"光透過性基材上に、少なくとも屈折率が1.45以下の低屈折率層が設けられてなる反射防止積層体であって、前記低屈折率層が、1分子中に3個以上の電離放射線硬化性基を有する電離放射線硬化型樹脂組成物と、外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子とを含んでなり、前記シリカ微粒子が、50~300°Cの範囲で水熱処理することにより、シリカ微粒子中に含まれるアルカリ金属酸化物およびアンモニアの量を、それぞれ10ppmおよび2000ppm以下としたものであることを特徴とする、反射防止積層体。前記低屈折率層が、前記紫外線硬化型組成物および前記シリカ微粒子の何れに対しても相溶性を有するフッ素系および/またはケイ素系化合物を更に含んでなる、請求項1に記載の。前記シリカ微粒子の一部もしくは全部が、アクリロイル基および/またはメタクリロイル基を有するシランカップリング剤により、そのシリカ微粒子表面の少なくとも一部が処理されたものである、請求項1または2に記載の。前記アルカリ金属酸化物がNa2Oであり、前記シリカ微粒子中のNa2Oの含有量が0.5~7ppmの範囲である、請求項1~3のいずれか一項に記載の。前記シリカ微粒子中のアンモニアの含有量が600~1600ppmの範囲である、請求項1~4のいずれか一項に記載の。前記シリカ微粒子の平均粒子径が、5~100nmの範囲である、請求項1~5のいずれか1項に記載の反射防止積層体。前記シリカ微粒子が、前記電離放射線硬化型樹脂組成物100重量部に対して、70~250重量部含まれてなる、請求項1~6のいずれか1項に記載の反射防止積層体。前記シリカ微粒子が、表面に導入されたシランカップリング剤のアクリロイル基および/またはメタクリロイル基を介して、前記電離放射線硬化型樹脂組成物と直接および/または遊離シランカップリング剤のアクリロイル基および/またはメタクリロイル基を介して化学反応により共有結合を形成してなる、請求項3~7のいずれか1項に記載の反射防止積層体。前記フッ素系および/またはケイ素系化合物の少なくとも一部が、前記電離放射線硬化型樹脂組成物と、化学反応により共有結合を形成してなる、請求項2~8のいずれか一項に記載の反射防止積層体。前記フッ素系化合物が、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基、およびパーフルオロアルケニル基の少なくとも1つを有する化合物、ならびにそれらの化合物の混合物からなる群から選択されるものである、請求項2~9のいずれか一項に記載の反射防止積層体。前記フッ素系および/またはケイ素系化合物が、下記一般式、式中、Raは炭素数1~20のアルキル基を示し、Rbは非置換、もしくはアミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基、またはアクリロイル基で置換された炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、またはポリエーテル変性基を示し、各Ra、Rbは互いに同一でも異なっていても良い。また、mは0~200、nは0~200の整数である。で表される化合物からなる、請求項2~9のいずれか一項に記載の反射防止積層体。前記フッ素系および/またはケイ素系化合物が、下記一般式、RanSiX4-n式中、Raは、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基を含む炭素数3~1000の炭化水素基を示し、Xは炭素数1~3のアルコキシ基、オキシアルコキシ基、ハロゲン基を示し、nは1~3の整数を示すで表される化合物からなる、請求項2~9のいずれか一項に記載の反射防止積層体。前記フッ素系および/またはケイ素系化合物が、前記電離放射線硬化型樹脂組成物と前記シリカ微粒子との総重量に対して、0.01~10重量含まれてなる、請求項2~12のいずれか1項に記載の反射防止積層体。前記基材と前記低屈折率層との間に、ハードコート層が設けられてなる、請求項1~13のいずれか1項に記載の反射防止積層体。前記ハードコート層が、防眩性能を有してなる、請求項14に記載の反射防止積層体。前記低屈折率層の基材側と反対の側の面に、防汚層が設けられてなる、請求項1~15のいずれか1項に記載の反射防止積層体。前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に、屈折率が1.46~2.00の範囲で、かつ膜厚が0.05~0.15μmの範囲である屈折率層が、少なくとも一層以上設けられてなる、請求項14~16のいずれか1項に記載の反射防止積層体。前記ハードコート層、前記屈折率層、および前記低屈折率層からなる群から選択される少なくとも一層が、帯電防止性能を有する、請求項17に記載の反射防止積層体。前記基材と前記ハードコート層との間に、帯電防止層が設けられてなる、請求項14~18のいずれか1項に記載の反射防止積層体。前記低屈折率層が、その層内および/または表面に、ナノポーラス構造を有してなる、請求項1~19のいずれか1項に記載の反射防止積層体。前記低屈折率層の膜厚が、0.05~0.15μmの範囲である、請求項1~20のいずれか1項に記載の反射防止積層体。請求項1~21のいずれか一項に記載の反射防止積層体を、表示面に備えた画像表示装置。以下に本発明の実施例および比較例を示すが、本発明の範囲がこれらに限定されるものではない。1.シリカ微粒子Iの調製平均粒子径5nm、SiO2濃度20重量のシリカゾル100gと、純水1900gとの混合物を80°Cに加熱し反応母液を作製した。この反応母液のpHは10.5であった。この母液に、SiO2として1.17重量の珪酸ナトリウム水溶液9000gと、Al2O3として0.83重量のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、この混合溶液を80°Cに保持した。添加直後、混合溶液のpHは12.5に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、混合溶液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20重量のSiO2Al2O3核粒子分散液を調製した。