"次式の置換基を含んでなる香気放出性シロキサン。R1aR2bR3cR4dR5eSiR6式中、R6は原子数2~40の二価炭化水素基であり、R1、R2及びR3は香気性のエステル又はケトン又はアルデヒドの群から誘導されるものであって、各々独立に次の構造R7-CH=CO--R8を有しており、R4及びR5は炭素原子数1~40の一価炭化水素基及び炭素原子数1~40の一価アルコキシ基からなる群から選択され、符号aは1~3の範囲の値を有し、符号b、c、d及びeはabcde=3であることを条件として0~2の範囲の値を有し、R7は水素及び炭素原子数1~100の一価炭化水素基からなる群から選択され、R8は水素及び炭素原子数1~100の一価炭化水素基からなる群から選択される。次式の香気放出性シロキサン。MfMFgDhDFiTjTFkQl式中、Mは式R9R10R11SiO1/2を有し、MFは式R9R10RFSiO1/2を有し、Dは式R12R13SiO2/2を有し、DFは式R12RFSiO2/2を有し、Tは式R14SiO3/2を有し、TFは式RFSiO3/2を有し、Qは式SiO4/2を有しており、R9、R10、R11、R12、R13及びR14は、M、MF、D、DF、T及びTFの各々について各々独立に、炭素原子数1~40の一価アルキル又はアルコキシ基及び炭素原子数1~40の一価アリール又はアリールオキシ基からなる群から選択され、符号g、i又はkの一は1以上であることを条件として、符号f又はgは正数であって符号h、i、j、k又はlの一又はそれ以上は正数であり、RFは式R1aR2bR3cR4dR5eSiR6を有しており、R6は原子数2~40の二価炭化水素基であり、R1、R2及びR3は香気性のエステル又はケトン又はアルデヒドの群から誘導されるものであって、各々独立に次の構造R7-CH=CO--R8を有しており、R4及びR5は炭素原子数1~40の一価炭化水素基及び炭素原子数1~40の一価アルコキシ基からなる群から選択され、符号aは1~3の範囲の値を有し、符号b、c、d及びeはabcde=3であることを条件として0~2の範囲の値を有し、R7は水素及び炭素原子数1~100の一価炭化水素基からなる群から選択され、R8は水素及び炭素原子数1~100の一価炭化水素基からなる群から選択される。符号aが2又は3の値を有する、請求項2記載の香気放出性シロキサン。符号lが0である、請求項2記載の香気放出性シロキサン。符号kが0である、請求項4記載の香気放出性シロキサン。符号jが0である、請求項5記載の香気放出性シロキサン。符号iが0である、請求項6記載の香気放出性シロキサン。R1、R2及びR3が、3-メチル-3-3-1-メチルエチルフェニルプロパナール、2-メチル-3-4-t-ブチルフェニルプロパナール、3-フェニルプロピオナール、2-フェニルプロピオナール、プロピオナール、イソブチラール、2-メチルブチラール、ヘキサナール、オクタナール、ノナナール、デカナール、p-トリルアセトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、4-34-メチル-3-ペンテニル-3-シクロヘキセン-カルバルデヒド、2,6-ジメチル-5-ヘプテナール、3,7-ジメチル-2,6-オクタジエナール、trans-4-デセナール、シクラメンアルデヒド、4-p-メトキシフェニル-2-ブタノン、アセトフェノン、2-ペンタノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、2-デカノン、3-ペンテン-2-オン、6-メチル-5-ヘプテン-2-オン、ゲラニルアセトン、イオノン、5-メチル-α-イオノン、2-アセトナフトン、酢酸2-メチル-3-フェニルプロパン-2-イル、酢酸リナリル、酢酸メンタニル、酢酸2-フェニルエチル、酢酸テトラヒドロリナリル、プロピオン酸フェネチル、フェネチルヘキサノエート及び酢酸ブチルからなる香気性アルデヒド、ケトン又はエステルの群から誘導される、請求項2乃至請求項7のいずれか1項記載の香気放出性シロキサン。請求項2乃至請求項8のいずれか1項記載の香気放出性シロキサンを含んでなる組成物。