一般式又は:式中、R1は炭素数1~4個のアルキル基を示し、R2は水素原子、炭素数1~4個のアルキル基、又は炭素数6~14個のアリール基を示し、R3は水素原子、炭素数1~4個のアルキル基、又は炭素数6~14個のアリール基を示すが、R1及びR2はそれらがそれぞれ結合する窒素原子及び炭素原子とともに炭素数3~16個の環状構造を形成してもよく;RA-Oは糖化合物残基RAとOとの結合はα結合又はβ結合のいずれかであり、該糖化合物残基は、糖化合物が単糖化合物である場合には1位の水酸基から水素原子を除いた残基を示し、糖化合物が単糖化合物以外の糖化合物である場合には糖化合物を構成する複数の糖化合物のうち還元末端の糖化合物における1位の水酸基から水素原子を除いた残基を示し、糖化合物残基は1個又は2個以上の保護基を有していてもよいを示すで表される糖1オキサザホスホリジン化合物。R1及びR2がそれらがそれぞれ結合する窒素原子及び炭素原子とともに5員環の環状構造を形成し、かつR3がフェニル基である請求項1に記載の糖1オキサザホスホリジン化合物。一般式又は;で表される化合物。一般式又は;で表される化合物。一般式又は;R12及びR13はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を示すを示すで表される化合物。請求項5に記載の一般式又はで表される化合物の製造方法であって、下記の工程:RA0で表される化合物と上記一般式又はで表される化合物とを反応させて上記一般式又はで表される糖1オキサザホスホリジン化合物を製造する工程;上記工程で得られた上記一般式又はで表される糖1オキサザホスホリジン化合物をRBOHで表される糖化合物と反応させて上記一般式又はで表される化合物を製造する工程;上記工程で得られた上記一般式又はで表される化合物とXとを反応させて一般式又はで表される化合物を製造する工程;及び上記工程で得られた一般式又はで表される化合物から上記のR1NHCCで表される基を脱保護する工程を含む方法。本発明の課題は、糖1リン酸化合物のアノマー位にリン酸が結合した化合物を立体選択的に製造する方法を提供することにある。本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、グルコース、マンノース等の骨格を有するアノマー水酸基遊離の糖誘導体と2クロロ132オキサザホスホリジン誘導体などの光学活性試薬とを反応させることによりグリコシルオキサザホスホリジン誘導体を製造し、さらにリン原子を硫黄やホウ素を含む置換基によって修飾することにより種々の糖1リン酸誘導体を立体選択的に製造できることを見出した。本発明は上記の知見に基づいて完成されたものである。すなわち、本発明により、下記の一般式又は:式中、R1は炭素数1~4個のアルキル基を示し、R2は水素原子、炭素数1~4個のアルキル基、又は炭素数6~14個のアリール基を示し、R3は水素原子、炭素数1~4個のアルキル基、又は炭素数6~14個のアリール基を示すが、R1及びR2はそれらがそれぞれ結合する窒素原子及び炭素原子とともに炭素数3~16個の環状構造を形成してもよく;RA-Oは糖化合物残基RAとOとの結合はα結合又はβ結合のいずれかであり、該糖化合物残基は、糖化合物が単糖化合物である場合には1位の水酸基から水素原子を除いた残基を示し、糖化合物が単糖化合物以外の糖化合物である場合には糖化合物を構成する複数の糖化合物のうち還元末端の糖化合物における1位の水酸基から水素原子を除いた残基を示し、糖化合物残基は1個又は2個以上の保護基を有していてもよいを示すで表される糖1オキサザホスホリジン化合物が提供される。上記発明の好ましい態様によれば、R1及びR2がそれらがそれぞれ結合する窒素原子及び炭素原子とともに5員環の環状構造を形成する上記の糖1オキサザホスホリジン化合物;R3がフェニル基である上記の糖1オキサザホスホリジン化合物;RAとOとの結合がα結合である上記の糖1オキサザホスホリジン化合物;糖化合物残基が還元糖の残基である上記の糖1オキサザホスホリジン化合物;糖化合物の残基がグルコース、ガラクトース、又はマンノースの残基である上記の糖1オキサザホスホリジン化合物が提供される。また、糖1リン酸化合物のアノマー位にリン酸が結合した糖1リン酸化合物の製造に用いるための上記の糖1オキサザホスホリジン化合物が提供される。別の観点からは、本発明により、上記一般式又はで表される糖1オキサザホスホリジン化合物の製造方法であって、RAOHで表される化合物と下記の一般式又は:とを反応させる工程を含む方法が提供される。