内燃機関の排気通路に設けられるとともに該内燃機関の燃焼室から放出される排気の温度を調整する排気温度調整手段と、前記排気通路における前記排気温度調整手段よりも下流側の位置に設けられるとともに前記排気を浄化する触媒と、を備え、前記排気温度調整手段を経た排気の少なくとも一部が、前記排気通路おける前記排気温度調整手段と前記触媒との間の位置に設けられた中間部材の少なくとも一部を通過した後に、第1排気として前記触媒に導入可能であり、前記排気温度調整手段を経た排気の少なくとも一部が、前記中間部材の少なくとも一部を通過することなく、第2排気として前記触媒に導入可能である、ように構成された内燃機関の排気浄化装置。請求項1に記載の排気浄化装置において、前記触媒および前記中間部材のうちの少なくとも1つの温度に基づき、前記第2排気の量が調整される、排気浄化装置。請求項1または請求項2のいずれか一項に記載の排気浄化装置において、前記第2排気が通過するバイパス通路であって、該バイパス通路の一端が前記排気温度調整手段が設けられている位置または前記排気温度調整手段よりも下流側の位置であり且つ前記中間部材よりも上流側の位置または前記中間部材が設けられている位置にて前記排気通路に接続されるとともに、該バイパス通路の他端が前記中間部材が設けられている位置または前記中間部材よりも下流側の位置であり且つ前記触媒よりも上流側の位置または前記触媒が設けられている位置にて前記排気通路に接続されるバイパス通路、を通して前記第2排気が前記触媒に導入される、排気浄化装置。請求項3に記載の排気浄化装置において、前記バイパス通路を通過する前記第2排気の量を調整するための制御弁であって該制御弁の開度に応じて前記第2排気の量が変化する制御弁が、前記バイパス通路に設けられ、前記触媒および前記中間部材のうちの少なくとも1つの温度に基づき、前記制御弁の開度が変更される、排気浄化装置。請求項1~請求項4のいずれか一項に記載の排気浄化装置において、前記触媒が、前記排気に含まれる窒素酸化物を還元することによって前記排気を浄化する触媒である、排気浄化装置。請求項5に記載の排気浄化装置であって、前記触媒に導入される排気中に還元剤を供給する還元剤供給手段を備えた、排気浄化装置。請求項6に記載の排気浄化装置において、前記第2排気が前記触媒に導入されるよりも前に、前記第2排気が、前記還元剤供給手段が設けられている位置を通過する、排気浄化装置。請求項6または請求項7に記載の排気浄化装置において、前記触媒、前記中間部材および前記還元剤供給手段のうちの少なくとも1つの温度に基づき、前記第2排気の量が調整される、排気浄化装置請求項1~請求項8のいずれか一項に記載の排気浄化装置において、前記第2排気が前記触媒に導入されるよりも前に、前記第2排気が、排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタを通過する、排気浄化装置。請求項1~請求項9のいずれか一項に記載の排気浄化装置において、前記中間部材が、前記排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタを含み、前記第2排気が、該フィルタの少なくとも一部を通過する、排気浄化装置。請求項3~請求項10のいずれか一項に記載の排気浄化装置において、前記バイパス通路に前記排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタが設けられ、前記バイパス通路を通して前記第2排気が前記触媒に導入される、排気浄化装置。従来装置は、上述したように、SCR触媒による排気の浄化効率を考慮し、排気に含まれる窒素酸化物の組成を調整するようになっている。一方、周知のように、SCR触媒による排気の浄化効率は、排気に含まれる窒素酸化物の組成だけではなく、SCR触媒の温度にも応じて変化する。SCR触媒の温度について述べると、従来装置においては、電気ヒータを経た排気は、酸化触媒およびDPFを通過した後にSCR触媒に導入される。そのため、SCR触媒の温度を変更するために電気ヒータの発熱量が変更されても、排気がSCR触媒に到達するよりも前に酸化触媒およびDPFに排気中の熱エネルギが吸収されることなどに起因し、電気ヒータの発熱量の変化に対してSCR触媒の温度の変化が十分に追従しない場合があると考えられる。別の言い方をすると、従来装置においては、排気通路の上流側に設けられている酸化触媒などの温度は変化し易いものの、排気通路の下流側に設けられているSCR触媒の温度は変化し難いと考えられる。その結果、従来装置においては、例えば内燃機関が冷間始動される場合、酸化触媒などは比較的短い時間長さにて触媒としての機能を十分に発揮する観点において適切な温度以下、活性温度とも称呼される。に到達するものの、SCR触媒の温度が活性温度に到達するまでの時間長さは相当程度に長いことになる可能性があると考えられる。一方、SCR触媒の温度をより短い時間長さにて活性温度にまで到達させるべく電気ヒータの発熱量がより大きくされると、SCR触媒の上流側に設けられている酸化触媒などの温度が過度に上昇し、それら酸化触媒などがそれらの機能を十分に発揮することができない状態となる例えば、熱変性する可能性があると考えられる。なお、上記説明から理解されるように、内燃機関が冷間始動される場合に限られず、上記同様の理由によって従来装置を構成する複数の部材SCR触媒および酸化触媒などのそれぞれの温度が適切に調整されない場合もあると考えられる。しかしながら、排気浄化装置が装置全体として排気を効率良く浄化するためには、同装置を構成する各々の部材の温度が出来る限り適切に例えば、温度を変更する指示に対して追従性良く変化するように、または、目標とする温度に維持されるように調整されることが望ましい。さらに、上記説明から理解されるように、SCR触媒を有する排気浄化装置に限らず、排気浄化装置を構成する各々の部材の温度が適切に調整されることが望ましい。本発明の目的は、上記課題に鑑み、排気浄化装置を構成する各々の部材の温度を出来る限り適切に調整することができる内燃機関の排気浄化装置を提供することにある。上記課題を解決するための本発明による内燃機関の排気浄化装置は、内燃機関の排気通路に設けられるとともに該内燃機関の燃焼室から放出される排気の温度を調整する排気温度調整手段と、前記排気通路における前記排気温度調整手段よりも下流側の位置に設けられるとともに前記排気を浄化する触媒と、を備える。上記排気温度調整手段は、排気の温度を調整変更し得る手段であればよく、特に制限されない。例えば、排気温度調整手段として、排気に対して所望の量の熱エネルギを与え得る電気ヒータが採用され得る。なお、排気の温度を調整することには、排気の温度を上昇させること、排気の温度を低下させること、および、排気の温度を特定の温度に維持すること、が含まれる。上記触媒は、触媒に導入される排気を浄化し得るものであればよく、特に制限されない。なお、排気を浄化するとは、排気に含まれる浄化対象物質例えば、窒素酸化物、未燃物および粒子状物質などの少なくとも一部をその排気から除去することを意味し、必ずしも浄化対象物質の全てをその排気から除去することを意味しない。上記構成により、触媒が排気温度調整手段よりも下流側の位置に設けられるので、排気温度調整手段を経た排気が触媒に導入されることになる。