温度が550°C以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、SiO2を62~74、Al2O3を6~18、B2O3を2~15、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8~21含有し、上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。ガラス基板が、Al2O3を7以上含有する請求項1の磁気ディスクの製造方法。ガラス基板が、MgOおよびCaOのいずれか1成分以上を合計で3~18含有する請求項1または2の磁気ディスクの製造方法。ガラス基板が、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で16以下含有する請求項1または2の磁気ディスクの製造方法。ガラス基板が、MgOおよびCaOのいずれか1成分以上を合計で3以上含有する請求項4の磁気ディスクの製造方法。ガラス基板がB2O3を7以上含有する請求項1~5のいずれかの磁気ディスクの製造方法。ガラス基板が、SiO2を65~69、Al2O3を9~12、B2O3を7~12、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で10~16含有する請求項1~5のいずれかの磁気ディスクの製造方法。ガラス基板におけるSrOおよびBaOの含有量の合計のB2O3含有量に対する比SrOBaO/B2O3が1.2以下である請求項1~7のいずれかの磁気ディスクの製造方法。ガラス基板が、質量百分率表示でB2O3を8超含有する請求項1~8のいずれかの磁気ディスクの製造方法。ガラス基板の密度が2.57g/cm3以下である請求項1~9のいずれかの磁気ディスクの製造方法。温度が550°C以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、SiO2を67~72、Al2O3を11~14、B2O3を0~2未満、MgOを4~9、CaOを4~6、SrOを1~6、BaOを0~5含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量合計が14~18、上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。ガラス基板の徐冷点が650°C以上である請求項1~11のいずれかの磁気ディスクの製造方法。モル百分率表示で、SiO2を62~74、Al2O3を7~18、B2O3を2~15、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8~16含有し、上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しない情報記録媒体用ガラス基板。B2O3を7以上含有する請求項13の情報記録媒体用ガラス基板。モル百分率表示で、SiO2を62~74、Al2O3を7~18、B2O3を7~15、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8~21含有し、上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しない情報記録媒体用ガラス基板。SrOおよびBaOの含有量の合計のB2O3含有量に対する比SrOBaO/B2O3が1.2以下である請求項13、14または15の情報記録媒体用ガラス基板。モル百分率表示で、SiO2を62~74、Al2O3を7~18、B2O3を2~15、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8~21含有し、SrOおよびBaOの含有量の合計のB2O3含有量に対する比SrOBaO/B2O3が1.2以下かつ上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しない情報記録媒体用ガラス基板。B2O3含有量が質量百分率表示で8超である請求項13~17のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板。密度が2.57g/cm3以下である請求項13~18のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板。情報記録媒体が磁気ディスクである請求項13~19のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板。シリコン基板にはガラス基板に比べて一般的に強度の点で懸念がある。したがって、基板を高温にして磁気記録層を形成する磁気ディスクの製造においてもガラス基板を用いるようにすることが好ましい。本発明はこのような磁気ディスクの製造方法およびそのような製造方法に好適な情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法の提供を目的とする。