"少なくとも一方が可撓性を有する一対の基板と、前記一対の基板間に封入された液晶層とを有し、前記一対の基板のいずれかと前記液晶層とが接する領域が、表示領域と、非表示領域とに分割され、前記表示領域には、前記一対の基板間に配置され、この一対の基板間の間隙を保持する複数のスペーサを備え、前記非表示領域には、スペーサを備えない領域を設け、前記非表示領域の平均セルギャップは、前記表示領域の平均セルギャップよりも小さいことを特徴とする液晶表示素子。前記非表示領域には、前記シール領域側にスペーサが配置され、前記表示領域側にスペーサを備えない領域を設けることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。前記非表示領域のスペーサを備えない領域は、前記表示領域の前記一対の基板間の間隔より、前記シール領域の前記一対の基板間の間隔を広くしたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。前記非表示領域には、前記シール領域側にスペーサが配置され、前記表示領域側にスペーサを備えない領域を設け、前記非表示領域のスペーサを備えない領域は、前記表示領域の前記一対の基板間の間隔より、前記シール領域の前記一対の基板間の間隔を広くしたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。前記非表示領域の前記基板の撓み量は、前記表示領域の前記基板の撓み量よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の液晶表示素子。前記非表示領域は、封入される液晶量に応じて前記平均セルギャップが変化し、かつ前記表示領域の平均セルギャップを超えないことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の液晶表示素子。このように、一対の基板間に封入された液晶層を有する液晶表示素子では、スペーサ密度の疎密でセルギャップを変化させ、気泡発生原因を除去し、発生した場合でも問題の少ない領域に気泡を集め、また柱状スペーサの底面積の大小で基板に撓み量を変化させ、温度低下や基板変形が生じた場合でも気泡による信頼性低下を抑え、またスペーサ密度の疎密で基板に撓み量を変化させ、気泡が発生することを防止しているが、ガラスに代わってプラスチック等の可撓性基板を用いると、例えば液晶量が設計パネル容積によって決定される適正領域より少ない場合は、非表示領域にスペーサが存在することによって気泡が発生することがある。このため、設計パネル容積よりも多い液晶量を封入しようとした場合、基板自体に可撓性があるので過剰の液晶量を包含しようとすることで基板が変形し、これにより表示斑が発生する問題があった。この発明が解決しようとする課題は、かかる実情に鑑みてなされたもので、液晶量を適正領域に制御でき、気泡や表示斑の発生を防止することが可能な液晶表示素子を提供することである。前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、この発明は、以下のように構成した。請求項1に記載の発明は、少なくとも一方が可撓性を有する一対の基板と、前記一対の基板間に封入された液晶層とを有し、前記一対の基板のいずれかと前記液晶層とが接する領域が、表示領域と、非表示領域とに分割され、前記表示領域には、前記一対の基板間に配置され、この一対の基板間の間隙を保持する複数のスペーサを備え、前記非表示領域には、スペーサを備えない領域を設け、前記非表示領域の平均セルギャップは、前記表示領域の平均セルギャップよりも小さいことを特徴とする液晶表示素子である。請求項2に記載の発明は、前記非表示領域には、前記シール領域側にスペーサが配置され、前記表示領域側にスペーサを備えない領域を設けることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子である。請求項3に記載の発明は、前記非表示領域のスペーサを備えない領域は、前記表示領域の前記一対の基板間の間隔より、前記シール領域の前記一対の基板間の間隔を広くしたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子である。