"銅酸化物およびテルル成分を含む触媒の存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む、酸化オレフィンの製造方法。触媒がルテニウム酸化物を含む請求項1に記載の方法。触媒がアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む請求項1または2に記載の方法。触媒がハロゲン成分を含む請求項1または2に記載の方法。銅酸化物およびテルル成分が多孔性担体に担持されている請求項1に記載の方法。銅酸化物、テルル成分およびルテニウム酸化物が多孔性担体に担持されている請求項2に記載の方法。銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物およびアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分が多孔性担体に担持されている請求項3に記載の方法。銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物、アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分およびハロゲン成分が多孔性担体に担持されている請求項4に記載の方法。多孔性担体がAl2O3、SiO2、TiO2またはZrO2を含む請求項5~8のいずれかに記載の方法。多孔性担体がSiO2を含む請求項5~8のいずれかに記載の方法。触媒中のテルル/銅モル比が0.001/1~50/1である請求項1または2に記載の方法。触媒中のルテニウム/銅モル比が0.01/1~50/1である請求項2に記載の方法。触媒中のアルカリ金属またはアルカリ土類金属/銅モル比が0.001/1~50/1である請求項3に記載の方法。銅酸化物がCuOである請求項1または2に記載の方法。テルル成分がテルルおよび酸素原子を含む請求項1または2に記載の方法。ルテニウム酸化物がRuO2である請求項2に記載の方法。銅酸化物とテルル成分を含む、酸化オレフィン製造用の触媒。触媒がルテニウム酸化物を含む請求項17に記載の触媒。アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む、請求項17または18に記載の触媒。ハロゲン成分を含む、請求項17または18に記載の触媒。本発明は以下のものを提供する:1銅酸化物およびテルル成分を含む触媒の存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む、酸化オレフィンの製造方法。2触媒がルテニウム酸化物を含む1に記載の方法。3触媒がアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む1または2に記載の方法。4触媒がハロゲン成分を含む1または2に記載の方法。5銅酸化物およびテルル成分が多孔性担体に担持されている1に記載の方法。6銅酸化物、テルル成分およびルテニウム酸化物が多孔性担体に担持されている2に記載の方法。7銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物およびアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分が多孔性担体に担持されている3に記載の方法。8銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物、アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分およびハロゲン成分が多孔性担体に担持されている4に記載の方法。9多孔性担体がAl2O3、SiO2、TiO2またはZrO2を含む5から8のいずれか1に記載の方法。10多孔性担体がSiO2を含む5から8のいずれか1に記載の方法。11触媒中のテルル/銅モル比が0.001/1~50/1である1から10のいずれか1に記載の方法。12触媒中のルテニウム/銅モル比が0.01/1~50/1である2に記載の方法。13触媒中のアルカリ金属またはアルカリ土類金属/銅モル比が0.001/1~50/1である3に記載の方法。14銅酸化物がCuOである1から13のいずれか1に記載の方法。15テルル成分がテルルおよび酸素原子を含む1から14のいずれか1に記載の方法。16ルテニウム酸化物がRuO2である2に記載の方法。17アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分がアルカリ金属含有化合物である3に記載の方法。18アルカリ金属含有化合物が、ナトリウム含有化合物またはカリウム含有化合物である17に記載の方法。19銅酸化物とテルル成分の総量が、多孔性担体100重量部に対して0.01~80重量部である5に記載の方法。20銅イオンおよびテルル化合物またはテルルイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る5に記載の方法。