"硫酸溶液を電解して過硫酸を生成する電解部と、電解された前記硫酸溶液を貯留する電解液貯留部と、前記電解部と前記電解液貯留部との間で前記硫酸溶液を循環させる第1の循環ラインと、過硫酸を含む前記硫酸溶液を用いて被洗浄材を洗浄する洗浄装置と、前記洗浄装置で用いられる前記硫酸溶液を加熱する加熱部と、前記洗浄装置で用いられた硫酸溶液を貯留する排液貯留部と、前記電解部で電解された前記硫酸溶液を前記加熱部を介して前記洗浄装置に送液し、前記洗浄装置で洗浄に用いた硫酸溶液を前記排液貯留部を介して環流させる第2の循環ラインと、前記電解部で電解された前記硫酸溶液を前記洗浄部を介することなく前記排液貯留部に送液し、環流させる第3の循環ラインと、を備えることを特徴とする洗浄システム。前記第3の循環ラインは、前記硫酸溶液を前記加熱部を介して前記排液貯留部に送液するものであることを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。前記第2の循環ラインと前記第3の循環ラインとは選択的に使用されるものであることを特徴とする請求項1または2に記載の洗浄システム。前記第2の循環ラインは、前記加熱部の下流側で前記第3の循環ラインが分岐する分岐部を有しており、前記第2の循環ラインは、該分岐部から前記洗浄装置への送液を停止し、該分岐部から前記第3の循環ラインへの送液が可能であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の洗浄システム。前記電解部で電解される前記硫酸溶液の温度が80°C以下、前記加熱部で加熱されて前記洗浄装置で利用される前記硫酸溶液の温度が150~220°Cであり、前記排液貯留部に貯留される前記硫酸溶液の温度が120~160°Cであることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の洗浄システム。前記硫酸溶液の硫酸濃度が85質量以上であることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の洗浄システム。前記電解液貯留部から前記電解部に至る前記硫酸溶液を冷却する第1の冷却部を備えることを特徴とする請求項1~6のいずれかに記載の洗浄システム。前記排液貯留部から前記電解液貯留部に至る前記硫酸溶液を冷却する第2の冷却部を備えることを特徴とする請求項1~7のいずれかに記載の洗浄システム。前記洗浄装置が、枚葉式洗浄装置であることを特徴とする請求項1~8のいずれかに記載の洗浄システム。洗浄中は硫酸溶液を循環しつつ電解するとともに、前記電解がされた硫酸溶液の一部を取り出して加熱し、加熱された硫酸溶液を被洗浄材の洗浄に供した後、貯留して硫酸溶液中に移行した被洗浄物の分解を図るとともに、前記貯留をしている前記硫酸溶液を前記電解を行うべく環流させ、前記洗浄を停止している際に、前記硫酸溶液を電解しつつ循環させるとともに、前記電解がされた硫酸溶液の一部を取り出して、前記貯留がされている前記硫酸溶液に供給して硫酸溶液中に移行している被洗浄物の分解を図り、前記貯留をしている前記硫酸溶液を前記電解を行うべく環流させることを特徴とする洗浄方法。前記電解がされて取り出された前記硫酸溶液を加熱した後、前記貯留がされている硫酸溶液に供給することを特徴とする請求項10記載の洗浄方法。ところで、枚葉式洗浄は、洗浄工程と被洗浄材入替工程とを交互に繰り返して行うものである。洗浄工程においては電解硫酸溶液を洗浄に供するが、被洗浄材入替工程では洗浄装置で電解硫酸溶液は不要なので、電解液貯留槽から急速加熱器への硫酸溶液の供給を停止して、電解液貯留槽から排出される硫酸の全量を電解装置との間で循環するようにしている。しかし、被洗浄材入替工程になると排液貯留槽への高温の洗浄排液の供給がなくなるため、過硫酸の補給がなく過硫酸濃度が徐々に低下してしまう。