"複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックのパターンが少なくとも径方向で分離されているディスク媒体のパターンを検査するパターン検査装置であって、前記ディスク媒体が載せられる回転ステージと、前記回転ステージに載せられたディスク媒体に対して電子ビームを照射する照射光学系と、前記ディスク媒体に対する電子ビームの照射位置を前記径方向に変位させるビーム照射位置可変手段と、前記照射光学系による電子ビームの照射によって前記回転ステージ上のディスク媒体から発生する電子を検出する電子検出器と、前記複数のトラックに対して、1トラックにつき、前記ディスク媒体をn回nは2以上の自然数ずつ回転させ、かつ、1回転ごとに前記電子ビームの照射位置を前記径方向にずらすように、前記回転ステージ、前記照射光学系および前記ビーム照射位置可変手段の動作を制御する制御手段と、前記ディスク媒体をn回転させることによって得られる、当該n回転分の前記電子検出器の検出結果を用いて、1トラック分のパターンの検査データを生成する生成手段と、を備えることを特徴とするパターン検査装置。前記制御手段は、前記1トラックにつき、前記ディスク媒体を前記n回転させる際に、前回の回転と今回の回転で、前記電子ビームの照射位置が前記径方向で隣接または一部重畳するように、前記回転ステージ、前記照射光学系および前記ビーム照射位置可変手段の動作を制御し、前記生成手段は、前記ディスク媒体の前記n回転分の前記電子検出器の検出結果を合成することにより、前記1トラック分のパターンの検査データを生成することを特徴とする請求項1に記載のパターン検査装置。前記ディスク媒体に対して前記照射光学系が照射する電子ビームのスポット径が、前記ディスク媒体のトラックの幅と同等であることを特徴とする請求項1または2に記載のパターン検査装置。複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックのパターンが少なくとも径方向で分離されているディスク媒体のパターンを検査するパターン検査方法であって、前記ディスク媒体を回転させて、当該回転中のディスク媒体に電子ビームを照射し、当該当該電子ビームの照射位置で前記ディスク媒体から発生する電子を検出するとともに、前記ディスク媒体が1回転するごとに当該ディスク媒体に対する電子ビームの照射位置を前記径方向に変位させる場合に、前記複数のトラックに対して、1トラックにつき、前記ディスク媒体をn回nは2以上の自然数ずつ回転させ、かつ、1回転ごとに前記電子ビームの照射位置を前記径方向にずらすようにし、前記ディスク媒体を前記n回転させることによって得られる、当該n回転分の電子の検出結果を用いて、1トラック分のパターンの検査データを生成することを特徴とするパターン検査方法。しかしながら、従来においては、ディスク媒体のパターンを検査するにあたって、次のような問題があった。すなわち、パターン付きのディスク媒体を回転ステージに載せて周方向に回転させた場合に、リピータブルランアウトRRO:RepeatableRunOutと呼ばれる、回転同期軸振れ以下、RROと略称するが発生する。RROは、回転ステージ固有の軸振れであって、回転ステージの1回転を周期として繰り返し同じように発生する。このため、ディスク媒体の中心を回転ステージの中心に精度良く位置決めしても、その回転ステージに載せたディスク媒体を回転させたときに、次のような不具合が生じる。すなわち、ディスク媒体上で一つのトラックを構成するパターンを検査する場合に、このパターンの位置は、ディスク媒体が1回転する間に、RROの影響で径方向に周期的に変動する。これに対して、走査型電子顕微鏡以下、SEMと略称するを用いたパターン検査においては、電子ビームの照射位置を径方向で固定したまま、回転ステージと一体にディスク媒体を回転させる。このため、ディスク媒体が1回転する途中で、そのときに検査対象照準としているパターンの位置から、電子ビームの照射位置が外れてしまうおそれがある。その結果、パターンを適正に検査することができなくなる。