試料及び試薬を反応容器に分注して、その混合液を測定する自動分析装置であって、前記反応容器を所定の経路に沿って搬送する搬送手段と、前記所定の経路に沿って設けられ、前記反応容器が収容され、内部の気体を前記所定の温度に保つ恒温槽と、前記反応容器の側面に清浄気体を噴出するための噴出口を前記恒温槽の壁面に有する清浄機構と、前記噴出口から前記反応容器の前記側面に前記清浄気体を噴出した後または噴出中に当該側面に向けて光を照射し、その反応容器内の前記混合液を透過した光を検出する測光部と、を備えたことを特徴とする自動分析装置。前記清浄機構は、前記噴出口から噴出された前記清浄気体を含む前記内部の気体を排出する排出口を備えたことを特徴とする請求項1に記載の自動分析装置。前記噴出口は、前記恒温槽の側壁面に設けられ、前記排出口は、前記噴出口と対向する前記恒温槽の側壁面に設けられたことを特徴とする請求項2に記載の自動分析装置。前記噴出口は、前記恒温槽の側壁面に設けられ、前記排出口は、前記噴出口が設けられた前記側壁面に設けられたことを特徴とする請求項2に記載の自動分析装置。前記噴出口は、前記反応容器の側面に所定の角度で前記清浄気体を噴出する位置に配置され、前記排出口は、前記噴出口から噴出され、前記反応容器の側面で反射した前記清浄気体を含む前記内部の気体を排出する位置に配置されたことを特徴とする請求項4に記載の自動分析装置。前記清浄機構は、前記排出口を、前記恒温槽の底面に設けたことを特徴とする請求項2に記載の自動分析装置。前記清浄機構は、外気を取り込み、当該外気を前記噴出口から噴出させるポンプと、前記噴出口と前記ポンプとの間に介在し、前記ポンプから取り込まれた当該外気を前記所定の温度に保つヒーターと、を備えたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の自動分析装置。前記清浄機構は、前記排出口を介して前記恒温槽内から気体を取り込み、取り込まれた当該気体を前記噴出口から噴出させるポンプと、前記排出口と前記ポンプとの間に介在し、前記排出口から取り込まれた当該気体から異物を取り除くフィルタと、前記フィルタと前記ポンプとの間に介在し、前記フィルタと前記ポンプと間の空間の気圧が所定の閾値以下となった場合に、これを検知する気圧センサと、を備えたことを特徴とする請求項2に記載の自動分析装置。前記噴出口から噴出された前記清浄気体によって、前記恒温槽内を陽圧の状態に維持する構成を有することを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の自動分析装置。この発明の実施形態は、空気恒温方式を用いた場合に、反応容器外壁の結露や、反応容器外壁への塵や埃の付着に伴う測定精度の低下を防止することを目的とする。上記目的を達成するために、この実施形態の第1の態様は、試料及び試薬を反応容器に分注して、その混合液を測定する自動分析装置である。この自動分析装置は、搬送手段と、恒温槽と、清浄機構と、測光部と、を備える。搬送手段は、反応容器を所定の経路に沿って搬送する。恒温槽は、所定の経路に沿って設けられ、反応容器が収容され、内部の気体を所定の温度に保つ。清浄機構は、反応容器の側面に清浄気体を噴出するための噴出口を恒温槽の壁面に有する。測光部は、噴出口から反応容器の側面に清浄気体を噴出した後または噴出中に当該側面に向けて光を照射し、その反応容器内の混合液を透過した光を検出する。第1の実施形態第1の実施形態に係る自動分析装置について図1を参照しながら説明する。本実施形態に係る自動分析装置は、サンプル部2と、試薬部3と、反応部1とを含んで構成される。サンプル部2は、試料容器21と、サンプラ22と、サンプルプローブ23とを含む。試料容器21は、キャリブレータ、精度管理用試料、あるいは被検試料などの試料を収容する。試料容器21は、サンプラ22により保持される。サンプルプローブ23は、サンプラ22に保持された試料容器21内の各試料を吸引して反応容器11内へ吐出する分注を行う。反応容器11については後述する。