"式Iの金属-配位子錯体:{式中、各LQは、存在しないか、又はLであり;各Lは、独立に、存在しないか、又はハロゲン原子、水素原子、C1-C40ヒドロカルビルCONH-、C1-C40ヒドロカルビルCONC1-C20ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビルCOO-、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヘテロヒドロカルビル、RKRLN-、RLO-、RLS-又はRKRLP-ここで、各RK及びRLは、独立に、水素、C1-C40ヒドロカルビル、[C1-C10ヒドロカルビル]3Si、[C1-C10ヒドロカルビル]3SiC1-C10ヒドロカルビル、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであるか、あるいはRKとRLが一緒になってC2-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを形成しているであるか、あるいはLとLQが一緒になってRD2C=CRD-CRD=CRD2を形成しており、各Lは、独立に、M1に結合しているモノアニオン性部分であり;nは0~3の整数であり;各Xは、独立に、存在しないか、又はRXNRKRL、RKORL、RKSRLもしくはRXPRKRLである中性ルイス塩基基ここで、各RXは、独立に、水素、C1-C40ヒドロカルビル、[C1-C10ヒドロカルビル]3Si、[C1-C10ヒドロカルビル]3SiC1-C10ヒドロカルビル、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであり、RK及びRLは、独立に、先に定義したとおりであるであり;Jは式J1~J7:RKRLRXP=N-J1,式中、RK、RL及びRXの各々は、独立に、先に定義したとおりである;RKRLB-O-J2,式中、RK及びRLの各々は、独立に、先に定義したとおりである;式中、---は2つの非局在化したπ結合を示し、各RW1及びRW2は独立にRXであり、M2はAl-RA、Ga-RA又はZnであり、ここで、各RAは独立にC1-C40アルキル、RKRLN-又はRLO-であり、各RJは独立にC6-C12アリールである;RKRLN-O-J4,式中、RK及びRLの各々は、独立に、先に定義したとおりである;RKRLC=N-J5,式中、RK及びRLの各々は、独立に、先に定義したとおりである;RKRLRXNC=N-J6,式中、RK、RL及びRXの各々は、独立に、先に定義したとおりである;RLRXN2C=N-J7,式中、RK、RL及びRXの各々は、独立に、先に定義したとおりである;のいずれか1つのモノアニオン性部分であるか、あるいは、nは1、2又は3であり、1つのXとJが一緒になって式K1~K6:式中、RK、RL及びRXの各々は、独立に、先に定義したとおりであるのうちのいずれか1つのモノアニオン性二座部分XJ-JXを形成しており;各M1は、独立に、第4族金属であり、これは、M1がハフニウムHf、ジルコニウムZr又はチタンTiであることを意味し、当該金属は3又は4の形式酸化状態にあり;mは0~3の整数であり;各R1は、独立に、H、C1-C40ヒドロカルビル、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであり;R2、R3及びR4の各々は、独立に、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビルO-、C1-C40ヒドロカルビルS-、C1-C40ヒドロカルビルSO-、C1-C40ヒドロカルビルSO2-、C1-C40ヒドロカルビル2N-、C1-C40ヒドロカルビル2P-、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであるか、あるいは、R4は、先に定義したとおりであり、R2とR3が一緒になって式R23:式中、R2A及びR3Aの各々は、独立に、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビルO-、C1-C40ヒドロカルビルS-、C1-C40ヒドロカルビルSO-、C1-C40ヒドロカルビルSO2-、C1-C40ヒドロカルビル2N-、C1-C40ヒドロカルビル2P-、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであるのジラジカルを形成しており;各R5は、独立に、C1-C40ヒドロカルビル、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであるか;あるいはR1とR2、R1とR4、R1とR2A、R2とR3、R2とR5、R2AとR3A、R2AとR5、R3とR4、R3AとR4、R4とR5、R1もしくはR5とXもしくはJのRK、又はR1もしくはR5とLもしくはJのRLは一緒になってC1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、それらの残りは先に定義したとおりであるか;あるいはR1もしくはR5とLが一緒になって、C1-C40ヒドロカルビレン-CONH-、C1-C40ヒドロカルビレン-CONC1-C20ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビレン-COO-、C1-C40ヒドロカルビレン、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、それらの残りは先に定義したとおりであるか;あるいはR1~R5、R2A、R3A、XもしくはJのRK及びLもしくはJのRLのうちのいずれか3つ又は4つが一緒になって、C1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンの各三価又は四価の類似体を形成しており、それらの残りは先に定義したとおりであり;あるいはR1もしくはR5と、R1~R5の残りとR2A、R3A、XもしくはJのRK及びLもしくはJのRLのうちのいずれか1つ又は2つとがLと一緒になって、C1-C40ヒドロカルビレン-CONH-、C1-C40ヒドロカルビレン-CONC1-C20ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビレン-COO-、C1-C40ヒドロカルビレン、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンの各三価又は四価の類似体を形成しており、R1~R5、R2A、R3A、XもしくはJのRK及びLもしくはJのRLの残りは先に定義したとおりであり;上記C6-C12アリール、C1-C10ヒドロカルビル、C1-C20ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヘテロヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビレン、C2-C40ヒドロカルビレン、及びC1-C40ヘテロヒドロカルビレンの各々は、独立に、同じであるか又は異なり、置換されていないかもしくは1個以上の置換基RSにより置換されており;各RSは、独立に、ハロゲン原子、ポリフルオロ、ペルフルオロ、非置換C1-C18ヒドロカルビル、F3C-、FCH2O-、F2HCO-、F3CO-、オキソ、R3Si-、RO-、RS-、RSO-、RSO2-、R2P-、R2N-、R2C=N-、NC-、RCOO-、ROCO-、RCONR-、又はR2NCO-であり、ここで、各Rは独立に非置換C1-C18ヒドロカルビルであり;各は、独立に、結合フラグメントを示し;各L、LQ、及びmは、式Iの金属-配位子錯体が集合体で中性であるように、金属M1の形式酸化状態に応じて選択される}。R2とR3が一緒になって式R23:のジラジカルを形成しているために、式Iの金属-配位子錯体は、式II-B、II-E、II-A、II-H又はII-I:[式II-Bにおいて、各R34は、独立に、CR352、O、S、SO、SO2、NRN、SiRC2又はPRPであり、ここで、各R35は、独立に、H又はC1-C20ヒドロカルビルであり、各RN、RC及びRPは、独立に、C1-C20ヒドロカルビルである];式II-Eにおいて、各----は、存在しないか、又はπ結合である][式II-Aにおいて、各R34は、独立に、CR352、O、S、SO、SO2、NRN、SiRC2又はPRPであり、ここで、各R35は、独立に、H又はC1-C20ヒドロカルビルであり、各RN、RC及びRPは、独立に、C1-C20ヒドロカルビルである];式II-Hにおいて、R2Aは、H又はC1-C40ヒドロカルビルであり、R3AとR4は一緒になってC1-C20ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンを形成している];又は[式II-Iにおいて、R2Aは、H又はC1-C40ヒドロカルビルであり、R3AとR4は一緒になってC1-C20ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンを形成している]の金属-配位子錯体である、請求項1に記載の金属-配位子錯体。式II-H及びII-Iにおいて、R3AとR4が一緒になってC2-C5ヒドロカルビレン又はC1-C4ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、R1及びR5の各々は、独立に、C1-C10ヒドロカルビルであり、R2AはH又はC1-C10アルキルである、請求項2に記載の金属-配位子錯体。式III:[式中、R2B、R3B及びR4の各々は、独立に、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビルO-、C1-C40ヒドロカルビルS-、C1-C40ヒドロカルビルSO-、C1-C40ヒドロカルビルSO2-、C1-C40ヒドロカルビル2N-、C1-C40ヒドロカルビル2P-又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルである]の金属配位子錯体である請求項1に記載の金属配位子錯体。式Iにおいて;あるいは、式II-B、II-E又はII-Aにおいて;あるいは、式IIIにおいて、JがRKRLRXP=N-J1又はRKRLC=N-J5である、請求項1~4のいずれか一項に記載の金属-配位子錯体。nが0であり、Xが存在しない、請求項1~5のいずれか一項に記載の金属-配位子錯体。nが1であり、XとJが一緒になって式K1~K6のいずれか1つの上記のアニオン性二座部分XJ-JXを形成していて、金属-配位子錯体が式IV:により表されるものである、請求項1に記載の金属-配位子錯体。RK、RL及びRXの各々が、独立に、C1-C20ヒドロカルビルである、請求項1~7のいずれか一項に記載の金属-配位子錯体。L及びLQの各々が、独立に、C1C5アルキル、トリメチルシリルメチル又はベンジルである、請求項1~8のいずれか一項に記載の金属配位子錯体。前記金属-配位子錯体が式1~12:式中、Meはメチルであり、i-Prはiso-プロピルを意味し、t-Buは1,1-ジメチルエチルを意味し、Phはフェニルを意味するのいずれか1つにより表されるものである、請求項1に記載の金属-配位子錯体。請求項1~10のいずれか一項に記載の1種以上の金属-配位子錯体と1種以上の活性化共触媒又はそれらの反応生成物を含む、あるいは請求項1~10のいずれか一項に記載の1種以上の金属-配位子錯体と1種以上の活性化共触媒又はそれらの反応生成物から製造された触媒であって、1種以上の金属-配位子錯体の総モル数と1種以上の活性化共触媒の総モル数との比が1:10,000~100:1である触媒。ポリオレフィンの製造方法であって、少なくとも1種の重合性オレフィンを、当該少なくとも1種の重合性オレフィンの少なくとも幾らかを重合させるのに十分なオレフィン重合条件の下で、請求項11に記載の触媒に接触させて前記少なくとも1種の重合性オレフィンからポリオレフィンを生成させる工程を含む、ポリオレフィンの製造方法。化学業界は、新規な金属-配位子錯体及びそれを含む又はそれから製造された触媒、特にオレフィン重合反応条件例えば、温度下での安定性が向上例えば、その中でのアルキル基の移行に対してしたものを望んでいる。新規な触媒は、新規な組成例えば、新規なポリオレフィン組成をもたらす反応を触媒するのに、反応収率を向上させるのに、代わりの基質選択性をもたらすのに例えば、ポリオレフィンコポリマーを製造する際のモノマー及びコモノマーについての新しい相対選択性をもたらすのに、製造コストを削減するのに、プロセス安全性を改善するのに、又はこれらの組み合わせをもたらすのに有用なものであることが好ましい。第1の態様において、本発明は、式Iの金属-配位子錯体である:{式中、各LQは、独立に、存在しないか、又はLであり;各Lは、独立に、存在しないか、又はハロゲン原子、水素原子、C1-C40ヒドロカルビルCONH-、C1-C40ヒドロカルビルCONC1-C20ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビルCOO-、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヘテロヒドロカルビル、RKRLN-、RLO-、RLS-又はRKRLP-ここで、各RK及びRLは、独立に、水素、C1-C40ヒドロカルビル、[C1-C10ヒドロカルビル]3Si、[C1-C10ヒドロカルビル]3SiC1-C10ヒドロカルビル例えば、トリメチルシリルエチル、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであるか、あるいはRKとRLが一緒になってC2-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを形成しているであるか、あるいはLとLQが一緒になってRD2C=CRD-CRD=CRD2式中、RDは、独立に、水素、非置換C1-C6アルキル、フェニル又はナフチルであるを形成しており、各Lは、独立に、M1に結合しているモノアニオン性部分であり;nは0~3の整数であり;各Xは、独立に、存在しないか、又はRXNRKRL、RKORL、RKSRLもしくはRXPRKRLである中性ルイス塩基基ここで、各RXは、独立に、水素、C1-C40ヒドロカルビル、[C1-C10ヒドロカルビル]3Si、[C1-C10ヒドロカルビル]3SiC1-C10ヒドロカルビル、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであり、RK及びRLは、独立に、先に定義したとおりであるであり;Jは式J1~J7:RKRLRXP=N-J1,式中、RK、RL及びRXの各々は、独立に、先に定義したとおりである;RKRLB-O-J2,式中、RK及びRLの各々は、独立に、先に定義したとおりである;式中、---は2つの非局在化したπ結合を示し、各RW1及びRW2は、独立に、RXであり、M2はAl-RA、Ga-RA又はZnであり、ここで、各RAは、独立に、C1-C40アルキル、RKRLN-又はRLO-であり、各RJは独立にC6-C12アリールである;RKRLN-O-J4,式中、RK及びRLの各々は、独立に、先に定義したとおりである;RKRLC=N-J5,式中、RK及びRLの各々は、独立に、先に定義したとおりである;RKRLRXNC=N-J6,式中、RK、RL及びRXの各々は、独立に、先に定義したとおりである;RLRXN2C=N-J7,式中、RK、RL及びRXの各々は、独立に、先に定義したとおりである;のうちのいずれか1つにモノアニオン性部分であるか、あるいは、nは1、2又は3であり、1つのXとJが一緒になって式K1~K6:式中、RK、RL及びRXの各々は、独立に、先に定義したとおりであるのうちのいずれか1つのモノアニオン性二座部分XJ-JXを形成しており;各M1は、独立に、元素の周期表後述の第3~6族のいずれか1つの金属であり、当該金属は、2、3、4、5又は6の形式酸化状態にあり;mは0~3の整数であり;各R1は、独立に、H、C1-C40ヒドロカルビル、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであり;R2、R3及びR4の各々は、独立に、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビルO-、C1-C40ヒドロカルビルS-、C1-C40ヒドロカルビルSO-、C1-C40ヒドロカルビルSO2-、C1-C40ヒドロカルビル2N-、C1-C40ヒドロカルビル2P-、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであるか、あるいは、R4は、先に定義したとおりであり、R2とR3が一緒になって式R23:式中、R2A及びR3Aの各々は、独立に、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビルO-、C1-C40ヒドロカルビルS-、C1-C40ヒドロカルビルSO-、C1-C40ヒドロカルビルSO2-、C1-C40ヒドロカルビル2N-、C1-C40ヒドロカルビル2P-、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであるのジラジカルを形成しており;各R5は、独立に、C1-C40ヒドロカルビル、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであるか;あるいはR1とR2、R1とR2A、R1とR4、R2とR3、R2とR5、R2AとR3A、R2AとR5、R3とR4、R3AとR4、R4とR5、R1もしくはR5とXもしくはJのRK、又はR1もしくはR5とLもしくはJのRLは、一緒になってC1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、それらの残りすなわち、R1、R2、R2A、R3、R3A、R4、R5、XもしくはJのRK、又はLもしくはJのRLの残りは先に定義したとおりであるか;あるいはR1もしくはR5とLが一緒になって、C1-C40ヒドロカルビレン-CONH-、C1-C40ヒドロカルビレン-CONC1-C20ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビレン-COO-、C1-C40ヒドロカルビレン、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、それらの残りは先に定義したとおりであるか;あるいはR1~R5、R2A、R3A、XもしくはJのRK及びLもしくはJのRLのうちのいずれか3つ又は4つが一緒になって、C1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンの各三価又は四価の類似体を形成しており、それらの残りは先に定義したとおりであり;あるいはR1もしくはR5と、R1~R5の残りとR2A、R3A、XもしくはJのRK及びLもしくはJのRLのうちのいずれか1つ又は2つとがLと一緒になって、C1-C40ヒドロカルビレン-CONH-、C1-C40ヒドロカルビレン-CONC1-C20ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビレン-COO-、C1-C40ヒドロカルビレン、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンの各三価又は四価の類似体を形成しており、R1~R5、R2A、R3A、XもしくはJのRK及びLもしくはJのRL及びLの残りは先に定義したとおりであり;上記C6-C12アリール、C1-C10ヒドロカルビル、C1-C20ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヘテロヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビレン、C2-C40ヒドロカルビレン、及びC1-C40ヘテロヒドロカルビレンの各々は、独立に、同じであるか又は異なり、置換されていないかもしくは1個以上の置換基RSにより置換されており;各RSは、独立に、ハロゲン原子、ポリフルオロ、ペルフルオロ、非置換C1-C18ヒドロカルビル、F3C-、FCH2-、F2HCO-、F3CO-、オキソすなわち、=O、R3Si-、RO-、RS-、RSO-、RSO2-、R2P-、R2N-、R2C=N-、NC-、RCOO-、ROCO-、RCONR-、又はR2NCO-であり、ここで、各Rは独立に非置換C1-C18ヒドロカルビルであり;各は、独立に、結合フラグメントを示し;各L、LQ、及びmは、式Iの金属-配位子錯体が集合体で中性例えば、LQが存在しない場合にmが0であるであるように、金属M1の形式酸化状態に応じて選択される}。第2の態様において、本発明は、式Iの1種以上の金属-配位子錯体と1種以上の活性化共触媒又はそれらの反応生成物を含む、あるいは式Iに記載の1種以上の金属-配位子錯体と1種以上の活性化共触媒又はそれらの反応生成物から製造された触媒であって、1種以上の金属-配位子錯体の総モル数と1種以上の活性化共触媒の総モル数との比が1:10,000~100:1である触媒である。第3の態様において、本発明は、ポリオレフィンの製造方法であって、少なくとも1種の重合性オレフィンすなわち、オレフィンモノマーを、当該少なくとも1種の重合性オレフィンの少なくとも幾らかを重合させるのに十分なオレフィン重合条件後述するの下で、第2の態様の触媒に接触させて前記少なくとも1種の重合性オレフィンからポリオレフィンを生成させる工程を含む、ポリオレフィンの製造方法である。第4の態様において、本発明は、第2の態様の触媒の製造方法であって、第2の態様の触媒を製造するのに十分な条件下で、式Iの1種以上の金属-配位子錯体を1種以上の活性化共触媒に接触させる工程を含む、第2の態様の触媒の製造方法である、ここで、式Iの1種以上の金属-配位子錯体の総モル数と1種以上の活性化共触媒の総モル数との比は1:10,000~100:1である。第5の態様において、本発明は、式Z:の中間金属-配位子錯体を式J-H又はXJ-JX-Hの化合物に接触させる工程を含む、式Iの金属-配位子錯体の製造方法である。ここで、J及びXJ-JXは第1の態様で定義したとおりであり、J-H又はXJ-JX-Hの化合物はそれぞれ基J又はXJ-JXの共役ブレンステッド酸であり、前記接触は第1の態様について先に記載したとおりの式Iの金属-配位子錯体を含む混合物を生じるのに十分な条件下で実施される。本発明の別の態様は、第3の態様の方法に従って製造されるポリオレフィンである。式Iの金属-配位子錯体は、第2の態様の触媒を製造するのに有用である。第2の態様の触媒は、ポリオレフィンを製造するための第3の態様の方法において有用である。後で説明するように、第3の態様の本発明の方法は、触媒の1種以上の活性化剤、それにより製造されるポリオレフィンの1つ以上の特性、又はそれらの組み合わせにより特徴付けることができる。第3の態様の本発明の方法により製造されたポリオレフィンは、例えば、滑剤、コーティング、フィルム、繊維、並びに成形及び押出物品より高いMw又はMnを有するポリオレフィンが望まれる物品を含むを製造するのに有用である。かかる物品の例としては、周囲使用温度よりも高い使用温度例えば、約30°Cより高い温度を必要とするものである。さらなる例は、合成滑剤、特にオレフィンブロックコポリマーOBC用、衛生用途用の弾性フィルム例えば、おむつカバー用;アプライアンス、ツール、コンシューマー製品例えば、歯ブラシのハンドル、スポーツ用品、建築及び建設、自動車及び医療用途用の可撓性成形品;アプライアンス例えば冷蔵庫のドアガスケット及び形材、建築及び建設、並びに自動車用途のための可撓性ガスケット及び形材;包装例えば、段ボール箱の製造に使用するため、衛生用途、テープ及びラベル用の接着剤;及びスポーツ用品例えば、フォームマット、包装、コンシューマー製品及び自動車用途のためのフォーム。他の例は、高い機械的特性、例えば、モジュラス例えばヤング率、アイゾット衝撃強度、降伏強度、引張強度、破断点伸び、剛性、耐熱性、耐薬品性、耐着火性、極性液体又はガスの拡散に対する抵抗性、及び寸法安定性のうちの1又は2以上を必要とする用途である。さらなる非限定的な態様は、本明細書に添付する特許請求の範囲及び図面を含む以下で説明する。上で要約したように、本発明は、概して、金属-配位子錯体、当該金属-配位子錯体を含む触媒又は当該金属-配位子錯体から製造された触媒、当該触媒によりオレフィンの重合反応を触媒する方法、それにより製造されたポリオレフィン、当該金属-配位子錯体及び触媒の製造方法、並びにそれに有用な中間化合物に関する。好ましくは、第2の態様の触媒は、3種以下、より好ましくは2種、さらに好ましくは1種の式Iの金属-配位子錯体を含む、又は3種以下、より好ましくは2種、さらに好ましくは1種の式Iの金属-配位子錯体から製造される。第2の態様の本発明の好ましい触媒は、重合触媒として有利な触媒効率を示し、従来のポリオレフィンの質量平均分子量MW、数平均分子量Mnと比べてより有利に高いMW、Mn又はそれらの両方を有するポリオレフィンポリオレフィンコポリマーを包含するを生成する。好ましくは、第3の態様の方法により製造されるポリオレフィンはエチレンホモポリマー、エチレン/アルファ-オレフィンインターポリマー例えばコポリマー、又はエチレン/アルファ-オレフィン/ジエンインターポリマー例えばターポリマーである。好ましくは、第4の態様の方法は、非プロトン性溶媒すなわち、-OH、-NH及び-SH官能基を持たない溶媒を使用する。いくつかの態様において、第3の態様の方法は、さらに、別の重合性オレフィンすなわち、オレフィンコモノマーを使用するため、オレフィンモノマーとオレフィンコモノマーの両方と、鎖シャトリング剤CSA、後述、及び副オレフィン重合触媒associateolefinpolymerizationcatalyst本発明の触媒であっても、又は本発明でない後述する触媒であってもよいを使用し、好ましい方法はポリオレフィンを与える。ここで、ポリオレフィンは、ポリオレフィンモノマー-オレフィンコモノマーインターポリマー例えば、コポリマー、より好ましくはポリオレフィンモノマー-オレフィンコモノマーブロックコポリマーすなわちOBC、いくつかの態様においてポリエチレン-アルファ-オレフィンブロックコポリマーがもたらされる。ポリエチレン-アルファ-オレフィンブロックコポリマーは、好ましくは、エチレン由来のハードセグメントと、後述するようにアルファ-オレフィンとエチレンに由来する残基を含むソフトセグメントを含む。用語ポリエチレン-アルファ-オレフィンブロックコポリマーは、本明細書では、用語オレフィンブロックコポリマー、OBC、エチレン/α-オレフィンブロックインターポリマーとエチレン/α-オレフィンブロックコポリマーと互換的に使用する。用語アルファ-オレフィンとα-オレフィンは、本明細書中で互換的に使用する。本明細書で使用する、1つ種のa,an、その又は上記もしくは前記the、少なくとも1つ種のatleastone及び1つ種以上のoneormoreは、互換的に使用する。オープンエンドの非排他的な用語含むcomprising、含むcomprisesなど含むincluding、有するhaving、及びにより特徴付けられるcharacterizedbyはそれぞれの部分的に閉じた部分的に排他的な表現から実質的になるconsistingessentiallyof、から実質的になるconsistsessentiallyofなど又はそれぞれの閉じた排他的な表現からなるconsistingof、からなるconsistsofなどで置き換えることができる。構成員を列挙する際に使用する用語又はは、特に断らない限り、列挙された構成要素の各々と任意の組み合わせを指し、各構成要素のいずれか1つを列挙するさらなる態様をサポートする例えば、10以上をうたった態様では、又はは10をうたう別の態様と10超をうたうさらに別の態様をサポートする。