"光源からの光を前記光の入射角に応じた波長範囲で選択的に透過させる複数の誘電体薄膜干渉フィルタと、前記複数の誘電体薄膜干渉フィルタを支持する支持部と、を備え、前記複数の誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれは、第1の軸線の周りを回転移動可能であると共に、前記第1の軸線の周りを回転移動する第2の軸線を中心にして回転可能なように、前記支持部によって支持される、ことを特徴とする分光装置。前記支持部は、太陽歯車、遊星歯車、及び内歯車を含む遊星歯車機構であり、前記誘電体薄膜干渉フィルタは、前記第2の軸線を中心にして回転可能な前記遊星歯車に対して固定されている、ことを特徴とする請求項1記載の分光装置。前記複数の誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれは、前記第2の軸線上に配置されている、ことを特徴とする請求項1又は2記載の分光装置。前記複数の誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれは、前記第2の軸線から当該誘電体薄膜干渉フィルタの表面或いは裏面に対して垂直な方向にずれた位置に配置されている、ことを特徴とする請求項1又は2記載の分光装置。前記複数の誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれは、前記第2の軸線から当該誘電体薄膜干渉フィルタの表面或いは裏面に対して平行な方向にずれた位置に配置されている、ことを特徴とする請求項1又は2記載の分光装置。前記光源からの前記光を互いに直交する第1及び第2の直線偏光成分に分離する偏光分離素子と、前記偏光分離素子によって分離された前記第1及び第2の直線偏光成分のうちのいずれかの直線偏光成分を、前記偏光分離素子に戻すように反射させるミラー部材と、前記偏光分離素子と前記ミラー部材との間に設けられたフィルタ部と、前記偏光分離素子と前記ミラー部材との間に設けられた1/4波長板とを備え、前記フィルタ部は、前記支持部によって支持された前記誘電体薄膜干渉フィルタを有する、ことを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の分光装置。しかしながら、上述した特許文献2記載の複数フィルタを備える波長可変フィルタでは、回転テーブルの回転時における複数のフィルタ間の干渉によって、透過波長の可変範囲が広く取れない傾向にあった。これは、あるフィルタへの入射角を大きく取ろうとすると入射光が他のフィルタと干渉しやすいために、それぞれのフィルタに対する入射角の範囲が制限されてしまうことに起因している。そこで、本発明は、かかる課題に鑑みて為されたものであり、装置を大型化すること無く選択波長の可変範囲を容易に広げることができる分光装置を提供することを目的とする。本発明に係る分光装置は、光源からの光を光の入射角に応じた波長範囲で選択的に透過させる複数の誘電体薄膜干渉フィルタと、複数の誘電体薄膜干渉フィルタを支持する支持部と、を備え、複数の誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれは、第1の軸線の周りを回転移動可能であると共に、第1の軸線の周りを回転移動する第2の軸線を中心にして回転可能なように、支持部によって支持される、ことを特徴とする。このような分光装置によれば、光源から誘電体薄膜干渉フィルタに入射した光は、その入射角に応じた波長範囲で選択的に誘電体薄膜干渉フィルタを透過して出力される。このとき、支持部に支持された誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれが第1の軸線の周りを回転移動することによって、光が透過する複数の誘電体薄膜干渉フィルタを交互に切り替えることができると共に、誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれに対する光の入射角も変化させることができる。