散乱防止X線グリッド装置10の製造方法であって、X線を実質的に吸収しない第1の材料16を含み、複数のチャンネル18を内部に有する基材14を準備する段階と、前記複数のチャンネル18の側壁20上にX線を実質的に吸収しない第2の材料34を含む層を施工する段階32と、X線を実質的に吸収する第3の材料42を前記複数のチャンネル18の一部に施行してこれにより複数のX線吸収要素12を形成する段階44とを含む方法。前記第2の材料34がコンフォーマルコーティングである、請求項1記載の方法。前記第3の材料42が、鉛、タングステン、ウラニウム、金、鉛含有ポリマー、タングステン含有ポリマー及び金含有ポリマーのうちの少なくとも1種を含む、請求項1記載の方法。前記複数のX線吸収要素12の幅が約20μm未満である、請求項1記載の方法。前記複数のX線吸収要素12の幅が約5μm~約10μmである、請求項1記載の方法。前記コンフォーマルコーティング34が、酸化物、窒化物、ポリマー、アクリル、エポキシ、ウレタン、シリコーン及びこれらの組合せを含む、請求項2記載の方法。前記コンフォーマルコーティング34がParyleneである、請求項2記載の方法。前記複数のX線吸収要素12が角度方向で構成される、請求項1記載の方法。層を施工する段階32が、前記複数のチャンネル18の両側壁20上に層を施工する段階を含む、請求項1記載の方法。前記グリッド装置10の上面49を平坦化する段階を更に含む、請求項1記載の方法。従って、既存のX線グリッド設計及び製造技術を改善する必要性が継続的に存在する。本発明は、散乱防止X線グリッド装置、及び/又は散乱防止X線グリッド装置の製造方法を提供することによって前述の欠点の少なくとも一部に対処し、最終的には改善されたグリッド性能を提供する。より具体的には、本発明は、極細のグリッド線を有するグリッド及び高度に透光性の隙間材料を提供し、迅速で安価で且つ高い信頼性のあるグリッド製造手法に関する。従って、本発明の1つの態様によれば、散乱防止X線グリッド装置の製造方法は、X線を実質的に吸収しない第1の材料を含み、複数のチャンネルを内部に有する基材を準備する段階と、複数のチャンネルの側壁上にX線を実質的に吸収しない第2の材料を含む層を施工する段階と、X線を実質的に吸収する第3の材料を複数のチャンネルの一部に施行してこれにより複数のX線吸収要素を形成する段階と、を含む。本発明の別の態様によれば、散乱防止X線グリッド装置は、X線を実質的に吸収しない第1の材料を含み、複数のチャンネルを内部に有する基材と、複数のチャンネルの側壁を内張りするX線を実質的に吸収しない第2の材料と、複数のチャンネル内に少なくとも部分的に内在し、これにより複数のX線吸収要素を形成する、X線を実質的に吸収する第3の材料とを備える。本発明の種々の他の特徴及び利点は、以下の詳細な説明及び図面から明らかになるであろう。図面は、本発明を実施するよう現在企図された一実施形態を例証している。本発明の態様は、散乱防止X線グリッド装置を製造する従来の手法よりも優れた利点を提供するために示されている。本発明の態様は、コスト効果があり且つ十分に調整されたプロセスでより細いグリッド線と高度にX線透過性の隙間材料を可能にする製造技法を提供する。他の利点のなかでも、本発明を利用したグリッド装置10の使用は、マンモグラフィー及び他の低エネルギー例えば、約26から33kVpのX線システムで良好なイメージング結果を提供することになる。図1は、本発明の実施形態を利用した従来の放射線イメージング構成の側断面図である。管体50は、身体90に向けて進むX線放射を発生し放出する。X線放射54の一部は身体90により吸収され、放射線の別の一部は透過して1次放射線として経路56、58に沿って進み、その他の放射線は偏向されて散乱放射線として経路60に沿って進む。経路56、58、及び60からの放射線は、感光フィルム62のような受像体に向かって進み、ここで増感スクリーン64によって放射線が吸収されることになり、該増感スクリーン64は、可視光の波長の蛍光を発し、ひいては感光フィルム62放射線写真に潜像を感光させる感光材料でコーティングされている。散乱防止グリッド10が身体90と感光フィルム62との間に配置されると、放射線経路56、58、及び60は、フィルム62の前に散乱防止グリッド10に向けて進む。