"式II:式中、ZはO又はNR5であり、ここでR5は水素又はR-OHであり、ここでRは、アルキル、アリール又はアルカリール連結基であるによって表されるモノマーから誘導される無水マレイン酸タイプの繰り返し単位、及び下記の構造式:式中、nは1~5の整数であり、Wは、H、又はアルキル、エーテル、若しくはケトンであるから選択されるモノマーから誘導される第1のノルボルネンタイプの繰り返し単位を含むポリマー;キャスト溶媒;及び1種類以上の架橋添加剤と組み合わせた光活性化合物又は光酸発生剤;を含む、フィルムを形成するためのポリマー組成物。下記の構造式:から選択されるモノマーから誘導される第2のノルボルネンタイプの繰り返し単位を更に含む、請求項1に記載のポリマー組成物。式IIのモノマーが無水マレイン酸であり、第1のノルボルネンタイプの繰り返し単位が、から誘導される、請求項1又は2に記載のポリマー組成物。第1のノルボルネンタイプの繰り返し単位が、から誘導される、請求項3に記載のポリマー組成物。式IIのモノマーが無水マレイン酸であり、第1のノルボルネンタイプの繰り返し単位が、から誘導される、請求項3に記載のポリマー組成物。第2のノルボルネンタイプの繰り返し単位がから誘導される、請求項3に記載のポリマー組成物。少なくとも1種類の光活性化合物が、式中、D=H又は下記:のいずれかであるから選択される、請求項1又は2に記載のポリマー組成物。光酸発生剤が、から選択され、1種類以上の架橋添加剤が、テトラキスメトキシメチルグリコルリル、3-メタクリルオキシメチル-3-エチルオキセタン、4,4’-ビス[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチル]ビフェニル、ビス[3-エチル-3-オキセタニルメチル]イソフタレート、ヘキサメトキシメチルメラミン、から選択される、請求項1又は2に記載のポリマー組成物。第1のノルボルネンタイプの繰り返し単位が、更に、下記の更なる構造式:式中、m及びnは、独立して、それぞれ0~5の整数であり;Wは、H、又はアルキル、エーテル、若しくはケトンであり;それぞれのR10は、独立して、H、ハロゲン、一価の炭化水素、アルコキシ、アリールオキシ、及び電子吸引基から選択され;それぞれのn及びnは、独立して0~4の整数であるから選択されるモノマーから誘導される、請求項1に記載のポリマー組成物。第2のノルボルネンタイプの繰り返し単位が、更に、下記の更なる構造式:から選択されるモノマーから誘導される、請求項2に記載のポリマー組成物。マイクロエレクトロニクス又はオプトエレクトロニクス基板を請求項7又は8に記載のポリマー組成物で被覆してフィルムを形成し;フィルムを像様露光し;露光したフィルムを塩基水溶液現像剤で処理して画像化フィルムを形成し;そして画像化フィルムを硬化させてマイクロエレクトロニクス又はオプトエレクトロニクス構造物を形成する;ことを含むマイクロエレクトロニクス又はオプトエレクトロニクス構造物を形成する方法。請求項7又は8に記載のポリマー組成物を含む、1MHzにおいて4以下の誘電率を有する自己画像形成性フィルムを形成するためのフィルム形成性組成物。0006本明細書において用いる冠詞a、an、及びtheは、明確に且つ明白に1つの指示物に限定していない限り複数の指示物を含む。0007本明細書及び特許請求の範囲において用いる成分の量、反応条件等を指す全ての数、値、及び/又は表現は、他に示していない限りにおいて、かかる値を得る際に遭遇する測定の種々の不確かさに曝されており、全てのものは全ての場合において用語約によって修飾されているものとして理解される。0008本明細書において数値範囲が開示されている場合には、かかる範囲は連続的であり、範囲の最小値及び最大値の両方、並びにかかる最小値と最大値との間の全ての値を含む。更には、範囲が整数を指す場合には、かかる範囲の最小値と最大値との間の全ての整数が含まれる。更に、特性又は特徴を示すために複数の範囲が与えられている場合には、かかる範囲を組み合わせることができる。即ち、他に示していない限りにおいて、本明細書において開示されている全ての範囲はその中に含まれるありとあらゆる部分範囲を含むと理解すべきである。例えば、1~10の規定されている範囲は、1の最小値と10の最大値との間のありとあらゆる部分範囲を含むと考えるべきである。1~10の範囲の部分範囲の例としては、1~6.1、3.5~7.8、及び5.5~10が挙げられるが、これらに限定されない。0009本明細書において用いるポリマーという用語は、ホモポリマー1つのみのタイプの繰り返し単位を有するポリマー、及びコポリマー1つより多いタイプの繰り返し単位を有するポリマーの両方を包含すると意図される。0010本明細書において用いるポリマー組成物という用語は、少なくとも1種類の合成ポリマー、並びにかかるポリマーの合成に付帯する開始剤、溶媒、又は他の構成成分からの残渣かかる残渣はそれに共有結合で導入されてはいないと理解されるを含むと意図される。ポリマー組成物の一部として考えられるかかる残渣及び他の構成成分は、通常はポリマーと混合されるか又は混じり合わされて、それを容器の間又は溶媒若しくは分散媒体の間で移動させる際にそれと共に残留する傾向がある。ポリマー組成物はまた、ポリマーの合成後にかかる組成物の具体的な特性を与えるか又は変化させるために加えられる物質も含む可能性がある。0011本明細書において用いるヒドロカルビルとは、炭素及び水素原子のみを含む基のラジカルを指し、非限定的な例は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、アルカリール、及びアルケニルである。ハロヒドロカルビルという用語は、少なくとも1つの水素がハロゲンによって置き換えられているヒドロカルビル基を指す。ペルハロカルビルという用語は、全ての水素がハロゲンによって置き換えられているヒドロカルビル基を指す。0012本明細書において用いるアルキルとは、例えば適当なC1~C25基の炭素鎖の長さを有する線状又は分岐の非環式又は環式の飽和炭化水素基を指す。好適なアルキル基の非限定的な例としては、-CH23CH3、-CH24CH3、-CH25CH3、-CH29CH3、-CH223CH3、シクロペンチル、及びシクロヘキシルが挙げられるが、これらに限定されない。0013本明細書において用いるアリールという用語は、限定なしに、フェニル、ビフェニル、ベンジル、キシリル、ナフタレニル、アントラセニルなどのような基をはじめとする芳香族基を指す。0014アルカリール又はアラルキルという用語は、本明細書においては互換的に用いられ、少なくとも1つのアリール基、例えばフェニルで置換されており、適当なC1~C25のアルキル炭素鎖の長さを有する線状又は分岐の非環式アルキル基を指す。上記の非環式アルキル基はハロアルキル又はペルハロアルキル基であってよいことが更に理解されるであろう。0015本明細書において用いるアルケニルという用語は、少なくとも1つの二重結合を有し、適当なC2~C25のアルケニル炭素鎖の長さを有する線状又は分岐の非環式又は環式炭化水素基を指す。非限定的な例としては、中でも、ビニル基、プロピレン、ブテン類などが挙げられる。0016本明細書において用いるヘテロヒドロカルビルという用語は、炭素鎖の少なくとも1つの炭素がN、O、S、Si、又はPで置き換えられている任意の上記記載のヒドロカルビル、ハロヒドロカルビル、及びペルハロヒドロカルビルを指す。非限定的な例としては、ピロリル、フラニルなどのような複素環式芳香族基、並びにエーテル、チオエーテル、及びシリルエーテルのような非芳香族基が挙げられる。アルキロールという用語は、少なくとも1つのヒドロキシル基を含むアルキル基を指す。