"炭化水素溶媒、及び、下記式AOH式中、Aはアルカリ金属カチオンを表す。で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物但し、下記式2で表される化合物を含まない。を脱水処理する第1工程、並びに、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2式中、Arは置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わす。該炭化水素基に含まれる-CH2-はヘテロ原子またはカルボニル基に置き換わっていてもよい。で表される化合物を反応させる第2工程を含むことを特徴とする、式4式中、A、Ar及びR1はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。で表される塩の製造方法。第2工程が、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2で表される化合物を、脱水しながら反応させる工程であることを特徴とする請求項1記載の製造方法。第2工程が、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2で表される化合物を、第2工程の反応液に含まれる水量を0.8重量以下に調整しながら反応させる工程であることを特徴とする請求項2記載の製造方法。第2工程が、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2で表される化合物を、減圧下、20~100°Cの温度範囲で共沸脱水しながら反応させる工程であることを特徴とする請求項2又は3記載の製造方法。第1工程で脱水処理された混合物に含まれる水量が0.8重量以下であることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項記載の製造方法。第1工程が、減圧下、20~100°Cの温度範囲で共沸脱水する工程であることを特徴とする請求項1~5のいずれか記載の製造方法。アルカリ金属水酸化物が水酸化リチウムであることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項記載の製造方法。炭化水素溶媒が芳香族炭化水素溶媒であることを特徴とする請求項1~7のいずれか1項記載の製造方法。第2工程が、エーテル溶媒の存在下で、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2で表される化合物を反応させる工程であることを特徴とする請求項1~8のいずれか1項記載の製造方法。請求項1~9のいずれか1項記載の製造方法で式4式中、Aはアルカリ金属カチオンを表す。Arは置換基を有していてもよいフェニル基を表わす。R1は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わす。該炭化水素基に含まれる-CH2-はヘテロ原子またはカルボニル基に置き換わっていてもよい。で表わされる塩を得、得られた式4で表される塩と、式3R2-O-SO2R33式中、R2は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わし、R3は置換基を有していてもよいフェニル基又は炭素数1~10のアルキル基を表わす。で表される化合物とを反応させる工程を含むことを特徴とする式1式中、Ar、R1及びR2はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。で表わされるピラゾリノン誘導体の製造方法。本発明の目的は、ピラゾリノン誘導体を優れた収率で製造できる方法を提供することである。このような状況下、本発明者らは鋭意検討した結果、本発明に至った。即ち本発明は、以下の通りである。<1>炭化水素溶媒、及び、下記式AOH式中、Aはアルカリ金属カチオンを表す。で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物但し、下記式2で表される化合物を含まない。を脱水処理する第1工程、並びに、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2式中、Arは置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わす。該炭化水素基に含まれる-CH2-はヘテロ原子またはカルボニル基に置き換わっていてもよい。で表される化合物以下、化合物2と記すことがあるを反応させる第2工程を含むことを特徴とする、式4式中、A、Ar及びR1はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。で表される塩の製造方法。<2>第2工程が、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2で表される化合物を、脱水しながら反応させる工程であることを特徴とする<1>記載の製造方法。<3>第2工程が、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2で表される化合物を、第2工程の反応液に含まれる水量を0.8重量以下に調整しながら反応させる工程であることを特徴とする<2>記載の製造方法。