"原料空気に含まれるキセノンおよびクリプトンのうち少なくとも1つを分離精製する分離精製方法であって、原料空気を窒素と液体酸素に分離し、前記原料空気に含まれるキセノンおよびクリプトンのうち少なくとも1つを前記液体酸素中に濃縮する工程と、キセノンおよび/またはクリプトンが濃縮された前記液体酸素を気化して酸素を生成する工程と、気化した前記酸素中に含まれている炭化水素を、パラジウム触媒を用いて酸化し、水蒸気と二酸化炭素を生成する工程と、気化した前記酸素中に含まれているN2Oを、パラジウム触媒を用いて350°C以上の反応温度で分解する工程と、前記水蒸気および前記二酸化炭素を吸着により除去する工程と、炭化水素およびN2Oが除去され、キセノンおよび/またはクリプトンが濃縮された前記酸素から、キセノンおよび/またはクリプトンを分離する工程と、を有することを特徴とするキセノンおよびクリプトンのうち少なくとも1つを分離精製する分離精製方法。前記酸素中に含まれている炭化水素を酸化する工程と、前記酸素中に含まれているN2Oを分解する工程と、を同時に行うことを特徴とする請求項1に記載の分離精製方法。前記液体酸素を気化する工程が、前記液体酸素を臨界圧力以上に昇圧する工程と、その状態で酸素流体を昇温する工程と、を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の分離精製方法。しかしながら、特許文献1には、酸素に含まれる炭化水素を除去する技術が開示されているが、N2Oの除去に関する記載はなく、N2Oを十分に除去できないという不都合があった。また、特許文献2~9に開示されるように吸着剤を用いてN2Oを除去する場合、そもそもN2Oは吸着剤によって吸着され難く、また反応性も乏しいので、前処理吸着器で完全に除去することができないという不都合があった。そこで、吸着剤を用いる場合には、前処理吸着器で除去されなかったN2Oを、低温吸着器で吸着除去あるいは液体酸素の一部パージによって除去することも考えられるが、いずれもXeないしKrの損失が発生するという不都合があった。すなわち、低温吸着器を用いる場合は定期的に再生工程が必要となり、その都度、寒冷損失と液体酸素中に含まれるXeないしKrの損失が発生し、また、液体酸素の一部をパージしてもXeないしKrの損失は避けられない。したがって、吸着剤を用いてN2Oを除去する場合は、完全にN2Oを除去することができないか、または、XeないしKrの損失が生じるという不都合があった。また、特許文献10~16に開示されているN2Oの除去方法は、本発明が対象としているXeないしKrを分離精製するためのプロセスおけるN2Oの除去方法とは、技術分野が必ずしも一致しない。加えて、本発明は、N2Oをpptレベルまで除去することを目的としているが、特許文献10~16に開示されているN2Oの除去方法は、このレベルまでの除去を目的としておらず、参考とならない。例えば、特許文献10には、排ガス中の比較的低濃度のN2O除去に関する方法が記載されており、具体的には、数の酸素、水蒸気を含む窒素ガス中のN2O50~1000ppmを、熱分解する技術が公開されている。これには、ロジウム触媒を用い、分解反応温度を350~500°Cとし、空間速度SVを、10000~20000h-1の範囲にすると効果があると説明されている。しかし、N2Oの分解率が39程度の場合でも効果があるとする事例が記載されており、対象ガス中に含まれるN2Oをpptレベルまで除去することを想定した技術ではない。また、特許文献11には、NO、酸素、水蒸気、およびN2O1000ppmを含む窒素ガス中のN2O分解除去に関する実験結果5bar、500°C、SV=10000h-1が多く記載されている。しかし、N2Oの分解性能は最高でも98.9となっており、約11ppmのN2Oが分解されていない結果となっている。つまり、これは対象ガス中に含まれるN2Oをppmレベルまで除去することを想定した技術ではない。また、特許文献12には、酸素、水蒸気およびN2O950ppmを含むヘリウムガス中のN2Oを、複合金属酸化物の触媒を用いて分解除去する方法が記載されている。