用語複数は、2以上を意味し、各複数は、特に断らない限り、独立に選ばれる。用語第1、第2などは、2つ以上の要素又は限定例えば第1の椅子と第2の椅子間を区別する便利な手段として役立ち、特に示さない限り、量又は順番を暗示しない。引用により内容を援用することを許可する米国などの特許実務上、この発明の詳細な説明中で引用する各米国特許、米国特許出願、米国特許出願公開公報、PCT国際特許出願及びそれに対応するWO公報の全内容特に明記しない限りを、引用により援用する。入手可能である場合、PCT国際特許出願又はWO公報の代わりに、その米国特許又は米国特許出願公開のファミリメンバーを引用により援用する。本明細書の記載と、引用により援用する特許、特許出願もしくは特許出願公開公報又はそれらの一部分の記載とが矛盾する場合には、本明細書の記載が優先する。単語必要に応じては、ある場合とない場合を意味する。例えば、必要に応じて、ある添加剤という記載は、ある添加剤を使用する又は使用しない場合を意味する。括弧なしで記載された単位の値、例えば2インチと括弧内に記載された対応する単位の値、例えば5センチメートルとの間に矛盾がある場合には、括弧なしに記載された単位の値が優先する。化合物名とその構造の間に矛盾が生じた場合には、その構造が優先する。本明細書において、数値範囲の任意の下限又は数値範囲の任意の好ましい下限は、数値範囲の任意の上限又は数値範囲の任意の好ましい上限と組合せて、範囲の好ましい面又は態様を規定できる。各数値範囲は、その範囲内に含まれる全ての数値、有理数及び無理数の両方を含む例えば約1~約5の範囲は、例えば1、1.5、2、2.75、3、3.80、4及び5を含む。特定の置換されていない化学基は、最高で40個の炭素原子を有する例えば、C1-C40ヒドロカルビル及びC1-C40ヘテロヒドロカルビルものとして本明細書に記載する。これらとしては、置換基例えばR基及びオレフィンモノマー炭素原子数は重要でないが挙げられる。かかる置換されていない化学基において40個の炭素原子は実用上の上限であるが、いくつかの態様において、本発明は、40以上例えば、100、1000、又はより多くである炭素原子の最大数を有する置換されていないかかる化学基を意図する。特に断らない限り、元素の周期表という語句は、国際純正応用化学連合IUPACにより発行された公式周期表2007年6月22日付けの版を意味する。また、1つの族又は複数の族へのいかなる言及も、この元素の周期表に示された1つの族又は複数の族への言及であるものとする。いくつかの態様において、M1は第3族の金属である。本発明において有用な第3族の金属記号ランタノイド及びアクチノイド類を包含するとしては、スカンジウムSc、イットリウムY、ランタニド類往々にしてランタノイド類と呼ばれる、特にランタンLa、セリウムCe、プラセオジムPr、ネオジムNd、プロメチウムPm、サマリウムSm、ユーロピウムEu、ガドリニウムGd、テルビウムTb、ジスプロシウムDy、ホリウムHo、エルビウムEr、ツリウムTm、イッテルビウムYb及びルテチウムLu、及び安定なアクチニド類往々にしてアクチノイド類と呼ばれる、特にアクチニウムAc、トリウムTh及びウランUの安定な同位体である。不安定なアクチニド類、例えばプロトアクチニウムPa、ネプツニウムNp、プルトニウムPu、アメリシウムAm、キュリウムCm、バークリウムBk、カリホルニウムCf、アインスタニウムEs、フェルミウムFm、メンデレビウムMd、ノーベリウムNo及びローレンシウムLrは本発明において有用なアクチニド類から除外される。好ましい第3族金属はSc及びYである。他の態様において、M1は第4族の金属である。好ましい第4族金属は、2、3又は4、好ましくは4の形式酸化状態にあるものである。本発明の目的に対し、ラザフォージウムRfは本発明において有用な第4族金属から除外される。さらに他の態様において、M1は第5族の金属である。本発明において有用な第5族金属は、バナジウムV、ニオブNb及びタンタルTaである。本発明の目的に対し、ドブニウムDbは本発明において有用な第5族金属から除外される。さらに他の態様では、M1は第6族の金属である。本発明において有用な第6族金属は、クロムCr、モリブデンMo及びタングステンWである。本発明の目的に対し、シーボルギウムSgは、本発明において有用な第6族金属から除外される。より好ましくは、M1は第4族の金属であり、これは、M1がチタンTi、ジルコニウムZr又はハフニウムHfであり、より好ましくはジルコニウム又はハフニウムであることを意味する。化学基例えば、C1-C40アルキルを説明するときに使用する場合に、Cx-Cyの形式の括弧でくくられた表現は、その化学基の置換されていない形態のものがx個からy個の炭素原子を含むことを意味し、ここで、各x及びyは、独立に、当該化学基について記載した整数である。そのため、例えば、置換されていないC1-C40アルキルは、1~40個の炭素原子を含む。化学基上の1つ以上の置換基が1つ以上の炭素原子を含む場合には、置換Cx-Cy化学基は、y個を超える総数の炭素原子を含んでも含んでいなくてもよい。すなわち、置換Cx-Cy化学基の最高総炭素原子数は、yと、置換基1つ以上の各々炭素原子数の合計との和に等しい。本明細書に特定されていない化学基のいずれの原子も水素原子であると理解されたい。いくつかの態様において、本発明の化合物例えば、式Iの金属-配位子錯体は1個以上の置換基RSを含む。好ましくは、20個以下のRS、より好ましくは10個以下のRS、さらに好ましくは5個以下のRSが化合物中に存在する。本発明の化合物が2個以上の置換基RSを含む場合には、各RSは独立に同じ又は異なる置換された化学基に結合している。いくつかの態様において、少なくとも1つのRSはポリフルオロ又はペルフルオロである。本発明の目的に対し、ポリフルオロ及びペルフルオロはそれぞれ1つのRS置換基としてカウントされる。ポリフルオロにおける用語ポリは、対応する置換されていない化学基の炭素原子に結合している2個以上であるが全てでないHが、置換された化学基においてフルオロにより置換されていることを意味する。ペルフルオロにおけるペルは、対応する置換されていない化学基の炭素原子に結合した各Hが、置換された化学基におけるフルオロにより置換されていることを意味する。本明細書において使用する用語C1-C40ヒドロカルビルは、1~40個の炭素原子を有する炭化水素ラジカルを意味し、用語C1-C40ヒドロカルビレンは、1~40個の炭素原子を有する炭化水素ジラジカルを意味する。ここで、各炭化水素ラジカル及びジラジカルは、独立に、芳香族又は非芳香族、飽和又は不飽和、直鎖又は分岐鎖、環式単環式及び多環式、縮合及び非縮合多環式を包含する又は非環式、あるいはこれらの2つ以上の組み合わせであり、各炭化水素ラジカル及びジラジカルは互いに同じ又は異なる炭化水素ラジカル及びジラジカルであり、独立に、置換されていなくても、1つ以上のRSにより置換されていてもよい。好ましくは、C1-C40ヒドロカルビルは、独立に、置換されていない又は置換されたC1-C40アルキル、C3-C40シクロアルキル、C3-C20シクロアルキル-C1-C20アルキレン、C6-C20アリール、又はC6-C20アリール-C1-C20アルキレンである。より好ましくは、C1-C40ヒドロカルビルは、独立に、置換されていない又は置換されたC1-C20ヒドロカルビル、例えば、C1-C20アルキル、C3-C20シクロアルキル、C3-C10シクロアルキル-C1-C10アルキレン、C6-C20アリール、又はC6-C18アリール-C1-C10アルキレンである。さらに好ましくは、C1-C40ヒドロカルビルは、独立に、置換されていない又は置換されたC1-C18ヒドロカルビル、例えば、C1-C18アルキル、C3-C18シクロアルキル、C3-C12シクロアルキル-C1-C6アルキレン、C6-C18アリール、又はC6-C12アリール-C1-C6アルキレンである。好ましくは、任意のC3-C18シクロアルキルは、独立に、置換されていない又は置換されたC3-C10シクロアルキルである。用語C1-C40アルキルは、置換されていない又は1つ以上のRSにより置換された1~40個の炭素原子を有する飽和直鎖又は分岐炭化水素基を意味する。置換されていないC1-C40アルキルの例は、置換されていないC1-C20アルキル、置換されていないC1-C20アルキル、置換されていないC1-C10アルキル、置換されていないC1-C5アルキル、メチル、エチル、1-プロピル、2-プロピル、1-ブチル、2-ブチル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルエチル、1-ペンチル、1-ヘキシル、1-ヘプチル、1-ノニル及び1-デシルである。置換されたC1-C40アルキルの例は、置換されたC1-C20アルキル、置換されたC1-C10アルキル、トリフルオロメチル、及びC45アルキルである。好ましくは、各C1-C5アルキルは、独立に、メチル、トリフルオロメチル、エチル、1-プロピル又は2-メチルエチルである。用語C1-C20アルキレンは、置換されていない又は1つ以上のRSにより置換された1~20個の炭素原子を有する飽和直鎖又は分岐鎖ジラジカルを意味する。好ましくは、C1-C20アルキレンは、そのC1-C20アルキレンが結合している式Iの原子と一緒に、5-又は6-員環を構成している。置換されていないC1-C20アルキレンの例は、置換されていないC1-C10アルキレン置換されていない1,2-C1-C10アルキレンを包含する、-CH2-、-CH2CH2-、-CH23-、-CH24-、-CH25-、-CH26-、-CH27-、-CH28-、及び-CH24CHCH3-である。置換されたC1-C20アルキレンの例は、置換されたC1-C10アルキレン、-CF2-、-CO-、及び-CH214CCH32CH25-すなわち、6,6-ジメチル置換ノルマル-1,20-エイコシレンである。用語C6-C40アリールは、置換されていない又は置換1つ以上のR5によりされた合計6~40個の炭素原子そのうち少なくとも6個から14個までの炭素原子は環炭素原子であるを有する単環式、二環式又は三環式芳香族炭化水素基であって、単環式、二環式又は三環式基は1、2又は3個の環それぞれ第1、第2及び第3の環を含み、任意の第2又は第3の環は独立に、第1の環に縮合しているか又は縮合しておらず、あるいは互いに縮合しているか又は縮合しておらず、第1の環は芳香族であり、好ましくは任意の第2及び第3の環の少なくとも1つは芳香族である。置換されていないC6-C40アリールの例は、置換されていないC6-C20アリール、置換されていないC6-C18アリール、置換されていないC6-C12アリール、フェニル、フルオレニル、テトラヒドロフルオレニル、インダセニル、ヘキサヒドロインダセニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ナフチル、テトラヒドロナフチル及びフェナントレンである。置換されたC6-C40アリールの例は、置換されたC6-C20アリール、置換されたC6-C18アリール、置換されたC6-C12アリール、2-C1-C5アルキル-フェニル、2,4-ビスC1-C5アルキル-フェニル、2,4-ビス[C20アルキル]-フェニル、ポリフルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、及びフルオレン-9-オン-イルである。好ましい置換されたC6-C12アリールは、置換されたC6アリール、より好ましくは、2,6-ビス1-メチルエチルフェニルである。用語C3-C40シクロアルキルは、置換されていない又は1つ以上のRSにより置換された3~40個の炭素原子を有する飽和環状炭化水素基を意味する。置換されていないC3-C40シクロアルキルの例は、置換されていないC3-C20シクロアルキル、置換されていないC3-C10シクロアルキル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル及びシクロデシルである。置換されたC3-C40シクロアルキルの例は、置換されたC3-C20シクロアルキル、置換されたC3-C10シクロアルキル、シクロペンタノン-2-イル及び1-フルオロシクロヘキシルである。C1-C40ヒドロカルビレンの例は、置換されていない又は置換されたC6-C40アリーレン、C3-C40シクロアルキレン及びC1-C40アルキレン例えば、C1-C20アルキレンである。いくつかの態様において、ジラジカルは隣接する炭素原子上に存在するすなわち、1,2-ジラジカルか、又は1つ、2つ又はそれ以上の間に介在する炭素原子により隔てられて存在する例えば、それぞれ、1,3-ジラジカル、1,4-ジラジカルなど。1,2-、1,3-、1,4-又はα、ω-ジラジカルすなわち、ラジカル炭素間の間隔が最大が好ましく、より好ましくは1,2-ジラジカルである。より好ましいのはC6-C18アリーレン、C3-C20シクロアルキレン及びC2-C20アルキレンの1,2-ジラジカル形態である。用語C1-C40ヘテロヒドロカルビルは、1~40個の炭素原子と1つ以上のヘテロ原子N特定の窒素含有ヘテロアリール基、例えばイソオキサゾリルにおけるように-N=を含む場合、O、S、SO、SO2、SiRC2、PRP、NRNを含み、独立に、各RCは置換されていないC1-C18ヒドロカルビルであり、各RPは置換されていないC1-C18ヒドロカルビルであり、各RNは置換されていないC1-C18ヒドロカルビルである。用語C1-C40ヘテロヒドロカルビレンは、1~40個の炭素原子と先に定義したような1個以上のヘテロ原子SiRC2、PRP、NRN、N、O、S、SO及びSO2を有するヘテロヒドロカーボンジラジカルを意味する。ヘテロヒドロカーボン基と、ヘテロヒドロカーボンジラジカルのそれぞれは、独立に、炭素原子又はヘテロ原子上に存在する。各ヘテロヒドロカーボン基及びジラジカルは、独立に、置換されていないか又は置換1つ以上のRSによりされた、芳香族又は非芳香族、飽和又は不飽和、直鎖又は分岐鎖、環状単環式及び多環式、縮合及び非縮合多環を包含する又は非環式、あるいはこれらの2つ以上の組み合わせであり、各ヘテロヒドロカーボンはそれぞれ別のヘテロヒドロカーボン基及びジラジカルと同じであるか又は異なる。好ましくは、C1-C40ヘテロヒドロカルビルは、独立に、置換されていない又は置換されたC1-C40ヘテロアルキル、C2-C40ヘテロシクロアルキル、C2-C40ヘテロシクロアルキル-C1-C20アルキレン、C3-C40シクロアルキル-C1-C20ヘテロアルキレン、C2-C40ヘテロシクロアルキル-C1-C20ヘテロアルキレン、C1-C40ヘテロアリール、C1-C20ヘテロアリール-C1-C20アルキレン、C6-C20アリール-C1-C20ヘテロアルキレン、又はC1-C20ヘテロアリール-C1-C20ヘテロアルキレンである。より好ましくは、C1-C40ヘテロヒドロカルビルは、独立に、置換されていない又は置換されたC1-C20ヘテロヒドロカルビル、例えば、C1-C20ヘテロアルキル、C2-C20ヘテロシクロアルキル、C2-C20ヘテロシクロアルキル-C1-C20アルキレン、C3-C20シクロアルキル-C1-C20ヘテロアルキレン、C2-C20ヘテロシクロアルキル-C1-C20ヘテロアルキレン、C1-C20ヘテロアリール、C1-C20ヘテロアリール-C1-C20アルキレン、C6-C20アリール-C1-C20ヘテロアルキレン、又はC1-C20ヘテロアリール-C1-C20テロアルキレンである。さらに好ましくは、C1-C40ヘテロヒドロカルビルは、独立に、置換されていない又は置換されたC1-C18ヘテロヒドロカルビル、例えば、C1-C18ヘテロアルキル、C2-C18ヘテロシクロアルキル、C2-C12ヘテロシクロアルキル-C1-C6アルキレン、C3-C12シクロアルキル-C1-C6ヘテロアルキレン、C2-C12ヘテロシクロアルキル-C1-C6ヘテロアルキレン、C1-C12ヘテロアリール、C1-C12ヘテロアリール-C1-C6アルキレン、C6-C18アリール-C1-C6ヘテロアルキレン、又はC1-C12ヘテロアリール-C1-C6ヘテロアルキレンである。好ましくは、任意のC2-C18ヘテロシクロアルキルは、独立に、置換されていない又は置換されたC2-C9ヘテロシクロアルキルである。C1-C40ヘテロアルキル及びC1-C20ヘテロアルキレンの例は、それぞれ、1~40個又は1~20個の炭素原子と、1個以上の先に定義したヘテロ原子SiRC2、PRP、NRN、N、O、S、SO及びSO2を有する、飽和直鎖又は分岐鎖のラジカル又はジラジカルであり、C1-C40ヘテロアルキル及びC1-C20ヘテロアルキレンは、独立に、置換されていないか、又は1つ以上のRSにより置換されている。置換されていないC2-C40ヘテロシクロアルキルの例は、置換されていないC2-C20ヘテロシクロアルキル、置換されていないC2-C10ヘテロシクロアルキル、アジリジン-1-イル、オキセタン-2-イル、テトラヒドロフラン-3-イル、ピロリジン-1-イル、テトラヒドロチオフェン-S,S-ジオキシド-2-イル、モルホリン-4-イル、1,4-ジオキサン-2-イル、ヘキサヒドロアゼピン-4-イル、3-オキサ-シクロオクチル、5-チア-シクロノニル及び2-アザ-シクロデシルである。置換されていないC1-C40ヘテロアリールの例は、置換されていないC1-C20ヘテロアリール、置換されていないC1-C10ヘテロアリール、ピロール-1-イル、ピロール-2-イル、フラン-3-イル、チオフェン-2-イル、ピラゾール-1-イル、イソオキサゾール-2-イル、イソチアゾール-5-イル、イミダゾール-2-イル、オキサゾール-4-イル、チアゾール-2-イル、1,2,4-トリアゾール-1-イル;1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、テトラゾール-1-イル、テトラゾール-2-イル、テトラゾール-5-イル、ピリジン-2-イル、ピリミジン-2-イル、ピラジン-2-イル、インドール-1-イル、ベンゾイミダゾール-1-イル、キノリン-2-イル、及びイソキノリン-1-イルである。用語ハロゲン原子は、フルオロF、クロロCl、ブロモBr又はヨードI基を意味する。好ましくは、ハロゲン原子はフルオロ又はクロロであり、より好ましくはフルオロである。好ましくは、式Iの金属-配位子錯体において、SO又はSO2ジラジカル官能基中のO-S結合以外にO-O、S-S又はO-S結合は存在しない。好ましくは、各置換されたC1-C40ヒドロカルビルは、置換されていない又は置換されたC1-C40ヘテロヒドロカルビルを除外し、置換されていない又は置換されたC1-C40ヘテロヒドロカルビルとは異なり、好ましくは、各置換されたC1-C40ヒドロカルビレンは置換されていない又は置換されたC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを除外し、置換されていない又は置換されたC1-C40ヘテロヒドロカルビレンとは異なり、より好ましくは、それらの組み合わせである。用語飽和は、炭素-炭素二重結合、炭素-炭素三重結合、及びヘテロ原子含有基において炭素-窒素、炭素-リン及び炭素-ケイ素二重結合を欠くことを意味する。飽和化学基が1つ以上の置換基RSによって置換されている場合、1つ以上の二重及び/又は三重結合は、必要に応じて、置換基RS中に存在していてもよい。用語不飽和は、1個以上の炭素-炭素二重結合、炭素-炭素三重結合、及びヘテロ原子含有基において炭素-窒素、炭素-リン及び炭素-ケイ素二重結合を含むことを意味し、置換基RS又は複素芳香族環存在する場合中にかかる二重結合が存在していても存在していなくてもよい場合を含まない。いくつかの態様は、ジラジカル基の三価又は四価の類似体を意図する。ジラジカル基に適用される場合に、用語三価又は四価の類似体は、それぞれ、ジラジカル基から1又は2個の水素原子を引き抜くことにより形式的に誘導されるトリラジカル又はテトララジカルを意味する。好ましくは、各引き抜かれる水素原子は、独立に、C-H官能基からとられる。3価の類似体が4価の類似体よりも好ましい。いくつかの態様において、R1~R5、X、L、LQ及びJの少なくとも1つ、より好ましくは少なくとも2、さらに好ましくは全てが、独立に、置換されていないすなわち、置換基RSを欠く。他の態様において、R1~R5、X、L、LQ及びJの少なくとも1つ、より好ましくは少なくとも2、さらに好ましくは3つが、独立に、置換基RSにより置換されており、各置換基RSは独立に、好ましくはC1-C10アルキル、より好ましくはC1-C5アルキルである。他の態様において、式Iの金属-配位子錯体は、1つのラジカル基例えば、C1-C40ヒドロカルビルCOO-、C1-C40ヒドロカルビル又はC1-C40ヒドロカルビレンがR1~R5、L、LQ及びJのうちのいずれかの定義から削除された場合を除き、第1の態様に記載したとおりのものである。用語溶媒は、第3、第4及び第5の態様のいずれかの方法と適合性がある液体、好ましくは非プロトン性液体を意味する。好適な溶媒としては、脂肪族及び芳香族の炭化水素、エーテル、及び環状エーテル、特に分岐鎖炭化水素、例えばイソブタン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン及びそれらの混合物など、環式及び脂環式炭化水素、例えばシクロヘキサン、シクロヘプタン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘプタン及びそれらの混合物など;ベンゼン及びC1-C5アルキル置換ベンゼン、例えばトルエン及びキシレンなど;C1-C5アルキル-O-C1-C5アルキル;C4-C5ヘテロシクロアルキル、例えばテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン及び1,4-ジオキサンなど;ポリアルキレングリコールのC1-C5アルキルエーテル類、及びこれらの混合物が挙げられる。式Iの金属-配位子錯体は、それらを活性化共触媒に接触させるか又はそれらを活性化共触媒と組み合わせることによって、あるいは、金属例えば第4族オレフィン重合反応との使用について当該技術分野で知られている活性化方法を使用することによって、触媒的に活性化される。本発明の方法は、活性化共触媒の1つ以上を活性化方法と置き換えることを意図しているが、活性化共触媒の使用が好ましい。本発明において使用するのに好適な活性化共触媒としては、アルキルアルミニウム;ポリマー又はオリゴマーのアルモキサンアルミノキサンとしても知られている;中性ルイス酸;及び非ポリマーの非配位型のイオン形成化合物酸化性条件下でのかかる化合物の使用を含むが挙げられる。適切な活性化方法は、バルク電気分解以下でより詳しく説明するである。上記活性化共触媒及び方法の1つ以上を組み合わせることも意図する。用語アルキルアルミニウムは、モノアルキルアルミニウムジヒドリド又はモノアルキルアルミニウムジハライド、ジアルキルアルミニウムヒドリド又はジアルキルアルミニウムハライド、あるいはトリアルキルアルミニウムを意味する。アルミノキサン及びそれらの製造は、例えば、米国特許第6,103,657号明細書で知られている。好ましいポリマー又はオリゴマーアルミノキサンの例は、メチルアルモキサン、トリイソブチルアルミニウム変性メチルアルモキサン、及びイソブチルアルモキサンである。好ましいルイス酸活性化共触媒は、本明細書に記載されているような1~3個のヒドロカルビル置換基を含む第13族金属化合物である。より好ましい第13族金属化合物は、トリヒドロカルビル置換アルミニウム又はトリヒドロカルビルホウ素化合物であり、さらに好ましくはトリC1-C10アルキルアルミニウム又はトリC6-C18アリールホウ素化合物及びそれらのハロゲン化誘導体ペルハロゲン化体を包含する、特に好ましくはトリスフルオロ置換フェニルボラン、さらによりいっそう特に好ましくはトリスペンタフルオロフェニルボランである。中性ルイス酸活性化共触媒の好ましい組み合わせとしては、トリC1-C4アルキルアルミニウムと、ハロゲン化トリC6-C18アリールホウ素化合物、特にトリスペンタフルオロフェニルボランとの組み合わせが挙げられる。かかる中性ルイス酸混合物とポリマー又はオリゴマーアルモキサンの組み合わせ、特にポリマー又はオリゴマーアルモキサン、単一の中性ルイス酸、特にトリスペンタフルオロフェニルボランとポリマー又はオリゴマーアルモキサンの組み合わせも好ましい。金属-配位子錯体:トリスペンタフルオロフェニルボラン:アルモキサン[例えば、第4族金属-配位子錯体:トリスペンタフルオロフェニルボラン:アルモキサン]の好ましいモル数の比は1:1:1~1:10:30、より好ましくは1:1:1.5~1:5:10である。多くの活性化共触媒及び活性化技術が、様々な金属-配位子錯体に関して次の米国特許にこれまで教示された:米国特許第5,064,802号明細書、米国特許第5,153,157号明細書、米国特許第5,296,433号明細書、米国特許第5,321,106号明細書、米国特許第5,350,723号明細書、米国特許第5,425,872号明細書、米国特許第5,625,087号明細書、米国特許第5,721,185号明細書、米国特許第5,783,512号明細書、米国特許第5,883,204号明細書、米国特許第5,919,983号明細書、米国特許第6,696,379号明細書、及び米国特許第7,163,907号明細書。好適なヒドロカルビルオキシドの例は、米国特許第5,296,433号に開示されている。重合触媒に添加するのに好適なブレンステッド酸塩の例は、米国特許第5,064,802号明細書、米国特許第5,919,983号明細書、米国特許第5,783,512号明細書に開示されている。カチオン性酸化剤と付加重合触媒のための活性化共触媒として非配位型の相溶性アニオンとの好適な塩の例は米国特許第5,321,106号明細書に開示されている。付加重合触媒のための活性化共触媒として好適なカルベニウム塩の例は米国特許第5,350,723号明細書に開示されている。付加重合触媒のための活性化共触媒の好適なシリリウム塩の例は米国特許第5,625,087号明細書に開示されている。アルコール類、メルカプタン類、シラノール類及びオキシム類とトリスペンタフルオロフェニルボランとの好適な錯体の例は米国特許第5,296,433号明細書に開示されている。これらの触媒のいくつかは、米国特許第6,515,155B1号明細書の第50欄第39行~第56欄第55行の部分にも記載されており、その部分のみを引用により本明細書に援用する。いくつかの態様において、上記の活性化共触媒の1種以上を互いに組み合わせて使用する。特に好ましい組み合わせは、トリC1-C4ヒドロカルビルアルミニウム、トリC1-C4ヒドロカルビルボラン又はホウ酸アンモニウムと、オリゴマー又はポリマーアルモキサン化合物との混合物である。式Iの1種以上の金属-配位子錯体の総モル数と1種以上の活性化共触媒の総モル数の比は、1:10,000~100:1である。好ましくは、この比は、少なくとも1:5000、より好ましくは1:1000、かつ、10:1以下、より好ましくは1:1以下である。アルモキサンのみを活性化共触媒として使用する場合、好ましくは、使用されるアルモキサンの総モル数は、式Iの金属-配位子錯体の少なくとも100倍である。トリスペンタフルオロフェニルボランのみが活性化共触媒として使用される場合、好ましくは、使用されるトリスペンタフルオロフェニルボランのモル数と式Iの1種以上の金属-配位子錯体の総モル数との比は0.5:1~10:1、より好ましくは1:1~6:1、さらに好ましく1:1~5:1である。残りの活性化共触媒は、一般的に、式Iの1種以上の金属-配位子錯体の総モル量にほぼ等しいモル量で使用される。式Iの金属-配位子錯体は、単離された結晶として存在することができ、当該単離された結晶は、必要に応じて、実質的に純粋な形態すなわち、90超であるか、又は、式Iの他の1種以上の金属-配位子錯体との混合物として;溶媒付加物の形態必要に応じて、溶媒中、特に有機液体中、好ましくは非プロトン性溶媒中で;二量体の形態で;又はそのキレート化誘導体の形態キレート化誘導体は、式Iの金属-配位子錯体とキレート化剤を含むにある。