上記発明の好ましい態様によれば、R1及びR2がそれらがそれぞれ結合する窒素原子及び炭素原子とともに5員環の環状構造を形成する上記の方法;R3がフェニル基である上記の方法;RAとOとの結合がα結合である上記の方法;糖化合物残基が還元糖の残基である上記の方法;糖化合物の残基がグルコース、ガラクトース、又はマンノースの残基である上記の方法が提供される。さらに別の観点からは、本発明により、下記一般式又は;で表される化合物が提供される。上記発明の好ましい態様によれば、R1及びR2がそれらがそれぞれ結合する窒素原子及び炭素原子とともに5員環の環状構造を形成する上記の化合物;R3がフェニル基である上記の化合物;RAとOとの結合がα結合である上記の化合物;糖化合物残基が還元糖の残基である上記の化合物;糖化合物の残基がグルコース、ガラクトース、又はマンノースの残基である上記の化合物;RBが示す糖化合物残基が糖化合物で単糖化合物である場合には6位又は4位の水酸基から水素原子を除いた残基を示し、糖化合物が単糖化合物以外の糖化合物である場合には糖化合物を構成する複数の糖化合物のうち還元末端の糖化合物における6位又は4位の水酸基から水素原子を除いた残基を示す上記の化合物が提供される。また、別の観点からは、本発明により、下記一般式又は;で表される化合物が提供される。上記発明の好ましい態様によれば、R1及びR2がそれらがそれぞれ結合する窒素原子及び炭素原子とともに5員環の環状構造を形成する上記の化合物;R3がフェニル基である上記の化合物;RAとOとの結合がα結合である上記の化合物;糖化合物残基が還元糖の残基である上記の化合物;糖化合物の残基がグルコース、ガラクトース、又はマンノースの残基である上記の化合物;RBが示す糖化合物残基が糖化合物が単糖化合物である場合には6位又は4位の水酸基から水素原子を除いた残基を示し、糖化合物が単糖化合物以外の糖化合物である場合には糖化合物を構成する複数の糖化合物のうち還元末端の糖化合物における6位又は4位の水酸基から水素原子を除いた残基を示す上記の化合物;Xがイオウ原子又は→BH3である上記の化合物が提供される。さらに、本発明により、下記一般式又は;R12及びR13はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を示すを示すで表される化合物が提供される。上記発明の好ましい態様によれば、RAとOとの結合がα結合である上記の化合物;糖化合物残基が還元糖の残基である上記の化合物;糖化合物の残基がグルコース、ガラクトース、又はマンノースの残基である上記の化合物;RBが示す糖化合物残基が糖化合物が単糖化合物である場合には6位又は4位の水酸基から水素原子を除いた残基を示し、糖化合物が単糖化合物以外の糖化合物である場合には糖化合物を構成する複数の糖化合物のうち還元末端の糖化合物における6位又は4位の水酸基から水素原子を除いた残基を示す上記の化合物;XがS又はBH3である上記の化合物が提供される。また、本発明により、一般式又はで表される化合物の製造方法であって、下記の工程:上記RAOHで表される化合物と上記の一般式又はで表される化合物とを反応させて上記一般式又はで表される糖1オキサザホスホリジン化合物を製造する工程;上記工程で得られた上記一般式又はで表される糖1オキサザホスホリジン化合物をRBOHで表される糖化合物と反応させて上記一般式又はで表される化合物を製造する工程;上記工程で得られた上記一般式又はで表される化合物とXと反応させて一般式又はで表される化合物を製造する工程;及び上記工程で得られた一般式又はで表される化合物から上記のR1NHCCで表される基を脱保護する工程を含む方法が提供される。さらに、本発明により、一般式又はで表される化合物の製造方法であって、下記の工程:上記一般式又はで表される糖1オキサザホスホリジン化合物をRBOHで表される糖化合物と反応させて上記一般式又はで表される化合物を製造する工程;上記工程で得られた上記一般式又はで表される化合物とXと反応させて一般式又はで表される化合物を製造する工程;及び上記工程で得られた一般式又はで表される化合物から上記のR1NHCCで表される基を脱保護する工程を含む方法、一般式又はで表される化合物の製造方法であって、下記の工程:上記一般式又はで表される化合物とXと反応させて一般式又はで表される化合物を製造する工程;及び上記工程で得られた一般式又はで表される化合物から上記のR1NHCCで表される基を脱保護する工程を含む方法、並びに一般式又はで表される化合物の製造方法であって、下記の工程:一般式又はで表される化合物から上記のR1NHCCで表される基を脱保護する工程を含む方法が提供される。