すなわち、排気温度調整手段によって排気の温度が調整されることにより、触媒の温度が調整され得ることになる。なお、上記下流側とは、排気通路内において排気が移動するときの同排気の移動方向に相当する向きを表す。例えば、排気温度調整手段よりも下流側の位置とは、排気温度調整手段が設けられている位置よりも内燃機関の燃焼室から離れた位置を表す。一方、後述される上流側とは、排気通路内において排気が移動するときの同排気の移動方向の逆の方向に相当する向きを表す。例えば、触媒よりも上流側の位置とは、触媒が設けられている位置よりも燃焼室に近い位置を表す。さらに、本発明の排気浄化装置は、前記排気温度調整手段を経た排気の少なくとも一部が、前記排気通路おける前記排気温度調整手段と前記触媒との間の位置に設けられた中間部材の少なくとも一部を通過した後に、第1排気として前記触媒に導入可能であり、前記排気温度調整手段を経た排気の少なくとも一部が、前記中間部材の少なくとも一部を通過することなく、第2排気として前記触媒に導入可能である、ように構成される。上記構成により、第2排気および、中間部材を通過した第1排気によって触媒の温度が調整され得ることになる。ここで、第2排気は、中間部材の少なくとも一部を通過することなく触媒に導入され得るので、第2排気が中間部材の全てを通過して触媒に導入される場合に比べ、触媒の温度がより適切に例えば、温度を変更する指示に対して追従性良く変化するように、および、目標とする温度に維持されるように調整され得る。さらに、中間部材の温度は、第1排気によって適切に調整され得る。したがって、上記構成を備えた本発明の排気浄化装置は、排気浄化装置を構成する各々の部材触媒および中間部材の温度を適切に調整することができる。ところで、上記中間部材は、排気温度調整手段と触媒との間の位置に設けられる部材であればよく、特に制限されない。例えば、中間部材として、排気に含まれる窒素酸化物を酸化させ得る酸化触媒、および、排気に含まれる粒子状物質を捕集し得るディーゼルパーティキュレートフィルタ、などが採用され得る。なお、上記窒素酸化物を酸化させ得るとは、排気に含まれる窒素酸化物の少なくとも一部を酸化させ得ることを意味し、必ずしも窒素酸化物の全てを酸化させ得ることを意味しない。さらに、上記粒子状物質を捕集し得るとは、排気に含まれる粒子状物質の少なくとも一部を捕集し得ることを意味し、必ずしも粒子状物質の全てを捕集し得ることを意味しない。さらに、上記中間部材は、単一の部材であってもよく、複数の部材であってもよい。中間部材が複数の部材を含む場合、それら複数の部材のそれぞれは、互いに連結された状態別の言い方をすると、一体化された状態にて排気通路に配置されてもよく、互いに独立して分離された状態にて排気通路に配置されてもよい。また、それら複数の部材は、それらのうちの一部が互いに連結された一体化された状態にて排気通路に配置されるとともに、それらのうちの他部が互いに分離された状態にて排気通路に配置されてもよい。上記排気の少なくとも一部が第1排気として前記触媒に導入可能ように構成されたとは、排気の一部または全部が第1排気として触媒に導入される状態が形成され得ることを表す。別の言い方をすると、本記載は、そのような状態が必要に応じて例えば、内燃機関の運転状態に応じて形成されることが可能であることを表し、必ずしもそのような状態が常に形成される必要があることを意味しない。同様に、上記上記排気の少なくとも一部が第2排気として触媒に導入可能である、ように構成されたとは、排気の一部または全部が第2排気として触媒に導入される状態が形成され得ることを表す。すなわち、本記載は、そのような状態が必要に応じて例えば、内燃機関の運転状態に応じて形成されることが可能であることを表し、必ずしもそのような状態が常に形成される必要があることを意味しない。よって、本発明の排気浄化装置においては、状況によっては例えば、内燃機関が冷間始動された後に触媒の温度が活性温度に到達したため、第2排気によって触媒を直接加熱する必要がないと考えられる場合、第2排気の量がゼロとされる場合もあり得る。逆に、状況によっては例えば、内燃機関が冷間始動されたときに、特に迅速に触媒を加熱する必要があると考えられる場合、第2排気の量が排気の全部の量とされる場合もあり得る。また、上記説明から理解されるように、本発明の排気浄化装置においては、第1排気および第2排気とは異なる他の排気例えば、第1排気および第2排気とは異なる経路を通じて触媒に導入される排気が存在することも否定されない。次いで、本発明の排気浄化装置のいくつかの態様態様A~態様Jが説明される。態様A上述したように、本発明の排気浄化装置においては、第1排気によって中間部材の温度が調整され得るとともに、第2排気によって触媒の温度が調整され得る。ここで、第2排気の量は、触媒における排気の浄化に関連するパラメータなどに応じて調整されることが望ましいと考えられる。そこで、例えば、具体的な構成の一例として、本発明の排気浄化装置は、前記触媒および前記中間部材のうちの少なくとも1つの温度に基づき、前記第2排気の量が調整される、ように構成され得る。これにより、第2排気の量が、触媒および中間部材のうちの少なくとも1つの温度に適した量に調整され得ることになる。上記触媒および中間部材のうちの少なくとも1つの温度を取得する方法は、特に制限されない。これら温度は、例えば、温度センサによって測定されてもよく、内燃機関の特定の運転パラメータに基づいて推定されてもよい。態様B本発明の排気浄化装置において、排気温度調整手段を経た排気の少なくとも一部を第1排気として触媒に導入可能にするとともに同排気の少なくとも一部を第2排気として触媒に導入可能にする具体的な構成は、特に制限されない。例えば、具体的な構成の一例として、本発明の排気浄化装置は、前記第2排気が通過するバイパス通路であって、該バイパス通路の一端がA前記排気温度調整手段が設けられている位置または前記排気温度調整手段よりも下流側の位置であり、且つ、B前記中間部材よりも上流側の位置または前記中間部材が設けられている位置にて前記排気通路に接続されるとともに、該バイパス通路の他端がC前記中間部材が設けられている位置または前記中間部材よりも下流側の位置であり、且つ、D前記触媒よりも上流側の位置または前記触媒が設けられている位置にて前記排気通路に接続されるバイパス通路、を通して前記第2排気が前記触媒に導入される、ように構成され得る。上記構成により、A排気温度調整手段が設けられている位置または排気温度調整手段よりも下流側の位置にバイパス通路の一端が設けられていることから、排気温度調整手段を経た排気の少なくとも一部第2排気がバイパス通路に流入し得ることになる。さらに、B中間部材よりも上流側の位置または中間部材が設けられている位置にバイパス通路の一端が設けられていること、および、C中間部材が設けられている位置または中間部材よりも下流側の位置にバイパス通路の他端が設けられていることから、第2排気が中間部材の少なくとも一部を通過することなく移動し得ることになる。加えて、D触媒よりも上流側の位置または触媒が設けられている位置にバイパス通路の他端が設けられることから、第2排気が触媒に導入され得ることになる。