"下記の工程I~IVを有する、モールドの製造方法。I表面に微細凹凸構造が形成されたモールド本体を作製する工程。II工程Iの後、前記モールド本体の前記微細凹凸構造が形成された側の表面を、前記表面に存在する官能基Aと反応し得る官能基Bを有する離型剤で処理する工程。III工程IIの後、前記モールド本体を加熱加湿下に置く工程。IV前記工程II、および工程IIIを2回以上繰り返す工程。前記官能基Bが、加水分解性シリル基である、請求項1に記載のモールドの製造方法。前記離型剤の官能基Bが、加水分解性シリル基であり、かつパーフルオロポリエーテル構造を有する離型剤である、請求項1または2記載のモールドの製造方法。前記工程IIにおいて、前記離型剤の濃度が0.06質量以上0.15質量以下である請求項1~3のいずれか1項に記載のモールドの製造方法。前記工程Iの微細凹凸構造が形成されたモールドが、アルミニウム基材を陽極酸化し、その表面に2個以上の細孔を有する微細凹凸構造を形成したものである請求項1~4のいずれか1項に記載のモールドの製造方法。前記細孔の平均間隔が、400nm以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載のモールドの製造方法。前記細孔の平均間隔が、20nm以上400nm以下である、請求項6に記載のモールドの製造方法。前記工程Iが下記の工程a~fを有し、前記工程IIが下記の工程g~jを有し、前記工程IIIが下記の工程kおよび/またはlを有し、前記工程IVが下記の工程mおよび/またはnを有する、請求項1~7のいずれか1項に記載のモールドの製造方法。aアルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。b前記酸化皮膜を除去し、前記アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。c前記工程bの後、前記アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。d前記工程cの後、細孔の径を拡大させる工程。e前記工程dの後、電解液中、再度陽極酸化する工程。f前記工程dと前記工程eを繰り返し行い、2個以上の細孔を有する陽極酸化アルミナが前記アルミニウム基材の表面に形成されたモールド本体を得る工程。g前記工程fの後、前記モールド本体を水洗する工程。h前記工程gの後、前記モールド本体にエアーを吹き付け、前記モールド本体の表面に付着した不純物を除去する工程。i前記工程f~hの後、加水分解性シリル基を有するフッ素化合物をフッ素系溶媒で希釈した希釈溶液に、表面に水酸基が導入されたモールド本体を浸漬する工程。j前記工程iの後、前記モールド本体を乾燥させる工程。k工程iの後、前記モールド本体を加熱加湿下に置く工程。l工程kの直後の前記モールド本体を、フッ素系溶媒で洗浄する工程。m前記工程i~前記工程lを1サイクルとし、前記サイクルを2回以上繰り返す工程。n前記工程mの後、前記モールド本体を乾燥させる工程。請求項1~8のいずれか1項に記載のモールドの製造方法で得られたモールドの表面の微細凹凸構造を、物品本体の表面に転写することを含む、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法。本発明は、表面の微細凹凸構造を繰り返し転写しても離型性を長時間にわたって維持できるモールドを製造する方法、および微細凹凸構造を表面に有する物品を生産性よく製造する方法を提供する。本発明のモールドの製造方法は、下記の工程I~IVを有することを特徴とする。I表面に微細凹凸構造が形成されたモールド本体を作製する工程。II工程Iの後、前記モールド本体の前記微細凹凸構造が形成された側の表面を、前記表面に存在する官能基Aと反応し得る官能基Bを有する離型剤で処理する工程。III工程IIの後、前記モールド本体を加熱加湿下に置く工程。IV前記工程II、工程IIIを2回以上繰り返す工程。本発明のモールドの製造方法においては、前記官能基Bは、加水分解性シリル基であることが好ましい。本発明の離型剤の前記官能基Bが、加水分解性シリル基であり、かつ、パーフルオロポリエーテル構造を有することがより好ましい。前記工程Iの微細凹凸構造が形成されたモールドは、アルミニウム基材を陽極酸化し、その表面に2以上の細孔を有する微細凹凸構造を形成したものが好ましい。