"エーテル置換基が、メチル基、ヒドロキシアルキル基、および任意にメチルとは異なるアルキル基である、セルロースエーテルであって、該セルロースエーテルが、水中1.5質量溶液として20°Cで剪断速度2.55s1にて測定したときの粘度150mPas超を有し、該セルロースエーテルが、MSヒドロキシアルキル0.11~1.00を有し、無水グルコース単位の水酸基が、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]が0.35以下であるようにメチル基で置換されており、s23は、無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率であり、s26は、無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率である、セルロースエーテル。ヒドロキシアルキルメチルセルロースである、請求項1に記載のセルロースエーテル。ヒドロキシプロピルメチルセルロースであり、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]が0.27以下である、請求項2に記載のセルロースエーテル。ヒドロキシエチルメチルセルロースであり、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]が0.32以下である、請求項2に記載のセルロースエーテル。DSメチル1.2~2.2を有する、前掲の請求項のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。MSヒドロキシアルキル0.18~0.60を有する、前掲の請求項のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。セルロースエーテルの1.5質量水性溶液が雰囲気圧力で検出可能な沈殿温度を有さず、またはセルロースエーテルの沈殿温度よりも3°C以下高いゲル化温度を有し、ゲル化温度は、G’/G=1である温度であり、G’は、セルロースエーテルの1.5質量水性溶液の貯蔵弾性率であり、そしてGは、セルロースエーテルの1.5質量水性溶液の損失弾性率である、前掲の請求項のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。1.5質量水性溶液として80°Cにて測定される貯蔵弾性率G’が少なくとも50Paである、前掲の請求項のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。1.5質量水性溶液として80°Cにて測定される貯蔵弾性率G’が少なくとも200Paである、請求項8に記載のセルロースエーテル。押出成形体用の組成物であって、a無機物質、およびb請求項1~9のいずれか1項に記載のセルロースエーテルを含む、組成物。無機物質が、ベーキングまたは焼結によって硬化する物質から選択される、請求項10に記載の組成物。請求項10または11に記載の組成物から製造される、押出成形体。セラミックハニカム構造を有する、請求項12に記載の押出成形体。請求項12または13に記載の押出成形体の、触媒用の担体としての、触媒としての、熱交換体としての、またはフィルターとしての使用。要約驚くべきことに、新規なセルロースエーテルは、ゲル温度より高温での貯蔵弾性率として表されるゲル強度が公知のヒドロキシアルキルメチルセルロースよりも高いことで、セラミック形成性物質等の無機物の押出におけるアジュバントとして極めて有用であることを見出した。本発明の一側面は、エーテル置換基が、メチル基、ヒドロキシアルキル基、および任意にメチルとは異なるアルキル基である、セルロースエーテルであって、該セルロースエーテルが、水中1.5質量溶液として20°Cで剪断速度2.55s1にて測定したときの粘度150mPas超を有し、該セルロースエーテルが、MSヒドロキシアルキル0.11~1.00を有し、無水グルコース単位の水酸基が、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]が0.35以下であるようにメチル基で置換されており、s23は、無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率であり、s26は、無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率である、セルロースエーテルである。本発明の別の側面は、押出成形体用の組成物であって、a無機物質、およびb上記セルロースエーテルを含む、組成物である。本発明の更に別の側面は、上記組成物から製造される、押出成形体である。本発明の更に別の側面は、上記押出成形体の、触媒用の担体としての、触媒としての、熱交換体としての、またはフィルターとしての使用である。詳細な説明本発明のセルロースエーテルにおいて、エーテル置換基は、メチル基、ヒドロキシアルキル基、および任意にメチルとは異なるアルキル基である。ヒドロキシアルキル基は、互いに同じまたは異なることができる。好ましくは、セルロースエーテルは、1つまたは2つのヒドロキシアルキル基を含み、より好ましくは1つ以上のヒドロキシC1-C3アルキル基例えばヒドロキシプロピルおよび/またはヒドロキシエチルを含む。有用な任意のアルキル基は、例えばエチルまたはプロピルであり、エチルが好ましい。本発明の好ましい3元セルロースエーテルは、エチルヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルメチルセルロース、またはヒドロキシエチルヒドロキシプロピルメチルセルロースである。好ましいセルロースエーテルは、ヒドロキシアルキルメチルセルロース、特に、ヒドロキシC1-C3アルキルメチルセルロース例えばヒドロキシプロピルメチルセルロースまたはヒドロキシエチルメチルセルロースである。新規なセルロースエーテルの本質的な特徴は、これらの、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]が0.35以下、好ましくは0.32以下、より好ましくは0.30以下、最も好ましくは0.27以下、特に0.25以下、および特に0.23以下であるような無水グルコース単位上のメチル基の特異な分布である。典型的には、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]は0.07以上、より典型的には0.10以上、および最も典型的には0.13以上である。より特別には、ヒドロキシエチルメチルセルロースの場合、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]の上限は0.35、好ましくは0.32、より好ましくは0.30、および最も好ましくは0.27である。