原料ガスであるメタンガス、または少なくともメタンを含む混合ガスと原料水を、前記原料ガスのガスハイドレートが生成しない圧力および/または温度において混合し、原料水に原料ガスを溶解させる溶解工程と、前記溶解工程を経た原料ガス溶解水を、前記ガスハイドレートが生成する圧力および温度にするとともに、前記温度を、生成するガスハイドレートの結晶形態が板状となる温度に制御してガスハイドレートを生成させる生成工程と、を含むことを特徴とする、ガスハイドレート製造方法。請求項1に記載されたガスハイドレート製造方法において、前記溶解工程を経た原料ガス溶解水中に溶解しないで分散している原料ガスの気泡を、該原料ガス溶解水から放散させる気液分離工程を含み、前記気液分離工程を経た原料ガス溶解水を、前記生成工程に送ることを特徴とする、ガスハイドレート製造方法。請求項1または2に記載されたガスハイドレート製造方法において、前記生成工程を経た水を前記溶解工程に送る工程を含むことを特徴とする、ガスハイドレート製造方法。請求項1~3のいずれか一項に記載されたガスハイドレート製造方法において、前記生成工程を行う生成部内の原料ガス溶解水の上部に、該原料ガス溶解水から放散された原料ガスの気相が生じる場合に、当該気相温度はハイドレートが生成しない温度に制御されることを特徴とする、ガスハイドレート製造方法。原料ガスであるメタンガス、または少なくともメタンを含む混合ガスと原料水を、前記原料ガスのガスハイドレートが生成しない圧力および/または温度において混合し、原料水に原料ガスを溶解させる溶解部と、前記溶解部を経た原料ガス溶解水を送り、前記ガスハイドレートが生成する圧力および温度にするとともに、前記温度を、生成するガスハイドレートの結晶形態が板状となる温度に制御してガスハイドレートを生成させる生成部と、を備えたことを特徴とする、ガスハイドレート製造装置。請求項5に記載されたガスハイドレート製造装置において、前記溶解部を経た原料ガス溶解水中に溶解しないで分散している原料ガスの気泡を、該原料ガス溶解水から放散させる気液分離部を備え、前記気液分離部を経た原料ガス溶解水を、前記生成部に送るように構成されていることを特徴とする、ガスハイドレート製造装置。本発明者らは、鋭意研究の結果、原料ガスが溶解した原料水中において成長したガスハイドレートの結晶は、気液界面で成長する前記樹枝状または針状の結晶形態とは異なり、大きく破砕され難い形態であることを見出した。本発明は、かかる知見に基きなされたものであり、その目的は、メタンガスや天然ガス等のメタンを含むガスのガスハイドレートを生成させる際に、その結晶粒径が大きく、且つ壊れにくい形状の結晶を生成させることができるガスハイドレート製造方法およびガスハイドレート製造装置を提供することにある。上記目的を達成するため、本発明の第1の態様に係るガスハイドレート製造方法は、原料ガスであるメタンガス、または少なくともメタンを含む混合ガスと原料水を、前記原料ガスのガスハイドレートが生成しない圧力および/または温度において混合し、原料水に原料ガスを溶解させる溶解工程と、前記溶解工程を経た原料ガス溶解水を、前記ガスハイドレートが生成する圧力および温度にするとともに、前記温度を、生成するガスハイドレートの結晶形態が板状となる温度に制御してガスハイドレートを生成させる生成工程と、を含むことを特徴とするものである。本態様に係るガスハイドレート製造方法における原料ガスは、メタンガス、または少なくともメタンを含む混合ガスである。従来のガスハイドレート製造方法であるバブリング方式や水噴霧方式では、ガスハイドレートが生成する温度および圧力に設定された反応器等に直接原料ガスを導入し、当該反応器内において原料ガスと原料水とを接触させてガスハイドレートの生成工程を行っていた。このような従来の方法では、気泡表面や水滴表面等の気液界面でガスハイドレートが生成し、その結晶が成長する。そして、気液界面で生成および結晶成長した前記原料ガスメタンガス、または少なくともメタンを含む混合ガスのガスハイドレートの結晶形態は、樹枝状または針状であった。