"沸点又は分解温度が200°C以上である下記一般式Iで表される化合物と、解離性基及びアルキレングリコールに由来する繰り返し単位を含む架橋ポリマーと、を含む分離活性膜を有することを特徴とするガス分離膜。一般式I中、R1、R2及びR3は水素原子又は置換基を表し、W1は2価の連結基を表す。R1、R2及びR3が置換基を表す場合、R1とR2、R1とR3又はR2とR3は互いに連結し、環を形成してもよい。一般式Iで表される化合物において、1級アミノ基の総分子量2級アミノ基の総分子量/一般式Iの分子量は0.3以上、0.84以下である。前記架橋ポリマーが、下記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を有するポリマーであることを特徴とするガス分離膜。一般式II-1~II-3中、R4、R5、R6及びR7は各々独立に水素原子又は置換基を表す。J1、J2及びJ3は-CO-、-COO-、-CONR8-、-OCO-、-O-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表し、R8は水素原子又は置換基を表す。W2、W3及びW4は単結合又は2価の連結基を表す。Aは解離性基を表す。Y1及びY2はアルキレングリコール残基を表す。a、b及びcは各々独立に1以上の整数を表し、xは0以上の整数を表す。L1はn価の連結基を表す。前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーが、下記一般式III、下記一般式IV及び下記一般式V、又は一般式VIで表される化合物により形成されることを特徴とする請求項2に記載のガス分離膜。一般式III中、R4、J1、W2及びAは一般式II-1におけるR4、J1、W2及びAと同じ意味を表す。一般式IV中、R5、J2、W3及びY1は一般式II-2におけるR5、J2、W3及びY1と同じ意味を表し、R9は水素原子又は置換基を表し、J4は-CO-、-COO-、-CONR10-、-OCO-、-O-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表し、R10は水素原子又は置換基を表す。W5は一般式II-2におけるW3と同じ意味を表す。一般式V中、R6、J3、W4、Y2及びR7は一般式II-3におけるR6、J3、W4、Y2及びR7と同じ意味を表す。一般式VI中、R4、R5、R6、R7、J1、J2、J3、W2、W3、W4、A、a、b、c、x、Y1及びY2は一般式II-1~II-3におけるR4、R5、R6、R7、J1、J2、J3、W2、W3、W4、A、a、b、c、x、Y1及びY2と同じ意味を表し、R9、W5、J4は一般式IVにおけるR9、W5及びJ4と同じ意味を表す。前記一般式II-1~II-3における、R4、R5、R6及びR7は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、J1、J2及びJ3は各々独立に-CO-、-COO-、又は-OCO-基を表し、W2、W3及びW4は各々独立に単結合、アルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、L1はアルキレン基、又はアルキレンオキシ基を表すことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のガス分離膜。Aで表される解離性基がカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、-CONHSO2-R11、-SO2NHCO-R12又はSO2NHSO2-R13より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項2~4のいずれか1項に記載のガス分離膜。ただし、R11、R12及びR13は置換基を表す。前記一般式IにおけるR1、R2及びR3は水素原子、又はアルキル基を表し、W1はアルキレン基、又はアリーレン基を表すことを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のガス分離膜。前記一般式Iで表される化合物と前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーとを共有結合により固定化させたことを特徴とする請求項2~6のいずれか1項に記載のガス分離膜。更に多孔質膜を有し、該多孔質膜の少なくとも表面に分離活性膜を有することを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載のガス分離膜。前記ガス分離膜が、少なくとも1種の酸性ガスと少なくとも1種の非酸性ガスを含む混合ガスから少なくとも1種の酸性ガスを分離することを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載のガス分離膜。少なくとも1種の前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーと、少なくとも1種の前記一般式Iで表される化合物とを含有するガス分離膜を、熱硬化により形成することを特徴とする請求項1~9のいずれか1項に記載のガス分離膜の製造方法。少なくとも1種の前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーと、少なくとも1種の前記一般式Iで表される化合物とを含有するガス分離膜を、活性放射線を照射することにより形成することを特徴とする請求項1~9のいずれか1項に記載のガス分離膜の製造方法。少なくとも1種の酸性ガスと少なくとも1種の非酸性ガスを含むガス混合物から少なくとも1種の酸性ガスを、請求項1~9のいずれか1項に記載のガス分離膜により分離する、ガス混合物の分離方法であって、前記酸性ガスが、二酸化炭素、硫化水素、硫化カルボニル、硫黄酸化物SOx、及び窒素酸化物NOxから選択される少なくとも1種であり、前記非酸性ガスが水素、メタン、窒素、及び一酸化炭素から選択される少なくとも1種であることを特徴とするガス混合物の分離方法。前記酸性ガスが二酸化炭素又は硫化水素であることを特徴とする請求項12に記載のガス混合物の分離方法。前記ガス混合物の主成分が二酸化炭素及びメタン又は二酸化炭素及び水素であることを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載のガス分離膜を用いたガス混合物の分離方法。請求項1~9のいずれか1項に記載のガス分離膜を含むガス分離膜モジュール。請求項15に記載のガス分離膜モジュールを少なくとも1種を含む気体分離装置。前述のように天然ガスやバイオガス、水素製造プラントにおいては不純物である酸性ガス特に二酸化炭素の分離が望まれている。本発明者らが検討した結果、例えば特許文献6に開示されているような特定のアミンデンドリマーを含有した架橋ポリエチレングリコール膜では柔軟なゴム状単膜であり剥離時に容易に膜が割れてしまうなど取り扱いに注意を要し、機械的強度の付与が必要なことがわかった。また前記の特許文献3~5では支持膜として親水性の精密ろ過膜ミクロフィルターを用いており、空孔へ架橋ポリビニルアルコールのゲル膜を充填、形成しているために機械的強度と高いガス透過性、分離選択性を両立している。しかしながら、本発明者らが検討した結果、ポリビニルアルコールを素材として用いているために乾燥状態では硬質であるため衝撃や曲げに脆く、割れてしまったりする場合があった。特許文献7及び8にはアミン化合物をポリマーに固定化することが記載されているが、高温条件での酸性ガス透過性及びガスの分離選択性が十分ではなかった。より多くの酸性ガスを膜中に取り込み、溶解-拡散を促進するためには膜中のキャリア濃度すなわちアミン濃度が高いことが望ましい。しかしながら、高濃度のアミンを含む膜素材をUV照射で硬化、製膜しようとすると過剰のアミンが硬化阻害剤となり、製膜性を著しく低下させることがわかった。また熱硬化法での製膜はアミンの酸化による着色、性能劣化が生じる場合があり、アミンを高濃度にかつ安定に膜中に閉じ込めるのは困難であった。そこで本発明者らが鋭意検討した結果、あらかじめ酸性成分を膜素材に導入し、製膜性を付与した上で、後工程として特定のアミン価のアミンを反応させることにより、膜中に単位分子量あたりの酸性ガスとの反応点密度が高いキャリアをポリマーに固定化膜に担持できることを見出し、高温高圧下においても分離選択性に優れたガス分離膜を見出し、発明を完成するに至った。本発明はこのようにして前記の問題点を解決し、更にはガス透過性、分離選択性、及び耐熱性に優れたガス分離膜、ガス分離膜の製造方法、ガス混合物の分離方法、及びそれを用いたガス分離膜モジュール、気体分離装置の提供を目的とする。上記の課題は以下の手段により達成された。1沸点又は分解温度が200°C以上である下記一般式Iで表される化合物と、解離性基及びアルキレングリコールに由来する繰り返し単位を含む架橋ポリマーと、を含む分離活性膜を有することを特徴とするガス分離膜。一般式I中、R1、R2及びR3は水素原子又は置換基を表し、W1は2価の連結基を表す。R1、R2及びR3が置換基を表す場合、R1とR2、R1とR3又はR2とR3は互いに連結し、環を形成してもよい。一般式Iで表される化合物において、1級アミノ基の総分子量2級アミノ基の総分子量/一般式Iの分子量は0.3以上、0.84以下である。2前記架橋ポリマーが、下記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を有するポリマーであることを特徴とするガス分離膜。一般式II-1~II-3中、R4、R5、R6及びR7は各々独立に水素原子又は置換基を表す。J1、J2及びJ3は-CO-、-COO-、-CONR8-、-OCO-、-O-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表し、R8は水素原子又は置換基を表す。W2、W3及びW4は単結合又は2価の連結基を表す。Aは解離性基を表す。Y1及びY2はアルキレングリコール残基を表す。a、b及びcは各々独立に1以上の整数を表し、xは0以上の整数を表す。L1はn価の連結基を表す。3前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーが、下記一般式III、下記一般式IV及び下記一般式V、又は一般式VIで表される化合物により形成されることを特徴とする2に記載のガス分離膜。一般式III中、R4、J1、W2及びAは一般式II-1におけるR4、J1、W2及びAと同じ意味を表す。一般式IV中、R5、J2、W3及びY1は一般式II-2におけるR5、J2、W3及びY1と同じ意味を表し、R9は水素原子又は置換基を表し、J4は-CO-、-COO-、-CONR10-、-OCO-、-O-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表し、R10は水素原子又は置換基を表す。W5は一般式II-2におけるW3と同じ意味を表す。一般式V中、R6、J3、W4、Y2及びR7は一般式II-3におけるR6、J3、W4、Y2及びR7と同じ意味を表す。一般式VI中、R4、R5、R6、R7、J1、J2、J3、W2、W3、W4、A、a、b、c、x、Y1及びY2は一般式II-1~II-3におけるR4、R5、R6、R7、J1、J2、J3、W2、W3、W4、A、a、b、c、x、Y1及びY2と同じ意味を表し、R9、W5、J4は一般式IVにおけるR9、W5及びJ4と同じ意味を表す。4前記一般式II-1~II-3における、R4、R5、R6及びR7は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、J1、J2及びJ3は各々独立に-CO-、-COO-、又は-OCO-基を表し、W2、W3及びW4は各々独立に単結合、アルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、L1はアルキレン基、又はアルキレンオキシ基を表すことを特徴とする1~3のいずれか1項に記載のガス分離膜。5Aで表される解離性基がカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、-CONHSO2-R11、-SO2NHCO-R12又は-SO2NHSO2-R13より選択される少なくとも1種であることを特徴とする2~4のいずれか1項に記載のガス分離膜。