"液体試薬を連続的に処理ガス及び第2のガスと接触させるための継続的なプロセスであって、a処理ガスを、液体試薬を含む下流物質移動領域に導入する手順、ここで該下流物質移動領域は、第2の降水管及び下流の降水管と流体連結されている;b液体試薬を前記下流の降水管から除去し、除去した液体試薬を第1の降水管と流体連結された上流物質移動領域へ循環させる手順、ここで第2のガスの第1の流量flowrateは前記上流物質移動領域内の前記液体試薬に導入されて混合する;c第3のガスの第2の流量を前記第1の降水管へ導入し、前記上流物質移動領域から流出する前記液体試薬と混合する手順;d前記第1の降水管からの前記液体試薬を、前記第2の降水管と流体連結された中間物質移動領域へ流入させる手順と、を含み、前記上流物質移動領域から前記中間物質移動領域への前記液体試薬の流れを、前記第1の降水管へ導入される、前記第3のガスの前記第2の流量を変化させることによって制御するプロセス。前記第2のガス及び前記第3のガスが同一ガスである請求項1記載のプロセス。前記中間物質移動領域内の前記液体試薬に前記第2のガスを導入するために第3の流量を用いる請求項1記載のプロセス。前記第2の降水管内の前記液体試薬に前記第3のガスを導入するために第4の流量を用いる請求項1記載のプロセス。前記中間物質移動領域から前記下流物質移動領域への前記液体試薬の流れを、前記第3のガスの前記第4の流量を変化させることによって制御する請求項4記載のプロセス。前記第2のガス及び前記第3のガスが同一ガスである請求項5記載のプロセス。前記第1の流量と前記第2の流量が異なる請求項1記載のプロセス。前記第3の流量と前記第4の流量が異なる請求項6記載のプロセス。前記第2のガスの前記第1の流量と前記第3の流量が異なる請求項3記載のプロセス。前記液体試薬の前記第2のガスとの接触が酸化反応を引き起こす請求項1記載のプロセス。前記液体試薬と前記第2のガスとの接触が、元素硫黄を生成する酸化反応を引き起こす請求項1記載のプロセス。前記処理ガスが硫化水素ガスを含み、前記液体試薬が酸化-還元溶液であり、それによって、前記硫化水素ガスの酸化及び前記酸化-還元溶液の還元を生じさせて、前記第3の物質移動領域で還元された酸化-還元溶液を生成し、元素硫黄を生成し、かつ、前記第2のガスは、前記第1及び前記第2の物質移動領域で、前記還元された溶液を酸化して酸化された溶液を生成可能であり、該酸化された溶液による前記第3の物質移動領域での前記処理ガスのさらなる吸収を可能とするものである請求項1記載のプロセス。液体試薬を連続的に処理ガス及び第2のガスと接触させるための継続的なプロセスのための装置であって、a第1の降水管と流体連結された第1の物質移動領域;b前記第1の降水管及び第2の降水管と流体連結された第2の物質移動領域;c前記第2の降水管と流体連結された第3の物質移動領域;d各物質移動領域内、及び前記第1及び第2の降水管の少なくとも一方内の個別のガススパージャー、を組み合わせて含んでなる装置。前記第1及び第2の降水管の少なくとも一方内の前記ガススパージャーに動作可能に接続された制御器をさらに含む請求項13記載の装置。前記第3の物質移動領域と流体連結されたサージ降水管を前記第1の物質移動領域に接続する、液体試薬再循環管路をさらに含む請求項13記載の装置。以下図を参照し、始めに図1を参照する。本発明の一実施形態が示され、2つの物質移動領域13を接続する一以上の降水管12に挿入されたガススパージャー10が示されている。スパージャー10は、逆さダム11の下部の上方に位置している。そして、ガスがスパージャー10に注入される。注入されるガスの量が増えるに従って、降水管12内の液体の曝気密度は、物質移動領域13内の液体の曝気密度に近づく。スパージャー10は、2以上の酸化物質移動領域及び/又は2以上の処理ガス物質移動領域を分離する降水管12に挿入されてもよい。次に、装置における溶液流の制御方法について説明する。言及したとおり、曝気された溶液の密度は、該溶液の未曝気密度と正比例し、当該溶液中のガス速度に反比例して変化する。換言すれば、ガス速度が高いほど曝気密度は低く駆動力は低くなり、従って流量は低くなる。この関係を、図3に、異なる量の無機塩を含み、溶液の比重を異にする水溶液に関して示す。図1中A点周辺での圧力平衡は以下のようになる。