"マトリクス駆動の液晶表示素子であって、透明電極を備えた一対の基板間に挟持されたコレステリック液晶と、前記透明電極と前記コレステリック液晶との界面における画素部の位置に配置され、前記コレステリック液晶に所定のプレチルト角を形成させる第一の配向膜と、前記画素部以外の非画素部の位置に配置され、前記コレステリック液晶に前記第一の配向膜より大きなプレチルト角を形成させる第二の配向膜と、を有することを特徴とする液晶表示素子。前記第一の配向膜は、前記画素部の内側に配置し、前記画素部の面積に対する前記第一の配向膜の面積の割合が、50以上、非画素部分を含む領域の面積に対する画素部分の面積比率として表される開口率未満であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。前記コレステリック液晶における選択反射波長が可視光領域であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。請求項1乃至3のいずれかの構造を有する液晶表示素子を2層以上積層してカラー表示する積層型の液晶表示素子。観察面から見て、前記積層型の液晶表示素子における各層において、前記プレチルト角の異なる部分の境界が同一の位置に配置されたことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示素子。透明電極を備えた一対の基板間に挟持されたコレステリック液晶と、前記透明電極と前記コレステリック液晶との同一界面における画素部の位置に配置され、前記コレステリック液晶に所定のプレチルト角を形成させる第一の配向膜と、前記画素部以外の非画素部の位置に配置され、前記コレステリック液晶に前記第一の配向膜より大きなプレチルト角を形成させる第二の配向膜とを有するマトリクス駆動の液晶表示素子の製造方法であって、前記基板上に透明電極を作成する工程と、前記透明電極に光配向膜を成膜する工程と、同一の光配向膜材料を形成した後、フォトマスクで遮光して紫外光を照射する工程と、を有することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。しかしながら、マトリクス駆動型の液晶表示素子において、配向膜材料に低プレチルト材料を適用すると、画素外部分のPPL状態の部分が光って見える状態のままとなって、液晶表示素子全体としてのコントラスト比が低下するという問題を抱えている。そこで、本発明では、画素外部分に配向膜として高プレチルト材料を配置することによって、コントラスト比を改善する液晶表示素子を提供する。発明の一つの態様は、マトリクス駆動の液晶表示素子であって、透明電極を備えた一対の基板間に挟持されたコレステリック液晶と、前記透明電極と前記コレステリック液晶との界面における画素部の位置に配置され、前記コレステリック液晶に所定のプレチルト角を形成させる第一の配向膜と、前記画素部以外の非画素部の位置に配置され、前記コレステリック液晶に前記第一の配向膜より大きなプレチルト角を形成させる第二の配向膜と、を有することを特徴とする液晶表示素子に関する。上記本発明の一態様によれば、電圧印加によって配向状態が制御できない画素外の部位に高プレチルト角となる配向膜を配置し、画素部分に低プレチルト角となる配向膜を配置することによって、表示のコントラスト比の低下を抑制することが可能となる。以下、本発明の実施形態につき、図面に基づいて説明する。図1は、本発明のマトリクス駆動型の液晶表示素子の構成例を示す。図1aは、液晶表示素子の断面図を示し、図1bは、液晶表示素子のマトリクス電極構造部分の上面図を示している。In2O3等の材料を蒸着等によって形成した透明電極11、21をそれぞれ備えた一対の基板1、2と、基板1、2間に挟持された液晶以降、コレステリック液晶と表す100と、それぞれの透明電極11、21上に設けられた配向膜3を有する。また、配向膜3は、透明電極11、21とコレステリック液晶100との同一界面において、画素部50に位置するコレステリック液晶100に所定のプレチルト角を形成させる第一の配向膜3aを有する。さらに、非画素部51のコレステリック液晶100に第一の配向膜より大きなプレチルト角を形成させる第二の配向膜3bを有する。