よって、上記構成A~Dにより、本発明の排気浄化装置は、排気温度調整手段を経た排気の少なくとも一部が、中間部材の少なくとも一部を通過することなく、第2排気として触媒に導入可能であるように構成されることになる。ところで、上記排気温度調整手段が設けられている位置とは、その位置を通過してバイパス通路に流入する排気の少なくとも一部が、排気通路のうちの排気温度調整手段が設けられていない部分を介することなくバイパス通路に流入することになる位置を表す。また、上記中間部材が設けられている位置とは、その位置を通過してバイパス通路に流入する又はバイパス通路から流出する排気の少なくとも一部が、排気通路のうちの中間部材が設けられていない部分を介することなくバイパス通路から流出する又はバイパス通路に流入することになる位置を表す。同様に、上記触媒が設けられている位置とは、その位置を通過してバイパス通路から流出する排気の少なくとも一部が、排気通路のうちの触媒が設けられていない部分を介することなくバイパス通路から流出することになる位置を表す。なお、中間部材が複数の部材によって構成される場合、上記中間部材が設けられている位置とは、それら複数の部材のうちの少なくとも一つが設けられれている位置を表す。また、この場合、上記中間部材よりも下流側の位置とは、それら複数の部材のうちの少なくとも一つよりも下流側の位置を表す。よって、複数の部材が互いに独立して分離された状態にて排気通路に配置されている場合、中間部材よりも下流側の位置は、一の部材と他の部材との間の位置であり得る。態様C本発明の排気浄化装置において、第2排気の量を調整する具体的な構成は、特に制限されない。例えば、具体的な構成の一例として、上記バイパス通路を有する排気浄化装置は、前記バイパス通路を通過する前記第2排気の量を調整するための制御弁であって該制御弁の開度に応じて前記第2排気の量が変化する制御弁が、前記バイパス通路に設けられ、前記触媒および前記中間部材のうちの少なくとも1つの温度に基づき、前記制御弁の開度が変更される、ように構成され得る。上記制御弁は、その開度に応じて第2排気の量が変化する弁であればよく、特に制限されない。制御弁として、例えば、特定の軸周りに回動可能な板状部材を有する弁例えば、スイングアーム式の弁およびバタフライ弁などが採用され得る。態様D上述したように、本発明の排気浄化装置において、排気を浄化するための触媒は特に制限されない。例えば、具体的な触媒の一例として、前記排気に含まれる窒素酸化物を還元することによって前記排気を浄化する触媒、が採用され得る。上記触媒の具体的な構成は、特に制限されない。例えば、上記触媒として、触媒成分ゼオライト系触媒およびバナジウム系触媒などが担体セラミックスなどに担持された構成を有するSCR触媒、触媒成分貴金属などと酸素吸蔵物質とNOx吸蔵物質とが担体に担持されたNOx吸蔵還元触媒、および、窒素酸化物および粒子状物質の双方を排気中から除去することができるDPNRDieselParticulate-NOxReduction触媒、などが採用され得る。態様Eさらに、上記触媒を有する排気浄化装置は、具体的な構成の一例として、前記触媒に導入される排気中に還元剤を供給する還元剤供給手段を備える、ように構成され得る。上記還元剤供給手段は、燃焼室から放出された排気が触媒に導入されるまでの間に排気中に還元剤を供給し得る手段であればよく、特に制限されない。例えば、還元剤供給手段として、還元剤を排気中に噴射するインジェクタが採用され得る。また、還元剤供給手段が設けられる位置は、触媒に導入される排気に還元剤を供給し得る位置であればよく、特に制限されない。例えば、還元剤供給手段は、排気通路における触媒よりも上流側の位置に設けられ得る。上記還元剤は、排気に含まれる窒素酸化物を還元し得る物質を含むまたは、窒素酸化物を還元し得る物質が還元剤から生成され得るものであればよく、特に制限されない。還元剤として、例えば、尿素水溶液およびアンモニアなどが採用され得る。態様F上記還元剤供給手段を有する排気浄化装置においては、還元剤供給手段から排気中に供給される還元剤と排気中の窒素酸化物とが触媒内にて反応することにより、排気が浄化されることになる。そのため、排気を効率良く浄化するためには、還元剤供給手段から排気中に還元剤が適切に例えば、供給される還元剤の量、および、供給された還元剤の排気中への分散の度合いなどの観点において供給されることが好ましいと考えられる。逆に、例えば、還元剤の流動性が著しく低下している例えば、還元剤が凍結している、または、還元剤中に特定の成分が析出しているなどの理由により、還元剤供給手段から排気中に還元剤が適切に供給されないことは、望ましくない。そこで、具体的な構成の一例として、本発明の排気浄化装置は、前記第2排気が前記触媒に導入されるよりも前に、前記第2排気が、前記還元剤供給手段が設けられている位置を通過する、ように構成され得る。これにより、触媒の温度だけではなく、還元剤供給手段の温度も、第2排気によって変更され得ることになる。よって、触媒の温度の調整と同様の理由により、還元剤供給手段の温度が適切に調整され得る。そのため、例えば、内燃機関が冷間始動されるときに還元剤の流動性が著しく低下している場合であっても、還元剤の流動性が、還元剤供給手段が第1排気によって加熱される場合に比べてより早期に高められ得る。その結果、この場合であっても、排気中に還元剤がより早期に適切に供給され得ることになる。態様Gさらに、上記還元剤供給手段を有する排気浄化装置においては、上記同様、触媒における排気の浄化に関連するパラメータに応じて第2排気の量が調整されることが望ましいと考えられる。そこで、具体的な構成の一例として、上記還元剤供給手段を有する排気浄化装置は、前記触媒、前記中間部材および前記還元剤供給手段のうちの少なくとも1つの温度に基づき、前記第2排気の量が調整される、ように構成され得る。態様Hところで、上述したように、内燃機関の排気には、一般に、窒素酸化物だけではなく粒子状物質PMが含まれる。ここで、触媒に導入される排気に含まれる粒子状物質PMの量は、出来る限り少ないことが望ましいと考えられる。そこで、具体的な構成の一例として、本発明の排気浄化装置は、前記第2排気が前記触媒に導入されるよりも前に、前記第2排気が、排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタを通過する、ように構成され得る。上記構成により、触媒に導入される排気に含まれる粒子状物質の量が上記フィルタによって低減される。よって、粒子状物質によって触媒の性能が低下せしめられること、および、粒子状物質が触媒を通過して内燃機関の外部に放出されること、などが防がれ得ることになる。ところで、上記粒子状物質を除去するとは、排気に含まれる粒子状物質の少なくとも一部をその排気から除去例えば、捕集することを意味し、必ずしも粒子状物質の全てをその排気から除去することを意味しない。なお、上記説明から理解されるように、触媒自体が粒子状物質を除去する性質を有する触媒例えば、上記DPNRが排気浄化装置に適用される場合、排気浄化装置は、必ずしも第2排気が触媒に導入されるよりも前に上記フィルタを通過するように構成されなくてもよい。態様I上記フィルタを有する排気浄化装置において、第2排気が同フィルタを通過することになる具体的な構成は、特に制限されない。