真空チャンバ内に配置された複数の電子線カラムと、試料が載置され、前記試料を第1方向及び前記第1方向に垂直な第2方向に移送する移送機構を備えたステージと、前記電子線カラムごとに前記試料の走査電子顕微鏡像を撮像する複数の撮像機構と、を備え、前記撮像機構により前記試料の走査電子顕微鏡像を取得し、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心から前記複数の電子線の予め設定された照射位置までの位置ずれ量をそれぞれ算出し、前記複数の電子線カラムは、前記複数の電子線カラムからそれぞれ出射される複数の電子線の照射位置を調整する位置調整機構をさらに備え、前記位置調整機構は、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心と前記複数の電子線の照射位置とがそれぞれ一致するように、前記位置ずれ量に基づいて前記複数の電子線カラムをそれぞれ移動させる移動機構を含むことを特徴とする電子線装置。前記位置調整機構は、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心と前記複数の電子線の照射位置とがそれぞれ一致するように、前記位置ずれ量に基づいて前記複数の電子線を偏向させる偏向機構をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の電子線装置。前記位置調整機構は、前記位置ずれ量が10μm以上の場合は、前記移動機構を用いて前記複数の電子線の照射位置を調整し、前記位置ずれ量が1μm以上、10μm未満の場合は、前記偏向機構を用いて前記複数の電子線の照射位置を調整することを特徴とする請求項2に記載の電子線装置。前記複数の電子線カラムは、前記第1方向に延びる線とほぼ平行に所定の間隔を空けて配置された複数の電子線カラムをカラム列として、前記カラム列が前記第2方向に所定の間隔を空けて複数配置された構成を有し、前記複数の電子線カラムは、前記移送機構による前記試料の移送に伴い、それぞれ前記試料の異なる位置に同時に並行して前記複数の電子線を照射し、走査電子顕微鏡像を取得することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電子線装置。前記位置調整機構は、前記カラム列ごとに、前記第1方向に延びる基準線上に前記複数の電子線の照射位置が位置するように調整することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電子線装置。前記位置ずれ量が1μm未満である場合、前記撮像機構により撮像された複数の前記試料の走査電子顕微鏡像を画像処理して、前記位置ずれ量に基づき位置を補正することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の電子線装置。真空チャンバ内に配置された複数の電子線カラムと、試料が載置され、前記試料を第1方向及び前記第1方向に垂直な第2方向に移送する移送機構を備えたステージと、真空チャンバを大気解放することなしに試料を交換する試料交換機構と、前記電子線カラムごとに前記電子線カラムの光学要素を制御する複数の電気ユニットと、前記複数の電気ユニットを制御する複数の制御CPUと、前記制御CPUを操作するための操作PCと、電子線の照射位置を調整する調整フローを記憶し、パターンマッチング機能を備えた位置調整用PCと、を備え、前記電子線カラムごとに、前記試料の走査電子顕微鏡像を撮像する撮像機構を備え、前記複数の電子線カラムは、それぞれ前記複数の電子線カラムから出射される前記複数の電子線の照射位置を調整する電動化された位置調整機構を備え、前記位置調整用PCは、前記撮像機構により取得された走査電子顕微鏡像を取得し、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心から前記複数の電子線の予め設定された照射位置までの位置ずれ量をそれぞれ前記パターンマッチング機能を用いて自動で算出し、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心と前記複数の電子線の照射位置とがそれぞれ一致するように、前記位置ずれ量に基づいて前記複数の電子線カラムを自動でそれぞれ移動させる移動機構を含むことを特徴とする電子線装置。前記位置調整機構は、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心と前記複数の電子線の照射位置とがそれぞれ一致するように、前記位置ずれ量に基づいて前記複数の電子線を偏向させる偏向機構をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載の電子線装置。前記位置調整用PCは、前記調整フローに基づき、前記位置ずれ量が10μm以上の場合は、前記移動機構を用いて前記複数の電子線の照射位置を自動で調整し、前記位置ずれ量が1μm以上、10μm未満の場合は、前記偏向機構を用いて前記複数の電子線の照射位置を自動で調整することを特徴とする請求項8に記載の電子線装置。前記複数の電子線カラムは、前記第1方向に延びる線とほぼ平行に所定の間隔を空けて配置された複数の電子線カラムをカラム列として、前記カラム列が前記第2方向に所定の間隔を空けて複数配置された構成を有し、前記複数の電子線カラムは、前記移送機構による前記試料の移送に伴い、それぞれ前記試料の異なる位置に同時に並行して前記複数の電子線を照射し、走査電子顕微鏡像を取得することを特徴とする請求項7乃至9のいずれか一項に記載の電子線装置。前記位置調整機構は、前記カラム列ごとに、前記第1方向に延びる基準線上に前記複数の電子線の照射位置が位置するように調整することを特徴とする請求項7乃至10のいずれか一項に記載の電子線装置。前記位置ずれ量が1μm未満である場合、前記撮像機構により撮像された複数の前記試料の走査電子顕微鏡像を画像処理して、前記位置ずれ量に基づき位置を自動で補正することを特徴とする請求項7乃至11のいずれか一項に記載の電子線装置。しかしながら、上述した従来の複数の電子線カラムを備えた電子線装置によると、電子線カラムの観察視野が数10μm程度である一方、複数の電子線カラムからの電子線の照射位置は、光学系の加工及び組立精度等により、電子線カラムの機械的な中心から数100μm程度の範囲にばらつくことがあり、照射位置のばらつき分だけ余計に検査をする必要があるため、スループットが低下する虞がある。