0017更に、上記記載の任意のヒドロカルビル、ハロヒドロカルビル、ペルハロヒドロカルビル、及びヘテロヒドロカルビル基は、所望の場合には更に置換されていてもよいことが理解される。好適な置換基の非限定的な例としては、中でもヒドロキシル基、ベンジル基、カルボン酸及びカルボン酸エステル基、アミド、及びイミドが挙げられる。0018本発明による幾つかの態様は、下記に規定する少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位、及び式IIにおいて下記に規定する少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位を含むポリマーを包含する。それぞれのタイプの繰り返し単位を、それからかかる繰り返し単位が誘導されるモノマーの観点で下記に規定する。0019ノルボルネンタイプ、ポリシクロオレフィン、及びポリ環式オレフィンという用語は、本明細書においては互換的に用いられ、下記に示す基のような少なくとも1つのノルボルネン基を含むモノマー又は得られる繰り返し単位を指す。0020最も簡単なノルボルネンタイプ又はポリ環式オレフィンモノマーは、通常はノルボルネンと呼ばれる二環式モノマーであるビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エンである。上記に記載したように、ノルボルネンタイプのモノマー又は繰り返し単位という用語は、本明細書においては、ノルボルネンそれ自体、及び1種類又は複数の任意の置換ノルボルネン類、並びに任意の置換及び非置換のそのより高級の環式誘導体を包含するように用いられる。下記に示す式Iはノルボルネンタイプのモノマーの代表例である。0021ここで、mは0~5の範囲の整数であり、R1、R2、R3、及びR4のそれぞれは、独立して、水素、ヒドロカルビル、或いは線状又は分岐カルボン酸エステル、エーテル、第2級又は第3級アルコールのような他の置換基、或いは下記に記載する基A、B、又はC、或いはカルボニル基を表し、但しかかる基は酸に不安定な基ではない。0022本明細書において用いる少なくとも1つのフェノール官能基を有するノルボルネンタイプのモノマー又は繰り返し単位という用語は、少なくとも1つのフェノールタイプの基を含む上記に規定するノルボルネンタイプのモノマー又は繰り返し単位を指すと理解される。本明細書において用いるフェノールタイプの基とは、少なくとも1つのフェノール環を含む基又は置換基を指すと理解される。少なくとも1つのフェノール官能基を有する式Iのノルボルネンタイプのモノマーの非限定的な例としては、R1~R4の少なくとも1つが下記に示す基Lによって表される基である式Iのものなどの、モノマー群DDにおいて下記に示すものが挙げられる。0023本明細書において用いる無水マレイン酸タイプという用語は、下記に示す基のような少なくとも1つの無水マレイン酸タイプの基を含むモノマー又は得られる繰り返し単位を指すと理解される。0024ここで、ZはO又はNR5であり、R5は水素又はR-OHであり、Rは、アルキル、アリール、又はアルカリール連結基である。Rの非限定的な例としては、メチル、エチル、イソプロピル、ベンジル、及びトリルが挙げられるが、これらに限定されない。ZがOである場合には式IIは無水マレイン酸基であり、ZがNR5である場合には式IIはマレイミド基であるが、無水マレイン酸及びマレイミド構造は両方とも類縁体であるので、簡単にするために本明細書においては両方とも無水マレイン酸タイプと呼ぶ。0025本発明による幾つかの態様のために有用なモノマーをここに一般的に記載し、これらを本明細書に与えるモノマー及び置換基構造によって更に記載する。本発明のポリマー組成物の幾つかの態様に関しては、かかる組成物に、少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位、及び少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位を含む単一のポリマーを含ませることができることが留意される。他の態様においては、かかるポリマー組成物には、少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位、少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位、及び下記に示すモノマー群CC及びEEにおけるもののような少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位とは異なる少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位を含む単一のポリマーを含ませることができる。0026更に他の態様においては、ポリマー組成物には、少なくとも2種類のポリマーかかるポリマーの少なくとも1つはホモポリマーであってよいを含む複数のポリマーのブレンドを含ませることができる。かかる複数のポリマーのブレンドにはまた、本明細書に記載する少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位及び少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位を含む少なくとも1種類のポリマー、及び/又は、少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位、少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位、及び少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位とは異なる少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位を含む少なくとも1種類のポリマーを含ませることもできる。0027R1、R2、R3、及びR4のいずれかがヒドロカルビル基である場合には、かかる基は、C1~C30のアルキル、アリール、アラルキル、アルカリール、シクロアルキル、又はアルキルシリル基であってよい。代表的なアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、及びデシルが挙げられるが、これらに限定されない。代表的なシクロアルキル基としては、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びシクロオクチルが挙げられるが、これらに限定されない。代表的なアリール基としては、フェニル、ナフチル、及びアントラセニルが挙げられるが、これらに限定されない。代表的なアラルキル基としては、ベンジル及びフェネチルが挙げられるが、これらに限定されない。更に、上述のヒドロカルビル基は置換されていてよく、即ち水素原子の少なくとも1つが、例えばC1~C10アルキル、ハロアルキル、ペルハロアルキル、アリール、及び/又は1つ又は複数のシクロアルキル基で置き換えられていてもよいことを留意すべきである。0028また、R1~R4の任意の1以上はハロヒドロカルビル基であってもよく、ここでかかる基としては、ヒドロカルビルの水素原子の少なくとも1つで全部よりは少ない数がハロゲンフッ素、塩素、臭素、又はヨウ素によって置き換えられている上述の任意のヒドロカルビルが挙げられる。更に、R1~R4の任意の1以上はペルハロカルビル基であってよく、ここでかかる基としては、ヒドロカルビルの水素原子の全部がハロゲンによって置き換えられている上述の任意のヒドロカルビルが挙げられる。