本発明の主たる目的は、回転ステージのRROの影響があっても、ディスク媒体に形成されたトラックのパターンを適正に検査することができる技術を提供することにある。本発明の第1の態様は、複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックのパターンが少なくとも径方向で分離されているディスク媒体のパターンを検査するパターン検査装置であって、前記ディスク媒体が載せられる回転ステージと、前記回転ステージに載せられたディスク媒体に対して電子ビームを照射する照射光学系と、前記ディスク媒体に対する電子ビームの照射位置を前記径方向に変位させるビーム照射位置可変手段と、前記照射光学系による電子ビームの照射によって前記回転ステージ上のディスク媒体から発生する電子を検出する電子検出器と、前記複数のトラックに対して、1トラックにつき、前記ディスク媒体をn回nは2以上の自然数ずつ回転させ、かつ、1回転ごとに前記電子ビームの照射位置を前記径方向にずらすように、前記回転ステージ、前記照射光学系および前記ビーム照射位置可変手段の動作を制御する制御手段と、前記ディスク媒体をn回転させることによって得られる、当該n回転分の前記電子検出器の検出結果を用いて、1トラック分のパターンの検査データを生成する生成手段と、を備えることを特徴とするパターン検査装置である。本発明の第2の態様は、前記制御手段は、前記1トラックにつき、前記ディスク媒体を前記n回転させる際に、前回の回転と今回の回転で、前記電子ビームの照射位置が前記径方向で隣接または一部重畳するように、前記回転ステージ、前記照射光学系および前記ビーム照射位置可変手段の動作を制御し、前記生成手段は、前記ディスク媒体の前記n回転分の前記電子検出器の検出結果を合成することにより、前記1トラック分のパターンの検査データを生成することを特徴とする上記第1の態様に記載のパターン検査装置である。本発明の第3の態様は、前記ディスク媒体に対して前記照射光学系が照射する電子ビームのスポット径が、前記ディスク媒体のトラックの幅と同等であることを特徴とする上記第1または第2の態様に記載のパターン検査装置である。本発明の第4の態様は、複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックのパターンが少なくとも径方向で分離されているディスク媒体のパターンを検査するパターン検査方法であって、前記ディスク媒体を回転させて、当該回転中のディスク媒体に電子ビームを照射し、当該当該電子ビームの照射位置で前記ディスク媒体から発生する電子を検出するとともに、前記ディスク媒体が1回転するごとに当該ディスク媒体に対する電子ビームの照射位置を前記径方向に変位させる場合に、前記複数のトラックに対して、1トラックにつき、前記ディスク媒体をn回nは2以上の自然数ずつ回転させ、かつ、1回転ごとに前記電子ビームの照射位置を前記径方向にずらすようにし、前記ディスク媒体を前記n回転させることによって得られる、当該n回転分の電子の検出結果を用いて、1トラック分のパターンの検査データを生成することを特徴とするパターン検査方法である。本発明によれば、回転ステージのRROの影響があっても、ディスク媒体に形成されたトラックのパターンを適正に検査することができる。以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。本発明の実施の形態においては、次の順序で説明を行う。1.パターン検査装置の構成2.ディスク媒体の構造3.パターン検査方法4.実施の形態の効果5.変形例<1.パターン検査装置の構成>図1は本発明の実施の形態に係るパターン検査装置の構成例を示す概略図である。図示したパターン検査装置1は、大きくは、電子ビームを照射する照射光学系2と、電子を検出する電子検出器3と、パターン検査の対象となるディスク媒体4を支持するステージ機構5と、このステージ機構5の駆動を制御するステージ制御系6とを備えた構成となっている。照射光学系の構成照射光学系2は、後述する回転ステージ14に載せられたディスク媒体4に対して電子ビームを照射するものである。