そこで、本発明の目的は、複数の電子線カラムを備えた電子線装置のスループットを低下させることなく、試料の検査を行える電子線装置を提供することである。本発明の一実施の形態に係る電子線装置は、真空チャンバ内に配置された複数の電子線カラムと、試料が載置され、前記試料を第1方向及び前記第1方向に垂直な第2方向に移送する移送機構を備えたステージと、前記電子線カラムごとに前記試料の走査電子顕微鏡像を撮像する複数の撮像機構と、を備え、前記撮像機構により前記試料の走査電子顕微鏡像を取得し、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心から前記複数の電子線の予め設定された照射位置までの位置ずれ量をそれぞれ算出し、前記複数の電子線カラムは、前記複数の電子線カラムからそれぞれ出射される複数の電子線の照射位置を調整する位置調整機構をさらに備え、前記位置調整機構は、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心と前記複数の電子線の照射位置とがそれぞれ一致するように、前記位置ずれ量に基づいて前記複数の電子線カラムをそれぞれ移動させる移動機構を含むことを特徴とする。前記位置調整機構は、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心と前記複数の電子線の照射位置とがそれぞれ一致するように、前記位置ずれ量に基づいて前記複数の電子線を偏向させる偏向機構をさらに含んでもよい。前記位置調整機構は、前記位置ずれ量が10μm以上の場合は、前記移動機構を用いて前記複数の電子線の照射位置を調整し、前記位置ずれ量が1μm以上、10μm未満の場合は、前記偏向機構を用いて前記複数の電子線の照射位置を調整してもよい。前記複数の電子線カラムは、前記第1方向に延びる線とほぼ平行に所定の間隔を空けて配置された複数の電子線カラムをカラム列として、前記カラム列が前記第2方向に所定の間隔を空けて複数配置された構成を有し、前記複数の電子線カラムは、前記移送機構による前記試料の移送に伴い、それぞれ前記試料の異なる位置に同時に並行して前記複数の電子線を照射し、走査電子顕微鏡像を取得してもよい。前記位置調整機構は、前記カラム列ごとに、前記第1方向に延びる基準線上に前記複数の電子線の照射位置が位置するように調整することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電子線装置。前記位置ずれ量が1μm未満である場合、前記撮像機構により撮像された複数の前記試料の走査電子顕微鏡像を画像処理して、前記位置ずれ量に基づき位置を補正してもよい。また、本発明の一実施の形態に係る電子線装置は、真空チャンバ内に配置された複数の電子線カラムと、試料が載置され、前記試料を第1方向及び前記第1方向に垂直な第2方向に移送する移送機構を備えたステージと、真空チャンバを大気解放することなしに試料を交換する試料交換機構と、前記電子線カラムごとに前記電子線カラムの光学要素を制御する複数の電気ユニットと、前記複数の電気ユニットを制御する複数の制御CPUと、前記制御CPUを操作するための操作PCと、電子線の照射位置を調整する調整フローを記憶し、パターンマッチング機能を備えた位置調整用PCと、を備え、前記電子線カラムごとに、前記試料の走査電子顕微鏡像を撮像する撮像機構を備え、前記複数の電子線カラムは、それぞれ前記複数の電子線カラムから出射される前記複数の電子線の照射位置を調整する電動化された位置調整機構を備え、前記位置調整用PCは、前記撮像機構により取得された走査電子顕微鏡像を取得し、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心から前記複数の電子線の予め設定された照射位置までの位置ずれ量をそれぞれ前記パターンマッチング機能を用いて自動で算出し、前記複数の電子線カラムの観察視野の中心と前記複数の電子線の照射位置とがそれぞれ一致するように、前記位置ずれ量に基づいて前記複数の電子線カラムを自動でそれぞれ移動させる移動機構を含むことを特徴とする。前記位置調整用PCは、前記調整フローに基づき、前記位置ずれ量が10μm以上の場合は、前記移動機構を用いて前記複数の電子線の照射位置を自動で調整し、前記位置ずれ量が1μm以上、10μm未満の場合は、前記偏向機構を用いて前記複数の電子線の照射位置を自動で調整してもよい。本発明によれば、複数の電子線カラムを備えた電子線装置において、複数の電子線カラムの電子線の照射位置を位置調整機構を用いてそれぞれ調整することにより、スループットを低下させることなく、試料の検査を行うことができる。以下、図面を参照して、本発明の一実施形態を詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々なる態様で実施することができる。<電子線装置の構造>本発明の一実施形態に係る電子線装置100の基本的な構造について、図1及び図2を参照して説明する。図1は、電子線装置100の概略構成を示す図であり、図2は、図1に示した電子線装置100に含まれる複数の電子線カラム110の概略構成を示す平面図である。図1に示す複数の電子線カラム110の概略構成は、図2に示すA-A ́線から見た断面の概略構成である。本発明の一実施形態に係る電子線装置100は、真空チャンバ103内に配置された複数の電子線カラム110と、試料101が載置されるステージ102と、電子線カラム110ごとに試料101の走査電子顕微鏡像を撮像する複数の撮像機構とを備える。複数の電子線カラム110は、電子を放出する電子源と、電子を所定のエネルギーまで加速する電子銃118と、電子の軌道を調整するレンズ系と、電子の軌道を試料101上に集束する対物レンズと、集束された電子線119を試料101上で走査する走査機能と、集束された電子線119を試料101上で移動する偏向機能と、集束された電子線119のビーム形状を補正する非点補正機能と、試料101上に照射された電子線119により発生した二次粒子を検出する検出器と、をそれぞれ備える。