"炭化ケイ素を製造するためのポリシランであって、下記式1で表されるユニットを少なくとも含み、ポリシランを構成する炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Siが3以下であるポリシランただし、メチルシリン-メチルシラン共重合体を除く。式中、R1は水素原子又は炭化水素基を示す。式1において、R1が異なる複数のユニットを含む請求項1記載のポリシラン。式1で表されるユニットが、下記式1aで表されるユニットと、下記式1bで表されるユニットとを含む請求項1又は2記載のポリシラン。式中、R1aは、水素原子又はメチル基以外の炭化水素基を示す。式1bにおいて、R1aがC2-4アルキル基である請求項3記載のポリシラン。式1aで表されるユニットと、式1bで表されるユニットとの割合が、前者/後者モル比=5/95~95/5である請求項3又は4記載のポリシラン。ポリシラン全体に対する式1で表されるユニットの割合が、ケイ素原子換算で50モル以上である請求項1~5のいずれかに記載のポリシラン。さらに、下記式2で表されるユニットを含む請求項1~6のいずれかに記載のポリシラン。式中、R2aおよびR2bは同一又は異なって水素原子又は炭化水素基を示す。式2において、R2aがC1-4アルキル基であり、R2bが水素原子又はC1-4アルキル基である請求項7記載のポリシラン。式1で表されるユニットと式2で表されるユニットとの割合が、前者/後者モル比=50/50~99/1である請求項7又は8記載のポリシラン。下記式1aで表されるユニットと、下記式1bで表されるユニットと、下記式2で表されるユニットとを有し、ポリシランを構成する炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Siが3以下であるポリシラン。式中、R1aは、水素原子又はメチル基以外の炭化水素基を示し、R2aおよびR2bは同一又は異なって水素原子又は炭化水素基を示す。重量平均分子量が500以上である請求項1~10のいずれかに記載のポリシラン。炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Siが0.5~2.5である請求項1~11のいずれかに記載のポリシラン。以下のいずれかである請求項1~12のいずれかに記載のポリシラン。i前記式1aで表されるユニットと、前記式1bにおいてR1aがC2-4アルキル基であるユニットとを有し、前記式1aで表されるユニットと前記式1bで表されるユニットとの割合が前者/後者モル比=5/95~95/5であり、ポリシラン全体に対する式1で表されるユニットの割合がケイ素原子換算で70モル以上であり、重量平均分子量が700以上であり、炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Siが1.1~2であるポリシランii前記式1aで表されるユニットと、前記式1bにおいてR1aがC2-4アルキル基であるユニットと、前記式2において、R2aがC1-4アルキル基であり、R2bが水素原子又はC1-4アルキル基であるユニットとを有し、前記式1aで表されるユニットと前記式1bで表されるユニットとの割合が前者/後者モル比=5/95~65/35であり、ポリシラン全体に対する式1で表されるユニットの割合がケイ素原子換算で70モル以上であり、前記式1で表されるユニットと前記式2で表されるユニットとの割合が、前者/後者モル比=60/40~95/5であり、重量平均分子量が700以上であり、炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Siが1.1~2であるポリシラン不活性雰囲気下において1400°Cで12時間加熱した後の重量減少率が70以下である請求項1~13のいずれかに記載のポリシラン。酸素含量が、ポリシラン全体に対して15重量以下である請求項1~14のいずれかに記載のポリシラン。金属マグネシウム成分の存在下、下記式1Aで表されるトリハロシランを少なくとも含むハロシランの重合により得られる請求項1~15のいずれかに記載のポリシラン。式中、X1~X3は同一又は異なってハロゲン原子を示し、R1は前記と同じ末端が封鎖されている請求項1~16のいずれかに記載のポリシラン。末端が炭化水素基及び/又は有機シリル基により封鎖されており、酸素含量がポリシラン全体に対して7重量以下である請求項1~17のいずれかに記載のポリシラン。請求項1~18のいずれかに記載のポリシランを600°C以上の温度で熱処理し、炭化ケイ素を製造する方法。ポリシランを含む溶液を基材上にコーティングして熱処理し、炭化ケイ素薄膜を製造する請求項19記載の方法。従って、本発明の目的は、炭化ケイ素の合成などに有用なポリシランおよびこのポリシランを用いた炭化ケイ素の製造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、純度の高い炭化ケイ素を高収率で得ることができるポリシランおよびこのポリシランを用いた炭化ケイ素の製造方法を提供することにある。本発明のさらに他の目的は、簡便な方法で、所望の形状の炭化ケイ素を得ることができるポリシランおよびこのポリシランを用いた炭化ケイ素の製造方法を提供することにある。本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、C/Si比の小さい特定のポリシランを用いると、効率よく、高収率でかつ高純度の炭化ケイ素を得るのに極めて有用であること、また、このようなポリシランは、溶媒溶解性に優れており、取扱性において有利であるばかりか、このようなポリシランを用いることで均一なSiC薄膜例えば、ナノメータオーダー乃至数ミクロンオーダーの薄膜が得られることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明のポリシランネットワーク状のポリシランは、下記式1で表されるユニットを少なくとも含み、ポリシランを構成する炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Siが3以下例えば、0.5~2.5であるただし、メチルシリン-メチルシラン共重合体を除く。このようなポリシランは、特に、炭化ケイ素を製造するためのポリシラン炭化ケイ素を製造するためのポリシランとして利用できる。式中、R1は水素原子又は炭化水素基を示す。本発明のポリシランは、前記式1において、R1が異なる複数のユニットを含んでいてもよい。例えば、本発明のポリシランは、前記式1で表されるユニットが、下記式1aで表されるユニットと、下記式1bで表されるユニットとを含むポリシランであってもよい。式中、R1aは、水素原子又はメチル基以外の炭化水素基を示す。上記式1bにおいて、R1aは、例えば、C2-4アルキル基であってもよい。また、前記式1aで表されるユニットと、前記式1bで表されるユニットとの割合は、例えば、前者/後者モル比=5/95~95/5であってもよい。本発明のポリシランにおいて、ポリシラン全体に対する式1で表されるユニットの割合例えば、式1aで表されるユニットおよび式1bで表されるユニットの総量の割合が、ケイ素原子換算で50モル以上であってもよい。本発明のポリシランは、さらに、下記式2で表されるユニットを含むポリシランであってもよい。式中、R2aおよびR2bは同一又は異なって水素原子又は炭化水素基を示す。上記式2において、R2aがC1-4アルキル基であり、R2bが水素原子又はC1-4アルキル基であってもよい。また、本発明のポリシランにおいて、前記式1で表されるユニットと式2で表されるユニットとの割合が、前者/後者モル比=50/50~99/1程度であってもよい。前記ポリシランは、前記のように、炭化ケイ素を形成するためのポリシランとして好適であるが、他の用途においても使用可能である。そのため、本発明には、下記式1aで表されるユニットと、下記式1bで表されるユニットと、下記式2で表されるユニットとを有し、ポリシランを構成する炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Siが3以下例えば、0.5~2.5であるポリシランも含まれる。式中、R1aは、水素原子又はメチル基以外の炭化水素基を示し、R2aおよびR2bは同一又は異なって水素原子又は炭化水素基を示す。本発明のポリシランの重量平均分子量は、例えば、500以上であってもよい。本発明のポリシランは、代表的には、以下のいずれかのポリシランであってもよい。i前記式1aで表されるユニットと、前記式1bにおいてR1aがC2-4アルキル基であるユニットとを有し、前記式1aで表されるユニットと前記式1bで表されるユニットとの割合が前者/後者モル比=5/95~95/5であり、ポリシラン全体に対する式1で表されるユニットの割合がケイ素原子換算で70モル以上であり、重量平均分子量が700以上であり、炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Siが1.1~2であるポリシランii前記式1aで表されるユニットと、前記式1bにおいてR1aがC2-4アルキル基であるユニットと、前記式2において、R2aがC1-4アルキル基であり、R2bが水素原子又はC1-4アルキル基であるユニットとを有し、前記式1aで表されるユニットと前記式1bで表されるユニットとの割合が前者/後者モル比=5/95~95/5であり、ポリシラン全体に対する式1で表されるユニットの割合がケイ素原子換算で70モル以上であり、前記式1で表されるユニットと前記式2で表されるユニットとの割合が、前者/後者モル比=60/40~95/5であり、重量平均分子量が700以上であり、炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Siが1.1~2であるポリシラン本発明のポリシランはケイ素含量が高いため熱処理後の重量減少率が低く、例えば、不活性雰囲気下において1400°Cで12時間加熱した後の重量減少率は70以下であってもよい。