"試料を載せる試料台と、光を出射する出射光学系と、この出射光学系から出射された光の光軸上に配置され光を前記試料台上の試料に向けて反射する反射手段と、この反射手段を動作させて当該反射手段から試料に向かう光を試料表面に沿う方向に平行移動させる走査装置と、試料からの光を検出する検出光学系とを備えたことを特徴とする検査装置。請求項1の検査装置において、前記反射手段は、前記出射光学系から出射された光を前記試料台上の試料表面に沿う方向に反射する第1反射鏡と、この第1反射鏡で反射した光を前記試料台上の試料に向けて反射する第2反射鏡とを有していることを特徴とする検査装置。請求項2の検査装置において、前記走査装置は、前記第1反射鏡で反射した光の光軸に沿って前記第2反射鏡を移動させることを特徴とする検査装置。請求項3の検査装置において、前記第2反射鏡とともに移動する対物レンズを備えていることを特徴とする検査装置。請求項1の検査装置において、前記出射光学系、前記反射手段、前記走査装置及び前記検出光学系を複数組備えていることを特徴とする検査装置。請求項1-5のいずれかの検査装置において、前記第2反射鏡の移動方向と直交する方向に試料台を移動させる試料台移動装置を備えていることを特徴とする検査装置。請求項1-5のいずれかの検査装置において、前記検査部の受光部は、二次元撮像素子であることを特徴とする検査装置。請求項1-5のいずれかの検査装置において、前記検出光学系は明視野像を検出することを特徴とする検査装置。請求項1-5のいずれかの検査装置において、前記検出光学系は暗視野像を検出することを特徴とする検査装置。請求項2-4のいずれかの検査装置において、前記第2反射鏡の移動方向と直交する方向に前記第1反射鏡及び第2反射鏡を移動させる反射鏡移動装置を備えていることを特徴とする検査装置。請求項2の検査装置において、前記走査装置は、前記出射光学系から出射された光の光軸に沿って前記第1反射鏡を移動させ、前記第2反射鏡は、前記第1反射鏡で反射する光の移動幅をカバーする大きさを有していることを特徴とする検査装置。ここで、ステージを水平二軸方向に移動させる場合、スキャン方向へのステージの加速、減速、停止を短い時間間隔で繰り返し実行することになる。相応の重量を有する構造物であるステージを短時間に繰り返し加減速し高精度に位置決めするのには大きなエネルギーを要し、またこのように動作できる装置は非常に高価で検査装置の製造コストを押し上げる。さらに、スキャン動作に伴って繰り返されるステージの移動停止による振動が大きいため、検査装置のボディ剛性が低いとステージ上方の出射光学系を揺らしてしまい、良好な二次元画像が得られ難くなる恐れもある。そこで本発明は、スキャン動作に伴う振動を抑制して良好な二次元画像を取得することができる低廉な検査装置を提供することを目的とする。上記目的を達成するために、本発明は、試料に入射する検査光の光軸を試料表面に沿う方向に平行移動させる機構を備えることによって試料を走査する。本発明によれば、スキャン動作に伴う振動を抑制して良好な二次元画像を取得することができ、製作コストも低減することができる。以下に図面を用いて本発明の実施の形態を説明する。第1の実施の形態1.構成図1は本発明の第1の実施の形態に係る検査装置の概略構成を表す概念図である。本実施の形態において、紙面左側から右側にX軸、紙面直交方向手前側から奥側にY軸、紙面下側から上側にZ軸をとる。本実施の形態の検査装置は、ウエハ等の試料1を載せる試料台101、この試料台101上の試料1の光学像本例では明視野像を検出する光学系100、試料台101を制御するステージ制御装置70、光学系100で検出した信号を処理する画像処理装置50、光学系100の焦点位置を制御する自動焦点制御装置40、及び装置全体を制御する演算処理装置60を備えている。また、光学系100は、検査光を出射する出射光学系17、この出射光学系17から出射された検査光の光軸上に配置され検査光を試料台101上の試料1に向けて反射する反射手段102、この反射手段102を動作させて反射手段102から試料に向かう検査光を試料1の表面に沿う方向本例では水平方向に平行移動させる走査装置80、試料1からの光反射光を検出する検出光学系23、検査光の焦点合わせ用の光を検出する焦点光学系32、並びに試料1からの光を検出光学系23及び焦点光学系32に分岐させる分光ミラー20を備えている。