ただし、R11、R12及びR13は置換基を表す。6前記一般式IにおけるR1、R2及びR3は水素原子、又はアルキル基を表し、W1はアルキレン基、又はアリーレン基を表すことを特徴とする1~5のいずれか1項に記載のガス分離膜。7前記一般式Iで表される化合物と前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーとを共有結合により固定化させたことを特徴とする2~6のいずれか1項に記載のガス分離膜。8更に多孔質膜を有し、該多孔質膜の少なくとも表面に分離活性膜を有することを特徴とする1~7のいずれか1項に記載のガス分離膜。9前記ガス分離膜が、少なくとも1種の酸性ガスと少なくとも1種の非酸性ガスを含む混合ガスから少なくとも1種の酸性ガスを分離することを特徴とする1~8のいずれか1項に記載のガス分離膜。10少なくとも1種の前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーと、少なくとも1種の前記一般式Iで表される化合物とを含有するガス分離膜を、熱硬化により形成することを特徴とする1~9のいずれか1項に記載のガス分離膜の製造方法。11少なくとも1種の前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーと、少なくとも1種の前記一般式Iで表される化合物とを含有するガス分離膜を、活性放射線を照射することにより形成することを特徴とする1~9のいずれか1項に記載のガス分離膜の製造方法。12少なくとも1種の酸性ガスと少なくとも1種の非酸性ガスを含むガス混合物から少なくとも1種の酸性ガスを、1~9のいずれか1項に記載のガス分離膜により分離する、ガス混合物の分離方法であって、前記酸性ガスが、二酸化炭素、硫化水素、硫化カルボニル、硫黄酸化物SOx、及び窒素酸化物NOxから選択される少なくとも1種であり、前記非酸性ガスが水素、メタン、窒素、及び一酸化炭素から選択される少なくとも1種であることを特徴とするガス混合物の分離方法。13前記酸性ガスが二酸化炭素又は硫化水素であることを特徴とする12に記載のガス混合物の分離方法。14前記ガス混合物の主成分が二酸化炭素及びメタン又は二酸化炭素及び水素であることを特徴とする1~9のいずれか1項に記載のガス分離膜を用いたガス混合物の分離方法。151~9のいずれか1項に記載のガス分離膜を含むガス分離膜モジュール。1515に記載のガス分離膜モジュールを少なくとも1種を含む気体分離装置。本発明のガス分離膜は、耐熱性、ガス透過性、分離選択性に優れ、折り曲げ試験にも耐え得る可撓性が付与されたガス分離膜及びピンホールの少ないガス分離膜及びその製造方法を提供するものである。本発明のガス分離膜により、優れたガス混合物の分離方法、ガス分離膜モジュール、ガス分離膜モジュールを含むガス分離装置を提供することができる。本発明のガス分離膜は、耐熱性、加湿条件下におけるキャリアの溶出抑制に優れ、安定性に優れる。また折り曲げ適性のある機械強度が付与され、高温加湿条件下での分離選択性の低減が抑制され熱安定性に優れる。更にはガス分離選択性、特に二酸化炭素の透過性に優れ、二酸化炭素/メタン、二酸化炭素/水素の分離膜として優れた性能を発揮し、本発明のガス分離膜及び複合膜により、優れた気体分離方法、ガス分離膜モジュール、ガス分離膜モジュールを含むガス分離、ガス精製装置を提供することができる。以下に本発明について詳しく説明するが、本発明はこれにより限定して解釈されるものではない。本発明において、置換基Zを下記のように定義する。置換基群Z:アルキル基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~10のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、Iso-プロピル、tert-ブチル、n-オクチル、n-デシル、n-ヘキサデシル、シクロアルキル基好ましくは炭素数3~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数3~10のシクロアルキル基であり、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。、アルケニル基好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアルケニル基であり、例えばビニル、アリル、2-ブテニル、3-ペンテニルなどが挙げられる。、アルキニル基好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアルキニル基であり、例えばプロパルギル、3-ペンチニルなどが挙げられる。、アリール基好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリール基であり、例えばフェニル、p-メチルフェニル、ナフチル、アントラニルなどが挙げられる。、アミノ基好ましくは炭素数0~30、より好ましくは炭素数0~20、特に好ましくは炭素数0~10のアミノ基であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。、アルコキシ基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~10のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2-エチルヘキシロキシなどが挙げられる。、アリールオキシ基好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリールオキシ基であり、例えばフェニルオキシ、1-ナフチルオキシ、2-ナフチルオキシなどが挙げられる。、ヘテロ環オキシ基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のヘテロ環オキシ基であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられる。、アシル基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のアシル基であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。、アルコキシカルボニル基好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~12のアルコキシカルボニル基であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。、アリールオキシカルボニル基好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~20、特に好ましくは炭素数7~12のアリールオキシカルボニル基であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。、アシルオキシ基好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアシルオキシ基であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。、アシルアミノ基好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。、アルコキシカルボニルアミノ基好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~12のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。、アリールオキシカルボニルアミノ基好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~20、特に好ましくは炭素数7~12のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。、スルホニルアミノ基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。、スルファモイル基好ましくは炭素数0~30、より好ましくは炭素数0~20、特に好ましくは炭素数0~12のスルファモイル基であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。、カルバモイル基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のカルバモイル基であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。、アルキルチオ基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のアルキルチオ基であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。、アリールチオ基好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリールチオ基であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。、ヘテロ環チオ基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のヘテロ環チオ基であり、例えばピリジルチオ、2-ベンズイミゾリルチオ、2-ベンズオキサゾリルチオ、2-ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。、スルホニル基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のスルホニル基であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。、スルフィニル基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のスルフィニル基であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。、ウレイド基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のウレイド基であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。、リン酸アミド基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のリン酸アミド基であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、より好ましくはフッ素原子が挙げられる、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、オキソ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12のヘテロ環基であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、カルバゾリル基、アゼピニル基などが挙げられる。、シリル基好ましくは炭素数3~40、より好ましくは炭素数3~30、特に好ましくは炭素数3~24のシリル基であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。、シリルオキシ基好ましくは炭素数3~40、より好ましくは炭素数3~30、特に好ましくは炭素数3~24のシリルオキシ基であり、例えばトリメチルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシなどが挙げられる。などが挙げられる。これらの置換基は、更に上記置換基群Zより選択されるいずれか1つ以上の置換基により置換されてもよい。