得られた核粒子分散液500gに、純水1700gを加えて98°Cに加温し、温度を保持しながら、珪酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られた珪酸液SiO2濃度3.5重量3000gを添加した。このようにして、第1シリカ被覆層が形成された核粒子の分散液を得た。この分散液を限外濾過膜で洗浄し、シリカ被覆核粒子の固形分濃度13重量の分散液を得た。この分散液500gに純水1125gを加え、さらに分散液がpH1.0になるまで濃塩酸35.5を滴下して、脱アルミニウム処理を行った。次いで、この分散液にpH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lとを加え、限外濾過膜で濾過することにより、溶解したアルミニウム塩を分離した。このようにして、核粒子の構成成分の一部が除去されたSiO2Al2O3多孔質粒子の分散液を調製した。上記多孔質粒子分散液1500g、純水500g、エタノール1750g、および28アンミニア水626gの混合液を、35°Cに加熱した後、該混合液にエチルシリケートSiO228重量104gを添加し、シリカ被覆層が形成された多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆することにより、第一シリカ被覆層の上に第2シリカ被覆層が形成された多孔質微粒子分散液を得た。このシリカ微粒子分散液を、エバポレーターを用いて固形分濃度5重量まで濃縮し、濃度15重量のアンモニア水を加えてpH10とした。この分散液をオートクレーブ中で180°C、2時間加熱処理した後、常温に冷却し、陽イオン交換樹脂ダイヤイオンSK1B、三菱化学製400gを用いて3時間イオン交換を行い、次いで、陰イオン交換樹脂ダイヤイオンSA20A、三菱化学製200gを用いて3時間イオン交換を行った後、洗浄し固形分濃度20重量のシリカ系微粒子の水分散液を得た。この時、シリカ系微粒子の水分散液のNa2O含有量およびNH3含有量は、シリカ微粒子当たり各7ppmおよび1600ppmであった。続いて、限外濾過膜を用いて溶媒をイソプロピルアルコールに置換することにより、固形分濃度20重量のシリカ系微粒子Iの分散液を調製した。2.シリカ微粒子IIの調製平均粒子径5nm、SiO2濃度20重量のシリカゾル100gと、純水1900gとの混合物を80°Cに加熱し反応母液を作製した。この反応母液のpHは10.5であった。この母液に、SiO2として1.17重量の珪酸ナトリウム水溶液9000gと、Al2O3として0.83重量のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、この混合溶液を80°Cに保持した。添加直後、混合溶液のpHは12.5に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、混合溶液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20重量のSiO2Al2O3核粒子分散液を調製した。得られた核粒子分散液500gに、純水1700gを加えて98°Cに加温し、温度を保持しながら、珪酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られた珪酸液SiO2濃度3.5重量3000gを添加した。このようにして、第1シリカ被覆層が形成された核粒子の分散液を得た。この分散液を限外濾過膜で洗浄し、シリカ被覆核粒子の固形分濃度13重量の分散液を得た。この分散液500gに純水1125gを加え、さらに分散液がpH1.0になるまで濃塩酸35.5を滴下して、脱アルミニウム処理を行った。次いで、この分散液にpH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lとを加え、限外濾過膜で濾過することにより、溶解したアルミニウム塩を分離した。このようにして、核粒子の構成成分の一部が除去されたSiO2Al2O3多孔質粒子の分散液を調製した。上記多孔質粒子分散液1500g、純水500g、エタノール1750g、および28アンモニア水626gの混合液を、35°Cに加熱した後、混合液にエチルシリケートSiO228重量104gを添加し、シリカ被覆層が形成された多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆することにより、第一シリカ被覆層の上に第2シリカ被覆層が形成された多孔質微粒子分散液を得た。このシリカ微粒子分散液を、エバポレーターを用いて固形分濃度5重量まで濃縮し、濃度15重量のアンモニア水を加えてpH10とした。次に、この分散液をオートクレーブ中で180°C、2時間加熱処理した後、常温に冷却し、陽イオン交換樹脂ダイヤイオンSK1B、三菱化学製400gを用いて3時間イオン交換を行い、次いで、陰イオン交換樹脂ダイヤイオンSA20A、三菱化学製200gを用いて3時間イオン交換し、さらに陽イオン交換樹脂三菱化学製:ダイヤイオンSK1B200gを用い、80°Cで3時間イオン交換を行った後、洗浄し固形分濃度20重量のシリカ系微粒子の水分散液を得た。この時、シリカ系微粒子の水分散液のNa2O含有量およびNH3含有量は、シリカ微粒子当たり各6ppmおよび1200ppmであった。次いで、再び、得られたシリカ系微粒子分散液を、150°Cにて11時間水熱処理した後、純水5Lを加えながら限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20重量のシリカ系微粒子の水分散液を得た。この時、シリカ系微粒子の水分散液のNa2O含有量およびNH3含有量は、シリカ微粒子当たり各0.5ppmおよび600ppmであった。続いて限外濾過膜を用いて溶媒をイソプロピルアルコールに置換することにより、固形分濃度20重量のシリカ系微粒子IIの分散液を調製した。さらに、得られたシリカ微粒子IおよびIIの表面処理を、下記の方法により行った。1.表面処理A処理量:5重量上記で得られたシリカ微粒子IおよびIIの各分散液について、ロータリーエバポレーターを用いてイソプロピルアルコールからメチルイソブチルケトンに溶媒置換を行い、シリカ微粒子20重量の分散液を得た。