"1つ又はそれよりも多くのレーザと、該1つ又はそれよりも多くのレーザの各々によって出力された放射線を強度変調する変調手段と、該変調手段によって生成された該変調放射線を出力するための出力手段とを含む送信装置であって、使用時に前記1つ又はそれよりも多くのレーザから前記変調手段まで及び該変調手段から前記出力手段まで放射線を案内する基板に形成された中空コア光導波路、を含むことを特徴とする装置。前記1つ又はそれよりも多くのレーザ及び前記変調手段の少なくとも1つは、個別の構成要素であることを特徴とする請求項1に記載の装置。前記個別の構成要素は、前記基板に形成されたアラインメントスロットに位置することを特徴とする請求項2に記載の装置。前記1つ又はそれよりも多くのレーザ及び前記変調手段の少なくとも1つは、前記基板に形成されたモノリシック構成要素であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の装置。前記出力手段は、前記変調された放射線を少なくとも1つの出力光ファイバの中に結合するように配置されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の装置。前記出力手段は、少なくとも1つのファイバ取付け手段を含むことを特徴とする請求項5に記載の装置。少なくとも1つの光ファイバ取付け手段は、レンズ付き出力光ファイバを受け取るように配置されていることを特徴とする請求項6に記載の装置。少なくとも1つ光ファイバ取付け手段は、モード適合化手段を含むことを特徴とする請求項6に記載の装置。1つのレーザを含むことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の装置。複数のレーザを含むことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の装置。前記複数のレーザの各々は、異なる出力波長を有することを特徴とする請求項10に記載の装置。ビーム合成手段が、前記複数の変調ビームを合成ビームに組み合わせるために更に設けられ、前記出力手段は、前記合成ビームを単一の出力光ファイバの中に結合するように配置される、ことを特徴とする請求項11に記載の装置。前記出力手段は、前記複数の変調ビームの各々を複数の出力光ファイバの1つの中に結合するように配置されていることを特徴とする請求項10から請求項11のいずれか1項に記載の装置。前記1つ又はそれよりも多くのレーザの1つは、半導体レーザであることを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の装置。前記半導体レーザは、波長可変半導体レーザであることを特徴とする請求項14に記載の装置。1つ又はそれよりも多くの検出器が、前記1つ又はそれよりも多くのレーザによって出力された放射線の強度をモニタするために設けられていることを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の装置。少なくとも1つの光アイソレータを更に含むことを特徴とする請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の装置。1つ又はそれよりも多くのビーム成形手段が設けられることを特徴とする請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の装置。前記ビーム成形手段の少なくとも1つは、1つ又はそれよりも多くのレンズを含むことを特徴とする請求項18に記載の装置。前記ビーム成形手段の少なくとも1つは、テーパ付き中空コア光導波路を含むことを特徴とする請求項18から請求項19のいずれか1項に記載の装置。前記変調手段は、1つ又はそれよりも多くの電気光学変調器を含むことを特徴とする請求項1から請求項20のいずれか1項に記載の装置。強度変調放射線を生成することができる少なくとも1つのレーザと、該レーザによって生成された該放射線を少なくとも1つの出力光ファイバの中に結合するための出力手段と含む送信装置であって、使用時に前記少なくとも1つのレーザから前記少なくとも1つの光ファイバまで放射線を案内する基板に形成された中空コア光導波路、を含むことを特徴とする装置。