本発明の方法により、グルコース、マンノース等の骨格を有するアノマー水酸基遊離の糖誘導体と2クロロ132オキサザホスホリジン誘導体などの光学活性試薬とを反応させることによりグリコシルオキサザホスホリジン誘導体を製造し、さらにリン原子を硫黄やホウ素を含む置換基によって修飾することにより、種々の糖1リン酸誘導体を立体選択的に製造することができる。上記一般式及びにおいて、R1は炭素数1~4個のアルキル基を示し、R2は水素原子、炭素数1~4個のアルキル基、又は炭素数6~14個のアリール基を示し、R3は水素原子、炭素数1~4個のアルキル基、又は炭素数6~14個のアリール基を示す。本明細書において、アルキル基は直鎖状、分枝鎖状、環状、又はそれらの組み合わせからなるアルキル基のいずれであってもよい。アルキル基の炭素数は1~4個であり、好ましくは炭素数1~3程度である。アルキル基は1個又は2個以上の不飽和結合二重結合又は三重結合を含んでいてもよく、2個以上の不飽和結合を含む場合には、それらは共役していても非共役であってもよい。二重結合と三重結合を適宜組合わせて含んでいてもよい。アルキル基は任意の位置に1個又は2個以上の置換基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合にはそれらは同一でも異なっていてもよい。例えば、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、フェニル基などのアリール基、又はピリジル基などのヘテロアリール基などを有していてもよく、これらの置換基はさらに別の置換基を有していてもよい。置換基を有するアルキル基の例としては、例えばベンジル基やシアノエチル基などを挙げることができるが、これらに限定されることはない。好ましくは炭素数1~3個程度の直鎖又は分枝鎖アルキル基を用いることができる。R11が示すアルキル基についても同様である。R1及びR2はそれらがそれぞれ結合する窒素原子及び炭素原子とともに炭素数3~16個の環状構造を形成してもよく、好ましくは1個の環構成窒素原子を含む4~7員環を用いることができる。上記の環状構造は1個又は2個以上の不飽和結合を含んでいてもよく、上記の環構成窒素原子以外に、例えば酸素原子、イオウ原子、又は窒素原子などからなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を1個又は2個以上含んでいてもよい。環状構造には置換基が1個又は2個以上存在していてもよいが、置換基としては上記のアルキル基について言及したものなどを用いることができる。好ましくはR1及びR2はそれらがそれぞれ結合する窒素原子及び炭素原子とともに飽和の5又は6員環を形成することができ、特に好ましくはR1及びR2はそれらがそれぞれ結合する窒素原子及び炭素原子とともに飽和の5員環を形成することができる。132オキサザホスホリジン骨格を形成することが好ましい。RA-Oは糖化合物残基を示すが、RAとOとの結合はα結合又はβ結合のいずれかであり、該糖化合物残基は、糖化合物が単糖化合物である場合には1位の水酸基から水素原子を除いた残基を示し、糖化合物が単糖化合物以外の糖化合物である場合には糖化合物を構成する複数の糖化合物のうち還元末端の糖化合物における1位の水酸基から水素原子を除いた残基を示し、糖化合物残基は1個又は2個以上の保護基を有していてもよい。糖化合物残基を構成する糖化合物は、水酸基のほか、アミノ基アルキル基やアセチル基などの置換基を有していてもよいなどの官能基を有していてもよい。糖化合物残基を構成する糖化合物の水酸基やアミノ基などの官能基は適宜の保護基を有していてもよい。保護基の種類は特に限定されないが、一般的には、アセチル基、ベンジル基、ベンゾイル基、ピバロイル基、トリメチルシリル基、Tertブチルジメチルシリル基、エーテル保護基など適宜の保護基を1種又は2種以上組合わせて用いることができる。糖化合物の保護基についてはGreenら、ProtectiveGroupsinOrganicSynthesis3rdEdition1999JohnWileySonsIncなどの成書を参照することができる。糖化合物残基を構成する糖化合物の種類は特に限定されず、単糖化合物又は二糖以上のオリゴ糖又は多糖類のいずれであってもよい。