サンプルプローブ23は、アームにより回動及び上下移動可能に保持されている。また、図示しないが、試料の分注が終了する度にサンプルプローブ23を洗浄水で洗浄する洗浄槽が備えられている。試薬部3は、試薬容器31と、試薬庫32A及び32Bと、試薬プローブ33A及び33Bとを含む。試薬容器31は、試料に対して選択的に反応する試薬を収容する。試薬庫32A及び32Bは、それぞれ複数の試薬容器31を収納する。試薬庫32A及び32Bはそれぞれ、上面を開口したほぼ円柱状の容器である。試薬庫32A及び32Bはそれぞれ、複数の試薬容器31を円周状に配列した状態で収容できる。試薬庫32A及び32Bは、図示されていない回転機構によってそれぞれ回転される。試薬プローブ33Aは、試薬庫32Aに配置された試薬容器31内の第1試薬を吸引し、試料が分注された反応容器11内に吐出。同様に、試薬プローブ33Bは、試薬庫32Bに配置された試薬容器31内の第2の試薬を吸引し、試料が分注された反応容器11内に吐出する。試薬プローブ33A及び33Bは、それぞれアームにより回動及び上下移動可能に保持されている。反応部1は、反応容器11と、恒温槽12と、反応ディスク13と、撹拌ユニット14と、測光部15と、清浄機構16と、洗浄ユニット17とを含む。反応容器11は、試料と試薬との混合液を収容する。反応ディスク13は、円周状に配列された複数の反応容器11を、その円周に沿って回転可能に保持する。反応ディスク13が回転することにより反応容器11は、反応ディスク13が回転する円周方向の所定の経路に沿って搬送される。恒温槽12は、円周状に配列された複数の反応容器11が搬送される経路に沿った環状の形状を有している。恒温槽12は、反応容器11が搬送される経路に沿って、対向する側壁面と、底面とによって囲まれる内部空間を形成している。この恒温槽12内の具体的な構成については、清浄機構16の具体的な説明とあわせて後述する。恒温槽12の内部に設けられた内部空間は、各反応容器11の少なくとも一部、即ち、被検試料や試薬の混合液が分注された部分を包含している。恒温槽12は、内部空間の温度を制御するために、ヒーターやサーモスタット等の温度を調整する装置を有する。また、恒温槽12内の内部空間に保持された気体は、循環による熱伝達によって、反応容器11内の温度が一定に保たれるように制御される。なお恒温槽12は、反応ディスク13の回転移動とは独立して固定されており、反応ディスク13の回転移動を受けて反応容器11が恒温槽12内を搬送される。撹拌ユニット14は、撹拌子と、撹拌子を回動及び上下移動可能に保持するアームとを含む。撹拌子は、反応容器11内の試料、第1試薬、及び第2試薬の混合液を撹拌する。測光部15は、恒温槽12内で反応容器11内の混合液に光を照射して光学的に測定を行う以降では、測光と呼ぶ場合がある。具体的には測光部15は、反応容器11の側面に設けられた照射領域111に光を照射する。そして、測光部15は、反応容器11内の標準試料や被検試料を含む混合液を透過した光を受光部で受ける。測光部15は、受光部で受けた光の波長や強度を示すデータを分析部図示しないに出力する。分析部は、このデータに基づき、例えば吸光度データで表される標準データや被検データを生成する。なお、以降では、反応容器11の外周側の側面に設けられた照射領域を照射領域111Aと呼ぶ場合がある。また、反応容器11の内周側の側面に設けられた照射領域を照射領域111Bと呼ぶ場合がある。洗浄ユニット17は、測光部15での測光が終了した反応容器11内に例えば酸性洗剤やアルカリ性洗剤等の洗浄液で洗浄後に水洗いして反応容器11内を洗浄する。洗剤や洗浄水は排液ノズルで吸引排出し、洗浄後には反応管11内を乾燥させる。ここで図2を参照する。図2は、反応部1を上部から見た場合の、反応部1の各構成の位置関係を模式的に示した図である。なお、図2に示すように、X軸は、反応容器11の搬送方向、即ち、円周方向を示している。また、Y軸は、X軸に直交する方向、即ち、反応容器11の搬送経路を形成する円周の中心から外に向かう方向を示している。