フィルム基材の片側主面に再剥離フィルムを積層して積層フィルム基材を得る工程Aと、前記積層フィルム基材の前記フィルム基材の他の主面にラビング処理を行なう工程Bと、前記フィルム基材のラビング処理面に、リオトロピック液晶化合物と溶媒を含む溶液を塗布する工程Cと、前記積層フィルム基材から前記再剥離フィルムを剥離する工程Dを含む、光学積層体の製造方法。前記フィルム基材を形成する材料が、シクロオレフィン系ポリマーフィルム、またはセルロース系ポリマーフィルムである、請求項1に記載の光学積層体の製造方法。前記再剥離フィルムを形成する材料が、エステル系ポリマーフィルムまたはアクリル系ポリマーフィルムである、請求項1または2に記載の光学積層体の製造方法。前記フィルム基材の厚みは20μm~50μmであり、前記再剥離フィルムの厚みは30μm~150μmであり、前記積層フィルム基材の厚みは100μm~200μmである、請求項1~3のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。前記ラビング処理が、テンションウェブ方式のラビング処理である、請求項1~4のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。前記リオトロピック液晶化合物が、アゾ系化合物、アントラキノン系化合物、ペリレン系化合物、キノフタロン系化合物、ナフトキノン系化合物、メロシアニン系化合物のいずれか、または、それらの混合物である、請求項1~5のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。前記溶媒が、水、アルコール類、ケトン類、セロソルブ類のいずれか、または、それらの混合溶媒である、請求項1~6のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。前記溶液を塗布する手段が、ワイヤーバー、ギャップコーター、コンマコーター、グラビアコーター、スロットダイのいずれかである、請求項1~7のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。本発明の目的は、外観均一性の優れた偏光膜を有し、しかも膜厚の薄い光学積層体の製造方法を実現することである。1本発明の、フィルム基材と偏光膜を有する光学積層体の製造方法は、次の工程を含む。フィルム基材の片側主面に再剥離フィルムを積層して、積層フィルム基材を得る工程A。積層フィルム基材のフィルム基材の他の主面に、ラビング処理を行なう工程B。フィルム基材のラビング処理面に、リオトロピック液晶化合物と溶媒を含む溶液を塗布する工程C。積層フィルム基材から再剥離フィルムを剥離する工程D。2本発明の光学積層体の製造方法においては、フィルム基材を形成する材料が、シクロオレフィン系ポリマーフィルムまたはセルロース系ポリマーフィルムである。3本発明の光学積層体の製造方法においては、再剥離フィルムを形成する材料が、エステル系ポリマーフィルムまたはアクリル系ポリマーフィルムである。4本発明の光学積層体の製造方法においては、フィルム基材の厚みは20μm~50μmであり、再剥離フィルムの厚みは30μm~150μmであり、積層フィルム基材の厚みは100μm~200μmである。5本発明の光学積層体の製造方法においては、ラビング処理は、テンションウェブ方式のラビング処理である。6本発明の光学積層体の製造方法においては、リオトロピック液晶化合物が、アゾ系化合物、アントラキノン系化合物、ペリレン系化合物、キノフタロン系化合物、ナフトキノン系化合物、メロシアニン系化合物のいずれか、または、それらの混合物である。7本発明の光学積層体の製造方法においては、溶媒が、水、アルコール類、ケトン類、セロソルブ類のいずれか、または、それらの混合溶媒である。8本発明の光学積層体の製造方法においては、溶液を塗布する手段が、ワイヤーバー、ギャップコーター、コンマコーター、グラビアコーター、スロットダイのいずれかである。本発明により、外観均一性の優れた偏光膜を有する薄型の光学積層体が得られる。本発明者らの研究によると、従来製法において偏光膜の外観均一性が悪化する原因は、次の通りである。フィルム基材が薄い場合、フィルム基材の剛性が不足し、シワやタワミが発生する。フィルム基材のシワやタワミにより、ラビング処理や塗布が不安定になる。例えば、フィルム基材にシワがあると、シワの凸部にラビング処理の圧力が集中し、シワの凹部に塗布液が集中することがある。また、フィルム基材にタワミがあると、タワミの凹部に塗布液が集中することがある。そのため偏光膜の外観均一性が悪化する。フィルム基材が薄いとは、厚みが例えば50μm以下のことをいう。本発明においては、フィルム基材の、ラビング処理をしない側の面すなわち、リオトロピック液晶化合物を含む溶液を塗布しない側の面に、予め再剥離フィルムを積層し、積層後の積層フィルム基材の厚みを、例えば、80μm以上としておく。