荷電粒子ビームを放出する荷電粒子源を複数備えて回転自在に配設された回転体と、前記回転体を加熱する加熱機構とを有することを特徴とする荷電粒子銃。前記加熱機構は、放射により前記回転体を加熱するものであることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子銃。前記加熱機構は、熱伝導により前記回転体を加熱するものであることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子銃。荷電粒子ビームを放出する荷電粒子源を複数備えて回転自在に配設された回転体を有する電子銃と、前記電子銃の前記回転体を加熱する加熱機構とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。前記加熱機構は、放射および熱伝導のうちのいずれかにより前記回転体を加熱するものであることを特徴とする請求項4に記載の荷電粒子ビーム描画装置。電子ビーム描画装置では、電子ビームリソグラフィ技術による高い描画精度を維持しながら、装置の駆動率を向上させるよう、電子銃の取り付けあるいは交換の後、さらに、電子銃のメンテナンス後において、電子銃のコンディショニング処理ノッキング処理ともいう。や、安定した電子ビームを得るための、所謂ビーム出し処理を施すことが一般的に行われる。例えば、図9に示す電子銃500においては、高電圧が印加されると、電極表面におけるバリや傷等の突起部、塵埃等の付着物などの放電要因に起因した異常放電が発生することがある。この異常放電の発生は、電子ビーム描画装置の加速電源511の動作時に、電圧ドロップを引き起こし、その稼動を停止させることがある。そして、電子ビーム描画の工程で電子ビームが消えてしまい、描画精度が悪化して製品歩留まりの低下を引き起こすと共に、描画装置の稼動停止により稼働率低下を生じさせる。このような異常放電の発生を抑制あるいは防止するために実施される電子銃のコンディショニング方法としては、ガスコンディショニングや真空コンディショニングが知られている。これらは併用されることも多く、電圧の印加によって電子銃のカソードの予備加熱以下、プリヒートとも言うを行った後、ガスコンディショニングと真空コンディショニングとが行われる。ガスコンディショニングは、電子銃内を真空排気した後、放電が比較的に生じ易い所定ガスを電子銃内に導入して、所定の圧力のガス雰囲気を形成し、コンディショニング処理を行うことを特徴とする。ガスとしては、窒素N2ガス等が使用される。ガスコンディショニングの後、電子銃内への窒素ガス供給を絞り、電子銃内が高真空となってから真空コンディショニングが行われる。例えば、図9に示す電子銃500の場合、支持電極507、508間の電圧印加を停止し、電子源504から熱電子の出射を止めたままにする。この状態で、支持電極507、508とウェネルト505とに、それぞれ加速電源511の負電圧を印加する。このとき、アノード506は接地電位に固定する。加速電源511の負電圧の絶対値を、例えば、時間の経過と共に一定の時間間隔で低い印加電圧から高い電圧にステップ状に徐々に増加させ、電子銃500のコンディショニング処理を行う。その後、所定の時間、例えば、10分間程度、所定の最高値の電圧を保持して異常放電の生じないことを確認してから、上記真空コンディショニングを終了する。電子ビーム描画装置においては、電子銃のコンディショニングにより、電極表面の放電要因の除去が行われた後、電子ビームの安定化のための、いわゆるビーム出し処理が行われる。ビーム出し処理では、電圧の印加により、電子銃から実際に電子ビームが放出される。そして、そのまま、放出される電子ビームが安定化するまで、電子ビームの放出状態を維持し、待機をする処理がなされる。このビーム出し処理では、電極に高電圧を印加する高電圧源加速電源の安定化と、電子銃のカソードの安定化が行われている。ビーム出し処理は、通常、数時間程度の待機期間を要しており、電子ビーム描画装置のダウンタイムを長期間化させ、描画装置の稼働効率の低下という問題を招いていた。したがって、電子ビーム描画装置では、ビーム出し処理時間の短縮化が求められている。電子ビームを安定化させ、ビーム出し処理の時間を短縮させるためには、カソードの安定化に要する時間を短縮することが有効であることがわかっている。カソードの安定化には、電子線放出時のカソードの温度の安定が必要となる。すなわち、カソード温度が一定状態となって安定化した時に、カソードから放出される電子ビームも安定化し、カソードの安定化は実現される。ここで、タレット型の電子銃の場合、上述のように、回転体であるバレルに複数のカソードが設けられた構造を有している。