好ましくは、キレート化剤は有機ルイス塩基例えば、テトラヒドロフランTHFなどの非プロトン性有機溶媒やトリエチルアミンなどの非プロトン性アミン塩基である。いくつかの態様において、より高い酸化状態形態例えば、4の式Iの金属-配位子錯体からより低い酸化状態形態例えば、2の式Iの金属-配位子錯体Iを生成するように、還元剤も使用される。本明細書において、用語還元剤は、金属含有物質又は化合物、有機還元剤、あるいは、還元条件下で、金属M1をより高い酸化状態からより低い酸化状態への還元例えば、6の形式酸化状態から4の形式酸化状態にをもたらす技術例えば電気分解を意味する。好適な還元剤の例は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニウム及び亜鉛、並びにアルカリ金属又はアルカリ土類金属の合金、例えばナトリウム/水銀アマルガム及びナトリウム/カリウム合金などである。他の適当な還元剤の例は、ナトリウムナフタレニド、カリウムグラファイト、リチウムアルキル、リチウム又はカリウムアルカジエニル、及びグリニャール試薬例えば、アルキルマグネシウムハライドである。最も好ましい還元剤はアルカリ金属又はアルカリ土類金属、特にリチウム及びマグネシウム金属である。本発明の金属-配位子錯体を製造するための当業者が適応させることができる好適な技術は公地であり、例えば米国特許第5,866,704号明細書、米国特許第5,959,047号明細書及び米国特許第6,268,444号明細書に教示されている技術から導き出される。好ましくは、式Iの金属-配位子錯体は、実質的に単離された形で集められる。これは実質的に溶媒を含まないこと、例えばその製造に使用された溶媒の合計の10質量以下を含み、単離された形態の式Iの金属-配位子錯体が少なくとも70質量であることを意味する。さらに好ましくは、式Iの金属-配位子錯体は、単離された純粋な形態で集められ精製されるすなわち、式Iの金属-配位子錯体は実質的に溶媒を含まず、純粋な形態のものを少なくとも80重量、より好ましくは少なくとも90重量含む。本明細書において、質量百分率は一形態又は混合物の合計質量を基準とする。好ましくは、かかる混合物における式Iの金属-配位子錯体の質量は、13-炭素又はプロトン核磁気共鳴それぞれ13C又は1H-NMR分光法を用いて決定される。式Iの金属-配位子錯体のいくつかのより好ましい態様において、M1は4価のチタンである。他の態様において、M1は4価のジルコニウムである、さらに他の態様において、M1は4価のハフニウムである。いくつかの態様において、各Xは、式Iの金属-配位子錯体に存在しないすなわち、nが0である。いくつかの態様において、nは1である。いくつかの態様において、nは2である。いくつかの態様において、nは3である。いくつかの態様において、nは1、2又は3であり、少なくとも1つのXはRXNRKRL、RKORL、RKSRL又はRXPRKRLである中性ルイス塩基基である。Xが中性ルイス酸基である場合、より好ましくは、各RX、RK及びRLは、独立に、水素、C1-C40ヒドロカルビル、[C1-C10ヒドロカルビル]3Si、[C1-C10ヒドロカルビル]3SiC1-C10ヒドロカルビル、又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルである。さらに好ましくは、各RX、RK及びRLは、独立に、非置換C1-C20ヒドロカルビルであり、さらに好ましくは非置換C1-C10ヒドロカルビルである。いくつかの態様において、少なくとも1つのLが存在する。かかる態様において、2つのLが存在する場合すなわち、L及びLQ、好ましくは、各Lは同じである。他のかかる態様において、1つのLが異なる。いくつかの態様において、各Lはハロゲン原子、非置換C1-C20ヒドロカルビル、非置換C1-C20ヒドロカルビルCOO-、又はRKRLN-であり、ここで、RK及びRLは、独立に、非置換C1-C20ヒドロカルビルである。いくつかの態様において、各Lは塩素原子、C1-C10ヒドロカルビル例えばC1-C6アルキル又はベンジル、非置換C1-C10ヒドロカルビルCOO-、又はRKRLN-であり、ここで、RK及びRLの各々は、独立に、非置換C1-C10ヒドロカルビルである。いくつかの態様において、R4は先に定義したとおりであり、R2及びR3は一緒になって式R23:のジラジカルを形成している。そのため、式Iの金属-配位子錯体は、式II:式中、R1、R2A、R3A、R4、R5、M1、m、n、L、LQ、J及びXは式Iについて定義したとおりであるの金属-配位子錯体である。好ましくは、R2A、R3A及びR4の各々は、独立に、H又はC1-C20ヒドロカルビルであり、より好ましくは、H又はC1-C10アルキルであり、さらに好ましくはC1-C10アルキルであり、よりいっそう好ましくはメチルである。また、好ましくは、R2A及びR3Aは一緒になってC2-C20ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンを形成している。また、より好ましくは、R5は、C1-C20アルキル例えば1-オクチルである。また、より好ましくは、R4とR5が一緒になって、C1-C5アルキレン、さらに好ましくはC3又はC4アルキレン、よりいっそう好ましくはCH2CH2CH2又はCH2CH2CH2CH2を形成している。式IIのより好ましい金属-配位子錯体は、式II-Aの金属-配位子錯体である:式中、各R34は、独立に、CR352、S、SO、SO2、NRN、SiRC2又はPRPであり、ここで、各R35は、独立に、H又はC1-C20ヒドロカルビルであり、各RN、RC及びRPは、独立に、C1-C20ヒドロカルビルであり、M1、m、n、L、LQ、J、X、R1、R2A及びR5は式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。さらに好ましくは、各R34はCH2である。また、さらに好ましくは、3つのR34のうちの内側にあるものはO又はNRNであり、外側のR34はそれぞれCH2であるすなわち、=CR2A-R34-R34-R34-は=CR2A-CH2-O-CH2-又は=CR2A-CH2-NRN-CH2-である。式II-Aにおいて、nが0であり、Xが存在しない場合の金属-配位子錯体も好ましい。式II-AにおいてR5がXのRKと一緒になってC1-C20ヒドロカルビレンを形成している場合の金属-配位子錯体も好ましい。式II-Aにおいて、R1もしくはR5とLのRLが一緒になってC1-C20ヒドロカルビレンを形成している場合の金属-配位子錯体も好ましい。式II-AにおいてR1もしくはR5とLが一緒になってジラジカル部分C1-C40ヒドロカルビレン-CONC1-C20ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビレン-COO-、C1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを形成している場合の金属-配位子錯体も好ましく、より好ましくはR1とLが一緒になっており、さらに好ましくはR5とLが一緒になっている。式IIの別の好ましい金属-配位子錯体は式II-Bの金属-配位子錯体である:式中、各R34は、独立に、式II-AのR34について先に定義したとおりであり、M1、m、n、L、LQ、J、X、R1、R2A及びR5は式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。さらに好ましくは、2つのR34のうち上側にあるものはO又はNRNであり、下側のR34はCH2であるすなわち、=CR2A-R34-R34-は=CR2A-O-CH2-又は=CR2A-NRN-CH2-である。さらに好ましくは、各R34はCH2である。式II-Bにおいてnが0であり、Xが存在しない場合の金属-配位子錯体も好ましい。式II-BにおいてR5がXのRKと一緒になってC1-C20ヒドロカルビレンを形成している場合の金属-配位子錯体も好ましい。式II-BにおいてR1もしくはR5とLのRLが一緒になってC1-C20ヒドロカルビレンを形成している場合の金属-配位子錯体も好ましい。式II-BにおいてR1もしくはR5とLが一緒になってジラジカル部分C1-C40ヒドロカルビレン-CONC1-C20ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビレン-COO-、C1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを形成している場合の金属-配位子錯体も好ましく、より好ましくはR1とLが一緒になっており、さらに好ましくはR5とLが一緒になっている。式IIの別のより好ましい金属-配位子錯体は式II-Cの金属-配位子錯体である:式中、各----は、存在しないか、π結合であり、各R34は、独立に、式I-AのR34について先に定義したとおりであり、M1、m、n、L、LQ、J、X、R1、R2A及びR5は式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。さらに好ましくは、各----は存在せず、R34はCH2である。式IIの別のより好ましい金属-配位子錯体は式II-Dの金属-配位子錯体である:式中、各----は、存在しないか、π結合であり、R34は、存在しないか、又は、独立に、式II-AのR34について先に定義したとおりであり、M1、m、n、L、LQ、J、X、R1、R2A及びR5は式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。さらに好ましくは、各----はπ結合であり、R34はO又はNRNである。また、さらに好ましくは、各----は存在せず、R34はCH2であるか、又は存在しない。式IIの別のより好ましい金属-配位子錯体は式II-Eの金属-配位子錯体である:式中、各----は、π結合であるか、存在せず、M1、m、n、L、LQ、J、X、R1、R2A及びR5は式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。いくつかの好ましい態様において、各----はπ結合であり、別の態様において、各----は存在しない。式IIの別のより好ましい金属-配位子錯体は式II-Fの金属-配位子錯体である:式中、M1、m、n、L、LQ、J、X、R1、R2A及びR5は式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。いくつかの態様において、R3A、R4及びR5が、独立に、一緒になって、C1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンの三価の類似体を形成しており、M1、L、J、n、X、R1及びR2Aが式IIの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである場合の式IIの金属-配位子錯体が好ましい。式IIのさらに好ましい金属-配位子錯体は式II-Gの金属-配位子錯体である:式中、M1、m、n、L、LQ、J、X、R1及びR2Aは式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。いくつかの態様において、式IIにおいてR2A、及びR3AがそれぞれH又はC1-C40ヒドロカルビル、好ましくはH又はC1-C3ヒドロカルビルであり、M1、L、J、n、X、R1、R4及びR5が式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである場合の金属-配位子錯体が好ましい。式IIのさらに好ましい金属-配位子錯体は式II-Hの金属-配位子錯体である:式中、R2AはH又はC1-C40ヒドロカルビルより好ましくはH又はC1-C10ヒドロカルビル、さらに好ましくはHであり、R3AとR4が一緒になってC1-C20ヒドロカルビレンより好ましくはC1-C5ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンより好ましくはC1-C4ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、M1、m、n、L、LQ、X、R1及びR5は式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。いくつかの態様において、R2A及びR3AがそれぞれH又はC1-C40ヒドロカルビル、好ましくはH又はC1-C3ヒドロカルビルであり、M1、L、J、n、X、R1、R4及びR5が式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである場合の式IIの金属-配位子錯体が好ましい。式IIのさらに好ましい金属-配位子錯体は、JがRKRLC=N-J5である、式II-Iの金属-配位子錯体である:式中、R2AはH又はC1-C40ヒドロカルビルより好ましくはH又はC1-C10ヒドロカルビル、さらに好ましくはHであり、R3AとR4が一緒になってC1-C20ヒドロカルビレンより好ましくはC1-C5ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンより好ましくはC1-C4ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、M1、m、n、L、LQ、X、R1、R5、RK及びRLは式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。R3AとR4が一緒になってC2-C4ヒドロカルビレンを形成しており、JのRKとRLが一緒になってC1-C3ヘテロヒドロカルビレン例えば、Z-エテン-1,2-ジアミンのN,N-二置換-N,N-ジラジカル、例えば置換C6アリール-N-CH=CH-N-置換C6アリールを形成している式II-Iの金属-配位子錯体がより好ましい。式II-Aのうち式II-A1、II-A2、II-A3、II-A4及びII-A5のいずれの金属-配位子錯体、式II-Bのうち式II-B1、II-B2、II-B3、II-B4、II-B5、II-B6、II-B7及びII-B8のいずれの金属-配位子錯体、式II-Cのうち式II-C1、II-C2及びII-C3のいずれの金属-配位子錯体、式II-Dのうち式II-D1及びII-D2のいずれの金属-配位子錯体もさらに好ましい。式中、nは0であり、Xは存在せず、J、R1及びR5は式IIの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。いくつかの態様において、式Iの金属-配位子錯体は式IIIの金属-配位子錯体である:式中、R2B、R3B及びR4は、独立に、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビルO-、C1-C40ヒドロカルビルS-、C1-C40ヒドロカルビルSO-、C1-C40ヒドロカルビルSO2-、C1-C40ヒドロカルビル2N-、C1-C40ヒドロカルビル2P-又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであり、R1、R5、M1、m、n、L、LQ、J及びXは式Iについて定義したとおりのものである。いくつかの態様において、式IIIの金属-配位子錯体は、JがRKRLC=N-J5であるもの、すなわち式III-Aの金属-配位子錯体である:式中、R2B、R3B及びR4は、式IIIの金属-配位子錯体について定義したとおりのものであり、M1、L、LQ、n、m、X、R1及びR5は式Iの金属-配位子錯体について定義したとおりのものである。JのRK及びRLが一緒になってC1-C3ヘテロヒドロカルビレン例えば、Z-エテン-1,2-ジアミンのN,N-二置換-N,N-ジラジカル、例えば置換C6アリール-N-CH=CH-N-置換C6アリールを形成している式III-Aの金属-配位子錯体がより好ましい。上記の式のいずれの金属-配位子錯体についても上記態様のうちのいくつかにおいて、JはRKRLRXP=N-J1である。ここで、RK、RL及びRXの各々は、独立に、式Iについて定義したとおりのものである。より好ましくは、J1はトリス1,1-ジメチルエチルホスフィンイミド、トリフェニルホスフィンイミド又はトリメチルホスフィンイミドである。式I~IIIのいずれの金属-配位子錯体についても上記態様のうちのいくつかにおいて、JはRKRLB-O-J2である。ここで、RK及びRLの各々は、独立に、先に定義したとおりである。より好ましくは、J2はビス1,1-ジメチルエチルボラニル-オキシド、ジフェニルボラニル-オキシド又はジメチルボラニル-オキシドである。式I~IIIのいずれの金属-配位子錯体についても上記態様のうちのいくつかにおいて、Jは式J3により表されるものである:式中、---は2つの非局在化したπ結合を示し;各RW1及びRW2は独立にRXであり;M2はAl-RA、Ga-RA又はZnであり、ここで、各RAは独立にC1-C40アルキル、RKRLN-又はRLO-であり;各RJは独立にC6-C12アリールである。好ましくは、式J3において、各RW1はメチルであり、RW2は水素であり;M2はAl-CH3、Ga-CH3又はZnであり、より好ましくはAl-CH3又はZnであり;各RJは置換フェニル、より好ましくは2,6-ビス1-メチルエチルフェニルである。J3配位子は、米国特許出願公開第2008/0261804A1号明細書の段落[0029]、[0043]及び[0044]並びに図1及び2aに記載されている方法を適用することにより調製できる。式I~IIIのいずれの金属-配位子錯体についても上記態様のうちのいくつかにおいて、JはRKRLN-O-J4である。ここで、RK及びRLの各々は、独立に、先に定義したとおりである、より好ましくは、RKRLN-O-は2,2,6,6-テトラメチルピペリジニル-1-オキシドである。上記式のいずれの金属-配位子錯体についても上記態様のうちのいくつかにおいて、JはRKRLC=N-J5である。より好ましくは、J5は1,3-ビスC6-C10アリール-1,3-ジアザ-2-イミノ配位子であり、各C6-C10アリールは、独立に、置換されていないか又は1~4個のRSにより置換されている。上記式のいずれの金属-配位子錯体についても上記態様のうちのいくつかにおいて、JはRKRLRXNC=N-J6である。上記式のいずれの金属-配位子錯体についても上記態様のうちのいくつかにおいて、JはRLRXN2C=N-J7である。式J1~J7のいずれにおいても、好ましくは、RKと、存在する場合にはRL、RX及びRJは、独立に、C1-C10アルキル、C3-C10シクロアルキル又はC6-C10アリールであり、より好ましくはC1-C10アルキル又はC6アリールであり、さらに好ましくはC1-C4アルキルである。式Iの金属-配位子錯体の上記態様のうちのいくつかにおいて、nは1であり、XとJは一緒になって、上記式K1~K6のうちのいずれか1つのモノアニオン性二座部分XJ-JXを形成しており、そのため、金属-配位子錯体は式IV:により表されるものである。いくつかの態様において、R4が先に定義したとおりであり、R2とR3が一緒になって式R23のジラジカルを形成している式IV:の金属-配位子錯体が好ましい。すなわち、式IVの金属-配位子錯体は式IV-A:式中、R1、R2A、R3A、R4、R5、M1、m、L、LQ及びXJ-JXは式IVについて定義したとおりであるにより表される金属-配位子錯体である。いくつかの態様において、式IVの金属-配位子錯体は式IV-B:[式中、R2B、R3B及びR4は、C1-C40ヒドロカルビル、C1-C40ヒドロカルビルO-、C1-C40ヒドロカルビルS-、C1-C40ヒドロカルビルSO-、C1-C40ヒドロカルビルSO2-、C1-C40ヒドロカルビル2N-、C1-C40ヒドロカルビル2P-又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであり、R1、R5、M1、m、L、LQ及びXJ-JXは式IVについて定義したとおりである]により表される金属-配位子錯体である。式IV、IV-A又はIV-Bの金属-配位子錯体のいくつかの態様において、XJ-JXは上記式K1により表されるものである。式K1の部分は、式K1aのその互変異性体と平衡して存在しうる。互変異性体K1及びK1aは、炭素-窒素二重結合におけるπ電子が非局在化している式で描くこともできる構造は図示せず。式IV、IV-A又はIV-Bの金属-配位子錯体のいくつかの態様において、XJ-JXは上記式K2により表されるものである。式K2の部分は、式K2aのその互変異性体と平衡して存在しうる。互変異性体K2及びK2aは、リン-窒素二重結合におけるπ電子が非局在化している式で描くこともできる構造は図示せず。式IV、IV-A又はIV-Bの金属-配位子錯体のいくつかの態様において、XJ-JXは上記式K3により表されるものである。式IV、IV-A又はIV-Bの金属-配位子錯体のいくつかの態様において、XJ-JXは上記式K4により表されるものである。式IV、IV-A又はIV-Bの金属-配位子錯体のいくつかの態様において、XJ-JXは上記式K5により表されるものである。式IV、IV-A又はIV-Bの金属-配位子錯体のいくつかの態様において、XJ-JXは上記式K6により表されるものである。式K1~K6のいずれにおいても、好ましくは、RKと、存在する場合にはRL及びRXの各々は、独立に、C1-C10アルキル又はC4-C10シクロアルキル、より好ましくはC1-C10アルキル、さらに好ましくはC1-C4アルキルである。Lを有する上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、L例えばLQの各々が、独立に、C1-C5アルキル、トリメチルシリルメチル又はベンジルであるか、又はLがC1-C5アルキル、トリメチルシリルメチル又はベンジルであるものがより好ましい。R34を有する上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、各R34は独立にCR352であり、各R35がH又はメチルであるものがより好ましい。式Iの金属-配位子錯体において、1つのR34がO又はNRNであり、残りのR34存在する場合は独立にCR352であり、各R35はH又はメチルであるものもより好ましい。上記式のいずれの金属-配位子錯体の上記態様においても、より好ましくは、少なくとも1つのC1-C40ヘテロヒドロカルビルが2-[C1-C5アルキル2NCH2]-C6-C18アリールであり、さらに好ましくは2-[C1-C5アルキル2NCH2]-フェニルであり、少なくとも1つのC1-C40ヘテロヒドロカルビレンは、であり、さらに好ましくは、であるか、又は少なくとも1つのC1-C40ヒドロカルビレンは2-メチルフェニルである。いくつかの態様において、式I、II~II-H、III及びIV~IV-Bのいずれの金属-配位子錯体においても、R3AとR4又はR3BとR4がそれぞれ一緒になってC1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを形成しているものが好ましい。より好ましくは、R3AとR4又はR3BとR4がそれぞれ一緒になってC2-C5ヒドロカルビレン又はC1-C4ヘテロヒドロカルビレン、さらに好ましくはC2-C5ヒドロカルビレンを形成しており、好ましくは各R1及びR5の各々は独立にC1-C10ヒドロカルビル、より好ましくはC1-C10アルキル、C3-C10シクロアルキル又はC6-C10アリール、さらに好ましくはC1-C10アルキル又はC6アリールである。かかる態様において、好ましくはR2A又はR2BはH又はC1-C10アルキル、より好ましくはH又はCH3である。R1及びR5を有する上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、R1及びR5の各々が独立にC1-C10ヒドロカルビル、より好ましくはC1-C10アルキル、C3-C10シクロアルキル又はC6-C10アリール、さらに好ましくはC1-C10アルキル又はC6アリールであるものがより好ましい。かかる態様において、好ましくはR2又はR2AはH又はC1-C10アルキル、より好ましくはH又はCH3である。R1を有する上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、R1がC1-C40ヒドロカルビル、さらに好ましくは、R1はC1-C20ヒドロカルビルであり、nは0であり、Xが存在しないものもより好ましい。R1を有する上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、R1がC1-C40ヘテロヒドロカルビル、さらに好ましくはR1がC1-C20ヘテロヒドロカルビル、nが0であり、Xが存在しないものもより好ましい。さらに他の態様において、nは1、2又は3であり、R1とXのRXが一緒になってC1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレン、より好ましくはR1とXのRKが一緒になってC1-C20ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンを形成している。さらに他の態様において、R1とLのRLが一緒になってC1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレン、より好ましくはR1とLのRLが一緒になってC1-C20ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、nは0であり、Xは存在しない。R5を有する上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、R5がC1-C40ヒドロカルビル、さらに好ましくは、R5がC1-C20ヒドロカルビルであり、nは0であり、Xが存在しないものもより好ましい。R5を有する上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、R5がC1-C40ヘテロヒドロカルビル、さらに好ましくはR5がC1-C20ヘテロヒドロカルビルであり、nが0であり、Xが存在しないものもより好ましい。さらに他の態様において、nは1、2又は3であり、R5とXのRXが一緒になってC1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、より好ましくはR5とXのRKは一緒になってC1-C20ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンを形成している。さらに他の態様において、R5とLのRLが一緒になってC1-C40ヒドロカルビレン又はC1-C40ヘテロヒドロカルビレン、より好ましくは、R5とLのRLは一緒になってC1-C20ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、nは0であり、Xは存在しない。よりいっそう好ましくは、R5は1-ブチル、2-プロピル、1,1-ジメチルエチル、ベンジル、フェニル、シクロヘキシル、1-メチル-ピペリジン-4-イル、3-N,N-ジメチルアミノ-プロピル、1,1-ジメチルエチルアミノ、又はピロール-1-イルである。さらに好ましいものは、上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、R1及びR5がそれぞれ独立にC1-C40ヒドロカルビルであり、さらに好ましくはR1及びR5はそれぞれ独立にC1-C20ヒドロカルビルであり、nは0であり、Xは存在しない。X、R1及びR5を有する上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、R1及びR5のうちの1つがXのRKと一緒になってC1-C20ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、R1及びR5の他方がC1-C20ヒドロカルビル又はC1-C20ヘテロヒドロカルビルであるものもさらに好ましい。