"植物を養液栽培するための栽培槽101と、前記栽培槽101に養水を循環供給する養水供給部102とを備え、前記養水供給部102は、養水殺菌部103を有し、前記養水殺菌部103は、殺菌槽61、該殺菌槽61内において放電を発生させる放電部62、前記殺菌槽61内の前記養水に超音波を照射する超音波発生部及び殺菌槽61内の養水を加温する加温部105を有し、前記放電部62は、電極対6465、464465、564565664665及び該電極対6465、464465、564565664665と接続された電源部70を有し、前記放電によって前記養水中に水酸ラジカルを生成するように構成されており、前記超音波発生部94は、生成した水酸ラジカルが変化して生成する前記養水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換するように構成されていることを特徴とする植物栽培装置。前記放電部62及び超音波発生部94の運転及び停止を制御する制御部303をさらに備え、前記制御部303は、前記殺菌槽61内の前記養水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の範囲内となるように、放電部62及び超音波発生部94の運転及び停止を制御することを特徴とする請求項1に記載の植物栽培装置。前記制御部303は、前記殺菌槽61内の前記養水に含まれる過酸化水素の濃度が、予め設定した下限値に達するまでは、放電部62を運転状態とし、前記超音波発生部94を停止状態とし、前記下限値に達した後、予め設定した上限値に達するまでは、放電部62及び前記超音波発生部94を運転状態とし、前記上限値に達した後、前記下限値に達するまでは、放電部62を停止状態とし、前記超音波発生部94を運転状態とすることを特徴とする請求項2に記載の植物栽培装置。前記殺菌槽61内の前記養水に含まれる過酸化水素の濃度を測定するセンサをさらに備えていることを特徴とする請求項2又は3に記載の植物栽培装置。前記電極対564565は、互いに対向するよう配置された板状の電極により構成され、前記電源部70は、前記電極対564565にパルス電圧を印加するパルス電源であり、前記放電部62は、前記電極対564565の間において前記養水中に気泡を発生させる気泡発生部520を有していることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の植物栽培装置。前記加温部105は、太陽熱温水パネルを用いることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の植物栽培装置。前記加温部105は、空調機の廃熱を用いることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の植物栽培装置。前記養水殺菌部103は、ヒーターを用いた補助加温部106を有していることを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載の植物栽培装置。前記養水供給部102は、前記養水殺菌部103と前記栽培槽101との間の経路に設けられた養水冷却部104を有していることを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の植物栽培装置。殺菌槽61内の養水中において放電を発生させることにより、前記養水中に水酸ラジカルを発生させ、生成した水酸ラジカルが変化して生成した過酸化水素を含む養水に超音波を照射することにより前記養水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換すると共に、前記養水を加温することにより、前記養水を殺菌するステップと、殺菌した前記養水を植物を養液栽培する栽培槽101に供給するステップとを備えていることを特徴とする植物栽培方法。前記放電は、第1電極と、該第1電極64を収容し、開口を有する絶縁容器71と、前記開口と対向する位置に配置された第2電極65とを有する放電部62を用い、前記第1電極64と前記第2電極65との間に電圧を印加することにより発生させることを特徴とする請求項10に記載の植物栽培方法。前記過酸化水素水を供給した養水の加温は、太陽熱又は空調機の廃熱により行うことを特徴とする請求項10又は11に記載の植物栽培方法。しかしながら、前記従来の養水を加熱殺菌する養液栽培方法は、加熱のために膨大なエネルギーを必要とするという問題を有している。また、一般的な加熱殺菌では養水を80°C以上の高温にする必要があり、殺菌後の養水を十分に冷却しなければならない。養水の冷却には電力を必要としたり、複雑な機構を必要としたりする。