液滴を吐出させるためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を第1の面側に有する基板と、前記第1の面の上に形成され、かつ前記液滴を吐出するための吐出口と該吐出口に液体を供給するための液体流路とを構成する流路形成部材と、を含み、前記液体流路の壁面であって前記基板に対向する面側に流体抵抗部を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、1前記基板の第1の面の上に、前記液体流路の型材となる流路パターンを形成する工程と、2前記流路パターンの上に、前記流路形成部材となるネガ型有機樹脂層を形成する工程と、3前記吐出口及び前記流体抵抗部を形成する領域を除いて前記ネガ型有機樹脂層を露光し、かつ前記ネガ型有機樹脂層及び前記流路パターンを加熱し、前記ネガ型感光性樹脂層の前記流体抵抗部に対応する部分を前記基板に向かって移動させる工程と、4前記ネガ型有機樹脂層のうち前記流体抵抗部を形成する領域を露光し、現像することにより、前記吐出口を形成する工程と、5前記流路パターンを除去する工程と、を含むことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。前記流路パターンがポジ型有機樹脂から形成される請求項1に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。前記流体抵抗部は前記液体流路の壁面であって前記基板に対向する面側に凸形状を形成するものである請求項1又は2に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。本発明者らの検討によれば、特許文献1又は2に記載の手法では、マスク層や上側の有機樹脂を選択する際、基板上に直接設ける型材を溶解させずにパターニングが可能で、かつ該型材と密着する材料を選択する必要がある。また、マスク層および上側に用いる有機樹脂のパターニングに活性線を用いる場合、基板上に直接設ける型材のパターニングに用いる活性線と異なる波長域でパターニングを行う必要があるなど、工程に制約がある。そこで、本発明は、液体吐出ヘッドの液体流路の上壁に段差構造等からなる流体抵抗部を有する液体吐出ヘッドを、製造上の制約が少なく、かつ容易に形成できる製造方法を提供することを目的とする。本発明は、液滴を吐出させるためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を第1の面側に有する基板と、前記第1の面の上に形成され、かつ前記液滴を吐出するための吐出口と該吐出口に液体を供給するための液体流路とを構成する流路形成部材と、を含み、前記液体流路の壁面であって前記基板に対向する面側に流体抵抗部を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、1前記基板の第1の面の上に、前記液体流路の型材となる流路パターンを形成する工程と、2前記流路パターンの上に、前記流路形成部材となるネガ型有機樹脂層を形成する工程と、3前記吐出口及び前記流体抵抗部を形成する領域を除いて前記ネガ型有機樹脂層を露光し、かつ前記ネガ型有機樹脂層及び前記流路パターンを加熱し、前記ネガ型感光性樹脂層の前記流体抵抗部に対応する部分を前記基板に向かって移動させる工程と、4前記ネガ型有機樹脂層のうち前記流体抵抗部を形成する領域を露光し、現像することにより、前記吐出口を形成する工程と、5前記流路パターンを除去する工程と、を含むことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。以下、本発明を実施するための形態を説明する。なお、以下の各実施形態で示される数値は一例であり、本発明はこれらに限定されるものではない。また、本発明は、各実施形態に限らず、これらをさらに組み合わせるものであってもよく、特許請求の範囲に記載された本発明の概念に包含されるべき技術に応用することができる。図6に液体吐出ヘッドの模式的斜視図を示す。図6において、シリコン等からなる基板1上に流路形成部材4が形成されている。流路形成部材4は、インク流路等の液体流路3及び吐出口5を構成する。基板1上であって液体流路3内に吐出エネルギー発生素子2が形成されており、該吐出エネルギー発生素子2が発生するエネルギーにより液滴が吐出される。また、基板1には液体流路3にインク等の液体を供給するための供給口6が形成されている。また、液体流路3の壁面であって基板1に対向する面側に流体抵抗部8が設けられている。流体抵抗部8は流路形成部材4の一部として形成されている。図1a及びbは、本実施形態における液体吐出ヘッドの模式図である。図1aは、液体吐出ヘッドの模式的な平面図であり、図1bは図1aにおける点線AAにおける模式的な垂直断面図である。