水を含む液体を収容する液体収容部と、気体を収容する気体収容部と、前記気体収容部中の気体を前記液体収容部へ導く気体通路が形成され、前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てる隔壁部と、前記気体収容部に配設された第1電極と、前記第1電極と距離を隔てられ、少なくとも前記第1電極と対になる側の部分が前記液体収容部中の液体と接触するように配設された第2電極と、前記気体収容部の気体を前記気体通路を介して前記液体収容部へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する気体供給部と、前記第1電極と前記第2電極との間に所定の電圧を印加して前記第1電極と前記第2電極との間に放電を発生させることにより、前記気体収容部に導入された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材と、を備えることを特徴とするプラズマ発生装置。前記還元部材は、AgおよびAg化合物のうち少なくともいずれか一方を含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。前記還元部材は、FeおよびFe化合物のうち少なくともいずれか一方を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマ発生装置。前記還元部材は、MnおよびMn化合物のうち少なくともいずれか一方を含むことを特徴とする請求項1~3のうちいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。請求項1~4のうちいずれか1項に記載のプラズマ発生装置を備えることを特徴とする洗浄浄化装置。請求項1~4のうちいずれか1項に記載のプラズマ発生装置もしくは請求項5に記載の洗浄浄化装置を備えることを特徴とする小型電器機器。しかしながら、ラジカル等は時間の経過により消滅してしまうものであるため、液体中にラジカル等が存在した状態を長時間維持することが難しかった。そこで、本発明は、より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得ることを目的とする。本発明にあっては、水を含む液体を収容する液体収容部と、気体を収容する気体収容部と、前記気体収容部中の気体を前記液体収容部へ導く気体通路が形成され、前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てる隔壁部と、前記気体収容部に配設された第1電極と、前記第1電極と距離を隔てられ、少なくとも前記第1電極と対になる側の部分が前記液体収容部中の液体と接触するように配設された第2電極と、前記気体収容部の気体を前記気体通路を介して前記液体収容部へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する気体供給部と、前記第1電極と前記第2電極との間に所定の電圧を印加して前記第1電極と前記第2電極との間に放電を発生させることにより、前記気体収容部に導入された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材と、を備えることを主要な特徴とする。また、本発明の洗浄浄化装置にあっては、上記プラズマ発生装置を備えることを主要な特徴とする。また、本発明の小型電器機器にあっては、上記プラズマ発生装置もしくは上記洗浄浄化装置を備えることを主要な特徴とする。本発明にかかるプラズマ発生装置は、気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材を備えている。そのため、消滅したラジカルを還元部材によって再生成することができるようになり、より長時間ラジカルを液体中に存在させることができるようになる。そして、洗浄浄化装置や小型電器機器に上述のプラズマ発生装置を備えさせることで、より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできる洗浄浄化装置および小型電器機器を得ることができる。以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の複数の実施形態には、同様の構成要素が含まれている。よって、以下では、それら同様の構成要素には共通の符号を付与するとともに、重複する説明を省略する。第1実施形態本実施形態にかかるプラズマ発生装置1は、略円筒状のケース部材2を備えている。なお、ケース部材の形状は円筒状のものに限らず、例えば、角筒状としてもよい。そして、ケース部材2の内側には、図1に示すように、セラミックス部材3が配設されており、このセラミックス部材3によってケース部材2の内部空間が上下に仕切られている。本実施形態では、ケース部材2の内部空間のうちセラミックス部材3の上側の領域が、水を含む液体17を収容する液体収容部4となっているとともに、下側の領域が気体を収容する気体収容部5となっている。