上述したように、コレステリック液晶を用いた液晶表示素子では、電圧印加による相状態のコントロールができない画素部50以外の非画素部51の液晶界面近傍のみ、高プレチルト角となるように配向膜3をコントロールすることによって、この部分の反射成分を減らし、明るさを向上させ、かつコントラストの低下を改善することが可能となる。ここで、コレステリック液晶を用いた液晶表示素子の動作について補足しておく。なお、図1において、液晶表示素子は、基板1を観察者から見たときの上面側基板とし、図示していないが、基板2の下面には、透過した光を吸収する光吸収層が設けられている。コレステリック液晶100におけるプレーナPL状態とフォーカルコニックFC状態の2つの状態は、コレステリック液晶100を透明電極11/21間に電圧印加することによって制御される。その状態は、電圧をOFFしても安定して存在する。コレステリック液晶で選択反射される波長λは、1式に示したように、液晶材料固有の平均屈折率nと螺旋ピッチ螺旋構造の1周期pに依存する。したがって、PL状態にあるとき、液晶分子の螺旋ピッチや屈折率に応じた波長の光が選択的に反射される選択反射。例えば、λが545nmとなるコレステリック液晶を用いれば、緑色を発現する表示素子を形成できる。このように、コレステリック液晶100における選択反射波長λを可視光領域とすることができる。また、こうしたコレステリック液晶からなる液晶表示素子を2層以上積層して各層で選択反射波長の異なる積層型のカラー液晶表示素子とすることができる。さらに、観察面上面から見て、積層型の液晶表示素子における各層において、プレチルト角の異なる部分の境界を同一の位置に配置することによって、安定した見やすいカラー液晶表示素子が実現される。つぎに、図2~3を用いて、本発明の液晶表示素子における配向膜について説明する。図2は、本発明の液晶表示素子に適用する配向膜材料の構造例を示す。コレステリック液晶との界面に配置する配向膜材料としては、従来、TN液晶に一般的に用いられているポリイミド系の材料を適用する。図2は、ポリイミドの一般的な構造である。例えば、R’部分の側鎖部にアルキル鎖などを配置し、このアルキル鎖の長さを変えることによって、プレチルト角の異なる配向膜材料とすることができる。一般的には、側鎖部が長いほど、高プレチルトな膜になると言われている。通常のTN液晶素子などでは、電圧印加時の液晶分子のおきあがり方を一定方向にし、表示品質を安定化するために、一定値以上のプレチルト角を持たせる。高プレチルトであるほど、液晶分子のおきあがり方向を一定にする効果は大きいが、その分、視野角特性は低下するなどといったことが、一般的に知られている。しかしながら、プレチルト角の大きさがコレステリック液晶の表示特性に与える影響については、一般的にはあまり知られていない。そこで、以下に、プレチルト角と表示特性の関係を実験的に求めた。図3は、コレステリック液晶の表示特性に及ぼす配向膜材料の影響を示す。図3は、図1の構成の液晶表示素子において、同一の液晶材料を用いて、液晶界面に配置する配向膜のみ低プレチルトの配向膜と高プレチルトの配向膜に変えた場合の差異について反射特性を調べたものである。なお、図3では、液晶表示素子に電圧を印加する前のPPL状態の反射特性を示している。例えば、高プレチルトな材料としては、日産化学製のSE5300、低プレチルトな材料としては、日産化学製のSE5291などが挙げられる。図3に示すように、配向膜としては、低プレチルト材料の方が、高プレチルト材料よりもPPL状態での選択反射の反射率が高くなることが分かった。これは、低プレチルト角であるほど、PPL状態は、PL状態に近い配向状態をとるため、液晶で反射する光量も増えると考えられる。ここで、図4、5を用いて、以降のマトリクス構造の液晶表示素子の明るさ及びコントラスト比の評価にあたり、明るさ及びコントラスト比と開口率との関係を述べておく。図4は、マトリクス構造の液晶表示素子の開口率の定義を説明する図である。図4に示すように、マトリクス構造において、ストライプ状の上部の透明電極11と下部の透明電極21とが交叉して画素部50太い実線で囲まれた領域と非画素部51が形成される。いま、画素部50のサイズをD、画素間隔をdとすると、開口率Sは、非画素部を含む部分太い点線で囲まれた領域の面積Fに対する画素部50の面積Eの比、S=E/F=D2/Dd2で表される。例えば、Dを90μm、dを10μmとすると、開口率Sは81となる。図5は、液晶表示素子の明るさ及びコントラスト比と開口率の関係を示す。コレステリック液晶を用いた液晶表示素子では、PL状態を明状態、FC状態を暗状態として利用する。