"透明基材と、前記透明基材上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された低屈折率層と、を備え、前記ハードコート層は、メタアクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成されたハードコート層であり、前記低屈折率層は、低屈折率コーティング剤より形成された低屈折率層であり、前記低屈折率コーティング剤は、紫外線硬化型材料と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、40重量部より多く、70重量部未満の範囲内である低屈折率ナノ微粒子と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、0.5重量部より多く、1.5重量部未満の範囲内であるシリコーン系材料と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、2重量部より多く、3重量部未満の範囲内である光重合開始剤と、を含む低屈折率コーティング剤であることを特徴とする反射防止フィルム。前記低屈折率コーティング剤の屈折率が、1.30以上1.40以下の範囲であり、前記低屈折率層の屈折率が1.30以上1.45以下の範囲であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。平均視感反射率が0.4以上0.7未満であり、全光線透過率が95以上98以下であり、ヘイズが0.01以上0.20以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の反射防止フィルム。更に、前記反射防止フィルムの前記透明基材の低屈折率層非形成面側に積層された偏光層と、前記偏向層上に積層された第二透明基材と、を備えたことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の反射防止フィルム。請求項4に記載の反射防止フィルムと、液晶セルと、第二偏光板と、バックライトユニットと、をこの順に備え、前記低屈折率層が最表面に位置することを特徴とする表示装置。紫外線硬化型材料と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、40重量部より多く、70重量部未満の範囲内である低屈折率ナノ微粒子と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、0.5重量部より多く、1.5重量部未満の範囲内であるシリコーン系材料と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、2重量部より多く、3重量部未満の範囲内である光重合開始剤と、を含むことを特徴とする低屈折率コーティング剤。そこで、本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、本発明は十分な光学特性および機械特性を備えた反射防止フィルムを提供することを目的とする。本発明の一実施形態は、透明基材と、前記透明基材上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された低屈折率層と、を備え、前記ハードコート層は、メタアクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成されたハードコート層であり、前記低屈折率層は、低屈折率コーティング剤より形成された低屈折率層であり、前記低屈折率コーティング剤は、紫外線硬化型材料と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、40重量部より多く、70重量部未満の範囲内である低屈折率ナノ微粒子と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、0.5重量部より多く、1.5重量部未満の範囲内であるシリコーン系材料と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、2重量部より多く、3重量部未満の範囲内である光重合開始剤と、を含む低屈折率コーティング剤であることを特徴とする反射防止フィルムである。また、前記低屈折率コーティング剤の屈折率が、1.30以上1.40以下の範囲であり、前記低屈折率層の屈折率が1.30以上1.45以下の範囲であってもよい。また、平均視感反射率が0.4以上0.7未満であり、全光線透過率が95以上98以下であり、ヘイズが0.01以上0.20以下であってもよい。また、更に、前記反射防止フィルムの前記透明基材の低屈折率層非形成面側に積層された偏光層と、前記偏向層上に積層された第二透明基材と、を備えてもよい。本発明の一実施形態は、請求項4に記載の反射防止フィルムと、液晶セルと、第二偏光板と、バックライトユニットと、をこの順に備え、前記低屈折率層が最表面に位置することを特徴とする表示装置である。本発明の一実施形態は、紫外線硬化型材料と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、40重量部より多く、70重量部未満の範囲内である低屈折率ナノ微粒子と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、0.5重量部より多く、1.5重量部未満の範囲内であるシリコーン系材料と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、2重量部より多く、3重量部未満の範囲内である光重合開始剤と、を含むことを特徴とする低屈折率コーティング剤である。本発明者は、紫外線硬化型樹脂における光重合開始剤の量が、耐擦傷性だけでなく反射防止フィルムの光学特性である反射率にも影響を及ぼすことを見出し、本発明に至った。本発明は、紫外線硬化型材料と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、40重量部より多く、70重量部未満の範囲内である低屈折率ナノ微粒子と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、0.5重量部より多く、1.5重量部未満の範囲内であるシリコーン系材料と、前記紫外線硬化型材料100重量部に対して、2重量部より多く、3重量部未満の範囲内である光重合開始剤と、を含む低屈折率コーティング剤を用いて低屈折率層を形成することにより、十分な光学特性と機械特性、防汚性を備え、かつ、ブリードアウトのない反射防止フィルムを提供することが出来る。本発明の反射防止フィルムの製造方法について説明する。図1に本発明の反射防止フィルムの模式断面図を示した。本発明の反射防止フィルム1にあっては、透明基材11上にハードコート層12及び該ハードコート層12上に低屈折率層13を備える。ハードコート層12は、電離放射線硬化型材料を硬化することにより形成され、主に耐擦傷性を付与する。低屈折率層13は反射防止フィルムの最表層に設けられ、反射防止機能、防汚機能、耐擦傷機能を付与する。本発明の反射防止フィルムは、透明基材上に少なくともハードコート層、低屈折率層となる順に備えられており、低屈折率層は、紫外線硬化型材料と、低屈折率ナノ微粒子と、シリコーン系材料と、光重合開始剤とを含有する低屈折率コーティング剤からなる低屈折率コーティング剤から形成される。