請求項4に記載の発明は、前記非表示領域には、前記シール領域側にスペーサが配置され、前記表示領域側にスペーサを備えない領域を設け、前記非表示領域のスペーサを備えない領域は、前記表示領域の前記一対の基板間の間隔より、前記シール領域の前記一対の基板間の間隔を広くしたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。請求項5に記載の発明は、前記非表示領域の前記基板の撓み量は、前記表示領域の前記基板の撓み量よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の液晶表示素子である。請求項6に記載の発明は、前記非表示領域は、封入される液晶量に応じて前記平均セルギャップが変化し、かつ前記表示領域の平均セルギャップを超えないことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の液晶表示素子である。前記構成により、この発明は、以下のような効果を有する。請求項1乃至請求項6に記載の発明では、一対の基板のいずれかと液晶層とが接する領域が、表示領域と、非表示領域とに分割され、表示領域には、一対の基板間に配置され、この一対の基板間の間隙を保持する複数のスペーサを備え、非表示領域には、スペーサを備えない領域を設け、非表示領域の平均セルギャップは、表示領域の平均セルギャップよりも小さいことで、液晶量によらずセルギャップが安定し、気泡の発生を抑えることができ、液晶量に対するマージンの拡大やセルギャップバラツキの改善により製品の性能が向上する。また、液晶滴下注入工程ODF:OneDropFillにおいて、一対の基板のいずれかと液晶層とが接する領域が、表示領域と、非表示領域とに分割され、非表示領域にスペーサを備えない領域を設けることで、液晶の移動が一対の基板間で基板が撓み間隔が狭くなるために規制され、硬化前シールと液晶が接触しにくいことから硬化前シールによって液晶の性能が損なわれることがなく製品の品質、信頼性が向上する。また、非表示領域にスペーサを備えない領域を設けることで、非表示領域の基板の撓み量は、表示領域の基板の撓み量よりも大きく、非表示領域は、封入される液晶量に応じて、平均セルギャップが変化し、かつ表示領域の平均セルギャップを越えないことで、液晶量を適正領域に制御でき、気泡や表示斑の発生を防止することが可能である。以下、この発明の液晶表示素子の実施の形態について説明する。この発明の実施の形態は、発明の最も好ましい形態を示すものであり、この発明はこれに限定されない。[液晶表示素子の第1の実施の形態]図1は液晶表示素子の平面図、図2は非表示領域と表示領域部分の断面図、図3は液晶量の変化によって平均セルギャップが変化することを説明する図である。この実施の形態の液晶表示素子10は、可撓性を有する第1の基板11と、第1の基板11に対向配置されて可撓性を有する第2の基板12と、第1の基板11と第2の基板12との間に設けられたシール領域内側に封入された液晶層13とを備え、全体が湾曲して変形することができるように構成されている。シール領域は、略矩形枠状のシール材14によって形成される。第1の基板11は、例えばポリカーボネート等の透明な可撓性基板である矩形状のプラスチック基板と、プラスチック基板の液晶層側の表面に積層された防湿膜と、防湿膜の表面に積層された複数の画素電極と、画素電極に接続された複数の薄膜トランジスタ以下、TFTと略称すると、画素電極及びTFT等を覆う配向膜とが形成されている。第2の基板12は、第1の基板11と同様のプラスチック基板と、プラスチック基板の液晶層側の表面に積層された防湿膜と、防湿膜の表面に積層されてITO等により形成された透明電極と、透明電極を覆う配向膜とが形成されている。また、第2の基板12には、カラーフィルタが形成されている。液晶層13は、第2の基板12に、略矩形枠状のシール材14によって囲まれた状態で、第1の基板11と第2の基板12との間に封入されている。シール材14の内側に表示に寄与しない非表示領域5が形成され、この非表示領域5の内側に表示に寄与する表示領域6が形成されている。