"式1:式中、XおよびYはそれぞれ互いに独立して酸素原子または硫黄原子であり、R1は炭素数1~8のアルキル基であり、R2は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数1~8のアルキルスルホニル基であり、Mは金属原子を示す。で表される金属錯体。式1において、Mで示される金属原子が銅、コバルトまたはニッケルである請求項1に記載の金属錯体。請求項1または2に記載の少なくとも1種類の金属錯体と、少なくとも1種類のマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物。溶媒を含むか、あるいは溶媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が溶媒を兼ねる溶液形態である請求項3に記載の紫外線吸収部材用組成物。分散媒を含むか、あるいは分散媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が分散媒を兼ね、該金属錯体の微粒子が分散した分散液形態である請求項3に記載の紫外線吸収部材用組成物。請求項3~5のいずれか1項に記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜を有する積層体としての紫外線吸収部材である請求項6に記載の紫外線吸収部材。該金属錯体がマトリックス材料の膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材である請求項6に記載の紫外線吸収部材。本発明は、前記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであり、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であったUV-Aを十分に遮蔽することができる金属錯体、これを含有する紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供することを目的としている。本発明は、以下に示す紫外線吸収剤として有用な金属錯体、これを含有する紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材に関する。項1.式1:式中、XおよびYはそれぞれ互いに独立して酸素原子または硫黄原子であり、R1は炭素数1~8のアルキル基であり、R2は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数1~8のアルキルスルホニル基であり、Mは金属原子を示す。で表される金属錯体。項2.式1において、Mで示される金属原子が銅、コバルトまたはニッケルである項1に記載の金属錯体。項3.項1または2に記載の少なくとも1種類の金属錯体と、少なくとも1種類のマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物。項4.溶媒を含むか、あるいは溶媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が溶媒を兼ねる溶液形態である項3に記載の紫外線吸収部材用組成物。項5.分散媒を含むか、あるいは分散媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が分散媒を兼ね、該金属錯体の微粒子が分散した分散液形態である項3に記載の紫外線吸収部材用組成物。項6.項3~5のいずれか1項に記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。項7.基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜を有する積層体としての紫外線吸収部材である項6に記載の紫外線吸収部材。項8.該金属錯体がマトリックス材料の膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材である項6に記載の紫外線吸収部材。本発明は、式1で表される金属錯体を提供する。また、本発明は、式1で表される金属錯体と、少なくとも1種類のマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含有することを特徴とする紫外線吸収部材用組成物を提供する。本発明における紫外線吸収部材用組成物は、式1で表される金属錯体が溶解状態にあるものであってもよいし、式1で表される金属錯体の微粒子が分散状態にあるものであってもよい。溶解状態の式1で表される金属錯体を含有する紫外線吸収部材用組成物の場合、最終的に得られる紫外線吸収部材の可視光透過率を高度に保つ上で特に有利であり、一方、分散状態の式1で表される金属錯体微粒子を含有する紫外線吸収部材用組成物の場合には、耐光性が優れた紫外線吸収部材を得る上で特に有利となる。また、本発明は前記の紫外線吸収部材用組成物を用いて、ガラス基材や樹脂基材上にコーティング膜を施して得られる紫外線吸収部材を提供する。式1で表される金属錯体は、従来遮蔽困難であったUV-Aを効率よく遮蔽し、また一般的な有機系紫外線吸収剤に比べてはるかに良好な耐光性を示し、また長期間にわたって光を照射し続けても、その紫外線吸収能が低下しにくい。また、金属酸化物微粒子に比べて紫外線遮蔽能が大幅に優れているため、少量の添加で十分な紫外線遮蔽能を付与することができ、さらに、可視光域における透明性が非常に優れていることも特筆すべき特徴である。本発明によると、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であったUV-Aを十分に遮蔽することができる紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供することができる。以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、式1:式中、XおよびYはそれぞれ互いに独立して酸素原子または硫黄原子であり、R1は炭素数1~8のアルキル基であり、R2は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数1~8のアルキルスルホニル基であり、Mは金属原子を示す。で表される金属錯体、および少なくとも1種類の該金属錯体と、少なくとも1種類のマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供するものである。式1におけるR1、R2およびMについて以下に例示する。式中、R1としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。原料の入手性の観点から、メチル基、エチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基が好ましく、メチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。式中、R2に帰属される、前記の炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。原料の入手性の観点から、メチル基、エチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基が好ましく、メチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。式中、R2に帰属される、前記の炭素数1~4のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、tert-ブトキシ基等が挙げられる。原料の入手性の観点から、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。式中、R2に帰属される、前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。原料の入手性の観点からフルオロ基、クロロ基が好ましく、クロロ基がより好ましい。式中、R2に帰属される、前記の炭素数1~8のアルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、1-プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、1-ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、sec-ブチルスルホニル基、tert-ブチルスルホニル基、1-ペンチルスルホニル基、イソペンチルスルホニル基、ネオペンチルスルホニル基、シクロペンチルスルホニル基、1-ヘキシルスルホニル基、イソヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、1-ヘプチルスルホニル基、1-オクチルスルホニル基、1-2-エチルヘキシルスルホニル基等のアルキルスルホニル基が挙げられる。原料の入手性の観点から、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、1-ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、1-ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、1-オクチルスルホニル基、1-2-エチルヘキシルスルホニル基が好ましく、メチルスルホニル基、1-ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、1-ヘキシルスルホニル基、1-オクチルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基、1-オクチルスルホニル基がさらに好ましい。前記のR2は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個、好ましくは1または2個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数1~8のアルキルスルホニル基であり、得られる金属錯体の紫外線吸収能をはじめとする光吸収性能の観点から、存在しないか、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数1~8のアルキルスルホニル基であることが好ましい。式中、Mで表される金属原子は、金属錯体の耐光性の観点から遷移金属であることが好ましく、中でも経済性の観点から銅、コバルトまたはニッケル原子であることがより好ましい。式1で表される金属錯体は、下記式2で表される配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることで合成することができる。式2:式2で表される配位子は、例えば、特開昭56-87575において開示されている方法で合成することができる。以下、式2で表される配位子の製造方法を一部説明する。≪配位子の製造方法≫i式2においてイミノ基の左右の構造が対称の場合例えば、特開昭56-87575に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、2-アミノ-6-アルキルスルホニルベンゾチアゾールまたは2-アミノ-6-アルキルスルホニルベンゾオキサゾールをフェノール等の酸触媒存在下において、150~185°Cに加熱し、反応させることによってビス{2-[6-アルキルスルホニルベンゾチアゾリル]}アミンまたはビス{2-[6-アルキルスルホニルベンゾオキサゾリル]}アミンを合成することができる。ii式2においてイミノ基の左右の構造が非対称の場合2-アミノ-6-アルキルスルホニルベンゾチアゾールまたは2-アミノ-6-アルキルスルホニルベンゾオキサゾールのいずれかと、2-アミノ-置換ベンゾチアゾールまたは2-アミノ-置換ベンゾオキサゾールのいずれかを、フェノール等の酸触媒存在下において、150~185°Cに加熱し、反応させることによって{2-[置換ベンゾチアゾリル]}{2-[6-アルキルスルホニルベンゾチアゾリル]}アミン、{2-[置換ベンゾオキサゾリル]}{2-[6-アルキルスルホニルベンゾオキサゾリル]}アミン、{2-[置換ベンゾオキサゾリル]}{2-[6-アルキルスルホニルベンゾチアゾリル]}アミン、{2-[置換ベンゾチアゾリル]}{2-[6-アルキルスルホニルベンゾオキサゾリル]}アミンを合成することができる。≪式1で表される金属錯体の製造方法≫例えば、Polyhedron2006,25,2363-2374やJ.Org.Chem.2002,67,5753-5772等に記載されている方法に従って、前記のi~iiの製造方法に基づいて得られた配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることによって対応する金属錯体を合成することができる。例えば、前記のi~iiの製造方法に基づいて得られた配位子と、式1中のMに対応する金属の酢酸塩を、メタノール、エタノール、水、N,N-ジメチルホルムアミドDMF等の溶媒中で反応させることにより合成することができる。