透光性基板と、前記基板の一方の面に網目状に配置され、前記基板に対して鋭角である傾斜面を有する凸状構造体と、前記凸状構造体上に配置された平坦化層とを具備する光取出し層と、前記光取出し層上に配置された第1の電極と、前記第1の電極上に配置され、ホスト材料および発光ドーパントを含む発光層と、前記発光層上に配置された第2の電極とを具備する有機電界発光素子であって、前記平坦化層の屈折率は、前記第1の電極の屈折率とほぼ同じであるか、または前記第1の電極の屈折率より大きく、前記凸状構造体の屈折率は、前記平坦化層の屈折率より小さいことを特徴とする有機電界発光素子。前記凸状構造体の屈折率は、前記基板の屈折率とほぼ同じであるか、または前記基板の屈折率より小さいことを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。前記凸状構造体は、前記基板上に格子状に配置されることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。前記凸状構造体は、底面が前記基板と接し、前記平坦化層と接する面がアーチ形状であることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。前記光取出し層を複数積層したことを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。透光性基板と、前記基板の一方の面に互いに離間して配置され、前記基板と反対側に向かって凸形状である複数のレンズ部材と、前記レンズ部材上に配置された平坦化層とを具備する光取出し層と、前記光取出し層上に配置された第1の電極と、前記第1の電極上に配置され、ホスト材料および発光ドーパントを含む発光層と、前記発光層上に配置された第2の電極とを具備する有機電界発光素子であって、前記平坦化層の屈折率は、前記第1の電極の屈折率とほぼ同じであるか、または前記第1の電極の屈折率より大きく、前記凸状構造体の屈折率は、前記平坦化層の屈折率より小さいことを特徴とする有機電界発光素子。前記レンズ部材の屈折率は、前記基板の屈折率とほぼ同じであるか、または前記基板の屈折率より大きいことを特徴とする請求項6に記載の有機電界発光素子。前記光取出し層を複数積層したことを特徴とする請求項6に記載の有機電界発光素子。請求項1または6に記載の有機電界発光素子を具備することを特徴とする表示装置。請求項1または6に記載の有機電界発光素子を具備することを特徴とする照明装置。本発明が解決しようとする課題は、光取出し効率の向上した有機電界発光素子、ならびにそれを用いた表示装置および照明装置を提供することである。上記課題を達成するために、実施形態によれば、透光性基板と、前記基板の一方の面に網目状に配置され、前記基板に対して鋭角である傾斜面を有する凸状構造体と、前記凸状構造体上に配置された平坦化層とを具備する光取出し層と、前記光取出し層上に配置された第1の電極と、前記第1の電極上に配置され、ホスト材料および発光ドーパントを含む発光層と、前記発光層上に配置された第2の電極とを具備する有機電界発光素子が提供される。以下、実施の形態について、図面を参照しながら説明する。第1の実施形態図1は、第1の実施形態に係る有機電界発光素子を示す断面図である。有機電界発光素子1は、基板10上に、光取出し層13、第1の電極14、発光層15および第2の電極16を順次形成した構造を有する。光取出し層13は、基板10の一方の面に配置された凸状構造体11と、凸状構造体11上に配置された平坦化層12とを具備する。図1に示すように、第1の電極14と基板10の間に、第1の電極14と同等またはそれ以上の屈折率を有する平坦化層12を設けることにより、発光層15で発生した光が第1の電極14と平坦化層12の界面で全反射する確率が低くなる。従って、第1の電極14と平坦化層12の界面で反射することなく平坦化層12側へ進む光の割合が増大する。第1の電極14から平坦化層12内へと伝播した光は、平坦化層12と基板10の界面に向かって進む。ここで、基板10上に凸状構造体11を設けることにより、平坦化層12と基板10の界面における光の全反射の確率を低下させることができる。また、凸状構造体11の屈折率を平坦化層12の屈折率より小さくすることにより、凸状構造体11表面に到達した光が基板10側へ屈折する確率を高めることができる。光取出し層13は、第1の電極14から基板10側へ光を効率的に取り出すための層であり、基板10上に配置された凸状構造体11と、凸状構造体11上に配置された平坦化層12とを含む。