本発明は、前記の問題を解決し、養水の殺菌に要するエネルギーを低減し、エネルギー効率が高い植物栽培装置及び栽培方法を実現できるようにすることを目的とする。本発明に係る植物栽培装置の第1の態様は、植物を養液栽培するための栽培槽101と、栽培槽101に養水を循環供給する養水供給部102とを備え、養水供給部102は、養水殺菌部103を有し、養水殺菌部103は、殺菌槽61、該殺菌槽61内において放電を発生させる放電部62、殺菌槽61内の養水に超音波を照射する超音波発生部及び殺菌槽61内の養水を加温する加温部105を有し、放電部62は、電極対6465、464465、564565664665及び該電極対6465、464465、564565664665と接続された電源部70を有し、放電によって養水中に水酸ラジカルを生成するように構成されており、超音波発生部94は、生成した水酸ラジカルが変化して生成する養水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換するように構成されている。第2の態様として、放電部62及び超音波発生部94の運転及び停止を制御する制御部303をさらに備え、制御部303は、殺菌槽61内の養水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の範囲内となるように、放電部62及び超音波発生部94の運転及び停止を制御してもよい。この場合において、制御部303は、殺菌槽61内の養水に含まれる過酸化水素の濃度が、予め設定した下限値に達するまでは、放電部62を運転状態とし、超音波発生部94を停止状態とし、下限値に達した後、予め設定した上限値に達するまでは、放電部62及び超音波発生部94を運転状態とし、上限値に達した後、下限値に達するまでは、放電部62を停止状態とし、超音波発生部94を運転状態とすることが好ましい。この場合において、殺菌槽61内の養水に含まれる過酸化水素の濃度を測定するセンサをさらに備えていることが好ましい。第3の態様として、電極対564565は、互いに対向するよう配置された板状の電極により構成され、電源部70は、電極対564565にパルス電圧を印加するパルス電源であり、放電部62は、電極対564565の間において養水中に気泡を発生させる気泡発生部520を有していてもよい。第4の対称として、加温部105は、太陽熱温水パネルを用いることが好ましい。本発明の植物栽培装置において、加温部105は、空調機の廃熱を用いることが好ましい。第5の態様として、養水殺菌部103は、ヒーターを用いた補助加温部106を有していてもよい。第6の態様として、養水供給部102は、養水殺菌部103と栽培槽101との間の経路に設けられた養水冷却部104を有していてもよい。本発明に係る植物栽培方法は、殺菌槽61内の養水中において放電を発生させることにより、養水中に水酸ラジカルを発生させ、生成した水酸ラジカルが変化して生成した過酸化水素を含む養水に超音波を照射することにより養水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換すると共に、養水を加温することにより、養水を殺菌するステップと、殺菌した養水を植物を養液栽培する栽培槽101に供給するステップとを備えている。この場合において、放電は、第1電極と、該第1電極64を収容し、開口を有する絶縁容器71と、開口と対向する位置に配置された第2電極65とを有する放電部62を用い、第1電極64と第2電極65との間に電圧を印加することにより発生させることが好ましい。この場合において、過酸化水素水を供給した養水の加温は、太陽熱又は空調機の廃熱により行うことが好ましい。本発明に係る植物栽培装置及び栽培方法によれば、養水の殺菌に要するエネルギーを低減し、効率良く植物を栽培できる。第1の実施形態図1に示すように、本実施形態に係る植物栽培装置は、植物を養液栽培するための栽培槽101と、栽培槽101に養水を循環供給する養水供給部102とを備えている。養水供給部102は、養水を殺菌する養水殺菌部103を有している。栽培槽101には、養水殺菌部103により殺菌された養水が養水冷却部104を介して供給される。栽培槽101は、植物を栽培するための栽培槽である。植物の栽培方法は、培地等を用いる固形培地栽培であってもロックウール等からなるマットを用いる水耕栽培であってもよい。また、土壌を用いる養液土耕等であってもよい。図2に示すように、養水殺菌部103は、殺菌槽61と、殺菌槽61の内部に配置され、殺菌槽61内の養水中において放電を発生させる放電部62と、放電部62に電力を供給する電源部70と、超音波発生部94と、殺菌槽61内の養水を加温する加温部105とを有している。