≪式1で表される少なくとも1種類の金属錯体と、少なくとも1種類のマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物の製造方法≫本発明における紫外線吸収部材用組成物は、該紫外線吸収部材用組成物中において式1で表される金属錯体が溶解状態にある場合と、式1で表される金属錯体が微粒子が分散状態にある場合を示す。それぞれについて以下説明する。i式1で表される金属錯体が分子レベルで溶解状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物具体的には、マトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好であり、且つ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒を併用することで、該溶媒中にマトリックス材料および該金属錯体が溶解した、均一な紫外線吸収部材用組成物を製造することができる。尚、マトリックス材料の代わりに、マトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを使用する場合、前記溶媒は必ずしも必要ではなく、該重合性モノマーをマトリックス材料の前駆体、兼溶媒として使用することも可能である。前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができる。ここで、無機系バインダーとはポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。尚、本発明において使用するマトリックス材料という表現は、有機系または無機系バインダーと呼ばれるマトリックス成分固形分そのものだけでなく、該マトリックス成分を含む溶液例えば市販のバインダー溶液も含む。前記溶媒を用いることなく、前記マトリックス成分を含む溶液に金属錯体が溶解している態様も本発明に含まれる。有機系バインダーとしては、例えば、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリメタアクリル酸プロピル、ポリメタアクリル酸ブチル、ポリメタアクリル酸シクロヘキシル等のポリメタアクリル酸エステル系樹脂や、メタアクリル酸メチル-メタアクリル酸エチル共重合体、メタアクリル酸メチル-メタアクリル酸ブチル共重合体等のメタアクリル酸エステル共重合体や、ポリスチレン、ポリα-メチルスチレン等のポリスチレン系樹脂や、スチレン-ブタジエン共重合体、スチレン-イソプレン共重合体、スチレン-アクリル酸共重合体、スチレン-アクリル酸エステル共重合体、スチレン-マレイン酸共重合体、スチレン-マレイン酸エステル系共重合体等のスチレン系共重合体や、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンアジペート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂や、ポリオキシメチレン、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル系樹脂や、シリコーン系樹脂や、ポリスルホン系樹脂や、ポリアミド系樹脂や、ポリイミド系樹脂や、ポリウレタン系樹脂や、ポリカーボネート系樹脂や、エポキシ系樹脂や、フェノール系樹脂や、メラミン樹脂や、ユリア樹脂や、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂や、エチレン-プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン-ブタジエンゴム、アクリロニトリル-ブタジエンゴム等の合成ゴムもしくは天然ゴム等が挙げられる。基材への密着性や透明性の観点から、好ましくは、ポリメタアクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂であり、より好ましくは、ポリメタアクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリビニル系樹脂である。尚、メタアクリルは、メタクリルおよびアクリルを示す。無機系バインダーとしては、ポリシロキサン系バインダーを好適に用いることができる。この場合、ポリシロキサン系バインダー前駆体としてシリコンアルコキシドの加水分解重縮合反応により得られるゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液を好適に用いることができる。シリコンアルコキシドのゾル溶液は、通常、有機溶媒中で酸触媒存在下、シリコンアルコキシドに水を添加し、加水分解重縮合させることにより、調製することができるが、市販のゾル溶液を使用しても良い。以下、シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製方法を具体的に説明する。シリコンアルコキシドシリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の4官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル-トリス2-メトキシエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル-トリス2-メトキシエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシエトキシシラン、エチルジエトキシメトキシシラン等の3官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス2-メトキシエトキシジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の2官能アルコキシシランが挙げられる。これらの中でも、得られる膜の状態や強度、経済性の観点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランであることが好ましい。これらのシリコンアルコキシドは、単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。2種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。また、一般的にシランカップリング剤として知られている、トリメトキシシリルプロパンチオール、トリエトキシシリルプロパンチオール、3-ジメトキシメチルシリル-1-プロパンチオール等や、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルジエトキシメチルシラン、3-N-フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、4-2-アミノエチルアミノメチルフェネチルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルエチレンジアミン、N,N’-ビス[3-トリメトキシシリルプロピル]エチレンジアミン等や、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン等や、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等や、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を添加併用することも可能である。また、最終的に得られるコーティング膜に所望の物性を付与するために、必要に応じて、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等を添加併用してもよい。例えば、反射率を高くしたい場合にはチタンアルコキシドや亜鉛アルコキシドを、また機械的強度、耐アルカリ性を高くしたい場合にはジルコニウムアルコキシドを、耐候性を向上させたい場合にはニッケルアルコキシドを添加併用することが効果的である。酸触媒酸触媒としては、特に限定されないが、例えば硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸や、蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が挙げられる。加水分解重縮合反応終了後に酸が残存すると、縮合安定性が悪化するため、低沸点で揮発性が高く、pKaの小さな蟻酸を用いることが好ましい。酸触媒の添加量としては、十分な触媒作用を発揮する限り、特に限定されるものではないが、通常シリコンアルコキシド1モルに対して0.01モル以上、より好ましくは0.3モル以上を配合することが好ましい。0.01モル未満では十分な触媒作用が得られないおそれがあり、また過剰に添加した場合には、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液が、残存する酸により経時的に劣化するおそれがある。よってシリコンアルコキシド1モルに対して1モル以下の割合で配合することが好ましい。水上記シリコンアルコキシドの加水分解を引き起こし得る限り、特に限定されないが、シリコンアルコキシド1モルに対し、2~6モルの割合で水を添加することが好ましい。2モル未満では十分に加水分解が進行しないおそれがあり、6モルを超えると加水分解が速く進行しすぎてしまい、続く重縮合反応の進行を妨げることに加え、反応後に除去する水の量が多くなり効率的でない。反応溶媒シリコンアルコキシド、水、酸触媒に加えて反応溶媒を使用することにより、加水分解速度を適度に低め、確実に加水分解重縮合を進行させることができる。さらに、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液の粘度をハンドリングしやすいレベルにまで調整するための希釈剤としての役割も兼ねる。反応溶媒としては、前記シリコンアルコキシドが溶解するものであれば特に限定されることなく、適宜選択し使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールIPA、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、メチルエチルケトンMEK、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、3-オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシプロピオン酸-n-ブチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸-n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸エチル、γ-ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、n-ペンタン、シクロペンタン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、n-ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、DMF等が挙げられる。反応性や経済性の観点から、好ましくは、メタノール、エタノール、IPA、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類、エチレングリコールや1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類、酢酸エチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシプロピオン酸-n-ブチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸-n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸エチル、γ-ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、PGMEA、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類等である。後工程において、該シリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液に式1で表される金属錯体を溶解混合する場合には、あらかじめ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒を本工程における反応溶媒として使用することで、該金属錯体を溶解混合する際の労力を軽減することができる。