照射光学系2は、主として、電子銃7と、ブランキング電極8と、集束レンズ9と、アパーチャ10と、偏向器11と、対物レンズ12と、光学系制御部13とを用いて構成されている。電子銃7は、電子ビームの発生源となるものである。電子銃7は、ステージ機構5に支持されたディスク媒体4と対向する状態に配置されている。電子銃7は、電子ビームを下向きに発生するものとなっている。ブランキング電極8は、電子ビームの下流側への進行を制御するものである。ブランキング電極8は、ブランキングするときは電界によって電子ビームをアパーチャ10で遮るように電子ビームの軸を偏向し、ブランキングしないときは電子ビームをアパーチャ10の開口部10aに通すようにする。ブランキング電極8は、電子銃7からディスク媒体4に至る電子ビームの軌道上において、電子銃7と集束レンズ9との間に配置されている。集束レンズ9は、電子銃7から出射された電子ビームのビーム径の広がりを抑制するものである。集束レンズ9は、電子銃7からディスク媒体4に至る電子ビームの軌道上において、ブランキング電極8とアパーチャ10との間に配置されている。アパーチャ10は、電子ビームを照射する際に、ディスク媒体への電子ビームの照射を選択的に行うために、不要な電子ビームを遮断する機能を果たすものである。アパーチャ10は、電子ビームを通過させるための開口部10aを一体に有している。アパーチャ10は、電子銃7からディスク媒体4に至る電子ビームの軌道上において、集束レンズ9と偏向器11との間に配置されている。偏向器11は、アパーチャ10の開口部10aを通過した電子ビームの向き進行方向を変えることにより、ディスク媒体上の電子ビームの照射位置を変えるものである。偏向器11は、電子銃7からディスク媒体4に至る電子ビームの軌道上において、アパーチャ10と対物レンズ12との間に配置されている。対物レンズ12は、アパーチャ10の開口部10aを通過した電子ビームのビーム径を絞るものである。対物レンズ12は、電子銃7からディスク媒体4に至る電子ビームの軌道上において、偏向器11とステージ機構5との間に配置されている。光学系制御部13は、上述した電子銃7、ブランキング電極8、集束レンズ9および偏向器11の駆動を個別に制御するものである。さらに詳述すると、光学系制御部13は、電子銃7の駆動に関しては、たとえば、電子の引出電圧、加速電圧、集束電圧などを制御し、ブランキング電極8の駆動に関しては、たとえば、ブランキングのための電界強度などを制御する。また、光学系制御部13は、集束レンズ9の駆動に関しては、たとえば、電子ビームの集束度合いなどを制御し、偏向器11の駆動に関しては、たとえば、ビーム偏向のための電界強度などを制御する。電子検出器の構成電子検出器3は、照射光学系2による電子ビームの照射によって回転ステージ14上のディスク媒体4が発生する電子を検出するものである。より具体的に記述すると、電子検出器3は、ステージ機構5に支持されたディスク媒体4に対して照射光学系2から電子ビームを照射したときに、このディスク媒体4の表面電子ビームが照射された部分で発生する電子を検出する。電子検出器3は、ステージ機構5に支持されるディスク媒体4の斜め上方に位置するように配置されている。電子検出器3は、電子ビームの照射によってディスク媒体4が発生する電子のうち、主に二次電子を検出するものであるが、実際に検出される電子には反射電子も含まれる。いずれにしても、電子検出器3によって検出される電子の検出信号は、ディスク媒体4の表面状態凹凸の状態を反映したものとなる。この電子検出器3で得られる電子の検出信号は、信号処理部18に送られる。信号処理部18は、電子検出器3から送られる検出信号を取り込み、この検出信号を用いて種々の処理を行うものである。具体的には、信号処理部18は、たとえば、ディスク媒体4の表面状態を表す二次電子像を生成する処理や、各トラックのパターンの検査データを生成する処理、さらには検査対象のパターンの良否を判定する処理などを行う。