また、本発明のポリシランの酸素含量は、ポリシラン全体に対して、例えば、15重量以下であってもよい。本発明のポリシランは、金属マグネシウム成分の存在下、下記式1Aで表されるトリハロシランを少なくとも含むハロシランの重合により得られるポリシランであってもよい。式中、X1~X3は同一又は異なってハロゲン原子を示し、R1は前記と同じ前記ポリシランは、末端末端基又は重合末端基が封鎖されたポリシランであってもよい。代表的には、前記ポリシランは、末端が炭化水素基及び/又は有機シリル基により封鎖されており、酸素含量がポリシラン全体に対して7重量以下のポリシランであってもよい。本発明には、ポリシランを熱処理例えば、600°C以上の温度で熱処理し、炭化ケイ素を製造する方法も含まれる。このような方法では、例えば、前記ポリシランを含む溶液を基材上にコーティングして熱処理し、炭化ケイ素薄膜を製造してもよい。本発明のポリシランは、炭化ケイ素の合成などに有用である。特に、本発明のポリシランは、C/Si比が小さく、純度の高い炭化ケイ素を高収率で得ることができる。また、本発明のポリシランは、C/Si比が小さいにもかかわらず、溶媒溶解性に優れるなど、取扱性においても優れており、溶媒に溶解させて塗布し、熱処理するという簡便な方法で、所望の形状の炭化ケイ素を効率よく得ることができる。特に、本発明のポリシランによれば、溶液状で塗布して熱処理することで、均一な炭化ケイ素薄膜を得ることができる。[ポリシラン]本発明のポリシランは、下記式1で表されるユニットを少なくとも含む。このようなポリシランネットワーク状ポリシランは、後述するように、通常、炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Si比が小さく又はケイ素含量が大きく、炭化ケイ素を製造するためのポリシランなどとして有用である。式中、R1は水素原子又は炭化水素基を示す。式1において、R1で表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基[例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基などのC1-10アルキル基など、シクロアルキル基シクロヘキシル基などのC5-8シクロアルキル基など、アリール基例えば、フェニル、ナフチル基などのC6-10アリール基など、アラルキル基例えば、ベンジル、フェネチル基などのC6-10アリール-C1-4アルキル基などなどが挙げられる。炭化水素基例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を構成するアリール基などは、置換基を有していてもよい。このような置換基としては、前記例示のアルキル基例えば、C1-6アルキル基など、アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのC1-6アルコキシ基、アシル基例えば、アセチル基などのC1-6アルキルカルボニル基、アミノ基、N-置換アミノ基[前記炭化水素基アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基など、アシル基などで置換されたN-モノ又はジ置換アミノ基などなどが挙げられる。置換基の個数は、特に制限されず、1つであってもよく、複数例えば、2~4個であってもよい。置換基は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。このような置換基を有する炭化水素基としては、例えば、アルキルアリール基例えば、トリル基などのモノ乃至トリC1-4アルキルC6-10アリール基など、アルコキシアリール基例えば、メトキシフェニル基などのC1-4アルコキシC6-10アリール基などなどが挙げられる。式1において、好ましい基R1には、ケイ素含量を高めるという観点から、水素原子、炭素数の小さいアルキル基例えば、C1-4アルキル基などなどが挙げられ、特に、高いケイ素含量とポリシランの重合性をバランスよく両立させるという観点から、メチル基、エチル基、プロピル基などのC1-4アルキル基特に、C1-2アルキル基が好ましい。ポリシランは、式1で表されるユニットを、単独で又は2種以上組み合わせて有していてもよい。すなわち、ポリシランは、式1において、R1が同一のユニットのみを有していてもよく、式1において、R1が異なる複数のユニットを有していてもよい。式1において、R1が異なる複数のユニットを組み合わせることで、ポリシランの重合性を向上できる場合がある。特に、式1において、R1がメチル基であるユニットメチルシリンユニットは、ケイ素含量を高めるという観点からは好ましいものの、後述のマグネシウム還元法などでは単独では重合しにくく、十分な分子量のポリシランが得られない場合がある。また、メチルシリンユニットは、比較的不安定である例えば、末端に不安定な-SiH構造を導入しやすい。そのため、メチルシリンユニットは、式1において、R1がメチル基以外であるユニットを組み合わせるのが好ましい。代表的には、ポリシランにおいて、式1で表されるユニットが、下記式1aで表されるユニット式1においてR1がメチル基であるユニット、すなわち、ポリメチルシリンユニットと、下記式1bで表されるユニットとを含んでいてもよい。式中、R1aは、水素原子又はメチル基以外の炭化水素基を示す。上記式1bにおいて、R1aで表される炭化水素基としては、メチル基を除く前記例示の炭化水素基が挙げられる。好ましい基R1aには、メチル基以外のアルキル基例えば、エチル基、プロピル基などのC2-6アルキル基、好ましくはC2-4アルキル基、さらに好ましくはC2-3アルキル基、特に、エチル基が挙げられる。また、R1aがアリール基例えば、フェニル基であるユニットも好ましい。このようなユニットを含んでいると、マグネシウム還元法において重合しづらいユニット例えば、メチルシリンユニット、後述のジメチルシランユニットなどを含んでいても、ポリシランの十分な重合性を担保できる場合がある。ただし、R1aがアリール基例えば、フェニル基であるユニットは、ポリシラン中のC/Si比を大きくするので、ポリシランにおける割合を比較的小割合とする必要がある。なお、式1bで表されるユニットは、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。ポリシランにおいて、式1aで表されるユニットメチルシリンユニットと、式1bで表されるユニット例えば、エチル基などのメチル基以外のアルキル基との割合は、例えば、前者/後者モル比=1/99~99/1例えば、1/99/95/5の範囲から選択でき、例えば、2/98~90/10例えば、3/97~85/15、さらに好ましくは5/95~80/20例えば、7/93~75/25、特に10/90~70/30例えば、15/85~65/35程度であってもよく、通常1/99~97/3例えば、5/95~5/95程度であってもよい。特に、ポリシランに占める式1で表されるユニットの割合が非常に大きい場合などにおいて、式1aで表されるユニットと、式1bで表されるユニットとの割合は、例えば、前者/後者モル比=1/99~80/20例えば、2/98~75/25、好ましくは3/97~70/30、さらに好ましくは5/95~65/35例えば、7/93~60/40、特に10/90~55/45例えば、15/85~55/45程度であってもよい。ポリシランは、式1で表されるユニットのみで構成してもよく、式1で表されるユニットと他のユニット後述のユニットとで構成してもよい。このようなポリシランにおいて、ポリシラン全体ポリシランを構成するユニット全体に対する式1で表されるユニットの割合は、ケイ素原子換算で、20モル以上例えば、25~100モルの範囲から選択でき、例えば、30モル以上例えば、40~100モル、好ましくは50モル以上例えば、55~100モル、さらに好ましくは60モル以上例えば、65~100モル、特に70モル以上例えば、75~100モル程度であってもよい。なお、式1bで表されるユニットが、R1aがアリール基であるユニットを含む場合、式1bにおいてR1aがアリール基であるユニットの割合は、ポリシラン全体ポリシランを構成するユニット全体に対して、ケイ素原子換算で、15モル以下例えば、0.01~12モルの範囲から選択でき、例えば、10モル以下例えば、0.1~8モル、さらに好ましくは5モル以下例えば、0.5~3モル程度であってもよい。なお、式1で表されるユニットとして、基R1が1種類のユニットのみでポリシランを構成する場合、ポリシラン全体に対する1種類の式1で表されるユニットの割合は、ケイ素原子換算で、例えば、95モル以下、好ましくは90モル以下、さらに好ましくは85モル以下であってもよい。本発明のポリシランは、式1で表されるユニットに加えて、他のユニットを含んでいてもよい。他のユニットとしては、例えば、下記式2で表されるユニット、下記式3で表されるユニットなどが含まれる。特に、式2で表されるユニットを組み合わせると、重合性を高め、重合度又は分子量を効率よく向上できる場合がある。