"コバルトを20重量~55重量含有するニッケル-コバルト合金と、上記ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部~0.02重量部の硫黄と、を含有し、平均粒径が0.10μm~0.35μmであることを特徴とする、コンタクト製造用組成物。上記平均粒径が0.14μm~0.35μmであることを特徴とする、請求項1に記載のコンタクト製造用組成物。上記平均粒径が0.23μm~0.35μmであることを特徴とする、請求項1に記載のコンタクト製造用組成物。絶縁物によって固定される保持部と、導電部材に摺接する接触部と、前記保持部と接触部とを接続し、弾性変形可能な弾性変形部とを有し、少なくとも上記弾性変形部が、請求項1から3のいずれか1項に記載のコンタクト製造用組成物を含有することを特徴とするコンタクト。請求項1から3のいずれか1項に記載のコンタクト製造用組成物が、電気鋳造法によって製造されてなる電鋳層を加熱処理することによって得られたものであることを特徴とする、請求項4に記載のコンタクト。請求項1から3のいずれか1項に記載のコンタクト製造用組成物が、電気鋳造法によって製造されてなる電鋳層を180~350°Cで1~48時間加熱処理することによって得られたものであることを特徴とする、請求項4に記載のコンタクト。請求項4から6のいずれか1項に記載のコンタクトを備えることを特徴とするコネクタ。上記コネクタがバッテリーコネクタであることを特徴とする請求項7に記載のコネクタ。電気鋳造法によって製造されてなる電鋳層を加熱処理する工程を含むことを特徴とする、請求項4に記載のコンタクトの製造方法。ニッケルを50~130g/L、コバルトを9~42g/L、ほう酸を20~40g/L、界面活性剤を0.02重量~0.5重量、光沢剤および表面平滑剤を計0.01重量~1重量、それぞれ含み、pH3.0~5.0であるめっき液を電気鋳造することによって電鋳層を得る電気鋳造工程と、上記電鋳層を180~350°Cで1~48時間加熱する加熱工程と、を含むことを特徴とする、コンタクトの製造方法。特許文献1に開示されているスパイラル形状のコンタクトを備えた半導体は、背面側を絶縁基板に向けて押圧すると、球状弾性接触子の外表面に前記スパイラル接触子が螺旋状に巻き付くように接触するため、個々の球状弾性接触子と個々のスパイラル接触子との間の電気的接続が行われるようになっている特許文献1の0003段落。しかしながらスパイラル形状は非常に特殊な形状であるため、接続対象たる導電部材が限定され、汎用的な接続端子には適用できないという問題がある。つまり、高ストロークを示すとともにクリープの発生を十分に抑制でき、かつ、汎用性に優れるコンタクトを実現するための材料としては、未だ十分なものが存在しないという問題がある。本発明は、上記の問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、所定量のコバルトおよび硫黄を含有し、かつ、所定の平均粒径を有するコンタクト製造用組成物およびこれを用いたコンタクト並びにコネクタを提供することにある。上記の課題を解決するために、本発明者は、スパイラル形状のような特殊な形状を取らなくても高ストロークを示すとともにクリープの発生を十分に抑制できるコンタクトを提供可能な材料について鋭意検討し、その結果、所定量のコバルトを含有するニッケル-コバルト合金と所定量の硫黄とを含有し、かつ、所定の平均粒径を有するコンタクト製造用組成物を用いることによって、本発明の課題を解決することができることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明にかかるコンタクト製造用組成物は、コバルトを20重量~55重量含有するニッケル-コバルト合金と、上記ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部~0.02重量部の硫黄と、を含有し、平均粒径が0.10μm~0.35μmであることを特徴としている。後述する実施例に示す結果からも分かるように、上記コンタクト製造用組成物はコバルトの含有量および硫黄の含有量が上記構成のようになっており、かつ、平均粒径が0.10μm~0.35μmに調整されているため、優れたばね限界値、引張り強度、および導電率を示すことができる。それゆえ、高ストロークを示すことができるとともにクリープの発生を抑制することができ、かつ、汎用性に優れるコンタクトを実現するための材料として好適に用いることができる。本発明にかかるコンタクト製造用組成物は、コバルトを20重量~55重量含有するニッケル-コバルト合金と、上記ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部~0.02重量部の硫黄と、を含有し、平均粒径が0.10μm~0.35μm、好ましくは0.14μm~0.35μm、さらに好ましくは0.23μm~0.35μmであるという構成である。それゆえ、高ストロークを示すことができるとともにクリープの発生を抑制することができ、かつ、汎用性に優れるコンタクトを提供するための材料として好適に用いることができるという効果を奏する。以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本明細書において、範囲を示すA~Bは、A以上B以下であることを表す。また、本明細書中に記載された非特許文献および特許文献の全てが、本明細書中において参考として援用される。1.コンタクト製造用組成物本発明にかかるコンタクト製造用組成物は、コバルトを20重量~55重量含有するニッケル-コバルト合金と、上記ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部~0.02重量部の硫黄と、を含有し、平均粒径が0.10μm~0.35μm、好ましくは0.14μm~0.35μm、さらに好ましくは0.23μm~0.35μmである。コバルトを20重量~55重量含有するとは、ニッケル-コバルト合金中に、コバルト原子を20重量~55重量含有するとの意味であり、硫黄を0.002重量部~0.02重量部含有するとは、ニッケル-コバルト合金100重量部に対して、硫黄原子を0.002重量部~0.02重量部含有するとの意味である。上記コンタクト製造用組成物は、ニッケル-コバルト合金および硫黄を必須成分とし、上述のコバルト含有量、硫黄含有量および平均粒径を有することによって、優れたばね限界値、引張強度、導電率および応力緩和を示し、その結果、高ストロークを示すとともにクリープの発生を十分に抑制することができるため、コンタクト製造用の材料として特に優れている。上記コンタクト製造用組成物には、ニッケル-コバルト合金および硫黄のみが含まれていてもよいが、コンタクト製造用組成物の優れたばね限界値、引張強度、導電率および応力緩和を損なわない限り、他の成分を含んでいてもよい。例えば、C、Cl等を含んでいてもよい。上記ニッケル-コバルト合金は、上記コンタクト製造用組成物のばね限界値を向上させるという観点から、コバルトを20重量~55重量含有することが必要である。後述する実施例に示すように、ニッケル-コバルト合金のコバルト含有量が20重量~55重量であり、かつ、ニッケル-コバルト合金100重量部に対して硫黄原子を0.002重量部~0.02重量部含有することにより、上記コンタクト製造用組成物は、高いばね限界値、具体的には一般的な電子部品のばね材に使用されるりん青銅C5210SHと同等である700MPa以上のばね限界値を示すことができる。これにより、除荷後でも材料が変形しない最大応力が向上し、高ストロークのコンタクトを作製することができる。また、高い引張強度、具体的には、一般的な高強度ばね材に使用されるSUS301-H材と同等である1300MPa以上の引張強度を示すことができる。これにより、許容応力が向上し、高ストロークでの脱着を繰り返した場合でもコンタクトの破損を防止できる。さらに、高い導電率、具体的には、一般的な電子部品のばね材に使用されるりん青銅C5210SHと同等の13IACS以上の導電率を示すことができる。これにより、電力損失が向上し、高ストロークの導電性コンタクトを作製することができる。上記ニッケル-コバルト合金におけるニッケルとコバルトとの重量比は、例えば、DIN50987、ISO3497およびASTMB568に準ずる蛍光X線分析法によって確認することができる。上記ニッケル-コバルト合金は、ニッケルおよびコバルトのみからなることが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。つまり、上記ニッケル-コバルト合金は、コバルトを20重量~55重量含有し、残りの成分がニッケルであることが好ましいが、上記コンタクト製造用組成物のばね限界値を減じない範囲で、ニッケルおよびコバルト以外に、例えばNa、Ca、Mg、Fe、Cu、Mn、Zn、Sn、Pd、Au、Ag等の他の成分が含まれていてもよい。この場合、上記合金中に占める他の成分の割合は、0重量~10重量であることが好ましい。本明細書においてばね限界値とは、測定される試料の自由端における永久たわみ変位量0.1mmに対応する固定端における表面最大応力値のことであり、除荷後でも材料が変形しない最大応力である。本明細書において引張強度とは、材料に引張応力を負荷したときに、材料が破断する応力である。この引張強度に安全率を乗ずることによって許容応力を決定する。