"基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、前記感光性樹脂からなる高さの調整された2種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法であって、前記階調マスクは、透明基板と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが順不同に積層され、前記透明基板上に前記遮光膜が設けられた遮光領域と、前記透明基板上に前記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、前記透明基板上に前記遮光膜および前記半透明膜のいずれも設けられていない透過領域とを有し、前記半透明膜は、波長300nm~450nmの範囲内における透過率分布が7以下であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。前記半透明膜および前記遮光膜がクロム系膜であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。前記半透明膜の波長300nmでの透過率が10~70の範囲内であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカラーフィルタの製造方法。本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタにおける高さの調整された同一機能部材を形成するのに有用な、階調マスクを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。本発明は、上記目的を達成するために、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、上記感光性樹脂からなる高さの調整された2種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法であって、上記階調マスクは、透明基板と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが順不同に積層され、上記透明基板上に上記遮光膜が設けられた遮光領域と、上記透明基板上に上記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、上記透明基板上に上記遮光膜および上記半透明膜のいずれも設けられていない透過領域とを有し、上記半透明膜は、波長300nm~450nmの範囲内における透過率分布が7以下であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。本発明によれば、階調マスクを用いた一括露光により、高さの調整された同一機能部材を同時に形成することができ、カラーフィルタの製造工程を簡略化することが可能である。また、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いており、半透明領域からの露光では、露光光の長波長域だけでなく短波長域も有効に利用することができ、露光時間の短縮化が可能である。さらに、半透明膜は、波長300nm~450nmにおいて透過率分布が一定の範囲内であることから、露光波長域全体において透過率が一定の範囲内となる傾向にあり、例えばネガ型感光性樹脂を用いた場合には、透過領域および半透明領域の透過率比を、透過領域および半透明領域に対応する露光後の感光性樹脂層の膜厚比とみなすことができる。このため、露光後の感光性樹脂層の膜厚制御、すなわち形成される同一機能部材の高さ制御が容易である。上記発明においては、上記半透明膜および上記遮光膜がクロム系膜であることが好ましい。クロム系膜は、機械的強度に優れており、さらには退光性がなく安定しているため、階調マスクを長時間、安定して使用することができるからである。また本発明においては、上記半透明膜の波長300nmでの透過率が所定の範囲内であることが好ましい。半透明膜がこのような透過率特性を有するものであれば、感光性樹脂の光反応に短波長域の光をより確実に利用することができるからである。本発明においては、階調マスクを用いた一括露光により、感光性樹脂からなる高さの調整された2種以上の同一機能部材を同時に形成することができ、カラーフィルタの製造工程の簡略化が可能である。また、半透明膜が所定の透過率特性を有するので、露光光の短波長域も感光性樹脂の光反応に利用することができ、露光時間の短縮化が図れるという効果を奏する。以下、本発明のカラーフィルタの製造方法について詳細に説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、上記感光性樹脂からなる高さの調整された2種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有しており、上記階調マスクは、透明基板と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが順不同に積層され、上記透明基板上に上記遮光膜が設けられた遮光領域と、上記透明基板上に上記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、上記透明基板上に上記遮光膜および上記半透明膜のいずれも設けられていない透過領域とを有し、上記半透明膜は、波長300nm~450nmの範囲内における透過率分布が所定の範囲であることを特徴とするものである。本発明のカラーフィルタの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明によりカラーフィルタにおける高さの異なる2種のスペーサ高スペーサ11aおよび低スペーサ11bを形成する例である。まず、図1aに示すように、基板1上に着色層2および遮光部3を形成し、着色層2上に透明電極層4を形成し、その上にネガ型感光性樹脂からなる感光性樹脂層5を形成する。次いで、図1bに示すように、感光性樹脂層5を階調マスク21を介して露光する。階調マスク21では、透明基板22上に半透明膜23および遮光膜24がパターン状に形成されており、透明基板22上に遮光膜24が設けられた遮光領域25と、透明基板22上に半透明膜23のみが設けられた半透明領域26と、透明基板22上に半透明膜23および遮光膜24のいずれも設けられていない透過領域27とが混在している。半透明膜23は、透過率調整機能を有し、波長300nm~450nmの範囲内における透過率分布が所定の範囲となっている。また、遮光膜24は、実質的に露光光を透過しないものである。階調マスク21においては、透過領域27では透明基板22を露光光28が透過し、半透明領域26では透明基板22および半透明膜23を露光光28が透過する。透過領域27からは通常の波長の露光光が照射されるため、ほぼマスクパターン形状に応じたパターンが形成される。一方、半透明領域26から照射される露光光は、半透明膜23が所定の透過率特性を有し、透過率調整を行っているため、波長に応じて所定の透過率で透過する。したがって、透過領域27を介した感光性樹脂層の露光では、高スペーサ形成部位におけるネガ型感光性樹脂の光反応硬化反応が十分に行われるが、半透明領域26を介した感光性樹脂層の露光では、低スペーサ形成部位におけるネガ型感光性樹脂の光反応硬化反応は半透明膜の透過率特性に応じて不十分なものとなる。そして、現像すると、感光性樹脂層のうち、硬化反応が十分に行われた高スペーサ形成部位では、高さの高い高スペーサ11aが形成される。一方、低スペーサ形成部位では、硬化反応の程度に応じて半透明膜の透過率特性に応じて、高さの低い低スペーサ11bが形成される。すなわち、硬化反応の程度が不十分である程、高さの低いスペーサが形成される。このようなカラーフィルタの製造方法では、高さの異なるスペーサを1回の露光により同時に形成することができ、材料塗布量の低減、現像液使用量の低減が可能である。また、従来では、高さの異なるスペーサなど、高さの調整された2種以上の同一機能部材を形成するのに露光を複数回行っていたのに対し、本発明においては上述したように1回の露光により高さの調整された同一機能部材を同時に形成することができるので、露光および現像を繰り返して行う必要がなく、製造工程数が減少して良品率が向上し、プロセス時間を短縮することができる。図2は、本発明における半透明膜の分光スペクトルの一例を示すグラフである。図2に例示するように、半透明膜は、波長300nm~450nmの範囲内における透過率分布が所定の範囲である。すなわち、半透明膜の透過率は、波長によらずほぼ一定である。このような透過率特性を有する半透明膜が設けられた半透明領域では、露光光の長波長域350nm~450nm程度だけでなく、短波長域300nm~350nm程度も所定の透過率で透過するので、短波長域も感光性樹脂の硬化反応に利用される。短波長域の光は、エネルギーが高く、反応速度硬化速度もしくは分解速度が速いという利点があり、上述したように短波長域の光も有効に利用することにより、露光光の照射量を抑えることができるため、露光時間を短縮させることが可能である。また、ネガ型感光性樹脂を用いた場合、短波長域での露光は、感光性樹脂が表面から硬化する傾向にあるので、感光性樹脂層内部からの不純物の拡散を抑えることができる。さらに、長波長域での露光は、深部まで光が到達して感光性樹脂を硬化させる傾向にあるため、上記のような高さの異なる同一機能部材を形成するのに有効である。