水晶ウェハに、第1の水晶振動子群と、前記第1の水晶振動子群より漏れ振動量が所定量多い第2の水晶振動子群とを形成する外形形成工程と、前記第1の水晶振動子群の漏れ振動量の測定と前記第2の水晶振動子群の漏れ振動量の測定とを行う漏れ振動量測定工程と、を備えることを特徴とする水晶デバイスの製造方法。前記外形形成工程において、前記第2の水晶振動子群の各水晶振動子を、上面のマスク層パターンの振動脚に応じた箇所と下面のマスク層パターンの振動脚に応じた箇所とを、所定量位置をずらして形成することを特徴とする請求項1に記載の水晶デバイスの製造方法。従来の漏れ振動量測定工程で用いられるプローブを水晶振動子に接触させて測定する方法の場合、プローブの曲がりや汚れ、または水晶振動子の汚れや傾き等により、接触不良が多々あった。接触不良の程度がひどく、断線状態に近い場合には、測定時に接触不良が即座に検知できるが、低程度の接触不良の場合、漏れ振動量の測定値は本来の測定値よりも低く測定されてしまう為に、接触不良であることがわからない。その結果、時にはバランス調整の必要がないと判断されて、そのまま封止工程に進んでしまうこともあった。このような理由から、従来の製造工程では、漏れ振動量が大きな状態のまま後工程に流れてしまい、不良が発生することがあった。また仮に漏れ振動量を所定の規定値内に調整できたとしても、調整精度が悪いので、規定値限界付近の水晶振動子が多くなり、そのために検出感度の低いジャイロセンサが製造されることがあった。本発明の目的は、漏れ振動量測定工程での測定不良を即座に検知することで、測定不良の水晶振動子を後工程に物流させることを無くして不良発生を抑え、生産性を向上させることにある。上記課題を解決するために、本発明の水晶デバイスの製造方法は、下記の製造方法を採用する。本発明の水晶デバイスの製造方法は、水晶ウェハに、第1の水晶振動子群と、第1の水晶振動子群より漏れ振動量が所定量多い第2の水晶振動子群とを形成する外形形成工程と、第1の水晶振動子群の漏れ振動量の測定と第2の水晶振動子群の漏れ振動量の測定とを行う漏れ振動量測定工程と、を備えることを特徴とする。また、第2の水晶振動子群の各水晶振動子は、外形形成工程において、第2の水晶振動子群の各水晶振動子を、上面のマスク層パターンの振動脚に応じた箇所と下面のマスク層パターンの振動脚に応じた箇所とを、所定量位置をずらして形成することを特徴とする。本発明の水晶デバイスの製造方法では、漏れ振動量が所定量異なる第1の水晶振動子群と第2の水晶振動子群とを水晶ウェハ上に形成し、第1の水晶振動子群と第2の水晶振動子群の漏れ振動量の測定結果との差が所定量以上であるとき、漏れ振動量が正しく測定できたと判断し、第1の水晶振動子群と第2の水晶振動子群の漏れ振動量の測定結果との差が所定量未満であるとき、漏れ振動量の測定不良があったと判断する。このように本発明の水晶デバイスの製造方法では、漏れ振動量の測定不良を容易に検知することができ、その結果、測定不良の水晶振動子を後工程に物流させることなく、検出感度不良が少なくなり、生産性も向上する。[概略:図1-図2]以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。図1は、本実施形態の水晶振動子の製造方法で製造する水晶振動子10を模式的に示した斜視図である。水晶振動子10は、振動型ジャイロセンサに用いられるものである。水晶振動子10は2本の駆動脚101、102と1本の検出脚103とを有する三脚音叉形状の水晶振動片100と、その表面に形成される電極500とからなっている。なお水晶振動片100のこのような音叉形状は、水晶ウェハからエッチング加工等によって切り出して形成するのが一般的である。この水晶振動子10を用いた振動型ジャイロセンサの場合、図1に示すX軸方向の屈曲振動を駆動振動として使用することで、図1のようにY軸を中心軸とする角速度が印加された時にコリオリ力によって生じるZ軸方向の屈曲振動を検出振動として利用している。すなわち、角速度が印可されていない時には、Z軸方向の振動は発生しないのが最も望ましい状態である。図2は、本実施形態の水晶振動子の製造方法の工程図である。