"次の工程AおよびBA式1式中、Aは酸素原子を含んでいてもよい炭素数1~12の2価の有機基を、Xは酸素原子又は硫黄原子を示し、Qはラジカルとして脱離して、ビニル炭素を遊離基付加に向けて活性化することが可能な官能基を示すで表わされるビニルエーテルを開始種とし、ルイス酸の存在下、カチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合する工程、B前記工程により得られたリビングポリマーをマクロ連鎖移動剤として、ラジカル重合開始剤の存在下、ラジカル重合可能なビニル系モノマーをリビングラジカル重合する工程を含む、ブロック共重合体の製造方法。Qで示される官能基が、-CR2CN、-CCH32Ar、-CHCOORAr、-CCH32COOR、-CCH32CONHR、-CCH32CONR2、-CCH32R、-CHCH3Ar、-CH2Ar、-CR2COOH、-CRCN-CH2a-COOH、及び-CRCN-CH2a-OHここで、Rは炭素数1~12のアルキル基を表し、Arは非置換又は置換フェニル、ナフチル、アントラセニル、ピレニル又はピリジル基を表し、aは1~8の整数を示すからなる群から選ばれる官能基である請求項1に記載のブロック共重合体の製造方法。Aで示される2価の有機基が、炭素数1~12の2価のアルキル基又は-CH2CH2-OCH2CH2b-ここで、bは1~5の整数を示す等である請求項1又は2に記載に記載のブロック共重合体の製造方法。Qで示される官能基がベンジル基である請求項1に記載のブロック共重合体の製造方法。カチオン重合可能なビニル系モノマーが、アルケニルエーテルである請求項1~4の何れかに記載のブロック重合体の製造方法。アルケニルエーテルが、次の式4式中、R2は水素原子、メチル基又はエチル基を示し、R3はケイ素原子又は15族から17族の元素のうち少なくとも一つの原子を含んでいてもよい1価の有機基を示すで表されるアルケニルエーテルである請求項5記載のブロック重合体の製造方法。ラジカル重合可能なビニル系モノマーが、酢酸ビニル、スチレン、スチレン誘導体、メタアクリル酸、メタアクリル酸誘導体、メタアクリルアミド、メタアクリルアミド誘導体及びN-ビニルピロリドンからなる群より選択される少なくとも1種である請求項1~6の何れかに記載のブロック重合体の製造方法。次の式1式中、Aは酸素原子を含んでいてもよい炭素数1~12の2価の有機基を、Xは酸素原子又は硫黄原子を示し、Qはラジカルとして脱離して、ビニル炭素を遊離基付加に向けて活性化することが可能な官能基を示すで表わされるビニルエーテルを開始種とし、ルイス酸の存在下、カチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合することを特徴とする、可逆的付加開裂連鎖移動重合可能なマクロ連鎖移動剤の製造方法。本発明は、簡便な方法で様々なカチオン重合性モノマーとラジカル重合性モノマーのブロック共重合体を得る方法の提供、特に、安定性に優れた上記ブロック共重合体を得る方法の提供をその課題とするものである。上記の課題を達成するため、本発明者は、ビニルエーテル等のリビングカチオン重合において開始種として使用可能な化合物について、種々検討を行ない、ザンテートまたはトリチオカーボネート基を含むビニルエーテルを開発した。そして、このビニルエーテルを使用することで、リビングカチオン重合とリビングラジカル重合の両方を実施できることを見出し、本発明を完成した。すなわち本発明は、次の工程AおよびBA式1式中、Aは酸素原子を含んでいてもよい炭素数1~12の2価の有機基を、Xは酸素原子又は硫黄原子を示し、Qはビニル炭素を遊離基付加に向けて活性化できる官能基を示すで表わされるビニルエーテルを開始種とし、ルイス酸の存在下、カチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合する工程、B前記工程により得られたリビングポリマーをマクロ連鎖移動剤として、ラジカル重合開始剤の存在下、ラジカル重合可能なビニル系モノマーをリビングラジカル重合する工程を含む、ブロック共重合体の製造方法を提供するものである。本発明のブロック共重合体の製造方法によれば、簡便な方法で様々なカチオン重合性モノマーとラジカル重合性モノマーのブロック共重合体を提供することができる。得られたブロック共重合体は、ヘミアセタールエステル結合を有しないため安定性に優れ、高分子界面活性剤、インキ、熱可塑性エラストマー、塗料、接着剤、高分子樹脂への添加剤改質剤、リソグラフィーのテンプレート剤等の用途に好適に用いることができる。Aリビングカチオン重合工程本発明方法においては、まず、前記式1のビニルエーテルを開始種とし、ルイス酸の存在下、カチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合する工程A。