"円筒状基体上に少なくとも電荷発生層および少なくとも2層以上の電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体であって、前記円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、下記式1の条件を満たす切削加工形状を有し、前記最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径Dpが3~100nmの無機粒子が含有されていることを特徴とする電子写真感光体。式1:ΔL≧10μm式1中、ΔLは、円筒状基体の外周面の画像領域内における、中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差である。前記無機粒子がシリカ粒子であることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。請求項1または請求項2に記載の電子写真感光体を用いて画像を形成することを特徴とする画像形成方法。本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、耐摩耗性に優れ、かつ、干渉スジおよび画像ムラの発生が抑制された高画質のハーフトーン画像を得ることができる電子写真感光体および当該電子写真感光体を用いた画像形成方法を提供することにある。本発明の電子写真感光体は、円筒状基体上に少なくとも電荷発生層および少なくとも2層以上の電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体であって、前記円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、下記式1の条件を満たす切削加工形状を有し、前記最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径Dpが3~100nmの無機粒子が含有されていることを特徴とする。式1:ΔL≧10μm式1中、ΔLは、円筒状基体の外周面の画像領域内における、中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差である。本発明の電子写真感光体においては、前記無機粒子がシリカ粒子であることが好ましい。また、本発明の電子写真感光体は、上記の電子写真感光体を用いて画像を形成することを特徴とする。本発明の電子写真感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。また、本発明の電子写真感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。さらに、本発明の電子写真感光体によれば、最上層の電荷輸送層に特定範囲の無機粒子が含有されていることにより、優れた耐摩耗性が得られる。以下、本発明について具体的に説明する。感光体本発明の電子写真感光体は、少なくとも電荷発生層および少なくとも2層以上の電荷輸送層がこの順に積層されたものであって、円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、上記式1の条件を満たす切削加工形状以下、特定の切削加工形状ともいう。を有し、最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径Dpが3~100nmの無機粒子以下、特定の無機粒子ともいう。が含有される、特定の感光体からなることを特徴とするものである。具体的な一例を挙げると、例えば図1に示されるように、特定の切削加工形状を有する円筒状基体1a上に、中間層1b、電荷発生層1c、特定の無機粒子を含有しない電荷輸送層以下、下層の電荷輸送層ともいう。1d、特定の無機粒子を含有する電荷輸送層以下、最上層の電荷輸送層ともいう。1eがこの順に積層されてなり、電荷発生層1c、下層の電荷輸送層1dおよび最上層の電荷輸送層1eから電子写真感光体の構成に必要不可欠な感光層1αが構成されている。このような感光体1は、電荷発生層1cおよび電荷輸送層1d、1eがそれぞれ公知の有機電荷発生物質および有機電荷輸送物質から構成される有機感光層である、いわゆる有機感光体であることが好ましい。以下、特定の感光体が有機感光体からなるものとして説明する。円筒状基体特定の感光体を構成する円筒状基体は、導電性を有し、その外周面に特定の切削加工形状が形成された円筒形状のものである。特定の切削加工形状を示す上記式1の条件において、ΔLは、切削凹凸の周期の変動の幅を示し、具体的には、円筒状基体の外周面の画像領域内における、切削凹凸の周期幅図3においてWで示す。の最大値と最小値との差である。上記式1が導き出された理由は、以下の通りである。本発明において課題とされる、形成された画像に現れる干渉スジを図2に示す。このように、干渉スジは、画面r上に感光体の周方向、すなわち画像支持体Pの搬送方向sに沿った方向に伸びる斜めのスジ状の濃度ムラとして現われるものであり、一様な画像において目立ち、特に、滑面画像で軽印刷の如く大画面の高画質なハーフトーン画像において明確に視認されてしまう。発明者の検討によれば、本発明にて問題視される干渉スジの発生原因は、下記の通りである。図3は、感光体の断面における部分拡大図である。干渉スジは、円筒状基体の切削凹凸自体に起因するものではなく、当該切削凹凸を反映して感光体1の感度が周期を有することに起因して生じる。すなわち、図3に示すように、当該円筒状基体1aの表面の切削凹凸の形状が中間層1bを介して電荷発生層CGL1cの膜厚に反映され、具体的には円筒状基体1aの切削凹凸の深さの大小に対応して膜厚が厚い部分βや膜厚の薄い部分α等が生じ、その結果、感光体1が、電荷発生層1cの膜厚が規則的な周期に従って変動するものとなる。そして、感光体1の感度は、電荷発生層1cの膜厚に従って変動するので、当該感光体1の感度の周期と、レーザー光やLED光源等による露光が行われるときの当該露光に係るスクリーンパターンの周期とが干渉して静電潜像に周期性を有する電位ムラが生じ、当該静電潜像が現像、転写および定着されて得られた画像において、当該画像が高画質なものとされる場合に、周期的な濃度ムラ、すなわち干渉スジとして可視化される。本発明においては、円筒状基体の表面に切削により生じる切削凹凸の周期幅をある程度以上変動させることが、干渉スジの発生の抑制に極めて有効であることを見いだし、さらに、その変動の幅の下限値を見いだしたものである。ΔLが10μm未満である場合は、円筒状基体が切削凹凸の周期性の十分に低減されたものとならず、露光パターンの周期と感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間に干渉が生じて高画質なハーフトーン画像を形成した場合に当該画像に干渉スジが発生することがある。ΔLの上限値は、現時点では切削加工形状を形成するための加工機の性能によって限定されているが、発明の効果による限界は存在しないと思われる。ただし、加工機の特性によっては、加工機の速度プログラムをΔLを大きくするための設定にすることにより、速度変動が急激に起こって加工面に段差が発生し、これに起因して画像にスジが生じることがある。そのため、ΔLは、好ましくは300μm≧ΔL≧10μmであり、より好ましくは150μm≧ΔL≧10μmである。円筒状基体の作製方法円筒状基体は、例えば円筒管よりなる素管の表面にバイト切削加工によって特定の切削加工形状を形成させることにより、作製することができる。素管としては、特に限定されず、例えば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛およびステンレスなどの金属をドラム状に成形したものなどが挙げられる。特定の切削加工形状は、具体的には、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに、素管を円筒軸を中心として回転させると共に切削バイトを非定速的に移動させながら当接させることにより形成することができる。以下、本発明に係る特定の切削加工形状を形成するためのバイト切削加工について、さらに説明する。円筒状基体のバイト切削加工は、円筒状基体の外径等の寸法精度を所望のレベルにする、円筒状基体の表面の酸化膜を除きフレッシュにする、円筒状基体の表面を所望の形状にする等の目的で行われる。