ガラス成分、樹脂成分および溶剤を含有し、前記ガラス成分は、実質的にビスマス成分および鉛成分を含有せず、前記ガラス成分は、10累積粒度D10の値が1.0μmより大きく、1.3μm未満であるガラス粉末からなる、プラズマディスプレイパネルの誘電体ペースト。請求項1に記載の誘電体ペーストを用いて形成した誘電体層を有するプラズマディスプレイパネル。近年、PDPは従来のNTSC方式に比べて走査線数が2倍以上のハイディフィニションテレビへの適用が進んでいる。このようなハイビジョン化によって、走査線数が増加して表示電極の数が増加し、さらに表示電極間隔が小さくなる。そのため、表示電極を被覆する誘電体層も小さくなった表示電極間隔に空隙などなく、また膜表面が平滑に形成される必要がある。空隙や膜表面欠陥などが存在した場合、誘電体層に求められる絶縁耐圧特性が低下してしまう。一方、PDPの高効率化といった観点からは前面板の誘電体層の誘電率が低いことが望ましい。誘電体層の誘電率が低いと、紫外線の発生効率が向上し、PDPの低電力化に寄与するからである。ここで、誘電体層のガラス組成に重元素であるBiを除くことで誘電率5~7程度の低誘電率を得ることができる。しかし、Biを除くことにより、ガラスの転移点や屈伏点、軟化点といった各種物性温度の上昇もみられる。このような物性温度差が大きいガラスをロングなガラスと呼ぶ。軟化点が高いガラス組成の場合、誘電体層の焼成に有する焼成温度も高透過率を得るために高温焼成が必要となり、焼成に有するエネルギー量も多く必要となる。また、従来は、焼成工程の中でガラスの焼結を進行促進させる部分の温度は表示電極中の残留有機物などからのガス発生を抑制するため、軟化点付近の温度で可能な限り低い温度で焼成を行っていたが、低誘電率組成のガラスは物性温度間の温度差が大きいロングなガラスであるため、この温度では十分な焼結が得られず、膜表面欠陥を生じさせる場合がある。膜表面欠陥部分では耐圧が不足し、点灯時に耐圧不良を引き起こす原因となる。本発明は、このような課題を解決して、高精細表示でも、高輝度、高信頼性を確保し、さらに環境問題に配慮したPDPを実現することを目的としている。上記の目的を達成するために、本発明の誘電体ペーストは、ガラス成分、樹脂成分および溶剤を含み、前記ガラス成分は、実質的にビスマス成分および鉛成分を含有せず、前記ガラス成分は、10累積粒度D10の値が1.0μmより大きく、1.3μm未満であるガラス粉末からなることを特徴としている。そして本発明のPDPはこの誘電体層ペーストによって形成した誘電体層を有している。以上のように、本発明によれば、高信頼性を確保し、さらに環境問題に配慮したPDPを実現することができる。以下、本発明の実施の形態におけるPDPについて図面を用いて説明する。実施の形態図1は本発明の実施の形態におけるPDPの構造を示す斜視図である。PDPの基本構造は、一般的な交流面放電型PDPと同様である。図1に示すように、PDP1は前面ガラス基板3などよりなる前面板2と、背面ガラス基板11などよりなる背面板10とが対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたPDP1内部の放電空間16には、NeおよびXeなどの放電ガスが55kPa~80kPaの圧力で封入されている。前面板2の前面ガラス基板3上には、走査電極4および維持電極5よりなる一対の帯状の表示電極6とブラックストライプ遮光層7が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板3上には表示電極6と遮光層7とを覆うようにコンデンサとしての働きをする誘電体層8が形成され、さらにその表面に酸化マグネシウムMgOなどからなる保護層9が形成されている。また、背面板10の背面ガラス基板11上には、前面板2の走査電極4および維持電極5と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極12が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層13が被覆している。さらに、アドレス電極12間の下地誘電体層13上には放電空間16を区切る所定の高さの隔壁14が形成されている。隔壁14間の溝にアドレス電極12毎に、紫外線によって赤色、青色および緑色にそれぞれ発光する蛍光体層15が順次塗布して形成されている。走査電極4および維持電極5とアドレス電極12とが交差する位置に放電セルが形成され、表示電極6方向に並んだ赤色、青色、緑色の蛍光体層15を有する放電セルがカラー表示のための画素になる。