例えば、具体的な構成の一例として、本発明の排気浄化装置は、前記中間部材が、前記排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタを含み、前記第2排気が、該フィルタの少なくとも一部を通過する、ように構成され得る。より具体的に述べると、例えば、本発明の排気浄化装置が上記バイパス通路を有する場合、本態様の排気浄化装置は、バイパス通路に流入する前の排気が中間部材に含まれる上記フィルタを通過するように例えば、バイパス通路の上記一端が中間部材が設けられている位置上記Bに設けられるように構成されてもよく、バイパス通路から流出した後の排気が上記フィルタを通過するように例えば、バイパス通路の上記他端が中間部材が設けられている位置上記Cに設けられるように構成されてもよい。態様J一方、第2排気が同フィルタを通過することになる具体的な構成の他の一例として、本発明の排気浄化装置は、前記バイパス通路に前記排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタが設けられ、前記バイパス通路を通して前記第2排気が前記触媒に導入される、ように構成され得る。バイパス通路に設けられる上記フィルタは、排気浄化性能などの点において、上述した中間部材に含まれるフィルタと同一のフィルタであっても、異なるフィルタであってもよい。例えば、バイパス通路に設けられるフィルタが排気中の粒子状物質を除去する能力は、上述した中間部材に含まれるフィルタが排気中の粒子状物質を除去する能力よりも低くてもよいいわゆる、低容量のフィルタであってもよい。。以上に説明したように、本発明は、排気浄化装置を構成する各々の部材例えば、触媒、中間部材、還元剤供給手段の温度を出来る限り適切に調整することができるという効果を奏する。以下、本発明による排気浄化装置の各実施形態第1実施形態~第11実施形態が、図面を参照しながら説明される。第1実施形態以下、本発明の第1実施形態に係る排気浄化装置以下、第1装置とも称呼される。が、図1aおよび図1bを参照しながら説明される。図1aおよび図1bは、第1装置の概念を示す概略図である。図1aおよび図1bに示されるように、内燃機関の燃焼室から排気通路図示省略に放出される排気は、触媒に導入されるよりも前に排気温度調整手段に導入される触媒および排気温度調整手段の具体例については後述される。。つまり、触媒は、排気通路における排気温度調整手段よりも下流側の位置に設けられている。排気は、排気温度調整手段により、その温度を調整される。排気温度調整手段を通過した排気の一部は、触媒に導入されるよりも前に中間部材に導入される中間部材の具体例については後述される。。別の言い方をすると、第1装置において、中間部材は、排気温度調整手段と触媒との間の位置に設けられている。そして、中間部材を通過した排気は、第1排気として触媒に導入される。図1aにおいては、第1排気は、中間部材の全体を通過した後に触媒に導入されるように表示されている。しかし、第1排気は、中間部材の一部を通過した後に触媒に導入されてもよい。第1装置は、これら双方の態様を含み得る。すなわち、第1装置は、排気の一部が中間部材の少なくとも一部を通過した後に触媒に導入されるように構成される。一方、排気温度調整手段を通過した排気の他の一部は、図1aに示されるように中間部材の全体を通過することなく、または、図1bに示されるように中間部材の一部を通過した後、第2排気として触媒に導入される。第1装置は、これら双方の態様を含み得る。すなわち、第1装置は、排気の他の一部が中間部材の少なくとも一部を通過することなく触媒に導入されるように構成される。ところで、図1aおよび図1bにおいては、排気温度調整手段を通過した排気は、第1排気および第2排気のいずれかに属するように表示されている。しかし、この表示は、理解を容易にするための便宜に過ぎない。すなわち、第1装置は、第1排気および第2排気とは異なる他の排気例えば、中間部材とは異なる他の部材を通過する排気などが触媒に導入されるように構成されてもよい。また、上述したように、第1装置は、第1排気および第2排気の双方が常に存在するように構成されている必要はない。すなわち、第1装置は、排気の少なくとも一部が第1排気として触媒に導入されるとともに排気の少なくとも一部が第2排気として触媒に導入される状態が例えば、内燃機関の運転状態に応じて形成され得るように構成されている。以上が、第1装置についての説明である。第2実施形態次に、上記第1装置に示される概念が内燃機関に実際に適用された一例として、第2排気が通過し得るバイパス通路が排気通路に設けられる実施形態が、説明される。以下、この実施形態における排気浄化装置は、第2装置とも称呼される。<装置の概要>図2は、第2装置を内燃機関10に適用したシステムの概略構成を示している。内燃機関10は、第1気筒~第4気筒の4つの気筒を有する4気筒ディーゼル機関である。以下、便宜上、内燃機関10は、単に機関10とも称呼される。この機関10は、図2に示されるように、燃料噴射系統を含むエンジン本体20、エンジン本体20に空気を導入するための吸気系統30、エンジン本体20から排出されるガスを機関10の外部に放出するための排気系統40、排気のエネルギによって駆動されてエンジン本体20に導入される空気を圧縮する過給機50、および、排気を排気系統40から吸気系統30に還流させるためのEGR装置60、各種のセンサ71~76、および、電子制御装置80、を備えている。エンジン本体20は、吸気系統30および排気系統40が連結されたシリンダヘッド21、および、シリンダヘッド21に設けられた複数の燃料噴射装置22を有している。燃料噴射装置22は、電子制御装置80からの指示信号に応じて燃焼室内に燃料を噴射するようになっている。吸気系統30は、シリンダヘッド21に形成された吸気ポート図示省略、吸気ポートを介してそれぞれの気筒に連通されたインテークマニホールド31、インテークマニホールド31の上流側の集合部に接続された吸気管32、吸気管32内の開口面積開口断面積を変更することができるスロットル弁吸気絞り弁33、スロットル弁33を回転駆動するスロットル弁アクチュエータ33a、スロットル弁33の上流側の吸気管32に設けられたインタークーラ34、および、インタークーラ34の上流側に設けられた過給機50よりも上流側の吸気管32の端部に設けられたエアクリーナ35、を有している。インテークマニホールド31および吸気管32は、吸気通路を構成している。排気系統40は、シリンダヘッド21に形成された排気ポート図示省略、排気ポートを介してそれぞれの気筒に連通されたエキゾーストマニホールド41、エキゾーストマニホールド41の下流側の集合部に接続された排気管42、排気管42に設けられた過給機50よりも下流側に設けられた電気ヒータ43、電気ヒータ43の下流側に設けられたディーゼルパーティキュレートフィルタDPF44、および、排気浄化用触媒例えば、NOx吸蔵還元触媒。以下、単に触媒とも称呼される。45、を有している。エキゾーストマニホールド41および排気管42は、排気通路を構成している。電気ヒータ43は、電子制御装置80からの指示信号に応じて発熱量換言すると、電気ヒータ43を通過する排気の温度を変更するようになっている。