このように、本実施形態では、セラミックス部材3が、液体収容部4と気体収容部5とを隔てる隔壁部に相当している。また、液体収容部4の外周端部には、ケース部材2とセラミックス部材3との隙間を塞ぐリング状のシール材6が装着されており、液体収容部4内の液体17がケース部材2とセラミックス部材3との隙間から気体収容部5内に漏れ出ないようにしている。そして、ケース部材2の天壁部液体収容部4側の壁部2aには、液体収容部4に液体17を導入する液体導入口7が設けられるとともに、液体収容部4内に導入された液体17を外部に送り出す液体排出口8が設けられている。また、ケース部材2の側壁2bの下部には、気体収容部5と外部とを連通する気体導入口9が設けられており、この気体導入口9には配管気体導入路10が挿通されている。そして、配管10を介して気体収容部5と気体供給部11とが接続されている。本実施形態では、少なくとも酸素O2を含む気体が気体供給部11から気体収容部5内に供給されるようになっている。さらに、セラミックス部材3には気体通路3aが形成されており、気体供給部11から気体収容部5内に導入された気体等は、この気体通路3aを経て液体収容部4内へ送り出されることになる。このように、本実施形態にかかる気体供給部11は、気体収容部5の気体を気体通路3aを介して液体収容部4へ圧送させる態様で、気体収容部5に少なくとも酸素を含む気体を供給する機能を有している。なお、本実施形態では、気体通路3aの孔径を約1μm~10μm程度としており、液体収容部4に収容された液体17が気体通路3aから気体収容部5内に漏れ出ることがないようになっている。また、プラズマ発生装置1は、気体収容部5に配設された第1電極12と、第1電極12と距離を隔てられ、少なくとも第1電極12と対になる側の部分第1電極12の表面との間に放電を生じさせる表面が液体収容部4中の液体17と接触するように配設された第2電極13と、を備えている。具体的には、ドーナツ状の第1電極12およびドーナツ状の第2電極13をそれぞれ気体収容部5および液体収容部4に配設している。ドーナツ状の第1電極12は、図1に示すように、セラミックス部材3の気体収容部5側の表面3bに、中心が気体通路3aとなるように配置されている。この第1電極12の表面は、誘電体図示せずによって被覆されている。また、第2電極13は、少なくとも第1電極12と対になる側の部分第1電極12の表面との間に放電を生じさせる表面が液体収容部4中の液体17と接触するように、液体収容部4に配置されている。この第2電極13も中心が気体通路3aとなるように配置されている。すなわち、第1電極12と第2電極13とが同心状に配置されている。このように、本実施形態にかかるプラズマ発生装置1では、気体収容部5にドーナツ状の第1電極12を配設することで、第1電極12が、液体収容部4に導入される液体17に接触しないようにしている。一方、ドーナツ状の第2電極13を液体収容部4に配設することで、第2電極13の少なくとも第1電極12と対になる側の部分第1電極12の表面との間に放電を生じさせる表面が、液体収容部4に導入される液体17に接触するようにしている。そして、第1電極12および第2電極13は、それぞれリード線14を介してプラズマ電源部15図1参照に電気的に接続されており、この第1電極12と第2電極13との間に所定の電圧が印加されるようになっている。本実施形態では、第2電極13よりも第1電極12の方が高電位となるように第1電極12と第2電極13との間に所定の電圧を印加している。具体的には、第2電極13に印加する電圧値電圧値の絶対値が第1電極12に印加する電圧値電圧値の絶対値よりも低くなるように、第1電極12と第2電極13との間に所定の電圧を印加している図2参照。さらに、本実施形態では、第2電極13に印加する電圧値の絶対値を0V近傍の値となるようにすることで、第2電極13をグラウンド電極に近づけるようにしている。ここで、本実施形態では、気体のプラズマ化により生成され、酸化により過酸化水素水に変化して消滅するラジカルを再生成する還元部材19を液体収容部4内に設けている。具体的には、ケース部材2の天壁部2aの下面液体収容部4側の壁部に還元部材19を設けている。この還元部材19は、Ag、Ag化合物、Fe、Fe化合物、MnおよびMn化合物のうち少なくともいずれか1つを含む部材によって形成されるものである。次に、上述したプラズマ発生装置1の動作ならびにヒドロキシラジカルの生成方法について説明する。まず、気体収容部5の気体を気体通路3aを介して液体収容部4へ圧送させる態様で酸素を含む気体を気体収容部5に供給する気体を供給する工程。本実施形態では、図1に示すように、空気をベースとして酸素を含有した気体流量約0.01L/min~1.0L/min10cc/min~1000cc/minが、気体供給部11から配管10を介して気体収容部5に送り込まれる。このとき、気体を送り込む圧力は、約0.0098MPa~0.49MPa0.1kgf/cm2~5kgf/cm2程度とされる。このように、気体供給部11は、大気中の気体空気を供給する機能を備えている。