試料台101は、搭載した試料1を真空吸着により固定するチャック2、このチャック2を搭載し鉛直軸周りθ方向に回転するθステージ3、及びθステージ3を搭載しY軸方向に移動させる試料台移動装置であるYステージ6を備えている。Yステージ6は、検査装置本体図示せずの架台部分に固定されている。出射光学系17は、光ファイバー等を介して光を出射するハロゲンランプ等の光源10、光源10から出た検査光を集光する集光レンズ11、集光レンズ11で集光された検査光を絞るスリット状の開口絞り12及び視野絞り13、並びに開口絞り12及び視野絞り13を通った検査光を通すリレーレンズ14を備えている。これら出射光学系17の構成要素は、検査装置本体図示せずのカラム部分に固定されている。また、出射光学系17から出射される検査光の光軸は、試料台101上の試料1から外れている。反射手段102は、出射光学系17から出射された検査光を試料台101上の試料1の表面に沿う方向に反射する第1反射鏡18、及び第1反射鏡18で反射した検査光を試料台101上の試料1に向けて反射する第2反射鏡19を有している。第1反射鏡18は、検査装置本体図示せずに固定されていて、出射光学系17から出射される検査光の光軸上に位置している。第2反射鏡19は、試料台101の上方に位置するように走査装置80に固定されていて、第1反射鏡18で反射された検査光の光軸上に位置している。また、第2反射鏡19には対物レンズ駆動部90を介して対物レンズ16が取り付けられている。対物レンズ16は、第2反射鏡19とともにX軸方向に移動するとともに、対物レンズ駆動部90によって試料1に向かう検査光の進行方向この場合Z軸方向に平行移動する。本実施の形態の場合、リレーレンズ14を通過して-Z方向に進行する検査光は、ビームスプリッタ15を透過して第1反射鏡18でほぼ直角に反射して-X方向に向きを変え、再度第2反射鏡19でほぼ直角に反射して対物レンズ16を通って試料1に照射される。本実施の形態の場合、検査光は試料1の表面にほぼ垂直に入射する。走査装置80は、Yステージ6とともに架台上に固定されていて、対物レンズ16とともに第2反射鏡19をX軸方向に移動させるものである。第2反射鏡19は、第1反射鏡18で反射した検査光の光軸に沿って姿勢を変えずに移動し、その結果、第2反射鏡19で反射して試料1に入射する検査光の光軸がX軸方向に平行移動する。検出光学系23は、試料1の表面の2次元画像を取得するものであり、試料1からの反射光の受光部である撮像素子24、及び試料1からの反射光を撮像素子24に結像させる結像レンズ21を有している。撮像素子24は、二次元撮像素子エリアイメージセンサであり、例えばCCDセンサやCMOSセンサ等を用いることができる。本実施の形態の場合、検査光を受けて試料1の表面で反射した反射光は、対物レンズ16を透過して反射手段102によりビームスプリッタ15に導かれ、ビームスプリッタ15で反射してX方向に向きを変えて分光ミラー20に導かれる。結像レンズ21には、この分光ミラー20を透過した光が入射し、撮像素子24上に結像する。上記構成により、出射光学系17から検査光を出射しつつ、演算処理装置60によりコントロールされたステージ制御部70を通じて走査装置80を駆動して第2反射鏡19を一定速度で移動させてスキャンすることにより、試料1の表面の拡大された2次元画像が撮像素子24によって撮像される。撮像素子24で取得された画像データは画像処理部50に入力され、例えば隣同士のチップの画像の比較処理によって試料1の表面の欠陥パターンの欠陥や異物等が抽出される。また、焦点検出光学系32は、走査装置80を駆動してスキャンしている間に検査光を試料1の表面に合焦させるものであり、試料1からの光を受光する合焦センサ31及び試料1からの光を結像させる結像レンズ30を有している。本実施の形態の場合、試料1で反射して分光ミラー20によりZ方向に反射された反射光が、結像レンズ30を介して合焦センサ31上に結像する。このとき、特に図示していないが、出射光学系17の光路には縞パターン付きのレチクルが配置されていて、試料1上に縞パターン像が形成される。上記自動焦点制御部40は、合焦センサ31上に結像される縞パターンのコントラストが最大になるように対物レンズ駆動部90を駆動して対物レンズ16を移動させ、スキャン動作中リアルタイムに検査光の焦点を試料1に合わせ続ける。図2は出射光学系17及び検出光学系23の光路の一概念図である。但し、本図では図の簡単のため反射手段102を図示省略してある。