"溶融金属2に浸漬されたインペラ3により、前記溶融金属2及び前記溶融金属2に添加された脱硫剤の撹拌を行う際の前記インペラ3の回転数を制御するインペラの回転数制御方法であって、所定の設定回転数X0で前記インペラ3を回転させているときに、前記インペラ3を回転駆動するモータ4の負荷電流値Iを読取り、前記負荷電流値Iが所定の閾値I0未満であると判定される場合に、前記負荷電流値Iが前記閾値I0以上となるように前記インペラ3の回転数を上昇させることを特徴とするインペラの回転数制御方法。前記閾値I0は、脱硫不良が発生しない負荷電流値Iの下限値であることを特徴とする請求項1記載のインペラの回転数制御方法。前記インペラ3の回転数が前記設定回転数X0に達したときから所定の待機時間が経過したと判定された後に、前記負荷電流値Iを読取ることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のインペラの回転数制御方法。前記回転数の上昇量は、予め設定された固定値ΔXである請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のインペラの回転数制御方法。前記回転数の上昇量は、前記負荷電流値Iと前記閾値I0との間の差分値に基づいて決定されることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のインペラの回転数制御方法。前記設定回転数X0は、前記インペラ3の回転数が上昇された場合に上昇後の回転数に更新されることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のインペラの回転数制御方法。上記の特許文献1に記載されたような構成では、モータ過負荷による運転停止が発生しない最大限の回転数でインペラを回転させるので、インペラの性能によっては必要以上の回転数でインペラを回転させてしまうことになる。また、経験的に想定された磨耗状況に基づいてインペラの回転数を決定する場合でも、脱硫不良の発生を回避するために回転数を高めに設定する傾向にある。従って、上記のような従来構成では、インペラが不必要に摩耗されてしまうことがあり、インペラの耐用回数が低下している。本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、インペラが不必要に摩耗されることを回避でき、インペラの耐用回数を向上させることができるインペラの回転数制御方法を提供することである。本発明に係るインペラの回転数制御方法は、溶融金属に浸漬されたインペラにより、溶融金属及び溶融金属に添加された脱硫剤の撹拌を行う際の前記インペラの回転数を制御するインペラの回転数制御方法であって、所定の設定回転数X0でインペラを回転させているときに、インペラを回転駆動するモータの負荷電流値Iを読取り、負荷電流値Iが所定の閾値I0未満であると判定される場合に、負荷電流値Iが閾値I0以上となるようにインペラの回転数を上昇させる。また、閾値I0は、脱硫不良が発生しない負荷電流値Iの下限値である。また、インペラの回転数が設定回転数X0に達したときから所定の待機時間が経過したと判定された後に、負荷電流値Iを読取る。また、回転数の上昇量は、予め設定された固定値ΔXである。また、回転数の上昇量は、負荷電流値Iと閾値I0との間の差分値に基づいて決定される。また、設定回転数X0は、インペラの回転数が上昇された場合に上昇後の回転数に更新される。本発明のインペラの回転数制御方法によれば、所定の設定回転数X0でインペラを回転させているときに、インペラを回転駆動するモータの負荷電流値Iを読取り、負荷電流値Iが所定の閾値I0未満であると判定される場合に、負荷電流値Iが閾値I0以上となるようにインペラの回転数を上昇させるので、当初からインペラの回転数を高めに設定する必要をなくすことができ、適正な回転数での運用を実現できる。従って、インペラが不必要に摩耗されることを回避でき、インペラの耐用回数を向上させることができる。以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。