"貼り合わせ処理を用いてタンデム型色素増感太陽電池DSCを製造する方法であって、陰極、第1の色素層および陽極を含む第1の光電池PVセルを形成するステップと、陰極、第2の色素層および陽極を含む第2のPVセルを形成するステップと、第1の透明導電接着剤層によって、100°Cより低い温度で、第2のPVセルの陽極を第1のPVセルの陰極に貼り合わせるステップと、当該貼り合わせるステップに対応して、第1のPVセルと第2のPVセルとの間の内部の電気的な直列接続を形成するステップと、を有することを特徴とする方法。第2のPVセルを形成するステップは、第1の酸化チタンTiO2ナノチューブTNT層の陽極を形成するステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。第2のPVセルの陰極の上に第1の外部電極正極を形成するステップと、第1のPVセルの陽極の下に透明な第2の外部電極負極を形成するステップと、をさらに有することを特徴とする請求項2に記載の方法。第1のPVセルを形成するステップは、第2のTNT層の陽極を形成するステップと、第2のTNT層の陽極の上に第1の色素層を形成するステップと、第1の色素層の上に第1の固相正孔伝導体層の陰極を形成するステップと、を有し、第2のPVセルを形成するステップは、第1のTNT層の陽極の上に第2の色素を吸着させるステップと、第2の色素層の上に第2の固相正孔伝導体層の陰極を形成するステップと、を有し、上記内部の電気的な直列接続を形成するステップは、第1の透明導電接着剤層によって、第1のTNT層の陽極と第1の固相正孔伝導体層の陰極との間の内部の電気的な直列接続を形成するステップを含むことを特徴とする請求項3に記載の方法。第1のPVセルを形成するステップは、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる前に、導電層と支持体との積層の上に第2のTNT層の陽極を形成するステップを含み、上記導電層は、第2の外部電極負極であることを特徴とする請求項4に記載の方法。導電層と支持体との積層の上に第2のTNT層の陽極を形成するステップは、第2の透明導電接着剤層によって、第2のTNT層の陽極を導電層と支持体との積層の上に貼り合わせるステップを含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。第1のPVセルを形成するステップは、第2のTNT層の陽極の上に第1の色素を吸着させるステップと、当該ステップの後に、第2のTNT層を導電層と支持体との積層に貼り合わせるステップと、を含み、第2のPVセルを形成するステップは、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせた後に、第2の色素を吸着させるステップ、または、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる前に、第2の色素を吸着させるステップを含み、第2のPVセルの上に第1の外部電極正極を形成するステップは、第2の固相正孔伝導体層の陰極を形成した後に、第1の外部電極を形成するステップを含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。第1のPVセルを形成するステップは、第2の外部電極負極である導電層と支持体との積層の上に、TiO2、SnO2およびZnOからなる群から選択される粒子を含むナノ粒子の陽極を形成するステップと、上記ナノ粒子の陽極の上に第1の色素を吸着させるステップと、第1の色素層の上に第1の固相正孔伝導体層の陰極を形成するステップと、を含むことを特徴とする請求項3に記載の方法。第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせるステップは、第1の色素の吸着後に、第1のTNT層を第1の固相正孔伝導体層の陰極に貼り合わせるステップを含み、上記内部の直列接続を形成するステップは、透明導電接着剤層によって、第1のTNT層と第1の固相正孔伝導体層の陰極との間の内部の電気的な直列接続を形成するステップを含むことを特徴とする請求項8に記載の方法。第2のPVセルを形成するステップは、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせた後に、第2の色素を第1のTNT層に吸着させるステップ、または、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる前に、第2の色素を第1のTNT層に吸着させるステップと、第1のTNT層の上に第2の固相正孔伝導体層の陰極を形成するステップと、を含むことを特徴とする請求項8に記載の方法。第2のPVセルを形成するステップは、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせた後に、第2の色素を第1のTNT層に吸着させるステップ、または、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる前に、第2の色素を第1のTNT層に吸着させるステップと、第1のTNT層の陽極の上に、液体電解質層を配置するステップと、上記液体電解質層の上に触媒層を配置するステップと、を含み、第2のPVセルの上に第1の外部電極正極を形成するステップは、支持体と導電層との積層を、上記触媒層の上に配置するステップを含むことを特徴とする請求項3に記載の方法。