さらに、排気系統40には、バイパス通路46が設けられている。このバイパス通路46は、一端が電気ヒータ43よりも下流側の位置であり且つDPF44よりも上流側の位置にて排気管42に接続されるとともに、他端がDPF44よりも下流側の位置であり且つ触媒45よりも上流側の位置にて排気管42に接続される、ように構成されている。過給機50は、吸気通路吸気管32に設けられたコンプレッサ51、および、排気通路排気管42に設けられたタービン52、を有している。過給機50は、タービン52に導入される排気のエネルギを利用してコンプレッサ51に導入される空気すなわち、燃焼室に導入される空気を圧縮するように構成されている。EGR装置60は、排気をエキゾーストマニホールド41からインテークマニホールド31へと還流させる通路EGR通路を構成する排気還流管61、排気還流管61に設けられたEGRガス冷却装置EGRクーラ62、および、排気還流管61に設けられたEGR制御弁63、を有している。EGR制御弁63は、還流される排気の量を電子制御装置80からの指示信号に応じて変更するようになっている。各種のセンサ71~76として、空気導入量センサ71、吸気温度センサ72、過給圧センサ73、クランクポジションセンサ74、排気温度センサ75、および、アクセル開度センサ76が設けられている。空気導入量センサ71は、吸気通路吸気管32に設けられている。空気導入量センサ71は、吸気管32内を流れる空気の質量流量すなわち、機関10に吸入される空気の質量に応じた信号を出力するようになっている。吸気温度センサ72は、吸気通路吸気管32に設けられている。吸気温度センサ72は、吸気管32内を流れる空気の温度である吸気温度に応じた信号を出力するようになっている。過給圧センサ73は、スロットル弁33の下流側の吸気管32に設けられている。過給圧センサ73は、吸気管32内の空気の圧力すなわち、過給機50によってもたらされる過給圧を表す信号を出力するようになっている。クランクポジションセンサ74は、クランクシャフト図示省略の近傍に設けられている。クランクポジションセンサ74は、クランクシャフトの回転に応じた信号すなわち、機関回転速度に応じた信号を出力するようになっている。排気温度センサ75は、電気ヒータ43の下流側の位置であり且つバイパス通路46の一端が排気管42に接続される位置の近傍に設けられている。排気温度センサ75は、排気管42内を流れる排気の温度に応じた信号を出力するようになっている。アクセル開度センサ76は、機関10の操作者によって操作されるアクセルペダルAPに設けられている。アクセル開度センサ76は、このアクセルペダルAPの開度に応じた信号を出力するようになっている。電子制御装置80は、CPU81、CPU81が実行するプログラム、テーブルマップおよび定数などをあらかじめ記憶したROM82、CPU81が必要に応じて一時的にデータを格納するRAM83、電源が投入された状態でデータを格納すると共に格納したデータを電源が遮断されている間も保持するバックアップRAM84、ならびに、ADコンバータを含むインターフェース85を有する。CPU81、ROM82、RAM83、RAM84およびインターフェース85は、互いにバスで接続されている。インターフェース85は、上述した各種のセンサと接続され、CPU81にそれらから出力される信号を伝えるようになっている。さらに、インターフェース85は、燃料噴射装置22、アクチュエータ33a、電気ヒータ43、および、EGR制御弁63などと接続され、CPU81の指示に応じてそれらに指示信号を送るようになっている。<装置の作動の概要>以下、機関10に適用されている第2装置の作動の概要が、説明される。機関10の外部から吸気通路に吸入された空気は、エアクリーナ35、コンプレッサ51、インタークーラ34、スロットル弁33、および、インテークマニホールド31をこの順に経由して各々の燃焼室気筒内に導入される。このとき、燃焼室に導入される空気の量がスロットル弁33によって調整されるとともに、同空気の圧力がコンプレッサ51によって変更される。また、このとき、空気導入量センサ71、吸気温度センサ72、および、過給圧センサ73により、燃焼室に導入される空気の量、温度、および、圧力が確認される。燃焼室内に導入された空気がピストン図示省略によって圧縮されると、圧縮された空気の中に予め定められたタイミングにてインジェクタ22から燃料が噴射される。これにより、燃料が自着火するとともに燃焼する。燃料が燃焼することによって機関10が作動しているとき、クランクポジションセンサ74により、機関回転速度が確認される。そして、燃焼後のガス排気が燃焼室から排気通路に放出される。排気は、エキゾーストマニホールド41およびタービン52をこの順に経由し、電気ヒータ43に導入される。電気ヒータ43の発熱量は、機関10の運転状態および排気温度センサ75によって確認される排気の温度などに基づいて定められる電子制御装置80からの指示信号に基づき、調整される。これにより、電気ヒータ43を通過する排気の温度が調整される。電気ヒータ43を通過した排気の一部は、バイパス通路46を通過してDPF44を通過することなく触媒45に導入される。一方、電気ヒータ43を通過した排気の他部は、バイパス通路46に流入することなくDPF44に導入される。そして、DPF44を通過した排気は、触媒45に導入される。そして、触媒45を通過した排気は、機関10の外部に放出される。なお、燃焼室から放出された排気の一部は、エキゾーストマニホールド41から排気還流管61に流入し、EGRクーラ62およびEGR制御弁63を通過した後、インテークマニホールド31に還流される。この還流される排気EGRガスの量は、EGR制御弁63によって調整される。上記構成により、例えば機関10が冷間始動される場合、電気ヒータ43を通過した排気の一部がDPF44を通過することなく触媒45に導入されることになる。その結果、触媒45の温度をより迅速にその活性温度にまで上昇させるすなわち、暖機することができることになる。ところで、図2に示される第2装置の構成においては、バイパス通路46の一端が電気ヒータ43よりも下流側の位置であり且つDPF44よりも上流側の位置にて排気通路に接続されるとともに、他端がDPF44よりも下流側の位置であり且つ触媒45よりも上流側の位置にて排気通路に接続されている。しかし、バイパス通路46の一端および他端が接続される位置は、図2に示される位置に限られない。以下、図2に示される機関10の他の態様が、図3~図5を参照しながら説明される。図3~図5は、図2における排気通路の一部タービン52から触媒45までを抜粋した概略図である。例えば、第2装置は、図3aに示されるように、バイパス通路46の一端が電気ヒータ43よりも下流側の位置であり且つDPF44よりも上流側の位置にて排気通路に接続されるとともに、他端がDPF44が設けられている位置にて排気通路に接続される、ように構成されてもよい。また、第2装置は、図3bに示されるように、バイパス通路46の一端が電気ヒータ43よりも下流側の位置であり且つDPF44よりも上流側の位置にて排気通路に接続されるとともに、他端がDPF44が設けられている位置にて排気通路に接続される、ように構成されてもよい。