"100°C以上の耐熱性を有し、表面に算術平均高さRaで0.2~2.2μmの微細凹凸が形成された樹脂フィルムAを基材とし、その片面または両面に、第一層の金属遮光膜Bと、チタン、酸素を主成分として膜中のO/Ti原子数比が0.7~1.4である第二層の黒色被覆膜Cと、さらに第三層の透明金属化合物膜Dが順次形成されていることを特徴とする耐熱遮光多層フィルム。透明金属化合物膜Dが、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素の酸化物、窒化酸化物、炭化酸化物、炭化窒化酸化物であることを特徴とする請求項1に記載の耐熱遮光多層フィルム。透明金属化合物膜Dの金属含有量が、金属/酸素原子数比として0.8未満であることを特徴とする請求項1又は2に記載の耐熱遮光多層フィルム。透明金属化合物膜Dの膜厚が、5~250nmであることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルム。透明金属化合物膜Dが、光学ガラス基板に成膜したとき、波長380~780nmにおける平行光線透過率が、平均値で70以上であり、また、平均正反射率が、20以下であることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルム。金属遮光膜Bが、チタン、タンタル、タングステン、コバルト、ニッケル、ニオブ、鉄、亜鉛、銅、アルミニウム、珪素より選ばれた1種類以上の元素からなる群より選ばれることを特徴とする請求項1に記載の耐熱遮光多層フィルム。金属遮光膜Bが、炭化チタン膜または炭化酸化チタン膜であることを特徴とする請求項1に記載の耐熱遮光多層フィルム。金属遮光膜Bの炭素含有量が、C/Ti原子数比として0.6以上であって、酸素含有量が、O/Ti原子数比として0.4以下であることを特徴とする請求項1に記載の耐熱遮光多層フィルム。金属遮光膜Bの厚みが、40~250nmであることを特徴とする請求項1に記載の耐熱遮光多層フィルム。黒色被覆膜Cが、さらに炭素を含むことを特徴とする請求項1に記載の耐熱遮光多層フィルム。黒色被覆膜Cの膜厚が、50~250nmであることを特徴とする請求項1に記載の耐熱遮光多層フィルム。樹脂フィルムAが、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アラミド、ポリエーテルエーテルケトン、またはポリエーテルサルフォンから選ばれた1種類以上の樹脂を主成分とするフィルムであることを特徴とする請求項1~11のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルム。樹脂フィルムAの厚みが、10~250μmであることを特徴とする請求項1に記載の耐熱遮光多層フィルム。100°C以上の耐熱性を有する樹脂フィルムAの両面に、実質的に同じ膜厚、かつ同じ組成の金属遮光膜B、黒色被覆膜C、透明金属化合物膜Dが形成され、樹脂フィルムAに対して対称構造であることを特徴とする請求項1~13のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルム。光遮光性の指標である平均光学濃度が、波長380~780nmにおいて4.0以上、平均正反射率が0.3未満であることを特徴とする請求項1に記載の耐熱遮光多層フィルム。CIE国際照明委員会で標準化されている、Lab表色系測定JISZ8729において、L明度が20~35であり、また、大気中2週間放置後の色差ΔEabが、1.0未満であることを特徴とする請求項1または15のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルム。算術平均高さRaが0.2~2.2μmの微細表面凹凸とした樹脂フィルムAをスパッタリング装置に供給し、不活性ガス雰囲気下で金属遮光膜用ターゲットを用いてスパッタリングし、樹脂フィルムA上に、金属遮光膜Bを形成し、次いで、不活性ガス雰囲気中、1.5Pa以上の成膜ガス圧下で黒色被覆膜形成用ターゲットを用いてスパッタリングして、前記金属遮光膜B上に、チタン、酸素、炭素を主成分として膜中のO/Ti原子数比が0.7~1.4である黒色被覆膜Cを形成した後、不活性ガス雰囲気下、透明金属化合物D形成用ターゲットを用いてスパッタリングして、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素の酸化物、窒化酸化物、炭化酸化物、炭化窒化酸化物であり、膜中の金属含有量が金属/酸素原子数比として0.8未満である透明金属化合物Dを形成することを特徴とする請求項1~16のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルムの製造方法。透明金属化合物膜Dが、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素を含有する金属ターゲット、金属酸化物ターゲット、金属炭化物ターゲットまたは金属窒化物ターゲットのいずれかを用い、アルゴンガス中に酸素ガスまたは/および窒素ガスを導入して、0.2~0.8Paの成膜ガス圧にてスパッタリングして形成されることを特徴とする請求項17に記載の耐熱遮光多層フィルムの製造方法。金属遮光膜Bを形成する際の成膜ガス圧が、0.2~0.8Paであることを特徴とする請求項17又は18に記載の耐熱遮光多層フィルムの製造方法。請求項17~19のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルムの製造方法により得られた、片面に前記金属遮光膜B、前記黒色被覆膜C及び前記透明金属化合物膜Dの順に形成された積層膜を備える耐熱遮光フィルムを、スパッタリング装置に供給し、不活性ガス雰囲気下で金属遮光膜B形成用ターゲットを用いたスパッタリングにより、前記樹脂フィルム基材Aの積層膜が形成されていないもう一方の片面に、金属遮光膜Bを形成し、次いで、不活性ガス雰囲気下での黒色被覆膜形成用ターゲットを用いたスパッタリングにより、前記金属遮光膜B上に、チタン、酸素、炭素を主成分として膜中のO/Ti原子数比が0.7~1.4である黒色被覆膜Cを形成した後、不活性ガス雰囲気下で、透明金属化合物D形成用ターゲットを用いたスパッタリングにより、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素の酸化物、窒化酸化物、炭化酸化物、炭化窒化酸化物であり、膜中の金属含有量が金属/酸素原子数比として0.8未満である透明金属化合物Dを形成することを特徴とする耐熱遮光多層フィルムの製造方法。請求項1~16のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルムを打ち抜き加工して得られる耐熱性に優れた絞り。ウェハーレベルチップサイズパッケージWLCSP構造のカメラモジュールに利用されることを特徴とする請求項21に記載の耐熱性に優れた絞り。請求項1~16のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルムを打ち抜き加工して得られる耐熱性に優れたシャッター羽根。請求項1~16のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルムを打ち抜き加工して得られる耐熱性に優れた光量調整用絞り羽根。請求項1~16のいずれかに記載の耐熱遮光多層フィルムの片面、または両面に粘着層を設けてなる耐熱遮光テープ。本発明は、これら従来の問題点に鑑み、大気中100°Cの高温環境下でも高遮光性、表面の低反射性、低表面光沢性、黒色性を維持し、さらにフィルム表面の膜色の経時変化を抑制できる固定絞りやシャッター羽根、光量調整絞り装置の絞り羽根、耐熱遮光テープなどとして使用できる耐熱遮光フィルムとその製造方法を提供することを目的とする。本発明者は、上述した金属遮光膜上に特定の炭化酸化チタン膜黒色被覆膜を形成した耐熱遮光フィルムにおいて、炭化酸化チタン膜が酸素を取り込みやすい膜構造になっていると、高温で長時間加熱された際に炭化酸化チタン膜が酸化して色味が変化することを突き止め、さらに鋭意研究を重ねた結果、黒色被覆膜上に透明金属化合物膜を形成することで、膜色の経時変化を抑制することができ、大気中270°C以上の高温環境下でも高遮光性、表面の低反射性、低表面光沢性、黒色性を維持できることを見出し、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話、デジタルビデオカメラ、液晶プロジェクターなどの絞りや羽根部材として利用できることを確認して、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の第1の発明によれば、100°C以上の耐熱性を有し、表面に算術平均高さRaで0.2~2.2μmの微細凹凸が形成された樹脂フィルムAを基材とし、その片面または両面に、第一層の金属遮光膜Bと、チタン、酸素を主成分として膜中のO/Ti原子数比が0.7~1.4である第二層の黒色被覆膜Cと、さらに第三層の透明金属化合物膜Dが順次形成されていることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第2発明によれば、第1の発明において、透明金属化合物膜Dが、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素の酸化物、窒化酸化物、炭化酸化物、炭化窒化酸化物であることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第3の発明によれば、第1又は2の発明において、透明金属化合物膜Dの金属含有量が、金属/酸素原子数比として0.8未満であることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第4の発明によれば、第1~第3の発明において、透明金属化合物膜Dの膜厚が、5~250nmであることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第5の発明によれば、第1~第4のいずれかにおいて、透明金属化合物膜Dが、光学ガラス基板に成膜したとき、波長380~780nmにおける平行光線透過率が、平均値で70以上であり、また、平均正反射率が、20以下であることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第6の発明によれば、第1の発明において、金属遮光膜Bが、チタン、タンタル、タングステン、コバルト、ニッケル、ニオブ、鉄、亜鉛、銅、アルミニウム、珪素より選ばれた1種類以上の元素からなる群より選ばれることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第7の発明によれば、第1の発明において、金属遮光膜Bが、炭化チタン膜または炭化酸化チタン膜であることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第8の発明によれば、第1の発明において、金属遮光膜Bの炭素含有量が、C/Ti原子数比として0.6以上であって、酸素含有量が、O/Ti原子数比として0.4以下であることを特徴とする耐熱遮光フィルムが提供される。また、本発明の第9の発明によれば、第1の発明において、金属遮光膜Bの厚みが40~250nm以上であることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第10の発明によれば、第1の発明において、黒色被覆膜Cがさらに炭素を含むことを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第11の発明によれば、第1の発明において、黒色被覆膜の膜厚が、50~250nmであることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第12の発明によれば、第1~11の発明において、樹脂フィルムAが、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アラミド、ポリエーテルエーテルケトン、またはポリエーテルサルフォンから選ばれた1種類以上の樹脂を主成分とするフィルムであることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第13の発明によれば、第1の発明において、樹脂フィルムAの厚みが、10~250μmであることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第14の発明によれば、第1~13の発明のいずれかにおいて、100°C以上の耐熱性を有する樹脂フィルムAの両面に、実質的に同じ膜厚、かつ同じ組成の金属遮光膜B、黒色被覆膜C、透明金属化合物膜Dが形成され、樹脂フィルムAに対して対称構造であることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。また、本発明の第15の発明によれば、第1の発明において、光遮光性の指標である平均光学濃度が波長380~780nmにおいて4.0以上、平均正反射率が0.3未満であることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。さらに、本発明の第16の発明によれば、第1または第15の発明において、CIE国際照明委員会で標準化されている、Lab表色系測定JISZ8729において、L明度が20~35であり、また、大気中2週間放置後の色差ΔEabが、1.0未満であることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムが提供される。