平面部分を有する平板部と、照射光を出射する照射部と、前記照射光が対象物により反射することによる反射光を受光する受光部と、前記受光部の受光結果に基づいて、前記対象物の位置検出用情報を検出する検出部と、前記位置検出用情報を時系列に配置し、プロファイルデータとして記録するプロファイルデータ記録部と、特定の情報が時系列に配列された基準データを記憶するデータベースと、前記プロファイルデータと前記基準データとを照合するデータ照合部と、を備えたことを特徴とするシグネチャーパッド。前記対象物が前記平面部分と接する所定空間に進入したことを前記検出部が検出すると、前記位置検出用情報の記録を開始するプロファイルデータの取り込み開始行程と、前記対象物が前記所定空間から離脱したことを前記検出部が検出すると、前記位置検出用情報記録を終了するプロファイルデータ取り込み終了行程と、を有し、前記プロファイルデータ取り込み終了行程に続いて、前記データ照合部にて、前記プロファイルデータと前記基準データとを照合することを特徴とする請求項1に記載のシグネチャーパッド。前記照射光は赤外線であることを特徴とする請求項1または2に記載のシグネチャーパッド。前記平板部の一部にシート状の媒体を挟むクリップ部を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のシグネチャーパッド。しかしながら、特許文献1に示された署名認証装置は、筆跡ベクトルや筆圧、ペン保持傾斜角等を検出するため、認証ペンにCCDエリアセンサー、圧力センサー等が内蔵された専用のペンを用いなくてはならない。そこで、本発明の目的は、専用ペンの必要なしに、任意のペン筆記用具で署名をしても、署名者毎の署名者特有情報を読み取ることが可能なシグネチャーパッドを提供することにある。1本発明の一態様は、シグネチャーパッドであって、平面部分を有する平板部と、照射光を出射する照射部と、前記照射光が対象物により反射することによる反射光を受光する受光部と、前記受光部の受光結果に基づいて、前記対象物の位置検出用情報を検出する検出部と、前記位置検出用情報を時系列に配置し、プロファイルデータとして記録するプロファイルデータ記録部と、特定の情報が時系列に配列された基準データを記憶するデータベースと、前記プロファイルデータと前記基準データとを照合するデータ照合部と、を備えたことを特徴とする。上記構成によれば、対象物を筆記用具として、署名を行なう場合に、その筆記用具の位置検出用情報を検出することで、署名を行なう人の筆跡に関係するデータを取得することができるので、そのデータに基づき署名の真偽の照合を行なうことが可能になる。2また、本発明の一態様は、更に、前記対象物が前記平面部分と接する所定空間に進入したことを前記検出部が検出すると、前記位置検出用情報の記録を開始するプロファイルデータの取り込み開始行程と、前記対象物が前記所定空間から離脱したことを前記検出部が検出すると、前記位置検出用情報記録を終了するプロファイルデータ取り込み終了行程と、を有し、前記プロファイルデータ取り込み終了行程に続いて、前記データ照合部にて、前記プロファイルデータと前記基準データとを照合することを特徴とする。上記構成によれば、プロファイルデータの読み取り開始行程とプロファイルデータの読み取り終了行程が自動的に行なわれることにより、データ取り込みに要する処理時間を最短時間にすることができる。3加えて、本発明の一態様は、前記照射光は赤外線であることを特徴とする。上記構成により、データ取り込み時において、環境光に影響されることを低減し、精度の高い位置検出用情報を検出することができる。4また、本発明の一態様は、シグネチャーパッドの前記平板部の一部にシート状の媒体を挟むクリップ部を備えることを特徴とする。上記構成によれば、実際の署名を書く用紙をシグネチャーパッドに固定することができるので、署名作業の作業性が良くなる。以下、本実施形態について説明する。なお、以下に説明する本実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また本実施形態で説明される構成の全てが、本発明の必須構成要件であるとは限らない。図1は、本発明の一実施形態のシグネチャーパッドの基本構成を示すブロック図である。このシグネチャーパッドは、署名特徴取込装置1を有する。署名特徴取込装置1には、光学式位置検出装置100を含み、光学式位置検出装置100は筆記用具OBの位置検出に用いられる信号データ位置検出用情報を検出することができる。この位置検出用情報を各種の計算により処理することにより、筆記用具OBの位置、例えば、所定のXYZ座標上の位置を検出することができる。署名特徴取込装置1によって得られた位置検出用情報は、筆跡データの認証のための認証因子を抽出する認証因子抽出部2に送られ、認証因子抽出部2によって、各種の認証因子が抽出され、それらが時系列に配列され整えられる正規化されることで、署名者固有の特徴であるプロファイルデータが生成される2f。