さらに、第2装置は、図4cに示されるように、バイパス通路46の一端が電気ヒータ43が設けられている位置にて排気通路に接続されるとともに、他端がDPF44よりも下流側の位置であり且つ触媒45よりも上流側の位置にて排気通路に接続される、ように構成されてもよい。また、第2装置は、図4dに示されるように、バイパス通路46の一端が電気ヒータ43が設けられている位置にて排気通路に接続されるとともに、他端がDPF44が設けられている位置にて排気通路に接続される、ように構成されてもよい。さらに、第2装置は、図4eに示されるように、バイパス通路46の一端が電気ヒータ43が設けられている位置にて排気通路に接続されるとともに、他端が触媒45が設けられている位置にて排気通路に接続される、ように構成されてもよい。加えて、第2装置は、図5fに示されるように、バイパス通路46の一端がDPF44が設けられている位置にて排気通路に接続されるとともに、他端がDPF44よりも下流側の位置であり且つ触媒45よりも上流側の位置にて排気通路に接続される、ように構成されてもよい。また、第2装置は、図5gに示されるように、バイパス通路46の一端がDPF44が設けられている位置にて排気通路に接続されるとともに、他端がDPF44が設けられている位置に接続される、ように構成されてもよい。さらに、第2装置は、図5hに示されるように、バイパス通路46の一端がDPF44が設けられている位置にて排気通路に接続されるとともに、触媒45が設けられている位置にて排気通路に接続される、ように構成されてもよい。以上が、第2装置についての説明である。第3実施形態次に、上記第1装置に示される概念に加えて第2排気の量が調整される実施形態が、図6を参照しながら説明される。図6は、この実施形態に係る排気浄化装置以下、第3装置とも称呼される。の概念を示す概略図である。図6に示されるように、第3装置は、第2排気の量が触媒および中間部材のうちの少なくとも1つの温度に基づいて調整される点においてのみ、第1装置と相違する。なお、第1装置において参照された図1aおよび図1bと同様、図6においては、排気温度調整手段を通過した排気は、第1排気および第2排気のいずれかに属するように表示されている。しかし、第1装置と同様、この表示は、理解を容易にするための便宜に過ぎない。また、第1装置と同様、第3装置は、第1排気および第2排気の双方が常に存在するように構成されている必要はない。以上が、第3装置についての説明である。第4実施形態次に、上記第3装置に示される概念が内燃機関に実際に適用された一例として、バイパス通路に制御弁が設けられる実施形態が、説明される。以下、この実施形態における排気浄化装置は、第4装置とも称呼される。第4装置が適用される内燃機関は、図2におけるバイパス通路46に制御弁が設けられている点を除き、第2装置に示される機関10と同様の構成を有する。そこで、第4装置が適用されている内燃機関以下、便宜上、機関10とも称呼される。を構成する各々の部材についての具体的な説明は、必要に応じて省略される。図7は、第4装置における排気通路の一部タービン52から触媒45までを抜粋した概略図である。図7に示されるように、機関10の排気系統には、第2装置と同様のバイパス通路46が設けられている。ただし、このバイパス通路46には、制御弁47が設けられている。制御弁47は、バイパス通路46を通過する第2排気の量を調整するための制御弁であって、制御弁47の開度に応じて第2排気の量が変化することになる制御弁である。制御弁47は電子制御装置80と電気的に接続されており、制御弁47の開度は、中間部材44および触媒45のうちの少なくとも1つの温度に基づいて定められる電子制御装置80からの指示信号に基づき、調整される。これにより、バイパス通路46を通過する排気第2排気の量が調整される。例えば、制御弁47の開度は、触媒45の温度が予め定められた閾値温度よりも低い場合に全開とされるとともに、触媒45の温度が同閾値温度以上である場合に全閉とされるように調整され得る。また、例えば、制御弁47の開度は、触媒45の温度が低いほど大きい開度であるように調整され得る。中間部材44および触媒45の温度は、例えば、それらに設けられた温度センサによって測定される測定値であってもよく、排気温度センサ75によって取得される排気の温度などから推定される推定値であってもよい。上記構成により、触媒45および中間部材44の温度に応じた量の第2排気が触媒45に導入されることになる。その結果、触媒45および中間部材44の温度が、これら部材の機能を発揮する観点において適切な温度により短い時間長さにて調整され得ることになる。なお、第4装置においてバイパス通路46の一端および他端が接続される位置は、第2装置と同様、図7に示される位置に限られない例えば、図3~図5を参照。。以上が、第4装置についての説明である。第5実施形態次に、上記第1装置に示される概念に加えて触媒に導入される排気中に還元剤が供給される実施形態が、図8を参照しながら説明される。図8は、この実施形態に係る排気浄化装置以下、第5装置とも称呼される。の概念を示す概略図である。図8aおよび図8bに示されるように、第5装置は、触媒に導入される排気第1排気および第2排気の一方または双方に還元剤供給手段から還元剤が供給される点においてのみ、第1装置と相違する。上記構成により、触媒として排気に含まれる窒素酸化物を選択的に除去還元するSCR触媒などが採用される場合において、排気が適切に浄化され得ることになる。なお、図8aおよび図8bにおいては、排気温度調整手段を通過した排気は、第1排気および第2排気のいずれかに属するように表示されている。しかし、第1装置と同様、この表示は、理解を容易にするための便宜に過ぎない。また、第1装置と同様、第5装置は、第1排気および第2排気の双方が常に存在するように構成されている必要はない。以上が、第5装置についての説明である。第6実施形態次に、上記第5装置に示される概念が内燃機関に実際に適用された一例として、触媒の上流側の位置に還元剤供給手段が設けられる実施形態が、説明される。以下、この実施形態における排気浄化装置は、第6装置とも称呼される。第6装置が適用される内燃機関は、図2における触媒45が排気中の窒素酸化物を還元剤を用いて除去するSCR触媒である点、および、図2における触媒45よりも上流側に還元剤供給手段後述される符号48が設けられている点を除き、第2装置に示される機関10と同様の構成を有する。そこで、第6装置が適用されている内燃機関以下、便宜上、機関10とも称呼される。を構成する各々の部材についての具体的な説明は、必要に応じて省略される。図9は、第6装置における排気通路の一部タービン52から触媒45までを抜粋した概略図である。図9に示されるように、機関10の排気系統には、バイパス通路46の他端が排気通路に接続される位置と触媒45との間に還元剤供給手段48例えば、還元剤を噴射するインジェクタが設けられている。還元剤供給手段48は、電子制御装置80からの指示信号に基づき、触媒45に導入される排気中に還元剤例えば、尿素水を供給する。触媒45は、触媒成分ゼオライト系触媒およびバナジウム系触媒などが担体セラミックスなどに担持された構成を有するSCR触媒である。