しかし、特許文献12においては、効果がN2Oの分解速度によって評価されており、最終的に分解されなかった残留N2Oについての記載はない。また、特許文献13には、酸素、二酸化炭素、水蒸気およびN2O400ppmを含む窒素ガス中のN2Oを、多孔質Al2O3を主体とした担体にZnOおよびRh等を担持させた触媒を用いて、300~500°Cで、分解除去する方法が記載されている。しかし、必要な担体は平均細孔径、細孔径分布の相対半価幅を特定する必要があり、触媒製造コストが高くなるという不都合がある。また、特許文献14には、周期表第8族の第5周期や第6周期の金属を、N2Oの分解触媒とすることが記載されている。しかし、その実施例として、脱硝後の排気ガスであって、酸素3、水蒸気4およびN2O1000ppm以下を含む窒素から白金触媒を用いてN2O分解した結果について、N2Oのほぼ全量が分解したと記載されている。すなわち、排ガスを大気に放出するに際しては特に問題とならないが、微量のN2Oは分解されなかった旨が示唆されている。また、特許文献15には、N2Oを分解する触媒であって、1~3価の陽イオンを含む触媒が記載されている。しかし、これには、酸素あるいは水蒸気が存在するとN2Oの分解が阻害される旨記載されており、酸素ガス中のN2Oを除去する本発明の参考とならない。また、特許文献16には、水素が存在する排ガス中のN2O分解反応であって、水素の酸化触媒とN2Oの分解触媒に関する技術が記載されており、排ガス中に共存する酸素濃度がN2O分解に与える影響について検討されている。しかし、排ガスに共存する酸素濃度が少ないほど、N2Oの除去率は高く、酸素濃度が1を超えた条件では、N2Oは除去できない旨記載されており、本発明の参考とならない。このように、排ガス、排気ガス中のN2Oの分解除去に関する技術が多く開示されているが、本発明が対象としているN2O濃度よりも高い濃度範囲を対象としている。特に、触媒塔出口の濃度については、その目的から、大気に放出しても問題ない程度であり、対象ガス中のN2O濃度がppbレベルあるいは分析計の検出限界までを対象とする技術の開示、示唆はなかった。特に、本発明が対象としている技術は、対象流体からN2Oを除去した後、その流体に含まれるXeやKrをさらに濃縮して分離するプロセスに用いられる技術である。そのため、N2Oの分解反応後にN2Oが存在すると、XeやKrの濃縮工程において、N2Oも同時に濃縮されることとなり、XeやKrの製品に混入される可能性が大きい。したがって、本発明においては、N2O分解反応後に残留するN2Oの存在が大きな問題となる。また、排ガス、排気ガス中のN2O分解除去に関する従来技術は、その大部分が窒素、ヘリウム等を対象ガスとしており、酸素ガス中のN2O分解については何ら開示されておらず、本発明の参考とはならい。このように、原料空気から少なくともXeおよびKrのうち少なくとも1つを分離精製する方法において、不純物であるN2Oを除去する有効適切な方法が提供されていなかったのが実情である。上記課題を解決するため、本発明は以下の手段を提供している。すなわち、請求項1に係る発明は、原料空気に含まれるキセノンおよびクリプトンのうち少なくとも1つを分離精製する分離精製方法であって、原料空気を窒素と液体酸素に分離し、前記原料空気に含まれるキセノンおよびクリプトンのうち少なくとも1つを前記液体酸素中に濃縮する工程と、キセノンおよび/またはクリプトンが濃縮された前記液体酸素を気化して酸素を生成する工程と、気化した前記酸素中に含まれている炭化水素を、パラジウム触媒を用いて酸化し、水蒸気と二酸化炭素を生成する工程と、気化した前記酸素中に含まれているN2Oを、パラジウム触媒を用いて350°C以上の反応温度で分解する工程と、前記水蒸気および前記二酸化炭素を吸着により除去する工程と、炭化水素およびN2Oが除去され、キセノンおよび/またはクリプトンが濃縮された前記酸素から、キセノンおよび/またはクリプトンを分離する工程と、を有することを特徴とするキセノンおよびクリプトンのうち少なくとも1つを分離精製する分離精製方法である。