"被覆物品の製造方法であって、前記ガラス基板を供給する工程と、中程度の屈折性のケイ素含有層を前記基板の第1主面上に直接的に又は間接的に堆積させる工程と、前記中程度の屈折性の層の上に前記中程度の屈折性の層と接触させて、少なくとも85nmである高屈折性の層を堆積させる工程と、前記高屈折性の層の上に前記高屈折性の層と接触させて低屈折性の層を堆積させる工程と、前記中程度の屈折性の層と、前記高屈折性の層と、前記低屈折性の層とを有する前記基板を熱処理する工程とを含み、前記被覆物品の堆積直後の状態から熱処理後の状態までのΔE値が3未満である被覆物品の製造方法。前記中程度の屈折性の層は、オキシ窒化ケイ素を含み、380nmでの屈折率が約1.8から2.0であり、550nmにおける屈折率が約1.7から1.8であり、780nmにおける屈折率が約1.65から1.8であり、前記高屈折性の層は、チタン酸化物を含み、380nmでの屈折率が約2.7から2.9であり、550nmにおける屈折率が約2.3から2.5であり、780nmにおける屈折率が約2.2から2.4であり、前記低屈折性の層は、ケイ素酸化物を含み、380nm、550nm及び780nmにおける屈折率が約1.45から1.55である、請求項1に記載の被覆物品の製造方法。前記低屈折性の層が酸化ケイ素を含む、請求項1又は2に記載の被覆物品の製造方法。前記中程度の屈折性の層がオキシ窒化ケイ素を含み、550nmにおける屈折率が約1.7から1.8である、請求項1から3のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記高屈折性の層がチタン酸化物を含み、厚さが約95から105nmである、請求項1から4のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記中程度の屈折性の層がオキシ窒化ケイ素からなり、550nmにおける屈折率が約1.7から1.8であり、前記高屈折性の層がチタン酸化物を含み、厚さが約95から105nmであり、前記低屈折性の層が、酸化ケイ素を含む、又は酸化ケイ素からなる、請求項1から5のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。第2の中程度の屈折性のケイ素含有層を前記基板の第2主面上に直接的に又は間接的に堆積する工程と、前記第2の中程度の屈折性の層の上に前記第2の中程度の屈折性の層と接触させて、厚さが少なくとも85nmである第2の高屈折性の層を堆積させる工程と、前記第2の高屈折性の層の上に前記第2の高屈折性の層と接触させて第2の低屈折性の層を堆積する工程とを更に含み、前記第2の中程度の屈折性の層、前記第2の高屈折性の層及び前記第2の低屈折性の層は前記熱処理の前に前記基板上に配置される、請求項1から6のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。被覆物品の堆積直後の状態から熱処理後の状態までのΔE値が2未満である、請求項1から7のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。被覆物品の堆積直後の状態から熱処理後の状態までのΔE値が約1.5以下である、先行する請求項1から8のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。被覆物品の製造方法であって、前記ガラス基板を供給する工程と、中程度の屈折性のケイ素含有層を前記基板の第1主面上に直接的に又は間接的に堆積させる工程と、前記中程度の屈折性の層の上に前記中程度の屈折性の層と接触させて、厚さが少なくとも85nmである高屈折性の層を堆積させる工程と、前記高屈折性の層の上に前記高屈折性の層と接触させて低屈折性の層を堆積させる工程と、を含み、前記被覆物品はΔE値が3未満となるように熱処理可能である被覆物品の製造方法。前記中程度の屈折性の層がオキシ窒化ケイ素からなり、550nmにおける屈折率が約1.7から1.8であり、前記高屈折性の層がチタン酸化物を含み、厚さが約95から105nmであり、前記低屈折性の層が、酸化ケイ素を含む、又は酸化ケイ素からなる、請求項10に記載の被覆物品の製造方法。第2の中程度の屈折性のケイ素含有層を前記基板の第2主面上に直接的に又は間接的に堆積させる工程と、前記第2の中程度の屈折性の層の上に前記第2の中程度の屈折性の層と接触させて、厚さが少なくとも85nmである第2の高屈折性の層を堆積させる工程と、前記第2の高屈折性の層の上に前記第2の高屈折性の層と接触させて第2の低屈折性の層を堆積させる工程とを更に含み、前記第2の中程度の屈折性の層、前記第2の高屈折性の層及び前記第2の低屈折性の層は前記熱処理の前に前記基板上に配置される、請求項10又は11に記載の被覆物品の製造方法。前記被覆物品はΔE値が2未満となるように熱処理可能である、請求項10から12のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。基板の第1主面で支持された反射防止コーティングを含む被覆物品であって、前記反射防止コーティングが、前記基板から順に、前記基板の第1主面上に直接的に又は間接的に堆積させられた中程度の屈折性のケイ素含有層と、前記中程度の屈折性の層の上に前記中程度の屈折性の層と接触して堆積させられた、厚さが少なくとも85nmである高屈折性の層と、前記高屈折性の層の上に前記高屈折性の層と接触して堆積させられた低屈折性の層とを含み、前記被覆物品はΔE値が2未満となるように熱処理可能である被覆物品。前記中程度の屈折性の層がオキシ窒化ケイ素を含み、波長380nm、550nm及び780nmにおける屈折率が約1.65から2.0であり、前記高屈折性の層の波長380nm、550nm及び780nmにおける屈折率が少なくとも約2.0であり、前記高屈折性の層の厚さは約85nmから115nmであり、前記低屈折性の層の波長380nm、550nm及び780nmにおける屈折率が約1.4から1.6である、請求項14に記載の被覆物品。前記中程度の屈折性の層がオキシ窒化ケイ素を含み、550nmにおける屈折率が約1.7から1.8である、請求項14又は15に記載の被覆物品。前記高屈折性の層がチタン酸化物を含み、厚さが約95nmから105nmである、請求項14から16のいずれか1項に記載の被覆物品。