このように、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いることにより、感光性樹脂層の露光に広い波長域を有効に活用できる。また一般に、露光装置は種類等によって得られる発光スペクトル波長範囲、ピーク波長、ピーク強度比、ピーク半値幅などが異なる。このため、目的とするパターンを形成するために適切な露光量となるように、使用する露光装置に応じて階調マスクの透過率を設計する必要がある。本発明における半透明膜は、300nm~450nmにおける透過率分布が所定の範囲であり、露光波長域全体において透過率が一定の範囲内となる。このため、例えば露光装置に高圧水銀ランプを用いた場合、例えば図2においては300nmにおける透過率が39、365nmI線における透過率が37、436nmG線における透過率が35となり、波長域全体250nm~600nmにおいて透過率が一定の範囲内33~40程度となる。したがって、図1に例示するようにネガ型感光性樹脂を用いた場合は、半透明膜の各波長における透過率:透過率100≒半透明領域の平均透過率:透過領域の平均透過率≒半透明領域に対応する同一機能部材の高さ:透過領域に対応する同一機能部材の高さ、とみなすことができる。すなわち、ある波長における透過率を調整することにより、露光波長域全体において透過率を所定の範囲内に調整することができ、同一機能部材の高さを制御することができる。このように、所定の透過率特性を有する半透明膜を備えた階調マスクを用いることにより、同一機能部材の高さの制御が容易となり、種々の同一機能部材の高さを容易に設計することができる。図3は、本発明によりカラーフィルタにおける配向制御用突起を形成する例であり、半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタにおいて、透過部および反射部に均一な厚みの配向制御用突起を形成する例である。まず、図3aに示すように、基板1上に着色層2および遮光部3を形成し、着色層2上に枕部6を形成し、着色層2および枕部6を覆うように透明電極層4を形成し、その上にネガ型感光性樹脂からなる感光性樹脂層5を形成する。枕部6が設けられている領域は反射部rであり、枕部6が設けられていない領域は透過部tである。次いで、図3bに示すように、感光性樹脂層5を階調マスク21を介して露光する。従来では、反射部および透過部にそれぞれ配向制御用突起を形成する場合、フォトマスクを用いて一括露光すると、図3aに示すように反射部rおよび透過部tでは感光性樹脂層5の厚みが異なるので、これにより反射部と透過部とで形成される配向制御用突起の厚みが異なるものとなり、透過部に形成された配向制御用突起の厚みが反射部に形成された配向制御用突起の厚みよりも厚くなってしまうという不具合があった。このため、反射部および透過部に均一な厚みの配向制御用突起を形成するには、露光を複数回行う必要があった。これに対し本発明においては、図3bに示すように反射部rにおける反射部用突起形成部位に対しては透過領域27を介した露光が行われ、透過部tにおける透過部用突起形成部位に対しては半透明領域26を介した露光が行われる。透過領域27を介した感光性樹脂層の露光では、反射部用突起形成部位におけるネガ型感光性樹脂の光反応硬化反応が十分に行われるが、半透明領域26を介した感光性樹脂層の露光では、透過部用突起形成部位におけるネガ型感光性樹脂の光反応硬化反応は半透明膜の透過率特性に応じて不十分なものとなる。そして、現像すると、硬化反応が十分に行われた反射部用突起形成部位では、露光前の感光性樹脂層の厚みと同程度の厚みの反射部用突起12aが形成される。一方、透過部用突起形成部位では、硬化反応の程度に応じて半透明膜の透過率特性に応じて、露光前の感光性樹脂層の厚みに比べて厚みの薄い透過部用突起12bが形成される。すなわち、硬化反応の程度が不十分である程、露光前の感光性樹脂層の厚みに対して厚みの薄い配向制御用突起が形成される。本発明においては、階調マスクを用いることによって現像後の感光性樹脂層の厚みを2段階以上に制御することができるので、反射部および透過部に均一な厚みの配向制御用突起を1回の露光により同時に形成することができる。このように本発明においては、基板からの高さの異なる部位に均一な厚みの同一機能部材を形成する場合にも適用することができる。図4は、本発明によりカラーフィルタにおける着色層を形成する例であり、半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタにおいて、透過部および反射部に応じて部分的に厚みの異なる着色層を形成する例である。まず、図4aに示すように、基板1上に枕部6を形成し、その上にネガ型感光性樹脂からなる感光性樹脂層5を形成する。着色層形成部位のうち、枕部6が設けられている領域は反射部rであり、枕部6が設けられていない領域は透過部tである。次いで、図4bに示すように、感光性樹脂層5を階調マスク21を介して露光する。このとき、透過部tに対しては透過領域27を介した露光が行われ、反射部rに対しては半透明領域26を介した露光が行われる。透過領域27を介した感光性樹脂層の露光では、ネガ型感光性樹脂の光反応硬化反応が十分に行われるが、半透明領域26を介した感光性樹脂層の露光では、ネガ型感光性樹脂の光反応硬化反応は半透明膜の透過率特性に応じて不十分なものとなる。そして、現像すると、感光性樹脂層のうち、硬化反応が十分に行われた透過部tでは、厚みの厚い透過部用着色層13aが形成される。一方、反射部rでは、硬化反応の程度に応じて半透明膜の透過率特性に応じて、厚みの薄い反射部用着色層13bが形成される。すなわち、硬化反応の程度が不十分である程、着色層の厚みが薄くなる。本発明においては、上述したように、階調マスクを用いることによって現像後の感光性樹脂層の厚みを2段階以上に制御することができるので、反射部および透過部にそれぞれ適した厚みの着色層を形成することができる。このように本発明は、基板からの高さの異なる部位に、各部位に応じて部分的に厚みの異なる同一機能部材を形成する場合にも適用することができる。図5は、本発明によりカラーフィルタにおけるオーバーコート層を形成する例であり、部分的に厚みの異なるオーバーコート層を形成する例である。まず、図5aに示すように、基板1上に、赤色パターン2R、緑色パターン2G、および青色パターン2Bから構成される着色層、ならびに遮光部3を形成し、その上にネガ型感光性樹脂からなる感光性樹脂層5を形成する。オーバーコート層形成部位のうち、赤色パターン2R、緑色パターン2G、および青色パターン2Bが設けられていない領域は、光がそのまま透過する白色パターンWである。次いで、図5bに示すように、感光性樹脂層5を階調マスク21を介して露光する。このとき、白色パターンW用オーバーコート層形成部位に対しては透過領域27を介した露光が行われ、赤色パターン緑色パターン青色パターンRGB用オーバーコート層形成部位に対しては半透明領域26を介した露光が行われる。透過領域27を介した感光性樹脂層の露光では、ネガ型感光性樹脂の光反応硬化反応が十分に行われるが、半透明領域26を介した感光性樹脂層の露光では、ネガ型感光性樹脂の光反応硬化反応は半透明膜の透過率特性に応じて不十分なものとなる。そして、現像すると、感光性樹脂層のうち、硬化反応が十分に行われたW用オーバーコート層形成部位では、厚みの厚いW用オーバーコート層15aが形成される。一方、RGB用オーバーコート層形成部位では、硬化反応の程度に応じて半透明膜の透過率特性に応じて、厚みの薄いRGB用オーバーコート層15bが形成される。すなわち、硬化反応の程度が不十分である程、オーバーコート層の厚みが薄くなる。本発明においては、上述したように、階調マスクを用いることによって現像後の感光性樹脂層の厚みを2段階以上に制御することができるので、着色層上に形成された感光性樹脂層の厚みが部分的に異なる場合であっても、着色層上に表面が平坦なオーバーコート層を形成することができる。このように本発明は、基板からの高さの異なる部位に、表面が平坦な同一機能部材を形成する場合にも適用することができる。以下、本発明のカラーフィルタの製造方法における各工程について説明する。1.感光性樹脂層形成工程本発明における感光性樹脂層形成工程は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する工程である。本発明に用いられる感光性樹脂としては、ネガ型感光性樹脂およびポジ型感光性樹脂のいずれも用いることができる。本発明により形成される2種以上の同一機能部材は感光性樹脂からなるものであるので、形成する同一機能部材に応じて、使用する感光性樹脂の種類が適宜選択される。中でも、ネガ型感光性樹脂が好ましく用いられる。上述したように、階調マスクを利用した露光では、透過領域および半透明領域に応じてネガ型感光性樹脂の硬化反応に差が生じるので、高さの調整された2種以上の同一機能部材の形成に有利となる。ネガ型感光性樹脂としては特に限定されるものではなく、一般的に使用されるものを用いることができる。この場合も、2種以上の同一機能部材は感光性樹脂からなるものであるので、形成する同一機能部材に応じて、使用するネガ型感光性樹脂を選択すればよい。例えば、架橋型樹脂をベースとした化学増幅型感光性樹脂、具体的にはポリビニルフェノールに架橋剤を加え、さらに酸発生剤を加えた化学増幅型感光性樹脂等が挙げられる。また例えば、アクリル系ネガ型感光性樹脂として、少なくとも紫外線照射によりラジカル成分を発生する光重合開始剤と、分子内にC=Cなるアクリル基を有し、発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する成分と、その後の現像により未露光部が溶解可能となる官能基例えば、アルカリ溶液による現像の場合は酸性基をもつ成分とを含有するものを用いることができる。