図2は、本発明の実施の形態におけるPDPの誘電体層8の構成を示す前面板2の断面図である。図2は図1と上下反転させて示している。図2に示すように、フロート法などにより製造された前面ガラス基板3に、走査電極4と維持電極5よりなる表示電極6とブラックストライプ7がパターン形成されている。走査電極4と維持電極5はそれぞれインジウムスズ酸化物ITOや酸化スズSnO2などからなる透明電極4a、5aと、透明電極4a、5a上に形成された金属バス電極4b、5bとにより構成されている。金属バス電極4b、5bは透明電極4a、5aの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀Ag材料を主成分とする導電性材料によって形成されている。誘電体層8は、前面ガラス基板3上に形成されたこれらの透明電極4a、5aと金属バス電極4b、5bとブラックストライプ7を覆って形成し、さらに誘電体層8上に保護層9を形成している。次に、PDPの製造方法について説明する。まず、前面ガラス基板3上に、走査電極4および維持電極5と遮光層7とを形成する。これらの透明電極4a、5aと金属バス電極4b、5bは、フォトリソグラフィ法などを用いてパターニングして形成される。透明電極4a、5aは薄膜プロセスなどを用いて形成され、金属バス電極4b、5bは銀Ag材料を含むペーストを所望の温度で焼成して固化している。また、遮光層7も同様に、黒色顔料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料をガラス基板の全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することにより形成される。次に、走査電極4、維持電極5および遮光層7を覆うように前面ガラス基板3上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層誘電体材料層を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布された誘電体ペースト表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極4、維持電極5および遮光層7を覆う誘電体層8が形成される。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料、バインダおよび溶剤を含む塗料である。次に、誘電体層8上に酸化マグネシウムMgOからなる保護層9を真空蒸着法により形成する。以上の工程により前面ガラス基板3上に所定の構成物走査電極4、維持電極5、遮光層7、誘電体層8、保護層9が形成され、前面板2が完成する。一方、背面板10は次のようにして形成される。まず、背面ガラス基板11上に、銀Ag材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりアドレス電極12用の構成物となる材料層を形成し、それを所望の温度で焼成することによりアドレス電極12を形成する。次に、アドレス電極12が形成された背面ガラス基板11上にダイコート法などによりアドレス電極12を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層13を形成する。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料とバインダおよび溶剤を含んだ塗料である。次に、下地誘電体層13上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布して所定の形状にパターニングすることにより、隔壁材料層を形成した後、焼成することにより隔壁14を形成する。ここで、下地誘電体層13上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。次に、隣接する隔壁14間の下地誘電体層13上および隔壁14の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層15が形成される。以上の工程により、背面ガラス基板11上に所定の構成部材を有する背面板10が完成する。このようにして所定の構成部材を備えた前面板2と背面板10とを走査電極4とアドレス電極12とが直交するように対向配置して、その周囲をガラスフリットで封着し、放電空間16にNe、Xeなどを含む放電ガスを封入することによりPDP1が完成する。