"表面改質されたR-Fe-B系焼結磁石の製造方法であって、酸素分圧が1×103Pa~1×105Paで水蒸気分圧が1000Pa未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率酸素分圧/水蒸気分圧が1~20000但し1を除くの雰囲気を、処理室内の容積1m3あたりの雰囲気ガスの導入を酸素流量として0.028m3/分以上、かつ、全体流量として3m3/分以下の条件で行うことで処理室内が陽圧状態になるようにして形成し、酸素含有量が0.1質量以下のR-Fe-B系焼結磁石に対し、230°C~260°Cで熱処理を行うことを特徴とする製造方法。請求項1記載の製造方法によって製造されてなることを特徴とする表面改質されたR-Fe-B系焼結磁石。近年のR-Fe-B系焼結磁石の技術開発の進展に伴い、酸素含有量が0.1質量以下の磁石の製造技術が確立されるに至っている。本発明者らは、こうした酸素含有量が極めて少ない磁石に対する表面改質を特許文献8において推奨される400°C以上の熱処理温度で行ったところ、とりわけ350°C付近において熱処理を行った場合に顕著な磁気特性の劣化を期待通り回避することはできたものの、意外にも磁気特性がわずかではあるが劣化することが判明した。そこで本発明は、優れた耐食性を有するとともに、優れた磁気特性を有する表面改質されたR-Fe-B系焼結磁石の製造方法を提供することを目的とする。本発明者らは、上記の点に鑑みて鋭意検討を重ねた結果、酸素含有量が0.1質量以下のR-Fe-B系焼結磁石に対しては、所定の酸化性雰囲気の形成を適正に行った上で、300°Cを下回る特定の温度範囲で熱処理を行うことが、磁気特性の劣化を引き起こすことなく、所望する改質層をその表面に効率的に形成するために有効であることを見出した。上記の知見に基づいて完成された本発明の表面改質されたR-Fe-B系焼結磁石の製造方法は、請求項1記載の通り、酸素分圧が1×103Pa~1×105Paで水蒸気分圧が1000Pa未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率酸素分圧/水蒸気分圧が1~20000但し1を除くの雰囲気を、処理室内の容積1m3あたりの雰囲気ガスの導入を酸素流量として0.028m3/分以上、かつ、全体流量として3m3/分以下の条件で行うことで処理室内が陽圧状態になるようにして形成し、酸素含有量が0.1質量以下のR-Fe-B系焼結磁石に対し、230°C~260°Cで熱処理を行うことを特徴とする。また、本発明の表面改質されたR-Fe-B系焼結磁石は、請求項2記載の通り、請求項1記載の製造方法によって製造されてなることを特徴とする。本発明によれば、優れた耐食性を有するとともに、優れた磁気特性を有する表面改質されたR-Fe-B系焼結磁石の製造方法を提供することができる。本発明の表面改質されたR-Fe-B系焼結磁石の製造方法は、酸素分圧が1×103Pa~1×105Paで水蒸気分圧が1000Pa未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率酸素分圧/水蒸気分圧が1~20000但し1を除くの雰囲気を、処理室内の容積1m3あたりの雰囲気ガスの導入を酸素流量として0.028m3/分以上、かつ、全体流量として3m3/分以下の条件で行うことで処理室内が陽圧状態になるようにして形成し、酸素含有量が0.1質量以下のR-Fe-B系焼結磁石に対し、230°C~260°Cで熱処理を行うことを特徴とするものである。所定の酸化性雰囲気を処理室内が陽圧状態となるように所定の条件で雰囲気ガスを導入することで形成し、かつ、熱処理温度を適正に制御することで、磁気特性の劣化を引き起こすことなく、また、処理に時間がかかりすぎることなく、酸素含有量が0.1質量以下の磁石に対して所望する表面改質を行うことができる。熱処理を行う工程における酸素分圧を1×103Pa~1×105Paと規定するのは、酸素分圧が1×103Paよりも小さいと、雰囲気中の酸素量が少なすぎることで、磁石の表面改質に時間がかかりすぎたり、磁石を保持部材上に配置して熱処理を行う場合、磁石のその保持部材と接する部分の表面改質が十分に行われないことにより、当該部分に十分な耐食性や安定性が付与されなかったり当該部分に保持部材との接点跡が残ってしまったりする恐れがあるからである。一方、酸素分圧を1×105Paより大きくしても、酸素分圧を大きくすることによる磁石の表面改質効果の向上はさほど認められず、コストアップを招来するだけになってしまう恐れがあるからである。