振動絶縁システムを介してベースによって支持されたサポートフレームと、パターンをパターニングデバイスから基板上に転写するように構成された投影システムであって、前記サポートフレームによってばね支持された第1のフレームを備える投影システムと、前記第1のフレームの運動を減衰するように構成された能動制振システムとを備え、前記能動制振システムが、前記第1のフレームの絶対的な運動を表す第1のセンサ出力を供給するように構成された第1のセンサシステムと、前記第1のフレームと前記サポートフレームとの間に力を加えるように配置された第1のアクチュエータシステムと、前記第1のセンサ出力に基づいて前記第1のアクチュエータシステムに駆動信号を供給するように構成されたコントローラとを備える、リソグラフィ装置。前記能動制振システムが、前記サポートフレームの運動を表すサポートフレームのセンサ出力を供給するように構成されたサポートフレームのセンサシステムを備え、前記コントロールシステムが、前記第1のセンサ出力および前記サポートフレームのセンサ出力に基づいて前記第1のアクチュエータシステムに駆動信号を供給するように構成される請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記コントロールシステムが、前記第1のセンサ出力および前記サポートフレームのセンサ出力を前記第1のフレームおよび前記サポートフレームの共振モードにデカップリングし、前記第1のフレームおよび前記サポートフレームの前記デカップリングされたモードに基づいて、前記第1のアクチュエータシステムに駆動信号を供給するように構成される請求項2に記載のリソグラフィ装置。前記第1のアクチュエータシステムが、前記サポートフレームと前記ベースまたは個別の反作用マスとの間に力を加えるように構成される請求項2に記載のリソグラフィ装置。前記能動制振システムが、前記サポートフレームと前記ベースまたは個別の反作用マスとの間に力を加えるように配置されたサポートフレームのアクチュエータシステムをさらに備え、前記コントローラが、前記第1のセンサ出力および前記サポートフレームのセンサ出力に基づいて前記サポートフレームのアクチュエータシステムに駆動信号を供給するように構成される請求項2に記載のリソグラフィ装置。前記サポートフレームによって前記第1のフレームと平行にばね支持された第2のフレームを備えるリソグラフィ装置であって、前記能動制振システムが、前記第2のフレームの絶対的な運動を表す第2のセンサ出力を供給するように構成された第2のセンサシステムと、前記第2のフレームと前記サポートフレームとの間に力を加えるように配置された第2のアクチュエータシステムとをさらに備え、前記コントローラが、前記第1のセンサ出力および前記第2のセンサ出力に基づいて前記第1および第2のアクチュエータシステムにそれぞれの駆動信号を供給するように構成される請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記それぞれの駆動信号が、前記第1のセンサ出力、前記第2のセンサ出力、および前記サポートフレームのセンサ出力に基づくものである請求項2または6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記コントローラが、前記第1のセンサ出力、前記第2のセンサ出力、および前記サポートフレームのセンサ出力を、前記第1のフレーム、前記第2のフレーム、および前記サポートフレームの共振モードにデカップリングするように構成され、前記コントローラが、前記第1および第2のアクチュエータシステムに、前記デカップリングされたモードに基づいてそれぞれの駆動信号を供給するように構成される請求項2または6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記サポートフレームによって前記第1のフレームと平行にばね支持された第2のフレームを備えるリソグラフィ装置であって、前記能動制振システムが、前記第2のフレームの絶対的な運動を表す第2のセンサ出力を供給するように構成された第2のセンサシステムをさらに備え、前記コントローラが、前記第1のセンサ出力および前記第2のセンサ出力に基づいて前記第1のアクチュエータシステムに駆動信号を供給するように構成される請求項4に記載のリソグラフィ装置。前記能動制振システムが、前記サポートフレームと前記ベースまたは反作用マスとの間に力を加えるように配置されたサポートフレームのアクチュエータシステムをさらに備え、前記コントロールシステムが、前記第1のセンサ出力、前記第2のセンサ出力、および前記サポートフレームのセンサ出力に基づいて、前記サポートフレームのアクチュエータシステム、前記第1のアクチュエータシステム、および前記第2のアクチュエータシステムにそれぞれの駆動信号を供給するように構成される請求項2または6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記サポートフレームが、前記サポートフレームの残りに高周波結合されたインターフェースマスを有し、前記サポートフレームのセンサ出力が前記インターフェースマスの運動を表し、前記サポートフレームのアクチュエータシステムが、前記インターフェースマスと前記ベースまたは個別の反作用マスとの間に力を加えるように構成される請求項5または10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記サポートフレームが、前記サポートフレームの残りに高周波結合されたインターフェースマスを有し、前記サポートフレームのセンサ出力が前記インターフェースマスの運動を表し、前記第1のアクチュエータシステムが、前記インターフェースマスと前記ベースまたは個別の反作用マスとの間に力を加えるように構成される請求項4に記載のリソグラフィ装置。