"3つの波長領域で使用する入射面及び出射面にそれぞれ反射防止膜を備えた光ピックアップ装置に搭載されるレンズにおいて、前記反射防止膜は、2層以上の高屈折率材料層と低屈折率材料層との複数層の膜から構成され、前記高屈折率材料層の合計膜厚をそれぞれ50nm以下とし、波長410nm以下の光の吸収率を1以下としたことを特徴とする光ピックアップ装置に搭載されるレンズ。波長380~410nm、波長640~670nm、波長770~800nmの3つの波長領域で使用する反射防止膜を備えた光ピックアップ装置に搭載されるレンズにおいて、前記反射防止膜は、2層以上の高屈折率材料層と低屈折率材料層との複数層の膜から構成され、光吸収の多い前記高屈折率材料層は、前記低屈折率材料層、空気、レンズのいずれかに挟まれており、前記高屈折率材料層の合計膜厚を50nm以下とし、波長380~410nm、波長640~670nm、波長770~800nmのそれぞれの領域における光の吸収率を1以下としたことを特徴とする光ピックアップ装置に搭載されるレンズ。請求項1または2に記載の光ピックアップ装置に搭載されるレンズにおいて、前記反射防止膜が、前記高屈折率材料層と前記低屈折率材料層との5層以上の膜から構成されていることを特徴とする光ピックアップ装置に搭載されるレンズ。請求項1ないし3のいずれかに記載の光ピックアップ装置に搭載されるレンズにおいて、前記反射防止膜が、低屈折率材料であるSiOの低屈折率材料層、低屈折率材料であるSiO2の低屈折率材料層、高屈折材料であるTa2O5の高屈折率材料層の3種類の層から形成されていることを特徴とする光ピックアップ装置に搭載されるレンズ。請求項1ないし4のいずれかに記載の光ピックアップ装置に搭載されるレンズにおいて、前記反射防止膜の透過率が、波長405nm、波長660nm、波長785nmの3つの波長において、それぞれ、96以上であることを特徴とする光ピックアップ装置に搭載されるレンズ。請求項1ないし5のいずれかに記載の光ピックアップ装置に搭載されるレンズにおいて、前記反射防止膜の透過率が、波長405nm、波長660nm、波長785nmの3つの波長において、それぞれ、97以上であることを特徴とする光ピックアップ装置に搭載されるレンズ。請求項1ないし6のいずれかに記載の光ピックアップ装置に搭載されるレンズにおいて、前記反射防止膜を備えた前記レンズが、前記光ピックアップ装置に搭載されるコリメータレンズ、または、カップリングレンズであることを特徴とする光ピックアップ装置に搭載されるレンズ。上記の従来技術の反射防止膜では、Ta2O5膜の合計の厚さが片面で100nm以上となっている。またレンズは面が2面あるので、これらの反射防止膜を両面につけると、Ta2O5膜の合計の厚さが200nm以上となっており、3波長での透過率が適正な光ピックアップ装置に搭載されるレンズを得ることができない。本発明は、光吸収による透過率の低下が1以下と小さく、波長405nm付近、波長660nm付近、波長785nm付近の3つの波長の透過率が片面で97以上を満足する反射防止膜を備えた光ピックアップ装置に搭載されるレンズを提供することを目的とするものである。上記の課題を解決するため、本発明の光ピックアップ装置に搭載されるレンズは、3つの波長領域で使用する反射防止膜を備えた光ピックアップ装置に搭載されるレンズであって、前記反射防止膜は、2層以上の高屈折率材料層と低屈折率材料層との複数層の膜から構成され、前記高屈折率材料層の合計膜厚を50nm以下とし、波長410nm以下の光の吸収率を1以下としたことを特徴とする。なお、高屈折率材料層が1層のみで構成されている反射防止膜で97以上の透過率を得ようとすると、高屈折率材料の膜厚が100nm以上となる。本発明の光ピックアップ装置に搭載されるレンズは、波長380~410nm、波長640~670nm、波長770~800nmの3つ波長領域で使用する反射防止膜を備えた光ピックアップ装置に搭載されるレンズであって、前記反射防止膜は、2層以上の高屈折率材料層と低屈折率材料層との複数層の膜から構成され、光吸収の多い前記高屈折率材料層は、前記低屈折率材料層、空気、レンズのいずれかに挟まれており、前記高屈折率材料層の合計膜厚が50nm以下とし、波長380~410nm、波長640~670nm、波長770~800nmのそれぞれの領域における光の吸収率を1以下としたことを特徴とする。