"ナノパターン形成方法であって、a基体を提供する工程であって、前記基体はその表面上に放射線感受性層を有する、工程と、b可動式のナノ構造化されたフィルムを提供する工程と、c前記ナノ構造化されたフィルムを、接触表面に沿って、前記基体上の前記放射線感受性層と接触させる工程と、d前記フィルムに対して前記基体を移動させる間に、前記接触を介して放射線を分散させる工程と、を含む、方法。前記ナノ構造化されたフィルムは、放射線感受性層の面において、光度の調節を生じる、請求項1に記載の方法。前記ナノ構造化されたフィルムは表面レリーフを有する、請求項2に記載の方法。前記ナノ構造化されたフィルムは、前記放射線感受層において、干渉パターンを形成するために放射線を生じる位相シフトマスクである、請求項3に記載の方法。前記ナノ構造化されたフィルムは共形のエラストマー材料からできている、請求項2に記載の方法。前記ナノ構造化されたフィルムは、2つ以上の透明な可撓性材料の層からできている、請求項2に記載の方法。外側層はエラストマー材料でできている、請求項6に記載の方法。前記外側層はシラン材料でできている、請求項6に記載の方法。前記表面レリーフは、ナノ構造化されたマスター基体から、モールディングまたはキャスティングによって作製される、請求項3に記載の方法。前記共形のナノ構造化されたフィルムはプラズモンマスクである、請求項2に記載の方法。前記プラズモンマスクは、ナノホールのアレイを有する金属フィルムでできている、請求項10に記載の方法。前記プラズモンマスクは、透明な可撓性フィルム上に堆積または積層された、ナノパターン形成された金属層を用いてできている、請求項10に記載の方法。前記プラズモンマスクは、透明な可撓性フィルム上に堆積された金属ナノ粒子のアレイによって形成される、請求項10に記載の方法。ナノ構造化されたフィルムと放射線感受性層との間の前記接触は、可動式のアームを用いてなされる、請求項1に記載の方法。前記可動式のアームは、感光性層の露出の間、前記接触から取り除かれる、請求項14に記載の方法。前記可動式のアームはシリンダーであり、前記シリンダーは回転され、同時に、前記ナノ構造化されたフィルムと接触する、請求項14に記載の方法。前記シリンダーは可撓性の壁を有し、ガスによって加圧される、請求項16に記載の方法。光源は、前記シリンダー内に配置される、請求項16に記載の方法。前記基体は、接触ラインからの放射線の分散の間、前記ナノ構造化されたフィルムの接触ラインに向かう方向に、または、前記ナノ構造化されたフィルムの接触ラインから離れる方向に、移動する、請求項1に記載の方法。前記ナノ構造化されたフィルムは閉ループにて移動される、請求項1に記載の方法。前記ナノ構造化されたフィルムはロールからロールへと移動される、請求項1に記載の方法。前記基体は剛性のプレートである、請求項1に記載の方法。前記基体は湾曲を有する、請求項1に記載の方法。前記基体は可撓性のフィルムである、請求項1に記載の方法。さらなるナノ構造化された可撓性のフィルムおよび光源が、前記基体の両側におけるナノパターン形成のために、両側表面上に、感光性の層でコーティングされた前記基体の他方の側上に提供される、請求項1に記載の方法。ナノパターン形成を実行するための装置であって、aナノ構造化されたフィルムと、b前記ナノ構造化されたフィルムの一部を介して、650nm以下の波長の放射線を供給し、同時に、前記一部は、放射線感受性材料の層と接触している、放射線源とを備える、装置。ナノ構造化されたフィルムは表面レリーフを有するポリマーである、請求項26に記載の装置。ナノ構造化されたフィルムは、孔の開いた金属フィルムまたは、金属ナノ粒子を有する高分子フィルムである、請求項26に記載の装置。前記ナノ構造化されたフィルムは2つ以上の層を有する、請求項26に記載の装置。可動式のシリンダーは、前記放射線感受性層と接触するナノ構造化されたフィルムを制御するために提供される、請求項26に記載の装置。前記シリンダーはガスによって加圧される、請求項30に記載の装置。本発明の実施形態は、大面積の基体、剛性で平らな、または湾曲した物体、あるいは可撓性のフィルムをナノパターン形成することにおいて有用である方法および装置に関する。ナノパターン形成技術は、近接場UVフォトリソグラフィーを利用し、ここで基体をパターン形成するために用いられるマスクは、基体と接触する。