リソグラフィ装置の第1のフレームの運動を減衰する方法であって、前記第1のフレームがサポートフレームによってばね支持され、前記サポートフレームが振動絶縁システムを介してベースによって支持されている、方法において、a前記第1のフレームの絶対的な運動を測定する工程と、b前記測定された前記第1のフレームの運動に基づいて前記第1のフレームと前記サポートフレームの間に力を加える工程とを含む方法。前記サポートフレームの前記運動を測定する工程と、前記第1のフレームおよび前記サポートフレームの前記測定された運動を前記第1のフレームおよび前記サポートフレームの共振モードにデカップリングする工程とを含む方法であって、工程bが、前記第1のフレームおよび前記サポートフレームの前記デカップリングされたモードに基づいて前記第1のフレームと前記サポートフレームの間に力を加える工程で置換される請求項13に記載の方法。工程bが、前記第1のフレームおよび前記サポートフレームの前記デカップリングされたモードに基づいて前記サポートフレームと前記ベースまたは個別の反作用マスとの間に力を加える工程で置換される請求項13に記載の方法。0007改善されたリソグラフィ装置、具体的には改善された結像性能を有する装置を提供することが望ましい。0008本発明の一実施形態によれば、振動絶縁システムを介してベースによって支持されたサポートフレームと、パターンをパターニングデバイスから基板上に転写するように構成された投影システムであって、サポートフレームによってばね支持された第1のフレームを備える投影システムと、第1のフレームの運動を減衰するように構成された能動制振システムであって、第1のフレームの絶対的な運動を表す第1のセンサ出力を供給するように構成された第1のセンサシステム、第1のフレームとサポートフレームの間に力を加えるように配置された第1のアクチュエータシステム、および第1のセンサ出力に基づいて第1のアクチュエータに駆動信号を供給するように構成されたコントローラを備える能動制振システムとを備えるリソグラフィ装置が提供される。0009本発明の別の実施形態によれば、リソグラフィ装置の第1のフレームの運動を減衰する方法が提供され、第1のフレームはサポートフレームによってばね支持され、また、サポートフレームは振動絶縁システムを介してベースによって支持されており、この方法は、a第1のフレームの絶対的な運動を測定する工程と、b測定された第1のフレームの運動に基づいて第1のフレームとサポートフレームの間に力を加える工程とを含む。0015図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームB例えば紫外線または任意の他の適切な放射を調整するように構成された照明システムイルミネータILと、パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するように構築され、いくつかのパラメータにしたがってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1の位置決めデバイスPMに連結される、パターニングデバイスサポートまたはマスクサポート構造体例えばマスクテーブルMTとを備える。また、この装置は、基板例えばレジストコートウェーハWを保持するように構築され、いくつかのパラメータにしたがって基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決めデバイスPWに連結される基板テーブル例えばウェーハテーブルWTまたは基板サポートを備える。さらに、この装置は、基板Wの例えば1つまたは複数のダイを含むターゲット部分C上に、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを投影するように構成された投影システム例えば屈折投影レンズシステムPSを備える。0016この照明システムは、放射を導くか、整形するか、あるいは制御するために、屈折式、反射式、磁気式、電磁式、静電式、または他のタイプの光学コンポーネントなど様々なタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組合せを含んでよい。0017パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、また、例えばパターニングデバイスが真空環境内で保持されるか否かなど他の条件によって決まる仕方でパターニングデバイスを保持する。