殺菌槽61は、養水を貯水し且つ殺菌するための容器であり、空気中の雑菌及びゴミ等が侵入しにくい容器とすることが好ましい。放電部62により養水中において放電を発生させることにより、水酸ラジカルを経て過酸化水素H2O2が発生し、養水中に供給される。さらに、過酸化水素を含む養水に超音波発生部94から超音波を照射することにより過酸化水素は水酸ラジカルに変換される。通常、養水を殺菌するためには、養水を80°C以上に加熱する必要がある。しかし、養水中に過酸化水素及び水酸ラジカル含まれている場合には、40°C~50°C程度に加温すれば十分な殺菌効果が得られる。従って、加温部105に容量が大きいヒーター等を用いる必要がない。加温部105は例えば、図3に示すように太陽熱温水パネル181を用い、養水を太陽熱により加温すればよい。また、太陽熱温水パネル181により生成された温水を熱源として養水を加温してもよい。太陽熱等の自然エネルギーを用いることにより、環境に配慮した植物栽培装置とすることができる。また、図4に示すように空調機182等の廃熱を熱源として用いて養水を加温してもよい。植物を養液栽培する場合には、栽培温度を一定とするために、栽培を行う栽培室内に空調機等を設けることが行われる。この場合には、栽培室内の室温調整をする空調機の廃熱を用いればよい。また、太陽熱温水パネルによる加温及び空調機の廃熱による加温の両方を用いる構成としてもよい。自然エネルギー又は空調機の廃熱等を用いる場合には、季節によって熱源の容量が不足することも考えられる。この場合には、図5に示すようにヒーター等を用いた補助加温部106を併用してもよい。本実施形態においては、養水の加温温度は40°C~50°C程度で十分である。このため、養水殺菌部103から栽培槽101に養水を供給する際に、大がかりな冷却機構を設ける必要がなく、空冷式又は水冷式の簡易な熱交換機からなる養水冷却部104を設ければ十分である。条件によっては配管による自然冷却だけで十分である。一方、供給する養水の温度を一定に管理するために、養水冷却部104を正確な温度制御ができる構成としてもよい。以下に、本実施形態の放電部62についてさらに詳細に説明する。図2に示すように放電部62は、第1電極64及び第2電極65とからなる電極対64,65と、この電極対64,65に電圧を印加する電源部70と、第1電極64を内部に収容する絶縁容器71とを備えている。第1電極64は、絶縁容器71に収容され、第2電極65は絶縁容器71を挟んで第1電極64と対向する位置に配置されている。第1電極64は偏平な板状であり、絶縁容器71の底部72bに配置されている。第1電極64はステンレス又は銅等の導電性の金属材料とすればよい。絶縁容器71は、容器本体72と蓋体73とを有している。蓋体73は開口74を有している。開口74は直径が0.02mm~0.5mm程度である。第2電極65は、偏平な板状であり、複数の貫通孔66を有している。第2電極65は、開口74を挟んで第1電極64と対向するように、絶縁容器71と間隔をおいて配置されている。また、第1電極64と第2電極65とは、略平行となるように配置されていることが好ましい。第2電極65は、ステンレス又は真鍮等の導電性の金属材料とすればよい。第2電極65は、金属板に貫通孔が形成されたパンチングメタル形状だけでなく、ワイヤー等により形成されたメッシュ形状であってもよい。第1電極64と第2電極65との間に電源部70から電圧を印加することにより、第1電極64から第2電極65に向かって放電が発生する。電源部70は、第1電極64と第2電極65との間に瞬間的な高電圧を繰り返し印加するパルス電源であってもよいが、第1電極64と第2電極65との間に常に数キロボルトの電圧を印加する直流電源でかまわない。直流電源を用いる場合には、パルス電源等を用いる場合に比べて、電源部を簡素化することができ、コスト及びサイズを低減することができる。また、直流電源を用いることによりパルス電源等を用いて放電を発生させる場合と比べて、衝撃波及び騒音の発生を低減できるという利点も得られる。電源部70の正極は第1電極64と接続され、負極は接地されている。また、電源部70は、第1電極64と第2電極65との間の放電電力を一定に制御する定電力制御部図示せずを有している。第1電極64を収容する絶縁容器71は、例えばセラミックス等の絶縁材料により形成されている。絶縁容器71は、一面上面が開放された容器本体72と、容器本体72の開放部を閉塞する板状の蓋体73とを有している。容器本体72は、角型筒状の側壁部72aと、側壁部72aの底面を閉塞する底部72bとを有している。第1電極64は、底部72bの上に配置されている。