ステージ機構の構成ステージ機構5は、ディスク媒体4を支持しつつ、このディスク媒体4を回転させたり移動させたりするものである。ステージ機構5は、回転する回転ステージ14と、この回転ステージ14を直線的に移動させる直動ステージ15とを用いて構成されている。回転ステージ14および直動ステージ15は、ディスク媒体4を回転させる機能と、ディスク媒体4を移動させる機能とを兼ね備えたr-θ系のステージを構成している。回転ステージ14は、この回転ステージ14の上に載せられるディスク媒体4を水平に支持するとともに、支持したディスク媒体4を周方向に回転させるものである。回転ステージ14は、たとえば、図示しないスピンドルモータ等の駆動源によって回転する仕組みになっている。直動ステージ15は、水平面に平行な一軸方向以下、単に水平方向とも記すに直線的に移動するものである。ただし、直動ステージ15は、一軸方向だけの移動に限らず、水平面に平行な直交二軸方向いわゆるXY方向に移動するものであってもよい。直動ステージ15は、回転ステージ14およびディスク媒体4と一体になって水平方向に移動する。直動ステージ15は、回転ステージ14で支持したディスク媒体4を、このディスク媒体4の径方向半径方向に移動させる手段となる。ステージ制御系ステージ制御系6は、回転ステージ14を制御する回転ステージ制御部16と、直動ステージ15を制御する直動ステージ制御部17とを有している。回転ステージ制御部16は、回転ステージ14の駆動回転の動作を制御するものである。さらに詳述すると、回転ステージ制御部16は、たとえば、回転ステージ14の回転停止といった基本的な動作に加えて、回転ステージ14の回転速度および回転方向の制御を行う。ここで記述する回転ステージ14の回転速度は、単位時間当たりの回転数単位;rpmで表されるものである。回転ステージ制御部16は、回転ステージ14の回転方向の現在位置回転位相を、たとえば、パターン検査装置1が備える図示しない回転位置検知センサを用いて認識する。直動ステージ制御部17は、直動ステージ15の駆動移動の動作を制御するものである。さらに詳述すると、直動ステージ制御部17は、たとえば、直動ステージ15の移動停止といった基本的な動作に加えて、直動ステージ15の移動速度および移動方向の制御を行う。直動ステージ制御部17は、必要に応じて、直動ステージ15の移動方向の現在位置を、たとえば、パターン検査装置1が備える図示しない移動位置検知センサを用いて認識する構成としてもよい。<2.ディスク媒体の構造>図2はパターン検査の対象となるディスク媒体の構造の一例を示す図である。図示したディスク媒体4は、その製造過程で、フォトリソグラフィ法を利用して、レジスト膜への電子ビーム照射によりパターン描画されるとともに、当該パターン描画が周方向への回転動作を利用して行われたものである。ディスク媒体4は、たとえば、DTMディスクリートトラックメディア用のディスク媒体であって、全体に円板状をなしている。ディスク媒体4の一主面には、同心円状に複数のトラックのパターン4aが形成されている。各々のパターン4aは、ディスク媒体4の周方向に沿って円弧状をなして形成されている。また、各トラックのパターン4aの間には凹状の溝4bが形成されている。溝4bは、周方向に連続する状態で形成されている。そして、各々の溝4bの介在によって、各トラックのパターン4aが物理的に分離した状態で凸状に形成されている。このため、ディスク媒体4の表面状態は、凸状のパターン4aと凹状の溝4bとの混在によって、全体的に凹凸状のパターンをなしている。また、ディスク媒体4上の各トラックのパターン4aは、パターン描画時の回転ステージのRROの影響により、厳密には真円の円周に沿ったものとはならない。具体的には、各トラックのパターン4aは、図3に太線で示すように、円の途中で真円の円周図中、一点鎖線で示すよりも内側にずれたり外側にずれたりしながら、連続的または断続的に形成されたものとなる。つまり、各トラックのパターン4aの位置は、パターン描画時の回転ステージのRROの影響を受けて、径方向に揺らぎを生じたものとなる。<3.