さらに、誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれが、第1の軸線の周りを回転移動する第2の軸線を中心にして回転することによって、回転移動による入射角の変化のみならず、誘電体薄膜干渉フィルタ自体の回転による入射角の変化をも生じさせることができる。その結果、透過波長を連続的に変更することが可能になる。特に、誘電体薄膜干渉フィルタの回転移動とそれ自体の回転との協働により、複数の誘電体薄膜干渉フィルタ間の干渉が広い回転移動範囲で低減されると共に、広い角度範囲で入射角を変化させることができる。従って、支持部を大型化すること無く選択波長の可変範囲を容易に広くすることができる。ここで、支持部は、太陽歯車、遊星歯車、及び内歯車を含む遊星歯車機構であり、誘電体薄膜干渉フィルタは、第2の軸線を中心にして回転可能な遊星歯車に対して固定されていると好適である。この場合、遊星歯車は、太陽歯車の周囲を回転移動すると同時に、第2の軸線を中心にしてそれ自体が回転する。そして、誘電体薄膜干渉フィルタがこの遊星歯車に固定されることで、上記の作用効果がより容易かつ確実に発揮される。また、複数の誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれは、第2の軸線上に配置されてもよい。この場合、複数の誘電体薄膜干渉フィルのそれぞれがその回転中心である第2の軸線上に配置されるため、光の入射角を容易に制御することができる。また、複数の誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれは、第2の軸線から当該誘電体薄膜干渉フィルタの表面或いは裏面に対して垂直な方向にずれた位置に配置されてもよい。この場合、複数の誘電体薄膜干渉フィルタ間の干渉をより広い回転移動範囲で低減できる。その結果として、誘電体薄膜干渉フィルタの大きさや入射角の可変範囲の広さを保ったまま、支持部を小型化することができる。また、複数の誘電体薄膜干渉フィルタのそれぞれは、第2の軸線から当該誘電体薄膜干渉フィルタの表面或いは裏面に対して平行な方向にずれた位置に配置されてもよい。この場合、複数の誘電体薄膜干渉フィルタ間の干渉をより広い回転移動範囲で低減できる。その結果として、誘電体薄膜干渉フィルタの大きさや入射角の可変範囲の広さを保ったまま、支持部を小型化することができる。また、光源からの光を互いに直交する第1及び第2の直線偏光成分に分離する偏光分離素子と、偏光分離素子によって分離された第1及び第2の直線偏光成分のうちのいずれかの直線偏光成分を、偏光分離素子に戻すように反射させるミラー部材と、偏光分離素子とミラー部材との間に設けられたフィルタ部と、偏光分離素子とミラー部材との間に設けられた1/4波長板とを備え、フィルタ部は、支持部によって支持された誘電体薄膜干渉フィルタを有してもよい。上記構成によれば、光源からの光のうち偏光分離素子によって分離された直線偏光成分が、ミラー部材によって偏光分離素子に向けて戻されることにより、偏光分離素子とミラー部材との間に配置されたフィルタ部及び1/4波長板を往復して透過された後に、偏光分離素子を介して光源からの光と分離して取り出される。これにより、フィルタ部を構成する誘電体薄膜干渉フィルタに対する入射角に関わらず出力光の光軸ずれが低減される。よって、出力光の光軸ずれを低減しつつ、選択波長の可変範囲を容易に広くすることができる。本発明によれば、装置を大型化すること無く選択波長の可変範囲を容易に広げることができる。以下、図面を参照しつつ本発明に係る分光装置の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明においては同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。また、各図面は説明用のために作成されたものであり、説明の対象部位を特に強調するように描かれている。