"孔の表面を加熱するための方法であって、前記孔の中に磁石シリンダを挿入するステップであって、前記磁石シリンダが、前記孔で受けられるときに前記磁石シリンダの磁界が前記孔の表面まで到達するような大きさの直径を有し、かつ、交互の極を有する領域を画定する、ステップと、渦電流を発生させるために所望の回転速度で前記磁石シリンダを回転させるステップであって、前記渦電流が前記表面の加熱を誘起する、ステップとを含む方法。請求項1に記載の方法において、前記磁石シリンダが、交互の極を有する領域を画定するように磁化されているシリンダで形成される、方法。請求項1に記載の方法において、前記磁石シリンダが、各々がN極およびS極を有する複数の細長い磁石から構成され、前記磁石が、前記磁石の極側が所望の軸方向長さを有するシリンダを形成するように、構成され、また、前記磁石が、前記極が交互になるように前記シリンダ内に配置される、方法。請求項1に記載の方法において、前記磁石シリンダが前記孔の深さに概して等しい長さを有する、方法。請求項1に記載の方法において、前記磁石シリンダが、前記孔の表面が加熱されるところの前記深さに等しい長さを有する、方法。請求項1に記載の方法において、前記表面が加熱されるところの深さを制御するために前記渦電流の周波数を制御するステップをさらに含む、方法。請求項6に記載の方法において、前記渦電流の前記周波数を制御するステップが、前記磁石シリンダの極の数を選択するステップと、所望の速度で前記磁石シリンダを回転させるステップとを含む、方法。請求項7に記載の方法において、前記表面を、浅く加熱を行うために速い回転速度で前記磁石シリンダを回転させるステップと、深く加熱を行うために遅い回転速度で前記磁石シリンダを回転させるステップとをさらに含む、方法。被加工物表面の選択された範囲をスポット加熱するための方法であって、前記方法が、前記選択された範囲に隣接させて磁石ディスクを配置させるステップであって、前記磁石ディスクが、前記磁石ディスクの磁界が前記表面の前記範囲まで到達するような距離で前記選択された範囲から離されて配置され、かつ、交互の極を有する領域を画定する、ステップと、渦電流を発生させるために所望の回転速度で前記磁石ディスクを回転させるステップであって、前記渦電流が前記表面の加熱を誘起する、ステップとを含む方法。請求項9に記載の方法において、前記磁石ディスクが、交互の極を有する前記領域を画定するように磁化されているディスクで形成される、方法。請求項9に記載の方法において、前記磁石ディスクが、各々がN極およびS極を有する複数の細長永久磁石で形成され、前記磁石が、所望の直径を有する円を画定するのに十分な長さを有し、前記磁石が、前記磁石の極側が前記磁石ディスクの下側表面を形成するように、構成され、前記磁石が、前記極が交互になるように前記ディスク内に配置される、方法。請求項9に記載の方法において、前記加熱の深さを制御するために前記ディスクの前記回転速度を変化させるステップをさらに含む、方法。請求項12に記載の方法において、材料をより深く加熱するためにより遅い回転速度で前記ディスクを駆動させるステップと、材料をより浅く加熱するためにより速い回転速度で前記ディスクを駆動させるステップとをさらに含む、方法。孔の表面を加熱するための方法であって、前記孔の中に少なくとも部分的に磁石スタックを挿入するステップであって、前記磁石スタックが、前記孔で受けられるときに前記磁石スタックの磁界が前記孔の表面まで到達するような大きさの直径を有し、かつ、交互の極を有する領域を画定する、ステップと、渦電流を発生させるために所望の速度で前記磁石スタックを前記孔の軸に沿って並進的に往復運動させるステップであって、前記渦電流が前記表面の加熱を誘起する、ステップとを含む方法。請求項1に記載の方法において、前記磁石スタックが、交互の極を有する前記領域を画定するように磁化されている部材で形成される、方法。請求項14に記載の方法において、前記磁石スタックが、各々がN極およびS極を有する複数の磁石で形成され、前記磁石が、前記磁石の磁気的に反発する極側が互いに対向するように、積み重ねられる、方法。請求項16に記載の方法において、前記磁石スタックが複数の環状のディスク形状磁石で形成される、方法。請求項14に記載の方法において、前記孔が貫通孔であり、前記磁石スタックが前記貫通孔の深さより長い軸方向長さを有する、方法。請求項18に記載の方法において、前記磁石スタックが、前記貫通孔の前記深さの3倍以上の長さの軸方向長さを有する、方法。請求項14に記載の方法において、前記表面が加熱されるところの深さを制御するために前記渦電流の周波数を制御するステップをさらに含む、方法。