図2に示した光学系は、例えば、金属顕微鏡等で用いられるケーラー照明と無限遠補正光学系からなっている。無限遠補正光学系では、試料1に照射される検査光のリレーレンズ14から対物レンズ16までの間の光路、及び撮像素子24で受光される反射光の対物レンズ16から結像レンズ21までの間の光路においては、光が平行光である。そのため、これらの光路については距離を変更しても光学的な特性が変化せず設計の自由度が高い。すなわち、リレーレンズ14とビームスプリッタ15との距離、ビームスプリッタ15と対物レンズ16との距離、及びビームスプリッタ15と結像レンズ21との距離は自由に変えられる。例えば、図3の構成のように、図2の構成に対して撮像素子24とともに結像レンズ21を対物レンズ16から遠ざけても光学的な特性は維持できる。但し、リレーレンズ14及び結像レンズ21の位置については、対物レンズ16からの距離が長くなればそれだけリレーレンズ14と結像レンズ21を大きくする必要があるため、現実的には設計上の限界がある点には留意する。また、図3に併せて示したように、集光レンズ11、開口絞り12及び視野絞り13とともにリレーレンズ14を対物レンズ16から離しても、光学特性は変化しない。理想的には、リレーレンズ14から対物レンズ16までの光路が長くした場合には、視野絞り13の開口部を大きくすることが好ましい。すなわち、リレーレンズ14から対物レンズ16までの光路を長くとることができ、本実施の形態のように、ビームスプリッタ15から対物レンズ16までの光路を長くとることも勿論可能である。そのため、ビームスプリッタ15と対物レンズ16との間に反射手段102を介在させて光路を折り曲げたり、第2反射鏡19を移動させて光路長を変化させたりしても、光学的な特性を維持することができる。2.動作出射光学系17において、光源10からの検査光は集光レンズ11で集光され開口絞り12、視野絞り13及びリレーレンズ14を経て-Z方向に出射される。出射光学系17から出射された検査光は、ビームスプリッタ15を透過して第1反射鏡18で反射して-X方向に進行方向を変え、さらに第2反射鏡19で反射して-Z方向に進行方向を変えて対物レンズ16を通過して試料1に入射する。この間、演算処理装置60からの指令を基にステージ制御装置70によって走査装置80及び試料台101が駆動され、試料1の表面がスキャニングされる。そして、試料1で反射した反射光は、対物レンズ16、第2反射鏡19、第1反射鏡18を経てビームスプリッタ15に導かれ、ビームスプリッタ15で反射してX方向に進行方向を変えて分光ミラー20に入射する。この反射光のうち、分光ミラー20を透過した光が結像レンズ21を透過して撮像素子24上に結像し、撮像素子24から画像処理装置50に画像信号が入力される。画像処理装置50では、得られた試料1の表面の明視野像と比較画像との比較処理各画素の輝度差の判定等によって欠陥が抽出される。また、分光ミラー20で反射した反射光は結像レンズ30を透過して合焦センサ31上に結像し、自動焦点制御装置40によって対物レンズ駆動部90が駆動されて、スキャン中の検査光の焦点位置が自動制御される。3.効果1スキャン動作に伴う振動の抑制本実施の形態では、スキャン動作時の試料1に対する検査光の主たる相対移動X軸方向移動を走査装置80による第2反射鏡19の移動により実現している。走査装置80によるスキャン動作中、試料台101は停止した状態である。第2反射鏡19の重量は、これと一体に移動する対物レンズ16や対物レンズ駆動装置90と合わせても例えば1kg程度ステージ例えば十数kgより軽量であり、試料1に対して試料台101をX軸方向に移動させる場合に比べてX方向スキャンに伴って発生する振動が小さく、出射光学系17の揺れを抑制することができる。したがって、試料1の良好な二次元画像を取得することができる。また、主として試料台101を駆動して試料1をスキャンする場合に対してスキャン速度で不利になることもない。2製作コストの低減スキャン動作は主として走査装置80による第2反射鏡19の移動により実行され、その間試料台101は停止している。したがって、試料1のスキャンのために重量物であるステージの加減速及び停止を短周期で繰り返し実行する必要がなく、低廉な試料台101を使用することができ、ひいてはスキャン装置全体の製作コストを大幅に低減することができる。したがって、検査装置の製作コストを低減することができる。