認証因子抽出部2で、正規化されたプロファイルデータは、基準データ登録部3に送られ、特徴データの抽出と基準データの生成が行なわれる。基準データ登録部3で、複数の署名者の基準データが生成される3aことになるが、それらは署名者毎にインデックスが付与されデータベース4に記憶される。その一方で、認証因子抽出部2で、正規化されたプロファイルデータは、基準データ登録部以外に、データ照合部5にも送られる経路があり、このデータ照合部5で、データベース4から署名者の固有のインデックスが付与された基準データを呼び出す基準データ照会を行ない、その基準データとプロファイルデータとを比較し、基準データとプロファイルデータが同一の特徴を有しているか、有していないかの識別、即ち、照合を行なう。同一の特徴を有している場合、署名は真であり、同一の特徴を有していない場合、署名は偽と判定する。この認証を行なうプロセスを認証モードと呼ぶ。なお、真偽結果はAPIアプリケーションプログラムインターフェース6を介して出力される。ここで、認証因子とは、光学式位置検出装置100によって得られた位置検出情報に基づき計算された各種情報であり、具体的には、筆跡であるペン先の動き、ペンの傾き、ペンの速度のデータである。図2は、図1の装置を機能に基づいて細分化したブロック図である。ペン移動情報取込み1aにより、ペンの位置を時系列に取り込む。ペン移動情報は、ペン位置解析2aを経て、ペン先軌跡抽出2cと、ペン傾き抽出2dを行う。また、ペン移動情報は、ペン速度解析2bを経て、ペン速度抽出2eを行う。ペン先軌跡、ペン傾き、ペン速度は、それぞれ、時系列に配列される処理、即ち、正規化2fが行なわれる。この正規化されたデータは署名者特有のデータであり、プロファイルデータと言うことができる。登録モードでは、正規化されたデータ、即ち、プロファイルデータから基準データの生成3aと特徴データの抽出3bを行なう。この特徴データは署名者毎の特有の癖を現す情報である。この特徴データには、ペン先の移動軌跡、ペン傾き、ペン速度という複数の認証因子で構成されている。筆跡は署名者毎の癖により、ペンの持ち方が常時一定で、ペン傾きが一定の人の場合、ペン傾きを重視して署名の真偽認証をすることが望ましい。また、各個人の癖によりペンを速く動かす人の場合、ペン速度を重視して署名の真偽認証をすることが望ましい。本実施例では、このような重みづけを行うパラメーターとして特徴関数パラメーターを設定する。例えば、署名者に同じ署名を3回書いて正規化したデータを取ると、署名者特有のプロファイルデータが3つ所得できる。これにより、その人の癖を見つけて特徴関数パラメーターを生成する。また、3回のプロファイルデータの平均値を基準データとする。そして、その特徴関数パラメーターと基準データをデータベース4に登録する。認証モードでは、正規化されたデータであるプロファイルデータから、更に特徴の抽出5aを行なう。例えば、特徴因子抽出部では、ペン先軌跡、ペン傾き、ペン速度の3つの因子を抽出しているが、署名する都度ペン速度が変わってしまうような署名者に対して、ペン速度に基づいて認証すると、かえって誤差が大きくなる場合もある。認証モードに最適な特徴となるデータのみを抽出し、認証を行なう方が良い場合がある。そこで、認証に最適な特徴のプロファイルデータに再構築5bし、再構築されたプロファイルデータは、基準データと比較5cを行なう。つまり、言い換えれば、プロファイルデータの再構築は、署名者の癖に基づき重み付けをしているということができる。認証モードでは、署名は通常1回であるので、1回の署名動作からプロファイルデータは作成される。そして、データベース4の基準データと比較を行うのであるが、署名は必ずしも、常に同じに出来るものではないので、1回の署名のプロファイルデータと基準データを比較すると、本人であっても、本人でないという誤った結論を導く可能性もある。そこで、特徴関数パラメーターによって、差異の許容範囲が設定される。これにより、信頼性の高い署名認証が可能になる。なお、登録モードでは筆跡登録アプリケーションソフトウェアにより、基準データ登録部3とデータベース4が制御される。また、認証モードでは、筆跡認証アプリケーションソフトウェアにより、データ照合部5が制御される。本実施例のシグネチャーパッドでは、3次元の位置検出も可能になる。なお、3次元の位置検出方法については後述する。3次元の位置検出により、ペンの傾きも認証因子として考慮することができる。右利きの人と左利きの人では、ペンの傾きが全く逆であるので、3次元の位置検出可能なシグネチャーパッドでは、右利きの人と左利きの人を錯誤する可能性は低くなる。これは、2次元で署名を認証する装置には出来ない特徴であり、本実施例のシグネチャーパッドの大きな利点になる。図3に、本実施形態に係る署名特徴取込装置1に利用可能な光学式位置検出装置100の基本的な構成例を示す。