被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を載置する載置部と、前記加熱室に供給するマイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段と、前記マイクロ波発生手段で発生するマイクロ波を前記加熱室へ伝送するための導波管と、前記導波管は、前記マイクロ波発生手段を接続する始端部と、環状のマイクロ波伝送路を構成した環状部と、前記環状部において前記始端部と接合する分岐部からなり、前記環状部には伝送されるマイクロ波を前記加熱室に供給する複数の開口を配置したマイクロ波放射部を備えたマイクロ波加熱装置。前記マイクロ波放射部は、前記導波管から前記加熱室内へと連通し円偏波を放射する開口形状からなる請求項1に記載のマイクロ波加熱装置。前記導波管の前記分岐部は、伝送するマイクロ波の分岐方向を規制するためのサーキュレータ非可逆分岐手段を構成した請求項1または2に記載のマイクロ波加熱装置。前記導波管における前記環状部のマイクロ波伝送路の実効長さは、伝送するマイクロ波の前記導波管内での波長の略整数倍とした請求項1~3のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置。前記導波管には前記環状部に設けた前記マイクロ波放射部の前後両側を挟むように、複数のインピーダンス調整用の整合部を設けた請求項1~4のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置。しかしながら、前記従来の構成の電子レンジのようなマイクロ波加熱装置では、なるべく簡易的な構造で、被加熱物を効率良く、ムラ無く加熱することが求められているが、これまで提案されていた構造では種々の問題があった。また、マイクロ波加熱装置、特に電子レンジは、高出力化の技術開発が進み、国内では定格高周波出力1000Wが商品化されている。電子レンジは、熱伝導によって食品を加熱するのではなく、誘電加熱を用いて直接食品を加熱できる利便性が商品の大きな特徴であるが、不均一加熱が未解決の中での高出力化は不均一加熱の問題をより顕在化させることになる。従来のマイクロ波加熱装置が抱える構造上の問題としては、下記の2点のことが挙げられる。1点目は、不均一加熱を低減するためにテーブルまたはアンテナを回転させる機構を必要としており、このため回転スペースおよびテーブルまたはアンテナを回転させるモータなどの設置スペースを確保しなければならず、電子レンジの小型化を阻害していたことである。2点目は、テーブルまたはアンテナを安定的に回転させるために、該回転アンテナを加熱室の上部又は下部に設ける必要があり、構造が制限されていたことである。マイクロ波加熱装置におけるマイクロ波照射室内にテーブルまたは位相器の回転機構などを設置することは信頼性を下げる。よって、これら機構を不要とするマイクロ波加熱装置が要求されている。また、マイクロ波加熱による被加熱物の不均一加熱の低減と共に、コストダウンおよび給電部の省スペース化を図った特許文献2に記載されているような、円偏波を加熱室内部に放射する単一のマイクロ波放射部を有したマイクロ波加熱装置については、回転機構を有していないという利点はあるが、マイクロ波加熱による十分な均一加熱が実現されていないことが課題である。本発明は前記課題を解決するものであり、回転機構を用いないで、被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることができるマイクロ波加熱装置を提供することを目的とする。前記従来の課題を解決するために、本発明のマイクロ波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、被加熱物を載置する載置部と、加熱室に供給するマイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段と、マイクロ波発生手段で発生するマイクロ波を加熱室へ伝送するための導波管と、導波管は、マイクロ波発生手段を接続する始端部と、環状のマイクロ波伝送路を構成した環状部と、環状部において始端部と接合する分岐部からなり、環状部には伝送されるマイクロ波を加熱室に供給する複数の開口を配置したマイクロ波放射部を備えたものである。