"下記の工程Aを含む、式1[式中、環Wは置換基を有していてもよいヘテロ環を表す。R1及びR2はそれぞれ独立して水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。R3及びR4はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいチオアルコキシ基又は置換基を有していてもよいチオアリールオキシ基を表す。]で示されるヘミアミナール化合物又はその塩の製造方法:工程A塩基存在下、式2[式中、R1~R4はそれぞれ前記と同じ意味を表す。]で示されるアミド化合物と、式3:Ms1/sH4-mAl-OR5m[式中、R5は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Msは金属イオンを表す。sは金属イオンの価数を表す。mは1、2又は3を表す。]で示される還元剤とを反応させる工程。下記の工程A及び工程Bを含む、式4[式中、環Wは置換基を有していてもよいヘテロ環を表す。R1及びR2はそれぞれ独立して水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。R3及びR4はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいチオアルコキシ基又は置換基を有していてもよいチオアリールオキシ基を表す。]で示されるシアノアミン化合物又はその塩の製造方法:工程A塩基存在下、式2[式中、環W及びR1~R4はそれぞれ上記と同じ意味を表す。]で示されるアミド化合物と、式3:Ms1/sH4-mAl-OR5m[式中、R5は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Msは金属イオンを表す。sは金属イオンの価数を表す。mは1、2又は3を表す。]で示される還元剤とを反応させる工程;及び工程B工程Aで得られた式1[式中、環W及びR1~R4はそれぞれ上記と同じ意味を表す。]で示されるヘミアミナール化合物又はその塩とシアノ化剤とを反応させる工程。工程Aにおける式3で示される還元剤が、式:Ms1/sH4-mAl-[O-CH2n-OR6]m[式中、R6はアルキル基又はシクロアルキル基を表す。nは1、2、3又は4を表す。Ms、s及びmはそれぞれ上記と同じ意味を表す。]で示される化合物である、請求項1又は2記載の製造方法。工程Aにおける式3で示される還元剤が水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムである、請求項1~3のいずれか記載の製造方法。工程Aにおける塩基がアルカリ金属アルコキシドである、請求項1~4のいずれか記載の製造方法。工程Aにおける塩基がN,N’-ジメチルエチレンジアミンである、請求項1~4のいずれか記載の製造方法。工程Bにおけるシアノ化剤がシアン化金属又はシアン化水素である、請求項2記載の製造方法。R1が置換基を有していてもよいフェニル基であり、R2が水素原子、置換基を有していてもよいC1~C10アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基である、請求項1~7のいずれか記載の製造方法。本発明が解決しようとする課題は、式1で示されるヘミアミナール化合物又はその塩並びに式4で示されるシアノアミン化合物又はその塩を優れた収率で製造する方法を提供することにある。本発明者らは、式1で示されるヘミアミナール化合物又はその塩の製造方法並びに式4で示されるシアノアミン化合物又はその塩の製造方法について鋭意検討した結果、本発明に至った。本発明は、以下の通りである。[1]下記の工程Aを含む、式1[式中、環Wは置換基を有していてもよいヘテロ環を表す。R1及びR2はそれぞれ独立して水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。R3及びR4はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいチオアルコキシ基又は置換基を有していてもよいチオアリールオキシ基を表す。]で示されるヘミアミナール化合物又はその塩の製造方法:工程A塩基存在下、式2[式中、環W及びR1~R4はそれぞれ前記と同じ意味を表す。]で示されるアミド化合物と、式3:Ms1/sH4-mAl-OR5m[式中、R5は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Msは金属イオンを表す。sは金属イオンの価数を表す。mは1、2又は3を表す。]で示される還元剤とを反応させる工程。[2]下記の工程A及び工程Bを含む、式4[式中、環Wは置換基を有していてもよいヘテロ環を表す。R1及びR2はそれぞれ独立して水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。R3及びR4はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいチオアルコキシ基又は置換基を有していてもよいチオアリールオキシ基を表す。]で示されるシアノアミン化合物又はその塩の製造方法:工程A塩基存在下、式2[式中、環W及びR1~R4はそれぞれ上記と同じ意味を表す。]で示されるアミド化合物と、式3:Ms1/sH4-mAl-OR5m[式中、R5は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Msは金属イオンを表す。sは金属イオンの価数を表す。mは1、2又は3を表す。]で示される還元剤とを反応させる工程;及び工程B工程Aで得られた式1[式中、環W及びR1~R4はそれぞれ上記と同じ意味を表す。]で示されるヘミアミナール化合物又はその塩とシアノ化剤とを反応させる工程。[3]工程Aにおける式3で示される還元剤が、式:Ms1/sH4-mAl-[O-CH2n-OR6]m[式中、R6はアルキル基又はシクロアルキル基を表す。nは1、2、3又は4を表す。Ms、s及びmはそれぞれ上記と同じ意味を表す。]で示される化合物である、[1]又は[2]記載の製造方法。[4]工程Aにおける式3で示される還元剤が水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムである、[1]~[3]のいずれか記載の製造方法。[5]工程Aにおける塩基がアルカリ金属アルコキシドである、[1]~[4]のいずれか記載の製造方法。[6]工程Aにおける塩基がN,N’-ジメチルエチレンジアミンである、[1]~[4]のいずれか記載の製造方法。[7]工程Bにおけるシアノ化剤がシアン化金属又はシアン化水素である、[2]記載の製造方法。[8]R1が置換基を有していてもよいフェニル基であり、R2が水素原子、置換基を有していてもよいC1~C10アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基である、[1]~[7]のいずれか記載の製造方法。本発明によって、式1で示されるヘミアミナール化合物又はその塩並びに式4で示されるシアノアミン化合物又はその塩を優れた収率で製造する方法が提供される。脂肪族炭化水素基のうち1価のものとしては、例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。脂環式炭化水素基としては、例えばシクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基等が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、例えばアリール基等が挙げられる。複素環基としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる1~3個のヘテロ原子を含む単環若しくは二環式の芳香族又は非芳香族の複素環基等が挙げられる。具体的には、例えば、ピロリル基、チエニル基、フリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、チアジアゾリル基、イソチアゾリル基等の5員芳香族複素環基;ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基等の6員芳香族複素環;ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、オキサゾリジニル基、チアゾリジニル基等の5員非芳香族複素環基;ピペリジル基、テトラヒドロピリジル基、ジヒドロピリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、チオモルホリニル基等の6員非芳香族複素環基;インドリル基、イソインドリル基、ベンゾチオフェニル基、イソベンゾチオフェニル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾフラニル基、インダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イミダゾピリジル基、ベンズチアゾリル基、キノリル基、イソキノリル基等の二環式芳香族複素環基;インドリニル基、イソインドリニル基、チオクロマニル基、クロマニル基等の二環式非芳香族複素環基等が挙げられる。