図1において、インク等の液体からなる液滴を吐出するエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子2を表面側第1の面側に有する基板1上に、インク流路等の液体流路3及び吐出口5を構成する流路形成部材4が形成されている。基板1には液体流路3に液体を供給するためのインク供給口等の供給口6が形成されている。また、図2に、図1bに示す本実施形態における液体吐出ヘッドの製造工程を示す。以下、図2を参照して本実施形態における製造方法について説明する。なお、以下の実施形態では、主にインクジェット記録ヘッドの製造方法について説明するが、本発明は特にこれに限定されるものではない。本発明における液体吐出ヘッドは、例えば、インク記録以外にも、バイオッチップの作製や電子回路の印刷に用いることができる。液体吐出ヘッドとしては、インクジェット記録ヘッドの他にも、例えばカラーフィルター製造用ヘッド等も挙げられる。まず、図2に示すように、インクを吐出するエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子2を配置した基板1の上に、インク流路3の型材となる流路パターン7を形成する図2a。次に、流路パターン7上に流路形成部材4を形成する図2b。流路形成部材4は、ネガ型感光性樹脂等のネガ型有機樹脂からなる層によって形成される。また、ネガ型有機樹脂層としては、高い機械的強度、耐インク性、基板との密着性等の観点から、エポキシ樹脂のカチオン重合組成物を好適に用いることができる。また、流路パターン7は、流路形成部材4で用いられるネガ型有機樹脂によって溶解せず、微細パターンが形成可能で、かつノズル形成後に除去が可能なことが要求されるため、ポジ型レジスト等のポジ型有機樹脂からなる層により形成されることが好ましい。次に、マスク不図示を介してフォトリソグラフィー技術により流路形成部材ネガ型有機樹脂層を露光する。この際、流体抵抗部8を形成しようとする領域である流体抵抗形成領域10と吐出口5を形成しようとする領域である吐出口形成領域5とを除いて、流路形成部材4を露光第一の露光する図2c。次に、ネガ型有機樹脂層及び流路パターンを加熱する。このとき、流路パターン7のガラス転移化点以上の温度で熱処理PostExposureBakeすることが好ましい。また、ネガ型有機樹脂層流路形成部材4の未露光部のガラス転移点以上の温度でもある温度で熱処理すると、ネガ型有機樹脂層流路形成部材4の未露光部の移動を促進できるのでより好ましい。この熱処理により、流路形成部材4の露光部は硬化が促進されて樹脂が収縮する。また、加熱によって軟化させられている流路パターン7は、流路形成部材4の露光部の硬化収縮にともない、流路形成部材4との間に隙間が生じないように、流路形成部材4の硬化収縮に追随する動きを行う。そのため、流路形成部材4の未露光部である流体抵抗形成領域10では、流路形成部材の硬化収縮に追随した体積におおよそ相当する流路パターン7が窪みを形成する。さらに、流路形成部材4の未露光部は未硬化状態であり、加熱により流動性が高くなっているため流路パターン7の窪みに追随する形で移動する。つまり、ネガ型感光性樹脂層の流体抵抗部に対応する部分が基板に向かって移動する。流路形成部材4の未露光部の流体抵抗形成領域10は、流路パターンの窪みに追随して凸形状となることで、流体抵抗部8が形成される。なお、流路パターンの窪みの形状及び配置、つまり流体抵抗部8の形状及び配置は、使用するヘッドの必要特性に応じて適宜マスクパターンを選択することにより、制御可能である。また、窪みの深さ、つまり流体抵抗部の高さは露光量、熱処理の温度および時間、流路形成部材の膜厚等によって制御することが可能である。次に、マスク不図示を介して、吐出口形成領域5を除いて、流路形成部材4の少なくとも流体抵抗部8を露光第二の露光する図2e。その後、必要に応じて再び熱処理PostExposureBakeを行ってから、現像を行い、吐出口5を形成する図2f。次に、基板の背面にインク供給口6を形成するためのマスク不図示を配置し、基板1の表面をゴム膜不図示等によって保護した後、基板の異方性エッチングによってインク供給口6を形成する。そして、異方性エッチング処理後、ゴム膜を取り去り、溶剤を用いて流路パターン7を溶解除去する図2g。また、流路形成部材4を完全に硬化させるため、200°Cで1時間加熱プロセスを実施することもできる。最後に、電気的な接続及びインク供給の手段を適宜配置して液体吐出ヘッドを形成する。以下に本発明の実施例について説明するが、本発明は特に以下の実施例に限定されるものではない。実施例1本実施例では、図2に示す工程を用いて液体吐出ヘッドを作製し、図6に示した構成の液体吐出ヘッドを作製した。