"凹凸の転写パターンが形成された転写領域と、凹凸のアライメントマークが形成されたアライメントマーク領域とを有するインプリント用モールドであって、前記アライメントマーク領域の表面には、硬化前のインプリント用被転写樹脂に対して、前記転写領域の表面よりも高い撥液性を有する撥液層が形成されていることを特徴とするインプリント用モールド。前記撥液層の表面における前記硬化前のインプリント用被転写樹脂の接触角が、60°~110°であることを特徴とする請求項1に記載のインプリント用モールド。前記撥液層が、撥液性官能基を有するシランカップリング剤により形成されていることを特徴とする請求項1~2のいずれかに記載のインプリント用モールド。請求項1~3のいずれかに記載のインプリント用モールドを用い、被転写基板上に形成された硬化前のインプリント用被転写樹脂に、前記モールドの転写領域とアライメントマーク領域を接触させ、前記モールドに形成されたアライメントマークの凹部に気体を有する状態で、前記モールドに形成されたアライメントマークと、前記被転写基板に形成されたアライメントマークとを、光学的に位置合わせし、前記被転写樹脂を硬化させ、硬化した前記被転写樹脂と前記モールドとを離型して、前記モールドの転写パターンを前記被転写基板上の前記被転写樹脂に転写することを特徴とするインプリント方法。しかしながら、従来のモールドにおいては、アライメントのためにモールドを被転写樹脂に接触させると、図5bに示すように、モールド側のアライメントマークの凹部に被転写樹脂121が充填され、モールド側のアライメントマークの凹部が、被転写樹脂121によって満たされた状態になると、モールド側のアライメントマークを構成するモールド材一般的には、石英の屈折率と、被転写樹脂の屈折率とがほとんど同じであることから、モールド側のアライメントマークを光学的に識別することが困難になってしまうという課題がある。ここで、一般に、屈折率が大きく異なる物質間では、その界面における光の屈折や散乱、若しくは反射によって構造物を認識することができる。しかしながら、上述のように屈折率の差が小さい場合は、構造物を認識することは困難になり、特に微細な構造体においてコントラストを得るためには、光路長の差が重要になる。例えば、図5bに示すように、モールド101のアライメントマークの凸部と凹部に、モールド101の裏面側図5bにおいて上側から入射し、被転写樹脂121を通過して被転写基板111表面で反射する検出光132a、132bの光路長の差は、モールド材の屈折率をn1、被転写樹脂の屈折率をn2、モールド側アライメントマークの凸部と凹部の段差をtとすると、2×t×|n2-n1|になる。ここで、検出光132a、132bには、被転写樹脂が硬化しない波長域の光が用いられ、一般的には可視光域の波長が用いられる。また、一般的なモールド材である石英SiO2の波長633nmの光における屈折率は、1.45であり、また、インプリント法に用いられる被転写樹脂の屈折率は、一般的には1.5程度である。そこで、例えば、検出光の光源として、633nmの単波長の光源を用いる場合を仮定し、モールド101のアライメントマークの凸部と凹部の段差tを150nm、モールド材の屈折率n1を1.45、被転写樹脂の屈折率n2を1.50として、上式を計算すると、得られる光路長の差は15nmになり、この値は波長633nmの1/40程の違いしかないため、モールドのアライメントマークを良好に識別することは困難になってしまう。この課題に対して、例えば、チタン酸化物屈折率2.4等の高屈折率材料でアライメントマークを構成し、モールド側のアライメントマークの凹部に被転写樹脂が充填された状態でも、前記高屈折率材料の屈折率と、被転写樹脂の屈折率との間で差が出るようにしてモールドのアライメントマークを光学的に識別する方法が提案されている特許文献3。しかしながら、上述のような方法では、従来のモールド製造技術に加えて、チタン酸化物等の高屈折率材料をモールド上に形成する工程や、アライメントマーク構造への加工工程が必要となり、製造工程が複雑化するため好ましくない。本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用モールド、およびインプリント方法を提供することを目的とする。本発明者は、種々研究した結果、前記モールドのアライメントマーク領域の表面が、硬化前のインプリント用被転写樹脂に対して、少なくとも、前記モールドの転写領域の表面よりも高い撥液性を生じるようにすることにより、上記課題を解決できることを見出して本発明を完成したものである。すなわち、本発明の請求項1に係る発明は、凹凸の転写パターンが形成された転写領域と、凹凸のアライメントマークが形成されたアライメントマーク領域とを有するインプリント用モールドであって、前記アライメントマーク領域の表面には、硬化前のインプリント用被転写樹脂に対して、前記転写領域の表面よりも高い撥液性を有する撥液層が形成されていることを特徴とするインプリント用モールドである。