上記のアクリル基を有する成分のうち、比較的低分子量の多官能アクリル分子としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートDPPA、テトラメチルペンタトリアクリレートTMPTA等が挙げられる。また、高分子量の多官能アクリル分子としては、スチレン-アクリル酸-ベンジルメタクリレート共重合体の一部のカルボン酸基部分にエポキシ基を介してアクリル基を導入したポリマー等が挙げられる。さらに、必要に応じて、カーボンブラック、銅-鉄-マンガン複合酸化物、酸化インジウムスズITO、アルミニウム、銀、酸化鉄等の導電性粉体等の添加物をネガ型感光性樹脂に含有させてもよい。また、ポジ型感光性樹脂としては特に限定されるものではなく、一般的に使用されるものを用いることができる。上述したように、2種以上の同一機能部材は感光性樹脂からなるものであるので、形成する部材に応じて、使用するポジ型感光性樹脂を選択すればよい。具体的には、ノボラック樹脂をベース樹脂とした化学増幅型感光性樹脂等が挙げられる。本発明において、例えば図4に示すように同一機能部材として着色層を形成する場合には、上記感光性樹脂に顔料や染料等の着色剤を添加することができる。感光性樹脂の塗布方法としては、例えばスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法等を使用することができる。塗布後の感光性樹脂層の厚みは、形成する同一機能部材に応じて適宜調整される。例えば図1に示すように、2種以上の同一機能部材のうち、最も高い部材の高さに適合するように、感光性樹脂層の厚みが調整される。図1の例においては、高スペーサの高さに適合するように感光性樹脂層の厚みが調整される。上記の感光性樹脂の塗布後は、感光性樹脂層に対して加熱処理プリベークを施してもよい。本発明に用いられる基板としては、例えば石英ガラス、パイレックス登録商標ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。この中で特にコーニング社製1737ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり、寸法安定性および高温加熱処理における特性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブマトリックス方式による液晶表示装置用のカラーフィルタに適している。2.同一機能部材形成工程本発明における同一機能部材形成工程は、感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、感光性樹脂からなる高さの調整された2種以上の同一機能部材を同時に形成する工程である。以下、階調マスク、および同一機能部材の形成方法について説明する。1階調マスク本発明に用いられる階調マスクは、透明基板と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが順不同に積層され、透明基板上に遮光膜が設けられた遮光領域と、透明基板上に上記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、透明基板上に遮光膜および半透明膜のいずれも設けられていない透過領域とを有するものである。また、階調マスクにおける半透明膜は、波長300nm~450nmの範囲内における透過率分布が所定の範囲となっている。以下、階調マスクの各構成について説明する。i半透明膜階調マスクに用いられる半透明膜は、透過率調整機能を有し、波長300nm~450nmの範囲内における透過率分布が所定の範囲となるものである。半透明膜は、波長300nm~450nmの範囲内における透過率分布が7以下であり、好ましくは5以下である。例えば露光装置に高圧水銀ランプを用いた場合、発光スペクトルの端部がおおよそ300nmであり、I線の波長が365nm、H線の波長が405nm、G線の波長が436nmであることから、各波長を含む300nm~450nmの範囲内における透過率分布が上記範囲であれば、露光光の長波長域350nm~450nm程度も短波長域300nm~350nm程度もほぼ一定の透過率で半透明膜を透過するので、上述した理由から、同一機能部材の高さ制御が容易となる。また、300nm~450nmの範囲内における透過率分布が上記範囲であれば、短波長域を有効に利用することができる。なお、透過率分布は、300nm~450nmにおける最大透過率Tmaxと最小透過率Tminとの差を、300nm~450nmにおける平均透過率Tavを2倍した値で割った値に、100を乗じた値である。透過率分布=Tmax-Tmin/2Tav×100また、透過率の測定方法としては、階調マスクに使用する透明基板の透過率をリファレンス100として、半透明膜の透過率を測定する方法を採用することができる。装置としては、紫外可視分光光度計例えば日立U4000等、またはフォトダイオードアレイを検出器としている装置例えば大塚電子MCPD等を用いることができる。上記の最大透過率および最小透過率は、300nm~450nmにおける透過率のうち最大値および最小値であり、上記の平均透過率は、300nm~450nmにおける透過率を平均した値である。また、半透明膜の波長250nm~600nmにおける透過率分布は、20以下であることが好ましく、より好ましくは10以下である。一般に、カラーフィルタの製造工程において、露光条件として露光波長域を250nm~600nmの範囲内で設定することが多いため、250nm~600nmにおける透過率分布が上記範囲であれば、広い波長域を有効に利用することができ、また同一機能部材の高さ制御がより容易となるからである。なお、透過率分布の算出方法については、上述した通りである。また、半透明膜の波長300nmでの透過率は、半透明膜の膜厚および形成する同一機能部材によって異なるものではあるが、10~70の範囲内であることが好ましい。例えば露光装置に高圧水銀ランプを用いた場合、輝線スペクトルの端部がおおよそ300nmであることから、波長300nmでの透過率が上記範囲であれば、感光性樹脂の光反応に短波長域の光をより確実に利用することができるからである。上記の300nmでの透過率の好ましい範囲は、形成する同一機能部材によって異なるものであり、例えば同一機能部材としてスペーサを形成する場合は、20~50の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは20~40の範囲内である。また例えば同一機能部材として配向制御用突起を形成する場合は、300nmでの透過率が10~40の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは20~40の範囲内である。さらに例えば同一機能部材として着色層を形成する場合は、300nmでの透過率が10~40の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは10~30の範囲内である。また例えば同一機能部材としてオーバーコート層を形成する場合は、300nmでの透過率が20~50の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは20~40の範囲内である。さらに、高さの差が3μm以上の同一機能部材を形成する場合は、300nmでの透過率が10~30の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは10~20の範囲内である。また、高さの差が3μm以下の同一機能部材を形成する場合は、300nmでの透過率が30~70の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは30~50の範囲内である。なお、透過率の測定方法については、上述した通りである。さらに、半透明膜の波長250nm~600nmにおける平均透過率は、10~60の範囲内であることが好ましい。平均透過率が上記範囲未満では、半透明領域と遮光領域との透過率の差が出にくくなる場合があり、また平均透過率が上記範囲を超えると、半透明領域と透過領域との透過率の差が出にくくなる場合があるからである。半透明膜としては、上述した透過率特性を満たすものであれば特に限定されるものではなく、例えばクロム、モリブデンシリサイド、タンタル、アルミニウム、ケイ素、ニッケル等の金属の膜、あるいは、クロム、モリブデンシリサイド、タンタル、アルミニウム、ケイ素、ニッケル等の金属の窒化物、炭化物などの膜が挙げられる。例えば金属、金属窒化物および金属炭化物は吸収係数が比較的大きいため、波長300nm~400nmにおいて透過率分布が所定の範囲となり、上述の透過率特性を有する場合が多い。これに対し、金属の酸化物は吸収係数が比較的小さく、長波長紫外可視領域になるほど吸収係数がほぼゼロに近づくため、波長が長くなるほど透過率が高くなるような透過率特性を示す場合が多い。したがって、半透明膜としては、上述したように金属、金属窒化物、金属炭化物の膜が用いられるのである。なお、上述の透過率特性を満たしていれば、金属、金属窒化物、金属炭化物の膜は微量の酸素を含んでいてもよい。半透明膜および遮光膜を同一エッチング設備、工程でパターニングし得るという利点から、半透明膜は遮光膜と同系の材料からなる膜であることが好ましい。