21銅イオン、テルル化合物またはテルルイオンおよびルテニウムイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る6に記載の方法。22銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオンおよびアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る7に記載の方法。23銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンおよびハロゲンイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る8に記載の方法。24オレフィンがプロピレンであり、酸化オレフィンがプロピレンオキサイドである1から23のいずれか1に記載の方法。25オレフィンと酸素とを100~350°Cの温度で反応させることを含む1から24のいずれか1に記載の方法。26銅酸化物とテルル成分を含む、酸化オレフィン製造用の触媒。27触媒がルテニウム酸化物を含む26に記載の触媒。28アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む26または27に記載の触媒。29ハロゲン成分を含む26から28のいずれか1に記載の触媒。30銅酸化物がCuOである26から29のいずれか1に記載の触媒。31テルル成分がテルルおよび酸素原子を含む26から30のいずれか1に記載の触媒。32ルテニウム酸化物がRuO2である27から31のいずれか1に記載の触媒。33アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分がアルカリ金属含有化合物である28から32のいずれか1に記載の触媒。34アルカリ金属含有化合物が、ナトリウム含有化合物またはカリウム含有化合物である33に記載の触媒。35銅酸化物およびテルル成分が多孔性担体に担持されている26に記載の触媒。36銅酸化物、テルル成分およびルテニウム酸化物が、多孔性担体に担持されている27に記載の触媒。37銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物およびアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分が多孔性担体に担持されている28に記載の触媒。38銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物、アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分およびハロゲン成分が多孔性担体に担持されている29に記載の触媒。39多孔性担体がAl2O3、SiO2、TiO2またはZrO2を含む35から38のいずれか1に記載の触媒。40多孔性担体がSiO2を含む35から38のいずれか1に記載の触媒。41触媒中のテルル/銅モル比が0.001/1~50/1である26から40のいずれか1に記載の触媒。42触媒中のルテニウム/銅モル比が0.01/1~50/1である27から41のいずれか1に記載の触媒。43触媒中のアルカリ金属またはアルカリ土類金属/銅モル比が0.001/1~50/1である28から42のいずれか1に記載の方法。44銅イオンおよびテルル化合物またはテルルイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる35に記載の触媒。45銅イオン、テルル化合物またはテルルイオンおよびルテニウムイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる36に記載の触媒。46銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオンおよびアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる37に記載の触媒。47銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンおよびハロゲンイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる38に記載の方法。48酸化オレフィンがプロピレンオキサイドである26から47のいずれか1に記載の触媒。本発明の方法は、a銅酸化物およびbテルル成分を含む触媒存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む。触媒において、成分aおよびbは好ましくは担体に担持され、より好ましくは、多孔性担体に担持される。この触媒は、本発明の1つの態様である酸化オレフィンの製造に価値がある。担体は多孔性担体であってもよく、および非多孔性担体であってもよい。