又はρnaここで、ρd降水管内の溶液密度、ポンド/立方フィートρna未曝気溶液密度、ポンド/立方フィートρtz物質移動領域内の溶液密度、ポンド/立方フィートH1物質移動領域におけるスパージャー上の溶液高さ、フィートH2降水管におけるスパージャー上の溶液高さ、フィートFd溶液流による降水管における摩擦圧力降下、ポンド/立方フィートFtz溶液流による物質移動領域における摩擦圧力降下、ポンド/立方フィートの項は、降水管及び物質移動領域を通る溶液の流れよって生じる摩擦圧力降下の差分である。前記項は、前記2つの溶液速度の二乗の差分と関連する。例えば、物質移動領域における溶液速度が5フィート/分であり、H1の溶液高さが8フィート、H2の溶液高さが6フィートである場合、降水管内のガス速度を増加させる効果は、図4に示される。得られる摩擦圧力降下が増加するほど、系を圧力平衡とするために必要な、降水管中の溶液流量が増加する。逆に、降水管スパージャーにより多くのガスを注入するほど、得られる摩擦圧力降下又は駆動力は低下し、溶液流がより少なくなる。図1の装置が硫黄の除去プロセスに用いられる場合、吸収部チャンバ32は、サージ降水管4を介し、管路5を経由して、酸化部34の第1の物質移動領域13に流体連結されて接続される。循環は、上述のように、曝気によって生じる液体密度差により駆動され、具体的には、一以上の降水管12に位置する一以上のスパージャー10へのガスの流れを制御バルブ6によって制御することによって駆動される。H2Sを多量に含むガスは、吸収部の下部のライン1を通って、吸収部チャンバ32内のスパージャー9から導入され、液体第二鉄キレート触媒溶液14と密に接触される。H2Sは、酸化された触媒溶液とともに、第3の又は最終ステージの酸化部領域から吸収領域へ上昇する。そして、吸収領域において酸化された触媒溶液が処理ガスからH2Sを吸収して硫黄に変換した後に、硫黄を含んだ液体触媒溶液が、吸収部チャンバ32をサージ降水管4から隔てる邪魔板50を超えて流れ、管路5を通って第1の酸化部ステージ34に流れる。好適な実施形態では、沈降した硫黄を排出口不図示に向かわせるため、サージ降水管4の床面を傾斜プレート不図示で形成する。硫黄は最終的にろ過によって系から除去される。第1の酸化部ステージ内のH2Sを含む液体触媒は、ライン2とポンプ3を通って供給されスパージャー15を通って流れる酸素を含むガスによって酸化されて、中間酸化部に向かって邪魔板8の上及び邪魔板11の下を流れる。中間酸化部内の部分的に酸化された溶液は、スパージャーを通って流れる酸素を含むガスによってさらに酸化され、最終的に吸収部32へ流入する。使用済みの酸化ガスは、排出管路不図示を通って各酸化部物質移動領域の最上部から排出される。排出されたガスは全て、大気中へ放出される前に処理される。符号30で大まかに示される、図2中のプロセス及び装置の循環設計は、吸収部チャンバ32と、3つのガス分離ステージ34,36,38に分割された酸化部チャンバを含む。水平及び垂直に間隔を空けて配置された邪魔板又はダム40,42が、吸収部チャンバ32と第1の酸化部ステージ34との間に配されてその間に降水管44を規定し、H2Sを含む多価金属キレート溶液を当該キレート溶液の酸化の前段で保持する。同様の降水管が符号45,47,48として示され、それぞれ水平及び垂直に間隔を空けて配置された邪魔板によって規定され、符号46,48は第1及び第2の酸化部ステージ34,36間に配され、水平及び垂直に間隔を空けて配置された邪魔板41,43は第2及び第3の酸化部ステージ36,38の間に配され、水平及び垂直に間隔を空けて配置された邪魔板49,50は第3の酸化部ステージ38と吸収部チャンバ32との間に配されている。間隔を空けて配置された邪魔板又はダムは、図1に示されるように、吸収部からの液体が邪魔板40を超えて邪魔板42の下を流れるように構成され、連続する酸化部ステージのそれぞれからの液体は、隣接する邪魔板46,41,49を超え、次の連続する領域に隣接する邪魔板48、43,50の下を流れる。図2には示されていないが、ガススパージャーは、酸化部物質移動領域、吸収部物質移動領域及び一以上の降水管内に配置される。好ましくは、図2に示される円筒状の吸収部/酸化部管路は、平面的な、水平方向に配置された床面を有する。上述した具体的な実施形態の説明によって、第三者が現在の知識を適用して包括的な概念から出発することなく上述の具体的な実施形態を様々な応用のために容易に修正し及び/又は適合させ得るように、本発明の一般的性質が完全に明らかにされたであろう。従って、このような適合及び修正は、ここに開示された実施形態の等価物の意図及び範囲の内で理解される。本明細書中の表現及び用語は、限定を目的とするものではなく説明を目的とするものであることが理解されなければならない。"