上記安全率とは、材料が破壊される応力と、材料を安全に利用できる応力との比前者÷後者のことである。本明細書において導電率とは、標準焼きなまし銅線の導電性を100とした場合に、導線が何の導電性をもつかという比較値であり、値が大きいほど電気を通しやすいとの指標である。さらに、本明細書において瞬断とは、電気機器への電力供給が瞬間的に途絶えることを言い、瞬断特性とは、瞬断の発生を抑制する性質のことを言う。ニッケル-コバルト合金のコバルト含有量が20重量未満の場合、および、上記ニッケル-コバルト合金100重量部に対して硫黄が0.002重量部未満の場合は、上記コンタクト製造用組成物のばね限界値が700MPa未満、引張強度1300MPa未満となりうるため好ましくない。上記コンタクト製造用組成物は、ニッケル-コバルト合金のコバルト含有量が55重量より大きくなると、製造したコンタクトにそりが発生しうるため、好ましくない。また、上記ニッケル-コバルト合金100重量部に対し、硫黄原子が0.02重量部を超えて含まれる場合は、電気鋳造時の電気鋳造液に硫黄が溶解しないため、コロイド化し、製造物に固体化した硫黄が局所的に含有されることで引張強度が低下する。そのため、硫黄を溶解する特殊な電気鋳造手法を用いなければ、上記硫黄原子が0.02重量部を超えて含まれ、かつ均一な特性を有したコンタクトを製造できないため、本開発では適用を除外する。後述する実施例に示すように、コバルトを20重量~55重量含有するニッケル-コバルト合金と、上記ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部~0.02重量部の硫黄と、を含有することにより、上記コンタクト製造用組成物は、ばね限界値700MPa以上で、引張強度1300MPa、かつ、応力緩和30未満を示すことができ、コンタクトに求められる高ストローク性を実現することができる。上記コンタクト製造用組成物は、応力緩和の低下に基づくクリープの発生を防止し、かつ、高いばね限界値、引張強度および導電率を保つという観点から、加熱処理により平均粒径が0.10~0.35μmに調整される。これにより、高いばね限界値、引張強度および導電率を保ったまま、応力緩和を、一般的な電子部品のばね材に使用されるりん青銅C5210-SH剤と同等の30未満にすることができ、クリープの発生を十分に防止できる。上記コンタクト製造用組成物の平均粒径を0.14μm~0.35μmに調整した場合は、高いばね限界値、引張強度および導電率を保ったまま、応力緩和を、りん青銅C5210-SH剤の応力緩和の1/2相当である15未満とすることができる。すなわち、バッテリーコネクタなどの、比較的ストロークの大きなばね材に求められる応力緩和とすることができる。これにより、大きなストロークで使用される場合もクリープの発生を防止することができる。上記コンタクト製造用組成物の平均粒径を0.23μm~0.35μmに調整した場合は、高いばね限界値、引張強度および導電率を保ったまま、応力緩和を、SUS301-H材と同等の10以下とすることができる。すなわち、大きなストロークが要求される場合のばね材に求められる応力緩和とすることができる。これにより、特に大きなストロークで使用される場合もクリープの発生を防止することができる。応力緩和は原子の拡散に依存する値である。そのため、上記平均粒径を大きくし、粒界拡散を防止することで応力緩和が改善すると考えられる。上記平均粒径が0.10μm未満の場合、上記コンタクト製造用組成物の応力緩和が低下してクリープの発生が顕著となる傾向があり、残留ひずみが大きくなる傾向があるため好ましくない。また、熱処理後の平均粒径が0.35μmを超える場合、上記コンタクト製造用組成物のばね限界値と引張強度とを低下させる傾向があるため好ましくない。例えば特許文献1には、弾性接触子を構成するニッケル-コバルト合金の平均粒径が20nm以下である旨が開示されているが、本発明者は、後述する比較例に示すように、コンタクト製造用組成物の平均粒径が0.10μm未満の場合、コンタクト製造用組成物の応力緩和が低下することに基づくクリープの発生を抑制することができないことを確認している。そのため、特許文献1では、クリープを防止するために弾性接触子の形状をスパイラル形状とせざるを得なかったものと考えられ、その形状のために、接続対象が限られる汎用性の低い弾性接触子となっているものと考えられる。一方、本発明にかかるコンタクト製造用組成物は、平均粒径が0.10μm以上0.35μm以下であるため、応力緩和の低下を抑制することができる。さらに、コバルト含有量および硫黄含有量が上述のように特定の範囲であるため、優れたばね限界値と引張強度と導電率とを示すことができる。その結果、高ストロークでクリープの発生を十分抑制でき、長期に渡り接続信頼性を確保でき、幅広い接続対象に適用可能な、汎用性の高いコンタクトを提供することができる。そのため、上記コンタクト製造用組成物は、コンタクトを製造するための材料として特に優れた組成を有しているといえる。本明細書において上記粒径とは、上記コンタクト製造用組成物を顕微鏡によって観察した場合の、結晶粒子の二次元形状に対する最大内接円の直径が意図される。例えば、上記コンタクト製造用組成物の結晶粒子の二次元形状が実質的に円形状である場合はその円の直径が意図され、実質的に楕円形状である場合はその楕円の短径が意図され、実質的に正方形状である場合はその正方形の辺の長さが意図され、実質的に長方形状である場合はその長方形の短辺の長さが意図される。また、上記平均粒径とは、上記コンタクト製造用組成物の結晶粒子複数個の、上記粒径の平均値をいう。上記平均粒径は、例えば、集束イオンビーム-走査イオン顕微鏡FIB-SIMによって測定することができる。用いるFIB-SIMは特に限定されるものではないが、後述する実施例では、FIB-SIMとして株日立ハイテクノロジーズ製のFB-2100を用い、集束イオンビームによって上記コンタクト製造用組成物の断面を加工後、走査イオン顕微鏡にて、上記コンタクト製造用組成物の電着成長面から板厚方向に10μm×10μmの面積の中に含まれる結晶粒子を観察した倍率50000倍。そして、JIS-H0501切断法に準拠して、上記面積の中に含まれる結晶粒子すべての粒径を測定し、得られた粒径の平均値を算出して、平均粒径を求めた。図7は、電気鋳造法によって製造したコンタクト製造用組成物の平均粒径を求める場合に、上記観察を行う領域を示す縦断面図である。図7において、12はコンタクト製造用組成物、13は導電性基材、400はコンタクト製造用組成物の電着成長面、401はコンタクト製造用組成物の基材側の面、402は結晶粒子の粒径を計測するための計測部位である。図7において402で示される10μm×10μmの面積の領域を計測部位とし、当該計測部位に含まれる結晶粒子を観察し、上記面積の中に含まれる結晶粒子すべての粒径を測定し、得られた粒径の平均値を算出することにより、コンタクト製造用組成物の平均粒径を求める。上記計測部位402は、コンタクト製造用組成物の電着成長面401から板厚方向電鋳層の厚さ方向に10μm×10μmの面積として設定するが、必ずしも図7に示すように、縦断面の中央に設定する必要はない。上記電着成長面とは、電鋳層電気鋳造により形成される層の面のうち、基材側の面401に対向する面であって、電気鋳造の進行方向側に形成される面のことをいう。上記コンタクト製造用組成物の硫黄含有量を確認する方法としては、例えば酸素気流中高周波加熱燃焼-赤外線吸収法を挙げることができる。硫黄含有量は例えばJISG1215に準拠した方法によって確認することができる。上記コンタクト製造用組成物を製造する方法は特に限定されるものではない。例えば、電気鋳造法によって製造されてなる電鋳層を加熱処理することによって製造することができる。電気鋳造法によって得られた電鋳層を加熱処理する方法としては、例えば、ニッケル、コバルト、ほう酸、界面活性剤、光沢剤および表面平滑剤を含むめっき液を電気鋳造法に供し、得られた電鋳層を加熱処理する方法を挙げることができる。上記加熱処理により、上記コンタクト製造用組成物の平均粒径を0.10μm以上0.35μm以下に制御することができる。加熱処理の条件は特に限定されるものではないが、得られた電鋳層を180°C~350°Cで1時間~48時間加熱することが好ましい。上記めっき液を電気鋳造法に供し、得られた電鋳層を加熱処理する方法の条件としては、例えば、ニッケルを50g/L~130g/L、コバルトを9g/L~42g/L、ほう酸を20g/L~40g/L、界面活性剤を0.02重量~1重量、光沢剤および表面平滑剤を計0.01重量~1重量、それぞれ含み、pH=3.0~5.0であるめっき液を、直流電源を用いて、電流密度1A/dm2~12A/dm2、液温40°C~65°Cの条件の電気鋳造法に供し、得られた電鋳層を180°C~350°Cで1時間~48時間加熱することにより、コンタクト製造用組成物を得ることができる。上記加熱により、上記コンタクト製造用組成物の平均粒径を0.10μm以上0.35μm以下に制御することができる。また、得られた電鋳層を230°C~350°Cで1時間~48時間加熱することにより、上記コンタクト製造用組成物の平均粒径を0.14μm以上0.35μm以下に制御することができる。さらに、得られた電鋳層を250°C~350°Cで1時間~48時間加熱することにより、上記コンタクト製造用組成物の平均粒径を0.23μm以上0.35μm以下に制御することができる。