図3の光学式位置検出装置100は、検出部200、処理部300を含み、検出部200は照射部EU及び受光部RUを含む。なお、署名特徴取込装置1は、上述したように検出部200や処理部300を含む光学式位置検出装置100を用いて実現される形態には限定されない。情報処理装置例えばPC等により、検出部200や処理部300の機能が実現され、照射部EU及び受光部RUと、上記情報処理装置とが連動して動作する構成でもよい。検出部200は、照射光LTが筆記用具OBペンにより反射することによる反射光LRの受光結果に基づいて、筆記用具OBの情報例えば、座標情報や反射率情報を検出する。具体的には例えば、検出部200は、筆記用具OBが検出されるエリアである検出エリアRDETは、X-Y平面に沿った対象面20の上方、即ちZ方向の空間である。そして、少なくとも検出エリアRDETに存在する筆記用具OBのX座標情報及びY座標情報を検出する。なお、検出部200による座標情報の検出手法については後述する。検出エリアRDETとは、筆記用具OBが検出されるエリア領域であって、具体的には、例えば照射光LTが筆記用具OBに反射されることによる反射光LRを、受光部RUが受光して、筆記用具OBを検出することができるエリアである。より具体的には、受光部RUが反射光LRを受光して筆記用具OBを検出することが可能であって、かつ、その検出精度について、許容できる範囲の精度が確保できるエリアである。処理部300は、検出部200が検出した筆記用具OBに基づいて種々の処理を行う。この処理部300の機能は、例えばCPU等のプロセッサー及びプロセッサーで実行されるプログラムや、専用ICなどにより実現できる。照射部EUは、検出エリアRDETに対して照射光LTを出射する。後述するように、照射部EUは、LED発光ダイオード等の発光素子から成る光源部を含み、光源部が発光することで、例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線を出射する。受光部RUは、照射光LTが筆記用具OBにより反射することによる反射光LRを受光する。受光部RUは、複数の受光ユニットPDを含んでもよい。受光ユニットPDは、例えばフォトダイオードやフォトトランジスターなどを用いることができる。図4に、本実施形態の受光部RUの具体的な構成例を示す。図4の構成例では、受光部RUは受光ユニットPDを含む。受光ユニットPDは、入射光が入射する角度Y-Z平面上の角度を制限するためのスリット等入射光制限部が設けられ、検出エリアRDETに存在する筆記用具OBからの反射光LRを受光する。検出部200は、受光ユニットPDの受光結果に基づいて、X座標情報及びY座標情報を検出する。なお、照射部EUは、検出エリアRDETに対して照射光LTを出射する。また検出エリアRDETは、X-Y平面に沿ったエリアである。なお、図4の構成例は1つの受光ユニットで構成されるが、2つ以上の受光ユニットを含む構成としてもよい。図5A、図5Bに、スリットSLT入射光制限部を有する受光ユニットPDの構成例を示す。図5Aに示すように、受光素子PHDの前面にスリットSLTを設けて、入射する入射光を制限する。スリットSLTはX-Y平面に沿って設けられ、入射光が入射するZ方向の角度を制限することができる。すなわち受光ユニットPDは、スリットSLTのスリット幅で規定される所定の角度で入射する入射光を受光することができる。図5Bは、スリットSLTを有する受光ユニットの上から見た平面図である。例えばアルミニウム等の筐体ケース内に配線基板PWBが設けられ、この配線基板PWB上に受光素子PHDが実装される。図6に、本実施形態の照射部EUの詳細な構成例を示す。図6の構成例の照射部EUは、光源部LS1、LS2と、ライトガイドLGと、照射方向設定部LEを含む。また反射シートRSを含む。そして照射方向設定部LEは光学シートPS及びルーバーフィルムLFを含む。なお、本実施形態の照射部EUは、図6の構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素に置き換えたり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。光源部LS1、LS2は、光源光を出射するものであり、LED発光ダイオード等の発光素子を有する。この光源部LS1、LS2は例えば赤外光可視光領域に近い近赤外線の光源光を放出する。即ち、光源部LS1、LS2が発光する光源光は、一般に署名に用いるペンにより効率的に反射される波長帯域の光であり、且つ、外乱光となる環境光にあまり含まれない波長帯域の光であることが望ましい。具体的には、850nm付近の波長の赤外光や、環境光にあまり含まれない波長帯域の光である950nm付近の赤外光などである。光源部LS1は、図6のF1に示すようライトガイドLGの一端側に設けられる。また第2の光源部LS2は、F2に示すようにライトガイドLGの他端側に設けられる。