磁石の表面に対して所望する改質をより効果的かつ低コストに行うためには、酸素分圧は1×103Pa~5×104Paが望ましく、1×104Pa~3×104Paがより望ましい。水蒸気分圧を1000Pa未満と規定するのは、水蒸気分圧が1000Pa以上であると、雰囲気中の水蒸気量が多すぎることで、磁石の表面を優れた耐食性を発揮する安定なものに改質することができない恐れがあるからである。磁石の表面に対して所望する改質をより効果的かつ低コストに行うためには、水蒸気分圧は700Pa以下が望ましく、45Pa以下がより望ましい。なお、水蒸気分圧の下限は特段制限されるものではないが、通常、1Paが望ましい。酸素分圧と水蒸気分圧の比率を1~20000但し1を除くと規定するのは、当該比率が1以下であると、雰囲気中の酸素量に対する水蒸気量が多すぎることで、磁石の表面を優れた耐食性を発揮する安定なものに改質することができない恐れがあるからである。一方、当該比率が20000よりも大きい雰囲気は特殊環境といえ、実用的でないからである。磁石の表面に対して所望する改質をより効果的かつ低コストに行うためには、当該比率は10~10000が望ましく、300~5000がより望ましく、450~4000がさらに望ましい。処理室内の雰囲気は、雰囲気ガスとして、酸素や水蒸気を所定の分圧となるように個別に導入することによって形成してもよいし、これらが所定の分圧で含まれる露点を有する大気を導入することによって形成してもよいが、いずれの場合であっても、本発明においては、処理室内の雰囲気は、処理室内の容積1m3あたりの雰囲気ガスの導入を酸素流量として0.028m3/分以上、かつ、全体流量として3m3/分以下の条件で行うことで処理室内が陽圧状態になるようにして形成する雰囲気ガスとして酸素や水蒸気が所定の分圧で含まれる露点を有する大気を用いる場合には大気流量を全体流量として制御すれば酸素流量は自ずと制御される。このようにして処理室内の雰囲気形成を行うことで、熱処理温度が230°C~260°Cという比較的低温であっても処理に時間がかかりすぎることなく、効率的に磁石の表面に改質層を形成することができる。処理室内に導入する酸素流量が少なすぎると処理に時間がかかりすぎる恐れがある一方、全体流量が多すぎると処理室内の温度分布にばらつきが生じてしまうことで処理室内の全ての磁石に均一な表面改質を行うことができない恐れがある。なお、処理室内には、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを共存させてもよい。熱処理の温度を230°C~260°Cと規定するのは、230°Cよりも低いと十分な厚みの改質層を磁石の表面に形成することができないことで無視できない磁粉の脱粒を引き起こす恐れがある一方、260°Cよりも高いと磁気特性の劣化を引き起こす恐れがあるからである。熱処理の時間は1分間~3時間が望ましく、15分間~2.5時間がより望ましい。時間が短すぎると磁石の表面に対して所望する改質を行い難くなる恐れがある一方、時間を必要以上に長くしてもエネルギーを消費してコストアップを招くだけである。なお、磁石を常温から熱処理を行う温度まで昇温する工程は、酸素分圧が1×103Pa~1×105Paで水蒸気分圧が1Pa~100Paの雰囲気下で行うことが望ましい。このような雰囲気下で昇温することにより、磁石の表面に少なからず自然吸着している水分を早期に脱離させることで、磁石の表面に存在する水分が昇温の際に磁石に対して悪影響を与えることを極力回避することができる。平均昇温速度は、例えば100°C/時間~2000°C/時間とすればよい。なお、本発明において常温とは、表面改質が行われるR-Fe-B系焼結磁石が昇温を開始する時点で置かれている環境の温度例えば室温を指し、例示的には、日本工業規格のJISZ8703において5°C~35°Cと規定されている温度を意味する。また、熱処理を行った後の磁石を降温する工程も、酸素分圧が1×103Pa~1×105Paで水蒸気分圧が1Pa~100Paの雰囲気下で行うことが望ましい。このような雰囲気下で降温することにより、工程中に磁石の表面が結露して腐食の原因となることを防ぐことができる。磁石に対する昇温工程、熱処理工程、降温工程は、例えば、内部に雰囲気ガスを流通させることでその雰囲気の制御が可能なSUS,Ti,Mo,Nbなどの材質からなる耐熱性容器に磁石を収容し、磁石を収容した耐熱性容器をバッチ式の熱処理炉の処理室に収容して耐熱性容器の内部の雰囲気を制御しながら行うことができる。