また、槽内温度が徐々に低下してしまう。これにより被洗浄材入替工程において残留レジストの分解が不十分になる。さらに、被洗浄材を入れ替えた後の次の洗浄工程の初期に、排液貯留槽内の過硫酸濃度は低く、また槽内温度も低いため、残留レジストの分解が不十分になる、という懸念がある。これに対し、槽内を加熱して槽内温度を高温に保つことが考えられるが、このためには別途ヒーターなどが必要になるという問題がある。また、前記ヒーターを設けても過硫酸の補給はなされないので、被洗浄材入替工程に切替わると過硫酸濃度が経時的に低下し、残留レジストが多い場合、過硫酸が不足してレジストが十分に分解できない懸念がある。本発明は、上記事情を背景としてなされたものであり、洗浄を停止している際にも排液貯留槽における残留有機物などの分解を図ることができ、また、洗浄再開時に洗浄排液に含まれる残留有機物などの分解を効果的に行うことができる洗浄システムおよび洗浄方法を提供することを目的とする。すなわち、本発明の洗浄システムは、硫酸溶液を電解して過硫酸を生成する電解部と、電解された前記硫酸溶液を貯留する電解液貯留部と、前記電解部と前記電解液貯留部との間で前記硫酸溶液を循環させる第1の循環ラインと、過硫酸を含む前記硫酸溶液を用いて被洗浄材を洗浄する洗浄装置と、前記洗浄装置で用いられる前記硫酸溶液を加熱する加熱部と、前記洗浄装置で用いられた硫酸溶液を貯留する排液貯留部と、前記電解部で電解された前記硫酸溶液を前記加熱部を介して前記洗浄装置に送液し、前記洗浄装置で洗浄に用いた硫酸溶液を前記排液貯留部を介して環流させる第2の循環ラインと、前記電解部で電解された前記硫酸溶液を前記洗浄部を介することなく前記排液貯留部に送液し、環流させる第3の循環ラインと、を備えることを特徴とする。また、本発明の洗浄方法は、洗浄中は硫酸溶液を循環しつつ電解するとともに、前記電解がされた硫酸溶液の一部を取り出して加熱し、加熱された硫酸溶液を被洗浄材の洗浄に供した後、貯留して硫酸溶液中に移行した被洗浄物の分解を図るとともに、前記貯留をしている前記硫酸溶液を前記電解を行うべく環流させ、前記洗浄を停止している際に、前記硫酸溶液を電解しつつ循環させるとともに、前記電解がされた硫酸溶液の一部を取り出して、前記貯留がされている前記硫酸溶液に供給して硫酸溶液中に移行している被洗浄物の分解を図り、前記貯留をしている前記硫酸溶液を前記電解を行うべく環流させることを特徴とする。本発明では、電解部と電解液貯留部との間で第1の循環ラインによって硫酸溶液を循環させることで、電解によって過硫酸を継続して生成することができる。また、前記電解部で電解された前記硫酸溶液は、第2の循環ラインで取り出され、加熱部で加熱された後、洗浄装置に供給される。洗浄装置で洗浄に用いられた硫酸溶液は、第2の循環ラインで環流される。その際に排液貯留部で一旦貯留されて残留有機物などの分解が図られた後、再度電解に供される。第2の循環ラインにおける取り出し位置は、電解部の出液側、第1の循環ライン、電解液貯留部のいずれであってもよく、環流する位置も電解部の出液側、第1の循環ライン、電解液貯留部のいずれであってもよい。安定した取り出し、環流としては、電解液貯留部からの取り出し、電解液貯留部への環流が望ましい。また、前記電解部で電解された前記硫酸溶液は、第3の循環ラインで取り出され、洗浄部を介することなく排液貯留部に供給される。これにより洗浄装置からの硫酸溶液の供給が停止している際にも排液貯留部に過硫酸が補給され、排液貯留部に貯留された硫酸溶液に含まれる残留有機物等が効果的に分解される。また、洗浄装置から洗浄に利用された硫酸溶液が第2の循環ラインによって排液貯留部に供給されている際に、第3の循環ラインによって硫酸溶液を供給するようにしてもよい。これにより排液貯留部における残留有機物濃度が特に高いような場合に過硫酸を多く供給して効果的な分解を図ることができる。