"式4:式中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立に、以下の群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基、C1-C12鎖式炭化水素基、C3-C12脂環式炭化水素基又は水素原子を表し、R5は、水素原子、フッ素原子、水酸基、C1-C12アルコキシ基、C1-C12フッ化アルキルオキシ基又は-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C8アルキル基又はC6-C20アリール基を表す。で示される基を表し、は、不斉炭素原子を表す。で示される光学活性化合物の存在下、式1-1:式中、R1は、以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基又は水素原子を表し、RXは、アミノ基の保護基を表す。で示される化合物、又は式1-2:式中、R1及びRXは上記で定義した通りであり、ArXは、以下の群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を表す。で示される化合物と、式2:式中、R2は、以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基、以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルコキシ基、以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルキルチオ基、保護されたアミノ基、以下の群G2より選ばれる置換基を有していてもよい複素環基又は水素原子を表す。で示される化合物とを反応させる工程を含む、式3:式中、R1、R2及びRXは上記で定義した通りであり、は、不斉炭素原子を表す。で示される光学活性化合物の製造方法。<群G1>:群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよい芳香族複素環基、C1-C12アルキル基、C1-C12アルコキシ基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基を有するC1-C12アルキル基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基を有するC1-C12アルコキシ基、ハロゲン原子、C2-C13アルキルカルボニル基、C2-C13アルコキシカルボニル基、C1-C12フッ化アルキル基、C1-C12フッ化アルキルオキシ基、C2-C13アシル基、ニトロ基、シアノ基、保護されたアミノ基及びオキソ基からなる群<群G2>:C1-C12アルキル基、C1-C12アルコキシ基、C2-C13アルキルカルボニル基、C2-C13アルコキシカルボニル基、C1-C12フッ化アルキル基、C1-C12フッ化アルキルオキシ基、C2-C13アシル基、ニトロ基、シアノ基、保護されたアミノ基及びハロゲン原子からなる群反応が溶媒中で行われる、請求項1記載の製造方法。溶媒が水である、請求項2記載の製造方法。溶媒が、無機塩を含有する水である、請求項2記載の製造方法。無機塩が塩化ナトリウムである、請求項4記載の製造方法。溶媒がエーテル溶媒である、請求項2記載の製造方法。R5が-OSiR6R7R8式中、各記号は請求項1で定義した通りである。で示される基であり、かつAr1及びAr2がそれぞれ独立に、C1-C12フッ化アルキル基を有するフェニル基である、請求項1記載の製造方法。本発明の目的は、イミン化合物から光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物を製造できる新たな方法を提供することである。本発明者は、かかる状況下、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物の新たな製造法について検討した結果、特定の不斉触媒の存在下で反応を行なうと、イミン化合物から光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物を製造できることを見出し、本発明に至った。即ち、本発明は、以下の通りである。[1]式4:式中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立に、以下の群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基、C1-C12鎖式炭化水素基、C3-C12脂環式炭化水素基又は水素原子を表し、R5は、水素原子、フッ素原子、水酸基、C1-C12アルコキシ基、C1-C12フッ化アルキルオキシ基又は-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C8アルキル基又はC6-C20アリール基を表す。で示される基を表し、は、不斉炭素原子を表す。で示される光学活性化合物以下、光学活性なピロリジン化合物4ともいうの存在下、式1-1:式中、R1は、以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基又は水素原子を表し、RXは、アミノ基の保護基を表す。で示される化合物以下、イミン化合物1-1ともいう、又は式1-2:式中、R1及びRXは上記で定義した通りであり、ArXは、以下の群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を表す。で示される化合物以下、スルホン化合物1-2ともいうと、式2:式中、R2は、以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基、以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルコキシ基、以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルキルチオ基、保護されたアミノ基、以下の群G2より選ばれる置換基を有していてもよい複素環基又は水素原子を表す。で示される化合物以下、アルデヒド化合物2ともいうとを反応させる工程を含む、式3:式中、R1、R2及びRXは上記で定義した通りであり、は、不斉炭素原子を表す。で示される光学活性化合物以下、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3ともいうの製造方法。<群G1>:群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよい芳香族複素環基、C1-C12アルキル基、C1-C12アルコキシ基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基を有するC1-C12アルキル基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基を有するC1-C12アルコキシ基、ハロゲン原子、C2-C13アルキルカルボニル基、C2-C13アルコキシカルボニル基、C1-C12フッ化アルキル基、C1-C12フッ化アルキルオキシ基、C2-C13アシル基、ニトロ基、シアノ基、保護されたアミノ基及びオキソ基からなる群<群G2>:C1-C12アルキル基、C1-C12アルコキシ基、C2-C13アルキルカルボニル基、C2-C13アルコキシカルボニル基、C1-C12フッ化アルキル基、C1-C12フッ化アルキルオキシ基、C2-C13アシル基、ニトロ基、シアノ基、保護されたアミノ基及びハロゲン原子からなる群[2]反応が溶媒中で行われる、上記[1]記載の製造方法。[3]溶媒が水である、上記[2]記載の製造方法。[4]溶媒が、無機塩を含有する水である、上記[2]記載の製造方法。[5]無機塩が塩化ナトリウムである、上記[4]記載の製造方法。[6]溶媒がエーテル溶媒である、上記[2]記載の製造方法。[7]R5が-OSiR6R7R8式中、各記号は上記[1]で定義した通りである。で示される基であり、かつAr1及びAr2がそれぞれ独立に、C1-C12フッ化アルキル基を有するフェニル基である、上記[1]記載の製造方法。本発明の製造方法によれば、イミン化合物から光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物を製造できる新たな方法を提供することができる。また、特定の構造の光学活性なピロリジン化合物4の使用により、収率、エナンチオ選択性及びジアステレオ選択性アルデヒド化合物2中のR2が水素原子以外である場合よく、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3を製造することができる。以下、本発明について詳細に説明する。本明細書中、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を意味する。本明細書中、C1-C20炭化水素基とは、C1-C20脂肪族炭化水素基又はC6-C20芳香族炭化水素基を意味する。本明細書中、C1-C20脂肪族炭化水素基とは、C1-C20鎖式炭化水素基又はC3-C20脂環式炭化水素基を意味する。本明細書中、C1-C12脂肪族炭化水素基とは、C1-C12鎖式炭化水素基又はC3-C12脂環式炭化水素基を意味する。本明細書中、C1-C20鎖式炭化水素基とは、C1-C20アルキル基、C2-C20アルケニル基又はC2-C20アルキニル基を意味する。本明細書中、C1-C12鎖式炭化水素基とは、C1-C12アルキル基、C2-C12アルケニル基又はC2-C12アルキニル基を意味する。