"初期の濁度値が0.5ppm以下で、かつ50°Cで7日間保存した後の濁度値が0.6ppm以下であるポリチオールと、エピスルフィドを含有することを特徴とする光学材料用組成物。さらに硫黄を含有する、請求項1に記載の光学材料用組成物。前記エピスルフィドと前記硫黄とが予備的に重合されている、請求項2に記載の光学材料用組成物。前記硫黄の10以上がエピスルフィドと予備的に重合されている、請求項2に記載の光学材料用組成物。脱気処理されている、請求項1から4のいずれかに記載の光学材料用組成物。請求項1から5のいずれかに記載の光学材料用組成物を重合することにより得られる光学材料。光学材料用組成物の重合後にアニール処理が施されている、請求項6に記載の光学材料。初期の濁度値が0.5ppm以下で、かつ50°Cで7日間保存した後の濁度値が0.6ppm以下であるポリチオールと、エピスルフィドとを混合する工程を含むことを特徴とする光学材料用組成物の製造方法。さらに硫黄を含有する工程を有する、請求項8に記載の光学材料用組成物の製造方法。さらに脱気処理する工程を有する、請求項8または9に記載の光学材料用組成物の製造方法。本発明が解決しようとする課題は、重合硬化前の段階で、硬化後の白濁の発生の有無を予測、判別し、良否の判断が可能なポリチオールを含む光学材料用組成物等を提供することである。本発明者らは、このような状況に鑑み鋭意研究を重ねた結果、濁度値の初期値が0.5ppm以下で、かつ50°Cで7日間保存後の濁度値が0.6ppm以下であるポリチオールと、エピスルフィドを含む光学材料用組成物等により本課題を解決し、本発明に至った。すなわち、本発明は以下の通りである。<1>初期の濁度値が0.5ppm以下で、かつ50°Cで7日間保存した後の濁度値が0.6ppm以下であるポリチオールと、エピスルフィドを含有することを特徴とする光学材料用組成物である。<2>さらに硫黄を含有する、上記<1>に記載の光学材料用組成物である。<3>前記エピスルフィドと前記硫黄とが予備的に重合されている、上記<2>に記載の光学材料用組成物である。<4>前記硫黄の10以上がエピスルフィドと予備的に重合されている、上記<2>に記載の光学材料用組成物である。<5>脱気処理されている、上記<1>から<4>のいずれかに記載の光学材料用組成物である。<6>上記<1>から<5>のいずれかに記載の光学材料用組成物を重合することにより得られた光学材料である。<7>光学材料用組成物の重合後にアニール処理が施されている、上記<6>に記載の光学材料である。<8>初期の濁度値が0.5ppm以下で、かつ50°Cで7日間保存した後の濁度値が0.6ppm以下であるポリチオールと、エピスルフィドとを混合する工程を含むことを特徴とする光学材料用組成物の製造方法である。<9>さらに硫黄を含有する工程を有する、上記<8>に記載の光学材料用組成物の製造方法である。<10>さらに脱気処理する工程を有する、上記<8>または<9>に記載の光学材料用組成物の製造方法である。本発明により、従来技術では困難であった、重合硬化前の段階における重合硬化後の白濁発生の有無の予測、良否の判断を可能にする、ポリチオールを含む光学材料用組成物等を提供することが可能となった。本発明で用いられるポリチオール化合物は、すべてのポリチオール化合物を包含するが、具体的には、メタンジチオール、1,2-ジメルカプトエタン、2,2-ジメルカプトプロパン、1,3-ジメルカプトプロパン、1,2,3-トリメルカプトプロパン、1,4-ジメルカプトブタン、1,6-ジメルカプトヘキサン、ビス2-メルカプトエチルスルフィド、1,2-ビス2-メルカプトエチルチオエタン、1,5-ジメルカプト-3-オキサペンタン、1,8-ジメルカプト-3,6-ジオキサオクタン、2,2-ジメチルプロパン-1,3-ジチオール、3,4-ジメトキシブタン-1,2-ジチオール、2-メルカプトメチル-1,3-ジメルカプトプロパン、2-メルカプトメチル1,4-ジメルカプトプロパン、2-2-メルカプトエチルチオ-1,3-ジメルカプトプロパン、1,2-ビス2-メルカプトエチルチオ-3-メルカプトプロパン