"マイクロ粒子とナノ粒子を溶媒中に分散した分散液を基材上に塗布し、静置後、乾燥処理を施すことで、前記マイクロ粒子を分散液中で沈降させることにより、下層部にマイクロ粒子の層を形成し、上層部にナノ粒子の層を形成する傾斜構造の形成方法。マイクロ粒子は、金、銀、銅、白金、パラジウム、インジウム、ビスマス、チタン、スズ、ニッケル及びアルミニウムからなる群から選択される一種の金属また二種の金属からなる合金あるいは二種以上の金属の混合物からなる金属マイクロ粒子である請求項1記載の傾斜構造の形成方法。マイクロ粒子は、金、銀、銅、鉄、コバルト、ニッケル、アルミニウム、シリコン、チタン、バナジウム、マンガン、ジルコニウム、カルシウム、マグネシウム、スズ、アンチモン、セリウム、タンタル、タングステン、ネオジウム、ビスマス、ハフニウム、インジウム及びイッテルビウムからなる群から選択される金属を含む一種の金属酸化物または二種以上の合金酸化物あるいは二種以上の金属酸化物の混合物からなる金属酸化物マイクロ粒子である請求項1記載の傾斜構造の形成方法。ナノ粒子は、金、銀、銅、白金、パラジウム、インジウム、ビスマス、チタン、スズ、ニッケル及びアルミニウムからなる群から選択される一種の金属または二種以上の金属からなる合金あるいは二種以上の金属の混合物からなる金属ナノ粒子である請求項1記載の傾斜構造の形成方法。ナノ粒子は、金、銀、銅、鉄、コバルト、ニッケル、アルミニウム、シリコン、チタン、バナジウム、マンガン、ジルコニウム、カルシウム、マグネシウム、スズ、アンチモン、セリウム、タンタル、タングステン、ネオジウム、ビスマス、ハフニウム、インジウム及びイッテルビウムからなる群から選択される金属を含む一種の金属酸化物または二種以上の合金酸化物あるいは二種以上の金属酸化物の混合物からなる金属酸化物ナノ粒子である請求項1記載の傾斜構造の形成方法。ナノ粒子の平均粒子径は、1nm~100nmである請求項1~5の何れか一項記載の傾斜構造の形成方法。マイクロ粒子の平均粒子径は、1μm以上である請求項1~6の何れか一項記載の傾斜構造の形成方法。金属ナノ粒子または金属マイクロ粒子より得られる傾斜構造を加熱焼成することにより金属膜を形成する請求項1に記載の傾斜構造の形成方法。請求項1記載の方法に使用する為の分散液であって、平均粒子径が1μm以上のマイクロ粒子と平均粒子径が1nm~100nmのナノ粒子を溶媒中に分散した分散液。先に述べた金属ナノ粒子と金属微粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる分散液あるいはペーストは、膜厚方向に金属ナノ粒子と金属微粒子が均一に含まれる導電体層の作製に利用されている。一方、金属微粒子と金属ナノ粒子の含有比率は膜厚方向で変化することで、傾斜組成が形成されている傾斜構造を形成する手法は提案されていない。傾斜構造を形成すると、作製される膜の裏面側と表面側とで、例えば組成が相違するため、異なる性質を示す構造体が作製可能となる。本発明は、上記の課題を解決するものである。本発明の目的は、底面側から表面側に向かって膜厚方向に傾斜組成を示し、その底面側と表面側とで異なる組成を有する傾斜構造を形成する手法を提供することにある。本発明の目的は、特には、微粒子とナノ粒子を溶媒中に分散した分散液を利用して、簡便に高い再現性で、傾斜構造を形成する手法を提供することにある。また、本発明の目的は、傾斜構造の形成に適合する、微粒子とナノ粒子を溶媒中に分散した分散液を提供することにある。本発明者らは、微粒子とナノ粒子を分散溶媒中に分散してなる分散液において、微粒子の平均粒子径とナノ粒子の平均粒子径を種々に変え、裏面側と表面側とで、微粒子とナノ粒子の含有比率が相違する傾斜構造の形成が可能であるか否かを、先ず検討した。その検討の結果、下記の知見が得られた。分散液中に配合する微粒子として、マイクロ粒子を採用し、このマイクロ粒子とナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる分散液を調製する。分散液を基材上に塗布すると、塗布された該分散液中では、当初マイクロ粒子とナノ粒子は均一に分散している。塗布された分散液を静置し、その後乾燥処理を施すと、図1に自己組織化が進行することを本発明者らは見出した。静置している間に、塗布された分散液中でマイクロ粒子の沈降が進行する。その結果、静置後、乾燥処理を施すと、下層部にマイクロ粒子の層が形成される。一方、上層部にはナノ粒子の層が形成される。具体的には、塗布直後、基材の表面近傍には、マイクロ粒子とナノ粒子が均一に存在している。静置する間に、マイクロ粒子の沈降が進行し、基材の表面にマイクロ粒子の集積層が形成される。一方、塗布された分散液の表面側では、マイクロ粒子は存在せず、分散溶媒中にナノ粒子のみが分散している状態となる。静置後乾燥処理を施すと、下層部にマイクロ粒子の層が形成され、また上層部にはナノ粒子の層が形成された状態となる。従って、マイクロ粒子とナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる分散液を使用することで、傾斜構造の形成が可能である。本発明にかかる傾斜構造の形成方法では、図1に示す現象を利用している。すなわち本発明は、マイクロ粒子とナノ粒子を溶媒中に分散した分散液を基材上に塗布し、静置後、乾燥処理を施すことで、前記マイクロ粒子を分散液中で沈降させることにより、下層部にマイクロ粒子の層を形成し、上層部にナノ粒子の層を形成する傾斜構造の形成方法である。また本発明は、上記方法に使用する為の分散液であって、平均粒子径が1μm以上のマイクロ粒子と平均粒子径が1nm~100nmのナノ粒子を溶媒中に分散した分散液である。本発明の方法によれば、マイクロ粒子とナノ粒子を溶媒中に均一に分散した分散液を使用して、下層部にマイクロ粒子の層が形成され、また上層部にはナノ粒子の層が形成される傾斜構造を簡便に形成することが可能となる。作製される傾斜構造を有する構造体層は、裏面側の組成と、表面側の組成が相違しており、それぞれ異なる機能を発揮する、多機能な構造体層として利用できる。本発明の方法では、マイクロ粒子とナノ粒子を溶媒中に分散した分散液導電性ペースト等を使用する。ナノ粒子の平均粒子径は1nm~100nmの範囲、好ましくは3~50nmの範囲、より好ましくは5~20nmの範囲に選択される。一方、マイクロ粒子の平均粒子径は、好ましくは1μm以上である。マイクロ粒子としては、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、インジウム、ビスマス、チタン、スズ、ニッケル及びアルミニウムからなる群から選択される一種の金属また二種の金属からなる合金あるいは二種以上の金属の混合物からなる金属マイクロ粒子を使用できる。また例えば、金、銀、銅、鉄、コバルト、ニッケル、アルミニウム、シリコン、チタン、バナジウム、マンガン、ジルコニウム、カルシウム、マグネシウム、スズ、アンチモン、セリウム、タンタル、タングステン、ネオジウム、ビスマス、ハフニウム、インジウム及びイッテルビウムからなる群から選択される金属を含む一種の金属酸化物または二種以上の合金酸化物あるいは二種以上の金属酸化物の混合物からなる金属酸化物マイクロ粒子を使用できる。ナノ粒子としては、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、インジウム、ビスマス、チタン、スズ、ニッケル及びアルミニウムからなる群から選択される一種の金属または二種以上の金属からなる合金あるいは二種以上の金属の混合物からなる金属ナノ粒子を使用できる。また例えば、金、銀、銅、鉄、コバルト、ニッケル、アルミニウム、シリコン、チタン、バナジウム、マンガン、ジルコニウム、カルシウム、マグネシウム、スズ、アンチモン、セリウム、タンタル、タングステン、ネオジウム、ビスマス、ハフニウム、インジウム及びイッテルビウムからなる群から選択される金属を含む一種の金属酸化物または二種以上の合金酸化物あるいは二種以上の金属酸化物の混合物からなる金属酸化物ナノ粒子を使用できる。本発明の方法は、図1に示す3つの工程を含んでいる。塗布工程では、基材の表面に、マイクロ粒子とナノ粒子を溶媒中に分散した分散液を所定の膜厚で塗布する。静置工程では、所定の時間静置し、基材の表面にマイクロ粒子の集積層を形成させる。静置時間は、マイクロ粒子の沈降速度を考慮し、マイクロ粒子の集積層の形成が完了するに十分な時間を選択する。静置工程の後、乾燥工程を実施し、塗布膜に含まれる溶媒を蒸散させ、下層部にマイクロ粒子の層が形成され、また、上層部にはナノ粒子の層が形成される傾斜構造を完成させる。この乾燥工程では、後述するように、加熱処理を施すことで、塗布膜に含まれる溶媒を速やかに蒸散させる形態を採用することが可能である。以下に、本発明にかかる傾斜構造の形成方法について、下記の4つの形態を例に挙げ、具体的に説明する。第一の形態は、マイクロ粒子として金属マイクロ粒子を、ナノ粒子として金属ナノ粒子を採用する形態である。第二の形態は、マイクロ粒子として金属酸化物マイクロ粒子を、ナノ粒子として金属ナノ粒子を採用する形態である。第三の形態は、マイクロ粒子として金属酸化物マイクロ粒子を、ナノ粒子として金属酸化物ナノ粒子を採用する形態である。第四の形態は、マイクロ粒子として金属マイクロ粒子を、ナノ粒子として金属酸化物ナノ粒子を採用する形態である。第一の形態では、形成される傾斜構造を有する構造体は、金属マイクロ粒子と金属ナノ粒子とで構成され、全体として、導電体層として機能する。第二の形態では、形成される傾斜構造を有する構造体は、金属酸化物マイクロ粒子と金属ナノ粒子とで構成され、全体として、基板、導電性粒子の作製に利用可能な、機能性構造体層としての用途を有する。第三の形態では、形成される傾斜構造を有する構造体は、金属酸化物マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子とで構成され、全体として、基板、レンズの作製に利用可能な、機能性構造体層としての用途を有する。第四の形態では、形成される傾斜構造を有する構造体は、金属マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子とで構成され、全体として、配線、電線、琺瑯Vitreousenamelの作製に利用可能な、機能性構造体層としての用途を有する。その際、金属ナノ粒子または金属マイクロ粒子より得られる傾斜構造を加熱焼成することにより金属膜を形成することも可能である。以下に、本発明にかかる傾斜構造の形成方法について、その第一の形態をさらに詳しく説明する。第一の形態においては、マイクロ粒子とナノ粒子を溶媒中に分散した分散液は、金属マイクロ粒子と金属ナノ粒子を含有しており、分散液の形態となる。その際、分散液中における、該金属ナノ粒子の凝集を防止するため、その表面に被覆剤分子層を有する金属ナノ粒子を、分散溶媒中に均一に分散している。また、使用する分散液中には、バインダー樹脂成分が含有されていない。第一の形態は、下記の二つの態様を採用することが可能である。第一の形態の第一の態様では、マイクロ粒子とナノ粒子を溶媒中に分散した分散液は、金属マイクロ粒子、金属ナノ粒子、被覆剤分子、分散溶媒とで構成される。第一の形態の第二の態様では、金属マイクロ粒子に代えて、金属マイクロ粒子に加えて、金属サブマイクロ粒子を併用する。従って、第一の形態の第二の態様では、分散液は、金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子、金属ナノ粒子、被覆剤分子、分散溶媒とで構成される。第一の形態まず、第一の形態の第一の態様で使用する分散液について、以下に説明する。該分散液中に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率をVmetalparticle、金属ナノ粒子の体積比率をVmetalnanoparticle、被覆剤分子の体積比率をVcoatingmolecule、分散溶媒の体積比率をVsolventとすると、その総和VmetalparticleVmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventは、100体積となっている。目的の傾斜構造の形成に使用される、導電性フィラーは、金属マイクロ粒子と金属ナノ粒子である。金属マイクロ粒子を構成する金属種は、金、銀、銅、白金、パラジウム、インジウム、ビスマス、チタン、スズ、ニッケル、アルミニウムからなる群から選択される。通常、一種の金属からなる金属マイクロ粒子を利用するが、二種以上の金属種からなる金属マイクロ粒子の混合物、あるいは、二種以上の金属種からなる合金からなる金属マイクロ粒子を利用することもできる。特に、金属マイクロ粒子として、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケルからなる群から選択される、一種の金属からなる金属マイクロ粒子を使用することが好ましい。なお、金の抵抗率は2.35μΩcm20°C、密度は19.32g/cm3;銀の抵抗率は1.59μΩcm20°C、密度は10.49g/cm3;銅の抵抗率は1.673μΩcm20°C、密度は8.95g/cm3;白金の抵抗率は、9.85μΩcm20°C、密度は21.41g/cm3;パラジウムの抵抗率は、9.93μΩcm20°C、密度は11.99g/cm3;ニッケルの抵抗率は、6.89μΩcm20°C、密度は8.908g/cm3である。インジウムの抵抗率は8.37μΩcm20°C、密度は7.31g/cm3、融点156.6°C;ビスマスの抵抗率は120μΩcm、密度は9.808g/cm3、融点271.4°C;チタンの抵抗率は42.0μΩcm20°C、密度は4.50g/cm3;金属スズの抵抗率は11μΩcm20°C、密度は7.265g/cm3、融点232°C;アルミニウムの抵抗率は2.655μΩcm20°C、密度は2.699g/cm3、融点660.37°Cである。金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleは、1μm~10μmの範囲、好ましくは2μm~8μmの範囲、より好ましくは、3μm~6μmの範囲に選択することが望ましい。例えば、目的の傾斜構造を有する導電性構造体の膜厚tconductivelayerを、60μm≧tconductivelayer≧20μmの範囲に選択する場合、傾斜構造を有する導電性構造体の膜厚tconductivelayerに対して、金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleは、14tconductivelayer≧dmetalparticle≧130tconductivelayerの範囲、好ましくは、15tconductivelayer≧dmetalparticle≧120tconductivelayerの範囲に選択することが望ましい。通常、金属マイクロ粒子の形状は、その外形は、ほぼ球形を示すものを使用する。アトマイズ法で作製される、球形の金属マイクロ粒子、あるいは、湿式法で作製される、ほぼ球形の金属マイクロ粒子を使用することが望ましい。例えば、湿式法、アトマイズ法を利用して作製される、金属マイクロ粒子は、その外形はほぼ球形であり、その粒子の体積質量は、ポワソン分布に類する分布を示す。該金属マイクロ粒子の体積質量の分布は、重量平均値VW、標準偏差√VWの正規分布と近似することができる。その際、金属マイクロ粒子の粒子径分布も、例えば、重量平均粒子径を指標として、正規分布で近似することができる。この重量平均粒子径に基づき、前記金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleの選択基準に従って、利用する金属マイクロ粒子を選択することができる。金属ナノ粒子を構成する金属種は、通常、一種の金属からなる金属ナノ粒子を利用するが、二種以上の金属からなる金属ナノ粒子の混合物、あるいは、二種以上の金属からなる合金からなる金属ナノ粒子を利用することもできる。特に、金属ナノ粒子として、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケルからなる群から選択される一種の金属からなる金属ナノ粒子を使用することが好ましい。金属ナノ粒子自体の平均粒子径dmetalnanoparticleは、1nm~100nmの範囲、好ましくは、2nm~50nmの範囲、より好ましくは、5nm~20nmの範囲に選択する。金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleに対して、金属ナノ粒子自体の平均粒子径dnanoparticleは、150dmetalparticle≧dmetalnanoparticle≧11000dmetalparticleの範囲、好ましくは、1100dmetalparticle≧dmetalnanoparticle≧11000dmetalparticleの範囲に選択することが望ましい。一方、金属ナノ粒子の形状は、通常、球形である。第一の形態では、球形の金属ナノ粒子を使用する。第一の形態では、金属マイクロ粒子を構成する金属種と、金属ナノ粒子を構成する金属種を、異なる金属種に選択する態様を採用する。傾斜構造を有する導電性構造体の底面側と、表面側では、該構造体を構成する、金属マイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率として表記される組成が相違し、前記組成が、導電性構造体の膜厚方向、底面側から表面側へと、連続的に変化し、傾斜構造が形成される。第一の形態の第一の態様で使用する分散液に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの和VmetalparticleVmetalnanoparticleは、40体積~60体積の範囲、好ましくは、45体積~60体積の範囲、より好ましくは、50体積~60体積の範囲に選択することが望ましい。その際、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleを、20体積~50体積の範囲、好ましくは、25体積~50体積の範囲、より好ましくは、30体積~50体積の範囲に選択することが望ましい。また、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの比Vmetalparticle:Vmetalnanoparticleは、90:10~60:40の範囲、好ましくは、80:20~60:40の範囲、より好ましくは、80:20~65:35の範囲に選択することが好ましい。傾斜構造を有する導電性構造体全体において、金属マイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率として表記される組成を平均すると、当然、分散液に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの比Vmetalnanoparticle/Vmetalparticlepasteと等しい、平均組成となっている。傾斜構造を有する導電性構造体の底面側の組成、金属マイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率体積比率;Vmetalnanoparticle/Vmetalparticlebottomと、表面側の組成、金属マイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率体積比率;Vmetalnanoparticle/Vmetalparticletopは、Vmetalnanoparticle/Vmetalparticletop>Vmetalnanoparticle/Vmetalparticlepaste>Vmetalnanoparticle/Vmetalparticlebottomの関係を満たす。被覆剤分子層の形成に利用される被覆剤分子は、その沸点Tcoatingmoleculebpが、150°C~250°Cの範囲である、アルキルアミンからなる群から選択される。例えば、被覆剤分子は、その沸点Tcoatingmoleculebpが150°C~250°Cの範囲の第一アルキルアミンからなる群より選択されることが望ましい。具体的には、その沸点Tcoatingmoleculebpが、150°C~250°Cの範囲である、アルキルアミンとして、そのアルキル基は、C8~C12の範囲に選択され、アルキル鎖の末端にアミノ基を有するものが利用できる。具体的には、炭素数8のアルキルアミンである、オクチルアミン沸点188°C、炭素数10のアルキルアミンである、デシルアミン沸点220.5°C、炭素数12のアルキルアミンである、ドデシルアミン沸点247°Cは、実際に沸点150°C~250°Cの条件を満たしている。例えば、前記C8~C12の範囲のアルキルアミンは、熱的な安定性もあり、また、室温付近での蒸気圧もさほど高くなく、室温等で保管する際、含有率を所望の範囲に維持制御することが容易であるなど、ハンドリング性の面から好適に用いられる。アルキルアミンは、アミノ基の窒素原子上に存在する孤立電子対を利用して、金属ナノ粒子の表面の金属原子と、非共有結合的に分子間結合を形成することで、被覆剤分子層を形成している。この非共有結合的に分子間結合は、配位的な結合に相当しており、加熱することにより、金属ナノ粒子の表面に被覆剤分子層を形成している、アルキルアミンの離脱が進行する。第一の形態で使用する分散液中に含有される、前記被覆剤分子の含有量は、金属ナノ粒子の含有量に基づき選択される。すなわち、分散液中に含有される、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleと、その被覆剤分子層の形成に利用される被覆剤分子の体積比率Vcoatingmoleculeの比Vmetalnanoparticle:Vcoatingmoleculeは、1:1~1:2の範囲、好ましくは、1:1.1~1:2の範囲、より好ましくは、1:1.2~1:2の範囲に選択することが望ましい。第一の形態の第一の態様で使用する分散液は、表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる金属ナノ粒子分散液を液相とし、該液相中に、金属マイクロ粒子が均一に分散されている状態と見做すことができる。液相に相当する金属ナノ粒子分散液は、金属ナノ粒子、該金属ナノ粒子の表面に被覆剤分子層を形成するための被覆剤分子、ならびに、分散溶媒で構成される。分散溶媒は、室温25°Cにおいて、液体であるもの、すなわち、その融点Tsolventmpが、Tsolventmp<25°Cの条件を満たす有機溶媒である。分散液中に含有される、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticle、被覆剤分子の体積比率Vcoatingmolecule、分散溶媒の体積比率Vsolventの和VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventと、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの比Vmetalnanoparticle:VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventは、前記金属ナノ粒子分散液中における、金属ナノ粒子の含有比率に相当する。比Vmetalnanoparticle:VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventは、10:100~30:100の範囲、好ましくは、15:100~30:100の範囲、より好ましくは、15:100~25:100の範囲に選択することが望ましい。使用する分散溶媒として、金属ナノ粒子の表面に被覆剤分子層を形成している、アルキルアミンのアルキル基に対して、親和性を有する、炭化水素溶媒を採用する。一方、使用する分散溶媒は、加熱処理工程中、蒸散されるが、該加熱処理工程の加熱温度Theatingでは、気泡を発生しないことが望ましい。従って、分散溶媒は、その沸点Tsolventbpが、150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、190°C~300°Cの範囲である、炭化水素溶媒からなる群から選択される。沸点が150°C~350°Cの範囲である、炭化水素溶媒には、沸点が150°C~350°Cの範囲の非芳香族炭化水素溶媒と、沸点が150°C~350°Cの範囲の芳香族炭化水素溶媒が含まれる。沸点が150°C~350°Cの範囲の非芳香族炭化水素溶媒の一例として、沸点が150°C~350°Cの範囲の鎖式炭化水素溶媒を挙げることができる。