このメチルイソブチルケトン分散液100重量に3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを5重量添加し、50°Cで1時間加熱処理することにより、表面処理された中空シリカ微粒子20重量のメチルイソブチルケトン分散液IAおよびIIAを得た。2.表面処理B処理量:10重量3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを10重量添加した以外は、上記表面処理Aと同様にして、表面処理された中空シリカ微粒子20重量のメチルイソブチルケトン分散液IBおよびIIBを得た。3.表面処理C処理量:0.9重量3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを0.9重量添加した以外は、上記表面処理Aと同様にして、表面処理された中空シリカ微粒子20重量のメチルイソブチルケトン分散液ICおよびIICを得た。実施例1低屈折率層形成用組成物の調製下記組成の成分を混合して低屈折率層形成用組成物を調製した。表面処理中空シリカゾル中空シリカ微粒子分散液IA12.85重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA1.43重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.1重量部F3035商品名、日本油脂株製0.4重量部メチルイソブチルケトン85.22重量部ハードコート層形成用組成物の調製下記の組成の成分を配合してハードコート層形成用組成物を調製した。ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA5.0質量部イルガキュア184商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.25質量部メチルイソブチルケトン94.75質量部基材/ハードコート層/低屈折率層フィルムの作製厚み80μmのトリアセテートセルロースTACフィルム上に,上記組成のハードコート層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後,紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン株,光源Hパルプを用いて、照射線量100mJ/cm2で紫外線照射を行い,ハードコート層を硬化させて、膜厚約5μmのハードコート層を有する、基材/ハードコート層フィルムを得た。得られた基材/ハードコート層フィルム上に,上記の低屈折率層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥させることより溶剤を除去した後、紫外線照射装置フュージョンUVシステムジャパン株、光源Hバルブを用いて,照射線量200mJ/cm2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、基材/ハードコート層/低屈折率層の積層体を得た。実施例2実施例1にて用いた低屈折率層形成用組成物を、下記のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、実施例2の積層体を得た。表面処理中空シリカゾル中空シリカ微粒子分散液IB12.85重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA1.43重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.1重量部F3035商品名、日本油脂株製0.4重量部メチルイソブチルケトン85.22重量部実施例3実施例1にて用いた低屈折率層形成用組成物を、下記のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、実施例3の積層体を得た。表面処理中空シリカゾル中空シリカ微粒子分散液IB12.85重量部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA1.43重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.1重量部F3035商品名、日本油脂株製0.4重量部メチルイソブチルケトン85.22重量部実施例4実施例1にて用いた低屈折率層形成用組成物を、下記のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、実施例4の積層体を得た。表面処理中空シリカゾル中空シリカ微粒子分散液IB12.85重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA1.43重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.1重量部TSF4460商品名、GE東芝シリコーン株製0.12重量部メチルイソブチルケトン85.5重量部実施例5実施例1にて用いた低屈折率層形成用組成物を、下記のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、実施例5の積層体を得た。表面処理中空シリカゾル中空シリカ微粒子分散液IIA12.85重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA1.43重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.1重量部F3035商品名、日本油脂株製0.4重量部メチルイソブチルケトン85.22重量部実施例6実施例1にて用いた低屈折率層形成用組成物を、下記のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、実施例6の積層体を得た。表面処理中空シリカゾル中空シリカ微粒子分散液IIB12.85重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA1.43重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.1重量部F3035商品名、日本油脂株製0.4重量部メチルイソブチルケトン85.22重量部実施例7帯電防止層形成用組成物の調製下記組成の成分を混合して帯電防止層形成用組成物を調製した。