請求項2に係る発明は、前記酸素中に含まれている炭化水素を酸化する工程と、前記酸素中に含まれているN2Oを分解する工程と、を同時に行うことを特徴とする請求項1に記載の分離精製方法である。請求項3に係る発明は、前記液体酸素を気化する工程が、前記液体酸素を臨界圧力以上に昇圧する工程と、その状態で酸素流体を昇温する工程と、を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の分離精製方法である。本発明によれば、原料空気からキセノンおよびクリプトンのうち少なくとも1つを分離精製する方法において、吸着剤を用いることなく、パラジウム触媒を用いた分解によってN2Oを除去している。これにより、キセノンないしクリプトンの損失が発生することを防止しつつ、不純物であるN2Oを適切に除去することができる。以下、本発明を適用した分離精製方法について、図面を用いて詳細に説明する。まず、本実施形態の分離精製方法に用いられる空気分離精製装置について説明する。なお、図1は、本実施形態の分離精製方法における炭化水素およびN2Oの除去プロセスの一例を示す図であり、図2は、本実施形態の分離精製方法におけるXeおよびKrの分離精製プロセスの一例を示す図である。本実施形態の空気分離精製装置は、図1および図2に示すように、低圧塔上部塔1aおよび高圧塔下部塔1bとからなる複精留塔1と、貯液槽2と、ポンプ3と、加温器4と、減圧弁5と、熱交換器6と、加熱器7と、触媒塔8と、吸着塔9と、脱酸素塔10と、分離塔11とから概略構成されている。次に、本実施形態の空気分離精製装置を用いた分離精製方法について説明する。まず、図1に示すように、Xe、Krおよび前処理吸着器図示略で除去されなかった微量の炭化水素ならびにN2Oを含む原料空気を、低圧塔1aと高圧塔1bとからなる複精留塔1に導入し、窒素と液体酸素に分離する。なお、原料空気を低温蒸留によって窒素と液体酸素とに分離できるのであれば、複精留塔1の構成、窒素と液体酸素の分離プロセス等はどのようなものであっても構わない。複精留塔1においては、低圧塔1aの塔頂部からは、窒素ガスが導出され、低圧塔1aの下部に設けられた主凝縮蒸発器12の部分からは、XeおよびKrが濃縮された液体酸素が導出される。なお、複精留塔1においては、XeおよびKr以外に炭化水素およびN2Oも液体酸素中に濃縮される。次に、複精留塔1の低圧塔1aから導出された液体酸素酸素流体を貯液槽2に導入する。この際、複精留塔1から導出した液体酸素を濃縮塔図示略に導入し、液体酸素中にXeおよびKrを更に濃縮した後に、貯液槽2に導出してもよい。複精留塔1から導出する液体酸素の液量が少ない場合は、貯液槽2の貯液が後工程で使用しうる適当な量になるまで後工程を休止し、貯液が所望量以上になったときに、管21から貯液を導出する。したがって、複精留塔1から導出する液体酸素の液量が十分な量であれば、貯液槽2は設けなくても構わない。貯液が所望量以上になった後は、貯液槽2から液体酸素の一部を配管21を通して抜き出し、この抜き出された液体酸素を、ポンプ33a,3bによって臨界圧力以上に昇圧する。そして、この臨界圧以上の昇圧された酸素流体を加温器4に導入し、その昇圧された状態のまま相変化なく常温まで昇温する。その後、減圧弁5で所定圧力まで減圧し、最終的に酸素ガス酸素を得る。なお、ポンプ3を2つ設けていることから、定期的なメンテナンスをする際、2台の切替運転をすることで、装置全体を停止することなくメンテナンスを行うことができる。このようなプロセスを採ることで、本実施形態では、液体酸素の気化プロセスで気液混相状態が存在しないこととなり、酸素中の炭化水素の析出、爆発の事故を回避することが可能となる。なお、液体酸素に混入した炭化水素の濃度が極端に小さい場合は、配管21で抜き出された液体酸素をポンプ3によって加圧することなく、加温器4による加熱により気化することができる。