本発明のガス分離膜は、少なくとも1種の酸性ガスと少なくとも1種の非酸性ガスを含む混合ガスから少なくとも1種の酸性ガスを分離するためのガス分離膜であって、沸点又は分解温度が200°C以上である下記一般式Iで表される化合物と、解離性基及びアルキレングリコールに由来する繰り返し単位を含む架橋ポリマーと、を含む分離活性膜を有する。本発明のガス分離膜は、更に多孔質膜を有し、該多孔質膜の少なくとも表面に分離活性膜を有することが好ましい。分離活性膜は、分離膜をなるべく高温で使用できるようにすることにより分離エネルギーのコストを低減する観点から、100°C以上の耐熱性を有することが好ましく、150°C以上の耐熱性を有することがより好ましい。分離活性膜本発明にかかる分離活性膜は、沸点又は分解温度が200°C以上である一般式Iで表される化合物と、解離性基及びアルキレングリコールに由来する繰り返し単位を含む架橋ポリマーと、を含有する。一般的に水素は天然ガスの水蒸気改質、水性ガスシフトにより製造される。具体的には天然ガスの主成分であるメタンが触媒存在下で水蒸気改質により、一酸化炭素と水素の混合ガスとなり、続く水性ガスシフトにより、最終的に二酸化炭素と水素の混合ガスとなる。水蒸気改質工程は一般的に800°C以上、水性ガスシフト反応は200~250°C付近で行われる。水性ガスシフト工程の下流で水素と二酸化炭素を分離を考えるとエネルギー効率の観点からなるべく高温でのガス分離が達成されることが望ましい。従って分離活性膜に含まれるキャリアは高温での安定性が必要となり、沸点又は分解温度が200°C~700°Cであることが好ましく、200°C~400°Cであることがより好ましい。一般式Iで表される化合物の沸点又は分解温度が200°C以上であることにより、高温条件においても優れたガス分離選択性が得られる。分離活性膜の形成については後に詳述するが、沸点又は分解温度が200°C以上である下記一般式Iで表される化合物と、解離性基及びアルキレングリコールに由来する繰り返し単位を含む架橋ポリマーと、を含有する組成物を用いて形成することができる。また、分離活性膜がゲル膜であることが好ましい。分離活性膜がゲル膜であれば、三次元的なネットワークにより溶媒、特に水を膜中に閉じ込めておく能力が高いことが期待され、したがって、より安定した促進輸送膜を構成することができるためである。該ゲル膜は、対象とする酸性ガスを吸収した際の耐可塑性、耐熱性、耐圧性及び機械強度付与などの観点から、架橋構造を有することが好ましく、アルデヒド基、エポキシド基、イソシアネート基、カルボジイミド基又はオキサゾリン基由来の架橋構造を有するポリマーを含むことが好ましい。一般式Iで表される化合物一般式I中、R1、R2及びR3は水素原子又は置換基を表し、W1は2価の連結基を表す。R1、R2及びR3が置換基を表す場合、R1とR2、R1とR3又はR2とR3は互いに連結し、環を形成してもよい。一般式Iで表される化合物において、1級アミノ基の総分子量2級アミノ基の総分子量/一般式Iの分子量は0.3以上である。R1、R2及びR3が表す置換基としては、それぞれ独立に、上記置換基群Zより選ばれるいずれか1つを用いることができる。好ましくは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基であり、水素原子又はアルキル基がより好ましい。W1が表す2価の連結基としては、後述するL-1~L-35で表される構造単位又はこれらを組み合わせて構成される連結基を挙げることができるが、アルキレン基、アリーレン基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。一般式IにおけるR1、R2及びR3は水素原子、又はアルキル基を表し、W1はアルキレン基、又はアリーレン基を表すことが好ましい。一般式Iで表される化合物において、1級アミノ基の総分子量2級アミノ基の総分子量/一般式Iの分子量は0.3以上である。好ましくは0.3~0.84であり、より好ましくは0.3~0.7である。1級アミノ基の総分子量2級アミノ基の総分子量/一般式Iの分子量は0.3以上であれば、キャリアの単位添加量あたりの反応点密度が高いために、より少ない添加量での効果を発現すること、高濃度酸性ガスである場合においても優れた効果を発現することが可能となり、好ましい。1級アミノ基の総分子量2級アミノ基の総分子量/一般式Iの分子量を算出する際は、1級アミノ基の分子量を16、2級アミノ基の分子量を15として計算することができ、それらの基の総和を一般式Iの分子量により除算することにより算出することができる。ポリマーに関しては単位構成成分において計算することにより算出することができる。一般式Iで表される化合物として具体的には以下の化合物を挙げることができるが、本発明はこれらに限るものではない。なお、p、q、rは繰り返し単位の数を表わす。一般式Iで表される化合物は市販品から入手又は、一般的な有機合成的手法として、例えば日本化学会編集丸善株出版実験化学講座有機化合物の合成IIアルコールアミンなどの成書を参考として、得ることができる。一般式Iで表される化合物は酸性ガスと相互作用し得る化合物であり、酸性ガスキャリアとして用いることができる。このようなキャリアを有する膜は一般に促進輸送膜と呼ばれるもので、MaterialScienceofMembranesforGasandVaporSeparation編集:Yu.Yampolskii、I.Pinnau、B.D.Freemanの第17章411-435ページに詳しく記載されている。酸性ガスとしては、二酸化炭素、硫化水素、硫化カルボニル、硫黄酸化物SOx、及び窒素酸化物NOxが挙げられ、二酸化炭素、硫化水素、硫化カルボニル、硫黄酸化物SOx、及び窒素酸化物NOxから選択される少なくとも1種であることが好ましく、更に好ましくは二酸化炭素、硫化水素又は硫黄酸化物SOxであり、より好ましくは二酸化炭素、又は硫化水素であり、更に好ましくは二酸化炭素である。相互作用とは対象とする酸性ガスの性質に起因する作用又は反応を意味し、例えば、双極子相互作用、酸塩基相互作用、クーロン相互作用、サイズ相互作用などを表す。相互作用により対象とする酸性ガスとの吸着性、相溶性又は反応性が向上することになり、膜中に酸性ガスの吸収、透過、拡散がより促進され、非酸性ガスとの透過性差を大きくする、という効果が達成し得る。一般式Iで表される化合物は分子量が150,000以下の化合物であることが好ましい。一般式Iで表される化合物と前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーとを固定化膜に担持させることが好ましく、共有結合により固定化させることが好ましい。これにより耐熱性、加湿条件におけるキャリアの溶出抑制に優れ、安定性に優れたガス分離膜とすることができる。本発明のガス分離膜において、一般式Iで表される化合物以外の酸性ガスキャリアを用いることもできる。一般式Iで表される化合物以外の酸性ガスキャリアとしては、特に限定されるものではないが、酸性ガスに対して親和性を有する化合物であることが好ましく、例えば、アルカリ金属の水酸化物例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、アルカリ金属のアルコキシド例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、tert-ブトキシナトリウム、tert-ブトキシカリウム、アルカリ金属炭酸塩例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、炭酸セシウム、アルカリ金属重炭酸塩例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなど、アルカリ金属リン酸塩リン酸ナトリウム、リン酸カリウムなど、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ土類金属のアルコキシド、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ土類金属重炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、第四級アンモニウムヒドロキシド例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド等、グアニジン類例えば、グアニジン、テトラメチルグアニジン等、ヘテロ環塩基例えば、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,8-ジアザビシクロ[4,3,0]-7-ノネン等、アミノ酸類例えば、グリシン、ジメチルアミノグリシン、2,3-ジアミノプロピオン酸等、錯体例えば、特開平6-142466号に記載のロジウム金属錯体や特開平6-142467号に記載のモリブデン錯体等、イオン液体例えば、下記のカチオン、アニオンの組合せよりなる化合物から選択される化学物質が利用できる。iカチオン:1,3位に以下の置換基を有するイミダゾリウムで、置換基としてアルキル基、ヒドロキシアルキル基、エーテル基、アリル基、アミノアルキル基、アリール基を有するもの、ピロリジニウムカチオンで置換基として、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、エーテル基、アリル基、アミノアルキル基、アリール基を有するもの、ピリジニウムカチオンで置換基として、アルキル基、アリール基、ホスホニウムカチオンで置換基としてアルキル基、ヒドロキシアルキル基、エーテル基、アリル基、アミノアルキル基、アリール基を有するもの、又は、第4級アンモニウムカチオンで、置換基としてアルキル基、ヒドロキシアルキル基、エーテル基、アリル基、アミノアルキル基、アリール基を有するもの。iiアニオン:塩化物イオン、臭化物イオン、四フッ化ホウ素イオン、硝酸イオン、ビストリフルオロメタンスルホニルイミドイオン、ビスパーフルオロブチルメタンスルホニルイミドイオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、又は、トリフルオロメタンスルホン酸イオンなど。また、当該イオン液体の具体例として、1‐アリル‐3‐エチルイミダゾリウムブロミド、1‐エチル‐3-メチルイミダゾリウムブロミド、1‐2‐ヒドロキシエチル‐3‐メチルイミダゾリウムブロミド、1‐2‐メトキシエチル‐3‐メチルイミダゾリウムブロミド、1‐オクチル‐3‐メチルイミダゾリウムクロリド、N,N‐ジエチル‐N‐メチル‐N‐2‐メトキシエチルアンモニウムテトラフルオロボラート、エチルメチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド、エチルメチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホン酸、エチルメチルイミダゾリウムジシアナミド、及び、塩化トリヘキシルテトラデシルホスホニウム等が利用でき、好ましくはイミダゾリウム塩、四級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、ホスホニウム塩であり、より好ましくはイミダゾリウム塩、ピリジニウム塩、ホスホニウム塩であり、更に好ましくはピリジニウム塩又はホスホニウム塩である。また、添加剤として、イオン液体以外に、グリセリン、ポリグリセリン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリアクリル酸の中から選択される化学物質が利用できる。等の従来公知のものを挙げることができる。また、前記したアルカリ金属の炭酸塩や重炭酸塩の場合、補助添加成分として、アルカリ金属イオンと錯体を形成する多座配位子や、亜砒酸ナトリウム、炭酸アンヒドラーゼ、ホウ酸等を併用することができる。アルカリ金属イオンと錯体を形成する多座配位子としては、従来公知のもの、例えば:12-クラウン-4、15-クラウン-5、18-クラウン-6、ベンゾ-12-クラウン-4、ベンゾ-15-クラウン-5、ベンゾ-18-クラウン-6、ジベンゾ-12-クラウン-4、ジベンゾ-15-クラウン-5、ジベンゾ-18-クラウン-6、ジシクロヘキシル-12-クラウン-4、ジシクロヘキシル-15-クラウン-5、ジシクロヘキシル-18-クラウン-6、n-オクチル-12-クラウン-4、n-オクチル-15-クラウン-5、n-オクチル-18-クラウン-6等の環状ポリエーテル;クリプタンド2.1、クリプタンド2.2等の環状ポリエーテルアミン;クリプタンド2.1.1、クリプタンド2.2.2、等の双環式ポリエーテルアミンの他、ポルフィリン、フタロシアニン、ポリエチレングリコール、エチレンジアミン四酢酸等を用いることができる。