アンチモンドープ酸化スズ分散液固形分45、ペルトロンC-4456S-7:商品名、日本ペルノックス製25重量部HDDAKS-HDDA:商品名、日本化薬製10.5重量部イルガキュア184商品名、チバスペシャルティケミカルズ製0.84重量部酢酸ブチル76.5重量部シクロヘキサノン32.8重量部積層体基材/帯電防止層/ハードコート層/低屈折率層の作製上記組成の帯電防止層形成用組成物をTACフィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量約20mJ/cm2で紫外線照射を行い,帯電防止層を硬化させて、膜厚約1μmの帯電防止層を作成した。次に、得られた基材/帯電防止層フィルム上に、実施例2と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成し、実施例7の積層体を得た。帯電防止性能の評価1埃拭き取り試験得られた積層体5の上に、ティッシュペーパーの埃をふりかけベンコットで表面を軽く拭いたところ、埃は容易に拭き取れた。2帯電減衰測定上記で得られた積層体5、および帯電防止層を設けない基材/ハードコート層フィルムの帯電減衰を、オネストメーターシンド静電気株製を用いて測定した。測定条件を以下に示す。印加電圧:10kVプローブ位置:20cm測定時間:5分間結果を以下に示す。帯電防止層の効果が確認された。実施例8中屈折率帯電防止層形成用組成物の調製下記組成の成分を混合して帯電防止層形成用組成物を調製した。酸化インジウム分散液固形分35、EI-3:商品名、大日本塗料製14.3重量部イソプロピルアルコール85.7重量部積層体基材/ハードコート層/帯電防止層/低屈折率層の作製厚み100μmのPETフィルム上に、実施例1と同様にしてハードコート層を形成した。次に、上記組成の帯電防止層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量100mJ/cm2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて膜厚約80nm、屈折率1.65の帯電防止層を得た。得られた積層体基材/ハードコート層/帯電防止層上に、実施例2と同様にして低屈折率層を形成し、実施例8の積層体を得た。帯電防止性能の評価1埃拭き取り試験得られた積層体5の上に、ティッシュペーパーの埃をふりかけベンコットで表面を軽く拭いたところ、埃は容易に拭き取れた。2表面抵抗率測定得られた塗膜の表面抵抗率Ω/□の測定については高抵抗率計ハイレスタUP、三菱化学であった。実施例9防眩層形成用組成物の調製下記組成の成分を混合して防眩層形成用組成物を調製した。ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA25重量部スチレンビーズ6重量部トルエン50重量部イルガキュア184商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製2重量部積層体基材/防眩層/低屈折率層の作製上記組成の防眩層形成用組成物をTACフィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後,紫外線照射装置を用いて、照射線量100mJ/cm2で紫外線照射を行い防眩層を硬化させて、膜厚約4μmの防眩層を有する基材/防眩層フィルムを得た。次に、得られた基材/防眩層フィルム上に、実施例2と同様にして低屈折率層を形成し、実施例9の積層体を得た。実施例10中屈折率ハードコート層形成用組成物の調製下記組成の成分を混合して屈折率1.63の中屈折率ハードコート層形成用組成物を調製した。KZ7973商品名、JSR社製47重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA5重量部イルガキュア184商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製1重量部シクロヘキサノン12重量部積層体基材/中屈折率ハードコート層/低屈折率層の作製上記組成の中屈折率ハードコート層形成用組成物をTACフィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて、照射線量100mJ/cm2で塗膜を硬化させて、膜厚約5μmの中屈折率ハードコート層を有する基材/中屈折率ハードコート層フィルムを得た。次に、得られた基材/中屈折率ハードコート層フィルム上に、実施例2と同様にして低屈折率層を形成し、実施例10の積層体を得た。実施例11防汚層形成用組成物の調製下記組成の成分を混合して防汚層形成用組成物を調製した。KP-801M商品名、信越化学工業株製6.7重量部FC-40商品名、住友3M株製93.3重量部積層体基材/ハードコート層/低屈折率層/防汚層の作製実施例2と同様にして、基材上にハードコート層、低屈折率層を形成した。その後、上記組成の防汚層形成用組成物をバーコーティングし、70°Cで4分間熱硬化させることにより、実施例11の積層体を得た。実施例12高屈折率層形成用組成物の調製下記の成分を混合して屈折率1.90の高屈折率層形成用組成物を調製した。ルチル型酸化チタン商品名:MT-500HDM、テイカ社製10重量部Disperbyk1632重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA4重量部イルガキュア184商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.2重量部メチルイソブチルケトン37.3重量部中屈折率層形成用組成物の調製上記屈折率1.90のチタニア分散液10重量部に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリルペーストを2.5重量部加え、屈折率1.76の中屈折率層形成用組成物を調製した。