次に、前面板2の誘電体層8について詳細に説明する。前述したように、誘電体層は、高耐電圧を要求されるが、一方で高光透過率を有することを要求される。この特性は誘電体層に含まれるガラス成分の組成に大きく左右される。これまでは、前記450°Cから600°C程度での焼成を可能にするために、誘電体層に含まれるガラス成分には20重量以上の酸化鉛が含まれていたが、近年、環境への配慮のため、ガラス中に鉛成分を実質的に含有せず、0.5重量から40重量程度のBi2O3を含有している。先に述べたように誘電体ガラスにおいて鉛成分の代替材料として、Bi2O3を加えているが、Bi2O3の添加量を増加させることで誘電体ガラスの軟化点を下げることができ、製造プロセスに様々な利点がある。しかしながら、Bi系の材料が高価であることから、Bi2O3の添加量を増加させることは、使用する原材料のコスト増加を招くことになる。そこでさらにBi系の材料の代替材料として、Li、Na、K、RbおよびCs等から選ばれるアルカリ金属の酸化物を含む技術例がある。また、Biは原子量が209と大きい元素であり、今後のPDPの特性向上に求められる低誘電率ガラスを考慮すると、原子量の大きいガラスの含有率を低減する必要がある。これに対して、本発明の実施の形態ではBiを含まないことを特徴とする。そのため、誘電率は低く抑えられ、紫外線の発生効率が向上し、PDPの低消費電力化に寄与することが出来る。一方で、Biを除くことにより、ガラスの転移点や屈伏点、軟化点といった各種物性温度の上昇もみられる。このような物性温度差が大きいガラスをロングなガラスと呼ぶ。軟化点が高いガラス組成の場合、誘電体層の焼成に有する焼成温度も高透過率を得るために高温焼成が必要となり、焼成に有するエネルギー量も多く必要となる。また、従来は、焼成工程の中でガラスの焼結を進行促進させる部分の温度は表示電極中の残留有機物などからのガス発生を抑制するため、軟化点付近の温度で可能な限り低い温度で焼成を行っていたが、低誘電率組成のガラスは物性温度間の温度差が大きいロングなガラスであるため、この温度では十分な焼結が得られず、膜表面欠陥を生じさせる場合がある。膜表面欠陥部分では耐圧が不足し、点灯時に耐圧不良を引き起こす原因となる。ところで、低誘電率のガラス組成の場合、ガラス比重が小さいため、従来の塗工手段を用いて層形成するには、ペースト組成中の有機成分を大きく増やす必要がある。ここで、溶剤のみによる補填では乾燥工程で十分に乾燥させることが困難となるため望ましくない。一方で、樹脂成分により補填する場合は、ペースト中に樹脂の偏在以下、樹脂ダマと呼ぶを発生させやすくなる。この樹脂ダマは、焼成工程において燃焼して消失するが、同時に、誘電体層中に凹み状の欠陥部を生じさせる。この凹み部では絶縁耐圧特性が低下し、点灯時に耐圧不良を引き起こす。この凹み部は、焼成工程におけるガラス焼結で塞がるものであり、焼成温度を上げるなどの焼結促進により低減させることが可能であるが、軟化点が高くロングなガラスの場合は、上述の課題のために、凹み発生の低減が困難である。また、ペースト中のガラス量に対して樹脂量が多いほど、樹脂ダマによる凹み部の発生頻度が大きくなるが、樹脂ダマの発生頻度を小さくするために樹脂量を少なくすると、ペースト粘度の低下を招き、十分な塗工性が得にくくなるという課題があった。このような課題に対し、本発明の実施の形態では、誘電体層8を形成する工程で使用する誘電体ペーストがガラス成分に実質的にビスマス成分、鉛成分を含まず、そのガラス粉体の10累積粒度D10の値が1.0μmより大きく、1.3μm未満であることを特徴とする。これにより、上記の樹脂ダマによる凹み部発生が低減でき、表示品位を損なわない。このような現象について、発明者等は次のように考察している。先に記述した樹脂の偏在は小粒径ガラスを核として発生するものであり、ペースト中に存在する小粒径ガラスの量を低減することにより、樹脂ダマの発生を抑制できている。結果として、誘電体層中の凹み部は低減し、絶縁破壊箇所も減少している。一方で、小粒径ガラスは、焼成工程の中でガラスの焼結を進行させ、より緻密な膜形成を促進する効果も有するため、小粒径ガラス量が少ない場合は、十分なガラス焼結が得られず、結果として、光学特性を劣化させることになる。次に、本発明の実施の形態における前面板2の誘電体層8の製造方法について詳細に説明する。