図2に示すように、測光部15に対して、反応容器11の搬送方向の上流近傍を少なくとも含む領域Sには、清浄機構16が設けられている。清浄機構16の詳細な構成については後述する。制御部10は、本実施形態に係る自動分析装置の各構成の動作を制御する制御部である。制御部10は、恒温槽12に含まれる各構成例えばサーモスタット等の動作を制御することで、恒温槽12内の温度を所定の温度に保つ。また、制御部10は、清浄機構16の動作を制御する。このときの制御部10の詳細な動作については、清浄機構16の構成とあわせて説明する。次に図3A及び図3Bを参照しながら、本実施形態に係る清浄機構16の詳細な構成について説明する。図3Aは、図2の領域Sにおける清浄機構16が設けられた部分を円周方向に直交する面Lで切断した場合の、恒温槽12及び反応容器11の断面図を示している。なお、Z軸は、X軸及びY軸の双方に直交する方向、即ち、自動分析装置の上下方向を示している。また図3Bは、反応部1を上部から見た場合の、清浄機構16の設置位置を説明するための図である。前述したとおり、恒温槽12は、環状に形成されている。また、図3Aに示すように、恒温槽12は、その内部にお互いに対向する側壁面、即ち、環の外周側に位置する外周側壁面121、及び環の内周側に位置する内周側壁面122と、底面123とで形成された内部空間を有している。反応容器11は、内部空間内を反応ディスク13により搬送される。また、内部空間内には、サーモスタット等の温度を調整する装置図示しないにより恒温に保たれた気体が供給される。この槽内を恒温に保たれた気体が循環することで、この気体による熱伝達により反応容器11内の温度が一定に保たれる。本実施形態に係る清浄機構16は、図3Aに示すように、噴出管161と、排出管162と、ポンプ165と、フィルタ166と、ヒーター167とを含んで構成される。噴出管161は、外周側壁面121及び内周側壁面122のいずれか一方を貫通し、その端部は恒温槽12内に向けて開口している。この開口が噴出口163に相当する。これにより、噴出管161は、恒温槽12の外部と内部とをつなぐ流路を形成している。清浄機構16は、恒温槽12内を搬送される反応容器11の側面に、この流路から気体を噴出することで、反応容器11の側面における測光部15が光を照射する部分に生じた結露や、付着した塵や埃を排除する。そのため、反応容器11の照射領域111Aに向けて気体が噴出されるように、噴出口163の位置や噴出管161の向きが調整されて設置されている。なお、以降では、噴出管161は、外周側壁面121側に設けられているものとして説明する。また、内周側壁面122には、噴出口163と対向する位置を貫通するように排出管162が設けられている。排出管162は、その端部は恒温槽12内に向けて開口している。この開口が排出口164に相当する。これにより、排出管162は、恒温槽12の内部と外部とをつなぐ流路を形成している。噴出管161の、噴出口163とは逆側の口は、ポンプ165の排出口に接続されている。ポンプ165は、外気を取り込み、この取り込んだ外気を噴出管161内に排出する。これにより、ポンプ165から取り込まれた外気が、噴出口163から噴出される。また、噴出管161には、ポンプ165と噴出口163との間に、フィルタ166と、ヒーター167とが、ポンプ165から噴出口163に向けてこの順序で設けられている。ポンプ165から取り込まれた外気は、フィルタ166を通過する。このとき外気に混入した塵や埃がフィルタ166で取り除かれ、空気のみがフィルタを通過する。フェルタは除湿機能を兼ね備えてもよい。空気を除湿することで、反応容器11側面の結露対策に一層の効果が期待できる。このフィルタ166を通過した空気を清浄気体と呼ぶ。フィルタ166を通過した清浄気体はヒーター167により恒温槽12内の温度に加熱される。ヒーター167は、制御部10により動作が制御されている。