"メチルエチルケトンまたはテトラヒドロフランに溶解または希釈させたときのホルマジン基準濁度が、1.7NTU未満である式1で表されるアダマンチルメタアクリレート類。式中、R1は水素またはメチル基を示し、R2~R4はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、炭素数1~3のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン基、ハロゲン化アルキル基、またはヒドロキシアルキル基を示し、n1は0または1を示す。1-アダマンチルメタアクリレート、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5,7-トリヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジメチル-1-アダマンチルメタアクリレート、5,7-ジメチル-3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、5-メトキシ-3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、5-エトキシ-3-ヒドロキシ-1-アダマンタンチルメタアクリレート、メタアクリルロイルオキシ-1-アダマンチルメタン、及びメタアクリルロイルオキシ-1-3-ヒドロキシメチルアダマンチルメタンからなる群より選択される請求項1に記載のアダマンチルメタアクリレート類。請求項1または2に記載のアダマンチルメタクリレート類を繰り返し単位に含む重合体。請求項1に記載のアダマンチルメタアクリレート類の製造方法であって、酸触媒下、式2で表されるアダマンタノール類とメタアクリル酸との脱水エステル化反応を行う工程、及び前記脱水エステル化反応後の後処理において、フェノール系及び/又はキノン系重合禁止剤の存在下、酸素を含むガスを供給しながら精製を行う工程を有する、前記製造方法。式中、R2~R4は、同一又は異なってもよく、水素原子、水酸基、炭素数1~3のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン基、ハロゲン化アルキル基、またはヒドロキシアルキル基を示し、n1は0または1を示す。前記脱水エステル化反応後の後処理において、精密濾過を行う請求項4に記載の製造方法。前記アダマンチルメタアクリレート類が、1-アダマンチルメタアクリレート、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5,7-トリヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジメチル-1-アダマンチルメタアクリレート、5,7-ジメチル-3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、5-メトキシ-3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、5-エトキシ-3-ヒドロキシ-1-アダマンタンチルメタアクリレート、メタアクリルロイルオキシ-1-アダマンチルメタン、及びメタアクリルロイルオキシ-1-3-ヒドロキシメチルアダマンチルメタンからなる群より選択される請求項4または5に記載の製造方法。前記精製工程に用いるガス中の酸素濃度が0.05~10容量であることを特徴とする請求項4から6のいずれかに記載の製造方法。前記精製工程に用いるガスの供給量が前記アダマンタノール類1モルに対し、0.005~0.3L/分であることを特徴とする請求項4から7のいずれかに記載の製造方法。請求項1に記載のアダマンチルメタアクリレート類と、式3、式4、式5及び式6からなる群より選ばれる1種以上の化合物とを共重合して得られ、且つ前記アダマンチルメタアクリレート類を5重量~40重量含むことを特徴とするメタアクリル系共重合体。式中、R5は水素またはメチル基を示し、R6は炭素数1~4のアルキル基を示し、R7は炭素数5~20のシクロアルキル基または脂環式アルキル基を示す。式中、R8は水素またはメチル基を示し、R9~R10は同一または異なっていてもよく、炭素数1~4のアルキル基を示し、R11は炭素数5~20のシクロアルキル基または脂環式アルキル基を示す。式中、R12は水素またはメチル基を示し、Zはメチレン-CH2-またはオキサ-O-を示し、Xは同一または異なって、水酸基、ハロゲン基、ニトリル基、カルボン酸基、炭素数1~4のカルボン酸アルキル基、または炭素数1~4のアルコキシド基を示し、n2は0~2の整数を示す。式中、R13は水素またはメチル基を示し、n3は1~3の整数を示し、Lはメチル基、エチル基、水酸基、またはハロゲン基を示し、n4は0~2の整数を示す。本発明は上記の課題に関し、現在使用されているKrF乃至はArFエキシマレーザー、さらには電子線描画、X線、極端紫外光EUV:波長13.5nmリソグラフィ用レジスト原料として、透明性、エッチング耐性に優れるだけでなく、更に高感度、高解像度を有し、今後、益々進展する半導体基板回路の集積密度向上に対して技術的に好ましいアダマンチルメタアクリレート類以下、アクリレート及びメタクリレートを合わせてメタアクリレートと表記する及びそれを繰り返し単位に含むメタアクリル系共重合体を提供することである。本発明者らは、上記の各種問題点を解決するため鋭意検討した結果、フォトレジストに用いられるメタアクリル系共重合体の原料のアダマンチルメタアクリレート類に関し、GPC分析について明確な差異がなくとも、反応時や重合に用いる場合において、有機溶媒メチルエチルケトンまたはテトラヒドロフランに溶解または希釈させたときの有機溶媒中でのホルマジン基準濁度が1.7NTU未満であるアダマンチルメタアクリレート類を繰り返し単位に用いたメタアクリル系共重合体は、シリコン基板上にパターンを形成するリソグラフィー工程で、ラインエッジラフネスや解像度が優れることを見出し、本発明を完成させた。なお、感度、解像度、ラインエッジラフネスは一般的にトレードオフの関係にあるので、本結果はリソグラフィー性能に優れていることを示す。すなわち、上記課題は、以下の本発明によって解決することができる。<1>メチルエチルケトンまたはテトラヒドロフランに溶解または希釈させたときのホルマジン基準濁度が、1.7NTU未満である式1で表されるアダマンチルメタアクリレート類である。式中、R1は水素またはメチル基を示し、R2~R4はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、炭素数1~3のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン基、ハロゲン化アルキル基、またはヒドロキシアルキル基を示し、n1は0または1を示す。