ヒドロキシプロピルメチルセルロースの場合、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]の好ましい上限は、一般的には0.30、好ましくは0.27、より好ましくは0.25、および最も好ましくは0.23である。本開示で用いる符号×は乗算演算子を表す。比s23/s26において、s23は、無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率であり、s26は、無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率である。s23の定義について、用語無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率は、6位がメチルで置換されていないこと、例えば、これらが非置換水酸基であることができ、またはこれらがヒドロキシアルキル基、メチル化ヒドロキシアルキル基、メチル基とは異なるアルキル基、もしくはアルキル化ヒドロキシアルキル基で置換されていることができることを意味する。s26の定義について、用語無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率は、3位がメチルで置換されていないこと、例えば、これらが非置換水酸基であることができ、またはこれらがヒドロキシアルキル基、メチル化ヒドロキシアルキル基、メチル基とは異なるアルキル基、もしくはアルキル化ヒドロキシアルキル基で置換されていることができることを意味する。下記式Iは、無水グルコース単位における水酸基の番号付けを示す。式Iは例示の目的で用いるに過ぎず、本発明のセルロースエーテルを表すものではなく;ヒドロキシアルキル基での置換は式Iには示していない。セルロースエーテルは、好ましくはDSメチルが1.2~2.2であり、より好ましくは1.25~2.10であり、最も好ましくは1.40~2.00である。セルロースエーテルのメチル置換度、DSメチルは、無水グルコース単位当たりの、メチル基で置換されたOH基の平均数である。DSメチルの定義について、用語メチル基で置換されたOH基は、ポリマー骨格でのメチル化されたOH基すなわち無水グルコース単位の直接の一部であるものを包含するのみでなく、ヒドロキシアルキル化の後に形成された、メチル化されたOH基も包含する。セルロースエーテルは、MSヒドロキシアルキルが0.11~1.00であり、好ましくは0.13~0.80、より好ましくは0.15~0.70、最も好ましくは0.18~0.60、および特に0.18~0.50である。ヒドロキシアルキル置換度は、MSモル置換で説明される。MSヒドロキシアルキルは、無水グルコース単位1モル当たりのエーテル結合によって結合したヒドロキシアルキル基の平均数である。ヒドロキシアルキル化の間、複数の置換が側鎖をもたらすことができる。ヒドロキシプロピルメチルセルロースにおけるメトキシルおよびヒドロキシプロポキシルの定義は、UnitedStatesPharmacopeiaUSP32に準拠して行う。得られる値は、メトキシルおよびヒドロキシプロポキシルである。これらは続いて、メチル置換基について置換度DSに、そしてヒドロキシプロピル置換基についてモル置換MSに変換される。塩の残留量は変換において考慮されてきた。ヒドロキシエチルメチルセルロースにおけるDSメチルおよびMSヒドロキシエチルは、ヨウ化水素でのツァイゼル開裂、次いでガスクロマトグラフィで達成されるG.BartelmusおよびR.Ketterer,Z.Anal.Chem.2861977161-190。セルロースエーテルの粘度は150mPas超、好ましくは500~200,000mPas、より好ましくは500~100,000mPas、最も好ましくは1000~80,000mPas、特に1000~60,000mPasである20°Cの1.5質量水性溶液中、HaakeRS600レオメータにて円錐平板幾何学配置CP-60/2°で20°Cにて剪断速度2.55s1で測定したとき。驚くべきことに、上記のように、1.5質量水性溶液中、20°Cにて測定したときの粘度150mPas超を有する本発明のセルロースエーテルが、1.5質量の水性溶液として、雰囲気圧力で、検出可能な沈殿温度を有さず、または、セルロースエーテルの沈殿温度よりも、3°C以下、好ましくは2.5°C以下、より好ましくは2°C以下高いゲル化温度を有することを見出した。沈殿が高温で起こる場合、貯蔵弾性率は降下する。この沈殿温度は、対数貯蔵弾性率G’対ノーマル非対数温度のプロットから、2つの接線の交点として分析される。第1の接線は、温度上昇での貯蔵弾性率の低下にフィッティングされ、第2の接線は温度領域1~3°Cに亘る貯蔵弾性率の降下にフィッティングされる。ゲル化温度は、G’/G=1の温度であり、G’は、セルロースエーテルの1.5質量水性溶液の貯蔵弾性率であり、そしてGは、セルロースエーテルの1.5質量水性溶液の損失弾性率である。図3は、本発明のセルロースエーテルの沈殿温度およびゲル化温度の評価方法を示す。本発明のいくつかの態様において、セルロースエーテルは、雰囲気圧力で1.5質量水性溶液として検出可能な沈殿温度をなお有さない。そのようなセルロースエーテルを図4に示す。ゲル化温度と沈殿温度との間のこの低い相違または検出可能でない沈殿温度は、本発明の新規なセルロースエーテルを、例えば触媒用の担体として、触媒として、熱交換体として、またはフィルターとして有用である押出成形体における添加剤として、高度に有利にする。セルロースの1.5質量水性溶液の沈殿またはゲル化の温度依存特性を特性化するためにAntonPaarPhysicaMCR501レオメーターOstfildern,GermanyであってCupBobセットアップCC-27およびペルチェ制御システムを有するものを、振動剪断流にて用いた。測定の詳細は例の項で説明する。驚くべきことに、上記定義のように1.5質量水性溶液中、20°Cにて剪断速度2.55s1で測定したときに粘度150mPas超を有する本発明のセルロースエーテルが、驚く程高いゲル強度を有することも見出した。セルロースエーテルの水性溶液がG’/G≧1で特性化される場合、すなわちこれがゲルを形成する場合、ゲル強度は貯蔵弾性率G’として測定される。上記のように1.5質量水性溶液中、20°Cにて剪断速度2.55s1で測定したときの粘度150mPas超を有する本発明のセルロースエーテルは、一般的には貯蔵弾性率G’少なくとも50Pa、好ましくは少なくとも100Pa、より好ましくは少なくとも150Pa、および最も好ましくは少なくとも200Pa1.5質量水性溶液として80°Cで測定したときを有する。そのような貯蔵弾性率G’は一般的には、MSヒドロキシアルキルが>0.30で典型的には1.00以下、より典型的には0.80以下、最も典型的には0.60以下であるときになお実現される。