3設置面積の縮小仮に走査装置80を省略して従来と同様に試料台101をX軸方向に動かしてスキャン動作を実行する場合、試料台101のX軸方向の動作を許容するためにX軸方向に試料台101のX軸方向の幅分のスペースを要する。それに対して本実施の形態では、試料台101は主たるスキャン方向X軸方向に移動しない。したがって、試料台101の設置スペースのX軸方向の幅を半分程度に短縮することができる。したがって、検査装置の設置面積を縮小することができる。将来、半導体ウエハはさらに大型化することが考えられるため、こうした検査装置の設置面積の縮小は半導体製造ラインにとって非常に大きなメリットである。4撮像素子の低廉化、撮像感度の向上本実施の形態では撮像素子24にエリアイメージセンサ二次元撮像素子を例示したが、この場合にはリニアイメージセンサTDI等の一次元撮像素子を用いた場合に比べて同一スキャン速度の条件下における撮像感度を大きく向上させることができる。撮像素子24にリニアイメージセンサを用いた場合、例えば画素数が5000pixel、取得される画像の画素サイズが1μm、走査装置80によるスキャン速度が50mm/sであったとすると、リニアイメージセンサの1画素当たりの荷電時間は20μs=1μm/50mm/sと非常に短い。リニアイメージセンサの出力レベルを上げてS/N比を上げるためには、リニアイメージセンサを高感度で高速駆動させなければならず、このような能力を持つリニアイメージセンサは非常に高価である。これに対し、例えば画素数が5000pixel×5000pixelで5mm×5mmの大きさのエリアセンサを撮像素子24に使用した場合、上記と同程度の画像取得時間を想定すると、i第2反射鏡19をX方向に5mm速移動ii第2反射鏡19を停止iii撮像の一連の動作を100ms周期で実行すれば良い。仮に第2反射鏡19を5mm移動し停止させるのに50msかかったとすると、エリアセンサの1画素当たりの荷電時間は50msを確保することができる。また、S/N比についても、同程度のスキャン速度を想定した場合には、1画素当たりの荷電時間が延びた分上記の例では50ms÷20μs=2500倍だけ撮像感度が向上する。なお、上記i-iiiの一連の動作実行の想定時間を100msとしたことの妥当性について説明する。走査装置80に接続される部品は、第2反射鏡19、対物レンズ16及び対物レンズ駆動部90のみであり、これら接続部品は、例えば1kg程度と非常に軽量である。これは試料台のみでスキャン動作を実行していた従来例においてX軸方向に移動させていた部品重量の10分の1程度である。現在、この程度の重量物を駆動するのに十分なリニアモータステージ例えば、最大速度:2m/s、繰り返し位置決め精度:±1μm、位置整定時間:21ms、設定加速度:20m/s2、搭載負荷:8kgが市販されている。この水準のリニアモータステージは一般的なものであり、比較的安価に入手可能である。上記仕様のリニアステージが5mm移動して停止する時間は、次のように計算できる。まず、2.5mmだけ加速移動又は減速移動するのにかかる時間は15.8ms∵移動距離=1/2×加速度×時間の二乗であり、5mmの移動を2.5mm加速移動2.5mm減速移動と考えると、その所要時間は31.6ms=15.8ms15.8msである。そして、これに停止時間位置整定時間21msを足すと52.6msとる。5mm移動停止に要する時間はほぼ50msであることが分かる。また、エリアセンサの画素数が5000pixel×5000pixelで撮像するのに与えられた時間の周期を50msとすると、現在、これに近い仕様有効画素数:4672pixel×3512pixel、全画素読み出し性能:15frames67ms周期の量産型の撮像素子が市販されており、非常に安価に入手できる。したがって、現在安価に入手できる市販のリニアモータステージや撮像素子の仕様から見ても、第2反射鏡19、対物レンズ16及び対物レンズZ駆動部90を5mm移動させ、エリアセンサで撮像するのに想定される時間を100ms程度と見積もることは妥当性を得ていると言える。なお、上記市販品の使用を想定すると、従来の検査装置で大変に高価な部品であったリニアイメージセンサやXステージを安価な走査装置80とエリアセンサで代替することができ、従来の検査装置の処理速度と同程度を想定した場合、走査装置と撮像素子のコストは10-50程度に削減される。