"機関排気通路内に排気に含まれるNOXと炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を備え、排気浄化触媒は、機関排気通路に直列に接続された上流側触媒と下流側触媒とを含み、上流側触媒は酸化能力を有し、下流側触媒は、排気流通表面上に貴金属の触媒粒子が担持されていると共に触媒粒子の周りには塩基性の排気流通表面部分が形成されており、排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期を前記予め定められた範囲よりも長くすると排気中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を前記予め定められた範囲内の振幅および前記予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、排気中に含まれるNOXを排気浄化触媒において還元する制御を行なうように形成されており、上流側触媒は、触媒粒子が担持された上流側基体と、上流側基体を収容する上流側容器とを含み、下流側触媒は、触媒粒子が担持された下流側基体と、下流側基体を収容する下流側容器と、下流側基体と下流側容器との間の隙間部により形成された排気の流路とを含み、上流側容器は、下流側容器に接続されており、上流側基体から流出する排気が下流側容器の内部において複数の方向に向かって分割され、下流側基体と下流側容器との間の流路を流通した後に合流し、合流した排気が下流側基体に流入することを特徴とする、内燃機関の排気浄化装置。上流側基体の排気が流入する端面の面積は、下流側基体の排気が流入する端面の面積よりも小さく形成されている、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上流側容器は、下流側容器の周方向の表面に接続されており、上流側基体は、上流側基体から流出した排気が下流側基体の周方向の外面に向かうように配置され、上流側基体から流出した排気が下流側気体の周方向の外面において複数の方向に分割される、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上流側触媒は、貴金属の触媒粒子を有し、排気に含まれる炭化水素を部分酸化し、部分酸化した炭化水素を下流側触媒に供給する、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。機関排気通路に燃料を供給する排気浄化装置においては、燃料を添加する添加弁の位置や排気管の形状等に依存して、排気管内に添加された燃料が触媒に到達するときに、局所的な濃度の偏りが生じている場合がある。すなわち、局所的に燃料の濃度が高い部分と低い部分とを有する排気が触媒に供給される場合がある。触媒に対して燃料の濃度が均一な排気が供給されない場合には、例えば、排気の浄化作用が濃度の高い部分に限定されてしまう虞がある。この結果、触媒全体の浄化率が低下する場合があった。または、局所的に燃料の濃度が高くなりすぎると、触媒をすり抜けるスリップが生じる場合があった。または、排気管内において燃料の濃度の偏りが生じることにより、燃料が排気管の壁面に付着する場合があった。上記の公報に開示されているように、触媒の上流側に、燃料の分散性を向上させる部材を配置することにより、触媒に対して燃料の濃度を均一化した排気を供給することができる。ところが、これらの分散性を向上させる部材は、排気管の内部に配置しなくてはならないために排気浄化装置が大きくなるという問題がある。また、排気管の内部に分散性を向上させる部材を配置するために、内燃機関の背圧が上昇してしまうという問題がある。すなわち、分散性を向上させる部材により流路断面積が小さくなり、排気浄化装置における圧力損失が大きくなるという問題が生じる。排気管の内部において燃料の濃度を均一化する構成としては、触媒の上流側の排気管を長くすることができる。すなわち、排気が排気管内を流れる距離を大きくすることにより、燃料が含まれる排気を攪拌することができる。しかしながら、排気管を長くする構成では、排気浄化装置が大きくなったり、背圧が上昇したりする。また、排気管が長くなることにより、排気管の内面に付着する燃料の量も増えてしまうという問題が生じる。さらには、排気の浄化率を向上させるために触媒の容量を大きくすることができる。ところが、触媒の容量を大きくすると、排気浄化装置が大型になってしまうという問題が生じる。ところで、排気に含まれる窒素酸化物を除去する方法の一つとして、機関排気通路にNOX吸蔵触媒を配置することが知られている。NOX吸蔵触媒は、流入する排気の空燃比がリーンの時には排気に含まれるNOXを吸蔵し、流入する排気の空燃比がリッチになると吸蔵したNOXを放出すると共に還元する機能を有する。ところが、NOX吸蔵触媒は、高温になるとNOXの浄化率が低下する場合があった。本発明は、小型であり、NOXの浄化率に優れる内燃機関の排気浄化装置を提供することを目的とする。本発明の内燃機関の排気浄化装置は、機関排気通路内に排気に含まれるNOXと炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を備える。排気浄化触媒は、機関排気通路に直列に接続された上流側触媒と下流側触媒とを含む。上流側触媒は酸化能力を有する。下流側触媒は、排気流通表面上に貴金属の触媒粒子が担持されていると共に触媒粒子の周りには塩基性の排気流通表面部分が形成されている。排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期を上記予め定められた範囲よりも長くすると排気中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有している。機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を上記予め定められた範囲内の振幅および上記予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、排気中に含まれるNOXを排気浄化触媒において還元する制御を行なうように形成されている。上流側触媒は、触媒粒子が担持された上流側基体と、上流側基体を収容する上流側容器とを含む。下流側触媒は、触媒粒子が担持された下流側基体と、下流側基体を収容する下流側容器と、下流側基体と下流側容器との間の隙間部により形成された排気の流路とを含む。上流側容器は、下流側容器に接続されている。排気浄化装置は、上流側基体から流出する排気が下流側容器の内部において複数の方向に向かって分割され、下流側基体と下流側容器との間の流路を流通した後に合流し、合流した排気が下流側基体に流入する。上記発明においては、上流側基体の排気が流入する端面の面積は、下流側基体の排気が流入する端面の面積よりも小さく形成されていることが好ましい。上記発明においては、上流側容器は、下流側容器の周方向の表面に接続されており、上流側基体は、上流側基体から流出した排気が下流側基体の周方向の外面に向かうように配置され、上流側基体から流出した排気が下流側気体の周方向の外面において複数の方向に分割されることができる。上記発明においては、上流側触媒は、貴金属の触媒粒子を有し、排気に含まれる炭化水素を部分酸化し、部分酸化した炭化水素を下流側触媒に供給することができる。本発明によれば、小型であり、NOX浄化率に優れる内燃機関の排気浄化装置を提供することができる。図1から図24を参照して、実施の形態における内燃機関の排気浄化装置について説明する。本実施の形態においては、車両に取り付けられている圧縮着火式の内燃機関を例に取り上げて説明する。図1は、本実施の形態における内燃機関の全体図である。内燃機関は、機関本体1を備える。また、内燃機関は、排気を浄化する排気浄化装置を備える。機関本体1は、各気筒としての燃焼室2と、それぞれの燃焼室2に燃料を噴射するための電子制御式の燃料噴射弁3と、吸気マニホールド4と、排気マニホールド5とを含む。吸気マニホールド4は、吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に連結されている。