ここで、本発明者らは、ガスハイドレート生成条件における所定の温度条件の下、メタンガス、または少なくともメタンを含む混合ガスのガスハイドレートの結晶核が水中で生成し、該結晶が水中で成長する時、そのガスハイドレートの結晶は、板状になることを見出した。本態様に係るガスハイドレート製造方法では、始めに原料ガスと原料水を該原料ガスのガスハイドレートが生成しない条件下において混合し、原料水に原料ガスを溶解させる溶解工程を行う。そして、その原料ガス溶解水を、ガスハイドレートが生成する圧力および温度の条件にするとともに、前記温度を、生成するガスハイドレートの結晶形態が板状となる温度に制御してガスハイドレートを生成させる生成工程を行う。本態様によれば、ガスハイドレートが生成しない条件下で原料水に原料ガスを溶解し、その原料ガス溶解水をガスハイドレートが生成する条件にするので、気液界面ではなく、原料ガス溶解水中においてガスハイドレートを生成させることが可能となる。更に、生成工程の温度条件は、生成するガスハイドレートの結晶形態が板状となる温度に制御される。例えば、原料ガスが天然ガス[メタン94.1、エタン5.8。プロパン0.1]である場合、圧力が9.3MPaのときに、温度を283K~277Kに設定して生成工程を行うことによって、板状のガスハイドレートを生成することができる。ここで、ガスハイドレートの結晶形態について、図6~図13を用いて説明する。ガスハイドレートの結晶形態には、樹枝状または針状と、板状多角形状と称する場合もあるがある。まず、気液界面でガスハイドレートを生成させる従来の方法バブリング方式、水噴霧方式等で生成する、樹枝状の結晶について説明する。樹枝状の結晶とは、図6に示されるように、ある一つの結晶を対象としたときに、結晶核から成長した母体から枝結晶が発生、成長している結晶である。樹枝状のガスハイドレート結晶の例を示すマイクロスコープ画像を図9~図11に示す。また、針状の結晶とは、前記結晶核から成長した母体から、枝結晶が発生、成長していないが、母体結晶を内接する楕円の長径Dmaxと短径Dminの比Dmax/Dminが4以上図8を参照である結晶である。次に、板状多角形状の結晶について説明する。板状のガスハイドレート結晶とは、ある一つの結晶を対象としたときに、結晶核から成長した母体から枝結晶が発生、成長していない結晶であって、該母体結晶が、180度未満の内角で構成される多角形図7を参照、且つ、母体結晶を内接する楕円の長径Dmaxと短径Dminの比Dmax/Dminが4未満図8を参照である結晶である。板状のガスハイドレート結晶の例を示すマイクロスコープ画像を図12および図13に示す。このような板状多角形状のガスハイドレートは、樹枝状または針状のガスハイドレートよりも壊れにくく、大きな結晶として残りやすい。本態様によれば、前記板状のガスハイドレートを生成することができるので、結晶粒径が大きなガスハイドレートの結晶を得ることができ、生成したガスハイドレートスラリー状を脱水成形してペレット化する脱水成形工程におけるガスハイドレートの分解を少なくできるとともに、ペレット化の効率化を図ることができる。また、大きな結晶のガスハイドレートによって形成されたガスハイドレートペレットは、その分解速度がより小さくなることが期待され、輸送貯蔵工程におけるガスハイドレートペレットの保存性の向上が期待できる。本発明の第2の態様に係るガスハイドレート製造方法は、第1の態様において、前記溶解工程を経た原料ガス溶解水中に溶解しないで分散している原料ガスの気泡を、該原料ガス溶解水から放散させる気液分離工程を含み、前記気液分離工程を経た原料ガス溶解水を、前記生成工程に送ることを特徴とするものである。原料ガスを原料水に溶解する溶解工程は、通常、原料水に原料ガスを気泡として吹き込んだりバブリング、原料水を原料ガス雰囲気下で撹拌するなどして行うことができる。このような溶解工程を経て直ぐの原料ガス溶解水には、当該原料ガス溶解水中に溶解しないで分散している微細な気泡がある。この微細な気泡を含む原料ガス溶解水を生成工程に送ると、生成工程を行う生成部内において、前記微細な気泡は原料ガス溶解水内を上昇し、該原料ガス溶解水から放散され、前記生成部内の上部に原料ガス溜まりができる。