従来のバイト切削加工で仕上げられた円筒状基体は、その中心軸方向に極めて規則的に切削凹凸が形成された形状を有するものとなり、円筒状基体上に形成された感光層の膜厚分布は、当該形状を反映した周期性を有し、その反映は間に中間層を介するなど、層を重ねても容易には消失しない。図示の例のように、円筒状基体上に中間層UCLが設けられ、当該中間層上に電荷発生層が形成される場合には、当該電荷発生層の下地となる形状は中間層の表面形状になるが、当該中間層の表面形状は、円筒状基体の表面の形状と中間層の組成によって主に決定される。切削凹凸の周期の不規則性の指標であるΔLを10μm以上とするためには、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに、素管の表面に対する切削バイトの移動速度を加工途中で頻繁に変える指示を加えればよい。例えば、切削バイトの移動速度Xnmm/回転とその指示位置Ynmmとを指示するCNC旋盤を用いる場合には、X1、Y1、X2、Y2、...Xn、Ynのようにnブロックのプログラムを行うことになる。例えば第mブロックにおいて、Ym1-Ym/Xmが特定数とならない場合に、そのブロック終点で切り替えを可能とするために切削バイトの移動速度の減速が生じ、次の第m1ブロックでは指示速度Xm1までの増速が行われる。この場合、例えばXmとXm1が同じ速度の指示であっても、Ym1-Ym/Xmが特定数とならない場合には、減速、増速が起こるため、これを用いて切削バイトの移動速度を変化させることが可能である。また、同じプログラムでも主軸回転数素管の回転数を変えるとΔLは変わることがある。この原因は、切削バイトの移動を観測した結果に基づいて行われるプログラムの速度切り換え判断がデジタル回路によって間欠的に行われ、その間隔が加工速度に対して充分短くはないためと考えられる。特定数が必ずしも自然数ではないのも同様の理由によると考えられる。言い換えると、特定数は旋盤の設計および設定と主軸回転数に依存する。また、CNC旋盤ではなくアナログ旋盤を用いる場合には、切削バイトの移動速度を制御しているモーター電圧を、例えば複数の抵抗をスイッチングする回路を通して出力させることにより切削バイトの移動速度を変化させることが可能である。また例えば、指定した波形の電圧を出力することができる電源を用いて切削バイトの移動を行わせることによってもその移動速度を変化させることが可能である。切削凹凸の周期性をより低減させるために、切削バイトの移動速度を変える指示間隔は一定にしないことが望ましい。これは例えば、上記のCNC旋盤を用いる場合はYn-Yn1を一定にしないことで、また上記のアナログ旋盤を用いる場合はスイッチングするタイマーを複数用いること、或いは出力波形を異なる波形の重畳等で複雑化することが可能な電源を用いること等で達成することができる。また、ΔLを10μm以上とすることは、バイト切削加工時の素管の回転数主軸回転数を適宜変動させることにより実現することも可能である。これは例えば、上記のアナログ旋盤の場合と同様な手段で達成することができる。ΔLは切削バイトの移動速度の指示値差よりも大きくなる傾向があるが、それは上記CNC旋盤の場合は上記の減速が入るためであり、上記アナログ旋盤の場合は電圧を変化させる時のオーバーシュートのためと考えられる。また、素管の回転数主軸回転数が大きいほどΔLが大きくなる傾向があるが、それは回転体の振れやワウの影響であると考えられる。以上のように、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに素管の表面に対して切削バイトを変則的に移動させながら当接させることにより、ΔLを10以上にすることができる。ΔLの測定方法本発明における円筒状基体の外周面の画像領域内における、切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差ΔLは、例えば図4に例示するように、当該外周面の画像領域の断面曲線から読み取られたものである。具体的には、図4aの断面曲線から、繰り返し形状および周期に目ぼしをつけ、図4bの断面曲線に示すように適切な倍率に上げてその周期幅を読み取ったものである。なお、図4bの断面曲線は、横倍率を図4aの断面曲線の4倍にしたものである。切削凹凸の周期幅の最大値および最小値を読み取るために測定される切削凹凸の周期数は、5周期以上であればよい。断面曲線の測定箇所は、円筒状基体の外周面の画像領域内の任意の箇所でよく、1箇所であっても複数箇所であってもよい。測定箇所が1箇所である場合は、当該測定箇所から連続した、あるいは断続した5周期以上の切削凹凸の周期幅から最大値および最小値を読み取ればよく、測定箇所が複数箇所である場合は、当該複数の測定箇所から任意に5周期以上の切削凹凸の周期幅を選択し、これらから最大値および最小値を読み取ればよい。断面曲線の測定箇所としては、例えば円筒状基体の中心軸方向の中央付近が選定されることが好ましい。断面曲線の測定長さは、切削凹凸の周期幅を読み取ることができれば任意の長さでよいが、測定箇所が1箇所である場合は、切削凹凸の周期幅が少なくとも5周期以上読み取れる長さであることが好ましく、10周期以上読み取れる長さであることが特に好ましい。断面曲線の測定長さは、具体的には例えば4mmとされる。円筒状基体の外周面の画像領域の断面曲線は、触針式の表面粗さ測定器サーフコム1400D株東京精密製を用いて下記の測定条件において得られたものである。-測定条件-測定モード:粗さ測定JIS’01規格測定長:4.0mmカットオフ:0.8mmガウシアン測定速度:0.3mm/sec中間層中間層は、円筒状基体と有機感光層との間にバリアー機能と接着機能とを付与するものである。種々の故障防止などの観点から、このような中間層を設けることが好ましい。中間層は、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン-アクリル酸コポリマー、ポリアミド、ポリウレタン、アルキッド-メラミン、エポキシおよびゼラチンなどのバインダー樹脂を公知の溶媒に溶解して塗布液を調製し、この塗布液を、円筒状基体の外周面に浸漬塗布などによって塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥することにより形成することができる。中間層を形成するバインダー樹脂としては、アルコール可溶性のポリアミド樹脂を用いることが好ましい。また、中間層には抵抗調整や粗さ付与等の目的で金属酸化物粒子等の各種の微粒子を含有させることができる。中間層に各種の微粒子が含有された特定の感光体によれば、中間層の表面形状が円筒状基体の表面の切削凹凸に加えて当該微粒子の形状に由来するランダムな凸形状を反映したものとなるために、円筒状基体の表面の形状に由来の感度の周期性を減ずることができ、干渉スジの発生を極めて有効に抑制することができる。金属酸化物粒子としては、例えば、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズおよび酸化ジルコニウムなどの微粒子が挙げられる。これらの金属酸化物粒子は、2種類以上を混合して用いてもよい。2種類以上混合した場合には、固溶体または融着の形をとってもよい。このような金属酸化物粒子の平均粒径は好ましくは0.3μm以下、より好ましくは0.1μm以下である。また、これらの金属酸化物粒子は、無機化合物や有機化合物で一重または多重に表面処理されていてもよい。中間層を形成するバインダー樹脂を溶解させる溶媒としては、公知のものを挙げることができるが、例えばバインダー樹脂としてアルコール可溶性ポリアミドを用いる場合、メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、t-ブタノール、sec-ブタノール等の炭素数1~4のアルコール類が、ポリアミドの溶解性と塗布性能に優れるために好ましい。また、塗布性や保存性、微粒子の分散性等を向上するために、溶媒と共に助溶媒を用いることが好ましく、好ましい効果を得られる助溶媒としては、ベンジルアルコール、トルエン、メチレンクロライド、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。