請求項2乃至請求項7のいずれか1項記載の香気放出性シロキサンを含んでなり、デオドラント、制汗剤、スキンクリーム、フェイシャルクリーム、ヘアケア製品、保護クリーム、シェービングクリーム、アフターシェーブローション、オーデコロン、香水、メーキャップ及び別の含ケイ素成分が添加されている化粧品からなる群から選択される化粧組成物。シャンプー、ムース、及びスタイリングジェルからなる群より選択されるヘアケア製品である、請求項10記載の化粧組成物。口紅、ファンデーション、頬紅、及びマスカラからなる群より選択されるメーキャップである、請求項10記載の化粧組成物。本発明は、次式の香気放出性シロキサンを提供する。MfMFgDhDFiTjTFkQl式中、Mは式R7R8R9SiO1/2を有し、MFは式R7R8RFSiO1/2を有し、Dは式R10R11SiO2/2を有し、DFは式R10RFSiO2/2を有し、Tは式R12SiO3/2を有し、TFは式RFSiO3/2を有し、Qは式SiO4/2を有しており、R7、R8、R9、R10、R11及びR12は、炭素原子数1~40の一価アルキル又はアルコキシ基及び炭素原子数1~40の一価アリール又はアリールオキシ基からなる群から、M、MF、D、DF、T及びTFの各々について各々独立に選択され、符号g、i又はkの一は1以上であることを条件として、符号f又はgは正数であって符号h、i、j、k又はlの一又はそれ以上は正数であり、RFは式R1OaR2ObR3OcR4dR5eSiRUを有しており、RUは原子数2~40の二価炭化水素基であり、R1、R2及びR3は香気性のエステル又はケトン又はアルデヒドの群から誘導されるものであって、各々独立に次の構造R7-CH=CO--R8を有しており、R4及びR5は炭素原子数1~40の一価炭化水素基及び炭素原子数1~40の一価アルコキシ基からなる群から選択され、符号aは1~3の範囲の値を有し、符号b、c、d及びeはabcde=3であることを条件として0~2の範囲の値を有し、R7は水素及び炭素原子数1~100の一価炭化水素基からなる群から選択され、R8は水素及び炭素原子数1~100の一価炭化水素基からなる群から選択され、aは1~3の範囲の値を有し、b、c、d及びeはabcde=3であることを条件として0~2の範囲の値を有する。本発明は、香気放出性シロキサンを含んでなる組成物も提供する。具体的用途には、香気放出性シロキサンを含んでなる化粧組成物がある。本発明の化合物はオレフィン性シラン分子のヒドロシリル化によって香気性部分を導入する。これらのシロキサン分子は各種のパーソナルケア組成物に有用である。本発明は新規組成物に関するが、当該組成物は加水分解に際して香気性のアルデヒド、ケトン又はエステルを放出するシロキサンである。本発明で利用されるオレフィン性シランは次式で表わされる。R1aR2bR3cR4dR5eSiR6式中、R1、R2、R3は香気性のエステル、ケトン又はアルデヒドの群から誘導されるものであって、各々独立に次の構造を有する。R7-CH2C=O-R8ここで、上記香気性エステル、ケトン又はアルデヒドは以下に示す通り反応条件下でカルボニル部分がエノール形を呈することができ、R7-CH2C=O-R8→R7-CH=COH-R8しかもエノールヒドロキシル基を介して反応して、炭素-酸素-ケイ素結合すなわちR7-CH=CO--R8、ただし、式中の酸素の後の記号-は、この化学種が一価基であることを示すを形成する。R4及びR5は炭素原子数1~40の一価炭化水素基及び炭素原子数1~40の一価アルコキシ基からなる群から選択され、R6はオレフィン性又はアセチレン性末端部分を含む原子数2~40の一価不飽和炭化水素基であり、aは1~3までの範囲の値を有し、b、c、d、eはabcde=3であることを条件として0~2までの範囲の値を有する。R7は水素及び炭素原子数1~100の一価炭化水素基からなる群から選択され、R8は水素及び炭素原子数1~100の一価炭化水素基からなる群から選択される。なお、次の構造R7-CH=CO--R8は、次のエノラート構造R7-CH=COH-R8に対応する共役構造であるが、ヒドロキシル水素がない点に留意されたい。