上記加熱は、電鋳層を、例えば、槽内の温度を加熱温度例えば、180~350°Cに保った恒温槽内に1~48時間放置することによって行うことができる。上記めっき液としては、例えばNiCoスルファミン酸浴等を用いることができる。上記界面活性剤としては、特に限定されるものではないが、ラウリル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、塩化ドデシルトリメチルアンモニウム等を用いることができる。また、光沢剤としては、特に限定されるものではないが、1,5-ナフタレンジスルフォン酸ナトリウム、1,3,6-ナフタレントリスルフォン酸ナトリウム、サッカリン、パラトルエンスルフォンアミド等を用いることができる。表面平滑剤としては、特に限定されるものではないが、2-ブチン-1,4-ジオール、プロパルギルアルコール、クマリン、エチレンシアノヒドリン、チオ尿素等を用いることができる。上記界面活性剤、光沢剤および表面平滑剤は1種類を用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。なお、光沢剤および表面平滑剤を計0.01重量~5重量含むとは、光沢剤と表面平滑剤とが、合計でめっき液中に0.01重量~5重量含まれる、との意味である。光沢剤と表面平滑剤との割合は特に限定されるものではない。次に、上記電気鋳造法の工程の一例を、図1を参照しながら説明する。図1は、電気鋳造法によってコンタクト製造用組成物を製造する工程を表す概略断面図である。母型11は、導電性基材13の平坦な上面に厚膜の絶縁層14を積層したものであって、絶縁層14にはコンタクト製造用組成物12の反転型となる形状のキャビティ15凹部が形成されている。キャビティ15の底面には絶縁層14が残っておらず、キャビティ15の底面全体で導電性基材13の上面が露出している。母型11のキャビティ15内には、電鋳法によってコンタクト製造用組成物12が成形される。上記導電性基材13としては特に限定されるものではなく、従来公知の銅例えば、原田伸銅株製のC1100タフピッチ銅等、SUS例えば白銅株製のSUS304等などを用いることができる。次に、上記母型11を用いてコンタクト製造用組成物12を製造する工程を説明する。図1は電鋳法によってコンタクト製造用組成物12を製造する工程を表しており、図1のa~fは母型11を形成するための工程母型形成工程を示し、図1のg及びhはキャビティ15内に金属を電着させてコンタクト製造用組成物12を製造する工程電着工程を示し、図1のi及びjは母型11からコンタクト製造用組成物12を剥離させる工程剥離工程を示す。なお、実際には、母型11に複数のキャビティ15を形成しておいて複数のコンタクト製造用組成物12を一度に作製するが、便宜上一つのコンタクト製造用組成物12を作製する場合について説明する。図1のaは上面が平坦な金属製の導電性基材13であって、少なくとも上面には電着したコンタクト製造用組成物12を容易に剥離させるための処理が施されている。母型形成工程では、まず図1のbに示すように、導電性基材13の上面に、ラミネーターによってドライフィルムフォトレジスト16を積層する。ついで、図1のcに示すようにドライフィルムフォトレジスト16においてキャビティ15を形成する領域をマスク17で覆ってドライフィルムフォトレジスト16に露光する。ドライフィルムフォトレジスト16の露光された領域は不溶化するため現像時に溶けないので、マスク17で覆われていた領域だけが現像によって溶解除去され、図1のdに示すようにドライフィルムフォトレジスト16にキャビティ15が形成される。最後に、図1のeに示すようにドライフィルムフォトレジスト16を追露光することでドライフィルムフォトレジスト16によって導電性基材13の上面に所定厚みの絶縁層14が形成される。こうして得られた母型11を図1のfに示す。上記ドライフィルムフォトレジスト16としては、特に限定されるものではないが、例えばデュポンMRC製FRA517、SF100、日立化成製HM4056、ニチゴーモートン製NEF150K、NIT215などを好適に用いることができる。なお、図1では導電性基材13の上面だけを絶縁層14で覆っているが、実際には、キャビティ15の内部以外に金属が電着しないよう、導電性基材13の下面や側面なども絶縁層で覆っている。図2は、電解槽内に配置した母型を示す断面図である。電着工程では、図2に示すように、母型11を電解槽19内に配置し、直流電源20によって母型11と対向電極21との間に電圧を印加して、めっき液αに電流を流す。得られるコンタクト製造用組成物12が、コバルトを20重量~55重量含有するニッケル-コバルト合金100重量部に対して、硫黄を0.002重量部~0.02重量部含有するようにするためには、上記めっき液αは、ニッケルを50~130g/L、コバルトを9~42g/L、ほう酸を20~40g/L、界面活性剤を0.02重量~0.5重量、光沢剤および表面平滑剤を計0.01重量~1重量、それぞれ含み、pH=3.0~5.0であることが好ましい。通電を開始すると、めっき液α中の金属イオンが導電性基材13の表面に電着し、金属層18が析出する。一方、絶縁層14は、電流を遮断するので、母型11と対向電極21との間に電圧を印加しても、絶縁層14には直接金属が電着しない。このため、図1のgに示すように、キャビティ15の内部にはその底面から電圧印加方向電気鋳造の進行方向に金属層18が成長してゆく。このとき、電着した金属層18コンタクト製造用組成物12の厚みは、電流の積算通電量すなわち、通電電流の時間積算量であって、図3のbの斜線を施した領域の面積に相当する。によって管理される。単位時間あたりに析出する金属量は電流値に比例するから、金属層18の体積は電流の積算通電量で決まり、金属層18の厚みは電流の積算通電量から知ることができるからである。図3のaは、電解槽の電極間に印加する電圧の変化を示す図、図3のbは、電解槽内に流す電流の変化を示す図である。例えば、直流電源20の電圧が、図3のaに示すように、通電開始からの経過時間とともに次第に、かつ段階的に増加するとした場合、対向電極21と母型11の間に流れる電流も、図3のbに示すように、通電開始からの経過時間とともに次第に、かつ段階的に増加する。そして、通電電流の積算通電量を監視することによって金属層18が目的とする厚みに達したことを検知したら、直流電源20をオフにして通電を停止する。この結果、図1のhに示すように、所望の厚みの金属層18によってキャビティ15内にコンタクト製造用組成物12が成型される。コンタクト製造用組成物12が成型されたら、図1のiに示すように、エッチング等によって絶縁層14を剥離させ、さらに図1のjに示すように、コンタクト製造用組成物12を導電性基材13から剥離させ、母型11の形状を反転転写したコンタクト製造用組成物12を得る。得られたコンタクト製造用組成物12に対しては、加熱処理を行う。これにより、コンタクト製造用組成物12の平均粒径を0.10μm以上0.35μm以下にすることができる。その結果、本発明にかかるコンタクト製造用組成物を得ることができる。ここで、キャビティ15の形状をコンタクトの形状にしておくことにより、後述する本発明にかかるコンタクトを製造することができる。コンタクトの形状は特に限定されるものではない。本発明にかかるコンタクト製造用組成物は、クリープの発生を十分抑制できるため、クリープの発生を抑制するためにスパイラル形状等の特殊な形状を取る必要はなく、所望の形状のコンタクトを容易に提供することができる。2.コンタクト本発明にかかるコンタクトは、絶縁物によって固定される保持部と、導電部材に摺接する接触部と、前記保持部と接触部とを接続し、弾性変形可能な弾性変形部とを有し、少なくとも上記弾性変形部が、本発明にかかるコンタクト製造用組成物を含有する。図4は、本発明にかかるコンタクトの外観の一例を示す外観斜視図である。図4において、31はコンタクト、32は弾性変形部、33は接触部、34は保持部、35は電極部である。弾性変形部32は、本発明にかかるコンタクト製造用組成物を含有しているため、高ストロークを示すとともにクリープの発生が十分に抑制されている。それゆえ、コンタクト31は高い震動追従性を有すると共に、長期に渡って、接続対象である導電部材と良好な接触性を保つことが可能である。また、コンタクト31はスパイラル形状のような特殊な形状を取る必要はなく、汎用的な形状を取ることができるため、様々な導電部材に接続可能である。弾性変形部32は、本発明にかかるコンタクト製造用組成物のみから形成されていてもよいし、弾性変形部32のばね限界値、応力緩和、導電率および引張強度を損なわない限り、他の成分を含んでいてもよい。他の成分を含む場合としては、例えば、弾性変形部32の表面が他の金属によってめっきされている場合や、上述した界面活性剤、光沢剤、表面平滑剤等を含む場合を挙げることができる。コンタクト31は、少なくとも弾性変形部32がコンタクト製造用組成物を含有していればよいため、接触部33、保持部34は本発明にかかるコンタクト製造用組成物を含まない成分で構成されていても構わない。例えば、Fe、Cu、Mn、Zn、Sn、Pd、AuまたはAg等で構成されていてもよい。