中間層を形成するための塗布液におけるバインダー樹脂の濃度は、中間層の膜厚や生産速度に合わせて適宜選択される。中間層に微粒子を含有させる場合のバインダー樹脂に対する微粒子の混合割合は、バインダー樹脂100体積部に対して微粒子20~400体積部が好ましく、さらに好ましくは40~200体積部である。微粒子の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサー等が使用することができるが、これらに限定されるものではない。平均粒径0.1~0.5mmのビーズを用いたビーズミルを好ましいものとして挙げることができる。なお、中間層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。中間層の乾燥方法は、バインダー樹脂や溶媒の種類、膜厚に応じて適宜選択することができるが、熱乾燥が好ましい。中間層の膜厚は、0.1~30μmであることが好ましく、0.3~15μmであることがより好ましい。電荷発生層特定の感光体を構成する電荷発生層は、バインダー樹脂中に電荷発生物質が含有されたものである。電荷発生物質は、スーダンレッドおよびダイアンブルーなどのアゾ顔料、ピレンキノンやアントアントロンなどのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴおよびチオインジゴなどのインジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの電荷発生物質は単独、もしくは公知の樹脂中に分散する形態で使用することができる。電荷発生層を形成するバインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、並びにこれらの樹脂の内2つ以上を含む共重合体樹脂例えば、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体樹脂およびポリビニルカルバゾール樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。電荷発生層は、バインダー樹脂を溶媒に溶解させた溶液中に分散機を用いて電荷発生物質を分散して塗布液を調製し、当該塗布液を、中間層の外周面に塗布機で一定の膜厚に塗布し、乾燥して塗布膜を作製することが好ましい。電荷発生層に使用するバインダー樹脂を溶解し塗布するための溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、1,2-ジクロロエタン、メチルエチルケトン、4-メトキシ-4-メチル-2-ペンタノン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。電荷発生物質の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサー等が使用することができるが、これらに限定されるものではない。バインダー樹脂に対する電荷発生物質の混合割合は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷発生物質10~600質量部が好ましく、さらに好ましくは50~500質量部である。電荷発生層の膜厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合等により異なるが好ましくは0.01~5μm、より好ましくは0.05~3μmである。なお、電荷発生層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。前記顔料を真空蒸着することによって形成することもできる。下層の電荷輸送層特定の感光体を構成する下層の電荷輸送層は、バインダー樹脂中に電荷輸送物質CTMが含有されたものである。電荷輸送物質としては、例えば、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリ-1-ビニルピレンおよびポリ-9-ビニルアントラセン、トリフェニルアミン誘導体等が挙げられ、これらは2種以上混合して使用してもよい。バインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン-アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂およびスチレン-メタクリル酸エステル共重合体樹脂等が挙げられるが、ポリカーボネート樹脂を用いることが好ましい。また、BPA、BPZ、ジメチルBPA、BPA-ジメチルBPA共重合体等を用いることが、耐クラック、耐磨耗性、帯電特性の点で好ましい。下層の電荷輸送層は、バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶媒に溶解させて塗布液を調製し、当該塗布液を、電荷発生層の外周面に塗布機によって一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶解するための溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、1,2-ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。バインダー樹脂に対する電荷輸送物質の混合割合は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷輸送物質10~500質量部が好ましく、さらに好ましくは20~100質量部である。下層の電荷輸送層の膜厚は、電荷輸送物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合等により異なるが好ましくは5~40μmであり、さらに好ましくは10~30μmである。下層の電荷輸送層中には酸化防止剤、電子導電剤、安定剤等が添加されていてもよい。酸化防止剤については特開2000-305291号公報に記載のものが挙げられ、電子導電剤については特開昭50-137543号公報、同58-76483号公報等に記載のものが挙げられる。最上層の電荷輸送層特定の感光体を構成する最上層の電荷輸送層は、バインダー樹脂中に電荷輸送物質CTMおよび特定の無機粒子が含有されたものである。特定の感光体において、2層の電荷輸送層を有する理由は、電位特性と耐摩耗性とを両立して得るためである。最上層の電荷輸送層を構成するバインダー樹脂および電荷輸送物質としては、下層の電荷輸送層と同様のものを用いることができる。最上層の電荷輸送層は、バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶媒に溶解させ、この溶解液に特定の無機粒子を分散させて塗布液を調製し、当該塗布液を、下層の電荷輸送層の外周面に塗布機によって一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶解するための溶媒としては、下層の電荷輸送層を形成するための溶媒と同様のものを用いることができる。バインダー樹脂に対する電荷輸送物質の混合割合は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷輸送物質10~500質量部が好ましく、さらに好ましくは20~100質量部である。また、バインダー樹脂に対する特定の無機粒子の使用割合は、バインダー樹脂100質量部に対して2.5~40質量部であることが好ましく、さらに好ましくは5~35質量部である。最上層の電荷輸送層の膜厚は、電荷輸送物質の特性、バインダー樹脂の特性、特定の無機粒子の特性および混合割合等により異なるが好ましくは2~12μmであり、さらに好ましくは5~9μmである。最上層の電荷輸送層中には、下層の電荷輸送層と同様に、酸化防止剤、電子導電剤、安定剤等が添加されていてもよい。特定の無機粒子最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子としては、金属酸化物粒子を用いることができる。