代表的なペルフッ素化置換基としては、ペルフルオロフェニル、ペルフルオロメチル、ペルフルオロエチル、ペルフルオロプロピル、ペルフルオロブチル、及びペルフルオロヘキシルが挙げられるが、これらに限定されない。0029幾つかの態様においては、式Iにしたがうモノマーはペルハロヒドロカルビル基を含んでいてよく、これとしてはペルハロゲン化フェニル及びペルハロゲン化アルキル基を挙げることができる。他の態様においては、ペルフッ素化基としては、ペルフルオロフェニル、ペルフルオロメチル、ペルフルオロエチル、ペルフルオロプロピル、ペルフルオロブチル、及びペルフルオロヘキシルを挙げることができる。ハロゲン置換基に加えて、かかる態様のシクロアルキル、アリール、及びアラルキル基を、任意のC1~C5アルキル、C1~C5ハロアルキル、アリール、及び/又はシクロアルキル基で置換することができる。式Iのノルボルネンタイプのモノマーの非限定的な例としは、モノマー群CC、DD、及びEEにおいて下記に示すものが挙げられ、モノマー群DDは少なくとも1つのフェノール官能基を有するノルボルネンタイプのモノマーを含む。0030幾つかの他の態様においては、式Iにしたがうモノマーはモノマー群EEのノルボルネンタイプのモノマーを含んでいてよく、これとしては中でも5-2-ヒドロキシ-2,2-ビストリフルオロメチルエチル-2-ノルボルネンHFANB、並びに5-ノルボルネン-2-メタノールヒドロキシエチルエーテル、5-ノルボルネン-2-メタノールアセテート、及び5-トリエトキシ-シリルノルボルネンが挙げられる。0031更に他の態様においては、式IにしたがうモノマーのR1~R4の少なくとも1つは、QNHSO2R8基又はQCOO-CH2m-R8基ここで、Qは、1~5炭素存在する可能性がある任意のヘテロ原子を含むの随意的なアルキル又はヘテロアルキルスペーサーであり、mは0~3の範囲端点を含むの整数であり、R8は1~10炭素原子のペルハロ基であるである。0032幾つかの態様においては、式Iによって表されるモノマーのR1~R4の少なくとも1つは、ラジカル式A、B、又はCの1つである。0033ここで、m及びQは上記に定義した通りであり、Qは1~5炭素のアルキルスペーサーである。0034基Aを含む幾つかの態様においては、Qは存在しないか、又は1~3炭素の線状アルキルスペーサーである。他のかかる態様においては、Qは存在しないか又は1炭素原子である。基Cを含む幾つかの態様においては、Qは3又は4炭素のアルキルスペーサーである。基Bを含む幾つかの態様においては、mは1又は2のいずれかである。幾つかの態様においては、式Iにおいて、R1~R4の1つは基Bであり、他のものはそれぞれ水素であり、nは0であり、mは1である。0035少なくとも1つのフェノール官能基を有する式Iによって表されるノルボルネンタイプのモノマーの幾つかの態様に関しては、R1~R4の少なくとも1つは基Lによって表される基である。0036ここで、ラジカル式Dに関し、Aは、存在する場合にはそれぞれ1~6又は4~12個の炭素を有する随意的なアルキル又はシクロアルキル基である。Aが存在していない場合には、1つ又は複数の多環式基はフェノール基を接続する炭素と直接結合しているか、或いはフェノール基は多環式環炭素に直接結合している。それぞれのR10は、独立して、H、ハロゲン、一価の炭化水素、アルコキシ、アリールオキシ、又は電子吸引基、例えば-CN、-NO2、-CF3などから選択され、ここで、かかる一価の炭化水素は、C1~C6アルキル、C6~C12アリール、又はC7~C14アルカリールであり、かかるアルコキシは1~6個の炭素を有し、かかるアリールオキシは6~12個の炭素を有し、それぞれのnは、独立して0~4の範囲の整数である。0037上述したように、式Iによって表されるノルボルネンタイプのモノマーの非限定的な例は、モノマー群CC、DD、及びEEにおいて下記に示すものを含み、ここでモノマー群DDは少なくとも1つのフェノール官能基を有するノルボルネンタイプのモノマーである。0038ここで、モノマー群DDに関して、nは1~5の整数であり;Wは、H、アルキル、エーテル、又はケトンであり;mは式Iに関して上記に定義した通りであり;R10及びnはラジカル式Dに関して上記に定義した通りである。0039上述したように、本発明による幾つかの態様は、少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位、及び少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位を含むポリマー、並びに、かかるポリマーを含むポリマー組成物に関する。かかるポリマー組成物は、半導体のようなマイクロエレクトロニクス、及びオプトエレクトロニクスデバイスの製造において自己画像形成層として有用なフィルムを形成することができる。即ち、化学線に像様露光した場合に、かかる層又はフィルムを現像して、それを通してフィルムを露光した画像を反映するパターンのパターン化されたフィルムを形成することができる。0040このようにして、かかるマイクロエレクトロニクス及び/又はオプトエレクトロニクスデバイスの一部であるか又は一部になる構造物を与えることができる。例えば、かかるフィルムは、液晶ディスプレイにおける平坦化層として、或いはマイクロエレクトロニクスデバイスにおけるバッファー又は再分配層として有用である可能性がある。更に、かかるフィルムはMEMS微小電気機械構造デバイスを形成するために有用である可能性がある。かかる例はかかる自己画像形成性フィルムに関する多くの用途の僅かでしかなく、かかる例は、かかるフィルム、或いはそれを形成するのに用いるポリマー又はポリマー組成物の範囲を限定するようには働かないことが留意される。0041而して、本発明による幾つかの態様は、本明細書に記載するモノマーから誘導される繰り返し単位を含むポリマーを包含し、このポリマーは、当業者に公知の方法を用いる遊離基重合反応によって得ることができる。遊離基重合反応において用いることができる開始剤の非限定的な例としは、例えばアゾ化合物及び有機ペルオキシドが挙げられる。アゾ化合物の非限定的な例としは、アゾビスイソブチロニトリルAIBN、E-ジメチル-2,2’-ジアゼン-1,2-ジイル-ビス2-メチルプロパノエート:AMMP及び1,1’-アゾビスシクロヘキサンカルボニトリルABCNが挙げられる。有機ペルオキシドの非限定的な例としは、過酸化水素、ジ-ttert-ブチルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、及びメチルエチルケトンペルオキシドが挙げられる。0042本発明による幾つかの態様においては、少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位、及び少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位を含むポリマーは、下記に示す式IIIのポリマーである。0043ここで、R1~R4は式Iに関して上記に定義した通りであり、但し、R1、R2、R3、及びR4の少なくとも1つは上記に定義した少なくとも1つのフェノール基を含み、Zは式IIに関して上記に定義した通りであり、r及びsはポリマーIIIにおけるそれぞれの繰り返し単位の数を表す。本発明による幾つかの態様は、モノマー群DD中のモノマーの少なくとも1つから誘導される少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位、及び式IIのモノマーの少なくとも1つから誘導される少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位を含むポリマーを含むポリマー組成物に関する。