、1,1,1-トリスメルカプトメチルプロパン、テトラキスメルカプトメチルメタン、4、8-ジメルカプトメチル-1、11-ジメルカプト-3、6、9-トリチアウンデカン、4、7-ジメルカプトメチル-1、11-ジメルカプト-3、6、9-トリチアウンデカン、5、7-ジメルカプトメチル-1、11-ジメルカプト-3、6、9-トリチアウンデカン、1、1、3、3-テトラキスメルカプトメチルチオプロパン、エチレングリコールビス2-メルカプトアセテート、エチレングリコールビス3-メルカプトプロピオネート、1,4-ブタンジオールビス2-メルカプトアセテート、1,4-ブタンジオールビス3-メルカプトプロピオネート、トリメチロールプロパントリス2-メルカプトアセテート、トリメチロールプロパントリス3-メルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス2-メルカプトアセテート、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトプロピオネート、1,1-ジメルカプトシクロヘキサン、1,2-ジメルカプトシクロヘキサン、1,3-ジメルカプトシクロヘキサン、1,4-ジメルカプトシクロヘキサン、1,3-ビスメルカプトメチルシクロヘキサン、1,4-ビスメルカプトメチルシクロヘキサン、2,5-ビスメルカプトメチル-1,4-ジチアン、2,5-ビスメルカプトエチル-1,4-ジチアン、1,2-ビスメルカプトメチルベンゼン、1,3-ビスメルカプトメチルベンゼン、1,4-ビスメルカプトメチルベンゼン、ビス4-メルカプトフェニルスルフィド、ビス4-メルカプトフェニルエーテル、2,2-ビス4-メルカプトフェニルプロパン、ビス4-メルカプトメチルフェニルスルフィド、ビス4-メルカプトメチルフェニルエーテル、2,2-ビス4-メルカプトメチルフェニルプロパン等を挙げることができる。以上の中で好ましい化合物の具体例としては、ビス2-メルカプトエチルスルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス2-メルカプトアセテート、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトプロピオネート、2,5-ビスメルカプトメチル-1,4-ジチアン、1,2-ビス2-メルカプトエチルチオ-3-メルカプトプロパン、4、8-ジメルカプトメチル-1、11-ジメルカプト-3、6、9-トリチアウンデカン、4、7-ジメルカプトメチル-1、11-ジメルカプト-3、6、9-トリチアウンデカン、5、7-ジメルカプトメチル-1、11-ジメルカプト-3、6、9-トリチアウンデカン、1、1、3、3-テトラキスメルカプトメチルチオプロパン、1,3-ビスメルカプトメチルベンゼン、1,4-ビスメルカプトメチルベンゼンが挙げられる。さらに好ましい化合物の具体例としては、ビス2-メルカプトエチルスルフィド、1,3-ビスメルカプトメチルベンゼンであり、最も好ましい化合物はビス2-メルカプトエチルスルフィドである。本発明において、濁度はJISK0101に従い、カオリン標準液を標準とし積分球濁度計を用いて測定する。また、加速試験は、ポリチオールを50°Cで7日間保管したのちに測定する。これら測定を行い、初期の濁度値が0.5ppm以下で、かつ50°Cで7日間保存後の濁度値が0.6ppm以下であるポリチオールが用いられる。好ましくは、初期の濁度値、すなわち50°Cで7日間保存する直前の濁度値が0.3ppm以下で、かつ50°Cで7日間保存後の濁度値が0.4ppm以下であり、より好ましくは初期の濁度値が0.2ppm以下で、かつ50°Cで7日間保存後の濁度値が0.3ppm以下である。初期の濁度値が0.5ppmを超える、もしくは50°Cで7日間保存後の濁度値が0.6ppmを超えた場合、重合硬化後のレンズのような光学材料は白濁して使用不可となる。したがって、初期ならびに50°Cで7日間保存後の濁度値を測定することで、重合硬化せずに白濁の発生の有無を予測、判別し、ポリチオールの品質の良否の判断が可能となる。