<2>1-アダマンチルメタアクリレート、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5,7-トリヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジメチル-1-アダマンチルメタアクリレート、5,7-ジメチル-3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、5-メトキシ-3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、5-エトキシ-3-ヒドロキシ-1-アダマンタンチルメタアクリレート、メタアクリルロイルオキシ-1-アダマンチルメタン、及びメタアクリルロイルオキシ-1-3-ヒドロキシメチルアダマンチルメタンからなる群より選択される上記<1>に記載のアダマンチルメタアクリレート類である。<3>上記<1>または<2>に記載のアダマンチルメタクリレート類を繰り返し単位に含む重合体である。<4>上記<1>に記載のアダマンチルメタアクリレート類の製造方法であって、酸触媒下、式2で表されるアダマンタノール類とメタアクリル酸との脱水エステル化反応を行う工程、及び前記脱水エステル化反応後の後処理において、フェノール系及び/又はキノン系重合禁止剤の存在下、酸素を含むガスを供給しながら精製を行う工程を有する、前記製造方法である。式中、R2~R4は、同一又は異なってもよく、水素原子、水酸基、炭素数1~3のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン基、ハロゲン化アルキル基、またはヒドロキシアルキル基を示し、n1は0または1を示す。<5>前記脱水エステル化反応後の後処理において、精密濾過を行う上記<4>に記載の製造方法である。<6>前記アダマンチルメタアクリレート類が、1-アダマンチルメタアクリレート、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5,7-トリヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジメチル-1-アダマンチルメタアクリレート、5,7-ジメチル-3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、5-メトキシ-3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、5-エトキシ-3-ヒドロキシ-1-アダマンタンチルメタアクリレート、メタアクリルロイルオキシ-1-アダマンチルメタン、及びメタアクリルロイルオキシ-1-3-ヒドロキシメチルアダマンチルメタンからなる群より選択される上記<4>または<5>に記載の製造方法である。<7>前記精製工程に用いるガス中の酸素濃度が0.05~10容量であることを特徴とする上記<4>から<6>のいずれかに記載の製造方法である。<8>前記精製工程に用いるガスの供給量が前記アダマンタノール類1モルに対し、0.005~0.3L/分であることを特徴とする上記<4>から<7>のいずれかに記載の製造方法である。<9>上記<1>に記載のアダマンチルメタアクリレート類と、式3、式4、式5及び式6からなる群より選ばれる1種以上の化合物とを共重合して得られ、且つ前記アダマンチルメタアクリレート類を5重量~40重量含むことを特徴とするメタアクリル系共重合体である。式中、R5は水素またはメチル基を示し、R6は炭素数1~4のアルキル基を示し、R7は炭素数5~20のシクロアルキル基または脂環式アルキル基を示す。式中、R8は水素またはメチル基を示し、R9~R10は同一または異なっていてもよく、炭素数1~4のアルキル基を示し、R11は炭素数5~20のシクロアルキル基または脂環式アルキル基を示す。式中、R12は水素またはメチル基を示し、Zはメチレン-CH2-またはオキサ-O-を示し、Xは同一または異なって、水酸基、ハロゲン基、ニトリル基、カルボン酸基、炭素数1~4のカルボン酸アルキル基、または炭素数1~4のアルコキシド基を示し、n2は0~2の整数を示す。式中、R13は水素またはメチル基を示し、n3は1~3の整数を示し、Lはメチル基、エチル基、水酸基、またはハロゲン基を示し、n4は0~2の整数を示す。本発明の好ましい態様のアダマンチルメタアクリレート類を繰り返し単位に用いたメタアクリル系共重合体は、孤立パターンやラインスペース、コンタクトホール等の各種シリコン基板上の加工に際し、高透明性、高エッチング耐性等のフォトレジストとしての基本性能だけでなく、更に優れた感度や解像度を示すため、今後、益々進展する半導体回路の集積密度の向上に寄与することができる。本発明における濁度とは、重合性不純物の量を測定するための基準の一つであり、その溶液等がどれだけ濁っているかを示し、比濁分析によって測定される。一般的には、懸濁液による光の吸収を測定して物質を定量する分析である例えば、化学大辞典共立出版株式会社などに記載されている。また、濁度の測定方法は、JISK0801に詳細に記載されている。本願に記載のホルマジン基準濁度は、溶剤100質量部に、アダマンチルメタアクリレート類10質量部を室温で溶解または希釈させて測定用のサンプルを得、そのサンプルを測定して得られた数値と定義する。ホルマジン基準濁度は、濁度計を用い、濁度の基準をホルマジン標準液としてStabilCal標準液で検量線を作成し、上記アダマンチルメタアクリレート類を溶媒に溶解または希釈させたサンプルに対して測定を行う。本発明におけるホルマジン基準濁度を測定する際に溶解または希釈させる溶剤として、メチルエチルケトンまたはテトラヒドロフランを用いる。これらは、アダマンチルメタアクリレート類の溶解度が高く、重合性不純物の溶解度が低い溶媒であり、ホルマジン基準濁度の値とアダマンチルメタアクリレート類を用いて合成したメタアクリル系共重合体を使用したフォトレジストとの性能として、重合性不純物に由来するラインエッジラフネスLERや、スピンコート不良や現像欠陥などの性能との相関がよく取れるため好ましい。