このリビングカチオン重合において開始種として使用されるビニルエーテルは、上記式1で示される構造を有しており、可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を有するものである。この式1においてQで示される官能基は、後記工程Bにおいてラジカルとして脱離し、ビニル炭素を遊離基付加に向けて活性化することが可能な官能基であって、具体的には、-CR2CN、-CCH32Ar、-CHCOORAr、-CCH32COOR、-CCH32CONHR、-CCH32CONR2、-CCH32R、-CHCH3Ar、-CH2Ar、-CR2COOH、-CRCN-CH2a-COOH、及び-CRCN-CH2a-OHここで、Rは炭素数1~12のアルキル基を表し、Arは非置換又は置換フェニル、ナフチル、アントラセニル、ピレニル又はピリジル基を表し、aは1~8の整数を表す等の官能基が挙げられる。これらのなかでもベンジル基又はターシャリーアルキル基が好ましく、ベンジル基が特に好ましい。式1において、Aで示される酸素原子を含んでいてもよい炭素数1~12の2価の有機基としては、具体的には、炭素数1~12の2価のアルキル基又は-CH2CH2-OCH2CH2b-ここで、bは1~4の整数を表す等が挙げられる。このようなビニルエーテルの好適な例として、下記式2で表される化合物を挙げることができる。式中、Xは、酸素原子又は硫黄原子を示す前記式1で示されるビニルエーテルはカチオン重合性を有しており、ハロゲン化水素やカルボン酸等と反応させて、下記式3で表される酸付加物とすることにより、リビングカチオン重合の開始種に用いることができる。[式中、A、X、Qは式1と同義であり、Zはハロゲン原子又はR1COO-ここで、R1はフッ素で置換されていてもよい炭化水素基を示すで示されるカルボン酸残基を示す]ここで、ハロゲン原子としては、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子、フッ素原子を挙げることができ、R1で示されるフッ素で置換されていてもよい炭化水素基としては、メチル基、フェニル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロフェニル基などを挙げることができる。このような酸付加物の中でも、塩酸付加物又はトリフルオロ酢酸付加物等が好ましい。該酸付加物の使用量は、必ずカチオン重合可能なビニル系モノマーよりも少なく、カチオン重合可能なビニル系モノマー1モルに対して0001モル以上1モル未満であるのが好ましい。リビングカチオン重合において使用されるカチオン重合可能なビニル系モノマーは特に限定されないが、具体的には、アルケニルエーテル、インデン、N-ビニルカルバゾール、スチレン類が挙げられる。好適には、スチレン、メトキシスチレンo、m、p体、メチルスチレンo、m、p体、クロロスチレンo、m、p体等のスチレン類及び下記一般式4で示されるアルケニルエーテルが好ましく使用される。式中、R2は、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、R3は、ケイ素原子又は15族から17族の元素のうち少なくとも一つの原子を含んでいてもよい1価の有機基を示す上記一般式4中、R3で示される1価の有機基の基本骨格としては、炭素数1~24の直鎖、分岐鎖又は環状の飽和又は不飽和の炭化水素基が挙げられる。また、15族から17族の元素としては、酸素、窒素、リン、イオウ、ハロゲン等が挙げられ、さらに酸素、窒素、イオウ、ハロゲンが好ましく、特に酸素、ハロゲンが好ましい。酸素を含む置換基としては、炭素数1~12のアルコキシ基が好ましい。ケイ素を含む置換基としては、アルキルシリル基、ジアルキルシリル基、トリアルキルシリル基が挙げられる。ハロゲンとしてはフッ素が特に好ましい。また、R3の好ましい例としては、フッ素原子又はアルコキシ基が置換していてもよい、炭素数1~24の直鎖、分岐鎖又は環状の飽和又は不飽和炭化水素基が好ましい。ここで、炭化水素基としては、炭素数1~12の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数5~12のシクロアルキル基、炭素数6~10のアリール基、炭素数6~14のアリールアルキル基が挙げられる。更に、R3のより好ましい例としては、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖アルキル基、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖アルキル基であって全部又は一部の水素がフッ素に置換されたフルオロアルキル基、炭素数2~6のアルコキシアルキル基、炭素数5~10のシクロアルキル基又は次の式5で表されるアリール基又はアリールアルキル基を挙げることができる。