本明細書中、C1-C20アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~20のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、1,1-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、エイコシル等が挙げられる。中でも、C1-C12アルキル基、特にC1-C8アルキル基が好ましい。本明細書中、C1-C12アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~12のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、1,1-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等が挙げられる。中でも、C1-C8アルキル基が好ましく、特にC1-C4アルキル基が好ましい。本明細書中、C1-C8アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~8のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、1,1-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、ヘプチル、オクチル等が挙げられる。中でも、C1-C4アルキル基が好ましい。本明細書中、C1-C6アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~6のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、1,1-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル等が挙げられる。中でも、C1-C4アルキル基が好ましい。本明細書中、C1-C4アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~4のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル等が挙げられる。本明細書中、C2-C20アルケニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~20のアルケニル基を意味し、例えば、エテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、4-メチル-3-ペンテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、5-ヘキセニル、1-ヘプテニル、1-オクテニル、1-ノネニル、1-デセニル、1-ウンデセニル、1-ドデセニル、1-トリデセニル、1-エイコセニル等が挙げられる。中でも、C2-C12アルケニル基、特にC2-C8アルケニル基が好ましい。本明細書中、C2-C12アルケニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~12のアルケニル基を意味し、例えば、エテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、4-メチル-3-ペンテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、5-ヘキセニル、1-ヘプテニル、1-オクテニル、1-ノネニル、1-デセニル、1-ウンデセニル、1-ドデセニル等が挙げられる。中でも、C2-C8アルケニル基が好ましく、特にC2-C4アルケニル基が好ましい。本明細書中、C2-C6アルケニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~6のアルケニル基を意味し、例えば、エテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、4-メチル-3-ペンテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、5-ヘキセニル等が挙げられる。中でも、特にC2-C4アルケニル基が好ましい。本明細書中、C2-C20アルキニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~20のアルキニル基を意味し、例えば、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニル、1-ヘプチニル、1-オクチニル、1-ノニニル、1-デシニル、1-ウンデシニル、1-ドデシニル、1-トリデシニル、1-エイコシニル等が挙げられる。中でも、C2-C12アルキニル基、特にC2-C8アルキニル基が好ましい。本明細書中、C2-C12アルキニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~12のアルキニル基を意味し、例えば、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニル、1-ヘプチニル、1-オクチニル、1-ノニニル、1-デシニル、1-ウンデシニル、1-ドデシニル等が挙げられる。中でも、C2-C8アルキニル基が好ましく、特にC2-C4アルキニル基が好ましい。本明細書中、C2-C6アルキニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~6のアルキニル基を意味し、例えば、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニル等が挙げられる。中でも、C2-C4アルキニル基が好ましい。本明細書中、C3-C20脂環式炭化水素基とは、C3-C20シクロアルキル基又はC4-C20シクロアルケニル基を意味する。本明細書中、C3-C12脂環式炭化水素基とは、C3-C12シクロアルキル基又はC4-C12シクロアルケニル基を意味する。本明細書中、C3-C20シクロアルキル基としては、炭素原子数3~20の環状アルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシル、シクロトリデシル、シクロエイコシル等が挙げられる。中でも、C3-C12シクロアルキル基、特にC3-C8シクロアルキル基が好ましい。本明細書中、C3-C12シクロアルキル基としては、炭素原子数3~12の環状アルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシル等が挙げられる。中でも、C3-C8シクロアルキル基が好ましい。本明細書中、C4-C20シクロアルケニル基としては、炭素原子数4~20の環状アルケニル基を意味し、例えば、2-シクロペンテン-1-イル、3-シクロペンテン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、3-シクロヘキセン-1-イル、2-シクロヘプテン-1-イル、2-シクロオクテン-1-イル、2-シクロノネン-1-イル、2-シクロデセン-1-イル、2-シクロドデセン-1-イル、2-シクロエイコセン-1-イル、2,4-シクロペンタジエン-1-イル、2,4-シクロヘキサジエン-1-イル、2,5-シクロヘキサジエン-1-イル等が挙げられる。中でも、C4-C12シクロアルケニル基、特にC4-C8シクロアルケニル基が好ましい。本明細書中、C4-C12シクロアルケニル基としては、炭素原子数4~12の環状アルケニル基を意味し、例えば、2-シクロペンテン-1-イル、3-シクロペンテン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、3-シクロヘキセン-1-イル、2-シクロヘプテン-1-イル、2-シクロオクテン-1-イル、2-シクロノネン-1-イル、2-シクロデセン-1-イル、2-シクロドデセン-1-イル、2,4-シクロペンタジエン-1-イル、2,4-シクロヘキサジエン-1-イル、2,5-シクロヘキサジエン-1-イル等が挙げられる。中でも、C4-C8シクロアルケニル基が好ましい。本明細書中、C3-C20シクロアルキル基、C3-C12シクロアルキル基、C4-C20シクロアルケニル基及びC4-C12シクロアルケニル基は、ベンゼン環と縮合してもよい。このような基としては、1,2-ジヒドロナフタレン-1-イル、1,2-ジヒドロナフタレン-2-イル、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1-イル、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-イル、フルオレン-9-イル、インデン-1-イル等が挙げられる。本明細書中、C6-C20芳香族炭化水素基C6-C20アリール基とは、芳香族性を示す単環式あるいは多環式縮合の炭素原子数6~20の炭化水素基を意味し、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、フェナントリル、アントリル、アセナフチレニル、ナフタセニル、ビフェニリル、ビフェニレニル等が挙げられる。中でも、C6-C14芳香族炭化水素基C6-C14アリール基、特にC6-C10芳香族炭化水素基C6-C10アリール基が好ましい。本明細書中、C6-C12芳香族炭化水素基C6-C12アリール基とは、芳香族性を示す単環式あるいは多環式縮合の炭素原子数6~12の炭化水素基を意味し、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、アセナフチレニル、ビフェニリル、ビフェニレニル等が挙げられる。