"被覆材を基板表面に塗布して被覆表面を形成する被覆処理製品の検査方法であって、前記方法は以下の手順からなる:a検査物体としての生成物の提供、c前記被覆表面に隣接する気層へ検査物体から放出される少なくとも1種の揮発性種の測定、及びd手順cの結果と同一試験条件下での少なくとも1種の参照物体に関する手順cの結果との比較、したがって前記被覆材の有無及び/又は前記被覆材の物理的及び/又は化学的性質の判定。前記被覆材の物理的及び/又は化学的性質が、遮断性、ぬれ張力、及び組成物からなる群から選択されて決定される、及び好ましくは遮断性である、請求項1に記載の方法。前記被覆表面に隣接する前期気層内の少なくとも1種の揮発性種の質量流速率又は体積流速率を測定することにより手順cが実行される、請求項1又は2に記載の方法。以下を満たす、前記いずれかの請求項に記載の方法:i前記参照物体が非被覆基板である、又はii前記参照物体が参照被覆材で被覆された基板である。手順aとcの間の追加手順として以下の手順を含む、前記いずれかの請求項に記載の方法:b前期被覆表面を通して圧力差が提供される、及び、圧力差なしでより高い揮発性種の質量流速率又は体積流速率が実現される可能性があるといった、前期被覆表面に隣接する前記気層における気圧の変更。前記基板の前記被覆表面と真空源の間に介在する測定セルを利用して測定を実行する、請求項5に記載の方法。前記揮発性種が試験条件においてガス又は蒸気であり、好ましくは大気、窒素、酸素、二酸化炭素、希ガス、水蒸気、揮発性被覆材成分、揮発性基板成分、及びそれらの組み合わせからなる群から選択され、より好ましくは大気、窒素、酸素、二酸化炭素、アルゴン、水蒸気、又はそれらの組み合わせである、前記いずれかの請求項に記載の方法。前記検査物体の素材上又は内への前記揮発性種の吸着又は吸収を可能とするために前記検査物体が手順aにおいて揮発性種、好ましくは大気、窒素、酸素、水蒸気、二酸化炭素、アルゴン及びそれらの組み合わせからなる群から選択される揮発性種に接触しており、その後の前記検査物体からの前記揮発性種の放出が測定された揮発性種の総放出の部分として手順cにおいて測定される、前記いずれかの請求項に記載の方法。複数の異なる揮発性種が手順cで測定され、好ましくは前記検査物体から放出された実質上すべての揮発性種が手順cで測定される、前記いずれかの請求項に記載の方法。前記基板がポリマー化合物であり、好ましくはポリエステル、ポリオレフィン、環状オレフィン共重合体、ポリカーボネート、又はそれらの組み合わせである、前記いずれかの請求項に記載の方法。前記基板がCOCである請求項10記載の方法。前記揮発性種が二酸化炭素である請求項11記載の方法。前記揮発性種がアルゴンである請求項11記載の方法。前記基板がPETである請求項10記載の方法。前記揮発性種が水である請求項14記載の方法。前記被覆材が有機ケイ素前駆体からPECVDにより生成された被覆材である、前記いずれかの請求項に記載の方法。以下を満たす、前記いずれかの請求項に記載の方法:i前記被覆材が遮断被覆材であり、好ましくはSiOx層xは約1.5~約2.9である、及び/又はii前記被覆材が被覆基板の潤滑性及び/又は表面張力を変更する被覆であり、好ましくはSiwOxCyHz層wは1、xは約0.5~2.4、yは約0.6~約3、zは2~約9である。前記揮発性種が前記被覆材から放出される揮発性種であり、好ましくは揮発性被覆材成分であり、前記検査は前記被覆材の有無、性質、及び/又は組成物を判定するために行なわれる、前記いずれかの請求項に記載の方法。前記揮発性種が前記基板から放出される揮発性種であり、前記検査は前記被覆材の有無及び/又は前記被覆材の遮断性を判定するために行われる、前記いずれかの請求項に記載の方法。前記基板は壁を有する容器であり、前記被覆処理中にその内面又は外面の少なくとも一部が被覆されており、好ましくは前記被覆材が前記容器壁の内面に付着される、前記いずれかの請求項に記載の方法。前記容器腔と外部との圧力差を確立して、前記被覆容器壁からの揮発性種ガス放出を測定する、請求項20に記載の方法。前記容器内の気層を少なくとも一部真空化することにより前記圧力差を達成する、請求項20又は21に記載の方法。前記被覆材の有無の判別、及び/又は前記被覆材の物理的及び/又は化学的性質の判定に有効な条件が、1時間未満、又は1分未満、又は50秒未満、又は40秒未満、又は30秒未満、又は20秒未満、又は15秒未満、又は10秒未満、又は8秒未満、又は6秒未満、又は4秒未満、又は3秒未満、又は2秒未満、又は1秒未満の試験期間を含む、前記いずれかの請求項に記載の方法。大気圧及び/又は温度及び/又は湿度を変更することで、前期揮発性種の放出率が変更され、その結果、前記放出率及び/又は前記測定された揮発性種の種類に関して参照物体と検査物体との差異が増大する、前記いずれかの請求項に記載の方法。前記方法を被覆材処理のインライン処理制御法として利用して、所定の基準に満たない被覆製品又は破損した被覆製品を同定して除去する、前記いずれかの請求項に記載の方法。前記被覆材が真空条件下で実行されるPECVD被覆材であり、そして後続するガス放出測定をPECVDに使用した真空状態を中断することなく行う、前記いずれかの請求項に記載の方法。前記被覆材が真空条件下に実施されるPECVD被覆材であり、そして後続するガス放出測定が前記被覆後に揮発性種を前記被覆製品に充填すること、及び、後続してガス放出測定を実施することにより行われる前記請求項の何れかに記載の方法。測定をマイクロカンチレバー測定技術を用いて行う、前記いずれかの請求項に記載の方法。以下により測定を行う、請求項28に記載の方法。iaガス放出物質の存在下で移動又は異なる形状へと変化する性質を有する少なくとも1つのマイクロカンチレバーの提供、bマイクロカンチレバーを移動又は異なる形状へと変化させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露、及びc移動又は異なる形状の検出、好ましくはマイクロカンチレバーのガス放出への曝露前及び後のマイクロカンチレバーの形状変化部からのエネルギー入射光線、例えばレーザービームの照射による、及びカンチレバーから離れた点での照射光線の偏差結果の測定による検出、又はiiaガス放出物質の存在下で異なる周波数に共鳴する少なくとも1つのマイクロカンチレバーの提供、bマイクロカンチレバーを異なる周波数で共鳴させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露、及びc異なる共鳴周波数の検出、例えば調和振動センサーの使用。請求項1~28のいずれかに記載の方法を実行するための装置。容器処理システム20のプロセッサにより実行される場合に、容器処理システムをそれが請求項1~28の1つの方法を実施するように制御するようにプロセッサを指示するように適合された被覆処理製品を検査するためのコンピュータープログラムが格納されているコンピューター読み取り可能な媒体。容器処理システム20のプロセッサにより実行される場合に、容器処理システムをそれが請求項1~29の1つの方法を実施するように制御するようにプロセッサを指示するように適合された被覆処理製品を検査するためのプログラム要素。発明の概要本発明は表面、特に被覆表面、そして特記すれば有機ケイ素前駆体から作成されたPECVD被覆材で被覆されたプラスチック表面を検査するための方法を提供する。検査は検査品目からのガス放出、特に被覆基板からのガス放出を検出することにより実施される。本発明はその主要出願において、例えば容器壁上に被覆された遮断層を通過する、容器壁のガス放出を検出することによる容器検査のための方法を提供する。本発明は更に本発明によるガス放出方法により検査を実施する、容器の被覆材及び検査を包含する方法に関する。特定の態様において、本発明はPECVD被覆手順及び検査手順を包含する方法に関し、後者はガス放出方法により実施する。本発明のガス放出方法は検査素材の特性の迅速で正確な測定を可能にする。例えば、被覆材、例えば遮断性被覆材がプラスチック基板上に存在するかを、迅速及び正確に測定できる。本発明は更に上記及び/又は下記の方法手順を実施するために設計された装置例えば容器処理システムの容器処理ステーションに関する。そのような処理ステーションの例20、30、5501~5504は図1及び図15~図17に記載するとおりである。本発明は更に、容器処理システムのような装置のプロセッサにより実行される場合に、それが上記及び/又は下記の方法手順を実施するように装置を制御するようにプロセッサを指示するように適合された、表面の検査のためのコンピュータープログラムが格納されているコンピューター読み取り可能な媒体に関する。本発明は更に、容器処理システムのような装置のプロセッサにより実行される場合に、それが上記及び/又は下記の方法手順を実施するように装置を制御するようにプロセッサを指示するように適合された、表面の検査のためのプログラム要素又はコンピュータープログラムに関する。即ち、プロセッサは本発明の方法の実施形態を実施するように装備されている。コンピュータープログラムは何れかの適するプログラム言語、例えばCで書かれていて良く、そしてコンピューター読み取り可能な媒体、例えばCD-ROMに格納されていて良い。更にまた、コンピュータープログラムはワールドワイドウエブのようなネットワークから入手してよく、それより画像処理装置又はプロセッサ、又は何れかの適当なコンピューターにダウンロードしてよい。本発明のある態様は、ガス放出揮発性種の測定を行う前に、検査品目の素材から発生する、又は、検査品目と接触する充填素材、例えば二酸化炭素、窒素、アルゴン、キセノン、クリプトン、炭素原子1~4個を有する低級炭化水素、例えば、エチレン、エタン、又はメタン、炭素原子1~4個を有する低級ハロゲン化炭化水素、例えば、塩化メチル、塩化メチレン、フッ化メチル又はトリフルオロエタン、又は炭素原子1~4個を有する低級炭化水素エーテル、例えばジエチルエーテル又はジメチルエーテル又はエチルメチルエーテルを含む充填素材から発生する、揮発性種であってよい被覆品目による揮発性種ガス放出を測定することにより、シリンジ又は採血管のような、第1の素材で作成されている物体として環状オレフィン共重合体COC熱可塑性鋳造基板上のSiOx被覆材のような、第1の素材から作成され、そして表面を有する基板又は他の物体の上の被覆材又は遮断層を検査するための方法及びシステムガス放出方法である。前記方法は被覆表面を形成するために基板の表面に被覆材が塗布されている被覆処理製品を検査するために使用できる。前記方法は例えば遮断層の存在下又は非存在下に測定に対して有効な条件下に実施する。例えば前記方法は、所定の基準に合致しない被覆製品又は損傷を受けた被覆製品を識別して排除するために、被覆処理のためのインライン処理制御として使用できる。一般的に、揮発性種とは試験条件における気体又は蒸気であり、そして、希ガス、二酸化炭素、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、空気、窒素、酸素、水蒸気、揮発性被覆材成分、揮発性基板成分、被覆材の揮発性反応生成物、及びこれらの組み合わせよりなる群から選択してよく、場合により空気、窒素、酸素、二酸化炭素、アルゴン、水蒸気又はこれらの組み合わせである。揮発性種は検査前に検査品目に充填してよく、或いは充填されない素材中に存在してよい例えば揮発性基板成分又は被覆材の残留反応性生物。前記方法は1種のみ又は数種の揮発性種を測定するために使用できるが、生物学的に活性なにより、複数の異なる揮発性種を測定してよく、そして場合により検査物体から放出される実質的に全ての揮発物質を測定する。本発明の別の態様は例えば遮断層の存在に関して物体を検査するための方法であり、この場合、方法は充填素材で検査物体を充填することを包含する。この方法において、第1の素材の少なくとも部分から作成された物体が提供され、その物体は表面を有し、その物体は場合により少なくとも部分的な遮断層を第1の素材と表面との間に有する1態様においては、遮断層は物体の表面を形成し、即ち、物体は遮断層で被覆される。場合により、充填素材は第1の素材に可溶であるか、これにより吸収又は吸着され、そして物体は充填素材と接触する。ガス放出は表面の少なくとも一部分から測定される。前記方法は例えば遮断層の存在下又は非存在下に測定に対して有効な条件下に実施される。充填素材はガス放出方法の感度を増強できる。特に、2つの検査種、例えば被覆されている基板と被覆されていない基板の間の判別を簡素化できる。充填素材はまた2種の素材の間で、異なる量の異なる素材により結合され、そしてガス放出される場合に、判別を可能にする。非被覆とSiOx被覆プラスチック品目の判別は後にガス放出され測定されることができるガス検査物体としての被覆材を含む生成物の提供;被覆表面に隣接する気層へと検査物体から放出される少なくとも1種の揮発性種の測定;及び、手順cの結果と同一試験条件下での少なくとも1種の参照物体に関する手順cの結果との比較、したがって被覆材の有無及び又は被覆材又は被覆された基板の物理的及び又は化学的性質の判定。ガス放出方法における被覆材の物理的及び又は化学的性質は、遮断性、ぬれ張力、及び組成物からなる群から選択される場合があり、場合により遮断性である。有利には手順cは、被覆表面に隣接する気層内の少なくとも1種の揮発性種の質量流速率又は体積流速率を測定することにより実行される。場合により、参照物体iは非被覆基板である、又はiiは参照被覆材で被覆された基板である。これは、例えばガス放出法を被覆材の有無を判定するために使用する参照物体は非被覆基板である可能性ありか、被覆材の性質を例えば既知の性質を有する被覆材と比較して判定するか、一般的な検査材料を既知材料と比較するかにより、異なる。特定の被覆材を用いて被覆材を識別する場合は、典型として参照被覆材を選択することもできる。ガス放出方法は、追加手順として手順aとcの間に被覆表面を通して圧力差が提供される、及び、圧力差なしでより高い揮発性種の質量流速率又は体積流速率が実現される可能性があるといった、被覆表面に隣接する気層における気圧を変更する手順bを含むことができる。この場合、揮発性種は圧力差の低い側に向かって移動する。被覆物体が容器である場合、容器内腔と外部との圧力差を確立して、被覆容器壁からの揮発性種ガス放出を測定する。圧力差は、例えば容器内の気層を少なくとも一部真空化することにより達成される場合がある。この場合、揮発性種は容器内腔へのガス放出として測定される可能性がある。圧力差を創出するために真空状態としている場合、基板の被覆表面と真空源の間に介在する測定セルを利用して、測定を実行可能である。他の態様において、検査物体が手順aにおいて揮発性種、場合により大気、窒素、酸素、水蒸気、二酸化炭素、希ガス及びそれらの複合体からなる群から選択される揮発性種に接触する、場合により検査物体の材質上/内への揮発性種の吸収を可能とする場合がある。次に後続の、検査物体からの揮発性種の放出を手順cで測定する。材質が異なれば例えば被覆材及び基板吸収量及び吸収性も異なるため、これにより被覆材の有無及び特性の判定が簡素化される可能性がある。基板はポリマー化合物である、場合によりポリエステル、ポリオレフィン、環状オレフィン共重合体、ポリカーボネート、又はそれらの複合体である可能性がある。本発明のガス放出方法はCOC、ポリエチレンテレフタレート及びポリプロピレンの検査のために特に有利である。本発明の文脈において、ガス放出方法により特徴付けられる被覆材は如何なる被覆材であってもよいが、典型的には例えば本明細書及び本明細書のパラグラフ1~3において引用した出願に記載されている有機ケイ素前駆体からPECVDにより調製される被覆材であり、これらの出願は、本発明を適用できる被覆材を指すために明らかに参照するものとする。例えば被覆材は遮断層であることができ、場合によりSiOx層であり、ここでxは約1.5~約2.9である。別の例に関しては、被覆材は定義のセクション又は引用出願において定義されるとおりに特徴付けられる潤滑層、及び/又は、定義のセクション又は引用出願において定義されるとおりに特徴付けられる疎水性層であることができる。ガス放出方法により検査される製品の被覆方法が、真空条件下で実行されるPECVD被覆である場合、後続のガス放出測定はPECVDに使用した真空状態を中断することなく行う場合がある。測定される揮発性種は、被覆材から放出される揮発性種、基板から放出される揮発性種、又は両方の複合体である場合がある。一態様において、揮発性種は被覆材から放出される揮発性種、場合により揮発性被覆材成分であり、被覆材の有無、性質、及び/又は組成物を判定する検査が行われる。別の態様において、揮発性種は基板から放出される揮発性種、被覆材の有無及び/又は被覆材の遮断性を判定する検査が行われる。本発明のガス放出方法は、容器壁上の被覆材の有無及び特性を判定するのに最適である。したがって、被覆基板は壁を有する容器であり、被覆処理中にその内面又は外面の少なくとも一部が被覆される可能性がある。例えば、被覆材は容器壁の内面に付着する。被覆材の有無の判別、及び/又は被覆材の物理的及び/又は化学的性質の判定に有効な条件に、1時間未満、又は1分未満、又は50秒未満、又は40秒未満、又は30秒未満、又は20秒未満、又は15秒未満、又は10秒未満、又は8秒未満、又は6秒未満、又は4秒未満、又は3秒未満、又は2秒未満、又は1秒未満の試験期間が含まれる場合がある。放出率及び/又は測定される揮発性種の種類に関して参照物体と検査物体の、例えば、差異を増大させるために、揮発性種放出率は雰囲気圧及び/又は温度及び/又は湿度を変更することで変更可能である。本発明による充填素材の使用は同じ目的のために機能する。測定は例えば微小流動手法により実施してよい。ある態様において、ガス放出はマイクロカンチレバー測定技術を使用して測定される。例えば、測定は以下により実行可能である。iaガス放出物質の存在下で移動又は異なる形状へと変化する性質を有する少なくとも1つのマイクロカンチレバーの提供;bマイクロカンチレバーを移動又は異なる形状へと変化させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露;及び、c移動又は異なる形状の検出、場合によりマイクロカンチレバーのガス放出への曝露前及び後のマイクロカンチレバーの形状変化部からのエネルギー入射光線、例えばレーザービームの照射による、及びカンチレバーから離れた点での照射光線の偏差結果の測定による検出;又は、iiaガス放出物質の存在下で異なる周波数に共鳴する少なくとも1つのマイクロカンチレバーの提供;bマイクロカンチレバーを異なる周波数で共鳴させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露;及び、c異なる共鳴周波数の検出、例えば調和振動センサーの使用。ガス放出方法を実行する装置、例えば上述のマイクロカンチレバーからなる装置もまた検討される。本発明のガス放出方法を使用して、例えば蒸気を放出する物質上の遮断層を検査可能であり、検査方法はいくつかの手順からなる。ガス放出する及び少なくとも一部が遮断層である物質の検体を用意する。本発明の態様において、遮断層において圧力差を提供して、ガス放出する少なくとも一部の物質が遮断層の高圧側に存在するようにする。遮断層を通り抜ける放出ガスを測定する。圧力差が存在する場合、測定は一般に遮断層の低圧側で行う。本発明の他の態様は本開示及び添付の図面から明らかにされる。発明の詳細な説明本発明について、複数の実施形態を示す添付図面を参照しながら、ここからとりわけより詳細な説明を行う。しかし本発明は、多数の形態で実施可能であり、以下に挙げる実施形態に制限されるものではない。むしろこれらの実施形態は本発明の例であり、請求項の文面により完全な範囲が示される。類似番号は、類似又は対応する要素に言及する。定義のセクション本発明の文脈において、以下の定義及び略称を使用する。RFは無線周波数高周波、sccmは標準立方センチメートル毎分standardcubiccentimetersperminuteを指す。本発明の文脈における用語少なくともは、前述用語の後に続く整数以上であることを意味する。用語からなるはその他の要素又は手順が含まれる場合があり、単数形物質は別途指定がない限り複数である場合がある。パラメーターの範囲を示す場合は、範囲の限度として示されるパラメーターの値及び該範囲内に含まれるパラメーターの全ての値を開示することを意図している。第1及び第2又は類似の、例えば処理ステーション又は処理機器を指す用語は、存在する処理ステーション又は機器の最低数を示すが、必ずしも処理ステーション及び機器の順番又は合計数を表すものではない。これらの用語は、処理ステーション又は各ステーションで行われる特定の処理の数を制限するものではない。本発明の目的において、有機ケイ素前駆体は以下の結合:又はを少なくとも1つ有する化合物であり、これは、酸素原子1つ及び有機炭素原子1つ有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子と結合する四価ケイ素原子である。PECVD装置内で蒸気として供給される前駆体として定義される揮発性有機ケイ素前駆体は、任意の有機ケイ素前駆体である。有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、及びこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択されてもよい。PECVD前駆体、ガス状反応体又は処理ガス、及び搬送ガスの供給量は、明細書及び請求項において標準体積と表わす場合がある。充填物の標準体積又はガスのその他の固定量は標準温度及び圧力において固定量のガスが占有する体積である供給の実際の温度及び圧力には関係ない。標準体積は体積の異なる単位を用いて測定でき、そのうえ本開示及び請求項の範囲内である。例えばガスの同じ固定量は標準立方センチメートルの数、標準立方メートルの数、又は標準立方フィートの数で表現される。標準体積はまた、異なる標準温度及び圧力を用いて定義することができ、そのうえ本開示及び請求項の範囲内である。例えば、標準温度は0°Cであることができ、そして標準圧力は760トールであることができ従来どおり、或いは標準温度は20°Cであることができ、そして標準圧力は1トールであることができる。しかしながら、ある例において如何なる標準を使用する場合も、特定のパラメーターを特記することなく2種以上の異なるガスの層大量を比較する場合は、特段の記載が無い限り、同じ単位の標準温度、及び標準圧力を各ガスに関して使用すべきである。PECVD前駆体、ガス状反応体又は処理ガス、及び搬送ガスの相当する供給率は、明細書中、時間の単位当たりの標準体積で表わす。例えば、実施例においては、流速はsccmと略記される分当たりの標準立方センチメートルとして表わす。他のパラメーターと同様、秒や時間のような時間の他の単位も使用できるが、2種以上のガスの流速を比較する場合は、特段の記載が無い限り一貫したパラメーターを使用すべきである。本発明の文脈における容器は、少なくとも1つの開口部と内面を定義する壁を有するいずれかの種類の容器である場合がある。被覆材基板は内腔を有する容器の内壁であることができる。本発明は特定の体積の容器には必ずしも限定されないが、内腔が0.5~50mL、場合により1~10mL、場合により0.5~5mL、場合により1~3mLの空隙容積を有する容器が考えられる。基板表面は少なくとも1種の開口部及び内面を有する容器の内面の部分又は全てであることができる。本発明の文脈における用語少なくともは、前述用語の後に続く整数以上であることを意味する。したがって、本発明の文脈における容器は、1つ以上の開口部を有する。検体管の開口部1つ又はシリンジバレルの開口部2つのように、1つ又は2つの開口部が望ましい。容器が2つの開口部を有する場合、それらは同一又は異なるサイズである場合がある。開口部が2つ以上である場合、1つの開口部は本発明に記載のPECVD被覆方法のガス吸入のために使用し、その他の開口部は蓋をするか開口状態にすることが可能である。本発明に記載の容器は、例えば血液、尿などの生物学的流体を採取/保管する検体管、生物学的に活性な化合物又は組成物薬剤又は医薬組成物を保管/搬送するシリンジ又はシリンジバレルなどその一部、生体物質又は生物学的に活性な化合物又は組成物を保管するバイアル、生体物質又は生物学的に活性な化合物又は組成物を搬送する導管例えばカテーテル、流体例えば生体物質又は生物学的に活性な化合物又は組成物を把持するキュベットである可能性がある。容器はいずれかの形状をとる場合があり、少なくとも1つの開口端に隣接する実質上シリンダー状の壁を有する容器が望ましい。通常、容器の内部壁は、例えば検体管又はシリンジバレルのようにシリンダー状の形状をしている。検体管又はシリンジ又はその一部例えばシリンジバレルが特に望ましい。本発明の文脈における疎水性層は、前述被覆材で被覆される表面のぬれ張力を、非被覆表面と比較して低下させる被覆材を意味する。疎水性は、したがって、非被覆基板及び被覆の両方の機能である。適切な変更を伴う同様のことが、用語疎水性が使用されるその他の文脈に適用される。用語親水性はその反対を意味し、すなわち参照検体と比較してぬれ張力が増大することを意味する。本発明の疎水性層はそれらの疎水性及び疎水性を与えるための処理条件により主に定義され、そして場合により実験式又は総和式SiwOxCyHzに従った組成を有することができる。これは一般的に原子比SiwOxCyを有し、ここでwは1であり、xは約0.5~約2.4であり、yは約0.6~約3であり、好ましくはwは1であり、xは約0.5~1.5であり、そしてyは0.9~2.0であり、より好ましくはwは1であり、xは0.7~1.2であり、そしてyは0.9~2.0である。原子比はXPSX線光電子スペクトル分析により測定できる。H原子を考慮すれば、被覆材は1つの態様において式SiwOxCyHzを有し、例えばここで、wは1であり、xは約0.5~約2.4であり、yは約0.6~約3であり、そしてzは約2~約9である。典型的には、原子比は、本発明の特定の被覆材においてはSi100:O80110:C100-150である。特記すれば原子比はSi100:O92-107:C116-133であってもよく、そしてそのような被覆材は100炭素酸素ケイ素に標準化すれば36~41炭素を含有する。これらのw、x、y及びzの値は本明細書全体を通じて実験式SiwOxCyHzに適用される。本明細書全体を通じて使用されるw、x、y、及びzの値は分子中の原子の数又は型に関する制限としてではなく、比又は実験式例えば被覆材に関するとして理解すべきである。例えば、分子組成Si4O4C8H24を有するオクタメチルシクロテトラシロキサンは、分子式におけるw、x、y、及びzの各々を最大公約数4で割ることにより得られる以下の実験式Si1O1C2H6により記載することができる。w、x、y、及びzの値はまた、整数に限定されない。例えば、非環状オクタメチルトリシロキサン、分子組成Si3O2C8H24、はSi1O067C267H8にまで減じることができる。ぬれ張力とは、表面の疎水性又は親水性の特定の測定値である。本発明の文脈における望ましいぬれ張力の測定方法は、ASTMD2578又はASTMD2578内で説明される方法の改良法である。方法では、標準のぬれ張力溶液ダイン溶液と呼ばれるを使用して、溶液が2秒間でプラスチック膜表面の湿潤状態にどれだけ近づくかを判定する。これが膜のぬれ張力である。本明細書内で使用される手順はASTMD2578のものとは異なり、基板は平板プラスチック膜ではなく、PET管を形成するためのプロトコルに従い製造され対照を除き管内部を疎水性層で被覆するためのプロトコルに従い被覆された管であるEP2251671A2の実施例9を参照。本発明に記載の潤滑性被覆材は、非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑性被覆材を指す。言い換えれば、非被覆の参照表面と比較して被覆表面の摩擦抵抗を低下させる被覆材である。本発明の潤滑層は、非被覆表面よりも低い摩擦抵抗及び低い摩擦抵抗を与える処理条件により主に定義され、そして場合により実験式SiwOxCyHzに従った組成を有することができる。これは一般的に原子比SiwOxCyを有し、ここでwは1であり、xは約0.5~約2.4であり、yは約0.6~約3であり、好ましくはwは1であり、xは約0.5~1.5であり、そしてyは0.9~2.0であり、より好ましくはwは1であり、xは0.7~1.2であり、そしてyは0.9~2.0である。原子比はXPSX線光電子スペクトル分析により測定できる。H原子を考慮すれば、被覆材は1つの態様において式SiwOxCyHzを有し、例えばここで、wは1であり、xは約0.5~約2.4であり、yは約0.6~約3であり、そしてzは約2~約9である。典型的には、原子比は、本発明の特定の被覆材においてはSi100:O80110:C100-150である。特記すれば原子比はSi100:O92-107:C116-133であってもよく、そしてそのような被覆材は100炭素酸素ケイ素に標準化すれば36~41炭素を含有する。摩擦抵抗は、静的摩擦抵抗及び/又は動的摩擦抵抗である場合がある。本発明の任意の実施形態の1つに、潤滑性被覆材で被覆されたシリンジの部品、例えばシリンジバレル又はプランジャーが挙げられる。この熟考された実施形態において、本発明の文脈における静的摩擦抵抗は本明細書で定義する起動力であり、本発明の文脈における動的摩擦抵抗は本明細書で定義するプランジャースライド力である。例えば、本明細書で定義し決定するプランジャースライド力は、被覆材がシリンジ又はシリンジ部品、例えばシリンジバレル内壁に塗布されるときはいつでも、本発明の文脈における潤滑性被覆材の有無及び潤滑性特性を決定するのに適する。起動力は、充填済みシリンジに対する被覆材作用の評価に特定の関連があり、すなわち、被覆後に充填され、プランジャーを再び動かす起動するまで一定期間数カ月又は数年保存されるシリンジに関する。スライド可能にとは、プランジャー、閉包部、又は取り外しできる部品をシリンジバレル内でスライドできる状態であることを指す。本発明の文脈において、実質上固定とは、いかなる組立部品も互いに大幅に位置を変えることなしに、組立部品以下でさらに説明するポート、ダクト、筺体を1つのユニットとして移動可能であることを意味する。具体的には、ホース又は通常の使用において部品同士の実質的な相対的移動を引き起こす類似部品により、接続されている部品はないということである。実質上固定状態のこれらの部品の提供により、容器ホルダー上の装填済み容器の位置が、筺体に固定されているこれらの部品の位置とほぼ同様に既知かつ正確であることが可能となる。以下において、まず本発明を実行する装置を説明し、その後被覆方法、被覆材と被覆容器、そして次に本発明のガス放出方法を更に詳述する。I.複数処理ステーションと複数容器ホルダーを有する容器処理システムI.容器処理システムが第1処理ステーション、第2処理ステーション、多数の容器ホルダー、及びコンベヤーからなると考えられる。第1処理ステーションは、開口部及び内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される。第2処理ステーションは、第1処理ステーションから離れて設置され、開口部及び内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される。I.少なくとも一部の、場合によりすべての容器ホルダーは、第1処理ステーションにおいて容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、容器開口部を収受し装填するよう設定される容器ポートを含む。コンベヤーは、第2処理ステーションにおいて容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、第1処理ステーションから第2処理ステーションへと一連の容器ホルダー及び装填済み容器を搬送するよう設定される。