そのため、図面における各部材の寸法比率は、必ずしも実際のものとは一致しない。[第1実施形態]図1は、本発明の第1実施形態に係る光源装置の概略構成を示す平面図である。同図に示す光源装置1は、半導体検査装置等の各種検査装置において、特定の発光波長域例えば、近赤外波長域を有する光源として用いられる装置である。この光源装置1は、光源からの光のうちの特定の波長域を選択する分光装置の一態様であり、放熱機構としてのヒートシンク2上に取り付けられた光源3と、その光源3から照射された光が入射されて、その光を変換して光ファイバ4を経由して外部出力する光変換光学系5と、光源3及び光変換光学系5を制御する制御系30とから構成されている。ここで、図1においては、紙面上において光源3の光軸に沿った方向にX軸をとり、紙面上においてX軸に垂直な方向に沿ってY軸、X軸及びY軸に垂直な方向に沿ってZ軸をとるものとする。光源3は、発光波長域として可視光成分から赤外成分までの所定波長域を広く含むハロゲンランプ、白色LED等の光源装置であり、X軸方向に位置する光変換光学系5に向けて非偏光状態の拡散光を出射する。まず、光変換光学系5の構成について説明する。この光変換光学系5には、光源3の近傍からX軸方向に沿って順に、コリメートレンズ6、波長選択素子7、及びフィルタ回転機構8が設けられている。光源3からの拡散光はコリメートレンズ6によって平行光L1に変換され、波長選択素子7に入射する。波長選択素子7は、光源3の発光波長域を波長域として有する平行光L1のうち、所定の波長範囲例えば、350nm~750nmの光を選択するための素子であり、例えば、上記所定の波長範囲の光を透過し、その波長範囲以外の光を反射させるダイクロイックミラーである。この波長選択素子7はその反射面をX軸に対して傾斜させて配置されている。コリメートレンズ6から平行光L1が入射すると、波長選択素子7は、所定の波長範囲を有する光L2をフィルタ回転機構8に向けてX軸方向に透過させ、それ以外の波長成分の光を不必要な光として-Y軸方向に反射させてビームダンパー9で消失させる。なお、波長選択素子7が選択する波長範囲は、光源装置1から最終的に出力される光の波長可変範囲例えば、400nm~700nmを少なくとも含むように設定されている。ここで、図2を参照して、フィルタ回転機構8の構造について詳細に述べる。図2aに示すように、フィルタ回転機構8は、Z軸に平行な軸線第1の軸線Aを有する遊星歯車機構支持部10と、遊星歯車機構10によって支持されて、XY平面に垂直に立設された4枚のバンドパスフィルタ11a~11dとによって構成されている。なお、図2aでは、遊星歯車機構10のベース部80図1参照の図示は、省略されている。バンドパスフィルタ11a~11dは、表面12と裏面13との間に公知の誘電体薄膜の積層構造を含む平板状の形状を有する、いわゆる誘電体薄膜干渉フィルタである。このような構造により、バンドパスフィルタ11a~11dは、光L2の入射面となる表面12又は裏面13に対する光の入射角に応じた波長範囲で光を選択的に透過することができる。そして、4枚のバンドパスフィルタ11a~11d間で入射角に対する透過波長域の特性が異なるように、それぞれの誘電体薄膜の材料や膜厚が設定されている。例えば、バンドパスフィルタ11aは、入射面に対する光の入射角が0度の場合は、中心波長が約700nmで半値幅が数nmの透過波長域の特性を有し、入射角を大きくするに従って透過波長域が短波長側にシフトし、入射角が50度の場合は中心波長が約600nmの透過波長域の特性を有する。また、バンドパスフィルタ11b~11dは、それぞれ、入射角が0度の場合に中心波長が約610nm、約530nm、約460nm、入射角が50度の場合に中心波長が約520nm、約450nm、約390nmとなり、バンドパスフィルタ11aとは異なる透過波長域特性を有する。つまり、入射角が0度のピーク波長を基準にして入射角の絶対値が大きくなるに従ってピーク波長が短くなり、入射角が45度でその変化率は最大となり、それよりも大きくなると変化率は減少する。