"炭化水素を供給するための炭化水素供給弁を機関排気通路内に配置し、炭化水素供給弁上流の機関排気通路内に排気ガスの空燃比を検出するための上流側空燃比センサを配置し、炭化水素供給弁下流の機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を配置し、該排気浄化触媒下流の機関排気通路内に排気ガスの空燃比を検出するための下流側空燃比センサを配置し、該下流側空燃比センサが固体電解質と、固体電解質の両側面を夫々覆う電極と、一方の電極を覆う拡散抵抗層とを有すると共に排気ガスが該拡散抵抗層上に導かれる型式のセンサからなり、該排気浄化触媒の排気ガス流通表面上には貴金属触媒が担持されていると共に該貴金属触媒周りには塩基性の排気ガス流通表面部分が形成されており、該排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、該炭化水素濃度の振動周期を該予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、炭化水素供給弁から炭化水素が供給されると下流側空燃比センサにより検出される空燃比は炭化水素供給弁から炭化水素が供給されていないときに検出される基準空燃比に対してリッチ側に変化し、炭化水素供給弁から供給されて排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素の量を、上流側空燃比センサにより検出された空燃比と下流側空燃比センサにより検出された基準空燃比との空燃比差から検出するようにした内燃機関の排気浄化装置。炭化水素供給弁から供給されて排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素の量は上記空燃比差が大きくなるほど大きくなる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。機関運転時には排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度が上記予め定められた範囲内の周期でもって振動するように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射周期が制御されると共に、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が上記予め定められた範囲内の振幅となるように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量が制御され、上記空燃比差が予め定められた許容値よりも小さいときには、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が予め定められた範囲内の振幅となるように下流側空燃比センサの出力信号に基づいて炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量が制御され、該空燃比差が予め定められた許容値よりも大きいときには下流側空燃比センサの出力信号に基づく炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量の制御が禁止される請求項2に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記空燃比差が予め定められた許容値よりも小さいときには、炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量に対し、下流側空燃比センサにより検出されたリッチ側ピーク空燃比を予め記憶されている目標空燃比とするのに必要な補正値が学習されており、該空燃比差が予め定められた許容値よりも大きくなって下流側空燃比センサの出力信号に基づく炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量の制御が禁止されたときには、炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量が、学習されている補正値を用いて補正される請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。下流側空燃比センサの出力信号に基づく炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量の制御が禁止されているときに、上記補正値を再学習すべきであると判断されたときには、上記空燃比差が予め定められた許容値よりも小さくなるように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射作用を制御し、それによって上記補正値を再学習するようにした請求項4に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記補正値を再学習すべきときには炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射間隔が一時的に長くされるか、或いは炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射作用が一時的に停止される請求項5に記載の内燃機関の排気浄化装置。機関から排出される排気ガスの空燃比が予め定められた空燃比となるように、該上流側空燃比センサの出力信号に基づいて機関燃焼室に供給される燃料の量が制御される請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記排気浄化触媒内において排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とが反応して窒素および炭化水素を含む還元性中間体が生成され、上記炭化水素の噴射周期は還元性中間体を生成し続けるのに必要な周期である請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記炭化水素の噴射周期が0.3秒から5秒の間である請求項8に記載の内燃機関の排気浄化装置。炭化水素供給弁から供給されて排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素の量が予め定められた限界値を超えたときには、排気浄化触媒が劣化したか、或いは炭化水素供給弁からの噴射量に異常があると判断される請求項2に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記貴金属触媒は白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記排気浄化触媒の排気ガス流通表面上にアルカリ金属又はアルカリ土類金属又は希土類又はNOXに電子を供与しうる金属を含む塩基性層が形成されており、該塩基性層の表面が上記塩基性の排気ガス流通表面部分を形成している請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。本発明の目的は、簡便な方法によって炭化水素のすり抜け量を検出することのできる内燃機関の排気浄化装置を提供することにある。本発明によれば、炭化水素を供給するための炭化水素供給弁を機関排気通路内に配置し、炭化水素供給弁上流の機関排気通路内に排気ガスの空燃比を検出するための上流側空燃比センサを配置し、炭化水素供給弁下流の機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を配置し、排気浄化触媒下流の機関排気通路内に排気ガスの空燃比を検出するための下流側空燃比センサを配置し、下流側空燃比センサが固体電解質と、固体電解質の両側面を夫々覆う電極と、一方の電極を覆う拡散抵抗層とを有すると共に排気ガスが拡散抵抗層上に導かれる型式のセンサからなり、排気浄化触媒の排気ガス流通表面上には貴金属触媒が担持されていると共に貴金属触媒周りには塩基性の排気ガス流通表面部分が形成されており、排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期を予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、炭化水素供給弁から炭化水素が供給されると下流側空燃比センサにより検出される空燃比は炭化水素供給弁から炭化水素が供給されていないときに検出される基準空燃比に対してリッチ側に変化し、炭化水素供給弁から供給されて排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素の量を、上流側空燃比センサにより検出された空燃比と下流側空燃比センサにより検出された基準空燃比との空燃比差から検出するようにした内燃機関の排気浄化装置が提供される。上流側空燃比センサと下流側空燃比センサの出力信号から炭化水素のすり抜け量を検出することができる。図1に圧縮着火式内燃機関の全体図を示す。図1を参照すると、1は機関本体、2は各気筒の燃焼室、3は各燃焼室2内に夫々燃料を噴射するための電子制御式燃料噴射弁、4は吸気マニホルド、5は排気マニホルドを夫々示す。吸気マニホルド4は吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に連結され、コンプレッサ7aの入口は吸入空気量検出器8を介してエアクリーナ9に連結される。吸気ダクト6内にはステップモータにより駆動されるスロットル弁10が配置され、更に吸気ダクト6周りには吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置11内に導かれ、機関冷却水によって吸入空気が冷却される。一方、排気マニホルド5は排気ターボチャージャ7の排気タービン7bの入口に連結される。排気タービン7bの出口は排気管12aを介して排気浄化触媒13の入口に連結され、排気浄化触媒13の出口は排気管12bを介して、排気ガス中に含まれるパティキュレートを捕集するためのパティキュレートフィルタ14に連結される。排気浄化触媒13上流の排気管12a内には圧縮着火式内燃機関の燃料として用いられる軽油その他の燃料からなる炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15が配置される。図1に示される実施例では炭化水素供給弁15から供給される炭化水素として軽油が用いられている。なお、本発明はリーン空燃比のもとで燃焼の行われる火花点火式内燃機関にも適用することができる。この場合、炭化水素供給弁15からは火花点火式内燃機関の燃料として用いられるガソリンその他の燃料からなる炭化水素が供給される。