R7-CH=CO--R8という構造において、酸素原子の後の記号-は一価結合部位を示しており、この構造は一価基である。本明細書中で用いる炭素原子数1~100という記載は、利用できる香気性エステル、ケトン及びアルデヒドの種類が式R7-CH2C=O-R8で定まる場合に選択される。本明細書中で用いる一価炭化水素基という用語は、脂肪族一価炭化水素基及び芳香族一価炭化水素基をいずれも包含し、酸素、窒素、イオウ及びハロゲンフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のようなヘテロ原子を含んでいてもよい。香気性含カルボニル化学種は、3-メチル-3-3-1-メチルエチルフェニルプロパナール、2-メチル-3-4-t-ブチルフェニルプロパナール、3-フェニルプロピオナール、2-フェニルプロピオナール、プロピオナール、イソブチラール、2-メチルブチラール、ヘキサナール、オクタナール、ノナナール、デカナール、p-トリルアセトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、4-34-メチル-3-ペンテニル-3-シクロヘキセン-カルバルデヒド、2,6-ジメチル-5-ヘプテナール、3,7-ジメチル-2,6-オクタジエナール、trans-4-デセナール、シクラメンアルデヒド、4-p-メトキシフェニル-2-ブタノン、アセトフェノン、2-ペンタノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、2-デカノン、3-ペンテン-2-オン、6-メチル-5-ヘプテン-2-オン、ゲラニルアセトン、イオノン、5-メチル-α-イオノン、2-アセトナフトン、酢酸2-メチル-3-フェニルプロパン-2-イル、酢酸リナリル、酢酸メンタニル、酢酸2-フェニルエチル、酢酸テトラヒドロリナリル、プロピオン酸フェネチル、フェネチルヘキサノエート、及び酢酸ブチルからなる群から選択される。以下に示す合成例は、本発明の化合物を製造するのにシリコーン化学の当業者が通例使用するであろう一般的な合成反応経路を例示するためのものである。従って、これらの反応経路は単なる例示にすぎず、本発明の化合物を製造し得る唯一の合成経路を表すものではない。香気性カルボニル含有部分である2-メチル-3-4-t-ブチルフェニルプロパナールを用いた反応経路の一例を次に示す。なお、DMFはジメチルホルムアミドである。この反応経路は、3-メチル-3-3-1-メチルエチルフェニルプロパナール誘導体の製造にも利用し得る。香気性含カルボニル化学種、すなわちエステル、ケトン及びアルデヒドの反応には、トリエチルアミンのような塩基で補助されるケト-エノール互変異性平衡が成立することが必要とされる。互変異性は、2以上の構造の異なる化合物間で平衡が成り立つ化学的現象である。ほとんどすべてのケースで、平衡化合物の一の互変異性形と他の形との差異は水素原子の位置異性である。互変異性の主たる形態は、カルボニル基に対してα位に水素原子すなわち、α水素を有するカルボニル化合物すなわち、カルボニル基を含有するもので成立する互変異性平衡である。一般に平衡定数はケト形が優勢であり、平衡は左に偏る。エノール化の程度は溶媒、濃度及び温度によって大きく左右される。強塩基が存在すると、エノール形もケト形も水素イオンプロトンを失ってエノラートアニオンを形成することができる。これらの構造が異なるのは電子の配置だけであるので、これらは互変異性体というよりは同一イオンの別の極限形canonicalformである。酸素は炭素より電気陰性度が高いので、優勢な極限形はイオン電荷が酸素原子に局在化したものである。エノールとケトン又はアルデヒドとの互変異性平衡は通常は予備反応ではないが、本発明の化合物の製造でもそうであるようにケトンとアルデヒドはそれらのエノール形を介して反応することが多いので平衡が生起しなければならない。この化学のさらに詳しい説明については、J.March著,AdvancedOrganicChemistry,JohnWileySons,NewYork1985,66~68頁及び527~529頁並びにその参考文献を参照されたい。