アルキル基としては、例えば直鎖又は分岐鎖のC1~C10アルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、secブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、secブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。アルコキシ基としては、例えば直鎖又は分岐鎖のC1~C10アルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、secブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基等が挙げられる。チオアルコキシ基としては、例えば直鎖又は分岐鎖のC1~C10チオアルコキシ基が挙げられ、具体的にはチオメトキシ基、チオエトキシ基、チオプロポキシ基、チオイソプロポキシ基、チオブトキシ基、secチオブトキシ基、tert-チオブトキシ基、チオペンチルオキシ基、チオヘキシルオキシ基、チオヘプチルオキシ基、チオオクチルオキシ基、チオノニルオキシ基、チオデシルオキシ基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば直鎖又は分岐鎖のC2~C10アルケニル基が挙げられ、具体的にはビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基等が挙げられる。アルキニル基としては、例えば直鎖又は分岐鎖のC2~C10アルキニル基が挙げられ、具体的にはエチニル基、プロパルギル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、ノニル基、デシニル基等が挙げられる。シクロアルキル基としては、例えば、C4~C10シクロアルキル基が挙げられ、具体的にはシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等が挙げられる。シクロアルケニル基としては、例えば、C4~C10シクロアルケニル基が挙げられ、具体的にはシクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロノネニル基、シクロデセニル基等が挙げられる。シクロアルキニル基としては、例えば、C4~C10シクロアルキニル基が挙げられ、具体的にはシクロブチニル基、シクロペンチニル基、シクロヘキシニル基、シクロヘプチニル基、シクロオクチニル基、シクロノニニル基、シクロデシニル基等が挙げられる。シクロアルコキシ基としては、例えば、C4~C10シクロアルコキシ基が挙げられ、具体的にはシクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、シクロノニルオキシ基、シクロデシルオキシ基等が挙げられる。アリール基並びにアリールオキシ基及びチオアリールオキシ基におけるアリール基としては、例えば、C6~C10アリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。環Wにおけるヘテロ環としては、例えば、1~2個の窒素原子、0~2個の酸素原子及び0~1個の硫黄原子を含有する、単環性の5~7員へテロ環、二環性の6~11員ヘテロ環及び三環性の8~15員ヘテロ環が挙げられる。具体的には、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン環、アザビシクロ[3.3.0]オクタン環等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。脂肪族炭化水素基、アルキル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、アルケニル基又はアルキニル基に置換する置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基概アリール基はアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基で置換されていてもよい等が挙げられる。脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、シクロアルコキシ基又は環に置換する置換基としては、例えば、アルキル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基概アリール基はアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基で置換されていてもよい等が挙げられる。アリール基、アリールオキシ基又はチオアリールオキシ基に置換する置換基としては、例えば、アルキル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等が挙げられる。アミノ基に置換する置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基等が挙げられ、独立して1つ又は2つ置換することができる。Msにおける金属イオンとしては、例えば、アルカリ金属リチウム、ナトリウム、カリウム等、アルカリ土類金属マグネシウム、カルシウム等等のイオンが挙げられ、このましくはリチウム、ナトリウム、カリウム等のイオンが挙げられる。R1は、好ましくは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基又は置換基を有していてもよいアリール基であり、より好ましくは、C1~C10アルキル基、C2~C10アルケニル基又は置換基を有していてもよいC6~C10アリール基であり、さらに好ましくは、C1~C6アルキル基、C2~C6アルケニル基又はフェニル基当該フェニル基はハロゲン原子又はアルコキシ基を有していてもよいである。R2は、好ましくは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であり、より好ましくは、水素原子、C1~C10アルキル基又は置換基を有していてもよいC6~C10アリール基であり、さらに好ましくは、水素原子、C1~C6アルキル基又はフェニル基当該フェニル基はハロゲン原子又はアルコキシ基を有していてもよいである。環Wは、好ましくは、単環性の5~7員へテロ環当該へテロ環は置換基を有していてもよい又は二環性の6~11員ヘテロ環当該へテロ環は置換基を有していてもよいである。R3は、好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基又は水素原子であり、より好ましくは、水素原子である。R4は、好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基又は水素原子であり、より好ましくは、水素原子である。本発明の製造方法によって、工程Aを含む工程を経ることで、式1で示されるヘミアミナール化合物又はその塩を優れた収率で製造することができる。また、工程A及び工程Bを含む2工程を経ることで、式4で示されるシアノアミン化合物又はその塩を優れた収率で製造することができる。以下、工程A及び工程Bごとに、詳細に説明をする。工程A[式中、環W及びR1~R4はそれぞれ前記と同じ意味を表す。]工程Aは、塩基存在下、式2で示されるアミド化合物以下、アミド化合物2と記すことがあると、式3:Ms1/sH4-mAl-OR5m[式中、R5、Ms、s及びmはそれぞれ前記と同じ意味を表す。]で示される還元剤以下、還元剤3と記すことがあるとを反応させる工程である。工程Aを行うことによって、式1で示されるヘミアミナール化合物又はその塩以下、ヘミアミナール化合物1と記すことがあるが製造される。アミド化合物2は、市販の化合物であるか、又は市販の化合物から容易に調製することができる。例えば、非特許文献SyntheticCommunications2009vol39p22972303に従って調製することができる。アミド化合物2は上記以外の方法で調製されたものでもよい。また、アミド化合物2は、不斉炭素を有している場合は、その不斉炭素によって光学活性体として、又はラセミ体として存在しうる。光学活性体のアミド化合物2を用いる場合は、工程A及び工程Bを通して、その光学純度は維持される。アミド化合物2としては、以下の式2-1~2-75で示される化合物等及び式2-1~2-75で示される化合物等の光学活性体が例示される。工程Aに用いる還元剤としては、還元剤3が挙げられ、好ましくは、式:Ms1/sH4-mAl-[O-CH2n-OR6]m[式中、R6はアルキル基又はシクロアルキル基を表す。n、Ms、s及びmはそれぞれ前記と同じ意味を表す。]で示される化合物が挙げられ、より好ましくは水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムが挙げられる。ジイソブチルアルミニウムヒドリド等の還元剤を用いて、アミド化合物2を還元すると、ヘミアミナール化合物1の段階で止まらずにさらに還元が進行した過還元体が多量に副生するが、本発明者等は還元剤3を用いると、過還元体の副生を良好に防止できることを見出した。