パターニングデバイスサポートは、機械式、真空、静電気、または他のクランプ技法を使用してパターニングデバイスを保持することができる。パターニングデバイスサポートは、例えば必要に応じて固定または可動とすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスが、例えば投影システムに対して確実に所望の位置にあるようにすることができる。本明細書においてレチクルまたはマスクという用語を用いることがあれば、それは、パターニングデバイスという、より一般的な用語と同義と見なすことができる。0018本明細書において使用されるパターニングデバイスという語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用することが可能な任意のデバイスを指すものとして、広義に解釈されたい。放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャすなわちいわゆるアシストフィーチャを含む場合には、基板のターゲット部分の所望のパターンと正確には一致しないことがある点に留意されたい。一般的には、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などの、ターゲット部分中に生成されるデバイスにおける特定の機能層に相当することになる。0019パターニングデバイスは、透過型または反射型とすることができる。パターニングデバイスの諸例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、プログラマブルLCDパネルが含まれる。マスクはリソグラフィで周知であり、バイナリ、レベンソン型alternating位相シフト、ハーフトーン型attenuated位相シフトなどのマスクタイプ、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの一例は、小さな鏡の行列構成を使用し、鏡のそれぞれは、入来放射ビームを様々な方向で反射するように個別に傾けることができる。傾斜式鏡は、鏡行列によって反射される放射ビーム内にパターンを与える。0020本明細書で使用される投影システムという用語は、使用する露光放射、あるいは液浸液の使用または真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁光学システム、および静電光学システム、またはそれらの任意の組合せを始めとする、任意のタイプの投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における用語投影レンズのいかなる使用も、より一般的な用語投影システムと同義と見なされてよい。0021本明細書で記述されるように、装置は透過タイプ例えば透過性マスクを使用するタイプである。あるいは、装置は反射タイプ例えば上記で言及されたプログラマブルミラーアレイを使用するタイプまたは反射性マスクを使用するタイプでよい。0022リソグラフィ装置は、2つデュアルステージ以上の基板テーブルまたは基板サポートおよび/または2つ以上のマスクテーブルまたはマスクサポートを有するタイプのものとすることができる。そのようなマルチステージ機では、追加のテーブルまたはサポートを同時に使用することができ、あるいは、1つまたは複数の他のテーブルまたはサポートが露光用に使用されている間に、1つまたは複数のテーブルまたはサポート上で準備工程を実施することができる。0023リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように比較的高い屈折率を有する液体、例えば水によって基板の少なくとも一部を覆うことができるタイプとすることもできる。リソグラフィ装置内の他のスペース、パターニングデバイス例えばマスクと投影システムとの間にも液浸液が適用されてよい。液浸技法を使用して投影システムの開口数を増加させることができる。本明細書で使用されるような液浸という用語は、基板などの構造体が液体中に沈められなければならないことを意味せず、むしろ液体が露光中投影システムと基板との間に置かれていることを単に意味する。0024図1を参照すると、イルミネータILは、放射源SOから放射ビームを受け取る。例えばこの放射源がエキシマレーザであるとき、放射源とリソグラフィ装置は別体でよい。そのような例では、放射源がリソグラフィ装置の一部を形成するとは見なされず、放射ビームは、放射源SOからイルミネータILまで、例えば適当な誘導ミラーおよび/またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムBDを用いて渡される。他の例では、例えば放射源が水銀灯であるとき、放射源はリソグラフィ装置の一体型部品でよい。放射源SOおよびイルミネータILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDも一緒に、放射システムと呼ばれてよい。0025イルミネータILは、放射ビームの角度強度分布を調節するように構成されたアジャスタADを含んでよい。