原料ガス及び水蒸気を用いた改質反応により水素含有ガスを生成させる改質触媒を有する改質器と、前記改質器への原料ガスの供給量を調整する原料ガス供給器と、前記水蒸気を生成し、前記改質器に供給する蒸発器と、前記蒸発器への水の供給量を調整する水供給器と、前記原料ガス供給器及び前記水供給器を制御して、前記改質器への原料ガスの供給及び前記蒸発器への水の供給を停止した後、前記蒸発器及び前記改質器の少なくともいずれか一方において、残留水が蒸発している期間において、前記原料ガス供給器を制御して、前記改質器に原料ガスを供給するよう構成された制御器と、を備える、水素生成装置。前記改質器から送出されるガスを燃焼させて該改質器を加熱する燃焼器を備え、前記制御器は、前記改質器への原料ガスの供給及び前記蒸発器への水の供給を停止した後、前記改質器から前記燃焼器へ送出されるガスが燃焼不能な状態になった後も、前記原料ガス供給器を制御して、前記改質器への前記原料ガスの供給を実行するよう構成されている、請求項1記載の水素生成装置。前記改質器と大気との連通を遮断する封止器を備え、前記制御器は、前記改質器への原料ガスの供給及び前記蒸発器への水の供給を停止後、前記封止器を制御して、前記改質器を封止処理し、かつ、前記封止処理後の前記改質器の内圧上昇に伴い前記封止器を開放して前記改質器を大気に開放する圧抜き処理と、前記原料ガス供給器を制御して、前記改質器に原料ガスを供給する原料ガス供給処理とを共に実行するよう構成されている、水素生成装置。前記制御器は、前記圧抜き処理と同時に前記原料ガス供給処理を実行するよう構成されている、請求項3記載の水素生成装置。前記制御器は、前記圧抜き処理後に前記原料ガス供給処理を実行するよう構成されている、請求項3記載の水素生成装置。前記制御器は、少なくとも前記改質器の温度が前記原料の炭素析出を生じる温度において、前記原料ガスを供給する際に、前記改質器内で原料ガスの炭素析出が生じないよう前記原料ガスの供給量を制御するよう構成されている、請求項1記載の水素生成装置。原料ガス供給経路に設けられ、前記原料ガス中の臭気成分を除去する脱臭器をさらに備える、請求項3記載の水素生成装置。前記制御器は、少なくとも前記改質器の温度が前記改質触媒の水蒸気酸化が生じる温度において、前記原料ガスを供給するよう構成されている、請求項1記載の水素生成装置。前記制御器は、前記原料ガス供給処理として、前記封止器を閉止した状態で前記原料ガス供給器を動作させて前記改質器に前記原料ガスを圧入するよう構成されている、請求項3記載の水素生成装置。前記制御器は、前記原料ガスの圧入後、前記封止器を開放して、前記改質器の大気への開放を行うよう構成されている、請求項9記載の水素生成装置。前記制御器は、少なくとも前記改質器の温度が前記原料の炭素析出を生じる温度において前記原料ガス供給処理を実行する際に、前記封止器を開放した後において前記改質器内の原料ガスの炭素析出が生じないように前記原料ガスの圧入量を制御するよう構成されている、請求項9記載の水素生成装置。前記制御器は、前記封止器を開放して前記改質器の大気への開放を行った後、前記封止器を閉止し、前記原料ガス供給器を動作させて前記改質器への前記原料ガスの圧入を行うよう構成されている、請求項9記載の水素生成装置。前記制御器は、前記圧抜き処理後に、前記改質器の温度低下に伴う内圧低下に対して前記改質器に原料ガスを供給する補圧処理を実行するよう構成されている、請求項3記載の水素生成装置。前記制御器は、前記圧抜き処理後に、前記改質器内部を前記原料ガスでパージする原料ガスパージ処理を実行するよう構成されている、請求項3記載の水素生成装置。前記制御器は、前記補圧処理後に、前記改質器内部を前記原料ガスでパージする原料ガスパージ処理を実行するよう構成されている、請求項13記載の水素生成装置。請求項1~15のいずれかに記載の水素生成装置と、前記水素生成装置から流出する前記水素含有ガスを用いて発電する燃料電池とを備える、燃料電池システム。改質器において、原料ガス及び蒸発器で生成した水蒸気を用いて改質反応により水素含有ガスを生成するステップaと、原料ガス供給器による改質器への原料ガスの供給と、水供給器による蒸発器への水の供給とを共に停止するステップbと、前記改質器への原料ガスの供給及び前記蒸発器への水の供給を共に停止した後、前記蒸発器及び前記改質器の少なくともいずれか一方において、残留水が蒸発している期間において、前記原料ガス供給器により前記改質器に原料ガスを供給するステップcとを備える、水素生成装置の運転方法。前記改質器において水素含有ガスを生成するときに、燃焼器において、前記改質器から送出されるガスを燃焼させて該改質器を加熱するステップdを備え、ステップcは、前記改質器への原料ガスの供給及び前記蒸発器への水の供給を停止した後、前記改質器から前記燃焼器へ送出されるガスが燃焼不能な状態になった後も、前記原料ガス供給器により前記改質器への前記原料ガスの供給を実行するステップc1を備える、請求項17記載の水素生成装置の運転方法。前記改質器への原料ガスの供給及び前記蒸発器への水の供給を停止後、封止器を閉止して前記改質器を封止するステップeを備え、前記ステップcは、前記ステップe後の前記改質器の内圧上昇に伴い前記封止器を開放して前記改質器を大気に開放する圧抜き処理と、前記原料ガス供給器により前記改質器に原料ガスを供給する原料ガス供給処理とを共に実行するステップc2を備える、請求項17記載の水素生成装置の運転方法。ステップc2では、前記圧抜き処理と同時に前記原料ガス供給処理を実行する、請求項19記載の水素生成装置の運転方法。ステップc2では、前記圧抜き処理後に前記原料ガス供給処理を実行する、請求項18記載の水素生成装置の運転方法。前記改質器に供給される原料ガス中の臭気成分を除去するステップfをさらに備える、請求項19記載の水素生成装置の運転方法。ステップcにおいて、少なくとも前記原料ガスの供給を、前記改質触媒の水蒸気酸化が生じる前記改質器の温度において行う、請求項17記載の水素生成装置の運転方法。上記特許文献1及び特許文献2記載の水素生成装置は、原料及び水の供給を停止後、改質反応部と大気との連通を遮断し、封止している。このとき、装置の余熱で残留水から生成された水蒸気により内圧が上昇するが、これに対して、水素生成装置は、改質反応部を大気開放させて圧抜きを実行している。当該圧抜きの際に、改質反応部の内部に残留するガスが水蒸気によって改質反応部から押し出され、改質反応部の内部が高濃度の水蒸気雰囲気になる可能性がある。ここで、改質反応部に内蔵される改質触媒は、高温状態で水蒸気雰囲気になると酸化劣化する場合がある。なお、上記圧抜きの場合に限らず、原料及び水の供給を停止後、改質反応部が大気開放を維持している場合であっても、残留水の蒸発に伴い改質反応部が水蒸気雰囲気になり、同様の課題が生じる場合がある。