第1のPVセルを形成するステップは、第2の外部電極負極である導電層と支持体との積層の上に、TiO2、SnO2およびZnOからなる群から選択される粒子を含むナノ粒子の陽極を形成するステップと、上記ナノ粒子の陽極の上に第1の色素を吸着させるステップと、第1の色素層の上に第1の固相正孔伝導体層の陰極を形成するステップと、を含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。第1のPVセルを形成するステップは、第2のTNT層の陽極を形成するステップと、第2のTNT層の陽極の上に第1の色素を吸着させるステップと、第1の色素層の上に第1の固相正孔伝導体層を形成するステップと、を含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。第3のTNT層の陽極、第3の色素層および陰極を含む第3のPVセルを形成するステップと、第1の透明導電接着剤層によって、100°Cより低い温度で、第3のTNT層を第2のPVセルの陰極に貼り合わせるステップと、当該貼り合わせるステップに対応して、第2のPVセルと第3のPVセルとの間の内部の電気的な直列接続を形成するステップと、をさらに有することを特徴とする請求項2に記載の方法。第1のTNT層の陽極を形成するステップは、Ti膜を形成するステップと、第1の時間をかけて、フッ化物イオンを含んだ電解質中で上記Ti膜を陽極酸化して、当該Ti膜の上にアモルファスTNT材料を形成するステップと、TNT層とTi膜とをアニールして、アナタース相TNTを形成するステップと、第1の時間よりも短い第2の時間をかけて、TNT層とTi膜とを陽極酸化して、アニールされた上層のTNT層とTi膜との間に挿入されたアモルファスTNT層を形成するステップと、TNT層とTi膜とをH2O2溶液に浸して、アモルファスTNT層をエッチングするステップと、Ti膜からTNT層を分離するステップと、を含むことを特徴とする請求項2に記載の方法。第1の光電池PVセルと、第2のPVセルと、第1の透明導電接着剤層と、を備えるタンデム型色素増感太陽電池DSCであって、第1のPVセルは、陰極と、陽極と、当該陰極と当該陽極との間に挿入された第1の色素層と、を含み、第2のPVセルは、陰極と、陽極と、当該陰極と当該陽極との間に挿入された第2の色素層と、を含み、第1の透明導電接着剤層は、第1のPVセルと第2のPVセルとを貼り合わせて、第1のPVセルと第2のPVセルとの間の内部の電気的な直列接続を形成することを特徴とするタンデム型色素増感太陽電池。第2のPVセルの陽極は、第1の酸化チタンTiO2ナノチューブTNT層であることを特徴とする請求項16に記載のタンデム型色素増感太陽電池。第2のPVセルの陰極の上に形成された第1の外部電極正極と、第1のPVセルの陽極の下に形成された透明な第2の外部電極負極と、をさらに備えることを特徴とする請求項17に記載のタンデム型色素増感太陽電池。第1のPVセルの陽極は、第2のTNT層であり、第1のPVセルの陰極は、第1の色素層の上に形成された第1の固相正孔伝導体層であり、第2のPVセルの陰極は、第2の色素層の上に形成された第2の固相正孔伝導体層であり、第1のTNT層と第2のPVセルの陰極との接着によって、第1のPVセルと第2のPVセルとの間の内部の電気的な直列接続が形成されていることを特徴とする請求項18に記載のタンデム型色素増感太陽電池。第2の外部電極負極は、第2のTNT層の上に形成された、導電層と支持体との積層であることを特徴とする請求項19に記載のタンデム型色素増感太陽電池。第2の外部電極負極は、導電層と支持体との積層であり、第1のPVセルの陽極は、導電層と支持体との積層の上に形成され、TiO2、SnO2およびZnOからなる群から選択される粒子を含むナノ粒子の陽極であり、第1のPVセルの陰極は、第1の色素層の上に形成された第1の固相正孔伝導体層であり、第2のPVセルの陰極は、第2の色素層の上に形成された第2の固相正孔伝導体層であることを特徴とする請求項18に記載のタンデム型色素増感太陽電池。第2のPVセルは、第1のTNT層の上に配置される液体電解質層と、上記液体電解質層の上に配置される触媒層と、を有し、第2のPVセルの上に形成された第1の外部電極正極は、上記触媒層の上に配置された支持体と導電層との積層であり、第2の外部電極負極は、導電層と支持体との積層であり、第1のPVセルの陽極は、導電層と支持体との積層の上に形成され、TiO2、SnO2およびZnOからなる群から選択される粒子を含むナノ粒子の陽極であり、第1のPVセルの陰極は、第1の色素層の上に形成された第1の固相正孔伝導体層であることを特徴とする請求項18に記載のタンデム型色素増感太陽電池。