請求項20に記載の方法において、前記渦電流の前記周波数を制御するステップが、前記磁石スタックの極の数を選択するステップと、所望の速度で前記磁石スタックを往復運動させるステップとを含む、方法。請求項14に記載の方法において、前記加熱の深さを制御するために前記磁石スタックの往復運動速度を変化させるステップをさらに含む、方法。請求項22に記載の方法において、材料をより深く加熱するためにより遅い往復運動速度で前記磁石スタックを駆動させるステップと、材料をより浅く加熱するためにより速い往復運動速度で前記磁石スタックを駆動させるステップとをさらに含む、方法。0005回転磁気加熱RotationalMagneticHeatingRMHが、より経済的かつ安全な設備を使用することにより、スポット加熱および孔加熱を行うための従来技術の方法を改善する。RMHは、従来の誘導電源と比較して、より広い範囲でより容易に周波数を変化させることができる。誘導加熱と同様に、RMHは渦電流を発生させるが、可変周波数の電源装置を必要としない。RMHは、火炎加熱と比較して、より安全であり、より環境に優しい。浸炭の場合、熱処理後に機械加工されることになる領域が、炭素拡散が起こるのを防止することおよび軟質を維持することを目的として、塗料で被覆される可能性がある。この塗料は手動で塗布されなければならず、それによりコストが増大する。0006RMHは、孔の表面に対して焼入れ、焼戻し、または別の熱処理を行うのに使用され得る。RMHを介して孔加熱を実現するために、極が交互になるように円筒形に配置される磁石が孔内に配置され得、これらの磁石は駆動装置によって回転され得る。RMHではサイズに対する強さの比strength-to-sizeratioが高いことから、小径孔の内径が加熱されて熱処理され得る。スポット加熱の場合、磁石は環状に配置され、所望の位置の上方にあるかまたは所望の位置に隣接するスピンドルによって回転される。0007高いrpmで磁石を回転させることにより、回転する磁石に極めて接近した位置に配置される強磁性体または正磁性体により渦電流が発生する。渦電流によって発生する熱は、機械加工されるのに適する硬度まで材料を焼きなますのに十分な量である。加熱時間が一定である場合、渦電流の浸透深度は、スピンドルの回転速度speedすなわち、磁石の回転速度によって決定される。回転速度が遅い場合、浸透を深くするのに適する周波数が得られ、回転速度が速い場合、浸透を浅くするのに適する周波数が得られる。0008孔の表面を熱処理するための、RMHの代替案として、交互の極を有する領域を画定する磁石のスタックまたはラミネーションが孔の中で並進的に往復運動されるかまたは振動され得、それにより渦電流を発生させることができ、孔の表面に対して焼入れ、焼戻し、または別の熱処理を行うことができる。0014図面の複数の図を通して、対応する参照符号が使用される。0015以下の詳細な記述は例として本発明を示すものであり、限定するものではない。この記述は、明確に、当業者が本発明を作って使用するのを可能にし、また、本発明を実施するのに現在最良の形態と考えられるものを含めて、本発明のいくつかの実施形態、改変、変更、代替形態および使用法を説明する。さらに、本発明がその用途において、以下の記述に記載されるかまたは図面に示される構成要素の構成および配置の細部のみに限定されないことを理解されたい。本発明は別の実施形態が可能であり、また、様々な方法で実施または実行され得る。また、本明細書で使用される語句および用語が説明することを目的としており、限定するものとして解釈すべきではないことを理解されたい。0016図1は、孔Hの表面HSを加熱するのに使用される加熱デバイス10を概略的に示す。加熱デバイス10は、シャフト14の底部に設置される磁石シリンダ12を備え、シャフト14は駆動装置16に接続される。駆動装置16は、シャフト14および磁石シリンダ12に回転運動を加えることができる電気モータまたは任意の別のタイプの駆動装置であってよい。図2および3に示されるように、磁石シリンダ12は複数の細長い永久磁石Mから構成され、これらの複数の細長い永久磁石Mは各々がN極NおよびS極Sを有する。磁石Mは以下のように構成される:磁石の極側polesideが所望の軸方向長さを有するシリンダを形成し、好適には、磁石Mは孔の深さまたは、孔の表面が加熱されるところの深さに概して等しい長さを有する。さらに、磁石Mは、極が交互でありしたがって交互の極性を有する領域を画定するように、シリンダ12内に配置される。したがって、図2に見られるように、磁石シリンダ12の側部表面は交互の極を有する細長い磁石表面を示す。0017磁石Mは、好適には、1Teslaを超える連続的な磁束密度を与えることができる希土類永久磁石である。