つまりマイクロ波発生手段で発生するマイクロ波を加熱室へ伝送するための導波管は、マイクロ波伝送路を環状に構成することにより、従来の導波管では終端部で生じた反射波を防止することで、マイクロ波発生手段で発生したマイクロ波は干渉の少ない安定した進行波となり、マイクロ波放射部から加熱室内に供給されて被加熱物を効果的に加熱することができる。さらに放射量が変化するマイクロ波を被加熱物に面した複数箇所に分散させた開口から放射することができるため、被加熱物の全体に偏りなくマイクロ波を放射させることができる。回転機構を用いることなく被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることが可能なマイクロ波加熱装置を提供することができる。本発明によれば、マイクロ波発生手段で発生するマイクロ波を加熱室へ伝送するための導波管は、マイクロ波伝送路を環状に構成することにより、従来導波管では終端部で生じた反射波を防止することができ、マイクロ波発生手段で発生したマイクロ波は干渉の少ない安定した進行波で伝送され、マイクロ波放射部から加熱室内に供給されて被加熱物を効果的に加熱することができる。つまり従来の一般的な導波管では終端部を設けているために、マイクロ波発生手段から供給される進行波は終端部からの反射波と干渉して定在してしまいマイクロ波放射部での放射量の変化が期待できないものであり、このためマイクロ波の攪拌手段回転機構などを別に設けるものであったが、これに対し本発明の構成によれば、マイクロ波放射部を通過するマイクロ波は、位相と振幅が変化する進行波となるため、放射量が変化するマイクロ波を複数箇所に分散させた開口から放射することとなり、回転機構を用いることなく被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることが可能なマイクロ波加熱装置を提供することができる。第1の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を載置する載置部と、前記加熱室に供給するマイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段と、前記マイクロ波発生手段で発生するマイクロ波を前記加熱室へ伝送するための導波管と、前記導波管は、前記マイクロ波発生手段を接続する始端部と、環状のマイクロ波伝送路を構成した環状部と、前記環状部において前記始端部と接合する分岐部からなり、前記環状部には伝送されるマイクロ波を前記加熱室に供給する複数の開口を配置したマイクロ波放射部を備えているマイクロ波加熱装置である。本発明は導波管での反射波の発生を防止することで、マイクロ波発生手段で発生したマイクロ波は干渉の少ない安定した進行波で伝送され、被加熱物を効果的に加熱することができる。さらに前記マイクロ波放射部が複数個配置されているマイクロ波加熱装置とすることにより、加熱室内にある被加熱物の広い範囲にマイクロ波を分散して放射することができるので、回転機構を用いることなく被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることが可能なマイクロ波加熱装置を提供することができる。第2の発明は、特に、第1の発明の前記マイクロ波放射部は、前記導波管から前記加熱室内へと連通し円偏波を放射する開口形状をからなることにより、マイクロ波発生手段から伝送される進行波によりマイクロ波放射部から加熱室に供給されるマイクロ波は、時間とともに電界方向が変化する円偏波を形成して放射されるので、回転機構を用いることなく被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることが可能なマイクロ波加熱装置を提供することができる。第3の発明は、特に、第1または第2の発明の前記導波管の前記分岐部は、伝送するマイクロ波の分岐方向を規制するためのサーキュレータ非可逆分岐手段を構成することにより、マイクロ波発生手段で発生したマイクロ波は干渉の少ない安定した状態で伝送され、マイクロ波放射部から加熱室内に供給されて被加熱物を効果的に加熱することができるので、回転機構を用いることなく被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることが可能なマイクロ波加熱装置を提供することができる。