また、本発明の光ピックアップ装置に搭載されるレンズは、前記反射防止膜が、前記高屈折率材料層と前記低屈折率材料層との5層以上の膜から構成されていることを特徴とする。また、本発明の光ピックアップ装置に搭載されるレンズは、前記反射防止膜が、低屈折率材料であるSiOの低屈折率材料層、低屈折率材料であるSiO2の低屈折率材料層、高屈折材料であるTa2O5の高屈折率材料層の3種類の層から形成されていることを特徴とする。また、本発明の光ピックアップ装置に搭載されるレンズは、前記反射防止膜の透過率が、波長405nm、波長660nm、波長785nmの3つ波長において、それぞれ、両面で97以上であることが望ましい。また、本発明の光ピックアップ装置に搭載されるレンズは、前記反射防止膜の透過率が、波長405nm、波長660nm、波長785nmの3つ波長において、それぞれ、両面で96以上であることが望ましい。また、本発明の光ピックアップ装置に搭載されるレンズは、コリメータレンズ、または、カップリングレンズであることを特徴とする。反射防止膜においては,一般的に、レンズの第一面とレンズの第二面の両方の面に反射防止膜をつけており、両方の面の膜厚では200nm以上となる。このような反射防止膜では材料による光の吸収が大きくなり、設計で得られている透過率を、実際のレンズにおいて得ることが出来なくなる。そこで、本発明の反射防止膜では、2層以上の高屈折率材料層の合計膜厚が50nm以下となるように設計する。高屈折率材料が1つの層で構成されており、膜厚が50nm以下とすると、波長405nm付近、波長660nm付近、波長785nm付近の3つの波長の透過率を97以上とすることが出来ない。そこで、レンズ面につけられている光吸収の多い高屈折率材料層を、2つの膜の層以上に構成し、この2つの膜の層から構成されている高屈折率材料層は低屈折率材料層を挟むよう設定しておく。このように構成した反射防止膜は、膜厚の合計が50nm以下の場合でも、容易に97の透過率を満足するように設計することが出来、更に膜厚も50nm以下と薄いことから吸収による影響は1以内に抑えられ設計通りの透過率を確保することが出来る。また、本発明の反射防止膜は4層以上の膜から構成されていることが望ましい。本発明の高屈折率材料層は2層以上ある。そして、高屈折率材料層は低屈性率材料層に接している方がより効果を発揮しやすい為、反射防止膜の層数は4層以上が望ましい。また、耐光性や、それぞれの膜の密着性の観点から、例えば、SiO、SiO2、Ta2O5の3種類から形成されていることが望ましい。本発明では、波長405nm、波長660nm、波長785nmの片面での透過率が98.0以上、両面での透過率が96以上であることを特徴としている。さらに望ましくは、波長405nm、波長660nm、波長785nmの透過率が片面での透過率が98.5以上、両面での透過率が97以上である。本発明は、コリメータレンズ、または、カップリングレンズで効果を発揮する。これらコリメータレンズまたはカップリングレンズは3波長以上のレーザーを使用され、光ピックアップレンズに記載されるものである。本発明によれば、光吸収による透過率の低下が小さく、波長405nm付近、波長660nm付近、波長785nm付近の3つの波長の透過率が97以上を満足する反射防止膜を備えた光ピックアップ装置に搭載されるレンズを提供することができる。本発明にかかわるレンズは、複数種類の単色光を用いる多波長用のレンズであって、例えばCDやDVDやブルーレイディスク等種類が異なる光記録媒体に対応できる互換性の記録再生装置に用いる多波長用レンズであり、少なくとも波長405nm付近、波長660nm付近、波長785nm付近の3つの波長で使用される。また本発明は、例えばコリメータレンズやカップリングレンズに使用される。また、本発明に係わる多波長用光学系、光ヘッド、及び光ディスク装置は、このような多波長用レンズを用いたものである。また本発明はレンズに使用されるものであるので、光が入射するレンズ第一面と光が出射するレンズ第二面がある。この時、レンズ第一面に使用される反射防止膜と、レンズ第二面に使用される反射防止膜は、同じ構成の物であっても良いし、異なる構成の物であっても良い。本発明に用いられる反射防止膜は光学部品上に高屈折率材料層と低屈折率材料層を積層した構造からなる。