多孔性担体は成分aおよびbを担持することができる孔を有する。多孔性担体は、好ましくはAl2O3、SiO2、TiO2またはZrO2、より好ましくはSiO2を含む。SiO2を含む多孔性担体には、例えばメソ多孔性シリカが含まれる。このような多孔性担体は、ゼオライトも含んでいてもよい。非多孔性担体には、例えば、CABOSIL登録商標などのSiO2を含む非多孔性担体が含まれる。担体は粉末の形態にすることができ、あるいは必要に応じて所望の構造に成形することができる。触媒が担体としてSiO2を含む場合には、酸化オレフィンを良好な収率および良好な選択率で調製することができる。触媒は、1種以上のa銅酸化物を含んでもよい。a銅酸化物は、通常、銅と酸素から構成される。銅酸化物には、例えば、Cu2OおよびCuOが含まれる。銅酸化物は好ましくはCuOである。触媒は、1種以上のbテルル成分を含んでもよい。成分bは、テルル含有化合物またはテルルイオンであってもよい。テルル含有化合物には、例えば、TeO、TeO2、TeO3またはTe2O5などのテルル酸化物、およびCl、Br、I、F、OH、NO3またはCO32などのアニオンを有するテルル塩が含まれる。テルルイオンには、例えばTe2、Te4、Te6、Te2が含まれる。成分bは、好ましくはテルル酸化物であり、より好ましくはテルルおよび酸素原子を含むものであり、さらにより好ましくはTeO2である。触媒は、1種以上のcルテニウム酸化物を含んでもよい。成分cは、通常、ルテニウムと酸素とから構成される。ルテニウム酸化物には、例えば、Ru2O4およびRu2O5、Ru3O5、Ru3O6、RuO4およびRuO2が含まれる。成分cは好ましくはRuO2である。触媒は、1種以上のdアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含んでもよい。触媒において、成分dは上記多孔性担体、または成分aおよびbに担持されてもよい。成分dは、アルカリ金属含有化合物、アルカリ土類金属含有化合物、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンであってもよい。アルカリ金属含有化合物には、例えば、Na、K、RbおよびCsなどのアルカリ金属を含有する化合物が含まれる。アルカリ土類金属含有化合物には、例えば、Ca、Mg、SrおよびBaなどのアルカリ土類金属を含有する化合物が含まれる。アルカリ金属イオンには、例えば、Na、K、RbおよびCsが含まれる。アルカリ土類金属イオンは、例えば、Ca2、Mg2、Sr2およびBa2が含まれる。アルカリ金属成分はアルカリ金属酸化物であってもよい。アルカリ金属酸化物には、例えば、Na2O、Na2O2、K2O、K2O2、Rb2O、Rb2O2、Cs2OおよびCs2O2が含まれる。アルカリ土類金属成分は、アルカリ土類金属酸化物であってもよい。アルカリ土類金属酸化物には、例えば、CaO、CaO2、MgO、MgO2、SrO、SrO2、BaOおよびBaO2が含まれる。成分dは、好ましくはアルカリ金属含有化合物であり、より好ましくは、ナトリウム含有化合物またはカリウム含有化合物であり、さらにより好ましくはナトリウム含有化合物である。アルカリ金属含有化合物およびアルカリ土類金属含有化合物は、好ましくはアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩である。アルカリ金属塩は、アニオンと共に前記したようなアルカリ金属イオンを含む。アルカリ土類金属塩は、アニオンと共に前記したようなアルカリ土類金属イオンを含む。このような塩のアニオンには、例えば、Cl、Br、I、F、OH、NO3、SO42およびCO32が含まれる。このような塩は、好ましくはアルカリ金属ハロゲン化物のようなハロゲンを含むアルカリ金属塩、またはアルカリ土類金属ハロゲン化物のようなハロゲンを含むアルカリ土類金属含有塩であり、より好ましくはハロゲンを含むアルカリ金属塩であり、なおより好ましくはアルカリ金属塩化物である。触媒は、好ましくはCuOおよびTe成分を含み、より好ましくはCuO、Te成分およびRuO2、またはCuO、Te成分、RuO2およびアルカリ金属含有化合物を含み、さらにより好ましくは、CuO、Te成分、RuO2およびナトリウム含有化合物を含む。なぜならば、酸化オレフィンを製造するのにこのような組合せを採用することにより、酸化オレフィンの収率および選択率を改良できるからである。特に、触媒がd成分としてNaClを含む場合には、優れた酸化オレフィンの選択率を示すことができる。なお、触媒は、通常、銀成分を含まず、触媒は、銀金属または銀含有化合物を用いること無く調製できる。触媒中のテルル/銅モル比は、それらの原子に基づき、好ましくは0.001/1~50/1である。モル比がこのような範囲内に含まれる場合、酸化オレフィンの収率および選択率をさらに改善することができる。モル比の下限は、より好ましくは0.01/1であり、さらにより好ましくは0.05/1である。