後述するように遮光膜がクロム系膜であることが好ましいことから、半透明膜も、クロム、窒化クロムなどのクロム系膜であることが好ましい。また、これらのクロム系膜は、機械的強度に優れており、さらには退光性がなく安定しているため、長時間の使用に耐えうる階調マスクとすることができる。上記の中でも、半透明膜は金属の膜であることが好ましい。金属は、金属窒化物、金属炭化物等よりも吸収係数が高いので、金属の膜を用いることにより、上述したような好適な透過率特性を満たす半透明膜とすることができるからである。特に、上記の金属の膜の中でも、半透明膜がクロム膜であることが好ましい。上述したように、パターニングの点で半透明膜が遮光膜と同系の材料からなる膜であることが好ましく、遮光膜がクロム系膜であることが好ましいからである。半透明膜に用いられるクロム膜は、微量の酸素や窒素を含んでいてもよいが、膜中のクロム含有量が80以上であることが好ましく、特に95以上であることが好ましい。上述した好適な透過率特性を満足する半透明膜とすることができるからである。また、半透明膜として、モリブデンシリサイド膜、タンタル膜も好ましく用いられる。半透明膜に用いられるタンタル膜は、上記のクロム膜と同様に、微量の酸素や窒素を含んでいてもよい。半透明膜は、単層であってもよく、複数の層で構成されていてもよい。半透明膜が複数の層で構成されている場合は、少なくとも一つの層が上述した透過率特性を有していればよい。また、他の層は上述した透過率特性を有していてもよく、上述した透過率特性とは異なる透過率特性を有していてもよい。これにより、多階調の階調マスクとすることができる。半透明膜の膜厚としては、上述した透過率特性を満たす膜厚であればよく、例えばクロム膜の場合は5nm~20nm程度とすることができる。半透明膜の透過率はその膜厚により変わるので、膜厚を制御することで所望の透過率とすることができる。また、半透明膜が酸素、窒素、炭素などを含む場合は、その透過率は組成により変わるので、膜厚と組成とを同時にコントロールすることで所望の透過率を実現できる。半透明膜の成膜方法としては、例えばスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法などの物理蒸着法PVDが用いられる。ii遮光膜階調マスクに用いられる遮光膜は、実質的に露光光を透過しないものであり、露光波長における平均透過率が0.1以下であることが好ましい。このような遮光膜としては、一般にフォトマスクに用いられる遮光膜を用いることができ、例えばクロム、モリブデンシリサイド、タンタル、アルミニウム、ケイ素等の金属の膜、あるいは、酸化クロム、窒化クロム、酸化窒化クロム、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素等の金属の酸化物や窒化物などの膜が挙げられる。中でも、クロム、酸化クロム、窒化クロム、酸化窒化クロム等のクロム系膜が好適に用いられる。このようなクロム系膜は、最も使用実績があり、コスト、品質の点で好ましいからである。このクロム系膜は、単層であってもよく、2層以上が積層されたものであってもよい。また、遮光膜は、低反射機能を有していてもよい。低反射機能により、露光光の乱反射を防止することができるので、より鮮明なパターンを形成することができる。遮光膜に低反射機能を付加するには、例えば遮光膜表面に露光光の反射を防止する酸化クロム等のクロム化合物を含有させればよい。この場合、遮光膜が、表面に向かって徐々に含有成分が変化する傾斜界面により形成されたものであってもよい。遮光膜の膜厚としては、特に限定されるものではなく、例えばクロム膜の場合には50nm~150nm程度とすることができる。遮光膜の成膜方法としては、例えばスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法などの物理蒸着法PVDが用いられる。iii透明基板階調マスクに用いられる透明基板は、一般にフォトマスクに用いられる基板を使用することができる。例えば、ホウ珪酸ガラス、アルミノホウ珪酸ガラス等の光学研磨された低膨張ガラス、石英ガラス、合成石英ガラス、パイレックス登録商標ガラス、ソーダライムガラス、ホワイトサファイアなどの可撓性のない透明なリジット材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂フィルムなどの可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。中でも、石英ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり、寸法安定性および高温加熱処理における特性に優れている。iv遮光領域、半透明領域、および透過領域階調マスクにおける遮光領域は、透明基板上に遮光膜が設けられた領域である。遮光領域では、透明基板上に少なくとも遮光膜が形成されていればよく、透明基板上に遮光膜および半透明膜が形成されていてもよい。また、階調マスクにおける半透明領域は、透明基板上に半透明膜のみが設けられた領域である。半透明領域では、透明基板上に半透明膜のみが形成されており、遮光膜は形成されていない。半透明膜が複数の層で構成されている場合は、階調マスクが、異なる透過率特性をもつ複数種類の半透明領域を有していてもよい。この場合、多階調の階調マスクとすることができる。さらに、階調マスクにおける透過領域は、透明基板上に遮光膜および半透明膜のいずれも設けられていない領域である。すなわち、透過領域は、透明基板のみを有する。遮光領域、半透明領域、および透過領域の形状としては、特に限定されるものではなく、形成する同一機能部材に応じて適宜調整される。例えば図6に示すように階調マスク21が、円形状の半透明領域26と円形状の透過領域27とを有し、その他の領域が遮光領域25である場合、図7に示すように階調マスク21が、屈曲部を有する線形状の半透明領域26および透過領域27を有し、その他の領域が遮光領域25である場合、図8に示すように階調マスク21が、枠体形状の遮光領域25を有し、透過領域27および半透明領域26がストライプ状に配置されている場合など、遮光領域、半透明領域、および透過領域の形状は、種々の形状とすることができる。階調マスクは、透明基板と、遮光膜と、半透明膜とが順不同に積層されたものである。図6に例示する階調マスクの層構成としては、図9aに示すように透明基板22、遮光膜24、半透明膜23の順に積層されていてもよく、図9bに示すように透明基板22、半透明膜23、遮光膜24の順に積層されていてもよく、図9cに示すように半透明膜23、透明基板22、遮光膜24の順に積層されていてもよい。なお、図9a~cは、図6のA-A線断面図である。この場合、遮光領域25では透明基板22上に遮光膜24および半透明膜23が設けられ、半透明領域26では透明基板22上に半透明膜23が設けられており、透過領域27は透明基板22のみを有する。このような階調マスクを用いた場合には、例えば図10に示すように高さの異なる高スペーサ11aおよび低スペーサ11bを同時に形成することができる。図7に例示する階調マスクのB-B線断面図を図11に示す。このような階調マスクを用いた場合には、例えば図12に示すように枕部6が設けられている領域である反射部rおよび枕部6が設けられていない領域である透過部tに均一な厚みの配向制御用突起反射部用突起12aおよび透過部用突起12bを同時に形成することができる。また、図8に例示する階調マスクのC-C線断面図を図13に示す。このような階調マスクを用いた場合には、例えば図14に示すように反射部rおよび透過部tに応じて部分的に膜厚の異なる着色層透過部用着色層13aおよび反射部用着色層13bを同時に形成することができる。iv低反射層本発明においては、遮光膜上に低反射層が形成されていてもよい。低反射層を設けることにより、階調マスクの使用時において、ハレーションを防止することができる。低反射層としては、例えば酸化クロム、窒化クロム、酸化窒化クロム等の膜が挙げられる。遮光膜がクロム系膜である場合、これらの膜は遮光膜のエッチング時に同時にエッチングすることが可能である。v階調マスク本発明に用いられる階調マスクは、透過率が3段階以上に段階的に変化するものであり、2階調のマスクに限定されるものではなく、後述するようにパターニングを繰り返すことにより、2階調以上の多階調のマスクとすることが可能である。階調マスクの大きさとしては、形成する同一機能部材に応じて適宜調整されるが、例えば300mm×400mm~1,600mm×1,800mm程度とすることができる。vi階調マスクの製造方法本発明に用いられる階調マスクの製造方法としては、透明基板上に半透明膜および遮光膜をパターン状に形成することにより、所望の位置に遮光領域、半透明領域、および透過領域を配置することができる方法であれば特に限定されるものではないが、2つの好ましい態様を挙げることができる。以下、各態様について説明する。第1態様本態様の階調マスクの製造方法は、透明基板上に遮光膜を成膜したマスクブランクを準備するマスクブランク準備工程と、遮光膜の一部をパターニングする第1パターニング工程と、パターニングされた遮光膜が形成された透明基板の全面に半透明膜を成膜する半透明膜成膜工程と、遮光膜および半透明膜をパターニングする第2パターニング工程とを有するものである。図15は、本態様の階調マスクの製造方法の一例を示す工程図である。本態様の階調マスクを作製するには、まず透明基板22上に遮光膜24aを成膜したマスクブランク50を準備する図15a、マスクブランク準備工程。次に、遮光膜24a上にレジスト材料を塗布し、塗布後に所定時間ベークし、第1レジスト膜51aを形成する図15b。