被測定物体の表面粗さを非接触且つ非光学方式で測定する粗さ測定装置であって、前記被測定物体の表面上の所定領域を測定エリアとすると共に、前記測定エリア内の表面粗さに対応する信号を出力する粗さセンサと、前記粗さセンサの出力に基づいて、前記測定エリアの表面粗さの測定値を出力する粗さ検出部と、を備えることを特徴とする粗さ測定装置。前記粗さセンサは、前記測定エリア内の表面粗さの平均値に対応する信号を出力することを特徴とする請求項1に記載の粗さ測定装置。前記粗さセンサは、前記表面粗さに対応するインピーダンス変化を出力する渦電流式のセンサであることを特徴とする請求項1又は2に記載の粗さ測定装置。前記粗さセンサは、前記表面粗さに対応するキャパシタンス変化を出力する電気容量式のセンサであることを特徴とする請求項1又は2に記載の粗さ測定装置。前記被測定物体の表面と前記粗さセンサのセンサ面との離間距離であるリフトオフ量が一定となるように、前記粗さセンサを保持する接触治具を備えることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の粗さ測定装置。前記被測定物体の表面と前記粗さセンサのセンサ面との離間距離であるリフトオフ量を検出する少なくとも1つの位置検出センサと、前記位置検出センサが検出したリフトオフ量を基に、前記粗さ検出部から出力された表面粗さの測定値を補正するリフトオフ補正部と、を備えていることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の粗さ測定装置。日本工業規格で規定された粗さパラメータの値と前記表面粗さの測定値との関係を予め有しており、前記粗さ検出部から出力された表面粗さの測定値を、日本工業規格で規定された粗さパラメータの値に換算して出力する粗さパラメータ補正換算部を備えることを特徴とする請求項1~6のいずれかに記載の粗さ測定装置。前記粗さセンサを被測定物体の表面に沿って移動させるセンサ移動手段を備えていて、前記粗さ検出部は、前記センサ移動手段によって移動する粗さセンサからの出力に基づいて、被測定物体における連続した複数の測定エリアでの表面粗さの測定値を出力するように構成されていることを特徴とする請求項1~7のいずれかに記載の粗さ測定装置。前記粗さ検出部は、被測定物体における複数の測定エリアでの表面粗さの測定値を移動平均し、その結果を出力する移動平均粗さ算出部を備えていることを特徴とする請求項8に記載の粗さ測定装置。前記移動平均粗さ算出部は、移動平均を計算するための移動平均区間長を有しており、前記移動平均粗さ算出部は、移動平均区間長内に存在する複数の表面粗さの測定値の平均値を算出し、得られた平均値を移動平均粗さとして出力するように構成されていることを特徴とする請求項9に記載の粗さ測定装置。前記移動平均粗さのばらつきが所定値以内となるように、前記移動平均区間長の長さが設定されていることを特徴とする請求項10に記載の粗さ測定装置。上述した従来の表面粗さ測定は、主に、滑らかな面、例えば鏡面加工された面に存在する微少な凹凸を測定することを念頭に置いているものであり、滑らかな被測定面の表面粗さを規定評価するために用いられている。しかし現実には、物体表面を意図的に粗面加工し、サンドペーパのような粗い面を形成することはよく行われており、その加工処理工程では、加工面の粗さが所望の程度となっているか否かを評価することが求められる。このような場合、JISで規定された触針式表面粗さ測定で用いられる装置では、例えば、上述のサンドペーパのような、大きな凹凸で構成された非常に粗い面の表面粗さの測定及び評価において、大きな凹凸に触針が追従できなかったり、変位可能な範囲測定レンジを超えてしまうという問題がある。言うまでもなく、触針式表面粗さ測定は1次元での変位量を検出するものであるので、測定場所によって粗さにばらつきがある非常に粗い表面では、多くの測定回数が必要となり、測定対象全体の表面粗さを評価するには、非常に長時間を要するという問題もある。また、特許文献1に開示の電気容量式表面あらさ測定器のような、電気容量式表面粗さ測定で用いられる装置は、測定対象に接触して表面粗さを測定するので、測定対象表面の凹凸によってセンサ面が劣化及び損傷するという問題がある。