"プロキシミティ方式を用いて表示用パネルの基板を露光する露光装置であって、複数の露光パターンが設けられたマスクと、基板を固定するチャックと、前記チャックを搭載し、基板のXY方向へのステップ移動及び基板のアライメントを行うステージと、前記マスクから離れて設けられ、前記マスクの露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断する第1の遮光手段と、前記マスクに近接して設けられ、前記マスクの露光領域の境界付近へ照射される光を遮断する第2の遮光手段とを有し、前記第1の遮光手段が、X方向へ移動する平板状シャッターとY方向へ移動する平板状シャッターとで構成され、前記第2の遮光手段が、X方向へ移動する複数の帯状シャッターとY方向へ移動する複数の帯状シャッターとで構成された露光用シャッターとを備えたことを特徴とする露光装置。プロキシミティ方式を用いて表示用パネルの基板を露光する露光方法であって、基板をXY方向へステップ移動して基板の一面を複数のショットに分けて露光し、複数の露光パターンが設けられたマスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、X方向へ移動する平板状シャッターとY方向へ移動する平板状シャッターとを用いて、マスクから離れた高さでマスクの露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断し、X方向へ移動する複数の帯状シャッターとY方向へ移動する複数の帯状シャッターとを用いて、マスクに近接した高さで露光領域の境界付近へ照射される光を遮断することを特徴とする露光方法。請求項1に記載の露光装置を用いて、基板上にパターンを形成することを特徴とする基板製造方法。請求項2に記載の露光方法を用いて、基板上にパターンを形成することを特徴とする基板製造方法。シャッターを用いて露光領域を制限する場合、露光領域の境界付近ではシャッターの端部を通過した光が回折によって広がるため、シャッターをマスクから離して設けると、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生する。これを防止するため、プロキシミティ露光装置では、露光領域を制限するシャッターをできるだけマスクに近接して設けることが望ましい。しかしながら、プロキシミティ露光装置では、マスクのパターンを1対1に転写するためマスクと同程度の大きさのシャッターが必要となり、マスクの近傍にはギャップセンサーやアライメント用センサー等が配置されているため、このような大型のシャッターをマスクの近傍に設けることができなかった。本発明の課題は、プロキシミティ方式を用いた露光装置において、露光領域を制限するシャッターをマスクに近接して設け、かつマスクの近傍にギャップセンサーやアライメント用センサー等を配置するスペースを確保することである。また、本発明の課題は、プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止することである。本発明の露光装置は、プロキシミティ方式を用いて表示用パネルの基板を露光する露光装置であって、複数の露光パターンが設けられたマスクと、基板を固定するチャックと、チャックを搭載し、基板のXY方向へのステップ移動及び基板のアライメントを行うステージと、マスクから離れて設けられ、マスクの露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断する第1の遮光手段と、マスクに近接して設けられ、マスクの露光領域の境界付近へ照射される光を遮断する第2の遮光手段とを有し、第1の遮光手段が、X方向へ移動する平板状シャッターとY方向へ移動する平板状シャッターとで構成され、第2の遮光手段が、X方向へ移動する複数の帯状シャッターとY方向へ移動する複数の帯状シャッターとで構成された露光用シャッターとを備えたものである。また、本発明の露光方法は、プロキシミティ方式を用いて表示用パネルの基板を露光する露光方法であって、基板をXY方向へステップ移動して基板の一面を複数のショットに分けて露光し、複数の露光パターンが設けられたマスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、X方向へ移動する平板状シャッターとY方向へ移動する平板状シャッターとを用いて、マスクから離れた高さでマスクの露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断し、X方向へ移動する複数の帯状シャッターとY方向へ移動する複数の帯状シャッターとを用いて、マスクに近接した高さで露光領域の境界付近へ照射される光を遮断するものである。第1の遮光手段は、マスクの露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断するため、マスクの露光領域以外の領域とほぼ同じ大きさに構成される。