なお、第3の循環ラインは、前記した加熱部を介して前記排液貯留部に前記硫酸溶液を送液するものが望ましい。これにより、洗浄を停止した際にも排液貯留槽に加熱した硫酸溶液を供給して残留有機物の効果的な分解を図ることができる。これにより排液貯留部にヒーターなどを設けることなく貯留されている硫酸溶液の温度低下を防止することができる。第3の循環ラインで送液される硫酸溶液は、洗浄に供する際よりも低い温度に加熱して排液貯留部に供給することができる。これにより酸化力を維持して溶液中の残留有機物を効果的に加熱することができる。この際に、排液貯留部の温度が120~160°Cになるように加熱した硫酸溶液を供給することができる。なお、排液貯留部の温度が、さらに130~160°Cとなるように加熱した硫酸溶液を供給するのが望ましい。また、排液貯留部の硫酸溶液を第2の循環ライン、第3の循環ラインで環流する際には、第2の冷却部によって冷却するのが望ましい。これにより電解液貯留部等で硫酸溶液の温度が高くなって、過硫酸の自己分解が進行したり、電解に適した温度を超えたり、電解部側での冷却負担を増加させたりするのを防止する。上記した第2の循環ラインと第3の循環ラインとは、選択的に使用されるものとすることができる。この場合、第2の循環ラインを使用して洗浄装置に硫酸溶液を供給する際には、第3の循環ラインを停止し、被洗浄材の入れ替えなどで洗浄装置での洗浄を停止する際には第2の循環ラインを停止して、第3の循環ラインで硫酸溶液を排液貯留部に供給する。上記の選択的な使用は、ラインに設けた開閉弁や切換弁の操作によって行うことができる。また、第2の循環ラインと第3の循環ラインとを常時または必要に応じて同時に使用するようにしてもよい。これにより、排液貯留部の過硫酸濃度を高めて分解能力を上げることができる。また、第2の循環ラインと第3の循環ラインとは、一部を共用するようにしてもよい。したがって一部の循環ラインは、第2の循環ラインと第3の循環ラインとが選択的に使用される場合には、洗浄が行われている際には第2の循環ラインとして使用され、洗浄が停止している際には、第3の循環ラインとして使用される形態もある。なお、電解部では、上記のように硫酸溶液を電解して洗浄効果を高める過硫酸を生成する。この電解においては、溶液温度が低いほど過硫酸の生成効率が良くなる。したがって、過硫酸を生成するときの電解温度は80°C以下が望ましい。上記温度範囲を超えると、電解効率が著しく低下する。一方、温度が低すぎると電極の損耗が激しくなる。したがって、上記温度は40°C以上が望ましい。上記適温を得るため、電解液貯留部から電解部に至る硫酸溶液を第1の冷却部で冷却するようにしてもよい。上記電解部では、陽極と陰極とを対にして電解がなされる。これら電極の材質は、本発明としては特定のものに限定されない。しかし、電極として一般に広く利用されている白金を本発明の電解部の陽極として使用した場合、過硫酸を効率的に製造することができず、白金が溶出するという問題がある。これに対し、導電性ダイヤモンド電極は、過硫酸の生成を効率よく行えるとともに、電極の損耗が小さい。したがって、電解部の電極のうち、少なくとも、過硫酸の生成がなされる陽極を導電性ダイヤモンド電極で構成するのが望ましく、陽極、陰極ともに導電性ダイヤモンド電極で構成するのが一層望ましい。導電性ダイヤモンド電極は、シリコンウエハ等の半導体材料を基板とし、このウエハ表面に導電性ダイヤモンド薄膜を合成させたものや、板状に析出合成したセルフスタンド型導電性多結晶ダイヤモンドを挙げることができる。また、Nb、W、Tiなどの金属基板上に積層したものも利用できる。なお、導電性ダイヤモンド薄膜は、ダイヤモンド薄膜の合成の際にボロンまたは窒素の所定量をドープして導電性を付与したものであり、通常はボロンドープしたものが一般的である。