MSヒドロキシアルキルが0.11~0.30の範囲内である場合、本発明のセルロースエーテルは、一般的に貯蔵弾性率G’少なくとも100Pa、好ましくは少なくとも150Pa、より好ましくは少なくとも200Pa、最も好ましくは少なくとも250Pa、および多くの場合で更に少なくとも300Pa1.5質量水性溶液として80°Cで測定したときを有する。最適条件下で、貯蔵弾性率20,000Pa以下、典型的には10,000Pa以下、およびより典型的には5,000Pa以下1.5質量水性溶液として80°Cで測定したときを実現できる。上記定義のように1.5質量水性溶液中、20°Cおよび剪断速度2.55s1にて測定したときの粘度150mPas超を有する本発明のセルロースエーテルのゲル強度は、同等の粘度ならびに置換の種類およびパーセントを有する比較のセルロースエーテルのゲル強度よりも高い。これは、高い素地強度を必要とする、押出成形体における添加剤として、特に押出成形セラミックハニカム構造における添加剤として、これらを高度に有利にする。本発明の新規なセルロースエーテルの製造方法は、例において詳細に説明される。新規なセルロースエーテルを製造するためのプロセスの幾つかの側面は以下でより一般的な用語で説明される。一般的にいえば、セルロースパルプ、または、セルロースパルプのヒドロキシアルキルメチルセルロースへの反応が進むに従って、一部反応したセルロースパルプに対して、2つ以上の段階で、好ましくは2つまたは3つの段階で、1つ以上の反応器内にて、アルカリ金属ヒドロキシドの水性アルカリ溶液で、より好ましくは水酸化ナトリウムで、アルカリ化する。水性アルカリ溶液は、好ましくは、アルカリ金属ヒドロキド量30~70、より好ましくは35~60、最も好ましくは48~52水性アルカリ溶液の総質量基準でを有する。一態様において、有機溶媒,例えばジメチルエーテル、を希釈剤および冷却剤として反応器に添加する。同様に、反応器の上部スペースは任意に不活性ガス例えば窒素でパージして、セルロースエーテル生成物の酸素触媒解重合を制御する。典型的には、1.2~2.0モル当量のアルカリ金属ヒドロキシドセルロース中の無水グルコース単位1モル当たりを第1段階で添加する。パルプ中での均一な膨潤および分布は、混合および撹拌によって任意に制御する。第1段階において、アルカリ金属ヒドロキシド剤の添加量はあまり臨界的ではない。これは幾つかの分割量,例えば2~4分割量、または連続で添加できる。アルカリ金属ヒドロキシドとセルロースパルプとの接触の第1段階での温度は、典型的には、約45°C以下に維持する。アルカリ化の第1段階は、典型的には15~60分間続く。メチル化剤,例えば塩化メチルまたはジメチルスルフェートもまたセルロースパルプに添加される典型的には、アルカリ金属ヒドロキシドの添加後に。メチル化剤の総量は一般的には、無水グルコース単位1モル当たり2~5.3モルである。メチル化剤は、セルロースに、または、セルロースパルプのヒドロキシアルキルメチルセルロースへの反応が進むにしたがって、一部反応したセルロースパルプに、1段階で添加できるが、好ましくは2つ以上の段階で添加し、より好ましくは2つまたは3つの段階、最も好ましくは2段階で添加する。メチル化剤を1段階で添加する場合、これは一般的には、無水グルコース1モル当たりメチル化剤3.5~5.3モルの量で添加するが、いずれの場合も、反応混合物の加熱前に、アルカリ金属ヒドロキシドの添加総モル量に対して少なくとも当モル量で添加する。メチル化剤を1段階で添加する場合、これは好ましくは毎分無水グルコース単位1モル当たり0.25~0.5モル当量のメチル化剤で添加する。メチル化剤を2段階で添加する場合、第1段階では、反応混合物の加熱前に、無水グルコール単位1モル当たり2~2.5モルのメチル化剤の量でこれを添加するが、いずれの場合も、いずれの場合も、反応混合物の加熱前に、アルカリ金属ヒドロキシド添加の第1段階で添加するアルカリ金属ヒドロキシドのモル量に対して少なくとも当モル量で添加する。メチル化剤を2段階で添加する場合、第1段階のメチル化剤は、好ましくは、毎分無水グルコール単位1モル当たりメチル化剤0.25~0.5モル当量で添加する。1段階の、または第1段階の、メチル化剤は懸濁剤と前混合できる。この場合、懸濁剤およびメチル化剤の混合物は、好ましくは20~50質量、より好ましくは30~50質量の懸濁剤メチル化剤および懸濁剤の総質量基準でを含む。セルロースがアルカリ金属ヒドロキシドおよびメチル化剤と接触した時点で、反応温度を典型的には30~80分間、より典型的には50~70分間かけて、約70~85°Cまで、好ましくは約75~80°Cまで上昇させ、そしてこの温度で10~30分間反応させる。メチル化剤を2段階で添加する場合、メチル化剤の第2段階は一般的に、反応混合物を温度約70~85°Cまで10~30分間加熱した後に、反応混合物に添加する。第2段階のメチル化剤は一般的には、無水グルコース単位1モル当たり1.5~3.4モルの量で添加するが、いずれの場合も、反応混合物中に存在するアルカリ金属ヒドロキシドのモル量に対して少なくとも当モル量で添加する。従って、第2段階のメチル化剤は、添加する場合は、アルカリ金属ヒドロキシドが過剰量でセルロースパルプと接触しないような様式で、アルカリ金属ヒドロキシド添加の第2段階または任意に第3段階の前または最中に反応混合物に添加する。第2段階のメチル化剤は、好ましくは、毎分無水グルコース単位1モル当たりメチル化剤0.25~0.5モル当量の量で添加する。メチル化剤を2段階で添加する場合、第1段階のメチル化剤と第2段階のメチル化剤とのモル比は、一般的には0.68:1~1.33:1である。アルカリ金属ヒドロキシドを2段階で添加する場合、典型的には、1段階または第1段階のメチル化剤の添加後に、または存在する場合には第2段階のメチル化剤の添加と同時またはその後に、無水グルコース単位1モル当たり1.0~2.9モル当量のアルカリ金属ヒドロキシドを第2段階で添加する。第1段階のアルカリ金属ヒドロキシドと第2段階のアルカリ金属ヒドロキシドとのモル比は、一般的には0.6:1~1.2:1である。第2段階で用いるアルカリ金属ヒドロキシドはゆっくり、すなわち、毎分無水グルコース単位1モル当たり0.04モル当量未満、典型的には0.03モル当量未満のアルカリ金属ヒドロキシドの量で、添加することが重要である。第2段階のアルカリ金属ヒドロキシドは一般的には温度55~80°C、好ましくは65~80°Cで添加する。メチル化剤およびアルカリ金属ヒドロキシドの各々を2段階で添加する上記手順の代替として、第2段階のメチル化剤は、第2段階のアルカリ金属ヒドロキシドの一部を添加した後の反応混合物に添加し、次いでアルカリ金属ヒドロキシドの後続の添加を行い、すなわち、メチル化剤を第2段階で添加し、これに続いてアルカリ金属ヒドロキシドの第3段階での添加を行う。