コンプレッサ7aの入口は、吸入空気量検出器8を介してエアクリーナ9に連結されている。吸気ダクト6内にはステップモータにより駆動されるスロットル弁10が配置されている。更に、吸気ダクト6の途中には、吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置されている。図1に示される実施例では、機関冷却水が冷却装置11に導かれている。機関冷却水によって吸入空気が冷却される。一方、排気マニホールド5は、排気ターボチャージャ7の排気タービン7bの入口に連結されている。本実施の形態における排気浄化装置は、排気に含まれるNOXを浄化する排気浄化触媒13と、排気に含まれる粒子状物質を捕集するパティキュレートフィルタ14とを備える。排気浄化触媒13は、排気に含まれるNOXと炭化水素とを反応させる。本実施の形態における排気浄化触媒13は、上流側触媒61と下流側触媒62とを含む。排気浄化触媒13は、排気管12を介して排気タービン7bの出口に連結されている。排気浄化触媒13は、パティキュレートフィルタ14に連結されている。パティキュレートフィルタ14は、排気管64に連結されている。排気浄化触媒13の上流には圧縮着火式内燃機関の燃料として用いられる軽油、又は、その他の燃料からなる炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15が配置されている。本実施の形態においては、炭化水素供給弁15から供給される炭化水素として軽油が用いられている。なお、本発明は、燃焼時の空燃比がリーンに制御される火花点火式の内燃機関にも適用することができる。この場合、炭化水素供給弁からは火花点火式の内燃機関の燃料として用いられるガソリン又は、その他の燃料からなる炭化水素が供給される。排気マニホールド5と吸気マニホールド4との間には、排気再循環EGRを行うためにEGR通路16が配置されている。EGR通路16には電子制御式のEGR制御弁17が配置されている。また、EGR通路16の途中にはEGR通路16内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置18が配置されている。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置18内に導かれている。機関冷却水によってEGRガスが冷却される。それぞれの燃料噴射弁3は、燃料供給管19を介してコモンレール20に連結されている。コモンレール20は、電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ21を介して燃料タンク22に連結されている。燃料タンク22に貯蔵される燃料は、燃料ポンプ21によってコモンレール20内に供給される。コモンレール20内に供給された燃料は、それぞれの燃料供給管19を介して燃料噴射弁3に供給される。本実施の形態における電子制御ユニット30は、デジタルコンピュータからなる。本実施の形態における電子制御ユニット30は、排気浄化装置の制御装置として機能する。電子制御ユニット30は、双方性バス31によって互いに接続されたROMリードオンリメモリ32、RAMランダムアクセスメモリ33、CPUマイクロプロセッサ34、入力ポート35および出力ポート36を含む。ROM32は、読み込み専用の記憶装置である。ROM32には、制御を行なうための必要なマップ等の情報が予め記憶されている。CPU34は、任意の演算や判別を行なうことができる。RAM33は、読み書きが可能な記憶装置である。RAM33は、運転履歴などの情報を保存したり、演算結果を保存したりすることができる。排気浄化触媒13の下流側触媒62の下流には、下流側触媒62の温度を検出するための温度センサ23が取付けられている。また、パティキュレートフィルタ14の下流にはパティキュレートフィルタ14の温度を検出するための温度センサ25が取付けられている。これらの温度センサ23,25および吸入空気量検出器8の出力信号は、夫々対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル40にはアクセルペダル40の踏込み量に比例した出力電圧を発生する負荷センサ41が接続されている。負荷センサ41の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。更に入力ポート35にはクランクシャフトが例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ42が接続される。クランク角センサ42の出力により、クランク角度や機関回転数を検出することができる。一方、出力ポート36は、対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁3、スロットル弁10の駆動用ステップモータ、炭化水素供給弁15、EGR制御弁17および燃料ポンプ21に接続されている。これらの燃料噴射弁3、スロットル弁10、炭化水素供給弁15およびEGR制御弁17等は、電子制御ユニット30により制御されている。パティキュレートフィルタ14は、排気中に含まれる炭素微粒子、サルフェート等の粒子状物質パティキュレートを除去するフィルタである。パティキュレートフィルタ14は、例えば、ハニカム構造を有し、ガスの流れ方向に伸びる複数の流路を有する。複数の流路において、下流端が封止された流路と上流端が封止された流路とが交互に形成されている。流路の隔壁は、コージライトのような多孔質材料で形成されている。この隔壁を排気が通過するときにパティキュレートが捕捉される。排気に含まれる粒子状物質は、パティキュレートフィルタ14に捕集されて酸化される。パティキュレートフィルタ14に次第に堆積する粒子状物質は、空気過剰の雰囲気中で温度を例えば650°C程度まで上昇することにより酸化されて除去される。図2Aは、排気浄化触媒の上流側触媒の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。上流側触媒61は、酸化能力を有する触媒から構成されている。本実施の形態における上流側触媒61は、酸素貯蔵能力を有する三元触媒と同様の構成を有する。三元触媒は、流入する排気の空燃比が理論空燃比となるようにフィードバック制御されたときに排気中に含まれるHC,COおよびNOXを同時に低減する機能を有する。図2Aに示されるように、上流側触媒61の例えばアルミナからなる触媒担体50上には貴金属の触媒粒子51,52が担持されている。図2Aに示される例では、触媒粒子51は白金Ptからなり、触媒粒子52は、ロジウムRhからなる。一方、図2Aに示される例では上流側触媒61の触媒担体50はセリウムCeを含んでいる。このセリウムCeは酸素が過剰な酸化雰囲気のもとでは酸素を取込んでセリアCeO2の形となり、還元雰囲気のもとでは酸素を放出してCe2O3の形をとる。即ち、触媒担体50は酸化雰囲気のもとでは酸素を吸収し、還元雰囲気のもとでは酸素を放出する。このように、本実施の形態における触媒担体50は、酸素の吸放出機能を有する。触媒担体50が酸素の吸放出機能を有さない場合には排気中の酸素濃度が減少すると上流側触媒61が有する酸化力は弱まる。これに対し、触媒担体50が酸素の吸放出機能を有する場合には排気の酸素濃度が少なくなると触媒担体50から酸素が放出され、しかもこの酸素は極めて活性が高い。従って触媒担体50が酸素の吸放出機能を有しているときには、即ち上流側触媒61が酸素貯蔵能力を有しているときには排気の空燃比がリッチになったとしても上流側触媒61は高い酸化力を有することになる。図2Bは、下流側触媒の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。下流側触媒62では、例えばアルミナからなる触媒担体54上には貴金属の触媒粒子55,56が担持されており、更にこの触媒担体54上にはカリウムK、ナトリウムNa、セシウムCsのようなアルカリ金属、バリウムBa、カルシウムCaのようなアルカリ土類金属、ランタノイドのような希土類および銀Ag、銅Cu、鉄Fe、イリジウムIrのようなNOXに電子を供与しうる金属から選ばれた少くとも一つを含む塩基性層57が形成されている。