"表面上に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成モールドを製造する方法であって、予め形成された凹凸パターン形成シートの3次元データを計測する工程と、その計測データを元に、金属、金属化合物、樹脂の少なくとも1種からなる表面上に、切削加工により、前記凹凸パターン形成シートと同等または相似形の凹凸パターンを形成する工程とからなることを特徴とする凹凸パターン形成モールドの製造方法。請求項1に記載の凹凸パターン形成モールドの凹凸パターンが形成された面に、未硬化の硬化性樹脂を塗工する工程と、該硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を凹凸パターン形成モールドから剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。請求項1または2に記載の凹凸パターン形成モールドの凹凸パターンが形成された面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の熱可塑性樹脂を凹凸パターン形成モールドに押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、冷却したシート状の熱可塑性樹脂を凹凸パターン形成モールドから剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。特許文献1に記載の光拡散体は充分な光拡散性を有するものである。しかしながら、特許文献1に記載の、エネルギービームの照射による加工方法は製造工程が煩雑であるという問題を有していた。本発明は、前記事情を鑑みてなされたものであり、光拡散体を簡便に製造できる凹凸パターン形成モールドの製造方法を提供することを目的とする。本発明は、以下の態様を包含する。[1]表面上に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成モールドを製造する方法であって、予め形成された凹凸パターン形成シートの3次元データを計測する工程と、その計測データを元に、金属、金属化合物、樹脂の少なくとも1種からなる表面上に、切削加工により、前記凹凸パターン形成シートと同等または相似形の凹凸パターンを形成する工程とからなることを特徴とする凹凸パターン形成モールドの製造方法。2上記1に記載の凹凸パターン形成モールドの凹凸パターンが形成された面に、未硬化の硬化性樹脂を塗工する工程と、該硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を凹凸パターン形成モールドから剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。3上記1または2に記載の凹凸パターン形成モールドの凹凸パターンが形成された面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の熱可塑性樹脂を凹凸パターン形成モールドに押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、冷却したシート状の熱可塑性樹脂を凹凸パターン形成モールドから剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。本発明の凹凸パターン形成モールドの製造方法によれば、光拡散体を簡便に製造できる。凹凸パターン形成シート本発明の凹凸パターン形成シート10の一実施形態について説明する。但し、本実施形態に限定されるものではない。図1及び図2に、本実施形態の凹凸パターン形成シート10を示す。図1は、本発明に係る凹凸パターン形成シートの一例を示す拡大斜視図である。本実施形態の凹凸パターン形成シート10は、基材11と、基材11の片面に設けられた硬質層12とを備え、硬質層12が凹凸パターン12aを有するものである。凹凸パターン形成シート10の凹凸パターン12aは、略一方向に沿った波状の凹凸を有し、その波状の凹凸が蛇行しているものである。また、本実施形態の凹凸パターン12aの凸部の先端は丸みを帯びている。凹凸パターン形成シート10では、凹凸パターン12aの最頻ピッチAが1μmを超え20μm以下であることが好ましく、1μmを超え10μm以下であることがより好ましい。最頻ピッチAが1μm未満であると、可視光の波長以下となり、可視光が凹凸パターン12aにて屈折せずに光が透過してしまい、前記上限値を超えると、輝線として視認される場合があるからである。凹凸パターン12aの最頻ピッチAに対する凹凸パターンの平均深さBの比B/A、以下、アスペクト比という。は0.1~3.0であることが好ましく、0.3~2.0であることがより好ましい。アスペクト比が0.1未満であると、目的の光学特性が得られないことがある。一方、アスペクト比が3.0より大きくなると、凹凸パターン形成シート1の製造にて凹凸パターン12aを形成しにくくなる傾向にある。ここで、平均深さBとは、凹凸パターン12aの底部12bの平均深さのことである。また、底部12bとは、凹凸パターン12aの凹部の極小点であり、平均深さBは、凹凸パターン12aを短径方向に沿って切断した断面図2参照を見た際の、凹凸パターン形成シート10全体の面方向と平行な基準線L1から各凸部の頂部までの長さB1,B2,B3の平均値BAVと、基準線L1から各凹部の底部までの長さb1,b2,b3の平均値bAVとの差bAV-BAVのことである。平均深さBを測定する方法としては、原子間力顕微鏡により撮影した凹凸パターン12aの断面の画像にて各底部12bの深さを測定し、それらの平均値を求める方法などが採られる。最頻ピッチAを求めるためには、まず、表面光学顕微鏡により凹凸パターンの上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル例えば、tiff形式等に変換する。