従来はリニアイメージセンサやステージ装置で検査装置全体の25程度を占めていたため、これを大幅に低減することは装置コストを大きく抑えることができる。5十分な検査速度の確保図4は本発明の検査装置が検査対象とする試料の一例ウエハを表す模式図である。図4に例示したウエハはφ300mmで、その表面には10mm×10mmのチップパターンが629個形成されているとする。上記同様、例えば画素数が5000pixel×5000pixel、大きさが5mm×5mm、取得される画像の画素サイズは1μmのエリアイメージセンサを撮像素子24に用いるとする。また、走査装置80によって対物レンズ16と対物レンズ駆動部90と第2反射鏡19を5mm移動停止させて撮像素子24で撮像するのに与えられた時間を100ms移動停止:50ms、撮像:50msとする。この条件下では、本例における1チップの大きさが撮像素子24の視野の4倍であるため、撮像素子24が1チップをスキャンする時間は400ms、1ウエハをスキャンする時間は251.6秒400ms×629チップとなる。この検査速度は、A画素数:5000pixel、B取得画像の画素サイズ:1μm、Cスキャン速度:50mm/s、D撮像時間:20μsのリニアイメージセンサを使用した場合の検査速度と同程度であり、現在の検査装置による検査速度の水準に十分に達している。第2の実施の形態図5は本発明の第2の実施の形態に係る検査装置の概略構成を表す概念図である。本実施の形態が第1の実施の形態と相違する点は、光学系100を複数組本実施の形態では2組備えている点である。すなわち、本実施の形態では、出射光学系17、反射手段102、走査装置80、検出光学系23、焦点光学系32等が2組ずつ備えられている。なお、図の簡単のため、自動焦点制御装置40や画像処理装置50、演算処理装置60及びステージ制御装置70については図示省略しており、必要であればこれらも光学系100の数に応じて増設することができる。図5では追加した光学系やその構成要素に添え字aを付してある。個々の要素については光学系100の対応する要素と同様であり、説明を省略する。前述した通り、検出光学系23と対物レンズ16との距離を大きくとると、リレーレンズ14と結像レンズ21を大きくする必要がある。そこで本実施の形態のように、もう一式の光学系100aを搭載し、光学系100,100aで試料1を半分ずつ検査するようにすれば、第2反射鏡19,19aの移動に伴って変化するリレーレンズ14,14aと対物レンズ16,16aの間の最大光路長と、結像レンズ21,21aと対物レンズ16,16aの間の最大光路長を短縮することができ、リレーレンズ14と結像レンズ21のサイズを小さくすることもできる。また、本実施の形態によれば、光学系が増えた分だけ1組の光学系が検査する試料1の分担面積が減るため、検査速度が上がることは言うまでもない。第3の実施の形態図6は本発明の第3の実施の形態に係る検査装置の概略構成を表す概念図である。本実施の形態が第1の実施の形態と相違する点は、暗視野方式の検査装置に発明を適用した点であり、検出光学系23で暗視野像が取得される点である。具体的には、本実施の形態では、出射光学系17に高出力のレーザ110を備え、走査装置80には、第2反射鏡19及び対物レンズ駆動部90とともに移動する第3反射鏡120が取り付けてある。出射光学系17の開口絞り12や視野絞り13等は省略できる。走査装置80に第2反射鏡19を介して対物レンズ16を取り付けていた第1の実施の形態とは異なり、本実施の形態では第3反射鏡120の下部に対物レンズ16及び対物レンズ駆動部90が設けられていて、対物レンズ駆動部90の外壁部に第2反射鏡19が設けられている。また、本実施の形態ではビームスプリッタ15は省略され、第3反射鏡120は検出光学系23の光軸上に配置されている。その他の構成は第1の実施の形態と同様である。本実施の形態では、出射光学系17から-Z方向に出射された検査光レーザ光は、第1反射鏡18で反射して-X方向に進行方向を変え、さらに第2反射鏡19で反射して-XZ方向-Z方向に向かって-X方向に傾斜した方向に進行方向を変えて試料1に斜方から入射する。このとき、走査装置80によって第3反射鏡120、対物レンズ90及び第2反射鏡19が一体となってX軸方向に移動し、検査光が試料1の表面を走査する。対物レンズ16には、試料1の表面で検査光が散乱して発生した散乱光のうちZ方向に進行する光が入射し、第3反射鏡120で反射してX方向に進行方向を変え、そのまま分光ミラーを介して検出光学系23に入射する。