[式中、環W及びR1~R4はそれぞれ前記と同じ意味を表す。]還元剤3の使用量としては、分子内にヒドリドを1つ有する還元剤3[mが3である還元剤3]の場合、アミド化合物21モルに対して例えば0.8~10モル、好ましくは1~5モル、より好ましくは1.2~4モル、より一層好ましくは1.4~3.2モルが挙げられる。分子内にヒドリドを2つ有する還元剤3[mが2である還元剤3]の場合、アミド化合物21モルに対して例えば0.4~5モル、好ましくは0.5~2.5モル、より好ましくは0.6~2モル、より一層好ましくは0.7~1.5モルが挙げられる。分子内にヒドリドを3つ有する還元剤3[mが1である還元剤3]の場合、アミド化合物21モルに対して例えば0.27~3.3モル、好ましくは0.33~1.7モル、より好ましくは0.4~1.1モル、より一層好ましくは0.47~1.1モルが挙げられる。なお、本発明者らは、これらの還元剤が過還元体の副生を抑制するのは、還元剤のルイス酸性が弱められているためと考え、これら還元剤のルイス酸性の影響をさらに弱めるべく、塩基を添加したところ、過還元体が意外にも極端に減少することを見出した。従って、工程Aに用いる塩基としては、例えば、アルキル金属アルコキシドカリウムtert-ブトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、リチウムエトキシド、リチウムメトキシド等、アルカリ土類金属アルコキシドカルシウムメトキシド、マグネシウムメトキシド等、水酸化アルカリ金属水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等、水酸化アルカリ土類金属水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等、炭酸アルカリ金属炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等、炭酸アルカリ土類金属炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等、窒素原子を2つ以上、又は酸素原子を1つ以上有するアミンN,N’-ジメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N,N-ペンタメチルジエチレントリアミン、ビス2-ジメチルアミノエチルエーテル、ビス2-メトキシエチルアミン、1-2-ジメチルアミノエチル-4-メチルピペラジン、ビス2-モルホリノエチルエーテル等が挙げられ、好ましくはアルキル金属アルコキシド、窒素原子を2つ以上有するアミン等が挙げられ、さらに好ましくはカリウムtert-ブトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、N,N’-ジメチルエチレンジアミン等が挙げられる。塩基の使用量としては、アミド化合物21モルに対して0.01~10モル、好ましくは0.1~3モル、より好ましくは0.1~0.5モルが挙げられる。ただし、工程A用いる塩基がアミンである場合、例えば、N,N’-ジメチルエチレンジアミンである場合、塩基の使用量はアミド化合物21モルに対して、1モル以上であることが好ましい。溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素ヘキサン、ヘプタン等、芳香族炭化水素ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等、ハロゲン化炭化水素ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等、エーテルテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル、ジエチルエーテル等、又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。また、少量のアルコールメタノール、エタノール、2-プロパノール等を添加することもできる。好ましい溶媒としては、芳香族炭化水素、エーテル等が挙げられ、さらに好ましくはトルエン、エーテルが挙げられ、特に好ましくはトルエン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチルtert-ブチルエーテル、ジメトキシエタン等が挙げられる。溶媒の使用量としては、例えば、アミド化合物2の重量に対して1倍~50倍の量、好ましくは1.5倍~20倍の量、より好ましくは2倍~10倍の量が挙げられる。反応温度としては、例えば-80°C~60°Cが挙げられ、好ましくは-40°C~40°Cが挙げられ、より好ましくは-20°C~30°Cが挙げられ、より一層好ましくは-10°C~20°Cが挙げられる。反応温度は低いほうが、過還元体の副生が抑えられる。反応時間としては、反応の進行及び副生物の量を確認して適宜選択することができるが、例えば、30分間~40時間、好ましくは1時間~10時間で選択することができる。上記の反応終了後、ヘミアミナール化合物1を含む反応混合物が得られる。得られる反応混合物をその状態のまま、続く工程Bに付すことが好ましいが、反応混合物を後処理に付し、ヘミアミナール化合物1を単離等することもできる。例えば、反応混合物と水とを混合することにより、還元剤を加水分解し、必要に応じて、水と分液可能な有機溶媒を加えて分液することにより、還元剤が加水分解された無機成分を水層に分配し、ヘミアミナール化合物1を有機層に分配することができる。無機成分が析出している場合には、濾過操作により無機成分を除去してもよい。反応混合物と混合する水は中性の水であってもよく、塩基性水溶液であってもよく、酸性水溶液であってもよい。好ましくは、アルカリ金属水酸化物水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等、アルカリ金属炭酸塩炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等、アルカリ金属重炭酸塩炭酸水素ナトリウム、酸水素カリウム等、アルカリ土類水酸化物水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等、アルカリ土類金属炭酸塩炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のような無機塩基の水溶液が使用される。また、反応混合物と、水又は塩基性水溶液とを混合する場合は、さらにキレート剤と混合してもよい。キレート剤としては、例えば、グルコン酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム、酒石酸カリウムナトリウム、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ニトリロ三酢酸等が挙げられる。好ましくはグルコン酸ナトリウム等が挙げられる。これらキレート剤と混合することで、分液性がより一層優れたものになる。酸性水溶液を用いる場合の酸としては例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、リン酸等が挙げられる。これらの水、塩基、酸及びキレート剤の使用量は特に制限されるものではない。還元剤の加水分解により生じた無機物を溶解させるために必要な量を使用することもできるし、還元剤の加水分解に必要なだけの量を使用し、生じた無機成分を濾過操作により除去してもよい。上述した水と分液可能な有機溶媒としては例えば、脂肪族炭化水素ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等、芳香族炭化水素ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等、エーテルメチルtert-ブチルエーテル等、ハロゲン化炭化水素ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロブタン等、ケトンメチルイソブチルケトン等、エステル酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。分液により得られた有機層は、さらに水洗浄、塩基性水溶液洗浄又は酸性水溶液洗浄等に付してもよい。水洗浄、塩基性水溶液洗浄又は酸性水溶液洗浄等は繰り返し行ってもよい。また、水洗浄に用いる水に無機塩等を溶解しておいてもよい。得られたヘミアミナール化合物1を含む有機層を、濃縮、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー精製等に付し、ヘミアミナール化合物1を単離精製することもできる。再結晶において、塩化水素、臭化水素、リン酸、硫酸、硝酸、ホウ酸などの無機酸、又は酢酸、クエン酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸を用いることで、ヘミアミナール化合物1を酸付加塩として取り出すこともできる。