次に、遮光膜をパターン露光する。この際、半透明領域26と遮光領域25とが接する境界、および半透明領域26と透過領域27とが接する境界を形成するように、半透明領域26は第1レジスト膜51aが除去される露光量で露光し、遮光領域25および透過領域27は第1レジスト膜51aが残存する露光量で露光する。続いて、現像することにより、第1レジストパターン51bを形成する図15c。次に、第1レジストパターン51bより露出している遮光膜24aをエッチングして、遮光膜中間パターン24bを形成し図15d、残存している第1レジストパターン51bを除去する図15e。この遮光膜中間パターン24bでは、後述する第2パターニング工程にて半透明膜と同じ箇所をエッチングする部分はエッチングされずに残存している。なお、図15b~eは第1パターニング工程である。次に、遮光膜中間パターン24bが形成された透明基板22の全面に、半透明膜23aを成膜する図15f、半透明膜成膜工程。次に、半透明膜23a上にレジスト材料を塗布し、塗布後に所定時間ベークし、第2レジスト膜52aを形成する図15g。続いて、遮光膜および半透明膜のパターン露光を行う。この際、遮光領域25と透過領域27とが接する境界、および半透明領域26と透過領域27とが接する境界を形成するように、透過領域27は第2レジスト膜52aが除去される露光量で露光し、遮光領域25および半透明領域26は第2レジスト膜52aが残存する露光量で露光する。次に、現像することにより、第2レジストパターン52bを形成する図15h。次に、第2レジストパターン52bより露出している半透明膜23aをエッチングし、続いて、下層の遮光膜中間パターン24bが露出している箇所をさらにエッチングすることにより、半透明膜パターン23bおよび遮光膜パターン24cを形成する図15i。次いで、残存している第2レジストパターン52bを除去し図15j、階調マスクを得ることができる。なお、図15g~jは第2パターニング工程である。本態様においては、第1パターニング工程にて遮光膜の一部のみをパターニングし、第2パターニング工程にて遮光膜および半透明膜をパターニングするので、後述する第2態様のように半透明膜上に形成された遮光膜のみを選択的にエッチングする必要がない。このため、遮光膜および半透明膜に用いる材料が限定されないという利点を有する。例えば、遮光膜および半透明膜に同系の材料、具体的にはクロム系膜を用いることができる。また、エッチング選択性が要求されないので、複数のエッチング技術複数の装置エッチャントなどを用いる必要がなく、マスク製造コストを削減することができる。さらに、遮光膜および半透明膜がクロム系膜である場合には、従来のバイナリマスクと同様のプロセスで階調マスクを製造することができ、複雑な工程を要しないという利点も有する。以下、本態様の階調マスクの製造方法における各工程について説明する。マスクブランク準備工程本態様におけるマスクブランク準備工程は、透明基板上に遮光膜を成膜したマスクブランクを準備する工程である。透明基板上に遮光膜としてクロム膜が形成されたマスクブランクは、一般的に使用されているマスクブランクであり、容易に入手可能である。第1パターニング工程本態様における第1パターニング工程は、遮光膜の一部をパターニングする工程である。遮光膜のパターニング方法としては特に限定されるものではなく、通常、リソグラフィー法が用いられる。リソグラフィー法を用いる場合、マスクブランクの遮光膜上にレジスト材料を塗布し、ベークを行って第1レジスト膜を形成する。第1レジスト膜の材料としては、ポジ型レジスト材料およびネガ型レジスト材料のいずれも用いることができる。ポジ型レジスト材料としては特に限定されるものではなく、例えばノボラック樹脂をベース樹脂とした化学増幅型レジスト等が挙げられる。また、ネガ型レジスト材料としては特に限定されるものではなく、例えば架橋型樹脂をベースとした化学増幅型レジスト、具体的にはポリビニルフェノールに架橋剤を加え、さらに酸発生剤を加えた化学増幅型レジスト等が挙げられる。遮光膜のパターン露光では、半透明領域と遮光領域とが接する境界、および半透明領域と透過領域とが接する境界を形成するように、各領域により露光量が異なるようにパターン露光する。この際、半透明領域は第1レジスト膜が除去される露光量で露光し、遮光領域および透過領域は第1レジスト膜が残存する露光量で露光する。例えば図15cは、ポジ型レジスト材料を用いて第1レジスト膜を形成した場合の例であるが、この場合、半透明領域26では第1レジスト膜51aが感光される露光量で露光し、遮光領域25および透過領域27では第1レジスト膜51aを露光しない。また、図示しないが、第1レジスト膜にネガ型レジスト材料を用いた場合は、半透明領域では露光せず、遮光領域および透過領域で第1レジスト膜が感光される露光量で露光する。なお、遮光膜および半透明膜の同じ箇所を一括してエッチングするためのパターン露光は、第2パターニング工程で行う。各領域により異なる露光量で露光する方法としては、エネルギー線の露光量を制御する方法や、一定の露光量で重ねて露光する方法等がある。描画方法としては、特に限定されるものではなく、通常のフォトマスク描画に用いられる電子線描画法、もしくはレーザー描画法等を用いることができる。電子線描画法を用いる場合は、露光量を容易に変換することができる。レーザー描画法を用いる場合は、露光量変換に時間がかかるため、露光量を変えずに重ねて露光してもよい。また、液晶表示装置や有機EL表示装置などの表示装置の大型化、製造時の多面付化に伴い、階調マスクも大型化しているため、表示装置用の階調マスクの作製には主にレーザー描画法が適用される。パターン露光後の現像は、一般的な現像方法に従って行うことができる。遮光膜のエッチング方法としては、例えば硝酸第2セリウムアンモニウム水溶液等によるウェットエッチング、塩素系ガス等によるドライエッチングのいずれも適用することができる。中でも、ウェットエッチングが好ましい。ウェットエッチングはコストや生産効率の点で有利である。また、ウェットエッチングは化学反応で溶解が進行するため、エッチャントを選択することによりエッチング速度を容易に制御できる点からも好ましい。遮光膜がクロム系膜である場合には、硝酸セリウム系ウェットエッチャントが好適に用いられる。また、遮光膜が低反射機能を有する場合は、第1レジスト膜を露光するための露光光の散乱によって、本来露光されるべき領域でない領域が露光されてしまうことを防止することができる。第1レジスト膜の除去方法としては特に限定されるものではなく、通常、酸素プラズマ処理による灰化や、有機アルカリ液による洗浄によって行う。本態様においては、第1パターニング工程後に、遮光膜パターンの検査を行う検査工程や、必要に応じて欠陥修正をする修正工程を行ってもよい。遮光膜がクロム膜である場合には、一般的なフォトマスクの検査技術、修正技術を適用することができる。遮光膜パターンの寸法検査、遮光膜パターンの欠陥検査の検査工程や、修正工程を行うことにより、次の工程に欠陥を有する基板が渡るのを防ぎ、良品率が高まり、マスクコスト低減に寄与する。半透明膜成膜工程本態様における半透明膜成膜工程は、パターニングされた遮光膜が形成された透明基板の全面に半透明膜を成膜する工程である。なお、半透明膜の成膜方法については、上記半透明膜の項に記載したので、ここでの説明は省略する。第2パターニング工程本態様における第2パターニング工程は、遮光膜および半透明膜をパターニングする工程である。遮光膜および半透明膜のパターニング方法としては特に限定されるものではなく、通常、リソグラフィー法が用いられる。リソグラフィー法を用いる場合、遮光膜および半透明膜が形成された透明基板上にレジスト材料を塗布し、ベークを行って第2レジスト膜を形成する。なお、第2レジスト膜の材料については、上記第1パターニング工程の項に記載した第1レジスト膜の材料と同様であるので、ここでの説明は省略する。半透明膜および遮光膜のパターン露光では、遮光領域と透過領域とが接する境界、および半透明領域と透過領域とが接する境界を形成するように、各領域により露光量が異なるようにパターン露光する。この際、透過領域は第2レジスト膜が除去される露光量で露光し、遮光領域および半透明領域は第2レジスト膜が残存する露光量で露光する。例えば図15hは、ポジ型レジスト材料を用いて第2レジスト膜を形成した場合の例であるが、この場合、透過領域27では第2レジスト膜52aが感光される露光量で露光し、遮光領域25および半透明領域26では第2レジスト膜52aを露光しない。また、図示しないが、第2レジスト膜にネガ型レジスト材料を用いた場合は、透過領域では露光せず、遮光領域および半透明領域で第2レジスト膜が感光される露光量で露光する。なお、パターン露光のその他の点、および現像については、上記第1パターニング工程の項に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。また、本工程においては、遮光膜および半透明膜の同じ箇所を一括してエッチングする。透過領域では遮光膜と半透明膜とが一括してエッチングされるので、遮光膜パターンの端部および半透明膜パターンの端部の位置が略同一となる。なお、遮光膜および半透明膜エッチング方法については、上記第1パターニング工程の項に記載した遮光膜のエッチング方法と同様であるので、ここでの説明は省略する。第2レジスト膜の除去方法としては特に限定されるものではなく、通常、酸素プラズマ処理による灰化や、有機アルカリ液による洗浄によって行う。本態様においては、第2パターニング工程後に、遮光パターンおよび半透明膜パターンの検査を行う検査工程や、必要に応じて欠陥修正をする修正工程を行ってもよい。