排気は触媒担体54上に沿って流れるので触媒粒子55,56は下流側触媒62の排気流通表面上に担持されていると言える。また、塩基性層57の表面は塩基性を呈するので、塩基性層57の表面は塩基性の排気流通表面部分58と称される。一方、図2Bにおいて、貴金属の触媒粒子55は白金Ptからなり、貴金属の触媒粒子56はロジウムRhからなる。即ち、触媒担体54に担持されている触媒粒子55,56は白金PtおよびロジウムRhから構成されている。なお、下流側触媒62の触媒担体54上には白金PtおよびロジウムRhに加えて更にパラジウムPdを担持させることができるし、或いはロジウムRhに代えてパラジウムPdを担持させることができる。即ち、触媒担体54に担持されている触媒粒子55,56は、白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される。図3は、排気浄化触媒の上流側触媒の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。炭化水素供給弁15から排気中に炭化水素が噴射されると、炭化水素は上流側触媒61において改質される。即ち、炭化水素供給弁15から噴射された炭化水素HCは上流側触媒61の触媒作用によって炭素数の少ないラジカル状の炭化水素HCとなる。本発明ではこのとき改質された炭化水素を用いて下流側触媒62においてNOXを浄化するようにしている。なお、このとき上流側触媒61の触媒担体50上が還元雰囲気になると、図3において図解的に示されるように触媒担体50から酸素が放出され、この放出された酸化によって炭化水素が炭素数の少ないラジカル状の炭化水素に改質される。また、燃料噴射弁3から燃焼室2内に燃料、即ち炭化水素を膨張行程の後半或いは排気行程中に噴射してもこの炭化水素は燃焼室2内又は上流側触媒61において改質され、排気中に含まれるNOXはこの改質された炭化水素によって浄化される。従って本発明では炭化水素供給弁15から機関排気通路内に炭化水素を供給する代りに、膨張行程に後半或いは排気行程中に燃焼室2内に炭化水素を供給することもできる。このように本発明では炭化水素を燃焼室2内に供給することもできるが、以下炭化水素を炭化水素供給弁15から機関排気通路内に噴射するようにした場合を例にとって本発明を説明する。図4は炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給タイミングと排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finの変化とを示している。なお、この空燃比A/Finの変化は排気浄化触媒13に流入する排気中の炭化水素の濃度変化に依存しているので図4に示される空燃比A/Finの変化は炭化水素の濃度変化を表しているとも言える。ただし、炭化水素濃度が高くなると空燃比A/Finは小さくなるので図4においては空燃比A/Finがリッチ側となるほど炭化水素濃度が高くなっている。図5は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させることによって図4に示されるように排気浄化触媒13への流入排気の空燃比A/Finを変化させたときの排気浄化触媒13によるNOX浄化率を排気浄化触媒13の各触媒温度TCに対して示している。本発明者は長い期間に亘ってNOX浄化に関する研究を重ねており、その研究課程において、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、図5に示されるように400°C以上の高温領域においても極めて高いNOX浄化率が得られることが判明したのである。更に、このときには、窒素および炭化水素を含む多量の還元性中間体が排気浄化触媒13内において生成され、この還元性中間体が高NOX浄化率を得る上で中心的役割を果していることが判明したのである。次に、このことについて図6Aおよび図6Bを参照しつつ説明する。なお、図6Aおよび図6Bは、下流側触媒62の触媒担体54の表面部分を図解的に示している。図6Aおよび図6Bには、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させたときに生ずると推測される反応が示されている。図6Aは、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度が低いときを示している。図4からわかるように、排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比は一瞬を除いてリーンに維持されているので下流側触媒62に流入する排気は通常酸素過剰の状態にある。従って排気中に含まれるNOは触媒粒子55上において酸化されてNO2となり、次いでこのNO2は更に酸化されてNO3となる。また、NO2の一部はNO2-となる。この場合、NO3の生成量の方がNO2-の生成量よりもはるかに多い。従って触媒粒子55上には多量のNO3と少量のNO2-が生成されることになる。これらNO3およびNO2-は活性が強く、以下これらNO3およびNO2-を活性NOXと称する。これらの活性NOXは、塩基性層57の表面上に付着又は吸着することによって保持される。次に、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されると、図3に示したように、上流側触媒61では排気に含まれる炭化水素が部分酸化される。炭化水素は、上流側触媒61内において改質されてラジカル状になり、改質された炭化水素は下流側触媒62に供給される。図6Bは、炭化水素供給弁から炭化水素が供給されて排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度が高くなっているときを示している。下流側触媒62に流入する炭化水素の濃度が高くなると、活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなる。活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなると、活性NOXは触媒粒子上においてラジカル状の炭化水素HCと反応し、それにより還元性中間体が生成される。なお、このとき最初に生成される還元性中間体はニトロ化合物R-NO2であると考えられる。このニトロ化合物R-NO2は生成されるとニトリル化合物R-CNとなるがこのニトリル化合物R-CNはその状態では瞬時しか存続し得ないのでただちにイソシアネート化合物R-NCOとなる。このイソシアネート化合物R-NCOは加水分解するとアミン化合物R-NH2となる。ただしこの場合、加水分解されるのはイソシアネート化合物R-NCOの一部であると考えられる。従って図6Bに示されるように生成される還元性中間体の大部分はイソシアネート化合物R-NCOおよびアミン化合物R-NH2であると考えられる。下流側触媒62内にて生成された多量の還元性中間体は、塩基性層57の表面上に付着又は吸着される。次に、図6Aに示すように、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低くなると、下流側触媒62では、活性NOXと生成された還元性中間体とが反応する。ところで、このように活性NOXが塩基性層57の表面上に保持された後、或いは活性NOXが生成された後、活性NOX周りの酸素濃度が高い状態が一定時間以上継続すると活性NOXは酸化され、硝酸イオンNO3-の形で塩基性層57内に吸収される。しかしながらこの一定時間が経過する前に還元性中間体が生成されると、図6Aに示されるように活性NOXは、還元性中間体R-NCOやR-NH2と反応してN2、CO2、またはH2Oとなり、斯くしてNOXが浄化されることになる。なお、この場合、生成された還元性中間体が活性NOXと反応するまで、十分な量の還元性中間体R-NCOやRNH2を塩基性層57の表面上に、即ち塩基性の排気流通表面部分58上保持しておかなければならず、そのために塩基性の排気流通表面部分58が設けられている。