まず、PL状態の反射スペクトルを測定し、得られた反射スペクトルから視感度を加味したY値を算出する。このY値Yを明るさとする。つぎに、FC状態の反射スペクトルを測定し、得られた反射スペクトルから視感度を加味したY値を算出し、PL状態のY値をFC状態のY値で割った値をコントラスト比とする。実際の液晶表示素子では、開口率が、明るさとコントラスト比に影響を与える。例えば、コレステリック液晶を用いた素子の場合は、開口率がSのマトリクス構造の素子である場合、実際の明るさとコントラスト比は、図5のように、以下の式で計算できる。明状態の明るさIL=YPL×SYPPL×SN2暗状態の明るさID=YFC×SYPPL×SN3コントラスト比C=IL/ID4ここで、PPLは、液晶をセル内に注入、熱処理による等方化処理を施した後、電圧を印加する前の状態である。また、Sは、開口率を表し、SNは、電圧による制御不能な領域の面積比率であり、SN=1-Sで表される。これまで述べてきたように、液晶界面に配置する配向膜材料として、低プレチルト角用材料と高プレチルト角用材料を用いた場合で、PL状態の明るさが異なり、低プレチルトであるほど、PL状態の明るさを示すY値が大きくなることが分かった。しかし、低プレチルトとなる配向膜材料を用いると、画素外部分のPPL状態の部分が光って見える状態のままとなってしまい、表示素子全体としてのコントラスト比が低下する。そこで、以下、図6、図7に、画素外部分のPPL状態の部分における光り状態をなくすための配向膜の構造を提案する。図6は、本発明の面内プレチルト角を制御する方法その1-画素部全体に低プレチルト材料を配置を示す。図6は、画素部全体に低プレチルト材料を配置した例である。図6aは、上部電極と下部電極で構成されるマトリクス構造を示し、図6bは、aの円形点線部分に存在する一画素近傍の上面図を示し、および図6cは、bのA-A’ラインの断面図を示している。本液晶表示素子は、透明電極11、21をそれぞれ備えた一対の基板1、2と、基板1、2間に挟持されたコレステリック液晶100と、それぞれの透明電極11、21上に設けられた配向膜3を有する。また、配向膜3は、透明電極11、21とコレステリック液晶100との同一界面において、画素部50全体に設けられた第一の配向膜3aと非画素部51に設けられた第二の配向膜3bを有する。第一の配向膜3aは、接する画素部50全体に位置するコレステリック液晶100に所定のプレチルト角を形成させ、第二の配向膜3bは、非画素部51のコレステリック液晶100に第一の配向膜3aより大きなプレチルト角を形成させる役割を持つ。本実施例では、配向膜3は、画素部50全体を低プレチルト材料とし、電圧で制御できない非画素部51を高プレチルト材料とする構成によって、コレステリック液晶100と接する同一の界面において、異なるプレチルト状態PPL状態を存在させ、非画素部51における反射光を抑制しつつ、画素部50における反射光を増加させることで、コントラスト比を改善するものである。図7は、本発明の面内プレチルト角を制御する方法その2-画素部の一部に低プレチルト材料を配置を示す。図7は、画素部の一部に低プレチルト材料を配置した例である。図7aは、上部電極と下部電極で構成されるマトリクス構造を示し、図7bは、aの円形点線部分に存在する一画素近傍の上面図を示し、および図7cは、bのA-A’ラインの断面図を示している。本液晶表示素子は、透明電極11、21をそれぞれ備えた一対の基板1、2と、基板1、2間に挟持されたコレステリック液晶100と、それぞれの透明電極11、21上に設けられた配向膜3を有する。また、配向膜3は、透明電極11、21とコレステリック液晶100との同一界面において、画素部50の一部に設けられた第一の配向膜3aと非画素部51に設けられた第二の配向膜3bを有する。第一の配向膜3aは、接する画素部50の一部に位置するコレステリック液晶100に所定のプレチルト角を形成させ、第二の配向膜3bは、非画素部51のコレステリック液晶100に第一の配向膜3aより大きなプレチルト角を形成させる役割を持つ。本実施例では、配向膜3は、画素部50の一部を低プレチルト材料とし、電圧で制御できない非画素部51を高プレチルト材料とする構成によって、図6と同様に、コレステリック液晶100と接する同一の界面において、異なるプレチルト状態PPL状態を存在させ、非画素部51における反射光を抑制し、画素部50における反射光を増加させることができる。