<4>第2工程が、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2で表される化合物を、減圧下、20~100°Cの温度範囲で共沸脱水しながら反応させる工程であることを特徴とする<2>又は<3>記載の製造方法。<5>第1工程で脱水処理された混合物に含まれる水量が0.8重量以下であることを特徴とする<1>~<4>のいずれか1項記載の製造方法。<6>第1工程が、減圧下、20~100°Cの温度範囲で共沸脱水する工程であることを特徴とする<1>~<5>のいずれか1項記載の製造方法。<7>アルカリ金属水酸化物が水酸化リチウムであることを特徴とする<1>~<6>のいずれか1項記載の製造方法。<8>炭化水素溶媒が芳香族炭化水素溶媒であることを特徴とする<1>~<7>のいずれか1項記載の製造方法。<9>第2工程が、エーテル溶媒の存在下で、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2で表される化合物を反応させる工程であることを特徴とする<1>~<8>のいずれか記載の製造方法。<10><1>~<9>のいずれか1項記載の製造方法で式4式中、Aはアルカリ金属カチオンを表す。Arは置換基を有していてもよいフェニル基を表わす。R1は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わす。該炭化水素基に含まれる-CH2-はヘテロ原子またはカルボニル基に置き換わっていてもよい。で表わされる塩を得、得られた式4で表される塩と、式3R2-O-SO2R33式中、R2は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わし、R3は置換基を有していてもよいフェニル基又は炭素数1~10のアルキル基を表わす。で表される化合物とを反応させる工程を含むことを特徴とする式1式中、Ar、R1及びR2はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。で表わされるピラゾリノン誘導体以下、誘導体1と記すことがあるの製造方法。本発明によれば、ピラゾリノン誘導体を優れた収率で製造できる方法が提供可能である。まず、前記式4で表される塩以下、塩4と記すことがあるについて説明する。塩4の製造方法は、第1工程及び第2工程からなる。第1工程は、炭化水素溶媒、及び、下記式AOH式中、Aはアルカリ金属カチオンを表す。で表されるアルカリ金属水酸化物を含む混合物但し、下記式2で表される化合物を含まない。を脱水処理する工程である。炭化水素溶媒としては、例えば、ノルマルペンタン、ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン等の脂肪族炭化水素、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素等が挙げられる。好ましくは、例えば、芳香族炭化水素等が挙げられ、より好ましくは、例えば、トルエン、キシレン等が挙げられる。第1工程における炭化水素溶媒の使用量は、例えば、アルカリ金属水酸化物1重量部に対し、0.1~1000重量部、好ましくは、1~50重量部を挙げることができる。第1工程は、さらにエーテル溶媒の存在下で行ってもよい。エーテル溶媒としては、例えば、ジエチルエーテルなどの炭素数2~20のジアルキルエーテル、例えば、テトラヒドロフラン、1,3-ジオキサン、1,4-ジオキサンなどの構成原子数が5~12の環状エーテル、例えば、ジエチレングルコールジメチルエーテル、ジエチレングルコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどの炭素数4~12のポリアルキレングリコールジアルキルエーテル等を挙げることができる。好ましくは環状エーテルであり、より好ましくは、テトラヒドロフランである。エーテル溶媒を使用する場合、エーテル溶媒の使用量は、炭化水素溶媒1重量部に対し、例えば1重量部以下、好ましくは0.25重量部以下を挙げることができる。アルカリ金属水酸化物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ、好ましくは、水酸化リチウムである。アルカリ金属水酸化物は、水溶液でもよく、水和物であってもよい。炭化水素溶媒が含有する水分、アルカリ金属水酸化物が含有する水分水和物の水分も含む及び第1工程の脱水処理に用いられる反応槽などに付着した水分は、第1工程によって脱水処理される。第1工程終了後の混合物以下、混合物[1]と記すことがあるに含まれる水量は、0.8重量以下であることが好ましく、0.5重量以下であることがより好ましい。第1工程を具体的に説明すると、例えば、アルカリ金属水酸化物及び炭化水素溶媒を含む混合液が存在する反応槽から水を含む炭化水素溶媒を、常圧下または減圧下で、20°C~100°Cの温度範囲内、好ましくは40°C~80°Cの温度範囲内で留去し、別途、含水量0.8重量以下、好ましくは0.5重量以下に調整された炭化水素溶媒を混合させる方法以下、A法と記すことがある、例えば、該反応槽から前記と同様にして留去された炭化水素溶媒を分液して、水分が低減された炭化水素溶媒を該反応槽に還流させる方法以下、B法と記すことがある等を挙げることができる。第1工程をB法で行う場合、上記温度範囲内で還流させるためには、減圧下で行うことが好ましい。第1工程で得られ、第2工程に供せられる、アルカリ金属水酸化物及び炭化水素溶媒含有溶液に含まれる炭化水素溶媒の含有量は、例えば、アルカリ金属水酸化物1重量部に対し、0.1~1000重量部、好ましくは1~50重量部を挙げることができる。