まず、吐出エネルギー発生素子2を形成したシリコンからなる基板1上に、流路パターン7の材料としてポリメチルイソプロペニルケトン東京応化工業社製ODUR-1010を10μmの膜厚で塗布し、120°Cで6分間熱処理した。そして、露光および現像を行い、インク流路3の流路パターン7を形成した図2a。本実施例においては、インク流路幅を30μmで形成した。次に、流路形成部材4としてカチオン重合性の光重合性樹脂組成物であるレジスト日本化薬社製、商品名SU-83045を、流路パターン7上に基板1から15μmの膜厚で塗布し、95°Cで10分間熱処理した図2b。次に、I線露光ステッパーキヤノン社製を用いて、吐出口形成領域5及び流体抵抗形成領域10を除いて、流路形成部材4を2500J/m2で露光した図2c。次に、120°Cで4分間熱処理をして、露光が行われた部分をこの熱処理によって硬化させるとともに、流路パターン7を軟化させて上部の流路形成部材の未露光部を落ち込ませて窪みを形成し、流路形成部材4に流体抵抗部8を形成した図2d。なお、このとき、マスク上の吐出口寸法はφ22μm、流体抵抗部8はφ15μmで形成してある。次に、吐出口形成領域5を除いて、少なくとも流体抵抗部8を含む領域を、I線露光ステッパーを用いて3500J/m2で露光し、流体抵抗部8を硬化した図2e。次に、90°Cで4分間熱処理PostExposureBakeした後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで現像し、吐出口5を形成した図2f。その後、前述の手法でインク供給口6を形成し、表面全体に紫外線を照射して流路パターン7を分解し、乳酸メチルを用いて流路パターン7を溶解除去し、液体吐出ヘッドを作製した。得られた液体吐出ヘッドのインク流路3の断面を切断し、流体抵抗部8の形状を測定したところ、インク流路の上壁と同平面のおける径が15μm、高さが5μmであった。また、図2dで工程をとめ、吐出口形成領域5および流体抵抗部8の断面を観察したところ、吐出口形成領域5および流体抵抗部8となる流路パターン部分のいずれにも窪みが見られた。また、吐出口形成領域5より径が小さくなるように露光した流体抵抗部8の方が、深い窪み形状を形成していた。本実施例においては、流路パターン7としてポリメチルイソプロペニルケトンからなるポジ型レジストを用いた。本材料のガラス転移点は約70度°Cである。そのため、流路形成部材4の露光後の熱処理をそれ以上の温度とすることで流路パターンに窪みを形成することができる。そのため、流路パターン7としてポリメチルイソプロペニルケトンを用いる場合、100°Cから140°Cの範囲で熱処理を行うことが望ましい。この程度の温度であれば、ポリメチルイソプロペニルケトンが変質を起こすことなく、特別に困難な作業をおこなわずとも流路パターンの除去を行うことができる。また、本実施例においては流体抵抗部8を液体流路の上壁と同平面における断面が丸形状となるように形成したが、図4aからcに示すような形状とすることもできる。図4a及びbでは、流体抵抗部8の液体流路上壁と同平面における断面において、吐出エネルギー発生素子2側の形状がそれぞれ凹形状や平らに形成されている。また、流体抵抗部8は、供給口から一つの吐出口に向かうまでの液体流路中に複数形成することもできる例えば図4c。また、流体抵抗部8は、吐出が安定するために最適となる形状で形成することが望ましい。さらに、本実施例においては記載していないが、流路形成部材4の上層に撥水層を形成しても構わない。撥水層はインクに対する撥水性と、ワイパー等による接触を伴う拭き取りに対する高い機械的強度が求められる。そこで、フッ素、ケイ素等の撥水性を有する官能基を含有するネガ型レジストや、フッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物と、カチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物とを含む縮合物が好適に用いられる。撥水層を形成する場合は、流路形成部材4の塗布および熱処理後に撥水層を形成して流路形成部材4の露光と同時にパターニングするなど、好適な手法で形成して構わない。実施例2本実施例では、図3の模式図に示した液体吐出ヘッドを作製した。図3aは液体吐出ヘッドの模式的な平面図であり、図3bは図3aにおける点線B-B ́における模式的な垂直断面図である。本実施例において、インク流路3の高さを15μm、流路形成部材4の高さを25μmインク流路の上壁を構成する部分の流路形成部材の厚さは10μm、インク流路3の幅を34μm、吐出口5の径をφ13μmとした。流体抵抗部8は、図3に示すように中心を吐出口5の中心と一にして、φ25からφ30の範囲で形成されるようにした。つまり、流路形成部材4の第一の露光において、上述のφ25からφ30の範囲および吐出口5のφ13の範囲を除いた部分が露光されるマスクを使用して流路形成部材を露光した。