音叉型の水晶振動子を用いた振動型ジャイロセンサは、大きく分けると、主に、水晶ウェハ上に所定の形状の水晶振動片を形成する外形形成工程、水晶振動片に電極を形成し発振可能な水晶振動子にする電極形成工程、水晶振動子を発振させて振動特性漏れ振動量を測定する第1漏れ振動量測定工程、水晶振動子の振動特性漏れ振動量が所定の範囲内になるように水晶振動片や電極の形状を調整するバランス調整工程、バランス調整後の振動特性漏れ振動量を測定し、所定の規定値範囲内に収まったかどうかを確かめる第二漏れ振動量測定工程、漏れ振動量が規定範囲内に収まった水晶振動子を折り取って、容器に実装し、真空中に封止する封止工程によって製造される。なお、第二漏れ振動量測定工程で漏れ振動量が規定値範囲内になっていなかった場合は、再度バランス調整工程をおこなう場合もある。本発明は図2に示す第1漏れ振動量測定工程において、測定不良が発生した場合に、即座に不良を検知して再測定を行うことができるようにするのが目的である。[外形形成工程:図3-図8]次に、外形形成工程について説明する。図3は、本実施形態の水晶振動子の製造法の外形形成工程で水晶ウェハ上に水晶振動子を形成した状態を模式的に示した平面図である。本実施形態での水晶ウェハ1000は、図3に示すように、漏れ振動量が異なる第1の水晶振動子11a、11c、11d、11e、11g、11hこれらを第1の水晶振動子群とする。と、第2の水晶振動子12b、12fこれらを第2の水晶振動子群とする。が形成されている。ここで、第1の水晶振動子群は、従来から一般におこなわれているのと同様にして、漏れ振動量が小さくなるように設計されたものであり、第2の水晶振動子群は第1の水晶振動子群よりも1000mVだけ漏れ振動量が大きくなるように設計されたものである。図4は、本発明の第1の水晶振動子群の中の一水晶振動子の断面と第2の振動子群の中の一水晶振動子の断面を比較して示した図である。図4aは図3に示す第1の水晶振動子群の一つである第1の水晶振動子11dのA-A断面を示した図である。第1の水晶振動子11dは、駆動脚111、112と検出脚113の3本の振動脚を有する水晶振動片110上に電極500が形成された構造をしている。第1の水晶振動子11dの振動脚駆動脚111、112と検出脚113の断面は、図4aに示すように、ほぼ上下対象形状にできあがっている。この場合、駆動脚111、112を駆動振動させても、X軸方向にしか振動しないので、Z軸方向の振動成分である漏れ振動は小さく抑えられる。一方、図4bは図3に示す第2の水晶振動子群の一つである第2の水晶振動子12bのB-B断面を示した図である。第2の水晶振動子12bは駆動脚121、122と検出脚123の3本の振動脚を有する水晶振動片120上に電極500が形成された構造をしている。第2の水晶振動子12bの振動脚駆動脚121、122と検出脚123の断面は、図4bに示すように、上面と下面がずれ量Sだけ位置ずれしてできあがっている。その結果、駆動脚121、122を駆動振動させると、X軸方向だけでなく、Z軸方向にも振動してしまい、漏れ振動が発生する。本実施例では、ずれ量Sを0.5μmにした結果、1000mVの漏れ量の漏れ振動が発生した。なお、第2の水晶振動子12bに発生させる漏れ量の大きさは、ずれ量Sの大きさにほぼ比例して大きくなるので、ずれ量Sの設定を変えれば、漏れ量の大きさは任意に変えることができる。本実施形態では、ずれ量Sを0.5μmに設定して、漏れ量が1000mVになるようにしたが、特に1000mVに限定される必要はなく、これよりも小さい漏れ量であってもかまわないし、大きな漏れ量であってもかまわない。図4aに示す第1の水晶振動子11dが含まれる第1の水晶振動子群と、図4bに示す第2の水晶振動子12bが含まれる第2の水晶振動子群と、が形成された水晶ウェハ1000を、第1漏れ振動量測定工程で漏れ振動量を同じように測定すると、第1の水晶振動子群と第2の水晶振動子群とで漏れ振動量の値に明確な差本実施形態では1000mVが生じることになる。本発明はこの漏れ振動量の差によって、測定不良であるか否かを判断することを特徴としている。第2の水晶振動子群第2の水晶振動子12b、12fを第1の水晶振動子群第1の水晶振動子11a、11c、11d、11e、11g、11hよりも1000mVだけ漏れ振動量が大きくなるように設計し製造することは非常に容易である。