平坦化層12は、第1の電極14と第2の電極16および発光層14をその上に積層するために、凸状構造体11により形成される凹凸を埋めて平坦な面を得るための部材である。凸状構造体11の上に、上面が平坦である平坦化層12を設けることにより、その上に形成される第1の電極14と第2の電極16および発光層14の平面方向の厚みを均一にすることができる。発光層14の厚さが均一でなく凹凸があると、素子に輝度ムラが生じ易くなるため、第1の電極14と第2の電極16および発光層14は、平坦な面の上に形成することが好ましい。さらに、平坦化層12は、第1の電極14と基板10との間の距離を、光を効率的に取り出すために好ましい距離に調節する役割も有している。平坦化層12の屈折率は、第1の電極14の屈折率とほぼ同じであるかそれ以上であればよい。第1の電極14から平坦化層12へ光をより効率的に取り出すために、平坦化層12は、第1の電極14とほぼ同じ屈折率を有することが好ましい。すなわち、第1の電極14と平坦化層12の屈折率は±0.3程度の範囲内にあることが好ましく、同一であることが特に好ましい。平坦化層12の屈折率が第1の電極14の屈折率よりもある程度以上小さいと、第1の電極14からの光が第1の電極14と平坦化層12の界面で全反射したり、基板から離れる方向に屈折する確率が高くなり、基板側への光取出し効率が低くなる。それに対して、第1の電極14と平坦化層12の屈折率を同程度にすることにより、第1の電極14からの光は、第1の電極14と平坦化層12の界面を直進する可能性が高まる。また、平坦化層12の屈折率を第1の電極14の屈折率よりも大きくすることにより、基板10側へ光を屈折させることができる。これらの結果として、基板側への光の取出し効率を向上させることができる。凸状構造体11は、第1の電極14から平坦化層12へ入った光が平坦化層12と基板10の界面で全反射するのを防ぎ、凸状構造体11表面に到達した光を基板側へ屈折させるための部材である。第1の実施形態において、凸状構造体11は、基板10上に網目状に配置される。図2および図3は、第1の実施形態における凸状構造体11の平面図である。図2および図3では、基板10上に凸状構造体11が格子状に配置されており、特に、図2では三角格子状、図3では正方格子状に配置されている。凸状構造体11の形状は、格子状でなくてもよく、凹部30がランダムな位置に形成されるような網目構造であってもよい。凹部30は、その窪みにより凸状構造体11が網目構造となるような形状であればよく、その形状は半球状に限られない。凹部30の底面は、基板10まで達していても、そうでなくてもよく、底面の形状も特に限定されない。凸状構造体11は、基板10に対して鋭角になるような傾斜面を有するように基板10上に形成する。傾斜面が基板10に対して鋭角であるとは、例えば、図4に示すように、凸状構造体11のへり部分の傾斜面が基板10に対して形成する角度θが鋭角であることを意味する。凸状構造体11の形状は、基板10に対して鋭角である傾斜面が、凸状構造体11における平坦化層12と接する面の一部にあればよく、図4に示すような形状に限定されるものではない。凸状構造体11が基板10に対して鋭角である傾斜面を有することにより、凸状構造体11の表面に達した光がその表面で全反射する確率が低くなり、光が基板10側へ屈折する確率を高めることができる。網目状に配置された凸状構造体11の長手方向に垂直な断面の形状は特に限定されないが、例えば、半円、三角形等が挙げられる。図4に示すように、底面11aが基板10に接し、平坦化層に接する面11bがアーチ形状であることが特に好ましい。凸状構造体11の上面が基板10に対して平行な面であると、凸状構造体11の表面に到達した光を基板10側へ屈折させることができない。それに対して、凸状構造体11の上面11bをアーチ形状にすることにより、凸状構造体11の表面に到達した光が基板10側へ屈折する確率を高めることができる。凸状構造体11に到達した光を基板10側へ効率的に屈折させるために、凸状構造体11の屈折率が、平坦化層12の屈折率よりも小さくなるようにする。屈折率をこのような関係にした場合であっても、光の入射方向によっては凸状構造体11の表面で反射する光も存在する。しかし、反射した光の一部は反射を繰り返して再び凸状構造体11の表面に戻ってくるため、戻ってきた光を最終的に基板10側へ屈折させることにより、そのような光も基板10側へ取り出すことができる。凸状構造体11は、基板10と同程度か、それ以下の屈折率を有していることが好ましい。凸状構造体11から基板10へ光を効率的に取り出すために、凸状構造体11の屈折率は、基板10の屈折率とほぼ同じであることがより好ましい。