そして光源部LS1が、ライトガイドLGの一端側F1の光入射面に対して光源光を出射することで、照射光LT1を出射し、第1の照射光強度分布LID1を対象物の検出エリアに形成設定する。一方、光源部LS2が、ライトガイドLGの他端側F2の光入射面に対して第2の光源光を出射することで、第2の照射光LT2を出射し、第1の照射光強度分布LID1とは強度分布が異なる第2の照射光強度分布LID2を検出エリアに形成する。このように照射部EUは、検出エリアRDETでの位置に応じて強度分布が異なる照射光を出射することができる。ライトガイドLG導光部材は、光源部LS1、LS2が発光した光源光を導光するものである。例えばライトガイドLGは、光源部LS1、LS2からの光源光を曲線状の導光経路に沿って導光し、その形状は曲線形状になっている。具体的には図6ではライトガイドLGは円弧形状になっている。なお図6ではライトガイドLGはその中心角が180度の円弧形状になっているが、中心角が180度よりも小さい円弧形状であってもよい。ライトガイドLGは、例えばアクリル樹脂やポリカーボネートなどの透明な樹脂部材等により形成される。ライトガイドLGの外周側及び内周側の少なくとも一方には、ライトガイドLGからの光源光の出光効率を調整するための加工が施されている。加工手法としては、例えば反射ドットを印刷するシルク印刷方式や、スタンパーやインジェクションで凹凸を付ける成型方式や、溝加工方式などの種々の手法を採用できる。プリズムシートPSとルーバーフィルムLFにより実現される照射方向設定部LEは、ライトガイドLGの外周側に設けられ、ライトガイドLGの外周側外周面から出射される光源光を受ける。そして曲線形状円弧形状のライトガイドLGの内周側から外周側へと向かう方向に照射方向が設定された照射光LT1、LT2を出射する。即ち、ライトガイドLGの外周側から出射される光源光の方向を、ライトガイドLGの例えば法線方向半径方向に沿った照射方向に設定規制する。これにより、ライトガイドLGの内周側から外周側に向かう方向に、照射光LT1、LT2が放射状に出射されるようになる。このような照射光LT1、LT2の照射方向の設定は、照射方向設定部LEのプリズムシートPSやルーバーフィルムLFなどにより実現される。例えばプリズムシートPSは、ライトガイドLGの外周側から低視角で出射される光源光の方向を、法線方向側に立ち上げて、出光特性のピークが法線方向になるように設定する。またルーバーフィルムLFは、法線方向以外の方向の光低視角光を遮光カットする。このように本実施形態の照射部EUによれば、ライトガイドLGの両端に光源部LS1、LS2を設け、これらの光源部LS1、LS2を交互に点灯させることで、2つの照射光強度分布を形成することができる。すなわちライトガイドLGの一端側の強度が高くなる照射光強度分布LID1と、ライトガイドLGの他端側の強度が高くなる照射光強度分布LID2を交互に形成することができる。このような照射光強度分布LID1、LID2を形成し、これらの強度分布の照射光による対象物の反射光を受光することで、環境光などの外乱光の影響を最小限に抑えた、より精度の高い対象物の検出が可能になる。即ち、外乱光に含まれる赤外成分を相殺することが可能になり、この赤外成分が対象物の検出に及ぼす悪影響を最小限に抑えることが可能になる。<光学式位置検出装置による座標検出手法>図7A、図5Bは、本実施形態に係る署名特徴取込装置1に利用可能な光学式位置検出装置100による、座標情報検出の手法を説明する図である。図7AのE1は、図4の照射光強度分布LID1において、照射光LT1の照射方向の角度と、その角度での照射光LT1の強度との関係を示す図である。図7AのE1では、照射方向が図7BのDD1の方向左方向である場合に強度が最も高くなる。一方、DD3の方向右方向である場合に強度が最も低くなり、DD2の方向ではその中間の強度になる。具体的には方向DD1から方向DD3への角度変化に対して照射光の強度は単調減少しており、例えばリニア直線的に変化している。なお図7Bでは、ライトガイドLGの円弧形状の中心位置が、照射部EUの配置位置PEになっている。また図7AのE2は、図6の照射光強度分布LID2において、照射光LT2の照射方向の角度と、その角度での照射光LT2の強度との関係を示す図である。図7AのE2では、照射方向が図7BのDD3の方向である場合に強度が最も高くなる。一方、DD1の方向である場合に強度が最も低くなり、DD2の方向ではその中間の強度になる。具体的には方向DD3から方向DD1への角度変化に対して照射光の強度は単調減少しており、例えばリニアに変化している。なお図7Aでは照射方向の角度と強度の関係はリニアな関係になっているが、本実施形態はこれに限定されず、例えば双曲線の関係等であってもよい。そして図7Bに示すように、角度φの方向DDBに筆記用具OBが存在したとする。