第4の発明は、特に、第1~3のいずれか1つの発明の導波管における前記環状部のマイクロ波伝送路の実効長さは、伝送するマイクロ波の前記導波管内での波長の略整数倍とすることにより、分岐部における位相を合わせることによりマイクロ波発生手段で発生したマイクロ波は干渉の少ない安定した状態で伝送され、マイクロ波放射部から加熱室内に供給されて被加熱物を効果的に加熱することができるので、回転機構を用いることなく被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることが可能なマイクロ波加熱装置を提供することができる。第5の発明は、特に、第1~4のいずれか1つの発明の前記導波管には前記環状部に設けた前記マイクロ波放射部の両側を挟むように複数のインピーダンス調整用の整合部を設けることにより、マイクロ波発生手段から、導波管、マイクロ波放射部、被加熱物を収納する加熱室までをあわせた整合を好適に調整することができるので、回転機構を用いることなく被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることが可能なマイクロ波加熱装置を提供することができる。以下、本発明に係るマイクロ波加熱装置の好適な実施の形態について、添付の図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施の形態のマイクロ波加熱装置においては電子レンジについて説明するが、電子レンジは例示であり、本発明のマイクロ波加熱装置は電子レンジに限定されるものではなく、誘電加熱を利用した加熱装置、生ゴミ処理機、あるいは半導体製造装置などのマイクロ波加熱装置を含むものである。また、本発明は、以下の実施の形態の具体的な構成に限定されるものではなく、同様の技術的思想に基づく構成が本発明に含まれる。実施の形態1図1は、本発明の実施の形態1におけるマイクロ波加熱装置の要部模式図である。図1において102は被加熱物、103は加熱室、104は載置部、105はマイクロ波発生手段、106は導波管、108はマイクロ波放射部である。なお、載置部104にはガラス板、マイクロ波発生手段105にはマグネトロン、導波管106には方形導波管、マイクロ波放射部108には導波管106に設けた開口を用いることでこの構成を容易に実現できる。図2は実施の形態1におけるマイクロ波加熱装置の加熱室103を取り除いて導波管106の構成を示すもので、図1における矢印Aすなわちマイクロ波放射部108を設けた面の方向から見た図である。図2において106aは導波管106におけるマイクロ波発生手段105を接続する始端部であり、106bは導波管106における環状のマイクロ波伝送路を構成した環状部であり、106cは導波管106における前記環状部において前記始端部と接合する分岐部である。図3aは導波管106の要部側面図であり、図3bは導波管上面のマイクロ波放射部の要部平面図である。ここでは、マイクロ波放射部108を導波管106上部に設けた開口とし、導波管106内に存在するマイクロ波を加熱室103へ放射する構成として説明を行う。以下、マイクロ波加熱装置の動作について説明を行う。使用者により加熱室103内の載置部104上に被加熱物102が置かれ、加熱開始指示が行われると、マイクロ波加熱装置は、マイクロ波発生手段105であるマグネトロンから導波管106内にマイクロ波を供給する。ここで導波管106には環状のマイクロ波伝送路を構成した環状部106bを設けてあるので、導波管の終端部で生じる反射波の発生を防止できる。この構成によりマイクロ波放射部108で加熱室103と接続した状態で、導波管106内にマイクロ波を伝送することにより、図3に示すように導波管106内を通るマイクロ波を、マイクロ波伝送方向302に進む進行波301とすることができる。進行波301が導波管106内を伝送する時、図3aにおいて点線で示しているようにマイクロ波放射部108における振幅を変化させながら進むこととなる。したがって、マイクロ波放射部108から加熱室103へ放射され、被加熱物102を加熱するマイクロ波は、放射元となる進行波301の振幅位相変化に従い放射量を変化させつつ加熱室に放射されることとなる。以上のように、本実施の形態においては、導波管106には環状のマイクロ波伝送路を構成した環状部106bを設けることで、従来一般の導波管では終端の存在により生じた反射波を防止することで、マイクロ波発生手段105で発生したマイクロ波は干渉の少ない安定した進行波となり、マイクロ波放射部108から加熱室103内に供給されて被加熱物102を効果的に加熱することができる。