すなわち、凸状構造体11の屈折率と基板10の屈折率は、±0.2程度の範囲内にあることが好ましく、同一であることが特に好ましい。凸状構造体11の屈折率が基板10の屈折率よりもある程度以上高いと、凸状構造体11からの光が凸状構造体11と基板10の界面で全反射したり、基板から離れる方向に屈折する確率が高くなり、基板側への光取出し効率が低くなる。それに対して、凸状構造体11と基板10の屈折率を同程度にすることにより、凸状構造体11からの光は、凸状構造体11と基板10の界面で屈折せずに直進する。また、凸状構造体11の屈折率を基板10の屈折率よりも低くすることにより、基板10側へ光を効率的に屈折させることができる。これらの結果として、基板10側への光の取出し効率を向上させることができる。凸状構造体11の材料は、透光性材料であれば特に限定されるものではないが、例えば、ポリエステル、ポリイミド、エポキシ等の透明性樹脂材料が挙げられる。凸状構造体11は、上述したような樹脂材料を基板10上に成膜した後、フォトリソグラフィー等のパターン形成技術を用いて所望の凹凸パターンを形成することにより、基板10上に設けることができる。樹脂材料の成膜方法としては、例えば塗布法が挙げられ、基板10表面に材料をコーティングした後で加熱し、固化することにより成膜することができる。平坦化層12の材料は、透光性であり、且つ実質的に平坦な面が得られる材料であれば、特に限定されるものではない。具体的には、例えば、ポリエステル、ポリイミド、エポキシ等の透明性樹脂材料を使用することができるが、凸状構造体11とは異なる材料を使用する。平坦化層12の成膜方法としては、例えば塗布法が挙げられ、凸状構造体11が形成された基板10表面に材料をコーティングした後で加熱し、固化することにより成膜することができる。従来の構造においては、第1の電極と基板の界面において光が全反射する確率が高く、光を基板側へ効率的に取り出すことができないという問題があった。しかし、上記実施形態のように、第1の電極14と基板10の間に光取出し層13を設けることにより、そのような光の全反射の問題を解決することができ、より多くの光を基板10側へ取り出すことができる。その結果として、素子外部への光取出し効率が向上した有機EL素子を得ることができる。また、本実施形態における凸状構造体11は、リソグラフィー法を用いたパターン形成等により比較的容易に形成することができる。平坦化層12も塗布法等により形成することが可能であるため、本実施形態の有機EL素子は、素子全体として作製プロセスが容易であるという利点も有する。上記先行技術文献において挙げた特許文献1には、レンズの凸部が光取出し側を向くように、集光レンズを透光性基板中に配置した有機EL素子が開示されている。特許文献1に記載の有機EL素子は、集光レンズを透光性基板中に形成することにより、集光レンズの光軸に平行な光をより多く基板に取り出そうとするものである。その結果として、光取出し効率が向上し、正面から見たときの輝度が高い有機EL素子を得られる旨記載している。しかし、このような構成によると、集光レンズの光軸に平行な光を取り出すことはできるが、集光レンズの光軸に平行でない光は、陽極と基板の間で全反射する確率が高いため、十分に基板側に取り出すことはできない。それに対して本実施形態の有機EL素子によると、上記のような凸状構造体11を基板10上に設けることにより、基板10に対して垂直でない光であっても、凸状構造体11表面で屈折させて基板10側へ取り出すことが可能である。基板10は、透光性基板であり、発光層15からの発光に対しておよそ80以上の高い透過性を有する物質から形成される。基板10は、その他の部材を支持するためのものであるため、その上に形成される層を保持できる程度の強度を有することが好ましい。基板10の材料の具体的な例としては、透明または半透明の石英ガラス、アルカリガラスおよび無アルカリガラス等の透明ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリエート、ポリプロピレン、ポリエチレン、非晶質ポリオレフィンおよびフッ素系樹脂等の透明樹脂からなる高分子フィルム、ならびに透明セラミックスが挙げられる。基板10の形状、構造、大きさ等について特に制限はなく、用途、目的等に応じて適宜選択することができる。基板10の厚さは、その他の部材を支持するために十分な強度があれば、特に限定されない。第1の電極14および第2の電極16は、一対の電極であり、一方が陽極であって他方が陰極である。ここでは、第1の電極14が陽極であり、第2の電極16が陰極であるものとして説明するが、これらは逆であってもよい。陽極は、正孔を効率よく発光層に注入するための部材であり、導電性および透光性を有する。