リアクターボックスチャンバをクリーニングする方法であって:分子状フッ素をチャンバに導入すること;分子状フッ素を解離させ、それによりフッ素のラジカルを生成させること;フッ素のラジカルをチャンバの中の必要としない堆積物と反応させること;および生じたガスをチャンバから取り出すこと;を含む前記方法。分子状フッ素を解離させることは、分子状フッ素をRF出力源に晒すことを含む、請求項1に記載の方法。前記チャンバは背圧を有する真空チャンバの中に囲われていて、そして前記方法は、この方法を0.1mbarと10mbarの間の背圧において実施することをさらに含む、請求項1に記載の方法。背圧は0.25mbarと2.5mbarの間である、請求項3に記載の方法。背圧は0.5mbarと2mbarの間である、請求項3に記載の方法。チャンバの圧力は背圧の10と200の間である、請求項3に記載の方法。チャンバの圧力は背圧の10と90の間である、請求項6に記載の方法。リアクターボックスチャンバをクリーニングするための装置であって:リアクターボックスチャンバ;および前記リアクターボックスチャンバと連通している分子状フッ素の供給源;を有する前記装置。リアクターボックスチャンバを囲っている真空チャンバをさらに有する、請求項8に記載の装置。本発明においては、リアクターボックスチャンバのクリーニングのために分子状フッ素を用いる。本発明においては、分子状フッ素の解離によって生成したフッ素のラジカルが極めて効率的なクリーニングガスであることが示される。分子状フッ素のために必要な解離エネルギーは比較的低く、リアクターボックスチャンバの中にすでに設置されているRF出力源すなわち、堆積物の先駆物質の解離のために用いられるRF出力源によって供給することができる。遠隔のプラズマ活性化は必要とされず、従って、追加の設備を必要としない。図1は分子状フッ素とSF6の両者についてのクリーニングガスの流量に基づくリアクターボックスチャンバの洗浄速度の影響を示すグラフである。特に図1は、真空チャンバの中に囲われた反応器例えば、Oerlikonから入手できるもののような、リアクターボックスチャンバまたはプラズマボックスチャンバの概念に基づいて、分子状フッ素によってチャンバが効率的に洗浄されることを示す。これらのタイプのチャンバにおいて、外側の真空チャンバは、クリーニングプロセスに基づいて予め決められた背圧と、反応器の圧力と背圧との間の設定された圧力差を有する。図1は、SF6に比べて分子状フッ素を用いる場合、ずっと大きな処理の機会を利用することができ、従って、チャンバ内でより広い範囲のガスの流れと圧力を用いることが可能になることを示す。このことにより、クリーニングプロセスを最適化することが可能になり、それは、0.1mbarミリバールと10mbarの間の範囲の背圧、好ましくは0.25mbarと2.5mbarの間、より好ましくは0.5mbarと2mbarの間の背圧を用いる様々なクリーニングの処方を定めることができるものである。背圧の10と200の間の反応器圧力が試験され、そして概ね許容できることが見いだされた。好ましくは、反応器の圧力は背圧の10と90の間に設定される。分子状フッ素の比較的低い解離エネルギーのために、完全な解離を現場で達成することができる。これによりガスの利用度が改善されるのみならず、より大きなクリーニング効率と短いクリーニングサイクル時間がもたらされる。前に言及したように、SF6やNF3のようなフッ素含有化合物の完全な解離を現場で達成することはできず、従って、付加的なエネルギーを遠隔のプラズマ源から供給することを要する。一般に、そのような遠隔のプラズマ源を用いてもなお、フッ素含有化合物の完全な解離は行われない。図2は本発明に従って分子状フッ素を使用した場合の洗浄時間に及ぼすプラズマ出力の影響を示すグラフである。図2は、分子状フッ素を用いる場合は、RF出力を増大させてもチャンバのクリーニング時間は顕著には変化しなかったことを示す。このことは、低いRFエネルギーであっても、分子状フッ素は完全に解離されることを示している。クリーニングガスとして分子状フッ素を用いる本発明は、先行技術において用いられるフッ素含有化合物を上回る優れたクリーニング効率とクリーニング速度をもたらす。さらに、本発明は他の幾つかの利点を提供する。特に、分子状フッ素を用いるときは、ガスの流れとチャンバ圧力についての制限が少なく、そのためクリーニング処理が行われる機会をより広くすることができる。このことは、クリーニングガスがより良好に利用され、そしてより速いクリーニング処理のサイクル時間が得られることを意味する。さらに、分子状フッ素中には使用されない原子成分が存在しないので、本発明によれば、かなり大きな質量効率が得られる。分子状フッ素を用いると、NF3を用いる場合よりも質量効率が20増大し、そしてSF6を用いる場合よりも質量効率が実質的に74増大するこの場合、通常はSF4が生成した時点で分解が停止し、次いで、これがO2と反応することによってチャンバ内での硫黄の堆積が防止される。分子状フッ素を用いることのさらなる利点は、それを現場で完全に解離することができ、そのため遠隔のプラズマ源を必要とせず、従って、操作上の複雑さとコストが低減することである。本発明によれば遠隔のプラズマ源を必要としないので、チャンバまたは装置の設計とチャンバから遠隔のプラズマ源までの距離についての制約がない。特に、本発明を用いれば、解離したクリーニングガスが再結合する危険性がない。さらに、本発明に従って分子状フッ素を用いると、フッ素を何らかのプラズマ促進ガス例えば酸素またはアルゴンと混合する必要がなく、フッ素をむしろ純粋な状態で用いることができる。さらに、分子状フッ素は容易に完全に解離し、また分子状フッ素は地球温暖化を引き起こす可能性が無いので、本発明は環境への影響が極めて低い。このことにより、本発明によれば、フッ素含有ガスを用いる場合に必要な、複雑で封じ込められて、そして抑制的な装置を解消することができる。本発明についての以上の説明においては、リアクターボックスチャンバのクリーニングのための分子状フッ素の使用に焦点を当てている。しかし、本発明は、シリコン非晶質、微結晶質および結晶質、酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン、炭化シリコン、炭窒化シリコンなどを含めた、シリコン含有薄膜のクリーニングのためにも有用であろう。当業者であれば、以上の説明から本発明の他の態様と変形を容易に知ることになると予想され、そのような態様と変形も同様に、添付する特許請求の範囲に示された本発明の範囲の中に含まれることが意図されている。