シール材14には、例えばエポキシ樹脂等の強接着性を有する非導電性樹脂を適用することが可能である。また、シール材14には、例えば、シリコン樹脂や熱可塑エラストマー等の弾性が高い熱可塑性樹脂を適用することがより好ましい。シール材14は、第1の基板11及び第2の基板12の四辺に沿って形成され、これら第1の基板11と第2の基板12とを互いに密接させた状態で保持している。液晶層13の液晶材料としては、例えばネマティック液晶が用いられるが、その他にコレステリック液晶やスメクティック液晶等を用いてもよい。このように、第1の基板11と第2の基板12と、液晶層13とが接する領域が、表示領域6と、この表示領域6を取り囲む非表示領域5とに分割され、表示領域6には、第1の基板11と第2の基板12の基板間に配置され、この基板間の間隙を保持する複数のスペーサ15を備え、非表示領域5には、スペーサを備えない領域を設ける。このため、第1の基板11と第2の基板12が接触することもあるので、第1の基板11と第2の基板12の液晶層13とが接する面に電極等が露出しないように保護膜を被覆したり、部分的にスペーサを配置したりするなどの手段を用いて、不要に両基板が電気的に短絡することを防ぐ構成とすることは自明である。スペーサ15は、例えば略円柱等の柱状に形成されたフォトスペーサにより構成され、表示領域6の全体に亘って配置されている。なお、スペーサ15は、例えば樹脂等の粒子状のスペーサを適用することも可能である。表示領域6は、矩形状に形成され、スペーサ15が形成されることにより、第1の基板11と第2の基板12との間隔である液晶層13の厚みが一定に維持され、非表示領域5にはスペーサを備えない領域を設けることで、非表示領域5の平均セルギャップは、表示領域6の平均セルギャップよりも小さい。このように、液晶表示素子10は、第1の基板11と第2の基板12との間に封入されて第1の基板11と第2の基板12と液晶層13とが接する領域が、表示領域6と、この表示領域6を取り囲む非表示領域5とに分割され、非表示領域5の平均セルギャップ液晶層13の厚みは、表示領域6の平均セルギャップ液晶層13の厚みよりも小さく構成されている。すなわち、液晶表示素子10に、スペーサを備えない非表示領域5と、スペーサを備える表示領域6を設けると、図2に示すように、液晶層13の液晶量が設計容積パネル面積×スペーサ高さより少ない場合は、設計容積-液晶量の差圧分の圧力を、第1の基板11と第2の基板12は大気圧により受けるため第1の基板11と第2の基板12は撓むが、非表示領域5の方が基板の撓み量が表示領域6の基板の撓み量より大きくなり、その結果スペーサを備える表示領域6に比べ、平均セルギャップは小さくなる。封入される液晶量に応じて、図3に示すように、非表示領域5及び表示領域6の平均セルギャップが変化し、かつ表示領域6の平均セルギャップを越えない。非表示領域5の平均セルギャップは、表示領域6の平均セルギャップよりも小さく、第1の基板11と第2の基板12は撓みが大きく、平均セルギャップの変化が大きい。一方、表示領域6の平均セルギャップは、スペーサを備えているため非表示領域5の平均セルギャップよりも大きく、第1の基板11と第2の基板12は撓みが小さく、平均セルギャップの変化が小さい。この液晶量を変えたときのセルギャップ変化とセルギャップバラツキ変化の試験を行った。この試験では、基板として、ガラス繊維と硬化性樹脂との複合材を用い、基板の厚みは100μmであり、弾性係数は、25GPaである。また、用いたスペーサの高さは5μmである。セルギャップ変化の試験は、3.5型液晶パネルにおいて、非表示領域を設けない通常のパネルと、非表示領域を設けたこの発明のパネルの2種類について、セルギャップの液晶充填率依存性を求めた。具体的には、液晶量を変えて作製した各パネルの表示領域のセルギャップ平均値を測定し、液晶充填率に対する変化の度合いを調べた。対象となるパネルは前述のように可撓性基板を使用しているため、表示領域全域のセルギャップを測定し、その平均値を求めた。測定は、He-Neレーザーを500μmφに絞ったプローブ光を縦横1mmピッチ動かし測定した。測定したデータ数はおおよそ4000点である。