光が透過する材料で構成された基板と、光を遮断する材料で構成され、前記基板の厚さ方向の一方の面にお互いが離れて設けられた複数の微細な凸部で形成された転写パターンと、を有することを特徴とする型。基材に、光の照射によって硬化する未硬化の被成形材料を設ける未硬化被成形材料設置工程と、光が透過する材料で構成された基板と、光を遮断する材料で構成され前記基板の厚さ方向の一方の面にお互いが離れて設けられた複数の微細な凸部で形成された転写パターンとを有する型の前記転写パターンが、前記未硬化被成形材料設置工程で設置された未硬化の被成形材料に密着するように、前記型を前記被成形材料に設置する型設置工程と、前記型設置工程で前記型を前記被成形材料に設置した後、前記型の基板を通して前記被成形材料に光を照射し前記被成形材料の一部を硬化させる被成形材料硬化工程と、前記被成形材料硬化工程で前記被成形材料の一部を硬化した後、前記型を前記被成形材料から離す型離反工程と、前記型離反工程で前記被成形材料から前記型を離した後、未硬化の被成形材料を除去する未硬化被成形材料除去工程と、を有することを特徴とする被成形品の成形方法。しかし、従来の成形方式では、紫外線硬化樹脂を硬化させた後、紫外線硬化樹脂から型を離すと、上記基板に薄い残膜が残ってしまう。この残膜をO2アッシング等で除去するとなると、除去に多くの時間を要してしまうという問題がある。なお、残膜は、硬化した紫外線硬化樹脂で構成されており、転写して形成された微細な各凸部硬化した紫外線硬化樹脂の間に形成されて、上記基板をごく薄く覆っているのである。本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、型に形成された微細な転写パターンを光硬化性材料に転写することで上記光硬化性材料を成形する被成形品の成形方法および型において、残膜の除去が容易であるものを提供することを目的とする。請求項1に記載の発明は、光が透過する材料で構成された基板と、光を遮断する材料で構成され、前記基板の厚さ方向の一方の面にお互いが離れて設けられた複数の微細な凸部で形成された転写パターンとを有する型である。請求項2に記載の発明は、基材に、光の照射によって硬化する未硬化の被成形材料を設ける未硬化被成形材料設置工程と、光が透過する材料で構成された基板と、光を遮断する材料で構成され前記基板の厚さ方向の一方の面にお互いが離れて設けられた複数の微細な凸部で形成された転写パターンとを有する型の前記転写パターンが、前記未硬化被成形材料設置工程で設置された未硬化の被成形材料に密着するように、前記型を前記被成形材料に設置する型設置工程と、前記型設置工程で前記型を前記被成形材料に設置した後、前記型の基板を通して前記被成形材料に光を照射し前記被成形材料の一部を硬化させる被成形材料硬化工程と、前記被成形材料硬化工程で前記被成形材料の一部を硬化した後、前記型を前記被成形材料から離す型離反工程と、前記型離反工程で前記被成形材料から前記型を離した後、未硬化の被成形材料を除去する未硬化被成形材料除去工程とを有する被成形品の成形方法である。本発明によれば、型に形成された微細な転写パターンを光硬化性材料に転写することで上記光硬化性材料を成形する被成形品の成形方法および型において、残膜の除去が容易であるという効果を奏する。本発明の実施形態に係る型1は、図1で示すように、基板基材3と転写パターン5とを備えて構成されている。基板3は、光が透過する材料で構成され板状に形成されている。たとえば、基板3は、紫外線が透過する石英ガラスで構成され矩形な平板状になっている。転写パターン5は、複数の微細な凸部7で形成されている。各凸部7は、基板3の厚さ方向の一方の面にお互いが僅かに離れて一体的に設けられている。また、凸部7は、光たとえば紫外線を遮断する光が透過しない材料で構成されている。凸部7は微細な直方体状に形成されている。凸部7の高さ図1の上下方向の寸法、横方向の寸法図1の左右方向の寸法、縦方向図1の紙面に直交する方向の寸法の寸法、および、お互いが隣接している各凸部7間の距離図1の左右方向の寸法は、たとえば、可視光線の波長と同程度の大きさになっている。また、凸部7の高さ寸法は、凸部7の横方向の寸法や縦方向の寸法よりも大きくなっている。これによって、基板3の厚さ方向の一方の面図1では基板3の上面には、ドットスペースの形態で複数の柱状の凸部7転写パターン5が形成されていることになる。なお、各凸部7がラインスペースの形態で形成されていてもよい。また、凸部7が設けられていないところお互いが隣接している各凸部7の間では、基板3が剥き出しになって露出している。すなわち、型1では、図1で示すような残膜8が除去されて非存在の状態になっている。転写パターン5は、図1では、基板3の全面に設けられているが、転写パターン5が、基板3の一部に設けられている構成であってもよい。たとえば、転写パターン5が、基板3の厚さ方向の一方の面の中央部のみに設けられている構成であってもよいし、基板3の厚さ方向の一方の面の周辺部のみに設けられている構成であってもよい。各凸部7の生成は、マスクレスリゾグラフィmasklesslithographyによってなされるのであるが、上記特許文献1特開2009-208316号公報に記載されているような転写で生成してもよいし、フォトリソグラフィとエッチングとで生成されてもよい。