側壁部72aの高さは、第1電極64の厚さよりも厚く、第1電極64と蓋体73との間には、空間Sが形成されている。空間Sには、養水を満たすことができる。図2及び図6に示すように、蓋体73は、開口74を有している。開口74により、第1電極64と第2電極65との間に電界が形成される。開口74の内径は、0.02mm以上且つ0.5mm以下であることが好ましい。第1電極64が絶縁容器71の内部に収容され、第2電極65が絶縁容器71の外部に配置され、第1電極64と第2電極65との間に開口74が形成されている。このため、第1電極64と第2電極65との間を流れる電流は、開口74に狭窄され、第1電極64と第2電極65との間の電流経路における電流密度を上昇させることができる。また、開口74において、電流密度が上昇することにより、ジュール熱が発生し、絶縁容器71内の養水を気化させ気泡を発生させることができる。このように、絶縁容器71は、電流狭窄部及び気相形成部として機能する。以下に、放電部62の動作を説明する。放電部62に電圧が供給されていない場合には、図2に示すように絶縁容器71の内部の空間Sが養水で満たされた状態となっている。第1電極64と第2電極65との間に所定の電圧例えば1kVを印加すると、第1電極64と第2電極65との間に電界が形成される。第1電極64は、絶縁容器71に覆われているため、第1電極64から第2電極65への電流は、開口74に狭窄され、開口74における電流密度が高くなる。電源部70から放電部62へ電圧を供給すると、第1電極64と第2電極65との間に流れる電流によって、養水の温度が上昇する。特に、開口74の部分において電流密度が高くなるため、発生するジュール熱も大きくなる。このため、開口74の近傍において、気泡Bの発生が盛んになり、図7に示すように気泡Bが開口74のほぼ全域を覆う状態となる。これにより、第1電極64と第2電極65との間には、気泡Bと養水とが介在した状態となり、気泡Bは第1電極64と第2電極65との間の養水を介した導通を阻止する抵抗となる。従って、第1電極64と第2電極65との間の漏れ電流が抑制され、第1電極64と第2電極65との間に、所望の電位差が保たれるようになる。その結果、気泡B内において絶縁破壊に伴う放電が発生する。放電の発生に伴い、水酸ラジカルを経て過酸化水素が発生し、殺菌槽61中の養水が過酸化水素を含む状態となる。発生した過酸化水素は、放電に伴う熱によって殺菌槽61内を対流する。また、放電部62において発生する気泡Bの動きによっても水の対流が発生する。これにより、殺菌槽61内における過酸化水素の拡散が促進される。過酸化水素により養水が殺菌されるが、過酸化水素が含まれた養水を加温部105により40°C~50°C程度に加温することにより、殺菌槽61内の養水をさらに効果的に殺菌できる。なお、開口74は図8及び図9に示すように複数形成されていてもよい。図9においては、開口74が正方格子状に配置されている例を示しているが、長方格子状、三角格子状又は六方格子状等に配置されていてもよい。また、規則的に配置されていなくてもよい。ただし、各開口74を流れる電流を均一にするためには、開口74が等間隔に配置されていることが好ましい。また、第1電極64は全ての開口74に跨るように配置されていることが好ましい。また、図10に示すように第1電極64、絶縁容器71及び第2電極65が一体に形成されたフランジユニット状の放電部62を用いてもよい。フランジユニット状の放電部62は、殺菌槽61の外側から内部に向かって挿入して固定すればよい。放電部62は、大略の外形が円筒状に形成された絶縁容器71を有している。絶縁容器71は、容器本体72と蓋体73とを有している。容器本体72は、ガラス又は樹脂等の絶縁材料からなる。容器本体72は、円筒状の基部76と、基部76から殺菌槽61側に突出した筒状壁部77と、筒状壁部77の外縁部からさらに殺菌槽61側に突出する環状凸部78と、環状凸部78からさらに栽培槽101側に突出した先端凸部79とを有している。基部76の軸心部には、円柱状の挿入口76aが軸方向に貫通形成されている。筒状壁部77の内側には、挿入口76aと同軸となり、且つ挿入口76aよりも径が大きい円柱状の空間Sが形成されている。蓋体73は、略円板状に形成されて環状凸部78の内側に嵌合している。蓋体73は、セラミックス材料等からなる。蓋体73の軸心には、円形状の開口74が形成されている。第1電極64は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極である。第1電極64は、基部76の挿入口76aに嵌合している。これにより、第1電極64は、絶縁容器71の内部に収容されている。第1電極64における殺菌槽61とは反対側の端部は、殺菌槽61の外部に露出した状態となる。