第1工程における反応時間としては、含水量が0.8重量以下に調整されるまでであれば、特に制限されない。塩4及び誘導体1の収率の観点から、第1工程の反応溶液には、化合物2を含まない。第1工程の反応溶液に化合物2を含まない、とは、後述する第2工程に用いられる化合物2100重量部に対して、第1工程の反応溶液に含まれる化合物2の含有量が、5重量部以下、好ましくは1重量部以下、より好ましくは0.1重量部以下であることを意味する。第2工程は、第1工程で脱水処理された混合物、及び、式2式中、Arは置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わす。該炭化水素基に含まれる-CH2-はヘテロ原子またはカルボニル基に置き換わっていてもよい。で表される化合物、すなわち、化合物2を反応させる工程である。化合物2におけるArは、式5で表わされるフェニル基などの置換基を有していてもよいフェニル基を表わす。式5におけるR4~R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいフェノキシ基を表すか、あるいは、R4~R8のうち隣接する2つが末端で結合して-CH=CH-CH=CH-で示される基、ハロゲン原子を有していてもよいメチレンジオキシ基、または、アルキル基を有していてもよいアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれるメチレン基-CH2-は酸素原子-O-に置き換えられていてもよい。ここで、R4~R8で表わされるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられる。アルキル基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状の炭素数1~5以下、C1~C5と記すことがあるのアルキル基等が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、t-ブチル基等があげられる。ハロアルキル基とは、前記アルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子に置き換えられた基を意味し、例えば、該基中に1~11個のハロゲン原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキル基等が挙げられ、具体的には、例えば、トリフルオロメチル基、テトラフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基等があげられる。アルコキシ基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5のアルコキシ基等が挙げられ、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基等があげられる。アルコキシアルコキシ基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C3アルコキシC1~C3アルコキシ基等が挙げられ、具体的には、例えば、メトキシメトキシ基等があげられる。ハロアルコキシ基としては、同一もしくは相異なる1~11個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルコキシ基等が挙げられ、具体的には、例えば、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、テトラフルオロエトキシ基等があげられる。アルキルチオ基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキルチオ基等が挙げられ、具体的には、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等があげられる。ハロアルキルチオ基としては、同一もしくは相異なる1~11個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキルチオ基等が挙げられ、具体的には、例えば、トリフルオロメチルチオ基等があげられる。置換基を有していてもよいフェニル基とは、同一もしくは相異なる置換基を1~5個有していてもよいフェニル基を意味し、置換基を有していてもよいフェノキシ基とは、同一もしくは相異なる置換基を1~5個有していてもよいフェノキシ基を意味し、かかる置換基としては、例えば、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等、C1~C5アルキル基例えば、メチル基、エチル基等、C1~C5アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基等、C1~C5アルキルチオ基例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等、C1~C5ハロアルキル基好ましくはC1~C2ハロアルキル基例えばトリフルオロメチル基等、C1~C5ハロアルコキシ基好ましくはC1~C2ハロアルコキシ基例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等、C1~C5ハロアルキルチオ基好ましくはC1~C2ハロアルキルチオ基例えばトリフルオロメチルチオ基等、シアノ基等があげられる。