放射線経路58は、グリッド10の透光性材料14と通って進み、経路56及び60の両方は吸収材料12に衝突して吸収される。放射線経路60の吸収は、散乱放射線の除去とみなされる。放射線経路56の吸収は、1次放射線の一部の除去とみなされる。放射線経路58、すなわち次放射線の残りの部分は、感光フィルム62に向かって進み、感光フィルム62に潜像を感光させる増感スクリーン64によって吸収される。図1に示す構成は、フィルムベースの検出システムを企図しているが、本発明から逸脱することなく他の受像体を用いることもできる。例えば、システムの受像部分は、代替として、直接又は間接変換法を用いたデジタルシステムを備えることができる。間接法において、X線は、後でフォトダイオードのアレイで検出される可視光を放出するシンチレータ層にて吸収されることになる。直接法では、X線は、非晶質セレンなどの好適な直接変換材料で電気信号に直接的に変換される。図2を参照すると、散乱防止X線グリッド装置の一部16の立面図が示されている。グリッドの製造方法の一実施形態は、この部分16を準備する段階から始めることができる。部分16は、複数のチャンネル18を内部に有する基材14を含む。基材14は、実質的にX線を吸収しない第1の材料から作ることができる。図示のように、複数のチャンネル18は、側壁20と、チャンネル底部又は端部とを含むことができる。複数のチャンネル18は、様々な技法により作ることができる。例えば、複数のチャンネル18は、射出成形、レーザ、機械的、プラズマエッチングなどによって基材14に設けることができる。基材14は、熱可塑性物質、PEEK、グラファイト、アルミニウム、及びこれらの組合せなど、実質的にX線を吸収しない好適な材料から作ることができる。図1及び2で実施例として示すように、複数のチャンネル18の軸方向の向きは、線源50図1から放出されるX線のコーンが複数のチャンネル18の軸線とほぼ整列するように非平行にすることができる。図2は、散乱防止グリッドの一実施形態の基材14部分を示しているが、本発明の態様から逸脱することなく利用可能な他の実施形態も存在することは明らかである。例えば、5つのチャンネル18だけが図示されているが、チャンネル16の総数は、事実上あらゆる好適な数であってもよい。同様に、断面形状、寸法、及び立体構造は、図示のものとは異なることができる。図3を参照すると、グリッド装置の製造方法の第2のステップを受ける散乱防止X線グリッド装置の一部16の立断面図が示されている。図示のように、実質的にX線を吸収しない第2の材料34は、複数のチャンネル18内に配置される。第2の材料34は、リザーバ又は供給源30を介して提供され、複数のチャンネル18の側壁20上の層として施工できるようにする。例えば、第2の材料34は、好適なコンフォーマルコーティングとすることができ、該コンフォーマルコーティングは、真空蒸着、蒸発、化学蒸着、スパッタリングなどを始めとする好適な様々な方法により施工することができる。同様に、コンフォーマルコーティングは、酸化物、窒化物、ポリマー、アクリル、エポキシ、ウレタン、シリコーン、及びこれらの組合せを含む。一実施形態では、コンフォーマルコーティングはParyleneを含む。Paryleneは、各種の化学蒸着ポリp-キシレンポリマーの商品名である。図示のように、複数のチャンネル18の幅を狭めるが該複数のチャンネル18の幅を完全には充填しない第2の材料34として、好適な材料を用いることができる。このようにして、第2の材料34の施工により、残存チャンネル36が提供される。図3は、第2の材料34の施工を受けている散乱防止グリッドの一実施形態の基材14部分を示しているが、本発明の態様から逸脱することなく利用可能な他の実施形態も存在することは明らかである。例えば、第2の材料34は、複数のチャンネル18の2つの側壁20及び端部もしくは底部のうちの1つだけの上の層として施工してもよい。残存チャンネル36の幅が約20μm未満であるように、第2の材料34の好適な量を複数のチャンネル18に施工することができる。他の実施形態では、残存チャンネル36の幅は、約5μm~約10μmとすることができる。図4を参照すると、グリッド装置の製造方法の第3のステップを受ける散乱防止X線グリッド装置の一部16の立断面図が示されている。