前記基板の第2主面が第2反射防止コーティングを支持しており、前記第2反射防止コーティングが、前記基板から順に、前記基板の前記第2主面上に直接的に又は間接的に堆積させられた第2の中程度の屈折性のケイ素含有層と、前記第2の中程度の屈折性の層の上に前記第2の中程度の屈折性の層と接触して堆積させられた、厚さが少なくとも85nmである第2の高屈折性の層と、前記第2の高屈折性の層の上に前記第2の高屈折性の層と接触して堆積させられた第2の低屈折性の層とを含み、前記層はいずれも熱処理前に前記基板上に配置される、請求項14から17のいずれか1項に記載の被覆物品。前記被覆物品が熱処理される、請求項14から18のいずれか1項に記載の被覆物品。被覆物品の堆積直後の状態から熱処理後の状態までのΔE値が2未満である、請求項19に記載の被覆物品。そのため、当該分野では、窓等のような被覆物品用の反射防止ARコーティング例えば、焼入れ可能なARコーティングを改良する必要があることが分かるであろう。特定の実施形態例では、基板の主面によって支持された反射防止コーティングを含む被覆物品であって、基板は反射防止コーティングと共に熱処理され、反射防止コーティングは、基板から順に、オキシ窒素ケイ素を含みかつ380nm、550nm及び780nmの波長における屈折率が約1.65から2.0である中程度の屈折性の層と、380nm、550nm及び780nmの波長における屈折率が少なくとも約2.0である高屈折性の層と、380nm、550nm及び780nmの波長における屈折率が約1.4から1.6である低屈折性の層とを含み、中程度の屈折性の層が熱処理後に圧縮残留応力を有する被覆物品が提供される。特定の実施形態例では、熱処理可能な被覆物品であって、被覆物品は、基板の主面によって支持された反射防止コーティングを含み、反射防止コーティングは、基板から順に、オキシ窒素ケイ素を含みかつ380nm、550nm及び780nmの波長における屈折率が約1.65から2.0である中程度の屈折性の層と、380nm、550nm及び780nmの波長における屈折率が中程度の屈折性の層よりも高い高屈折性の層と、380nm、550nm及び780nmの波長における屈折率が中程度の屈折性の層よりも低い低屈折性の層とを含み、中程度の屈折性の層及び低屈折性の層がいずれの熱処理後にも圧縮残留応力を有し、高屈折性の層がいずれの熱処理後にも引張残留応力を有し、及び反射防止コーティングが正味の圧縮残留応力を有する被覆物品が提供される。特定の実施形態例では、熱処理可能な被覆物品であって、被覆物品は、基板の主面によって支持された反射防止コーティングを含み、反射防止コーティングは、基板から順に、550nm及び780nmの波長における屈折率が1.8以下でかつ380nmの波長における屈折率が2.0以下である中程度の屈折性のケイ素包含層と、380nm、550nm及び780nmの波長における屈折率が中程度の屈折性の層よりも高い高屈折性の層であって、高屈折性の層の厚さが約20nm以下であるものと、380nm、550nm及び780nmの波長における屈折率が中程度の屈折性の層よりも低い低屈折性の層とを含み、中程度の屈折性の層及び低屈折性の層は圧縮残留応力を有し、高屈折性の層は引張残留応力を有し、及び反射防止コーティングは正味の圧縮残留応力を有する被覆物品が提供される。特定の実施形態例では、3層反射防止コーティングを有する被覆物品の製造方法であって、前記方法は、ガラス基板上に中程度の屈折性の層を直接的に又は間接的に配置する工程と、中程度の屈折性の層の上に中程度の屈折性の層と接触して高屈折性の層を配置する工程と、高屈折性の層の上に高屈折性の層と接触して低屈折性の層を配置する工程と、その上に反射防止コーティングを有するガラス基板を熱処理する工程とを含み、被覆物品が正味の圧縮残留応力を有する方法が提供される。特定の実施形態例では、被覆物品の製造方法が提供される。上記製造方法では、ガラス基板を提供する。上記製造方法では、前記基板の第1主面上に中程度の屈折性のケイ素含有層を直接的に又は間接的に配置する。上記製造方法では、中程度の屈折性の層の上に中程度の屈折性の層と接触して高屈折性の層を配置する。高屈折性の層の厚さは少なくとも85nmである。上記製造方法では、高屈折性の層の上に高屈折性の層と接触して低屈折性の層を配置する。上記製造方法では、中程度の屈折性の層、基板を、その上に配置された高屈折性の層及び低屈折性の層と共に熱処理する。堆積直後の状態から熱処理後の状態までの被覆物品のΔE値は3未満である。特定の実施形態例では、被覆物品の製造方法が提供される。上記製造方法では、ガラス基板を提供する。上記製造方法では、前記基板の第1主面上に中程度の屈折性のケイ素含有層を直接的に又は間接的に配置する。上記製造方法では、中程度の屈折性の層の上に中程度の屈折性の層と接触して高屈折性の層を配置する。高屈折性の層の厚さは少なくとも85nmである。上記製造方法では、高屈折性の層の上に高屈折性の層と接触して低屈折性の層を配置する。被覆物品は熱処理することでΔE値が3未満となり得る。特定の実施形態例では、基板の第1主面で支持された反射防止コーティングを含む被覆物品が提供される。反射防止コーティングは、基板から順に、基板の第1主面上に直接的に又は間接的に配置された中程度の屈折性のケイ素含有層と、中程度の屈折性の層の上に中程度の屈折性の層と接触して配置された高屈折性の層であって、高屈折性の層の厚さが少なくとも85nmであるものと、高屈折性の層の上に高屈折性の層と接触して配置された低屈折性の層とを含む。被覆物品は熱処理することでΔE値が3未満となり得る。特定の実施形態によれば、基板の第2主面は第2反射防止コーティングを支持していてもよく、第2反射防止コーティングは、基板から順に、基板の第2主面上に直接的に又は間接的に配置された第2の中程度の屈折性のケイ素含有層と、第2の層の中程度の屈折性の上に第2の中程度の屈折性の層と接触して配置された第2の高屈折性の層であって、第2の高屈折性の層の厚さが少なくとも85nmであるものと、第2の高屈折性の層の上に第2の高屈折性の層と接触して配置された第2の低屈折性の層とを含む。前記層はいずれも、任意の熱処理を施す前に基板に配置されてよい。このような実施形態例では、ΔE値は2未満であってよく、場合により約1.5以下であってもよい。本明細書に記載の特徴、態様、利点及び実施形態例を組み合わせることで更なる実施形態を実現することも可能である。以下の例示的な実施形態例についての詳細な説明を図面と合わせて参照することで、前記及び他の特徴及び利点をより明確により十分に理解することができる。以下に、添付の図面について更に詳細に述べる。いくつかの図面を通して同様の符号は同様の要素を表す。本発明の特定の実施形態例は、反射防止コーティングを含む被覆物品及び/又はその製造方法に関する。