生成部内の上部に前記原料ガス溜まりができると、気液界面ができるため、当該気液界面においてガスハイドレートが生成する場合がある。すなわち、樹枝状または針状のガスハイドレートが生成する場合がある。本態様によれば、前記溶解工程を経て直ぐの原料ガス溶解水に含まれる原料ガスの気泡を気液分離工程において放散させ、気泡を低減した原料ガス溶解水を生成工程を行う生成部に送るので、生成部内の上部に原料ガス溜まりができる虞を低減することができる。以って、樹枝状または針状のガスハイドレートが生成することを抑制することができる。本発明の第3の態様に係るガスハイドレート製造方法は、第1の態様または第2の態様において、前記生成工程を経た水を前記溶解工程に送る工程を含むことを特徴とするものである。生成工程において反応が進行してガスハイドレートが生成すると、当該生成工程の系内における原料ガス溶解水の原料ガス濃度は減少する。本態様によれば、生成工程を経て原料ガス濃度は減少した水以下、原料ガス未飽和水と称する場合があるを前記溶解工程に送り、当該原料ガス未飽和水に原料ガスを再溶解させて循環させるので、生成工程における原料ガス溶解水の原料ガス濃度をほぼ一定に保ち、効率よくガスハイドレートを生成させることができる。本発明の第4の態様に係るガスハイドレート製造方法は、第1の態様から第3の態様のいずれか一つにおいて、前記生成工程を行う生成部内の原料ガス溶解水の上部に、該原料ガス溶解水から放散された原料ガスの気相が生じる場合に、当該気相温度はハイドレートが生成しない温度に制御されることを特徴とするものである。前述のように、生成工程に送られた前記原料ガス溶解水から微細な気泡が放散されて、該生成工程を行う生成部内の上部に原料ガス溜まり気相ができると、気液界面ができるため、当該気液界面においてガスハイドレートが生成する場合がある。気液界面においてガスハイドレートが生成すると、樹枝状または針状のガスハイドレートが生成する場合がある。本態様によれば、前記生成部内に気相が生じる場合に、その気相温度を、当該生成部内の圧力においてハイドレートが生成しない温度に制御するため、気液界面においてガスハイドレートが生成することを抑制することができる。以って、樹枝状または針状のガスハイドレートが生成する虞を低減することができる。本発明の第5の態様に係るガスハイドレート製造装置は、原料ガスであるメタンガス、または少なくともメタンを含む混合ガスと原料水を、前記原料ガスのガスハイドレートが生成しない圧力および/または温度において混合し、原料水に原料ガスを溶解させる溶解部と、前記溶解部を経た原料ガス溶解水を送り、前記ガスハイドレートが生成する圧力および温度にするとともに、前記温度を、生成するガスハイドレートの結晶形態が板状となる温度に制御してガスハイドレートを生成させる生成部と、を備えたことを特徴とするものである。本態様によれば、第1の態様のガスハイドレート製造方法を行うことが可能となり、第1の態様と同様の作用効果が得られる。本発明の第6の態様に係るガスハイドレート製造装置は、第5の態様において、前記溶解部を経た原料ガス溶解水中に溶解しないで分散している原料ガスの気泡を、該原料ガス溶解水から放散させる気液分離部を備え、前記気液分離部を経た原料ガス溶解水を、前記生成部に送るように構成されていることを特徴とするものである。本態様によれば、第2の態様のガスハイドレート製造方法を行うことが可能となり、第2の態様と同様の作用効果が得られる。以下、実施例に基づき本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限られるものではない。図1は、本発明に係るガスハイドレート製造装置の一例であり、実施例1のガスハイドレート製造装置1を示す概略構成図である。[実施例1]本実施例に係るガスハイドレート製造装置1は、原料ガスG0と原料水W0とを送り、前記原料水W0に前記原料ガスG0を溶解させる溶解部10と、前記溶解部を経た原料ガス溶解水を送り、ガスハイドレートを生成させる生成部20を備えている。更に、前記生成部20の下流側に、前記生成部20において得られたガスハイドレートスラリーを送り、脱水成形してペレットを形成する脱水成形部30を備えている。