"浴槽や足浴槽からポンプで吸い上げて、あるいは、浴槽に接続された循環ろ過管路から送水された温水が通過するタンクなどの容器に炭酸ガスを注入する工程を有し、タンク内に送水される温水の噴射流により容器上部に溜まった炭酸ガスを容器内の温水に巻き込む工程を有し、巻き込まれた炭酸ガスの大きな気泡がほぼ無くなったタンク底部の温水をタンク外部へ排出する工程を有する炭酸泉生成方法において、さら湯から1,000ppm以上の炭酸泉に濃度をあげる際には、該タンクの圧力を高圧0.1から0.2MPaに設定し、設定時間を経過した後に該タンク圧力を低圧0.04から0.07MPaに下げることを特徴とする炭酸温水生成方法前記容器の水位を水位検知センサーあるいはフロートで検知して、水位が予め設定された水位よりも下がった場合、炭酸ガスの供給を停止し、予め設定された水位よりも水位が上がるか、あるいは、予め設定された時間が経過した後に炭酸ガスの供給を再開することを特徴とする請求項1に記載の炭酸温水生成方法前記タンクの圧力を高圧および低圧に変化させる方法が、タンク上流に設けられた加圧ポンプの回転数を変更する方法であることを特徴とする請求項1および2に記載の炭酸温水生成方法前記タンクの圧力を高圧および低圧に変化させる方法が、タンク下流に設けられた絞りの開度を調整する、あるいは、タンク下流に設けられた2本の管路の片方を開閉する方法であることを特徴とする請求項1から2に記載の炭酸温水制生成方法装置に送水された温水が通過するタンクを有し、該タンクの上部に温水をタンク内に噴射する噴射部と排気管路を有し、該排気管路に手動バルブあるいは電磁開閉器を有し、タンクの底部に温水の出口部および吐水管路を有し、該タンクのいずれかの部分、あるいは、タンク上流の送水管路に炭酸ガスの注入部を有し、該注入部は圧力調整器を介して炭酸ガスボンベに接続され、前記吐水管路に流量調整バルブあるいは絞り部を有し、さらに前記タンクの上流に加圧送水ポンプを有し、該ポンプの回転数を少なくとも2段階に切り替えることができる制御機構を有し、または、前記吐水管路に設置された流量調整バルブの開口面積を2段階に調整できる制御機構を有し、または、吐水管路を2本有し、どちらかの吐水管路を開閉できる開閉器および制御を有することを特徴とする炭酸温水生成装置前記容器の水位を検知するセンサーあるいはフロートを少なくとも1つ有し、前記圧力調整器と炭酸ガス注入部の間に電磁開閉器を有することを特徴とする請求項5に記載の炭酸温水生成装置前記タンク内の圧力を検知する圧力検知器を前記タンクあるいは吐水管路に有し、該圧力検知器の信号により、前記ポンプの回転数、あるいは吐水管路に設置された流量調整バルブの開口面積を制御することを特徴とする請求項5から6に記載の炭酸温水生成装置図1に本発明における炭酸溶解部の実施例を示す。循環ろ過管路から分岐されて装置に送られたお湯は給水管路1に設けられたポンプ2で加圧され逆流防止弁17を通り送水管路24に送られる。送水管路24に送られたお湯は容器8上部に設けられたノズル3から容器8の長手方向に勢い良く噴射される。容器8には水位を検知するフロート20が設けられており、下部には吐水管路11がつながれている。水位を検知する部材は、フロートではなく水位検知センサー図示せずでも良い。また、タンク上部には、炭酸ガスボンベ6から圧力調整器5と電磁開閉器4を通って炭酸ガスが供給され、さらに、排気管路9も接続されている。排気管路9には電磁開閉バルブ22が設けられている。そして、吐水管路11には容器内の圧力を保つための絞り18が設けられている。次に、図1を用いて炭酸溶解動作を説明する。まず、循環ろ過管路図示せずから分岐して給水管路1に送られたお湯は、ポンプ2により加圧送水され逆流防止弁17、送水管路24、ノズル3を通り容器8に送られる。この時、排気管路9に設けられた電磁開閉器19を開くことにより、容器8内の空気が排気管路9を通り、吐水管路11から排出され。ここで、設定された時間だけ電磁開閉器19を開いておき、設定時間経過後に電磁開閉器19を閉じることにより、容器8内の空気がすべて容器から排出されお湯で満たされた状態になる。ここで、容器8内の水位が容器上端まで達したことをセンサー図示せずで検知し電磁開閉器19を閉じても良いし、さらに、排気管路9は吐水管路11に接続せず大気解放でも良い。次に、電磁開閉器4を開くことにより、炭酸ガスボンベ6内の炭酸ガスが圧力調整器5により設定された圧に調整された後に絞り21を通り容器8に供給される。