L、R1及びR5を有する上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、R1及びR5のうちの1つがLのRLと一緒になってC1-C20ヒドロカルビレン又はC1-C20ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、R1及びR5の他方がC1-C20ヒドロカルビル又はC1-C20ヘテロヒドロカルビルであるものもさらに好ましい。R1及びR5を有する上記式のいずれの金属-配位子錯体においても、特に好ましいものは、R1及びR5のうちの1つが2,6-ビスジC1-C4アルキル-アミノフェニル;2,6-ジニトロフェニル、2,6-ジC1-C4アルキルオキシフェニル、2-C1-C4アルキル-フェニル、2,6-ジC1-C4アルキル-フェニル、3,5-ジC1-C4アルキル-フェニル、2,4,6-トリC1-C4アルキル-フェニル、ビフェニル-2-イル、2,6-ジフェニルフェニル、3,5-ジフェニルフェニル、2,4,6-トリフェニルフェニル、3,5-ビス2,6-ビス[C1-C4アルキル]フェニルフェニル、2,6-ジ1-ナフチルフェニル、3,5-ジ1-ナフチルフェニル、シクロヘキシル、ジフェニルメチル又はトリチルである第1の基である金属-配位子錯体である。ここで、各C1-C4アルキルは、独立に、メチル、エチル、1-プロピル、1-メチルエチル、1-ブチル、2-ブチル、2-メチルプロピル又は1,1-ジメチルエチルである。R1及びR5のうちの1つがC1-C20アルキル例えば、1-ブチル、2-プロピル、1,1-ジメチルエチル及び1-オクチル、ベンジル、フェニル、シクロヘキシル、1-メチル-ピペリジン-4-イル、3-N,N-ジC1-C4アルキルアミノ-プロピル、C1-C4アルキル-アミノ又はピロール-1-イルである第2の基である金属-配位子錯体も特に好ましい。R1及びR5のうちの1つが上記の第1の基について定義したとおりのものであり、R1及びR5のうちの他方が上記の第2の基について定義したとおりのものである金属-配位子錯体がよりいっそう好ましい。よりいっそう好ましいものは、上記の式のいずれの金属-配位子錯体において、R1が2,6-ビス1-メチルエチルフェニル、2-1-メチルエチルフェニル、2,4,6-トリス1,1-ジメチルエチルフェニル、2-1,1-ジメチルエチルフェニル、3,4-ビス1,1-ジメチルエチルフェニル、2,4,6-トリフェニルフェニル、ビフェニル-2-イル、3,5-ジフェニルフェニル、シクロヘキシル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、3,5-ビス2,6-ジメチルフェニルフェニル、2,6-ビスジメチルアミノフェニル、2,6-ジニトロフェニル、2,6-ジ1-メチルエトキシフェニル、2,6-ジ1-ナフチルフェニル、又は3,5-ジ1-ナフチルフェニルであり;R5が1-ブチル、2-プロピル、1,1-ジメチルエチル、ベンジル、フェニル、シクロヘキシル、1-メチルピペリジン-4-イル、3-N,N-ジメチルアミノ-プロピル、1,1-ジメチルエチルアミノ、又はピロール-1-イルであるものである。上記の式のいずれの金属-配位子錯体においても、R1が2,6-ビス1-メチルエチルフェニル、2-1-メチルエチルフェニル、2,4,6-トリス1,1-ジメチルエチルフェニル、2-1,1-ジメチルエチルフェニル、3,4-ビス1,1-ジメチルエチルフェニル、2,4,6-トリフェニルフェニル、ビフェニル-2-イル、3,5-ジフェニルフェニル、シクロヘキシル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、3,5-ビス2,6-ジメチルフェニルフェニル、2,6-ビスジメチルアミノフェニル、2,6-ジニトロフェニル、2,6-ジ1-メチルエトキシフェニル、2,6-ジ1-ナフチルフェニル、又は3,5-ジ1-ナフチルフェニルであり;JがRKRLRXP=N-J1であるものもよりいっそう好ましい。上記の式のいずれの金属-配位子錯体においても、R5が1-ブチル、2-プロピル、1,1-ジメチルエチル、ベンジル、フェニル、シクロヘキシル、1-メチルピペリジン-4-イル、3-N,N-ジメチルアミノ-プロピル、1,1-ジメチルエチルアミノ、又はピロール-1-イルであり、JがRKRLRXP=N-J1であるものもよりいっそう好ましい。上記の式のいずれの金属-配位子錯体においても、R1が2,6-ビス1-メチルエチルフェニル、2-1-メチルエチルフェニル、2,4,6-トリス1,1-ジメチルエチルフェニル、2-1,1-ジメチルエチルフェニル、3,4-ビス1,1-ジメチルエチルフェニル、2,4,6-トリフェニルフェニル、ビフェニル-2-イル、3,5-ジフェニルフェニル、シクロヘキシル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、3,5-ビス2,6-ジメチルフェニルフェニル、2,6-ビスジメチルアミノフェニル、2,6-ジニトロフェニル、2,6-ジ1-メチルエトキシフェニル、2,6-ジ1-ナフチルフェニル、又は3,5-ジ1-ナフチルフェニルであり;JがRKRLC=N-J5であるものもよりいっそう好ましい。上記の式のいずれの金属-配位子錯体においても、R5が1-ブチル、2-プロピル、1,1-ジメチルエチル、ベンジル、フェニル、シクロヘキシル、1-メチルピペリジン-4-イル、3-N,N-ジメチルアミノ-プロピル、1,1-ジメチルエチルアミノ、又はピロール-1-イルであり;JがRKRLC=N-J5であるものもよりいっそう好ましい。また、下記の実施例のいずれの式Iの金属-配位子錯体もよりいっそう好ましい。いくつかの態様において、式Iの金属-配位子錯体は、下記の各実施例1~4の金属-配位子錯体1~4のいずれかである。いくつかの態様において、式Iの金属-配位子錯体は、下記の各実施例5~8の金属-配位子錯体5~8のいずれかである。いくつかの態様において、第2の態様の触媒は、式Iの好ましい金属-配位子錯体及び好ましい活性化共触媒又はそれらの反応生成物を含むか、あるいは、式Iの好ましい金属-配位子錯体及び好ましい活性化共触媒又はそれらの反応生成物から製造される。他の態様において、第2の態様の触媒は、式Iの2種以上の好ましい金属-配位子錯体及び少なくとも1種の好ましい活性化共触媒又はそれらの反応生成物を含むか、あるいは、式Iの2種以上の好ましい金属-配位子錯体及び少なくとも1種の好ましい活性化共触媒又はそれらの反応生成物から製造される。いくつかの態様において、第2の態様の触媒は、本明細書に記載のように、さらに、1種以上の溶剤、希釈剤後述、又はそれらの組み合わせを含む。他の態様において、第2の態様の触媒は、さらに、分散剤、例えばエラストマー、好ましくは希釈剤に溶解したものを含む。これらの態様において、第2の態様の触媒は、好ましくは、均一系触媒を含む。いくつかの態様において、第2の態様の触媒は、さらに無機もしくは有機の粒子状固体担体を含むか、又は、さらに無機もしくは有機の粒子状固体担体から製造され、第2の態様の触媒は、当該粒子状担体と支持機能的に接触していて粒子状固体担持触媒を与える。これらの態様において、本発明の粒子状の固体担持触媒は不均一触媒を含む。粒子状固体担体は、第2の態様の触媒を担持することのできる任意の材料であり、得られた本発明の粒子状固体担持触媒が重合性オレフィンの重合を触媒することを可能にする。粒子状固体の例は、シリカ、シリカゲル、アルミナ、クレー、膨張クレーexpandedclayエアロゲル、アルミノケイ酸塩、トリアルキルアルミニウム化合物、及び有機又は無機ポリマー材料、特にポリオレフィン、例えば、ポリテトラフルオロエチレンである。より好ましくは、第2の態様の触媒と固体担体は、本発明の粒子状固体担持触媒において、1:106~1:103、より好ましくは1:106~1:104の比第2の態様の触媒の質量金属M1に基づく:固体担体の質量をもたらす量で使用される。用語オレフィン重合条件は、例えば、それから少なくとも5モルの収率でポリオレフィンを生成させるのに十分な温度、圧力、オレフィンモノマー1種以上の濃度、溶媒1種以上存在する場合、反応時間及び反応雰囲気を生成などの反応パラメーターを意味する。いくつかの態様において、オレフィンの重合は、チーグラーナッタZieglerNatta又はカミンスキーシンKaminskySinn型のオレフィン重合反応のための既知の条件を用いて達成される。第3の態様の方法は、少なくとも1種の重合性オレフィンの少なくとも一部を重合してそれからポリオレフィンを生成させるのに十分なオレフィン重合条件下で行われる。この方法は、重合反応が起こる任意の温度、圧力、又は他の条件例えば、溶媒、雰囲気、及び絶対量及び相対量の成分で又はにより実施できる。好ましくは、この条件は、約-100°C~約300°C、より好ましくは少なくとも約0°C、さらに好ましくは少なくとも約20°C、さらに好ましくは少なくとも約50°Cで、より好ましくは約250°C以下、さらに好ましくは約200°C以下、さらに好ましくは約150°C以下の温度、及び約0.5気圧50キロパスカルkPa~10,000気圧1,010,000kPa、より好ましくは少なくとも約1気圧101kPa、さらに好ましくは少なくとも約10気圧1010kPa、より好ましくは1000気圧101,000kPa以下、さらに好ましくは500気圧50,500kPa以下の圧力で、好ましくは実質的に不活性な雰囲気例えば、窒素ガス、希ガス例えばアルゴンガス及びヘリウムガス、又はそれらの2種以上の混合物から実施的になる乾燥実質的に水を含まない雰囲気の下で、ポリオレフィン例えば、反応混合物のアリコートを分析することにより決定を生成させるのに十分な時間混合例えば、かき混ぜ、撹拌又は振盪することを含む。いくつかの態様において、本発明の金属-配位子錯体は、本明細書に記載したように固体担体上に担持され、スラリー又は気相重合でのオレフィン重合プロセスで使用される。実際的な制限として、スラリー重合は、好ましくは、ポリマー生成物例えば、ポリマー生成物が実質的に不溶性例えば、25°Cで1.0ミリリットルの液体希釈剤に50ミリグラム未満が溶解である液体希釈剤中で行われる。好ましくは、スラリー重合のための希釈剤は、それぞれ5個未満の炭素原子を有する1種以上の炭化水素である。いくつかの態様において、エタン、プロパン又はブタンなどの1種以上の飽和炭化水素が、希釈剤として全部又は一部で使用される。他の態様において、α-オレフィンモノマー又は様々なα-オレフィンモノマーの混合物が、希釈剤として全部又は一部で使用される。最も好ましくは、希釈剤の少なくとも大部分が重合される1種以上のα-オレフィンモノマーを含む。いくつかの態様において、分散剤、特にエラストマーは、好ましくは、当該技術分野で周知の技術を用い、希釈剤に溶解させる。いくつかの態様において、懸濁液、溶液、スラリー、気相、固体状態粉末重合又は他のプロセス条件が使用される。他の態様において、粒子状固体担体は、前記の本発明の粒子状固体担持触媒の形態で使用される好ましくは、本発明の固体担持触媒が気相重合プロセスを含む第3の態様の局面で使用される場合。第3の態様のほとんどの重合反応において、第2の態様の触媒のモル数:使用される重合性化合物の総モル数の比は10-12:1~10-1:1、より好ましくは10-9:1~10-5:1である。第2の態様の触媒は、固体担体上に担持されたかどうかにかかわらず、好ましくは、重合性オレフィンを重合させるか又は2種以上の重合性オレフィンすなわち、オレフィンモノマーを共重合させてポリオレフィンを製造するために使用される。用語重合性オレフィンは、炭素-炭素二重結合又は三重結合を含有するモノマー又はそれから製造された炭素-炭素二重結合又は三重結合を含有するオリゴマー又はポリオレフィンであって、独立に、2~100,000個の炭素原子、好ましくは50,000個以下の炭素原子、より好ましくは10,000個以下の炭素原子を有するものを意味する。好ましくは、重合性オレフィン中に少なくとも1個の炭素-炭素二重結合が存在し、より好ましくは、重合性オレフィンは、炭素-炭素二重結合含有モノマーである。そのため、重合性オレフィンは、連続溶液重合反応中に現場insituで形成されたビニル末端高分子残部である長鎖高分子α-オレフィン単位を含む。第3の態様のいくつかの局面において、かかる長鎖高分子α-オレフィン単位はエチレン及び他の短鎖オレフィンモノマーとともに容易に重合して長鎖分岐を有するポリオレフィンを与える。いくつかの態様において、第3の態様の方法は、望ましい特性を有するポリマーブレンドを製造するために、第2の態様の1種以上の触媒と、第2の態様の触媒又は先に言及したような先行技術のオレフィン重合触媒と同じであっても異なっていてもよい少なくとも1種のさらなる均一又は不均一重合触媒とを、同じ反応器又は別々の反応器好ましくは直列又は並列に接続された内で使用する。かかる方法の一般的な説明については、PCT国際特許出願公開番号第WO94/00500号に開示されている。いくつかの態様において、第3の態様の重合方法は、バッチ式又は連続式の重合方法として実施される。連続法が好ましく、連続法では、例えば、第2の態様の触媒、エチレン、エチレン以外のコモノマーオレフィン、及び必要に応じて溶媒、希釈剤、分散剤、又はそれらの組み合わせが、実質的に連続的に反応ゾーンに供給され、得られたポリオレフィン生成物が反応ゾーンから実質的に連続的に除去される。好ましくは、かかるポリオレフィン生成物は溶液法で製造され、最も好ましくは連続溶液法で製造される。本発明の範囲を決して限定することなく、かかる実質的に連続的な重合法を実施するための例示的な手段は以下のとおりである。攪拌型タンク反応器において、重合すべきモノマーオレフィンを、溶媒及び必要に応じて用いられる連鎖移動剤、例えば反応器に導入される水素の流れと一緒に、連続的に導入される。反応器は、実質的にモノマーと、任意の溶媒又はさらなる希釈剤及び溶解したポリマーとから構成される液相を含む。他の態様において、少量のH分岐誘導ジエン、例えばノルボルナジエン、1,7-オクタジエン又は1,9-デカジエンも加えられる。式Iの金属-配位子錯体及び活性化共触媒が反応器の液相に連続的に導入される。いくつかの態様において、反応器の温度及び圧力は、例えば溶媒/モノマー比を調節すること、添加速度をすること、反応器の液相を冷却又は加熱すること例えば、コイル、ジャケット又はそれらの両方を使用して、あるいは、それらの組み合わせにより制御される。いくつかの態様において、重合速度は、第2の態様の触媒の添加速度を調節することによって制御される。いくつかの態様において、ポリマー生成物のエチレン含有量は、反応器内のエチレンとコモノマーオレフィンとの比を調節することによって変化させる。反応器内のエチレンとコモノマーオレフィンとの比は、反応器へのモノマーの各供給速度を調節することにより制御される。いくつかの態様において、ポリマー生成物の分子量は、温度を調節すること、モノマー濃度を調節すること、又は前述の連鎖移動剤を使用することによって制御される。いくつかの態様において、反応器流出物を、触媒失活剤、例えば水などと接触させる。得られたポリオレフィン生成物に溶液を、必要に応じて加熱し、脱揮、例えば、ガス状モノマー、残留溶媒及び希釈剤などの揮発物を低い圧力でフラッシュ除去することによって、ポリオレフィンを回収する。いくつかの態様において、さらなる脱揮が、例えば脱揮押出機などの装置内で行われる。連続法において、反応器内の第2の態様の触媒及びポリオレフィン生成物の平均滞留時間は、好ましくは約5分間~約8時間、より好ましくは約10分間~約6時間である。いくつかの態様において、第2の態様の触媒は、エチレンホモポリマーの製造及び高い長鎖分岐度を有するエチレン/α-オレフィンコポリマーの製造に使用される。連続重合法、特に連続溶液重合法における第2の態様の触媒の使用は、高い反応器温度で、ビニル末端ポリマー鎖の形成に有利に働く。いくつかの態様において、ビニル末端ポリマー鎖は、成長しているポリマー中に組み込まれ、それによって、長鎖分岐を含むポリマーを与える。第2の態様の触媒の使用は、高圧遊離基法により製造された低密度ポリエチレンと類似した加工性を有するエチレン/α-オレフィンコポリマーの経済的な生産を可能にする。一般的に、エチレン/α-オレフィンコポリマーは、0.85グラム/ミリリットルg/mL~0.96g/mLの密度を有する。いくつかの態様において、得られたエチレン/α-オレフィンコポリマーの密度を調節するために、重合に用いられるα-オレフィンコモノマーのモル数とエチレンモノマーのモル数とのコモノマーとモノマーとの比を変化させる。0.91g/mL~0.93g/mLの好ましい密度範囲を有するエチレン/α-オレフィンコポリマーを製造する場合、好ましくは、コモノマー対モノマー比は0.2未満、より好ましくは、0.05未満、さらに好ましくは0.02未満、よりいっそう好ましくは0.01未満である。いくつかの態様において、水素ガスの使用が、得られるエチレン/α-オレフィンコポリマーの分子量を効果的に制御することが見出された。いくつかの態様において、水素ガスのモル数とモノマーのモル数の比は、約0.5未満、好ましくは0.2未満、より好ましくは0.05未満、さらに好ましくは0.02未満、よりいっそう好ましくは0.01未満である。好ましくは、各重合性オレフィンは、独立に、エチレン;約3~約20個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐状のα-オレフィン、例えばプロピレン、イソブチレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、3-メチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、長鎖高分子α-オレフィン、及びそれらの混合物など;非環式ジエン、例えば1,4-ブタジエン、1,4-ヘキサジエン及び1,7-オクタジエンなど;環状オレフィン、例えばシクロブテン、シクロペンテン、ノルボルネン、及び5位及び6位でC1-C20ヒドロカルビル基により置換されたノルボルネン誘導体など;約4~約40個の炭素原子を有する環状ジエン炭化水素、例えば、シクロヘキサジエン、エチリデン-ノルボルネン及びノルボルナジエンなど;8~20個の炭素原子を有する芳香族環状置換オレフィン例えば、スチレン、C1-C4アルキル置換スチレン、及び4-フェニルブテン;ビニルモノマー、すなわち、例えば、4-ビニルシクロヘキセン、ジビニルベンゼン、及びエチレンとのそれらの混合物、アクリロニトリル、マレイン酸エステル、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はビニルトリアルキルシラン;並びにそれらの混合物、例えば、エチレン、スチレン又はプロピレンと1,4-ヘキサジエン又は非共役ジエン、特にエチリデン-ノルボルネンとの混合物である。好ましい態様において、式Iの各金属-配位子錯体、第2の態様の触媒本発明の固体担持触媒を包含するは、上記の好ましい作用温度で加熱された場合に、熱的に誘発される分子内のアルキル基の転移が低減されたか又は全くない。第2の態様の触媒は、当該技術分野で知られている任意の関連する方法を適応することによって製造でき、特定の方法が本発明に対して重要であるわけではない。好ましくは、第2の態様の触媒は、第4の態様の方法によって製造される。より好ましくは、第4の態様の方法は、第2の態様の触媒を製造するのに十分な条件下で、式Iの金属-配位子錯体を活性化共触媒及び溶媒、好ましくは非プロトン性溶媒中に接触させることを含む。好ましくは、第2の態様の触媒を製造するのに十分な条件は、第3の態様の方法について上記したものを含む。好ましくは、第2の態様の触媒は、現場insituで製造される。より好ましくは、第2の態様の触媒は、現場insituで製造され、第3の態様で使用される。いくつかの態様において、第2の態様の触媒は、少なくとも1種の重合性オレフィンの存在下で現場insituで製造されるため、第2の態様の触媒は直ちに第3の態様の方法において少なくとも1種の重合性オレフィンに接触させる。いくつかの態様において、第2の態様の本発明の触媒は、第3の態様の重合方法を実施する際に溶媒又は希釈剤中に式Iの1種以上の金属-配位子錯体と1種以上の活性化共触媒を添加することにより均一触媒として製造される。他の態様において、第2の態様の触媒は、式Iの1種以上の金属-配位子錯体及び必要に応じて1種以上の活性化共触媒を無機又は有機粒子状担体上に吸着、付着又は化学的に結合させて本明細書に記載の粒子状固体担持触媒をもたらすことにより不均一触媒として製造される。いくつかの態様において、金属-配位子錯体1種以上は、固体担体への活性化共触媒の添加後、添加と同時に、又は添加前に、固体担体に添加される。好ましい態様において、本発明の不均一触媒は、無機固体担体、好ましくはトリC1-C4アルキルアルミニウム化合物を活性化共触媒と反応させることによって製造される。好ましくは、活性化共触媒は、ヒドロキシアリールトリスペンタフルオロフェニルボレートのアンモニウム塩、より好ましくは、4-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ブチルフェニルトリスペンタフルオロフェニルボレート又は4-ヒドロキシフェニル-トリスペンタフルオロフェニルボレートのいずれかのアンモニウム塩である。好ましくは、活性化共触媒は、共沈、浸漬、噴霧又は類似の方法により固体担体上に付着され、その後、任意の溶媒又は希釈剤は、好ましくは除去される。式Iの金属-配位子錯体は、当該技術分野で知られている任意の関連する方法を適応することによって製造でき、特定の方法が本発明に対して重要であるわけではない。好ましいのは、第5の態様の方法である。第5の態様の方法のいくつかの態様において、式Zの中間金属-配位子錯体は、その製造において後述するように、好ましい態様のいずれかである。いくつかの態様において、第5の態様の方法は、さらに、式Zの中間金属-配位子錯体を製造する工程を含む。式Zの中間金属-配位子錯体は、以下に説明する好ましい方法として多くの方法のいずれかによって調製することができる。第5の態様の方法では、式Zの好ましい中間金属-配位子錯体は、例えば、式Zの好ましい中間金属-配位子錯体を生成させるのに十分な条件の下で、M1ベンジル4又はM1ベンジルCl3式中、M1は式Iについて定義したとおりであるの溶媒中の溶液を、1例えばn=1の場合又は2例えばn=2の場合モル当量の式Y:の中間化合物又はその共役塩基の塩の溶媒例えばトルエン中の溶液に接触させることによって製造される。ここで、R1~R5の各々は、独立に、式Iについて定義したとおりのものである。用語式Yの化合物の共役塩基の塩は、式Yの化合物の一価のアニオン例えば、モノ脱プロトン化誘導体すなわち、[Y-]及び全体で一価のカチオンから構成される全体で中性のイオン性分子を意味する。全体で一価のカチオンの例は、トリチルカチオン、テトラC1-C40ヒドロカルビルアンモニウム、ナトリウムカチオン、ヘミカルシウム塩例えば、Ca2[Y-]対モノアニオン中のカルシウムジカチオン、及びヘミマグネシウム塩Mg2[Y-]対モノアニオン中のマグネシウムジカチオンであり、ここで対モノアニオンは、例えば、カルバニオン、ハロゲン化物イオン、炭酸水素イオンHCO3-1、硫酸水素イオンHSO4-1、又はリン酸二水素イオンH2PO4-1である。式Zの好ましい中間金属-配位子錯体を製造するのに十分な条件は、好ましくは、第3の態様の方法について上記したものである。第5の態様の方法の別の態様において、式Zの好ましい中間金属-配位子錯体は、まず、式Yの中間化合物を金属四ハロゲン化物例えば、TiCl4、ZrBr4及びHfCl4に接触させ、次に、得られた混合物を、例えば、溶媒中のC1-C20アルキル、C1-C5アルキル3SiC1-C5アルキル、C3-C10シクロアルキル、C3-C10シクロアルキル-C1-C3アルキレン、C6-C18アリール、又はC6-C18アリール-C1-C3アルキレンのカルバニオンに接触させて式Zの好ましい中間金属-配位子錯体を製造することにより製造される。第5の態様の方法のさらに別の態様は、式Zの好ましい中間金属-配位子錯体は、まず、式Yの中間化合物を溶媒中の上記カルバニオンに接触させて式Yの中間化合物の共役塩基の塩をもたらし、次に、当該共役塩基を上記金属四ハロゲン化物に接触させて式Zの好ましい中間金属-配位子錯体を製造することにより製造される。第5の態様の方法のさらに別の態様において、式Zの好ましい中間金属-配位子錯体は、まず、式Yの中間化合物を、溶媒中のカルバニオン含有塩基、例えばC1-C4アルキルリチウム例えば、1-ブチルリチウム又はC1-C4アルキルマグネシウムハライド例えば、メチルマグネシウムブロミドなどに接触させて式Yの中間化合物の共役塩基のリチウム又はマグネシウムハロゲン化物塩をそれぞれ製造し、次に、当該共役塩基をトリアルキルシリルハライド例えば、トリメチルシリルクロリドに接触させて式Yの中間N-トリアルキルシリル類似体を形成することにより製造される。次に、式Yの中間化合物のN-トリアルキルシリル類似体を金属四ハロゲン化物に接触させ、その後、得られた混合物を、例えば、溶媒中のC1-C20アルキル、C1-C5アルキル3SiC1-C5アルキル、C3-C10シクロアルキル、C3-C10シクロアルキル-C1-C3アルキレン、C6-C18アリール、又はC6-C18アリール-C1-C3アルキレンのカルバニオンに接触させて、式Zの好ましい中間金属-配位子錯体を製造する。好ましくは、第5の態様の方法は、1種以上の非プロトン性溶媒を使用する。より好ましくは、当該方法は、1種以上の非プロトン性溶媒を使用し、式Iの金属-配位子錯体は、単離工程により単離され、より好ましくは単離工程及び精製工程により単離及び精製され、それぞれ、先に記載したような単離された又は単離され精製された形態のものを与える。いくつかの態様において、単離工程及び精製工程は、実質的に同時、すなわち単一のステップである。単離工程の一例は、金属-配位子錯体からの溶媒及び他の揮発性成分の蒸発である。好ましくは、蒸発は、真空下、実質的に不活性な雰囲気下、又はそれらの両方で行われます。他の態様において、当該方法は、さらに、溶剤から金属-配位子錯体を単離する工程と、単離された金属-配位子錯体を従来の方法により精製して純度少なくとも70質量wtの精製された金属-配位子錯体をもたらす工程を含む。式Iの金属-配位子錯体を精製する一例は、金属-配位子錯体を含む反応混合物から溶媒及び他の揮発性成分を蒸発させることすなわち、式Iの金属-配位子錯体の単離及び精製は同時である、式Iの単離された金属-配位子錯体を摩砕trituratingすること、式Iの金属-配位子錯体を反応混合物又は精製溶媒から析出又は再結晶化させること、又はそれらの組み合わせである。好ましくは、式Iの金属-配位子錯体の摩砕triturationは、式Iの金属-配位子錯体ほんの部分的に可溶であるか又は不溶である溶剤を用いて実施され、摩砕物を取り出す。単一の工程を成す単離及び精製の一例は、反応混合物から析出した式Iの金属-配位子錯体を濾過し、必要に応じて、式Iの金属-配位子錯体の得られたフィルターケーキを溶剤により洗浄し、フィルターケーキを乾燥させることである。ここで、析出した式Iの金属-配位子錯体は純度が少なくとも70質量である。いくつかの態様において、式Iの金属-配位子錯体は、現場insituで製造され、第4の態様の方法で使用される。より好ましくは、式Iの金属-配位子錯体は、現場insituで製造され、その後、式Iの金属-配位子錯体を、少なくとも1種の活性化共触媒及び少なくとも1種の重合性オレフィンに接触させるため、第2の態様の触媒は第4の態様の方法により現場insituで製造され、第2の態様の触媒は、それにより、第3の態様の方法における少なくとも1種の重合性オレフィンに直ちに接触してポリオレフィンをもたらす。式Iの金属-配位子錯体を製造するための例示的な手順が、図1に示すスキーム1に示されている。