原料ガスG0としては、メタンガス、または天然ガス等のメタンを含む混合ガスが用いられる。原料水W0としては、ガスハイドレートの生成に影響を与える夾雑物が含まれていない水が用いられる。例えば、純水、イオン交換水、精製水等の他、水道水を用いることができる。また、純水、イオン交換水、精製水等に、水溶液中で解離したときにガスハイドレートの分解抑制物質となるイオンを生成する電解質が含まれる水を、原料水W0として用いることもできる。図2は、図1のガスハイドレート製造装置1の溶解部10の一例を示す概略構成図である。前記溶解部10は、溶解部10を成す容器11の圧力と温度の条件を、前記原料ガスG0のガスハイドレートが生成しない条件にして原料水W0に前記原料ガスG0を溶解させるように構成されている。例えば、溶解部10内の圧力を、後述する生成部20内の圧力と同じ圧力に設定し、当該圧力においてガスハイドレートが生成しない温度ハイドレート平衡温度よりも高い温度に設定するように構成することができる。尚、前記溶解部10内は、生成部20と同じ圧力および温度に設定されていることが好ましい。前記同じ圧力とは、前記溶解部10内の水原料ガス溶解水W1を前記生成部20にポンプ等の加圧装置を介することなく送ることを可能にするというレベルで同じであれば良く、厳密に同じである必要はない。このことによって、生成部20内をハイドレート生成条件を満たす高圧にするためのエネルギーの増加を抑制しつつ、溶解部10から原料ガス溶解水W1を効果的に供給することができる。図2において、溶解部10内の温度は、当該溶解部10の外側に冷媒等を流通させるジャケット12を備えたジャケット方式により制御するように構成されている。符号13はポンプであり、符号14は熱交換器である。溶解部10内の温度の制御は、ジャケット方式に限られるものではなく、例えば、溶解部10内の原料水W0を導出し、熱交換器等により冷却して溶解部10に戻す外部熱交換方式を用いることもできる。また、溶解部10には、原料水W0と原料ガスG0の混合を効率よく行うため、撹拌羽16によって原料水W0を撹拌する撹拌装置15を設けられていることが望ましい。この溶解部10において、原料水W0に前記原料ガスG0を溶解させる溶解工程を行う。溶解工程において原料水W0に原料ガスG0を充分に溶解させ、原料ガスG0の飽和水溶液である原料ガス溶解水W1を得る。溶解部10における溶解工程を経て得られる原料ガス溶解水W1は、生成部20に送られる。次に、生成部20について説明する。図3は、図1のガスハイドレート製造装置1の生成部20の一例を示す概略構成図である。生成部20は、原料ガス溶解水W1からガスハイドレートを生成させる生成工程を行う構成部であり、原料ガスG0のガスハイドレートが生成する圧力および温度に設定可能に構成されている。生成部20内の温度は、前記溶解部10と同様、生成部20の外側に設けられたジャケット21によって制御されるように構成されている。符号22はポンプであり、符号23は熱交換器である。本実施例では、生成部20内の原料ガス溶解水W1の温度制御にジャケット方式を用いているが、外部熱交換方式とすることも可能である。更に、生成部20は、生成部20の上方の温度を制御する温度制御部としてジャケット25を備えている。符号26はポンプであり、符号27は熱交換器である。前記ジャケット21は、主に生成部20内の原料ガス溶解水W1以下、液相24と称する場合があるの温度を制御する構成部である。生成部20内の液相24の温度は、生成するガスハイドレートの結晶形態が板状となる温度に制御するように構成されている。例えば、原料ガスG0のガス組成がメタン94.1、エタン5.8。プロパン0.1であるとき、生成部20内の圧力下における前記ガス組成のガスハイドレート相平衡温度よりも、過冷却度ΔTsubを6K~12Kとしたときに、板状の結晶形態をとるガスハイドレートを生成することができる。より具体的には、圧力9.3MPaのとき、温度283K~277Kにすることによって、板状の結晶形態をとるガスハイドレートを生成することができる。尚、過冷却度ΔTsubとは、生成部20内の圧力下における前記ガス組成のガスハイドレート相平衡温度Teqと、実際の設定温度Texとの差Teq-Texを表すものである。