方法のこの態様において、第2および第3の段階で添加する、無水グルコース単位1モル当たりのアルカリ金属ヒドロキシドの総量は、一般的には、無水グルコース単位1モル当たり1.0~2.9モルであり、好ましくはその40~60を第2段階で添加し、60~40を第3段階で添加する。好ましくは、第3段階で用いるアルカリ金属ヒドロキシドはゆっくり、すなわち、毎分無水グルコース単位1モル当たり0.04モル当量未満、典型的には0.03モル当量未満のアルカリ金属ヒドロキシドの量で、添加する。第3段階のメチル化剤およびアルカリ金属ヒドロキシドは一般的には温度55~80°C、好ましくは65~80°Cで添加する。1種以上、好ましくは1種または2種のヒドロキシアルキル化剤,例えばエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドもまた、セルロースパルプに、または、セルロースパルプのヒドロキシアルキルメチルセルロースへの反応が進むにしたがって、一部反応したセルロースパルプに、第1段階で添加するアルカリ金属ヒドロキシドの前、後またはこれと同時のいずれかで添加する。好ましくは1種のヒドロキシアルキル化剤のみを用いる。ヒドロキシアルキル化剤は一般的には、無水グルコース単位1モル当たりヒドロキシアルキル化剤0.2~2.0モルの量で添加する。ヒドロキシアルキル化剤は有利には、反応混合物を反応温度,すなわち温度30~80°C、好ましくは45~80°Cに加熱する前に添加する。メチル化剤とは異なる追加のアルキル化剤もまた、第1段階で添加するアルカリ金属ヒドロキシドの前、後またはこれと同時のいずれかでセルロースパルプに添加できる。有用なアルキル化剤は、エチル化剤,例えば塩化エチルである。追加のアルキル化剤は一般的には、無水グルコース単位1モル当たりアルキル化剤0.5~6モルの量で添加する。アルキル化剤は有利には、反応混合物を反応温度,すなわち温度30~80°C、好ましくは45~80°Cに加熱する前に添加する。セルロースエーテルを洗浄して、塩および他の反応副生成物を除去する。任意の溶媒であってその中に塩が可溶であるものを使用できるが、水が好ましい。セルロースエーテルは、反応器内で洗浄できるが、反応器の下流に位置する別個の洗浄器内で洗浄することが好ましい。洗浄前または洗浄後に、セルロースエーテルを蒸気に曝して揮散により残留有機物含有量を低減できる。セルロースエーテルを乾燥させて、水分および揮発分の含有量を、好ましくは約0.5~約10.0質量の水、より好ましくは約0.8~約5.0質量の水および揮発分セルロースエーテルおよび揮発分の質量の合計基準でに低減する。低減された水分および揮発分の含有量によって、セルロースエーテルが粒状形状にミル粉砕されることが可能になる。セルロースエーテルを所望サイズの粒状物にミル粉砕する。所望の場合、乾燥およびミル粉砕を同時に実施できる。上記のプロセスに従い、一般的に粘度150mPas超、好ましくは500~200,000mPas、より好ましくは500~100,000mPas、最も好ましくは1,000~80,000mPas、特に1,000~60,000mPas1.5質量水性溶液中、20°CにてHaakeRS600にて剪断速度2.55s1で評価したときを有するセルロースエーテルが得られる。本発明のセルロースエーテルは、公知のヒドロキシアルキルメチルセルロースよりも高いゲル強度を有し、これはこれらを、例えばセラミック形成性物質等の押出成形体用の組成物におけるアジュバントとして極めて有用にする。押出成形体用の組成物は、a無機物質およびb上記セルロースエーテルを含む無機物であり、好ましくは、ベーキングまたは焼結の結果硬化するもの、最も好ましくはセラミック形成性物質である。無機セラミック形成性物質は、合成にて製造された物質,例えば酸化物、水酸化物等であることができ、またはこれらは、天然由来の鉱物,例えばクレー、タルク、またはこれらの任意の組合せであることができる。より好ましくは、無機物質は、アルミナもしくはその前駆体、シリカもしくはその前駆体、アルミネート、アルミノシリケート、アルミナシリカ、長石、チタニア、溶融石英、窒化アルミニウム、炭化アルミニウム、カオリン、コーディエライトもしくはその前駆体、ムライトもしくはその前駆体、クレー、ベントナイト、タルク、ジルコン、ジルコニア、スピネル、炭化珪素、ホウ化珪素、窒化珪素、二酸化チタン、炭化チタン、炭化ホウ素、酸化ホウ素、ボロシリケート、ソーダバリウムボロシリケート、シリケートおよびシートシリケート、珪素金属、炭素、すりガラス、希土類酸化物、ソーダライム、ゼオライト、チタン酸バリウム、ジルコン酸チタン酸鉛、チタン酸アルミニウム、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、炭素、すりガラス、金属酸化物,例えば希土類酸化物、またはそのような無機物質の2種以上の組合せである。用語クレーは、板状構造を有し、水と混合された場合に可塑性物を形成する水素化アルミニウムシリケートを意味する。典型的には、クレーは1種以上の結晶構造,例えばカオリン、イライトおよびスメクタイトで構成される。好ましい酸化物は、クレーと混合した場合にコーディエライトまたはムライトを形成するもの例えば、コーディエライトを形成するためにはシリカおよびタルク、そしてムライトを形成する場合にはアルミナである。押出成形体用の組成物は、無機物質aおよびセルロースエーテルbの総質量基準で、好ましくは、85~99.5、より好ましくは90~99.3、最も好ましくは92~99の無機物質aおよび0.5~15、より好ましくは0.7~10、最も好ましくは1~8のセルロースエーテルbを含む。本発明の組成物は、好ましくはペースト形状である。一般的に、これは、25°Cで液体であってセルロースエーテルがその中で溶解するための媒体を与え、従ってバッチに可塑性を与えて粉末を湿潤させる希釈剤を含む。液体希釈剤は、水性系であることができる。これは通常水もしくは水混和性溶媒、もしくは有機系、またはこれらの混合物である。最も好ましくは水を用いる。押出成形体のための組成物は、無機物質a100質量部に対して、好ましくは10~60質量部、より好ましくは20~50質量部、最も好ましくは15~40質量部の液体希釈剤を含む。本発明の組成物は、他の添加剤,例えば界面活性剤、潤滑剤、および細孔形成性物質を更に含んでもよい。本発明の実施において使用できる界面活性剤の非限定例は、C8~C22脂肪酸および/またはこれらの誘導体である。これらの脂肪酸とともに使用できる追加の界面活性剤成分はC8~C22脂肪族エステル、C8~C22脂肪族アルコール、およびこれらの組合せである。