中でも、C6-C10芳香族炭化水素基C6-C10アリール基が好ましい。本明細書中、C6-C10アリール基とは、芳香族性を示す単環式あるいは多環式縮合の炭素原子数6~10の炭化水素基を意味し、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル等が挙げられる。本明細書中、C7-C14アラルキル基とは、C1-C4アルキル基にC6-C10アリール基が置換した基を意味し、例えば、ベンジル、1-フェニルエチル、2-フェニルエチル、ナフチル-1-イルメチル、ナフチル-2-イルメチル、1-ナフチル-1-イルエチル、1-ナフチル-2-イルエチル、2-ナフチル-1-イルエチル、2-ナフチル-2-イルエチル等が挙げられる。本明細書中、C1-C12アルコキシ基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~12のアルコキシ基を意味し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ等が挙げられる。中でも、C1-C8アルコキシ基、特にC1-C4アルコキシ基が好ましい。本明細書中、C1-C6アルコキシ基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~6のアルコキシ基を意味し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。中でも、C1-C4アルコキシ基が好ましい。本明細書中、C1-C12アルキルチオ基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~12のアルキルチオ基を意味し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec-ブチルチオ、tert-ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ、ノニルチオ、デシルチオ、ウンデシルチオ、ドデシルチオ等が挙げられる。中でも、C1-C8アルキルチオ基、特にC1-C4アルキルチオ基が好ましい。本明細書中、芳香族複素環基とは、環構成原子として炭素原子に加えて、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を1乃至4個含有する、芳香族性を示す単環式又は多環式縮合複素環基を意味する。本明細書中、単環式芳香族複素環基としては、例えば、フリル、チエニル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル1,2,4-オキサジアゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、チアジアゾリル1,2,4-チアジアゾリル、1,3,4-チアジアゾリル、トリアゾリル1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、テトラゾリル、トリアジニル等が挙げられる。中でも、5又は6員の単環式芳香族複素環基が好ましい。本明細書中、縮合芳香族複素環基とは、上記単環式芳香族複素環基が、単環式芳香族環好ましくは、ベンゼン環又は単環式芳香族複素環と縮合した基を意味し、例えば、キノリル、イソキノリル、キナゾリル、キノキサリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、インドリル、インダゾリル、ピロロピリジル、ピラゾロピリジル、イミダゾピリジル、チエノピリジル、ピロロピラジニル、ピラゾロピラジニル、イミダゾピラジニル、チエノピラジニル、ピロロピリミジニル、ピラゾロピリミジニル、イミダゾピリミジニル、チエノピリミジニル、ピラゾロチエニル等が挙げられる。本明細書中、単環式芳香族複素環としては、例えば、フラン、チオフェン、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール1,2,4-オキサジアゾール、1,3,4-オキサジアゾール、チアジアゾール1,2,4-チアジアゾール、1,3,4-チアジアゾール、トリアゾール1,2,4-トリアゾール、1,2,3-トリアゾール、テトラゾール、トリアジン等が挙げられる。中でも、5又は6員の単環式芳香族複素環が好ましい。本明細書中、C1-C12フッ化アルキル基とは、フッ素原子で置換されたC1-C12アルキル基を意味する。フッ素原子の数は特に限定されず、ペルフルオロ置換であってもよい。具体的には、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、2-フルオロエチル、2,2-ジフルオロエチル、2,2,2-トリフルオロエチル、3-フルオロプロピル、4-フルオロブチル、5-フルオロペンチル、6-フルオロヘキシル、7-フルオロヘプチル、8-フルオロオクチル、9-フルオロノニル、10-フルオロデシル、11-フルオロウンデシル、12-フルオロドデシル等が挙げられる。中でも、C1-C6フッ化アルキル基が好ましい。本明細書中、C1-C12フッ化アルキルオキシ基とは、フッ素原子で置換されたC1-C12アルコキシ基を意味する。フッ素原子の数は特に限定されず、ペルフルオロ置換であってもよい。具体的には、例えば、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、2-フルオロエトキシ、2,2-ジフルオロエトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ、3-フルオロプロポキシ、4-フルオロブトキシ、5-フルオロペンチルオキシ、6-フルオロヘキシルオキシ、7-フルオロヘプチルオキシ、8-フルオロオクチルオキシ、9-フルオロノニルオキシ、10-フルオロデシルオキシ、11-フルオロウンデシルオキシ、12-フルオロドデシルオキシ等が挙げられる。中でも、C1-C6フッ化アルキルオキシ基が好ましい。本明細書中、C2-C13アルキルカルボニル基とは、-C=O-にC1-C12アルキル基が結合した基、即ち、C1-C12アルキル-カルボニル基を意味し、例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、sec-ブチルカルボニル、tert-ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、ネオペンチルカルボニル、ヘキシルカルボニル、ヘプチルカルボニル、オクチルカルボニル、ノニルカルボニル、デシルカルボニル、ウンデシルカルボニル、ドデシルカルボニル等が挙げられる。中でも、C2-C9アルキルカルボニル基、特にC2-C5アルキルカルボニル基が好ましい。本明細書中、C2-C13アルコキシカルボニル基とは、-C=O-にC1-C12アルコキシ基が結合した基、即ち、C1-C12アルコキシ-カルボニル基を意味し、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec-ブトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ウンデシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル等が挙げられる。中でも、C2-C9アルコキシカルボニル基、特にC2-C5アルコキシカルボニル基が好ましい。本明細書中、C2-C13アシル基とは、C2-C13カルボン酸から水酸基を除いた原子団であり、C2-C13脂肪族アシル基又はC7-C13芳香族アシル基を意味する。本明細書中、C2-C13脂肪族アシル基とは、-C=O-にC1-C12脂肪族炭化水素基が結合した基、即ち、C1-C12脂肪族炭化水素-カルボニル基を意味し、例えば、アセチル、プロパノイル、ブタノイル、2-メチルプロパノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、アクリロイル、メタアクリロイル、クロトノイル、イソクロトノイル、プロピオノイル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル等が挙げられる。中でも、C2-C13アルキルカルボニル基が好ましく、特にC2-C9アルキルカルボニル基が好ましい。本明細書中、C7-C13芳香族アシル基とは、-C=O-にC6-C12芳香族炭化水素基C6-C12アリール基が結合した基、即ち、C6-C12芳香族炭化水素C6-C12アリール-カルボニル基を意味し、例えば、ベンゾイル、1-ナフトイル、2-ナフトイル等が挙げられる。本明細書中、保護されたアミノ基は、保護基で保護されたアミノ基を意味する。当該保護基としては、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、C6-10アリール基、C7-14アラルキル基、C1-6アルキル-カルボニル基、C1-6アルコキシ-カルボニル基、C2-6アルケニル-オキシカルボニル基、C6-10アリール-カルボニル基、C7-14アラルキル-カルボニル基、C6-10アリール-オキシカルボニル基、C7-14アラルキル-オキシカルボニル基、C6-10アリールスルホニル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、トリC1-6アルキルシリル基、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル基、フタロイル基等が挙げられる。上記の置換基は、ハロゲン原子、C1-6アルキル基、C1-6アルコキシ基又はニトロ基でそれぞれ置換されていてもよい。