分子状フッ素を35~92.5体積含んでいるガスを収容するチューブトレーラー。分子状フッ素を35~92.5体積含んでいるガスを収容する少なくとも1つの円筒状の形状の中空体を備える請求項1に記載のチューブトレーラーであって、本発明の前記チューブトレーラーの前記分子状フッ素含有ガス収容空間の内容積が、中空体1つ当たり少なくとも1m3であり、前記ガスと接触すると想定される部分が、分子状フッ素に対する耐性のある材料で製造またはコーティングされている、請求項1に記載のチューブトレーラー。前記ガスの残部が本質的に、好ましくはヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、窒素およびNF3から選択される不活性ガスからなる、請求項1または請求項2に記載のチューブトレーラー。前記チューブトレーラーの一部がフッ素に対する耐性のある材料で製造またはコーティングされている、請求項1~3のいずれか1項に記載のチューブトレーラー。前記チューブトレーラーの一部がモネルメタル、ステンレス鋼、銅またはニッケルから製造されている、請求項1~4のいずれか1項に記載のチューブトレーラー。実質的に同一の形状および寸法を有する4~64の中空体を備える、請求項1~5のいずれか1項に記載のチューブトレーラー。不活性ガスを前記チューブトレーラーのガス収容部分に注入するように動作可能な安全装置をさらに備える、請求項1~6のいずれか1項に記載のチューブトレーラー。前記安全装置が窒素を収容する、請求項7に記載のチューブトレーラー。前記中空体の圧力を低下させるように動作可能な安全装置をさらに備える、請求項1~8のいずれか1項に記載のチューブトレーラー。ガス供給システムを有する半導体製造プラントであって、請求項1~9のいずれか1項に記載のチューブトレーラーが前記半導体製造プラントのガス供給システムに連結される、半導体製造プラント。光起電力素子の製造に適している、請求項10に記載の半導体製造プラント。分子状フッ素の所要量が毎年5~100メートルトン、好ましくは10~50メートルトンである、請求項10または11に記載の半導体製造プラント。ガス製造場所からユーザーの場所にガスを輸送するための請求項1~12のいずれか1項に記載のチューブトレーラーの使用を含む、ガスの供給方法。a本発明のチューブトレーラーを使用して分子状フッ素含有ガスを前記ユーザーの場所に供給する第1の段階と、b前記ユーザーの場所に配置されている分子状フッ素発生装置を使用して、分子状フッ素含有ガスを前記ユーザーの場所に供給する第2の段階と、を含む、請求項13に記載の方法。請求項1~7のいずれか1項に記載の混合ガス。分子状フッ素を35~92.5体積含み、100体積までの残部がヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、窒素およびNF3からなる群から選択される少なくとも1種類の不活性ガスで構成されている、請求項15に記載の混合ガス。分子状フッ素を80~92体積含み、100体積までの残部が窒素およびアルゴンからなる群から選択される少なくとも1種類のガスから選択される、請求項16に記載の混合ガス。分子状フッ素を85~91体積含み、100体積までの残部が窒素およびアルゴンからなる群から選択される少なくとも1種類のガスから選択される、請求項17に記載の混合ガス。前記本発明のチューブトレーラーの収容空間内の前記分子状フッ素含有ガス中の分子状フッ素の分圧が、5~30bar、好ましくは10~28barである、請求項15~18のいずれか1項に記載の混合ガス。前記半導体工業におけるチャンバクリーニングガスとしての、請求項15~19のいずれか1項に記載の混合ガスの使用。従って、本発明は、分子状フッ素を35~92.5体積含むチューブトレーラーに関する。分子状フッ素はそれを含むガス中に含有され、ガスがF2100から構成されない限り、ガスという用語は、混合ガスという用語と互換性がある。好ましい実施形態では、本発明は、分子状フッ素を35~92.5体積含んでいるガスを収容する少なくとも1つの円筒状の形状の中空体を備えるチューブトレーラーに関し、本発明のチューブトレーラーの分子状フッ素含有ガス収容空間の内容積は、中空体1つ当たり少なくとも1m3であり、ガスと接触すると想定される部分は、分子状フッ素に対する耐性のある材料で製造またはコーティングされている。本発明のチューブトレーラーは、許容される安全および毒性条件の下で、その目的とする用途において、特に中程度の所要量例えば、100分子状フッ素に基づき、分子状フッ素5~100トン/年に対して高い効率を有する、フッ素ガスの特に効率的な供給を可能にすることが分かった。