可視スペクトル範囲で実質的に透明であり、かつ前面及び後面を有する基板と、前記基板の前面に位置する平行ストライプのセットここで、前記ストライプは面内位相差を有するとを含んでなる少なくとも1つの位相差板を含むパターン化リターダー。前記ストライプが、BA型、ポジティブA型、ネガティブA型、及びAc型位相差を含むリストから選択される位相差特性を有する、請求項1に記載のパターン化リターダー。主屈折率nxに対応する高速光軸が前記ストライプの方向に対して平行である、請求項2に記載のパターン化リターダー。主屈折率nxに対応する高速光軸が前記ストライプの方向に対して垂直に方向づけられている、請求項2に記載のパターン化リターダー。主屈折率nxに対応する高速光軸が前記ストライプの方向に対して45度に方向づけられている、請求項2に記載のパターン化リターダー。前記ストライプが、少なくとも1種の第1型の有機化合物又はその塩ここで、前記第1型の有機化合物は、下記一般構造式I式中、コアは剛体棒状巨大分子を形成できる共役有機単位であり、nは前記剛体棒状巨大分子中の前記共役有機単位の数であって、10~10000の範囲の整数に等しく、Gkはイオン生成側基のセットであり、kは前記セットGk中の側基の数であり、kはセットGk1中の側基の数であって、0、1、2、3、4、5、6、7、又は8に等しいを有する;及び/又は少なくとも1種の第2型の有機化合物ここで、前記第2型の有機化合物は、下記一般構造式II式中、Sysは少なくとも部分的に共役した実質的に平面の多環式分子系であり;X、Y、Z、Q及びRは置換基であり;置換基Xはカルボキシル基COOHであり、mは0、1、2、3又は4であり;置換基Yはスルホン基SO3Hであり、hは0、1、2、3又は4であり;置換基ZはカルボキサミドCONH2であり、pは0、1、2、3又は4であり;置換基QはスルホンアミドSO2NH2であり、vは0、1、2、3又は4であるを有するをさらに含み、ここで、前記第2型の有機化合物はππ相互作用によって板状超分子を形成し、かつ前記第1型及び第2型の化合物を含む組成物は、適切な溶媒の溶液中でリオトロピック液晶を形成する、請求項1~5のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。前記第1型の有機化合物が下記構造1~20:を含むリストから選択され、Rは、アルキル、mSO3H、mSi3、CH2フェニル、mOHを含むリストから選択される側基であり、Mは、H、Na、K、Li、Cs、Ba2、Ca2、Mg2、Sr2、Pb2、Zn2、La3、Ce3、Y3、Yb3、Gd3、Zr4及びNH4kQkQは、直鎖及び分岐鎖アルキル、アルケニル、アルキニル、及びアリールアルキルを含むリストから選択され、kは、0、1、2、3又は4であるを含むリストから選択される対イオンである、請求項6に記載のパターン化リターダー。前記第1型の有機化合物が、直鎖及び分岐鎖アルキル、アルケニル、及びアルキニルを含むリストから独立に選択される追加の側基をさらに含む、請求項6又は7に記載のパターン化リターダー。前記追加の側基の少なくとも1つが、C、CO、CNH、NH、O、CH2O、NH、N、及びこれらの任意の組合せを含むリストから選択される架橋基Aを介して前記共役有機単位コアと連結している、請求項8に記載のパターン化リターダー。前記第1型の有機化合物の塩が、アンモニウム塩及びアルカリ金属塩を含むリストから選択される、請求項6~9のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。前記第2型の有機化合物が、下記一般構造式21~34の構造のリストから選択される少なくとも部分的に共役した実質的に平面の多環式分子系Sysを有する、請求項6~10のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。前記第2型の有機化合物が、下記構造35~43前記分子系Sysは前記構造21及び28~34のリストから選択され、前記置換基はスルホン基SO3Hであり、m1、p1、及びv1は0に等しいのリストから選択される、請求項11に記載のパターン化リターダー。前記第2型の有機化合物が、CH3、C2H5、Cl、Br、NO2、F、CF3、CN、OH、OCH3、OC2H5、OCOCH3、OCN、SCN、及びNHCOCH3を含むリストから選択される少なくとも1つの置換基をさらに含む、請求項6~12のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。前記基板がポリマー製である、請求項1~13のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。前記基板がガラス製である、請求項1~13のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。前記基板が複屈折材料製であり、かつポジティブA型リターダーの異方特性を有する、請求項1~13のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。前記複屈折材料が、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタラート、ポリ塩化ビニル、ポリカルボナート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリイミド、及びポリエステルを含むリストから選択される、請求項16に記載のパターン化リターダー。前記ストライプのセットの上に位置する平坦化層をさらに含む、請求項1~17のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。追加の透明接着剤層をさらに含む、請求項1~18のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。位相差パネルをさらに含む、請求項1~19のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。前記位相差パネルが、可視スペクトル範囲で実質的に透明であり、かつ前面と後面を有するパネル基板と、該パネル基板の前面に位置するパネル位相差層とを含み、ここで、前記位相差板は、前記パネル基板の前面が前記位相差板の基板の前面と対向するように前記パネル位相差層に位置している、請求項20に記載のパターン化リターダー。前記パネル位相差層が、少なくとも1種の第1型の有機化合物又はその塩ここで、前記第1型の有機化合物は、下記一般構造式I式中、コアは剛体棒状巨大分子を形成できる共役有機単位であり、nは前記剛体棒状巨大分子中の前記共役有機単位の数であって、10~10000の範囲の整数に等しく、Gkはイオン生成側基のセットであり、kは前記セットGk中の側基の数であり、kはセットGk1中の側基の数であって、0、1、2、3、4、5、6、7、又は8に等しいを有する;及び/又は少なくとも1種の第2型の有機化合物ここで、前記第2型の有機化合物は、下記一般構造式II式中、Sysは少なくとも部分的に共役した実質的に平面の多環式分子系であり;X、Y、Z、Q及びRは置換基であり;置換基Xはカルボキシル基COOHであり、mは0、1、2、3又は4であり;置換基Yはスルホン基SO3Hであり、hは0、1、2、3又は4であり;置換基ZはカルボキサミドCONH2であり、pは0、1、2、3又は4であり;置換基QはスルホンアミドSO2NH2であり、vは0、1、2、3又は4であるを有するをさらに含み、ここで、前記第2型の有機化合物はππ相互作用によって板状超分子を形成し、かつ前記第1型及び第2型の化合物を含む組成物は、適切な溶媒の溶液中でリオトロピック液晶を形成する、請求項21に記載のパターン化リターダー。