具体的には、まず制御部10は、恒温槽12内の温度を、例えば恒温槽12内に設けられた温度センサ図示しない等により検知する。制御部10は、検知された温度に基づきヒーター167の加熱温度を設定する。ヒーター167は、制御部10から設定された加熱温度に基づき清浄気体を加熱する。これにより、清浄気体は、恒温槽12内の温度に加熱される。ヒーター167で加熱された清浄気体は、噴出口163から反応容器11の照射領域111Aに向けて噴出される。なお、制御部10は、恒温槽12のサーモスタットと、ヒーター167との動作をあわせて制御するように動作させることも可能である。この場合には、制御部10は、恒温槽12のサーモスタットと、ヒーター167との双方の動作を、共通の加熱温度に基づき制御する。この場合には、制御部10は、必ずしも、温度センサにより検知された恒温槽12内の温度に基づきヒーター167の動作を制御する必要は無い。また排出口164には排出管162の一方の口が接合されている。これにより、排出管162は、恒温槽12の内部と外部とをつなぐ流路を形成している。噴出口163から恒温槽12内に噴出された清浄気体は、この排出口164及び排出管162により形成された流路を介して、恒温槽12の外部に排出される。なお、図3Aに示すように排出管162にフィルタ168を設けることも可能である。フィルタ168を設けることで、噴出口163から噴出された清浄気体により除去された塵や埃を、自動分析装置の外部に排出せずに回収することが可能となる。また、排出管162にポンプを設けて、恒温槽12内の気体を吸引するように動作させることも可能である。上記のように、噴出口163が外周側壁面121に設けられるように清浄機構16を構成することで、反応容器11の照射領域111Aに生じた結露や、付着した塵や埃を排除することが可能となる。上記と同様にして、噴出管161Bが内周側壁面122に設けられた清浄機構16Bを、図3Bに示すように設ける。図3Bの16Aは、噴出管161を外周側壁面121に設けた清浄機構16を示している。また16Bは、噴出管161を内周側壁面122に設けた清浄機構16を示している。清浄機構16Bを設けることで、反応容器11の照射領域111B図3A参照に生じた結露や、付着した塵や埃を排除する。以降では、清浄機構16Aは、噴出管161を外周側壁面121に設けた場合を示し、清浄機構16Bは、噴出管161を内周側壁面122に設けた場合を示しているものとする。また、清浄機構16の各構成を示す番号にAを付した場合例えば、噴出口163A、清浄機構16Aの構成を示しているものとする。また、同様にして、清浄機構16の各構成を示す番号にBを付した場合例えば、噴出口163B、清浄機構16Bの構成を示しているものとする。なお、清浄機構16A及び16Bは、それぞれが1つ以上設けられていればよく、例えば、清浄機構16A及び16Bを複数設けることも可能である。また、清浄機構16A及び16Bを複数設ける場合、複数の清浄機構16A及び16B間で、ポンプ165やヒーター167を共用する構成とすることも可能である。また、噴出口163及び排出口164は、清浄機構16ごとに少なくとも1つ以上ずつ設けられていればよく、噴出口163の数と排出口164の数は等しくなくてもよい。また清浄機構16A及び16Bは、測光部15による測光が行われる前または測光中に照射領域111A及び111Bに生じた結露や、付着した塵や埃を排除できれば、その動作タイミングは限定されない。清浄機構16A及び16Bは、例えば、自動分析装置による被検試料の測定中に動作させてもよいし、測定を開始する前のスタートアップ動作時に動作させてもよい。以上、本実施形態に係る自動分析装置は、測光部15による測光を行う前または測光中に、噴出口163から反応容器11の照射領域に向けて清浄気体を噴出することで、照射領域に生じた結露や、付着した塵や埃を排除する。これにより、本実施形態に係る自動分析装置は、結露や塵及び埃による測光部15からの光の反射、屈折、及び拡散の発生を防止し、測定精度を向上させることが可能となる。