また、式3で表されるユニットを組み合わせると、C/Si比率を下げるとともに重合開始が容易になり、使用できるモノマーの種類や比率の選択肢が広がる。式中、R2aおよびR2bは同一又は異なって水素原子又は炭化水素基を示す。上記式2において、R2aおよびR2bで表される炭化水素基としては、前記R1の項で例示の炭化水素基が挙げられる。特に、ケイ素含量を高めるという観点から、前記R1と同様に、水素原子、炭素数の小さいアルキル基例えば、C1-4アルキル基などなどが好ましい。なお、R2aおよびR2bは、炭化水素基の他、水素原子であってもよいが、重合性などの観点から、式2において、R2aおよびR2bの少なくともいずれか一方は、炭化水素基である場合が多い。そのため、例えば、式2において、R2aが炭化水素基例えば、C1-4アルキル基であり、R2bが水素原子又は炭化水素基例えば、C1-4アルキル基であってもよい。式2において、好ましいR2aとR2bとの組み合わせには、iアルキル基例えば、C1-4アルキル基などと水素原子との組み合わせ、iiアルキル基例えば、C1-4アルキル基同士特に、C1-2アルキル基同士の組み合わせなどが挙げられる。なお、上記組み合わせi特に、アルキル基がメチル基である組み合わせは、ケイ素含量を高めるという観点からは好ましいものの、重合性の観点や安定性の観点からは、あまりポリシランにおける割合を大きくできない場合が多い。また、上記組み合わせiiは、重合性の観点からは好ましいものの、2つの炭化水素基アルキル基などを有しているため、R2aおよびR2bの炭化水素基の炭素数をできる限り小さくするのが好ましく、また、ポリシランにおける割合も重合性などを損なわない範囲でできるだけ小さくするのが好ましい。なお、ポリシランは、式2で表されるユニットを、単独で又は2種以上組み合わせて有していてもよい。すなわち、ポリシランは、式2において、R2aおよびR2bが同一のユニットのみを有していてもよく、式1において、R2a及び/又はR2bが異なる複数のユニットを有していてもよい。ポリシランにおいて、式1で表されるユニットと、式2で表されるユニットとの割合は、前者/後者モル比=30/70~99.9/0.1例えば、40/60~99.5/0.5程度の範囲から選択でき、例えば、50/50~99/1例えば、55/45~97/3、好ましくは60/40~95/5例えば、65/35~94/6、さらに好ましくは70/30~93/7例えば、75/25~92/8、特に80/20~90/10例えば、82/18~88/12程度であってもよい。また、ポリシランが式2で表されるユニットを含む場合、ポリシラン全体ポリシランを構成するユニット全体に対する式2で表されるユニットの割合は、ケイ素原子換算で、70モル以下例えば、0.1~60モルの範囲から選択でき、例えば、50モル以下例えば、0.5~45モル、好ましくは40モル以下例えば、1~35モル、さらに好ましくは30モル以下例えば、5~25モル、特に20モル以下例えば、10~18モル程度であってもよく、通常1~30モル例えば、3~25モル、好ましくは5~20モル程度であってもよい。さらに、ポリシランを構成するユニット全体に対して、式3で表されるユニットおよび式2で表されるユニットの総量の割合は、ケイ素原子換算で、例えば、70モル以上例えば、75~100モル、好ましくは80モル以上例えば、85~100モル、さらに好ましくは90モル以上例えば、95~100モル程度であってもよい。前記式3で表されるユニットは、テトラハロシランなどを重合に用いることによりポリシランに導入できるユニットであり、ケイ素含量を高めるという観点からは好ましいものの、割合が大きいと重合性を低下させ、十分な分子量のポリシランを得ることができなくなる虞がある。そのため、ポリシランが前記式3で表されるユニットを含む場合、ポリシラン全体に対する式3で表されるユニットの割合は、30モル以下例えば、0.01~25モルの範囲から選択でき、例えば、20モル以下例えば、0.1~15モル、好ましくは10モル以下例えば、0.3~8モル、さらに好ましくは5モル以下例えば、0.5~3モルであってもよい。代表的なポリシランには、前記式1で表されるユニットを有するポリシラン[例えば、メチルシリン-アルキルシリン共重合体例えば、メチルシリン-エチルシリン共重合体などのメチルシリン-C2-4アルキルシリン共重合体、好ましくはメチルシリン-C2-3アルキルシリン共重合体などの前記式1aで表されるユニットおよび前記式1bで表されるユニット特に、前記式1bにおいてR1がC1-4アルキル基であるユニットを有するポリシランなど]、前記式1で表されるユニットと前記式2で表されるユニットとを有するポリシラン[例えば、メチルシリン-アルキルシリン-アルキルシラン共重合体例えば、メチルシリン-エチルシリン-メチルシラン共重合体などのメチルシリン-C2-4アルキルシリン-C1-4アルキルシラン共重合体、好ましくはメチルシリン-C2-3アルキルシリン-C1-3アルキルシラン共重合体、さらに好ましくはメチルシリン-エチルシリン-C1-2アルキルシラン共重合体などのアルキルシリン-アルキルシラン共重合体;メチルシリン-アルキルシリン-ジアルキルシラン共重合体例えば、メチルシリン-エチルシリン-ジメチルシラン共重合体などのメチルシリン-C2-4アルキルシリン-ジC1-4アルキルシラン共重合体、好ましくはメチルシリン-C2-3アルキルシリン-ジC1-3アルキルシラン共重合体、さらに好ましくはメチルシリン-エチルシリン-ジC1-2アルキルシラン共重合体などのアルキルシリン-ジアルキルシラン共重合体などの前記式1で表されるユニット特に、前記式1aで表されるユニットおよび前記式1bで表されるユニットおよび前記式2で表されるユニット特に、前記式2において、R2aがC1-4アルキル基であり、R2bが水素原子又はC1-4アルキル基であるユニットを有するポリシラン]などが挙げられる。なお、本発明には、前記のように、メチルシリン-メチルシラン共重合体すなわち、前記式1aで表されるユニットと、前記式2において、R2aとR2bとの組み合わせがメチル基と水素原子であるユニットのみからなるポリシランは含まれない。なお、ポリシランの末端重合末端は、特に限定されず、重合成分由来の末端基例えば、ハロシランの末端由来のハロゲン原子やハロゲン原子の加水分解により形成されるシラノール基などであってもよく、封鎖されていてもよい。例えば、ハロシランをモノマーとして用いたポリシランの重合末端は、重合後においては、通常、ハロゲン原子であるが、このようなハロゲン原子の一部又は全部は、空気中の水分などにより加水分解され、ヒドロキシ基シラノール基を生成する。このような重合末端のシラノール基やハロゲン原子は、後述のようにポリシランにおける酸素原子含量を直接的に又は間接的に増大させる要因となるため、封鎖してもよい。また、ポリシランの重合又は重合後において、単官能性モノマー{例えば、モノハロシラン[例えば、トリアルキルモノハロシラン例えば、トリメチルクロロシランなどのトリC1-4アルキルモノハロシランなど]など}を用いることで、ポリシランの重合末端を封鎖することもできる。重合末端を封鎖する封鎖基重合末端を置換する置換基としては、アルコキシ基、アシル基アセチル基など、フッ素原子などであってもよいが、シリル基有機シリル基、炭化水素基であるのが好ましい。シリル基としては、例えば、トリアルキルシリル基例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基などのトリC1-10アルキルシリル基、トリアリールシリル基例えば、トリフェニルシリル基などのトリC6-10アリールシリル基など、ジアルキルアリールシリル基ジメチルフェニルシリル基などのジC1-4アルキル-C6-10アリールシリル基など、アルキルジアリールシリル基メチルジフェニルシリル基などのC1-4アルキル-ジC6-10アリールシリル基などなどの3つの炭化水素基前記例示の炭化水素基などが置換したシリル基などが挙げられる。炭化水素基としては、例えば、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t-ブチル基などのC1-10アルキル基など、シクロアルキル基例えば、シクロヘキシル基などのC5-8シクロアルキル基、アリール基例えば、フェニル基、ナフチル基などのC6-10アリール基など、アラルキル基例えば、ベンジル基、フェネチル基などのC6-10アリール-C1-4アルキル基などなどの前記例示の炭化水素基が挙げられる。なお、重合末端基もまた、ケイ素含量を高めるという観点からは、炭素数が小さい基[例えば、C1-4アルキル基メチル基など、トリC1-4アルキルシリル基特に、トリC1-2アルキルシリル基など]であるのが好ましいが、重合末端であるため、ポリシランの分子量にもよるが、ポリシランを構成する主鎖中のユニット前記式1~3で表されるユニットに比べると、ケイ素含量に与える影響は小さく、幅広い重合末端基を選択することもできる。これらの封鎖基又は置換基は、単独で又は2種以上組み合わせてポリシランの重合末端を封鎖してもよい。なお、末端が封鎖されたポリシランは、その末端の一部又は全部が封鎖されていればよい。このような末端が封鎖されたポリシランにおいて、末端封鎖率末端全体に対する封鎖割合は、特に限定されず、例えば、10以上例えば、15~100、好ましくは20以上例えば、25~99、さらに好ましくは30以上例えば、35~95程度であってもよく、40以上例えば、50~95、好ましくは55~90、さらに好ましくは60~85程度であってもよい。なお、末端封鎖率は、例えば、蛍光X線分析WDX蛍光X線分析、NMRなどにより、末端封鎖前後のポリシランの末端基量を測定することにより算出できる。