特定の実施形態例では、焼入れ可能な反射防止ARコーティングが提供される。上述のように、可視域のARコーティングは、電子機器、照明、電化製品、建築及びディスプレイの用途におけるガラス基板に幅広く使用されている。ガラスの焼入れ処理又は倍強化処理は、焼入れ処理又は他の熱処理に必要とされる高温へコーティングを暴露したために、コーティングの光学的、機械的又は審美的な品質が意図せずに変化するのを避けるために、ARコーティングの堆積前に行うことがあるが、特定の環境例の下では焼入れ処理後にコーティングする方法には問題がある。例えば、コーティングする前の焼入れ処理は、大面積塗工機にとって望ましくない可能性がある。コーティングしようとしている焼入れ処理/熱処理後の基板の最終寸法は、ガラスコーティング大量生産技術で実行可能な高い効率性を高めて達成しようとする場合に有用な大面積コーティング性能を効率良く使用しない大きさである可能性もある。焼入れ処理前にARコーティングを適用すると、前記製造過程における別の問題を解決できることがある。例えば、3層の可視反射防止コーティングでは、ガラス基板と直接接する層の屈折率が約1.65から2.0であることが好ましい場合がある。ただし、このような特性を有する特定の材料はあるが、前記材料を3層コーティングに使用しても、典型的な焼入れ処理環境に暴露した後のコーティングに望ましくないカラーシフトやスペクトル応答の低下が生じることもあり、又は生じないこともある。したがって、ARコーティングに利用される特定の材料は、焼入れ処理後のスペクトル応答に変化をもたらすことがあり、そのため、コーティングの堆積直後の形態に関連して望ましくないカラーシフトが生じる場合がある。そのため、焼入れ及び/又は熱処理が可能であると同時に、焼入れ及び/又は熱処理の環境下で通常遭遇する温度へ暴露された後もその審美的品質並びに優れた化学的及び力学的耐久性を保持し得る3層構造の反射防止コーティングが有益なことは分かるであろう。現存する3層ARコーティングは、特定の実施態様例では、例えば当該コーティングが焼入れ工程において使用に適した形状又は望ましい形状を保てないような場合には、十分に焼入れを行えない場合がある。一例として、ARコーティングに用いられる材料には、例えば300°Cを超える温度に暴露した後に引張残留応力を有し得るものがあることが知られている。ある層の引張残留応力が非常に高いため、多層スタックに正味の引張応力が生じる場合、この応力はコーティングの審美性を低下させる可能性がある。この問題点及び/又は同様の問題点は、例えばコーティングに亀裂を生じさせる可能性もある。したがって、ARコーティングにおいてある層の引張り残留応力を軽減し、当該層の厚さを低下させることによって引張残留応力を弱めて、ある層の引張残留応力と別の層の圧縮残留応力とのバランスをとることが有益であり得る。圧縮応力は、加わると、材料の中心に作用する。そのため、材料は、圧縮応力を受けると圧縮される。他方、材料は、引張り応力を受けると、伸長する可能性がある。その結果、コーティングにおいてある層の引張残留応力が高すぎると、層及び/又はコーティングが場合によっては変形又は亀裂を起こす可能性がある。したがって、特定の実施態様例では、正味の引張り残留応力を有するコーティングよりも正味の圧縮残留応力を有するコーティングの方がより望ましい場合がある。図1は、本発明の実施態様例に係る被覆物品例の断面図である。図1の実施態様の被覆物品は、焼入れ可能な反射防止ARコーティング3を支持する基板1を包含している。基板1は典型的にはガラス基板例えば、厚さ約1.0から10.0mmの透明、緑色、ブロンズ又は青緑色のガラス基板であるが、特定の実施例では、ポリカーボネート又はアクリル樹脂等の他の材料であってもよい。ARコーティング3は、中程度の屈折性の層5、高屈折性の層7及び低屈折性の層9を包含する。本発明の特定の実施形態例では、中程度の屈折性の層5、高屈折性の層7及び低屈折性の層9は、基板からこの順に供給されてよい。さらに特定の実施形態例では、各層は互いに直接接していてもよい。本実施態様例では、低屈折性の層9はコーティング3の最外層であるのに対し、中程度の屈折性の層5はARコーティング3の最下層である。層5、層7及び層9がそれぞれ誘電体層であるすなわち、導電体ではないので、ARコーティング3は誘電体型コーティングである。したがって、図1の実施態様例のARコーティング3には、IR反射層がなくすなわち、Ag又はAu等の金属層ではない、また、熱分解析出された金属酸化物/窒化物のような透明導電性酸化物TCO層もない。低放射率lowEコーティングを本発明の様々な実施態様と併用してよい、例えば基板1の同一面上の又は反対側の面上のARコーティング3と組み合わせて使用してよいことも当然分かるであろう。本発明の実施態様例では、焼入れ可能なARコーティングは、少なくとも3つの誘電体層、すなわち高屈折性の層、中程度の屈折性の層及び低屈折性の層を包含する。高、中程度及び低は単に、中程度の屈折性の層の屈折率nが、高屈折性の層よりも小さく、かつ、低屈折性の層よりも大きいことを表す一例として、高、中程度及び低を用いているにすぎず、具体的な値は不要である。高屈折性の層、中程度の屈折性の層及び低屈折性の層は、それらが導電体ではないので、本発明の特定の実施態様例では典型的に誘電体層である。中程度の屈折性の層5の屈折率nは、高屈折性の層7よりも小さく、かつ、低屈折性の層9よりも大きい。特定の実施態様例では、低屈折性の層9は、ケイ素若しくはその酸化物例えば、SiO2若しくは他の好適な化学量論組成のもの、MgF、又はこれらの合金の酸化物及びフッ化物で作製されていてもよく或いはそれらを包含していてもよい。特定の実施態様例では、高屈折性の層7は、金属酸化物、金属窒化物及び/若しくは金属オキシ窒化物、例えば酸化チタン例えば、TiO2若しくは他の好適な化学量論組成のもの、酸化亜鉛、ケイ素若しくはその窒化物等で作製されていてもよく或いはそれらを包含していてもよい。図2のARコーティングは、図1のARコーティングと同様であるが、中程度の屈折性の層、高屈折性の層及び低屈折性の層の代わりに各層に使用される材料例を示している。本発明の特定の実施態様例では、中程度の屈折性の層5はARコーティングの最下層であり、550nmにおける屈折率nが約1.60から2.0、好ましくは約1.65から1.9、更に好ましくは約1.7から1.8、最も好ましくは約1.7から1.79である。特定の実施態様例において、中程度の屈折性の層5の380nmにおける理想的な屈折率は約1.8から2.0である。