一方、排気マニホルド5と吸気マニホルド4とは排気ガス再循環以下、EGRと称す通路16を介して互いに連結され、EGR通路16内には電子制御式EGR制御弁17が配置される。また、EGR通路16周りにはEGR通路16内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置18が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置18内に導かれ、機関冷却水によってEGRガスが冷却される。一方、各燃料噴射弁3は燃料供給管19を介してコモンレール20に連結され、このコモンレール20は電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ21を介して燃料タンク22に連結される。燃料タンク22内に貯蔵されている燃料は燃料ポンプ21によってコモンレール20内に供給され、コモンレール20内に供給された燃料は各燃料供給管19を介して燃料噴射弁3に供給される。電子制御ユニット30はデジタルコンピュータからなり、双方向性バス31によって互いに接続されたROMリードオンリメモリ32、RAMランダムアクセスメモリ33、CPUマイクロプロセッサ34、入力ポート35および出力ポート36を具備する。炭化水素供給弁15上流の排気管12a内には、機関から排出された排気ガスの空燃比を検出するための上流側空燃比センサ23が配置されており、排気浄化触媒13下流の排気管12b内には、排気浄化触媒13から流出した排気ガスの空燃比を検出するための下流側空燃比センサ24が配置されている。また、排気浄化触媒13の下流には排気浄化触媒13の温度を検出するための温度センサ25が配置されており、パティキュレートフィルタ14にはパティキュレートフィルタ14の前後の差圧を検出するための差圧センサ26が取付けられている。これら上流側空燃比センサ23、下流側空燃比センサ24、温度センサ25、差圧センサ26および吸入空気量検出器8の出力信号は夫々対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル40にはアクセルペダル40の踏込み量Lに比例した出力電圧を発生する負荷センサ41が接続され、負荷センサ41の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。更に入力ポート35にはクランクシャフトが例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ42が接続される。一方、出力ポート36は対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁3、スロットル弁10の駆動用ステップモータ、炭化水素供給弁15、EGR制御弁17および燃料ポンプ21に接続される。図2は排気浄化触媒13の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。この排気浄化触媒13では図2に示されるように例えばアルミナからなる触媒担体50上には貴金属触媒51,52が担持されており、更にこの触媒担体50上にはカリウムK、ナトリウムNa、セシウムCsのようなアルカリ金属、バリウムBa、カルシウムCaのようなアルカリ土類金属、ランタノイドのような希土類および銀Ag、銅Cu、鉄Fe、イリジウムIrのようなNOXに電子を供与しうる金属から選ばれた少なくとも一つを含む塩基性層53が形成されている。排気ガスは触媒担体50上に沿って流れるので貴金属触媒51,52は排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上に担持されていると言える。また、塩基性層53の表面は塩基性を呈するので塩基性層53の表面は塩基性の排気ガス流通表面部分54と称される。一方、図2において貴金属触媒51は白金Ptからなり、貴金属触媒52はロジウムRhからなる。即ち、触媒担体50に担持されている貴金属触媒51,52は白金PtおよびロジウムRhから構成されている。なお、排気浄化触媒13の触媒担体50上には白金PtおよびロジウムRhに加えて更にパラジウムPdを担持させることができるし、或いはロジウムRhに代えてパラジウムPdを担持させることができる。即ち、触媒担体50に担持されている貴金属触媒51,52は白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される。炭化水素供給弁15から排気ガス中に炭化水素が噴射されるとこの炭化水素は排気浄化触媒13において改質される。本発明ではこのとき改質された炭化水素を用いて排気浄化触媒13においてNOXを浄化するようにしている。図3はこのとき排気浄化触媒13において行われる改質作用を図解的に示している。図3に示されるように炭化水素供給弁15から噴射された炭化水素HCは触媒51によって炭素数の少ないラジカル状の炭化水素HCとなる。図4は炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給タイミングと排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化とを示している。なお、この空燃比A/Finの変化は排気浄化触媒13に流入する排気ガス中の炭化水素の濃度変化に依存しているので図4に示される空燃比A/Finの変化は炭化水素の濃度変化を表しているとも言える。ただし、炭化水素濃度が高くなると空燃比A/Finは小さくなるので図4においては空燃比A/Finがリッチ側となるほど炭化水素濃度が高くなっている。図5は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させることによって図4に示されるように排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finを変化させたときの排気浄化触媒13によるNOX浄化率を排気浄化触媒13の各触媒温度TCに対して示している。本発明者は長い期間に亘ってNOX浄化に関する研究を重ねており、その研究課程において、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、図5に示されるように400°C以上の高温領域においても極めて高いNOX浄化率が得られることが判明したのである。更にこのときには窒素および炭化水素を含む多量の還元性中間体が塩基性層53の表面上に、即ち排気浄化触媒13の塩基性排気ガス流通表面部分54上に保持又は吸着され続けており、この還元性中間体が高NOX浄化率を得る上で中心的役割を果していることが判明したのである。次にこのことについて図6Aおよび6Bを参照しつつ説明する。なお、これら図6Aおよび6Bは排気浄化触媒13の触媒担体50の表面部分を図解的に示しており、これら図6Aおよび6Bには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動せしめたときに生ずると推測される反応が示されている。図6Aは排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低いときを示しており、図6Bは炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されて排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が高くなっているときを示している。さて、図4からわかるように排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比は一瞬を除いてリーンに維持されているので排気浄化触媒13に流入する排気ガスは通常酸素過剰の状態にある。従って排気ガス中に含まれるNOは図6Aに示されるように白金51上において酸化されてNO2となり、次いでこのNO2は更に酸化されてNO3となる。また、NO2の一部はNO2-となる。この場合、NO3の生成量の方がNO2-の生成量よりもはるかに多い。従って白金Pt51上には多量のNO3と少量のNO2-が生成されることになる。これらNO3およびNO2-は活性が強く、以下これらNO3およびNO2-を活性NOXと称する。一方、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されると図3に示されるようにこの炭化水素は排気浄化触媒13内において改質され、ラジカルとなる。その結果、図6Bに示されるように活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなる。ところで活性NOXが生成された後、活性NOX周りの酸素濃度が高い状態が一定時間以上継続すると活性NOXは酸化され、硝酸イオンNO3-の形で塩基性層53内に吸収される。しかしながらこの一定時間が経過する前に活性NOX周りの炭化水素濃度が高くされると図6Bに示されるように活性NOXは白金51上においてラジカル状の炭化水素HCと反応し、それにより還元性中間体が生成される。この還元性中間体は塩基性層53の表面上に付着又は吸着される。なお、このとき最初に生成される還元性中間体はニトロ化合物R-NO2であると考えられる。このニトロ化合物R-NO2は生成されるとニトリル化合物R-CNとなるがこのニトリル化合物R-CNはその状態では瞬時しか存続し得ないのでただちにイソシアネート化合物R-NCOとなる。このイソシアネート化合物R-NCOは加水分解するとアミン化合物R-NH2となる。ただしこの場合、加水分解されるのはイソシアネート化合物R-NCOの一部であると考えられる。従って図6Bに示されるように塩基性層53の表面上に保持又は吸着されている還元性中間体の大部分はイソシアネート化合物R-NCOおよびアミン化合物R-NH2であると考えられる。一方、図6Bに示されるように生成された還元性中間体の周りを炭化水素HCが取り囲んでいると還元性中間体は炭化水素HCに阻まれてそれ以上反応が進まない。この場合、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低下せしめられ、それによって酸素濃度が高くなると還元性中間体周りの炭化水素は酸化せしめられる。その結果、図6Aに示されるように還元性中間体と活性NOXとが反応するようになる。このとき活性NOXは還元性中間体R-NCOやR-NH2と反応してN2,CO2,H2Oとなり、斯くしてNOXが浄化されることになる。このように排気浄化触媒13では、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を高くすることにより還元性中間体が生成され、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を低くして酸素濃度を高くすることにより活性NOXが還元性中間体と反応し、NOXが浄化される。