当該保護基の具体例としては、アセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、tert-ブトキシカルボニル、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル、ベンズヒドリル、トリチル、フタロイル、アリルオキシカルボニル、p-トルエンスルホニル、o-ニトロベンゼンスルホニル等が挙げられる。本明細書中、C1-6アルキル-カルボニル基とは、-C=O-にC1-6アルキル基が結合した基を意味する。本明細書中、C1-6アルコキシ-カルボニル基とは、-C=O-にC1-6アルコキシ基が結合した基を意味する。本明細書中、C2-6アルケニル-オキシカルボニル基とは、-C=OO-の酸素原子にC2-6アルケニル基が結合した基を意味する。本明細書中、C6-10アリール-カルボニル基とは、-C=O-にC6-10アリール基が結合した基を意味する。本明細書中、C7-14アラルキル-カルボニル基とは、-C=O-にC7-14アラルキル基が結合した基を意味する。本明細書中、C6-10アリール-オキシカルボニル基とは、-C=OO-の酸素原子にC6-10アリール基が結合した基を意味する。本明細書中、C7-14アラルキル-オキシカルボニル基とは、-C=OO-の酸素原子にC7-14アラルキル基が結合した基を意味する。本明細書中、C6-10アリールスルホニル基とは、-S=O2-にC6-10アリール基が結合した基を意味する。本明細書中、トリC1-6アルキルシリル基とは、C1-C6アルキル基でトリ置換された-SiH3を意味する。以下、式1~4の各基について説明する。R1は、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基又は水素原子を表す。ここで、C1-C20炭化水素基の置換基の数は好ましくは1乃至3個であり、2個以上である場合、これらの置換基は同一でも異なっていてもよい。R1は、好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基であり、より好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20アルキル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC3-C20シクロアルキル基又は群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基であり、さらに好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルキル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC3-C12シクロアルキル基又は群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C12アリール基であり、さらにより好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C8アルキル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC3-C8シクロアルキル基又は群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C10アリール基であり、特に好ましくは、群G1より選ばれる置換基好ましくは、C6-C10アリール基、C6-C10アリール基を有するC1-C12アルコキシ基を有していてもよいC1-C6アルキル基、C3-C8シクロアルキル基、群G1より選ばれる置換基好ましくは、ハロゲン原子、C1-C6アルコキシ基、C1-C6フッ化アルキル基を有していてもよいC6-C10アリール基好ましくはフェニル基である。Ar1及びAr2はそれぞれ独立に、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基、C1-C12鎖式炭化水素基、C3-C12脂環式炭化水素基又は水素原子を表す。ここで、フェニル基の置換基の数は好ましくは1乃至3個であり、2個以上である場合、これらの置換基は同一でも異なっていてもよい。Ar1及びAr2は、好ましくは、それぞれ独立に、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基であり、より好ましくは、それぞれ独立に、C1-C12フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基であり、さらに好ましくは、それぞれ独立に、C1-C4フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基であり、さらに一層好ましくは、それぞれ独立に、トリフルオロメチル基を有していてもよいフェニル基であり、さらにより一層好ましくは、共にフェニル基であるか、又は共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基であり、特に好ましくは、共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基である。R5は、水素原子、フッ素原子、水酸基、C1-C12アルコキシ基、C1-C12フッ化アルキルオキシ基又は-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C8アルキル基又はC6-C20アリール基を表す。で示されるシリルオキシ基を表す。R5は、好ましくは、水酸基又は-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8は上記で定義された通りである。で示されるシリルオキシ基であり、より好ましくは、水酸基又は-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C8アルキル基好ましくはメチル基である。で示されるシリルオキシ基であり、さらに好ましくは、-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C8アルキル基好ましくはメチル基である。で示されるシリルオキシ基であり、さらに好ましくは、-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C4アルキル基好ましくはメチル基である。で示されるシリルオキシ基であり、特に好ましくは、トリメチルシリルオキシ基である。Ar1及びAr2とR5の好適な組み合わせは以下のとおりである。Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基であり、かつR5が、-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8は上記で定義された通りである。で示されるシリルオキシ基である態様。Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、C1-C12フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基であり、かつR5が、-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C8アルキル基好ましくはメチル基である。で示されるシリルオキシ基である態様。Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、C1-C4フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基であり、かつR5が、-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C4アルキル基好ましくはメチル基である。で示されるシリルオキシ基である態様。Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、トリフルオロメチル基を有していてもよいフェニル基であり、かつR5が、トリメチルシリルオキシ基である態様。Ar1及びAr2が共にフェニル基であるか、又は共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基であり、かつR5が、トリメチルシリルオキシ基である態様。Ar1及びAr2が共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基であり、かつR5が、トリメチルシリルオキシ基である態様。R2は、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルコキシ基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルキルチオ基、保護されたアミノ基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよい複素環基又は水素原子を表す。R2は、好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基又は群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルコキシ基であり、より好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルキル基又は群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルコキシ基であり、さらに好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C8アルキル基又は群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C8アルコキシ基であり、さらにより好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C4アルキル基又は群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C4アルコキシ基であり、特に好ましくは、C1-C4アルキル基又はC6-C10アリール基を有していてもよいC1-C4アルコキシ基である。