また、磁石が収容された処理室内の環境を順次それぞれの工程を行うための環境に変化させることができるバッチ式の熱処理炉を用いて行うこともできる。さらに、処理室内をそれぞれの工程に適した環境に制御した領域に分割し、各領域に磁石を順次移動させることで行うこともできる。図1は、磁石に対する昇温工程、熱処理工程、降温工程を、内部がそれぞれの工程に適した環境に制御された領域に分割され、各領域に磁石を順次移動させることで行うことができる連続処理炉の一例の概略図側面図である。図1に示す連続処理炉においては、ベルトコンベアなどの移動手段によって磁石を図の左から右に移動させながら各処理を施す。矢印は図略の給気手段と排気手段によって形成される各領域における雰囲気ガスの流れである。昇温領域の入口および降温領域の出口は、例えばエアカーテンで区画され、昇温領域と熱処理領域の境界および熱処理領域と降温領域の境界は、例えば矢印の雰囲気ガスの流れにより区画されるこれらの区画は機械的にシャッターで行われてもよい。このような連続処理炉を用いれば、大量の磁石に対して安定した品質の表面改質を連続的に行うことができる。上記の工程によってR-Fe-B系焼結磁石の表面に形成される改質層は、厚みが1μm以下ナノメートルオーダーの非常に薄いものであっても十分な耐食性を発揮する。本発明が適用されるR-Fe-B系焼結磁石としては、例えば、下記の製造方法によって製造されたものが挙げられる。25質量~40質量の希土類元素Rと、0.6質量~1.6質量のB硼素と、残部Feおよび不可避不純物とを包含する合金を用意する。ここで、Rは重希土類元素RHを含んでいてもよい。また、Bの一部はC炭素によって置換されていてもよいし、Feの一部50質量以下は、他の遷移金属元素例えば、CoまたはNiによって置換されていてもよい。この合金は、種々の目的により、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Ni、Cu、Zn、Ga、Zr、Nb、Mo、Ag、In、Sn、Hf、Ta、W、Pb、およびBiからなる群から選択された少なくとも1種の添加元素Mを0.01質量~1.0質量程度含有していてもよい。上記の合金は、原料合金の溶湯を例えばストリップキャスト法によって急冷して好適に作製され得る。以下、ストリップキャスト法による急冷凝固合金の作製を説明する。まず、上記組成を有する原料合金をアルゴン雰囲気中において高周波溶解によって溶解し、原料合金の溶湯を形成する。次に、この溶湯を1350°C程度に保持した後、単ロール法によって急冷し、例えば厚さ約0.3mmのフレーク状合金鋳塊を得る。こうして作製した合金鋳片を、次の水素粉砕処理前に例えば1~10mmのフレーク状に粉砕する。なお、ストリップキャスト法による原料合金の製造方法は、例えば、米国特許第5、383、978号明細書に開示されている。[粗粉砕工程]上記のフレーク状に粗く粉砕された合金鋳片を水素炉の内部へ収容する。次に、水素炉の内部で水素脆化処理以下、水素粉砕処理や単に水素処理と称する場合がある工程を行う。水素粉砕処理後の粗粉砕粉を水素炉から取り出す際、粗粉砕粉が大気と接触しないように、不活性雰囲気下で取り出し動作を実行することが好ましい。そうすれば、粗粉砕粉が酸化発熱することが防止され、磁石の磁気特性の低下が抑制できるからである。水素粉砕処理によって、希土類合金は0.1mm~数mm程度の大きさに粉砕され、その平均粒径は500μm以下となる。水素粉砕処理後、脆化した原料合金をより細かく解砕するとともに冷却することが好ましい。比較的高い温度状態のまま原料を取り出す場合は、冷却処理の時間を相対的に長くすればよい。[微粉砕工程]次に、粗粉砕粉に対してジェットミル粉砕装置を用いて微粉砕を実行する。本実施形態で使用するジェットミル粉砕装置にはサイクロン分級機が接続されている。ジェットミル粉砕装置は、粗粉砕工程で粗く粉砕された希土類合金粗粉砕粉の供給を受け、粉砕機内で粉砕する。粉砕機内で粉砕された粉末はサイクロン分級機を経て回収タンクに集められる。こうして、0.1~20μm程度の微粉末を得ることができる。このような微粉砕に用いる粉砕装置は、ジェットミルに限定されず、アトライタやボールミルであってもよい。粉砕に際して、ステアリン酸亜鉛などの潤滑剤を粉砕助剤として用いてもよい。[プレス成形]本実施形態では、上記方法で作製された微粉砕粉末に対し、例えばロッキングミキサー内で潤滑剤を例えば0.3質量添加混合し、潤滑剤で微粉砕粉末粒子の表面を被覆する。