沸点が150°C~350°Cの範囲の芳香族炭化水素溶媒の例として、具体的に、メシチレン沸点164.73°Cを挙げることができる。例えば、分散溶媒を、沸点Tsolventbpが150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲の鎖式炭化水素溶媒からなる群より選択することが好ましい。例えば、分散溶媒を、沸点Tsolventbpが150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~350°Cの範囲の鎖式炭化水素溶媒からなる群より選択することが好ましい。好適に利用可能な分散溶媒として、石油系ノンアロマ炭化水素溶剤である、JX日鉱日石エネルギー製AFソルベント7号平均密度0.82g/cm3、沸点259~282°Cなどを挙げることができる。表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる金属ナノ粒子分散液自体は、その液粘度μmediumは、分散溶媒の粘度μsolventよりも高いが、通常、100mPasを超えない範囲である。一方、第一の形態の第一の態様で使用する分散液は、金属マイクロ粒子を金属ナノ粒子分散液中に分散した分散液に相当し、その液粘度μpasteは上昇している。分散液中に分散されている、金属マイクロ粒子が沈降する過程は、液粘度μmediumの金属ナノ粒子分散液中を金属マイクロ粒子が沈降する状態と見做すこともできる。第一の形態の第一の態様で使用する分散液は、その液粘度μpasteは、10Pas~150Pasの範囲、好ましくは、10Pas~100Pasの範囲であることが望ましい。前記の液粘度とすることにより、例えば、スクリーン印刷法を適用して、膜厚が30μmから、最大110μmに達する塗布膜を形成することが可能となる。次に、第一の形態の第一の態様において、分散液を使用して、傾斜構造を有する導電性構造体を形成するプロセスについて、以下に説明する。傾斜構造を有する導電性構造体の形成プロセスは、分散液を、基材表面に塗布して、塗布膜を形成する、塗布膜形成工程と、該塗布膜を静置し、塗布膜中に含まれる金属マイクロ粒子を沈降させ、基材表面に金属マイクロ粒子の集積層を形成する、静置処理工程と、その後、150°C~300°Cの範囲、好ましくは、150°C~250°Cの範囲に選択する温度Theatingで加熱処理を施すことにより、金属ナノ粒子の低温焼結を進行させ、前記金属マイクロ粒子の集積層に由来する下層部と、その上部に前記金属ナノ粒子の低温焼結体に由来する表層部を具える、傾斜構造を有する導電性構造体を形成する、加熱処理工程を具えている。塗布膜形成工程では、分散液を、基材表面に塗布して、塗布膜を形成する際、該塗布膜の膜厚tpastelayer0を均一にする。そのため、例えば、スクリーン印刷法を利用して、均一な厚さで、分散液を、基材表面に塗布することが望ましい。また、塗布する基材表面は、平坦であり、水平に保持されていることが望ましい。静置処理工程では、該塗布膜を静置し、塗布膜中に含まれる金属マイクロ粒子を沈降させ、基材表面に金属マイクロ粒子の集積層を形成する。すなわち、分散液中に含有されている、金属マイクロ粒子は、分散溶媒中における分散性は劣るため、室温で静置する間に沈降する。一方、表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子は、分散溶媒中における分散性は極めて高いため、室温で静置する間に実質的に沈降を起こさない。分散液中に分散されている、金属マイクロ粒子は、分散溶媒による浮力を受けている。また、分散液中を沈降する際には、その沈降速度に起因する抗力を受ける。金属マイクロ粒子を構成する金属の密度ρbulk、分散溶媒の密度ρsolventを用いて、金属マイクロ粒子に加わる重力と浮力の差は、Fmetalparticlegravity=gρbulk-ρsolventdmetalparticle23と表記できる。金属マイクロ粒子の沈降速度をVmetalparticlefallingと表記する際、金属マイクロ粒子は、液粘度μmediumの金属ナノ粒子分散液中を移動することに起因する抗力を受ける。この抗力Fmetalparticledragは、金属ナノ粒子分散液の液粘度μmediumに比例し、金属マイクロ粒子の表面積4πdmetalparticle22に比例し、さらに、沈降速度vmetalparticlefallingの二乗vmetalparticlefalling2に比例すると推定される。Fmetalparticledrag∝μmedium4πdmetalparticle22vmetalparticlefalling2の比例関係があると推定される。従って、Fmetalparticlegravity=Fmetalparticledragに達すると、金属マイクロ粒子の沈降速度vmetalparticlefallingは、vmetalparticleterminalvelocityで一定となる。その際、Vmetalparticleterminalvelocityは、次のような比例関係を示す。vmetalparticleterminalvelocity∝{1/μmediumdmetalparticleρbulk-ρsolvent}12。分散液中に分散されている、金属ナノ粒子は、その表面を被覆剤分子で被覆されている。そのため、被覆剤分子層に対する、分散溶媒の親和性が高く、金属ナノ粒子が分散溶媒中を移動する際、相対的に大きな抗力を受ける。そのため、表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子は、分散溶媒中では、その沈降速度vmetalnanoparticleterminalvelocityは、実質的にvmetalnanoparticleterminalvelocity=0と見做すことが可能である。vmetalparticleterminalvelocity≫vmetalnanoparticleterminalvelocity=0であるため、図2に模式的に示すように、金属マイクロ粒子のみが、選択的に沈降して、基材表面に金属マイクロ粒子の集積層が形成される。この集積層を構成する金属マイクロ粒子相互の隙間には、液相、すなわち、金属ナノ粒子分散液が浸潤している状態となっている。金属マイクロ粒子の沈降が完了すると、金属マイクロ粒子の集積層の上面に、余剰の金属ナノ粒子分散液からなる分散液層が形成される。従って、静置処理工程を終了した時点では、沈降処理済塗布膜は、図2に示すように、金属マイクロ粒子の集積層に相当する下層と、金属マイクロ粒子の集積層の上面を覆う、分散液層に相当する上層で構成される、二層構造を示す。金属マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerは、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0と、分散液中に含まれる、金属マイクロ粒子の体積比率:Vmetalparticleに比例する。形成される金属マイクロ粒子の集積層中、金属マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetalparticleoccupancyは、例えば、立方最密充填状態を仮定すると、Vmetalparticleoccupancy≒0.523と見積もられる。また、使用する金属マイクロ粒子のタップ密度ρtapと、バルク金属の密度ρbulkから、Vmetalparticleoccupancy=ρtapρbulk程度と、見積もることもできる。従って、金属マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerは、tprecipitatelayer≒tpastelayer0×Vmetalparticle/100体積×1Vmetalparticleoccupancy程度と推定される。前記分散液層の厚さtsupernateと金属マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerの合計が、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1に相当しているtpastelayer1≒tsupernatetprecipitatelayer。勿論、静置処理工程の間、塗布膜の上面から、分散溶媒が徐々に蒸散する。そのため、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0より薄くなっている。その差tpastelayer0-tpastelayer1は、静置沈降処理工程の間、塗布膜の表面から蒸散する分散溶媒の液量に比例している。分散溶媒の沸点Tsolventbpは、150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、190°C~300°Cの範囲であるので、静置処理工程の間、塗布膜の表面から蒸散する分散溶媒の液量は僅かな量となっている。従って、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が十分に厚い場合には、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1は、金属マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerよりも有意に厚い範囲となっている。すなわち、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が十分に厚い場合には、実際に、沈降処理済塗布膜は、図2に示すように、金属マイクロ粒子の集積層に相当する下層と、金属マイクロ粒子の集積層の上面を覆う、分散液層に相当する上層で構成される、二層構造を示す。前記の条件tpastelayer1>tprecipitatelayerを満たす上では、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0は、少なくとも、110μm≧tpastelayer0≧30μmの範囲、好ましくは、100μm≧tpastelayer0≧30μmの範囲に選択することが望ましい。一方、静置処理工程では、室温、大気圧下において、放置し、その放置時間tsettlingは、300分間≧tsettling≧25分間の範囲、好ましくは、300分間≧tsettling≧30分間の範囲に選択することが望ましい。当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0と、金属マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerとの差tpastelayer0-tprecipitatelayerは、tpastelayer0-tprecipitatelayer<vmetalparticleterminalvelocitytsettlingの条件を満たす必要がある。加熱処理工程では、沈降処理済塗布膜に150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingで加熱処理を施す。その際、沈降処理済塗布膜の上面から、分散溶媒の蒸散が進行する。また、加熱に伴って、上層の分散液層中に含まれる、金属ナノ粒子の表面の被覆剤分子の離脱が進行する。その表面を覆う被覆剤分子層が消失するとともに、金属ナノ粒子の分散性は失われ、金属マイクロ粒子の集積層の上面に向かって、金属ナノ粒子の沈降が開始される。また、金属マイクロ粒子の集積層の内部の隙間に浸潤している金属ナノ粒子分散液に含まれる、金属ナノ粒子の表面の被覆剤分子の離脱が進行する。その表面を覆う被覆剤分子層が消失するとともに、金属ナノ粒子の分散性は失われ、金属ナノ粒子の沈降が開始される。金属マイクロ粒子の集積層内部の隙間は、狭い隘路となっており、沈降を開始した金属ナノ粒子は、金属マイクロ粒子の集積層を形成する、階層状の金属マイクロ粒子の表面に到達すると、その金属マイクロ粒子の表面に付着する。そのため、上層の分散液層中に含まれる、金属ナノ粒子は、金属マイクロ粒子の集積層を形成する、階層状の金属マイクロ粒子のうち、最上層に位置する金属マイクロ粒子の上面に優先的に付着する。一部は、さらに、下の階層まで到達するが、より下の階層に達する確率は、指数関数的に減少する。金属マイクロ粒子の集積層内部の隙間に、当初から充填されている金属ナノ粒子分散液に含まれている、金属ナノ粒子の量と、沈降に起因して、上層から金属マイクロ粒子の集積層の内部に降下する金属ナノ粒子の量の合計は、金属マイクロ粒子の集積層の上面側から底面側に向かって、連続的に減少する。一方、金属マイクロ粒子の集積層を構成している、金属マイクロ粒子の量は、上面側と底面側の間で、実質的に差異はない。結果的に、加熱処理工程で形成される導電性構造体は、金属マイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率として表記される組成は、表面側の組成Vmetalnanoparticle/Vmetalparticletopから、底面側の組成Vmetalnanoparticle/Vmetalparticlebottomへと連続的に変化する、傾斜組成を有するものとなる。分散液の組成が同じであれば、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1と、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0との差tpastelayer0-tpastelayer1は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0に殆ど依存しない。従って、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が減少するとともに、沈降処理済塗布膜において、分散液層の厚さtsupernateと金属マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerの比tsupernatetprecipitatelayerが小さくなる。分散液に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleが同じであっても、形成される金属マイクロ粒子の集積層中、金属マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetalparticleoccupancyが低くなると、金属マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerは、相対的に増加する。その結果、沈降処理済塗布膜において、分散液層の厚さtsupernateと金属マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerの比tsupernatetprecipitatelayerは、相対的に小さくなる。例えば、使用する金属マイクロ粒子のタップ密度ρtapが相対的に小さいと、形成される金属マイクロ粒子の集積層中、金属マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetalparticleoccupancyが相対的に低くなる。例えば、湿式法、アトマイズ法を利用して作製される、金属マイクロ粒子は、その外形はほぼ球形であり、その粒子の体積質量は、ポワソン分布に類する分布を示す。該金属マイクロ粒子の体積質量の分布は、重量平均値VW、標準偏差√VWの正規分布と近似することができる。その際、金属マイクロ粒子の粒子径分布も、例えば、重量平均粒子径を指標として、正規分布で近似することができる。金属マイクロ粒子の体積質量の分布が、ポワソン分布に類する分布を示す場合、重量平均粒子径が小さくなると、その金属マイクロ粒子のタップ密度ρtapは、相対的に小さくなる。従って、使用する金属マイクロ粒子の重量平均粒子径が小さくなると、形成される金属マイクロ粒子の集積層中、金属マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetalparticleoccupancyが相対的に低くなる。分散液に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticle、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの比VmetalnanoparticleVmetalparticlepaste、また、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が同じであっても、使用する金属マイクロ粒子のタップ密度ρtap、従って、使用する金属マイクロ粒子の重量平均粒子径dmetalparticleを小さくすることで、形成される金属マイクロ粒子の集積層中、金属マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetalparticleoccupancyが相対的に低くすることが可能である。その結果、傾斜構造を有する導電性構造体における、表面側の組成Vmetalnanoparticle/Vmetalparticletopと、底面側の組成Vmetalnanoparticle/Vmetalparticlebottomの差を、相対的に小さくすることが可能である。加熱処理工程では、分散溶媒の蒸散、金属ナノ粒子の沈降、金属ナノ粒子の低温焼成体の形成に加えて、金属マイクロ粒子の集積層を構成する、金属マイクロ粒子相互の電気的接触の形成が行われる。加熱処理工程において、不活性ガス中に、水素ガスを0.5体積~5体積の範囲、好ましくは、1体積~4体積の範囲、例えば、2体積の濃度で含む、還元性雰囲気下で、加熱処理を実施することが望ましい。例えば、金属マイクロ粒子の表面の一部に、表面酸化膜が存在する際、前記還元性雰囲気下で、加熱処理を施すことで、表面酸化膜の還元除去を行うことが可能である。また、加熱処理工程において、150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingは、前記分散溶媒の沸点Tsolventbpを超えない範囲に選択することが望ましい。一般に、加熱処理工程における加熱温度Theatingは、高いほど好ましい。従って、前記分散溶媒の沸点Tsolventbpを超えない範囲で、加熱温度Theatingを、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、200°C~300°Cの範囲に選択することが望ましい。一方、加熱処理工程における、加熱時間tsinteringは、加熱温度Theatingに応じて、選択される。具体的には、分散溶媒の蒸散、金属ナノ粒子の沈降、金属ナノ粒子の低温焼成体の形成、金属マイクロ粒子の集積層を構成する金属マイクロ粒子相互の電気的接触の形成の各過程の進行速度は、加熱温度Theatingに依存するため、加熱時間tsinteringは、加熱温度Theatingに応じて、選択される。加熱温度Theatingを、150°C~300°Cの範囲に選択する場合、加熱時間tsinteringは、300分間≧tsintering≧25分間の範囲、好ましくは、300分間≧tsintering≧30分間の範囲に選択することが望ましい。次いで、第一の形態の第二の態様で使用する分散液について、以下に説明する。分散液中に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率をVmetalparticle、金属サブマイクロ粒子の体積比率をVmetalfineparticle、金属ナノ粒子の体積比率をVmetalnanoparticle、被覆剤分子の体積比率をVcoatingmolecule、分散溶媒の体積比率をVsolventとすると、その総和VmetalparticleVmetalfineparticleVmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventは、100体積となっている。目的の傾斜構造の形成に使用される、導電性フィラーは、金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子と金属ナノ粒子である。第一の形態の第二の態様では、金属マイクロ粒子を構成する金属種と、金属サブマイクロ粒子を構成する金属種が、同じ金属種であるが、金属ナノ粒子を構成する金属種は、異なる金属種に選択する態様を採用する。傾斜構造を有する導電性構造体の底面側と、表面側では、該構造体を構成する、金属マイクロ粒子金属サブマイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率として表記される組成が相違し、前記組成が、導電性構造体の膜厚方向、底面側から表面側へと、連続的に変化し、傾斜構造が形成される。金属マイクロ粒子を構成する金属種の具体例は先に述べた通りである。金属サブマイクロ粒子を構成する金属は、通常、一種の金属からなる金属サブマイクロ粒子を利用するが、二種以上の金属種からなる金属サブマイクロ粒子の混合物、あるいは、二種以上の金属種からなる合金からなる金属サブマイクロ粒子を利用することもできる。特に、金属サブマイクロ粒子として、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケルからなる群から選択される、一種の金属からなる金属サブマイクロ粒子を使用することが好ましい。金属マイクロ粒子を使用する場合、使用する金属マイクロ粒子の重量平均粒子径dmetalparticleを選択することで、金属マイクロ粒子のタップ密度ρtapを一定の範囲で調整することが可能である。すなわち、使用する金属マイクロ粒子の重量平均粒子径dmetalparticleを選択することで、形成される金属マイクロ粒子の集積層中、金属マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetalparticleoccupancyを一定の範囲で調整することが可能である。金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子を併用する場合、分散液中に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと金属サブマイクロ粒子の体積比率Vmetalfineparticleの比、Vmetalparticle:Vmetalfineparticleを選択することで、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の混合物における、平均見かけのタップ密度ρtapmixtureを一定の範囲で調整することが可能である。すなわち、分散液中に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと金属サブマイクロ粒子の体積比率Vmetalfineparticleの比、Vmetalparticle:Vmetalfineparticleを選択することで、形成される金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層中、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の占める体積比率充填率Vparticlemixtureoccupancyを一定の範囲で調整することが可能となる。具体的には、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の混合物では、金属マイクロ粒子相互の隙間に、金属サブマイクロ粒子が取り込まれた状態となると、平均見かけのタップ密度ρtapmixtureは、金属マイクロ粒子のタップ密度ρtapよりも、大きくなる。金属マイクロ粒子のvmetalparticleterminalvelocityは、次のような比例関係を示す。vmetalparticleterminalvelocity∝{1/μmediumdmetalparticleρbulk-ρsolvent}12。同様に、金属サブマイクロ粒子のvmetalfineparticleterminalvelocityは、次のような比例関係を示す。vmetalfineparticleterminalvelocity∝{1/μmediumdmetalfineparticleρbulk-ρsolvent}12。従って、vmetalparticleterminalvelocity>vmetalfineparticleterminalvelocityとなっている。