この触媒45は、排気中の窒素酸化物と、還元剤供給手段48から供給された還元剤と、を反応せしめることにより、窒素酸化物を水と二酸化炭素とに還元して排気を浄化する。また、図9に示されるように、第6装置においては、第2排気が触媒45に導入されるよりも前に、第2排気が、還元剤供給手段48が設けられている位置を通過する。これにより、例えば機関10が冷間始動される場合、触媒45だけではなく還元剤供給手段48も、電気ヒータ43を通過した排気の一部第2排気によって加熱されることになる。その結果、冷間始動時に還元剤が凍結している等の理由によって還元剤の流動性が低下している場合であっても、還元剤および還元剤供給手段48が迅速に加熱されるので、より早期に還元剤が適切に供給され得ることになる。ところで、図9に示される第6装置の構成においては、還元剤供給手段48は、バイパス通路46の他端よりも下流側の位置であり且つ触媒45よりも上流側の位置に設けられている。しかし、還元剤供給手段48が設けられる位置は、図9に示される位置に限られない。例えば、第6装置は、図10aに示されるように、還元剤供給手段48がバイパス通路46に設けられるように構成されてもよい。さらに、例えば、還元剤供給手段48がそれほど迅速にされる必要がない場合、第6装置は、図10bに示されるように、還元剤供給手段48が中間部材44よりも下流側の位置であり且つバイパス通路46の他端が排気通路に接続される位置よりも上流側の位置に設けられる、ように構成されてもよい。以上が、第6装置についての説明である。第7実施形態次に、上記第5装置に示される概念に加えて第2排気の量が調整される実施形態が、図11を参照しながら説明される。図11は、この実施形態に係る排気浄化装置以下、第7装置とも称呼される。の概念を示す概略図である。図11に示されるように、第7装置は、第2排気の量が触媒、中間部材および還元剤供給手段のうちの少なくとも1つの温度に基づいて調整される点においてのみ、第5装置と相違する。なお、第5装置において参照された図面図8と同様、図11においては、排気温度調整手段を通過した排気は、第1排気および第2排気のいずれかに属するように表示されている。しかし、第5装置と同様、この表示は、理解を容易にするための便宜に過ぎない。また、第5装置と同様、第7装置は、第1排気および第2排気の双方が常に存在するように構成されている必要はない。以上が、第7装置についての説明である。第8実施形態次に、上記第7装置に示される概念が内燃機関に実際に適用された一例として、バイパス通路に制御弁が設けられる実施形態が、説明される。以下、この実施形態における排気浄化装置は、第8装置とも称呼される。第8装置が適用される内燃機関は、図9におけるバイパス通路46に制御弁が設けられている点を除き、第6装置に示される機関10と同様の構成を有する。そこで、第8装置が適用されている内燃機関以下、便宜上、機関10とも称呼される。を構成する各々の部材についての具体的な説明は、必要に応じて省略される。図12は、第6装置における排気通路の一部タービン52から触媒45までを抜粋した概略図である。図12に示されるように、バイパス通路46には、制御弁47が設けられている。制御弁47は電子制御装置80と電気的に接続されており、制御弁47の開度は、中間部材44、触媒45および還元剤供給手段48のうちの少なくとも1つの温度に基づき、調整される。これにより、バイパス通路46を通過する排気第2排気の量が調整される。第4装置と同様、中間部材44、触媒45および還元剤供給手段48の温度は、例えば、それらに設けられた温度センサによって測定される測定値であってもよく、排気温度センサ75によって取得される排気の温度などから推定される推定値であってもよい。上記構成により、触媒45、中間部材44および還元剤供給手段48の温度に応じた量の第2排気が触媒45に導入されることになる。その結果、触媒45、中間部材44および還元剤供給手段48の温度が、これら部材の機能を発揮する観点において適切な温度により短い時間長さにて調整され得ることになる。なお、第8装置においてバイパス通路46の一端および他端が接続される位置、および、還元剤供給手段48が設けられる位置は、図12に示される位置に限られない例えば、図3~図5、図10を参照。。以上が、第8装置についての説明である。第9実施形態次に、上記第5装置に示される概念に加えて排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタを第2排気が通過する実施形態が、図13を参照しながら説明される。図13は、この実施形態に係る排気浄化装置以下、第9装置とも称呼される。の概念を示す概略図である。図13に示されるように、第9装置は、第2排気が触媒に導入されるよりも前に、第2排気が、排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタを通過する点においてのみ、第7装置と相違する。なお、第5装置において参照された図面図8と同様、図13においては、排気温度調整手段を通過した排気は、第1排気および第2排気のいずれかに属するように表示されている。しかし、第5装置と同様、この表示は、理解を容易にするための便宜に過ぎない。また、第5装置と同様、第9装置は、第1排気および第2排気の双方が常に存在するように構成されている必要はない。以上が、第9装置についての説明である。第10実施形態次に、上記第9装置に示される概念が内燃機関に実際に適用された一例として、第2排気が中間部材としてのDPFの一部を通過する実施形態が、説明される。以下、この実施形態における排気浄化装置は、第10装置とも称呼される。第10装置が適用される内燃機関は、図2におけるバイパス通路46の他端が中間部材DPFが設けられている位置にて排気通路に接続されている点を除き、第2装置に示される機関10と同様の構成を有する。そこで、第10装置が適用されている内燃機関以下、便宜上、機関10とも称呼される。を構成する各々の部材についての具体的な説明は、必要に応じて省略される。図14は、第10装置における排気通路の一部タービン52から触媒45までを抜粋した概略図である。図14に示されるように、バイパス通路46の他端はDPF44が設けられている位置にて排気通路に接続されている。具体的に述べると、バイパス通路46の他端は、第2排気がDPF44の下流側の端部の近傍においてDPF44に流入するように、排気通路に接続されている。これにより、第2排気が、DPF44の一部を通過した後に触媒45に導入されることになる。上記構成により、触媒45に導入される排気に含まれる粒子状物質の量が低減されることになる。その結果、粒子状物質によって触媒45の性能が低下せしめられること、および、粒子状物質が触媒45を通過して機関10の外部に放出されること、などが防がれ得る。なお、上述した各々の実施形態に示されるように、第10装置のバイパス通路46に制御弁47が設けられてもよい。さらに、第10装置の触媒45がSCR触媒である場合、触媒45よりも上流側に還元剤供給手段48が設けられてもよい。以上が、第10装置についての説明である。第11実施形態次に、上記第9装置に示される概念が内燃機関に実際に適用された他の一例として、第2排気がバイパス通路に設けられたDPFを通過する実施形態が、説明される。