次に、上述の方法で作製した微粉砕粉末を公知のプレス装置を用いて配向磁界中で成形する。印加する磁界の強度は、例えば1.0~1.7テスラTである。また、成形圧力は、成形体のグリーン密度が例えば4~4.5g/cm3程度になるように設定される。[焼結工程]上記の粉末成形体に対して、例えば、1000~1200°Cの範囲内の温度で10~240分間行う。650~1000°Cの範囲内の温度で10~240分間保持する工程と、その後、上記の保持温度よりも高い温度例えば、1000~1200°Cで焼結を更に進める工程とを順次行ってもよい。焼結時、特に液相が生成されるとき温度が650~1000°Cの範囲内にあるとき、粒界相中のRリッチ相が融け始め、液相が形成される。その後、焼結が進行し、焼結磁石体が形成される。焼結工程の後、時効処理400°C~700°Cや寸法調整のための研削を行ってもよい。本発明の製造方法によって製造される表面改質されたR-Fe-B系焼結磁石は、優れた耐食性が酸化熱処理によって付与されているとともに、熱処理後の降温時における保磁力低下が抑制されているので、例えば、ハイブリッド自動車や電気自動車の駆動モータとして使用されたり、空調機のコンプレッサーなどに組み込まれたりするIPMモータでの使用に適したものである。なお、本発明の製造方法によって製造される表面改質されたR-Fe-B系焼結磁石を用いてIPMモータを製造する場合、ロータの内部に磁石を埋め込む工程を経て行えばよい。以下、本発明を実施例によってさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定して解釈されるものではない。製造例1Nd:18.6、Pr:5.5、Dy:7.1、B:0.98、Co:0.9、Cu:0.1、Al:0.2、Ga:0.1、残部:Fe単位は質量の組成を有する厚さ0.2mm~0.3mmの合金薄片をストリップキャスト法により作製した。次に、この合金薄片を容器に充填し、水素処理装置内に収容した。そして、水素処理装置内を圧力500kPaの水素ガスで満たすことにより、室温で合金薄片に水素吸蔵させた後、放出させた。このような水素処理を行うことにより、合金薄片を脆化し、大きさ約0.15mm~0.2mmの粗粉砕粉末を作製した。上記の水素処理により作製した粗粉砕粉末に対し粉砕助剤として0.04質量のステアリン酸亜鉛を添加し混合した後、ジェットミル装置による粉砕工程を行うことにより、粉末粒径が約3μmの微粉末を作製した。こうして作製した微粉末をプレス装置により成形し、粉末成形体を作製した。具体的には、印加磁界中で粉末粒子を磁界配向した状態で圧縮し、プレス成形を行った。その後、成形体をプレス装置から抜き出し、真空炉により1050°Cで4時間の焼結工程を行い、焼結体ブロックを得た。この焼結体ブロックの酸素含有量を酸素窒素分析装置EMGA-620W:HORIBA社製で測定したところ、0.08質量であった熱処理を行うまでこの酸素含有量を維持。得られた焼結体ブロックを真空中にて490°Cで2.5時間の時効処理を行った後、その表面に対し研削加工を行って寸法調整し、厚さ6mm×縦7mm×横7mmのR-Fe-B系焼結磁石以下磁石体試験片1と称するを得た。製造例2Nd:16.2、Pr:4.5、Dy:9.1、B:0.93、Co:2.0、Cu:0.1、Al:0.15、Ga:0.07、残部:Fe単位は質量の組成を有する厚さ0.2mm~0.3mmの合金薄片をストリップキャスト法により作製し、製造例1と同様にして焼結体ブロックを得た。この焼結体ブロックの酸素含有量は0.06質量であった熱処理を行うまでこの酸素含有量を維持。得られた焼結体ブロックから製造例1と同様にして厚さ6mm×縦7mm×横7mmのR-Fe-B系焼結磁石以下磁石体試験片2と称するを得た。実施例1製造例1で得た磁石体試験片1を超音波水洗した後、図1に示した構成を有する連続処理炉を用いて表面改質を行った。熱処理工程は、露点0°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧600Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=33.3の雰囲気下、240°Cで120分間行った。熱処理領域本発明における処理室に相当:容積0.64m3内の雰囲気形成は、0.12m3/分の流量で露点0°Cの大気を熱処理領域内に導入することで熱処理領域内が陽圧状態になるようにして行った容積1m3あたりの酸素流量は0.037m3/分で全体流量は0.188m3/分。酸素流量は全体流量である大気流量の1/5として換算。