ただし、該金属錯体の貧溶媒を用いて本工程におけるシリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液を調製した場合であっても、該金属錯体を溶解混合する前に該シリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液の溶媒を該金属錯体の良溶媒に置換する、あるいは該シリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液に該金属錯体の良溶媒を添加することによって、問題なく溶解混合することもできる。前記反応溶媒の使用量は、シリコンアルコキシド100重量部に対し、50~1000重量部、好ましくは100~500重量部の範囲とすることが望ましい。50重量部未満では、加水分解重縮合反応を適度な反応速度で進行させることが困難になるおそれがあり、1000重量部を超えると、加水分解重縮合反応の速度が低下するため効率的でないことに加えて、後述の減圧留去工程に長時間を必要とするおそれがある。まず、1種類または2種類以上のシリコンアルコキシドを、酸触媒、水及び溶媒と混合する。この溶液を0~150°C、好ましくは50~100°Cの温度に維持することにより、加水分解重縮合反応を進行させる。0°C未満では、加水分解重縮合反応が進行しにくくなるおそれがある。また150°Cを超えると加水分解重縮合反応が急速に進行するため、未反応のアルコキシ基が残存したり、ゲル化や着色を招くおそれがある。加水分解重縮合反応の時間は、温度条件にもよるが、通常1~24時間、より好ましくは2~8時間である。1時間未満では、十分に加水分解重縮合反応が進行しないおそれがあり、24時間を超えてもそれ以上反応が進まないことから経済的でない。加水分解重縮合反応により副生するアルコールと水を系外に除去するために、反応終了後、あるいは反応中に、反応液を減圧留去することが好ましい。減圧留去しながら反応を進行させれば、重縮合反応の反応速度を向上させる効果も見込めるためより好ましい。この工程において、前記酸触媒として蟻酸等の低沸点で揮発性の高い触媒を用いれば、溶媒とともに酸触媒も系外に除去でき、反応終了後のゾル溶液の安定性を確保することができる。このようにして加水分解重縮合反応の進行により、無機系バインダー:ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル溶液シロキサンオリゴマー溶液を得ることができる。これらのマトリックス材料は単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。組み合わせて使用する場合、有機系バインダーから選ばれる異なる2種類以上を組み合わせてもよいし、無機系バインダーから選ばれる異なる2種類以上を組み合わせてもよいし、有機系バインダーと無機系バインダーのそれぞれから選ばれる異なる2種類以上を組み合わせてもよい。前記の、マトリックス材料およびまたはマトリックスの材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好であり、且つ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒としては、用いるマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、および該金属錯体の種類に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、IPA、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、MEK、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシプロピオン酸-n-ブチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸エチル、γ-ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、n-ペンタン、シクロペンタン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、n-ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、PGMEA、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、DMF等が挙げられる。これらの中で、該金属錯体の溶解性の観点からより好ましいものを挙げると、メタノール、エタノール、IPA、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、MEK、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシプロピオン酸-n-ブチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸エチル、γ-ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、PGMEA、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、DMF等である。さらに好ましくは、アルコール類としてはテトラフルオロプロパノール等が、ハロゲン化炭化水素類としてはクロロホルム、ジクロロメタン等が、ケトン類としてはMEK、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が、エステル類としてはγ-ブチロラクトン、乳酸エチル等が、エーテル類としてはシクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等が、芳香族類としてはトルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼンが、ラクタム類としては2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム等が、グリコールエーテル類としてはPGMEA等が、その他スルホラン、ジメチルスルホキシド、DMF等が挙げられる。また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記溶媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α-メチルスチレン、β-メチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、α-エチルスチレン、α-ブチルスチレン、α-ヘキシルスチレン、4-クロロスチレン、3-クロロスチレン、4-ブロモスチレン、4-ニトロスチレン、4-メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、メタアクリル酸や、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、2-メチルブチルメタアクリレート、2-エチルブチルメタアクリレート、3-メチルブチルメタアクリレート、1,3-ジメチルブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ヘプチルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、3-エトキシプロピルメタアクリレート、2-エトキシブチルメタアクリレート、3-エトキシブチルメタアクリレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ヒドロキシブチルメタアクリレート、エチル-α-ヒドロキシメチルメタアクリレート、メチル-α-ヒドロキシメチルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェニルエチルメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート等のメタアクリル酸エステルや、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、3,4-エポキシ-4-メチルシクロヘキシル-2-プロピレンオキシドおよびビス3,4-エポキシシクロヘキシルエーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ブロモ化ビスフェノールA、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3,3-ジメチルオキセタン、3,3-ジクロルメチルオキセタン、3-エチル-3-フェノキシメチルオキセタン、3-エチル-3-[{3-エチルオキセタニルメトキシ}メチル]オキセタン、ビス3-エチル-3-オキセタニルメチルエーテル、1,4-ビス[{3-エチル-3-オキセタニルメトキシ}メチル]ベンゼン、トリ[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチル]ベンゼン、ビス[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチルフェニル]エーテル、3-エチル-3-オキセタニルメトキシオリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。また、無機系重合性モノマーとして、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の4官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル-トリス2-メトキシエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル-トリス2-メトキシエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシエトキシシラン、エチルジエトキシメトキシシラン等の3官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス2-メトキシエトキシジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の2官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等を使用することができる。ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。2種類以上を組み合わせた混合溶媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。前記溶媒の使用量は、所望する紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体の濃度や、使用する溶媒の種類、使用するマトリックス材料の前駆体の溶解度等を考慮した上で適宜調整することができ、特に限定されるものではないが、該金属錯体の溶解性の観点から言えば、通常該金属錯体100重量部に対して50~100000重量部、好ましくは100~5000重量部、より好ましくは200~3000重量部である。50重量部より少ないと、該金属錯体が完全に溶解しないおそれがあり、最終的に得られる紫外線吸収部材の可視光透過率の低下を招くおそれがある。また100000重量部よりも多いと、紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体濃度が低下し、最終的に得られる紫外線吸収部材に十分な紫外線吸収能を付与できない可能性がある。該金属錯体と、マトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを溶媒中に溶解させる際には、事前にマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを溶媒中に溶解させておき、ここに該金属錯体を添加し溶解させてもよいし、事前に該金属錯体を溶媒に溶解させ、この溶液とマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを混合し溶解させてもよいし、あるいは該金属錯体とマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを同時に溶媒と混合し溶解させてもよい。尚、重合性モノマーを、マトリックス材料の前駆体、兼溶媒として使用する場合であっても、同様の手順で混合溶解させることが可能である。ここで、用いるマトリックス材料が、マトリックス成分が溶解している溶液であり、且つ該溶液の溶媒が該金属錯体の良溶媒である場合には、該金属錯体とマトリックス材料マトリックス成分が溶解している溶液を混合するだけでもよい。また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、離型剤、蛍光増白剤等を適宜添加してもよい。また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の紫外線吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。