ポリシランの重量平均分子量は、例えば、400以上例えば、450~30000、好ましくは500以上例えば、600~20000、さらに好ましくは700以上例えば、800~10000、特に1000以上例えば、1200~8000程度であってもよい。なお、分子量が大きすぎると、溶媒への溶解性が低下したり、熱処理時にクラック等が生じる虞があり、分子量が小さすぎると、不安定となる例えば、酸素存在下で酸化、縮合重合しやすくなる虞がある。なお、ポリシランの分子量分布[重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比Mw/Mn]は、例えば、1.05~20、好ましくは1.2~15、さらに好ましくは1.5~10例えば、2~8程度であってもよい。なお、本発明のポリシランの平均重合度は、5以上例えば、7~500の範囲から選択でき、通常、10以上例えば、12~300、好ましくは15以上例えば、18~250、さらに好ましくは20以上例えば、25~200程度であってもよい。本発明のポリシランは、炭素含量が低く抑えられている。このような本発明のポリシランを構成する炭素原子とケイ素原子とのモル比C/Siは、通常、3以下例えば、0.4~2.8の範囲から選択でき、例えば、2.7以下例えば、0.5~2.5、好ましくは2.3以下例えば、0.7~2.1、さらに好ましくは2以下例えば、0.8~1.9、特に1.8以下例えば、1~1.7、好ましくは1.1~1.6であってもよく、通常0.9~2.3例えば、1~2.2、好ましくは1.1~2、さらに好ましくは1.2~1.9程度であってもよい。なお、ポリシランにおけるC/Si比は、慣用の方法、例えば、蛍光X線分析WDX蛍光X線分析、NMR、ポリシランを酸素存在下で完全燃焼させたときのCO2量とSiO2量を測定する方法などにより測定できる。また、ポリシランは、前記のように、重合末端などに酸素原子を含む場合がある。このような酸素原子は、SiCの形成時に脱離できればよいが、SiC中に残留してSiC純度を低下させる虞があるため、できるだけ小さい含有量であることが好ましい。このような酸素含量酸素原子含量は、ポリシラン全体に対して、20重量以下例えば、0~18重量、好ましくは17重量以下例えば、0.1~16重量、さらに好ましくは15重量以下例えば、0.2~14重量、特に13重量以下例えば、0.5~12重量程度であってもよく、通常1~12重量例えば、1.5~11重量程度であってもよい。特に、ポリシラン全体に対して、酸素含量酸素原子含量を10重量以下例えば、0.1~8重量、好ましくは7重量以下例えば、0.3~6重量、さらに好ましくは5重量以下例えば、0.5~4重量程度とすることもできる。なお、酸素含量は、例えば、蛍光X線分析、NMRなどにより測定できる。製造方法本発明のポリシランは、アルカリ金属特にナトリウムの存在下、ハロシランの脱ハロゲン反応を行う方法、金属触媒の存在下、ヒドロシランの脱水素反応脱水素縮合反応を行う方法などにより製造することもできるが、好ましいポリシランの製造方法は、金属マグネシウム成分の存在下、ハロシランの脱ハロゲン反応を行う方法である。このような金属マグネシウム成分を用いる方法マグネシウム還元法は、量産時に汎用の反応器で簡易に製造でき、安全性を確保しやすいという製造上のメリットだけではなく、得られるポリシランの溶媒溶解性が高いなど、ポリシランの特性の点でも有利である。例えば、マグネシウム還元法で得られるポリシランの末端基は、前記のように、通常、シラノール基-SiOHを含んでいる。このようなシラノール基は、前記のようにポリシランを構成するユニットの組み合わせやその割合を調整することで、ある程度の安定性経時安定性を担保しつつ、溶媒溶媒性を高める効果がある。また、このような末端基は、前記のように、より安定性を担保するため封鎖することもでき、このような封鎖により、通常、末端に有機基例えば、アルキル基、トリアルキルシリル基などが導入される。そのため、このような末端が封鎖されたポリシランにおいても、末端基としてシラノール基を有するポリシランと同様に、優れた溶媒溶解性を有する。また、マグネシウム還元法では、後述のように、グリニャール試薬などを利用した封鎖を反応系中で容易に行うことができる。そのため、本発明のポリシランは、特に、金属マグネシウム成分の存在下、ハロシランの重合脱ハロゲン化反応により得られるポリシランであってもよい。以下、マグネシウム還元法について詳述する。ハロシランハロシランハロシラン類としては、ポリシランに対応するハロシランを用いることができる。すなわち、ハロシランは、下記式1Aで表されるトリハロシランを少なくとも含む。式中、X1~X3は同一又は異なってハロゲン原子を示し、R1は前記と同じなお、特に、前記式1aで表されるユニットおよび前記式1bで表されるユニットは、それぞれ、前記式1Aで表されるトリハロシランの中でも、下記式1a’で表されるトリハロシランおよび下記式1b’で表されるトリハロシランを使用することにより得ることができる。式中、X1~X3、R1aは前記と同じ。また、式1で表されるユニットに加えて、前記式2で表されるユニットおよび前記式3で表されるユニットを有するポリシランは、ハロシランとして、前記式1Aで表されるトリハロシラン前記式1a’で表されるトリハロシランおよび前記式1b’で表されるトリハロシランを含むに加えて、それぞれ、下記式2Aで表されるジハロシラン、下記式3Aで表されるテトラハロシラン例えば、テトラクロロシランなどを用いることにより得ることができる。式中、X4はハロゲン原子を示し、X1~X3、R2aおよびR2bは前記と同じ。これらの式において、X1~X4で表されるハロゲン原子には、フッ素原子F、塩素原子Cl、臭素原子Br、ヨウ素原子Iが含まれる。これらのハロゲン原子のうち、特に、Cl及びBr特にCl原子が好ましい。代表的な式1Aで表されるトリハロシランとしては、例えば、メチルトリハロシラン前記式1a’で表されるトリハロシランの他、メチル基以外のアルキル基を有するトリハロシラン例えば、エチルトリハロシランなどのC2-4アルキルトリハロシランなどの前記式1b’で表されるトリハロシランなどが含まれる。また、代表的な前記式2Aで表されるジハロシランとしては、例えば、アルキルジハロシラン例えば、メチルジハロシラン、エチルジハロシランなどのC1-4アルキルジハロシランなどのR2aとR2bとがアルキル基例えば、C1-4アルキル基などと水素原子との組み合わせであるジハロシラン;ジアルキルジハロシラン例えば、ジメチルジハロシランなどのジC1-4アルキルジハロシラン、好ましくはジC1-2アルキルジハロシランなどのR2aとR2bとがアルキル基例えば、C1-4アルキル基同士特に、C1-2アルキル基同士の組み合わせであるジハロシランなどが挙げられる。ハロシラン全体におけるこれらのハロシランの割合や各ハロシラン間の割合は、前記ポリシランの項で記載の割合と同様の範囲から選択できる。ハロシランは、高純度であるのが好ましく、必要に応じて、例えば、使用前に蒸留して使用してもよい。なお、後述のように、ポリシランの重合末端を封鎖する場合、ハロシランとして、さらに、モノハロシランを用いてもよい。モノハロシランとしては、例えば、トリアルキルモノハロシラン例えば、トリメチルモノクロロシラン、トリエチルモノクロロシランなどのトリC1-10アルキルモノハロシラン、好ましくはトリC1-4アルキルモノハロシラン、さらに好ましくはトリC1-2アルキルモノハロシラン、トリアリールモノハロシラン例えば、トリフェニルモノハロシランなどのトリC6-10アリールモノハロシランなど、ジアルキルアリールモノハロシランジメチルフェニルモノクロロシランなどのジC1-4アルキル-C6-10アリールモノハロシランなど、アルキルジアリールモノハロシランメチルジフェニルモノハロシランなどのC1-4アルキル-ジC6-10アリールモノハロシランなどなどの前記例示の重合末端基としてのシリル基に対応するモノハロシランが挙げられる。なお、モノハロシランの使用割合は、重合末端の割合などに応じて適宜選択できる。原料混合物反応液中のハロシランの濃度基質濃度は、例えば、0.05~20mol/l程度、好ましくは0.1~15mol/l程度、さらに好ましくは0.2~5mol/l程度であってもよい。金属マグネシウム成分金属マグネシウム成分マグネシウム成分は、活性な金属マグネシウムすなわち、マグネシウムイオンなどではないマグネシウムの形態でマグネシウムを含む成分であればよく、金属マグネシウムマグネシウム単体、マグネシウム合金、これらの混合物などであってもよい。マグネシウム合金の種類は特に制限されず、慣用のマグネシウム合金、例えば、アルミニウム、亜鉛、希土類元素スカンジウム、イットリウムなどなどの成分を含むマグネシウム合金が例示できる。これらの金属マグネシウム成分は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。金属マグネシウム成分の形状は、ハロシランの反応を損なわない限り特に限定されないが、粉粒状体粉体、粒状体など、リボン状体、切削片状体、塊状体、棒状体、板状体平板状体などなどが例示され、特に、粉体、粒状体、リボン状体、切削片状体などであるのが好ましい。マグネシウム金属成分例えば、粉粒状のマグネシウム金属成分の平均粒径は、例えば、1~10000μm、好ましくは10~7000μm、さらに好ましくは15~5000μm例えば、20~3000μmであってもよい。なお、金属マグネシウム成分の保存状況などによっては、金属表面に被膜酸化被膜などが形成されることがある。