パターン検査方法>続いて、本発明の実施の形態に係るパターン検査方法について説明する。ここで記述するパターン検査方法は、上述したパターン検査装置1を用いて、以下の手順で行う。まず、前述した同心円状のトラックのパターン4aが形成されているディスク媒体4を回転ステージ14の上に載せて、たとえば、メカニカルチャック等により回転ステージ14上でディスク媒体4を固定状態に支持する。このとき、ディスク媒体4のパターン4aが形成されている面が上を向くようにディスク媒体4を水平に配置する。また、回転ステージ14にディスク媒体4を載せる場合は、回転ステージ14の回転中心とディスク媒体4の中心とが一致するように、ディスク媒体4を位置決めする。ただし、ディスク媒体4の位置決めに関しては、必ずしも独立した工程として実施する必要はない。具体的には、たとえば、ディスク媒体4の中心部を図示しない保持具で保持し、この保持具が物理的に回転ステージ14に対して一義的に位置決めされる構造のものであれば、電子ビーム照射によるパターンの描画から検査まで、ディスク媒体4を保持具で保持したまま取り扱うことにより、改めて位置決めする必要がなくなる。次に、必要に応じて、予め設定されたイニシャライズ処理たとえば、回転ステージ14の回転方向の基準位置を検知するための処理や、直動ステージ15の移動方向の基準位置を検知するための処理などを行う。各々の基準位置は、たとえば、前述した回転位置検出センサおよび移動位置検知センサを用いて検知されるものである。次に、回転ステージ14に支持したディスク媒体4を予め決められた初期位置に配置するとともに、回転ステージ制御部16からの制御指令に基づく回転ステージ14の駆動によってディスク媒体4を回転させる。そして、ディスク媒体4の回転速度が予め決められた速度で安定したら、この回転中のディスク媒体4に対して照射光学系2から電子ビームを照射する。そうすると、ディスク媒体4の表面主面が、回転ステージ14の回転動作にしたがって電子ビームにより周方向に走査される。このとき、直動ステージ15の駆動によってディスク媒体4を径方向に移動させながら電子ビームを照射すると、ディスク媒体4の回転によって電子ビームが螺旋状の軌跡を描くことになる。このため、電子ビームが螺旋状ではなく一つの円を描くように偏向器11で電子ビームの位置を補正する必要がある。また、ディスク媒体4に対する照射光学系2からの電子ビームの照射は、ディスク媒体4上に同心円状に形成されている複数のトラックのうち、いずれか一つのトラックのパターン4aを対象に行われる。このため、照射光学系2からの電子ビームは、ディスク媒体4上で検査対象としたトラックのパターン4aに向けて照射される。このとき、光学系制御部13、回転ステージ制御部16および直動ステージ制御部17は、ディスク媒体4に同心円状に形成されている複数のトラックに対して、1トラックにつき、ディスク媒体4をn回nは2以上の自然数ずつ回転させ、かつ、1回転ごとに電子ビームの照射位置をディスク媒体4の径方向にずらすように、照射光学系2、回転ステージ14および直動ステージ15の動作を制御する。具体的には、たとえば、検査の対象とする一つのトラックにつき、ディスク媒体4を3回ずつ回転させるものとするn=3とする。そうした場合、各々の制御部13,16,17は、検査対象のトラックが形成されている径方向の位置を中心にして、その内周側と外周側を含む3つの円周上を電子ビームで順に走査するように、照射光学系2、回転ステージ14および直動ステージ15の動作を制御する。また、光学系制御部13、回転ステージ制御部16および直動ステージ制御部17は、1トラックにつき、ディスク媒体4をn回転させる際に、前回の回転と今回の回転で、電子ビームの照射位置がディスク媒体4の径方向で隣接するように、照射光学系2、回転ステージ14および直動ステージ15の動作を制御する。具体的には、たとえば、前述のように検査の対象とする一つのトラックにつき、ディスク媒体4を3回ずつ回転させるものとすると、1回転目の電子ビームの照射位置が2回転目の電子ビームの照射位置に隣接するように制御するとともに、2回転目の電子ビームの照射位置が3回転目の電子ビームの照射位置に隣接するように制御する。