アルミニウム本体であって、前記本体の外面上に研磨されたアルミニウムコーティングを配置したアルミニウム本体と、前記アルミニウムコーティング上に配置された硬質陽極酸化コーティングを含み、研磨されたアルミニウムコーティングは、8Ra又はより平滑な仕上げ面に研磨されている、プラズマ処理装置内で使用するためのチャンバコンポーネント。研磨されたアルミニウムコーティングは、非機械的に研磨される請求項1記載のチャンバコンポーネント。研磨されたアルミニウムコーティングは、高純度アルミニウムの層を含む請求項1記載のチャンバコンポーネント。研磨されたアルミニウムコーティングは、電着又はイオン蒸着IVD法の少なくとも1つを用いてアルミニウム本体の外面上に配置される請求項1記載のチャンバコンポーネント。硬質陽極酸化コーティングは、スコッチブライト等の非堆積材料によって更に機械的にクリーニングされる請求項1記載のチャンバコンポーネント。基板を支持するように適合された基板台座部を有するプラズマ処理チャンバ内で使用するための装置であって、貫通して形成され、プラズマの荷電種及び中性種の空間分布を制御するように構成された複数の開口部を有するプレートであって、前記プレートは、前記プレートの外面上に配置されたアルミニウムの研磨層と、前記アルミニウム層上に配置された硬質陽極酸化コーティングを有し、前記アルミニウム層は、8Ra又はより平滑な仕上げ面に研磨されているプレートを含む装置。台座部の上方でプレートを支持する複数の支持脚部を含む請求項6記載の装置。アルミニウムの研磨層は、非機械的に研磨される請求項6記載の装置。アルミニウムの研磨層は、高純度アルミニウムの層を含む請求項6記載の装置。アルミニウムの研磨層は、電着又はイオン蒸着IVD法の少なくとも1つを用いてアルミニウム本体の外面上に配置される請求項6記載の装置。硬質陽極酸化コーティングは、スコッチブライト等の非堆積材料によって更に機械的にクリーニングされる請求項6記載の装置。プラズマ処理環境内で使用するためのチャンバコンポーネントの製造方法であって、アルミニウムからチャンバコンポーネントの本体を形成する工程と、本体の表面を研磨する工程と、本体上にアルミニウムの層を堆積させる工程と、アルミニウム層の表面を研磨する工程と、アルミニウム層を硬質陽極酸化処理する工程を含む方法。アルミニウム層の表面を研磨する工程は、8Ra又はより平滑な仕上げ面にアルミニウム層の表面を研磨する工程を含む請求項12記載の方法。アルミニウム層の表面を研磨する工程は、アルミニウム層の表面を非機械的に研磨する工程を含む請求項12記載の方法。アルミニウムの層を堆積させる工程は、電着又はイオン蒸着IVD法の少なくとも1つを用いてアルミニウムの層を堆積させる工程を含む請求項12記載の方法。スコッチブライト等の非堆積材料によって硬質陽極酸化層を機械的にクリーニングする工程を含む請求項12記載の方法。