"基板ステージと、前記基板ステージを支持する支柱と、前記支柱を回転させる第一回転駆動部と、前記基板ステージの内部に設けられ、基板ステージ上において基板を載置することが可能な面に対して垂直方向に上下移動が可能な少なくとも3つのリフトピンと、を備えた基板処理装置であって、前記リフトピンを上下移動するための昇降手段を備え、前記昇降手段は、前記支柱の周囲に配置され、前記支柱の周囲を前記支柱の回転軸と同軸まわりに回転する第一回転部材と、前記回転軸からオフセットした位置にある回転軸まわりに回転し、当該回転を伝達部材を介して前記第一回転部材に伝達し、当該第一回転部材を回転させるための第二回転駆動部と、前記第一回転部材の回転と係合して回転するとともに、前記リフトピンの下側に配置された、少なくとも3つの第二回転部材と、前記第二回転部材の回転により、直線運動する移動体と、前記移動体の直線運動によって、前記リフトピンを上下移動させるピンと、を備えたことを特徴とする基板処理装置。基板ステージと、前記基板ステージを支持する支柱と、前記基板ステージの内部に設けられ、基板ステージ上において基板を載置することが可能な面に対して垂直方向に上下移動が可能な少なくとも3つのリフトピンと、を備えた基板処理装置であって、前記リフトピンを上下移動するための昇降手段を備え、前記昇降手段は、前記支柱の周囲に配置され、前記支柱の周囲を前記支柱の回転軸と同軸まわりに回転する第一回転部材と、前記回転軸からオフセットした位置にある回転軸まわりに回転し、当該回転を伝達部材を介して前記第一回転部材に伝達し、当該第一回転部材を回転させるための第二回転駆動部と、前記第一回転部材の回転と係合して回転するとともに、前記リフトピンの下側に配置された、少なくとも3つの第二回転部材と、前記第二回転部材の回転により、直線運動する移動体と、を有し、前記移動体の直線運動によって、前記リフトピンは上下移動することを特徴とする基板処理装置。前記第一回転部材は、リング形状を有する部材であり、当該リング形状の外周側および内周側にギアが形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。前記伝達部材は、前記第一回転部材の外周側に形成されているギアと係合するギアであることを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。前記第二回転部材の外周部には、前記第一回転部材の内周側に形成されているギアと係合するギアが形成されていることを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。ところが近年、基板ステージの下方には、例えば、静電吸着電極に電力を導入するための電力導入機構や、基板ステージを回転するための回転機構などが設けられるようになり、基板ホルダーの構成は、ますます複雑化している。そのため、基板ホルダーの下方に、リフトピンを昇降動作させるための昇降機構を設けることは、困難となっている。一方、装置の寸法が、規格されている場合、さまざまな制約がある。例えばイオンビームエッチング装置においては、イオンソースから発生するパーティクルが基板へ付着するのを最小限に抑える為、イオンソースの放射面を地面に対して垂直に立てるように配置している。基板がイオンソースと対抗する位置に配置されるようにする為、搬送チャンバーからイオンビームエッチング装置内の基板ホルダーに搬送された基板を静電吸着ステージに吸着させた後、基板ホルダーをイオンソースに向けて回転させて、エッチング処理を行っている。この一連の動きにおいて、基板ホルダーはイオンビームエッチング装置の真空チャンバーと干渉してはならない。ところがSEMI/MESC規格で、搬送ロボットの伸縮アームが届く範囲の制約から、この基板処理装置の搬送チャンバーとの接続面から基板ホルダーの中心までの距離は規定されている為、基板ホルダーは小型化させる必要がある。こうした制約の中、発明者は鋭意検討した結果、基板ホルダーを小型化するとともに、基板を同期して昇降する技術を見出した。