ハロゲン原子を有していてもよいメチレンジオキシ基としては、例えばメチレンジオキシ基、ジフルオロメチレンジオキシ基等を挙げることができる。アルキル基例えばメチル基等のC1~C4アルキル基等を有していてもよいアルキレン基例えばC2~C6アルキレン基等としては、例えばトリメチレン基、テトラメチレン基等が挙げられる。アルキレン基に含まれるメチレン基が酸素原子に置き換えられたアルキレン基としては、例えば、-OCH2CH2Clで示される基、-OCH2CHCH3Clで示される基等があげられる。Arとしては、好ましくは、フェニル基、o-トリル基、2,6-ジメチルフェニル基、2-クロロフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基等があげられる。R1で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C10アルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリ-ブチル基、2-メチルブチル基、2-エチルプロピル基、t-ブチル基等、直鎖状もしくは分枝鎖状のC2~C10アルケニル基例えば、1-メチル-2-プロぺニル基等、直鎖状もしくは分枝鎖状のC2~C10アルキニル基例えば、1-メチル-2-プロピニル基等、同一もしくは相異なる1~21個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C10アルキル基、同一もしくは相異なる1~19個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のC2~C10アルケニル基、同一もしくは相異なる1~17個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のC2~C10アルキニル基、直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルコキシを有するC1~C5アルキル基例えば、メトキシメチル基、1-メトキシエチル基等、直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキルチオ基を有するC1~C5アルキル基例えば、メチルチオメチル基、1-メチルチオエチル基等、同一もしくは相異なる1~11個のハロゲン原子を有したC1~C5アルコキシ基を有する、同一もしくは相異なる1~10個のハロゲン原子を有した直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキル基、同一もしくは相異なる1~11個のハロゲン原子を有したC1~C5アルキルチオ基を有する、同一もしくは相異なる1~10個のハロゲン原子を有した直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキル基、シアノ基を有した直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキル基例えば、1-シアノエチル基等、C1~C5アルコキシカルボニル基を有した直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキル基例えば、1-メトキシカルボニルエチル基等、ハロゲン原子を有していてもよく、不飽和結合を含んでもよい、C3~C8シクロアルキル基例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等、C2~C6アルキルカルボニル基例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、、ペンタノイル基等、C3~C6アルケニルカルボニル基例えば、3-ブテノイル基等、C2~C6アルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基等、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基等、C4~C6アルケニルオキシカルボニル基例えば、アリルオキシカルボニル基等、C2~C6アルキルチオカルボニル基例えば、メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、プロピルチオカルボニル基等、C4~C6アルケニルチオカルボニル基例えば、アリルチオカルボニル基等、同一もしくは相異なる置換基を1~5個有していてもよいフェニル基{該置換基としては、例えば、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、C1~C5アルキル基例えば、メチル基、エチル基等、C1~C5アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基等、C1~C5アルキルチオ基例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等、C1~C5ハロアルキル基好ましくはC1~C2ハロアルキル基例えばトリフルオロメチル基等、C1~C5ハロアルコキシ基好ましくはC1~C2ハロアルコキシ基例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等、C1~C5ハロアルキルチオ基好ましくはC1~C2ハロアルキルチオ基例えばトリフルオロメチルチオ基等、シアノ基等があげられる。