積層体基材/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の作製実施例1と同様にして作製した基材/ハードコート層フィルム上に、上記組成の中屈折率層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量100mJ/cm2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて膜厚約80nmの中屈折率層を得た。さらに、上記組成の高屈折率層形成用組成物を同条件にて塗工し、膜厚約60nmの高屈折率層を得た。得られた積層体基材/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層上に、実施例2と同様にして低屈折率層を形成し、実施例12の積層体を得た。実施例13高屈折率層形成用組成物の調製下記の成分を混合して屈折率1.70の高屈折率層形成用組成物を調製した。ルチル型酸化チタン商品名:MT-500HDM、テイカ社製10重量部Disperbyk1632重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA7.5重量部イルガキュア184商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.2重量部メチルイソブチルケトン37.3重量部積層体基材/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層の作製実施例1と同様にして作製した基材/ハードコート層フィルム上に、上記組成の高屈折率層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量100mJ/cm2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて膜厚約80nmの高屈折率層を得た。得られた積層体基材/ハードコート層/高屈折率層上に、実施例2と同様にして低屈折率層を形成し、実施例13の積層体を得た。比較例1実施例1において低屈折率層形成用組成物を以下のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、比較例1の積層体を得た。表面未処理中空シリカゾルシリカ系微粒子Iの分散液12.85重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA1.43重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.1重量部F3035商品名、日本油脂株製0.4重量部メチルイソブチルケトン85.22重量部比較例2実施例1において低屈折率層形成用組成物を、以下のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、比較例2の積層体を得た。表面処理中空シリカゾル中空シリカ微粒子分散液IC12.85重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA1.43重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.1重量部F3035商品名、日本油脂株製0.4重量部メチルイソブチルケトン85.22重量部比較例3実施例1において低屈折率層形成用組成物を、以下のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、比較例3の積層体を得た。表面処理中空シリカゾル中空シリカ微粒子分散液IB12.85重量部ポリエチレングリコールジアクリレートPEGDA1.43重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ製0.1重量部F3035商品名、日本油脂株製0.4重量部メチルイソブチルケトン85.22重量部比較例4実施例1において低屈折率層形成用組成物を、以下のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、比較例4の積層体を得た。表面処理中空シリカゾル中空シリカ微粒子分散液IB12.85重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA1.43重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.1重量部メチルイソブチルケトン85.62重量部比較例5実施例1において低屈折率層形成用組成物を、以下のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、比較例5の積層体を得た。表面未処理中空シリカゾルシリカ系微粒子Iの分散液7.5重量部ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA2.5重量部イルガキュア907商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製0.15重量部F3035商品名、日本油脂株製0.4重量部メチルイソブチルケトン88.45重量部このようにして得られた各積層体について、反射率、耐擦過性、および防汚性の試験評価を行った。1反射率測定島津製作所株製分光光度計UV-3100PCを用いて絶対反射率を測定した。なお、低屈折率層の膜厚は、反射率の極小値が波長550nm付近になるように設定した。得られた反射率曲線から、シミュレーションを用いて低屈折率層の屈折率を求めた。2擦過性評価試験0000のスチールウールを用い、荷重200gで20往復した時の傷の有無を目視により確認した。評価基準は以下の通りとした。◎:全く傷が認められないもの○:細かい傷5本以下が認められるもの△:傷は著しくつくが、剥離は認められないもの×:剥離するもの3防汚性評価試験サンプル表面に油性インクのマジックで描き、それをベンコットンで拭き取った時の状態を観察した。評価基準は以下の通りとした。◎:インクが撥いており、容易にインクを拭き取れたもの○:インクが撥いており、しっかり擦ればインクを拭き取れたもの△:インクの一部が拭き取れずに残ったもの×:インクを拭取れなかったもの評価結果を以下に示す。"