一方、本発明の第17の発明によれば、算術平均高さRaが0.2~2.2μmの微細表面凹凸とした樹脂フィルムAをスパッタリング装置に供給し、不活性ガス雰囲気下で金属遮光膜用ターゲットを用いてスパッタリングし、樹脂フィルムA上に、金属遮光膜Bを形成し、次いで、不活性ガス雰囲気中、1.5Pa以上の成膜ガス圧下で黒色被覆膜形成用ターゲットを用いてスパッタリングして、前記金属遮光膜B上に、チタン、酸素、炭素を主成分として膜中のO/Ti原子数比が0.7~1.4である黒色被覆膜Cを形成した後、不活性ガス雰囲気下、透明金属化合物D形成用ターゲットを用いてスパッタリングして、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素の酸化物、窒化酸化物、炭化酸化物、炭化窒化酸化物であり、膜中の金属含有量が金属/酸素原子数比として0.8未満である透明金属化合物Dを形成することを特徴とする耐熱遮光多層フィルムの製造方法が提供される。また、本発明の第18の発明によれば、第17の発明において、透明金属化合物膜Dが、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素を含有する金属ターゲット、金属酸化物ターゲット、金属炭化物ターゲットまたは金属窒化物ターゲットのいずれかを用い、アルゴンガス中に酸素ガスまたは/および窒素ガスを導入して、0.2~0.8Paの成膜ガス圧にてスパッタリングして形成されることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムの製造方法が提供される。また、本発明の第19の発明によれば、第17または第18の発明において、金属遮光膜Bを形成する際の成膜ガス圧が、0.2~0.8Paであることを特徴とする耐熱遮光多層フィルムの製造方法が提供される。また、本発明の第20の発明によれば、第17~第19の発明の耐熱遮光多層フィルムの製造方法により得られた、片面に前記金属遮光膜B、前記黒色被覆膜C及び前記透明金属化合物膜Dの順に形成された積層膜を備える耐熱遮光フィルムを、スパッタリング装置に供給し、不活性ガス雰囲気下で金属遮光膜B形成用ターゲットを用いたスパッタリングにより、前記樹脂フィルム基材Aの積層膜が形成されていないもう一方の片面に、金属遮光膜Bを形成し、次いで、不活性ガス雰囲気下での黒色被覆膜形成用ターゲットを用いたスパッタリングにより、前記金属遮光膜B上に、チタン、酸素、炭素を主成分として膜中のO/Ti原子数比が0.7~1.4である黒色被覆膜Cを形成した後、不活性ガス雰囲気下で、透明金属化合物D形成用ターゲットを用いたスパッタリングにより、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素の酸化物、窒化酸化物、炭化酸化物、炭化窒化酸化物であり、膜中の金属含有量が金属/酸素原子数比として0.8未満である透明金属化合物Dを形成することを特徴とする耐熱遮光多層フィルムの製造方法が提供される。一方、本発明の第21の発明によれば、第1~第16のいずれかの発明において作製される耐熱遮光多層フィルムを打ち抜き加工して得られる耐熱性に優れた絞りが提供される。また、本発明の第22の発明によれば、第21の発明において、ウェハーレベルチップサイズパッケージWLCSP構造のカメラモジュールに利用されることを特徴とする絞りが提供される。また、本発明の第23の発明によれば、第1~第16のいずれかの発明において、耐熱遮光多層フィルムを打ち抜き加工して得られる耐熱性に優れたシャッター羽根が提供される。また、本発明の第24の発明によれば、第1~第16のいずれかの発明において作製される耐熱遮光多層フィルムを打ち抜き加工して得られる耐熱性に優れた光量調整用絞り羽根が提供される。また、本発明の第25の発明によれば、第1~第16のいずれかの発明において作製される耐熱遮光多層フィルムの片面、または両面に粘着層を設けてなる耐熱遮光テープが提供される。本発明の耐熱遮光多層フィルムは、100°C以上の耐熱性を有し、表面に微細凹凸が形成された樹脂フィルムAに、第一層として金属遮光膜Bと、第二層としてチタン、酸素を主成分とする黒色被覆膜の酸化チタン膜Cを積層し、さらに第3層として透明金属化合物膜Dを順次形成しているため、可視光域波長380~780nmにおいて、低反射性、高遮光性、低光沢性を発揮することができ、さらに透明金属化合物が酸化防止膜として被覆されているので、大気中長時間放置や高温および高温高湿環境下での酸素、水分による酸化によって起こる膜表面の明度、色度の変化はなく、安定である。また、従来、大気中での長時間放置によって起こっていた膜酸化が抑制され、膜表面の明度、色度の変化がなく、大気中270°C以上の高温環境下においても耐熱性を有する軽量な耐熱遮光フィルムが実現でき、表面の低反射性、低光沢性、高遮光性、黒色性も損なわれないことから、絞りや羽根材など様々な光学部材に有用である。さらに、本発明の耐熱遮光テープは、粘着層を設けているのでフレキシブルプリント配線基板に貼り付ければ、CCD、CMOSなどの撮像素子の背面から漏れた光を吸収して通過を阻止することができる。そのため、漏れ光の撮像素子への再入射を抑制でき、撮像品質の安定化に寄与できる。以下、本発明の耐熱遮光多層フィルム、その製造方法、用途について図面を用いて説明する。1.耐熱遮光多層フィルム本発明の耐熱遮光多層フィルム以下、耐熱遮光フィルムともいうは、100°C以上の耐熱性を有し、表面に算術平均高さRaで0.2~2.2μmの微細凹凸が形成された樹脂フィルムAを基材とし、その片面または両面に、第一層の金属遮光膜Bと、チタン、酸素を主成分として膜中のO/Ti原子数比が0.7~1.4である第二層の黒色被覆膜Cと、さらに第三層の透明金属化合物膜Dが順次形成されていることを特徴とする。本発明の耐熱遮光多層フィルムは、樹脂フィルム基材1と、その表面に形成された金属遮光膜2と、黒色被覆膜3と、透明金属化合物膜4で構成されている。金属遮光膜、黒色被覆膜、透明金属化合物膜は、図1に示すように、樹脂フィルム基材の片面に形成されていてもよいが、図2に示すように両面に形成されている方が好ましい。樹脂フィルム基材両面に形成される場合は、各面の遮光性薄膜の組成と厚みが同じで、フィルム基材を中心として対称の構造であることが、より好ましい。基材の上に形成された薄膜は、基材に対して応力を与えるため、変形の要因となる恐れがある。基材の片面に薄膜が形成される場合、膜応力による変形は、成膜直後の耐熱遮光フィルムでも見られる場合があるが、特に180°C程度に加熱されると変形が大きくなりやすい。しかし、上記のように基材の両面に形成する遮光性薄膜の材質、膜厚を同じにして、基材を中心として対称の構造にすることで、上記加熱条件下でも応力のバランスが維持され、変形のない耐熱遮光フィルムを実現しやすい。本発明の耐熱遮光多層フィルムは、遮光性に優れ、その指標である波長380~780nmにおける平均光学濃度が4以上であり、かつ最大正反射率が0.3以下である。算術平均高さRaの大きい樹脂フィルムの最大正反射率が低いほど、膜最表面に形成される透明金属化合物膜を形成した後の最大正反射率は低くなり、極めて低い反射性を得ることができる。また、透明金属化合物膜を形成することで樹脂フィルム上に金属遮光膜、黒色被覆膜を順次形成した場合の膜の色味に比べ、L値が小さくなり、黒色度が向上する。本発明の耐熱遮光フィルムは、金属遮光膜上にチタン、酸素を主成分として膜中の酸素含有量がO/Ti原子数比として、0.7~1.4である黒色被覆膜が形成され、透明金属化合物膜で被覆されている。黒色被覆膜が最表面にあると、大気中での長時間放置や高温または高温高湿の環境下によって、黒色被覆膜内に酸素や水分が取り込まれることで黒色被覆膜の酸化が起こり、黒色被覆膜の光学特性を示す光学定数が変化し、黒色被覆膜表面の明度や色度が変化し、見た目の色が経時変化してしまう。しかし、膜中の金属含有量が金属/酸素原子数比として0.8未満である透明金属化合物膜が黒色被覆膜上に形成されることで、黒色被覆膜の酸化が抑制され、膜表面の明度、色度が変化しにくくなる。これは、透明金属化合物膜が緻密であり、下層の炭化酸化チタン膜中への空気中の酸素や水分の進入を防止するためである。この効果は、透明金属化合物膜が酸化アルミニウム、酸化亜鉛系金属酸化物、二酸化珪素、酸化チタン、チタン窒化物など大気中の酸素や水分に対して防湿性の高い材料で構成されていると、より大きなものとなる。また、本発明の耐熱遮光多層フィルムの明度L値は、20~35であり、極めて黒色度が高い。正反射率が低いほど、L値は小さくなり、フィルムの黒色度は高くなり、低正反射率と黒色度が要求されるデジタルカメラやカメラ付き携帯電話用の絞り材、羽根材として有用である。本発明の耐熱遮光多層フィルムの厚みは、10~250μm以下であることが好ましい。より好ましくは、20~150μmであり、30~100μmがさらに好ましい。10μmよりも薄いものでは、ハンドリング性に劣るため、フィルムに傷や折れ目などの表面欠陥が付きやすく、250μmより厚いと、小型化、薄肉化が進む絞り装置や光量調整装置への搭載ができなくなるおそれがある。樹脂フィルムの片面または両面にはガスバリア膜を形成しても良い。樹脂フィルムに酸素や水分が含まれている場合があり、金属遮光膜に酸素が作用することで劣化する可能があるが、ガスバリア膜を成膜することにより、金属遮光膜の劣化を抑えることが出来る。ガスバリア膜としては、ニッケルを主成分とした金属酸化物膜をスパッタリング法で形成することが好ましく、その膜厚は、特に限定されないが、例えば5~30nm程度が好ましい。本発明の耐熱遮光フィルムを大気中に2週間放置したときの色差は1.0未満であり、目視では色味の変化はほとんど分からないほどである。なお、遮光フィルムの色差が1.0以上であっても、遮光性や耐熱性などの特性に問題がなければ、羽根材や絞りなどに使用することは可能である。2.樹脂フィルムA本発明の耐熱遮光フィルムは、100°C以上の耐熱性を有する、樹脂フィルムを基板として用いる。樹脂の種類は、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アラミド、ポリエーテルエーテルケトン、又はポリエーテルサルフォンから選ばれた1種以上である。耐熱性はポリエチレンテレフタレート約105°C、ポリカーボネート約140°Cであり、それぞれ、105°C、140°C以下の温度環境下で利用することができる。また、ポリエチレンナフタレートは耐熱性が約200°Cであり、155~200°Cの温度環境下で利用することができる。また、ポリイミド、ポリアミドイミド、アラミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、又はポリエーテルサルフォンは耐熱性が200°C以上であり、200°C以上の環境下でも利用できる。特に、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトンは耐熱温度が300°C以上と非常に優れているため、300°C以上の温度環境下でも利用することができる。このように、樹脂フィルムは、耐熱遮光フィルムの使用温度環境に応じた材料を用いればよい。上記樹脂フィルムの厚みは、10~250μmの範囲が好ましく、より好ましくは20~150μm、最も好ましくは30~100μmである。10μmより薄い樹脂フィルムでは、ハンドリング性が悪くて取り扱いにくく、フィルムに傷や折れ目などの表面欠陥が付きやすくなるため好ましくない。樹脂フィルムが250μmより厚いと、小型化が進む絞り装置や光量調整用装置へ遮光羽根を複数枚搭載することができず、用途によっては所望の性能が得られなくなってしまう。また、樹脂フィルムは表面凹凸性を有しているので、透明金属化合物膜の表面に凹凸が生じると光の正反射率を低減する、すなわち艶消しの効果をもたらすことができ、光学部材として好ましいものとなる。ここで算術平均高さとは、算術平均粗さとも言われ、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計して平均した値である。基材表面の凹凸は、ナノインプリンティング加工やショット材を使用したマット処理加工によって所定の表面凹凸を形成することができる。マット処理の場合は、ショット材に砂を使用したマット処理加工が一般的であるが、ショット材はこれに限定されない。樹脂フィルムを基材として金属遮光膜を形成する前に、樹脂フィルムの表面を上記の方法で凹凸化しておくと有効である。また、樹脂フィルムは柔らかいため、表面に形成する膜の応力の影響を受けて変形しやすい。これを回避するため、本発明の耐熱遮光多層フィルムにおいては、樹脂フィルムの両面に同じ構成、同じ膜厚の膜をフィルムに対称に形成することが有効である。つまり、樹脂フィルムの両面に同じ組成、同じ膜厚の金属遮光膜を形成した後、その両面金属遮光膜上に同じ組成、同じ膜厚の黒色被覆膜、さらに黒色被覆膜の上に同じ組成、同じ膜厚の透明金属化合膜を形成して得られる耐熱遮光フィルムは、変形が少ないものとなり、好ましい。3.金属遮光膜B本発明において、金属遮光膜は、樹脂フィルムAを基材とし、その上に形成される、第一層の遮光膜である。金属材料としては、チタン、タンタル、タングステン、コバルト、ニッケル、ニオブ、鉄、亜鉛、銅、アルミニウム、珪素より選ばれた1種類以上の元素を主成分とするものを用いることができる。このうち、Ti、Ni、Cu、Al、或いはNiTi合金などの金属材料が好ましい。また、これらの金属の窒化物、炭化物、炭化窒化物、炭化酸化物、窒化酸化物、炭化窒化酸化物も金属遮光膜として用いることができる。特に炭化チタン、炭化タングステン、炭化モリブデンなどの金属炭化物材料は、高温環境下での耐酸化性に優れ、耐熱性が良好なため好ましい。その中でも炭化チタンは、表面の黒色度が比較的高く、低反射性に優れており、膜表面の黒色化の効果が増大されるため特に好ましい。また、炭化酸化チタン膜は、炭化チタン膜に比べ、透明度が高くなるが、耐熱性に優れた金属遮光膜として利用できる。金属遮光膜が炭化チタン膜、或いは、炭化酸化チタン膜である時、該膜中の含有炭素量はC/Ti原子数比で0.6以上であることが好ましい。炭化酸化チタン膜の場合、十分な遮光性を発揮するためには、膜中の酸素含有量がO/Ti原子数比で0.4以下とすることが重要である。