ヘミアミナール化合物1としては、以下の式1-1~1-75で示される化合物等及び式1-1~1-75で示される化合物等の光学活性体、並びにこれらの酸付加塩が例示される。工程B[式中、環W及びR1~R4はそれぞれ前記と同じ意味を表す。]工程Bは、工程Aで得られたヘミアミナール化合物1とシアノ化剤とを反応させる工程である。工程Bを行うことによって、式4で示されるシアノアミン化合物又はその塩以下、シアノアミン化合物4と記すことがあるが製造される。工程Bは、工程Aで得られた反応混合物をそのまま工程Bに付すことにより行うことが好ましいが、工程Aで単離したヘミアミナール化合物1を用いることもできる。工程Aで得られた反応混合物をそのまま工程Bに付す場合は、工程Aで得られた反応混合物とシアノ化剤とを混合しながら、さらに水、酸又はアルコールと混合してもよい。水、酸又はアルコールは、それぞれを混合して使用することもでき、さらに上述したキレート剤と混合して使用することもできる。反応混合物と混合する水は中性の水であってもよく、塩基性水溶液であってもよく、酸性水溶液であってもよい。塩基性水溶液としては、例えばアルカリ金属水酸化物水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等、アルカリ金属炭酸塩炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等、アルカリ金属重炭酸塩炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等、アルカリ土類金属水酸化物水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等、アルカリ土類金属炭酸塩炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のような無機塩基の水溶液が使用される。酸性水溶液を用いる場合の酸としては、例えば、無機酸塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸等、有機酸酢酸、クエン酸、p-トルエンスルホン酸等等が挙げられる。好ましくは、塩酸又は酢酸等が挙げられる。また、混合するアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-メチル-2-プロパノール等が挙げられる。好ましくは、メタノール等が挙げられる。これらの水、アルコール、酸及びキレート剤の使用量は特に制限されるものではない。シアノ化剤としては、シアン化金属シアン化ナトリウム、シアン化カリウム等のシアン化アルカリ金属、シアン化カルシウム、シアン化マグネシウム等のシアン化アルカリ土類金属等、シアン化水素、シアン化トリメチルシリル等が挙げられ、好ましくはシアン化ナトリウム、シアン化カリウム等が挙げられる。これらのシアノ化剤は水又は有機溶媒に溶解された溶液状態のものを使用してもよい。シアノ化剤の使用量としては、ヘミアミナール化合物1の理論量1モルに対して、0.8~30モル、好ましくは1~5モル、より好ましくは1.2~3モルが挙げられる。酸を添加することも好ましい。添加する酸としては、無機酸塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸等、有機酸酢酸、クエン酸、p-トルエンスルホン酸等等が挙げられ、好ましくは有機酸が挙げられ、より好ましくは酢酸等が挙げられる。酸の使用量としては、ヘミアミナール化合物1の理論量1モルに対して、0.01~30モル、好ましくは0.1~10モル、より好ましくは0.2~5モルが挙げられる。溶媒としては、工程Aで用いる溶媒がそのまま使用でき、その使用量も、工程Aの使用量が好適に用いられる。反応温度としては、例えば-80°C~100°Cが挙げられ、好ましくは-20°C~30°Cが挙げられ、より好ましくは0°C~10°Cが挙げられ、より一層好ましくは0°C~5°Cが挙げられる。反応時間としては、反応の進行及び副生物の量を確認して適宜選択することができるが、例えば、30分間~40時間、好ましくは1時間~20時間で選択することができる。ヘミアミナール化合物1とシアノ化剤との反応終了後、シアノアミン化合物4を含む反応混合物が得られる。この反応混合物は、常法に従って後処理に付すことができる。例えば、必要に応じて、水或いは、水及び水と分液可能な有機溶媒を加えて分液することにより、過剰のシアノ化剤を水層に分配させることができる。また、シアノアミン化合物4を有機層に分配させることができる。さらに、後処理時のpHがアルカリ性である方が、シアノ化剤、還元剤及びこれらが加水分解された無機成分を効率的に水層に分配することができることから、上記後処理時に反応混合物と水とを混合させた後、塩基を加えてアルカリ性にするか、あるいは、反応混合物と混合する水として塩基性水溶液を使用することが好ましい。後処理操作におけるpHの範囲は例えば8~14の範囲であり、好ましくは11~13の範囲である。後処理における塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩のような無機塩基が使用される。上述した水と分液可能な有機溶媒としては例えば、脂肪族炭化水素ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等、芳香族炭化水素トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等、エーテルメチルtert-ブチルエーテル等、ハロゲン化炭化水素ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロブタン等、ケトンメチルイソブチルケトン等、エステル酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。得られた有機層はさらに水洗浄、塩基性水溶液若しくは酸性水溶液による洗浄等に付してもよい。水洗浄、塩基性水溶液若しくは酸性水溶液による洗浄等は繰り返し行ってもよい。また、水洗浄に用いる水に無機塩等を溶解しておいてもよい。余剰のシアノ化剤を分解するため、次亜塩素酸ナトリウム又は過酸化水素等を用いて後処理を行ってもよい。得られたシアノアミン化合物4を含む有機層を、濃縮、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー精製等に付すことにより、シアノアミン化合物4を単離精製することもできる。再結晶においては、塩化水素、臭化水素、リン酸、硫酸、硝酸、ホウ酸等の無機酸、又は酢酸、クエン酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸を用いることで、シアノアミン化合物4を酸付加塩として取り出すこともできる。シアノアミン化合物4としては、以下の式4-1~4-75で示される化合物等及び式4-1~4-75で示される化合物等の光学活性体、並びにこれらの酸付加塩が例示される。工程Bで得られたシアノアミン化合物4は、例えば米国特許第4691022号明細書に記載される方法に準じて、アミノ酸化合物又はその塩に誘導することもできる。以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。実施例1工程A:1R,5S-3-ベンジル-6,6-ジメチル-3-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-オール化合物A1の合成1R,5S-3-ベンジル-6,6-ジメチル-3-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-オン化合物E64.6g300mmol、カリウムtert-ブトキシド670g59.7mmol及びトルエン129gを混合して、-11°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、240mmol69.3gを1時間20分かけて-10°Cで滴下し、同温度で2時間20分撹拌した。その後、該反応混合液を2水酸化ナトリウム水溶液195gとグルコン酸ナトリウム9.8gの混合液に、10°Cで20分間かけて滴下した。その後、静置、分液し、得られた有機層を2水酸化ナトリウム水溶液130gで2回、2水酸化ナトリウム水溶液66gで1回、5塩化ナトリウム水溶液66gで1回洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウム11gで乾燥後、濾過し、得られた濾液を減圧条件下に濃縮して溶媒を留去後、化合物A161.2g282mmol:収率93.9を含む白色結晶62.4gを得た。1H-NMRCDCl3δ:7.33~7.265H,m,4.181H,s,3.871H,d,J=14Hz,3.751H,d,J=14Hz,3.101H,dd,J=9Hz4Hz,2.621H,d,J=9Hz,1.35~1.282H,m,1.083H,s,0.963H,sHPLCを用いて下記条件で定量分析した。