さらに、測定対象表面が水で濡れていると、水の著しく高い誘電率が、測定電極の動作に大きな影響を及ぼしてしまい、正確な表面粗さの測定ができなくなる。ところが、工場などの生産現場においては、湿気などの環境を管理することは難しく、当然に、このような場所での測定は困難となる。上述の光波干渉式表面粗さ測定は、すでに述べた接触式の表面粗さ測定とは異なり、非接触式であるが、意図的に粗面加工された非常に粗い表面に測定光を照射すると、当該表面で測定光が乱反射して散乱してしまい、表面粗さの測定が非常に困難になる。そこで本発明は、上記問題点に鑑み、非接触且つ非光学方式の簡便な構成で、大きな凹凸で構成された非常に粗い表面の粗さを、測定対象表面の湿気の影響を受けることなく、かつ短時間で測定することができる粗さ測定装置を提供することを目的とする。上述の目的を達成するため、本発明においては以下の技術的手段を講じた。本発明の粗さ測定装置は、被測定物体の表面粗さを非接触且つ非光学方式で測定する粗さ測定装置であって、前記被測定物体の表面上の所定領域を測定エリアとすると共に、前記測定エリア内の表面粗さに対応する信号を出力する粗さセンサと、前記粗さセンサの出力に基づいて、前記測定エリアの表面粗さの測定値を出力する粗さ検出部と、を備えることを特徴とする。ここで、前記粗さセンサは、前記測定エリア内の表面粗さの平均値に対応する信号を出力するものであってもよい。好ましくは、前記粗さセンサは、前記表面粗さに対応するインピーダンス変化を出力する渦電流式のセンサであってもよい。好ましくは、前記粗さセンサは、前記表面粗さに対応するキャパシタンス変化を出力する電気容量式のセンサであってもよい。ここで、前記被測定物体の表面と前記粗さセンサのセンサ面との離間距離であるリフトオフ量が一定となるように、前記粗さセンサを保持する接触治具を備えていてもよい。ここで、本発明の粗さ測定装置は、前記被測定物体の表面と前記粗さセンサのセンサ面との離間距離であるリフトオフ量を検出する少なくとも1つの位置検出センサと、前記位置検出センサが検出したリフトオフ量を基に、前記粗さ検出部から出力された表面粗さの測定値を補正するリフトオフ補正部と、を備えていてもよい。また、日本工業規格で規定された粗さパラメータの値と前記表面粗さの測定値との関係を予め有しており、前記粗さ検出部から出力された表面粗さの測定値を、日本工業規格で規定された粗さパラメータの値に換算して出力する粗さパラメータ補正換算部を備えていてもよい。さらに、本発明の粗さ測定装置は、前記粗さセンサを被測定物体の表面に沿って移動させるセンサ移動手段を備えていて、前記粗さ検出部は、前記センサ移動手段によって移動する粗さセンサからの出力に基づいて、被測定物体における連続した複数の測定エリアでの表面粗さの測定値を出力するように構成されていてもよい。好ましくは、前記粗さ検出部は、被測定物体における複数の測定エリアでの表面粗さの測定値を移動平均し、その結果を出力する移動平均粗さ算出部を備えていてもよい。好ましくは、前記移動平均粗さ算出部は、移動平均を計算するための移動平均区間長を有しており、前記移動平均粗さ算出部は、移動平均区間長内に存在する複数の表面粗さの測定値の平均値を算出し、得られた平均値を移動平均粗さとして出力するように構成されていてもよい。好ましくは、前記移動平均粗さのばらつきが所定値以内となるように、前記移動平均区間長の長さが設定されていてもよい。本発明によれば、非接触且つ非光学方式の簡便な構成で、大きな凹凸で構成された非常に粗い表面の粗さを確実に測定することができる粗さ測定装置を提供することができる。以下、本発明の実施形態を、図を基に説明する。第1実施形態図1~図4を参照しながら、以下に、本発明の第1実施形態による粗さ測定装置1aについて説明する。例えば、被測定物体2の表面に金属や樹脂などを溶射して皮膜を形成する場合、表面が粗面加工されていると、被測定物体2の表面と皮膜との界面の面積が大きくなるとともに、粗面を構成する大きな凹凸と皮膜との間で機械的なアンカー効果が発揮される。これによって、被測定物体2の表面と皮膜との間で強固な接着が実現される。