"先端部分に少なくとも一部分が単結晶である結晶性試料台座を備えている試料台と、前記試料台が着脱可能に嵌着される支持基体とを有する試料支持体であって、前記試料台は回転軸を中心に回転しても支持基体に着脱可能であることを特徴とする透過電子顕微鏡用の試料支持体。前記試料台は、前記支持基体に設けられた溝に着脱可能に嵌着され、前記試料台の断面形状と、前記支持基体の溝の断面形状とは同じであることを特徴とする請求項1に記載の透過電子顕微鏡用の試料支持体。前記試料台の断面形状と、支持基体の溝の断面形状は、正多角形または円形であることを特徴とする請求項1または2に記載の透過電子顕微鏡用の試料支持体。試料を搭載する試料ホルダと、前記試料ホルダの位置および傾斜角を調整する試料移動機構を備えている透過電子顕微鏡であって、前記試料ホルダに請求項1乃至3のいずれかに記載の試料支持体を備えていることを特徴とする透過電子顕微鏡。請求項4に記載の試料ホルダと試料移動機構を備えている透過電子顕微鏡を用いて試料の3次元構造を観察する方法において、前記透過電子顕微鏡の試料ホルダに備えている試料支持体に試料を搭載し、前記試料支持体の結晶性試料台座の一つの結晶方位をもとに第一の試料方位を決定した後、試料移動機構を利用し第一の連続傾斜像群を取得する工程、前記試料支持体の試料台を回転し、前記結晶性試料台座の別の結晶方位をもとに第二の試料方位を決定した後、試料移動機構を利用し第二の連続傾斜像群を取得する工程、前記第一の試料方位と前記第二の試料方位からそれぞれの連続傾斜像群の方位を推定することにより連続傾斜像の試料方位を特定して3次元像を再構成する工程を有することを特徴とする試料の3次元構造観察方法。特許文献1では、ピラー状の試料台を360°回転させるための機構を備えているため、情報欠落領域のない観察が可能となっている。しかし、そのための特殊な試料ホルダを用いなければならず、使用できる装置にも制約が生じるため、汎用性のある観察法とは言い難い。これに対し、特許文献2では、情報欠落領域もなく、試料支持台が標準的な試料ホルダに搭載可能な形状になっているため、汎用性が高くなっている。しかし、試料支持部材の回転角度を分度器の目盛りで読み取る構造のため、読み取り精度と再現性の点に問題がある。本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、透過電子顕微鏡を用いた3次元構造観察において、360°全方向からの試料観察が可能な試料支持体、それを用いた透過電子顕微鏡および試料の3次元構造観察方法を提供するものである。上記の課題を解決する透過電子顕微鏡用の試料支持体は、先端部分に少なくとも一部分が単結晶である結晶性試料台座を備えている試料台と、前記試料台が着脱可能に嵌着される支持基体とを有する試料支持体であって、前記試料台は回転軸を中心に回転しても支持基体に着脱可能であることを特徴とする。上記の課題を解決する透過電子顕微鏡は、試料を搭載する試料ホルダと、前記試料ホルダの位置および傾斜角を調整する試料移動機構を備えている透過電子顕微鏡であって、前記試料ホルダに上記の試料支持体を備えていることを特徴とする。上記の課題を解決する試料の3次元構造観察方法は、上記の試料ホルダと試料移動機構を備えている透過電子顕微鏡を用いて試料の3次元構造を観察する方法において、前記透過電子顕微鏡の試料ホルダに備えている試料支持体に試料を搭載し、前記試料支持体の結晶性試料台座の一つの結晶方位をもとに第一の試料方位を決定した後、試料移動機構を利用し第一の連続傾斜像群を取得する工程、前記試料支持体の試料台を回転し、前記結晶性試料台座の別の結晶方位をもとに第二の試料方位を決定した後、試料移動機構を利用し第二の連続傾斜像群を取得する工程、前記第一の試料方位と前記第二の試料方位からそれぞれの連続傾斜像群の方位を推定することにより連続傾斜像の試料方位を特定して3次元像を再構成する工程を有することを特徴とする。本発明は、透過電子顕微鏡を用いた3次元構造観察において、360°全方向からの試料観察が可能な試料支持体、それを用いた透過電子顕微鏡および試料の3次元構造観察方法を提供することができる。