[HPLC条件]カラム:CAPCELLPACC18MGIII、4.6mmφ×100mm,3μm資生堂製流速:1.35ml/min検出波長:UV220nm移動相:A液0.1リン酸/B液アセトニトリルグラジエント条件:時間分045A液9530B液570カラム温度:35°C実施例2工程A:化合物A1の合成化合物E10.0g46.4mmol、ナトリウムメトキシド0.50g9.25mmol及びトルエン20gを混合して、10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、30.2mmol8.72gを2時間かけて10°Cで滴下し、同温度で3時間撹拌した。この反応混合液をHPLCで分析した1。原料から生成物への転化率2:99.8化合物A1と1R,5S-3-ベンジル-6,6-ジメチル-3-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン過還元体との比:100.00.0化合物A1のHPLC面積百分率:98.91HPLC条件は実施例1のHPLC条件と同じである。2転化率:化合物A1過還元体/化合物A1過還元体原料×100転化率は他の実施例でも同様に計算される。実施例3工程A:化合物A1の合成化合物E1.00g4.64mmol、カリウムtert-ブトキシド0.10g0.89mmol及びテトラヒドロフラン2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、4.74mmol1.37gを20分間かけて-10°Cで滴下して、同温度で25時間撹拌した。反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:98.3化合物A1と過還元体との比:99.4/0.6化合物A1のGC面積百分率:96.6[GC条件]カラム:DB-1701,0.25mmφ×30m,0.25μmJWScientific社製検出方法:FID流速:1ml/minヘリウムカラム温度:時間分0104655温度°C100100280280インジェクター温度:150°C検出器温度:280°C実施例4工程A:化合物A1の合成化合物E1.00g4.64mmol、カリウムtert-ブトキシド100mg0.89mmol及びメチルtertブチルエーテル2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、3.77mmol1.09gを20分間かけて-10°Cで滴下し、同温度で22時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:99.2化合物A1と過還元体との比:99.80.2化合物A1のGC面積百分率:97.7GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例5工程A:化合物A1の合成化合物E1.00g4.64mmol、カリウムtert-ブトキシド0.10g0.89mmol及びテトラヒドロフラン2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、3.77mmol1.09gを20分間かけて-10°Cで滴下し、同温度で1時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から化合物A1への転化率:98.7化合物A1と過還元体との比:99.6/0.4化合物A1のGC面積百分率:97.1GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例6工程A:化合物A1の合成化合物E1.50g6.97mmol、カリウムtert-ブトキシド0.16g1.40mmol及びテトラヒドロフラン3.0gを混合して、20°Cに加熱した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、5.68mmol1.64gを20分間かけて20°Cで滴下して、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:98.1化合物A1と過還元体との比:99.7/0.3化合物A1のGC面積百分率:96.1GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例7工程A:化合物A1の合成化合物E1.50g6.97mmol、カリウムtert-ブトキシド0.16g1.40mmol及びテトラヒドロフラン3.0gを混合して、40°Cに加熱した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、5.68mmol1.64gを20分間かけて40°Cで滴下して、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:98.2化合物A1と過還元体との比:99.0/1.0化合物A1のGC面積百分率:88.8GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例8工程A:化合物A1の合成化合物E1.50g6.97mmol、ナトリウムメトキシド38mg0.70mmol及びテトラヒドロフラン3.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、5.68mmol1.64gを20分間かけて-10°Cで滴下し、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をHPLCで分析した。原料から生成物への転化率:99.9化合物A1と過還元体との比:97.82.2化合物A1のHPLC面積百分率:96.7HPLC条件は実施例1のHPLC条件と同じである。実施例9工程A:化合物A1の合成化合物E1.50g6.97mmol、ナトリウムメトキシド75mg1.39mmol及びテトラヒドロフラン3.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、5.68mmol1.64gを20分間かけて-10°Cで滴下し、同温度で1時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から化合物A1への転化率:98.4化合物A1と過還元体との比:99.2/0.8化合物A1のGC面積百分率:92.7GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例10工程A:化合物A1の合成化合物E1.50g6.97mmol、ナトリウムメトキシド151mg2.79mmol及びテトラヒドロフラン3.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、5.67mmol1.64gを20分間かけて-10°Cで滴下し、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をHPLCで分析した。原料から生成物への転化率:100.0化合物A1と過還元体との比:99.70.3化合物A1のHPLC面積百分率:98.5HPLC条件は実施例1のHPLC条件と同じである。実施例11工程A:化合物A1の合成化合物E1.50g6.97mmol、ナトリウムエトキシド95mg1.40mmol及びテトラヒドロフラン3.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、5.68mmol1.64gを20分間かけて-10°Cで滴下し、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をHPLCで分析した。原料から生成物への転化率:99.8化合物A1と過還元体との比:99.70.3化合物A1のHPLC面積百分率:98.1HPLC条件は実施例1のHPLC条件と同じである。実施例12工程A:化合物A1の合成化合物E0.43g含量99.3、1.86mmol、N,N’-ジメチルエチレンジアミン0.17g1.93mmol及びテトラヒドロフラン3.7gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、298mmol0.86gを20分間かけて-10°Cで滴下し、同温度で22時間撹拌した。その後、水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、2.04mmol0.59gを-10°Cで滴下し、同温度で3時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から化合物A1への転化率:95.3化合物A1と過還元体との比:100/0化合物A1のGC面積百分率:95.3GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例13工程A:化合物A1の合成化合物E1.05g含量95.6、4.64mmol、N,N-ジメチルエチレンジアミン0.20g2.27mmol及びジエチレングリコールジメチルエーテル2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、7.58mmol2.19gを20分かけて-10°Cで滴下し、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:87.9化合物A1と過還元体との比:100.00.0化合物A1のGC面積百分率:87.8GCを用いて下記条件で定量した。