熱硬化の場合に使用されるラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリル、2,2’-アゾビスイソバレロニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサノン-1-カルボニトリル等のアゾ系化合物や、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキシド類や、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、2,4-ジクロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド等を挙げることができる。光硬化の場合に用いられるラジカル重合開始剤としては、例えば、p-イソプロピル-α-ヒドロキシイソブチルフェノン、α-ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、4’-メチルチオ-2,2-ジメチル-2-モルホリノアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル、2-クロロチオキサントン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。熱硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄III、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩等を挙げることができる。光硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩等を挙げることができる。硬化剤としては、上記重合性モノマーとしてエポキシ系モノマーを使用する際に使用されるものとして、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物や、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、N-アミノエチルピペラジン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、ピペリジン、N,N-ジメチルピペラジン等の脂肪族アミンや、m-フェニレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、44ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族アミンや、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール類や、三フッ化ホウ素アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄III、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩や、ポリメルカプタン、ポリサルファイド等を挙げることができる。中でも、酸無水物類が重合後のエポキシ樹脂の機械特性を向上する点で好ましく、操作性において常温で液状のものが好ましい。具体的には、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等を挙げることができる。常温で固体の酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物を使用する場合には、常温で液状の酸無水物に溶解させ、常温で液状の混合物として使用することが操作上好ましい。エポキシ系モノマーの上記硬化反応を促進するために、さらに硬化促進剤を使用することもできる。硬化促進剤は、単独または2種以上を混合して使用することができる。例えば、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリスジアミノメチルフェノール、1,8-ジアザビスシクロ5,4,0ウンデセン-7とそのオクチル酸塩等の第三級アミン類やイミダゾール類および/またはそれらの有機カルボン酸塩や、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、ベンジルトリフェニルホスホニウム臭素塩、ベンジルトリブチルホスホニウム臭素塩等のホスフィン類および/またはそれらの第四級塩や、オクチル酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸錫等の有機カルボン酸金属塩や、亜鉛とβ-ジケトンよりなるアセチルアセトン亜鉛キレート、ベンゾイルアセトン亜鉛キレート、ジベンゾイルメタン亜鉛キレート、アセト酢酸エチル亜鉛キレート等の金属-有機キレート化合物や、芳香族スルホニウム塩等が挙げられる。ii該金属錯体の微粒子が分散状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物具体的には、該金属錯体の溶解性が十分低く、且つマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好な分散媒を用いることで、マトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーが溶解した分散媒中に該金属錯体の微粒子が分散されている紫外線吸収部材用組成物を製造することができる。尚、マトリックス材料の代わりに、マトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーのみを使用する場合、前記分散媒は必ずしも必要ではなく、該重合性モノマーをマトリックス材料の前駆体、兼分散媒として使用することも可能である。また、用いるマトリックス材料が、マトリックス成分が溶解している溶液であり、且つ該溶液の溶媒が該金属錯体の溶解性が十分に低いものである場合には、必ずしも前記の分散媒を併用する必要はなく、マトリックス材料マトリックス成分が溶解している溶液に該金属錯体の微粒子を直接分散させることも可能である。あらかじめ、適当な分散媒中に該金属錯体を分散させ、該金属錯体微粒子の分散液を調製し、この分散液中にマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを溶解させてもよいし、あらかじめマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを適当な分散媒中に溶解させ、ここに該金属錯体を分散させてもよい。尚、重合性モノマーを、マトリックス材料の前駆体、兼分散媒として使用する場合であっても、同様の手順で混合分散させることが可能である。前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができ、前記のi式1で表される金属錯体が分子レベルで溶解状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物の項で述べたものと同範囲内から適宜選択し、使用することができる。前記の、該金属錯体の溶解性が十分低く、且つマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好な分散媒としては、用いるマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、および該金属錯体の種類に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、水や、メタノール、エタノール、IPA、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、MEK、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、3-オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシプロピオン酸-n-ブチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸エチル、γ-ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、n-ペンタン、シクロペンタン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、n-ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルアセテート、PGMEA、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、DMF等が挙げられる。用いる該金属錯体、ならびにマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーの種類に応じて好ましい分散媒は異なるが、経済性や分散性、分散液の安定性の観点から、水、メタノール、エタノール、IPA、ブタノール、エチレングリコールや1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、ジエチレングリコール、アセトン、MEK、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、トルエン、キシレン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、n-ヘプタン、ε-カプロラクタム、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、PGMEA、ジエチレングリコールジメチルエーテルであることが好ましく、より好ましくは、水、メタノール、エタノール、IPA、PGMEA、エチレングリコール、トルエン、キシレン、シクロへキサン、n-ヘプタンである。また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記分散媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α-メチルスチレン、β-メチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、α-エチルスチレン、α-ブチルスチレン、α-ヘキシルスチレン、4-クロロスチレン、3-クロロスチレン、4-ブロモスチレン、4-ニトロスチレン、4-メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、メタアクリル酸や、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、2-メチルブチルメタアクリレート、2-エチルブチルメタアクリレート、3-メチルブチルメタアクリレート、1,3-ジメチルブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ヘプチルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、3-エトキシプロピルメタアクリレート、2-エトキシブチルメタアクリレート、3-エトキシブチルメタアクリレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ヒドロキシブチルメタアクリレート、エチル-α-ヒドロキシメチルメタアクリレート、メチル-α-ヒドロキシメチルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェニルエチルメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート等のメタアクリル酸エステルや、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、3,4-エポキシ-4-メチルシクロヘキシル-2-プロピレンオキシドおよびビス3,4-エポキシシクロヘキシルエーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ブロモ化ビスフェノールA、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3,3-ジメチルオキセタン、3,3-ジクロルメチルオキセタン、3-エチル-3-フェノキシメチルオキセタン、3-エチル-3-[{3-エチルオキセタニルメトキシ}メチル]オキセタン、ビス3-エチル-3-オキセタニルメチルエーテル、1,4-ビス[{3-エチル-3-オキセタニルメトキシ}メチル]ベンゼン、トリ[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチル]ベンゼン、ビス[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチルフェニル]エーテル、3-エチル-3-オキセタニルメトキシオリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。