本発明のチューブトレーラーにおいて、分子状フッ素を含むガスの残部は一般に不活性ガスからなる、または本質的に不活性ガスからなる。通常、不活性ガスは、周囲温度では分子状フッ素と実質的に反応しない。好適な不活性ガスの例は、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、窒素およびNF3から選択される。好ましくは、ガスの残部は本質的に不活性ガスからなり、好ましくは、不活性ガスはヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、窒素およびNF3から選択される。より好ましくは、不活性ガスは、アルゴン、窒素、およびこれらの混合物から選択される。特に好ましい一実施形態では、不活性ガスはアルゴンである。特に好ましい別の実施形態では、不活性ガスは窒素である。本発明のチューブトレーラーでは、ガスは、分子状フッ素を、50体積以上の量、好ましくは80体積以上の量、より好ましくは85体積以上の量で含むことが多い。本発明のチューブトレーラーでは、ガスは、分子状フッ素を、92体積以下の量、好ましくは91体積以下の量、より好ましくは90体積以下の量で含むことが多い。好ましいチューブトレーラーは、フッ素を80~92体積含むガスを含む。さらにより好ましいチューブトレーラーは、フッ素を85~91体積含むガスを含む。とりわけ好ましいチューブトレーラーは、フッ素を約90体積含むガスを含む。特に好ましい実施形態では、組成物はフッ素90体積とアルゴン10体積である。別の好ましい実施形態では、組成物はフッ素90体積とNF310体積である。第3の好ましい実施形態では、組成物はフッ素90体積とN210体積である。本発明のチューブトレーラーは、一般に、ガスを装填および排出するための少なくとも1つの弁を有する少なくとも1つの円筒状の形状の中空体を備える。1つの中空体または複数の中空体は、適切に支持枠上に搭載されても、または第2の容器に収容されてもよい。一実施形態によれば、1つの中空体または複数の中空体は、トラック上に搭載される枠、または、車輪を備え、例えば、トラック、キャブまたはトラクターにより牽引されるように設計されている車両に連結される枠上に搭載される。通常、中空体と枠はこの車両にしっかりと連結される。別の実施形態によれば、本発明のチューブトレーラーは、第2の容器に収容される枠上に搭載される1つの中空体または幾つかの中空体を備える。この容器は、同様に、例えば、トラック、運転台またはトラクターにより牽引されるように設計されている車両上に着脱可能に搭載される。このような容器の利点は、車両上に搭載されると陸上輸送でそれを輸送することができ、車両から取り外されると、列車で、海上輸送で、または航空輸送で輸送することができる。容器の種類は、iso容器であることが多い。iso容器は標準的な長さを有する。20-ft6.1m、40-ft12.2m、45-ft13.7m、48-ft14.6m、および53ft16.2mの、5つの共通規格の長さがある。幅は、8ft2.44mであることが多い。チューブトレーラーが複数の中空体を備える場合、それは好ましくは4~64の中空体、より好ましくは8~16の中空体を備える。この場合、中空体は、好ましくは実質的に同一の形状と寸法を有する。一般に、本発明のチューブトレーラーの分子状フッ素含有ガス収容空間の全内容積は、中空体1つ当たり少なくとも1m3である。好ましくは、それは中空体1つ当たり1~5m3、好ましくは1.5~3m3である。一般に、中空体内のガスまたは、他に混合ガスと表されるの全圧は、試験圧力以下であってもよく、試験圧力は使用される中空体の種類に依存する。一般に、このような中空体の試験圧力は300barの範囲内である。好ましくは、中空体内の実圧力は安全余裕safetymarginを可能にし、より好ましくは試験圧力の70以下である。本発明のチューブトレーラーの収容空間内の分子状フッ素含有ガス中の分子状フッ素の分圧は、5~30bar、好ましくは10~28barであることが多い。本発明のチューブトレーラー、特に、適宜、中空体、ガスを装填および/または排出するための弁およびラインなどの、ガスと接触することが想定されるチューブトレーラーの部分は、分子状フッ素に対する耐性のある材料で適切に製造またはコーティングされる。このような材料の例としては、モネルメタル、ステンレス鋼、銅、および好ましくはニッケルが挙げられる。