モル比の上限は、より好ましくは1/1、さらにより好ましくは0.5/1である。触媒中のルテニウム/銅モル比は、それらの原子に基づき、好ましくは0.01/1~~50/1である。モル比がこのような範囲内に含まれる場合、酸化オレフィンの収率および選択率をさらに改善することができる。モル比の下限は、より好ましくは0.1/1であり、さらにより好ましくは0.15/1であり、特に好ましくは0.2/1である。モル比の上限は、より好ましくは5/1、さらにより好ましくは2/1、および特に好ましくは1/1である。触媒中のd成分/銅モル比は、それらの原子に基づき、好ましくは0.001/1~50/1である。モル比がこのような範囲内に含まれる場合、酸化オレフィンの収率および選択率をさらに改善することができる。モル比の下限は、より好ましくは0.01/1であり、さらにより好ましくは0.1/1である。モル比の上限は、より好ましくは10/1、さらにより好ましくは5/1である。d成分のモル比は、d成分中に存在するアルカリ金属またはアルカリ土類金属およびd成分中に存在するアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンの総モル比を表す。触媒において、成分aおよびb、ならびに所望による成分cおよびdを多孔性担体に担持させる場合、これらの成分の総含量は、多孔性担体100重量部に対して好ましくは0.01~80重量部である。総含量がこのような範囲に入る場合には、酸化オレフィンの収率および選択率をさらに改善することができる。総含量の下限は、多孔性担体100重量部に対して、より好ましくは0.05重量部、さらにより好ましくは0.1重量部である。総含量の上限は、多孔性担体100重量部に対して、より好ましくは50重量部、さらにより好ましくは30重量部である。触媒は、成分a、b、cおよびdの他にeハロゲン成分を含んでもよい。成分eは、一般にハロゲン含有化合物である。ハロゲンには、例えば、塩素、フッ素、ヨウ素および臭素が含まれる。このようなハロゲン含有化合物には、例えば、CuClおよびCuCl2などのハロゲン化銅、TeCl2およびTeCl4などのハロゲン化テルル、RuCl3などのハロゲン化ルテニウム、およびCuOCl2、CuClO4、ClO2Cu3およびCu2O2などの銅オキシハロゲン化物、Te6O11Cl12などのテルルオキシハロゲン化物、Ru2OCl4、Ru2OCl5およびRu2OCl6などのルテニウムオキシハロゲン化物が含まれる。触媒が成分eを含有する場合、該成分は、成分a、b、cおよびdのうちのいずれか、または多孔性担体に担持され得る。触媒はさらに、銅、テルルおよび酸素から成るもの、例えば、CuTeO4、CuTeO3およびCu3TeO6など、テルル、ナトリウムおよび酸素から成るもの、例えば、Na2TeO3、Na2TeO4、Na2Te4O9およびNa4TeO5など、ナトリウム、銅および酸素から成るもの、例えばNaCuO2、Na2CuO2、NaCuOおよびNa6Cu2O6など、ルテニウム、テルルおよび酸素から成るもの、ルテニウム、銅および酸素から成るもの、例えば、RuCu2O2、RuCuClO3、Ru2CuO6、Ru2Cu2O2など、ならびにルテニウム、ナトリウムおよび酸素から成るものを含むf複合酸化物をさらに含む。触媒が成分fを含む場合、該成分は、多孔性担体に担持されるか、上記成分a、b、c、dおよびeのうちのいずれかに担持され得る。触媒がルテニウム酸化物を含む場合、触媒中のルテニウム金属に対するV、MoまたはWのモル比は、好ましくは0.25未満、より好ましくは0.1未満、さらに好ましくは、触媒は実質的にV、MoまたはWを含まない。触媒の製造は特定の方法に制限されるものではなく、該方法には例えば、含浸法、沈殿法、析出沈殿法、化学蒸着法、機械化学的法、および固相反応法等の常套の方法が含まれ、含浸法が好ましい。触媒において、成分aおよびb、さらに所望による成分c、d、eまたはfが、多孔性担体に担持される場合、銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、および所望によるルテニウムイオン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属含有イオンおよび/またはハロゲンイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、該組成物を焼成することによって触媒を得ることができる。好ましくは、溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させることにより得られる混合物は、5°C~100°C、より好ましくは10°C~50°Cの温度にて、撹拌しながら熟成される。混合物をそのまま使用してもよく、好ましくは、しばらく熟成させて使用する。熟成時間は、好ましくは0.5~48時間の範囲であり、より好ましくは1~25時間である。