なお、気体の供給流量は、気体供給部11に設けた図示せぬ流量制御部によって制御されている。また、気体供給部11に、大気中の気体だけでなく他の種類の気体例えば、酸素濃度が異なる気体を供給できる機能を持たせるとともに気種制御部を設け、様々な種類の気体のなかから1種類もしくは複数種類の気体を選択的に供給できるようにしてもよい。そして、気体が気体収容部5に供給されることで、気体収容部5の圧力は、大気圧にこの圧力が加わって約0.11MPa~0.59MPa1.1kgf/cm2~6kgf/cm2程度となり、陽圧状態になる。このように、気体収容部5を陽圧とすることで、気体収容部5から気体通路3aを経て液体収容部4へ向う気体の流れが形成される。なお、気体収容部5を陽圧とすることによっても、液体収容部4に収容された液体17が気体通路3aから気体収容部5内に漏れ出てしまうのが抑制される。そして、上述したように酸素を含有した気体を供給することで、図3に示すように、気体通路3aの液体収容部4側図1の上側の開口端3cにおいて酸素を含む気泡16が成長する気泡を成長させる工程。次に、プラズマ電源部15によって、第1電極12と第2電極13に所定の電圧が、第2電極13に印加する電圧値電圧値の絶対値が第1電極12に印加する電圧値電圧値の絶対値よりも低くなるように印加される。なお、印加する電圧としては、大気圧のもとにおいてグロー放電を可能にする電圧パワー:約10W~100W程度が好ましい。このとき、プラズマ電源部15に電圧制御部を設け、第1電極12と第2電極13との間に印加する電圧を制御するようにするのが好ましい。そして、第1電極12と第2電極13に所定の電圧が印加されることで、第1電極12と第2電極13との間には、大気圧あるいはそれ以上の圧力の気体雰囲気のもとで放電が生じる。なお、大気圧のもとでプラズマを生成する技術については、たとえば文献A岡崎幸子、大気圧グロー放電プラズマとその応用、レビュー講演:20thJSPFAnnualMeetingに報告されている。そして、この放電気体に接触する第1電極12の表面と液体に接触する第2電極13の表面との間における放電によって、液体収容部4の液体17中の気体の領域においてプラズマが生成され、液体に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等が生成されるヒドロキシラジカルを生成する工程。本実施形態では、気泡16内の気体液体収容部4の液体17中の気液境界面近傍の気体に電位差を生じさせてプラズマを生成している。このように、ヒドロキシラジカルが生成されやすい気液境界面の近傍気体通路3aの液体17に臨む開口端3c近傍に電位差を生じさせることで、より多くのオゾンやヒドロキシラジカル等を生成できるようになる。なお、本実施形態では、気体通路3aの液体17に臨む開口端3c近傍の気泡16だけでなく、液体収容部4へ送り出された気泡16内でもオゾンやヒドロキシラジカル等を生成することができる。こうして生成されたオゾンやヒドロキシラジカル等は、上述した気体の流れに伴って、液体収容部4へ送り出されることになる。本実施形態では、液体収容部4内の液体17の流れにより、ヒドロキシラジカル等を含んだ気泡16をセラミックス部材隔壁部3からせん断して液体17中に放出させている気泡放出工程。具体的には、気泡16が成長する液体収容部4では、液体17が導入されることによって液体17の流れ図3および図4の矢印18参照が生じている。図4に示すように、矢印18方向に流れる液体17が成長する気泡16にあたると、液体17の流れが気泡16にせん断力として作用し、気泡16は開口端3cから液体17中へ解き放たれる。液体17中に解き放たれた気泡16は微細な気泡であるため、大気中に直ぐに放出されることなく液体17の隅々にまで拡散する。そして、拡散した微細な気泡16の一部は液体17中に容易に溶解する。このとき、気泡16に含まれているオゾン等が液体17中に溶解することで、液体のオゾン濃度は一気に上昇することになる。また、文献B高橋正好、マイクロバブルとナノバブルによる水環境の改善、アクアネット、2004.6によれば、通常、オゾンや各種のラジカルを含んだ微細な気泡16はマイナスに帯電していることが多いことが報告されている。そのため、気泡16の他の一部は、液体17中に含まれる有機物、油脂物、染料、たんぱく質、細菌等図示せずに容易に吸着する。液体17中の有機物等は、液体17に溶解したオゾンあるいは各種のラジカルや、有機物等に吸着した気泡16に含まれるオゾンあるいは各種のラジカル等によって分解される。例えば、ヒドロキシラジカル等は、約120kcal/mol程度の比較的大きなエネルギーを有している。このエネルギーは、窒素原子と窒素原子との二重結合N=N、炭素原子と炭素原子との二重結合C=Cあるいは炭素原子と窒素原子との二重結合C=N等の結合エネルギー~100kcal/molを上回るものである。そのため、窒素や炭素等の結合からなる有機物等は、このヒドロキシラジカル等によって容易にその結合が切断されて分解されることになる。このような有機物等の分解に寄与するオゾンやヒドロキシラジカル等は、塩素等のような残留性がなく時間とともに消滅するため、環境に配慮した物質でもある。