GC条件カラム:DB-1,0.25mmφ×30m,0.25μmJWScientific社製検出方法:FID流速:1ml/minヘリウムカラム温度:時間分0104655温度°C100100280280インジェクター温度:150°C検出器温度:280°C実施例14工程A:化合物A1の合成化合物E1.05g含量95.6、4.64mmol、N,N-ジメチルエチレンジアミン61mg0.69mmol及びジエチレングリコールジメチルエーテル2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、7.58mmol2.19gを20分かけて-10°Cで滴下し、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:97.5化合物A1と過還元体との比:96.23.8化合物A1のGC面積百分率:93.8GC条件は実施例13のGC条件と同じである。実施例15工程A:化合物A1の合成化合物E1.00g4.64mmol、N,N,N’,N,N-ペンタメチルジエチレントリアミン0.40g2.32mmol及びテトラヒドロフラン2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。その後、水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、7.58mmol2.19gを20分かけて-10°Cで滴下し、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:98.3化合物A1と過還元体との比:80/20化合物A1のGC面積百分率:78.3GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例16工程A:化合物A1の合成化合物E1.00g4.64mmol、1-2-ジメチルアミノエチル-4-メチルピペラジン0.40g2.34mmol及びテトラヒドロフラン2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、7.58mmol2.19gを20分間かけて-10°Cで滴下し、同温度で25時間撹拌した。その後、この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:98.1化合物A1と過還元体との比:82/18化合物A1のGC面積百分率:79.6GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例17工程A:化合物A1の合成化合物E1.00g4.64mmol、ビス2-ジメチルアミノエチルエーテル0.37g2.31mmol及びテトラヒドロフラン2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、7.58mmol2.19gを20分間かけて-10°Cで滴下し、滴下終了後に同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:97.9化合物A1と過還元体との比:85/15化合物A1のGC面積百分率:83.2GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例18工程A:化合物A1の合成化合物E1.00g4.64mmol、ビス2-モルホリノエチルエーテル0.56g2.29mmol及びテトラヒドロフラン2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、7.58mmol2.19gを20分間かけて-10°Cで滴下し、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:97.8化合物A1と過還元体との比:81/19化合物A1のGC面積百分率:77.1GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例19工程A:化合物A1の合成化合物E1.00g4.64mmol、ビス2-メトキシエチルアミン0.31g2.32mmol及びテトラヒドロフラン2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、7.58mmol2.19gを20分間かけて-10°Cで滴下して、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:97.9化合物A1と過還元体との比:94/6化合物A1のGC面積百分率:89.0GC条件は実施例3のGC条件と同じである。実施例20工程A:1-ベンジルアゼパン-2-オール化合物A2の合成1-ベンジルアゼパン-2-オン8.02g含量99.8、39.35mmol、ナトリウムメトキシド0.43g7.96mmol及びテトラヒドロフラン24gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、31.48mmol9.09gを1時間かけて-8~-5°Cの間で滴下した。その後、-10°Cで3時間撹拌し、水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、0.52mmol0.15gを加え、同温で17時間攪拌した。この反応混合液をHPLCで分析した。なお、化合物A2の構造はLCMSで確認した。MS,mz:206MH,188MH2O原料から生成物への転化率:100.0化合物A2と1-ベンジル-アゼパン過還元体との比:100.00.0化合物A2のHPLC面積百分率:95.0HPLC条件は実施例1のHPLC条件と同じである。実施例21工程AB:1R,2S,5S-3-ベンジル-6,6-ジメチル-3-アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン-2-カルボニトリル化合物B1の合成化合物E20.0g92.9mmol、ナトリウムメトキシド1.00g18.5mmol及びテトラヒドロフラン40.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、74.3mmol21.46gを2時間かけて-10°Cで滴下し、同温度で21時間撹拌した。その後、該反応混合液をグルコン酸ナトリウム6.35g29.1mmolとシアン化ナトリウム5.46g111.4mmolと水40gの混合液に30分間かけて5°Cで滴下した。この反応混合液に酢酸1.67g27.8mmolを5°Cで滴下し、同温で12時間攪拌した後、トルエン10gを加え攪拌後、静置、分液した。得られた有機層を水酸化ナトリウム水溶液89g2.0重量濃度で4回洗浄後、更に食塩水42g4.8重量濃度で洗浄した。得られた有機層を減圧条件下に溶媒を留去後、化合物B121.2g93.5mmol、収率100を含む溶液を27.0g得た。1H-NMRCDCl3δ:7.33-7.235H,m,3.83-3.703H,m,2.981H,d,J=10Hz2.821H,dd,J=5Hz,10Hz,1.471H,d,J=8Hz,1.371H,dd,J=4Hz,7Hz,1.293H,s,0.993H,sHPLCを用いて下記条件で定量した。[HPLC条件]カラム:ZORBAXCN,4.6mmφ×250mm,5μmアジレント製流速:1.00ml/min検出波長:UV220nm移動相:A液ヘキサン/B液テトラヒドロフラングラジエント条件:時間分0530A液959575B液5525カラム温度:25°C実施例22工程AB:化合物B1の合成化合物E1000g464.5mmol、ナトリウムメトキシド5.02g92.9mmol及びテトラヒドロフラン200gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、371.6mmol107.32gを3時間かけて-10°Cで滴下し、同温度で21時間撹拌した1。その後、該反応混合液をグルコン酸ナトリウム31.8g、シアン化ナトリウム27.3g及び水200gの混合液に4~8°Cの間を保ちながら滴下し、同温で21時間攪拌した。得られた反応混合液を同温で、静置、分液した。得られた有機層にトルエン50gを加えた後、水酸化ナトリウム水溶液446g2.0重量濃度で4回洗浄後、更に塩化ナトリウム水溶液210g4.8重量濃度で洗浄した。得られた有機層を減圧条件下に溶媒を留去後、化合物B1102.8g収率97.72を含む溶液を得た。原料から生成物への転化率:99.7化合物A1と過還元体との比:99.40.61HPLC条件は実施例1のHPLC条件にて、以下の転化率および化合物A1と過還元体との比を算出した。2HPLC条件は実施例21のHPLC条件と同じである。実施例23工程AB:化合物B1の合成化合物E10.0g4645mmol、ナトリウムメトキシド0.50g9.29mmol及びテトラヒドロフラン20gを混合して、20°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、37.15mmol10.73gを2時間かけて20°Cで滴下し、同温度で1時間撹拌した1。