上記イオンを含有する溶液または懸濁液は、溶媒中に、銅塩およびテルル化合物または塩、ならびに所望によるルテニウム塩、アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属含有塩および/またはハロゲン含有化合物を混合することにより調製できる。銅塩には、例えば、酢酸銅、塩化アンモニウム銅、臭化銅、炭酸銅、銅エトキシド、水酸化銅、ヨウ化銅、銅イソブチレート、銅イソプロポキシド、シュウ酸銅、オキシ塩化銅、酸化銅、硝酸銅および塩化銅が含まれ、および硝酸銅および塩化銅が好ましい。テルル化合物またはテルル塩には、例えば、TeF6、TeBr4、TeCl4およびTeI4などのハロゲン化物、オキシハロゲン化物、TeO、TeO2およびTeO3などの酸化物、Te4などのアルコキシド、H2TeO3、H6TeO6、Na2TeO3およびNa2TeO4などのテルル酸塩が含まれ、好ましくはハロゲン化物および酸化物であり、より好ましくは酸化物であり、さらにより好ましくはTeO2である。ルテニウム塩には、例えば、臭化ルテニウム、塩化ルテニウム、ヨウ化ルテニウムなどのハロゲン化物、Ru2OCl4、Ru2OCl5およびRu2OCl6などのオキシハロゲン化物、RuCl24Clなどのハロゲノ錯体、Ru5H2OCl2、Ru5ClCl2、Ru6Cl2およびRu6Cl3などのアンミン錯体、Ru5およびRu312のようなカルボニル錯体、Ru3O63などのカルボキシレート錯体、ニトロシル塩化ルテニウム、およびRu24Clなど、ならびにRu5Cl3、Ru42およびRu3などのニトロシル錯体、アミン錯体、アセチルアセトネート錯体、RuO2などの酸化物、および2RuCl6などのアンモニウム塩が含まれ、Clを含有するルテニウム塩が好ましい。溶液用のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩は、d成分と同一であってもよく、異なるものであってもよい。アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩には、例えば、アルカリ金属硝酸塩、アルカリ土類金属硝酸塩、アルカリ金属ハロゲン化物、アルカリ土類金属ハロゲン化物、アルカリ金属酢酸塩、アルカリ土類金属酢酸塩、アルカリ金属酪酸塩、アルカリ土類金属酪酸塩、アルカリ金属安息香酸塩、アルカリ土類金属安息香酸塩、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属クエン酸塩、アルカリ土類金属クエン酸塩、アルカリ金属ギ酸塩、アルカリ土類金属ギ酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ土類金属炭酸水素塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属次亜塩素酸塩、アルカリ土類金属次亜塩素酸塩、アルカリ金属ハロゲン酸塩、アルカリ土類金属ハロゲン酸塩、アルカリ金属亜硝酸塩、アルカリ土類金属亜硝酸塩、アルカリ金属シュウ酸塩、アルカリ土類金属シュウ酸塩、アルカリ金属過ハロゲン酸塩、アルカリ土類金属過ハロゲン酸塩、アルカリ金属プロピオン酸塩、アルカリ土類金属プロピオン酸塩、アルカリ金属酒石酸塩およびアルカリ土類金属酒石酸塩が含まれ、アルカリ金属ハロゲン化物およびアルカリ金属硝酸塩が好ましく、NaNO3およびNaClがより好ましい。ハロゲンを有するアルカリ金属塩またはハロゲンを有するアルカリ土類金属塩を触媒の製造に使用する場合、成分a、b、c、dおよびeを含む触媒は、溶媒中で銅塩、テルル塩およびアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩を混合することにより得られる溶液または懸濁液から製造できる。好ましくは、上記金属塩から成る群から選択されるうちの少なくとも1つは、ハロゲンイオンを含有し、より好ましくは塩化物イオンを含有する。このようなハロゲンイオンは、NaClのようなd成分およびCuまたはTeのハロゲン化物およびオキシハロゲン化物などのe成分を形成してもよい。溶液は、そのpHを制御する目的で酸性または塩基性の化合物を含んでいてもよい。酸化合物には、例えば、塩酸、硝酸、亜硝酸および過塩素酸が含まれる。塩基性化合物には、例えば、アルカリ金属水酸化物、アミン化合物、イミン化合物、ヒドラジンまたはヒドラジン化合物、アンモニア、ヒドロキシルアミン、ヒドロキシアミンおよび水酸化アンモニウムが含まれる。溶媒には、例えば、水、メタノールまたはエタノールなどのアルコール、およびエーテルが含まれる。溶媒の量は、銅塩1重量部あたり、好ましくは0.01~2000重量部である。触媒が担体を含む場合、溶媒の量は、担体1重量部当たり好ましくは0.01~500重量部であり、より好ましくは0.1~100重量部である。含浸によって調製される組成物は、通常、乾燥され、該乾燥方法には、例えば、蒸発乾固、噴霧乾燥、ドラム乾燥およびフラッシュ気流式乾燥が含まれる。