"ターゲットロケーション座標位置コマンド情報に応答してワークピース上のターゲットロケーションにむかってレーザビームを導く方法であって、前記ターゲットロケーション座標位置コマンド情報に応答して前記ワークピース及び前記レーザビームのレーザビーム軸を相対的に位置決めし、前記ターゲットロケーション座標位置コマンド情報に対する前記ワークピースの実際の位置を検知し、前記ターゲットロケーション座標位置コマンド情報と実際の位置との間の差を表す一つ以上の誤差信号を生成し、前記差が、前記ワークピース上でのレーザビーム位置誤差を表す誤差信号成分を有し、生成した誤差信号の各々に応答して位置補正信号を生成し、前記レーザビームを受光するのに適合したビーム受光表面を有する高速ビーム操作装置を位置決めし、前記位置補正信号に応答して、前記レーザビームの位置誤差を十分に補償するように前記レーザビームを偏向する角運動を前記レーザビームに行わせ、入射瞳を有するとともに偏向された前記レーザビームを受光し及び前記レーザビームを前記ワークピースのターゲットロケーション上に集束する集束レンズを設け、前記高速ビーム操作装置の前記レーザビーム受光表面を、前記レーザビームを前記ワークピースに対して偏向するように位置決めすることを特徴とする方法。ターゲットロケーション座標位置コマンド情報及びセンサ情報に応答してワークピース上のターゲットロケーションにむかってレーザビームを導く装置であって、前記ターゲットロケーション座標位置コマンド情報に応答して前記ワークピース及び前記レーザビームのレーザビーム軸を相対的に位置決めするポジショナと、前記ポジショナに結合され、前記レーザビームに対する前記ポジショナの実際の位置を表す第1及び第2の信号を生成する第1及び第2センサと、前記ターゲットロケーション座標位置コマンド情報と第1及び第2信号との比較を行い、前記ターゲットロケーション座標位置コマンド情報と前記実際の位置との間の差を表す一つ以上の誤差信号を前記差から発生し、前記差が、前記ワークピースにおけるレーザビーム位置誤差を表す誤差信号成分を有するように構成された処理回路と、発生した前記誤差信号の各々に応答して位置補正信号を生成するビーム操作制御系と、前記レーザビームを受光するのに適合したビーム受光表面を有するよう位置決めされ、前記位置補正信号に応答して、前記レーザビームの位置誤差を十分に補償するように前記レーザビームを偏向する角運動を前記レーザビームに行わせる高速ビーム操作装置と、入射瞳を有し、偏向された前記レーザビームを受光するとともに前記レーザビームを前記ワークピースのターゲットロケーション上に集束し、前記高速ビーム操作装置のレーザビーム受光表面を、前記レーザビームを前記ワークピースに対して偏向するように位置決めする集束レンズとを具えることを特徴とする装置。ワークピースを横切るビーム位置決め装置の集束レンズによって横切られる半導体リンクの行数を減少する方法であって、前記ビーム位置決め装置が、切断されるターゲット半導体リンクのワークピースに当てるためにレーザビームのビーム経路を、前記集束レンズを通じてレーザビーム軸に沿って導き、前記ターゲット半導体リンクを第1の行並びに前記第1の行に隣接する第2及び第3の行に配置し、前記第1、第2及び第3の行の半導体リンクが列に配置され、前記ビーム位置決め装置の前記集束レンズを、前記ターゲット半導体リンクの前記第1の行に平行な第1の方向に移動し、前記第1の方向における第1のパス中に前記第1の行の第1のターゲット半導体リンクを処理し、前記集束レンズのビーム経路の上流に配置され、前記第1、第2又は第3の行の第1列に隣接する第2列の少なくとも第2のターゲット半導体リンクを処理するために、前記第1のパス中に、前記レーザビームを、前記第1の方向に平行な第2の方向に偏向する高速ビーム操作装置を用いることを特徴とする方法。前記レーザビーム軸と前記ワークピースとの間の相対的な位置決めを、移動ステージによって行うことを特徴とする請求項1記載の方法。