前記位相差板の前記ストライプは、λ2に相当する面内位相差を有し、前記位相差パネルは、λ4に相当する面内位相差を有するλは作業波帯の中心波長である、請求項20又は21に記載のパターン化リターダー。2つの位相差板を含み、第1位相差板は、前面と後面を有する第1基板を含み、第2位相差板は、前面と後面を有する第2基板を含み、前記第1位相差板は、前記第1基板の前面に位置する第1セットの平行ストライプを含み、前記第2位相差板は、前記第2基板の前面に位置する第2セットの平行ストライプを含み、前記第1位相差板は、前記第1基板の前面が前記第2基板の前面と対向するように前記第2位相差板に位置し、前記第1セットのストライプは、前記第2セットのストライプ間に位置し、両セットのストライプは互いにほとんど平行である、請求項1~23のいずれか1項に記載のパターン化リターダー。前記第1位相差板のストライプの面内位相差及び前記第2位相差板のストライプの面内位相差がλ4に相当しλは作業波帯の中心波長である、前記第1位相差板の高速光軸が前記第2位相差板の高速光軸に対して垂直に方向づけられ、前記光軸は前記ストライプの面内に位置している、請求項24に記載のパターン化リターダー。前記第1位相差板のストライプの面内位相差がλ4に相当し、前記第2位相差板のストライプの面内位相差が3λ4に相当するλは作業波帯の中心波長である、請求項24に記載のパターン化リターダー。パターン化位相差板の製造方法であって、a-少なくとも1種の第1型の有機化合物、及び/又は-少なくとも1種の第2型の有機化合物を含む組成物のリオトロピック液晶溶液の調製工程ここで、前記第1型の有機化合物は下記一般構造式I式中、コアは剛体棒状巨大分子を形成できる共役有機単位であり、nは前記剛体棒状巨大分子中の前記共役有機単位の数であり、Gkはイオン生成側基のセットであり、かつkはセットGk中の側基の数であり;前記イオン生成側基及び前記数kは、溶媒中の前記第1型の有機化合物の溶解度を規定し、前記棒状巨大分子に剛性を与え;前記数nは、前記有機化合物又はその塩の溶液中での巨大分子の自己組織化を促す分子異方性を規定するを有し、かつ前記第2型の有機化合物は下記一般構造式II式中、Sysは少なくとも部分的に共役した実質的に平面の多環式分子系であり;X、Y、Z、Q及びRは置換基であり;置換基Xはカルボキシル基COOHであり、mは0、1、2、3又は4であり;置換基Yはスルホン基SO3Hであり、hは0、1、2、3又は4であり;置換基ZはカルボキサミドCONH2であり、pは0、1、2、3又は4であり;置換基QはスルホンアミドSO2NH2であり、vは0、1、2、3又は4であるを有し、前記第2型の有機化合物はππ相互作用によって板状超分子を形成することができる、b基板上への前記溶液の液層のコーティング工程、c前記液層上への外部アラインメント作用の適用工程、d固体光学的位相差層を形成するための乾燥工程、及びe平行位相差ストライプのセットの形成工程を含んでなる方法。前記平行ストライプのセットの形成工程を、スカイビング、プラズマアシストエッチング及びレーザーアブレーション法を含むリストから選択される様々な方法で行なう、請求項27に記載の方法。H、Ba2、Pb2、Ca2、Mg2、Sr2、La3、Zn2、Zr4、Ce3、Y3、Yb3、Gd3、及び、水又は水と混合可能な任意の溶媒に溶解できる上記の任意の組合せを含むリストから選択されるカチオンとの任意の無機塩の溶液による処理を含む後処理工程をさらに含む、請求項27又は28に記載の方法。前記外部アラインメント作用の適用工程c及び前記平行位相差ストライプのセットの形成工程eを同時に行なう、請求項27~29のいずれか1項に記載の方法。前記乾燥工程d及び前記平行位相差ストライプのセットの形成工程eを連続して行なう、請求項27~29のいずれか1項に記載の方法。前記コーティング方向に対する前記ストライプの方向が、平行、垂直及び45度を含むリストから選択される、請求項27~31のいずれか1項に記載の方法。前記第1型の有機化合物が下記構造1~20:のリストから選択され、Rは、アルキル、mSO3H、mSi3、CH2フェニル、mOHを含むリストから選択される側基であり、Mは、H、Na、K、Li、Cs、Ba2、Ca2、Mg2、Sr2、Pb2、Zn2、La3、Ce3、Y3、Yb3、Gd3、Zr4及びNH4kQkQは、直鎖及び分岐鎖アルキル、アルケニル、アルキニル、及びアリールアルキルを含むリストから選択され、kは、0、1、2、3又は4であるを含むリストから選択される対イオンである、請求項27~32のいずれか1項に記載の方法。前記第1型の有機化合物が、直鎖及び分岐鎖アルキル、アルケニル、及びアルキニルを含むリストから独立に選択される追加の側基をさらに含む、請求項27~33のいずれか1項に記載の方法。前記追加の側基の少なくとも1つが、C、CO、CNH、NH、O、CH2O、NH、N、及びこれらの任意の組合せを含むリストから選択される架橋基Aを介して前記共役有機単位コアと連結している、請求項34に記載の方法。前記第1型の有機化合物の塩が、アンモニウム塩及びアルカリ金属塩を含むリストから選択される、請求項27~35のいずれか1項に記載の方法。前記第2型の有機化合物が、下記一般構造式21~34の構造のリストから選択される少なくとも部分的に共役した実質的に平面の多環式分子系Sysを有する、請求項27~36のいずれか1項に記載の方法。前記第2型の有機化合物が、下記構造35~43前記分子系Sysは前記構造21及び28~34のリストから選択され、前記置換基はスルホン基SO3Hであり、m1、p1、及びv1は0に等しいのリストから選択される、請求項37に記載の方法。前記第2型の有機化合物が、CH3、C2H5、Cl、Br、NO2、F、CF3、CN、OH、OCH3、OC2H5、OCOCH3、OCN、SCN、及びNHCOCH3を含むリストから選択される少なくとも1つの置換基をさらに含む、請求項27~38のいずれか1項に記載の方法。前記ストライプはBA型位相差から選択される位相差を有し、前記ストライプの平面内の2つの相互に垂直方向に対応する2つの主屈折率と、前記ストライプに対して法線方向の1つの主屈折率によって特徴づけられ、これらは下記条件:nxnynzを満たす、請求項27~39のいずれか1項に記載の方法。前記主屈折率nxに対応する低速光軸が前記コーティング方向と一致する、請求項43又は44に記載の方法。上記システムは高価であり、そのことが市場におけるそれらの主要な欠点である。現時点では、現在市販されている3Dディスプレイは標準的なLCDTVより高価である。従ってこのようなTVのコスト低減が解決すべき技術的課題である。発明の概要第一態様では、本発明は、可視スペクトル範囲で実質的に透明であり、前面と後面を有する基板と、この基板の前面に位置し、面内位相差を有する平行ストライプのセットとを含んでなる少なくとも1つの位相差板を含むパターン化リターダーを提供する。