本発明は、温度が550°C以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、SiO2を62~74、Al2O3を6~18、B2O3を2~15、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8~21含有し、上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法以下、第1の方法という。を提供する。また、当該ガラス基板におけるAl2O3含有量は典型的には7モル以上であり、第1の方法のこの典型的な態様において、ガラス基板がSiO2を65~69、Al2O3を9~12、B2O3を7~12、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で10~16含有するものを提供する。また、温度が550°C以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、SiO2を67~72、Al2O3を11~14、B2O3を0~2未満、MgOを4~9、CaOを4~6、SrOを1~6、BaOを0~5含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量合計が14~18、上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法以下、第2の方法という。を提供する。なお、B2O3を0~2未満含有するとは、B2O3を0以上2未満含有する、の意である。また、モル百分率表示で、SiO2を62~74、Al2O3を7~18、B2O3を2~15、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8~16含有し、上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しない情報記録媒体用ガラス基板以下、ガラス基板Aという。を提供する。また、モル百分率表示で、SiO2を62~74、Al2O3を7~18、B2O3を7~15、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8~21含有し、上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しない情報記録媒体用ガラス基板以下、ガラス基板Bという。を提供する。また、モル百分率表示で、SiO2を62~74、Al2O3を7~18、B2O3を2~15、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8~21含有し、SrOおよびBaOの含有量の合計のB2O3含有量に対する比SrOBaO/B2O3が1.2以下かつ上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しない情報記録媒体用ガラス基板以下、ガラス基板Cという。を提供する。本発明は、これらガラス基板に係る発明は、磁気記録層を形成する磁気ディスクの製造において基板を高温にできるようにするだけでなく、次に述べるようにガラス基板が割れにくくすることも目的とするものである。すなわち、情報記録媒体は持ち運びされる時や使用中などに誤って床などに落とされることが多いが、情報記録媒体の基板としてガラス基板が用いられている場合にはその衝撃でガラス基板が割れる問題があった。本発明者はこの問題を調べるために後述する例4、15、16の基板ガラスからなるガラス基板ただし、例15のガラス基板は化学強化されたものについて後述するように、破壊靭性St単位:MPam1/2およびクラック発生率p単位:を測定し、また、これらガラス基板をマイクロドライブPCカード型の超小型ハードディスクにセットし耐衝撃性指標S150、S175を測定した。結果を表1に示す。通常のガラス製品の耐衝撃性はそのガラスの破壊靭性とともに増大するが、磁気ディスク用ガラス基板においては破壊靭性が増大しても耐衝撃性は必ずしも増大せず、クラック発生率の減少とともに耐衝撃性が増大することがわかった。また、耐衝撃性指標を測定する際に割れたガラス基板の破壊起点を調べたところ、通常のガラス板などでは傷の多い端部に破壊起点が存在するが、磁気ディスク用ガラス基板においては主表面のクランプやスペーサーとの接触部に破壊起点が存在することがわかった。これは、主表面は記録面であり傷などの欠点は本来存在しないはずのため、落下衝撃により新たな傷が発生し、それが破壊起点になったと考えられる。この事実は、破壊靭性ではなくクラック発生率と耐衝撃性との間に関係があるという前記事実と符合するものである。なお、例15の化学強化されたガラス基板は磁気ディスクに従来用いられているものであるが、徐冷点が500°Cと低く熱アシスト磁気記録技術に適用できない。本発明者は先に述べたような事実を見出し、熱アシスト磁気記録技術に適用でき、かつ、クラック発生率が従来の磁気ディスク用ガラス基板と同程度またはそれよりも小さいガラス基板の提供を目的とする本発明のガラス基板の発明をなすに至った。