このため、殺菌槽61の外部に配置される電源部70と、第1電極64とを電気配線によって容易に接続することができる。第1電極64における殺菌槽61側の端部64aは、絶縁容器71の内部の空間Sに臨んでいる。なお、図10に示す例では、第1電極64の端部64aが、挿入口76aの開口面よりも殺菌槽61側に突出しているが、端部64aの先端面が挿入口76aの開口面と略面一となった構成としてもよい。また、端部64aが挿入口76aの開口面よりも陥没した構成としてもよい。第1電極64の端部64aと蓋体73との間には、所定の間隔が確保されている。第2電極65は、円筒状の電極本体65aと、電極本体65aから径方向外方へ突出する鍔部65bとを有している。電極本体65aは、絶縁容器71の容器本体72に外嵌している。鍔部65bは、殺菌槽61の壁部に固定されて放電部62を保持する固定部として機能する。電極本体65aの殺菌槽61側に突出した部分が水中に位置するように、放電部62は殺菌槽61に固定されている。第2電極65は、電極本体65aよりも径が小さい内側筒部65cと、内側筒部65cと電極本体65aとの間に亘って形成される連接部65dとを有している。内側筒部65c及び連接部65dは、水中に水没した状態となっている。内側筒部65cは、その内部に円柱空間67を有している。内側筒部65cの軸方向の一端は、蓋体73と当接しており、蓋体73を保持する保持部として機能する。内側筒部65c、連接部65d及び電極本体65aにより形成された空間を先端凸部79が埋めるように形成されている。内側筒部65cの軸方向の他端の側には、円柱空間67を覆うようにメッシュ状の漏電防止材68が設けられている。この漏電防止材68は、第2電極65と接触しており、実質的に接地されている。これにより、漏電防止材68は、殺菌槽61の内部の空間において、円柱空間67の内側から外側への漏電を防止している。第2電極65は、電極本体65aの一部が殺菌槽61の外部に露出された状態となる。このため、電源部70と第2電極65とを電気配線によって容易に接続することができる。放電部62に電圧が供給されていない場合には、図10に示すように絶縁容器71の内部の空間Sが養水で満たされた状態となっている。第1電極64と第2電極65との間に所定の電圧例えば1kVを印加すると、空間Sの内部及び開口74の内部において、ジュール熱により気泡が発生する。放電部62への電圧の供給をさらに続けると、図11に示すように開口74に形成される気泡Bが安定し、気泡Bが開口74のほぼ全体を覆う状態となる。これにより、円柱空間67内の養水と、第1電極64との間に気泡Bによる抵抗が付与される。従って、第1電極64と第2電極65との間の電位差が保たれ、気泡Bにより放電が発生する。放電により、過酸化水素が発生し、殺菌槽61中の養水に過酸化水素が含まれた状態となる。なお、図12に示すように開口74を複数形成してもよい。図12に示す例では、蓋体73の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、5つの開口74が等間隔で配置されている。蓋体73に複数の開口74を形成することにより、それぞれの開口74の近傍において放電を生じされることができる。電源部70に、放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部を設ける例を示したが、定電力制御部に代えて、放電時の放電電流を一定に制御する定電流制御部を設けてもよい。定電流制御を行うことにより、養水の導電率によらず放電が安定するため、スパークの発生も未然に回避できる。また、実施形態1及び各変形例において、電源部70が直流電源の場合には正極に第1電極64を接続し、電源部70の負極に第2電極65を接続すればよい。しかし、電源部70の負極に第1電極64を接続し、電源部70の正極に第2電極65を接続して、電極対64,65の間で、いわゆるマイナス放電を行うようにしてもよい。電源部70は、第1電極64と第2電極65との間に瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源としてもよく、交流電源等であってもよい。次に、超音波発生部94について説明する。超音波発生部94は、板状の圧電セラミックス板95と、圧電セラミックス板95を挟むように設けられた一対の金属板96a、96bとにより構成されている。超音波発生部94を封入するケース97は密閉され、殺菌槽61の底部に配置されている。金属板96a及び金属板96bには、増幅器309によって増幅された超音波波形発生部308の出力信号交流電圧が供給される。