I.まず図1を参照にして、容器処理システム通常20を示す。容器処理システムは、より広範には処理機器と考えられる処理ステーションを含む。図示された実施形態の容器処理システム20は、射出成形機22処理ステーション又は機器と見なされる場合あり、追加の処理ステーション又は機器24、26、28、30、32、及び34、及び出力36処理ステーション又は機器と見なされる場合ありを含む。最低要件として、システム20は少なくとも第1処理ステーション例えばステーション28、及び第2処理ステーション例えば30、32、又は34を有する。I.図示された実施形態の処理ステーション22~36のいずれかを第1処理ステーションに、別の処理ステーションを第2処理ステーションに、と設定可能である。I.図1に図示された実施形態は、以下の8つの処理ステーション又は機器を含む:22、24、26、28、30、32、34、及び36。模範的容器処理システム20は、射出成形機22、モールド後検査ステーション24、被覆前検査ステーション26、被覆ステーション28、被覆後検査ステーション30、被覆材層厚決定のための光学源透過ステーション32、被覆材欠陥検出のための光学源透過ステーション34、出力ステーション36を含む。I.システム20は、容器を射出成形機22から容器ホルダー38へと移動させるための搬送機構72を含む。搬送機構72は、例えば容器成形機22から容器80を取り出して容器ホルダー38などに設置するための、容器の位置付け、移動、把持、搬送、適合、装填、解除を行うロボットアームとして設定可能である。I.システム20はまた、処理ステーション74において、装填済み容器80などの内面を処理し、その後容器を1つ以上の容器ホルダー66などから取り出すための搬送機構を含む図1。容器80は、したがって、容器ホルダー66から包装、保管又はその他の適切な領域又は処理手順通常36へと移動可能である。搬送機構74は、例えば容器ホルダー38などから容器80を取り出してステーション36のその他の機器上に装填するための、容器の位置付け、移動、把持、搬送、適合、装填、解除を行うロボットアームとして設定可能である。I.図1に示す処理ステーション又は機器32、34、及び36は、個々の容器80を容器ホルダー64などから取り出した後に、被覆及び検査システム20の終盤工程で場合により1つ以上の適切な手順を実行可能である。ステーション又は機器32、34、及び36の機能の限定されない例の一部には以下が含まれる。処理装置に向けての、処理済又は検査済み容器80のコンベヤー上への留置、容器への化学物質の添加、容器への蓋の添付、適切な処理ラックへの容器の留置、容器の包装、及び包装済み容器の滅菌。I.図1に示す容器処理システム20はまた、多数の容器ホルダー又はパック、一部実施形態内のものがホッケーパックに類似しているためそれぞれ38~68及び1つ以上の容器ホルダー38~68、したがって容器80などを処理ステーション22、24、26、28、30、32、34、及び36へと/から搬送するための循環調帯70で通常表されるコンベヤーを含む。I.処理ステーション又は機器22は、容器80を形成するための機器である場合がある。1つの考えられる機器22として、射出成形機が挙げられる。別の考えられる機器22として、ブロー成形機が挙げられる。真空モールド機、流し成形機、裁断機又はフライス盤、ガラス又はその他の流し成形可能素材用のガラス流し機、又はその他の種類の容器成形機もまた考えられる。場合により、容器が既に成形済みである場合、容器成形ステーション22は省略可能である。II.容器ホルダーII.A.容器処理の間、開口部を有する容器を把持及び搬送するため、携帯型容器ホルダー38~68を用意する。容器ホルダーは、容器ポート、第2ポート、ダクト、搬送可能筺体を包含する。II.A.容器ポートは、相互に通過可能な状態で容器開口部を装填するよう設定される。第2ポートは、外気供給を受入又は放出するよう設定される。ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器開口部と第2ポートの間で1種以上のガスを通気させるよう設定される。容器ポート、第2ポート、及びダクトは、搬送可能筺体に実質上固定状態で装着される。場合により、携帯型容器ホルダーの重量は5ポンド未満である。容器ホルダーを軽量化することで、1つの処理ステーションから次の処理ステーションへとより容易に搬送可能となる。II.A.容器ホルダーの特定の実施形態において、ダクトはより具体的には、真空ダクトであり、そして第2ポートは、より具体的にには真空ポートである。真空ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器内部から容器ポート経由でガスを吸引するよう設定される。真空ポートは、真空ダクトと外部真空源の間の通過が可能となるよう設定される。容器ポート、真空ダクト、及び真空ポートは、搬送可能筺体に実質上固定状態で装着可能である。II.A.実施形態II.A.及びII.A.1.の容器ホルダーは、例えば図2に示される。容器ホルダー50は、容器80の開口部収受し装填するよう設定される容器ポート82を有する。装填済み容器80の内面を、容器ポート82経由で処理可能である。容器ホルダー50には、容器ポート92上に装填済みの容器80からガスを吸引するためのダクト、例えば真空ダクト94が含まれる。容器ホルダーには、真空ダクト94と外部真空源、例えば真空ポンプ98の間を通過する第2ポート、例えば真空ポート96が含まれる。容器ポート92及び真空ポート96は封止素子、例えばオーリング隣接密閉部それぞれ100及び102を有する、又は容器ポート82のシリンダー状の内/外壁と容器80のシリンダー状の内/外壁の間の側密閉部を有する場合があり、それにより容器80又は外部真空源98と共に密閉部を収受し形成しながら、ポートを通しての通過を可能とする。ガスケット又はその他の密閉装備もまた、使用可能である。II.A.容器ホルダー50などはいずれかの素材、例えば熱可塑性素材及び/又は非導電性素材で作成可能である。又は、容器ホルダー50などは、一部を又は大部分を導電性素材から作成可能であり、例えば、容器ポート92、真空ダクト94、及び真空ポート96より定義される経路において非導電素材と対面させることが可能である。容器ホルダー50に適切な素材の例は以下の通り:ポリアセタール例えばデラウェア州ウィルミントンのE.I.duPontDeNemoursandCompanyが販売するDelrinRアセタール素材、ポリテトラフルオロエチレンPTFE例えばデラウェア州ウィルミントンのE.I.duPontDeNemoursandCompanyが販売するTeflon登録商標PTFE、超高分子量ポリエチレンUHMWPE、高密度ポリエチレンHDPE、又はその他の当技術分野で既知の又は新開発された素材。II.A.図2により、容器ホルダー50などが、ポート92上に接近する又は装填済みである容器80をセンタリングするための、カラー116を有する場合があることも図示される。容器ホルダーの配列II.A.部品を製造システム内で処理、検査、及び/又は移動するためのさらなる別のアプローチとして、容器ホルダーの配列を使用することが可能である。配列は個々のパックから、又は機器を装填する間断ない配列からなる場合がある。配列により、1つ以上の機器、場合により多数の機器で同時に試験、搬送、処理/被覆を実行可能である。配列は、例えばグループ化して線状ラックを形成する一次元式、又はタブやトレーに類似の二次元式である場合がある。II.A.図4、図5、及び図14は、3配列のアプローチを示す。図4は、機器又は容器80が装填される間断ない配列120を示す。この場合、機器又は容器80が間断ない配列として製造処理内を移動し、しかしながら製造処理の間にそれらを取り出して個別の容器ホルダーへと搬送可能である。単一容器ホルダー120は、ユニットとして移動する装填済み容器80などの配列を搬送するための、複数の容器ポート122などを有する。本実施形態においては、真空源98の配列を収受するために複数の個別真空ポート96などを提供可能である。又は、容器ポート96などに接続する単一真空ポートを提供可能である。複数ガス吸入プローブ108なども配列に提供可能である。ガス吸入プローブ又は真空源の配列は、多数の容器80などを同時にユニットとして移動させるために装着可能である。又は、複数容器ポート122などは、処理ステーション内で一列/複数列ごとに同時に、又は個別に処理可能である。配列内の機器の数は、単一手順でモールドされる機器の数、又は処理中に作業効率化のためのその他の試験又は手順に関する場合がある。配列を処理/被覆する場合、電極はより大きな電極へとカップリングする場合、又はそれぞれの電力供給装置を有する個別の電極である場合がある。上述アプローチはすべて、さらに電極形状、周波数などの観点から適用可能である。II.A.図5において、個別のパック又は容器ホルダー上述は、外部フレーム130で包囲されて一配列へとまとめられる。この装備により、所望の場合は図4の間断ない配列の利点が提供され、また容器80を異なる配列で又は個別に処理するその他の処理手順のために、配列を分解することも可能である。II.A.図14は線状ラックを示すか、又は図4に類似の図である。線状ラックを使用する場合、上述手順に加えて別の選択肢として、処理ステーションにおいてラックを一列縦隊で搬送し容器を逐次処理することが挙げられる。II.B.オーリング装備を含む容器ホルダーII.B.図42及び図43は順に容器ホルダー450の断片詳細縦断面図及び詳細図であり、容器ホルダーは、容器ホルダー上に容器を装填するために例えば図2、図3、図6、図7、図19、図12、図13、図16、図18、図19、図7、及び図43の容器ホルダー実施形態と併用可能な、代替の密閉装備を有する。図42を参照して、容器ホルダー450に装填済みの容器、例えばシリンジバレル438は、通常溝付き釘及び一般に面取りをした又は円形の縁452、及び通常シリンダー状の側壁454により定義される、後開口部442を有する。医学的流体採集管には一般に、同類の縁452はあるがフランジ440はない。したがって、代わりに容器ホルダー450上に装填可能である。II.B.図示する本実施形態の容器ホルダー450には通常シリンダー状の内面456が含まれ、内面は図示する本実施形態において、シリンジバレル438の通常シリンダー状の側壁454を収受するガイド面として機能する。壁はさらに、シリンジバレル438が容器ホルダー450上に装填済みである場合に溝付き釘縁452が当接する、通常溝付き釘である当接部458により定義される。内面456により形成される通常溝付き釘であるポケット部又は溝460は、封止素子、例えばオーリング462を保持するために提供される。ポケット部460の半径方向深さは、封止素子、例えばオーリング462図42に図示の半径方向断面未満であり、場合によってはオーリング462の内径は溝付き釘縁452の外径よりやや小さい。II.B.相対的寸法により、オーリング462の半径方向断面は図42に示すように、少なくともポケット部460の外壁464及びシリンジバレル438の通常シリンダー状の側壁454の間を、図42に示すように容器438などが装填済みである場合に、水平方向に圧迫する。この圧迫により、オーリング462の支持面が平板化され、少なくともポケット部460の外壁464及びシリンジバレル438の通常シリンダー状の側壁454の間に密閉部が形成される。II.B.ポケット部460は場合により、オーリング462の寸法と関連させて、底壁466/頂壁468と側壁454との間2つ以上の密閉部を、頂壁468と底壁466の距離を対応するオーリング462の半径方向断面と同等に離すことにより、形成可能である。オーリング462が外壁464とポケット部460の通常シリンダー状の側壁454の間で圧搾される場合、図43に示すように、その復元力により上下方向への拡張が起こり、したがって、頂壁466及び底壁464に係合しそれらに当たって平板化する。オーリング462は場合により、したがって垂直及び水平方向に変形し、通常円形の断面が四角形になる傾向がある。また、当接部458に装填済みの溝付き釘縁452は、PECVD処理反応物質及び、後開口部442を通して/隣接して導入されるその他のガスと素材の流量を制限する。II.B.この任意の構造の結果として、図43に示すように、オーリング462の右下角にあるギャップのみが、オーリングの外部にあり、したがって容器438の内部に導入される/で生成される処理ガス、プラズマなどに曝露する。本構造は、不要なPECVD堆積及びプラズマ内の活性化学種からオーリング462及び側壁438の外面の隣接面を保護する。また容器438は、当接部458の硬表面によりさらに確実に位置されており、その他の図内で図示するオーリングへの直接の溝付き釘縁452の当接装填により提示される弾性表面とは対照的である。さらには、容器438を拘束し多大な揺動を阻止しているため、オーリング462の主要周辺に対応する部位への力は一様に分配される。II.B.又は、ポケット部460は、図43に示す当接部458の上に、その底壁466で形成可能である。別の実施形態において、二重又はより高レベルの密閉部を提供するため、及び容器438が当接部458に対して装填済みである場合に揺動に対する拘束を強化するため、1つ以上の軸方向乖離ポケット部460を提供可能である。II.B.図11は、例えば他の図の実施形態と併用可能な容器ホルダー482の別の構造である。容器ホルダー482は、結合部488で結合する上部484及び底部486からなる。密閉部、例えばオーリング490リングの右側はそれを保持するポケット部を説明するよう切除されているは、結合部488にある上部484と底部486の間で拘束される。図示する実施形態においてオーリング490は、上部484が底部486へと結合する場合にオーリングを位置付けるために、溝付き釘ポケット部492内に収受される。II.B.本実施形態においてオーリング490は、この場合ネジ498及び500により捕捉され、上部484及び底部486が結合する場合に、ポケット部492の一部を定義する放射状に伸延する壁496及び放射状に伸延する当接部表面494を支持する。オーリング490はしたがって、上部484と底部486の間に装填される。上部484と底部486の間に捕捉されるオーリング490はまた、容器80その他の特徴図示を明確にするため本図においては省略を収受し、図42の容器後開口部442のオーリング密閉部装備に類似している、容器80開口部の容器ポート502の第1オーリング密閉部を形成する。II.B.本実施形態において、必須ではないが、容器ポート502は第1オーリング490密閉部と第2軸方向乖離オーリング504密閉部の両方を有し、どちらも容器ポート502と容器80などの間を密閉するための容器80などの図43の側壁454に類似している外径を収受するサイズの内径506などを有する。オーリング490及び504の間の空間により、軸方向に乖離する2つの地点で容器80などの支持体が提供され、容器80などのオーリング490及び504又は容器ポート502による歪曲を防止する。本実施形態において、必須ではないが、放射状に伸延する当接部表面494は、オーリング490及び506密閉部及び真空ダクト508の周囲の近位部に位置する。III.容器の搬送方法容器ホルダーに装填済みの容器の処理III.A.処理ステーションへの容器ホルダーの搬送III.A.図1、図2、及び図10は、容器80の処理方法を示す。方法は以下の通り実行可能である。III.A.開口部82及び内面88を定義する壁86を有する容器80を用意可能である。一実施形態として、容器80をモールド22など内で成形し、その後取除去することが可能である。場合により、モールドからの容器の除去後60秒以内、30秒以内、25秒以内、20秒以内、15秒以内、10秒以内、5秒以内、3秒以内、1秒以内に、又は処理中に歪曲されることなし高温で製造され漸進的に冷却されると想定に容器80を除去した直後に、容器開口部82を該容器ポート92上に装填可能である。容器80をモールド22から容器ポート92へと迅速に移動させることで、表面88に付着する粉塵又はその他の不純物を削減し、遮断膜又はその他の種類の被覆材90への付着を遮蔽又は防止する。また、製造後すぐに容器80に真空を引くほど、粒子状不純物が内面88に付着する可能性を低下させることができる。III.A.容器ポート92からなる容器ホルダー50などを用意可能である。容器80の開口部82を容器ポート92上に装填可能である。容器80の開口部82を容器ポート92上に装填する前、最中、後に、容器ホルダー40などを搬送して1つ以上の支持面220~240と係合させ、処理機器又はステーション24などに関して容器ホルダー40を位置付けることが可能である。III.A.1つ、2つ以上、又はすべての処理ステーションは、処理ステーション又は機器24などにおいて装填済み容器80の内面88を処理する間に、1つ以上の容器ホルダー40などを所定の位置で支持するための支持面を含む。これらの支持面は、例えば容器ホルダー40などを容器処理中にガイドし位置付ける行路又はガイドといった、定常構造又は運動性構造の一部である場合がある。例えば、下向き支持面222及び224は容器ホルダー40を位置付け、反応面のように機能して、プローブ108が容器ホルダー40に挿入されている場合の容器ホルダー40の上方への移動を防止する。反応面236は容器ホルダーを位置付け、真空源98図2が真空ポート96上に装填済みである場合の容器ホルダー40の左側への移動を防止する。支持面220、226、228、232、238、及び240は同様に、容器ホルダー40を位置付け、処理中の水平移動を防止する。支持面230及び234は同様に、容器ホルダー40などを位置付け、垂直方向への位置ずれを防止する。したがって、第1支持面、第2支持面、第3支持面、又はそれ以降は、各処理ステーションに提供される可能性がある。III.A.装填済み容器80の内面88を第1処理ステーションにおける容器ポート92経由で処理可能であり、1つの例として、図2で示す遮断膜塗布又はその他の種類の被覆材塗布の被覆ステーション28である場合がある。容器ホルダー50及び装填済み容器80は、第1処理ステーション28から第2処理ステーション、例えば処理ステーション32へと搬送される。装填済み容器80の内面88を、第2処理ステーション32などにおける容器ポート92経由で処理可能である。III.A.上記方法のいずれも、第2処理ステーション又は機器における装填済み容器80の内面88の処理の後に、容器ホルダー66などから容器80を除去する、さらなる手順を含む場合がある。III.A.上記方法のいずれも、除去手順の後に、開口部82及び内面88を定義する壁86を有する第2容器80を提供する、さらなる手順を含む場合がある。第2容器80などの開口部82を、別の容器ホルダー38などの容器ポート92上に装填可能である。装填済み第2容器80の内面を、第1処理ステーション又は機器24などにおける容器ポート92経由で処理可能である。容器ホルダー38など及び装填済み第2容器80は、第1処理ステーション又は機器24から第2処理ステーション又は機器26などへと搬送可能である。装填済み第2容器80を、第2処理ステーション又は機器26により容器ポート92経由で処理可能である。III.B.容器ホルダーへの処理機器の搬送又はその逆。III.B.又は、処理ステーションはより広範には処理機器である可能性があり、容器ホルダーの処理機器に応じた搬送、処理機器の容器ホルダーに応じた搬送、又は各装備の一部の任意システム内での提供のいずれかが可能である。また別の装備において容器ホルダーは、1つ以上のステーションへと搬送可能であり、2つ以上の処理機器は少なくとも1つのステーションへと/に隣接して配置可能である。したがって、処理機器と処理ステーションの間の相関的通信は必要ない。III.B.複数部品を含む容器の処理方法が考えられる。第1処理機器、例えばプローブ108図2及び第2処理機器、例えば光源170を、処理容器80などのために用意する。開口部82及び内面88を定義する壁86を有する容器80を用意する。容器ポート92からなる容器ホルダー50を用意する。容器80の開口部82を容器ポート92上に装填する。III.B.第1処理機器、例えばプローブ108を移動させ、容器ホルダー50と動作可能に係合させる、又はその逆を行う。装填済み容器80の内面88を、第1処理機器又はプローブ108を使用して容器ポート92経由で処理する。III.B.第2処理機器をその後移動させ、容器ホルダー50と動作可能に係合させる、又はその逆を行う。装填済み容器80の内面88を、第2処理機器、例えば光源170を使用して容器ポート92経由で処理する。III.B.場合により、複数の追加処理手順を提供可能である。例えば、第3処理機器34を、容器80の処理のために提供可能である。第3処理機器34を移動させ、容器ホルダー50と動作可能に係合させる、又はその逆を行う。装填済み容器80の内面を、第3処理機器34を利用して容器ポート92経由で処理可能である。III.B.容器処理の別の方法において、開口部82及び内面88を定義する壁86を有する容器80を用意可能である。容器ポート92からなる容器ホルダー50などを用意可能である。容器80の開口部82を容器ポート92上に装填可能である。装填済み容器80の内面88を第1処理機器により容器ポート92経由で処理可能であり、1つの例として、図2で示す遮断膜又はその他の種類の被覆材の被覆機器28である場合がある。容器ホルダー50及び装填済み容器80は、第1処理機器28から第2処理機器、例えば図1及び10に示す処理機器34へと搬送される。装填済み容器80の内面88を、第2処理機器34などにより容器ポート92経由で処理可能である。IV.容器製造のためのPECVD装置IV.A.容器ホルダー、内部電極、反応チャンバとしての容器を含むPECVD装置IV.A.別の実施形態は、容器ホルダー、内部電極、外部電極、電力供給装置からなるPECVD装置であり、これはガス放出検査を実施するように設定される。容器ホルダーに装填済みの容器は、場合により真空チャンバである、プラズマ反応チャンバを定義する。場合により、真空源、反応性ガス源、ガス供給装置、又はこれら2つ以上の組合せを用意可能である。場合により、必ずしも真空源をを含まないガス排出管を提供し、ポートに装填済みの容器内部から/へとガスを移送して閉口チャンバを定義する。IV.A.PECVD装置は外気圧PECVDのために使用可能であり、その場合、プラズマ反応チャンバは真空チャンバとして機能する必要はない。IV.A.図2に図示する実施形態において、容器ホルダー50は容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送するためのガス吸入ポート104からなる。ガス吸入ポート104は、少なくとも1つのオーリング106又は一連の2つのオーリング又は一連の3つのオーリングにより提供されるスライド式密閉部を有し、密閉部はシリンダー状のプローブ108がガス吸入ポート104を通して挿入される際に前記プローブ108に対して装填可能である。プローブ108は、ガス供給ポートの遠位端110へと伸延するガス吸入導管である場合がある。図示する実施形態の遠位端110は、1つ以上のPECVD反応物質及びその他の処理ガスを提供するために、容器80の奥へと挿入可能である。IV.A.場合により、図2に図示する実施形態において、又はより一般に、いずれかの開示実施形態において、プラズマ遮蔽体610は、通常プラズマ遮蔽体610を超える容量で容器80内で生成されるプラズマを収容するために提供される。プラズマ遮蔽体610は導電性の多孔質材であり、複数の実施形態において、スチールウール、多孔質焼結金属、又は導電性素材で被覆されたセラミック材であり、金属例えば真鍮又はその他の導電性素材を原料とする小孔性プレート又はディスクである。例は、ガス吸入部108を通すサイズである中央部孔を有する一対の金属ディスクであり、ディスクはさらに、中心間距離0.04インチ1mmで乖離する直径0.02インチ0.5mmの孔を有し、孔はディスクの表面積の22に当たる開口領域を提供する。IV.A.プラズマ遮蔽体610は、例えばプローブ108が対向電極としても機能する実施形態については、管の開口部82、シリンジバレル、又はその他の処理対象容器80にある/付近にあるガス吸入部108に対して密接な電気接触をもたらす可能性がある。或いは、プラズマ遮蔽体610は接地される場合があり、場合によりガス吸入部108と共通の電位を有する。プラズマ遮蔽体610は、容器ホルダー50及びその内部経路と接続例:真空ダクト94、ガス吸入ポート104、オーリング106付近、真空ポート96、オーリング102、及びその他ガス吸入108に隣接する装置内のプラズマを低減又は消滅させる。同時に、プラズマ遮蔽体が多孔性であるため、容器80から真空ポート96及び終盤工程装置への処理ガス、大気、及び類似体の流出が可能となる。IV.A.図12は、被覆ステーション28の追加の任意の詳細図を示し、ステーションは例えば図1、図2、図4~図5、及び図7の実施形態と併用可能である。被覆ステーション28はまた、圧力センサー152へと繋がる真空管路576内にメイン真空弁574を有している。手動バイパス弁578をバイパス管路580内に用意する。通気弁582は流量を制御する。IV.A.PECVDガス源144からの流量は、メイン反応物供給管路586を通して流量を調整するメイン反応性ガス弁584により制御される。ガス源144の一構成要素として、有機ケイ素流体貯留層588が挙げられる。貯留層588の内容物は、所望の流速率を提供するのに適した長さで提供される有機ケイ素キャピラリー線590を通して引かれる。有機ケイ素蒸気の流量は、有機ケイ素遮断弁592により制御される。流体貯留層588のヘッドスペース614に圧力を適用し、例えば圧力管路618によりヘッドスペース614へと接続される圧搾空気といった圧力源616からの0~15psi0~78cm.Hgの範囲の圧力を適用して、気圧及びその振動に依存しない反復可能な有機ケイ素流体供給を確立する。貯留層588は密閉されており、キャピラリー接続620は貯留層588の底部にあり、ヘッドスペース614からの加圧ガスではなく純有機ケイ素流体のみがキャピラリー管590を流れるよう確保している。有機ケイ素流体は、場合により、温度、有機ケイ素蒸気生成のため有機ケイ素流体を蒸発させることが必須又は望ましい場合は、気温以上に加熱可能である。質量流速制御装置598で制御され酸素遮断弁600が搭載される酸素供給管路596経由で、酸素タンク594から酸素を提供する。IV.A.図1の装置において、容器被覆ステーション28は、さらに後に説明するように、例えば、図2に示すようにSiOx遮断膜又はその他の種類の被覆材90を容器80の内面88に堆積するのに適した条件下で動作する、PECVD装置である場合がある。IV.A.特に図1及び図2を参照にして、処理ステーション28は、処理中に容器80内にプラズマを生成するための電界を提供するための無線周波電力供給装置162により供給を受ける、電極160を含む場合がある。この実施形態において、プローブ108はまた導電性でありかつ接地されており、容器80内に対向電極を提供する。或いはいかなる実施形態においても、外部電極160は接地可能であり、プローブ108は電力供給装置162へと直接接続可能である。IV.A.図2の実施形態において、外部電極160は、図2に図示するように通常シリンダー状であるか、図2に図示するように通常U字型である場合がある。各図示実施形態は、1つ以上の側壁164及び166などを、場合により、上端部168を有し、それらは容器80に近接して付帯する。IV.A.図2に示す電極160は、ページへの長さを有するU字型チャネルである場合があり、パック又は容器ホルダー50は活性電力電極を通して処理/被覆工程中に移動可能である。外部及び内部電極が使用されているため、本装置は、電力供給装置162からU字型チャネル電極160に対して適用される周波数50Hz~1GHzの間で利用可能であることに、注意されたい。プローブ108は電気回路を完了させるため接地可能であり、それにより、電流が容器80内の低圧ガスを通るようになる。電流の生成するプラズマにより、機器の内面88の選択処理及び/又は被覆が可能となる。IV.A.図2に示す電極は、パルス電力供給装置を動力源電力としている場合もある。パルスにより、反応性ガスの空乏、活性化前の副産物の除去、再度の反応性ガスの空乏が可能となる。パルス電力システムは通常、電界及び、したがってプラズマが存在する時間を決定する負荷サイクルにより特徴付けられる。電力投入時間は電源遮断時間と相対関係にある。例えば10の負荷サイクルは、電力が時間の90の間遮断されているサイクルの10の時間の電力に相当する場合がある。具体例として、電力は0.1秒間投入され、1秒間遮断される場合がある。パルス電力システムは、遮断時間により処理時間が増加するため、任意の電力供給装置162の有効電力入力を低減する。システムがパルスされる場合、生成される被覆材が極めて純粋となる場合がある副産物/汚染なし。パルスシステムによる別の結果として、原子層堆積ALDの可能性が挙げられる。この場合、負荷サイクルを調整して、電源投入時間により好ましい素材の単層堆積を生成可能である。本手法において、単一原子層が各サイクルで堆積されると考えられる。本アプローチにより、高度に純粋で高度に化学構造された被覆材を生成可能であるただし、ポリマー表面への堆積に必要な温度については、場合により低温100°C未満に保つものとし、及び低温度被覆材は非晶質である場合がある。IV.A.代替被覆ステーションは外部電極の代わりにマイクロ波空洞部を利用している。適用エネルギーは、例えば2.45GHzのマイクロ波周波数である場合がある。しかしながら本発明の文脈においては高周波が好ましい。V.被覆製造のためのPECVD法V.1PECVD被覆用前駆体本発明のPECVD被覆用前駆体材は、有機金属前駆体として広く定義されている。本明細書における有機金属前駆体は、例えば炭化水素残基、アミノカーボン残基、オキシカーボン残基といった有機残基を有する、周期表の第III族及び/又は第IV族からの金属元素化合物と定義される。本明細書で定義する有機金属化合物には、ケイ素又はその他の第III族/第IV族金属原子に直接結合する、又は場合により酸素又は窒素原子を通して結合する、有機部分を有するいずれかの前駆体が含まれる。関連する周期表第III族元素は、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタンであり、アルミニウム及びホウ素であることが望ましい。関連する周期表第IV族元素は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、及びトリウムであり、ケイ素及びスズが望ましい。その他の揮発性有機化合物もまた考えられる。しかしながら、本発明の実行には有機ケイ素化合物が望ましい。有機ケイ素前駆体が考えられ、有機ケイ素前駆体は以下の結合を少なくとも1つ有する化合物として本明細書において最も広く定義される。又は、直前の第1の化学構造は、酸素原子1つ及び有機炭素原子1つ有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子と結合する四価ケイ素原子である。直前の第2の化学構造は、NH結合1つ及び有機炭素原子1つ有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子と結合する四価ケイ素原子である。場合により有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、及びこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される。