本発明に係る透過電子顕微鏡用の試料支持体は、先端部分に少なくとも一部分が単結晶である結晶性試料台座を備えている試料台と、前記試料台が着脱可能に嵌着される支持基体とを有する試料支持体であって、前記試料台は回転軸を中心に回転しても支持基体に着脱可能であることを特徴とする。本発明の試料支持体は、試料支持体の一部分である試料台が、着脱または回転可能な機構をもつ透過電子顕微鏡用の試料支持体である。このような機構を備えた試料台は、試料台を複数の回転角度で固定することで、さまざまな方位からの試料観察が可能となる。とくに、一軸傾斜ホルダあるいは二軸傾斜ホルダ等に搭載し、前記試料台の回転機構と電子顕微鏡本体の試料移動機構における試料傾斜を組み合わせることにより、360°全方位からの試料観察が可能となる。また、その試料台の先端部分に一部分あるいは全体が単結晶である結晶性試料台座を備えていると、その単結晶部分の透過電子顕微鏡による電子回折図形を基準に、試料台が向いている方向を精確かつ再現性良く決定することができる。また、この単結晶部分の一つの結晶軸が、試料台の回転軸方向とほぼ一致しており、さらに別の二つの結晶軸が試料台の回転軸方向と直交しているような構成であると、試料台の着脱回転による電子線の入射方向の変化も、試料台の回転軸方向と直交している面内に制限される。したがって、電子回折図形の変化も予測しやすく、試料台が向いている方向の決定をさらに容易に行うことができる。本発明に係る透過電子顕微鏡は、試料を搭載する試料ホルダと、前記試料ホルダの位置および傾斜角を調整する試料移動機構を備えている透過電子顕微鏡であって、前記試料ホルダに上記の試料支持体を備えていることを特徴とする。また、本発明に係る試料の3次元構造観察方法は、上記の試料ホルダと試料移動機構を備えている透過電子顕微鏡を用いて試料の3次元構造を観察する方法において、前記透過電子顕微鏡の試料ホルダに備えている試料支持体に試料を搭載し、前記試料支持体の結晶性試料台座の一つの結晶方位をもとに第一の試料方位を決定した後、試料移動機構を利用し第一の連続傾斜像群を取得する工程、前記試料支持体の試料台を回転し、前記結晶性試料台座の別の結晶方位をもとに第二の試料方位を決定した後、試料移動機構を利用し第二の連続傾斜像群を取得する工程、前記第一の試料方位と前記第二の試料方位からそれぞれの連続傾斜像群の方位を推定することにより連続傾斜像の試料方位を精確に特定し、その情報をもとに3次元像を再構成する工程を有することを特徴とする。本発明においては、上述のような電子回折図形による試料方位決定手順を、試料台を着脱回転する前後に行うことで、着脱回転による試料方位の変化を補正できる。これにより、着脱回転前後でのそれぞれの連続傾斜像を一つの連続傾斜像データとして扱い、3次元構造像を再構成できるようになる。主な手順としては、まず、試料を結晶性試料台座に固定し、その試料台を支持基体に装着し、試料支持体とする。試料支持体を一軸以上の試料傾斜が可能な電子顕微鏡の試料ホルダに搭載し、結晶性試料台座の一つの結晶方位をもとに第一の試料方位を決定後、試料移動機構を利用し第一の連続傾斜像群を取得する。次に、前記試料台を回転し、結晶性試料台座の別の結晶方位をもとに第二の試料方位を決定後、試料移動機構を利用し第二の連続傾斜像群を取得する。次に、第一の試料方位と第二の試料方位からそれぞれの連続傾斜像群の方位を推定することで、連続傾斜像の試料方位を精確に特定する。最後に、その情報をもとに3次元構造像を再構成する手順である。以下に図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。ただし、この実施の形態に記載されている寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。本発明に係る透過電子顕微鏡は、試料を搭載する試料ホルダと、前記試料ホルダの位置および傾斜角を調整する試料移動機構を備えている透過電子顕微鏡であって、前記試料ホルダに上記の試料支持体を備えていることを特徴とする。