即ち、排気浄化触媒13によりNOXを浄化するには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させる必要がある。無論、この場合、還元性中間体を生成するのに十分高い濃度まで炭化水素の濃度を高める必要があり、生成された還元性中間体を活性NOXと反応させるのに十分低い濃度まで炭化水素の濃度を低下させる必要がある。即ち、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅で振動させる必要がある。なお、この場合、生成された還元性中間体が活性NOXと反応するまで、十分な量の還元性中間体R-NCOやR-NH2を塩基性層53上に、即ち塩基性排気ガス流通表面部分54上保持しておかなければならず、そのために塩基性の排気ガス流通表面部分54が設けられている。一方、炭化水素の供給周期を長くすると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給されるまでの間において酸素濃度が高くなる期間が長くなり、従って活性NOXは還元性中間体を生成することなく硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されることになる。これを回避するためには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の周期でもって振動させることが必要となる。そこで本発明による実施例では、排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させて窒素および炭化水素を含む還元性中間体R-NCOやR-NH2を生成するために排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上には貴金属触媒51,52が担持されており、生成された還元性中間体R-NCOやR-NH2を排気浄化触媒13内に保持しておくために貴金属触媒51,52周りには塩基性の排気ガス流通表面部分54が形成されており、塩基性の排気ガス流通表面部分54上に保持された還元性中間体R-NCOやR-NH2の還元作用によりNOXが還元され、炭化水素濃度の振動周期は還元性中間体R-NCOやR-NH2を生成し続けるのに必要な振動周期とされる。因みに図4に示される例では噴射間隔が3秒とされている。炭化水素濃度の振動周期、即ち炭化水素HCの供給周期を上述の予め定められた範囲内の周期よりも長くすると塩基性層53の表面上から還元性中間体R-NCOやR-NH2が消滅し、このとき白金Pt53上において生成された活性NOXは図7Aに示されるように硝酸イオンNO3-の形で塩基性層53内に拡散し、硝酸塩となる。即ち、このときには排気ガス中のNOXは硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されることになる。一方、図7BはこのようにNOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されているときに排気浄化触媒13内に流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比又はリッチにされた場合を示している。この場合には排気ガス中の酸素濃度が低下するために反応が逆方向NO3-→NO2に進み、斯くして塩基性層53内に吸収されている硝酸塩は順次硝酸イオンNO3-となって図7Bに示されるようにNO2の形で塩基性層53から放出される。次いで放出されたNO2は排気ガス中に含まれる炭化水素HCおよびCOによって還元される。図8は塩基性層53のNOX吸収能力が飽和する少し前に排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finを一時的にリッチにするようにした場合を示している。なお、図8に示す例ではこのリッチ制御の時間間隔は1分以上である。この場合には排気ガスの空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層53内に吸収されたNOXは、排気ガスの空燃比A/Finが一時的にリッチにされたときに塩基性層53から一気に放出されて還元される。従ってこの場合には塩基性層53はNOXを一時的に吸収するための吸収剤の役目を果している。なお、このとき塩基性層53がNOXを一時的に吸着する場合もあり、従って吸収および吸着の双方を含む用語として吸蔵という用語を用いるとこのとき塩基性層53はNOXを一時的に吸蔵するためのNOX吸蔵剤の役目を果していることになる。即ち、この場合には、機関吸気通路、燃焼室2および排気浄化触媒13上流の排気通路内に供給された空気および燃料炭化水素の比を排気ガスの空燃比と称すると、排気浄化触媒13は、排気ガスの空燃比がリーンのときにはNOXを吸蔵し、排気ガス中の酸素濃度が低下すると吸蔵したNOXを放出するNOX吸蔵触媒として機能している。図9は、排気浄化触媒13をこのようにNOX吸蔵触媒として機能させたときのNOX浄化率を示している。なお、図9の横軸は排気浄化触媒13の触媒温度TCを示している。排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合には図9に示されるように触媒温度TCが300°Cから400°Cのときには極めて高いNOX浄化率が得られるが触媒温度TCが400°C以上の高温になるとNOX浄化率が低下する。このように触媒温度TCが400°C以上になるとNOX浄化率が低下するのは、触媒温度TCが400°C以上になると硝酸塩が熱分解してNO2の形で排気浄化触媒13から放出されるからである。即ち、NOXを硝酸塩の形で吸蔵している限り、触媒温度TCが高いときに高いNOX浄化率を得るのは困難である。しかしながら図4から図6A,6Bに示される新たなNOX浄化方法では図6A,6Bからわかるように硝酸塩は生成されず或いは生成されても極く微量であり、斯くして図5に示されるように触媒温度TCが高いときでも高いNOX浄化率が得られることになる。そこで本発明では、炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15を機関排気通路内に配置し、炭化水素供給弁15下流の機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒13を配置し、排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上には貴金属触媒51,52が担持されていると共に貴金属触媒51,52周りには塩基性の排気ガス流通表面部分54が形成されており、排気浄化触媒13は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期をこの予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、それにより排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒13において還元するようにしている。即ち、図4から図6A,6Bに示されるNOX浄化方法は、貴金属触媒を担持しかつNOXを吸収しうる塩基性層を形成した排気浄化触媒を用いた場合において、ほとんど硝酸塩を形成することなくNOXを浄化するようにした新たなNOX浄化方法であると言うことができる。実際、この新たなNOX浄化方法を用いた場合には排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合に比べて、塩基性層53から検出される硝酸塩は極く微量である。なお、この新たなNOX浄化方法を以下、第1のNOX浄化方法と称する。次に図10から図15を参照しつつこの第1のNOX浄化方法についてもう少し詳細に説明する。図10は図4に示される空燃比A/Finの変化を拡大して示している。なお、前述したようにこの排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化は同時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化を示している。なお、図10においてΔHは排気浄化触媒13に流入する炭化水素HCの濃度変化の振幅を示しており、ΔTは排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期を示している。更に図10においてA/Fbは機関出力を発生するための燃焼ガスの空燃比を示すベース空燃比を表している。言い換えるとこのベース空燃比A/Fbは炭化水素の供給を停止したときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比を表している。一方、図10においてXは、生成された活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸蔵されることなく還元性中間体の生成のために使用される空燃比A/Finの上限を表しており、活性NOXと改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるには空燃比A/Finをこの空燃比の上限Xよりも低くすることが必要となる。別の言い方をすると図10のXは活性NOXと改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるのに必要な炭化水素の濃度の下限を表しており、還元性中間体を生成するためには炭化水素の濃度をこの下限Xよりも高くする必要がある。この場合、還元性中間体が生成されるか否かは活性NOX周りの酸素濃度と炭化水素濃度との比率、即ち空燃比A/Finで決まり、還元性中間体を生成するのに必要な上述の空燃比の上限Xを以下、要求最小空燃比と称する。図10に示される例では要求最小空燃比Xがリッチとなっており、従ってこの場合には還元性中間体を生成するために空燃比A/Finが瞬時的に要求最小空燃比X以下に、即ちリッチにされる。これに対し、図11に示される例では要求最小空燃比Xがリーンとなっている。この場合には空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させることによって還元性中間体が生成される。この場合、要求最小空燃比Xがリッチになるかリーンになるかは排気浄化触媒13の酸化力による。この場合、排気浄化触媒13は例えば貴金属51の担持量を増大させれば酸化力が強まり、酸性を強めれば酸化力が強まる。