これらのドープ量は、少なすぎると技術的意義が発生せず、多すぎてもドープ効果が飽和するため、ダイヤモンド薄膜の炭素量に対して、50~20,000ppmの範囲のものが適している。なお、電解液貯留部の硫酸溶液の温度は、50~90°Cが望ましい。電解液貯留部の硫酸溶液は、電解部に送液されるため、温度が高いと電解に備えて冷却することが必要になり冷却負担が大きくなるため、90°C以下が望ましい。また、温度を低くすると、電解部の電極損耗の懸念があるので、電解液貯留部の硫酸溶液の温度は50°C以上が望ましい。また、加熱部は、洗浄に際し、枚葉式では硫酸溶液が150~220°Cの温度を有しているように硫酸溶液を加熱するのが望ましい。加熱温度が150°C未満であると、過硫酸の自己分解による酸化性能が十分に得られない。一方、硫酸溶液の温度が過度に高くなると、過硫酸の分解速度が速くなりすぎて、却って洗浄性能が低下するので、220°C以下が望ましい。なお、加熱部は、1つの加熱器などによって構成する他、複数の加熱器などで構成するようにしてもよい。例えば、硫酸溶液を予備加熱する上流側の予備加熱器と、硫酸溶液を急速加熱する下流側の急速加熱器などによって加熱部を構成することができる。例えば、予備加熱器で、硫酸溶液を90°C~120°C程度に加熱した後、急速加熱することで急速加熱器の負担を軽減できる。なお、予備加熱の温度が90°C未満であると、急速加熱器における加熱負担の軽減効果が小さく、120°Cを超えると過硫酸の自己分解が進行して、洗浄の際に十分な酸化性能を得られなくなるので、予備加熱としては上記温度範囲が望ましい。上記洗浄システムで用いられる硫酸溶液は、硫酸濃度が85質量以上であるのが望ましい。硫酸濃度が85質量未満では、仮に過硫酸濃度が高かったとしても洗浄装置でのレジスト剥離性能が低下する。一方、硫酸濃度が96質量を超えると、電解工程での電流効率が低下するので、96質量以下が望ましい。なお、本発明では、種々の被洗浄材を対象にして洗浄を行うことができるが、シリコンウエハ、液晶用ガラス基板、フォトマスク基板などの電子材料基板を対象にして洗浄処理をする用途に好適である。さらに具体的には、半導体基板上に付着したレジスト残渣などの有機化合物の剥離プロセスに利用することができる。また、半導体基板上に付着した微粒子、金属などの異物除去プロセスに利用することができる。また、本発明は、シリコンウエハなどの基板上に付着した汚染物を高濃度硫酸溶液で洗浄剥離するプロセスに利用することができ、アッシングプロセスなどの前処理工程を省略してレジスト剥離酸化効果を高めるために過硫酸溶液を電解部によってオンサイト製造して、硫酸溶液を繰り返し利用して外部からの過酸化水素やオゾンなどの薬液添加を必要としないシステムとして用いるのが望ましい。以上、説明したように、本発明によれば、硫酸溶液を電解して過硫酸を生成する電解部と、電解された前記硫酸溶液を貯留する電解液貯留部と、前記電解部と前記電解液貯留部との間で前記硫酸溶液を循環させる第1の循環ラインと、過硫酸を含む前記硫酸溶液を用いて被洗浄材を洗浄する洗浄装置と、前記洗浄装置で用いられる前記硫酸溶液を加熱する加熱部と、前記洗浄装置で用いられた硫酸溶液を貯留する排液貯留部と、前記電解部で電解された前記硫酸溶液を前記加熱部を介して前記洗浄装置に送液し、前記洗浄装置で洗浄に用いた硫酸溶液を前記排液貯留部を介して環流させる第2の循環ラインと、前記電解部で電解された前記硫酸溶液を前記洗浄部を介することなく前記排液貯留部に送液し、環流させる第3の循環ラインと、を備えるので、排液貯留部に過硫酸を補給して硫酸溶液中の残留有機物などの分解を促進することができる。さらに、被洗浄材の入替工程などによって洗浄を停止する際にも、硫酸溶液の供給を切り替えて第3の循環ラインとが稼働するようにすることにより、排液貯留部には連続的に高酸化性の硫酸溶液が供給され、残留レジスト等の分解を確実に行うことができる。