弁は、例えば、モネルメタル、ステンレス鋼、銅、および好ましくはニッケルから製造されてもよい。弁は、また、アルミニウム/ケイ素/青銅合金から、真ちゅうから、またはステンレス鋼から製造されてもよい。本発明のチューブトレーラーは、好ましくは、不活性ガス、特に前述の不活性ガスをチューブトレーラーのガス収容部分に注入するように動作可能な安全装置をさらに備える。任意選択の安全装置は、不活性ガス、特に窒素用の貯蔵タンクを適切に備える。ガスは、好ましくは、高圧下で、例えば100~300bar、より詳細には250~270barで貯蔵される。任意選択の安全装置内の不活性ガスの量は、一般に、チューブトレーラー内のフッ素濃度を35体積未満に、より好ましくはチューブトレーラー内のフッ素濃度を1~35体積未満に、好ましくは30体積未満に低下させるのに十分である。チューブトレーラーの中に装填されるフッ素含有ガスの目的の量に対して、適宜、この量を決定する。とりわけ好ましくは、任意選択の安全装置内の不活性ガスの量は、一般に、チューブトレーラー内のフッ素濃度を20体積未満に低下させるのに十分である。例えば、チューブトレーラーが、F2とN2からなる90:10v/vの混合ガスの形態でF2を600kg収容する場合、チューブ内のF2/N2混合物を全て希釈する必要があり、チューブトレーラーに後述の追加の安全装置が備えられないと仮定したとき、F2を20未満の濃度に安全に希釈するためにはN2が約2.6t必要となる。任意選択の安全装置は、例えば、前述の中空体に連結された、ガスを装填および排出するための弁に連結されてもよい。それを、好ましくは前述の中空体に連結された、ガスを装填および/または排出するためのラインに適切に連結することもできる。第1の特定の態様では、本発明のチューブトレーラーは、中空体の圧力を低下させるように動作可能な安全装置を備えてもよい。通常、このような安全装置は、中空体の圧力を初期圧力に対して少なくとも50低下させるように動作可能である。例えば、この任意選択の安全装置は、例えば、大気圧の不活性ガスを含むまたは真空に維持されている中空体により構成されてもよく、それは他の中空体に連結され、フッ素を収容するのに適した材料で製造されている。第2の特定の態様では、このような中空体は、フッ素と安全に反応することができる化学物質を収容する。安全に反応するとの用語は、特に、フッ素ガスと化学物質との反応の発熱性が、中空体の爆発または制御不能な加熱などの安全性の問題を回避できるほど十分低いことを意味するものと理解されたい。有効な化学物質の一例として、CaCO3が挙げられる。前述の安全装置を使用することにより、フッ素ガス濃度の特に効率的な低下を達成することができ、漏出により起こり得る結果を効率的に軽減することができる。好ましい場合、各中空体は安全装置と連結されている。より好ましくは、各中空体は、第1の特定の態様による少なくとも1つの安全装置と、および第2の特定の態様による少なくとも1つの安全装置と連結されている。これは、欠陥のある中空体の圧力を低下させるのに、および欠陥のある中空体内のフッ素濃度を低下させる特に効率的な実施形態である。任意選択の安全装置は、理想的には、フッ素混合物が充填された中空体を離間させるために、フッ素混合物が充填された中空体の間に介在する。任意選択の安全装置は、一般に、チューブトレーラーの異常状態の検出器、例えば、分子状フッ素含有ガスのガス漏れの検出器を装備し、一般に安全装置の作動を誘発することができる。別の好適な安全検出器の例としては、圧力低下検出器がある。本発明のチューブトレーラーをさらに添付の図面で非限定的に説明する。図1は、本発明のチューブトレーラーの側面図を示す。分子状フッ素含有ガスが充填されたチューブ2のアセンブリ、真空下の第1の安全装置3および窒素を収容する圧力下の第2の安全装置4が支持枠1上に搭載されている。分子状フッ素含有ガスが充填されたチューブ2はフッ素排出弁5に連結されており、それはさらに安全装置3および4に連結されている。分子状フッ素含有ガスが充填されたチューブ2はさらに安全弁7に連結され、それは、安全装置3に連結されている吸引ライン6にチューブ2を連結するように、および/または安全装置4に連結されている吹き込みライン8にチューブ2を連結するように動作可能である。図2は、分子状フッ素含有ガスが充填されたチューブ2と、真空下の第1の安全装置3と、窒素を収容する圧力下の第2の安全装置4が、支持枠1上に長方形4×3配置で搭載されている本発明のチューブトレーラーの正面図を示す。