1つ又はそれよりも多くの検出器と、1つ又はそれよりも多くの光ファイバを受け取るように配置された1つ又はそれよりも多くの光ファイバ取付け手段とを含む受信装置であって、放射線が、基板に形成された少なくとも1つの中空コア光導波路により、前記1つ又はそれよりも多くの光ファイバから前記1つ又はそれよりも多くの検出器まで案内される、ことを特徴とする装置。複数の検出器を含むことを特徴とする請求項23に記載の装置。複数の光ファイバ取付け手段は、複数の光ファイバを受け取るために設けられていることを特徴とする請求項24に記載の装置。使用時に、前記複数の光ファイバの各々からの放射線は、前記複数の検出器の1つまで案内されることを特徴とする請求項25に記載の装置。複数の異なる波長チャンネルを含む放射線を搬送する1つの光ファイバを受け取るように配置された1つの光ファイバ取付け手段が設けられていることを特徴とする請求項24に記載の装置。前記異なる波長チャンネルを分離して各波長チャンネルを前記複数の検出器の1つに向けるように配置された波長逆多重化手段を更に含むことを特徴とする請求項27に記載の装置。前記少なくとも1つの光ファイバから受け取った前記放射線の制御可能な減衰をもたらすように配置された少なくとも1つの可変光減衰器を更に含むことを特徴とする請求項23から請求項28のいずれか1項に記載の装置。少なくとも1つの波長選択フィルタを更に含むことを特徴とする請求項23から請求項29のいずれか1項に記載の装置。少なくとも1つの光ファイバ取付け手段は、モード適合化手段を含むことを特徴とする請求項23から請求項30のいずれか1項に記載の装置。少なくとも1つの光ファイバ取付け手段は、レンズ付き光ファイバを受け取るように配置されていることを特徴とする請求項23から請求項31のいずれか1項に記載の装置。請求項1から請求項22のいずれか1項に記載の送信装置と請求項23から請求項32のいずれか1項に記載の受信装置とを含むことを特徴とする送信/受信装置。前記送信装置及び前記受信装置は、共通基板上に形成されていることを特徴とする請求項33に記載の装置。前記基板は、半導体材料を含むことを特徴とする請求項1から請求項34のいずれか1項に記載の装置。前記基板は、シリコンオンインシュレータSOIウェーハを含むことを特徴とする請求項35に記載の装置。微細加工技術によって形成されたことを特徴とする請求項1から請求項36のいずれか1項に記載の装置。前記微細加工技術は、ディープリアクティブイオンエッチングを含むことを特徴とする請求項37に記載の装置。前記中空コア光導波路は、実質的に矩形断面のものであることを特徴とする請求項1から請求項38のいずれか1項に記載の装置。前記中空コア光導波路は、基本モードで伝播する放射線を好ましく案内するような寸法を有することを特徴とする請求項1から請求項39のいずれか1項に記載の装置。前記中空コア光導波路は、複数の光学モードで伝播する放射線を好ましく案内するような寸法を有することを特徴とする請求項1から請求項39のいずれか1項に記載の装置。前記中空コア光導波路の内面は、反射コーティングを有することを特徴とする請求項1から請求項41のいずれか1項に記載の装置。前記基板は、基部部分と蓋部分を含むことを特徴とする請求項1から請求項42のいずれか1項に記載の装置。図1及び図3を参照して実質的に本明細書で説明されるような送信モジュール。図2及び図3を参照して実質的に本明細書で説明されるような受信モジュール。図4を参照して実質的に本明細書で説明されるような送信/受信モジュール。図1を参照すると、本発明による送信モジュール2は、複数の光学構成要素、すなわち、半導体レーザ光源4、第1の検出器6、光アイソレータ8、GaAs電気光学変調器10、ビームスプリッタ12、第2の検出器14、及びボールレンズ16を含むことが分る。光学構成要素は、シリコン基板18の基部部分に形成されたアラインメントスロットに保持される。中空コア光導波路20も基板18の基部部分に形成され、様々な光学構成要素を光学的に連結するように配置される。使用時に、レーザ光源4は、中空コア光導波路を通じて第1の検出器6と光アイソレータ8にも結合される光を生成する。光アイソレータ8及び2つのボールレンズ16を通過した後、光は、GaAs電気光学変調器10によって変調される。変調光の小部分は、ビームスプリッタ12を通じて第2の検出器14にルーティングされ、一方、残りの変調光は、レンズ付き光ファイバ22に結合される。