また、前述の2つの公式に当てはまらないが前駆体として考えられるものに、アルキルトリメトキシシランがある。酸素を含む前駆体例:シロキサンを使用する場合、疎水性又は潤滑性被覆材を生成する条件下のPECVDから導かれる典型として推定される経験的組成は、定義のセクションにおいて定義されるSiwOxCyHzである。一方、遮断性被覆材を生成する条件下のPECVDから導かれる典型として推定される実験式は、SiOx本公式のxは約1.5~約2.9である。窒素を含む前駆体例:シラザンを使用する場合、推定される組成物はSiwNxCyHzである。すなわち、定義のセクションにおいて特定されるSiwOxCyHzにおいては、OはNに置換され指標はNの原子価がOより高くなるよう2ではなく3適合される。後者の適合は通常、シロキサンにおけるw、x、y、及びzがそれに相当するaza構造の指標に対する割合に従う。本発明の特定態様において、SiwNxCyHzのw、x、y、及びzは、シロキサンにおけるw、x、y、及びzと同様に定義されるが、水素原子数の逸脱の選択肢として扱われる。上記実験式を有する前駆体出発物質の一種に線状シロキサンがあり、例えば以下の式を有する物質である。公式の各Rは独立して、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基から選択され、nは1、2、3、4、又はそれ以上であり、場合により2以上である。考えられる線状シロキサンのいくつかの例は、ヘキサメチルジシロキサンHMDSO、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、又はこれら2つ以上の複合体である。上記化学構造におけるNH-を酸素原子に置換した類似シラザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。考えられる線状シラザンのいくつかの例は、オクタメチルトリシラザン、デカメチルテトラシラザン、又はこれら2つ以上の複合体である。V.C.別の種類に前駆体出発物質に単環シロキサンがあり、例えば以下の構造式を有する物質である。ここで、Rは線状化学構造のものと同様に定義されaは3~約10であり、又は類似単環シラザンである。考えられるヘテロ置換及び非置換単環シロキサン及びシラザンのいくつかの例には以下が含まれる。1,3,5-トリメチル-1,3,5-トリス3,3,3-トリフルオロプロピルメチルシクロトリシロキサン2,4,6,8-テトラメチル-2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTS、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、メチル3,3,3-トリフルオロプロピルシクロシロキサン、以下のような環状オルガノシラザンも考えられる。オクタメチルシクロテトラシラザン、1,3,5,7-テトラビニル-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシラザンヘキサメチルシクロトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、デカメチルシクロペンタシラザン、ドデカメチルシクロヘキサシラザン、又は又はこれら2つ以上の複合体。V.C.別の種類の前駆体出発物質に多環シロキサンがあり、例えば以下の構造式のいずれかを有する物質である。ここで、Yは酸素又は窒素である場合があり、Eはケイ素であり、Zは水素原子又は有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。各Yが酸素である場合、それぞれの化学構造は、左から順に、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトランである。Yが窒素である場合、それぞれの化学構造はアザシラトラン、アザシルクアシラトラン、アザシルプロアトランである。V.C.別の種類の多環シロキサン前駆体出発物質は、実験式RSiO15及び構造式を有するポリシルセスキオキサンである。ここで、各Rは水素原子又は有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。この種の2つの市販物質は、各RがメチルであるSST-eM01ポリメチルシルセスキオキサン、及びR群の90がメチル、10が水素原子であるSST-3MH1.1ポリメチル-ヒドリドシルセスキオキサンである。本物質は、例えばテトラヒドロフランの10溶液において入手可能である。又はこれら2つ以上の複合体も考えられる。考えられる前駆体のその他の例には、CASNo.2288-13-3の各Yが酸素及びZがメチルであるメチルシラトラン、メチルアザシラトラン、各Rが場合によりメチルであるポリメチルシルセスキオキサン例えば、SST-eM01ポリメチルシルセスキオキサン、R群の90がメチル、10が水素原子であるSST-3MH1.1ポリメチル-ヒドリドシルセスキオキサン例えば、SST-3MH1.1ポリメチル-ヒドリドシルセスキオキサン又はこれらの2つ以上の複合体がある。V.C.上記化学構造におけるNH-を酸素原子に置換した類似ポリシルセスキアザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。考えられるポリシルセスキアザンの例は、各Rがメチルであるポリメチルシルセスキアザン、及びR群の90がメチル、10が水素原子であるポリメチル-ヒドリドシルセスキアザンである。又はこれら2つ以上の複合体も考えられる。V.C.特に、本発明に記載の潤滑性層のための考えられる前駆体の1つとして、単環シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。特に、本発明に記載の疎水性層のための考えられる前駆体の1つとして、単環シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。特に、本発明に記載の遮断性被覆材のための考えられる前駆体の1つとして、線状シロキサン、例えばHMDSOが挙げられる。V.C.本発明に記載のいずれかの被覆方法において、塗布手順は場合により、前駆体の気化により行われ、基板付近に提供される。例えばOMCTSは、PECVD装置への塗布前に約50°Cに加熱して気化する。V.2一般的PECVD法本発明の文脈においては、以下の手順を含むPECVD法を一般的に適用する。本明細書において定義する通りの前駆体典型的には、有機ケイ素前駆体、場合により搬送ガス、場合によりO2、及び場合により炭化水素を含む処理ガスの提供、及び、処理ガスからプラズマを発生させることにより、プラズマ促進化学蒸着PECVDによる基板表面への被覆材の形成。本明細書において使用されるプラズマ被覆技術はプラズマ促進化学蒸着PECVDに基づいている。該PECVD被覆を実施するために適する方法及び装置は2010年5月12日出願のEP10162755.2;2010年5月12日出願のEP10162760.2;2010年5月12日出願のEP10162756.0;2010年5月12日出願のEP10162758.6;2010年5月12日出願のEP10162761.0;及び2010年5月12日出願のEP10162757.8に記載されている。これらに記載されているPECVD法及び装置は本発明を実施するために適しており、そしてそのため、参照により本明細書に組み込まれる。PECVD技術の好ましい実施形態を以下のセクションに記載する。工程はコンテナ内部で減圧ミリトール範囲-大気圧は760トールであるにおいて酸素と混合されえるケイ素含有蒸気を利用する。例えば13.56MHz高周波範囲において発生する電場を外部電極と内部の接地されたガス導入口との間に印加し、プラズマを発生させる。コンテナを被覆するために使用する圧力及び電力において、プラズマ工程は電子衝撃イオン化により駆動され、これは工程における電子が化学過程の後方にある駆動力であることを意味している。特記すれば、プラズマはケイ素含有素材例えばヘキサメチルジシロキサンHMDSO又は他の反応体、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSの電子衝撃イオン化を介して化学反応を駆動し、その結果コンテナの内面に堆積した二酸化ケイ素又はSiwOxCyHz被覆材が生じる。被覆材は典型的な実施態様においては層厚で20ナノメーター以上のオーダーである。HMDSOはケイ素原子に連結したメチル基6個を有するSi-O-Si骨格よりなる。工程はSi-C結合を破壊し、そして管又はシリンジの表面において酸素と反応して二酸化ケイ素を発生する。被覆材は原子レベルで成長するため、20~30ナノメートルの層厚を有する緻密な絶縁保護被覆材は顕著な遮断特性を達成できる。二酸化ケイ素は気体、水分、及び小型有機分子に対して物理的遮蔽物として作用し、そして市販のガラスよりも高純度である。OMCTSは潤滑性又は抗接着特性を有する被覆材をもたらす。それらの平均の層厚は一般的にSiOx遮断性被覆材の層厚よりもこうちであり、例えば平均で30~1000nmである。その技術は以下の通り幾つかの態様において画期的である。前記工程は真空チャンバとして剛性のコンテナを利用する。PECVDは従来は二次真空容器を使用しており、その中に部品をロードして被覆している。コンテナを真空チャンバとして利用することは工程装置を顕著に簡素化し、そしてサイクル/処理時間、延いては製造コスト及び資金を低減する。このアプローチはまたスケールアップがスループット条件に合致するために必要な管又はシリンジの数を倍加することと同程度に簡素であることから、スケールアップの問題点も低減する。プラズマの高周波励起は部品の加熱を殆ど伴わずにイオン化ガスにエネルギーを与えることを可能とする。部品そのものの内部の水分子に多大なエネルギーを与えることになるPECVDにおいて典型的に使用されているマイクロ波励起エネルギーとは異なり、高周波は重合体の管又はシリンジを優先的に加熱することはない。制御された熱吸収は、プラスチックのガラス転移点にまで基板温度が上昇して寸法完全性が損失真空下に崩壊することを防止するために重要である。単層ガス遮断性被覆材-新しい技術は部品の内面に直接に酸化ケイ素の単層を形成することができる。大部分の他の遮蔽技術薄層は少なくとも2つの層を必要とする。遮断性-潤滑性被覆材の組み合わせ-新しい技術は複合SiOx/SiwOxCyHz被覆材を利用することにより多数の性能属性遮断性/潤滑性を与える。好ましい態様におけるプラズマ堆積技術は簡素な製造設定を利用している。システムはパックに基づいており、これは被覆ステーションの内外への管及びシリンジの輸送において使用される。機器パック界面プランジャーの運動の初期及び/又は全体における潤滑性被覆材とのプランジャーの低値の表面接触プランジャー移動の際に、プランジャーは初期非均一粗放被覆材を展延平滑化して非被覆のバレー谷を形成する。潤滑性被覆材の粗度はプラズマを加圧する電力ワットを低下させる場合に、そして上記した量のO2の存在により上昇する。粗度はAFMにより測定されるRMS粗度又はRMSとして表すことができる。RMSはAFM画像における最高及び最低の点の間の差の標準偏差である差はZと標記される。これは以下の式に従って計算される。Rq={ΣZ1-Zavg2/N}2式中、Zavgは画像内の平均Z値であり;Z1はZの現在の値であり;そしてNは画像における点の数である。この特定の実施形態におけるRMSの範囲は典型的には7~20nm、好ましくは12~20nmである。しかしながらより低値のRMSもなお潤滑特性を満足させる場合がある。V.C.1つの考えられる製品は場合により、実施形態V.C.の何れか1つ以上の方法により処理されたバレルを有するシリンジであることができる。該シリンジは本発明の潤滑性被覆材のみを有するか、又は、それは潤滑性被覆材及び追加的に1つ以上の他の被覆材、例えば潤滑性被覆材の上下何れかのSiOx遮断性被覆材を有することができる。V.D.液体塗布被覆材V.D.PECVD適用被覆材又は本明細で開示するその他のPECVD処理と併用して使用可能な、適切な遮断性被覆材又はその他の種類の被覆材のもう1つの例は、流体遮断層、潤滑剤、界面エネルギーテーラリング、又は容器内面に塗布されるその他の種類の被覆材90である場合があり、容器内面への塗布は直接、又は本明細書に記載した1種以上の介在性PECVD適用被覆材、例えばSiOxと共に、定義のセクションにおいて定義されるとおり特性化された潤滑層と共に、又は両方と共に行われる。V.D.適切な流体遮断膜又はその他の種類の被覆材90はまた、場合により、例えば流体モノマー又はその他のポリマー、又は硬化材料を容器80の内面に塗布することにより、流体モノマーを硬化、ポリマー化、又は架橋させて固体ポリマーを形成することにより、塗布可能である。適切な流体遮断又はその他の種類の被覆材90はまた、溶媒分散ポリマーの表面88への塗布及び溶媒の除去により、提供可能である。V.D.上記いずれかの方法に、処理ステーション又は機器28における容器ポート92経由で容器80の内部88上に被覆材90を形成する手順が含まれる場合がある。一例として、流体被覆材、例えば硬化性モノマー、プレポリマー、又はポリマー分散の容器80の内面88への塗布、及び容器80の内容物を内面88から物理的に隔離する膜を形成するための硬化が挙げられる。先行技術により、ポリマー被覆技術はプラスチック製採血管の被覆に適切であると記述される。例えば、参照することにより本明細書に含まれる米国特許6,165,566に記載の、アクリル及びポリ塩化ビニリデンPVdC被覆材及び被覆方法を利用可能である。V.D.また上記いずれかの方法に、容器80の外壁上に被覆材を形成する手順が含まれる場合がある。被覆材は、遮断性被覆材であり、場合により酸素遮断性被覆材であり、場合により水遮断性被覆材である場合がある。適切な被覆材の例の1つに、水遮断性及び酸素遮断性の両方の機能を有するポリ塩化ビニリデンがある。場合により、遮断性被覆材を水系被覆材として塗布可能である。被覆材は場合により、容器の浸漬、容器への噴霧、又はその他の手段により、塗布可能である。上述の外部遮断性被覆材を有する容器もまた、考えられる。VI.容器の検査VI.本発明のガス放出方法による容器検査をいかにより詳細に説明する。しかしながら方法は容器以外の他の品目、例えばプラスチックフィルム又は固体の3次元物体を検査する場合にも適用されると理解すべきである。そのような他の品目の検査もまた本発明に包含される。VI.図1に示すステーション又は機器は、容器壁又は容器壁のガス放出を通しての大気圧損失又は質量流速率又は体積流速率の測定により、欠陥検出のため容器80の内面を検査するよう設定可能である、処理ステーション又は機器30である。機器30は機器26と同様の動作が可能であるが、例外として、機器30により提供される検査に合格するには容器のより良いパフォーマンス任意処理条件におけるより低い漏出度又は透過度が必要とされる場合がある。なぜなら、図示する実施形態において、ステーション又は機器30に到達する前に、遮断膜又はその他の種類の被覆材がステーション又は機器28により塗布されているからである。一実施形態において、被覆容器80の本検査は、機器又はステーション26における同一容器80の検査と比較可能である。ステーション又は機器30におけるより低い漏出度又は透過度により、遮断性被覆材が少なくともある程度機能していることが示される。VI.2つの異なるステーション又は機器で測定される容器80の同一性は、個別の同定用標識、例えばバーコード、その他の記号、又は無線周波数識別RFID機器又はマーカーを各容器ホルダー38~68に貼付して、図1に示す循環コンベヤーの2つ以上の異なる地点で測定される容器の同一性を一致させることにより、確認可能である。容器ホルダーは再利用可能であるため、新規容器80が容器ホルダー40上に装填される直後に、それらが図1の容器ホルダー40の位置に到達する時点で、コンピューターデータ又はその他のデータ保存構造内に登録可能である。また、処理の終点で/近くで、例えば図1の容器ホルダー66の位置に到達した時点で又は後で、データ登録から除去可能であり、処理容器80は搬送機構74により除去される。VI.処理ステーション又は機器32は、例えば容器へと塗布される遮断膜又はその他の種類の被覆材の欠陥検出のために、容器を検査するよう設定可能である。VI.本明細書の容器検査方法は容器あたり30秒以下、容器あたり25秒以下、容器あたり20秒以下、容器あたり15秒以下、容器あたり10秒以下、容器あたり5秒以下、容器あたり4秒以下、容器あたり3秒以下、容器あたり2秒以下、容器あたり1秒以下の経過時間以内の検査手順即ちガス放出揮発性種の測定の実行が含まれる場合がある。これは例えば遮断性又は他の型の被覆容器壁の有効性を測定することにより可能となりえる。VI.上記実施形態の何れかにおいて、検査手順は、遮蔽物又は他の型の被覆材90が容器80内の初期の真空レベル即ち周囲に対する圧力の初期の低下を、それが先ず脱気され、そしてその壁86が周囲雰囲気に曝露された場合に、少なくとも12ヶ月、又は少なくとも18ヶ月、又は少なくとも2年間のシェルフライフの間、20超、場合により15超、場合により10超、場合により5超、場合により2超の減少を防止するために有効であることを判定するために十分な数の容器80の内面88全体を網羅する点において実施できる。VI.初期真空レベルは高真空、残留気圧が10トール未満である場合があり、又はより低真空、例えば陽圧すなわち全真空を超える過剰圧20トール未満、50トール未満、100トール未満、150トール未満、200トール未満、250トール未満、300トール未満、350トール未満、380トール未満である場合がある。真空採血管の初期真空レベルは、例えば、多くの場合、管を使用する試験の種類により、すなわち、製造時に管に添加される試薬の種類及び適量により決定される。初期真空レベルは一般に、管に含まれる試薬と結合させるのに適正な量の血液を引きこむよう設定される。VI.場合により遮蔽物又は他の型の被覆材90の検査手順は、遮蔽物又は他の型の被覆材90が容器80内の圧力を、それが先ず脱気され、そしてその壁が周囲雰囲気に曝露された場合に、少なくとも1年のシェルフライフの間、周囲大気圧の15超、又は10超の増大を防止するために有効であることを判定するために十分な数の容器内面88全体を網羅する点において実施できる。図15は上記及び後述する検査方法を実施するために適合された装置即ち1つ以上の処理ステーションを含む本発明の実施形態による処理システム20を示す。処理システム20は容器処理システムで合ってよくそして、とりわけ、第1処理ステーション5501を含み、そして第2処理ステーション5502を含んでも含まなくても良い。そのような処理ステーションの例は例えば図1の参照番号24、26、28、30、32及び34に示されている。第1容器処理ステーション5501は、装填済み容器80を把持する容器ホルダー38を含む。図15に血液管80が描写されているが、容器はシリンジ本体、バイアル、カテーテル、又は例えば検査すべき表面を有するピペットや何れかの他の物体であってよい。容器は、例えばガラス製又はプラスチック製である場合がある。プラスチック容器の場合、第1処理ステーションはまたプラスチック容器をモールドするためのモールドからなる場合がある。第1処理ステーションでの第1処理処理は、容器のモールド、容器の欠陥検出のための第1検査、容器内面の被覆、及び容器、特に内部被覆材の欠陥検出のための第2検査からなるの後に、容器ホルダー38を容器82と共に第2容器処理ステーション5502に搬送する。この搬送は、コンベヤー装備70、72、74により実行される。例えば、容器/ホルダー複合体を次の処理ステーション5502に移動させるため、容器ホルダー38及び/又は容器80を把持する1つの把持部又は複数の把持部を用意する場合がある。或いは、把持部なしで容器を移動する場合がある。しかし、把持部を適合するとコンベヤー装備による搬送が可能となるため、把持部と容器を共に移動することは有利である場合がある。処理ステーションの1つ以上は、検査すべき表面の近隣まで、例えば容器の内部容積内に、揮発性種を供給するための管を含んでよい。更にまた、被覆表面に隣接する気層内への検査物体からの少なくとも1種の揮発性種の放出を測定するためにガス検出器を設けてよい。図16は、本発明の別の実施形態に記載の容器処理システム20を示す。ここでも、2つの容器処理ステーション5501、5502を用意する。さらに、追加の容器処理ステーション5503、5504を連続して配備し、容器を処理、すなわち検査及び/又は被覆できるようにする。容器は、ストックから左側の処理ステーション5504へと移動可能である。或いは容器は、第1処理ステーション5504でモールド可能である。どちらの場合も、モールド、検査及び/又は被覆次に第2検査を行う場合があるといった第1容器処理は、処理ステーション5504で実行する。その後、容器を次の処理ステーション5501にコンベヤー装備70、72、74経由で移動する。一般に、容器は容器ホルダーと共に移動する。第2処理を第2処理ステーション5501で実施し、その後、容器と把持部を第3処理を実施する次の処理ステーション5502へと移動する。容器をその後再び把持部と共に、第4処理のために第4処理ステーション5503に移動し、その後保管するために搬送する。容器を処理する各被覆手順又はモールド手順又はその他の手順の前及び後に、容器全体の、容器の一部の、及び特に容器の内面の検査を実施する場合がある。各検査の結果を、中央処理装置5505にデータバス5507経由で送信する。各処理ステーションをデータバス5507と接続する。上記したプログラム要素はプロセッサ5505上で走らせてよく、そして中央制御及び調節装置の形態で採用してよいプロセッサは、システムを制御し、そして検査データを処理するように適合させて良く、これにより、データを分析し、最後の処理手順が成功であったかどうかを判定する。例えば被覆材に孔があるため、又は被覆材の表面が標準であり又は十分に平滑でないため、最後の処理手順が不成功であったと判定される場合、容器は次の処理ステーションに進むことなく製造工程コンベヤーセクション7001、7002、7003、7004参照から除去されるか、再処理するために返送される。プロセッサ5505は、制御/調整パラメーターを入力するためのユーザーインターフェース5506に接続する。図17は、本発明の実施形態に記載の容器処理ステーション5501を示す。ステーションは、容器内面を被覆するためのPECVD装置5701からなる。さらに、容器検査用の複数の検出器5702~5707を用意する。かかる検出器は、例えば電気計測を実施する電極、光学検出器、CCDカメラ類、ガス検出器、又は圧力検出器である場合がある。図18は、本発明の実施形態に記載の容器ホルダー38と共に、複数の検出器5702、5703、5704及びガス吸入ポート108、110を有する電極を示す。電極と検出器5702は、容器が把持部38に装填済みである場合、容器80の内腔に移動するよう適合される場合がある。例えば装填済み容器80の外部に配置される光学検出器5703、5704を利用して、又はさらには容器80の内腔内に配置される光学検出器5705を利用して、特に被覆手順中に、光学検査を実施する場合がある。検出器はカラーフィルターからなる場合があり、異なる波長を被覆処理中に検出可能である。処理装置5505は光学データを分析し、被覆が成功であったか所定の確実性レベルに達していないかどうかを判定する。被覆材がおそらく不成功であったと判定される場合、それぞれの容器を処理システムから隔離する、又は再処理する。VI.A.被覆前及び被覆後検査を含む容器処理VI.A.さらなる別の実施形態は、開口部及び内面を定義する壁を有するモールドプラスチック容器を処理する、容器処理方法である。方法は、モールド時の又は被覆直前の容器内面の欠陥検出のための検査、検査後に型どおりに容器内面への被覆材の塗布、及び被覆材の欠陥検出のための検査により、実行される。VI.A.別の実施形態は、検査後に型どおりに遮断性被覆材を容器に塗布する容器処理方法であり、容器内面は遮断性被覆材の塗布後に検査欠陥検出のために検査される。VI.A.場合により、ステーションにおける又は機器26による容器検査は、基板に関する前盤工程でヘリウムといった検査ガスを、容器80の内部又は外部のいずれかに提供することにより、及び終盤工程でそれを検出することにより、修正可能である。水素といった低分子量ガス、又は酸素や窒素といった廉価/入手が容易なガスも、検査ガスとして利用可能である。VI.A.ヘリウムは、大気中の窒素や酸素といったよくある環境ガスと比べて非常に迅速に、不完全な遮断膜又はその他の種類の被覆材を通り抜けるため、又は漏出密閉部を通過するため、漏出/透過検出率を増加させる検出検査ガスとして考えられる。ヘリウムは、以下の特徴により多くの間断ない基板又は小ギャップを通る高搬送率を有する:1不活性であるため、多大に基板により吸収されない、2容易にイオン化されないため、電子と原子核の間の引力が高く分子が非常にコンパクトである、及び3分子量4であるため、窒素分子量28や酸素分子量32とは対照的に、分子がよりコンパクトであり多孔質基板又はギャップを容易に通り抜けられる。これらの要素によりヘリウムは、任意の透過性を有する遮断膜を通って多くのその他のガスより迅速に移動する。また、大気が通常包含するヘリウムは非常に少量であるため、特に漏出透過を測定するためにヘリウムを容器80内に導入し容器80外部で検出する場合、追加されたヘリウムの存在は比較的容易に検出可能である。ヘリウムは、基板上流の圧力降下により、又は基板を通過した下流ガスの分光分析といったその他の手段により検出可能である。VI.A.機器80をモールドした後に、ステーション22において、後続の処理又は被覆を不完全に又は無効に塗布する、複数の潜在的問題が生じる場合がある。これらの問題に関する被覆を行う前に機器を検査する場合、所望の結果を確保するよう場合により6シグマ制御で高度に最適化された処理で、機器を被覆可能である。VI.A.処理及び被覆を妨害する可能性がある潜在的問題の一部には、以下が含まれる生成する被覆物質の性質により異なる。VI.A.1.大密度の粒子汚染欠陥例えば、各最長寸法10マイクロメートル以上、又は小密度の大粒子汚染例えば、各最長寸法10マイクロメートル以上。VI.A.2.化学的又はその他の表面汚染例えば、ケイ素離型剤又は油。VI.A.3.多数の鋭利な凸部及び/又は凹部により特徴付けられる、高い表面粗度。これはまた、100nm未満であるべき平均粗度Raを定量化することによっても、特徴付けられる場合がある。VI.A.4.真空の創出を不可能とする、例えば孔といった機器における欠陥。VI.A.5.密閉部例えば検体採取管の開口端を創出するために使用される、機器の表面上の欠陥。VI.A.6.処理又は被覆中に厚さを通る電力カップリングを妨害する又は修正する可能性がある、大幅な壁の厚さの不均一性。VI.A.7.遮断膜又はその他の種類の被覆材を無効に塗布する、その他の欠陥。VI.A.処理/被覆作業におけるパラメーターを使用して処理/被覆作業の成功を確保するため、機器を1つ以上の上記潜在的問題又はその他の問題について事前検査可能である。以前、機器の把持のための装置パック又は容器ホルダー38~68などを開示し、装置をさまざまな試験及び処理/被覆作業を含む製造処理を通して移動させた。機器を処理被覆のための適切な表面を確実に有するようにするため、複数の可能な試験を実施可能である。これらには容器壁のガス放出が包含され、これは場合により被覆後検査の下に後述するとおり測定することによりガス放出ベースラインを判定できる。VI.A.上記試験は、図2に示すステーション24において実行可能である。本図において、機器例えば検体採取管80を所定の位置に保持することができ、そして適切な検出器134を配置して所望の結果を測定可能である。VI.A.真空漏出が検出される場合、容器ホルダー及び機器を、管へと挿入される真空ポンプ及び測定機器へと結合可能である。試験はまた、明細書の別箇所で詳述する通りに実施可能である。VI.A.上記システムは、複数手順からなる製造及び検査方法へと統合可能である。VI.A.図1前述は、可能な方法の手順の配置図を示すただし本発明は単一概念又はアプローチに制限されるものではない。まず、容器80をステーションにおいて又は機器24により目視で検査する。検査には、容器80の寸法測定が含まれる場合がある。欠陥が見つかった場合、機器又は容器80を不合格とし、パック又は容器ホルダー38などを欠陥検出のため検査、再利用、又は除去する。VI.A.次に、その他の容器ホルダー38及び装填済み容器80のアセンブリの漏出率又はその他の特性を、ステーション26において試験し、被覆後の比較のために保管する。パック又は容器ホルダー38はその後、例えば被覆手順28へと移動する。機器又は容器80を、例えば13.56MHzの電力供給周波数で、SiOx又はその他の遮断層又はその他の種類の被覆材で被覆する。被覆された容器ホルダーは、漏出率又はその他の特性について再試験を行うこれは、試験ステーション26又は複製/類似ステーション30などにおいて第2試験として実行可能である複製ステーションの利用によりシステム処理量を増大可能である。VI.A.被覆測定は、非被覆測定と比較可能である。値の比率が事前設定された必須レベルを超える場合、被覆材のパフォーマンスが全体的に合格であることを示し、容器ホルダー及び機器は次工程に進む。機器が不合格である又は追加被覆のため再利用される場合は、値は事前設定制限を超えることが必須である可能性がある。次に不合格ではなかった機器については、第2光学試験ステーション34を使用可能である。この場合、点光源を管又は容器80の内部に挿入し、測定値が得られたら徐々に管状CCD検出器配列と共に管の外部に取り出す。データはその後、欠陥密度分布を判定するためコンピューター分析を行う。測定値に基づき、機器は合格となり最終包装が行われるか、不合格となる。VI.A.上記データは場合により、6シグマ品質を保つため統計的プロセス制御技術を利用して例えば、電子的にログ又はプロット可能である。VI.B.遮断層を通過するコンテナ壁のガス放出を検出することによる容器検査ガス放出測定により遮断層に関する検査物体を検査する方法を以下に記載する。方法において、第1の素材の少なくとも部分で作成されている物体基板を準備する。物体は表面を有し、そして場合により少なくとも部分的遮断層を第1の素材と表面の間に有する。開示した技術の最も広い態様において、特定の状況では容器が遮断性被覆材を有するか否かを判断するために検査されるため、任意である。場合により、第1の素材中に可溶であるか、それにより吸収又は吸着される充填素材を準備する。物体はこの場合充填素材と接触される。次に表面の少なくとも一部分からのガス放出を測定する。方法は遮断層の有無を判定するために有効な条件下で実施する。被覆されていると非被覆であるの間の判別は、それぞれの流速の初期傾きに基づいて行うことができる。これらの流速の傾きはa直接の傾きの計算Δ流量/Δ時間、又はb流速vs時間曲線から逆に計算された傾きを当てはめるアルゴリズムのいずれかにより判別可能でなければならない。被覆品目と非被覆品目の間の傾きの差は、再現性がある限りにおいて、本発明を実施するために十分であるためには極めて低値であることができる実施例参照。しかしながら一般的には、差は少なくとも0.1秒、より好ましくは少なくとも0.3~10秒、更により好ましくは少なくとも1秒~5秒でなければならない。傾きの差の上限は数分、例えば15又は30分であることができる。典型的には、傾きの差は1秒~15分、より典型的には1秒~1分、1秒~30秒、又は1秒~10秒の範囲である。本明細書において別途、図8に関して説明する場合の6シグマ評価は試験に合格したか不合格であるかを判別するための極めて役に立つツールである。実施例において本発明者等により適用されるシグマ数は6であり、これはまた本発明を実施するための最も好ましい数である。