第2のPVセルは、第1のTNT層の上に配置される液体電解質層と、上記液体電解質層の上に配置される触媒層と、を有し、第2のPVセルの上に形成された第1の外部電極正極は、上記触媒層の上に形成された支持体と導電層との積層であり、第2の外部電極負極は、導電層と支持体との積層であり、第1のPVセルの陽極は、第2のTNT層であり、第1のPVセルの陰極は、第1の色素層の上に形成された第1の固相正孔伝導体層であることを特徴とする請求項18に記載のタンデム型色素増感太陽電池。第3のPVセルと、第2の透明導電接着剤層と、をさらに備え、第3のPVセルは、第3のTNT層の陽極と、陰極と、当該陽極と当該陰極との間に挿入された第3の色素層と、を含み、第2の透明導電接着剤層は、第3のTNT層を第2のPVセルの陰極に貼り合わせて、第2のPVセルと第3のPVセルとの間の内部の電気的な直列接続を形成することを特徴とする請求項17に記載のタンデム型色素増感太陽電池。酸化チタンTiO2ナノチューブTNT膜を形成する方法であって、Ti膜を形成するステップと、第1の時間をかけて、フッ化物イオンを含んだ電解質中で上記Ti膜を陽極酸化して、当該Ti膜の上にアモルファスTNT材料を形成するステップと、TNT層とTi膜とをアニールして、アナタース相TNTを形成するステップと、第1の時間よりも短い第2の時間をかけて、TNT層とTi膜とを陽極酸化して、アニールされた上層のTNT層とTi膜との間に挿入されたアモルファスTNT層を形成するステップと、TNT層とTi膜とをH2O2溶液に浸して、アモルファスTNT層をエッチングするステップと、Ti膜からTNT層を分離するステップと、を有することを特徴とする方法。第2のPVセルを形成するステップは、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせた後に、第2の色素を第1のTNT層に吸着させるステップ、または、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる前に、第2の色素を第1のTNT層に吸着させるステップと、支持体と導電層との積層の上に触媒層を形成するステップと、第1のTNT層と上記触媒層とを貼り合わせるステップと、を含み、第2のPVセルの上に第1の外部電極正極を形成するステップは、上記触媒層と第1のTNT層の陽極との間に液体電解質を注入して液体電解質層を形成するステップを含むことを特徴とする請求項3に記載の方法。上記支持体はガラス層であり、上記導電層は透明導電酸化物TCO層であることを特徴とする請求項5~13、26のいずれか1項に記載の方法。上記支持体はガラス層であり、上記導電層は透明導電酸化物TCO層であることを特徴とする請求項20~23のいずれか1項に記載のタンデム型色素増感太陽電池。上記触媒層は、白金Pt層であることを特徴とする請求項11~13、26のいずれか1項に記載の方法。上記触媒層は、白金Pt層であることを特徴とする請求項22または23に記載のタンデム型色素増感太陽電池。上記液体電解質層は、ヨウ化物イオンおよびトリヨウ化物イオンを含むことを特徴とする請求項11、12または13に記載の方法。上記液体電解質層は、ヨウ化物イオンおよびトリヨウ化物イオンを含むことを特徴とする請求項22または23に記載のタンデム型色素増感太陽電池。高効率のタンデム型DSCセルを製造するために、移送および貼り合わせの技術が利用できれば、有利になるであろう。本明細書では、二重陽極酸化プロセスを利用して、陽極酸化されたTi膜から耐久性のあるTNT層を作製する本発明技術について説明する。従来の移送技術が、非常に脆弱で破壊/亀裂が生じやすく、薄く自立したアニールしていないTNT膜を移送する工程を含んでいたのに対し、本明細書で説明する二重陽極酸化プロセスは、移送/処理に対する充分な耐久性を保持した、大面積の膜を作製することが可能となる。TNT膜は、研磨したTi膜をフッ化物イオンを含んだ電解質中で陽極酸化することによって生成される。この最初の陽極酸化は、主要なTNT層の機能をもたらす。本発明の一形態では、膜は、電解質から除去され、乾燥されて、約450°C~600°Cの温度でアニールされる。その結果、TNTはアナタース相に転移する。続いて、上記膜は、再び短時間、陽極酸化され、下層にアモルファスTNT層が形成される。このアモルファスTNT層は、H2O2溶液中でエッチングすることができる。最良のエッチング条件では、亀裂または破壊を殆ど/全く生じることなく、膜からTNT層の全体を除去することができる。その結果、結晶化したTNT膜は、アニールされていないアモルファスTNTに比べ、非常に丈夫である。また、自立した状態の結晶化したTNT膜は、比較的小さな湾曲/応力を示すので、その後のプロセスにおける取り扱いを容易にすることができる。そのため、TNT層は、媒体によってコーティングされた第2の基板に移送できる。この第2の基板への移送の際、最も好ましくは、透明な導電接着層を媒体に用いることができる。そこで、貼り合わせ処理を用いてタンデム型色素増感太陽電池DSCを製造する方法を提供する。当該方法では、陰極、第1の色素層および陽極を含む第1の光電池PVセルを形成する。陰極、第2の色素層および陽極を含む第2のPVセルも形成される。第1の透明導電接着剤層によって、100°Cより低い温度で、第2のPVセルの陽極が第1のPVセルの陰極に貼り合わされる。