誘電体層8に含まれる誘電体ガラス材料は、鉛Pb系成分以外を主成分とし、さらに酸化銅CuOやR2ORはLi、Na、K、RbおよびCsから選ばれる少なくとも1種を含有する材料組成により構成されている。これらの組成成分からなる誘電体材料を、湿式ジェットミルやボールミルで平均粒径が0.5μm~3.0μmとなるように粉砕して誘電体材料粉末を作製する。次にこの誘電体材料粉末35重量~65重量と、バインダ成分35重量~65重量とを三本ロールでよく混練してダイコート用あるいは印刷用の誘電体層用ペーストを作製する。バインダ成分中の樹脂成分としては、アクリル樹脂を必ず含有し、エチルセルロースと併せて1重量~25重量を含む。バインダ成分中の溶剤成分としては、沸点250°C未満の溶剤を全溶剤中の20重量~85重量含み、沸点250°C以上の溶剤を全溶剤中の15重量~80重量含む。また、誘電体ペーストに含まれる溶剤は3種類以上で構成されている。沸点250°C未満の溶剤としてはターピネオールもしくはブチルカルビトールアセテートBCAなどが挙げられ、沸点250°C以上の溶剤としてはフェニルジグリコールPhDG、ターピニルオキシエタノールTOE、テキサノールなどが挙げられるが、α-、β-、γ-テルピネオールなどのテルペン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、トリプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールジアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールトリアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、トリプロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、トリプロピレングリコールトリアルキルエーテルアセテート類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1-ブタノールなどのアルコール類等も適宜選択できる。また、ペースト中には、必要に応じて可塑剤としてフタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルを添加し、分散剤としてグリセロールモノオレート、ソルビタンセスキオレヘート、ホモゲノールKaoコーポレーション社製品名、アルキルアリル基のリン酸エステルなどを添加して印刷性を向上させてもよい。次に、この誘電体層用ペーストを用い、表示電極6を覆うように前面ガラス基板3にダイコート法あるいはスクリーン印刷法で印刷して乾燥させ、その後、誘電体材料の軟化点より少し高い温度の575°C~600°Cで焼成する。本発明の実施の形態におけるPDPに関して、発明者等は次のような評価を行っている。放電セルとして42インチクラスのハイビジョンテレビに適合するように、隔壁の高さを0.15mm、隔壁の間隔セルピッチを0.15mm、表示電極の電極間距離を0.06mmとし、Xeの含有量が15体積のNe-Xe系の混合ガスを封入圧60kPaに封入したPDPを20セット作製し、点灯試験時の絶縁破壊箇所数を評価した。また、この評価において使用した粒度分布の異なる誘電体ペーストに関して、光学特性評価を実施した。この評価結果について表1に示す。粒度分布に関しては、レーザ回折散乱式粒子径粒度分布測定装置日機装株式会社MICROTRAC-HRA-X100にて測定している。光学特性に関しては、ヘーズメーター株式会社村上色彩技術研究所製HM-150にて測定している。PDPの高効率化には、誘電体層の全光線透過率が80以上であることが望ましい。表1に示すように、本発明の条件に適合する試料1~試料3については42インチクラスのPDPにおいても絶縁破壊箇所は発生せず、また全光線透過率も良好な値を示した。一方で試料4および試料5ではガラス成分に微粉が存在するため、誘電体層に樹脂ダマによる凹み部が発生し、絶縁破壊も防止できない。なお、誘電体層8の膜厚が小さいほどパネル輝度の向上と放電電圧を低減するという効果は顕著になるので、絶縁耐圧が低下しない範囲内であればできるだけ膜厚を小さく設定するのが望ましい。このような条件と可視光透過率の観点から、本発明の実施の形態では、誘電体層8の膜厚を41μm以下に設定している。また、鉛成分、ビスマス成分について実質的に含有しないというのは、不純物等で鉛成分またはビスマス成分を含んだ誘電体層についても本願発明に相当すると考える。