しかしながら所望の信頼性に応じて、シグマ数は2~8、好ましくは3~7、より好ましくは4~7、又は5~7に変動できる。信頼性vsシグマ数は相殺されるものであり:本明細書の実施の際により長い検査時間が許容される場合は、より大きいシグマ数が得られる。測定する揮発性種は被覆材から放出された揮発性種、基板から放出された揮発性種、又は両方の組み合わせであることができる。1つの態様において、揮発性種は被覆材から放出された揮発性種であり、場合により揮発性被覆材成分であり、そして検査は、被覆材の存在、特性及び/又は組成を測定するために実施される。別の態様においては揮発性種は基板材から放出された揮発性種であり、そして検査は、被覆材の存在、特性及び/又は被覆材の遮蔽作用を測定するために実施される。特に揮発性種は大気の構成成分、例えば窒素、酸素、水、二酸化炭素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、又は周囲空気であってよい。遮断層を配設されることができる適当な物体の一部の例はフィルム又は容器である。一部の特定の考えられる容器は、シリンジ又はシリンジバレル、医療用資料採取容器、バイアル、アンプル、及び/又は一端が閉鎖され一端が開放されている管、例えば血液又は他の医療用試料の採取管である。物体はプラスチック、例えば熱可塑性プラスチックの壁を有する容器であることができる。第1の素材、即ちプラスチック壁を形成する素材は、例えば熱可塑性素材、例えばポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレートPET、ポリブチレンテレフタレートPBT、又はポリエチレンナフタレート又はこれらの組み合わせ又はインターポリマーを含むか、本質的にこれよりなるか、これよりなることができる。第1の素材は例えばオレフィン重合体、例えば環状オレフィン共重合体COC、環状オレフィン重合体COP、ポリプロピレンホモポリマー、ポリプロピレン共重合体、又はこれらの組み合わせ又はインターポリマーを含むか、本質的にこれよりなるか、これよりなることができる。その他の考えられる第1の素材はポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ナイロン、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリアクリロニトリルPAN、ポリメチルペンテン、アイオノマー樹脂、例えばSurlyn登録商標アイオノマー樹脂を含む。何れの実施形態においても、第1の素材は環状オレフィン共重合体を含むか、環状オレフィン共重合体より本質的になるか、又は環状オレフィン共重合体樹脂組成物よりなることができる。本実施形態においては、よりなるとは完全な成形組成物を作成するために純粋な環状オレフィン共重合体とブレンドする他の素材を排除するわけではない。よりなるのこの定義は明細書全体を通じて全ての素材に適用する。よりなるとはまた、記載した樹脂組成物及び異なる組成物の他の層よりなる少なくとも1種の層を有する層状の素材を除外しない。何れの実施形態においても、第1の素材はポリエチレンテレフタレートを含むか、ポリエチレンテレフタレートより本質的になるか、又はポリエチレンテレフタレート樹脂組成物よりなることができる。第1の素材例えばSiOx被覆材で被覆された管の素材と揮発性構成成分の特に好ましい組み合わせは、COCと二酸化炭素である。特に好ましい組み合わせ例えばSiOx被覆材で被覆された管の素材と揮発性構成成分はPET及び水である。第1の素材例えばSiOx被覆材で被覆された管の素材と揮発性構成成分の更に好ましい組み合わせは、COCとアルゴンである。何れの実施形態においても、遮断層はxが約1.5から約2.9のSiOx、又は本明細書に別途記載する何れかの他の適当な素材を含むかそれよりなることができる。遮断層は何らかの他の主要な機能、例えば潤滑性、疎水性、又は他の表面特性を有する層、例えば本明細書に記載した何れかの層であることができる。遮断層を適用するための本明細書に記載した何れかの方法を使用できる。充填素材は素材からガス放出させるためのガスを提供することによりガス放出の測定を容易にする何れかの素材であることができる。一部の非限定的な考えられる例は大気の構成成分、例えば窒素、酸素、水、二酸化炭素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン又は周囲空気である。本明細書において考えられる他の型の充填素材は遮断層を形成するために使用される処理素材を含む。例えば、充填素材有機ケイ素素材、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、又は前駆体又は処理素材として本明細書に開示する他のガスの何れかを包含できる。考えられる他の型の充填素材は例えば被覆処理に使用される搬送ガスである。遮断性被覆材は場合により、充填素材が接触する前、充填素材が接触した後、充填素材が接触している間、又はこれらの段階の2つ以上の何れかに塗布するか、存在することができる。接触の手順は充填素材を含有する堆積に物体を曝露することによるなど、種々の方法で実施できる。接触は充填素材を含有する周囲空気に物体を曝露することにより実施できる。1つの考えられる充填素材は水であり、これは湿潤空気の形態で提供され得る。接触は例えばガス放出を計測する前に、相対湿度35~100、場合により40~100、場合により40~50、場合により少なくとも50、場合により少なくとも60、場合により少なくとも70、場合により少なくとも80、場合により少なくとも90、場合により少なくとも95、場合により100で遮断層を空気に接触させることにより実施できる。充填素材に物体を接触させることは、充填素材を含むガスに物体を曝露することによるか、又は充填素材を含む液体に物体を曝露することにより実施できる。模範的接触時間は、0.1秒~1時間、場合により1秒~50分、場合により10秒~40分、場合により1分~30分、場合により5分~25分、場合により10分~20分である。しかしながら、接触時間はかなり短くても良い。より短い接触時間例えば実施例の12分より短いを達成するための1つの選択肢は、充填素材との物体の接触の間の温度を上昇させることである。この温度上昇は検査品目を介する、例えばプラスチック基板を介する接触素材の拡散を加速する場合がある。例えばPETボトルの壁を通過するCO2の拡散は、30~40°Cに温度が上昇した場合にかなり増大した。CO2を充填するための典型的なパラメーター及び条件はCO2を充填するための基本的プロトコルにおいて示している。底に記載されているパラメーターは充填を実施する際には±50以下の変動があってよい。本明細書に記載した他の充填素材の異なる物理化学的特性を考慮しながら適宜変更された同様の条件は、該別の充填素材の充填を行う場合に適している。本発明による充填素材による品目の充填を包含するガス放出測定における非被覆と被覆プラスチック品目、例えば遮断層で被覆された品目の判別の増強は後の脱気測定マイクログラム/分のために樹脂中にガスを吸収させるプラスチック品目の能力に依存している。これは充填素材としてAr、N2又はCO2を使用する実施例において明らかにされる。プラスチック中のガスの溶解度はプラスチック樹脂中に滞留できるガスの量の重要な決定要因であり、従って特定の充填ガスについて良好な非被覆vs被覆品目の判別ができる能力の良好な推定基準となりえる。プラスチック樹脂中の種々のガスの溶解度の実験的な測定は極めて限定されるが、ガスの溶解度SとLennard-Jonesガス温度[ガス潜在エネルギー定数イプシロンをボルツマン定数kで割ったもの]との間の直線的な関係方程式1が±0.6の精度でガラス状ポリオレフィンについてVanAmerongen,Michaels,andBixlerにより測定されているD.W.VanKrevelen,PropertiesofPolymers,Elsevier,3rdEd.,1990,pp.538-542及びその参考文献。logS298=-7.40.010イプシロン/k方程式1表Hはガス実施例で使用した二酸化炭素及び窒素ガスを包含、そのLennard-Jonesガス温度イプシロン/k比、計算値logSパラメーター、及び非被覆のSiOx被覆に対する最大分離のATCマイクログラム/分シグナルの平均の比の一覧表である。計算値logSを二酸化炭素、アルゴン、及び窒素の実験ATC比に対してプロットすることにより図5、高値のガス溶解度を有するガスの好適度が高く、低値のガス溶解度を有するガスの好適度が低いことが示される。換言すれば高値の溶解度を有するガス表H中下部はガス放出測定に基づけば遮断性被覆と非被覆基板のより良好な分離を可能にしている。表F及びGならびに図19から得られた比同様の原理は、他の被覆材又は異なるガス吸収及び吸着を示す異なる素材の判別に適用される。従って、本発明の文脈においては検査されたプラスチック素材における良好な溶解度を有する充填ガスを使用することが好ましい。試験の感度を上昇させるためには、充填素材はプラスチック中でより高い溶解度を有する充填素材を補給するか、それで置き換えることができる。本発明の特定の態様において、充填素材は表Hに列挙した素材に関して選択される。別の特定の態様において、それは-7.5より高値、好ましくは-7より高値、更に好ましくは-6.9より高値のlogSを有するガスの群から選択される。特定の実施形態においては、充填ガスは-7.5~-4.5、好ましくは-6.9~-5.1の範囲のlogSを有する。表面の少なくとも一部分からのガス放出の測定は、例えば表面上に少なくとも部分的な真空引きを行うこと、及び、表面からのガス放出の流速を測定することにより実施できる。本明細書に記載した何れかのガス放出測定が意図される。ガス放出は、例えばガス放出測定中被覆表面上に真空引きを行うことにより、0.1トール~100トール、場合により0.2トール~50トール、場合により0.5トール~40トール、場合により1トール~30トール、場合により5トール~100トール、場合により10トール~80トール、場合により15トール~50トールの圧力で測定できる。ガス放出は-10°C~150°C、場合により0°C~100°C、場合により0°C~50°C、場合により0°C~21°C、場合により5°C~20°Cの温度で測定できる。第1の素材基板及び測定されるガス放出ガスの物理化学的特性に応じて、他の温度が適当である場合もある。COCのような一部の素材はより高温でより高値の透過性を有するが、歪を起こすほどの高温まで加熱しないようにすることも重要である。例えばCOC約70°C~約180°Cの範囲にガラス転移点を有するについてはガス放出測定のための温度は、ガラス転移点より低温であり、そして歪が起こらない限りにおいて、約80°C以上である。本明細書に記載した実施形態の何れかにおいて、第1の素材は場合により外面及び内面を有する壁を有する容器の形態において提供される場合があり、その内面は内腔を封入している。場合により、遮断層は容器壁の内面に配置されることができる。場合により、内腔を少なくとも部分的に真空にすることにより遮断層に渡る差圧を与えることができる。これは例えば内腔を少なくとも部分的に真空にするために真空源にダクトを介して内腔を接続することにより実施できる。ガス放出測定セルを配設し、内腔と真空源の間を連絡することができる。ガス放出は時間間隔ごとに遮断層を通過するガス放出素材の量を計測することにより測定できる。ガス放出は微小流動技術を用いて測定できる。ガス放出はガス放出素材の質量流速率として測定できるガス放出は作業の分子流モードにおいて測定できる。ガス放出は本明細書に記載する通りマイクロカンチレバー技術を用いて測定できる。場合により、遮断層において圧力差を提供して、ガス放出する少なくとも一部の物質が遮断層の高圧側に存在するようにする。別の選択肢において、放出ガスは圧力差の提供なしに拡散を許容する場合がある。放出ガスを測定する。遮断層において圧力差を提供する場合、ガス放出を遮断層の高圧側又は低圧側で測定可能である。VI.B.また、上記で塗布した内部被覆材の有効性の測定を、被覆前に特定種又は機器の壁に吸収された物質の拡散率を測定することにより、実行可能である。非被覆未処理管と比較する場合、この種の測定は、被覆又は処理の遮断性又はその他の種類の性質、或いは被覆又は処理の有無の直接的測定を提供可能である。検出された被覆又は処理は、遮断層に加えて/の代わりに、潤滑層、疎水層、装飾被覆材、又は基板のガス放出を増加又は低減して修正するその他の種類の層である場合がある。VI.B.本開示では、透過、漏出、及び表面拡散又はガス放出を区別している。ここで容器に関連して用いられる透過とは、図6の経路350又はその逆の経路に沿った容器外部から内部へ又はその逆といった、壁346又はその他の障害物を通る物質の移動を指す。ガス放出とは、吸収又は例えばガス分子354又は357又は359といった吸収物質の、図6の壁346又は被覆材348の内部から外方向への、例えば被覆材348存在する場合を通る及び容器358の内側図6右側への移動を指す。ガス放出はまた、図6に示すように、壁346から左側への、したがって図示する容器357の外部への、物質354又は357などの移動を指す場合がある。ガス放出はまた、例えば遮断性被覆材90の露出面からのガス分子355といった、物質表面からの吸収物質の除去を指す場合がある。漏出とは、壁346及び被覆材348に代表される障害物周辺の物質の移動であり、障害物の表面の通過/からの分離というよりは、閉包部で閉口される容器の閉包部と壁との間の通過などを指す。VI.B.透過は、ギャップ/欠陥がなく漏出又はガス放出に関連しない物質を通るガス移動率の指標となる。遮断性被覆材348を有する容器壁又はその他の基板346を示す図6を参照に、透過は完全に基板346及び被覆材348を通り経路350に沿って両方の層を通るガスの移動である。透過は熱力学的であると見なされ、したがって比較的緩やかなプロセスである。VI.B.透過の測定は、透過性ガスが無傷のプラスチック材の壁を完全に通り抜けなければならないため、非常に時間がかかる。真空採血管の場合、容器が経時的に真空を喪失する傾向の直接的指標として、壁を通るガスの透過測定が従来使用されている。しかし一般に測定に非常に時間がかかり、通常6日間の試験期間を必要とするため、ライン上の被覆材検査を支持する迅速性としては十分ではない。かかる試験は通常、ライン外での容器検体試験に使用される。VI.B.透過試験はまた、厚肉基板上の薄肉被覆の被覆材有効性の測定において感度に欠ける。すべてのガス流量が被覆材及び基板の両方を通るため、厚肉基板を通る流量の変動により被覆材自体の遮断性有効性が原因ではない変動が生じる。VI.B.本発明者は、被覆材の遮断性を測定するより迅速で潜在的により感度の高い方法を発見した。具体的には、被覆材を通る、容器壁内で急速に分離する大気又はその他のガス状又は揮発性成分のガス放出の測定である。ガス状又は揮発性成分は、実際にガス放出するいずれかの物質である場合があり、検出される1つ以上の特定物質から選択可能である。成分には、酸素、窒素、大気、二酸化炭素、水蒸気、ヘリウム、アルコールといった揮発性有機物、ケトン、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、被覆材前駆体、基板成分、揮発性有機ケイ素といった被覆材調整時の副産物、被覆基板調整時の副産物、偶然存在する又は基板のスパイキングにより生じるその他の成分、又はこれらの混合体又は複合体、が含まれる可能性があるがそれらに限定されない。ガス放出は348のような被覆材の存在及び遮断特性の遥かに迅速な測定透過と比較してを可能にする。ガス放出は図6における壁346の全層厚を通過する必要が無いため、より迅速な試験となる。それは遮断性被覆材348の壁346又は容器の内面被覆材が無い場合の内部に存在することができ、これによりそれは壁346の層厚の極めて少ない比率を横断できる。遮断性被覆材は容器壁より数倍薄層であるため、ガス放出の測定は、ガスが容器内部で検出可能となる前に通過しなければならない壁の層厚を減少させることにより透過試験のために必要な遅延の実質的に全てを取り除く。移動すべき距離を減少させることは、行程の長さを減少させる。容器壁により容易に取り込まれるが、遮断性被覆材により取り込まれないガスで試験すべき表面を充填することにより、更に高感度で、そしてそのため更に迅速にガス放出を実施できる。試験すべき容器の内部を充填ガスに曝露し、次にガス放出に関して試験する。有効な遮断性被覆材が存在する場合は、ガスが容器壁に侵入するのを遮断性被覆材がブロックするため、充填は殆ど起こらない。遮断性被覆材が存在しなければ、充填ガスは、たとえ極めて短時間であっても、容器壁のかなりの割合に取り込まれることになる。壁に侵入するガスの量及び遮断性被覆材の有無は、容器の内部へのガス放出の量を決定することになる。最後にガス放出を測定する方法は以下に迅速に測定できるかを決定する。好ましい測定手法は微小流動技術として知られている。本明細書の方法において使用される微小流動技術は数秒、潜在的には1秒以下のうちに、遮断性被覆材の存在及び効力を評価可能としている。ガス放出方法は数秒以内に、さらには1秒以内に、被覆と非被覆のプラスチック管を区別することができる。表面拡散とガス放出は同義語である。各用語は、例えば容器壁といった壁346上/内に初期に吸収された流体が、壁を有する容器内で真空を引き図6の矢印352により示される大気移動を創出壁の流体を容器の内部へと移動させるといった、ある種の原動力により隣接空間へと通り抜ける事を指す。ガス放出又は拡散は動的であると見なされ、比較的迅速なプロセスである。経路350に沿って透過するのに大幅な抵抗を有する壁346に関しては、壁346と遮断層348との間の界面356に最も近接する分子354が、ガス放出により迅速に除去されていると考えられる。この差分ガス放出は、界面356に近接しガス放出として現れる多数の分子354などにより、及びガス放出として現れない界面356から離れているその他の多数の分子358などにより、示唆される。VI.B.したがって、また別の方法が、複数手順を含む、蒸気をガス放出する素材上の遮断膜を検査する方法として考えられる。ガス放出する及び少なくとも一部が遮断層である物質の検体を用意する。遮断層において圧力差を提供して、初期にガス放出する少なくとも一部の物質が遮断層の高圧側に存在するようにする。試験中に遮断層の低圧側に搬送される放出ガスを測定し、遮断膜性が存在するかどうか又は遮断膜としてどの程度効果的であるかといった情報を判定する。VI.B.本方法において、ガス放出する物質は、ポリマー化合物、熱可塑性化合物、又は両方の性質を有する1つ以上の化合物を含む場合がある。ガス放出する物質は、ポリエステル、例えばテレフタル酸ポリエチレンを含む場合がある。ガス放出物質は、ポリオレフィン、2つの例に関してはポリプロピレン、環状オレフィン共重合体、又はこれらの複合体を含む場合がある。ガス放出物質は、少なくとも1つが蒸気をガス放出する2つの異なる物質の合成物である場合がある。一例は、ポリプロピレン及びテレフタル酸ポリエチレンの2層構造である。別の例は、環状オレフィン共重合体及びテレフタル酸ポリエチレンの2層構造である。これらの物質及び合成物は模範的であり、いずれかの適切な物質又は物質の複合体を使用可能である。VI.B.場合により、ガス放出物質を、外面及び内面を有する壁を有し内面が内腔を封入する容器の形態で用意する。本実施形態において、遮断層は容器壁に、場合により容器壁の内面に付着する。遮断層は容器壁に、容器壁の外面にも付着する可能性がある。場合により、ガス放出物質は、膜の形態で用意可能である。VI.B.遮断層は、いかなる本記述の遮断層の全体又は一部被覆である場合がある。遮断層は、500nm未満の層厚、又は300nm未満の層厚、又は100nm未満の層厚、又は80nm未満の層厚、又は60nm未満の層厚、又は50nm未満の層厚、又は40nm未満の層厚、又は30nm未満の層厚、又は20nm未満の層厚、又は10nm未満の層厚、又は5nm未満の層厚である場合がある。典型的には、SiOx遮断層である場合は、それは約20~30nmの層厚であってよい。VI.B.被覆壁の場合において、本発明者は拡散/ガス放出を被覆完全性を判定するために使用可能であることを発見した。場合により、容器の内腔又は内部を少なくとも一部真空化することにより、遮断層において圧力差を提供可能である。これは、例えば内腔をダクト経由で真空源と接続して内腔の少なくとも一部を真空化することにより、実行可能である。例えば、周囲空気に曝露している容器の非被覆PET壁346は、真空化後しばらくしてから、その内面から一定の酸素及びその他のガス分子354をガス放出する。同一PET壁の内部が遮断性被覆材348で被覆される場合、遮断性被覆材は本ガス放出を遮断、減速、又は低減する。これは、プラスチック表面よりガス放出が少ないSiOx遮断性被覆材348の例に関して真である。被覆PET壁と非被覆PET壁との間のこの差分ガス放出を測定することにより、ガス放出物質に関する被覆材348の遮断性作用を迅速に判定可能である。VI.B.既知の又は理論上の孔、割れ目、ギャップ、又は層厚/密度/組成が不十分である領域が原因で、遮断性被覆材348が不完全である場合、PET壁は、選択的に不完全部を通してガス放出し、したがってガス放出の総量が増加する。収集ガスは主に、物質の外側からではなく、被覆に隣接するプラスチック材の下位表面内の溶存ガス又は気化可能成分から供給される。基礎水準を超えるガス放出量例えば、不完全性が一切ない、又は不完全性が最低限である、又は不完全性が平均的/容認可能である標準被覆材により通過/放出される量を、さまざまな方法で測定して被覆材の完全性を判定可能である。VI.B.測定は、例えば内腔と真空源との間を通過するガス放出測定セルの提供により、実行可能である。VI.B.測定セルは、さまざまな異なる測定技術を実施可能である。適切な測定技術の例の1つに、微小流量技術がある。例えば、ガス放出物質の質量流量率を測定可能である。測定は、作業の分子流モードにおいて実行可能である。模範的測定として、遮断層を通してガス放出するガス容量の時間間隔あたりの判定が挙げられる。VI.B.遮断層の低圧側の放出ガスを、遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下で測定可能である。場合により、遮断層の有無の判別するのに効果的な条件に、1分未満、又は50秒未満、又は40秒未満、又は30秒未満、又は20秒未満、又は15秒未満、又は10秒未満、又は8秒未満、又は6秒未満、又は4秒未満、又は3秒未満、又は2秒未満、又は1秒未満の試験期間が含まれる。VI.B.場合により、遮断層の有無の測定は、上記で同定した時間間隔のいずれかの間に、少なくともシックスシグマレベルの確実性で確認可能である。VI.B.場合により、遮断層の低圧側の放出ガスを、遮断層の遮断改善度BIFを判定するのに効果的な条件下で測定し、遮断層なしの同一素材と比較する。BIFは、例えば2群に分ける同一容器を提供し、一群の容器に遮断層を追加し、遮断膜を有する容器の遮断性性質例えばマイクログラム毎分を単位とするガス放出率又は別の適切な測定を試験し、遮断膜なしの容器について同一試験を実施し、容器の性質の対遮断膜なし容器比を取得することにより、判定可能である。例えば、遮断膜を通るガス放出率が遮断膜なしの場合のガス放出率の3分の1である場合、遮断膜のBIFは3である。VI.B.場合により、多数の異なるガスの放出を、例えば放出大気の場合における窒素と酸素といった、2種以上のガスが存在する事例において、測定可能である。場合により、実質上すべて又はすべての放出ガスのガス放出を測定可能である。場合により、すべてのガスの複合質量流量といった物理的測定を利用して、実質上すべての放出ガスのガス放出を同時に測定可能である。VI.B.検体からガス放出される個別のガス種酸素、ヘリウム、CO2又は水蒸気などの数又は分圧の測定は、気圧試験より迅速に実行可能であるが、試験速度は、ガス放出の一部のみが測定種である程度まで低下する。例えば、窒素と酸素が大気約4:1の比率でPET壁からガス放出されるが酸素のガス放出のみが測定される場合、検出される十分な統計的品質の結果を得るための分子の数の観点において容器壁からガス放出されるすべての種を測定する同等感度の試験と比較して、試験を5倍長く実施する必要がある可能性がある。VI.B.任意の感度レベルについては、表面からガス放出されるすべての種の容量を明らかにする方法の方が、酸素原子といった特定種のガス放出を測定する試験より、望ましい信頼度をより迅速に提供するであろうと考えられる。結果として、ライン内測定において実用性があるガス放出データが生成される。かかるライン内測定は場合によりすべての製造された容器について実行可能であり、したがって特異な又は隔離する欠陥の数を減少させ、それらを少なくとも測定時においては潜在的に消滅させる。VI.B.実用測定において、ガス放出の量を明白に変化させる要素は、ガス放出試験において真空を引く時の真空レセプタクル上に装填される容器の密閉部といった、不完全な密閉部を通過する漏出である。漏出とは、物質の間断ない壁をバイパスする流体、例えば血液管とその閉包部の間、シリンジプランジャーとシリンジバレルの間、容器とその蓋の間、又は容器口が装填済み不完全又は誤装填された密閉部が原因でである場合の容器口と密閉部の間を、通過する流体を指す。用語漏出は通常、プラスチック素材の開口部を通るガスの移動を示す。VI.B.漏出及び必要に応じて任意の状況で透過はガス放出の基本レベルに組み入れることが可能であり、それにより、容器が真空レセプタクル上に適切に装填済みでありしたがってその装填済み表面が無傷で適切に成形及び位置付けされている、容器壁が透過の容認不可なレベルを支持しないしたがって容器壁が無傷で適切に成形されていること、及び被覆材が十分な遮断性完全性を有していることの両方が、容認可能な試験結果により保証される。VI.B.ガス放出はさまざまな方法で、例えば、気圧測定初期真空化後の任意の経過時間における容器内の圧力変化の測定により、又は検体から放出されるガスの分圧又は流量率の測定により、測定可能である。作業の分子流モードにおける質量流量率を測定する機器を、利用可能である。市販されている微小流量技術を利用するこの種の機器の例として、インディアナ州インディアナポリスのATC,Inc.の製品が挙げられる。この既知の機器の詳細情報については、参照することにより本明細書に含まれる米国特許5861546号、6308556号、6584828号、及びEP1356260号を参照されたい。また、遮断膜で被覆されたテレフタル酸ポリエチレンPET管と非被覆管を迅速かつ確実に判別するためのガス放出測定の実施例を示す、EP2251671A2号の実施例8も参照されたい。VI.B.テレフタル酸ポリエチレンPET製の容器については、微小流動率はSiOx被覆表面対非被覆表面に関して異なる。例えば、EP2251671A2号の実施例8において、PETの微小流動率は、図8に示すように、試験を30秒間実施した後に8マイクログラム以上であった。この非被覆PETの率は、再び図8に示すように、試験を30秒間実施した後に6マイクログラム未満であったSiOx被覆PETの測定率よりはるかに高かった。VI.B.この流量率における差異についての可能な説明の1つとして、非被覆PETが約0.7パーセントの平衡水分を包含することが挙げられる。これは、高い微小流動率を引き起こすと考えられている高い水分含量である。SiOx被覆PETプラスチックにより、SiOx被覆材は、非被覆PET表面より高いレベルの表面水分を有する可能性がある。試験条件下では、しかしながら、遮断性被覆材はバルクPETプラスチックからの水分の追加脱着を防止し、微小流動率を低下させると考えられている。非被覆PETプラスチック対SiOx被覆PETからの酸素又は窒素の微小流動率も、識別可能であることが見込まれる。VI.B.その他の物質を使用する場合、PET管のための上記試験を変更することが適切である場合がある。例えば、ポリオレフィンプラスチックは水分含量をほとんど含まない傾向がある。水分含量が低いポリオレフィンの例として、PETよりはるかに低い平衡水分含有量0.01パーセント及び水分透過度を有するTOPAS登録商標環状オレフィン共重合体COCが挙げられる。COCの場合も、非被覆COCプラスチックはSiOx被覆COCプラスチックと同様の、又はさらに少ない微小流動率を有する場合がある。これは、SiOx被覆材の表面水分含量が高く、平衡バルク水分含量が低く、非被覆COCプラスチック表面の透過度が低い事が原因であると見られる。これにより、非被覆及び被覆COC物質の区別がより困難となる。本発明では、試験対象のCOC物質表面を蒸気非被覆及び被覆に曝露することで、非被覆COCプラスチックとSiOx被覆COCプラスチックとの間の微小流動の分離が向上し一定することを解明する。これは、EP2251671A2号の実施例19及び図13に示す。水分暴露は、相対湿度に制御された部屋内での、又は暖湿源加湿器又は冷湿源噴霧器への直接的曝露後者が望ましいのいずれかにおける、35~100の範囲の相対湿度への単なる曝露である場合があるVI.B.本発明の有効性及び範囲はこの理論の正確性に従い制限されるものではないが、非被覆COCプラスチックを蒸気ドーピング又はスパイキングすることによりその蒸気又はその他のガス放出量が、すでに飽和したSiOx被覆COC表面と比較して増加することが示唆される。これはまた、二酸化炭素、酸素、窒素、水蒸気、又はそれらの混合体例:大気を含むその他のガスへと被覆管及び非被覆管を曝露することによっても、達成可能である。二酸化炭素曝露又はスパイキングは管がCOCにより作成されている場合にこの点において特に有効である。VI.B.従って放出ガスを測定する前に、遮断層は水分、例えば水蒸気に接触する場合がある。水蒸気は、例えば相対湿度が35~100で、或いは40~100で、或いは40~50である大気と遮断層を接触させることにより、提供可能である。水分の代わりに/に加えて、酸素、窒素、又は酸素と窒素の混合体例:大気と遮断層を接触させることも可能である。二酸化炭素、窒素及び希ガス例えばアルゴンを包含する他の素材もガス放出を試験するために使用できる。接触時間は、0.1秒~1時間、場合により1秒~50分、場合により10秒~40分、場合により1分~30分、場合により5分~25分、場合により10分~20分である場合がある。或いは、例えば図11の壁346の左側を壁346へと吸収する物質へと曝露させその後図6に示すように左側又は右側のいずれかへと放出することで、ガス放出をするガス壁346を遮断層348に対立する側からスパイク又は補填可能である。壁又はその他の物質346などをガス吸収により左側からスパイクして、その後スパイクした物質のガス放出を右側から測定する又はその逆ことは、透過測定とは区別される。なぜなら、被覆材を通るガスが測定される時に壁を通る完全な経路350を移動する物質が測定されるのとは対照的に、スパイクした物質はガス放出を測定時には壁346内にあるからである。ガス吸収は、被覆材348の塗布前の一実施形態、及び被覆材348の塗布後及びガス放出の試験前の一実施形態に示すように、長期間にわたり行われる場合がある。VI.B.非被覆プラスチックとSiOx被覆プラスチックとの間の微小流動反応の分離を増加させるもう1つの可能な方法として、測定圧力及び/又は温度の修正が挙げられる。ガス放出測定時の圧力の増加又は温度の減少により、SiOx被覆COC内の水分子が非被覆COC内のものより多く相対結合する場合がある。したがって放出ガスは、0.1トール~100トール、或いは0.2トール~50トール、或いは0.5トール~40トール、或いは1トール~30トール、或いは5トール~100トール、或いは10トール~80トール、或いは15トール~50トールの圧力で測定可能である。