別の態様では、本発明は、パターン化位相差板の製造方法であって、a少なくとも1種の第1型の有機化合物、及び/又は少なくとも1種の第2型の有機化合物を含む組成物のリオトロピック液晶溶液の調製工程ここで、第1型の有機化合物は下記一般構造式I式中、コアは剛体棒状巨大分子を形成できる共役有機単位であり、nは剛体棒状巨大分子中の共役有機単位の数であり、Gkはイオン生成側基のセットであり、kはセットGk中の側基の数であり;イオン生成側基及び数kは溶媒中の第1型の有機化合物の溶解度を規定し、かつ棒状巨大分子に剛性を与え;数nは、該有機化合物又はその塩の溶液中での巨大分子の自己組織化を促す分子異方性を規定するを有し、かつ第2型の有機化合物は下記一般構造式II式中、Sysは少なくとも部分的に共役した実質的に平面の多環式分子系であり;X、Y、Z、Q及びRは置換基であり;置換基Xはカルボキシル基COOHであり、mは0、1、2、3又は4であり;置換基Yはスルホン基SO3Hであり、hは0、1、2、3又は4であり;置換基ZはカルボキサミドCONH2であり、pは0、1、2、3又は4であり;置換基QはスルホンアミドSO2NH2であり、vは0、1、2、3又は4であるを有し、第2型の有機化合物は、ππ相互作用によって板状超分子を形成することができる、b基板上への前記溶液の液層のコーティング工程、c前記液層上への外部アラインメント作用の適用工程、d固体光学的位相差層を形成するための乾燥工程、及びe平行位相差ストライプのセットの形成工程を含んでなる方法を提供する。発明の詳細な説明本発明の一般的説明を行なったが、具体的な好ましい実施形態を参照してさらなる理解を得ることができる。これらの実施形態は、説明目的のためだけに与えたものであり、添付の特許請求の範囲を制限する意図ではない。本発明の説明及び特許請求の範囲で使用する種々の用語の定義を以下に列挙する。用語可視スペクトル範囲は、約400nmに相当する下方限界と、約700nmに相当する上方限界を有するスペクトル範囲を意味する。用語位相差層は、3つの主屈折率によって特徴づけられ、屈折率nx及びnyの2つの主方向は、位相差層の平面と一致するxy平面に属し、主屈折率の1つの主方向は位相差層の法線と一致する。用語AC型の光学的異方性位相差層は、主屈折率nx、ny、及びnzが可視スペクトル範囲で下記条件:nznynzを満たす。パターン化リターダーの別の実施形態では、主屈折率nxに対応する低速光軸がストライプに対して平行に方向づけられている。パターン化リターダーのさらに別の実施形態では、主屈折率nxに対応する低速光軸がストライプに対して垂直に方向づけられている。パターン化リターダーのさらに別の実施形態では、主屈折率nxに対応する低速光軸がストライプに対して45度に方向づけられている。パターン化リターダーの一実施形態では、ストライプはAc型位相差を有し、ストライプの平面内の2つの相互に垂直な方向に対応する2つの主屈折率と、ストライプに対して法線方向の1つの主屈折率によって特徴づけられ、これらは下記条件:nxN、及びこれらのいずれかの組合せを含むリストから選択される架橋基Aを介して共役有機単位コアと連結している。パターン化リターダーのさらに別の実施形態では、第1型の有機化合物の塩が、アンモニウム塩及びアルカリ金属塩を含むリストから選択される。パターン化リターダーの一実施形態では、第2型の有機化合物は、下表2に示す一般式21~34の構造から選択される少なくとも部分的に共役した実質的に平面の多環式分子系Sysを有する。表2少なくとも部分的に共役した実質的に平面の多環式分子系Sysの例パターン化リターダーの別の実施形態では、第2型の有機化合物は、下表3に示す構造35~43から選択され、分子系Sysは、構造21及び28~34から選択され、置換基はスルホン基SO3Hであり、m1、p1、及びv1は0に等しい。表3本発明の第2型の有機化合物の構造式の例パターン化リターダーのさらに別の実施形態では、第2型の有機化合物は、CH3、C2H5、Cl、Br、NO2、F、CF3、CN、OH、OCH3、OC2H5、OCOCH3、OCN、SCN、及びNHCOCH3を含むリストから選択される少なくとも1つの置換基をさらに含む。パターン化リターダーの一実施形態では、基板はポリマー製である。パターン化リターダーの別の実施形態では、基板はガラス製である。パターン化リターダーのさらに別の実施形態では、基板は、可視スペクトル範囲の電磁放射に実質的に透明な複屈折材料製であり、かつポジティブA型リターダーの異方特性を有する。パターン化リターダーのさらに別の実施形態では、複屈折材料が、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタラート、ポリ塩化ビニル、ポリカルボナート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリイミド、及びポリエステルを含むリストから選択される。本発明の一実施形態では、パターン化リターダーは、ストライプのセットの上に位置する平坦化層をさらに含む。本発明の別の実施形態では、パターン化リターダーは、追加の透明接着剤層をさらに含む。本発明の一実施形態では、パターン化リターダーは位相差パネルをさらに含む。パターン化リターダーの一実施形態では、位相差パネルは、可視スペクトル範囲で実質的に透明であり、前面と後面を有するパネル基板と、このパネル基板の前面に位置するパネル位相差層とを含み、位相差板は、パネル基板の前面が位相差板の基板の前面と対向するようにパネル位相差層に位置している。パターン化リターダーの別の実施形態では、パネル位相差層は、少なくとも1種の第1型の有機化合物又はその塩ここで、第1型の有機化合物は、下記一般構造式I式中、コアは剛体棒状巨大分子を形成できる共役有機単位であり、nは剛体棒状巨大分子中の共役有機単位の数であって、10~10000の範囲の整数に等しく、Gkはイオン生成側基のセットであり、kはセットGk中の側基の数であり、kはセットGk1中の側基の数であって、0、1、2、3、4、5、6、7、又は8に等しいを有する;及び/又は少なくとも1種の第2型の有機化合物ここで、第2型の有機化合物は下記一般構造式II式中、Sysは少なくとも部分的に共役した実質的に平面の多環式分子系であり;X、Y、Z、Q及びRは置換基であり;置換基Xはカルボキシル基COOHであり、mは0、1、2、3又は4であり;置換基Yはスルホン基SO3Hであり、hは0、1、2、3又は4であり;置換基ZはカルボキサミドCONH2であり、pは0、1、2、3又は4であり;置換基QはスルホンアミドSO2NH2であり、vは0、1、2、3又は4であるを有するをさらに含み、ここで、第2型の有機化合物はππ相互作用によって板状超分子を形成し、第1型及び第2型の化合物を含む組成物は適切な溶媒の溶液中でリオトロピック液晶を形成する。パターン化リターダーの別の実施形態では、位相差板のストライプはλ2に相当する面内位相差を有し、追加の位相差パネルはλ4に相当する面内位相差を有し、λは作業波帯の中心波長である。本発明の別の実施形態では、パターン化リターダーは2つの位相差板を含む。第1位相差板は、前面と後面を有する第1基板を含み、第2位相差板は、前面と後面を有する第2基板を含む。第1位相差板は、第1基板の前面に位置する第1セットの平行ストライプを含み、第2位相差板は、第2基板の前面に位置する第2セットの平行ストライプを含む。第1位相差板は、第1基板の前面が第2基板の前面と対向するように第2位相差板に位置する。第1セットのストライプは、第2セットのストライプ間に位置し、両セットのストライプは、互いにほとんど平行である。パターン化リターダーのさらに別の実施形態では、第1位相差板のストライプの面内位相差及び第2位相差板のストライプの面内位相差はλ4に相当し、λは作業波帯の中心波長であり、第1位相差板の高速光軸は第2位相差板の高速光軸に対して垂直に方向づけられ、かつ光軸はストライプの面内に位置している。結合パターン化リターダーのさらに別の実施形態では、第1パターン化位相差板の面内位相差はλ4に相当し、第2パターン化位相差板の面内位相差は3λ4に相当し、λは作業波帯の中心波長である。本発明は、上文に開示したパターン化位相差板の製造方法をも提供する。