従って排気浄化触媒13の酸化力は貴金属51の担持量や酸性の強さによって変化することになる。さて、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、空燃比A/Finが低下せしめられたときに炭化水素が完全に酸化されてしまい、その結果還元性中間体を生成することができなくなる。これに対し、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると空燃比A/Finがリッチにされたときに一部の炭化水素は完全に酸化されることなく部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして還元性中間体が生成されることになる。従って酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリッチにする必要がある。一方、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、一部の炭化水素は完全に酸化されずに部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして還元性中間体が生成される。これに対し、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると多量の炭化水素は酸化されることなく単に排気浄化触媒13から排出されることになり、斯くして無駄に消費される炭化水素量が増大することになる。従って酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリーンにする必要がある。即ち、要求最小空燃比Xは図12に示されるように排気浄化触媒13の酸化力が強くなるほど低下させる必要があることがわかる。このように要求最小空燃比Xは排気浄化触媒13の酸化力によってリーンになったり、或いはリッチになったりするが、以下要求最小空燃比Xがリッチである場合を例にとって、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅や排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期について説明する。さて、ベース空燃比A/Fbが大きくなると、即ち炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高くなると空燃比A/Finを要求最小空燃比X以下とするのに必要な炭化水素の供給量が増大し、それに伴って還元性中間体の生成に寄与しなかった余剰の炭化水素量も増大する。この場合、NOXを良好に浄化するためには前述したようにこの余剰の炭化水素を酸化させる必要があり、従ってNOXを良好に浄化するためには余剰の炭化水素量が多いほど多量の酸素が必要となる。この場合、排気ガス中の酸素濃度を高めれば酸素量を増大することができる。従ってNOXを良好に浄化するためには、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いときには炭化水素供給後の排気ガス中の酸素濃度を高める必要がある。即ち、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅を大きくする必要がある。図13は同一のNOX浄化率が得られるときの、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度と炭化水素濃度の振幅ΔHとの関係を示している。図13から同一のNOX浄化率を得るためには炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させる必要があることがわかる。即ち、同一のNOX浄化率を得るにはベース空燃比A/Fbが高くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを増大させることが必要となる。別の言い方をすると、NOXを良好に浄化するためにはベース空燃比A/Fbが低くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを減少させることができる。ところでベース空燃比A/Fbが最も低くなるのは加速運転時であり、このとき炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm程度あればNOXを良好に浄化することができる。ベース空燃比A/Fbは通常、加速運転時よりも大きく、従って図14に示されるように炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm以上であれば良好なNOX浄化率を得ることができることになる。一方、ベース空燃比A/Fbが最も高いときには炭化水素濃度の振幅ΔHを10000ppm程度にすれば良好なNOX浄化率が得られることがわかっている。従って本発明では炭化水素濃度の振幅の予め定められた範囲が200ppmから10000ppmとされている。また、炭化水素濃度の振動周期ΔTが長くなると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給される間、活性NOX周りの酸素濃度が高くなる。この場合、炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなると活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収され始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなるとNOX浄化率が低下することになる。従って炭化水素濃度の振動周期ΔTは5秒以下とする必要がある。一方、炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になると供給された炭化水素が排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上に堆積し始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になるとNOX浄化率が低下する。そこで本発明では炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間とされている。次に図16から図19を参照しつつ排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法について具体的に説明する。このように排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法を以下、第2のNOX浄化方法と称する。この第2のNOX浄化方法では図16に示されるように塩基性層53に吸蔵された吸蔵NOX量ΣNOXが予め定められた許容量MAXを越えたときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finが一時的にリッチにされる。排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされると排気ガスの空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層53内に吸蔵されたNOXが塩基性層53から一気に放出されて還元される。それによってNOXが浄化される。吸蔵NOX量ΣNOXは例えば機関から排出されるNOX量から算出される。本発明による実施例では機関から単位時間当り排出される排出NOX量NOXAが機関出力トルクTeおよび機関回転数Nの関数として図17に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されており、この排出NOX量NOXAから吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。この場合、前述したように排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされる周期は通常1分以上である。この第2のNOX浄化方法では図18に示されるように燃焼室2内に燃料噴射弁3から出力発生用燃料Qに加え、追加の燃料WRを噴射することによって排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされる。なお、図18の横軸はクランク角を示している。この追加の燃料WRは燃焼はするが機関出力となって現われない時期に、即ち圧縮上死点後ATDC90°の少し手前で噴射される。この燃料量WRは機関出力トルクTeおよび機関回転数Nの関数として図19に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。無論、この場合炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量を増大させることによって排気ガスの空燃比A/Finをリッチにすることもできる。さて、再び第1のNOX浄化方法についての説明に戻ると、第1のNOX浄化方法を用いてNOXを良好に浄化するためには前述したように炭化水素濃度の振幅ΔHおよび振動周期ΔTを適切に制御する必要がある。即ち、第1のNOX浄化方法を用いてNOXを良好に浄化するためには、排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finが要求最小空燃比X以下となるように炭化水素濃度の振幅ΔHを制御し、炭化水素濃度の振動周期ΔTを0.3秒から5秒の間に制御する必要がある。この場合、本発明では炭化水素濃度の振幅ΔHは炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量を制御することに制御され、炭化水素濃度の振動周期ΔTは炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射周期を制御することによって制御される。この場合、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量は、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射時間又は噴射圧の少なくとも一方を制御することによって制御可能である。しかしながら以下、噴射圧を一定に保持しつつ噴射時間を制御することにより噴射量を制御するようにした場合を例にとって本発明についての説明を行うこととする。