ここで、pは0、1、2又は3であり、R4は未置換のフェニル基又は、一つ又はそれ以上の炭素数1~4の直鎖又は分岐鎖アルキル基、1~4の直鎖又は分岐鎖アルキル基であって全部又は一部の水素がフッ素に置換されたフルオロアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基又はハロゲン原子によって置換されたフェニル基である炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖アルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基、n-アミル基、イソアミル基等が挙げられ、炭素数1~6のフルオロアルキル基としてはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基などが挙げられ、炭素数2~6のアルコキシアルキル基としてはメトキシ基メチル基、エトキシメチル基、2-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、2-テトラヒドロピラニル基、2-テトラヒドロフラニル基等が挙げられ、炭素数5~10のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ビシクロ[2.2.1]ヘプチル基、ビシクロ[2.2.2]オクチル基、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカニル基、アダマンチル基などが挙げられ、アリール基としてはフェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基等が挙げられ、アリールアルキル基としてはベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、フルオロベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基等が挙げられる。上述した一般式4で示されるアルケニルエーテルの具体例として、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、sec-ブチルビニルエーテル、tert-ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、n-アミルビニルエーテル、イソアミルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類;トリフルオロメチルビニルエーテル、ペンタフルオロエチルビニルエーテル、2,2,2-トリフルオロエチルビニルエーテル等のフルオロアルキルビニルエーテル類;2-メトキシエチルビニルエーテル、2-エトキシエチルビニルエーテル、2-テトラヒドロピラニルビニルエーテル、2-テトラヒドロフラニルビニルエーテル等のアルコキシアルキルビニルエーテル類;シクロペンチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘプチルビニルエーテル、シクロオクチルビニルエーテル、2-ビシクロ[2.2.1]ヘプチルビニルエーテル、2-ビシクロ[2.2.2]オクチルビニルエーテル、8-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカニルビニルエーテル、1-アダマンチルビニルエーテル、2-アダマンチルビニルエーテル等のシクロアルキルビニルエーテル類;フェニルビニルエーテル、4-メチルフェニルビニルエーテル、4-トリフルオロメチルフェニルビニルエーテル、4-フルオロフェニルビニルエーテル等のアリールビニルエーテル類;ベンジルビニルエーテル、4-フルオロベンジルビニルエーテル等のアリールアルキルビニルエーテル類等が挙げられる。この中でも特に、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、sec-ブチルビニルエーテル、tert-ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、n-アミルビニルエーテル、イソアミルビニルエーテル等の低級アルキルビニルエーテル類を好ましく用いることができる。カチオン重合性可能なビニル系モノマーは、上記モノマーの中から1種類を選んで使用してもよいし、2種以上を混合して用いても良い。リビングカチオン重合は、ルイス酸の存在下に行うのが好ましく、さらにルイス酸及びルイス塩基の存在下に行うのが好ましい。本発明に用いられるルイス酸としては、マグネシウム、ホウ素、アルミニウム、シリコン、リンさらには第4周期以降の元素のハロゲン化物、又はこれら元素の有機金属化合物を挙げることができる。特に好ましくは、SnCl4及びZnCl2が挙げられる。これらの触媒はリビングカチオン重合条件において、比較的早い重合速度を有しているためである。