本方法の一実施形態では、スカイビング、プラズマアシストエッチング及びレーザーアブレーション法を含むリストから選択される様々な方法で平行位相差ストライプのセットの形成を行なう。本発明の別の実施形態では、開示方法は、H、Ba2、Pb2、Ca2、Mg2、Sr2、La3、Zn2、Zr4、Ce3、Y3、Yb3、Gd3、及び、水又は水と混合可能な任意の溶媒に溶解できる上記の任意の組合せを含むリストから選択されるカチオンとの任意の無機塩の溶液による処理を含む後処理工程をさらに含む。開示方法の別の実施形態では、外部アラインメント作用の適用工程c及び平行位相差ストライプのセットの形成工程eを同時に行なう。本方法のさらに別の実施形態では、外部アラインメント作用工程は、位相差ストライプに対して平行状態に方向づけられる。本方法の一実施形態では、外部アラインメント作用工程は、位相差ストライプに対して垂直に方向づけられる。本方法の別の実施形態では、第1型の有機化合物は、表1に示した構造1~20から選択される。本方法のさらに別の実施形態では、第1型の有機化合物は、直鎖及び分岐鎖アルキル、アルケニル、及びアルキニルを含むリストから独立に選択される追加の側基をさらに含む。本方法のさらに別の実施形態では、追加の側基の少なくとも1つが、C、CO、CNH、NH、O、CH2O、NH、N、及びこれらのいずれかの組合せを含むリストから選択される架橋基Aを介して共役有機単位コアと連結している。本方法の一実施形態では、第1型の有機化合物の塩は、アンモニウム塩及びアルカリ金属塩を含むリストから選択される。本方法の別の実施形態では、第2型の有機化合物は、表2に示した構造21~34から選択される少なくとも部分的に共役した実質的に平面の多環式分子系Sysを有する。本発明のさらに別の実施形態では、第2型の有機化合物は、表3に示した構造35~43から選択され、分子系Sysは構造21及び28~34から選択され、置換基はスルホン基SO3Hであり、かつm1、p1、及びv1は0に等しい。本方法の一実施形態では、第2型の有機化合物は、CH3、C2H5、Cl、Br、NO2、F、CF3、CN、OH、OCH3、OC2H5、OCOCH3、OCN、SCN、及びNHCOCH3を含むリストから選択される少なくとも1つの置換基をさらに含む。本方法の一実施形態では、ストライプはBA型位相差を有し、ストライプの平面内の2つの相互に垂直方向に対応する2つの主屈折率と、ストライプに対して法線方向の1つの主屈折率によって特徴づけられ、これらは下記条件:nxnynzを満たす。ストライプがAc型又はポジティブA型の位相差を有する本方法のさらに別の実施形態では、主屈折率nxに対応する低速光軸がコーティング方向と一致する。以下、本発明の種々の要素に数字表示を与えて、当業者が本発明を作って使用できるように本発明を説明する図面を参照する。具体的に示さないか又は記載していない要素は種々の形をとり得ることは当業者の当然とするところである。図1は、本発明の一実施形態の位相差板を概略的に示す。この位相差板は、基板にコーティングされたストライプのセットを含む。ストライプはポジティブA型位相差を有し、λ2に相当する面内位相差によって特徴づけられ、基板もポジティブA型位相差を有し、λ4に相当する面内位相差によって特徴づけられる。基板の低速光軸及びストライプの低速光軸は互いにほとんど平行である。ストライプはコーティング方向に平行に作られている。この位相差板は3DLCD用の円偏光子向けである。位相差板は、偏光子吸収軸に45度の低速光軸を有するLCD前部偏光子に取り付けられる。この場合、製造プロセスは以下のとおりである:1偏光子のロールを約30の損失のある斜め片に切断し;2ロール軸に平行なストライプを含めてリターダーのロールを作り;リターダーのロールを損失なしの矩形片に切断し;4リターダーのシートを積層させて偏光子シートとする。図2は、本発明の別の実施形態の位相差板を概略的に示す。この位相差板は、基板にコーティングされた平行ストライプのセットを含む。これらのストライプはBA型位相差を有し、λ2に相当する面内位相差によって特徴づけられ、基板はポジティブA型位相差を有し、λ4に相当する面内位相差によって特徴づけられる。基板の高速光軸とストライプの高速光軸は互いにほとんど平行である。ストライプはコーティング方向に垂直に作られている。この位相差板は3DLCD用の円偏光子向けである。この位相差板は、偏光子吸収軸に45度の低速光軸を有するLCD前部偏光子に取り付けられる。図3は、本発明のさらに別の実施形態のパターン化リターダーを概略的に示す。このパターン化リターダーはTAC又はガラス製の基板にコーティングされた平行ストライプのセットを含む。ストライプはポジティブA型位相差を含み、λ2に相当する面内位相差によって特徴づけられる。このパターン化リターダーは、TAC又はガラス製の基板に位置する位相差層を含む。位相差層はポジティブA型位相差を有し、λ4に相当する面内位相差によって特徴づけられる。ストライプと位相差層は接着剤層で張り合わせられる。基板及びストライプの低速光軸は実質的に互いに平行である。このパターン化リターダーは3DLCD用の円偏光子として使用可能である。このパターン化リターダーは、偏光子吸収軸に45度の低速光軸を有するLCD前部偏光子に取り付けられる。本発明のさらに別の実施形態では、ストライプ及び位相差層はポジティブBA型位相差を有する。図4a及び4bは、本発明の別の実施形態のパターン化リターダーを概略的に示す。このパターン化リターダーは、TAC又はガラス製の基板にコーティングされた平行ストライプのセットを有する第1位相差板を含む。ストライプはポジティブA型位相差を有し、λ4に相当する面内位相差によって特徴づけられる。これらのストライプは、コーティング方向に対して45度に方向づけられている。ストライプの低速光軸とコーティング方向は互いに実質的に平行である。このパターン化リターダーは、TAC又はガラス製の基板にコーティングされた平行ストライプのセットを有する第2位相差板を含む。ストライプはポジティブA型位相差を有し、λ4に相当する面内位相差によって特徴づけられる。これらのストライプは、コーティング方向に対して45度を成している。ストライプの低速光軸とコーティング方向は互いに実質的に平行である。第1位相差板と第2位相差板が接着剤層で接着される。図4bは同実施形態の上面図を示す。図5a及び5bは本発明の別の実施形態のパターン化リターダーを概略的に示す。このパターン化リターダーは、TAC又はガラス製の基板にコーティングされた平行ストライプのセットを有する第1位相差板を含む。ストライプはポジティブA型位相差を有し、3λ4に相当する面内位相差によって特徴づけられる。これらのストライプは、接着剤ストライプで覆われている。このパターン化リターダーは、TAC又はガラス製の基板にコーティングされた平行ストライプのセットを有する第2位相差板を含む。ストライプはポジティブA型位相差を有し、λ4に相当する面内位相差によって特徴づけられる。第1位相差板と第2位相差板が接着剤ストライプで張り合わせられる。図5bは同実施形態の上面図を示す。本発明をさらに容易に理解してもらうため、下記実施例を参照するが、これらの実施例は本発明を例示する意図であり、本発明の範囲を限定するものではない。実施例1この実施例はポリセシウム塩の合成を記述する。1377gの44ジアミノビフェニル22ジスルホンを12gの水酸化セシウムと40mlの水と混合し、分散撹拌機で溶解するまで撹拌した。0672gの炭酸水素ナトリウムを溶液に加えて撹拌した。得られた溶液を高速で撹拌しながら乾燥トルエン中0812gのテレフタロイルジクロリドの溶液を5分以内で徐々に加えた。さらに5分間撹拌を続けて粘性白色エマルションを形成した。