陽極の材料の具体的な例としては、インジウムスズ酸化物ITOおよび酸化亜鉛ZnO等の金属酸化物、PEDOTおよびポリピロール等の導電性高分子、カーボンナノチューブのような、導電性と透光性を併せ持つ材料が挙げられる。陽極は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法、塗布法等で成膜することができる。陽極の膜厚は、100nm程度であることが好ましい。薄すぎると、導電性が低下して抵抗が高くなり、発光効率低下の原因となる。厚すぎると、陽極に可撓性がなくなり、応力が作用するとひび割れが生じる。陽極は、単層であってもよく、異なる仕事関数の材料からなる層を積層したものであってもよい。陰極は、電子を効率よく発光層に注入するための部材であり、可視光に対して80以上の反射性を有していればよい。陰極の材料の具体的な例としては、アルミニウム、銀などの金属が挙げられる。陰極は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法、塗布法等で成膜することができる。陽極を仕事関数の高い材料を用いて形成した場合、陰極には仕事関数の低い材料を用いることが好ましい。陰極は、単層であってもよく、異なる仕事関数の材料で構成される層を積層したものであってもよい。また、2種以上の金属の合金を使用してもよい。陰極の膜厚は、150nm程度であることが好ましい。膜厚が薄すぎる場合は、素子の抵抗が大きくなりすぎる。膜厚が厚すぎる場合には、陰極の成膜に長時間を要し、隣接する層にダメージを与えて性能が劣化する虞がある。正孔注入層および正孔輸送層が、任意に、陽極と発光層との間に配置されてもよい。これらは、陽極から正孔を受け取って発光層側へ輸送する機能を有する。また、電子注入層および電子輸送層が、任意に、陰極と発光層との間に配置されてもよい。これらは、陰極から電子を受け取って発光層側へ輸送する機能を有する。発光層15は、陽極側から正孔を、陰極側から電子をそれぞれ受け取り、正孔と電子との再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。この結合によるエネルギーで、発光層中のホスト材料が励起される。励起状態のホスト材料から発光ドーパントへエネルギーが移動することにより、発光ドーパントが励起状態となり、発光ドーパントが再び基底状態に戻る際に発光する。発光層15は、有機材料からなるホスト材料中に、発光性金属錯体以下、発光ドーパントと称するをドープした構成をとる。ホスト材料および発光ドーパントとしては、当該分野で既知の材料を適宜選択して使用することができる。発光層15の成膜方法は、薄膜を形成できる方法であれば特に限定されないが、例えばスピンコート法を使用することが可能である。発光ドーパントおよびホスト材料を含む溶液を所望の膜厚に塗布した後、ホットプレート等で加熱乾燥する。塗布する溶液は、予めフィルターでろ過したものを使用してもよい。発光層15の厚さは、100nm程度であることが好ましい。発光層15におけるホスト材料と発光ドーパントの割合は、本発明の効果を損なわない限り任意である。より効率的に光を素子外部へ取り出すために、基板10の凸状構造体11が配置された面と反対側の面に、光を外部に取り出すための部材をさらに配置してもよい。光を外部に取り出すための部材としては、当該分野で既知の部材を使用することができるが、例えば、マイクロレンズを使用することができる。図5は、第1の実施形態に係る有機EL素子において、光を外部に取り出すための部材としてマイクロレンズを使用した場合の断面図である。図5に示すように、マイクロレンズ17は、基板10から外側に向かって凸形状であることが好ましい。第2の実施形態第2の実施形態における凸状構造体の平面図を図6に示す。基板10上に配置される凸状構造体11は、図6に示すような複数のレンズ部材であってもよい。レンズ部材は、基板10上に互いに離間して配置され、基板10とは反対側に向かって凸形状である。第2の実施形態に係る有機EL素子の断面図は、第1の実施形態と同様である。レンズ部材の材料としては、第1の実施形態に記載した凸状構造体と同様の材料を使用することができる。また、その他の部材に関する説明および得られる効果については、第1の実施形態と同様である。第3の実施形態光取出し層13を複数積層した場合にも、第1および第2の実施形態と同様の効果が得られる。図7は、第3の実施形態に係る有機電界発光素子を示す断面図である。図8は、第3の実施形態に係る有機電界発光素子の変形例を示す断面図である。図7aおよび図8aは、光取出し層を2段積層した場合の断面図である。