遮光パターンおよび半透明膜パターンの寸法検査、遮光パターンおよび半透明膜パターンの欠陥検査の検査工程や、修正工程を行うことにより、良品率が高まり、マスクコスト低減に寄与する。第2態様本態様の階調マスクの製造方法は、透明基板上に半透明膜および遮光膜がこの順に積層されたマスクブランクを準備するマスクブランク準備工程と、半透明膜および遮光膜の一部をパターニングする第1パターニング工程と、遮光膜のみをパターニングする第2パターニング工程とを有するものである。図16は、本態様の階調マスクの製造方法の一例を示す工程図である。本態様の階調マスクを作製するには、まず透明基板22上に半透明膜23aおよび遮光膜24aがこの順に積層されたマスクブランク50を準備する図16a、マスクブランク準備工程。次に、遮光膜24a上にレジスト材料を塗布し、塗布後に所定時間ベークし、第1レジスト膜53aを形成する図16b。次に、半透明膜および遮光膜のパターン露光を行う。この際、遮光領域25と透過領域27とが接する境界、および半透明領域26と透過領域27とが接する境界を形成するように、透過領域27は第1レジスト膜53aが除去される露光量で露光し、遮光領域25および半透明領域26は第1レジスト膜53aが残存する露光量で露光する。続いて、現像することにより、第1レジストパターン53bを形成する図16c。次に、第1レジストパターン53bより露出している半透明膜23aおよび遮光膜24aをエッチングして、半透明膜パターン23bおよび遮光膜中間パターン24bを形成し図16d、残存している第1レジストパターン53bを除去する図16e。この遮光膜中間パターン24bでは、後述する第2パターニング工程にて遮光膜のみをエッチングする部分はエッチングされずに残存している。なお、図16b~eは第1パターニング工程である。次に、半透明膜パターン23bおよび遮光膜中間パターン24bが形成された透明基板22上にレジスト材料を塗布し、塗布後に所定時間ベークし、第2レジスト膜54aを形成する図16f。続いて、遮光膜のパターン露光を行う。この際、半透明領域26と遮光領域25とが接する境界、および半透明領域26と透過領域27とが接する境界を形成するように、半透明領域26は第2レジスト膜54aが除去される露光量で露光し、遮光領域25および透過領域27は第2レジスト膜54aが残存する露光量で露光する。次に、現像することにより、第2レジストパターン54bを形成する図16g。次に、第2レジストパターン54bより露出している遮光膜中間パターン24bをエッチングして、遮光膜パターン24cを形成し、図16h、残存している第2レジストパターン54bを除去する図16i。なお、図16f~iは第2パターニング工程である。このようにして階調マスクを得ることができる。本態様においては、上記第1態様のように、具体的には第1パターニング工程および第2パターニング工程の間に半透明膜成膜工程を行うというように、階調マスクの製造工程の途中で半透明膜成膜工程を行う必要がない。このため、半透明膜の成膜時のリスク欠陥や汚れなどを低減することができる。また、TATTurnAroundTimeの短縮化が可能である。以下、本態様の階調マスクの製造方法における各工程について説明する。マスクブランク準備工程本態様におけるマスクブランク準備工程は、透明基板上に半透明膜および遮光膜がこの順に積層されたマスクブランクを準備する工程である。なお、透明基板、半透明膜および遮光膜については、上述した通りであるので、ここでの説明は省略する。第1パターニング工程本態様における第1パターニング工程は、半透明膜および遮光膜の一部をパターニングする工程である。半透明膜および遮光膜のパターニング方法としては特に限定されるものではなく、通常、リソグラフィー法が用いられる。リソグラフィー法を用いる場合、マスクブランクの遮光膜上にレジスト材料を塗布し、ベークを行って第1レジスト膜を形成する。半透明膜および遮光膜のパターン露光では、遮光領域と透過領域とが接する境界、および半透明領域と透過領域とが接する境界を形成するように、領域により露光量が異なるようにパターン露光する。この際、透過領域は第1レジスト膜が除去される露光量で露光し、遮光領域および半透明領域は第1レジスト膜が残存する露光量で露光する。例えば図16cは、ポジ型レジスト材料を用いて第1レジスト膜を形成した場合の例であるが、この場合、透過領域27では第1レジスト膜53aが感光される露光量で露光し、遮光領域25および半透明領域26では第1レジスト膜53aを露光しない。また、図示しないが、第1レジスト膜にネガ型レジスト材料を用いた場合は、透過領域では露光せず、遮光領域および半透明領域で第1レジスト膜が感光される露光量で露光する。なお、遮光膜のみをエッチングするためのパターン露光は、第2パターニング工程で行う。なお、第1レジスト膜の材料、半透明膜および遮光膜のパターン露光のその他の点、現像、半透明膜および遮光膜のエッチング方法、第1レジスト膜の除去方法、半透明膜パターンおよび遮光膜パターンの検査工程、ならびに半透明膜パターンおよび遮光膜パターンの修正工程については、上記第1態様と同様であるので、ここでの説明は省略する。第2パターニング工程本態様における第2パターニング工程は、遮光膜のみをパターニングする工程である。遮光膜のパターニング方法としては特に限定されるものではなく、通常、リソグラフィー法が用いられる。リソグラフィー法を用いる場合、パターニングされた半透明膜および遮光膜の上にレジスト材料を塗布し、ベークを行って第2レジスト膜を形成する。遮光膜のパターン露光では、半透明領域と遮光領域とが接する境界、および半透明領域と透過領域とが接する境界を形成するように、領域により露光量が異なるようにパターン露光する。この際、半透明領域は第2レジスト膜が除去される露光量で露光し、遮光領域および透過領域は第2レジスト膜が残存する露光量で露光する。例えば図16gは、ポジ型レジスト材料を用いて第2レジスト膜を形成した場合の例であるが、この場合、半透明領域26では第2レジスト膜54aが感光される露光量で露光し、遮光領域25および透過領域27では第2レジスト膜54aを露光しない。また、図示しないが、第2レジスト膜にネガ型レジスト材料を用いた場合は、半透明領域では露光せず、遮光領域および透過領域で第2レジスト膜が感光される露光量で露光する。なお、第2レジスト膜の材料、遮光膜のパターン露光、および現像については、上記第1態様と同様であるので、ここでの説明は省略する。現像後は、遮光膜のエッチングを行う。本態様においては、例えば金属の種類によってエッチング速度が異なることを利用し、半透明膜および遮光膜に異種の金属を含む膜を用いて、半透明膜のエッチング速度を遮光膜のエッチング速度より遅くすることができる。半透明膜および遮光膜のエッチング速度に差をつけることで、エッチングの選択性が向上し、上層の遮光膜をエッチングする際に下層の半透明膜も一緒にエッチングされることを防止することができる。このように、半透明膜および遮光膜のエッチング速度を変えることでエッチング選択性を向上させ、階調をより鮮明にすることができる。また、半透明膜および遮光膜に同種の金属を含む膜を用いて、半透明膜のエッチング速度を遮光膜のエッチング速度より遅くすることもできる。例えば、クロム系膜は種類によってエッチング速度が異なるので、半透明膜および遮光膜に異なるクロム系膜を用いて、エッチング速度に差をつけることができる。具体的には、半透明膜に酸化窒化炭化クロム膜、遮光膜にクロム膜を使用する場合などが挙げられる。遮光膜および半透明膜に同種の金属を含む膜を用いた場合には、異種の金属を含む膜を用いた場合や、エッチング技術を変える場合に比べて、遮光膜の半透明膜に対するエッチング選択性が低下する場合がある。しかしながら、遮光膜の膜厚を比較的薄くした場合には、エッチング時間を短くすることができ、遮光膜エッチング処理時、およびオーバーエッチング時の半透明膜のダメージを極力少なくすることが可能である。エッチング選択性を向上させる方法としては、上記のような半透明膜および遮光膜の組成の違いによりエッチング速度に差をつける方法だけでなく、半透明膜にフッ素イオンを注入し、エッチング速度の差をさらに広げる方法や、エッチング技術エッチング装置、エッチャントなどを変える方法も用いることができる。なお、フッ素イオンの注入については、特開2005-91855公報を参考にすることができる。なお、遮光膜のエッチング方法、第2レジスト膜の除去方法、遮光膜パターンの検査工程、および遮光膜パターンの修正工程については、上記第1態様と同様であるので、ここでの説明は省略する。2同一機能部材の形成方法本発明においては、感光性樹脂からなる高さの調整された2種以上の同一機能部材を同時に形成することができる。なお、同一機能部材とは、機能が同一である部材をいう。例えば、図1に例示する高スペーサ11aは、カラーフィルタと薄膜トランジスタTFT基板との間に配置される液晶層の厚みを所望の厚みに設定するための部材であり、また低スペーサ11bはカラーフィルタとTFT基板との間に荷重がかかった場合、TFT基板に当接し、高スペーサと協働して、カラーフィルタとTFT基板との距離液晶層の厚みの更なる変化を阻止するための部材である。したがって、高スペーサおよび低スペーサは同一機能部材である。また図3に例示する反射部用突起12aおよび透過部用突起12bは両者とも、近傍の液晶分子にプレチルト角を与える作用、および電気力線を所望の方向に歪ませる作用をなすことにより、液晶層の液晶分子の配向方向を複数方向に制御することを可能とする部材である。