これにより、超音波発生部94は任意の周波数の超音波を殺菌槽61内の養水に照射できる。ただし、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数を、100kHz以上程度とすることが好ましい。なお、超音波発生部94は、殺菌槽61内の液体に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてよい。例えば、図13に示すように、超音波発生部94は殺菌槽61の底部外側に設置されていてもよい。超音波発生部94が殺菌槽61の底部外側に設置されている場合、超音波は殺菌槽61の壁面を介して養水に伝達される。また、超音波発生部94は、図14に示すように、金属ケース97aの上部と金属板96とで板状の圧電セラミックス板95を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよいなお、養水の循環を連続的に行っている場合には、放電部62を駆動しても、殺菌槽61内の過酸化水素濃度が、放電部62よりも流入側では高くならない可能性がある。このため、超音波発生部94は、放電部62よりも流出側に設ける方が好ましい。しかし、養水の循環を連続的に行わず、一旦殺菌槽61内に貯留するような場合には、超音波発生部94が放電部62よりも流入側に設けられていても問題ない。殺菌槽61内の養水中において放電部62により放電を行うと、養水中に水酸ラジカルが発生する。発生した水酸ラジカルは急速に反応して過酸化水素となる。このため、殺菌槽61内の過酸化水素濃度が次第に上昇する。過酸化水素濃度が十分に上昇した後、養水に超音波を照射すると、養水中の過酸化水素が分解され再び水酸ラジカルが発生する。超音波照射により発生した水酸ラジカルは再び結合して過酸化水素に戻る。このため、図15に示すように過酸化水素から水酸ラジカルへの変換と、水酸ラジカルから過酸化水素への変換とが循環して生じる。ただし、殺菌等の養水の浄化に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は徐々に低下する。過酸化水素により養水を十分に殺菌しようとすると、溶液中の過酸化水素の濃度を高くしなければならない。過酸化水素は、低濃度では比較的安全であるが濃度が高くなると植物に悪影響をおよぼすおそれがある。一方、水酸ラジカルは、過酸化水素と比べてはるかに高い殺菌能力を有している。従って、低い濃度においても養水を十分に殺菌することができる。しかし、水酸ラジカルは不安定であり直ぐに反応して過酸化水素となってしまう。このため、水酸ラジカルにより養水の殺菌を行うためには、水酸ラジカルを連続的に発生させなければならない。放電の場合、水が分解されて水酸ラジカルが発生するため、連続的に運転を行うと養水中の過酸化水素濃度がどんどん上昇してしまう。一方、超音波照射の場合には、過酸化水素から水酸ラジカルへの変換は生じるが、水の分解は生じない。このため、水酸ラジカルの生成を連続的に行っても、過酸化水素の濃度が上昇することはない。従って、放電により過酸化水素を発生させ、超音波により水酸ラジカルを発生させることにより、放電のみを用いて殺菌を行う場合よりもはるかに効率良く殺菌を行うことができる。また、過酸化水素の濃度を低く抑えることができるので、より安全な浄化装置を実現することができる。水酸ラジカルは反応性が高いため、栽培槽101において栽培している植物に水酸ラジカルが直接接すると、植物に悪影響が生じるおそれがある。しかし、水酸ラジカルの寿命は非常に短いため、殺菌槽61外においては水酸ラジカルはほとんど存在しない。一方、低濃度の過酸化水素は、植物にほとんど影響を与えない。このため、養水殺菌部103を栽培槽101から独立させることにより、栽培槽101において栽培する植物200が水酸ラジカルの影響を受けることがなくなるという利点が得られる。放電部62と超音波発生部94とを常に動作状態としてもかまわないが、養水中の過酸化水素濃度が低い場合には、超音波を照射しても十分な水酸ラジカルの発生が望めない。また、放電部62を動作させ続けると養水中の過酸化水素濃度が高くなりすぎるおそれもある。このため、図16に示すような運転を行うことが好ましい。まず、放電部62のみを運転して、殺菌槽61内の過酸化水素を上昇させた後、超音波発生部94の運転を開始し水酸ラジカルの生成を開始する。その後、殺菌槽61内の過酸化水素濃度が十分に上昇した時点で放電部62の運転を休止し、超音波発生部94のみを運転する。殺菌槽61内の過酸化水素の濃度が低下した時点で、再び放電部62の運転を開始し、殺菌槽61内の過酸化水素濃度を上昇させる。