"m-クレゾール、p-クレゾール及びホルムアルデヒドを必須原料として製造されたクレゾールノボラック樹脂Aと、o-クレゾール、レゾルシノール及びホルムアルデヒドを必須原料として製造されたノボラック型フェノール樹脂Bとを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。前記ノボラック型フェノール樹脂Bの原料であるo-クレゾール1モルに対して、レゾルシノールのモル数が0.05~1モルの範囲である請求項1記載のポジ型フォトレジスト組成物。前記ノボラック型フェノール樹脂Bの重量平均分子量が500~4,000の範囲である請求項1又は2記載のポジ型フォトレジスト組成物。前記ノボラック型フェノール樹脂Bが、o-クレゾールとホルムアルデヒドとをアルカリ性触媒存在下で縮合反応させてレゾール型フェノール樹脂B’を得た後、該樹脂B’を中和後、レゾルシノール及びホルムアルデヒドを加え、酸触媒存在下で縮合反応させて得られたものである請求項1~3のいずれか1項記載のフォトレジスト組成物。前記ノボラック型フェノール樹脂A100質量部に対して、前記ノボラック型フェノール樹脂Bを3~60質量部の範囲で含有する請求項1~4のいずれか1項記載のポジ型フォトレジスト組成物。本発明が解決しようとする課題は、これまで両立が困難であった感度及び耐熱性を高いレベルで両立したポジ型フォトレジスト組成物を提供することである。本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、m-クレゾール、p-クレゾール及びホルムアルデヒドを必須原料として製造されたクレゾールノボラック樹脂をアルカリ可溶性樹脂として用い、o-クレゾールを必須原料として製造したノボラック型フェノール樹脂をレゾルシノールで変性したノボラック型フェノール樹脂を感度向上剤として用いたポジ型フォトレジスト組成物は、優れた感度及び耐熱性を有することを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、m-クレゾール、p-クレゾール及びホルムアルデヒドを必須原料として製造されたクレゾールノボラック樹脂Aと、o-クレゾール、レゾルシノール及びホルムアルデヒドを必須原料として製造されたノボラック型フェノール樹脂Bとを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物に関する。本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、これまで両立が困難であった感度及び耐熱性を高いレベルで両立し、非常に高い感度及び耐熱性を有しているため、より細線化されたパターンを作製するIC、LSI等の半導体製造、LCD等の表示装置の製造、印刷原版の製造などに用いられるポジ型フォトレジストとして好適に用いることができる。本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、m-クレゾール、p-クレゾール及びホルムアルデヒドを必須原料として製造されたクレゾールノボラック樹脂Aと、o-クレゾール、レゾルシノール及びホルムアルデヒドを必須原料として製造されたノボラック型フェノール樹脂Bとを含有するものである。まず、前記クレゾールノボラック樹脂Aについて説明する。前記クレゾールノボラック樹脂Aは、m-クレゾール、p-クレゾール及びホルムアルデヒドを必須原料として、これらを縮合させたノボラック型フェノール樹脂である。前記クレゾールノボラック樹脂Aの必須原料として用いるm-クレゾールとp-クレゾールとのモル比率[m-クレゾール/p-クレゾール]は、感度と耐熱性を両立できることから、10/0~2/8の範囲が好ましく、7/3~2/8の範囲がより好ましい。前記クレゾールノボラック樹脂Aの必須原料として用いるm-クレゾール及びp-クレゾール以外のフェノール化合物を原料として併用しても構わない。このようなフェノール化合物としては、例えば、フェノール;o-クレゾール;2,3-キシレノール、2,4-キシレノール、2,5-キシレノール、2,6-キシレノール、3,4-キシレノール、3,5-キシレノール等のキシレノール;o-エチルフェノール、m-エチルフェノール、p-エチルフェノール等のエチルフェノール;イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、p-t-ブチルフェノール等のブチルフェノール;p-ペンチルフェノール、p-オクチルフェノール、p-ノニルフェノール、p-クミルフェノール等のアルキルフェノール;フルオロフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、ヨードフェノール等のハロゲン化フェノール;p-フェニルフェノール、アミノフェノール、ニトロフェノール、ジニトロフェノール、トリニトロフェノール等の1置換フェノール;1-ナフトール、2-ナフトール等の縮合多環式フェノール;レゾルシン、アルキルレゾルシン、ピロガロール、カテコール、アルキルカテコール、ハイドロキノン、アルキルハイドロキノン、フロログルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ジヒドロキシナフタリン等の多価フェノール等が挙げられる。