分散液中に分散されている、金属ナノ粒子は、その表面を被覆剤分子で被覆されている。そのため、被覆剤分子層に対する、分散溶媒の親和性が高く、金属ナノ粒子が分散溶媒中を移動する際、相対的に大きな抗力を受ける。そのため、表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子は、分散溶媒中では、その沈降速度vmetalnanoparticleterminalvelocityは、実質的にvmetalnanoparticleterminalvelocity=0と見做すことが可能である。vmetalparticleterminalvelocity>vmetalfineparticleterminalvelocity≫vmetalnanoparticleterminalvelocity=0であるため、図2に模式的に示すように、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子が、選択的に沈降して、基材表面に金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層が形成される。この集積層を構成する金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子の隙間には、液相、すなわち、金属ナノ粒子分散液が浸潤している状態となっている。金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子の沈降が完了すると、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の上面に、余剰の金属ナノ粒子分散液からなる分散液層が形成される。金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleは、1μm以上、例えば、3μm~6μmの範囲、好ましくは、4μm~6μmの範囲に選択することが望ましい。例えば、目的の傾斜組成を有する導電性構造体の膜厚tconductivelayerを、60μm≧tconductivelayer≧20μmの範囲に選択する場合、該傾斜組成を有する導電性構造体の膜厚tconductivelayerに対して、金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleは、15tconductivelayer≧dmetalparticle≧120tconductivelayerの範囲、好ましくは、16tconductivelayer≧dmetalparticle≧115tconductivelayerの範囲に選択することが望ましい。通常、金属マイクロ粒子の形状は、その外形は、ほぼ球形を示すものを使用する。アトマイズ法で作製される、球形の金属マイクロ粒子、あるいは、湿式法で作製される、ほぼ球形の金属マイクロ粒子を使用することが望ましい。例えば、湿式法、アトマイズ法を利用して作製される、金属マイクロ粒子は、その外形はほぼ球形であり、その粒子の体積質量は、ポワソン分布に類する分布を示す。該金属マイクロ粒子の体積質量の分布は、重量平均値VW、標準偏差√VWの正規分布と近似することができる。その際、金属マイクロ粒子の粒子径分布も、例えば、重量平均粒子径を指標として、正規分布で近似することができる。この重量平均粒子径に基づき、前記金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleの選択基準に従って、利用する金属マイクロ粒子を選択することができる。金属サブマイクロ粒子の平均粒子径dmetalfineparticleは、例えば、0.5μm~1.5μmの範囲、好ましくは、0.6μm~1.2μmの範囲に選択することが望ましい。金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleに対して、金属サブマイクロ粒子の平均粒子径dmetalfineparticleは、13dmetalparticle≧dmetalfineparticle≧18tconductivelayerの範囲、好ましくは、14dmetalparticle≧dmetalfineparticle≧17tconductivelayerの範囲に選択することが望ましい。金属サブマイクロ粒子の形状は、その外形は、ほぼ球形を示すものを使用する。アトマイズ法で作製される、球形の金属サブマイクロ粒子、あるいは、湿式法で作製される、ほぼ球形の金属サブマイクロ粒子を使用することが望ましい。例えば、湿式法、アトマイズ法を利用して作製される、金属サブマイクロ粒子は、その外形はほぼ球形であり、その粒子の体積質量は、ポワソン分布に類する分布を示す。該金属サブマイクロ粒子の体積質量の分布は、重量平均値VW、標準偏差√VWの正規分布と近似することができる。その際、金属サブマイクロ粒子の粒子径分布も、例えば、重量平均粒子径を指標として、正規分布で近似することができる。この重量平均粒子径に基づき、前記金属サブマイクロ粒子の平均粒子径dmetalfineparticleの選択基準に従って、利用する金属サブマイクロ粒子を選択することができる。金属ナノ粒子を構成する金属種は、金、銀、銅、白金、パラジウム、インジウム、ビスマス、チタン、スズ、ニッケル、アルミニウムからなる群から選択される。通常、一種の金属からなる金属ナノ粒子を利用するが、二種以上の金属種からなる金属ナノ粒子の混合物、あるいは、二種以上の金属種からなる合金からなる金属ナノ粒子を利用することもできる。特に、金属ナノ粒子として、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケルからなる群から選択される、一種の金属からなる金属ナノ粒子を使用することが好ましい。金属ナノ粒子自体の平均粒子径dmetalnanoparticleは、1nm~100nmの範囲、好ましくは、2nm~50nmの範囲、より好ましくは、5nm~20nmの範囲に選択する。金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleに対して、金属ナノ粒子自体の平均粒子径dnanoparticleは、150dmetalparticle≧dmetalnanoparticle≧11000dmetalparticleの範囲、好ましくは、1100dmetalparticle≧dmetalnanoparticle≧11000dmetalparticleの範囲に選択することが望ましい。一方、金属ナノ粒子の形状は、通常、球形である。第一の形態の第二の態様でも、球形の金属ナノ粒子を使用する。第一の形態の第二の態様で使用される分散液に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticle、金属サブマイクロ粒子の体積比率Vmetalfineparticle、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの和VmetalparticleVmetalfineparticleVmetalnanoparticleは、40体積~60体積の範囲、好ましくは、45体積~60体積の範囲、より好ましくは、50体積~60体積の範囲に選択することが望ましい。その際、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと金属サブマイクロ粒子の体積比率Vmetalfineparticleの比Vmetalparticle:Vmetalfineparticleは、100:17~100:54の範囲、好ましくは、100:17.6~100:53.8の範囲に選択される。また、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと金属サブマイクロ粒子の体積比率Vmetalfineparticleの合計VmetalparticleVmetalfineparticleと、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの比Vmetalnanoparticle:VmetalparticleVmetalfineparticleは、10:100~25:100の範囲、好ましくは、12:100~25:100の範囲、より好ましくは、15:100~25:100の範囲に選択することが好ましい。一方、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleを、20体積~46体積の範囲、好ましくは、25体積~46体積の範囲、より好ましくは、30体積~46体積の範囲に選択することが望ましい。傾斜構造を有する導電性構造体全体において、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の合計と金属ナノ粒子の比率として表記される組成を平均すると、当然、分散液に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと金属サブマイクロ粒子の体積比率Vmetalfineparticleの合計VmetalparticleVmetalfineparticleと、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの比Vmetalnanoparticle/VmetalparticleVmetalfineparticlepasteと等しい、平均組成となっている。傾斜構造を有する導電性構造体の底面側の組成、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の合計と金属ナノ粒子の比率体積比率;Vmetalnanoparticle/VmetalparticleVmetalfineparticlebottomと、表面側の組成、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の合計と金属ナノ粒子の比率体積比率;Vmetalnanoparticle/VmetalparticleVmetalfineparticletopは、Vmetalnanoparticle/VmetalparticleVmetalfineparticletop>Vmetalnanoparticle/VmetalparticleVmetalfineparticlepaste>Vmetalnanoparticle/VmetalparticleVmetalfineparticlebottomの関係を満たす。第一の形態の第二の態様でも、分散液中における、金属ナノ粒子の凝集を防止するため、その表面に被覆剤分子層を有する金属ナノ粒子を、分散溶媒中に均一に分散している。被覆剤分子層の形成に利用される被覆剤分子は、その沸点Tcoatingmoleculebpが、150°C~250°Cの範囲である、アルキルアミンからなる群から選択される。例えば、被覆剤分子は、その沸点Tcoatingmoleculebpが150°C~250°Cの範囲の第一アルキルアミンからなる群より選択されることが望ましい。具体的には、その沸点Tcoatingmoleculebpが、150°C~250°Cの範囲である、アルキルアミンとして、そのアルキル基は、C8~C12の範囲に選択され、アルキル鎖の末端にアミノ基を有するものが利用できる。具体的には、炭素数8のアルキルアミンである、オクチルアミン沸点188°C、炭素数10のアルキルアミンである、デシルアミン沸点220.5°C、炭素数12のアルキルアミンである、ドデシルアミン沸点247°Cは、実際に沸点150°C~250°Cの条件を満たしている。例えば、前記C8~C12の範囲のアルキルアミンは、熱的な安定性もあり、また、室温付近での蒸気圧もさほど高くなく、室温等で保管する際、含有率を所望の範囲に維持制御することが容易であるなど、ハンドリング性の面から好適に用いられる。前記アルキルアミンは、アミノ基の窒素原子上に存在する孤立電子対を利用して、金属ナノ粒子の表面の金属原子と、非共有結合的に分子間結合を形成することで、被覆剤分子層を形成している。この非共有結合的に分子間結合は、配位的な結合に相当しており、加熱することにより、金属ナノ粒子の表面に被覆剤分子層を形成している、アルキルアミンの離脱が進行する。第一の形態の第二の態様でも、分散液中に含有される、前記被覆剤分子の含有量は、金属ナノ粒子の含有量に基づき選択される。すなわち、該分散液中に含有される、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleと、その被覆剤分子層の形成に利用される被覆剤分子の体積比率Vcoatingmoleculeの比Vmetalnanoparticle:Vcoatingmoleculeは、1:1~1:2の範囲、好ましくは、1:1.1~1:2の範囲、より好ましくは、1:1.2~1:2の範囲に選択することが望ましい。第一の形態の第二の態様でも、分散液中、その液相に相当する、表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる金属ナノ粒子分散液は、金属ナノ粒子、該金属ナノ粒子の表面に被覆剤分子層を形成するための被覆剤分子、ならびに、分散溶媒で構成される。分散溶媒は、室温25°Cにおいて、液体であるもの、すなわち、その融点Tsolventmpが、Tsolventmp<25°Cの条件を満たす有機溶媒である。分散液中に含有される、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticle、その被覆剤分子層の形成に利用される被覆剤分子の体積比率Vcoatingmolecule、分散溶媒の体積比率Vsolventの和VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventと、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの比Vmetalnanoparticle:VnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventは、前記金属ナノ粒子分散液中における、金属ナノ粒子の含有比率に相当する。該比Vmetalnanoparticle:VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventは、10:100~30:100の範囲、好ましくは、15:100~30:100の範囲、より好ましくは、15:100~25:100の範囲に選択することが望ましい。使用する分散溶媒として、金属ナノ粒子の表面に被覆剤分子層を形成している、アルキルアミンのアルキル基に対して、親和性を有する、炭化水素溶媒を採用する。一方、使用する分散溶媒は、加熱処理工程中、蒸散されるが、該加熱処理工程の加熱温度Theatingでは、気泡を発生しないことが望ましい。従って、分散溶媒は、その沸点Tsolventbpが、150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、190°C~300°Cの範囲である、炭化水素溶媒からなる群から選択される。沸点が150°C~350°Cの範囲である、炭化水素溶媒には、沸点が150°C~350°Cの範囲の非芳香族炭化水素溶媒と、沸点が150°C~350°Cの範囲の芳香族炭化水素溶媒が含まれる。沸点が150°C~350°Cの範囲の非芳香族炭化水素溶媒の一例として、沸点が150°C~350°Cの範囲の鎖式炭化水素溶媒を挙げることができる。沸点が150°C~350°Cの範囲の芳香族炭化水素溶媒の例として、具体的に、メシチレン沸点164.73°Cを挙げることができる。例えば、分散溶媒を、沸点Tsolventbpが150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~350°Cの範囲の鎖式炭化水素溶媒からなる群より選択することが好ましい。好適に利用可能な分散溶媒として、石油系ノンアロマ炭化水素溶剤である、JX日鉱日石エネルギー製AFソルベント7号平均密度0.82g/cm3、沸点259~282°Cなどを挙げることができる。表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる金属ナノ粒子分散液自体は、その液粘度μmediumは、分散溶媒の粘度μsolventよりも高いが、通常、100mPasを超えない範囲である。一方、第一の形態の第二の態様で使用される分散液は、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子を金属ナノ粒子分散液中に分散した分散液に相当し、その液粘度μpasteは上昇している。例えば、分散液は、その液粘度μpasteは、30Pas~150Pasの範囲、好ましくは、30Pas~100Pasの範囲であることが望ましい。前記の液粘度μpasteとすることにより、例えば、スクリーン印刷法を適用して、膜厚が30μmから、最大110μmに達する塗布膜を形成することが可能となる。次に、第一の形態の第二の態様において、分散液を使用して、傾斜構造を有する導電性構造体を形成するプロセスについて、以下に説明する。その傾斜構造を有する導電性構造体の形成プロセスは、分散液を、基材表面に塗布して、塗布膜を形成する、塗布膜形成工程と、該塗布膜を静置し、塗布膜中に含まれる金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子を沈降させ、基材表面に金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層を形成する、静置処理工程と、その後、150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingで加熱処理を施すことにより、金属ナノ粒子の低温焼結を進行させ、前記金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層に由来する下層部と、その上部に前記金属ナノ粒子の低温焼結体に由来する表層部を具える、傾斜構造を有する導電性構造体を形成する、加熱処理工程を具えている。前記塗布膜形成工程では、分散液を、基材表面に塗布して、塗布膜を形成する際、該塗布膜の膜厚tpastelayer0を、均一にする。そのため、例えば、スクリーン印刷法を利用して、均一な厚さで、分散液を、基材表面に塗布することが望ましい。また、塗布する基材表面は、平坦であり、水平に保持されていることが望ましい。静置処理工程では、該塗布膜を静置し、塗布膜中に含まれる金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子を沈降させ、基材表面に金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層を形成する。すなわち、分散液中に含有されている、金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子は、分散溶媒中における分散性は劣るため、室温で静置する間に沈降する。一方、表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子は、分散溶媒中における分散性は極めて高いため、室温で静置する間に実質的に沈降を起こさない。結果的に、金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子が、選択的に沈降して、基材表面に金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層が形成される。この集積層を構成する金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子相互の隙間には、液相、すなわち、金属ナノ粒子分散液が浸潤している状態となっている。金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の沈降が完了すると、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の上面に、余剰の金属ナノ粒子分散液からなる分散液層が形成される。従って、図2に示すように、静置処理工程を終了した時点では、沈降処理済塗布膜は、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層に相当する下層と、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の上面を覆う、分散液層に相当する上層で構成される、二層構造を示す。金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerは、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0と、分散液中に含まれる、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと金属サブマイクロ粒子の体積比率Vmetalfineparticleの和VmetalparticleVmetalfineparticleに比例する。金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子が同じ金属種で形成される場合、該集積層中、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の占める体積比率充填率Vparticlemixtureoccupancyは、例えば、立方最密充填状態を仮定すると、Vparticlemixtureoccupancy>0.523と見積もられる。また、使用する金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の混合物の平均見かけのタップ密度ρtapmixtureと、バルク金属の密度ρbulkから、Vparticlemixtureoccupancy=ρtapmixtureρbulk程度と、見積もることもできる。従って、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerは、tprecipitatelayer≒tpastelayer0×VmetalparticleVmetalfineparticle/100体積×1Vparticlemixtureoccupancy程度と推定される。前記分散液層の厚さtsupernateと、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerの合計が、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1に相当しているtpastelayer1≒tsupernatetprecipitatelayer。勿論、静置処理工程の間、塗布膜の上面から、分散溶媒が徐々に蒸散する。そのため、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0より薄くなっている。その差tpastelayer0-tpastelayer1は、沈降処理工程の間、塗布膜の表面から蒸散する分散溶媒の液量に比例している。分散溶媒の沸点Tsolventbpは、150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、190°C~300°Cの範囲であるので、沈降処理工程の間、塗布膜の表面から蒸散する分散溶媒の液量は僅かな量となっている。従って、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が十分に厚い場合には、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1は、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerよりも有意に厚い範囲となっている。すなわち、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が十分に厚い場合には、実際に、沈降処理済塗布膜は、図1に示すように、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層に相当する下層と、該集積層の上面を覆う、分散液層に相当する上層で構成される、二層構造を示す。前記の条件tpastelayer1>tprecipitatelayerを満たす上では、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0は、少なくとも、110μm≧tpastelayer0≧30μmの範囲、好ましくは、100μm≧tpastelayer0≧30μmの範囲に選択することが望ましい。一方、静置処理工程では、室温、大気圧下において、放置し、その放置時間tsettlingは、300分間≧tsettling≧25分間の範囲、好ましくは、300分間≧tsettling≧30分間の範囲に選択することが望ましい。加熱処理工程では、沈降処理済塗布膜に150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingで加熱処理を施す。その際、沈降処理済塗布膜の上面から、分散溶媒の蒸散が進行する。また、加熱に伴って、上層の分散液層中に含まれる、金属ナノ粒子の表面の被覆剤分子の離脱が進行する。その表面を覆う被覆剤分子層が消失するとともに、金属ナノ粒子の分散性は失われ、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の上面に向かって、金属ナノ粒子の沈降が開始される。また、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の内部の隙間に浸潤している金属ナノ粒子分散液に含まれる、金属ナノ粒子の表面の被覆剤分子の離脱が進行する。その表面を覆う被覆剤分子層が消失するとともに、金属ナノ粒子の分散性は失われ、金属ナノ粒子の沈降が開始される。金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層内部の隙間は、狭い隘路となっており、沈降を開始した金属ナノ粒子は、該集積層を形成する、階層状の金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子の表面に到達すると、その金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子の表面に付着する。そのため、上層の分散液層中に含まれる、金属ナノ粒子は、該集積層を形成する、階層状の金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子のうち、最上層に位置する金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の上面に優先的に付着する。一部は、さらに、下の階層まで到達するが、より下の階層に達する確率は、指数関数的に減少する。金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層内部の隙間に、当初から充填されている金属ナノ粒子分散液に含まれている、金属ナノ粒子の量と、沈降に起因して、上層から該集積層の内部に降下する金属ナノ粒子の量の合計は、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の上面側から底面側に向かって、連続的に減少する。一方、該集積層を構成している、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の合計量は、上面側と底面側の間で、実質的に差異はない。結果的に、加熱処理工程で形成される導電性構造体は、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の合計と金属ナノ粒子の比率として表記される組成は、表面側の組成Vmetalnanoparticle/VmetalparticleVmetalfineparticletopから、底面側の組成Vmetalnanoparticle/VmetalparticleVmetalfineparticlebottomへと連続的に変化する、傾斜構造を有するものとなる。分散液の組成が同じであれば、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1と、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0との差tpastelayer0-tpastelayer1は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0に殆ど依存しない。従って、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が減少するとともに、沈降処理済塗布膜において、分散液層の厚さtsupernateと、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerの比tsupernatetprecipitatelayerが小さくなる。加熱処理工程では、分散溶媒の蒸散、金属ナノ粒子の沈降、金属ナノ粒子の低温焼成体の形成に加えて、金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子の集積層を構成する、金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子相互の電気的接触の形成が行われる。加熱処理工程において、不活性ガス中に、水素ガスを0.5体積~5体積の範囲、好ましくは、1体積~4体積の範囲、例えば、2体積の濃度で含む、還元性雰囲気下で、加熱処理を実施することが望ましい。例えば、金属マイクロ粒子、金属サブマイクロ粒子の表面の一部に、表面酸化膜が存在する際、前記還元性雰囲気下で、加熱処理を施すことで、表面酸化膜の還元除去を行うことが可能である。また、加熱処理工程において、150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingは、前記分散溶媒の沸点Tsolventbpを超えない範囲に選択することが望ましい。一般に、加熱処理工程における加熱温度Theatingは、高いほど好ましい。従って、前記分散溶媒の沸点Tsolventbpを超えない範囲で、加熱温度Theatingを、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、200°C~300°Cの範囲に選択することが望ましい。一方、加熱処理工程における、加熱時間tsinteringは、加熱温度Theatingに応じて、選択される。具体的には、分散溶媒の蒸散、金属ナノ粒子の沈降、金属ナノ粒子の低温焼成体の形成、集積層を構成する金属マイクロ粒子と金属サブマイクロ粒子相互の電気的接触の形成の各過程の進行速度は、加熱温度Theatingに依存するため、加熱時間tsinteringは、加熱温度Theatingに応じて、選択される。加熱温度Theatingを、150°C~300°Cの範囲に選択する場合、加熱時間tsinteringは、360分間≧tsintering≧10分間の範囲、好ましくは、300分間≧tsintering≧15分間の範囲に選択することが望ましい。第二の形態第二の形態で使用する分散液について、以下に説明する。分散液中に含有される、金属酸化物マイクロ粒子の体積比率をVmetaloxideparticle、金属ナノ粒子の体積比率をVmetalnanoparticle、被覆剤分子の体積比率をVcoatingmolecule、分散溶媒の体積比率をVsolventとすると、その総和VmetaloxideparticleVmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventは、100体積となっている。目的の傾斜構造の形成に使用される、フィラーは、金属酸化物マイクロ粒子と金属ナノ粒子である。金属酸化物マイクロ粒子は、金Au,銀Ag,銅Cu,鉄Fe,コバルトCo,ニッケルNi,アルミニウムAl,シリコンSi,チタンTi,バナジウムV,マンガンMn,ジルコニウムZr,カルシウムCa、マグネシウムMg,スズSn,アンチモンSb,セリウムCe,タンタルTa,タングステンW,ビスマスBiからなる群から選択される金属種を含む、一種の金属酸化物または二種以上の合金酸化物あるいは二種以上の酸化物の混合物からなる金属酸化物マイクロ粒子である。例えば、金属酸化物マイクロ粒子は、Au2O3,Ag2O,Cu2O,CuO,FeO,Fe3O4,Fe2O3,CoO,Co3O4,Co2O3,NiO,CaO,MgO,Al2O3,SiO2,ZnO,TiO2,VO,VO2,V2O3,V3O5,V2O5,MnO,Mn3O4,Mn2O3,MnO4,ZrO2,SnO,SnO2,Sb2O3,Sb2O4,Ce2O3,CeO2,Ta2O,TaO2,Ta2O5,W3O,WO2,WO3,NbO,Nb2O5,Bi2O3,HfO2,In2O3,Yb2O3,Zn2In2O5,ZnSnO3,Zn2In2O5,In4Sn3O,In2O3-SnO2ITO,ATOアンチモン添加酸化スズからなる群から選択される、一種の金属酸化物からなる金属酸化物マイクロ粒子であることが望ましい。なお上記のうち、代表的な金属酸化物の密度は以下の通りである。Au2O3密度11.34g/cm3,Ag2O密度7.22g/cm3,Cu2O密度6.04g/cm3,CuO密度6.315g/cm3,FeO密度5.7g/cm3,Fe3O4密度5.17g/cm3,Fe2O3密度5.242g/cm3,CoO密度6.1g/cm3,Co3O4密度6.11g/cm3,Co2O3密度5.7g/cm3,NiO密度6.67g/cm3,CaO密度3.37g/cm3,MgO密度3.65g/cm3,Al2O3密度3.97g/cm3,SiO2密度2.2g/cm3,ZnO密度5.606g/cm3,TiO2密度4.23g/cm3,VO密度5.758g/cm3,VO2密度4.26g/cm3,V2O3密度4.84g/cm3,V2O5密度3.357g/cm3,MnO密度5.18g/cm3,ZrO2密度5.49g/cm3,SnO密度6.44g/cm3,SnO2密度6.95g/cm3,Sb2O3密度5.2g/cm3,Ce2O3密度6.9~7.0g/cm3,CeO2密度7.3g/cm3,Ta2O5密度8.73g/cm3,WO2密度12.1g/cm3,WO3密度7.15g/cm3,NbO密度6.26g/cm3,Nb2O5密度4.47g/cm3,Bi2O3密度9.2g/cm3,HfO2密度9.68g/cm3,In2O3密度7.18g/cm3,Yb2O3密度9.17g/cm3,In2O3-SnO2ITO密度7.120~7.160g/cm3,ATOアンチモン添加酸化スズ比重6.6。金属酸化物マイクロ粒子の平均粒子径dmetaloxideparticleは、1μm以上、例えば、5μm~20μmの範囲、好ましくは、7μm~15μmの範囲、より好ましくは、8μm~13μmの範囲に選択することが望ましい。例えば、目的の傾斜構造を有する構造体の膜厚tcompositelayerを、60μm≧tcompositelayer≧20μmの範囲に選択する場合、該傾斜組成を有する構造体の膜厚tcompositelayerに対して、金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetaloxideparticleは、12tcompositelayer≧dmetaloxideparticle≧120tcompositelayerの範囲、好ましくは、14tcompositelayer≧dmetaloxideparticle≧110tcompositelayerの範囲に選択することが望ましい。通常、金属酸化物マイクロ粒子の形状は、その外形は、ほぼ球形を示すものを使用する。例えば、湿式法を利用して作製される、金属酸化物マイクロ粒子では、その粒子の体積質量は、ポワソン分布に類する分布を示す。該金属酸化物マイクロ粒子の体積質量の分布は、重量平均値VW、標準偏差√VWの正規分布と近似することができる。その際、金属酸化物マイクロ粒子の粒子径分布も、例えば、重量平均粒子径を指標として、正規分布で近似することができる。この重量平均粒子径に基づき、前記金属酸化物マイクロ粒子の平均粒子径dmetaloxideparticleの選択基準に従って、利用する金属酸化物マイクロ粒子を選択することができる。金属ナノ粒子を構成する金属種の具体例は先に述べた通りである。金属ナノ粒子を構成する金属種は、通常、一種の金属からなる金属ナノ粒子を利用するが、二種以上の金属からなる金属ナノ粒子の混合物、あるいは、二種以上の金属からなる合金からなる金属ナノ粒子を利用することもできる。特に、金属ナノ粒子として、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケルからなる群から選択される一種の金属からなる金属ナノ粒子を使用することが好ましい。なお、金の抵抗率は2.35μΩcm20°C、密度は19.32g/cm3;銀の抵抗率は1.59μΩcm20°C、密度は10.49g/cm3;銅の抵抗率は1.673μΩcm20°C、密度は8.95g/cm3;白金の抵抗率は、9.85μΩcm20°C、密度は21.41g/cm3;パラジウムの抵抗率は、9.93μΩcm20°C、密度は11.99g/cm3;ニッケルの抵抗率は、6.89μΩcm20°C、密度は8.908g/cm3である。インジウムの抵抗率は8.37μΩcm20°C、密度は7.31g/cm3、融点156.6°C;ビスマスの抵抗率は120μΩcm、密度は9.808g/cm3、融点271.4°C;チタンの抵抗率は42.0μΩcm20°C、密度は4.50g/cm3;金属スズの抵抗率は11μΩcm20°C、密度は7.265g/cm3、融点232°C;アルミニウムの抵抗率は2.655μΩcm20°C、密度は2.699g/cm3、融点660.37°Cである。金属ナノ粒子自体の平均粒子径dmetalnanoparticleは、1nm~100nmの範囲、例えば、2nm~50nmの範囲、好ましくは、3nm~30nmの範囲、より好ましくは、5nm~20nmの範囲に選択する。金属酸化物マイクロ粒子の平均粒子径dmetaloxideparticleに対して、金属ナノ粒子自体の平均粒子径dmetalnanoparticleは、150dmetaloxideparticle≧dmetalnanoparticle≧12000dmetaloxideparticleの範囲、好ましくは、1100dmetaloxideparticle≧dmetalnanoparticle≧11000dmetaloxideparticleの範囲に選択することが望ましい。一方、金属ナノ粒子の形状は、通常、球形である。第二の形態でも、球形の金属ナノ粒子を使用する。金属酸化物マイクロ粒子を構成する金属種と、金属ナノ粒子を構成する金属種を、異なる金属種に選択する態様を採用することができる。また、金属酸化物マイクロ粒子を構成する金属酸化物に含まれる金属種と、金属ナノ粒子を構成する金属種を、同一の金属種に選択する態様を採用することもできる。いずれの態様においても、傾斜構造を有する構造体の底面側と、表面側では、該構造体を構成する、金属酸化物マイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率として表記される組成が相違し、前記組成が、構造体の膜厚方向、底面側から表面側へと、連続的に変化し、傾斜構造が形成されている。傾斜構造を有する構造体全体において、金属酸化物マイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率として表記される組成を平均すると、当然、前記金属酸化物分散液に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetaloxideparticleと、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの比Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticlepasteと等しい、平均組成となっている。傾斜構造を有する構造体の底面側の組成、金属酸化物マイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率体積比率;Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticlebottomと、表面側の組成、金属酸化物マイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率体積比率;Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticletopは、Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticletop>Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticlepaste>Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticlebottomの関係を満たす。第二の形態で使用される分散液でも、金属ナノ粒子の凝集を防止するため、その表面に被覆剤分子層を有する金属ナノ粒子を、分散溶媒中に均一に分散している。被覆剤分子層の形成に利用される被覆剤分子は、その沸点Tcoatingmoleculebpが、150°C~250°Cの範囲である、アルキルアミンからなる群から選択される。例えば、被覆剤分子は、その沸点Tcoatingmoleculebpが150°C~250°Cの範囲の第一アルキルアミンからなる群より選択されることが望ましい。具体的には、その沸点Tcoatingmoleculebpが、150°C~250°Cの範囲である、アルキルアミンとして、そのアルキル基は、C8~C12の範囲に選択され、アルキル鎖の末端にアミノ基を有するものが利用できる。具体的には、炭素数8のアルキルアミンである、オクチルアミン沸点188°C、炭素数10のアルキルアミンである、デシルアミン沸点220.5°C、炭素数12のアルキルアミンである、ドデシルアミン沸点247°Cは、実際に沸点150°C~250°Cの条件を満たしている。例えば、前記C8~C12の範囲のアルキルアミンは、熱的な安定性もあり、また、室温付近での蒸気圧もさほど高くなく、室温等で保管する際、含有率を所望の範囲に維持制御することが容易であるなど、ハンドリング性の面から好適に用いられる。アルキルアミンは、アミノ基の窒素原子上に存在する孤立電子対を利用して、金属ナノ粒子の表面の金属原子と、非共有結合的に分子間結合を形成することで、被覆剤分子層を形成している。この非共有結合的な分子間結合は、配位的な結合に相当しており、加熱することにより、金属ナノ粒子の表面に被覆剤分子層を形成している、アルキルアミンの離脱が進行する。第二の形態で使用する分散液中、その液相に相当する、表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる金属ナノ粒子分散液は、金属ナノ粒子、該金属ナノ粒子の表面に被覆剤分子層を形成するための被覆剤分子、ならびに、分散溶媒で構成される。分散溶媒は、室温25°Cにおいて、液体であるもの、すなわち、その融点Tsolventmpが、Tsolventmp<25°Cの条件を満たす有機溶媒である。分散液中に含有される、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticle、その被覆剤分子層の形成に利用される被覆剤分子の体積比率Vcoatingmolecule、分散溶媒の体積比率Vsolventの和VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventと、金属ナノ粒子の体積比率Vnanoparticleの比Vmetalnanoparticle:VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolventは、前記金属ナノ粒子分散液中における、金属ナノ粒子の含有比率に相当する。使用する分散溶媒として、金属ナノ粒子の表面に被覆剤分子層を形成している、アルキルアミンのアルキル基に対して、親和性を有する、炭化水素溶媒を採用する。一方、使用する分散溶媒は、加熱処理工程中、蒸散されるが、該加熱処理工程の加熱温度Theatingでは、気泡を発生しないことが望ましい。従って、分散溶媒は、その沸点Tsolventbpが、150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、190°C~300°Cの範囲である、炭化水素溶媒からなる群から選択される。沸点が150°C~350°Cの範囲である、炭化水素溶媒には、沸点が150°C~350°Cの範囲の非芳香族炭化水素溶媒と、沸点が150°C~350°Cの範囲の芳香族炭化水素溶媒が含まれる。沸点が150°C~350°Cの範囲の非芳香族炭化水素溶媒の一例として、沸点が150°C~350°Cの範囲の鎖式炭化水素溶媒を挙げることができる。沸点が150°C~350°Cの範囲の芳香族炭化水素溶媒の例として、具体的に、メシチレン沸点164.73°Cを挙げることができる。例えば、分散溶媒を、沸点Tsolventbpが150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲の鎖式炭化水素溶媒からなる群より選択することが好ましい。例えば、分散溶媒を、沸点Tsolventbpが150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~350°Cの範囲の鎖式炭化水素溶媒からなる群より選択することが好ましい。好適に利用可能な分散溶媒として、石油系ノンアロマ炭化水素溶剤である、JX日鉱日石エネルギー製AFソルベント7号平均密度0.82g/cm3、沸点259~282°Cなどを挙げることができる。表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる金属ナノ粒子分散液自体は、その液粘度μmediumは、分散溶媒の粘度μsolventよりも高いが、通常、100mPasを超えない範囲である。一方、第二の形態で使用する分散液は、金属酸化物マイクロ粒子を金属ナノ粒子分散液中に分散した分散液に相当し、その液粘度μpasteは上昇している。第二の形態で使用される分散液は、その液粘度μpasteは、10Pas~150Pasの範囲、好ましくは、10Pas~100Pasの範囲であることが望ましい。前記の液粘度とすることにより、例えば、スクリーン印刷法を適用して、膜厚が30μmから、最大110μmに達する塗布膜を形成することが可能となる。次に、第二の形態において、分散液を使用して、傾斜構造を有する構造体を形成するプロセスについて、以下に説明する。その傾斜構造を有する構造体の形成プロセスは、分散液を、基材表面に塗布して、塗布膜を形成する、塗布膜形成工程と、該塗布膜を静置し、塗布膜中に含まれる金属酸化物マイクロ粒子を沈降させ、基材表面に金属マイクロ粒子の集積層を形成する、静置処理工程と、その後、150°C~300°Cの範囲、好ましくは、150°C~250°Cの範囲に選択する温度Theatingで加熱処理を施すことにより、金属ナノ粒子の低温焼結を進行させ、前記金属酸化物マイクロ粒子の集積層に由来する下層部と、その上部に前記金属ナノ粒子の低温焼結体に由来する表層部を具える、傾斜構造を有する構造体を形成する、加熱処理工程を具えている。塗布膜形成工程では、分散液を、基材表面に塗布して、塗布膜を形成する際、該塗布膜の膜厚tpastelayer0を、均一にする。そのため、例えば、スクリーン印刷法を利用して、均一な厚さで、分散液を、基材表面に塗布することが望ましい。また、塗布する基材表面は、平坦であり、水平に保持されていることが望ましい。静置処理工程では、該塗布膜を静置し、塗布膜中に含まれる金属マイクロ粒子を沈降させ、基材表面に金属マイクロ粒子の集積層を形成する。すなわち、分散液中に含有されている、金属マイクロ粒子は、分散溶媒中における分散性は劣るため、室温で静置する間に沈降する。一方、表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子は、分散溶媒中における分散性は極めて高いため、室温で静置する間に実質的に沈降を起こさない。分散液中に分散されている、金属酸化物マイクロ粒子は、分散溶媒による浮力を受けている。また、分散液中を沈降する際には、その沈降速度に起因する抗力を受ける。金属酸化物マイクロ粒子を構成する金属酸化物の密度ρbulk、分散溶媒の密度ρsolventを用いて、金属酸化物マイクロ粒子に加わる重力と浮力の差は、Fmetaloxideparticlegravity=gρbulk-ρsolventdmetaloxideparticle23と表記できる。金属酸化物マイクロ粒子の沈降速度をVmetaloxideparticlefallingと表記する際、金属酸化物マイクロ粒子は、液粘度μmediumの金属ナノ粒子分散液中を移動することに起因する抗力を受ける。