第1基板、第2基板の各々の一面側に感光性の樹脂膜を形成する第1工程と、前記第1基板と前記第2基板を、各一面側を対向させ、所定の間隙を設けて貼り合わせる第2工程と、前記第1基板、前記第2基板の各々の他面側から前記樹脂膜に焦点を合わせて部分的に光照射を行って前記樹脂膜の各々を部分的に選択的に硬化させることにより、複数の突起物からなる配向膜を形成する第3工程と、前記第1基板と前記第2基板の相互間に液晶材料を注入することにより液晶層を形成する第4工程、を含む、液晶素子の製造方法。前記第1工程は、光硬化性樹脂と液晶配向膜材料を含有する材料液を用いて前記樹脂膜を形成する、請求項1に記載の液晶素子の製造方法。前記第1工程は、液晶配向膜材料を含有する材料液を用いて前記樹脂膜を形成する、請求項1に記載の液晶素子の製造方法。前記第1工程は、光硬化性樹脂を含有する材料液を用いて前記樹脂膜を形成する、請求項1に記載の液晶素子の製造方法。前記第4工程における前記液晶材料は、液晶分子と光硬化性樹脂を含有しており、前記第4工程の後に、前記第1基板及び/又は前記第2基板を介して前記液晶層に光照射を行うことにより、前記液晶層に含まれる前記光硬化性樹脂を前記配向膜と結合させて硬化させる第5工程を更に含む、請求項1に記載の液晶素子の製造方法。各々が一面側に配向膜を有し、当該一面側を対向させて配置された第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板の間に設けられた液晶層、を含み、前記配向膜の各々は、間欠的に配置された複数の感光性の樹脂膜を有する、液晶素子。本発明に係る具体的態様は、配向膜の形成時にラビング処理が不要であり、かつ異物の混入を低減することが可能な液晶素子の製造方法を提供することを目的の1つとする。また、本発明に係る具体的態様は、異物の混入が少ない配向膜を備えた液晶素子を提供することを目的の1つとする。本発明に係る一態様の液晶素子の製造方法は、a第1基板、第2基板の各々の一面側に感光性の樹脂膜を形成する第1工程と、b前記第1基板と前記第2基板を、各一面側を対向させ、所定の間隙を設けて貼り合わせる第2工程と、c前記第1基板、前記第2基板の各々の他面側から前記樹脂膜に焦点を合わせて部分的に光照射を行って前記樹脂膜の各々を部分的に選択的に硬化させることにより、複数の突起物からなる配向膜を形成する第3工程と、d前記第1基板と前記第2基板の相互間に液晶材料を注入することにより液晶層を形成する第4工程を含む液晶素子の製造方法である。上記の製造方法によれば、第1基板と第2基板を貼り合わせた後に各基板を介して樹脂膜へ光照射を行って配向膜を形成するので、ラビング処理が不要であり、かつ配向膜への異物の混入を低減することが可能となる。上記した第1工程は、例えば光硬化性樹脂と液晶配向膜材料を含有する材料液を用いて前記樹脂膜を形成することができる。また、上記した第1工程は、液晶配向膜材料を含有する材料液を用いて前記樹脂膜を形成してもよい。さらに、上記した第1工程は、光硬化性樹脂を含有する材料液を用いて前記樹脂膜を形成してもよい。また、上記した第4工程における前記液晶材料として液晶分子と光硬化性樹脂を含有したものを用いるようにしてもよい。この場合に、上記の製造方法は、当該第4工程の後に、前記第1基板及び/又は前記第2基板を介して前記液晶層に光照射を行うことにより、前記液晶層に含まれる前記光硬化性樹脂を前記液晶分子を巻き込み前記配向膜と結合させて硬化させる第5工程をさらに含むことが好ましい。本発明に係る一態様の液晶素子は、a各々が一面側に配向膜を有し、当該一面側を対向させて配置された第1基板及び第2基板と、b前記第1基板と前記第2基板の間に設けられた液晶層を含み、c前記配向膜の各々は、間欠的に配置された複数の感光性の樹脂膜を有する、ことを特徴とする液晶素子である。感光性の樹脂膜からなる配向膜とすることで、この液晶素子の製造時において、第1基板と第2基板を貼り合わせた後に各基板の外側から光照射を行って配向膜を形成することができる。従って、異物の混入が少ない配向膜を備えた液晶素子が得られる。以下に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。図1は、一実施形態の液晶素子の構造を模式的に示す図である。図1に示す液晶素子は、第1基板11および第2基板12と、これらの間に介在する液晶層20と、液晶層20の配向を規制するために第1基板11、第2基板12にそれぞれ設けられた配向膜21、22と、第1基板11と第2基板12の間に設けられ、液晶層20を封止するシール材19を主に備える。