ケイ素、アルミニウム及びユーロピウムを含有する原料粉末を混合する混合工程と、混合して得た原料を不活性ガス又は非酸化性ガスの雰囲気下で焼成して一般式:Si6-zAlzOzN8-z:Eu0<z<4.2で示されるβ型サイアロンを生成する焼成工程と、生成したβ型サイアロンをアニール処理するアニール工程と、アニール処理したβ型サイアロンを酸溶液に浸す酸処理工程と、を有するβ型サイアロン蛍光体の製造方法であって、アニール処理は、還元性雰囲気下、雰囲気圧力が1kPa以上10MPa以下、雰囲気温度1200°C以上1600°C以下、処理時間1時間以上24時間以下で行うβ型サイアロンの製造方法。前記還元性雰囲気が水素ガスである請求項1記載のβ型サイアロンの製造方法。前記還元性雰囲気が、還元性ガスと不活性ガスの混合ガスであり、混合ガス中の水素ガス濃度が1体積以上である請求項1記載のβ型サイアロンの製造方法。前記酸処理工程の酸溶液が、少なくともフッ化水素酸と硝酸を含む混酸である請求項1乃至3のいずれか一項記載のβ型サイアロンの製造方法。焼成は、1850°C以上の温度の雰囲気で行う請求項1乃至4のいずれか一項記載のβ型サイアロンの製造方法。本発明の目的は、より高い蛍光強度を有するβ型サイアロンの製造方法を提供することにある。本発明は、ケイ素、アルミニウム及びユーロピウムを含有する原料粉末を混合する混合工程と、混合して得た原料を不活性ガス又は非酸化性ガスの雰囲気下で焼成して一般式:Si6-zAlzOzN8-z:Eu0<z<4.2で示されるβ型サイアロンを生成する焼成工程と、生成したβ型サイアロンをアニール処理するアニール工程と、アニール処理したβ型サイアロンを酸溶液に浸す酸処理工程と、を有するβ型サイアロン蛍光体の製造方法であって、アニール処理は、還元性雰囲気下、雰囲気圧力が1kPa以上10MPa以下、雰囲気温度1200°C以上1600°C以下、処理時間1時間以上24時間以下で行うβ型サイアロンの製造方法を提供する。前記還元性雰囲気は、水素ガスであるのが好ましい。還元性雰囲気は、還元性ガスと不活性ガスの混合ガスが好ましく、さらに、この混合ガス中の水素ガス濃度は1体積以上であるのが好ましい。前記酸処理工程の酸溶液が、少なくともフッ化水素酸と硝酸を含む混酸であるのが好ましい。焼成は、1850°C以上の温度の雰囲気で行うことが好ましい。本発明は、β型サイアロンの製造方法でのアニール工程での雰囲気種類、その圧力及び温度、並びに処理時間を制御することにより、より高い蛍光強度を有するβ型サイアロンである。本発明は、ケイ素、アルミニウム及びユーロピウムを含有する原料粉末を混合する混合工程と、混合して得た原料を不活性ガス又は非酸化性ガスの雰囲気下で焼成して一般式:Si6-zAlzOzN8-z:Eu0<z<4.2で示されるβ型サイアロンを生成する焼成工程と、焼成したβ型サイアロンをアニール処理するアニール工程とを有し、アニール処理は、1KPa以上の減圧雰囲気から10MPaまでの加圧雰囲気の還元性雰囲気下、雰囲気温度1200°C以上1600°C以下、処理時間1時間以上24時間以下で行うβ型サイアロンの製造方法である。焼成工程における雰囲気の温度が1800°C以下と低い場合には、十分な蛍光強度を与えることが難しい場合がある。このため、焼成時の雰囲気の温度は1850°C以上であることが好ましい。アニール工程における雰囲気を還元性雰囲気としたのは、還元性ガスがβ型サイアロンの電気的中性が局所的に保たれていない結晶欠陥に作用し、結晶性が向上するためである。結晶性の向上により、β型サイアロンの蛍光強度が向上する。還元性ガスは、アンモニアガス、炭化水素ガス、一酸化炭素ガス、水素ガスのいずれか単体又は混合体からなり、この中でも、分子サイズが小さい水素ガスが、結晶性向上に有効であるため、好ましい。還元性ガスは、不活性ガスと混合されてもよい。