含浸によって調製される組成物は、組成物を焼成する前に、好ましくは10°C~250°Cの温度、より好ましくは40°C~200°Cの温度で乾燥させる。乾燥は、常圧または減圧状態にて、空気雰囲気下または不活性ガス雰囲気例えば、Ar、N2、He下で行う。乾燥時間は、好ましくは0.5~24時間の範囲である。乾燥後、組成物は必要に応じて所望の構造に成形できる。組成物を焼成する方法は限定されないが、組成物の焼成は、好ましくは酸素および/または不活性ガス例えば、窒素、ヘリウムおよびアルゴンなどを含むガス雰囲気下で行う。このようなガスには、例えば、空気、酸素ガス、亜酸化窒素および他の酸化ガスが含まれる。ガスは、窒素、ヘリウム、アルゴンおよび水蒸気などの希釈ガスと適当な比で混合した後に使用してもよい。焼成の最適温度は、ガスおよび組成物の種類に応じて変化するが、温度が高すぎるとテルル成分および銅成分の凝集を引き起こす可能性がある。したがって、焼成温度は、一般に、250~800°C、好ましくは400~600°Cである。焼成時間は、好ましくは0.5時間~24時間の範囲である。触媒は粉体として使用することができるが、通常はそれを球形、ペレット、柱形、リング形、中空柱形または星形のような所望の構造に成形する。触媒は押出、ラム押出、錠剤成形のような公知の方法によって成形することができる。通常、焼成は所望の構造に成形した後に行うが、成形する前に行うこともできる。次に、前記した触媒存在下での酸素とのオレフィンの反応を以下に説明する。本発明においては、オレフィンは線状または分岐状の構造を有してもよく、通常、2~10個、好ましくは2~8個の炭素原子を有し得る。オレフィンは、モノオレフィンであってもよく、またはジオレフィンであることができる。モノオレフィンには、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキサン、ヘプテン、オクテン、ノネンおよびデセンが含まれる。ジエンには、例えば、13ブタジエンまたは12ブタジエンなどのブタジエンが含まれる。オレフィンには、例えば、好ましくはモノオレフィンが含まれ、より好ましくはエチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテンおよびオクテンが含まれ、さらにより好ましくはエチレン、プロピレンおよびブテンが含まれ、最も好ましくはプロピレンが含まれる。一般に、反応は気相中で行う。反応において、オレフィンおよび酸素をガスの形態で各々送給してもよい。オレフィンおよび酸素ガスは、それらの混合ガスの形態で送給することができる。オレフィンおよび酸素ガスは、希釈ガスと共に供給してもよい。希釈ガスには、例えば、窒素、メタン、エタン、プロパン、二酸化炭素、またはアルゴンおよびヘリウムなどの希ガスが含まれる。酸素源としては、純粋な酸素を使用してもよく、あるいは空気などの、反応に不活性なガスを含有する混合ガスを使用してもよい。使用する酸素の量は、反応の型、触媒、反応温度などに応じて変化する。酸素の量は、オレフィン1モルに対して、一般には0.01~100モル、好ましくは0.03~30モル、およびより好ましくは0.05~10モルである。反応は一般には100~350°C、好ましくは120~330°C、より好ましくは170~310°Cの温度で行う。反応は、通常、低圧~高圧の範囲の反応圧力下で行う。このような反応圧力条件下で反応を行うことによって、酸化オレフィンの生産性および選択性を改善することができる。低圧とは大気圧よりも低い圧力を意味する。高圧とは大気圧よりも高い圧力を意味する。反応圧力は、絶対圧で、一般に、0.01~3MPaの範囲であり、好ましくは0.02~2MPaの範囲である。ガス毎時空間速度1時間あたり、1リットルの充填触媒を通過する標準温度および圧力におけるガスのリットル量は、一般に、100Nl/1.h~100000Nl/1.h、好ましくは500Nl/1.h~50000Nl/1.hである。線速度は、一般に、0.0001m/s~500m/sの範囲、および好ましくは0.001m/s~50m/sの範囲である。反応は、バッチ反応または連続フロー反応として行ってもよいが、好ましくは産業上での適用のために連続フロー反応として行われ得る。本発明の反応は、オレフィンおよび酸素を混合した後、その混合物を低圧下ないし高圧下で触媒と接触させることによって行ってもよい。反応器の型は限定されない。反応器の型は、例えば流動床反応器、固定床反応器、移動床反応器などであり、好ましくは固定床反応器である。固定床反応器を使用する場合は、単管反応器または複数管反応器を利用することができる。1個よりも多い反応器を使用することができる。反応器の数が大きい場合は、例えばマイクロ反応器のような、複数のチャネルを有することができる小さな反応器を使用することができる。固定床反応器を使用する場合、触媒を反応器中に充填してもよく、または反応器壁の表面に塗布してもよい。被覆型反応器はマイクロ反応器に適しており、充填床反応器は大きな反応器に適している。