まず、本発明の低屈折率層に用いられる低屈折率コーティング剤について説明する。低屈折率コーティング剤にあっては、紫外線硬化型材料と、低屈折率ナノ微粒子と、シリコーン系材料と、光重合開始剤を含有する。低屈折率コーティング剤に加えられる紫外線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能のメタアクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタンメタアクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。単官能のメタアクリレート化合物としては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、N-ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、イソデシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、セチルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、3-メトキシブチルメタアクリレート、エチルカルビトールメタアクリレート、リン酸メタアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸メタアクリレート、フェノキシメタアクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシメタアクリレート、ノニルフェノールメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノールメタアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリチレングリコールメタアクリレート、メトキシプロピレングリコールメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2-メタアクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、トリフルオロエチルメタアクリレート、テトラフルオロプロピルメタアクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタアクリレート、オクタフルオロプロピルメタアクリレート、オクタフルオロプロピルメタアクリレート、2-アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノメタアクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノメタアクリレート等が挙げられる。2官能のメタアクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ブタンジオールジメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、ノナンジオールジメタアクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジメタアクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレートなどのジメタアクリレート等が挙げられる。3官能以上のメタアクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート等のトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパントリメタアクリレート等の3官能のメタアクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサメタアクリレート等の3官能以上の多官能メタアクリレート化合物や、これらメタアクリレートの一部をアルキル基やε-カプロラクトンで置換した多官能メタアクリレート化合物等が挙げられる。低屈折率コーティング剤に含まれる低屈折率ナノ微粒子としては、LiF、MgF、3NaFAlFまたはAlFいずれも、屈折率1.4、または、Na3AlF6氷晶石、屈折率1.33、シリカ等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率≒1とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。なお、平均粒径にあっては、1nm以上100nm以下であることが好ましい。粒径が100nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が1nm未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の凝集等の問題が生じる。平均粒径とは、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの50粒径d50メジアン径を意味する。また、内部に空隙を有するシリカ粒子の空隙としては、20nm以上50nm以下であることが好ましい。空隙が50nmを超える場合、十分な耐擦傷性が得ることができずディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムに適さなくなってしまうためである。一方、空隙が20nm未満の場合、屈折率が1.45以上となってしまい平均視感反射率が0.7以上となるためである。なお、内部に空隙を有するシリカ粒子の一例としては、球状の形状を保持したまま、硝子の屈折率1.45に比べて低い屈折率1.30であり、半径20nm以上25nm以下、密度ρ1の球状の構造が中心部分にあり、周囲を厚み10nm以上15nm以下の異なる密度ρ2の層が覆っており、ρ1/ρ2の値が0.5、0.1、0.0を示し、シリカ粒子の中心部分は外部のシリカの1/10程度の密度となるような構造モデルである。低屈折率コーティング剤に用いられるシリコーン系材料とは、シリコーン結合を持つ材料のことをいう。例えば、シリコーンオイル、変性シリコーンオイル等を挙げることができる。低屈折率コーティング剤に用いられる光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等の光重合開始剤が挙げられる。また、低屈折率コーティング剤における材料の割合としては、紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が40重量部より多く、70重量部未満の範囲内であり、且つ、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン系材料の含有量が0.5重量部より多く、1.5重量部未満の範囲内であり、且つ、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の添加量が2重量部より多く、3重量部未満の範囲内の範囲内であることが好ましい。また、本発明の低屈折率コーティング剤における低屈折率ナノ微粒子の割合にあっては、紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の添加量は40重量部より多く、70重量部未満の範囲内が好ましい。