本実施形態において粗さ測定装置1aは、上述のようにブラスト加工等により意図的に粗面加工された導電物質の皮膜形成前の表面を被測定面3として、被測定面3の粗さである表面粗さを測定する。図1には、本実施形態の粗さ測定装置1aで粗さ測定を行う被測定物体2が示されている。この被測定物体2は、金属等の導電物質からなり、その上面が大きな凹凸を有する粗い面となるように、ブラスト加工等により粗面化粗面加工されている。図3aに示す如く、本実施形態による粗さ測定装置1aは、被測定物体2の表面粗さを非接触且つ非光学方式で測定する粗さ測定装置1aである。粗さ測定装置1aは、被測定物体2の表面上の所定領域を測定エリアとすると共に、測定エリア内の表面粗さに対応する信号を出力する粗さ測定用プローブ粗さセンサ4と、粗さ測定用プローブの出力に基づいて、測定エリアの表面粗さの測定値粗さ測定値を出力するインピーダンス変化検出部粗さ検出部6と、を備えている。これに加えて、粗さ測定装置1aは、被測定物体2の表面と粗さ測定用プローブのセンサ面との離間距離であるリフトオフ量を検出する少なくとも1つの位置検出センサ5と、位置検出センサ5が検出したリフトオフ量を基に、前記インピーダンス変化検出部から出力された表面粗さの測定値を補正するリフトオフ補正部と、インピーダンス変化検出部6から出力された表面粗さの測定値、及びリフトオフ補正部で補正された表面粗さの測定値を表示する表示部8aと、を備えている。粗さ測定用プローブ4以下、プローブ4というは、一般的な渦流探傷に用いられるプローブと略同様の構成を有しており、略円柱状の筐体を備え、当該筐体内に、例えば、巻径約10mm程度のコイルを有するものである。コイルは、コイルの巻方向に略垂直な長さ方向が、筐体の長手方向に沿うように配置されている。このように配置されたコイルに、数100kHzから数MHzの周波数の交流電流を加えて励磁すると、コイルの軸芯方向に沿って、略円柱状の筐体の両端の底面を貫く磁束が発生する。この磁束が貫く両端の底面のうち、一方の底面がセンサ面図示せずとして用いられ、プローブ4は、このセンサ面が被測定物体2の被測定面3に対向するように配置される。このとき、被測定面3上でセンサ面と対向する領域は、表面粗さが測定される測定エリアとなる。センサ面は、例えば0.1mm程度の所定間隔だけ離れて被測定面3に対向するので、粗さ測定用プローブ4は被測定物体2とは接触しない非接触。このように、センサ面が被測定面3から離れていることをリフトオフといい、このときのセンサ面から被測定面3までの距離をリフトオフ量という。センサ面を貫く磁束によって、導体である被測定面3近傍の磁界が変化すると、その磁界変化を打ち消す磁界が被測定面3近傍で発生し、被測定面3に渦電流が流れる。被測定面3を流れる渦電流は、同じく被測定面3近傍の磁界変化を生み、この渦電流による磁界変化よってコイルのインピーダンスが変化する。図2に示すように、リフトオフ量が一定となるようにプローブ4を配置する。このときの被測定面3が平滑で、傷も凹凸も少ない粗さがほぼゼロといえる状態であれば、被測定面3上にプローブ4を配備した際、コイルのインピーダンス変化は小さいものとなる。このインピーダンス変化は、被測定面3の粗さが大きくなるにつれて大きくなる。図2では、被測定面3の粗さが小のときはインピーダンス変化は中となり、被測定面3の粗さが大のときはインピーダンス変化も大となるとして、表面粗さの程度とインピーダンス変化の程度の関係を定性的に示している。これは、渦電流が流れる2次元の測定エリアに存在する凹凸表面での凹凸から凸凹にかけての高さ変化についても、見かけ上の変位量として検出するためである。つまり、被測定面3上にプローブ4を配備した際、又はプローブ4を移動させた際のコイルのインピーダンス変化を基にすれば、被測定面3の表面粗さを検出することができる。図2では、リフトオフ量が一定となるようにプローブ4を配置した。しかし、インピーダンス変化はリフトオフ量の変化にも依存しているので、リフトオフ量を一定に保つことができず変化する場合、リフトオフ量の変化に応じてインピーダンス変化を補正する必要がある。なお、被測定面3が約0.1mmほどの大きさの凹凸で構成されており、且つ粗さ測定用プローブ4のセンサ面がコイルの直径とほぼ等しい約10mmである場合、センサ面に対向する測定エリアには、直径方向に沿って約100個の凹凸が並ぶ。