撮像素子24からは暗視野像の画像データが入力され、明視野方式と同様に検査が実行される。また、分光ミラー20で分光された散乱光は焦点光学系32に入射し、第1の実施の形態と同様に検査光の焦点一が制御される。本実施の形態においては、第1の実施の形態と同様の効果を暗視野方式の検査装置で教授することができる。第4の実施の形態図7は本発明の第4の実施の形態に係る検査装置の概略構成を表す概念図、図8は図7中の矢印VIII方向から見た矢視側面図、図9は図7中のIX-IX矢視による平面図である。本実施の形態が第1の実施の形態と相違する点は、反射鏡移動装置140でYステージ6を代替し、試料台101の水平方向への移動機能を省略する代わりに、第1反射鏡18及び第2反射鏡19を走査装置80ごとY軸方向へ移動させて検査光を試料1に対してY軸方向に移動させる構成とした点である。本実施の形態の場合、図9に示したように、第1反射鏡18は反射鏡移動装置140の端部から突出した走査装置80のフレームの端部に固定されている。走査装置80は、反射鏡移動装置140に取り付けられており、反射鏡移動装置140によって走査装置80をY軸方向に移動させると、走査装置80とともに、第1反射鏡18、第2反射鏡19、対物レンズ16及び対物レンズ駆動装置90がY軸方向に移動する。このとき、本実施の形態においては、出射光学系17の光軸上に固定反射鏡130が設置されており、第1反射鏡18には固定反射鏡130で反射した検査光が入射するようになっている。その他の構成は第1の実施の形態と同様である。本実施の形態においては、出射光学系17から出射されて-Z方向に進行する検査光は、ビームスプリッタ15を透過して固定反射鏡130に入射し、固定反射鏡130で反射してY方向に進行方向を変える。固定反射鏡130で反射した検査光は、第1反射鏡18で反射して-X方向に進行方向を変え、さらに第2反射鏡19で反射して-Z方向に進行方向を変えて対物レンズ16を通過して試料1に入射する。この間、演算処理装置60からの指令を基にステージ制御装置70によって走査装置80及び反射鏡移動装置140が駆動され、試料1の表面がスキャニングされる。その他の動作は第1の実施の形態と同様である。本実施の形態の場合、試料台101のY軸方向の移動機能を省略することができるので、振動抑制、設置面積の縮小、製作コストの低減等の面でさらなる効果が期待される。第5の実施の形態図10は本発明の第5の実施の形態に係る検査装置の概略構成を表す概念図である。本実施の形態が第1の実施の形態と相違する点は、走査装置80が、第2反射鏡19ではなく、第1反射鏡18を走査装置80で移動させて試料1を走査する点である。具体的には、本実施の形態の場合、走査装置80は、出射光学系17から出射された検査光の光軸本実施の形態ではZ軸方向に沿って第1反射鏡を移動させるように配置されており、第1反射鏡18で反射した検査光の光軸はZ軸方向に平行移動するようになっている。第2反射鏡19は、固定式の反射鏡で構成されており、第1反射鏡18で反射する検査光の移動幅すなわち走査装置80による第1反射鏡18の移動幅をカバーする大きさを有している。すなわち、走査装置80によって第1反射鏡18が移動すれば、第2反射鏡19に対する検査光の入射位置がZ軸方向に移動し、試料1への検査光の入射位置がX軸方向に移動する仕組みである。また、本実施の形態においては、対物レンズ16及び対物レンズ駆動装置90は、第2反射鏡19ではなく対物レンズ移動装置150に取り付けられていて、ステージ制御装置70からの指令によって走査装置80と連動制御され、第2反射鏡19から試料1に向かう検査光に追従してX軸方向に移動する構成である。その他の構成は第1の実施の形態と同様である。本実施の形態のような構成としても第1の実施の形態とほぼ同様の効果を得ることができる。その他以上の各実施の形態では出射光学系17が-Z方向に検査光を出射する場合を例に挙げて説明したが、この構成には必ずしも限られない。例えば、第1-第4の実施の形態において、出射光学系17の光軸を寝かせて検査光をX軸方向第4の実施の形態ではY軸方向に出射するようにして、第1反射鏡18第4の実施の形態では固定反射鏡130を省略して出射光学系17から直接第2反射鏡19第4の実施の形態では第1反射鏡18に検査光を入射させる構成とすることも考えられる。"