以上のような、制御は予め設定したタイミングに基づいて行ってもよいが、殺菌槽61内の過酸化水素濃度の測定値に基づいて図17に示すような制御を行ってもよい。この場合には、図18に示すように過酸化水素濃度を測定するセンサ307を殺菌槽61内に設け、センサ出力に基づいて、制御部303により、放電部62及び超音波発生部94を制御すればよい。制御部303は、中央演算装置CPUを備えた演算回路等とすればよい。また、養水を循環させるためのポンプについても、制御部303により制御する構成としてもよい。なお、放電部62の運転中に超音波発生部94の運転を開始する例を示したが、放電部62の運転を休止してから超音波発生部94の運転を開始してもよい。また、放電部62の再運転する場合に、超音波発生部94を休止した状態としてもよい。第2の実施形態図19は、第2の実施形態に係る養水殺菌部103Bを示す構成図である。図19において、第1の実施形態の養水殺菌部103と同様の構成については図2と同じ符号を付している。また、図19においては、制御部303等の記載は省略している。以下においては、主に第2の実施形態に係る養水殺菌部103と異なる点について説明する。本実施形態の養水殺菌部103は、殺菌槽61と、殺菌槽61内に配置された放電部62と、超音波発生部94とを備えている。放電部は、電極464及び電極465からなる電極対と、電極対464,465に接続された電源部70とを有している。超音波発生部94は、殺菌槽61の底部に設置されている。電極464は絶縁容器471aの内部に収納され、電極465は絶縁容器471bの内部に収納されている。電極464及び電極465は、それぞれ扁平な板状に形成されている。また、電極464及び電極465はステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。電源部70は、数キロボルト程度の交流電圧を電極対464,465に供給する。絶縁容器471a,471bは、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されており、図2に示す絶縁容器71と同様の構成を有している。すなわち、絶縁容器471aは、一面図19では右側の面が開放された容器状の容器本体480aと、該容器本体480aの上記開放部を閉塞する板状の蓋部473aとを有している。また、絶縁容器471bは、一面図19では左側の面が開放された容器状の容器本体480bと、該容器本体480bの開放部を閉塞する板状の蓋部473bとを有している。絶縁容器471aの蓋部473aには、該蓋部473aを厚さ方向に貫通する1つの開口474aが形成されている。絶縁容器471bの蓋部473bにも、該蓋部473bを厚さ方向に貫通する1つの開口474bが形成されている。これらの開口474a,474bにより、電極464と電極465との間の電界の形成が許容されている。開口474a,474bの内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口474a,474bは、電極対464,465の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。絶縁容器471a,471bは、殺菌槽61内の互いに対向する側面に、蓋部473a,473b同士が対向するように設置されている。言い換えれば、電極464と電極465とは互いに対向するよう配置されている。絶縁容器471a,471bの開口474a,474b内では、電流経路の電流密度が上昇することで、液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。つまり、絶縁容器471a,471bの開口474a,474bは、該開口474a,474bに気相部としての気泡を形成する気相形成部として機能する。この構成により、交流電圧が電極対464,465に供給された場合に電極対464,465間の気泡内に放電を生起させることができる。超音波発生部94の構成は第1の実施形態と同様にすればよく、殺菌槽61の底部に設置されていることが好ましいが、殺菌槽61内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。以上の構成をとることにより、交流電圧を電極対464,465に供給する場合でも、電極対464,465間に放電を生起させることができ、過酸化水素の濃度を抑えながら高い浄化能力を発揮させることができる。なお、電源部70から電極対464,465へは交流電圧を印加してもよいが、矩形波を印加しても電極対464,465間に放電を生起することができる。本実施形態の養水殺菌部103においても、図16又は図17に示すような制御を行うことが好ましい。