実際の運用としては、まず初期の濁度値を測定する。その後、一部を取り出して50°Cで7日間保存し、濁度を測定する。双方の値が上記の範囲内に収まれば白濁が発生しないので、このポリチオールは使用可能と判断される。本発明で使用するポリチオール化合物は、ポリチオールとエピスルフィドの合計を100重量部とした場合、通常は1~30重量部使用するが、好ましくは2~20重量部、特に好ましくは3~15重量部である。本発明で用いられるエピスルフィド化合物は、すべてのエピスルフィド化合物を包括するが、具体例として鎖状脂肪族骨格、脂肪族環状骨格、芳香族骨格を有する化合物に分けて列挙する。鎖状脂肪族骨格を有する化合物としては、下記1式で表される化合物が挙げられる。ただし、mは0~4の整数、nは0または1の整数を表す。脂肪族環状骨格を有する化合物としては、下記2式または3式で表される化合物が挙げられる。p、qはそれぞれ0~4の整数を表す。p、qはそれぞれ0~4の整数を表す。芳香族骨格を有する化合物としては、下記4式で表される化合物が挙げられる。p、qはそれぞれ0~4の整数を表す。中でも好ましい化合物は、鎖状脂肪族骨格を有する上記1式で表される化合物であり、具体的にはビスβ-エピチオプロピルスルフィド、ビスβ-エピチオプロピルジスルフィド、ビスβ-エピチオプロピルトリスルフィド、ビスβ-エピチオプロピルチオメタン、1,2-ビスβ-エピチオプロピルチオエタン、1,3-ビスβ-エピチオプロピルチオプロパン、1,4-ビスβ-エピチオプロピルチオブタン、ビスβ-エピチオプロピルチオエチルスルフィドである。特に好ましい化合物は、ビスβ-エピチオプロピルスルフィド上記1式でn=0、ビスβ-エピチオプロピルジスルフィド上記1式でm=0、n=1であり、最も好ましい化合物は、ビスβ-エピチオプロピルスルフィド上記1式でn=0である。また、脂肪族環状骨格を有するエピスルフィド化合物としては、1,3および1,4-ビスβ-エピチオプロピルチオシクロヘキサン上記2式でp=0、q=0、1,3および1,4-ビスβ-エピチオプロピルチオメチルシクロヘキサン上記2式でp=1、q=1、ビス4-β-エピチオプロピルチオシクロヘキシルメタン、2,2-ビス4-β-エピチオプロピルチオシクロヘキシルプロパン、ビス4-β-エピチオプロピルチオシクロヘキシルスルフィド、2,5-ビスβ-エピチオプロピルチオ-1,4-ジチアン上記3式でp=0、q=0、2,5-ビスβ-エピチオプロピルチオエチルチオメチル-1,4-ジチアン等を挙げることができる。また、芳香族骨格を有するエピスルフィド化合物としては、1,3および1,4-ビスβ-エピチオプロピルチオベンゼン上記4でp=0、q=0、1,3および1,4-ビスβ-エピチオプロピルチオメチルベンゼン上記4式でp=1、q=1、ビス4-β-エピチオプロピルチオフェニルメタン、2,2-ビス4-β-エピチオプロピルチオフェニルプロパン、ビス4-β-エピチオプロピルチオフェニルスルフィド、ビス4-β-エピチオプロピルチオフェニルスルフィン、4,4-ビスβ-エピチオプロピルチオビフェニル等を挙げることができる。本発明で使用するエピスルフィド化合物は、ポリチオールとエピスルフィドの合計を100重量部とした場合、通常は70~99重量部使用するが、好ましくは80~98重量部、特に好ましくは85~97重量部である。なお、本発明の光学材料用組成物に硫黄を加えても良い。硫黄を用いる場合は、あらかじめエピスルフィド化合物と硫黄を予備的に反応させておくことが好ましい。この予備的な重合反応の条件は、好ましくは-10°C~120°Cで0.1~240時間、より好ましくは0~100°Cで0.1~120時間、特に好ましくは20~80°Cで0.1~60時間である。