さて、本発明による実施例では、機関の運転状態に応じた最適なスロットル弁10の開度および最適なEGR制御弁17の開度が予め実験により求められており、更にスロットル弁10およびEGR制御弁17が夫々最適な開度とされているときに得られる最適なベース空燃比A/Fbも予め実験により求められている。図20Aにはこの実験により求められた最適なベース空燃比A/Fbが機関回転数Nおよび機関出力トルクTeの関数として示されている。なお、図20Aにおける各実線は、夫々数値で示されている空燃比の等空燃比線を表している。機関運転時には、機関から排出される排気ガスの空燃比が図20Aに示される最適なベース空燃比A/Fbとなるように、燃料噴射弁3からの燃料噴射量が制御される。なお、図20Aに示される最適なベース空燃比A/Fbは、機関回転数Nおよび機関出力トルクTeの関数として図20Bに示されるようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。また、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われているときに最も高いNOX浄化率の得られる最適な炭化水素噴射周期△Tと最適な炭化水素噴射時間WTとが実験により予め求められている。図21Aにはこの実験により求められた最適な炭化水素噴射周期△Tが機関回転数Nおよび機関出力トルクTeの関数として示されている。なお、図21Aにおける各実線は等炭化水素噴射周期を示している。図21Aからわかるように、最適な炭化水素噴射周期△Tは機関回転数Nが低くなるほど短くなり、機関出力トルクTeが高くなるほど短くなる。図21Aに示される最適な炭化水素噴射周期△Tは、機関回転数Nおよび機関出力トルクTeの関数として図21Bに示されるようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。また、実験により求められた最適な炭化水素噴射時間WTも、機関回転数Nおよび機関出力トルクTeの関数として図20Cに示されるようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。図22Aは、炭化水素噴射周期を図21Bに示される最適な炭化水素噴射周期△Tとし、炭化水素噴射時間を図21Cに示される最適な炭化水素噴射時間WTとしたときの排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化を示しており、図22Bはこのとき下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化を示している。なお、図22Bは下流側空燃比センサ24が全く被毒していないときの空燃比の変化を示している。図22Aおよび図22Bからわかるように、排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finのリッチ側ピーク空燃比A/Frはリッチになっているのに対し、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比のリッチ側ピーク空燃比A/Fpはリーンとなっている。これは、供給された炭化水素の一部が排気浄化触媒13に一旦付着した後に時間差をもって蒸発し、それにより排気浄化触媒13から流出する排気ガスの空燃比の変化が平滑化されるので空燃比のピーク値が小さくなるからであると考えられる。炭化水素噴射周期が図21Bに示される最適な炭化水素噴射周期△Tとされ、炭化水素噴射時間が図21Cに示される最適な炭化水素噴射時間WTとされたときに下流側空燃比センサ24により検出されるリッチ側ピーク空燃比A/Fpは予め実験により求められており、予め実験により求められているこのリッチ側ピーク空燃比A/Fpは、目標ピーク空燃比A/Ftとして各機関運転状態に対し予め記憶されている。本発明の実施例では、この目標ピーク空燃比A/Ftは機関回転数Nおよび機関出力トルクTeの関数として図23に示されるようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。次に、本発明において用いられている上流側空燃比センサ23および下流側空燃比センサ24の構造について簡単に説明する。なお、これらの上流側空燃比センサ23および下流側空燃比センサ24は同じ構造を有しており、図24Aはこれら空燃比センサ23、24の構造を概略的に示している。図24Aを参照すると、空燃比センサ23、24のセンサ部60は、ジルコニアZrからなる薄肉カップ状の固体電解質61と、固体電解質61の内周面を覆う白金薄膜電極62と、固体電解質61の外周面を覆う白金薄膜電極63と、電極63の周りを覆うアルミナからなる拡散抵抗層64とに構成されており、このセンサ部60は多数の孔65を有する保護カバー66により覆われている。このセンサ部60は排気ガス中に配置されており、排気ガスは孔65を通って拡散抵抗層64上に導かれる。図24Aに示されるように、電極62と63間には一定電圧Eが印加されており、このとき電極62と63間には排気ガスの空燃比に応じて図24Bに示されるような電流Iが流れる。本発明ではこの電流値Iから図24Bに示される関係に基づいて空燃比が求められる。即ち、空燃比センサ23、24の出力から空燃比が検出される。図25Aは、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われているときの、上流側空燃比センサ23により検出された排気ガスの空燃比AFR1の変化と、下流側空燃比センサ24により検出された排気ガスの空燃比AFR2の変化とを示している。上流側空燃比センサ23は炭化水素供給弁15の上流側に位置しているので炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給作用の影響は受けず、従って図25Aに示されるように上流側空燃比センサ23により検出された排気ガスの空燃比AFR1はベース空燃比A/Fbとなっている。これに対し、下流側空燃比センサ24により検出される排気ガスの空燃比AFR2は炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されるとそれに応じて変化する。即ち、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されると、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2は、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されていないときに検出される基準空燃比AFRBに対してRSで示されるようにリッチ側に変化する。従って、炭化水素供給弁15から間隔をおいて炭化水素が供給されると、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2は図25Aに示されるように、基準空燃比AFRBを基準として間隔をおいてリッチ側に変化することになる。ところがこの場合、図25Aに示されるように、上流側空燃比センサ23により検出される空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2の基準空燃比AFRBとの間で空燃比差ΔAFRが生じ、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2の基準空燃比AFRBが上流側空燃比センサ23により検出される空燃比AFR1よりもリッチ側になることが判明したのである。その理由は次のように考えられる。即ち、炭化水素供給弁15からは軽油のような分子量の大きな炭化水素が供給され、この炭化水素供給弁15から供給された炭化水素は排気浄化触媒13内において酸化或いは部分酸化される。しかしながら実際には、炭化水素供給弁15から供給された全ての炭化水素が酸化或いは部分酸化されるわけではなく、一部の炭化水素は酸化或いは部分酸化されることなく排気浄化触媒13をすり抜けてしまう。従って下流側空燃比センサ24には排気浄化触媒13をすり抜けた分子量の大きな炭化水素が流入することになる。ところで、図24Aに示される空燃比センサでは、排気ガス中に含まれる酸素および炭化水素が拡散抵抗層64内を拡散して電極63に達し、電極63上において炭化水素の酸化作用が行われ、このとき酸素が過剰であれば酸素イオンが固体電解質61内を電極63から62に向けて移動し、このとき酸素が不足していれば酸素イオンが固体電解質61内を電極62から63に向けて移動し、それにより発生する電流Iによって空燃比が検出される。一方、下流側空燃比センサ24におけるように、空燃比センサに分子量の大きな炭化水素が流入すると一部の炭化水素は上述したように拡散抵抗層64内を拡散して電極63に達するが、一部の炭化水素は分子量の大きいために一旦拡散抵抗層64の表面上に堆積する。次いでこの一旦堆積した分子量の大きな炭化水素は徐々に拡散抵抗層64内を拡散して電極63上に達する。その結果、下流側空燃比センサ24においては炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給後でも排気ガス中に依然として多くの炭化水素が含まれていると判断され、従って下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2の基準空燃比AFRBは上流側空燃比センサ23により検出される空燃比AFR1よりもリッチ側となる。この場合、下流側空燃比センサ24への炭化水素の付着量が増大するほど、上流側空燃比センサ23により検出される空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2の基準空燃比AFRBとの空燃比差ΔAFRが大きくなる。一方、排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素量が増大するほど下流側空燃比センサ24への炭化水素の付着量が増大する。従って、図25Bに示されるように、排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素量WSが増大するほど空燃比差ΔAFRが大きくなることがわかる。即ち、空燃比差ΔAFRに基づいて排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素量を検出できることになる。