金属遮光膜は、例えば樹脂フィルム基材に対する密着性に着目すると、金属遮光膜を構成する原子の結合のうち、金属結合性およびイオン結合性の割合が樹脂フィルムに対する付着力に影響する。金属遮光膜のO/Ti原子数比が0.4以下であると、金属遮光膜を構成する原子の結合のうち、イオン結合性の割合が強くなるため、フィルム基材と金属遮光膜の間にイオン結合性が発生して付着力が強まるため好ましい。また、本発明における金属遮光膜は、炭素含有量および/または酸素含有量の組成の異なる炭化酸化チタン膜が積層されていたり、膜厚方向に炭素含有量および/または酸素含有量が連続的に変化した炭化酸化チタン膜であっても、膜全体の平均組成が本発明で規定する組成範囲内であればかまわない。一般に、有機物である樹脂フィルムと無機物である金属膜などとの結合は弱い。本発明で遮光性薄膜を樹脂フィルムの表面に形成するときも同じである。また、膜の付着力を高めるためには、成膜時のフィルム表面温度を高めることが有効である。しかし、樹脂フィルムの種類によっては、PETなどのように、130°C以上に温度を上げると、ガラス転移点や分解温度を越えてしまうものもあるため、成膜時の樹脂フィルム表面温度はなるべく低温、例えば100°C以下とすることが望ましい。100°C以下の樹脂フィルム表面に、金属遮光膜を高付着力で形成するためには、膜中のO/Ti原子数比を0.4以下に設定した炭化酸化チタン膜を用いることが必要不可欠である。本発明における金属遮光膜は、膜厚が総和で40nm以上である。ただし、膜厚が250nmより厚くなると、金属遮光膜を成膜するのに長時間かかり製造コストが高くなったり、必要な成膜材料が多くなって材料コストが高くなるので好ましくない。4.黒色被覆膜C本発明の耐熱遮光多層フィルムにおいて、第二層の黒色被覆膜は、Ti、Oを主成分とし、含有酸素量がO/Ti原子数比で0.7~1.4である酸化チタン膜である。酸化チタン膜は、含有酸素量がO/Ti原子数比で0.7~1.4でなければならない。O/Ti原子数比で0.7未満の場合は、酸化チタン膜は金属色を呈し、低反射性や黒色性に劣ってしまい、O/Ti原子数比で1.4を超える場合は、膜の透過率が高すぎて光吸収機能に劣り、低反射性や黒色性を損なってしまうためである。また、黒色被覆膜は、さらに、上記酸化チタン膜に炭素を含有することが好ましく、その含有炭素量がC/Ti原子数比で0.7以上である炭化酸化チタン膜であることがより好ましい。含有炭素量がC/Ti原子数比で0.7以上であると、300°Cでの耐熱性に優れるからである。含有炭素量がC/Ti原子数比で0.7未満では、大気中で270°Cに加熱されると、膜が変色してしまい、黒色性が低下してしまうため好ましくない。上記黒色被覆膜中のO/Ti原子数比やC/Ti原子数比は、例えばXPSX線光電子分光装置を用いて分析できる。膜の最表面は酸素量が多く結合されているため、真空中で数十nmの深さまでスパッタリングで除去し、その後に測定すれば膜中のO/Ti原子数比やC/Ti原子数比を定量化することができる。上記のような膜組成であっても、膜の低反射性や黒色性は、膜厚に依存する。膜厚は、特に制限されないが、50nm~250nmが好ましく、より好ましくは60~200nm、さらに好ましくは70~150nmである。膜厚が50~250nmであると膜による光吸収が充分に行われ、低反射性と黒色性を発揮することができる。本発明において、黒色被覆膜が上記のような特徴を有するため、光学ガラス基板に成膜した黒色被覆膜の波長380~780nmにおける、平行光線透過率Tpの平均を13~35とすることができる。黒色被覆膜は、Ti、C、O以外の他の元素が、上記の特徴が損なわれない程度に含まれていてもかまわない。一般に、スパッタリング成膜の原料として使うスパッタリングターゲットでは、その材料となる焼結体の焼結密度を改善するために焼結助剤が添加される。具体的には、焼結体ターゲットに、Fe、Ni、Co、Zn、Cu、Mn、In、Sn、Nb、Taなどの元素が焼結助剤として添加され、添加された元素は、黒色被覆膜中にも含まれることになる。こうして該黒色被覆膜中に、上記元素が含まれるようになっても、上記の黒色被覆膜の特徴が損なわれなければかまわない。5.透明金属化合物膜D本発明において透明金属化合物膜は、黒色被覆膜の上に第3層の酸化防止膜として形成され、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウム、から選ばれた1種類以上の元素の酸化物、窒化酸化物、炭化酸化物、炭化窒化酸化物である。また、光学ガラス基板に成膜した透明金属化合物膜の波長380~780nmにおける平均平行光線透過率が70以上、平均正反射率が20以下であるのに必要な膜厚を有している。透明金属化合物膜の材料は、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素と酸素を含有するものでなければならない。さらに窒素や炭素を含んでいてもよい。具体的には、酸化アルミニウムAl2O3、酸化チタンTiO2、酸化珪素SiO2、酸化インジウムIn2O3-酸化錫SnO2系酸化物、酸化インジウムIn2O3-酸化チタンTiO2系酸化物、酸化亜鉛ZnOや錫、アルミニウム、ガリウム、マグネシウムなどが添加された酸化亜鉛系酸化物などの酸化物膜や、酸化窒化チタンTiON、酸化窒化珪素SiON、酸化窒化アルミニウムAlON、炭化酸化チタンTiCO炭化窒化酸化チタンTiCONなどの窒化酸化膜、炭化酸化物膜、炭化窒化酸化物膜などが挙げられる。透明金属化合物膜も樹脂フィルムと同様に、使用温度環境に応じて、適切な材質を選定すればよく、例えば300°C以上の使用温度環境化であれば、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化珪素など、280°C以下であれば、酸化亜鉛系酸化物、酸化インジウム-酸化錫系酸化物とすればよい。本発明では透明金属化合物膜が緻密な膜であり、水分や酸素などのガスに対する透過性の低い成分から構成されているため、大気中の酸素や水分が炭化酸化チタン膜などの黒色被覆膜内への侵入を防止し、黒色被覆膜の酸化を防止する作用を有している。膜中の金属含有量は、金属/酸素原子数比で0.8未満でなければならない。金属成分の含有量として金属/酸素原子数比が0.8以上の場合は、金属化合物膜は着色し、透明性を損なうとともに光吸収性が生じ、光学ガラスコーニング社製:7059上に成膜したとき、透明金属化合物膜の波長380~780nmにおける平行光線透過率が70未満となり、高透過性が得られない。高透過性でないと下地の黒色被覆膜の黒味が反映されず、また、透明金属化合物膜自身が着色するため好ましくない。また、膜中の金属成分が多くなるため、膜表面における正反射率が大きくなり、平均正反射率が20を超えてしまう。そうすると、耐熱遮光フィルムの平均正反射率が0.3以上となるため、好ましくない。さらに、高温環境下および高温高湿下での金属成分の酸化が顕著になり、平行光線透過率や正反射率が変化し、膜が変色してしまう。金属成分の含有量が金属/酸素原子数比が0.8未満であれば、波長380~780nmにおける平均平行光線透過率が70以上、平均正反射率は20以下を達成でき、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化珪素や酸化亜鉛系酸化物、酸化インジウム-酸化錫系酸化物、または窒化アルミニウムなど高温環境下、高温高湿下にて優れた耐久性を有するため、耐久性に優れた耐熱遮光フィルムとすることが可能となる。また、このような透明金属化合物膜を第2層目である黒色被覆膜上に形成することで、光閉じ込め効果による反射防止効果が発現され、金属遮光膜、黒色被覆膜を順次形成した耐熱遮光フィルム以上に、耐熱遮光フィルム表面の平均正反射率の低減とフィルムの黒色度を向上することが可能となる。また、透明金属化合物膜は単膜でなくても2種類以上の透明金属化合物膜の積層膜であっても耐熱遮光フィルムの特性を満足できていれば構わない。6.耐熱遮光フィルムの製造方法本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は、算術平均高さRaが0.2~2.2μmの微細表面凹凸とした樹脂フィルムAをスパッタリング装置に供給し、不活性ガス雰囲気下で金属遮光膜用ターゲットを用いてスパッタリングし、樹脂フィルムA上に、金属遮光膜Bを形成し、次いで、不活性ガス雰囲気中、1.5Pa以上の成膜ガス圧下で黒色被覆膜形成用ターゲットを用いてスパッタリングして、前記金属遮光膜B上に、チタン、酸素、炭素を主成分として膜中のO/Ti原子数比が0.7~1.4である黒色被覆膜Cを形成した後、不活性ガス雰囲気下、透明金属化合物D形成用ターゲットを用いてスパッタリングして、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素の酸化物、窒化酸化物、炭化酸化物、炭化窒化酸化物であり、膜中の金属含有量が金属/酸素原子数比として0.8未満である透明金属化合物Dを形成することを特徴とする。本発明における第1層の金属遮光膜は、製造方法によって特に制限されず、真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、ガスクラスターイオンビームアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームスパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、バイアススパッタリング法、ECRElectronCyclotronResonanceスパッタリング法、高周波RFスパッタリング法、熱CVDChemicalVaporDeposition法、プラズマCVD法、光CVD法等の公知の方法を適宜採用することができる。なかでもスパッタリング法で製造することが好ましい。スパッタリング法で製造することで、大面積の基材上に均一に形成することができるだけでなく、基材に対して高い密着力を有して形成することができるためである。本発明の耐熱遮光フィルムにおいては、金属遮光膜は、例えばアルゴン雰囲気中において直流マグネトロンスパッタリング法により樹脂フィルム基材上に成膜形成されることが好ましい。放電方式は、高周波放電でもかまわないが、直流放電の方が、高速成膜が可能となる。スパッタリング法による製造装置は、特に制限されないが、例えば、図3のように、ロール状の樹脂フィルム基材1が巻き出しロール12Aにセットされ、ターボ分子ポンプ等の真空ポンプで成膜室の真空槽内を排気した後、巻き出しロール12Aから搬出されたフィルム1が途中、キャンロール15の表面を通って、巻き取りロール12Bによって巻き取られていく構成をとる巻き取り式スパッタリング装置を用いることができる。キャンロール15の表面の対向側にはマグネトロンカソード13Aが設置され、このカソード13Aには膜の原料となるターゲット14Aが取り付けられている。なお、巻き出しロール12A、キャンロール15、巻き取りロール12Bなどで構成されるフィルム搬送部は、隔壁16でマグネトロンカソード13Aと隔離されている。ターゲットとしては、例えば炭化チタン、炭化酸化チタンを主成分とする焼結体を加工して得られるターゲットが使用される。その組成は、特に制限されないが、基材に最初に形成される金属遮光膜の組成と同じであるものが好ましい。スパッタリング成膜の原料として使うスパッタリングターゲットの焼結体では、焼結密度を改善するために焼結助剤が添加されることが多い。本発明に用いる焼結体ターゲットには、Fe、Ni、Co、Zn、Cu、Mn、In、Sn、Nb、Taなどの元素を、本発明の特徴が損なわれない程度であれば、焼結助剤として添加することができる。スパッタリング成膜では、ガス圧は、装置の種類などによっても異なるので一概に規定できないが、1Pa以下、好ましくは0.2~0.8Paのスパッタリングガス圧で、Arガス、もしくは、0.05以内のO2を混合したArガスを、スパッタリングガスとして用いる方法が採用できる。以下、基板として樹脂フィルムを、金属遮光膜として金属膜を用いた場合で詳述すると、基板に到達するスパッタリング粒子が高エネルギーとなるため、結晶性の金属膜が樹脂フィルム基材上に形成され、金属膜と樹脂フィルムとの間に強い密着性が発現される。成膜時のガス圧が0.2Pa未満であると、ガス圧が低いためスパッタリング法でのアルゴンプラズマが不安定となり、膜質が悪くなる。また、0.2Pa未満であると、反跳アルゴン粒子が基板上に堆積した金属膜を再スパッタリングする機構が強くなり、緻密な金属膜の形成を阻害しやすくなる。また、成膜時のガス圧が0.8Paを超えた場合では、基板に到達するスパッタリング粒子のエネルギーが低いため結晶成長しにくく、金属膜の粒が粗くなり、膜質が高緻密な結晶性ではなくなるので樹脂フィルム基材との密着力が弱くなり、膜が剥がれてしまう。このような膜は、耐熱性用途の金属遮光膜として用いることはできない。これにより、純Arガスもしくは微量のO2例えば0.05以内を混合したArガスをスパッタリングガスに用いて、結晶性の優れた金属遮光膜を安定して形成することができる。O2を0.1以上混合すると、薄膜の結晶性が悪化する場合があり好ましくない。また、成膜時の樹脂フィルム表面温度は、金属膜の結晶性に影響を及ぼす。成膜時のフィルム表面温度が高温であるほど、スパッタリング粒子の結晶配列が起こりやすくなり、結晶性が良好となる。しかし、樹脂フィルムの加熱温度にも限界があり、最も耐熱性の優れたポリイミドフィルムでも表面温度は400°C以下にする必要がある。樹脂フィルムの種類によっては、130°C以上に温度を上げると、ガラス転移点や分解温度を越えてしまうものがあり、例えば、PETなどでは、成膜時のフィルム表面温度はなるべく低温、例えば100°C以下とすることが望ましい。また、製造コストに着目しても、加熱時間や加熱のための熱エネルギーを考慮すると、なるべく低温で成膜を行うことがコスト低減には有効である。成膜時のフィルム表面温度は、90°C以下が好ましく、85°C以下がより好ましい。また、樹脂フィルム基材は、成膜中にプラズマから自然加熱される。