近接場フォトリソグラフィーは、位相シフトマスクまたは表面プラズモン技術を含んでもよい。近接場マスクは、可撓性のフィルムから製造され、これは、所望されるパターンに従ってナノ構造化されていない。位相シフトの方法において、例えばポリジメチルシロキサンPDMSのフィルムなどのナノ構造化されていないエラストマーフィルムを用いることができる。ナノ構造化は、レーザ処理、選択エッチング、または他の利用可能な技術を用いてなすことができ、あるいは、公知のナノファブリケーション方法電子線描画、ホログラフィックリソグラフィー、レーザ直接描画、またはナノインプリントステップアンドリピート、あるいは、ロールツーロールリソグラフィー等を用いて作られる、ナノ構造化されたマスターからのレプリケーションモールディング、キャスティングによってなすことができる。このフィルムは別の透明な可撓性フィルムキャリアによってサポート可能である。プラズモン方法において、上述の方法の1つを用いて、または、例えば、コロイド溶液から堆積された金属ナノ粒子を堆積させることによって作られた、ナノホール構造を有する金属層を用いるフィルムを用いることができる。近接場リソグラフィーのための均一の接触領域を提供するために、我々は、基体上において、エラストマーのフィルムとフォトレジスト層との間の静摩擦のファンデルワールス力に依拠する。あるいは、透明シリンダーが、ナノ構造化されたフィルムと基体との間の制御可能な接触を提供するために用いられる。このようなシリンダーは、可撓性の壁を有してもよく、かつ、ナノ構造化されたフィルムと基体との間の制御可能な圧力を提供するためにガスによって加圧されることができる。本発明の例示的な実施形態が達成される方法は、上記で提供された特定の記載を参照し、かつ、出願人が図面を提供している例示的な実施形態の詳細な記載を参照して、明らかとなり、かつ詳細に理解可能である。本発明の例示的な実施形態を理解するのに必要な場合にのみ図面が提供され、所定の周知のプロセスおよび装置は本開示の主たる事項の発明的な性質を曖昧にしないように、本明細書において図示されていないことは理解されるべきである。詳細な記載の前置きとして、留意すべきは、本明細書および特許請求の範囲の請求項において用いられているように、単数の形a、an、およびtheは、文脈が明らかに別意を指示していないならば、複数の指示対象物を含む。用語約、およそが本出願において用いられる場合、これは、提示された名目上の値は±10以内の精度であることを意味することが位置される。本発明の実施形態は、大面積の基体のナノパターン形成において有用である方法および装置に関し、可撓性のナノ構造化されたフィルムは放射線感受性材料を描画イメージングするために用いられる。ナノパターン形成技術は近接場フォトリソグラフィーを利用し、基体上において放射線感受性層をイメージングするために用いられる放射線の波長は650nm以下であり、基体をパターン形成するために用いられるマスクは基体と接触する。近接場フォトリソグラフィーは位相シフトマスクを利用してもよく、または、表面プラズモン技術を用いてもよく、可動式の可撓性フィルムの表面上の金属層はナノホールを含むか、あるいは、金属のナノ粒子がこのような可撓性フィルムの表面上に分散されている。以下で提供される詳細な記載は、本出願の開示内容を読了後、当業者によって認識されるであろう可能性のサンプリングである。それらの実施形態の1つは、位相シフトマスクのアプローチを提案し、可撓性のナノ構造化されたフィルムによって実施される。このような可撓性のナノ構造化されたフィルムと基体との間の均一かつ永続的な接触を提供することの問題は、強いが一時的な接着をフォトレジスト層に対して作ることのできる材料からこのフィルムを製造することによって解消される。このような材料の一例は、エラストマー、例えば、ポリジメチルシロキサンPDMSである。PDMSフィルムは、平らで、固体のフォトレジストの層との共形の、原子スケールでの接触を形成するために用いられ得る。この接触は、加えられる圧力なしに、接触の際に自然発生的に確立される。このようなフィルムの図は図1Aに示されており、ここでフィルム2は透明表面レリーフの形態でナノ構造3を有する。フィルム2は、1つの材料例えばPDMSから作られていてもよく、あるいは、2つ以上の材料からなる複合体または複数層から作られていてもよく、例えば、ナノ構造化されたPDMSは、透明および可撓性のサポートフィルム上に積層または堆積され得る。