上述のルイス酸の使用量としては、可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するビニルエーテル酸付加物1モルに対して0.001~1モルであるのが好ましい。本発明に用いられるルイス塩基としては、エーテル化合物類、カルボニル基含有化合物類が代表的であり、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸フェニル、酪酸エチル、クロル酢酸エチル、ステアリン酸エチル、安息香酸エチル、安息香酸フェニル、フタル酸ジエチル、イソフタル酸ジエチル等のエステル;無水酢酸等の酸無水物;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;エチルフタルイミド等のイミド及び2,6-ジ-tert-ブチルピリジン等が挙げられる。これらのなかでも、ジオキサン、2,6-ジ-tert-ブチルピリジン、酢酸エチルが特に好ましく使用される。ルイス塩基の使用量としては、カチオン重合可能なビニル系モノマー1モルに対して0.01~100モルであるのが好ましい。また、リビングカチオン重合は、溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒は、反応に不活性なものであれば特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、塩化メチル、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、ニトロメタン、ニトロエタン等のニトロ化合物、へキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン等の飽和炭化水素等、又はこれらの混合溶媒が挙げられるが、中でも、ヘキサン及びトルエンが好ましく使用される。リビングカチオン重合の温度は、通常、-120~100°Cの間、好ましくは-80~30°Cの間である。重合時間は特に限定されず、カチオン重合可能なビニル系モノマーや可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するビニルエーテル酸付加物の種類や使量等により調製できる。リビングカチオン重合により目的のカチオン重合可能なビニル系モノマーのリビングポリマーが得られた後に、反応液にアルコールや水を加え、重合を停止することができる。重合停止に用いるアルコールの具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブタノール等であり、中でもメタールが好んで使用される。重合停止剤の使用量はルイス酸1モルに対して、1モル~100モル使用するのが好ましい。このようなリビングカチオン重合は、可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するビニルエーテル1から、その酸付加物3を経て進行し、カチオン重合可能なビニル系モノマーのリビングポリマーが得られる。例えば、開始種として一般式2で示されるビニルエーテルを使用し、カチオン重合可能なビニル系モノマーとして一般式4で示されるアルケニルエーテルを利用した場合、得られる重合体は下記式6の構造を有する。式中、Xは式2と同義であり、R2およびR3は式4と同義であり、nは繰り返し数を示すBリビングラジカル重合工程本発明方法では、次に前記工程Aにより得られたリビングポリマーをマクロ連鎖移動剤として、ラジカル重合開始剤の存在下、ラジカル重合可能なビニル系モノマーをリビングラジカル重合する工程B。工程Aで得られたリビングポリマーは、高分子鎖末端に可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有しているので、リビングラジカル重合の一つである可逆的付加開裂連鎖移動重合のマクロ連鎖移動剤として用いることができる。可逆的付加開裂連鎖移動重合によるリビングラジカル重合は、工程Aで得られたリビングポリマーの存在下に、ラジカル重合可能なビニル系モノマー及びラジカル重合開始剤を加え、加温することで達成される。ラジカル重合可能なビニル系モノマーは、ラジカル重合可能なものであれば特に限定されないが、下記一般式7で表されるものが好ましい。式中、R5、R6及びR7は、同一又は異なり、水素原子又はハロゲン置換もしくは非置換の低級アルキルを示し、R8は有機基を示す具体的には、スチレン及びスチレン誘導体、メタアクリル酸及びメタアクリル酸誘導体、メタアクリルアミド及びメタアクリルアミド誘導体、メタアクリロニトリル、イソプレン、1,3-ブタジエン、エチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、N-ビニルインドール、N-ビニルフタルイミド、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルカプロラクタム等が挙げられる。