更なる実施態様例では、中程度の屈折性の層5の780nmにおける屈折率は約1.65から1.8である。ある例では、有利なことに、中程度の屈折性の層5を構成する材料が、堆積直後の状態だけでなく、焼入れ処理及び/又は熱処理環境において典型的な温度に暴露した後でも望ましい光学的性質及び機械的性質を示す。オキシ窒化アルミニウム等の材料は、堆積直後の状態では望ましい性質を示すが、焼入れ処理及び/又は熱処理環境において典型的な温度に暴露した後では光学的性質及び/又は機械的性質が低下する場合があることが分かるであろう。ただし、オキシ窒化アルミニウムは、十分耐え得るように製造できるのであれば本発明の別の実施態様で使用してもよい。さらに、中程度の屈折性の層5は、コーティング直後の状態と熱処理後の状態のいずれにおいても圧縮残留応力を有するのであれば有益である。特定の実施態様例では、この圧縮残留応力は、スタック内の他の層の引張残留応力を弱めるのに役立つ可能性がある。ある例では、このことが3層ARスタックにおける正味の圧縮応力を向上させて、焼入れ処理及び/又は熱処理工程時にコーティングに亀裂が生じるのを阻止する可能性がある。中程度の屈折性の層5の厚さは、好ましくは約75から135nm、より好ましくは約80から130nm、なお更に好ましくは約89から120nm、最も好ましくは約94から115nmである。驚くことに、オキシ窒化ケイ素例えば、SiOxNyは550nmにおける屈折率が約1.60から2.0、より好ましくは約1.65から1.9、なお更に好ましくは約1.7から1.85又は1.7から1.8、最も好ましくは約1.7から1.79となるように堆積することができ、また、焼入れ処理及び/又は熱処理を行ったときに機械的性質又は光学的性質をほとんど低下させないことが分かった。さらに、特定の実施態様例では、有利なことに、オキシ窒化ケイ素例えば、SiOxNyを含む層はコーティング直後の状態と熱処理後の状態のいずれにおいても圧縮残留応力を有する。その結果、有利なことに、オキシ窒化ケイ素例えば、SiOxNyで作製された層又はそれを包含する層は、焼入れ可能な3層ARコーティングにおける中程度の屈折性の層5として使用するのに好適であることが分かった。本発明の特定の実施態様例では、高屈折性の層7が、ARコーティング3の中程度の屈折性の層5の上に供給される。特定の実施態様では、層7の550nmにおける屈折率は少なくとも約2.0、好ましくは約2.1~2.7、より好ましくは約2.25から2.55、最も好ましくは約2.3から2.5である。特定の実施態様例では、高屈折性の層7の380nmにおける理想的な屈折率は、約2.7から2.9及びその間の全ての部分的な範囲である。さらなる実施態様例では、高屈折性の層7の780nmにおける理想的な屈折率は、約2.2から2.4及びその間の全ての部分的な範囲である。高屈折性の層7の厚さは、好ましくは約5から50nm、より好ましくは約10から35nm、なお更に好ましくは約12から22nm、最も好ましくは約15から22nmである。特定の実施態様例では、高屈折性の層7の厚さは約25nm未満である。ある例では、有利なことに、高屈折性の層7を構成する材料は高屈折率のものである。高屈折性の層として使用される材料の一例は酸化チタン例えば、TiOxである。しかし、特定の実施態様例では、酸化チタンは、300°C超の温度へ暴露した後に引張残留応力を有する。この層の高い引張応力は、非結晶質から結晶質への相転移と関わりがあり、コーティング直後の状態から熱処理後の状態までの間に認められる。この相転移は、ある例では、典型的な焼入れ処理及び/又は熱処理工程時にコーティングが暴露される最高温度よりも低い温度で生じる。酸化チタンをベースとする層の厚さが増すほど、引張残留応力は大きくなる。酸化チタンをベースとする層例えば、TiOxの厚さ次第では、酸化チタンをベースとする層の高い引張応力を3層スタック全体の大きな正味の引張応力として見積もることもある。したがって、ある例では、酸化チタン例えば、TiOxで作製された又は酸化チタンを包含する高屈折性の層を包含する焼入れ可能なARコーティングは、焼入れ処理及び/又は熱処理後に正味の圧縮残留応力を有する及び/又は向上させる他の層例えば、中程度の屈折性の層及び/又は低屈折性の層を含むことで、高温への曝露後に酸化チタンをベースとする層の高い引張応力を弱められれば有益であると考えられる。別の例では、高屈折率の酸化チタンをベースとする層7例えば、TiOxの物理的な厚さを低下できると同時に、焼入れ可能なARコーティングの好適な光学的厚さ範囲を、好ましい光学的性質を達成するまで維持できれば更に有益である。特定の実施態様例では、これによって当該層の正味の引張応力が有利に低減されて、コーティング全体の正味の圧縮残留応力が向上され得る。言い換えれば、特定の実施態様例では、酸化チタンをベースとする層の物理的な厚さが制限されかつ他の層が焼入れ処理及び/又は熱処理後に圧縮残留応力を有する材料で作製されている場合、驚くことに、化学的耐久性及び力学的耐久性を有するとともに優れた反射防止特性を有する焼入れ処理された被覆物品が得られることが分かった。本発明の特定の実施態様例では、低屈折性の層9は、ARコーティング3の高屈折性の層7の上に供給される。特定の実施態様例において、層9の550nmにおける屈折率は、約1.4から1.6、より好ましくは約1.45から1.55、最も好ましくは約1.48から1.52である。特定の実施態様例では、低屈折性の層9の380nmにおける理想の屈折率は、約1.48から1.52及びその間の全ての部分範囲である。更なる実施態様例では、低屈折性の層9の780nmにおける理想の屈折率は、約1.46から1.5及びその間の全ての部分的な範囲である。特定の実施態様例では、低屈折性の層9の厚さは、約70から130nm、より好ましくは約80から120nm、なお更に好ましくは約89から109nm、最も好ましくは約100から110nmである。ある例では、低屈折性の層9を構成する材料は、中程度の屈折性の層及び高屈折性の層のどちらよりも屈折率が低いことが有益であり、また特定の実施態様例では、低屈折性の層9の屈折率は、コーティングを供給するガラス基板の屈折率よりも低くてよい。低屈折性の層に使用する材料の一例は酸化ケイ素例えば、SiOxである。酸化ケイ素例えば、SiOxを特定の実施態様例において焼入れ可能な3層ARコーティングの低屈折性の層として使用することは、酸化ケイ素の屈折率が低くしかも化学的耐久性及び力学的耐久性が高いことから有益である。