図1に図示したように、複数の電子線カラム110110-1~110-5は、複数の制御電源115115-1~115-5にそれぞれ接続され、制御装置117により、その操作が制御される。複数の制御電源115は、対応する電子線カラム110ごとに、電子線カラム110内の光学要素を制御する複数の電気ユニットを備える。制御装置117は、複数の電気ユニットを制御する複数の制御CPUを備え、制御CPUを管理、操作する操作PCであってもよい。制御装置117はさらにGPUを備え、撮像機構により取得された複数の走査電子顕微鏡像に基づき、試料101の表面形状等を検査するための画像処理を実行する。また、制御装置117は、複数の電子線カラム110から出射される複数の電子線119の照射位置を自動的に調整する調整フローをメモリに記憶し、パターンマッチング機能を備えていてもよい。ステージ102は、図中に示すX方向及びY方向に試料101を移送する移送機構を備える。移送機構は、制御装置117によりその操作が制御される。電子線装置100は、ステージ102の移送機構により移送される試料101に対し、電子銃118から出射される電子線119を照射して、試料101の顕微鏡観察を行う。これにより、電子線装置100は、複数の走査電子顕微鏡像を取得し、試料101の同一構造部を比較して、試料101の表面の形状や試料101の電気特性等を検査することができる。このとき、本発明の一実施形態として、ステージ102の移送機構は、試料101の連続移送方向をX方向とし、試料101の送り移動方向をY方向とすると、X方向に試料101を連続的に動かしながら試料101に電子線119を連続的に照射させた後、各電子線カラム110の走査範囲に対応するX方向の可動範囲まで走査が終了すると、電子線カラム110の観察視野分、Y方向に試料101を移動させ、再びX方向に移送するものであってもよい。複数の電子線カラム110は、図2に図示したように、X軸とほぼ平行な線上に所定の間隔を空けて配置された複数の電子線カラム110を一つのカラム列111として、複数のカラム列111111-1~111-5がY方向に所定の間隔を空けて配置された構成を有してもよい。このとき、複数の電子線カラム110は、それぞれの試料101の走査範囲が、試料101全面の走査範囲を電子線カラム110の数でほぼ均等に分割した走査範囲となるように配置され得る。このような構成を有することにより、複数の電子線カラム110は、移送機構による試料101の移送に伴い、試料101の異なる位置に同時に並行して電子線119を照射することが可能となる。すなわち、本発明の一実施形態に係る電子線装置100によれば、試料101全面の走査範囲を分割したそれぞれ異なる走査範囲において、複数の電子線119をそれぞれ同時に走査させることができるため、一つの電子線カラムにより試料101全面を走査させる場合と比較して、走査時間を短縮でき、且つ、試料101の移送範囲を試料101の走査範囲に応じて小さくすることができるため、電子線装置100の小型化を実現できる。なお、ステージ102の移送機構は、X方向及びY方向の移送に限らず、図中に示すZ方向に試料101を移送させる機構を備えてもよい。また、後述する試料101を回転移動させる機構や、傾斜させる機構を備えてもよい。また、電子線装置100は、真空チャンバ103の真空排気をするための真空ポンプ104及び真空チャンバ103を大気解放することなしに試料101を交換する試料交換機構を備えていてもよい。このような構成を有する本発明の一実施形態に係る電子線装置100は、さらに、複数の電子線119の照射位置をそれぞれ調整する位置調整機構を備える。位置調整機構は、複数の電子線カラム110から出射される複数の電子線119が、それぞれ試料101の所定の位置に照射されるように、電子線119の照射位置を調整する。以下、本発明の第1の実施形態及び第2の実施形態に係る電子線装置100の構成について、位置調整機構の構成をより詳細に説明しつつ、図3~図20を参照して述べる。第1の実施形態本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100について、以下、図3~図13を参照して説明する。図3~図5は、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100の動作の説明図である。図6は、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置に用いられる基準マークの形状例を示す図である。図7は、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100の位置調整機構の説明図である。図8は、本発明の電子線装置100に対する比較例に係る電子線装置の説明図である。図9は、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100に備えられる位置調整機構の第1例を示す概略構成図である。図10は、図9に示した電子線装置100の概略構成を示す平面図である。図11は、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100に備えられる位置調整機構の第2例を示す概略構成図である。図12は、図11に示した電子線装置100の概略構成を示す平面図である。図13は、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100に備えられる位置調整機構の第3例の動作の説明図である。図3は、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100の動作の説明図であり、aは、電子線カラム110の観察視野130a-1の中心Aと電子線119の予め設定された照射位置A ́との位置ずれの補正を説明するための図であり、bは、電子線カラム110の観察視野130b-1の中心Bと電子線119の予め設定された照射位置B ́との位置ずれの補正を説明するための図である。図3a及びbのiに示した複数の電子線カラム110の観察視野130a-1、130b-1は、それぞれ位置調整前の観察視野を示したものであり、図3a及びbのiiに示した観察視野130a-2、130b-2は、それぞれ位置調整後の観察視野を示したものである。