酸性ガスキャリアは、前記したものに限られるものではなく、酸性ガスと親和性を有し、かつ水溶性を示すものであればよく、有機酸のアルカリ金属塩等各種のものを用いることができる。キャリアの化学的安定性及び蒸気圧が低く、膜中から失われる可能性が低いことから、分離性能の長期耐久性が期待できるアルカリ金属の水酸化物、アルカリ金属のアルコキシド、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ土類金属のアルコキシド、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ土類金属重炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、有機アミン、イオン液体、又は金属錯体が好ましい。有機アミン、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩、又はアルカリ金属リン酸塩がより好ましく、更に好ましくは有機アミン、アルカリ金属炭酸塩又はアルカリ金属リン酸塩である。また二酸化硫黄キャリアとして知られている、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム等の水溶性の亜硫酸塩、酸素や一酸化炭素キャリアとして、ヘモグロビン、一酸化炭素キャリアとして知られている、CuNH42、CuCl22-等の銅錯イオンを生成する水溶性銅化合物等を挙げることができる。また、これらキャリアの混合物の使用も可能である。キャリアの分子量は150,000以下であり、好ましくは100~100,000であり、より好ましくは100~5,000であり、更に好ましくは100~3,000である。一般式Iで表される化合物の含有量は、分離活性膜を形成する組成物中の全固形分を基準として、5~90質量であることが好ましく、10~80質量であることがより好ましく、30~70質量であることが更に好ましい。一般式Iで表される化合物としては、例えば、アルカノールアミン、具体的には、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチルモノエタノールアミン、n-ブチルモノエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、エチルジエタノールアミン、n-ブチルエタノールアミン、ジーn-ブチルエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、PAMAMデンドリマーや、例えば特開2007-54710に記載の水酸基変性されたデンドリマー、ポリアリルアミン又はポリエチレンイミン等が挙げられる。架橋ポリマー本発明に用いられる架橋ポリマーは、解離性基及びアルキレングリコールに由来する繰り返し単位を含む架橋ポリマーである。アルキレングリコールに由来する繰り返し単位を含む架橋ポリマーとしては特に限定されるものではないが、少なくとも1種のポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有していることが好ましい。これにより膜の柔軟性を付与することが可能となる。また、膜中での二酸化炭素と水素の拡散性差を小さくすることが可能となり、二酸化炭素と水素の逆の分離選択性の発現により効果的であり、高いガス透過性の発現が可能となる。また分極した構造を持つ繰り返し単位のため、酸性ガスの極性との相互作用の発現により高い親和性を発揮し、膜への溶解性が向上する、という効果がある。架橋ポリマーとしてより好ましくは下記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を有するポリマー以下架橋ポリマーA1と称する場合があるを含むことが好ましい。一般式II-1~II-3中、R4、R5、R6及びR7は各々独立に水素原子又は置換基を表す。J1、J2及びJ3は-CO-、-COO-、-CONR8-、-OCO-、-O-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表し、R8は水素原子又は置換基を表す。W2、W3及びW4は単結合又は2価の連結基を表す。Aは解離性基を表す。Y1及びY2はアルキレングリコール残基を表す。a、b及びcは各々独立に1以上の整数を表し、xは0以上の整数を表す。L1はn価の連結基を表す。一般式II-1~II-3中、R4、R5、R6及びR7は各々独立に水素原子又は置換基を表す。その置換基としては前記に示される置換基群Zより選ばれるいずれか1つを用いることができる。R4、R5、R6及びR7は水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。J1、J2及びJ3は各々独立に-CO-、-COO-、-CONR2-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表す。R2は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基が好ましく、その好ましい範囲は置換基Zで説明したアルキル基、アリール基の好ましい範囲と同義である。これらのうち、J1、J2及びJ3としては-CO-、-COO-又は-OCO-が好ましく、-COO-が特に好ましい。W2、W3及びW4は各々独立に2価の連結基を表す。2価の連結基としては、例えば、直鎖、分岐若しくは環状のアルキレン基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12、更に好ましくは炭素数1~4のアルキレン基であり、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、オクチレン、デシレンなどが挙げられる。、アルキレンオキシ基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12、更に好ましくは炭素数1~4のアルキレンオキシ基であり、例えばメチレンオキシ、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、ブチレンオキシ、ペンチレンオキシ、へキシレンオキシ、オクチレンオキシ、デシレンオキシなどが挙げられる。、アラルキレン基好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~13のアラルキレン基であり、例えばベンジリデン、シンナミリデンなどが挙げられる。、アリーレン基好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~15のアリーレン基であり、例えば、フェニレン、クメニレン、メシチレン、トリレン、キシリレンなどが挙げられる。などが挙げられ、より好ましくはアルキレンオキシ基である。これらは更に置換基を有していてもよい。更なる置換基としてはアルキル基、アルキレン基、アルコキシ基、シリル基、又はシリルオキシ基が挙げられ、アルキル基又はシリルオキシ基が好ましい。また、分子内にエーテル結合を有していることも好ましい。W2、W3及びW4が表す連結基の具体的な例としては下記のL-1~L-35で表される構造単位又はこれらを組み合わせて構成される連結基を挙げることができる。L1はn価の連結基を表し、その具体的な例としては下記のL-1~L-35で表される構造単位又はこれらを組み合わせて構成される連結基を挙げることができる。一般式Iで表される繰り返し単位を含むポリマーは、L1により一般式Iの繰り返し単位同士が連結されることで、架橋構造を有する。nは2以上の正の整数を表し、好ましくは、nは2~6であり、より好ましくは2~4である。前記L-1~L-35より選択される基より構成されるW2、W3及びW4は各々独立に、単結合、アルキレン基又はアルキレンオキシ基が好ましく、単結合又はアルキレンオキシ基であることが好ましい。前記L-1~L-35より選択される基より構成されるL1は単結合又はアルキレン基、又はアルキレンオキシ基が好ましく、単結合又はアルキレンオキシ基であることが好ましい。Aは解離性基を表し、好ましくは水中でのpKaが5以下の解離性基であり、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、-CONHSO2-R11、-SO2NHCO-R12又は-SO2NHSO2-R13より選択される少なくとも1種であることが好ましいR11、R12及びR13は置換基Zを表すことが好ましい。。Aはより好ましくはカルボキシル基、スルホン酸基又はリン酸基であり、更に好ましくはカルボキシル基又はスルホン酸基である。Y1及びY2は各々独立に、アルキレングリコール残基を表す。アルキレングリコール残基の分子量は、好ましくは500~1,000,000であり、より好ましくは500~500,000であり、更に好ましくは1,000~300,000である。一般式II-1~II-3における、R4、R5、R6及びR7は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、J1、J2及びJ3は各々独立に-CO-、-COO-、又は-OCO-基を表し、W2、W3及びW4は各々独立に単結合、アルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、L1はアルキレン基、又はアルキレンオキシ基を表すことが特に好ましい。一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーは下記一般式III、下記一般式IV及び下記一般式V又は一般式VIで表される化合物により形成されることが好ましい。一般式III中、R4、J1、W2及びAは一般式II-1におけるR4、J1、W2及びAと同じ意味を表す。一般式IV中、R5、J2、W3及びY1は一般式II-2におけるR5、J2、W3及びY1と同じ意味を表し、R9は水素原子又は置換基を表し、J4は-CO-、-COO-、-CONR10-、-OCO-、-O-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表し、R10は水素原子又は置換基を表す。W5は一般式II-2におけるW3と同じ意味を表す。一般式V中、R6、J3、W4、Y2及びR7は一般式II-3におけるR6、J3、W4、Y2及びR7と同じ意味を表す。一般式VI中、R4、R5、R6、R7、J1、J2、J3、W2、W3、W4、A、a、b、c、x、Y1及びY2は一般式II-1~II-3におけるR4、R5、R6、R7、J1、J2、J3、W2、W3、W4、A、a、b、c、x、Y1及びY2と同じ意味を表し、R9、W5、J4は一般式IVにおけるR9、W5及びJ4と同じ意味を表す。上記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーは、上記一般式II-1~II-3以外の繰り返し単位を含んでいてもよく、そのような繰り返し単位としては、ポリアリルアミン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどが挙げられる。架橋ポリマーA1における一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位の含有量は、架橋ポリマーA1を構成する全繰り返し単位に対して、好ましくは10~90モル、より好ましくは20~80モル、特に好ましくは25~70モルである。この範囲であれば、親水性、製膜性に優れる。一般式II-2で表される繰り返し単位は、一般式II-1で表される繰り返し単位に対して、好ましくは10~90モル、より好ましくは20~80モル、特に好ましくは25~70モルである。一般式II-3で表される繰り返し単位は、一般式II-1で表される繰り返し単位に対して、好ましくは10~90モル、より好ましくは20~80モル、特に好ましくは25~70モルである。