図2aに本発明の試料支持体および3次元構造観察法に用いられる透過電子顕微鏡の一般的な構成図を示す。図2bは試料ホルダの先端部の概観図である。透過電子顕微鏡は、電子銃12と収束レンズ13と対物レンズ14と投影レンズ15と蛍光板16と記録装置17を有する。収束レンズ13と対物レンズ14との間には、試料8を搭載した試料ホルダ19が挿入することができる。電子銃12から放出された電子線20は収束レンズ13により点状に収束され、試料ホルダ19の先端に搭載された試料に照射される。試料を透過散乱した電子線は対物レンズ14により結像され、さらに投影レンズ15により拡大され蛍光板16に投影される。また、記録等が必要な場合には、蛍光板16を電子線光路上から外すことで、さらに下方に設置された記録装置17に電子線20を投影させ撮像することもできる。試料ホルダ19は試料移動機構18により、位置傾斜角等を調整することができる。これにより搭載された試料を任意の場所、種々の角度からの観察が可能となる。ただし、試料ホルダ19の挿入スペースは非常に狭いのが一般的であり、とくに試料傾斜に関しては、試料ホルダ19とレンズの衝突を避けるため、試料傾斜角が制限される。図2bには試料ホルダ19の先端部分の一般的な概観図を示す。一般的な試料ホルダは円柱状のロッドであり、先端には試料を固定した試料支持体1を搭載固定するための試料支持体搭載部21と電子線光路22にあたる部分に電子線を通すための空間25が設けられている。試料支持体搭載部21に試料支持体1を保持するための機構には様々な形状のものがあるが、空間25に一般的には直径が3mm、厚さが数10μmから数100μmの円板状のものが保持できるようになっている。試料ホルダには、さまざまな機能を持ったものが存在するが、一般的には一軸あるいは二軸方向に試料を傾斜して観察できる試料ホルダが頻繁に用いられる。なお、ここでは走査型透過電子顕微鏡については特に説明していないが、透過電子顕微鏡とは装置構成使用目的観察方法において類似点も多く、本発明についても同様に効果を発揮する。以下では、走査型透過電子顕微鏡も含め、透過電子顕微鏡と呼ぶこととする。図1aに、本発明の試料支持体1の構成図を示す。また、図1bには、実際に試料を搭載して使用する際の概観図を示す。本発明の試料支持体1は、先端部分に少なくとも一部分が単結晶である結晶性試料台座5を備えている試料台3と、前記試料台3が着脱可能に嵌着される支持基体2とを有する試料支持体であって、前記試料台3は回転軸を中心に回転しても支持基体2に着脱可能であることを特徴とする。試料支持体1は、支持基体2と試料台3から構成され、さらに試料台3は着脱支持体4とその先端部分に備えられた結晶性試料台座5から構成されている。図1bにおいて、結晶性試料台座5の先端には試料8が固定されている。なお、結晶性試料台座5の試料8が設けられる位置は、特に先端に限定されることはなく、他の位置でもよい。支持基体2は円板の一部を切り落としたような、ほぼ半月板状の形状であり、弦面7中央には、試料台3が挿入できるような溝6が切ってある。試料支持体1が一般的な透過電子顕微鏡用試料ホルダ19に搭載できるためには、支持基体2の直径が3mm、厚さが300μm程度の半月板状部材であることが望ましい。試料台3は、支持基体2に設けられた溝6に着脱可能に嵌着され、前記試料台の断面形状23と、支持基体の溝の断面形状24とは同じであることが好ましい。図1bにおいては、両者の断面形状23,24はいずれも正方形である。前記試料台の断面形状と、支持基体の溝の断面形状は、正多角形または円形であることが好ましい。溝6の弦面7に交わる断面形状24は四角形や六角形などの多角形または楕円形などが考えられるが、試料台3が回転自在で着脱可能であるためには、正方形や正六角形などの正多角形または円形が望ましい。円形の場合には任意の回転角で回転できる自由度があり、正多角形の場合は回転角に制限がかかってしまうという面がある。