ガスハイドレートの結晶形態が板状となる温度条件については、後述する[試験1]の説明において詳述する。ここで、前記溶解部10における溶解工程を経て直ぐの原料ガス溶解水W1には、当該原料ガス溶解水W1中に溶解しないで分散している微細な気泡がある場合がある。微細な気泡を含む原料ガス溶解水W1を生成部20に送ると、該生成部20内において前記微細な気泡が原料ガス溶解水W1液相24内を上昇し、該原料ガス溶解水W1から放散され、前記生成部20内の上部に原料ガス溜まり以下、気相28と称する場合があるができる。前記生成部20内の上部に前記原料ガスG0の気相28ができると、気液界面ができるため、当該気液界面においてガスハイドレートが生成し、樹枝状または針状のガスハイドレートが生成する虞がある。このように、生成部20内に原料ガスG0の気相28が生じる場合、前記生成部20の上部の温度を制御する前記ジャケット25によって、その気相温度をハイドレートが生成しない温度生成部20内の圧力におけるハイドレート平衡温度よりも高い温度にすることができる。このことによって、気液界面においてガスハイドレートが生成することを抑制することができる。以って、樹枝状または針状のガスハイドレートが生成する虞を低減することができる。尚、生成部20内に原料ガスG0の気相28が生じない場合には、前記ジャケット25の温度も液相24用のジャケット21と同じ温度に設定することができる。生成部20には、原料ガス溶解水W1の濃度を均一にするために該原料ガス溶解水W1を撹拌する撹拌装置29が設けられている。前記撹拌装置29の回転は、撹拌翼が生成したガスハイドレートを破砕しないような速度に設定して撹拌することが望ましい。生成部20において、ガスハイドレートの生成反応が進行すると、当該生成部の系内における原料ガス溶解水W1の原料ガスG0濃度は減少する。したがって、生成部20内の原料ガス溶解水W1は、一部抜き出されて溶解部10に戻されるように構成されていることが望ましい。生成部20における生成工程を経て原料ガス濃度は減少した水以下、原料ガス未飽和水W2と称する場合があるを前記溶解部10に送り、当該原料ガス未飽和水W2に原料ガスG0を再溶解させて循環させることによって、生成工程における原料ガス溶解水W1の原料ガスG0濃度をほぼ一定に保ち、効率よくガスハイドレートを生成させることができる。生成部20において生成した板状のガスハイドレートは、スラリーの状態ガスハイドレートスラリーSで脱水成形部30に送られる。脱水成形部30は、例えば、二つのローラーによってガスハイドレートスラリーSを脱水しながら該ガスハイドレートの結晶を圧縮し、ガスハイドレートペレットGHPを形成する公知のペレタイザー等図示せずを備えている。脱水成形部30における脱水成形工程は、ガスハイドレートの生成条件において行われるように構成されている。脱水成形部30の圧力および温度の条件は、前記生成部20とほぼ同じ圧力および温度に設定することが望ましい。また、脱水成形部30において、前記ペレタイザー等によってガスハイドレートスラリーSから脱水された水W3は、原料ガス未飽和水W2に合一され、溶解部10を経て再利用されるように構成されていることが好ましい。本実施例によれば、原料ガスG0のガスハイドレートが生成しない条件下で原料水W0に原料ガスG0を溶解し、その原料ガス溶解水W1をガスハイドレートが生成する条件にするので、気液界面ではなく、原料ガス溶解水W1中においてガスハイドレートを生成させることが可能となる。そして、原料ガスG0がメタンガス、またはメタンを含む混合ガスである場合、原料ガス溶解水W1中においてガスハイドレートを生成させるときに、生成部20の温度を制御することによって、板状多角形状のガスハイドレートを得ることができる。板状多角形状のガスハイドレートは、樹枝状または針状のガスハイドレートよりも壊れにくく、大きな結晶として残りやすい。したがって、生成したガスハイドレートスラリー状を脱水成形してペレット化する脱水成形工程におけるガスハイドレートの分解を少なくできるとともに、ペレット化の効率化を図ることができる。