グレースケールのファイルの画像図3参照では、白度が低いところ程、凹部の底部が深い白度が高いところ程、凸部の頂部が高いことを表している。次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換する。図4にフーリエ変換後の画像を示す。図4の画像の中心から両側に広がる白色部分は凹凸パターン12aのピッチおよび向きの情報が含まれる。次いで、図4の画像の中心から水平方向に補助線L2を引き、その補助線上の輝度をプロット図5参照する。図5のプロットの横軸はピッチの逆数を、縦軸は頻度を表し、頻度が最大となる値Xの逆数1/Xが凹凸パターン12aの最頻ピッチを表す。凹凸パターン形成シート10の構成材料本発明の予め形成される凹凸パターン形成シートとしては、従来公知の凹凸パターン形成シートを用いることができる。中でも、凹凸パターン形成シート10のような複雑な形状をシームレスで製造することができる点で本発明の加工方法が適している。基材としては、加熱収縮性フィルムを加熱収縮させた樹脂基材が使用される。加熱収縮性フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系シ収縮フィルム、ポリスチレン系収縮フィルム、ポリオレフィン系収縮フィルム、ポリ塩化ビニル系収縮フィルム、ポリカーボネート系収縮フィルムなどを用いることができる。加熱収縮性フィルムの中でも、50~70収縮するものが好ましい。50~70収縮する加熱収縮性フィルムを用いれば、変形率を40以上にでき、凹凸パターン11の最頻ピッチAが1μmを超え20μm以下、アスペクト比0.1以上の凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。ここで、変形率とは、変形前の長さ-変形後の長さ/変形前の長さ×100のことである。本発明は、樹脂、金属及び金属化合物の少なくとも1種からなる表面上に、切削加工を施すことが好ましく、さらに好ましくは、樹脂基材上に樹脂、金属及び金属化合物の少なくとも1種からなる硬質層を形成し、表面上に切削加工を施した後、加熱収縮させることにより同等または相似形の凹凸パターンが形成しやすい。また、硬質層12が、樹脂の場合、加熱収縮性フィルムを構成する樹脂以後、第1の樹脂とも言う。より、ガラス転移温度が10°C以上高い樹脂以後、第2の樹脂とも言う。を少なくとも一種を含むように構成する。第1の樹脂のガラス転移温度と第2の樹脂のガラス転移温度の関係にあることにより、凹凸パターン12aの最頻ピッチAを、確実に1μmを超え20μm以下にできる。第2の樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン-アクリル共重合体、スチレン-アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。また、硬質層12が、金属及び金属化合物の場合、機能層13を、金、アルミニウム、銀、炭素、銅、ゲルマニウム、インジウム、マグネシウム、ニオブ、パラジウム、鉛、白金、シリコン、スズ、チタン、バナジウム、亜鉛、ビスマスよりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属で構成することが好ましい。また、硬質層12を、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化銅、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化鉛、酸化ケイ素、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、硫化亜鉛、ガリウムヒ素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属化合物で構成することが好ましい。凹凸パターン形成シート10の厚さ凹凸パターン形成シート10の厚さは0.02~3.0mmが好ましく、0.05~2.5mmがより好ましく、0.1~2.0mmが特に好ましい。凹凸パターン形成シート10の厚さが0.02mm未満であると、凹凸パターン12aの深さよりも小さいことがあるため適当でなく、3.0mmよりも厚いと凹凸パターン形成シート10の質量が大きくなるため取り扱いにくくなるおそれがある。凹凸パターン形成モールド凹凸パターン形成モールドは、表面に、前記凹凸パターン形成シート10と同一または相似形の凹凸パターンを有する。ここで相似形の凹凸パターンとは、前記凹凸パターン形成シートの凹凸パターン12aの最頻ピッチと平均深さがそれぞれt倍された凹凸パターンであり、前記相似の凹凸パターンのスケールを1/t倍すると、凹凸パターン12aと同一になるような凹凸パターンのことである。凹凸パターン形成モールドは、金属ロール表面に前記凹凸パターン12aを同一または相似の凹凸パターンが形成されている。凹凸パターン形成シート10の製造方法[第1の製造方法]凹凸パターン形成シート10を製造する方法の例について説明する。但し、本実施形態に限定されるものではない。本実施形態の凹凸パターン形成シートの製造方法は、図6に示すように、樹脂製の基材である加熱収縮性フィルム11aの片面に、表面が平滑な硬質層13以下、表面平滑硬質層13という。を設けて積層シートを形成する工程以下、第1の工程という。と、加熱収縮性フィルム11aを加熱収縮させて、積層シートの少なくとも表面平滑硬質層13を折り畳むように変形させる工程以下、第2の工程という。とを有する方法である。ここで、表面平滑硬質層13とは、JISB0601に記載の中心線平均粗さ0.1μm以下の層である。<第1の工程>第1の工程にて、加熱収縮性フィルム11aの片面に硬質層13を設けて積層シートを形成する方法としては、例えば、加熱収縮性フィルム11aの片面に、樹脂の溶液または分散液をスピンコーターやバーコーター等により塗工し、溶媒を乾燥させる方法、加熱収縮性フィルム11aの片面に、あらかじめ作製した表面平滑硬質層13を積層する方法などが挙げられる。