第2の実施形態第1の実施形態に係る自動分析装置では、1つの清浄機構16を構成する噴出管161が、外周側壁面121及び内周側壁面122のいずれか一方を貫通するように設けられ、排出管162が他方の側壁面を貫通するように設けられている。それに対し、第2の実施形態に係る自動分析装置では、1つの清浄機構16を構成する噴出管161及び排出管162を、同じ側壁面を貫通するように設けている。以降では、本実施形態に係る自動分析装置について、図4を参照しながら、第1の実施形態と異なる部分に着目して説明する。図4は、本実施形態における恒温槽12及び反応容器11の断面図を示している。図4に示すように、本実施形態に係る噴出管161A及び排出管162Aは、外周側壁面121を貫通するように設けられている。また、噴出管161B及び排出管162Bは、内周側壁面122を貫通するように設けられている。ここで図5Aを参照する。図5Aは、清浄機構16Aの設置方法、即ち、噴出管161A、排出管162A、噴出口163A、及び排出口164Aの位置関係を示している。なお、図5Aの軸Y1は、照射領域111AからY軸方向に延びた軸を示している。図5Aに示すように、噴出管161Aは、その流路が軸Y1に対してZ軸方向に角度θ1だけ傾くようにして設けられている。これにより、噴出口161Aから照射領域111Aに向けて清浄気体が噴出される。また、排出管162Aは、その流路が軸Y1に対してZ軸方向に角度θ2だけ傾くようにして設けられている。このとき、噴出口163Aから噴出され、照射領域111Aで反射した清浄気体が排出口164Aに導かれるように、排出管162Aを設ける位置と、角度θ1及びθ2とを調整する。なお、噴出管161A及び排出管162Aは、図5Bに示すように設けてもよい。即ち、噴出管161Aは、その流路が軸Y1に対してX軸方向に角度θ3だけ傾くようにして設けられている。これにより、噴出口161Aから照射領域111Aに向けて清浄気体が噴出される。また、排出管162Aは、その流路が軸Y1に対してX軸方向に角度θ4だけ傾くようにして設けられている。このとき、噴出口163Aから噴出され、照射領域111Aで反射した清浄気体が排出口164Aに導かれるように、排出管162Aを設ける位置と、角度θ3及びθ4とを調整する。このように、噴出口163Aから噴出された清浄気体が、照射領域111Aで反射し、排出口164Aに導かれるように、噴出管161A及び排出管162Aを設けられていれば、その設置位置や設置方向は限定されない。なお、噴出管161B及び排出管162Bの設置位置及び設置方向についても同様である。即ち、噴出口163Bから噴出された清浄気体が、照射領域111Bで反射し、排出口164Bに導かれるように、噴出管161B及び排出管162Bを設ける。以上、本実施形態に係る自動分析装置は、噴出口163から噴出された清浄気体が、照射領域111で反射し、排出口164に導かれるように、噴出管161及び排出管162を同一側壁面上に設けている。このような構成とすることで、搬送方向に複数並べられた反応容器11により、反応容器11を基準として外周側壁面121側と内周側壁面122側との間の空気の流れが阻害される場合においても、噴出口163と排出口164との間の流路を確保することが可能となる。第3の実施形態第1及び第2の実施形態に係る自動分析装置では、噴出管161及び排出管162は、恒温槽12の側壁面に設けられている。それに対して、第3の実施形態に係る自動分析装置では、排出管162を、恒温槽12の底面を貫通するように設けている。以降では、本実施形態に係る自動分析装置について、図6を参照しながら、第2の実施形態と異なる部分に着目して説明する。図6は、本実施形態における恒温槽12及び反応容器11の断面図を示している。図6に示すように、本実施形態に係る排出管162A及び162Bは、恒温槽12の底面123を貫通するように設けられている。このとき、噴出口163Aから噴出され照射領域111Aで反射した清浄気体が、排出口164Aに導かれるように、排出管162Aを設置する位置を調整する。