金属酸化物粒子としては、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉛、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化コバルト、酸化銅、酸化マンガン、酸化セレン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化錫、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウム等を例示することができるが、これらの中でも、酸化チタン、アルミナ、酸化亜鉛、酸化錫等の粒子が好ましい。特定の無機粒子としては、シリカ粒子を用いることもできる。以上の無機粒子の中でも、シリカ粒子を用いることが特に好ましい。また、上記の金属酸化物粒子は、公知の方法、例えば気相法、塩素法、硫酸法、プラズマ法、電解法等の一般的な製造法で作製されたものであることが好ましい。本発明の感光体の最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子は、その数平均一次粒径Dpが3~100nmの範囲のものである。最上層の電荷輸送層に含有される無機粒子の数平均一次粒径Dpが3nm未満である場合は、耐摩耗性について十分な効果が得られないおそれがあり、また、最上層の電荷輸送層に含有される無機粒子の数平均一次粒径Dpが100nmを超える場合は、当該無機粒子が塗布液中において沈殿しやすく、凝集物が発生するおそれがある。特定の無機粒子の数平均一次粒径Dpは、走査型電子顕微鏡日本電子製により10,000倍の拡大写真を撮影し、当該写真画像を、凝集粒子は除いてランダムに300個の粒子を選択してこれらが含まれるようスキャナーにより取り込んみ、自動画像処理解析装置LUZEXAPニレコ社製ソフトウエアバージョンVer.1.32を使用して画像解析を行い、フェレ方向の平均径として算出した値である。本発明の感光体の最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子は、疎水化処理されたものであることが好ましい。特定の無機粒子が疎水化処理されたものであることにより、当該特定の無機粒子を最上層の電荷輸送層中に均一な分散状態で分散させることができる。疎水化処理された無機粒子の作製方法疎水化処理された無機粒子は、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等の表面処理剤を用いて材料となる無機粒子を表面処理することにより、得ることができる。疎水化処理された無機粒子の具体的な作製方法として、表面処理剤としてシランカップリング剤の1種である反応性有機ケイ素化合物を用いる場合は有機溶剤や水に対して反応性有機ケイ素化合物を溶解または懸濁させた処理剤溶液に材料となる無機粒子を添加した無機粒子分散液を、数分から1時間程度撹拌し、そして場合によっては当該無機粒子分散液に加熱処理を施した後に、濾過等の工程を経た後乾燥させることによって、表面を有機ケイ素化合物によって被覆された特定の無機粒子を作製することができる。無機粒子分散液は、有機溶剤や水に対して材料となる無機粒子を添加した後に反応性有機ケイ素化合物を添加しても構わない。この疎水化処理に用いられる反応性有機ケイ素化合物の量は、仕込量で材料となる無機粒子100質量部に対して、0.1~50質量部、さらに好ましくは1~10質量部であることが好ましい。反応性有機ケイ素化合物としては、下記一般式Aで表される化合物が挙げられるが、材料となる無機粒子の表面の水酸基等の反応性基と縮合反応する化合物であれば、下記の化合物に限定されない。一般式A:Rn-Si-X4n一般式A中、Rは1価の有機基、Xは加水分解性基を表し、nは0~3の整数を表す。一般式Aで表される反応性有機ケイ素化合物において、Rで示される有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基;γ-グリシドキシプロピル基、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基等の含エポキシ基;γ-アクリロキシプロピル基、γ-メタアクリロキシプロピル基等の含メタアクリロイル基;γ-ヒドロキシプロピル基、2,3-ジヒドロキシプロピルオキシプロピル基等の含水酸基、ビニル、プロペニル等の含ビニル基、γ-メルカプトプロピル等の含メルカプト基;γ-アミノプロピル基、N-βアミノエチル-γ-アミノプロピル基等の含アミノ基;γ-クロロプロピル基、1,1,1-トリフルオロプロピル基、ノナフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチルエチル基等の含ハロゲン基;その他ニトロ基、シアノ置換アルキル基等が挙げられる。また、Xで示される加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;ハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。一般式Aで表される反応性有機ケイ素化合物において、nが2以上である場合、複数のRは互いに同一であっても異なっていてもよい。同様に、nが2以下の場合、複数のXは互いに同一であっても異なっていてもよい。nが0の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、テトラクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、テトラメトキシシラン、フェノキシトリクロロシラン、テトラアセトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラアリロキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラキス2-メトキシエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラキス2-エチルブトキシシラン、テトラキス2-エチルヘキシロキシシラン等が挙げられる。nが1の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、n-プロピルトリクロロシラン、n-ブチルトリクロロシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、エチルトリメトキシシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、2-アミノエチルアミノメチルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラン、メチルトリアセトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、3-アリルチオプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-ブロモプロピルトリエトキシシラン、3-アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビスエチルメチルケトオキシムメトキシメチルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。nが2の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、ジメチルジクロロシラン、ジメトキシメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチル-3,3,3-トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジエトキシシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチル-3,3,3-トリフルオロプロピルシラン、3-クロロプロピルジメトキシメチルシラン、クロロメチルジエトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキシ-3-メルカプトプロピルメチルシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジクロロシラン、3-アミノプロピルジエトキシメチルシラン、3-2-アミノエチルアミノプロピルジメトキシメチルシラン、t-ブチルフェニルジクロロシラン、3-メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、3-3-シアノプロピルチオプロピルジメトキシメチルシラン、3-2-アセトキシエチルチオプロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル-2-ピペリジノエチルシラン、ジブトキシジメチルシラン、3-ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシ-3-グリシドキシプロピルメチルシラン、3-3-アセトキシプロピルチオプロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル-3-ピペリジノプロピルシラン、ジエトキシメチルオクタデシルシラン等が挙げられる。