このように、弾性変形部32は、接触部33および保持部34と異なる材料からなるものであってもよいが、コンタクト31を電気鋳造法によって製造する場合、弾性変形部32、接触部33および保持部34を同じ材料で製造する方が、図4に示すように弾性変形部32、接触部33および保持部34を一体として一度に形成できるため、製造の簡便化の観点から好ましい。弾性変形部32は、接触部33と保持部34とを接続する。上記接続には、例えば図4に示すように弾性変形部32が接触部33および保持部34と同じ材料によって一体として形成されている場合も含み、弾性変形部32が、本発明にかかるコンタクト製造用組成物を含まない成分で構成されている接触部33および保持部34と、例えば溶接などの手法によって接合されるような場合も含む。上記弾性変形可能なとは、弾性変形部32が、外力が加わったことによって生じたひずみを元に戻そうとする性質を持つことをいう。弾性変形部32の形状は特に限定されるものではない。例えば、図4に示すような形状であってもよいし、図5に示す弾性変形部203のようにばね状であってもよいし、図6に示すコンタクト320のようにリーフ状であってもよい。また、弾性変形の方向は特に限定されるものではない。なお、図6は、従来公知のバッテリーコネクタの一例を示す外観斜視図であり、300はバッテリーコネクタ、310は絶縁体からなるコネクタハウジング、320はコンタクトを示している。弾性変形部32は、接触部33が、コンタクト31の接続対象である導電部材と摺接すると付勢されて弾性変形し、コンタクト31と上記導電部材との接続を保持する。コンタクト31は汎用的な形状を取ることができ、様々な導電部材と接続可能であるため、上記導電部材としては特に限定されるものではない。例えば、バッテリーの電極、および基板接続部等を挙げることができる。コンタクト31は、弾性変形部に含まれる本発明にかかるコンタクト製造用組成物が、電気鋳造法によって製造されてなる電鋳層を加熱処理することによって得られたものであることが好ましい。コンタクト31は、例えば本発明にかかるコンタクト製造用組成物からなる金属板を折り曲げることによって形成し、プレス加工によって部分的に厚みを変更することによって弾性力を調整したものであってもよい。しかしながら、該プレス加工を行うと、残留応力や格子欠陥等が発生して機械的特性が劣化し、コンタクト31を備えるコネクタの寿命が短くなったり、製品ごとに弾性力のばらつきが生じたりする可能性がある特開2008-262780号公報。一方、電気鋳造法は電気化学反応であり、金属を電気によって析出させる技術であるため、残留応力や格子欠陥等を発生させることなく、均一な構造を持ったコンタクトを製造することができる。また、電気鋳造法では、切削加工等の方法と異なり、上述したキャビティにコンタクトの形状の反転型を形成しておけば所望の形状を形成できるため、例えば電気鋳造の電圧印加方向に略垂直な方向に延伸する形状の反転型を形成することによって、コンタクトを嵌合方向に短くすることが可能であり、コンタクトを小型化できるという利点もある。電気鋳造法を用いたコンタクトの製造法としては、電気鋳造法によって製造されてなる電鋳層を加熱処理する工程を含むことが好ましい。例えば、本発明にかかるコンタクト製造用組成物が、コバルトを20重量~55重量含有するニッケル-コバルト合金100重量部に対して、硫黄を0.002重量部~0.02重量部含有するようにするために、ニッケルを50g/L~130g/L、コバルトを9g/L~42g/L、ほう酸を20g/L~40g/L、界面活性剤を0.02重量~0.5重量、光沢剤および表面平滑剤を計0.01重量~1重量、それぞれ含むように調製され、pH=3.0~5.0としためっき液と、所望の形状の反転型を有するキャビティとを用い、図1に示す方法を行ってコンタクトの形状を備えた電鋳層を得て、当該電鋳層を180~350°Cで1~48時間加熱する方法を挙げることができる。なお、上記ニッケル、コバルト、ほう酸の添加量におけるg/Lは、めっき液1Lに含まれるニッケル、コバルト、ほう酸のそれぞれのg数を表し、界面活性剤、光沢剤および表面平滑剤の添加量における重量は、めっき液に含まれる固形分の重量に対する界面活性剤の重量、光沢剤および表面平滑剤の合計量の重量である。3.コネクタ本発明にかかるコネクタは、本発明にかかるコンタクトを備えている。コネクタとしては特に限定されるものではなく、種々の用途のコネクタとして用いることができる。例えば、バッテリーコネクタ、USBコネクタなどのコンピュータ用コネクタ、DSコネクタなどの通信用コネクタ、フォンコネクタなどの音声映像用コネクタ、AC電源用コネクタなどの電源用コネクタ、同軸ケーブルを接続するための同軸コネクタ、光ケーブルを接続するための光コネクタなどを挙げることができる。本発明にかかるコネクタに備えられる上記コンタクトは、本発明にかかるコンタクト製造用組成物を備えており、該コンタクト製造用組成物は、優れたばね限界値、引張強度、導電率および応力緩和を示すため、高ストロークを示すと共に、クリープの発生を十分に抑制することができる。それゆえ、上記コネクタは、用途に関わらず、振動に対する追従性が高く、瞬断特性が向上し、長期に渡って接続信頼性を確保できるコネクタとして利用できる。中でも、上記コネクタは、常時プリロードがかかった状態で使用されたとしても瞬断特性を長期間維持できるため、バッテリーコネクタとして用いることが特に好ましい。上記コネクタは、本発明にかかるコンタクトを備えていればよく、他の構成としては従来公知のものを用いることができる。例えば、従来公知の絶縁体からなり、コンタクトの保持部を固定するためのコネクタハウジング等を備えていればよい。また、上記コネクタの製造方法は特に限定されるものではなく、従来公知の方法により製造することができる。なお、本発明は以下のようにも表現できる。すなわち、本発明にかかるコンタクト製造用組成物は、コバルトを20重量~55重量含有するニッケル-コバルト合金と、上記ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部~0.02重量部の硫黄と、を含有し、平均粒径が0.14μm~0.35μm以下であることが好ましい。平均粒径を0.14μm~0.35μmに調整することにより、ばね限界値および引張り強度を低下させることなく、応力緩和を向上させることができる。それゆえ、高ストロークを示すことができるとともにクリープの発生を抑制することができ、かつ、汎用性に優れるコンタクトを実現するための材料として好適に用いることができる。本発明にかかるコンタクト製造用組成物は、コバルトを20重量~55重量含有するニッケル-コバルト合金と、上記ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部~0.02重量部の硫黄と、を含有し、平均粒径が0.23μm~0.35μm以下であることが好ましい。平均粒径を0.23μm~0.35μmに調整することにより、ばね限界値および引張り強度を低下させることなく、応力緩和を向上させることができる。それゆえ、高ストロークを示すことができるとともにクリープの発生を抑制することができ、かつ、汎用性に優れるコンタクトを実現するための材料として好適に用いることができる。本発明にかかるコンタクトは、絶縁物によって固定される保持部と、導電部材に摺接する接触部と、前記保持部と接触部とを接続し、弾性変形可能な弾性変形部とを有し、少なくとも上記弾性変形部が、本発明にかかるコンタクト製造用組成物を含有することが好ましい。上記構成によれば、少なくとも弾性変形部が本発明にかかるコンタクト製造用組成物を含有しているため、スパイラル形状を取らなくともクリープの発生を十分に抑制でき、かつ、高ストロークを示すコンタクトを提供することができる。それゆえ、汎用的な形状を取ることができるため、様々な接続対象に適用可能であり、かつ、振動に対する追従性が向上し、長期に渡って良好な接触性を保つことが可能なコンタクトを提供することができる。本発明にかかるコンタクトは、上記本発明にかかるコンタクト製造用組成物が、電気鋳造法によって製造されてなる電鋳層を加熱処理することによって得られたものであることが好ましい。また、本発明にかかるコンタクトは、上記本発明にかかるコンタクト製造用組成物が、電気鋳造法によって製造されてなる電鋳層を180~350°Cで1~48時間加熱処理することによって得られたものであることが好ましい。電気鋳造法は、例えばプレス加工のような方法とは異なり、残留応力や格子欠陥などの発生による製品ごとの弾性力のばらつきを生じさせることなく、金属板の弾性力を調整することができる。また、コンタクトの小型化を図ることも比較的容易である。さらに、上記加熱処理によって上記コンタクト製造用組成物の平均粒径が0.10μm~0.35μmに調整される。それゆえ、上記構成によれば、均質で、小型かつ長寿命であり、高ストロークを示すことができるとともにクリープの発生を抑制することができ、しかも、汎用性に優れるコンタクトを提供することができる。本発明にかかるコネクタは、本発明にかかるコンタクトを備えることを特徴としている。本発明にかかるコンタクトは、スパイラル形状を取らなくとも高ストロークを示すとともにクリープの発生を十分に抑制することができる。それゆえ、上記構成によれば、汎用性に優れ、かつ、長期に渡って良好な接触性を保つことが可能なコネクタを提供することができる。例えば、FPCコネクタ、基板対基板コネクタ、基板対FPCコネクタ、バッテリーコネクタ等の板ばね形状を有するコネクタコンタクトに有効である。