そのため、熱容量の大きいバレルの影響を受け、電子ビーム放出時のカソード周囲の温度の安定化は緩慢となる。例えば、カソードの有する電子源の温度は1800°C程度に達するが、バレルは50°C~60°C程度の温度まで徐々に昇温する。その結果、タレット型の電子銃では、シングル型の場合に比べ、カソード温度の安定化により長い時間が必要となる。このカソード温度に対するバレルの影響は、カソードの安定化に影響を与える。ここで、従来、シングル型の電子銃では、カソードの安定化に1時間~2時間程度を要するのに対し、タレット型では、6時間~7時間もの長い時間が必要とされていた。このようなバレルの影響は、タレット型の電子銃においてビーム出し時間を長時間化させる一つの要因となっていた。こうしたことから、タレット型の電子銃では、カソードの安定化に対し、バレルの影響を低減して、ビーム出し処理にかかる時間を短縮することが求められている。本発明は、かかる問題に鑑みてなされてものである。すなわち、本発明の目的は、ビーム出し処理にかかる時間を短縮し、装置のダウンタイムを短くすることができる荷電粒子銃および荷電粒子ビーム描画装置を提供することにある。本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。本発明の第1の態様は、荷電粒子ビームを放出する荷電粒子源を複数備えて回転自在に配設された回転体と、回転体を加熱する加熱機構とを有することを特徴とする荷電粒子銃に関する。本発明の第1の態様において、加熱機構は、放射により回転体を加熱するものであることが好ましい。本発明の第1の態様において、加熱機構は、熱伝導により回転体を加熱するものであることが好ましい。本発明の第2の態様は、荷電粒子ビームを放出する荷電粒子源を複数備えて回転自在に配設された回転体を有する電子銃と、その電子銃の回転体を加熱する加熱機構とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置に関する。本発明の第2の態様において、加熱機構は、放射および熱伝導のうちのいずれかにより回転体を加熱するものであることが好ましい。本発明の第1の態様によれば、荷電粒子ビーム描画装置に用いられ、ビーム出し処理にかかる時間を短縮し、装置のダウンタイムを短くすることができる荷電粒子銃が提供される。本発明の第2の態様によれば、ビーム出し処理にかかる時間を短縮し、装置のダウンタイムを短くすることができる荷電粒子ビーム描画装置が提供される。以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。第1の実施形態図1は、本発明の第1の実施形態の電子銃の正面を一部断面して示す模式的な構造図である。図1に示す電子銃10は、タレット型の電子銃である。電子銃10は、複数のカソード13と、アース電極をもつアノードと、カソード13から出射される電子を収束させるウェネルトとを有する。カソード13はそれぞれ、電子を放出する電子源を有し、後述する図4の電子銃110のカソード113と同様の構成を備える。タレット型の電子銃10では、チャンバ11内に円筒形状の回転体であるバレル12が回転自在に収容され、かつ動力部14に接続された回転軸15と、支持部16によって支持される。バレル12は、ステンレスSUS、Tiチタン、またはMoモリブデンなどの材料を用いて構成される。バレル12の外周面には、開口部18が、円周上にほぼ等間隔に複数個設けられている。例えば、図1に示すように、開口部18を4個設けることができる。開口部18の内部には、電子ビームを放出するカソード13が設けられている。バレル12を支持する支持部16には、カソード13に高電圧を印加するための高圧端子図示されないが設けられている。タレット型の電子銃10では、放電異常や寿命の問題などにより、カソード13の交換が必要となったときには、動力部14および回転軸15を介してバレル12を回転させる。カソード13の下部には、カソード13と対向するようにアノード19が配置されている。したがって、バレル12を回転させることにより、未使用のカソード13を下部のアノード19に対向配置させることができ、使用済みのカソード13と交換することができる。アノード19には、その中心部にカソード13から放出された電子ビームが通過する開口部20が形成されている。このように、バレル12を回転させるだけの簡単な操作により、バレル12に設けた未使用のカソード13と次々に交換することができる。そのため、個々のカソード13の異常発生頻度や寿命が従来と同等であっても、バレル12に設けられた複数のカソード13を全て使用し終わるまで、長期間にわたって電子銃および電子銃を搭載した装置を稼動できる。