この貼り合わせに対応して、第1のPVセルと第2のPVセルとの間の内部の電気的な直列接続が形成される。一形態では、第2のPVセルは、第1の酸化チタンTiO2ナノチューブTNT層の陽極から形成される。第1のPVセルは、第2のTNT層の陽極から形成される。第1の色素は、第2のTNT層の陽極の上に吸着され、第1の色素層の上に第1の固相正孔伝導体層の陰極を形成する。同様に、第2のPVセルは、第1のTNT層の陽極の上に第2の色素を吸着させ、第2の色素層の上に第2の固相正孔伝導体層の陰極を形成することにより形成される。第1の透明導電接着剤層によって第1のTNT層が第1のPVセルの陰極に接着され、これにより、第1のTNT層の陽極と第1の固相正孔伝導体層の陰極との間の内部の電気的な直列接続が形成される。上述した方法、タンデム型DSC、およびTNT層の形成方法のさらに詳細な説明を、以下に記載する。図6は、タンデム型色素増感太陽電池DSCの部分断面図である。タンデム型DSC600は、第1の光電池PVセル602を備えている。第1のPVセル602は、陰極604、陽極606および第1の色素層608を備えており、第1の色素層608は、陽極606と陰極604との間に挿入されている。第2のPVセル610は、陰極612、陽極614および第2の色素層616を備えており、第2の色素層616は、陽極614と陰極612との間に挿入されている。第2のPVセル610は、第1の透明導電接着剤層618によって第1のPVセル602に接着されている。これにより、第1のPVセル602と第2のPVセル610との内部の直列接続が形成されている。一形態では、第2のPVセルの陽極614は、第1の酸化チタンTiO2ナノチューブTNT層である。第1の外部電極外部正極620が、第2のPVセルの陰極612の上に形成されており、透明な第2の外部電極外部負極622が、第1のPVセルの陽極606の下に形成されている。第1の透明導電接着剤層は、例えば、ポリ3,4-エチレンジオキシ基チオフェン、ポリスチレンスルフォン酸塩PEDOT:PSSまたは同様の重合体などの有機接着剤を含んでいる。当該重合体は、AedotronTMおよびOligitronTMTDAリサーチ有限会社などのPEDOT骨格、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリフェニレンビニレン、ポリフェニレン硫化物などから構成されている。第1の透明導電接着剤層は、導電性および/または接着性を高める他の添加剤を含んでもよい。あるいは、第1の透明導電接着剤層は、導電性を高めるために、望ましくは金属、金属ナノ粒子、カーボンナノチューブ等がドーピングされた非導電性または低導電性の接着重合体を含んでもよい。図7は、図6のタンデム型DSCの第1の変形例を示す部分断面図である。この形態では、第1のPVセルの陽極606は、第2のTNT層であり、陰極604は、第1の色素層608の上に形成された第1の固相正孔伝導体層である。第2のPVセルの陰極612は、第2の色素層616の上に形成された第2の固相正孔伝導体層であり、陽極614は、第1のTNT層である。第1のTNT層614と第1のPVセルの陰極604との間の接着剤層618は、第1のPVセル602と第2のPVセル610との内部の直列接続を形成している。第2の外部電極外部負極622は、ガラス層700の上に形成された透明導電酸化物TCO層である。第2のTNT層606の下層の第2の外部電極622およびガラス層700を、本明細書では、TCO層とガラス層との積層702と称する。TCO層622の厚さは、0.2μm~1.0μmであってもよい。ガラス層700の厚さは、0.5~3mmであってもよい。TCO層は、以下の材料、すなわち、SnO2:FFTO、IN2O3-SnO2ITO、ZnO、ZnO:AlGa、カーボンナノチューブ層およびグラフェン層から選択される。一般に、TCO層とガラス層との積層702は、全てのデバイス積層体に先立って形成される。図8は、図6のタンデム型DSCの第2の変形例を示す部分断面図である。図8に示すように、第2の外部電極外部負極622は、TCO層とガラス層との積層702である。第1のPVセルの陽極606は、TiO2、SnO2およびZnO等の粒子を含んだナノ粒子の陽極であり、TCO層とガラス層との積層702の上に形成される。陰極604は、第1の色素層608の上に形成された第1の固相正孔伝導体層である。第2のPVセルの陰極612は、第2の色素層616の上に形成された第2の固相正孔伝導体層であり、陽極614は、第1のTNT層である。図9は、図6のタンデム型DSCの第3の変形例を示す部分断面図である。この形態では、第2のPVセル610は、第1のTNT層614および第2の色素層616の上にヨウ化物イオンおよびトリヨウ化物イオンを含んだ液体電解質層900を有している。液体電解質層900の上に触媒層902として白金Pt層が配置されている。この形態では、外部電極620は、第2のPVセルの陰極612としても機能する。第2のPVセル610の上に配置された第1の外部電極外部正極620は、TCO層であり、当該TCO層の上にガラス層904が配置されている。