また、本発明の請求項2に係る発明は、前記撥液層の表面における前記硬化前のインプリント用被転写樹脂の接触角が、60°~110°であることを特徴とする請求項1に記載のインプリント用モールドである。また、本発明の請求項3に係る発明は、前記撥液層が、撥液性官能基を有するシランカップリング剤により形成されていることを特徴とする請求項1~2のいずれかに記載のインプリント用モールドである。また、本発明の請求項4に係る発明は、請求項1~3のいずれかに記載のインプリント用モールドを用い、被転写基板上に形成された硬化前のインプリント用被転写樹脂に、前記モールドの転写領域とアライメントマーク領域を接触させ、前記モールドに形成されたアライメントマークの凹部に気体を有する状態で、前記モールドに形成されたアライメントマークと、前記被転写基板に形成されたアライメントマークとを、光学的に位置合わせし、前記被転写樹脂を硬化させ、硬化した前記被転写樹脂と前記モールドとを離型して、前記モールドの転写パターンを前記被転写基板上の前記被転写樹脂に転写することを特徴とするインプリント方法である。本発明によれば、モールドのアライメントマーク領域の表面には、硬化前のインプリント用被転写樹脂に対して、モールドの転写領域の表面よりも高い撥液性を有する撥液層が形成されているため、アライメントのためにモールドを被転写樹脂に接触させた場合に、被転写樹脂がアライメントマークの凹部に浸入することを抑制する効果を奏する。上述のような効果のため、本発明においては、モールドのアライメントマークの凹部が硬化前のインプリント用被転写樹脂によって満たされていない状態、すなわち、アライメントマークの凹部内に、インプリント時のモールド周囲の気体を有する状態で、アライメントすることができることになる。そして、モールド材の屈折率と、上記アライメントマークの凹部内に残留した気体の屈折率とは、その大きさに差があるため、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度でモールドの転写パターンを被転写樹脂にインプリントすることができる。[インプリント用モールド]まず、本発明に係るインプリント用モールドについて説明する。図1は、本発明に係るインプリント用モールドの例を示す説明図であり、aはモールド全体の模式的断面図を示し、bはaにおけるアライメントマーク部の拡大図を示す。図1aおよびbに示すように、インプリント用モールド1は、モールド材5を加工して凹凸の転写パターンが形成された転写領域2と、凹凸のアライメントマークが形成されたアライメントマーク領域3とを有しており、前記アライメントマーク領域3の表面には、硬化前のインプリント用被転写樹脂に対して、前記転写領域2の表面よりも高い撥液性を有する撥液層4が形成されている。モールド材5の材料としては、インプリント法に適用可能な透明な材料であれば用いることができるが、好ましくは、石英である。モールド側アライメントマークはモールド材を凹凸状に加工した段差構造のマークであり、その平面形状は、例えば、矩形状、十字型状の形状が1個以上配設されたものや、モアレ縞等の周期構造のもの等がある。上述の撥液層4がアライメントマーク領域3の表面に形成されているため、本発明においては、アライメントのためにモールドを被転写樹脂に接触させた場合に、硬化前のインプリント用被転写樹脂がアライメントマークの凹部に浸入することを抑制する効果、若しくは、硬化前のインプリント用被転写樹脂がアライメントマークの凹部に浸入する速度を遅くする効果を奏する。上述のような効果のため、本発明においては、モールドのアライメントマークの凹部が硬化前のインプリント用被転写樹脂によって満たされていない状態、すなわち、アライメントマークの凹部内に、インプリント時のモールド周囲の気体を有する状態で、アライメントすることができることになる。そして、モールド材の屈折率と、上記アライメントマークの凹部内の気体の屈折率とは、その大きさに差があるため、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度でモールドの転写パターンを被転写樹脂にインプリントすることができる。上述のアライメントの状態について、図2を用いて、より詳しく説明する。図2は、本発明に係るインプリント用モールドと被転写基板上に形成された被転写樹脂との関係を示す説明図であり、aはアライメントマーク検出の概要を示し、bはアライメントマークにおける被転写樹脂の充填状態を示す。図2aに示すように、インプリント用モールド1の転写パターンをアライメント転写する際には、まず、被転写基板11上に形成された硬化前の被転写樹脂21に、インプリント用モールド1を接触させる。ここで、本発明に係るモールド1においては、撥液層4がアライメントマーク領域3の表面に形成されているため、被転写樹脂21がアライメントマークの凹部に浸入することを抑制することができる。それゆえ、アライメントマークの凹部内に、インプリント時のモールド周囲の気体を有する状態で、アライメントすることができることになる。