この被膜は反応に悪影響を及ぼすことがあるので、必要に応じて、切削や溶出塩酸洗浄などの酸洗などの適当な方法によって除去してもよい。なお、金属マグネシウム成分は、特開2002-226586号公報に記載の方法などにより、活性金属マグネシウム成分として重合に使用してもよい。金属マグネシウム成分の使用量は、ハロシラン複数のハロシランを用いる場合には、ハロシランの総量、以下同じ。のハロゲン原子に対して、マグネシウム換算で、例えば、0.3~30当量、好ましくは0.5~20当量、さらに好ましくは1~15当量程度であってもよく、通常1~20当量例えば、1.2~15当量、好ましくは1.5~10当量程度であってもよい。また、金属マグネシウム成分の使用量は、ハロシラン100重量部に対して、1~500重量部、好ましくは3~300重量部、さらに好ましくは5~200重量部、特に10~100重量部程度であってもよい。なお、金属マグネシウム成分は、ハロシランを還元して、ポリシランを形成させるとともに、マグネシウム自身は酸化されてハロゲン化物を形成する。そして、ハロシランの還元に供されない未反応の金属マグネシウム成分は、反応混合物に含まれる。このようなマグネシウム成分は、後述のようにグリニャール試薬に変換さらには、重合末端の封鎖に利用してもよい。反応は、少なくとも金属マグネシウム成分の存在下で行えばよいが、ハロシランの重合を促進するため、リチウム化合物及び金属ハロゲン化物から選択された少なくとも一種促進剤又は触媒の共存下で行ってもよい。リチウム化合物リチウム化合物としては、ハロゲン化リチウム塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウムなど、無機酸塩塩酸リチウムなどなどが使用できる。これらのリチウム化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。好ましいリチウム化合物は、ハロゲン化リチウム特に塩化リチウムである。リチウム化合物の割合は、ハロシラン100重量部に対して、例えば、0.1~200重量部、好ましくは1~150重量部、さらに好ましくは5~100重量部例えば、5~75重量部程度であり、通常、10~80重量部程度である。なお、溶媒反応液中のリチウム化合物の濃度は、通常、0.05~5モル/L、好ましくは0.1~4モル/L、特に0.15~3モル/L程度であってもよい。金属ハロゲン化物金属ハロゲン化物リチウムハロゲン化物を除く金属ハロゲン化物としては、多価金属ハロゲン化物、例えば、遷移金属例えば、サマリウムなどの周期表3A族元素、チタンなどの周期表4A族元素、バナジウムなどの周期表5A族元素、鉄、ニッケル、コバルト、パラジウムなどの周期表8族元素、銅などの周期表1B族元素、亜鉛などの周期表2B族元素など、周期表3B族金属アルミニウムなど、周期表4B族金属スズなどなどの金属のハロゲン化物塩化物、臭化物又はヨウ化物などが挙げられる。金属ハロゲン化物を構成する前記金属の価数は、特に制限されないが、好ましくは2~4価、特に2又は3価である。これらの金属ハロゲン化物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。代表的な金属ハロゲン化物としては、例えば、塩化物FeCl2、FeCl3などの塩化鉄;AlCl3、ZnCl2、SnCl2、CoCl2、VCl2、TiCl4、PdCl2、SmCl2など、臭化物FeBr2、FeBr3などの臭化鉄など、ヨウ化物SmI2などなどが例示できる。これらの金属ハロゲン化物のうち、塩化物例えば、塩化鉄II、塩化鉄などの塩化鉄、塩化亜鉛など及び臭化物が好ましい。通常、塩化鉄及び/又は塩化亜鉛、特に塩化亜鉛などが使用される。金属ハロゲン化物の割合は、ハロシラン100重量部に対して、例えば、0.1~50重量部、好ましくは1~30重量部、さらに好ましくは2~20重量部程度であってもよい。また、溶媒反応液中の金属ハロゲン化物の濃度は、通常、0.001~6モル/L程度であり、好ましくは0.005~4モル/L、さらに好ましくは0.01~3モル/L程度であってもよい。非プロトン性溶媒反応は、通常、溶媒特に、非プロトン性溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒反応溶媒としては、例えば、エーテル類1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、ビス2-メトキシエチルエーテルなどの環状又は鎖状C4-6エーテル、カーボネート類プロピレンカーボネートなど、ニトリル類アセトニトリル、ベンゾニトリルなど、アミド類ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど、スルホキシド類ジメチルスルホキシドなど、芳香族炭化水素類ベンゼン、トルエン、キシレンなど、脂肪族炭化水素類例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、シクロオクタンなどの鎖状又は環状炭化水素類などが含まれる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて混合溶媒として使用できる。これらの溶媒のうち、少なくとも極性溶媒[例えば、エーテル類例えば、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサンなどなど]を使用するのが好ましい。極性溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて用いてもよく、極性溶媒と非極性溶媒とを組み合わせてもよい。なお、ハロシランは、水と速やかに反応するため、使用する原料すなわち、金属マグネシウム成分、リチウム化合物、金属ハロゲン化物、非プロトン性溶媒などは、予め乾燥して使用するのが好ましい。反応温度は、通常、-20°Cから使用する溶媒の沸点までの温度範囲内である場合が多く、例えば、0~150°C、好ましくは5~100°C、さらに好ましくは10~80°C程度であってもよい。また、反応時間は、ハロシランの種類、金属ハロゲン化物及びマグネシウム金属成分の量などにより異なるが、通常、5分以上であってもよく、例えば、30分~100時間、好ましくは1~80時間、さらに好ましくは2~60時間程度であってもよい。以上のようにして、生成したポリシランを含む反応混合物が得られる。そして、このような重合後の反応混合物には、生成したポリシランの他に、未反応の金属マグネシウム成分又は残存する金属マグネシウム成分が含まれる。なお、残存する金属マグネシウム成分の割合は、反応において使用した仕込んだ金属マグネシウム成分に対して、90重量以下例えば、0.5~85重量、好ましくは80重量以下例えば、1~75重量、さらに好ましくは70重量以下例えば、2~65重量、特に60重量以下例えば、3~55重量であってもよい。本発明では、後述するように、このような反応混合物中に含まれる又は残存する金属マグネシウム成分をグリニャール試薬に変換し、ポリシランの重合末端の封鎖に利用してもよい。具体的には、反応混合物に、金属マグネシウム成分と反応してグリニャール試薬を生成する化合物すなわち、有機ハロゲン化物を混合することにより、金属マグネシウム成分と有機ハロゲン化物とを反応させて、グリニャール試薬を生成させ、ポリシランの重合末端を封鎖してもよい。重合末端の封鎖方法重合末端の封鎖は、市販のポリシランや、重合反応後の反応混合物から分離した後のポリシランに対して行ってもよいが、前記のように、重合末端が多いネットワーク状ポリシランは空気中の水分などにより自己縮合して、ポリシランの物性低下例えば、自己縮合によるシロキサン結合-Si-O-Si-の導入によるポリシラン特性の低下を生じやすい。そのため、重合反応後、引き続き、封鎖を行うのが好ましい。重合末端の封鎖方法としては、ポリシランと、重合末端であるハロゲン原子やシラノール基と反応可能な封鎖剤とを反応させる方法が挙げられる。封鎖剤としては、前記例示の封鎖基の種類に応じて、適宜選択でき、モノハロシラン例えば、トリメチルモノハロシランなどの前記例示のモノハロシラン、シリルトリフラート、シラン例えば、トリメチルシランなどのトリアルキルシランなど、グリニャール試薬などが挙げられる。例えば、モノハロシランを封鎖剤として利用し、重合末端と反応させると、前記ポリシランの製造方法と同様に、脱ハロゲン反応が生じ、重合末端がモノハロシラン由来の基例えば、トリアルキルシリル基などで封鎖されたポリシランが得られる。特に、封鎖剤としてグリニャール試薬を利用して重合末端を封鎖してもよい。なお、グリニャール試薬は、マグネシウム金属マグネシウムと有機ハロゲン化物とを反応させることにより生成させることができる。有機ハロゲン化物ハロゲン原子を有する有機化合物において、ハロゲン原子としては、通常、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、臭素原子およびヨウ素原子が好ましい。有機ハロゲン化物は、1つのハロゲン原子を有していてもよく、複数のハロゲン原子を有していてもよい。複数のハロゲン原子は、同一又は異なるハロゲン原子であってもよい。代表的な有機ハロゲン化物としては、例えば、ハロアルカン例えば、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、臭化エチル、ヨウ化エチルなどのハロC1-10アルカン、好ましくはハロC1-6アルカン、さらに好ましくはハロC1-4アルカン、ハロアレーン例えば、ブロモベンゼンなどのハロC6-10アレーンなどのハロゲン化炭化水素が挙げられる。