その後、この気化された酸素ガスを、熱交換器6、加熱器7で加熱する。なお、熱交換器6においては、後述する触媒塔8を導出した高温の酸素ガスと熱交換される。加熱器7で所望の温度に加熱した後、酸素ガスを触媒塔8に導入する。触媒塔8には、パラジウム触媒が所定量充填されており、例えば0.5Pd触媒が充填されている。この触媒塔8では、N2Oの熱分解反応および炭化水素の酸化反応が推進され、それぞれ酸素、窒素および二酸化炭素、水蒸気が生成される。なお、下記化学式1はN2Oの分解反応を、下記化学式2は炭化水素の酸化反応をそれぞれ示している。このN2Oの分解反応および炭化水素の酸化反応の条件設定は、主に反応温度と空間速度SVによって設定する。反応温度は、例えば触媒塔8の上流に設けた加熱器7による温度調節によって行えばよく、反応温度触媒塔8出口での温度が350°C以上になるように制御する。反応温度を350°C以上に設定することにより、分解後のN2O濃度をppb、pptレベル検出限界以下にすることができる。反応温度の上限値は、機器の設計温度例えば500°C以下であれば、どのように設定してもよい。なお、ここでいう反応温度とは、触媒塔8の出口での温度のことをいう。空間速度の設定は、例えば貯液槽2から導出する液体酸素の流量を適宜の流量調整弁図示略等を設けて制御することで行えばよい。この空間速度は、500~6000h-1の範囲内であることが好ましい。なお、触媒塔8出口に、酸素ガス中の炭化水素ないしN2Oの含有量を検出する分析計図示略を設け、この分析計に基づいて、炭化水素ないしN2Oの含有量を検出限界以下にするように反応温度および空間速度を適宜設定してもよい。もっとも、この際もN2O濃度を検出限界以下にするためには、反応温度を350°C以上にする必要がある。以上のようにして、触媒塔8において、酸素ガスから炭化水素およびN2Oを分解除去する。次に、触媒塔8での反応を終え、N2Oおよび炭化水素を含まない酸素ガスは、XeおよびKrを含んだ状態で熱交換器6に導入され、常温まで冷却される。その後、更に所定温度まで冷却された酸素ガスは、吸着器99a,9bに導入され、炭化水素の酸化反応によって生じた二酸化炭素および水蒸気が吸着除去される。吸着塔9は、連続的に吸着プロセスが行えるように、2つの吸着塔9a,9bから構成されている。そして、一方が吸着工程にあるときは他方が再生工程になるようにし、吸着工程と再生工程を適宜切替えて使用する。再生工程は、例えば吸着塔9内に加熱窒素ガスを導入して行う加熱再生工程と、常温の窒素ガスを導入して行う冷却工程と、酸素ガスを導入して行う充圧工程とからなる。二酸化炭素および水蒸気が除去された酸素ガスは、Xe,Kr分離精製プロセスに導入される。XeおよびKrの分離精製プロセスについては、多くのプロセスが提案されており、例えば特開平07-139876号公報に開示されているような方法で構わない。すなわち、図2に示すように、上記プロセスによって精製された炭化水素およびN2Oが除去された酸素ガスを順次、熱交換器22、脱酸素塔10、および分離塔11に導入する。そして、分離塔11の塔頂から製品液体クリプトンを、塔底から製品液体キセノンを採取する。具体的には、まず、酸素ガスを熱交換器22に導入した後、脱酸素塔10の中段に導入する。熱交換器22では、後述する窒素ガスと熱交換することで、冷却される。脱酸素塔10は、底部に、塔底液を加熱して上昇ガスを生成するリボイラー10aを有し、頂部に、ガスを冷却して下降液を生成する凝縮器10bを有している。そして、この上昇ガスと下降液とが気液接触することにより精留が行われる。リボイラー10aの加熱源としては、例えば窒素ガス等を適宜の圧力に加圧して用いればよい。また、凝縮器10bの寒冷源としては、リボイラー10aで液化した液体窒素等を用いればよく、寒冷源が不足する場合は、適宜液体窒素を追加して導入すればよい。なお、この寒冷源として用いた液体窒素は、凝縮器10bにおいて熱交換した後に、熱交換器22に導入される。この脱酸素塔10における精留により、脱酸素塔10の底部には、Xeが5~10、Krが90~95、および酸素が0.5ppm以下である液体ガスが得られる。