成膜中の樹脂フィルム基材の表面温度は、ガス圧とターゲットへの投入電力やフィルム搬送速度を調整することで、ターゲットから基材に入射する熱電子やプラズマからの熱輻射によって所定の温度に容易に維持することができる。ガス圧は低いほど、投入電力は高いほど、またフィルム搬送速度は遅いほど、プラズマからの自然加熱による加熱効果は高くなる。成膜時、樹脂フィルムを冷却キャンに接触させるスパッタリング装置の場合でも、フィルム表面の温度は、自然加熱の影響で冷却キャン温度よりはるかに高い温度となる。しかし、ターゲットをキャンロールと対向する位置に設置する図3に示されるようなスパッタリング装置では、フィルム1がキャンロール15で冷却されながら搬送される。自然加熱によるフィルム表面の温度は、キャンロール15の温度にも大きく依存するため、成膜時の自然加熱の効果を利用するのであれば、なるべく冷却キャンの温度を高めにして搬送速度を遅くすることが効果的である。金属膜の膜厚は、成膜時のフィルムの搬送速度とターゲットへの投入電力で制御され、搬送速度が遅いほど、またターゲットへの投入電力が大きいほど厚くなる。以上、金属遮光膜として金属膜を形成する場合で説明したが、黒色被覆膜を形成する場合も同様な条件を採用できる。図3では、上記により金属遮光膜が形成されたフィルム1が、引き続き、キャンロール15の表面を通って、表面の対向側に設置されたマグネトロンカソード13Bに設置された膜の原料となるターゲット14Bにより、黒色被覆膜が形成されていく。通常、スパッタリング成膜は、0.2~0.8Paのスパッタリングガス圧にて実施される場合が多いが、このような条件では膜表面が比較的平坦なものとなる。本発明の黒色被覆膜は、酸化チタン、酸化チタンと炭化チタンの混合物、あるいは炭化酸化チタンの焼結体ターゲットを用いて、1.5Pa以上の高いスパッタリングガス圧にてスパッタリング成膜を行うことで製造されるため膜表面に突起ができ、上記の組成と組織を有する品質の高い酸化チタン膜、もしくは、炭化酸化チタン膜となる。酸化チタンおよび炭化チタンからなる焼結体ターゲット、もしくは炭化酸化チタンの焼結体ターゲット、あるいは酸化チタン、炭化チタン、炭化酸化チタンからなる焼結体ターゲットを用いて、同様にスパッタリング成膜し、Ti、Oを主成分とし、酸素量がO/Ti原子数比で0.7~1.4であり、さらに炭素を含有しており、含有量がC/Ti原子数比で0.7以上であり、膜表面に微細突起を有する黒色被覆膜を得ることができる。両者の場合とも、成膜時にArガスにO2ガスを混合して成膜を行い、膜中に酸素を多めに導入した成膜も行うことができる。また、本発明においては、成膜ガスとして、酸素ガスを全く供給せず、アルゴン、又はヘリウムを主とする不活性ガスのみを使用して、黒色被覆膜を形成することもできる。この場合の膜中の酸素は、焼結体ターゲット中の含有酸素、または/およびスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素が有効利用される。焼結体ターゲット中の含有酸素とスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素は、非常に微量である。成膜ガス圧を高めると、成膜室内の酸素を膜中に取り込む割合が増加する。焼結体ターゲット中の含有酸素とスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素が少なすぎるときは、通常の0.2~0.8Paのスパッタリング成膜では十分に膜中に酸素が含まれず、その場合には、成膜ガス圧を1.5Pa以上とすることで、十分に酸素を含ませて黒色被覆膜を得ることができる。焼結体ターゲット中の含有酸素とスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素を利用する成膜方法は、大面積に色味を均一に形成するときには極めて有効な方法である。酸素ガスを供給して通常のガス圧において成膜する通常の方法では、酸素ガスの供給が不均一であると、大面積成膜の場合は、膜中への酸素含有量のムラに起因して色味のムラが生じやすい。しかし、焼結体ターゲット中の含有酸素とスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素を利用する成膜方法は、成膜面には均一に酸素が存在しているため、大面積成膜でも色味のムラが生じにくい。本発明において、上記により黒色被覆膜Cが形成された後、第3層の透明金属化合物膜Dが形成される。すなわち、不活性ガス雰囲気下、透明金属化合物膜D形成用ターゲットを用いてスパッタリングすることにより、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素の酸化物、窒化酸化物、炭化酸化物、炭化窒化酸化物であり、膜中の金属含有量が金属/酸素原子数比として0.8未満である透明金属化合物膜Dを形成する。透明金属化合物膜Dも、金属遮光膜、黒色被覆膜を形成する場合と同様な条件を採用できる。図3では、上記により金属遮光膜と黒色被覆膜が形成されたフィルム1が、引き続き、キャンロール15の表面を通って、表面の対向側に設置されたマグネトロンカソード13Cに設置された膜の原料となるターゲット14Cにより、透明金属化合物膜が形成されていく。本発明における透明金属化合物膜Dは、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素の酸化物、窒化酸化物、炭化酸化物、炭化窒化酸化物であり、金属含有量が金属/酸素原子数比で0.8未満である。そのため、アルミニウム、チタン、珪素、亜鉛、インジウム、ガリウム、錫、マグネシウムから選ばれた1種類以上の元素を含有する金属ターゲット、金属酸化物ターゲット、金属炭化物ターゲットまたは金属窒化物ターゲットのいずれかを用い、アルゴンガス中に酸素ガスまたは/および窒素ガスを導入して、0.2~0.8Paの成膜ガス圧にてスパッタリングして形成される。また、本発明においては、成膜ガスとして、酸素ガスを全く供給せず、アルゴン、又はヘリウムを主とする不活性ガスのみを使用して、透明金属化合物膜を形成することもできる。この場合の膜中の酸素は、焼結体ターゲット中の含有酸素、または/およびスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素が有効利用される。焼結体ターゲット中の含有酸素とスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素は、非常に微量である。成膜ガス圧を高めると、成膜室内の酸素を膜中に取り込む割合が増加する。焼結体ターゲット中の含有酸素とスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素が少なすぎるときは、通常の0.2~0.8Paのスパッタリング成膜では十分に膜中に酸素が含まれず、その場合には、成膜ガス圧を1.5Pa以上とすることで、十分に酸素を含ませて透明金属化合物膜を得ることができる。7.耐熱遮光多層フィルムの用途本発明の耐熱遮光多層フィルムは、端面クラックが生じないように特定の形状に打ち抜き加工を行って、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラの固定絞り、機械的シャッター羽根や、一定の光量のみ通過させる絞りアイリス、更には液晶プロジェクターの光量調整絞り装置オートアイリスの絞り羽根、また、CCD、CMOSなどの撮像素子裏面から入射する光を遮光する耐熱遮光テープとして利用できる。液晶プロジェクターの光量調整絞り装置は、ランプ光の照射による加熱が顕著である。そのため、本発明の耐熱遮光多層フィルムを加工して製造された耐熱性と遮光性に優れた絞り羽根を搭載した光量調整絞り装置が有用である。また、レンズユニットを製造するのに、リフロー工程で固定絞りや機械式シャッターを組み立てる場合においても、本発明の耐熱遮光多層フィルムを加工して得た固定絞りやシャッター羽根を用いると、リフロー工程中の加熱環境下においても特性が変化しないため非常に有用である。さらに、車載ビデオカメラモニターのレンズユニット内の固定絞りは、夏場の太陽光による加熱が顕著であり、同様の理由から本発明の耐熱遮光多層フィルムから作製した固定絞りを適用することが有用である。また、本発明の耐熱遮光多層フィルムにおいて、遮光板の片面、または両面に粘着層を設けることで耐熱遮光テープまたはシートとすることができる。粘着層を形成するための粘着剤は、特に限定されず、従来、粘着シート用として使用されているものの中から温度、湿度など使用環境に適した粘着剤を選択することができる。一般的な粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ポリウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、あるいはシリコーン系粘着剤などを用いることができる。特に、携帯電話のレンズユニットをリフロー工程で組み立てる場合では、耐熱性が要求されるので、耐熱性の高いアクリル系粘着剤やシリコーン系粘着剤が好ましい。また、耐熱遮光多層フィルムに粘着層を形成する方法としては、例えばバーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、エアドクターコート法、ドクターブレードコート法など、従来公知の方法により行うことができる。粘着層の厚さは、特に制限されないが、2~60μmが好ましい。この範囲であれば、小型、薄肉のデジタルカメラ、カメラ付携帯電話であっても、容易に貼着でき、脱落しにくい。小型化、薄肉化したデジタルカメラ、カメラ付携帯電話では、搭載される構成部品も小型で、薄肉のものが使用される。前記のとおり、CCD、CMOSなどの撮像素子や撮像素子が搭載されるFPCが薄肉の場合、撮像素子の前面からの漏れ光以外にもFPCを透過し、撮像素子の裏面から入射する漏れ光も多くなる。この撮像素子裏面からの漏れ光によって、FPCの配線回路が撮像域に写り込み、撮像の品質が劣化してしまう。本発明の耐熱遮光多層フィルムの片面、又は両面に粘着層を設けた耐熱遮光テープは、粘着層によって、CCDやCMOSなどの撮像素子の裏面側周辺部に貼り付けることができるから、CCD、CMOSなどの撮像素子裏面へ入射する光を遮光するために有用である。次に、本発明について、実施例、比較例を用いて具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって限定されるものではない。耐熱遮光多層フィルムの作製、評価は以下の方法で実施した。耐熱遮光多層フィルムの作製方法図3に示した巻き取り式スパッタリング装置を用いて、樹脂フィルム基材に金属遮光膜の成膜を行った。まず、キャンロール15の表面の対向側にマグネトロンカソードが設置された装置のカソード14Bに膜の原料となる金属遮光膜形成用ターゲット14Aを取り付けた。巻き出しロール12A、キャンロール15、巻き取りロール12Bなどで構成されるフィルム搬送部は、隔壁でマグネトロンカソードと隔離されている。次に、ロール状の樹脂フィルム基材1を巻き出しロール12Aにセットした。サンドブラスト処理で表面を所定の算術平均高さRaに調整した樹脂フィルム基材をスパッタリング前に、真空中にて70°Cの温度に加熱したキャンロール表面に密着搬送することで、十分に乾燥した。次に、ターボ分子ポンプ等の真空ポンプで真空槽内を排気した後、キャンロール15とカソード間で放電させて、樹脂フィルム基材1をキャンロール表面に密着搬送しながら金属遮光膜の成膜を行った。このときのキャンロールの設定温度は70°Cとし、ターゲットと基板との距離は75mmとした。成膜前の真空槽内の到達真空度は4×10-4Pa以下とした。第1層目である金属遮光膜の成膜は、次のように行った。真空槽内に純アルゴンガス純度99.999を導入し、成膜ガス圧を0.2~0.8Paに調整した。ターゲットには4~18W/cm2の直流電力密度ターゲットのスパッタリング面における単位面積当たりの直流投入電力を投入して成膜を実施した。成膜時のフィルムの搬送速度とターゲットへの投入電力を制御することで金属遮光膜の膜厚を制御した。巻き出しロール12Aから搬出された樹脂フィルム基材1は、途中、キャンロール15の表面を通って、巻き取りロール12Bで巻き取った。次に、第2層目の膜である黒色被覆膜については、黒色被覆膜形成用ターゲット14Bをカソード13Bに設置し、真空槽内を真空排気し、到達真空度を4×10-4Pa以下に調整した。真空槽内に純アルゴンガス純度99.999を導入し、成膜ガス圧を1.5~12.0Paに調整した。ターゲット14Bには、2~12W/cm2の直流電力密度を投入して成膜を実施し、樹脂フィルム基材1を巻取りロール12Bで巻き取った。さらに、第3層目の膜である透明金属化合物膜については、まず金属遮光膜と黒色被覆膜が形成された樹脂フィルムを巻き出しロールにセットし、透明金属化合物膜形成用ターゲット14Cをカソード13Cに設置し、真空槽内を真空排気し、到達真空度を3×10-4Pa以下に調整した。次に、真空槽内に純アルゴンガス純度99.999または/および純酸素ガス純度99.999をカソード内に導入し、成膜ガス圧を0.1~1.0Paに調整した。ターゲット14Cには、4~17W/cm2の直流電力密度を投入して、黒色被覆膜上に所定の膜厚の透明金属化合物膜を形成し、樹脂フィルム基材1を巻取りロール12Bで巻き取り、樹脂フィルムの片面に金属遮光膜、黒色被覆膜、透明金属化合物膜が形成された耐熱遮光フィルムを作製した。また、樹脂フィルムの両面に金属遮光膜、黒色被覆膜、透明金属化合物膜が形成された耐熱遮光フィルムを作製する場合は、樹脂フィルム基材の片面に金属遮光膜、黒色被覆膜、透明金属化合物膜が形成された耐熱遮光フィルムを巻き出しロールにセットし、キャンロール面でカソード側に膜が形成されていない樹脂フィルム面が向くように樹脂フィルムをセットする。その後、真空排気から金属膜、黒色被覆膜、透明金属化合物膜の形成は上記と同じように実施することで樹脂フィルムの両面に金属遮光膜、黒色被覆膜、透明金属化合物膜が形成された耐熱遮光フィルムを作製することができる。