"透明基板と、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、第1方向に延びる複数の第1透明導電パターンと、該第1透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第1感知部と、複数の前記第1感知部の間を電気的に接続する複数の第1接続部とを含み、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、前記第1方向と直交する第2方向に延びる複数の第2透明導電パターンと、該第2透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第2感知部と、複数の前記第2感知部の間を電気的に接続する複数の第2接続部とを含み、前記透明基板を平面視したとき、前記第1透明導電パターンと前記第2透明導電パターンとは、前記第1感知部と前記第2感知部とが実質的に重ならないよう配置され、前記第1感知部、及び前記第2感知部の少なくとも一方の領域に、導電性繊維を含有しないダミー絶縁ラインを有する電極パターン。透明基板と、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、第1方向に延びる複数の第1透明導電パターンと、該第1透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第1感知部と、複数の前記第1感知部の間を電気的に接続する複数の第1接続部とを含み、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、前記第1方向と直交する第2方向に延びる複数の第2透明導電パターンと、該第2透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第2感知部と、複数の前記第2感知部の間を電気的に接続する複数の第2接続部とを含み、前記透明基板を平面視したとき、前記第1透明導電パターンと前記第2透明導電パターンとは、前記第1感知部と前記第2感知部とが実質的に重ならないよう配置され、前記透明基板を平面視したとき、前記第1感知部と前記第2感知部との間に形成されたダミーパターンと、前記第1感知部内、第2感知内部、及び前記ダミーパターンの少なくとも1つの領域に導電性繊維を含有しないダミー絶縁ラインを有する電極パターン。前記ダミー絶縁ラインが形成される前記領域は、面積が最も大きい領域である請求項1又は2記載の電極パターン。前記ダミー絶縁ラインは、表示領域内の、前記絶縁ラインの面内分布が最も低い領域に配置される請求項1から3のいずれか記載の電極パターン。前記ダミー絶縁ラインは、破線状である請求項1から4のいずれか記載の電極パターン。前記導電性繊維が銀ナノワイヤーである請求項1から5のいずれか記載の電極パターン。前記透明導電パターンが前記導電性繊維とバインダーとを含む請求項1から6のいずれか記載の電極パターン。請求項1から7のいずれか記載の電極パターンを有するタッチパネル。前記透明基板の一方面側に配置された偏光板を、さらに備える請求項8に記載のタッチパネル。液晶ディスプレイと、前記液晶ディスプレイの一方面側に配置された請求項8又は9に記載のタッチパネルと、前記液晶ディスプレイの他方面側に配置された偏光板と、を備える液晶表示装置。有機EL素子と、円偏光板と、前記円偏光板と前記有機EL素子との間に配置された請求項8又は9に記載のタッチパネルと、を備える有機ELディスプレイ。近年、入力デバイスとして液晶パネル、電子ペーパー等の表示デバイスにタッチパネルが搭載されている特許文献1、特許文献2。タッチパネルの構成としては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、静電容量方式など様々なものが知られているが、多点タッチが可能で大面積化が行いやすい方式として、静電容量方式が知られており、例えば、透明導電材料としてITO酸化インジウムすずを使用した静電容量方式タッチパネルが開示されている非特許文献1参照。しかし、ITOの原料であるインジウムは高価であり安定供給に限界があること、薄膜作製に真空過程を必要とするために製造コストが高くなること、また、ITO膜は脆く、曲げ耐性に劣るといった課題があることから、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、PEDOT、ポリアニリンといった代替物質が提案されている。タッチパネルの透明電極として検討されている銀ナノワイヤーを用いた透明導電膜は、微粒子を分散した導電膜であるために、光散乱性を示し、それに伴う偏光解消性の特性を持つことが知られている。液晶ディスプレイを備えるオンセル型タッチパネルではクロスニコルの偏光板間にタッチパネルが挿入されるため、銀ナノワイヤ層が偏光板間に配置される。タッチパネルでは、X電極とY電極とが絶縁ラインにより電気的に分離される、通常、絶縁ラインは銀ナノワイヤ層を線状に除去することにより形成される。そのため、タッチパネル上に絶縁ラインが疎の領域と密の領域とが形成される。絶縁ラインが疎の領域では、銀ナノワイヤーの残存量が多くなり、そのため光漏れが多くなる。一方、絶縁ラインが密の領域では、銀ナノワイヤの残存量が少なくなり、そのため光漏れが少なくなる。この絶縁ラインの疎密に起因した光漏れの差が、パターン見えの現象を引き起こす。パターン見えとは、タッチパネルを平面視した場合に、透明電極が存在する箇所と存在しない箇所が視認される現象で、パターン見えが生じると、タッチパネルの透明電極のパターンと、液晶表示装置が表示する画像を重ねた画像が視認され、表示品質を悪化させるという問題となる。特に本課題では液晶表示装置が黒を表示している場合、パターン見えが生じやすい。また、有機ELディスプレイは有機EL素子の金属部による外光の反射を低減するために、円偏光板を前面に備えることが多い。有機EL素子と円偏光板の間に導電性繊維を用いたタッチパネルが配置されると、円偏光の偏光状態が乱れ、外光の反射を防ぐことができなくなる。このため例えば有機ELディスプレイが黒を表示している場合、絶縁ラインが密な箇所は外光の反射が少なく、黒く見え、絶縁ラインが疎な箇所は外光の反射が多くなり、白く見え、結果としてパターン見えが生じ、表示品質の低下の問題を起こす。有機ELディスプレイにおける外光の反射によるパターン見えは液晶表示装置における光漏れと同じ問題を起こす。特に、特許文献1、及び2に記載されたタッチパネルはダミーパターンを有している。タッチパネル上にダミーパターンを画定するためには絶縁ラインが必要となる。特許文献1、及び2の電極パターンにおいては、絶縁ラインの疎密ができやすく、パターン見えの現象が生じやすくなる。本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、導電性繊維を含有した透明導電膜において、光散乱によるパターン見えを防止する電極パターン、及びその電極パターンを含むタッチパネル、及びそのタッチパネルを有する液晶表示装置、有機ELディスプレイを提供することを目的とする。