本実施形態における配向膜21、22は、それぞれ、間欠的に配置された多数の微細な突起物からなる構造体である。なお、液晶素子は図示しない他の構成要素を備えてもよく、その例については後述する。次に、図1に示したような配向膜21、22を備える液晶素子の製造方法について詳細に説明する。図2および図3は、一実施形態の液晶素子の製造方法を示す模式的な断面図である。まず、図2Aに示すように、第1基板11の一面側に第1電極13を形成する。具体的には、インジウム錫酸化物ITO膜などの導電膜を第1基板11の一面側に形成する。その後、適宜この導電膜をパターニングすることにより、第1電極13を形成する。同様にして、第2基板12の一面側に第2電極14を形成する。次に、図2Bに示すように、第1基板11の一面側に、第1電極13を覆うようにして絶縁膜15を形成する。絶縁膜15とは、例えば酸化珪素膜、窒化酸化珪素膜などの無機絶縁膜である。このような絶縁膜15は、例えばスパッタ法により形成できる。同様にして、第2基板12の一面側に、第2電極14を覆うようにして絶縁膜16を形成する。なお、各絶縁膜15、16は有機絶縁膜であってもよい。なお、各絶縁膜15、16は図示しない端部において、外部電極との接続を行う非被覆部を備える。次に、図2Cに示すように、第1基板11の一面側、詳細には絶縁膜15上に感光性の樹脂膜17を形成する。同様にして、第2基板12の一面側、詳細には絶縁膜16上に感光性の樹脂膜18を形成する。ここでいう樹脂膜17、18としては、例えば1一般的な液晶用の水平配向膜材料液と、光硬化性樹脂材料液との混合物を塗布し、乾燥させて得られる膜、または2水平配向膜材料液のみを塗布し、乾燥させて得られる膜、が挙げられる。樹脂膜17、18の膜厚は、例えば0.1μm程度とする。次に、図2Dに示すように、第1基板11または第2基板12の一面側にシール材19を形成し、その後第1基板11と第2基板12を貼り合わせることにより液晶セルを形成する。このとき、第1基板11と第2基板12の相互間隔セル厚を調整するためのスペーサーも適宜に散布される。次に、図3Aに示すように、第1基板11の他面側、すなわち液晶セルの外側から樹脂膜17に光Lが照射される。例えば、樹脂膜17に含まれる光硬化性樹脂が紫外線硬化型樹脂である場合には、光Lとして紫外光を照射する。光Lはレーザ光であってもよい。この光Lは、レンズ等によって集光され、樹脂膜17の位置に焦点を合わせて照射される。同様に、第2基板12の他面側、すなわち液晶セルの外側から樹脂膜18に光Lが照射される。樹脂膜17、18のそれぞれにおける光Lの照射された部分は、感光し、硬化する。図4は、光Lの照射方法について詳細に示す図である。図4に示すように、光LをX方向、Y方向の二方向において適宜にスキャンし、樹脂膜17、18のそれぞれを部分的に感光させる。このときの集光位置、光強度変化、スキャン速度変化などのパラメータを適宜に設定することにより、畝状構造物、剣山状構造物、楔状構造物など、液晶分子の配向に有意に影響を及ぼし得る形状に樹脂膜17、18を加工できる。また、従来のラビング法では困難な、放射状配向、螺旋状配向なども実現可能となる。例えば、微細な領域に一方の基板には放射配向を、他方の基板には同心配向を生ずるよう樹脂を加工して構造物を形成し組み合わせた液晶素子を作成することで広い視野角を実現できる。露光におけるスキャンは、光学系内のたとえばガルバノミラーや、液晶セルを固定するステージの移動により行ってもよい。また、両者を組み合わせてもよい。ステージによるスキャン方向を工程内セル進行方向とし、光学系によるスキャン方向をこれと交叉する方向とすると、製造を連続的に行うことができ好適である。上記のように樹脂膜17、18に対して光照射を行うことにより、図3Bに示すように、液晶セル内に多数の微細な突起物樹脂膜の集合体からなる配向膜21、22が形成される。各突起物の大きさやそれらの相互間隔などは光の照射状態により適宜調整可能であり、例えば0.1μ~数μm程度とされる。その後、図3Cに示すように、第1基板11と第2基板12の隙間に誘電率異方性が正でカイラル材を含む液晶材料を注入することにより液晶層20を形成する。これにより、例えば図示のような第1基板11と第2基板12の間で液晶分子の配向方向が90°程度ねじれるTN型の液晶素子が得られる。なお、液晶層20の配向状態は配向膜21、22の構造によって種々に制御し得る。