したがって、反射部用突起および透過部用突起は同一機能部材である。さらに図4に例示する透過部用着色層13aおよび反射部用着色層13bは両者とも、通常、赤色パターン、緑色パターン、および青色パターンから構成され、本発明により製造されるカラーフィルタを用いて液晶表示装置とした際にカラー表示を可能とする部材である。したがって、透過部用着色層および反射部用着色層は同一機能部材である。また図5に例示するW用オーバーコート層15aおよびRGB用オーバーコート層15bは両者とも、着色層を保護するとともに、着色層表面を平坦化するための部材である。したがって、W用オーバーコート層およびRGB用オーバーコート層は同一機能部材である。また、高さの調整された2種以上の同一機能部材とは、基板からの高さが調整された2種以上の同一機能部材をいう。同一機能部材は、例えば、図1に示すような基板からの高さが等しい部位に形成され、基板からの高さが異なり、厚みが異なる2種以上の同一機能部材であってもよく、図3に示すような基板からの高さが異なる部位に形成され、基板からの高さが異なり、厚みが等しい2種以上の同一機能部材であってもよく、図4に示すような基板からの高さが異なる部位に形成され、基板からの高さが異なり、厚みが異なる2種以上の同一機能部材であってもよく、図5に示すような基板からの高さが異なる部位に形成され、基板からの高さが等しく、厚みが異なる2種以上の同一機能部材であってもよい。本発明により形成される同一機能部材としては、露光を経て形成される種々の部材を挙げることができる。形成可能な同一機能部材としては、感光性樹脂を用いて形成することができるものであればよく、具体的にはスペーサ、配向制御用突起、着色層、オーバーコート層などを挙げることができる。本工程においては、まず、感光性樹脂層を階調マスクを介して露光する。露光方法としては、特に限定されるものではなく、例えば感光性樹脂の表面から数十μm程度の間隙をあけて階調マスクを配置し、露光するプロキシミティ露光を行うことができる。この露光により、感光性樹脂としてネガ型感光性樹脂を用いた場合には照射部分で硬化反応が生じ、ポジ型感光性樹脂を用いた場合には照射部分で酸発生反応が生じる。上記の露光後は、現像が行われる。現像により、感光性樹脂層が部分的に除去される。感光性樹脂としてネガ型感光性樹脂を用いた場合には、露光により硬化した部分が残存し、その他の部分が選択的に除去される。透過領域から露光された部位では硬化反応が十分に進行するのに対し、半透明領域から露光された部位では硬化反応が不十分となるので、高さの調整された同一機能部材を同時に形成することができる。また、感光性樹脂としてポジ型感光性樹脂を用いた場合には、露光により分解した部分が選択的に除去され、その他の部分が残存する。透過領域から露光された部位では酸発生反応が十分に進行するのに対し、半透明領域から露光された部位では酸発生反応が不十分となるので、高さの調整された同一機能部材を同時に形成することができる。現像は、一般的な現像方法に従って行うことができる。また、露光および現像後、形成された同一機能部材に対して加熱処理ポストベークを施してもよい。この加熱処理は、例えば温度100~250°C、処理時間10~60分程度で適宜設定することができる。3.その他の工程本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述した感光性樹脂層形成工程および同一機能部材形成工程を順次繰り返し行うものであってもよい。例えば、図4に示すように上記感光性樹脂層形成工程および同一機能部材形成工程により着色層を形成した後、図1に例示するスペーサや図3に例示する配向制御用突起を上記感光性樹脂層形成工程および同一機能部材形成工程により形成してもよい。また例えば、図1に示すように上記感光性樹脂層形成工程および同一機能部材形成工程によりスペーサを形成した後に、図3に例示する配向制御用突起を上記感光性樹脂層形成工程および同一機能部材形成工程により形成してもよい。さらに例えば、図3に示すように上記感光性樹脂層形成工程および同一機能部材形成工程により配向制御用突起を形成した後に、図1に例示するスペーサを上記感光性樹脂層形成工程および同一機能部材形成工程により形成してもよい。また本発明においては、感光性樹脂層形成工程前および/または同一機能部材形成工程後に、カラーフィルタにおける各種部材を形成する工程を必要に応じて行うことができる。例えば、基板上に着色層を形成する着色層形成工程を行うことができる。この着色層形成工程は、上記の感光性樹脂層形成工程前に行ってもよく、同一機能部材形成工程後に行ってもよい。着色層は、通常、赤色パターン、緑色パターンおよび青色パターンから構成されるものである。着色層は、例えば所望の着色剤を含有する感光性樹脂組成物を使用した顔料分散法により形成することができる。さらに、着色層の形成方法としては、印刷法、電着法、転写法、インクジェット法等の一般的な方法を使用することもできる。着色層の厚みは、例えば0.5~3.0μmの範囲で設定することができる。また例えば、基板上に遮光部を形成する遮光部形成工程を行うことができる。この遮光部形成工程は、上記の感光性樹脂層形成工程前に行ってもよく、同一機能部材形成工程後に行ってもよい。通常、遮光部形成工程は、上記着色層形成工程前に行われる。遮光部は、例えばスパッタリング法、真空蒸着法等によりクロム等の金属薄膜を形成し、この金属薄膜をパターニングすることにより形成することができる。この場合、遮光部の厚みは、200~5000Å程度とすることができる。また、遮光部は、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂組成物、アクリル樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物等を用いて樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングすることにより形成することもできる。さらに、遮光部は、カーボン微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂組成物を用いて樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングすることにより形成することもできる。さらに例えば、基板上に透明電極層を形成する透明電極層形成工程を行うことができる。この透明電極層形成工程は、上記の感光性樹脂層形成工程前に行ってもよく、同一機能部材形成工程後に行ってもよい。通常、透明電極層形成工程は、上記着色層形成工程後に行われる。透明電極層の形成材料としては、例えば酸化インジウムスズITO、酸化亜鉛ZnO、酸化スズSnO等、またはその合金等を挙げることができる。透明電極層の成膜方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、CVD法等の一般的な成膜方法を用いることができる。この透明電極層の厚みは、例えば200~5000Å程度とすることができる。また例えば、基板上に枕部を形成する枕部形成工程を行うことができる。この枕部形成工程は、上記の感光性樹脂層形成工程前に行ってもよく、同一機能部材形成工程後に行ってもよい。図3や図4に例示するように枕部上に同一機能部材を形成する場合は、枕部形成工程は、通常、上記感光性樹脂層形成工程前に行われる。枕部の形成材料としては、例えば感光性アクリル樹脂、感光性ポリイミド、ポジレジスト、カルド樹脂、ポリシロキサン、ベンゾシクロブテン等を挙げることができる。枕部の形成方法としては、上記材料を用いて例えばフォトリソグラフィー法等により、形成することができる。さらに例えば、同一機能部材形成工程後に、同一機能部材を覆うように配向膜を形成する配向膜形成工程を行ってもよい。配向膜は、例えば可溶性ポリイミド、ポリアミック酸タイプポリイミド、変性ポリイミド等の有機化合物を、一般的な印刷法、塗布方法により塗布し、その後、焼成することにより形成することができる。このような配向膜には、配向処理ラビングは不要である。配向膜の厚みは、500~1000Å程度とすることができる。4.用途本発明のカラーフィルタの製造方法は、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いていることから、液晶表示装置用のカラーフィルタの製造、特に大型の液晶表示装置用のカラーフィルタの製造や半透過型液晶表示装置用のカラーフィルタの製造に適している。また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、モノクロの液晶表示装置用の基板、例えば高スペーサおよび低スペーサを有する基板などの製造に適用することもできる。なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。[実施例1]階調マスクの作製光学研磨された390mm×610mmの合成石英基板上にクロム膜遮光膜が厚み100nmで成膜されている常用のマスクブランク上に、市販のフォトレジスト東京応化工業社製ip-3500を厚み600nmで塗布し、120°Cに加熱されたホットプレートで15分ベークした後、フォトマスク用レーザ描画装置マイクロニック社製LRS11000-TFT3で、所望の遮光膜中間パターンを描画した。次に、専用のデベロッパー東京応化工業社製NMD3で現像し、遮光膜用レジストパターンを得た。次に、レジストパターンをエッチング用マスクとし、クロム膜をエッチングし、さらに残ったレジストパターンを剥膜することで、所望の遮光膜中間パターンを得た。