また、特定の実施態様例では、酸化ケイ素をベースとする低屈折性の層は有利なことに、コーティング直後及び熱処理/焼入れ処理後のいずれの状態においても圧縮残留応力を有する。特定の実施態様例では、酸化ケイ素をベースとする低屈折性の層の圧縮残留応力は、酸化チタンをベースとする層の引張残留応力を弱めるのに役立つ可能性がある。特定の実施態様例では、圧縮残留応力を有する低屈折性の層を高い引張残留応力を有する高屈折性の層と併用すると、焼入れ可能な3層ARコーティングの正味の圧縮応力を向上させるのに役立つ。このことは、有利なことに、特定の実施態様例において被覆物品の焼入れ処理及び/又は熱処理時にARコーティング3の亀裂を阻止するのにも役立つ可能性もある。図1及び図2のARコーティング3は、図1及び図2に示すガラス基板1の1主面にのみ供給されてよい。一方、図3は、本発明の一実施態様であって、コーティング3がガラス基板1の両方の主面に供給されたものを表している。つまり、第1ARコーティングが基板1の第1主面に供給され、そして第2ARコーティングが基板1の第2主面に供給されている。特定の実施態様例では、焼入れ可能なARコーティングは、望ましくない反射を抑えるように設計され得る。大抵の場合、98超の透過率が好ましい額縁ガラスでのARのように、反射を低減させると透過率が増加する。しかし、透過率の増加が必ずしも好ましいとは限らない場合がある。例えば、ディスプレイにおいてブラックマトリックスに重ねた領域のARコーティングの反射はできる限り低い方が有効であるが、透過率Tはどちらかといえば重要ではない。言い換えると、当業者には透過率が基板及び/又は用途に少なくともある程度左右されることが分かるであろう。反射防止コーティング3を有する被覆物品は、本明細書に記載の特定の窓用途に有用である。この点で、本発明の特定の実施態様例に係る被覆物品は、可視透過率が少なくとも約50、より好ましくは少なくとも約60、最も好ましくは少なくとも約70であってよい。このような窓は、単枚ガラス窓、絶縁ガラスIGユニット及び/又は真空絶縁ガラスVIGユニット等であってよい。IG及び/又はVIG応用例では、1枚以上の基板で、本明細書において示して説明したような反射防止コーティング3を支持してもよい。実施例1:ARコーティング3の例は次の通り作製した。すなわち、約95nm厚のSiOxNy層5中程度の屈折性の層、約21nm厚のTiO2層7高屈折性の層の例及び約105nm厚のSiO2層9低屈折性の層の例とした。透明ガラス基板は、厚さが約5mmであり、ソーダ石灰シリカ系ガラスであった。層5、層7及び層9はそれぞれ、ガラス基板1にターゲットをスパッタすることで堆積させた。コーティング3は、図1に示すように、ある例ではガラス基板の一主面にのみ供給したが、図3に示すように、別の例ではガラス基板の両方の主面に供給されてもよい。コーティングには650°Cで10分間焼入れ処理を行った。図4は、コーティング直後と焼入れ処理/熱処理後の3層可視ARコーティングの、入射角8°で白色光を用いたときの、第1表面反射率の比較を表すグラフである。図4は、中程度の屈折率性の層5に関して550nmにおいて約1.7から1.8の屈折率をガラス基板の一主面上で得られるように調節したSiOxNyを有する実施例の反射スペクトルを表している。約450から650nmまで、とりわけ約500から600nmの波長域において優れたAR特徴例えば、低Rが得られることが分かる。明所視の反射CIE-C、2°は設計によって最小限に抑えられ又は低減されて、実測値は0.4未満であった。本発明の特定の実施態様例では、被覆物品の明所視の反射は約3.0未満、より好ましくは約1.0未満、さらに好ましくは約0.5未満、最も好ましくは約0.25未満であった。図5は、堆積直後のコーティングと焼入れ処理/熱処理後のコーティングとの間の反射スペクトル応答の変化ΔR=焼入れ後のR-コーティング直後のRを、色計算で用いられる三刺激値と比較して表したグラフである。最も大きな反射率の変化は、三刺激値がほぼゼロの領域で生じている。これにより、コーティング直後の状態と焼入れ処理/熱処理後の状態との間での反射色の変化量が低減される。この考察は光源とは無関係である。図6は、垂直入射111.2°背面反射を含むにおけるコーティング直後の可視反射率、可視透過率及び色の数値を表す表である。図7は、図6の試料を650°Cに10分間暴露した後で得られた光学品質を表す表である。図6及び図7は、コーティング直後の状態と焼入れ処理/熱処理後の状態との間で示された光学品質の変化を比較するのに使用できる。示した光学品質は、96インチの全幅にわたって実質的に等間隔の塗工機横断位置3か所P、C、Vにおけるものである。本発明の様々な実施態様では当然、塗工機位置の数、その配置及び/又は全幅を変更することが可能である。焼入れ処理を行うと、可視透過率は増加し、可視反射は低下し、そして反射によるカラーシフトは非常に小さかったΔE<2。色は焼入れ環境に暴露した後も工業基準範囲内であると考えられる。図8は、特定の実施態様例の焼入れ可能な3層ARコーティングの応力に関する追加データを表す表である。図8は、実施例1並びに比較例と同様の方法で作製したコーティングに関する情報を収容するものであって、必ずしも実施例1自体からの反射情報というわけではない。図8中の第1コーティングaは、本発明の特定の実施形態例に係る3層ARコーティングであり、堆積直後のコーティング並びに650°Cで10分間熱処理及び/又は焼入れ処理を行った後のコーティングにおける正味の残留応力の値と種類を示している。負のσx値及びσy値は応力が圧縮に関するものであることを示す。他方、正の値は引張応力を示している。コーティングa、コーティングb及びコーティングcにおいて、堆積直後の正味残留応力値はいずれも負である。つまり、堆積直後には、これらコーティングはそれぞれ圧縮残留応力を有している。しかし、熱処理及び/又は焼入れ処理を行うと、前記コーティングの応力は、引張残留応力の方へ変わる。図8から分かるように、コーティングaの酸化チタンをベースとする層の厚さは19nmである。酸化ケイ素をベースとする層及びオキシ窒化ケイ素をベースとする層の圧縮残留応力は酸化チタンをベースとする層の引張残留応力よりも高いので、コーティングaの正味の残留応力は熱処理後でも引張よりもむしろ圧縮に関するものである。特定の実施態様例では、この正味の圧縮応力によって、正味の引張応力を有するコーティングに比べてより耐久性に優れたコーティングがもたらされる。