一般に、反応混合物は上向流モードまたは下向流モードで充填床反応器を通過できる。断熱型反応器または熱交換型反応器も使用できる。断熱型反応器を使用する場合、反応器からの反応混合物の一部は、熱交換して反応温度を制御した後に、反応器中で再利用できる。2個以上の反応器を使用する場合、反応器を直列に配置できおよび/または並行に配置できる。直列に配置された2個以上の反応器を使用する場合、反応温度を制御するために、反応器の間において熱交換器を使用できる。本発明において、酸化オレフィンは線状または分岐状の構造を有してもよく、通常2~10個、好ましくは2~8個の炭素原子を含有してもよい。反応にジオレフィンを適用する場合、酸化オレフィンは1つの炭素-炭素二重結合を有し得る。1つの炭素-炭素二重結合を有する酸化オレフィンには、例えば3,4-エポキシ-1-ブテンが含まれる。酸化オレフィンには、例えば、好ましくはエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブテンオキサイド、ペンテンオキサイド、ヘキセンオキサイド、ヘプテンオキサイド、オクテンオキサイドが含まれ、より好ましくはエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドおよびブテンオキサイドが含まれ、さらにより好ましくはプロピレンオキサイドが含まれる。得られる酸化オレフィンは、水およびアセトニトリルなどの適当な溶媒で吸収し、次いで蒸留による分離などの当該技術分野で公知の方法を行うことにより収集できる。実施例1~7において、各測定は以下の方法に従い行った:反応ガスを外部標準としてのエタン10Nml/分と混合した後に、Gaskuropack54のカラム2mを備えたTCDGCに直接導入した。直列に連結し、氷浴を用いて冷却した二重のメタノールトラップを用いて、反応ガス中のすべての生成物を1時間かけて収集した。2つのメタノール溶液を相互に混合し、外部標準としてのアニソールに添加した後に、異なるカラムPoraBONDU25mおよびPoraBONDQ25mを備えた2つのFIDGCを用いて分析した。検出された生成物はプロピレンオキサイドPO、アセトンAT、アセトアルデヒドAD、COxCO2およびCO、プロパナールPaL、およびアクロレインACであった。プロピレン転化率XPRを下記式から決定しXPR={[POACATPaLCO2/3]out/[C3H6]in}×100およびPO選択率SPOを、下記式を用いて決定したSPO={[PO]/[POACATPaLCO2/3]}×100各金属の重量は、触媒の調製に使用した金属塩の量から決定した。実施例1触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量1.9gの非晶質シリカ粉体SiO2、日本アエロジル株式会社、380m2/gを、0.30gのCu2和光純薬工業株式会社、0.04gのTeCl4和光純薬工業株式会社、および40gのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて24時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで100°Cにて加熱し、空気中、500°Cにて12時間焼成して触媒を得た。触媒は、固定床反応器を使用することによって評価した。このようにして得られた触媒1mLをステンレス鋼製の1/2-インチ反応管に充填し、その反応管に450NmL/時のプロピレン、900NmL/時の空気、および990NmL/時の窒素ガスを供給して、高圧下絶対圧力で0.3MPaに等しいにて、200°Cおよび250°Cの反応温度で反応を行った。触媒において、CuおよびTeの総量は、SiO2100重量部に対して5.1重量部であった。結果を表1に示す。実施例2触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量1.9gの非晶質シリカ粉体SiO2、日本アエロジル株式会社、380m2/gを、0.55gの2RuCl6、0.30gのCu2和光純薬工業株式会社、0.04gのTeCl4和光純薬工業株式会社、および40gのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて24時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで100°Cにて加熱し、空気中、500°Cにて12時間焼成して触媒を得た。触媒において、Cu、TeおよびRuの総量は、SiO2100重量部に対して13.3重量部であった。触媒を、実施例1と同様の方法で評価した。結果を表2に示す。