第1の検出器6は、未処理レーザ出力電力をモニタすることを可能にするものであり、一方、第2の検出器14は、変調レーザビームの強度をモニタするために設けられる。図2を参照すると、本発明による受信モジュール30が示されている。受信モジュール30は、いくつかの光学構成要素、すなわち、検出器32及びフィルタ34を含む。光学構成要素は、シリコン基板38の基部部分に形成されたアラインメントスロットに保持され、中空コア光導波路40は、様々な光学構成要素を光学的に連結するのに使用される。使用時に、レンズ付き入力光ファイバ42からの変調光は、中空コア光導波路40に結合され、検出器32に案内され、そこで、光によって搬送された変調信号が電気信号に変換される。送信モジュール及び受信モジュールの中空コア導波路は、基部部分及び蓋部分、例えば、図2の受信器の断面図に示すように基部部分38a及び蓋部分38bを有する基板から形成される。一般的に、基部部分には、回路の様々な個別の光学構成要素を受け取るためのアラインメントスロットが設けられる。アラインメントスロットには、それぞれのスロットに入れられた時に構成要素が自己整列するのに十分な精度が設けられている。この受動的アラインメントにより、構成要素取付け前の能動的アラインメント段階の必要がなく、基板の中空導波路に対して光学構成要素が確実に整列する。当業者は、いくつかの光学的構造体を代替的に基板からモノリシック的に形成することができることを認めるであろう。蓋部分は、単に、中空コア導波路を完全に形成するために基部部分に取付けられた例えば、エポキシの層を用いて接着された実質的に平坦な材料部分を含むことができる。代替的に、光学構成要素又は構造体例えば、基部部分の構成要素に対応する空洞を蓋部分に形成するか又は取付けることができる。蓋部分はまた、基部部分とは異なる材料で形成することができる。例えば、基部部分は、シリコンで形成することができ、一方、蓋部分は、GaAsで形成される。これは、アラインメントスロットがシリコン基部部分に形成されることを可能にし、一方、制御電子機器及び/又は電気光学構成要素例えば、フォトダイオード、レーザなどは、GaAs蓋部分に形成される。様々な光学構成要素を結合するための中空コア導波路の区域の使用により、ファイバ結合システムに付随する光損失が低減され、かつ、自由空間システムに付随する分散効果が取り除かれる。更に、中空コア光導波路及びアラインメントスロットを共通の基板に形成することで、光学構成要素を中空コア光導波路と正確に整列させることが可能になり、それによって光学効率が最大限になる。図3を参照すると、図1を参照して説明した種類の複数の送信モジュール2a~2d及び図2を参照して説明した種類の複数の受信モジュール30a~30dを使用して多重波長光通信ネットワークを実行することができる方法が示されている。通信ネットワークは、送信器部分50と受信器部分52を含む。送信器部分50は、波長λ1の放射線を発生するように配置された第1の送信モジュール2aと、波長λ2の放射線を発生するように配置された第2の送信モジュール2bと、波長λ3の放射線を発生するように配置された第3の送信モジュール2cと、波長λ4の放射線を発生するように配置された第4の送信モジュール2dとを含む。各光ビームは、情報を搬送するように強度変調される。4つの強度変調ビームλ1からλ4は、それぞれの送信モジュールから光ファイバ54a~54dの短い長さにわたってマルチプレクサ56に搬送される。マルチプレクサ56は、ビームを組み合わせてそれらを単一送信光ファイバ58の中に結合するように配置される。送信光ファイバ58は、長さが何キロメートルもあるものとすることができ、必要であれば、エルビウムドープ増幅器図示せずのような1つ又はそれよりも多くの増幅ノードをその長さに沿った点に設けることができる。代理人の参照番号QIP/P7294を有する現在特許出願中の英国特許出願に適切な中空コアEDFAが説明されている。受信器部分52は、合成λ1からλ4ビームを送信光ファイバ58から受信して4つ波長成分を分離するデマルチプレクサ60を含む。短い長さの光ファイバ62a~62dを使用して、波長λ1の放射線を第1の受信モジュール30aに、波長λ2の放射線を第2の受信モジュール30bに、波長λ3の放射線を第3の受信モジュール30cに、及び波長λ4の放射線を第4の受信モジュール30dに結合する。