このように、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を一時的に高くすることにより還元性中間体を生成し、生成された還元性中間体を活性NOXと反応させることにより、NOXが浄化される。即ち、排気浄化触媒13によりNOXを浄化するには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させる必要がある。無論、この場合、還元性中間体を生成するのに十分高い濃度まで炭化水素の濃度を高める必要がある。即ち、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅で振動させる必要がある。一方、炭化水素の供給周期を長くすると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給されるまでの間において酸素濃度が高くなる期間が長くなり、従って活性NOXは還元性中間体を生成することなく硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収されることになる。これを回避するためには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の周期でもって振動させることが必要となる。因みに図4に示される例では噴射間隔が3秒とされている。上述したように炭化水素濃度の振動周期、即ち炭化水素HCの供給周期を予め定められた範囲内の周期よりも長くすると下流側触媒62において活性NOXは図7Aに示されるように硝酸イオンNO3-の形で塩基性層57内に拡散し、硝酸塩となる。即ち、このときには排気中のNOXは硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収されることになる。一方、図7BはこのようにNOXが硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収されているときに排気浄化触媒13内に流入する排気の空燃比が理論空燃比又はリッチにされた場合を示している。この場合には排気中の酸素濃度が低下するために反応が逆方向NO3-→NO2に進み、斯くして塩基性層57内に吸収されている硝酸塩は順次硝酸イオンNO3-となって図7Bに示されるようにNO2の形で塩基性層57から放出される。次いで放出されたNO2は排気中に含まれる炭化水素HCおよびCOによって還元される。図8は、塩基性層57のNOX吸収能力が飽和する少し前に排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finを一時的にリッチにするようにした場合を示している。なお、図8に示す例ではこのリッチ制御の時間間隔は1分以上である。この場合には排気の空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層57内に吸収されたNOXは、排気の空燃比A/Finが一時的にリッチにされたときに塩基性層57から一気に放出されて還元される。従ってこの場合には塩基性層57はNOXを一時的に吸収するための吸収剤の役目を果している。なお、このとき塩基性層57がNOXを一時的に吸着する場合もあり、従って吸収および吸着の双方を含む用語として吸蔵という用語を用いると、このとき塩基性層57はNOXを一時的に吸蔵するためのNOX吸蔵剤の役目を果していることになる。即ち、この場合には、機関吸気通路、燃焼室2および上流側触媒61上流の排気通路内に供給された空気および燃料炭化水素の比を排気の空燃比と称すると、下流側触媒62は、排気の空燃比がリーンのときにはNOXを吸蔵し、排気中の酸素濃度が低下すると吸蔵したNOXを放出するNOX吸蔵触媒として機能している。図9は、排気浄化触媒をこのようにNOX吸蔵触媒として機能させたときのNOX浄化率を示している。なお、図9の横軸は下流側触媒62の触媒温度TCを示している。排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合には図9に示されるように下流側触媒62の温度TCが300°Cから400°Cのときには極めて高いNOX浄化率が得られるが触媒温度TCが400°C以上の高温になるとNOX浄化率が低下する。このように触媒温度TCが400°C以上になるとNOX浄化率が低下するのは、触媒温度TCが400°C以上になると硝酸塩が熱分解してNO2の形で排気浄化触媒13から放出されるからである。即ち、NOXを硝酸塩の形で吸蔵している限り、触媒温度TCが高いときに高いNOX浄化率を得るのは困難である。しかしながら図4から図6Aおよび図6Bに示される新たなNOX浄化方法では図6Aおよび図6Bからわかるように硝酸塩は生成されず或いは生成されても極く微量であり、斯くして図5に示されるように触媒温度TCが高いときでも高いNOX浄化率が得られることになる。このように、本実施の形態の排気浄化装置は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期を予め定められた範囲よりも長くすると排気中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有している。機関運転時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、排気中に含まれるNOXを排気浄化触媒13において還元する制御を行なうように形成されている。即ち、図4から図6Aおよび図6Bに示されるNOX浄化方法は、貴金属の触媒粒子を担持しかつNOXを吸収しうる塩基性層を形成した触媒を用いた場合において、ほとんど硝酸塩を形成することなくNOXを浄化するようにした新たなNOX浄化方法であると言うことができる。実際、この新たなNOX浄化方法を用いた場合には排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合に比べて、塩基性層57から検出される硝酸塩は極く微量である。なお、この新たなNOX浄化方法を以下、第1のNOX浄化方法と称する。次に、図10から図15を参照しつつこの第1のNOX浄化方法についてもう少し詳細に説明する。図10は図4に示される空燃比A/Finの変化を拡大して示している。なお、前述したようにこの排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finの変化は同時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化を示している。なお、図10においてΔHは排気浄化触媒13に流入する炭化水素HCの濃度変化の振幅を示しており、ΔTは排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期を示している。更に図10においてA/Fbは機関出力を発生するための燃焼ガスの空燃比を示すベース空燃比を表している。言い換えるとこのベース空燃比A/Fbは炭化水素の供給を停止したときに排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比を表している。一方、図10において、Xは、活性NOXと改質された炭化水素から十分な量の還元性中間体を生成することができかつ活性NOXを硝酸塩の形で塩基性層57内に吸蔵させることなく還元性中間体と反応させることのできる空燃比A/Finの上限を表しており、活性NOXと改質された炭化水素から十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを硝酸塩の形で塩基性層57内に吸蔵させることなく還元性中間体と反応させるには空燃比A/Finをこの空燃比の上限Xよりも低くすることが必要となる。別の言い方をすると図10のXは、十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるのに必要な炭化水素の濃度の下限を表しており、十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるには炭化水素の濃度をこの下限Xよりも高くする必要がある。