式1のアダマンチルメタアクリレート類の具体例として、1-アダマンチルメタアクリレート、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5,7-トリヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジメチル-1-アダマンチルメタアクリレート、5,7-ジメチル-3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、5-メトキシ-3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、5-エトキシ-3-ヒドロキシ-1-アダマンタンチルメタアクリレート、メタアクリルロイルオキシ-1-アダマンチルメタン、メタアクリルロイルオキシ-1-3-ヒドロキシメチルアダマンチルメタン等が例示される。次に、前記アダマンチルメタアクリレート類を製造する方法について述べる。通常、式2で表されるアダマンタノール類とメタアクリル酸化合物より製造される。その具体的な方法は、酸触媒存在下でのメタアクリル酸との脱水エステル化、酸ハライドやメタアクリル酸無水物と水酸基とを反応させる方法、メタアクリル酸化合物として、アクリル酸メチルやメタクリル酸メチルなどのエステル類を使用し、対応するアルコールメトキシ基の場合にはメタノール、エトキシ基の場合にはエタノールを蒸留などで反応系外へ除去する方法、アダマンタノール類の水酸基をリチウムやナトリウムなどのアルカリ金属やブチルリチウムなどのアルキルリチウム、臭化エチルマグネシウムなどのグリニヤール試薬などによりアルコラート状態にした後に、エステル化反応を行う方法などが挙げられ、プロセス、設備などの所望に応じて選択することができる。式中、R2~R4は、同一又は異なってもよく、水素原子、水酸基、炭素数1~3のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン基、ハロゲン化アルキル基、またはヒドロキシアルキル基を示し、n1は0または1を示す。上記のアダマンタノール類の例として、1-アダマンタノール、1,3-アダマンタンジオール、1,3,5-アダマンタントリオール、1,3,5,7-アダマンタンテトラオール、3,5-ジメチル-1-アダマンタノール、5,7-ジメチル-1,3-アダマンタンジオール、5-メトキシ-1,3-アダマンタンジオール、5-エトキシ-1,3-アダマンタンジオール、1-アダマンタンメタノール、1,3-アダマンタンジメタノール等が挙げられ、これらは置換基を有していても良い。メタアクリル酸は、メタクリル酸およびアクリル酸が挙げられる。使用量は、原料に対して0.5~100当量必要なメタアクリロイルオキシ基分を1当量とする、好ましくは0.8~10当量、より好ましくは1~3当量の範囲である。それより少ないと収率の低下を招き、多いと過剰使用分の処理が発生したり、オリゴマー等の重合物が生成したりするために好ましくない。酸触媒により脱水エステル化を促進させる方法を用いる場合、使用される酸触媒は、脱水反応を進行させる強酸であれば特に制限は無い。一般的には硫酸、リン酸等の無機酸、p-トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、クレゾールスルホン酸等の有機酸が好適に使用される。その触媒量は、原料である式2で表されるアダマンタノール類1モルに対して0.005~1.0モル、好ましくは0.01~0.1モルの割合で使用する。使用量をこの範囲より少なくすれば反応速度が低下し、逆に多くすれば式1で表されるアダマンチルメタアクリレート類の選択率が低下する。この方法では、反応時に副生する生成水を、使用する有機溶媒との共沸や脱水剤により系外に除去することで反応を促進し、短時間で終了させることができる。具体的な生成水の除去法として、例えば、Dean-Stark水分離器などを用いて、反応の進行で生成した水分と反応溶媒を分離後、反応溶媒のみ反応器に戻す方法が一般的であり、連続的あるいは回分的に戻しながら反応を行うことが出来る。この際、反応器に戻す方法としてオーバーフロー分を重力により戻す方法、ポンプ等の送液を利用する方法等がありその方法について制限はない。また、反応器に蒸留塔を設置し反応溶媒と水との分離効率を上げることもできる。脱水剤としては、濃硫酸、三フッ化ホウ素エーテラート、無水トリフルオロ酢酸、ジシクロヘキシルカルボジイミド、2-ハロベンゾチアゾリウムフルオロボレート、2-ハロゲン化ピリジニウム塩、トリフェニルホスフィン/四塩化炭素、塩化チオニル/塩基化合物など公知の物質を利用することができる。脱水エステル化で用いる反応溶媒としては、水との相溶性が低く、且つ式2で表されるアダマンタノール類および式1で表されるアダマンチルメタアクリレート類との相溶性が高く、反応に対し不活性な有機溶媒が好ましい。更に、反応中に副生する水を除去するため、水と共沸する溶媒を用いることが好ましい。そのような有機溶媒の例としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等の炭素数6~10の脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の炭素数6~10の脂環族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メシチレン、プソイドクメン等の芳香族炭化水素が挙げられる。脱水剤を使用する場合は、アセトニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類、ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、ベンゼンなどの芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、ニトロ化合物、酢酸エチルなどのエステル類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類などが挙げられる。これらの溶媒は単独でも2種以上を混合して使用しても良い。溶媒の使用量は、原料1質量部に対して、0.1~20質量部、好ましくは1~10質量部の割合で使用する。また、反応温度は、60~150°Cが好ましい。反応温度が60°Cよりも低いと反応速度が著しく低下し、150°Cよりも高いと式1で表されるアダマンチルメタアクリレート類の選択率が低下する。反応温度は、基本的に使用する有機溶媒と水との常圧での共沸温度で決定されるが、反応圧力を陰圧あるいは加圧とすることにより調節することが可能である。上記の式1で表されるアダマンチルメタアクリレート類を製造する反応工程は、常圧、減圧又は加圧下で行なうことができ、また、回分式、半回分式、連続式などの公知の方法により行なうことができる。更に、各エステル化反応の特徴に合わせ、適した材質の反応器、反応容量など必要な反応条件を任意に選択することができる。上記の各エステル化反応実施の際に、所望に応じて重合禁止剤を添加することが好ましい。