遊星歯車機構10は、軸線Aに沿う駆動軸図示せずに連結された1個の太陽歯車16と、太陽歯車16の外周側に噛み合う4個の遊星歯車17a~17dと、太陽歯車16との間で遊星歯車17a~17dを挟むようにして固定され、遊星歯車17a~17dに噛み合う1個の内歯車18とを有している。内歯車18は、XY平面に沿ってベース部80図1参照に固定され、太陽歯車16は、XY平面に沿って回転可能となるようベース部80によって支持されている。太陽歯車16の軸線Aは、光L2の光軸から所定長さ例えば、太陽歯車16の半径に遊星歯車17aの半径を加えた長さ離間している。遊星歯車17a~17dは、軸線Aに平行な軸線第2の軸線Ba~Bdを各々有しており、軸線Aの周方向において等間隔に配置されている。各遊星歯車17a~17dは、太陽歯車16の回転に伴って、軸線Aの周りでXY平面に沿う軌道上を回転移動可能であると同時に、各々の軸線Ba~Bdを中心にして回転可能になっている。太陽歯車16の歯数、各遊星歯車17a~17dの歯数、内歯車18の歯数において、以下の関係が成り立っている。内歯車18の歯数=太陽歯車16の歯数各遊星歯車17a~17d歯数×2前述した各バンドパスフィルタ11a~11dは、各遊星歯車17a~17dに対して固定されている。より詳しくは、各バンドパスフィルタ11a~11dは、各々の中心点が各軸線Ba~Bd上に位置するように配置されている図2bの軸線Baおよび中心点15a参照。各バンドパスフィルタ11a~11dの表面12および裏面13は、回転移動の軌道に平行な面、すなわちXY平面に対してほぼ垂直になるように配置されている。さらに、軸線Baと軸線Aとを含む平面が光L2の光軸に対して垂直になるとき図2aに示す状態のとき、バンドパスフィルタ11aの表面12および裏面13は、光L2の光軸に対して垂直になっている。また、軸線Aを中心にしてバンドパスフィルタ11aに対向するバンドパスフィルタ11cの表面12および裏面13も、光L2の光軸に対して垂直になっている。一方、軸線Aの周方向においてバンドパスフィルタ11a,11cとは90度ずれた位置に配置されるバンドパスフィルタ11b,11dの表面12および裏面13は、光L2の光軸に対して平行になっている。ここで、各バンドパスフィルタ11a~11dには、各軸線Ba~Bdと軸線Aとを含む平面に対する表面12および裏面13の傾斜角を微調整するためのシャフト部材やネジ部材等の回転軸部材が取り付けられてもよい。上記構造のフィルタ回転機構8では、駆動軸の回転により太陽歯車16が回転すると、各遊星歯車17a~17dと共に各バンドパスフィルタ11a~11dが軸線Aの周りを回転移動する。さらに、各バンドパスフィルタ11a~11dは、その回転移動と同時に、各軸線Ba~Bdを中心にして回転する。言い換えれば、各バンドパスフィルタ11a~11dは、軸線Aの周りを公転すると同時に各軸線Ba~Bdを中心にして自転する。そして、バンドパスフィルタ11a~11dのいずれかを光L2の光路上に位置するように回転させて選択的に光L2を入射させることが可能になると共に、バンドパスフィルタ11a~11dに対する光L2の入射角を所定の角度範囲で変更可能になる。この場合の各バンドパスフィルタの入射角の可変範囲は、光L2のビーム径幅、バンドパスフィルタの枚数、及びバンドパスフィルタの形状や配置、各歯車の歯数等によって決まる。図1に戻って、光変換光学系5には、フィルタ回転機構8によって透過された光L3の光軸に沿って、X軸方向に順に、ビームサンプラー21、シャッタ22、及び集光レンズ23が配設されている。光L3は、その一部がビームサンプラー21によって反射されて、パワーモニタ24に導かれてその光強度がモニタされる。その一方で、光L3は、ビームサンプラー21、シャッタ22、集光レンズ23を介して光ファイバ4に導光されることにより、外部に出射される。