しかし、後述するように着脱回転前後に電子回折図形から試料方位を決定する手順において、着脱回転による電子回折図形の変化が予測しやすいというメリットとなるため、正多角形も望ましい形状である。また、支持基体2の材料は非磁性であり、機械的強度が十分で、加工が容易なものであれば良く、銅、モリブデン、金、白金、SUS、シリコンなどが挙げられる。着脱支持体4は柱状の部材であり、断面形状は支持基体2に切られた溝6に挿入固定できるように溝の断面形状と同一の形状である。長さは支持基体2に挿入した際に、着脱支持体4の端部が弦面7と一致するか少し飛び出る程度が良い。これは着脱支持体4の端部が弦面7よりも窪んでいる場合には、試料を傾斜した際に、電子線通過経路上で試料が支持基体2の陰になり、観察できなる恐れがあるからである。材料は支持基体と同様のものが挙げられるが、支持基体と同一材料である必要はない。結晶性試料台座5はこの部分の電子回折図形から試料方位を決定するため、単結晶からなることが望ましい。もちろん試料方位が決定可能である程度に電子回折像が明瞭であれば問題はなく、一つの単結晶粒が大きな体積比を占めているような部材であれば、多結晶でもよい。以下では、この電子回折図形に主に寄与する単結晶部分を、単に単結晶部分と呼ぶこととする。この結晶性試料台座5の単結晶部分の結晶軸は、試料台3の着脱回転に伴い、さまざまな方向をとる。電子回折図形をもとに試料方位を合わせる際には、単結晶部分の一つの結晶軸が試料台3の回転軸方向とほぼ一致し、さらに別の二つの結晶軸が試料台の回転軸方向と直交しているほうが都合がよい。試料台3の着脱回転による電子線の入射方向の変化が、試料台3の回転軸9方向と直交している面内に制限され、電子回折図形の変化が予測しやすく、試料台が向いている方向の決定をさらに容易にできるためである。これらのことを考慮すると、この結晶性試料台座5の単結晶部分は、立方晶、正方晶、斜方晶、六方晶の結晶系であることが望ましい。また、着脱支持体4の断面形状と単結晶部分の結晶系を考慮した構成にするとさらに効果的である。図3は、本発明における結晶性試料台座の結晶軸方向を示す概略図である。図3は、図1bの矢印のように試料台の回転軸9方向から試料台を眺めた図である。着脱支持体4の断面形状が正方形である場合、単結晶部分を立方晶、正方晶、斜方晶のいずれかであるような材料を選択し、c軸を試料台3の回転軸9方向に、a軸を支持基体法線10方向になるように着脱支持体4端部に結晶性試料台座5を配する図3a。すると、試料移動機構18で傾斜をかけない状態では、[100]入射の電子回折図形を基準に用いることができる。次に試料台3を取り外し、回転軸方向に90°回転させ、再び装着すると図3b、[010]入射の電子回折図形を基準に用いることができる。もちろん、c軸を試料台3の回転軸9方向に、a軸とb軸を支持基体法線10方向と45°をなすように結晶性試料台座5を配すれば、試料台3の回転前図3cには[110]、回転後図3dには[-110]入射の電子回折図形を基準に用いることができる。あるいは、着脱支持体4の断面形状が正六角形である場合、単結晶部分を六方晶であるような材料を選択すれば、同様に単純な電子回折図形を基準に用いることができる。このように、着脱支持体4の断面形状と結晶性試料台座5の単結晶部分の結晶系選択と軸方向の配置をうまく組み合わせることにより、より単純な電子回折図形を用いて試料方位を決定できる。結晶性試料台座5の材料としては、上述の結晶系のものであれば利用できるが、入手しやすさや加工のしやすさ、安定性を考慮すると、シリコンや銅、モリブデン、金などの金属が適している。特にシリコンは入手性加工性から好適である。この結晶性試料台座5の単結晶部分は透過電子顕微鏡による電子回折図形の観察に利用するため、電線入射方向の厚みは電子線が透過する程度でなければならない。一般的な透過電子顕微鏡で利用することを想定すると、シリコンで電子線入射方向の厚みが300nm程度になるような形状であることが望ましい。そのため、結晶性試料台座5の形状は、径が300nm程度の角柱状あるいは円柱状が望ましい。