マスク基板のレジスト形成面に照射した検査光の反射光により前記レジスト形成面のレジストパターンを検出して欠陥を検査するレジスト検査装置において、前記マスク基板が載置されることで閉塞される開口状のマスク載置部を有する筐体と、前記筐体内にそれぞれ連通し、前記筐体内に対してエアパージ用のエアを供給及び排出する給気通路及び排気通路と、前記筐体に設けられ、前記マスク載置部に載置して前記筐体内を密閉状態とした前記マスク基板の前記筐体内に露出したレジスト形成面に照射する前記検査光と、該レジスト形成面からの前記反射光とがそれぞれ透過する光透過部と、を備えることを特徴とするレジスト検査装置。前記反射光から検出した前記レジストパターンを比較用レジストパターンと照合して該レジストパターンの欠陥検出を行う欠陥検出部と、該欠陥検出部が欠陥を検出したレジストパターンの位置を、前記レジスト形成面における前記検査光の照射位置から検出する欠陥位置検出部と、前記欠陥検出部及び前記欠陥位置検出部の検出結果を出力する検査結果出力部とをさらに備えることを特徴とする請求項1記載のレジスト検査装置。前記光透過部は、紫外光を透過する薄ガラスであることを特徴とする請求項1または2記載のレジスト検査装置。前記給気通路及び前記排気通路により前記筐体内に対して供給及び排出されるエアにより該筐体内の圧力制御を行う圧力制御部をさらに備えることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のレジスト検査装置。レジストに描画したパターンを現像工程において現像し、エッチング工程において前記パターンで遮光膜をエッチングした後、剥膜工程において前記レジストを剥離することでマスク基板を製造する際にマスク基板の欠陥検査方法であって、現像工程後でエッチング工程前と、エッチング工程後で剥膜工程前との少なくとも一方において、請求項1から4のうちいずれかに記載のレジスト検査装置を用いて、前記マスク基板のレジストパターンの欠陥検査を行うレジスト欠陥検査工程を含んでいる、ことを特徴とするマスク基板の欠陥検査方法。この発明はこれらの事情を鑑みてなされたものであり、レジスト検査により発生するアウトガスが検査用の光の光路上に残存せず、レンズ等光学素子の性能を劣化させる事のないレジスト検査およびレジストパターン検査を可能とするレジスト検査装置と、これを用いて行うことができる有用なマスク欠陥検査方法とを提供する事を目的としている。上記課題を解決するために、本発明の第1の態様のレジスト検査装置は、マスク基板のレジスト形成面に照射した検査光の反射光により前記レジスト形成面のレジストパターンを検出して欠陥を検査するレジスト検査装置において、前記マスク基板が載置されることで閉塞される開口状のマスク載置部を有する筐体と、前記筐体内にそれぞれ連通し、前記筐体内に対してエアパージ用のエアを供給及び排出する給気通路及び排気通路と、前記筐体に設けられ、前記マスク載置部に載置して前記筐体内を密閉状態とした前記マスク基板の前記筐体内に露出したレジスト形成面に照射する前記検査光と、該レジスト形成面からの前記反射光とがそれぞれ透過する光透過部と、を備えることを特徴とする。また、本発明の第2の態様のレジスト検査装置は、前記反射光から検出した前記レジストパターンを比較用レジストパターンと照合して該レジストパターンの欠陥検出を行う欠陥検出部と、該欠陥検出部が欠陥を検出したレジストパターンの位置を、前記レジスト形成面における前記検査光の照射位置から検出する欠陥位置検出部と、前記欠陥検出部及び前記欠陥位置検出部の検出結果を出力する検査結果出力部とをさらに備えることを特徴とする。さらに、本発明の第3の態様のレジスト検査装置は、前記光透過部は、紫外光を透過する薄ガラスであることを特徴とする。また、本発明の第4の態様のレジスト検査装置は、前記給気通路及び前記排気通路により前記筐体内に対して供給及び排出されるエアにより該筐体内の圧力制御を行う圧力制御部をさらに備えることを特徴とする。さらに、本発明の第5の態様のマスク基板の欠陥検査方法は、レジストに描画したパターンを現像工程において現像し、エッチング工程において前記パターンで遮光膜をエッチングした後、剥膜工程において前記レジストを剥離することでマスク基板を製造する際にマスク基板の欠陥検査方法であって、現像工程後でエッチング工程前と、エッチング工程後で剥膜工程前との少なくとも一方において、請求項1から4のうちいずれかに記載のレジスト検査装置を用いて、前記マスク基板のレジストパターンの欠陥検査を行うレジスト欠陥検査工程を含んでいる、ことを特徴とする。マスク製造工程においては、マスクブランクス上に描画装置にてパターンを描画した後、現像、エッチングによってパターニングを行った後、欠陥検査機で欠陥検査が行われている。