前記レーザビーム軸と前記ワークピースとの間の相対的な位置決めを、2軸形態で配置された位置決め装置によって行うことを特徴とする請求項1または4記載の方法。前記レーザビーム軸と前記ワークピースとの間の相対的な位置決めを、複数段位置決め装置によって行うことを特徴とする請求項1または4記載の方法。前記レーザビーム軸と前記ワークピースとの間の相対的な位置決めを、プレーナ位置決め装置によって行うことを特徴とする請求項1または4記載の方法。前記レーザビーム軸と前記ワークピースとの間の相対的な位置決めが、非処理期間中の進行速度及びリンク処理イベント中の処理速度で生じ、前記処理速度が前記進行速度より低いことを特徴とする請求項1、4~7のいずれかに記載の方法。前記レーザビームの前記ワークピースに対する移動経路が、前記行の長さより短い複数の移動セグメントを含むビーム経路を形成し、前記移動セグメントの一部は前記第1の方向に生じ、前記移動セグメントの一部は、進行方向及びオフセット方向を含み、前記移動セグメントの一部において、複数のリンク処理イベントが発生することを特徴とする請求項3記載の方法。前記移動セグメントの一部が、互いに相違する前記行の前記半導体リンクを処理することを含むことを特徴とする請求項9記載の方法。前記高速ビーム操作装置が圧電アクチュエータを用いることを特徴とする請求項1、3~10のいずれかに記載の方法。前記高速ビーム操作装置が電歪アクチュエータを用いることを特徴とする請求項1、3~10のいずれかに記載の方法。前記高速ビーム操作装置がボイスコイルアクチュエータを用いることを特徴とする請求項1、3~10のいずれかに記載の方法。前記高速ビーム操作装置が高速操作ミラーを具えることを特徴とする請求項1、3~10のいずれかに記載の方法。前記高速ビーム操作装置が、前記ワークピースにおいて100ミクロンの最大ビーム軸偏向範囲を有することを特徴とする請求項1、3~10のいずれかに記載の方法。前記高速ビーム操作装置が、前記ワークピースにおいて50ミクロンの最大ビーム軸偏向範囲を有することを特徴とする請求項1、3~10のいずれかに記載の方法。前記高速ビーム操作装置が、前記ワークピースにおいて20ミクロンの最大ビーム軸偏向範囲を有することを特徴とする請求項1、3~10のいずれかに記載の方法。前記高速ビーム操作装置が2軸操作装置を具えることを特徴とする請求項1、3~10のいずれかに記載の方法。前記レーザビームが、入射瞳を有する集束レンズを通って伝搬し、前記高速ビーム操作装置が、前記入射瞳から1mm以内に配置されることを特徴とする請求項18記載の方法。前記高速ビーム操作装置が集束レンズの上流に位置決めされ、前記集束レンズを通る前記レーザビーム軸が前記ワークピースと交差することを特徴とする請求項1、3~10のいずれかに記載の方法。少なくとも第1の前記半導体リンクを処理するステップの前に前記高速ビーム操作装置に対するキャリブレーション手順を用いることを特徴とする請求項3、9、10、及び請求項3に従属する請求項11~20のいずれかに記載の方法。移動ステージ及び前記高速ビーム操作装置の制御信号を発生するコマンド発生器を用いることを特徴とする請求項1、3~10のいずれかに記載の方法。前記高速ビーム操作装置の制御信号が、一つ以上の誤差信号を補償する成分を含むことを特徴とする請求項22記載の方法。前記一つ以上の誤差信号が、前記ワークピースを移動する移動ステージの位置の誤差を表すことを特徴とする請求項23記載の方法。前記一つ以上の誤差信号を、基準データに対するレーザビームの配置を表すセンサ情報によって発生させることを特徴とする請求項23記載の方法。請求項1、3~25のうちのいずれか1項に記載の方法を実行することができる複数行の交差軸ディザリング用レーザリンク処理システム。したがって、本発明の目的は、集束されたスポット品質を維持しながら高いリンク処理スループットを達成する装置及び/又は方法を提供することである。本発明の他の目的は、リニアステージ設定誤差を補正する2軸操作ミラーを用いることである。