そのようなサポートフィルムは、ポリカーボネートPC、ポリメチルメタクリレートPMMA、ポリエチレンテレフタレートPET、非結晶フッ素ポリマーfluoric-polymer、例えばCYTOP、ならびに他の材料から作られ得る。透明な可撓性のサポートフィルム上のPDMSの堆積は、例えば浸漬、噴霧、またはキャスティング等の利用可能な技術の1つを用いてなされることができる。サポートフィルムは、酸素プラズマ、UVオゾン、コロナ放電、または、シラン等、エラストマーのフィルムと高分子フィルムサポートとの間のより良い接着を促進するための接着促進剤を用いて処理可能である。フォトレジストと動的な接触を生成するために、エラストマーの代わりに用いることのできる粘着性の材料の別の実施形態は、架橋シラン材料である。このような材料は、多量の水/湿気を用いたシラン前駆体自己組織化した単分子層、SAMを堆積するために通常用いられるから堆積可能である。例えば、DDMSジクロロジメチルシランは、多量の湿気と共に堆積された場合、非常に粘着質な表面を作る。この実施形態において、キャリア層は、公知のナノ構造化技術の1つ好ましくはロールツーロールナノインプリンティングリソグラフィーを用いてナノ構造化され、次いで、シラン材料でコーティングして粘着性を提供する。位相シフトリソグラフィーのための表面レリーフは、以下の方法の任意を用いてエラストマーまたはシランフィルムにおいて作られてよい:まず、ナノ構造化されたマスターが、利用可能なナノファブリケーション技術深UVステッパー、電子ビーム、イオンビーム、ホログラフィ、レーザ処理、エンボス加工、ナノインプリンティング、および他の1つを利用して得られることができる。第2に、所望されるナノ構造のレプリカは、例えば、ロールツーロールモードまたはステップアンドリピートモードにおいて、キャスティングまたはモールディングを用いて、エラストマーのフィルムの表面上にそのようなマスターから得られることができる。別の実施形態は、キャリア層は、公知のナノ構造化技術好ましくは、ロールツーロールのナノインプリンティングリソグラフィーの1つを用いてナノ構造化され、次いで、エラストマー材料PDMS等でコーティングし、または、DDMS等のシラン材料でコーティングして、粘着性を提供する。このようなマスクのナノ構造は、位相調整器として機能するように設計可能であり、この場合、加工部featureの高さはπに比例すべきである。例えば露出365nmの波長について、屈折率1.43を有するPDMS材料は、位相シフト効果を生じるために、約400nmの深度を有する加工部を有するべきである。この場合、光度の局所的最小は、マスクのステップ端において生じる。例えば、20nmから150nmの線は、位相シフトマスクにおける表面レリーフエッジの位置に対応するフォトレジストにおいて得られることができる。従って、このリソグラフィーは、イメージ収縮特性imagereductionpropertyを有し、ナノ構造は、マスク上で、さらに大きな加工部を用いて達成可能である。別の実施形態は、1:1のレプリケーションマスクとして機能する可撓性のマスク上にナノ構造を用いている。以前の刊行物において証明されているが、例えば、Tae-WooLeeらは、AdvancedFunctionalMaterials,2005年,15,1435において、フォトレジストの露出および現像の特定のパラメータに依存して、マスクからフォトレジストまでの加工部の1:1のレプリケーション、または、同じエラストマーのマスク上の表面レリーフエッジ上の位相シフトを用いて、加工部サイズの収縮を達成可能である。特に、通常の露出量および現像時間よりも露出不足または現像不足は、マスクの非接触領域および接触領域における効率的な露出量との間での著しい差を生じる。これは、ポジ型またはネガ型のトーンにおいてフォトレジストのタイプに依存して、マスクからフォトレジストへの、1:1のレプリケーションを生成するために用いられることができる。別の実施形態はプラズモンマスクのアプローチを提案する。このようなプラズモンフィルムは、所望されるパターンに従ったナノホールのアレイを有する、図1Bに示された可撓性の金属フィルムであってよい。あるいは、金属層は可撓性の透明フィルム上に堆積される。