本発明にかかるコネクタは、バッテリーコネクタであることが好ましい。バッテリーコネクタは、電源と本体との接続に用いられるが、携帯電話などの小型携帯機器の薄型化に伴って、小型化が可能で、かつ、良好な接触状態が得られるという特性を持つことが求められている。本発明にかかるコネクタに用いられるコンタクトは、汎用形状でありながら高ストロークを示すとともにクリープの発生を十分に抑制することができ、小型化も可能である。よって、上記特性を満足することができるバッテリーコネクタを提供することができる。本発明にかかる、コンタクトの製造方法は、電気鋳造法によって製造されてなる電鋳層を加熱処理する工程を含む。また、本発明にかかる、コンタクトの製造方法は、ニッケルを50~130g/L、コバルトを9~42g/L、ほう酸を20~40g/L、界面活性剤を0.02重量~0.5重量、光沢剤および表面平滑剤を計0.01重量~1重量、それぞれ含み、pH3.0~5.0であるめっき液を電気鋳造することによって電鋳層を得る電気鋳造工程と、上記電鋳層を180~350°Cで1~48時間加熱する加熱工程と、を含むことが好ましい。上記構成によれば、コバルトを20重量~55重量含有するニッケル-コバルト合金と、上記ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部~0.02重量部の硫黄と、を含有する電鋳層が得られ、上記加熱によって平均粒径が0.10μm~0.35μmであるコンタクトを得ることができる。それゆえ、均質で、小型かつ長寿命であり、高ストロークを示すことができるとともにクリープの発生を抑制することができ、しかも、汎用性に優れるコンタクトを容易に製造することができる。以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。実施例1SUS製の導電性基材としてSUS304白銅株製を使用した。該導電性基材の表面に、ドライフィルムフォトレジストとしてニチゴーモートン株製NEF150Kを、ラミネーターを用いて均一に積層した。上記フォトレジストを、抜きパターンをマスクして露光現像した後、上記フォトレジストを追露光して、抜きパターン反転型を有する母型を形成した。NiCoめっき液としてスルファミン酸NiNS-160、昭和化学工業株製436~545g/LNi=90~100g/L、60スルファミン酸Co昭和化学工業株製49~82g/LCo=9~15g/L、ほう酸昭和化学工業株製20~40g/L、界面活性剤0.02~0.1重量、サッカリン0.01~0.1重量を含有する、pH=3.6~4.3のめっき液を用い、電解槽に満たしてめっき浴とした。上記母型を上記電解槽内に設置し、めっき浴の温度を55~65°Cに設定し、電流密度を6~9A/dm2に設定して電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を180~220°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより加熱処理を行い、コンタクト製造用組成物1とした。実施例および比較例の結果を表1~3に示す。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物1は、コバルト20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部の硫黄を含んでいた。上記コンタクト製造用組成物1の平均粒径は0.10μmであった。なお、表1~3において、Co合金比重量とあるのは、上記コンタクト製造用組成物1に含まれるニッケル-コバルト合金に占めるコバルトの重量を示している。上記コンタクト製造用組成物1に含まれるニッケル-コバルト合金のニッケルとコバルトとの重量比は、蛍光X線分析装置フィッシャーインストルメンツ製、XDV-SDを用いて測定し、上記コンタクト製造用組成物1の硫黄および炭素の含有量は堀場製作所製EMIA-920Vを用いて測定した。また、集束イオンビーム-走査イオン顕微鏡株日立ハイテクノロジーズ製、FB-2100を用い、集束イオンビームによって上記コンタクト製造用組成物1の断面を加工後、走査イオン顕微鏡にて、図7に示したように、上記コンタクト製造用組成物1の電着成長面から板厚方向に10μm×10μmの面積の結晶粒子を観察した倍率50000倍。そして、JIS-H0501切断法に準拠して粒径を測定し、得られた粒径の平均値を算出して、上記平均粒径を求めた。以下の実施例および比較例において、ニッケルとコバルトとの重量比、硫黄および炭素の含有量、上記平均粒径の求め方は実施例1と同じである。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物1のばね限界値は849MPa、引張強度は1732MPa、導電率は14IACS、応力緩和は28であった。ばね限界値が700MPa以上で、かつ、引張強度1300MPaであれば、高ストロークを実現でき、コンタクトに対して高い振動追従性を付与することができる。また、応力緩和が30以下であれば、クリープの発生が十分抑制できていると言え、コンタクトに対して長期の接続信頼性を付与することができる。さらに、導電率が13IACS以上であれば、一般的な導電性コンタクトに使用されるりん青銅C53210と同等の導電率であるため、低い発熱で電気を流すことができる。それゆえ、表1~3では、ばね限界値が700MPa以上、引張強度が1300MPa以上、導電率が13IACS以上、応力緩和が30以下であることを判定基準とした。なお、全ての実施例および比較例において、ばね限界値は、ばね限界値試験機を用いて、JISH3100に準拠して測定した。引張強度は精密万能試験機オートグラフ島津製作所製、AG-Xおよびビデオ式非接触伸び計島津製作所製、DVE-201を用いて、JISZ2241に準拠した引張試験を行うことによって測定した。導電率は抵抗測定機を用いて、JISH0505に準拠して測定した。応力緩和はJCBAT309に準拠して測定した。また、コンタクト製造用組成物のそりは、JISG3193の鋼板の横曲がりと同様の方法を用いて、幅150mmで0.1mm以上の差異が生じた場合にそりが発生していると認定し、観察した5つのコンタクト製造用組成物のうち、5つともそりが発生していない場合を合格とした。実施例2実施例1と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を230~250°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物2とした。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物2は、コバルト20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物2の平均粒径は0.14μmであった。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物2のばね限界値は791MPa、引張強度は1522MPa、導電率は16IACS、応力緩和は15であり、上記コンタクト製造用組成物2を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物2の応力緩和は15以下となったため、実施例1で得られたコンタクト製造用組成物1よりもクリープの発生を防止し、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。実施例3実施例1と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を250~270°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物3とした。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物3は、コバルト20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物3の平均粒径は0.23μmであった。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物3のばね限界値は743MPa、引張強度は1408MPa、導電率は16IACS、応力緩和は10であり、上記コンタクト製造用組成物3を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物3の応力緩和は10以下となったため、実施例2で得られたコンタクト製造用組成物2よりもクリープの発生を防止し、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。実施例4実施例1と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を300~350°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物4とした。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物4は、コバルト20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物4の平均粒径は0.35μmであった。