なお、ヒドロキシラジカルは、酸化によって過酸化水素水に変化することで消滅するが、本実施形態では、液体収容部4内に還元部材19を設けているため、本実施形態にかかるプラズマ発生装置1では、ヒドロキシラジカルの酸化によって変化した過酸化水素水が還元部材19に接触することで、再びヒドロキシラジカルを生成できるようになっている。このように、還元部材19は、気体に接触する第1電極12の表面と液体に接触する第2電極13の表面との間で放電させてプラズマ化した気体中で生成されたヒドロキシラジカルが、酸化によって過酸化水素水に変化したものを再びヒドロキシラジカルに還元させる機能を有するものである。以上説明したように、本実施形態にかかるプラズマ発生装置1では、第1電極12を気体収容部5に配設するとともに、第2電極13を、少なくとも第1電極12と対になる側の部分第1電極12の表面との間に放電を生じさせる表面が液体収容部4中の液体と接触するように配設している。そして、気体に接触する第1電極12の表面と液体に接触する第2電極13の表面との間に放電を発生させることで、液体収容部4中の液体17内における気体の領域においてプラズマを生成し、液体17に含まれる水および気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルを生成するようにしている。このような構成によれば、液体17の電気抵抗による影響をそれほど受けることなく第1電極12と第2電極13との間に放電を生じさせることができるため、気体をより確実にプラズマ化することができ、より安定してオゾンやラジカル等を大量に生成することができるようになる。また、本実施形態では、気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材19を液体収容部4内に設けている。そのため、第1電極12と第2電極13との間の放電により気体をプラズマ化し、生成したヒドロキシラジカルが酸化によって過酸化水素水に変化したとしても、当該過酸化水素水を還元部材19に接触させることで、再びヒドロキシラジカルに還元させることができる。すなわち、1回の放電により生成されたヒドロキシラジカルが液体中に存在する時間を従来よりも長くすることができる。さらに、還元部材19が還元力を有する間過酸化水素水の還元部材19との接触によりヒドロキシラジカルを発生させることができる間は、第1電極12と第2電極13との間に放電を発生させることなくヒドロキシラジカルを発生させることができるため、所定量のヒドロキシラジカルを発生させる際に、従来に比べて放電発生回数を少なくすることができ、プラズマ発生装置1の省電力化を図ることができるという利点もある。また、本実施形態によれば、液体収容部4に液体17が導入され、セラミックス部材3によって画成された気体収容部5にプラズマを生成する第1電極12が配設されている。そのため、第1電極12は液体17には全く接触せず、液体17の電気抵抗の影響を受けることがなくなる。これにより、第1電極12と第2電極13との間に放電を安定して発生させることができ、気体収容部5に導入された酸素を含む気体が確実にプラズマ化されて、水と酸素からオゾンあるいはヒドロキシラジカル等を安定に生成させることができる。また本実施形態によれば、気体収容部5に酸素を含む気体を導入することで、気体収容部5を陽圧にし、気体収容部5から気体通路3aを経て液体収容部4へ向う気体の流れを形成している。そして、この気体の流れに乗って気体通路3aの液体17に臨む開口端3cにおいて成長する気泡16内にオゾンやヒドロキシラジカル等が生成されるようにしている。そして、所定の大きさに成長した気泡16を液体17の流れによってせん断して液体17中に解き放たれるようにしている。すなわち、本実施形態では、気泡16内の気体液体収容部4の液体17中の気液境界面近傍の気体中でオゾンやヒドロキシラジカル等が生成されるようにしている。そして、オゾンやヒドロキシラジカル等を含んだ気体が微細な気泡16として液体17中に拡散されるようにしている。これにより、オゾンや各種のラジカルを発生させた後、これらが消滅する前に極めて短時間で効率的にそのオゾンや各種のラジカルを液体17中に送り込むことができるようになる。そして、オゾンや各種のラジカルを含んだ微細な気泡16が液体17中に拡散することによって、液体17のオゾン濃度が高められるとともに液体17中に含まれる有機物等に気泡16が吸着する。これにより、液体17中に溶解したオゾン等や吸着した気泡16に含まれる各種のラジカルによって有機物や細菌等を効率的に分解することができる。さらに、プラズマを生成する電極としてドーナツ状の第1電極12および第2電極13を用いることで、プラズマ発生装置1のプラズマ電源部15や気体供給部11を除いた本体部分の大きさをコンパクトにすることができる。その結果、既存の装置に組み込みやすくすることができる。また、新たに装置に搭載する場合においても、その占有空間を最小限に抑えることができる。