}、同一もしくは相異なる置換基を1~5個有していてもよいC7~C17アラルキル基例えば、ベンジル基、α-メチルベンジル基、α,α-ジメチルベンジル基等{該置換基としては、例えば、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、C1~C5アルキル基例えば、メチル基、エチル基等、C1~C5アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基等、C1~C5アルキルチオ基例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等、C1~C5ハロアルキル基好ましくはC1~C2ハロアルキル基例えばトリフルオロメチル基等、C1~C5ハロアルコキシ基好ましくはC1~C2ハロアルコキシ基例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等、C1~C5ハロアルキルチオ基好ましくはC1~C2ハロアルキルチオ基例えばトリフルオロメチルチオ基等、シアノ基等があげられる。}があげられる。化合物2としては、表1記載の化合物を挙げることができる。化合物2は炭化水素溶媒及び/又はエーテル溶媒、好ましくは炭化水素溶媒及びエーテル溶媒の混合溶媒に溶解して混合物[1]と反応させることが好ましい。ここで、炭化水素溶媒及びエーテル溶媒はそれぞれ前記と同様のものが例示される。第2工程は、炭化水素溶媒とエーテル溶媒との混合溶媒の存在下で行うことが好ましく、炭化水素溶媒とテトラヒドロフランとの混合溶媒の存在下で行うことがより好ましい。第2工程が炭化水素溶媒及びエーテル溶媒の混合溶媒の存在下で行われる場合、炭化水素溶媒及びエーテル溶媒の重量比としては、エーテル溶媒1重量部に対し、例えば、炭化水素溶媒1~5重量部の範囲を挙げることができる。第2工程における炭化水素溶媒の使用量は、化合物21重量部に対し、例えば、0.1~1000重量部の範囲、好ましくは、1~10重量部の範囲を挙げることができる。化合物2及びアルカリ金属水酸化物が反応することにより水分が生じることから、第2工程は、脱水しながら反応させることが好ましい。具体的には、減圧下、20~100°C、好ましくは40~80°Cの温度範囲で化合物2及び混合物[1]を混合させる方法等を挙げることができる。塩4及び誘導体1の収率の観点から、第2工程の反応液は、脱水することにより、0.8重量以下、好ましくは、0.5重量以下に調整されていることが好ましい。また、第2工程において、混合物[1]と化合物2とを徐々に混合することにより、第2工程の反応液の含水量を0.8重量以下、好ましくは、0.5重量以下に容易に調整することができる。第2工程における反応時間としては、混合物[1]の含水量を0.8重量以下、好ましくは、0.5重量以下に調整する限り、特に制限されない。第2工程を具体的に説明すると、例えば、<2-I>炭化水素溶媒を還流脱水させながら、混合物[1]に化合物2を混合させる方法、例えば、<2-II>炭化水素溶媒を還流脱水させながら、混合物[1]および化合物2を並行して混合する方法、例えば、<2-III>炭化水素溶媒を還流脱水させながら、化合物2を含む溶液に混合物[1]を混合させる方法等を挙げることができる。好ましくは<2-I>の方法である。本発明の第1工程及び第2工程を行うと、式4式中、A、Ar及びR1はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。で表される塩以下、塩4と記すことがあるを含む溶液を得ることができる。このことは、該溶液に水を混合させることにより、再び、化合物2、すなわち、カルボニル基のα位に水素原子が結合した化合物として回収されることからわかる。また、該溶液に後述する第3工程を施すことにより、誘導体1、すなわち、カルボニル基のα位にR2が結合した化合物が製造できることからもわかる。一方、本発明によれば、化合物2のR1がカルボニル基のα位の窒素原子に転位した塩、すなわち、式4’式中、A、Ar及びR1は前記と同じ意味を表わす。で表される塩の生成が抑制される。また、塩4を含む溶液には、式4で表される構造を有する塩のみにとどまらず、式4式中、A、Ar及びR1は前記と同じ意味を表わす。で表される構造を有する塩、すなわち、塩4の互変異性体も存在すると考えられるが、前述したように、第1工程及び第2工程を行って得られた溶液に水を混合させた場合、化合物2を収率よく得られ、該溶液に後述する第3工程を行う場合、誘導体1を収率よく製造することができる。塩4を含む溶液に、式3R2-O-SO2R33式中、R2は置換基を有していてもよい炭化水素基を表わし、R3は置換基を有していてもよいフェニル基又は炭素数1~10のアルキル基を表わす。で表される化合物以下、化合物3と記すことがあるを反応させる工程以下、第3工程と記すことがあるを行うことにより、式1式中、Ar、R1及びR2は前記と同じ意味を表わす。で表わされるピラゾリノン誘導体を得ることができる。