大気流量は面積式流量計で制御。以下同じ。なお、磁石体試験片1の常温本実施例においては25°Cを意味する。以下同じから熱処理を行う温度240°Cまでの昇温工程、熱処理工程を行った後の降温工程は、露点-40°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧19Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=1052の雰囲気下で行った。磁石体試験片1の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。なお、改質層の厚みは、表面改質された磁石体試験片1を樹脂埋め研磨後、イオンビーム断面加工装置SM09010:日本電子社製を用いて試料作製し、電界放出型走査電子顕微鏡S-4300:日立ハイテクノロジー社製を用いて断面観察を行うことによって測定した以下同じ。実施例2熱処理工程を露点-40°Cの大気酸素分圧20000Pa,水蒸気分圧19Pa,酸素分圧/水蒸気分圧=1052の雰囲気下で行ったこと以外は実施例1と同じ方法で磁石体試験片1の表面改質を行った。磁石体試験片1の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。実施例3製造例2で得た磁石体試験片2を用いたこと以外は実施例2と同じ方法で磁石体試験片2の表面改質を行った。磁石体試験片2の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。実施例4処理室内の容積が0.0034m3のバッチ式の熱処理炉を用い、処理室内の雰囲気形成を0.003m3/分の流量で露点-40°Cの大気を処理室内に導入することで処理室内が陽圧状態になるようにして行ったことと容積1m3あたりの酸素流量は0.176m3/分で全体流量は0.882m3/分、熱処理工程を260°Cで60分間行ったこと以外は実施例3と同じ方法で磁石体試験片2の表面改質を行った。磁石体試験片2の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。実施例5露点0°Cの大気を用いたこと以外は実施例4と同じ方法で磁石体試験片2の表面改質を行った。磁石体試験片2の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。実施例6処理室内の雰囲気形成を0.01m3/分の流量で露点0°Cの大気を処理室内に導入することで処理室内が陽圧状態になるようにして行ったことと容積1m3あたりの酸素流量は0.588m3/分で全体流量は2.94m3/分、熱処理工程を230°Cで180分間行ったこと以外は実施例5と同じ方法で磁石体試験片2の表面改質を行った。磁石体試験片2の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。比較例1熱処理領域内の雰囲気形成を0.07m3/分の流量で露点0°Cの大気を熱処理領域内に導入することで熱処理領域内が陽圧状態になるようにして行ったことと容積1m3あたりの酸素流量は0.022m3/分で全体流量は0.109m3/分、熱処理工程を400°Cで20分間行ったこと以外は実施例1と同じ方法で磁石体試験片1の表面改質を行った。磁石体試験片1の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。比較例2熱処理工程を400°Cで20分間行ったこと以外は実施例1と同じ方法で磁石体試験片1の表面改質を行った。磁石体試験片1の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。比較例3熱処理工程を265°Cで60分間行ったこと以外は実施例5と同じ方法で磁石体試験片2の表面改質を行った。磁石体試験片2の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。比較例4熱処理工程を220°Cで240分間行ったこと以外は実施例3と同じ方法で磁石体試験片2の表面改質を行った。磁石体試験片2の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。比較例5処理室内の雰囲気形成を0.015m3/分の流量で露点0°Cの大気を処理室内に導入することで処理室内が陽圧状態になるようにして行ったこと容積1m3あたりの酸素流量は0.882m3/分で全体流量は4.41m3/分以外は実施例6と同じ方法で磁石体試験片2の表面改質を行った。