これらのその他のフェノール化合物は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。また、その他のフェノール化合物を併用する場合、その使用量は、m-クレゾール及びp-クレゾールの合計1モルに対して、0.05~1モルの範囲とすることが好ましい。また、前記クレゾールノボラック樹脂Aの必須原料として用いるホルムアルデヒド以外のアルデヒド化合物を原料として併用しても構わない。このようなアルデヒド化合物としては、例えば、パラホルムアルデヒド、1,3,5-トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ポリオキシメチレン、クロラール、ヘキサメチレンテトラミン、フルフラール、グリオキザール、n-ブチルアルデヒド、カプロアルデヒド、アリルアルデヒド、ベンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、アクロレイン、テトラオキシメチレン、フェニルアセトアルデヒド、o-トルアルデヒド、サリチルアルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒド化合物は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。また、前記クレゾールノボラック樹脂Aの原料として、ホルムアルデヒドを用いることが好ましく、ホルムアルデヒドとその他のアルデヒド化合物を併用しても構わない。ホルムアルデヒドとその他のアルデヒド化合物を併用する場合、その他のアルデヒド化合物の使用量は、ホルムアルデヒド1モルに対して、0.05~1モルの範囲とすることが好ましい。前記クレゾールノボラック樹脂Aを製造する際のm-クレゾール、p-クレゾールを含むフェノール化合物とホルムアルデヒドを含むアルデヒド化合物との縮合反応は、酸触媒存在下で行うことが好ましい。前記酸触媒としては、例えば、シュウ酸、硫酸、塩酸、フェノールスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、酢酸亜鉛、酢酸マンガン等が挙げられる。これらの酸触媒は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。また、これらの酸触媒の中でも、加熱により分解して残存しない点から、シュウ酸が好ましい。なお、酸触媒は、反応前に加えても、反応途中で加えても構わない。また、前記クレゾールノボラック樹脂Aを製造する際のフェノール化合物Pとアルデヒド化合物Fとのモル比[F/P]は、優れた感度と耐熱性が得られることから、0.3~1.6の範囲が好ましく、0.5~1.3の範囲がより好ましい。前記ノボラック型フェノール樹脂Aのより具体的な製造方法としては、フェノール化合物、アルデヒド化合物及び酸触媒を60~140°Cに加熱して、重縮合反応を進行させ、次いで減圧条件下で脱水、脱モノマーをさせる方法が挙げられる。次に、前記ノボラック型フェノール樹脂Bについて説明する。前記ノボラック型フェノール樹脂Bは、o-クレゾール、レゾルシノール及びホルムアルデヒドを必須原料として、これらを縮合させたものである。前記ノボラック型フェノール樹脂Bの原料となるフェノール化合物しては、o-クレゾールであるが、その他のフェノール化合物を併用しても構わない。このようなフェノール化合物としては、例えば、フェノール;o-クレゾール;2,3-キシレノール、2,4-キシレノール、2,5-キシレノール、2,6-キシレノール、3,4-キシレノール、3,5-キシレノール等のキシレノール;o-エチルフェノール、m-エチルフェノール、p-エチルフェノール等のエチルフェノール;イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、p-t-ブチルフェノール等のブチルフェノール;p-ペンチルフェノール、p-オクチルフェノール、p-ノニルフェノール、p-クミルフェノール等のアルキルフェノール;フルオロフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、ヨードフェノール等のハロゲン化フェノール;p-フェニルフェノール、アミノフェノール、ニトロフェノール、ジニトロフェノール、トリニトロフェノール等の1置換フェノール;1-ナフトール、2-ナフトール等の縮合多環式フェノール;レゾルシン、アルキルレゾルシン、ピロガロール、カテコール、アルキルカテコール、ハイドロキノン、アルキルハイドロキノン、フロログルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ジヒドロキシナフタリン等の多価フェノール等が挙げられる。これらのその他のフェノール化合物は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。