以下にその手法を、第1の水晶振動子群の外形形成工程と第2の水晶振動子群の外形形成工程とを比較して説明する。図5は第1の水晶振動子群の水晶振動子の外形形成工程の説明図である。図6は第1の水晶振動子群の水晶振動子の外形形成工程の説明図である。なお図5、図6のいずれも、図3に示す第1の水晶振動子群の一つである第1の水晶振動子11dのA-A断面を工程順に示したものであるが、同じ第1の水晶振動子群に含まれる第1の水晶振動子11a、11c、11e、11g、11hについても、全く同じ工程かつ同じ条件で形成している。まず図5aに示すように、平板状の水晶ウェハ1000の両平面にマスク層300を形成し、さらにそのマスク層300の上に感光性材料からなるレジスト層400を形成する。本実施形態ではマスク層300に、下層が0.03μmのクロムCr膜、上層が0.12μmの金Au膜からなる積層膜を用いた。ここで下層のCr膜は下地である水晶ウェハ1000との密着性を高める役目を有し、上層のAu膜は、後の工程で行う水晶エッチング加工に耐性があるので、所望の部分が加工されないようにするマスク材料としての役目を有する。なお本発明において、マスク層300の材料は、Au、Crに限定されるわけではない。水晶エッチング加工に耐性があり、水晶振動子形状にパターニング可能な材料であれば、いかなる材料でもかまわない。そして、このレジスト層400を、水晶振動子形状の遮光層235、245が形成された露光マスク230、240で露光する。図5aに示すように、遮光層235、245は紫外光700を遮光するので、レジスト層400は遮光層235、245の水晶振動子形状を転写するようにして露光される。なお、図5aに示す第1の水晶振動子群の外形形成工程では、一般におこなわれている露光と同じように、水晶ウェハ1000の上面側を露光する露光マスク230の遮光層235と下面側を露光する露光マスク240の遮光層245を位置合わせし、両者の位置関係がほぼ合うようして露光した。上面側の遮光層235と下面側の遮光層245の位置関係を合わせることで、最終的にできあがる水晶振動片100の形状のバランスを良くすることができ、漏れ振動量を小さくすることができる。次にこの露光されたレジスト層400を現像すると、図5bに示すように、マスク層300上に水晶振動子形状のレジスト層パターン435、445が形成される。なお、上述のように、露光時に上面側の遮光層235と下面側の遮光層245とを位置合わせしているので、現像後にできあがった上面側のレジスト層パターン435と下面側のレジスト層パターン445も位置関係がほぼ合っている。その後、図6aに示すように、レジスト層パターン435、445をマスクとして利用してマスク層300をエッチングし、レジスト層パターン435、445と同じ水晶振動子形状のマスク層パターン335、345が形成される。なお、上面側のレジスト層パターン435と下面側のレジスト層パターン445の位置関係が合っているので、これを転写して形成される上面側のマスク層パターン335と下面側のマスク層パターン345も位置関係はほぼ合っている。なお本実施形態では、Au膜をヨウ素とヨウ化カリウムが主成分のエッチング液でエッチングし、Crを硝酸セリウムアンモニウムが主成分のエッチング液でエッチングしたが、本発明は、特にこれらのエッチング液に限定されるものではない。次に、図6bに示すように、今度はマスク層パターン335、345をマスクとして利用し、水晶ウェハ1000をエッチングする。本実施形態では、バッファードフッ酸と呼ばれる水晶をエッチングすることが可能な液を使用し、70°Cの液温で6時間、エッチングした。すると図6bに示すように、水晶ウェハ1000は上下面が貫通し、2本の駆動脚111、112と1本の検出脚113を有する水晶振動片110が形成される。なお、水晶はエッチング異方性を有しているので、駆動脚111、112と検出脚113の断面には部分的の突起状の形状が形成されるが、上面側のマスク層パターン335と下面側のマスク層パターン345の位置関係があっているので、ほぼ上下対象形状の断面になる。