以下に、本発明の洗浄システムにおける一実施形態を図1に基づいて説明する。本発明の電解部に相当する電解装置1は無隔膜型であり、ダイヤモンド電極により構成された陽極および陰極図示しないが隔膜で隔てることなく内部に配置され、両電極には直流電源2が接続されている。なお、本発明としては、電解装置を隔膜型によって構成することも可能である。上記電解装置1には、本発明の電解液貯留部に相当する電解液貯留槽20が第1の循環ライン11を介して循環通液可能に接続されている。第1の循環ライン11の戻り側には気液分離槽10が介設されている。該気液分離槽10は、気体を含んだ硫酸溶液を収容して硫酸溶液中の気体を分離して系外に排出するものであり、既知のものを用いることができ、本発明としては気液分離が可能であれば、特にその構成が限定されるものではない。また、第1の循環ライン11の送り側には、硫酸溶液を循環させる循環ポンプ12と、硫酸溶液を冷却する冷却器13が介設されている。冷却器13は、本発明の第1の冷却部に相当するものであり、硫酸溶液を冷却して40~80°Cの液温で電解できるようにするものであればよく、本発明としてはその構成が特に限定されるものではない。また、前記電解液貯留槽20には、供給ポンプ21を介して送液ライン22が接続されている。上記電解装置1、直流電源2、第1の循環ライン11、循環ポンプ12、冷却器13、気液分離槽10、電解液貯留槽20および後述する冷却器53によって、電解ユニットAが構成されている。なお、上記では、気液分離槽10と電解液貯留槽20とをそれぞれ備えるものについて説明したが、電解液貯留槽で気液分離器を兼ねるものであってもよい。送液ライン22の送液方向には、急速加熱器23が介設されている。急速加熱器23の下流側で送液ライン22は開閉弁26に接続されている。開閉弁26の他端側には、送液ライン27が接続されており、送液ライン27の送液先端側は枚葉式の洗浄装置40に接続されている。上記急速加熱器23は、本発明の加熱部に相当し、石英製の管路を有し、例えば近赤外線ヒータによって硫酸溶液を一過式で、洗浄装置40入口で150~220°Cの液温が得られるように硫酸溶液を急速加熱する。また、急速加熱器23の下流側の送液ライン22には、送液される硫酸溶液の温度を測定する液温測定器24が設けられており、該液温測定器24の測定結果は、直流電源を含む電源部25に出力されている。電源部25は、急速加熱器23に所定の通電量で通電するものであり、前記液温測定器24の測定結果を受けて、前記液温が所定の温度となるように前記急速加熱器23に対する通電量を制御する。上記した急速加熱器23、液温測定器24、電源部25は、急速加熱ユニットBを構成している。上記開閉弁26の上流側では、送液ライン22から送液ライン30が分岐しており、該送液ライン30に開閉弁31が介設されている。送液ライン30の送液先端側は、後述する排液貯留槽50に接続されている。上記した枚葉式の洗浄装置40では、搬入された被洗浄材である電子材料基板100に向けたノズル41を備え、該ノズル41で洗浄液として硫酸溶液がスプレーされるか少量ずつ流れ落ちる電子材料基板100を載置して回転させる回転台42を備えている。さらに、洗浄に用いられた硫酸溶液の液滴を回収する硫酸溶液回収部43が備えられており、該硫酸溶液回収部43には、第1環流ポンプ44を介設した環流ライン45が接続されている。上記した洗浄装置40、ノズル41、回転台42、硫酸溶液回収部43、第1環流ポンプ44は、洗浄ユニットCを構成している。なお、この実施形態では、洗浄装置が枚葉式のものであるとして説明しているが、本発明としては、洗浄装置の種別がこれに限定されるものではなく、バッチ式などの洗浄装置であってもよい。環流ライン45の送液先端側は、洗浄に用いられた硫酸溶液を貯留する排液貯留槽50が接続されている。排液貯留槽50は、本発明の排液貯留部に相当する。