高屈折率材料層の材料としては、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ハフニウム、酸化マグネシウム等の酸化物、窒化シリコン、窒化ゲルマニウム等の窒化物、炭化シリコン等の炭化物、硫化亜鉛等の硫化物、およびこれらの混合材から選ばれる少なくとも1種を用いることが望ましい。高屈折率材料としては、図7に示すように、例えば、1.9~2.1の屈折率の材料が望ましい。また、低屈折率材料層の材料としては酸化シリコン、およびフッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化ストロンチウム、フッ化イットリウム、チオライト、クライオライト氷晶石などのフッ化物、およびこれらの混合材から選ばれる少なくとも1種がある。また、高温高湿環境下での保存特性向上のためには、酸化物、窒化物、炭化物、フッ化物を用いることが望ましい。低屈折率材料としては、図7に示すように、例えば、1.4~1.6の屈折率の材料が望ましい。本発明の反射防止膜は、例えば真空成膜法で作製される。真空成膜法には、真空蒸着法、スパッタ法、化学気相成長法、レーザブレイション法など各種成膜法を用いることができる。真空蒸着法を用いる場合、膜質を改善するため蒸気流の一部をイオン化するとともに基板側にバイアスを印加するイオンプレーティング法、クラスタイオンビーム法、別イオン銃を用いて基板にイオンを照射するイオンアシスト蒸着法を用いると有効である。スパッタ法としては、DC反応性スパッタ法、RFスパッタ法、イオンビームスパッタ法などがある。また、化学的気相法としては、プラズマ重合法、光アシスト気相法、熱分解法、有機金属化学気相法などがある。なお、各屈折率膜の膜厚は膜形成時の蒸着時間等を変えることで、所望の膜厚とすることができる。また、光学部品にはポリオレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等のプラスチック以外にも、石英ガラス、硼珪酸ガラスなどの光学ガラス、Al2O3、MgOなどの酸化物単結晶、多結晶基板、CaF2、MgF2、BaF2、LiFなどのフッ化物単結晶基板、多結晶基板、NaCl、KBr、KClなどの塩化物、臭化物単結晶、他結晶基板等の、使用帯域で透明な光学材料であれば、何れでも適用できる。以下、本発明の実施例と比較例について、図面を参照して説明する。図1は、本発明の実施例1から実施例3に示す反射防止膜の膜構成、膜厚、透過率の一覧表であり、図2は比較例1から比較例6に示す反射防止膜の膜構成、膜厚、透過率の一覧表である。各比較例と各実施例では、レンズと接している膜を1層目、その上にある膜を2層目、以下順に3層目、4層目と記載している。図2の一覧表に示す比較例1は、2層構成の反射防止膜である。1層目を低屈折率材料のSiO2、2層目を高屈折率材料のTa2O5とした。Ta2O5の膜は1層の構成となっている。比較例1では片面透過率の設計透過率は波長405nmで98.66、波長660nmで99.69、波長785nmで97.84、となっており、設計上は、透過率は十分である。しかし、膜厚が120.91nmで吸収による影響が2.37となることが推測され、設計通りの適切な透過率を得ることができない。比較例2は2層構成の反射防止膜である。1層目を低屈折率材料のSiO2、2層目を高屈折率材料のTa2O5とした。Ta2O5の膜は1層の構成となっている。膜厚は50.00nmとなっており、吸収による影響は0.98で吸収による影響は1以内に抑えられている。しかし、比較例2では透過率は波長405nmで98.72、波長660nmで90.00、波長785nmで89.06、となっており、適切な透過率を得ることが出来ない。比較例3は2層構成の反射防止膜である。1層目を低屈折率材料のSiO2、2層目を高屈折率材料のTa2O5とした。Ta2O5の膜は1層の構成となっている。膜厚は20.00nmとなっており、吸収による影響は0.39で吸収による影響は1以内に抑えられている。しかし、透過率は波長405nmで97.41、波長660nmで97.02、波長785nmで95.69、となっており、適切な透過率を得ることが出来ない。比較例4は3層構成とした。1層目を低屈折率材料のSiO2、2層目を高屈折率材料のTa2O5、3層目を低屈折率材料のSiOとした。Ta2O5の膜は1層の構成となっている。