不活性ガスとは、周期律表第18属元素の希ガス又は窒素であり、希ガスとしてはアルゴンやヘリウムが挙げられる。還元性雰囲気が混合ガスで、そのうちの還元性ガスが水素の場合、混合ガス中の還元性ガスの濃度は、あまりに低いと結晶性向上が得難くなるため、1体積以上であることが好ましい。アニール工程での特性向上効果は、減圧から加圧の幅広い雰囲気圧力で発揮されるが、1kPaよりも低い圧力は、雰囲気による還元効果が小さく、あまり特性が向上しないとともに、β型サイアロンの分解が促進されるため、好ましくない。また、雰囲気を加圧することにより、アニール効果を発現させるために必要な他の条件を広げる低温下、時間短縮ことができるが、雰囲気圧力があまりに高くても、アニール効果が頭打ちになるとともに、特殊で高価なアニール装置が必要となるため、量産性を考慮すると、好ましい雰囲気圧力は10MPa以下であり、より好ましくは1MPa未満である。アニール工程での雰囲気温度は、あまりに低いと結晶性向上効果が低くなり、あまりに高いとβ型サイアロンが分解してしまうため、1200°C以上1600°C以下である。アニール工程における処理時間は、あまりに短いと結晶性向上効果が低く、あまりに長いとアニール効果が頭打ちになるため、1時間以上24時間以下であり、好ましくは2時間以上10時間以下である。前記アニール工程後、β型サイアロンを酸溶液に浸す酸処理工程を行うことにより、蛍光体の特性が更に向上する。酸処理工程は、酸溶液にβ型サイアロンを浸し、フィルター等でβ型サイアロンと酸を分離し、分離されたβ型サイアロンを水洗する工程を有することが好ましい。酸処理によってアニール工程の際に生じるβ型サイアロン結晶の分解物の除去をすることができ、これにより蛍光特性が向上する。酸処理に用いられる酸としては、フッ化水素酸、硫酸、リン酸、塩酸、又は、硝酸の単体又は混合体が挙げられ、分解物の除去に適したフッ化水素酸と硝酸とからなる混酸が好ましい。酸処理時の酸溶液の温度は、室温でも構わないが、酸処理の効果を高めるためには、加熱して50°C以上90°C以下にすることが好ましい。焼成工程後のβ型サイアロンは、塊状なので、これを解砕、粉砕及び場合によっては分級操作を組み合わせて、所定のサイズの粉末にするのが好ましい。β型サイアロンを白色LED用蛍光体として好適に使用するためには、平均粒径を6~30μmにするのが好ましい。β型サイアロンの平均粒径を調整する工程は、本発明の焼成工程後、アニール工程後、酸処理工程後のいずれの時点で行ってもよい。本発明に係る実施例を、比較例と対比しつつ詳細に説明する。本実施例では、ケイ素、アルミニウム及びユーロピウムを含有する原料粉末を混合する混合工程と、混合して得た原料を不活性ガス又は非酸化性ガスの雰囲気下で焼成して一般式:Si6-zAlzOzN8-z:Eu0<z<4.2で示されるβ型サイアロンを生成する焼成工程と、焼成したβ型サイアロンをアニール処理するアニール工程とを行った。<混合工程>混合工程は、原料粉末としての、α型窒化ケイ素宇部興産株式会社製SN-E10グレード、酸素含有量1.0質量、窒化アルミニウム粉末トクヤマ株式会社製Fグレード、酸素含有量0.8質量、酸化アルミニウム粉末大明化学株式会社製TM-DARグレード、酸化ユーロピウム粉末信越化学工業株式会社製RUグレードを混練する工程である。混練時の配合比は、β型サイアロンの一般式:Si6-zAlzOzN8-zにおいて、酸化ユーロピウムを除いて、z=0.24となるように設計し、酸化ユーロピウムは原料全体の0.8質量とした。混合工程にあっては、これら原料粉末を、窒化ケイ素製のポット及びボールを用い、エタノールを溶媒とした湿式ボールミルにより混合した。混合後、溶媒を除去してから乾燥を行う、その後、目開き150μmの篩を全通させて凝集物を取り除くことで、原料を得た。