第1処理チャンバの第1処理容積内を第1動作圧力に維持するための第1真空ポンプを有する第1処理チャンバであって、第1処理容積は、第1処理容積と第1真空ポンプの低圧側との間に配置された第1ゲートバルブによって選択的に分離可能である第1処理チャンバと、第2処理チャンバの第2処理容積内を第2動作圧力に維持するための第2真空ポンプを有する第2処理チャンバであって、第2処理容積は、第2処理容積と第2真空ポンプの低圧側との間に配置された第2ゲートバルブによって選択的に分離可能である第2処理チャンバと、第1及び第2ゲートバルブを開く前に、各処理容積内の圧力を臨界圧力レベル未満に低減させるための第1及び第2処理容積に結合された共用真空ポンプであって、共有真空ポンプは、第1処理チャンバ、第2処理チャンバ、第1真空ポンプ、又は第2真空ポンプのいずれからも選択的に分離可能である共用真空ポンプを含む基板処理用ツインチャンバ処理システム。1以上の処理ガスを第1及び第2処理チャンバに供給するために、第1処理チャンバ及び第2処理チャンバの各々に結合された共用ガスパネルを更に含む請求項1記載のツインチャンバ処理システム。処理ガスを共用ガスパネルから第1処理チャンバの第1処理容積へ供給するために、又は処理ガスを共用ガスパネルから共用真空ポンプに結合された前方ラインコンジット内へ迂回させるために、共用ガスパネルと第1処理チャンバとの間に配置された第1三方弁と、処理ガスを共用ガスパネルから第2処理チャンバの第2処理容積へ供給するために、又は処理ガスを共用ガスパネルから共用真空ポンプに結合された前方ラインコンジット内へ迂回させるために、共用ガスパネルと第2処理チャンバとの間に配置された第2三方弁を更に含む請求項1~2のいずれか1項記載のツインチャンバ処理システム。第1処理チャンバ内で処理の終点を検出するための第1終点検出器と、第2処理チャンバ内で処理の終点を検出するための第2終点検出器を更に含む請求項3記載のツインチャンバ処理システム。第1処理チャンバ内で処理が終点に到達したときに、第1終点検出器から第1信号を受信して、第2処理チャンバ内で稼働している処理が処理終点に到達していなかったならば、処理ガスを前方ラインコンジット内に迂回させるように第1三方弁に指示し、及び第2処理チャンバ内で処理が終点に到達したときに、第2終点検出器から第2信号を受信して、第1処理チャンバ内で稼働している処理が処理終点に到達していなかったならば、処理ガスを前方ラインコンジット内に迂回させるように第2三方弁に指示する工程、第1処理チャンバ内で処理が終点に到達したときに、第1終点検出器から第1信号を受信して、第2処理チャンバ内で稼働している処理が処理終点に到達していなかったならば、処理ガスを共用ガスパネルから第1処理容積へ流し続けながら、第1処理チャンバへRF電力を供給している第1RF電源をオフにし、及び第2処理チャンバ内で処理が終点に到達したときに、第2終点検出器から第2信号を受信して、第1処理チャンバ内で稼働している処理が処理終点に到達していなかったならば、処理ガスを共用ガスパネルから第2処理容積へ流し続けながら、第2処理チャンバへRF電力を供給している第2RF電源をオフにする工程、第1及び第2チャンバ内で稼働している処理がそれぞれ処理終点に到達したときに、第1終点検出器から第1信号を、第2終点検出器から第2信号を受信して、第1又は第2信号のいずれかがコントローラによって受信されたときに処理を止めるように両方の処理チャンバに指示する工程、又は第1及び第2チャンバ内で稼働している処理がそれぞれ処理終点に到達したときに、第1終点検出器から第1信号を、第2終点検出器から第2信号を受信して、第1又は第2信号の両方がコントローラによって受信されたときに処理を止めるように両方の処理チャンバに指示する工程のうちの少なくとも1つを実行するように構成されたコントローラを更に含む請求項4記載のツインチャンバ処理システム。第1真空ポンプを迂回させながら第1処理容積を共用真空ポンプに選択的に結合させるために、第1処理容積と共用真空ポンプの間に配置された第1粗動バルブと、第2真空ポンプを迂回させながら第2処理容積を共用真空ポンプに選択的に結合させるために、第2処理容積と共用真空ポンプの間に配置された第2粗動バルブを更に含む請求項1~2のいずれか1項記載のツインチャンバ処理システム。第1真空ポンプを共用真空ポンプに選択的に結合するために、第1真空ポンプの高圧側と共用真空ポンプの間に配置された第1分離バルブと、第2真空ポンプを共用真空ポンプに選択的に結合するために、第2真空ポンプ容積の高圧側と共用真空ポンプの間に配置された第2分離バルブを更に含む請求項6記載のツインチャンバ処理システム。