また、その他のフェノール化合物を併用する場合、その使用量は、o-クレゾールの合計1モルに対して、0.05~1モルの範囲とすることが好ましい。また、前記ノボラック型フェノール樹脂Bの原料となるアルデヒド化合物としては、ホルムアルデヒドであるが、その他のアルデヒド化合物を併用しても構わない。このようなアルデヒドとしては、例えば、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ポリオキシメチレン、クロラール、ヘキサメチレンテトラミン、フルフラール、グリオキザール、n-ブチルアルデヒド、カプロアルデヒド、アリルアルデヒド、ベンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、アクロレイン、テトラオキシメチレン、フェニルアセトアルデヒド、o-トルアルデヒド、サリチルアルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒド化合物は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。また、その他のアルデヒド化合物を併用する場合、その他のアルデヒド化合物の使用量は、ホルムアルデヒド1モルに対して、0.05~1モルの範囲とすることが好ましい。前記ノボラック型フェノール樹脂Bの原料であるo-クレゾール1モルに対するレゾルシノールのモル数は、感度と耐熱性を両立できることから、0.1~0.7モルの範囲が好ましく、0.3~0.5モルの範囲がより好ましい。また、前記ノボラック型フェノール樹脂Bを製造する際の、o-クレゾール及びレゾルシノール、それに必要に応じてその他のフェノール化合物を加えたフェノール化合物Pの全モル数と、ホルムアルデヒド、それに必要に応じてその他のアルデヒドを加えたアルデヒド化合物Fの全モル数とのモル比[F/P]は、優れた感度と耐熱性が得られることから、0.3~1.6の範囲が好ましく、0.5~1.3の範囲がより好ましい。前記ノボラック型フェノール樹脂Bは、その原料であるo-クレゾールとレゾルシノールとで、ホルムアルデヒドとの反応性が異なるため、下記の2つの製造方法のいずれかで製造することが好ましい。製造方法1:ノボラック化の二段反応o-クレゾール及びその他のフェノール化合物と、ホルムアルデヒド及びその他のアルデヒド化合物とを、酸触媒存在下でまず縮合反応によりノボラック化させ、その後レゾルシノールを加えて、さらにノボラック化させる製造方法。製造方法2:レゾール化及びノボラック化の二段反応下記の工程1レゾール化工程、工程2中和触媒除去工程及び工程3ノボラック化工程を含む製造方法。工程1o-クレゾール及びその他のフェノール化合物と、ホルムアルデヒド及びその他のアルデヒド化合物とを、アルカリ性触媒存在下で40~140°Cに加熱して縮合反応させ、レゾール型フェノール樹脂B’を得る。工程2工程1で得られたノボラック型フェノール樹脂B’を酸で中和し、分離した水を抜き取った後、水を加え、同様に分離した水層を抜き取ることにより、触媒を除去する。工程3工程2で酸触媒を除去したノボラック型フェノール樹脂B’に、レゾルシノール、ホルムアルデヒド及びその他のアルデヒド化合物、並びに酸触媒を加え、60~140°Cに加熱して縮合反応を進行させ、次いで、減圧条件下でさらに脱水、脱モノマーを行い、レゾルシノール変性させたノボラック型フェノール樹脂Bを得る。前記製造工程1で用いるアルカリ性触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物;カルシウム、マグネシウム、バリウム等のアルカリ土類金属の酸化物及び水酸化物;アンモニア、モノエタノールアミン等の第1級アミン;ジエタノールアミン等の第2級アミン;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシクロウンデセン等の第3級アミン;炭酸ナトリウム、ヘキサメチレンテトラミン等のアルカリ性物質等が挙げられる。これらのアルカリ性触媒は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。また、これらのアルカリ性触媒の中でも、触媒活性に優れる点から、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウムが好ましい。なお、アルカリ性触媒は、製造工程1での反応前に加えても、反応途中で加えても構わない。前記製造工程2で中和に用いる酸としては、例えば、硫酸、シュウ酸、塩酸等が挙げられる。これらの酸は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。前記製造工程3で用いる酸触媒としては、例えば、シュウ酸、硫酸、塩酸、フェノールスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、酢酸亜鉛、酢酸マンガン等が挙げられる。これらの酸触媒は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。また、これらの酸触媒の中でも、熱分解し残存しない点から、シュウ酸が好ましい。