そこで本発明では、炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15を機関排気通路内に配置し、炭化水素供給弁15上流の機関排気通路内に排気ガスの空燃比を検出するための上流側空燃比センサ23を配置し、炭化水素供給弁15下流の機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒13を配置し、排気浄化触媒13下流の機関排気通路内に排気ガスの空燃比を検出するための下流側空燃比センサ24を配置し、下流側空燃比センサ24が固体電解質61と、固体電解質61の両側面を夫々覆う電極62,63と、一方の電極63を覆う拡散抵抗層64とを有すると共に排気ガスが拡散抵抗層64上に導かれる型式のセンサからなり、排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上には貴金属触媒51,52が担持されていると共に貴金属触媒51,52周りには塩基性の排気ガス流通表面部分54が形成されており、排気浄化触媒13は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期を予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されると下流側空燃比センサ24により検出される空燃比は炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されていないときに検出される基準空燃比AFRBに対してリッチ側に変化し、炭化水素供給弁15から供給されて排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素の量WSを、上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出された基準空燃比AFRBとの空燃比差ΔAFRから検出するようにしている。この場合、図25Aに示されるように、炭化水素供給弁15から供給されて排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素の量WSは空燃比差ΔAFRが大きくなるほど大きくなる。さて、排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素量WSは種々の原因によって増大する。例えば、排気浄化触媒13が劣化すると炭化水素を部分酸化或いは酸化する能力が低下するために排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素量WS増大する。また、炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量が何らかの原因により異常に増大したときにも排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素量WSが増大する。そこで、本発明による実施例では、炭化水素供給弁15から供給されて排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素の量WSが予め定められた限界値を超えたときには、排気浄化触媒13が劣化したか、或いは炭化水素供給弁15からの噴射量に異常があると判断される。次に、空燃比差ΔAFRを検出するための代表的な二つの方法について、図26Aを参照しつつ説明する。第一の方法は、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2のうちで基準空燃比AFRBとなる期間I図26Aを選別し、この期間I内において、上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBとの差又はこれら差の平均値から空燃比差ΔAFRを検出する方法である。第二の方法は、図26Aにおいて破線Wtで示される炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射時期に対して時間ftだけ遅れた時期Stに、上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBから空燃比差ΔAFRを検出する方法である。この場合、排気ガスの流速が速くなるほど、即ち吸入空気量が多いほど、空燃比差ΔAFRを検出し得る時間ftは短くなる。この時間ftは予め実験により求められており、この時間ftは図26Bに示されるように吸入空気量GAの関数として予め記憶されている。図27は機関の運転全般についての運転制御ルーチンを示している。なお、このルーチンは一定時間毎の割込みによって実行される。図27を参照するとまず初めにステップ60において温度センサ25の出力信号から排気浄化触媒13の温度TCが活性化温度TCOを越えているか否かが判別される。TC<TCOのとき、即ち排気浄化触媒13が活性化していないときには第2のNOX浄化方法を用いるべきであると判断され、ステップ61に進む。ステップ61では図17に示すマップから単位時間当りの排出NOX量NOXAが算出される。次いでステップ62ではΣNOXに排出NOX量NOXAを加算することによって吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。次いでステップ63では吸蔵NOX量ΣNOXが許容値MAXを越えたか否かが判別される。ステップ63においてΣNOX≦MAXであると判断されたときにはステップ64に進んで燃料噴射弁3からの燃料噴射処理が行われる。このときには機関の運転状態から定まる予め定められたリーン空燃比となるように燃料噴射弁3から燃料が噴射される。これに対し、ステップ63においてΣNOX>MAXであると判別されたときにはステップ65に進んでリッチ制御Iが行われる。即ち、図19に示すマップから追加の燃料量WRが算出され、追加の燃料の噴射作用が行われる。このとき排気浄化触媒13から吸蔵されたNOXが放出される。次いでステップ66ではΣNOXがクリアされる。一方、ステップ60においてTC≧TCoになったと判断されたとき、即ち排気浄化触媒13が活性化したときにはステップ67に進み、前回の割り込み時にはTC<TCoであったか否かが判別される。前回の割り込み時にはTC<TCoであったとき、即ち、今排気浄化触媒13が活性化したときにはステップ68に進んでリッチ制御IIが実行される。このときにも図19に示すマップから追加の燃料量WRが算出され、追加の燃料の噴射作用が行われて排気浄化触媒13から吸蔵されたNOXが放出される。次いでステップ69ではΣNOXがクリアされる。これに対し、前回の割り込み時にもTC≧TCoであったときには、即ち排気浄化触媒13が既に活性化しているときにはステップ70に進んで運転制御Iが実行される。この運転制御Iでは、本発明による第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われる。即ち、排気浄化触媒13が活性化していないときには第2のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われており、排気浄化触媒13が活性化すると第2のNOX浄化方法から第1のNOX浄化方法へ切り替えられる。第2のNOX浄化方法から第1のNOX浄化方法に切り替えられたときに排気浄化触媒13にNOXが吸蔵していると、排気浄化触媒13から吸蔵されているNOXが還元されることなく一気に放出される。従って図25に示す例では、このように排気浄化触媒13から吸蔵されているNOXが還元されることなく一気に放出されるのを阻止するために、第2のNOX浄化方法から第1のNOX浄化方法に切り替えられる直前にステップ68において第2のNOX浄化方法により排気浄化触媒13から吸蔵NOXを放出させるためのリッチ制御IIが行われる。次に、ステップ70において行われる運転制御I、即ち第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用について説明する。図28および図29はこの運転制御Iの第一実施例を示している。なお、この第一実施例では、図26Aを参照しつつ説明した第一の方法により空燃比差ΔAFRを求めるようにした場合が示されている。図28を参照すると、まず初めにステップ80において図20Bに示されるマップからベース空燃比の目標値、即ち目標空燃比A/Fbが算出される。次いでステップ81では吸入空気量検出器8の出力信号から吸入空気量GAが算出される。次いでステップ82ではこれら目標空燃比A/Fbおよび吸入空気量GAからベース空燃比を目標空燃比A/Fbにするのに必要な燃料噴射弁3からの出力発生用燃料噴射量Qが算出される。次いでステップ83ではこの燃料噴射量Qから燃料噴射時間QTが算出され、次いでステップ84ではこの燃料噴射時間QTに従って燃料噴射弁3から燃料を噴射する燃料噴射処理が行われる。次いでステップ85では図21Bに示されるマップから最適な炭化水素噴射周期△Tが算出される。次いでステップ86では図21Cに示されるマップから最適な炭化水素噴射時間WTが算出される。次いでステップ87では炭化水素噴射時間WTに従って炭化水素供給弁15から炭化水素を噴射する炭化水素噴射処理が行われる。次いでステップ88では、上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1および下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2が読み込まれる。次いでステップ89では、上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1から下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2を減算することによって空燃比差ΔAFR=AFR1-AFR2が算出される。次いでステップ90では、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2が基準空燃比AFRBであるか否かを判別するために、前回の割り込み時と今回の割り込み時との空燃比差ΔAFRの変化量dAFRが算出される。次いでステップ91では、空燃比差ΔAFRの変化量dAFRの絶対値が予め定められた小さな値dXよりも小さいか否かが判別される。空燃比差ΔAFRの変化量dAFRの絶対値がdXよりも大きいとき、即ち下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2が図25AにおいてRSで示されるように急激に変化しているときには処理サイクルを完了する。これに対し、空燃比差ΔAFRの変化量dAFRの絶対値がdXよりも小さいときには、即ち下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2の変動量が小さいときには、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2が基準空燃比AFRBであると判断され、ステップ92に進む。