厚み方向に垂直な第一主表面とそれに対向する第二主表面を有する透明な平行平板形状の透明基板と、第一主表面に形成されたフォトニック結晶を含む偏光ブレーズド回折格子部分からなる無機偏光ブレーズド回折格子であって、前記偏光ブレーズド回折格子部分は、実効屈折率がステップ状に変化する領域が、第一主表面に平行な第一の方向に沿って繰り返し形成されており、前記実効屈折率がステップ状に変化する領域は、フォトニック結晶が形成されているフォトニック結晶形成部分とそれに隣接する平坦部分からなる単位領域が、前記単位領域の実効的屈折率が前記第一の方向に沿って増加するように隣接して形成されており、前記フォトニック結晶形成部分は、屈折率の異なる二種類以上の誘電体材料が前記厚み方向に積層されている多層構造体であって、各誘電体材料ごとに積層の単位となる層の形状が前記第一の方向について周期的凹凸構造を有し、前記第一主表面に平行でありかつ前記第一の方向に垂直である第二の方向には一様な構造を有し、その形状を周期ごとに繰り返しつつ厚み方向に層状に積層されているフォトニック結晶からなり、前記フォトニック結晶の前記第一の方向についての周期的凹凸構造の周期が一定であることを特徴とする無機偏光ブレーズド回折格子。前記透明基板の前記第一主表面に、前記第二の方向に垂直な断面の形状が三角波状であり、前記第二の方向に一様な形状を有する周期的凹凸が形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の無機偏光ブレーズド回折格子。前記透明基板の前記第一主表面に形成されている前記周期的凹凸が、ゾルゲルナノインプリント法により形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の無機偏光ブレーズド回折格子。本発明は、フォトニック結晶を用いた無機偏光ブレーズド回折格子について、その作製が容易で設計の自由度が高い無機偏光ブレーズド回折格子を提供することを課題とする。本発明は、厚み方向に垂直な第一主表面とそれに対向する第二主表面を有する透明な平行平板形状の透明基板と、第一主表面に形成されたフォトニック結晶を含む偏光ブレーズド回折格子部分からなる無機偏光ブレーズド回折格子であって、前記偏光ブレーズド回折格子部分は、実効屈折率がステップ状に変化する領域が、第一主表面に平行な第一の方向に沿って繰り返し形成されており、前記実効屈折率がステップ状に変化する領域は、フォトニック結晶が形成されているフォトニック結晶形成部分とそれに隣接する平坦部分からなる単位領域が、前記単位領域の実効的屈折率が前記第一の方向に沿って増加するように隣接して形成されており、前記フォトニック結晶形成部分は、屈折率の異なる二種類以上の誘電体材料が前記厚み方向に積層されている多層構造体であって、各誘電体材料ごとに積層の単位となる層の形状が前記第一の方向について周期的凹凸構造を有し、前記第一主表面に平行でありかつ前記第一の方向に垂直である第二の方向には一様な構造を有し、その形状を周期ごとに繰り返しつつ厚み方向に層状に積層されているフォトニック結晶からなり、前記フォトニック結晶の前記第一の方向についての周期的凹凸構造の周期が一定であることを特徴とする無機偏光ブレーズド回折格子である。また本発明は、前記透明基板の前記第一主表面に、前記第二の方向に垂直な断面の形状が三角波状であり、前記第二の方向に一様な形状を有する周期的凹凸が形成されていることを特徴とする、前記無機偏光ブレーズド回折格子である。前記断面の形状が三角波状であることにより、その上に形成されるフォトニック結晶の構造が良好に形成される。また本発明は、前記透明基板の前記第一主表面に形成されている前記周期的凹凸が、ゾルゲルナノインプリント法により形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の無機偏光ブレーズド回折格子である。前記周期的凹凸をゾルゲルナノインプリント法により形成することにより、凹凸形状を形成することが容易になりかつ形状の自由度を確保することも容易になる。本発明の無機偏光ブレーズド回折格子は、透明基板の表面に、一定の周期を有する凹凸からなる溝形成部分と、それに隣接する溝構造が形成されていない平坦部分を、ブレーズド回折格子のステップ状屈折率分布の一つのステップに相当する部分前記単位領域として形成し、基板上に二種類以上の誘電体からなるフォトニック結晶を含む多層構造体を形成して作製される。異なるステップに相当する単位領域の構造は、溝形成部分の幅、平坦部分の幅又はそれらの両方が変更されて、基板上に形成される多層膜の前記単位領域の実効的な屈折率が前記第一の方向についてステップ状に変化するように構成され、その実効屈折率がステップ状に変化する領域が前記第一の方向について繰り返し配置されて疑似ブレーズド回折格子を形成していることを特徴とする。すなわち、溝形成部分の幅と平坦部分の幅の比によって、基板上に形成される前記単位領域の実効的な屈折率が決定されることを利用して、一種類の溝周期からなるフォトニック結晶構造のみを形成することによって無機偏光ブレーズド回折格子を形成することを実現するものであり、それに起因して製造が容易な無機偏光ブレーズド回折格子を実現することができるものである。本発明の無機偏光ブレーズド回折格子は、無機材料のみからなるため、耐熱性、耐環境性、温度特性が優れる。また本発明の無機偏光ブレーズド回折格子は、光学的に等方性の材料のみからなるため、製造コストが高くならない。さらにまた本発明の無機偏光ブレーズド回折格子は、溝周期が一定であるため、フォトニック結晶の製造が容易である。