なかでも、一般式2において、Xが酸素原子である可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有する重合体を用いる場合には、酢酸ビニル、N-ビニルインドール、N-ビニルフタルイミド、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルカプロラクタム等のラジカル重合可能な非共役モノマーが好ましく、一般式2において、Xが硫黄原子である可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有する重合体を用いる場合には、スチレン及びスチレン誘導体、メタアクリル酸及びメタアクリル酸誘導体、メタアクリルアミド及びメタアクリルアミド誘導体等のラジカル重合可能な共役モノマーが好ましい。スチレン及びその誘導体としては、具体的には、スチレン、tert-ブチルスチレンo、m、p体、tert-ブトキシスチレンo、m、p体、アセトキシスチレンo、m、p体、ヒドロキシスチレンo、m、p体、イソプロペニルフェノールo、m、p体、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、クロルスチレンo、m、p体、スチレンスルホン酸o、m、p体及びその塩等が挙げられる。これらの中でも、スチレン、tert-ブチルスチレン、tert-ブトキシスチレンがより好ましく使用される。メタアクリル酸及びその誘導体としては、具体的には、メタアクリル酸、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸n-プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸n-ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸tert-ブチル、メタアクリル酸n-ペンチル、メタアクリル酸n-ヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸n-ヘプチル、メタアクリル酸n-オクチル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸ノニル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸ドデシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸トルイル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸2-メトキシエチル、メタアクリル酸3-メトキシブチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸ステアリル、メタアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸2-アミノエチル、γ-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、メタアクリル酸のエチレンオキサイド付加物、メタアクリル酸トリフルオロメチルメチル、メタアクリル酸2-トリフルオロメチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチル-2-パーフルオロブチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチル、メタアクリル酸パーフルオロメチル、メタアクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、メタアクリル酸2-パーフルオロメチル-2-パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロヘキシルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロデシルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロヘキサデシルエチル等が挙げられる。これらの中でも、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル等がより好ましく使用される。メタアクリルアミド及びその誘導体としては、メタアクリルアミド、N-メチルメタアクリルアミド、N-エチルメタアクリルアミド、N-イソプロピルメタアクリルアミド、N-n-ブチルメタアクリルアミド、N-tert-ブチルメタアクリルアミド等のN-アルキルメタアクリルアミド;N、N-ジメチルアクリルアミド等のN、N-ジアルキルアクリルアミド等が挙げられ、なかでもN-イソプロピルメタアクリルアミド等がより好ましく使用される。