図3に示す構成は、複数の基準マーク120a、120bの付された標準試料を用いて、複数の電子線カラム110の位置を調整する構成を示したものである。標準試料は、電子線119の予め設定された照射位置A ́、B ́に、基準マーク120a、120bの中心が一致するようにそれぞれステージ102に載置される。なお、標準試料を用いずに、ステージ102上に複数の基準マーク120a、120bが形成されていてもよい。基準マーク120a、120bは、図3に図示したように、X軸に平行な線とY軸に平行な線とが交差した略十字形状を有するものであってもよく、略十字形状の交差する中心に、複数の電子線の予め設定された照射位置A ́、B ́が位置するように配置される。複数の基準マーク120a、120bは、複数の電子線の予め設定された照射位置A ́、B ́に対して、それぞれ0.1μm以下の位置精度で配置されることが好ましい。図3a及びbのiに図示したように、複数の電子線カラム110の観察視野130a-1、130b-1の中心A、Bと、電子線119の予め設定された照射位置A ́、B ́とがずれている場合には、電子線119を実際に照射する際に照射位置にばらつきが生じ、ばらつき分だけ余計に走査が必要となるため、試料101の検査のスループットが低下するという問題が生じる。従って、電子線装置100は、電子線119を試料101に照射する前に、複数の電子線カラム110の観察視野の中心A、Bと、複数の電子線の予め設定された照射位置A ́、B ́とがそれぞれ一致するように、座標Xa、Ya、Xb、Ybで示した位置ずれ量だけ、それぞれ位置調整機構を用いて複数の電子線カラム110の位置の補正を行う。なお、位置調整機構は、後述するように、複数の電子線カラム110の位置を移動させて調整するものに限らず、複数の電子線カラム110から出射される複数の電子線119を偏向させて照射位置を調整するものであってもよい。複数の電子線カラム110の観察視野の中心A、Bから複数の電子線の予め設定された照射位置A ́、B ́までの位置ずれ量は、制御装置117により取得された画像を用いて算出することができる。図3に図示したように、座標Xa、Ya、Xb、Ybで示した位置ずれ量に基づき、位置調整機構による複数の電子線カラム110の中心位置の移動量又は複数の電子線119のビーム位置の移動量が決定される。図3a及びbのiiには、電子線カラム110の中心位置を移動させて位置調整を行った構成を図示している。ここで、図3に図示したX軸に平行な基準線121xは、基準マーク120a、120bの略十字形状の中心を通る仮想線である。一つのカラム列111に含まれる複数の電子線カラム110の観察視野の中心A、Bは、このX軸に平行な基準線121x上に配置されるように位置調整機構により調整される。X軸に平行な基準線121x上に、複数の電子線カラム110の観察視野の中心A、Bを位置させることにより、複数の電子線の照射位置のばらつきを抑え、電子線装置100の検査範囲を最小限の範囲に抑えることが可能となる。以下、図4及び図5を参照し、複数の電子線カラム110-1~110-5の観察視野の中心a1~a5と、複数の電子線カラム110の予め設定された照射位置とをステージの移動機構により調整する構成について説明する。図4及び図5は、複数の基準マーク120-1~120-5の付された標準試料101xをステージ102上に配置し、複数の電子線カラム110-1~110-5の観察視野の中心a1~a5と、複数の基準マーク120-1~120-5の中心とがそれぞれ一致するように調整する構成を図示している。複数の基準マーク120-1~120-5の中心は、複数の電子線カラム110の予め設定された照射位置に対応させて配置される。標準試料101xの表面には、図5に示すように、複数の基準マーク列120xが、それぞれY方向に平行に配置される。基準マーク列120xは、それぞれ直線上に並んで配置された複数の基準マーク120-1~120-5を含む。ステージ102上に載置された標準試料101xは、ステージ102の移動機構のうち、回転移動機構R1を用いて回転させることにより、複数の基準マーク列120xに含まれる複数の基準マーク120-1~120-5の配列方向が、ステージ102の連続移送方向であるX方向と一致するように調整される。このとき、複数の基準マーク120-1~120-5のうち試料101の中央に位置する基準マーク120-3sを、ステージ102の回転軸R0と一致させ、回転軸R0を中心に標準試料101xを回転させて位置合わせを行ってもよい。また、複数の基準カラム110のうち、少なくとも一つの基準カラム110-3sを設定し、基準カラム110-3sと基準カラム110-3sに対応する基準カラム用基準マーク120-3sとの位置合わせを行った後、ステージ102の回転移動機構を用いて、基準カラム110-3s以外の電子線カラム110-1~110-5の位置を、それぞれ基準カラム用基準マーク120-3s以外の基準マーク120-1~120-5に対応させて位置合わせを行ってもよい。このように、ステージ102の移動機構を用いて位置合わせされた標準試料101xを用いることにより、図3を参照して上述したように、複数の電子線カラム110の観察視野130a-1、130b-1の中心A、Bと、複数の電子線119の予め設定された照射位置A ́、B ́との位置ずれ量をそれぞれ算出することができる。位置調整機構は、算出された位置ずれ量に基づき、標準試料101xを用いて位置調整を行う。標準試料101xを用いて位置調整を行った後、試料交換機構によって、ステージ102上から標準試料101xを取り除き、ステージ102上に試料101を搬送することにより、試料101の顕微鏡観察を行う。なお、複数の基準マーク120-1~120-5がステージ102上に配置されている場合も同様に、試料交換機構により試料101をステージ102上から取り除いてステージ102上の複数の基準マーク120-1~120-5の顕微鏡観察を行うことにより位置調整を実施する。基準マーク120-1~120-5の形状は、図4及び図5に図示した略十字形状に限らず、図6に図示したような基準マーク120-a~120-dの形状であってもよい。