つまり、1トラックにつき、ディスク媒体4を回転させる回数が、予め設定された規定の回数本例では3回に達するまでの間、m回目の回転mはnより小さい自然数とm1回目の回転で、電子ビームの照射位置がディスク媒体4の径方向で隣接するように制御する。そうした場合、電子ビームの照射位置は、パターン検査装置1の回転ステージ14のRROの影響で径方向に揺らぐことになるが、その揺らぎの態様度合いや周期などは、ディスク媒体4を1回転させるごとに同様の態様となる。これは、前述したように、RROは、回転ステージの1回転を周期として繰り返し同じように発生することに由来する。このため、ディスク媒体4に対する電子ビームの照射位置は、回転ステージ14の駆動と、偏向器11および直動ステージ15の少なくも一方の駆動とによって、ディスク媒体4を1回転させるごとに、ディスク媒体4の径方向に変位するものの、RROによる揺らぎは、ディスク媒体4の回転ごとに同様の態様で再現される。そこで、光学系制御部13は、たとえば、集束レンズ9の駆動を制御するなどして、照射光学系2によってディスク媒体4に照射される電子ビームのスポット径が、ディスク媒体4上のトラックの幅と同等となるように、当該電子ビームのスポット径を設定する。ここで記述する同等とは、電子ビームのスポット径がトラックの幅の0.8倍以上、1.2倍以下の場合をいい、さらに好ましくは、電子ビームのスポット径がトラックの幅の0.9倍以上、1.1倍以下の場合をいう。そうすると、たとえば、上述したn=3の条件を適用してパターン検査を実施した場合に、一つのトラックにつき、そのトラックの幅の3倍相当の幅で電子ビームの照射領域が確保される。また、前述したようにRROによる揺らぎがディスク媒体4の回転ごとに同様の形態で再現されるため、ディスク媒体4の一つのトラックに対して電子ビームの照射領域が同心円状に複数本適用例では3つ並び、しかも、それらの電子ビーム照射領域の間に隙間電子ビームが照射されない領域が生じることがない。このため、一つのトラックのパターンを検査するにあたって、各々の電子ビーム照射領域の間でパターンの検査データに欠落等が生じることがない。ちなみに、ここで記述する幅とは、ディスク媒体4の径方向半径方向で規定される寸法をいう。このため、図4に示すように、トラックの幅Wtは、そのトラックを構成するパターン4aの外周半径Roと内周半径Riとの差によって規定されるものとなり、これは実質的にパターン4aの幅と同一寸法となる。また、電子ビームの照射領域の幅は、1トラックにつきディスク媒体4をn回ずつ回転させる場合に、1回転目からn回転目までの電子ビームの照射領域を重ね合わせたトータルの電子ビーム照射領域の外周半径と内周半径との差によって規定されるものとなる。以上のことから、たとえば、図5に示すように、ディスク媒体に照射される電子ビームのスポット径Dsと、検査対象となるトラックパターン4aの幅Wtとの関係をDs≒Wtとして、上述のようにn=3の条件を適用し、一つのトラックのパターンを検査する場合は、このトラックのパターン4aに対して確保される電子ビーム照射領域の幅WeはWe≒3×Wtとなる。なお、図5においては、パターン検査時の回転ステージ14のRROによる電子ビームの揺らぎを無視ゼロと仮定して、パターン描画時の回転ステージのRROによるトラックのパターン4aの揺らぎを模式的に示している。実際は、パターン描画時の回転ステージのRROの影響と、パターン検査時の回転ステージのRROの影響を、同時に受けることになる。このため、電子ビームの照射領域も揺らぎを生じたものとなる。一方、電子検出器3は、電子ビームの照射によってディスク媒体4から発生する電子主に二次電子を検出する。さらに、電子検出器3は、電子の検出によって生成された検出信号を信号処理部18に送出する。そうすると、信号処理部18では、電子検出器3からの検出信号を受け取って、たとえば、前述したように、ディスク媒体4の表面状態を表す二次電子像を生成する処理や、各トラックのパターンの検査データを生成する処理、さらには検査対象のパターンの良否を判定する処理などを行う。