次にエマルションを40mlの水で希釈し、撹拌速度を100rpmに減じた。反応塊をホモジナイズした後、250mlのアセトンを添加することによってポリマーを沈殿させた。繊維状沈降物をろ過して乾燥させた。ダイオードアレイ検出器を備えたHewlettPackard1050クロマトグラフで、VarianGPCソフトウェアCirrus32及びTOSOHBioscienceTSKgelG5000PWXLカラム並びに移動相として02Mリン酸緩衝液を用いてゲル浸透クロマトグラフィーを行なった。ポリナトリウム塩をGPC標準物質として使用した。数平均分子量Mn、重量平均分子量Mw、及び多分散度Pは、それぞれ39×105、17×106、及び44と分かった。実施例2この実施例は、ポリの合成を記述する。10gの2スルホテレフタル酸、275gのトリフェニルホスフィン、20gの塩化リチウム及び50mlのピリジンを200mlのNメチルピロリジンに500mlの三つ口フラスコ内で溶かした。混合物を40°Cで15分間撹拌してから1377gの44ジアミノビフェニル22ジスルホン酸を加えた。反応混合物を115°Cで3時間撹拌した。1Lのメタノールを粘性溶液に加え、生じた黄色沈殿物をろ過し、メタノール及びジエチルエーテルで連続して洗浄した。黄色がかった固体を真空中80°Cで一晩乾燥させた。実施例1で述べたようにGPCを用いてサンプルの分子量分析を行なった。実施例3この実施例は、ポリの合成を記述する。10gの2スルホテレフタル酸、275gのトリフェニルホスフィン、20gの塩化リチウム及び50mlのピリジンを200mlのNメチルピロリジンに500mlの三つ口フラスコ内で溶かした。混合物を40°Cで15分間撹拌してから435gの14フェニレンジアミンを加えた。反応混合物を115°Cで3時間撹拌した。1Lのメタノールを粘性溶液に加え、生じた黄色沈殿物をろ過し、メタノール及びジエチルエーテルで連続して洗浄した。黄色がかった固体を真空中80°Cで一晩乾燥させた。実施例1で述べたようにGPCを用いてサンプルの分子量分析を行なった。実施例4この実施例は、ポリの合成を記述する。10gの2スルホテレフタル酸、275gのトリフェニルホスフィン、20gの塩化リチウム及び50mlのピリジンを200mlのNメチルピロリジンに500mlの三つ口フラスコ内で溶かした。混合物を40°Cで15分間撹拌してから752gの2スルホ14フェニレンジアミンを加えた。反応混合物を115°Cで3時間撹拌した。1Lのメタノールを粘性溶液に加え、生じた黄色沈殿物をろ過し、メタノール及びジエチルエーテルで連続して洗浄した。黄色がかった固体を真空中80°Cで一晩乾燥させた。実施例1で述べたようにGPCを用いてサンプルの分子量分析を行なった。実施例5この実施例は、ポリセシウム塩の合成を記述する。0344gの44ジアミノビフェニル22ジスルホン酸を03gの水酸化セシウム及び10mlの水と混合し、分散撹拌機で溶解するまで撹拌した。0168gの炭酸水素ナトリウムを溶液に加えて撹拌した。得られた溶液を高速で撹拌しながら乾燥トルエン中0203gのテレフタロイルジクロリドの溶液を5分以内で徐々に加えた。さらに5分間撹拌を続け、粘性の白色エマルションを形成した。次にエマルションを10mlの水で希釈し、撹拌速度を100rpmに減じた。反応塊をホモジナイズした後、60mlのアセトンを添加することによってポリマーを沈殿させた。繊維状沈降物をろ過して乾燥させた。実施例1で述べたようにGPCを用いてサンプルの分子量分析を行なった。実施例6この実施例は、44ジベンゼンスルホン酸の合成を記述する。11’4’141’クアテルフェニルを0~20の発煙硫酸に入れた。反応塊を5時間50°Cに加熱しながら撹拌した。その後、反応混合物を水で希釈した。最終硫酸濃度は約55になった。沈殿物をろ過し、氷酢酸ですすいだ。フィルターケークをオーブンで110°Cにて乾燥させた。ダイオードアレイ検出器を備えたHewlettPackard1050クロマトグラで、ReprosilTMGoldC8カラムを用いて、アセトニトリル04M酢酸アンモニウム水溶液による線形勾配溶出を利用してサンプルのHPLC分析を行なった。実施例7この実施例は、ポリの合成を記述する。ペトリ皿内の36gの微粉末状ビベンジルを、蒸発皿を備えたデシケーター内の磁器ラック上に、該ラックが80gの臭素を含む状態で置く。デシケーターを閉じるが、臭化水素を逃すために非常に小さい開口を設ける。ジベンジルを臭素蒸気と一晩接触させたままにする。次に臭素を含む皿をデシケーターから取り出し、過剰の臭素蒸気をウォーターポンプで排除する。次に橙色固体を450mlのイソプロピルアルコールから再結晶させる。44’ジブロモビベンジルの収量は20gである。アルゴン下で100mlの乾燥テトラヒドロフラン中3gの44’ジブロモビベンジルの撹拌溶液にブチルリチウムのヘキサン中25M溶液54mlを78°Cで滴加する。この温度で混合物を6時間撹拌して白色懸濁液を得る。6mlのトリイソプロピルボラートを加え、混合物を一晩撹拌して温度を室温に戻す。30mlの水を加え、混合物を室温で4時間撹拌する。ロータリーエバボレーターで有機溶媒を除去してから混合物を濃HClで酸性にする。生成物をジエチルエーテルに抽出し、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、ロータリーエバボレーターで溶媒を除去した。残渣を11mlのアセトンに溶かし、13mlの水と7mlの濃塩酸の混合物中で再沈殿させた。ビベンジル44’ジボロン酸のジプロピレングリコールエステルの収量は24gである。100gの44’ジアミノ22’ビフェニルジスルホン酸、232gの水酸化ナトリウム及び3500mlの水を混合し、0~5°Cに冷却する。300mlの水中41gの亜硝酸ナトリウムの溶液を加え、その溶液を5時間撹拌してから100mlの6M塩酸を加える。結果として生じる暗黄色溶液に300mlの水中714gの臭化カリウムの予冷溶液を2mlずつ加える。全ての臭化カリウムを添加した後、溶液を室温に戻す。次に反応混合物を加熱し、90°Cで16時間維持する。300mlの水中70gの水酸化ナトリウムの溶液を加え、その溶液をエバポレートして総体積400mlとし、2500mlのメタノールで希釈して無機塩を沈殿させ、ろ過する。メタノールを蒸発させて20~30mlとし、3000mlのイソプロパノールを加える。沈殿物をフィルター上でメタノールを用いて洗浄し、メタノールから再結晶させる。44’ジブロモ22’ビフェニルジスルホン酸の収量は107gである。窒素下で重合を行なう。27gの44’ジヒドロキシ22’ビフェニルジスルホン酸及び20gのビベンジル44’ジボロン酸のジプロピレングリコールエステルを28gの炭酸水素ナトリウム、285mlのテトラヒドロフラン及び17mlの水の混合物に溶かす。テトラキスパラジウムを加える。結果として生じる懸濁液を20時間撹拌する。次に004gのブロモベンゼンを加える。2時間後、それを150mlのエタノールに注ぐことによってポリマーを沈殿させる。生成物を水で洗浄し、乾燥させ、トルエンに溶かす。ろ過した溶液を濃縮し、5倍過剰のエタノールでポリマーを沈殿させ、乾燥させる。ポリマーの収量は27gである。88gの95硫酸を110°Cに加熱し、27gのポリマーを加える。温度を140°Cに上昇させて4時間維持する。100°Cに冷却後、8mlの水を滴加し、混合物を冷ます。結果として生じる懸濁液をろ過し、濃塩酸で洗浄する。スルホン化ポリマーの収量は約2gである。実施例8この実施例は、ポリの合成を記述する。500mlのビーカーで1384gの44ジヒドロキシビフェニル22ジスルホン酸を261gの炭酸ナトリウム及び40mlの水と混合し、固体が完全に溶解するまで分散撹拌機で撹拌した。