導電性繊維を含有させた膜を透明導電膜として用いる場合、一般的に用いられるITOなどの無機酸化物電極に比較して、光散乱性が強いことによるパターン見えが問題となることがわかってきた。タッチパネルでは表示部の第1方向に延在する電極と、それと直交する第2方向に延在する電極により接触位置を特定する場合が多い。導電性繊維を含有させた透明導電膜が存在する領域は導電性繊維による光散乱性のために白っぽく見え、透明導電膜が存在しない領域は散乱が無いために黒っぽく見える。この違いのために、透明導電膜の形状があるパターンとして見えてしまい、表示品質の悪化につながる可能性があった。この現象はITOなどの既存の透明電極では発生しない課題であり、導電性繊維を分散した透明電極ならではの課題であることがわかった。上記の知見を元に発明者らが鋭意検討した結果、ダミー絶縁ラインを、絶縁ラインの密度が低い場所に配置することで、導電膜としての特性をさほど低下させずに光散乱の面内密度を均一化し、パターン見えを抑制できることを見出した。本発明の一態様による、電極パターンは、透明基板と、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、第1方向に延びる複数の第1透明導電パターンと、該第1透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第1感知部と、複数の前記第1感知部の間を電気的に接続する複数の第1接続部とを含み、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、前記第1方向と直交する第2方向に延びる複数の第2透明導電パターンと、該第2透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第2感知部と、複数の前記第2感知部の間を電気的に接続する複数の第2接続部とを含み、前記透明基板を平面視したとき、前記第1透明導電パターンと前記第2透明導電パターンとは、前記第1感知部と前記第2感知部とが実質的に重ならないよう配置され、前記第1感知部、及び前記第2感知部の少なくとも一方の領域に、導電性繊維を含有しないダミー絶縁ラインを有する。本発明の他の態様による、電極パターンは、透明基板と、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、第1方向に延びる複数の第1透明導電パターンと、該第1透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第1感知部と、複数の前記第1感知部の間を電気的に接続する複数の第1接続部とを含み、前記透明基板上に形成され、導電性繊維とを含み、前記第1方向と直交する第2方向に延びる複数の第2透明導電パターンと、該第2透明導電パターンは導電性繊維を含まない絶縁ラインにより画定された複数の第2感知部と、複数の前記第2感知部の間を電気的に接続する複数の第2接続部とを含み、前記透明基板を平面視したとき、前記第1透明導電パターンと前記第2透明導電パターンとは、前記第1感知部と前記第2感知部とが実質的に重ならないよう配置され、前記透明基板を平面視したとき、前記第1感知部と前記第2感知部との間に形成されたダミーパターンと、前記第1感知部内、第2感知内部、及び前記ダミーパターンの少なくとも1つの領域に導電性繊維を含有しないダミー絶縁ラインを有する。好ましくは、前記ダミー絶縁ラインが形成される前記領域は、面積が最も大きい領域である。好ましくは、前記ダミー絶縁ラインは、表示領域内の、前記絶縁ラインの面内分布が最も低い領域に配置される。好ましくは、前記ダミー絶縁ラインは、破線状である。好ましくは、前記導電性繊維が銀ナノワイヤーである。好ましくは、前記透明導電パターンが前記導電性繊維とバインダーとを含む。本発明の他の態様による、タッチパネルは、前記電極パターンを有する。好ましくは、タッチパネルは前記透明基板の一方面側に配置された偏光板を、さらに備える。本発明の他の態様による、液晶表示装置は、液晶ディスプレイと、前記液晶ディスプレイの一方面側に配置された前記タッチパネルと、前記液晶ディスプレイの他方面側に配置された偏光板と、を備える。本発明の他の態様による、有機ELディスプレイは、有機EL素子と、円偏光板と、前記円偏光板と前記有機EL素子との間に配置された前記タッチパネルと、を備える。本発明によれば、導電性繊維を含有する透明導電膜において、光散乱によるパターン見えを防止することができる。また、導電性繊維を電極パターンとして用いた高品質なタッチパネル、液晶表示装置、及び有機ELディスプレイを実現することができる。以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について説明する。本発明は以下の好ましい実施の形態により説明されるが、本発明の範囲を逸脱することなく、多くの手法により変更を行うことができ、本実施の形態以外の他の実施の形態を利用することができる。したがって、本発明の範囲内における全ての変更が特許請求の範囲に含まれる。以下、本実施形態のタッチパネルを、図1~を参照しながら説明する。第1実施形態タッチパネル10は、透明基板20と、透明基板20上に形成された電極パターン12を備え、電極パターン12は、複数の第1透明導電パターン30、及び複数の第2透明導電パターン40とを備える。各第1透明導電パターン30は第1方向Y方向に沿って延び、各第2透明導電パターン40は第1方向と直交する第2方向X方向に沿って延びる。第1透明導電パターン30は、複数の第1感知部32の間を電気的に接続する第1接続部34とから構成される。第1感知部32は菱形形状を有しており、第1接続部34は幅の狭い短冊形状を有している。第1接続部34は、第2接続部44上に形成された絶縁膜50上に形成される。第1透明導電パターン30について、第1感知部32と第1接続部34とは別体として形成される。なお、絶縁膜50は透明性が要求される。そのため、絶縁膜50の材料として、無機材料としては、SiO2SiOxSiNxSiOxNy、有機材料としては、アクリル樹脂等が使用される。第2透明導電パターン40は、複数の第2感知部42と、複数の第2感知部42の間を電気的に接続する第2接続部44とから構成される。第2感知部42は菱形形状を有しており、第2接続部44は幅の狭い短冊形状を有している。第2透明導電パターン40について、第2感知部42と第2接続部44とは一体として形成される。第1透明導電パターン30と第2透明導電パターン40とは、平面視で、第1感知部32と第2感知部42とが重なり合わないよう配置される。一方、第1接続部34と第2接続部44とは、平面視で、交差する。ただし、第1接続部34と第2接続部44とは絶縁膜50により電気的に分離されている。上述のように第1透明導電パターン30と第2透明導電パターン40とを配置することにより、いわゆる、規則的に配置された変形のダイヤモンドパターンが構成される。第1透明導電パターン30と第2透明導電パターン40とは、いずれも、導電性繊維とバインダーとを含む透明導電膜で構成される。導電性繊維の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、中実構造及び中空構造のいずれかであることが好ましい。