ラジカル重合可能なビニル系モノマーは、上記モノマーの中から1種類を選んで使用してもよいし、2種以上を混合して用いても良い。ラジカル重合開始剤としては、任意の適切なラジカル重合開始剤を採用し得る。好ましくは、熱によりラジカルを発生する開始剤である。このようなラジカル重合開始剤として代表的なものとして、種々のアゾ化合物及び有機過酸化物を挙げることができる。アゾ化合物としては、具体的には、2,2’-アゾビスイソブチロニトリルAIBN、2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリルなどの2,2’-アゾビスブチロニトリル類;2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルなどの2,2’-アゾビスバレロニトリル類;2,2’-アゾビス2-ヒドロキシメチルプロピオニトリルなどの2,2’-アゾビスプロピオニトリル類;1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリルなどの1,1’-アゾビス-1-アルカンニトリル類;2,2’-アゾビスイソ酪酸ジメチル等を挙げることができる。有機過酸化物としては、具体的には、ジ-tert-ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、tert-ブチルクミルパーオキサイド、α,α’-ビスtert-ブチルパーオキシ-m-イソプロピルベンゼン、2,5-ジtert-ブチルパーオキシヘキシン-3などのジアルキルパーオキサイド類;tert-ブチルパーオキシベンゾエート、tert-ブチルパーオキシアセテート、2,5-ジメチル-2,5-ジベンゾイルパーオキシヘキサンなどのパーオキシエステル類;シクロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5-トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類;2,2-ビス4、4-ジ-tert-ブチルパーオキシシクロヘキシルプロパン、1,1-ビスtert-ブチルパーオキシ3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビスtert-ブチルパーオキシシクロヘキサン、n-ブチル-4,4-ビスtert-ブチルパーオキシバレートなどのパーオキシケタール類;クメンヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5-ジメチルシクロヘキサン-2,5-ジハイドロパーオキサイドなどのハイドロパーオキサイド類;ベンゾイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、2,4-ジクロロベンゾイルパーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類;ビスtert-ブチルシクロヘキシルパーオキシジカーボネートなどのパーオキシジカーボネート類等を挙げることができる。これらの中でも、入手と取り扱いが容易なのはAIBNである。可逆的付加開裂連鎖移動重合を行うに当たっては、溶媒を使用しても、また使用しなくても良い。使用できる溶媒としては、重合反応を阻害しないものでなければ何れでも良いが、例えば、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン及びデカン等の脂肪族炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン及びデカヒドロナフタレンのような脂環族炭化水素系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素及びテトラクロルエチレン等の塩素化炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、sec-ブタノール及びtert-ブタノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸エチル及びジメチルフタレート等のエステル系溶媒、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジ-n-アミルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキシアニソールのようなエーテル系溶媒等をあげることができる。また、水を溶媒とすることもできる。これらの溶媒は、単独もしくは2種以上を混合して使用してもよい。可逆的付加開裂連鎖移動重合反応の反応温度は、好ましくは20~120°Cであり、より好ましくは40~100°Cである。上記反応の反応時間は、試薬量、反応温度によって異なるが、好ましくは2~50時間であり、より好ましくは2~24時間である。