その後、該反応混合液をグルコン酸ナトリウム1.52g、シアン化ナトリウム2.73g及び水20gの混合液に4~7°Cの間を保ちながら滴下し、同温で15時間攪拌した。得られた反応混合液に次亜塩素酸ナトリウム水14.4g12重量濃度を同温で滴下し、トルエン10gを加えた。その後、攪拌し、静置、分液した。得られた有機層を塩化ナトリウム水溶液20g10重量濃度にて、同温で1回洗浄後、更に水20gで2回洗浄した。得られた有機層を減圧条件下に溶媒を留去後、化合物B110.3g収率97.62を含む溶液を得た。原料から生成物への転化率:99.8化合物A1と過還元体との比:99.30.71HPLC条件は実施例1のHPLC条件にて以下の転化率および化合物A1と過還元体との比を算出した。2HPLC条件は実施例21のHPLC条件と同じである。実施例24工程AB:化合物B1の合成化合物E10.0g4645mmol、ナトリウムメトキシド0.50g9.29mmol及びトルエン20gを混合して、10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、37.15mmol10.73gを2時間かけて10°Cで滴下し、同温度で16時間撹拌した1。その後、該反応混合液をグルコン酸ナトリウム1.52g、シアン化ナトリウム2.73g、酢酸1.39g、及び水20gの混合液に4~8°Cの間を保ちながら滴下し、同温で24時間攪拌した。得られた反応混合液に次亜塩素酸ナトリウム水14.4g12重量濃度を同温で滴下し、トルエン10gを加えた。その後、攪拌し、静置、分液した。得られた有機層を塩化ナトリウム水溶液20g10重量濃度にて、同温で1回洗浄し、更に水20gで2回洗浄した。得られた有機層を減圧条件下に溶媒を留去後、化合物B19.90g収率94.32を含む溶液を得た。原料から生成物への転化率:99.8化合物A1と過還元体との比:99.20.81HPLC条件は実施例1のHPLC条件にて以下の転化率および化合物A1と過還元体との比を算出した。2HPLC条件は実施例21のHPLC条件と同じである。実施例25工程AB:化合物B1の合成化合物E10.0g4645mmol、ナトリウムメトキシド0.50g9.29mmol及びトルエン20gを混合して、10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、37.15mmol10.73gを2時間かけて10°Cで滴下し、同温度で2時間撹拌した1。その後、該反応混合液をグルコン酸ナトリウム1.52g、シアン化ナトリウム2.73g、イソプロピルアルコール5.0g、及び水20gの混合液に5~7°Cの間を保ちながら滴下し、同温で18時間攪拌した。得られた反応混合液に次亜塩素酸ナトリウム水14.4g12重量濃度を同温で滴下し、更にトルエン10gを加え攪拌した。その後、亜硫酸ナトリウム水溶液14.6g10重量濃度を同温で滴下し、攪拌後、静置、分液した。得られた有機層を塩化ナトリウム水溶液20g10重量濃度にて、同温で1回洗浄し、更に水20gで2回洗浄した。得られた有機層を減圧条件下に溶媒を留去後、化合物B110.00g収率96.02を含む溶液を得た。原料から生成物への転化率:99.8化合物A1と過還元体との比:99.30.71HPLC条件は実施例1のHPLC条件にて以下の転化率および化合物A1と過還元体との比を算出した。2HPLC条件は実施例21のHPLC条件と同じである。実施例26工程AB:化合物B1の合成化合物E14.0g65.0mmol、カリウムtert-ブトキシド1.46g13.0mmol及びテトラヒドロフラン28.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、52.0mmol15.0gを2時間かけて-10°Cで滴下し、同温度で20時間撹拌した。その後、該反応混合液を酢酸のメタノール溶液2.42g48.3重量濃度に滴下した。この反応液にシアン化ナトリウム水溶液17.8g21.5重量濃度、78.2mmolを35分間かけて5°Cで滴下し、同温で11時間攪拌した。その後、更に酢酸0.78gを5分間かけて5°Cで滴下し、同温で15時間攪拌した。その後、同温で、シアン化ナトリウム0.326.52mmolを加え、3時間攪拌し、更に同温でシアン化ナトリウム0.64g13.1mmolを加え、3時間攪拌した。得られた反応混合液をグルコン酸ナトリウム4.44gと水酸化ナトリウム水溶液49.0g2.85重量濃度の混合液に10°Cで滴下し、同温で攪拌後、静置、分液した。得られた有機層を水酸化ナトリウム水溶液62.5g2.0重量濃度で3回洗浄後、更に食塩水29.4g4.8重量濃度で洗浄した。得られた有機層を減圧条件下に溶媒を留去後、化合物B113.44g59.4mmol、収率91を含む溶液17.8gを得た。GC条件は実施例13のGC条件と同じである。実施例27工程AB:1-ベンジルピロリジン-2-カルボニトリル化合物B2の合成1-ベンジルピロリジン-2-オン8.00g45.7mmol、ナトリウムメトキシド0.49g9.07mmol及びテトラヒドロフラン16.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、36.5mmol10.55gを3時間かけて-10°Cから-5°Cの間で滴下し、-10°Cで19時間撹拌した1。その後、該反応混合液に酢酸0.82gとメタノール0.88gの混合液を、-10°Cで5分かけて滴下した。シアン化ナトリウム水溶液25重量濃度、54.9mmol10.69gを30分かけて-10°C~-2°Cの間で滴下し、8°Cに昇温後、同温で、2時間撹拌し、シアン化ナトリウム4.48g91.4mmolを加え、2時間攪拌した。更に、酢酸0.54gを加え、1.5時間攪拌した。その後、該反応混合液にグルコン酸ナトリウム水溶液12重量濃度27.1gを30分かけて8~12°Cの間で滴下し、トルエン50gを加え、攪拌後、静置、分液した。得られた有機層を水酸化ナトリウム水溶液2重量濃度35gで1回、塩化ナトリウム水溶液5重量濃度35gで4回洗浄した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、化合物B27.50g40.29mmol:収率88.32を含む濾液を83.95gを得た。化合物B2と1-ベンジルピロリジン過還元体との比:100/01H-NMRCDCl3δ:7.37-7.265H,m,3.921H,d,J=13Hz,3.71-3.691H,m,3.671H,d,J=13Hz,2.97-2.911H,m,2.581H,dd,J=9Hz,17Hz,2.20-2.072H,m,1.90-1.862H,m1この反応混合液を実施例13と同じGC条件で分析したところ、1-ベンジルピロリジン過還元体は生成していなかった。2GC条件は実施例13のGC条件と同じである。実施例28工程AB:1-ベンジルピペリジン-2-カルボニトリル化合物B3の合成1-ベンジルピぺリジン-2-オン8.00g42.27mmol、ナトリウムメトキシド0.46g8.52mmol及びテトラヒドロフラン16.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、33.83mmol9.77gを3時間かけて-10°Cから-6°Cの間で滴下し、-10°Cで1.5時間撹拌した1。その後、該反応混合液に酢酸0.76gとメタノール0.81gの混合液を、-10°C~-6°Cの間で5分かけて滴下した。シアン化ナトリウム水溶液23.7重量濃度、50.8mmol10.5gを5分かけて-1°C~6°Cの間で滴下し、1°Cで0.6時間撹拌した後、シアン化ナトリウム水溶液24重量濃度、76.31mmol15.74gを加え、同温で1時間攪拌した。その後、該反応混合液にグルコン酸ナトリウム水溶液11重量濃度26.9gを5~10°Cの間で加えた後、トルエン24gを加え、攪拌後、静置、分液した。得られた有機層を水酸化ナトリウム水溶液2重量濃度36gで2回、塩化ナトリウム水溶液5重量濃度36gで1回、塩化ナトリウム水溶液5重量濃度17gで2回洗浄し、化合物B37.74g38.63mmol:収率91.42を含む有機層を41.2gを得た。化合物B3と1-ベンジルピぺリジン過還元体との比:100/01H-NMRCDCl3δ:7.35-7.255H,m,3.74-3.721H,m,3.691H,d,J=13Hz,3.531Hd,J=13Hz,2.81-2.731H,m,2.46-2.401H,m,1.88-1.546H,m1この反応混合液を実施例13と同じGC分析条件で分析したところ、1-ベンジルピぺリジン過還元体は生成していなかった。2HPLC条件は実施例21のHPLC条件と同じである。実施例29工程AB:1-エチルピロリジン-2-カルボニトリル化合物B4の合成1-エチルピロリジン-2-オン10.00g88.37mmol、ナトリウムメトキシド0.95g17.59mmol及びテトラヒドロフラン20.0gを混合して、-9°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、70.71mmol20.42gを3時間かけて-10°Cから-8°Cの間で滴下した。