ステップ92では空燃比差ΔAFRをΣAFに加算することによって空燃比差ΔAFRの積算値ΣAFが算出される。次いでステップ93ではカウント値Nが1だけインクリメントされる。次いでステップ94ではカウント値Nが一定値Noに達したか否かが判別される。カウント値Nが一定値Noに達したときにはステップ95に進んで積算値ΣAFを一定値Noで除算することにより空燃比差ΔAFRの平均値ΔAFRMが算出される。この実施例ではこのようにして空燃比差ΔAFRの平均値ΔAFRMが算出され、従ってこの実施例ではこの空燃比差ΔAFRの平均値ΔAFRMから排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素量WSを算出できることになる。空燃比差ΔAFRの平均値ΔAFRMが算出されるとステップ96に進んでΣAFおよびNがクリアされる。次いでステップ97では空燃比差ΔAFRの平均値ΔAFRMが予め定められた限界値Woよりも大きいか否かが判別される。空燃比差ΔAFRの平均値ΔAFRMが限界値Woよりも大きいときにはステップ98に進んで、排気浄化触媒13が劣化しているか或いは炭化水素供給弁15に異常があることを示す警報が発せられる。次に、図27のステップ70において行われる運転制御1の第二実施例について説明する。さて、本発明による第1のNOX浄化方法によりNOX浄化作用が行われているときには、機関から排出される排気ガスの空燃比が図20Bに示される最適なベース空燃比A/Fbとなっておりかつ下流側空燃比センサ24により検出された空燃比のリッチ側ピーク空燃比A/Fpが図23に示される目標ピーク空燃比A/Ftとなっているときに、最大のNOx浄化率がえられる。従ってこの第二実施例では、上流側空燃比センサ23の出力信号に基づいて、機関から排出される排気ガスの空燃比が最適なベース空燃比A/Fbとなるように燃料噴射弁3からの燃料噴射量がフィードバック制御され、下流側空燃比センサ24の出力信号に基づいて、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比のリッチ側ピーク空燃比A/Fpが目標ピーク空燃比A/Ftとなるように炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量がフィードバック制御される。具体的に言うと、最適なベース空燃比A/Fbと吸入空気量GAから算出される燃料噴射量QTに補正係数Gを乗算することによって最終的な燃料噴射弁3からの燃料噴射量QTO=GQTが算出され、機関から排出される排気ガスの空燃比が最適なベース空燃比A/Fbとなるように補正係数Gの値がフィードバック制御される。即ち、機関から排出される排気ガスの空燃比を最適なベース空燃比A/Fbとするのに必要な補正係数Gの値を学習するようにしている。また、図21Cのマップから算出された最適な炭化水素噴射時間WTに補正係数Kを乗算することによって最終的な炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射時間WTO=KWTが算出され、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比のリッチ側ピーク空燃比A/Fpが目標ピーク空燃比A/Ftとなるように補正係数Kの値がフィードバック制御される。即ち、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比のリッチ側ピーク空燃比A/Fpを目標ピーク空燃比A/Ftとするのに必要な補正係数Kの値を学習するようにしている。ところで、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われているときに、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBが上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1に対してリッチ側にずれると、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比のリッチ側ピーク空燃比A/Fpもリッチ側にずれることになる。従ってこのとき下流側空燃比センサ24により検出された空燃比のリッチ側ピーク空燃比A/Fpが目標ピーク空燃比A/Ftとなるようにフィードバック制御を行うと、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量が最適な量からずれてしまい、その結果NOx浄化率が低下してしまうことになる。この場合、NOx浄化率が低下するのを阻止するためには、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBがリッチ側にずれたときには、即ち上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBとの空燃比差ΔAFRが予め定められた許容値AX、例えば0.3をこえたときには、下流側空燃比センサ24によりフィードバック制御を行うことを禁止することが必要である。そこで本発明による実施例では、機関運転時には排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の周期でもって振動するように炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射周期が制御されると共に、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が予め定められた範囲内の振幅となるように炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量が制御され、空燃比差ΔAFRが予め定められた許容値AXよりも小さいときには、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が予め定められた範囲内の振幅となるように下流側空燃比センサ24の出力信号に基づいて炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量が制御され、空燃比差Δが予め定められた許容値AXよりも大きいときには下流側空燃比センサ24の出力信号に基づく炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量の制御が禁止される。なおこの場合、前述したように、空燃比差ΔAFRが予め定められた許容値AXよりも小さいときには、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量に対し、下流側空燃比センサ24により検出されたリッチ側ピーク空燃比A/Fpを予め記憶されている目標空燃比A/Ftとするのに必要な補正係数Kの値、即ち補正値が学習されている。この場合、空燃比差ΔAFRが予め定められた許容値AXよりも大きくなって下流側空燃比センサ24の出力信号に基づく炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量の制御が禁止されても炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量を算出する際にはこの補正係数Kの値、即ち補正値が用いられ、従って下流側空燃比センサ24の出力信号に基づく炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量の制御が禁止されたときには、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量が、この補正係数Kの値、即ち学習されている補正値を用いて補正される。一方、下流側空燃比センサ24の出力信号に基づく炭化水素噴射量制御の禁止されている期間が長くなると補正係数Kの値を再学習する必要が生ずる。次にこの補正係数Kの値を再学習する方法について説明する。図30Aは、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用を開始したときおよび第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用を停止したときに、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化を示している。図30Aにおいてt1で示されるように第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が開始されると、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比AFR2の基準空燃比AFRBはベース空燃比A/Fbから離れて徐々にリッチ側となり、図30Aにおいてt2で示されるように第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が継続しているときには、基準空燃比AFRBはベース空燃比A/Fbに対してリッチ側にずれ続ける。一方、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が停止されると、図30Aにおいてt3で示されるように基準空燃比AFRBはベース空燃比A/Fbに向けて徐々に大きくなり、最終的にはベース空燃比A/Fbとなる。さて、補正係数Kの値を適切に再学習するためには、上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBとの空燃比差ΔAFRを許容値AXよりも小さくする必要がある。そこで本発明による実施例では、下流側空燃比センサ24の出力信号に基づく炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量の制御が禁止されているときに、補正係数Kの値、即ち補正値を再学習すべきであると判断されたときには、空燃比差ΔAFRが予め定められた許容値AXよりも小さくなるように炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射作用を制御し、それによって補正係数Kの値、即ち補正値を再学習するようにしている。なお、図30Aからわかるように、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用をt3時間停止すると、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBはベース空燃比A/Fbとなり、従って上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBとの空燃比差ΔAFRが許容値AXよりも小さくなる。