図6は、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100に用いられる基準マーク120-a~120-dの形状例を示す図であり、aは、複数の略十字形状が入れ子構造のように配置された基準マーク120-aを示し、bは、チェッカーパターン市松模様を含む形状の基準マーク120-bを示し、cは、複数の線が交差した形状の基準マーク120-cを示し、dは、複数の略正方形状が入れ子構造のように配置され、その中心が十字形状の中心と一致するように組み合わされた形状の基準マーク120-dを示す。図6に図示した基準マーク120-a~120-dは、いずれも大きさの異なる複数の構造が組み合わされた形状を有している。基準マーク120-a~120-dの組み合わされた構造のうち、大きい方の構造の寸法は、数10μm~数100μmとし、小さい方の構造の寸法は、数10nm~数μmとしてもよい。図6に図示した基準マーク120-a~120-dによれば、低倍率から高倍率まで顕微鏡観察が可能であり、中心位置の測定が容易となる。従って、電子線装置100において、基準マーク120-a~120-dの中心位置と電子線の予め設定された照射位置との位置合わせが容易に可能となる。次に、以下、図7乃至図13を参照し、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100に備えられ、複数の電子線カラム110-1~110-5の配置位置をそれぞれ機械的に調整する位置調整機構について説明する。図7aは、位置調整機構を用いて複数の電子線カラム110-1~110-5の位置をY方向に調整し、X軸に平行な基準線121x上に、複数の電子線カラム110-1~110-5の複数の観察視野13-1~13-5が位置するように調整した構成を示したものである。図7bは、位置調整機構を用いて複数の電子線カラム110-1~110-5の位置をY方向に調整した後、X方向に調整し、X軸に平行な基準線121x上に、複数の電子線カラム110-1~110-5の複数の観察視野13-1~13-5が均等な間隔で位置するように調整した構成を示したものである。なお、図7a及びbは、複数の電子線カラム110-1~110-5の中心をそれぞれカラムの中心11-1~11-5として模式的に図示し、複数の電子線カラム110-1~110-5の観察視野をそれぞれ観察視野13-1~13-5として模式的に図示し、カラムの中心11-1~11-5と観察視野13-1~13-5とのずれを位置ずれ量12-1~12-5として模式的に図示したものである。図8は、図7に図示した本発明の電子線装置100に対する比較例に係る電子線装置の説明図である。図8に図示したように、複数の電子線カラム110-1~110-5の中心31-1~31-5がX軸に平行な基準線121x上に位置する場合、電子線は、図8に示す位置ずれ量32-1~32-5だけ、カラムの中心31-1~31-5からずれた位置に照射されるため、電子線の観察視野33-1~33-5は、それぞれカラムの中心31-1~31-5からずれた位置となる。このとき、電子線の観察視野33-1~33-5の大きさは数10μm程度である。また、カラムの中心31-1~31-5から電子線の照射位置である電子線の観察視野33-1~33-5までの位置ずれ量は数100μm程度である。図8に図示したように、比較例に係る電子線装置によると、複数の電子線カラム110-1~110-5の中心31-1~31-5からずれた位置に電子線が照射されるため、複数の観察視野33-1~33-5はカラムの中心31-1~31-5からそれぞれ四方に散らばり、図8に示した検査範囲34だけ余計に検査を行う必要が出てくる。一方、図7a及びbに図示した本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100においては、電子線の観察視野13-1~13-5が、X軸に平行な基準線121x上に位置するように、位置調整機構を用いて調整される。このような調整によって、X軸に平行な基準線121x上に、電子線の観察視野13-1~13-5を一致させることにより、複数の電子線の照射位置の位置ずれ量をそれぞれ1μmより小さくすることができる。従って、X軸に平行な基準線121xに沿って走査する際に、図8に図示した検査範囲34と比較して不必要な検査範囲を狭めることができる。これにより、電子線装置100による検査のスループットを向上させることができる。以下、図9乃至図13を参照し、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100に備えられる位置調整機構の構成をより詳細に説明する。図9及び図10を参照して、第1例に係る位置調整機構215-1~215-3の構成について説明する。なお、図9に示した位置調整機構215-1~215-3は、図10に示す第1例に係る位置調整機構215を、B-B ́線から見た断面の構成を示したものである。図9に図示したように、複数の電子線カラム210-1~210-3は、それぞれ電子線カラム210-1~210-3の位置をX方向及びY方向に移動させる位置調整機構215-1~215-3を備える。位置調整機構215-1~215-3は、電子線カラム210-1~210-3の位置を、それぞれ図中のX方向の正の方向及び負の方向並びにY方向の正の方向及び負の方向に移動させる。図9及び図10に図示したように、複数の電子線カラム210-1~210-3を中心としてX方向の正の方向及び負の方向並びにY方向の正の方向及び負の方向の4方向には、クサビ式の移動機構212a-1~212a-3、212b-1~212b-3がそれぞれ配置される。クサビ式の移動機構212a-1~212a-3、212b-1~212b-3は、制御装置117により制御されるモータを用いてZ方向に動かされる。例えば、クサビ式の移動機構212a-1~212a-3が図中のZ方向の負の方向に動かされると、クサビ式の移動機構212b-1~212b-3が図中のZ方向の正の方向に上がり、電子線カラム210-1~210-3の中心の位置をX方向の正の方向に移動させる。複数の電子線カラム210-1~210-3のX方向及びY方向の移動量は、図3を参照して上述したように、電子線の予め設定された照射位置と電子線カラムの観察視野の中心との位置ずれ量に基づいて算出することができる。位置調整機構215-1~215-3は、算出された移動量だけ複数の電子線カラム210-1~210-3をそれぞれ機械的に移動させる。