-再結晶焼なましされた一回圧延鋼基材SRブラックプレート、又は-第一及び第二の冷間圧延処理の間に再結晶焼なましにかけられた二回圧延基材DRブラックプレートを含んでなる包装用途向けの被覆基材であって、前記SR又はDRブラックプレート基材の片側又は両側が、少なくとも80重量パーセントwtのFeSnスズ50at及び鉄50atを含む鉄-スズ合金層で被覆されていて、前記鉄-スズ合金層が、電着スズ層を、前記スズ層を前記鉄-スズ合金層に転換するのに十分な、少なくとも513°Cの温度Taで、アニーリング時間taの間、拡散焼なましすることにより形成され、続いて、強靭な、安定した表面酸化物を得るために、冷却の前に前記被覆基材を還元性又は不活性ガス雰囲気中に維持しながら、非酸化性冷却媒体中で急速冷却される、包装用途向けの被覆基材。前記鉄-スズ拡散層が、少なくとも85wt、好ましくは少なくとも90wt、より好ましくは少なくとも95wt、のFeSnを含む、請求項1に記載の包装用途向けの被覆基材。前記基材が、割れ目のない超低炭素鋼、例えばチタン安定化又はチタン-ニオブ安定化した割れ目のない鋼である、請求項1または2に記載の包装用途向けの被覆基材。前記被覆基材が、さらに転換被覆を施して前記材料の孔食に対する感受性を下げ、有機コーティングに対する密着性を強化し、好ましくは転換被覆を施す前に、前記被覆基材を先ず前処理し、外側表面の表面張力を増加する、請求項1~3のいずれか一項に記載の包装用途向けの被覆基材。前記被覆基材が、熱硬化性すなわちラッカー又は熱可塑性の単層又は多層重合体コーティングからなる有機コーティングをさらに備えている、請求項1~4のいずれか一項に記載の包装用途向けの被覆基材。前記被覆基材が、第二スズ層を備え、前記第二スズ層が所望によりリフローされ、前記第二スズ層が所望により六価クロムを含まない不動態化処理を施される、請求項1~3のいずれか一項に記載の包装用途向けの被覆基材。焼なましして前記鉄-スズ合金層を形成する前の前記初期スズ被覆重量が、基材1m2あたり最大1000mg、好ましくは基材1m2あたり100~600mgである、請求項1~6のいずれか一項に記載の包装用途向けの被覆基材。前記熱可塑性重合体コーティングが、ポリエステル、例えばPET及び/又はPBT、及び/又はポリオレフィン、例えばPE若しくはPP、及び/又はそれらの共重合体、及び/又はそれらのブレンドを含んでなる一つ以上の層を含んでなる重合体コーティング系である、請求項5に記載の包装用途向けの被覆基材。SR-又はDR-ブラックプレート鋼基材上に鉄-スズ合金層を製造することにより、包装用途向けの被覆基材を製造する方法であって、用意する工程であって、-再結晶焼なましされた一回圧延鋼基材SRブラックプレート又は-第一及び第二の冷間圧延処理の間に再結晶焼なましにかけられた二回圧延基材DRブラックプレートを用意する工程と、第一電気めっき工程において、前記ブラックプレート鋼基材の片側又は両側に第一スズ層を、好ましくはスズ被覆重量が、基材表面1m2あたり最大1000mg、好ましくは1m2あたり100~600mgになるように施す工程と、前記スズ層を施した前記ブラックプレート基材を、還元性ガス雰囲気中、前記第一スズ層が鉄-スズ合金層に転換するのに十分な、少なくとも513°Cの焼なまし温度Taに、時間taの間拡散焼なましを行い、少なくとも80重量パーセントwtのFeSnスズ50at及び鉄50atを含む鉄-スズ合金層を得る工程と、冷却前に前記被覆基材を還元性又は不活性ガス雰囲気中に維持しながら、前記鉄-スズ合金層を有する前記基材を、不活性で非酸化性の冷却媒体中で急冷し、強靭な、安定した表面酸化物を得る工程とを含んでなる、包装用途向けの被覆基材を製造する方法。前記鉄-スズ拡散層中の鉄とスズの比が、少なくとも85wt、好ましくは少なくとも90wt、より好ましくは少なくとも95wt、のFeSnを含む、請求項9に記載の包装用途向けの被覆基材を製造する方法。前記急速冷却が、水急冷により達成され、急冷用の前記水は、室温とその沸点との間の温度を有し、好ましくは、急冷用に使用する前記水が80°Cと沸点との間の温度を有する、請求項9又は10に記載の包装用途向けの被覆基材を製造する方法。前記拡散焼なましが、前記第一スズめっき工程終了後直ちに行われる、及び/又は前記拡散焼なまし処理が、水素含有雰囲気、例えばHNX、中で、好ましくは300°C/sを超える加熱速度を、513~625°C、好ましくは550~625°Cに好ましくは利用する、及び/又は拡散焼なましの直後に、少なくとも100°C/sの冷却速度で急速冷却する、及び/又は前記冷却が、好ましくは還元性雰囲気、例えば窒素雰囲気、中で行われる、及び/又は前記冷却が、好ましくは、急冷の前に、不活性又は還元性ガス雰囲気、例えばHNXガス、を維持することにより、鉄-スズ合金層を酸素から遮蔽した状態に基材を維持しながら、最小量の溶解酸素含有量および85°Cの水温を有する熱水急冷を適用して行われる、請求項9~11のいずれか一項に記載の包装用途向けの被覆基材を製造する方法。Taにおける時間が最長4秒間であり、好ましくはTaにおける滞留時間が無い、請求項9~12のいずれか一項に記載の包装用途向けの被覆基材を製造する方法。