Pt層902は上記TCO層上に形成される。ガラス層とTCO層との積層906と称する。通常、ガラス層とTCO層との積層906は、全てのデバイス積層体に先立って形成される。そして、ガラス層およびTCO層の上にPtが堆積され、後に第1の外部電極620として用いられる。第2の外部電極外部負極622は、TCO層とガラス層との積層702である。第1のPVセルの陽極606は、TiO2、SnO2およびZnOといった粒子を含む、ナノ粒子の陽極であり、TCO層とガラス層との積層702の上に形成されている。陰極604は、第1の色素層608の上に形成された第1の固相正孔伝導体層である。図10は、図6のタンデム型DSCの第4の変形例を示す部分断面図である。図10に示すように、第2のPVセル610は、第1のTNT層614および第2の色素層616の上にヨウ化物イオンおよびトリヨウ化物イオンを含んだ液体電解質層900を有している。液体電解質層900の上に触媒層902としてPt層が配置されている。第2のPVセル610の上に配置された第1の外部電極外部正極620は、Pt層902の上に配置されたガラス層とTCO層との積層906である。第2の外部電極外部負極622は、TCO層とガラス層との積層702である。第1のPVセルの陽極606は、第1の色素層608の上に形成された第1の固相正孔伝導体層である。従来の太陽電池は、ガラス/TCO/Pt/電解質/TNT/Tiといった構造を用いたTNT層から形成され、光はガラス側から入射する。Pt層では、トリヨウ化物イオンを還元する必要があり、その厚さとして3nm~10nm程度が必要となるため、Pt層の吸収により入射光を遮断してしまう。ここで、2つの外部電極はTi層およびTCO層である。ガラス1/TCO/Pt/電解質/TNT/TCO/ガラス2という構造をとり、光をガラス2側から入射することによって、光を遮断しないようにすることが考えられる。このとき、TNT層はTCO/ガラスの上に形成する必要がある。しかしながら、TNT層は非常に薄いため、Ti/TCO/ガラスの基板を形成して、TNT/TCO/ガラスを形成するためにTiを陽極酸化する方法は存在していない。このことが、TNT層をTCO/ガラス上に形成するために、移送および貼り合わせ処理を用いなければならない理由である。図11は、図6のタンデム型DSCの第5の変形例を示す部分断面図である。図6の基本的な構造は、タンデム型セルの構成部材に限定されない。追加のタンデム型PVセルとして、第nのPVセル1100が図示されている。ここで、nは2より大きい整数である。第nのPVセル1100は、第nのTNT層の陽極1102、陰極1104、および、陽極1102と陰極1104との間に挿入された第nの色素層1106を含んでいる。第2の透明導電接着剤層1108によって、第nのTNT層1102が第2のPVセルの陰極612に接着され、第2のPVセル610と第nのPVセル1100との間に内部の電気的な直列接続が形成されている。機能の説明以下、TNT膜の作製工程について、さらに詳細に説明する。当該TNT膜の作製工程によって、DSCの製造に使用される大面積のTNT層を低コストで作製することができる。TNT層は、大面積のTi膜の上に形成することができる。Ti膜のサイズを制限するのは、設備および/または使用される電解質の量のみである。陽極酸化工程によって、Ti基板から丈夫で、広い領域を有し、ストレスのないTNTの膜に変化させることもできる。他の研究者が自立したTNT薄膜に変化させているが、アニールされていない薄膜の固有の脆弱さのために、DSCのサイズが制限される。最終的には、TNT層と第2の基板との高品質な貼り合わせによって、陽極酸化の間にTNT層に沈着した表面の残留物を超音波によって効果的に除去することができる。図12A~図12Fは、TNT膜の作製工程を示す図である。図12Aでは、Ti膜1200が、フッ化物イオンを含んだ電解質中で陽極酸化され、TNT層1202がTi膜の上に形成される。ナノチューブ構造例えば、チューブ径およびチューブ長は、電解質の組成/濃度、陽極酸化電圧、溶液温度、PH値および陽極酸化時間に依存する。通常、TNT膜1202は、厚さが10~30μmであり、Ti膜1200はTNT膜1202が形成される分、10~30μm薄くなる。図12Bでは、TNT膜1202とTi膜1200とがアニールされて、TNT膜がアモルファスからアナタース相のTNT膜1204に相転移する。図12Cでは、第2のより短時間の陽極酸化が行われ、すでにアニールされたTNT膜1204の下にアモルファスTNT層1206が形成される。図12Dでは、TNT膜12041206とTi膜1200とがH2O2溶液中に浸される。これにより、アモルファスTNT膜1206がエッチングされ、TNT膜1204がTi膜1200から分離される。図12Eでは、自立したTNT膜1204とTNT膜1206とが、透明導電接着剤1212によって、第2のガラス1210およびTCO層1208の基板に接着される。例えば、TCO層は、以下の材料、すなわち、SnO2:FFTO、IN2O3-SnO2ITO、ZnO、ZnO:AlGa、カーボンナノチューブ層およびグラフェン層から選択される。