例えば、アロース、タロース、グロース、グルコース、アルトロース、マンノース、ガラクトース、イドース、フルクトース、リボース、リキソース、キシロース、アラビノース、アピオース、エリトロース、トレオース、グリセルアルデヒド、セドヘプツロース、コリオース、プシコース、フルクトース、ソルボース、タガトース、リブロース、キシルロース、エリトルロース、ジヒドロキシアセトン、トレハロース、コージビオース、ニゲロース、マルトース、イソマルトース、イソトレハロース、ソホロース、ラミナリビオース、セロビオース、メリビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、スクロース、デオキシリボース、フコース、ラムノース、グルクロン酸、ガラクツロン酸、グルコサミン、ガラクトサミン、Nアセチルガラクトサミン、Nアセチルマンノサミン、Nアセチルラクトサミン、グリセリン、キシリトール、ソルビトール、アスコルビン酸、グルクロノラクトン、グルコノラクトン、デンプン、アミロース、アミロペクチン、グリコーゲン、セルロース、ペクチン、グルコマンナン、又はイズロン酸など、あるいはその立体異性体などが上げられるが、これらに限定されることはない。RBが示す糖化合物残基を構成する糖化合物も上記と同様である。RBが示す糖化合物残基は、糖化合物が単糖化合物である場合には任意の水酸基から水素原子を除いた残基を意味し、糖化合物が単糖化合物以外の糖化合物である場合には糖化合物を構成する複数の糖化合物のうち還元末端の糖化合物における任意の水酸基から水素原子を除いた残基を意味する。好ましくはRBが示す糖化合物残基は、糖化合物が単糖化合物である場合には6位又は4位、好ましくは6位の水酸基から水素原子を除いた残基を意味し、糖化合物が単糖化合物以外の糖化合物である場合には糖化合物を構成する複数の糖化合物のうち還元末端の糖化合物における6位又は4位、好ましくは6位の水酸基から水素原子を除いた残基を意味する。一般式又はで表される化合物においてXはイオウ原子、→BH3、又はセレン原子を示す。また、一般式又はで表される化合物においてXはH、S、BH3、OR11、又はNR12及びR13はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を示すを示す。本発明により提供される一般式又はで表される化合物の製造方法は、下記の工程:上記RAOHで表される化合物と上記の一般式又はで表される化合物とを反応させて上記一般式又はで表される糖1オキサザホスホリジン化合物を製造する工程;上記工程で得られた上記一般式又はで表される糖1オキサザホスホリジン化合物をRBOHで表される糖化合物と反応させて上記一般式又はで表される化合物を製造する工程;上記工程で得られた上記一般式又はで表される化合物とXと反応させて一般式又はで表される化合物を製造する工程;及び上記工程で得られた一般式又はで表される化合物から上記のR1NHCCで表される基を脱保護する工程を含むことを特徴としている。上記方法の工程において2クロロ132オキサザホスホリジン誘導体を光学活性試薬として用いて一般式又はで表される化合物を製造する方法を本発明の方法の好ましい一態様として以下のスキームに示し、このスキームに従って本発明の方法を具体的に説明するが、このスキームに示された方法は本発明の理解を助けるために提示したものであり、本発明の方法は下記スキームに記載された方法に限定されることはない。スキーム中、Phはフェニル基を示す。上記工程において用いる2クロロ132オキサザホスホリジン誘導体は公知化合物であり、例えばJAmChemSoc130pp16031160372008などの文献を参照することにより容易に入手することができる。2クロロ132オキサザホスホリジン誘導体と糖化合物との反応は、例えばトリエチルアミンなどの有機アミンの存在下においてテトラヒドロフランなどの不活性溶媒中で行うことができる。反応温度は特に限定されないが、例えば78°Cから室温程度の範囲、好ましくは78°Cで行うことができる。この反応により、極めて高収率にかつ高い立体選択性で一般式又はで表される糖1オキサザホスホリジン化合物を製造することができる。上記工程において用いられる一般式及びで表される化合物は光学対掌体の関係にあり、これらの化合物を糖化合物と反応させることにより、リン原子上に不斉中心が誘導され、それぞれ光学活性体である一般式又はで表される化合物が得られる。