本発明は、上記従来技術の問題を鑑みてなされたものであり、装置の薄型化を図るとともに、基板を同期して昇降させることが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。上記目的を達成させるため、本発明の基板処理装置は、基板ステージと、前記基板ステージを支持する支柱と、前記支柱を回転させる第一回転駆動部と、前記基板ステージの内部に設けられ、基板ステージ上において基板を載置することが可能な面に対して垂直方向に上下移動が可能な少なくとも3つのリフトピンと、を備えた基板処理装置であって、前記リフトピンを上下移動するための昇降手段を備え、前記昇降手段は、前記支柱の周囲に配置され、前記支柱の周囲を前記支柱の回転軸と同軸まわりに回転する第一回転部材と、前記回転軸からオフセットした位置にある回転軸まわりに回転し、当該回転を伝達部材を介して前記第一回転部材に伝達し、当該第一回転部材を回転させるための第二回転駆動部と、前記第一回転部材の回転と係合して回転するとともに、前記リフトピンの下側に配置された、少なくとも3つの第二回転部材と、前記第二回転部材の回転により、直線運動する移動体と、前記移動体の直線運動によって、前記リフトピンを上下移動させるピンと、を備えたことを特徴とする。本発明の他の基板処理装置は、基板ステージと、前記基板ステージを支持する支柱と、前記基板ステージの内部に設けられ、基板ステージ上において基板を載置することが可能な面に対して垂直方向に上下移動が可能な少なくとも3つのリフトピンと、を備えた基板処理装置であって、前記リフトピンを上下移動するための昇降手段を備え、前記昇降手段は、前記支柱の周囲に配置され、前記支柱の周囲を前記支柱の回転軸と同軸まわりに回転する第一回転部材と、前記回転軸からオフセットした位置にある回転軸まわりに回転し、当該回転を伝達部材を介して前記第一回転部材に伝達し、当該第一回転部材を回転させるための第二回転駆動部と、前記第一回転部材の回転と係合して回転するとともに、前記リフトピンの下側に配置された、少なくとも3つの第二回転部材と、前記第二回転部材の回転により、直線運動する移動体と、を有し、前記移動体の直線運動によって、前記リフトピンは上下移動することを特徴とする。本発明によれば、第一回転部材を介してリフトピンを昇降させることにより、装置の小型化を図るとともに、基板を同期して昇降可能な基板処理装置を提供することができる。あるいは、基板ステージの回転軸よりオフセットとした位置に配置された第二回転駆動部を作動させる場合であっても、リフトピンの上下移動のばらつきを無くし、基板を昇降させることが可能となる本発明のその他の特徴及び利点は、添付図面を参照とした以下の説明により明らかになるであろう。なお、添付図面においては、同じ若しくは同様の構成には、同じ参照番号を付す。第1の実施形態本発明の第1の実施形態について図面に基づいて説明する。なお、以下に説明する部材、配置等は発明を具体化した一例であって本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨に沿って各種改変できることは勿論である。なお、以下で説明する図面で、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。なお、本実施形態では基板処理装置の一例としてイオンビームエッチング装置以下、IBE装置と称すを例に挙げて説明するが本発明はこの限りではない。本発明に係る基板処理装置としては、例えば、他のエッチング装置やスパッタ成膜、PVD装置、CVD装置などのプラズマ処置装置が含まれる。本発明の実施形態に係る基板支持装置基板ホルダーは、搬送ロボットなどから受取った基板を基板ステージ上に載置し、支持固定する構成を提供するもので、上述の基板処理装置に適用可能である。図1は本発明の第1の実施形態に係るIBE装置1の全体構成を説明する図であり、IBE装置を側面から見た概略断面図である。図1に示したIBE装置1は、真空容器3と、放電室5と、引き出し電極4と、基板ホルダー11と、シャッター装置9と、を備えている。放電室5は、導入されたガスに高周波電力を印加することによりプラズマを発生する。