この溶液にジクロロメタンを加えた。高速で撹拌したら、無水ジクロロメタン中0812gのテレフタロイルクロリドの溶液を加えた。撹拌を30分間続け、濃厚反応塊に400mlのアセトンを加えた。撹拌機で固体ポリマーを粉砕し、ろ過で分離した。生成物を80エタノールで3回洗浄し、50°Cで乾燥させた。実施例9この実施例は、ポリの合成を記述する。500mlのビーカーで1384gの44ジヒドロキシビフェニル22ジスルホン酸を326gの炭酸ナトリウム及び40mlの水と混合し、固体が完全に溶解するまで分散撹拌機で撹拌した。この溶液にジクロロメタンを加えた。高速で撹拌したら、1132gの2スルホテレフタロイルクロリドを15分以内に加えた。撹拌を3時間続け、濃厚反応塊に400mlのアセトンを加えた。沈殿したポリマーをろ過で分離し、50°Cで乾燥させた。実施例10この実施例は、ポリの合成を記述する。ペトリ皿内の36gの微粉末状ビベンジルを、蒸発皿を備えたデシケーター内の磁器ラック上に、ラックが80gの臭素を含む状態で置く。デシケーターを閉じるが、臭化水素を逃すために非常に小さい開口を設ける。ジベンジルを臭素蒸気と一晩接触させたままにする。次に臭素を含む皿をデシケーターから取り出し、過剰の臭素蒸気をウォーターポンプで排除する。次に橙色固体を450mlのイソプロピルアルコールから再結晶させる。44’ジブロモビベンジルの収量は20gである。90mlの乾燥テトラヒドロフラン中236gの14ジブロモベンゼンの溶液を調製する。この溶液10mlを撹拌しながら50gのマグネシウムチップ及び60mlの乾燥テトラヒドロフラン中のヨウ素に添加し、反応が開始するまで混合物を加熱する。残りのジブロモ溶液を徐々に添加して沸騰状態を維持する。そして反応混合物を8時間煮沸してアルゴン下で室温にて一晩放置する。アルゴン圧を利用してホースを通して混合物を滴下漏斗に移し、40mlの乾燥テトラヒドロフラン中24mlのトリメチルボラートの溶液に3時間7870°Cで激しく撹拌しながら加える。混合物を2時間撹拌してからアルゴン下で一晩撹拌しながら室温まで加熱する。混合物を20mlのエーテルで希釈し、砕氷と濃H2SO4の撹拌混合物に注ぐ。有機層と水層の分離を容易にするため、20mlのエーテルと125mlの水を加えて混合物をろ過する。水層をエーテルで抽出し、混ぜ合わせた有機抽出物を50mlの水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、蒸発乾固させる。淡褐色固体を800mlのクロロホルムに溶かして澄ます。クロロホルム溶液をほとんど蒸発乾固させ、残留固体をベンゼンから再結晶させる。わずかに黄色がかった白色沈殿物をろ別して乾燥させる。ベンザイン14ジボロン酸のジプロピレングリコールエステルの収量は074gである。窒素下で重合を行なう。27gの44’ジブロモ22’ビベンジル及び19gのベンザイン14ジボロン酸のジプロピレングリコールエステルを28gの炭酸水素ナトリウム、285mlのテトラヒドロフラン及び17mlの水の混合物に加える。テトラキスパラジウムを加える。結果として生じる懸濁液を20時間撹拌する。次に004gのブロモベンゼンを加える。添加2時間後にそれを150mlのエタノールに注ぐことによってポリマーを沈殿させる。生成物を水で洗浄し、乾燥させ、トルエンに溶かす。ろ過溶液を濃縮し、ポリマーを5倍過剰のエタノールに溶かして乾燥させる。ポリマーの収量は25gである。88gの95硫酸を110°Cに加熱し、27gのポリマーを加える。温度を140°Cに上げて4時間保持する。室温に冷ました後、8mlの水を滴加して混合物を冷ます。結果として生じる懸濁液をろ過し、濃塩酸で洗浄して乾燥させる。スルホン化ポリマーの収量は15gである。実施例11この実施例はポリの合成を記述する。窒素下で重合を行なう。102gの22エタン12ジイルビスビス132ジオキサボリナン、105gの11エタン12ジイルビス及び1gのテトラキスパラジウムを窒素下で混合する。炭酸カリウムの24M溶液50mlと300mlのテトラヒドロフランの混合物を窒素通気により脱気する。得られた溶液を最初の混合物に加える。その後、反応混合物を約40°Cで72時間撹拌する。それを150mlのエタノールに注ぐことによってポリマーを沈殿させる。生成物を水で洗浄して乾燥させる。ポリマーの収量は87gである。85gのポリマーを45mlの95硫酸に投入する。反応塊を約140°Cで4時間撹拌する。室温に冷ました後、74mlの水を滴加して混合物を冷ます。結果として生じる懸濁液をろ過し、濃塩酸で洗浄して乾燥させる。スルホン化ポリマーの収量は8gである。実施例12この実施例は、ポリの合成を記述する。190gの44’ジアミノビフェニル22’ジスルホン酸及び415gの水酸化ナトリウムを1300mlの水に溶かす。1180gの氷をこの溶液に撹拌しながら入れる。次に703gの亜硝酸ナトリウム、2300mlの硫酸及び1180mlの水を反応塊に加え、それを2~0°Cで1時間撹拌する。次にそれをろ過し、2400mlの氷水で洗浄する。フィルターケークを800mlの水に懸濁させて100°Cに加熱する。次に約600mlの溶液が残るまで水を留出させる。110mlの水中166gの水酸化セシウム水和物を溶液に加える。次にそれを6000mlのエタノールに加え、結果として生じる懸濁液を室温で撹拌し、ろ過し、フィルターケークを600mlのエタノールで洗浄し、真空オーブンで45°Cにて乾燥させる。44’ジヒドロキシビフェニル22’ジスルホン酸の収量は230gである。30mlの96硫酸と21gのpキシレンを混合し、100°Cに加熱し、温度を15分間維持する。反応塊を室温に冷まし、50gの水と氷でクエンチする。結果として生じる懸濁液を10°Cに冷却し、得られたフィルターケークを冷塩酸で洗浄する。沈殿物を絞り取って塩酸溶液から再結晶させる。白色物質を真空下90°Cで乾燥させる。pキシレンスルホン酸の収量は34gである。35mlの四塩化炭素、25gのpキシレンスルホン酸、48gのNブロモスクシンイミド及び016gの過酸化ベンゾイルの混合物を撹拌しながら沸騰するまで加熱して温度を80分間維持する。次にさらに016gの過酸化ベンゾイルを加え、混合物をさらに60分間沸騰させておく。冷却後、生成物を45mlの水で抽出し、20塩酸から再結晶させる。25ビスベンゼンスルホン酸の収量は約1gである。冷却管と窒素の出入口を備えた25mlのフラスコに023gの44’ジヒドロキシビフェニル22’ジスルホン酸、12mlのoジクロロベンゼン、022gの25ビスベンゼンスルホン酸、12mlの10N水酸化ナトリウム、及び0081gのテトラブチルアンモニウム水素スルファートを首尾よく加える。反応混合物を窒素下80°Cで撹拌する。6時間の反応後、有機層を単離して水、次いで希塩酸、再び水で洗浄する。次に溶液をメタノールに加えて白色ポリマーを沈殿させる。次にポリマーをアセトン及びメタノールから再結晶させる。実施例13この実施例は、表1の一般構造式12式中、R1はCH3であり、MはCsであるの剛体棒状巨大分子の合成を記述する。30gの44ジアミノビフェニル22ジスルホン酸を300mlのピリジンと混合する。混合物に撹拌しながら60mlの塩化アセチルを加え、結果として生じる反応塊を35~45°Cで2時間撹拌する。次いでそれをろ過し、フィルターケークを50mlのピリジンですすいでから1200mlのエタノールで洗浄する。得られたアルコールで湿った固体を60°Cで乾燥させる。44ビスビフェニル22ジスルホン酸ピリジニウム塩の収量は95である。126gの44ビスビフェニル22ジスルホン酸ピリジニウム塩を200mlのDMFと混合する。