例示の界面活性剤は、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、パルミトレイン酸、およびこれらの誘導体、ステアリン酸とラウリル硫酸アンモニウムとの組合せ、およびこれらの組合せである。最も好ましい界面活性剤はラウリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、およびこれらの組合せである。界面活性剤の量は典型的には、無機物質aの質量基準で0.5~3であることができる。潤滑剤の非限定例は、例えば、ポリエチレンオキシドホモポリマー、コポリマーおよびターポリマー、グリコール、または油潤滑剤,例えば軽質鉱物油、コーン油、高分子量ポリブテン、ポリオールエステル、軽質鉱物油とワックスエマルションとのブレンド物、パラフィンワックスのコーン油中ブレンド物、およびこれらの組合せである。典型的には、油潤滑剤の量は、無機物質aの質量基準で、0.1~10、より典型的には0.3~6であることができる。フィルター用途において,例えばディーゼル粒状物フィルターにおいては、混合物中に、効率的なフィルタリングに必要な多孔度を最終的に得るのに有効な量のバーンアウト細孔形成性物質を含むのが通例である。バーンアウト細孔形成性物質は、燃焼ステップで素地体をバーンアウトする任意の粒状物質バインダーではないである。使用できるバーンアウト剤の幾つかの種類は、本発明はこれらに限定されないことを理解すべきであるが、室温で固体である非ワックス状有機物、元素炭素、およびこれらの組合せである。幾つかの例は、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、グラファイト、カーボンブラック、セルロースまたは穀粉である。元素粒状炭素は好ましい。グラファイトは特に好ましい。他の有用な細孔形成性物質は繊維,例えばセルロース、竹、ココナッツ、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリアクリロニトリル、炭素、ガラス、セラミック、および他の鉱物繊維、を基にする繊維である。典型的には、細孔形成性物質の量は、無機物質aの総質量基準で、5~60、より典型的には10~50であることができる。無機物質a、セルロースエーテルb、典型的には液体希釈剤、ならびに任意に他の添加剤,例えば界面活性剤、潤滑剤、および細孔形成性物質、の均一混合は、例えば、公知の従来の混練プロセスによって達成できる。得られる押出成形体用の押出可能な組成物は通常硬く均一である。次いでこれを任意の公知の従来のセラミック押出プロセスによって素地押出成形体に成形できる。例示の側面において、押出は、水撃ポンプ押出プレス、または2段階脱気シングルオーガー押出機、または二軸押出機吐出端に取り付けたダイアセンブリを有するを用いて行うことができる。得られた素地体を次いで乾燥して過剰の水分を除去できる。乾燥は、高温エア、またはスチームまたは誘電乾燥によって実施できる。これは次いで風乾できる。乾燥したら、その後、公知の方法に従って素地体を焼結された物品に転化するのに有効な条件下で素地体を燃焼させることができる。温度および時間の燃焼条件は、物体の組成およびサイズおよび幾何学配置に左右され、そして本発明は具体的な燃焼温度および燃焼時間に限定されない。典型的な温度は600°C~2300°Cであり、これらの温度での保持時間は典型的には1時間~20時間である。本発明に係る押出成形体は任意の便利なサイズおよび形状を有することができる。乾燥および焼結に際し、乾燥および焼結された押出成形体は、多くの用途において,例えば触媒用の担体、触媒として、熱交換体として、またはフィルターとして、例えばディーゼル粒状物フィルターとして、溶融金属フィルターとして、および再生体コアとしての用途を見出す。好ましい側面において、本発明の組成物および方法は、セル状体,例えばハニカムの製造に良好に適する。これらのセル状セラミック体は、触媒用の担体として、または排ガス処理用の触媒フィルターとして特に有用である。一般的に、ハニカム密度範囲は約15セル/cm2~約235セル/cm2である。典型的な壁厚みは0.05~0.65mmである。しかし、セラミック体の特定の所望のサイズおよび形状は用途に左右される例えば自動車用途では、搭載が可能なエンジンのサイズおよび空間によって可能性があることを理解すべきである。本発明の押出成形体は、一側面においては、薄壁ハニカムに好適であるが、クレームの混合物は、より厚壁の構造にも使用できる。例えば、15~30セル/cm2および0.30~0.64mm壁厚を有するハニカム構造はディーゼル粒状物フィルター用途に良好に適する。例以下の例は例示の目的に過ぎず、本発明の範囲の限定を意図しない。全てのパーセントは特記がない限り質量基準である。均一な溶液を実現するために、3gのセルロースエーテル粉末セルロースエーテルの含水量を考慮しを197gの水に70°Cにて、オーバーヘッドラボ撹拌器で700rpmにて10分間懸濁させる。次いでこれらの溶液を温度2°Cに5時間冷却して、溶解プロセスを完了させる。これらの5時間の間、溶液を500~1000rpmで撹拌し、蒸発で失われた水を置き換える。次いでこれらの溶液を冷蔵庫内で1晩保存する。分析前に、低温溶液を15分間100rpmで撹拌する。ヒドロキシプロピルメチルセルロースの粘度を、1.5質量水性溶液中、20°CにてHaakeRS600レオメーター内、円錐平板幾何学配置CP-60/2°で20°Cにて剪断速度2.55s1で評価する。ヒドロキシプロピルメチルセルロースにおけるメトキシルおよびヒドロキシプロポキシルの評価は、UnitedStatesPharmacopeiaUSP32に準拠して行う。得られる値はメトキシルおよびヒドロキシプロポキシルである。これらは続いてメチル置換基の置換度DSおよびヒドロキシプロピル置換基のモル置換度MSに変換する。塩の残存量は変換において考慮に入れてある。ヒドロキシエチルメチルセルロース中のDSメチルおよびMSヒドロキシエチルは、ヨウ化水素でのツァイゼル開裂、次いでガスクロマトグラフィで行うG.BartelmusおよびR.Ketterer,Z.Anal.Chem.2861977161-190。s23/s26の評価セルロースエーテル中のエーテル置換基の評価は、一般に公知であり、例えばCarbohydrateResearch,1761988137-144,ElsevierSciencePublishersB.V.,Amsterdam,DISTRIBUTIONOFSUBSTITUENTSINO-ETHYL-O-2-HYDROXYETHYLCELLULOSEBengtLindberg,UlfLindquist,およびOlleStenbergよりに記載されている。具体的には、s23/s26の評価は以下のように実施する。