次に、制御系30の構成について説明すると、制御系30は、光源3を給電する光源用電源31と、フィルタ回転機構8の遊星歯車機構10を駆動する駆動回路32と、光源用電源31、駆動回路32、及びパワーモニタ24に接続された制御回路33とから構成されている。この制御回路33にはコンピュータ端末34が接続され、コンピュータ端末34に対してパワーモニタ24によってモニタされた光強度値が出力可能にされるとともに、コンピュータ端末34からの制御信号に応じて光源用電源31の出力を調整することにより、光源3の光量調整も可能にされる。また、制御回路33は、コンピュータ端末34からの制御信号に応じて、遊星歯車機構10の太陽歯車16の回転角を制御する機能も有する。このとき、制御回路33は、バンドパスフィルタ11a~11dに対する光L2の入射角が所定の角度になるように太陽歯車16の回転角を変更制御する。この回転角は、光源装置1から最終的に出力される発光波長域の中心波長に対応して定められる。図2aを参照して、バンドパスフィルタ11a~11dの入射角の可変範囲について例示する。図2aに示す例では、フィルタ回転機構8の諸元は以下のとおりである。光L2のビーム径:10mmバンドパスフィルタ数:4枚バンドパスフィルタ幅:25mmバンドパスフィルタ厚:2mm太陽歯車16の歯数:80各遊星歯車17a~17dの歯数:20内歯車18の歯数:120各歯車のモジュール:0.5図2aでは、バンドパスフィルタ11aへの光L2の入射角が0度の場合を実線で示している。また、太陽歯車16を反時計回りに回転させて、各バンドパスフィルタ11a~11dを反時計回りに公転させると同時に時計回りに自転させることにより、バンドパスフィルタ11aへの光L2の入射角を変化させた場合を仮想線で示している。このように、各バンドパスフィルタ11a~11d間の干渉を所定の回転移動公転範囲で回避しつつ、各々の自転によって広い角度範囲で光L2の入射角を変化させることができる。上記の場合、各バンドパスフィルタ11a~11dにおける光L2の入射角の可変範囲は、0~60度となる。このようにして、バンドパスフィルタ11a~11dを切り替えながらそれらに関する入射角も制御することで、光源装置1の発光波長の可変域として0~60度の広い範囲が実現される。また、遊星歯車機構10では、直径が75mmと小型化が図られている。以上説明した光源装置1によれば、光源3から各バンドパスフィルタ11a~11dに入射した光L2は、その入射角に応じた波長範囲で選択的に各バンドパスフィルタ11a~11dを透過して出力される。このとき、遊星歯車機構10に支持された各バンドパスフィルタ11a~11dが軸線Aの周りを回転移動することによって、光L2が透過するバンドパスフィルタ11a~11dが交互に切り替えられると共に、各バンドパスフィルタ11a~11dに対する光L2の入射角が変化させられる。さらに、各バンドパスフィルタ11a~11dが、各軸線Ba~Bdを中心にして回転することによって、回転移動による入射角の変化のみならず、バンドパスフィルタ11a~11d自体の回転による入射角の変化が生じる。その結果、透過波長が連続的に変更される。特に、バンドパスフィルタ11a~11dの回転移動とそれ自体の回転との協働により、各バンドパスフィルタ11a~11d間の干渉が広い回転移動範囲で低減されると共に、広い角度範囲で入射角が変化させられる。従って、遊星歯車機構10を大型化すること無く選択波長の可変範囲を容易に広くすることができる。また、バンドパスフィルタ11a~11dを支持する支持部が遊星歯車機構10であり、各バンドパスフィルタ11a~11dは、各軸線Ba~Bdを中心にして回転可能な各遊星歯車17a~17dに対して固定されているため、上記の作用効果がより容易かつ確実に発揮される。特に、単一の駆動源で上記の作用効果が得られるため、装置構成を簡易にすることができ、装置の小型化にも適している。また、各バンドパスフィルタ11a~11dがその回転中心である各軸線Ba~Bd上に配置されるため、光L2の入射角を容易に制御することができる。