これは、排出管162Bについても同様である。即ち、噴出口163Bから噴出され照射領域111Bで反射した清浄気体が、排出口164Bに導かれるように、排出管162Aを設置する位置を調整する。以上、本実施形態に係る自動分析装置は、排出管162A及び162Bは、恒温槽12の底面123を貫通するように設けられている。このような構成とすることで、清浄気体により吹き散らされ底面123に蓄積した塵及び埃を、排出管162A及び162Bから吸引することが可能となる。第4の実施形態第4の実施形態に係る自動分析装置について、第2の実施形態とは異なる部分に着目し説明する。本実施形態に係る自動分析装置は、噴出口163から噴出される気体の量が、排出口164から吸入される気体の量より多くなるように調整することで、恒温槽12内を陽圧の状態に維持する。このように動作させるための具体的な一例を以下に示す。例えば、恒温槽12から排出される気体の量を少なくするために、排出口164の口径を、噴出口163の口径より小さくする。また、噴出口163から恒温槽12内に噴出される気体の量が多くなるようにポンプ165のパワーを調整する。これにより、恒温槽12内に噴出される気体の量が、恒温槽12から排出される気体の量を上回り、陽圧状態、即ち、恒温槽12内の気圧が恒温槽外の気圧より高い状態に維持される。なお、排出管162にポンプを設け、恒温槽12内の気体を吸入している場合、このポンプのパワーを、噴出管161側に設けられたポンプ165のパワーより小さくすることで、恒温槽12内を陽圧状態に維持することも可能である。このように、恒温槽12内が陽圧状態に維持されることで、例えば、反応ディスク13と恒温槽12の開口との間の隙間から、恒温槽12の内部への塵や埃の混入を防止することが可能となる。なお、図7に示すように、排出管162A及び162Bを設けない構成としてもよい。この場合には、噴出口163A及び163Bから噴出された気体が、反応ディスク13と恒温槽12の開口との間の隙間から排出される。このとき、この隙間から排出される気体の量より、噴出口163A及び163Bから噴出された気体の量が多くなるように調整することで、恒温槽12の内部が陽圧状態に維持される。また、図7に示すように、噴出口163A及び163Bが、Z軸の上方向側に向くように噴出管161A及び161Bを配置してもよい。このように、噴出管161A及び161Bを配置することで、噴出口163A及び163Bから噴出された気体が、反応ディスク13と恒温槽12の開口との間の隙間に向けて流れるように流路が形成される。以上、本実施形態に係る自動分析装置に依れば、恒温槽12内を陽圧状態に維持することで、恒温槽12の内部への塵や埃の混入を防止することが可能となる。第5の実施形態第1~第3の実施形態に係る自動分析装置では、ポンプ165により外気を取り込み、取り込まれた外気を噴出口163から噴出している。それに対して、第5の実施形態に係る自動分析装置は、ポンプ165により排出口164から恒温槽12内の気体を取り込み、取り込まれた気体を噴出口163から噴出する。以降では、本実施形態に係る自動分析装置について、図8を参照しながら、第2の実施形態と異なる部分に着目して説明する。図8は、本実施形態における恒温槽12及び反応容器11の断面図を示しており、清浄機構16Aの構成を示している。図8に示すように、本実施形態に係る噴出管161A及び排出管162Aは、外周側壁面121を貫通するように設けられている。噴出管161Aの、噴出口163Aとは逆側の口は、ポンプ165の排出口に接続されている。また排出管162Aの、排出口164Aと逆側の口は、ポンプ165の吸入口に接続されている。これにより、ポンプ165Aは、排出口164Aから排出管162Aを介して、恒温槽12内の気体を吸入する。また、ポンプ165Aは、この吸入された気体を噴出管161内に排出する。これにより、ポンプ165により吸入された恒温槽12内の気体が、噴出口163から噴出される。