ここで、中実構造の繊維をワイヤーと呼ぶことがあり、中空構造の繊維をチューブと呼ぶことがある。平均短軸長さが5nm~1,000nmであって、平均長軸長さが1μm~100μmの導電性繊維をナノワイヤーと呼ぶことがある。また、平均短軸長さが1nm~1,000nm、平均長軸長さが0.1μm~1,000μmであって、中空構造を持つ導電性繊維をナノチューブと呼ぶことがある。前記導電性繊維の材料としては、導電性を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属及びカーボンの少なくともいずれかであることが好ましく、これらの中でも、前記導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかであることが好ましい。透明性、ヘイズの観点から、平均短軸長さは50nm以下であることが好ましい。バインダーとしては、有機高分子重合体であって、分子好ましくは、アクリル系共重合体を主鎖とする分子中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などを有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。透明基板20の材料として、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス等の透明ガラス基板、またはPET,PEN,PES等の透明合成樹脂基板等を使用することができる。透明度及び寸法安定性の観点から、無アルカリガラス、PET、PENを使用することが好ましい。第1透明導電パターン30と第2透明導電パターン40とを比較すると、第1感知部32の面積が第2感知部42の面積より大きく、両者はサイズが異なっている。これは、例えば、位置検出する集積回路側の要求から、第1透明導電パターン30と第2透明導電パターン40とに求められる特性が異なるからである。その結果、第1感知部と第2感知部とが同等サイズの電極パターンと比べると、第1感知部32と第2感知部42との隙間が大きくなる。この隙間を埋めるため、バインダーと導電性繊維とを含むダミーパターン60が形成される。ダミーパターン60を形成することで、第2感知部42とダミーパターン60とを合わせた領域が、第1感知部32の領域と実質的に同じ大きさとになる。第1感知部32と第2感知部42との大きさが異なることに起因するパターン見えの問題を解消することが可能となる。しかしながら、第1感知部32と、第2感知部42と、ダミーパターン60とを、電気的分離するために、ダミーパターン60を囲うように絶縁ライン70が存在する。絶縁ライン70は導電性繊維の無い領域であるので、絶縁ライン70の領域は光散乱が無いため黒っぽく見える。第2感知部42の面積が小さいと、対向する絶縁ライン70同士の距離が短くなる。第2感知部42をX方向に沿って見れば、対向する絶縁ライン70により黒いラインが存在するにように見える。一方、第1感知部32をX方向に沿って見れば、第1感知部32の面積が大きいので白いラインのように見える。このように、導電繊維のない絶縁ライン70の疎密によりパターン見えが生じやすくなる。そこで、本実施の形態では、絶縁ライン70と同形状のダミー絶縁ライン80が第1感知部32に形成される。ダミー絶縁ライン80が第1感知部32に形成される理由は、第1感知部32、第2感知部42、及びダミーパターン60の中で面積が大きく、導電性繊維を含む量が最も多いからである。ここで、絶縁ライン70は、ダミーパターン60と第2感知部42とにより挟まれた領域を意味する。ダミー絶縁ライン80は、第1感知部32を除去することにより形成された領域であり、ダミー絶縁ライン80は導電性繊維を含んでいない。このように、絶縁ライン70が疎の領域、つまり第1感知部32に、絶縁ライン70とほぼ同形状のV字形状のダミー絶縁ライン80が形成される。したがって、電極パターン12全体を見たときに、いわゆる導電繊維のない領域である絶縁ラインの疎密が解消され、光散乱の面内密度を均一化でき、パターン見えを抑制できる。絶縁ライン70とダミー絶縁ライン80とは、合計の面積が等しいことが好ましい。また、ダミー絶縁ライン80は、表示領域内の、絶縁ライン70の面内分布が最も低い領域に配置されることが好ましい。つまり、表示領域内において、第1感知部32と第2感知部42とを確定する絶縁ライン70の面内分布を確認し、絶縁ライン70の密度が最も疎となっている領域にダミー絶縁ライン80を配置する。結果として、絶縁ライン70とダミー絶縁ライン80を含むトータルの絶縁ライン群の面内分布が、ダミー絶縁ライン80を配置前と比較して均一になる。絶縁ライン70とは、第1透明導電パターン30と第2透明導電パターン40と電気的に分離するものであって、各第1感知部32、各第2感知部42、各第1接続部34とを画定する、導電性繊維を含まない線状に配置されたタッチパネル10に必須の領域を意味する。ダミー絶縁ライン80とは、導電性繊維を含まない線状に配置された部分であって、仮にその部分に導電性繊維が存在していたとしても電極としての本質的な効能に影響を及ぼさない領域を意味する。したがって、タッチパネル10に必須の領域ではない。パターン見えを抑制するためには、絶縁ライン群を構成する絶縁ライン70とダミー絶縁ライン80とは50μm以下の幅を有することが好ましく、30μm以下の幅を有することがより好ましく、20μm以下の幅を有することが最も好ましい。なお、ダミー絶縁ライン80は電気的な分離を目的としていないので、第1感知部32はダミー絶縁ライン80により電気的に分離されない。第2実施形態図2は、第2の実施形態の平面図を示す。第1実施形態と同様の構成には同様の符号を付して説明を省略する場合がある。タッチパネル10は、透明基板20と、透明基板20上に形成された電極パターン12を備え、電極パターン12は、複数の第1透明導電パターン30、及び複数の第2透明導電パターン40とを備える。各第1透明導電パターン30は第1方向Y方向に沿って延び、各第2透明導電パターン40は第1方向と直交する第2方向X方向に沿って延びる。第1透明導電パターン30は、複数の第1感知部32の間を電気的に接続する第1接続部34とから構成される。第1感知部32は菱形形状を有しており、第1接続部34は幅の狭い短冊形状を有している。第1接続部34は、第2接続部44上に形成された絶縁膜50上に形成される。第2透明導電パターン40は、複数の第2感知部42と、複数の第2感知部42の間を電気的に接続する第2接続部44とから構成される。第2感知部42は菱形形状を有しており、第2接続部44は幅の狭い短冊形状を有している。第2透明導電パターン40について、第2感知部42と第2接続部44とは一体として形成される。第1感知部32と第2感知部42との間にはダミーパターン60が形成される。第1感知部32と、第2感知部42と、ダミーパターン60とを、電気的分離するために、ダミーパターン60を囲うように絶縁ライン70が存在する。ダミー絶縁ライン80が第1感知部32に形成される。