上記工程においては、工程で得られた糖1オキサザホスホリジン化合物をモノマーとして用い、この化合物に対して糖化合物を反応させて一般式又はで表される化合物を得ることができる。反応は、糖化合物において結合を形成させたい水酸基のみを未保護とし、残りの水酸基やアミノ基などの反応性官能基を適宜の保護基で修飾した糖化合物を用いて、目的の水酸基に糖1オキサザホスホリジン化合物を反応させる。反応は、例えばNピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネートを縮合剤として用いて、例えばアセトニトリルなどの不活性溶媒中で行うことができる。反応は、例えば氷冷下から加温下、好ましくは室温下程度の温度で行うことができる。この反応も立体選択的に進行して、高収率及び高い立体選択性で目的物又はで表される化合物を製造することができる。つづいて、工程で得られた一般式又はで表される化合物とXとを反応させて一般式又はで表される化合物を製造することができる。Xとしてはイオウ原子又は→BH3などをあげることができるが、これらに限定されることはない。例えば、イオン原子の導入は、ジメチルチウラムジスルフィドなどの試薬を用いて公知の方法により行うことができ、→BH3の導入はボランーテトラヒドロフラン錯体などの試薬を用いて公知の方法により行うことができる。得られたXが→BH3である一般式又はで表される化合物を塩基で処理することによりX’が→BH3である一般式又はで表される化合物を製造することができる。塩基の種類は特に限定されないが、例えばトリエチルアミン、14ジアザビシクロ222オクタン、又は18ジアザビシクロ540ウンデカ7エンなどの有機アミンを用いることが好ましい。反応はアセトニトリルやTHFなどの不活性溶媒の存在下に例えば氷冷下から室温程度の反応温度で1時間から1日程度で完了する。さらに、Xが→BH3である上記の一般式又はで表される化合物から、Xが水素原子、アルキル基該アルキル基は置換基を有していてもよく、不飽和結合を含んでいてもよい、アミノ基該アミノ基は置換基を有していてもよい、イオウ原子、酸素原子、ハロゲン原子、又はセレン原子である化合物を製造することができる。この方法については、OrgLett10pp155715602008及び特願2008150792号明細書に具体的に説明されているので、上記刊行物及び特許出願の明細書の開示の全てを参照により本明細書の開示として含める。この方法は、一般的には、上記一般式又はで表される糖1ボラノホスフェート化合物をトリチルカチオンで処理して脱ボラン化してHホスホネートジエステル化合物を製造する工程を含んでおり、さらに必要に応じて上記のHホスホネートジエステル化合物にXで表される基を導入する工程を含む。脱ボラン化により得られたXが水素原子であるHホスホネートジエステル化合物は化学的に不安定であるが、この化合物に対してXとして水素原子以外の基を導入することにより安定化することができる。この反応はHホスホネートジエステル化合物からリン原子が修飾されたリン酸化合物を製造する方法として公知の方法を適宜適用することができる。この反応により、例えば、グリコシルホスホロチオエート、グリコシルホスホロアミダイト、グリコシルアルキルホスホネート、グリコシルホスホロフルオリダイト、又はグリコシルホスホロセレノエートなどの糖1リン酸化合物を製造することができる。糖1ボラノホスフェート化合物からグリコシルホスホロチオエート、グリコシルホスホロアミダイト、グリコシルアルキルホスホネート、グリコシルホスホロフルオリダイト、又はグリコシルホスホロセレノエートなどの糖1リン酸化合物を製造する工程については、例えば特開2010235593号公報に開示されている。上記公報の開示の全てを参照により本明細書の開示に含める。以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は下記の実施例に限定されることはない。下記実施例においてBnはベンジル基を示し、Phはフェニル基を示す。例1:2346テトラOベンジルαDマンノピラノシド1Oオキサザホスホリジンモノマー1共沸乾燥した2346テトラOベンジルαDマンノースのテトラヒドロフラン溶液にトリエチルアミンを加えて78°Cで撹拌し、2クロロ132オキサザホスホリジンのTHF溶液を滴下した。滴下後、反応系を室温まで昇温し、30分撹拌した。その後、反応溶液をクロロホルムによって希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液によって洗浄、洗液をクロロホルムによって抽出し、集めた有機層を硫酸ナトリウムによって乾燥した。