以下、この実施形態における排気浄化装置は、第11装置とも称呼される。第11装置が適用される内燃機関は、図2におけるバイパス通路46にDPFが設けられている点を除き、第2装置に示される機関10と同様の構成を有する。そこで、第11装置が適用されている内燃機関以下、便宜上、機関10とも称呼される。を構成する各々の部材についての具体的な説明は、必要に応じて省略される。図15は、第11装置における排気通路の一部タービン52から触媒45までを抜粋した概略図である。図15に示されるように、バイパス通路46に中間部材としてのDPF44とは異なるDPF49が設けられている。なお、バイパス通路46に設けられるDPF49が排気中の粒子状物質を除去する能力は、中間部材としてのDPF44が排気中の粒子状物質を除去する能力よりも低くてもよいいわゆる、低容量のフィルタであってもよい。。上記構成により、上述した第10装置と同様、粒子状物質によって触媒45の性能が低下せしめられること、および、粒子状物質が触媒45を通過して機関10の外部に放出されること、などが防がれ得る。なお、上述した各々の実施形態に示されるように、第11装置のバイパス通路46に制御弁47が設けられてもよい。さらに、第11装置の触媒45がSCR触媒である場合、触媒45よりも上流側に還元剤供給手段48が設けられてもよい。以上が、第11装置についての説明である。<実施形態の総括>図1~図15を参照しながら説明したように、本発明の実施形態に係る排気浄化装置第1装置~第11装置は、内燃機関10の排気通路排気管42他に設けられるとともに該機関10の燃焼室から放出される排気の温度を調整する排気温度調整手段電気ヒータ43と、前記排気通路における前記排気温度調整手段43よりも下流側の位置に設けられるとともに前記排気を浄化する触媒45と、を備えている。この排気浄化装置は、前記排気温度調整手段43を経た排気の少なくとも一部が、前記排気通路おける前記排気温度調整手段43と前記触媒45との間の位置に設けられた中間部材44の少なくとも一部を通過した後に、第1排気として前記触媒45に導入可能であり、前記排気温度調整手段43を経た排気の少なくとも一部が、前記中間部材44の少なくとも一部を通過することなく、第2排気として前記触媒45に導入可能である、ように構成されている図1~図5を参照。。さらに、本発明の一又は複数の実施形態に係る排気浄化装置例えば、第3装置は、前記触媒45および前記中間部材44のうちの少なくとも1つの温度に基づき、前記第2排気の量が調整される、ように構成されている図6を参照。。さらに、本発明の一又は複数の実施形態に係る排気浄化装置例えば、第2装置は、前記第2排気が通過するバイパス通路46であって、該バイパス通路46の一端が前記排気温度調整手段43が設けられている位置または前記排気温度調整手段43よりも下流側の位置であり且つ前記中間部材44よりも上流側の位置または前記中間部材44が設けられている位置にて前記排気通路に接続されるとともに、該バイパス通路46の他端が前記中間部材44が設けられている位置または前記中間部材44よりも下流側の位置であり且つ前記触媒45よりも上流側の位置または前記触媒45が設けられている位置にて前記排気通路に接続されるバイパス通路46、を通して前記第2排気が前記触媒45に導入される、ように構成されている図2~図5を参照。。加えて、本発明の一又は複数の実施形態に係る排気浄化装置例えば、第4装置は、前記バイパス通路46を通過する前記第2排気の量を調整するための制御弁47であって該制御弁47の開度に応じて前記第2排気の量が変化する制御弁47が、前記バイパス通路46に設けられ、前記触媒45および前記中間部材44のうちの少なくとも1つの温度に基づき、前記制御弁47の開度が変更される、ように構成されている図7を参照。。本発明の一又は複数の実施形態に係る排気浄化装置例えば、第1装置~第5装置は、前記触媒45が、前記排気に含まれる窒素酸化物を還元することによって前記排気を浄化する触媒例えば、NOx吸蔵還元触媒、SCR触媒45である、ように構成されている。本発明の一又は複数の実施形態に係る排気浄化装置例えば、第5装置および第6装置は、前記触媒45に導入される排気中に還元剤を供給する還元剤供給手段48を備えるように構成されている図8~図10を参照。。本発明の一又は複数の実施形態に係る排気浄化装置例えば、第6装置は、前記第2排気が前記触媒45に導入されるよりも前に、前記第2排気が、前記還元剤供給手段48が設けられている位置を通過する、ように構成されている図9および図10を参照。。本発明の一又は複数の実施形態に係る排気浄化装置例えば、第7装置および第8層は、前記触媒45、前記中間部材44および前記還元剤供給手段48のうちの少なくとも1つの温度に基づき、前記第2排気の量が調整される、ように構成されている図11および図12を参照。。本発明の一又は複数の実施形態に係る排気浄化装置例えば、第9装置は、前記第2排気が前記触媒45に導入されるよりも前に、前記第2排気が、排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタ44を通過する、ように構成されている図13を参照。。具体的に述べると、一の実施形態に係る排気浄化装置例えば、第10装置は、前記中間部材44が前記排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタ44を含み、前記第2排気が該フィルタ44の少なくとも一部を通過する、ように構成されている図14を参照。。さらに、一の実施形態に係る排気浄化装置例えば、第11装置は、前記バイパス通路46に前記排気に含まれる粒子状物質を除去するためのフィルタ44が設けられ、前記バイパス通路46を通して前記第2排気が前記触媒45に導入される、ように構成されている図15を参照。。本発明は上記各実施形態に限定されることはなく、本発明の範囲内において種々の変形例を採用することができる。例えば、上記複数の実施形態第1実施形態~第11実施形態のうちの一の実施形態に適用されている排気浄化装置の考え方に、同複数の実施形態のうちの他の実施形態の一または複数における排気浄化装置の考え方が、適用され得る。別の言い方をすると、上記複数の実施形態のうちの一の実施形態と、一または複数の他の実施形態と、が組み合わせられ得る。さらに、上記複数の実施形態においては、排気浄化装置を構成する部材例えば、電気ヒータ43およびDPF44が互いに独立して分離された状態にて排気通路に配置されている例えば、図2を参照。。しかし、これら部材は、必ずしもそのように配置される必要はなく、互いに連結された状態一体化された状態にて排気通路に配置されてもよい。加えて、上記複数の実施形態においては、中間部材としてDPF44のみが採用されている。しかし、中間部材は、必ずしもDPF44に限られず、DPFとは異なる他の部材を含むように構成されてもよい。例えば、中間部材として、排気に含まれる窒素酸化物を酸化させ得る酸化触媒が採用され得る。また、中間部材として複数の部材が採用される場合、それら複数の部材は、互いに独立して分離された状態にて配置されてもよく、一体化された状態にて配置されてもよい。