具体的には、以下のような処理を行う。すなわち、信号処理部18は、パターンの良否判定に先立って、前述したようにディスク媒体4をn回転させることによって得られる、当該n回転分の電子検出器3の検出結果を用いて、1トラック分のパターンの検査データを生成する処理を行う。検査データの生成処理ここで、信号処理部18によるパターン検査データの生成処理について説明する。また、一例として、n=3の条件を適用してパターンの検査を行う場合を想定する。まず、n=3の条件を適用した場合は、ディスク媒体4の3回転分の電子検出器3の検出結果が信号処理部18に送られる。具体的には、一つのトラックにつき、ディスク媒体4の回転が、1回転目のときに電子ビームの照射走査によってディスク媒体4の表面パターン形成面で発生する電子を電子検出器3が検出したときの検出信号と、2回転目のときの当該検出信号と、3回転目のときの当該検出信号とが、電子検出器3から信号処理部18へと時系列に送られる。そうした場合、信号処理部18は、3回転分の電子検出器3の検出結果を合成することにより、1トラック分のパターンの検査データを生成する。検査データの生成に係る処理は、たとえば、電子検出器3の検出信号から二次電子像を生成する場合、次のように行う。すなわち、図6に示すように、ディスク媒体4の1回転目に電子検出器3の検出信号から生成される二次電子像20-1と、ディスク媒体4の2回転目に電子検出器3の検出信号から生成される二次電子像20-2と、ディスク媒体4の3回転目に電子検出器3の検出信号から生成される二次電子像20-3とを、それぞれの電子ビームの照射位置に合わせてディスク媒体4の径方向でつなぐように合成する。これにより、各々の二次電子像20-1,20-2,20-3に含まれるパターン4a-1,4a-2,4a-3の画像が相互に組み合わさって、上記図5に示す、もとの連続したパターン4aを現すものとなる。そこで、信号処理部18は、上述した二次電子像の合成によって得られるパターン4aの画像データを基に、当該パターン4aの位置、寸法、形状等に関する検査データを生成する。また、信号処理部18は、上述した検出結果の合成によって得られたパターン4aと基準のパターンとの比較により、検査対象のパターンの良否を判定する。この良否判定の処理に関しては、たとえば、以下の判定基準を採用する。すなわち、検出対象としたパターンの位置、寸法、形状などの各項目につき、項目ごとに基準パターン設計パターンとのずれ量を求め、この求めたずれ量が予め設定された基準量以下のときは良品欠陥なし、基準量を超えたときは不良品欠陥ありと判断する。こうして1トラック分のパターン4aの検査を終えたら、たとえば、偏向器11によって電子ビームの向きを変えるか、あるいは直動ステージ制御部17からの制御指令に基づく直動ステージ15の駆動によって、電子ビームの照射位置をディスク媒体4の径方向に変位させる。これにより、先ほど検査したトラックのパターン4aとは異なるパターン4a通常は隣のトラックのパターン4aを対象に、上記同様のパターン検査を行う。そして、このパターン検査を、ディスク媒体4上のすべてのトラックのパターン4a、または予め設定された複数のトラックのパターン4aについて行う。<4.実施の形態の効果>本発明の実施の形態に係るパターン検査装置およびパターン検査方法によれば、以下のような効果が得られる。すなわち、パターン描画時のRROの影響でパターン4aの位置に揺らぎが生じたり、パターン検査時のRROの影響で電子ビームの照射位置に揺らぎが生じたりしても、1トラックあたりのトータルの電子ビーム照射領域の幅を、トラックの幅よりも広く確保することで、それらの揺らぎの影響を抑えたパターン検査を実現することができる。また、1トラックあたりのトータルの電子ビーム照射領域の幅を、パターン描画時やパターン検査時のRROに起因した揺らぎの度合いに応じて設定することにより、当該電子ビーム照射領域の中でパターン4aの全体像をとらえることができる。