ダミー絶縁ライン80は絶縁ラインと70と実質的に同じ形状であるが、第1実施形態と異なり、ダミー絶縁ライン80は絶縁ライン70と直交する方向に向くように形成される。絶縁ライン70が疎の領域である第1感知部32にダミー絶縁ライン80が形成されるので、電極パターン12全体を見たときに、いわゆる導電繊維のない領域である絶縁ラインの疎密が解消され、光散乱の面内密度を均一化でき、パターン見えを抑制できる。なお、ダミー絶縁ライン80は電気的な分離を目的としていないので、第1感知部32はダミー絶縁ライン80により電気的に分離されない。絶縁ライン70とダミー絶縁ライン80とは、合計の面積が等しいことが好ましい。ダミー絶縁ライン80を配置することにより、絶縁ライン70とダミー絶縁ライン80を含むトータルの絶縁ライン群の面内分布が、ダミー絶縁ライン80を配置する前と比較して均一化される。第3実施形態図3は、第3の実施形態の平面図を示す。第1、第2の実施形態と同様の構成には同様の符号を付して説明を省略する場合がある。タッチパネル10は、透明基板20と、透明基板20上に形成された電極パターン12を備え、電極パターン12は、複数の第1透明導電パターン30、及び複数の第2透明導電パターン40とを備える。各第1透明導電パターン30は第1方向Y方向に沿って延び、各第2透明導電パターン40は第1方向と直交する第2方向X方向に沿って延びる。第1透明導電パターン30は、複数の第1感知部32の間を電気的に接続する第1接続部34とから構成される。第1感知部32は菱形形状を有しており、第1接続部34は幅の狭い短冊形状を有している。第1接続部34は、第2接続部44上に形成された絶縁膜50上に形成される。第2透明導電パターン40は、複数の第2感知部42と、複数の第2感知部42の間を電気的に接続する第2接続部44とから構成される。第2感知部42は菱形形状を有しており、第2接続部44は幅の狭い短冊形状を有している。第2透明導電パターン40について、第2感知部42と第2接続部44とは一体として形成される。第1感知部32と第2感知部42との間にはダミーパターン60が形成される。第1感知部32と、第2感知部42と、ダミーパターン60とを、電気的分離するために、ダミーパターン60を囲うように絶縁ライン70が存在する。ダミー絶縁ライン80が第1感知部32に形成される。本実施の形態における、ダミー絶縁ライン80の形状は、平面視において、X方向に沿う長辺を有する矩形である。絶縁ライン70が疎の領域である第1感知部32にダミー絶縁ライン80が形成されるので、電極パターン12全体を見たときに、いわゆる導電繊維のない領域である絶縁ラインの疎密が解消され、光散乱の面内密度を均一化でき、パターン見えを抑制できる。なお、ダミー絶縁ライン80は電気的な分離を目的としていないので、第1感知部32はダミー絶縁ライン80により電気的に分離されない。絶縁ライン70とダミー絶縁ライン80とは、合計の面積が等しいことが好ましい。ダミー絶縁ライン80を配置することにより、絶縁ライン70とダミー絶縁ライン80を含むトータルの絶縁ライン群の面内分布が、ダミー絶縁ライン80を配置する前と比較して均一化される。第4実施形態図4は、第4の実施形態の平面図を示す。第1~第3の実施形態と同様の構成には同様の符号を付して説明を省略する場合がある。タッチパネル10は、透明基板20と、透明基板20上に形成された電極パターン12を備え、電極パターン12は、複数の第1透明導電パターン30、及び複数の第2透明導電パターン40とを備える。各第1透明導電パターン30は第1方向Y方向に沿って延び、各第2透明導電パターン40は第1方向と直交する第2方向X方向に沿って延びる。第1透明導電パターン30は、複数の第1感知部32の間を電気的に接続する第1接続部34とから構成される。第1感知部32は菱形形状を有しており、第1接続部34は幅の狭い短冊形状を有している。第1接続部34は、第2接続部44上に形成された絶縁膜50上に形成される。第2透明導電パターン40は、複数の第2感知部42と、複数の第2感知部42の間を電気的に接続する第2接続部44とから構成される。第2感知部42は菱形形状を有しており、第2接続部44は幅の狭い短冊形状を有している。第2透明導電パターン40について、第2感知部42と第2接続部44とは一体として形成される。第1感知部32と第2感知部42との間にはダミーパターン60が形成される。第1感知部32と、第2感知部42と、ダミーパターン60とを、電気的分離するために、ダミーパターン60を囲うように絶縁ライン70が存在する。ダミー絶縁ライン80が第1感知部32に形成される。本実施の形態における、ダミー絶縁ライン80の形状は、平面視において、Y方向に沿う長辺を有する矩形である。ダミー絶縁ライン80は、第3の実施形態と実質的に同じ形状であるが、第3実施形態とは長辺の向きが異なる。絶縁ライン70が疎の領域である第1感知部32にダミー絶縁ライン80が形成されるので、電極パターン12全体を見たときに、いわゆる導電繊維のない領域である絶縁ラインの疎密が解消され、光散乱の面内密度を均一化でき、パターン見えを抑制できる。なお、ダミー絶縁ライン80は電気的な分離を目的としていないので、第1感知部32はダミー絶縁ライン80により電気的に分離されない。絶縁ライン70とダミー絶縁ライン80とは、合計の面積が等しいことが好ましい。ダミー絶縁ライン80を配置することにより、絶縁ライン70とダミー絶縁ライン80を含むトータルの絶縁ライン群の面内分布が、ダミー絶縁ライン80を配置する前と比較して均一化される。第5実施形態図5は、第5の実施形態の平面図を示す。第1~第4の実施形態と同様の構成には同様の符号を付して説明を省略する場合がある。タッチパネル10は、透明基板20と、透明基板20上に形成された電極パターン12を備え、電極パターン12は、複数の第1透明導電パターン30、及び複数の第2透明導電パターン40とを備える。各第1透明導電パターン30は第1方向Y方向に沿って延び、各第2透明導電パターン40は第1方向と直交する第2方向X方向に沿って延びる。第1透明導電パターン30は、複数の第1感知部32の間を電気的に接続する第1接続部34とから構成される。第1感知部32は菱形形状を有しており、第1接続部34は幅の狭い短冊形状を有している。第1接続部34は、第2接続部44上に形成された絶縁膜50上に形成される。第2透明導電パターン40は、複数の第2感知部42と、複数の第2感知部42の間を電気的に接続する第2接続部44とから構成される。第2感知部42は菱形形状を有しており、第2接続部44は幅の狭い短冊形状を有している。第2透明導電パターン40について、第2感知部42と第2接続部44とは一体として形成される。第1感知部32と第2感知部42との間にはダミーパターン60が形成される。第1感知部32と、第2感知部42と、ダミーパターン60とを、電気的分離するために、ダミーパターン60を囲うように絶縁ライン70が存在する。本実施の形態では、第1感知部32と第2感知部42とが実質的に同じ大きさを有する。ただし、第1感知部32、及び第2感知部42の大きさが小さく、ダミーパターン60が、第1感知部32、第2感知部42、及びダミーパターン60の中で、最も大きい。したがって、ダミー絶縁ライン80がダミーパターン60に形成される。