放出ガスは、-10°C~150°C、場合により0°C~100°C、場合により0°C~50°C、場合により0°C~21°C、場合により5°C~20°Cの温度で測定可能である。COCに関しては、温度は約80°C以上であることができる。別の特定の実施形態はプラズマ被覆COCプラスチック品目又は表面と非被覆品目又は表面を、COC品目又は表面の二酸化炭素注入又は充填を測定することにより判別するための進歩したシステム及び進歩した方法である。かなりの溶存水分約0.1~0.2重量を有するPET樹脂とは対照的に、TOPAZブランドの樹脂を包含する環状オレフィン共重合体COC組成物は遥かに低値の平衡水分約0.01を有する。水分ガス放出を用いて非被覆及びプラズマ被覆のCOCの間でガス放出率を区別するための微小流動分析はより困難である。COC品目又は表面への二酸化炭素CO2の注入又は充填は非被覆及びプラズマ被覆射出成形COC品目の間の進歩した微小流動シグナル分離をもたらす。この増強された判別は、性能最適化のための被覆材の均一性のより良好な判定、及び、許容可能又は許容不可能な被覆品目のリアルタイムのインラインの評価のより迅速な判別を可能とする。即ち、CO2は本発明に従って検査品目を充填することを包含するガス放出方法を実施するための好ましい充填素材である。充填素材の使用のため、例えば充填素材としてのCO2の使用のための好ましい条件を以下に示す。充填時間:0.1秒~1時間、場合により1秒~50分、場合により10秒~40分、場合により1分~30分、場合により5分~25分、場合により10分~20分。12~14分の充填時間が特に考えられる。充填圧力:16psi1気圧~48psi3気圧、好ましくは20psi~30psi、そして25psiが特に好ましい。充填を実施する際、3気圧より高値の圧力は、被覆容器及び被覆材が伸展し、被覆材及び/又は基板に亀裂及び拡張のような欠陥をもたらす場合があるため、望ましくない。CO2を充填するための典型的なパラメーター及び条件はCO2充填に関する基本的プロトコルに記載する。そこに記載されているパラメーターは充填を実施する際には±50以下の変動があっても良い。同様の条件は、本明細書に記載した他の素材の異なる物理化学的特性を考慮しながら適宜変更すれば、該他の充填素材の1つの充填を実施するためにも適している。CO2又は他の充填素材は被覆直後の被覆品目に充填することができる。微小流動方法を用いた進歩した非被覆vsプラズマ被覆脱ガス判別のために考えられる他の注入又は充填ガスは、特徴的には、低い大気中天然豊富度及びCOC樹脂中の高い溶解度を有し、例えば限定しないが、ヘリウム、アルゴン、ネオン、水素、及びアセチレンが包含される。しかしながら実施例が示す通り、N2もまた良好に使用できる。標準温度及び圧力760トールにおいて液体であるが、分析条件下では蒸気である液体例えばケイ素物質種及びハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレンが挙げられる。プラスチック品目へのCO2の注入又は充填は微小流動測定手順の間のパージガスとして、プラズマ被覆作業における仕上げ手順の部分として、又は別個の作業として実施できる。VI.B.本開示のいずれかの実施形態における、ガス放出測定のための考えられるある方法として、マイクロカンチレバー測定技術が挙げられる。かかる技術は、潜在的に1012gピコグラム~1015gフェムトグラムといった、より微小なガス放出の質量差を測定可能であると考えられている。このより微小な質量検出により、被覆表面と非被覆表面の区別及び被覆材の種類の判別が、1秒未未満で、場合により0.1秒未満で、場合によりマイクロ秒の単位で可能となる。VI.B.マイクロカンチレバーMCLセンサーは場合によっては、分子吸収度に起因する屈伸又は移動や形状の変化により、ガス放出された又は別方法で提供された物質の有無に、対応可能である。マイクロカンチレバーMCLセンサーは場合によっては、共鳴周波数シフトにより対応可能である。その他の場合、MCLセンサーはこれらの両方の方法又はその他の方法で変更される場合がある。これらは、ガス状環境、流体、又は真空といった異なる環境において、動作可能である。ガス内において、マイクロカンチレバーセンサーは人工鼻のように動作可能であり、それにより、8つのポリマー被覆ケイ素カンチレバーの微細加工配列の屈曲パターンが、溶媒、香味料、飲料からの異なる蒸気の特徴を示す。いずれかの技術によるその他の種類の電子鼻の利用もまた、考えられる。化学物質に曝露されたMCLの移動、形状の変更、又は周波数の変更の測定を行うために、ピエゾ抵抗、圧電性、容量性アプローチを含む複数のMCL電子デザインが適用され、考慮される。VI.B.ガス放出測定の一特定実施例を以下の通り実行可能である。ガス放出物質の存在下で移動又は異なる形状へと変化する性質を有する少なくとも1つのマイクロカンチレバーを用意する。マイクロカンチレバーを移動又は異なる形状へと変化させるのに有効である条件下で、マイクロカンチレバーをガス放出材質へと曝露する。移動又は異なる形状が、その後検出される。VI.B.一例として、マイクロカンチレバーのガス放出への曝露前及び後のマイクロカンチレバーの移動又は形状変化部からのエネルギー入射光線の照射により、及びカンチレバーから離れた点での照射光線の偏差結果の測定により、移動又は異なる形状を検出可能である。任意条件下の光線のふれ幅が光線の反射点から測定点まで距離に比例するため、形状はカンチレバーから離れた点で測定するのは随意である。VI.B.エネルギー入光線のいくつかの適切な例として、光子光線、電子光線、又はこれら2種以上の複合体が挙げられる。或いは、MCLからの2種以上の異なる光線を異なる入射及び/又は反射経路に沿って反射させて、1つ以上の視点から移動又は形状変化を判定可能である。具体的に考えられる種類のエネルギー入射光線の1つに、レーザービームといったコヒーレント光子光線がある。本明細書で述べる光子は、波エネルギー及び粒子又は光子エネルギー自体を含むよう、両立的に定義される。VI.B.測定の代替例は、共鳴周波数変更を達成するのに効果的な量の環境物質に接触すると共鳴周波数を変更する、特定MCLの性質を利用している。この種の測定は以下の通り実行可能である。ガス放出物質の存在下で異なる周波数に共鳴する少なくとも1つのマイクロカンチレバーを用意する。マイクロカンチレバーを異なる周波数で共鳴させるのに有効である条件下で、マイクロカンチレバーをガス放出材質へと曝露可能である。異なる共鳴周波数は、その後適切な手段で検出する。VI.B.一例として、異なる共鳴周波数は、エネルギーをマイクロカンチレバーへと入力してマイクロカンチレバーをガス放出へと曝露する前及び後にその共鳴を誘導することで、検出可能である。ガス放出への曝露前及び後のMCLの共鳴周波数の差異を、判定する。或いは、共鳴周波数の差異を判定する代わりに、十分な濃度又は量のガス放出物質が存在する場合に特定の共鳴周波数を有することで知られる、MCLを提供可能である。異なる共鳴周波数又は十分な量のガス放出物質の存在を示す共鳴周波数は、調和振動センサーを使用して検出する。ガス放出測定のためのMCL技術を利用する例の1つとして、MCL機器を容器及び真空ポンプに接続される水晶真空管に搭載可能である。市販のピエゾ抵抗カンチレバーを使用する調和振動センサー、ホイートストンブリッジ回路、正フィードバック制御装置、励起ピエゾアクチュエータ及び位相ロックループPLL復調器を、構成可能である。例えば、HayatoSone、YoshinoriFujinuma及びSumioHosakaによるPicogramMassSensorUsingResonanceFrequencyShiftofCantileverJpn.J.Appl.Phys.4320043648、HayatoSone、AyumiIkeuchi、TakashiIzumi1、HarukiOkano及びSumioHosakaによるFemtogramMassBiosensorUsingSelf-SensingCantileverforAllergyCheckJpn.J.Appln.Phys.4320062301を参照されたい。MCLの検出準備のため、マイクロカンチレバーの片面にゼラチンを塗布できる。例えば、HansPeterLang、ChristophGerber、STMandAFMStudiesonBiomolecularSystems:UnravellingtheNanoworld,TopicsinCurrentChemistry,Volume285/2008を参照されたい。真空被覆容器表面からの水蒸気脱着がゼラチンと結合し、カンチレバーの屈曲とその共鳴周波数の変動が生じてカンチレバー表面からのレーザー偏差により測定される。非被覆容器と被覆容器の質量の変化は、わずか数秒で解決可能であり、再現性が高いと考えられる。カンチレバー技術に関連する上記物質は、ガス放出される種の検出及び定量化に使用可能である特定のMCL及び機器装備の開示として、参照することにより本明細書に組み込まれる。蒸気検出リン酸又は酸素検出のための代替被覆材を、上述ゼラチン被覆材の代わりに/に加えてMCLへと塗布可能である。VI.B.さらには、現在考えられるガス放出試験設定を被覆ステーション、例えばSiOx被覆材を与える場合があるPECVD被覆ステーションと複合可能であることも考えられる。かかる装備において、測定セル362を、PECVDのためのメイン真空チャネルをバイパス386として使用して、上記図示通りにすることも可能である。一実施形態において、図7の測定セル通常362は容器ホルダー50などに搭載可能であり、その場合、バイパスチャネル386はメイン真空ダクト94として設定され測定セル362はサイドチャネルである。VI.B.測定セル362と容器ホルダー50の組合せは、場合によりPECVDのために使用される真空の中断なしにガス放出測定の実行を可能とする。場合により、PECVDのための真空ポンプを短時間、好ましくは標準化された一定時間動作して、被覆手順後に残った一部の又はすべての残存反応性ガスを排出可能である1トール未満のポンプダウン、少量の大気、窒素、酸素、又はその他のガスを入れてのポンプダウン前の処理ガスのフラッシュ又は希薄化を伴う。これにより、容器の被覆と遮断性レベルの有無に関する被覆材の試験の複合処理を、促進可能である。VI.B.ガス放出測定値は遮断層の有効性の判定以外にも/に加えて多くの目的のために使用可能であるという事実は、本明細書の審議後に、当技術分野の当事者により高く評価されるであろう。例えば試験は、容器壁のガス放出の度合いを判定するために非被覆容器又は被覆容器に使用可能である。本試験は例えば、非被覆ポリマーが指定量未満のガス放出を行うことが必須である場合に使用可能である。VI.B.別の例に関しては、やはりガス放出測定値を、膜が測定セルを越える時のガス放出の変動を測定するために静的試験又はライン上試験として、遮断性被覆膜又は非被覆膜に使用可能である。試験は、アルミニウム被覆材又はEVOH遮断性被覆材又は包装フィルムの層といった、その他の種類の被覆材の連続性及び遮断性有効性を判定するために、使用可能である。VI.B.ガス放出測定値をやはり使用して、例えば容器壁の外部に塗布し容器壁の内部へとガス放出するよう調査する遮断層といった、容器壁の側面、膜、又は測定セルに対立する同種のものに塗布した遮断層の有効性を判定可能である。この事例において、流量差分は遮断性被覆材を通る透過、その後基板膜又は壁を通る透過に関するものである場合がある。本測定は、例えば極めて薄い又は多孔性の膜又は壁といった、基板膜又は壁が完全に透過性である事例において、特に有用である場合がある。VI.B.ガス放出測定値をやはり使用して、測定セルにより、測定セル及びガス放出に隣接する層を通る、遮断層を通る、遮断層の又は遮断層と比較して測定セルからより遠隔の層のガス放出が検出される可能性がある、容器壁、膜、又は同種のものの内部層である遮断層の有効性を判定可能である。VI.B.ガス放出測定値を使用して、ガス放出する物質上の遮断性素材のパターンの被覆率を判定可能である。具体的には、物質のいかなる一部にも遮断膜が存在しない場合に予測されるガス放出量の比率として、一部遮断被覆された物質のガス放出の度合いを判定する。VI.B.明細書におけるいかなるガス放出試験実施形態とも併用可能である、容器のガス放出試験の率を増加させるために使用可能である試験技術は、プランジャー又は閉包部を容器内に挿入することにより、容器の空隙容量を減少させるためのものである。空隙容量の減少により、容器は任意の真空レベルへとより迅速にポンプダウンし、したがって試験間隔が減少する。VI.B.現在記述するガス放出測定値及びその他記述済みのすべての遮断膜測定技術に関するその他多くの用途は、本明細書の審議後に、当業者により明白となるだろう。VII.PECVD処理された容器VII.容器は例えば図2に示す遮断性被覆材90を有すると考えられ、被覆材は少なくとも2nm、少なくとも4nm、少なくとも7nm、少なくとも10nm、少なくとも20nm、少なくとも30nm、少なくとも40nm、少なくとも50nm、少なくとも100nm、少なくとも150nm、少なくとも200nm、少なくとも300nm、少なくとも400nm、少なくとも500nm、少なくとも600nm、少なくとも700nm、少なくとも800nm、少なくとも900nmの層厚に塗布されるSiOx被覆材である場合がある。被覆材は、最大1000nm、最大900nm、最大800nm、最大700nm、最大600nm、最大500nm、最大400nm、最大300nm、最大200nm、最大100nm、最大90nm、最大80nm、最大70nm、最大60nm、最大50nm、最大40nm、最大30nm、最大20nm、最大10nm、最大5nmの層厚である場合がある。上記最小層厚のいずれか1つ、及び上記最大層厚のいずれか1つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。SiOx又はその他の被覆材の層厚は、例えば透過電子顕微鏡法TEMで測定可能であり、その組成物はX線光電子分光法XPSにより測定可能である。VII.被覆材の透過を妨げる素材の選択及び適用するSiOx被覆材の性質によっては、その遮断性に影響が出る可能性が考えられる。例えば、一般に除外を意図する2つの物質の例は、酸素及び水/水蒸気である。物質は一般に、片方に対してよりもう一方に対する遮断性の方が優れている。これは少なくとも一部はそう信じられており、なぜなら、酸素は水の透過とは異なる機構で被覆材を透過するからである。VII.酸素の透過は、被覆材の層厚、割れの有無、その他の被覆材の物理的詳細といった、物理的特徴により影響を受ける。その一方で水の透過は、一般に、物理的要素より化学的要素被覆材の原料などにより影響を受けると考えられる。本発明者はまた、少なくとも1つの化学的要素は被覆材のOH部分の高濃度であり、それにより遮断膜を通る水の透過率がより高められると確信している。SiOx被覆材は多くの場合OH部分を包含し、したがってOH部分を多く含む物理的に堅固な被覆材は水に対してより酸素に対しての遮断性の方が優れている。非晶質炭素又はダイヤモンド状炭素DLCといった、物理的に堅固な炭素系遮断膜は一般に、SiOx被覆材より水に対する遮断性に優れる。なぜなら、炭素系遮断膜は一般に低濃度のOH部分を有するからである。VII.しかしながら、その酸素遮断性及びガラスや水晶との化学的類似性といったその他の要素により、SiOx被覆材の優先傾向が導き出される。ガラス及び水晶容器の原材料として使用される場合は、酸素及び水に対する高い遮断性を示し、また容器内に一般に含まれる多くの物質を実質的に不活性にすると長く知られてきた2つの物質である。したがって、水分透過遮断層として機能する異なる又は追加の種類の被覆材を選択するより、SiOx被覆材の水蒸気透過速度WVTRといった水分遮断性を最適化することが、一般に望ましい。VII.SiOx被覆材の水蒸気透過速度向上のために検討可能な方法を、以下に示す。VII.堆積被覆材における有機部分炭素及び水素化合物の対OH部分濃度比を、増加可能である。これは例えば、供給ガスにおける酸素の比率を増加させる酸素供給率を増加させる又は1つ以上のその他成分の供給率を減少させることにより、実行可能である。OH部分低発現率は、酸素供給がケイ素源の水素と反応する度合いが増加し、PECVD排出内により多くの揮発性水が生成され低濃度のOH部分が被覆材に捕捉された/組込まれた結果であると、信じられている。VII.PECVD処理において、プラズマ生成電力レベルを上昇させるか、電力をより長い期間適用するか、又はその両方により、高エネルギーを適用可能である。適用エネルギーの上昇は、管がプラズマ生成電力を吸収する程度まで処理対象容器を歪曲する可能性があるため、プラスチック管又はその他の機器の被覆に使用する場合は注意を払って用いることが必須である。用途の文脈においてRF電力が望ましいのは、このためである。医学機器の歪曲は、間に冷却期間を挟む2つ以上の一連のパルスでのエネルギーの利用、エネルギー適用中の容器の冷却、短時間の被覆材の塗布一般に層厚は薄くなる、被覆用に選択した基材への吸収が最低限である被覆材塗布周波数の選択、及び/又はそれぞれのエネルギー塗布手順の合間の1つ以上の被覆材の塗布により、低減又は消失させることが可能である。例えば、処理ガスを継続的に供給しながら、負荷サイクルを1ミリ秒オン、99ミリ秒オフにして、高電力パルスを使用可能である。処理ガスは、パルスの合間で流れを保持しながらその後冷却剤となる。別の代替方法は、プラズマを収容するための磁気を追加して有効電力適用加熱又は不要な被覆材に繋がる無駄な電力とは対照的に、実際被覆材の漸増に繋がる電力を増加させることにより、電力適用装置を再設定することである。この手段により、適用エネルギーの総ワット数につき、より多くの被覆形成エネルギーを塗布可能となる。例えば米国特許5,904,952号を参照のこと。VII.被覆材の酸素後処理を、以前堆積された被覆材からOH部分を除去するために適用可能である。本処理としては、残存揮発性有機ケイ素化合物又はケイ素の除去又は追加SiOx形成のための被覆材の酸化も考えられる。VII.プラスチック基材管は予熱可能である。VII.ケイ素の異なる揮発性源、例えばヘキサメチルジシラザンHMDZを一部の又はすべてのケイ素供給源として使用可能である。HMDZへの供給ガスを変更することで問題に対処可能であると考えられる。なぜなら、本化合物は供給時点で酸素部分を一切有しないからである。HMDSO源被覆材におけるOH部分の供給源の1つは、未反応HMDSO内に存在する少なくとも一部の酸素原子の水素化であると考えられる。VII.SiOxと結合させた炭素系被覆材といった、合成被覆材を使用可能である。これは例えば、反応条件を変更することにより、又はアルカン、アルケン、又はアルキンといった置換又は非置換炭化水素を供給ガス及び有機ケイ素化合物に追加することにより、実行可能である。例えば米国特許5,904,952号を参照のこと番は関連部分において以下のように述べている:例えばプロピルといった低炭化水素を含有することで炭素部分を提供し、堆積膜のほとんどの性質光透過を除くを改善できる。また結合分析により、膜が本来は二酸化ケイ素であることが示される。しかし、メタン、メタノール、アセチレンの使用により、本来はケイ素である膜が生成される。ガス流に少量のガス状窒素を含有させることにより、堆積膜内に窒素部分を提供し、堆積率を増大させ、ガラスの透過及び反射光学性質を改善し、さまざまな量のN2に対する反応における屈折率を変化させることができる。亜酸化窒素をガス流に追加することにより、堆積率が増大し、光学性質が改善するが、膜硬度は低下する傾向がある。適する炭化水素はメタン、エタン、エチレン、プロパン、アセチレン、又はこれら2つ以上の組み合わせを包含する。VII.ダイヤモンド状炭素DLC被覆材は、主要の又は唯一の堆積被覆材として形成可能である。これは例えば、反応条件を変更することにより、又はメタン、水素、ヘリウムをPECVD処理へと供給することにより、実行可能である。反応供給は酸素を含まないため、OH部分が形成される可能性はない。例えば、SiOx被覆材は管内部又はシリンジバレル内部に塗布可能であり、外部DLC被覆材は管外面又はシリンジバレル外面に塗布可能である。又は、SiOx及びDLC被覆材はどちらも、内部管又はシリンジバレルの単層又は複数層被覆材として、塗布可能である。VII.図2を参照して、遮断膜又はその他の種類の被覆材90は、容器80へのその内面88を通る大気ガスの透過を低減させる。又は、遮断膜又はその他の種類の被覆材90は、容器80の内容物のその内面88への接触を減少させる。遮断層又はその他の種類の被覆材は、例えば、SiOx、非晶質例えばダイヤモンド状炭素、又はこれらの複合体からなる場合がある。VII.本明細書に記載のいかなる被覆材も、例えばプラスチック表面といった、表面の被覆に使用可能である。さらには、例えば遮断膜はガス又は流体を遮断し、好ましくは水蒸気、酸素及び/又は大気を遮断する遮断膜といった、遮断層として使用可能である。また、表面が非被覆である場合に被覆表面化合物又は組成物上に及ぼす可能性がある、機械的及び/又は化学的作用を防止又は低減させるために使用可能である。例えばインスリン沈殿又は血液凝固又は血小板活性化といった、化合物又は組成の沈殿を防止又は低減可能である。VII.A.被覆された容器本明細書に記載した被覆材はプラスチック又はガラスから形成された種々の容器、特にプラスチックの管及びシリンジに適用できる。例えばシリンジのバレル内部といった基板に潤滑性の層又は被覆材を塗布する処理が考えられ、記述済み前駆体の1~5000nm、10~1000nm、又は10~500nm、又は10~200nm、又は20~100nm、又は30~1000nm、又は30~500nm、又は30~1000nm、又は20~100nm、又は80~150nmの層厚での基板上/付近への塗布すること、及び潤滑表面を提供するための被覆材の、場合によりPECVD処理における架橋又は重合又は両方からなる。本処理により塗布される被覆材はまた、新規であると考えられる。定義のセクションにおいて定義されるとおりのSiwOxCyHzの被覆材は疎水性層としての実用性を有する。この種の被覆材は疎水性であると考えられ、潤滑性層として機能するかどうかに依存しない。表面のぬれ張力を対応する非被覆表面又は未処理表面と比較して低下させる場合に、被覆又は処理は疎水性であると定義される。疎水性は、したがって、非処理基板及び処理の両方の機能である。被覆材の疎水性の度合いは、その組成、性質、又は堆積方法により異なる。例えば、炭化水素をほとんど又はまったく含有しないSiOx被覆材は、定義のセクションにおいて定義されるとおりのSiwOxCyHz被覆材より親水性である。一般に、被覆材のC-Hx部分例:CH、CH2、又はCH3含有量が多いほど、そのケイ素含有量と比較して、重量、容量、又はモル濃度比で、被覆材の疎水性が高くなる。疎水性の層又は被覆材は極めて薄肉であり、少なくとも4nm、又は少なくとも7nm、又は少なくとも10nm、又は少なくとも20nm、又は少なくとも30nm、又は少なくとも40nm、又は少なくとも50nm、又は少なくとも100nm、又は少なくとも150nm、又は少なくとも200nm、又は少なくとも300nm、又は少なくとも400nm、又は少なくとも500nm、又は少なくとも600nm、又は少なくとも700nm、又は少なくとも800nm、又は少なくとも900nmの層厚を有する場合がある。被覆材は、最大1000nm、最大900nm、最大800nm、最大700nm、最大600nm、最大500nm、最大400nm、最大300nm、最大200nm、最大100nm、最大90nm、最大80nm、最大70nm、最大60nm、最大50nm、最大40nm、最大30nm、最大20nm、最大10nm、最大5nmの層厚である場合がある。上記最小層厚のいずれか1つ、及び上記最大層厚のいずれか1つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。そのような疎水性層又は被覆材の1つの利用性は、管内部に収集された血液から、例えばポリエチレンテレフタレートPETから作成された熱可塑性管壁を隔離することである。疎水性層又は被覆材は管の内面上の親水性のSiOx被覆材の上面上に塗布できる。SiOx被覆材は熱可塑性管の遮断特性を増強し、そして疎水性層又は被覆材は管壁との血液接触面の面エネルギーを変化させる。疎水性層は被覆材本明細書に記載するものから選択される前駆体を提供することにより作成できる。例えば疎水性層又は被覆材前駆体はヘキサメチルジシロキサンHMDSO又はオクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSを含むことができる。疎水性の層又は被覆材の別の使用方法として、ガラス製細胞調製管の作成が挙げられる。管は内腔を定義する壁、及びガラス壁の内面の疎水性の層又は被覆材を有し、クエン酸塩試薬を包含する。疎水性の層又は被覆材は、本明細書別箇所で同定されるものから選択される前駆体を提供することにより、生成可能である。別の例として、疎水性の層は被覆材前駆体はヘキサメチルジシロキサンHMDSO又はオクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSからなる場合がある。疎水性被覆材の別の原材料として、以下公式のアルキルトリメトキシシランR-SiOCH33が挙げられ、公式の各Rは水素原子又は有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、エポキシド、その他といったアルキル基である。又はこれら2つ以上の複合体も考えられる。上述のアルキルトリメトキシシラン前駆体を使用して、酸又は塩基触媒作用と加熱を組合わせることにより、前駆体を凝結ROH副産物を除去させて、架橋ポリマーを形成可能である。これは場合により、代替方法経由でさらに架橋可能である。特定実施例の1つとして、Shimojima等、J.Mater.Chem.,2007,17,658663が挙げられる。潤滑性層は、SiOx遮断性被覆材を容器80の内面88に塗布した後の後続被覆材として塗布し、特に潤滑性の層又は被覆材が流体オルガノシロキサン化合物である場合に被覆材処理の最後に潤滑性表面を提供可能である。場合により、潤滑性の層又は被覆材の塗布後に、PECVD処理後の後硬化が可能である。紫外線開始型フリーラジカル又はカチオン系、電子光線E光線及びDevelopmentOfNovelCycloaliphaticSiloxanesForThermalAndUV-CurableApplicationsRubyChakrabortyDissertation,2008で記述される温熱性を含む、放射線硬化アプローチを利用可能である。潤滑性の層又は被覆材を提供する別のアプローチとして、潤滑被覆する熱可塑性容器を射出成形する場合のケイ素離型剤の使用が挙げられる。例えば、モールド処理中に原位置熱潤滑性被覆材の形成を生じさせる、いずれかの離型剤及び潜在的モノマーを使用可能であると考えられる。又は、上述モノマーを伝統的な離型剤にドープして、同一結果を達成可能である。潤滑性層は特に、以下でさらに述べるように、シリンジバレルの内面のために考えられる。シリンジバレルの潤滑性内面により、シリンジ操作中にバレル内のプランジャーを前進させるのに必要なプランジャースライド力、又は、例えばプランジャーとバレルとの間の潤滑剤の分解が原因で起こる充填済みシリンジプランジャーによる介在潤滑剤の押しのけ、又はバレルへの粘着の発生後に、プランジャーの移動を開始させるための起動力を、減少させることができる。本明細書内別箇所で説明する通り、潤滑性の層又は被覆材も、容器80の内面88に塗布して後続SiOx被覆材の付着力を改善可能である。したがって、被覆材90は、SiOx層及び定義のセクションにおいて定義されるとおり潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層からなる。SiwOxCyHzの潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層又は被覆材は、SiOx層又は被覆材と容器内面との間に堆積可能である。又は、SiOx層又は被覆材は、潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層又は被覆材と容器内面との間に堆積可能である。又は、これら2種の被覆材組成1SiOx層又は被覆材及び2潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層の間で交互に切換わる又は累遷する3種以上の層を、使用可能である。又は、SiOx層又は被覆材は、少なくとも1つの別素材の介在層又は被覆材と共に、潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層又は被覆材に隣接させて、又は遠隔で堆積可能である。又は、SiOx層又は被覆材は、容器内面に隣接させて堆積可能である。又は、潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層又は被覆材は、容器内面に隣接させて堆積可能である。本明細書における、隣接するSiOx層及び潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層として考えられる別の手段は、定義のセクションにおいて定義されるとおりのSiwOxCyHzの段階的合成物である。段階的組成物は、潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層又は被覆材とSiOxの間の中間組成の遷移又は界面を伴うそれらの分離層であるか、潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層又は被覆材とSiOxの間の中間組成物の中間特異層又は被覆材を伴うそれらのの分離層であるか、被覆が通常方向に進むにつれ潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層又は被覆材の組成からよりSiOxのものへと継続的に又は段階的に変化する単一の層又は被覆材である可能性がある。段階的合成物の段階は、どちらの方向にも進む場合がある。例えば、潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層又は被覆材は基板へと直接塗布可能であり、SiOx表面から離れている組成物へと累遷可能である。又は、組成物SiOxは基板へと直接塗布可能であり、潤滑性層又は被覆材及び/又は疎水性層又は被覆材の表面から離れている組成物へと累遷可能である。累遷被覆材は特に、ある組成の被覆材がその他のものより基板への付着性に優れる場合に考えられ、その場合、付着性に優れる組成は例えば基板に直接塗布される場合がある。段階的被覆材のより離れた部分は、段階的被覆材の隣接部と比べて基板との相性に劣ると考えられている。なぜなら被覆材のいずれかの点において性質は徐々に変化するからであり、その結果、被覆材とほとんど同一の深さにある隣接部はほとんど同一の組成を有し、実質上異なる深さにあり物理的により離れている部分はより多様な性質を有する場合がある。また、基板への/から物質搬送に対してより良い遮断性を形成する被覆部は、基板上に直接塗布して、機能に劣る遮断膜を形成するより遠隔にある被覆部が遮断膜が除外又は妨害しようとする物質により汚染されるのを防止可能である、と考えられる。被覆材は段階的である代わりに、場合により組成の実質的勾配なしにある層から別の層へと急激に遷移する可能性がある。かかる被覆材は例えば、ガスを提供して非プラズマ状態で定常流動である層又は被覆材を生成し、その後プラズマ放電で短時間加圧して基板上に被覆材を形成することにより、生成可能である。