また、プラズマ電源部15が第1電極12と第2電極13との間に印加する電圧を制御する電圧制御部を備えていれば、第1電極12と第2電極13との間に液体17の電気抵抗の変動に関わらず、安定して放電を発生させることができるようになる。このとき、電圧制御部によって、第2電極13に印加する電圧値電圧値の絶対値が第1電極12に印加する電圧値電圧値の絶対値よりも低くなるように、第1電極12と第2電極13との間に電圧を印加するようにすれば、万一、使用者等が誤って液体17や第2電極13に触れてしまった場合であっても、当該使用者等が感電してしまうのを抑制することができる。特に、第2電極13に印加する電圧値をゼロV近傍の値となるように、すなわち、第2電極13がグラウンド電極に近づくようにすることで、使用者等の感電をより一層抑制することができる。また、気体供給部11が、気体の種類を制御する気種制御部を有していれば、オゾンやヒドロキシラジカル等の生成量等の調整を行うことが可能となる。このとき、気体供給部11が大気中の空気を供給する機能を有していれば、より簡便に気体を供給することができる。また、流量制御部により気体の供給流量を制御するようにすれば、より安定的にプラズマを生成することができる。第2実施形態本実施形態では、プラズマ発生装置1を用いた洗浄浄化装置の一例について説明する。本実施形態にかかる洗浄浄化装置20は、図5に示すように、上述のプラズマ発生装置1を備えている。そして、本実施形態にかかる洗浄浄化装置20では、セラミックス部材3を収容するケース部材2の液体導入口7に、被洗浄処理対象部30から処理の完了した液体17を液体収容部4に導入する配管液体導入路21が接続されている。また、液体排出口8には、液体収容部4内の液体を被洗浄処理対象部30へ送る配管液体排出路22が接続されている。次に、上述した洗浄浄化装置20の動作について説明する。まず、図5に示すように、空気をベースとして酸素を含有した所定流量の気体が、気体供給部11から配管気体導入路10を介して気体収容部5内に送り込まれる。そして、気体収容部5が陽圧状態とされて、その気体収容部5から気体通路3aを経て液体収容部4へ向う気体の流れが形成される。このとき、液体収容部4には被洗浄処理対象部30から処理の完了した液体17が配管液体導入路21から液体導入口7を経て導入される。次に、第1電極12と第2電極13に所定の電圧を、第2電極13に印加する電圧値電圧値の絶対値が第1電極12に印加する電圧値電圧値の絶対値よりも低くなるように印加することで、第1電極12と第2電極13との間において放電が生じる。この放電気体に接触する第1電極12の表面と液体に接触する第2電極13の表面との間における放電によって、液体収容部4の液体17中の気体の領域においてプラズマが生成され、液体17に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等が生成される図4参照。そして、生成されたオゾンや各種のラジカルは、上述した気体の流れとともに液体収容部4へ送り出されることとなる。このとき、成長する気泡は、上述したように液体17の流れによってせん断され、微細な気泡16として開口端3cから液体中へ解き放たれる。液体中に解き放たれた微細な気泡16は液体の隅々にまで拡散する。このとき、拡散した微細な気泡16の一部は、気泡16に含まれていたオゾンやヒドロキシラジカル等とともに容易に液体17中に溶解して、オゾン濃度が上昇する。また、一部の気泡16は、オゾンやヒドロキシラジカル等を含んだ状態で、液体17中に含まれる有機物等に容易に吸着する。さらに、気泡16の一部には、微細な有機物が吸着する。こうして、液体17中の有機物等は、液体17に溶解したオゾンあるいはラジカルや、有機物等に吸着した気泡16に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって効率的に分解される。そして、有機物等が分解されて浄化された液体17は、液体排出口8から配管液体排出路22を経て被洗浄処理対象部30へ戻され、再び使用されることになる。このとき、ヒドロキシラジカルが酸化することで生成された過酸化水素水は、還元部材19に接触することで、再びヒドロキシラジカルに還元されるため、1回の放電により生成されたヒドロキシラジカルが液体中に存在する時間を従来よりも長くすることができる。なお、上記では、洗浄浄化装置20として、ケース部材2内で液体17を洗浄浄化する使用態様使用態様Aのものを例示したが、この他に、微細な気泡を拡散させた液体17を洗浄液として所定の装置に供給する使用態様使用態様Bも可能である。この場合には、洗浄浄化装置20は、以下のように動作する。まず、ケース部材2内に導入された液体17中に、オゾンやヒドロキシラジカル等を含んだ微細な気泡16が拡散されるとともに、微細な気泡16に含まれていたオゾンやラジカルが溶解される。このとき、気泡16の一部には、微細な有機物が吸着する。次に、この液体17が洗浄液として被洗浄処理対象部30へ供給される。