重合禁止剤を添加することによって、ホルマジン基準濁度が悪くなる原因の一つである、ホモポリマーやオリゴマーの生成を、反応の段階から抑制することができるからである。重合禁止剤としては一般的なものならば特に制限はなく、ヒドロキシキノリン、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、p-ベンゾキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテルなどのキノン類、メトキシフェノール、2,4-ジメチル-6-t-ブチルフェノール、カテコール、3-s-ブチルカテコール、2,2-メチレンビス-6-t-ブチル-4-メチルフェノールなどのフェノール類、2,2,6,6-テトラメチル-4-ヒドロキシピペリジン-1-オキシル、N-ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、N-ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩、N-ニトロソ-N-1-ナフチルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、N-ニトロソジフェニルアミン、N-ニトロソ-N-メチルアニリン、ニトロソナフトール、p-ニトロソフェノール、N,N’-ジメチル-p-ニトロソアニリンなどのニトロソ化合物、N,N’-ジフェニル-p-フェニレンジアミン、N-フェニル-N’-イソプロピル-p-フェニレンジアミン、4-ヒドロキシジフェニルアミン、アミノフェノールなどのアミン類、フェノチアジン、メチレンブルー、2-メルカプトベンゾイミダゾールなどの含硫黄化合物、N-ヒドロキシフタルイミドなどのイミド類、シクロヘキサンオキシム、p-キノンジオキシムなどのオキシム類、ジアルキルチオジプロピネートなどが例示される。添加量としては、メタアクリル酸100質量部に対して、0.001質量部~10質量部、好ましくは0.01質量部~1質量部である。更に、脱水エステル化反応にてフェノール系及び/又はキノン系重合禁止剤を用いる場合、その重合禁止効果を向上させるため、空気などの酸素を含有しているガスを吹き込みながら反応させることが好ましい。このガス中の酸素濃度は、重合禁止効果を高める観点及びガスを爆発限界以下にする観点から0.05容量~10容量以下であることが好ましい。希釈用のガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスを用いるのが一般的である。調製ガス量は、原料であるアダマンタノール類1モルに対し0.005~0.3L/分、好ましくは0.01~0.1L/分とする。調製ガス量がこれ以上少ない場合は重合禁止効果が十分ではなく、またこの範囲を超えて多く吹き込んでもその効果は変わらない。脱水エステル化反応終了後は、反応液をアルカリで洗浄することにより酸触媒および未反応のメタアクリル酸を除去することが好ましい。アルカリで洗浄する場合の洗浄液は、反応液と相溶しない水溶液を使用することが好ましい。アルカリの種類は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化アンモニウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのようなテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド類の水溶液が例示でき、濃度は1~25重量の範囲とするのが好ましく、pHは8~13.5、洗浄温度は10~80°Cの範囲で実施することができる。1回のアルカリ水溶液の量は、反応液1質量部に対し0.1~1質量部の範囲で行うのが好ましい。2回以上アルカリ洗浄を繰り返す場合は、水溶液中のアルカリ濃度やアルカリ水溶液量を段階的に変化させることも可能である。また、洗浄方法は、反応液とアルカリ水溶液が効率よく接触すれば特に制限はないが、例えばバッチ式の場合は攪拌機による混合、連続式の場合は、スタティックミキサーへの流通や混合装置を組み合わせたポンプへの流通による混合等が例示される。洗浄時の接触時間、温度、洗浄回数は、目的とする品質に対して条件を任意に選択出来る。また、アルカリ洗浄後に水洗を1回あるいは2回以上行うことにより、反応液中に残存するアルカリ分を除去することができる。この場合水洗に使用する水は、イオン性不純物を極力除くことが好ましく、具体的には電気伝導度が10mS/m以下の水を使うことが例示される。水洗に使用される水量は、反応液1質量部に対し0.1~1質量部の範囲で行う。水洗の方法は、アルカリ洗浄と同様に反応液と効率よく接触すれば特に制限はなく、その条件も同様に任意に選択出来る。アルカリ洗浄後あるいはアルカリ洗浄後に実施する水洗の後、金属性不純物を除く目的で酸洗浄を行うこともできる。加える酸としては、水溶性の酸であるギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸等の有機酸、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸等の無機酸が挙げられるが、反応液との分離性を考えた場合、無機酸を用いるのが望ましい。濃度は0.1~25重量の範囲が好ましく、より好ましくは0.5~5重量である。アルカリ洗浄同様、10~80°Cの範囲で実施することができる。1回の酸水溶液の量は、反応液1質量部に対し0.1~1質量部の範囲で行うのが好ましい。2回以上酸洗浄を繰り返す場合は、水溶液中の酸濃度や酸水溶液量を段階的に変化させることも可能である。洗浄の方法や条件はアルカリ洗浄と同様に任意に選択できる。また、酸洗浄後に水洗を1回あるいは2回以上行うことにより、反応液中に残存する酸分を除去することができる。この場合、水洗に使用する水は、イオン性不純物を極力除くことが必要で、具体的には電気伝導度が10mS/m以下の水を使うことが好ましい。水洗に使用される水量は、反応液1質量部に対し0.1~1質量部の範囲で行う。水洗の方法は、アルカリ洗浄と同様に反応液と効率よく接触すれば特に制限はなく、その条件は任意に選択出来る。本発明においては、洗浄後に精密濾過を行うと、脱水エステル化反応中に生成したホモポリマーやオリゴマーを低減でき、またホルマジン基準濁度をある程度低減できるので好ましい。本願において精密濾過とは、孔径が1.0μm以下のフィルターを使用してろ過を行うことを言う。精密濾過の方法としては、自然ろ過、吸引ろか、加圧ろ過等があり、いずれでも構わないが、通常、効率的にろ過するために吸引ろ過または加圧ろ過が好ましい。また、フィルターの孔径は0.1~1.0μmが好ましいが、本発明においては、特に0.1μmのテフロン製フィルターで精密濾過を行うことが好ましい。