前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位は、それぞれの繰り返し単位に対応するモノマーを共重合させることにより得ることができる。一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーは、例えば下記のモノマーを原料として共重合することにより得ることができるが、本発明はこれらに限るものではない。下記モノマー中のp、q、rは繰り返し単位の数を表す。架橋ポリマーにおける一般式II-1で表される繰り返し単位の含有量は、架橋ポリマーを構成する全繰り返し単位に対して、好ましくは10~90モル、より好ましくは20~80モル、特に好ましくは25~70モルである。架橋ポリマーにおける一般式II-2で表される繰り返し単位の含有量は、架橋ポリマーを構成する全繰り返し単位に対して、好ましくは10~90モル、より好ましくは20~80モル、特に好ましくは25~70モルである。架橋ポリマーにおける一般式II-3で表される繰り返し単位の含有量は、架橋ポリマーを構成する全繰り返し単位に対して、好ましくは10~90モル、より好ましくは20~80モル、特に好ましくは25~70モルである。本発明のガス分離膜を構成する架橋ポリマーは、三次元架橋構造であるため、分子量としては特に規定できるものではないが、架橋構造部分を除く主鎖又は側鎖としての重量平均分子量は、GPC法によりポリスチレン換算値として、好ましくは1,000~100,000であり、より好ましくは1,000~50,000であり、更に好ましくは2,000~15,000である。同様にして、架橋ポリマーの分散度は、全体としては特に規定できるものではないが、主鎖又は側鎖としては、1~5であることが好ましく、1~3であることがより好ましく、1~2であることが更に好ましい。この範囲であれば、より優れた製膜性、機械強度を達成することが可能となる。架橋ポリマーは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。架橋ポリマーの含有量は、分離活性膜を形成する組成物中の全固形分を基準として、0.1~90質量であることが好ましく、1~70質量であることがより好ましく、5~50質量であることが更に好ましい。一般式II-1~II-3の繰り返し単位を含むポリマーを合成するための前記各化合物は、市販されているものを使っても良く、また容易に合成することもできる。本発明にかかるポリマーは、他のモノマーとの共重合体であってもよい。用いられる他のモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられる。このようなモノマー類を共重合させることで、製膜性、膜強度、親水性、疎水性、溶解性、反応性、安定性等の諸物性を改善することができる。モノマーの合成法としては、例えば丸善株式会社日本化学会編の第5版実験科学講座16有機化合物の合成IVにおけるエステル合成の項目や第5版実験科学講座26高分子化学におけるモノマーの取り扱い、精製の項目などを参考とすることができる。多孔質膜本発明にかかる多孔質膜は分画分子量が500,000以下であり、好ましくは500~500,000であり、より好ましくは500~200,000であり、更に好ましくは500~100,000である。多孔質膜は複数の層からなる複合膜であってもよく、限外ろ過膜より緻密な多孔質膜の場合、一般的には非対称膜構造で、分画分子量で規定されるものであり、平均孔径としては特に規定されるものではないが、表層の緻密層においては50nm以下の多孔質膜であることが一つの目安であり、0.5~50nmが好ましく、更に好ましくは1~50nmであり、より好ましくは5~50nmである。本発明にかかる多孔質膜は、限外ろ過膜、逆浸透膜又はナノフィルターであることが好ましい。また、多孔質膜は非対称膜であることが好ましい。表層の孔径の小さい緻密膜を用いることで分離活性膜の膜厚が過度に大きくなることを抑制し、下層部分は孔径が大きくなる非対称構造であることにより透過抵抗が小さくなり、分離には寄与しないで高透過性を付与することが可能になるためである。本発明で用いる多孔質膜は、分画分子量、機械的強度及び高気体透過性の付与に合致する目的のものであれば、特に限定されるものではなく有機、無機どちらの素材からなる多孔質であっても構わないが、好ましくは有機高分子の多孔質膜である。多孔質膜の厚さは好ましくは10~3000μm、より好ましくは50~500μmであり、更に好ましくは50~200μmである。この範囲であれば透過性と機械強度のバランスの観点で好ましい効果を奏する。表層の緻密層は0.1~5μmであり、より好ましくは0.1~3μmであり、更に好ましくは0.1~1μmである。多孔質膜の表層の緻密層の孔径が大きすぎると、後述する分離活性膜を形成するためのキャスト液が容易に下部に浸透し、その結果分離活性膜の膜厚は大きくなってしまう。また孔径が小さすぎるとキャスト液が下部に浸透しにくくなり、結果としてやはり分離活性膜の膜厚が大きくなってしまい、どちらもガス透過性の低下が懸念される。この多孔質膜の細孔構造は、空孔率は好ましくは20~90であり、より好ましくは30~80である。また、その気体透過率は二酸化炭素透過速度で105cm3STP/cmseccmHg以上であることが好ましい。多孔質膜の素材としては、従来公知の高分子、例えばポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂等、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン等の含フッ素樹脂等、ポリスチレン、酢酸セルロース、ポリウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアラミド等の各種樹脂を挙げられ、好ましくはポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリロニトリル、酢酸セルロース、ポリイミドである。多孔質膜の形状としては、平板状、スパイラル状、管状、中空糸状などいずれの形状をとることができる。これらの多孔質膜に更に強度を付与するために不織布を用いることも好ましく適用される。ガス分離膜の製造方法ガス分離膜は、更に多孔質膜を有し、多孔質膜の少なくとも表面に、分離活性膜を形成することにより製造できる。多孔質膜の少なくとも表面に、少なくとも1種の前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーと、少なくとも1種の前記一般式Iで表される化合物とを含有する組成物を塗布又は浸漬し、活性放射線を照射又は熱硬化することにより分離活性膜を形成することがより好ましい。分離活性膜を形成する場合においては、分離活性膜を形成するための素材を各種溶媒に溶解させた状態において、活性放射線を照射又は加熱することにより、形成してもよい。その溶媒としては、可溶とするものであれば、特に制限はなく、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、クロロホルム、塩化メチレン、アセトン、ジオキサン、酢酸メチル、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンなどの水溶性溶媒又は有機溶媒から選ばれる1種又は2種以上を混合液として用いても良い。本発明のガス分離膜において、分離活性膜を形成する手段としては多孔質膜の少なくとも表面に、少なくとも1種の前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーと、少なくとも1種の前記一般式Iで表される化合物とを含有する組成物を塗布により分離活性膜を形成することが好ましい。塗布の方法としては、とくに制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばスピンコート法、バー塗布、ダイコート塗布、ブレード塗布、エアナイフ塗布、グラビアコート、ロールコーティング塗布、スプレー塗布、ディップ塗布、コンマロール法、キスコート法、スクリーン印刷、インクジェット印刷、等が挙げられる。溶媒としては分離活性膜材料を可溶とするものであれば、特に制限はなく、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、クロロホルム、塩化メチレン、アセトン、ジオキサン、酢酸メチル、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンなどの水溶性溶媒又は有機溶媒から選ばれる1種又は2種以上を混合液として用いても良い。分離活性膜は、好ましくは後述する重合開始剤を含有し、少なくとも1種の前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーと、少なくとも1種の前記一般式Iで表される化合物とを含有する組成物を活性放射線の照射又は加熱により硬化することにより形成される。ここで活性放射線とは、その照射により膜組成物中において開始種を発生させうるエネルギーを付与することができるものであれば、特に制限はなく、広くα線、γ線、X線、紫外線、可視光線、電子線などを包含するものである。なかでも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から紫外線及び電子線が好ましく、特に紫外線が好ましい。熱硬化の場合、40°C~250°Cで加熱することが好ましく、40°C~180°Cで加熱することがより好ましい。加熱時間は使用する膜素材、濃度、開始剤又は架橋剤の添加量によって影響を及ぼされるため、膜を形成するのに十分な温度と時間により決まるものであるが一般的には10分~24時間が好ましく、1時間~12時間がより好ましい。加熱は各種オーブン、ホットプレート、送風機などを用いることにより行うことができる。本発明において、紫外線を使用する場合には、後述の光重合開始剤を添加することが必要となる。電子線硬化の場合は、重合開始剤が不要であり、透過深さも深いので好ましい。電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャニング方式又はカーテンビーム方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が30~1000kV、好ましくは50~300kVである。吸収線量として好ましくは5~200kGy0.5~20Mrad、より好ましくは20~100kGy2~10Mradである。加速電圧及び吸収線量が上記範囲内であると、十分な量のエネルギーが透過し、エネルギー効率がよい。電子線を照射する雰囲気は窒素雰囲気により酸素濃度を200ppm以下にすることが好ましく、この範囲内では表面近傍の架橋、硬化反応が良好に進む。紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は20~240W/cm2のランプを用い、速度0.3~20m/分で使用される。膜と水銀灯との距離は一般に1~30cmであることが好ましい。卓上型紫外線硬化装置を用いる場合は、1秒~10分程度、素材、環境により光量、光源の配置を適宜調整したうえで硬化させるのが望ましい。放射線硬化装置、条件などについては、UVEB硬化技術株総合技術センター発行や低エネルギー電子線照射の応用技術2000年、株シーエムシー発行などに記載されている公知のものを用いることができる。硬化時に加熱工程を併用してもよい。重合開始剤本発明の分離活性を形成する工程において、ラジカル重合開始剤を添加することが好ましく、光重合開始剤を添加することが特に好ましい。本発明における光重合開始剤は光の作用、又は、増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、化学変化を生じ、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくともいずれか1種を生成する化合物である。光重合開始剤は、照射される活性光線、例えば、400~200nmの紫外線、遠紫外線、g線、h線、i線、KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光、電子線、X線、分子線又はイオンビームなどに感度を有するものを適宜選択して使用することができる。