本発明の他の目的は、半導体リンク処理アプリケーションに対して調整された動作を行う位置決め装置を提供することである。本発明は、数十μmのオーダで交差軸設定誤差を補償するのに十分なレーザビームを偏向する小さい角度の動作を実行するために、集束レンズの入射瞳に旋回心軸で回転自在の2軸操作ミラーを用いる。両軸で設定誤差が生じるとしても、本発明の一例は、主にリニアステージ進行のOFT方向に対する交差軸方向の設定誤差の補正に関連する。2軸操作ミラーはその補正に用いられる。その理由は、リニアステージのいずれかの軸をOFT軸として用いることができるからである。好適には、ビーム操作ミラーは、誤差の補正のみに使用され、可能であるとしてもリニアステージ位置決めコマンドの調整又は偏向を必要としない。単一の回転軸の回りに2軸でミラーを傾けるために少なくとも三つの技術を用いることができる。これら技術は、ミラーを傾けるための屈曲機構及びボイスコイルアクチュエータを用いる高速操作ミラーFMSと、ミラーを傾けるために圧電材料の変形に依存する圧電アクチュエータと、ミラーの表面を変形するために圧電又は電歪アクチュエータを用いる変形ミラーとを有する。圧電アクチュエータが好適である。本発明の利点は、交差軸設定時間の省略及びそれによる得にSLP装置に対するスループットの増大を有する。本発明は、緩和されたサーボパフォーマンスの要求のために一つ以上の主要な位置決めステージの製造を容易にする。その理由は、操作ミラーがリニアステージ誤差を補正できるからである。図示したビーム位置決め装置の一実施の形態は、本願の譲受人に譲り受けられたOverveckの米国特許番号第4,532,402号に詳細に記載されている。好適なX-Yステージは、カリホルニア州のイルビンのNewportCorporationから利用できるDynamixModelである。好適には、ビーム位置決め装置は、複数段、スプリット-軸又はプレーナー位置決め装置を制御するレーザコントローラを使用し、レーザコントローラは、ICデバイスすなわちワークピース12上の所望のレーザリンク22に対するターゲット及び集束レーザ装置出力に対して反射器を用いて調整を行う。ビーム位置決め装置によって、同一又は互いに相違するワークピース12のリンク22間で迅速な移動を行うことができ、その結果、与えられた検査又は設計データに基づく独自のリンク切断動作を行う。ビーム位置決め装置は、本願の譲受人に譲り受けられたCutler等の米国特許番号第5,751,585号、第5,798,927号及び第5,847,960号に記載された改善すなわちビームポジショナ又は調整された移動形態を任意に又は付加的に用いることができる。他の固定されたヘッド又はリニアモータ駆動される従来の位置決め装置を、本願の譲受人であるオレゴン州のESIによって製造された9000、9800及び1225モデルシリーズで用いられる装置と同様に用いることができる。本発明に関連して図5,6を参照すると、固定されたヘッド装置又は高速ポジショナ66図4の最後のターンミラーは、好適には、少なくとも2の自由度で駆動可能なミラー102を有する単一の高速かつ高精度の2軸操作ミラー系100に置き換えられる。ミラー102は、好適には集束レンズ108の入射瞳106に一致する中央に配置された回転軸104を有する。好適には、2軸操作ミラー系100は、ビーム操作に用いることができるとしても誤差補正に用いられる。その理由は、リニアステージの軸をOFT軸として用いることができるからである。ビームが、SLPアプリケーションに対して非常に微細なスポットサイズに集束されるので、ミラー系100の案内機構は、好適には、少なくとも2軸に沿って回転軸104の回りでミラー102を旋回し、ポイント104は、集束光学系すなわちレンズ108の入射瞳の位置又はその付近に配置される。ミラー102の位置の小さい角度変動は、ワーク表面のリニアステージ設定誤差を補正するのに十分となるようビームを偏向し、ミラー102が集束レンズ108の入射瞳の位置又はその付近に配置されるので、ビームは、集束されたスポットを歪ませることなくシフトされ、小さくて高品質のスポットを送出することができる。