本発明の香気放出性シロキサンは、香気オレフィン性シランをアルケニル源として利用する慣用ヒドロシリル化反応によってオルガノハイドロジェンシロキサンから製造され、この反応の一例は次の通りである。この具体例において、MHは式R7R8HSiO1/2を有し、Dは式R10R11SiO2/2を有しており、R7、R8、R10及びR11はメチル基である。このようにオルガノハイドロジェンシロキサンは次式を有する。MfMHgDhDHiTjTHkQl式中、Mは式R7R8R9SiO1/2を有し、MHは式R7R8HSiO1/2を有し、Dは式R10R11SiO2/2を有し、DHは式R10HSiO2/2を有し、Tは式R12SiO3/2を有し、THは式HSiO3/2を有し、Qは式SiO4/2を有しており、R7、R8、R9、R10、R11及びR12は、炭素原子数1~40の一価アルキル又はアルコキシ基及び炭素原子数1~40の一価アリール又はアリールオキシ基からなる群から、M、MH、D、DH及びTの各々について各々独立に選択され、符号g、i又はkの一は1以上であることを条件として、符号f又はgは正数であって符号h、i、j、k又はlの一又はそれ以上は正数である。このオルガノハイドロジェンシロキサンをヒドロシリル化条件下で反応させて、次式の香気放出性シロキサンを生じさせる。MfMFgDhDFiTjTFkQl式中の構成成分及び符号は上記の定義及び要件を満足するものであって、MFは式R7R8RFSiO1/2を有し、DFは式R10RFSiO2/2を有し、TFは式RFSiO3/2を有しており、RFは式R1OaR2ObR3OcR4dR5eSiRUを有しており、RUは原子数2~40の二価炭化水素基であって、符号及び構成成分は上記で定義した通りである。この非揮発性シリコーンはほとんどの使用条件下でゆっくりとした加水分解を受け、当該シリコーンはかくして加水分解により香気性アルコールを放出する。これにより、化粧品及び家庭用品のような数多くの有用な組成物に香りが賦与される。上記ヒドロシリル化反応は、ルテニウム、オスミウム、ロジウム、イリジウム、パラジウム及び白金ヒドロシリル化触媒からなる群から選択されるヒドロシリル化触媒の存在下で慣用法により実施される。かかる触媒の具体例は、米国特許第2823218号、同第3159601号、同第3159662号及び同第3775452号に記載されている。本発明の組成物は、さらに、香気放出性シリコーンが1以上の置換基R1、R2及びR3を有していて、各置換基が、3-メチル-3-3-1-メチルエチルフェニルプロパナール、2-メチル-3-4-t-ブチルフェニルプロパナール、3-フェニルプロピオナール、2-フェニルプロピオナール、プロピオナール、イソブチラール、2-メチルブチラール、ヘキサナール、オクタナール、ノナナール、デカナール、p-トリルアセトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、4-34-メチル-3-ペンテニル-3-シクロヘキセン-カルバルデヒド、2,6-ジメチル-5-ヘプテナール、3,7-ジメチル-2,6-オクタジエナール、trans-4-デセナール、シクラメンアルデヒド、4-p-メトキシフェニル-2-ブタノン、アセトフェノン、2-ペンタノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、2-デカノン、3-ペンテン-2-オン、6-メチル-5-ヘプテン-2-オン、ゲラニルアセトン、イオノン、5-メチル-α-イオノン、2-アセトナフトン、酢酸2-メチル-3-フェニルプロパン-2-イル、酢酸リナリル、酢酸メンタニル、酢酸2-フェニルエチル、酢酸テトラヒドロリナリル、プロピオン酸フェネチル、フェネチルヘキサノエート及び酢酸ブチルからなる香気性アルデヒド、ケトン又はエステルの群から独立に選択され、かくして当該シリコーンの加水分解によって生じる香気性アルデヒド、ケトン又はエステルが上記の香気性アルデヒド、ケトン又はエステルの群から選択される香気放出性シリコーンを提供する。