引き出し電極4は、放電室5で発生したプラズマからイオンを真空容器3のプロセス空間に引き出すための電界を発生させる。基板ホルダー11は基板2を保持するシャッター装置9は放電室5から基板2が載置されているプロセス空間に放射されるイオンビームを遮蔽する。放電室5は真空容器3の側面に連結されている。基板ホルダー11は放電室5に対向して配設されている。放電室5から照射されるイオンの電荷を中和するためのニュートラライザ不図示がプロセス空間の側面に設けられている。なお、図示していないが、真空容器3には、ゲートバルブを介して、搬送室が連結されており、その搬送室の中央には、搬送ロボットが設けられている。搬送ロボットにより搬送された基板2は、基板ホルダー11のリフトピン16の上に置かれ、その後、リフトピン16の降下により、基板ステージ7上に載置される。その後、静電チャックやメカチャックなどの固定手段により、基板2は、基板ステージ7に固定される。リフトピン16は基板ステージ7の内部に設けられ、基板ステージ上において基板を載置することが可能な面に対して垂直方向に上下移動が可能である。基板2を支持するために、リフトピン16は少なくとも3つにより構成される。本実施形態では、3つのリフトピンの構成例を説明するが、本発明の趣旨はこの例に限定されるものではなく、3つ以上のリフトピンに対しても適用可能である。図2は、基板ホルダー11の回転動作を説明する図である。回転支持部8は、真空容器3に対して回転軸Aを中心として回転可能であり、この回転1分間に約60回転によって、回転支持部8に支持されている基板ステージ7も回転する。さらに、回転支持部8は、回転軸Bを中心として基板ステージ7に保持された基板表面の向きを、イオンビームに対して、変えることができる。すなわち、回転支持部8の回転動作によって、放電室5からのイオンの入射方向に対する基板成膜面の角度を変化させることができる。基板成膜面へのイオンの入射角度を変化させることで、基板2の成膜面に斜め方向からイオンを入射することができ、高精度なエッチングを行うことができる。この際、前述したように、基板2は、固定手段により、基板ステージ7に固定されているので、回転支持部8によって、基板ステージ7とともにイオンビームに対して、回転することができる。IBE装置1は、基板ホルダー11に載置された基板2に対して放電室5からイオンを照射し、基板2上の積層膜をエッチングする。基板ホルダー11は、回転支持部8によって支持されている。基板ホルダー11の内部に設けられた静電チャック機構によって、基板2は基板ステージ7に吸着され、保持されている。シャッター装置9は、放電室5と基板ホルダー11との間に設けられておりシャッター装置9の開閉動作により放電室5より基板ホルダー11における基板ステージ7上の基板2に対して照射されるイオンを遮蔽することができる。まず、放電室5は、ガス導入手段不図示により導入された不活性ガス例えば、アルゴンガスに電力を印加することで、プラズマを発生させる。引き出し電極4は、放電室5内で発生したプラズマからイオンを引出し、基板2に向けて照射する。所定時間イオンビームを基板2に照射した後、シャッター装置9が作動し、イオンビームが遮蔽され、エッチングが終了する。なお、プラズマ発生のために使用する不活性ガスとしては、アルゴンガスに限定されず、例えば、クリプトンKrガスやキセノンXeガス,酸素O2ガスでもよい。基板ホルダー11は、再び搬送位置まで、回動すると、基板はリフトピンにより持ち上げられ、搬送ロボットに受け渡される。次に、図3から図8を参照して、本発明の特徴部分である基板支持装置基板ホルダーの構成を説明する。図3は、図1のx-x断面における基板ホルダー11の構成を説明するための側断面図であり、昇降手段15が動作する前、即ち基板が基板ステージ7に載置されている状態を示している。図4は、リフトピン16を除いた、昇降手段15の詳細斜視図である。図5は、第一回転部材の概略上面図である。図6は、昇降手段15の側断面図である。図7は、昇降手段15が動作後、即ち基板を持ち上げた状態を示している側断面図である。