その結果、電子銃10を用いた電子ビーム描画装置の操業効率を向上させることができる。また、カソード13を交換する際、真空度を高めたチャンバ11を分解する必要がないので、チャンバ11内が外気汚染を受ける機会を低減することができる。本実施形態のタレット型の電子銃10では、チャンバ11内のバレル12の上部に、加熱機構21が設けられている。この加熱機構21は、放射によってバレル12を外部から加熱する装置である。加熱機構21は熱線22を放射してバレル12を加熱する。例えば、加熱機構21は、赤外線を放射する赤外線ハロゲンランプなどを用いて構成することが可能である。そして、所望の設定温度までバレル12を昇温させることができる。尚、電子銃10においては、バレル12の温度を測定するための温度測定機構図示されないが設けられている。この温度測定機構は、例えば、熱電対などを用いて構成することが可能である。このような加熱機構21を設けることにより、電子銃10では、所望の時期に所望の期間、バレル12の温度を所望の設定値にまで昇温させることが可能となる。本実施形態の電子銃10においては、上述のように、電子銃10のコンディショニングにより電極表面の放電要因の除去が行われた後、電子ビームの安定化のためのビーム出し処理が行われる。ビーム出し処理では、電圧の印加により、電子銃10から電子ビームが放出される。そして、電子ビームの放出に伴ってカソード13の温度が安定化し、その結果、電子ビームが安定化するまで、電子ビームの放出状態が維持される。このとき、本実施の形態の電子銃10では、加熱機構21によるバレル12の加熱が可能となっている。これにより、カソード13の電子源図1中、図示されないから発生する熱がバレル12に移動して、カソード13の温度が変動するのを防ぐことができる。また、電子ビーム放出時のカソード13において、熱容量の大きいバレル12の影響を受け、カソード13の温度が安定化するまでに時間がかかるのを防ぐこともできる。すなわち、本実施の形態の構成によれば、カソード13の温度変動を早期に抑制し、カソード13の特性をより早く安定化することができる。その結果、バレル12の影響は低減され、電子銃10のビーム出し処理にかかる時間を短縮することができる。このとき、加熱機構21によるバレル12の加熱方法については、以下に説明する方法を実施することが可能である。例えば、電子銃10では、加熱機構21によりバレル12を加熱するとき、カソード13の電子源図示されないを所望の設定温度で保持した場合に、バレル12が到達する飽和温度Tを加熱機構21の目標温度Tとして固定することができる。そして、その固定された温度Tに到達するよう、所定の期間、一定の出力により加熱機構21を駆動し、バレル12の加熱を行うことが可能である。一方、本実施形態においては、次に述べるような加熱方法を実施することも可能である。図2は、本実施の形態の電子銃において行われるバレルの加熱方法の一例を説明する図である。図2において、横軸は経過時間分を表し、縦軸は温度Kを表している。図2のグラフにおいて、実線は、加熱機構21がバレル12を加熱する際の目標となる、ある時間での加熱機構21による設定温度を示す。破線は、加熱されるバレル12の到達温度を模式的に示している。図2では、加熱機構21によるバレル12の加熱を開始してからの経過時間と加熱機構による設定温度の関係、および経過時間とバレル12の到達温度の関係が示される。図2に示すように、上述のバレル12の目標温度Tより高い温度を、初めに加熱機構21の目標温度として設定することも可能である。そして、より高出力で加熱機構21を駆動させ、より高温状態となるような加熱を開始する。その後、バレル12の到達温度の状況により、加熱機構21による設定温度を適宜上下に変動させて、バレル12の到達温度を所望の目標温度Tに誘導することも可能である。以上の方法を実施することにより、より素早くバレル12の温度を上昇させることが可能となる。そして、カソード13の温度を素早く安定化させ、ビーム出し処理にかかる時間を短縮することが可能となる。尚、こうした目標温度の設定と調整は、加熱機構21を制御する制御装置図示されないにより自動制御により実現することが可能である。次に、本実施の形態の電子銃10では、電子銃10のコンディショニングの前の電子銃10のプリヒートの段階において、加熱機構21によりバレル12を所望の温度に加熱することが可能である。このようなプリヒート段階での加熱により、バレル12から吸着ガスを効率良く取り除くことができる。また、カソード13を加熱することにより発生した吸着ガスがバレル12に吸着するのを防ぐこともできる。