被洗浄処理対象部30では、有機物等が、液体17に溶解したオゾンあるいはラジカルや、有機物等に吸着した気泡16に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって効率的に分解されることになる。そして、ヒドロキシラジカルが酸化することで生成された過酸化水素水を還元部材19に接触させることで、再びヒドロキシラジカルに還元させ、ヒドロキシラジカルを含む液体17を洗浄液として被洗浄処理対象部30へ再び供給させて被洗浄処理対象部30を洗浄する。ところで、洗浄浄化装置を使用態様Aとして使用する場合、たとえば浴槽に溜めた湯、雨水、汚水、下水等の各種の液体の浄化に、この洗浄浄化装置を適用することが可能である。また、使用態様Bとして使用する場合、たとえば洗濯機や食器洗い機等の各種家電製品、口内洗浄機等の健康家電製品、トイレ等の衛生機器等に使用する水に洗浄液として使用することができる。また、家電製品等の他に、たとえば食品の洗浄や工業製品の製造工程における洗浄等の産業界へ幅広く適用することができる。以上説明したように、本実施形態では、洗浄浄化装置20に上述のプラズマ発生装置1を備えさせている。そのため、より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできる洗浄浄化装置を得ることができる。第3実施形態本実施形態では、プラズマ発生装置1を用いた小型電器機器の一例について、図6~8を参照して説明する。以下では、除毛装置としての電気かみそりのヘッド部を洗浄する洗浄浄化装置を例示する。図6~8に示す小型電器機器としての洗浄浄化装置40は、除毛装置の一種である電気かみそり50のヘッド部51を洗浄するものである。すなわち、洗浄浄化装置40は、上述した使用態様Bとして使用する洗浄浄化装置である。この場合、電気かみそり50のヘッド部51が被洗浄処理対象部30に相当する。洗浄浄化装置40は、図6~8に示すように、ヘッド部51を下向きにした電気かみそり50を挿入するための開口41aを有した筐体41と、開口41aを通じて挿入されたヘッド部51を受容する受け皿42とを備えている。また、洗浄浄化装置40は、液体を貯留するタンク43と、受け皿42に連通されたオーバーフロー部44と、タンク43内の液体を液体導入口7に循環供給するポンプ45と、を備えている。さらに、液体を濾過するフィルタ46aを有したカートリッジ46と、タンク43内の気密状態を制御するための開閉弁47と、液体を循環するための循環経路と、を備えている。この循環経路は、タンク43に貯留された液体を液体導入口7に導く配管液体導入路21と、液体排出口8から排出される液体を受け皿42に導く配管液体排出路22と、受け皿42から排出される液体をカートリッジ46に導く経路23排出路と、オーバーフロー部44から排出される液体をカートリッジ46に導く経路24と、カートリッジ46から排出された液体をポンプ45に導く経路25と、ポンプ45から送出される液体をタンク43に導く経路26と、で構成されている。また、タンク43には、気密経路27を介して開閉弁47が接続されている。以下、各構成部品について説明する。筐体41は、その後部に電気かみそり50の把持部52と当接するスタンド部41bを有し、開口41aから挿入される電気かみそり50を受け皿42と共に保持するものである。スタンド部41bの前面には、図6に示すように、洗浄浄化装置40に電気かみそり50が装着されたことを検知する接点部材41cが設けられている。接点部材41cは、把持部52背面に設けられた端子52aとの接触により電気かみそり50の装着を検知するものであり、このような検知機能に併せて、電気かみそり50に各種制御信号や駆動電力を出力する機能を持たせている。筐体41の前部上方には、洗浄後にヘッド部51を乾燥させるためのファン48を収容している。筐体41前面には、ファン48用の通気窓41dや、洗浄動作を実行するための動作ボタン41e、動作状態を表示するランプ41f等が設けられている。筐体41の後面側は、タンク43を着装する着装部となっており、タンク43の各口43a、43b、43cと連結される連結口41g、41h、41iを有している。連結口41gは配管液体導入路21と繋がっており、連結口41hは経路26と繋がっており、連結口41iは気密経路27と繋がっている。受け皿42は、ヘッド部51の形状に沿うような凹形状とされており、底壁部の背面側にはプラズマ発生装置1が設けられている。なお、洗浄浄化装置40に、プラズマ発生装置1の位置を調整する位置調整部を設けるようにしてもよい。例えば、底壁部の背面側にアーム部を設けるとともに、当該アーム部によりプラズマ発生装置1を揺動可能に取り付け、位置調整部によってプラズマ発生装置1が水平に配置されるように調整できるようにすることが可能である。こうすれば、プラズマ発生装置1を常時水平に配置させることができ、より安定的にプラズマを生成することができるようになる。このプラズマ発生装置1は、配管液体導入路21と繋がった液体導入口7と、配管液体排出路22と繋がった液体排出口8と有している。そして、受け皿42の底壁部には、配管液体排出路22と繋がった供給口41jが設けられるとともに、経路23と繋がった排出口41kが設けられている。