これは、40重量部以下であると平均視感反射率は0.7以上となり、また70重量部を超えると機械特性耐擦傷性能が低下し、耐擦傷性試験において200g/cm2荷重で傷が生じてしまうためである。また、低屈折率コーティング剤におけるシリコーン系材料の割合にあっては、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン系材料の添加量は、0.5重量部より多く、1.5重量部未満の範囲内が好ましい。これは、0.5重量部以下であると十分な防汚性が得られなくなるためであり、1.5重量部以上であるとブリードアウトするためである。なお、ブリードアウトとは、添加物がフィルム表面に凝集することである。また、低屈折率コーティング剤における光重合開始剤の割合にあっては、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の添加量が2重量部より多く、3重量部未満の範囲内が好ましい。これは、2重量部以下であると機械特性耐擦傷性能が低下し、耐擦傷性試験において200g/cm2荷重で傷が生じてしまうためであり、3重量部以上であると平均視感反射率は0.7以上となるためである。低屈折率コーティング剤には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、n-ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n-ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n-ペンチル、およびγ-プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、低屈折率コーティング剤には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。次に、本発明の反射防止フィルムに用いる透明基材について説明する。透明基材としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、6-ナイロン、6,6-ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる1種または2種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。中でも、トリアセチルセルロースフィルムは複屈折が少なく、透明性が良好であることから、本発明の反射防止フィルムを液晶ディスプレイに用いるにあっては好適に使用することができる。トリアセチルセルロースフィルムの屈折率は約1.50であって、他の透明基材と比較して屈折率が低い。例えば、透明基材として広範に用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムは、1.60程度である。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、透明基材と低屈折率層との間にハードコート層を備えることが好ましい。ハードコート層を備えることにより、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。次に、本発明の反射防止フィルムに用いるハードコート層について説明をする。本発明の反射防止フィルムにおけるハードコート層にあっては、メタアクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを主成分とする重合体からなることが好ましい。メタアクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート、イソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー等を挙げることができる。本発明の反射防止フィルムにあっては、透明基材上にメタアクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを含む塗液を透明基材上に塗布し、必要に応じて乾燥をおこない、電離放射線を照射することによりハードコート層が形成される。本発明にあっては透明基材上に、メタアクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを主成分とする重合体からなるハードコート層が形成され、前記ハードコート層上に、低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率コーティング剤を塗布した後、乾燥し、電離放射線を照射することにより低屈折率層を形成することにより反射防止フィルムが作製することができる。また、本発明の反射防止フィルムにおいて、ハードコート層には導電性材料を添加してもよい。ハードコート層に導電性材料を添加することにより、帯電防止機能を付与することができる。導電性材料としては、四級アンモニウム塩材料、金属酸化物粒子、導電性高分子等を用いることができる。導電性材料である四級アンモニウム塩材料としては、四級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含む材料を好適に用いることができる。四級アンモニウム塩材料は-NX-の構造を示し、四級アンモニウムカチオン-NとアニオンX-を備えることによりハードコート層に導電性を発現させる。また、導電性材料として用いられる金属酸化物粒子としては、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズATO、リン含有酸化スズPTO、スズ含有酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、アルミニウム含有酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛及びインジウム含有酸化亜鉛から選択される1種又は2種以上の金属酸化物を主成とする導電性を有する金属酸化物粒子を用いることができる。また、導電性材料として用いられる導電性高分子としては、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ1,6-ヘプタジイン、ポリビフェニレンポリパラフェニレン、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ2,5-チエニレン及びこれらの誘導体から選ばれる1種または2種以上の混合物を用いることができる。次に、本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率層について説明する。反射防止フィルムにあっては、低屈折率層単層で構成される単層構造の反射防止層や、低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造からなる積層構造の反射防止層を形成することが知られている。本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止層が、バインダマトリックス中に低屈折率粒子を含む低屈折率層単層構造である。