34gの水素化ナトリウムを加える。反応塊を室温で16時間撹拌する。76mlのヨウ化メチルを加えて反応塊を室温で16時間撹拌する。次に蒸留して反応混合物の揮発性成分を除去し、残渣を800mlのアセトンで洗浄して乾燥させる。得られた44’ビスアセチルアミノビフェニル22ジスルホン酸を36mlの4M水酸化ナトリウムに溶かす。2gの活性炭を溶液に加えて80°Cで2時間撹拌する。この液体をろ過で澄まし、35HClで中和してpHを約1にし、蒸発により体積で約30まで減らす。次にそれを一晩冷蔵し、沈殿物質を単離して乾燥させる。44ビスメチルアミノビフェニル22ジスルホン酸の収量は80である。20gの44ビスメチルアミノビフェニル22ジスルホン酸及び42gの炭酸水素セシウムを6mlの水と混合する。この溶液をIKAUltraTurraxT25で5000rpmにて1分間撹拌する。2mlのトリエチレングリコールジメチルエーテルの添加後、20000rpmで1分間撹拌しながら40mlのトルエンを加える。次に20mlのトルエン中12gのテレフタロイルクロリドの溶液を混合物に20000rpmで加える。ポリマーのエマルションを60分間撹拌してから150mlのエタノールに20000rpmで加える。20分の撹拌後、ポリマーの懸濁液をブフナー漏斗で繊維フィルターを用いてろ過し、得られたポリマーを8mlの水に溶かし、50mlのエタノールに注ぐことによって沈殿させ、70°Cで12時間乾燥させる。収量は23gである。最終生成物の合成及び純度の分析管理はイオン対HPLCで行なった。中間生成物及び最終生成物のHPLC分析は、自動サンプル注入器、quatpump、恒温カラム室、ダイオードアレイ検出器及びChemStationB1003ソフトウェアを具備するHewlettPackard1050システムで行なった。15cm×46mm内径、5μm粒子、DrMaischGmbHReproSilPurBasicC18カラムで、アセトニトリル、テトラnブチルアンモニウムブロミドの001M水溶液、及びリン酸緩衝液0005Mから調製した線形勾配を利用して化合物を分離した。勾配は、20分でABC20755→ABC35605であった。流速は15mL分1、カラム温度は30°Cであり、流出物をダイオードアレイ検出器で230及び300nmにてモニターした。実施例14この実施例は表1の構造17で示されるポリマーのナトリウム塩の合成を記述する。0654gの塩化銅を周囲条件で2500mlのビーカー内で撹拌しながら4100mlの水に溶かした。得られた溶液に260gの25ビスベンゼンスルホン酸を加えてから、白っぽい懸濁液に2582gの臭化ナトリウムを加えた。激しく撹拌する反応混合物に1155mlのnアミルアルコールを加えた。激しく撹拌する反応混合物に520mlの水中の1003gの水素化ホウ素ナトリウムを一度に加えた。結果として生じる混合物を10分間撹拌した。底部の水層を単離し、この暗い霧深い溶液を二重層ガラスろ紙でろ過した。結果として生じた溶液をフィルター膜で撹拌限外ろ過セルを用いてろ過した。水を蒸発させて241gの乾燥ポリマーを得た。Mn20536、Mw130480、Pd63。実施例15この実施例は、表1の構造20で示されるポリマーのナトリウム塩の合成を記述する。556mgの25ビスベンゼンスルホン酸、557mgの44ジヒドロキシビフェニル22ジスルホン酸及び500mgのテトラnブチルアンモニウムブロミドを10mlの無水Nメチルピロリジンに溶かした。この溶液に332mgの60水素化ナトリウムを少しずつ加え、混合物を50°Cで4日間撹拌した。その後、混合物を100mlのエタノールに注ぎ、ろ別した。沈殿物を水に溶かし、100mlのエタノール中で沈殿させて再びろ別した。340mgのポリマーを得た。実施例16この実施例は、表1の構造18で示されるポリマーのナトリウム塩の合成を記述する。400mgの44ビスビフェニル22ジスルホン酸、337mgの44ジヒドロキシビフェニル22ジスルホン酸及び400mgのテトラnブチルアンモニウムブロミドを10mlの無水Nメチルピロリジンに溶かした。この溶液に238mgの60水素化ナトリウムを少しずつ加え、混合物を50°Cで4日間撹拌した。その後、混合物を100mlのエタノールに注ぎ、ろ別した。沈殿物を水に溶かし、100mlのエタノール中に沈殿させて再びろ別した。330mgのポリマーを得た。このポリマーのモノマーの合成は以下のように行なった:中間体1:2ヨード5メチルベンゼンスルホン酸を二つ口フラスコに入れて水を加えた。結果として生じた溶液に水中の胆礬硫酸銅を加えてから混合物を85°Cに15分間加熱した。結果として生じた暗色溶液に銅粉末を加えた。温度を90°Cに上昇させてから反応混合物を80~85°Cで3時間撹拌した。反応混合物を2回ろ過し、溶液をロータリーエバポレーターで75mLまで濃縮し、0°Cに冷却し、エタノールを滴加した。生じた沈殿物をろ別し、エタノールで洗浄し、50°Cで乾燥させた。収量は28gである。中間体2:44ジメチルビフェニル22ジスルホン酸を水に溶かし、水酸化ナトリウムを加えた。結果として生じた溶液を45~50°Cに加熱し、過マンガン酸カリウムを1時間30分で少しずつ加えた。結果として生じた混合物を50~54°Cで16時間撹拌してから40°Cに冷却し、メタノールを加え、温度を70°Cに上げた。混合物を40°Cに冷却し、酸化マンガンからろ過し、清澄無色溶液を100mLまで濃縮し、塩酸で酸性にした。結果として生じた混合物を一晩放置し、0°Cに冷却し、ろ別し、アセトニトリル及びジエチルエーテルで洗浄し、乾燥させた。収量が135gの繊維状白色固体である。中間体322ジスルホビフェニル44ジカルボン酸をnペンタノール及び硫酸と混合し、3時間以上加熱してDeanStarkトラップを用いて還流させた。反応混合物を50°Cに冷却し、ヘキサンで希釈し、10分間同温度で撹拌し、沈殿物をろ別し、ヘキサンで洗浄してから50°Cで4時間乾燥させた。白色固体として重量856g。中間体4:冷却管、マグネチックスターラ、温度計及びアルゴンT字管を備えたフラスコに無水テトラヒドロフランを入れた。水素化アルミニウムリチウムをテトラヒドロフランに加え、結果として生じた懸濁液を50°Cに加熱し、44ビスカルボニルビフェニル22ジスルホン酸を効率的に撹拌しながら1分間で分けて添加した。結果として生じた懸濁液を還流下で15時間穏やかに煮沸した。反応混合物を10°Cに冷却し、水素の発生が止むまで水を加え、混合物を無水テトラヒドロフランで希釈して撹拌を効率的にした。結果として生じた白色懸濁液を1L容積のフラスコに移し、塩酸36で酸性にした。粘着性沈殿物が生じた。それをガラス棒でよく撹拌し、混合物をロータリーエバポレーターで乾固させ、残渣を無水テトラヒドロフランと混合し、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、白色固体残渣を乾燥ピストル内で67°C10mmHgにて2時間乾燥させた。白色片を粉末にして1時間以上乾燥させた。結果としての重量は30gである。計算された生成物含量は無機塩と溶媒和水の混合物中約125ミリモルgのジオールである。粗製44ビスビフェニル22ジスルホン酸を塩酸36と混合し、85°Cの浴温で15時間撹拌した。15分後に塩化水素ガスを反応混合物に10分間通して1時間20分加熱した。清澄溶液は形成されないが、ほとんど清澄な懸濁液が観察された。反応混合物を氷水浴で0°Cに冷却し、この温度で塩酸流下で撹拌し、白色沈殿物をろ別し、水酸化カリウム上で一晩真空中にて乾燥させた。重量26g。実施例17この実施例は、表1の構造19で示されるポリマーのナトリウム塩の合成を記述する。