また、本発明は、ガラス板をガラス円板に加工する円板加工工程、ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程、ガラス円板のラッピングされた主表面を研磨する主表面研磨工程およびこれら工程間、これら工程内もしくはこれら工程後においてガラス円板を洗浄する洗浄工程を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、ガラス板がモル百分率表示で、SiO2を62~74、Al2O3を7~18、B2O3を2~15、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8~21含有し、上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。また、ガラス板をガラス円板に加工する円板加工工程、ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程、ガラス円板のラッピングされた主表面を研磨する主表面研磨工程およびこれら工程間、これら工程内もしくはこれら工程後においてガラス円板を洗浄する洗浄工程を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、ガラス板がモル百分率表示で、SiO2を67~72、Al2O3を11~14、B2O3を0~2未満、MgOを4~9、CaOを4~6、SrOを1~6、BaOを0~5含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量合計が14~18、上記7成分の含有量合計が95以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス円板は中央に孔を有するいわゆるドーナツ形状のものでもよいし、孔を有さないものでもよい。また、端面については通常は面取り加工が行われる他、エッチング処理や鏡面研磨が行われることがある。また、ガラス板の徐冷点が650°C以上である前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。また、フロート法またはダウンドロー法を用いてガラス板を製造する前記磁気ディスクの製造方法を提供する。ダウンドロー法としてはたとえばフュージョン法やスリットダウンドロー法が挙げられる。また、情報記録媒体が磁気ディスクである前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。本発明によれば、ガラス基板に高温で磁気記録層を形成できるので磁気ディスクの高密度化が可能になる。また、このようなガラス基板を製造することが可能になる。また、高温で磁気記録層を形成できるだけでなく、クラック発生率が小さく耐衝撃性に優れる可能性が高い情報記録媒体用ガラス基板を得ることができる。本発明の磁気ディスクの製造方法における磁気記録層の材料としてはFePtやSmCo5が典型的である。このような磁気記録層はガラス基板の温度を550°C以上にしてその上に形成されるが、その温度は必要に応じてたとえば600°C以上または650°C以上にすることが求められる。なお、その温度は通常750°C以下とされる。本発明の磁気ディスクの製造方法においては、必要に応じて、ガラス基板と磁気記録層の間に下地層などの層が形成され、また、必要に応じて、磁気記録層の上に保護膜などの層が形成される。本発明の磁気ディスクの製造方法で用いられるガラス基板を構成するガラス以下、基板ガラスということがある。および本発明のガラス基板の徐冷点TAは650°C以上であることが好ましい。650°C未満では磁気記録層形成時にガラスが反り、正常に読み書きできなくなるおそれがある。より好ましくは680°C以上、特に好ましくは700°C以上であり、典型的には750°C以下である。基板ガラスのクラック発生率p単位:は70以下であることが好ましい。70超では従来使用されているガラス基板後述する例15のガラスを化学強化したものよりもガラスに傷がつきやすくなる、すなわち応力集中が起こりやすくなる。その結果、弱い応力で脆性的破壊が起こりやすくなる。pは、より好ましくは50以下、特に好ましくは30以下、最も好ましくは10以下である。クラック発生率pは次のようにして測定される。ガラスを平均粒径2μmの酸化セリウム砥粒で研磨後、平均粒径20nmのコロイダルシリカ砥粒で研磨し、厚さが1~2mm、大きさが4cm×4cm、表面粗さRaが0.15nm以下であるガラス板を作製し、これを徐冷点もしくはガラス転移点で30分保持後、1°C/分またはそれ以下の速度で室温まで冷却した。このガラス板の表面に、23°C、相対湿度70に制御した室内において荷重1000gでビッカース圧子を打ち込み、その4つの頂点から発生したクラック本数を測定する。この測定を10回繰り返し、100×前記クラック本数の合計÷40をpとする。基板ガラスの耐酸性は、0.1mg/cm2以下であることが好ましい。0.1mg/cm2超では酸を用いる研磨や洗浄の工程で面荒れが起こるおそれがある。第1の方法で用いられるガラス基板は先に述べたように、モル百分率表示組成が、SiO2:62~74、Al2O3:6~18、B2O3:2~15、MgOCaOSrOBaO以下、ROと略記する:8~21、SiO2Al2O3B2O3RO≧95、Li2ONa2OK2O<1であるガラスからなる。