図1において、スキーム1は、式Iの金属-配位子錯体の製造を例示する。ここで、nは0であり、Xは存在せず、JはJ1~J7のいずれかであり、M1、R1~R5及びLは式Iについて定義したとおりである。スキーム1のオプションAは、式Yの中間化合物に対して好ましく、ここで、R2及びR3は、式R23の上記ジラジカルに置き換えられない。オプションDは、式Yの中間化合物に対して好ましく、ここで、R2及びR3は、式R23の上記ジラジカルに置き換えられない。かかる金属-配位子錯体はスキーム1に式I-Xとして示されており、スキーム1において、mは式Iについて定義したとおりであり、式I-Xの金属-配位子錯体が、凝集体で中性であるように選ばれる。スキーム1の手順は、Xが存在しすなわち、nが1、2又は3であるか、あるいは、それぞれ、Xを式I-Xの化合物に接触させることにより又は式J-Hの化合物を式XJ-JX-Hの上記化合物に置き換えることにより1つのXとJが一緒になってXJ-JXを形成している式Iの金属-配位子錯体を製造することが望ましい場合に適応することができる。図1のスキーム1、オプションAにおいて、式Yの中間化合物上記を、非求核塩基により脱プロトン化してエナミド図示せずをもたらし、このエナミドを次に金属ハロゲン化物、例えばM1Clm1mは式Yについて定義したとおりと反応させ、その後、得られた金属-配位子錯体を有機金属化合物、例えば有機リチウムL-Li又はグリニャール試薬L-MgBr又は有機ナトリウムL-Na若しくは有機カリウムL-K、ここで、Lは式Iについて定義したとおりと反応させて式Z-Xの中間金属-配位子錯体をもたらす。あるいは、オプションBにおいて、式Yの中間化合物を、有機金属化合物M1Lm1と反応させて式Z-Xの中間金属-配位子錯体をもたらす。さらに別の選択肢、オプションCにおいて、式Yの中間化合物を、金属-アミド化合物M1NRKRLm1と反応させて中間体図示せずをもたらす、この中間体を次に有機金属化合物例えば有機リチウム又はグリニャール試薬と反応させて式Z-Xの中間金属-配位子錯体をもたらす。さらに別の選択肢、オプションDにおいて、式Yの中間化合物を、金属ハロゲン化物M1Clm1と反応させ、その後、得られた金属配位子錯体を4モル当量の有機金属化合物L-LiやL-MgBr、例えばメチルリチウム又はメチルマグネシウムブロマイドなどと反応させて、式Z-Xの中間金属-配位子錯体をもたらす。ここで、LはC1-C40ヒドロカルビルである。次に、式Z-Xの中間金属-配位子錯体を、式J-Hの化合物と反応させて式I-Xの中間金属-配位子錯体をもたらす。これらの反応は図1に示されており、スキーム1は、好ましくは、実質的に不活性ガス雰囲気下で、無水非プロトン性溶媒、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル又はそれらの組み合わせの中で、約-78°C~約200°Cの範囲内の温度で実施される。好ましくは、反応は大気圧で実施される。本発明の別の態様は、第3の態様の方法に従って製造されたポリオレフィンである。いくつかの態様において、本発明の方法において有用な重合性オレフィンは、炭素及び水素原子からなり、少なくとも1個、好ましくは3個以下、より好ましくは2個以下の炭素-炭素二重結合を含むC2-C40炭化水素である。いくつかの態様において、C2-C40炭化水素の1~4個の水素原子がそれぞれハロゲン原子、好ましくはフルオロ又はクロロにより置換されていてハロゲン原子置換C2-C40炭化水素を与える。C2-C40炭化水素ハロゲン原子で置換されていないが好ましい。ポリオレフィンを製造するのに有用な好ましい重合性オレフィンすなわち、オレフィンモノマーは、エチレン及び重合性C3-C40オレフィンである。C3-C40オレフィンとしては、α-オレフィン、環状オレフィン、スチレン、及び環状又は非環状ジエンが挙げられる。好ましくは、α-オレフィンは、C3-C40α-オレフィン、より好ましくは分枝鎖C3-C40α-オレフィン、さらにより好ましくは直鎖C3-C40α-オレフィン、よりいっそう好ましくは式A:CH2=CH2-CH2zCH3Aの直鎖C3-C40α-オレフィン、さらにいっそう好ましくは1-プロペン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-ノネン、1-デセン、1-ウンデセン、1-ドデセン、1-トリデセン、1-テトラデセン、1-ペンタデセン、1-ヘキサデセン、1-ヘプタデセン、1-オクタデセンである直鎖C3-C40αオレフィン、又は直鎖C20-C24α-オレフィンが挙げられる。好ましくは、環状オレフィンはC3-C40環状オレフィンである。好ましくは、環状又は非環状ジエンはC4-C40ジエン、好ましくは、非環式ジエン、より好ましくは非環式共役C4-C40ジエン、より好ましくは1,3-共役非環式C4-C40ジエン、さらに好ましくは1,3-ブタジエンである。第3の態様の方法に従って製造できるポリオレフィンとしては、例えばポリエチレン、エチレン及び1種以上の重合性C3-C40オレフィンの残基を含むインターポリマーである。好ましいホモポリマーは、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びポリブチレンである。好ましいインターポリマーは、2種以上の重合性オレフィンの混合物を共重合させることにより製造されたもの、例えば、エチレン/プロピレン、エチレン/1-ブテン、エチレン/1-ペンテン、エチレン/1-ヘキセン、エチレン/4-メチル-l-ペンテン、エチレン/1-オクテン、エチレン/スチレン、エチレン/プロピレン/ブタジエン及び他のEPDMターポリマーである。好ましくは、ポリオレフィンは、エチレンホモポリマー、エチレン/α-オレフィンインターポリマー例えば、コポリマー、又はエチレン/α-オレフィン/ジエンインターポリマー例えば、ターポリマーである。好ましくは、ポリオレフィンは、第3の態様の上記の好ましい方法に従って製造されたポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーを含む。ポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーを含む。当該ポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーは、エチレン由来のハードセグメントすなわち、ポリエチレンハードセグメントと、α-オレフィンとエチレンに由来する残基を含むソフトセグメントを含む。α-オレフィンとエチレンとの残基は、典型的には、ほぼランダムにソフトセグメント中に分布する。好ましくは、ポリエチレンハードセグメントは、後述するように核磁気共鳴により求めた場合に、その中に共有結合的に組み込まれたα-オレフィンの残基を5モルmol未満有するとして特徴付けられる。好ましくは、ポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーは、後述する方法を使用して示差走査熱量測定により求めた場合に、100°Cを超える、より好ましくは120°Cを超える溶融温度を有するとして特徴付けられる。ポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーは、エチレン残基と1種以上の共重合性α-オレフィンコモノマー残基すなわち、重合した形態のエチレンと1種以上の共重合性オレフィンコモノマーを含む。ポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーは、化学的又は物理的特性が異なる2種以上の重合性モノマー単位の複数のブロック又はセグメントによって特徴付けられる。すなわち、エチレン/α-オレフィンインターポリマーは、ブロックインターポリマー、好ましくはマルチブロックインターポリマー又はコポリマーである。用語インターポリマー及びコポリマーは、本明細書において互換的に使用される。いくつかの態様において、マルチブロックコポリマーは、次式により表すことができる:ABnここで、nは、少なくとも1、好ましくは1より大きい整数、例えば2、3、4、5、10、15、20、30、40、50、60、70、80、90、100、又はそれ以上であり、Aはハードブロック又はセグメントを表し、Bはソフトブロック又はセグメントを表す。好ましくは、A群及びB群は分枝状又は星状でなく直線状で連結される。ハードセグメントは、ポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマー中に、エチレンが95質量パーセントより多い、好ましくは98質量パーセントより多い量で存在している重合単位のブロックを指す。換言すれば、ハードセグメント中のコモノマーすなわち、α-オレフィン残基含有量は、5質量パーセント未満、好ましくは2質量パーセント未満である。いくつかの態様では、ハードセグメントは、全て又は実質的に全てエチレン残基からなる。用語ポリエチレンハードセグメントとエチレン由来のハードセグメントは同義であり、ポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーのハードセグメント部分を意味する。ソフトセグメントは、コモノマーすなわち、α-オレフィン残基含有量が5質量パーセントより多い、好ましくは8質量パーセントより多い、10質量パーセントより多い、又は15質量パーセントより多い重合単位のブロックを指す。いくつかの態様において、ソフトセグメント中のコモノマー残基含有量は、20質量パーセントより多い、25質量パーセントより多い、30質量パーセントより多い、35質量パーセントより多い、40質量パーセントより多い、45質量パーセントより多い、50質量パーセントより多い、又は60質量パーセントより多いことができる。いくつかの態様において、Aブロック群とBブロック群とは、ポリマー鎖に沿ってランダムに分布する。換言すれば、ポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーは、通常、AAA-AA-BBB-BBのような構造を持たない。他の態様において、ポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーは、通常、第3の種類のブロックを持たないすなわち、AブロックでもBブロックでもないCブロックを持たない。さらに他の態様において、ポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーのブロックAとブロックBの各々は、ブロック内にランダムに分布したモノマー又はコモノマーを有する。換言すれば、ブロックAもブロックBも、2以上の異なる組成のセグメント又はサブ-ブロック、例えばブロックの残りの部分と異なる組成を有する先端セグメントを含まない。いくつかの態様において、ポリオレフィンは、例えば引用により本明細書に援用する米国仮特許出願第61/024,674号明細書及びファミリメンバーであるPCT国際特許出願公開番号第WO2009/097560号明細書に記載されているものなどのエチレン/α-オレフィンインターポリマーを含み、好ましくは、ハードセグメントとソフトセグメントを含み、約1.4~約2.8の範囲内のMw/Mnにより特徴付けられるブロックコポリマーであり;a少なくとも1つのTm°C及び密度d単位はグラム/立方センチメートルを有し、ここでTm及びdの数値は次の関係:Tm>-6553.313735d-7051.7d2に対応し;又はb融解熱ΔH、単位はJ/g、及び最高DSCピークと最高結晶化分析分別CRYSTAFピークとの間の温度差として定義されるデルタ温度量ΔΤ,単位は°Cにより特徴付けられ、ここで、ΔT及びΔHの数値は次の関係を有する:ΔHがゼロ0より大きく且つ130J/g以下である場合にΔΤ>-0.1299ΔH62.81ここで、CRYSTAFピークは、累積ポリマーの少なくとも5を用いて決定され、ポリマーの5未満が特定可能なCRYSTAFピークを持たない場合には、CRYSTAF温度は30°Cであるとする;又はcエチレン/α-オレフィンインターポリマーの圧縮成形フィルムを用いて求められる300歪み及び1サイクルでの弾性回復率Re単位はにより特徴付けられ、密度d単位はグラム/立方センチメートルを有し、Re及びdの数値が、エチレン/α-オレフィンインターポリマーが架橋相を実質的に含まない場合に次の関係を満たす:Re>1481-1629d;又はdTREFを用いて分画した場合に40°C~130°Cの間で溶離する分子画分を有し、当該画分は、上記温度間で溶離する相当するランダムエチレンインターポリマー画分のものよりも少なくとも5高いモルコモノマー含有量を有することを特徴とし、上記の相当するランダムエチレンインターポリマーは、同じコモノマー1種以上を有し、エチレン/α-オレフィンインターポリマーのメルトインデックス、密度及びモルコモノマー含有量ポリマー全体に基づくの10パーセント以内のメルトインデックス、密度及びモルコモノマー含有量ポリマー全体に基づくを有する;又はe25°Cでの貯蔵弾性率G’25°C及び100°Cでの貯蔵弾性率G’100°Cを有し、G’25°CとG’100°Cの比が約11~約91の範囲内である;あるいはf0より大きく約1.0以下の平均ブロックインデックスにより特徴付けられ;又はgTREFを用いて分画した場合に40°C~130°Cの間で溶離する分子画分を有し、当該画分は、-0.2013T20.07の量以上、より好ましくは-0.2013T21.07の量以上のモルコモノマー含有量を有し、ここで、Tは、単位°Cで求められたTREF画分のピーク溶離温度の数値であり;ここで、エチレン/α-オレフィンブロックインターポリマーは、メソフェーズ分離されている。いくつかの態様において、ポリオレフィンは、例えば米国特許第7,355,089号明細書及び米国特許出願公開第2006-0199930号明細書に記載されているものなどのエチレン/α-オレフィンインターポリマーを含み、当該インターポリマーは、好ましくは、ブロックコポリマーであり、ハードセグメントとソフトセグメントを含み、上記エチレン/α-オレフィンインターポリマーは、a約1.7~約3.5のMw/Mn、少なくとも1つのTm°C及び密度d単位はグラム/立方センチメートルを有し、Tm及びdの数値は次の関係:Tm>-2002.94538.5d-2422.2d2に対応し;又はb約1.7~約3.5のMw/Mnを有し、融解熱ΔH、単位はJ/g、及び最高DSCピークと最高結晶化分析分別CRYSTAFピークとの間の温度差として定義されるデルタ量ΔΤ°Cにより特徴付けられ、ここでΔT及びΔHの数値は次の関係を有する:ΔHがゼロより大きく且つ130J/g以下である場合にΔΤ>-0.1299ΔH62.81ここで、CRYSTAFピークは、累積ポリマーの少なくとも5を用いて決定され、ポリマーの5未満が特定可能なCRYSTAFピークを持たない場合には、CRYSTAF温度は30°Cであるとする;又はcエチレン/α-オレフィンインターポリマーの圧縮成形フィルムを用いて求められる300歪み及び1サイクルでの弾性回復率Re単位はにより特徴付けられ、密度d単位はグラム/立方センチメートルを有し、Re及びdの数値が、エチレン/α-オレフィンインターポリマーが架橋相を実質的に含まない場合に次の関係を満たす:Re>1481-1629d;又はdTREFを用いて分画した場合に40°C~130°Cの間で溶離する分子画分を有し、当該画分は、上記温度間で溶離する相当するランダムエチレンインターポリマー画分のものよりも少なくとも5高いモルコモノマー含有量を有することを特徴とし、上記の相当するランダムエチレンインターポリマーは、同じコモノマー1種以上を有し、エチレン/α-オレフィンインターポリマーのメルトインデックス、密度及びモルコモノマー含有量ポリマー全体に基づくの10パーセント以内のメルトインデックス、密度及びモルコモノマー含有量ポリマー全体に基づくを有する;又はe25°Cでの貯蔵弾性率G’25°C及び100°Cでの貯蔵弾性率G’100°Cを有し、G’25°CとG’100°Cの比が約11~約91の範囲内である;あるいはfTREFを用いて分画した場合に40°C~130°Cの間で溶離する分子画分を有し、当該画分は、少なくとも0.5かつ約1以下のブロックインデックス及び約1.3を超えるMw/Mnを有することにより特徴付けられ;又はg0より大きく約1.0以下の平均ブロックインデックス及び約1.3を超えるMw/Mnにより特徴付けられ;又はhTREFを用いて分画した場合に40°C~130°Cの間で溶離する分子画分を有し、当該画分は、-0.2013T20.07の量以上、より好ましくは-0.2013T21.07の量以上のモルコモノマー含有量を有し、ここで、Tは、単位°Cで求められたTREF画分のピーク溶離温度の数値である。他の態様は、例えば、PCT国際特許出願公開番号第WO2005/090425号、WO2005/090426号、及びWO2005/090427号に記載されているようなポリマー及び方法を含む。ポリオレフィンのモノマー及び任意のコモノマー含有量は、任意の適切な技術、例えば赤外IR分光法と核磁気共鳴NMR分光法などを使用して求めることができ、NMR分光法に基づく技術が好ましく、炭素13NMR分光法に基づく技術がより好ましい。炭素13NMR分光法を使用するために、テトラクロロエタン-d2/オルトジクロロベンゼンの50/50混合物約3gを10ミリメートルmmのNMR管中の0.4gのポリマーサンプルに加えることによって、ポリマーサンプルから分析サンプルを調製する。管及びその内容物を150°Cに加熱することによって、ポリマーサンプルを溶解させ均質化させる。100.5MHzの炭素13共振周波数に対応するJEOLEclipse登録商標400MHz分光計又はVarianUnityPlus登録商標400MHz分光計を使用してデータを収集する。6秒間のパルス繰り返し遅延を使用し、1つのデータファイル当たり4000の過渡的状態を使用して炭素13のデータを得る。定量分析のためにシグナル対ノイズ比を最低限に抑えるために、複数のデータファイルを加えて1つにまとめる。スペクトル幅は25,000Hzであり、最小ファイルサイズは32,000のデータ点である。10mm広帯域プローブ中で130°Cで分析サンプルを分析する。ランダルRandallのトリアッドtriad法RandallJCJMSRevMacromolChemPhysC29201317,引用によりその全内容を本明細書に援用するを使用してコモノマーの組み込みを求める。いくつかの態様において、ポリオレフィンモノマー-オレフィンコモノマーブロックコポリマー又はそのセグメントに組み込まれたオレフィンコモノマーの量は、そのコモノマー組み込み指数comonomerincorporationindexによって特徴付けられる。本明細書において、用語コモノマー組み込み指数とは、代表的なオレフィン重合条件下で製造された、オレフィンモノマー/コモノマーコポリマー、又はそれらのセグメント中に組み込またオレフィンコモノマーの残基のモルを指す。好ましくは、オレフィンモノマーは、エチレン又はプロピレンであり、コモノマーは、それぞれC3-C40α-オレフィン又はC4-C40α-オレフィンである。オレフィン重合条件は、理想的には、100°C、4.5メガパスカルMPaのエチレン又はプロピレン圧力反応器圧力で、92パーセントを超える95を超えることがより好ましいオレフィンモノマー転化率、及び0.01を超えるオレフィンコモノマー転化率で、炭化水素希釈剤中での、定常状態の連続溶液重合条件下である。オレフィンコモノマー組み込み指数に最も大きな差がある触媒組成物本発明の触媒を包含するの選択は、ブロック又はセグメント特性、例えば密度などに最も大きな差がある2種以上のオレフィンモノマーからポリオレフィンモノマー-オレフィンコモノマーブロックコポリマーをもたらす。特定の状況では、コモノマー組み込み指数は、例えば、前述したNMR分光技術の使用によって、又は、IR分光法によって、直接求めることができる。NMRやIR分光技術が使用できない場合は、コモノマー組み込みの差は間接的に決定される。複数のモノマーから形成されたポリマーの場合、この間接的な決定は、モノマーの反応性に基づいて様々な技術により達成することができる。所定の触媒により製造されたコポリマーの場合、コポリマー中のコモノマーとモノマーとの相対的な量、及びコポリマーの組成は、コモノマーとモノマーの反応の相対速度によって決定される。数学的に、コモノマーとモノマーのモル比は、米国特許出願公開第2007/0167578A1号明細書の段落番号[0081]~[0090]に記載されている式により与えられる。このモデルの場合も、ポリマーの組成は、温度依存性の反応性比と反応器内のコモノマーのモル分率だけの関数である。これは、逆コモノマー又はモノマー挿入が起こりうる場合、又は2種を超えるモノマーのインター重合interpolymerizationの場合にも当てはまる。上記のモデルで使用するための反応性比は、よく知られた理論的な手法を用いて予測するか、又は実際の重合データから経験的に導き出すことができる。適切な理論的な手法は、例えば、BGKyleChemicalandProcessThermodynamicsThirdEditionPrenticeHall1999andinRedlichKwongSoaveEquationofStateChemicalEngineeringScience1972pp11971203に開示されている。実験的に得られたデータから反応性比を導き出すのを支援するために市販のソフトウェアプログラムを使用することができる。かかるソフトウェアの一例としては、AspenTechnologyIncTenCanalParkCambridgeMA021412201USA製のAspenPlusである。時には、鎖シャトリングと本発明の触媒の使用を含む、オレフィンを重合するための本発明の方法の態様において使用できる副オレフィン重合触媒associateolefinpolymerizationcatalystの例を引用により援用することが都合良い。利便性と一貫性のために、本発明の触媒及び副オレフィン重合触媒のうちの1つを、時によって、本明細書において、第1のオレフィン重合触媒と呼び、他方を第2のオレフィン重合触媒と呼び、又はその逆もある。すなわち、いくつかの態様において、第1のオレフィン重合触媒は本発明の触媒と同じであり、第2のオレフィン重合触媒は副オレフィン重合触媒と同じであり、他の態様において、その逆である。いくつかの態様において、第1及び第2のオレフィン重合触媒は、それぞれ独立に、本発明の触媒である。本明細書において、第1のオレフィン重合触媒は、高コモノマー組み込み指数を有するとして特徴付けられ、第2のオレフィン重合触媒は、当該高コモノマー組み込み指数の95パーセント未満であるコモノマー組み込み指数を有するとして特徴付けられる。好ましくは、第2のオレフィン重合触媒は、第1のオレフィン重合触媒の高コモノマー組み込み指数の90未満、より好ましくは50未満、さらに好ましくは25未満、よりいっそう好ましくは10未満であるコモノマー組み込み指数を有するとして特徴付けられる。第3の態様の好ましい方法に従ってポリエチレン-α-オレフィンブロックコポリマーを製造する場合、第2の態様の触媒は、触媒系の一部として使用され、当該触媒系は、下記A~Bの混合物又は反応生成物を含む:A第1のオレフィン重合触媒、当該第1のオレフィン重合触媒は高コモノマー組み込み指数を有するとして特徴付けられる;B第2のオレフィン重合触媒、当該第2のオレフィン重合触媒は、第1のオレフィン重合触媒のコモノマー組み込み指数の90未満であるコモノマー組み込み指数を有するとして特徴付けられる;及びC鎖シャトリング剤;第2の態様の触媒は、第1又は第2のオレフィン重合触媒を含む。用語触媒は、本明細書において一般的に使用する場合に、金属-配位子錯体の未活性化形態すなわち、前駆体、又は、好ましくは、その活性化された形態例えば、上記未活性化形態を活性化共触媒に接触させて触媒的に活性な混合物又は生成物をもたらした後を指す。本発明でない金属-配位子錯体を含む又は本発明でない金属-配位子錯体から製造された副オレフィン重合触媒の場合、本発明でない金属-配位子錯体の金属は、好ましくは、周期表の第3~15族、好ましくは第4族のいずれの金属でもよい。好適な発明でない金属-配位子錯体の種類の例は、メタロセン、ハーフメタロセン、幾何拘束型、及び多価のピリジルアミン-、ポリエーテル-、又は他のポリキレート塩基錯体である。かかる発明でない金属-配位子錯体は、国際公開第2008/027283号及び対応する米国特許出願第12/377,034号明細書に記載されている。他の好適な発明でない金属-配位子錯体は、米国特許第5,064,802号明細書、米国特許第5,153,157号明細書、米国特許第5,296,433号明細書、米国特許第5,321,106号明細書、米国特許第5,350,723号明細書、米国特許第5,425,872号明細書、米国特許第5,470,993号明細書、米国特許第5,625,087号明細書、米国特許第5,721,185号明細書、米国特許第5,783,512号明細書、米国特許第5,866,704号明細書、米国特許第5,883,204号明細書、米国特許第5,919,983号明細書、米国特許第6,015,868号明細書、米国特許第6,034,022号明細書、米国特許第6,103,657号明細書、米国特許第6,150,297号明細書、米国特許第6,268,444号明細書、米国特許第6,320,005号明細書、米国特許第6,515,155号明細書、米国特許第6,555,634号明細書、米国特許第6,696,379号明細書、米国特許第7,163,907号明細書、米国特許第7,355,089号明細書及び国際公開第02/02577号、国際公開第02/92610号、国際公開第02/38628号、国際公開第03/40195号、国際公開第03/78480号、国際公開第03/78483号、国際公開第2009/012215A2号;米国特許出願公開第2003/0004286号明細書、及び米国特許出願公開第04/0220050号明細書、米国特許出願公開第2006/0199930A1号明細書、米国特許出願公開第2007/0167578A1号明細書;及び米国特許出願公開第2008/0311812A1号明細書に記載されているものである。第1のオレフィン重合触媒は、本明細書において、互換的に触媒Aともいう。第2のオレフィン重合触媒は本明細書において、互換的に触媒Bともいう。コモノマー組み込み指数で最大の差がある金属錯体又は触媒組成物の選択は、ブロック又はセグメント特性、例えば密度などにおいて最大の差がある2種以上のモノマーからコポリマーをもたらす。好ましくは、触媒Bのコモノマー組み込み指数は、触媒Aのコモノマー組み込み指数の50未満、より好ましくは5未満である。触媒Bの一例は、上記の副オレフィン触媒である。いくつかの態様において、第2の態様の触媒は、触媒Bではなく触媒Aを含む。かかる態様において、好ましくは、触媒系の触媒Bは、米国特許出願公開2006/0199930A1号明細書、米国特許出願公開第2007/0167578A1号明細書、米国特許出願公開第2008/0311812A1号明細書;米国特許第7,355,089B2号明細書;又は国際公開第2009/012215A2号に記載されている触媒Bである。いくつかの態様において、第2の態様の触媒は、触媒Aではなく触媒Bを含む。かかる態様において、好ましくは触媒系の触媒Aは、米国特許出願公開第2006/0199930A1号明細書、米国特許出願公開第2007/0167578A1号明細書、米国特許出願公開第2008/0311812A1号明細書、米国特許第7355089B2号明細書;又は国際公開第2009/012215A2号に記載されている触媒Aである。