比較コーティングb及び比較コーティングcからは、酸化チタンをベースとする層の方が厚いコーティングbが100nm及びコーティングcが102nm場合に、熱処理後、正味の残留応力が引張に関するものとなる正のσx値及びσy値で示されることが分かる。単層i及び単層iiに関する応力値は、酸化ケイ素をベースとする層とオキシ窒化ケイ素をベースとする層の残留応力がいずれも、熱処理の前後共に圧縮に関するものであることを示すためだけに提示している。これらの圧縮残留応力値はそれぞれ、酸化チタンをベースとする層の引張残留応力を弱めるように働く。図8からは、加熱後でも圧縮残留応力を有するいくつかの層をコーティング中に包含すること及び/又は引張残留応力を有する層を薄層化することによって、有利なことに、熱処理後でも正味の圧縮残留応力を有するコーティングが得られることが分かるであろう。特定の実施態様例では、引張応力を生じやすい層を薄層化できる場合、及び/又はそうではなく、引張応力がスタック内の他の層の圧縮応力よりも小さくなるように改変できる場合、スタック/コーティング全体の正味の残留応力が圧縮に関するものとなる可能性がある。したがって、熱処理後でも耐久性を維持する焼入れ可能な3層構造のARコーティングは、特定の実施態様例では、1圧縮残留応力有する層、例えば酸化ケイ素等の低屈折性の層及びオキシ窒化ケイ素等の中程度の屈折性の層を包含することにより、並びに/又は2高屈折性の酸化チタンをベースとする層のように引張応力を示し易い層を、例えばその厚さを約25nm未満より好ましくは約22nm未満、なお更に好ましくはおよそ20nm以下まで低下させることによって改変することにより、製造され得る。上述の説明は例示を目的とするものである。他の実施態様例では、加熱後でも正味の圧縮応力を有する層を別の方法で製造してもよい。図9は、図8のコーティングa及びコーティングbの、堆積直後の応力と加熱後の応力を比較したグラフである。図9からは、コーティングaが加熱前後でいずれも圧縮残留応力を有することが分かる。図9からはまた、コーティングb厚さ100nmの酸化チタンをベースとする層を包含する比較例が加熱前には正味の圧縮応力を有していたが、熱処理後にはコーティングbが正味の引張応力を有していることも分かる。特定の実施態様例では、コーティング全体に例えばコーティングaに現れる引張残留応力の量を低減することで、コーティングの耐久性向上に役立つこともある。実施例2:焼入れ可能なARコーティングをガラス基板の両面に適用した例えば、両面コーティングを作製した。両面コーティング図3に示すようなものもまた、フロートガラスのSn面にコーティングした場合、研磨などの追加の表面処理を必要とせず、焼入れ処理/熱処理処理工程後でもその光学品質及び審美的品質を維持している。実施例1に関連して前段落で述べたコーティング設計をガラスの第2表面又はSn面に適用することで、双方の干渉からの反射全体を抑えることも可能である。図10は、前記設計を低鉄ガラスの両面に適用した場合の、焼入れ処理/熱処理前後に得られた光透過率を表している。明所視の光透過率は、焼入れ環境へ暴露した後に増加して、3.2mmの低鉄ガラスに対して垂直入射において99を超える。図11は、SiOxNy、TiOx及びSiOxをそれぞれ中程度の屈折性の層、高屈折性の層及び低屈折性の層に使用した場合の、焼入れ可能なARコーティング3における物理的な厚さ範囲例及び屈折率範囲例を表している。図9は、本発明の好ましい実施態様において各層で使用した厚さの例を示しているが、別の例では、各層にその他の物理的な厚さを使用してもよい。各層の厚さ範囲例は次の通りである。特定の実施態様例では、本明細書に記載のARコーティングは薄い低鉄ガラスに使用され得る。低鉄ガラス基板の例は、例えば米国出願番号12/385,318、並びに米国出願公開番号2006/0169316、同2006/0249199、同2007/0215205、同2009/0223252、同2010/0122728及び同2009/0217978に開示されており、これらそれぞれの内容は全て参照として本明細書に組み込まれる。特定の実施態様例では、実施例2を3.2mmの低鉄ガラスに適用した場合、可視透過率は約99であることを確かめた。しかし、本明細書に記載の被覆物品の可視透過率は、所望の最終用途に応じて、少なくとも約85であり、少なくとも約90のときもあり、少なくとも約95のときもあり、また、それ以上に高いこともある例えば、約99。以下の表は、低鉄ガラス上の片面ARコーティング及び両面ARコーティングについての、コーティング直後から熱処理後までのカラーシフトを表す。熱処理工程によって、コーティングの審美的例えば、反射色品質に対する影響がかなり軽減するまた、なくなる場合もあることが分かるであろう。例えば、本明細書に記載のコーティング例は、堆積直後に紫色の色相を呈している。紫色の色相例は熱処理後も維持される。このことは、反射色に関して、審美的品質が、それに見合う、望まれる多くの用途において特に好ましい。片面ARの平均色測定値例片面ARの焼入れ時の予測カラーシフト例両面ARの平均色測定値例両面ARの焼入れ時の予測カラーシフト例本明細書に記載の層は、特定の実施態様例では化学量論的なもの及び/又は実質上完全に化学量論的ものであってよいが、別の実施態様例では、各層は準化学量論的なものであってよい。ただし、任意の好適な化学量論が本明細書に記載のどの層の例に関しても使用可能であることが分かるであろう。また、幾つかの例では、例示したコーティング3の下に、その内側に又はその上に他の層を供給してもよい。したがって、層システム又はコーティングは直接的に又は間接的に基板1の上にあるか又は基板1によって支持されているが、他の層はそれらの間に供給されてもよい。そのため、例えば図1のコーティング3及びその各層は、他の層が層5と基板1の間に供給されていても、基板1の上にありかつ基板1によって支持されているとみなすことができる。さらに、例示したコーティングの特定の層は、特定の実施態様例では取り除かれてもよく、また、本発明の他の実施態様では、本発明の特定の実施態様の趣旨全体を逸脱しない範囲で他の層が追加されてもよい。別の特定の実施態様例では、コーティング3は本質的に層5、層7及び層9からなるものであってよく、層9は大気に晒されていてよい例えば、特定の実施態様例では、層9がコーティングの最外層であってよい。本明細書に記載の実施態様例は、様々な用途について使用され得る。