RXは、アミノ基の保護基を表す。RXは、好ましくは、置換基好ましくはC1-6アルキル基又はニトロ基を有していてもよいC6-10アリールスルホニル基であり、より好ましくは、C1-6アルキル基又はニトロ基を有していてもよいベンゼンスルホニル基であり、さらにより好ましくは、p-トルエンスルホニル基トシルTs基、o-ニトロベンゼンスルホニル基o-ノシルo-Ns基またはp-ニトロベンゼンスルホニル基p-ノシルp-Ns基であり、特に好ましくは、p-トルエンスルホニル基トシルTs基またはp-ニトロベンゼンスルホニル基p-ノシルp-Ns基である。ArXは、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ArXは、好ましくは、フェニル基である。本発明では、触媒としての光学活性なピロリジン化合物4の存在下、イミン化合物1-1またはその前駆体であるスルホン化合物1-2とアルデヒド化合物2とを反応させる工程マンニッヒ反応工程を含むことにより、光学活性なβ-アミノアルデヒド3を製造する。スルホン化合物1-2は、Synthesis2000,75に記載の方法に従って製造することができる、例えば、RXがトシル基、o-ノシル基またはp-ノシル基等の置換されたC6-10アリールスルホニル基の場合、対応するアルデヒドR1CHOと対応するC6-10アレーンスルホンアミドと対応するスルフィン酸ナトリウムArXSO2Naとを、ギ酸の存在下で反応させることにより製造することができる。イミン化合物1-1は、スルホン化合物1-2から-SO2ArXを脱離させることにより製造することができる。スルホン化合物1-2を使用した場合、-SO2ArXの脱離と共にマンニッヒ反応が進行するので、スルホン化合物1-2の使用は簡便となる。アルデヒド化合物2の使用量は、収率、選択性及び経済性の点から、イミン化合物1-1またはスルホン化合物1-2に対して、好ましくは1~10モル、より好ましくは3~7モルである。触媒である光学活性なピロリジン化合物4において、イミン化合物1-1またはスルホン化合物1-2やアルデヒド化合物2の種類にもよるが、ジアステレオ選択性アルデヒド化合物2中のR2が水素原子以外である場合の点から、式4a:式中、Ar1、Ar2およびは上記で定義された通りであり、TMSは、トリメチルシリル基を表し、は不斉炭素原子を表す。で示されるピロリジン化合物が好ましく、中でも、Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、C1-C4フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基であるピロリジン化合物が好ましく、さらには、Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、トリフルオロメチル基を有していてもよいフェニル基であるピロリジン化合物が好ましく、さらには、Ar1及びAr2が共にフェニル基であるか、あるいは共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基であるピロリジン化合物が好ましく、特に、Ar1及びAr2が共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基であるピロリジン化合物が好ましい。光学活性なピロリジン化合物4の使用量は、収率及び経済性の点から、イミン化合物1-1またはスルホン化合物1-2に対して、好ましくは0.5~30モル、より好ましくは1~20モル、特に好ましくは5~15モルである。本発明におけるマンニッヒ反応は、好ましくは塩基の存在下で行われる。塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、中でも、経済性の点から、炭酸水素ナトリウムが好ましい。塩基の使用量は、収率及び経済性の点から、イミン化合物1-1またはスルホン化合物1-2に対して、好ましくは1~10モル、より好ましくは1~5モルである。本発明におけるマンニッヒ反応は、好ましくは溶媒中で行われる。本発明で使用される溶媒としては、芳香族炭化水素溶媒例、トルエン、ベンゼン、キシレン;アルコール溶媒例、メタノール、エタノール;ハロゲン化炭化水素溶媒例、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素;エーテル溶媒例、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン;ニトリル溶媒例、アセトニトリル;非プロトン性極性溶媒例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド;水;これらの混合溶媒等が挙げられる。中でも、イミン化合物1-1またはスルホン化合物1-2やアルデヒド化合物2の種類にもよるが、エナンチオ選択性及びジアステレオ選択性アルデヒド化合物2中のR2が水素原子以外である場合の点から、エーテル溶媒好ましくはテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、より好ましくは1,4-ジオキサン、ハロゲン化炭化水素溶媒好ましくはジクロロメタン、水、または水とハロゲン化炭化水素溶媒好ましくはジクロロメタンとの混合溶媒が好ましく、収率、エナンチオ選択性及びジアステレオ選択性アルデヒド化合物2中のR2が水素原子以外である場合が特に良好である点から、エーテル溶媒好ましくはテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、より好ましくは1,4-ジオキサン、水、または水とハロゲン化炭化水素溶媒好ましくはジクロロメタンとの混合溶媒がより好ましく、エーテル溶媒好ましくはテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、より好ましくは1,4-ジオキサンまたは水がさらに好ましく、1,4-ジオキサンまたは水が特に好ましい。水を使用する場合、収率の点から、無機塩を含有する水を使用することが好ましい。無機塩としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム等が挙げられ、中でも、経済性の点から、塩化ナトリウムが好ましい。これらは、5重量水溶液~飽和水溶液で使用するのが好ましい。塩化ナトリウムの場合は、飽和水溶液の状態で使用するのが特に好ましい。水とハロゲン化炭化水素溶媒との混合溶媒の場合、水の使用量は、ハロゲン化炭化水素溶媒1mLに対して、好ましくは0.3~5mL、より好ましくは0.5~2mLである。溶媒の使用量は、イミン化合物1-1またはスルホン化合物1-21mmolに対して、好ましくは0.2~50mL、より好ましくは1~10mLである。本発明におけるマンニッヒ反応は、イミン化合物1-1またはスルホン化合物1-2、光学活性なピロリジン化合物4、塩基および溶媒の混合物中に、アルデヒド化合物2を添加する方法;等により行われる。本発明におけるマンニッヒ反応は、イミン化合物1-1またはスルホン化合物1-2やアルデヒド化合物2の種類にもよるが、好ましくは0~100°Cの範囲内、より好ましくは0~40°Cの範囲内で行われる。また、その反応時間は、イミン化合物1-1またはスルホン化合物1-2やアルデヒド化合物2の種類及び反応温度にもよるが、好ましくは1~100時間、より好ましくは10~50時間である。反応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。このようにして得られた反応混合物に含まれる光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3の単離は、反応混合物を常法による後処理例えば、中和、抽出、水洗、蒸留、結晶化等に付すことにより行うことができる。またその精製は光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3を再結晶処理、抽出精製処理、蒸留処理、活性炭、シリカ、アルミナ等の吸着処理、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等のクロマトグラフィー処理に付すことにより行うことができる。光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3は、必ずしも安定ではなく、場合によっては、反応混合物からの単離及び/又は精製の間に異性化する場合がある。従って、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3のジアステレオ比シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率eeの測定は、マンニッヒ反応終了後の単離及び/又は精製を行わず、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3を、反応中かつ単離及び精製中に異性化が生じない化合物に変換した後に行うことが望ましい。