一方、第2の遮光手段は、マスクの露光領域の境界付近へ照射される光を遮断するため、第1の遮光手段に比べてかなり小さく構成できる。第1の遮光手段はマスクから離れて設けられ、マスクの近傍では、第2の遮光手段の他にギャップセンサーやアライメント用センサー等を配置するスペースが確保される。そして、マスクに近接した高さで露光領域の境界付近へ照射される光を遮断することにより、露光領域の境界付近では、回折光の広がりが小さくなり、露光不足や二重露光が発生しない。本発明の基板製造方法は、上記のいずれかの露光方法又は露光装置を用いて、ガラス基板上にパターンを形成するものである。本発明によれば、プロキシミティ方式を用いて表示用パネルの基板を露光する露光装置において、露光領域を制限するシャッターをマスクに近接して設け、かつマスクの近傍にギャップセンサーやアライメント用センサー等を配置するスペースを確保することができる。また、本発明によれば、プロキシミティ方式を用いた表示用パネルの基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止することができる。さらに、X方向へ移動する平板状シャッターとY方向へ移動する平板状シャッターとを用いてマスクの露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断し、X方向へ移動する複数の帯状シャッターとY方向へ移動する複数の帯状シャッターとを用いて露光領域の境界付近へ照射される光を遮断するので、簡単な構成で露光領域を移動及び調整することができる。本発明の基板製造方法によれば、基板の一面を複数のショットに分けて露光する際に、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止して、高品質な基板を製造することができる。図1は、本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す平面図である。また、図2は、本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す一部断面側面図である。露光装置は、チャック2、ステージ3、マスク4、マスクホルダ6、露光用シャッター、及びセンサーユニット50を含んで構成されている。露光装置は、その他にも露光用光源及び照射光学系、マスクチェンジャ、センサーユニット50の移動機構等を含んでいるが、図1及び図2ではこれらは省略されている。図2において、露光対象であるガラス基板1が、チャック2上に固定されている。ステージ3は、チャック2を搭載しながら、XY方向へ移動し、θ方向に回転し、またZ軸方向に移動及びチルトする。ステージ3のXY方向への移動によって、ガラス基板1のXY方向へのステップ移動が行われる。また、ステージ3のZ軸方向への移動及びチルトによって、マスク4とガラス基板1とのギャップ合わせが行われる。さらに、ステージ3のXY方向への移動及びθ方向への回転によって、ガラス基板1のプリアライメントが行われる。チャック2の上空には、マスク4を保持したマスクホルダ6が配置されている。マスク4の上方には、マスク4に平行にガラス窓5が設けられ、ガラス窓5との間に負圧室が構成されている。負圧室でマスク4に単位面積当たりの質量を相殺する負圧をかけることによって、マスク4のたわみが抑制される。マスクホルダ6に保持されたマスク4の上空近傍の四隅には、センサーユニット50が配置されている。センサーユニット50は、マスク4とガラス基板1とのギャップの大きさを検出するギャップセンサーと、ガラス基板1の位置を検出するアライメント用センサーとを含んで構成されている。露光前、ステージ3は、センサーユニット50の検出結果に基づいて、マスク4とガラス基板1とのギャップ合わせ及びガラス基板のアライメントを行う。露光時、センサーユニット50は、図示しない移動機構によって露光領域外へ移動される。露光用シャッターは、平板状シャッター10,20と、帯状シャッター30a,30b,40a,40bとを含んで構成されている。平板状シャッター10は、マスク4から離れた高さh1に設けられ、図示しない移動機構によってX方向へ移動される。平板状シャッター20は、マスク4から離れた高さh2に設けられ、図示しない移動機構によってY方向へ移動される。帯状シャッター30a,30bはマスク4に近接した高さh3に設けられている。帯状シャッター30aの両端は、ボールねじナット31aを介して、マスクホルダ6の内側面に取り付けたガイド33に移動可能に保持されている。ボールねじ32aに連結されたモータ34aを同期して駆動することにより、帯状シャッター30aはガイド33に沿ってX方向へ移動される。同様に、帯状シャッター30bの両端は、ボールねじナット31bを介して、ガイド33に移動可能に保持されている。