図3は、分子状フッ素含有ガスが充填されたチューブ2と、真空下の第1の安全装置3と、窒素を収容する圧力下の第2の安全装置4が、支持枠1上に長方形4×2配置で搭載されている本発明のチューブトレーラーの正面図を示す。図4は、分子状フッ素含有ガスが充填されたチューブ2と、真空下の第1の安全装置3と、窒素を収容する圧力下の第2の安全装置4が、支持枠1上に三角形配置で搭載されている本発明のチューブトレーラーの正面図を示す。図2~4では、各チューブトレーラーは、1つの安全装置3と1つの安全装置4を備えることが分かる。その中の残りのチューブは全て、分子状フッ素含有ガス2が充填されたチューブである。本発明は、また、ガス製造場所からユーザーの場所までガスを輸送するための本発明のチューブトレーラーの使用を含む、分子状フッ素含有ガスの供給方法にも関する。例えば、チューブトレーラーは、特に、支持枠上に搭載される場合、トラックで輸送することができ、または、それが車輪を備える場合、トラックで牽引することもできる。別の態様では、チューブトレーラーは、特に、第2の容器に収容される場合、列車でまたは船舶により輸送することができる。一般に、ユーザーの場所で、本発明のチューブトレーラーは輸送手段から荷下ろしされ、分子状フッ素含有ガスの供給を必要とする使用箇所に連結される。特定の一実施形態では、本発明の分子状フッ素含有ガスの供給方法は、a本発明のチューブトレーラーを使用して分子状フッ素含有ガスをユーザーの場所に供給する第1の段階と、bユーザーの場所に配置されている分子状フッ素発生装置を使用するユーザーの場所に、分子状フッ素含有ガスを供給する第2の段階と、を含む。使用することができる典型的なフッ素発生装置は、例えば、溶融塩電解質の電解により、とりわけ電解質塩としてHFとKFの付加物を含むHFの電解により、分子状フッ素を生成するフッ素発生セルを備える。前記特定の実施形態の第1の態様では、第1および第2の段階中に供給されるガスは、それぞれ実質的に同じものまたは同じ組成を有する。前記特定の実施形態の第2の態様では、第1の段階中に供給されるガスの組成は、本発明のチューブトレーラーが必要とする組成に応じ、第2の段階中に供給されるガスの組成は、第1の段階中に供給されるガスの組成と異なる。特にこの態様では、第2の段階中に供給されるガスは、分子状フッ素からなっても、または本質的に分子状フッ素からなってもよい。本発明は、また、ガス供給システムを有する半導体製造プラントにも関し、本発明のチューブトレーラーは半導体製造プラントのガス供給システムに連結される。好ましい態様では、本発明の半導体製造プラントは光起電力素子の製造に適している。より詳細には、プラントは、処理チャンバ内でのケイ素含有化合物のCVDによる光起電力素子であって、ケイ素含有化合物をエッチングするために、または好ましくは処理チャンバをクリーニングするために、分子状フッ素を使用する光起電力素子を可能にする。本発明の半導体製造プラントは、一般に毎年5~100メートルトン、好ましくは10~50メートルトンの分子状フッ素所要量を有する。この所要量は、100分子状フッ素として表される。本発明は、さらに、本発明のチューブトレーラーで輸送されるのに適したガスを含む。このガスは分子状フッ素を35~92.5体積含み、ガスの残部は不活性ガスを含むまたは本質的に不活性ガスからなる。不活性ガスは、好ましくはヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、窒素およびNF3から選択される少なくとも1種類のガスである。とりわけ好ましくは、不活性ガスは、アルゴン、窒素、およびこれらの混合物からなる群から選択される。特に好ましい一実施形態では、不活性ガスはアルゴンである。別の特に好ましい実施形態では、不活性ガスは窒素である。好ましい実施形態では、ガスは分子状フッ素を、50体積以上の量、好ましくは80体積以上の量、より好ましくは85体積以上の量で含む。好ましくは、ガスは分子状フッ素を、92体積以下の量で、好ましくは91体積以下の量で、より好ましくは約90体積以下の量で含む。特定のガスはフッ素を80~92体積含む。さらにより好ましいガスはフッ素を85~91体積含む。好ましいガスは80~92体積の分子状フッ素からなり、100体積までの残部は窒素およびアルゴンからなる群から選択される少なくとも1種類のガスから選択される。より好ましいガスは85~91体積の分子状フッ素からなり、100体積までの残部は窒素およびアルゴンからなる群から選択される少なくとも1種類のガスから選択される。