絶縁性基板上に複数の金属材料層から構成される配線を備えたプリント配線板であって、前記配線は、第一金属層と第二金属層と第三金属層とから成り、第一金属層は、無電解メッキ層であり、第二金属層は、電解メッキ層であり、第三金属層は、第一金属層と第二金属層で形成された配線を被覆するように形成されている箇所を含むことを特徴とするプリント配線板。第三金属層がSn、Ag、Au、Cuから選ばれた少なくとも1種を含むメッキ金属皮膜であることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板。請求項1または2に記載のプリント配線板の製造方法であって、少なくとも、絶縁性基板の表面に触媒層を付与したのち無電解メッキ層を形成する第一金属層形成工程と、前記第一金属層形成工程で形成された金属層の表面に、作製する配線パターンのネガパターンをメッキレジストで形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターン形成工程で得たレジストパターン付の絶縁性基板に電解メッキを行う第二金属層形成工程と、前記第二金属層形成工程で電解メッキを行った前記レジストパターン付の絶縁性基板からレジストパターンを剥離するレジスト剥離工程と、前記レジスト剥離工程で得た絶縁性基板に形成されている金属層をエッチング除去することによりレジストパターンが形成されていた部分の下地にある無電解メッキ層を除去する全面エッチング工程と、前記全面エッチング工程で得た絶縁性基板に形成されている配線パターンを、前記配線パターンを構成する金属のエッチング液では腐食されない第三金属層で被覆する配線パターン被覆工程と、絶縁性基板を構成する樹脂をエッチング処理することにより、前記配線パターンが無い絶縁性基板の表面に残留している触媒層を除去する残留触媒除去工程と、から成ることを特徴とするプリント配線板の製造方法。本発明は、上記の問題に鑑み、配線パターン間にある第一金属層3のエッチング除去の際に発生する第一金属層3のサイドエッチングを防止し、第二金属層のエッチングによる細りに起因する、電気特性の低下およびイオン残渣による信頼性低下を抑えることを可能としたプリント配線板およびその製造方法を提供することを課題とする。上記の課題を解決する手段として、請求項1に記載の発明は、絶縁性基板上に複数の金属材料層から構成される配線を備えたプリント配線板であって、前記配線は、第一金属層と第二金属層と第三金属層とから成り、第一金属層は、無電解メッキ層であり、第二金属層は、電解メッキ層であり、第三金属層は、第一金属層と第二金属層で形成された配線を被覆するように形成されている箇所を含むことを特徴とするプリント配線板である。また、請求項2に記載の発明は、第三金属層がSn、Ag、Au、Cuから選ばれた少なくとも1種を含むメッキ金属皮膜であることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板である。また、請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載のプリント配線板の製造方法であって、少なくとも、絶縁性基板の表面に触媒層を付与したのち無電解メッキ層を形成する第一金属層形成工程と、前記第一金属層形成工程で形成された金属層の表面に、作製する配線パターンのネガパターンをメッキレジストで形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターン形成工程で得たレジストパターン付の絶縁性基板に電解メッキを行う第二金属層形成工程と、前記第二金属層形成工程で電解メッキを行った前記レジストパターン付の絶縁性基板からレジストパターンを剥離するレジスト剥離工程と、前記レジスト剥離工程で得た絶縁性基板に形成されている金属層をエッチング除去することによりレジストパターンが形成されていた部分の下地にある無電解メッキ層を除去する全面エッチング工程と、前記全面エッチング工程で得た絶縁性基板に形成されている配線パターンを、前記配線パターンを構成する金属のエッチング液では腐食されない第三金属層で被覆する配線パターン被覆工程と、絶縁性基板を構成する樹脂をエッチング処理することにより、前記配線パターンが無い絶縁性基板の表面に残留している触媒層を除去する残留触媒除去工程と、から成ることを特徴とするプリント配線板の製造方法である。本発明に関するプリント配線板およびプリント配線板の製造方法により、第一及び第二金属層の表面および側面に第三金属層を形成することによりサイドエッチングを防止し、配線パターン間の絶縁性基板表面に残留している触媒を良好に除去できるようになる為、配線パターンの寸法精度を向上すると同時に、電気特性の低下および信頼性低下を抑えたプリント配線板を提供することが可能になる。