すなわち、カソード13の加熱とバレル12の加熱とが可能となり、電子銃10のプリヒートを効率良く行うことができる。そして、次いで行われる電子銃10のガスコンディショニングにおいて、バレル12からの吸着ガス放出の影響を低減することが可能となる。また、図1に示す本実施の形態の電子銃10では、加熱機構21はチャンバ11内のバレル12の上部に設けられている。しかしながら、加熱機構21を設ける位置はこの例のみに限られるわけでは無い。加熱機構21は、チャンバ11内であってバレル12を効率良く加熱でき、放出される電子ビームの妨げとならない位置であれば、いずれの場所に設けることも可能である。例えば、バレル12の側面側にあるチャンバ11の側壁上などに設けることが可能である。第2の実施形態次に、第2の実施形態の電子銃について説明する。図3は、本発明の第2の実施形態の電子銃の正面を一部断面して示す模式的な構造図である。図3に示す電子銃110は、複数のカソード113が搭載されたタレット型の電子銃である。タレット型の電子銃110では、チャンバ111内に円筒形状の回転体であるバレル112が回転自在に収容され、かつ動力部114に接続された回転軸115と、支持部116によって支持される。バレル112は、ステンレスSUS、Tiチタン、またはMoモリブデンなどの材料を用いて構成される。バレル112の外周面には、開口部118が、円周上にほぼ等間隔に複数個設けられている。例えば、開口部118を4個設けることができる。開口部118の内部には、電子ビームを放出するカソード113が設けられている。バレル112を支持する支持部116には、カソード113に高電圧を印加するための高圧端子図示されないが設けられている。本実施形態のタレット型の電子銃110では、バレル112の外周面上、カソード113からの電子ビーム放出の妨げとならない位置に加熱機構121が設けられている。この加熱機構121は、熱の伝導を利用してバレル112を加熱する装置である。そして、加熱機構121は、例えば、発熱線からなり、バレル112の外周面上に巻き付くように配設されている。加熱機構121は、例えば、ニクロム線などを用いて構成することが可能である。加熱機構121に電圧を印加するための端子122は、チャンバ111外部の支持部116の末端部分に設けられている。そして、加熱機構121への電圧印加により、所望の設定温度までバレル112を昇温させることができる。尚、電子銃110においては、バレル112の温度を測定するための温度測定機構図示されないを設けることができる。この温度測定機構は、例えば、熱電対などを用いて構成することが可能である。図4は、本発明の第2の実施形態の電子銃の概略構成を示す図である。図4では、電子銃110の要部構成を模式的に説明している。電子銃110は、図4に示す複数のカソード113が搭載されたタレット型の電子銃である。但し、図4では、便宜上、1つのカソード113のみを用いて説明し、他は省略している。図4に示すように、電子銃110は、電子ビームを放出するカソード113と、アース電極をもつアノード119とを備える。カソード113は、荷電粒子である電子を放出して荷電粒子源となる電子源204を有する。電子源204は、例えば、六硼化ランタンLaB6などからなる。カソード113は、ウェネルト205と、支持電極207、208を支持するベース212とを有する。ウェネルト205は、バイアス電源202の作用により、カソード113に印加する電圧よりも低い電位を与えられて、カソード201から出射される電子を収束させる機能を有する。このため、ウェネルト205は、電子源204から射出される電子ビームが通過する開口部分を有する。この開口部分は、電子ビームを収束させるのに好適な径が選択される。電子源204は、支持電極207と支持電極208に支持される。本実施の形態では、加熱電源203を用いて、支持電極207、208の間に加熱電圧を印加することにより、ヒータ209およびヒータ210によって電子源204を加熱可能な構成となっている。ヒータ209、210を加熱すると、電子源204から熱電子が出射する。そして、この熱電子が、加速電源211からの加速電圧の印加により加速され、カソード113から電子ビームとして放出される。図3に示すように、電子銃110では、カソード113を搭載するバレル112を加熱するための加熱機構121が設けられている。加熱機構121は、例えば、上述のようにニクロム線などから構成され、図4に示すように、加熱電源215による電圧の印加によって発熱し、バレル112を加熱する構成となっている。