例えば、改質部と大気との連通を遮断する封止器を備えない、いわゆる開放系の水素生成装置で同様の課題が生じる。また、封止器を備えるが、原料及び水の供給を停止後、封止器の開放を維持する水素生成装置でも同様の課題が生じる。本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、従来の水素生成装置よりも改質触媒が水蒸気酸化される可能性を低減する水素生成装置及びその運転方法等を提供することを目的とする。上記課題を解決するために、本発明の水素生成装置は、原料ガス及び水蒸気を用いた改質反応により水素含有ガスを生成させる改質触媒を有する改質器と、前記改質器への原料ガスの供給量を調整する原料ガス供給器と、前記水蒸気を生成し、前記改質器に供給する蒸発器と、前記蒸発器への水の供給量を調整する水供給器と、前記原料ガス供給器及び前記水供給器を制御して、前記改質器への原料ガスの供給及び前記蒸発器への水の供給を停止した後、前記蒸発器及び前記改質器の少なくともいずれか一方において、残留水が蒸発している期間において、前記原料ガス供給器を制御して、前記改質器に原料ガスを供給するよう構成された制御器と、を備える。また、本発明の燃料電池システムは、上記水素生成装置と、前記水素生成装置から流出する前記水素含有ガスを用いて発電する燃料電池とを備える。また、本発明の水素生成装置の運転方法は、原料ガス及び水蒸気を用いた改質反応により水素含有ガスを生成させる改質触媒を有する改質器と、前記改質器への原料ガスの供給量を調整する原料ガス供給器と、前記水蒸気を生成し、前記改質器に供給する蒸発器と、前記蒸発器への水の供給量を調整する水供給器と、を備える水素生成装置の運転方法であって、前記原料ガス供給器及び前記水供給器による前記改質器への原料ガスの供給及び前記蒸発器への水の供給を停止した後、前記蒸発器及び前記改質器の少なくともいずれか一方において、残留水が蒸発している期間において、前記原料ガス供給器により前記改質器に原料ガスを供給する。本発明の上記目的、他の目的、特徴、及び利点は、添付図面参照の下、以下の好適な実施態様の詳細な説明から明らかにされる。本発明は上述したように構成され、水素生成装置において、改質触媒が水蒸気酸化される可能性を低減することができるという効果を奏する。以下、図面を参照しながら実施の形態を説明する。なお、以下では全ての図を通じて同一又は相当する要素には同じ参照符号を付し、その説明を省略する。実施の形態1実施の形態1に係る水素生成装置は、原料ガス及び水蒸気を用いた改質反応により水素含有ガスを生成させる改質触媒を有する改質器と、改質器への原料ガスの供給量を調整する原料ガス供給器と、水蒸気を生成し、改質器に供給する蒸発器と、蒸発器への水の供給量を調整する水供給器と、原料ガス供給器及び水供給器を制御して、改質器への原料ガスの供給及び蒸発器への水の供給を停止した後、蒸発器及び改質器の少なくともいずれか一方において、残留水が蒸発している期間において、原料ガス供給器を制御して、改質器に原料ガスを供給するよう構成された制御器と、を備える。ここで、原料ガス供給器には後述するように原料ガス供給経路上の開閉弁も含まれる。この構成によれば、残留水が蒸発している期間において、改質器に原料を供給することにより、残留水による改質器内の水蒸気濃度が従来の水素生成装置に比べ低減するので、従来の水素生成装置に比べ、改質触媒の水蒸気酸化が抑制される。また、実施の形態1の水素生成装置は、改質器から送出されるガスを燃焼させて該改質器を加熱する燃焼器を備え、制御器は、改質器への原料ガスの供給及び蒸発器への水の供給を停止した後、改質器から燃焼器へ送出されるガスが燃焼不能な状態になった後も、原料ガス供給器を制御して、改質器への原料ガスの供給を実行するよう構成されていてもよい。ここで、ガスが燃焼不能な状態は、ガスがその組成において燃焼不能である状態とガスがその供給量において燃焼不能である状態との少なくともいずれか一方が含まれる。ガスがその組成において燃焼不能である状態には、例えば、当該ガスにおける水蒸気濃度が増加して逆に可燃性ガスの濃度が低下することにより、当該ガスが燃焼不能になった場合が該当する。ガスがその供給量において燃焼不能である状態には、例えば、ガスの組成は燃焼可能な状態であっても、残存水の蒸発量が減少して当該ガスの供給量が減少して燃焼不能な量になった場合が該当する。この構成においては、原料ガス及び水の供給を停止した当初は、残留水の蒸発により、改質器より送出され、燃焼器に流入するガスは、燃焼可能な状態であるが、やがて、上述の通り、燃焼器に流入するガスが燃焼不能な状態になる。しかし、燃焼器に流入するガスが燃焼不能な状態になった後も残留水の蒸発は継続するので、この状態において、改質器への原料ガスの供給を実行することで、改質触媒の水蒸気酸化が抑制される。また、実施の形態1では、制御器は、少なくとも改質器の温度が原料の炭素析出を生じる温度において、原料ガスを供給する際に、改質器内で原料ガスの炭素析出が生じないよう原料ガスの供給量を制御するよう構成してもよい。この構成によれば、改質器の温度が原料の炭素析出を生じるような高い温度で改質器に原料ガスを供給する場合であっても、改質器での炭素析出が抑制される。また、実施の形態1では、制御器は、少なくとも改質器の温度が、改質触媒の水蒸気酸化が生じる温度において、原料ガスを供給するよう構成してもよい。この構成によれば、改質触媒の水蒸気酸化が抑制される。また、実施の形態1に係る水素生成装置の運転方法は、改質器において、原料ガス及び蒸発器で生成した水蒸気を用いて改質反応により水素含有ガスを生成するステップaと、原料ガス供給器による改質器への原料ガスの供給と、水供給器による蒸発器への水の供給とを共に停止するステップbと、改質器への原料ガスの供給及び蒸発器への水の供給を共に停止した後、蒸発器及び改質器の少なくともいずれか一方において、残留水が蒸発している期間において、原料ガス供給器により改質器に原料ガスを供給するステップcとを備える。この構成によれば、従来の水素生成装置の運転方法に比べ、改質触媒の水蒸気酸化が抑制される。また、実施の形態1では、改質器において水素含有ガスを生成するときに、燃焼器において、前記改質器から送出されるガスを燃焼させて該改質器を加熱するステップdを備え、ステップcは、改質器への原料ガスの供給及び蒸発器への水の供給を停止した後、改質器から燃焼器へ送出されるガスが燃焼不能な状態になった後も、原料ガス供給器により改質器への原料ガスの供給を実行するステップc1を備えてもよい。この構成によれば、燃焼器に流入するガスが燃焼不能な状態になった後、残留水の蒸発が継続する状態において、改質触媒の水蒸気酸化が抑制される。また、実施の形態1では、ステップcにおいて、少なくとも原料ガスの供給を、改質触媒の水蒸気酸化が生じる改質器の温度において行ってもよい。この構成によれば、改質触媒の水蒸気酸化が抑制される。