一般に、少なくともイルミネータの瞳面内の強度分布の外側および/または内側半径範囲一般にそれぞれσouter、σinnerと呼ばれるは調節することができる。さらに、イルミネータILは、インテグレータINおよびコンデンサCOなど様々な他のコンポーネントを含んでよい。イルミネータは、放射ビームがその横断面において所望の均一性および強度分布を有するように調節するのに使用されてよい。0026放射ビームBは、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMT上に保持されるパターニングデバイス例えばマスクMA上に入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。放射ビームBは、パターニングデバイス例えばマスクMAを横切って、基板Wのターゲット部分C上にビームを集中させる投影システムPSを通過する。基板テーブルWTは、第2の位置決めデバイスPWおよび位置センサIF例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサを用いて、例えば放射ビームBの経路内へ個別のターゲット部分Cを位置決めするように正確に移動させることができる。同様に、第1の位置決めデバイスPMおよび別の位置センサ図1には明示されていないは、例えばマスクライブラリからの機械的検索の後、またはスキャン中に、放射ビームBの経路に対してパターニングデバイス例えばマスクMAを正確に位置決めするのに使用することができる。一般に、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTの動作は、第1の位置決めデバイスPMの一部を形成するロングストロークモジュール粗動位置決めおよびショートストロークモジュール微動位置決めを用いて実現することができる。同様に、基板テーブルWTまたは基板サポートの動作は、第2のポジショナPWの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合にはスキャナとは対照的に、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTがショートストロークアクチュエータのみに接続されてよく、あるいは固定されてよい。パターニングデバイス例えばマスクMAおよび基板Wは、パターニングデバイスのアライメントマークM1、M2および基板のアライメントマークP1、P2を使用して整列させることができる。図示された基板アライメントマークスクライブレーンアライメントマークとして既知であるは、専用ターゲット部分を占めるが、ターゲット部分の間のスペースに配置されてもよい。同様に、パターニングデバイス例えばマスクMA上に複数のダイが与えられる状況では、パターニングデバイスのアライメントマークはダイ間に配置されてよい。0027図示される装置は、以下のモードの少なくとも1つにおいて使用することが可能である。1.ステップモードでは、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTまたはマスクサポートおよび基板テーブルWTまたは基板サポートが、実質的に静止状態に保たれ、放射ビームに与えられた全パターンが、一度にターゲット部分C上に投影されるすなわち単一静的露光。次いで、基板テーブルWTまたは基板サポートは、別のターゲット部分Cを露光することが可能となるようにX方向および/またはY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。2.スキャンモードでは、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTまたはマスクサポートおよび基板テーブルWTまたは基板サポートが、同期してスキャンされ、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影されるすなわち単一動的露光。パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTまたはマスクサポートに対する基板テーブルWTまたは基板サポートの速度および方向は、投影システムPSの拡大縮小および像反転特性により決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の非スキャン方向の幅が制限されるが、スキャン移動の長さによって、ターゲット部分のスキャン方向の縦幅が決定される。3.別のモードでは、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTまたはマスクサポートが、プログラマブルパターニングデバイスを保持しつつ実質的に静的状態に保たれ、基板テーブルWTまたは基板サポートが、移動され、またはスキャンされるとともに、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影される。