なお、酸触媒は、製造工程3での反応前に加えても、反応途中で加えても構わない。上記のノボラック型フェノール樹脂Bの2つの製造方法の中でも、o-クレゾール及びレゾルシノールをより均一にノボラック型フェノール樹脂中に存在させることができるとから、製造方法2が好ましい。上記の製造方法で得られる前記クレゾールノボラック樹脂Aの重量平均分子量は、2,000~35,000の範囲が好ましく、5,000~20,000の範囲がより好ましい。また、上記の製造方法で得られる前記ノボラック型フェノール樹脂Bの重量平均分子量は、500~4,000の範囲が好ましく、700~2,500の範囲がより好ましい。なお、これらの重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーGPCを用いて、下記の測定条件で測定したものである。[GPCの測定条件]測定装置:東ソー株式会社製HLC-8220GPCカラム:昭和電工株式会社製ShodexKF8028.0mmФ×300mm昭和電工株式会社製ShodexKF8028.0mmФ×300mm昭和電工株式会社製ShodexKF8038.0mmФ×300mm昭和電工株式会社製ShodexKF8048.0mmФ×300mmカラム温度:40°C検出器:RI示差屈折計データ処理:東ソー株式会社製GPC-8020モデルIIバージョン4.30展開溶媒:テトラヒドロフラン流速:1.0mL/分試料:樹脂固形分換算で0.5質量のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの注入量:0.1mL標準試料:下記単分散ポリスチレン標準試料:単分散ポリスチレン東ソー株式会社製A-500東ソー株式会社製A-2500東ソー株式会社製A-5000東ソー株式会社製F-1東ソー株式会社製F-2東ソー株式会社製F-4東ソー株式会社製F-10東ソー株式会社製F-20本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、上記で説明したクレゾールノボラック樹脂A及びノボラック型フェノール樹脂Bを含有するものであるが、これらの配合量としては、感度と耐熱性に優れることから、前記クレゾールノボラック樹脂A100質量部に対して、前記ノボラック型フェノール樹脂Bを3~60質量部の範囲で含有することが好ましく、5~30質量部の範囲で含有することがより好ましい。本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、前記クレゾールノボラック樹脂A及びノボラック型フェノール樹脂Bの他、通常、感光剤C及び溶剤Dを含有する。前記感光剤Cとしては、キノンジアジド基を有する化合物を用いることができる。このキノンジアジド基を有する化合物としては、例えば、2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン、2,4,4-トリヒドロキシベンゾフェノン、2,4,6-トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,6-トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4-トリヒドロキシ-2-メチルベンゾフェノン、2,3,4,4-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2,4,4-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4,6-ペンタヒドロキシベンゾフェノン、2,2,3,4,4-ペンタヒドロキシベンゾフェノン、2,2,3,4,5-ペンタヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4,5,6-ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、2,3,3,4,4,5-ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等のポリヒドロキシベンゾフェノン化合物;ビス2,4-ジヒドロキシフェニルメタン、ビス2,3,4-トリヒドロキシフェニルメタン、2-4-ヒドロキシフェニル-2-4-ヒドロキシフェニルプロパン、2-2,4-ジヒドロキシフェニル-2-2,4-ジヒドロキシフェニルプロパン、2-2,3,4-トリヒドロキシフェニル-2-2,3,4-トリヒドロキシフェニルプロパン、4,4-{1-[4-2-4-ヒドロキシフェニル-2-プロピルフェニル]エチリデン}ビスフェノール,3,3-ジメチル-{1-[4-2-3-メチル-4-ヒドロキシフェニル-2-プロピルフェニル]エチリデン}ビスフェノール等のビス[ポリヒドロキシフェニル]アルカン化合物;トリス4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-3、5-ジメチルフェニル-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-2,5-ジメチルフェニル-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-2,5-ジメチルフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-2,5-ジメチルフェニル-3,4-ジヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル-3,4-ジヒドロキシフェニルメタン等のトリスヒドロキシフェニルメタン類又はそのメチル置換体;ビス3-シクロヘキシル-4-ヒドロキシフェニル-3-ヒドロキシフェニルメタン,ビス3-シクロヘキシル-4-ヒドロキシフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン,ビス3-シクロヘキシル-4-ヒドロキシフェニル-4-ヒドロキシフェニルメタン,ビス5-シクロヘキシル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン,ビス5-シクロヘキシル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニル-3-ヒドロキシフェニルメタン、ビス5-シクロヘキシル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニル-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス3-シクロヘキシル-2-ヒドロキシフェニル-3-ヒドロキシフェニルメタン、ビス5-シクロヘキシル-4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス5-シクロヘキシル-4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル-3-ヒドロキシフェニルメタン、ビス5-シクロヘキシル-4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス3-シクロヘキシル-2-ヒドロキシフェニル-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス3-シクロヘキシル-2-ヒドロキシフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス5-シクロヘキシル-2-ヒドロキシ-4-メチルフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス5-シクロヘキシル-2-ヒドロキシ-4-メチルフェニル-4-ヒドロキシフェニルメタンなどの、ビスシクロヘキシルヒドロキシフェニルヒドロキシフェニルメタン類又はそのメチル置換体などとナフトキノン-1,2-ジアジド-5-スルホン酸又はナフトキノン-1,2-ジアジド-4-スルホン酸、オルトアントラキノンジアジドスルホン酸等のキノンジアジド基を有するスルホン酸との完全エステル化合物、部分エステル化合物、アミド化物又は部分アミド化物などが挙げられる。これらの感光剤は1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。本発明のポジ型フォトレジスト組成物における前記感光剤Cの配合量は、良好な感度が得られ、所望のパターンが得られることから、前記クレゾールノボラック樹脂A及び前記ノボラック型フェノール樹脂Bの合計100質量部に対して、3~50質量部の範囲が好ましく、5~30質量部の範囲がより好ましい。前記溶剤Dとしては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールアルキルエーテル;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン;ジオキサン等の環式エーテル;2-ヒドロキシプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のエステルなどが挙げられる。これらの溶剤は1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。本発明のポジ型フォトレジスト組成物における前記溶剤Dの配合量は、組成物の流動性をスピンコート法等の塗布法により均一な塗膜を得られることから、該組成物中の固形分濃度が30~65質量となる量とすることが好ましい。本発明のポジ型フォトレジスト組成物には、前記クレゾールノボラック樹脂A、ノボラック型フェノール樹脂B、感光剤C及び溶剤Dの他、本発明の効果を阻害しない範囲で各種添加剤を配合しても構わない。このような添加剤としては、充填材、顔料、レベリング剤等の界面活性剤、密着性向上剤、溶解促進剤等が挙げられる。本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、上記の前記クレゾールノボラック樹脂A、ノボラック型フェノール樹脂B、感光剤C及び溶剤D、さらに必要に応じて加えた各種添加剤を通常の方法で、撹拌混合して均一な液とすることで調製できる。