実施の形態1.図1は、本発明の実施の形態1によるインペラの回転数制御方法が実施される機械式脱硫装置を示す構成図である。図において、取鍋1容器には、溶鉄2溶融金属が収容されている。周知のように、溶鉄2は、製銑工程により製造されたものであり、脆化原因となる硫黄分不純物元素を含んでいる。この硫黄分を除去するために、例えば生石灰、ソーダ灰、カーバイド、苛性ソーダ、及び消石灰等の脱硫剤図示せずが溶鉄2に添加されている。溶鉄2には、耐火物からなるインペラ3攪拌羽根が浸漬されている。このインペラ3には回転軸3aが一体に設けられており、回転軸3aの端部にはモータ4が接続されている。すなわち、モータ4の動作によりインペラ3が回転駆動される。インペラ3が回転駆動されると、溶鉄2及び脱硫剤が撹拌されて、脱硫反応が促進される。なお、インペラ3は、複数チャージにわたって使用されるものであり、使用回数が増えるにつれて摩耗が進むものである。また、インペラ3及びモータ4は、図示しない昇降装置により昇降可能に支持されており、溶鉄2の脱硫処理が行われる際にインペラ3が溶鉄2に浸漬される位置まで降下される。モータ4には、制御装置5が接続されている。制御装置5は、例えばインバータ及び演算装置コンピュータ等により構成されたものであり、モータ4の動作を制御することでインペラ3の回転数を制御する。制御装置5には、電流測定装置6及び記憶装置7が接続されている。電流測定装置6は、モータ4に供給される電流値、すなわちモータ4の負荷電流値Iを測定するためのものである。負荷電流値Iは、インペラ3を回転させるために消費されているエネルギインペラ3により溶鉄2及び脱硫剤を撹拌するエネルギに対応しており、溶鉄2内でのインペラ3の回転に係る抵抗とインペラ3の回転数とに比例する。インペラ3の回転に係る抵抗は、インペラ3が摩耗されるほど、すなわちインペラ3の撹拌能力が低下するほど、小さくなる。すなわち、一定の基準となる回転数のときの負荷電流値Iを所定の基準値と比較することで、インペラ3の撹拌能力の状態を確認できる。記憶装置7には、所定の設定回転数X0と閾値I0とが記憶されている。制御装置5は、記憶装置7に記憶されている設定回転数X0でインペラ3を回転させているときに、電流測定装置6により測定された負荷電流値Iを読み取る。なお、このとき読み取られる負荷電流値Iは、所定時間内の平均電流値である。また、制御装置5は、読み取った負荷電流値Iが、記憶装置7に記憶されている閾値I0未満であるか否かを判定する。さらに、制御装置5は、負荷電流値Iが閾値I0未満であると判定した場合に、負荷電流値Iが閾値I0以上となるようにインペラ3の回転数を上昇させる。すなわち、制御装置5は、負荷電流値Iと閾値I0との比較により、インペラ3の撹拌能力が所定の基準に達していないことを検出した場合に、インペラ3の回転数を上昇させることで撹拌能力の低下を補う。これにより、当初からインペラ3の回転数を高めに設定する必要をなくすことができ、適正な回転数での運用を実現できる。従って、インペラ3が不必要に摩耗されることを回避でき、インペラ3の耐用回数を向上させることができる。ここで、閾値I0は、脱硫不良が発生しない負荷電流値Iの下限値に設定される。すなわち、上述のように負荷電流値Iが閾値I0以上となるようにインペラ3の回転数を上昇させることで、インペラ3の回転数を脱硫不良が発生しない最低限度の回転数とすることができる。これにより、低い回転数での運用をより確実に実施することができる。なお、このような下限値は、取鍋1の内径、溶鉄2の量、インペラ3の浸漬深さ、及びモータ4の容量を含む脱硫条件により左右されるが、モータ4の負荷電流値Iを測定しながら脱硫効率を比較することで求めることができる。制御装置5は、インペラ3の回転数が設定回転数X0に達したときから所定の待機時間が経過した後に、負荷電流値Iを読取る。これは、設定回転数X0での撹拌状態が安定したときの負荷電流値Iを利用することで、撹拌能力の判定精度を向上させるためである。また、制御装置5は、負荷電流値Iが閾値I0未満であると判定した場合に、予め設定された固定値ΔXだけインペラ3の回転数を上昇させる。