本実施形態のタレット型の電子銃110では、このような加熱機構121を設けることにより、電子銃110では、所望の時期に所望の期間、バレル112の温度を所望の設定値にまで昇温させることが可能となる。そして、図3に示された、第2の実施形態のタレット型の電子銃110では、上述した第1の実施形態の電子銃10と同様、バレル112の回転が可能である。したがって、放電異常や寿命の問題などにより、カソード113の交換が必要となったときには、動力部114および回転軸115を介してバレル112を回転させる。カソード113の下部には、カソード113と対向するようにアノード119が配置されている。したがって、バレル112を回転させることにより、未使用のカソード113を下部のアノード119に対向配置させることができ、使用済みのカソード113と交換することができる。アノード119には、その中心部にカソード113から放出された電子ビームが通過する開口部120が形成されている。このように、バレル112を回転させるだけの簡単な操作により、バレル112に設けた未使用のカソード113と次々に交換することができる。そのため、個々のカソード113の異常発生頻度や寿命が従来と同等であっても、バレル112に設けられた複数のカソード113を全て使用し終わるまで、長期間にわたって電子銃および電子銃を搭載した装置を稼動できる。その結果、電子銃110を用いた電子ビーム描画装置の操業効率を向上させることができる。また、カソード113を交換する際、真空度を高めたチャンバ111を分解する必要がないので、チャンバ111内が外気汚染を受ける機会を低減することができる。第2の実施形態の電子銃110においては、上述のように、電子銃110のコンディショニングにより電極表面の放電要因の除去が行われた後、電子ビームの安定化のためのビーム出し処理が行われる。ビーム出し処理では、電圧の印加により、電子銃から電子ビームが放出される。この電子ビームの放出に伴って、カソード113の温度が安定化し、その結果、電子ビームが安定化するまで、電子ビームの放出状態が維持される。このとき、本実施の形態の電子銃110では、加熱機構121によるバレル112の加熱が可能となっている。これにより、カソード113の電子源204から発生する熱がバレル112に移動して、カソード113の温度が変動することを防ぐことができる。また、電子ビーム放出時のカソード113において、熱容量の大きいバレル112の影響を受け、カソード113の温度の安定化が遅くなることを防ぐこともできる。すなわち、本実施の形態の構成によれば、カソード113の温度変動を早期に抑制し、カソード113の特性をより早く安定化することができる。その結果、バレル112の影響は低減され、電子銃110のビーム出し処理にかかる時間を短縮することができる。加熱機構121によるバレル112の加熱方法については、カソード113における所望の設定温度を加熱機構121の温度目標として固定し、その固定された設定温度に到達するよう、所定の期間、一定の出力により加熱機構121を駆動し、バレル112の加熱を行うことが可能である。また、上述した第1の実施形態の電子銃10と同様、図3に示す方法に従い、カソード13の電子源を所望の設定温度で保持した場合に、バレル112が到達する飽和温度Tを加熱機構121の温度目標とし設定することも可能である。こうすることにより、より素早くバレル112の温度を上昇させることが可能となり、バレル112の温度を素早く安定化させ、ビーム出し処理にかかる時間を短縮することが可能となる。以上、本発明の第1および第2の実施形態のタレット型の電子銃10、110では、複数のカソードを搭載するバレル12、112を加熱するため、加熱機構21、121を有する。しかし、別の加熱方法により、そうした加熱機構21、121を設けること無く、効率良くタレットを昇温させることも可能である。そして、電子ビーム放出時のカソード13、113において、熱容量の大きいバレル12、112の影響を低減し、カソード13、113の温度の安定化が遅くなることを防ぐことが可能である。第3の実施形態本実施の形態では、実施の形態1や2で述べた加熱機構を利用せずに、バレルを効率良く昇温させて安定化させ、カソードを安定化させる方法について説明する。本実施の形態の電子銃は、第2の実施形態で述べた図3において、加熱機構121を有しない構成とすることができる。以下では、図3を参照して本実施の形態の電子銃について説明する。加熱機構を有しないタレット型電子銃におけるバレルの昇温の様子を図5に示す。尚、図5において、横軸は経過時間分を表し、縦軸は温度Kを表している。また、実線は、電子源の設定温度を示し、破線は、加熱されるバレル112の到達温度を模式的に示している。