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物4のばね限界値は715MPa、引張強度1371MPa、導電率16IACS、応力緩和は5であり、上記コンタクト製造用組成物4を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物4の応力緩和は10以下となったため、実施例1と同様にクリープの発生を防止し、高ストロークを実現する好ましいと考えられる。実施例5NiCoめっき液としてスルファミン酸NiNS-160、昭和化学工業株製436~545g/LNi=90~100g/L、60スルファミン酸Co昭和化学工業株製49~82g/LCo=9~15g/L、ほう酸昭和化学工業株製20~40g/L、界面活性剤0.02~0.1重量、サッカリン0.2~0.3重量を含有する、pH=3.6-4.3のめっき液を用い、電解槽に満たしてめっき浴とした。実施例1と同様の母型を用いて、めっき浴の温度を40~50°Cに設定し、電流密度を6-9A/dm2に設定して電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を180~220°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより加熱処理を行い、コンタクト製造用組成物5とした。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物5は、コバルト20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.020重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物5の平均粒径は0.10μmであった。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物のばね限界値は854MPa、引張強度は1752MPa、導電率は14IACS、応力緩和は25であり、上記コンタクト製造用組成物5を5個観察した結果、5個中5個でそりが認められなかった。これらの結果は、実施例1と同様に高ストロークを実現する上で好ましい値であった。実施例6実施例5と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を230~250°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物6とした。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物6は、コバルト20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.020重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物6の平均粒径は0.14μmであった。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物6のばね限界値は798MPa、引張強度は1545MPa、導電率は16IACS、応力緩和は14であり、コンタクト製造用組成物6を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物6の応力緩和は15以下となったため、実施例5で得られたコンタクト製造用組成物5よりもクリープの発生を防止し、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。実施例7実施例5と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を250~300°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物7とした。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物7は、コバルト20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.020重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物7の平均粒径は0.23μmであった。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物7のばね限界値は738MPa、引張強度は1448MPa、導電率は16IACS、応力緩和は9であり、コンタクト製造用組成物7を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物7の応力緩和は10以下となったため、実施例6で得られたコンタクト製造用組成物6よりもクリープの発生を防止し、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。実施例8実施例5と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を300~350°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物8とした。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物8は、コバルト20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.020重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物8の平均粒径は0.35μmであった。表1に示すように、得られたコンタクト製造用組成物8のばね限界値は721MPa、引張強度は1403MPa、導電率は16IACS、応力緩和は5であり、コンタクト製造用組成物8を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物8の応力緩和は10以下となったため、実施例7で得られたコンタクト製造用組成物7と同様に、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。実施例9NiCoめっき液としてスルファミン酸NiNS-160、昭和化学工業株製273~382g/L、60スルファミン酸Co昭和化学工業株製125~191g/L、ほう酸昭和化学工業株製20~40g/L、界面活性剤0.02~0.1重量、サッカリン0.01~0.1重量を含有する、pH=3.6~4.3のめっき液を用い、電解槽に満たしてめっき浴とした。実施例1と同様の母型を用いて、めっき浴の温度を55~65°Cに設定し、電流密度を6~9A/dm2に設定して電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を180~220°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより加熱処理を行い、コンタクト製造用組成物9とした。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物9は、コバルト55重量およびニッケル45重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物9の平均粒径は0.10μmであった。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物9のばね限界値は851MPa、引張強度は1765MPa、導電率は14IACS、応力緩和は23であり、コンタクト製造用組成物9を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。実施例9で得られた結果は、実施例1と同様に、高ストロークを実現する上で好ましい値であった。実施例10実施例9と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を230~250°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物10とした。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物10は、コバルト55重量およびニッケル45重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物10の平均粒径は0.14μmであった。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物10のばね限界値は811MPa、引張強度は1608MPa、導電率は16IACS、応力緩和は13であり、コンタクト製造用組成物10を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物10の応力緩和は15以下となったため、実施例9で得られたコンタクト製造用組成物9よりもクリープの発生を防止し、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。