具体的な光重合開始剤は当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、BruceM.Monroeら著、ChemicalRevue,93,4351993.や、R.S.Davidson著、JournalofPhotochemistryandbiologyA:Chemistry,73.811993.や、J.P.Faussier’’PhotoinitiatedPolymerization-TheoryandApplications’’:RapraReviewvol.9,Report,RapraTechnology1998.や、M.Tsunookaetal.,Prog.Polym.Sci.,21,11996.に多く、記載されている。また、有機エレクトロニクス材料研究会編、イメージング用有機材料、ぶんしん出版1993年、187~192ページ参照に化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が多く、記載されている。更には、F.D.Saeva,TopicsinCurrentChemistry,156,591990.、G.G.Maslak,TopicsinCurrentChemistry,168,11993.、H.B.Shusteretal,JACS,112,63291990.、I.D.F.Eatonetal,JACS,102,32981980.等に記載されているような、増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、酸化的若しくは還元的に結合解裂を生じる化合物群も知られる。好ましい光重合開始剤としてはa芳香族ケトン類、b芳香族オニウム塩化合物、c有機過酸化物、dヘキサアリールビイミダゾール化合物、eケトオキシムエステル化合物、fボレート化合物、gアジニウム化合物、hメタロセン化合物、i活性エステル化合物、j炭素ハロゲン結合を有する化合物等が挙げられる。a芳香族ケトン類の好ましい例としては、RADIATIONCURINGINPOLYMERSCIENCEANDTECHNOLOGYJ.P.FOUASSIERJ.F.RABEK1993、p77~117記載のベンゾフェノン骨格或いはチオキサントン骨格を有する化合物等が挙げられる。より好ましいa芳香族ケトン類の例としては、特公昭47-6416記載のα-チオベンゾフェノン化合物、特公昭47-3981記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭47-22326記載のα-置換ベンゾイン化合物、特公昭47-23664記載のベンゾイン誘導体、特開昭57-30704号公報記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭60-26483号公報記載のジアルコキシベンゾフェノン、特公昭60-26403号公報、特開昭62-81345号公報記載のベンゾインエーテル類、特公平1-34242号公報、米国特許第4,318,791号、ヨーロッパ特許0284561A1号記載のα-アミノベンゾフェノン類、特開平2-211452号公報記載のp-ジジメチルアミノベンゾイルベンゼン、特開昭61-194062号公報記載のチオ置換芳香族ケトン、特公平2-9597号公報記載のアシルホスフィンスルフィド、特公平2-9596号公報記載のアシルホスフィン、特公昭63-61950号公報記載のチオキサントン類、特公昭59-42864号公報記載のクマリン類等を挙げることができる。b芳香族オニウム塩としては、周期律表の第V、VI及びVII族の元素、具体的にはN、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、Te、又はIの芳香族オニウム塩が含まれる。例えば、欧州特許104143号明細書、米国特許4837124号明細書、特開平2-150848号公報、特開平2-96514号公報に記載されるヨードニウム塩類、欧州特許370693号明細書、同233567号明細書、同297443号明細書、同297442号明細書、同279210号明細書、及び同422570号各明細書、米国特許3902144号明細書、同4933377号明細書、同4760013号明細書、同4734444号明細書、及び同2833827号明細書各明細書に記載されるスルホニウム塩類、ジアゾニウム塩類置換基を有してもよいベンゼンジアゾニウム等、ジアゾニウム塩樹脂類ジアゾジフェニルアミンのホルムアルデヒド樹脂等、N-アルコキシピリジニウム塩類等例えば、米国特許4,743,528号明細書、特開昭63-138345号公報、特開昭63-142345号公報、特開昭63-142346号公報、及び特公昭46-42363号公報の各公報等に記載されるもので、具体的には1-メトキシ-4-フェニルピリジニウムテトラフルオロボレート等、更には特公昭52-147277号公報、同52-14278号公報、及び同52-14279号公報の各公報記載の化合物が好適に使用される。これらは活性種としてラジカルや酸を生成する。c有機過酸化物としては分子中に酸素-酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、3,3′4,4′-テトラ-t-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3′4,4′-テトラ-t-アミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3′4,4′-テトラ-t-ヘキシルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3′4,4′-テトラ-t-オクチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3′4,4′-テトラ-クミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3′4,4′-テトラ-p-イソプロピルクミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、ジ-t-ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。dヘキサアリールビイミダゾールとしては、特公昭45-37377号公報、特公昭44-86516号公報記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′-ビスo-クロロフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo-ブロモフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo,p-ジクロロフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo-クロロフェニル-4,4′,5,5′-テトラm-メトキシフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo,o′-ジクロロフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo-ニトロフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo-メチルフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo-トリフルオロフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。eケトオキシムエステルとしては3-ベンゾイロキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイロキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-p-トルエンスルホニルオキシイミノブタン-2-オン、2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン等が挙げられる。本発明に用いることができる光重合開始剤の他の例であるfボレート塩の例としては米国特許3,567,453号明細書、同4,343,891号明細書、ヨーロッパ特許109,772号明細書、同109,773号明細書に記載されている化合物が挙げられる。光重合開始剤の他の例であるgアジニウム塩化合物の例としては、特開昭63-138345号公報、特開昭63-142345号公報、特開昭63-142346号公報、特開昭63-143537号公報並びに特公昭46-42363号公報に記載のN-O結合を有する化合物群を挙げることができる。光重合開始剤の他の例であるhメタロセン化合物の例としては、特開昭59-152396号公報、特開昭61-151197号公報、特開昭63-41484号公報、特開平2-249号公報、特開平2-4705号公報に記載のチタノセン化合物並びに、特開平1-304453号公報、特開平1-152109号公報に記載の鉄-アレーン錯体を挙げることができる。上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ジ-クロライド、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-フェニル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4,6-トリフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-2,6-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジフルオロフェニ-1-イル、ビスシクロペンタジエニル-ビス2,6-ジフルオロ-3-ピリ-1-イルフェニルチタニウム、ビスシクロペンタジエニルビス2,6-ジフルオロ-3-メチルスルホンアミドフェニルチタン、ビスシクロペンタジエニルビス2,6-ジフルオロ-3-N-ブチルビアロイル-アミノフェニルチタン等を挙げることができる。i活性エステル化合物の例としては、欧州特許0290750号明細書、同046083号明細書、同156153号明細書、同271851号明細書、及び同0388343号明細書の各明細書、米国特許3901710号明細書、及び同4181531号各明細書、特開昭60-198538号公報、及び特開昭53-133022号公報の各公報に記載されるニトロベンズルエステル化合物、欧州特許0199672号明細書、同84515号明細書、同199672号明細書、同044115号明細書、及び同0101122号明細書の各明細書、米国特許4618564号明細書、同4371605号明細書、及び同4431774号明細書の各明細書、特開昭64-18143号公報、特開平2-245756号公報、及び特開平4-365048号公報の各公報記載のイミノスルホネート化合物、特公昭62-6223号公報、特公昭63-14340号公報、及び特開昭59-174831号公報の各公報に記載される化合物等が挙げられる。j炭素ハロゲン結合を有する化合物の好ましい例としては、たとえば、若林ら著、Bull.Chem.Soc.Japan,42、29241969記載の化合物、英国特許1388492号明細書記載の化合物、特開昭53-133428号公報記載の化合物、独国特許3337024号明細書記載の化合物等を挙げることができる。また、F.C.Schaefer等によるJ.Org.Chem.29、15271964記載の化合物、特開昭62-58241号公報記載の化合物、特開平5-281728号公報記載の化合物等を挙げることができる。ドイツ特許第2641100号明細書に記載されているような化合物、ドイツ特許第3333450号明細書に記載されている化合物、ドイツ特許第3021590号明細書に記載の化合物群、又はドイツ特許第3021599号明細書に記載の化合物群、等を挙げることができる。重合開始剤の使用量は好ましくは、重合性化合物の量の0.01質量~10質量であり、より好ましくは0.1質量~5質量である。