さらに詳述すると、パターン描画時のRROによるパターン4aの位置の揺らぎや、パターン検査時のRROによる電子ビームの照射位置の揺らぎは、ディスク媒体4の径方向において、それらの相対的な位置ずれの要因となる。このため、1トラックあたりのトータルの電子ビーム照射領域の幅を、パターン描画時やパターン検査時のRROによる上記の相対的な位置ずれ量好ましくは、最大位置ずれ量を見込んで、それよりも広く確保しておけば、当該電子ビーム照射領域からパターン4aが外れてしまうことがなくなる。したがって、一つのトラックのパターン4aを検査するにあたって、このパターン4aの全体像を確実に把握することができる。その結果、上記揺らぎの有無にかかわらずに、各トラックのパターンを適正に検査することが可能となる。また、1トラックにつき、ディスク媒体4をn回転させる際に、前回の回転と今回の回転で、電子ビームの照射位置が径方向で隣接するように各部の動作を制御することにより、各々の電子ビーム照射領域の間でパターンの検査データに欠落等が生じることがない。このため、上記の制御のもとで、ディスク媒体のn回転分の電子検出器3の検出結果を合成し、1トラック分のパターンの検査データを生成することにより、ディスク媒体4の径方向でデータの欠落等がない、連続したパターンの検査データを得ることができる。また、ディスク媒体4に対して照射光学系2が照射する電子ビームのスポット径に関しては、スポット径を小さくするとパターン検査の分解能が向上し、スポット径を大きくするとパターン検査のスループットが向上する関係にある。このため、電子ビームのスポット径をディスク媒体4のトラックの幅と同等に設定すれば、両者分解能、スループットのバランスを良好にすることができる。その結果、パターン検査に際して、必要十分な分解能を確保しつつ、検査スループットの極端に低下を避けることが可能となる。<5.変形例>なお、本発明の技術的範囲は上述した実施の形態に限定されるものではなく、発明の構成要件やその組み合わせによって得られる特定の効果を導き出せる範囲において、種々の変更や改良を加えた形態も含む。たとえば、上記実施の形態においては、1トラックにつき、ディスク媒体4をn回転させる場合に、前回m回目の回転と今回m1回目の回転で、電子ビームの照射位置がディスク媒体4の径方向で隣接するようにしたが、本発明はこれに限らず、前回の回転と今回の回転で、電子ビームの照射位置がディスク媒体4の径方向で一部重畳するようにしてもよい。ここで記述する径方向で隣接するとは、例えば、前回の回転で電子ビームが照射された位置が今回の回転で電子ビームが照射される位置よりもディスク媒体4の内周側に存在する場合に、前回の回転時の電子ビーム照射位置の外周側の端縁と、今回の回転時の電子ビーム照射位置の内周側の端縁とが、ほぼ線接触する状態をいう。また、径方向で一部重畳するとは、例えば、前回の回転で電子ビームが照射された位置が今回の回転で電子ビームが照射される位置よりもディスク媒体4の内周側に存在する場合に、前回の回転時の電子ビーム照射位置の外周側の一部と、今回の回転時の電子ビーム照射位置の内周側の一部とが、互いに重なり合う状態をいう。また、1トラックあたりのディスク媒体4の回転数に関しても、前述したn=3の条件に限らず、1トラックにつき、ディスク媒体4を2回転ずつ回転させてもよいし、4回転以上ずつ回転させてもよい。また、ディスク媒体4に電子ビームを照射して各トラックのパターンの検査データを得る場合に、1トラック単位ではなく、すべてのトラックを対象とするように、ディスク媒体4のパターン形成領域全体にわたって径方向に一様なピッチ電子ビームのスポット径と同じピッチか、それよりも若干小さいピッチで電子ビームの照射位置を順次移動させることにより、全トラックのパターンの検査データを得るようにしてもよい。また、上記実施の形態においては、検査対象の一例としてDTM用のディスク媒体を例に挙げて説明したが、これに限らず、たとえば、径方向の各トラック間に加えて、周方向のビット間にも溝を設けた、BPMビットパターンドメディア用のディスク媒体を検査対象としてもよい。"