図3の構成では、図5に示すように、電子源204について目標温度T1を設定し、電子源204がこの温度に到達した後はこれを保持することが考えられる。このとき、設定した温度T1に対応して、カソード113の電子源204から電子ビームが放出され、その結果、バレル112の温度は、長い時間をかけて徐々に上昇した後に飽和状態に達する。これに対して、本実施形態のバレルの加熱方法では、バレルを目標温度に早く到達させるために、電子源の設定温度を目標温度より高くした後第1の工程、追随するバレルの温度に合わせて設定温度を適宜変化させる第2の工程。続いて、設定温度を目標温度に一致させて第3の工程、バレルの温度を目標温度で一定となるようにする。図6は、本実施の形態のバレル112の加熱方法を説明する図である。図6において、横軸は経過時間分を表し、縦軸は温度Kを表している。また、実線は、カソード113の電子源204の設定温度を示す。破線は、バレル112の到達温度が変化する様子を示している。図6に示すように、まず、電子源204を目標温度T1より高い温度に設定する第1の工程。これにより、バレル112は急速に加熱され、急峻に昇温することになる。次に、バレル112の温度に合わせて、電子源204の設定温度を適宜上下に変動させて、バレル112の到達温度が目標温度T2となるように誘導する第2の工程。バレル112の温度が目標温度T2に近付いた後は、電子源204の設定温度を電子源204の目標温度に一致させる第3の工程。以上のようにすることにより、図5に示す場合に比べ、より素早くバレル12の温度を上昇させることが可能となる。その結果、カソード13の温度を素早く安定化させ、ビーム出し処理にかかる時間を短縮することが可能となる。第4の実施形態次に、本発明の第4の実施形態として、第1の実施形態の電子銃10を用いた電子ビーム描画装置100について説明する。図7は、本発明の第4の実施形態の電子ビーム描画装置の構成図である。図7において、電子ビーム描画装置100の試料室31内には、試料であるマスク基板32が設置されたステージ33が設けられている。ステージ33は、ステージ駆動回路34によりX方向紙面における左右方向とY方向紙面における垂直方向に駆動される。ステージ33の移動位置は、レーザ測長計等を用いた位置回路35により測定される。試料室31の上方には、電子ビーム光学系40が設置されている。この光学系40は、上述した第1の実施形態のタレット型の電子銃10、各種レンズ37、38、39、41、42、ブランキング用偏向器43、成形偏向器44、ビーム走査用の主偏向器45、ビーム走査用の副偏向器46、および、2個のビーム成形用アパーチャ47、48等から構成されている。電子ビーム描画装置100の有する電子銃10は、上述した第1の実施形態の電子銃10である。電子銃10は、図1に示すように、複数のカソード13を搭載したバレル12を有するタレット型であり、バレル12を加熱する加熱機構21が設けられている。電子ビーム描画装置100では、タレット型の電子銃10において、加熱機構21によるバレル12の加熱が可能であり、上述のように、電子銃10のプリヒート、コンディショニングおよびビーム出し処理を効率良く短時間で行うことができる。したがって、電子ビーム描画装置100の動作時において、装置のダウンタイムを従来に比べて大幅に短縮することができる。図8は、本発明における電子ビーム描画方法の説明図である。この描画方法は、本発明の第3の実施の形態の電子ビーム描画装置100を使用して実現される。すなわち、図8に示す電子ビーム84は、本実施の形態の電子ビーム描画装置100の電子銃10によって放出された電子ビームである。図8に示すように、マスク基板32上に描画されるパターン81は、短冊状のフレーム領域82に分割されている。電子ビーム描画装置100の電子銃10によって放出される電子ビーム84による描画は、ステージ33が一方向例えば、X方向に連続移動しながら、フレーム領域82毎に行われる。フレーム領域82は、さらに副偏向領域83に分割されており、電子ビーム84は、副偏向領域83内の必要な部分のみを描画する。尚、フレーム領域82は、主偏向器45の偏向幅で決まる短冊状の描画領域であり、副偏向領域83は、副偏向器46の偏向幅で決まる単位描画領域である。副偏向領域83内での電子ビーム84の位置決めは、副偏向器46で行われる。副偏向領域83の位置制御は、主偏向器45によってなされる。すなわち、主偏向器45によって、副偏向領域83の位置決めがされ、副偏向器46によって、副偏向領域83内でのビーム位置が決められる。さらに、成形偏向器44とビーム成形用アパーチャ47、48によって、電子ビーム84の形状と寸法が決められる。