反応混合物からのブロック共重合体の回収は、重合の反応温度を下げること等で重合を停止させた後、反応混合物から揮発分を留去する方法、又は大量の貧溶媒を添加し、ポリマーを沈殿させ分離する方法、又は水溶性ポリマーの場合は、水中での透析等にて行われる。本発明の製造方法により製造されるブロック共重合体の数平均分子量は、可逆的付加開裂連鎖移動剤と加えたモノマーの比率にもよるが、1000~5000000であるのが好ましく、さらには2000~3000000であるのが好ましい。以上説明した本発明の製造方法により得られるブロック共重合体は、ヘミアセタールエステル結合を有しないため安定性に優れ、高分子界面活性剤、インキ、熱可塑性エラストマー、塗料、接着剤、高分子樹脂への添加剤改質剤、リソグラフィーのテンプレート等の用途にも有用である。また、本発明の製造方法を用いることで、様々なカチオン重合性モノマーとラジカル重合性モノマーのブロック共重合体を提供できる。次に実施例および合成例により本発明を一層詳細に説明するが、本発明はこれら実施例等により何ら制約されるものではない。なお、以下の実施例における測定は、次の測定方法に従った。1重量平均分子量Mw、数平均分子量Mn及び重量平均分子量と数平均分子量の比MwMnは、ポリスチレンゲル換算のゲル濾過クロマトグラフィーGPCで測定した[RI検出器、カラム東ソー株製TSKgelカラムGHR-M×3、溶離液はテトラヒドロフラン]。21HNMRは、JEOL社製JMNAL300を用い、サンプルを重クロロホルムに溶解して測定した。合成例1S-ベンジル-O-2-ビニロキシエチルジチオカーボナートの合成以下の反応式に従い、下記の手順で合成した。1Lの丸底フラスコに、1,1’-チオカルボニルジイミダゾール3.6g20.2mmol、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル純度951.9mL20.2mmolおよびトルエン60mL加え、60°Cにて6時間還流した。その後室温まで放冷し、水酸化カリウム0.05g0.89mmolおよびベンジルメルカプタン2.4mL20.5mmolを加え、再度60°Cにて6時間還流した。得られた溶液をろ過した後、ろ液をエバポレートし、シリカゲルカラム酢酸エチル:ヘキサン=1:10体積比にて分離精製して、S-ベンジル-O-2-ビニロキシエチルジチオカーボナートを得た収量2.57g、原料2-ヒドロキシエチルビニルエーテルに対し収率50。得られたS-ベンジル-O-2-ビニロキシエチルジチオカーボナートの構造は、1HNMR測定により同定した。図1に、得られたS-ベンジル-O-2-ビニロキシエチルジチオカーボナートの1HNMR測定結果を示す。実施例1ポリイソブチルビニルエーテルとポリ酢酸ビニルのブロック共重合体の合成Aリビングカチオン重合工程合成例1で得られたS-ベンジル-O-2-ビニロキシエチルジチオカーボナートを用い、イソブチルビニルエーテルのリビングカチオン重合を実施した。まず、S-ベンジル-O-2-ビニロキシエチルジチオカーボナートをヘキサンに溶解し、40mmol/L溶液に調整した。その溶液に乾燥HClガスを吹き込み、S-ベンジル-O-2-ビニロキシエチルジチオカーボナートの塩酸付加体ヘキサン溶液40mmol/Lを調整した。トルエン7.8mL、酢酸エチル3.0mL、イソブチルビニルエーテル1.2mLおよびS-ベンジル-O-2-ビニロキシエチルジチオカーボナートの塩酸付加体ヘキサン溶液40mmol/L4.0mLをトルエン12.0mLで薄めた溶液つまり10mmol/L2.5mLを、この順で三方活栓付フラスコに窒素下で加え、そこから三方活栓付試験管6本に其々4.5mLずつ小分けし、0°Cに冷却したこれをAとする。三方活栓付試験管に1.0mol/Lの四塩化スズ0.1mLをトルエン9.9mLで希釈した溶液10mmol/Lを入れ、0°Cに冷却したこれをBとする。AにBを各々0.5mLずつ加え、激しく攪拌し、0°Cのまま、それぞれ1分、2分、3分、7分後にアンモニア水を0.1重量含むメタノールを加えて重合を停止した。得られた反応混合物をジクロロメタンに溶解し、0.6N塩酸水で洗浄し、触媒残査を除去した。全ての溶媒をエバポレートした後、減圧下で乾燥し、重合体を得た。各重合時間におけるイソブチルビニルエーテルの重合率即ち、モノマーの転化率及びGPCより測定したるMn、MwMnは表1に示す通りであった。なお、重合率は重量法により求めた。また、得られた重合体の構造は、1HNMRより下記式8のように推定され、末端に可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するポリイソブチルビニルエーテルが得られたことが確認された。図2に、得られたポリイソブチルビニルエーテル重合時間7分間の1HNMR測定結果を示す。