平均光学濃度、平均平行光線透過率、平均正反射率得られた耐熱遮光多層フィルムについて分光光度計日本分光製:V-570を使用し、波長380nm~780nmの可視光域の遮光性、透過率と正反射率を測定した。光学濃度ODと記すは、分光光度計で測定される透過率Tを用いて以下の式に従って、算出した。なお、透過率は、樹脂フィルム基板や光学ガラス基板を含めた数値とした。光学濃度OD=Log1/T完全な遮光性を得るためには、波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上であることが必要である。また、平行光線透過率は、入射光に対する入射光と平行な透過光の割合のことであり、正反射率は、反射光が反射の法則に従い、入射光の入射角に等しい角度で表面から反射していく光の反射率のことを言い、入射角は5°で測定した。測定した平行光線透過率から求められる平均平行光線透過率光学ガラス基板を含むが70以上であれば良好とし、また、正反射率から求められる平均正反射率が0.3以下であれば良好とした。平均光学濃度、平均平行光線透過率、平均正反射率は、波長380~780nmの各波長に対する算術平均値である。算術平均高さRa樹脂フィルム基材の算術平均高さRaは、表面粗さ計株東京精密製:サーフコム570Aで測定した。膜の組成得られた膜の組成C/Me原子数比、O/Me原子数比:Meは金属成分をXPSVGScientific社製:ESCALAB220i-XLで定量分析した。なお定量分析の際には、膜の表面20~30nmをスパッタエッチングしてから、膜内部の組成分析を実施した。膜表面の明度L、色相と彩度を示す色度a、b得られた膜および耐熱遮光フィルムの明度L、色相と彩度を示す色度a、b値についてはCIE国際照明委員会で基準化され、日本でもJISJISZ8729に規格化されたLab表色系測定に準拠し、色彩計BYK-GardnerGmbH社製:商品名スペクトロガイドにて、光源D65、視野角10°で測定した。酸化防止性成膜直後に表面色味、L値、a値、b値をそれぞれ測定し、さらに2週間後に、L値、a値、b値を再度測定し、明度、色度の変化を示す色差ΔEabを評価した。色差は、次式を用いて算出し、色差として1.0未満であれば良好とし、それ以上であれば不適とした。ΔEab=ΔL2Δa2Δb21/2耐熱性耐熱遮光フィルムの耐熱性については、オーブンアドバンテック社製:型番DRD320DAにて、100°C、200°C、270°Cで30分の条件で、加熱処理を行い、平均光学濃度、平均正反射率、色差をチェックした。耐熱試験後の平均光学濃度、平均正反射率は耐熱試験前と比べて、その差が平均光学濃度では0.2以下、平均正反射率では0.1以下であれば変化は無いこととした。色差は、1.0未満であれば良好とした。高温高湿環境下での耐久性耐熱遮光フィルムの高温高湿環境下での耐久性ついては、温度85°C、湿度85RHで500時間処理し、平均光学濃度、平均正反射率、色差の有無をチェックした。試験後の平均光学濃度、平均正反射率は試験前と比べて、その差が平均光学濃度では0.2以下、平均正反射率では0.1以下であれば変化は無いこととした。色差は、1.0未満であれば良好とした。密着性膜のフィルム基材に対する密着性は、耐熱試験、高温高湿試験後に行い、JISC0021クロスカット試験に基づき評価した。評価は、膜剥がれがない場合は良好とし、膜剥がれがあるものは不適切とした。実施例1サンドブラスト処理加工でフィルムの両表面の算術平均高さRaを0.5μmとした厚み38μmのポリイミドフィルムの表面に、炭化チタンTiCターゲットを用いて、成膜ガス圧を0.3Paに調整し、第1層の金属遮光膜として炭化チタン膜膜厚120nmを形成した。また、光学ガラスコーニング社製:7059上にも同様に炭化チタンTiC膜を形成した試料も作製した。光学ガラスに形成した炭化チタンTiC膜の組成をXPSX線光電子発光分析装置で分析した結果、膜中の炭素含有量はC/Ti原子数比として0.99、酸素含有量はO/Ti原子数比として0.05であった。次に、ポリイミドフィルム表面に形成した炭化チタンTiC膜上に、炭化チタンTiCターゲットを用いて、成膜ガス圧を6.0Paに調整し、第2層の黒色被覆膜、すなわち炭化酸化チタンTiCO膜を膜厚105nm形成した。ポリイミドフィルム上に形成した炭化チタンTiC膜、炭化酸化チタンTiCO膜積層膜の明度Lを測定したところ、36であった。また、光学ガラスコーニング社製:7059上にも同様に炭化酸化チタンTiCO膜を形成した試料も作製した。光学ガラスに形成した炭化酸化チタンTiCO膜の組成をXPSX線光電子発光分析装置で分析した結果、膜中の酸素含有量はO/Ti原子数比として0.89であった。さらに、ポリイミドフィルム上に順次形成した炭化チタンTiC膜、炭化酸化チタンTiCO膜の積層膜上に、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3ターゲットを用いて、純アルゴンガスを導入して、成膜ガス圧0.3Paで、第3層の透明金属化合物膜、すなわち酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を膜厚15nm形成し、耐熱遮光多層フィルムを作製した。また、光学ガラスコーニング社製:7059上にも同様に酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成した試料も作製した。光学ガラスに形成した酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜の組成をXPSX線光電子発光分析装置で分析した結果、膜中の酸素含有量は金属成分ZnAl/O原子数比として0.4であった。光学ガラス基板上に形成した酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜の波長380~780nmにおける平均平行光線透過率は82、平均正反射率は17と光透過性の高い膜であった。ポリイミドフィルム上に形成した炭化チタン膜、炭化酸化チタン膜、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜からなる耐熱遮光フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上、平均正反射率は0.15であり、膜表面の明度Lは32となり、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、酸化防止性を表した色差ΔEabは0.3と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.4と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表1-1に、耐熱遮光多層フィルムの構成、表1-2に、その特性をまとめた。したがって、作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。実施例2マット処理条件を変え、ポリイミドフィルムの算術平均高さRaを0.20μmに変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜や透明金属化合物の種類、膜厚、組成は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。耐熱遮光多層フィルムの特性は表1に示すように、実施例1と同等であることがわかった。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上、平均正反射率は0.20であり、膜表面の明度Lは33となり、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabは0.3と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.4と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表1-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。実施例3マット処理条件を変え、ポリイミドフィルムの算術平均高さRaを2.2μmに変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜や透明金属化合物の種類、膜厚、組成は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上、平均正反射率は0.10であり、膜表面の明度Lは24となり、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabは0.3と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.4と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表1-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。比較例1マット処理条件を変え、ポリイミドフィルムの算術平均高さRaを0.10μmに変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜や透明金属化合物の種類、膜厚、組成は実施例1と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。耐熱遮光フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上、平均正反射率は0.90であり、膜表面の明度Lは40となり、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成しても黒色度は変化しなかった。また、作製後、大気中で2週間放置したが色差ΔEabは0.4と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.4と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表1-2に、耐熱遮光フィルムの特性をまとめた。したがって、作製した耐熱遮光フィルムは、正反射率や明度Lが非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用できない。比較例2マット処理条件を変え、ポリイミドフィルムの算術平均高さRaを2.3μmに変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜や透明金属化合物の種類、膜厚、組成は実施例1と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。耐熱遮光フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上、平均正反射率は0.10であり、膜表面の明度Lは22となり、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabは0.4と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.4と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表1-2に、耐熱遮光フィルムの特性をまとめた。しかし、算術平均高さRaが大きいことから、表面の微細凹凸が、成膜時に影となり、膜表面にピンホールが多数形成されていることがわかった。ピンホールが形成された部分の平均光学濃度は4.0未満であった。したがって、作製した耐熱遮光フィルムは、黒色度が高く、低正反射率であるが、膜表面にピンホールが形成されているため、遮光性が不足しているのでカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用できない。実施例4ポリイミドフィルムの厚みを10μmに変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜や透明金属化合物の種類、膜厚、組成は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上、平均正反射率は0.17であり、膜表面の明度Lは32となり、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabは0.3と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.4と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表1-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、作製した耐熱遮光フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。実施例5~8ポリイミドフィルムの厚みを25μm実施例5、50μm実施例6、100μm実施例7、250μm実施例8に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜や透明金属化合物の種類、膜厚、組成は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上であり、平均正反射率は0.12~0.17となり、実施例1と同様であった。