そして、ステージ33を一方向に連続移動させながら、副偏向領域83内を描画し、1つの副偏向領域83の描画が終了したら、次の副偏向領域83を描画する。フレーム領域82内の全ての副偏向領域83の描画が終了したら、ステージ33を連続移動させる方向と直交する方向例えば、Y方向にステップ移動させる。その後、同様の処理を繰り返して、フレーム領域82を順次描画して行く。電子ビーム84による描画を行う際には、まず、CADシステムを用いて設計された半導体集積回路などのパターンデータCADデータが、電子ビーム描画装置100に入力することのできる形式のデータレイアウトデータに変換される。次いで、レイアウトデータが変換されて描画データが作成された後、描画データは実際に電子ビーム84がショットされるサイズに分割された後、ショットサイズ毎に描画が行われる。レイアウトデータから変換された描画データは、記憶媒体である入力部51に記録された後、制御計算機50によって読み出され、フレーム領域82毎にパターンメモリ52に一時的に格納される。パターンメモリ52に格納されたフレーム領域82毎のパターンデータ、すなわち、描画位置や描画図形データ等で構成されるフレーム情報は、データ解析部であるパターンデータデコーダ53と描画データデコーダ54に送られる。次いで、これらを介して、副偏向領域偏向量算出部60、ブランキング回路55、ビーム成形器ドライバ56、主偏向器ドライバ57、副偏向器ドライバ58に送られる。また、制御計算機50には、偏向制御部62が接続している。偏向制御部62は、セトリング時間決定部61に接続し、セトリング時間決定部61は、副偏向領域偏向量算出部60に接続し、副偏向領域偏向量算出部60は、パターンデータデコーダ53に接続している。また、偏向制御部62は、ブランキング回路55と、ビーム成形器ドライバ56と、主偏向器ドライバ57と、副偏向器ドライバ58とに接続している。パターンデータデコーダ53からの情報は、ブランキング回路55とビーム成形器ドライバ56に送られる。具体的には、パターンデータデコーダ53で描画データに基づいてブランキングデータが作成され、ブランキング回路55に送られる。また、描画データに基づいて所望とするビーム寸法データも作成されて、副偏向領域偏向量算出部60とビーム成形器ドライバ56に送られる。そして、ビーム成形器ドライバ56から、電子ビーム光学系40の成形偏向器44に所定の偏向信号が印加されて、電子ビーム84の形状と寸法が制御される。副偏向領域偏向量算出部60は、パターンデータデコーダ53で作成したビーム形状データから、副偏向領域83における、1ショット毎の電子ビームの偏向量移動距離を算出する。算出された情報は、セトリング時間決定部61に送られ、副偏向による移動距離に対応したセトリング時間が決定される。セトリング時間決定部61で決定されたセトリング時間は、偏向制御部62へ送られた後、パターンの描画のタイミングを計りながら、偏向制御部62より、ブランキング回路55、ビーム成形器ドライバ56、主偏向器ドライバ57、副偏向器ドライバ58のいずれかに適宜送られる。描画データデコーダ54では、描画データに基づいて副偏向領域83の位置決めデータが作成され、このデータは、主偏向器ドライバ57と副偏向器ドライバ58に送られる。そして、主偏向器ドライバ57から、電子光学系40の主偏向器45に所定の偏向信号が印加されて、電子ビーム84が所定の主偏向位置に偏向走査される。また、副偏向器ドライバ58から、副偏向器46に所定の副偏向信号が印加されて、副偏向領域83内での描画が行われる。この描画は、具体的には、設定されたセトリング時間が経過した後、電子ビーム84を繰り返し照射することによって行われる。尚、第4の実施形態の電子ビーム描画装置100においては、電子銃に本発明の第1の実施形態の電子銃10を使用しているが、第4の実施形態の電子ビーム描画装置の別の例として、電子銃10に代え、本発明の第2に実施形態の電子銃110を使用することが可能である。電子銃110を使用した第4の実施形態の電子ビーム描画装置の別の例においては、タレット型の電子銃110において、加熱機構121によるバレル112の加熱が可能であり、電子銃110のプリヒート、コンディショニングおよびビーム出し処理を効率良く短時間で行うことができる。したがって、電子ビーム描画装置の動作時において、装置のダウンタイムを従来に比べて大幅に短縮することができる。そして、上述したのと同様の電子ビーム描画方法を実施することができる。本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々変形して実施することができる。