この場合、十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応するか否かは活性NOX周りの酸素濃度と炭化水素濃度との比率、即ち空燃比A/Finで決まり、十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるのに必要な上述の空燃比の上限Xを以下、要求最小空燃比と称する。図10に示される例では要求最小空燃比Xがリッチとなっており、従ってこの場合には十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるために空燃比A/Finが瞬時的に要求最小空燃比X以下に、即ちリッチにされる。これに対し、図11に示される例では要求最小空燃比Xがリーンとなっている。この場合には空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させることによって十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応せしめられる。この場合、要求最小空燃比Xがリッチになるかリーンになるかは上流側触媒61の酸化力による。この場合、上流側触媒61は例えば貴金属の担持量を増大させれば酸化力が強まり、酸性を強めれば酸化力が強まる。従って上流側触媒61の酸化力は貴金属の担持量や酸性の強さによって変化することになる。さて、酸化力が強い上流側触媒61を用いた場合に図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、空燃比A/Finが低下せしめられたときに炭化水素が完全に酸化されてしまい、その結果還元性中間体を生成することができなくなる。これに対し、酸化力が強い上流側触媒61を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると空燃比A/Finがリッチにされたときに炭化水素は完全に酸化されることなく部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応することになる。従って酸化力が強い上流側触媒61を用いた場合には要求最小空燃比Xはリッチにする必要がある。一方、酸化力が弱い上流側触媒61を用いた場合には図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、炭化水素は完全に酸化されずに部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応せしめられる。これに対し、酸化力が弱い上流側触媒61を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると多量の炭化水素は酸化されることなく単に上流側触媒61から排出されることになり、斯くして無駄に消費される炭化水素量が増大することになる。従って酸化力が弱い上流側触媒61を用いた場合には要求最小空燃比Xはリーンにする必要がある。即ち、要求最小空燃比Xは図12に示されるように上流側触媒61の酸化力が強くなるほど低下させる必要があることがわかる。このように要求最小空燃比Xは上流側触媒61の酸化力によってリーンになったり、或いはリッチになったりするが、以下要求最小空燃比Xがリッチである場合を例にとって、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅や排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期について説明する。さて、ベース空燃比A/Fbが大きくなると、即ち炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度が高くなると空燃比A/Finを要求最小空燃比X以下とするのに必要な炭化水素の供給量が増大する。従って、炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅を大きくする必要がある。図13は同一のNOX浄化率が得られるときの、炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度と炭化水素濃度の振幅ΔHとの関係を示している。図13から同一のNOX浄化率を得るためには炭化水素が供給される前の排気中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させる必要があることがわかる。即ち、同一のNOX浄化率を得るにはベース空燃比A/Fbが高くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させることが必要となる。別の言い方をすると、NOXを良好に浄化するためにはベース空燃比A/Fbが低くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔHを減少させることができる。ところでベース空燃比A/Fbが最も低くなるのは加速運転時であり、このとき炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm程度あればNOXを良好に浄化することができる。ベース空燃比A/Fbは通常、加速運転時よりも大きく、従って図14に示されるように炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm以上であれば良好なNOX浄化率を得ることができることになる。一方、ベース空燃比A/Fbが最も高いときには炭化水素濃度の振幅ΔHを10000ppm程度にすれば良好なNOX浄化率が得られることがわかっている。従って本発明では炭化水素濃度の振幅の予め定められた範囲が200ppmから10000ppmとされている。また、炭化水素濃度の振動周期ΔTが長くなると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給される間、活性NOX周りの酸素濃度が高くなる。この場合、炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなると活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収され始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなるとNOX浄化率が低下することになる。従って炭化水素濃度の振動周期ΔTは5秒以下とする必要がある。一方、炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になると供給された炭化水素が排気浄化触媒13上に堆積し始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になるとNOX浄化率が低下する。そこで本発明では炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間とされている。さて、本発明では炭化水素供給弁15からの炭化水素供給量および噴射時期を変化させることによって炭化水素濃度の振幅ΔHおよび振動周期ΔTが機関の運転状態に応じた最適値となるように制御される。この場合、本発明による実施例ではこの最適な炭化水素濃度の振幅ΔHを得ることのできる炭化水素供給量Wが燃料噴射弁3からの噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図16に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。また、最適な炭化水素濃度の振動振幅ΔT、即ち炭化水素の噴射周期ΔTも同様に噴射量Qおよび機関回転数Nの関数としてマップの形で予めROM32内に記憶されている。次に図17から図20を参照しつつ排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法について具体的に説明する。