すると、光源部LS1が発光することで照射光強度分布LID1を形成した場合E1の場合には、図7Aに示すように、DDB角度φの方向に存在する筆記用具OBの位置での強度はINTaになる。一方、光源部LS2が発光することで照射光強度分布LID2を形成した場合E2の場合には、DDBの方向に存在する筆記用具OBの位置での強度はINTbになる。従って、これらの強度INTa、INTbの関係を求めることで、筆記用具OBの位置する方向DDB角度φを特定できる。そして例えば後述する図8A、図8Bの手法により光学式位置検出装置の配置位置PEからの筆記用具OBの距離を求めれば、求められた距離と方向DDBとに基づいて筆記用具OBの位置を特定できる。或いは、後述する図9に示すように、照射部EUとして2個の照射ユニットEU1、EU2を設け、EU1、EU2の各照射ユニットに対する筆記用具OBの方向DDB1φ1、DDB2φ2を求めれば、これらの方向DDB1、DDB2と照射ユニットEU1、EU2間の距離DSとにより、筆記用具OBの位置を特定できる。このような強度INTa、INTbの関係を求めるために、本実施形態では、受光部RUが、照射光強度分布LID1を形成した際の筆記用具OBの反射光第1の反射光を受光する。この時の反射光の検出受光量をGaとした場合に、このGaが強度INTaに対応するようになる。また受光部RUが、照射光強度分布LID2を形成した際の筆記用具OBの反射光第2の反射光を受光する。この時の反射光の検出受光量をGbとした場合に、このGbが強度INTbに対応するようになる。従って、検出受光量GaとGbの関係が求まれば、強度INTa、INTbの関係が求まり、筆記用具OBの位置する方向DDBを求めることができる。例えば光源部LS1の制御量例えば電流量、変換係数、放出光量を、各々、Ia、k、Eaとする。また光源部LS2の制御量電流量、変換係数、放出光量を、各々、Ib、k、Ebとする。すると下式1、2が成立する。Ea=kIa1Eb=kIb2また光源部LS1からの光源光第1の光源光の減衰係数をfaとし、この光源光に対応する反射光第1の反射光の検出受光量をGaとする。また光源部LS2からの光源光第2の光源光の減衰係数をfbとし、この光源光に対応する反射光第2の反射光の検出受光量をGbとする。すると下式3、4が成立する。Ga=faEa=fakIa3Gb=fbEb=fbkIb4従って、検出受光量Ga、Gbの比は下式5のように表せる。Ga/Gb=fa/fbIa/Ib5ここでGa/Gbは、受光部RUでの受光結果から特定することができ、Ia/Ibは、照射部EUの制御量から特定することができる。そして図5Aの強度INTa、INTbと減衰係数fa、fbとは一意の関係にある。例えば減衰係数fa、fbが小さな値となり、減衰量が大きい場合は、強度INTa、INTbが小さいことを意味する。一方、減衰係数fa、fbが大きな値となり、減衰量が小さい場合は、強度INTa、INTbが大きいことを意味する。従って、上式5から減衰率の比fa/fbを求めることで、対象物の方向、位置等を求めることが可能になる。より具体的には、一方の制御量IaをImに固定し、検出受光量の比Ga/Gbが1になるように、他方の制御量Ibを制御する。例えば光源部LS1、LS2を逆相で交互に点灯させる制御を行い、検出受光量の波形を解析し、検出波形が観測されなくなるようにGa/Gb=1になるように、他方の制御量Ibを制御する。そして、この時の他方の制御量Ib=Imfa/fbから、減衰係数の比fa/fbを求めて、対象物の方向、位置等を求める。また下式6、7のように、Ga/Gb=1になると共に制御量IaとIbの和が一定になるように制御してもよい。Ga/Gb=16Im=IaIb7上式6、7を上式5に代入すると下式8が成立する。Ga/Gb=1=fa/fbIa/Ib=fa/fbIm-Ib/Ib8上式8より、Ibは下式9のように表される。Ib=fa/fafbIm9ここでα=fa/fafbとおくと、上式9は下式10のように表され、減衰係数の比fa/fbは、αを用いて下式11のように表される。Ib=αIm10fa/fb=α/1-α11従って、Ga/Gb=1になると共にIaとIbの和が一定値Imになるように制御すれば、そのときのIb、Imから上式10によりαを求め、求められたαを上式11に代入することで、減衰係数の比fa/fbを求めることができる。これにより、対象物の方向、位置等を求めることが可能になる。そしてGa/Gb=1になると共にIaとIbの和が一定になるように制御することで、外乱光の影響等を相殺することが可能になり、検出精度の向上を図れる。次に、本実施形態の光学式検出システムを用いて対象物の座標情報を検出する手法の一例について説明する。図8Aは、光源部LS1、LS2の発光制御についての信号波形例である。信号SLS1は、光源部LS1の発光制御信号であり、信号SLS2は、光源部LS2の発光制御信号であり、これらの信号SLS1、SLS2は逆相の信号になっている。