乾燥剤を濾別し、溶媒を減圧溜去することにより、1を粗生成物として得た。さらに、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィーでの精製操作により、純粋な1を定量的に得た。1HNMRδ11012016016530532034840644449156257971574031PNMRδ1504例2:2346テトラOベンジルαDマンノピラノシド1Oオキサザホスホリジンモノマー1共沸乾燥した2346テトラOベンジルαDマンノースのTHF溶液にトリエチルアミンを加えて78°Cで撹拌し、2クロロ132オキサザホスホリジンのTHF溶液を滴下した。滴下後、反応系を室温まで昇温し、30分撹拌した。その後、反応溶液をクロロホルムによって希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液によって洗浄、洗液をクロロホルムによって抽出し、集めた有機層を硫酸ナトリウムによって乾燥した。乾燥剤を濾別し、溶媒を減圧溜去することにより、1を粗生成物として得た。さらに、NHシリカゲルカラムクロマトグラフィーでの精製操作により、純粋な1を収率26で得た。1HNMRδ08812015516231532035140944448855957371473931PNMRδ1560例3:テトラエチルアンモニウム2346テトラOベンジルαDマンノース1イル1チオフェニル234トリOベンジルαDグルコース6イルホスホロチオエート21と1チオフェニル234トリOベンジルαDグルコースを混合して真空乾燥し、前日からモレキュラーシーブによる脱水操作を行なっておいたNピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネートのアセトニトリル溶液を室温で加え、1時間撹拌した。この反応溶液にジメチルチウラムジスルフィドを室温で加えた。30分後、25アンモニア水ピリジン100mlを加え、反応容器を密栓した上で55度に加熱し、終夜撹拌した。アンモニアの減圧溜去し、01Mトリエチルアンモニウム炭酸水素バッファーによって塩交換を行ないつつジクロロメタンによる抽出を行ない、集めた有機層を硫酸ナトリウムによって乾燥した。乾燥剤を濾別し、溶媒を減圧溜去することにより、2を粗生成物として得た。31PNMRδ565例4:テトラエチルアンモニウム2346テトラOベンジルαDマンノース1yl1チオフェニル234トリOベンジルαDグルコース6イルホスホロチオエート21と1チオフェニル234トリOベンジルαDグルコースを混合して真空乾燥し、前日からモレキュラーシーブによる脱水操作を行なっておいたNピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネートのアセトニトリル溶液を室温で加え、1時間撹拌した。この反応溶液にジメチルチウラムジスルフィドを室温で加えた。30分後、25アンモニア水ピリジン100mlを加え、反応容器を密栓した上で55度に加熱し、終夜撹拌した。アンモニアの減圧溜去し、01Mトリエチルアンモニウム炭酸水素バッファーによって塩交換を行ないつつジクロロメタンによる抽出を行ない、集めた有機層を硫酸ナトリウムによって乾燥した。乾燥剤を濾別し、溶媒を減圧溜去することにより、2を粗生成物として得た。さらに、シリカゲルカラムクロマトグラフィーでの精製操作により、純粋な2を収率39で得た。1HNMRδ33741142049260471475731PNMRδ571例5:2346テトラOベンジルαDグルコピラノシド1Oオキサザホスホリジンモノマー3アノマー異性体比αβ8020の2346テトラOベンジルαDグルコースに対して、酢酸エチルからの再結晶を2回行なうことで、アノマー異性体比αβ964の2346テトラOベンジルαDグルコースを得た。これを原料とし、1同様の合成手法、及び精製手法によって純粋な3を定量的に得た。1HNMRδ11011816417331832135640643849956559471273531PNMRδ14931573例6:テトラエチルアンモニウム2346テトラOベンジルαDグルコース1イル1チオフェニル234triOベンジルαDグルコース6イルホスホロチオエート43を原料とし、2同様の合成手法で4を粗生成物として得た。本合成では3をグリコシルアクセプターに対して12当量使用した。31PNMRδ578