[第2実施形態]図3aは、第2実施形態に係る光源装置に適用されるフィルタ回転機構の平面図、図4は、フィルタ回転機構の斜視図である。第2実施形態に係る光源装置は、フィルタ回転機構の構成のみが第1実施形態の光源装置1と異なっている。第2実施形態のフィルタ回転機構8Aが第1実施形態のフィルタ回転機構8と異なる点は、軸線Aの周方向において等間隔に配置された5個の遊星歯車17a~17eを有する遊星歯車機構10Aを備えた点と、これらの各遊星歯車17a~17eに対して固定された5枚のバンドパスフィルタ11a~11eを備えた点である。このフィルタ回転機構8Aでは、軸線Baと軸線Aとを含む平面が光L2の光軸に対して垂直になるとき図3a及び図4に示す状態、バンドパスフィルタ11aの表面12および裏面13は、光L2の光軸に対して垂直になっており、他のバンドパスフィルタ11b~11eの表面12および裏面13も、光L2の光軸に対して垂直になっている。図3aに示す例では、フィルタ回転機構8Aの諸元は以下のとおりである。光L2のビーム径:10mmバンドパスフィルタ数:5枚バンドパスフィルタ幅:25mmバンドパスフィルタ厚:2mm太陽歯車16の歯数:80各遊星歯車17a~17eの歯数:20内歯車18の歯数:120各歯車のモジュール:0.8この場合、各バンドパスフィルタ11a~11eにおける光L2の入射角の可変範囲は、0~60度となる。なお、フィルタ回転機構8Aのように均等配置された奇数枚のバンドパスフィルタを有する場合、太陽歯車16の軸線Aを中心にして互いに対向するバンドパスフィルタは存在しないため、光L2の光軸が軸線Aと交わるようにして遊星歯車機構10Aを配置しても複数のバンドパスフィルタ間の干渉を回避できる。このように、フィルタ回転機構8Aの中心に光L2を入射させる構成を採用した場合、装置のコンパクト化を図ることができる。[第3実施形態]図5aは、第3実施形態に係る光源装置に適用されるフィルタ回転機構の平面図である。第3実施形態に係る光源装置は、フィルタ回転機構の構成のみが第2実施形態の光源装置と異なっている。第3実施形態のフィルタ回転機構8Bが第2実施形態のフィルタ回転機構8Aと異なる点は、各バンドパスフィルタ11a~11eの中心点15a~15eが、各軸線Ba~Beから各バンドパスフィルタ11a~11eの表面12および裏面13に対して垂直な方向図5aでは-X軸方向に所定距離dだけずれた位置に配置された点である図5b参照。この変更に伴い、遊星歯車機構10Aは遊星歯車機構10Bに変更されている。すなわち、フィルタ回転機構8Bの各バンドパスフィルタ11a~11eは、各遊星歯車17a~17eに対して表面12および裏面13に垂直な方向に偏心している。図5aに示す例では、フィルタ回転機構8Bの諸元は以下のとおりである。光L2のビーム径:10mmバンドパスフィルタ数:5枚バンドパスフィルタ幅:25mmバンドパスフィルタ厚:2mm太陽歯車16の歯数:80各遊星歯車17a~17eの歯数:20内歯車18の歯数:120各歯車のモジュール:0.5各中心点15a~15eの各軸線Ba~Beからのずれd:8mmこの場合、各バンドパスフィルタ11a~11eにおける光L2の入射角の可変範囲は、0~60度となる。特に、遊星歯車機構10Bでは、直径が81mmと遊星歯車機構10Aに比して小型化が図られている。本実施形態の光源装置によれば、各バンドパスフィルタ11a~11eは、各軸線Ba~Beから各バンドパスフィルタ11a~11eの表面12および裏面13に対して垂直な方向図5aでは-X軸方向にずれた位置に配置されるため、バンドパスフィルタ11a~11e間の干渉をより広い回転移動範囲で低減できる。その結果として、バンドパスフィルタ11a~11eの大きさや入射角の可変範囲の広さを保ったまま、遊星歯車機構10Bを小型化することができる。[第4実施形態]図6aは、第4実施形態に係る光源装置に適用されるフィルタ回転機構の平面図である。第4実施形態に係る光源装置は、フィルタ回転機構の構成のみが第2実施形態の光源装置と異なっている。