実施例11実施例9と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を250~270°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物11とした。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物11は、コバルト55重量およびニッケル45重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物11の平均粒径は0.23μmであった。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物11のばね限界値は766MPa、引張強度は1421MPa、導電率は16IACS、応力緩和は9であり、コンタクト製造用組成物11を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物11の応力緩和は10以下となったため、実施例10で得られたコンタクト製造用組成物10よりもクリープの発生を防止し、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。実施例12実施例9と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を300~350°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物12とした。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物12は、コバルト55重量およびニッケル45重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.002重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物12の平均粒径は0.35μmであった。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物12のばね限界値は711MPa、引張強度1388MPa、導電率16IACS、応力緩和は5であり、コンタクト製造用組成物12を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物12の応力緩和は10以下となったため、実施例11で得られたコンタクト製造用組成物11と同様に、クリープの発生を防止し、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。実施例13NiCoめっき液としてスルファミン酸NiNS-160、昭和化学工業株製273~382g/L、60スルファミン酸Co昭和化学工業株製125~191g/L、ほう酸昭和化学工業株製20~40g/L、界面活性剤0.02~0.1重量、サッカリン0.2~0.3重量を含有する、pH=3.6~4.3のめっき液を用い、電解槽に満たしてめっき浴とした。実施例1と同様の母型を用いて、めっき浴の温度を40~50°Cに設定し、電流密度を6~9A/dm2に設定して電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を180~220°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより加熱処理を行い、コンタクト製造用組成物13とした。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物13は、コバルト55重量およびニッケル45重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.020重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物13の平均粒径は0.10μmであった。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物13のばね限界値は854MPa、引張強度は1720MPa、導電率は14IACS、応力緩和は21であり、コンタクト製造用組成物13を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。実施例13で得られた結果は、実施例1と同様に、高ストロークを実現する上で好ましい値であった。実施例14実施例13と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を230~250°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物14とした。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物14は、コバルト55重量およびニッケル45重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.020重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物14の平均粒径は0.14μmであった。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物14のばね限界値は803MPa、引張強度は1598MPa、導電率は16IACS、応力緩和は14であり、コンタクト製造用組成物14を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物14の応力緩和は15以下となったため、実施例13で得られたコンタクト製造用組成物13よりもクリープの発生を防止し、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。実施例15実施例13と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を250~270°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物15とした。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物15は、コバルト55重量およびニッケル45重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.020重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物15の平均粒径は0.23μmであった。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物15のばね限界値は782MPa、引張強度は1482MPa、導電率は16IACS、応力緩和は10であり、コンタクト製造用組成物15を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物15の応力緩和は10以下となったため、実施例14で得られたコンタクト製造用組成物14よりもクリープの発生を防止し、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。実施例16実施例13と同一条件のめっき液を用いて、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を300~350°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、コンタクト製造用組成物16とした。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物16は、コバルト55重量およびニッケル45重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.020重量部の硫黄とを含んでいた。上記コンタクト製造用組成物15の平均粒径は0.35μmであった。表2に示すように、得られたコンタクト製造用組成物16のばね限界値は725MPa、引張強度は1415MPa、導電率は16IACS、応力緩和は5であり、コンタクト製造用組成物16を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。コンタクト製造用組成物16の応力緩和は10以下となったため、実施例15で得られたコンタクト製造用組成物15と同様に、クリープの発生を防止し、高ストロークを実現する上で好ましいと考えられる。比較例1NiCoめっき液としてスルファミン酸NiNS-160、昭和化学工業株製600~709g/L、60スルファミン酸Co昭和化学工業株製11~33g/L、ほう酸昭和化学工業株製20~40g/L、界面活性剤0.02~0.1重量、サッカリン0.05~0.08重量を含有するpH=3.6~4.3のめっき液を用いて、めっき浴の温度を55~65°Cに設定し、電流密度を6~9A/dm2に設定して、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を180~220°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、比較コンタクト製造用組成物1とした。