単一のポリマーを含むポリマー組成物の他の態様においては、ポリマーは、モノマー群DDにおいて示されるモノマーの少なくとも1つから誘導される少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位、式IIのモノマーの少なくとも1つから誘導される少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位、及びモノマー群CC及びモノマー群EEの1つにおいて示されるモノマーの少なくとも1つから誘導される少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位を含む。0044本発明による幾つかの他の態様においては、ポリマーは、下記に示す、2種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位:IVa及びIVc、並びに少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位:IVbを含む式IVによって表される。0045ここで、IVa及びIVbはそれぞれIIIa及びIIIbに関して定義した通りであり、IVcはモノマー群CCにおいて示すモノマーの任意の1つから誘導され、r、s、及びpは、ポリマーIVにおけるそれぞれのタイプの繰り返し単位の数を表す。0046本発明による幾つかの態様は、モノマー群DD中のモノマーの少なくとも1つから誘導される少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位、及び式IIのモノマーの少なくとも1つから誘導される少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位を含む第1のポリマー、並びに第2のポリマーを含むポリマーブレンド組成物に関する。更に、かかるポリマーブレンド組成物には、場合によっては任意の上記記載の複数のモノマー群及び/又は式I若しくは式IIにおいて規定されるもののような少なくとも1種類のモノマーから誘導される少なくとも1種類の繰り返し単位を含む少なくとも1種類のポリマーを更に含ませることができる。0047本発明による幾つかの態様においては、本発明のポリマーブレンド組成物及びポリマー組成物は、少なくとも1種類のキャスト溶媒、及び少なくとも1種類の光活性化合物PACを更に含む。本発明による他の態様においては、ポリマーブレンド組成物及びポリマー組成物は、更に、少なくとも1種類のキャスト溶媒及び少なくとも1種類の光酸発生剤PAGを、少なくとも1種類の架橋添加剤と組み合わせて含む。0048代表的なキャスト溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルPGME、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA、乳酸エチル、メチルイソブチルカルビノールMIBC、γ-ブチロラクトンGBL、及びメチルn-アミルケトンMAK、並びにこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。0049代表的なPACとしては、PAC5570StJeanPhotochemicalsIncQuebecカナダ、SCL6SecantChemicalsIncWinchendonMA米国、及びTS200、TS250、TS300、及び4NT300全てToyoGoseiCoLtd千葉日本からが挙げられるが、これらに限定されない。これらの構造を下記に示す。TS200に関してはDの67はDNQであり、TS250に関してはDの83はDNQであり、TS300に関してはDの100はDNQでありDNQはジアゾナフトキノンを指す、D=H又は下記の1つである。0050代表的なPACとしてはまた、米国特許7,524,594の13欄39行から始まり20欄の集合式9zを通して続く箇所に開示されているPACも挙げられるが、これらに限定されない。‘594特許のかかる部分を参照として本明細書中に包含する。0051幾つかの態様においては、上述したように、本発明のポリマーブレンド組成物及びポリマー組成物にはまた、中でもエポキシド、グリコルリル、及びオキセタンのような少なくとも1種類の架橋添加剤を含ませることもできる。より具体的には、代表的な架橋添加剤としては、下記に示す、テトラキスメトキシメチルグリコルリルPowderlink1174、及び3-メタクリルオキシメチル-3-エチルオキセタンOXMA、4,4’-ビス[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチル]ビフェニルOXBP、並びにビス[3-エチル-3-オキセタニルメチル]イソフタレートOXIPA全てUBEIndustriesLtd日本、Cymel301CYTECINDUSTRIESINCWOODLANDPARKNJ米国の商品名のメチル化メラミンホルムアルデヒドポリマー、並びにビスフェノールAエポキシ樹脂DaisoChemicalCo大阪日本から購入されるLX1からの包括的構造物、エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレートDiacelChemicalIndustries大阪日本から購入されるCEL2021CAS2386870、並びに2,2-ビスヒドロキシメチル-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-2-オキシラニルシクロヘキサンの縮合生成物/3’,4’-エポキシシクロヘキサンメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキシルカルボキシレートの混合物DiacelChemicalIndustries大阪日本から購入されるEHPE3150CAS244772007が挙げられるが、これらに限定されない。0052幾つかの態様においては、本発明のポリマーブレンド組成物及びポリマー組成物は、画像の現像の後に熱的に誘導された架橋を与える少なくとも1種類の熱開始剤及び少なくとも1種類の架橋添加剤を含む。0053幾つかの態様においては、本発明のポリマーブレンド組成物及びポリマー組成物は、少なくとも1種類の光酸発生剤PAGを含み、場合によっては少なくとも1種類の光増感剤を更に含ませることができる。代表的なPAGとしては、p-イソプロピルフェニルp-メチルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートRhodorsil2074RhodiaInc、及びTAG382ToyoInkその構造を下記に与えるが挙げられるが、これらに限定されない。0054また、トリフェニルスルホニウム塩PAG、t-ブチル置換トリフェニルスルホニウム塩PAG、チオ芳香族アシル置換トリフェニルスルホニウム塩PGA、ナフタレン置換スルホニウム塩PAG、チアントレニウム塩PAG、及びビススルホニウム塩PAGも挙げられる。