後続被覆材を塗布する場合、最初の被覆材のためのガスを除去してから次の被覆材のためのガスをプラズマを加圧する前に定常方法で塗布して、再度、界面におけるほとんど段階的遷移なしに基板表面の離れた層又は被覆材又はその最外部の最初の被覆材を形成する。VII.A.1.a.例示される容器VII.A.1.a.図2を参照して、容器80などをさらに詳細に示す。図示容器80は通常管状である可能性があり、容器の一端に開口部82を、反対側に閉口端84を有する。容器80はまた、内面88を定義する壁86を有する。容器80の一例は、例えば、医学研究で使用する患者血液の静脈穿刺検体を収受するために一般に瀉血専門医により使用される、真空採血管といった医学検体管である。VII.A.1.a.容器ホルダー80は、例えば熱可塑性素材を原料とする場合がある。適切な熱可塑性素材の例の一部として、例えばポリプロピレン又は環状ポリオレフィン共重合体といった、テレフタル酸ポリエチレン又はポリオレフィンが挙げられる。VII.A.1.a.容器80は、射出成形、ブロー成形、機械加工、管ストックからの製造、又はその他の適切な手段といった、いずれかの適切な方法により製造可能である。PECVDは、SiOxの内面上に被覆材を形成するために使用可能である。VII.A.1.a.真空採血管としての利用を意図する場合、容器80は、760トールの外圧又は気圧及びその他の被覆材処理条件に曝露しても実質上変形しない実質上全内部真空に耐える強度を有することが望ましい。本性質は熱可塑性容器80において、例えば直径及び素材に関して十分な壁厚を有するシリンダー状の壁86といった、適切な寸法及び被覆材処理の温度より高いガラス遷移温度を有する適切な素材で製造された容器80を提供することにより、提供可能である。VII.A.1.a.検体採取管及びシリンジといった医療用容器/コンテナは比較的小型であり、雰囲気圧により圧潰されることなく真空化可能である比較的厚肉の壁で射出成形される。したがって、炭酸ソフトドリンクボトル又はその他のより大きいか、より薄壁のプラスチックコンテナより、堅固である。真空容器として利用するために設計される検体採取管は通常、保管期間中に全真空に耐えるよう構成されており、真空チャンバとして使用可能である。VII.A.1.a.かかる容器をそれ自体の真空チャンバへと適合させることで、通常極めて低圧で実行される容器のPECVD処理用真空チャンバ内への留置の必要性がなくなる可能性がある。容器をそれ自体の真空チャンバとして利用することにより、処理時間が迅速となり個別の真空チャンバからの部品の搭載非搭載が必要ないため、装置設定の簡略化が可能となる。さらに特定の実施形態については、機器をガス管やその他の装置へと位置合わせするため把持し、機器を容器ホルダーを真空ポンプへと装着して真空を創出可能とするため密閉し、及びモールドと後続処理手順との間で機器を移動する、容器ホルダーが考えられる。VII.A.1.a.真空採血管として使用する容器80は、意図する塗布のために有用な減圧へと内部が真空化されている一方で、保存可能期間中に大気又はその他の大気中ガスが大幅に管閉包部をバイパスすることによりへと漏出する又は壁86を通して透過することなしに、外部気圧に耐えるよう設計されているべきである。モールドされた時点での容器80がこの要件に満たない場合、遮断膜又はその他の種類の被覆材90で内面88を被覆することで処理可能である。これらの機器検体採取管やシリンジバレルなどの内面を処理及び/又は被覆して、既存のポリマー機器を超える利点を提供する及び/又は既存のガラス製品を模倣するさまざまな性質を付与することが望ましい。処理又は被覆の前及び/又は後に、機器のさまざまな性質を測定することが望ましい。別の例示される容器は本明細書に記載するシリンジである。VII.A.1.b.疎水性被覆材で被覆された壁を有する容器VII.A.1.b.別の実施形態は、疎水性被覆材又は層で被覆される壁をその内面に有し、含水ソジウムクエン酸塩試薬を包含する容器である。疎水性層又は被覆材は、容器内面の親水性SiOx被覆材の上に塗布することも可能である。SiOx被覆材はプラスチック容器の遮断性を増加させ、疎水性層又は被覆材は容器壁との容器内部の組成物又は化合物の接触面の界面エネルギーを変化させる。VII.A.1.b.壁は熱可塑性素材を原料とし、内腔を定義する内面を有する。VII.A.1.b.実施形態VII.A.1.bに記載の容器は、本明細書での説明の通りに適用される管内面上の第1SiOx層又は被覆材を有し、酸素遮断層として機能して熱可塑性素材製真空採血管の保存可能期間を延長することが可能である。定義のセクションにおいて定義されるとおり特徴付けられる疎水性層の第2の層又は被覆材を次に容器内面の遮断性層又は被覆材上に塗布して、疎水性表面を提供可能である。採血管又はシリンジにおいて、被覆材は、場合により、同種類の非被覆壁と比較して、内面に曝露したクエン酸ナトリウム添加剤処理済みの血漿の血小板活性化を減少させるのに有効である。VII.A.1.b.PECVDは、内面上に疎水性の層又は被覆材を形成するために使用される。従来のクエン酸塩採血管とは異なり、本明細書において定義した疎水性層を有する採血管は、管の疎水性表面を生成するのに通常用いられる、容器壁のケイ素上で焼成する被覆材を必要としない。VII.A.1.b.両方の層を、例えばHMDSO又はOMCTSといった同一前駆体、及び異なるPECVD反応条件を使用して塗布可能である。VII.A.1.b.採血管を調整する場合には、クエン酸ナトリウム抗凝固剤をその後管内に入れ、閉包部を用いて真空化及び密閉化して真空採血管を生成する。剤の成分及び公式は、当技術分野の当事者にとって既知である。含水ソジウムクエン酸塩試薬は、管内に導入される血液の凝固を阻害するのに有効な量で、管内腔に付着する。VII.A.1.c.SiOx遮断膜被覆される2層壁プラスチック容器COC、PET、SiOx層VII.A.1.c.別の実施形態は、内腔を少なくとも一部封入する壁を有する容器である。壁は、外部ポリマー層で封入された内部ポリマー層又は被覆材を有する。1つのポリマー層は、少なくとも層厚0.1mmの、水蒸気遮断性を定義する環状オレフィン共重合体COC樹脂の層又は被覆材である。別のポリマー層は、少なくとも層厚0.1mmの、ポリエステル樹脂の層又は被覆材である。VII.A.1.c.壁には、約10~500オングストロームの層厚を有するSiOx酸素遮断層又は被覆材が含まれる。VII.A.1.c.図10に図示する実施形態において、容器80は内壁408及び外壁410を有する二重壁容器である場合があり、それぞれ同一の又は異なる物質を原料とする場合がある。この種の特定実施形態の1つは、環状オレフィン共重合体COCからモールドされた壁及びテレフタル酸ポリエチレンPETといったポリエステルからモールドされたその他の壁で構成され、内面412上に前述のSiOx被覆材を有する場合がある。必要に応じて、連結被覆材又は連結層又は被覆材を内壁と外壁との間に挿入して、それらの間の付着力を促進可能である。この壁構造の利点として、異なる性質を有する壁を組合わせて各壁のそれぞれの性質を有する合成物を形成可能であることが挙げられる。VII.A.1.c.一例として、内壁408はSiOx遮断層を有する内面412上のPET被覆から生成可能であり、外壁410はCOCから生成可能である。本明細書内別箇所で示す通り、SiOxを有するPET被覆は優良な酸素遮断層であり、一方COCは優良な水蒸気遮断層であり、それにより水蒸気遷移速度WVTRが低下する。本合成容器は、酸素及び水蒸気の両方について優良な遮断性を有する場合がある。本構造は、例えば製造時に水性試薬を包含しかつ実質的な保存可能期間を有する真空化された医療用検体採取管のために考えられており、保存可能期間に合成壁を通る水蒸気の外方向への搬送又は酸素又はその他のガスの内方向への搬送を防止するための遮断性を有するものとする。VII.A.1.c.別の例として、内壁408はSiOx遮断層を有する内面412上のCOC被覆から生成可能であり、外壁410はPETから生成可能である。本構造は、例えば製造時に水性無菌液を包含する充填済みシリンジのために考えられている。SiOx遮断層は、酸素がその壁を通りシリンジに侵入するのを防止する。COC内壁は、例えば水といったその他の物質の侵入又は放出を防止し、したがって水性無菌液内の水が壁素材からシリンジへと浸出するのを防止する。COC内壁はまた、水性無菌液由来の水がシリンジから透過するしたがって水性無菌液が望ましくなく濃縮されることを防止するために考えられており、非無菌液又はシリンジ外部のその他の流体がシリンジ壁を通って侵入し含有物が非無菌液となることを、防止する。またCOC内壁は、シリンジの内壁に対するプランジャーの破断力又は摩擦を減少させるのに有用であると考えられる。VII.A.1.d.2層壁プラスチック容器の製造方法COC、PET、SiOx層VII.A.1.d.別の実施形態は、外部ポリマー層により封入される内部ポリマー層又は被覆材を有し1つの層又は被覆材がCOC製でもう1つの層がポリエステル製である壁を有する、容器の製造方法である。容器は、COC層とポリエステル樹脂層を同心射出ノズルを通して射出成形モールドへ導入する過程を含む処理により製造される。VII.A.1.d.任意の追加手順として、内部被覆材、外部被覆材、又は層の間に位置する中間層被覆材としての、非晶質炭素被覆材の容器へのPECVDによる塗布が挙げられる。VII.A.1.d.任意の追加手順として、前述通りにSiOxが定義される容器壁内面へのSiOx遮断層又は被覆材の塗布が挙げられる。別の任意の追加手順として、ガス状反応体又は本質的に酸素からなり及び本質的に揮発性ケイ素化合物を含まない処理ガスによるSiOx層又は被覆材の後処理が挙げられる。VII.A.1.d.場合により、SiOx被覆材は、少なくとも一部においてシラザン供給ガスから形成可能である。VII.A.1.d.図10に示す容器80は、一例として、第1モールド空洞部に内壁を射出成形して、その後核及びモールドされた内壁を第1モールド空洞部からより大きい第2モールド空洞部へと取り出し、その後第2モールド空洞部において内壁に対して外壁を射出成形することにより、内から外へ成形可能である。場合により、外壁を連結層へとオーバーモールドする前に、モールドされた内壁の外面へと連結層又は被覆材を提供可能である。VII.A.1.d.又は図10に示す容器80は、一例として、モールド空洞部内に第1核を挿入し、モールド空洞部内で外壁を射出成形し、その後第1核をモールドした第1壁から取り出しより小さい第2核を挿入し、その後モールド空洞部にそのまま内在している外壁に対して該内壁を射出成形することにより、外から中へ成形可能である。場合により、内壁を連結層へとオーバーモールドする前に、モールドされた外壁の内面へと連結層又は被覆材を提供可能である。VII.A.1.d.又は図10に示す容器80は、2段成形で製造される場合がある。これは、一例として、内壁用の部材を内部ノズルから及び外壁用の部材を同心の外部ノズルから射出成形することにより、実行可能である。場合により、内部ノズルと外部ノズルの間に付帯する第3同心ノズルから、連結層を提供可能である。複数ノズルにより、それぞれの壁材料を同時に供給可能である。有用な手段の1つとして、内部ノズルを通して内壁材料を供給する少し前に、外部ノズルを通して外壁材料を供給し始めることが挙げられる。中間同心ノズルが存在する場合、工程順は外部ノズルから始まり、順に中間ノズルから、そして内部ノズルからと続く。又は、供給開始順は内部ノズルから始まり、前述のものとは反対に外方向へと進めることが可能である。VII.A.1.e.ガラス製の容器又は被覆材VII.A.1.e.別の実施形態は、容器、遮断性被覆材、及び閉包部を含む容器である。容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。容器は、内腔と接合する内面を有する壁で少なくとも一部が境界される、口及び内腔を有する。少なくとも本質的に連続するガラス製遮断被覆材が、壁の内面に存在する。閉包部が口を覆い、容器の内腔を周囲空気から隔絶させる。VII.A.1.e.容器80は例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、又はその他のガラス処方といった、医療又は研究に使用されるいかなる種類のガラスを原料とすることが可能である。いかなる材料から製造されるいかなる形状又はサイズを有するその他の容器もまた、システム20での使用のために考えられる。ガラス容器の被覆の機能の1つとして、ガラスから容器の含有物真空採血管内の試薬又は血液などへの、意図的又は不純物ナトリウム、カルシウム、その他としてのイオンのガラス内への侵入を低減させることが挙げられる。例えば選択的に表面においてスライドしながら他の部品と接触するといった、ガラス容器全体又は一部を被覆することの別の機能は、例えばシリンジ内のピストンといったスライド式構成要素の停止部材又は経路の挿入又は除去を容易にするために、被覆材に潤滑性を提供することである。ガラス容器を被覆するさらに別の理由として、容器内の試薬又は意図する検体血液などの容器壁への付着、又は容器壁に接触する血液の凝固率増加を防止することが挙げられる。VII.A.1.e.i.関連する実施形態として、遮断性被覆材がソーダ石灰ガラス製又はホウケイ酸ガラス製又はその他の種類のガラスである、前段落で説明する容器が挙げられる。VII.B.シリンジVII.B.以上の記述は主に、例えば採血管又はより一般的には検体収受管80といった1つの恒久的閉口端を有する管への遮断性被覆材の塗布に言及している。装置はかかる機器に制限されない。VII.B.図3に示す、適切な容器の別の例は医療用シリンジ252のためのシリンジバレル250である。かかるシリンジ252は、医療技術で使用される食塩水、医薬品、又は同種のもので充填済みである場合がある。事前充填済みシリンジ252も、例えば保存中のシリンジバレル250のように、事前充填済みシリンジ252の内容物がシリンジのプラスチックに接触しないよう維持できる、内面254上のSiOx遮断層又はその他の種類の被覆材から、利益を得られると考えられる。遮断膜又はその他の種類の被覆材は、プラスチック成分が内面254を通してバレルの含有物へと浸出するのを防止するために使用可能である。VII.B.シリンジバレル250はモールド時には一般に、プランジャー258を収受する後端部256と、シリンジ252の含有物を投与するための/物質をシリンジ252へと収受するための皮下注射針、ノズル、又はタブを収受する前端部260の両方が開口している場合がある。しかし充填済みシリンジ252が使用される前に、前端部260には場合により蓋が付けられ、プランジャー258は場合により所定の位置に装着され、バレル250の両端は閉口される場合があ。蓋262を設置する目的は、シリンジバレル250又は組立てられたシリンジを処理するため、又は蓋262を除去し場合により皮下注射針又はシリンジ252の使用準備のためその他の搬送導管を前端部260に装着する時まで充填済みシリンジ252を保管期間中の所定位置に維持するため、のいずれかである場合がある。別の適当な容器は2011年5月11日出願のPCT/US11/36097及び2010年6月29日出願のUS61/359,434に記載されているスタックニードルシリンジ、即ち、固定されたスタックされた中空針を有するシリンジバレルである。VII.B.シリンジVII.B.以上の記述は主に、例えば採血管又はより一般的には検体収受管80といった1つの恒久的閉口端を有する管への遮断性被覆材の塗布に言及している。装置はかかる機器に制限されない。VII.B.図3に示す、適切な容器の別の例は医療用シリンジ252のためのシリンジバレル250である。かかるシリンジ252は、医療技術で使用される食塩水、医薬品、又は同種のもので充填済みである場合がある。事前充填済みシリンジ252も、例えば保存中のシリンジバレル250のように、事前充填済みシリンジ252の内容物がシリンジのプラスチックに接触しないよう維持できる、内面254上のSiOx遮断層又はその他の種類の被覆材から、利益を得られると考えられる。遮断膜又はその他の種類の被覆材は、プラスチック成分が内面254を通してバレルの含有物へと浸出するのを防止するために使用可能である。VII.B.シリンジバレル250はモールド時には一般に、プランジャー258を収受する後端部256と、シリンジ252の含有物を投与するための/物質をシリンジ252へと収受するための皮下注射針、ノズル、又はタブを収受する前端部260の両方が開口している場合がある。しかし充填済みシリンジ252が使用される前に、前端部260には場合により蓋が付けられ、プランジャー258は場合により所定の位置に装着され、バレル250の両端は閉口される場合がある。蓋262を設置する目的は、シリンジバレル250又は組立てられたシリンジを処理するため、又は蓋262を除去し場合により皮下注射針又はシリンジ252の使用準備のためその他の搬送導管を前端部260に装着する時まで充填済みシリンジ252を保管期間中の所定位置に維持するため、のいずれかである場合がある。別の適当なシリンジは2011年5月11日出願のPCT/US11/36097及び2010年6月29日出願のUS61/359,434に記載されているステーキドニードルシリンジ即ち固定されたスタックされた中空針を有するシリンジバレルである。典型的には、シリンジバレルを被覆する場合は、被覆基板表面がバレルの内面の部分又は全部であり、PECVD反応のためのガスがバレルの内側内腔に充満し、そしてバレルの内側腔の部分又は全部の内部でプラズマを発生させるように本明細書に記載したPECVD被覆方法を実施する。VII.B.1.a.潤滑性層で被覆されたバレルを有するシリンジVII.B.1.a.潤滑性層を有するタイプのシリンジは以下の処理により作成できる。VII.B.1.a.上記で定義される前駆体を用意する。VII.B.1.a.前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。被覆材は、重合、架橋、又はその両方の状態であり、未処理基板と比較してプランジャースライド力又は起動力を低減する潤滑表面を生成する。VII.B.1.a.実施形態VII及び下位部分に関して、塗布手順は場合により、前駆体の気化により行われ、基板付近に提供される。VII.B.1.a.プラズマを、基板付近に生成する。場合により、前駆体を実質上窒素が存在しない環境へと提供する。場合により、前駆体を絶対圧が1トール未満である環境へと提供する。場合により、前駆体をプラズマ発光付近の環境へと提供する。場合により、前駆体及びその反応生成物を基板へと1~5000nm、又は10~1000nm、又は10~500nm、又は10~200nm、又は20~100nm、又は30~1000nm、又は30~500nm、又は30~1000nm、又は20~100nm、又は80~150nm、の層厚で塗布する。場合により、基板はガラスからなる。場合により基板は、ポリマーから、場合によりポリカーボネートポリマーから、場合によりオレフィン重合体から、場合により環状オレフィン共重合体から、場合によりポリプロピレンポリマーから、場合によりポリエステルポリマーから、場合によりテレフタル酸ポリエチレンポリマーからなる。COCはシリンジ及びシリンジバレルのために特に考慮される。VII.B.1.a.場合によりプラズマを、上記で定義される、例えば周波数が10kHz~300MH未満、より好ましくは1~50MHz、さらにより好ましくは10~15MHz、最も好ましくは13.56MHzである、RF周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することで生成する。VII.B.1.a.場合により、プラズマは0.1~25W、好ましくは1~22W、より好ましくは3~17W、さらにより好ましくは5~14W、最も好ましくは7~11W、特に8Wの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成する。電極電力の対プラズマ量比は10W/ml未満であり、好ましくは6W/ml~0.1W/ml、好ましくは5W/ml~0.1W/ml、より好ましくは4W/ml~0.1W/ml、最も好ましくは2W/ml~0.2W/mlである場合がある。潤滑性被覆材を調製するためには、低電力レベルは本発明者等によれば最も好都合であると考えられる例えば2~3.5Wの電力レベル及び実施例に示す電力レベル。電力レベルは、シリンジや検体管、及びその内部でPECVDプラズマが生成され1~3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性層の塗布に適している。より大きい又はより小さい物体については、基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加又は減少させるべきであると考えられる。VII.B.1.a.別の実施形態はシリンジバレルの内壁上の本発明の潤滑性被覆材である。被覆材は以下の素材及び条件を用いたPECVD工程より製造される。環状前駆体を場合により使用し、それは潤滑層に関して本明細書に別途定義するとおり、単環シロキサン、多環シロキサン、又はこれらの2種以上の組み合わせから選択される。適当な環状前駆体の一例は場合により何れかの比率で他の前駆体と混合したオクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSを含む。場合により環状前駆体はオクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSより本質的になり、このことは得られる潤滑層の基本的及び新規な特性、即ちその被覆表面のプランジャースライド力又は起動力の低下を変化させない量において他の前駆体も存在できることを意味している。VII.B.1.a.十分にプラズマを生成する電力入力、例えば本明細書の1つ以上の実施例において成功裏に使用される又は本明細書に記述されるいかなる電力レベルを供給して、被覆材生成を誘導する。VII.B.1.a.利用する素材及び条件は、シリンジバレル内を移動するシリンジプランジャーのスライド力又は起動力を、非被覆シリンジバレルと比較して少なくとも25パーセント、或いは少なくとも45パーセント、或いは少なくとも60パーセント、或いは60パーセント以上減少させるのに効果的である。プランジャースライド力又は起動力を20~95パーセント、或いは30~80パーセント、或いは40~75パーセント、或いは60~70パーセント減少させる範囲が、考えられる。VII.B.1.a.別の実施形態は、内壁上に定義のセクションで定義したとおりに特徴付けられる疎水性の層を有する容器である。被覆材は、類似組成の潤滑被覆材に関する説明通りに、しかし未処理基板と比較して高い接触角を有する疎水性表面を生成するのに効果的な条件下で、生成される。VII.B.1.a.場合により、基板はガラス又はポリマーからなる。ガラスは、場合によりホウケイ酸ガラスである。ポリマーは、場合によりポリカーボネートポリマー、場合によりオレフィン重合体、場合により環状オレフィン共重合体、場合によりポリプロピレンポリマー、場合によりポリエステルポリマー、場合によりテレフタル酸ポリエチレンポリマーである。VII.B.1.a.別の実施形態は、プランジャー、シリンジバレル、及び潤滑層を含むシリンジである。シリンジバレルは、スライディングのためのプランジャーを収受する内面を含有する。潤滑性の層又は被覆材はシリンジバレル内面の部分又は全ての上に付着される。潤滑性の層又は被覆材は場合により1000nm未満の層厚であることができ、起動力又はバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。プランジャースライド力の減少は、或いはバレル内でのプランジャーのスライド摩擦係数の減少又はプランジャー力の減少これらの用語は本明細書内において同義であると見なすとして表現される。VII.B.1.aシリンジ544は、プランジャー546及びシリンジバレル548からなる。シリンジバレル548は、スライディングのためのプランジャー546を収受する内面552を有する。さらにシリンジバレル548の内面552は、潤滑性の層又は被覆材554からなる。潤滑性の層又は被覆材は1000nm未満、場合により500nm未満、場合により200nm未満、場合により100nm未満、場合により50nm未満の層厚であり、保管後のプランジャーの付着状態を打開するのに必要な起動力、又は起動後にバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。潤滑性の層又は被覆材は、非被覆表面より低いプランジャースライド力又は起動力を有することにより、特徴付けられる。VII.B.1.a.上記いずれかの前駆体を単体で、又は2種以上の複合体で使用して潤滑性層を提供可能である。VII.B.1.a.真空処理の利用に加えて、低温度大気非真空プラズマ処理も利用して、場合により、好ましくはヘリウム又はアルゴンなど非酸化大気において、前駆体モノマー蒸気供給を通しての分子イオン化及び堆積を誘導可能である。個別に、温熱性CVDを閃光熱分解堆積経由で検討可能である。VII.B.1.a.上記アプローチは、表面被覆及び架橋機構が同時に生じる可能性がある真空PECVDに類似する。VII.B.1.a.いかなる被覆材又は本明細書に記載の被覆材に関するまた別の考えられる手段として、容器の内部88全体に不均一に塗布される被覆材が挙げられる。例えば、異なる又は追加の被覆材を、選択的に容器内部のシリンダー状部分へと塗布し、容器内部の閉口端84にある半球状部分と比較する、又はその逆が可能である。本手段は特に、以下に記述するシリンジバレル又は検体採取管に関して考えられる。シリンジバレルにおいて、プランジャー又はピストン又は閉包部がスライドするが別箇所はスライドしないバレルのシリンダー状部分の一部又は全部に、潤滑性の層又は被覆材を提供可能である。VII.B.1.a.場合により前駆体は、窒素の存在下、実質的非存在下、又は非存在下で、提供可能である。考えられる一実施形態において、前駆体単体を基板へと搬送し、PECVDを施し被覆材を塗布硬化する。VII.B.1.a.場合により、前駆体を絶対圧が1トール未満である環境へと提供する。VII.B.1.a.場合により、前駆体をプラズマ発光付近の環境へと提供する。VII.B.1.a.上記実施形態のいずれにおいても、基板はガラス又は、例えば1種以上のポリカーボネートポリマー、オレフィン重合体例えば環状オレフィン共重合体又はポリプロピレンポリマー、ポリエステルポリマー例えばテレフタル酸ポリエチレンポリマーといったポリマーからなる場合がある。VII.B.1.a.上記実施形態のいずれにおいても、本記述で定義するRF周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物を加圧することにより、プラズマを生成する。VII.B.1.a.上記実施形態のいずれにおいても、潤滑性層の生成に十分な電力の供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物を加圧することにより、プラズマを生成する。場合により、プラズマは0.1~25W、場合により1~22W、より場合により3~17W、さらにより場合により5~14W、最も場合により7~11W、特に8Wの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成する。電極電力の対プラズマ量比は10W/ml未満であり、場合により6W/ml~0.1W/ml、場合により5W/ml~0.1W/ml、より場合により4W/ml~0.1W/ml、最も場合により2W/ml~0.2W/mlである場合がある。潤滑性被覆材を調製するためには、低電力レベルは本発明者等によれば最も好都合であると考えられる例えば2~3.5Wの電力レベル及び実施例に示す電力レベル。電力レベルは、シリンジや検体管、及びその内部でPECVDプラズマが生成され1~3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性層の塗布に適している。より大きい又はより小さい物体については、基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加又は減少させるべきであると考えられる。VII.B.1.a.被覆材の重合、架橋又はその両方により被覆材を硬化して、未処理基板と比較してプランジャースライド力又は起動力を低減させる潤滑表面を生成可能である。硬化は、例えばPECVDといった塗布処理の間に起こる可能性があり、又は別処理により実行される又は少なくとも完了される場合がある。VII.B.1.a.被覆材の特性を明示するため本明細書ではプラズマ堆積を使用しているが、出発物質の化学的組成を維持し底部基板に付着する間断ない膜を堆積することが可能である限り、別の堆積方法を使用可能である。VII.B.1.a.例えば、被覆材の噴霧又は基板の被覆材への浸漬により、被覆材原料を流体状態からシリンジバレル上に塗布可能であり、その場合、被覆材は純前駆体又は溶媒希釈前駆体より薄い被覆材の機械的堆積を可能とするのいずれかである。被覆材は場合により、温熱性エネルギー、UVエネルギー、電子光線エネルギー、プラズマエネルギー、又はこれらの組み合わせを利用して架橋可能である。VII.B.1.a.上述のケイ素前駆体の表面への塗布とその後の個別の硬化手順もまた、考えられる。塗布及び硬化の条件は、商標TriboGlideRの下で実践される処理である、被覆前ポリフルオロアルキルエーテルの大気プラズマ硬化に使用されているものと、類似している場合がある。本処理の詳細については、http://www.triboglide.com/process.htmを参照されたい。VII.B.1.a.かかる処理において、被覆対象部位の領域を場合により大気プラズマで前処理可能である。本前処理により表面が浄化及び活性化されるため、次手順で噴霧される潤滑剤を受容可能となる。VII.B.1.a.潤滑性流体、この場合前述前駆体又は重合前駆体の1つを、その後処理対象表面に噴霧する。例えば、IVEK精密分配技術を使用して、流体を正確に霧化し均一な被覆材を創出可能である。VII.B.1.a.その後被覆材を、再度大気中プラズマ場を利用して、部分へと結合又は架橋する。これにより、被覆材を固定し潤滑剤のパフォーマンスを改善できる。VII.B.1.a.場合により、大気プラズマを容器内の周囲空気から生成可能であり、その場合、ガス供給装置及び真空化装置は不要である。しかしながら容器は場合により、電力要件を最小限としプラズマの容器外部の表面素材への接触を防止するため、少なくともプラズマ生成中は実質上閉口である。VII.B.1.a.i.潤滑性被覆材:SiOx遮断層、潤滑層、表面処理表面処理VII.B.1.a.i.別の実施形態は、内腔を定義するバレルからなり、プランジャーをスライド可能に収受する、すなわち内面へのスライド接触のためのプランジャーを収受する、内面を有するシリンジである。VII.B.1.a.i.シリンジバレルは、熱可塑性基材を原料とする。VII.B.1.a.i.場合により、本明細書内別箇所で説明する通り、バレル内面をSiOx遮断層又は被覆材で被覆する。VII.B.1.a.i.潤滑性の層又は被覆材を、バレル内面、プランジャー、又は両方、又は先に塗布されたSiOx遮断層に塗布する。潤滑性の層又は被覆材を、実施形態VII.B.1.a又は本明細書内別箇所で定義するとおりに提供、塗布又は硬化可能である。VII.B.1.a.i.例えば潤滑性の層又は被覆材は、いずれかの実施形態において、PECVDにより塗布される場合がある。潤滑性の層又は被覆材は有機ケイ素前駆体を原料として堆積され、層厚1000nm未満である。VII.B.1.a.i.潤滑性の層又は被覆材上での表面処理を、潤滑性被覆材、熱可塑性基材、又は両方の浸出又は抽出物を低減させるのに効果的な量で、実行する。