また、受け皿42の底部壁背面側にはヒータ49が設けられている図8参照。このヒータ49は、ファン48と連動してヘッド部51の乾燥を行うものである。そして、受け皿42の前方にはオーバーフロー部44が設けられており、本実施形態においては受け皿42とオーバーフロー部44とが一体形成されている。オーバーフロー部44の入口は受け皿42と繋がっており、出口は経路24と繋がっている。経路24は、オーバーフロー部44の出口から、受け皿42後部に設けられた中継口42aを介してカートリッジ46に至る。タンク43は、吐出口43aおよび流入口43bと、気密状態を開放するための通気口43cとを前面に有しており、通気口43cの開閉により吐出口43aからの液体吐出が制御されている。タンク43は筐体41後面側に着脱自在に設けられ、筐体41への装着状態では、吐出口43aが、連結口41gに連結されて配管液体導入路21によりプラズマ発生装置1の液体導入口7と繋がり、流入口43bが、連結口41hに連結されて経路26によりポンプ45の送出口45aと繋がり、通気口43cが、連結口41iに連結されて気密経路27により開閉弁47と繋がっている。カートリッジ46は、フィルタ46aを内部に収容した略箱状体であり、上部に流入口46bを有し、前部に流出口46cを有している。このカートリッジ46は、筐体41の下部後方に着脱自在に設けられており、筐体41への装着状体では、流入口46bが、経路23排出路により排出口41kと繋がるとともに、経路24によりオーバーフロー部44の出口と繋がっている。そして、流出口46cが、経路25によりポンプ45の吸入口45bと繋がっている。かかる構成とすることで、タンク43からプラズマ発生装置1に導入された液体に、オゾンやヒドロキシラジカル等を含んだ微細な気泡16を拡散させて生成した洗浄液が、供給口41jから受け皿42内に供給されることとなる。すなわち、生成された洗浄液は、被洗浄処理対象部30としてのヘッド部51に供給されることとなる。そして、液体洗浄液に溶解したオゾンあるいはラジカルや、気泡16に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって、ヘッド部51に付着した有機物等を効率的に分解させることができるようになる。このとき、ヒドロキシラジカルが酸化することで生成された過酸化水素水は、還元部材19に接触することで、再びヒドロキシラジカルに還元されるため、1回の放電により生成されたヒドロキシラジカルが液体中に存在する時間を従来よりも長くすることができる。以上説明したように、本実施形態では、洗浄浄化装置小型電器機器40に上述のプラズマ発生装置1を備えさせている。したがって、より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできる小型電器機器を得ることができる。なお、洗浄浄化装置20にプラズマ発生装置1の位置を調整する位置調整部を設ければ、よりプラズマを安定化させることができるようになる。第3実施形態の変形例本変形例にかかる小型電器機器としての洗浄浄化装置40Aも、上記第3実施形態と同様、除毛装置の一種である電気かみそり50のヘッド部51を洗浄するものであり、上述した使用態様Bとして使用する洗浄浄化装置である。洗浄浄化装置40Aは、上記第3実施形態とほぼ同様の構成をしており、ヘッド部51を下向きにした電気かみそり50を挿入するための開口41aを有した筐体41と、開口41aを通じて挿入されたヘッド部51を受容する受け皿42とを備えている図9参照。また、洗浄浄化装置40Aは、液体を貯留するタンク43と、受け皿42に連通されたオーバーフロー部44と、タンク43内の液体を液体導入口7に循環供給するポンプ45と、を備えている。さらに、液体を濾過するフィルタ46aを有したカートリッジ46と、タンク43内の気密状態を制御するための開閉弁47と、液体を循環するための循環経路と、を備えている。本変形例では、循環経路は、タンク43に貯留された液体を受け皿42に導入する配管液体導入路21と、受け皿42から排出される液体をカートリッジ46に導く経路23排出路と、オーバーフロー部44から排出される液体をカートリッジ46に導く経路24と、カートリッジ46から排出された液体をポンプ45に導く経路25と、ポンプ45から送出される液体をタンク43に導く経路26と、で構成されている。受け皿42は、ヘッド部51の形状に沿うような凹形状とされており、底壁部には貫通孔42bが形成されている。そして、当該貫通孔42bを介して液体収容部4が受け皿42の内部空間と連通するように、プラズマ発生装置1Aが底壁部の背面側に設けられている。本変形例にかかるプラズマ発生装置1Aは、基本的に上記第1実施形態のプラズマ発生装置1と同様の構成をしている。すなわち、プラズマ発生装置1Aは、ケース部材2を備えており、このケース部材2の内側に配設されるセラミックス部材隔壁部3によってケース部材2の空間が上下に仕切られている。