また、膜表面の明度Lは26~31となり、いずれも酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで明度Lは小さくなり、黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabはいずれも0.3と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.4と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表1-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、実施例5~8で作製した耐熱遮光フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。比較例3、4ポリイミドフィルムの厚みを8μm比較例3、260μm比較例4に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜や透明金属化合物の種類、膜厚、組成は実施例1と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。耐熱遮光フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上であり、平均正反射率は0.27比較例3、0.10比較例4となり、実施例1と同様であった。また、膜表面の明度Lは35比較例3、28比較例4となり、いずれも酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで明度Lは小さくなり、黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabはいずれも0.3と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.4と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。しかし、比較例3では、フィルム厚みが薄いためマット処理時に、フィルムに穴が多数形成され、それによってフィルムにしわが形成され、健全なフィルムが作製できなかった。一方、比較例4では、フィルム厚みが厚いため、薄肉化が図られているカメラモジュールには適応できない。表1-2に、耐熱遮光フィルムの特性をまとめた。したがって、比較例3、4で作製した耐熱遮光フィルムは、健全なフィルムが作製できないこと、また、薄肉化に進んでいるカメラモジュールには適さないことからカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用ができない。実施例9、10酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3ターゲットのAl2O3含有量を変え、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜の組成を酸素含有量がAlZn/O原子数比として、0.6実施例9、0.2実施例10に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜や透明金属化合物の膜厚は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。なお、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜の組成は、光学ガラスコーニング社製:7059上に酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成した試料を作製し、XPSで分析した。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上、平均正反射率は0.10実施例9、0.20実施例10であり、膜表面の明度Lは28実施例9、33実施例10となり、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabは0.6実施例9、0.4実施例10と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.6と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-1に、耐熱遮光多層フィルムの構成、表2-2に、その特性をまとめた。したがって、実施例9、10作製した耐熱遮光フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。実施例11~14酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜の膜厚を5nm実施例11、100nm実施例12、200nm実施例13、250nm実施例14に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上、平均正反射率は0.28実施例11、0.16実施例12、0.11実施例13、0.08実施例14であった。膜表面の明度Lは34実施例11、30実施例12、25実施例13、20実施例14となり、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabはいずれも0.3と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.3と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、実施例11~14で作製した耐熱遮光フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。比較例5酸化防止膜である酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を成膜しなかったこと以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。耐熱遮光フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上、平均正反射率は0.30であった。膜表面の明度Lは35であった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabは2.3と算出され、色の変化は目視でわかる程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はほとんどなかったが、200°C以上の加熱と高温高湿下では、色差ΔEabは1.3~2.3と目視で十分わかるまで変化した。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光フィルムの特性をまとめた。したがって、比較例5で作製した耐熱遮光フィルムは、大気中放置、高温および高温高湿環境下では、膜色が変化してしまうが、高遮光性、低正反射性であり、黒色度は高いことから十分にカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が可能である。比較例6,7酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜の膜厚を4nm比較例6、260nm比較例7に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。耐熱遮光フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上、平均正反射率は0.32比較例6、0.08比較例7であった。膜表面の明度Lは36比較例6、20比較例7であった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabは比較例6では1.8、比較例7では0.5と算出され、比較例6では色の変化は目視でわかる程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はほとんどなかったが、色差ΔEabは0.1~0.5と目視でわからなかった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光フィルムの特性をまとめた。したがって、比較例6で作製した耐熱遮光フィルムは、透明金属化合物膜の膜厚が薄いため、大気中2週間放置した場合では、膜色が変化してしまうが、高遮光性、低正反射性であり、黒色度は高いことから十分にカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が可能である。また、比較例7で作製した耐熱遮光フィルムは、透明金属化合物膜の膜厚が厚いため製造コストなど生産性を考慮した場合、低コスト化が求められるカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用はできない。実施例15~18透明金属化合物膜形成用ターゲットをアルミニウムAlとし、酸素ガスを導入して反応性スパッタリングによって、透明金属化合物膜の材質を酸化アルミニウムAl2O3に変え、透明金属化合物膜の膜厚を5nm実施例15、100nm実施例16、200nm実施例17、250nm実施例18とした以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。酸化アルミニウムAl2O3中の酸素含有量は、Al/O原子数比として0.4であった。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上、平均正反射率は0.29実施例15、0.15実施例16、0.09実施例17、0.07実施例18であった。膜表面の明度Lは34実施例15、24実施例16、23実施例17、21実施例18となり、酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabはいずれも0.5と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.5と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、実施例15~18で作製した耐熱遮光フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。比較例8,9酸化アルミニウムAl2O3膜の膜厚を4nm比較例8、260nm比較例9に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例15と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。耐熱遮光フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上、平均正反射率は0.30比較例8、0.07比較例9であった。膜表面の明度Lは35比較例8、20比較例9であった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabは1.5比較例8、0.6比較例9と算出され、比較例8では色の変化は目視でわかる程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はほとんどなく、色差ΔEabも0.1~0.6と目視でわからない程度だった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光フィルムの特性をまとめた。したがって、比較例8で作製した耐熱遮光フィルムは、大気中2週間放置した場合で膜色が変化してしまうが、高遮光性、低正反射性であり、黒色度は高いことから十分にカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が可能である。また、比較例9で作製した耐熱遮光フィルムは、透明金属化合物膜の膜厚が厚いため製造コストなど生産性を考慮した場合、低コスト化が求められるカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用はできない。実施例19、20酸素ガス量を変え、酸化アルミニウム膜Al2O3膜の酸素含有量をAl/O原子数比として0.6実施例19、0.1実施例20に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例15と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上、平均正反射率は0.29実施例19、0.20実施例20であった。膜表面の明度Lは34実施例19、25実施例20となり、酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabはいずれも0.7と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.7と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、実施例19~20で作製した耐熱遮光フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。実施例21~24透明金属化合物膜形成用ターゲットをSiターゲットとし、酸素ガス導入による反応性スパッタリングで形成される透明金属化合物膜の材質を二酸化珪素SiO2に変え、膜厚を5nm実施例21、100nm実施例22、200nm実施例23、250nm実施例24に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。二酸化珪素膜の組成は、Si/O原子数比として、0.5であった。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上、平均正反射率は0.29実施例21、0.23実施例22、0.18実施例23、0.12実施例24であった。