示される実施形態は、約1.2T、華氏約540度のキュリー温度のネオジウム-鉄-ボロンNdFeB磁石を使用するが、別の適切な希土類磁石も使用され得る。代替の一実施形態では、セラミック磁石が、2つのNdFeB磁石ごとにその間に一つおきに配置されてよい。NdFeB磁石の向きは一定である。セラミック磁石は電気的に起動され得、NdFeB磁石の極性と反対の磁界を生成することができる。別の実施形態では、磁石シリンダ12は、最初は所望のサイズおよび形状の非磁化シリンダであり、所望の磁性特性を有するように磁化されることにより、形成されてもよくすなわち、所望の領域が交互の極を有する、この所望の磁性特性は磁石Mを使用する場合に得られる磁性特性と同様である。本明細書および添付の特許請求の範囲で使用される磁石シリンダという用語は、複数の個別の磁石から作られるシリンダと、所望の磁性特性を有するように磁化されるシリンダとの両方を含む。0018図4は、被加工物Wの表面WSの選択された範囲を加熱するための加熱デバイス20を概略的に示す。加熱デバイス20は、シャフト24の底部に設置される磁石ディスク22を備え、シャフト24は駆動装置26に接続される。駆動装置26は、シャフト24および磁石シリンダ22に回転運動を加えることができる電気モータまたは任意の別のタイプの駆動装置であってよい。図5に示されるように、磁石ディスク22は複数の細長い永久磁石Mから構成され、これらの複数の細長い永久磁石Mは各々がN極NおよびS極Sを有する。磁石は所望の直径を有する円を画定するのに十分な長さを有する。磁石の長さが短い場合は、形成されるディスクは小さくなり、したがって、加熱される範囲は長い磁石の場合より小さくなる。磁石Mは以下のように構成される:磁石の極側が磁石ディスク22の下側表面を形成する。さらに、磁石Mは、極が交互でありしたがって交互の極を有する領域を画定するように、ディスク22内に配置される。したがって、図5に見られるように、磁石ディスク22の底部表面はディスクを画定する磁石表面を示し、ここでは隣接する磁石の表面が異なる極を有する。別の実施形態では、磁石ディスク22は、最初は所望のサイズおよび形状の非磁化ディスクであり、所望の磁性特性を有するように磁化されることにより、形成されてもよくすなわち、所望の領域が交互の極を有する、この所望の磁性特性は磁石Mを使用する場合に得られる磁性特性と同様である。本明細書および添付の特許請求の範囲で使用される磁石ディスクという用語は、複数の個別の磁石から作られるディスクと、所望の磁性特性を有するように磁化されるディスクとの両方を含む。0019動作中、孔の表面HSを加熱するために、磁石シリンダ12は、孔の直径よりわずかに小さい直径を有し、したがって、孔の表面HSが、磁石Mによって生成される磁界の中に入ることになる。同様に、被加工物表面WSの一範囲をスポット加熱するために、磁石ディスク22が、加熱される表面WSのその範囲に近接して配置され、ディスク22の底部表面が表面WSに対向する。ディスク22は以下のように配置される:ディスク22と被加工物表面WSとの間に隙間ができるが、被加工物表面22が、ディスク22の磁石Mによって生成される磁界の中に入るようになる。いずれのデバイスでも、磁石シリンダ12または磁石ディスク22は駆動装置16、26によって回転される。磁石Mが回転すると渦電流が発生し、表面HS、WSが加熱される。加熱時間が所与の時間である場合、加熱の浸透深度は渦電流の周波数に依存する。さらに、この周波数は、シリンダ12またはディスク22内の極の数と、シリンダ12またはディスク22の回転速度とに依存する。0020周波数Hzと、極の数nPと、回転速度RPMとを等式化する式は、Hz=nPRPM/60である。60という係数はRPMを毎秒当たりの回転RPSに変換するものであり、この回転は電源装置からの電流の周波数と同等の周波数を発生させる。この周波数は極の数および回転速度に正比例する。したがって、磁石シリンダ12または磁石ディスク22の回転速度が低下しても、極の数を増加させることにより同じ周波数を得ることができる。0021RMHでは、しばしばその速度speedが毎分数千回転に制限されるような低価格の一般的な産業用電気モータまたは別の駆動システムを用いる場合であっても、高い磁束周波数が得られる。磁石Mが回転すると、工具部片に極めて接近して配置される強磁性体または正磁性体内で渦電流が発生する。回転速度speedが上がると、加熱される領域が漸進的に浅くなる。スポット表面加熱の文脈では、渦電流により材料内で発生する熱は、機械加工されるのに適する硬度まで材料を焼きなますのに十分な量である。一部の用途では、この加熱は、孔の表面または被加工物の表面を焼きなますのに有用である可能性がある。