得られた比較コンタクト製造用組成物1は、コバルトを8重量およびニッケル92重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.005重量部の硫黄とを含んでいた。上記比較コンタクト製造用組成物1の平均粒径は0.23μmであった。表3に示すように、得られた比較コンタクト製造用組成物1のばね限界値は630MPaであり、引張強度は1177MPa、導電率は16IACS、応力緩和の値は33であり、比較コンタクト製造用組成物1を5個観察したところ、5個中5個でそりが認められなかった。したがって、ばね限界値、引張強度、応力緩和の結果から、比較コンタクト製造用組成物1は、高ストロークを持ち、かつ、クリープの発生が十分に抑制されたコンタクトを実現するためには不十分であると言える。これはCo重量が少ないことによると考えられる。比較例2NiCoめっき液としてスルファミン酸NiNS-160、昭和化学工業株製218-327g/L、60スルファミン酸Co昭和化学工業株製147~245g/L、ほう酸昭和化学工業株製20~40g/L、界面活性剤0.02~0.1重量、サッカリン0.05~0.08重量を含有するpH=3.6~4.3のめっき液を用いて、めっき浴の温度を55~65°Cに設定し、電流密度を6~9A/dm2に設定して、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を180~220°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、比較コンタクト製造用組成物2とした。得られた比較コンタクト製造用組成物2は、コバルトを65重量およびニッケル35重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.005重量部の硫黄とを含んでいた。上記比較コンタクト製造用組成物2の平均粒径は0.12μmであった。表3に示すように、得られた比較コンタクト製造用組成物2は、観察した5個全てでそりが発生していた。そりが発生したため、ばね限界値、引張強度、応力緩和の試験を行うことができず、コンタクト製造組成物を作製することができなかった。これは、Co重量が多いことによると考えられる。比較例3NiCoめっき液としてスルファミン酸NiNS-160、昭和化学工業株製436-545g/L、60スルファミン酸Co昭和化学工業株製49~82g/L、ほう酸昭和化学工業株製20~40g/L、界面活性剤0.02~0.1重量を含有するpH3.6~4.3のめっき液を用いて、めっき浴の温度を55~65°Cに設定し、電流密度を6~9A/dm2に設定して、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を180~220°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、比較コンタクト製造用組成物3とした。得られた比較コンタクト製造用組成物3は、コバルトを20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.001重量部の硫黄を含んでいた。上記比較コンタクト製造用組成物3の平均粒径は0.26μmであった。表3に示すように、得られた比較コンタクト製造用組成物3は、ばね限界値は324MPa、引張強度は978MPa、導電率は16IACS、応力緩和の値は27であり、観察した5個中5個でそりが認められなかった。比較コンタクト製造用組成物3は、ばね限界値および引張強度の結果から、高ストロークを持ち、かつ、クリープの発生が十分に抑制されたコンタクトを実現するためには不十分であると言える。これは、硫黄の重量部が少ないことによると考えられる。比較例4NiCoめっき液としてスルファミン酸NiNS-160、昭和化学工業株製436~545g/L、60スルファミン酸Co昭和化学工業株製49~82g/L、ほう酸昭和化学工業株製20~40g/L、界面活性剤0.02~0.1重量、サッカリン0.2~0.3重量を含有するpH=3.6~4.3のめっき液を用いて、めっき浴の温度を40~50°Cに設定し、電流密度を6~9A/dm2に設定して、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を180~220°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、比較コンタクト製造用組成物4とした。得られた比較コンタクト製造用組成物4は、コバルトを20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.021重量部の硫黄を含んでいた。上記比較コンタクト製造用組成物4の平均粒径は0.11μmであった。表3に示すように、得られた比較コンタクト製造用組成物4は、ばね限界値は720MPa、引張強度は500MPa、導電率は14IACS、応力緩和の値は28であり、観察した5個中5個でそりが認められなかった。比較コンタクト製造用組成物4は、ばね限界値および引張強度の結果から、高ストロークを持ち、かつ、クリープの発生が十分に抑制されたコンタクトを実現するためには不十分であると言える。これは、硫黄の重量部が多いことによると考えられる。比較例5NiCoめっき液としてスルファミン酸NiNS-160、昭和化学工業株製436~545g/L、60スルファミン酸Co昭和化学工業株製49~82g/LCo=9-15g/L、ほう酸昭和化学工業株製20~40g/L、界面活性剤0.02~0.1重量、サッカリン0.03~0.05重量を含有するpH=3.6~4.3のめっき液を用いて、めっき浴の温度を55~65°Cに設定し、電流密度を9~12A/dm2に設定して、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を150~180°Cに保った恒温槽内に1~5時間放置することにより熱処理を行い、比較コンタクト製造用組成物5とした。得られた比較コンタクト製造用組成物5は、コバルトを20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.005重量部の硫黄を含んでいた。上記比較コンタクト製造用組成物5の平均粒径は0.09μmであった。表3に示すように、得られた比較コンタクト製造用組成物5は、ばね限界値は780MPa、引張強度は1831MPa、導電率は13IACS、応力緩和の値は31であり、観察した5個中5個でそりが認められなかった。比較コンタクト製造用組成物5は、応力緩和の結果から、高ストロークを持ち、かつ、クリープの発生が十分に抑制されたコンタクトを実現するためには不十分であると言える。これは平均粒径が小さいことによると考えられる。比較例6NiCoめっき液としてスルファミン酸NiNS-160、昭和化学工業株製436~545g/LNi90~100g/L、60スルファミン酸Co昭和化学工業株製49~82g/LCo=9~15g/L、ほう酸昭和化学工業株製20~40g/L、界面活性剤0.02~0.1重量、サッカリン0.03~0.05重量を含有するpH=3.6~4.3のめっき液を用いて、めっき浴の温度を55~65°Cに設定し、電流密度を6~9A/dm2に設定して、実施例1と同様の母型を用いて電気鋳造を行った。その後、得られた電鋳層を電解槽から取り出し、槽内の温度を300~350°Cに保った恒温槽内に5~10時間放置することにより熱処理を行い、比較コンタクト製造用組成物6とした。得られた比較コンタクト製造用組成物6は、コバルトを20重量およびニッケル80重量を含むニッケル-コバルト合金と、該ニッケル-コバルト合金100重量部に対して0.005重量部の硫黄を含んでいた。上記比較コンタクト製造用組成物6の平均粒径は0.36μmであった。表3に示すように、得られた比較コンタクト製造用組成物6は、ばね限界値は698MPa、引張強度は1226MPa、導電率は16IACS、応力緩和の値は6であり、観察した5個中5個でそりが認められなかった。ばね限界値および引張強度の結果から、比較コンタクト製造用組成物6は、高ストロークを持ち、かつ、クリープの発生が十分に抑制されたコンタクトを実現するためには不十分であると言える。これは、平均粒径が大きいことによると考えられる。比較例7ここでは、対照としてりん青銅C5210-SH株原田伸銅所製を供試した。そのため、表3にはCo合金比、硫黄含有量、平均粒径の値は示していない。表3に示すように、りん青銅C5210-SHのばね限界値は678MPa、引張強度は814MPa、導電率は13IACS、応力緩和の値は30であった。したがって、引張強度が不足するため、高ストロークを持ち、かつ、クリープの発生が十分に抑制されたコンタクトを実現するためには不十分であると言える。比較例8ここでは、対照としてSUS301-H東洋精箔株製を供試した。そのため、表3にはCo合金比、硫黄含有量、平均粒径の値は示していない。表3に示すように、SUS301-Hのばね限界値は490MPaであり、引張強度は1320MPa、導電率は5IACS、応力緩和の値は10であった。したがって、ばね限界値および導電率が不足するため、高ストロークを持ち、かつ、クリープの発生が十分に抑制されたコンタクトを実現するためには不十分であると言える。本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。"