これは、インペラ3の摩耗が緩やかな変化であり、負荷電流値Iが閾値I0を下回る量も予め想定できるためである。このように、上昇量を固定値ΔXとすることで、演算プログラムを簡略化でき、設備コストを低減できる。さらに、制御装置5は、インペラ3の回転数を上昇させた場合に、記憶装置7に記憶されている設定回転数X0を上昇後の回転数に更新する。仮に設定回転数X0が固定されていると、インペラ3の摩耗が進んでいる場合に、その時点の摩耗状況に応じた適正回転数から大きく外れた回転数で撹拌能力の判定を行うことがある。この場合、回転数が適正回転数とされるまで十分な撹拌を行うことができず、脱硫不足の原因になってしまう。すなわち、設定回転数X0を更新するようにすることで、撹拌能力の判定が終了されるまでも有効な撹拌を行うことができ、脱硫不足が発生することを回避できるようにしている。なお、インペラ3が交換された場合には、例えばオペレータの操作等に応じて、制御装置5にリセット信号が入力される。制御装置5は、リセット信号によりインペラ3の交換を検出した場合、設定回転数X0をリセットする。換言すれば、更新された設定回転数X0は、インペラ3が交換されるまで継続して使用される。次に、図2は、図1の制御装置5により実施されるインペラ3の回転数制御動作を示すフローチャートであり、本実施の形態のインペラの回転数制御方法を示すものである。図において、溶鉄2にインペラ3が浸漬されると、制御装置5によるモータ4の動作制御に応じて、インペラ3の回転数が記憶装置7に記憶されている設定回転数X0まで上昇されるステップS1。このとき、溶鉄2に脱硫剤が添加されるとともに、インペラ3の回転数が設定回転数X0に達すると、前記インペラ3の回転数が設定回転数X0に達したときから所定の待機時間が経過したか否かが制御装置5により判定されてステップS2、待機時間が経過したと判定された後に、電流測定装置6により測定された負荷電流値Iが制御装置5によって読み取られるステップS3。その次に、負荷電流値Iが記憶装置7に記憶されている閾値I0未満であるか否かが制御装置5により判定されるステップS4。このとき、負荷電流値Iが閾値I0未満であると判定された場合、摩耗によりインペラ3の撹拌能力が低下していることが検出されて、負荷電流値Iが閾値I0以上となるようにインペラ3の回転数が上昇されるステップS5。なお、負荷電流値Iが閾値I0を下回る量は予め想定できるため、インペラ3の回転数の上昇量は、予め設定された固定値ΔXとされている。また、閾値I0は、脱硫不良が発生しない負荷電流値Iの下限値に設定されており、上昇後の回転数は、その時点でのインペラ3の摩耗状況に対応した、脱硫不良が発生しない程度の低い回転数となる。インペラ3の回転数が上昇されると、記憶装置7に記憶されている設定回転数X0が制御装置5により上昇後の回転数に更新されるステップS6。これに対して、負荷電流値Iが閾値I0以上であると判定された場合には、インペラ3の撹拌能力が所定の基準に達していることが検出されて、設定回転数X0での撹拌動作が維持されるステップS7。すなわち、インペラ3の回転数上昇ステップS5及び設定回転数X0の更新ステップS6は実施されない。この回転数制御動作は、インペラ3による撹拌が開始されたときから所定の撹拌時間が経過するまでの間、繰り返し実施される。また、回転数制御動作は、撹拌時間が経過した場合には、その時点で終了される。なお、回転数制御動作が終了された場合でも、記憶装置7に記憶されている設定回転数X0は保持される。すなわち、設定回転数X0が更新された場合、後続のチャージでは、撹拌開始直後から更新後の設定回転数X0までインペラ3の回転数が上昇される。設定回転数X0は、インペラ3が交換された場合にリセットされる。次に、実施例を示す。本出願人は、Crを10質量ないし30質量,Niを0質量ないし20質量,炭素を2質量ないし4質量,残部にSiやCu,Moなどを含む鉄および不純物からなる電気炉ステンレス溶銑を溶銑鍋に払い出した後に、転炉装入に先立って表1に示す仕様の機械式脱硫装置の下で脱硫処理を行った。なお、本実施の形態のインペラ3の回転数制御を実施するに当り、各設定値は以下の通りとした。