前記基材の片側又は両側にある前記鉄-スズ合金層に、第二スズめっき工程で第二スズ層を施し、所望により続いてフローメルト工程及び/又は不動態化処理を行う、請求項9~13のいずれか一項に記載の包装用途向けの被覆基材を製造する方法。前記鉄-スズ合金層又は両側の鉄-スズ合金層に転換層を施す、及び/又は前記被覆基材に熱硬化性すなわちラッカー又は熱可塑性単層又は多層重合体コーティングからなる有機コーティングを施す、請求項9~13のいずれか一項に記載の包装用途向けの被覆基材を製造する方法。前記鉄-スズ合金層を形成するための前記焼なまし処理が、前記SR基材又はDR基材におけるエージング及び/又は前記DR基材の回復を促進するのに適している、請求項9~15のいずれか一項に記載の包装用途向けの被覆基材を製造する方法。請求項9~16のいずれか一項に記載の包装鋼基材上に鉄-スズ合金層を形成することにより、包装用途向けの被覆基材のストリップを製造する装置であって、前記ストリップの片側又は両側に第一スズ層を施すための一基以上のスズめっき槽と、所望により続いて過剰の電解質を除去するための一基以上のすすぎタンクと、続いて前記第一スズ層を鉄-スズ合金層に転換するのに十分な温度Ta及び焼なまし時間taの間第一スズ層を拡散焼なましするための加熱区域と、それに続く急速冷却区域であって、好ましくは前記加熱区域の加熱速度が少なくとも300°C/sであり、及び/又は前記加熱区域における雰囲気が水素含有雰囲気、例えばHNX、である、区域と、所望により、続いて前記ストリップの片側又は両側に第二のスズ層を施すための、一基以上のさらなるスズめっき槽であって、所望により前記鉄-スズ合金表面を活性化するための前処理区域に先行されるさらなるスズめっき槽と、所望により続いて過剰電解質を除去するための一基以上のすすぎタンクと、所望により、続いて前記第二スズ層にフラックス処理し、フローメルトするための融解区域と、続いて加熱後の冷却速度が好ましくは少なくとも100°C/sである急速冷却と、所望により、続いて例えば六価クロムを含まない不動態化層を施すための不動態化区域とを含んでなる、装置。包装鋼シート試料TH340等級を、市販のアルカリ性クリーナーFosterChemicalsから市販のChelaCleanKC-25中で十分に洗浄し、DI水ですすぎ、50g/l硫酸溶液中、室温で5s酸洗し、再度すすいだ。次いで、試料を、連続ストリップめっきラインでブリキの製造に通常使用されるMSA浴から600mg/m2のスズ被覆でめっきした。10A/dm2の電流密度を1s印加した。スズめっきの後、試料を、5H2gを含むHNXを使用し、還元性ガス雰囲気中で焼なましした。試料を、加熱速度100°C/sで室温から600°Cに加熱した。試料がそのピーク温度600°Cに到達した直後、1個の試料を、ヘリウムガスを非常に強く吹き付けることにより冷却し、別の試料を水急冷により冷却した。試料を冷水で急冷した時、試料中に多くのくぼみが形成され、冷却座屈と呼ばれる現象が起きる。しかし、急冷タンク中の水を80°C以上に加熱すると、冷却座屈は最早生じない。ヘリウムガスによる冷却の場合、冷却速度は100°C/sであった。熱水急冷による冷却は、はるかに急速に進行する。約1秒間で、試料は600°Cから、急冷タンク中の水の温度80°Cに冷却される。この拡散焼なましの際に形成される相を、X線回折600°CのTaにおける拡散焼なまし、及び焼なまし後の冷却速度の影響により形成される合金相を示す図1参照により分析した。どちらの場合も、所望のFeSn合金相の90強それぞれ96.6及び93.8を含む鉄-スズ合金層が形成される。他の例は、焼なまし温度550~625°Cにおける85.0~97.8のFeSnの値を示し、550より高く615°Cより低い焼なまし温度における焼なましは92.2~97.8を示した。被覆の形態は、走査電子顕微鏡で解析した。上記両試料のSE二次電子画像を図2及び3に示すが、これはヘリウムガス図2及び水図3で冷却した試料のSEMSE画像を示す。どちらの場合も、FeSn合金相に典型的な非常に緻密で、堅くしまった構造が形成されている。水で冷却した試料の上に、非常に小さな三角結晶が形成されている。図5は、調質圧延変形図5b及び大きな冷間圧延変形図5cの、FeSn層における亀裂形成に対する影響を示し、何故、DR製品の製造方法で、FeSn層が図4に示すように第二冷間圧延工程の後で形成されるのかを示す。2つの圧延工程間で形成されたFeSn層は、高すぎる変形及び亀裂にかけられるであろう。調質圧延変形は、亀裂をもたらしていない図5b参照。図6は、本発明により製造したコーティング系を図式的に示す。図6aは、再融解し、クロム酸塩で不動態化CrVI処理した公知のブリキであり、図6bは、公知のECCS基材TFSである。図6c~eは、本発明の態様である。図cは、基材上のFeSn合金を示す。スズ層は、完全にFeSn鉄-スズ合金層に転換され、転換及び/又は不動態化層図6c~6eではc又はpで示すが上に施されている。図6dは、第二スズ層と基材との間にFeSn合金を施し、外側スズ層は、転換層及び/又は不動態化層を施した鋼基材を示す。図6eは、第二スズ層が、再融解し、続いて不動態化したブリキを示す。転換及び/又は不動態化処理は、六価クロムを含まない方法である。