各受信モジュールは、強度変調信号を電気信号に変換する。送信器部分及び受信器部分は、各々、シリコン基板を使用して作製され、一般的に、基板は、基部部分光学構成要素及び波長チャンネルのためのアラインメントスロットが形成される及び蓋部分を含む。この構成は、個別にパッケージされて光ファイバの長さによって連結されたいくつかの構成要素例えば、レーザ、光アイソレータ、変調器などを含む従来技術のシステムよりも各部分をかなり小さくすることを可能にするものである。本発明の送信器及び受信器の作製はまた、従来技術のファイバ結合システムほど複雑ではなく、自動化されたピックアンドプレース製造技術を用いて行うことができる。図3は、別々の送信/受信モジュールと共に使用される個別のファイバ結合マルチプレクサ/デマルチプレクサ構成要素を示すが、関連の送信又は受信モジュールと同じ基板上に形成/配置することも可能である。中空コア光導波路を使用して実施することができるマルチプレクサ及びデマルチプレクサは、出願中の英国特許出願第0306634.7号により詳細に説明されている。このような構成においては、光ファイバ54及び62は、基板に形成された中空コア光導波路と入れ替えることができる。この構成は、システムの光損失を更に低減するものである。4つの波長システムに関して上述したが、当業者は、必要に応じて使用する波長チャンネル数を加減することができることを認めるであろう。更に、図3に示すシステムは、単一の方向にデータを送信するように配置されるが、双方向データ送信/受信システムを実行することも可能であろう。例えば、組合せ送信/受信部分は、図1を参照して説明した種類の1つ又はそれよりも多くの送信モジュールと、図2を参照して説明した種類の1つ又はそれよりも多くの受信モジュールとを含むことができると考えられる。図4を参照すると、例えば波長が異なるλ1からλ1010個の信号ビームを搬送するように配置された多重波長光ファイバ送信ライン72に沿った点に含めるための組合せ送信/受信素子70が示されている。ドロップデマルチプレクサ74は、10個の信号ビームのうちの3個までを送信/受信素子70に向けるように配置され、アッドデマルチプレクサ76は、3個までのビームをファイバ送信ラインに追加するように配置される。送信/受信素子は、受信ステージ78と送信ステージ80を含む。受信ステージ78は、図2を参照して説明した種類の3つの受信モジュール30a~30cを含み、送信ステージ80は、図1を参照して説明した種類の3つの送信モジュール2a~2cを含む。受信ステージ及び送信ステージは、シリコン基板82に形成され、従って、複数のファイバ結合光学構成要素を使用して可能なものよりもコンパクトな構成が得られる。使用時に、ドロップデマルチプレクサは、波長チャンネルのうちの3個まで例えば、λ1、λ2、及びλ3をファイバ送信ライン72から抽出し、各波長を光ファイバ73a~73cを通じて関連の受信モジュール30a~30cに向ける。この例においては、波長λ1は、第1の受信モジュール30aに方向付けられ、波長λ3は、第2の受信モジュール30bに方向付けられ、波長λ4は、第3の受信モジュール30cに方向付けられる。各受信モジュール30a~30cは、変調光ビーム内で運ばれた情報を抽出し、この情報を搬送する電気信号E1、E3、及びE4を出力する。一般的に、このような情報は、デジタル的に符号化されたデータを含むであろう。受信モジュール30a~30cは、各々、デジタル的に符号化された電気信号例えば、E1’、E3’及びE4’の形であるデータを受信して電気信号を光ビームλ1’、λ3’、及びλ4’に変換するように配置される。その後、これらのビームは、光ファイバ78a~78cを通じてアッドマルチプレクサ76によって送信光ファイバ送信ライン72の中に光学的に結合される。このようにして、光ファイバ送信ライン72から波長λ1、λ3、及びλ4として搬送されたデータを抽出し、異なる情報を搬送する光ビームλ1’、λ3’、及びλ4’を挿入することが可能である。光ビームλ2及びλ510は、送信/受信素子70をまとめて迂回する。新たに発生した光ビームλ1’、λ3’、及びλ4’は、抽出されたビームλ1、λ3、及びλ4と同じ波長であるべきであり、又は、ファイバを通じてデータを送信するのにまだ使用されていない波長になるように構成されるべきである。