式中、nは各構造単位の繰り返し数を表わすBリビングラジカル工程工程Aで7分間重合して得られた末端に可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するポリイソブチルビニルエーテル0.397g、酢酸ビニル1.087g、アゾビスイソブチロニトリル2.0mgおよびトルエン1.612gを三方活栓付き試験管に加え、その試験管を脱気した後、窒素下、70°Cに加温して重合した。50時間後に試験管を空気下にし、氷水で冷却することで重合を停止した。重合は約50時間で30進行し、Mnが10000まで上昇した。このときMw/Mnは115であった。1HNMRの分析結果から、下記式9で示されるポリイソブチルビニルエーテルとポリ酢酸ビニルのブロック共重合体が得られたことが確認された。式中、n及びmは各構造単位の繰り返し数を表わす合成例2ベンジル2-ビニロキシエチルトリチオカーボナートの合成以下の反応式に従い、下記の手順で合成した。ジムロートを取り付けた1L丸底フラスコに、リン酸カリウム46g0.22mol、アセトン760mLを加え、室温で1.5時間攪拌した。そこへベンジルメルカプタン25.4mL0.22molおよび二硫化炭素39.2mL0.65molを加え、2時間攪拌した。その後、2-クロロエチルビニルエーテルを44mL0.43mol加え、43時間攪拌した。得られた溶液をろ過し、ろ液中のアセトンを含む低沸点物をエバポレートし、残液をヘキサンに溶解させ、水で洗浄した。洗浄したヘキサン溶液に水酸化カリウムを加え一晩予備乾燥した。ヘキサンをエバポレートした後、シリカゲルカラム酢酸エチル:ヘキサン=1:15体積比にて分離精製し、ベンジル2-ビニロキシエチルトリチオカーボナートを得た。収量17.6g、原料ベンジルメルカプトンに対し収率30。得られたベンジル2-ビニロキシエチルトリチオカーボナートの構造は、1HNMR測定により同定した。図3に得られたベンジル2-ビニロキシエチルトリチオカーボナートの1HNMR測定結果を示す。実施例2ポリイソブチルビニルエーテルとポリアクリル酸エチルのブロック共重合体の合成Aリビングカチオン重合工程合成例2で得られたベンジル2-ビニロキシエチルトリチオカーボナートを用い、イソブチルビニルエーテルのリビングカチオン重合を実施した。まず、ベンジル2-ビニロキシエチルトリチオカーボナートをヘキサンに溶解し、20mmol/L溶液に調整した。その溶液に乾燥HClガスを吹き込み、ベンジル2-ビニロキシエチルトリチオカーボナートの塩酸付加体ヘキサン溶液20mmol/Lを調整した。トルエン5.8mL、イソブチルビニルエーテル0.6mLおよびベンジル2-ビニロキシエチルトリチオカーボナートの塩酸付加体ヘキサン溶液20mmol/Lをトルエンで薄めて10mmol/Lとしたもの8.0mLを、この順で三方活栓付フラスコに窒素下で加え、そこから三方活栓付試験管7本に其々1.8mLずつ小分けし、0°Cに冷却したこれをAとする。三方活栓付試験管に0.1mmol/Lの塩化亜鉛トルエン溶液を入れ、0°Cに冷却したこれをBとする。AにBを0.2mLずつ加え、激しく攪拌し、0°Cのまま、それぞれ0.5分、1分、5分、7分、10分、13分、15分後にアンモニア水を0.1重量含むメタノールを加え重合を停止した。得られた反応混合物をジクロロメタンに溶解し、0.6N塩酸水で洗浄し、触媒残査を除去した。全ての溶媒をエバポレートした後、減圧下で乾燥し、重合体を得た。各重合時間におけるイソブチルビニルエーテルの重合率即ち、モノマーの転化率及びGPCより測定したMn、Mw/Mnは表2に示す通りであった。なお、重合率は重量法により求めた。また、得られた重合体の構造は、1HNMRより下記式10のように推定され、末端に可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するポリイソブチルビニルエーテルが得られたことを確認した。図4に、得られたポリイソブチルビニルエーテル重合時間7分間の1HNMR測定結果を示す。式中、nは各構造単位の繰り返し数を表わすBリビングラジカル重合工程工程Aで7分間重合して得られた、末端に可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するポリイソブチルビニルエーテル0.094g、アクリル酸エチル0.33mL、アゾビスイソブチロニトリル0.5mgおよびトルエン1.845mLを三方活栓付き試験管に加え、その試験管を脱気した後、窒素下70°Cに加温して重合した。50時間後試験管を空気下にし、氷水で冷却することで重合を停止した。重合は約24時間でほぼ100進行し、Mnが8300まで上昇した。このときMw/Mnは1.42であった。1HNMRの分析結果から、下記式11で示されるポリイソブチルビニルエーテルとポリアクリル酸エチルのブロック共重合体が得られたことが確認された。式中、nおよびmは各構造単位の繰り返し数を表わす"