化合物3におけるR2で表わされる置換基を有していてもよい炭化水素基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C10アルキル基例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリ-ブチル基、2-メチルブチル基、2-エチルプロピル基等、直鎖状もしくは分枝鎖状のC2~C10アルケニル基例えば、1-メチル-2-プロぺニル基等、直鎖状もしくは分枝鎖状のC2~C10アルキニル基例えば、1-メチル-2-プロピニル基等、同一もしくは相異なる1~21個のハロゲン原子を有した直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C10アルキル基、同一もしくは相異なる1~19個のハロゲン原子を有した直鎖状もしくは分枝鎖状のC2~C10アルケニル基、同一もしくは相異なる1~17個のハロゲン原子を有した直鎖状もしくは分枝鎖状のC2~C10アルキニル基、直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルコキシを有するC1~C5アルキル基例えば、1-メチル-2-メトキシエチル基等、直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキルチオ基を有するC1~C5アルキル基例えば、1-メチル-2-メチルチオエチル基等、同一もしくは相異なる1~11個のハロゲンを有したC1~C5アルコキシ基を有する、同一もしくは相異なる1~10個のハロゲンで置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキル基、同一もしくは相異なる1~11個のハロゲンで置換されたC1~C5アルキルチオ基を有する、同一もしくは相異なる1~10個のハロゲン原子を有した直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキル基、シアノ基で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキル基例えば、1-メチル-2-シアノエチル基等、C1~C5アルコキシカルボニル基を有した直鎖状もしくは分枝鎖状のC1~C5アルキル基例えば、2-メトキシカルボニルエチル基等、ハロゲン原子を有していてもよく、不飽和結合を含んでもよい、C3~C8シクロアルキル基例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等、同一もしくは相異なる置換基で1~5個置換されていてもよいC7~C17アラルキル基例えば、ベンジル基、α-メチルベンジル基等{該置換基としては、例えば、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、C1~C5アルキル基例えば、メチル基、エチル基等、C1~C5アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基等、C1~C5アルキルチオ基例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等、C1~C5ハロアルキル基好ましくはC1~C2ハロアルキル基例えばトリフルオロメチル基等、C1~C5ハロアルコキシ基好ましくはC1~C2ハロアルコキシ基例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等、C1~C5ハロアルキルチオ基好ましくはC1~C2ハロアルキルチオ基例えばトリフルオロメチルチオ基等、シアノ基等があげられる。}があげられる。R3で示される、C1~C10アルキル基としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、t-ブチル基等があげられ、置換基を有していてもよいフェニル基としては、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2-メトキシフェニル基、3-メトキシフェニル基、4-メトキシフェニル基、2-フルオロフェニル基、3-フルオロフェニル基、4-フルオロフェニル基、2-クロロフェニル基、3-クロロフェニル基、4-クロロフェニル基、2-ブロモフェニル基、3-ブロモフェニル基、4-ブロモフェニル基等があげられる。化合物3としては、表2記載の化合物を挙げることができる。塩4と化合物3との混合量としては、塩4の調製に用いられた化合物21モルに対し、化合物3を、例えば、0.9~1.5モルの範囲等が挙げられる。第3工程における反応温度としては、例えば、40°C~120°Cの範囲等を挙げることができ、60°C~100°Cの範囲が好ましい。第3工程を具体的に説明すると、例えば、<3-I>塩4を含む溶液に、化合物3を含む溶液を混合する方法、例えば、<3-II>炭化水素溶媒及び/又はエーテル溶媒に、塩4を含む溶液および化合物3を含む溶液を並行して混合する方法、例えば、<3-III>化合物3を含む溶液に、塩4を含む溶液を混合する方法等を挙げることができる。好ましくは<3-II>の方法である。第3工程における反応の進行は、化合物3の消費量をガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の手段により確認し、化合物3が消費されなくなるまで反応することが好ましい。具体的な反応時間は、例えば、5分間~72時間の範囲等を挙げることができる。第3工程においては、反応によって水分は発生しないが、第3工程の反応系内に水分を添加しないことが好ましい。具体的には、第3工程の反応液に含まれる水量を0.8重量以下、好ましくは、0.5重量以下であり、より好ましくは0.3重量以下である。