上述の群のそれぞれの代表的なPAGとしては、トリフェニルスルホニウム-1,1,1-トリフルオロ-N-[トリフルオロメチルスルホニル]メタンスルホンアミドTPS-N1、トリフェニルスルホニウムトリス[トリフルオロメチルスルホニル]メタニド、トリフェニルスルホニウム-4,4,5,5,6,6-ヘキサフルオロジヒドロ-4H-1,3,2-ジチアジン-1,1,3,3-テトラオキシドTPS-N3、トリフェニルスルホニウムトリス[トリフルオロメチルスルホニル]メタニドTPS-C1;及び、トリス4-t-ブチルフェニルスルホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリス4-t-ブチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス4-t-ブチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス4-t-ブチルフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホネート、トリス4-t-ブチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート;及び、トリス[4-[4-アセチルフェニルチオ]フェニル]スルホニウム-1,1,1-トリフルオロ-N-[トリフルオロメチルスルホニル]メタンスルホンアミド、トリス[4-[4-アセチルフェニルチオ]フェニル]スルホニウムトリス[トリフルオロメチルスルホニル]メタニドGSID26-1、トリス[4-[4-アセチルフェニルチオ]フェニル]スルホニウム-4,4,5,5,6,6-ヘキサフルオロジヒドロ-4H-1,3,2-ジチアジン-1,1,3,3-テトラオキシド、トリス[4-[4-アセチルフェニルチオ]フェニル]スルホニウムトリス[トリフルオロメチルスルホニル]メタニド;及び、2-4-メトキシナフタレン-1-イル-2-オキソエチルジメチルスルホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートTAG382、2-4-メトキシナフタレン-1-イル-2-オキソエチルジメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、2-4-メトキシナフタレン-1-イル-2-オキソエチルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、2-4-メトキシナフタレン-1-イル-2-オキソエチルジメチルスルホニウムノナフルオロブタンスルホネート;及び、5-フェニルチアントレニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、5-フェニルチアントレニウムヘキサフルオロホスフェート、5-フェニルチアントレニウムヘキサフルオロアンチモネート、5-フェニルチアントレニウムノナフルオロブタンスルホネート、5-フェニルチアントレニウムトリフルオロメタンスルホネート;及び、1,4-フェニレンビス[ジフェニルスルホニウム]テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、1,4-フェニレンビス[ジフェニルスルホニウム]ヘキサフルオロホスフェート、1,4-フェニレンビス[ジフェニルスルホニウム]ヘキサフルオロアンチモネート、1,4-フェニレンビス[ジフェニルスルホニウム]ノナフルオロブタンスルホネート、及び1,4-フェニレンビス[ジフェニルスルホニウム]トリフルオロメタンスルホネート;が挙げられるが、これらに限定されない。0055PAGは一般に広範囲の波長にわたる化学線を吸収し、一方、現在の露光ツールにおいては、限定された範囲の波長又は更には単一の波長が与えられている。したがって、少なくとも1種類のPAGに加えて、少なくとも1種類の光増感剤を本発明のポリマー組成物中に含ませることができ、ここで少なくとも1種類の光増感剤は像様露光のために用いる1つ又は複数の波長において吸収するように選択される。任意の適当な1種類又は複数の光増感剤を用いることができるが、248nmなどの波長における露光のために有用な光増感剤としては、CPTXその構造、名称、及びCAS番号を下記に示すが挙げられる。0056更なる光増感剤としては、中でも9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ジエトキシアントラセン、アントラセン-9-カルボン酸、及び1-クロロ-4-プロポキシチオキサントンが挙げられる。0057本発明の幾つかの態様は、ポリマー組成物のフィルムから形成される少なくとも1つの自己画像形成層を含む、半導体のようなマイクロエレクトロニクス及び/又はオプトエレクトロニクス構造物のような構造物に関する。ポリマーは、モノマー群DD中の少なくとも1種類のモノマーから誘導される少なくとも1つのフェノール官能基を有する少なくとも1種類のノルボルネンタイプの繰り返し単位、及び式IIの少なくとも1種類のモノマーから誘導される少なくとも1種類の無水マレイン酸タイプの繰り返し単位を含む。ポリマー組成物は、少なくとも1種類のキャスト溶媒、及び少なくとも1種類の光活性化合物、或いは少なくとも1種類の光酸発生剤を、少なくとも1種類の架橋添加剤と組み合わせて含む。0058以下の実施例は、全く限定なしに、本明細書に記載するモノマーを製造する方法、モノマーから得られる繰り返し単位を有するポリマーを形成するために本明細書に記載するモノマーを重合する方法、及び自己画像形成性フィルムを形成するためにポリマーを含む組成物を使用する方法を示す。0059本発明の組成物に関し、幾つかの態様はポジティブ型の自己画像形成性フィルムフォトレジスト組成物を与え、幾つかはネガティブ型の自己画像形成性フィルムフォトレジスト組成物を与える。一般に、ネガティブ型のフォトレジスト組成物は、化学線に露光されるフォトレジスト層の部分内において架橋反応を起こす。その結果、レリーフ画像を現像するのに用いる溶液中において、露光された部分は未露光の部分よりもより不溶になる。これに対して、ポジティブ型のフォトレジスト組成物に関しては、フォトレジスト層の露光された部分は、現像剤溶液中において、かかる放射線に露光されていない部分よりもより可溶になる。それぞれの場合において、より可溶性の部分が洗い流される。0060この差によって、以下の実施例において示すように、少なくとも1種類のPAGを少なくとも1種類の架橋添加剤と組み合わせてネガティブ型のフォトレジスト組成物に加えて、得られるフィルム又は層の露光部分の不溶性を増加させることができる。一方で、少なくとも1種類のPACをポジティブ型のフォトレジスト組成物に加えることができる。フォトレジスト組成物のフィルム又は層の一部を適当な化学線に露光すると、少なくとも1種類のPACがカルボン酸を生成し、これによって、露光された部分のアルカリ水溶液中での溶解度が、フィルム又は層の任意の1つ又は複数の未露光の部分と比べて向上する。0061以下の実験データを示すにあたって、モノマー及び触媒の命名を簡単にするために略号を用いる。下記の略号のリストは、それぞれの略号を適当な名称と適合させている。更に、与えられている実験データは本発明の幾つかの態様の範囲を限定するものではないことが留意される。そうではなく、かかるデータは、本発明による代表的なポリマー及び組成物の態様を形成し、及びかかる態様の有用性を示すために有用なモノマーの製造を単に示すものである。A.モノマーの合成:実施例A1:NBPhOAcの合成:0062適当な寸法の適当に装備された反応容器に、1750gのジシクロペンタジエン、2147gのp-アセトキシスチレン、及び64gのフェノチアジンを充填した。撹拌を開始し、次に反応器から空気を排気し、窒素で5psigに加圧した。160°Cへの加熱を開始し、反応器を160°Cにおいて6時間保持した。次に、反応器を雰囲気温度に冷却し、反応混合物を反応器から取り出し、蒸留110~120ミリトル、ポット温度113~114°Cして、1227gの純度99GCのNBPhOAcを与えた。実施例A2:NBMMPAの合成:0063適当な寸法の適当に装備された反応容器に、900g6.8モルのジシクロペンタジエン、及び11.2kg約98の純度、54.5モルのオイゲニルアセテートを充填した。