有機ハロゲン化物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。好ましい有機ハロゲン化物は、ハロアルカン例えば、ブロモアルカン、ヨードアルカンであり、特にハロ低級アルカン例えば、ヨウ化メチルなどのハロC1-4アルカン、好ましくはハロC1-2アルカン、さらに好ましくはハロメタンが好ましい。グリニャール反応により有機ハロゲン化物の有機基がポリシランの重合末端に封鎖基として導入又は有機基によりポリシランの重合末端が置換されるが、ハロアルカンは反応性が高い上に、特に、ハロ低級アルカンの有機基は低級アルキル基であるため、ポリシランのケイ素含量の低下を抑制できるという点でも好適である。なお、有機ハロゲン化物の構造式をRX式中、Xはハロゲン原子、Rは炭化水素基を示す。とすると、マグネシウムと有機ハロゲン化物との反応により、構造式RMgX式中、XおよびRは前記と同じで表されるグリニャール試薬が生成する。そして、このようなグリニャール試薬は、ポリシラン特に、反応混合物中に含まれる生成したポリシランの重合末端ハロゲン原子などと反応グリニャール反応し、ポリシランの重合末端のハロゲン原子を有機ハロゲン化物由来の有機基例えば、アルキル基などの封鎖基として前記例示の炭化水素基に置換する形態でポリシランの末端を封鎖する。具体的には、グリニャール試薬RMgXと、重合末端としてハロゲン原子を有するポリシランとの間で、以下の反応が生じる。式中、X,Rは前記と同じ。例えば、有機ハロゲン化物としてハロゲン化炭化水素例えば、ハロアルカンを使用する場合には、ポリシランの重合末端のハロゲン原子が炭化水素基例えば、アルキル基に置換される。なお、グリニャール試薬は、前記のように、反応混合物中のポリシランと反応させるのが好ましい。そのため、グリニャール試薬は、反応混合物に混合してポリシランポリシランの重合末端と反応させてもよい。グリニャール試薬は、別途生成させて反応混合物に混合してもよいが、少なくとも反応混合物中に残存する金属マグネシウム成分を利用して生成させてもよい。詳細には、残存する金属マグネシウム成分からグリニャール試薬を生成させるとともに、生成したグリニャール試薬と、重合末端としてハロゲン原子を有するポリシランとを反応させて、重合末端が封鎖詳細には、重合末端としてのハロゲン原子が有機ハロゲン化物由来の有機基に置換されたポリシランを製造することもできる。反応混合物中には、未反応の金属マグネシウム成分が残存している場合が多く、このような金属マグネシウム成分は、通常、後の工程で分離されるが、分離には、濾過などの工程が必要となるばかりか、水との反応により水素ガスの発生を伴って、固体状の水酸化マグネシウムが生成し、ポリシランの精製を煩雑にする。そのため、このようなマグネシウム成分をグリニャール試薬のマグネシウム源として利用すると、重合末端封鎖に利用できるだけでなく、ポリシランの精製工程製造プロセスを簡略化できる。有機ハロゲン化物の使用量は、ポリシランの重合末端基濃度などに応じて、適宜選択でき、例えば、有機ハロゲン化物の使用割合反応混合物に対する混合割合は、反応混合物中のマグネシウム成分1モルに対して、1モル以上例えば、1.01~10モル、好ましくは1.05~8モル、さらに好ましくは1.1~5モル程度であってもよい。なお、ポリシランの末端を封鎖するために残存する金属マグネシウム成分をグリニャール試薬化する場合、必要に応じて例えば、残存する金属マグネシウム成分由来のグリニャール試薬では十分にポリシランの末端が封鎖できない場合など、反応混合物に、さらに金属マグネシウム成分を混合してもよい。また、残存する金属マグネシウム成分の全てをグリニャール試薬化する必要はない。例えば、前記のように、ポリシランの重合末端の一部を残存させる場合には、反応混合物中の残存マグネシウム成分の量に応じて、適宜、生成させるグリニャール試薬の量を調整してもよい。グリニャール試薬の生成反応やグリニャール反応において、反応温度および反応時間などの反応条件は、適宜選択できる。なお、グリニャール試薬は水と容易に反応して分解するため、グリニャール反応は、ハロシランの重合反応と同様、水が侵入しない条件下で行うのが好ましい。また、残存する金属マグネシウム成分を利用する場合、グリニャール試薬の生成反応とグリニャール反応グリニャール試薬とポリシランとの反応とは、同一の反応系で生じるが、必要に応じて、反応条件を段階的に変えつつ反応を行ってもよい。なお、生成したポリシラン末端封鎖されたポリシランは、グリニャール試薬の生成反応後およびグリニャール反応後の反応混合物から慣用の方法を用いて容易に分離精製できる。特に、本発明では、反応混合物グリニャール試薬を生成後の反応混合物に少なくとも水を混合することにより、グリニャール試薬をマグネシウム塩に変換して反応混合物から分離してもよい。換言すれば、グリニャール試薬を生成した後の反応混合物に、少なくとも水を混合し、グリニャール試薬から生成したマグネシウム塩を水に溶解させて分離してもよい。すなわち、金属マグネシウム成分は、水と反応するものの、その進行は遅く、しかも水素ガスを発生するが、グリニャール試薬は、水により容易に加水分解して、ハロゲン化マグネシウム例えば、ヨウ化マグネシウム、塩化マグネシウムなどなどのマグネシウム塩を生成する。また、グリニャール試薬がポリシランの重合末端ハロゲン原子と反応した場合にも、同様のマグネシウム塩が生成する。そして、このようなマグネシウム塩は、通常、水溶性であり、ポリシランは疎水性である場合が多い。そのため、グリニャール試薬の加水分解反応やグリニャール試薬とポリシランポリシランの重合末端とのグリニャール反応により副生したマグネシウム塩を、水に溶解させることにより、容易にポリシランを含む混合物から分離することができる。なお、グリニャール試薬は、前記のように、ポリシランとのグリニャール反応に供される場合には、マグネシウム塩の形態に分解されているが、このようなグリニャール反応が生じる場合においても、未反応のグリニャール試薬が残存している場合には、未反応のグリニャール試薬を水により加水分解してもよい。水の混合量は、残存するグリニャール試薬の量などに応じて適宜選択でき、特に限定されないが、例えば、反応混合物1重量部に対して、0.1~100重量部、好ましくは0.5~50重量部、さらに好ましくは1~30重量部例えば、1.5~20重量部程度であってもよい。なお、効率よくグリニャール試薬を加水分解するため、必要に応じて、酸例えば、塩化水素などの無機酸と水との混合液例えば、酸の水溶液として水を混合してもよい。また、水とともに、ポリシランを溶解可能な有機溶媒を混合してもよい。有機溶媒としては、特に制限されず、例えば、炭化水素類[例えば、芳香族炭化水素類トルエン、キシレンなど、脂肪族炭化水素類例えば、ヘキサン、シクロヘキサンなどの鎖状又は環状炭化水素類など]、エーテル類例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルなどの鎖状エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの環状エーテル、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど、エステル類ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどのカルボン酸エステル;エトキシエチルプロピオネートなど、アルコール類メタノール、エタノール、イソプロパノールなどの一価アルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコールなどの多価アルコール類など、セロソルブ類メチルセロソルブなど、カルビトール類メチルカルビトール、エチルカルビトールなど、グリコールエーテルエステル類セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどなどが挙げられる。有機溶媒は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。特に、少なくとも疎水性有機溶媒を混合すると、マグネシウム塩を含む水相と、ポリシランを含む有機相疎水性有機溶媒相とに効率よく分離相分離させることができる。そして、このような相分離により、容易にポリシランを溶媒抽出液-液抽出により分離精製できる。疎水性溶媒としては、炭化水素類[例えば、芳香族炭化水素類ベンゼン、トルエン、キシレンなど、脂肪族炭化水素類例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、シクロオクタンなどの鎖状又は環状炭化水素類など]、エーテル類例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルなどの鎖状エーテルなどが挙げられる。なお、反応溶媒が、疎水性溶媒である場合には、必ずしも疎水性有機溶媒を添加する必要はなく、反応溶媒を疎水性有機溶媒として利用してもよく、反応溶媒に加えて疎水性有機溶媒を混合してもよい。有機溶媒例えば、疎水性有機溶媒を少なくとも含む有機溶媒の混合量は、特に限定されず、例えば、水1重量部に対して、0.1~20重量部、好ましくは0.3~15重量部、さらに好ましくは0.5~10重量部程度であってもよい。このようにして得られたポリシラン末端が封鎖されていてもよいポリシランは、さらに、慣用の分離精製手段、例えば、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、吸着、カラムクロマトグラフィーなどの分離精製手段やこれらを組合せた手段により分離精製してもよい。