本発明では、対応する光学活性なアミドアルコール化合物式5:式中、R1、R2及びRXは上記で定義された通りである。で示される光学活性アミドアルコール化合物に変換する。光学活性なアミドアルコール化合物5は、マンニッヒ反応終了後の光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3を含む反応混合物または未精製の光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3を還元する工程を含むことにより製造される。還元反応は、溶媒中、還元剤を用いて行われる。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムナトリウム等が挙げられ、収率および経済性の点から、水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。還元剤の使用量は、収率及び経済性の点から、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物31モルに対して、好ましくは1~100モル、好ましく5~15モルである。還元反応で使用される溶媒としては、アルコール溶媒例、メタノール、エタノール、2-プロパノール;水;これらの混合溶媒等が挙げられる。中でも、収率及び反応性の点から、アルコール溶媒例、メタノール、エタノールが好ましい。溶媒の使用量は、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物31gに対して、好ましくは1~100mL、より好ましくは5~20mLである。還元反応は、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3を溶媒に溶解した溶液に還元剤を添加する方法;還元剤を分散させた溶媒中に光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3を添加する方法等により行われ、収率および操作性の点から、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3を溶媒に溶解した溶液に還元剤を添加する方法により行なうことが好ましい。還元反応は、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3や還元剤の種類にもよるが、好ましくは-20~100°Cの範囲内、より好ましくは-10~30°Cの範囲内で行われる。また、その反応時間は、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3や還元剤の種類及び反応温度にもよるが、好ましくは10分~10時間、より好ましくは30分~2時間である。反応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。このようにして得られた反応混合物に含まれる光学活性なアミドアルコール化合物5の単離は、反応混合物を常法による後処理例えば、中和、抽出、水洗、蒸留、結晶化等に付すことにより行うことができる。またその精製は光学活性なアミドアルコール化合物5を再結晶処理、抽出精製処理、蒸留処理、活性炭、シリカ、アルミナ等の吸着処理、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等のクロマトグラフィー処理に付すことにより行うことができる。得られた光学活性なアミドアルコール化合物5について、ジアステレオ比シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率が測定される。測定されたジアステレオ比シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率は、光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3のそれに対応する。アルデヒド化合物2中のR2が水素原子以外である場合、本発明におけるマンニッヒ反応工程では、アンチ体の光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3が優先的に得られる。ジアステレオ比シン/アンチ比が例えば50/50以上、また例えば20/80以上のジアステレオ選択性が可能となる。本発明におけるマンニッヒ反応工程では、CがS配置であるピロリジン化合物4a、即ち、式4a-S:式中、Ar1及びAr2は上記で定義された通りであり、TMSは、トリメチルシリル基を表す。で示されるピロリジン化合物を触媒として使用した場合、CがS配置である光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3、即ち、式3R:式中、R1、R2及びRxは上記で定義された通りである。で示される光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物が優先的に得られる。一方、CがR配置であるピロリジン化合物4a、即ち、式4a-R:式中、Ar1及びAr2は上記で定義された通りであり、TMSは、トリメチルシリル基を表す。で示されるピロリジン化合物を触媒として使用した場合、CがR配置である光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物3、即ち、式3S:式中、R1、R2及びRxは上記で定義された通りである。で示される光学活性なβ-アミノアルデヒド化合物が優先的に得られる。このように、本発明におけるマンニッヒ反応工程では、エナンチオマー過剰率が例えば50ee以上、また例えば80ee以上のエナンチオ選択性が可能となる。以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。全反応をアルゴン雰囲気下で行い、Merck60F254プレコートシリカゲルプレート厚さ025mmを用いて、薄層クロマトグラフィーによりモニターした。FT-IRスペクトルは、JASCOFT/IR-410分光計で記録した。1Hおよび13C-NMRスペクトルは、BrukerAM4001H-NMRでは400MHz、13C-NMRでは100MHz装置で記録した。1H-NMRについてのデータは、化学シフトδppm、多重度s=シングレット、d=ダブレット、t=トリプレット、q=カルテット、m=マルチプレット、カップリング定数Hz、積分および割当てとして報告する。13C-NMRについてのデータは、化学シフトとして報告する。高分解能質量スペクトル解析HRMSは、BrukerESI-TOFMSを用いて実行した。全ての液体アルデヒドおよび溶媒は、使用前に蒸留した。分取薄層クロマトグラフィーは、和光純薬工業株式会社日本、東京より購入したWakogelB-5Fを用いて行った。フラッシュクロマトグラフィーは、関東化学株式会社日本、東京のシリカゲル60Nを用いて行った。HPLC解析は、HITACHIEliteLaChromシリーズHPLCにより、UV検出をそれぞれ適切な波長でモニターしながら、CHIRALCELOJ-H046cm×25cm、CHIRALPAKAD-H046cm×25cm、CHIRALCELAS-H046cm×25cm、CHIRALPAKIA046cm×25cm、CHIRALPAKIB046cm×25cmおよびCHIRALPAKIC046cm×25cmを用いて行った。参考例1-1~1-7スルホン化合物の製造アルデヒド5mmol、アレーンスルホンアミド5mmolおよびベンゼンスルフィン酸ナトリウム二水和物5.5mmolのギ酸7.5mLおよびH2O7.5mmol中の混合物を、23°Cで12時間攪拌した。生じた白色沈殿物を濾取し、H2O10mL次いでヘキサン10mLで洗浄し、CH2Cl230mLに溶解し、Na2SO4で乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、残渣にヘキサンを加えた。生じた沈殿物を濾取し、減圧下で乾燥して対応するスルホン化合物を得た。N-3-フェニル-1-フェニルスルホニルプロピル-p-トルエンスルホンアミド参考例1-11HNMRδ19020124024327146154970471772874675576578213CNMRδ215303312731126412681283128612911296129713421358137613961439IRν332129552928144813411299116011451081959813751cm1HRMSMNa計算値C22H23O4S2NNaとして4520961実測値4520969N-3-メチル-1-フェニルスルホニルブチル-p-トルエンスルホンアミド参考例1-21HNMRδ07708514315315919323946656157772075275676578413CNMRδ21021513224037072712671291129512971342135613781437IRν32392952287115961459133012861071906812676cm1HRMSMNa計算値C18H23O4S2NNaとして4040961実測値4040946N-2-メチル-1-フェニルスルホニルプロピル-p-トルエンスルホンアミド参考例1-31HNMRδ08510423926027745354971774876378413CNMRδ16620921527677612661291129312961340137113801436IRν33002967293214701419134213071166113510831055887669cm1HRMSMNa計算値C17H21O4S2NNaとして3900804実測値3900798N-シクロヘキシルフェニルスルホニルメチル-p-トルエンスルホンアミド参考例1-41HNMRδ09010912815317920124044852571774274976278013CNMRδ214254255260271308372777124912631265128912901292129412951338136913791434IRν330129342854144613371304116211461079751676cm1HRMSMNa計算値C20H25O4S2NNaとして4301117実測値4301125N-2-フェニル-1-フェニルスルホニルエチル-p-トルエンスルホンアミド参考例1-51HNMRδ23223036048560669269971071475977080213CNMRδ214336754126112691286129112951296130113411344135513741430IRν325130312921159714977144914271337131411611076732666cm1HRMSMNa計算値C21H21O4S2NNaとして4380804実測値4380784N-2-ベンジルオキシ-1-フェニルスルホニルエチル-p-トルエンスルホンアミド参考例1-61HNMRδ23736540543644146747559671271872773274675676578113CNMRδ215657728735126912781279128312891295129613411362136613731438IRν32893248286314461308116411371081949811666549cm1HRMSMNa計算値C22H23O5S2NNaとして4680910実測値4680917N-シクロヘキシルフェニルスルホニルメチル-p-ニトロベンゼンスルホンアミド参考例1-71HNMRδ09811312113515718119920823345456574676377478082113CNMRδ25526026931137577277712431279129112931343137014621500IRν3276293328581537144513521306117111481079851740cm1HRMSMNa計算値C19H22O6S2N2Naとして4610811実測値4610823実施例1-1~1-8参考例1-1で得られたスルホン化合物0.2mmol、触媒としてのピロリジン化合物12.0mg,0.02mmolおよびNaHCO350.4mg,0.6mmolの表1に示す溶媒0.4mL中の混合物に、プロパナール1.0mmolを10°Cで加えた。反応混合物を表1に示す温度で20時間攪拌実施例1-8のみ48時間後、NaHCO3水を添加して反応を停止した。反応混合物をクロロホルムで抽出し3×10mL、合わせた有機層をNa2SO4で乾燥し、濾過後減圧濃縮した。カラムクロマトグラフィーEtOAc:ヘキサン=1:7で精製して、N-2R,3R-2-メチル-1-オキソ-5-フェニルペンタン-3-イル-p-トルエンスルホンアミドを得た。収率を表1に示す。なお、シン/アンチ比は、NaBH4を用いた還元参考例2で示す方法に順ずるにより、対応するアミドアルコールに変換した後1H-NMRスペクトルにより測定した。また、エナンチオマー過剰率は、NaBH4を用いた還元参考例2で示す方法に順ずるにより、対応するアミドアルコールに変換した後、CHIRALPAKIBカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した1.0mL/min、副エナンチオマーの保持時間=14.9分、主エナンチオマーの保持時間=13.3分。シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率を表1に示す。実施例2-1~2-14参考例1-1~1-7で得られたスルホン化合物または対応するイミン化合物0.2mmol、実施例2-10~2-14で使用、触媒としてのピロリジン化合物12.0mg,0.02mmolおよびNaHCO350.4mg,0.6mmol、実施例2-10では使用せずの飽和食塩水0.4mLまたは1,4-ジオキサン0.4mL中の混合物に、対応するアルデヒド1.0mmolを10°Cで加えた。反応混合物を攪拌後溶媒として、食塩水を使用した場合は20時間攪拌、1,4-ジオキサンを使用した場合は48時間攪拌、NaHCO3水を添加して反応を停止した。反応混合物をクロロホルムで抽出し3×10mL、合わせた有機層をNa2SO4で乾燥し、濾過後減圧濃縮した。カラムクロマトグラフィーEtOAc:ヘキサン=1:7で精製して、対応するβ-アミノアルデヒド化合物を得た。収率を表2に示す。なお、シン/アンチ比は、NaBH4を用いた還元参考例2で示す方法に順ずるにより、対応するアミドアルコールに変換した後1H-NMRスペクトルにより測定した。また、エナンチオマー過剰率は、NaBH4を用いた還元参考例2で示す方法に順ずるにより、対応するアミドアルコールに変換した後、キラルなHPLCにより測定した。シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率を表2に示す。なお、実施例2-8、2-9、2-11~2-14では、マンニッヒ反応終了後の混合物をNaBH4を用いて還元参考例2で示す方法に順ずるして、対応するアミドアルコールに変換した後に単離した。N-2R,3R-2-メチル-1-オキソ-5-フェニルペンタン-3-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-11HNMRδ11015717723225226835536450969671372573095313CNMRδ981215321343499542126112701282128412981381140614362031IRν32793028292917211454132611601092702666cm1HRMSMNa計算値C19H23NNaO3Sとして3681291実測値3681308αD20°C171還元後の対応するアミドアルコールのエナンチオマー過剰率、CHIRALPAKIBカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=149分、主エナンチオマーの保持時間=133分。N-2R,3R-2,5-ジメチル-1-オキソヘキサン-3-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-21HNMRδ06407611011512713014224226936036848273077695713CNMRδ93321521622924541750152312711297138014352032IRν3279295828711719146314271330128111601093816667552cm1HRMSMNa計算値C15H23NNaO3Sとして3201291実測値3201293αD20°C195還元後の対応するアミドアルコールのエナンチオマー過剰率、CHIRALPAKIAカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=105分、主エナンチオマーの保持時間=122分。N-2R,3R-2,4-ジメチル-1-オキソペンタン-3-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-31HNMRδ07607710617318424126633450272877495713CNMRδ11518820221530948761012691296138614332036IRν329029671719132611601092815667549cm1HRMSMNa計算値C14H21NNaO3Sとして3061134実測値3061146αD21°C327還元後の対応するアミドアルコールのエナンチオマー過剰率、CHIRALPAKIAカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=121分、主エナンチオマーの保持時間=225分。N-2R,3R-2,4-ジメチル-1-オキソペンタン-3-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-41HNMRδ06808709511513314715317024126633650772777395513CNMRδ11221525926026129430640648460312691295138614322036IRν32892928285317211448132611601092815667cm1HRMSMNa計算値C17H25NNaO3Sとして3461447実測値3461451αD22°C248還元後の対応するアミドアルコールのエナンチオマー過剰率、CHIRALPAKAD-HカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=137分、主エナンチオマーの保持時間=149分。N-2R,3R-2-メチル-1-オキソ-4-フェニルブタン-3-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-51HNMRδ11824025726827737050369069771472275895713CNMRδ102215386483561126812691287129012961369137414322034IRν3285292517191456132811591092701666550cm1HRMSMNa計算値C18H20NNaO3Sとして3301147実測値3301158αD22°C749還元後の対応するアミドアルコールのエナンチオマー過剰率、CHIRALPAKIAカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=148分、主エナンチオマーの保持時間=165分。