処理表面は、したがって溶質保持部材として機能する。本表面処理は結果としてスキン塗となる、例えば1nm以上の層厚、100nm未満の層厚、又は50nm未満の層厚、又は40nm未満の層厚、又は30nm未満の層厚、又は20nm未満の層厚、又は10nm未満の層厚、又は5nm未満の層厚、又は3nm未満の層厚、又は2nm未満の層厚、又は1nm未満の層厚、又は0.5nm未満の層厚のスキン塗となる可能性がある。VII.B.1.a.i.本明細書で使用される浸出とは、例えば容器壁といった基板から例えばシリンジといった容器の含有物への、物質の搬送を指す。一般に浸出物は、意図する含有物で充填された容器を保管し、その後含有物を分析して容器壁から意図する含有物へと浸出した物質を判定することにより、測定する。抽出とは、容器の意図する含有物の他に溶媒又は分散媒質を導入して試験条件下で基板から抽出媒質へと除去可能な物質を判定することによる、基板からの物質の除去を指す。VII.B.1.a.i.場合により溶質保持部材をもたらす表面処理は、各々本明細書で既に定義済みであるSiOx層又は被覆材、又は定義のセクションにおいて定義したとおりに特徴付けられる疎水性の層である可能性がある。一実施形態において、表面処理はSiOx又は疎水性層のPECVD堆積により塗布可能である。場合により、潤滑層の生成で使用するものより高い電力、より強い酸化条件、又は両方を使用して、表面処理を塗布可能であり、したがってより硬質、薄肉、継続的な溶質保持部材539を提供可能である。表面処理は、潤滑性層の深部100nm未満、場合により50nm未満、場合により40nm未満、場合により30nm未満、場合により20nm未満、場合により10nm未満、場合により5nm未満、場合により3nm未満、場合により1nm未満、場合により0.5nm未満、場合により0.1~50nmある場合がある。VII.B.1.a.i.溶質保持部材は、下層潤滑性及び必要に応じて基板を含むその他の層に対して、低い溶質浸出性を提供すると考えられる。本保持部材は、ガスO2/N2/CO2/水蒸気遮断層ではなく、溶質大分子及びオリゴマー例えば、HMDSO、OMCTSといったシロキサンモノマー、それらの断片及び潤滑剤由来の移動性オリゴマー、例えば浸出物保持部材に対する溶質保持部材であることのみが求められる。溶質保持部材は、しかしながら、ガス遮断膜例えば本発明に記載のSiOx被覆材である可能性もある。真空又は大気中PECVD処理により、ガス遮断性を伴わない良好な浸出物保持部材を創出可能である。浸出物遮断膜が十分に薄肉であることが望ましく、シリンジプランジャーの移動については、プランジャーがスライド式プランジャー突起を直下の潤滑層に曝露しながら溶質保持部材へ容易に侵入し、未処理基板と比較してプランジャースライド力又は起動力を低下させる潤滑表面を生成する。VII.B.1.a.i.別の実施形態において、プラズマ環境における表面の酸素への曝露のように、以前塗布した潤滑層の表面の酸化により実施可能である。本明細書で説明するプラズマ環境を使用して、SiOx被覆材を形成可能である。又は、酸素環境において大気プラズマ条件を利用可能である。VII.B.1.a.i.潤滑性の層又は被覆材及び溶質保持部材は、しかしながら形成され、場合により、同時に硬化可能である。別の実施形態において、潤滑性の層又は被覆材は少なくとも一部を硬化可能であり、場合により全体を硬化可能であり、その後、表面処理を提供塗布可能及び溶質保持部材を硬化可能である。VII.B.1.a.i.潤滑性の層又は被覆材及び溶質保持部材は、起動力、プランジャースライド力、又は両方を、潤滑性の層又は被覆材及び表面処理なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供する。言い換えれば、溶質保持部材の層厚及び組成は、潤滑の層又は被覆材からの物質のシリンジ含有物への浸出を低下させ、下層潤滑性の層又は被覆材でプランジャーを潤滑化するためのものである。溶質保持部材は容易に剥離し、潤滑性の層又は被覆材がプランジャーの移動を潤滑化する機能を果たすのに十分な薄さであることが、考えられる。VII.B.1.a.i.考えられる一実施形態において、潤滑性処理及び表面処理は、バレル内面に塗布可能である。考えられる別の実施形態において、潤滑性処理及び表面処理は、プランジャーに塗布可能である。考えられるまた別の実施形態において、潤滑性処理及び表面処理は、バレル内面とプランジャーの両方に塗布可能である。実施形態のいずれかにおいて、シリンジバレル内部の任意のSiOx遮断層又は被覆材は存在又は非存在である可能性がある。VII.B.1.a.i.考えられる一実施形態は、シリンジバレルの内面に塗布する複数層例えば3層設定である。層又は被覆材1は、酸化性大気内でHMDSO、OMCTS又は両方のPECVDにより生成されるSiOxガス遮断膜である場合がある。かかる大気は例えば、本明細書に記載のPECVD被覆装置へのHMDSO及び酸素ガスの供給により、提供可能である。層又は被覆材2は、非酸化性大気内で塗布するOMCTSを使用する潤滑層又は被覆材である場合がある。かかる非酸化性大気は例えば、本明細書に記載のPECVD被覆装置へのOMCTSの供給により、場合により実質上又は完全な酸素非存在下で、提供可能である。二次溶質保持部材を、SiOx又は疎水性の層又は被覆材の表面薄層又は被覆材を生成する処理により、OMCTS及び/又はHMDSOを使用してより高い電力と酸素を使用する溶質保持部材として、形成可能である。VII.B.1.a.i.特定の複数層又は被覆材の被覆材は、少なくともある程度、以下の1つ以上の任意の利点を有していると考えられる。溶質保持部材は内部ケイ素を収容しシリンジの含有物又は別箇所へと移動するのを防止する可能性があるため、それらにより報告されているケイ素取扱い困難性に対処できる可能性がある。その結果、可能なシリンジの含有物内のケイ素粒子が減少し、潤滑性の層又は被覆材とシリンジの含有物との間の相互作用の機会が低下する。また、潤滑層が潤滑点から離れて移動する問題に対処して、シリンジバレルとプランジャーの間の界面の潤滑性を改善できる可能性がある。例えば、打破力が低下し、移動プランジャー上の抗力が低下し、場合により両方が低下する場合がある。VII.B.1.a.i.溶質保持部材が破損している場合、溶質保持部材は該潤滑性被覆材及びシリンジバレルへと付着し続け、いかなる粒子のシリンジの搬送可能含有物内への取り込みを阻害する可能性がある、と考えられる。VII.B.1.a.i.また、特定の被覆材は製造上の利点を、特に遮断性被覆材、潤滑性の層又は被覆材、及び表面処理が同一装置、例えば図示するPECVD装置において塗布される場合に、提供する。場合により、SiOx遮断性被覆、潤滑性層、及び表面処理はすべて1つのPECVD装置において適用可能であり、したがって取扱い要件が大幅に削減される。遮断性被覆材、潤滑性の層又は被覆材、及び溶質保持部材を同一前駆体を使用して生成することにより、及び処理を修正することにより、さらなる利点を取得可能である。例えば、SiOxガス遮断層又は被覆材は高電力/高O2の条件下でOMCTS前駆体を使用して塗布可能となり、そして潤滑層又は被覆材は低電力及び/又は実質上又は完全な無酸素の条件下でOMCTS前駆体を使用して塗布可能となり、最後に表面処理は中間電力及び酸素の条件下でOMCTS前駆体を使用して塗布可能となる。VII.B.1.bSiOx層被覆内部及び遮断層被覆外部を伴うバレルを有するシリンジVII.B.1.b.図50に図示するさらなる別の実施形態は、プランジャー546、バレル548、内部及び外部遮断性被覆材554及び602を含むシリンジ544である。バレル548は、内腔604を定義する熱可塑性基材を原料とする場合がある。バレル548は、スライディングのためのプランジャー546を収受する内面552と、外面606を有する場合がある。SiOx製xは約1.5~約2.9の遮断性被覆材554がバレル548の内面552に提供される場合がある。樹脂製の遮断性被覆材602をバレル548の外面606に提供する場合がある。VII.B.1.b.いずれかの実施形態において、熱可塑性基材は場合により、ポリプロピレン又は環状オレフィン共重合体例:商標TOPASRの下で販売される素材といったポリオレフィン、テレフタル酸ポリエチレンやポリカーボネート例:ビスフェノールAポリカーボネート熱可塑性素材又はその他の素材といったポリエステルを含む場合がある。いずれか1つの素材を外層として、同一又は異なる素材を内層として有する、合成シリンジバレルが考えられる。本明細書内別箇所で記述する合成シリンジバレル又は検体管の素材の組合せも、使用可能である。VII.B.1.b.いずれかの実施形態において、樹脂は場合により、単独重合体又は共重合体の形態のポリ塩化ビニリデンを含む場合がある。例えば、参照することにより本明細書に組み込まれる米国特許6,165,566号に記載の、PVdC単独重合体慣用名:サラン又は共重合体を利用可能である。樹脂を場合により、ラテックス又はその他の分散形態で、バレルの外面に塗布する場合がある。VII.B.1.b.いずれかの実施形態において、シリンジバレル548には場合により、プランジャー及び遮断性SiOx被覆材の間に配置される潤滑性層が含まれる場合がある。適切な潤滑性層を本明細書内別箇所で記述している。VII.B.1.b.いずれかの実施形態において、潤滑性被覆材は場合によりPECVDにより塗布される場合があり、場合により定義のセクションにおいて定義したとおりに特性化される材質を含む場合がある。VII.B.1.b.いずれかの実施形態において、シリンジバレル548は場合により、潤滑性層を覆う表面処理を、内腔604への潤滑性層、熱可塑性基材の成分、又は両方の浸出を低減させるのに効果的な量で、含む場合がある。VII.B.1.cSiOx層被覆内部及び遮断層被覆外部を伴うバレルを有するシリンジの製造方法VII.B.1.c.さらなる本発明の別の態様は、プランジャー、バレル、内部及び外部遮断性被覆材を含む、VII.B.1.b部のいかなる実施形態に記載のシリンジの製造方法である。スライディングのためにプランジャーを収受する内面と、外面を有するバレルを用意する。SiOx遮断性被覆材は、PECVDによりバレルの外面に提供される。樹脂製の遮断性被覆材をバレルの外面に提供する。プランジャー及びバレルを組立てることで、シリンジを用意する。VII.B.1.c.水性ラテックスを用いるプラスチック材の効果的な均一湿潤被覆として、ラテックスの表面張力をプラスチック基板へと一致させることがが有用であると考えられる。これは、例えば界面活性剤又は溶媒を用いるラテックスの表面張力の低減、及び/又はプラスチック材のコロナ前処理、及び/又はプラスチック材の化学プライミングといった、複数のアプローチを個別に又は組合わせて達成可能である。VII.B.1.c.樹脂を場合により、バレルの外面へのラテックスの浸漬被覆、バレルの外面へのラテックスの噴霧被覆、又は両方により塗布し、改善されたガス蒸気遮断力をもたらすプラスチック材を提供可能である。非積層プラスチック材と比較して大いに優れたガス遮断力を提供する、ポリ塩化ビニリデンプラスチック積層材を生成可能である。VII.B.1.c.いずれかの実施形態において、樹脂は場合により熱硬化可能である。樹脂は場合により水分を除去することにより熱硬化可能である。樹脂の熱硬化、樹脂の一部真空又は低湿度環境への曝露、樹脂の触媒的硬化、又はその他の手段により、水分を除去可能である。VII.B.1.c.効果的な温熱硬化スケジュールとして、最後に乾燥させてPVdC結晶化を可能とし遮断力を提供することが考えられる。一次硬化を、例えば180~310°F82~154°Cの高温で実行する場合があり、もちろん熱可塑性基材の耐熱性により異なる。一次硬化の後の遮断力は場合により、最終硬化の後に達成される約85の極限的遮断力である場合がある。VII.B.1.c.最終硬化は、65~75°F18~24°Cといった周囲温度での長期間2週間などから、122°F50°Cといった高温での短期間4時間などまでの範囲で、実行可能である。VII.B.1.c.PVdCプラスチック積層材は、優れた遮断力に加え、場合により無色透明、良好な光沢、耐摩耗性、印刷適性、機械的歪抵抗といった1種以上の好ましい性質を提供すると考えられる。VII.B.2.プランジャーVII.B.2.a.遮断性被覆ピストン前面VII.B.2.a.別の実施形態は、ピストン及びプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。ピストンは、前面、通常シリンダー状である側面、及び後部を有しており、側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定される。前面は遮断性被覆材を有する。プッシュロッドを後部と係合させ、シリンジバレル内でピストンを押し進めるよう設定する。VII.B.2.b.側面と接合する潤滑性被覆材VII.B.2.b.また別の実施形態は、ピストン、潤滑性被覆材、及びプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。ピストンは前面、通常シリンダー状である側面、後部を有する。側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定する。潤滑性層は側面と接合させる。プッシュロッドはピストン後部と係合し、シリンジバレル内でピストンを押し進めるよう設定される。VII.B.3.a.2部構成シリンジ及びルアー取付部VII.B.3.a別の実施形態は、プランジャー、シリンジバレル、及びルアー取付部を含むシリンジである。シリンジには、スライディングのためにプランジャーを収受する内面を有するバレルが含まれる。ルアー取付部には、内面により定義される内部経路を有するルアーテーパーが含まれる。ルアー取付部はシリンジバレルとは個別の部材として形成され、カップリングによりシリンジバレルと結合する。ルアーテーパーの内部経路は遮断性SiOx被覆材を有する。VII.B.3.b.ステーキドニードルシリンジVII.B.3.b.別の実施形態は2011年5月11日出願のPCT/US11/36097及び2010年6月29日出願のUS61/359,434に記載されているプランジャー、シリンジバレル及びステーキドニードルを含むシリンジステーキドニードルシリンジである。針は中空であり、18~29ゲージの範囲の典型的なサイズを有する。シリンジバレルはプランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。ステーキドニードルはシリンジの射出成形の間にシリンジに固定してよく、或いは、接着剤を使用して形成されたシリンジに組み立てても良い。シリンジアセンブリを密閉するためにステーキドニードル上にカバーを置く。シリンジアセンブリはPECVD被覆処理を可能となるようにシリンジ内部に真空が維持できるように密閉なければならない。VII.B.4.一般的な潤滑性の層又は被覆材VII.B.4.a.工程別及び潤滑性別の生成物VII.B.4.a.また別の実施形態は、潤滑性層である。本被覆材は、本明細書に記載した潤滑性被覆材を調整するための工程により生成される種類のものである場合がある。VII.B.4.a.本明細書において別途記載する潤滑性被覆材のためのいずれかの前駆体を、単体で又は複合体で使用可能である。前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。被覆材は、重合、架橋、又はその両方の状態であり、未処理基板と比較してプランジャースライド力又は起動力を低減する潤滑表面を生成する。VII.B.4.a.別の実施形態は、潤滑性層を塗布する方法である。有機ケイ素前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。被覆材は、重合、架橋、又はその両方の状態であり、未処理基板と比較してプランジャースライド力又は起動力を低減する潤滑表面を生成する。VII.B.4.b.工程別及び分析特性別の生成物VII.B.4.b.さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、場合により有機ケイ素前駆体からなる、場合により線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、又はこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性の層又は被覆材である。被覆材の密度は、X線反射率XRRにより決定される通り、1.25~1.65g/cm3、場合により1.35~1.55g/cm3、場合により1.4~1.5g/cm3、場合により1.44~1.48g/cm3である。VII.B.4.b.さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、場合により有機ケイ素前駆体からなる、場合により線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、又はこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性の層又は被覆材である。被覆材は、ガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定されるとおり、ガス放出成分、反復-Me2SiO-部分を含む1種以上のオリゴマーを有する。場合により、被覆材は実施形態VII.B.4.aの制限を満たす。場合により、被覆材ガス放出成分は、ガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定される通り、実質上トリメチルシラノールを含まない。VII.B.4.b.場合により、被覆ガス放出成分は、以下の試験条件を使用するガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定されるとおり、反復-Me2SiO-部分を含む少なくとも試験あたり10ngのオリゴマーを有する。GCカラム:30m×0.25mmDB-5MSJWScientific、0.25μm膜層厚流量:1.0ml/min、定流量モード検出器:質量選択検出器MSD射出モード:分割射出分割率10:1ガス放出条件:112インチ37mmチャンバ、3時間、85°C、60ml/分の流量でパージ炉温度:40°C5分から始め10°C/分で300°Cまで加熱、300°Cを5分間保持。VII.B.4.b.場合により、ガス放出成分は、反復-Me2SiO-部分を含む少なくとも試験あたり20ngのオリゴマーを含む場合がある。VII.B.4.b.場合により供給ガスは、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、又はこれら2つ以上の複合体、例えば、単環シロキサン、単環シラザン、又はこれら2つ以上の複合体、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンからなる。VII.B.4.b.いずれかの実施形態の潤滑性層は、透過電子顕微鏡法TEMにより測定される1~5000nmの、又は10~1000nmの、又は10~200nmの、又は20~100nmの、又は30~1000nmの、又は30~500nmの平均層厚を有する。好ましい範囲は30~1000nm及び20~100nm、そして特に好ましい範囲は80~150nmである。単一の測定点における絶対的層厚は平均層厚の範囲限界より高値又は低値であることができる。しかしながら、典型的には平均層厚に関して記載した層厚の範囲内で変動する。VII.B.4.b.本発明の別の態様は、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、又はこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。被覆材は、100炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素の原子濃度を有し、X線光電子分光法XPSにより判定される通り、供給ガスの原子公式における炭素の原子濃度を上回る。場合により、被覆材は実施形態VII.B.4.a又はVII.B.4.bAの制限を満たす。VII.B.4.b.場合により、酸素の原子濃度は、潤滑性被覆材を作成する場合の有機ケイ素前駆体中の炭素の原子濃度との関連において、1~80原子パーセントEP2251455の実施例15のXPS条件に基づき計算、或いは10~70原子パーセント、或いは20~60原子パーセント、或いは30~50原子パーセント、或いは35~45原子パーセント、或いは37~41原子パーセント増加する。VII.B.4.b.本発明の別の態様は、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、又はこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。被覆材は、100炭素、酸素、ケイ素に正規化したケイ素の原子濃度を有し、X線光電子分光法XPSにより判定される通り、供給ガスの原子公式におけるケイ素の原子濃度を下回る。EP2251455の実施例15参照。VII.B.4.b.場合により、ケイ素の原子濃度は1~80原子パーセントEP2251455の実施例15のXPS条件に基づき計算、或いは10~70原子パーセント、或いは20~60原子パーセント、或いは30~55原子パーセント、或いは40~50原子パーセント、或いは42~46原子パーセント減少する。VII.B.4.b.断面図VII.B.4に列挙される2つ以上の性質の組合せを有する潤滑性層もまた、明示的に考えられる。VII.C.一般的容器VII.C.本明細書に記載の及び/又は本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器又は容器は、化合物又は組成物の収受及び/又は保管及び/又は供給のために使用可能である。化合物又は組成物は、例えば大気感受性、酸素感受性、湿度感受性及び/又は機械的作用感受性といった感度が高い場合がある。生物学的に活性な化合物又は組成物、例えばインスリン又はインスリンからなる組成物といった薬剤である場合がある。別の態様において、生物学的流体、場合により、血液又は血液分画といった体液である場合がある。本発明の特定の態様において、化合物又は組成物は、それらを必要としている被検者に投与される生成物、例えば血液供血者から受血者への輸血又は患者から採取した血液の患者への再導入又はインスリンといった注入生成物である。VII.C.本明細書に記載の及び/又は本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器又は容器はさらに、内腔に含まれる化合物又は組成物の非被覆容器素材表面の機械的及び/又は化学的作用からの保護のために使用可能である。例えばインスリン沈殿又は血液凝固又は血小板活性化といった、前述化合物又は組成物成分の沈殿及び/又は凝固又は血小板活性化を防止又は低減させるのに使用可能である。VII.C.さらには、例えば容器周辺の環境からの1つ以上の化合物の容器内腔への侵入を防止又は低減させることで、内部に包含する化合物又は組成物を容器外部の環境から保護するために使用可能である。かかる環境化合物はガス又は流体、例えば酸素、大気、及び/又は水蒸気を包含する大気中ガス又は流体である場合がある。VII.C.本明細書に記載の被覆容器はまた、真空であり真空状態で保管される場合がある。例えば被覆材は、対応する非被覆容器と比べて、真空状態をより良好に維持可能である。本実施形態の一態様において、被覆容器は採血管である。前述管は、例えばEDTA又はヘパリンといった、血液凝固又は血小板活性化を防止するための薬剤を包含する場合がある。VII.C.いずれかの上述実施形態は、例えば容器として長さ約1cm~約200cm、場合により約1cm~約150cm、場合により約1cm~約120cm、場合により約1cm~約100cm、場合により約1cm~約80cm、場合により約1cm~約60cm、場合により約1cm~約40cm、場合により約1cm~約30cmの管を提供し、後述の通りプローブ電極と共に処理することにより、実行可能である。特に上述範囲における長さが長いほど、被覆材形成中のプローブと容器との間の相対運動が有用である可能性があると考えられる。これは例えば、プローブに対して容器を移動する、又は容器に対してプローブを移動することにより、実行可能である。VII.C.これらの実施形態において、被覆材は薄肉である、又は遮断性被覆材として望ましいものと比較して完全性に劣る場合があると考えられる。なぜなら、一部実施形態における容器は真空採血管の高い遮断性完全性を必要としないからである。VII.C.前述実施形態の任意の機能として、容器は中心軸を有する。VII.C.前述実施形態の任意の機能として、容器の外径の100倍を超えない大きさの中心軸での曲げ半径に対して少なくとも実質的に直線である範囲において、温度20°Cで壁を破損することなく少なくとも1回屈曲するのに十分なたわみを、容器壁は有する。VII.C.前述実施形態の任意の機能として、中心軸での曲げ半径は容器外径の90倍を超えない、又は80倍を超えない、又は70倍を超えない、又は60倍を超えない、又は50倍を超えない、又は40倍を超えない、又は30倍を超えない、又は20倍を超えない、又は10倍を超えない、又は9倍を超えない、又は8倍を超えない、又は7倍を超えない、又は6倍を超えない、又は5倍を超えない、又は4倍を超えない、又は3倍を超えない、又は2倍又は1倍を超えない大きさである。VII.C.前述実施形態の任意の機能として、容器壁は可撓性素材を原料とする流体接触表面である場合がある。VII.C.前述実施形態の任意の機能として、容器内腔はポンプの流体流路である場合がある。VII.C.前述実施形態の任意の機能として、容器は血液を医療用途の場合の良好な条件に保持するよう適合される血液バッグである場合がある。VII.C.,VII.D.前述実施形態の任意の機能として、ポリマー素材は、2例として、シリコンエラストマー又は熱可塑性ポリウレタンである、又は血液又はインスリンと接触するのに適したいずれかの素材である場合がある。VII.C.,VII.D.任意の実施形態において、容器は少なくとも2mm、又は少なくとも4mmの内径を有する。VII.C.前述実施形態の任意の機能として、容器は管である。VII.C.前述実施形態の任意の機能として、内腔は少なくとも2つの開口端を有する。全ての実施形態に関して共通の条件本明細書において考えられるいずれかの実施形態において、例えば以下に示すものの何れかのような多くの共通の条件をいずれかの組み合わせにおいて使用できる。或いは、本明細書又は請求項において別途記載する何れかの異なる条件も使用できる。I.いずれかの実施形態の基板I.A.いずれかの実施形態の容器容器は試料収集管、例えば採血管、又はシリンジ、又はシリンジの部分、例えばバレル又はピストン又はプランジャー;バイアル;導管;又はキュベットであることができる。基板は閉末端の管、例えば医療用の試料収集管であることができる。基板は内腔を有する容器の側壁であることができ、内腔は0.5~50mL、場合により1~10mL、場合により0.5~5mL、場合により1~3mLの空隙容積を有する。基板表面は少なくとも1種の開口部及び内面を有する容器の内面の部分又は全てであることができ、ここでガス状の反応体が容器の内側の内腔に充満し、そしてプラズマが容器の内側の内腔の部分又は全てにおいて発生することができる。I.B.シリンジ及び部品基板シリンジバレルであることができる。シリンジバレルはプランジャースライド表面を有することができ、そして被覆材はプランジャースライド表面の少なくとも一部分に配置することができる。被覆材は潤滑層であることができる。潤滑層又は被覆材はバレル内面にあることができる。潤滑層又は被覆材はプランジャー上にあることができる。特定の態様において、基板はステーキドニードルシリンジ又はステーキドニードルシリンジの部品である。I.C.ストッパーを収受する容器基板は容器の口部中のストッパー収受面であることができる。基板は一般的にストッパーを収受するように適合された容器の開口部の円筒状の円錐又は円筒状の内面であることができる。I.D.ストッパー基板はストッパーのスライド面であることができる。基板は単一の実質的に真空にされた容器中に所在するストッパー多数を与えることにより被覆されることができる。化学蒸着プラズマ-促進化学蒸着であることができ、そしてストッパーはプラズマと接触させることができる。化学蒸着はプラズマ-促進化学蒸着であることができる。プラズマはストッパーの上流で形成して、プラズマ製品を生産することができ、そしてプラズマ製品をストッパーと接触させることができる。閉包部は被覆材でコーティングされた基板、場合により潤滑層で被覆されたストッパーを画定することができる。基板は内腔を画定する容器中に装填された閉包部であることができ、そして、内腔に面している閉包部の表面は被覆材で被覆されることができる。被覆材は容器の内腔の中へのストッパーの金属イオン成分の透過を低減するために有効である場合がある。IE.いずれかの実施形態の基板基板は容器壁であることができる。閉包部の壁接触内面と接触している容器壁の一部分を被覆材で被覆することができる。被覆材は第1及び第2の層を有する素材のコンポジットであることができる。第1の層又は被覆材はエラストマーストッパーと界面接触していることができる。被覆材の第1の層は容器内腔へのストッパーの構成成分1つ以上の透過を低減するために有効である。第2の層又は被覆材は容器の内壁と界面接触していることができる。被覆材の第2の層は容器上にストッパーを装填することができる場合に、ストッパーと容器内壁の間の摩擦を低減するために有効である場合がある。或いは、何れかの実施形態の第1及び第2の層は炭素及び水素を含有する累遷特性の被覆材により画定されることができ、その場合、炭素及び水素の割合は、第2の層よりも第1の層又は被覆材において高値となる。何れかの実施形態の被覆材はプラズマ促進化学蒸着により塗布できる。何れかの実施形態の基板は、ガラス、或いは重合体、或いはポリカーボネート重合体、或いはオレフィン重合体、或いは環状オレフィン共重合体、或いはポリプロピレン重合体、或いはポリエステル重合体、或いはポリエチレンテレフタレート重合体、或いはポリエチレンナフタレート重合体、或いは上記素材の何れかの2種以上の組み合わせ、複合体又は混合物を含むことができる。II.何れかの実施形態のガス状反応体又は処理ガスの制限II.A.何れかの実施形態の堆積条件PECVDのためのプラズマは、使用する場合、減圧下に発生させることができ、そして減圧は300ミリトール未満、場合により200ミリトール未満、更に場合により100ミリトール未満であることができる。被覆材の物理的及び化学的な特性は、ガス状反応体中での有機ケイ素前駆体に対するO2の比を設定することにより、及び/又は、プラズマを発生させるために使用される電力を設定することにより、設定することができる。II.C.何れかの実施形態の前駆体有機ケイ素前駆体は本明細書に別途説明されている。有機ケイ素化合物は、特定の態様において、特に潤滑性被覆材を形成する場合は、オクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSを含むことができる。該特定の態様の何れかの実施形態に関する有機ケイ素化合物はオクタメチルシクロテトラシロキサンより本質的になることができる。有機ケイ素化合物は特定の態様において、特に遮断性被覆材を形成する場合は、ヘキサメチルジシロキサンであるか、それを含むことができる。反応ガスはまた炭化水素を包含することができる。炭化水素はメタン、エタン、エチレン、プロパン、アセチレン、又はこれらの2種以上の組み合わせを含むことができる。