誘導体1としては、例えば、表3記載の化合物を挙げることができる。本発明によれば、優れた収率で誘導体1を得ることができる。また、前記式4’で表される塩の生成が抑制されていることから、第3工程で得られる反応生成物には、誘導体1におけるR1とR2とが入れ替わった不純物の生成が抑制される傾向があることから好ましい。さらに、炭化水素溶媒からエーテル溶媒への置換を行うことなく誘導体1を収率よく得ることができる。第3工程によって得られた誘導体1と炭化水素溶媒とを含む溶液は、例えば、炭化水素溶媒を減圧濃縮などの方法によって誘導体1を得ることができる。得られた誘導体1は、再結晶、クロマトグラフィーなどによって、さらに、精製してもよい。以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明する。実施例、参考例中の及び部は、特記ない限り、重量及び重量部である。反応液の含水量はカールフィシャー法で求めた。実施例1第1工程は、図1の装置10を用いておこなった。まず、図1を説明する。反応槽1には、加熱し得るようにジャケットが具備されている。反応槽1には、配管2を介して凝縮器3が接続され、凝縮器3には配管4を介して分離器9が接続されている。分離器9の上層6と反応槽1とは配管5を介して接続されている。[第1工程]反応槽1に、キシレン159重量部、水酸化リチウム一水和物12.1重量部を仕込み、ゲージ圧が約10kPaとなるまで減圧した。次に、反応槽1内のキシレン溶液が約67°Cになるまで昇温したところ、水とキシレンとの共沸蒸気が配管2を経由して凝縮器3で冷却され、分離器9に移送された。分離器9内で分液されたキシレンは配管5を介して反応槽1に還流された。分離器9の下層7からは4.7重量部の水が回収された。反応槽1内の混合物[1]の含水量は0.19重量であった。[第2工程]次に、5アミノ-3-オキソ-4-O-トリル-2,3-ジヒドロピラゾール-1-チオカルボン酸S-アリルエステル表1における化合物番号2-1で表される化合物80重量部、キシレン240重量部、テトラヒドロフラン80重量部を含む溶液を、反応槽1内の混合物[1]に、11時間かけて配管8から滴下した。滴下中、水とキシレンとの共沸蒸気が配管2を経由して凝縮器3で冷却され、分離器9に移送された。分離器9の下層7からは4.7重量部の水が回収された。反応槽1内から1時間ごとにサンプリングして含水量を求めたところ、0.19~0.22重量であった。滴下終了後の溶液[2]をサンプリングし、当該サンプルに水を加えて液体クロマトグラフィで測定したところ、化合物2に相当する5アミノ-3-オキソ-4-O-トリル-2,3-ジヒドロピラゾール-1-チオカルボン酸S-アリルエステルを100クロマトグラフの面積とし、5アミノ-3-オキソ-4-O-トリル-2,3-ジヒドロピラゾール-2-チオカルボン酸S-アリルエステル式1におけるArが2-メチルフェニル基、R1が水素原子、R2がCH2=CH-CH2-S-C=O-である化合物、すなわち、式4’で表される化合物の窒素アニオンがNHとなった化合物は1.72クロマトグラフの面積であった。リチウムカチオンは、化合物2のカルボニル基のα位の窒素原子に結合した水素原子に選択的に置換されていることがわかる。[第3工程]前記反応槽1及び1’とは異なるが同形の反応槽1に、テトラヒドロフラン241重量部を仕込み85°Cまで昇温させ、還流させた。次に、反応槽1に第2工程で得られた溶液[2]273重量部5アミノ-3-オキソ-4-O-トリル-2,3-ジヒドロピラゾール-1-チオカルボン酸S-アリルエステルとして84重量部とメタンスルホン酸イソプロピルエステル51.9重量部を含むキシレン溶液とを1.5時間かけて滴下し、さらに、同温度にて20時間還流させた。得られた反応溶液を液体クロマトグラフィ内部標準法で定量したところ、5アミノ-2-イソプロピル-3-オキソ-4-O-トリル-2,3-ジヒドロピラゾール-1-チオカルボン酸S-アリルエステル式1におけるArが2-メチルフェニル基、R1がイソプロピル基、R2がCH2=CH-CH2-S-C=O-。表3における化合物番号1-1で表される化合物の収率は82.3であった。参考例1還流冷却器を具備する反応槽に、キシレン500重量部及び5アミノ-3-オキソ-4-O-トリル-2,3-ジヒドロピラゾール-1-チオカルボン酸S-アリルエステル105重量部を入れ、得られた混合物を約78°Cまで昇温した。該混合物が沸騰するまで減圧した後、キシレンを留去しながら、水酸化リチウム一水和物15.2重量部を加えた。得られた反応液は、さらに同温度にて4時間かけてキシレンの留去キシレンの留去量としては360重量部を行った。得られた反応液に水を加えて液体クロマトグラフィで測定したところ、化合物2に相当する5-アミノ-3-オキソ-4-O-トリル-2,3-ジヒドロピラゾール-1-チオカルボン酸S-アリルエステルを100クロマトグラフの面積とし、5-アミノ-3-オキソ-4-O-トリル-2,3-ジヒドロピラゾール-2-チオカルボン酸S-アリルエステル式1におけるArが2-メチルフェニル基、R1が水素原子、R2がCH2=CH-CH2-S-C=O-である化合物、式4’で表される化合物の窒素アニオンがNHとなった化合物に相当は16.7クロマトグラフィの面積であった。キシレンを留去した場合、化合物2におけるカルボニル基のβ位に結合したCH2=CH-CH2-S-C=O-が、カルボニル基のα位に多く転位したことがわかる。"