米国特許出願公開第2006/0199930A1号明細書、米国特許出願公開第2007/0167578A1号明細書、米国特許出願公開第2008/0311812A1号明細書;米国特許第7,355,089B2号明細書;又は国際公開第2009/012215A2号の代表的な触媒A及びBは、式A1~A5、B1、B2、CI~C3及びD1の触媒である:触媒A1は、国際公開第03/40195号、米国特許出願公開第2003/0204017号明細書、2003年5月2日に出願された米国特許出願第10/429,024号明細書、及び国際公開第04/24740号の教示に従って製造され、構造:を有する、[N2,6-ジ1-メチルエチルフェニルアミド2-イソプロピルフェニルα-ナフタレン-2-ジイル6-ピリジン-2-ジイルメタン]ハフニウムジメチルである;触媒A2は、国際公開第03/40195号、米国特許出願公開第2003/0204017号明細書、2003年5月2日に出願された米国特許出願第10/429,024号明細書、及び国際公開第04/24740号の教示に従って製造され、構造:を有する[N2,6-ジ1-メチルエチルフェニルアミド2-メチルフェニル1,2-フェニレン-6-ピリジン-2-ジイルメタン]ハフニウムジメチルである;触媒A3は、ビス[N,N-2,4,6-トリメチルフェニルアミドエチレンジアミン]ハフニウムジベンジルであり、構造:を有する;触媒A4は、米国特許出願公開第2004/0010103号明細書の教示に実質的に従って製造され、構造:を有するビス2-オキソイル-3-ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル-5-メチルフェニル-2-フェノキシメチルシクロヘキサン-1,2-ジイルジルコニウムIVジベンジルである;触媒A5は、国際公開第2003/051935号の教示に実質的に従って製造され、構造:を有する[η2-2,6-ジイソプロピル-N-2-メチル-3-オクチルイミノブタン-2-イルベンゼンアミド]トリメチルハフニウムである;触媒B1は、1,2-ビス-3,5-ジ-t-ブチルフェニレン1-N-1-メチルエチルイミノメチル2-オキソイルジルコニウムジベンジルであり、構造:を有する;触媒B2は、1,2-ビス-3,5-ジ-t-ブチルフェニレン1-N-2-メチルシクロヘキシルイミノメチル2-オキソイルジルコニウムジベンジルであり、構造:を有する;触媒C1は、米国特許第6,268,444号明細書の方法に実質的に従って製造され、構造:を有するt-ブチルアミドジメチル3-N-ピロリル-1,2,3,3a,7a-η-インデン-1-イルシランチタニウムジメチルである;触媒C2は、米国特許出願公開第2003/004286号明細書の教示に実質的に従って製造され、構造:を有するt-ブチルアミドジ4-メチルフェニル2-メチル-1,2,3,3a,7a-η-インデン-1-イルシランチタニウムジメチルである;触媒C3は、米国特許出願公開第2003/004286号明細書の教示に実質的に従って製造され、構造:を有するt-ブチルアミドジ4-メチルフェニル2-メチル-1,2,3,3a,8a-η-s-インダセン-1-イルシランチタンジメチルである;及び触媒D1は、Sigma-Aldrichから入手可能なビスジメチルジシロキサンインデン-1-イルジルコニウムジクロリドであり、構造:を有する。前述したように、オレフィンを重合するための本発明の方法のいくつかの態様は、さらに、鎖シャトリング剤を使用する。用語鎖シャトリング剤及びCSAは、本明細書において互換的に使用され、オレフィン重合条件下で、2種のオレフィン重合触媒当該2種のオレフィン重合触媒は本発明の触媒と副オレフィン重合触媒、例えば別の本発明の触媒又は上記の本発明でない触媒の少なくとも2つの活性触媒部位の間でポリメリルpolymeryl鎖すなわち、ポリマー鎖又はフラグメントの交換をもたらすことができるものとして特徴付けられる化合物を指す。すなわち、ポリマーフラグメントの移動は、オレフィン重合触媒の両方に対してオレフィン重合触媒の活性部位の1つ以上から起こる。鎖シャトリング剤とは対照的に、連鎖移動剤は、ポリマー鎖成長の停止をもたらし、触媒例えば本発明の触媒から当該移動剤へのポリマーの1回の移動をもたらす。いくつかの重合法の態様、例えばポリオレフィンホモポリマー及びランダムポリオレフィンコポリマーを製造するのに有用な態様において、CSAは、連鎖移動剤として機能することにより特徴付けられる。すなわち、CSAは、かかる重合法において形成されたポリオレフィンホモポリマー又はランダムポリオレフィンコポリマー生成物のオレフィン重合触媒例えば、本発明の触媒からCSAへの1回の移動があるように機能するとして特徴付けられる。かかる態様において、かかる態様は、典型的には、たった1種のオレフィン重合触媒を使用し、当該オレフィン重合触媒はたった1つの活性触媒部位を有する又は使用することがあるため、通常、CSAが、可逆的な鎖シャトルである必要はない。いくつかの態様において、鎖シャトリング剤は、鎖シャトリング活性比RA-B/RB-Aを有するとして特徴付けられる。一般的に、任意の2種の触媒A及びBの場合、鎖シャトリング活性比RA-B/RB-Aは、触媒Aの活性部位から触媒Bの活性部位への鎖移動速度RA-Bを、触媒Bの活性部位から触媒Aの活性部位への鎖移動速度RB-Aで割ることにより計算される。好ましくは、触媒Aは本発明の触媒であり、触媒Bは上記の副オレフィン重合触媒である。鎖シャトリング剤の場合、鎖シャトリング活性比RA-B/RB-Aは0.01~100である。好ましくは、鎖シャトリング剤とポリメリル鎖の間で形成される中間体は、鎖停止が比較的まれである十分に安定である。ポリオレフィン-ポリラジカル含有鎖シャトリング剤は前記中間体の一例である。異なるコモノマー組み込み速度本明細書に記載及び異なる反応性を有するオレフィン重合触媒の様々な組み合わせを選択することによって、及び2種以上のシャトリング剤及び好ましくは3種以下のCSAを組み合わせることによって、様々なポリオレフィンモノマー-オレフィンコモノマーマルチブロックコポリマー生成物を、オレフィンを重合させるための本発明の方法のいくつかの態様において製造できる。かかる様々な生成物は、異なる密度又はコモノマー濃度のセグメント、異なるブロック長、異なる数のかかるセグメント又はブロック、又はそれらの組み合わせを有することができる。例えば、鎖シャトリング剤の鎖シャトリング活性は、1種以上のオレフィン重合触媒のポリマー鎖成長速度に対して低い場合、より長いブロック長のマルチブロックコポリマー及びポリマーブレンドを生成物として得ることができる。逆に、鎖シャトリングがポリマー鎖成長に対して非常に速い場合、よりランダムな鎖構造及びより短いブロック長を有するコポリマー生成物が得られる。一般的に、非常に速いシャトリング剤は、実質的にランダムなコポリマー特性を有するマルチブロックコポリマーを生成することができる。触媒1種以上とCSAの両方を適切に選択することによって、比較的純粋なブロックコポリマー、比較的大きなポリマーセグメント又はブロックを含有するコポリマー、及び/又はこのようなものと種々のエチレン又はプロピレンホモポリマー及び/又はコポリマーとのブレンドを生成物として得ることができる。CSAを用いてオレフィンを重合する本発明の方法のいくつかの態様において、使用するのに好適な鎖シャトリング剤としては、少なくとも1つのC1-C20ヒドロカルビル基を含む第1、2、12又は13族金属化合物又は錯体、好ましくは、C1-C12ヒドロカルビル置換アルミニウム、ガリウム又は亜鉛化合物、及びプロトン源とのその反応生成物が挙げられる。好ましいC1-C20ヒドロカルビル基は、アルキル基、好ましくは直鎖状又は分岐状C1-C8アルキル基である。本発明において使用するのに最も好ましい鎖シャトリング剤は、トリアルキルアルミニウム及びジアルキル亜鉛化合物、特に、トリエチルアルミニウム、トリi-プロピルアルミニウム、トリi-ブチルアルミニウム、トリn-ヘキシルアルミニウム、トリn-オクチルアルミニウム、トリエチルガリウム、又はジエチル亜鉛である。さらなる好適なシャトリング剤としては、上記有機金属化合物、好ましくはトリC1-C8アルキルアルミニウム又はジC1-C8アルキル、亜鉛化合物、特に、トリエチルアルミニウム、トリi-プロピルアルミニウム、トリi-ブチルアルミニウム、トリn-ヘキシルアルミニウム、トリn-オクチルアルミニウム、又はジエチル亜鉛を、化学量論的量ヒドロカルビル基の数に対して未満の第一級又は第二級アミン、第一級又は第二級ホスフィン基、チオール、又はヒドロキシル化合物、特にビストリメチルシリルアミン、t-ブチルジメチルシラノール、2-ヒドロキシメチルピリジン、ジn-ペンチルアミン、2,6-ジt-ブチルフェノール、エチル1-ナフチルアミン、ビス2,3,6,7-ジベンゾ-1-アザシクロヘプタンアミン、ジフェニルホスフィン、2,6-ジt-ブチルチオフェノール又は2,6-ジフェニルフェノールと組み合わせることによって形成された反応生成物又は混合物が挙げられる。望ましくは、十分なアミン、ホスフィン、チオール、又はヒドロキシル試薬が、金属原子1当たり少なくとも1つのヒドロカルビル基が残るように使用される。シャトリング剤として本発明において使用するのに最も望ましい上記組み合わせの主な反応生成物は、n-オクチルアルミニウムジビストリメチルシリルアミド、i-プロピルアルミニウムビスジメチルt-ブチルシロキシド、及びn-オクチルアルミニウムジピリジニル-2-メトキシド、i-ブチルアルミニウムビスジメチルt-ブチルシロキサン、i-ブチルアルミニウムジビストリメチルシリルアミド、n-オクチルアルミニウムジピリジン-2-メトキシド、i-ブチルアルミニウムビスジn-ペンチルアミド、n-オクチルアルミニウムビス2,6-ジ-t-ブチルフェノキシド、n-オクチルアルミニウムジエチル1-ナフチルアミド、エチルアルミニウムビスt-ブチルジメチルシロキシド、エチルアルミニウムジビストリメチルシリルアミド、エチルアルミニウムビス2,3,6,7-ジベンゾ-1-アザシクロヘプタンアミド、n-オクチルアルミニウムビス2,3,6,7-ジベンゾ-1-アザシクロヘプタンアミド、n-オクチルアルミニウムビスジメチルt-ブチルシロキシド、エチル亜鉛2,6-ジフェニルフェノキシド、並びにエチル亜鉛t-ブトキシドである。他の好適な本発明でない鎖シャトリング剤は、国際公開第2005/073283A1号、国際公開第2005/090425A1号、国際公開第2005/090426A1号、国際公開第2005/090427A2号、国際公開第2006/101595A1号、国際公開第2007/035485A1号、国際公開第2007/035492A1号及び国際公開第2007/035493A2号に記載されている。第3の態様の方法により製造されたポリオレフィンは、とりわけ、合成潤滑剤合成モーターオイル、並びにフォーム、フィルム、コーティング、繊維、布帛、押出品、及び成形品に使用される材料として有用である。式Yの中間化合物は、当該技術分野で知られている任意の関連する方法を適応することによって製造することができ、特定の方法が本発明に対して重要であるわけではない。例えば、R2及びR3が式R23の上記ジラジカルにより置き換えられていない式Yの中間化合物は、米国特許第6,096,676号明細書又は米国特許第6,919,413B2号明細書の方法を適応することによって製造できる。例えば、米国特許第6,096,676号明細書の方法は、R2及びR4が水素、C1-C40ヒドロカルビル又はC1-C40ヘテロヒドロカルビルであり、R3が水素である式Yの中間化合物を製造するのに特に有用である。米国特許第6,096,676号明細書のかかる方法は、第3欄第45~64行の式により表され、Wが第4欄第59行に示されているように2つの炭素を架橋する基であるヘテロ原子含有配位子の製造を適応することを好ましくは含む。米国特許第6,096,676号明細書のヘテロ原子含有配位子は、その第6欄第1~19行及び実施例1、3及び6に例示されている。R2及びR3が式R23の上記ジラジカルにより置き換えられていない式Yの他の中間化合物は、好ましくは、米国特許第6,919,413B2号明細書の方法を適応することにより製造される。米国特許第6,919,413B2号明細書のかかる方法は、第9欄第50行に示されている式により表され、Tがその第4欄第20~40行、第45~47行最も右側の基及び第50~60行に例示されているような2つの炭素を架橋する基であるヘテロ原子含有配位子の製造を適応することを好ましくは含む。米国特許第6,919,413B2号明細書の特定のヘテロ原子含有配位子の調製は、その第23欄第56行~第24欄第22行、第25欄第55行~第26欄第67行、第35欄第59行~第36欄第54行、及び第37欄第21行~第39欄第6行に記載されている。R2及びR3が式R23の上記ジラジカルにより置き換えられた式Yの中間化合物は式Y-Aの化合物であり、図2の示されているスキーム2に例示されている方法のうちの1つに従って製造される。図2のスキーム2において、エポキシド1これは、好ましくは、対応する2-エノンの従来のエポキシド化図示せずにより製造されるを、アミンR1-NH2又はその共役アニオンR1-NH-と、好ましくは脱水条件下例えば、無水の3オングストロームモレキュラーシーブ又は無水炭酸カルシウムなどの脱水剤の存在下、又はそのような水の共沸除去などの条件下で反応させて、エナミン2を得る。あるいは、エナミン2は、1,2-ジケトン3を非求核塩基例えば、水素化ナトリウム、リチウムジイソプロピルアミド、カリウムヘキサメチルジシルジドなどにより脱プロトン化し、その後、得られたエノラートアニオンをスルホニル化剤例えば、トリフルオロメタンスルホン酸無水物Tf2Oにより捕捉してケト-エノール4を得ることにより製造される。ケト-エノール4を、次に、パラジウム触媒例えば、酢酸パラジウムIIの存在下で、アミンR1-NH2とカップルさせてエナミン2を得る。次に、エナミン2をアミンR5-NH2と、好ましくは脱水条件下で反応させて、式Y-Aの中間化合物を得る。あるいは、式Y-Aの中間化合物は、ビス-イミン5これは、好ましくは脱水条件下での1,2-ジケトン3とのアミンR1-NH2及びR5-NH2の従来の縮合により製造されるを非求核塩基により脱プロトン化し、その後、得られたエナミンを好ましくは1モル当量の好ましくは無水プロトン酸例えばトリフルオロ酢酸によりクエンチすることにより製造される。図2のスキーム2に記載した反応は、好ましくは、実質的に不活性ガス雰囲気下、無水非プロトン性溶媒、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル又はそれらの組み合わせなどの中で、約-78°C~約200°Cの範囲内の温度で行われる。好ましくは、当該反応は大気圧で行われる。好ましくは、式Yの中間化合物は、製造例1~13後述のいずれかの化合物、又はその共役塩基の塩である。材料及び方法一般的なエチレン/1-オクテン共重合手順2リットルのParr反応器を重合に使用する。全ての供給材料を、反応器への導入に先立ち、アルミナ及びQ-5登録商標触媒EnglehardtChemicalsInc.から入手可能のカラムに通過させる。錯体1の溶液と活性化共触媒活性化剤は、グローブボックス内の不活性雰囲気例えば窒素ガスの下で取り扱う。撹拌式2リットル反応器に約533gの混合アルカン溶媒IsoparE及び250gの1-オクテンコモノマーを入れる。水素ガス45psiを75mLの添加タンクから差圧膨張により300psi2070キロパスカルkPaで分子量制御剤として加える。反応器の内容物を120°Cの重合温度に加熱し、466psig3.4MPaでエチレンにより飽和する。金属-配位子錯体1と活性化共触媒i及びiiを混合し、触媒添加タンクに移し入れ、反応器に注入する。活性化共触媒i及びiiは、トルエン中の希釈溶液として、i実質的に米国特許第5,919,9883号明細書の実施例2に開示されているように、長鎖トリアルキルアミンジタローメチルアミンAkzo-Nobel,Inc.から入手可能なARMEEN登録商標M2HT、HCl及びLi[BC6F54]の反応により調製される、テトラキスペンタフルオロフェニルボレートのメチルジC14-C18アルキルアンモニウム塩本明細書においてMDATPBと省略の混合物1.2モル当量、及びii変性メチルアルミノキサン-3ÅMMAO-3A10モル当量である。重合条件は15分間保たれ、オンデマンドでエチレンを加える。内部冷却コイルを介して反応から熱を継続的に除去する。得られた溶液を反応器から取り出し、イソプロピルアルコールでクエンチし、約67mgのヒンダードフェノール系酸化防止剤CibaGeigyCorporation製のIRGANOX登録商標1010と133mgのリン安定剤CibaGeigyCorporation製のIRGAFOS登録商標168を含むトルエン溶液10mLを添加することによって安定化する。重合ランと重合ランの間に洗浄サイクルが行われる。洗浄サイクルでは、850gの混合アルカンを反応器に加え、反応器を150°Cに加熱する。次に、新たな重合ランを開始する直前に、加熱された溶媒を反応器から除去する。特に断らない限り、コポリマーの溶融温度及び結晶化温度をDSCDSC2910,TAInstruments,Inc.により測定する。コポリマーのサンプルを、まず、毎分10°Cで室温から210°Cに加熱する。この温度で4分間保持した後、サンプルを毎分10°Cで-40°Cに冷却し、次に、毎分10°Cで215°Cに加熱し、-40°Cに4分間保持した後、毎分10°Cで215°Cに加熱する。特に断らない限り、コポリマーの分子量をSymyxTechnologies,Inc.製のSYMYX登録商標高スループットゲル浸透クロマトグラファーSHT-GPC又はViscotekHT-350ゲル浸透クロマトグラファーV-GPCのいずれかにより測定する。SHT-GPCは、160°Cで1,2,4-トリクロロベンゼン中、2.5mL/分の流量で、2つのPolymerLabsPLゲル10μm混合Bカラム300×10mmを使用する。V-GPCは、低角/直角光散乱検出器、4キャピラリーインライン粘度計及び屈折率検出器を備える。V-GPC分析は、145°C又は160°Cで、1,2,4-トリクロロベンゼン中、1.0mL/分の流量で、3つのPolymerLab製のPLゲル10μm混合Bカラム300×7.5mmを使用する。特に断らない限り、SHT-GPC用のサンプルを次のように調製する:サンプルブロックで、ポリマーサンプルを秤量してガラスサンプル管SymexTechnologiesに入れ、1,2,4-トリクロロベンゼン1,2,4-TCB中30mg/mLに希釈する。ガラス撹拌棒を各管に入れ、サンプルブロックを加熱振とう機160°C,220RPMに1時間入れる。溶解/サンプル粘度の目視観察を行い、完全に溶解していないもの又はSHT-GPVには粘性が高すぎるものに溶媒1,2,4-TCBを加えた。サンプルブロックを振とう機に15分間戻し、140°Cに加熱されたSHT-GPCのサンプルデッキに移し入れた。30mg/mLの溶液の少量のアリコートを第2の管に移し入れ、溶媒1,2,4-TCBを加えることによりサンプルを希釈して、1mg/mLの所望の濃度とし、そのうち500μLを次にGPCに注入した。特に断らない限り、V-GPC用のサンプルを次のように調製する:Viscotek,Inc.により供給されている半自動サンプル調製SASPプログラムを使用してポリマーを秤量しガラステストバイアル中に入れる。1,2,4-トリクロロベンゼンを秤量し、1.00mg/mL濃度を与えるために、SASPのプログラムとインタフェースされたコンピュータ制御のシリンジポンプによって各サンプルに1,2,4-トリクロロベンゼンを加える。テフロン被覆撹拌棒をそれぞれに入れ、管に栓をし、アルミニウムブロックに装填し、目視観察で全部の溶解が観察されるまで、加熱振とう機160°C,220RPMに1時間~2時間入れる。バイアルを次にオートサンプラー145°Cで磁気撹拌の加熱デッキに移し、そこでバイアルは注入を待つ。各サンプルの270μLの注入を行い、ランタイムは45分間である。一般的な考慮事項。すべての溶媒及び試薬は、商業的供給源から入手し、特に断らない限り、受け取ったままで使用した。トルエン、ヘキサン、ベンゼン-d6C6D6、トルエン-d8は、既知の手順に従って乾燥させ、脱気した。核磁気共鳴NMRスペクトルは、VarianMercury-Vx-300及びVNMRS-500分光計により記録した。ppm単位で化学シフトδをテトラメチルシランに対して記録し、重水素化溶媒中の残留プロトンを参照した。NMRピークとカップリング定数の帰属は便宜のために提供されており、制限されていない。製造例及び実施例に記載の構造における原子のいくつかに、参照しやすいように番号が付けられている。全ての金属-配位子錯体は、乾燥窒素雰囲気下のVacuumAtmospheresの実質的に不活性な雰囲気のグローブボックス内で又は標準的なシュレンク及び真空ライン技術を使用して合成され貯蔵される。赤外線IR分光法により1-オクテンの組み込み百分率及びポリマー密度を求める。140マイクロリットルμLの各ポリマー溶液をシリカウェハ上に載せ、1,2,4-トリクロロベンゼンTCBが蒸発するまで140°Cで加熱し、7.1バージョンソフトウェアを搭載しAutoProオートサンプラーを備えたNicoletNexus670FT-IRを使用して分析する。ゲル浸透クロマトグラフィーGPC質量平均分子量Mw及び多分散指数を求める:PolymerLabs登録商標210高温ゲル浸透クロマトグラフを使用してMw及び比Mw/Mn多分散指数又はPDIを求める。16mLの1,2,4-トリクロロベンゼンブチル化ヒドロキシトルエンBHTにより安定化により希釈された13mgのポリエチレンポリマーを使用してサンプルを調製し、160°Cで2時間加熱及び振とうする。示差走査熱量測定DSC;DSC2910,TAInstruments,Inc.により溶融温度及び結晶化温度並びに融解熱を求める:まず、サンプルを毎分10°Cの加熱速度で室温から180°Cまで加熱する。この温度を2~4分間保持した後、サンプルを毎分10°Cの冷却速度で-40°Cに冷却し、サンプルをこの冷温で2~4分間保持し、次にサンプルを160°Cに加熱する。Varian600MHzNMR装置及び重水素化テトラクロロエタンを用いて、プロトン核磁気共鳴1H-NMR分光法により末端基を分析する。略語意味:κカッパ;i-Prイソプロピル、すなわち、2-プロピル;Phフェニル;Bnベンジル;Meメチル;nBU、n-Buなどnormal-ブチル;CH2Cl2ジクロロメタン;CD2Cl2ジクロロジュウテロメタン;THFテトラヒドロフラン;p-TsOHH2Op-トルエンスルホン酸一水和物;TiCl4塩化チタンIV;K2CO3炭酸カリウム;Meメチル;C6D6ペルジュウテロベンゼン;トルエン-d8ペルジュウテロトルエン;Et3Nトリエチルアミン;ZrBn4ジルコニウムテトラベンジル;HfBn4及びHfCH2Ph4ハフニウムテトラベンジル;r.t.室温、gグラム;mLミリリットル;°C摂氏度;×倍2×15mLのように;mmolミリモル;psiポンド/平方インチ;psigポンド/平方インチゲージ;MHzメガヘルツ;Hzヘルツ;m/z質量電荷比;1H-NMRプロトンNMR;13C-NMR炭素13NMR;19F-NMRフッ素19NMR;HSQC異核単一量子コヒーレンス;分析元素分析;計算値計算値;brブロード;septセプテット;sシングレット;dダブレット;tトリプレット;mマルチプレット;quatカルテット;J結合定数;HRMS高分解能質量分析法;ESIエレクトロスプレー質量分析法及びGC/MSCIガスクロマトグラフィー-質量分析化学イオン化;TLC薄層クロマトグラフィー。ベンジル金属及び他の有機金属、例えばアルキル金属及びトリアルキルシリル金属は、式Yの化合物と反応させて式Iの特定の金属-配位子錯体をもたらすのに有用な出発物質である。ここで、金属は式Iについて定義されているとおりのM1である。かかる有機金属の製造方法は重要でない。いくつかの態様において、かかる有機金属は、対応する金属ハロゲン化物例えば金属クロリド又はブロミド又は金属アルコキシド例えば金属テトラブトキシド及び有機リチウム又は有機マグネシウムハロゲン化物から製造される。例えば、いくつかの態様において、かかるベンジル金属は米国特許第7,067、686B1号明細書に記載されているように製造される。対応する金属ハロゲン化物は、典型的には、例えば、Sigma-AldrichCompany米国ミズーリ州セントルイス及びCHWEMOSGmbHドイツ国レーゲンシュタウフから商業的に入手可能である。他の態様において、かかるベンジル金属は、商業的供給源から購入する例えばCHEMOSGmbHは、テトラベンジルハフニウムをカタログ番号151655で、テトラベンジルジルコニウムをカタログ番号150405で販売している。X線分析X線分析は、ここに説明するように行う。データ収集:適切な寸法の単結晶をオイルExxonChemicals,Inc.から入手可能なPARATONE登録商標NChevronIntellectualPropertyLLCに浸し、薄いガラス繊維上に取り付ける。この結晶をグラファイトモノクロ結晶、MoKα線源λ=0.71073Å及びCCD電荷結合素子エリアディテクタを備えたBrukerSMART登録商標Platform回折計に移す。データ収集の間、結晶を冷窒素流中に浸す-100°C。プログラムSMART登録商標BrukerAXS,Inc.米国ウィスコンシン州マディソンから入手可能を、回折計の制御、フレームスキャン、指数付け、方位行列計算、セルパラメータの最小二乗精密化は、結晶面測定及び実際のデータ収集に使用する。プログラムASTRO登録商標BrukerAXS,Inc.米国ウィスコンシン州マディソンから入手可能を使用してデータ収集計画を立てる。生データフレームは、プログラムSAINT登録商標BrukerAXS,Inc.米国ウィスコンシン州マディソンから入手可能によって読み込み、3Dプロファイリングアルゴリズムを使用して統合する。得られた結果を編集整理してhkl反射及びそれらの強度並びに推定標準偏差を生じさせる。データをローレンツ効果及び分極効果について補正する。十分な反射を収集して、2.5反射の最低2θシェルでから3.0反射の最高2θシェル55°でまでのRsym値範囲で1.51~2.16の範囲のリダンダンシーレベルを示す。結晶崩壊補正を適用したが1未満であった。単位胞パラメータは反射の設定角の最小二乗法により精密化する。吸収補正は、指数付けされた求められた面を基準にした統合により適用する。データの作成は、プログラムXPREP登録商標BrukerAXS,Inc.米国ウィスコンシン州マディソンから入手可能を使用して行なう。構造は、SHELXTL5.1BrukerAXS,Inc.米国ウィスコンシン州マディソンから入手可能の直接法によって解析し、それから水素以外の全ての原子の位置を得る。また、構造を、SHELXTL5.1登録商標において、フルマトリックス最小二乗法を使用して精密化する。水素以外の原子を非等方性熱パラメータで精密化し、水素原子の全てを理想位置で計算し、そして、その親原子上に乗るように精密化するか、又は差フーリエマップから得、制約なしに精密化する。二次は適用しない。最終精密化はF値よりもむしろF2を使用して行なう。R1は、従来のR値に対する参照基準を与えるために計算されるが、その関数は最小化されない。さらに、wR2は最小化される関数であるが、R1はそうでない。線形吸収係数、原子散乱因子及び異常分散補正値を、theInternationalTablesforXrayCrystallographyVolIVp55BirminghamKynochPressからの値から計算する。関連する関数:式中、nは反射の数であり、pは精密化したパラメータの合計数であり、本明細書に記載されている全ての熱振動楕円体は、40の確率水準で描かれている。特に断らない限り、金属-配位子錯体の製造又は使用は、窒素下のグローブボックス内で行なう。製造製造例1:E-N-2-2,6-ジイソプロピルフェニルアミノシクロヘキサ-2-エニリデン-2,6-ジイソプロピルアニリンaの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の製造例1からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。