本実施例のように、低プレチルト部を画素内に配置させる方が、図6のように低プレチルト部の境界を画素の境界まで広げた場合に比べて、製造の許容度は大きくなるメリットがある。以下、さらに、低プレチルト部と高プレチルト部からなる配向膜の配置構成とその効果について説明する。ここで、本発明の構成では、コレステリック液晶として、例えば、図5におけるPL状態及びPPL状態の各Y値色度測定による実測値は、高プレチルトの場合、YPLが24.6、YPPLが0.098、低プレチルトの場合、YPLが30.8、YPPLが4.05、また、FC状態の各Y値実測値は、高プレチルトのYPLが1.2、低プレチルトのYFCが1.4の液晶材料を用いている。これらの値を用い、図5にしたがって、配向膜の低チルト部分の面積に対する明るさ及びコントラストを計算した結果を、以下の図8、図9に示す。図8は、本発明の液晶表示素子における配向膜の構成と明るさの関係を示す。図8は、低プレチルト部の面積率に対する明るさを評価した結果を示している。なお、低プレチルト部の面積率が0とは、全ての領域に高プレチルト材料が配置された場合に相当している。開口率が81のマトリクス構造の表示素子である場合、実際の明るさとコントラスト比は、図5の計算式を用いて計算できる。この時、高プレチルト部と低プレチルト部の境界が、画素部50外に配置されると、顕著にコントラスト比に影響するため図9に後述、境界は、画素部50内となるように配置するのがよい。なお、図8は、高プレチルト場合、YPLが24.6、YPPLが0.098、低プレチルトの場合、YPLが30.8、YPPLが4.046となるコレステリック液晶材料を用い、開口率を81とした場合を示している。図8によれば、画素部50内で、低プレチルトとなる部分の面積率が50以上確保できれば、全ての領域を高プレチルトにした場合と比較して1割以上、明るさが向上することが分かる。つぎに、図9は、本発明の液晶表示素子における配向膜の構成とコントラスト比の関係を示す。図9は、低プレチルト部の面積率に対するコントラスト比を評価した結果を示している。なお、用いたコレステリック液晶のFC状態における各Y値実測値は、低プレチルトのYFCが1.4、高プレチルトのYPLが1.2である。また、PL状態及びPPL状態の各Y値及び開口率は図8と同一としている。図9によれば、低プレチルト部の面積率が開口率である80を超えると,顕著にコントラスト比が低下してくることが分かる。上述してきたように、図8、9を総合すると、低プレチルトとする部分の面積率を50程度まで広げると、コントラスト比を低下させずに維持したまま、明るさは、全体を高プレチルトとした場合と比較して1.1倍以上に向上させることができる。以上、図8、図9の液晶表示素子の明るさとコントラスト比の結果によって、液晶表示素子の配向膜において、画素内に配置される低プレチルト部と高プレチルト部の構成の範囲が確定される。以上述べてきた液晶表示素子の主要な構成要素である配向膜を実現する製造方法を以下に示す。図10は、本発明の液晶表示素子における配向膜の製造方法を示す。本実施例では、光露光法によって配向膜を製造する方法について説明する。まず、工程S11において、各透明基板上にIn2O3を蒸着によって透明電極を0.13μmの厚さに形成した。つぎに、工程S12において、配向膜として透明電極上に一様に、光照射によって配向がそろう光配向膜材料をスピンナーによって2000rpmの回転速度で約50nmの厚さに塗布した。こうして同一の光配向膜材料を透明電極上に一様に形成し、ポストベークを施した。そして、工程S13において、高圧水銀ランプを用い、365nmの紫外光をフォトマスクで遮光して30ミリジュール照射した。以上の製造工程により、例えば、側鎖部にアゾベンゼン部を有する光配向膜は、紫外光の照射により、低プレチルト角側へ表面状態を改質することが可能となる。以上のように、表面改質できる材料を用い、光照射によって、プレチルト角の異なる低プレチルト部位と高プレチルト部位を同一平面上に簡便に形成することができる。上記光照射以外に、プレチルト角の異なる配向膜を形成する方法として、高プレチルトな材料としては、例えば、日産化学製のSE5300等の高プレチルト材料、及び日産化学製のSE5291等の低プレチルト材料をレジストでマスキングしてスピンコータで作成するのでもよい。"