さらに前記マイクロ波放射部108を複数の開口を配置した構成とすることにより、加熱室103内にある被加熱物102の広い範囲にマイクロ波を分散して放射することができる。この構成によれば振幅が変化する進行波301が、マイクロ波放射部108を通過することとなるため、放射量が変化するマイクロ波を複数箇所に分散させた開口から放射することで、回転機構を用いることなく被加熱物を均一にマイクロ波加熱させることが可能なマイクロ波加熱装置を提供することができる。なお、本実施の形態において複数のマイクロ波放射部108は各開口の放射量にあわせて開口面積を設定している。具体的にはマイクロ波伝送方向302に合わせてマイクロ波発生手段105に近い側の開口面積を小さくし、遠い側は大きくすることで各開口からのマイクロ波放射量が略同じになるように設定している。また開口の配置は導波管106を伝送されるマイクロ波の管内波長と一致しない間隔の配置を含めることで各開口からのマイクロ波放射量が交互に入れ替わるようにすることができ加熱室103におけるマイクロ波の電磁界強度分布が刻々変化するので、より確実に被加熱物102の加熱の均一化を図ることができる。なお本実施の形態ではマイクロ波放射部108の開口部形状を図3の形状で説明を行ったがこの開口形状に限定されるものではない。実施の形態2図4は、本発明の実施の形態2における円偏波を放射する形状をもったマイクロ波放射部108の配置説明図である。図4aはマイクロ波加熱装置の要部断面図である図4bにおけるB-B断面図である。以下、その動作、作用を説明する。なお、図面において、実施の形態1と同一動作を示す部分は同一番号を付与している。また、実施の形態2における基本的な動作は実施の形態1と同様である。本実施の形態においては、マイクロ波放射部108を図4に示すような円偏波を放射する形状としている。円偏波とは、移動通信および衛星通信の分野で広く用いられている技術であり、身近な使用例としては、ETCElectronicTollCollectionSystemノンストップ自動料金収受システムなどが挙げられる。円偏波は、電界の偏波面が電波の進行方向に対して時間に応じて回転するマイクロ波であり、円偏波を形成すると電界の方向が時間に応じて変化し続けるので、加熱室103内に放射されるマイクロ波の放射角度も変化し続けるという特徴を有している。これにより、従来のマイクロ波加熱装置に用いられている直線偏波によるマイクロ波加熱と比較して、広範囲にわたってマイクロ波が分散放射されて、被加熱物を均一にマイクロ波加熱することができるようになる。特に、円偏波の周方向に対して均一加熱の傾向が強い。なお、円偏波は回転方向から右旋偏波CW:clockwiseと左旋偏波CCW:counterclockwiseの2種類に分類されるが、加熱性能に違いはない。前記の特長を利用し、マイクロ波放射部108を通して円偏波のマイクロ波を放射することで、加熱室103内の加熱分布をより均一化することができる。なお、導波管106に設けたマイクロ波放射部108から円偏波を出力するための開口形状としては、図4aに示すように、各直線偏波の合成が電磁界理論により円偏波となるように幅を持った2つのスロット開口を中央で交差させ、マイクロ波伝送方向に対し45度傾けた形状とし、さらに導波管106のマイクロ波伝送方向の管軸401を通らない位置に配置している。以上のように、本実施の形態においては、マイクロ波放射部108を、円偏波を放射する形状とすることで、マイクロ波放射部108から拡がりをもったマイクロ波が加熱室103内に放射され、被加熱物102へのマイクロ波の放射をより広い範囲で均一化することができる。なおマイクロ波放射部108は、導波管106の環状部106bの図4aにおける紙面上側の伝送路に5個、それと対向する紙面下側の伝送路に5個の合計10個の開口からなり加熱室103の中心に略対称となるように配置している。より効果的には、近接する開口からの円偏波の旋回方向が左右逆回転になるように導波管におけるマイクロ波の波長に基づいた開口ピッチで配置することにより加熱室に効果的にマイクロ波を分散して放射することができる。本実施の形態において、円偏波を放射するマイクロ波放射部108の形状は図4で示した形状で説明したが、形状は図4に限定されるものではなく円偏波を放射する形状であれば何でもよい。また開口の配置についても本実施例において本発明を限定するものではない。