ボールねじ32bに連結されたモータ34bを同期して駆動することにより、帯状シャッター30bはガイド33に沿ってX方向へ移動される。帯状シャッター40a,40bはマスク4に近接した高さh4に設けられている。帯状シャッター40aの両端は、ボールねじナット41aを介して、マスクホルダ6の内側面に取り付けたガイド43に移動可能に保持されている。ボールねじ42aに連結されたモータ44aを同期して駆動することにより、帯状シャッター40aはガイド43に沿ってY方向へ移動される。同様に、帯状シャッター40bの両端は、ボールねじナット41bを介して、ガイド43に移動可能に保持されている。ボールねじ42bに連結されたモータ44bを同期して駆動することにより、帯状シャッター40bはガイド43に沿ってY方向へ移動される。なお、図2では、モータ34a,34b,44a,44b及びボールねじ32a,32b,42a,42bのそれらに連結される部分は、図示が省略されている。平板状シャッター10,20のさらに上方には、図示しない照射光学系が配置されており、図示しない露光用光源から照射光学系を介してマスク4へ光が照射される。マスク4の全面について露光を行う場合、平板状シャッター10,20及び帯状シャッター30a,30b,40a,40bは、XY方向で図1及び図2に示す位置へ配置され、マスク4へ照射される光を遮断しない。従って、マスク4の全面が露光領域となる。一方、露光領域を制限する場合、平板状シャッター10,20及び帯状シャッター30a,30b,40a,40bは、XY方向を所定の位置へ移動され、マスクへ照射される光の一部を遮断する。図3aは露光領域を制限する場合の一例を平板状シャッターとマスクホルダの中間から見た平面図、図3bは露光領域を制限する場合の一例を平板状シャッターの上空から見た平面図である。また、図4は、露光領域を制限する場合の一例を示す一部断面側面図である。なお、図4では、図2と同様に、モータ及びボールねじのモータに連結される部分は、図示が省略されている。本例は、マスクの左下4分の1の部分を露光領域とする場合を示している。この場合、帯状シャッター30bをX方向へ図3aに示す位置へ移動させ、帯状シャッター40bをY方向へ図3aに示す位置へ移動させる。また、平板状シャッター10をX方向へ図3bに示す位置へ移動させ、平板状シャッター20をY方向へ図3bに示す位置へ移動させる。平板状シャッター10,20は、マスク4の露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断し、帯状シャッター30b,40bは、マスク4の露光領域の境界付近へ照射される光を遮断する。このとき、図4に破線矢印で示すように、平板状シャッター10の端部を通過した光は回折によって広がり、このままでは露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生する。本実施の形態では、帯状シャッター30bにより、平板状シャッター10の端部を通過した光を遮断している。平板状シャッター20及び帯状シャッター40bについても同様である。なお、図3及び図4では、マスクの左下4分の1の部分を露光領域とする例を示したが、平板状シャッター10,20の移動と、帯状シャッター30a,30b,40a,40bの移動とを組み合わせることにより、マスク4の四隅のいずれかを含む部分について、任意の広さを露光領域とすることができる。また、X方向にマスクホルダ6を挟んで平板状シャッター10をもう1枚設け、Y方向にマスクホルダ6を挟んで平板状シャッター20をもう1枚設けると、マスク4の中央部を含め、マスク4の任意の部分を露光領域とすることができる。以上説明した実施の形態によれば、帯状シャッター30a,30b,40a,40bは、平板状シャッター10,20に比べてかなり小さく構成できる。従って、平板状シャッター10,20をマスク4から離れた高さに設け、帯状シャッター30a,30b,40a,40bをマスクに近接した高さに設けることにより、マスク4の近傍にセンサーユニット50及びその移動機構を配置するスペースを確保することができる。そして、帯状シャッター30a,30b,40a,40bを用いてマスク4に近接した高さで露光領域の境界付近へ照射される光を遮断することにより、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止することができる。さらに、平板状シャッター10,20と帯状シャッター30a,30b,40a,40bとを併用することにより、簡単な構成で露光領域を移動及び調整することができる。本発明の露光方法及び露光装置を用いてガラス基板上にパターンを形成することにより、ガラス基板の一面を複数のショットに分けて露光する際に、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止して、高品質な基板を製造することができる。"