本発明に関するプリント配線板の製造工程を図面に基づいて説明する。図1は、本発明に関するプリント配線板の製造工程を説明した模式断面図である。また、図2は、配線の断面形状を説明する図であり、aは本発明に関するプリント配線板の製造方法で得られる配線の断面を示す断面図、bは従来の製造方法で得られる配線の断面を示す断面図である。本発明に用いる絶縁性基板1としては、絶縁性の板であれば特に限定するものではない。例えば、エポキシ樹脂系、フェノール樹脂系、ポリイミド樹脂系、不飽和ポリエステル樹脂系、ポリフェニレンエーテル樹脂系等の熱硬化性樹脂がある。また、これらの熱硬化性樹脂に無機充填材等を配合した板や、ガラス等の無機質繊維やポリエステル、ポリアミド、木綿等の有機質繊維のクロス、ペーパー等の基材を、上記熱硬化性樹脂等で接着した板や、セラミックの板等が挙げられる。なお、この絶縁性基板1の内部には、導体配線や、スルホール等を有していても良い。メッキ触媒2は、銅やニッケル等の無電解メッキの触媒として働くものであれば、特に限定するものではない。メッキ触媒2の周囲に金属を析出することにより絶縁部に金属皮膜を形成するものや、絶縁部に沈着することにより絶縁部に導電性を与え、その導電性を用いて絶縁部に金属メッキ皮膜を形成する、一般にダイレクトプレーティングと呼ばれる方法に用いられる導電性を有するものが挙げられる。例えばパラジウムを含有するものや、パラジウム及びスズを含有するものや、カーボン、グラファイト等の炭素を含有するものや、銅の錯体を含有するものや、導電性ポリマーを含有するもの等が挙げられる。まず図1cのように、絶縁性基板1の表面全体に、薄い第一金属層3を形成する。例えば、第一金属層3の形成方法は、無電解メッキ、スパッタ法等が挙げられる。この第一金属層3としては、後の工程でのエッチングの容易性および導電性が優れる必要があるために銅が好ましい。次に図1dのように、第一金属層3の表面のうち、配線の形成を予定する部分を除く部分にレジストパターン4を形成した後、第一金属層3が露出する部分の表面に、図1eのように、第二金属層5を形成する。例えば、第二金属層5の形成方法は、電解メッキ、無電界メッキ等が挙げられる。なお、このとき形成する第二金属層5の厚みは、レジストパターン4の厚みより薄くすることが望ましい。その理由は、図1fのようにレジストパターン4を除去する際に、第二金属層5の厚みよりレジストパターン4の厚みが薄いと、金属層がレジストパターン4の上にまで析出し、極端な場合は、レジストパターン4が析出した金属層に埋もれてしまい、レジストを剥離する工程で、レジストパターン4が除去され難くなるためである。本発明に用いるレジストパターン4としては、第二金属層5を形成するためのメッキ液に耐え、このメッキを行ったときに、その表面に第二金属層5が形成されにくいものであれば特に限定するものではない。所謂、市販されているメッキレジストと呼ばれるものを使用すれば問題ない。例えば、液状の感光性樹脂又はシート状の感光性フィルムを第一金属層3の表面全体に形成した後、配線形状に露光し、次に配線の形成を予定する部分の感光性樹脂や感光性フィルムを除去して形成したもの等が挙げられる。次に図1fのように、レジストパターン4を除去する。例えば、レジストパターン4を除去する剥離液は、アルカリ又は溶剤型の剥離液等が挙げられる。使用したレジストパターン4に適合した剥離液を使用すれば良い。次に図1gのように、第一金属層3の不要部をエッチング除去する。例えば、第一金属層3の不要部を除去するエッチング液としてアルカリエッチング液や酸系のエッチング液塩化第二銅系、塩化第二鉄系などが挙げられる。なお、第一金属層3をエッチング除去した際、第一金属層3にはサイドエッチングが発生し、第二金属層5の表面および側面もエッチングされるために、配線が細くなる配線細り、と称する。。次に図1hのように、第一金属層3と第二金属層5の表面および側面に第三金属層6を形成する。この第三金属層6は、導体層を構成するので第三金属層6の表面および側面にメッキ触媒が残留する危険性を下げる必要がある。そのために、第三金属層6は、触媒を使用せずに、置換メッキによってメッキ金属皮膜を形成できるSn、Ag、Au、Cuから選ばれた少なくとも1種を含むメッキ金属皮膜であることが好ましい。このようにして、サイドエッチングによる配線細りの後に、第三金属層6を第一金属層3と第二金属層5の表面および側面に形成して、サイドエッチングによる配線細りおよびイオン残渣による信頼性低下を抑えたプリント配線板を得ることが可能になる。