ツインチャンバ処理システムの第1処理チャンバの第1処理容積の圧力を、第1処理容積及びツインチャンバ処理システムの第2処理チャンバの第2処理容積に結合された共用真空ポンプを用いて、臨界圧力レベル未満に低減させる工程であって、第2処理容積は第1処理容積及び共用真空ポンプから分離している工程と、第1処理容積を共用真空ポンプから分離した後に、第1処理容積に結合された第1真空ポンプを用いて、第1処理容積内の圧力を臨界圧力レベル未満から第1動作圧力まで低減させる工程と、臨界圧力レベル未満の圧力を有する第1処理容積を共用真空ポンプから分離した後に、第2処理容積を共用真空ポンプに開放する工程と、共用真空ポンプを用いて、第2処理チャンバの第2処理容積を臨界圧力未満に低減させる工程と、第2処理容積を共用真空ポンプから分離した後に、第2処理容積に結合された第2真空ポンプを用いて、第2処理容積内の圧力を臨界圧力レベル未満から第2動作圧力まで低減させる工程を含む、ツインチャンバ処理システムの各チャンバ内の圧力を所望の動作圧力まで低減する方法。第1真空ポンプの低圧側と第1処理チャンバの第1処理容積の間に配置された第1ゲートバルブを閉じることによって、第1動作圧力を有する第1処理容積を第1真空ポンプの低圧側から分離する工程と、第1ゲートバルブが閉じられ、第1真空ポンプがアイドリング状態となった後で、第1真空ポンプの高圧側と共用真空ポンプの間に配置された第1分離バルブを閉じることによって、第1真空ポンプの高圧側を共用真空ポンプから分離する工程と、第1及び第2処理容積に結合された共用ガスパネルからパージガスを供給することによって、第1処理容積内の圧力を第1動作圧力から増加させる工程と、第2真空ポンプの低圧側と第1処理チャンバの第2処理容積の間に配置された第2ゲートバルブを閉じることによって、第2動作圧力を有する第2処理容積を第2真空ポンプの低圧側から分離する工程と、第2ゲートバルブが閉じられ、第2真空ポンプがアイドリング状態となった後で、第2真空ポンプの高圧側と共用真空ポンプの間に配置された第2分離バルブを閉じることによって、第2真空ポンプの高圧側を共用真空ポンプから分離する工程と、共用ガスパネルから第2処理容積へパージガスを供給することによって、第1処理容積内の圧力を増加させると同時に、第2処理容積内の圧力を増加させる工程を更に含む請求項8記載の方法。第1処理容積内の圧力を第1動作圧力から増加させる工程は、共用ガスパネルと第1処理容積の間に配置された第1パージバルブを開放する工程と、第1パージバルブを介してパージガスを第1処理容積へ供給することによって、第1処理容積内の圧力を第1動作圧力から増加させる工程を更に含み、第2処理容積内の圧力を第2動作圧力から増加させる工程は、共用ガスパネルと第2処理容積の間に配置された第2パージバルブを開放する工程と、第2パージバルブを介してパージガスを第2処理容積へ供給することによって、第2処理容積内の圧力を第2動作圧力から増加させる工程を更に含む請求項9記載の方法。パージガスが第1処理容積へ供給された後に、第1処理容積を大気に通気する工程と、パージガスが第2処理容積へ供給された後に、第2処理容積を大気に通気する工程を更に含む請求項10記載の方法。第2真空ポンプの低圧側と第1処理チャンバの第2処理容積の間に配置された第2ゲートバルブを閉じることによって、第2動作圧力を有する第2処理容積を第2真空ポンプの低圧側から分離する工程と、第2ゲートバルブが閉じられ、第2真空ポンプがアイドリング状態となった後に、第2真空ポンプの高圧側と共用真空ポンプの間に配置された第2分離バルブを閉じることによって、第2真空ポンプの高圧側を共用真空ポンプから分離する工程と、第1処理容積と共用真空ポンプの間に配置された第1粗動バルブを開放して、パージガスを第1処理容積から取り除くことによって、第1処理容積内の圧力を臨界圧力レベル未満に低減される工程を更に含む請求項9記載の方法。パージガスを取り除くことによって第1処理容積内の圧力を臨界圧力レベル未満に低減させると同時に、パージガスを共用ガスパネルから第2処理容積へ供給することによって、第2処理容積内の圧力を第2動作圧力から増加させる工程と、パージガスを取り除くことによって第2処理容積内の圧力を臨界圧力レベル未満に低減させながら、第2反復時にパージガスを第1処理容積へ供給することによって、第1処理容積内の圧力を臨界圧力未満から増加させる工程を更に含む請求項12記載の方法。パージガスを第1処理容積から除去した後に、第1粗動バルブを閉じ、第1粗動バルブを閉じた後に、第2処理容積と共用真空ポンプの間に配置された第2粗動バルブを開放することによって、パージガスを第2処理容積から除去することによって、第2処理容積内の圧力を臨界圧力レベル未満に低減させる工程と、パージガスを第2処理容積から除去した後に、第2粗動バルブを閉じ、第1処理容積と共用真空ポンプの間に配置された第1粗動バルブを開放することによって、第2反復時にパージガスを第1処理容積から除去することによって、第1処理容積内の圧力を臨界圧力レベル未満に低減させる工程を更に含む請求項13記載の方法。第2反復時にパージガスを除去することによって、第1処理容積内の圧力を臨界圧力レベル未満に低減させると同時に、第2反復時にパージガスを第2処理容積に供給することによって、第2処理容積内の圧力を臨界圧力レベル未満から増加させる工程を更に含む請求項14記載の方法。