図8は、移動体ボールネジ26の動作を説明するための概略断面図である。図3に示される基板ステージ7の下方には、基板ステージ7を支持する支柱6と、支柱6を介して基板を回転させるための第一回転駆動部14とが設けられている。本実施形態では、第一回転駆動部14は、回転軸Aと同軸の回転軸を中心に回転可能なモータによって構成されている。基板ステージ7の下方には、第一回転駆動部14が設けられているため、リフトピン16を昇降する昇降手段15を駆動するための第二回転駆動部17は、基板ステージ7の中央回転軸Aからオフセットした位置に配置されている。なお、本実施形態では、第二回転駆動部17は、回転軸Aからオフセットした回転軸を中心に回転可能なモータによって構成されている。第二回転駆動部17が回転軸Aからオフセットした位置に配置されるため、第二回転駆動部17からの距離に応じて生じる昇降手段15の変形や傾き等の影響により、複数のリフトピン16のそれぞれの昇降量にばらつきが生じ得る。例えば、第二回転駆動部17に近い位置に配置されているリフトピンに比べて、遠い位置に配置されているリフトピンは、昇降手段15の傾きの影響を受けやすい。複数のリフトピン16の昇降量にばらつきが生じ得る問題を解決するため、昇降手段15は、オフセット配置された第二回転駆動部17の回転を、外側ギア18伝達部材を介して回転軸Aと同軸に設けられた第一回転部材19に伝達する構成としている。第一回転部材19は、環状のリングギアであり、外周側にも、内周側にもギアが形成されている。外周側に形成されたギアと第二回転駆動部17の回転軸に設けられた外側ギア18とが係合することにより、第二回転駆動部17の回転が第一回転部材リングギア19に伝達され、第一回転部材リングギア19が回転軸Aを回転中心として回転する。回転軸Aを回転中心とする回転、即ち、第一回転部材リングギア19の回転に変換した後、さらに、第一回転部材リングギア19の回転を直線運動に変換して、この直線運動によりリフトピン16を上下動させている。回転軸Aを回転中心とする第一回転部材リングギア19の回転を直線運動に変換することにより昇降手段15の傾き等の影響によるリフトピン16のばらつきを改善することができる。以下、図面を参照して詳細に説明する。図3に示すように、基板ホルダー11は、基板ステージ7と、支柱6と、第一回転駆動部14と、支持部10と、昇降手段15と、リフトピン16とを備えている。支柱6は基板ステージ7を支持する。第一回転駆動部14は、支柱6を回転させる。昇降手段15は、支持部10の内部に設けられ、リフトピン16の昇降により基板ステージ7上に載置された基板2を上下動させることが可能である。リフトピン16は、基板ステージ7内に設けられ、昇降手段15の昇降動作によって昇降する。リフトピン16の端部が基板ステージ7の基板載置面より高い位置まで上昇すると、リフトピン16の端部に基板2の裏面が当接し、基板2を支持する。リフトピン16は、基板2を支持するために少なくとも3つのリフトピンによって構成される。支持部10は、支柱6を回転可能な状態で支持する筐体である。支持部10は、支柱6を挿入することが可能な挿通孔を有する筐体であり、その挿通孔に支柱6を挿入することで、基板ステージ7を回転可能に支持している。また、支持部10は、大気側と真空側を分離する役割を担っており、支持部10の上部で磁性流体外周部材34と接続されている。磁性流体外周部材34は、支柱6が回転する際に第一または第二回転駆動部材などから出る粉塵がプロセス空間に放出されるのを効果的に予防することができる。昇降手段15は、支柱6の周囲に配置されている。昇降手段15は、第一回転部材19、第二回転駆動部17、第二回転部材24、および移動体26を有する。第一回転部材19は、第二回転駆動部17の回転軸に設けられた外側ギア18を介して伝達される回転により支柱6の周囲を回転する。第二回転駆動部17は、第一回転部材19を回転させるための回転駆動を行う。第二回転部材24は、リフトピン16の下方に配置され、第一回転部材19の回転動作と連動して回転する。