[ポリシランの用途]本発明のポリシランは、このように炭素含量が低いにもかかわらず、溶媒溶解性に優れておりさらには、適度な分子量や重合度を有しており、高いケイ素含量と溶媒溶解性などとをバランスよく有する材料である。そのため、取扱性にも優れ、添加剤などとして使用すると、効率よくケイ素含量を高めることができる。特に、このようなポリシランは、熱処理又は焼成処理により、容易に高純度および高収率の炭化ケイ素を得ることができる。例えば、本発明のポリシランの熱処理後例えば、不活性雰囲気下、1400°Cで12時間加熱した後の重量減少率は、75以下例えば、40~73、好ましくは70以下例えば、45~68、さらに好ましくは65以下例えば、48~63、特に60以下例えば、50~59である。具体的には、本発明のポリシラン1gあたり、0.25g以上例えば、0.27~0.6g、好ましくは0.3g以上例えば、0.32~0.55g、さらに好ましくは0.35g以上例えば、0.37~0.52g、特に0.4g以上例えば、0.41~0.5gの炭化ケイ素が得られる。しかも、本発明のポリシランは、後述するように、溶媒に溶解させて塗布するという簡便な方法で、クラックなどを生じることなく、均一な膜を形成でき、そのため、均一な炭化ケイ素の膜を得ることもできる。このように本発明のポリシランは、従来のポリシランにはない優れた特性又は性能を有しているが、特に、炭化ケイ素を製造するためのポリシランとして有用である。以下、炭化ケイ素の製造用に用いる場合炭化ケイ素の製造方法について詳述する。炭化ケイ素の製造方法炭化ケイ素は、ポリシランを熱処理加熱することで得ることができる。炭化ケイ素の製造に用いるポリシランの形態又は形状は、特に限定されず、粉末状などであってもよく、必要に応じて二次元又は三次元的形状に成形して用いてもよい。例えば、ポリシランは、構造によっては、所定の温度例えば、150°C以上において熱溶融するため、このような熱溶融を利用して所望の形状に成形して熱処理に供してもよい。本発明のポリシランは、溶媒溶解性に優れるため、溶媒に溶解させた溶液の形態で用いてもよい。例えば、ポリシランを含む溶液を気相中で噴霧又は噴射し、そのまま熱処理することで、炭化ケイ素粒子[特に、ナノメータサイズ例えば、数十nm程度の炭化ケイ素粒子]を得ることができる。特に、ポリシランを含む溶液塗布液を基材上にコーティング又は塗布し、熱処理に供してもよい。本発明のポリシランは、溶媒に溶解させて塗布するという簡便な方法で、クラックなどのない均一な膜塗膜を形成できる。そのため、本発明では、コーティングという簡便な方法で、高収率および高純度で、かつ均一な炭化ケイ素薄膜を得ることができる。溶液又は塗布液において、溶媒としては、特に制限されず、例えば、炭化水素類[例えば、芳香族炭化水素類トルエンなどなど]、エーテル類例えば、テトラヒドロフランなどの環状エーテル、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、2-ヘプタノンなどのジアルキルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのシクロアルカノンなど、エステル類酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなど、グリコールエーテル類例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど、グリコールエーテルエステル類セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなど、ハロゲン系溶媒例えば、クロロホルム、塩化メチレン、窒素含有溶媒N-メチルピロリドンなどなどの幅広い溶媒が使用できる。溶媒は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。なお、コーティングする場合、急速の塗膜の乾燥を避けて、効率よく均一な膜を形成するため、特に、溶媒は、比較的高沸点の溶媒例えば、沸点100°C以上の溶媒を含んでいてもよい。溶液又は塗布液において、ポリシランの濃度は、所望の膜厚や粒径に応じて選択できるが、例えば、0.1~30重量、好ましくは0.5~20重量、さらに好ましくは1~15重量程度であってもよい。高濃度であるほど膜厚を大きくできるが、クラックなどが発生しやすくなる場合がある。なお、塗布において、基材又は基板は、例えば、樹脂、ガラス、セラミックなどの絶縁性基板、結晶シリコンやアモルファスシリコンなどの半導体基板、金属などの導体基板、これらの基板上に導体層を形成したもの、さらにはこれらを複合したものなどが挙げられる。基材に塗膜薄膜を形成する塗布法としては、特に限定されないが、例えば、スピンコーティング法、ロールコーティング法、バーコーティング法、スリットコーティング、グラビアコーティング法、スプレーコーティング法、ディッピング法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。塗膜の厚み乾燥後厚みは、用途に応じて選択でき、例えば、0.01μm~10mm、好ましくは0.05μm~1mm、さらに好ましくは0.1~100μm程度であってもよい。なお、基材に塗布した塗膜には、必要に応じて、乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、公知の方法を用いて行うことができる。乾燥処理は、例えば、常圧下、加圧下または減圧下において行ってもよく、加熱手段ホットプレート、オーブンなどにより加温して行ってもよい。なお、乾燥処理は、後述の熱処理の場合のように、酸素分圧を低くして行うのが好ましいものの、ポリシランが急激に酸化する条件などでない限り、必ずしも低酸素分圧下で行う必要はない。熱処理加熱処理又は焼成処理において、加熱温度は、炭化ケイ素構造を形成するとう観点から、比較的高温、例えば、600°C以上例えば、600~3000°C、好ましくは700°C以上例えば、700~2500°C、さらに好ましくは800°C以上例えば、800~2000°C、特に900~1800°C例えば、1000~1700°C程度であってもよい。熱処理温度が高いほど、結晶の炭化ケイ素を効率よく得ることができる。熱処理時間は、ポリシランの形態や予備加熱処理の有無などに応じて適宜選択できる。なお、熱処理に先だって、予備加熱処理を行ってもよい。予備加熱処理は、乾燥処理に代えて又は乾燥処理とともに行うことできる。予備加熱処理において、加熱温度としては、600°C未満例えば、50~550°Cの範囲から選択でき、例えば、80~500°C、好ましくは100~450°C、さらに好ましくは150~400°C例えば、200~350°C程度であってもよい。予備加熱処理時間もまた、熱処理時間と同様に、ポリシランの形態などに応じて適宜選択できる。熱処理および予備加熱処理は、低酸素条件で行うのが好ましく、不活性雰囲気下例えば、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴンなどの希ガスなど及び/又は低圧下又は減圧下又は真空下、例えば、0.001MPa以下で行ってもよい。熱処理において、具体的な酸素圧力酸素分圧は、0.001MPa以下、好ましくは0.0005MPa以下、さらに好ましくは0.0001MPa以下であってもよい。上記のようにして高純度の炭化ケイ素が得られる。なお、得られる炭化ケイ素の形態は、前記ポリシランの形態又は形状に対応して、粉末状、膜状などのいずれであってもよい。なお、膜状の炭化ケイ素の厚みは、用途に応じて適宜選択できるが、例えば、10μm以下例えば、10~5000nm、好ましくは20~3000nm例えば、30~2000nm、さらに好ましくは50~1000nm例えば、100~500nm程度の厚みの炭化ケイ素薄膜を得ることもできる。以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、実施例において、ポリシランの分子量重量平均分子量は、GPC東ソー製HLC-8320GPCを用い、以下の条件で測定した。流量:1.0ml/min、注入量:100μL、温度:40°C、溶媒:1級テトラヒドロフラン、検出器:RI示差屈折また、実施例において、C/Si比および酸素含量は、WDX蛍光X線分析により測定した。実施例1三方コックを装着した内容積1000mlのセパラブルフラスコに粒状粒径30~40μmのマグネシウム42.6重量部1.8molと無水塩化リチウム46.8重量部1.1mol、無水塩化亜鉛45.0重量部0.3molを仕込み、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、脱水グレードのテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間攪拌した。そして、反応器に、メチルトリクロロシラン44.85重量部0.3mol、エチルトリクロロシラン32.7重量部0.2mol、メチルジクロロシラン11.5重量部0.1molとの混合物を加え、その後35°Cで約16時間攪拌して反応させた。反応終了後、水50ml、トルエン500mlを加え固形分をろ過し、純水400mlを加え撹拌し、分液漏斗で水層を除去した。その後、400mlの水投入、撹拌、水層除去を15回繰り返し、ポリシラン溶液を得た。