次に、撹拌を開始し、撹拌しながら窒素で3回フラッシングした。反応を3時間かけて200°Cにし、一方で圧力を23psigに上昇させた。その温度になったら、反応混合物を200°Cにおいて6時間撹拌し、その間においては圧力は12~23psiの範囲であった。次に、一晩かけて反応を室温に冷却した。GC分析は、生成物混合物が72.6のオイゲニルアセテート、0.1のDCPD、25.8のNBMMPA、及び0.2の4-NBCH2C6H3-2-OMe,4-OHを含んでいたことを示した。反応器から回収された全重量は約12kgであった。0064回収された物質を、6インチのVigereauxカラム及び蒸留ヘッドを通して高真空下で蒸留して、過剰のオイゲニルアセテートのバルクを取り出した。580.3gのオイゲニルアセテートを取り出した後、6インチのVigereauxカラムを取り外し、蒸留ヘッドを直接接続した。合計で8855.5gのオイゲニルアセテートが回収された。0065約2.1kgのポット残渣を高真空下で更に蒸留し、約0.85kgのNBMMPAGCによって分析して90面積より大きかったを得た。次に、この物質を、撹拌ガラスフラスコ内において、0.6kgの無水酢酸及び0.4kgのテトラヒドロフランを用いてアセチル化し、ここではフラスコを81°Cに加熱し、この温度において7時間保持した。この反応混合物を蒸留し、GCによって97面積より大きい純度を有する0.15kgのNBMMPAを回収した。実施例A3:NBPhOHの合成:0066適当な寸法の適当に装備された反応容器に、100gのNBPhOAc及び150gのTHFを充填し、反応混合物を、5psigに加圧した窒素雰囲気下において撹拌しながら60°Cに加熱した。次に、263gの20水酸化ナトリウム水溶液を1時間かけて滴加し、反応混合物をこの温度において更に4時間撹拌した後、131gの酢酸を滴加することによって溶液を酸性化した。次に、混合物を冷却し、分別漏斗に移し、200mLの酢酸エチルで希釈し、次に200mLの水で5回洗浄した。次に、溶媒をロータリーエバポレーターで蒸発させることによって除去した。得られた結晶を100gのヘキサンで洗浄し、次に400mLの1:1のトルエン:ヘキサン溶液から再結晶させた。収量は44.8g55.1のNBPhOAcであった。実施例A4:NBMMPhOHの合成:0067適当な寸法の適当に装備された反応容器に、50gのNBMMPA、及び50gのTHFを充填し、撹拌しながら70°Cに加熱した。次に、310gの10水酸化カリウム水溶液を1時間かけて加え、次に混合物を更に2時間反応させた後、33gの酢酸を滴加することによって酸性化した。次に、混合物を冷却し、分別漏斗に移し、50mLの酢酸エチルで希釈し、次に200mLの水で3回洗浄した。次に、溶媒をロータリーエバポレーターで蒸発させることによって除去した。得られた液体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで蒸発させることによって除去して、白色の固体を得た。収量は31.0g62のNBMMPhOHであった。実施例A5:NBMCOPhOAcの合成:0068適当な寸法の適当に装備された反応容器に、700mLのテトラヒドロフランTHF、無水中のLiBr237.7g、2.74モルを充填して明澄な溶液を与えた。次に、122.6gのCuCN1.37モル及び1.5LのTHF無水を加え、反応混合物を撹拌しながら-20°Cに冷却した。滴下漏斗にNBCH2ZnBr1574.1mL、1.3モル、THF中21.0重量を充填し、反応混合物に45分間かけてゆっくりと加えた。添加中は、温度は-20~-40°Cの間で変動した。暗緑がかった褐色の溶液が得られ、反応混合物を2時間かけて0°Cに加温した。反応混合物を再び-25°Cに冷却し、4-アセトキシベンゾイルクロリド236.4g、1.19モルを、カニューラを通してニートで加え、-25°C~-5°Cにおいて20分間かけて200mLのTHFですすいで緑がかった褐色のスラリーを与えた。次に、反応混合物をゆっくりと室温に加温し、次に室温において更に2時間撹拌した。アリコートを9:1飽和NH4Cl:NH4OH濃でクエンチし、メチル-tert-ブチルエーテルMTBEで抽出した。LCMS分析によって87.6の生成物及び4.62のノルボルナン副生成物が示され、これは反応が完了したことを示した。4Lの9:1飽和NH4Cl:NH4OH濃を反応混合物に加え、6LのMTBEで希釈すると、灰色の沈殿物が観察された。沈殿物を濾過し、相を分離し、水性相を2×2LのMTBEで抽出した。有機相を合わせて、2×2Lの飽和NH4Cl:NH4OH濃9:1、次に3×2Lの食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ロータリーエバポレーターで蒸発させ、高真空下、65°Cの浴温において更に乾燥して、264.3gの粗生成物を明黄色のペースト状物として与えた。0069粗生成物を500mLのCH2Cl2中に溶解し、265gのシリカゲル上に吸着させた。高真空下でCH2Cl2を除去し、粗生成物を、2.5kgのシリカゲル上において、ヘプタン20L、ヘプタン20L中1酢酸エチルEtOAc、ヘプタン20L中2EtOAc、ペンタン5L中3EtOAc、ペンタン8L中4EtOAc、ペンタン8L中5EtOAc、ペンタン4L中6EtOAc、ペンタン8L中7EtOAc、ペンタン8L中8EtOAc、ヘプタン8L中9EtOAc、ヘプタン4L中10EtOAcで溶出してクロマトグラフィーにかけた。精製したフラクションを濃縮して、213.8g66.4の生成物をGCによって98.08の純度を有する明澄な粘稠質の油状物として得た。実施例A6:NBMCOPhOHの合成:0070適当な寸法の適当に装備された反応容器に、7gのNBCH2COPhOAc、30mLのメタノール、及び1gのAmberlyst15を充填した。この混合物を、窒素雰囲気中において、撹拌しながら40°Cに24時間加熱した。反応混合物を15mLのテトラヒドロフランで希釈した後、1ミクロンのナイロンフィルターを用いて得られた溶液を濾過した。濾液を濃縮して、6gの得られたモノマーを95の収率で得た。1H-NMR及びFT-IRのデータは所望の構造と合致していた。B.ポリマー合成実施例:0071以下のようにして溶解速度DRの測定を行った。クリーンルーム内において、ポリマー溶液通常はPGMEA中20重量のポリマーを、4インチの熱酸化物被覆ウエハ上に500rpmにおいて10秒間、次に2000rpmに60秒間上昇させてスピンコートした。次に、ウエハを100°Cにおいて60秒間ソフトベークした。ThicknessDetectionSolutionsのDRM420L溶解速度モニターを用いて、干渉法によって0.26Nのテトラメチルアンモニウムヒドロキシド中でのフィルムの溶解速度を測定した。これは、実際にはフィルム厚さの差を、その差を達成するのに必要な時間で割ったものである。実施例B1、B2、及びB3:NBPhOHとMAH、及びNBMMPhOHとMAHの重合:0072実施例B1、B2、及びB3のそれぞれに関し、適当な寸法の適当に装備された反応容器に、モノマー、AIBN開始剤、及び溶媒を充填した。反応容器を密閉し、混合物に窒素を30分間散布した。次に、混合物を撹拌しながら70°Cに加熱し、その温度に24時間保持した。冷却した後、反応混合物をヘキサン500mL中に注ぎ入れてポリマーを沈殿させた。ポリマー固体を回収し、70°Cの真空オーブン内において一晩乾燥した。B1~B3のそれぞれに関して、加えたモノマー及びAIBN開始剤、並びにそれらの量ミリモル、加えた溶媒の量g、ポリマーの収率、及びMwを表1に報告する。