また信号SRCは受光信号である。例えば、光源部LS1は、信号SLS1がHレベルの場合に点灯発光し、Lレベルの場合に消灯する。また光源部LS2は、信号SLS2がHレベルの場合に点灯発光し、Lレベルの場合に消灯する。従って図8Aの第1の期間T1では、光源部LS1と光源部LS2が交互に点灯するようになる。即ち光源部LS1が点灯している期間では、光源部LS2は消灯する。これにより図6に示すような照射光強度分布LID1が形成される。一方、光源部LS2が点灯している期間では、光源部LS1は消灯する。これにより図6に示すような照射光強度分布LID2が形成される。このように検出部200は、第1の期間T1において、光源部LS1と光源部LS2を交互に発光点灯させる制御を行う。そしてこの第1の期間T1において、光学式位置検出装置照射部から見た対象物の位置する方向が検出される。具体的には、例えば上述した式6、7のようにGa/Gb=1になると共に制御量IaとIbの和が一定になるような発光制御を、第1の期間T1において行う。そして図7Bに示すように筆記用具OBの位置する方向DDBを求める。例えば上式10、11から減衰係数の比fa/fbを求め、図7A、図7Bで説明した手法により筆記用具OBの位置する方向DDBを求める。そして、第1の期間T1に続く第2の期間T2では、受光部RUでの受光結果に基づいて筆記用具OBまでの距離方向DDBに沿った方向での距離を検出する。そして、検出された距離と、筆記用具OBの方向DDBとに基づいて、対象物の位置を検出する。即ち図7Bにおいて、光学式位置検出装置の配置位置PEから筆記用具OBまでの距離と、筆記用具OBの位置する方向DDBを求めれば、筆記用具OBのX、Y座標位置を特定できる。このように、光源の点灯タイミングと受光タイミングの時間のずれから距離を求め、これと角度結果を併せることで、筆記用具OBの位置を特定できる。具体的には、図8Aでは、発光制御信号SLS1、SLS2による光源部LS1、LS2の発光タイミングから、受光信号SRCがアクティブになるタイミング反射光を受光したタイミングまでの時間Δtを検出する。即ち、光源部LS1、LS2からの光が筆記用具OBに反射されて受光部RUで受光されるまでの時間Δtを検出する。この時間Δtを検出することで、光の速度は既知であるため、筆記用具OBまでの距離を検出できる。即ち、光の到達時間のずれ幅時間を測定し、光の速度から距離を求める。なお、光の速度はかなり速いため、電気信号だけでは単純な差分を求めて時間Δtを検出することが難しいという問題もある。このような問題を解決するためには、図8Bに示すように発光制御信号の変調を行うことが望ましい。ここで図8Bは、制御信号SLS1、SLS2の振幅により光の強度電流量を模式的に表している模式的な信号波形例である。具体的には、図8Bでは、例えば公知の連続波変調のTOFTimeOfFlight方式で距離を検出する。この連続波変調TOF方式では、一定周期の連続波で強度変調した連続光を用いる。そして、強度変調された光を照射すると共に、反射光を、変調周期よりも短い時間間隔で複数回受光することで、反射光の波形を復調し、照射光と反射光との位相差を求めることで、距離を検出する。なお図8Bにおいて制御信号SLS1、SLS2のいずれか一方に対応する光のみを強度変調してもよい。また図8Bのようなクロック波形ではなく、連続的な三角波やSin波で変調した波形であってもよい。また、連続変調した光としてパルス光を用いるパルス変調のTOF方式で、距離を検出してもよい。距離検出手法の詳細については例えば特開2009-8537号などに開示されている。図9に、本実施形態の照射部EUの変形例を示す。図9では、照射部EUとして第1、第2の照射ユニットEU1、EU2が設けられる。これらの第1、第2の照射ユニットEU1、EU2は、筆記用具OBの検出エリアRDETの面に沿った方向において所与の距離DSだけ離れて配置される。即ち図1のX軸方向に沿って距離DSだけ離れて配置される。第1の照射ユニットEU1は、照射方向に応じて強度が異なる第1の照射光を放射状に出射する。第2の照射ユニットEU2は、照射方向に応じて強度が異なる第2の照射光を放射状に出射する。受光部RUは、第1の照射ユニットEU1からの第1の照射光が筆記用具OBに反射されることによる第1の反射光と、第2の照射ユニットEU2からの第2の照射光が筆記用具OBに反射されることによる第2の反射光を受光する。そして検出部200は、受光部RUでの受光結果に基づいて、筆記用具OBの位置POBを検出する。具体的には検出部200は、第1の反射光の受光結果に基づいて、第1の照射ユニットEU1に対する筆記用具OBの方向を第1の方向DDB1角度φ1として検出する。また第2の反射光の受光結果に基づいて、第2の照射ユニットEU2に対する筆記用具OBの方向を第2の方向DDB2角度φ2として検出する。