このガラスであってAl2O3が7モル以上であるもの以下、ガラス1という。は前記pを小さくしてガラスを傷つきにくくしたい場合に好適な基板ガラスである。前記ガラス基板A、B、Cを構成するガラス以下、それぞれをガラスA、B、Cという。はいずれもガラス1に該当し、ガラスを傷つきにくくしたい場合に特に好適な基板ガラスである。ガラス1の密度は、好ましくは2.57g/cm3以下、典型的には2.52g/cm3以下である。2.57g/cm3超ではガラスが傷つきやすくなるおそれがある。次にガラス1およびガラスA、B、Cの組成について説明する。まず、ガラス1について説明し、その後に、ガラスA、BまたはCとガラス1とで異なる部分があればその部分について説明する。なお、以下の組成の説明では特に断らない限りモルを単にと表示する。SiO2は必須成分である。SiO2が62未満ではガラスが傷つきやすくなり、好ましくは63以上、より好ましくは65以上である。一方、SiO2が74を超えると溶解性が低下し、ガラス製造が困難になり、好ましくは71以下、より好ましくは69以下である。Al2O3は必須成分である。Al2O3が7未満ではガラスが分相しやすくなって基板を加工洗浄した後に平滑な表面を維持できなくなり、またはガラスが傷つきやすくなるおそれがあり、好ましくは7.5以上、より好ましくは9以上である。一方、Al2O3が18を超えると溶解性が低下し、ガラス製造が困難になり、好ましくは16以下、より好ましくは12以下である。なお、ガラスをより傷つきにくくするには、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が70以上であることが好ましく、より好ましくは72以上である。B2O3はガラスの傷つきやすさや溶解性を改善する効果があり、必須である。B2O3が2未満ではガラスの溶解性が低下し、好ましくは5以上、より好ましくは7以上、特に好ましくは7.3以上である。なお、ガラスBにおいては7以上とされる。質量百分率表示ではB2O3は典型的には8超である。一方、B2O3が15を超えるとガラスが分相しやすくなって基板を加工洗浄した後に平滑な表面を維持できなくなり、好ましくは14以下、より好ましくは12以下である。MgO、CaO、SrOおよびBaOはガラスの溶解性を改善する成分であり、いずれか1成分以上を含有しなければならない。これら成分の含有量合計ROが8未満ではガラスの溶解性が低下してガラス製造が困難になり、好ましくは9以上、より好ましくは10以上である。一方、ROが21を超えるとガラスが傷つきやすくなり、好ましくは18以下、より好ましくは16以下である。なお、ガラスAにおいてはROは16以下とされ、典型的には15以下である。これら4成分の内MgOおよびCaOの少なくともいずれか一方を3以上含有することが好ましい。MgOおよびCaOの含有量の合計MgOCaOが3未満ではガラスの溶解が困難になるおそれがある、またはガラスが傷つきやすくなるおそれがある。しかし、MgOCaOが18超では失透温度が高くなり成形が困難になるおそれがあるので18以上であることが好ましい。MgOを含有する場合その含有量は典型的には8以下であり、CaOを含有する場合その含有量は典型的には10以下である。SrOおよびBaOはアルカリ土類金属酸化物の中ではガラスをより傷つきやすくする成分であるので、SrOまたはBaOを含有する場合それらの含有量の合計SrOBaOは9以下であることが好ましい。また、SrOBaOと、ガラスを傷つきにくくする成分であるB2O3の含有量との比SrOBaO/B2O3は1.2以下であることが好ましく、ガラスCにおいてはSrOBaO/B2O3は1.2以下とされる。ガラス1、A、BおよびCは本質的に上記7成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。ただし、その場合であってもそれら成分の含有量の合計は5未満である。上記7成分以外の成分の含有量の合計が5以上ではガラスが傷つきやすくなるおそれがある。以下では上記7成分以外の成分について例示的に説明する。ZnOはMgO、CaO、SrO、BaOと同様の効果を奏する成分であり、5以下の範囲で含有してもよい。ZnOの含有量とROの合計は8~21であることが好ましく、より好ましくは16以下、典型的には10~16である。質量百分率表示では前記合計は18以下が典型的である。Li2O、Na2OおよびK2OはTAを低下させるので、これら3成分の含有量の合計は0であるか1未満とされる。VなどTiよりも原子番号が大きな原子の酸化物はガラスを傷つきやすくするおそれがあるので、これら酸化物を含有する場合にはそれらの含有量の合計は3以下とすることが好ましい。より好ましくは2以下、特に好ましくは1以下、最も好ましくは0.3以下である。SO3、F、Cl、As2O3、Sb2O3、SnO2等は清澄剤として代表的な成分である。第2の方法で用いられるガラス基板は先に述べたように、SiO2:67~72、Al2O3:11~14、B2O3:0~2未満、MgO:4~9、CaO:4~6、SrO:1~6、BaO:0~5、RO:14~18、SiO2Al2O3B2O3RO≧95、Li2ONa2OK2O<1であるガラス以下、ガラス2という。