表面平滑硬質層13の厚みは0.05μmを超え5μm以下であることが好ましく、0.1~2μmであることがより好ましい。表面平滑硬質層13の厚みが0.05を超え5μm以下であれば、凹凸パターン12aの最頻ピッチAを、確実に1μmを超え20μm以下にできる。<第2の工程>第2の工程にて、加熱収縮性フィルム11aを熱収縮させることにより、表面平滑硬質層13に、収縮方向に対して垂直方向に波状の凹凸パターン12aを形成させる。加熱収縮性フィルム11aを加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられる。上記第1の製造方法では、第1の樹脂のガラス転移温度と第2の樹脂のガラス転移温度の間の温度では、表面平滑硬質層13のヤング率が加熱収縮性フィルム11aより高くなる。そのため、第1の樹脂のガラス転移温度と第2の樹脂のガラス転移温度の間の温度で加工した際には、表面平滑硬質層13は厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。さらに、表面平滑硬質層13は加熱収縮性フィルム11aに積層されているため、加熱収縮性フィルム11aの収縮による応力が全体に均一にかかる。したがって、加熱収縮性フィルム11aを収縮させて、表面平滑硬質層13を折り畳むように変形させることにより、凹凸パターン12aを形成できる。[第2の製造方法]表面平滑硬質層13が、金属または金属化合物からなる場合は、以下に記載する部分以外は第1の製造方法と同様の方法により凹凸パターン形成シートが得られる。<第1の工程>第1の工程において、積層シートを形成する方法としては、例えば、加熱収縮性フィルム11aの片面に金属や金属化合物を蒸着させる方法、加熱収縮性フィルム11aの片面に、あらかじめ作製した表面平滑硬質層13を積層する方法などが挙げられる。表面平滑硬質層13が金属からなる場合には、層表面が空気酸化されて空気酸化膜が形成されることがあるが、本発明では、そのような金属層の表面が空気酸化された層も、金属からなる層とみなす。この製造方法において、より容易に凹凸パターン12aを形成できることから、表面平滑硬質層13のヤング率を0.1~500GPaにすることが好ましく、1~150GPaにすることがより好ましい。表面平滑硬質層13のヤング率を前記範囲にするためには、表面平滑硬質層13を、金、アルミニウム、銀、炭素、銅、ゲルマニウム、インジウム、マグネシウム、ニオブ、パラジウム、鉛、白金、シリコン、スズ、チタン、バナジウム、亜鉛、ビスマスよりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属で構成することが好ましい。または、機能層13を、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化銅、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化鉛、酸化ケイ素、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、硫化亜鉛、ガリウムヒ素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属化合物で構成することが好ましい。ここで、ヤング率は、JISZ2280-1993の金属材料の高温ヤング率試験方法にて温度を23°Cに変更して測定した値である。表面平滑硬質層13が金属化合物からなる場合も同様である。表面平滑硬質層13の厚さは0.01μmを超え0.2μm以下、好ましくは0.02~0.1μmとする。機能層13の厚さを前記範囲とすることにより、凹凸パターン11の最頻ピッチAを、確実に1μmを超え20μm以下にできる。<第2の工程>第2の工程にて、加熱収縮性フィルム11aを熱収縮させることにより、表面平滑硬質層13に、収縮方向に対して垂直方向に波状の凹凸パターン12aを形成させる。加熱収縮性フィルム11aを加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられる。上記第2の製造方法では、金属または金属化合物からなる表面平滑硬質層13が、加熱収縮性フィルム11aよりヤング率が桁違いに大きいため、加熱収縮性フィルム11aより硬い表面平滑硬質層13を熱圧縮した際に、厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。さらに、機能層13は加熱収縮性フィルム12に積層されているため、加熱収縮性フィルム11aの収縮による応力が全体に均一にかかる。したがって、本発明によれば、表面平滑硬質層13を折り畳むように変形させて、凹凸パターン形成シート10を簡便に、かつ、大面積で製造できる。凹凸パターン形成モールドの製造方法本発明の凹凸パターン形成モールドとは、予め形成された凹凸パターン形成シート10の原子間力顕微鏡などで測定した3次元データを元に、切削加工により、凹凸パターン12aと同一または相似形の形状を有する凹凸パターン形成モールドを製造する。本発明の切削加工の方法としては、例えば、金属製のロールにダイヤモンドバイトを施した方法などが挙げられる。その中でも、数種の刃先のダイヤモンドバイトの使用などにより凹凸パターン12aを同一または相似形の形状を形成することが精度的に好ましい。本製造方法により、複雑な凹凸パターンの情報を実際の凹凸パターンの3次元データを元に作成可能であり、また、本製造方法によりシームレスロールを製造することが可能となる。光拡散体の製造方法前記凹凸パターン形成モールドを使用して光拡散体を製造する方法である。光拡散体の製造方法の具体的な方法としては、例えば、下記a~cの方法が挙げられる。