磁石体試験片2の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。比較例6処理室内の雰囲気形成を0.0004m3/分の流量で露点0°Cの大気を処理室内に導入することで処理室内が陽圧状態になるようにして行ったこと容積1m3あたりの酸素流量は0.023m3/分で全体流量は0.118m3/分以外は実施例6と同じ方法で磁石体試験片2の表面改質を行った。磁石体試験片2の表面に形成された改質層の厚みはナノメートルオーダー1μm未満であった。磁気特性評価実施例1~実施例6、比較例1~比較例6のそれぞれにおいて表面改質を行った磁石体試験片の固有保磁力を、表面改質を行う前の磁石体試験片の固有保磁力と比較し、下記の数式で固有保磁力劣化率を算出した。実施例1~実施例6、比較例1~比較例6のそれぞれの熱処理条件を表1に、算出した固有保磁力劣化率を表2に示す。なお、固有保磁力の測定は、磁気測定装置SK-130:メトロン技研社製を用いて行った。固有保磁力劣化率=A-B/A×100A:表面改質前の磁石体試験片の固有保磁力20個の平均値B:表面改質後の磁石体試験片の固有保磁力20個の平均値耐食性評価実施例1~実施例6、比較例1~比較例6のそれぞれにおいて表面改質を行った磁石体試験片に対し、温度:60°C×相対湿度:90の高温高湿条件下での耐食性試験を24時間行い、試験後の表面発錆の有無を外観観察により調べた。試験に供した各30個の磁石体試験片のうち表面発錆が認められた磁石体試験片の個数を表2に示す。また、温度:125°C×相対湿度:85×圧力:2atmの条件下でのプレッシャークッカーテストを96時間行った後、テープにより脱粒している磁粉を取り除き、テスト前後の磁石体試験片の重量を測定することで磁粉の脱粒による重量減少量を表2に示す試験に供した10個の平均値。なお、表2には、磁石体試験片1に対して同様にして行った耐食性評価の結果をあわせて示す。まとめ表1から明らかなように、処理室内を所定の酸化性雰囲気とする際、導入する雰囲気ガスとして用いる大気の流量を適正に調整することにより本実施例において大気流量は本発明の全体流量に相当し酸素流量は自ずと定まる、処理室内が適正な陽圧状態になるようにすることで、230°C~260°Cでの熱処理で、磁気特性の劣化を引き起こすことなく、優れた耐食性を有する改質層を磁石体試験片の表面に効率的に形成することができた実施例1~実施例6。これに対し、400°Cでの熱処理では、熱処理温度が高すぎることで3を超える磁気特性の劣化が認められた比較例1。また、処理室内に導入する大気流量を適切に調整することで酸素流量を適切に調整しても結果は同じであった比較例2。処理室内に導入する大気流量を適正に調整しても、熱処理温度が265°Cでは1の磁気特性の劣化が認められ比較例3、熱処理温度が220°Cでは無視できない磁粉の脱粒が認められた比較例4。熱処理温度を適正に調整しても、処理室内に導入する大気流量が多すぎると処理室内の温度分布のばらつきに起因して処理室内の全ての磁石に均一な表面改質を行うことができず、一部の磁石に無視できない磁粉の脱粒が認められ、その結果として重量減少量の増加を招いた比較例5。また、処理室内に導入する大気流量が少なすぎることで酸素流量が少なすぎても結果は同じであった比較例6。参考例1製造例1で得た磁石体試験片1と製造例2で得た磁石体試験片2のそれぞれについて、240°C~440°Cの範囲の温度において真空中で2時間の熱処理を行った後の固有保磁力を磁気測定装置TPM-2-10:東英工業社製を用いて測定し、熱処理を行う前の固有保磁力と比較することで、酸素含有量が0.1質量以下の磁石の固有保磁力に対して熱処理が及ぼす影響を調べた。結果を図2に示す。なお、図2の縦軸は固有保磁力の劣化率であり、下記の数式で求めたものである。固有保磁力劣化率=A-B/A×100A:熱処理前の固有保磁力,B:熱処理後の固有保磁力図2から明らかなように、磁石体試験片1と磁石体試験片2とも、とりわけ350°C付近において熱処理を行った場合に顕著な固有保磁力の劣化が認められることは酸素含有量が0.3質量未満の磁石に見られる現象として特許文献8に記載の通りであるが、酸素含有量が0.1質量以下の磁石に対して特許文献8において推奨される400°C以上での熱処理を行うと2~3の固有保磁力の劣化が認められた。従って、酸素含有量が0.1質量以下の磁石に対しては400°C以上での熱処理は採用すべきでないことが裏付けられた。"