本実施の形態における、ダミー絶縁ライン80の形状は、平面視において、絶縁ライン70と実質的に同じ形状を有する。なお、本実施の形態では、ダミー絶縁ライン80は、破線で構成される。絶縁ライン70が疎の領域であるダミーパターン60にダミー絶縁ライン80が形成されるので、電極パターン12全体を見たときに、いわゆる導電繊維のない領域である絶縁ラインの疎密が解消され、光散乱の面内密度を均一化でき、パターン見えを抑制できる。なお、ダミー絶縁ライン80は電気的な分離を目的としていないので、線状である必要はない。したがって、図5のような破線状であっても良い。図5のように、浮遊した電極であるダミーパターン60の中にダミー絶縁ライン80を設ける場合には、ダミー絶縁ライン80を破線とすることによる効果は小さい。一方、例えば、電極として使用する第1感知部32の中にダミー絶縁ライン80を設ける場合には、電極としての導電性の低下を少なくするために、ダミー絶縁ライン80を破線とすることが好ましい。ダミー絶縁ライン80を配置することにより、絶縁ライン70とダミー絶縁ライン80を含むトータルの絶縁ライン群の面内分布が、ダミー絶縁ライン80を配置する前と比較して均一化される。以下、本実施の形態に使用される材料について説明する。<透明導電膜>透明導電膜は、少なくともバインダーと導電性繊維を含有している。バインダーは特に限定はないが、感光性化合物、更に必要に応じてその他の成分を含有してなることが好ましい。導電性繊維前記導電性繊維の材料としては、導電性を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。金属及びカーボンの少なくともいずれかであることが好ましく、これらの中でも、前記導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかであることが好ましい。<<金属ナノワイヤー>>-材料-前記金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。-金属-前記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、及び銀との合金が好ましい。前記銀との合金で使用する金属としては、金、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウムなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。-形状-前記金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はない。目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができる。高い透明性が必要とされる用途では、円柱状や断面の多角形の角が丸まっている断面形状であることが好ましい。前記金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡TEMで観察することにより調べることができる。-平均短軸長さ径及び平均長軸長さ-前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さ平均短軸径、平均直径と称することがあるとしては、1nm~50nmが好ましく、10nm~40nmがより好ましく、15nm~35nmが更に好ましい。前記平均短軸長さが、1nm未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、50nmを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡TEM;日本電子株式会社製、JEM-2000FXを用い、300個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さ平均長さと称することがあるとしては、1μm~40μmであることが好ましく、3μm~35μmがより好ましく、5μm~30μmが更に好ましい。前記平均長軸長さが、1μm未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、40μmを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡TEM;日本電子株式会社製、JEM-2000FXを用い、300個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、及び曲率から算出される値を長軸長さとした。-製造方法-前記金属ナノワイヤーの製造方法としては、特に制限はなく、いかなる方法で製造してもよいが、以下のようにハロゲン化合物と分散添加剤とを溶解した溶媒中で加熱しながら金属イオンを還元することによって製造することが好ましい。また、金属ナノワイヤーの製造方法としては、特開2009-215594号公報、特開2009-242880号公報、特開2009-299162号公報、特開2010-84173号公報、特開2010-86714号公報などに記載の方法を用いることができる。<<金属ナノチューブ>>-材料-前記金属ナノチューブの材料としては、特に制限はなく、いかなる金属であってもよく、例えば、前記した金属ナノワイヤーの材料などを使用することができる。-形状-前記金属ナノチューブの形状としては、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。-平均短軸長さ、平均長軸長さ、厚み-前記金属ナノチューブの厚み外径と内径との差としては、3nm~80nmが好ましく、3nm~30nmがより好ましい。前記厚みが、3nm未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、80nmを超えると、金属ナノチューブ起因の散乱が生じることがある。前記金属ナノチューブの平均長軸長さは、1μm~40μmが好ましく、3μm~35μmがより好ましく、5μm~30μmが更に好ましい。<<カーボンナノチューブ>>前記カーボンナノチューブCNTは、グラファイト状炭素原子面グラフェンシートが、単層あるいは多層の同軸管状になった物質である。前記単層のカーボンナノチューブはシングルウォールナノチューブSWNT、前記多層のカーボンナノチューブはマルチウォールナノチューブMWNTと呼ばれ、特に、2層のカーボンナノチューブはダブルウォールナノチューブDWNTとも呼ばれる。本発明で用いられる導電性繊維において、前記カーボンナノチューブは、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。-製造方法--アスペクト比-前記導電性繊維のアスペクト比としては、10以上であることが好ましい。前記アスペクト比とは、一般的には繊維状の物質の長辺と短辺との比平均長軸長さ/平均短軸長さの比を意味する。前記アスペクト比の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子顕微鏡等により測定する方法などが挙げられる。