共増感剤更に分離活性膜の作製プロセスにおいて、感度を一層向上させる、又は酸素による重合阻害を抑制する等の作用を有する公知の化合物を共増感剤として、更に、加えてもよい。このような共増感剤の例としては、アミン類、例えばM.R.Sanderら著JournalofPolymerSociety第10巻3173頁1972、特公昭44-20189号公報、特開昭51-82102号公報、特開昭52-134692号公報、特開昭59-138205号公報、特開昭60-84305号公報、特開昭62-18537号公報、特開昭64-33104号公報、ResearchDisclosure33825号に記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p-ホルミルジメチルアニリン、p-メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。別の例としてはチオール及びスルフィド類、例えば、特開昭53-702号公報、特公昭55-500806号公報、特開平5-142772号公報記載のチオール化合物、特開昭56-75643号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプト-43H-キナゾリン、β-メルカプトナフタレン等が挙げられる。また別の例としては、アミノ酸化合物例、N-フェニルグリシン等、特公昭48-42965号公報に記載の有機金属化合物例、トリブチル錫アセテート等、特公昭55-34414号公報に記載の水素供与体、特開平6-308727号公報に記載のイオウ化合物例、トリチアン等、特開平6-250387号公報に記載のリン化合物ジエチルホスファイト等、特願平6-191605号明細書記載のSi-H、Ge-H化合物等が挙げられる。物性分離活性膜には、膜物性を調整するため、各種高分子化合物を添加することもできる。高分子化合物としては、アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。また、これらは2種以上併用してもかまわない。可塑剤分離活性膜は前記の柔軟性の付与の観点で可塑剤を含有していてもよい。可塑剤としては、例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、メチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等がある。また、可塑剤として、ポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコールモノオール型やジオール型、ポリプロピレングリコールモノオール型やジオール型、イオン液体例えば、四級アンモニウム塩、イミダゾリウム塩、ホスホニウム塩などがある。可塑剤は、膜を柔軟化する作用を有するものであり、分離活性膜を構成するポリマーに対して相溶性のよいものである必要がある。一般に、ポリマーに対しては、親水性の高い化合物が相溶性が良好である。親水性の高い化合物の中でも、例えば、直鎖にヘテロ原子を含むエーテル化合物や2級アミンなどの親水性基と疎水性基が交互に続く構造をとるものが好ましく用いられる。-O-や-NH-のような親水性基の存在がPVA及びその誘導体との相溶性を発現し、それ以外の疎水性基がPVA及びその誘導体の分子間力を弱めて柔軟化に働くためである。また、可塑剤としては、ポリビニルアルコール及びその誘導体との間に水素結合を形成しうる水酸基の少ない化合物も好ましく用いられる。このような化合物に該当するのは、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びこれらの二量体、三量体、及び四量体以上の単独多量体や共多量体、ジエタノールアミン、ジメチロールアミンのような2級アミン類である。これらの中でも、立体障害が小さく相溶性にすぐれ、毒性が低いエチレングリコール類単量体、二量体、三量体、多量体が可塑剤として特に好ましく用いられる。エチレングリコール類は、その分子量により3種類に大別される。第一に単量体であるエチレングリコール、第二に二量体であるジエチレングリコールと三量体であるトリエチレングリコール、第三に四量体以上のポリエチレングリコールである。ポリエチレングリコールは、分子量200~700の液状ポリエチレングリコールと分子量1000以上の固体ポリエチレングリコールに大別され、語尾に平均分子量をつけた名称で市販されているものを用いてもよい。可塑剤の分子量が低分子であるほど、樹脂を柔軟化する効果が高いことから、可塑剤として特に好ましく用いられるのは、第一のグループであるエチレングリコール、第二のグループであるジエチレングリコール及びトリエチレングリコール、第三のグループに含まれるテトラエチレングリコール四量体であるが、中でも、毒性が低く、樹脂組成物中からの抽出がなく取り扱い性に優れる点で、より好ましく用いられる可塑剤は、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール及びテトラエチレングリコールである。また、これらの2種以上の混合物も好ましく用いられる。界面活性剤また、液物性調整のためにノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤や、有機フルオロ化合物などを添加することもできる界面活性剤の具体例としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、高級脂肪酸塩、高級脂肪酸エステルのスルホン酸塩、高級アルコールエーテルの硫酸エステル塩、高級アルコールエーテルのスルホン酸塩、高級アルキルスルホンアミドのアルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩などのアニオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物、グリセリンのエチレンオキサイド付加物、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルなどの非イオン性界面活性剤、また、この他にもアルキルベタインやアミドベタインなどの両性界面活性剤、シリコン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などを含めて、従来公知である界面活性剤及びその誘導体から適宜選ぶことができる。分散剤高分子分散剤として、具体的にはポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリエチレンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリアクリルアミド等が挙げられ、中でもポリビニルピロリドンを用いることも好ましい。前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位に対応するモノマーとしては、オリゴマー、プレポリマーとしたものを用いてもよい。高分子化合物を得る上での重合体については、ブロック共重合体、或いはランダム共重合体、グラフト共重合体などのいずれの形態を有する共重合体でも良いが、特にブロック共重合体やグラフト共重合体を用いる場合には、粘度、相溶性の観点で好ましい。前記一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位を含むポリマーの分子量は、架橋膜であるため特に限定されるものではない。各繰り返し単位に対応するモノマーとしては、好ましくは数平均分子量として300~1,000,000であり、より好ましくは300~500,000であり、1,000~200,000が更に好ましい。分離活性膜を形成する条件に特に制限はないが、温度は-30~100°Cが好ましく、-10~80°Cがより好ましく、5~50°Cが特に好ましい。本発明においては、膜を形成時に空気や酸素などの気体を共存させてもよいが、不活性ガス雰囲気下であることが望ましい。また、分離活性膜を作製する際に、媒体として水又は有機溶剤を添加することができる。具体的に使用できる有機溶剤としては特に限定されるものではないが、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の炭化水素系有機溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系有機溶剤、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等の脂肪族ケトン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチル又はモノエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル又はモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチル又はモノエチルエーテル、ジブチルブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系有機溶剤、N-メチルピロリドン、2-ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。これらは、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。溶媒の使用量は、分離活性膜を形成する組成物中の全固形分に対して0.1~50質量倍が好ましく、より好ましくは0.5~20質量倍であり、特に1~15質量倍が好ましい。増粘剤また、分離活性膜を形成する際に、より平滑にかつ薄層に塗布することを可能とするために粘度を調整するための化合物、増粘剤を添加してもよい。具体的に使用できる増粘剤としては特に限定されるものではないが、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール系化合物やセルロース系化合物、又はポリアルキレンオキシド、ポリアミド等の増粘剤などが挙げられる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。増粘剤の含有量は、分離活性膜を形成する組成物中の全固形分を基準として、0.01~30質量が好ましく、更に好ましくは0.1~10質量である。ガス分離膜本発明のガス分離膜において、更に多孔質膜を有することが好ましい。分離活性膜は、多孔質膜の表面及び内面に形成してもよく、少なくとも表面に形成してガス分離膜とすることが好ましい。多孔質膜の少なくとも表面に、分離活性膜を形成することで、高分離選択性と高ガス透過性、更には機械的強度を兼ね備えるという利点を有するガス分離膜とすることができる。分離層の膜厚としては機械的強度、分離選択性を維持しつつ高ガス透過性を付与する条件において前記に述べたように可能な限り薄膜であることが好ましい。ここで、本発明のガス分離膜における分離選択性は、第一のガスと第ニのガスを分離する際の特定温度における第一のガスと第ニのガスのガス透過率の除算により求めた値をいい、下記の式により求めることができる。分離選択性の値は、大きいことがガス分離膜の分離選択性が優れることを意味する。第一のガス/第二のガス分離選択性=第一のガス透過率/第二のガス透過率本願においては、以下の式により求められる25°CにおけるCO2とH2の分離選択性の値が100以上であることが好ましく、200以上であることがより好ましい。100°CにおけるCO2及びH2の分離選択性の値は100以上であることが好ましく、150以上であることがより好ましく、200以上であることが更に好ましい。上限値については、その値が大きければ大きいほど膜の分離性能として優れるため特に制限は無いが、5,000、好ましくは1,000以下を目安とすることができるが、ガス透過性との兼ね合いで適切な分離選択性を発揮することが好ましい。CO2/H2分離選択性=CO2ガス透過率/H2ガス透過率本発明のガス分離膜において、分離活性膜の膜厚は0.01~100μmであることが好ましく、0.1~20μmであることがより好ましく、更に好ましくは0.1~10μmである。多孔質膜の孔径が大きい場合、分離活性膜を形成する際に多孔質膜の下部に浸透しやすいため、分離活性膜を薄層にしようとすると製膜においてムラが生じ、ピンホールが発生し易くなる。