これにより、測定エリアには多数の凹凸が含まれるので、コイルが示すインピーダンス変化は、測定エリアに含まれる凹凸の平均を示していると考えることができる。図3aに示すように、位置検出センサ5は、粗さ測定用プローブ4の側部に設けられたレーザ式の変位センサである。位置検出センサ5は、被測定面3に20μm程度のスポット径のレーザを照射して、位置検出センサ5の距離検出面から被測定面3までの距離を検出する。位置検出センサ5は、この距離検出面とプローブ4のセンサ面が同一面上で揃うように配置されており、これによって、被測定面3からプローブ4のセンサ面までの距離であるリフトオフ量を検出することができる。インピーダンス変化検出部6は、例えばブリッジ回路などで構成されている。インピーダンス変化検出部6は、プローブ4におけるコイルのインピーダンス変化を検出し、検出したインピーダンス変化を表面の凹凸の落差を表す粗さ測定値に変換して、後述する表示部8aに出力するものである。インピーダンス変化検出部6は、粗さ測定値だけでなく、検出したインピーダンス変化を表示部8aに直接出力してもよい。リフトオフ補正部7aは、例えばパソコンなどで構成されており、位置検出センサ5が検出したリフトオフ量とインピーダンス変化検出部6が検出した粗さ測定値とを基に、受信した粗さ測定値に対してリフトオフ量に基づいた補正をするものである。図4に例示するように、リフトオフ補正部7aは、リフトオフ量の変化に対する粗さ測定値の変化特性を予め有している。この変化特性は、リフトオフ量を様々に変化させて粗さ測定値を測定し、各リフトオフ量に対する粗さ測定値を得ることで把握することができる。図4において、位置検出センサ5が検出したリフトオフ量が実測値LRであり、測定において基準とするリフトオフ量が設定値LSであった場合、実測値LRに対する粗さ測定値が値VRとなり、設定値LSに対する粗さ測定値が値VSとなる線形関係が示されている。この線形の変化特性に基づけば、位置検出センサ5が検出したリフトオフ量が実測値LRであるとき、インピーダンス変化検出部6から出力された粗さ測定値を、図4に例示する変化特性を基にして、設定値LSにおける粗さ測定値として補正することができる。リフトオフ補正部7aは、上述のように補正した粗さ測定値や位置検出センサ5が検出したリフトオフ量を、後述する表示部8aに出力する。表示部8aは、例えばCRTや液晶のモニタである。インピーダンス変化検出部6が出力した粗さ測定値やインピーダンス変化と、リフトオフ補正部7aが出力した粗さ測定値やリフトオフ量をユーザに対して表示する。このように構成された粗さ測定装置1aの動作態様について、以下に説明する。まず、プローブ4を垂直方向及び水平方向に移動可能となるように被測定面3上で保持する保持部材を用意し、当該保持部材でプローブ4を保持する。その上で、位置検出センサ5が出力するリフトオフ量を参照しつつ保持部材を移動させ、プローブ4のセンサ面が、予め設定したリフトオフ量だけ被測定面3から離れるようにプローブ4を配置する。このとき位置検出センサ5は、数mm程度水平方向に移動して、移動範囲において最小となる距離LM凹凸のピークとの距離を見つけ、この距離LMが予め設定したリフトオフ量となるようにプローブ4が配置される。位置検出センサ5は、プローブ4が次の被測定エリア上へ移動する度に上述の動作を繰り返して、リフトオフ量を計測する。その後、プローブ4のコイルに、所定周波数で一定の大きさの交流電流を供給すると、コイルは、供給された交流電流に応じた磁界を発生する。発生した磁界は被測定面3近傍の磁界を変化させるため、その磁界変化を打ち消す磁界が被測定面3近傍で発生する。これによって、被測定面3の測定エリアに渦電流が流れる。測定エリアを流れる渦電流は、同じく被測定面3近傍の磁界変化を生み、この渦電流による磁界変化の影響を受けてコイルのインピーダンスが変化する。この状態から、リフトオフ量を維持しつつプローブ4を移動させると、被測定面3の状態に応じてコイルのインピーダンスが変化する。インピーダンス変化検出部6は、プローブ4が出力したインピーダンス変化を受信して粗さ測定値に変換し、粗さ測定値をリフトオフ補正部7aに出力し、インピーダンス変化と粗さ測定値を表示部8aに出力する。