得られた反応溶液より目的物であるアダマンチルメタアクリレート類を結晶として取り出すため、濃縮操作を行う。濃縮方法としては、縦型濃縮槽、横型濃縮槽、ロータリーエバポレーター型濃縮槽等を用いることができる。濃縮操作の条件は、温度10~60°Cの範囲、好ましくは30~60°Cで実施する。濃縮温度が60°Cより高いと重合物の生成量が増加する。また、10°Cよりも低いとコンデンサーの温度をさらに低下させる必要があり非効率である。濃縮時の圧力は、濃縮温度が10~60°Cの範囲内であれば、特に制限はなく、加圧系、常圧系、減圧系のいずれでも実施可能であるが、通常、減圧系での濃縮が効率よく実施できるため好ましい。減圧下の場合、圧力に制限はなく、留去すべき溶剤の種類および濃縮装置の能力を考慮し任意に決めることができる。濃縮の終点については、目的物の特性、濃縮方法、使用する装置により変化するため、用途に合わせ、適宜選択されなければならない。また、濃縮後の反応液に含まれるアダマンチルメタアクリレート類の濃度は、30~70、好ましくは40~65の範囲にすることが好ましい。濃縮は、ホルマジン基準濁度を低下させる観点から、前記重合禁止剤および前記酸素含有ガスを吹き込みながら行うことが好ましい。濃縮工程でのホモポリマーおよびオリゴマーの生成を抑制することが、最終的に、ホルマジン基準濁度の低いアダマンチルメタアクリレート類を取得するのに重要である。酸素含有ガスの吹き込み方法は、液が吹き込み管を逆流することなく液中に供給できればその方法に制限はなく、上部鏡より吹き込み管を槽中に導入し吹き込む方法、槽の側面から吹き込む方法、あるいは下部の液抜き口より吹き込む方法が例示できる。濃縮については撹拌機付きの槽を使用する場合、その多くは撹拌しながら行うため、吹き込み管を挿入する場合は、撹拌による液流に対して十分な強度を持たせることが必要である。濃縮後のアダマンチルメタアクリレート類が結晶の場合、溶液状態のまま提供することもできるが、貧溶媒を添加するか、あるいは添加せずに、冷却温度を制御して晶析する等の公知の方法により結晶を分離し取得することができる。ここで貧溶媒とは、晶析温度にて式1で表されるアダマンチルメタアクリレート類の溶解度が5以下の溶媒であり、且つ反応溶媒と均一溶媒となる溶液であれば特に限定はしないが、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル等のエステル類等を例示することができる。晶析後、固液分離により湿結晶を取り出すことができ、必要に応じ、貧溶媒あるいは貧溶媒とその他溶媒の混合溶媒によってリンスを行い、湿結晶に含まれる不要成分を除去し、結晶純度を上げることができる。リンスで使用される貧溶媒やその他の溶媒は、晶析に使用した貧溶媒あるいは反応溶媒であっても別の溶媒類であっても構わない。さらに目的物の用途に応じ、晶析で得られたアダマンチルメタアクリレート類を再度溶媒に溶解し、濃縮および/または晶析を繰り返す再結晶を行ってもよい。再結晶の際に濃縮工程を含む場合は、前述の濃縮方法を繰り返し実施することが好ましい。再結晶の目的は、アダマンチルメタアクリレート類の純度を上げることであり、最終的に得られるアダマンチルメタアクリレート類の純度は95以上が好ましく、より好ましくは98以上である。再結晶の繰り返しにより純度99以上のアダマンチルメタアクリレート類を得ることは可能であるが、使用溶媒量と純度から最適晶析回数を決定するのが好ましい。晶析後のアダマンチルメタアクリレート類の乾燥については含有溶媒や水分が合計5以下となるように行えば乾燥方法に関して特に限定はしないが、風乾や減圧乾燥等の公知の方法を例示できる。本発明では、脱水エステル化反応中のみならず精製工程中も常に、フェノール系及び/又はキノン系重合禁止剤の存在下、酸素を含むガスを吹き込みながら精製することで、ホルマジン基準濁度1.7NTU未満の式1で表されるアダマンチルメタアクリレート類を得ることが出来る。フェノール系及び/又はキノン系重合禁止剤と共に使用する調製ガスは、その酸素含有濃度が0.05~10.0容量の範囲であることが好ましい。酸素含有濃度がこれよりも低いと重合禁止効果が十分ではなく、またこれよりも高いと使用する有機溶媒の爆発下限界を超える場合が発生し、危険性が増大する。また、10.0容量を超える濃度で吹き込んでもその重合禁止効果は変わらない。調製ガスは、バッチ式あるいは連続式で濃縮される有機相に供給することができるが、連続で供給する方法が系内の酸素濃度を常時制御することができるため好ましい。連続供給における供給量は、重合禁止剤が極微量の酸素の存在下でも十分に効力を発揮することから、下限は特に設定する必要は無いが、上限については、先述の爆発下限未満で使用することに加え、濃縮が減圧下にて行われる場合は、コンデンサーや真空ポンプ能力等の設備の能力に依存することから、製造設備にあった上限値を定める必要がある。調製ガス量は、アダマンチルメタアクリレート類1モルに対し0.005~0.3L/分、好ましくは0.01~0.1L/分とする。調製ガス量がこれより少ない場合は重合禁止効果が十分ではなく、またこの範囲を超えて多く吹き込んでもその効果は変わらない。本発明のメタアクリル系共重合体は、式1で表されるアダマンチルメタアクリレート類と、式3、式4、式5及び式6からなる群より選ばれる1種以上の化合物とを共重合することによって製造することができる。式中、R5は水素またはメチル基を示し、R6は炭素数1~4のアルキル基を示し、R7は炭素数5~20のシクロアルキル基または脂環式アルキル基を示す。式中、R8は水素またはメチル基を示し、R9~R10は同一または異なっていてもよく、炭素数1~4のアルキル基を示し、R11は炭素数5~20のシクロアルキル基または脂環式アルキル基を示す。式中、R12は水素またはメチル基を示し、Zはメチレン-CH2-またはオキサ-O-を示し、Xは同一または異なって、水酸基、ハロゲン基、ニトリル基、カルボン酸基、炭素数1~4のカルボン酸アルキル基、または炭素数1~4のアルコキシド基を示し、n2は0~2の整数を示す。式中、R13は水素またはメチル基を示し、n3は1~3の整数を示し、Lはメチル基、エチル基、水酸基、またはハロゲン基を示し、n4は0~2の整数を示す。