セルギャップバラツキ変化の試験は、測定で得られたセルギャップデータ4000点より、セルギャップの平均値図4と、セルギャップのバラツキとなる標準偏差σ図5を求めた。セルギャップ変化の試験結果を、図4に基づいて説明する。図4はセルギャップの液晶量依存性を説明する図である。横軸が液晶充填率を示し、縦軸が平均セルギャップμmを示し、非表示領域5にスペーサがなく緩衝領域がある場合を○で示し、非表示領域5にスペーサを配置し緩衝領域がない場合を×で示した。この試験結果によると、液晶量を変えたときのセルギャップ変化は、非表示領域5にスペーサがなく緩衝領域がある場合は、約5.1μmから5.2μmの範囲で変化し、変化が小さいが、非表示領域5にスペーサを配置し緩衝領域がない場合は、約4.9μmから5.3μmの範囲で変化し、変化が大きかった。また、非表示領域5にスペーサを配置し緩衝領域がない場合は、液晶充填率が、約85から約95の範囲では、液晶量が足りず気泡が発生した。このように、非表示領域5にスペーサを配置しないで緩衝領域を設けることにより、液晶量に対するセルギャップ変化が緩やかであり、セルギャップの安定性が向上し、気泡は生じにくい。この試験結果では、気泡は生じなかった。セルギャップは、用いるスペーサにより規定されるが、本試験での緩衝領域を設けた場合では、スペーサ高さより大きいセルギャップで安定になるという結果が得られた。これは、スペーサの無い緩衝領域に液晶が移動するとき、大気により押さえつけられている基板間の圧力に抗して液晶は侵入しなければならず、表示領域から押し出される力と緩衝領域を押さえつける大気圧とが釣り合いによりセルギャップは規定されると考えられる。このように、スペーサを配置しない緩衝領域は、表示領域から緩衝領域に液晶が移動するにあたり、障壁のような機能を果たすため表示領域のセルギャップを一定に保つと考えられる。セルギャップバラツキ変化の試験結果を、図5に基づいて説明する。図5はセルギャップのバラツキの液晶量依存性を説明する図である。横軸が液晶充填率を示し、縦軸がセルギャップバラツキ3σμmを示し、非表示領域5にスペーサがなく緩衝領域がある場合を○で示し、非表示領域5にスペーサを配置し緩衝領域がない場合を×で示した。この試験結果によると、液晶量を変えたときのセルギャップバラツキ変化は、非表示領域5にスペーサがなく緩衝領域がある場合は、約0.15μm程度で変化が小さいが、非表示領域5にスペーサを配置し緩衝領域がない場合は、約0.15μmから0.3μmの範囲で変化し、変化が大きかった。このように、非表示領域5にスペーサを配置しないで緩衝領域を設けることにより、液晶量に対するセルギャップバラツキが一定であり、セルギャップの均一性が向上し、セルギャップの安定性が向上し、気泡は生じにくいことから製品の性能が向上する。また、液晶滴下工程において、非表示領域にスペーサを備えないことで、液晶の移動が一対の基板間で基板が撓み間隔が狭くなるために規制され、硬化前シールと液晶が接触しにくいことから硬化前シールによって液晶の性能が損なわれることがなく製品の品質、信頼性が向上する。また、封入される液晶量に応じて、非表示領域5及び表示領域6の平均セルギャップが変化し、この時、液晶層の厚みセルギャップは基板の撓み具合により決まるため、厳密にはセルギャップはスペーサ間での撓み量に応じた値を示すが、スペーサ間隔より広い領域でのセルギャップの平均値を平均セルギャップと定義あるいは、表示領域6、非表示領域5でのそれぞれのセルギャップの平均値すれば、平均セルギャップは基板の撓み量と相関をもった指標として扱うことができる。したがって、液晶層13が接する領域を、表示領域6と、この表示領域6を取り囲む非表示領域5とに分割され、非表示領域5の平均セルギャップは、表示領域6の平均セルギャップよりも小さくすることで、非表示領域5は、封入される液晶量に応じて、平均セルギャップが変化し、かつ表示領域の平均セルギャップを越えないことで、液晶量を適正領域に制御でき、気泡や表示斑の発生を防止することが可能である。[液晶表示素子の第2の実施の形態]第2の実施の形態を、図6に基づいて説明する。図6は液晶表示素子の平面図である。