図示のように、実質的にX線を吸収する第3の材料42は、残存チャンネル36の一部に施行され、これによりグリッド装置10が形成される。第3の材料42は、リザーバ又は供給源40を介して提供され、残存チャンネル36の一部に施工され、これにより複数のX線吸収要素12を定めることができるようにする。第3の材料42は、鉛、タングステン、ウラニウム、金、及び/又は鉛、タングステン、及び/又は金を含有するポリマー例えば、エポキシ、その他を含む材料など、X線を実質的に吸収する好適な材料とすることができる。図示のように、第3の材料42は、複数のチャンネル18を実質的に充填するように残存チャンネル36に施工することができる。このようにして、第3の材料42の施工によって、角度方向例えば、図1及び5を参照を有することができる複数のX線吸収要素12が最終的に形成される。一実施形態では、グリッド装置10の上面49は、例えば、機械的研削などを始めとする好適な手段により平坦化することができる。図5に示すように、グリッド装置10の一部は、本明細書で開示される方法の態様を利用して構成することができる。グリッド装置10は、幅w、及び高さh1を有し且つ間隔dだけ離れて分布した複数のX線吸収要素12を含む。hで表記されたグリッド装置10の高さは、ほぼh1よりも高く、約1mm又は他の好適な高さとすることができる。同様に、h1は、グリッド装置の高さを部分的に通り、例えば、0.5mmとすることができる。複数のX線吸収要素12の幅wは、約20μm~約30μmとすることができる。他の実施形態では、複数のX線吸収要素12の幅wは、約5μm~約10μmとすることができる。同様に、隣接するX線吸収要素12間の間隔dは、約100μm~約300μmとすることができる。X線吸収要素12は、基材14及び第2の材料34を構成するX線非吸収材料内に配置される。完成したグリッド装置10の占有面積は、事実上どのような好適なサイズであってもよい。例えば、グリッド装置10は、約12cmから少なくとも約40cmの寸法すなわち、長さ及び/又は幅の矩形とすることができる。同様に、複数の要素12が付随した複数のチャンネル18の分布は、約30要素/cm~約100要素/cmの範囲とすることができる。図5及び図1に示すように、複数のX線吸収要素12は、角度方向を有することができる。すなわち、複数のX線吸収要素12の各々の長手方向軸線は、X線源50図1に対して垂直からオフセット角θだけ変化することができる。図1に示すように、オフセット角θは、種々の複数のX線吸収要素12で、0度から好適な角度例えば、15度などまで変化し増大することができる。種々のオフセット角を有するX線吸収要素12のグリッド装置10内の位置は、X線システムの幾何形状に応じて変わることができる。例えば、一実施形態では、グリッド装置10の中心は、約0度のX線吸収要素12を含むことができる。別の実施形態例えば、マンモグラフィーシステムでは、グリッド装置10のエッジ領域のうちの少なくとも1つは、約0度のX線吸収要素12を含むことができる。種々のX線吸収要素12の正確な角度方向は、X線源の位置及び距離に依存することができる。このように、グリッド装置10は集束グリッドである。従って、本発明の一実施形態によれば、散乱防止X線グリッド装置の製造方法は、X線を実質的に吸収しない第1の材料を含み、複数のチャンネルを内部に有する基材を準備する段階と、複数のチャンネルの側壁上にX線を実質的に吸収しない第2の材料を含む層を施工する段階と、X線を実質的に吸収する第3の材料を複数のチャンネルの一部に施行してこれにより複数のX線吸収要素を形成する段階と、を含む。本発明の別の実施形態によれば、散乱防止X線グリッド装置は、X線を実質的に吸収しない第1の材料を含み、複数のチャンネルを内部に有する基材と、複数のチャンネルの側壁を内張りするX線を実質的に吸収しない第2の材料と、複数のチャンネル内に少なくとも部分的に内在し、これにより複数のX線吸収要素を形成する、X線を実質的に吸収する第3の材料とを備える。本発明を好ましい実施形態の観点から説明してきたが、明示的に記載されたもの以外の均等形態、代替形態、及び修正形態も実施可能であり、添付の請求項の範囲内にある点は理解される。