以上のとおり、第1例に係る位置調整機構215-1~215-3によれば、電子線カラム210-1~210-3の中心の位置をそれぞれX方向及びY方向に所望の距離だけ移動させることにより、複数の電子線カラム210-1~210-3の観察視野の中心と複数の電子線の照射位置とがそれぞれ一致するように、複数の電子線カラム210-1~210-3の位置をそれぞれ調整することができる。次に、図11及び図12を参照して、第2例に係る位置調整機構315-1~315-3の構成について説明する。なお、図11に示した位置調整機構315-1~315-3は、図12に示す第2例に係る位置調整機構315を、C-C ́線から見た断面の構成を示したものである。図11及び図12に図示したように、複数の電子線カラム310-1~310-3は、それぞれ電子線カラム真空チャンバ313-1~313-3内に配置され、電子線カラム310-1~310-3の位置をX方向及びY方向に移動させる位置調整機構315-1~315-3をそれぞれ備える。複数の位置調整機構315-1~315-3は、それぞれ真空直線導入機構312a-1~312a-3、312b-1~312b-3及びベローズ導入機構314a-1~314a-3、314b-1~314b-3を含む複数の移動機構であってもよい。位置調整機構315-1~315-3は、複数の電子線カラム310-1~310-3の位置をそれぞれ図中のX方向の正の方向及び負の方向並びにY方向の正の方向及び負の方向に移動させる。このように、図11及び図12に図示した第2例に係る位置調整機構315-1~315-3によれば、図9及び図10に図示した第1例に係る位置調整機構215-1~215-3と同様に、複数の電子線カラム310-1~310-3の中心の位置を、それぞれX方向及びY方向に所望の距離だけ移動させることができる。複数の電子線カラム310-1~310-3のX方向及びY方向の移動量については、第1例に係る位置調整機構215-1~215-3と同様に、電子線の予め設定された照射位置と電子線カラムの観察視野の中心との位置ずれ量に基づいて算出される。位置調整機構315-1~315-3は、算出された移動量だけ複数の電子線カラム310-1~310-3をそれぞれ機械的に移動させる。従って、第2例に係る位置調整機構315-1~315-3によれば、電子線カラム310-1~310-3の中心の位置をそれぞれX方向及びY方向の所望の距離だけ移動させることにより、複数の電子線カラム310-1~310-3の観察視野の中心と複数の電子線の照射位置とがそれぞれ一致するように、複数の電子線カラム310-1~310-3の位置をそれぞれ調整することができる。以上のような構成を有する第1例及び第2例に係る位置調整機構215、315は、X方向及びY方向に電子線カラムの位置をそれぞれ移動させる移動機構に限らず、X方向及びY方向以外の複数の方向に電子線カラムの位置をそれぞれ移動させる移動機構であってもよい。次に、図13を参照して、第3例に係る位置調整機構415の構成について説明する。図13は、第3例に係る位置調整機構415の動作の説明図であり、aは位置調整機構415による位置調整前の構成を示し、bは位置調整機構415による位置調整後の構成を示す。図13に図示した第3例に係る位置調整機構415は、カラム列111ごとに備えられた移動機構であり、カラム列111を機械的に回転させて複数の電子線カラムの位置をそれぞれ調整するものである。図13aには、位置調整機構415による位置調整前には、カラム列111に含まれる複数の電子線カラムの中心11-1~11-5が、X軸に対して平行ではない線121x-a上に並んで配置された構成が図示されている。このとき、試料の連続移送方向をX方向とすると、複数の電子線カラムの中心11-1~11-5が線121x-a上にほぼ直線状に並んで配置されていることから、カラム列111を動かしてこの線121x-aをX軸に対して平行なものとすれば、複数の電子線カラムの中心11-1~11-5をX軸に対して平行な基準線121x上に位置させることができるため、検査範囲を最小限の範囲に抑えることができる。第3例に係る位置調整機構415は、カラム列111を機械的に回転させ、図13bに図示したように、複数の電子線カラムの中心11-1~11-5をX軸に平行な基準線121x上に配置させるものである。位置調整機構415により回転されたカラム列111は、X軸に平行な基準線121xに対して、0.1度以下の範囲で位置合わせされることが好ましい。位置調整機構415は、例えば、カラム列111の端に位置する電子線カラムの中心11-1を回転軸と一致させて回転させ、カラム列111に含まれる他の電子線カラムの位置ずれを補正してもよい。カラム列111の移動量は、第1例及び第2例に係る位置調整機構215、315と同様に、予めX軸に平行な基準線121xから電子線カラムの各々の位置ずれ量を測定することにより算出することができる。第3例に係る位置調整機構415は、図13に図示したカラム列111ごとに回転させる機構に限らず、カラム列111ごとにX方向及びY方向を含む様々な方向に移動させる移動機構を備えていてもよい。以上のように、第1例乃至第3例として示した本発明の第1の実施形態に係る位置調整機構215、315、415によれば、複数の電子線カラムの観察視野の中心と複数の電子線の照射位置とをそれぞれ一致させるように、複数の電子線カラムの位置をそれぞれX方向及びY方向に所望の距離だけ移動させることができるため、試料101の検査範囲を最小限の範囲とすることが可能となる。従って、本発明の第1の実施形態に係る電子線装置100によれば、電子線装置100による検査のスループットを向上させることができる。第2の実施形態本発明の第2の実施形態に係る電子線装置100について、以下、図14~図17を参照して説明する。図14は、本発明の第2の実施形態に係る電子線装置100に備えられる位置調整機構の第1例を示す概略構成図である。図15は、本発明の第2の実施形態に係る電子線装置100に備えられる位置調整機構の第2例を示す概略構成図である。図16は、本発明の第2の実施形態に係る電子線装置100に備えられる位置調整機構の第3例を示す概略構成図である。図17は、本発明の第2の実施形態に係る電子線装置100に備えられる位置調整機構の第4例を示す概略構成図である。