このモードでは、一般的にはパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは基板サポートの各移動の後で、またはスキャン中の連続放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この作動モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に応用することが可能である。0028前述の使用モードまたはまったく異なった使用モードの組合せおよび/または変形形態も用いられてよい。0029投影システムPSは、図1の実施形態ではサポートフレームSFによって支持され、また、サポートフレームSFはベースBAによって支持されている。サポート構成のより詳細な概略図が、図2に関連して示される。0030図2は、本発明の一実施形態による図1のリソグラフィ装置の一部分をより詳細に示す概略図である。投影システムの第1のフレーム1F、サポートフレームSFおよびベースBAが示されている。ベースBAは基礎でよいが、基礎によってばね支持されたベースフレームでもよく、ベースフレームは、比較的大きなマスと、基礎による低周波のサポートとにより、リソグラフィ装置のベースフレームによって支持されている部分に対して基礎として働く。0031サポートフレームSFはベースBAによってばね支持されており、あるいは、ベースへ弾性的に取り付けられている、またはばね取付けされている、と称されてもよい。一実施形態では、サポートフレームは、振動絶縁システムを介してベースによって低周波で支持されている。ばね支持は、ばねK2によって概略的に示されているが、実際には、弾性またはばねのような挙動を有する任意の構造エレメントであり得る。ベースに対するサポートフレームの低周波の挙動は、サポートフレームの比較的大きなマスと組み合わせた小さな実効ばね定数の結果である。0032投影システムPSの第1のフレーム1Fは、ばねK1によって概略的に示されるようにサポートフレームSFによってばね支持されており、実際には、サポートフレームの共振周波数より少なくとも1桁上の共振周波数を有する。0033図2は、第1のフレームおよびサポートフレームがZ方向にのみ移動することができる1次元の状況における第1のフレームおよびサポートフレームを示す。本発明の基をなす原理を多自由度の状況に適用するかまたは拡張することができることが理解されよう。0034投影システムPSはリソグラフィ装置の重要なエレメントであり、他の何よりもリソグラフィ装置の結像性能を決定する。投影システムがさらされる外乱が最小限になるのが望ましい。図2に示されるように、サポート構造により、サポートフレームおよび/またはベースを介して外乱が投影システムに入る可能性があり、共振モードを励起することがある。一実施形態では、リソグラフィ装置は、第1のフレームの運動を減衰することにより外乱を最小限にするための能動制振システムまたはダンパを備える。0035能動制振システムは、第1のフレームの絶対的な運動を表す第1のセンサ出力を供給するように構成された第1のセンサシステムと、第1のフレームとサポートフレームの間に力を加えるように配置された第1のアクチュエータシステムと、第1のセンサ出力に基づいて第1のアクチュエータシステムに駆動信号を供給するためのコントロールシステムまたはコントローラCSとを備える。0036この実施形態では、第1のセンサシステムは第1のセンサSE1によって形成される。この第1のセンサSE1は、第1のフレーム1FのZ方向の運動を検出することができ、その運動を表す第1のセンサの信号S1を供給する。第1のセンサ信号S1は、このように第1のセンサ出力を形成する。0037第1のセンサ出力S1はコントロールシステムCSに入力され、コントロールシステムCSは、第1のセンサ出力S1に対する動作を遂行して、運動を減衰するために第1のフレームとサポートフレームの間に加える必要がある力を表す駆動信号D1を出力する。さらなる実施形態では、第1のセンサシステムは複数のセンサを備えてよい。0038第1のアクチュエータシステムは、この実施形態では、駆動信号D1に応じて力F1を加えるように構成された第1のアクチュエータAC1によって形成される。このように、駆動信号D1は、第1のセンサシステム、コントロールシステムおよび第1のアクチュエータシステムによって形成されるフィードバックループを閉じるために、第1のアクチュエータAC1に加えられる。さらなる実施形態では、第1のアクチュエータシステムは複数のアクチュエータを備えてよい。0039ここで、本発明によれば、第1のフレームの絶対的な運動が測定される一方で、第1のアクチュエータシステムによって発生される力がサポートフレームに対して加えられ、その結果、減衰性能が改善されることに留意されたい。0040本発明の一実施形態によって第1のフレームを能動制振する利益は、運動が相対的に測定されて力が相対的に加えられる能動制振システム一般に使用される制振システムと比較して、サポートフレームの振動がいわゆる-1の傾斜でなく、-2の傾斜で阻止されるので、より高い周波数に対する伝達率がより優れていて、すなわち高周波の振動がより抑制されることである。