特定の好ましい実施形態では、ガスはフッ素90体積とアルゴン10体積からなる。別の好ましい実施形態では、組成物はフッ素90体積とNF310体積からなる。第3の好ましい実施形態では、組成物はフッ素90体積とN210体積からなる。本発明の混合ガスの圧力は、好ましくは少なくとも2bar絶対である。混合ガス中のフッ素の分圧は、各中空体の試験圧力の92.5以下であってもよい。より好ましくは、分子状フッ素の分圧は混合ガスの全圧の92.5以下であり、混合ガスの全圧は試験圧力の70以下である。さらにより好ましくは、分子状フッ素含有混合ガス中の分子状フッ素の分圧は5~30bar、とりわけ好ましくは10~28barである。本発明の混合ガスは、半導体工業でエッチングガスまたはチャンバクリーニングガスとして使用することができる。好ましくは、それは半導体工業でチャンバクリーニングガスとして使用される。この用途は、半導体製品の製造中に生成する、有機物であれまたは無機物であれ、望ましくない材料層で内部が少なくとも部分的に被覆されているチャンバの提供を含む。層は、フルオロカーボンポリマー、酸化ケイ素、ケイ素、水素化ケイ素、窒化ケイ素、リンドープガラス、および半導体製品の製造中に発生する他のいずれかの層で構成されていてもよい。混合ガスはチャンバに導入されて、その中で熱的にまたはプラズマにより加熱され、これによりFラジカルFradicalsが生成し、Fラジカルは望ましくない層と反応して揮発性volatileフッ素化化合物を生成する。以下の実施例は本発明を説明することを目的とするものであって、本発明を限定するものではない。[実施例1]本発明のチューブトレーラーに収容されるフッ素90/アルゴン10v/vの混合ガスの毒性は、205mg/m3のLC50値で表され、従って、それをMEGSで、またはチューブトレーラー通常、MEGSと称されるで輸送することが可能である。比較のため、100フッ素のLC50値は185mg/m3であり、従って、それをチューブトレーラーで輸送することは不可能である。チューブトレーラーは、10トン/年より多量のフッ素を必要とする消費者に特に好都合である。この場合、フッ素を26kgしか収容しないバンドルbundlesによるフッ素の供給は、375バンドル/年より多くの配送を必要とするため、費用がかかる。同じ量を約14のチューブトレーラーでより経済的に供給することができる。チューブトレーラーで配送する他の利点は、事故の原因になり得る荷扱いが比較的少なくて済むことである。実際、フッ素配送中の事故の大部分は、シリンダのガス配送システムへの連結中に起こっている。チューブトレーラーでの供給により、この作業の必要性が25分の1に減少する。[実施例2]フッ素90/Ar10v/vの混合物を、RPSリモートプラズマシステムにより支援されるPECVDプラズマ励起化学気相成長装置内で試験する。RPSの機能は、中に供給されるガスをプラズマで解離させ、これによりそれがPECVD装置の堆積物に対して活発に反応し、それらを気体の形態で除去できるようにすることである。システムは、システム内の圧力を200~600mTに維持する真空ポンプに連結される。問題なくプラズマ点火が可能であり、本プロセスは高い安定性を示す。フッ素90/Ar10の混合物vIvをRPSに1000sccmおよび2000sccmで供給する。クリーニング速度に対する影響を示さないマイクロ波エネルギー源の出力は2000~4000Wであり、完全にフッ素を解離させるのに2000Wで十分であることを意味する。ガラス基板上に堆積した250nmのa-Si層をクリーニングするのに必要な時間を測定する。クリーニング時間はフッ素の流量と直線的な結果になり、半分の流量でエッチングされるサンプルをクリーニングするのに2倍の時間を要することを意味する。混合物の代わりに100フッ素を使用して、同じ試験を繰り返す。始めにアルゴンを添加してプラズマのスイッチを入れ、後でその供給を停止する。プラズマは安定な結果となる。フッ素90/Ar10の混合物v/vのクリーニング時間は、類似の流量、圧力、およびマイクロ波プラズマ源出力の条件で、元素状フッ素のものより10長い結果となる。換言すれば、エッチング速度はフッ素の濃度と比例している。100フッ素を流す場合と同じクリーニング速度を得るためには、フッ素90/アルゴン10v/vの流量を10増加すれば十分であり、混合物にはチューブトレーラーで供給されるという利点がある。[実施例3]F290/NF310v/vの混合物を実施例2に記載したのと同じ設備で試験する。