実施の形態1は、改質器と大気との連通を遮断する封止器を備えない、いわゆる開放系の水素生成装置において、改質触媒の水蒸気酸化を抑制する形態を例示するものである。<水素生成装置の構成>図1は実施の形態1に係る水素生成装置の構成を示すブロック図である。まず、ハードウエアの構成を説明する。図1に示すように、本実施の形態の水素生成装置100Aは、改質器1と、原料ガス供給経路2と、蒸発器3と、第1封止器図示せずと、水供給経路5と、第2封止器図示せずと、水素含有ガス経路7と、制御器10と、加熱器11と、温度検知器12とを主な構成要素として備えている。改質器1は、後述する実施例に例示するように、反応容器の内部に形成されたガス流路とこのガス流路に配置された改質触媒1aとを備えて構成されている。ここで、上記水素含有ガス流路7が、改質器1の出口から流出するガスが流れる経路に相当する。改質触媒1aとして、公知のものを用いることができる。本実施の形態では、改質触媒1aとして、例えば、Ni系触媒が用いられる。また、改質器1は、加熱器11によって加熱されるよう構成されている。この加熱器11によって改質器1ひいては改質触媒1aは、例えば、600~700°Cの高温に加熱される。加熱器11は、例えば、燃焼器で構成されている。これにより、改質器1は、改質触媒1aを用いた原料ガスと水蒸気との改質反応により水素含有ガスを生成する。原料ガス供給経路2は、上流端が原料供給器13を介して原料ガス源に接続され、下流端が改質器1の入口原料ガス供給口に接続されている。原料ガスは、改質触媒を用いた水蒸気との改質反応により水素含有ガスを生成できるガスであればよい。原料ガスとして、典型的には、炭化水素等の少なくとも炭素及び水素から構成される有機化合物を含む原料ガスが用いられる。具体的には、例えば、天然ガス、LPGliquefiedpetroleumgas、DME等が用いられる。原料ガス源には、例えば、大気圧よりも高い供給圧を有する原料ガスインフラまたは原料ガスボンベ等が挙げられる。原料ガス供給器13は、改質器1に原料ガスを供給する機能を有すればよく、原料ガス供給器13としては、原料ガス供給経路2上に設けられた原料ガスの流量調整可能な昇圧器、流量調整弁、原料ガス供給経路2上に設けられた開閉弁等が例示される。蒸発器3は水供給経路5を流れる水を供給されるよう構成されている。例えば、蒸発器3は、原料ガス供給経路2及び水供給経路5上に設けられていて、蒸発器3において原料供給経路2と水供給経路5とが合流している。蒸発器3は、水供給経路5から供給される水を、加熱により蒸発させて水蒸気を生成しこれを改質器1に供給するよう構成されている。例えば、蒸発器3は、後述する実施例に示すように、改質器1を加熱する加熱器11によって当該水を加熱して水蒸気を生成するよう構成されている。もちろん、これ以外の構成でも構わない。なお、この構成以外に、例えば、水供給経路5の下流端を蒸発器3に接続し、原料ガス供給経路2は蒸発器3を通過せず、蒸発器3で生成した水蒸気を原料ガス供給経路2と合流するよう構成してもよい。水供給経路5は、上流端が水量調整機能を有する水供給器4に接続され、下流端が直接又は間接に蒸発器3に接続されている。水供給器4には、例えば、水源に接続された給水ポンプ等が相当する。これにより、水供給経路5を通じて蒸発器3に水が供給される。水素含有ガス経路7は、改質器1の出口に上流端が接続され、下流端は大気に開放されて構成されている。水素含有ガス経路7の途中には、一般には、図示されない水素利用機器例えば、燃料電池、水素貯蔵器が設けられる。なお、水素含有ガス流路7は、加熱器11としての燃焼器に接続される形態であってもよい。図示されない第1封止器が、原料ガス供給経路2に設けられている。第1封止器は、その開放及び閉止によって原料ガス供給経路2を連通及び遮断するよう構成されている。図示されない第2封止器が、水供給経路6に設けられていてもよい。第2封止器が、その開放及び閉止によって水供給経路6を連通及び遮断するよう構成されている。第1封止器及び第2封止器は、例えば、開閉弁電動弁、流量調整弁、動作停止時に封止する機構を備えたポンプ等で構成されている。なお、第1封止器が、流量調整弁又はポンプである場合、原料ガス供給器13が第1封止器を兼ねてもよい。次に、制御系統の構成を説明する。改質器1には、温度検知器12が設けられている。温度検知器12は、改質器1の温度を検出してこれを制御器10に出力するよう構成されている。温度検知器12は、例えば、熱電対、サーミスタ等の温度センサで構成されている。制御器10は、後述するように原料ガス及び水の供給を停止した後に原料ガスの供給を実行するよう構成されている。具体的には、制御器10は演算部図示せずと記憶部図示せずとを備えている。例えば、演算部はマイクロプロセッサ、CPU等で構成され、記憶部はその内部メモリで構成されている。記憶部には、制御プログラムが格納されていて、演算部はこの制御プログラムを読み出して実行することにより、所定の制御を行う。なお、制御器は、集中制御を行う単独の制御器で構成されていてもよく、互いに協動して分散制御を行う複数の制御器で構成されていてもよい。<水素生成装置の動作>次に、水素生成装置100Aの動作水素生成装置100Aの運転方法を説明する。この水素生成装置100Aの動作は、制御器10の制御により実行される。まず、一般的な動作を簡単に説明する。水素生成装置100Aの水素生成運転時においては、第1封止器及び第2封止器は開放されていて、原料ガス供給経路2、水供給経路5、及び水素含有ガス経路7は、それぞれ、連通している。この状態で、原料ガス供給経路2に原料ガスが流れ、水供給経路5に水が流れる。蒸発器3において、この原料ガス及び水のうち、水が蒸発されて水蒸気が生成され、この水蒸気と蒸発器3で予熱された原料ガスとの混合ガスが改質器1の入口に供給される。改質器1は加熱器11によって所定の温度に加熱されており、改質器1において、改質触媒1aの触媒作用により、水蒸気と原料ガスとが改質反応して水素含有ガスが生成される。この生成された水素含有ガスが、改質器1の出口から水素含有ガス経路7に流出し、水素利用機器で利用されて、その利用態様に応じてその組成が変化する。そして、この組成が変化したガスが水素含有ガス経路7の下流端から大気に放出される。次に、本実施形態の水素生成装置を特徴付ける動作を説明する。図2は、図1の水素生成装置の停止時の動作を示すフローチャートである。図2に示すように、水素生成装置100Aの停止時において、制御器10は、まず、水供給器を制御して、水の供給を停止するステップS1。なお、水の供給停止に伴い、制御器10は、第2封止器を閉止してもよい。また、制御器10は、原料ガス供給器13を制御して、原料ガスの供給を停止するステップ1。なお、原料ガスの供給停止に伴い、制御器10は、第1封止器を閉止する。