図7bおよび図8bは、光取出し層を3段積層した場合の断面図である。図7cおよび図8cは、光取出し層を4段積層した場合の断面図である。2段目以降の凸状構造体のパターンは、図7のように一段目の凸状構造体11のパターンと同じであってもよいし、図8のように一段目の凸状構造体11のパターンと異なってもよい。例えば、図7のように、一段目の凸状構造体11の位置と二段目の凸状構造体11の位置とが同じ位置であってもよい。また、図8のように、一段目の凸状構造体11の位置と二段目の凸状構造体11の位置とがずれていてもよい。このように光取出し層13を複数積層することにより、さらなる光取出し効率の向上が期待できる。上記で説明した有機電界発光素子の用途の一例として、表示装置および照明装置が挙げられる。図9は、実施形態に係る表示装置を示す回路図である。図9に示す表示装置80は、横方向の制御線CLと縦方向の信号線DLがマトリックス状に配置された回路の中に、それぞれ画素81を配置した構成をとる。画素81には、発光素子85および発光素子85に接続された薄膜トランジスタTFT86が含まれる。TFT86の一方の端子は制御線に接続され、他方の端子は信号線に接続される。信号線は、信号線駆動回路82に接続されている。また、制御線は、制御線駆動回路83に接続されている。信号線駆動回路82および制御線駆動回路83は、コントローラ84により制御される。図10は、実施形態に係る照明装置を示す断面図である。照明装置100は、ガラス基板101上に、陽極107、有機EL層106、および陰極105を順次積層した構成をとる。封止ガラス102は、陰極105を覆うように配置され、UV接着剤104を用いて固定される。封止ガラス102の陰極105側の面には、乾燥剤103が設置される。<実施例1-1>まず、透光性基板として、波長550nmにおける屈折率が1.52程度、透過率90程度の無アルカリガラス基板旭硝子製を用意した。次に、このガラス基板の一方の面に、塗布法によりポリシロキサン系材料高透明性ポジ型感光性ポリシロキサンを膜厚0.6μmでコーティングし、フォトリソグラフィー法を用いて正方格子状のパターンを成した。その後、上記のように凸状構造体を形成した基板を、ホットプレート上で110°Cの温度で2分間、続けて230°Cで5分間焼成し、加熱固化させた。このとき、高透明性ポジ型感光性ポリシロキサンが熱融解するため、表面張力により、凸状構造体の表面は丸みを帯びた形状となる。この凸状構造体は、波長550nmにおける屈折率が1.53程度、透過率90程度であり、透光性基板と同程度の屈折率を有する。図11は、実施例1-1に係る有機EL素子における凸状構造体11のSEM像を示す図であり、凸状構造体11を基板と反対側から見た平面図である。図11において、線幅aは2μm、格子間隔bは5μmである。また、図12は、図11に示す凸状構造体の線X-Xに沿った拡大断面図であり、基板10上に凸状構造体11が形成されている様子を示している。次に、上記凸状構造体の上に、ナノフィラー含有ポリシロキサンを塗布法により膜厚2μmになるようにコーティングし、凸状構造体を完全に被覆した。この基板をホットプレート上に置き、180°Cで3分間、続けて300°Cで5分間加熱固化させ、平坦化層を形成した。この平坦化層は波長550nmで屈折率が1.78程度、透過率90程度であり、陽極と同程度の屈折率を有する。以下、凸状構造体および平坦化層を含む層を光取り出し層と称する。続いて、スパッタ法により、上記平坦化層上に膜厚100nmのITO膜を室温で成膜し、陽極を形成した。その後、10分間のUVオゾン洗浄を行い、窒素雰囲気中において230°Cで1時間焼成し、さらにArプラズマ処理を行った。陽極の上に、真空蒸着法により、発光層と厚さ100nmのAl陰極を順次形成し、有機電界発光素子を作製した。<実施例1-2>基板の凸状構造体を形成した面とは反対側の面に、光を外部に取り出すためのマイクロレンズを設けたことを除き、実施例1-1と同様に有機EL素子を作製した。マイクロレンズとしては、波長550nmで屈折率1.5程度のマイクロレンズ株オプトメイト製を使用し、その凸面が基板と反対側を向くように設置した。マイクロレンズは、屈折率1.5の透光性基板に、透光性基板と同程度の屈折率を有する屈折率マッチング液カーギル研究所製;屈折率1.5程度を介して、屈折率1.5程度のマイクロレンズ株オプトメイト製を設置した。<実施例2-1>凸状構造体11を、図13に示すような三角格子形状にしたことを除き、実施例1-1と同様に有機EL素子を作製した。図13は、実施例2-1に係る有機EL素子における凸状構造体11のSEM像を示す図であり、凸状構造体11を基板と反対側から見た平面図である。