図12Fでは、貼り合わされたサンプル1204/サンプル1206が再びアニールされ、接着剤1212を硬化する。この例では、第2のアニールによって、下層のアモルファスTNT膜1206もアナタース相の焼結TNT膜1214に相転移する。一形態では、接着剤1212は、TNT層のTCO/ガラスへの接着に適用できるチタンアセテートまたはチタンイソプロポキシドといった、チタンから生成される前駆体材料を含んでおり、その後、適当な熱処理によってチタン酸化物アナタース相に変化する。第2の方法として、チタン酸化物コロイド懸濁液液状媒体に浮遊したナノ粒子からなる合成前駆体を用いてもよい。これにより、次の熱処理によって、TNTを含むコロイド粒子が固化してアニールされ、集合体の接着層が形成される。第3の方法として、導電重合体例えば、PEDOT:PSS-ポリ3,4-エチレンジオキシ基チオフェン:ポリスチレンスルフォン酸塩などのヘテロ材料をチタンから生成される前駆体材料の代わりに用いてもよい。貼り合わせ処理の間、接着剤を硬化させるために、TNT層に圧力を加え、基板を加熱する。この貼り合わせ処理は、テープ/TNT層に均一な圧力を加えるプレス工具によって実施してもよい。あるいは、接着剤/TNTの界面における気泡を最小限に抑えるために、ウェハ接着剤を用いて真空中の圧縮力を適用してもよい。TNT層をTi膜から除去して、TNT層を第2の基板に貼り合わせる前に保持するために、除去された媒体放熱テープなどを用いてもよい。テープに接着されたTNT層は、媒体によってコーティングされた第2の基板に貼り合わされる。貼り合わされたTNT層および第2の基板を、100°C~200°Cの高温で加熱した後、加熱されたテープおよびTNTが分離される。媒体によってコーティングされた第2の基板に貼り合わされたTNT層を分離することにより、最後に、透明導電接着層が形成される。サンプルは、第2の基板に接着された後、超音波槽に入れられ、ナノチューブの上部から表面の残留物が除去される。接着剤は、残留物が超音波の振動によって除去される間、基板に取り付けられたTNTを保持するために充分な接着力を有している。図13は、図7のタンデム型DSCを示す断面図であり、TNT層をさらに詳細に示している。太陽電池セルを積層してタンデム型接合セルを形成するために、移送および貼り合わせの技術が用いられる。図示するように、第2のTNT層606が、透明導電接着剤層1300を用いてTCO層とガラス層との積層702に移送される。透明導電接着剤層1300は、接着剤層618などの低温有機接着剤であってもよいし、高温接着剤であってもよい。低温有機接着剤は、例えば、PEDOT:PSS-ポリ3,4-エチレンジオキシ基チオフェン:ポリスチレンスルフォン酸塩化合物などの導電重合体を含んでいる。高温接着剤は、例えば、チタンアセテート溶液、チタンイソプロポキシド溶液およびチタン酸化物コロイド懸濁液といった、チタンから生成される前駆体材料を含んでいる。上記工程のこの段階において、TNT/接着剤/TCO/ガラスの構造は、500°Cの温度まで耐えられる。そのため、チタンから生成される前駆体材料は、接着剤層1300には使用できるが、接着剤層618には使用できない。第1の色素層608は、TNT面に吸収され、第1の固相正孔伝導体層604が、TNT微小構造を貫通するTNT面の上に貼り合わされる。通常、ナノチューブは、1つのオープンエンドおよび1つのクローズドエンドをTNT層の底部に有する。固相正孔伝導体は、スピロ-OMeTAD、p型半導体例えば、CuSCNまたはCuIまたは、重合体電解質であってもよい。続いて、第1の透明導電接着剤層618が、第1の固相正孔伝導体層604に貼り合わされる。続いて、第1のTNT層614が、第1の透明導電接着剤層618の上に移送されてもよい。第1のTNT層614が第1のPVセル602に貼り合わされる前または後に、第2の色素層616が第1のTNT面614の内部に吸収され、第2の固相正孔伝導体層612が、同様に微小構造を貫通する第1のTNT面に貼り合わされる。代わりに、第2のPVセル610を第1のPVセル602に貼り合わせる前に、第2のPVセル610の作製を完了してもよい。最後に、金属電極外部正極620が、第2の正孔伝導体層612の上に形成される。一形態では、第1の色素層608および第2の色素層616は、相補的に太陽光のスペクトラムをカバーする、互いに異なる吸収スペクトラムを有している。一形態では、第1の色素層は短波長を吸収し、第2の色素層は長波長を吸収する。しかしながら、色素が異なる吸収スペクトルを有していることは、必ずしも必要ではない。セルを2つ積層する構成を図示したが、さらに多くの積層も可能である図11参照。DSCに用いられる代表的な部類の色素は、金属ピリジルとポリピリジルとの合成物、インドリン、クマリン、ヘミシアニン、メロシアニン、スクアライン、ポルフィリンおよび金属ポルフィリン、クロロフィルおよびクロロフィル誘導体、天然色素、クロリンおよび金属クロリン、フタロシアニンおよび金属フタロシアニン、ナフタロシアニンおよび金属ナフタロシアニン、アザポルフィリンおよび金属アザポルフィリン、ホウ素ジピリン、トリフェニルアミン、ピリジニウム、ポリエン、ポリイン、チオフェン、ペリレンおよび、さらに高級なリレンを含む。