この状態においては、改質器1及び改質器1から加熱器11に至るまでの水素含有ガス経路7にガスが残存する。また、蒸発器3内には水が残存する。残存ガスは、生成された水素含有ガスと原料ガスと水蒸気とで主に構成される。そして、原料ガス及び水の供給を停止後暫くは、余熱により蒸発器3に残存する水が蒸発する。この水の蒸発により、上記残存ガスが加熱器11に供給される。一方、制御器10は、加熱器11の燃焼を継続するステップS2。原料ガス及び水の供給を停止後、暫くは、加熱器11に供給されるガスは燃焼可能な状態であるが、最終的には、改質器1から加熱器11に供給されるガスが燃焼不能な状態になり、加熱器11が失火するステップS3。具体的には、例えば、当該ガスにおける水蒸気濃度が増加して逆に可燃性ガスの濃度が低下することにより、当該ガスが燃焼不能になったり、残存水の蒸発量が減少して、当該ガスの供給量が減少することにより当該ガスが燃焼不能になったりする。また、失火は、例えば、加熱器11の燃焼状態を検出するフレームロッド44後述する実施例及び図12参照を介して制御器10により検知される。加熱器11の失火を検知すると、制御器10は、第1封止器を開放して、原料ガスを供給するステップS4。原料ガスの供給は、加熱器11が失火後、残留水が蒸発している期間において行なわれる。この残留水が蒸発している期間は、例えば、実験等により加熱器11が失火した後も加熱器11へのガスの流入が検出された期間として求められる。なお、ステップ4において、第1封止器の開放とともに原料ガス供給器13を動作させてもよい。ここで、従来の水素生成装置のように、原料ガス及び水の供給停止後、残留水が蒸発している期間において、原料ガスを供給しない場合には、水の供給停止時に改質器1に残存していた水素、原料ガス等のガスが蒸発器で生成した水蒸気により押し出され、改質器1内は水蒸気雰囲気になり、改質触媒1aが水蒸気酸化される可能性が生じる。しかしながら、本実施の形態の水素生成装置では、水の供給停止後、残留水が蒸発している期間において、原料ガスが供給されるため、水の供給停止後の改質器1内の水蒸気濃度が従来よりも低減されるので、改質触媒1aが水蒸気酸化する可能性が低減する。さらに、改質器1に供給された原料ガスと改質器1内の水蒸気とが改質反応して水素が生成され、水素生成に伴う水蒸気濃度の低減と、生成水素による水蒸気酸化抑制効果のため、改質触媒1aの水蒸気酸化がより抑制される。なお、少なくとも改質器1の温度が原料ガスの炭素析出を生じる温度において、原料ガスを供給する際、改質器1内で原料ガスの炭素析出が生じないよう原料ガスの供給量を制御することが好ましい。具体的には、水の供給を停止して原料ガスを供給した後の、改質器1内の原料ガス中の炭素原子のモル数に対する水蒸気分子のモル数の比であるスチームカーボン比以下、S/Cが、原料ガスからの炭素析出を生じない範囲になるよう原料ガスの供給量が制御される。ここで、好適なS/Cの範囲として、S/C≧2が例示される。なお、原料ガスを供給する際の改質器1の温度が、原料ガスから炭素析出を生じない温度である場合は、原料ガスの供給量を制限する必要はなく、任意であり、例えば、改質器1内を原料ガス雰囲気または原料ガスで置換しても構わない。また、原料ガスから炭素析出する温度は、改質触媒種や原料ガス種に応じて適宜設定されるが、例えば、原料ガスがメタンを主成分とするガスであり、改質触媒がRu系触媒である場合、500°Cに設定される。また、原料ガスの供給は、加熱器11の失火後において行なわれればよく、原料ガスの供給開始のタイミングは、加熱器11の失火の前、後、及び失火と同時のいずれであっても構わない。また、原料ガスの供給は、連続、間欠のいずれの形態であっても構わない。そして、制御器10は、水の供給停止後、残留水が蒸発している期間が経過すると、原料ガスの供給を停止する。実施の形態2実施の形態2に係る水素生成装置は、改質器と大気との連通を遮断する封止器を備え、制御器は、改質器への原料ガスの供給及び蒸発器への水の供給を停止後、封止器を制御して、改質器を封止処理し、かつ、封止処理後の改質器の内圧上昇に伴い封止器を開放して改質器を大気に開放する圧抜き処理と、原料ガス供給器を制御して、改質器に原料ガスを供給する原料ガス供給処理とを共に実行するよう構成されている。この構成によれば、圧抜き処理と共に、改質器に原料を供給することにより、圧抜き後に残留する改質器内の水蒸気濃度が従来の水素生成装置に比べ低減するので、従来の水素生成装置に比べ、改質触媒の水蒸気酸化が抑制される。また、圧抜き処理及び原料ガス供給処理の実行後に改質器内に残存する原料ガス濃度が、従来の水素生成装置よりも増加し、残存する水蒸気と改質反応して生成する水素量が増加する。そして、増加した水素により改質触媒の水蒸気酸化が抑制されるので好ましい。なお、上記改質器の温度が、原料より炭素析出しない温度であれば、上記両処理実行後に必ずしも改質器内に水蒸気及び原料ガスが残存する必要はなく、上記両処理実行後において、改質器内が原料ガス雰囲気になる形態を採用しても、水蒸気酸化は同様に抑制されるので、構わない。また。実施の形態2では、上述の制御器が、圧抜き処理と同時に原料ガス供給処理を実行するよう構成されていてもよい。また、実施の形態2では、制御器は、少なくとも改質器の温度が、改質触媒の水蒸気酸化が生じる温度において、前記原料ガス供給処理を行うよう構成されていてもよい。また、実施の形態2に係る水素生成装置の運転方法は、改質器への原料ガスの供給及び蒸発器への水の供給を停止後、封止器を閉止して改質器を封止するステップeを備え、原料ガス供給器により改質器に原料ガスを供給するステップcは、ステップe後の改質器の内圧上昇に伴い封止器を開放して改質器を大気に開放する圧抜き処理と、原料ガス供給器により改質器に原料ガスを供給する原料ガス供給処理とを共に実行するステップc2を備える。この構成によれば、圧抜き処理と共に、改質器に原料を供給することにより、圧抜き後に残留する改質器内の水蒸気濃度が従来の水素生成装置の運転方法に比べ低減するので、従来の水素生成装置の運転方法に比べ、改質触媒の水蒸気酸化が抑制される。また、実施の形態2では、ステップc2において、圧抜き処理と同時に原料ガス供給処理を実行するよう構成されていてもよい。また、実施の形態2では、ステップcにおいて、少なくとも原料ガスの供給を、改質触媒の水蒸気酸化が生じる改質器の温度において行ってもよい。実施の形態2は、改質器と大気との連通を遮断する封止器を備える、いわゆる閉鎖系の水素生成装置において、改質触媒の水蒸気酸化を抑制する形態を例示するものである。<水素生成装置の構成>図3は実施の形態2に係る水素生成装置の構成を示すブロック図である。まず、ハードウエアの構成を説明する。図3に示すように、本実施の形態の水素生成装置100Bは、実施の形態1の水素生成装置100Aと比較すると、第3封止器8をさらに備える点が構成上異なる。