N-2R,3S-4-ベンジルオキシ-2-メチル-1-オキソブタン-3-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-61HNMRδ10524127027832733636136843252371872472873777195813CNMRδ106215476542691733127012771280128512971372137714352026IRν327829792927287117231454133211621092826700667cm1HRMSMNa計算値C19H23NNaO4Sとして3841240実測値3841244αD22°C133還元後の対応するアミドアルコールのエナンチオマー過剰率、CHIRALCELOJ-HカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、アンチ異性体:副エナンチオマーの保持時間=497分、主エナンチオマーの保持時間=325分、シン異性体:副エナンチオマーの保持時間=268分、主エナンチオマーの保持時間=407分。N-2R,3R-2-エチル-1-オキソ-5-フェニルペンタン-3-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-71HNMRδ09214215416018123025035236050769671273377395613CNMRδ121189215323350528563126112701282128412971383140614342037IRν328029632933287517181455132811601092816701666cm1HRMSMNa計算値C20H25NNaO3Sとして3821447実測値3821429αD23°C367還元後の対応するアミドアルコールのエナンチオマー過剰率、CHIRALPAKIAカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin副エナンチオマーの保持時間=127分主エナンチオマーの保持時間=265分。N-1R,2R-3-シクロヘキシル-3-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-イル-p-ニトロベンゼンスルホンアミド実施例2-81HNMRδ06908509009512013515315517417618731935138953980483313CNMRδ1582612622853103574056326471241128114781497IRν3526330329292854153014491350130911621092854738cm1HRMSMNa計算値C16H24N2O5SNaとして3791298実測値3791302αD25°C03エナンチオマー過剰率、CHIRALPAKAD-HカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=227分、主エナンチオマーの保持時間=315分。N-1R,2R-2-ベンジルオキシ-1-シクロヘキシル-3-ヒドロキシプロパン-1-イル-p-ニトロベンゼンスルホンアミド実施例2-91HNMRδ08610511612214215815917017117818734335637538143343756271372573079581013CNMRδ2592601260429230739560860971577312381277128012811285137314761494αD25°C375IRν3524329829282854152914521349131011621093854738cm1HRMSMNa計算値C22H28N2O6SNaとして4711560実測値4711550エナンチオマー過剰率、CHIRALPAKICカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=426分、主エナンチオマーの保持時間=348分。N-2R,3S-2-メチル-1-オキソ-3-フェニルプロパン-3-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-101HNMRδ09823228045457469670270570971574796213CNMRδ118214519591126912701277128512921373138014312031IRν3263297429312874271217311457132211581091913703671566cm1エナンチオマー過剰率、CHIRALPAKAS-HカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=154分、主エナンチオマーの保持時間=233分。N-1S,2R-3-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-111HNMRδ07818820022723435539341857769169670871071574813CNMRδ14521440961564912681271127312831292137414011430IRν35093280292516001456115810921030812703669cm1HRMSMNa計算値C17H21NO3SNaとして3421134実測値3421148αD26°C395エナンチオマー過剰率、CHIRALPAKAS-HカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=154分、主エナンチオマーの保持時間=233分。N-1S,2R-3-ヒドロキシ-1-p-メトキシフェニル-2-メチルプロパン-1-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-121HNMRδ07518619223535537439341357066568471074913CNMRδ14521441055261065011371271128012921322137514291588IRν37343522296229321613151414561319124811571034814667cm1HRMSMNa計算値C18H23NO4SNaとして3721240実測値3721239αD27°C535エナンチオマー過剰率、CHIRALPAKAS-HカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=232分、主エナンチオマーの保持時間=526分。N-1S,2R-1-p-ブロモフェニル-3-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-131HNMRδ07518519623724635538341863168671072274713CNMRδ14421440561465112111270128812931313137313911432IRν34883274296429272883159714891456132211581092813661570cm1HRMSMNa計算値C17H20BrNO3SNaとして4200239実測値4200225αD26°C544エナンチオマー過剰率、CHIRALPAKAS-HカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=149分、主エナンチオマーの保持時間=276分。N-1S,2R-3-ヒドロキシ-2-メチル-1-p-トリフルオロメチルフェニルプロパン-1-イル-p-トルエンスルホンアミド実施例2-141HNMRδ08019020122423235738243263270571273574413CNMRδ145212404617652124012501270127612921293137214321439IRν3459317829271619159914551421116110671043814cm1HRMSMNa計算値C18H20F3NO3SNaとして4101008実測値4101001αD26°C333エナンチオマー過剰率、CHIRALPAKAS-HカラムiPrOH:ヘキサン=1:10を備えたHPLCにより測定した10mLmin、副エナンチオマーの保持時間=100分、主エナンチオマーの保持時間=208分。参考例2還元反応N-2R,3R-2,4-ジメチル-1-オキソペンタン-3-イル-p-トルエンスルホンアミド30.0mg,0.1mmolのメタノール0.3mL溶液に、水素化ホウ素ナトリウム37.8mg,1.0mmolを0°Cで加えた。反応混合物を1時間攪拌後、リン酸バッファーpH7を添加して反応を停止した。反応混合物をクロロホルムで抽出し3×10mL、合わせた有機層をNa2SO4で乾燥し、濾過後減圧濃縮した。分取薄層クロマトグラフィーヘキサン:EtOAc=2:1で精製して、N-2R,3R-2,5-ジメチル-1-ヒドロキシヘキサン-3-イル-p-トルエンスルホンアミドを95の収率で得た。1HNMRδ06607708711612913014316517718024233834637749372877613CNMRδ1362152192312433894225466461270129513851431IRν352232822957159914641319115710941031815666553cm1HRMSMNa計算値C15H25NNaO3Sとして3221447実測値3221453αD21°C211"