からなる。ガラス2はTAまたは耐酸性を高くしたい場合に好適な基板ガラスである。次にガラス2の組成について説明する。SiO2は必須成分である。67未満ではガラスが傷つきやすくなる。一方、72を超えると溶解性が低下し、ガラス製造が困難になる。Al2O3は必須成分である。11未満ではガラスが分相しやすくなり、基板を加工洗浄した後に平滑な表面を維持できなくなる、またはガラスが傷つきやすくなるおそれがある。一方、14を超えると溶解性が低下し、ガラス製造が困難になる。B2O3は必須成分ではないが、ガラスの傷つきやすさや溶解性を改善する効果があり、2未満の範囲で含有してもよい。2以上では耐酸性またはTAが低下するおそれがある。MgO、CaOおよびSrOはガラスの溶解性を改善する成分であり、必須である。MgO、CaO、SrOの各含有量がそれぞれ4未満、4未満、1未満では溶解性が低下する。MgO、CaO、SrOの各含有量がそれぞれ9超、6超、6超ではガラスが傷つきやすくなる。BaOは必須成分ではないが、ガラスの溶解性を改善する効果があり、5以下の範囲で含有してもよい。5超ではガラスが傷つきやすくなる。ROが14未満ではガラスの溶解性が低下し、ガラス製造が困難になる。一方、ROが18を超えるとガラスが傷つきやすくなる。ガラス2は本質的に上記7成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を合計で5未満であれば含有してもよい。上記7成分以外の成分の含有量の合計が5以上ではガラスが傷つきやすくなる。以下では上記7成分以外の成分について例示的に説明する。ZnOはMgO、CaO、SrO、BaOと同様の効果を奏する成分であり、5以下の範囲で含有してもよい。ZnOの含有量とROの合計は8~21であることが好ましく、より好ましくは10~16である。Li2O、Na2OおよびK2OはTAを低下させるので、これら3成分の含有量の合計は0であるか1未満とされる。VなどTiよりも原子番号が大きな原子の酸化物はガラスを傷つきやすくするおそれがあるので、これら酸化物を含有する場合にはそれらの含有量の合計は3以下とすることが好ましい。より好ましくは2以下、特に好ましくは1以下、最も好ましくは0.3以下である。SO3、F、Cl、As2O3、Sb2O3、SnO2等は清澄剤として代表的な成分である。表2中のSiO2~BaO、及び表3中のSiO2~K2Oの欄にモル百分率表示で示す組成を有する17種のガラスを用意した。これらガラスについて、線膨張係数α単位:10-7/°C、密度d単位:g/cm3、ヤング率E単位:GPa、比弾性率E/d単位:MNm/kg、耐酸性指標A単位:mg/cm2、歪点TStr単位:°C、徐冷点TA単位:°C、粘度が104dPasとなる温度T4単位:°C、粘度が102dPasとなる温度T2単位:°C、破壊靱性St単位:MPam1/2、クラック発生率p単位:を測定または算出した。を付したものは組成から計算または推定した値である。上記測定は、pは前記のようにして、その他のものは次のようにして行った。線膨張係数:示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から5°C/分の速度で昇温した際のガラスの伸び率をガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線から50~350°Cにおける平均線膨張係数を算出した。密度:泡のないガラス20~50gについて、アルキメデス法にて測定した。ヤング率:厚さが5~10mm、大きさが3cm×3cmのガラス板について、超音波パルス法により測定した。耐酸性:ガラスを90°C、0.1N塩酸に20時間浸漬した時の重量減少量を測定し、これを試料表面積で除して求めた。歪点、徐冷点:JISR3103に準じて測定した。T4、T2:回転粘度計により測定した。破壊靱性St:JISR1607で規定される圧子圧入法IF法に準じて測定した。例1~14は本発明で用いられる基板ガラスであり、このうち例1~13は前記ガラス1であり、そのうちの例1~11は耐衝撃性に優れ、例14は前記ガラス2であり耐酸性に優れる。例15~17は比較のための基板ガラスであり、例15のpの測定は化学強化したガラスについて行った。また、例4、15、16については耐衝撃性指標S150、耐衝撃性指標S175を次のようにして測定した。S150:外径27mmのディスク形状に加工したガラス板をIBM社製マイクロドライブにセットし、このマイクロドライブを150cmの高さから精密石定盤に落下させた。ガラス板が割れなかった場合は再度同じ高さからマイクロドライブを同定盤に落下させ、ガラス板が割れるまでの落下回数を調べる試験を行った。この試験を5回行い、前記落下回数の平均を算出し、耐衝撃性指標S150とした。S175:ガラス板を175cmの高さから落下させる以外はS150を求める場合と同様にして耐衝撃性指標S175を求めた。本発明者は、先に述べたようにこの結果から、耐衝撃性指標S150、S175は破壊靱性Stとではなくクラック発生率pとの間に相関が認められることを見出した。また、表4、5に例1~17のガラスの質量百分率表示組成を示す。