酸化物形態の異なる酸化層を複数層積層させたAgー酸化物系の電気接点材料において、接点面に1~99質量Ag-W、1~99質量Ag-WC、W、WCの内、1種以上のコーティング層を有することを特徴とする電気接点材料。請求項1において、コーティング層の厚みを0.1~1000μmとしたことを特徴とする電気接点材料。請求項1において、1~99質量Ag-Wおよび/もしくは1~99質量Ag-WCのコーティング層を1層以上有することを特徴とする電気接点材料。請求項1において、Ag-WもしくはAg-WCのコーティング層が、1~99質量Ag-Wもしくは1~99質量Ag-WCの範囲で段階的に変化した複層のコーティング層であることを特徴とする電気接点材料。請求項4のコーティング層の製造方法において、Ag粉末とW粉末もしくはAg粉末とWC粉末をそれぞれ99:1になるように混入し、徐々にW粉末もしくはWC粉末を増量して段階的に組成を傾斜変化させて段階的に変化した複層のコーティング層を形成することを特徴とする電気接点材料の製造方法。しかし、上記の従来技術によると、Agー酸化物系の電気接点材料は、電気的開閉を繰り返すことにより、接点の表層に酸化物が堆積し、それが要因となって接点表面における接触抵抗を引き上げ、温度上昇を引き起こすという問題がある。この温度上昇の問題を克服するためには、添加する酸化物量を減少させる等の方法により解決することができるが、添加する酸化物量を減少させると、耐溶着性、耐消耗性を引き下げることになる。以上のことから、安定した接触抵抗により実現される優れた温度特性の実現と耐溶着性、耐消耗性の向上という性能は互いに相反する部分があり、接点材料の選択に当たっての問題となっている。そこで本発明は、酸化物形態の異なる酸化層を複数層積層させることとし、そのAgー酸化物系電気接点材料に、1~99質量Ag-W、1~99質量Ag-WC、WCおよびWの内の1種以上で1層の厚みを0.1~1000μmとしたコーティングを施すことにより構成する。ここで、コーティング層の1層の厚みを0.1~1000μmとした理由は、1層の厚みが0.1μm未満ではコーティングの効果がないためであり、また、1000μmを超えると技術および生産コストの面からコーティングを行うことが難しいからである。なお、コーティングの方法は、プラズマ溶射、ガス溶射、高速フレーム溶射、コールドスプレー等の溶射でのコーティング、気中や液中での断続的な放電、パルス等の放電によるコーティングおよびPVDPhysicalVaporDeposition、CVDCemicalVaporDeposition等の蒸着法によるコーティングである。以上のAgー酸化物系の電気接点材料によると、接点材料の表面に上記条件のコーティングを施すことにより、耐溶着性、耐消耗性、接触抵抗等の諸電気特性が向上した接点材料となる。本発明の実施例を説明する。板厚1.0mm、3.0mm角の材料を、酸素分圧0.5~1.0MPa、内部酸化温度を400°C~700°Cとし、周期的に変化させて100時間で内部酸化させることにより90.5質量Ag-5.8質量SnO2-3.5質量In2O3-0.2質量NiOの酸化物形態の異なる酸化層を複数層有する接点材料を作製する。上記接点材料2の接点表面にブラスト処理を行った後、コーティング層の厚さ800μm、コーティング層の組成を1質量Ag-Wとして気中放電によって行った図1。その気中放電の条件は、陽極1に1質量Ag-W、陰極に上記記載の接点材料2を用いて大気中にて、電流1~3A、電圧60V、放電距離1mm、300~400Hzで振動させ、断続的に放電させることによりコーティング層3を形成した図3。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、コーティング層の厚さ100μm、コーティング層の組成を1質量Ag-WCとして気中放電によって行った図1。その気中放電の条件は、陽極に1質量Ag-WC、陰極に上記記載の接点材料を用いて大気中にて、電流1~3A、電圧60V、放電距離1mm、300~400Hzで振動させ、断続的に放電させることにより部分的にコーティングを行った図4。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とW粉末を50:50になるように混入し、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の厚さ0.1μm、コーティング層の組成を50質量Ag-Wとしてコーティングを行った図3。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とWC粉末を50:50になるように混入し、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の厚さ20μm、コーティング層の組成を50質量Ag-WCとしてコーティングを行った図3。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とW粉末を50:50になるように混入し、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の厚さ500μm、コーティング層の組成を99質量Ag-Wとしてコーティングを行った図3。