a凹凸パターン形成モールドの凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、樹脂製の基材を電離放射線硬化性樹脂の凹凸パターン形成モールドと接触していない側に接触させる工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。ここで、電離放射線とは、通常、紫外線または電子線のことであるが、本発明では、可視光線、X線、イオン線等も含む。b凹凸パターン形成モールドの凹凸パターンが形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱して前記液状熱硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を凹凸パターン形成モールドから剥離する工程とを有する方法。c凹凸パターン形成モールドの凹凸パターンが形成された面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を凹凸パターン形成モールドに押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を凹凸パターン形成モールドから剥離する工程とを有する方法。aの方法において、凹凸パターン形成モールドの凹凸パターンが形成された面には、離型性を付与する目的で、未硬化の電離放射線硬化性樹脂塗工前に、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等からなる層を1~10nm程度の厚さで設けてもよい。凹凸パターン形成モールドの凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工するコーターとしては、Tダイコーター、ロールコーター、バーコーター等が挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル/アクリレート、ポリエン/アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる1種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。未硬化の電離放射線硬化性樹脂を紫外線により硬化する場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。bの方法において、液状熱硬化性樹脂としては、例えば、未硬化の、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。cの方法における透明熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン-メチルメタクリレート共重合体MS、ポリメチルメタクリレートPMMA、ポリスチレンPS、シクロオレフィンポリマーCOP、ポリカーボネートPC、ポリプロピレンPP、ポリエチレンテレフタレートPET、PET-G、ポリエーテルサルフォンPES、ポリ塩化ビニルPVC、ポリエチレンテレフタレートPETなどの樹脂などが挙げられる。これらの中でも、成形加工の観点からは、MS、PMMA、PS、COP、PCが好ましく、吸湿性及びコストの観点からは、MSのうちスチレン含有率が30~90質量のものがさらに好ましい。これらの透明熱可塑性樹脂は単層もしくは多層構造とすることもできる。例えば、PS層の両面にPMMA層を設けた3層構造の透明熱可塑性樹脂などを用いることができる。さらに、前記透明熱可塑性樹脂の表面に、高屈折率の樹脂を設けたものを使用することもできる。高屈折率の樹脂としては、例えば、フルオレン系エポキシ化合物、フルオレン系アクリレート化合物、フルオレン系ポリエステルOKP、ポリメチルフェニルシランPMPS、ポリジフェニルシランPDPSなどが挙げられる。以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。また、特に断らない限り、例中の部およびは各々質量部および質量を表わす実施例一軸方向に熱収縮する厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム三菱樹脂株式会社製ヒシペットLX-60S、ガラス転移温度70°Cの片面に、トルエンに希釈したポリメチルメタクリレートポリマーソース株式会社製P4831-MMA、ガラス転移温度100°Cを厚さが2μmになるようにバーコーターにより塗工し、機能層を形成して積層シートを得た。次いで、その積層シートを80°Cで50秒間加熱することにより、加熱前の長さの50に熱収縮させすなわち、変形率50で変形させ、機能層形成面に、収縮方向に対して直交方向に沿って波状の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シート10を得た。得られた凹凸パターン形成シートの凹凸パターン表面を原子間力顕微鏡で測定し、得られた3次元情報を元に、金属ロール表面にダイヤモンドバイトを使用して、凹凸パターン形成シートを略同一の凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成モールドを得た。この凹凸パターン形成モールドの凹凸パターンが形成された面にエポキシアクリレート系プレポリマー、2-エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の凹凸パターン形成モールドと接していない面に厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを重ね合わせ、押圧した。次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルムの上から紫外線を照射し未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、その硬化物を凹凸パターン形成モールドから剥離することにより、光拡散体を得た。得られた光拡散体は平面上の一方向に光を強く拡散する異方性拡散シートであった。"