及び1重量のパルミチン酸を含むn-ヘキサデカン中でのZnOコーティングの摩擦係数を示す。パルミチン酸濃度の増加につれて摩擦係数は一層低下した。また、各グラフ中での摩擦係数の最小地点は油だけの場合の3Dグラフの場合と同じであった。大気中、真空中、ヘキサデカン中、及びパルミチン酸分子含有ヘキサデカン中での、ピエゾ効果を考慮した摺動のモデルの概念図を夫々図5a、b、c及びdに示す。主に002及び103面を含むとともに100、101、102及び104面もわずかに含むところの、酸素ガス比60のZnOコーティング試料だけが、真空中で図5bに示すようなピエゾ効果による摩擦低減現象を示した。他方、酸素ガス比30のZnOコーティングは主に002結晶配向面を含むのだが、これは真空中で摩擦係数が低下しなかった。酸素ガス比60のZnO試料が有する002、103、100、101、102及び104などの複数の結晶面の適切な混合比が、摩擦係数のはっきりした減少の発現のために必要とされた。この予測モデルは、本願発明者による非特許文献2及び3中で示唆されている。球体プローブを押し付けることによって、圧電材料であるZnOZnOコーティングの表面に電気双極子が誘起される。更に、この球とコーティング表面の間に電気的反発力が生成される。しかし、大気中での摩擦係数は、垂直荷重及び摺動サイクル数の増加につれて大幅に増加した。大気圧においては、ZnOコーティングの表面に吸着水の層が存在しており、水は強い電気双極子を有しているために大気圧でのピエゾ効果を打ち消すのかもしれない。図4c及びdは、夫々基板のみの場合及び酸素ガス比60のZnOコーティング試料の場合の、ヘキサデカン溶液中での摩擦係数3Dグラフを示す。基板の場合は、摩擦係数は全領域にわたってほとんど一定であった。しかしながら、ZnOコーティングの場合には、垂直荷重と摺動サイクル数が最大のところで摩擦係数が最小値をとった。この場合に対応するモデルを図5cに示す。ヘキサデカンはその線形構造により典型的な非極性分子である。従って、図5aに示す水分子の場合とは対照的に、ヘキサデカン溶液、つまり非極性分子液体中ではピエゾ効果によるクーロン反発力は消失しなかった。更に、図5dは少量のパルミチン酸分子を添加したヘキサデカン溶液中での摺動モデルを示す。パルミチン酸分子はその電気双極子モーメントによって球とコーティングとの間の反発力を増大させた。パルミチン酸分子は長い構造を持っており図5d中で上向き矢印直下がパルミチン酸分子の右端であり、この右端部分が分極している、これによって電界を直ちに相殺するようにこれらの分子を互いに整列させるのは困難である。結局、この分子双極子はヘキサデカン溶液中で反発力を増大させるように作用している可能性がある。ZnOコーティングは油剤中での低摩擦コーティングとして使用できると考えられる。