本発明の無機偏光ブレーズド回折格子は、透明基板の表面に、一定の周期を有する凹凸からなる溝形成部分と、それに隣接する溝構造が形成されていない平坦部分を、ブレーズド回折格子のステップ状屈折率分布の一つのステップに相当する部分前記単位領域として形成し、異なるステップに相当する部分の構造は、溝形成部分の幅、平坦部分の幅又はそれらの両方が変更されてなることによって、基板上に形成される多層膜の前記単位領域の実効的な屈折率が前記第一の方向についてステップ状に変化するように構成され、その実効屈折率がステップ状に変化する領域が前記第一の方向について繰り返し配置されて疑似ブレーズド回折格子を形成していることを特徴とする。すなわち、一種類の溝周期からなるフォトニック結晶構造のみを利用することから、その設計や製造が容易になる。本発明で用いる透明基板としては、石英ガラスその他のガラス材料や透明なアルミナセラミックス等の無機材料を平行平板形状に加工したものを用いることができる。本発明においては、フォトニック結晶を形成する二種類以上の誘電体材料として、屈折率のより低いものとより高いものを用いる。このような構成は一般に光学多層膜の材料として用いられるものがあり、例えば酸化珪素と酸化タンタルを用いることが可能である。低屈折率材料としては酸化珪素の他にフッ化マグネシウム等があげられる。高屈折率材料としては、酸化タンタルの他に酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、またチタンとニオブの酸化物などがあげられる。前記のような屈折率の異なる二種類以上の誘電体を用いてフォトニック結晶を作製する方法として、特許文献5に記載されているような周期的凹凸を形成した基板にバイアススパッタリング法によって多層膜を積層する方法が知られている。図1は、本発明の無機偏光ブレーズド回折格子の第二の方向に垂直な平面における断面を示した説明図である。また図2は、本発明の透明基板の第一主表面に形成される周期的凹凸の形状の例を示した説明図である。ここで、図中x方向が第一の方向、y方向が第二の方向、z方向が厚み方向に相当する図1のような構造を作製するためには、図2に示すような周期的凹凸を基板上に形成し、その上にバイアススパッタ法による多層膜形成を行う方法をとる。ここで、フォトニック結晶の断面構造が三角波形状になることから、基板に形成される周期的凹凸構造も自己クローニングにより形成される三角波形状と同様の形状であれば、厚み方向についてより良好なフォトニック結晶を形成することができる。また、図2に示すような周期的構造は、基板の第一主表面を切削加工する方法、フォトリソグラフィーの手法を用いてエッチング加工する方法又はゾルゲルナノインプリント法有機シリコン化合物を原料として、ゲル化した塗膜を基板上に形成し、型押し等の方法で周期的凹凸を形成した後に縮重合反応を生じせしめて微細な周期的凹凸形状を有するガラス材料を形成する方法などにより形成することが可能である。このうち、形成プロセスが簡単であることと作製可能な形状の自由度が大きいことから、ゾルゲルナノインプリント法による周期的凹凸を利用することが好ましい。フォトニック結晶の構造及び基板の周期的凹凸の構造は、FDTD法によりフォトニック結晶の光学特性をシミュレーションすることによって最適なものを決定することができる。周期的凹凸の周期は回折格子として作用させる光の波長に対して小さく、例えば光通信用の回折格子であれば200nmから300nm程度の値を用いる。フォトニック結晶の厚み方向の膜厚は、使用波長の1/4波長相当にすることが通常である。以下、実施例に基づきさらに詳細に本発明を説明する。以下のようにして、波長405nm、1次の回折効率をもつ回折格子の周期15μmの偏光ブレーズド回折格子を作製した。ゾルゲルナノインプリント法により、石英ガラスから第一の方向について周期200nm、アスペクト比約0.4、断面形状が三角形状である周期的凹凸からなる溝構造を、両面が光学研磨された厚さ1mmの石英ガラス基板の第一主表面に後述のフォトニック結晶幅、平坦部幅になるよう形成した。前記基板の第一主表面の溝形成部分に形成したTa2O5/SiO2構成のフォトニック結晶について、次の構造とした。第一の方向についての凹凸周期を200nmとし、フォトニック結晶2周期分と平坦部の組を1サイクルとして第一の方向に30サイクル設け、平坦部の幅はi番目のサイクルに対して1.11×i×2.023i2×0.1857単位はnmとした。平坦部幅はFDTD法による最適化プログラムを用いて回折効率が一番高くなるように決定したものである。各フォトニック結晶形成部分と平坦部分の幅を表1に示す。バイアススパッタリング法を用いて、前記基板の第一主表面に成膜を行い、フォトニック結晶を作製した。SiターゲットとTaターゲットを用い、Arガス雰囲気中でSiO2膜とTa2O5膜を交互に成膜した。Ta2O5、SiO2の順に成膜し、Ta2O520nm/SiO220nmの組合せを226層積層し、さらにTa2O530nm/SiO230nmを1層積層した。この構造により、波長405nmの光についてTM偏光偏波方向が第一の方向である偏光成分に対しては0次回折効率が0.4、1次回折効率が83.8のブレーズド回折格子として作用することを確認した。TE偏光偏波方向が第二の方向である偏光成分に対しては、透過光は回折作用を受けなかった。実施例と同様に、無機偏光ブレーズド回折格子を作製した。Ta2O520nm/SiO220nmの組合せを469層積層し、さらにTa2O530nm/SiO230nmを1層積層した。この構造により、波長405nmの光についてTM偏光に対して0次回折効率が0.9、2次回折効率が76.9のブレーズド回折格子を得た。TE偏光に対しては、透過光は回折作用を受けなかった。