第二回転部材24は、リフトピン16の下方に配置された、少なくとも3つの第二回転部材24a、24b、24c図4により構成される。3つの第二回転部材24a、24b、24cは環状のリングギアであり、外周側にはギアが形成されている。第二回転部材内側ギア24a、24b、24c図4のそれぞれの内周側には、ナットの回転を直線運動に変換することが可能な少なくとも3つの移動体ボールネジ26が設けられている。第一回転部材リングギア19の内周側に形成されたギアと第二回転部材内側ギア24a、24b、24cの外周側に形成されたギアとが噛み合う。第一回転部材リングギア19が回転すると、第二回転部材内側ギア24a、24b、24cが回転する。第二回転部材内側ギア24a、24b、24cの回転が移動体26のナット261に伝達され、ボールネジ軸262のまわりをナット261が回転することにより、ボールネジ軸262が直線運動する。ボールネジ軸262の直線運動移動量は、ボールネジ軸262のネジのピッチとナット261の回転数によって決まる。第一回転部材リングギア19の回転に従って、第二回転部材内側ギア24a、24b、24cを介して回転するそれぞれの移動体ボールネジ26のナット261の回転数は同一である。同一ピッチのボールネジ軸262を使用する場合、ボールネジ軸262の移動量は、それぞれの移動体ボールネジ26において同一となる。ナット261の回転方向を切替えることにより、ボールネジ軸262の上下運動の方向を制御することができる。例えば、コントローラ不図示は第二回転駆動部17の回転方向を制御することにより、ボールネジ軸262の上下運動の方向を制御することができる。移動体26のボールネジ軸262の直線運動は、押し上げピン32a、32b、32c図4を介して、3つのリフトピン16に伝達される。3つのリフトピン16は、押し上げピン32a、32b、32cから伝達された直線運動により上下動する。第一回転駆動部14は、サーボモータやステッピングモータなどにより構成され、コントローラ不図示は、サーボモータやステッピングモータなどの回転数を制御可能である。基板ステージ7から基板2を搬出する際、コントローラ不図示は、リフトピン16の真下に押し上げピン32が位置するように、基板ステージ7の回転位置を位置決め制御することができる。位置決め後、コントローラは第二回転駆動部17の回転を制御して、外側ギア18、第一回転部材19、第二回転部材24、ナット261を回転駆動する。そして、かかる回転駆動から変換されたボールネジ軸262および押し上げピン32の直線運動によって、リフトピン16は上下移動する。図6、図8に示すように、移動体ボールネジ26は、ナット261と、ボールネジ軸262とを有する。ナット261の外周側は、第二回転部材24の内周に固定されている。第二回転部材24が回転するとナット261が回転する。図4に示すように、ベースプレート22の下面側には、第二回転駆動部17が配置されている。第二回転駆動部17の回転により、同期して回転する外側ギア18は、ベースプレート22の上面側に配置されている。図5に示すように、外側ギア18は、第一回転部材リングギア19の外周側のギアと係合している。また、第二回転部材内側ギア24は、内側ギア24の中心軸と同軸上に配置されるベアリング23図6によって、第一回転部材リングギア19の内周側のギアと噛み合った状態で回転可能に保持されている。第一回転部材リングギア19の上面側に固定されているガイドリング20は、3つのベアリング21a、21b、および21cによって、基板ステージ7の回転軸回転軸Aまわりに回転可能に保持されている。図4に示すようにベースプレート22の上面側には、第二回転部材内側ギア2424a、24b、24cが回転軸Aを中心とした同心円上に等間隔で配置されている。第二回転部材24a、24bの間には、ベアリング21bが配置され、第二回転部材24b、24cの間には、ベアリング21cが配置されている。そして、第二回転部材24a、24cの間には、ベアリング21aが配置されている。図6に示すように、ベアリング2121a、b、cの外輪211の上部外周面には、端部に曲率を有する凸部が形成されており、このR形状の凸部はガイドリング20内周面に形成されたV型溝と接してガイドリング20の回転を支持している。