100mgの44ビスビフェニル2スルホン酸、83mgの44ジヒドロキシビフェニル22ジスルホン酸及び80mgのテトラnブチルアンモニウムブロミドを2mlの無水Nメチルピロリジンに溶かした。この溶液に50mgの60水素化ナトリウムを少しずつ加え、混合物を50°Cで4日間撹拌した。その後、混合物を20mlのエタノールに注ぎ、ろ別した。沈殿物を水に溶かし、50mlのエタノール中で沈殿させ、再びろ別した。100mgのポリマーを得た。このポリマーのモノマーの合成は以下のように行なった:中間体52スルホpトルイジンを水及び塩酸36と混合した。混合物を撹拌し、0°Cに冷却した。温度を3~5°Cに維持しながら水中の亜硝酸ナトリウムの溶液をゆっくり加えた。結果として生じた懸濁液を次に0~3°Cで1時間45分間撹拌し、ろ過により得た暗色塊をマグネチックスターラと温度計を備え、25硫酸に溶解したヨウ化カリウムを含有するトールビーカーに湿式で分けて加え、温度を約10°Cで維持した。大量の窒素が発生し、発泡するので、大きい磁気棒が必要である。次に反応混合物を室温に戻し、硫酸の25溶液を加えた。加熱を70°Cで30分間続け、硫酸の25溶液を加え、しばらくの間撹拌する。黒色の不溶性固体から混合物を熱ろ過し、撹拌しながら室温に冷ました。沈殿が生じ、溶液は暗色であった。沈殿物をPallガラスシートでろ過し、エタノール水11で洗浄し、再懸濁させ、もう一度ろ過し、フィルター上でエタノールを用いて洗浄し、ストーブで50°Cにて乾燥させ、結果として生じた化合物は淡褐色である。収量は46gである。中間体6:一つ口フラスコに水を入れた後、水酸化ナトリウムと3スルホ4ヨードトルエンを入れた。結果として生じた溶液を40°Cまで温め、よく撹拌した液体に微粉状の過マンガン酸カリウムを10分間隔で少しずつ導入した。添加を1時間30分間行なった。添加中、温度を40~45°Cで維持した。次に反応混合物を75~80°Cまで加熱し、この温度で16時間放置した。メタノール水の11混合物を60°Cで加え、暗色懸濁液を35~40°Cに冷ましてろ別した。澄んだ透明溶液を塩酸36で酸性にし、ロータリーエバポレーターで濃縮し、約13の溶媒を蒸留した。白色沈殿が生じた。懸濁液を氷上で冷却し、ろ別し、アセトニトリルとジエチルエーテルで洗浄した。塩酸臭が消えるまで、白色固体をストーブで50°Cにて乾燥させた。重量22g。中間体7:温度計、マグネチックスターラ、アルゴン注入管及び気泡計数器を備え、40°Cに加熱したフラスコに水を入れ、炭酸カリウムを添加した後、4ヨード3スルホ安息香酸及び4メチルフェニルボロン酸を加えた。溶液が生じた。装置を排気し、撹拌しながらアルゴンを4回充填した。PdC10を加え、装置にアルゴンを3回以上流した。溶液の温度を75~80°Cに上昇させ、結果として生じた混合物をアルゴン雰囲気下で16時間撹拌した。反応混合物を40°Cに冷まして2回ろ過し、CO2の発生が止まってさらにもう少し塩酸36を滴加した。結果として生じた懸濁液を氷上で冷却し、ろ別し、ビーカー内でアセトニトリルを用いて洗浄し、ろ過し、フィルター上でジエチルエーテルを用いて洗浄してからストーブで3時間45°Cで乾燥させた。収量100g。中間体8:二つ口フラスコに水を入れた後、水酸化ナトリウム及び4メチル2スルホビフェニル4カルボン酸を入れた。結果として生じた溶液を40°Cまで温め、よく撹拌した液体に微粉状過マンガン酸カリウムを10分間隔で少しずつ導入した。添加を45分間行なった。添加中、温度を40~45°Cで維持した。次に反応混合物を50°Cまで加熱し、この温度で撹拌しながら18時間放置した。メタノール水の11混合物を45°Cで加え、暗色懸濁液を室温に冷ましてろ別した。澄んだ透明溶液を塩酸36で酸性にした。白色沈殿が生じた。懸濁液を氷上で冷却し、ろ別し、ビーカー内でアセトニトリルを用いて洗浄し、ろ過し、フィルター上でジエチルエーテルを用いて洗浄した。塩酸臭が消えるまで、白色固体をストーブで50°Cにて乾燥させた。重量75g。中間体9:粉末状2スルホビフェニル44ジカルボン酸を無水メタノール及び硫酸と混合した。結果として生じた懸濁液を撹拌し、穏やかに煮沸しながら2日間放置した。炭酸ナトリウムをメタノール溶液に加え、45分間撹拌してからロータリーエバポレーターでエバポレートした。残渣をテトラヒドロフランと混合していずれの大きい粒子をも除去し、結果として生じた懸濁液をロータリーエバポレーター上で乾燥させてからデシケーター内で減圧下にて酸化リン上で一晩乾燥させた。結果として生じた残渣をそのままさらなる変換で使用した。乾燥した粗製44ビスビフェニル2スルホン酸とマグネチックスターラを含有し、栓で閉じた一つ口フラスコをテトラヒドロフランで満たした。白色懸濁液を室温で20分間撹拌してその滑らかさを確保してから水素化アルミニウムリチウムを分けて40分間で添加した。発熱作用が観察された。温度を45~50°Cに上昇させた。次にジョイントを軟らかいティッシュペーパーできれいにし、フラスコに冷却管とアルゴン気泡T字計数器を装備した。結果として生じた懸濁液を撹拌しながら3時間加熱した。反応混合物を氷上で10°Cに冷却し、水素の発生が止まるまで水を滴加した。懸濁液が乳白色になるまで臭化水素酸を少しずつ添加した。懸濁液を05L容積のフラスコに移し、それをロータリーエバポレーター上でほとんど乾固させた。臭化水素酸48をフラスコに添加し、結果として生じた泥状溶液をろ過し、温度計を有するh字管とアルゴン注入管をフラスコに装備した。装置にアルゴンを流し、油浴上に置いた。温度が75°Cに上昇するまで15分間撹拌を行なった。この温度で7分後に白色沈殿の形成が観察された。70~75°Cで15時間撹拌を行なってから懸濁液を30°Cに冷却し、ろ別し、フィルター上で沈殿物を冷却臭化水素酸48で洗浄し、ある程度圧搾した。デシケーター内で定期的にアルゴンを満たしながらフィルターケークを減圧下にて水酸化ナトリウム上で乾燥させた。重量70g。実施例18この実施例は、7ジベンゾbdチオフェン3スルホン酸55ジオキシドの合成を記述する。783gのpテルフェニルを55mlの10発煙硫酸に10~20°Cで溶かし、混合物を周囲温度で20時間撹拌した。この生じた懸濁液に20gの氷を加えて混合物を0°Cに冷却した。固体をろ過し、36塩酸で洗浄し、最小量の水に溶かし、36塩酸で沈殿させた。生成物をろ過し、36塩酸で洗浄し、乾燥させた。923gの生成物を得た。実施例19この実施例は、表3の構造35の多環式有機化合物の調製を記述する。44ジベンゼンスルホン酸を114141クアテルフェニルのスルホン化によって調製した。114141クアテルフェニルを20発煙硫酸に投入した。反応塊を周囲条件で5時間撹拌した。その後、反応混合物を水で希釈した。最終硫酸濃度は約55になった。沈殿物をろ過し、氷酢酸ですすいだ。フィルターケークを約110°Cのオーブンで乾燥させた。このプロセスは8gの44ジベンゼンスルホン酸を生じさせた。生成物を1HNMRで分析すると下記結果を示した:773578458165834。分光計UVVISVarianCary500Scanを用いて水溶液中で測定した生成物の電子吸収スペクトルはλmax1218nm、λmax2259nm、及びλmax3314nmで吸収最大値を示した。BruckerDaltonicsUltraflexTOFTOFを用いて記録した生成物の質量スペクトルは以下のとおりである:分子イオン、FW52857。本発明の特定の好ましい実施形態を具体的に開示したが、当然のことながら、当業者には多くの変形形態が容易に分かるので、本発明はそれらに限定されず、かつ本発明は下記請求項の用語の範囲内でその最も広い可能な解釈が与えられるものとする。