また、反射防止層を形成する方法としては、反射防止層形成用塗液を防眩層表面に塗布し反射防止層を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法やスパッタリング法やCVD法といった真空中で反射防止層を形成する真空成膜法による方法に分けられる。低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造からなる積層構造の反射防止層を形成するにあっては、形成する高屈折率層、低屈折率層の膜厚を精密に制御する必要があり、真空成膜法により形成する必要がある。本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率粒子とバインダマトリックスを含む低屈折率塗液を用い、湿式成膜法により反射防止フィルムを形成することにより、安価に反射防止フィルムを製造することができる。このとき、低屈折率層単層は、その膜厚dに低屈折率層の屈折率nをかけることによって得られる光学膜厚ndが可視光の波長の1/4と等しくなるように設形成される。具体的には、低屈折率層の光学膜厚は50nm以上200nm以下の範囲内となるように設計される。低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率コーティング剤を、ハードコート層が形成された透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ダイコーターを用いた塗工方法を使用できる。低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率コーティング剤を、ハードコート層が形成された透明基材上に塗布することにより得られる塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、低屈折率層が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。低屈折率コーティング剤がハードコート層上に塗布された後、ハードコート層上の塗膜中の溶媒を除去するために乾燥工程が設けられる。本発明の実施の形態に係る反射防止フィルムの製造方法としては、乾燥工程における塗膜の乾燥温度が、主溶媒の沸点-20°C以上主溶媒の沸点20°C以下の範囲内であることが好ましい。乾燥温度が低屈折率層の形成用塗液に用いられる主溶媒の沸点-20°Cを下回る場合には、溶媒の乾燥が不十分であり低屈折率層に含まれるシリコーン材料成分がフィルム上に残ってしまい、低屈折率層の防汚性と耐擦傷性が低下してしまう。一方、乾燥温度が低屈折率層の形成用塗液に用いられる主溶媒の沸点20°Cを上回る場合には、製造コストが高くなり、また熱によって反射防止フィルムに熱シワと呼ばれるシワが発生してしまう場合がある。低屈折率層は、ハードコート層上の塗膜に対し、紫外線を照射することにより塗膜は硬化され形成される。紫外線を発生する光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、無電極放電管等を用いることができる。また、本発明の反射防止フィルムの製造にあたり、紫外線照射工程において、照射される紫外線の積算光量が100mJ/cm2以上400mJ/cm2以下の範囲内であることが好ましい。照射される紫外線の積算光量が100mJ/cm2未満の場合は、硬化が不十分であり、低屈折率層の耐擦傷性が低下してしまう。一方、照射される紫外線の積算光量が400mJ/cm2を超える場合であっては、製造コストが高くなってしまう。本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層表面での平均視感反射率が0.4以上から0.7以下であることが好ましい。低屈折率層表面の平均視感反射率は低いほど、優れた反射防止機能を備える。低屈折率層表面での平均視感反射率が0.7を超える場合にあっては、十分な反射防止機能を備える反射防止フィルムとすることができなくなってしまう。一方、低屈折率層表面での平均視感反射率を0.4未満の反射防止フィルムを低屈折率層単層で実現することは困難である。本発明の反射防止フィルムの分光反射率は、反射防止フィルムの低屈折率層と反対側の面を黒色塗料で艶消し処理した後におこなわれ、低屈折率層表面に対しての垂直方向から入射角度は5度に設定され、光源としてC光源を用い、2度視野の条件下で求められる。平均視感反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。本発明の反射防止フィルムのヘイズを0.01以上0.2以下の範囲内とすることが好ましい。本発明の反射防止フィルムのヘイズを0.2以下とすることにより、明所コントラストの高い反射防止フィルムとすることができる。ヘイズが0.2を超える場合には、散乱による透過損失によって暗所での黒表示させた際の光モレを見かけ上抑制することが可能となるが、明所での黒表示の際に散乱によって黒表示が白ボケしてコントラストが低下してしまう。反射防止フィルムのヘイズは小さいほうが好ましいが、0.01未満の反射防止フィルムを作製することは困難である。反射防止フィルムの全光線透過率を95以上98以下とすることにより、コントラストを良好なものとすることができる。反射防止フィルムの全光線透過率が95に満たない場合にあっては、白表示した際の白輝度が低下し、コントラストが低下してしまう。一方、裏面反射等を考慮すると全光線透過率98を超える反射防止フィルムを作製することは実質的に困難であり、本発明の反射防止フィルムにあっては全光線透過率98以下であることが好ましい。また、更に、前記反射防止フィルムの前記透明基材の低屈折率層非形成面側に積層された偏光層と、前記偏向層上に積層された第二透明基材と、を備えることが好ましい。偏向層と第二透明基材をそなえることにより、液晶ディスプレイにおける偏向板として用いることが出来る。図2に、本発明の反射防止フィルムを偏光板として用いた例における概略断面図を示す。低屈折率層13、ハードコート層12、透明基材11がこの順で積層された反射防止フィルム1の透明基材11側に、偏光層22、第二透明基材22をこの順で積層し、本発明の反射防止フィルム偏光板2とする。本発明の反射防止フィルムを透過型液晶ディスプレイ表面に設けるにあっては、反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の透明基材に偏光層および第二透明基材が積層する。本発明の反射防止フィルム偏光板にあっては、反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面に、該透明基材側から順に偏光層及び第二透明基材が積層される。偏光層としては、例えば、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールPVAを用いることができる。また、もう一方の透明基材としては、反射防止フィルムに用いる透明基材を用いることができ、トリアセチルセルロースからなるフィルムを好適に用いることができる。図3に本発明の反射防止フィルムを偏光板として用いた表示装置透過型液晶ディスプレイの模式断面図を示す。本発明の表示装置にあっては、バックライトユニット5、第二偏光板4、液晶セル3、本発明の反射防止フィルム偏光板2をこの順に備えている。