10~12mgのセルロースエーテルを、4.0mLの乾燥分析グレードジメチルスルホキシドDMSOMerck,Darmstadt,Germany,0.3nmモレキュラーシーブビーズ上で保存中、約90°Cで撹拌下で溶解させ、次いで再度室温まで冷却する。溶液を室温で1晩撹拌し続けて完全な可溶化を確保する。セルロースエーテルの可溶化を含む反応全体を、4mLスクリューキャップバイアル中、乾燥窒素雰囲気を用いて行う。可溶化後、溶解したセルロースエーテルを22mLのスクリューキャップバイアルに移す。粉末化水酸化ナトリウム新しくすり潰された分析グレードのもの,Merck,Darmstadt,Germanyおよびヨウ化エチル合成用で銀で安定化したもの,Merck-Schuchardt,Hohenbrunn,Germanyを、反応剤水酸化ナトリウムおよびヨウ化エチルの無水グルコース単位の水酸基当たり30倍モル過剰にて、添加し、窒素下、暗所で3日間室温にて溶液を激しく撹拌する。第1の反応剤の添加と比べて反応剤水酸化ナトリウムおよびヨウ化エチルの3倍量の添加で完全エチル化を繰り返して、室温で更に2日間撹拌する。任意に、反応混合物を1.5mLのDMSOで希釈して、反応の過程中に良好な混合を確保できる。5mLの5水性チオ硫酸ナトリウム溶液を反応混合物に注ぎ入れ、次いで得られた溶液を3回、4mLのジクロロメタンで抽出する。組合せた抽出物を3回、2mLの水で洗浄する。有機相を無水硫酸ナトリウム約1gで乾燥させる。濾過後、溶媒を窒素の穏やかな流れにて除去して、サンプルを更なるサンプル調製まで4°Cで保存する。約5mgの完全エチル化されたサンプルの加水分解を、窒素下で2mLのスクリューキャップバイアルで1mLの90水性ギ酸で、撹拌下、100°Cにて1時間行う。酸を35~40°Cでの窒素の流れにて除去し、加水分解を1mLの2M水性トリフルオロ酢酸で3時間120°Cで、不活性窒素雰囲気中撹拌下にて繰り返す。完了後、雰囲気温度で約1mLのトルエンを共蒸留用に用いて窒素の流れ中で酸を除去して乾燥状態にする。加水分解の残渣を0.5mLの0.5M重水素化ホウ素ナトリウムで、2N水性アンモニア溶液新しく調製したもの中で3時間、室温で撹拌下で還元する。約200μlの濃酢酸の滴下添加によって過剰の反応剤を潰す。得られる溶液を、窒素流中、約35~40°Cで蒸発させて乾燥状態にし、続いて減圧中で15分間室温で乾燥させる。粘稠な残渣を0.5mLの15酢酸メタノール中中に溶解させ、室温で蒸発させて乾燥状態にする。これを5回行い、純メタノールで4回繰り返す。最終蒸発後、サンプルを減圧中で1晩室温で乾燥させる。還元残渣を600μLの無水酢酸および150μLのピリジンで3時間90°Cにてアセチル化する。冷却後サンプルバイアルにトルエンを入れ、窒素流中、室温で蒸発させて乾燥状態にする。残渣を4mLのジクロロメタン中に溶解させて2mLの水に注ぎ入れ、2mLのジクロロメタンで抽出する。抽出を3回繰り返す。組合せた抽出物を3回、4mLの水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させる。続いて、乾燥したジクロロメタン抽出物をGC分析に供する。GC系の感度に依存し、抽出物の更なる希釈が必要である可能性がある。気体-液体GLCクロマトグラフ分析を、HewlettPackard5890Aおよび5890AシリーズII型のガスクロマトグラフJWキャピラリカラムDB5,30m,0.25mmID,0.25μm相層厚み1.5barヘリウムキャリアガスで操作を備えるで行う。ガスクロマトグラフは、60°Cで1分間一定保持、速度20°C/分で200°Cまで加熱、速度4°C/分で250°Cまで更に加熱、速度20°C/分で310°Cまで更に加熱、ここで更に10分間一定で保持、の温度プロファイルでプログラムする。インジェクター温度は280°Cに設定し、フレームイオン化検出器FIDの温度を300°Cに設定する。1μLのサンプルをスプリットレス式で0.5分のバルブ時間で注入する。データを得て、LabSystemsAtlasワークステーションで処理する。定量モノマー組成物データは、GLCでFID検出にて測定されるピーク面積から得る。モノマーのモル応答は有効炭素数ECNの概念しかし下記表に記載するように改変したに沿って算出する。有効炭素数ECNの概念はAckmanR.G.Ackman,J.GasChromatogr.,21964173-179およびR.F.Addison,R.G.Ackman,J.GasChromatogr.,61968135-138によって説明されており、SweetらD.P.Sweet,R.H.Shapiro,P.Albersheim,Carbohyd.Res.,401975217-225によって部分アルキル化アルジトールアセテートの定量分析に適用する。ECN算出のために用いたECN増分モノマーの異なるモル応答を較正するために、ピーク面積にモル応答係数MRFモノマーこれは2,3,6-Meモノマーに対する応答と定義されるを乗じる。2,3,6-Meモノマーを対照として選択する。これはs23/s26の評価で分析される全サンプル中に存在するからである。MRFモノマー=ECN2,3,6-Me/ECNモノマーモノマーのモル分率は、下記式に従い、較正されたピーク面積を較正された全ピーク面積で除することによって算出する。s23=[23-Me23-Me-6-HAMe23-Me-6-HA23-Me-6-HAHAMe23-Me-6-HAHA];およびs26=[26-Me26-Me-3-HAMe26-Me-3-HA26-Me-3-HAHAMe26-Me-3-HAHA]式中、s23は下記条件を満たす無水グルコース単位のモル分率の合計である。a無水グルコース単位の2-および3-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ6位が置換されていない=23-Me;b無水グルコース単位の2-および3-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、6位がメチル化ヒドロキシアルキル=23-Me-6-HAMeまたは2ヒドロキシアルキル基を含むメチル化側鎖=23-Me-6-HAHAMeで置換されている;ならびにc無水グルコース単位の2-および3-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ6位がヒドロキシアルキル=23-Me-6-HAまたは2ヒドロキシアルキル基を含む側鎖=23-Me-6-HAHAで置換されている。s26は下記条件を満たす無水グルコース単位のモル分率の合計である。