第3の実施形態図20は、第3の実施形態に係る養水殺菌部103Cを示す構成図である。図20において、第1の実施形態の養水殺菌部103と同様の構成については図2と同じ符号を付している。また、図20においては、制御部303等の図示は省略している。以下においては、主に第1の実施形態と異なる点について説明する。本実施形態の養水殺菌部103は、殺菌槽61と、殺菌槽61内に配置された放電部と、超音波発生部94とを備えている。放電部は、殺菌槽61内に設けられた電極対564,565と、電極対564,565に接続された電源部70と、気泡発生部520とを有している。超音波発生部94は、殺菌槽61の底部に設置されている。本実施形態の養水殺菌部103においては、電源部70は、第1電極64及び第2電極565に高電圧のパルス電圧が供給される。また、第1電極564を囲む絶縁容器は設けなくてよい。第1電極564及び第2電極565は共に板状であり、殺菌槽61内の側面に、互いに対向するように設置される。気泡発生部520は、例えば殺菌槽61の底部など、少なくとも電極対564,565の間であって、電極対564,565よりも低い位置に設けられたノズル吐出手段519と、ノズル519に空気等の気体を送るエアポンプ送出手段518とを有している。エアポンプ518によって送出された気体は、ノズル519を介して殺菌槽61内に送り込まれ殺菌槽61内に気泡を発生させる。なお、殺菌槽61内の気体を循環させる構成としても、外部から気体を取り入れる構成としてもよい。超音波発生部94の構成は第1の実施形態と同様にすればよく、殺菌槽61の底部に設置されていることが好ましいが、殺菌槽61内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。少なくとも放電処理を行う期間中、ノズル519から養水中へ気体が送り込まれ、気泡が発生する。養水中に気泡が存在する状態で電極対564,565にパルス電圧を供給すると、気泡の内部において放電が生起され、水酸ラジカルが生成し、水酸ラジカルから過酸化水素が生成する。本実施形態の養水殺菌部103においても、図16又は図17に示すような制御を行うことが好ましい。以上の構成及び方法によれば、電極対564,565間にパルス放電を発生させる場合でも、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素の濃度を抑えながら高い浄化能力を発揮させることができる。第4の実施形態図21は、第4の実施形態に係る養水殺菌部103を示す構成図である。図21において、第1の実施形態の養水殺菌部103と同様の構成については図2と同じ符号を付している。また、図21においては、制御部303等の記載は省略している。以下においては、主に第1の実施形態と異なる点について説明する。本実施形態の養水殺菌部103は、殺菌槽61と、殺菌槽61内に配置された放電部と、超音波発生部94とを備えている。放電部は、電極対664,665と、電極対664,665に接続された電源部70とを有している。超音波発生部94は、殺菌槽61の底部に設置されている。電源部70は、例えば交流電源で構成されているが、直流電源で構成されていてもよいし、矩形波やパルス電圧を供給する電源で構成されていてもよい。電極664と電極665とは、それぞれ殺菌槽61内の側面に、互いに対向するように設置されている。電極664は、少なくとも1つの導電部654と、導電部654を囲む絶縁部655とを有している。電極665は、少なくとも1つの導電部656と、導電部656を囲む絶縁部657とを有している。以上のように、電極664における導電部654の露出面、及び電極665における導電部656の露出面の面積は小さいので、電圧を電極対664,665に供給した場合には導電部654,656の表面で電流密度の集中部が形成される。そのため、導電部654,656の表面では液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。この泡によって導電部654,656の露出面が覆われた状態で電源部70からの電圧供給を継続することにより、気泡の内部で放電が生起される。超音波発生部94の構成は第1の実施形態と同様にすればよく、殺菌槽61の底部に設置されていることが好ましいが、殺菌槽61内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。以上の構成によっても、電極対664,665間での放電と、超音波照射とを組み合わせることにより、過酸化水素濃度を抑えながら高い浄化能力を発揮させることができる。本実施形態の養水殺菌部103においても、図16又は図17に示すような制御を行うことが好ましい。"