クロム膜のエッチングには、市販の硝酸セリウム系ウェットエッチャントザインクテック社製MR-ESを用いた。クロム膜のエッチング時間は、60秒であった。次いで、遮光膜中間パターンが形成された基板について、パターン寸法検査、パターン欠陥検査、必要に応じてパターン修正を行い、よく洗浄した後、クロム膜半透明膜を下記の条件でスパッタリング法にて成膜した。<成膜条件>ガス流量比Ar:N2=4:1パワー:1.3kWガス圧:3.5mTorr半透明膜の膜厚は10nmとした。半透明膜の分光スペクトルを図17に示す。次に、半透明膜上に市販のフォトレジスト東京応化製ip-3500を再度、厚み600nmで塗布し、120°Cに加熱されたホットプレート上で15分ベークした。続いて半透明膜パターンとなる像を再度、レーザ描画装置マイクロニック社製LRS11000-TFT3で描画し、専用デベロッパー東京応化社製NMD3で現像し、レジストパターンを得た。次に、レジストパターンをマスクとして、市販の硝酸セリウム系ウェットエッチャントザインクテック社製MR-ESで半透明膜および遮光膜をエッチングし、半透明膜パターンおよび遮光膜パターンを得た。エッチングは半透明膜および遮光膜に対して行った。最後に残ったレジストを剥膜し、パターン寸法検査、パターン欠陥検査などの検査工程を経て、必要に応じてパターン修正を行い、階調マスクを得た。カラーフィルタの作製基板として、大きさが300mm×400mm、厚みが0.7mmのガラス基板コーニング社製1737ガラスを準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、基板の片側全面にスパッタリング法によりクロム薄膜厚み1000Åを形成した。このクロム薄膜上にポジ型感光性レジスト東京応化工業株製OFPR-800を塗布し、所定のマスクを介して露光、現像してレジストパターンを形成した。次いで、このレジストパターンをマスクとして、クロム薄膜をエッチングして、線幅20μm、ピッチ100μmのブラックマトリックスを形成した。次に、下記組成の赤色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物、緑色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物、青色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。<赤色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物>赤顔料チバスペシャリティケミカルズ社製クロモフタルレッドA2B4.8重量部黄顔料BASF社製パリオトールイエローD18191.2重量部分散剤ビックケミー社製ディスパービック1613.0重量部モノマーサートマー社製SR3994.0重量部ポリマーI5.0重量部開始剤チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア9071.4重量部開始剤2,2 ́-ビスo-クロロフェニル-4,5,4 ́,5 ́-テトラフェニル-1,2 ́-ビイミダゾール0.6重量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート80.0重量部<緑色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物>緑顔料アビシア社製モナストラルグリーン9Y-C4.2重量部黄顔料BASF社製パリオトールイエローD18191.8重量部分散剤ビックケミー社製ディスパービック1613.0重量部モノマーサートマー社製SR3994.0重量部ポリマーI5.0重量部開始剤チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア9071.4重量部開始剤2,2 ́-ビスo-クロロフェニル-4,5,4 ́,5 ́-テトラフェニル-1,2 ́-ビイミダゾール0.6重量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート80.0重量部<青色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物>青顔料BASF社製ヘリオゲンブルーL6700F6.0重量部顔料誘導体アビシア社製ソルスパース50000.6重量部分散剤ビックケミー社製ディスパービック1612.4重量部モノマーサートマー社製SR3994.0重量部ポリマーI5.0重量部開始剤チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア9071.4重量部開始剤2,2 ́-ビスo-クロロフェニル-4,5,4 ́,5 ́-テトラフェニル-1,2 ́-ビイミダゾール0.6重量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート80.0重量部なお、上記のポリマーIは、ベンジルメタクリレート:スチレン:アクリル酸:2-ヒドロキシエチルメタクリレート=15.6:37.0:30.5:16.9モル比の共重合体100モルに対して、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを16.9モル付加したものであり、重量平均分子量は42500である。次いで、ガラス基板上にブラックマトリックスを覆うように赤色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、赤色パターン用のフォトマスクを介して、露光、現像して、赤色パターンを形成した。この赤色パターンは、長方形状100μm×300μmとした。その後、緑色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物、青色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物を用いて、同様の操作により、緑色パターン、青色パターンを形成した。これにより、赤色パターン、緑色パターン、青色パターンが配列された着色層を形成した。次に、ブラックマトリックス、着色層を覆うように酸化インジウムスズITOからなる透明電極層厚み1500Åをスパッタリング法により形成した。次に、透明電極層上にネガ型感光性樹脂組成物JSR製オプトマーNN850をスピンコート法により塗布し、減圧乾燥後、100°Cにて3分間プリベークした。その後、上記の階調マスクを介して下記条件にて露光した。<露光条件>露光量:100mJ/cm2I線換算露光ギャップ:150μm次いで、水酸化カリウム水溶液を用いて現像し、その後、230°C、30分間の加熱処理を施し、高さの異なる高スペーサおよび低スペーサを同時形成した。[比較例1]階調マスクの作製下記のように半透明膜を成膜した以外は、実施例1と同様にして階調マスクを作製した。遮光膜中間パターンが形成された基板について、パターン寸法検査、パターン欠陥検査、必要に応じてパターン修正を行い、よく洗浄した後、高屈折率層屈折率:2.5、厚み:29nm、TiO2膜と低屈折率層屈折率:1.5、厚み:48nm、SiO2膜とを交互に計15層1層目および15層目は高屈折率層、スパッタリング法にて成膜した。これにより、波長330nm以下の短波長域をカットする半透明膜を得た。カラーフィルタの作製実施例1と同様にして、カラーフィルタを作製した。[評価]実施例1、比較例1の階調マスクを用いて形成された高スペーサおよび低スペーサの断面形状を走査型電子顕微鏡にて観察し、寸法を測定した。結果を表1に示す。実施例1の階調マスクを露光プロセスに用いることにより、高スペーサおよび低スペーサに最適な形状および寸法をもつパターンを形成することができた。[実施例2]階調マスクの作製実施例1と同様の方法により、赤色パターン用、緑色パターン用、および青色パターン用の階調マスクをそれぞれ作製した。カラーフィルタの作製大きさが100mm×100mm、厚みが0.7mmのガラス基板を準備した。このガラス基板上にネガ型感光性樹脂組成物JSR製オプトマーNN850を塗布し、所定のマスクを用いて露光、現像して、枕部を形成した。このとき、形成された枕部は、高さが2.5μm、ストライプ幅が60μmであった。次いで、ガラス基板上に枕部を覆うようにして実施例1で用いた赤色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、減圧乾燥後、80°Cにて3分間プリベークした。その後、上記の赤色パターン用の階調マスクを介して下記条件にて露光した。<露光条件>露光量:60mJ/cm2I線換算露光ギャップ:150μm次いで、水酸化カリウム水溶液を用いて現像し、その後、230°C、30分間の加熱処理を施し、反射部と透過部とで厚みの異なる赤色パターンを形成した。その後、緑色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物、青色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物を用いて、同様の操作により、緑色パターン、青色パターンを形成した。これにより、反射部と透過部とで厚みの異なる赤色パターン、緑色パターン、青色パターンが配列された着色層を形成した。評価得られたカラーフィルタについて、分光特性を分光光度計にて測定した。CIE色度座標を表2に示す。実施例2の階調マスクを露光プロセスに用いることにより、反射部および透過部のそれぞれに最適な膜厚、色特性をもつ着色層を形成することができた。"