例えば、図2bに示すように、モールド1のアライメントマークの凸部と凹部に、モールド1の裏面側図2bにおいて上側から入射し、被転写樹脂21を通過して被転写基板11表面で反射する検出光32a、32bの光路長の差は、モールド材5の屈折率をn1、被転写樹脂21の屈折率をn2、モールド1のアライメントマークの凹部内の気体22の屈折率をn3、モールド1のアライメントマークの凸部と凹部の段差をt、モールド1のアライメントマーク凹部内の気体22が占める高さをTとすると、2×|T×n3t-T×n2-t×n1|になる。なお、図2bは、モールド1のアライメントマークの凸部と凹部の段差tと、アライメントマークの凹部内の気体22が占める高さTが同じである状態を示している。ここで、一般的なモールド材である石英SiO2の波長633nmの光における屈折率は、1.45であり、また、空気の屈折率は、1.00であることから、上述同様に、検出光の光源として、633nmの単波長の光源を用いる場合を仮定し、モールドのアライメントマークの凹部内が全て空気で満たされておりすなわち、t=T、その段差tを150nm、モールド材の屈折率n1を1.45、空気の屈折率n3を1.00として、上式を計算すると、得られる光路長の差は135nmになり、この値は波長633nmの1/5程の大きさであるため、モールドのアライメントマークを良好に識別することができる。そして、上述のようにして検出したモールド側のアライメントマークと、被転写基板側のアライメントマークとを、光学的に位置合わせした状態で、被転写樹脂を硬化させることにより、モールドの転写パターンを、高いアライメント精度で、被転写樹脂にインプリントすることができる。[撥液層]次に、本発明に係る撥液層について説明する。本発明に係る撥液層は、図1aに示すように、モールド1のアライメントマーク領域3の表面に形成され、硬化前のインプリント用被転写樹脂に対して、モールドの転写領域2の表面よりも高い撥液性を有する層である。本発明においては、アライメントマーク領域3の表面に形成された撥液層4が、上述のような機能を有するため、アライメントのためにモールドを被転写樹脂に接触させた際に、少なくとも、硬化前のインプリント用被転写樹脂がアライメントマークの凹部に浸入する速度を、転写領域2の転写パターンの凹部への充填速度より遅くすることができる。それゆえ、アライメントマークの凹部内が被転写樹脂によって満たされる前に、上述のようなモールド材とアライメントマークの凹部内の気体との屈折率の差を利用して、モールドのアライメントマークを識別することができる。また、本発明に係る撥液層は、その表面における硬化前のインプリント用被転写樹脂の接触角が60°以上であることが好ましく、例えば、接触角が60°~110°となる範囲が好ましい。上記のような接触角であれば、アライメントマークの凹部のような微細な凹部への毛細管力による被転写樹脂の浸入が抑えられるからである。また、本発明に係る撥液層は、撥液性官能基を有するシランカップリング剤により形成されたものであることが好ましい。撥液性に優れた撥液層を容易に形成することができるからである。上記のような撥液層としては、例えば、シランカップリング剤を基板上の官能基と反応させ単分子膜を形成したもの、あるいは、シランカップリング剤を基板上の官能基と反応させるとともに、ゾルゲル反応等により加水分解、重縮合させたもの等を挙げることができ、中でもシランカップリング剤を基板上の官能基と反応させ単分子膜を形成したものが好ましい。また、上記シランカップリング剤が有する撥液性官能基としては、例えば、メチル基-CH3、エチル基-C2H5およびフルオロメチル基-CF3等を挙げることができる。さらに、上記撥液性官能基を有するシランカップリング剤としては、例えば、CF3SiOCH2CH33、CF3CF25CH2CH2SiOCH2CH33、およびCH3CH25SiOCH33等を挙げることができる。上記のような撥液層を、モールドのアライメントマーク領域にのみ形成する方法としては、例えば、フォトレジスト等を用いた製版により、転写領域を被覆し、アライメントマーク領域を露出させたモールドを、撥液層を形成する材料の溶液に浸漬し、加熱乾燥した後に、転写領域を被覆していたフォトレジスト等を除去する手法リフトオフ等をもちいることで、アライメントマーク領域のみに撥液層を形成することができる。上記の撥液層の厚みとしては、構成する材料等により異なるが、例えば、1nm~100nmの範囲内である。なお、本発明に用いる被転写樹脂としては、インプリント法に適用可能なものであれば用いることができ、例えば、光硬化性樹脂としては、PAK-01東洋合成工業社製、NIP-KZenPhotonics製、およびTSR-820帝人製機製等を挙げることができる。一方、熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリメタクリル酸メチルPMMA、ポリスチレンPS、およびポリカーボネートPC等を挙げることができる。