図13において、凹部の直径cは3μm、格子間隔dは5μmである。<実施例2-2>凸状構造体11を、図13に示すような三角格子形状にしたことを除き、実施例1-2と同様に有機EL素子を作製した。<実施例3-1>凸状構造体11を、図14に示すような三角格子形状にしたことを除き、実施例1-1と同様に有機EL素子を作製した。図14は、実施例3-1に係る有機EL素子における凸状構造体11のSEM像を示す図であり、凸状構造体11を基板と反対側から見た平面図である。図14において、凹部の直径eは5μm、格子間隔fは6μmである。<実施例3-2>凸状構造体11を図14に示すような三角格子形状にしたことを除き、実施例1-2と同様に有機EL素子を作製した。<実施例4-1>図15に示すように、凸状構造体11としてレンズ部材を三角格子形状に配置したことを除き、実施例1-1と同様に有機EL素子を作製した。図15は、実施例4-1に係る有機EL素子における凸状構造体11のSEM像を示す図であり、凸状構造体11を基板と反対側から見た平面図である。図15において、レンズ部材の直径gは3μm、レンズ間の間隔は2μmである。<実施例4-2>図15に示すように、凸状構造体11としてレンズ部材を三角格子形状に配置したことを除き、実施例1-2と同様に有機EL素子を作製した。<比較例1>凸状構造体および平坦化層を設けないで、実施例1-1と同様に有機EL素子を作製した。<比較例2>凸状構造体および平坦化層を設けないで、実施例1-2と同様に有機EL素子を作製した。<試験例1:光取出し効率の比較>実施例1-1、実施例1-2および比較例1において作製した有機EL素子について、光取出し効率を光学計算により見積もった。その結果を、以下の表1に示す。表1において、光取出し効率は、発光層で生じた発光のうち、素子外部へ取り出すことのできる光の割合を示している。また、エンハンスメントファクタは、比較例1の光取出し効率を1とした場合の比を意味する。表1から、光取り出し層を設けることによって、光取出し効率が向上することが分かる。<試験例2:外部量子効率の測定>上記実施例および比較例において作製した有機EL素子について、外部量子効率を測定した。測定は、外部量子効率測定装置浜松ホトニクス株製を用いて行った。実施例1-2、比較例1および比較例2の有機EL素子について外部量子効率を測定した結果を図16に示す。電流密度が1mA/cm2における外部量子効率を比較すると、比較例1の有機EL素子で約25、比較例2の有機EL素子で約35、実施例1-2の有機EL素子で約40であった。この結果から、光取出し層を設けることにより、素子の外部量子効率が著しく向上したことが分かる。実施例1-2、比較例1および比較例2の有機EL素子について外部量子効率を測定した結果を図17に示す。実施例3-2、比較例1および比較例2の有機EL素子について外部量子効率を測定した結果を図18に示す。実施例4-2、比較例1および比較例2の有機EL素子について外部量子効率を測定した結果を図19に示す。図17、図18および図19の結果からも、光取出し層を設けることにより、素子の外部量子効率が著しく向上したことが分かる。上記のような外部量子効率の向上は、光取り出し層を設けることによって素子の光取出し効率が向上したことに起因すると考えられる。<試験例3:光取り出し層を複数積層した場合の光取出し効率のシミュレーション>光取出し層を複数積層したことを除き、実施例1-2と同様に有機EL素子を作製した。具体的には、既に図7において示したように、光取り出し層を2層、3層および4層積層した有機EL素子を作製し、実施例1-2と同様に基板の外側にマイクロレンズを設置した。2層目以降の光取出し層は、その下にある平坦化層の上に、凸状構造体および平坦化層をさらに形成することにより積層した。凸状構造体および平坦化層の形成方法は、実施例1-1に示した通りである。上記のように作製した有機EL素子について、光取出し効率をシュミレーションした。その結果を図20に示す。ここで、図20における光取出し効率とは、発光層で発生した光のうち、素子外部へ取り出すことができる光の割合を意味する。図20から、光取出し層が一層のみである場合と比べて、二層以上積層した場合の方が高い光取出し効率を得られることが分かった。上記実施形態または実施例によれば、光取出し効率が向上し、その結果として発光効率の向上した有機電界発光素子、ならびにそれを用いた表示装置および照明装置を提供することができる。本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。