リフトオフ補正部7aは、位置検出センサ5が出力したリフトオフ量と上述した粗さ測定値の変化特性とを基にして、インピーダンス変化検出部6から受信した粗さ測定値を補正する。リフトオフ補正部7aは、この補正された粗さ測定値と補正の基としたリフトオフ量を表示部8aに出力する。表示部8aは、インピーダンス変化検出部6が出力したインピーダンス変化と粗さ測定値を表示し、リフトオフ補正部7aが出力した補正された粗さ測定値とリフトオフ量を表示する。上述の実施形態では、位置検出センサ5を1つだけ用いてリフトオフ量を計測したが、位置検出センサ5は1つに限らなくてもよい。図3bに示すように、プローブ4の直径方向における両側部に2つの位置検出センサ5を備えてもよい。一方の位置検出センサ5が、上述の位置検出センサ5と同様の方法でリフトオフ量を測定し、リフトオフ量L1とする。また、他方の位置検出センサ5が、上述に位置検出センサ5と同様の方法でリフトオフ量を測定し、リフトオフ量L2とする。このように得られたリフトオフ量L1とリフトオフ量L2の平均を算出して、リフトオフ量L3を得る。このように得られたリフトオフ量L3を、位置検出センサ5を1つだけ用いた場合におけるリフトオフ量として扱うことで、プローブ4のリフトオフ量をより正確に計測することができる。尚、本実施形態では、インピーダンス変化検出部6が出力した粗さ測定値を、位置検出センサ5によって検出されたリフトオフ量を基にして、リフトオフ補正部7aが補正した。しかし、位置検出センサ5がリフトオフ量を計測する度に、プローブ4のリフトオフ量が設定値となるように保持部材を垂直移動させることができれば、常にリフトオフ量を設定値に保つことができるので、粗さ測定値を補正しなくてもよい。リフトオフ補正部7aを用いるか否かは、粗さ測定装置1aの実際の使用態様にあわせて選択すればよい。上述のように構成された粗さ測定装置1aによって、非接触且つ非光学方式の簡便な構成で、大きな凹凸で構成された非常に粗い表面の粗さを、測定対象表面の湿気の影響を受けることなく、かつ短時間で測定することができる。第2実施形態図5を参照しながら、本発明の第2実施形態による粗さ測定装置1bについて説明する。本実施形態による粗さ測定装置1bは、第1実施形態による粗さ測定装置1aから、位置検出センサ5とリフトオフ補正部7aを除いた構成となっている。しかし、本実施形態においても第1実施形態と同じく、リフトオフ量が一定となるように粗さ測定用プローブ4以下、プローブ4というを保持する手段が必要である。そこで、本実施形態による粗さ測定装置1bは、プローブ4を保持する接触治具9を備えている。図5に示すように、接触治具9は、正面視で門型の部材であり、プローブ4を保持する保持部と、被測定面3に当接して保持部の両端を支持する支持部とからなるものである。保持部は、被測定面3上に配置された際に、水平方向に延びる角柱状の部位であり被測定面3から所定距離だけ離間するものとなっており、その中央部にプローブ4を保持する保持孔が設けられている。この保持部の両端から垂下状にほぼ同じ四角柱形状の2つの支持部を設けることで、門型の接触治具9が構成されている。この接触治具9において、2つの支持部はほぼ同じ四角柱形状であるので、保持部は、被測定面3に対して略平行となるように支持される。このように構成された接触治具9の保持部にプローブ4を取り付ける。プローブ4は、センサ面が下方に向くように保持部に設けられた保持孔に挿入され、リフトオフ量が設定値一定値となる位置で固定される。このようにプローブ4を取り付けた接触治具9を用いれば、複雑な機構を設けることなく非常に簡便に、被測定面3上の任意の位置で常にリフトオフ量を設定値に保つことができる。第3実施形態図6及び図7を参照しながら、本発明の第3実施形態による粗さ測定装置1cについて説明する。図6に示すように、本実施形態による粗さ測定装置1cは、第1実施形態による粗さ測定装置1aに、校正用粗さパラメータ記憶部10と、粗さパラメータ補正換算部11とを加えた構成となっていると共に、リフトオフ補正部7bの動作が、第1実施形態におけるリフトオフ補正部7aとは若干異なる。これら校正用粗さパラメータ記憶部10、粗さパラメータ補正換算部11は、パソコンなどで構成されている。