文献の手順に基づいて合成GatesDPSvejdaSAOnateEKillianCMJohnsonLKWhitePSBrookhartMMacromolecules20003323202334。シクロヘキサン-1,2-ジオン2.062g,18.39mmol及び2,6-ジイソプロピルアニリン6.5g,36.78mmolをメタノール70mlに溶解させた。この溶液に、1mLのギ酸を加え、混合物を室温で3日間撹拌した。析出した白色結晶性固形物をフリット上で集め、メタノール2×15mLで洗浄し、減圧下で乾燥させると、4.1g収率51.8の製造例1の標題化合物aが得られた。製造例2:2-モルホリン-4-イル-2-シクロヘキセン-1-オンの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の製造例2からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。文献の手順に変更を加えたものに基づいて合成OhashiMTakahashiTInoueSSatoKBulletinChemicalSocietyofJapan1975481892。500mLの丸底フラスコにディーンスタークトラップ、凝縮器、撹拌棒及びガス導入口N2ガス雰囲気を取り付けた。フラスコに1,2-シクロヘキサンジオン15.14g,135.00mmol、モルホリン14.82g,170.10mmol及びトルエン330mLを入れた。得られた黄色溶液を加熱して5時間還流した。加熱を停止し、約3.0mLの水をディーンスタークトラップに集めた。粘稠な油から褐色の溶液をデカントし、トルエンで濯いだ。溶液を高真空下で濃縮して、褐色固形物として23.33g収率95.34の製造例2の標題化合物が得られた。1HNMRδ535367364270266218213187181142GCMSマススペクトルmz182製造例3:2-2,6-ジイソプロピルフェニルアミノシクロヘキサ-2-エノンの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の製造例3からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。凝縮器、ガス導入口及び隔膜を備えた250mLの三口丸底フラスコをN2雰囲気下に置いた。フラスコに2-モルホリン-4-イル-2-シクロヘキセン-1-オン7.0046g,38.65mmol;製造例2、トルエン74.0mL及び2,6-ジイソプロピルアニリン6.8521g,38.65mmolを入れた。黄色溶液にp-トルエンスルホン酸一水和物7.3520g,38.65mmol;p-TsOHH2Oを添加した。反応混合物は多くの析出物により非常に粘稠になった。混合物を80°C油浴温度に加熱し、撹拌した。撹拌しやすくするために別の5.0mLのトルエンを加えた。混合物を2時間撹拌した。反応混合物を室温になるまで放置した。混合物を濾過した。濾液を高真空下で濃縮して10.09gの黄色固形物を得た。この固形物を熱ヘキサン約30mLに溶解し、濾過した。溶液を室温に放冷し、結晶種を入れ、冷凍庫中に置いた。溶液を濾過し、固形物のほとんどをフラスコに残した。フラスコを氷浴上に置いた。固形物を2つの約6mLの冷ヘキサンですすいだ。黄色固形物を乾燥させ、バイアルに移し、真空下で一晩乾燥させた最初の生成物:4.0550g。母液を濃縮し、再結晶化を2回以上繰り返した。二番目の生成物を冷凍庫内に5時間放置した二B番目の生成物:1.0785gと3番目の生成物を一晩放置した三番目の生成物:0.6919g。製造例3の表題化合物の合計収量は5.8254g55.54であった。1HNMRδ717706600495315221216175141110GCMSマススペクトルmz272HRMSC18H25NONaについての計算値294180実測値294183製造例4:ポリマーn-ブチルアミノチタン試薬TiNn-Bu2rの製造は、2009年8月20日に出願された米国仮特許出願第12/544,581号明細書の製造例4からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。ドライボックス内でTiNMe2426g、0.116molをシュレンクフラスコ内のトルエン500mlに溶解させた。フラスコをフード中に入れた。この溶液に、68.8mL0.696モルのn-ブチルアミンを加えると、橙色の固形物が形成された。混合物を、凝縮器の上部で窒素掃引しながら、非常に小さい還流で加熱した。黄色溶液は、加熱後数分以内に濃赤色になった。6時間の還流後、溶液を室温に冷却し、溶媒を減圧下で除去して濃赤黒色ガラス状固形物を得た。生成物を貯蔵のためにドライボックス内に移し入れた。23.2933gの製造例4の標題の試薬を得た。ここで、rは、TiNn-Bu2の繰り返し単位の数を示す。製造例5:2,2,6-ジイソプロピルフェニルアミノ-3,5-ジメチルシクロペンタ-2-エノンの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の製造例6からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。3,5-ジメチル-1,2-シクロペンタジオン1.5043g,11.9237mmol、トルエン6.0mL、2,6-ジイソプロピルアニリン2.4mL,12.7117mmol及びpara-トルエンスルホン酸一水和物0.4584g,2.4098mmolを使用し、加熱して還流させ油浴温度:150°C、得られた混合物をクロマトグラフィー用シリカゲルカラム上で直接精製混合物の比較的小さな容量のために可能5酢酸エチル/95ヘキサンにより溶出して2.5156g73.9の2,2,6-ジイソプロピルフェニルアミノ-3,5-ジメチルシクロペンタ-2-エノンを黄色固形物として得たことを除いて、製造例3と同様の手順に従った。1HNMRδ7157055453282222214163158121及びCH213CNMR及びHRMSデータは示されていない。製造例6:2-1,13,1-ターフェニル-2-イルアミノ-2-シクロヘキセン-1-オンの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の製造例7からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。1,2-シクロヘキサンジオン1.0099g、9.0065mmol、2,6-ジフェニルアニリン2.2258g、9.0731mmol、トルエン22mL、p-トルエンスルホン酸一水和物0.0859g、0.4516mmolを使用し、反応混合物を2.3時間還流させ、3.5678gの褐色粘稠油を単離したことを除いて、製造例2と同様の手順に従った。粘稠な油を、BiotageSNAP50gKPSilカラムを使用して、粘稠な油に少量の4酢酸エチル/96ヘキサン及び100酢酸エチルを加え、ヘキサン中4~8の酢酸エチルの勾配で溶出して単離後、黄色の粘稠な油として1.1388g37.2の2-1,1:3,1-ターフェニル-2-イルアミノ-2-シクロヘキセン-1-オンを得た。1HNMRδ73872471470662050918915811113CNMR及びHSQCADデータは示されていない。製造例7:E-N-6-ブチルイミノシクロヘキサ-1-エニル-2,6-ジイソプロピルアニリンBの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例Bからの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。rはTiNn-Bu2の繰り返し単位の数を示す。反応はN2雰囲気下のグローブボックス内で用意した。攪拌棒を備えた20mLバイアルに0.4858g,1.7900mmolの2-2,6-ジイソプロピルフェニルアミノシクロヘキサ-2-エノン製造例3、トルエン6.0mL及び0.3022g,0.8984mmolの高分子n-ブチルアミノチタン試薬製造例4を入れた。混合物を一晩24時間撹拌した。アリコートの1H-NMRは、反応が完了していないことを示した。出発原料の約26が残った。従って、混合物に46.2mgの高分子n-ブチルアミノチタン試薬製造例4を加えた。一晩撹拌した後、アリコートの1H-NMRは、出発物質が残っていないことを示した。混合物にヘキサンを加え、得られた混合物を濾過した。フィルターケーキ固形物を洗浄するためにもヘキサンを使用した。濾液黄色溶液を減圧下で濃縮して305.8mg52.3の製造例7の化合物Bを黄色油状物として得た。1HNMRδ72371768947833923262091961691531441222094HRMSC22H35N2についての計算値327277実測値327280製造例8:E-N-6-ブチルイミノシクロヘキサ-1-エニル-2,6-ジイソプロピルアニリンN-6E-6-ブチルイミノ-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミンともいうBの代替製造法は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例Cからの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。反応はN2窒素雰囲気下のグローブボックス内で用意した。40mLのトルエンに溶解したノルマル-ブチルアミンn-BuNH2に、5mLのトルエンに溶解したTiCl4を45秒間以内に加えた。反応混合物は、添加中に赤色に変化し、添加が完了した後、約1分後に橙色に変化した。添加中に温度が27°Cから49°Cに上昇し、添加が完了した後、2分間で減少し始めた。室温で1.5時間撹拌した後、2-2,6-ビス1-メチルエチルフェニルアミノ-2-シクロヘキセン-1-オンを製造例3を固形物として加えた。得られた反応混合物を3.25時間、周囲温度で撹拌した。ミディアムフリットにより反応混合物を濾過し淡黄色の濾液、2.1gの無水K2CO3を含む容器に入れ、フィルターケーキ塩をヘキサン2×15mLで数回洗浄した。懸濁液をK2CO3と2時間攪拌し、次いで濾過シリンジフィルターによりし、無色の溶液K2CO3は溶液から黄色を吸収するを得た。溶液から溶媒を減圧除去し、4.66g収率95.6の化合物Bを無色油として製造例8の化合物Bとして得た。生成物の1HNMR及びHRMSは製造例8の化合物B及び製造例7の化合物Bの1HNMR及びHRMSと整合した。製造例9:N-2,6-ジイソプロピルフェニル-2-ブチルアミノトロポニミンDの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例Dからの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。製造例5の手順と同様に、触媒量のp-TsOHを使用して、溶液トロポロンSigma-AldrichCo.,カタログ番号T89702及びトルエン中の2,6-ビス1,1-ジメチルエチルアニリンをディーンスタークトラップにより還流させることにより2-2,6-ジイソプロピルアニリノトロポンCを製造。Et3OBF4418mg,2.20mmolをCH2Cl25mLに溶解させた。CH2Cl215mL中の2-2,6-ジイソプロピルアニリノトロポンC587mg,2.09mmolの溶液を徐々に加えた。25°Cで3時間攪拌した後、溶液を約0°Cに冷却し、CH2Cl25mL中n-BuNH21.467g,20mmolの予冷0°C溶液5mLを加えた。溶液を25°Cに温め、一晩撹拌した。溶媒を真空下で除去し、残渣のカラムクロマトグラフィーによる精製溶出液:ヘキサン:ET2O3:1、3体積のEt3Nを含むによって、557mg収率80の製造例9の実質的に純粋な化合物Dが橙色固形物として得られた。1HNMR789725715664650631602592298228613012021171142071C23H32N2についての分析計算値:C8209H958N832実測値C8236H945N842製造例10:E-N-5-ブチルイミノ-2,4-ジメチルシクロペンタ-1-エニル-2,6-ジイソプロピルアニリンGの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例Gからの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。n-ブチルアミン0.3098g,4.23mmol;トルエン5.0mLを使用し、次に、トルエン2.0mL中の塩化チタンIV0.0841g,0.44mmolの溶液、次にはトルエン2mL中の2-2,6-ジイソプロピルフェニルアミノ-3,5-ジメチルシクロペンタ-2-エノン0.2056g,製造例5を加え、反応混合物を一晩撹拌したことを除き、製造例8と同様の手順に従った。0.2253gの生成物Gが褐色油として得られた91.8。1HNMRδ7177095953583502CHPh3422CHPh3412632451741671461261222CH1182CH1142CHPh1132CHPh10309313CNMRHSQCAD、及びHRMSデータは示されていない。製造例11:N2-1E-2-2,6-ビス1-メチルエチルフェニルアミノ-2-シクロヘキセン-1-イリデン-N1,N1-ジメチル-1,2-エタンジアミンHの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例Hからの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。1日目:N,N-ジメチルエチレンジアミン0.58mL,5.3098mmol及びトルエン7.0mLをバイアルに入れた。無色溶液に、トルエン3.0mL中の塩化チタンIV0.1001g,0.5276mmolの溶液を加えた。赤色固形物が観察されたが、その後、強い撹拌を適用したときに溶液に溶解した。得られた橙色溶液を1時間撹拌した。次に、トルエン2.0mL中の2-2,6-ジイソプロピルフェニルアミノ-2-シクロヘキセン-1-オン0.2437g,0.8979mmol,製造例3の溶液を加えた。溶液を含んでいたバイアルをトルエン1.0mLですすぎ、そのすすぎ液を反応混合物に加えた。2日目:N,N-ジメチルエチレンジアミン0.58mL,5.3098mmol及びトルエン7.0mLをバイアルに入れることによりチタン試薬の原液チタン:ケト-エナミンが1:1.4の比となるようにを別々に製造した。無色溶液に、トルエン3.0mL中の塩化チタンIV0.1000g,0.5271mmolの溶液を加えた。赤色固形物が観察されたが、強い撹拌を適用したときに溶液に溶解した。得られた橙色溶液を1時間撹拌した。1日目からの反応混合物を一晩攪拌した後、反応混合物にチタン試薬の原液上記のように製造したもの3.3mLを加えた。得られた混合物を3時間撹拌した。固形物を洗浄するためにヘキサンを使用して、混合物を濾過したシリンジフィルター。濾液を真空中で濃縮し、黄色油状物を得た。この油状物をヘキサン10mL中に溶解させると、固形物が沈殿した。混合物を濾過しシリンジフィルター、固形物を2部の5mLヘキサンで洗浄した。黄色濾液を真空中で濃縮し、0.2790gの生成物Hを黄色油状物として得た。1HNMRδ7247186854803493382及びNCH2CH2N2672192207194149123213CNMRデータは示されていない。製造例12:6E-6-ブチルイミノ-N-1,1:3,1-ターフェニル-2-イル-1-シクロヘキセン-1-アミンJは、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例Jからの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。n-ブチルアミン0.53mL,5.3406mmol;トルエン7.0mL;トルエン3.0mL中の塩化チタンIV0.1006g,0.5303mmolの溶液を使用し、得られた溶液を1時間撹拌し、次にトルエン2.0mL中の2-1,1:3,1-ターフェニル-2’-イルアミノ-2-シクロヘキセン-1-オン0.3062g,0.9021mmol,製造例6の溶液を加え、トルエンリンス1.0mLを加えたことを除き、製造例2と同様の手順に従い、単離後、0.3352g94.18の生成物Jを褐色油状物として得た。1HNMRδ750729717710706698491299177173146123116088製造例13:E-2,6-ジイソプロピル-N-2-ブチルアミノシクロヘキサ-2-エニリデンアニリンLは、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例Lからの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。N-6E-6-ブチルイミノ-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミンB3.0038g,9.1995mmol,製造例7及びトルエン30.0mLをバイアルに入れた。得られた黄色溶液を攪拌し、ジエチルエーテル中の1.0MHCl水性,0.46mL,0.46mmolの溶液を加えた。得られた反応混合物を3時間撹拌した。混合物にヘキサン5mLを加え、次いで濾過シリンジフィルターして微細な固形物を除去した。濾過した固形物をヘキサン6mLで洗浄し、濾液を減圧下で一晩濃縮し、濃褐色油状物として3.0107gの生成物Ldを得た。1HNMR714471437095115042886288122162071531431281162113208013CNMRデータは示されていない。製造例14:金属-配位子錯体a1、[N-[2-[[2,6-ビス1-メチルエチルフェニル]アミノ-κN]-2-シクロヘキセン-1-イリデン]-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミナト-κN]トリスフェニルメチルハフニウムa1の製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例1からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。E-N-2-2,6-ジイソプロピルフェニルアミノシクロヘキサ-2-エニリデン-2,6-ジイソプロピルアニリン0.439g,1.0mmol,製造例1及びテトラベンジルハフニウム0.554g,1.0mmolを6mLのC6D6に溶解させた。溶液を76°Cで4日間加熱した。NMRから、生成物と配位子の比が9:1であるHfBn4の完全な変換が示された。溶媒を減圧下で除去した。残渣を3mLのトルエンに溶解させ、ろ過した。濾液に8mLのヘキサンを加えた。数分間以内に黄色の結晶が出現した。周囲温度で3時間放置した後、10mLのヘキサンを加え、溶液を冷凍庫-26°Cに一晩入れた。溶媒をデカントし、黄色結晶をヘキサン2×10mLで洗浄し、次いで、減圧下で乾燥させると、0.486mgの金属-配位子錯体a1が得られた。収率54。1HNMR725711706684661496351227422111981811251222116211420982C51H62HfN2についての分析計算値C6949H709N318実測値C6936H696N306X線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図は示されていない。製造例15:金属-配位子錯体B1、N-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミナト-κNトリスフェニルメチル-ハフニウムの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例1からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。E-N-6-ブチルイミノシクロヘキサ-1-エニル-2,6-ジイソプロピルアニリン0.3005,0.92mmol;B;製造例7及びテトラベンジルハフニウム0.4997mmolを6mlの室温のトルエンに溶解させ、淡赤色溶液を得た。一晩撹拌した後黄色溶液、溶媒を減圧下で除去し、高結晶性の黄色固形物を得た。残渣を2mLのトルエンに溶解させ、次に8mLのヘキサンを加えた。溶液をろ過し、室温で一晩放置すると大きな黄色結晶が形成された。溶液をデカントし、大きな黄色結晶を冷ヘキサン5mLで洗浄し、次いで、減圧下で乾燥させると、331mgの金属-配位子錯体B1が得られた。溶液及びヘキサン洗浄液を組み合わせて、冷凍庫-20°Cに一晩入れた。溶媒をデカントし、黄色結晶を冷ヘキサンの2×2mLで洗浄した後、減圧下で乾燥させると、さらに211mgの金属-配位子錯体B1が得られた。金属-配位子錯体の合計収量B1は0.542mg、75.8であった。1HNMR718711681457324228021118918313121291171112106077C43H54HfN2についての分析計算値:C6643H700N360実測値C6658H689N365金属-配位子錯体の熱分解試験B1。金属-配位子錯体B125mgを0.6mLのトルエン-d8に溶解させた。溶液を89.3°Cで42時間加熱した。この時間の後、NMRスペクトルは、約4の分解を示した。X線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図は示されていない。製造例16:金属-配位子錯体の製造B2、N-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミナト-κNトリスフェニルメチル-ジルコニウムの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例4からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。上記E-N-6-ブチルイミノシクロヘキサ-1-エニル-2,6-ジイソプロピルアニリン0.35g,1.07mmol,B,製造例7とテトラベンジルジルコニウム0.4885g,1.07mmolを室温で3mLのC6D6に溶解させると淡赤色の溶液を得られた。1時間撹拌した後、プロトンNMRは行うと、完全な反応が起こっていた。NMR管の内容物を反応混合物に戻した。反応混合物に8mLのヘキサンを加え、溶液を濾過し、冷凍庫-45°Cに一晩入れた。溶媒をデカントし、黄色結晶を冷ヘキサン2×4mLで洗浄し、次いで、減圧下で乾燥させると、0.566gの金属-配位子錯体B2が得られた。収率68。1HNMR722712688688464330228322419517813221281211142105073C43H54ZrN2についての分析計算値:C7484H789N406実測値C7460H773N428X線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図は示されていない。製造例17:金属-配位子錯体の製造B3、N-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミナト-κNトリヨード-ハフニウムの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例13からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。室温で20mLのCH2Cl2に溶解させた1.5624g2.01mmolのN-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミナト-κNトリスフェニルメチル-ハフニウム製造例15の金属-配位子錯体B1に60mLのCH2Cl2に溶解させたヨウ素I2を20分間以内で加えた。室温で10分間攪拌した後、溶媒を減圧下で除去した。得られた残渣に30mLのヘキサンを加え、得られた懸濁液を15分間撹拌した。懸濁液をフリットにより濾過し、フィルターケーキを15mLのヘキサンにより洗浄し、減圧下で乾燥させると、1.47gの黄色の金属-配位子錯体B3収率82.7が得られた。1HNMR724717472359356216816616121581112110107079H3及びH9についての化学シフト、多重度及びカップリング定数についての情報はTOCSY1Dスペクトルから得た。製造例18:金属-配位子錯体の製造B4:N-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミナト-κNトリメチル-ハフニウムの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例14からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。0.7486g0.85mmolのN-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミナト-κNトリヨード-ハフニウム製造例17の金属-配位子錯体B3を含む30mLのトルエン溶液に、3モル濃度MのメチルマグネシウムブロミドCH3MgBrのジエチルエーテル溶液0.88mL2.65mmolを加えた。得られた反応混合物を20分間攪拌し、次いで、減圧下で溶媒を除去した。得られた残渣を30mLのヘキサンで抽出し、ろ過した。濾液から溶媒を除去すると0.462g99.4収率の金属-配位子錯体B4が黄色結晶性固形物として得られた。製造例19:金属-配位子錯体B4、N-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミナト-κNトリメチル-ハフニウムの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例15からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。N-6E-6-ブチルイミノ-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミン3.03,9.28mol;B;製造例8とHfCl42.972g,9.28mmolの冷-25°Cトルエン溶液50mLに12.68mLの3MCH3MgBrエーテル溶液を加えた。CH3MgBrの添加中に、ガスの発生が観察された。得られた反応混合物は温かくならなかった。数分間以内に、反応混合物は、黄色から黒色に変化した。溶液を1時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去した。残渣にヘキサン50mlを加え、得られた黄色溶液を濾過した。フィルターケーキ塩をさらなる30mLのヘキサンにより洗浄した。溶媒を減圧下で除去すると、4.03g収率79.1の金属-配位子錯体B4が黄色固形物として得られた。1HNMR71972446636423341891881422134128121210807705013C1HNMR17530144981443112607124161147160404957310028482280026002246924532231221001382HSQC500MHz30°CX線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図は示されていない。製造例20:金属-配位子錯体D1:[N-2,6-ジイソプロピルフェニル-2-ブチルアミノトロポンイミナト]トリベンジルハフニウムの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例16からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。N-2,6-ジイソプロピルフェニル-2-ブチルアミノトロポンイミンD;製造例9、250mg,0.74mmol及びHfBn4403mg,0.74mmolを乾燥C6D63mLに溶解させて、橙色溶液を得、この溶液を25°Cで撹拌した。反応の完了は90分後に行った1H-NMRにより確認した。反応混合物を真空下で濃縮し、ヘキサンを用いて層状にし、-45°Cで一晩冷却した。