金属層のパターン形成は、利用可能なナノパターン形成技術深UVステッパー、電子ビーム、イオンビーム、ホログラフィ、レーザ処理、エンボス加工、ナノインプリンティング、および他のうちの1つを用い、続いて、金属層エッチングを用いてなされることができる。あるいは、ナノパターン形成は、透明フィルム上で上述の方法を用いて製造可能であり、次いで、金属材料は、ナノパターン形成されたレジスト上に堆積され、続いて、金属層のリフトオフが可能である。さらに別の実施形態は、プラズモンマスクを生成するために、可撓性の透明フィルムの表面上に、制御可能な方法において分配された金属ナノ粒子を用いる。例えば、メタルナノ粒子は、PDMS材料を可撓性の透明なサポートフィルム上に堆積させるのに先立って、液相にてPDMS材料で混合可能である。あるいは、金属ナノ粒子は、エラストマー層において製造されたナノテンプレート上に堆積可能である。ナノ構造化されたフィルムは、サポートドラム4および5周囲に巻かれることができ、図2に示すように、制御可能なテンションにて保たれることができる。あるいは、ナノ構造化されたフィルムは、図3に示すように、1つのロール4から別のロール5へと巻かれることができる。プロセスは、図4に示すように、可動式のアーム8を用いて、ナノ構造化されたフィルム1を、基体6上に堆積されたフォトレジスト7と接触させることによって開始する。このような接触は、ファンデルワースル力を利用しており、フィルムを、フォトレジストに一時的にくっつける。次いで、図5に示すように、可動式のアーム8は、フィルム-基体接触から取り除かれ、光焦点、コリメート、またはフィルタリングのシステム9を含み得る光源がオンにされ、フィルム-基体接触の領域への露出を提供し、基体6は、一定または可変の速度を用いて、ある方向に移動される。このような移動は、フィルムをも、その移動方向に移動させて、フィルム上に作られるナノ構造に依存して、同じまたは異なるパターンに対して、基体の異なる部分を露出させる。別の実施形態は、図6に提示されているが、より広い領域に亘ってフォトレジストと接触するナノ構造化されたフィルムを示す。この接触領域は、基体がある方向に移動を開始するや否や、移動を開始する。ナノ構造化されたフィルムと基体との間の接触領域の幅は、基体6と、ドラム4および5との間の相対的位置を変化させることによって、ならびに、ナノ構造化されたフィルム材料の粘着性を変化させることによって変更可能である。この構成はまた、光に対するナノ構造化されたフィルムの露出の領域を増加させることが可能であり、これにより、動的な露出量の増加に起因して、本方法のスループットを改善するのを助ける。ナノ構造化されたフィルム表面接触が十分に粘着質ではない場合例えば、プラズモンマスクのアプローチの場合などのように、可動式のアームは、引っ込まず、ナノ構造化されたフィルムと基体との間の制御可能かつ均一の圧力を保つ。例えば、可動式のアームは、図7に示すように、透明のシリンダー1の形態において製造可能である。このシリンダーは、ナノ構造化されたフィルムと基体との間の制御可能かつ均一の接触を提供する機械的システムによって作動される。この場合、照明9の光源はそのようなシリンダー内部に配置可能である。このようなシリンダーは、透明な可撓性材料から作製可能であり、かつガスによって加圧可能である。このような場合、マスクと基体との間の接触領域および圧力は、ガスの圧力によって制御可能である。ガスは、可撓性-壁シリンダーを介して一定して流れることができ、必要な制御可能な圧力を生成し、同時に、このシリンダー内に配置された光源を冷却する。開示されたナノパターン形成方法は、図8に示すように、可撓性フィルム12をパターン形成するために利用可能であり、フィルムは、露出の間、1つのロール14から別のロール13へと移動可能である。開示されたナノパターン形成方法は、図9に示すように、両側から、剛性または可撓性の材料をパターン形成するために用いられることができる。開示されたナノパターン形成方法は、図10に示すように、非平坦または湾曲の基体をパターン形成するために用いられることができる。図10aは、可動式のアーム上にあるシリンダーが基体の湾曲に従っている仕方を示し、図10bは、可撓性-壁ガス加圧シリンダーが基体の湾曲に従っている仕方を示す。後者の場合、垂直方向にアームを移動させる代わりに、湾曲によって生じる基体の高さの偏差に対応するためにシリンダー内の圧力を調節することができる。"