予備的な反応を進行させるために触媒を用いることは効果的であり、好ましい例として2-メルカプト-1-メチルイミダゾール、トリフェニルホスフィン、3,5-ジメチルピラゾール、N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフィンアミド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、1,2,3-トリフェニルグアニジン、1,3-ジフェニルグアジニン、1,1,3,3-テトラメチレングアニジン、アミノグアニジン尿素、トリメチルチオ尿素、テトラエチルチオ尿素、ジメチルエチルチオ尿素、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ピペコリルジチオカルバミン酸ピペコリウム等が挙げられる。さらには、この予備的な重合反応により硫黄を10以上反応前を100とする消費させておくことが好ましく、20以上消費させておくことがより好ましい。予備的な反応は、大気、窒素等の不活性ガス下、常圧もしくは加減圧による密閉下等、任意の雰囲気下で行ってよい。なお、予備的な反応の進行度を検知するために液体クロマトグラフィーや屈折率計を用いることも可能である。本発明の好ましい態様として使用される硫黄は、ポリチオールとエピスルフィドの合計を100重量部とした場合、通常は0.1~40重量部使用するが、好ましくは0.5~30重量部、特に好ましくは5~25重量部である。本発明では、光学材料用組成物に対し、あらかじめ脱気処理を行うことが好ましい。脱気処理は、組成成分の一部もしくは全部と反応可能な化合物、重合触媒、添加剤の混合前、混合時あるいは混合後に、減圧下で行う。好ましくは、混合時あるいは混合後に、減圧下で行う。処理条件は、0.001~50torrの減圧下、1分間~24時間、0°C~100°Cで行う。減圧度は、好ましくは0.005~25torrであり、より好ましくは0.01~10torrであり、これらの範囲で減圧度を可変しても構わない。脱気時間は、好ましくは5分間~18時間であり、より好ましくは10分間~12時間である。脱気の際の温度は、好ましくは5°C~80°Cであり、より好ましくは10°C~60°Cであり、これらの範囲で温度を可変しても構わない。脱気処理の際に、撹拌、気体の吹き込み、超音波などによる振動などによって、樹脂用組成物の界面を更新することは、脱気効果を高める上で好ましい操作である。脱気処理により、除去される成分は、主に硫化水素等の溶存ガスや低分子量のチオール等の低沸点物等であるが、本発明の効果を発現するのであれば、特に、除去の対象成分の種類は限定されない。さらには、これらの光学材料用組成物および/または混合前の各原料を0.05~10μm程度の孔径を有するフィルターで不純物等を濾過し精製することは、本発明の光学材料の品質をさらに高める上からも好ましい。以下、本発明の光学材料用組成物を重合して光学材料を製造する方法について説明する。本発明の光学材料用組成物を重合硬化する触媒としては、アミン、オニウム塩やホスフィン化合物が用いられる。具体例としてはアミン、第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩、第3級スルホニウム塩、第2級ヨードニウム塩、ホスフィン化合物が挙げられる。中でも組成物との相溶性の良好な第4級アンモニウム塩および第4級ホスホニウム塩、ホスフィン化合物がより好ましく、さらに好ましくは第4級ホスホニウム塩である。より好ましい化合物の具体例としては、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロマイド、テトラフェニルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、1-n-ドデシルピリジニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩、テトラ-n-ブチルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド等の第4級ホスホニウム塩、トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物が挙げられる。