その結果、駆動脚111、112を駆動振動させても、X軸方向にしか振動しないので、Z軸方向の振動成分である漏れ振動は小さく抑えられることとなる。最後に、図6cのように、レジスト層パターン435、445、マスク層パターン335、345を除去して外形形成工程が完了する。一方、第1の振動子群よりも漏れ振動量が約1000mVだけ大きい第2の水晶振動子群は以下のようにして形成される。図7は第2の水晶振動子群の水晶振動子の外形形成工程の説明図である。図8は第2の水晶振動子群の水晶振動子の外形形成工程の説明図である。なお図7、図8のいずれも、図3に示す第2の水晶振動子群の一つである第2の水晶振動子12bのB-B断面を工程順に示したものであるが、同じ第2の水晶振動子群に含まれる第2の水晶振動子12fについても、全く同じ工程かつ同じ条件で形成している。本実施形態において、第2の水晶振動子群に属する第2の水晶振動子12bは以下のようにして形成した。まず図7aに示すように、平板状の水晶ウェハ1000の両平面にマスク層300を形成し、さらにそのマスク層300の上に感光性材料からなるレジスト層400を形成する。本実施形態では、上述の第1の水晶振動子群と同じ水晶ウェハ1000内に第2の水晶振動子群も形成されるので、第1の水晶振動子群と同様に、マスク層300は下層が0.03μmのクロムCr膜、上層が0.12μmの金Au膜からなる積層膜になる。ここで下層のCr膜は下地である水晶ウェハ1000との密着性を高める役目を有し、上層のAu膜は、後の工程で行う水晶エッチング加工に耐性があるので、所望の部分が加工されないようにするマスク材料としての役目を有する。なお本発明において、マスク層300の材料は、Au、Crに限定されるわけではない。水晶エッチング加工に耐性があり、水晶振動子形状にパターニング可能な材料であれば、いかなる材料でもかまわない。そして、このレジスト層400を、水晶振動子形状の遮光層215、225が形成された露光マスク210、220で露光する。図7aに示すように、遮光層215、225は紫外光700を遮光する材料で形成されているので、レジスト層400は遮光層215、225の水晶振動子形状を転写するようにして露光される。本発明の最も特徴的な点はこの露光工程にあり、第2の水晶振動子12bを形成するために、水晶ウェハ1000の上面側を露光する露光マスク210の遮光層215と下面側を露光する露光マスク220の遮光層225をずれ量Sだけ位置ずれさせて露光する点が特徴である。このずれ量Sと漏れ振動量には相関があり、ずれ量Sに応じて漏れ振動量を制御することが可能である。本実施形態では、第2の水晶振動子群の漏れ振動量が第1の水晶振動子群の漏れ振動量よりも1000mVだけ大きくなるように、ずれ量Sを0.5μmに設定した。露光マスク210の遮光層215と露光マスク220の遮光層225の位置関係をずらす方法はいくつかある。本実施形態では、露光マスク210と露光マスク220を位置合わせした時に第2の振動子群に対応する遮光層215と遮光層225がずれ量Sだけ位置ずれするように、あらかじめ遮光層225の第2の振動子群のパターンだけ、振動脚の位置をずらして描画しておいた。なお遮光層225の第1の振動子パターンについては位置ずれが生じないように描画してある。また露光マスク210の遮光層215と露光マスク220の遮光層225の位置関係をずらす別の方法として、分割露光法を用いる方法もある。分割露光法を用いれば、第1の水晶振動子群と第2の水晶振動子群を別々に露光することが可能であり、第2の水晶振動子群を露光する時にだけ、位置合わせをずらしてやればよい。なお、位置ずれさせるパターンは、振動脚図1に示す駆動脚101、102、振動脚103に相当する箇所だけでもかまわないし、振動脚を含む水晶振動片全体のパターンでもかまわない。少なくとも振動脚を位置ずれさせることができれば、本発明の効果は得られる。次にこの露光されたレジスト層400を現像すると、図7bに示すように、マスク層300上に水晶振動子形状のレジスト層パターン415、425が形成される。なお、上述のように、露光時に上面側の遮光層215と下面側の遮光層225とをずれ量S=1.5μmだけ位置ずれさせているので、現像後にできあがった上面側のレジスト層パターン415と下面側のレジスト層パターン425も、ずれ量S=1.5μmだけ位置ずれした位置関係で形成される。