0041別の利益に、絶対的な運動が測定されて力も絶対的に加えられる能動制振システム別の一般に使用される制振システムと比較して、第1のフレームに大きな絶対力サポートフレームの運動を低減するためにばねK1を通過する必要があることになるを加えることによってサポートフレームの低周波の振動規則的に生じるが打ち消されることがないので、本発明の一実施形態による能動制振システムの低周波性能が改善する。0042さらなる利益は、第1のフレームと固定された世界ベースまたは個別の、好ましくは自由に移動する反作用マスによって形成され得るの間で、第1のフレーム1Fに絶対的なやり方で力を加えるのは、ベースが近くに存在しないこともあるので、実用的でない可能性があり得ることである。さらに、個別の反作用マスは、通常、比較的重くして低周波で第1のフレームに結合する必要があり、これによって、使用するとき反作用マスの大きな運動が生じることになり、したがって大きな空間が必要となるので、実用的ではない可能性もある。相対的なやり方で力を加えることにより、ベースに対する構造的結合も反作用マスも不要である。0043図3は、図1のリソグラフィ装置に類似した本発明の別の実施形態による装置の一部分を示す。0044図3に示される投影システムPSは、光学エレメント、例えばレンズエレメントLEを有する。この投影システムは、パターニングデバイス図示せずから基板図示せず上にパターニングを転写するように配置される。光学エレメントLEは、ばねK7によって概略的に示されるように、投影システムPSの第1のフレーム1Fによってばね支持されており、ここでは第7のアクチュエータAC7の形で実施されているアクチュエータシステムによってZ方向に位置決めすることができ、第7のアクチュエータAC7は、第1のフレーム1Fと光学エレメントLEの間に力F7を加えるように構成されている。光学エレメントLEの位置は、ここでは第7のセンサSE7の形で実施されているセンサシステムで検出される。第7のセンサSE7は、投影システムPSの第2のフレーム2Fに対する光学エレメントLEの位置を表す出力を供給する。第1のフレーム1Fと第2のフレーム2Fは、それぞれのばねK1、K2およびK3、K4によって概略的に示されるように、サポートフレームSFによって互いに独立してばね支持されている。また、サポートフレームSFは、ばねK5、K6によって概略的に示されるように、ベースBAによってばね支持されている。図示のばねK1~K6のいずれも、振動絶縁システムの一部分でよく、あるいは振動絶縁システムを形成してよい。0045図3の実施形態では、第1のフレーム、第2のフレームおよびサポートフレームは、2自由度、すなわちZ方向の並進およびφ方向の回転を有する。ばねサスペンションを示すのに1つのフレームにつき2つのばねが使用されているのは、このためである。実際には、第1および第2のフレームの共振モードが互いに比較的近いことがあり、その結果、フレームのうち一方の運動が、サポートフレームを介して他方のフレームのモードを容易に励起する可能性がある。実際には、図3の各コンポーネントは6自由度を有してよい。しかし、図3の実施形態についてよりよく説明するために、この実施形態では自由度数は2自由度に限定されている。0046この装置は、第1のフレームの運動およびこの実施形態では第2のフレームの運動も減衰するように構成された能動制振システムを備える。能動制振システムは、第1のフレームの絶対的な運動を測定するために第1のセンサシステムを備える。第1のセンサシステムは2つのセンサSE1、SE2を備え、それぞれが第1のフレームのZ方向の運動を測定することにより、φ方向に関する情報も得る。各センサSE1、SE2がセンサ信号S1、S2を出力し、両信号がともに第1のフレーム1Fの運動を表す第1のセンサシステムの第1のセンサ出力を定義する。0047この能動制振システムは、第1のセンサシステムと同様に2つのセンサSE3、SE4を備える第2のセンサシステムをさらに備える。したがって、センサSE3、SE4からのそれぞれのセンサ信号S3、S4は、第2のフレーム2Fの運動を表す第2のセンサ出力を定義する。0048この能動制振システムは、第1のセンサシステムと同様に2つのセンサSE5、SE6を備えるサポートフレームのセンサシステムも備える。したがって、センサSE5、SE6からのそれぞれのセンサ信号S5、S6は、サポートフレームSFの運動を表すサポートフレームのセンサ出力を定義する。0049この能動制振システムは、第1のフレーム1Fとサポートフレームの間にそれぞれの力F1、F2を加えることができる2つのアクチュエータAC1、AC2を備える第1のアクチュエータシステムを備える。したがって、この実施形態は、絶対的な運動が測定され、また、減衰力が相対的に加えられるという、図2の実施形態と同一の原理を用いる。0050図3の能動制振システムは、第2のフレーム2Fとサポートフレームの間にそれぞれの力F3、F4を加えることができる2つのアクチュエータAC3、AC4を備える第2のアクチュエータシステムをさらに備える。したがって、この実施形態は、投影システムの第2のフレームに対して図2の原理も適用する。0051第1および第2のアクチュエータシステムに加えて、この能動制振システムは、サポートフレームとベースの間にそれぞれの力F5、F6を加えることができる2つのアクチュエータAC5、AC6を備えるサポートフレームのアクチュエータシステムを備える。