そして検出された第1の方向DDB1φ1及び第2の方向DDB2φ2と、第1、第2の照射ユニットEU1、EU2の間の距離DSとに基づいて、筆記用具OBの位置POBを求める。図9の変形例によれば、図8A、図8Bのように光学式位置検出装置と筆記用具OBとの距離を求めなくても、筆記用具OBの位置POBを検出できるようになる。<署名特徴取込装置の3次元での位置情報の取得>次に、署名特徴取込装置1の3次元での位置情報を取得する手法について説明する。図10に、本実施形態の受光部RUの構成例を示す。この構成例では、受光部RUは3個の受光ユニットPD1~PD3広義には複数の受光ユニットを含み、受光ユニットPD1~PD3は対象面20に交差する方向に沿って配置される。具体的には、3つの受光ユニットPD1~PD3は対象面20に交差する方向での高さ対象面20からの距離が異なる位置に配置される。或いは、対象面がX-Y平面に沿った面である場合に、対象面に交差する方向での高さが異なり、かつ、異なるX座標位置に配置される。受光ユニットPD1~PD3は、対象面20に交差する方向の入射光を制御する入射光制限部を有する。具体的には、受光ユニットPD1~PD3は、入射光が入射する角度例えばZ方向の角度を制限するためのスリット等を含み、それぞれ検出エリアRDET1~RDET3に存在する筆記用具OBからの反射光LRを受光する。例えば、受光ユニットPD1は検出エリアRDET1に存在する筆記用具OBからの反射光LRを受光するが、他の検出エリアRDET2、RDET3に存在する筆記用具OBからの反射光LRは受光しない。照射部EUは3つの検出エリアRDET1~RDET3に対して照射光LTを出射する。なお、各検出エリアRDET1~RDET3はX-Y平面に沿った対象面に対して多層に設定されるエリアである。このような構成にすることで、筆記用具OBが3つの検出エリアRDET1~RDET3の内の何処の検出エリアの何処の位置に存在するかを検出することができる。即ち、筆記用具OBのZ座標に関する位置検出用の情報データを検出することができる。これにより、筆記用具OBが長手形状の場合、その筆記用具OBの傾き角度対象面20の垂直線と筆記用具OBの長手方向との角度を検出することができる。これにより、署名する人がペンを保持する角度がリアルタイムで検出することが可能である。上記に、本発明のシグネチャーパッドでは、複数の受光ユニットを設けることで、3次元の位置情報を取得可能であることを説明した。3次元の位置情報を取得することで、ペンの傾きも認証因子として考慮される。右利きの人と左利きの人では、ペンの傾きが全く逆であるので、この技術を用いることで、右利きの人と左利きの人を錯誤する可能性は低くなる。しかしながら、必ずしも本発明のシグネチャーパッドは3次元での位置情報を取得することが必須ではない。ペン傾きを認証因子として用いなくても、対象面20を移動する2次元でのペン先の動きで、必要とされる十分な認証精度が得られる場合、図4に示すように、1つの受光ユニットを設けるだけでもよい。<署名特徴取込装置でのデータの取得手法>次に、署名特徴取込装置1でのデータの取得手法について説明する。まず、筆記用具OBの位置を求めるための基準位置を設定するためのキャリブレーションを行う必要がある。ここでは具体例として、筆記用具OBを対象面20に完全に当接させた時の位置を基準位置とする。具体的には、筆記用具OBの先端を対象面20の署名を開始する位置に配置し、その時の受光ユニットにおける受光量に基づいて、反射率情報をキャリブレーション情報として取得する。この取得結果を基準とし、筆記用具OBを移動させることで、受光ユニットが受光する受光結果が変化することで、X-Y平面のどの方向に筆記用具OBが移動したかを計算し、X座標情報及びY座標情報を取得する。座標情報の取得手法については、光学式位置検出装置の説明において上述したとおりである。また、キャリブレーションを行ってから、実際の検出処理を行うまでの間に照射光強度の変化等の要因が発生するおそれもある。その場合には、ある時刻T1と、別の時刻T2での反射率情報をそれぞれ検出し、T1での反射率情報とT2での反射率情報との差を求めてもよい。この場合には、基準位置との比較ではないので、筆記用具の絶対的な位置を求めることはできないが、T1からT2の間での移動量例えば長手方向における移動量、或いは回転方向における回転量等を求めることが可能になる。この際、T1とT2の間隔を十分短い間隔に設定しておけば、照射光強度等の変化等による影響を抑止することができる。<シグネチャーパッドの構成例>次に、具体的なシグネチャーパッドの構成例について述べる。図11は、本実施形態のシグネチャーパッドSPの概観図である。概観は、平面状の平板部7に光学式位置検出装置100とクリップ部8が設けられている。光学式位置検出装置100は受光部RUを挟んで第1、第2の照射ユニットEU1、EU2が設けられている。EU1、EU2の詳細構成は図9に示したとおりである。