実施例3触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量1.9gの非晶質シリカ粉体SiO2、日本アエロジル株式会社、380m2/gを、0.22gの2RuCl6、0.30gのCu2和光純薬工業株式会社、0.04gのTeCl4和光純薬工業株式会社、および40gのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて24時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで100°Cにて加熱し、空気中、500°Cにて12時間焼成して触媒を得た。触媒において、Cu、TeおよびRuの総量は、SiO2100重量部に対して10.4重量部であった。触媒を、実施例1と同様の方法で評価した。結果を表3に示す。実施例4触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量1.9gの非晶質シリカ粉体SiO2、日本アエロジル株式会社、380m2/gを、0.30gのCU2和光純薬工業株式会社、0.04gのTeCl4和光純薬工業株式会社、0.10gのNaCl和光純薬工業株式会社、および40gのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて24時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで100°Cにて加熱し、空気中、500°Cにて12時間焼成して触媒を得た。触媒において、Cu、TeおよびNaの総量は、SiO2100重量部に対して7.1重量部であった。触媒を、実施例1と同様の方法で評価した。結果を表4に示す。実施例5触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量1.9gの非晶質シリカ粉体SiO2、日本アエロジル株式会社、380m2/gを、0.55gの2RuCl6、0.30gのCu2和光純薬工業株式会社、0.04gのTeCl4和光純薬工業株式会社、0.10gのNaCl和光純薬工業株式会社、および40gのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて24時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで100°Cにて加熱し、空気中、500°Cにて12時間焼成して触媒を得た。触媒において、Cu、Te、RuおよびNaの総量は、SiO2100重量部に対して15.3重量部であった。触媒を、実施例1と同様の方法で評価した。結果を表5に示す。実施例5で得た触媒の粉末X線回折を、40kVおよび300mAの条件で、モノ-クロメート化CuKα放射λ=0.154nmを用いる、リガク社製の粉末回折装置RINT-2500Vにて測定した。回折パターンを、JCPDSデータベースJointCommitteeofPowderDiffractionStandardsに示された回折パターンと比較することにより同定した。その結果、27.8°、35.1°および40.0°にてピークを観察した。実施例6触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量1.9gの非晶質シリカ粉体SiO2、日本アエロジル株式会社、380m2/gを、0.22gの2RuCl6、0.30gのCu2和光純薬工業株式会社、0.04gのTeCl4和光純薬工業株式会社、0.10gのNaCl和光純薬工業株式会社、および40gのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて24時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで100°Cにて加熱し、空気中、500°Cにて12時間焼成して触媒を得た。触媒において、Cu、Te、RuおよびNaの総量は、SiO2100重量部に対して10.4重量部であった。触媒を、実施例1と同様の方法で250°Cにて評価した。結果を表6に示す。実施例6で得た触媒の粉末X線回折を、実施例5と同じ条件で行った。その結果、27.8°、35.1°および40.0°にてピークを観察した。実施例7触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量1.9gの非晶質シリカ粉体SiO2、日本アエロジル株式会社、380m2/gを、0.22gの2RuCl6、0.30gのCu2和光純薬工業株式会社、0.03gのTeO2和光純薬工業株式会社、0.10gのNaCl和光純薬工業株式会社、および40gのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて24時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで100°Cにて加熱し、空気中、500°Cにて12時間焼成して触媒を得た。触媒において、Cu、Te、RuおよびNaの総量は、SiO2100重量部に対して10.4重量部であった。触媒を、実施例1と同様の方法で250°Cにて評価した。結果を表7示す。"