一実施の形態において、交差軸方向110の設定誤差は、ミラー102によって補正され、それに対して、軸上の方向112の動作は補正されない。このような単一軸補正によって、リニアステージの干渉計のフィードバックを、レーザパルスのトリガを行う単一ソースとすることができる。しかしながら、設計が複雑になり、軸上の方向112の精度が劣化するおそれがある他の誤差がアドレス指定されない場合にそのような誤差のソースが導かれるとしても、適切な調整によって、軸上の方向112への操作ミラー102の動作が可能である。ミラー102の各軸の動作は、目盛係数、オフセット誤差、雑音、及び交差軸結合を表す。これらの誤り源は、装置において良好に制御されるとともに修正され、雑音及び温度の安定の影響が、従来の設計技術によって制御される。ビーム-ワークBTW整列によるミラー系100の修正は、操作ミラー102の非線形性及び整列誤差を補正することができる。従来、用語ビーム-ワークは、リニアステージの前後への走査工程に対する語句として使用され、その間、レーザビームスポットは、ウェファすなわちワークピース12図1上の整列ターゲットに低パワーで導かれる。ターゲットの反射の光学的な測定は、ターゲットロケーションしたがってウェファロケーションを正確に決定するのに使用される。BTW走査を用いて複数のターゲットを走査することによって、ビームスポットに対するウェファのオフセット及び回転を確定することができる。軸の直交性や位置的な歪みのような他の影響を精密に示すこともできる。ミラー系100をレーザ装置に追加した後、操作ミラー102の応答の際に任意の不正確さ/非線形性を精密に示すために従来のBTWタイプの走査を用いることができる。これは、いずれかの軸の公称零オフセット位置のミラー102を用いてBTW走査を行うことによって達成される。その後、ミラー102が傾けられ、レーザビームスポットの横方向のオフセットが傾きによってどの程度与えられたかを決定するために、BTW走査が行われる。U軸及びV軸の複数のミラーの傾きによって生じるオフセットを測定することによって、ミラー装置100を十分に特徴付けることができる。一旦、十分に良好な精度でミラー系100の応答を決定すると、リニアステージを前後に移動する代わりに、次のBTWタイプの整列走査に対してミラー系100を用いることができる。図7は、OFT実行中に2軸操作ミラー系100の補正効果を示す。リニアステージリンギングは、リンギング曲線120によって表される。ミラー102は、リンギング曲線120の反転である補正曲線122によって表されるように交差軸方向110にレーザビームを偏向する。結果的に得られるビーム位置は、リニアステージの移動と偏向されたビーム位置の和となり、交差軸誤差のない結果的に得られるビーム経路曲線124によって表される。図8は、リンクがブローされる速度を更に向上するためにリンク切断に関連して左右又はラスタ走査中にMRCAD処理のための操作ミラー系100の使用を示す。動作の好適モードにおいて、MRCAD走査は、交差軸方向110で行われ、その間、リンク132の行130に沿った移動が行われる。MRCAD走査は、低速のリニア移動ステージを交差軸方向110に移動することなくリンク132及び隣接する行138の隣接するリンク136の経路134に沿ってレーザビームを導くために操作ミラー102図5,6を用いる。このことは、各行の全てのリンクをブローする必要がないため可能である。リンク処理は、MRCADによって更に有効になる。その理由は、リニアステージを行ごとに走査し又は回転する必要がないからであり、その結果、リンク行走査の総数を著しく減少することができる。集積密度が増大し、かつ、リンク寸法、スポットサイズ及びピッチ距離が減少するので、MRCAD走査は更に有効な技術となる。他のモードにおいて、補助的な軸上移動は、軸上方向112図5~7にビームを偏向するためにミラー102を使用する。