nが3の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、トリメチルクロロシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、メトキシジメチル-3,3,3-トリフルオロプロピルシラン、3-クロロプロピルメトキシジメチルシラン、メトキシ-3-メルカプトプロピルメチルメチルシラン等が挙げられる。一般式Aで表される反応性有機ケイ素化合物は、1種を単独で使用してもよく、また、2種以上を組み合わせて使用してもよい。一般式Aで表される反応性有機ケイ素化合物を2種以上を組み合わせて用いるとき、RおよびXはそれぞれの化合物間で同一でもよく、異なっていてもよい。一般式Aで表される反応性有機ケイ素化合物としては、下記一般式Bで示される化合物を用いることが好ましい。一般式B:R’-Si-X’3一般式B中、R’はアルキル基またはアリール基、X’はメトキシ基、エトキシ基またはハロゲン基を表す。一般式Bで表される反応性有機ケイ素化合物としては、さらに、R’が炭素数4~8のアルキル基である有機ケイ素化合物がより好ましく、具体的には、トリメトキシn-ブチルシラン、トリメトキシi-ブチルシラン、トリメトキシヘキシルシラン、トリメトキシオクチルシラン等が挙げられる。また、反応性有機ケイ素化合物としてはハイドロジェンポリシロキサン化合物を挙げることもできる。ハイドロジェンポリシロキサン化合物としては、分子量が1000~20000のものを用いることが、一般に入手しやすく、また、黒ポチ発生防止機能も良好であるために、好ましい。特に、メチルハイドロジェンポリシロキサンを最後の疎水化処理表面処理に用いることにより、良好な効果が得られる。また、反応性有機ケイ素化合物としてはフッ素原子を有する有機ケイ素化合物を挙げることもできる。フッ素原子を有する有機ケイ素化合物としては、具体的には、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3-トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジメトキシメチル-3,3,3-トリフルオロプロピルシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン等が挙げられる。また、表面処理剤としては、チタンカップリング剤の一種である反応性有機チタン化合物を用いることもできる。反応性有機チタン化合物としては、例えば、テトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等の金属アルコキシド化合物やジイソプロポキシチタニウムビスアセチルアセテート、ジイソプロポキシチタニウムビスエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシチタニウムビスラクテート、ジブトキシチタニウムビスオクチレングリコレート、ジイソプロポキシチタニウムビストリエタノールアミナート等の金属キレート化合物が挙げられる。また、表面処理剤としては、反応性有機ジルコニウム化合物を用いることもできる。反応性有機ジルコニウム化合物としては、例えば、テトラブトキシジルコニウムやブトキシジルコニウムトリアセチルアセテート等の金属アルコキシド化合物や金属キレート化合物が挙げられる。また、疎水化処理された無機粒子の別の作製方法としては、湿式メディア分散型装置を使用する方法を採用することもできる。具体的には、例えば材料となる無機粒子としてアルミナ粒子を用いる場合、アルミナ粒子と表面処理剤とを含むスラリー固体粒子の懸濁液を湿式粉砕することにより、アルミナ粒子を微細化すると同時にアルミナ粒子の表面の疎水化処理が進行する。その後、スラリーの溶媒を除去することにより均一でしかもより微細に粉体化され、その表面がシラン化合物などの表面処理剤に由来の化合物により疎水化されたアルミナ粒子を得ることができる。湿式メディア分散型装置は、容器内にメディアとしてビーズが充填され、さらに回転軸と垂直に取り付けられた攪拌ディスクを高速回転させることにより、アルミナの凝集粒子を砕いて粉砕分散する機能を有する装置であり、その具体的な構成としては、アルミナ粒子を十分に分散させ、かつ疎水化処理することができる形式であれば問題なく、例えば、縦型横型、連続式回分式など、種々の様式が採用することができる。具体的にはサンドグラインダーミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミル等が使用することができる。これらの湿式メディア分散型装置において、ボール、ビーズ等の粉砕媒体メディアを使用して衝撃圧壊、摩擦、専断、ズリ応力等により微粉砕、分散が行われる。サンドグラインダーミルで用いるビーズとしては、ガラス、アルミナ、ジルコン、ジルコニア、スチール、フリント石などを原材料としたボールが使用可能であるが、特にジルコニア製やジルコン製のものを用いることが好ましい。また、ビーズの大きさとしては、通常、直径1~2mm程度のものを使用するが、本発明では0.1~1.0mm程度のものを用いることが好ましい。湿式メディア分散型装置におけるディスクや容器内壁としては、ステンレス製、ナイロン製、セラミック製など種々の素材のものが使用することができるが、特にジルコニアまたはシリコンカーバイドといったセラミック製のものを用いることが好ましい。この疎水化処理に用いられる表面処理剤の量は、仕込量で材料となるアルミナ粒子100質量部に対して、0.1~100質量部であることが好ましい。また、スラリーの溶媒は、仕込量で材料となるアルミナ粒子100質量部に対して、50~5000質量部であることが好ましい。以上のような感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。また、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。さらに、最上層の電荷輸送層に特定範囲の無機粒子が含有されていることにより、優れた耐摩耗性が得られる。画像形成装置図5は、本発明の電子写真感光体が搭載された画像形成装置の構成の一例を示す説明用断面図である。この画像形成装置は、タンデム型のカラー画像形成装置と称せられるもので、それぞれイエロー、マゼンタ、シアンまたは黒のトナー像を形成する画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkと、これらの画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkにおいて形成された各色のトナー像を画像支持体P上に転写する中間転写ユニット7と、画像支持体Pに対してトナー像を定着させる定着手段24とを備える画像形成装置本体Aを有し、当該画像形成装置本体Aの上部に、原稿を光学的に走査して画像情報をデジタルデータ原稿画像データとして読み取るための原稿画像読み取り装置SCが配置されている。画像形成ユニット10Yについて、以下に詳細に説明する。画像形成ユニット10M、10C、10Bkは、各々、イエロートナーに代えて、マゼンタトナー、シアントナー、黒トナーによってトナー像を形成するものであり、基本的には画像形成ユニット10Yと同様の構成を有するものである。