膜表面の明度Lは34実施例21、34実施例22、30実施例23、26実施例24となり、二酸化珪素SiO2膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabはいずれも0.7と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.7と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、実施例21~24で作製した耐熱遮光フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。比較例10,11透明金属化合物膜の二酸化珪素SiO2の膜厚を4nm比較例10、260nm比較例11に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例21と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。耐熱遮光フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上、平均正反射率は0.30比較例10、0.12比較例11であった。膜表面の明度Lは35比較例10、26比較例11であった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabは1.4比較例10、0.7比較例11と算出され、比較例10では色の変化は目視でわかる程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、比較例10では大気中放置及び200°C以上の加熱、高温高湿下で平均正反射率が変化し、色差は、1.0を越えたが、比較例11では、色差ΔEabは0.1~0.8と目視でわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光フィルムの特性をまとめた。したがって、比較例10で作製した耐熱遮光フィルムは、透明金属酸化物膜の膜厚が薄いため、大気中2週間放置した場合や200°C以上の高温および高温高湿環境下で膜色が変化してしまうが、高遮光性、低正反射性であり、黒色度は高いことから十分にカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が可能である。また、比較例11で作製した耐熱遮光フィルムは、透明金属化合物膜の膜厚が厚いため製造コストなど生産性を考慮した場合、低コスト化が求められるカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用はできない。実施例25、26二酸化珪素膜形成時の酸素導入量を変え、膜中のSi/O原子数比を0.7実施例25、0.2実施例26にした以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上、平均正反射率は0.15実施例25、0.10実施例26であった。膜表面の明度Lは29実施例25、27実施例26となり、二酸化珪素SiO2膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabはいずれも0.7と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.7と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、実施例25、26で作製した耐熱遮光フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。実施例27透明金属化合物膜形成用ターゲットをチタンTiターゲットとし、透明金属酸化物膜の種類を、酸素ガスを導入して形成される酸化チタン膜TiO2に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。酸化チタン膜の組成は、Ti/O原子数比として0.4であった。耐熱遮光多層フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上、平均正反射率は0.20であった。膜表面の明度Lは30となり、酸化チタン膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、色差ΔEabはいずれも0.8と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.8と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、実施例27で作製した耐熱遮光フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。実施例28~31酸化チタン膜の膜厚を5nm実施例28、100nm実施例29、200nm実施例30、250nm実施例31に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例27と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。作製した耐熱遮光多層フィルムの光学濃度、正反射率、明度、色差は、表2-2に示すように実施例27と同様であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、実施例27と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.8と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、実施例28~31で作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。比較例12、13透明金属化合物膜の酸化チタンTiO2の膜厚を4nm比較例12、260nm比較例13に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例27と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。耐熱遮光フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度はいずれも4以上、平均正反射率は0.25比較例12、0.08比較例13であった。膜表面の明度Lは34比較例12、24比較例13であった。また、作製後、大気中で2週間したが、色差ΔEabは2.0比較例12、0.8比較例13と算出され、比較例10では色の変化は目視でわかる程度であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、比較例12では、大気中放置及び270°Cでの加熱、高温高湿下で平均正反射率は変化し、色差ΔEabは1.4~2.0と目視でわかる程度に変化した。一方、比較例13でも、色差は0.1~0.8と目視で分からなかった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2に、耐熱遮光フィルムの特性をまとめた。一方、比較例13ではこれら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光フィルムの特性をまとめた。したがって、比較例12で作製した耐熱遮光フィルムは、透明金属酸化物膜の膜厚が薄いため、大気中2週間放置した場合で膜色が変化してしまうが、高遮光性、低正反射性であり、黒色度は高いことから十分にカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が可能である。また、比較例13で作製した耐熱遮光フィルムは、透明金属化合物膜の膜厚が厚いため製造コストなど生産性を考慮した場合、低コスト化が求められるカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用はできない。実施例32、33酸化チタン膜形成時の酸素導入量を変え、膜中のTi/O原子数比を0.6実施例32、0.2実施例33にした以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。作製した耐熱遮光多層フィルムの平均光学濃度、平均正反射率、色味、色差はいずれも実施例27と同等であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.8と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表2-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、実施例32、33で作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。実施例34~37金属遮光膜の膜厚を40nm実施例34、100nm実施例35、200nm実施例36、250nm実施例37に変えた以外は、黒色被覆膜、透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして耐熱遮光多層フィルムを作製した。作製した耐熱遮光多層フィルムの光学濃度、正反射率、明度、色差は、表2-2に示すように実施例1と同様であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、実施例1と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.3と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、実施例34~37で作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。比較例14、15金属遮光膜の膜厚を30nm比較例14、260nm比較例15に変えた以外は、黒色被覆膜、透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして耐熱遮光フィルムを作製した。比較例14で作製した耐熱遮光フィルムの平均正反射率、明度、色差は、表2-2に示すように実施例1と同様であったが、平均光学濃度は3.4と光学濃度は4未満であった。比較例15では、光学濃度は4以上だったが、平均正反射率とLは実施例1と比べると高かった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、実施例1と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.3と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、比較例14で作製した耐熱遮光フィルムは、低正反射率、そして黒色度が非常に高いが、平均光学濃度が3.4と遮光性がないことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用ができない。一方、比較例15では、金属遮光膜の膜厚が非常に厚いため、平均正反射率が高く、さらに製造コストなど生産性を考慮した場合、低コスト化が求められるカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用はできない。実施例38~40金属遮光膜の種類を炭化酸化チタン膜とし、膜厚を40nm実施例38、120nm実施例39、250nm実施例40に変えた以外は、黒色被覆膜、透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして耐熱遮光多層フィルムを作製した。なお、炭化酸化チタン膜の組成C/Ti原子数比、O/Ti原子数比は表2-1に示した。作製した耐熱遮光多層フィルムの光学濃度、正反射率、明度、色差は、表2-2に示すように実施例1と同様であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、実施例27と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.6と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、実施例38~40で作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。比較例16金属遮光膜の炭化酸化チタン膜の膜厚を28nmに変えた以外は、金属遮光膜の組成、黒色被覆膜と透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例38と同様にして耐熱遮光フィルムを作製した。なお、炭化酸化チタン膜の組成C/Ti原子数比、O/Ti原子数比は表2-1に示した。作製した耐熱遮光フィルムの平均正反射率、明度、色差は、表2-2に示すように実施例1と同様であったが、平均光学濃度が3.2と4未満となり、遮光性が不足していることがわかった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、実施例38と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.6と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、比較例16で作製した耐熱遮光フィルムは、低正反射率、そして黒色度が非常に高いが、遮光性が不足していることから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用ができない。実施例41~43金属遮光膜の種類をニッケルチタンNiTi膜とし、その膜厚を40nm実施例41、120nm実施例42、250nm実施例43に変えた以外は、黒色被覆膜、透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして耐熱遮光多層フィルムを作製した。作製した耐熱遮光多層フィルムの平均光学濃度、平均正反射率、明度、色差は、表2-2に示すように実施例1と同様であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、100°C、200°Cでの加熱および温度85°C、湿度85RHでの処理では実施例1と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.6と目視ではわからない程度であった。