得られた黄色結晶を濾過し、冷ヘキサンで洗浄し、真空下で乾燥させると、557mg収率79の金属-配位子錯体D1が得られた。1HNMR721715691685685659650648625318279222113812621140942077C44H52HfN2についての分析計算値C6712H666N356実測値C6640H660N365X線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図は示されていない。製造例21:金属-配位子錯体G1、E-N-5-ブチルイミノ-κN-2,4-ジメチルシクロペンタ-1-エニル-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミナト-κNトリスフェニルメチル-ハフニウムの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例21からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。グローブボックス内で、バイアルに8mLのトルエン中の410mg1.2mmolのE-N-5-ブチルイミノ-2,4-ジメチルシクロペンタ-1-エニル-2,6-ジイソプロピルアニリンG;製造例10及び654mg1.2mmolのHfCH2Ph4を入れ、得られた反応混合物を2時間攪拌し配位子を追加しない、反応混合物を減圧下で濃縮して残渣を得、残渣を3mLのトルエン及び20mLのヘキサンに溶解させて再結晶化し、0.335mgの金属-配位子錯体G1を得た。収率35。トルエン/ヘキサン溶媒混合物からX線品質の結晶を成長させた。1HNMRδ7156936863532CH3232CH3082452342262211611441292CH1272CH1231142CH1061052CH09408107613CNMR及びHSQCADデータ並びにX線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図は示されていない。製造例22:金属-配位子錯体H1、N2-2-2,6-ビス1-メチルエチルフェニルアミノ-κN-2-シクロヘキセン-1-イリデン-N1,N1-ジメチル-1,2-エタンジアミナト-κN,κN’トリスフェニルメチル-ハフニウムの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例22からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。N2-1E-2-2,6-ビス1-メチルエチルフェニルアミノ-2-シクロヘキセン-1-イリデン-N1,N1-ジメチル-1,2-エタンジアミンH0.2584g,0.7566mmol,製造例11、トルエン3mL、トルエン2mL中のハフニウムテトラベンジルの黄色溶液0.4103g,0.7556mmol、トルエンリンス1mLを使用し、反応混合物を30分間撹拌し、3Mlのトルエン及び17mLのヘキサンから結晶化したことを除いて製造21と同様な手順に従って、235mgの金属-配位子錯体H1を得た。収率39.3。1HNMRδ730723714693681486407221921020622021811771461442124213CNMR、HSQCADδ7477451317217167117086806634952302271921861631110980900681CNMRC6D6125MHz30°C及びHSQCADC6D6500MHz30°Cのデータは示されていない。製造例24:金属-配位子錯体L1、2,6-ビス1-メチルエチル-N-1E-2-ブチルアミノ-κN-2-シクロヘキセン-1-イリデンベンゼンアミナト-κNトリメチルハフニウムの製造は、2009年8月20日に出願された米国非仮特許出願第12/544,581号明細書の例26からの引用によりここに援用し、ここで繰り返した。1.0168g3.11mmolのE-2,6-ジイソプロピル-N-2-ブチルアミノシクロヘキサ-2-エニリデンアニリンL製造例13及び0.997g3.11mmolのHfCl4を含む40mlのトルエン溶液に4モル当量の3MMeMgBrエーテル溶液を加えた。MeMgBrの添加中にガスの発生が観察された。得られた反応混合物を室温で2時間撹拌した後、溶媒を減圧下で除去した。残渣に20mLのトルエンを加えた後、20mLのヘキサンを加え、得られた黄色溶液を濾過した。濾液から減圧下で溶媒を除去すると、黄色の結晶性固形物が残った。NMRから、所望の生成物L1と少量の不純物の形成が示された。この固形物を2mLの温トルエンに溶解させ、18mLのヘキサンを加えた。得られた溶液を濾過し、濾液を冷凍庫-26°Cに一晩入れた。析出した黄色固形物を半融ガラス漏斗上に集め、3mLの冷ヘキサンにより洗浄し、減圧下で乾燥させると433mgの最初のロットのクリーンな生成物L1が得られた。最後の濾液から溶媒を除去し、得られた残渣を15mLのヘキサン15mlに溶解させ、冷凍庫に入れた。冷凍庫で2日後、溶媒をデカントし、残った大きな結晶を2mLの冷ヘキサンにより洗浄し、減圧下で乾燥させると、333mgの第2ロットの生成物L1が得られた。金属-配位子錯体L1の合計収量766mg44.8。1HNMRC6D6500MHz30°C70170851936725922182011761341192092091204813CNMRC6D6125MHz30°C、HSQCADC6D6500MHz30°C及び元素分析CHNデータと、X線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図は示されていない。製造例25:金属-配位子錯体M1、[N-[2-[[2,6-ビス1-メチルエチルフェニル]アミノ-κN]-3-メチルブタン-2-イリデン]-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミナト-κN]トリメチルジルコニウムの製造。米国特許第7,199,255B2号明細書の第37欄第43行~第38欄第32行に記載されているようにE-N-3-2,6-ジイソプロピルフェニルアミノ-3-メチルブタン-2-イリデン-2,6-ジイソプロピルアニリンMを製造した。250mLのトルエンに溶解させたE-N-3-2,6-ジイソプロピルフェニルアミノ-3-メチルブタン-2-イリデン-2,6-ジイソプロピルアニリン13.6g,32.3mmolに、1.6Mのn-BuLiのヘキサン溶液22.4mL35.8mmolを加えた。2.5時間攪拌した後、ZrCl47.4g,32mmolを加え、得られた混合物を暗褐色のスラリーとして一晩撹拌した。この混合物に35.5mL107mmolのMeMgBrET2O中3Mを加えた。周囲温度で3時間攪拌した後、溶媒を真空下で除去した。得られた灰色粉末をトルエン120mLにより処理して生成物を溶解させ、濾過して不溶性塩を除去した。フィルターケーキを追加のトルエン2×40mLで洗浄した。トルエンフラクションを組み合わせ、揮発性成分を真空下で除去すると、13.5g75の金属-配位子錯体M1が淡黄褐色固形物として得られた。製造例26:金属-配位子錯体M2、[N-[2-[[2,6-ビス1-メチルエチルフェニル]アミノ-κN]-3-メチルブタン-2-イリデン]-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミナト-κN]トリメチルハフニウムの製造。60mLのトルエンに溶解させたE-N-3-2,6-ジイソプロピルフェニルアミノ-3-メチルブタン-2-イリデン-2,6-ジイソプロピルアニリン3.00g,7.13mmolに、1.6Mのn-BuLiのヘキサン溶液4.9mL7.9mmolを加えた。90分間攪拌した後、HfCl42.284g,7.132mmolを加え、混合物を暗褐色のスラリーとして一晩撹拌した。この混合物に2.61mL7.84mmolMeMgBrET2O中3Mを加えた。周囲温度で2時間撹拌した後、溶媒を真空下で除去した。淡茶色の残渣をトルエンで抽出し、濾過して不溶性の塩を除去した。濾液を真空下で濃縮すると、金属-配位子錯体M2として黄色固形物3.04g66が得られた。製造例27:金属-配位子錯体B5、N-6E-6-ブチルイミノ-Κn-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミナト-κNトリメチル-ジルコニウムの製造。6E-6-ブチルイミノ-N-1,1:3,1-ターフェニル-2-イル-1-シクロヘキセン-1-アミンB製造例7及びZrCl4の冷-25°Cトルエン溶液50mLに周囲温度で3MMeMgBrエーテル溶液を加えた。MeMgBrの添加中にガスの発生が観察された。反応混合物は温かくならなかった。数分以内に反応混合物は黄色から黒色に変色した。溶液を2時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去した。残渣に20mLのヘキサン、次に30mLのトルエンを加え、溶液を濾過した。溶媒を減圧下で除去すると、暗橙色の油が得られ、この油は1時間以内に高結晶性固形物に固化した。固形物に20mLのヘキサンを加え、得られた懸濁液を室温で3時間撹拌した。固形物をフリット上に集め、5mLの冷ヘキサンで洗浄し、減圧下で乾燥させると、1.44gの金属-配位子錯体B5が得られた。濾液を一晩冷凍庫に入れた。溶媒をデカントし、大きな暗橙色結晶を4mLの冷ヘキサンにより洗浄し、減圧下で乾燥させると、680mgの金属-配位子錯体B5が得られた。金属-配位子錯体B5の合計収量は2.12g59.1であった。1HNMRδ72147034833632919819318514013813213412812210807707413CNMRδ1745415162144891441912613124241134249914860312128572779260224772456231820991384C25H42N2Zrについての分析計算値C6502H917N607実測値C6492H908N607X線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図は示されていない。製造28:1,3-ビス2,6-ジイソプロピルフェニル-1H-イミダゾール-23H-イミンNの製造1,3-ビス[2,6-ビス1-メチルエチルフェニル]-1,3-ジヒドロ-2H-イミダゾール-2-イリデン4.00g,10.3mmol,AldrichChemicalCompanyとトリメチルシリルアジド3.56g,30.9mmolを45mlのトルエンに溶解させ、得られた混合物を117°Cで24時間加熱sした。減圧下で溶媒を除去すると黄色固形物が得られた。この黄色固形物を20mLのトルエンに溶解させ、次いで8mLのメタノールを加えた。得られた混合物を室温で1時間撹拌した後、減圧下で溶媒を除去した。残渣に10mLのヘキサンを加え、得られた懸濁液を10分間撹拌し、次に冷凍庫に一晩入れた。半融ガラス漏斗上に固形物を集め、集めた固形物を冷ヘキサンで2回洗浄2×5mLし、減圧下で乾燥させると、3.84g92.4の生成物Nが得られた。1HNMRδ72471771258741532113412113C1HNMRδ1544914850129591242611367291824232415本発明の実施例実施例1:金属-配位子錯体1、N-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミナト-κNビスフェニルメチル-トリス1,1-ジメチルエチルホスフィンイミド-ジルコニウムの製造製造例16の金属-配位子錯体B2を5mLのトルエンに溶解させると黄色溶液が得られた。この溶液に、1mLのトルエン中の1モル当量のトリス1,1-ジメチルエチルホスフィンイミドRankinDWHetalJournaloftheChemicalSocietyDaltonTrans1985827830の溶液を加えた。1時間撹拌した後、溶媒を減圧下で除去して黄色の結晶性固形物を得た。温トルエン5mL中に固形物を溶解させ、10mLのヘキサンを加え、得られた溶液を冷凍庫-26°Cに一晩入れた。溶媒をデカントし、残留した黄色結晶をヘキサン2×10mLで洗浄し、減圧下で乾燥させると、255mg収率66の生成物1が得られた。1HNMRδ73472571670068446035634425924322020618815414413713312512511308413CNMRδ1750915263151881484414490128141262112509124491198511295671251424048310229702879284826232535243823302115138531PNMRδ3475C36H66ZrN3Pについての分析計算値C6520H1003N634実測値C5741H861N420図3は、金属-配位子錯体1のX線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図を示す。図3では、分かり易くするために水素原子は省略されている。実施例2:金属-配位子錯体2、[N-[2-[[2,6-ビス1-メチルエチルフェニル]アミノ-κN]-3-メチルブタン-2-イリデン]-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミナト-κN]ホスフィンイミド-ジルコニウムの製造金属-配位子錯体M1製造例25を5mLのトルエンに溶解させ、固形物としてtBu3P=NHを加え、次に3mLのヘキサンで洗浄した。tBu3P=NHの添加中にガスの発生が観察された。得られた反応混合物を室温で1時間撹拌し、次に溶媒を減圧下で除去すると、結晶性のオフホワイトの生成物2が得られた。生成物2を12mLの温ヘキサンに溶解させ、得られた溶液を冷凍庫-27°Cに入れた。2日後、得られた結晶の小さなサンプルをバイアルに移し入れた。溶媒をデカントし、得られたオフホワイトの結晶を2mLの冷ヘキサンにより洗浄し、減圧下で乾燥させると、310mgの生成物2が得られた;収率52。1HNMRδ72071370937530216115113813713211611202913CNMRδ19481149411478514677139391260512463124031239870984095369830223003285728382697252324742395195731PNMRδ3125図4は、金属-配位子錯体2のX線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図を示している。図4では、分かり易くするために水素原子は省略されている。実施例3:金属-配位子錯体3、[N-[2-[[2,6-ビス1-メチルエチルフェニル]アミノ-κN]-3-メチルブタン-2-イリデン]-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミナト-κN]ホスフィンイミド-ハフニウムの製造。金属-配位子錯体M1の代わりに金属-配位子錯体M2製造例26を使用したことを除いて実施例2の手順と同様の方法で81mgの生成物3を製造した;収率60、1HNMRδ71871571370837530215715313813413211511001513CNMRδ19617150001481014680139611262312459124061239471524831411330263022285028402701253024742396196131PNMRδ3738実施例4:金属-配位子錯体4、N-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミナト-κNビスフェニルメチル-トリス1,1-ジメチルエチルホスフィンイミド-ハフニウムの製造製造例19の金属-配位子錯体B4;0.3128g,0.55mmolを15mLのトルエンに溶解させて黄色溶液を得た。-26°Cに冷却した。この溶液に、8mLのヘキサン中の1モル当量のトリス1,1-ジメチルエチルホスフィンイミドの溶液を加えた。一晩撹拌した後、溶媒を減圧下で除去し、黄色固形物を得た。この固形物をヘキサン3mLに溶解させ、得られた溶液を冷凍庫-27°Cに一晩入れた。24時間後、溶媒をデカントし、残った結晶を減圧下で乾燥させ、289mg収率83の生成物4を得た。1HNMRδ73172245937236736521319815215014213012708701813CNMRδ17495153571491714478124581237411176509446034080309829762864282126052524247123662127139031PNMRδ3830C36H66HfN3Pについての分析計算値C5762H887N560実測値C5741H861N565実施例5~8:金属-配位子錯体5~8の製造。別々の実験で、ハフニウム-配位子錯体B4の代わりにハフニウム-配位子錯体L1、G1、D1及びH1のうちの異なる1つを使用したことを除いて実施例4の手順と同様にして、以下の金属-配位子錯体5~8をそれぞれ製造することができた:実施例9:金属-配位子錯体の製造9、N-6E-6-ブチルアミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミナト-κNジメチル-2,3,4-トリメチル-3-ペンタノラト-ジルコニウムの製造金属-配位子錯体B5製造例27を含むバイアルに、0.6mLのC6D6に溶解したジ-i-Pr-ケトン2,4-ジメチルペンタン-3-オンの溶液を加えた。このバイアルの得られた内容物をNMR管に移し入れた。15分後に得たNMRスペクトルは、金属-配位子錯体9の定量的な形成を示した。溶媒を除去し、単離された純粋な形態で金属-配位子錯体9を得た。1HNMRδ71845637236232521219018616715313913712011609809409008205013CNMRδ17375149881449714436125941242311217872750693615361131472871283925802506235721522007186718031416実施例10:金属-配位子錯体10、2,6-ビス1,1-ジメチルエチルフェノラートN-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミナト-κNジメチル-ハフニウムの製造。2mLのC6D6に溶解した金属-配位子錯体の溶液B4製造例19の溶液を含むバイアルに、1mLのC6D6に溶解させた57.3mgの2,6-ビス1,1-ジメチルエチルフェノールの溶液を加えた。ガスの発生は観察されなかった。反応混合物を周囲温度約24°Cで18時間放置した。NMRスペクトルから、金属-配位子錯体10の定量的な形成が示された。溶媒を除去し、単離された純粋な形態で金属-配位子錯体10を得た。1HNMRδ74073673272872569146637032932219218416214512512312211609106405713CNMRδ1774816240152751474614505139201259112571124491201911773561049613526316931452807278526622489231520741384C38H60HfN2Oについての分析計算値C6173H818N379実測値C6219H803N303図5は、本発明の金属-配位子錯体10実施例10のX線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図を示す。図5では、分かり易くするために水素原子は省略されている。実施例11:金属-配位子錯体11、N-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチル-ベンゼンアミナト-κN[N、N-ビス1-メチルエチルエタンイミドアミダト-κN,κN]ジメチル-ジルコニウムの製造N,N-メタンテトライルビス-2-プロパンアミンを含むバイアルに、3mLのトルエンに溶解させた金属-配位子錯体B5、3mLのトルエンに溶解させた6-ブチルイミノ-κN-N-1,1:3,1-ターフェニル-2-イル-1-アミナト-κNトリメチル-ジルコニウム製造例27を加えた。溶液を15分間撹拌し、次に、溶媒を減圧下で除去した。残渣を3mLのヘキサンに溶解させ、溶液を冷凍庫-30°Cに2日間入れた。溶媒はデカントし、非常に大きな橙褐色の結晶を2mLの冷ヘキサンで洗浄し、減圧下で乾燥させると、131mgの金属-配位子錯体11が得られた。収率61.7。1HNMRδ73272872447237734733733220519116115414714613912812011708405713CNMRδ177251741915322148961446912488124061140649804846450031232806280226522525247524562329213314011075C33H56HfN4についての分析計算値:C6536H960N953実測値C6506H929N937図6は、金属-配位子錯体11実施例11のX線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図を示す。図6では、分かり易くするために水素原子は省略されている。実施例12:金属-配位子錯体12、[N-6E-6-ブチルイミノ-κN-1-シクロヘキセン-1-イル-2,6-ビス1-メチルエチルベンゼンアミナト-κN][1,3-ビス2,6-ジメチルフェニル-1,3-ジヒドロ-2H-イミダゾール-2-イミナト-κN2]ジメチル-ジルコニウムの製造。66.6mg0.17mmolの金属-配位子錯体B5製造例27を含むバイアルに、0.8mLのC6D6に溶解させた76.2mg0.17mmolの1,3-ビス[2,6-ビス1-メチルエチルフェニル]-1,3-ジヒドロ-2H-イミダゾール-2-イミンN製造例28を加えた。試薬の混合によりガスの発生が観察された。バイアルの内容物をNMR管に移し入れた。10分後にNMRを行い、金属-配位子錯体12のきれいな形成が示された。溶媒を減圧下で除去した。残渣を4mLの温ヘキサンに溶解させた。バイアルを冷凍庫-30°Cに一晩入れた。黄色の結晶性固形物を半融ガラス漏斗上で集め、2mLの冷ヘキサンで洗浄し、減圧下で乾燥させると、75mg53.5の金属-配位子錯体12が得られた。1HNMRδ72572172071671059345634832725224620819414713913812712511911611208101713CNMRδ1735115356149291475514433142011351212953124361242212360114221104148453807310528992830279226102530249224532362233521231423C51H75N5Zrについての分析計算値C7212H890N825実測値C7195H889N821図7は、金属-配位子錯体12実施例12のX線分析により導き出された単結晶構造のORTEP図を示す。図7では、分かり易くするために水素原子は省略されている。熱振動楕円体は40の確率レベルで示されている。実施例13:式Iの金属-配位子錯体の製造。式Mの配位子の代わりに製造例1、9、10、11、12又は13のいずれか1つの式a、D、G、H、J又はLのいずれか1つの配位子をそれぞれ四塩化ジルコニウムと4モル当量のメチルマグネシウムブロミドに接触させて対応するトリメチルジルコニウム-配位子錯体を得、次にトリメチルジルコニウム-配位子錯体を式J3-H、J4-H、J5-H、J5-H、J6-H又はJ7-Hの化合物ここで、J3、J4、J5、J5、J6及びJ7は先に定義したとおりであるに接触させて対応する式Iの金属-配位子錯体トリメチルジルコニウム-配位子錯体のメチルジルコニウムに結合のうちの1つはそれぞれJ3、J4、J5、J5、J6又はJ7に置き換えられたものを得たことを除き、製造例25に記載の手順と同様にした。実施例14:式Iの金属-配位子錯体の製造。式Mの配位子の代わりに製造例1、9、10、11、12又は13のいずれか1つの式a、D、G、H、J又はLのいずれか1つの配位子をそれぞれ四塩化ハフニウムと4モル当量のメチルマグネシウムブロミドに接触させて対応するトリメチルハフニウム-配位子錯体を得、次にトリメチルハフニウム-配位子錯体を式K1-H、K2-H、K3-H、K4-H、K5-H又はK7-Hの化合物ここで、J3、J4、J5、J5、J6及びJ7は先に定義したとおりであるに接触させて対応する式Iの金属-配位子錯体トリメチルハフニウム-配位子錯体のメチルハフニウムに結合のうちの1つはそれぞれK1、K2、K3、K4、K5又はK6に置き換えられたものを得たことを除き、製造例26に記載の手順と同様にした。実施例A~D:それぞれポリエチレン-1-オクテンコポリマーP1~P4の製造。表1にまとめたように、上記の一般的なエチレン/-1-オクテン共重合法でそれぞれマイクロモルμ量の金属-配位子錯体1又は4、マイクロモル量の活性化共触媒MDATPB、マイクロモルの活性化共触媒のMMAO、及びグラム量のエチレンを使用し、グラム量の生成物、ポリエチレン-1-オクテン共重合体P1~P4を得た。共重合体P1~P4は、それぞれ、140°Cの最終セットポイントと温度傾斜真空オーブン内で約12時間乾燥させることにより回収した。DSCDSC2910,TAInstruments,Inc.により各ポリエチレン-1-オクテン共重合体例えば、P1の溶融温度及び結晶化温度を測定した。これとは別に、まず、各ポリエチレン-1-オクテン共重合体例えば、P1のサンプルを毎分10°Cの第1の加熱速度で室温から180°Cに加熱した。この温度に4分間保った後、毎分10°Cの冷却速度でサンプルを-40°Cに冷却し、-40°Cに4分間保ち、次に毎分10°Cの第2の加熱速度で160°Cに加熱した。PolymerLabs登録商標210高温ゲル透過熱量計を使用して各ポリエチレン-1-オクテンコポリマー例えばP1の分子量を測定した。13mgのポリエチレン-1-オクテンコポリマー例えばP1を使用し、16mLの1,2,4-トリクロロベンゼンBHTにより安定化により希釈し、希釈したサンプルを160°Cで2時間加熱及び振とうした。オクテン含有量モルmol及び密度を求めるために、140μLの各ポリマー溶液をシリカウェハ上に別々の載せ、TCBが乾燥するまで140°Cで乾燥させ、乾燥したサンプルを、AutoProオートサンプラーを取り付けたバージョン7.1ソフトウェアを組み込んだNicoletNexus670FT-IRを使用して分析した。結果を表2に示す。表2では、Ex.No.は実施例の番号を意味し、μモルはマイクロモルを意味し、g-ポリ/g-金属は使用した錯体1グラム当り生成したポリマーのグラム数を意味し、Tm、グラム数gでの質量平均分子量Mw、数平均分子量Mn及びMw/Mnは先に定義したとおりである。実施例H~E:ポリエチレン-1-オクテンコポリマーP5~P8の製造。ジルコニウム-配位子錯体の代わりに別々の実験でハフニウム-配位子錯体L1、G1、D1及びH1のうちの異なる1つを使用したことを除いて実施例1の手順と同様にして、ポリエチレン-1-オクテンコポリマーP5~P8構造は図示せずをそれぞれ製造することができた。上記実施例により示されるように、第二の態様の触媒は、重合触媒として有利な触媒効率を示し例えば、第二の態様の触媒を製造するために使用した式Iの金属-配位子錯体の1グラム当たり生成したポリマーのより高いグラム数、従来のポリオレフィンのMw又はMnと比べて有益により高いMw、Mn又はこれらの両方を有するポリオレフィン類ポリオレフィンコポリマーを包含するを生じた。本発明をその好ましい態様により上で説明したが、この開示の精神及び範囲内で本発明を変更することができる。従って、本願は、本明細書に開示される一般的な原理を用いて本発明の任意の変形、使用又は適用をカバーすることを意図している。さらに、本願は、本発明が属する、及び、以下の特許請求の範囲内に該当する、当該技術分野において既知の又は慣行内に入るような本開示からの逸脱をカバーすることを意図している。"