このように排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法を以下、第2のNOX浄化方法と称する。この第2のNOX浄化方法では図17に示されるように塩基性層57に吸蔵された吸蔵NOX量ΣNOXが予め定められた許容量MAXを越えたときに排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finが一時的にリッチにされる。排気の空燃比A/Finがリッチにされると排気の空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層57内に吸蔵されたNOXが塩基性層57から一気に放出されて還元される。それによってNOXが浄化される。吸蔵NOX量ΣNOXは例えば機関から排出されるNOX量から算出される。本発明による実施例では機関から単位時間当りに排出される排出NOX量NOXAが噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図18に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されており、この排出NOX量NOXAから吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。この場合、前述したように排気の空燃比A/Finがリッチにされる周期は通常1分以上である。この第2のNOX浄化方法では図19に示されるように燃焼室2内に燃料噴射弁3から燃焼用燃料Qに加え、追加の燃料WRを噴射することによって排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finがリッチにされる。なお、図19の横軸はクランク角を示している。この追加の燃料WRは燃焼はするが機関出力となって現われない時期に、即ち圧縮上死点後ATDC90°の少し手前で噴射される。この燃料量WRは噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図20に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。無論、この場合炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量を増大させることによって排気の空燃比A/Finをリッチにすることもできる。さて、機関から排出されるNOXを良好に浄化するためには機関から排出されるNOX量が増大するほど炭化水素の供給量を増大する必要がある。ところがこのように炭化水素の供給量が増大されると排気浄化触媒13に流入する排気の空燃比A/Finは理論空燃比近くのリーンとなるか、或いはリッチになる。その結果、排気中の酸素濃度が低くなるために炭化水素の部分酸化反応が生じずらくなり、斯くして還元性中間体が生成されずらくなる。しかしながら、本実施の形態における上流側触媒61は、酸素貯蔵能力を有するために排気の酸素濃度が低下しても上流側触媒61から酸素が放出され、その結果炭化水素の部分酸化反応が活発に行われることになる。従って炭化水素の供給量が増大されても十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と十分に反応せしめられるので良好なNOX浄化率を確保できることになる。なお、本実施の形態における排気浄化触媒の上流側触媒は酸素吸蔵能力を有しているが、この形態に限られず、上流側触媒は酸素吸蔵能力を有していなくても構わない。また、本実施の形態における上流側触媒は、触媒粒子の構成が三元触媒の触媒粒子の構成と同様であるが、この形態に限られず、上流側触媒は酸化能力を発揮する任意の触媒粒子を担持することができる。すなわち、上流側触媒は、炭化水素を部分酸化して改質できる任意の触媒を採用することができる。たとえば、上流側触媒は、単一の貴金属の触媒粒子が担持されていても構わない。次に、本実施の形態における排気浄化装置の構造について説明する。図21は、本実施の形態における排気浄化装置の概略斜視図である。図22は、本実施の形態における排気浄化装置の第1の概略断面図である。図22は、下流側触媒の軸方向に平行な面で切断した時の断面図である。図23は、本実施の形態における排気浄化装置の第2の概略断面図である。図23は、下流側触媒の軸方向に垂直な方向に延びる面で切断したときの断面図である。図21から図23を参照して、上流側触媒61と下流側触媒62とは機関排気通路において直列に接続されている。下流側触媒62は、上流側触媒61よりも下流側に配置されている。本実施の形態におけるパティキュレートフィルタ14は、下流側触媒62の下流側に配置されている。上流側触媒61は、触媒粒子51,52が担持された上流側基体61aと、上流側基体61aを収容する上流側容器61bとを含む。本実施の形態における上流側基体61aは、ハニカム構造に形成されている。本実施の形態における上流側基体61aは、円柱状に形成されている。上流側基体61aの内部には、軸方向に沿って複数の通路が形成されている。それぞれの排気の通路の壁面には、触媒粒子51,52が担持された触媒担体50が配置されている。上流側基体61aは、上流側容器61bの内面に密着するように形成されている。すなわち、上流側触媒61に流入する排気は、全てが上流側基体61aに形成された排気の通路を流通するように形成されている。上流側触媒61は、排気管12に接続されている。上流側容器61bの内部において、上流側基体61aの上流側には、流入する排気が拡散するための空間66が形成されている。本実施の形態における炭化水素供給弁15は、上流側触媒61の近傍に配置されている。下流側触媒62は、触媒粒子55,56が担持された下流側基体62aと、下流側基体62aを収容する下流側容器62bとを含む。本実施の形態における下流側基体62aは、ハニカム構造に形成されている。本実施の形態における下流側基体62aは、円柱状に形成されている。下流側基体62aの内部には、軸方向に沿って複数の通路が形成されている。それぞれの排気の通路の壁面には、触媒粒子55,56が担持されている触媒担体54が配置されている。本実施の形態における下流側容器62bは、筒状に形成されている。下流側容器62bの断面の面積は、下流側基体62aの断面の面積よりも大きく形成されている。本実施の形態における下流側基体62aは、下流側容器62bの底部に接触している。一方で、下流側基体62aの側方および上方においては、下流側基体62aの周方向の外面と下流側容器62bとの間に隙間部69が形成されている。この隙間部69は、排気が流れる流路を構成している。本実施の形態における下流側基体は、下流側容器の底部に接触しているが、この形態に限られず、下流側基体が下流側容器の底部から離れていても構わない。すなわち下流側基体の下部にも排気の流路が形成されていても構わない。本実施の形態においては、上流側基体61aの排気が流入する端面の面積は、下流側基体62aの排気が流入する端面の面積よりも小さく形成されている。本実施の形態において、上流側基体61aおよび下流側基体62aの両方は、円柱状に形成されている。このために、本実施の形態においては、上流側基体61aの直径は、下流側基体62aの直径よりも小さくなるように形成されている。上流側基体61aは、下流側基体62aよりも小型に形成されている。上流側触媒61の上流側容器61bは、下流側触媒62の下流側容器62bに、直接的に接続されている。上流側容器61bは、配管を介さずに下流側容器62bに接続されている。すなわち、上流側容器61bは、下流側容器62bに接合されている。上流側容器61bは、下流側容器62bの周方向の表面から突出するように配置されている。上流側基体61aは、流出する排気が下流側基体62aの周方向の外面に向かうように配置されている。上流側基体61aから流出する排気は、下流側基体62aの周方向の表面に衝突する。更に、本実施の形態において、上流側基体61aは、軸線61cが下流側基体62aの軸線62cに対して垂直にならずに傾斜するように配置されている。