これ以外の構成は、実施の形態1の水素生成装置100Aと同じである。第3封止器8は、改質器1と大気との連通を遮断する封止器である。実施の形態2では、制御器10は、後述する封止処理と圧抜き処理と原料ガス供給処理とを実行するように構成されている。<水素生成装置の動作>次に、水素生成装置100Bの動作水素生成装置100Bの運転方法を説明する。この水素生成装置100Bの動作は、制御器10の制御により実行される。一般的な動作は実施の形態1の水素生成装置100Aと同じである。なお、水素生成装置100Bの水素生成運転時においては、第3封止器8は、第1封止器及び第2封止器とともに開放されている。次に、本実施の形態を特徴付ける動作を説明する。図4は、図3の水素生成装置の停止時の動作を示すフローチャートである。図5は、図4のフローチャートにおける圧抜き処理及び原料ガス供給処理の内容を示すフローチャートである。図4に示すように、水素生成装置100Bの停止時において、制御器10は、まず、封止処理ステップS6を実行し、次いで、圧抜き処理及び原料ガス供給処理ステップS7を共に実行する。詳しく説明すると、封止処理ステップS6において、制御器10は、第1封止器、第2封止器、及び第3封止器8を閉止する。これにより、蒸発器3及び改質器1内に残存ガスが封止される。また、蒸発器3内には水が残存する。残存ガスは、生成された水素含有ガスと原料ガスと水蒸気とで主に構成される。そして、水素生成運転の停止後の比較的早期の段階においては、改質器1を含む水素生成装置100Bがその余熱により比較的高温のままであるので、封止処理後において蒸発器3に残存する水が蒸発する。これにより、改質器1の内圧が上昇する。そこで、図5に示すように、圧抜き処理及び原料ガス供給処理ステップS7において、制御器10は、第3封止器8を開放するステップS11。これにより、改質器1の出口から残存ガスが水素含有ガス経路7に流出して、改質器1が圧抜きされる。制御器10により、上記圧抜きが必要と判断される改質器1の内圧上昇は、改質器1内の圧力を直接または間接的に検知する検知器により検出することができる。例えば、改質器1内の圧力を直接検知する場合は、図示されない圧力検知器を用いて検知される。また、改質器1内の圧力を間接的に検知する場合、図示されない計時器が挙げられる。なお、計時器により改質器1内の圧力を検知する場合、封止処理を実行してからの経過時間により圧抜きが必要となる改質器の内圧上昇が間接的に検知される。また、上記圧抜きの終了も、上記と同様に改質器1内の圧力を直接または間接的に検知する検知器により検出することができる。具体的には、第3封止器8の開放後、検知器により改質器1の内圧が大気圧と同等になったことが検知されると、制御器10が、改質器1の圧抜きが終了したと判断する。また、制御器10は、第1封止器を開放するステップS12。この第1封止器の開放のタイミングは、第3封止器8の開放と同時であっても、第3封止器8の開放後であっても構わない。なお、第1封止器の開放に伴い原料ガス供給器13を動作させても構わない。ここで、従来の水素生成装置のように、圧抜き処理の実行に伴って原料ガス供給処理を実行しない場合には、圧抜きによって封止時に改質器1に残存していた水素、原料ガス等の水蒸気以外のガスが蒸発器で生成した水蒸気により押し出され、改質器1内は水蒸気雰囲気になり、改質触媒1aが水蒸気酸化される可能性が生じる。しかしながら、本実施の形態の水素生成装置では、圧抜き処理と共に原料ガス供給処理が実行されるため、圧抜き処理後の改質器1内の水蒸気濃度が従来よりも低減されるので、改質触媒1aが水蒸気酸化する可能性が低減する。さらに、改質器1に供給された原料ガスと改質器1内の水蒸気とが改質反応して水素が生成され、水素生成に伴う水蒸気濃度の低減と、生成水素による水蒸気酸化抑制効果のため、改質触媒1aの水蒸気酸化がより抑制される。なお、少なくとも改質器1の温度が原料ガスの炭素析出を生じる温度において、原料ガス供給処理を実行する際、改質器1内で原料ガスの炭素析出が生じないよう原料ガスの供給量を制御することが好ましい。具体的には、圧抜き処理及び原料ガス供給処理を実行後の、改質器1内の原料ガス中の炭素原子のモル数に対する水蒸気分子のモル数の比であるS/Cが、原料ガスからの炭素析出を生じない範囲になるよう原料ガスの供給量が制御される。ここで、好適なS/Cの範囲として、S/C≧2が例示される。なお、原料ガス供給処理を実行する際の改質器1の温度が、原料ガスから炭素析出を生じない温度である場合は、原料ガスの供給量を制限する必要はなく、任意であり、例えば、改質器1内を原料ガス雰囲気または原料ガスで置換しても構わない。また、原料ガスから炭素析出する温度は、改質触媒種や原料ガス種に応じて適宜設定されるが、例えば、原料ガスがメタンを主成分とするガスであり、改質触媒がRu系触媒である場合、500°Cに設定される。次いで、制御器10は、圧抜き処理及び原料ガス供給処理が完了すると、第1封止器及び第3封止器8を閉止するステップS13。これにより、改質器1が再度封止される。実施の形態3実施の形態3の水素生成装置100Cでは、制御器は、原料ガス供給処理として、封止器を閉止した状態で第1封止器を開放するとともに、原料ガス供給器を動作させて改質器に原料ガスを圧入するようにして行うよう構成されている。また、制御器は、原料ガスの圧入後、第1封止器を閉止するとともに第3封止器を開放して、改質器の大気への開放圧抜き処理を行うよう構成されていてもよい。さらに、制御器は、少なくとも改質器の温度が原料の炭素析出を生じる温度で原料ガス供給処理を実行する際に、改質器内の原料ガスの炭素析出が生じないように原料ガスの圧入量を制御するよう構成されていてもよい。具体的な圧入量の制御については、原料ガス供給処理及び圧抜き処理後のS/Cが、炭素析出を生じない範囲になるよう圧入量を制御することが好ましい。なお、原料ガス供給処理を実行する際の改質器1の温度が、原料ガスから炭素析出を生じない温度である場合は、原料ガスの圧入量を制限する必要はなく、任意であり、例えば、原料ガス供給処理及び圧抜き処理実行後の改質器1内が原料ガス雰囲気または原料ガスで置換されても構わない。以下、具体的に実施の形態3を説明する。図6は、実施の形態3の水素生成装置の停止時における圧抜き処理及び原料ガス供給処理の内容を示すフローチャートである。図6に示すように、実施の形態3の水素生成装置100Cは、水素生成装置の停止時における圧抜き処理及び原料ガス供給処理が実施の形態2の水素生成装置100Bと異なっている。これ以外の構成は実施の形態2の水素生成装置100Bと同じである。具体的には、実施の形態3の水素生成装置100Cでは、停止時における圧抜き処理及び原料ガス供給処理は以下のように実行される。