その後、テトラヒドロフランを20g加え、-10°Cで2時間撹拌した。その後、該反応混合液に酢酸1.59gとメタノール1.70gの混合液を、-10°C~-1°Cの間で5分かけて滴下した。シアン化ナトリウム水溶液34重量濃度、106.1mmol15.2gを5分かけて0°C~7°Cの間で滴下し、5°Cで1時間攪拌した。更に、シアン化ナトリウム水溶液34重量濃度、159.2mmol22.8gを加え、5°Cで1時間攪拌した。その後、該反応混合液にグルコン酸ナトリウム水溶液17重量濃度36gを5~13°Cの間で加えた後、トルエン30gを加え、攪拌後、静置、分液した。得られた有機層を水酸化ナトリウム水溶液2重量濃度40gで1回、水酸化ナトリウム水溶液20重量濃度40gで1回、塩化ナトリウム水溶液5重量濃度40gで1回、塩化ナトリウム水溶液5重量濃度21gで1回洗浄し、化合物B47.73g62.30mmol:収率70.5を含む有機層を87.25gを得た。1H-NMRCDCl3δ:3.801H,dd,J=3Hz,8Hz,2.94-2.881H,m,2.79-2.731H,m,2.65-2.512H,m,2.21-2.112H,m,1.97-1.872H,m,1.153H,t,J=8HzHPLC条件は実施例21のHPLC条件と同じである。実施例30工程AB:1-プロプ-2-エン-1-イルピロリジン-2-カルボニトリル化合物B5の合成1-プロプ-2-エン-1-イルピロリジン-2-オン7.62g含量98.4、59.98mmol、ナトリウムメトキシド0.65g12.03mmol及びテトラヒドロフラン15.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、47.93mmol13.84gを3時間かけて-10°Cから-9°Cの間で滴下した。その後、-10°Cで1.5時間撹拌した1。該反応混合液に酢酸1.08gとメタノール1.15gの混合液を、-11°C~4°Cの間で8分かけて滴下した。そしてシアン化ナトリウム水溶液25重量濃度、179.8mmol35.24gを20分かけて-2°C~7°Cの間で滴下し、5°Cで1時間20分撹拌した後、酢酸0.72gを加えた。その後、該反応混合液にグルコン酸ナトリウム水溶液15重量濃度27gを6~12°Cで10分かけて滴下した後、トルエン23gを加え、攪拌後、静置、分液した。得られた有機層を水酸化ナトリウム水溶液2重量濃度30gで1回、水酸化ナトリウム水溶液10重量濃度40gで1回、塩化ナトリウム水溶液5重量濃度30gで1回、塩化ナトリウム水溶液5重量濃度15gで1回洗浄し、化合物B57.30g53.60mmol:収率89.42を含む有機層を42.57g得た。化合物B5と1-プロプ-2-エン-1-イルピロリジン過還元体との比:100/01H-NMRCDCl3δ:5.96-5.771H,m,5.321H,dd,J=1Hz,17Hz,5.20-5.161H,m,3.801H,dd,J=3Hz,7Hz,3.40-3.341H,m,3.191H,dd,J=7Hz,13Hz,2.95-2.891H,m,2.551H,ddd,J=10Hz,10Hz,10Hz,2.24-2.092H,m,2.04-1.832H,m1この反応混合液を下記記載のGC条件で分析したが、1-プロプ-2-エン-1-イルピロリジン過還元体は生成していなかった。[GC条件]カラム:DB-1,0.25mmφ×30m,0.25μmJWScientific社製検出方法:FID流速:1ml/minヘリウムカラム温度:時間分0105665温度°C5050280280インジェクター温度:150°C検出器温度:280°C2GC条件は実施例13のGC条件と同じである。実施例31工程AB:5S-1-ベンジル-5-ベンジルオキシメチルピロリジン-2-カルボニトリル化合物B6の合成S-1-ベンジル-5-ベンジルオキシメチルピロリジン-2-オン8.14g含量98.3、27.08mmol、ナトリウムメトキシド0.29g5.37mmol及びテトラヒドロフラン16gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、21.67mmol6.26gを3時間かけて-9°Cで滴下した。その後、-10°Cで2.5時間撹拌し、水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、1.35mmol0.39gを加え、同温で1時間20分攪拌した1。該反応混合液に酢酸0.49gとメタノール0.52gの混合液を、-10°C~-4°Cの間で3分かけて滴下した。そしてシアン化ナトリウム水溶液33重量濃度、81.2mmol11.98gを10分かけて0°C~6°Cの間で滴下し、5°Cで16時間撹拌した。酢酸0.48gを加え、同温で3時間30分攪拌し、更に酢酸0.48gを加え、同温で1時間20分攪拌した。その後、該反応混合液にグルコン酸ナトリウム水溶液7重量濃度26gを5~13°Cの間で5分かけて滴下した後、トルエン24gを加え、攪拌後、静置、分液した。得られた有機層を水酸化ナトリウム水溶液2重量濃度32gで1回、塩化ナトリウム水溶液5重量濃度32gで2回、塩化ナトリウム水溶液5重量濃度17gで1回洗浄し、化合物B67.06g23.07mmol:収率85.22を含む有機層を37.2g得た。化合物B6と1-ベンジル-5-ベンジルオキシメチルピロリジン過還元体との比:100/0主異性体の1H-NMRCDCl3δ:7.36-7.1610H,m,4.552H,s,4.261H,d,J=14Hz,3.701H,dJ=6Hz,3.631H,dJ=14Hz,3.541H,dd,J=5Hz,9Hz,3.461H,dd,J=6Hz,10Hz,3.12-3.061H,m,2.27-2.161H,m,2.08-1.972H,m,1.86-1.771H,mMS,mz:307MH,280MCN1この反応混合液を実施例13のGC条件で分析したが、1-ベンジル-5-ベンジルオキシメチルピロリジン過還元体は生成していなかった。2HPLC条件は実施例21のHPLC条件と同じである。収率は2種のジアステレオマーを併せた値である。参考例1塩基非存在下での化合物A1の合成化合物E1.00g4.64mmol及びテトラヒドロフラン2.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、4.74mmol1.37gを20分間かけて-10°Cで滴下して、同温度で25時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:98.8化合物A1と過還元体との比:69/31化合物A1のGC面積百分率:67.6GC条件は実施例3のGC条件と同じである。参考例2ジイソブチルアルミニウムヒドリドを用いた化合物A1の合成化合物E1.04g含量96.2,4.64mmol及びテトラヒドロフラン10mlを混合して、-35°Cに冷却した。ジイソブチルアルミニウムヒドリドのヘプタン溶液4.35g19重量濃度,5.80mmolを25分間かけて滴下して、同温度で19時間撹拌した。この反応混合液をガスクロマトグラフィーで分析した。原料から生成物への転化率:63.2化合物A1と過還元体との比:33/67化合物A1のGC面積百分率:17.3GC条件は実施例13のGC条件と同じである。参考例3化合物B2の合成塩基非存在下での還元1-ベンジルピロリジン-2-オン4.50g25.68mmol及びテトラヒドロフラン9.0gを混合して、-10°Cに冷却した。水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、15.51mmol4.48gを45分かけて-10°Cから-7°Cで滴下し、-10°Cで5時間撹拌した1。その後、水素化ビス2-メトキシエトキシアルミニウムナトリウムのトルエン溶液70重量濃度、5.16mmol1.49gを-10°Cで滴下し、同温で19.5時間攪拌した2。その後、該反応混合液に酢酸0.45gとメタノール0.49gの混合液を、-10°C~-7°Cの間で5分かけて滴下した。シアン化ナトリウム水溶液25重量濃度、30.65mmol6.01gを30分かけて-10°C~-5°Cの間で滴下し、8°Cに昇温後、同温で1時間撹拌した後、シアン化ナトリウム2.52g51.42mmolを加え、1時間攪拌した。更に、酢酸0.30gを加え、4時間攪拌した。その後、25°Cに昇温し、同温で1時間攪拌した。該反応混合液にグルコン酸ナトリウム水溶液12重量濃度15.3gを30分かけて25°Cで滴下した後、トルエン28gを加え、攪拌後、静置、分液した。得られた有機層を水酸化ナトリウム水溶液2重量濃度20gで1回、塩化ナトリウム水溶液5重量濃度20gで4回洗浄した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、化合物B23.10g16.63mmol:収率64.83を含む濃縮液を43.17gを得た。化合物B2と1-ベンジルピロリジン過還元体との比:80/2012この反応混合液を実施例3と同じ分析条件で分析した結果、1-ベンジルピロリジン過還元体の生成が確認できた。3GC条件は実施例13のGC条件と同じである。"