前記導電性繊維のアスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、前記導電性繊維のアスペクト比が10以上であるか否かは、電子顕微鏡の1視野で確認できればよい。また、前記導電性繊維の長軸長さと短軸長さとを各々別に測定することによって、前記導電性繊維全体のアスペクト比を見積もることができる。なお、前記導電性繊維がチューブ状の場合には、前記アスペクト比を算出するための直径としては、該チューブの外径を用いる。前記導電性繊維のアスペクト比としては、10以上であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、50~1,000,000が好ましく、100~1,000,000がより好ましい。前記アスペクト比が、10未満であると、前記導電性繊維によるネットワーク形成がなされず導電性が十分取れないことがあり、1,000,000を超えると、導電性繊維の形成時やその後の取り扱いにおいて、成膜前に導電性繊維が絡まり凝集するため、安定な液が得られないことがある。-アスペクト比が10以上の導電性繊維の比率-前記アスペクト比が10以上の導電性繊維の比率としては、全導電性組成物中に体積比で、50以上が好ましく、60以上がより好ましく、75以上が特に好ましい。これらの導電性繊維の割合を、以下、導電性繊維の比率と呼ぶことがある。前記導電性繊維の比率が、50未満であると、導電性に寄与する導電性物質が減少し導電性が低下してしまうことがあり、同時に密なネットワークを形成できないために電圧集中が生じ、耐久性が低下してしまうことがある。また、導電性繊維以外の形状の粒子は、導電性に大きく寄与しない上に吸収を持つため好ましくない。特に金属の場合で、球形などのプラズモン吸収が強い場合には透明度が悪化してしまうことがある。ここで、前記導電性繊維の比率は、例えば、導電性繊維が銀ナノワイヤーである場合には、銀ナノワイヤー水分散液をろ過して、銀ナノワイヤーと、それ以外の粒子とを分離し、ICP発光分析装置を用いてろ紙に残っている銀の量と、ろ紙を透過した銀の量とを各々測定することで、導電性繊維の比率を求めることができる。ろ紙に残っている導電性繊維をTEMで観察し、300個の導電性繊維の短軸長さを観察し、その分布を調べることにより、短軸長さが200nm以下であり、かつ長軸長さが1μm以上である導電性繊維であることを確認する。なお、ろ紙は、TEM像で短軸長さが200nm以下であり、かつ長軸長さが1μm以上である導電性繊維以外の粒子の最長軸を計測し、その最長軸の2倍以上であり、かつ導電性繊維の長軸の最短長以下の長さのものを用いることが好ましい。ここで、前記導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、例えば、透過型電子顕微鏡TEMや光学顕微鏡を用い、TEM像や光学顕微鏡像を観察することにより求めることができ、本発明においては、導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、透過型電子顕微鏡TEMにより300個の導電性繊維を観察し、その平均値から求めたものである。以下には、導電性繊維とバインダー感光性樹脂を一層に含有した導電層について記載したが、感光性樹脂を含有する感光層パターニング材料は導電性繊維を含有する導電層と必ずしも一体化していなくてもよく、導電層と感光層パターニング層が積層されていたり、導電層を被転写体に転写した後に感光層パターニング層を積層転写したり、レジスト材料をスクリーン印刷してパターニング用マスクを形成してもよい。<<バインダー>>前記バインダーとしては、有機高分子重合体であって、分子好ましくは、アクリル系共重合体を主鎖とする分子中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などを有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。これらの中でも、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、また、酸解離性基を有し、酸の作用により酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶となるものが特に好ましい。ここで、前記酸解離性基とは、酸の存在下で解離することが可能な官能基を表す。前記バインダーの製造には、例えば公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。前記ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めることができる。前記有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー酸性基を有する感光性樹脂が好ましい。前記側鎖にカルボン酸を有するポリマーとしては、例えば特開昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特開昭59-53836号、特開昭59-71048号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等であり、更に側鎖にメタアクリロイル基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。これらの中でも、ベンジルメタアクリレート/メタアクリル酸共重合体、ベンジルメタアクリレート/メタアクリル酸/他のモノマーからなる多元共重合体が特に好ましい。更に、側鎖にメタアクリロイル基を有する高分子重合体やメタアクリル酸/グリシジルメタアクリレート/他のモノマーからなる多元共重合体も有用なものとして挙げられる。該ポリマーは任意の量で混合して用いることができる。前記以外にも、特開平7-140654号公報に記載の、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクレート/メタクリル酸共重合体、などが挙げられる。前記アルカリ可溶性樹脂における具体的な構成単位としては、メタアクリル酸と、該メタアクリル酸と共重合可能な他の単量体とが好適である。前記メタアクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、例えばアルキルメタアクリレート、アリールメタアクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。これらは、アルキル基及びアリール基の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。前記アルキルメタアクリレート又はアリールメタアクリレートとしては、例えばメチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、トリルメタアクリレート、ナフチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。