実施例B4~B7:NBPhOH及びMAHとNBTON及びDecNBの重合:0073実施例B4、B5、B6、及びB7のそれぞれに関し、適当な寸法の適当に装備された反応容器に、下表2に示す示された量のモノマー、AIBN開始剤、及び溶媒を充填した。反応容器を密閉し、反応混合物に窒素を30分間散布した。次に、混合物を撹拌しながら65°Cにおいて24時間加熱した。冷却した後、ポリマーを沈殿させるために、溶液を過剰のヘキサンポリマー溶液の約10~50倍の体積中に注ぎ入れた。実施例B6及びB7に関しては、沈殿したポリマー固体をTHF30重量のポリマー溶液を形成するのに十分な量中に溶解し、過剰のヘキサンによる沈殿手順を更に2回繰り返した。全てのポリマーを濾過し、80°Cの真空オーブン内において一晩乾燥した。それぞれのポリマーの分子量Mw及び水性アルカリ現像剤0.26N-TMAH中での溶解速度DRを求めた。それぞれの実施例に関し、表2に、それぞれのモノマー及び開始剤の量ミリモル、並びに溶媒の量gを報告する。DRは1秒あたりのナノメートルnm/秒で、収率は充填した1種類又は複数のモノマーの全量を基準とする収率として報告する。0074表2のデータは、第3の非フェノール繰り返し単位をNBPhOH/MAHポリマーB4に付加すると、溶解速度が減少し、ポリマーの収率が増加することを示す。それぞれの場合において、第3のNBタイプの繰り返し単位の性質は、重合中に加える第3のモノマーの量よりも大きなファクターであると思われる。而して、10モルのDecNBB5を基ポリマーB4に付加することは、10モルのNBTONB7を付加することよりもDRに対してより大きな影響を有することが分かる。理論に縛られることは望まないが、この結果は、NBTON繰り返し単位はDecNB繰り返し単位と比べてより極性が高く、このためにB7ポリマーの塩基水溶液溶解度の減少が、DecNB繰り返し単位によるポリマーB5の塩基水溶液溶解度の減少よりも少ないためであると考えられる。実施例B8及びB9:NBPhOHとMAHの重合:0075B8及びB9のそれぞれに関し、適当な寸法の適当に装備された反応容器に、モノマー、AMMP開始剤、及び溶媒を充填した。B8に関しては、1.86g10ミリモルのNBPhOH、0.98g10ミリモルのMAH、0.15g0.67ミリモルのAMMP、及び2.68gの酢酸エチルを充填し;B9に関しては、2.33g12.5ミリモルのNBPhOH、1.23g12.5ミリモルのMAH、0.29g1.25ミリモルのAMMP、及び3.27gの酢酸エチルを充填した。充填の後、それぞれの反応容器を密閉し、反応容器に窒素を30分間散布した。次に、それぞれの混合物を撹拌しながら70°Cに加熱し、その温度に24時間保持した。B8に関しては、3100のMwを有するポリマーへの42の転化率が得られた。B9に関しては、1600のMwを有するポリマーへの68の転化率が得られた。而して、B9においてモノマーに対する開始剤の比をB8と比べて増加させることによってポリマーへの転化率が大きく増加したが、B9ポリマーのMwはB8ポリマーのMwの約1/2であった。実施例B10:開始剤のバッチ転化を用いるNBPhOHとMAHの重合:0076適当な寸法の適当に装備された反応容器に、14g75ミリモルのNBPhOH、7.35g75ミリモルのMAH、及び21gの酢酸エチルを充填した。混合物に窒素を30秒間散布した後、反応混合物を撹拌しながら80°Cに加熱した。AMMP開始剤の複数の部分0.34g、1.48ミリモルを5回のバッチで25時間かけて加えたAMMP添加スケジュール:0時間、16時間、19時間、22時間、25時間。反応混合物に加えた開始剤の合計量は1.70g:7.40ミリモルであった。2800のMwを有するポリマーへの転化率は、最後の開始剤添加の後に反応容器から取り出したアリコートから求めて68であった。分かるように、B10のポリマーへの転化率はB9のものと同程度であり、一方、得られたMwはB8と同程度であった。実施例B11:開始剤のバッチ添加を用いるNBPhOHとMAHの重合:0077AMMP開始剤の6つの部分を41時間かけて反応混合物に加えた0時間、16時間、19時間、22時間、25時間、41時間他は、実施例B10の重合を繰り返した。反応混合物に加えた開始剤の合計量は2.04g:8.88ミリモルであった。開始剤の添加が完了した後、反応混合物を加熱し、更に6時間撹拌した。冷却した後、ポリマーを沈殿させるために反応混合物を過剰のヘキサン中に注ぎ入れ、次に固体を回収した。この沈殿手順を2回繰り返した後、ポリマー固体を合わせて、80°Cの真空オーブン内で20時間乾燥して10g収率47の乾燥粉末を得た。最終生成物に関するGPC分析によるMwは3000であった。実施例B12及びb13:それぞれPhNBとMAH及びPENBとMAHの重合:0078適当な寸法の適当に装備された反応容器に、表3に示す量のモノマー、AIBN開始剤、及び溶媒を充填した。容器を密閉し、混合物に窒素を30分間散布した。次に、混合物を撹拌しながら70°Cに加熱し、その温度に20~24時間保持した。反応容器からアリコートを取り出して、Mw及びポリマーへのモノマーの転化率を求めた。表3におけるデータから分かるように、エチレンスペーサーが導入されたフェニル置換NBPENBによって、より高いMw及び転化率の両方を有するポリマーが得られた。それぞれの実施例に関し、表3にそれぞれのモノマー及び開始剤の量ミリモル、並びに溶媒の量gを報告する。転化率は、反応容器に充填した1種類又は複数のモノマーの全量を基準とするとして報告する。実施例B14、B15、及びB16:第3の繰り返し単位としてPENBを用いるNBMCOPhOHとMAHの重合:0079適当な寸法の適当に装備された反応容器に、表4に示す量のモノマーNBMCOPhOH、PENB、MAH、AMMP開始剤、及び溶媒を充填した。反応容器を密閉し、反応混合物に窒素を30分間散布した。次に、混合物を撹拌しながら70°Cに加熱し、その温度に20時間保持した。冷却した後、ポリマーを沈殿させるために溶液を過剰のヘキサン中に注ぎ入れ、次に固体を回収した。ポリマーを濾過し、70~80°Cの真空オーブン内で20時間乾燥した。1H-NMR分光法を用いて、実施例B16のポリマーの組成物が、42/8/50のモル比のNBPhOH/PENB/MAであることが求められた。水性アルカリ現像剤0.26N-TMAH中でのポリマーの溶解速度DRを求めた。分かるように、3種類のポリマーの収率及びMwは同等であったが、8モルのPENBを加えることは、B14及びB15のポリマーと比べてDRを劇的に減少させるのに有効であった。また、ポリマーB14及びB15のDRは、ここで報告する他のいずれのポリマーよりも遙かに高いことも分かる。理論に縛られることは望まないが、フェノールをノルボルネンタイプの基に橋架するアセチル基が、フェノール水素に活性化を与えて、それによってその酸性度が増加するように働くと考えられる。C.画像形成実施例:0080以下の非限定的な実施例は、本発明による組成物の幾つかの態様、並びに対照の従来公知の組成物であるポリp-ヒドロキシスチレンPHSを用いた画像形成を示す。0081下記の画像形成実施例において用いたスピンプロトコルは、下記の4つのカテゴリーの1つに分類された:A500rpm/10秒及び2000rpm/60秒;B300rpm/3秒及び800rpm/20秒;C300rpm/3秒及び600rpm/20秒;D300rpm/3秒及び2000rpm/20秒;E500rpm/10秒及び1000rpm/30秒;並びにF500rpm/30~40秒。