画像形成ユニット10Yは、像形成体であるドラム状の感光体1Yの周囲に、当該感光体1Yの表面に一様な電位を与える帯電手段2Y、一様に帯電された感光体1Y上に露光用画像データ信号イエローに基づいて露光を行い、イエローの画像に対応する静電潜像を形成する露光手段3Y、カラートナーを感光体1Y上に搬送して静電潜像を顕像化する現像手段4Y、一次転写後に感光体1Y上に残留した残留トナーを回収するクリーニング手段6Yが配置されてなり、感光体1Y上にイエローYのトナー像を形成するものである。帯電手段2Yとしては、コロナ放電型の帯電器が用いられている。露光手段3Yとしては、露光光源として発光ダイオードを用いた、例えば感光体1Yの軸方向にアレイ状に発光ダイオードからなる発光素子が配列されたLED部と結像素子とから構成される光照射装置、あるいは、露光光源として半導体レーザーを用いた、レーザー光学系のレーザ照射装置等よりなり、図5の画像形成装置においては、レーザー照射装置が用いられている。露光手段3Yにおいては、発振波長が350~850nmの半導体レーザーまたは発光ダイオードを、露光光源として用いた装置からなることが望ましい。このような露光光源を、書き込みの主査方向の露光ドット径を10~100μmに絞り込んで用い、感光体1Y上にデジタル露光を行うことにより、600dpiから2400dpi、あるいはそれ以上の高解像度の電子写真画像を得ることができる。露光手段3Yにおける露光方法としては、半導体レーザーを用いた走査光学系であってもよく、LEDによる固体型であってもよい。光強度分布についても、ガウス分布およびローレンツ分布等があるがそれぞれのピーク強度の1/e2以上の領域を露光ドット径とすればよい。この例の画像形成装置においては、画像形成ユニット10Yにおける感光体1Y、帯電手段2Y、現像手段4Y、クリーニング手段6Yが一体化されたプロセスカートリッジとして設けられている。以上のような画像形成装置は、一の画像形成ユニットにおける感光体と、現像手段、クリーニング手段等の構成要素とをプロセスカートリッジとして一体に結合させて構成し、このプロセスカートリッジが画像形成装置本体に対して着脱自在とされるよう構成されていてもよい。また、一の画像形成ユニットにおける帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段または図示しない分離手段、およびクリーニング手段の少なくとも1つを感光体と共に一体に支持してプロセスカートリッジを形成し、レールなどの案内手段を用いて画像形成装置本体に対して着脱自在とされるよう構成してもよい。中間転写ユニット7は、複数の支持ローラ71~74により張架され、循環移動可能に支持された無端ベルト状の中間転写体70と、それぞれ画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkによって形成されたトナー像を中間転写体70に転写するための一次転写ローラ5Y、5M、5C、5Bkと、一次転写ローラ5Y、5M、5C、5Bkによって中間転写体70上に転写されたトナー像を画像支持体P上に転写する二次転写ローラ5bと、中間転写体70上に残留した残留トナーを回収するクリーニング手段6bとを有する。中間転写ユニット7における一次転写ローラ5Bkは、画像形成処理中の常時、感光体1Bkに当接されており、他の一次転写ローラ5Y、5M、5Cは、カラー画像を形成する場合にのみ、それぞれ対応する感光体1Y、1M、1Cに当接される。また、二次転写ローラ5bは、ここを画像支持体Pが通過して二次転写が行われるときにのみ、中間転写体70に当接される。この画像形成装置においては、画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkにおけるプロセスカートリッジのそれぞれと、中間転写ユニット7の二次転写ローラ5b以外のものが筐体8に収納されており、当該筐体8が、画像形成装置本体Aから支持レール82L、82Rを介して引き出し可能に構成されている。この画像形成装置においては、全ての画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkの感光体1Y、1M、1C、1Bkのうち、全ての感光体1Y、1M、1C、1Bkが上記の特定の切削加工形状を有する特定の感光体からなるものであることが好ましいが、感光体1Y、1M、1C、1Bkのうち少なくとも1つが上記の特定の感光体から構成されていれば、干渉スジの発生が抑制された高画質な画像を形成する効果を得ることができる。本発明の電子写真感光体が搭載された画像形成装置は、電子写真複写機、レーザープリンター、LEDプリンターおよび液晶シャッター式プリンター等の電子写真装置一般に適応するが、更に、電子写真技術を応用したディスプレー、記録、軽印刷、製版およびファクシミリ等の装置にも幅広く適用することができる。画像形成方法本発明の電子写真感光体が搭載された以上のような画像形成装置においては、感光体1Y、1M、1C、1Bkの表面が帯電手段2Y、2M、2C、2Bkより帯電され、露光手段3Y、3M、3C、3Bkが原稿画像読み取り装置SCによって得られた原稿画像データに各種の画像処理等が施されて得られた各色の露光用画像データ信号に従って動作され、具体的には当該露国用画像データ信号に対応して変調されたレーザー光が露光光源から出力され、このレーザー光によって当該感光体1Y、1M、1C、1Bkが走査露光されることにより、原稿画像読み取り装置SCにより読み取られた原稿に対応したイエロー、マゼンタ、シアン、黒の各色に対応した静電潜像が各感光体1Y、1M、1C、1Bk上にそれぞれ形成される。次いで、感光体1Y、1M、1C、1Bk上に形成された静電潜像が、現像手段4Y、4M、4C、4Bkにおいて各色のトナーによって現像されることにより各色のトナー像が形成され、一次転写ローラ5Y、5M、5C、5Bkにより各色のトナー像が中間転写体70上に逐次転写されて重ね合わされて合成され、カラートナー像が形成される。さらに、カラートナー像の形成に同期して、給紙カセット20内に収容された普通紙や透明シート等の画像支持体Pが、給紙手段21により給紙され、複数の中間ローラ22A、22B、22C、22Dおよびレジストローラ23を経て、二次転写ローラ5bに搬送され、当該画像支持体P上に、二次転写ローラ5bによって中間転写体70上に転写されたカラートナー像が一括して転写される。画像支持体P上に転写されたカラートナー像は、定着手段24において例えば加熱および加圧により定着されて可視画像が形成され、その後、可視画像が形成された画像支持体Pが、排紙ローラ25によって機外に排出されて排紙トレイ26上に載置される。各色のトナー像を中間転写体70に転写させた後の感光体1Y、1M、1C、1Bkは、それぞれクリーニング手段6Y、6M、6C、6Bkにより当該感光体1Y、1M、1C、1Bkに残留したトナーを除去した後に、次の各色のトナー像の形成に供される。一方、二次転写ローラ5bにより画像支持体P上にカラートナー像を転写し、画像支持体Pが曲率分離された後の中間転写体70は、クリーニング手段6bにより当該中間転写体70上に残留したトナーを除去した後に、次のトナー像の中間転写に供される。トナーおよび現像剤本発明の画像形成方法に用いられるトナーは、粉砕トナーであっても重合トナーであってもよいが、本発明の画像形成方法においては、安定した粒度分布を得られる観点から、重合法で作製された重合トナーを用いることが好ましい。重合トナーとは、トナーを形成するバインダー樹脂の生成とトナー粒子形状の形成が、バインダー樹脂を得るための原料モノマーの重合と、必要によりその後の化学的処理とにより並行して行われて得られるトナーを意味する。より具体的には、懸濁重合、乳化重合等の重合反応により樹脂微粒子を得る工程と、必要によりその後に行われる樹脂微粒子同士を融着させる工程を経て形成されるトナーを意味する。トナーの体積平均粒径、すなわち、上記50体積粒径Dv50は2~9μm、より好ましくは3~7μmであることが望ましい。この範囲とすることにより、解像度を高くすることができる。さらに上記の範囲と組み合わせることにより、小粒径トナーでありながら、微細な粒径のトナーの存在量を少なくすることができ、長期に亘ってドット画像の再現性が改善され、鮮鋭性の良好な、安定した画像を形成することができる。本発明に係るトナーは、それのみで一成分現像剤として用いてもよく、キャリアと混合して二成分現像剤として用いてもよい。