容器8内に供給された炭酸ガスはノズル3から噴射されるお湯と激しく接触しお湯に溶ける。この時、絞り21によりノズルから噴射されるお湯に溶ける炭酸ガス量よりも少し多くなるように流量を調整することにより、容器8内に炭酸ガスが溜まり徐々に容器8内の水位が下がってゆく。お湯に溶ける炭酸ガス量よりも炭酸ガスの供給量を少なくすると、容器8内の炭酸泉の濃度が1,000ppmを越えないため、供給される炭酸ガスの量は、お湯に溶ける炭酸ガスの量よりも若干多くしておくことが望ましい。容器8内の水位がさらに下がり、設定された水位よりも低くなるとフロート20が下がる。この信号を検知して電磁開閉器4を閉じて炭酸ガスの供給を遮断する。これにより、容器8内に閉じ込められた炭酸ガスはノズル3から噴射されるお湯に溶けて徐々に容器8内の水位が上昇し始めてフロート20が上がる。この信号を検知して、再び、電磁開閉器4を開いて炭酸ガスを容器8内に供給する。すると、再び容器8内の水位が下がり始める。この動作を繰り返すことにより、容器8内の水位をある程度一定に保つことができる。次に、図2を用いて本発明の制御方法の実施例を示す。ポンプ2は主制御装置に接続された回転数制御装置により回転数を制御できるようになされており、浴槽のお湯がさら湯の場合は、ポンプ2を高回転で運転することにより容器8内の圧力を高くする。炭酸ガスの溶解濃度は容器8内の圧力に依存するため、容器8内の圧力を高くすることにより炭酸ガスの溶解溶解濃度が上がり、濃い炭酸泉が吐水管路11から排出される。これにより、浴槽お湯を短時間で1,000ppm以上の高濃度炭酸泉にすることができる。そして、浴槽の容量に適した時間だけポンプ2を高回転で運転した後、ポンプ2の回転数を落として低回転で運転する。これにより、容器8内の圧力が下がり、容器8内での炭酸ガス溶解量が減り容器8内の炭酸泉濃度が下げることができる。この時、容器8内の炭酸泉濃度を目標とする浴槽の炭酸泉濃度とほぼ同じ濃度になるように容器8内の圧力を保つポンプ2の回転数を設定する。浴槽から循環ろ過管路に引き込まれた炭酸泉の濃度は、基本的に浴槽の炭酸泉濃度とほぼ同じであるため、循環ろ過管路から分岐されて給水管路1に送られる炭酸泉も浴槽の濃度とほぼ同じであり、その濃度が容器8内の濃度と同じであれば、極端に言えば容器8内での炭酸ガスの追加溶解量はゼロとなる。もし、浴槽の炭酸泉濃度が落ちて給水管路1に送られる炭酸泉濃度が少し低くなった場合は、容器8内で炭酸ガスが追加溶解し容器8内の圧力に応じた炭酸泉濃度になって吐水管路11に排出される。ここにより浴槽に戻される炭酸泉濃度は常に一定になり、自動的に浴槽の炭酸泉濃度が保たれる。この場合、容器8内を通過するお湯の量は、浴槽の容量の1.5倍以上が望ましく、あまり少ないと、浴槽の炭酸泉濃度が下がった分を元に戻す時間が長くなり、入浴者が多い場合やたし湯が多い場合など、浴槽の濃度が急激に落ちた場合に浴槽の濃度を一定に保てなくなる。また、容器8内の圧力を高い状態にする場合も、容器8内の圧力は0.1から0.15MPa程度が望ましく、高くても0.2MPaを超えないことが望ましい。さらに、浴槽の炭酸泉濃度が1,000から1,200ppm程度になった後、ポンプの回転数を落として容器8から排出される炭酸泉濃度を1,200から1,300ppm程度に抑える場合は、容器8内の圧力を0.05MPa程度にすることが望ましい。次に、図3を用いて本発明の別の制御方法を説明する。この例では、吐水管路11に設けられている絞り18を制御絞りとし、絞りの開口比を電気的に制御できる物とする。これにより、ポンプ2の回転数は一定のままで、容器8の圧力を上げる場合は絞り18を絞って開口面積を小さくし、容器8内の圧力を下げる場合は絞り18の開口面積を大きくする。これにより、ポンプの回転数を変化させた場合と同様の効果が期待できる。さらに図4では、本発明のもうひとつの制御方法を説明する。この場合は、吐水管路11を2つに分岐し、片方に電磁開閉器23を設け、この電磁開閉器23を開閉することにより、容器8から排出される炭酸泉の量を変化させて容器内の圧力を変化させる物である。また、容器8内の圧力を圧力センサーあるいは圧力スイッチで検知して、その信号によりポンプ2の低回転時の回転数および絞り18の開口比を制御しても良い。さらに、実施例では容器8の上部から炭酸ガスを供給しているが、送水管路24に炭酸ガスを注入しても良い。"