0082画像形成実施例のそれぞれは、130°Cの温度において2分間A法;110°Cの温度において100秒間B法;或いは100°Cにおいて1分間C法;のいずれかで行った適用後焼成PAB工程を含んでいた。0083現像は、浸漬及びパドルなどの種々の方法で行うことができる。パドル現像を用いた場合には、フィルムを現像剤のパドルによって種々の時間t覆った後にすすいだA/tsec法。浸漬現像を用いた場合には、フィルムを支持する基板を現像剤中に90秒間B法又は30秒間C法浸漬し、その後に基板及びフィルムをすすいだ。0084表4における実施例C1~C8に関して行った画像形成の評価を示す際には、ポリマーをPGMEA中に溶解し、上述のスピンプロトコルの1つを用いてウエハに施し、次に3種類のPAB法の1つを行い、露光した後に3種類の現像法の1つを行った。これらの方法のそれぞれは、上記に示すそれぞれに関する同定コードを用いて呼んだ。更に、ポリマー、PGMEA、PAC、PAG、及び架橋剤CLの量をグラムgで報告し、露光量EXDこれは、試料を露光するのに用いた広帯域Hg蒸気光源のエネルギー及びその露光の時間の両方を反映するをmJ/cm2で報告し;°C/秒で報告する露光後焼成PEBは示されている温度における全時間を反映する。更に、PACを用いる場合には、TrisP23M6C2201を用い;PAGを用いる場合には、等量のTAG382及び架橋剤CLPowderLink1174の両方を用いた。実施例C1~C8:画像形成:0085画像形成実施例C1~C8に関して用いたポリマー組成物を形成するのに用いた実際の量、並びにかかる画像の視認評価を下表5に要約する。0086C1に関しては、実施例B1におけるポリマー及びTrisP23M6C2201を用いてポジティブ型のポリマー組成物を形成した。適用後焼成PABの後、フィルム厚さは6.78μmであり、0.26N-TMAH中で現像した後の未露光領域におけるフィルム厚さは6.70μmであった。0087C2に関しては、実施例B2におけるポリマー、TAG382、及びPowderlink1174を用いてネガティブ型のポリマー組成物を形成した。PABの後、フィルム厚さは0.94μmであり、0.26N-TMAH中で現像した後の露光領域におけるフィルム厚さは0.87μmであった。0088C3に関しては、実施例B3におけるポリマー及びTrisP23M6C2201を用いてポジティブ型のポリマー組成物を形成した。PABの後、フィルム厚さは1.49μmであり、0.26N-TMAH中で現像した後の未露光領域におけるフィルム厚さは1.45μmであった。0089C4は、従来公知のポリp-ヒドロキシスチレンMw=10,800、Mw/Mn=1.89、Aldrich及びTrisP23M6C2201を用いてポジティブ型のポリマー組成物を形成して調製した比較例である。PABの後、フィルム厚さは1.41μmであり、0.26N-TMAH中で現像した後の未露光領域におけるフィルム厚さは1.17μmであった。0090C5に関しては、実施例B11におけるポリマー、TAG382、及びPowderlink1174を用いてネガティブ型のポリマー組成物を形成した。PABの後、フィルム厚さは2.49μmであり、0.26N-TMAH中で現像した後の露光領域におけるフィルム厚さも2.49μmであった。0091C6に関しては、実施例B15におけるポリマー、TAG382、及びPowderlink1174を用いてネガティブ型のポリマー組成物を形成した。PABの後、フィルム厚さは2.31μmであり、0.26N-TMAH中で現像した後の露光領域におけるフィルム厚さは2.19μmであった。0092C7に関しては、実施例B6におけるポリマー、TAG382、及びPowderlink1174を用いてネガティブ型のポリマー組成物を形成した。PABの後、フィルム厚さは3.41μmであり、0.26N-TMAH中で現像した後の露光領域におけるフィルム厚さも2.87μmであった。0093C8に関しては、実施例B7におけるポリマー、TAG382、及びPowderlink1174を用いてネガティブ型のポリマー組成物を形成した。PABの後、フィルム厚さは2.51μmであり、0.26N-TMAH中で現像した後の露光領域におけるフィルム厚さも2.49μmであった。誘電率:0094実施例B1からのポリマー及びPHS対照試料の誘電率を両方とも測定した。実施例B1a及びB1b:0095実施例B1からのポリマーに関して、第1のポリマー試料をPGMEAポリマーを基準として400中に、TrisP23M6C2201ポリマーを基準として25、ToyoGoseiから及びCEL2021ポリマーを基準として20と共に溶解し;第2のポリマー試料をPGMEAポリマーを基準として400中に、TrisP23M6C2201ポリマーを基準として25、ToyoGoseiから及びTechmoreVG3101L-MitsuiChemicalIncポリマーを基準として20と共に溶解することによって2種類のポリマー組成物B1a及びB1bを調製した。次に、2種類の組成物のそれぞれを、アルミニウムプレート厚さ200μm、100mm×100mm上に300rpmにおいて3秒間及び800rpmにおいて20秒間スピンコートし、110°Cにおいて100秒間ソフトベークして、約3ミクロンのポリマーフィルムを与えた。次に、広帯域Hg蒸気光源を有するマスクアライナーを用いて、フィルムを500mJ/cm2において露光した。露光した後、ウエハを窒素雰囲気下において220°Cで60分間露光後焼成して、硬化フィルムを得た。比較例PHS1a及びPHS1b:0096PHSMw=10,800、Mw/Mn=1.89、Aldrichに関して、第1のPHS試料をPGMEAポリマーを基準として500中に、TrisP23M6C2201ポリマーを基準として25、ToyoGoseiから及びCEL2021ポリマーを基準として20と共に溶解し;第2のPHS試料をPGMEAポリマーを基準として500中に、TrisP23M6C2201ポリマーを基準として25、ToyoGoseiから及びTechmoreVG3101L-MitsuiChemicalIncポリマーを基準として20と共に溶解することによって2種類のポリマー組成物PHS1a及びPHS1bを調製した。2種類の組成物のそれぞれを、アルミニウムプレート厚さ200μm、100mm×100mm上に300rpmにおいて3秒間及び800rpmにおいて20秒間スピンコートし、110°Cにおいて100秒間ソフトベークして、約3ミクロンのポリマーフィルムを与え、次に、広帯域Hg蒸気光源g、h、及びi帯域を有するマスクアライナーを用いて500mJ/cm2において露光した。露光した後、ウエハを窒素雰囲気下において220°Cで60分間露光後焼成して、硬化フィルムを得た0097JIS-K6911日本工業標準規格の方法にしたがって、4種類のフィルムのそれぞれの誘電率を測定した。フィルム厚さは、DainipponScreenMFGCOLTDのLambdaaceVM1020を用いることによって測定した。これらの測定からのデータを下表6に与える。0098ここまでで、本発明によるポリマー組成物の幾つかの態様は、PHSポリマーフィルムのものよりも低い誘電率を有するフィルムを形成することができ、容易に画像形成して5ミクロン以下の画像が与えられるポジティブ型及びネガティブ型の両方の組成物を包含することが認識される。かかるポリマー組成物は、ノルボルネンタイプの繰り返し単位及びマレイン酸タイプの繰り返し単位の両方を含み、一般的に広範囲の分子量、溶解速度、並びにポジティブ型及びネガティブ型の両方に関して0.26N-TMAH溶液で現像している間の大きなフィルム損失を有して形成することができる。"