これらの中で、さらに好ましい化合物は、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラ-n-ブチルホスホニウムブロマイドであり、最も好ましい化合物は、テトラ-n-ブチルホスホニウムブロマイドである。重合触媒は単独でも、2種類以上を混合して使用してもかまわない。重合触媒の添加量は、組成物の成分、混合比および重合硬化方法によって変化するため一概には決められないが、通常は光学材料用組成物全量に対して0.001wt以上5wt以下、好ましくは、0.01wt以上1wt以下、最も好ましくは、0.01wt以上0.5wt以下使用する。重合触媒の添加量が5wtより多いと硬化物の屈折率、耐熱性が低下し、着色する場合がある。また、0.001wtより少ないと十分に硬化せず耐熱性が不十分となる場合がある。光学材料用組成物を重合硬化させる際に、ポットライフの延長や重合発熱の分散化などを目的として、必要に応じて重合調整剤を添加することができる。重合調整剤としては、例えば、長期周期律表における第13~16族のハロゲン化物を挙げることができる。これらのうち好ましい化合物は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、アンチモンのハロゲン化物であり、より好ましい化合物はアルキル基を有するゲルマニウム、スズ、アンチモンの塩化物である。さらに好ましい化合物は、具体的にはジブチルスズジクロライド、ブチルスズトリクロライド、ジオクチルスズジクロライド、オクチルスズトリクロライド、ジブチルジクロロゲルマニウム、ブチルトリクロロゲルマニウム、ジフェニルジクロロゲルマニウム、フェニルトリクロロゲルマニウム、トリフェニルアンチモンジクロライドであり、最も好ましい化合物の具体例は、ジブチルスズジクロライドである。重合調整剤は、単独でも、2種類以上を混合して使用しても良い。重合調整剤の添加量は、通常は光学材料用組成物全量に対して、0.0001~5.0wtであり、好ましくは0.0005~3.0wtであり、より好ましくは0.001~2.0wtである。また、本発明の光学材料用組成物を重合硬化して光学材料を得るに際して、公知の酸化防止剤、紫外線吸収剤、ブルーイング剤等の添加剤を加えて、得られる材料の実用性をより向上せしめることはもちろん可能である。酸化防止剤の好ましい例としてはフェノール誘導体が挙げられる。中でも好ましい化合物は多価フェノール類、ハロゲン置換フェノール類であり、より好ましい化合物はカテコール、ピロガロール、アルキル置換カテコール類であり、最も好ましい化合物はカテコール、ピロガロールである。紫外線防止剤の好ましい例としては、ベンゾトリアゾール系化合物が挙げられる。中でも好ましい化合物の具体例は、2-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル-2H-ベンゾトリアゾール、5-クロロ-2-3,5-ジ-tert-ブチル-2-ヒドロキシフェニル-2H-ベンゾトリアゾール、2-3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール、2-3,5-ジ-tert-ペンチル-2-ヒドロキシフェニル-2H-ベンゾトリアゾール、2-3,5-ジ-tert-ブチル-2-ヒドロキシフェニル-2H-ベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシフェニル-2H-ベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-5-tert-オクチルフェニル-2H-ベンゾトリアゾールである。ブルーイング剤の好ましい例としてはアントラキノン系化合物が挙げられる。また、本発明の光学材料用組成物が重合中に型から剥がれやすい場合は、公知の外部および/または内部密着性改善剤を使用または添加して、得られる硬化物と型の密着性を制御、向上せしめることも可能である。密着性改善剤としては、公知のシランカップリング剤やチタネート化合物類などがあげられ、これらは単独でも、2種類以上を混合して用いてもかまわない。添加量は通常、光学材料用組成物全量に対して0.0001~5wtである。