ガイドリング20の下面側には、ガイドリング20の回転軸と同軸の第一回転部材リングギア19が固定されている。第一回転部材リングギア19の形状内形、外形および厚さは、例えば、ガイドリング20の形状と同一のものとして構成することができる。昇降手段15は、大気側からベローズ28と一体の押し上げピン32を押し上げる事により真空側のリフトピン16を押しあげる。押し上げられたリフトピン16の端部が基板2の裏面に当接し、リフトピン16の上昇によって基板2が持ち上げられる図7。また、リフトピン16が降下すると、基板2も降下し、リフトピン16の端部が基板ステージ7の基板載置面より下方に降下すると、リフトピン16により支持されていた基板2がリフトピン16から基板載置面上に載置される図3。図6に示すように、第二回転部材内側ギア24の中心軸と同軸上に、移動体ボールネジ26およびベアリング23が配置されている。内側ギア24と、移動体ボールネジ26のナット261と、ベアリング23の内輪が互いに固定され、第一回転部材リングギア19の回転に伴い、一体となって回転する。ベアリング23の外輪はベアリング外周部材29を介してベースプレート22に固定されており、第二回転部材内側ギア24はその場所で回転可能に保持される。尚、図4に示すように、3箇所配置されているボールネジ軸262の上端部をリングプレート27に連結することで、図5に示す移動体ボールネジ26のボールネジ軸262は回転止めされる。ナット261が回転する際に、ナット261とボールネジ軸262とが一緒に回転することなく、ナット261が回転し、かかる回転に従ってボールネジ軸262が上下に移動する。第一回転部材リングギア19が回転すると第一回転部材19の内周側のギアと噛み合っている第二回転部材内側ギア24は第一回転部材リングギア19と同期して回転する。尚、本実施形態では第二回転部材内側ギア24を3ヶ所使用しているが、本発明の趣旨はこの例に限定されるものではなく、3ヶ所以上取り付けたとしてもよい。上昇したリングプレート27により、ベローズ28に一体製作されている押し上げピン32を押し上げることにより真空側にあるリフトピン16を押し上げ、基板2を持ち上げる。以上説明した構成により、基板ステージの回転軸Aよりオフセットとした位置に配置された第二回転駆動部17を作動させる場合であっても、リフトピン16の上下動のばらつきを無くし、基板2を昇降させることが可能となる。ボールネジ軸262の直上に押し上げピン32およびリフトピン16を配置することがより望ましい。このような配置とすることでボールネジ軸262に対してモーメント荷重がかかる事を防ぐことができ、特にリニアブッシュ等の直進性を保つ為のガイド部材を補助的に使用しなくても移動体ボールネジ26の著しい寿命低下を防ぐことが可能になる。このことは、本装置の信頼性の向上とコストの低減に対して効果がある。基板ステージ7は、静電吸着電極不図示と、静電吸着電極に電圧を印加するための電力導入部13と、基板2を冷却するために、基板ステージ7内に形成された配管に冷却水を導入するための冷却水導入部113と、を備えている。回転する支柱6と、固定された支持部10側に設けられた磁性流体外周部材34との間には、真空空間と大気空間を分離するための磁性流体12が設けられている。次に、本実施形態の基板ホルダー11を用いて、基板ステージ7上に載置されている基板2を持ち上げる動作を説明する。図3に示すように、第二回転駆動部17が駆動することで、外側ギア18も第二回転駆動部17の回転軸と同軸で回転する。外側ギア18の回転に伴い、外側ギア18と外輪側でかみ合っている第一回転部材リングギア19も、回転軸A支柱6の回転軸を中心として回転し始める。図5に示すように、第一回転部材リングギア19が回転すると同時に、第一回転部材リングギア19の内周側のギアとかみ合っている、3箇所の第二回転部材内側ギア2424a、24b、24cが回転する。第二回転部材内側ギア2424a、24b、24cの回転に伴い、図6に示すように、第二回転部材内側ギア2424a、24b、24cと同軸上に配置される移動体ボールネジ26のナット261が回転する。