例えば、本明細書に記載の実施態様例にしたがって製造された片面ARコーティングは、例えば商業地域若しくは住宅地における照明、又はスポーツ時の照明、或いは他の大きな会場用若しくは競技場用の照明、一般的な照明用途、タッチスクリーン等の用途に使用してもよい。本明細書に記載の実施態様例に従って製造された両面ARコーティングは、例えば電子機器、ディスプレイ、電化製品、建物外面等の用途に使用してもよい。当然、他の用途も本明細書に開示した実施態様例に利用可能である。本明細書に記載の被覆物品例えば、図1から図3参照は、特定の実施態様例では熱処理例えば、焼入れ処理を行ってもよく、又は熱処理をしなくてもよい。このような焼入れ処理及び/又は熱処理は、典型的には少なくとも約580°C、より好ましくは少なくとも約600°C、なお更に好ましくは少なくとも620°Cの温度を用いる。本明細書で使用するとき熱処理及び熱処理を行うことという用語は、物品を含めたガラスに焼入れ処理thermaltempering及び/又は倍強化処理を行うのに十分な温度まで物品を加熱することを表す。この定義には、例えば、被覆物品をオーブン又は炉内で少なくとも約550°C、より好ましくは少なくとも約580°C、より好ましくは少なくとも約600°C、より好ましくは少なくとも約620°C、最も好ましくは少なくとも約650°Cの温度において、焼入れ処理及び/又は倍強化処理を行うのに十分な期間加熱することが包含される。これは、特定の実施態様例では、少なくとも約2分間であってよく、又は約10分以内であってよい。本明細書に記載の層のうち幾つか又は全ては、スパッタ法、又は例えば燃焼気相成長法や燃焼堆積法等のような他の好適な成膜技法によって基板1に直接的に又は間接的に堆積されてよい。追加実施例上述の通り、特定の材料は、AR層の焼入れ処理前後に望ましくないカラーシフトΔEをもたらす可能性がある。よって、一般的な熱処理例えば、焼入れ処理環境に暴露した後で所望の光学特性を例えば、最大限可能な限り維持する材料を見出して3層反射防止コーティングに組み込む必要があることが分かるであろう。図1に関する上述の通り、例えば、特定の実施態様には、中程度の屈折性の層5と高屈折性の層7と低屈折性の層9を有するARコーティング3が組み込まれていてよい。本発明者らは、SiOxNy等の材料を、例えば特定の厚さのTiOx及びSiOxと組み合わせて用いることで、堆積直後の状態から熱処理後又は熱入れ処理後の状態まで光学特性を一層好ましく維持する3層反射防止コーティングが得られることを見出した。図12は、特定の実施態様例に従って作製された熱入れ可能な3層構造のARコーティングの一例である。SiOxNyからなる又はSiOxNyを包含する中程度の屈折性の層1204の厚さは、好ましくは約45から85nm、更に好ましくは約50から70nm、なお更に好ましくは約55から65nmである。特定の実施形態例では、SiOxNyからなる層の厚さは約60から61nmであってよい。驚くことに、オキシ窒化ケイ素例えば、SiOxNyは550nmにおける屈折率が約1.60から2.0まで、更に好ましくは約1.65から1.9まで、なお更に好ましくは約1.7から1.85まで又は1.7から1.8まで、最も好ましくは約1.7から1.79までとなるように堆積でき、しかも熱入れ処理時及び/又は熱処理時に光学特性をほとんど低下させないことが分かった。さらに特定の実施態様例では、オキシ窒化ケイ素例えば、SiOxNyからなる又はオキシ窒化ケイ素を含む層は、次の利点をもたらす可能性がある。すなわち、1大気環境下でかつガラス焼入れ処理に一般的な時間及び温度範囲で焼付けた後のカラーシフトが小さいこと例えば、ΔE<3単位、2焼入れ処理後のコーティングにおいて、可視スペクトル領域での所望の光学特性の低下がほとんど又は全く見られないこと、及び3典型的な焼入れ環境への曝露後に可視スペクトル域での屈折率の変化がほとんど又は全く見られないことである。その結果、本発明者らは、有利なことに、オキシ窒化ケイ素例えば、SiOxNyからなる又はオキシ窒化ケイ素を包含する層が、焼入れ可能な3層ARコーティングにおける中程度の屈折性の層1204として使用するのに好適であることを発見した。特定の実施態様例では、高屈折性の層1206は、ARコーティング1202の中程度の屈折性の層1204の上に供給される。特定の実施態様例では、高屈折性の層1206の550nmにおける屈折率は、少なくとも約2.0、好ましくは約2.1から2.7、更に好ましくは約2.25から2.55、最も好ましくは約2.3から2.5である。特定の実施態様例では、高屈折性の層1206の380nmにおける特に好ましい屈折率は約2.7から2.9及びその間の全ての部分的な範囲であってよい。追加の実施態様例では、高屈折性の層1206の780nmにおける理想的な屈折率は約2.2から2.4及びその間の全ての部分的な範囲であってよい。高屈折性の層1206の厚さは、好ましくは約75から125nm、更に好ましくは約85から115nm、なお更に好ましくは約95から105nm、最も好ましくは約100から105nmであってよい。特定の実施態様例では、高屈折性の層1206の厚さは約102nmである。場合によっては、高屈折性の層1206を構成する材料の屈折率は高いことが有利である。高屈折性の層として用いられる材料の一例は酸化チタン例えば、TiOxである。本発明の別の実施態様では、酸化チタンは化学量論量のTiO2であってもよく、又は酸素が一部不足した/準化学量論量のTiOxであってもよい。当然、本発明の別の実施態様では、他の材料TiOxからなるもの又はTiOxを包含するものを含むを使用してもよい。特定の実施態様例では、低屈折性の層1208は、ARコーティング1202の高屈折性の層1206の上に供給される。特定の実施態様例では、低屈折性の層1208の550nmにおける屈折率は約1.4から1.6、更に好ましくは約1.45から1.55、最も好ましくは約1.48から1.52である。特定の実施態様例では、低屈折性の層1208の380nmにおける理想的な屈折率は約1.48から1.52及びその間の全ての部分的な範囲であってよい。追加の実施態様例では、低屈折性の層1208の780nmにおける理想的な屈折率は約1.46から1.5及びその間の全ての部分的な範囲であってよい。特定の実施態様例では、低屈折性の層1208の厚さは約70から130nm、更に好ましくは約80から115nm、なお更に好ましくは約85から105nm、最も好ましくは約85から95nmであってよい。特定の実施態様例では、低屈折性の層の厚さは約87から93nmであってよい。