前記ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、N-ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、CH2=CR1R2、CH2=CR1COOR3ただし、R1は水素原子又は炭素数1~5のアルキル基を表し、R2は炭素数6~10の芳香族炭化水素環を表し、R3は炭素数1~8のアルキル基又は炭素数6~12のアラルキル基を表す。、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。前記バインダーの重量平均分子量は、アルカリ溶解速度、膜物性等の点から、1,000~500,000が好ましく、3,000~300,000がより好ましく、5,000~200,000が更に好ましい。ここで、前記重量平均分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィ法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて求めることができる。前記バインダーの含有量は、前記導電層全体に対し40質量~95質量であることが好ましく、50質量~90質量がより好ましく、70質量~90質量が更に好ましい。前記含有量の範囲にあると、現像性と金属ナノワイヤーの導電性の両立が図れる。-感光性化合物-前記感光性化合物とは、露光により画像を形成する機能を導電層に付与するか、又はそのきっかけを与える化合物を意味する。具体的には、1露光による酸を発生する化合物光酸発生剤、2感光性のキノンジアジド化合物、3光ラジカル発生剤等を挙げることができる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、感度調整のために、増感剤などを併用して用いることもできる。--1光酸発生剤--前記1光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物及びそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。前記1光酸発生剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、o-ニトロベンジルスルホネートなどが挙げられる。これらの中でも、スルホン酸を発生する化合物であるイミドスルホネート、オキシムスルホネート、o-ニトロベンジルスルホネートが特に好ましい。また、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基、あるいは化合物を樹脂の主鎖又は側鎖に導入した化合物、例えば、米国特許第3,849,137号明細書、独国特許第3914407号明細書、特開昭63-26653号、特開昭55-164824号、特開昭62-69263号、特開昭63-146038号、特開昭63-163452号、特開昭62-153853号、特開昭63-146029号の各公報等に記載の化合物を用いることができる。更に、米国特許第3779778号、欧州特許第126712号等の各明細書に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。--2キノンジアジド化合物--前記2キノンジアジド化合物としては、例えば、1,2-キノンジアジドスルホニルクロリド類、ヒドロキシ化合物、アミノ化合物などを脱塩酸剤の存在下で縮合反応させることで得られる。前記1光酸発生剤、及び前記2キノンジアジド化合物の配合量は、露光部と未露光部の溶解速度差と、感度の許容幅の点から、前記バインダーの総量100質量部に対して、1質量部~100質量部であることが好ましく、3質量部~80質量部がより好ましい。なお、前記1光酸発生剤と、前記2キノンジアジド化合物とを併用してもよい。本発明においては、前記1光酸発生剤の中でもスルホン酸を発生する化合物が好ましく、下記のようなオキシムスルホネート化合物が高感度である観点から特に好ましい。前記2キノンジアジド化合物として、1,2-ナフトキノンジアジド基を有する化合物を用いると高感度で現像性が良好である。前記2キノンジアジド化合物の中で下記の化合物でDが独立して水素原子又は1,2-ナフトキノンジアジド基であるものが高感度である観点から好ましい。--3光ラジカル発生剤--前記光ラジカル発生剤は、光を直接吸収し、又は光増感されて分解反応若しくは水素引き抜き反応を起こし、重合活性ラジカルを発生する機能を有する。前記光ラジカル発生剤は波長300nm~500nmの領域に吸収を有するものであることが好ましい。前記光ラジカル発生剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。前記光ラジカル発生剤の含有量は、透明導電膜用の塗布液全固形量に対して、0.1質量~50質量であることが好ましく、0.5質量~30質量がより好ましく、1質量~20質量が更に好ましい。前記数値範囲において、良好な感度とパターン形成性が得られる。前記光ラジカル発生剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば特開2008-268884号公報に記載の化合物群が挙げられる。これらの中でも、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、オキシム系化合物、イミダゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物が露光感度の観点から特に好ましい。前記光ラジカル発生剤としては、露光感度と透明性の観点から、2-ジメチルアミノ-2-[4-メチルフェニルメチル]-1-[4-4-モルホリニルフェニル]-1-ブタノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、N,N-ジエチルアミノベンゾフェノン、1,2-オクタンジオン,1-[4-フェニルチオ-,2-o-ベンゾイルオキシム]が好適である。透明導電膜用の塗布液は、露光感度向上のために、光ラジカル発生剤と連鎖移動剤を併用してもよい。前記連鎖移動剤としては、例えば、N,N-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどのN,N-ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、N-フェニルメルカプトベンゾイミダゾール、1,3,5-トリス3-メルカブトブチルオキシエチル-1,3,5-トリアジン-2,4,61H,3H,5H-トリオンなどの複素環を有するメルカプト化合物、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトブチレート、1,4-ビス3-メルカプトブチリルオキシブタンなどの脂肪族多官能メルカプト化合物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。前記連鎖移動剤の含有量は、前記透明導電膜用の塗布液の全固形分に対し、0.01質量~15質量が好ましく、0.1質量~10質量がより好ましく、0.5質量~5質量が更に好ましい。