フィルム基材と再剥離フィルムが自己接着性がある場合は、特に接着層を必要としない。自己接着性が無い場合は、再剥離フィルムに接着層を付加することが望ましい。この状態で、ラビング処理を行ない、リオトロピック液晶化合物を含む溶液を塗布する。積層フィルム基材は単層のフィルム基材と比べ厚くて剛性が高いため、シワやタワミが発生しにくく、ラビング処理や溶液塗布を安定して行なうことができる。その結果、外観均一性の優れた偏光膜を得ることができる。その後、積層フィルム基材から再剥離フィルムを剥離する。それにより、フィルム基材と、リオトロピック液晶化合物を含む偏光膜との光学積層体が得られる。得られた光学積層体は厚みが薄い薄型である。[本発明の製造方法]本発明は図1に示す光学積層体10の製造方法である。本発明の製造方法により得られる光学積層体10は、フィルム基材11と偏光膜12とを有する。本発明の製造方法は、図1に示す工程A~工程Dを含む。本発明の製造方法は、工程A~工程D以外に、工程A~工程Dの前後または間に他の工程を含んでもよい。工程Aでは、フィルム基材11の片側主面に再剥離フィルム13を積層し、積層フィルム基材14を得る。工程Bでは、フィルム基材11の他の主面に、回転するラビングロール15を押し付け、ラビング処理を行なう。工程Cでは、ラビング処理後のフィルム基材11の表面に、リオトロピック液晶化合物を含む溶液を塗布する。リオトロピック液晶化合物を含む溶液の膜が、リオトロピック液晶化合物の配向後、偏光膜12となる。工程Dでは、再剥離フィルム13を剥離する。[工程A]工程Aでは、フィルム基材11の片側主面に再剥離フィルム13を積層し、積層フィルム基材14を得る。薄型の光学積層体10を得るためには、フィルム基材11の厚みは50μm以下であることが好ましく、20μm~50μmであることがより好ましい。外観均一性の優れた偏光膜12を得るためには、積層フィルム基材14が十分な剛性を持つことが必要であるため、積層フィルム基材14の厚みは80μm以上であることが好ましく、100μm~200μmであることがより好ましい。上記のフィルム基材11の厚みと積層フィルム基材14の厚みを考慮すると、再剥離フィルム13の厚みは30μm~150μmであることが好ましい。例えば、フィルム基材11の厚みが50μmであるときは、再剥離フィルム13の厚みは30μm以上であることが好ましい。フィルム基材11の厚みが20μmであるときは、再剥離フィルム13の厚みは60μm以上であることが好ましい。積層フィルム基材14は単独のフィルム基材11より剛性が高く、シワやタワミが発生しにくい。そのため、積層フィルム基材14に対しては、ラビング処理や溶液の塗布を安定して均一に行なうことができる。フィルム基材11の材料は、特に制限はないが、平滑性や透明性が高いものが好ましい。フィルム基材11を形成する材料として、例えば、シクロオレフィン系ポリマーフィルムやセルロース系ポリマーフィルムが挙げられる。フィルム基材11のラビング処理する表面には、リオトロピック液晶化合物の配向能を高めるため、ビニルアルコール系ポリマーなどからなる配向膜図示しないが形成されていてもよい。再剥離フィルム13としては、例えば、フィルムの片側主面に再剥離性の粘着剤層図示しないが形成されたものが用いられる。再剥離フィルム13の材料は平滑性や剛性の高いものが好ましい。再剥離フィルム13を形成する材料としては、例えば、エステル系ポリマーフィルムやアクリル系ポリマーフィルムが挙げられる。[工程B]工程Bでは、工程Aで得られた積層フィルム基材14のフィルム基材11の主面に、ラビングロール15を押し付けて、ラビング処理をする。ラビング処理は、工程Cで塗布されるリオトロピック液晶化合物を、一方向に配向させるために行なわれる。ラビング処理は、例えば、起毛パイルを有するラビング布を巻き付けたラビングロール15を一方向に回転させながら、走行している積層フィルム基材14のフィルム基材11の表面に押し付けることにより行なわれる。ラビング布の材質に特に制限はなく、例えばコットンやレーヨンが用いられる。ラビングロール15の回転軸と、積層フィルム基材14の走行方向のなす角度は、目的に応じて適宜設定される。好ましいラビング処理の実施形態を図2に示す。長尺の積層フィルム基材14の再剥離フィルム13側の表面を、第1のガイドロール16と第2のガイドロール17により支持しながら、積層フィルム基材14を走行させる。第1のガイドロール16は積層フィルム基材14の走行上流側にあり、第2のガイドロール17は積層フィルム基材14の走行下流側にある。第1のガイドロール16と第2のガイドロール17の間で、積層フィルム基材14のフィルム基材11側の表面に、ラビングロール15を押し付けて、ラビング処理をする。ラビングロール15の押し込み量Hは、リオトロピック液晶化合物が均一に配向するように、適宜設定される。図2のようなラビング処理方法はテンションウェブ方式のラビング処理といい、ラビングロール15のバックロールが無いことが特徴である。テンションウェブ方式のラビング処理を用いることにより、幅方向に対し、均一な張力が付与されるため、ラビング処理が均一に施される。それにより外観均一性の優れた偏光膜を有する光学積層体が得られる。第1のガイドロール16と第2のガイドロール17は、積層フィルム基材14が走行する際、積層フィルム基材14の再剥離フィルム13側の表面を回転しながら支持する。第1のガイドロール16と第2のガイドロール17は、材質、大きさに制限は無いが、通常、ゴム製または金属製であり、直径は10mm~500mmである。第1のガイドロール16の材質、大きさと、第2のガイドロール17の材質、大きさは、同一でもよいし、異なっていてもよい。[工程C]工程Cでは、工程Bで得られた積層フィルム基材14のラビング処理面に、リオトロピック液晶化合物を含む溶液を塗布して、偏光膜12を得る。本発明に用いられるリオトロピック液晶化合物を含む溶液は、通常、リオトロピック液晶化合物と溶媒を含む。リオトロピック液晶化合物とは、溶媒に溶解した状態で液晶性を示す化合物をいう。本発明に用いられるリオトロピック液晶化合物としては、アゾ系化合物、アントラキノン系化合物、ペリレン系化合物、キノフタロン系化合物、ナフトキノン系化合物、メロシアニン系化合物、および、それらの混合物が好ましい。本発明に用いられる溶媒は、水、アルコール類、ケトン類、セロソルブ類およびそれらの混合溶媒が好ましい。溶液中のリオトロピック液晶化合物の含有量は、リオトロピック液晶化合物を含む溶液の総重量の2重量~30重量が好ましい。本発明に用いられる塗布手段は、リオトロピック液晶化合物を含む溶液を、積層フィルム基材14の表面に均一に塗布できるものであれば、特に制限はなく、例えば、ワイヤーバー、ギャップコーター、コンマコーター、グラビアコーター、スロットダイである。塗布されたリオトロピック液晶化合物を含む溶液は、自然乾燥させてもよいし、加熱乾燥させてもよい。[工程D]工程Dでは、再剥離フィルム13を剥離して、光学積層体10フィルム基材11と偏光膜12の積層体を得る。本発明に用いられる、再剥離フィルム13の剥離手段は、特に制限はなく、公知の剥離装置でもよいし、人力による剥離でもよい。[光学積層体]本発明により得られる光学積層体10は、フィルム基材11と、フィルム基材11上に形成された偏光膜12を有する。偏光膜12は、可視光領域波長380nm~780nmのいずれかの波長で吸収二色性を示し、主面内の一方向に吸収軸を有する。吸収二色性は、偏光膜12中でリオトロピック液晶化合物が配向することにより得られる。偏光膜12中のリオトロピック液晶化合物の含有量は、好ましくは、偏光膜12の総重量の80重量~100重量である。光学積層体10の厚みは、好ましくは20μm~60μmである。偏光膜12の厚みは、好ましくは0.1μm~10μmである。[実施例]シクロオレフィン系ポリマーフィルム日本ゼオン社製ZEONORからなる長尺のフィルム基材11厚み40μmを準備した。粘着剤層が形成されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる長尺の再剥離フィルム13厚み60μmを準備した。フィルム基材11の片側主面に再剥離フィルム13を積層接着して、積層フィルム基材14を作製した工程A。次に図2のように、積層フィルム基材14を走行させながら、フィルム基材11の表面をラビング処理した工程B。次にラビング処理をしたフィルム基材11の表面に、リオトロピック液晶化合物を含む溶液を塗布した工程C。リオトロピック液晶化合物を含む溶液は、特開2009-173849の実施例1に準じて作製したアゾ系化合物を、水に溶解したものである。リオトロピック液晶化合物を含む溶液を自然乾燥させて、厚み0.4μmの偏光膜12を形成した。最後に積層フィルム基材14から再剥離フィルム13を剥離して、偏光膜12とフィルム基材11からなる光学積層体10厚み40.4μmを得た工程D。[比較例]実施例と同仕様のフィルム基材を、実施例と同仕様でラビング処理した。ラビング処理した表面に、実施例と同仕様のリオトロピック液晶化合物を含む溶液を、実施例と同仕様で塗布した。これを実施例と同仕様で自然乾燥させて、厚み0.4μmの偏光膜を形成した。最終的に、厚み40.4μmの光学積層体を得た。比較例においては、実施例と異なり、再剥離フィルムを使用しなかった。[評価]実施例の光学積層体の偏光膜は、外観が均一であった。それに対して、比較例の光学積層体の偏光膜は、ラビング処理の不安定さ、および、塗布の不安定さに起因して、外観が不均一であった。[測定方法][厚み]フィルムの厚み等は、デジタルゲージ尾崎製作所製PEACOCKを用いて測定した。[外観均一性]白色光源の上に、実施例の光学積層体10から切り出したサンプルを載せ、サンプルを、主面に垂直な軸の周りにゆっくり回転させながら、偏光膜の外観均一性を目視観察した。比較例の光学積層体から切り出したサンプルについても、実施例と同じように、偏光膜の外観均一性を目視観察した。