また、本発明のポジ型フォトレジスト組成物に充填材、顔料等の固形のものを配合する際には、ディゾルバー、ホモジナイザー、3本ロールミル等の分散装置を用いて分散、混合させることが好ましい。また、粗粒や不純物を除去するため、メッシュフィルター、メンブレンフィルター等を用いて該組成物をろ過することもできる。本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、マスクを介して露光を行うことで、露光部においては樹脂組成物に構造変化が生じてアルカリ現像液に対しての溶解性が促進される。一方、非露光部においてはアルカリ現像液に対する低い溶解性を保持しているため、この溶解性の差により、アルカリ現像によりパターニングが可能となりレジスト材料として用いることができる。本発明のポジ型フォトレジスト組成物を露光する光源としては、例えば、赤外光、可視光、紫外光、遠紫外光、X線、電子線等が挙げられる。これらの光源の中でも紫外光が好ましく、G線436nm,I線365nmが好適である。また、露光後の現像に用いるアルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ性物質;エチルアミン、n-プロピルアミン等の1級アミン;ジエチルアミン、ジ-n-ブチルアミン等の2級アミン;トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の3級アミン類;ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩;ピロール、ピヘリジン等の環状アミンなどのアルカリ性水溶液を使用することができる。これらのアルカリ現像液には、必要に応じてアルコール、界面活性剤等を適宜添加して用いることもできる。アルカリ現像液のアルカリ濃度は、通常2~5質量の範囲が好ましく、2.38質量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液が一般的に用いられる。以下に具体的な例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明する。なお、合成した樹脂の重量平均分子量Mwは、下記のGPCの測定条件で測定したものである。[GPCの測定条件]測定装置:東ソー株式会社製HLC-8220GPCカラム:昭和電工株式会社製ShodexKF8028.0mmФ×300mm昭和電工株式会社製ShodexKF8028.0mmФ×300mm昭和電工株式会社製ShodexKF8038.0mmФ×300mm昭和電工株式会社製ShodexKF8048.0mmФ×300mmカラム温度:40°C検出器:RI示差屈折計データ処理:東ソー株式会社製GPC-8020モデルIIバージョン4.30展開溶媒:テトラヒドロフラン流速:1.0mL/分試料:樹脂固形分換算で0.5質量のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの注入量:0.1mL標準試料:下記単分散ポリスチレン標準試料:単分散ポリスチレン東ソー株式会社製A-500東ソー株式会社製A-2500東ソー株式会社製A-5000東ソー株式会社製F-1東ソー株式会社製F-2東ソー株式会社製F-4東ソー株式会社製F-10東ソー株式会社製F-20合成例1攪拌機、温度計を備えた4つ口フラスコに、m-クレゾール648g、p-クレゾール432g、シュウ酸2.5g及び42質量ホルムアルデヒド水溶液492gを加えた後、100°Cまで昇温し、3時間反応させた。次いで、200°Cまで昇温し減圧して脱水、脱モノマーさせ、軟化点が145°C、重量平均分子量Mwが9,600の固形のクレゾールノボラック樹脂A1を得た。合成例2攪拌機、温度計を備えた4つ口フラスコに、m-クレゾール432g、p-クレゾール648g、シュウ酸2.5g及び42質量ホルムアルデヒド水溶液506gを加えた後、100°Cまで昇温し、3時間反応させた。次いで、200°Cまで昇温し減圧して脱水、脱モノマーさせ、軟化点が150°C、重量平均分子量Mwが10,500の固形のクレゾールノボラック樹脂A2を得た。合成例3攪拌機、温度計を備えた4つ口フラスコに、m-クレゾール780g、p-クレゾール1,560g、レゾルシノール260g、シュウ酸10.8g及び42質量ホルムアルデヒド水溶液1,070gを加えた後、100°Cまで昇温し、3時間反応させた。次いで、200°Cまで昇温し減圧して脱水、脱モノマーさせ、軟化点が150°C、重量平均分子量Mwが9,900の固形のクレゾールノボラック樹脂A3を得た。合成例4攪拌機、温度計を備えた4つ口フラスコに、o-クレゾール1,080g、水酸化ナトリウム54g及び42質量ホルムアルデヒド水溶液615gを加えた後、60°Cまで昇温して、撹拌しながら5時間反応させた。次いで、希硫酸を加えて中和し、分離した水を抜き取った後、水375gを加え、分離した水層を抜き取ることで触媒を除去した。次に、レゾルシノール418g、シュウ酸2g及び42質量ホルムアルデヒド水溶液78gを加えた後、100°Cに昇温し1時間反応させた。