その後、図8aに示すように、レジスト層パターン415、425をマスクとして利用してマスク層300をエッチングし、レジスト層パターン415、425と同じ水晶振動子形状のマスク層パターン315、325が形成される。なお、上面側のレジスト層パターン415と下面側のレジスト層パターン425の位置関係がずれ量S=1.5μmだけ位置ずれしているので、これを転写して形成される上面側のマスク層パターン315と下面側のマスク層パターン325も、同様にずれ量S=1.5μmだけ位置ずれして形成される。なお本実施形態では、Au膜をヨウ素とヨウ化カリウムが主成分のエッチング液でエッチングし、Crを硝酸セリウムアンモニウムが主成分のエッチング液でエッチングした。次に、マスク層パターン315、325をマスクとして利用し、水晶ウェハ1000をエッチングする。本実施形態では、バッファードフッ酸と呼ばれる水晶をエッチングすることが可能な液を使用し、70°Cの液温で6時間、エッチングした。すると図8bに示すように、水晶ウェハ1000は上下面が貫通し、2本の駆動脚121、122と1本の検出脚123を有する水晶振動片120が形成される。すると、上面側のマスク層パターン315と下面側のマスク層パターン325がずれ量S=1.5μmだけ位置ずれしているので、エッチングされてできあがった水晶振動片120の振動脚駆動脚121、122と検出脚123の断面は、上面と下面がずれ量S=1.5μmだけずれた上下非対称の形状に形成される。なお、本実施形態では、水晶ウェハ1000をエッチングする際に、図8bのように、レジスト層パターン415、425がマスク層パターン315、325上に存在する状態のままエッチングを行ったが、レジスト層パターン415、425を除去した後に水晶ウェハ1000のエッチングをおこなっても、同じように水晶振動片120は形成することができる。最後に、図8cに示すように、レジスト層パターン415、425、マスク層パターン315、325を除去して、水晶振動片120を形成する工程である外形形成工程が完了する。このようにして形成された第2の水晶振動子12bは、駆動脚121、122を駆動振動させると、上下非対称な断面形状の影響を受け、図1におけるZ軸方向にも振動が生じることとなる。その結果、Z軸方向の振動成分である漏れ振動量が大きく発生する。本実施形態では第2の水晶振動子群を図7~図8に示す外形形成工程でずれ量S=1.5μmだけずらすことによって、図5~図6に示す外形形成工程で形成された第1の第1の水晶振動子群よりも、約1000mVだけ、漏れ振動量を大きくすることができた。[漏れ振動量測定工程:図9-図10]このようにして形成された第1の水晶振動子11d第1の水晶振動子群と第2の水晶振動子12b第2の水晶振動子群は、本発明では、第1漏れ振動量測定工程において下記のような効果を示す。図9は漏れ振動量の測定方法を示した要部斜視図である。なお図9では1個の水晶振動子10しか描かれていないが、第1漏れ振動量測定工程時には図3に示すような水晶ウェハ上に多数の水晶振動子10連結された状態で測定される。第1漏れ振動量測定工程では、図9に示すようにプローブ600を水晶振動片100上に形成された電極500に接触させて、駆動脚101、102に駆動電圧を印加し、X軸方向に駆動脚101、102を振動駆動振動させる。本来であれば、この状態では回転していないので、Z軸方向の振動は発生しないのが理想である。このようにしてなされる第1漏れ振動量測定工程において、本実施形態の第1の水晶振動子群と第2の水晶振動子群を有する水晶ウェハを測定すると、第1の水晶振動子群は漏れ振動量が小さく測定され、第2の水晶振動子群は第1の水晶振動子群よりも漏れ振動量が約1000mVだけ大きく測定されることとなる。図10は本発明による漏れ振動量測定工程における正常時の漏れ振動量測定結果と接触不良時の漏れ振動量測定結果を比較した図である。