無機系重合性モノマーとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の4官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル-トリス2-メトキシエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル-トリス2-メトキシエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシエトキシシラン、エチルジエトキシメトキシシラン等の3官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス2-メトキシエトキシジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の2官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等が挙げられる。ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。これらの分散媒は、単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。2種類以上を組み合わせた混合分散媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。使用する分散媒が、該金属錯体の溶解性が十分低いものでなければ、該金属錯体の微粒化が阻害され、安定な分散液が得られない。この理由は、詳らかではないが、おそらく以下に述べる機構によるものと考えられる。該金属錯体の微粒子の分散安定化は、粉砕分散過程において生成した該金属錯体の微粒子表面に、後述の分散剤が吸着し、その吸着した分散剤同士の静電反発、立体反発により微粒子同士の再凝集が抑制され、安定な分散状態がもたらされる。しかしこの分散系に該金属錯体の良溶媒が存在すると、該金属錯体の微粒子に対する分散剤の吸着作用と溶媒の溶解作用の二つの作用が競争し、溶媒の溶解作用により分散剤の吸着が一部妨げられ、結果として微粒化が阻害され、分散安定性も低下してしまう。前記分散媒の使用量は、紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体の所望の濃度や、使用するマトリックス材料およびまたはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーの溶解度等を考慮した上で適宜調整することができ、特に限定されるものではないが、該金属錯体の分散性の観点から言えば、通常該金属錯体100重量部に対して40~9900重量部、好ましくは100~1900重量部である。40重量部より少ないと、該金属錯体微粒子の分散安定性が低下するおそれがある。また9900重量部よりも多いと、固形分濃度が低下するため十分な剪断力を与えることができず、該金属錯体を微粒化するためにかかる時間が長くなり効率が低下するおそれがある。前記金属錯体微粒子の紫外線吸収部材用組成物中の平均粒子径は、10nm以上200nm以下、好ましくは10nm以上150nm以下、より好ましくは10nm以上120nm以下、さらに好ましくは10nm以上100nm以下である。平均粒子径が200nmよりも大きいと、可視光透過率が著しく低下し、また最終的に得られるコーティング膜の機械的強度が低下するおそれがある。さらに粒子径が200nmよりも大きい場合、粒子の表面積の低下により、添加量に見合う紫外線吸収能が得られず、コスト面で不利である。また、平均粒子径が10nm以下の場合には、溶解状態に近くなり可視透過率は向上するが、耐光性が低下し、分散系で使用するメリットが損なわれるおそれがある。分散機前記金属錯体を微粒化するにあたって使用できる分散機としては、特に限定されるものではないが、例えば、ペイントシェーカー、ボールミル、ナノミル、アトライター、バスケットミル、サンドミル、サンドグラインダー、ダイノーミル、ディスパーマット、SCミル、スパイクミル、アジテーターミル等のメディア型分散機や、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー、デゾルバー、ディスパー、高速インペラー分散機等のメディアレス型分散機が挙げられる。中でも、コスト、処理能力の面から、メディア型分散機を使用するのが好ましい。また、これらのうちの一つを単独で用いても良く、2種類以上の装置を組み合わせて使用しても良い。分散メディア分散メディアとしては、用いる分散機の分散室内部の材質に応じて、ステンレス鋼、スチール等の鋼球ビーズや、アルミナ、ステアタイト、ジルコニア、ジルコン、シリカ、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックスビーズや、ソーダガラス、ハイビー等のガラスビーズや、WC等の超硬ビーズ等の中から適宜選択し使用することができ、そのビーズ径は0.03~1.5mmφの範囲が好ましい。該金属錯体を微粒化し、分散させるための本分散工程においては、該金属錯体と分散メディアの衝突により、該金属錯体に十分な剪断力を負荷し、粉砕分散させることで微粒化する。ここで、該金属錯体と分散メディアの衝突エネルギーにより、分散液の液温が上昇するため、公知の冷却装置により、分散液を冷却しながら分散を実施するのが好ましい。冷却温度は特に限定されるものではないが、通常-50~120°C、好ましくは-30~80°C、さらに好ましくは-20~60°Cである。分散剤分散剤は、該金属錯体を分散媒中に安定に分散させるために、必要に応じて配合される。分散剤としては、例えば、アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジニウム塩、イミダゾリウム塩等のカチオン性分散剤や、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルジアリールジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等のアニオン性分散剤や、アルキルベタインやアミドベタイン等の両性分散剤や、ノニオン性分散剤や、フッ素系分散剤や、シリコン系分散剤や、高分子系分散剤等を使用することができる。中でも、次に例示するようなノニオン性分散剤や高分子系分散剤が特に好ましい。ノニオン性分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類や、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類や、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類や、ソルビタン脂肪酸エステル類が好ましく用いられる。分散性や経済性の観点から、より好ましくは、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類およびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類である。高分子系分散剤としては、例えば、ポリウレタン、ポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸及びその塩、スチレン-アクリル酸共重合体、アクリル酸-アクリル酸エステル共重合体、スチレン-マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイド付加物等が好ましく用いられる。これらの分散剤は単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。前記分散剤の使用量は、通常該金属錯体100重量部に対して0~100重量部、好ましくは0~60重量部である。100重量部を超えて添加した場合には添加量に見合う分散効果が得られず、経済的でない。以上の方法で該金属錯体の微粒子が分散された紫外線吸収部材用組成物を得た後に、所望する濃度に希釈してもよい。希釈溶媒は特に限定されず、適宜選択し使用することができるが、希釈時における該金属錯体微粒子の再凝集を抑制するために、前記の分散工程で用いた分散媒を使用することが好ましい。前記分散工程において、分散媒を2種類以上組み合わせて用いた場合には、同一の組成比率の混合溶媒を用いることが好ましい。希釈方法としては、該金属錯体の微粒子分散液を攪拌しながら、希釈溶媒を添加する方法が好ましい。希釈溶媒中に前記の該金属錯体の微粒子が分散された紫外線吸収部材用組成物を添加すると、該金属錯体の微粒子が再凝集するおそれがある。また、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて従来公知の光吸収剤を該金属錯体と混合し、併用することも可能である。併用することのできる光吸収剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、有機系光吸収剤としては、フタロシアニン系、キナクリドン系、キナクリドンキノン系、ベンズイミダゾロン系、キノン系、アントアントロン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゼンジチオール金属錯体系、ジチオレン金属錯体系、アゾ金属系、金属フタロシアニン系、金属ナフタロシアニン系、ポルフィリン金属錯体系等の金属錯体系色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、サルチレート系、サリチル酸フェニルエステル系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミド系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤等が挙げられる。経済性や光吸収性能の観点から、好ましくは、フタロシアニン系、キノン系、ペリレン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤である。また、無機系光吸収剤としては、六ホウ化物、酸化タングステン、複合酸化タングステン、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化カルシウム、酸化ガリウム、酸化リチウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タリウム、酸化ニッケル、酸化ネオジム、酸化コバルト、酸化クロム、酸化ランタン、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化プラセオジウム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビニウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミニウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等の金属酸化物や、ITOインジウム-錫複合酸化物、ATOアンチモン-錫複合酸化物等の複合金属酸化物や、窒化チタン、窒化クロム酸等の金属窒化物等が挙げられる。また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、離型剤、蛍光増白剤等を適宜添加してもよい。また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の紫外線吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。重合開始剤の例示は前記の通りである。また、溶媒や分散媒を使用することなく、該金属錯体を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたマトリックス材料溶媒を含まないマトリックス成分そのもの中に練りこむ方法を採用してもよい。この場合には公知の溶融混練機を使用することが好ましい。一例を挙げると、短軸押出機を用いて溶融混練した後にストライド状に押し出し、ペレット状にカットすることで、成形材料としての光吸収部材用組成物を得ることができる。溶融混練時の温度は使用する有機色素安定化剤および有機色素の分解温度と、使用するマトリックス材料の融点またはガラス転移点の双方を考慮した上で適宜設定することができ、また混練時の圧力については、使用するマトリックス材料の物性に応じて適宜設定することができる。尚、溶融混練時に使用するマトリックス材料の好ましい例示としては、後述の基材の項で有機系基材として例示するものと同じものが挙げられる。《紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材》かくして得られた紫外線吸収部材用組成物を用いて紫外線吸収部材を作製することができる。本発明における紫外線吸収部材は主に以下の2種類の形態を示す。