一成分現像剤として用いる場合は、非磁性一成分現像剤、あるいはトナー中に0.1~0.5μm程度の磁性粒子を含有させ磁性一成分現像剤としたものが挙げられ、いずれも使用することができる。また、キャリアと混合して二成分現像剤として用いる場合は、キャリアの磁性粒子として、鉄、フェライト、マグネタイト等の金属、それらの金属とアルミニウム、鉛等の金属との合金等の従来から公知の材料を用いることができ。特にフェライト粒子が好ましい。上記磁性粒子は、その体積平均粒径としては15~100μm、より好ましくは25~80μmのものがよい。キャリアの体積平均粒径の測定は、代表的には湿式分散機を備えたレーザー回折式粒度分布測定装置ヘロスHELOSシンパティックSYMPATEC社製により測定することができる。キャリアは、磁性粒子が更に樹脂により被覆されているもの、あるいは樹脂中に磁性粒子を分散させたいわゆる樹脂分散型キャリアが好ましい。コーティング用の樹脂組成としては、特に限定はないが、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、スチレン-アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、エステル系樹脂或いはフッ素含有重合体系樹脂等が用いられる。また、樹脂分散型キャリアを構成するための樹脂としては、特に限定されず公知のものを使用することができ、例えば、スチレン-アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素系樹脂、フェノール樹脂等を使用することができる。本発明の画像形成方法によれば、感光体の円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。また、感光体の円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明の実施形態は上記の例に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。例えば、感光体の具体的な層構成は、上記の構成に限定されるものではない。以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、ΔLは、円筒状基体の外周面の中央付近における断面曲線を、サーフコム1400D株東京精密製を用い、JIS’01規格において、測定長4.0mm、カットオフ0.8mmガウシアン、測定速度0.3mm/secの測定条件で行った粗さ測定によって得、この断面曲線を用いて上述の通りに測定した。また、Rzは、上記の断面曲線の測定においてカットオフを0.25mmとした他は同様にして得た断面曲線から算出した。<感光体基体の作製例1>長さ362mmのアルミニウム合金製の素管を、CNC旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、外径59.95mm、表面のRzが0.75μmになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体1を作製した。バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を6000rpmに設定し、バイトの移動速度バイト送り速度を、0.340~0.360mm/回転の間を、加工距離1.5mm毎に0.005mm/回転ずつ変化するよう、送り速度の増減を繰り返させるプログラムによって変速させながら行った。円筒状基体1の外周面におけるΔLを測定したところ、50μmであった。<感光体基体の作製例2>感光体基体の作製例1において、バイト切削加工の旋盤の主軸回転数を2000rpmに設定したことの他は同様にして、円筒状基体2を得た。この円筒状基体2の外周面のΔLを測定したところ、30μmであった。<感光体基体の作製例3>感光体基体の作製例2において、バイト切削加工のバイト送り速度を、0.340mm/回転と0.345mm/回転の間を加工距離1.5mm毎にスイッチするプログラムにより行ったことの他は同様にして、円筒状基体3を得た。この円筒状基体3の外周面のΔLを測定したところ、10μmであった。<感光体基体の作製例4>長さ362mmのアルミニウム合金製の素管を、CNC旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のRzが0.75μmになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体4を作製した。バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を4000rpmに設定し、バイト送り速度値は400μm/回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が1.43mm、2.28mm、1.64mm、2.49mm、1.85mm、2.71mm、2.06mm、2.92mm、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。円筒状基体4の外周面のΔLを測定したところ、20μmであった。<感光体基体の作製例5>長さ362mmのアルミニウム合金製の素管を、CNC旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のRzが0.75μmになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体5を作製した。バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を3160rpmに設定し、バイト送り速度値は400μm/回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が2.20mm、2.21mm、2.22mm、2.23mm、2.24mm、2.23mm、2.22mm、2.21mm、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。円筒状基体5の外周面のΔLを測定したところ、65μmであった。<感光体基体の作製例6>長さ362mmのアルミニウム合金製の素管を、アナログ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のRzが0.75μmになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体6を作製した。バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を3160rpmに設定し、加工距離に対するバイト送り速度の指示値加工距離-速度指示値が、0.5mm-380μm/回転、1.6mm-390μm/回転、2.8mm-380μm/回転、1.1mm-390μm/回転、2.5mm-380μm/回転、3.2mm-390μm/回転、の繰り返しになるように、タイマーと抵抗等を組み合わせた回路を介した電圧をバイト移動モータに入力して行った。円筒状基体6の外周面のΔLを測定したところ、25μmであった。<感光体基体の作製例7>感光体基体の作製例1において、バイト切削加工の旋盤の主軸回転数を3000rpmに設定すると共に、バイト送り速度を0.350mm/回転に固定したことの他は同様にして、円筒状基体7を得た。この円筒状基体7の外周面のΔLを測定したところ、3μmであった。<感光体基体の作製例8>長さ362mmのアルミニウム合金製の素管を、CNC旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のRzが0.75μmになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体8を作製した。バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を4000rpmに設定し、バイト送り速度値は400μm/回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が1.47mm、2.32mm、1.68mm、2.53mm、1.89mm、2.75mm、2.10mm、2.96mm、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。