a無水グルコース単位の2-および6-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ3位が置換されていない=26-Me;b無水グルコース単位の2-および6-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ3位がメチル化ヒドロキシアルキル=26-Me-3-HAMeまたは2ヒドロキシアルキル基を含むメチル化側鎖で=26-Me-3-HAHAMe置換されている;ならびにc無水グルコース単位の2-および6-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ3位がヒドロキシアルキル=26-Me-3-HAまたは2ヒドロキシアルキル基を含む側鎖=26-Me-3-HAHAで置換されている。HAMCにおける置換の評価結果を下記表3に列挙する。HPMCのヒドロキシアルキルHAがヒドロキシプロピルHPである場合、メチル化ヒドロキシアルキルHAMeはメチル化ヒドロキシプロピルHPMeである。沈殿またはゲル化の評価1.5質量水性セルロースエーテル溶液の沈殿またはゲル化の温度依存性の特性を特性化するために、AntonPaarPhysicaMCR501レオメーターOstfildern,GermanyをCupBobセットアップCC-27およびペルチェ温度制御系とともに振動剪断流で用いる。これらの溶液を、粘度測定について説明したのと同じ溶解手順に従って調製する。測定は一定周波数2Hz、および一定歪み変位振幅0.5で10~85°C、加熱速度1°C/分で、データ収集量4点/分で行う。振動測定で得られる貯蔵弾性率G’は、溶液の弾性特性を表す。振動測定で得られる損失弾性率Gは、溶液の粘性特性を表す。低温では、損失弾性率値Gは貯蔵弾性率G’よりも高く、両値は温度上昇で若干低下する。沈殿が高温で起こる場合、貯蔵弾性率は降下する。この沈殿温度を、対数貯蔵弾性率G’対温度のプロットから、2つの接線の交点として分析する。第1の接線は、温度上昇での貯蔵弾性率の低下にフィッティングされ、第2の接線は温度範囲1~3°Cに亘る貯蔵弾性率の降下にフィッティングされる。温度の更なる上昇で、貯蔵弾性率値は増大し、貯蔵弾性率と損失弾性率との交点が得られる。G’とGとの交点をゲル化温度と定義する。セルロースエーテルの水性溶液がG’/G≧1で特性化される場合、すなわちこれがゲルを形成する場合、ゲル強度は貯蔵弾性率G’として測定される。本発明の幾つかのセルロースエーテルは、2つの点のG’およびGの交点を示す。そのような場合、ゲル化温度は、G’/G=1の温度であってG’/G=1よりも1°C低い温度ではG>G’である温度である。図3は、本発明のセルロースエーテルの沈殿温度およびゲル化温度の評価方法を示す。例1ヒドロキシプロピルメチルセルロースHPMCを以下の手順に従って製造する。微粉砕した木材セルロースパルプをジャケット付の撹拌された反応器内に入れる。反応器を空にし、窒素でパージして酸素を除去し、次いで再度空にする。反応を2段階で行う。第1段階では、水酸化ナトリウムの50質量の水性溶液を、セルロース中の無水グルコース単位1モル当たり2.0モルの量の水酸化ナトリウムでセルロース上にスプレーし、温度を40°Cに調整する。撹拌後、水性水酸化ナトリウム溶液およびセルロースの混合物を約20分間40°Cで撹拌し、1.5モルのジメチルエーテル、2.5モルの塩化メチルおよび0.6モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりを反応器に添加する。反応器の内容物を次いで60分間80°Cに加熱する。80°Cに到達した後、第1段階の反応を30分間進行させる。反応の第2段階は、無水グルコース単位1モル当たり2.8モル当量の量の塩化メチルを添加することによって開始する。塩化メチルの添加時間は10分間である。次いで、50質量の水酸化ナトリウムの水性溶液を無水グルコース単位1モル当たり2.3モルの量で90分間かけて添加する。添加量は、毎分無水グルコース単位1モル当たり0.026モルの水酸化ナトリウムである。第2段階の添加を完了させた後、反応器の内容物を次いで温度80°Cで120分間維持する。反応後、反応器をベントし、約50°Cまで冷却する。反応器の内容物を取出し、高温水を収容するタンクに移す。粗HPMCを次いでギ酸で中和し、塩化物がなくなるように高温水で洗浄AgNO3凝集試験で調べるし、室温まで冷却し、55°Cで空気掃引ドライヤー中で乾燥させる。材料を次いで、AlpineUPZミルを用いて0.5mmスクリーンを用いて粉砕する。例2反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.8モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例3反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.2モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例4反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.4モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例5反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.15モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例6反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.4モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例7第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第1段階における塩化メチルの量を2.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における塩化メチルの量を1.5モル無水グルコース単位1モル当たりとし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.2モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例8第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第1段階における塩化メチルの量を2.