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とWC粉末を50:50になるように混入し、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の厚さ1000μm、コーティング層の組成を99質量Ag-WCとしてコーティングを行った図3。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とW粉末を50:50になるように混入し、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の厚さ300μm、コーティング層の組成をWとしてコーティングを行った図3。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とWC粉末を50:50になるように混入し、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の厚さ600μm、コーティング層の組成をWCとしてコーティングを行った図3。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とW粉末およびAg粉末とWC粉末とをそれぞれ50:50になるように混入し、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の1層の厚さを50μm、コーティング層の組成を1質量Ag-W4と1質量Ag-WC5として交互に8層のコーティングを行った図5。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とW粉末およびAg粉末とWC粉末とをそれぞれ50:50になるように混入し、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の1層の厚さを50μm、コーティング層の組成を50質量Ag-W6と50質量Ag-WC7として交互に6層のコーティングを行った図6。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とW粉末およびAg粉末とWC粉末とをそれぞれ50:50になるように混入し、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の1層の厚さを50μm、コーティング層の組成を99質量Ag-W8と99質量Ag-WC9として交互に4層のコーティングを行った図7。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とW粉末およびAg粉末とWC粉末とをそれぞれ50:50になるように混入し、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の1層の厚さを50μm、コーティング層の組成をW10とWC11として交互に2層のコーティングを行った図8。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とW粉末を99:1になるように混入し、徐々にW粉末を増量して段階的に組成を傾斜変化させ、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の1層の厚さを100μm、コーティング層の組成を下から99質量Ag-W8、75質量Ag-W13、50質量Ag-W6、25質量Ag-W12、1質量Ag-W4としてコーティングを行った図9。上記実施例1に用いたと同様の接点材料の接点表面にブラスト処理を行った後、プラズマ溶射にてコーティングを行った。プラズマ溶射の条件は、プラズマジェット雰囲気中に粒度5~125μmのAg粉末とWC粉末を99:1になるように混入し、徐々にWC粉末を増量して段階的に組成を傾斜変化させ、大気中にて、ジェット電流500~800A、溶射距離100mm、プラズマガスにはアルゴンを使用流量30l/minし、溶射ガンを300mm/secにて往復運動させ、コーティング層の1層の厚さを100μm、コーティング層の組成を下から99質量Ag-WC9、75質量Ag-WC15、50質量Ag-WC7、25質量Ag-WC14、1質量Ag-WC5としてコーティングを行った図10。比較例1板厚1.0mm、3.0mm角の材料を、酸素分圧0.5~1.0MPa、内部酸化温度を400°C~700°Cとし、周期的に変化させて100時間で内部酸化させることにより90.5質量Ag-5.8質量SnO2-3.5質量In2O3-0.2質量NiOの酸化物形態の異なる酸化層を複数層有する接点材料を作製する。比較例2板厚1.0mm、3.0mm角の材料を、酸素分圧0.5~1.0MPa、内部酸化温度を400°C~700°Cとし、周期的に変化させて100時間で内部酸化させることにより92.3質量Ag-5質量SnO2-2.5質量In2O3-0.2質量NiOの酸化物形態の異なる酸化層を複数層有する接点材料を作製する。比較例3板厚1.0mm、3.0mm角の材料を、酸素分圧0.5~1.0MPa、内部酸化温度を400°C~700°Cとし、周期的に変化させて100時間で内部酸化させることにより91.9質量Ag-7質量SnO2-1質量In2O3-0.1質量NiOの酸化物形態の異なる酸化層を複数層有する接点材料を作製する。以上の各実施例および比較例について接点試験を行った。接点試験は接触抵抗の測定と溶射試験60A定格用ならびにブレーカによる消耗量の測定AC20020Aを行い、電気特性を評価した。