また、塔頂部からは、Krを10~500ppm含む酸素ガスが導出される。次に、脱酸素塔10の塔底液は、分離塔11の中段に導出される。分離塔11は、底部に、塔底液を加熱して上昇ガスを生成するリボイラー11aを有し、頂部に、ガスを冷却して下降液を生成する凝縮器11bを有している。そして、この上昇ガスと下降液とが気液接触することにより精留が行われる。リボイラー11aの加熱源としては、例えば脱酸素塔10のリボイラー10aと同様に窒素ガス等を適宜の圧力に加圧して用いればよい。また、凝縮器11bの寒冷源としては、リボイラー11aで液化した液体窒素用いればよく、寒冷源が不足する場合は、適宜液体窒素を追加して導入すればよい。なお、この寒冷源として用いた液体窒素は、凝縮器11bにおいて熱交換した後に、熱交換器22に導入される。この分離塔11における精留により、塔頂部には純度99.9以上のKrが分離し、塔底部には、純度99.9以上のXeが液状で分離する。分離後のKrは、分離塔11の塔上部に設けた抜き出し管23から製品液体クリプトンとして導出され、分離後のXeは、分離塔11の塔底部に設けた抜き出し管24から製品液体キセノンとして導出される。以上のようにして、触媒塔8で不純物を除去された酸素ガスは、精製プロセスに導入され、この精製プロセスによってXeおよびKrは更に濃縮された上で分離される。本実施形態では、XeおよびKrを精製分離する酸素ガス中のN2Oを、パラジウム系触媒を用いて、反応温度を350°C以上にして、分解除去している。この結果、詳細なメカニズムは不明であるが、処理対象が酸素ガスであるにもかかわらず、分解後の酸素ガス中のN2O濃度を検出限界以下にまで抑えることができ、ppb、pptレベルとすることができる。すなわち、本実施形態の分離精製方法によれば、比較的低温で、かつ確実にN2Oを除去することができる。また、本実施形態では、N2Oの分解と炭化水素の酸化反応を、ともにパラジウム系触媒を用いて触媒塔8内において同時に行っているので、N2Oを分解除去するための新たな工程を必要とせず、製造効率がよい。また、本実施形態では、液体酸素を臨界圧力以上に昇圧し、その状態で常温まで昇温しているので、液体酸素の気化プロセスにおいて、気液混相状態が存在しないこととなり、酸素中の炭化水素の析出、爆発の事故を回避することが可能となる以上、本発明を実施形態に基づき説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。以下、気化した酸素ガス中に含まれているN2Oを、パラジウム触媒を用いて熱分解する際の、温度と分解後のN2O濃度の関係について、実験例を示して説明する。本実験例では、図1に示した分離精製方法を用いて、XeおよびKrを分離精製しており、触媒塔8における反応温度を常温から400°Cまで昇温させた。なお、空間速度Svは、1200h-1とした。その際の触媒塔8出口のN2O濃度と反応温度の関係を測定した結果を図3に示す。また、反応温度を350°C以上とした際の、触媒塔8前後における酸素ガス中の各成分の濃度を測定した結果を表1に示す。図3から明らかなように、触媒塔8入口の酸素ガス中のN2O濃度は32ppm表1参照であるところ、反応温度の上昇とともに触媒塔8出口のN2O濃度は低下することが分かる。そして、反応温度が350°C以上になると、触媒塔8出口でのN2O濃度は急激に低下し、分析計の検出限界20ppb以下となることが分かる。また、表1から明らかなように、触媒塔8出口での炭化水素濃度も検出限界以下となることが分かる。なお、表1の値を用いると、製品キセノンないし製品クリプトンを得るためには、触媒塔8出口の酸素ガスを更に、1111=1.0/0.0009倍~10000=1.0/0.0001倍に濃縮する可能性もある。しかし、触媒塔8での反応温度が350°C以上の場合、本実験例によって得られた最終的な製品キセノンないし製品クリプトンに含有されるN2Oおよび炭化水素は、許容範囲内であった。"