従って、本発明による一実施例では、補正係数Kの値を再学習すべきときには、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用がt3時間停止される。また、図30Bに示されるように、補正係数Kの値を再学習すべきときに、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射周期を長くしても上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBとの空燃比差ΔAFRが許容値AXより小さくなる。従って、本発明による実施例では、補正係数Kの値、即ち補正値を再学習すべきときには図30Bに示されるように炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射間隔が一時的に長くされるか、或いは図30Aのt3で示されるように炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射作用が一時的に停止される。図31および図32は運転制御Iの第二実施例を実行するためのルーチンを示している。なお、この第二実施例では、図26Bを参照しつつ説明した第2の方法により空燃比差ΔAFRが求められ、補正係数Kの値を再学習するときには第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用を一時的に停止するようにした場合が示されている。図31を参照すると、まず初めにステップ100において図20Bに示されるマップからベース空燃比の目標値、即ち目標空燃比A/Fbが算出される。次いでステップ101では吸入空気量検出器8の出力信号から吸入空気量GAが算出される。次いでステップ102ではこれら目標空燃比A/Fbおよび吸入空気量GAからベース空燃比を目標空燃比A/Fbにするのに必要な燃料噴射弁3からの出力発生用燃料噴射量Qが算出される。次いでステップ103ではこの燃料噴射量Qから燃料噴射時間QTが算出される。次いでステップ104では上流側空燃比センサ23の出力に基づいて、機関から排出された排気ガスの実際の空燃比AFR1が検出される。次いでステップ105では実際の空燃比AFR1が目標空燃比A/Fbに小さな一定値βを加算した値よりも大きいか否かが判別される。AFR1>A/Fbβのときにはステップ106に進んで燃料噴射時間QTに対する補正係数Gに一定値ΔGが加算される。次いでステップ106に進んで燃料噴射時間QTに補正係数Gを乗算した値GQTが最終的な燃料噴射時間QTOとされる。一方、ステップ105においてAFR1>A/Fbβではないと判断されたときにはステップ107に進んで機関から排出された排気ガスの実際の空燃比AFR1が目標ピーク空燃比A/Fbから一定値βを減算した値よりも小さいか否かが判別される。AFR1<A/Fb-βのときにはステップ108に進んで補正係数Gから一定値ΔGが減算され、ステップ109に進む。次いでステップ110では燃料噴射時間QTOに従って燃料噴射弁3から燃料を噴射する燃料噴射処理が行われる。このようにこの実施例ではAFR1>A/Fbβのときには燃料噴射時間が増大され、AFR1A/Fb-βのときには燃料噴射時間が減少せしめられるので機関から排出された排気ガスの実際の空燃比、即ち実際のベース空燃比AFR1が目標ベース空燃比A/Fbに一致せしめられることになる。次いでステップ111では図21Bに示されるマップから最適な炭化水素噴射周期△Tが算出される。次いでステップ112では図21Cに示されるマップから最適な炭化水素噴射時間WTが算出される。次いでステップ113ではフィードバック制御禁止フラグがセットされているか否かが判別される。このフィードバック制御禁止フラグは、上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBとの空燃比差ΔAFRが許容値AXよりも小さいときにはリセットされている。フィードバック制御禁止フラグがリセットされているとき、即ち空燃比差ΔAFRが許容値AXよりも小さいときにはステップ114に進んで図23に示されるマップから目標ピーク空燃比A/Ftが算出される。次いでステップ115では下流側空燃比センサ24の出力から実際のリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。次いでステップ116では実際のリッチ側ピーク空燃比A/Fpが目標ピーク空燃比A/Ftに小さな一定値αを加算した値よりも大きいか否かが判別される。A/Fp>A/Ftαのときにはステップ117に進んで炭化水素噴射時間WTに対する補正係数Kに一定値ΔKが加算される。次いでステップ120に進んで炭化水素噴射時間WTに補正係数Kを乗算した値KWTが最終的な炭化水素噴射時間WTOとされる。一方、ステップ116においてA/Fp>A/Ftαではないと判断されたときにはステップ118に進んで実際のリッチ側ピーク空燃比A/Fpが目標ピーク空燃比A/Ftから一定値αを減算した値よりも小さいか否かが判別される。A/Fp<A/Ft-αのときにはステップ119に進んで補正係数Kから一定値ΔKが減算され、ステップ120に進む。次いでステップ121では最終的な炭化水素噴射時間WTOに従って炭化水素供給弁15から炭化水素を噴射する炭化水素噴射処理が行われる。このようにA/Fp>A/Ftαのときには炭化水素噴射時間が増大され、A/Fp<A/Ft-αのときには炭化水素噴射時間が減少せしめられるので実際のリッチ側ピーク空燃比A/Fpが目標ピーク空燃比A/Ftに一致せしめられることになる。一方、ステップ113においてフィードバック制御禁止フラグがセットされていると判断されたときには、ステップ120にジャンプし、最終的な炭化水素噴射時間WTO=KWTが算出される。このときには下流側空燃比センサ24の出力信号に基づく炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量のフィードバック制御は禁止され、学習されている補正係数Kの値を用いて最終的な炭化水素噴射時間WTOが算出される。図33はフィードバック制御禁止フラグを制御するためのルーチンを示している。このルーチンは一定時間毎の割込みによって実行される。図33を参照すると、まず初めにステップ130において炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射作用が行われてから時間ftが経過したか否かが判別される。なお、この時間ftは図26Bに示す関係から求められる。炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射作用が行われてから時間ftが経過していないときには処理サイクルを完了する。これに対し、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射作用が行われてから時間ftが経過したときにはステップ131に進んで上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1および下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2が読み込まれる。次いでステップ132では、上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1から下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2を減算することによって空燃比差ΔAFR=AFR1-AFR2が算出される。なお、このとき下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2は基準空燃比AFRBを表している。次いでステップ133では、上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBとの空燃比差ΔAFRが許容値AXよりも小さいか否かが判別される。空燃比差ΔAFRが許容値AXよりも小さいときにはステップ134に進んでフィードバック制御禁止フラグがリセットされ、次いで処理サイクルを完了する。従ってこのときには、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2に基づいて炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量がフィードバック制御される。これに対し、ステップ133においての空燃比差ΔAFRが許容値AXよりも大きいと判別されたステップ135に進んでフィードバック制御禁止フラグがセットされる。従ってこのときには、下流側空燃比センサ24による炭化水素供給弁15からの炭化水素噴射量のフィードバック制御が停止される。次いでステップ136に進んで補正係数Kの値を再学習すべき時期であるか否かが判別される。例えば、フィードバック制御が禁止されてから一定時間が経過しかつ補正係数Kの値を学習するのに適した運転状態のとき、或いはフィードバック制御が禁止されてから車両が一定走行距離以上走行しかつ補正係数Kの値を学習するのに適した運転状態のときに補正係数Kの値を再学習すべき時期であると判別される。ステップ136において補正係数Kの値を再学習すべき時期ではないと判別されたときには処理サイクルを完了する。これに対し、ステップ136において補正係数Kの値を再学習すべき時期であると判別されたときにはステップ137に進み、図30Aおいてt3で示される期間、炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給が停止される。このように炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給が停止されると、上流側空燃比センサ23により検出された空燃比AFR1と下流側空燃比センサ24により検出された空燃比AFR2の基準空燃比AFRBとの空燃比差ΔAFRは許容値AXよりも小さくなり、フィードバック制御禁止フラグがリセットされる。その結果補正係数Kの値が再学習される。なお、補正係数Kの値を再学習すべきときには前述したように、図30Bに示されるように炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射周期を一時的に長くすることもできる。なお、別の実施例として排気浄化触媒13上流の機関排気通路内に炭化水素を改質させるための酸化触媒を配置することもできる。"