該排液貯留槽50には、第2環流ポンプ51を介して環流ライン52が接続されており、該環流ライン52には、本発明の第2の冷却部に相当する冷却器53が介設され、環流ライン52の送液先端部は前記電解液貯留槽20に接続されている。上記排液貯留槽50と第2環流ポンプ51によって排液貯留ユニットDが構成されている。上記送液ライン22、送液ライン27、環流ライン45、環流ライン52によって本発明の第2の循環ラインが構成され、上記送液ライン22、送液ライン30、環流ライン52によって本発明の第3の循環ラインが構成されている。したがって、第2の循環ラインと第3の循環ラインとは、送液ライン22、環流ライン52でラインを共用して構成されている。次に、上記構成からなる洗浄システムの動作について説明する。電解液貯留槽20には、硫酸濃度85~96質量、液温度50~90°Cの硫酸溶液が貯留される。前記硫酸溶液は、循環ポンプ12によって送液され、冷却器13で電解に好適な温度40~80°Cに調整されて電解装置1の入液側に導入される。電解装置1では、直流電源2によって陽極、陰極間に通電され、電解装置1内に導入された硫酸溶液が電解される。なお、該電解によって電解装置1では、陽極側で過硫酸を含む酸化性物質が生成されるとともに酸素ガスが発生し、陰極側では水素ガスが発生する。これらの酸化性物質とガスは、前記硫酸溶液と混在した状態で第1の循環ライン11を通して気液分離槽10に送られ、前記ガスが分離される。なお、前記ガスは本システム系外に排出されて触媒装置図示しないなどにより安全に処理される。気液分離槽10でガスが分離された前記硫酸溶液は、過硫酸を含んでおり、さらに第1の循環ライン11の戻り側を通して電解液貯留槽20に戻された後、繰り返し電解装置1に送られ電解により過硫酸の濃度が高められる。過硫酸濃度が適度になると、電解液貯留槽20内の硫酸溶液の一部は送液ライン22を通して送液ポンプ21によって急速加熱器23へと送られる。急速加熱器23では、過硫酸を含む硫酸溶液が流路を通過しながら近赤外線ヒーターによって加熱される。その際には、洗浄装置40に供給された際に150°C~220°Cの範囲の液温を有するように急速加熱が行われる。急速加熱器23を洗浄装置40の近傍に配置することで、加熱温度を利用時の温度と略同じにすることができる。そして、加熱された、過硫酸を含む硫酸溶液は、開閉弁26を通して送液ライン27へと送液され、送液ライン27によって枚葉式の洗浄装置40に供給され、電子材料基板100の洗浄に使用される。この際に、開閉弁31は閉じられており、送液ライン30への硫酸溶液の供給はなされない。上記送液に際し前記硫酸溶液は、急速加熱器23の入口から洗浄装置40で使用されるまでの通液時間が1分未満となるように、流量が調整されているのが望ましい。なお、枚葉式洗浄装置40では、500~2000mL/minでの流量が適量とされており、該流量において、前記通液時間が1分未満となるように、急速加熱器23の流路の長さ、流路断面積およびその下流側での送液ライン22、27のライン長、流路断面積などを設定する。洗浄装置40では、例えば1×1015atoms/cm2以上の高濃度にイオン注入されたレジストが設けられたシリコンウェハなどの電子材料基板100が洗浄対象になる。該電子材料基板100を回転台42上で回転させつつ前記ノズル41から過硫酸を含む高温の硫酸溶液をスプレーするか少量ずつ流し落として接触させることで電子材料基板100上のレジストなどの汚染物を効果的に剥離除去する。洗浄に使用された硫酸溶液は、硫酸溶液回収部43で回収された後、洗浄装置40から排出され、第1環流ポンプ44によって環流ライン45を通して排液貯留槽50に送液され貯留される。前記硫酸溶液には洗浄装置40で洗浄されたレジストなどの残留有機物が含まれており、排液貯留槽50に貯留されている間に、前記残留有機物が硫酸溶液に含まれる酸化性物質によって酸化分解される。