逆に、本発明の組成物が重合後に型から剥がれにくい場合は、公知の外部および/または内部離型剤を使用または添加して、得られる硬化物の型からの離型性を向上せしめることも可能である。離型剤とは、フッ素系ノニオン界面活性剤、シリコン系ノニオン界面活性剤、燐酸エステル、酸性燐酸エステル、オキシアルキレン型酸性燐酸エステル、酸性燐酸エステルのアルカリ金属塩、オキシアルキレン型酸性燐酸エステルのアルカリ金属塩、高級脂肪酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、パラフィン、ワックス、高級脂肪族アミド、高級脂肪族アルコール、ポリシロキサン類、脂肪族アミンエチレンオキシド付加物などがあげられ、これらは単独でも、2種類以上を混合して用いてもかまわない。添加量は通常、光学材料用組成物全量に対して0.0001~5wtである。本発明の光学材料用組成物を重合硬化して光学材料を製造する方法は、さらに詳しく述べるならば以下の通りである。前述した各組成成分、酸化防止剤、紫外線吸収剤、重合触媒、ラジカル重合開始剤、密着性改善剤、離型剤などの添加剤を、全て同一容器内で同時に撹拌下に混合しても、各原料を段階的に添加混合しても、数成分を別々に混合後さらに同一容器内で再混合しても良い。各原料および副原料はいかなる順序で混合してもかまわない。混合にあたり、設定温度、これに要する時間等は基本的には各成分が十分に混合される条件であれば良い。上述の反応、処理がなされた光学材料用組成物は、ガラスや金属製の型に注入され、加熱や紫外線などの活性エネルギー線の照射によって重合硬化反応が進められた後、型から外される。このようにして、光学材料が製造される。光学材料用組成物は、好ましくは加熱によって重合硬化され、光学材料が製造される。この場合、硬化時間は0.1~200時間、通常1~100時間であり、硬化温度は-10~160°C、通常-10~140°Cである。重合は、所定の重合温度で所定時間のホールド、0.1°C~100°C/時間の昇温、0.1°C~100°C/時間の降温およびこれらの組み合わせで行うことができる。また、本発明の光学材料の製造方法において、重合終了後に、硬化物に対して50~150°Cの温度で10分~5時間程度アニール処理を施すことは、光学材料の歪を除くために好ましい処理である。さらに必要に応じて染色、ハードコート、耐衝撃性コート、反射防止、防曇性付与等表面処理を行うことができる。以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、評価は以下の方法で行った。濁度:東京電色製T2600DA濁度計を用い、初期ならびに50°Cで7日保存後のポリチオールの濁度値を測定した。透明性:光学材料用組成物の重合により製造された光学材料により、レンズ径が70mm、度数が5Dのレンズを10枚作製し、暗室内で蛍光灯下、観察した。すべて白濁が観測されないものを4、9枚白濁が観測されないものを3、7または8枚白濁が観測されないものを2、白濁が観測されないものが6枚以下を1とした。2以上が合格である。実施例1初期の濁度値が0.15、50°Cで7日間保存後の濁度値が0.15であったビス2-メルカプトエチルスルフィドを用いて、下記の製法Aに従って、本発明の光学材料用組成物および光学材料を作製した。得られた光学材料の透明性の結果は良好であり4であった。結果を表1にまとめた。実施例2~6初期および50°Cで7日間保存後の濁度値が表1に示す値であったビス2-メルカプトエチルスルフィドを用いて、表1に示す製法によって本発明の光学材料用組成物および光学材料を作製した。結果を表1に示す。実施例7~12初期および50°Cで7日間保存後の濁度値が表1に示す値であった1,3-ビスメルカプトメチルベンゼンを用いて、表1に示す製法によって本発明の光学材料用組成物および光学材料を作製した。結果を表1に示す。比較例1~4初期および50°Cで7日間保存後の濁度値が表1に示す値であったビス2-メルカプトエチルスルフィドを用いて、表1に示す製法によって光学材料用組成物および光学材料を作製した。