場合によっては、低屈折性の層1208を構成する材料の屈折率は、中程度の屈折性の層及び高屈折性の層のいずれよりも低いことが有利であり、また、特定の実施態様例では、低屈折性の層1208の屈折率は、上にコーティングが供給されるガラス基板よりも低くてよい。低屈折性の層として用いられる材料の一例は酸化ケイ素例えば、SiOxである。当然、本発明の別の実施態様では、他の材料SiOxからなるもの又はSiOxを包含するものを含むを使用してもよい。例えば、本発明の別の実施態様では、前記層は、部分的に酸化された及び/又は窒化されたケイ素含有層であってもよい。図12のARコーティング1202は、図12に示すように、ガラス基板1200の1主面上のみに供給されてよい。一方、図13は、ARコーティング1202がガラス基板1200の両方の主面に供給された実施態様例を表している。つまり、第1ARコーティング1202が基板1200の第1主面上に供給され、そして第2ARコーティング1202が基板1200の第2主面上に供給されている。ガラス基板の片面に適用された反射防止コーティングの例図14は、特定の実施形態例による焼入れ処理環境への暴露前後における3層ARコーティングの表面反射率の比較を表すグラフである。例えば、ARコーティングは、基板から順に、次の層を包含していてよい。厚さ約60nmのSiOxNyからなる中程度の屈折性の層、厚さ約102nmのTiO2からなる高屈折性の層及び厚さ約93nmのSiO2からなる低屈折性の層。ARコーティングは、ソーダ石灰シリカガラス製の透明ガラス基板に適用されてよく、前記層はガラス基板上にスパッタ法又は他の好適な技法によって配置されてよい。本実施例では、ARコーティングはガラス基板の1主面のみに供給される例えば、図12に示す通り。その後、コーティングを最高温度650°Cで焼入れ処理してよい。当然、上述の通り、前記と同一のコーティング又はそれと同様のコーティングをソーダ石灰ガラス基板の反対側の主面上に配置してもよい。図14から分かるように、3層ARの堆積時から3層ARの焼入れ処理後までの反射応答の変化は非常に小さい可能性がある。上述の通り、焼入れ処理前後における光学特性の差は小さいことが好ましい。特定の実施態様例では、本発明の特定の実施態様例に従って作製された片面コーティングにおける反射率の変化は好ましくは1未満、更に好ましくは0.5未満、なお更に好ましくは約0.2から0.3未満である。図15は、10試料の焼入れ処理前のカラーシフトと10試料の焼入れ処理後のカラーシフトとを表すグラフである。図15のデータは、前記実施例の片面ARコーティングSiOxNy、TiOx及びSiOxからなる10試料に基づくものである。測定は、標準C光源オブザーバIlluminateCobserverにより、2°で行った。以下の表には、前記2つのグラフの結果を10回の測定結果を平均してまとめている。標準C光源オブザーバ及びD65光源オブザーバの双方から2度及び10度で得られたデータを以下の表に示す。上述の通り、堆積直後から焼入れ後までのカラーシフトΔEは3未満となることが好ましい。前記表から分かるように、光源Cを2°で使用した場合及び光源D65を10°で使用した場合、前記実施例の3層ARにおけるΔE値は所望のΔE値である3よりも低い。しかも、光学特性であるRvis及びTvisはいずれも焼入れ処理前後で実質上同じ又は同様である。このような性質が、焼入れ処理された被覆物品を製造する際に好ましい。ガラス基板の両面に適用された反射防止コーティングの例特定の実施態様例には、次の層が、基板から順に包含されていてよい。厚さ約61nmのSiOxNyからなる中程度の屈折性の層、厚さ約102nmのTiO2からなる高屈折性の層及び厚さ約87nmのSiO2からなる低屈折性の層。本実施例の3層ARコーティングは、ソーダ石灰シリカガラス製の透明ガラス基板に適用されてよく、前記層はガラス基板の両面にスパッタ法又は他の好適な技法によって堆積されてよい。前記実施例例えば、図12とは対照的に、本実施例のARコーティングはガラス基板の両方の主面上に供給されてよい例えば、図13に示す通り。次いで、3層ARコーティングを最高温度650°Cで焼入れ処理してよい。図16は、特定の実施形態例によるガラス基板の両面に適用された前記3層ARコーティングの、焼入れ処理環境への暴露前後における表面反射率の比較を表すグラフである。この図から分かるように、両面コーティング法によって、反射率は場合によりほぼゼロとなり、さらに約460nmから660nmまでは1未満であり得る。また、堆積直後の反射応答が焼入れ処理後の反射応答とほぼ同じである。上述の通り、焼入れ処理前後における光学特性は実質上同様のままであることが好ましい。特定の実施態様例では、本発明の特定の実施態様例に従って作製された両面コーティングにおける反射率の変化は1未満、更に好ましくは0.5未満、なお更に好ましくは約0.2から0.3未満である。以下の表に、ガラス基板の両面に適用され得る前記実施例の3層ARコーティングの焼入れ処理前後における光学特性をまとめる。図から分かるように、ガラス基板両面にコーティングすることで光学特性の変化が小さくなる可能性がある。具体的には、先に観測されたΔEは、1.5未満と、かなり低い。すなわち、両面ARコーティングを含む特定の実施態様例における特定の実施態様では、ΔEが3未満、より好ましくは2.5未満、なお更に好ましくは2未満、場合によりそれ以下となる可能性がある。したがって、中程度の屈折性の層におけるSiOxNyを例えばTiOx及びSiOxと共に前記厚さで組み込んだ前記実施例の3層コーティングは、Rvisを低下させ、反射性カラーシフトを非常に小さくする可能性がある場合により、ほぼなくなることもある。ある実施例では、SiOxNyの化学量論組成を調整することによって堆積直後の状態から焼入れ処理後の状態までの光学特性の変化例えば、ΔRvis、ΔTvis、ΔEを更に低下させてもよい。あるいは又はさらに、スタック内の層全て例えば、中程度の屈折性の層、高屈折性の層及び低屈折性の層の物理的厚さを調節することによって堆積直後の状態から焼入れ後の状態までの光学特性の変化例えば、ΔRvis、ΔTvis、ΔEを更に低下させることで、スペクトル曲線をシフトすると同時に、所望のスペクトル帯域を維持することも可能である。現在最も実用的でかつ最も好ましい実施態様であると考えられるものについて本発明を説明してきたが、本発明は、開示した実施態様に限定されるものではなく、むしろ添付の特許請求の範囲の趣旨及び範囲に包含される様々な変更点及び同等の構成をも網羅するものと解されるべきである。"