なお、排液貯留槽50における前記硫酸溶液の貯留時間は、残留有機物などの含有量などによって、任意に調整することができる。この際に、洗浄装置40から継続して高温かつ過硫酸を含む硫酸溶液が供給されており、排液貯留槽50は適温に維持される。排液貯留槽50において、含有する残留有機物が酸化分解された硫酸溶液は、第2環流ポンプ51により環流ライン52に介設された冷却器53を通して電解液貯留槽20に環流される。なお、排液貯留槽50の下流側であって冷却器53の上流側にフィルタを介設してもよい。これにより、排液貯留槽50で処理しきれなかった硫酸溶液中のSSがフィルタによって捕捉除去される。また、高温の硫酸溶液が電解液貯留槽20に環流されると、電解液貯留槽20に貯留されている硫酸溶液中の過硫酸の分解が促進されてしまうため、前記硫酸溶液は第2の冷却部である冷却器53により適温に冷却された後、電解液貯留槽20内に導入される。電解液貯留槽20内に導入された硫酸溶液は、第1の循環ライン11の送り側によって電解装置1に送液されて電解により過硫酸が生成され、第1の循環ライン11の戻り側により再度電解液貯留槽20に送られる。この循環を電解ユニットAで繰り返すことで過硫酸が継続して生成される。上記本システムの動作によって、上記のように過硫酸を含む硫酸溶液が、電解ユニットAから急速加熱ユニットB、洗浄ユニットC、排液貯留ユニットDに送液されて、電解ユニットAに環流することで、使用側である洗浄装置40に高濃度の過硫酸を含む高温の洗浄液を連続して供給することが可能になる。また、洗浄装置40で電子材料基板100の入れ替えに伴って洗浄を停止する際には、電解ユニットAにおける硫酸溶液の循環、電解を継続しつつ、開閉弁26を開じるとともに、開閉弁31を開く。これにより、送液ライン30に硫酸溶液が流入し、排液貯留槽50に該硫酸溶液が送液される。この際に、硫酸溶液は急速加熱器23によって加熱されており、高温で過硫酸を含む硫酸溶液が排液貯留槽50に供給されることになり、排液貯留槽50内の硫酸溶液の温度、過硫酸濃度が適切に維持される。なお、この際には、急速加熱器23による加熱温度を、洗浄時よりも低い温度となるように電源部25で通電量を制御するようにしてもよい。また、送液ポンプ21の調整によって、送液ライン22で送られる硫酸溶液の送液量を洗浄時よりも少ない量にすることができる。排液貯留槽50では、循環ラインの切換前に貯留されていた硫酸溶液に含まれる残留有機物等が硫酸溶液の補給もあって効果的に分解される。以上により、電子材料基板の入れ替えなどによって洗浄を停止する際にも、電解ユニットAで硫酸溶液の循環、電解が行われつつ、過硫酸を含む溶液の一部が電解ユニットAから急速加熱ユニットB、排液貯留ユニットDに送液されて、電解ユニットAに環流することで、過硫酸を生成しつつ、排液貯留槽に貯留されている硫酸溶液中の残留有機物等を効果的に分解することができる。なお、上記では説明しなかったが、排液貯留槽50の上流側で環流ライン45に排液ラインを分岐接続しておき、適宜時に、硫酸溶液を排液貯留槽50に送液せずに系外に排液できるように構成しても良い。排液ラインより随時硫酸溶液を少量ずつ排出することにより、系内の溶液中に蓄積するレジストドープ元素やその他の酸化分解されない物質が高濃度に至るまで蓄積するのを防止することができる。該動作は、環流ラインや排液ラインに設けた開閉弁の開閉制御などにより行うことができる。なお、上記では、第2の循環ラインで送液する際には第3の循環ラインは停止するものとして説明したが、第2の循環ラインで送液して洗浄を行っている際に、第3の洗浄ラインで硫酸溶液の一部を送液することも可能である。以上、本発明について上記実施形態に基づいて説明を行ったが、本発明は、上記実施形態の内容に限定されるものではなく、本発明を逸脱しない限りは適宜の変更が可能である。"