このとき、本発明の反射防止フィルム偏光板2側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。また、バックライトユニット5は、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル3を挟むように設けられる。第二偏光板4は、第二偏光板偏光層42を、第二偏光板第一透明基材41および第二偏光板第二透明基材43で挟む構成となる。また、本発明の表示装置にあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。また、バックライトユニット、偏光板、液晶セル等は公知のものを使用できる。<実施例1>メタアクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを硬化させたハードコート層を備えるトリアセチルセルロースフィルム富士フィルム製:膜厚80μm上に、低屈折率コーティング剤を塗布し、70°C40秒オーブンで乾燥し、膜厚が100nmとなるように塗布した。乾燥後、窒素パージ下で紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン、光源Hバルブを用いて照射線量380mJ/m2で紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成し、本発明の反射防止フィルムを作製した。なお、本実施例1において低屈折率コーティング剤は以下の組成とした。低屈折率コーティング剤1紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が40重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン系材料の含有量が1重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の含有量が2.5重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤を作製した。<実施例2>実施例1と同様に反射防止フィルムを製造した。ただし、用いた低屈折率コーティング剤を、下記組成の低屈折率コーティング剤2とした。低屈折率コーティング剤2紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が50重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン系材料の含有量が1重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の含有量が2.5重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤を作製した。<実施例3>実施例1と同様に反射防止フィルムを製造した。ただし、用いた低屈折率コーティング剤を、下記組成の低屈折率コーティング剤3とした。低屈折率コーティング剤3紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が60重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン系材料の含有量が1重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の含有量が2.5重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤を作製した。<実施例4>実施例1と同様に反射防止フィルムを製造した。ただし、用いた低屈折率コーティング剤を、下記組成の低屈折率コーティング剤4とした。低屈折率コーティング剤4紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が70重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン系材料の含有量が1重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の含有量が2.5重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤を作製した。<実施例5>実施例1と同様に反射防止フィルムを製造した。ただし、用いた低屈折率コーティング剤を、下記組成の低屈折率コーティング剤5とした。低屈折率コーティング剤5紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が60重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン系材料の含有量が0.5重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の含有量が2.5重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤を作製した。<実施例6>実施例1と同様に反射防止フィルムを製造した。ただし、用いた低屈折率コーティング剤を、下記組成の低屈折率コーティング剤6とした。低屈折率コーティング剤6紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が60重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン系材料の含有量が0.75重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の含有量が2.5重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤を作製した。<実施例7>実施例1と同様に反射防止フィルムを製造した。ただし、用いた低屈折率コーティング剤を、下記組成の低屈折率コーティング剤7とした。低屈折率コーティング剤7紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が60重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン系材料の含有量が1.5重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の含有量が2.5重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤を作製した。<実施例8>実施例1と同様に反射防止フィルムを製造した。ただし、用いた低屈折率コーティング剤を、下記組成の低屈折率コーティング剤8とした。低屈折率コーティング剤8紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が60重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン化合物の含有量が1重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の添加量が2重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤8を作製した。