この実施の形態では、シール材14の1辺の内側にのみ表示に寄与しない非表示領域5が形成され、他の3辺の内側に表示に寄与する表示領域6が形成されている。この実施の形態でも第1の実施の形態と同様に、表示領域6と、非表示領域5とに分割され、表示領域6には、一対の基板間の間隙を保持する複数のスペーサを備え、非表示領域5には、スペーサを備えない領域を設け、非表示領域5の平均セルギャップは、表示領域6の平均セルギャップよりも小さいく構成される。非表示領域の構成第1の実施の形態及び第2の実施の形態では、非表示領域には、図2及び図3に示すように、スペーサを備えない領域を設けているが、図7及び8のように構成することができる。図7の実施の形態では、非表示領域5には、シール領域側にスペーサ50が配置され、表示領域側にスペーサを備えない領域を設けている。この実施の形態では、シール領域側にスペーサ50を配置することで、スペーサ50によって積極的に液晶13を非表示領域5に溜めることができる。図8の実施の形態では、非表示領域5のスペーサを備えない領域は、シール材14の長さL1を、スペーサ50の長さL2より長くし、表示領域6の第1の基板11と第2の基板12間の間隔より、シール領域の第1の基板11と第2の基板12間の間隔を広くしており、この広くなった部分により積極的に液晶13を非表示領域5に溜めることができる。このように、非表示領域5には、スペーサを備えない領域を設けることで、非表示領域5の基板の撓み量は、表示領域6の基板の撓み量よりも大きく、非表示領域5は、封入される液晶量に応じて、平均セルギャップが変化し、かつ表示領域6の平均セルギャップを越えないことで、液晶量を適正領域に制御でき、気泡や表示斑の発生を防止することが可能である。基板透明な可撓性基板としては、ガラス繊維と硬化性樹脂との複合材を用いたが、特に限定されず、従来公知のものを全て使用できる。プラスチック基板を形成する樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミド等の熱可塑性樹脂や、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル、ポリジアリルフタレート、ポリイソボニルメタクリレート等の熱硬化性樹脂などを挙げることができる。かかる樹脂は、1種又は2種以上を用いることができ、他成分との共重合体や混合物として用いることもできる。このような透明可撓性基板の厚み、弾性率は、封入される液晶量に応じて可撓性基板が追従して撓むことができるよう液晶表示素子の仕様に合わせて決定すればよい。図4、5では、弾性率25GPaのプラスチック基板での試験結果を示したが、弾性率が2GPaであるプラスチック基板においても、同様の試験を行った。このときの基板の厚みは100μmである。セルギャップバラツキ変化の試験は、同様に測定で得られたセルギャップデータ4000点より、セルギャップの平均値図9と、セルギャップのバラツキとなる標準偏差σ図10を求めた。セルギャップ変化の試験結果を、図9に基づいて説明する。図9はセルギャップの液晶量依存性を説明する図である。横軸が液晶充填率を示し、縦軸が平均セルギャップμmを示し、非表示領域5にスペーサがなく緩衝領域がある場合を○で示し、非表示領域5にスペーサを配置し緩衝領域がない場合を×で示した。この試験結果によると、液晶量を変えたときのセルギャップ変化は、非表示領域5にスペーサがなく緩衝領域がある場合は、約5.05μmから5.2μmの範囲で変化し、特に液晶充填率が90を越える範囲ではセルギャップはほぼ一定の値となっている。非表示領域5にスペーサを配置し緩衝領域がない場合は、約4.9μmから5.1μmの範囲で変化し、変化が大きかった。また、非表示領域5にスペーサを配置し緩衝領域がない場合は、液晶充填率が、96では、液晶量が足りず気泡が発生した。このように、非表示領域5にスペーサを配置しないで緩衝領域を設けることにより、液晶量に対するセルギャップ変化が緩やかであり、セルギャップの安定性が向上し、気泡は生じにくい。この試験結果では、気泡は生じなかった。セルギャップバラツキ変化の試験結果を、図10に基づいて説明する。図10はセルギャップのバラツキの液晶量依存性を説明する図である。