代替として、力F5、F6は、サポートフレームと個別の反作用マス、例えば自由運動する反作用マスとの間に加えられてよい。0052センサ信号S1~S6は、能動制振システムのコントロールシステムCSに供給される。話を簡単にするために、それぞれのセンサとコントロールシステムの間の図解の接続は省略されている。センサ信号Snがコントロールシステムのそれぞれの入力Snに接続されることが理解されよう。ここでn=1、2、...、6である。この実施形態では、コントロールシステムは、第1のセンサ出力、第2のセンサ出力およびサポートフレームのセンサ出力をデカップリングするように構成され、すなわち第1のフレーム、第2のフレームおよびサポートフレームの共振モードにセンサ信号S1~S6をデカップリングするように構成される。この実施形態で言及される共振モードは、諸フレームが相互作用するシステムの剛体モードである。デカップリングは、当業者に既知のように、センサ信号に対する変換T1を遂行することにより行なわれる。0053変換T1の出力は、システムの6つの共振モードを表す6つの信号である。変換演算子T1は、モードデカップリングによって得られる。それぞれがT1の1つの出力をT2の1つの入力に関連づける6つの個々のコントローラから成るコントローラCが、共振モードに対する制御演算を遂行する。続いて、制御された共振モードを、それぞれのアクチュエータシステムのアクチュエータAC1~AC6の個々の力F1~F6を表す駆動信号に変換する必要がある。この変換は、これもモードデカップリングによって得られる変換演算子T2によって行なわれる。コントロールシステムの出力は、6つの駆動信号D1~D6である。話を簡単にするために、それぞれのアクチュエータへの駆動信号の図解の接続は省略されている。アクチュエータに駆動信号D1~D6を供給することにより、制振システムは、第1および第2のフレームの運動を減衰することができる。0054モード制御の同一の原理を、図2の実施形態に対する拡張として適用することもでき、サポートフレームSFの運動を表すサポートフレームのセンサ出力を供給するためにサポートフレームのセンサシステムが設けられ、コントロールシステムCSは、第1のセンサ出力およびサポートフレームのセンサ出力を第1のフレーム1FおよびサポートフレームSFの共振モードにデカップリングし、第1のフレーム1FおよびサポートフレームSFのデカップリングされたモードに基づいて、第1のアクチュエータシステムAC1に駆動信号D1を供給するように構成される。0055上の段落で説明された図2のような実施形態のモード制御を用いるとき、第1のアクチュエータシステムが、第1のフレームとサポートフレームの間ではなく、サポートフレームとベースまたは反作用マスとの間に力を与えるように、第1のアクチュエータシステムを変更することも可能である。0056図4は、図1のリソグラフィ装置に類似した本発明の別の実施形態による装置の一部分を示す。図では、図4の実施形態には図3の実施形態と多くの共通点がある。第1のフレーム1Fおよび第2のフレーム2F、ならびに第1および第2のセンサシステムを含む投影システムPSを説明するために、図3を参照する。0057サポートフレームSFは、ばねK8、K9によって概略的に示されるように、サポートフレームSFの残りSFaにばね取付けされた2つのインターフェースマスIF1、IF2を備える。サポートフレームSFの一部分SFaは、ばねK5、K6によって示されるように、ベースBAによってばね支持されている。0058それぞれのインターフェースマスIF1、IF2の絶対的な運動を表すそれぞれのセンサ信号S5、S6をそれぞれ供給する2つのセンサSE5、SE6を備えるサポートフレームのセンサシステムが設けられている。ばねK8、K9を含むインターフェースマスは、サポートフレームセンサシステムとサポートフレームの残りSFaの間に機械的なやり方で動的フィルタをもたらす。これには、ばねK8、K9の遮断周波数より高い周波数を有するサポートフレームSFaの残りの振動、例えば内部共振が減衰され、したがって、能動制振システムに対する影響がより小さくなるという利益がある。00592つのアクチュエータAC5、AC6を備えるサポートフレームのアクチュエータシステムも設けられており、これらのアクチュエータは、それぞれインターフェースマスIF1、IF2とベースまたは個別の反作用マスとの間にそれぞれの力F5、F6を与える。この構成の利益は、ばねK8、K9の遮断周波数より高い周波数を有する力F5、F6の外乱が減衰され、したがってサポートフレームの残りSFaに対する影響がより小さいことである。0060ばねK8、K9の剛性およびインターフェースマスIF1、IF2の質量は、遮断周波数を所定のレベルに設定するように選択することができる。一実施形態では、遮断周波数は、能動制振システムに対する外乱および/またはサポートフレームに伝達される外乱が最小限になるように選択される。