実施の形態3図5は、本発明の実施の形態3におけるマイクロ波加熱装置の要部模式図である。実施の形態2の図4と異なるのは導波管106の分岐部106cは、伝送するマイクロ波の分岐方向を規制するためのサーキュレータ非可逆分岐手段800を構成した点にあり、その動作、作用を説明する。なお、図面において、実施の形態1~2と同一動作を示す部分は同一番号を付与している。また、実施の形態3における基本的な動作は実施の形態2と同様である。本実施の形態においては、800aは導波管106の分岐部106cの中央内壁に固定された円筒形のフェライトであり800bは導波管106の分岐部106cの中央両側外壁に接することなく配置された一対の永久磁石であり片側S型磁石ともう一方がN型磁石でありフェライト800aを挟むように対向して設けてある。これにより導波管106の分岐部106cは環状部106bと始端部106aとが接合する3分岐型の導波管サーキュレータの伝送路を構成するので、永久磁石800bによって磁化されるフェライト800aの作用により導波管106を伝送するマイクロ波は電磁誘導ファラデー回転作用により分岐部106cでの伝送方向が規定されるものである。本実施の形態においてはサーキュレータ800をマイクロ波は図5aにおいて右方向に分岐するように構成している。つまりマイクロ波発生手段105から伝送されるマイクロ波は図5aの分岐部106cを直進して図中紙面左側に向かいマイクロ波放射部108を通過しながら順次、加熱室103に放射される。導波管106の環状部106bを周回して一部の加熱室103で消費されないマイクロ波は分岐部106cで右方向に伝送されてマイクロ波発生手段105に伝送される。以上のように、本実施の形態においては、従来では導波管の終端部で生じる反射波を防止することに加えてサーキュレータ800によりマイクロ波の伝送方向を確実に規定するので、マイクロ波発生手段105で発生したマイクロ波はさらに効果的に干渉の少ない安定した進行波となり、マイクロ波放射部108から加熱室103内に供給されて被加熱物102を効果的に加熱することができる。実施の形態4図6は、本発明の実施の形態4におけるマイクロ波加熱装置の図2と同様に加熱室103を取り除いて導波管106の構成を示すものである。図6において環状部106bのマイクロ波伝送路の実効長さが伝送するマイクロ波の前記導波管内での波長λgの略整数倍としたものである。具体的には本実施の形態においては環状部106bにおけるマイクロ波伝送路の実効長さに相当する管軸401の周長は波長λgの略4倍の615mmとしたものである。これによりマイクロ波の分岐部における位相を合わせて合流することでマイクロ波発生手段で発生したマイクロ波は干渉の少ない安定した状態で伝送され、マイクロ波放射部から加熱室内に供給されて被加熱物を効果的に加熱することができる。実施の形態5図7は、本発明の実施の形態5におけるマイクロ波放射部108の配置説明図である。図7aはマイクロ波加熱装置の要部断面図である図7bにおけるB-B断面図である。なお、図面において、実施の形態1~4と同一動作を示す部分は同一番号を付与している。また、実施の形態5における基本的な動作は実施の形態2と同様である。実施の形態5が他の実施形態と異なる点は前記導波管には前記環状部に設けた前記マイクロ波放射部の前後両側を挟むように2つのインピーダンス調整用の整合部を設けた点である。以上の構成によりマイクロ波発生手段105から、導波管106、被加熱物102を収納する加熱室103までをあわせてインピーダンスの整合を調整することができるものである。つまり環状に構成する伝送路のインピーダンスマッチングの精度を好適にできマイクロ波発生手段105への反射を抑制しつつ効率よく被加熱物を加熱することができるものである。なお、これまでに述べた実施の形態1~5において導波管106の形態は、単純模式的に平面に構成したものであるが、導波管106の形状は加熱室103の形状に沿わせて立体的に構成することによりコンパクトなマイクロ波加熱装置を提供することができる。図8において106は立体的に構成した導波管の一例を示す斜視図であり、加熱室の底面に面したマイクロ波放射部の両側を加熱室の側壁に沿うように屈曲させた構成としている。また図9は図8に示す導波管106を加熱室103に接続した状態を示す斜視図であり、103dは被加熱物を出し入れするための加熱室ドアである。導波管106はサーキュレータの永久磁石800bを構成している。