なお、インク流路3および吐出口5の寸法、流体抵抗部8の形状および寸法を変更した以外は、実施例1と同様の工程で液体吐出ヘッドを作製した。このようにして形成した液体吐出ヘッドの断面を切断し、流体抵抗部8の形状を測定したところ、流体抵抗部8は外径30μm、内径25μm、高さ5μmで形成されていた。このように流体抵抗部8を吐出口5のインク流路3側の外周に形成することで、より効率的に液滴の吐出速度の高速化や、吐出量の安定化を図ることができる。つまり、吐出口5の液体流路側の外周に沿って流体抵抗部8を形成することができる。本実施例においては、流体抵抗部8を、吐出口5と同心円状で形成したが、楕円形状など、吐出が最適となる形状を考慮して形成しても構わない。また、本実施例においては、流体抵抗部8の外縁と内縁形状が相似形で形成したが、流体抵抗部8の外縁をインク流路3形状に合わせて形成するなど、吐出が安定するために最適となる形状を考慮して形成しても構わない。実施例3本実施例では、図5に記載の製造方法によって液体吐出ヘッドを作製した。また、図5は、図1の点線A-A ́の断面における液体吐出ヘッドの製造工程を示す断面工程図である。インクを吐出するエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子2を配置した基板1に、インク流路壁13となる流路形成壁材料11を形成する図5a。本発明で用いられる流路形成壁材料11は、実施例1における流体形成部材4と同様にカチオン重合性の光重合性樹脂組成物であるSU-8レジスト日本化薬社製、商品名SU-83015を用いた。次に、I線露光ステッパーキヤノン社製を用いて、流路パターンとなる領域を除いて、3500J/m2で流路形成壁材料11を露光し、95°Cで10分間熱処理PostExposureBakeした。そして、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで現像し、インク流路壁13を形成した図5b。次に、インク流路壁13上に溶解可能な流路パターン7の材料7を配置する図5c。配置する流路パターン材料7の膜厚は、インク流路壁13の高さよりも、十分厚くする。流路パターン材料の配置方法としては、スピンコート法、ダイレクトコート法、ラミネート転写法などの方法があるが、これに限られるものではない。なお、本実施例では、流路パターン材料としてクレゾールノボラック樹脂を用いた。次に、流路パターン材料7を研磨し、インク流路壁13により囲われた領域に埋め込まれた流路パターン7を形成する図5d。研磨方法としては、スラリーを用いて化学機械的研磨方法であるCMPChemicalMechanicalPolish技術を用いることができる。この場合、先に形成したネガ型感光性樹脂からなるインク流路壁13は十分に架橋されているため、被覆した溶解可能な樹脂からなる流路パターン材料との硬度に差異があり、研磨ストップ層としての役割を十分に果たす。これにより、安定してネガ型感光性樹脂層の上部まで溶解可能な樹脂からなる流路パターン材料を研磨することが可能であり、再現良く流路パターンの膜厚を得ることが可能である。研磨の際に使用する研磨砥粒は、例えば、アルミナ、シリカなどを使用することができる。次に、流路壁13および流路パターン7の上に、ネガ型ドライフィルムレジスト以下、DFとも称すをラミネート処理することで、吐出口プレート12を形成した図5e。DFは、前記SU-8レジスト日本化薬社製、商品名をドライフィルム化して作製した。また、ラミネート処理後、95°C10分間熱処理した。次に、マスク不図示を介してフォトリソグラフィー技術により流体抵抗形成領域10及び吐出口形成領域5を除いて、吐出口プレートを露光した図5f。次に、流路パターン7のガラス転移点以上の温度で熱処理を行い、流路パターン7に窪みを形成した。また、その窪みに応じて流路形成部材4が凸形状を形成することで、流体抵抗部8が形成された図5g。次に、マスク不図示を介して流体抵抗部8を含み、吐出口形成領域5を含まない領域を露光する図5h。次に、熱処理を行い、現像することで、吐出口を形成した図5i。その後、前述の工程を行い、インク供給口6を形成し、溶剤を用いて流路パターン7を溶解除去することで、液体吐出ヘッドを作製した図5j。得られた液体吐出ヘッドのインク流路3の断面を切断し、流体抵抗部8の形状を測定したところ、インク流路の上壁と同平面の断面における径が15μm、高さが5μmの流体抵抗部8が形成されていた。なお、本実施例においては吐出口プレート12の形成にDFのラミネート手法を用いたが、スピンコート法、ダイレクトコート法、スプレーコート法などの手法を用いても構わない。本発明の構成によれば、製造上の制約が少なく、かつ容易に流体抵抗部を形成することができる。