すなわち、ファイバ送信ラインの中に再度結合されたどのビームも、ファイバを通って既に伝播したかつ、それから抽出されていないどのビームとも異なる波長でなければならない。従って、送信モジュール内のレーザの波長が固定である場合、対応する波長のビームが光ファイバから抽出されるか又はそもそもファイバを通って伝播していない場合に限り、そのモジュールを使用して送信ファイバにビームを追加することが可能であるだけである。送信モジュールがいくつかの異なる波長のいずれか1つを出力することができるように、必要であれば、送信ステージ80を形成する送信モジュールの1つ又はそれよりも多くで波長可変レーザを使用することができる。これによって、この構成の柔軟性が増大する。また、ドロップデマルチプレクサ74、アッドマルチプレクサ76、及び送信/受信素子70は、全て、共通の基板上に形成することができることにも注意すべきである。例えば、光学的アッド/ドロップマルチプレクサOADM又は再設定可能光学的アッド/ドロップマルチプレクサROADMを使用することができる。このような構成においては、中空コア光導波路を基板に形成し、光ファイバ73及び78を置き換え、バイパスビームをドロップデマルチプレクサからアッドマルチプレクサに搬送することができる。これによって、光損失が更に低減され、かつ構成のコンパクト性が増大する。装置はまた、マルチモード導波路に見られるいわゆる再画像化現象を利用するような寸法にすることができる。光学構成要素間の長さは、所定の断面寸法のマルチモード導波路に対して入力ビームプロフィールの画像が構成要素の近くで再生されるように、中空コア導波路の再画像化長さ又は、その倍数になるように選択することができる。再画像化効果は、他所でより詳細に説明されている。例えば、PCT特許出願GB2003/000331を参照されたい。つまり、マルチモード導波路特に矩形断面を有するものは、導波路の長さをその幅及び深さと適切な関係を有するように設計することにより、所定の波長の対称、反対称、又は非対称光学フィールドの再画像化をもたらすように設計することができることが見出されている。すなわち、入力ビームのガウス形入力プロフィールは、所定の導波路に沿ってある一定の距離を伝播した後に再画像化すなわち、再生される。この効果はまた、ビーム複製を発生させ、すなわち、ビームの複数の画像が再画像化の長さよりも短い距離で形成される。これらの効果に関しては、US5410625に以前に説明されており、マルチモード干渉MMIビーム分割素子の基礎を提供している。一例として、正方形の断面を有する導波路における対称フィールドを考察する。これは、伝播放射線の波長にわたって導波路幅の2乗によって得られる再画像化長さを有することになる。対称フィールドの再画像化は、再画像化長さ及び再画像化長さの倍数で発生する。50.0μm幅の中空導波路及び1.55μm放射線の場合、再画像化長さは、従って1.613mmである。対称フィールドは、この長さで及びこの長さの整数倍でも、すなわち、3.23mm、4,84mmなどで再画像化されるであろう。例えば、単一モード光ファイバからのTEM00ガウス形入力ビームは、1.613mmの距離で再画像化することができると考えられる。代替的に、非対称光学フィールドの場合は、再画像化は、対称フィールドでの再画像化に必要とされる長さの8倍、すなわち、50.0μm幅の中空導波路に対して12.09mmで発生する。非対称フィールドの鏡像もこの距離の半分、すなわち、6.05mmで形成される。特に、入力をマルチモード領域の中心線からオフセットすると、中心線の両側で同等のオフセットでガイドに沿って所定の距離で再画像化された非対称入力がもたらされる。導波路の深さと幅が実質的に異なる矩形導波路の場合、2つの導波路断面寸法例えば、深さ及び幅に付随する再画像化長さは、それ自体が異なっている。しかし、特定の幅及び深さに対して同一長さで再画像化が生成されるようなものであるように矩形中空導波路の寸法間の関係を構成することにより、あらゆるフィールドを再画像化することができる。すなわち、対称フィールドは、幅w1及びw2の軸線に付随する再画像化の長さが同一になるように構成することにより、中空矩形導波路に再画像化することができる。テーパ付き導波路の使用もビーム拡張又は圧縮を可能にする。再画像化の実施は、中空コア導波路と関連の光ファイバ間に光を結合するのに視準手段例えば、レンズは不要であるという利点を有する。"