つまり、マスクが最終形態になった後でなければ欠陥の有無を確認できない事になる。そのため、本発明の態様のように、現像後、エッチング後などのレジストがマスク上に存在する状態で欠陥検査を行うことにより、マスクの欠陥発生原因の追究、欠陥の早期処置が可能となる。この発明によるレジスト検査装置は、レジストから発生するアウトガスが欠陥検査装置内部へ拡散する事を防止して、光学素子の性能位置、光学素子の交換回避といった効果を得るのに役立つ。また、アウトガスによる影響を排除するために、レジスト形成面に対する検査光及び反射光が透過する光透過部を設けた筐体に、マスク基板を載置すると密閉空間となるマスク載置部を設けるだけでよく、さらに光透過部もアウトガスの影響を受けないように、筐体内に発生するアウトガスを、筐体内に連通する給気通路及び排気通路により供給及び排出されるエアを用いた筐体内のエアパージにより換気して筐体外部に排出することができる。本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。図1は一般的なマスク製造工程1の構成を示している。マスク製造工程1は描画装置2電子ビーム描画装置やレーザー描画装置、現像装置3、エッチング装置4、レジスト剥膜装置5、欠陥検査装置6を用いてそれぞれ行う工程を備えている。図2は本発明の実施の態様におけるレジスト検査装置6Aの構成を示す概念図である。レジスト検査装置6Aは、図4を参照して後述するマスク製造工程1Aにおける、現像装置3による現像工程後の欠陥検査用の現像後検査装置6aや、エッチング装置4によるエッチング工程後の欠陥検査用のエッチング後検査装置6bとして用いることができる。レジスト検査装置6Aは検査対象であるマスク7レチクルもしくはフォトマスクを保持するステージ8を備えている。このステージ8には、レジスト検査装置6Aを現像後検査装置6aとして用いる場合は、現像装置3による現像直後の、レジスト上にパターンが形成された状態のマスク7が設置される。レジスト検査装置6Aをエッチング後検査装置6bとして用いる場合は、エッチング装置4によるエッチング直後の、レジスト上のパターンが遮光膜にも形成された状態のマスク7が、ステージ8に設置される。ステージ8はモーター等のアクチュエータにより、X軸方向、Y軸方向へ駆動が可能である。ステージ8の位置は、X軸位置センサー9、Y軸位置センサー10により、モニターされており、制御部11により駆動制御される。また、レジスト検査装置6Aはレーザーなどの光源12を備えている。光源12からの光は、光学系13を介してマスク7のレジスト形成面に照射される。マスク7のレジストのパターン面から反射した光は、光学系13に戻り、受光部14に結像される。受光部14はCCDChargeCoupledDeviceやTDITimeDelayedIntegrationなどの転送方式によるイメージセンサを用いた画像センサーである。受光部14で捉えられたマスク7のレジストパターン画像は、画像処理部15に送られる。この際、X軸位置センサー9とY軸位置センサー10から得られる位置情報が、画像処理部15の欠陥検出部16によって検出される欠陥の座標と関連付けられる。欠陥検査が終了すると、結果は検査結果格納部17に送られ、検査結果として格納される。検査結果格納部17に格納されたデータは、必要に応じて結果出力部18を通して出力が可能である。次に、ステージ8に設けられるマスク固定用ホルダーおよびそこでのレジストパターン面の密閉方法に関して図3を用いて説明する。マスク固定用ホルダー19は図2におけるステージ8に備えられた構造体である。マスク固定用ホルダー19は、マスク7の形状に合った所定形状でくり抜き部を備えており、マスク7のパターン面レジスト面の最外周部と接触する事によりマスク7を固定するため、くり抜き部の底部には戴置面20が備えられている。戴置面20の下側には、透光性保護部材22を保持する枠状の支持体21が構成されており、この支持体21の開口部の全面を覆うように透光性保護部材22が張設されていて、マスク固定用ホルダー19、支持体21及び透光性保護部材22により筐体30が構成されている。透光性保護部材22は、例えば、特に微細なパターンの検出に適した短波長の紫外光を透過する薄ガラス板で構成することが好ましい。マスク7がマスク固定ホルダー19に設置されると、マスク7のレジスト7aを形成した面、支持体21、透光性保護部材22によって筐体30内に密閉空間31が形成される。