この抗力Fmetaloxideparticledragは、金属ナノ粒子分散液の液粘度μmediumに比例し、金属酸化物マイクロ粒子の表面積4πdmetaloxideparticle22に比例し、さらに、沈降速度vmetaloxideparticlefallingの二乗vmetalparticlefalling2に比例すると推定される。Fmetalparticledrag∝μmedium4πdmetaloxideparticle22vmetaloxideparticlefalling2の比例関係があると推定される。従って、Fmetaloxideparticlegravity=Fmetaloxideparticledragに達すると、金属酸化物マイクロ粒子の沈降速度vmetaloxideparticlefallingは、vmetaloxideparticleterminalvelocityで一定となる。その際、Vmetaloxideparticleterminalvelocityは、次のような比例関係を示す。vmetalparticleterminalvelocity∝{1/μmediumdmetaloxideparticleρbulk-ρsolvent}12。分散液中に分散されている、金属ナノ粒子は、その表面を被覆剤分子で被覆されている。そのため、被覆剤分子層に対する、分散溶媒の親和性が高く、金属ナノ粒子が分散溶媒中を移動する際、相対的に大きな抗力を受ける。そのため、表面に被覆剤分子層を形成している金属ナノ粒子は、分散溶媒中では、その沈降速度vmetalnanoparticleterminalvelocityは、実質的にvmetalnanoparticleterminalvelocity=0と見做すことが可能である。vmetaloxideparticleterminalvelocity≫vmetalnanoparticleterminalvelocity=0であるため、図2に模式的に示すように、金属酸化物マイクロ粒子のみが、選択的に沈降して、基材表面に金属酸化物マイクロ粒子の集積層が形成される。この集積層を構成する金属酸化物マイクロ粒子相互の隙間には、液相、すなわち、金属ナノ粒子分散液が浸潤している状態となっている。金属酸化物マイクロ粒子の沈降が完了すると、金属酸化物マイクロ粒子の集積層の上面に、余剰の金属ナノ粒子分散液からなる分散液層が形成される。従って、静置処理工程を終了した時点では、沈降処理済塗布膜は、図2に示すように、金属酸化物マイクロ粒子の集積層に相当する下層と、金属酸化物マイクロ粒子の集積層の上面を覆う、分散液層に相当する上層で構成される、二層構造を示す。金属酸化物マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerは、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0と、分散液中に含まれる、金属酸化物マイクロ粒子の体積比率:Vmetaloxideparticleに比例する。形成される金属酸化物マイクロ粒子の集積層中、金属酸化物マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetaloxideparticleoccupancyは、例えば、立方最密充填状態を仮定すると、Vmetaloxideparticleoccupancy≒0.523と見積もられる。また、使用する金属酸化物マイクロ粒子のタップ密度ρtapと、金属酸化物自体の密度ρbulkから、Vmetaloxideparticleoccupancy=ρtapρbulk程度と、見積もることもできる。従って、金属酸化物マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerは、tprecipitatelayer≒tpastelayer0×Vmetaloxideparticle/100体積×1Vmetaloxideparticleoccupancy程度と推定される。前記分散液層の厚さtsupernateと金属酸化物マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerの合計が、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1に相当しているtpastelayer1≒tsupernatetprecipitatelayer。勿論、静置処理工程の間、塗布膜の上面から、分散溶媒が徐々に蒸散する。そのため、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0より薄くなっている。その差tpastelayer0-tpastelayer1は、静置処理工程の間、塗布膜の表面から蒸散する分散溶媒の液量に比例している。分散溶媒の沸点Tsolventbpは、150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、190°C~300°Cの範囲であるので、静置処理工程の間、塗布膜の表面から蒸散する分散溶媒の液量は僅かな量となっている。従って、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が十分に厚い場合には、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1は、金属酸化物マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerよりも有意に厚い範囲となっている。すなわち、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が十分に厚い場合には、実際に、沈降処理済塗布膜は、図2に示すように、金属酸化物マイクロ粒子の集積層に相当する下層と、金属酸化物マイクロ粒子の集積層の上面を覆う、分散液層に相当する上層で構成される、二層構造を示す。前記の条件tpastelayer1>tprecipitatelayerを満たす上では、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0は、少なくとも、110μm≧tpastelayer0≧30μmの範囲、好ましくは、100μm≧tpastelayer0≧30μmの範囲に選択することが望ましい。一方、静置処理工程では、室温、大気圧下において、放置し、その放置時間tsettlingは、300分間≧tsettling≧25分間の範囲、好ましくは、300分間≧tsettling≧30分間の範囲に選択することが望ましい。加熱処理工程では、沈降処理済塗布膜に150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingで加熱処理を施す。その際、沈降処理済塗布膜の上面から、分散溶媒の蒸散が進行する。また、加熱に伴って、上層の分散液層中に含まれる、金属ナノ粒子の表面の被覆剤分子の離脱が進行する。その表面を覆う被覆剤分子層が消失するとともに、金属ナノ粒子の分散性は失われ、金属酸化物マイクロ粒子の集積層の上面に向かって、金属ナノ粒子の沈降あるいは凝集が開始される。また、金属酸化物マイクロ粒子の集積層の内部の隙間に浸潤している金属ナノ粒子分散液に含まれる、金属ナノ粒子の表面の被覆剤分子の離脱が進行する。その表面を覆う被覆剤分子層が消失するとともに、金属ナノ粒子の分散性は失われ、金属ナノ粒子の凝集、沈降が開始される。金属酸化物マイクロ粒子の集積層内部の隙間は、狭い隘路となっており、凝集、沈降を開始した金属ナノ粒子は、金属酸化物マイクロ粒子の集積層を形成する、階層状の金属酸化物マイクロ粒子の表面に到達すると、その金属酸化物マイクロ粒子の表面に付着する。そのため、上層の分散液層中に含まれる、金属ナノ粒子は、金属酸化物マイクロ粒子の集積層を形成する、階層状の金属酸化物マイクロ粒子のうち、最上層に位置する金属酸化物マイクロ粒子の上面に優先的に付着する。一部は、さらに、下の階層まで到達するが、より下の階層に達する確率は、指数関数的に減少する。金属酸化物マイクロ粒子の集積層内部の隙間に、当初から充填されている金属ナノ粒子分散液に含まれている、金属ナノ粒子の量と、沈降に起因して、上層から金属酸化物マイクロ粒子の集積層の内部に降下する金属ナノ粒子の量の合計は、金属酸化物マイクロ粒子の集積層の上面側から底面側に向かって、連続的に減少する。一方、金属酸化物マイクロ粒子の集積層を構成している、金属酸化物マイクロ粒子の量は、上面側と底面側の間で、実質的に差異はない。結果的に、加熱処理工程で形成される構造体は、金属酸化物マイクロ粒子と金属ナノ粒子の比率として表記される組成は、表面側の組成Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticletopから、底面側の組成Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticlebottomへと連続的に変化する、傾斜構造を有するものとなる。分散液の組成が同じであれば、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1と、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0との差tpastelayer0-tpastelayer1は、静置処理工程中に、単位面積当たり、表面から蒸散する、分散溶媒の量に依存する。静置処理工程の所要時間が等しい場合、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0に殆ど依存しない。従って、静置処理工程の所要時間が等しい場合、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が減少するとともに、沈降処理済塗布膜において、分散液層の厚さtsupernateと金属酸化物マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerの比tsupernatetprecipitatelayerが小さくなる。分散液に含有される、金属酸化物マイクロ粒子の体積比率Vmetaloxideparticleが同じであっても、形成される金属酸化物マイクロ粒子の集積層中、金属酸化物マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetaloxideparticleoccupancyが低くなると、金属酸化物マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerは、相対的に増加する。その結果、沈降処理済塗布膜において、分散液層の厚さtsupernateと金属酸化物マイクロ粒子の集積層の厚さtprecipitatelayerの比tsupernatetprecipitatelayerは、相対的に小さくなる。例えば、使用する金属酸化物マイクロ粒子のタップ密度ρtapが相対的に小さいと、形成される金属酸化物マイクロ粒子の集積層中、金属酸化物マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetaloxideparticleoccupancyが相対的に低くなる。例えば、湿式法を利用して作製される、金属酸化物マイクロ粒子において、その粒子の体積質量は、ポワソン分布に類する分布を示す。該金属酸化物マイクロ粒子の体積質量の分布は、重量平均値VW、標準偏差√VWの正規分布と近似することができる。その際、金属酸化物マイクロ粒子の粒子径分布も、例えば、重量平均粒子径を指標として、正規分布で近似することができる。金属酸化物マイクロ粒子の体積質量の分布が、ポワソン分布に類する分布を示す場合、重量平均粒子径が小さくなると、その金属酸化物マイクロ粒子のタップ密度ρtapは、相対的に小さくなる。従って、使用する金属酸化物マイクロ粒子の重量平均粒子径が小さくなると、形成される金属酸化物マイクロ粒子の集積層中、金属酸化物マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetaloxideparticleoccupancyが相対的に低くなる。金属酸化物分散液に含有される、金属酸化物マイクロ粒子の体積比率Vmetaloxideparticle、金属酸化物マイクロ粒子の体積比率Vmetaloxideparticleと、金属ナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの比VmetalnanoparticleVmetaloxideparticle、また、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が同じであっても、使用する金属酸化物マイクロ粒子のタップ密度ρtap、従って、使用する金属酸化物マイクロ粒子の重量平均粒子径dmetaloxideparticleを小さくすることで、形成される金属酸化物マイクロ粒子の集積層中、金属酸化物マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetaloxideparticleoccupancyが相対的に低くすることが可能である。その結果、傾斜構造を有する構造体における、表面側の組成Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticletopと、底面側の組成Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticlebottomの差を、相対的に小さくすることが可能である。なお、底面側の組成Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticlebottomの下限、近似的に、次のように見積もられる。前記金属ナノ粒子分散液中における、金属ナノ粒子の含有比率を、{Vmetalnanoparticle/VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolvent}とすると、底面側の組成Vmetalnanoparticle/Vmetaloxideparticlebottomの下限は、[1-Vmetaloxideparticleoccupancy{Vmetalnanoparticle/VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolvent}]/Vmetaloxideparticleoccupancyと見積もることが可能である。加熱処理工程では、分散溶媒の蒸散、金属ナノ粒子の沈降、金属ナノ粒子の低温焼成体の形成に加えて、金属酸化物マイクロ粒子の集積層を構成する、金属酸化物マイクロ粒子相互の低温焼結が行われる。加熱処理工程において、大気雰囲気下で、加熱処理を実施することが望ましい。例えば、金属酸化物マイクロ粒子の表面の一部に、被覆剤分子が吸着している場合、前記被覆剤分子との反応により、金属酸化物マイクロ粒子の表面の一部が還元される場合がある。大気雰囲気下で、加熱処理を施すことで、還元を受けた部分の表面を再酸化することが可能である。その他、金属酸化物マイクロ粒子を構成する金属酸化物MOと、金属ナノ粒子を構成する金属M’が接する部分では、金属種Mより金属種M’が卑な金属である場合、加熱処理を進める間に、MOM’→MM’Oの酸化還元反応が進行する。このような酸化還元反応を回避する上では、金属酸化物マイクロ粒子を構成する金属酸化物MOと、金属ナノ粒子を構成する金属M’は、金属種Mより金属種M’が貴な金属である組み合わせを選択することが好ましい。さらには、金属酸化物マイクロ粒子を構成する金属酸化物MOは、場合によっては、加熱処理時、酸素分子O2と反応して、より酸化数が高い金属酸化物へと変換される場合もある。例えば、MO14O2→MIII2O3のような酸化反応が進行する場合もある。加熱処理時、酸素分子O2と反応して、より酸化数が高い金属酸化物へと変換が生じない金属酸化物を選択することで、かかる反応を回避することができる。また、加熱処理工程において、150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingは、前記分散溶媒の沸点Tsolventbpを超えない範囲に選択することが望ましい。一般に、加熱処理工程における加熱温度Theatingは、高いほど好ましい。従って、前記分散溶媒の沸点Tsolventbpを超えない範囲で、加熱温度Theatingを、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、200°C~300°Cの範囲に選択することが望ましい。一方、加熱処理工程における、加熱時間tsinteringは、加熱温度Theatingに応じて、選択される。具体的には、分散溶媒の蒸散、金属ナノ粒子の沈降、金属ナノ粒子の低温焼成体の形成、金属酸化物マイクロ粒子の集積層を構成する金属酸化物マイクロ粒子相互の低温焼結の各過程の進行速度は、加熱温度Theatingに依存するため、加熱時間tsinteringは、加熱温度Theatingに応じて、選択される。加熱温度Theatingを、150°C~300°Cの範囲に選択する場合、加熱時間tsinteringは、300分間≧tsintering≧25分間の範囲、好ましくは、300分間≧tsintering≧30分間の範囲に選択することが望ましい。以下に、本発明にかかる傾斜構造の形成方法について、その第三の形態と第四の形態をさらに詳しく説明する。第三の形態と第四の形態においては、マイクロ粒子とナノ粒子を溶媒中に分散した分散液では、ナノ粒子として、金属酸化物ナノ粒子を採用する。その際、金属ナノ粒子と異なり、金属酸化物ナノ粒子に対しては、その表面に被覆剤分子層は形成していない。その代り、分散溶媒として、金属酸化物の表面に溶媒和可能な、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルHO-CH2CH2-O-CH2CH2-O-Rを利用し、金属酸化物ナノ粒子の沈降速度を低減している。すなわち、使用される分散液中、金属酸化物ナノ粒子と分散溶媒により、スラリー状の液相が形成され、該スラリー状の液相中に、マイクロ粒子が分散された状態となっている。その結果、使用される分散液は、高い液粘度を示す状態となっている。第三の形態第三の形態で使用する分散液について、以下に説明する。分散液中に含有される、金属酸化物マイクロ粒子の体積比率をVmetaloxideparticle、金属酸化物ナノ粒子の体積比率をVmetaloxidenanoparticle、分散溶媒の体積比率をVsolventとすると、その総和VmetaloxideparticleVmetaloxidenanoparticleVsolventは、100体積となっている。目的の傾斜構造の形成に使用される、フィラーは、金属酸化物マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子である。また、使用する分散液中には、バインダー樹脂成分が含有されていない。金属酸化物マイクロ粒子及び金属酸化物ナノ粒子の具体例は先に述べた通りである。金属酸化物マイクロ粒子の平均粒子径dmetaloxideparticleは、1μm以上、例えば、5μm~20μmの範囲、好ましくは、7μm~15μmの範囲、より好ましくは、8μm~13μmの範囲に選択する。例えば、目的の傾斜構造を有する構造体の膜厚tcompositelayerを、60μm≧tcompositelayer≧20μmの範囲に選択する場合、該傾斜組成を有する構造体の膜厚tcompositelayerに対して、金属酸化物マイクロ粒子の平均粒子径dmetaloxideparticleは、12tcompositelayer≧dmetaloxideparticle≧120tcompositelayerの範囲、好ましくは、14tcompositelayer≧dmetaloxideparticle≧110tcompositelayerの範囲に選択することが望ましい。通常、金属酸化物マイクロ粒子の形状は、その外形は、ほぼ球形を示すものを使用する。例えば、湿式法を利用して作製される、金属酸化物マイクロ粒子では、その粒子の体積質量は、ポワソン分布に類する分布を示す。該金属酸化物マイクロ粒子の体積質量の分布は、重量平均値VW、標準偏差√VWの正規分布と近似することができる。その際、金属酸化物マイクロ粒子の粒子径分布も、例えば、重量平均粒子径を指標として、正規分布で近似することができる。この重量平均粒子径に基づき、前記金属酸化物マイクロ粒子の平均粒子径dmetaloxideparticleの選択基準に従って、利用する金属酸化物マイクロ粒子を選択することができる。金属酸化物ナノ粒子自体の平均粒子径dmetaloxidenanoparticleは、1nm~100nmの範囲、例えば、2nm~50nmの範囲、好ましくは、3nm~30nmの範囲、より好ましくは、5nm~20nmの範囲に選択する。金属酸化物マイクロ粒子の平均粒子径dmetaloxideparticleに対して、金属酸化物ナノ粒子自体の平均粒子径dmetaloxidenanoparticleは、1100dmetaloxideparticle≧dmetaloxidenanoparticle≧12000dmetaloxideparticleの範囲、好ましくは、1200dmetaloxideparticle≧dmetaloxidenanoparticle≧11000dmetaloxideparticleの範囲に選択することが望ましい。一方、金属酸化物ナノ粒子の形状は、通常、球形である。第三の形態でも、球形の金属酸化物ナノ粒子を使用する。第三の形態で使用される分散液では、金属酸化物ナノ粒子を構成する金属酸化物に含有される金属種と、金属酸化物マイクロ粒子を構成する金属酸化物に含有される金属種を、異なる金属種に選択することが望ましい。傾斜構造を有する構造体の底面側と、表面側では、該構造体を構成する、金属酸化物マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子の比率として表記される組成が相違し、前記組成が、構造体の膜厚方向、底面側から表面側へと、連続的に変化し、傾斜構造が形成されている。傾斜構造を有する構造体全体において、金属酸化物マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子の比率として表記される組成を平均すると、当然、分散液に含有される、金属酸化物マイクロ粒子の体積比率Vmetaloxideparticleと、金属酸化物ナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleの比Vmetaloxidenanoparticle/Vmetaloxideparticlepasteと等しい、平均組成となっている。傾斜構造を有する構造体の底面側の組成、金属酸化物マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子の比率体積比率;Vmetaloxidenanoparticle/Vmetaloxideparticlebottomと、表面側の組成、金属酸化物マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子の比率体積比率;Vmetaloxidenanoparticle/Vmetaloxideparticletopは、Vmetaloxidenanoparticle/Vmetaloxideparticletop>Vmetaloxidenanoparticle/Vmetaloxideparticlepaste>Vmetaloxidenanoparticle/Vmetaloxideparticlebottomの関係を満たす。第三の形態で使用する分散液中、そのスラリー状の液相に相当する、金属酸化物ナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる金属酸化物ナノ粒子分散液は、金属酸化物ナノ粒子と分散溶媒で構成される。分散溶媒は、室温25°Cにおいて、液体であるもの、すなわち、その融点Tsolventmpが、Tsolventmp<25°Cの条件を満たす有機溶媒である。分散液中に含有される、金属酸化物ナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticle、分散溶媒の体積比率Vsolventの和VmetaloxidenanoparticleVsolventと、金属酸化物ナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleの比Vmetaloxidenanoparticle:VmetaloxidenanoparticleVsolventは、前記金属酸化物ナノ粒子分散液中における、金属酸化物ナノ粒子の含有比率に相当する。