結果を表1に示す。比較例5~8初期および50°Cで7日間保存後の濁度値が表1に示す値であった1,3-ビスメルカプトメチルベンゼンを用いて、表1に示す製法によって光学材料用組成物および光学材料を作製した。結果を表1に示す。なお、上記実施例および比較例で用いた製法の詳細は以下の通りである。製法A:ビス2-メルカプトエチルスルフィド5重量部、ビスβ-エピチオプロピルスルフィド95重量部からなる組成物に、重合触媒としてテトラ-n-ブチルホスホニウムブロマイド0.1重量部を添加し、室温で均一に混合したのち脱気処理を行い、光学材料用組成物を調製した。そして、その光学材料用組成物をモールドへ注入し、20°Cから100°Cまで20時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、光学材料を得た。製法B:ビスβ-エピチオプロピルスルフィド78重量部、硫黄14重量部にメルカプトメチルイミダゾール0.5重量部を加え、60°Cで予備的に重合反応させた。この時の硫黄の消費率は、HPLC分析GPCモードの結果50であった。その後20°Cに冷却したのちビス2-メルカプトエチルスルフィド7重量部、ジブチルスズジクロライド0.2重量部、テトラ-n-ブチルホスホニウムブロマイド0.03重量部の混合液を加え、均一に混合したのち脱気処理を行い、光学材料用組成物を調製した。そして、その光学材料用組成物をモールドへ注入し、20°Cから100°Cまで20時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、光学材料を得た。製法C:1,3-ビスメルカプトメチルベンゼン5重量部、ビスβ-エピチオプロピルスルフィド95重量部からなる組成物に、重合触媒としてテトラ-n-ブチルホスホニウムブロマイド0.1重量部を添加し、室温で均一に混合したのち脱気処理を行い、光学材料用組成物を調製した。そして、その光学材料用組成物をモールドへ注入し、20°Cから100°Cまで20時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、光学材料を得た。製法D:ビスβ-エピチオプロピルスルフィド78重量部、硫黄14重量部にメルカプトメチルイミダゾール0.5重量部を加え、60°Cで予備的に重合反応させた。この時の硫黄の消費率は、HPLC分析GPCモードの結果46であった。その後20°Cに冷却したのち1,3-ビスメルカプトメチルベンゼン7重量部、ジブチルスズジクロライド0.2重量部、テトラ-n-ブチルホスホニウムブロマイド0.03重量部の混合液を加え、均一に混合したのち脱気処理を行い、光学材料用組成物を調製した。そして、その光学材料用組成物をモールドへ注入し、20°Cから100°Cまで20時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、光学材料を得た。予備実験実施例ならびに比較例で用いるビスβ-エピチオプロピルスルフィド100重量部に、重合触媒としてテトラ-n-ブチルホスホニウムブロマイド0.1重量部を添加し、室温で均一に混合したのち脱気処理を行いモールドへ注入し、20°Cから100°Cまで20時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、光学材料を得た。透明性は良好であり、4であった。このように、重合硬化後においても透明性が良好に保たれることが確認されたエピスルフィド化合物を使用した。上述の実施例においては、濁度値の初期値が0.5ppm以下であり、さらに、その状態から50°Cで7日間保存した後の濁度値が0.6ppm以下であるという条件を満たすポリチオールを用いた光学材料用組成物を重合させることにより、硬化後の白濁を防止し、良好な透明度を実現することができた。従って本発明によれば、重合反応の前に、予め、重合硬化後における白濁発生の有無の予測、良否を判断し、良好な性状の光学材料のみを選択的に製造できる。このため、光学材料用組成物の有効活用と、優れた光学材料の製造とがいずれも可能である。"