-その他の成分-前記その他の成分としては、例えば架橋剤、分散剤、溶媒、界面活性剤、酸化防止剤、硫化防止剤、金属腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤等の各種の添加剤などが挙げられる。--架橋剤--前記架橋剤は、フリーラジカル又は酸及び熱により化学結合を形成し、導電層を硬化させる化合物であり、例えばメチロール基、アルコキシメチル基、アシロキシメチル基から選ばれる少なくとも1つの基で置換されたメラミン系化合物、グアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物、ウレア系化合物、フェノール系化合物もしくはフェノールのエーテル化合物、エポキシ系化合物、オキセタン系化合物、チオエポキシ系化合物、イソシアネート系化合物、又はアジド系化合物;メタクリロイル基又はアクリロイル基などを含むエチレン性不飽和基を有する化合物、などが挙げられる。これらの中でも、膜物性、耐熱性、溶剤耐性の点でエポキシ系化合物、オキセタン系化合物、エチレン性不飽和基を有する化合物が特に好ましい。また、前記オキセタン樹脂は、1種単独で又はエポキシ樹脂と混合して使用することができる。特にエポキシ樹脂との併用で用いた場合には反応性が高く、膜物性を向上させる観点から好ましい。前記架橋剤の含有量は、前記バインダー総量100質量部に対して、1質量部~250質量部が好ましく、3質量部~200質量部がより好ましい。--分散剤--前記分散剤は、前記導電性繊維の凝集を防ぎ、分散させるために用いる。前記分散剤としては、前記導電性繊維を分散させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適否選択することができ、例えば、市販の低分子顔料分散剤、高分子顔料分散剤を利用でき、特に高分子分散剤で導電性繊維に吸着する性質を持つものが好ましく用いられ、例えばポリビニルピロリドン、BYKシリーズビックケミー社製、ソルスパースシリーズ日本ルーブリゾール社製など、アジスパーシリーズ味の素株式会社製などが挙げられる。前記分散剤の含有量としては、前記バインダー100質量部に対し、0.1質量部~50質量部が好ましく、0.5質量部~40質量部がより好ましく、1質量部~30質量部が特に好ましい。前記含有量が、0.1質量部未満であると、分散液中で導電性繊維が凝集してしまうことがあり、50質量部を超えると、塗布工程において安定な液膜が形成できず、塗布ムラが発生することがある。--溶媒--前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、3-メトキシブタノール、水、1-メトキシ-2-プロパノール、イソプロピルアセテート、乳酸メチル、N-メチルピロリドンNMP、γ-ブチロラクトンGBL、プロピレンカーボネート、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。--金属腐食防止剤--前記金属腐食防止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えばチオール類、アゾール類などが好適である。前記金属腐食防止剤を含有することで、一段と優れた防錆効果を発揮することができる。前記金属腐食防止剤は透明導電膜用の塗布液に溶解した中に、適した溶媒で溶解した状態、又は粉末で添加するか、後述する透明導電膜用の塗布液による導電膜を作製後に、これを金属腐食防止剤浴に浸すことで付与することができる。以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。<試料1>ガラス上に図1に記載の電極パーンを形成し、タッチパネルを作製した。タッチパネルの一方の面に光学粘着剤パナック工業製PDS1を用いて偏光板株式会社サンリッツ製HLC25618を貼り付けた。他方の面に前記偏光板とクロスニコルの関係になるように光学粘着剤を用いて偏光板を貼り付けた。暗室下で、この偏光板の一方の面から面光源を照射し、他方の面から目視により観察を行ったところ、パターンが視認されなかった。<試料2>ガラス上に試料1と同様の電極パーンを形成し、タッチパネルを作製した。タッチパネルに対して、一方の面に光学粘着剤を用いて偏光板を貼り付けた。他方の面にUV硬化樹脂協立化学産業株式会社製HRJ21を用いて、バックライト側と逆の面の偏光板が剥離された液晶ディスプレイに貼り合せた。図6は、試料2のタッチパネル付液晶ディスプレイの概略構成を示す。タッチパネル付液晶ディスプレイ100は、偏光板102と、タッチパネル10と、液晶セル108と、偏光板102と、バックライト110とを備える。タッチパネル付液晶ディスプレイ100では、タッチパネル10が2つの偏光板102の間に配置されている。偏光板102とタッチパネル10とは光学粘着剤104により貼り付けられる。タッチパネル10と液晶セル108とはUV硬化樹脂106により貼り付けられる。液晶セル108と偏光板102とは光学粘着剤104に貼り付けられる。暗室下で、タッチパネル付液晶ディスプレイを点灯させ目視により観察したところ、パターンが視認されなかった。<試料3>ガラス上に、ダミー絶縁ラインを形成しなかったことを除き、図1に記載の電極パターンを形成し、タッチパネルを作製した。試料1と同様な方法で、タッチパネルを偏光板に貼り付けた。暗室下で実施例1と同様に観察したところ、絶縁ラインが疎な箇所は白く、絶縁ラインが密な箇所は黒く視認され、パターン見えが生じた。<試料4>ガラス上に試料3と同様の電極パーンを形成し、タッチパネルを作製した。試料2と同様な方法で、タッチパネルを偏光板と液晶ディスプレイに貼り付けた。暗室下で試料2と同様に観察したところ、絶縁ラインが疎な箇所は白く、絶縁ラインが密な箇所は黒く視認され、パターン見えが生じた。<試料5>偏光板株式会社サンリッツ製HLC25618と、14波長板帝人化成製ピュアエースを、偏光板の吸収軸と14波長板の光学軸のなす角が、45度となるように、光学粘着剤パナック工業製PDS1を用いて貼り合せ、円偏光板を作成した。ガラス上に試料1と同様の電極パーンを形成し、タッチパネルを作製した。タッチパネルに対して、一方の面に光学粘着剤を用いて円偏光板を貼り付けた。他方の面にUV硬化樹脂協立化学産業株式会社製HRJ21を用いて、有機EL素子に貼り合せた。図7は、試料5の有機ELディスプレイの概略構成図を示す。有機ELディスプレイ200は、円偏光板202と、タッチパネル10と、有機EL素子208とを備える。タッチパネル10が、円偏光板202と有機EL素子208との間に配置される。円偏光板202とタッチパネル10とは光学粘着剤204により貼り付けられ、タッチパネル10と有機EL素子はUV硬化樹脂により貼り付けられる。明室下で、タッチパネル付有機ELディスプレイを点灯させ目視により観察したところ、パターンが視認されなかった。<試料6>ガラス上に試料3と同様の電極パーンを形成し、タッチパネルを作製した。試料5と同様な方法で、タッチパネルを円偏光板と有機EL素子に貼り付けた。明室下で試料5と同様に観察したところ、絶縁ラインが疎な箇所は白く、絶縁ラインが密な箇所は黒く視認され、パターン見えが生じた。"