また、大きな結晶のガスハイドレートによって形成されたガスハイドレートペレットは、その分解速度がより小さくなることが期待され、輸送貯蔵工程におけるガスハイドレートペレットの保存性の向上が期待できる。[実施例2]次に、本発明に係るガスハイドレート製造装置の他の例について説明する。図4は、実施例2に係るガスハイドレート製造装置31を示す概略構成図である。図5は、図4のガスハイドレート製造装置31の生成部33の一例を示す概略構成図である。尚、実施例1と同様の部材には同じ符号を付し、その説明は省略する。本実施例に係るガスハイドレート製造装置31は、溶解部10と生成部33との間に、気液分離部32を備えている点が特徴である。気液分離部32内の圧力及び温度は、溶解部10と同じに設定されている。前述のように、溶解部10における溶解工程を経て直ぐの原料ガス溶解水W1には、該原料ガス溶解水W1中に溶解しないで分散している微細な気泡がある場合があるので、原料ガス溶解水W1を直接生成部33に送ると、該生成部33内において前記微細な気泡は原料ガス溶解水W1内を上昇し、該原料ガス溶解水W1から放散され、前記生成部33内の上部に原料ガス溜まりの気相ができる虞がある。生成部33内の上部に前記気相ができると、気液界面ができ、樹枝状または針状のガスハイドレートが生成してしまう場合がある。本実施例では、前記気液分離部32に、原料ガス溶解水W1を所定の時間滞留させることによって、原料ガス溶解水中に含まれる気泡原料ガスG0を放散させることができる。このことによって、生成部33に送られる原料ガス溶解水W1に含まれる気泡を低減し、生成部33内の上部に気相が形成されることを抑制することができる。以って、樹枝状または針状のガスハイドレートが生成することを抑制することができる。また、前記気液分離部32を設けることによって、生成部33内に気相が生じる虞が低減されるため、本実施例に係る生成部33は、図5に示されるように、実施例1の生成部20における気相28部分の温度を制御するジャケット25がない構成にすることができる。尚、生成部33内の液相24の温度制御は、ジャケット方式の他、外部熱交換方式とすることも可能である。[試験1]ガス組成がメタン94.1、エタン5.8。プロパン0.1である混合ガスを原料ガスG0として、前記原料ガスG0を原料水W0蒸留水に溶解させて原料ガス溶解水W1を調製し、圧力と該圧力下における相平衡温度Teqからの過冷却度ΔTsub=Teq-TexTex:実験温度をパラメータとして、原料ガス溶解水W1中において成長するガスハイドレートの結晶形態を観察した。結晶形態を観察は、マイクロスコープによって行った。試験結果を表1に示す。メタン:エタン:プロパン94.1:5.8:0.1の混合ガスを原料ガスG0とした場合、ΔTsub<6Kのとき、水中におけるハイドレートの結晶成長は確認できなかった。6K<ΔTsub<12Kのとき、多角形状の板状の結晶が生成した。また、8K<ΔTsub<10Kのとき、特に大きな平板状の結晶が生成する傾向があった。12K<ΔTsubのとき、樹枝状の結晶が成長した。以上の結果より、メタン:エタン:プロパン94.1:5.8:0.1の混合ガスでは、過冷却度ΔTsubを6K<ΔTsub<12Kの範囲に設定することによって、板状のガスハイドレートを得ることができる。より好ましくは、8K<ΔTsub<10Kである。また、板状の結晶が成長するΔTsubの範囲は、圧力の違いによって大きく変化はしないと言える。すなわち、水中におけるハイドレートの結晶成長では、圧力による影響が小さいと考えられる。尚、同様の実験をメタン:エタン:プロパンが90:7:3の場合、99.47:0.51:0.02の場合、および純メタンについて行ったところ、94.1:5.8:0.1の場合とほぼ同様の結果となり、6K<ΔTsub<12Kのとき、多角形状の結晶が生成した。上記実験では、メタンが90以上含まれる原料ガスG0では板状のガスハイドレートを生成するΔTsubの範囲がほぼ同様となったが、ΔTsubの範囲は原料ガスのガス組成によって異なると考えられる。他のガス組成の原料ガスG0のΔTsubの範囲は、試験1と同様の実験を行うことによって求めることができる。