これらの物質は、等級の様々な組み合せからなる配合体および誘導体だけでなく、各等級の物質または混合した等級の物質の二量体、三量体および/または四量体、同一または異なる等級の2以上の材料の混合物をも含む。図14は、図8のタンデム型DSCを示す別の部分断面図である。この例では、第1のDSCセル602に、ナノ粒子電極606が形成される。ナノ粒子は、TiO2、SnO2またはZnOであってもよく、陽極の作製工程は周知の方法を用いることができる。第1の色素層608は、ナノ粒子層の表面において吸収され、第1の固相正孔伝導体層604が、微小構造を貫通するナノ粒子電極606に貼り合わされる。最後に、透明導電接着剤層618が、第1の固相正孔伝導体層604に供給される。第1のTNT層614は、透明導電接着剤層618の上に移送されてもよい。第1のTNT層614が第1のPVセル602に貼り合わされる前または後に、第2の色素層616がTNT面の内部に吸収され、第2の固相正孔伝導体層612が、TNT微小構造を貫通する第1のTNT面に貼り合わされる。代わりに、第2のPVセル610を第1のPVセル602に貼り合わせる前に、第2のPVセル610の作製を完了してもよい。最後に、金属電極外部正極620が、第2の正孔伝導体層612の上に形成される。この場合も上記と同様に、第1および第2の色素層は、互いに相補的で、広範囲な太陽光のスペクトラムを吸収可能な、異なる吸収スペクトラムを有していてもよい。一形態では、第1の色素層は短波長を吸収し、第2の色素層は長波長を吸収する。しかしながら、色素が異なる吸収スペクトルを有していることは、必ずしも必要ではない。電極620の形成前に、さらに追加の積層を形成してもよい。図15は、図9のタンデム型DSCを示す別の部分断面図である。この構造では、正孔を伝導する最終層の上に、液体電解質層900を用いている。固相正孔伝導体層の代わりに、液体電解質層900は、酸化色素を減少させるために用いられるヨウ化物イオンおよびトリヨウ化物イオンを含んでいる。触媒層であるPt層902は、酸化されたトリヨウ化物イオンを還元させる触媒として用いられI3-2e-→3I-、TCO層620は、直列抵抗を低下させ、外部電極として機能する。図15では、封止体は示されていない。図16は、貼り合わせ処理を用いてタンデム型DSCを製造する方法を示すフローチャートである。当該工程は、明確に順序を番号付けされた工程として示されているが、番号は、必ずしも工程のステップの順序を示すものではない。これらのステップのいくつかは、省略してもよいし、並行して実施してもよく、シーケンスの順序を厳密に守って実施する必要はないと理解されるべきである。工程は、ステップ1600で開始する。ステップ1602では、陰極、第1の色素層および陽極を含む第1のPVセルを形成する。ステップ1604では、陰極、第2の色素層および陽極を含む第2のPVセルを形成する。一形態では、第2のPVセルの陽極は、第1のTNT層の陽極である。ステップ1606では、第1の透明導電接着剤層によって、100°Cより低い温度で、第2のPVセルの陽極を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる。当該貼り合わせるステップに対応して、ステップ1608では、第1のPVセルと第2のPVセルとの間の内部直列接続を形成する。ステップ1610では、第2のPVセルの陰極の上に、第1の外部電極外部正極を形成する。ステップ1612では、第1のPVセルの陽極の上に、透明な第2の外部電極外部負極を形成する。一形態では、ステップ1602における第1のPVセルの形成ステップは、以下のサブステップを含む。ステップ1602aでは、第2のTNT層の陽極を形成する。ステップ1602bでは、第2のTNT層の陽極の上に第1の色素を吸着させる。ステップ1602cでは、第1の色素層の上に第1の固相正孔伝導体層の陰極を形成する。ステップ1604における第2のPVセルの形成ステップは、以下のサブステップを含む。ステップ1604aでは、第1のTNT層の陽極の上に第2の色素を吸着させる。ステップ1604bでは、第2の色素層の上に第2の固相正孔伝導体層の陰極を形成する。続いて、ステップ1608における内部直列接続の形成ステップでは、第1の透明導電接着剤層が、第1のTNT層の陽極と第1の固相正孔伝導体層の陰極との間の内部の電気的な直列接続を形成する。他の形態では、ステップ1602における第1のPVセルの形成ステップは、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる前に、TCO層とガラス層との積層の上に第2のTNT層を形成するステップを含み、第1のTCO層が、第2の外部電極外部正極である。TCO層とガラス層との積層の上に第2のTNT層を形成するステップは、第2の透明導電接着剤層によって、第2のTNT層をTCO層とガラス層との積層に貼り合わせるステップを含む。一変形例では、ステップ1602における第1のPVセルを形成するステップは、第2のTNT層の陽極の上に第1の色素を吸着させるステップと、当該ステップの後に、第2のTNT層をTCO層とガラス層との積層に貼り合わせるステップとを含む。