上流側基体61aは、流出する排気が下流側基体62aの出口側の端部に向かうように配置されている。下流側基体62aの上流側には、複数の方向から進入する排気が衝突して混合されるように空間65が形成されている。下流側触媒62には、パティキュレートフィルタ14が接続されている。本実施の形態におけるパティキュレートフィルタ14は、内部に排気の通路が形成されている基体14aと、基体14aを収容する容器14bと含む。図22を参照して、下流側触媒62と、パティキュレートフィルタ14との間には隔離板63が配置されている。隔離板63は、下流側基体62aと下流側容器62bとの隙間からパティキュレートフィルタ14に排気が流入することを防止する。下流側容器62bに流入する排気は、全てが下流側基体62aの内部の通路を流通するように形成されている。パティキュレートフィルタ14の基体14aの排気が流入する側の端面の前側には、排気を混合するための空間67が形成されている。本実施の形態においては、下流側触媒62の温度を検出する温度センサ23は空間67に配置されている。機関本体1から排出された排気は、矢印91に示すように、排気管12を通って排気浄化触媒13に流入する。炭化水素供給弁15から燃料が噴射されて、排気に炭化水素が供給される。炭化水素を含む排気は、上流側触媒61に流入する。排気は、空間66において拡散し、上流側基体61aに流入する。上流側基体61aにおいては、炭化水素が部分酸化される。部分酸化された炭化水素は、排気と共に上流側基体61aから流出する。上流側基体61aから流出した排気は、下流側容器62bの内部に流入する。本実施の形態における排気浄化触媒13では、上流側触媒61から流出した排気は、下流側容器62bの内部において分割される。分割された排気は、複数の方向に向かって流れる。本実施の形態においては、上流側基体61aから流出した排気は、下流側基体62aの周方向の表面に衝突する。この結果、矢印93,94に示されるように、下流側基体62aの周方向の表面に沿って、複数の方向に排気の流れが分割される。さらに、下流側基体62aの表面に衝突した排気の一部は、矢印92に示すように、空間65に向かって進行する。分割された排気は、矢印93,94に示すように、下流側基体62aの表面に沿って進行した後に向きを変えて空間65に向かう。下流側基体62aの入口側の端面の上流側に形成された空間65においては、複数の方向に分割された排気が再び合流する。空間65において合流した排気は、矢印95に示すように、下流側触媒62の下流側基体62aの内部を流通する。下流側基体62aの内部では、還元性中間体が形成され、更に、活性NOXと反応してNOXが浄化される。下流側触媒62から流出した排気は、矢印96に示すように、パティキュレートフィルタ14を流通する。パティキュレートフィルタ14においては、粒子状物質が捕集される。本実施の形態における排気浄化触媒13は、上流側容器61bが下流側容器62bに対して、配管を介さずに直接的に接続されている。このために、排気浄化触媒13を小型にすることができる。または、予め定められた体積の排気浄化装置を形成する場合には、上流側触媒61および下流側触媒62の容量を大きくすることができる。それぞれの基体の容量を大きくすることにより、NOX浄化率を向上させることができる。また、上流側触媒61と下流側触媒62とが流路断面積の小さくなる配管を介して接続されていないために、背圧の上昇を抑制することができる。本実施の形態における上流側容器61bは、下流側容器62bの周方向の表面に突出するように形成されている。上流側触媒61から流出した排気は、下流側触媒の下流側基体62aの周方向の表面に衝突して、複数の方向に分割される。本実施の形態の排気浄化装置は、下流側触媒62の下流側容器62bの内部において、複数の方向に向かって分割され、下流側基体62aと下流側容器62bとの間の流路を流通した後に合流する。合流した排気は、下流側基体62aに流入する。一旦排気を分割した後に、空間65において合流するときに、複数の方向から流入する排気が互いに衝突して十分に混合および攪拌が行われる。すなわち排気のミキシングを行なうことができて、排気に含まれる炭化水素の濃度の偏りを低減することができる。下流側基体に流入する排気の炭化水素の濃度の均一性を向上させることができる。さらに、排気を分割した後に、空間65にて再び合流させるために、排気が通る流路を長くすることができる。排気が流路を移動中に混合され、炭化水素の濃度の均一性を向上させることができる。この結果、下流側基体62aに流入する排気の炭化水素の濃度の偏りによるNOX浄化率の悪化を抑制することができる。また、本実施の形態においては、NOXの還元を行う下流側触媒62の上流側には上流側触媒61が配置されている。排気管12を流通する排気に対して燃料を噴射することにより、排気には炭化水素が含まれる。排気管12の内部を排気が流通するときには、排気の速度分布が生じている。このために、排気管12の内部においては炭化水素の濃度に偏りが生じ易い。ところが、排気が上流側基体61aの内部の通路を流通することにより、速度分布の均一化を図ることができる。たとえば、排気管の内部においては断面の中央において速度が大きく壁面に向かうにつれて速度が小さくなる。ところが、上流側基体61aの内部の通路は細いために、排気が上流側基体61aを通過するときに径方向の速度のばらつきが小さくなる。このために、下流側触媒62に供給する排気に含まれる炭化水素の濃度の偏りを小さくすることができる。また、本実施の形態における排気浄化触媒13は、上流側基体61aから流出する排気が、配管を通らずに下流側容器62bの内部に放出されている。このために、配管を通ることにより生じる炭化水素の濃度の偏りを小さくすることができる。さらに、本実施の形態においては、上流側触媒61にて炭化水素の部分酸化を行なっている。排気に含まれる炭化水素が改質されることにより、排気の粘性が小さくなり、混合が容易になる。本実施の形態においては、下流側容器62bの内部において、粘性が小さくなった排気を混合および攪拌するために、効率よく炭化水素の濃度の偏りを低減することができる。炭化水素の濃度が均一化された排気を下流側基体62aに供給することができる。このように、本実施の形態における排気浄化装置は、排気を分散する部材または排気を攪拌する部材を配置しなくても、下流側基体62aに流入する排気に含まれる炭化水素の濃度の均一化を図ることができる。たとえば、第1のNOX浄化方法においては、上流側触媒61を配置せずに下流側触媒62にて炭化水素を改質して、NOXを浄化することも可能である。すなわち、貴金属の触媒粒子および塩基性層が形成された単一の触媒にてNOXを浄化することも可能である。この場合には、単一の触媒の内部において、炭化水素を部分酸化してラジカルを生成することができる。ところが、排気管を流れてきた排気が単一の触媒に流入する場合には、排気に含まれる炭化水素の濃度には偏りが生じている場合が有り、このために単一の触媒のNOXの浄化率が低下する場合がある。これに対して本実施の形態の排気浄化装置においては、NOXを還元する下流側触媒に加えて、酸化機能を有する上流側触媒を配置することにより、改質された炭化水素を効果的に下流側触媒に供給できるとともに、改質された炭化水素の濃度の偏りを抑制することができる。本実施の形態の排気浄化装置は、下流側基体の全ての流路に均一な濃度の炭化水素を供給することができる。この結果、NOX浄化率の向上を図ることができる。図22を参照して、本実施の形態において、上流側基体61aは、軸線61cが下流側基体62aの軸線62cに対して垂直にならずに傾斜している。上流側基体61aから流出する排気は、下流側基体62aの出口側の端部に向かっている。この構成を採用することにより、上流側基体61aから流出した排気を下流側基体62aの入口側と反対側に向かって供給することができる。上流側基体61aから流出した排気が下流側基体62aに流入するまでの経路を長くすることができる。この結果、排気の攪拌を促進することができて、排気の炭化水素の濃度の均一化を促進することができる。ところで、排気の流路を長くした場合には、排気通路の壁面に燃料が付着するという問題が生じる。