本発明では多孔質膜の孔径が小さいために分離活性膜を形成する際に、多孔質膜の下部への浸透が抑制されるため、孔径が大きい支持体を用いた場合と同程度の膜厚においてもピンホールが発生しにくくガス透過性に優れた分離膜を提供可能である。前記多孔質膜と、分離活性膜の比率は、特に規定されるものではないが、分離活性膜は透過性、分離選択性を発現する限りにおいてできる限り薄いことが望ましい。分離活性膜は膜厚に換算すると多孔質膜に対して0.001~50が好ましく、更に好ましくは0.01~10であり、より好ましくは0.1~5である。分離活性膜が一般式II-2のような架橋構造を複数有する繰り返し単位の組成比が増加するに従い、分子構造の影響は多大にあるものの概して膜の強度、分離選択性は向上するが気体の透過性は低下する傾向があるため、それぞれ組成比として1~50質量、好ましくは5~30質量の範囲を目安として用いることが好ましいが、この範囲に限定されることなく、ガス分離の目的回収率、純度などに応じて組成比を変えることによりガス透過性と分離選択性を調整されるものである。本発明のガス分離膜の好ましい範囲の構成について説明する。本発明のガス分離膜は、好ましくは、分画分子量が500~500,000である多孔質膜の少なくとも表面に、少なくとも1種の一般式Iで表される繰り返し単位と、少なくとも1種の一般式II-1~II-3で表される繰り返し単位とを含むポリマーにより膜厚0.01~100μmの分離活性膜が形成され、分子量が100~150,000の有機アミンを含有している、又は、分画分子量が500~500,000である多孔質膜の少なくとも表面に、少なくとも1種の一般式IVで表される繰り返し単位と、少なくとも1種の一般式Vで表される繰り返し単位とを含む共重合体により膜厚は0.01~100μmの分離活性膜が形成され、分子量100~150,000の有機アミンを含有している場合である。より好ましくは、分画分子量が500~200,000である多孔質膜の少なくとも表面に、少なくとも1種の一般式Iで表される繰り返し単位と、少なくとも1種の一般式II-1~II-3を含むポリマーにより膜厚0.1~20μmの分離活性膜が形成され、分子量100~100,000の有機アミンを含有している、又は、分画分子量が500~200,000である多孔質膜の少なくとも表面に、少なくとも1種の一般式IVで表される繰り返し単位と、少なくとも1種の一般式Vで表される繰り返し単位とを含む共重合体により膜厚は0.1~20μmの分離活性膜が形成され、分子量100~100,000の有機アミンを含有している場合である。更に好ましくは、分画分子量が500~5,0000である多孔質膜の少なくとも表面に、少なくとも1種の一般式II-1~II-3を含むポリマーにより膜厚0.1~10μmの分離活性膜が形成され、分子量100~5,000の有機アミンを含有している、又は、分画分子量が500~100,000である多孔質膜の少なくとも表面に、少なくとも1種の一般式II-1~II-3を含むポリマーにより膜厚は0.1~10μmの分離活性膜が形成され、分子量100~5,000の有機アミンを含有している場合である。ガス混合物の分離方法本発明のガス混合物の分離方法は、少なくとも1種の酸性ガスと少なくとも1種の非酸性ガスを含む混合ガスから少なくとも1種の酸性ガスを分離する方法であって、酸性ガスが二酸化炭素、硫化水素、硫化カルボニル、硫黄酸化物SOx、及び窒素酸化物NOxから選択される少なくとも1種であり、非酸性ガスが水素、メタン、窒素、及び一酸化炭素から選択される少なくとも1種である、本発明のガス分離膜を用いたガス混合物の分離方法である。酸性ガスが二酸化炭素又は硫化水素であることが好ましい。本発明のガス分離膜を用いる気体の分離方法において、原料の気体混合物の成分は原料産地や用途又は使用環境などによって影響されるものであり、特に規定されるものではないが、ガス混合物の主成分が二酸化炭素及びメタン又は二酸化炭素及び水素であることが好ましい。すなわち、ガス混合物における二酸化炭素及びメタン又は二酸化炭素及び水素の占める割合が、二酸化炭素の割合として5~50であることが好ましく、更に好ましくは10~40である。ガス混合物が二酸化炭素や硫化水素のような酸性ガス共存下である場合、本発明のガス分離膜を用いる気体の分離方法は特に優れた性能を発揮し、好ましくは二酸化炭素とメタン等の炭化水素、二酸化炭素と窒素、二酸化炭素と水素の分離において優れた性能を発揮する。ガス分離膜モジュール気体分離装置本発明のガス分離膜は多孔質膜と分離活性膜とを組み合わせた複合膜であり、更にはこれを用いたガス分離膜モジュールとすることが好ましい。また、本発明のガス分離膜又はガス分離膜モジュールを用いて、ガスを分離回収又は分離精製させるための手段を有する装置とすることができる。本発明のガス分離膜はモジュール化して好適に用いることができる。モジュールの例としては、スパイラル型、中空糸型、プリーツ型、管状型、プレートフレーム型などが挙げられる。また本発明のガス分離膜は、例えば、特開2007-297605号に記載のような吸収液と併用した膜吸収ハイブリッド法としての気体分離回収装置に適用してもよい。上記の優れた特性を有する本発明のガス分離膜は、ガス分離回収法、ガス分離精製法として好適に用いることができる。以下に実施例に基づき本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、文中部及びとあるのは特に示さない限り質量基準とする。実施例130ml褐色バイアル瓶に、メタクリル酸和光純薬製、M-1を2.8g、ポリエチレングリコールジメタクリレートアルドリッチ社製、製品番号:43,746-8、Mn=875、M-23を1.2gを混合して30分攪拌したのち、更に1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンアルドリッチ社製、製品番号:40,561-2を0.04g加えて、更に30分攪拌した。10cm四方のガラス板上に、多孔質親水性ポリテトラフルオロエチレンPTFE膜ミリポア製親水性オムニポア登録商標、孔径0.1μmを静置しているところに前記モノマー混合物を浸漬させ、更に、もう一枚の10cm四方のガラス板で上下より挟みこみ、圧着することにより膜中の気泡を除去した。この二枚のガラス板に挟み込まれたモノマー浸漬PTFE膜をHOYA社製UV照射装置EXECURE3000を用いて、60mWにて60秒間露光させた。その後、ガラス板を取り出した後、メタノールに浸漬させ、ガラスとPTFE複合膜を剥離させた。得られた膜を50重量ポリエチレンイミン1200B-1純正化学製水溶液30gに浸漬させ、一晩静置した。得られたPTFE複合膜の膜厚をエレクトリックマイクロメーターアンリツ製、K-402Bにより測定し40μm、ガス透過率測定装置GTRテック社製GTR-10XFにて水素H2/二酸化炭素CO2=80/20volのガス透過率を相対湿度90の条件にて各温度、各圧力条件において測定し、その透過率の値を除算することにより分離選択性を比較した。比較例1特開2009-241006号を参考とし、PAMAMアミンデンドリマー20メタノール溶液、アルドリッチ社製、41,236-81g、トリメチロールプロパントリメタクリレート以下、TMPTMAと略す0.25g、ポリエチレングリコールジメタクリレートアルドリッチ社製、製品番号:43,746-8、Mn=875、M-230.75g1.0mmolをメタノール2gに溶かした。ついでトリエタノールアミンと1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンをそれぞれ0.8mmol/mL、0.04mmol/mlとなるように加えてキャスト液とした。シャーレにポリエーテルスルホン支持膜を静置し、前記のキャスト溶液をシャーレに展開したのち、窒素気流下でHOYA社製UV照射装置EXECURE3000を用いて、60mWにて5分間露光させることにより光硬化させることにより、目的の高分子膜を得た。膜厚405μm実施例2~17、比較例2~5実施例1において、M-1、M-23及びB-1、並びに、比較例1におけるTMPTMA、M-23及びPAMAMアミンデンドリマーを下記表に記載の化合物及び組成比に変更した以外は同様にして膜を作製した。B-2:東京化成工業株式会社、製品番号:D0493、B-3:三菱化学社製PVAM0595B、B-4:東京化成工業株式会社、製品番号:A0299、B-7:東京化成工業株式会社、製品番号:H1070、エチレンジアミン:和光純薬株式会社、製品番号:053-00936比較例6ポリビニルアルコール/ポリアクリル酸共重合体住友精化製、吸水性樹脂SSゲルを1gに水20gを加えた後、室温で攪拌してゲルを溶解させる。次に、これにグルタルアルデヒド25水溶液を0.136g加えた後、95°Cの温度条件下で15時間攪拌する。そして、これに炭酸セシウムを2.33g加えて更に室温で攪拌することでキャスト溶液を得た。10cm×10cmの平滑かつ清浄なガラス板上に疎水性PVDFミリポア製、疎水性デュラポア孔径:0.22μm、直径:47mmの上に親水性PVDFミリポア製、親水性デュラポア孔径:0.1μm、直径:47mmを重ねたのち、前記のキャスト液をアプリケータで塗布して、一晩自然乾燥させた。その後、120°Cで2時間熱架橋を実施したあとガス分離膜用の複合膜とした。膜厚を測定したところ220μmであった。比較例7特許第3506793号を参考とし、平均分子量2,000のPAAポリアクリル酸粉末和光純薬工業株製に水を加えて10質量となるように調製し、PAAのカルボキシル基と等モル当量になるようにエチレンジアミンを添加し、キャスト液とした。親水性PVDFミリポア製、親水性デュラポア孔径:0.1μm、直径:47mm上に前記のキャスト液をアプリケータで塗布して、一晩自然乾燥させてガス分離膜用の複合膜とした。膜厚を測定したところ110μmであった。加温、加湿条件80°C、80湿度における重量変化と気体分離選択性実施例1~17及び比較例1~5の膜について、ろ紙上に膜サンプルを置き、加温、加湿条件80°C、80湿度条件下で48時間保存した後、膜を取り出し真空乾燥させた後の重量変化を記録した。またその膜のガス透過率測定試験を実施し加温、加湿条件40°C、RH90の条件でガス分離選択性を比較した。比較例の素材は加温加湿条件での保管後に著しく重量減少しており、またろ紙上にキャリアの溶出の痕跡が見られたが、本発明の分離膜はほとんど重量減少が見られなかった。また本発明のガス分離膜は加温、加湿条件でのガス分離選択性の低下を抑制でき、耐熱性が付与されていることがわかる。加温、加圧条件における重量変化と気体分離選択性実施例1~17及び比較例1~7の膜について、加温、加湿条件80°C、80湿度条件下で48時間保存した後、水素H2/二酸化炭素CO2/水H2O=40/10/50molの混合ガスを用いて、加温、加圧条件130、150°C、差圧:100、300kPaにおいて膜のガス透過率測定試験を実施し、ガス分離選択性を比較した。本発明のガス分離膜は単位分子量あたりのアミン密度が高く、また膜に固定化されているために高温、高圧条件においても高いガス分離選択性が付与されていることがわかる。上記の結果より、本発明のガス分離膜は、特に加温、加湿条件におけるキャリアの溶出抑制に優れ、安定性に優れる。また高温加湿条件での分離選択性の低減が抑制され安定性に優れる。優れたガス分離選択性、特に二酸化炭素の透過性に優れ、二酸化炭素/メタン、二酸化炭素/水素の分離膜として優れる。本発明のガス分離膜及び複合膜により、優れた気体分離方法、ガス分離膜モジュール、ガス分離膜モジュールを含むガス分離、ガス精製装置を提供することができる。本発明はガス透過性、分離選択性に優れた良好なガス分離膜を作製することができ、100°C以上の高温条件においてもガス透過性、分離選択性に優れた良好なガス分離膜を作製することが可能となっている。上記の結果より、本発明のガス分離膜は、ガス透過性、分離選択性に優れ、折り曲げ試験にも耐え得る可撓性が付与されたガス分離膜及びピンホールの少ないガス分離膜の製造方法を提供するものである。本発明のガス分離膜により、優れた気体分離方法、ガス分離膜モジュール、ガス分離膜モジュールを含むガス分離、ガス精製装置を提供することができる。"