ステップ1604における第2のPVセルを形成するステップは、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる前または後に、第2の色素を吸着させるステップを含む。ステップ1610では、第2の固相正孔伝導体層の陰極を形成した後に、第1の外部電極を形成する。他の形態では、ステップ1602は、以下のサブステップによって実施される。ステップ1602dでは、TiO2、SnO2またはZnOの粒子を含むナノ粒子の陽極をTCO層とガラス層との積層の上に形成する。TCO層は、第2の外部電極外部負極である。ステップ1602eでは、ナノ粒子の陽極の上に第1の色素を吸着させ、ステップ1602fでは、第1の色素層の上に第1の固相正孔伝導体層の陰極を形成する。ステップ1606における、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせるステップは、第1の色素の吸着後に、第1のTNT層を第1の固相正孔伝導体層の陰極に貼り合わせるステップを含む。さらに、ステップ1608では、透明導電接着剤層によって、TNT層と第1の固相正孔伝導体層の陰極との間の内部の電気的な直列接続が形成される。この形態では、ステップ1604における第2のPVセルを形成するステップは、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる前または後に、第1のTNT層の上に第2の色素を吸着させることによって第2のPVセルを形成するステップを含む。その後、第2の固相正孔伝導体層の陰極が、第1のTNT層および第2の色素層の上に形成される。第3の変形例では、第2のPVセルを形成するステップは、以下のように第2のPVセルを形成するステップを含む。ステップ1604aでは、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる前または後に、第1のTNT層の上に第2の色素を吸着させる。ステップ1604cでは、第1のTNT層の陽極の上に、ヨウ化物イオンおよびトリヨウ化物イオンを含む液体電解質層を形成する。ステップ1604dでは、液体電解質層の上に配置される触媒層として白金層を形成する。続いて、ステップ1610では、ガラス層およびTCO層との積層上に触媒層としてのPt層を形成して、第1の外部電極外部正極を形成する。第4の変形例では、第1のTNT層を第1のPVセルの陰極に貼り合わせる前または後に、第1のTNT層の上に第2の色素を吸着させるとともに、支持体の上に触媒層としてPt層を形成して、第1のTNT層と触媒層とを貼り合わせる。その後、TNT層と触媒層との間にヨウ化物イオンおよびトリヨウ化物イオンを含む電解質を注入して、液体電解質層を形成する。ここで、支持体としては、ガラスやプラスチックのような支持体の上に金属層やTCO層などの導電層が積層されたものを用いても良いし、金属薄板を用いても良い。ヨウ素系電解質に対する耐久性の観点からは、ガラス層とTCO層との積層を用いることが好ましい。第1のPVセルは、ステップ1602d~1602fにおいて上述したように形成される。あるいは、第1のPVセルは、ステップ1602a~1602cを実施することにより形成される。他の形態では、ステップ1614において、第3のTNT層の陽極、第3の色素層および陰極を含む第3のPVセルを形成する。ステップ1616では、100°Cより低い温度で、第1の透明導電接着剤層によって、第3のTNT層を第2のPVセルの陰極に貼り合わせる。当該貼り合わせるステップに対応して、ステップ1618では、第2のPVセルと第3のPVセルとの間の内部直列接続を形成する。上述のように、タンデム型DSCでは、積層されたPVセルの順序は特に限定されない。図17は、TNT膜の製造方法を示すフローチャートである。図17の方法は、図16のステップ1602および1606を用いることができる。当該方法は、ステップ1700で開始する。ステップ1702では、Ti膜を形成する。Ti膜は、厚さが10~500μmであってもよい。ステップ1704では、第1の時間例えば10分~10時間をかけて、フッ化物イオンを含んだ電解質中でTi膜を陽極酸化して、Ti膜の上に厚さが例えば2~30μmのアモルファスTNT材料を形成する。ステップ1706では、TNTとTi膜とを例えば400~500°Cでアニールして、アナタース相TNTを形成する。ステップ1708では、第1の時間よりも短い第2の時間例えば30分~1時間をかけて、TNTとTi膜とを陽極酸化して、アニールされた上層のTNT層とTi膜との間に挿入されたアモルファスTNT層を形成する。ステップ1710では、TNTとTi膜とをH2O2溶液に浸して、アモルファスTNT層をエッチングする。ステップ1712では、Ti膜からTNTを分離する。タンデム型DSC装置およびその製造工程を説明した。具体的な材料、装置構造および詳細な工程は、本発明を説明するための例として示されているが、本発明は、これらの例に限定されない。当業者は、本発明の他の変形例および形態にも想到するであろう。"