炭化水素供給弁から供給された炭化水素が機関排気通路の壁面に付着することにより、炭化水素の濃度のピークになまりが生じる。たとえば、炭化水素の濃度の最大値が小さくなる。上流側触媒および下流側触媒に流入する炭化水素の濃度は、所望の濃度範囲にて制御することが好ましい。しかしながら、炭化水素が壁面に付着することにより、炭化水素の濃度の最大値が小さくなって、所望の炭化水素の濃度範囲を逸脱する場合が生じ得る。この結果、NOXの浄化率が低下する場合がある。本実施の形態の排気浄化装置においては、下流側基体62aと下流側容器62bとの間に排気の通路としての隙間部69が形成されている。本実施の形態においては、下流側基体62aの周方向の外面と下流側容器62bの内面との間の空間により排気の流路が形成されている。通常の運転期間中には、下流側基体62aが発熱する。このために、排気の温度低下を抑制することができて、排気の流路を長くしても下流側基体62aの表面や下流側容器62bの内面に炭化水素が付着することを抑制できる。特に、本実施の形態の第1のNOX浄化方法においては、炭化水素を供給する間隔が短いために、通常運転の期間中には、排気の温度よりも下流側基体62aの温度の方が高くなる。このために、排気を下流側基体62aの周方向の表面に衝突させても、高温の部分に排気が衝突するために、炭化水素の付着を抑制することができる。この結果、炭化水素の濃度のピークを所望の大きさに維持することができて、効率良くNOXを浄化することができる。また、本実施の形態における排気浄化装置は、上流側基体61aの排気が流入する端面の面積が、下流側基体62aの排気が流入する端面の面積よりも小さく形成されている。このように、上流側基体61aの入口側の端面の面積を小さくすることにより、上流側基体61aに流入する排気に含まれる炭化水素の濃度の偏りを抑制することができる。上流側基体61aの入口側の端面の面積が大きいと、炭化水素が上流側基体61aの径方向に十分に拡散せずに、排気に含まれる炭化水素の濃度に偏りが生じてしまう。上流側触媒61において、上流側基体61aの入口側の端面の面積を小さくすることにより、上流側基体61aに流入する排気の炭化水素の濃度の偏りを小さくすることができる。更に、本実施の形態の第1のNOX浄化方法においては、排気に供給される炭化水素を、単純に気化させるだけではなく、上流側触媒61において改質する必要がある。上流側触媒61において効率よく炭化水素を部分酸化させるためには、例えば、上流側触媒61に流入する炭化水素の濃度を高くすることが好ましい。この場合には、上流側の触媒の流路断面積を小さくすることが好ましい。ところが、排気浄化触媒が貴金属の触媒粒子と塩基性層とを有する単一の触媒から構成されている場合には、基体の流路断面積を小さくしてしまうと、基体を長くする必要がある。この結果、背圧が上昇したり、温度損失が大きくなったりする。本実施の形態のように、上流側に炭化水素を部分酸化させるために必要な容量の上流側触媒を配置することにより、流路断面積の小さな部分を短くすることができて、背圧の上昇や温度損失を抑制しながら、効率良くNOXを浄化することができる。上記の排気浄化装置は、上流側触媒から流出した排気が、下流側触媒の下流側基体の周方向の表面に衝突するように形成されているが、この形態に限られず、排気浄化装置は、上流側触媒から流出した排気が下流側容器の内部において複数の方向に向かって分割され、下流側基体と下流側容器との間の流路を流通した後に合流するように形成されていれば構わない。図24に、本実施の形態における他の排気浄化装置の概略断面図を示す。他の排気浄化装置は、NOXを浄化するための排気浄化触媒13を備える。排気浄化触媒13は、上流側触媒61と下流側触媒62とを含む。他の排気浄化装置の排気浄化触媒13は、上流側基体61aの軸方向と下流側基体61bの軸方向とが互いにほぼ平行になるように形成されている。上流側触媒61は、排気管12に接続されている。上流側容器61bは、配管を介さずに下流側容器62bに直接的に接続されており、他の排気浄化装置においても小型化を図ることができる。下流側触媒62の下流側基体62aは、入口側の端面が上流側基体61aに向かう側と反対側を向くように配置されている。下流側基体62aの出口には、排気管64が接続されている。排気管64は、下流側基体62aの出口側の端面を覆うように形成されている。下流側基体62aから流出する全ての排気は、排気管64に流入する。排気浄化触媒13は、上流側基体61aの出口側の端面が排気管12と対向するように形成されている。下流側基体62aと、下流側容器62bとの間には隙間部69が形成されている。隙間部69は、排気が流通する流路として機能する。本実施の形態の他の排気浄化装置において、上流側触媒61から流出した排気は、排気管64の外面に衝突する。排気は、矢印93,94に示すように、複数の方向に分割される。排気は、下流側基体62aと下流側容器62bとの間の流路を通って空間65に流入する。空間65では、複数の方向に分割された排気が再び合流する。排気は、矢印96に示すように、下流側基体62aを通って排気管64に排出される。他の排気浄化装置においても、排気を分割した後に再び合流させることにより排気の混合および攪拌を行うことができる。また、排気の経路を長くすることができる。このために、炭化水素の濃度を均一化した排気を下流側基体62aに供給することができる。他の排気浄化装置においては、上流側基体61aから流出した排気が排気管64の外面に衝突している。通常運転の期間中には、下流側触媒62が発熱するために下流側基体62aから流出する排気も高温になる。このために、下流側基体62aに接続されている排気管64の温度が上昇し、排気管64の外面に炭化水素が付着することを抑制することができる。このように、本実施の形態の他の排気浄化装置においても、NOX浄化率の向上を図ることができる。本実施の形態における上流側触媒は、炭化水素を部分酸化するために、いわゆる三元触媒の構成を有しているが、この形態に限られず、上流側触媒は炭化水素を酸化する機能を有していれば構わない。たとえば、上流側触媒は、本実施の形態における下流側触媒と同様の構成を有していても構わない。すなわち、上流側触媒は、貴金属の触媒粒子に加えて触媒粒子の周りに形成された塩基性層を有していても構わない。この場合には、上流側触媒において還元性中間体を生成することができる。すなわち、上流側触媒に流入する排気の炭化水素の濃度が低いときには、NOXを活性化して活性NOXを生成する。生成された活性NOXは、塩基性層の表面上に保持される。排気の炭化水素の濃度が高くなると炭化水素を部分酸化して炭化水素のラジカルを生成する。活性NOXと部分酸化された炭化水素とが反応して還元性中間体が生成される。上流側触媒においても生成された還元性中間体によりNOXを還元して浄化することができる。または、上流側触媒において生成された還元性中間体を下流側触媒に供給することができる。上流側触媒を本実施の形態における下流側触媒と同様の構成にする場合においても、本実施の形態における第2のNOX浄化方法を行なうことができる。すなわち、炭化水素供給弁からの燃料の供給間隔を長くすることにより、上流側触媒はNOX吸蔵触媒として機能する。上流側触媒および下流側触媒をNOX吸蔵触媒として機能させることにより、第2のNOX浄化制御を行う場合に容量を大きくすることができる。本実施の形態における上流側触媒の上流側基体および下流側触媒の下流側基体は、円柱状に形成されているが、この形態に限られず、任意の形状を採用することができる。本実施の形態においては、機関排気通路に炭化水素供給弁を配置し、炭化水素供給弁から炭化水素を供給することにより、排気浄化触媒に炭化水素を供給しているが、この形態に限られず、任意の装置や制御により排気浄化触媒に炭化水素を供給することができる。上記の実施の形態は、適宜組み合わせることができる。上述のそれぞれの図において、同一または相等する部分には同一の符号を付している。なお、上記の実施の形態は例示であり発明を限定するものではない。また、実施の形態においては、請求の範囲に示される変更が含まれている。"