その後、170°Cまで昇温して、脱水脱モノマーを1時間させた。次いで、減圧し190°Cで2時間脱水脱モノマーさせ、軟化点が125°C、重量平均分子量Mwが1,700の固形のノボラック型フェノール樹脂B1を得た。上記の合成例1~4で得られたクレゾールノボラック樹脂A1、A2、A3及びノボラック型フェノール樹脂B1を用いて、ポジ型フォトレジスト組成物を下記の通り調製した。実施例1合成例1で得られたクレゾールノボラック樹脂A116質量部、合成例4で得られたノボラック型フェノール樹脂B14質量部、感光剤東洋合成工業株式会社製P-2005質量部及び溶剤プロピレングリコールモノメチルアセテート;以下、PGMEAと略記する。75質量部を均一に混合して、ポジ型フォトレジスト組成物1を得た。実施例2実施例1で用いたクレゾールノボラック樹脂A1に代えて、合成例2で得られたノボラック型フェノール樹脂A2を用いた以外は実施例1と同様に行い、ポジ型フォトレジスト組成物2を得た。比較例1合成例1で得られたノボラック型フェノール樹脂A116質量部、感光剤東洋合成工業株式会社製P-2005質量部及びPGMEA75質量部を均一に混合して、ポジ型フォトレジスト組成物3を得た。比較例2比較例1で用いたクレゾールノボラック樹脂A1に代えて、合成例2で得られたノボラック型フェノール樹脂A2を用いた以外は比較例1と同様に行い、ポジ型フォトレジスト組成物4を得た。比較例3比較例1で用いたクレゾールノボラック樹脂A1に代えて、合成例3で得られたノボラック型フェノール樹脂A3を用いた以外は比較例1と同様に行い、ポジ型フォトレジスト組成物5を得た。[アルカリ溶解速度の測定及び感度の評価]上記の実施例1、2及び比較例1~3で調製したポジ型フォトレジスト組成物の感光剤を配合していない組成物を別途調製し、感度の測定用の組成物とした。感度の測定用に調製した組成物を直径5インチのシリコンウェハー上にスピンコーターを用いて塗布後、110°Cで60秒乾燥し、1μmの厚さの薄膜を得た。アルカリ溶液2.38質量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に60秒浸漬させ、浸漬後の膜厚を、膜厚計フィルメトリクス社製F-20を用いて測定してアルカリ溶解速度ADRを測定して、得られた値から下記の基準にしたがって感度を評価した。A:アルカリ溶解速度が20nm/秒以上である。B:アルカリ溶解速度が10nm/秒以上20nm/秒未満である。C:アルカリ溶解速度が10nm/秒未満である。[熱重量測定及び耐熱性の評価]上記の実施例1、2及び比較例1、2で得られたポジ型フォトレジスト組成物を、130°Cで30分間加熱して硬化させた後、熱重量測定TGを行い、急激な重量変化が生じる変曲点と耐熱温度として、下記の基準にしたがって耐熱性を評価した。A:耐熱温度が170°C以上である。B:耐熱温度が150°C以上170°C未満である。C:耐熱温度が150°C未満である。実施例1、2及び比較例1~3で得られたポジ型フォトレジスト組成物1~5を用いた各評価の結果を表1に示す。表1に示した評価結果から、実施例1で得られた本発明のポジ型フォトレジスト組成物1は、23.7nm/秒と非常に早いアルカリ溶解速度を有しており、優れた感度を有することが分かった。また、耐熱温度も179°Cと非常に高く、耐熱性にも優れることが分かった。また、実施例2で得られた本発明のポジ型フォトレジスト組成物2も実施例1のポジ型フォトレジスト組成物1と同様に、20.2nm/秒と非常に早いアルカリ溶解速度を有しており、優れた感度を有することが分かった。また、耐熱温度も182°Cと非常に高く、耐熱性にも優れることが分かった。一方、比較例1のポジ型フォトレジスト組成物3は、m-クレゾール及びp-クレゾールを原料としたクレゾールノボラック樹脂をアルカリ可溶性樹脂として用い、本発明のポジ型フォトレジスト組成物で必須成分であるノボラック型フェノール樹脂Bを配合しなかった例であるが、このポジ型フォトレジスト組成物3は、9.6nm/秒とアルカリ溶解速度が遅く、感度が不十分であることが分かった。また、耐熱温度も144°Cと低く、耐熱性も不十分であることが分かった。比較例2のポジ型フォトレジスト組成物4は、m-クレゾール及びp-クレゾールを原料としたクレゾールノボラック樹脂をアルカリ可溶性樹脂として用い、本発明のポジ型フォトレジスト組成物で必須成分であるノボラック型フェノール樹脂Bを配合しなかった例であるが、このポジ型フォトレジスト組成物4は、6.5nm/秒とアルカリ溶解速度が遅く、感度が不十分であることが分かった。また、耐熱温度も148°Cと低く、耐熱性も不十分であることが分かった。比較例3のポジ型フォトレジスト組成物5は、m-クレゾール、p-クレゾール及びレゾルシノールを原料としたクレゾールノボラック樹脂をアルカリ可溶性樹脂として用い、本発明のポジ型フォトレジスト組成物で必須成分であるノボラック型フェノール樹脂Bを配合しなかった例であるが、このポジ型フォトレジスト組成物5は、14.4nm/秒とアルカリ溶解速度が遅く、感度が不十分であることが分かった。また、耐熱温度も151°Cと低く、耐熱性も不十分であることが分かった。"