また、支持体21には、筐体30内に連通する少なくとも2つの通気穴23、24が作られており、それぞれにガス供給管25とガス排気管26が接続され、マスク7がマスク固定ホルダー19に設置され、密閉空間31を形成している間は、常に窒素等の不活性ガス27をガス供給ユニット32によりガス供給管25から筐体30内に供給し、同時に筐体30内のアウトガス28をガス排気管26に接続したファンユニット33により筐体30内から強制的に排気をすることで、密閉空間31内に発生するレジスト7aからのアウトガス28を排出し、かつ、ガス供給ユニット32のガス供給量とファンユニット33のガス排出量とを制御部11でコントロールすることで、密閉空間31内の圧力を常に一定に保つ。したがって、マスク7に対して光学系13を介して光29を照射したときに、レジスト7aから発生するアウトガス28を密閉空間31の外部へ放出するのを防ぐ事ができる。これにより、光学系13等の光学素子の性能劣化の防止に役立ち、光学系13等の光学素子の交換作業等、装置を正常な状態に戻すための作業は不要となり、装置修繕費、装置ダウンタイムの節約が可能となる。また、単なる密閉空間内にマスクを入れてアウトガスが発散する事を防ぐのとは異なり、密閉空間31内は常に新しい窒素等の不活性ガス27で満たされ、レジスト7aから発生するアウトガス28もガス排気管26から密閉空間31筐体30の外部へ強制排気されるため、密閉空間31内もアウトガス28による影響を最小限に抑え、透光性保護部材22の透過率の低下防止も同時に達成される。以上に説明したように、本実施形態のレジスト検査装置6Aは、マスク7マスク基板のレジスト7a形成面に照射した光源12からの光検査光の反射光を受光部14で受光してレジスト7a形成面のレジストパターンを検出し欠陥を検査するために、マスク7が載置されることで閉塞される開口状のマスク載置面20マスク載置部を有するマスク固定用ホルダー19と、支持体21を介して保持された透光性保護部材22光透過部とにより構成された筐体30と、支持体21に形成されて筐体30内にそれぞれ連通し、筐体30内に対して不活性ガス27エアパージ用のエアを供給及び排出する通気穴23乃至ガス供給管25給気通路及び通気穴24乃至ガス排気管26排気通路とを有する構成とし、マスク載置面20に載置して筐体30内を密閉空間31密閉状態としたマスク7の筐体30内に露出したレジスト7a形成面に照射する光と、レジスト7a形成面からの反射光とが、透光性保護部材22をそれぞれ透過する構成とした。また、本実施形態のレジスト検査装置6Aは、反射光を受光部14で受光して検出したレジスト7aのパターンを、比較用レジストパターンと照合してレジスト7aパターンの欠陥検出を行う欠陥検出部16と、欠陥検出部16が欠陥を検出したレジスト7aパターンの位置を、X軸位置センサー9及びY軸位置センサー10の検出結果に基づくレジスト7a形成面における光29の照射位置から検出する欠陥検出部16欠陥位置検出部と、欠陥検出部16の検出結果欠陥検出、欠陥位置を出力する検査結果出力部17とをさらに備えている。なお、欠陥検査に用いる比較用レジストパターンは、ダイトゥダイ検査であれば同一マスク7上の他の箇所のレジスト7aのパターンとなり、ダイトゥデータベース検査であれば設計データとなる。さらに、本実施形態のレジスト検査装置6Aは、透光性保護部材22は、紫外光を透過する薄ガラスとしている。また、本実施形態のレジスト検査装置6Aは、通気穴23乃至ガス供給管25と通気穴24乃至ガス排気管26とにより筐体30内に対して供給される不活性ガス27及びアウトガス28により筐体30内の圧力制御を行う制御部11をさらに備えている。図1に示す一般的なマスク製造工程1において、マスク製造工程1の途中でレジストパターン検査ができると、マスク製造プロセス途中の現像後、エッチング後における検査が可能となる。このレジストパターン検査を本発明の態様によるレジスト検査装置6Aを用いて行うことにより、マスク製造工程1は図4のようになる。マスク製造工程1は描画装置2電子ビーム描画装置やレーザー描画装置、現像装置3、エッチング装置4、剥膜装置5、欠陥検査装置6をそれぞれ用いて行う一般的な工程に加えて、現像後検査装置6aを用いて現像工程後に行う現像後検査工程と、エッチング後検査装置6bを用いてエッチング工程後に行うエッチング後検査工程とを有している。これらの現像後検査装置6aやエッチング後検査装置6bはいずれも、現像後の時点やエッチング後の時点のマスク7のレジスト7aのパターンを検出、検査するものであり、それらの装置として上述したレジスト検査装置6Aを利用することができる。本発明の態様によるレジスト検査装置6Aは、各プロセス工程後にあたる、現像後及びエッチング後の、レジスト7aがまだマスク7上に存在する状態でのレジスト7aのパターンの欠陥検査に使用される。これにより、欠陥発生工程の早期発見、マスク7が良品であるかどうかを最終の欠陥検査装置6を用いて実行する欠陥検査よりも早い段階で見極めることが可能となる。