図5は、他の実施形態の液晶素子の製造方法を示す模式的な断面図である。なお、以下では上記した実施形態と共通する内容については説明を適宜省略し、相違点を中心に説明する。上記実施形態と同様にして、微細な突起物の集合体からなる配向膜21、22を有する液晶セルを形成する。このとき、配向膜21、22を形成するための樹脂膜17、18図2C参照としては、上記と同様のものでもよいし、光硬化性樹脂材料液のみを塗布し、乾燥させて得られる膜でもよい。ここでは、光硬化性樹脂材料液のみを塗布し、乾燥することにより樹脂膜17、18を形成し、これらに光照射を行うことにより、各配向膜21、22が形成されるものとする。次に、図5Bに示すように、第1基板11と第2基板12の隙間に誘電率異方性が正でカイラル材を含む液晶材料を注入することにより液晶層20aを形成する。本実施形態では、液晶分子20bと光硬化性樹脂20cの混合物からなる液晶材料が用いられる。このとき、各配向膜21、22により弱い配向規制力が生じ、液晶分子20bが配向する。次に、図5Cに示すように、液晶層20aを望む配向状態とするために第1電極13および第2電極14を介して液晶層20aに電界を印加し、その状態を保ちながら液晶セルの全面に光照射を行う。光照射によって液晶層20aに含まれる光硬化性樹脂が各配向膜21、22と結合し、硬化する。それにより、各配向膜21、22による配向規制力をより強固にすることができる。それにより、液晶層20aの配向状態プレティルト角を所望の状態に制御できる。なお、電界に代えて、あるいは電界を併せて磁界を印加してもよい。以上のような本実施形態によれば、第1基板と第2基板を貼り合わせた後に各基板を介して樹脂膜へ光照射を行って配向膜を形成するので、ラビング処理が不要であり、かつ配向膜への異物の混入を低減することが可能となる。すなわち、感光性の樹脂膜からなる配向膜とすることで異物の混入が少ない配向膜を備えた液晶素子が得られる。また、本実施形態によれば、従来のラビング処理のように配向規制力が一方向にのみ規定されず、光照射時のスキャン方向により面内で配向処理の方位を自在に設定できる。従って、1つの液晶素子のなかで多数の視角特性を備える液晶素子や、ネガポジ混在の液晶素子、カラーモード混在の液晶素子を容易に製造することが可能となる。また、第1基板と第2基板を貼り合わせた後に配向膜の造形を行うので、その後の基板洗浄が不要となり、製造工程を簡素化することができる。また、光照射時の焦点をコントロールすることで膜厚方向の照射度合いも制御できるので、配向膜の造形や、液晶材料に混入した光硬化型樹脂の硬化度の調整が容易になる。また、配向膜を剣山状とすることで垂直配向にも対応可能となるなど、プレティルト角の広範囲な制御が期待される。なお、本発明は上述した実施形態の内容に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々に変形して実施をすることが可能である。例えば、上記した実施形態では液晶層の配向状態の一例としてTN配向を示していたが、配向状態はこれに限定されない。また、液晶の配向秩序度オーダーパラメータ-を上げるために以下のような実施形態も考えられる。図6Aの平面図に示すように、第1基板11上においてストライプ状櫛歯状に形成された電極13a、13bの延在方向と配向膜21の突起物同士の隙間である溝21aの延在方向とを略直交させるようにする。この場合、ドットマトリクス表示のセグメント、コモンパターンを用いてもよい。溝21aを有する配向膜21を形成し、第2基板にも同様に形成した後、液晶分子20bを含む液晶層20誘電率異方性が正、カイラル材含有を第1基板11と第2基板12の間に注入し、その後電極13a、13bの間に電圧を印加する。それにより、電極13aと電極13bの間の電界方向に沿って、すなわち溝21aと略平行な方向に液晶分子20bが配列する。その後、電界を保持したまま光照射を行うことによって、より液晶の配向秩序度を上げることができる。その結果として、コントラストの上昇等、表示品位を上げることができる。なお、電界の印加は隣接する電極に限られない。十分な電界強度を与えることができる場合には、図6Bに示すように、電圧無印加の電極を挟んで、電極13aと電極13bの間に電圧を印加してもよい。すなわち、電圧が印加される電極同士の電極間距離をより離しても構わない。この場合、交流駆動を行うと減衰が大きくなることを考慮する必要がある。一方、電圧が印加された電極の直上の、横電界が生じない領域が相対的に少なくなるため、配向秩序度の向上により有利となる。