第2の実施形態に係る電子線装置100に備えられる位置調整機構は、複数の電子線カラム510~810から出射される複数の電子線519~819を偏向させて複数の電子線119の照射位置を調整するものである。なお、図14~図17は、一つの電子線カラム510~810の構成を模式的に図示したものであり、第2の実施形態に係る電子線装置100も、第1の実施形態に係る電子線装置100と同様に、図14~図17に図示した電子線カラム510~810を複数備えるものである。また、第2の実施形態に係る電子線装置100は、複数の電子線カラム510~810が、位置調整機構として静電式又は磁場式を含む二段のビーム偏向器515~815を備える構成である以外は、図1及び図2に図示して上述した電子線装置100と同様の構成を有するものである。従って、以下、上述した電子線装置100の構成と同様の構成については、詳細な説明を省略する。図14は、位置調整機構の第1例を図示したものである。図14aに図示したように、電子線カラム510は、電子銃511、コンデンサレンズ512、走査電極513、カラム内検出器514、二段のビーム偏向器515、静電型対物レンズ516、及び検出器517を備える。図14bは、静電型対物レンズ516の平面図である。図14に図示した電子線カラム510は、二段のビーム偏向器515を備え、静電型対物レンズ516を中心に偏向中心をとる構成を有する。このような構成を有することにより、第2の実施形態に係る電子線カラム510は、電子線519を偏向させ、試料101に対する電子線519の照射位置を、図14に図示したビーム位置の移動量518だけX方向及びY方向の所望の位置に移動させることができる。従って、第2の実施形態に係る電子線装置100は、複数の電子線519をそれぞれ偏向させる偏向機構として、図14に図示した第1例に係る位置調整機構のように、二段のビーム偏向器515及び静電型対物レンズ516を備えることにより、第1の実施形態に係る電子線装置100と同様に、算出された位置ずれ量に基づいて複数の電子線519の照射位置を調整することができる。図15は、位置調整機構の第2例を図示したものである。図15aに図示したように、電子線カラム610は、電子銃611、コンデンサレンズ612、走査電極613、、カラム内検出器614、二段のビーム偏向器615、MOLMovingObjectiveLens式静電型対物レンズ616、及び検出器617を備える。図15bは、MOL式静電型対物レンズ616の平面図である。図15に図示した電子線カラム610は、二段のビーム偏向器615とMOL式静電型対物レンズ616とを備える。このような構成を有することにより、第2の実施形態に係る電子線カラム610は、電子線619を偏向させ、試料101に対する電子線619の照射位置を、図15に図示したビーム位置の移動量618だけX方向及びY方向の所望の位置に移動させることができる。従って、第2の実施形態に係る電子線装置100は、複数の電子線619をそれぞれ偏向させる偏向機構として、図15に図示した第2例に係る位置調整機構のように、二段のビーム偏向器615及びMOL式静電型対物レンズ616を備えることにより、第1の実施形態に係る電子線装置100と同様に、算出された位置ずれ量に基づいて複数の電子線619の照射位置を調整することができる。図16は、位置調整機構の第3例を図示したものである。図16aに図示したように、電子線カラム710は、電子銃711、コンデンサレンズ712、走査電極713、カラム内検出器714、二段のビーム偏向器715、磁場型対物レンズ716、及び検出器717を備える。図16bは、磁場型対物レンズ716の平面図である。図16に図示した電子線カラム710は、二段のビーム偏向器715を備え、磁場型対物レンズ716を中心に偏向中心をとる構成を有する。このような構成を有することにより、第2の実施形態に係る電子線カラム710は、電子線719を偏向させ、試料101に対する電子線719の照射位置を、図16に図示したビーム位置の移動量718だけX方向及びY方向の所望の位置に移動させることができる。従って、第2の実施形態に係る電子線装置100は、複数の電子線719をそれぞれ偏向させる偏向機構として、図16に図示した第3例に係る位置調整機構のように、二段のビーム偏向器715及び磁場型対物レンズ716を備えることにより、第1の実施形態に係る電子線装置100と同様に、算出された位置ずれ量に基づいて複数の電子線719の照射位置を調整することができる。図17は、位置調整機構の第4例を図示したものである。図17aに図示したように、電子線カラム810は、電子銃811、コンデンサレンズ812、走査電極813、、カラム内検出器814、二段のビーム偏向器815、MOLMovingObjectiveLens式磁場型対物レンズ816a、偏向電極816b、及び検出器817を備える。図17bは、MOL式磁場型対物レンズ816aの平面図である。図17に図示した電子線カラム810は、二段のビーム偏向器815とMOL式磁場型対物レンズ816aとを備える。このような構成を有することにより、第2の実施形態に係る電子線カラム810は、電子線819を偏向させ、試料101に対する電子線819の照射位置を、図17に図示したビーム位置の移動量818だけX方向及びY方向の所望の位置に移動させることができる。従って、第2の実施形態に係る電子線装置100は、複数の電子線819をそれぞれ偏向させる偏向機構として、図17に図示した第4例に係る位置調整機構のように、二段のビーム偏向器815及びMOL式磁場型対物レンズ816aを備えることにより、第1の実施形態に係る電子線装置100と同様に、算出された位置ずれ量に基づいて複数の電子線819の照射位置を調整することができる。以上のように、第1例乃至第4例として示した本発明の第2の実施形態に係る位置調整機構は、静電式又は磁場式を含む二段のビーム偏向器515~815をそれぞれ備えることにより、複数の電子線カラムの観察視野の中心と複数の電子線の照射位置とをそれぞれ一致させるように、複数の電子線519~819の照射位置をそれぞれ調整することができるため、試料101の検査範囲を最小限の範囲とすることが可能となる。従って、本発明の第2の実施形態に係る電子線装置100によれば、第1の実施形態に係る電子線装置100と同様に、電子線装置100による検査のスループットを向上させることができる。