リフトオフ補正部7bは、第1実施形態におけるリフトオフ補正部7aと同様に、位置検出センサ5が検出したリフトオフ量とインピーダンス変化検出部6が検出した粗さ測定値とを受信して、リフトオフ量に基づいて受信した粗さ測定値を補正するものである。リフトオフ補正部7bは、第1実施形態におけるリフトオフ補正部7aと同様に、図4に示すようなリフトオフ量の変化に対する粗さ測定値の変化特性に基づいて、インピーダンス変化検出部6から受信した粗さ測定値を補正する。リフトオフ補正部7bは、上述のように補正した粗さ測定値や位置検出センサ5が検出したリフトオフ量を、後に説明する粗さパラメータ補正換算部11に出力する。校正用粗さパラメータ記憶部10は、日本工業規格JISで規定された粗さパラメータの値と被測定面の粗さ測定値との相関関係を示す情報を有している。図7aは、触針式表面粗さ測定器または光波干渉式表面粗さ測定器によって得られた粗さパラメータRa算術平均粗さの値と、同一範囲を本実施形態の粗さ測定装置1cによって測定して得られた表面粗さの測定値との相関関係を示すグラフである。この図から明らかなように、粗さパラメータRaと粗さ測定装置1cの粗さ測定値インピーダンス変化検出部6の出力とは、ほぼ1次関数で近似できる相関関係がある。図7bは、触針式表面粗さ測定器または光波干渉式表面粗さ測定器によって得られた粗さパラメータRzJIS十点平均粗さの値と、同一範囲をプローブ4によって測定して得られた表面粗さの測定値との相関関係を示すグラフである。この図から明らかなように、粗さパラメータRzJISと粗さ測定装置1cの粗さ測定値インピーダンス変化検出部6の出力とは、ほぼ1次関数で近似できる相関関係がある。図7a、図7bに示す関係は、次の手順で求めることができる。表面粗さの異なる複数の被測定物体サンプルを用意し、本実施形態による粗さ測定装置1cのプローブ4を用いて、サンプル表面の粗さを測定する。その後、触針式表面粗さ測定器を用いて、同一のサンプル表面において、プローブ4による測定と同じ測定範囲の粗さを測定する。このように、異なるサンプルに対して、粗さ測定装置1cのプローブ4による測定と、触針式表面粗さ測定器による測定とを繰り返し、両方の測定値に対応する点をプロットすることで、図7a、図7bのグラフに示す関係を得ることができる。粗さパラメータ補正換算部11は、図7aまたは図7bに示す校正用粗さパラメータ記憶部10から読み込んだ相関関係に基づいて、リフトオフ補正部7bから受信した粗さ測定値をJISで規定された粗さパラメータに変換し、表示部8bに出力する。図7aまたは図7bで、1次関数で近似された関係に基づいて、リフトオフ補正部7bから受信した粗さ測定値に対応する粗さパラメータRaやRzJISの値を出力する。表示部8bは、第1実施形態と同様に、例えばCRTや液晶のモニタである。インピーダンス変化検出部6が出力した粗さ測定値やインピーダンス変化と、粗さパラメータ補正換算部11が出力した粗さパラメータRaやRzJISの値をユーザに対して表示する。図7cを参照し、本実施形態による粗さ測定と触針式表面粗さ測定との相関について、考察する。まず、表面粗さの異なる複数のサンプルに対して、触針式表面粗さ測定器を用い、サンプルの被測定面の縦横2方向に沿って十字方向に粗さパラメータRaを測定した。その後、本実施形態による粗さ測定装置1c図7cではセンサと示すを用いて、同一範囲の粗さを測定し粗さ測定値を得た。測定した結果について、触針式表面粗さ測定器による縦方向の粗さパラメータRaと横方向の粗さパラメータRaの平均値と、粗さ測定値とを図7aまたは図7bの如くプロットし相関係数を求めた。このときの両者の相関係数は0.93であった。同様に、縦方向の粗さパラメータRaと粗さ測定値とをプロットしたときの相関係数は0.9であった。横方向の粗さパラメータRaと粗さ測定値とをプロットしたときの相関係数は0.91であった。また、縦方向の粗さパラメータRaと横方向の粗さパラメータRaとをプロットしたときの相関係数は0.88であった。この結果が示すように、粗さパラメータRaの平均を考慮しない場合の相関係数は0.88~0.91であるのに対して、粗さパラメータRaの平均を考慮した場合の相関係数は0.93と高いものになっている。