横軸が液晶充填率を示し、縦軸がセルギャップバラツキ3σμmを示し、非表示領域5にスペーサがなく緩衝領域がある場合を○で示し、非表示領域5にスペーサを配置し緩衝領域がない場合を×で示した。この試験結果によると、液晶量を変えたときのセルギャップバラツキ変化は、非表示領域5にスペーサがなく緩衝領域がある場合は、試験範囲内では全て0.20μm以下であり、液晶充填率100前後では0.15μm程度と小さいが、非表示領域5にスペーサを配置し緩衝領域がない場合は、液晶充填率に対する変化が大きく安定せず、液晶充填率100以上では0.2μmを越えてしまう。このように、非表示領域5にスペーサを配置しないで緩衝領域を設けることにより、液晶量に対するセルギャップバラツキが一定であり、セルギャップの均一性が向上し、セルギャップの安定性が向上し、気泡は生じにくいことから製品の性能が向上する。また、液晶滴下工程において、非表示領域にスペーサを備えないことで、液晶の移動が一対の基板間で基板が撓み間隔が狭くなるために規制され、硬化前シールと液晶が接触しにくいことから硬化前シールによって液晶の性能が損なわれることがなく製品の品質、信頼性が向上する。スペーサスペーサは、感光性の樹脂膜を塗布後、露光現像をすることにより形成されるがこれに限定されない。また、スペーサ形状、スペーサの高さ、スペーサの配置密度は、液晶表示素子の基板間隔設計に応じて決定すればよい。また、液晶材料の供給を真空注入法で行う場合は、注入経路となる領域にスペーサを形成すればよい。この発明では、非表示領域5の平均セルギャップは、表示領域6の平均セルギャップよりも小さく構成され、非表示領域5の基板の撓み量は、表示領域6の基板の撓み量よりも大きい。しかも非表示領域5は、封入される液晶量に応じて平均セルギャップが変化し、かつ表示領域6の平均セルギャップを超えないことを特徴とする。緩衝領域の大きさ本発明での緩衝領域は余剰となった液晶を蓄える機能を有することを特長としている。その効果の程度を確認するために緩衝領域の大きさを変えて、前述の液晶量を変えたときのセルギャップ変化とセルギャップバラツキ変化の試験を行った。この試験で用いた基板は、弾性係数25GPaと2GPaの2種類である。また、用いたスペーサの高さは5μmである。セルギャップ変化の試験は、3.5型液晶パネルにおいて、非表示領域を設けない通常のパネルと、非表示領域を設けたこの発明のパネルの2種類について、セルギャップの液晶充填率依存性を求めた。具体的には、液晶量を変えて作製した各パネルの表示領域のセルギャップ平均値を測定し、液晶充填率に対する変化の度合いを調べた。対象となるパネルは前述のように可撓性基板を使用しているため、表示領域全域のセルギャップを測定し、その平均値を求めた。測定は、He-Neレーザーを500μmφに絞ったプローブ光を縦横1mmピッチ動かし測定した。測定したデータ数はおおよそ4000点である。セルギャップバラツキ変化の試験は、測定で得られたセルギャップデータ4000点より、セルギャップの平均値と、セルギャップのバラツキとなる標準偏差σを求めた。基板弾性係数25GPaの試験結果を、図11セルギャップの平均値、図12セルギャップのバラツキとなる標準偏差に、基板弾性係数2GPaの試験結果を、図13セルギャップの平均値、図14セルギャップのバラツキとなる標準偏差に示す。このときの緩衝領域の大きさは、表示領域に対する比率として図中に表しており、0は緩衝領域の大きさが0、すなわち緩衝領域の無い従来のパネルを表す。基板弾性係数25GPa、2GPaの両者ともに、緩衝領域が大きいほど平均セルギャップ、及びそのバラツキ3σは液晶充填率に対して安定に推移しており、より大きな効果が得られることが判ったが、5程度の緩衝領域を設けることもで、液晶量に対する平均セルギャップの変化量は小さくなり、その効果を得ることができる。気泡発生は、緩衝領域を設けた全てのパネルにおいて見られなかった。この発明の構成では、非表示領域5にスペーサを形成しないことにより、非表示領域5の基板の撓み量を、表示領域6の基板の撓み量よりも大きくしているが、例えば基板の厚みと弾性係数、そのときのスペーサの大きさや非表示領域5の大きさ、あるいは基板とスペーサの弾性係数の大小などを適正な範囲設定することで、非表示領域5の基板の撓み量は、表示領域6の基板の撓み量よりも大きくする構成にすることができる。