使用する分散溶媒として、金属酸化物ナノ粒子の表面に親和性を有する、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルHO-CH2CH2-O-CH2CH2-O-R系溶媒を採用する。一方、使用する分散溶媒は、加熱処理工程中、蒸散されるが、該加熱処理工程の加熱温度Theatingでは、気泡を発生しないことが望ましい。例えば、分散溶媒には、その沸点Tsolventbpが、150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、190°C~300°Cの範囲である、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルHO-CH2CH2-O-CH2CH2-O-R系溶媒を採用することができる。スラリー状の液相として機能する、金属酸化物ナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる金属酸化物ナノ粒子分散液自体は、その液粘度μmediumは、分散溶媒の粘度μsolventよりも高い。一方、第三の形態で使用する分散液は、金属酸化物マイクロ粒子を金属酸化物ナノ粒子分散液中に分散した分散液に相当し、その液粘度μpasteは上昇している。第三の形態で使用する分散液は、その液粘度μpasteは、30Pas~150Pasの範囲、好ましくは、30Pas~100Pasの範囲であることが望ましい。前記の液粘度とすることにより、例えば、スクリーン印刷法を適用して、膜厚が30μmから、最大110μmに達する塗布膜を形成することが可能となる。次に、第三の形態における、分散液を使用して、傾斜構造を有する構造体を形成するプロセスについて、以下に説明する。その傾斜構造を有する構造体の形成プロセスは、分散液を、基材表面に塗布して、塗布膜を形成する、塗布膜形成工程と、該塗布膜を静置し、塗布膜中に含まれる金属酸化物マイクロ粒子を沈降させ、基材表面に金属酸化物マイクロ粒子の集積層を形成する、静置処理工程と、その後、150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingで加熱処理を施すことにより、金属酸化物ナノ粒子の沈降、凝集、ならびに低温焼結を進行させ、前記金属酸化物マイクロ粒子の集積層に由来する下層部と、その上部に前記金属酸化物ナノ粒子の低温焼結体に由来する表層部を具える、傾斜構造を有する構造体を形成する、加熱処理工程を具えている。前記塗布膜形成工程では、分散液を、基材表面に塗布して、塗布膜を形成する際、該塗布膜の膜厚tpastelayer0を、均一にする。そのため、例えば、スクリーン印刷法を利用して、均一な厚さで、分散液を、基材表面に塗布することが望ましい。また、塗布する基材表面は、平坦であり、水平に保持されていることが望ましい。静置処理工程では、該塗布膜を静置し、塗布膜中に含まれる金属酸化物マイクロ粒子を沈降させ、基材表面に金属酸化物マイクロ粒子の集積層を形成する。分散液中に分散されている、金属酸化物マイクロ粒子は、分散溶媒による浮力を受けている。また、分散液中を沈降する際には、その沈降速度に起因する抗力を受ける。金属酸化物マイクロ粒子を構成する金属酸化物の密度ρbulk、分散溶媒の密度ρsolventを用いて、金属酸化物マイクロ粒子に加わる重力と浮力の差は、Fmetaloxideparticlegravity=gρbulk-ρsolventdmetaloxideparticle23と表記できる。金属酸化物マイクロ粒子の沈降速度をVmetaloxideparticlefallingと表記する際、金属酸化物マイクロ粒子は、液粘度μmediumの金属酸化物ナノ粒子分散液中を移動することに起因する抗力を受ける。この抗力Fmetaloxideparticledragは、金属酸化物ナノ粒子分散液の液粘度μmediumに比例し、金属酸化物マイクロ粒子の表面積4πdmetaloxideparticle22に比例し、さらに、沈降速度vmetaloxideparticlefallingの二乗vmetaloxideparticlefalling2に比例すると推定される。Fmetaloxideparticledrag∝μmedium4πdmetaloxideparticle22vmetaloxideparticlefalling2の比例関係があると推定される。従って、Fmetaloxideparticlegravity=Fmetaloxideparticledragに達すると、金属酸化物マイクロ粒子の沈降速度vmetaloxideparticlefallingは、vmetaloxideparticleterminalvelocityで一定となる。その際、Vmetaloxideparticleterminalvelocityは、次のような比例関係を示す。vmetalparticleterminalvelocity∝{1/μmediumdmetaloxideparticleρbulk-ρsolvent}12。分散液中に分散されている、金属酸化物ナノ粒子の沈降速度vmetaloxidenanoparticlefallingも、vmetaloxidenanoparticleterminalvelocityで一定となる。その際、Vmetaloxidenanoparticleterminalvelocityは、次のような比例関係を示す。vmetaloxidenannparticleterminalvelocity∝{1/μsolventdmetaloxidenanoparticleρbulk-ρsolvent}12。従って、vmetaloxideparticleterminalvelocity>vmetaloxidenanoparticleterminalvelocity>0の関係と推測され、金属酸化物マイクロ粒子の沈降が進行する際、金属酸化物ナノ粒子の沈降も相当に進行すると推断される。但し、金属酸化物マイクロ粒子の沈降は、金属酸化物ナノ粒子の沈降よりも早く進行するため、結果的に、金属酸化物マイクロ粒子が、選択的に沈降して、基材表面に金属酸化物マイクロ粒子の含有比率の高い集積層が形成される。従って、静置処理工程を終了した時点では、沈降処理済塗布膜は、金属酸化物マイクロ粒子の含有比率の高い集積層に相当する下層と、この集積層の上面を覆う、分散液層に相当する上層で構成される、二層構造を示す。集積層の厚さtprecipitatelayerの下限は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0と、分散液中に含まれる、金属酸化物マイクロ粒子の体積比率Vmetaloxideparticleに比例する。該集積層中、金属酸化物マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetaloxideparticleoccupancyは、例えば、立方最密充填状態を仮定すると、Vmetaloxideparticleoccupancy>0.523と見積もられる。また、使用する金属酸化物マイクロ粒子のタップ密度ρtapと、該金属酸化物自体の密度ρbulkから、Vmetaloxideparticleoccupancy=ρtapρbulk程度と、見積もることもできる。従って、集積層の厚さtprecipitatelayerの下限は、tprecipitatelayer≧tpastelayer0×Vmetaloxideparticle/100体積×1Vmetaloxideparticleoccupancy程度と見積もることができる。分散液層の厚さtsupernateと、集積層の厚さtprecipitatelayerの合計が、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1に相当しているtpastelayer1≒tsupernatetprecipitatelayer。勿論、静置処理工程の間、塗布膜の上面から、分散溶媒が徐々に蒸散する。そのため、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0より薄くなっている。その差tpastelayer0-tpastelayer1は、静置処理工程の間、塗布膜の表面から蒸散する分散溶媒の液量に比例している。分散溶媒の沸点Tsolventbpは、150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、190°C~300°Cの範囲であるので、静置処理工程の間、塗布膜の表面から蒸散する分散溶媒の液量は僅かな量となっている。従って、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が十分に厚い場合には、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1は、集積層の厚さtprecipitatelayerよりも有意に厚い範囲となっている。すなわち、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が十分に厚い場合には、実際に、沈降処理済塗布膜は、図2に示すように、集積層に相当する下層と、該集積層の上面を覆う、分散液層に相当する上層で構成される、二層構造を示す。前記の条件tpastelayer1>tprecipitatelayerを満たす上では、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0は、少なくとも、110μm≧tpastelayer0≧30μmの範囲、好ましくは、100μm≧tpastelayer0≧30μmの範囲に選択することが望ましい。一方、静置処理工程では、室温、大気圧下において、放置し、その放置時間tsettlingは、300分間≧tsettling≧25分間の範囲、好ましくは、300分間≧tsettling≧30分間の範囲に選択することが望ましい。加熱処理工程では、沈降処理済塗布膜に150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingで加熱処理を施す。その際、沈降処理済塗布膜の上面から、分散溶媒の蒸散が進行する。また、加熱に伴って、上層の分散液層中に含まれる、金属酸化物ナノ粒子の沈降が促進される。結果的に、加熱処理工程で形成される構造体は、金属酸化物マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子の比率として表記される組成は、表面側の組成Vmetaloxidenanoparticle/Vmetaloxideparticletopから、底面側の組成Vmetaloxidenanoparticle/Vmetalparticlebottomへと連続的に変化する、傾斜構造を有するものとなる。分散液の組成が同じであれば、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1と、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0との差tpastelayer0-tpastelayer1は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0に殆ど依存しない。従って、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が減少するとともに、沈降処理済塗布膜において、分散液層の厚さtsupernateと、集積層の厚さtprecipitatelayerの比tsupernatetprecipitatelayerが小さくなる。加熱処理工程では、分散溶媒の蒸散、金属酸化物ナノ粒子の沈降、金属酸化物ナノ粒子の低温焼成体の形成に加えて、集積層を構成する、金属酸化物マイクロ粒子相互の低温焼結も進行する。加熱処理工程において、大気雰囲気下で、加熱処理を実施することが望ましい。また、加熱処理工程において、150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingは、前記分散溶媒の沸点Tsolventbpを超えない範囲に選択することが望ましい。一般に、加熱処理工程における加熱温度Theatingは、高いほど好ましい。従って、前記分散溶媒の沸点Tsolventbpを超えない範囲で、加熱温度Theatingを、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、200°C~300°Cの範囲に選択することが望ましい。一方、加熱処理工程における、加熱時間tsinteringは、加熱温度Theatingに応じて、選択される。具体的には、分散溶媒の蒸散、金属酸化物ナノ粒子の沈降、金属酸化物ナノ粒子の低温焼成体の形成、集積層を構成する金属酸化物マイクロ粒子相互の低温焼結の各過程の進行速度は、加熱温度Theatingに依存するため、加熱時間tsinteringは、加熱温度Theatingに応じて、選択される。加熱温度Theatingを、150°C~300°Cの範囲に選択する場合、加熱時間tsinteringは、360分間≧tsintering≧10分間の範囲、好ましくは、300分間≧tsintering≧15分間の範囲に選択することが望ましい。第四の形態第四の形態で使用する分散液について、以下に説明する。分散液中に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率をVmetalparticle、金属酸化物ナノ粒子の体積比率をVmetaloxidenanoparticle、分散溶媒の体積比率をVsolventとすると、その総和VmetalparticleVmetaloxidenanoparticleVsolventは、100体積となっている。目的の傾斜構造の形成に使用される、フィラーは、金属マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子である。また、使用する分散液中には、バインダー樹脂成分が含有されていない。マイクロ粒子やナノ粒子を構成する金属種や金属酸化物の具体例は先に述べた通りである。金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleは、1μm以上、例えば、5μm~20μmの範囲、好ましくは、7μm~15μmの範囲、より好ましくは、8μm~13μmの範囲に選択することが望ましい。例えば、目的の傾斜構造を有する構造体の膜厚tcompositelayerを、60μm≧tcompositelayer≧20μmの範囲に選択する場合、該傾斜組成を有する構造体の膜厚tcompositelayerに対して、金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleは、12tcompositelayer≧dmetalparticle≧120tcompositelayerの範囲、好ましくは、14tcompositelayer≧dmetalparticle≧110tcompositelayerの範囲に選択することが望ましい。通常、金属マイクロ粒子の形状は、その外形は、ほぼ球形を示すものを使用する。例えば、湿式法を利用して作製される、金属マイクロ粒子では、その粒子の体積質量は、ポワソン分布に類する分布を示す。該金属マイクロ粒子の体積質量の分布は、重量平均値VW、標準偏差√VWの正規分布と近似することができる。その際、金属マイクロ粒子の粒子径分布も、例えば、重量平均粒子径を指標として、正規分布で近似することができる。この重量平均粒子径に基づき、前記金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleの選択基準に従って、利用する金属マイクロ粒子を選択することができる。金属酸化物ナノ粒子自体の平均粒子径dmetaloxidenanoparticleは、1nm~100nmの範囲、例えば、2nm~50nmの範囲、好ましくは、3nm~30nmの範囲、より好ましくは、5nm~20nmの範囲に選択することが望ましい。金属マイクロ粒子の平均粒子径dmetalparticleに対して、金属酸化物ナノ粒子自体の平均粒子径dmetaloxidenanoparticleは、1100dmetalparticle≧dmetaloxidenanoparticle≧12000dmetalparticleの範囲、好ましくは、1200dmetalparticle≧dmetaloxidenanoparticle≧11000dmetalparticleの範囲に選択することが望ましい。一方、金属酸化物ナノ粒子の形状は、通常、球形である。第四の形態でも、球形の金属酸化物ナノ粒子を使用する。第四の形態で使用される分散液では、金属酸化物ナノ粒子を構成する金属酸化物に含有される金属種と、金属マイクロ粒子を構成する金属酸化物に含有される金属種を、異なる金属種に選択することが望ましい。なお、金属酸化物ナノ粒子を構成する金属酸化物に含有される金属種と、金属マイクロ粒子を構成する金属酸化物に含有される金属種を、同じ金属種に選択することもできる。傾斜構造を有する構造体の底面側と、表面側では、該構造体を構成する、金属マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子の比率として表記される組成が相違し、前記組成が、構造体の膜厚方向、底面側から表面側へと、連続的に変化し、傾斜構造が形成されている。傾斜構造を有する構造体全体において、金属マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子の比率として表記される組成を平均すると、当然、分散液に含有される、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleと、金属酸化物ナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleの比Vmetaloxidenanoparticle/Vmetalparticlepasteと等しい、平均組成となっている。傾斜構造を有する構造体の底面側の組成、金属マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子の比率体積比率;Vmetaloxidenanoparticle/Vmetalparticlebottomと、表面側の組成、金属マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子の比率体積比率;Vmetaloxidenanoparticle/Vmetalparticletopは、Vmetaloxidenanoparticle/Vmetalparticletop>Vmetaloxidenanoparticle/Vmetalparticlepaste>Vmetaloxidenanoparticle/Vmetalparticlebottomの関係を満たす。第四の形態で使用する分散液中、そのスラリー状の液相に相当する、金属酸化物ナノ粒子を分散溶媒中に均一に分散してなる金属酸化物ナノ粒子分散液は、金属酸化物ナノ粒子と分散溶媒で構成される。分散溶媒は、室温25°Cにおいて、液体であるもの、すなわち、その融点Tsolventmpが、Tsolventmp<25°Cの条件を満たす有機溶媒である。分散液中に含有される、金属酸化物ナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticle、分散溶媒の体積比率Vsolventの和VmetaloxidenanoparticleVsolventと、金属酸化物ナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleの比Vmetaloxidenanoparticle:VmetaloxidenanoparticleVsolventは、前記金属酸化物ナノ粒子分散液中における、金属酸化物ナノ粒子の含有比率に相当する。使用する分散溶媒として、金属酸化物ナノ粒子の表面に親和性を有する、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルHO-CH2CH2-O-CH2CH2-O-R系溶媒を採用する。一方、使用する分散溶媒は、加熱処理工程中、蒸散されるが、該加熱処理工程の加熱温度Theatingでは、気泡を発生しないことが望ましい。例えば、分散溶媒には、その沸点Tsolventbpが、150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、190°C~300°Cの範囲である、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルHO-CH2CH2-O-CH2CH2-O-R系溶媒を採用することができる。第四の形態で使用する分散液は、その液粘度μpasteは、30Pas~150Pasの範囲、好ましくは、30Pas~100Pasの範囲であることが望ましい。前記の液粘度とすることにより、例えば、スクリーン印刷法を適用して、膜厚が30μmから、最大110μmに達する塗布膜を形成することが可能となる。次に、第四の形態における、分散液を使用して、傾斜構造を有する構造体を形成するプロセスについて、以下に説明する。その傾斜構造を有する構造体の形成プロセスは、分散液を、基材表面に塗布して、塗布膜を形成する、塗布膜形成工程と、該塗布膜を静置し、塗布膜中に含まれる金属マイクロ粒子を沈降させ、基材表面に金属マイクロ粒子の集積層を形成する、静置処理工程と、その後、150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingで加熱処理を施すことにより、金属酸化物ナノ粒子の沈降、凝集、ならびに低温焼結を進行させ、前記金属マイクロ粒子の集積層に由来する下層部と、その上部に前記金属酸化物ナノ粒子の低温焼結体に由来する表層部を具える、傾斜構造を有する構造体を形成する、加熱処理工程を具えている。塗布膜形成工程では、分散液を、基材表面に塗布して、塗布膜を形成する際、該塗布膜の膜厚tpastelayer0を、均一にする。そのため、例えば、スクリーン印刷法を利用して、均一な厚さで、分散液を、基材表面に塗布することが望ましい。また、塗布する基材表面は、平坦であり、水平に保持されていることが望ましい。静置処理工程では、該塗布膜を静置し、塗布膜中に含まれる金属マイクロ粒子を沈降させ、基材表面に金属マイクロ粒子の集積層を形成する。分散液中に分散されている、金属マイクロ粒子は、分散溶媒による浮力を受けている。また、分散液中を沈降する際には、その沈降速度に起因する抗力を受ける。金属マイクロ粒子を構成する金属の密度ρbulk、分散溶媒の密度ρsolventを用いて、金属マイクロ粒子に加わる重力と浮力の差は、Fmetalparticlegravity=gρbulk-ρsolventdmetalparticle23と表記できる。金属マイクロ粒子の沈降速度をVmetalparticlefallingと表記する際、金属マイクロ粒子は、液粘度μmediumの金属酸化物ナノ粒子分散液中を移動することに起因する抗力を受ける。この抗力Fmetalparticledragは、金属酸化物ナノ粒子分散液の液粘度μmediumに比例し、金属マイクロ粒子の表面積4πdmetalparticle22に比例し、さらに、沈降速度vmetalparticlefallingの二乗vmetalparticlefalling2に比例すると推定される。Fmetalparticledrag∝μmedium4πdmetalparticle22vmetalparticlefalling2の比例関係があると推定される。従って、Fmetalparticlegravity=Fmetalparticledragに達すると、金属マイクロ粒子の沈降速度vmetalparticlefallingは、vmetalparticleterminalvelocityで一定となる。その際、Vmetalparticleterminalvelocityは、次のような比例関係を示す。vmetalparticleterminalvelocity∝{1/μmediumdmetalparticleρbulk-ρsolvent}12。分散液中に分散されている、金属酸化物ナノ粒子の沈降速度vmetaloxidenanoparticlefallingも、vmetaloxidenanoparticleterminalvelocityで一定となる。