式3で表される化合物としては、2-メチル-2-メタアクリルロイルオキシアダマンタン、2-エチル-2-メタアクリルロイルオキシアダマンタン、2-イソプロピル-2-メタアクリルロイルオキシアダマンタン、2-n-プロピル-2-メタアクリルロイルオキシアダマンタン、2-n-ブチル-2-メタアクリルロイルオキシアダマンタン、1-メチル-1-メタアクリルロイルオキシシクロペンタン、1-エチル-1-メタアクリルロイルオキシシクロペンタン、1-メチル-1-メタアクリルロイルオキシシクロヘキサン、1-エチル-1-メタアクリルロイルオキシシクロヘキサン、1-メチル-1-メタアクリルロイルオキシシクロヘプタン、1-エチル-1-メタアクリルロイルオキシシクロヘプタン、1-メチル-1-メタアクリルロイルオキシシクロオクタン、1-エチル-1-メタアクリルロイルオキシシクロオクタン、2-エチル-2-メタアクリルロイルオキシデカヒドロ-1,4:5,8-ジメタノナフタレン、2-エチル-2-メタアクリルロイルオキシノルボルナンなどが挙げられる。式4で表される化合物としては、2-シクロヘキシル-2-メタアクリルロイルオキシプロパン、2-4-メチルシクロヘキシル-2-メタアクリルロイルオキシプロパン、2-アダマンチル-2-メタアクリルロイルオキシプロパン、2-3-1-ヒドロキシ-1-メチルエチルアダマンチル-2-メタアクリルロイルオキシプロパンなどが挙げられる。式5で表される化合物としては、2-メタアクリルロイルオキシ-5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン、7または8-メタアクリルロイルオキシ-3-オキソ-4-オキサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン、9-メタアクリルロイルオキシ-3-オキソ-2-オキサ-6-オキサ-トリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン、2-メタアクリルロイルオキシ-5-オキソ-4-オキサ-8-オキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン、2-メタアクリルロイルオキシ-9-メトキシカルボニル-5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン、2-メタアクリルロイルオキシ-5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン-6-カルボニトリルなどが挙げられる。式6で表される化合物としては、α-メタアクリルロイルオキシ-γ-ブチロラクトン、β-メタアクリルロイルオキシ-γ-ブチロラクトン、メタアクリルロイルオキシパントラクトンなどが挙げられる。前記式1および式3~6で表される化合物の共重合比は、式1の化合物は、好ましくは5重量~40重量を繰り返し単位に含み、式3および式4の化合物は、少なくとも1種類を好ましくは20重量~50重量を繰り返し単位に含み、式5および式6の化合物は、少なくとも1種類を15重量~50重量含むことが好ましいただし、式1および式3~6の共重合比の合計は100重量となる。重合においては、一般的には、繰り返し単位を溶媒に溶かし、触媒を添加して加熱あるいは冷却しながら反応を実施する。重合反応の条件は、開始剤の種類、熱や光などの開始方法、温度、圧力、濃度、溶媒、添加剤などにより任意に設定することができ、本発明のメタアクリル系共重合体の重合においては、アゾイソブチロニトリルや過酸化物などのラジカル発生剤を使用したラジカル重合や、アルキルリチウムやGrignard試薬などの触媒を利用したイオン重合など公知の方法で実施することができる。本発明のメタアクリル系共重合体の重合反応にて用いる溶媒は、2-ブタノン、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナン等のアルカン類、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール、n-ブタノール、sec-ブタノール、t-ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のカルボン酸エステル類が例示され、これらの溶媒は単独又は2種類以上混合して使用することができる。本発明で得られるメタアクリル系共重合体は、公知の方法により精製を行うことができる。具体的には金属不純物の除去に関し、限外濾過、精密濾過、酸洗浄、電気伝導度が10mS/m以下の水洗浄、抽出を組み合わせて行うことができる。酸洗浄を行う場合、加える酸としては、水溶性の酸であるギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸等の無機酸が挙げられるが、反応液との分離性を考えた場合、無機酸を用いるのが好ましい。また、オリゴマー類の除去には、限外濾過、精密濾過、晶析、再結晶、抽出、電気伝導度が10mS/m以下の水洗浄などを組み合わせて実施することができる。本発明でメタアクリル系共重合体と共に使用される樹脂添加剤として、光酸発生剤、界面活性剤、酸拡散抑制剤、増感剤などを必要に応じ組み合わせて添加することができる。特に、光酸発生剤は、フォトリソグラフィを行う上で必須成分であるが、具体的な例として、トリフェニルホスホニウム塩化合物、ジフェニルヨードニウム塩化合物、ジフェニルスルホニウム塩化合物、アルキルスルホン酸塩類、スルホン酸イミド類、ジスルホン酸類、スルフォニルジアゾメタン類等を挙げることができ、その使用量は、メタアクリル系共重合体に対して、0.1質量部~40質量部、好ましくは0.2質量部~30質量部である。本発明のメタアクリル系重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCで測定したポリスチレン換算重量平均分子量以下、Mwという。は、好ましくは1,000~500,000、さらに好ましくは3,000~100,000である。また、メタアクリル系共重合体のMwとGPCで測定したポリスチレン換算数平均分子量以下、Mnという。との比Mw/Mnは、通常、1~10、好ましくは1~5である。また、本発明において、メタアクリル系共重合体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に何ら制限されるものではない。なお、実施例において、メタアクリル系モノマーの純度及び、重合禁止剤量はガスクロマトグラフィーにて、残存金属の定量はICP-MSにて、重合物の評価はGPCにてそれぞれ実施した。さらに、濁度の評価は、濁度計2100P型セントラル科学株製を用い、メタアクリル系モノマー10質量部を重合時に用いるメチルエチルケトンまたはテトラヒドロフラン100質量部に溶解後、測定した結果を示している。なお、濁度の基準は、ホルマジン標準液としてStabilCal標準液<0.1NTU、20NTU、100NTU、800NTUで検量線を作成し、評価に用いた。