図3に示す第1の水晶振動子群と第2の水晶振動子群が形成された本実施形態の水晶ウェハ1000を、実際に第1漏れ振動量測定工程で測定したところ、正常に測定されている状態では、図10aに示すように、第2の水晶振動子群である第2の水晶振動子12b、12fだけが、第1の水晶振動子群である第1の水晶振動子11a、11c、11d、11e、11g、11hよりも約1000mV大きく測定され、設計通りの結果が得られた。なお、第2の水晶振動子12b、12fの漏れ振動量の値は、バランス調整可能な程度の漏れ振動量であるので、バランス調整後は十分に規定範囲内に入れることができ、良品の水晶振動子として取り扱うことができる。一方、図10bは第1漏れ振動量測定工程においてプローブの接触不良が起こった時に本実施形態の水晶ウェハ1000図3を測定した結果である。接触不良が発生すると、各水晶振動子の漏れ振動量の値は、図10aに示す正常時に比べて、小さな値を示した。その結果、個々の水晶振動子の漏れ振動量の値だけで判断すると、漏れ量が小さいということになり、バランス調整をほとんど必要としない良好な水晶振動子であると錯覚してしまう。しかしながら、実際には図10aに示す正常時の漏れ振動量の方が正しく、バランス調整は必要なレベルにある。本発明は、このように接触不良等の影響で漏れ振動量が、誤って小さく測定されてしまう問題を回避するのが目的である。本実施形態において、測定不良時の図10bの結果をよく確認すると、あらかじめ漏れ振動量が1000mV程度異なるように設計された第1の水晶振動子群と第2の水晶振動子群であるにもかかわらず、第2の水晶振動子群である第2の水晶振動子12b、12fと、第1の水晶振動子群である第1の水晶振動子11a、11c、11d、11e、11g、11hとの差が250mVしかないことがわかる。このように本発明では、第1の水晶振動子群と第2の水晶振動子群の漏れ振動量の差が、あらかじめ設計した所定量よりも小さければ、接触不良による測定不良であると明確にわかり、即座に再測定や測定装置の修理といった対策をとることが可能である。以上のようにして、本発明は、漏れ振動量測定工程での測定不良を即座に検知することができるので、測定不良の水晶振動子を後工程に物流させることを無くすことができる。その結果、不良を少なくすることができ、生産性向上に繋がる。[バランス調製工程]第1漏れ振動量測定工程の次に行われるバランス調整工程は、駆動脚および電極の一部を除去することによって、漏れ振動量が発生しないように駆動脚の振動バランスを調整する工程である。駆動脚および電極の除去する位置、除去する量は、第1漏れ振動量測定工程で測定された漏れ振動量の値をもとに算出しておこなうので、第1漏れ振動量測定工程での測定が誤っていると、バランス調整の精度が悪くなり、最悪の場合、漏れ振動量が逆に大きくなって、まったくバランス調整できない状態に陥る場合もある。このようにバランス調整工程においても、第1漏れ振動量測定工程での測定精度は大きく影響するので、本発明のように測定不良を早い段階で検出することは非常に有効である。本発明を用いれば、第一漏れ振動量測定工程で測定不良を防ぐことができるので、バランス調整工程に測定不良品が物流されず、安定して正確に漏れ振動量を調整することができるようになる。[封止工程]封止工程では、これまで水晶ウェハに連結してした水晶振動子は、レーザー切断機等によって個々の水晶振動子に分離され、パッケージに実装された後、真空中で蓋をして真空気密封止される。なお、第1漏れ振動量測定工程での測定において、漏れ振動量が所定の規定値以内に入る程度に小さい値であった場合には、バランス調整工程および第二漏れ振動量測定工程は省略されて、封止工程に進むこともある。その場合、第1漏れ振動量測定工程で正常に測定された結果、漏れ振動量が十分に小さな値であったならば問題ないが、接触不良等の測定不良で漏れ振動量が小さい値として測定されてしまった場合は、封止工程まで進んでしまうと、それ以降、水晶振動子を調整することができないので、パッケージを含めた状態で不良品になってしまう。このように、本発明は封止工程における生産性向上にも繋がる。なお、本実施形態の水晶振動子では三脚音叉形状の水晶振動子を用いたが、本発明は何もこの形状に限定されるものではなく、二脚音叉形状、T型音叉形状、W型音叉形状などでも同じようにして利用することが可能である。