次に図2aに示すように、絶縁性基板1の表面に残留するメッキ触媒2を除去する。このように絶縁性基板1の表面に残留するメッキ触媒2を除去すると、配線間の絶縁性が向上するため、特に信頼性が優れたプリント配線板となり好ましい。この絶縁性基板1の表面に残留するメッキ触媒2を除去する方法としては、メッキ触媒2が吸着した絶縁性基板を構成する樹脂を溶解可能な溶液に浸漬して、樹脂と一緒にメッキ触媒2を除去する方法等が挙げられる。例えば、スプレーや浸漬をして、過マンガン酸カリウム溶液又は過マンガン酸ナトリウム溶液を、絶縁性基板1に接触させる方法が挙げられる。この過マンガン酸カリウム溶液又は過マンガン酸ナトリウム溶液は、プリント配線板の製造工程で使用するスルホール穴あけ後のスミア除去工程で一般的に広く使用されているものを使用することができる。また、メッキ触媒2が吸着している樹脂表面を物理的に削り取る方法であっても良い。例えば、サンドブラストやドライアイスの微粒子を高速ガスで吹き付ける方法であっても良い。図1gの後に図1hのように、第一金属層3と第二金属層5の表面および側面に第三金属層6を形成せずに、上記の絶縁性基板1の表面に残留するメッキ触媒2を除去した後に、図1hのように、第一金属層3と第二金属層5の表面および側面に第三金属層6を形成してもよい。絶縁性基板として、プリント配線板用の資材として市販されている銅貼り積層板ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸固化させたプリプレグの表裏に銅箔を積層し熱プレスで積層した材料を使用した。銅貼り積層板の表面には銅箔が貼り付けてあるので、この銅箔をエッチング除去したものを絶縁性基板として使用した。次に図1cのように、絶縁樹脂基板の表面に無電解銅メッキ工程にて無電解銅メッキ層を約1.0μmの厚さに形成した。次に図1dのように、無電解銅メッキ層の表面に25μm厚のドライフイルムレジストを被覆し、露光、現像により、ライン/スペースが10μm/10μmのメッキレジストパターンを形成した。次に図1eのように、硫酸銅浴を用いて電解銅メッキを施し、厚さが15μmのパターン化した電解銅メッキ層を形成して配線パターンを形成した。次に図1fのように、メッキレジストパターンを剥離し、その後、銅メッキ被膜表面の酸化物除去を目的に、ソフトエッチング処理として、過酸化水素/硫酸系エッチング液を用いてエッチングを行った。次に図1gのように、無電解銅メッキ層をエッチング除去するため、銅のアルカリエッチング液塩化第二銅エッチャントを用いてエッチング処理を行った。次に図1hのように、銅の配線パターンに1.0μmのスズ置換メッキを行った。次にプリント配線板の製造工程で使用する過マンガン酸デスミア工程を使用して無電解メッキの触媒を除去して配線パターンを形成した。<比較例>絶縁性基板として、プリント配線板用の資材として市販されている銅貼り積層板ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸固化させたプリプレグの表裏に銅箔を積層し熱プレスで積層した材料を使用した。銅貼り積層板の表面には銅箔が貼り付けてあるので、この銅箔をエッチング除去したものを絶縁性基板として使用した。次に図3cのように、エポキシ絶縁樹脂基板の表面に無電解銅メッキにて無電解銅メッキ層を1.0μmの厚さに形成した。次に図3dのように、無電解銅メッキ層の表面に25μm厚のドライフイルムレジストを被覆し、露光、現像により、ライン/スペースが10μm/10μmのメッキレジストパターンを形成した。次に図3eのように、硫酸銅浴を用いて電解銅メッキを施し、厚さが15μmの電解銅メッキ層を形成して配線パターンを形成した。次に図3fのように、メッキレジストを剥離し、その後、銅メッキ被膜表面の酸化物除去を目的に、ソフトエッチング処理として、過酸化水素/硫酸系エッチング液を用いてエッチングを行った。次に図3gのように、無電解銅メッキ層をエッチング除去するため、銅のアルカリエッチング液塩化第二銅エッチャントを用いてエッチング処理を行った。次にプリント配線板の製造工程で使用する過マンガン酸デスミア工程を使用して無電解メッキの触媒を除去して配線パターンを形成した。次に、実施例および比較例で得られた配線パターンの断面を確認した。比較例の配線パターンは、サイドエッチによる配線細り形状が発生しているのを観察できた。一方、実施例の配線パターンは、1.0μmのSnメッキ層がサイドエッチ防止できていることが確認できた。