このナット261の回転運動は、ボールネジ軸262の直線運動に変換されて、ボールネジ軸262は上昇する。それに伴い、ボールネジ軸262と連結されたリングプレート27も上昇する。少なくとも3箇所の移動体ボールネジ26の直上に配置される少なくとも3箇所のベローズ28底面を、リングプレート27が押し上げ、ベローズ28と一体製作されている押し上げピン32a、32b、32cも同時に押し上げられる。こうして押し上げピン32は、ベローズ28の直上に配置される少なくとも3箇所のリフトピン16を押し上げることができる。最後に、図6に示すように、少なくとも3箇所のリフトピン16が基板2を押し上げる。第2の実施形態図9は、本発明に適用可能な第2の実施形態に係る基板処理装置の概略断面図である。この実施形態の基板処理装置は、図3に示した基板ホルダー11と基本的には同様な構成を備える。同一の構成部材には同一の参照番号を付して、その詳細な説明を省略する。しかしながら、本実施形態の基板処理装置は、第1の実施形態の基板支持装置基板ホルダーと異なり、支柱6と基板ステージ7は回転しないため、第一回転駆動部14は設けられていない。代わりに、支柱6の下部には、基板ステージ7の内部に設けられた静電吸着電極70に電力を導入するための電力導入部13が配置されている。第二回転駆動部17は、基板ステージ7の中央部に配置できない為、第1の実施形態と同様に、基板ステージ7の中央部回転軸Aからオフセットされた位置に配置されている。本実施形態の基板支持装置基板ホルダーでは、基板ステージ7が回転しない為、押し上げピン32とリフトピン16とを別体として設ける必要はなく、リフトピン16が基板2を直接昇降できる構成となっている。尚、第一、第二の実施形態における外側ギア18、第一回転部材リングギア19、第二回転部材内側ギア24は、例えば、プーリーとタイミングベルトに置き換えても同じことが実現できる。例えば、外側ギア18を外側プーリー、第一回転部材19を第一回転プーリーとして、置き換えた場合を想定する。この場合、外側プーリーと第一回転プーリーとの間を第一タイミングベルト第一ベルトで連結し、外側プーリーの回転を、ベルトを介して第一回転プーリーに伝達することも可能である。第二回転部材24を第二回転プーリーとした場合、第一回転プーリーの回転は、第一回転プーリーと第二回転プーリーとの間を連結する第二タイミングベルト第二ベルトを介して第二回転プーリーへ伝達することも可能である。第3の実施形態図10は、第3の実施形態に係る電子デバイス製造装置を説明する上面図である。図10に示す電子デバイス製造装置500は、いわゆるクラスタ化された処理システムである。電子デバイス製造装置500は中央部に、2機の搬送ロボット510を備えた真空搬送室506を有している。真空搬送室506の周囲には、4つのPVDスパッタリング室501,502,503、504と、2つのロードロック室507、508と、イオンビームエッチング装置505とが、それぞれゲートバルブを介して連結されている。各室には、排気手段が接続されており、容器内を減圧可能である。図10に示すイオンビームエッチング装置IBE装置1は、前述した基板ホルダー11を備えている。なお、本実施形態の電子デバイス製造装置は、SEMI/MESC規格で、搬送ロボット510の伸縮アームが届く範囲は制約される。この基板処理装置の真空搬送室506との接続面から、イオンビームエッチング装置505の基板ホルダー11図1の中心までの距離は規定されている。なお、本発明の基板処理装置は、各実施形態で述べられたいかなる特徴をも組み合わせることによって構成することができる。本発明は上記実施の形態に制限されるものではなく、本発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、本発明の範囲を公にするために、以下の請求項を添付する。本願は、2010年10月7日提出の特願2010-227465を基礎として優先権を主張するものであり、その記載内容の全てを、ここに援用する。"