実施例13-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの合成攪拌機、温度計、Dean-Stark水分離器、ジムロート冷却器、及びガス吹込み管をつけた2Lのジャケット付きセパラブルフラスコに1,3-アダマンタンジオール84.0g、メタクリル酸124.1g、重合禁止剤としてp-メトキシフェノール0.38g、酸触媒として濃硫酸1.2g、及び溶媒としてトルエン750mlを仕込み、酸素濃度が約5容量になるように窒素で希釈した調製ガスを0.2L/分で供給した。反応操作は、溶液を加熱し、副生した水をDean-Stark水分離器により除去しつつ還流状態を5時間継続することにより、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートを含む反応液を得た。得られた反応溶液を室温まで冷却した後、攪拌しながら10重量水酸化ナトリウム水溶液を加え、残存するメタクリル酸と硫酸を中和した。その後、二相となった溶液から中和水相を抜き出した後、残った有機相に、重合禁止剤としてp-メトキシフェノール0.85gを添加し、更に5重量希硫酸及びイオン交換水500mlで各2回洗浄した。洗浄後に0.1μmのテフロン製フィルターで精密濾過を行った後、溶液温度を40°Cに保ちつつエバポレーターを用いて溶液重量が110gになるまで濃縮晶析を行った。濃縮終了後、氷水浴温度で冷却晶析を行い、結晶を濾別した。更に結晶をヘプタンで2回リンスした後、35°Cで24時間減圧乾燥を行った。なお、脱水エステル化反応から固液分離及びイオン交換水によるリンス終了まで、常に調製ガスを溶液中に吹き込み続けた。得られた3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの分析結果を表1に示した。なお、メチルエチルケトンを、濁度測定用の溶剤に用いた。比較例1-13-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの合成実施例1と同一条件で、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレート合成を行ったが、脱水エステル化反応後の後処理工程である精製工程中の調製ガス吹き込みを行わなかった。また、後処理工程において、精密濾過の代わりに5Aろ紙フィルターの孔径は7μmでのろ過を行った。得られた3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの分析結果を表1に示した。比較例1-23-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの合成実施例1と同一条件で、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレート合成を行ったが、脱水エステル化反応後の後処理工程である精製工程中の精密濾過は実施したが、調製ガス吹き込みを実施しなかった。得られた3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの分析結果を表1に示した。実施例23,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの合成攪拌機、温度計、Dean-Stark水分離器、ジムロート冷却器、および調製ガス導入管を備えた2Lのジャケット付きセパラブルフラスコに1,3,5-アダマンタントリオール128.9g、メタクリル酸361g、酸触媒として濃硫酸1.7g、重合禁止剤としてp-メトキシフェノール1.1g、および溶媒としてトルエン750mlを仕込んで攪拌し、酸素濃度が約5容量になるように窒素で希釈した調製ガスを0.2L/分で供給した。反応操作は、溶液を加熱し、副生した水をDean-Stark水分離器により除去しつつ還流状態を12時間継続することにより、3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの合成を行った。得られた反応溶液を室温まで冷却した後、攪拌しながら10重量水酸化ナトリウム水溶液を加え、残存するメタクリル酸と硫酸を中和した。その後、二相となった溶液から中和水相を抜き出した後、残った有機相をイオン交換水500mlで2回洗浄した。水相を全て合一後、酢酸エチル300mlで2回抽出した。この酢酸エチル溶液に重合禁止剤としてp-メトキシフェノール0.76gを加え完全に溶解させ、0.1μmのテフロン製濾紙で精密濾過を行った後、溶液温度を40°Cに保ちつつエバポレーターを用いて溶液重量が110gになるまで濃縮した。濃縮終了後、氷水浴温度で冷却晶析を行い、結晶を濾別した。更に結晶をイオン交換水50mLで2回リンスした後、35°Cで24時間減圧乾燥を行った。なお、脱水エステル化反応から固液分離及びイオン交換水によるリンス終了まで、常に調製ガスを溶液中に吹き込み続けた。得られた3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの分析結果を表1に示した。なお、テトラヒドロフランを、濁度測定用の溶剤に用いた。比較例23,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの合成実施例2と同一条件で、3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレート合成を行ったが、脱水エステル化反応後の後処理工程である精製工程中の調製ガス吹き込みを行わなかった。また、後処理工程において精密濾過の代わりに5Aろ紙フィルターの孔径は7μmでのろ過を行った。得られた3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートの分析結果を表1に示した。実施例33-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレートの合成攪拌機、温度計、Dean-Stark水分離器、ジムロート冷却器、および調製ガス導入管を備えた2Lのジャケット付きセパラブルフラスコに1,3-アダマンタンジオール84g、アクリル酸108g、重合禁止剤としてp-メトキシフェノール0.76g、酸触媒として濃硫酸1.3g、溶媒としてトルエン750mlを仕込み、酸素濃度が約5容量になるように窒素で希釈した調製ガスを0.2L/分で供給した。反応操作は、溶液を加熱し、副生した水をDean-Stark水分離器により除去しつつ還流状態を6時間継続することにより、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレートの合成を行った。