その際、Vmetaloxidenanoparticleterminalvelocityは、次のような比例関係を示す。vmetaloxidenannparticleterminalvelocity∝{1/μsolventdmetaloxidenanoparticleρbulk-ρsolvent}12。従って、vmetaloxideparticleterminalvelocity>vmetaloxidenanoparticleterminalvelocity>0の関係と推測され、金属マイクロ粒子の沈降が進行する際、金属酸化物ナノ粒子の沈降も相当に進行すると推断される。但し、金属マイクロ粒子の沈降は、金属酸化物ナノ粒子の沈降よりも早く進行するため、結果的に、金属マイクロ粒子が、選択的に沈降して、基材表面に金属マイクロ粒子の含有比率の高い集積層が形成される。従って、静置処理工程を終了した時点では、沈降処理済塗布膜は、金属マイクロ粒子の含有比率の高い集積層に相当する下層と、この集積層の上面を覆う、分散液層に相当する上層で構成される、二層構造を示す。集積層の厚さtprecipitatelayerの下限は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0と、分散液中に含まれる、金属マイクロ粒子の体積比率Vmetalparticleに比例する。該集積層中、金属マイクロ粒子の占める体積比率充填率Vmetalparticleoccupancyは、例えば、立方最密充填状態を仮定すると、Vmetalparticleoccupancy>0.523と見積もられる。また、使用する金属マイクロ粒子のタップ密度ρtapと、該金属自体の密度ρbulkから、Vmetalparticleoccupancy=ρtapρbulk程度と、見積もることもできる。従って、集積層の厚さtprecipitatelayerの下限は、tprecipitatelayer≧tpastelayer0×Vmetalparticle/100体積×1Vmetalparticleoccupancy程度と見積もることができる。分散液層の厚さtsupernateと、集積層の厚さtprecipitatelayerの合計が、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1に相当しているtpastelayer1≒tsupernatetprecipitatelayer。勿論、静置処理工程の間、塗布膜の上面から、分散溶媒が徐々に蒸散する。そのため、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0より薄くなっている。その差tpastelayer0-tpastelayer1は、静置処理工程の間、塗布膜の表面から蒸散する分散溶媒の液量に比例している。分散溶媒の沸点Tsolventbpは、150°C~350°Cの範囲、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、190°C~300°Cの範囲であるので、静置処理工程の間、塗布膜の表面から蒸散する分散溶媒の液量は僅かな量となっている。従って、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が十分に厚い場合には、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1は、集積層の厚さtprecipitatelayerよりも有意に厚い範囲となっている。すなわち、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が十分に厚い場合には、実際に、沈降処理済塗布膜は、図2に示すように、集積層に相当する下層と、該集積層の上面を覆う、分散液層に相当する上層で構成される、二層構造を示す。前記の条件tpastelayer1>tprecipitatelayerを満たす上では、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0は、少なくとも、110μm≧tpastelayer0≧30μmの範囲、好ましくは、100μm≧tpastelayer0≧30μmの範囲に選択することが望ましい。一方、静置処理工程では、室温、大気圧下において、放置し、その放置時間tsettlingは、300分間≧tsettling≧25分間の範囲、好ましくは、300分間≧tsettling≧30分間の範囲に選択することが望ましい。加熱処理工程では、沈降処理済塗布膜に150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingで加熱処理を施す。その際、沈降処理済塗布膜の上面から、分散溶媒の蒸散が進行する。また、加熱に伴って、上層の分散液層中に含まれる、金属酸化物ナノ粒子の沈降が促進される。結果的に、加熱処理工程で形成される構造体は、金属酸化物マイクロ粒子と金属酸化物ナノ粒子の比率として表記される組成は、表面側の組成Vmetaloxidenanoparticle/Vmetaloxideparticletopから、底面側の組成Vmetaloxidenanoparticle/Vmetalparticlebottomへと連続的に変化する、傾斜構造を有するものとなる。分散液の組成が同じであれば、沈降処理済塗布膜の膜厚tpastelayer1と、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0との差tpastelayer0-tpastelayer1は、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0に殆ど依存しない。従って、当初の塗布膜の膜厚tpastelayer0が減少するとともに、沈降処理済塗布膜において、分散液層の厚さtsupernateと、集積層の厚さtprecipitatelayerの比tsupernatetprecipitatelayerが小さくなる。加熱処理工程では、分散溶媒の蒸散、金属酸化物ナノ粒子の沈降、金属酸化物ナノ粒子の低温焼成体の形成に加えて、集積層中に含まれる、金属マイクロ粒子相互の低温焼結も進行する。加熱処理工程において、大気雰囲気下で、加熱処理を実施することが望ましい。また、加熱処理工程において、150°C~300°Cの範囲に選択する温度Theatingは、前記分散溶媒の沸点Tsolventbpを超えない範囲に選択することが望ましい。一般に、加熱処理工程における加熱温度Theatingは、高いほど好ましい。従って、前記分散溶媒の沸点Tsolventbpを超えない範囲で、加熱温度Theatingを、好ましくは、170°C~300°Cの範囲、より好ましくは、200°C~300°Cの範囲に選択することが望ましい。一方、加熱処理工程における、加熱時間tsinteringは、加熱温度Theatingに応じて、選択される。具体的には、分散溶媒の蒸散、金属酸化物ナノ粒子の沈降、金属酸化物ナノ粒子の低温焼成体の形成、集積層中に含まれる金属マイクロ粒子相互の低温焼結の各過程の進行速度は、加熱温度Theatingに依存するため、加熱時間tsinteringは、加熱温度Theatingに応じて、選択される。加熱温度Theatingを、150°C~300°Cの範囲に選択する場合、加熱時間tsinteringは、360分間≧tsintering≧10分間の範囲、好ましくは、300分間≧tsintering≧15分間の範囲に選択することが望ましい。以下に、具体例を示し、本発明をより具体的に説明する。これらの具体例は、本発明にかかる最良の実施形態の一例ではあるものの、本発明は、これら具体例の形態に限定されるものではない。実施例1本実施例1の分散液は、下記の原料を用いて調製されている。金属マイクロ粒子として、湿式法で作製される三井金属株製の銅粉末1400YM平均粒子径4μmを使用する。公表されている、その粒度分布は、D10は、3.32μm、D50は、4.21μm、D90は、5.63μmである。また、タップ密度は、5.5gcm3と公表されており、金属銅の密度8.95gcm3の61.5に相当している。従って、該銅粉末1400YMを最密充填に類する状態とすると、その隙間の体積比率は、38.5体積程度となると推定される。金属ナノ粒子分散液として、ハリマ化成製Agナノ粒子ヘプタン分散液を利用する。該分散液中に分散されている、Agナノ粒子の平均粒子径は、12nmである。このAgナノ粒子の表面には、被覆剤分子ドデシルアミンの表面被覆分子層が形成されている。該ヘプタン分散液は、ヘプタン沸点98.42°Cを60.8質量部、Agナノ粒子を35質量部、被覆剤分子ドデシルアミンを4.2質量部含んでいる。高沸点の非極性有機溶媒として、石油系ノンアロマ炭化水素溶剤である、JX日鉱日石エネルギー製AFソルベント7号を使用する。該AFソルベント7号の沸点は、259~282°Cである。ハリマ化成製Agナノ粒子ヘプタン分散液5質量部Ag固形分で2質量部、三井金属株製1400YM8質量部、JX日鉱日石エネルギー製AFソルベント7号0.5質量部を均一に混合する。得られる分散液中に含まれる、ヘプタンを、ロータリーエバポレーターで脱溶剤する。ヘプタンを除去した後、得られるペースト状の分散液を、撹拌脱泡機で撹拌して、銅粉末を均一に分散させ、分散液を得る。調製された分散液は、銅粉末1400YM8質量部当たり、Agナノ粒子2質量部、その被覆剤分子のドデシルアミン0.24質量部、分散溶媒のAFソルベント7号0.5質量部を含有している。銅:銀の比率質量比、8質量部:2質量部は、原子数比に換算すると、87:13に相当している。体積比率に換算すると、銅粉末1400YMの体積比率Vmetalparticleは44.9体積、Agナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleは9.6体積、被覆剤分子ドデシルアミンの体積比率Vcoatingmoleculeは14.9体積、分散溶媒AFソルベント7号の体積比率Vsolventは30.6体積となっている。該実施例1の分散液中における、銅粉末1400YMの体積比率VmetalparticleとAgナノ粒子の体積比率Vnanoparticleの総和VmetalparticleVmetalnanoparticleは、54.5体積である。該実施例1の分散液の液粘度は、15Pasスパイラル回転粘度計10rpm25°Cであった。調製された分散液を、スライドガラス上に、5mm×30mmのパターンで塗布した。該分散液塗布膜の平均厚さtpastelayer0は、80μmであった。該分散液塗布膜を、室温で60min静置した後、N24volH2水素雰囲気下、250°C、30min加熱処理して、焼成処理を施した。得られた焼成物の平均膜厚は、58μmであった。該焼成物を前記平均膜厚の均一な導電体と仮定して、測定したシート抵抗値から、体積固有抵抗率を算出した。算出された体積固有抵抗率は、6μΩcmであった。なお、金属銅の抵抗率は、1.673μΩcm20°Cであり、金属銀の抵抗率は、1.59μΩcm20°Cである。焼成物の平均膜厚と分散液塗布膜の平均厚さの比は、58/80=0.725である。なお、銅粉末が、最密充填に類する状態で集積層を構成すると仮定すると、該集積層中、銅粉末が占める体積比率は、61.5体積と推定される。その仮定条件における、該銅粉末の集積層の厚さtprecipitatelayerは、80×Vmetalparticle100×10061.5≒58.4μmと推定される。また、該銅粉末の集積層の隙間空間の体積は、該集積層中、銅粉末が占める体積を基準として、その38.5/61.5に相当すると推定される。一方、沈降処理工程中、分散溶媒は僅かに蒸散するので、該銅粉末の集積層の上部に残る分散液層の厚さtsupernateは、80-tprecipitatelayerrを超えないと推定される。この分散液層中に含まれる、Agナノ粒子の体積比率は、VmetalnanoparticleVmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolvent≒0.17と見積もられる。EDX装置を利用し、得られた焼成膜の裏面と表面の組成分析を行った。EDXを利用する特性X線分析の結果、裏面における平均組成において、銅と銀の比率質量比は82:18であった。一方、表面における平均組成において、銅と銀の比率質量比は54:46であった。なお、分散液中に含有される、銅粉末とAgナノ粒子の質量比は、8質量部:2質量部80:20である。従って、得られた焼成膜中、銅と銀の比率質量比は裏面から表面に向かって、82:18から54:46へと連続的に変化していると判断され、傾斜組成を有する構造体となっている。実施例2本実施例2の分散液は、下記の原料を用いて調製されている。金属マイクロ粒子として、湿式法で作製される三井金属株製の銅粉末1400YM平均粒子径4μmを使用する。前記金属マイクロ粒子に加えて、湿式法で作製される三井金属株製の銅微細粉末1050Y平均粒子径1μmを使用する。公表されている、その粒度分布は、D10は、0.53μm、D50は、0.75μm、D90は、1.11μmである。ハリマ化成製Agナノ粒子ヘプタン分散液5質量部Ag固形分で2質量部、三井金属株製1400YM6.56質量部、1050Y144質量部、JX日鉱日石エネルギー製AFソルベント7号0.5質量部を均一に混合する。得られる分散液中に含まれる、ヘプタンを、ロータリーエバポレーターで脱溶剤する。ヘプタンを除去した後、得られるペースト状の分散液を、撹拌脱泡機で撹拌して、銅粉末、銅微細粉末を均一に分散させ、分散液を得る。調製された分散液は、銅粉末1400YM6.56質量部と銅微細粉末1050Y144質量部の合計、8質量部当たり、Agナノ粒子2質量部、その被覆剤分子のドデシルアミン0.24質量部、分散溶媒のAFソルベント7号0.5質量部を含有している。従って、銅:銀の比率質量比、8質量部:2質量部は、原子数比に換算すると、87:13に相当している。体積比率に換算すると、銅粉末1400YMの体積比率Vmetalparticleは36.8体積、銅微細粉末1050Yの体積比率Vmetalfineparticleは8.1体積、Agナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleは9.6体積、被覆剤分子ドデシルアミンの体積比率Vcoatingmoleculeは14.9体積、分散溶媒AFソルベント7号の体積比率Vsolventは30.6体積となっている。実施例2の分散液中における、銅粉末1400YMの体積比率Vmetalparticle、銅微細粉末1050Yの体積比率Vmetalfineparticle、Agナノ粒子の体積比率Vnanoparticleの総和VmetalparticleVmetalfineparticleVmetalnanoparticleは、54.5体積である。該実施例2の分散液の液粘度は、20Pasスパイラル回転粘度計10rpm25°Cであった。調製された分散液を、スライドガラス上に、5mm×30mmのパターンで塗布した。該分散液塗布膜の平均厚さは、78μmであった。該分散液塗布膜を、室温で60min静置した後、N24volH2水素雰囲気下、250°C、30min加熱処理して、焼成処理を施した。得られた焼成物の平均膜厚は、55μmであった。該焼成物を前記平均膜厚の均一な導電体と仮定して、測定したシート抵抗値から、体積固有抵抗率を算出した。算出された体積固有抵抗率は、5.6μΩcmであった。なお、金属銅の抵抗率は、1.673μΩcm20°Cであり、金属銀の抵抗率は、1.59μΩcm20°Cである。焼成物の平均膜厚と分散液塗布膜の平均厚さの比は、55/78≒0.705である。なお、沈降する銅粉末が、最密充填に類する状態で集積層を構成すると仮定すると、該集積層中、銅粉末が占める体積比率は、61.5体積と推定される。その際、銅微細粉末も同時に沈降し、銅粉末の隙間に、銅微細粉末が取り込まれると仮定する。その仮定条件における、該銅粉末と銅微細粉末の集積層の厚さtprecipitatelayerは、78×Vmetalparticle100×10061.5≒46.7μmと推定される。該銅粉末と銅微細粉末の集積層中、銅粉末と銅微細粉末が占める体積比率の合計は、61.5体積×8/6.56≒75.0体積と推定される。また、該銅粉末と銅微細粉末の集積層の隙間空間の体積は、該集積層中、銅粉末と銅微細粉末が占める体積の合計を基準として、その25.0/75.0に相当すると推定される。一方、沈降処理工程中、分散溶媒は僅かに蒸散するので、該銅粉末の集積層の上部に残る分散液層の厚さtsupernateは、78-tprecipitatelayerを超えないと推定される。この分散液層中に含まれる、Agナノ粒子の体積比率は、VmetalnanoparticleVmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolvent≒0.17と見積もられる。EDX装置を利用し、得られた焼成膜の裏面と表面の組成分析を行った。EDXを利用する特性X線分析の結果、裏面における平均組成において、銅と銀の比率質量比は82:18であった。一方、表面における平均組成において、銅と銀の比率質量比は57:43であった。なお、分散液中に含有される、銅粉末とAgナノ粒子の質量比は、8質量部:2質量部80:20である。従って、得られた焼成膜中、銅と銀の比率質量比は裏面から表面に向かって、82:18から57:43へと連続的に変化していると判断され、傾斜組成を有する構造体となっている。参考例参考例の分散液は、下記の原料を用いて調製されている。三井金属株製の銅粉末1400YM平均粒子径4μmに代えて、三井金属株製の銅微細粉末1050Y平均粒子径dmetalparticle1μmを使用する。なお、タップ密度ρCubulkは、4.3gcm3と公表されており、金属銅の密度ρCu8.95gcm3の48.0に相当している。従って、該銅微細粉末を最密充填に類する状態とすると、その隙間の体積比率は、52.0体積程度となると推定される。ハリマ化成製Agナノ粒子ヘプタン分散液5質量部Ag固形分で2質量部、三井金属株製1050Y8質量部、JX日鉱日石エネルギー製AFソルベント7号0.5質量部を均一に混合する。得られる分散液中に含まれる、ヘプタンを、ロータリーエバポレーターで脱溶剤する。ヘプタンを除去した後、得られるペースト状の分散液を、撹拌脱泡機で撹拌して、銅粉末、銅微細粉末を均一に分散させ、分散液を得る。調製された分散液は、銅微細粉末1050Y8質量部当たり、Agナノ粒子2質量部、その被覆剤分子のドデシルアミン0.24質量部、分散溶媒のAFソルベント7号0.5質量部を含有している。従って、銅:銀の比率質量比、8質量部:2質量部は、原子数比に換算すると、87:13に相当している。前記組成を、体積比率に換算すると、銅微細粉末1050Yの体積比率Vmetalfineparticleは44.9体積、Agナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleは9.6体積、被覆剤分子ドデシルアミンの体積比率Vcoatingmoleculeは14.9体積、分散溶媒AFソルベント7号の体積比率Vsolventは30.6体積となっている。該参考例の分散液中における、銅微細粉末1050Yの体積比率Vmetalfineparticle、Agナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの総和VmetalfineparticleVmetalnanoparticleは、54.5体積である。該参考例の分散液の液粘度は、35Pasスパイラル回転粘度計10rpm25°Cであった。調製された分散液を、スライドガラス上に、5mm×30mmのパターンで塗布した。該分散液塗布膜の平均厚さは、58μmであった。該分散液塗布膜を、室温で60min静置した後、N24volH2水素雰囲気下、250°C、30min加熱処理して、焼成処理を施した。得られた焼成物の平均膜厚は、35μmであった。該焼成物を前記平均膜厚の均一な導電体と仮定して、測定したシート抵抗値から、体積固有抵抗率を算出した。算出された体積固有抵抗率は、6.5μΩcmであった。なお、金属銅の抵抗率は、1.673μΩcm20°Cであり、金属銀の抵抗率は、1.59μΩcm20°Cである。焼成物の平均膜厚と分散液塗布膜の平均厚さの比は、35/58≒0.603である。なお、沈降する銅微細粉末が、最密充填に類する状態で集積層を構成すると仮定すると、該集積層中、銅粉末が占める体積比率は、48.0体積と推定される。その仮定条件における、該銅微細粉末の集積層の厚さtprecipitatelayerは、58×Vmetalfineparticle100×10048.0≒54.2μmと推定される。また、該銅微細粉末の集積層の隙間空間の体積は、該集積層中、銅微細粉末が占める体積の合計を基準として、その52.0/48.0に相当すると推定される。一方、沈降処理工程中、分散溶媒は僅かに蒸散するので、該銅粉末の集積層の上部に残る分散液層の厚さtsupernateは、58-tprecipitatelayerを超えないと推定される。この分散液層中に含まれる、Agナノ粒子の体積比率は、VmetalnanoparticleVmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolvent≒0.17と見積もられる。EDX装置を利用し、得られた焼成膜の裏面と表面の組成分析を行った。EDXを利用する特性X線分析の結果、裏面における平均組成において、銅と銀の比率質量比は81:19であった。一方、表面における平均組成において、銅と銀の比率質量比は74:26であった。なお、分散液中に含有される、銅微細粉末とAgナノ粒子の質量比は、8質量部:2質量部80:20である。従って、得られた焼成膜中、銅と銀の比率質量比は裏面から表面に向かって、81:19から74:26へと僅かに変化していると判断される。変化量は極僅かであるが、一応、傾斜組成を有する構造体となっている。実施例B-1本実施例B-1の分散液は、下記の原料を用いて調製されている。金属酸化物マイクロ粒子として、宇部マテリアルズ株製の酸化マグネシウム粉末RF-10Cを使用する。公表されている、平均粒子径dmetaloxideparticleは10.6μmである。また、タップ密度ρMgObulkは、1.9gcm3と測定され、酸化マグネシウムの密度ρMgO3.65gcm3の52.5に相当している。従って、該酸化マグネシウムを最密充填に類する状態とすると、その隙間の体積比率は、47.5体積程度となると推定される。金属ナノ粒子分散液として、ハリマ化成製Agナノ粒子ヘプタン分散液を利用する。該分散液中に分散されている、Agナノ粒子の平均粒子径dmetalnanoparticleは、12nmである。このAgナノ粒子の表面には、被覆剤分子ドデシルアミンの表面被覆分子層が形成されている。該ヘプタン分散液は、ヘプタン沸点98.42°Cを60.9質量部、Agナノ粒子を34質量部、被覆剤分子ドデシルアミンを4.1質量部含んでいる。金属銀の密度ρAgは、10.49gcm3である。高沸点の非極性有機溶媒として、石油系ノンアロマ炭化水素溶剤である、JX日鉱日石エネルギー製AFソルベント7号を使用する。該AFソルベント7号の沸点Tsolventは、259~282°Cである。ハリマ化成製Agナノ粒子ヘプタン分散液2.95質量部Ag固形分で1質量部、酸化マグネシウム1.77質量部、JX日鉱日石エネルギー製AFソルベント7号0.4質量部を均一に混合する。得られる分散液中に含まれる、ヘプタンを、ロータリーエバポレーターで脱溶剤する。ヘプタンを除去した後、得られるペースト状の分散液を、撹拌脱泡機で撹拌して、酸化マグネシウム粉末を均一に分散させ、分散液を得る。調製された分散液は、酸化マグネシウム粉末1.77質量部当たり、Agナノ粒子1質量部、その被覆剤分子のドデシルアミン0.12質量部、分散溶媒のAFソルベント7号0.4質量部を含有している。脱溶剤処理の間における、AFソルベント7号の蒸散は起こっていない。酸化マグネシウムの分子量:40.3044、銀の原子量:107.8682を考慮すると、酸化マグネシウム:銀の比率質量比、1.77質量部:1質量部は、原子数比に換算すると、83:17に相当している。体積比率に換算すると、酸化マグネシウムの体積比率Vmetaloxideparticleは39.9体積、Agナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleは7.8体積、被覆剤分子ドデシルアミンの体積比率Vcoatingmoleculeは12.2体積、分散溶媒AFソルベント7号の体積比率Vsolventは40.1体積となっている。