よって、本実施形態による粗さ測定装置1cは、渦電流が流れる測定エリア内の粗さの平均である2次元の粗さ情報を反映した評価が可能であるといえる。つまり、図7a及び図7bに示すように1次関数で関係を近似して、粗さ測定値を粗さパラメータRaやRzJISに換算しても、測定エリア内の粗さの平均である2次元情報を正確に反映したものであると見なすことができる。上述のように構成された本実施形態による粗さ測定装置1cを用いれば、非接触且つ非光学方式の簡便な構成で、大きな凹凸で構成された非常に粗い表面の粗さを測定し、従来、触針式表面粗さ測定器または光波干渉式表面粗さ測定器で測定していた日本工業規格JISによる粗さパラメータの値を得ることができる。上記各実施形態において、粗さ測定用プローブ4として、コイルに代えて、例えば、コンデンサなどを用いた電気容量式のセンサを用いることができる。電気容量式のセンサを用いれば、表面の粗さに応じたキャパシタンス変化を出力することができるので、粗さ測定用プローブ4の機能を実現することが可能である。第4実施形態図8及び図9を参照しながら、本発明の第4実施形態による粗さ測定装置1dについて説明する。本実施形態による粗さ測定装置1dは、粗さセンサ粗さ測定用プローブ4を被測定物体2の表面に沿って移動させるセンサ移動手段12を備えている。そして、このセンサ移動手段12によって移動する粗さセンサ4からの出力に基づいて、被測定物体2における上述した式1を用いて求められた評価値Sを、移動平均区間Xに対する変化として整理すれば、移動平均区間Xが適正かどうかを判断することができる。例えば、図13に示すように、面A、B、Cについては移動平均区間X≧100mmの範囲で評価値σが十分小さくなっており、移動平均区間を100mm以上とすればよいと判断される。一方、面Dについては移動平均区間X≧250mmでも評価値σは小さくならないため、移動平均区間Xとしては少なくとも250mmを選ぶ必要があると考えられる。なお、移動平均区間として十分に大きな基準長さL0を設定することが困難な場合には。RmL0に代えて、式2に示すように粗さデータをプローブの全移動区間Laに亘って平均した粗さRmLaを用いて評価値S’を得ることもできる。S’=σRX/RmLaこの評価値S’を上述したSの代わりに用いても、移動平均区間Xが適正かどうかを判断することができる。なお、今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。特に、今回開示された実施形態において、明示的に開示されていない事項、例えば、動作条件や測定条件、各種パラメータ、構成物の寸法、重量、体積などは、当業者が通常実施する範囲を逸脱するものではなく、通常の当業者であれば、容易に想定することが可能な値を採用している。例えば、図6に示すように、本実施形態による粗さ測定装置1cは、位置検出センサ5を1つだけ備えるように構成されていたが、第1実施形態で図3bを用いて説明したように、位置検出センサ5を2つ備えるように構成してもよい。位置検出センサ5を2つ備えることで、より正確にリフトオフ量を検出することができる。また、リフトオフ補正部7aは、被測定物体2の材質によるリフトオフ特性の変化y切片や傾きの変化を校正するために、材質別の校正データテーブルを備えるように構成してもよい。被測定物体2の材質を変更する毎に校正データを切り替えることで、より正確にリフトオフ量を検出することができる。また、上述した実施形態において、粗さ測定用プローブ4のコイルの巻径を約10mm程度とした。しかし、コイルの巻径は、所望する測定エリアの大きさに合わせて任意に選択することができる。通常、測定エリアの大きさは、被測定面3の形状や粗さに合わせて選択されるので、大きな測定エリアが必要な場合はコイルの巻径を大きくし、小さな測定エリアが必要な場合は、コイルの巻径を小さくすればよい。なお、コイルとしては、例えばソレノイドコイルや、平面形状のコイルを用いることもできる。平面形状のコイルの場合、非常に幅の狭い溝のような狭隘部に差し込んで用いると、通常のソレノイドコイルでは測定が困難である溝の内側に存在する被測定面の表面粗さを測定することが可能となる。