<実施例9>実施例1と同様に反射防止フィルムを製造した。ただし、用いた低屈折率コーティング剤を、下記組成の低屈折率コーティング剤9とした。低屈折率コーティング剤9紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が60重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン化合物の含有量が1重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の添加量が2.2重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤9を作製した。<実施例10>実施例1と同様に反射防止フィルムを製造した。ただし、用いた低屈折率コーティング剤を、下記組成の低屈折率コーティング剤10とした。低屈折率コーティング剤10紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が60重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン化合物の含有量が1重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の添加量が2.8重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤10を作製した。<実施例11>実施例1と同様に反射防止フィルムを製造した。ただし、用いた低屈折率コーティング剤を、下記組成の低屈折率コーティング剤11とした。低屈折率コーティング剤11紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の含有量が60重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン化合物の含有量が1重量部、紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の添加量が3重量部になるよう組み合わせて調液し、IPA:MIBK:DAA=77:8:15を加え、3.4wtの低屈折率コーティング剤11を作製した。<評価>前記の実施例1~実施例11で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価をおこなった。1光学特性分光反射率平均視感反射率得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計日立製作所社製、U-4000を用い、入射角5°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。ヘイズ値および全光線透過率得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器[日本電色工業社製、NDH-2000]を使用してヘイズ値、及び全光線透過率を測定した。2防汚性接触角測定接触角計CA-X型:協和界面科学社製を用いて、0.9μlの液滴を針先に作り、これを基材固体の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体が接する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。液体には、蒸留水を使用した。油性ペンマッキー、マジックの拭取り性基材表面に付着した油性ペンをティッシュペーパーエリエール社製で拭き取り、その取れ易さを目視評価した。判定基準を以下に示す。○:油性ペンを容易に拭き取ることが出来る。△:油性ペンを拭き取れる。×:油性ペンを拭き取ることが出来ない3機械特性耐擦傷性試験基材表面をスチールウールボンスター0000:日本スチールウール社製により200g/cm2、300g/cm2、400g/cm2、500g/cm2でそれぞれ10回擦り、傷の有無を目視評価したスチールウール試験。判定基準を以下に示す。○:傷なし×:傷あり4ブリードアウトの確認塗工表面をティッシュペーパーエリエール社製で拭取り、塗工表面において拭き取った箇所と拭き取ってない箇所を蛍光灯下で目視で確認することによりブリードアウトしているかを評価した。判定基準を以下に示す。○:ブリードなし拭き取った箇所が目視により確認できない×:ブリードあり拭き取った箇所が目視により確認できる以下、表1に評価結果を示す。表1に示すように、実施例2実施例3で反射率が低く、機械特性の優れた低屈折率層を得ることができた。紫外線硬化型材料100重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の添加量が40重量部であると平均視感反射率は0.7以上となってしまう。また低屈折率ナノ微粒子添加量が70重量部であると耐擦傷性試験において200g/cm2荷重で傷が生じてしまう。低屈折率ナノ微粒子添加量に関して反射率と機械特性はトレードオフの関係にある。このことから十分な光学特性と機械特性を備えた反射防止フィルムを作成するためには、紫外線硬化型材料100重量部に対して低屈折率ナノ微粒子添加量が40重量部より多く、70重量部未満である必要がわかる。同様に、実施例3実施例6で防汚性の優れた、ブリードのない低屈折率層を得ることができた。紫外線硬化型材料100重量部に対して、シリコーン系材料の添加量が0.5重量部であると十分な防汚性が発現しない。またシリコーン系材料が1.5重量部であるとブリードが生じてしまう。シリコーン系材料添加量に関して防汚性とブリードはトレードオフの関係にある。このことから十分な防汚性を備えたブリードが発生しない反射防止フィルムを作成するためには、紫外線硬化型材料100重量部に対してシリコーン系材料の添加量が0.5重量部より多く、1.5重量部未満である必要がわかる。同様に、実施例3実施例9実施例10で十分に硬化した機械特性の優れた低屈折率層を得ることができた。紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の添加量が2重量部であると耐擦傷性試験において200g/cm2荷重で傷が生じてしまう。また紫外線硬化型材料100重量部に対して、光重合開始剤の添加量が3重量部であると平均視感反射率は0.7以上となってしまう。光重合開始剤の添加量に関して反射率と機械特性はトレードオフの関係にある。このことから、十分な光学特性と機械特性を備えた反射防止フィルムを作成するためには、紫外線硬化型材料100重量部に対して光重合開始剤添加量が2重量部より多く、3重量部未満である必要がわかる。本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層に紫外線硬化型材料、低屈折率ナノ微粒子、シリコーン系材料、光重合開始剤を紫外線硬化型材料100重量部に対して、2重量部より多く、3重量部未満の範囲内で添加し、主溶媒の沸点の-20°C以上20°C以下の範囲内の乾燥温度で乾燥し、積算光量が100mJ/cm2以上400mJ/cm2以下の範囲内で紫外線を照射することにより、平均視感反射率0.7以下という低屈折率光学特性と優れた防汚性、優れた機械強度とを兼備した反射防止フィルムを形成できるものである。すなわち、本発明の反射防止フィルムはディスプレイなどの最外層に配置されることに優れたものである。"