また、その先端には試料8を固定しやすいように、平坦である方が望ましい。もちろん、試料8の固定は結晶性試料台座5の先端に限られないが、結晶性試料台座5と試料8が近接することで、方位精度と再現性を向上することができるため、結晶性試料台座5の先端は試料8を固定しやすい形状が望ましい。このような試料台3はさまざまな方法で作成することができる。例えば、角柱状に加工した銅製の着脱支持体4の先端に、シリコンウェハから集束イオンビーム加工装置でリフトアウトした小片を固定し、さらに集束イオンビーム加工装置で角柱状あるいは円柱状に成型する方法。あるいは、シリコンウェハにフォトリソグラフィ工程で結晶性試料台座5の部分となる突起を形成し、そのシリコンウェハと銅板を接着後、ダイシングソーで切断することにより作成する方法。あるいは、結晶性試料台座5の部分となる突起を形成したシリコンウェハをダイシングソーで切断することにより、着脱支持体4と結晶性試料台座5がシリコンで一体成形された形状の試料台3とする方法、などがある。このような試料支持体1は、構成が簡便であり小型にできるため、さまざまな試料ホルダに搭載することが可能である。たとえば、一つの軸あるいは独立な二つの軸のまわりに試料を傾斜できるような一軸傾斜ホルダあるいは二軸傾斜ホルダや、一軸傾斜とその傾斜軸を含む面内で試料を回転できるような回転ホルダ等である。これらのうち、一軸傾斜ホルダや二軸傾斜ホルダは標準的に良く使われる試料ホルダであり、これらの試料ホルダで使用できることは汎用性を高めることになる。このような少なくとも一つの軸のまわりに試料を傾斜できるような試料ホルダ19に搭載し、試料台3の回転機構と試料ホルダ19の傾斜機構を組み合わせることで、360°全方位からの試料観察が可能となる。すなわち、試料台3が90°毎の回転が可能であれば、試料ホルダ19を±45°の範囲で傾斜した観察を2回行えばよい。試料台3が60°毎の回転が可能であれば、試料ホルダ19を±30°の範囲で傾斜した観察を3回行えばよい。もちろん試料台3の回転ステップが他の角度でもで同様に全方位から観察できる。次に本発明を用いた3次元観察法の工程について図4を参照しながら説明する。1試料8を固定した試料台3を支持基体2に装着する図4a。2試料支持体1を搭載した試料ホルダ19を透過電子顕微鏡11に挿入し、第一の観察開始の位置方位を決める。3結晶性試料台座5の一つの結晶方位の電子回折図形をもとに試料ホルダ19を傾斜する。42で決めた第一の観察開始方位が、結晶性試料台座5の単結晶部分のどの結晶方位にあたるかを求める。これを第一の試料方位とする。5第一の観察開始の位置方位に戻し、透過電子顕微鏡11の試料移動機構18を用いて一定の傾斜角度までの第一の連続傾斜像を撮影する。6いったん試料ホルダ19を透過電子顕微鏡11から取り出し、試料支持体1を試料ホルダ19から取り外す。7試料台3を支持基体2から取り外し、試料台3の回転軸9を中心に試料台3を回転する図4b。その後、再び試料台3を支持基体2に装着する図4c。8試料支持体1を搭載した試料ホルダ19を透過電子顕微鏡11に挿入し、第二の観察開始の位置方位を決める。9結晶性試料台座5の別の結晶方位の電子回折図形をもとに試料ホルダ19を傾斜する。108で決めた第二の観察開始方位が結晶性試料台座5の結晶のどの結晶方位にあたるかを求める。これを第二の試料方位とする。11第二の観察開始の位置方位に戻し、透過電子顕微鏡11の試料移動機構18を用いて一定の傾斜角度までの第二の連続傾斜像を撮影する。12結晶性試料台座5の単結晶に対する第一の試料方位第二の試料方位の情報をもとに、第一の連続傾斜像と第二の連続傾斜像の傾斜角度を補正する。13第一の連続傾斜像と第二の連続傾斜像から3次元像を再構成する。この時、結晶性試料台座5の単結晶部分の一つの結晶軸が前記試料台3の回転軸9方向とほぼ一致し、別の二つの結晶軸が試料台の回転軸9方向と直交しているような構成にすれば、上述の4あるいは10の工程での試料方位と結晶方位との関係が単純になり、12での補正の工程が簡便化する利点がある。"