有機ケイ素前駆体は6sccm以下、場合により2.5sccm以下、場合により1.5sccm以下、場合により1.25sccm以下の比率で供給されることができる。より大型の容器又は条件又はのその他の変化は、ある程度の前駆体を必要としてよい。前駆体は1トール未満の絶対圧で与えることができる。II.D.いずれかの実施形態の搬送ガス搬送ガスは不活性ガス、例えば、アルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン、堆積条件下で処理ガスの他の成分に対して不活性である他のガス、又はこれらの2種以上の何れかの組み合わせを含むか、これよりなることができる。II.E.いずれかの実施形態の酸化ガス酸化ガスは酸素O2及び/又はO3一般的にはオゾンとして知られている、亜硝酸ガス、又は使用条件においてPECVDの間に前駆体を酸化させる何れかの他のガスを含むか、それよりなることができる。酸化ガスは約1標準堆積の酸素を含む。ガス状反応体又は処理ガスは少なくとも実質的に窒素非含有であることができる。III.何れかの実施形態のプラズマ何れかのPECVD実施形態のプラズマは基板の近接部において形成できる。プラズマは特定の例において、特にSiOx被覆材を調製する場合は、非中空カソードプラズマであることができる。他の特定の例において、特に潤滑性被覆材を調製する場合は、非中空カソードプラズマは望ましくない。プラズマは減圧下にガス状反応体から形成できる。基板上の被覆材形成を誘導するために十分なプラズマ発生電力入力を与えることができる。IV.いずれかの実施形態のRF電力前駆体は10kHz~2.45GHz、或いは約13~約14MHzの周波数で電力を与えられた電極で前駆体の近接部を加圧することにより作成されたプラズマに接触させることができる。前駆体は場合により10kHz~300MHz未満、場合により1~50MHz、更に場合により10~15MHz、場合により13.56MHzの周波数の高周波で電力を与えられた電極で前駆体の近接部を加圧することにより作成されたプラズマに接触させることができる。前駆体は0.1~25W、場合により1~22W、場合により1~10W、更に場合により1~5W、場合により2~4W、例えば3W、場合により3~17W、更に場合により5~14W、例えば6又は7.5W、場合により7~11W、例えば8Wの電力を供給された電極で前駆体の近接部を加圧することにより作成されたプラズマに接触させることができる。前駆体は10W/ml未満のプラズマ量、或いは6W/ml~0.1W/mlのプラズマ量、或いは5W/ml~0.1W/mlのプラズマ量、或いは4W/ml~0.1W/mlのプラズマ量、或いは2W/ml~0.2W/mlのプラズマ量の電力密度を供給された電極で前駆体の近接部を加圧することにより作成されたプラズマに接触させることができる。プラズマは電磁気エネルギー、或いはマイクロ波エネルギーで反応混合物を励起することにより形成することができる。V.いずれかの実施形態の他の工程選択肢基板に被覆材を適用する適用手順は前駆体を気化させること、及び、それを基板の近接部に提供することにより行える。使用する化学蒸着はPECVDであり、そして堆積時間は1~30秒、或いは2~10秒、或いは3~9秒であることができる。場合により堆積時間を制限する目的は基板の過熱防止、製造率の上昇、及び処理ガスとその成分の使用の低減であることができる。場合により堆積時間を延長する目的は特定の堆積条件に対してより厚い被覆材を提供することであることができる。VI.いずれかの実施形態の被覆材特性VI.A.いずれかの実施形態の潤滑性特性本発明による潤滑性被覆材を用いた容器例えば、シリンジバレル及び/又はプランジャー被覆は非被覆容器よりも高値の潤滑性例えばFi及び/又はFmを測定することにより調べるを有する。それらはまた本明細書に記載したSiOx被覆材で被覆した容器よりも高値の潤滑性を有する。実施形態は未処理基板よりも低値のスライド力又は起動力又は場合により両方を有する基板の潤滑性表面を形成するために有効な条件下に実施できる。場合により、素材及び条件は、非被覆シリンジバレルと相対比較して少なくとも25パーセント、或いは少なくとも45パーセント、或いは少なくとも60パーセント、或いは60パーセント超、スライド力又は起動力を低減するために有効であることができる。別様に表現すれば、被覆材は被覆表面よりも低値の摩擦抵抗を有することができ、その場合、摩擦抵抗は被覆表面と比較して場合により少なくとも25、場合により少なくとも45、更に場合により少なくとも60まで低減できる。ブレイクルース力Fi及びグライド力Fmは潤滑性被覆材の有効性に関する重要な性能尺度である。Fi及びFmに関しては、低値であるが、低すぎない値を有することが望ましい。低すぎるレベルの抵抗究極はゼロを意味する低すぎるFiの場合、早期/意図しない流動が生じる場合があり、これは、例えば充填済みシリンジの内容物の意図せぬ早期熟成又は制御不能な排出をもたらす場合がある。十分な潤滑性を達成するため例えばシリンジプランジャーがシリンジ内で移動できることを確保するが、プランジャーの非制御移動を回避するためには、以下の範囲のFi及びFmを好都合に維持すべきである。Fi:2.5~5lbs.、好ましくは2.7~4.9lbs.、特に2.9~4.7lbs.;Fm:2.5~8.0lbs.、好ましくは3.3~7.6lbs.、特に3.3~4lbs。更に好都合なFi及びFm値は実施例の表中に記載する。潤滑性被覆材は場合によりブレイクルース力Fi及びグライド力Fmの間の差を低減する一貫したプランジャー力を与える。VI.B.何れかの実施形態の疎水特性実施形態は基板上に疎水性層又は被覆材を形成するために有効な条件下で実施できる。場合により、被覆材の疎水特性はガス状反応体中の有機ケイ素前駆体に対するO2の比を設定することにより、及び/又は、プラズマを発生させるために使用する電力を設定することにより設定できる。場合により、被覆材は非被覆表面よりも低値の湿潤張力、場合により20~72ダイン/cm、場合により30~60ダイン/cm、場合により30~40ダイン/cm、場合により34ダイン/cmの湿潤張力を有することができる。場合により、被覆材は非被覆表面よりも更に疎水性であることができる。VI.C.何れかの実施形態の層厚場合により、被覆材は本開示に記載した何れかの量の透過電子顕微鏡TEM測定値としての層厚を有することができる。本明細書に記載した潤滑性被覆材に関しては、記載した層厚範囲は代表的な平均層厚であるが、それは特定の粗度が潤滑性被覆材の潤滑特性を増強する場合があるためである。即ち、潤滑性被覆材の層厚は好都合には被覆材全体に渡って均一ではない上記参照。しかしながら、均一な暑さの潤滑性被覆材もまた考えられる。単一の測定における絶対的な潤滑性被覆材の層厚は平均層厚の範囲限度よりも高値又は低値であることができ、最大の偏差は平均層厚から好ましくは±50、より好ましくは±25、そして更により好ましくは±15である。しかしながら、それは典型的には本明細書における平均層厚に対して示された層厚範囲内で変動する。VI.D.何れかの実施形態の組成場合により、潤滑性被覆材はSiwOxCyHz又はSiwNxCyHzを有することができる。それは一般的に原子比SiwOxCyを有し、式中、wは1であり、xは約0.5~約2.4であり、yは約0.6~約3であり、好ましくはwは1であり、xは約0.5~1.5であり、そしてyは0.9~2.0であり、より好ましくはwは1であり、xは0.7~1.2そしてyは0.9~2.0である。原子比はXPSX線光電子顕微鏡観察により測定できる。H原子を考慮すれば、被覆材は即ち1態様においては式SiwOxCyHzを有し、式中例えば、wは1であり、xは約0.5~約2.4であり、yは約0.6~約3であり、そしてzは約2~約9である。典型的には、原子比は本発明の特定の被覆材においてはSi=100:O=80~110:C=100~150である。特に、原子比はSi=100:O=92~107:C=116~133であってよく、そしてそのためそのような被覆材は100炭素酸素ケイ素に対して標準化した場合に36~41の炭素を含有する。或いは、wは1であることができ、xは約0.5~1.5であることができ、yは約2~約3であることができ、そしてzは6~約9であることができる。或いは、被覆材はX線光電子顕微鏡観察XPSで測定した場合の100炭素、酸素及びケイ素に標準化した原子濃度として、炭素50未満及びケイ素25超を有することができる。或いは原子濃度は炭素25~45、ケイ素25~65、及び酸素10~35である。或いは原子濃度は炭素30~40、ケイ素32~52、及び酸素20~27である。或いは原子濃度は炭素33~37、ケイ素37~47、及び酸素22~26である。場合により、X線光電子顕微鏡観察XPSで測定した場合の100炭素、酸素及びケイ素に標準化した炭素の原子濃度は、有機ケイ素前駆体の原子式における炭素の原子濃度より高値であることができる。例えば、炭素原子の原子濃度が1~80原子パーセント、或いは10~70原子パーセント、或いは20~60原子パーセント、或いは30~50原子パーセント、或いは35~45原子パーセント、或いは37~41原子パーセント増加する実施形態が考えられる。場合により、被覆材中の酸素に対する炭素の原子比は有機ケイ素前駆体と比較して増加することができ、及び/又は、ケイ素に対する酸素の原子比は有機ケイ素前駆体と比較して減少することができる。場合により、被覆材は供給ガスの原子式におけるケイ素の原子濃度より低値の、X線光電子顕微鏡観察XPSで測定した場合の100炭素、酸素及びケイ素に標準化したケイ素の原子濃度はを有することができる。例えば、ケイ素の原子濃度が1~80原子パーセント、或いは10~70原子パーセント、或いは20~60原子パーセント、或いは30~55原子パーセント、或いは40~50原子パーセント、或いは42~46原子パーセント減少する実施形態が考えられる。別の選択肢として、有機ケイ素前駆体の総和式と比較して原子比C:Oが増加、及び/又は原子比Si:Oが減少することができる総和式を特徴とする被覆材が考えられる。VI.E.いずれかの実施形態のガス放出種有機ケイ素前駆体から作成された被覆材、例えば、本明細書に記載した潤滑性又はSiOx遮断性被覆材はガスクロマトグラフィー/質量スペクトルにより測定した場合に反復-Me2SiO-部分を含有するオリゴマー1つ以上を放出ガス成分として有することができる。被覆材放出ガス成分はガスクロマトグラフィー/質量スペクトルにより測定できる。例えば、被覆材放出ガス成分は下記の試験条件を用いて測定した場合に反復-Me2SiO-部分を含有するオリゴマーを少なくとも10ng/試験、或いは、反復-Me2SiO-部分を含有するオリゴマーを少なくとも20ng/試験、有することができる。GCカラム:30m×0.25mmDB-5MSJWScientific,0.25μm膜厚流速1.0ml/分、一定流動モード検出器:質量選択検出器MSDインジェクションモード:スプリットインジェクション10:1スプリット比ガス放出条件:11237mmチャンバ、85°Cで3時間パージ、流量60ml/分オーブン温度:上昇速度10°C/分で40°C5分~300°C;300°Cで5分保持。場合により、潤滑性被覆材はトリメチルシラノールを少なくとも実質的に非含有の放出ガス成分を有することができる。VI.E.いずれかの実施形態の他の被覆材特性被覆材はX線反射XRRで測定した場合、1.25~1.65g/cm3、或いは1.35~1.55g/cm3、或いは1.4~1.5g/cm3、或いは1.4~1.5g/cm3、或いは1.44~1.48g/cm3の密度を有することができる。場合により、有機ケイ素化合物はオクタメチルシクロテトラシロキサンであることができ、そして被覆材は同じPECVD反応条件下に有機ケイ素化合物としてのHMDSOから作成した被覆材の密度よりも高値であることができる密度を有することができる。被覆材は場合により被覆材と接触している化合物又は組成物の成分の沈殿を防止又は低減することができ、特に、前駆体としてHMDSOを使用しながら非被覆表面及び/又は遮断性被覆表面と比較してインスリンの沈殿又は血液の凝固を防止又は低減することができる。基板は非被覆基板の表面の機械的及び/又は化学的な作用に対向して被覆容器中に含有又は収受された化合物又は組成物を保護するための容器であることができる。基板は容器の内面と接触している化合物又は組成物成分の沈殿及び/又は凝固を防止又は低減するための容器であることができる。化合物又は組成物は生物学的に活性な化合物又は組成物、例えば医薬であることができ、例えば、化合物又は組成物はインスリンを含むことができ、その場合、インスリンの沈殿を低減又は防止できる。或いは、化合物又は組成物は生物学的な流体、例えば体液、例えば血液又は血液画分であることができ、その場合、凝血を低減又は防止できる。管を形成、被覆及び試験するための基本プロトコル後続実施例において試験された容器は、個別の実施例において別途表示がない限り、以下の模範的プロトコルに従って形成及び被覆された。以下の基本プロトコル内で与えられる特定のパラメーター値例えば電力、処理ガス流量、などは一般値である。一般値と比較してパラメーター値が変更された場合はいつでも、後続実施例内において表示する。処理ガスの種類及び組成についても同様とする。COC管を形成するためのプロトコル一般に真空採血管COC管として使用される形状及びサイズの環状オレフィン共重合体COC管は、ドイツ、フランクフルトのHoechstAGが市販するTopas登録商標8007-04環状オレフィン共重合体COC樹脂を原料に以下の寸法で射出成形した:長さ75mm、外径13mm、及び壁の厚さ0.85mm、各容量は約7.25cm3で丸みを帯びた閉口端を有する。管内部をSiOxで被覆するためのプロトコル容器ホルダー50は、米国デラウェア州ウィルミントンのE.I.duPontDeNemoursandCo.が市販するDelrin登録商標アセタール樹脂を原料として、外径1.75インチ44mm及び高さ1.75インチ44mmで作成した。容器ホルダー50は、機器の電極160への出入りを可能とするDelrinR構造内に格納した。電極160は、銅及びDelrin登録商標遮蔽体から作成した。Delrin登録商標遮蔽体は、銅電極160の外部周辺に共形させた。電極160の寸法は、内部高さ約3インチ76mmであり、幅は約0.75インチ19mmであった。容器80として使用した管を容器ホルダー50底部へと挿入して、Viton登録商標オーリング490、504Viton登録商標は米国デラウェア州ウィルミントンのDupontPerformanceElastomersLLCの商標であるで管図11の外部周辺を密閉した。管80を、伸延された定常の1/8インチ3mm径真鍮プローブ又は対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付けた。銅プラズマ遮蔽体610は、管の外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材米国イリノイ州、シカゴのKSEngineering、部品番号:LXMUW5銅メッシュで、管挿入図11を参照の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定した。銅メッシュ2枚を真鍮プローブ又は対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。真鍮プローブ又は対向電極108を管内部へと約70mm伸延し、80番ワイヤ直径=0.0135インチ又は0.343mmを配列した。真鍮プローブ又は対向電極108を容器ホルダー50下部にあるSwagelok登録商標取付部米国オハイオ州ソロンのSwagelokCo.が市販を通して伸延し、容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。真鍮プローブ又は対向電極108を、RF一致ネットワークのケーシングへと接地した。ガス供給ポート110は、管4側面上の3つが互いに90度に配向されるの長さに沿ったプローブ又は対向電極108における12の孔、及びガス供給ポート110の端部に差し込まれるアルミニウム蓋における2つの孔であった。ガス供給ポート110を、真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計及びバイパス弁を内蔵するSwagelok登録商標取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続した。さらに、ガスシステムをガス供給ポート110に接続して、処理ガス、酸素及びヘキサメチルジシロキサンHMDSOがガス供給ポート110処理圧力下でを通り管内部に流入するようにした。ガスシステムは、Aalborg登録商標GFC17質量流量計部品番号:EW-32661-34、米国イリノイ州バーリントンのCole-ParmerInstrumentCo.製からなり、流量計は、酸素を70sccm又は特定実施例で報告された特定流量で処理及び長さ52.5インチ1.33mのポリエーテルエーテルケトンPEEKキャピラリー外径1/16インチ1.5mm、内径0.004インチ0.1mmに制御可能に流入させるためのものであった。PEEKキャピラリー端部を、流体ヘキサメチルジシロキサンHMDSO、AlfaAesar部品番号L16970、NMR、Grade、ロンドンのJohnsonMattheyPLC製へと挿入した。流体HMDSOを、処理中の管内の低圧力により、キャピラリーを通して吸引した。HMDSOはその後、低圧力領域に到達した時点でキャピラリー終端で蒸気となった。ガス吸入圧力は7.2トールであった。この点を超えた流体HMDSOの結露を防止するため、Swagelok登録商標3方弁経由での処理のため管内部へと流入しないガス流酸素を含むを、ポンプラインへと迂回させた。管設置後に、真空ポンプ弁を容器ホルダー50及び管内部へと開口した。Alcatel回転翼真空ポンプ及びブロワーで、真空ポンプシステムを構成した。ポンプシステムは、処理ガスを表示率で流入しながら、管内部を200mトール未満の圧力に低減することを可能とした。底部真空レベル達成後に、容器ホルダー50アセンブリを電極160アセンブリ内に移動した。ガス流酸素及びHMDSO蒸気を、真鍮ガス供給ポート1103方弁をポンプラインからガス供給ポート110へと調整に流入させた。管内の圧力は、真空を制御する弁に近接するポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータMKSにより測定される通り、約300mトールであった。管圧力に加えて、ガス供給ポート110及びガスシステム内の圧力もまた、ガスシステムに接続される熱電対真空計で測定した。本圧力は通常、8トール未満であった。ガスを管内部に流入させた後に、RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整した。ENIのACG-6の600ワットのRF電力供給装置を、調整された約70ワットの電力レベルにおいて13.56MHzで使用した。出力電力については、この/後述のすべてのプロトコル及び実施例において、被覆装置の作業中に電力供給装置のRF出力に接続されたBirdCorporationモデル43のRF電力計を使用して、キャリブレートした。RF電力供給装置を、プラズマの複素インピーダンス管において創出するためを50オームのENIのACG-6RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDELCPMX1000自動整合装置に接続した。順方向電力は70ワット又は特定実施例で報告された特定値及び反射電力は0ワットであったため、適用電力は管内部に送達された。RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、電力をオンにする時間は6秒又は特定実施例で報告された特定の期間に設定した。RF電力を開始し、均一プラズマを管内部に定着させた。RF電力がタイマーにより遮断されるまで、プラズマを完全に6秒間保持した。プラズマにより、層厚約20nmの酸化ケイ素被覆材又は特定実施例で報告された特定の層厚を管表面内部に生成した。被覆後に、ガス流入を真空管路へと戻し、真空弁を閉口した。通気弁をその後開口し、管内部を大気圧約760トールに戻した。管をその後、容器ホルダー50アセンブリから容器ホルダー50アセンブリを電極160アセンブリから除去した後に慎重に除去した。CO2を血液管に充填するためのプロトコルCO2を充填すべき管を上記容器ホルダー50に搭載し、そして前記したAlcatel回転羽根真空ポンプ及びブロワー真空ポンプシステムを含む及びCO2源に連結した。一部の例においては、後に示す通り、SiOx被覆材を適用し、そして処理ガスを除去した直後に被覆装置中でCO2充填を実施した。別の例においてはSiOx被覆材を適用し、管を被覆装置から取り外し、そして後にCO2充填装置上に搭載した。上記説明したCO2充填の何れかの型において、真空ポンプシステムを先ず使用することにより0.3~1トールの圧力まで管を真空にした。処理ガスを真空化するために真空を3~30秒間維持した。次に真空化された管に25psi1230トール絶対圧まで加圧されたCO2を充填し、1~14分間、又は実動実施例において別様に示す時間、その圧力で維持した。充填した管を次に後述するプロトコルにおいて記載したガス放出測定装置に移した。ガス放出測定のためのプロトコルVI.B.米国特許6,584,828号の図15を適合させた本図7は、微小流量技術測定セル通常362の上流端部に密閉部360を用いて装填済みのCOC管を形成するためのプロトコルに従って作成したCOC管358の壁346の内部上に、管内部をSiOxで被覆すためのプロトコルに従って塗布したSiOx遮断性被覆材348を通る、ガス放出を測定する実施例で使用した試験設定の概略図である。VI.B.真空ポンプ364を市販の測定セル362漏出試験機器モデルME2搭載型IntelligentGasLeakSystem、第2世代IMFSセンサー全範囲は特定の例において示されるとおり、2又は14μ/分付き、絶対圧センサー範囲:0~10トール、流量測定不確実性:測定値の/-5、キャリブレートする範囲において、PCによる自動データ取得及び時間比漏出流量の痕跡/プロットのためのLeak-Tekプログラムを利用。本装置はATCIncが提供。の下流端部に接続した。また、その壁から容器358へと放出される蒸気の質量流量率を判定するため、容器358の内部から矢印の方向に測定セル362を通ってガスを吸入するよう設定した。VI.B.本明細書で概略的に示し記述する測定セル362は、実質上以下のように動作すると解釈した。ただし本情報は、実際に使用した装置の動作からある程度逸脱する可能性があり、そしてモデル数によりプロトコル中でより特定的に識別される。函362は、ガス放出が流れる方向に走る円錐経路368を有する。圧力を、経路368に沿って縦方向に配置される2つの横向内径370及び372において適用し、順にチャンバ374及び376一部隔膜378及び380により形成されるへと供給した。各チャンバ374及び376に蓄積された圧力は、各隔膜378及び380を偏向させる。偏向は適切な方法で測定され、例えば隔膜378及び380の導電性表面と近接する導電性表面382及び384などとの間のキャパシタンスにおける変動を測定する。バイパス386を場合により提供して、試験実施における所望の真空レベルが達成されるまで測定セル362をバイパスすることにより、初期ポンプダウンを高速化可能である。VI.B.本試験で使用した容器のCOC壁350の厚さは0.85mmで、被覆材348の層厚は約20nmナノメートルであった。したがって、壁350の対被覆材348厚さ比は約50,000:1であった。VI.B.容器密閉部360を含む測定セル362を通す流量を判定するため、実質上容器358と同一サイズ同一構造であるガラス容器を連続的に容器密部360上に装填し、1トールの内部圧力へとポンプダウンし、その後、測定セル362に関してキャパシタンスデータを収集してガス放出流量へと変換した。試験を、各容器について2回実施した。第1実行の後に、真空を窒素を用いて解除し、追加的実行があればそれに進む前に容器に平衡となるための回復時間を与えた。ガラス容器はほとんどガス放出せず本質的にその壁は不浸透性であると考えられているため、本測定の少なくともほとんどは、容器の漏出量及び測定セル362との関連の目安であるといえる。また、正確なガス放出又は透過ある場合はほとんど反映されない。VI.B.特定の実施例のガス放出結果を示すために提示されたプロットとデータ表の群は個々の管の分当たりのマイクログラムとしてもガス放出流速を示している。一部の流速は漏出に起因する。表中の数値としての流速データポイントは特定の試験時間のものとして報告しているATC上の試験辺りの分数。実動実施例実施例はEP2251671A2のガス放出を参照する実施例、特に、実施例8、実施例16、実施例19及びEP2251671A2のこれらの実施例が参照している図面及び表を包含するものと理解しなければならない。実施例1CO2充填非被覆COC管上のガス放出測定VI.B.本初期試験はCO2ガスをそのCOCに充填することによりそのATCガス放出流速を実質的に増大できるかどうかを調べるために実施した。30個の非被覆COC管をCOC管形成に関するプロトコルに従って作成した。CO2充填前、ガス放出を試験するためのプロトコルに従ってガス放出に関して管を試験した。流速は14μg/分のセンサーによりATCを用いて測定した。CO2充填の前のATC流速を表Aに示す。この測定を各管に対して実施した後、同じ管に、10分間のCO2充填時間を用いながらCO2を血液管に充填するためのプロトコルに従ってCO2を充填した。流速を同じ方法で再度測定し、そして結果を再度表Aに報告する。表Aを参照すれば、CO2充填前のCOC管の平均ガス放出流速は分当たり1.43マイクログラムであった。CO2充填後のCOC管の平均ガス放出流速は分当たり3.48マイクログラムであった。この結果はATCガス放出測定を実質的に促進するために十分な量で非被覆管上にCO2が吸着できたことを示している。実施例2CO2充填時間vsガス放出速度本実施例においてはCO2充填時間の長さを変化させることによりガス放出に対するその作用を示した。ATC試験時間もまた5分間まで延長されており、そのため本試験の結果は実施例1のものとは直接比較されない。試験はその他の点に関しては実施例1のCO2充填後と同様に実施した。結果は表Bに示す通りであり、これは充填時間の増大に従ってガス放出流速も増大することを示しているが、重点の分辺りの流速の増大は充填時間が延長されるに従って小さくなっている。実施例3二酸化炭素CO2パージによる非被覆及びSiOx被覆環状オレフィン共重合体の増強微小流動分離10個の非被覆及びSiOx被覆環状オレフィン共重合体COC13x75mm0.85mm厚射出成形管を個々にプラズマ被覆材装置上で25psiの二酸化炭素CO2圧下に12分間加圧した。SiOx被覆はプロトコルに記載したプラズマ被覆装置上で実施した。SiOx被覆管被覆後、CO2加圧前に周囲温度にまで放冷し標準プラズマ被覆装置を弁装着により改良することにより標準管ホルダーを用いたCO2圧力シリンダーによるCO2加圧を可能にし管はCO2加圧直後に評価した。CO2加圧の後、前記した分析条件の下に0~14マイクログラム/リットルμg/L微小流動範囲ATC機で管を分析した。10平均読み取り値の結果表Cは4μg/L単位超の優れた分離を非被覆及びSiOx被覆COC管の間で示した。比較のため、CO2加圧非存在下では、a微小流動値は非被覆及び被覆管の両方で低値1.25~2.00μg/Lであり、そしてb非被覆及びSiOx被覆COC管の間の分離は達成されていない。実施例4二酸化炭素CO2パージによる非被覆及びSiOx被覆環状オレフィン共重合体の迅速な6シグマ微小流動分離10個の非被覆及びSiOx被覆環状オレフィン共重合体COC13x75mmは平均SiOx被覆管微小流動で観察されたものに匹敵し、そしてパージガスとして窒素を用いた場合よりはるかに良好である。実施例6加圧工程による二酸化炭素注入又は充填管を加圧チャンバ中に搭載し、そして75psi及び23°Cで1.5時間CO2ガスで加圧した。ATC装置上、上記条件を用いて管を測定した。管は被覆及び非被覆8007COC13x75mm管の間で良好な分離を示した。実施例7アルゴンArパージによる非被覆及びSiOx被覆環状オレフィン共重合体の増強微小流動分離10個の非被覆及びSiOx被覆環状オレフィン共重合体COC13x750.85mm厚射出成形管を個々にプラズマ被覆装置上で25psiアルゴンAr圧下に12分間加圧した。SiOx被覆は前記のプラズマ被覆装置上で実施し;SiOx被覆管は被覆後に周囲温度にまで戻した後、Ar加圧し;標準プラズマ被覆装置を弁装着により改良することにより標準管ホルダーを用いながらAr加圧シリンダーによりAr加圧を行ない;Ar加圧直後に管を評価した。Ar加圧後、前記した分析条件の下に0~14マイクログラム/リットルμg/L微小流動範囲ATC機で管を分析した。10平均読み取り値の結果表Fは非被覆及びSiOx被覆COC管の間で1μg/L単位超の良好な分離を示している。実施例8窒素N2パージによる非被覆及びSiOx被覆環状オレフィン共重合体の増強微小流動分離10個の非被覆及びSiOx被覆環状オレフィン共重合体COC13x750.85mm厚射出成形管を個々にプラズマ被覆装置上で25psi窒素N2圧下に12分間加圧した。SiOx被覆は前記のプラズマ被覆装置上で実施し;SiOx被覆管は被覆後に周囲温度にまで戻した後、N2加圧し;標準プラズマ被覆装置を弁装着により改良することにより標準管ホルダーを用いながらN2加圧シリンダーによりN2加圧を行ない;N2加圧直後に管を評価した。N2加圧後、前記した分析条件の下に0~14マイクログラム/リットルμg/L微小流動範囲ATC機で管を分析した。10平均読み取り値の結果表Gは非被覆及びSiOx被覆COC管の間の良好な分離を示している。実施例9微小流動測定におけるCO2パージガス本実施例は1秒もの短いCO2充填時間を用いてガス放出検出結果を向上させることができることを示している。それぞれCOC8007及びCOC6015から作成した非被覆のCOC容器を図2のものと同様の装置中で真空化し、次に1秒間窒素ガス又は二酸化炭素でパージすることにより真空を破壊した。次に図7に示す機器を用いて管のガス放出を測定した。窒素を置きかえる二酸化炭素のパージ時間1秒で、非被覆COC射出成形13x75管表Iに関して増大した微小流動増幅シグナルがもたらされた。実施例10追加的微小流動測定圧力容器中に数点の非被覆及びSiOx-プラズマ被覆COC13x75mm管を入れた。容器を30分間1トールにまで真空化し,その後30分間二酸化炭素シリンダーから3~10psigに加圧した。次に管を図7に示す機器で評価した。図19から明らかな通り、非被覆及びプラズマ被覆COC管の間で観察された微小流動の判別性は非被覆及びSiOx被覆PET管で観察されたものに匹敵し、そしてパージガスとして窒素を用いた場合よりはるかに良好である。本発明を図面及び以上の記述において詳細に図示及び説明してきたが、かかる図解及び説明は実例的又は模範的と見なされるべきであり、制限的と見なされるべきではない。本発明は開示された実施形態に制限されるものではない。開示された実施形態のその他の変型が、図面、開示、及び添付請求項を研究することから、当技術分野の当事者により及び請求発明の実行により、理解されもたらされる可能性がある。請求項において、用語からなるはその他の要素又は手順が含まれる場合があり、単数形物質は複数である場合がある。相互に異なり依存する請求項に特定の測定値が列挙されるという単なる事実は、これらの測定の組合せを利益を得るために使用不可であることを示すものではない。請求項の引用符号は、範囲を制限すると解釈されるべきではない。"