I基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜以下、マトリックス膜というを有する積層体としての紫外線吸収部材前記で得られた紫外線吸収部材用組成物を基材に塗布し、乾燥およびまたは硬化することにより、基材上に該金属錯体を含有するマトリックス膜を有する積層体としての紫外線吸収部材を作製することができる。前記紫外線吸収部材用組成物を基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。基材は、所望によりフィルムでもボードでもよく、形状は限定されない。材質についても特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、ガラス等の無機系基材や、ポリシクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、メタアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等の有機系基材が挙げられる。中でも、透明性の観点から、ガラス、ポリシクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、メタアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が好ましい。また、層間剥離、コートムラを防ぐ目的で、塗布前に基材表面を洗浄してもよい。洗浄方法としては特に限定されず、基材の種類に応じて適宜選択し、実施することができる。通常、超音波洗浄、UV洗浄、セリ粉洗浄、酸洗浄、アルカリ洗浄、界面活性剤洗浄、有機溶剤洗浄等を単独で、または組み合わせて実施することができる。洗浄終了後は、洗浄剤が残留しないように濯ぎ及び乾燥を行う。塗布により形成されるマトリックス材料のコーティング被膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常0.01~100μm、好ましくは0.01~50μm、さらに好ましくは0.01~30μmである。0.1μm未満では、十分な紫外線吸収能が得られないおそれがあり、100μmを超えると、乾燥時に溶媒や分散媒等が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸が生じたり、クラックを生じる可能性がある。乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒や分散媒の種類によって適宜設定することができる。乾燥後、マトリックス膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に80~500°C、好ましくは90~400°C、より好ましくは100~300°Cでの焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。すなわち、前記乾燥工程において、ゾルシロキサンオリゴマー同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワークポリシロキサンの分子量の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。80°Cより低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、500°Cより高温では、マトリックス膜中に含有される該金属錯体が熱分解してしまうおそれがある。焼成時間は、所望のマトリックス膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、10分間~5時間、好ましくは30分間~3時間である。10分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、5時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。また、重合処理を設ける場合、加熱処理やUV照射等の処理を設けることができる。加熱条件やUV照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。なお、後述の剥離性基材を用い、この上にコーティングを施した後、所望の別基材に該コーティング層を転写して得られた積層体もIの形態に含まれる。別基材としては前記の基材が例示される。具体的な方法としては、例えば、紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し乾燥させた後、ラミネーター等を用いて別基材例えばガラス基材と貼り合わせ、その後剥離性基材を剥離することで、別基材上に該金属錯体を含有するマトリックス膜を有する積層体としての紫外線吸収部材を作製することができる。この場合にも、必要に応じて前記重合処理を設けてもよい。例えば、所望の基材上に異なる成分からなるマトリックス膜を多層化させた積層体を作製する場合に、このような転写法を用いることができる。すなわち、前記のように基材上に直接紫外線吸収部材用組成物を塗布し、コーティング層を形成する方法で多層膜を形成しようとする場合、例えば、n1層目nは自然数を表すを形成する際に使用する紫外線吸収部材用組成物は、n層目の構成成分が溶解したり膨潤したりしないものでなければならず、n1層目を構成する紫外線吸収部材用組成物の構成成分が制限されてしまうが、かかる転写法を用いることにより、これらの制限を回避することができる。II該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材前記で得られた紫外線吸収部材用組成物を、剥離性基材上に塗布し、乾燥または硬化した後に、剥離性基材から該コーティング膜を剥離することによって得られる、該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材を作製することができる。紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材に塗布する方法としては、特に限定されず、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法。フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。剥離性基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。剥離性基材は、基材を構成する素材が剥離性を有するものであれば基材単独でもよいし、基材を構成する素材が剥離性を有しない場合、または剥離性が乏しい場合には基材に剥離性層を積層したものであってもよい。前者の基材を構成する素材が剥離性を有するものである場合には、ポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂等を用いることができる。後者の、基材に剥離性層を積層したものである場合、基材としては前記Iで例示したような基材を用いることができる。これら基材の表面に基材とは接着性を有し、紫外線吸収部材用組成物から作製される該金属錯体を含有する薄膜層に対しては剥離性を有する剥離性層を積層したものを使用することができる。剥離性層は、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、剥離性物質をバインダー樹脂中に溶解または分散させたもの等で構成される。剥離性物質としては、特に制限されるものではなく、例えば長鎖アルキル化合物、カルナバワックスやモンタンワックスや酸化ポリエチレンや非酸化ポリエチレン等の合成ワックス等が挙げられる。これらから選択される少なくとも1種以上を溶媒分散媒中に溶解、分散、希釈し、得られた組成物を基材上に公知の方法で塗布または印刷した後、乾燥または硬化することによって基材上に剥離性層を形成することができる。剥離性層の膜厚は、0.5μm~10μm程度であることが好ましい。紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材上に塗布することによって形成される該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常0.01~100μm、好ましくは0.01~50μm、さらに好ましくは0.01~30μmである。0.01μm未満では、十分な紫外線吸収能が得られないおそれがあり、100μmを超えると、乾燥時に溶媒や分散媒等が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸が生じたり、クラックを生じる可能性がある。乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒や分散媒等の種類によって適宜設定することができる。乾燥後、該金属錯体を含有する薄膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に80~500°C、好ましくは90~400°C、より好ましくは100~300°Cでの焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。すなわち、前記乾燥工程において、ゾルシロキサンオリゴマー同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワークポリシロキサンの分子量の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。80°Cより低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、500°Cより高温では、マトリックス膜中に含有された該金属錯体が熱分解してしまうおそれがある。焼成時間は、所望の薄膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、10分間~5時間、好ましくは30分間~3時間である。10分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、5時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。また、重合処理を設ける場合、加熱処理やUV照射等の処理を設けることができる。加熱条件やUV照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。尚、以下の製造例および実施例で得られた各配位子および各金属錯体の同定は、下記の方法で実施した。11H-核磁気共鳴スペクトル測定NMR装置:BRUKER製AV400型測定溶媒:ジメチルスルホキシドd6共鳴周波数:400MHz2元素分析3紫外可視分光吸収スペクトル測定分光光度計:株式会社日立製作所製、U-4100製造例12-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾール68.5g0.30モルとフェノール19.8g0.21モルとo-ジクロロベンゼン240gを混合し、170°Cまで昇温した後、40時間保温した。その後、反応液を80°Cまで冷却し、エタノール300gを滴下し、さらに1時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別した。エタノールで洗浄後、乾燥し、配位子として微黄色粉末のビス{2-[6-メチルスルホニルベンゾチアゾリル]}アミンL1:下記表1参照35.2gを得た。収率は2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾールに対して53であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、98.6であった。元素分析:C;43.7、H;3.1、N;9.4、S;29.2理論値:C;43.72、H;2.98、N;9.56、S;29.181H-核磁気共鳴スペクトル400MHz、DMSOδppm:3.26s、6H、7.86-7.96m、4H、8.60s、2H、13.46br、1H製造例2製造例1において2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾール68.5g0.30モルに代えて2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾオキサゾール63.7g0.30モルを用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、ベージュ色粉末のビス{2-[6-メチルスルホニルベンゾオキサゾリル]}アミンL2:下記表1参照30.3gを得た。収率は2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾオキサゾールに対して50であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、99.0であった。