膜厚は50.00nmとなっており、吸収による影響は0.98で吸収による影響は1以内に抑えられている。しかし、透過率は波長405nmで96.19、波長660nmで93.65、波長785nmで99.04、となっており、波長405nmと波長660nmにおいて適切な透過率を得ることが出来ない。比較例5は3層構成とした。1層目を低屈折率材料のSiO2、2層目を高屈折率材料のTa2O5、3層目を低屈折率材料のSiOとした。Ta2O5の膜は1層の構成となっている。膜厚は50.00nmとなっており、吸収による影響は0.98で吸収による影響は1以内に抑えられている。しかし、透過率は波長405nmで95.90、波長660nmで99.76、波長785nmで91.34、となっており、波長405nmと波長785nmにおいて適切な透過率を得ることが出来ない。比較例6は5層構成とした。1層目を低屈折率材料のSiO2、2層目を高屈折率材料のTa2O5、3層目を低屈折率材料のSiO2、4層目を高屈折率材料のTa2O5、5層目に低屈折率材料のSiOとした。Ta2O5の膜は2層の構成となっている。透過率は波長405nmで98.56、波長660nmで99.77、波長785nmで98.57、となっており、設計上は、透過率は十分である。しかし、膜厚が100.00nmで吸収による影響は1.96となることが推測され、設計通りの適切な透過率を得ることができない。図1の一覧表に示す本発明の実施例1は、5層構成とした。1層目に低屈折率材料のSiO2、2層目に高屈折率材料のTa2O5、3層目に低屈折率材料のSiO2、4層目に高屈折率材料のTa2O5、5層目に低屈折率材料のSiOとした。Ta2O5の膜は2層の構成となっている。膜厚は47.82nmとなっており、吸収による影響はほとんどない程度に抑えられている。透過率は波長405nmで99.46、波長660nmで99.32、波長785nmで98.64、となっており、透過率は十分である。また、両面の透過率も、波長405nmで98.92、波長660nmで98.64、波長785nmで97.30、となっており、透過率は十分である。更に、実験条件2で検討した3つの波長ごとの吸収率を考慮しても、波長405nmで97.99、波長660nmで98.64、波長785nmで97.30、となり、3波長で両面透過率97以上の適切な透過率を得ることができる。本発明の実施例2は、7層構成とした。1層目に低屈折率材料のSiO2、2層目に高屈折率材料のTa2O5、3層目に低屈折率材料のSiO2、4層目に高屈折率材料のTa2O5、5層目に低屈折率材料のSiO2、6層目に高屈折率材料のTa2O5、7層目に低屈折率材料のSiOとした。Ta2O5の膜は3層の構成となっている。膜厚は45.00nmとなっており、吸収による影響はほとんどない程度に抑えられている。透過率は波長405nmで99.62、波長660nmで99.31、波長785nmで99.02、となっており、透過率は十分である。また、両面の透過率も、波長405nmで99.24、波長660nmで98.62、波長785nmで98.05、となっており、透過率は十分である。更に、実験条件2で検討した3つの波長ごとの吸収率を考慮しても、波長405nmで98.36、波長660nmで98.62、波長785nmで98.05、となり、3波長で両面透過率97以上の適切な透過率を得ることができる。本発明の実施例3は、5層構成とした。1層目に低屈折率材料のSiO2、2層目に高屈折率材料のZrO2、3層目に低屈折率材料のSiO2、4層目に高屈折率材料のZrO2、5層目に低屈折率材料のSiOとした。ZrO2の膜は2層の構成となっている。膜厚は47.80nmとなっており、吸収による影響はほとんどない程度に抑えられている。透過率は波長405nmで98.93、波長660nmで98.25、波長785nmで98.04、となっており、透過率は十分である。また、両面の透過率も、波長405nmで97.87、波長660nmで96.53、波長785nmで96.12、となっており、透過率は十分である。更に、実験条件2で検討した3つの波長ごとの吸収率を考慮しても、波長405nmで96.93、波長660nmで96.53、波長785nmで96.12、となり、高屈折率材料としてZrO2を使用した場合でも、3波長で両面透過率96以上の適切な透過率を得ることができる。"