図6に示すように、圧抜き処理及び原料ガス供給処理図4のフローチャートにおけるステップS7において、制御器10は、まず、第1封止器を開放するとともに、原料ガス供給器13を動作させて改質器1に原料ガスを圧入するステップS21。この原料ガス供給処理が、原料ガスから炭素析出を生じる改質器1の温度の下で実行される際、制御器10は、上述の通り、次に第3封止器8を開放した後において改質器1内の原料ガスの炭素析出が生じないように原料ガスの圧入量を制御するよう構成されている。原料ガスを予め定めた量だけ圧入すると、制御器10は、原料ガス供給器13を停止して、原料ガスの圧入を停止する。次に、制御器10は、第1封止器を閉止するステップS22。次に、制御器10は、第3封止器8を開放するステップS23。これにより、改質器1が大気に開放され、圧抜きされる。圧抜きの終了の検出は実施の形態2と同様に行われる。次に、制御器10は、第3封止器8を閉止して、改質器1を再度封止するステップS24。これにより、圧抜き処理及び原料ガス供給処理が完了する。以上に説明した圧抜き処理及び原料ガス供給処理によっても、実施の形態2と同様に、改質触媒1aが水蒸気酸化される可能性を低減することができる。実施の形態4実施の形態4では、制御器は、圧抜き処理を行った後に原料ガス供給処理を実行するよう構成されている。また、実施の形態4では、圧抜き処理と原料ガス供給処理とを共に実行するステップc2において、圧抜き処理を行った後に原料ガス供給処理を実行するよう構成されている。以下、具体的に実施の形態4を説明する。図7は、実施の形態4に係る水素生成装置の停止時における圧抜き処理及び原料ガス供給処理の内容を示すフローチャートである。実施の形態4の水素生成装置100Dは、圧抜き処理及び原料ガス供給処理が実施の形態2の水素生成装置100Bと異なっている。これ以外の構成は、実施の形態2の水素生成装置100Bと同じである。図7に示すように、圧抜き処理及び原料ガス供給処理図4のフローチャートにおけるステップS7において、まず、制御器10は、第3封止器8を開放するステップS31。これにより、改質器1が大気に開放され、圧抜きされる。圧抜きの終了の検出は実施の形態2と同様に行われる。次に、制御器10は、第3封止器8を閉止するステップS32。これにより、圧抜き処理が完了する。次に、制御器10は、第1封止器を開放するとともに、原料ガス供給器13を動作させて改質器1に原料ガスを圧入するステップS33。この原料ガス供給は、実施の形態3と同様に行われる。すなわち、上述の圧抜きが、原料ガスから炭素析出を生じる改質器1の温度の下で実行される際、制御器10は、上述の通り、改質器1内の原料ガスから炭素析出が生じないように原料ガスの圧入量を制御するよう構成されている。一方、上述の圧抜きが、原料ガスの炭素析出を生じない改質器温度の下で実行される際、上述の通り、改質器1に供給する原料ガスの量を制限しないように制御器10を構成してもよい。原料ガスを予め定めた量だけ圧入すると、制御器10は、原料ガス供給器13を停止して、原料ガスの圧入を停止する。次に、制御器10は、第1封止器を閉止するステップS34。これにより、圧抜き処理及び原料ガス供給処理が完了する。以上に説明した圧抜き処理及び原料ガス供給処理によっても、実施の形態2と同様に、改質触媒1aが水蒸気酸化される可能性を低減することができる。実施の形態5実施の形態5では、制御器は、圧抜き処理及び原料ガス供給処理後に、改質器の温度低下に伴う内圧低下に対して第1封止器を開放して改質器に原料ガスを供給する補圧処理を実行するよう構成されている。以下、具体的に実施の形態5を説明する。図8は、実施の形態5に係る水素生成装置の停止時の動作の内容を示すフローチャートである。実施の形態5の水素生成装置100Eは、停止時において補圧処理を実行する点が実施の形態2の水素生成装置100Bと異なっている。これ以外の構成は、実施の形態2の水素生成装置100Bと同じである。本実施の形態5の水素生成装置100Eのハードウェアは、図3に示すように構成されている。そして、実施の形態5の水素生成装置100Eでは、図8に示すように、制御器10は、停止時において、実施の形態2と同様に、封止処理ステップS6と、圧抜き処理及び原料ガス供給処理ステップS7とを順に実行し、その後、補圧処理を実行するステップS8。この補圧処理は、公知であるので簡単に説明する。圧抜き処理及び原料ガス供給処理ステップS6は、水素生成装置100Eの水素生成運転が停止されると、改質器1の温度は低下を始めるが、停止して暫くの間は、蒸発器3及び改質器1に残留する水の蒸発により改質器1の内圧が上昇し、圧抜き処理及び原料ガス供給処理が実行される。しかしながら、蒸発器3及び改質器1の残留水がなくなると、改質器1の温度の低下に伴い、改質器1の内圧が低下し始める。本実施の形態では、上記改質器1の内圧の低下により改質器1の内圧が過度の負圧にならないよう、制御器10が、第1封止器を開放して、原料ガスを供給する。これにより、原料ガスが改質器1に供給され、改質器1の内圧が原料ガスの供給圧と同等になる。その後、制御器10は、第1封止器を閉止する。これにより、補圧処理が完了する。なお、上記補圧処理は、制御器10により改質器1内の圧力を直接的または間接的に検出する検出器の検出値に基づき、改質器1内の圧力が補圧処理が必要となる所定の圧力閾値以下になったと判断されると、実行される。例えば、改質器1内の圧力を直接検知する場合は、図示されない圧力検知器の検出値が、上記補圧処理が必要となる所定の圧力閾値以下になると、上記補圧処理が実行される。また、改質器1内の圧力を間接的に検知する場合は、例えば、図示されない温度検知器または計時器を用いて、これらの検出値が補圧処理が必要となる所定の閾値になると、上記補圧処理が実行される。実施の形態5によれば、改質器1の内部が負圧になって外部から空気が改質器1内に混入し、それによって改質触媒1aが空気により酸化される可能性を低減することができる。[変形例1]実施の形態5の変形例1では、実施の形態3又は4において、制御器10が、上記と同様に補圧処理を実行するよう構成されている。これにより、上記と同様の効果が得られる。実施の形態6実施の形態6では、制御器は、改質器内部を原料ガスでパージする原料ガスパージ処理を実行するよう構成されている。以下、具体的に実施の形態6を説明する。図9は、実施の形態5に係る水素生成装置の停止時の動作の内容を示すフローチャートである。実施の形態6の水素生成装置100Fは、停止時において原料ガスパージ処理を実行する点が実施の形態5変形例1を含むの水素生成装置100Eと異なっている。これ以外の構成は、実施の形態5の水素生成装置100Eと同じである。実施の形態6の水素生成装置100Fでは、図9に示すように、制御器10は、停止時において、実施の形態5と同様に、封止処理ステップS6と、圧抜き処理及び原料ガス供給処理ステップS7と、補圧処理ステップS8とを順に実行し、その後、原料ガスパージ処理を実行するステップS9。