元素分析:C;47.3、H;3.1、N;10.4、S;15.8理論値:C;47.17、H;3.22、N;10.31、S;15.74製造例3製造例1において2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾール68.5g0.30モルに代えて、2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾール34.2g0.15モルと2-アミノ-5-クロロベンゾオキサゾール25.3g0.15モルを用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、ベージュ色粉末の[2-5-クロロベンゾオキサゾリル]{2-[6-メチルスルホニルベンゾチアゾリル]}アミンL3:下記表1参照33.2gを得た。収率は2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾールと2-アミノ-5-クロロベンゾオキサゾールの総量に対して58であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、97.5であった。元素分析:C;47.4、H;2.6、Cl;9.5、N;11.3、S;16.7理論値:C;47.43、H;2.65、Cl;9.33、N;11.06、S;16.881H-核磁気共鳴スペクトル400MHz、DMSOδppm:3.24s、3H、7.25dd、1H、7.58-7.60m、2H、7.63d、1H、7.95dd、1H、8.54d、1H、13.69br、1H製造例4製造例1において2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾール68.5g0.30モルに代えて、2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾール34.2g0.15モルと2-アミノ-6-メトキシベンゾチアゾール27.0g0.15モルを用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、微黄色粉末の{2-[6-メチルスルホニルベンゾチアゾリル]}[2-6-メトキシベンゾチアゾリル]アミンL4:下記表1参照26.4gを得た。収率は2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾールと2-アミノ-6-メトキシベンゾチアゾールの総量に対して50であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、97.2であった。元素分析:C;49.2、H;3.2、N;10.7、S;24.5理論値:C;49.09、H;3.35、N;10.73、S;24.571H-核磁気共鳴スペクトル400MHz、DMSOδppm:3.24s、3H、3.81s、3H、7.04dd、1H、7.58d、2H、7.80br、1H、7.91dd、1H、8.54s、1H、12.99br、1H製造例5製造例1において2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾール68.5g0.30モルに代えて、2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾール34.2g0.15モルと2-アミノベンゾチアゾール22.5g0.15モルを用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、白色粉末の2-ベンゾチアゾリル{2-[6-メチルスルホニルベンゾチアゾリル]}アミンL5:下記表1参照23.3gを得た。収率は2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾールと2-アミノベンゾチアゾールの総量に対して43であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、98.0であった。元素分析:C;49.6、H;3.0、N;11.5、S;26.7理論値:C;49.84、H;3.07、N;11.63、S;26.611H-核磁気共鳴スペクトル400MHz、DMSOδppm:3.25s、3H、7.29t、1H、7.45t、1H、7.65br、1H、7.83br、1H、7.91-7.96m、2H、8.56s、1H、13.17br、1H製造例6製造例1において2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾール68.5g0.30モルに代えて、2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾール34.2g0.15モルと2-アミノ-5,6-ジメチルベンゾチアゾール26.7g0.15モルを用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、白色粉末の[2-5,6-ジメチルベンゾチアゾリル]{2-[6-メチルスルホニルベンゾチアゾリル]}アミンL6:下記表1参照26.3gを得た。収率は2-アミノ-6-メチルスルホニルベンゾチアゾールと2-アミノ-5,6-ジメチルベンゾチアゾールの総量に対して45であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、97.9であった。元素分析:C;52.2、H;3.8、N;10.9、S;24.5理論値:C;52.42、H;3.88、N;10.79、S;24.701H-核磁気共鳴スペクトル400MHz、DMSOδppm:2.29s、3H、2.32s、3H、3.24s、3H、7.41br、1H、7.66s、1H、7.82br、1H、7.89-7.92m、1H、8.53s、1H、13.02br、1H得られた各配位子の構造式を表1に示す。実施例1製造例1で得られた配位子L122.0g0.05モルとDMF150gを混合し溶解させた。ここに酢酸銅一水和物5.59g0.028モルを添加し、100°Cまで昇温した後、1時間保温した。その後、反応液を50°Cまで冷却し、メタノール150gを滴下し、さらに1時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別した。メタノールで洗浄後、乾燥し、濃緑色粉末のビス{N-[6-メチルスルホニル-2-ベンゾチアゾリル-κN3]-6-メチルスルホニル-2-ベンゾチアゾールアミナト-κN3}銅C1-Cu22.1gを得た。収率は配位子L1に対して94.0であった。元素分析:C;40.8、H;2.7、Cu;6.7、N;9.1、S;27.4理論値:C;40.86、H;2.57、Cu;6.76、N;8.93、S;27.27実施例2実施例1において配位子L122.0g0.05モルに代えて製造例2で得られた配位子L220.4g0.05モルを、酢酸銅一水和物5.59g0.028モルに代えて酢酸コバルト四水和物6.97g0.028モルを用いた以外は実施例1と同様にして、赤橙色粉末のビス{N-[6-メチルスルホニル-2-ベンゾオキサゾリル-κN3]-6-メチルスルホニル-2-ベンゾオキサゾールアミナト-κN3}コバルトC2-Co20.3gを得た。収率は配位子L2に対して93.1であった。元素分析:C;44.0、H;2.6、Co;6.9、N;9.5、S;14.9理論値:C;44.09、H;2.77、Co;6.76、N;9.64、S;14.71実施例3実施例1において配位子L122.0g0.05モルに代えて製造例3で得られた配位子L319.0g0.05モルを、酢酸銅一水和物5.59g0.028モルに代えて酢酸ニッケル四水和物6.97g0.028モルを用いた以外は実施例1と同様にして、やや赤味がかったベージュ色粉末のビス[N-5-クロロ-2-ベンゾオキサゾリル-κN3-6-メチルスルホニル-2-ベンゾチアゾールアミナト-κN3]ニッケルC3-Ni19.8gを得た。収率は配位子L3に対して97.0であった。元素分析:C;44.0、H;2.2、Cl;8.5、N;10.1、Ni;7.2、S;15.8理論値:C;44.14、H;2.22、Cl;8.69、N;10.29、Ni;7.19、S;15.71実施例4実施例1において配位子L122.0g0.05モルに代えて製造例4で得られた配位子L419.6g0.05モルを用いた以外は実施例1と同様にして、緑色粉末のビス{N-[6-メチルスルホニル-2-ベンゾチアゾリル-κN3]-6-メトキシ-2-ベンゾチアゾールアミナト-κN3}銅C4-Cu19.4gを得た。収率は配位子L4に対して91.9であった。元素分析:C;45.4、H;3.0、Cu;7.3、N;10.1、S;22.6理論値:C;45.51、H;2.86、Cu;7.52、N;9.95、S;22.78実施例5実施例2おいて配位子L220.4g0.05モルに代えて、配位子L518.1g0.05モルを用いた以外は実施例2と同様にして、橙色粉末のビス[N-2-ベンゾチアゾリル-κN3-6-メチルスルホニル-2-ベンゾチアゾールアミナト-κN3]コバルトC5-Co17.7gを得た。収率は配位子L5に対して90.8であった。元素分析:C;46.3、H;2.6、Co;7.6、N;10.9、S;24.5理論値:C;46.20、H;2.58、Co;7.56、N;10.78、S;24.67実施例6実施例1において配位子L122.0g0.05モルに代えて、配位子L619.5g0.05モルを用いた以外は実施例1と同様にして、緑色粉末のビス[N-5,6-ジメチル-2-ベンゾチアゾリル-κN3-6-メチルスルホニル-2-ベンゾチアゾールアミナト-κN3]銅C6-Cu19.8gを得た。収率は配位子L6に対して94.4であった。元素分析:C;48.4、H;3.2、Cu;7.4、N;10.2、S;22.9理論値:C;48.58、H;3.36、Cu;7.56、N;10.00、S;22.89無機系バインダー:シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製尚、以下に記載のシリコンアルコキシドのゾル溶液の加熱残分とは、ガラス基材上にゾル溶液の液滴をのせ200°Cで30分間焼成した際にガラス基材上に残った固形分の重量を、前記のガラス基材上にのせたゾル溶液の液滴の重量で除した値である。それぞれの試料について3回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。製造例7メチルトリエトキシシラン49.9g0.28モルと、フェニルトリエトキシシラン24.0g0.10モルと、PGMEA80gとを混合し、室温で攪拌し、溶液を得た。この溶液に、触媒としてギ酸6.9g0.15モルおよび水25.0gを添加し、室温で30分間攪拌することにより、加水分解を行った。次に加水分解後の溶液を70°Cまで昇温し、4時間保温し、加水分解重縮合反応を進行させ、さらに減圧下で、副生したアルコールと水を留去しつつ、さらに1時間加水分解重縮合反応を進行させることで、無機系バインダー:ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾルPGMEA溶液シロキサンオリゴマーPGMEA溶液,加熱残分40.5を得た。製造例8製造例7において、PGMEA80gに代えてIPA80gを用いた以外は製造例7と同様にして、無機系バインダー:ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾルIPA溶液シロキサンオリゴマーIPA溶液,加熱残分41.7を得た。製造例9製造例7において、PGMEA80gに代えてDMF80gを用いた以外は製造例7と同様にして、無機系バインダー:ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾルDMF溶液シロキサンオリゴマーDMF溶液,加熱残分45.3を得た。金属錯体の微粒子分散液の調製以下に示す平均粒子径は、シスメックス社製ゼータサイザーナノZSを用いて、光源:He-Neレーザー633nm、セル:ガラス角セル、測定温度:25°C、Measureposition:0.85mmの条件下で測定した。また、それぞれの試料について3回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。製造例10~15表2に示す組成比率に基づき、実施例1~6で得られた金属錯体、分散媒、分散剤および分散メディアとして0.1mmφのジルコニアボールを粉砕容器フリッチュ社製の商品名:premiumline用粉砕容器に入れ、遊星型ボールミルフリッチュ社製の商品名:premiumlineP-7を用いて600rpmで5分間分散した後、10分間冷却し、さらに1100rpmで5分間分散処理を行い、分散液A~Fを得た。紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材実施例7製造例7で得られたシロキサンオリゴマーPGMEA溶液2.0gにPGMEAを0.7g加え、混合した。次いでこれを、製造例10で得られた金属錯体の微粒子分散液分散液A0.6gに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Aを得た。平均粒子径は92nmであった。