また、凸部7を構成している光を遮断する材料として、不透明な合成樹脂たとえば黒インクを混ぜた紫外線硬化樹脂等が採用されている。型1において、転写で各凸部7として、紫外線硬化樹脂に代えて、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を採用してもよい。そして、常温よりも高い温度もしくは常温で各凸部7を生成してもよい。被成形品9は、図4で示すように、基材基板11と被成形体13とを備えて構成されている。基材11は、たとえば、PETフィルムポリエチレンテレフタレートで矩形な平板状に形成された材料で構成されている。被成形体13は、硬化した光硬化性樹脂たとえば紫外線硬化樹脂で構成されている。また、被成形体13は、複数の微細な凸部15で形成されている。各凸部15は、基材11の厚さ方向の一方の面にお互いが離れて一体的に設けられている。なお、詳しくは後述するが、被成形体13は、型1の転写パターン5を転写することで形成されている。したがって、被成形体13の凸部15は、微細な直方体状に形成されている。凸部15の高さ図4の上下方向の寸法、横方向の寸法図4の左右方向の寸法、縦方向図4の紙面に直交する方向の寸法の寸法、および、お互いが隣接している各凸部15間の距離図4の左右方向の寸法も、図1に示す各凸部7と同様に、たとえば、可視光線の波長と同程度の大きさになっている。また、凸部15が設けられていないところお互いが隣接している各凸部15の間では、基材11が剥き出しになって露出している。被成形体13は、図4では、基材11の全面に設けられているが、型1の場合と同様にして、被成形体13が、基材11の一部に設けられている構成であってもよい。ここで、被成形品9の成形方法について説明する。被成形品9は、たとえば、未硬化被成形材料設置工程と型設置工程と被成形材料硬化工程と型離反工程と未硬化被成形材料除去工程とを経て生成されるようになっている。未硬化被成形材料設置工程は、基材11の厚さ方向の一方の面に、光の照射によって硬化する未硬化の被成形材料レジンresin;たとえば紫外線硬化樹脂等の光硬化性材料を設ける工程である図示せず。未硬化被成形材料設置工程で設置された未硬化の被成形材料は、平板状の基材11の厚さ方向の一方の面で薄い膜状になっている。型設置工程は、図2で示すように、型1の転写パターン5が未硬化被成形材料設置工程で設置された未硬化の紫外線硬化樹脂17に密着するように、型1を紫外線硬化樹脂17に設置する工程である。型設置工程で型1が設置された状態についてさらに説明すると、型1の基板3の厚さ方向と被成品の基材11の厚さ方向とがお互いに一致しており、基板3と基材11とが、転写パターン5の凸部7の高さの値よりもごく僅かに大きい距離を隔て、お互いに対向している。また、図2に示す状態では、たとえば、型1が下方に付勢されている。これにより、型と基材11とで、未硬化の紫外線硬化樹脂17が挟まれて所定の力で押圧されていることになる。上記押圧がなされているにもかかわらず、図2に示す状態では、型1の凸部7の先端図2では下端と基材11との間に、未硬化の紫外線硬化樹脂17のごく薄い部位17Aが存在している。この部位17Aは、従来の転写で残膜になる部位である。被成形材料硬化工程は、図2で示すように、型設置工程で型1を紫外線硬化樹脂17紫外線硬化樹脂17が設けられた基材11に設置した後、型1の基板3を通して被成形材料17に光たとえば紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂17の一部光が照射された部位17Bを硬化する工程である。紫外線は、型1の上方に設置された紫外線発生装置19によって生成される。紫外線発生装置19が発した紫外線たとえば平行光線は、型1の基板3を通って、紫外線硬化樹脂17に照射される。ただし、紫外線が紫外線硬化樹脂17の総ての部位に照射されるわけではない。すなわち、型1に設けられている凸部7が紫外線を遮断するので、紫外線発生装置19が発した紫外線は、各凸部7の間に存在している部位たとえば直方体状の部位17Bには照射されるが、前述した部位17Aには照射されない。これによって、被成形材料硬化工程では、紫外線硬化樹脂17の部位17Bが硬化し、部位17Aは硬化しない。型離反工程は、被成形材料硬化工程で紫外線硬化樹脂の一部17Bを硬化した後、型1を被成形材料17から離す工程である。型離反工程で、型1を被成形材料17から離すと、図3で示すようになる。図3では、基材11の厚さ方向の一方の面に、被成形体13各凸部15;硬化した紫外線硬化樹脂17Bが形成されている。また、各凸部15の間であって各凸部15の底部基端には、ごく薄い未硬化の紫外線硬化樹脂17Aが存在している。未硬化被成形材料除去工程は、型離反工程で紫外線硬化樹脂17から型1を離した後、未硬化の紫外線硬化樹脂17Aを除去する工程である。未硬化の紫外線硬化樹脂17Aの除去は、未硬化の紫外線硬化樹脂17Aをたとえば溶剤硬化した紫外線硬化樹脂17Bは溶かさない溶剤に溶かすことでなされる。被成形品の成形方法によれば、被成形品9に残っている残膜17Aが未硬化になっているので、残膜の除去が容易になる。また、未硬化の残膜17Aを除去するので、従来のように硬化している残膜をアッシングO2アッシング等で除去する場合に比べて、本来除去されてはならない部位17B光硬化性材料で硬化している凸部15の損傷や欠落をほぼ無くすことができる。