この原料ガスパージ処理は、公知であるので簡単に説明する。水素生成装置100Fの水素生成運転の停止後、十分な時間が経過すると、改質器1の温度が原料ガスから炭素析出を生じない温度にまで低下する。実施の形態6では、制御器10は、例えば、温度検知器12で検出される改質器1の温度が、原料ガスから炭素析出を生じない温度所定の温度まで低下すると、この原料ガスパージ処理を実行するよう構成されている。原料ガスパージ処理では、まず、制御器10が、第1封止器及び第3封止器8を開放するとともに原料ガス供給器13を動作させる。これにより、改質器1の内部に封止されていたガスが原料ガスで置換される。その後、制御器10は、原料ガス供給器13を停止するとともに第1封止器及び第3封止器8を閉止する。これにより、原料ガスパージ処理が完了する。なお、原料ガスパージ処理の実行時間は、例えば、上記処理における原料ガスの供給量が、少なくとも改質器1内のガスを原料ガスで置換可能な量になると推定される時間として定義され、実験、シミュレーション、計算等に基づいて決定される。[変形例2]実施の形態6の変形例2では、実施の形態2乃至4のいずれかにおいて、制御器10が、補圧処理を実行せずに、圧抜き処理及び原料ガス供給処理ステップS7の後に、上記と同様に原料ガスパージ処理ステップS9を実行するよう構成されている。これにより、上記と同様の効果が得られる。実施の形態7実施の形態7では、水素生成装置が、第1封止器よりも上流の原料ガス供給経路に設けられ、原料ガス中の臭気成分を除去する脱臭器をさらに備える。また、実施の形態7では、水素生成装置の運転方法が、改質器に供給される原料ガス中の臭気成分を除去するステップfをさらに備える。図10は実施の形態7に係る水素生成装置の構成を示すブロック図である。図10に示すように、実施の形態7の水素生成装置100Gは、実施の形態2の水素生成装置100Bにおいて、原料ガス供給器13が、例えば、原料ガスインフラ14に接続された、原料ガス流量調整可能なブースタポンプで構成されており、第1封止器よりも上流の原料ガス供給経路2に、原料ガス中の臭気成分を除去する脱臭器21が設けられて構成されている。原料ガスの臭気成分としては、例えば、硫黄化合物が該当する。本実施の形態の水素生成装置100Gでは、脱臭器21は、原料ガス中の硫黄化合物を除去するゼオライト系吸着剤を備えて構成されているが、本例に限定されるものではない。例えば、脱臭器21を、水添脱硫触媒を用いるよう構成してもよい。また、本実施の形態の水素生成装置100Gでは、脱臭器21は原料ガス供給器13の上流に設けているが、原料ガス供給器13の下流に設けてもよい。本実施の形態の水素生成装置100Gは、上記構成において、実施の形態2の水素生成装置100Bと同様の停止時の動作を実行するよう構成されていることを特徴とする。ここで、第1封止器の上流に脱臭器21が設けられているので、改質器1の封止処理後に、蒸発器3で残留水が蒸発しても閉止された第1封止器により脱臭器21への水蒸気の逆流が抑制される。これにより、脱臭器21への水蒸気吸着による寿命低下が抑制される。また、圧抜き処理及び原料ガス供給処理を実行する際に、第3封止器8の開放と同時または開放後に第1封止器が開放されるよう制御されるので、これらの処理においても、脱臭器21への水蒸気の逆流が抑制され好ましい。なお、実施の形態3乃至6変形例1及び2を含むのいずれかにおいて、上記と同様に脱臭器21を設けてもよい。実施の形態8実施の形態8は、実施の形態2乃至7変形例1及び2を含むのいずれかの水素生成装置と、この水素生成装置から流出する水素含有ガスを用いて発電する燃料電池とを備える燃料電池システムを例示するものである。以下、これを具体的に説明する。図11は実施の形態8に係る燃料電池システムの構成を示すブロック図である。図11に示すように、実施の形態8の燃料電池システム200は、実施の形態1乃至7変形例1及び2を含むのいずれかの水素生成装置100A~100Gで構成される水素生成装置100と、燃料電池15とを備えている。なお、図11には、水素生成装置100として、実施の形態2の水素生成装置100Bが例示されている。なお、水素生成装置100として、実施の形態1の水素生成装置100Aが用いられる場合は、開閉弁8aと開閉弁8b及び8cとの少なくともいずれか一方が省略される。燃料電池15は、還元剤ガスとして水素含有ガスを用いる燃料電池であればよく、周知のものを用いることができる。燃料電池15の構成は周知であるので、本発明と関連する事項のみ説明し、その他の事項の説明は省略する。水素生成装置100の水素含有ガス経路7の途中に燃料電池15が設けられている。そして、水素含有ガス経路7の燃料電池15より下流の部分が加熱器11を通過している。また、改質器1と燃料電池15との間の水素含有ガス経路7に開閉弁8bが設けられ、燃料電池15と加熱器11との間の水素含有ガス経路7に開閉弁8cが設けられている。そして、開閉弁8bより上流の水素含有ガス経路7と開閉弁8cより下流の水素含有ガス経路7とを接続するようにバイパス経路16が設けられている。バイパス経路16には開閉弁8aが設けられている。そして、開閉弁8a、8b、8cを、制御器10により開閉制御することにより、改質器1の出口から流出するガスの行き先を、バイパス経路16と、燃料電池15との間で切り替える。また、改質器1と燃料電池15との間の水素含有ガス経路7は、燃料ガス供給経路として機能し、燃料電池15と加熱器11との間の水素含有ガス経路7はオフガス排出経路として機能し、加熱器11より下流の水素含有ガス経路7は燃焼ガス排出経路として機能する。このように構成された燃料電池システム200では、起動時には、開閉弁8aを開放するとともに開閉弁8b、8cを閉止することにより、改質器1で生成された水素含有ガスがバイパス経路16を経由して加熱器11に供給される。また、燃料電池システムの発電運転時には、開閉弁8aを閉止するとともに開閉弁8b、8cを開放することにより、改質器1で生成された水素含有ガスが燃料電池15を経由して、オフガスとして加熱器11に供給される。加熱器11は、この供給されるガスを燃焼させて改質器1及び蒸発器3を加熱する。加熱器11において、水素含有ガス又はオフガスの燃焼により生成されたガス燃焼排ガスは、加熱器11より下流の水素含有ガス経路7を通って大気に放出される。燃料電池システム200の停止時には、燃料電池15の発電と水素生成装置100の水素生成運転が停止され、実施の形態1乃至7変形例1及び2を含むのいずれかの水素生成装置と同様に、封止処理、その後の、圧抜き処理及び原料ガス供給処理が実行される。なお、上記処理において、開閉弁8aが封止器として機能するよう構成されるが、これに限定されるものではなく、開閉弁8b、8cが封止器として機能してもよいし、開閉弁8cが封止器として機能しても構わない。