焼入れquenching後に微小構造を変態させることにより被加工物を硬化することを目的として、被加工物をオーステナイト系の範囲内の温度にするのに、被加工物を誘導加熱することが利用され得る。このように硬化させることは、ねじ山threadを維持することまたは孔の表面の摩耗特性を改善することに有用である可能性がある。0022図6および7は、孔Hの表面HSを加熱するのに使用される加熱デバイス30を概略的に示す。加熱デバイス30は、シャフト34上に設置される永久磁石32のスタックまたはラミネーションを備え、シャフト34は駆動装置36に接続される。駆動装置36は、シャフト34および磁石スタック32を並進的に往復運動させることができるかまたは振動させることができる、リニアアクチュエータ例えば、ソレノイドなどまたは任意の別の駆動装置例えば、ラックピニオン構成、カム/フォロア構成などであってよい。図6および7に示されるように、磁石スタック32は複数の環状のディスク形状永久磁石Mから構成され、これらの複数の永久磁石Mは各々がN極NおよびS極Sを有する。磁石Mは以下のように構成される:1つの磁石のN極が、磁石スタック32内で隣接する磁石のN極に対向する。同様に、1つの磁石のS極は、磁石スタック32内で隣接する磁石のS極に対向する。言い換えると、磁石の磁気的に反発する極側が互いに対向し、それにより交互の極を有する領域が形成され、磁石Mが互いに反発するようになる。磁石Mは、反発する磁石Mを一体に保持するための適切な固定手段を使用して磁石スタック32内で組み立てられる。示される実施形態では、所望の軸方向長さのシリンダを形成することを目的としてシャフト34上において磁石スタック32内で磁石Mを一体に固定するために、止め部材38が設けられる。別の実施形態では、磁石スタック32は、最初は所望のサイズおよび形状の非磁化部材またはシリンダであり、所望の磁性特性を有するように磁化されることにより、形成されてもよくすなわち、交互の極を有する所望の領域、この所望の磁性特性は磁石Mを使用する場合に得られる磁性特性と同様である。本明細書および添付の特許請求の範囲で使用される磁石スタックという用語は、複数の個別の磁石から作られるスタックと、所望の磁性特性を有するように磁化されるスタックとの両方を含む。0023好適には、磁石スタック32は、貫通孔Hの深さまたは、孔の表面が加熱される場所の深さより長い軸方向長さを有する。図6および7に見られるように、孔Hは貫通孔を有し、磁石スタック32は、貫通孔Hの深さの3倍以上の軸方向長さを有する。別の実施形態では、孔は、磁石スタック32が振動することにより熱処理され得る止まり孔blindboreであってもよく、その場合、孔の開口端部に隣接する孔の表面HSの少なくとも一部分が熱処理され得る。0024動作中、加熱デバイス30を使用して孔の表面HSを加熱するために、磁石スタック32は、孔Hの直径よりわずかに小さい外径を有し、したがって、孔の表面HSが、磁石Mによって生成される磁界の中に入ることになる。磁石スタック32は、駆動装置36により、図6および7に示される位置の間で孔の軸に沿うように並進的に往復運動されるかまたは振動される。磁石Mが往復的に並進移動するかまたは振動することにより渦電流が発生し、それにより表面HSが加熱される。加熱時間が所与の時間である場合、加熱の浸透深度は渦電流の周波数に依存する。さらに、この周波数は、磁石スタック32の極の数と、磁石スタック32の往復運動速度または振動速度に依存する。加熱時間が所与の時間である場合、より深い深さまで加熱する場合には往復運動速度が低減されてよく、より浅い深さまで加熱する場合には往復運動速度が上げられてよい。0025図6および7に示される実施形態では、孔Hは約1.16cm0.455インチの直径を有し、磁石スタック32はN42の等級の28個のリング磁石Mを含む。リング磁石Mは、約0.953cm0.375インチの外径と、約0.318cm0.125インチの内径と、約0.159cm0.0625インチの厚さとを有する。これにより、磁石スタック32が一方向において2.54cm1インチ移動する毎に8サイクルが得られ、2.54cm1インチの移動ストローク上方向と下方向との両方毎に16サイクルが得られる。したがって、毎分3,000ストロークの例示の速度では、毎分48,000サイクルすなわち毎秒800サイクルが得られる。別の実施形態では、この特定のリング磁石M、ストローク動程および往復運動速度は、特定の用途に合うように変更され得る。0026本発明の範囲から逸脱することなく上記の構成で様々な変更を行うことができることから、上記の記述に含まれるかまたは添付図面に示されるすべての事項は例示的であると解釈されることを意図され、限定的な意味で解釈されることを意図されない。本発明の種々の特徴が以下の特許請求の範囲に記載される。"