[実施例1]次に、液晶表示素子の実施例について説明する。基板11,12として、ガラス繊維と硬化性樹脂との複合材を用い、厚みは100μmであり、弾性係数は、25GPaである。この基板11,12の少なくとも一方の表面に対し、SiO膜をスパッタリングにより約1000Åの厚さに形成し、これを防湿膜とする。続いて、各基板11,12に対し、防湿膜の表面にITOをスパッタリングして電極をそれぞれ形成した。また、公知の方法により、基板11にはTFT等を形成する一方、基板12にはカラーフィルタ等を形成した。次に、基板11にネガ型の感光性樹脂例えば、JSR株式会社製のJNPC80を塗布し、フォトリソグラフィによって複数のフォトスペーサを所定の間隔で形成した。フォトスペーサは、高さが5μmで直径が20μmである略円柱状に形成した。フォトスペーサは、非表示領域5ではスペーサを配置しないで、表示領域6でスペーサの配置密度を、100個/平方mmとした。その後、基板12に対して透明電極を覆うように配向膜をスピンコートで塗布した後に焼成して形成し、ラビングによって配向処理を施した。続いて、滴下注入法により液晶材料を基板11と基板12との間に注入する。すなわち、まず、基板12の非表示領域5に硬化前のシール材14をディスペンサ等により供給する。次に、基板12におけるシール材14の内側であり、且つシール隔壁部の内側の領域に液晶材料を供給し、真空中において、基板11と基板12とを互いに貼合せ、加熱すると共に加圧してシール材14を硬化させた。液晶材料は液晶充填率90~100の範囲で供給し、気泡発生の有無、表示斑発生の有無について評価した。封入される液晶量に応じて非表示領域5の基板の撓み量は、表示領域6の基板の撓み量よりも大きく変化し、かつ表示領域6の平均セルギャップを越えないことで、液晶量を適正領域に制御できた。したがって、ガラスに代わってプラスチック等の可撓性基板を用いた場合、例えば設計パネル容積よりも多い液晶量を封入することがあっても、封入される液晶量に応じて非表示領域5の基板の撓み量は、表示領域6の基板の撓み量よりも大きく変化し、液晶量を適正領域に制御できるので、気泡や表示斑の発生を防止することが可能であった。その結果を図15の表に示す。[実施例2]実施例1と同様であるが、ポリカーボネートで形成した基板11,12を用いた。この基板の厚みは50μmであり、弾性係数は、2GPaである。フォトスペーサは、高さが5μmで直径が20μmである略円柱状に形成したものを用い、フォトスペーサは、非表示領域5ではスペーサを配置しないで、表示領域6でスペーサの配置密度を、400個/平方mmの密とした。なお、実施例2では、実施例1に比べ基板11,12のフィルムが薄くかつ軟らかい材料なので、表示領域のスペーサの配置密度はピッチ換算で50μmピッチ程度とし、実施例1よりも撓みやすい分密度を大きくすることが好ましい。封入される液晶量に応じて非表示領域5の基板の撓み量は、表示領域6の基板の撓み量よりも大きく変化し、かつ表示領域6の平均セルギャップを越えないことで、液晶量を適正領域に制御でき、気泡や表示斑の発生を防止することが可能であった。その結果を図15の表に示す。[比較例1]実施例1と同様であるが、フォトスペーサは、非表示領域5でスペーサの配置密度を、100個/平方mmとし、表示領域6でスペーサの配置密度を、100個/平方mmとした。封入される液晶量に応じて非表示領域5の基板の撓み量は、表示領域6の基板の撓み量と同様に変化し、液晶量を適正領域に制御できず、気泡の発生を防止することができなかった。その結果を図15の表に示す。[比較例2]比較例1と同様であるが、フォトスペーサは、非表示領域5でスペーサの配置密度を、25個/平方mmの密とし、表示領域6でスペーサの配置密度を、20個/平方mmの疎とした。封入される液晶量に応じて非表示領域5の基板の撓み量は、表示領域6の基板の撓み量より小さく変化し、液晶量を適正領域に制御できず、表示斑の発生を防止することができなかった。その結果を図15の表に示す。"