この動作モードにおいて、ビームは、軸上方向112の前方へ迅速に導かれ、リニア移動ステージに追いつく間にリンクを切断する。ステージの前方又は後方へのSOAD走査形態によって、位置決め装置は、ステージ速度変化を減少することができ、すなわち、単一の低速化された移動セグメント注に複数のリンクを切断することができる。少なくとも二つの技術を用いて、旋回心軸104の回りに2軸でミラーを傾けることができる。これらの技術は、屈曲機構及びボイスコイルアクチュエータを用いるFMS、圧電材料の変形に依存する圧電アクチュエータ、並びにミラーの表面を変形する圧電又は電歪アクチュエータを含む。適切なボイスコイル駆動されたFSMは、コロラド州ブルームフィールドのBallAerospaceCorporation及びカリホルニア州アービンのNewportCorporationから利用できる。しかしながら、好適なアクチュエータは、ドイツ国カールスルーのPhysikInstrumenteGmbHCoによって製造されたモデルS330UltraFastPiezoTipTiltPlatformである。従来のガルバノメータは、典型的にはこの出願に使用されない。その理由は、ガルバノミラーが典型的には1軸のみの回りでミラーを傾け、通常は不十分な位置決め精度を有するからである。さらに、物理的に分離された1対のガルバノメータミラーは、2軸の駆動が要求される。このような分離は、ワークピース12の表面で高品質のレーザスポットを維持するために集束レンズ108図5,6の入射瞳に付近に配置された一つの旋回心軸の回りでの駆動を所望することと両立しない。それにもかかわらず、特に精度及び良好に集束されたレーザスポットを維持するために単一軸及び小偏向アプリケーションで用いられる場合、本発明においてガルバノメータ偏向したミラーを用いることができる。一例として、図9及び10は、FSM2軸ミラー系200を示し、この場合、4個の電気-機械振動ジェネレータすなわち変換器は、方形関係で変換器支持プラットホーム220に支持されており、これによって、変換器222,224,226及び228は、中心軸230に対して0,90,180及び270度に配置され、したがって、互いに直角である。移動自在なミラー支持部材232は、軸230に対して中央に位置するミラーすなわち反射表面236を支持する中央部すなわちハブ234を有する。ミラー236は、重量を減少するとともに所望のビーム補正に対する高周波数応答を容易にするために約30mm又はそれ未満の径を有する。ミラー236には、レーザ波長及び設計パラメータを考慮するために通常のレーザ光学コーティングが被覆される。4個の軽量の固定支柱すなわち細長部材242,244,246及び248は、ミラー支持部材232のハブ234から放射状に延在し、電気的に移動自在なボイスコイルである各変換器222,224,226及び228に取り付けられた周辺端末部252,254,256及び258を有する。適切な従来のボイスコイル/拡声器配置の更なる説明については、VanNostrand’sScientificEncyclopediaの第6版の1786ページを参照されたい。機械的な駆動を行うための変換器に対するそのような従来の拡声器コイルの使用によって、装置の製造コストが減少する。好適には、変動するミラー支持部232を、金属例えば、アルミニウム又はベリリウムやプラスチックのような軽量材料から構成することができ、これによって、ボイスコイルに対する電気的な入力信号の迅速な応答を可能にする。チップ制御ジェネレータ260を変換器224及び228に接続して、これらを互いに相補的なプッシュプル関係で移動させる。同様に、チルト制御ジェネレータ262を変換器222及び226に接続して、これらコイルも互いに相補的なプッシュプル関係で移動させる。レーザビーム270は、反射面236で反射され、反射されたビーム272は、進行のOTF方向に垂直な交差軸を制御するジェネレータによって位置決めされて、交差軸誤差を補償する。