本発明の香気放出性化合物は、パーソナルケア製品に配合して該製品に望ましい長期持続性の香気を賦与するのに特に適している。好適な用途には、特に限定されないが、デオドラント、制汗剤、スキンクリーム、フェイシャルクリーム、ヘアケア製品、例えばシャンプー、ムース、スタイリングジェル、保護クリーム、シェービングクリーム、アフターシェーブローション、オーデコロン、香水、カラーコスメチック、例えば口紅、ファンデーション、頬紅、メーキャップ及びマスカラのほか、別の含ケイ素成分が添加されていてかつ賦香が望まれる化粧品がある。シェービングローション、オーデコロン、化粧水及び香水等の賦香製品に本発明の組成物を少量配合すると、これらの製品に望ましい長期持続性の香気を賦与することができる。さらに、本発明のシランは、不快な臭いを快適な香りでマスクするのが望まれる他の製品、例えば、ワックスや磨き剤のような家庭用洗浄用品、ワックスや磨き剤のような自動車洗浄用品、洗浄剤、衣料用コーティング剤、ペイント、ワニス等にも配合し得る。ただし、本発明のシランが、該シランの配合される製品と相溶性であるか或いは相溶性とすることができることが条件となる。1のエノラートのインシトゥinsitu形成と2からの塩素基の置換によってビニルシラン3を調製した。ヒドリド末端ポリシロキサンへのヒドロシリル化でポリマー4が得られた。加水分解反応ポリマー4を塩基及び酸水溶液中での加水分解に付したが、塩基性条件下NaOHでの2-メチル-3-4-t-ブチルフェニルプロパナール香気部分の放出は表1に示す通り1時間以内に完了した。強酸条件下トリフルオロ酢酸では、放出におよそ1時間かかった。酢酸を用いたより穏和な条件下では、放出は約7時間で完了した。これらの例は時間経過によって香気部分が有効に放出されることを実証している。ジメチルビニルシラン3攪拌棒、温度計、凝縮器及び窒素導入口を備えた100ml三首丸底フラスコに、ジメチルビニルクロロシラン4.1ml、0.030モル、2-メチル-3-4-t-ブチルフェニルプロパナール5.0g、0.024モル、トリエチルアミン及びN,N-ジメチルホルムアミドDMF、20mlを入れて22時間80°Cに加熱し、混合物を100mlのアイソパーCIsoparC,登録商標で希釈し、この混合物を冷重炭酸ナトリウム飽和水溶液で三回、次いで冷1NHCl、次いで重炭酸溶液で洗浄した後、MgSO4で乾燥し、ストリッピングして6.4g90の生成物を得た。ポリマー4の調製ビニルシラン35.0g、0.017モル及びジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体イソプロパノール中の5溶液2mlを65°Cに加熱し、次いでMHD23MH16.0g、0.0086モルを0.5時間にわたってゆっくりと加えた。反応を5.5時間続け、次いで冷却してポリマー4を得た。NaOHによるポリマー4の加水分解上記ポリマー108.1mg、0.045ミリモル及びドデカン内部標準、18.6mg、0.1092ミリモルをTHF2.0gに溶解した後、0.35重量NaOH水溶液0.31gで処理した。GC分析のため時間間隔をおいてアリコートを採取した。表1はポリマーからの2-メチル-3-4-t-ブチルフェニルプロパナールの放出プロフィルのデータを示す。CF3COOHによるポリマー4の加水分解上記ポリマー、すなわちポリマー4102.5mg、0.0427ミリモル及びドデカン内部標準、20.9mg、0.1227ミリモルをTHF2.0gに溶解した後、1.0重量CF3COOH水溶液0.30gで処理した。GC分析のため時間間隔をおいてアリコートを採取した。表1はポリマーからの2-メチル-3-4-t-ブチルフェニルプロパナールの放出プロフィルのデータを示す。CH3COOHによるポリマー4の加水分解上記ポリマー、すなわちポリマー4111.1mg、0.0463ミリモル及びドデカン内部標準、18.8mg、0.110ミリモルをTHF2.0gに溶解した後、0.54重量CH3COOH水溶液0.32gで処理した。GC分析のため時間間隔をおいてアリコートを採取した。表1はポリマーからの2-メチル-3-4-t-ブチルフェニルプロパナールの放出プロフィルのデータを示す。"