そして、ケース部材2の内部空間のうちセラミックス部材3の上側の領域が、水を含む液体17を収容する液体収容部4となっているとともに、下側の領域が気体を収容する気体収容部5となっている。また、液体収容部4の外周端部には、ケース部材2とセラミックス部材3との隙間を塞ぐリング状のシール材6が装着されており、液体収容部4内の液体17がケース部材2とセラミックス部材3との隙間から気体収容部5内に漏れ出ないようにしている。このように、本変形例では、液体収容部4内の液体17を配管液体排出路22を介して受け皿42の内部空間に供給する構成ではなく、液体収容部4が受け皿42の内部空間と連通するようにプラズマ発生装置1Aを設け、受け皿42の内部空間もプラズマ発生装置1Aの液体収容部4として機能するように構成した点が上記第3実施形態と異なっている。なお、受け皿42に例えば排水溝などを形成することで、液体収容部4内部の液体をよりスムーズに経路23排出路から排出できるようにするのが好適である。また、本変形例では、図示省略したが、受け皿42内の液体によって浸水する部位プラズマ発生装置1Aの液体収容部内に相当に、還元部材19を設けている。この還元部材19は、セラミックス部材3の上面やケース部材2の液体収容部4側の内側壁等に設けるようにしてもよい。次に、洗浄浄化装置40Aの動作について説明する。まず、タンク43から配管液体導入路21を介して受け皿42およびプラズマ発生装置1Aの液体収容部4内に液体を導入する。そして、空気をベースとして酸素を含有した所定流量の気体が、気体供給部11から配管気体導入路10を介して気体収容部5内に送り込まれ、気体収容部5が陽圧状態とされて、その気体収容部5から気体通路3aを経て液体収容部4へ向う気体の流れが形成される。次に、第1電極12と第2電極13に所定の電圧を、第2電極13に印加する電圧値電圧値の絶対値が第1電極12に印加する電圧値電圧値の絶対値よりも低くなるように印加することで、第1電極12と第2電極13との間において放電が生じる。この放電気体に接触する第1電極12の表面と液体に接触する第2電極13の表面との間における放電によって、液体収容部4の液体17中の気体の領域においてプラズマが生成され、液体17に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等が生成される図4参照。そして、生成されたオゾンや各種のラジカルは、上述した気体の流れとともに液体収容部4および受け皿42内に貯留された液体中に送り出されることとなる。このとき、成長する気泡は、微細な気泡16として開口端3cから液体中へ解き放たれ、液体中に解き放たれた微細な気泡16は液体の隅々にまで拡散する。すなわち、生成された洗浄液は、被洗浄処理対象部30としてのヘッド部51に供給されることとなる。そして、液体洗浄液に溶解したオゾンあるいはラジカルや、気泡16に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって、ヘッド部51に付着した有機物等を効率的に分解させることができるようになる。このとき、ヒドロキシラジカルが酸化することで生成された過酸化水素水は、還元部材19に接触することで、再びヒドロキシラジカルに還元されるため、1回の放電により生成されたヒドロキシラジカルが液体中に存在する時間を従来よりも長くすることができる。以上の本変形例によっても上記第3実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。なお、第2電極13に印加する電圧値電圧値の絶対値が第1電極12に印加する電圧値電圧値の絶対値よりも低くなるように、第1電極12と第2電極13との間に電圧を印加するようにすれば、万一、使用者等が誤って液体17や第2電極13に触れてしまった場合であっても、当該使用者等が感電してしまうのを抑制することができる。このことは、本変形例のように第2電極13を外部に露出するように配置した構成とした場合に特に有効である。以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記各実施形態では、気体通路が形成された隔壁部としてセラミックス部材を例示したが、隔壁部の材料は、セラミックス部材に限られるものではない。例えば、気体と液体を隔壁するガラス板などのような適当な部材を用い、この部材に写真製版とエッチングを施すことによって細孔径が約1μm~10μm程度の微細孔を形成したものを用いることも可能である。また、隔壁部に複数の気体通路を設けるようにしてもよい。また、上記第1~第3実施形態では、液体収容部内に還元部材を設けたものを例示したが、還元部材を、液体収容部の外側例えば、液体導入路や液体排出路内の液体中、被洗浄処理対象部側の液体中に設けるようにしてもよい。また、洗浄浄化装置や小型電器機器も上記実施形態で示したものに限らず、例えば、電動歯ブラシの洗浄浄化装置や浄水装置、洗剤等が含まれた水を排水前に浄化する装置等に本発明を適用することが可能である。また、液体収容部や気体収容部、その他細部のスペック形状、大きさ、レイアウト等も適宜に変更可能である。