各ジェネレータによって発生した信号の対は、プッシュプル関係であると仮定し、その結果、変換器222が、支持部材232の上側端部252を図10の右側にプルすると、下側の変換器226は、端部256を左側にプッシュして、反射面236をチルトし、これによって、反射されたビーム272を偏向する。OFT実行の開始時に駆動を交互に行い、例えば、反射面236を適切な周波数及び減衰振幅で移動して、交差軸方向110のリニアステージリンギングを補償し、これによって、リニアステージ設定時間の悪影響を軽減し、比較的真直ぐなビーム経路を生成する。したがって、従来のバッファゾーンにあったリンクを正確に処理することができる。本発明で使用するのに適切なミラー系を、約50~100μmの範囲でビーム偏向を行うことによってMRCAD走査を行うために十分広い分野で実現することができる。しかしながら、そのようなミラー系を、約10~50μmすなわち約10~20μmの小さいビーム偏向を行うだけで交差軸補償を行うこともできる。好適には、ミラーを、集束レンズの入射瞳の±1mmの範囲内に配置する。かかる範囲は、一例にすぎず、装置設計及び特定のリンク処理アプリケーションに適するように変更することができる。PIによって製造された好適なモデルS-330チップ/チルトプラットホームは、高速の2次元ミラーチルト用の圧電アクチュエータを用いる。ひずみゲージセンサは、正確にミラー位置を決定し、フィードバック信号を制御電子部及び駆動回路に供給する。モデルS-330チップ/チルトプラットホームの更に詳しい説明は、PIウェブサイトwwwphysikinstrumentecomで利用できる。PIピエゾチップ/チルトプラットホームの主な利点は、装置が市販されており、ESIモデル9820位置決め装置に容易に装着される非常にコンパクトなサイズを有することである。PIピエゾチップ/チルトプラットホームの不都合は、誤差補正用途に十分であるがビーム-ワーク走査用途に使用するのに不十分なビーム偏向範囲を有することである。また、非線形動作、熱駆動、ヒステリシス及び高電圧駆動は全て、考慮する必要がある圧電駆動に固有の問題である。当然、他の販売者すなわち他のタイプのミラー又はアクチュエータ設計も、本発明の使用に適切である。既に説明した他の全ての利点に加えて、本発明によって、誤差を補正するための2次装置を用いたリニアモータに対する要求動作時間、設定時間を緩和することができる。これによって、リニアモータのコストを大幅に低減し、かつ、一つ以上のリニアステージの加速の制約に対するシステムスループットの依存性を軽減する。図11は、X軸及びY軸移動ステージ302及び304の位置決め及び位置決め誤差補正用の2軸操作ミラー306の位置決めを調整する本発明の位置決め制御装置300の実施例を示す。当然、移動ステージ302及び304を、X軸及びY軸方向に位置決め制御を行う単一のプラナー動作ステージに組み合わせることができる。標準的な動作モードにおいて、2軸操作ミラー306を用いて、X軸及びY軸動作ステージ302及び304によって生じた位置決め誤差を補正する。位置決めコマンド発生器308は、X軸移動コントローラ314及びY軸移動コントローラ316に対する総和部310及び312を通じてX軸移動ステージ302及びY軸移動ステージ304に供給するためのX軸位置コマンド信号及びY軸位置コマンド信号を発生する。X軸及びY軸移動ステージ302及び304の実際の位置は、X軸及びY軸位置センサ318及び320によって検知され、実際の位置を表す信号は、加算器すなわち総和部310及び312に搬送されて、X軸及びY軸位置誤差信号を発生する。X軸及びY軸移動コントローラ314及び316は、誤差信号を受信し、命令された位置と実際の位置との間の任意の誤差を最小にするよう動作する。高精度アプリケーションに対して、X軸及びY軸位置センサ318及び320を、好適には干渉計とする。