円筒状基体8の外周面のΔLを測定したところ、8μmであった。実施例1:感光体の製造例11中間層の形成下記式N-1で表されるバインダー樹脂1質量部を、エタノールとn-プロピルアルコールとテトラヒドロフランの混合溶媒体積比=45:20:3520質量部に加え、撹拌して溶解させた後、質量比で5のメチルハイドロジェンポリシロキサンによって表面処理をしたルチル型酸化チタン粒子4.2質量部を混合し、この混合液をビーズミルを用いて、平均粒径0.5mmのジルコニアビーズを用い、充填率80、周速設定4m/sec、ミル滞留時間3時間の条件で分散することにより、中間層塗布液1を調製した。この中間層塗布液1を、濾過精度5μmのポリプロピレン製の濾材を用いたフィルタによって濾過し、これを、上記の円筒状基体1を洗浄した後の外周面に浸漬塗布法によって塗布し、120°Cで20分間乾燥することにより、円筒状基体1上に乾燥膜厚2μmの中間層1を形成した。2電荷発生層の形成次いで、下記成分を混合し、サンドミル分散機を用いて分散することにより、電荷発生層塗布液を調製した。この電荷発生層塗布液を浸漬塗布法によって中間層1上に塗布して、乾燥膜厚0.3μmの電荷発生層1を形成した。Y-チタニルフタロシアニンCu-Kα特性X線によるX線回折のスペクトルでブラッグ角2θ±0.2°27.3°に最大回折ピークを有するチタニルフタロシン顔料20質量部ポリビニルブチラールBX-1積水化学株製10質量部メチルエチルケトン700質量部シクロヘキサノン300質量部3電荷輸送層下層の形成次いで、下記成分を混合し、溶解させることにより、電荷輸送層下層塗布液を調製した。この電荷輸送層下層塗布液を浸漬塗布法によって電荷発生層1上に塗布し、120°Cで70分間乾燥することにより、乾燥膜厚20μmの下層の電荷輸送層1aを形成した。下記式CTMで表される電荷輸送物質50質量部ポリカーボネート樹脂ユーピロン-Z300三菱ガス化学社製100質量部酸化防止剤2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール8質量部テトラヒドロフラン/トルエン体積比8/2750質量部4電荷輸送層最上層の形成次いで、下記成分を混合、撹拌することにより、電荷輸送層最上層塗布液を調製した。この電荷輸送層最上層塗布液を浸漬塗布法によって電荷輸送層1a上に塗布し、120°Cで70分間乾燥することにより、乾燥膜厚5μmの最上層の電荷輸送層1bを形成し、これにより、感光体1を得た。上記式CTMで表される電荷輸送物質1.2質量部ポリカーボネート樹脂ユーピロン-Z300三菱ガス化学社製2.7質量部酸化チタンの質量の25質量のメチルハイドロジェンポリシロキサン表面処理剤で表面処理した個数基準の50粒径が31nmの酸化チタン1.0質量部酸化防止剤2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール0.1質量部テトラヒドロフラン/トルエン体積比8/2混合液30質量部シリコーンオイルKF-96信越シリコーン株製0.005質量部実施例2~11:比較例1~3:感光体の製造例2~14感光体の製造例1において、円筒状基体の種類、並びに最上層の電荷輸送層に含有させる無機粒子の種類および当該無機粒子の表面処理剤を表1に従って変更したことの他は同様にして、感光体2~14を得た。表1において、表面処理剤SH-1、SH-2、SH-3、SH-4は以下のものを表す。SH-1:メチルハイドロジェンポリシロキサンSH-2:オクチルトリメトキシシランSH-3:メチルトリメトキシシランSH-4:ジイソプロポキシチタニウムビスアセチルアセテート画質評価A画像形成装置bizhubPROC6501コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製に以上の感光体1~14のいずれかを搭載して、下記のテスト画像A~Cをコート紙PODグロスコート100g/m2王子製紙社製上に出力し、得られたテスト画像A~Cについて、干渉スジおよび感光体周方向スジについての画質評価を行った。結果を表1に示す。テスト画像Aは、黒Bk位置において、下記の露光パターンAを用いて濃度指示値を0/255、15/255、31/255と16おきに255/255までの17諧調に振って出力したハーフトーン画像である。露光パターンA:bizhubPROC6501内部搭載パターンNo.53Dot1、規則性を有するドット状に形成された露光パターンの代表的なもの。テスト画像Bは、黒Bk位置において、下記の露光パターンBを用いて濃度指示値を0/255、15/255、31/255と16おきに255/255までの17諧調に振って出力したハーフトーン画像である。露光パターンB:bizhubPROC6501内部搭載パターンNo.7Contnoe、感光体軸方向に対し直角方向に連続的に形成されている露光パターンの代表的なもの。テスト画像Cは、黒Bk位置において、下記の露光パターンCを用いて濃度指示値を0/255、15/255、31/255と16おきに255/255までの17諧調に振って出力したハーフトーン画像である。露光パターンC:bizhubPROC6501内部搭載パターンNo.1Line1、感光体軸方向に対し平行な方向に連続的に形成されている露光パターンの代表的なもの。画質評価1斜めスジ状濃度ムラ干渉スジ露光パターンAによるテスト画像Aおよび露光パターンBによるテスト画像Bについて、下記の評価基準に従って画質評価を行った。画質評価は、濃度指示値が異なる画像部分中、最悪水準の画像部分で評価した。-評価基準-○:斜めスジ状濃度ムラが全く見られない。△:斜めスジ状濃度ムラが僅かに見られるが、実使用上は問題ない。×:斜めスジ状濃度ムラが見られ、実使用上問題あり。画質評価2感光体周方向スジ露光パターンCによるテスト画像Cについて画質評価を行った。画質評価は、濃度指示値が異なる画像部分中、最悪水準の画像部分で評価した。-評価基準-○:感光体周方向スジが全く見られない。△:感光体周方向スジが僅かに見られるが、実使用上は問題ない。×:感光体周方向スジが見られ、実使用上問題あり。画質評価B:画像ムラ画像形成装置bizhubPROC6501コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製に以上の感光体1~14のいずれかを搭載して、下記のテスト画像Dをコート紙PODグロスコート100g/m2王子製紙社製上に出力したテストプリントを100枚形成し、得られた100枚のテストプリントについて、画像ムラについて下記の評価基準に従って画質評価を行った。結果を表1に示す。テスト画像Dは、黒Bk位置において、上記の露光パターンAを用いて濃度指示値を75/255として出力したハーフトーン画像である。-評価基準-○:100枚のテストプリント全てに画像ムラの発生がない。△:100枚のテストプリント中、僅かに画像ムラが見られるものもあるが、実使用上は問題無し。×:100枚のテストプリント中、画像ムラが見られものもあり、そのレベルは実使用上問題あるレベルである。耐摩耗性の評価画像形成装置bizhubPROC6501コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製に以上の感光体1~14のいずれかを搭載して50万枚の耐刷試験を行い、耐刷試験前後の感光層の膜厚の差を膜厚減耗量として、耐摩耗性を評価した。結果を表1に示す。なお、膜厚減耗量が4.0μm以下である場合を、実用上問題なく合格であると判断することができる。表1から明らかなように、ΔL≧10である円筒状基体を有すると共に最上層に特定の無機粒子を含有させた電荷輸送層が形成されてなる感光体特定の感光体を用いて画像を形成した場合においては、干渉スジおよび画像ムラの発生の抑制された良好な画像が得られたのに対し、比較例1~3のようにΔLが小さい円筒状基体による感光体を用いて画像を形成した場合においては、円筒状基体の切削凹凸の周期と露光パターンの周期との間の干渉に起因すると推定される干渉スジと、感光体における散乱効果が小さいことに起因すると推定される画像ムラとが発生した。また、比較例3のように最上層の電荷輸送層に特定の無機粒子が含有されていない感光体は、膜厚減耗量が大きく、耐摩耗性が低いことが確認された。"