なお、本発明の一実施形態に係る電子線装置100は、第1の実施形態及び第2の実施形態に係る位置調整機構をいずれも備えていてもよい。位置ずれ量が大きい場合には第1の実施形態に係る移動機構により調整し、位置ずれ量が小さい場合には第2の実施形態に係る偏向機構により調整されるものであってもよい。例えば、位置ずれ量が10μm以上の場合には、第1の実施形態に係る移動機構による位置調整を行い、位置ずれ量が1μm以上、10μm未満の場合は、偏向機構を用いて位置調整を行ってもよい。また、位置ずれ量が1μm未満である場合には、電子線カラム110ごとに取得される走査電子顕微鏡像を用いた画像処理による位置補正を行ってもよい。また、第1の実施形態及び第2の実施形態に係る電子線装置100の位置調整機構による調整は、制御装置117により自動化されて実行されてもよい。以下、図18を参照し、第1の実施形態及び第2の実施形態に係る位置調整機構の自動制御について説明する。図18は、電子線装置100の動作を示すフローチャートである。図18に図示した電子線装置100による処理フローのうち、位置調整機構による調整フローは、制御装置117により自動化されて実行されてもよい。制御装置117は、パターンマッチング機能を用いて複数の電子線カラム110の観察視野の中心から複数の電子線119の予め設定された照射位置までの位置ずれ量を自動的に算出し、算出された位置ずれ量と、メモリに記憶された調整フローに基づき、位置調整機構による操作を制御する。図18に図示したように、まず、ステップS1001において、試料交換機構により、標準試料101xをステージ102上に搬送する。次に、ステップS1002において、ステージ102の移送機構を用いて標準試料101xを移送し、標準試料101xの配置位置を調整する。本実施形態においては、ステージ102の連続移送方向がX方向であることから、複数の基準マーク120をX軸ステージX軸にアライメントさせる。次に、ステップS1003において、カラム列111ごとに回転移動機構等により位置調整し、X軸に対してアライメントさせる。次に、ステップS1004において、第1の実施形態に係る位置調整機構である移動機構を用いて、複数の電子線カラム110をそれぞれX軸に対して位置合わせする機械式アライメント。次に、ステップS1005において、第2の実施形態に係る位置調整機構である偏向機構を用いて、複数の電子線カラム110をそれぞれX軸に対して位置合わせする偏向式アライメント。最後に、ステップS1006において、標準試料101xを用いて電子線カラム110ごとの位置ずれ量オフセットを算出し、電子線カラム110ごとの位置情報を制御装置117のメモリ等に記憶させる。ここで、図18に図示した処理フローのステップS1004及びステップS1005は、位置ずれ量が10μm以上の場合には、ステップS1004において移動機構により位置調整を自動的に行い、位置ずれ量が1μm以上、10μm未満の場合は、ステップS1005において偏向機構を用いて位置調整を自動的に行ってもよい。また、位置ずれ量が1μm未満の場合は、次に述べる図19に図示した検査フローにおいて、複数の走査電子顕微鏡像を用いた画像処理を制御装置117によって自動的に行い、位置の補正を行ってもよい。以下、図19を参照し、本発明の一実施形態に係る電子線装置100による試料101の検査フローについて説明する。図19に図示した検査フローは、図18に図示した位置調整機構による調整フローの終了後に、処理の開始されるフローであってもよい。図19に図示したように、まず、ステップS2001において、試料交換機構によって試料101をステージ102上に搬送し、試料101の顕微鏡観察を開始する。次に、ステップS2002において、電子線カラム110ごとに取得される試料101の走査電子顕微鏡像に基づき画像を取得する。次に、ステップS2003において、複数の画像の位置ずれ量オフセットに基づき画像処理を行い、位置を補正する。位置ずれ量は、図18に図示した処理フローのステップS1006において算出されたものであってもよい。ステップS2003において画像処理により画像の位置を補正した後、ステップS2004において、位置補正後の画像を制御装置117のメモリ等に記憶する。次に、ステップS2005において、移送機構により試料101を移動させ、試料101の走査電子顕微鏡像を取得する。ステップS2006において、試料101の全面の像を取得し終えたかどうかを判断し、試料101の全面の像を取得していない場合には、ステップS2002に戻り、処理フローを繰り返す。ステップS2006において、試料101の全面の像を取得し終えた場合には、ステップS2007に進み、メモリに記憶された像を合成して試料全面の像を再構成する。また、ステップS2008において、ステップS2004~S2007の処理と並行して、補正された画像について順次パターンマッチング処理を行う。パターンマッチング処理は、ステップS2003において画像処理により補正を行った画像と、予めメモリに記憶された画像とを、パターン上の相対的に同等な位置において比較する処理である。パターンマッチング処理は、制御装置117のパターンマッチング機能を用いて自動化されて行われるものであってもよい。ここで、図20を参照し、パターンマッチング処理の一例について説明する。図20は、従来の電子線装置の動作の説明図であり、aは、予めメモリに記憶された参照画像900aを示し、bは、電子線装置により取得された試料の画像900bを示す。パターンマッチング処理によれば、参照画像900aと、電子線装置により取得された試料の画像900bとをいずれも同じパターン上の位置901、902において比較することにより、コントラスト等の違いから、欠陥箇所902を検出することができる。このように、ステップS2004~S2007の処理と並行して、ステップS2008におけるパターンマッチング処理を行うことにより、ステップS2009において、試料101全体の像における欠陥を検出することができる。以上のような構成を備えた本発明の一実施形態に係る電子線装置100によれば、複数の電子線カラム110を備えた電子線装置100において、位置調整機構を用いて複数の電子線カラム111の電子線の照射位置をそれぞれ調整した後、さらに画像処理により補正することにより、スループットを低下させることなく試料101の検査を実施することができる。