リンギングによって発生するような残差信号は、イネーブルゲート322及び324を通じて座標変換発生器326に供給され、それは、移動ステージ302と304のいずれが共通座標系を2軸操作ミラー306と共有するかに応じて任意とすることができる。いずれの場合でも、残差信号は、加算器すなわち総和部328及び330を通じてU軸及びV軸操作ミラーコントローラ332及び334に供給され、これらコントローラは、X軸及びY軸移動ステージ302及び304の位置決め誤差を補正するために例えばレーザビーム270図9を偏向する制御量によって操作ミラー306をチップし及び/又はチルトするよう動作する。2軸操作ミラー306の実際のチップ及び/又はチルト位置は、チップセンサ336及びチルトセンサ338によってそれぞれ検知され、実際のチップ位置を表す信号及び実際のチルト位置を表す信号は、加算器すなわち総和部328及び330に供給され、チップ位置誤差信号及びチルト位置誤差信号を発生する。U軸及びV軸操作ミラーコントローラ332及び334は、誤差信号を受信し、コマンドされた位置と実際の位置との間の任意の誤差を補正するよう動作する。高精度アプリケーションに対して、2軸操作ミラー306を圧電チルト/チッププラットホームとし、位置センサ318及び320を、好適には引っ張りゲージとする。他の適切なセンサは、光学的、容量的及び誘導的な検知技術を含む。本実施の形態において、2軸操作ミラー306を偏向する圧電アクチュエータに0~100Vの駆動信号を供給するようU軸及びV軸操作ミラーコントローラ332及び334を適合させる必要があることを、当業者によって理解される。イネーブルゲート322及び324によって、位置コマンド発生器308は、X軸又はY軸に対する位置誤差補正を選択的に無効にすることができ、これによって、交差軸に対する誤差補正を行うことができ、同時に、軸上に影響を及ぼさないようにし、又はその逆を行うことができる。図12は、X軸移動ステージ302及びY軸移動ステージ304の位置決めを調整する位置決め制御装置340の実施の形態を示し、本実施の形態では、MRCAD操作及び位置決め誤差補正に対するFSM236図9及び10である。拡張した動作モードにおいて、操作ミラーは、誤差補正及びMRCAD走査に対して使用される。この動作モードにおいて、位置コマンド発生器342は、X軸移動ステージ302及びY軸移動ステージ304に対するX軸位置決めコマンド及びY軸位置決めコマンドと、FSM236を偏向するためのU軸チップコマンド及びV軸チップコマンドとを発生する。総和部328及び330は、X軸移動ステージ302及びY軸移動ステージ304からの誤差信号の和としてのFSM236に対する位置決めコマンドを発生し、本実施の形態では、U軸チップコマンド及びV軸チルトコマンドも発生する。誤差信号を、標準的な誤差補正モードにおける場合と同様に発生する。他のU軸及びV軸チップ及びチルトコマンドを、位置コマンド発生器342によって生成して、所望のビーム-ワーク走査を行う。ビーム-ワークアプリケーション及びMRCADアプリケーションが典型的には広範囲のミラー偏向を必要とするので、本実施の形態は、好適にはボイスコイル駆動したFSM2軸ミラー系200を用いる。典型的な動作において、MRCAD走査に対する位置コマンドは、移動ステージの交差軸動作のコマンドなくレーザビームの交差軸動作を行うのに用いられる。しかしながら、軸上の補助的な振動から左右の走査まで有益な他のアプリケーションも想定することができる。図示した制御形態は、本発明の基本的な実現及び動作を示すことを意図している。移動ステージ及び操作ミラーへのフィードフォワードコマンドを用いるような更に向上した制御形態は、当業者に明らかである。ドリル、微細加工及びレーザトリミングアプリケーションを通じたエッチングされた回路盤における使用並びにリンク切断に対して本発明の2軸操作ミラー系を適合できることは、当業者によって理解される。本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、幾多の変更及び変形が可能である。"