<焼成工程>焼成工程では、得られた原料を、蓋付きの円筒型窒化ホウ素製容器電気化学工業株式会社製N-1グレードに充填し、カーボンヒーターの電気炉で0.85MPaの加圧窒素雰囲気中、2000°Cで14時間の環境下に置いてβ型サイアロンを生成した。生成したβ型サイアロンは、緩く凝集した塊状である。そのため、生成したβ型サイアロンを、軽度に解砕した後、超音速ジェット粉砕機日本ニューマチック工業社製、PJM-80SPにより解砕し、粉末状にした。<アニール工程>アニール工程は、β型サイアロンを円筒型窒化ホウ素製容器に充填し、タングステンヒーターの炉内が全てメタル炉内部材がタングステン及びモリブデンの高融点金属で構成されている製の電気炉で行った。β型サイアロンを電気炉にセットした後、電気炉内を5Pa以下まで真空排気し、真空状態で1000°Cまで20°C/分で昇温した後、電気炉内に水素ガスを導入し、電気炉内を0.15MPaにした。さらに水素ガスを電気炉内に導入し、雰囲気圧力を一定に保ったまま、1500°Cまで5°C/分で昇温し、1500°Cで4時間保持し、その後、室温まで電気炉内を冷却した。<酸処理工程>酸処理は、アニールしたβ型サイアロンに対し、フッ化水素酸と硝酸の混酸の酸溶液で行った。酸溶液の温度は、70°Cに設定した。この酸処理後のβ型サイアロンを、沈殿させ、上澄み及び微粉を除去し、更に蒸留水を加え、撹拌及び静置をし、上澄みと微粉を除去するデカンテーションを溶液が中性になるまで繰り返し、最終的に得られた沈殿物をろ過、乾燥し、実施例1のβ型サイアロンを得た。得られたβ型サイアロンに対し、CuのKα線を用いた粉末X線回折XRD測定を行った結果、結晶相はβ型サイアロン単相であった。レーザー回折散乱法の粒度分布測定装置により求めた平均粒径は13.5μmであった。実施例1のβ型サイアロンの蛍光特性は、日立ハイテクノロジーズ社製分光蛍光光度計F7000を用いて、青色光励起波長455nmにおける蛍光スペクトルを測定することにより行った。得られた蛍光スペクトルを図1に示す。各条件、蛍光強度におけるピーク値を蛍光ピーク強度として表1に示す。前記アニール工程の雰囲気は、還元性ガスを含有する還元性雰囲気下、雰囲気圧力1kPa以上で、雰囲気温度1200°C以上1600°C以下、処理時間1時間以上24時間以下であり、前記還元性雰囲気が水素ガスであるのが好ましいことが分かった。比較例1比較例1では、アニール処理の雰囲気をアルゴンガスとした以外は、実施例1と全く同じ方法によりβ型サイアロンを製造した。XRD測定の結果、結晶相はβ型サイアロン単相であり、上記粒度分布測定装置により求めた平均粒径は13.8μmであった。得たβ型サイアロンについて、実施例1と同一の方法で測定した蛍光スペクトルを図1に示す。蛍光スペクトルは測定装置や条件によって変化するため、実施例1と同一条件で、実施例1での測定から時間を開けずに測定した。図1で示すように、焼成後のアニール処理の雰囲気を還元性の水素ガスとすることにより、蛍光強度が向上した。比較例2及び3比較例2では、アニール工程での雰囲気圧力を1kPaより低い0.5kPaとした以外は、実施例1と同様にβ型サイアロンを製造した。比較例3は、アニール工程での温度を1600°Cより大きい1650°Cにした以外は、実施例1と同様にβ型サイアロンを製造した。いずれでも、アニール工程でβ型サイアロンの一部分解が進行し、蛍光特性が大幅に低下してしまった。実施例2乃至5実施例2乃至5では、表1に示す点を除き、実施例1と全く同じ条件でβ型サイアロンを製造した。実施例2乃至5での蛍光ピーク強度は、いずれも比較例1より高いものであった。表には記載しなかったが、実施例1の還元性ガスをアンモニアガス、炭化水素ガス、一酸化炭素ガスのそれぞれに置き換えたところ、実施例1とほぼ同様な蛍光スペクトルを有するβ型サイアロンを製造することができた。