設定回転数X0の初期値:70rpm閾値I0:150A固定値ΔX:10rpm待機時間:3分電流測定時間:10秒また、本出願人は、比較例として、本出願人が従来実施していた脱硫操業経験的に設定した設定回転数での脱硫操業も合わせて実施した。そして、本実施の形態の回転数制御を実施した場合と、従来の脱硫操業を実施した場合とにおいて、インペラ3の回転数の推移、脱硫率脱硫前の硫黄量質量-脱硫後の硫黄量質量/脱硫前の硫黄量質量×100、及びインペラの耐用回数の調査をそれぞれ行った。まず、インペラ3の回転数の推移を示す。図3は、図2の回転数制御動作が実施された場合のインペラ3の回転数の推移を示すグラフである。図において、縦軸はインペラ3の回転数を示し、横軸はインペラ3の使用回数使用チャージ数を示している。図に示すように、インペラ使用回数200CHまで、本実施の形態の回転数制御が実施された場合のインペラ3の回転数が、経験的に設定していた従来の設定回転数を下回った。次に、脱硫率及びインペラの耐用回数の調査結果を下記の表2に示す。表2に示すように、従来実施の脱硫操業の平均脱硫率に比べて、本実施の形態の回転数制御を実施した場合の平均脱硫率は12.6上昇した。これは、インペラ3の設定回転数X0を、脱硫不良が発生しない最低限度の回転数に設定することで、インペラ3の良好な形状を高使用回数まで維持できたためと考えられる。なお、表2に示す平均脱硫剤原単位は、1つのインペラを継続使用した期間において、脱硫操業を行った際に使用した脱硫剤の使用量の平均値を示している。脱硫剤の使用量によっても脱硫性能が変化すると考えられるが、本発明を利用して操業した場合と従来の操業とにおいて、平均脱硫剤原単位を等しくしていることから、上述の平均脱硫率の向上は脱硫剤の使用量に起因するものではないことが分る。また、従来実施の脱硫操業では、インペラ3を184CH使用すると、インペラ3を交換せざるを得なかったが、本実施の形態の回転数制御を実施した場合には、271CHまでインペラ3を継続使用できた。この結果から、本実施の形態の回転数制御を実施することで、脱硫率及びインペラ耐用回数を改善でき、より経済的かつ効果的な脱硫操業を実現できることが確認できた。このようなインペラ3の回転数制御方法では、所定の設定回転数X0でインペラ3を回転させているときに、インペラ3を回転駆動するモータ4の負荷電流値Iを読取り、負荷電流値Iが所定の閾値I0未満であると判定される場合に、負荷電流値Iが閾値I0以上となるようにインペラ3の回転数を上昇させるので、当初からインペラ3の回転数を高めに設定する必要をなくすことができ、適正な回転数での運用を実現できる。従って、インペラ3が不必要に摩耗されることを回避でき、インペラ3の耐用回数を向上させることができる。また、閾値I0は、脱硫不良が発生しない負荷電流値Iの下限値であるので、インペラ3の回転数を脱硫不良が発生しない最低限度の回転数とすることができ、低い回転数での運用をより確実に実施することができる。さらに、インペラ3の回転数が設定回転数X0に達したときから所定の待機時間が経過したと判定された後に、負荷電流値Iが読取られるので、設定回転数X0での撹拌状態が安定したときの負荷電流値Iを利用することができ、撹拌能力の判定精度を向上させることができる。さらにまた、回転数の上昇量は、予め設定された固定値ΔXであるので、演算プログラムを簡略化でき、設備コストを低減できる。また、設定回転数X0は、インペラ3の回転数が上昇された場合に上昇後の回転数に更新されるので、撹拌能力の判定が終了されるまでも有効な撹拌を行うことができ、脱硫不足が発生することを回避できる。なお、実施の形態1では、負荷電流値Iが閾値I0未満であると判定された場合に、予め設定された固定値ΔXだけインペラ3の回転数が上昇されると説明したが、負荷電流値Iと閾値I0との差分値に基づいて、インペラ3の回転数を上昇させる量を決定してもよい。具体的には、差分値が0となるように、インペラ3の回転数を上昇させる。このように上昇量を差分値に基づいて決定するようにすれば、より細かく回転数制御を行うことができる。"