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における塩化メチルの量を1.5モル無水グルコース単位1モル当たりとし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.4モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例9第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第1段階における塩化メチルの量を3.5モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における塩化メチルの量を0ゼロモル無水グルコース単位1モル当たりとし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.0モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例10第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第1段階における塩化メチルの量を3.5モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における塩化メチルの量を0ゼロモル無水グルコース単位1モル当たりとし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.35モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例11ヒドロキシプロピルメチルセルロースを以下の手順に従って製造する。微粉砕した木材セルロースパルプをジャケット付の撹拌された反応器内に入れる。反応器を空にし、窒素でパージして酸素を除去し、次いで再度空にする。反応を3段階で行う。第1段階では、水酸化ナトリウムの50質量の水性溶液を、セルロース中の無水グルコース単位1モル当たり1.8モルの量の水酸化ナトリウムでセルロース上にスプレーし、温度を40°Cに調整する。撹拌後、水性水酸化ナトリウム溶液およびセルロースの混合物を約10~20分間40°Cで撹拌し、1.5モルのジメチルエーテル、2.3モルの塩化メチルおよび0.4モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりを反応器に添加する。反応器の内容物を次いで60分間80°Cに加熱する。80°Cに到達した後、第1段階の反応を5分間進行させる。次いで、反応器の内容物を25分間で65°Cまで冷却する。第2段階反応は、水酸化ナトリウムの50質量水性溶液を、無水グルコース単位1モル当たり1.45モルの水酸化ナトリウムの量にて、45分間に亘って添加することによって開始する。添加量は、毎分無水グルコース単位1モル当たり0.032モルの水酸化ナトリウムである。次いで、無水グルコース単位1モル当たり3.4モルの量で塩化メチルを添加する。塩化メチルの添加時間は10分間である。次いで、第3段階として、再度、水酸化ナトリウムの50質量水性溶液を、無水グルコース単位1モル当たり1.45モルの水酸化ナトリウムの量にて、45分間に亘って添加する。第3段階の水酸化ナトリウム添加が完了した後、反応器の内容物を次いで80°Cに15~30分間にて加熱し、この温度で90分間維持する。製造したセルロースエーテルを、例1で説明したように更に処理する。図4は、例11のヒドロキシプロピルメチルセルロースのゲル化温度を示す。例12プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.2モルのエチレンオキシドである。例13プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.4モルのエチレンオキシドである。例14プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.6モルのエチレンオキシドである。例15プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.8モルのエチレンオキシドである。比較例ATheDowChemicalCompanyから商品名MethocelF4Mにて市販で入手可能なヒドロキシプロピルメチルセルロースを用いる。比較例BおよびCのヒドロキシエチルメチルセルロースもまたTheDowChemicalCompanyから市販で入手可能である。例1~15および比較例A~Cのヒドロキシプロピルメチルセルロースの特性を下記表1に列挙する。11.5質量水性溶液として測定11.5質量水性溶液として測定押出セラミックを形成する押出実験のための手順100質量部のコーディエライト配合物コーディエライトCP820MImerysTableware,Germanyおよび4質量部の例11または比較例Aのセルロースエーテルからなるをまず、流動床ミキサーLoedige,Germany製内で、均一混合物が形成されるまで乾燥状態で混合した。次いで、30.5部の水20°Cを続いて添加し;塊をニーダーAMK,Aachen,Germany製内で、数分間、更に混合および混練した。塊を次いで直ちに水冷した単軸押出機HaendlePZVE8D,スクリュー径8cm、Haendle,Muehlacker,Germanyよりの供給口に導入した。塊を、穿孔板経由で押出し、脱気のために減圧チャンバーを通過させた。減圧チャンバー内の圧力は300~320mbarであった。塊を次いでまず30分間濾しすなわち、凝集塊を除くためにメッシュサイズ0.3mmのスクリーンを通過させ、続いてダイ圧一定となるまで塊の再循環によって室温23°Cで押出した。次いで塊を40×40mmサイズのスクエアダイ経由で押出した。スクリュー速度は15rpmで保持した。試験を異なる温度で行ってサンプルを製造し、その湿潤素地曲げ弾性率を直ちに測定した。湿潤素地曲げ弾性率の測定押出したペーストの湿潤素地曲げ弾性率は、押出したハニカムのような複雑なプロファイルのたるみと相関する。湿潤素地曲げ弾性率は全プロファイルの3点曲げ強さ測定で測定する。固体が変形するための典型的な応力歪曲線を測定する。新しく押出したセラミックは、線形弾性域を示し、ここで応力と歪との間の比例のフックの法則が当てはまる。この条件下で、スロープから弾性率を算出することが可能である。評価は式:E:湿潤素地曲げ弾性率F:力l:2支持体間の長さΔl:偏差b:サンプル幅h:サンプル高さに従って行う。試験条件:測定のために、TextureAnalyzerXTPlus製造元:StableMicroSystems,Surrey,UKを用いた。試験詳細:サンプルサイズ:ダイ40mm×40mm、断面約17cm2。圧縮ダイ旋回可能、ベアリングロール前転旋回可能、侵入速度:10mm/分、長さ/高さ=2.5、試験前負荷5g0.04903N、予測される破断力の約0.2、力センサー500N、両ベアリングロール間の差:100mm。表2は、例11および比較例Aのセルロースエーテルを含む上記セラミック組成物の湿潤素地曲げ弾性率を列挙する。図2は表2で列挙する結果を示す。"