該実施例B-1の金属酸化物分散液中における、酸化マグネシウム粉末の体積比率VmetaloxideparticleとAgナノ粒子の体積比率Vnanoparticleの総和VmetaloxideparticleVnanoparticleは、47.7体積である。分散液の液粘度は、15Pasスパイラル回転粘度計10rpm25°Cであった。調製された分散液を、スライドガラス上に、5mm×30mmのパターンで塗布した。該分散液塗布膜の平均厚さtpastelayer0は、80μmであった。該分散液塗布膜を、室温で60min静置した後、大気雰囲気下、250°C、30min加熱処理して、焼成処理を施した。得られた焼成物の平均膜厚tsinteredfilmは、65μmであった。焼成物の平均膜厚tsinteredfilmと分散液塗布膜の平均厚さtpastelayer0の比は、65/80=0.813である。分散液中における、酸化マグネシウム粉末の体積比率VmetaloxideparticleとAgナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの総和VmetaloxideparticleVmetalnanoparticleは、47.7体積であるので、該焼成物中、酸化マクネシウム粉末とAgナノ粒子が占める体積比率は、47.7体積/81.3体積≒0.58758.7体積と見積もられる。なお、酸化マグネシウム粉末が、最密充填に類する状態で集積層を構成すると仮定すると、該集積層中、酸化マグネシウム粉末が占める体積比率は、52.5体積と推定される。その仮定条件における、該酸化マグネシウム粉末の集積層の厚さtprecipitatelayerは、80×Vmetaloxideparticle100×10052.5≒60.8μmと推定される。また、該酸化マグネシウム粉末の集積層の隙間空間の体積は、該集積層中、酸化マグネシウム粉末が占める体積を基準として、その47.5/52.5に相当すると推定される。一方、沈降処理工程中、分散溶媒は僅かに蒸散するので、該酸化マグネシウム粉末の集積層の上部に残る分散液層の厚さtsupernateは、80-tprecipitatelayerを超えないと推定される。この分散液層中に含まれる、Agナノ粒子の体積比率は、VmetalnanoparticleVmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolvent≒0.13と見積もられる。EDX装置を利用し、得られた焼成膜の裏面と表面の組成分析を行った。EDXを利用する特性X線分析の結果、裏面における平均組成において、酸化マグネシウムと銀の比率質量比は70:30であった。一方、表面における平均組成において、酸化マグネシウムと銀の比率質量比は4:96であった。なお、分散液中に含有される、酸化マグネシウム粉末とAgナノ粒子の質量比は、1.77質量部:1質量部64:36である。得られた焼成膜は、酸化マグネシウム粉末とAgナノ粒子で形成されていると仮定すると、裏面における平均組成;酸化マグネシウムと銀の比率質量比70:30は、酸化マグネシウム粉末とAgナノ粒子の比率体積比に換算すると、70/3.65:30/10.49≒19.18:2.86≒75.1:24.9である。表面における平均組成;酸化マグネシウムと銀の比率質量比4:96は、酸化マグネシウム粉末とAgナノ粒子の比率体積比に換算すると、4/3.65:96/10.49≒1.096:9.152≒10.69:89.31である。なお、分散液中の酸化マグネシウム粉末の体積比率VmetaloxideparticleとAgナノ粒子の体積比率Vmetalnanoparticleの比Vmetaloxideparticle:Vmetalnanoparticlepasteは、83.65:16.35である。裏面における体積比率Vmetaloxideparticle:Vmetalnanoparticlebottom≒75.1:24.9と表面における体積比率Vmetaloxideparticle:Vmetalnanoparticletop≒10.69:89.31は、Vmetaloxideparticle/Vmetalnanoparticlebottom>Vmetaloxideparticle/Vmetalnanoparticlepaste>Vmetaloxideparticle/Vmetalnanoparticletopの条件を満足している。従って、得られた焼成膜では、その表面にも酸化マグネシウム粉末が実質的に存在していない状態であると判断される。換言すると、静置工程を設け、酸化マグネシウム粉末の集積層を形成しており、その結果、図2に示すような、マイクロ粒子の集積層と、ナノ粒子と分散溶媒からなる上層との分離が達成されていると判断される。なお、1-VmetaloxideparticleoccupancyVmetaloxideparticleoccupancy=47.5/52.5、{Vmetalnanoparticle/VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolvent}≒0.13の場合、Vmetaloxideparticleoccupancy/[1-Vmetaloxideparticleoccupancy{Vmetalnanoparticle/VmetalnanoparticleVcoatingmoleculeVsolvent}]は、約88.211.8となる。裏面における体積比率Vmetaloxideparticle/Vmetalnanoparticlebottom≒75.1:24.9は、88.211.8より小さく、酸化マグネシウム粉末の集積層が形成される際、Agナノ粒子の沈降も若干進行していると推断される。従って、得られた焼成膜中、酸化マグネシウムと銀の比率質量比は裏面から表面に向かって、70:30から4:96へと連続的に変化している、傾斜組成を有する構造体となっている。実際に作製された傾斜組成を有する構造体中の組成変化の測定結果を、図3に示す。実施例B-2本実施例B-2の分散液は、下記の原料を用いて調製されている。金属酸化物マイクロ粒子として、日進ケムコ株製の酸化第二銅粉末商品名:N-130を使用する。公表されている、平均粒子径dmetaloxideparticleは5μm、タップ密度ρCuObulkは、2.6gcm3であり、酸化第二銅の密度ρCuO6.31gcm3の41.2に相当している。従って、該酸化第二銅粉末を最密充填に類する状態とすると、その隙間の体積比率は、58.8体積程度となると推定される。金属酸化物ナノ粒子として、日本アエロジル株製の酸化アルミニウム粉末商品名:AEROXIDERAluCを使用する。公表されている、平均粒子径dmetaloxidenanoparticleは15nmである。酸化アルミニウムの密度ρAl2O3は、3.97gcm3である。高沸点の有機溶媒として、ヘキシルカルビトールを使用する。該ヘキシルカルビトールの沸点Tsolventは、258°Cであり、密度ρsolventは0.935g/cm3である。なお、ヘキシルカルビトールジエチレングリコールモノヘキシルエーテル:HO-CH2CH2-O-CH2CH2-O-C6H13は、少なくとも、200°C以上に加熱すると、酸化第二銅CuOと反応し、酸化第二銅CuOを金属銅Cuに還元することが可能である。但し、ヘキシルカルビトールは、酸化アルミニウムAl2O3を金属アルミニウムAlに還元する反応性はない。6.31-0.935/5=1.08gcm3/μmは、3.97-0.935/0.015=202gcm3/μmよりも小さいので、酸化第二銅粉末は、酸化アルミニウム粉末よりも、沈降速度が速いと推断される。酸化第二銅粉末1質量部、酸化アルミニウム粉末2質量部、ヘキシルカルビトール1質量部、メタノール10質量部を均一に混合する。得られる分散液中に含まれる、メタノールを、ロータリーエバポレーターで脱溶剤する。メタノールを除去した後、得られるペースト状の分散液を、撹拌脱泡機で撹拌して、酸化第二銅粉末を均一に分散させ、分散液を得る。調製された分散液は、酸化第二銅粉末1質量部当たり、酸化アルミニウム粉末2質量部、分散溶媒のヘキシルカルビトール1質量部を含有している。脱溶剤処理の間における、ヘキシルカルビトールの蒸散は起こっていない。体積比率に換算すると、酸化第二銅粉末の体積比率Vmetaloxideparticleは、9.2体積、酸化アルミニウムナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleは、29.1体積、分散溶媒ヘキシルカルビトールの体積比率Vsolventは、61.7体積となっている。該実施例B-2の分散液中における、酸化第二銅粉末の体積比率Vmetaloxideparticleと酸化アルミニウムナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleの総和VmetaloxideparticleVmetaloxidenanoparticleは、38.3体積である。分散液の液粘度は、50Pasスパイラル回転粘度計10rpm、25°Cであった。調製された分散液を、スライドガラス上に、5mm×30mmのパターンで塗布した。該分散液塗布膜の平均厚さtpastelayer0は、80μmであった。該分散液塗布膜を、室温で60min静置した後、大気雰囲気下、250°C、30min加熱処理して、焼成処理を施した。得られた焼成物の平均膜厚tsinteredfilmは、50μmであった。焼成物の平均膜厚tsinteredfilmと分散液塗布膜の平均厚さtsinteredfilmの比は、50/80=0.625である。金属酸化物分散液中における、酸化第二銅粉末の体積比率Vmetaloxideparticleと酸化アルミニウムナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleの総和VmetaloxideparticleVmetaloxidenanoparticleは、38.3体積であるので、該焼成物中、酸化第二銅粉末と酸化アルミニウムナノ粒子が占める体積比率は、38.3体積/62.5体積≒0.61361.3体積と見積もられる。なお、酸化第二銅粉末が、最密充填に類する状態で集積層を構成すると仮定すると、該集積層中、酸化第二銅粉末が占める体積比率は、41.2体積と推定される。その仮定条件における、該酸化第二銅粉末の集積層の厚さtprecipitatelayerは、80×Vmetaloxideparticle100×10041.2≒17.9μmと推定される。また、該酸化第二銅粉末の集積層の隙間空間の体積は、該集積層中、酸化第二銅粉末が占める体積を基準として、その58.8/41.2に相当すると推定される。一方、静置沈降処理工程中、分散溶媒は僅かに蒸散するので、該酸化第二銅粉末の集積層の上部に残る分散液層の厚さtsupernateは、80-tprecipitatelayerを超えないと推定される。この分散液層中に含まれる、酸化アルミニウムナノ粒子の体積比率は、VmetaloxidenanoparticleVmetaloxidenanoparticleVsolvent≒0.32と見積もられる。EDX装置を利用し、得られた焼成膜の裏面と表面の組成分析を行った。EDXを利用する特性X線分析の結果、裏面における平均組成において、銅とアルミニウムの比率質量比は78:22であった。一方、表面における平均組成において、銅とアルミニウムの比率質量比は41:59であった。なお、分散液中に含有される、酸化第二銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子の質量比は、1質量部:1質量部50:50であり、銅とアルミニウムの質量比は、0.8質量部:0.53質量部60:40である。得られた焼成膜は、酸化第二銅CuO粉末と酸化アルミウムAl2O3ナノ粒子で形成されていると仮定すると、裏面における平均組成;銅とアルミニウムの比率質量比78:22は、酸化第二銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子の比率質量比に換算すると、79.55/63.546×78:101.9/2×26.98×22≒97.64:41.55≒70.15:29.85となる。酸化第二銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子の比率体積比に換算すると、70.15/6.31:29.85/3.97≒11.12:7.52≒59.66:40.34である。表面における平均組成;銅とアルミニウムの比率質量比41:59は、酸化第二銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子の比率質量比に換算すると、79.55/63.546×41:101.9/2×26.98×59≒51.32:111.42≒31.53:68.47となる。酸化第二銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子の比率体積比に換算すると、31.53/6.31:68.47/3.97≒5.00:17.25≒22.47:77.53である。なお、分散液中の酸化第二銅粉末の体積比率Vmetaloxideparticleと酸化アルミニウムナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleの比Vmetaloxideparticle:Vmetaloxidenanoparticlepasteは、24.02:75.98である。裏面における体積比率Vmetaloxideparticle:Vmetaloxidenanoparticlebottom≒59.66:40.34と表面における体積比率Vmetaloxideparticle:Vmetaloxidenanoparticletop≒22.47:77.53は、Vmetaloxideparticle/Vmetaloxidenanoparticlebottom>Vmetaloxideparticle/Vmetaloxidenanoparticlepaste>Vmetaloxideparticle/Vmetaloxidenanoparticletopの条件を満足している。さらに、得られた焼成膜では、その表面にも酸化第二銅粉末が存在している状態であると判断される。換言すると、静置工程を設け、酸化第二銅粉末の集積層を形成しているが、図2に示すような、マイクロ粒子の集積層と、ナノ粒子と分散溶媒からなる上層との分離は達成されていないと判断される。なお、1-VmetaloxideparticleoccupancyVmetaloxideparticleoccupancy=58.8/41.2、{Vmetaloxidenanoparticle/VmetaloxidenanoparticleVsolvent}≒0.32の場合、Vmetaloxideparticleoccupancy/[1-Vmetaloxideparticleoccupancy{Vmetaloxidenanoparticle/VmetaloxidenanoparticleVsolvent}]は、約68.731.3となる。裏面における体積比率Vmetaloxideparticle/Vmetaloxidenanoparticlebottom≒59.66/40.34は、68.731.3より小さく、酸化第二銅粉末の集積層が形成される際、酸化アルミニウムナノ粒子の沈降も進行していると推断される。従って、得られた焼成膜中、酸化第二銅と酸化アルミニウムに由来する、銅とアルミニウムの比率質量比は、裏面から表面に向かって、78:22から41:59へと連続的に変化していると判断され、傾斜構造を有する構造となっている。実施例B-3本実施例B-3の分散液は、下記の原料を用いて調製されている。金属マイクロ粒子として、三井金属鉱業株製の銅粉末商品名:1400YMを使用する。公表されている、平均粒子径dmetalparticleは4μm、タップ密度ρCubulkは、4.3gcm3であり、金属銅の密度ρCu8.95gcm3の48に相当している。従って、該銅粉末を最密充填に類する状態とすると、その隙間の体積比率は、52体積程度となると推定される。金属酸化物ナノ粒子として、日本アエロジル株製の酸化アルミニウム粉末商品名:AEROXIDERAluCを使用する。公表されている、平均粒子径dmetaloxidenanoparticleは15nmである。酸化アルミニウムの密度ρAl2O3は、3.97gcm3である。高沸点の有機溶媒として、ヘキシルカルビトールを使用する。該ヘキシルカルビトールの沸点Tsolventは、258°Cであり、密度ρsolventは0.935g/cm3である。なお、ヘキシルカルビトールは、酸化アルミニウムAl2O3を金属アルミニウムAlに還元する反応性はない。8.95-0.935/4=2.00gcm3/μmは、3.97-0.935/0.015=202gcm3/μmよりも格段に小さいので、銅粉末は、酸化アルミニウム粉末よりも、沈降速度が速いと推断される。銅粉末1質量部、酸化アルミニウム粉末2質量部、ヘキシルカルビトール1質量部、メタノール10質量部を均一に混合する。得られる分散液中に含まれる、メタノールを、ロータリーエバポレーターで脱溶剤する。メタノールを除去した後、得られるペースト状の分散液を、撹拌脱泡機で撹拌して、銅粉末を均一に分散させ、分散液を得る。調製された分散液は、銅粉末1質量部当たり、酸化アルミニウム粉末2質量部、分散溶媒のヘキシルカルビトール1質量部を含有している。脱溶剤処理の間における、ヘキシルカルビトールの蒸散は起こっていない。体積比率に換算すると、銅粉末の体積比率Vmetalparticleは6.6体積、酸化アルミニウムナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleは29.9体積、分散溶媒ヘキシルカルビトールの体積比率Vsolventは63.5体積となっている。該実施例B-3の分散液中における、銅粉末の体積比率Vmetalparticleと酸化アルミニウムナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleの総和VmetalparticleVmetaloxidenanoparticleは、36.5体積である。分散液の液粘度は、50Pasスパイラル回転粘度計10rpm25°Cであった。調製された分散液を、スライドガラス上に、5mm×30mmのパターンで塗布した。該分散液塗布膜の平均厚さtpastelayer0は、80μmであった。該分散液塗布膜を、室温で60min静置した後、大気雰囲気下、250°C、30min加熱処理して、焼成処理を施した。得られた焼成物の平均膜厚tsinteredfilmは、50μmであった。焼成物の平均膜厚tsinteredfilmと分散液塗布膜の平均厚さtpastelayer0の比は、50/80=0.625である。該分散液中における、銅粉末の体積比率Vmetalparticleと酸化アルミニウムナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleの総和VmetalparticleVmetaloxidenanoparticleは、31.3体積であるので、該焼成物中、銅粉末と酸化アルミニウムナノ粒子が占める体積比率は、36.5体積/62.5体積≒0.58458.4体積と見積もられる。なお、銅粉末が、最密充填に類する状態で集積層を構成すると仮定すると、該集積層中、銅粉末が占める体積比率は、52体積と推定される。その仮定条件における、該銅粉末の集積層の厚さtprecipitatelayerは、80×Vmetalparticle100×10052≒10.2μmと推定される。また、該銅粉末の集積層の隙間空間の体積は、該集積層中、銅粉末が占める体積を基準として、その52/48に相当すると推定される。一方、沈降処理工程中、分散溶媒は僅かに蒸散するので、該銅粉末の集積層の上部に残る分散液層の厚さtsupernateは、80-tprecipitatelayerを超えないと推定される。この分散液層中に含まれる、酸化アルミニウムナノ粒子の体積比率は、VmetaloxidenanoparticleVmetaloxidenanoparticleVsolvent≒0.32と見積もられる。EDX装置を利用し、得られた焼成膜の裏面と表面の組成分析を行った。EDXを利用する特性X線分析の結果、裏面における平均組成において、銅とアルミニウムの比率質量比は78:22であった。一方、表面における平均組成において、銅とアルミニウムの比率質量比は41:59であった。なお、分散液中に含有される、銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子の質量比は、1質量部:2質量部33.3:66.67であり、銅とアルミニウムの質量比は、1質量部:1.06質量部48.5:51.5である。得られた焼成膜は、銅粉末と酸化アルミウムAl2O3ナノ粒子で形成されていると仮定すると、裏面における平均組成;銅とアルミニウムの比率質量比78:22は、酸化銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子の比率質量比に換算すると、78:101.9/2×26.98×22≒78:41.55≒65.24:34.76となる。銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子の比率体積比に換算すると、65.24/8.95:34.76/3.97≒7.29:8.76≒45.42:54.58である。表面における平均組成;銅とアルミニウムの比率質量比41:59は、銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子の比率質量比に換算すると、41:101.9/2×26.98×59≒41:111.42≒26.90:73.10となる。銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子の比率体積比に換算すると、26.90/8.95:73.10/3.97≒3.01:18.41≒14.05:85.95である。なお、分散液中の銅粉末の体積比率Vmetalparticleと酸化アルミニウムナノ粒子の体積比率Vmetaloxidenanoparticleの比Vmetalparticle:Vmetaloxidenanoparticlepasteは、18.08:81.92である。裏面における体積比率Vmetalparticle:Vmetaloxidenanoparticlebottom≒45.42:54.58と表面における体積比率Vmetalparticle:Vmetaloxidenanoparticletop≒14.05:85.95は、Vmetalparticle/Vmetaloxidenanoparticlebottom>Vmetalparticle/Vmetaloxidenanoparticlepaste>Vmetalparticle/Vmetaloxidenanoparticletopの条件を満足している。さらに、得られた焼成膜では、その表面にも銅粉末が存在している状態であると判断される。換言すると、静置工程を設け、銅粉末の集積層を形成しているが、図2に示すような、マイクロ粒子の集積層と、ナノ粒子と分散溶媒からなる上層との分離は達成されていないと判断される。なお、1-VmetalparticleoccupancyVmetalparticleoccupancy=52/48、{Vmetaloxidenanoparticle/VmetaloxidenanoparticleVsolvent}≒0.32の場合、Vmetalparticleoccupancy/[1-Vmetalparticleoccupancy{Vmetaloxidenanoparticle/VmetaloxidenanoparticleVsolvent}]は、約74.325.7となる。裏面における体積比率Vmetalparticle/Vmetaloxidenanoparticlebottom≒45.42/54.58は、88.211.8より大幅に小さく、銅粉末の集積層が形成される際、酸化アルミウムナノ粒子の沈降も相当に進行していると推断される。実際、銅粉末を最密充填に類する状態とすると、銅粉末とその隙間の体積比率は、52/48と推定される。裏面における体積比率Vmetalparticle/Vmetaloxidenanoparticlebottom≒45.42/54.58は、前記52/48よりも小さい。従って、得られた焼成膜中、銅粉末と酸化アルミウムナノ粒子に由来する、銅とアルミニウムの質量比の比率質量比は裏面から表面に向かって、78:22から41:59へと連続的に変化していると判断され、傾斜構造を有する構造体となっている。"