この溶液に無水硫酸マグネシウム関東化学製を加え脱水し、硫酸マグネシウムを減圧ろ過により除去した後、60°C、3torrにて16時間乾燥させた結果、14.2重量部の淡黄色固体収率90を得た。得られた化合物の分子量をGPCにて測定した結果、重量平均分子量Mwは4000であり、分子量分布Mw/Mnは4.0であった。NMR分析およびWDX蛍光X線分析により、下記式で表される3つのユニットを有するポリシラン、すなわち、メチルトリクロロシラン-エチルトリクロロシラン-メチルジクロロシラン共重合体モル比:3/2/1、C/Si比=1.33、酸素含量9重量が得られていることを確認した。そして、得られた粉末状のポリシラン1gをアルゴン雰囲気下酸素分圧0MPa、1400°Cで12時間熱処理したところ、黒色のSiCの結晶0.42gを得た。なお、SiCの結晶には、カーボン単体は含まれていなかった。実施例2実施例1において、メチルトリクロロシラン29.9重量部0.2mol、エチルトリクロロシラン49.05量部0.3mol、ジメチルジクロロシラン12.9重量部0.1molとの混合物に代えたこと以外は、実施例1と同様に合成を行い、21.1重量部の淡黄色固体収率92を得た。得られた化合物の分子量をGPCにて測定した結果、重量平均分子量Mwは5500であり、分子量分布Mw/Mnは4.2であった。NMR分析およびWDX蛍光X線分析により、下記式で表される3つのユニットを有するポリシラン、すなわち、メチルトリクロロシラン-エチルトリクロロシラン-ジメチルジクロロシラン共重合体モル比:2/3/1、C/Si比=1.50、酸素含量10重量が得られていることを確認した。そして、得られた粉末状のポリシラン1gをアルゴン雰囲気下酸素分圧0MPa、1400°Cで12時間熱処理したところ、黒色のSiCの結晶0.40gを得た。なお、SiCの結晶には、カーボン単体は含まれていなかった。実施例3実施例1において、原料となるハロシランを、メチルトリクロロシラン44.85重量部0.3mol、エチルトリクロロシラン49.05量部0.3molの混合物に代えたこと以外は、実施例1と同様に合成を行い、14.5重量部の淡黄色固体収率85を得た。得られた化合物の分子量をGPCにて測定した結果、重量平均分子量Mwは6000であり、分子量分布Mw/Mnは4.6であった。NMR分析およびWDX蛍光X線分析により、下記式で表される2つのユニットを有するポリシラン、すなわち、メチルトリクロロシラン-エチルトリクロロシラン共重合体モル比:1/1、C/Si比=1.5、酸素含量12重量が得られていることを確認した。そして、得られた粉末状のポリシラン1gをアルゴン雰囲気下酸素分圧0MPa、1400°Cで12時間熱処理したところ、黒色のSiCの結晶0.45gを得た。なお、SiCの結晶には、カーボン単体は含まれていなかった。実施例4実施例1において、原料となるハロシランを、メチルトリクロロシラン14.95重量部0.1mol、エチルトリクロロシラン81.75量部0.5molの混合物に代えたこと以外は、実施例1と同様に合成を行い、24.2重量部の淡黄色固体収率85を得た。得られた化合物の分子量をGPCにて測定した結果、重量平均分子量Mwは5200であり、分子量分布Mw/Mnは4.3であった。NMR分析およびWDX蛍光X線分析により、実施例3と同様の2つのユニットを有するポリシラン、すなわち、メチルトリクロロシラン-エチルトリクロロシラン共重合体モル比:1/5、C/Si比=1.83、酸素含量11重量が得られていることを確認した。そして、得られた粉末状のポリシラン1gをアルゴン雰囲気下酸素分圧0MPa1400°Cで12時間熱処理したところ、黒色のSiCの結晶0.36gを得た。なお、SiCの結晶には、カーボン単体は含まれていなかった。実施例5焼成温度を800°Cとしたこと以外は、実施例4と同様に実験を行った。その結果、アモルファスのSiCを0.46g得た。なお、SiCの結晶には、カーボン単体は含まれていなかった。実施例6実施例4で得られたポリシランを酢酸ブチルに溶解し、10重量の溶液を作製した。この溶液をシリコン基板上に3000rpmおよび15秒の条件でスピンコートし、Ar雰囲気下酸素分圧0MPa、270°Cで10分間熱処理を行った後、さらに1100°Cで10分熱処理を行い、薄膜を得た。得られた薄膜をレーザー顕微鏡で観察した結果、非常に平滑でクラックのないSiC膜厚み300nmであることを確認した。なお、形成されたSiC膜は、鏡面状の光沢を有していた。形成されたSiC膜表面のレーザー顕微鏡写真を図1に示す。図1の写真から明らかなようにマイクロメータレベルで表面を観察しても、平滑なSiC膜が得られていることがわかる。実施例7反応終了後にトリメチルクロロシラン10.9重量部0.1molを添加して24時間撹拌すること以外は実施例1と同様に実験を行い、14.7重量部の淡黄色の粘性のある固体を得た収率93。NMR分析およびWDX蛍光X線分析により、実施例1と同じ3つのユニットを同じ比率で有し、末端基塩素原子がトリメチルシリル基で封鎖又は置換されたポリシラン末端封鎖率77、C/Si比=1.35、酸素含量2重量が得られていることを確認した。そして、得られたポリシラン1gをアルゴン雰囲気下酸素分圧0MPa、1400°Cで12時間熱処理したところ、黒色のSiCの結晶0.45gを得た。実施例8反応終了後にヨウ化メチル124.4重量部0.8molを65°Cを保持しながら滴下漏斗を用いて2時間かけて添加し、65°Cで約24時間攪拌すること以外は実施例1と同様に実験を行い、14.2重量部の淡黄色の粘性のある固体を得た収率90。NMR分析およびWDX蛍光X線分析により、実施例1と同じ3つのユニットを同じ比率で有し、末端基塩素原子がメチル基で封鎖又は置換されたポリシラン末端封鎖率66、C/Si比=1.37、酸素含量3重量が得られていることを確認した。そして、得られたポリシラン1gをアルゴン雰囲気下酸素分圧0MPa、1400°Cで12時間熱処理したところ、黒色のSiCの結晶0.43gを得た。比較例1三方コックを装着した内容積1000mlのセパラブルフラスコに粒状粒径30~40μmのマグネシウム42.6重量部1.8molと無水塩化リチウム46.8重量部1.1mol、無水塩化亜鉛15.0重量部0.1molを仕込み、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、脱水グレードのテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間攪拌した。そして、反応器に、メチルフェニルジクロロシラン114.7重量部0.6molを加え、その後25°Cで約16時間攪拌して反応させた。反応終了後、水50ml、トルエン500mlを加え固形分をろ過し、純水400mlを加え撹拌し、分液漏斗で水層を除去した。その後、400mlの水投入、撹拌、水層除去を15回繰り返し、ポリシラン溶液を得た。この溶液に無水硫酸マグネシウム関東化学製を加え脱水し、硫酸マグネシウムを減圧ろ過により除去した後、60°C、3torrにて16時間乾燥させた結果、64.9重量部の白色固体収率90を得た。得られたポリシランポリメチルフェニルシラン、C/Si比=71gをアルゴン雰囲気下酸素分圧0MPa、1400°Cで12時間熱処理したところ、黒色のSiCを含む結晶0.20gを得たが、カーボン単体が混入していた。また、スピンコートを行うために高沸点溶媒である酢酸ブチルやプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートでの溶解を試みたが、いずれも白濁し、均一な10重量の溶液を得ることができなかった。そのため、溶媒としてテトラヒドロフランを用いたところ、白濁、沈殿がなく、一見、均一な溶液が得られたので、3000rpmおよび30秒の条件でコーティングを行ったが、均一な膜が得られなかった。比較例2三方コックを装着した内容積1000mlのセパラブルフラスコに粒状粒径30~40μmのマグネシウム42.6重量部1.8molと無水塩化リチウム46.8重量部1.1mol、無水塩化鉄III16.2重量部0.1molを仕込み、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、脱水グレードのテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間攪拌した。そして、反応器に、ジフェニルジクロロシラン151.9部0.6molを8時間かけて滴下し、その後65°Cで約16時間攪拌して反応させた。反応終了後、水50ml、トルエン500mlを加え固形分をろ過し、純水400mlを加え撹拌し、分液漏斗で水層を除去した。その後、400mlの水投入、撹拌、水層除去を15回繰り返し、ポリシラン溶液を得た。この溶液に無水硫酸マグネシウム関東化学製を加え脱水し、硫酸マグネシウムを減圧ろ過により除去した後、60°C、3torrにて16時間乾燥させた結果、87.5重量部の白色固体収率80を得た。得られたポリシランポリジフェニルシジクロロシラン、C/Si比=121gをアルゴン雰囲気下酸素分圧0MPa、1400°Cで12時間熱処理したところ、黒色のSiCを含む結晶0.11gを得たが、カーボン単体が混入していた。また、スピンコートを行うために高沸点溶媒である酢酸ブチルやプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートでの溶解を試みたが、いずれも溶解しなかった。また、テトラヒドロフランに溶解し、3000rpmおよび30秒の条件でコーティングを行ったが、乾燥した時点でクラックが発生し、平滑な膜が得られなかった。"