しかし、270°Cでの加熱ではNiTi膜の酸化により、膜特性を示す光学定数が変化したことが原因で膜色が変化した。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、実施例41~43で作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いが、200°C以下の使用環境下で使用されるカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用は有用である。比較例17、18金属遮光膜のNiTi膜の膜厚を30nm比較例17、260nm比較例18に変えた以外は、黒色被覆膜と透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例41と同様にして耐熱遮光フィルムを作製した。比較例17、18で作製した耐熱遮光フィルムの平均正反射率、明度、色差は、表2に示すように実施例41と同様であったが、比較例17では平均光学濃度が3.4と4未満となり、遮光性が不足していることがわかった。一方、比較例18では実施例41より平均正反射率と明度Lは高くなった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱では、270°Cの加熱において膜の色が変化し、平均正反射率は変化し、また色差ΔEabも270°Cでの30分間加熱で1.5と悪化した。しかし、これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、比較例17で作製した耐熱遮光フィルムは、低正反射率、そして黒色度が非常に高いが、遮光性が不足していることから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用ができない。また、比較例18では、金属遮光膜の厚みが厚いことから、製造コストなど生産性を考慮した場合、低コスト化が求められるカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用はできない。実施例44、45金属遮光膜の種類をチタンTi:実施例44、アルミニウムAl:実施例45に変えた以外は、黒色被覆膜と透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして耐熱遮光多層フィルムを作製した。作製した耐熱遮光多層フィルムの平均光学濃度、平均正反射率、明度、色差は、表2-2に示すように実施例1と同様であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、実施例1と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.7と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、実施例44、45で作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。実施例46~48黒色被覆膜の種類を炭化酸化チタンとし、その組成を膜中のO/Ti原子数比として0.7実施例46、1.0実施例47、1.4実施例48に変えた以外は、金属遮光膜と透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして耐熱遮光多層フィルムを作製した。作製した耐熱遮光多層フィルムの平均光学濃度、平均正反射率、明度、色差は、表3に示すように実施例1と同様であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、実施例1と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも1.0未満と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表3-1に、耐熱遮光多層フィルムの構成、表3-2に、その特性をまとめた。したがって、実施例46~48で作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。比較例19、20黒色被覆膜である炭化酸化チタン膜の組成を、膜中のO/Ti原子数比として0.6比較例19、1.5比較例20に変えた以外は、金属遮光膜と透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして耐熱遮光フィルムを作製した。比較例19で作製した耐熱遮光フィルムの平均光学濃度は4以上であったが、平均正反射率は0.35、明度は39となり、実施例1に比べ平均正反射率は高く、明度は高いことがわかった。なお、色差は、表3に示すように実施例1と同様であった。一方、比較例20では作製後、大気中で2週間放置した後の色差が1.2となり、色の変化が目視でわかった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、比較例19では実施例1と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも1.0未満と目視ではわからない程度であった。しかし、比較例20では270°Cでの加熱及び高温高湿下では、平均正反射率が変化し、色差ΔEabも1.2~1.3と目視でわかる程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、比較例19で作製した耐熱遮光フィルムは、正反射率と明度が高いが、遮光性は良好であるため、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへ利用することができる。また、比較例20では、作製後の色差が大きいものの、遮光性があり、平均正反射率が低いことからカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用ができる。実施例49~51黒色被覆膜の膜厚を50nm実施例49、200nm実施例50、250nm実施例51に変えた以外は、金属遮光膜、透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして耐熱遮光多層フィルムを作製した。作製した耐熱遮光多層フィルムの平均光学濃度、平均正反射率、明度、色差は、表3に示すように実施例1と同様であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、実施例1と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.7と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、実施例49~51で作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。比較例21、22黒色被覆膜である炭化酸化チタン膜の膜厚を40nm比較例21、260nm比較例22に変えた以外は、金属遮光膜と透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例49と同様にして耐熱遮光フィルムを作製した。比較例21で作製した耐熱遮光フィルムを、大気中で2週間放置した後の色差は、実施例49と同等であったが、平均正反射率、明度は表3に示すように実施例49に比べ、高いことがわかった。また、比較例22では実施例1と同様の特性であった。大気中で2週間放置、100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、実施例49と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.7と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。したがって、比較例21で作製した耐熱遮光フィルムは、平均正反射率、明度が高いが、遮光性は良好であるため、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材に利用することができる。また、比較例22では黒色被覆膜の厚みが厚いことから、製造コストなど生産性を考慮した場合、低コスト化が求められるカメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用はできない。実施例52黒色被覆膜の材質を酸化チタンに変えた以外は、金属遮光膜や透明金属化合物の種類、膜厚、組成と黒色被覆膜の膜厚や樹脂フィルムの材質、厚み、算術平均高さRaは実施例1と同様にして、耐熱遮光多層フィルムを作製した。酸化チタン膜形成用ターゲットは、酸化チタンと金属チタンの粉末の混合体からホットプレス焼結法で作製した。酸化チタンと金属チタンの配合割合に応じて焼結体ターゲットのO/Ti原子数比を制御した。サンドブラスト処理したポリイミドフィルム表面に形成した炭化チタン膜上に、酸化チタンターゲットを用いて、成膜ガス圧を6.0Paに調整し、酸化チタン膜を膜厚105nm形成した。ポリイミドフィルム上に形成した炭化チタン膜、酸化チタン膜積層膜の明度Lを測定したところ、35であった。また、光学ガラスコーニング社製:7059上にも同様に酸化チタン膜を形成した試料も作製した。光学ガラスに形成した酸化チタン膜の組成をXPSX線光電子発光分析装置で分析した結果、膜中の酸素含有量はO/Ti原子数比として0.84であった。さらに、ポリイミドフィルム上に順次形成した炭化チタン膜、酸化チタン膜の積層膜上に、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3ターゲットを用いて、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を膜厚15nm形成し、耐熱遮光フィルムを作製した。ポリイミドフィルム上に形成した炭化チタン膜、炭化酸化チタン膜、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜からなる耐熱遮光フィルムの波長380~780nmにおける平均光学濃度は4以上、平均正反射率は0.15であり、膜表面の明度Lは31となり、酸化亜鉛ZnO-酸化アルミニウムAl2O3膜を形成することで黒色度が高くなった。また、作製後、大気中で2週間放置したが、酸化防止性を表した色差ΔEabは0.6と算出され、色の変化は目視ではわからない程度であった。大気中で100°C、200°C、270°Cでの30分間加熱や温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.1~0.7と目視ではわからない程度であった。これら耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験では、膜が剥がれなかった。表3-2に、耐熱遮光多層フィルムの特性をまとめた。したがって、作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。実施例53~58樹脂フィルムの種類をポリアミドイミド実施例53、ポリエーテルエーテルケトン実施54、ポリエチレンテレフタレート実施例55、ポリエチレンナフタレート実施例56、ポリフェニレンサルファイド実施例57、ポリエーテルサルフォン実施例58に変えた以外は、金属遮光膜、黒色被覆膜、透明金属化合物膜の種類、組成、膜厚は実施例1と同様にして耐熱遮光多層フィルムを作製した。作製した耐熱遮光多層フィルムの平均光学濃度、平均正反射率、明度、色差は、表3-2に示すように実施例1と同様であった。実施例55、実施例56では、200°C以上で30分間加熱するとフィルムに変形やフィルムの溶融が見られた。また、実施例53~58では、温度85°C、湿度85RHで500時間処理したが、実施例1と同様に平均光学濃度、平均正反射率の変化はなく、また色差ΔEabも0.4と目視ではわからない程度であった。実施例53、54、57、58で作製した耐熱遮光フィルムは、耐熱試験や高温高湿試験後の密着性試験での膜剥がれはなかった。したがって、実施例53、54、57,58で作製した耐熱遮光多層フィルムは、完全遮光性、低正反射率、そして黒色度が非常に高いことから、カメラ付き携帯電話向けカメラモジュール用の絞りやデジタルカメラ向けのシャッター羽根材などへの利用が有用である。また、実施例55、56で作製した耐熱遮光多層フィルムは、100°C以下の環境下で使用される場合であれば有用である。実施例59実施例1で作製した耐熱遮光多層フィルムの両面に、耐熱性の高いアクリル系粘着剤住友スリーエム社製、商品名:9079を用いた厚さ50μmの粘着層を形成し、耐熱遮光テープを作製した。大気中、270°Cでの加熱処理後においても波長380~780nmにおける平均光学濃度が4.0以上の完全遮光性を有した。また、平均正反射率は、0.15と低正反射率となり、加熱処理前後で平均光学濃度、平均正反射率は変化せず、色の変化はなかった。実施例60実施例1で作製した耐熱遮光多層フィルムの両面に微粘着層をもった保護シートをラミネートした。100mm角のシートに裁断し、シート内で80mmφの円内に、各絞りがその外周部でリードによって連結された構造の外径4mmφ、内径2mmφのリング状の絞りを打ち抜き加工で多数作製した。打ち抜き加工では、リング状の絞りに打ち抜き後、80mmφのウェハー状に打ち抜き加工し、微粘着保護シートを剥離し、絞りが多数形成されたウェハーを得た。金属顕微鏡で絞り表面の外観を観察したが、クラック、バリなどの欠陥は見られなかった。よって、作製した耐熱遮光多層フィルムは、ウェハー状で絞り形状に打ち抜くことが可能で、個々の表面反射や光沢は低く、打ち抜きによるクラック、バリがないことから、WLCSP構造のカメラモジュール用絞り材として極めて有用である。"