得られた反応溶液を室温まで冷却した後、攪拌しながら10重量水酸化ナトリウム水溶液を加え、残存するアクリル酸と硫酸を中和した。その後、二相となった溶液から中和水相を抜き出した後、残った有機相に、重合禁止剤としてp-メトキシフェノール0.85gを添加し、更に5重量希硫酸及びイオン交換水500mlで各2回洗浄した。洗浄後に0.1μmのテフロン製フィルターで精密濾過を行った後、氷水浴温度で冷却晶析を行い、結晶を濾別した。更に結晶をヘプタンで2回リンスした後、25°Cで24時間減圧乾燥を行った。なお、脱水エステル化反応から固液分離及びイオン交換水によるリンス終了まで、常に調製ガスを溶液中に吹き込み続けた。得られた3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレートの分析結果を表1に示した。なお、メチルエチルケトンを、濁度測定用の溶剤に用いた。比較例33-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレートの合成実施例3と同一条件で、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレート合成を行ったが、脱水エステル化反応後の後処理工程である精製工程中の調製ガスの吹き込みを行わなかった。また、後処理工程において精密濾過の代わりに5Aろ紙フィルターの孔径は7μmでのろ過を行った。得られた3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレートの分析結果を表1に示した。実施例4共重合体Aの合成式1の化合物として、実施例1で合成した濁度0.1NTUの3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレート3.19g、式3の化合物として2-エチル-2-メタクリロイルオキシアダマンタン3.37g、式5の化合物として2-メタクリルロイルオキシ-5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン3.99g、アゾビスイソブチロニトリル0.40gを、テトラヒドロフラン90mLに溶解させ、窒素雰囲気下、反応温度を58°Cに保持して、21時間重合させた。重合後、反応溶液を450mLのn-ヘキサン中に滴下して、生成樹脂を凝固精製させ、生成した白色粉末をろ過して、減圧下40°Cで一晩乾燥させメタアクリル系共重合体Aを得た。比較例4式1の化合物として、比較例1-1で合成した濁度2.7NTUの3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートを用いた他は、実施例4と同じ操作を行い、メタアクリル系共重合体Bを得た。実施例5式1の化合物として、実施例2で合成した濁度0.1NTUの3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレート3.41g、式3の化合物として2-エチル-2-メタクリロイルオキシアダマンタン3.33g、式5の化合物として2-メタクリルロイルオキシ-5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン4.00g、アゾビスイソブチロニトリル0.41gを、テトラヒドロフラン90mLに溶解させ、窒素雰囲気下、反応温度を60°Cに保持して、21時間重合させた。重合後、反応溶液を450mLのn-ヘキサン中に滴下して、生成樹脂を凝固精製させ、生成した白色粉末をろ過して、減圧下40°Cで一晩乾燥させメタアクリル系共重合体Cを得た。比較例5式1の化合物として、比較例2で合成した濁度1.7NTUの3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートを用いた他は、実施例5と同じ操作を行い、メタアクリル系共重合体Dを得た。実施例6式1の化合物として、実施例3で合成した濁度0.1NTUの3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレート3.00g、式3の化合物として2-エチル-2-メタクリロイルオキシアダマンタン3.36g、式5の化合物として2-メタクリルロイルオキシ-5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン3.98g、アゾビスイソブチロニトリル0.41gを、テトラヒドロフラン90mLに溶解させ、窒素雰囲気下、反応温度を57°Cに保持して、23時間重合させた。重合後、反応溶液を450mLのn-ヘキサン中に滴下して、生成樹脂を凝固精製させ、生成した白色粉末をろ過して、減圧下40°Cで一晩乾燥させメタアクリル系共重合体Eを得た。比較例6式1のメタアクリル酸系モノマーとして、比較例3で合成した濁度4.9NTUの3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレートを用いた他は、実施例6と同じ操作を行い、メタアクリル系共重合体Fを得た。得られた6種類のメタアクリル系共重合体について、それぞれ、100質量部とトリフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホネートみどり化学社製TPS-10910質量部とを、共重合体A、B、E、Fについてはプロピレングリコールモノメチルアセタートと、共重合体C、Dについては乳酸エチルと混合し、共重合体濃度6.3重量のフォトレジスト用樹脂組成物を調製した。シリコンウエハー上に反射防止膜日産化学社製ARC-29を塗布した後、このフォトレジスト用樹脂組成物をスピンコーティングにより反射防止膜状に塗布し、厚み100nmの感光層を形成した。ホットプレート上で温度90°C、60秒間プリベークした後、電子線描画装置エリオニクス社製ELS-7700にて感光層を100nmハーフピッチのラインアンドスペースパターンライン10本で照射した。所定温度で90秒間ポストベークPEBした。次いで、0.3Mのテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により60秒間現像し、純水でリンスし、ラインアンドスペースパターンを得た。結果を表2に示した。得られたラインアンドスペースパターンをFE-SEMで観察し、解像度とラインエッジラフネスLERを測定した。その結果を表2に示すが、それぞれ濁度の低いメタアクリル系モノマーを用いたメタアクリル系共重合体は、同一PEB温度、同一露光量で比較した場合、LERが同等あるいはわずかに良好で、また解像度が高く、特にヒドロキシル基が2個入っている化合物については、大幅に解像度に優れていることが明かとなった。"