下側排水管と流体的に連結した出口が形成された下側フランジと連結した、上側排水管と流体的に連結した入口が形成された上側フランジと、前記上側フランジの前記入口と流体的に連結し、かつ前記上側フランジ内に形成された入口空洞と流れが連通する誘導開口部と、前記上側フランジ内に配置されかつ前記入口および誘導開口部を通して排出流を受け入れかつその上に屑の集積を収容するように形成された渦流ノズルプレートと、前記上側フランジ内で前記渦流ノズルプレートと連結した屑防壁と、前記渦流ノズルプレ-ト内に形成されかつ前記屑防壁によって少なくとも部分的に囲まれ、前記入口空洞と渦流室との間の流れの連通を提供する渦流ノズルと、前記渦流室と流体的に連通しかつ前記下側フランジ内に形成され、それに関して対称的に配置された一連の洗浄液注入ポートを有する環状溝と、前記排出量制限器内に形成されかつ前記出口および前記下側排水管と流れが連通する排出制御流路とを有する制御流排水管。前記屑防壁は、前記渦流ノズルプレートに集まる前記屑から前記渦流ノズルを隔離する請求項1に記載の制御流排水管。前記屑防壁は、前記排出流が前記屑防壁の頂点を越えて前記渦流ノズルに流れ込むことを可能にする請求項3に記載の制御流排水管。前記渦流ノズルは、ノズルの入口からノズルの出口間で延びる中心軸線を有する請求項1に記載の制御流排水管。前記中心軸線は、水平面に関して角度αで配置され、それによって前記渦流ノズルに対する下方向のピッチを分け与えている請求項4に記載の制御流排水管。前記中心軸線は前記Z軸線に関して角度βで配置されている請求項5に記載の制御流排水管。前記角度αは約20°またはそれより小さい請求項5に記載の制御流排水管。前記角度βは約15°である請求項6に記載の制御流排水管。前記渦流室は、前記下側フランジの前記渦流プレートの下側表面および排出量制限器の傍に形成された請求項1に記載の制御流排水管。前記渦流ノズルプレートおよび前記排出量制限器の前記下側表面は各々円錐台状の対向する平行平面である請求項9に記載の制御流排水管。前記排出制御流路は、そこを通して液体の排出を可能とするが同時にガスのキャリアンダを制限するように設けられた鋭角の端を有する請求項1に記載の制御流排水管。前記排出流を、出口が形成された下側フランジと連結した、入口が形成された上側フランジに受け入れ、前記排出流を前記上側フランジ内に形成された入口空洞に集め、渦形ノズルプレート内に形成され、前記入口空洞と前記下側フランジ内に形成された渦流室との間の流れの連通を提供する渦流ノズルから前記排出流内の屑を分離し、前記渦流ノズルを通して前記排出流を加速して渦流体の流れを生み出して前記排出流内の高濃度の屑を前記渦流室の半径方向に沿った外側領域に押し付け、前記高濃度の屑を前記渦流室と流体的に連結し前記下側フランジ内に形成された環状溝内の高濃度の屑を集め、排出制御流路を通して前記下側フランジから前記排出流を排出する排出流制御方法。前記環状溝に関して対称的に配列された一連の洗浄液注入ポートから射出された洗浄液によって前記渦流室を洗浄することをさらに有する請求項12に記載の方法。前記渦流室を前記洗浄液で加圧して前記排出制御流路を通して前記排出流を押し込むことをさらに有する請求項13に記載の方法。前記高濃度の屑の少なくとも一部を浮かして前記高濃度の屑が前記排出制御流路を通して排出されることをさらに有する請求項14に記載の方法。前記渦流ノズルおよび排出制御流路からの蓄積された汚染を除去して前記洗浄液によって除去することをさらに有する請求項14に記載の方法。下側排水管と流体的に連結した出口を形成する下側フランジと連結し、上側排水管と流体的に連結した入口を形成する上側フランジと、前記入口と流体的に連結した入口空洞と、前記出口と流体的に連結した渦流室と、前記入口空洞と前記渦流室との間に配置されかつそこと連結しかつ前記入口空洞内に配置された屑防壁を有する渦流ノズルプレートと、前記渦流ノズルプレート内に形成されかつ前記入口空洞と前記渦流室との間の流れの連通を提供する渦流ノズルと、前記下側フランジ内に形成されかつ前記渦流室と流れが連通しかつ前記渦流室と合する前記上側の周辺の回りに形成された湾曲した丸みを有する環状溝と、下側フランジ内に形成されかつ前記出口および前記下側排水管と流れが連通する排出制御流路とを有する制御流排水管。前記環状溝について対称的に配置された一連の洗浄液注入ポートをさらに有する請求項17に記載の制御流排水管。前記渦流ノズルは水平面に関して角度αで配置された中心軸線を有し、それによって下方向のピッチを前記渦流ノズルに分け与えている請求項18に記載の制御流排水管。前記中心軸線は、前記Z軸線に関して角度βで配置された請求項19に記載の制御流排水管。前記屑防壁は前記渦流ノズルプレート上に集まっている前記屑から前記渦流ノズルを隔離する先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記屑防壁は、前記排出流が前記屑防壁の頂点を越えて前記渦流ノズルに流れ込むことを可能にする先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記渦流ノズルはノズルの入口からノズルの出口にまで延びる中心軸線を有する先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記中心軸線は、水平面に関して角度αで配列され、それによって下方向のピッチを前記渦流ノズルに分け与えている先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記中心軸線は前記Z軸線に関して角度βで配列された先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記角度αは約20°以下である先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記角度βは、約15°である先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記渦流室は、前記渦流ノズルプレートおよび排出絞り弁のそばにある前記下側フランジに形成された先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記渦流ノズルプレートおよび前記排出量制限器の前記下側表面は各々円錐台状の対向する平行表面である先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記排出制御流路は、そこを通して液体の排出が可能であるが同時にガスのキャリアンダを制限するように設けられた鋭角の端を有する先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記環状溝について対称的に配置された一連の洗浄液注入ポートから射出された洗浄液で前記渦流室を洗浄することをさらに有する先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記渦流室を前記洗浄液で加圧して前記排出制御流路を通して前記排出流を押し付けることをさらに有する先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。少なくとも前記高濃度の屑の一部を浮かせることで前記高濃度の屑が前記排出制御流路を通して排出されることをさらに有する先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記洗浄液を用いて、前記渦流ノズルおよび排出制御流路から積もった付着物を除去することをさらに有する先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記環状溝について対称的に配置された一連の洗浄液注入ポートをさらに有する先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記渦流ノズルは水平面に関して角度αで配置された中心軸線を有し、それによって下方向のピッチを前記渦流ノズルに分け与える先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。前記中心軸線は、前記Z軸線に関して角度βで配置された先行する請求項のいずれかに記載の制御流排水管または方法。