また、排出管162Aには、排出口164Aとポンプ165Aとの間に、フィルタ168Aと、気圧センサ169Aとが、排出口164Aからポンプ165Aに向けてこの順序で設けられている。ポンプ165Aの吸入により排出口164Aから吸入された恒温槽12内の気体は、フィルタ168Aを通過する。このとき気体内に混入した塵や埃がフィルタ168Aで取り除かれ、気体のみがフィルタを通過する。このフィルタ168Aを通過した気体が清浄気体に相当する。気圧センサ169Aは、排出管162A内のフィルタ168Aとポンプ165Aとの間の空間の気圧を測定する。フィルタ168Aが、塵や埃等により目詰まりを起こすと、ポンプ165Aによるこの空間からの気体の吸入量が、排出口164Aからこの空間に流入する気体の量を上回り、この空間の気圧が低下する。気圧センサ169Aは、この気圧の低下を検知する。即ち、気圧センサ169Aは、測定された気圧が所定の閾値以下となった場合に、これを検知する。このように、気圧センサ169Aは、この空間の気圧が所定の閾値未満となることを検知することで、フィルタ168Aに目詰まりが発生したことを検知する。これにより、例えば、気圧センサ169Aは、気圧の低下を制御部10に通知し、この通知を受けて制御部10は、ポンプ165Aによる気体の吸入を停止することが可能となる。また、制御部10は、気圧センサ169Aからの通知を受けて、例えば表示部図示しないにメッセージを表示することで、操作者に、フィルタ168Aに目詰まりが発生したことを通知することが可能となる。なお、気圧の変化を検知することでフィルタ168Aに目詰まりが発生したことを検知可能であれば、気圧センサ169Aの位置は限定されない。例えば、排出口164Aとフィルタ168Aとの間に気圧センサ169Aを設けてもよい。この場合には、フィルタ168Aの目詰まりにより恒温槽12内の気圧が上昇したことを気圧センサ169Aが検知する。清浄機構16Bについても同様である。即ち、噴出管161B及び排出管162Bは、内周側壁面122を貫通するように設けられている。また、噴出管161B、排出管162B、ポンプ165B、フィルタ168B、及び気圧センサ169Bの位置関係は、噴出管161A、排出管162A、ポンプ165A、フィルタ168A、及び気圧センサ169Aの位置関係と同様である。なお、第3の実施形態のように、排出管162A及び162Bを、恒温槽12の底面123を貫通するように設けてもよい。また、第4の実施形態のように、噴出口163から噴出される気体の量が、排出口164から吸入される気体の量より多くなるように調整することで、恒温槽12内を陽圧の状態に維持するようにしてもよい。また、本実施形態や第4の実施形態では、恒温槽12内を陽圧の状態に維持することが可能であれば、そのための構成は限定されない。例えば、図9は、恒温槽12内を陽圧状態に維持するための一態様を示した図である。図9の例では、ラビリンス構造131を設けた反応ディスク13Aを用いている。図9に示すように、本実施形態に係る自動分析装置は、ラビリンス構造131を設けることで、反応ディスク13Aと恒温槽12との間を液体により封じることで、恒温槽12の内部と外部とを分けて、恒温槽12内を陽圧の状態に維持している。なお、本実施形態に限らず、第4の実施形態のように、恒温槽12内を陽圧の状態に維持する場合には、同様に、ラビリンス構造131を設けた反応ディスク13Aを適用してもよい。以上、本実施形態に係る自動分析装置は、ポンプ165により排出口164から恒温槽12内の気体を取り込み、取り込まれた気体を噴出口163から噴出する。これにより、第1~第3の実施形態のような外気を取り込む構成のように、この外気を恒温槽12内の温度に保つためのヒーター167を設ける必要が無くなる。また、フィルタ168により、取り込んだ気体から塵や埃を取り除くため、噴出管161側に別途フィルタ166を設ける必要が無くなる。本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載されたその均等の範囲に含まれる。