始めにArを10体積添加して、プラズマを点火する。クリーニング時間はマイクロ波源の出力からゆっくりと依存し、NF3の解離にはF2より多くのエネルギーを必要とすることが分かる。2500Wでのクリーニング時間は2000Wの場合より僅かに短い。2500Wより高出力では、クリーニング時間は一定である。F2が1分子当たりフッ素ラジカルを2モルしか導入しないのに対して、NF3はNF31分子当たりフッ素ラジカルを3モル導入するため、NF3では同じ体積流量でのエッチング速度が改善される。他方、質量予想massprospectiveでは、フッ素は、NF3窒素を20体積含有するより多くのラジカル/kgを生成する。試験から、同じ流量条件で、F290/NF310v/vの混合物は、100フッ素より5速く、フッ素90/Ar10v/vの混合物より115速くクリーニングすることが分かる。フッ素90/NF310v/vの混合物には、チューブトレーラーで配送されるという利点があり、それは体積流量に関して最良のクリーニング性能を提供し、それは、質量基準でF2100と比較した場合、性能の差が最小限であり、その公称GWPは、NF3の値の10に過ぎない17200の10=172。しかし、そのGWPはフッ素/アルゴン混合物の場合のように0ではない。[実施例4]フッ素90体積と不活性ガスHe、N2、Ar、NF3またはこれらの混合物など10体積を含有する異なる混合物を実施例1と同じ設備で試験するが、RPSのスイッチは切った。ガラスサンプルが載置されるチャックを200°Cの温度に加熱し、a-Siおよびμc-Siが通常堆積する温度範囲をシミュレートする。クリーニングプロセスはRPSにより支援されないが、反応は比較的高い堆積物温度により促進されるため、このプロセスをサーマルクリーニングと称することにする。試験した混合物は全て、同じエッチング速度を示す。600mTorrおよび1000sccm~2000sccmの流量でのエッチング速度は、RPSにより支援される方法でF290/Ar10の混合物v/vを使用して測定した対応するものより僅かに遅い-15だけであるという結果になる。100F2を使用し同じ条件で、実験を繰り返す。対応するエッチング速度は、同じ条件では、90体積の混合物で行われる類似のサーマルクリーニングプロセスより10高いという結果になる。他方、エッチング速度は、RPSにより支援される対応するクリーニング実験より15遅いという結果になる。F290/Ar10v/vで、圧力を660mTorrに増加10高くしてサーマルクリーニングプロセスを繰り返す。クリーニング速度は圧力と正比例し、従って、それは10速いという結果になる、または、換言すれば、それは100フッ素を使用する場合と同じ速度に達する。F290/Ar10v/vの混合物を使用する実験を690mTorr15で繰り返す。クリーニング速度は600mTorrでのサーマルクリーニングプロセスより15速いという結果になるため、クリーニング速度と圧力との比例関係が確認される。換言すれば、この実験では、RPS支援クリーニングプロセスにおけるF290/Ar10v/vと同じ性能。サーマルクリーニングの利点は、工業設備の購入時にRPS源を省くことが可能であり、プラズマを励起させるエネルギーを節約することが可能なことである。フッ素90体積の混合物はGWP=0であり、チューブトレーラーで輸送することができ、圧力を僅かに増加させると、RPS支援プロセスにおけるF2100またはNF3と同じ速度で設備をクリーニングすることができる。[実施例5]化学プラントで、図1に記載のチューブトレーラーにF2ガス90体積とアルゴン10体積からなる混合ガスを圧縮機で充填する。流量は、純フッ素と接触する材料に適合するレベルに設定する。純フッ素の取り扱いガイドラインは、例えば、EIGACodeIGCDocument140/10Ehttp://www.eiga.orgに記載されており、混合物の充填に適用することができる。次いで、チューブトレーラーはトラックに積載され、太陽電池パネルphotovoltaicpanelsまたはLCDパネルが製造されるプラントに陸路で安全に輸送される。チューブトレーラーは、前述のプラントのガス配送システムに連結される。このガス配送システムは、既述のEIGA規則に記載されているガイドラインに準拠して設計された。システムは不動態化されている。連結は、半導体工業で高純度ガスのシリンダの連結に使用される標準的な手順に従って行われる。弁を開放し、チューブトレーラーでプラントにフッ素含有ガスを配送することができる。