第4実施形態のフィルタ回転機構8Cが第2実施形態のフィルタ回転機構8Aと異なる点は、各バンドパスフィルタ11a~11eの中心点15a~15eが、各軸線Ba~Beから各バンドパスフィルタ11a~11eの表面12および裏面13に対して平行な方向図6aではY軸方向に所定距離dだけずれた位置に配置された点である図6b参照。この変更に伴い、遊星歯車機構10Aは遊星歯車機構10Cに変更されている。すなわち、フィルタ回転機構8Cの各バンドパスフィルタ11a~11eは、各遊星歯車17a~17eに対して表面12および裏面13に平行な方向に偏心している。図6aに示す例では、フィルタ回転機構8Cの諸元は以下のとおりである。光L2のビーム径:10mmバンドパスフィルタ数:5枚バンドパスフィルタ幅:25mmバンドパスフィルタ厚:2mm太陽歯車16の歯数:80各遊星歯車17a~17eの歯数:20内歯車18の歯数:120各歯車のモジュール:0.5各中心点15a~15eの各軸線Ba~Beからのずれd:8mmこの場合、各バンドパスフィルタ11a~11eにおける光L2の入射角の可変範囲は、0~60度となる。特に、遊星歯車機構10Cでは、直径が87mmと遊星歯車機構10Aに比して小型化が図られている。本実施形態の光源装置によれば、各バンドパスフィルタ11a~11eは、各軸線Ba~Beから各バンドパスフィルタ11a~11eの表面12および裏面13に対して平行な方向図6aではY軸方向にずれた位置に配置されるため、バンドパスフィルタ11a~11e間の干渉をより広い回転移動範囲で低減できる。その結果として、バンドパスフィルタ11a~11eの大きさや入射角の可変範囲の広さを保ったまま、遊星歯車機構10Cを小型化することができる。[第5実施形態]図7aは、第5実施形態に係る光源装置に適用されるフィルタ回転機構の平面図である。第5実施形態に係る光源装置は、フィルタ回転機構の構成のみが第1実施形態の光源装置1と異なっている。第5実施形態のフィルタ回転機構8Dが第1実施形態のフィルタ回転機構8と異なる点は、軸線Baと軸線Aとを含む平面が光L2の光軸に対して垂直になるとき図7aに示す状態、軸線Aの周方向においてバンドパスフィルタ11a,11cとは90度ずれた位置に配置されるバンドパスフィルタ11b,11dの表面12および裏面13も、光L2の光軸に対して垂直になっている点である。この変更に伴い、遊星歯車機構10は遊星歯車機構10Dに変更されている。図7aに示す例では、フィルタ回転機構8Dの諸元は以下のとおりである。光L2のビーム径:10mmバンドパスフィルタ数:4枚バンドパスフィルタ幅:25mmバンドパスフィルタ厚:2mm太陽歯車16の歯数:72各遊星歯車17a~17dの歯数:24内歯車18の歯数:120各歯車のモジュール:0.5この場合、各バンドパスフィルタ11a~11dにおける光L2の入射角の可変範囲は、0~60度となる。特に、遊星歯車機構10Dでは、直径が73mmと遊星歯車機構10と同様に小型化が図られている。さらには、フィルタ回転機構8Dでは、表面12が常に光L2の入射面となるため、各バンドパスフィルタ11a~11dの表裏の反転を考慮する必要がない。[第6実施形態]図8は、第6実施形態に係る光源装置の概略構成を示す平面図である。図8に示す第6実施形態に係る光源装置1Eは、フィルタ回転機構の構成は第1実施形態の光源装置1と同じであり、光変換光学系の構成が第1実施形態の光源装置1と異なっている。より具体的には、第6実施形態の光変換光学系5Eには、光源3の近傍からX軸方向に沿って順に、コリメートレンズ6、波長選択素子7、偏光分離素子48、フィルタ回転機構8、1/4波長板50、及び高反射ミラーミラー部材51が設けられている。この光源装置1Eでは、フィルタ回転機構8はフィルタ部に相当する。偏光分離素子48は、波長選択素子7を透過した光L2を受け、光L2を互いに直交する第1及び第2の直線偏光成分に分離するための光学素子であり、例えば、キューブ状の偏光ビームスプリッタPBSである。