つまり、改質器と大気とを連通及び遮断する開閉弁であれば、いずれの開閉弁を封止器として機能させても構わない。以上のように構成された燃料電池システム200では、水素生成装置100の停止時において、改質触媒1aが水蒸気酸化される可能性を低減することができる。なお、実施の形態1乃至7変形例1及び2を含むのいずれかにおいて、改質器1で生成される水素含有ガスの一酸化炭素濃度を低減するために、改質器1の下流に変成器、または変成器とCO除去器とを設けてもよい。なお、上記CO除去器は、一酸化炭素の酸化反応及びメタン化反応の少なくともいずれか一方により一酸化炭素を低減するよう構成されている。また、実施の形態1乃至7変形例1及び2を含むのいずれかにおいて、第1封止器、第1封止器、及び第3封止器8を、制御器10によって制御せずに、人の操作によって動作させてもよい。実施例次に、本発明の実施の形態における水素生成装置の水素生成器の実施例を説明する。なお、以下では、水素生成器が改質器に加えて、変成器及びCO除去器を備える構成例を説明するが、変成器及びCO除去器を省略しても構わない。図12は本発明の実施の形態における水素生成器の実施例の構成を示す縦断面図である。図12に示すように、本実施例の水素生成器101は、内筒22と外筒23と有しかつこれらの両端が閉鎖された2重筒状の筐体容器21を備えている。筐体21の内筒22と外筒23との間の空間は筒状の隔壁24によって適宜に区画されて、当該空間にガス流路30が形成されている。筐体21には、このガス流路30の上流端に連通するように、原料ガス供給口31と水供給口32とが設けられている。また、筐体21には、このガス流路30の下流端に連通するように、水素含有ガス流出口33が設けられている。そして、このガス流路30に、上流端から下流端に向って、改質触媒1a、変成触媒25、及び酸化触媒27が順に配置されている。このガス流路の改質触媒1a、変成触媒25、及び酸化触媒27が配置された部分が、それぞれ、改質器1、変成器26、及び酸化器28をそれぞれ構成している。改質触媒として例えばNi系触媒を用いることができ、変成触媒25として例えばCu-Zn系触媒を用いることができ、一酸化炭素の酸化反応及びメタン化反応を進行させる触媒として、例えば、Ru系触媒を用いることができる。上流端と改質触媒1aとの間のガス流路30は内筒22と隔壁24とに挟まれて形成されていて蒸発器3を構成している。また、変成触媒25と酸化触媒27とは、隔壁24と外筒23との間に配置されていて、変成触媒25と酸化触媒27との間のガス流路30に連通するように、空気供給口34が筐体21に設けられている。さらに、筐体21には、内筒22の内部空間に嵌挿するように燃焼器の一例としてのバーナ41が取り付けられている。このバーナ41は、基部41aと燃焼筒41bとを備えていて、基部41aが筐体21の外面に取り付けられ、燃焼筒41bが内筒22に内部空間に嵌挿されるようにして基部41bに設けられている。バーナ41の基部41bには燃焼用空気を供給する燃焼ファン42が設けられている。このバーナ41と燃焼ファン42とが上述の実施の形態の水素生成装置100A~100Gにおける加熱器11を構成している。バーナ41の基部41bには、燃焼ガス供給配管43が接続されている。また、筐体21のこの基部41bの近傍部には内筒22の内部空間に連通するように、燃焼排ガス排出口35が設けられている。この燃焼排ガス燃焼ガス供給配管43と燃焼排ガス排出口35とは、実施の形態7における水素含有ガス経路7の一部を構成している。また、バーナ41には、着火源となるイグナイタ図示せずと燃焼筒41b内における燃焼状態を検知するフレームロッド44が設けられている。バーナ41の失火はこのフレームロッド7により検出される。また、水素生成器101の改質器1の近傍には、改質器1の温度を検出するための温度検知器12が配設されている。次に、以上のように構成された水素生成器を有する水素生成装置の動作を説明する。バーナ41の基部41bには、燃焼ガス供給配管43から燃焼用ガスが供給されるとともに燃焼ファン42から燃焼用空気が供給され、これらの混合ガスが燃焼筒41bの内部空間で燃焼される。この燃焼の着火は上述のイグナイタにより行われ、この燃焼状態はフレームロッド44により検出される。燃焼筒41bにおける燃焼により生成された燃焼排ガスは燃焼筒41bの先端から内筒22の内部空間に流出して、燃焼排ガス排出口35から外部に排出される。そして、この過程で、燃焼排ガスの熱が改質器1及び蒸発器3に伝達される。こにより、改質器1及び蒸発器3がバーナ41加熱器11により加熱される。一方、水素生成器101には、原料ガス供給口31から原料ガスが供給されるとともに水供給口32から水が供給される。そして、これらが蒸発器3を通過する際に、バーナ41から伝達される熱により水が蒸発して水蒸気が生成されるとともに原料ガスが昇温される。この原料ガス及び水蒸気が改質器1で改質触媒1aの作用により改質反応して水素含有ガスが生成される。この水素含有ガスが、変成器26において変成反応によりその一酸化酸素の濃度を低減され、その後、酸化器28において、空気供給口34から供給される空気を用いた酸化によりさらにその一酸化酸素の濃度を低減される。このようにして一酸化炭素濃度を低減された水素含有ガスが、水素含有ガス流出口33から外部に排出される。以上のように構成されかつ動作する水素生成器101では、実施の形態1乃至7の水素生成装置100A~100Gの停止動作において、改質器1及び蒸発器3の温度が、運転動作時の温度から徐々に低下する。ここで、実施の形態1乃至7の水素生成装置100A~100Gでは、この停止時において、制御器10が、まず、第1封止器、第1封止器及び第3封止器8を閉止して改質器1を封止する封止処理を実行する。これにより、蒸発器3に未蒸発の水が残存した状態で改質器1に原料ガス、水蒸気、及び水素含有ガスからなる残存ガスが封止される。その後、蒸発器3に残存する水が改質器1及び蒸発器3の余熱により蒸発して、改質器1及び蒸発器3の内圧が上昇するが、制御器10は、第3封止器8を開放して改質器1を大気に開放し、かつ第1封止器を開放して改質器に原料ガスを供給する。これにより、改質器1が出口水素含有ガス流出口33側から圧抜きされて当該出口から残存ガスが流出するが、その際に、入口原料ガス供給口31側から原料ガスが供給され、この原料ガスが水蒸気と改質反応する。その結果、改質器1内の水蒸気が消費されるとともに水素が生成されるので、改質触媒1aが水蒸気酸化される可能性が低減される。上記説明から、当業者にとっては、本発明の多くの改良や他の実施形態が明らかである。従って、上記説明は、例示としてのみ解釈されるべきであり、本発明の精神を逸脱することなく、その構造及び/又は機能の詳細を実質的に変更できる。