得られた紫外線吸収部材用組成物Aを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に200°Cで30分間焼成し、紫外線吸収部材Aを得た。コーティング膜の膜厚は10μmであった。実施例8製造例8で得られたシロキサンオリゴマーIPA溶液2.0gにIPAを0.7g加え、混合した。次いでこれを、製造例11で得られた金属錯体の微粒子分散液分散液B1.0gに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Bを得た。平均粒子径は99nmであった。得られた紫外線吸収部材用組成物Bを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に200°Cで30分間焼成し、紫外線吸収部材Bを得た。コーティング膜の膜厚は12μmであった。実施例9製造例7で得られたシロキサンオリゴマーPGMEA溶液2.0gにPGMEAを0.8g加え、混合した。次いでこれを、製造例12で得られた金属錯体の微粒子分散液分散液C0.8gに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Cを得た。平均粒子径は97nmであった。得られた紫外線吸収部材用組成物Cを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に200°Cで30分間焼成し、紫外線吸収部材Cを得た。コーティング膜の膜厚は13μmであった。実施例10製造例8で得られたシロキサンオリゴマーIPA溶液2.0gにIPAを0.8g加え、混合した。次いでこれを、製造例13で得られた金属錯体の微粒子分散液分散液D0.5gに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Dを得た。平均粒子径は101nmであった。得られた紫外線吸収部材用組成物Dを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に200°Cで30分間焼成し、紫外線吸収部材Dを得た。コーティング膜の膜厚は11μmであった。実施例11製造例7で得られたシロキサンオリゴマーPGMEA溶液2.0gにPGMEAを0.8g加え、混合した。次いでこれを、製造例14で得られた金属錯体の微粒子分散液分散液E0.5gに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Eを得た。平均粒子径は113nmであった。得られた紫外線吸収部材用組成物Eを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に200°Cで30分間焼成し、紫外線吸収部材Eを得た。コーティング膜の膜厚は11μmであった。実施例12有機系バインダーとしてアクリル酸メチル-メタクリル酸エチル共重合体ロームアンドハース社製の商品名;パラロイドB-720.8gをMEK1.7gに溶解させ、これを製造例15で得られた金属錯体の微粒子分散液分散液F0.6gに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Fを得た。平均粒子径は123nmであった。得られた紫外線吸収部材用組成物Fを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に、80°Cで3分間乾燥し、紫外線吸収部材Fを得た。コーティング膜の膜厚は12μmであった。実施例13製造例9で得られたシロキサンオリゴマーDMF溶液2.0gにDMF0.6gを加え、混合した。この溶液に、実施例1で得られた金属錯体C1-Cu0.1gを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Gを得た。この紫外線吸収部材用組成物Gを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に200°Cで30分間焼成し、紫外線吸収部材Gを得た。コーティング膜の膜厚は9μmであった。実施例14有機系バインダーとしてアクリル酸メチル-メタクリル酸エチル共重合体ロームアンドハース社製の商品名;パラロイドB-720.8gをDMF1.7gに溶解させ、この溶液に、実施例2で得られた金属錯体C2-Co0.3gを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Hを得た。この紫外線吸収部材用組成物Hを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に160°Cで3分間乾燥し、紫外線吸収部材Hを得た。コーティング膜の膜厚は10μmであった。実施例15製造例9で得られたシロキサンオリゴマーDMF溶液2.0gにDMF0.6gを加え、混合した。この溶液に、実施例3で得られた金属錯体C3-Ni0.2gを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Iを得た。この紫外線吸収部材用組成物Iを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に200°Cで30分間焼成し、紫外線吸収部材Iを得た。コーティング膜の膜厚は10μmであった。実施例16有機系バインダーとしてアクリル酸メチル-メタクリル酸エチル共重合体ロームアンドハース社製の商品名;パラロイドB-720.8gをDMF1.7gに溶解させ、この溶液に、実施例4で得られた金属錯体C4-Cu0.1gを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Jを得た。この紫外線吸収部材用組成物Jを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に160°Cで3分間乾燥し、紫外線吸収部材Jを得た。コーティング膜の膜厚は12μmであった。実施例17実施例5で得られた金属錯体C5―Co2.4gと、分散媒としてシクロペンタノン55.0g、分散媒兼重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート25.0g、光重合開始剤チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名:イルガキュア8194.0g、分散剤としてディスパロンDN-900楠本化成株式会社製1.0g、分散メディアとして0.1mmφのジルコニアボールを粉砕容器フリッチュ社製の商品名:premiumline用粉砕容器に入れ、遊星型ボールミルフリッチュ社製の商品名:premiumlineP-7を用いて600rpmで5分間分散した後、10分間冷却し、さらに1100rpmで5分間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Kを得た。平均粒子径は86nmであった。得られた紫外線吸収部材用組成物Jを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に、140°Cで1分間乾燥し、さらに露光装置ナノテック株式会社製の商品名:マスクアライナーLA410s、株式会社三永電機製作所製の商品名:超高圧水銀ランプL2501Lを用いて露光単色化なし、波長365nmにおける光強度40mWcm2、2.5秒間照射し、硬化させ、紫外線吸収部材Kを得た。コーティング膜の膜厚は13μmであった。実施例18実施例6で得られた金属錯体C6―Cu2.1gと、分散媒兼重合性モノマーとして3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート2.8gおよび3-エチル-3-[{3-エチルオキセタニルメトキシ}メチル]オキセタン5.5g、熱重合開始剤三新化学株式会社製の商品名;SI-60L0.25g、分散剤としてポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル0.68g、分散メディアとして0.1mmφのジルコニアボールを粉砕容器フリッチュ社製の商品名:premiumline用粉砕容器に入れ、遊星型ボールミルフリッチュ社製の商品名:premiumlineP-7を用いて600rpmで5分間分散した後、10分間冷却し、さらに1100rpmで5分間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Lを得た。平均粒子径は108nmであった。得られた紫外線吸収部材用組成物Lを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に、160°Cで40分間かけて硬化し、紫外線吸収部材Lを得た。コーティング膜の膜厚は10μmであった。比較例1製造例8で得られたシロキサンオリゴマーIPA溶液2.0gにIPAを0.4g加え、混合した。次いでこれを、酸化亜鉛微粒子分散液ハクスイテック株式会社製、製品名:パゼットGK-IPA分散体、粉体一次粒子径:20~40nm、酸化亜鉛濃度:20重量2.0gに攪拌しながら加え、混合することにより、紫外線吸収部材用組成物を得た。得られた紫外線吸収部材用組成物Mを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に200°Cで30分間焼成し、紫外線吸収部材Mを得た。コーティング膜の膜厚は8μmであった。比較例2有機系バインダーとしてアクリル酸メチル-メタクリル酸エチル共重合体ロームアンドハース社製の商品名;パラロイドB-720.8gをDMF1.7gに溶解させ、この溶液に、Tinuvin326BASF製0.7gを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Nを得た。この紫外線吸収部材用組成物Nを、スピンコーター株式会社アクティブ製、型番:ACT-300Aを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に160°Cで3分間乾燥し、紫外線吸収部材Nを得た。コーティング膜の膜厚は13μmであった。紫外線吸収部材の評価実施例7~18および比較例1~2で得られた紫外線吸収部材A~Nについて、以下の手順により実施した。1透過率実施例7~18および比較例1~2で得られた紫外線吸収部材A~Nについて、分光光度計株式会社日立製作所製、型番:U-4100を用いて特定波長λ=380nm:紫外線UV-A、λ=460nm、545nm、610nm:可視光線における透過率を測定し、紫外線吸収能UV-A吸収能および可視光透明性の評価を実施した。尚、測定はガラス基材にマトリックス層を施した試験片紫外線吸収剤は含まず、マトリックスの種類は測定対象試料と同じものをそれぞれ使用し、同条件で試験片を作製を別途作製し、これをブランクとして用いてバックグラウンド補正を行った。すなわち、以下の表に示す透過率の値は、膜自体の透過性能は反映しておらず、専ら紫外線吸収剤に由来するものと見なすことができる。2耐光性試験1の手順により実施例7~18および比較例1~2で得られた紫外線吸収部材A~Nについて透過率を測定した後、キセノンウェザーメータースガ試験機株式会社製、型番:X25を用いて、これら紫外線吸収部材A~Nに放射強度60W/m2300~400nm域における積算の光を1000時間照射した。このとき、紫外線吸収部材A~Nのソーダライムガラス基材側からではなく、コーティング層側から光を照射した。すなわちこれは、ソーダライムガラスは短波長域の紫外線を吸収する性質があるので、紫外線吸収部材A~Nのソーダライムガラス基材側からではなくコーティング層側から光を照射することにより、光源から放射された光を、コーティング層中の紫外線吸収剤に直接照射し、紫外線吸収剤にとってより過酷な条件とすることを意図したものである。光照射後の紫外線吸収部材A~Nについて、それぞれ透過率を測定し、光照射による紫外線吸収能の変化を評価した。以下の表3に結果を示す。尚、表中のΔTは光照射後の透過率から光照射前の透過率を差し引きした値を示す。実施例7~12および実施例17~18は、紫外線吸収剤として式1で表される金属錯体を微粒子として分散系で使用した系である。これらの分散系の紫外線吸収部材A~F、K、Lは、UV-Aを十分に遮蔽し、且つ光照射による透過率の変化も小さく、優れた耐光性を示すことが確認された。また、実施例13~16は、紫外線吸収剤として式1で表される金属錯体を溶解系で使用した系である。これらの溶解系の紫外線吸収部材G~Jは、前記の分散系に比べると全体的に耐光性は若干劣るものの、UV-Aを十分に遮蔽し、可視域においては優れた透明性を示すことが確認された。比較例1は、無機系紫外線吸収剤として従来公知の酸化亜鉛微粒子ハクスイテック株式会社製、製品名:パゼットGK-IPA分散体を使用した系で、比較例2は有機系紫外線吸収剤として従来公知のトリアゾール系紫外線吸収剤BASF製、製品名:Tinuvin326を使用した系である。酸化亜鉛微粒子を使用した系では耐光性は非常に良好であるものの、UV-Aを十分に遮蔽することはできず、またトリアゾール系紫外線吸収剤を使用した系でもUV-Aを十分に遮蔽することはできず、さらに耐光性も不良であることが確認された。"