平板部7の平面において、第1、第2の照射ユニットEU1、EU2からの照射光が届くエリアが筆記用具OBの位置を検出する対象面20になる。クリップ部8はネジリコイルバネ等の弾性部材で付勢力を受け、用紙9を平板部7に挟むことができる。なお、本シグネチャーパッドは、署名者が用紙9の対象面20の範囲に署名することを想定している。図12は、検出エリアを設けることで検出開始を説明する図である。対象面20の上部の10mm程度の空間を検出エリアRDETに設定する。この検出エリアRDETに筆記用具OBが入ってくると、光学式位置検出装置100は反射光の変化を検出し、用紙9の署名範囲にペンが入ってきたことが検出できる。そして、このタイミングで、署名者の署名の特徴の取り込みを開始する。これをプロファイルデータの取り込み開始行程と呼び、シグネチャーパッドSPの内部にある署名特徴取込装置1によって自動的に行なわれる。署名者が署名を書き終え、ペンを検出エリアRDETから出すと、署名動作は終了したと判断し、反射光のデータ取得は終了する。これをプロファイルデータの取り込み終了行程と呼び、シグネチャーパッドSPの内部にある署名特徴取込装置1によって自動的に行なわれる。プロファイルデータの読み取り開始行程とプロファイルデータの読み取り終了行程が自動的に行なわれることにより、署名特徴取込装置1にて処理する時間は必要な最短時間で処理が可能となり、筆記用具OBの位置検出用情報の各種処理計算を行なうCPU中央演算装置の負担は最小になる。また、プロファイルデータの読み取り終了行程に続いて、認証因子抽出及び認証因子生成のプロセスに入る。これは、図1に示した認証因子抽出部2で行なわれる。その後データベース4との比較によって、署名者の真偽を認証するプロセスは既に説明したとおりである。<署名認証の方法の詳細>署名認証は各種の認証因子に基づいて行なわれるが、その詳細について説明する。上述したように、署名特徴取込装置1によって、筆記用具OBの移動が検出されるので、そのペン位置情報に基づいて、認証因子が抽出され、署名者毎の特有のプロファイルデータが生成される。このプロファイルデータの基になる認証因子が時系列に配列されたデータの一例を図13に示す。これは、例えば、JohnSmithジョンスミスと署名した例とする。ここで、ペン先の位置検出用情報PENは、署名特徴取込装置1の受光部RUが、署名者の署名時において検出した受光強度を時系列に表示した信号波形である。この信号波形を前述したX座標、Y座標の検出の計算を行うことで、ペン先であるところの筆記用具OBの先端の位置の変化を計算することができ、その結果、信号波形のa部はJohn、信号波形のb部はSmithと記載していることを判別することができる。ペン傾き情報TILは、署名特徴取込装置1で計算した筆記用具OBペンの傾きの変化を時系列に表示しや信号波形である。この信号レベルは、署名動作中、殆ど一定の値をしており、この署名者はペンの傾きを常に一定に保持して署名する癖があることが分かる。また、ペン速度情報VELは、署名特徴取込装置1で計算した筆記用具OBペンの移動量を単位時間で割った値、すなわち、ペンの速度変化を示している。信号のレベルがa部よりb部の方が低い値を示している。これにより、この署名者はJohnというファーストネームを書く時よりも、Smithというラストネームを書く時の方が、ペン速度をゆっくり書くという癖があることが分かる。署名の真偽認証では、図13に示す認証因子からプロファイルデータを作成し。そのプロファイルデータと基準データを比較するものである。まず、ペン先の位置検出用情報PENから筆跡画像例えばビットマップデータを生成する。そして、筆跡画像の類似性を比較にし、基準データの筆跡画像と比較する。この画像データの比較は筆跡認証ソフトウェア等を用意すればよい。本実施例では、署名特徴取込装置1は対象面20上の対象物の移動が検出できるので、筆跡のビットマットデータを作成することができる為、上述した例では、筆記用具OBペンの先端の位置を検出し、それを一旦筆跡画像に変換し、その筆跡画像の形から真偽判定を行う方法を説明した。しかしながら、筆跡画像を作成することは必ずしも必要ではない。署名認証のみ行う場合、筆記用具OBペンの位置であるX座標及びY座標を計算せずに、反射光の信号波形自体で比較することも可能である。つまり、基準データ登録時において、反射光の信号波形自体を基準データとして登録し、認証時には署名者が署名動作した時の信号波形をプロファイルデータとして、そのプロファイルデータと基準データとを比較するのである。これは、本実施例に用いる署名特徴取込装置1は、極めて特徴ある光の出射方法を用いているので、その出射光を筆記用具OBペンで反射する光の強度レベルの信号波形は声紋のような個人特有のパターンを持っていることになり、この個人特有のパターンを直接、プロファイルデータとして利用することが可能なために実現できる。