具体的には、この偏光分離素子48は、光L2からY軸に沿った偏光方向を有する第1の偏光成分L5を分離してX軸方向に透過させると同時に、光L2からZ軸に沿った偏光方向を有する第2の偏光成分L6を分離してY軸方向に反射させる。この偏光分離素子48を透過した第1の偏光成分L5は、フィルタ回転機構8に入射すると同時に、偏光分離素子48を反射した第2の偏光成分L6は、ビームダンパー53に入射することにより消失する。フィルタ回転機構8と高反射ミラー51との間に配置された1/4波長板50は、フィルタ回転機構8をX軸方向に透過してきた偏光成分L5を、水平偏光から円偏光に変換する。高反射ミラー51は、円偏光に変換された偏光成分L5を、-X軸方向に沿って1/4波長板50、フィルタ回転機構8、及び偏光分離素子48に戻すように反射させる。そして、1/4波長板50は、高反射ミラー51によって反射された偏光成分L5を、円偏光から垂直偏光に変換する。垂直偏光に変換された偏光成分L5は、-X軸方向に沿って、再びフィルタ回転機構8を透過した後に偏光分離素子48に入射し、偏光分離素子48によって-Y軸方向に反射されることによって光源3からの光L2と分離される。さらに、光変換光学系5Eには、偏光分離素子48に対して-Y軸方向に順に並ぶように、ビームサンプラー54、偏光解消板55、シャッタ56、及び集光レンズ57が設けられている。偏光分離素子48において-Y軸方向に反射された偏光成分L5は、その一部がビームサンプラー54によって反射されて、パワーモニタ58に導かれてその光強度がモニタされる。その一方で、偏光成分L5は、ビームサンプラー54、偏光解消板55、シャッタ56、集光レンズ57を介して光ファイバ4に導光されることにより、外部に出射される。この偏光解消板55は、直線偏光である偏光成分L5をランダムな偏光成分非偏光に変更するための素子である。このような光源装置1Eによれば、光源3からの光のうち偏光分離素子48によって分離された直線偏光成分L5が、高反射ミラー51によって偏光分離素子48に向けて戻されることにより、偏光分離素子48と高反射ミラー51との間に配置されたフィルタ回転機構8及び1/4波長板50を往復して透過された後に、偏光分離素子48を介して光源3からの光と分離して取り出される。これにより、フィルタ回転機構8を構成するバンドパスフィルタ11a~11dに対する入射角に関わらず出力光の光軸ずれが低減される。すなわち、偏光成分L5は、バンドパスフィルタ11aを表面12側から入射して透過した後、高反射ミラー51によって反射されて、バンドパスフィルタ11aを裏面13側から再度入射して透過する。その結果、偏光分離素子48に戻される際には偏光成分L5の光軸ずれはキャンセルされることになる。また、偏光成分L5がフィルタ回転機構8を往復して透過することにより、バンドパスフィルタでの二乗の光阻止効果が得られ、従来に斜入射時に発生していた光阻止性能の低下を低減することができる。以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限られるものではない。例えば、上記実施形態では、太陽歯車16に駆動軸が連結されると共に内歯車18が固定される場合について説明したが、これとは逆に、内歯車18に駆動軸が連結されると共に太陽歯車16が固定される構成としてもよい。また、上記実施形態では、バンドパスフィルタを支持する支持部として遊星歯車機構が用いられる場合について説明したが、誘電体薄膜干渉フィルタを自公転可能に支持する機構であればいかなる機構であってもよく、バンドパスフィルタの各々が別個の駆動源によって駆動されてもよい。また、本発明の分光装置の実施形態としては、上述した光源装置以外に、外部から入力された光のうちで所定の波長成分を分光するための分光装置であってもよいし、分光された光を検出する検出器を内蔵する光検出装置であってもよい。本発明の上述した各実施形態で用いる誘電体薄膜干渉フィルタは、バンドパスフィルタの他、ハイパスフィルタ、ローパスフィルタ、ノッチフィルタ等を適用しても良い。"