上述のように、本発明に係るインプリント用モールドにおいては、従来と同様の技術を用いて、モールド材を凹凸状に加工してアライメントマークを形成することができ、その後、アライメントマーク領域の表面に撥液層を浸漬等の方法で形成するため、本発明に係るインプリント用モールドは、従来と同様の信頼性を確保できる。また、チタン酸化物等の高屈折率材料を用いてアライメントマークを形成する方法のような、従来とは異なる複雑な工程が増えることもないため、製造コストの点からも有益である。[インプリント方法]次に、本発明に係るインプリント方法について説明する。本発明に係るインプリント方法は、上述のような構成を有する本発明に係るインプリント用モールドを用い、被転写基板上に形成された硬化前のインプリント用被転写樹脂に、前記モールドの転写領域の表面とアライメントマーク領域の表面を接触させ、前記モールドに形成されたアライメントマークの凹部に気体を有する状態で、前記モールドに形成されたアライメントマークと、前記被転写基板に形成されたアライメントマークとを、光学的に位置合わせする工程に特徴があり、その他の工程、例えば、被転写樹脂の硬化工程や、モールド離型工程については、従来の方法を用いることができる。図3は、本発明に係るインプリント方法の例を示す模式的工程図である。なお、図3においては、煩雑になることを避けるため記載を省略しているが、モールド1のアライメントマーク領域3の表面には、本発明に係る撥液層が形成されている。本発明に係るインプリント方法においては、まず、図3aに示すように、本発明に係るインプリント用モールド1を準備し、被転写基板11上の、少なくとも、被転写領域12および基板側アライメントマーク領域13上に未硬化の被転写樹脂21を形成する。なお、この例においては、被転写樹脂21は光硬化型樹脂である。次に、図3bに示すように、モールド1と被転写基板11上の被転写樹脂21とを接触させ、モールド側アライメントマークおよび相対する基板側アライメントマークの位置情報を、検出光32を用いて検出器31で検出することにより、モールド1と被転写基板11との位置合わせを行う。この際、モールドの転写領域2の凹凸パターンの凹部は被転写樹脂21で充填されるが、本発明に係るインプリント用モールドにおいては、アライメントマーク領域3の表面には、本発明に係る撥液層が形成されているため、アライメントマーク領域3の凹部への被転写樹脂21の浸入は抑制され、モールド周囲の気体22が残留することになる。それゆえ、例え、モールド材と被転写樹脂の屈折率が近い値の場合であっても、前記気体の屈折率の値との差によって、モールド側アライメントマークを十分識別することができる。次に、図3cに示すように、紫外線42を所定量照射することにより、被転写樹脂21を硬化させ、その後、図3dに示すように、モールド1を離型して硬化した被転写樹脂のパターン23を得る。以上、本発明に係るインプリント用モールドおよびインプリント方法について、それぞれの実施形態を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。実施例1モールド用基板として、縦152mm、横152mm、厚さ0.25インチの合成石英基板を用い、この合成石英基板の一主面上に、電子線レジストを厚さ200nmで塗布し、電子線描画し、現像した後、ドライエッチングして、深さ150nm、幅100nm、ピッチ200nmのライン/スペースパターンの転写パターンが形成された転写領域と、深さ150nmの凹凸形状の周期構造のアライメントマークが形成されたアライメントマーク領域とを有するインプリント用モールドを形成した。次に、撥液層を形成する材料の溶液として、CF3CF25CH2CH2SiOCH2CH33溶液溶媒:1,3-ビストリフルオロベンゼンを用意し、フォトレジストを用いた製版により転写領域を被覆し、アライメントマーク領域を露出させた前記モールドを、前記溶液に5分間室温で浸漬し、55度で30分間加熱した後に、転写領域を被覆していた前記フォトレジストを除去して、アライメントマーク領域に撥液層を有する本発明に係るインプリント用モールドを得た。次に、インプリント用被転写樹脂として光硬化型樹脂東洋合成工業社製、PAK-01を用い、前記モールドのアライメントマーク領域に形成された撥液層の表面における接触角を接触角測定機協和界面科学社製、CA-Z型で測定したところ、接触角は70°であった。次に、被転写基板として、直径200mmのシリコンウェハに、被転写領域と基板側アライメントマーク領域とを有する基板を用意した。次に、上記の被転写基板上に、被転写樹脂として光硬化型樹脂PAK-01東洋合成工業社製を形成し、前記の本発明に係るモールドを接触させ、波長633nmの検出光を用いて、アライメントマーク検出したところ、モールド側アライメントマークを良好に識別することができた。次に、前記モールドと前記被転写基板を位置合わせした後に、波長320nmの紫外線を照射して前記被転写樹脂を硬化させ、その後、前記モールドを前記被転写基板から離型して、前記被転写基板上に硬化した樹脂パターンを得た。"