一実施形態では、インターフェースマスは、サポートフレームの残りSFaに高周波結合され、ここで、高周波とは、第1のフレーム、第2のフレームおよびサポートフレームの減衰されるべき共振モードの周波数より高く、寄生共振モードと見なされるべき共振モード、すなわち減衰させる必要はないが能動制振システムに悪影響を及ぼす共振モードの周波数より低い周波数を意味する。0061図4のコントロールシステムは、変換T2が、6つの別々のアクチュエータに対して6つの駆動信号を供給するのではなく、サポートフレームのアクチュエータシステムによって加えられる2つの力F5、F6をそれぞれ表す2つの駆動信号D5、D6だけを供給するという点を除けば、図3のコントロールシステムCSにさらに類似である。変換T1およびT2は、モードデカップリングの原理によって得られる行列と定義することができる。変換行列T1は6×6要素のサイズを有し、変換行列T2は、この場合2×6要素のサイズを有する行列である。全行列T1によって計算された3つのフレームの6つの共振モードのすべてがコントローラCによって減衰されるが、使用されるのはアクチュエータAC5およびAC6のみである。00626つの共振モードを減衰するのに2つのアクチュエータしか使用されないので、図4の実施形態では全モード制御は不可能である。これは、あるモードの入力から別のモードの出力へのクロス項がもはやゼロではなく、全デカップリングは不可能であることを意味する。しかし、共振モードの能動制振については、これらのクロス項は問題ではなく、その結果、依然として能動制振システムによって十分な減衰が達成され得る。0063インターフェースマスをサポートフレームと連通するように使用することの原理は、他の状況、例えば図3の実施形態でも、性能を改善するために同様に用いることができる。0064本文中では、ICの製造時におけるリソグラフィ装置の使用を具体的に参照することがあるが、本明細書で述べられているリソグラフィ装置には、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイドおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどの製造など、他の応用分野があり得ることを理解されたい。それらのような代替の用途において、本明細書で使用されるウェーハまたはダイという語は、いずれも、より一般的な語である基板またはターゲット部分とそれぞれ同義であると見なしてよいことが当業者には理解されよう。本明細書で言及する基板は、露光前または露光後に、例えばトラック一般に基板にレジストの層を塗布し、露光したレジストを現像するツール、メトロロジーツールおよび/またはインスペクションツール内で処理されてよい。適用可能であれば、本開示は、そのようなものおよび他の基板処理ツールに適用されてよい。その上、基板は、例えば多層ICを作製するために複数回処理されてよく、そのため、本明細書に用いられる用語の基板は、既に複数の処理済の層を含む基板も意味してよい。0065本発明の実施形態の使用に対して、光リソグラフィの文脈において上記で特定の参照がなされていても、本発明は、他の用途、例えばインプリントリソグラフィおよび状況が許すところで使用されてよく、光リソグラフィに限定されないことが理解されよう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス中のトポグラフィが、基板上に作製されるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に与えられたレジストの層へ押しつけられてよく、その後、レジストは、電磁放射、熱、圧力またはそれらの組合せを与えることによって硬化される。パターニングデバイスは、レジストが硬化された後、レジスト中にパターンを残してレジストから離される。0066本明細書で用いられる用語放射およびビームは、紫外線UV放射例えば、365、248、193、157、もしくは126nmの波長、またはほぼこれらの波長を有するおよび極端紫外線EUV放射例えば5~20nmの範囲の波長を有するならびにイオンビーム、電子ビームなどの粒子ビームを含むあらゆるタイプの電磁放射を包含する。0067レンズという語は、文脈により可能な場合、屈折式、反射式、磁気式、電磁式および静電式光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントの中の任意の1つまたは組合せを意味し得る。0068上記では、本発明の特定の実施形態について述べたが、本発明は、述べられているものとは別の方法で実施され得ることが理解されよう。例えば、本発明は、上記で開示されている方法を記述する機械可読命令の1つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、あるいは、そのようなコンピュータプログラムが記憶されたデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気ディスク、または光ディスクの形態をとることができる。0069上記の説明は、制限するものでなく、例示的なものである。したがって、以下で述べられている特許請求の範囲から逸脱することなしに、述べられている本発明に変更を加えることができることが、当業者には明らかであろう。