一方の主面側に入射した第1レーザ光の一部を第1反射光として反射するとともに残りの一部を第1透過光として透過させ、且つ、他方の主面に入射した第2レーザ光の一部を第2透過光として透過させるとともに残りの一部を第2反射光として反射するよう構成されたミラーと、前記第1透過光の光路と前記第2反射光の光路とを平行にする、または実質的に一致させること、及び前記第1反射光の光路と前記第2透過光の光路とを平行にする、または実質的に一致させることのいずれか一方を実現するように、前記ミラーに前記第1および第2レーザ光を入射させるように配置された光学系と、前記第1透過光及び前記第1反射光のいずれか一方のビームパラメータを計測するよう構成された第1計測部と、前記第2反射光及び前記第2透過光のいずれか一方のビームパラメータを計測するよう構成された第2計測部と、前記第1計測部の計測結果に基づいて前記第1レーザ光を調整するよう構成された第1調整部と、前記第2計測部の計測結果に基づいて前記第2レーザ光を調整するよう構成された第2調整部と、を備える光学装置。前記ミラーは、前記第2レーザ光を高い反射率で反射し、前記第1レーザ光の反射を高効率で抑制するコーティングがなされたダイクロイックミラーである、請求項1に記載の光学装置。前記ミラーは、前記第2レーザ光の反射を高効率で抑制し、前記第1レーザ光を高い反射率で反射するコーティングがなされたダイクロイックミラーである、請求項1に記載の光学装置。前記ミラーは、平板状のダイヤモンド基板を含み、前記コーティングは、前記ダイヤモンド基板の少なくとも一方の主面に形成されている、請求項2または3に記載の光学装置。前記ミラーは、2つの主面が互いに傾斜するウェッジ基板を含む、請求項1記載の光学装置。前記ミラーは、第1の領域に入射した前記第1レーザ光の一部を前記第1反射光として反射するとともに残りの一部を前記第1透過光として透過させ、前記第1の領域以外の第2の領域に入射した前記第2レーザ光の一部を前記第2透過光として透過させるとともに残りの一部を前記第2反射光として反射する、請求項1に記載の光学装置。前記第1調整部は、前記第1レーザ光の波面を補正するための第1波面補正部と、前記第1レーザ光の進行方向を補正するための第1ビーム進行方向補正部と、を含み、前記第2調整部は、前記第2レーザ光の波面を補正するための第2波面補正部と、前記第2レーザ光の進行方向を補正するための第2ビーム進行方向補正部と、を含み、前記補正は、目標値との差分が所定の許容範囲内となるようにして行われる請求項1に記載の光学装置。一方の主面側に入射した第1レーザ光の一部および第2レーザ光の一部をそれぞれ第1反射光および第2反射光として反射するとともに、反射されなかった残りの一部をそれぞれ第1透過光および第2透過光として透過させるよう構成されたミラーと、前記第1透過光の光路と前記第2透過光の光路とを実質的に一致させること、および前記第1反射光の光路と前記第2反射光の光路とを実質的に一致させることのいずれか一方を実現するように、前記ミラーに前記第1および第2レーザ光を入射させるように配置された光学系と、前記第1透過光のビームパラメータを計測するための第1計測部と前記第2透過光のビームパラメータを計測するための第2計測部とを含むビームパラメータ計測系と、前記第1計測部の計測結果に基づいて前記第1レーザ光を調整するよう構成された第1調整部と、前記第2計測部の計測結果に基づいて前記第2レーザ光を調整するよう構成された第2調整部と、を備える光学装置。前記ミラーは、前記第1および第2レーザ光を高い反射率で反射するコーティングがなされたミラーである、請求項8に記載の光学装置。前記ミラーは、前記第1および第2レーザ光の反射を高効率で抑制するコーティングがなされたミラーである、請求項8に記載の光学装置。前記ミラーは、平板状のダイヤモンド基板を含み、前記コーティングは、前記ダイヤモンド基板の少なくとも一方の主面に形成されている、請求項9または10に記載の光学装置。前記第1調整部は、前記第1レーザ光の波面を補正するための第1波面補正部と、前記第1レーザ光の進行方向を補正するための第1ビーム進行方向補正部と、を含み、前記第2調整部は、前記第2レーザ光の波面を補正するための第2波面補正部と、前記第2レーザ光の進行方向を補正するための第2ビーム進行方向補正部と、を含み、前記補正は、目標値との差分が所定の許容範囲内となるようにして行われる、請求項8に記載の光学装置。請求項1~12のいずれか一項に記載の光学装置を備えるレーザ装置。請求項1~7のいずれか一項に記載の光学装置と、レーザ装置と、チャンバと、前記チャンバに設けられ、該チャンバ内部の所定の領域にターゲット物質を供給するためのドロップレットジェネレータと、第1反射光および第2透過光を前記チャンバ内の前記所定の領域内で集光させること、および第1透過光および第2反射光を前記チャンバ内の前記所定の領域内で集光させることのいずれか一方を行う集光光学系と、を備える極端紫外光生成システム。請求項8~12のいずれか一項に記載の光学装置と、レーザ装置と、チャンバと、前記チャンバに設けられ、該チャンバ内部の所定の領域にターゲット物質を供給するためのドロップレットジェネレータと、第1反射光および第2反射光を前記チャンバ内の前記所定の領域内で集光させるための集光光学系と、を備える極端紫外光生成システム。