本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法は、本発明のモールドの製造方法で得られたモールドの表面の微細凹凸構造を、物品本体の表面に転写することを特徴とする。すなわち、本発明は以下に関する。1下記の工程I~IVを有する、モールドの製造方法。I表面に微細凹凸構造が形成されたモールド本体を作製する工程。II工程Iの後、前記モールド本体の前記微細凹凸構造が形成された側の表面を、前記表面に存在する官能基Aと反応し得る官能基Bを有する離型剤で処理する工程。III工程IIの後、前記モールド本体を加熱加湿下に置く工程。IV前記工程II、および工程IIIを2回以上繰り返す工程。2前記官能基Bが、加水分解性シリル基である、1に記載のモールドの製造方法。3前記離型剤の官能基Bが、加水分解性シリル基であり、かつパーフルオロポリエーテル構造を有する離型剤である、1または2記載のモールドの製造方法。4前記工程IIにおいて、前記離型剤の濃度が0.06質量以上0.15質量以下である1~3のいずれか1項に記載のモールドの製造方法。5前記工程Iの微細凹凸構造が形成されたモールドが、アルミニウム基材を陽極酸化し、その表面に2個以上の細孔を有する微細凹凸構造を形成したものである1~4のいずれか1項に記載のモールドの製造方法。6前記細孔の平均間隔が、400nm以下である、1~5のいずれか1項に記載のモールドの製造方法。7前記細孔の平均間隔が、20nm以上400nm以下である、6に記載のモールドの製造方法。8前記工程Iが下記の工程a~fを有し、前記工程IIが下記の工程g~jを有し、前記工程IIIが下記の工程kおよび/またはlを有し、前記工程IVが下記の工程mおよび/またはnを有する、1~7のいずれか1項に記載のモールドの製造方法。aアルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。b前記酸化皮膜を除去し、前記アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。c前記工程bの後、前記アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。d前記工程cの後、細孔の径を拡大させる工程。e前記工程dの後、電解液中、再度陽極酸化する工程。f前記工程dと前記工程eを繰り返し行い、2個以上の細孔を有する陽極酸化アルミナが前記アルミニウム基材の表面に形成されたモールド本体を得る工程。g前記工程fの後、前記モールド本体を水洗する工程。h前記工程gの後、前記モールド本体にエアーを吹き付け、前記モールド本体の表面に付着した不純物を除去する工程。i前記工程f~hの後、加水分解性シリル基を有するフッ素化合物をフッ素系溶媒で希釈した希釈溶液に、表面に水酸基が導入されたモールド本体を浸漬する工程。j前記工程iの後、前記モールド本体を乾燥させる工程。k工程iの後、前記モールド本体を加熱加湿下に置く工程。l工程kの直後の前記モールド本体を、フッ素系溶媒で洗浄する工程。m前記工程i~前記工程lを1サイクルとし、前記サイクルを2回以上繰り返す工程。n前記工程mの後、前記モールド本体を乾燥させる工程。91~8のいずれか1項に記載のモールドの製造方法で得られたモールドの表面の微細凹凸構造を、物品本体の表面に転写することを含む、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法。本発明のモールドの製造方法によれば、表面の微細凹凸構造を繰り返し転写しても離型性を長時間にわたって維持できるモールドを製造できる。本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法によれば、微細凹凸構造を表面に有する物品を生産性よく製造できる。本明細書において、メタアクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。また、活性エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、および熱線赤外線等等を意味する。<モールドの製造方法>本発明のモールドの製造方法は、下記の工程I~IVを有する方法である。I表面に微細凹凸構造が形成されたモールド本体を作製する工程。II工程Iの後、前記モールド本体の前記微細凹凸構造が形成された側の表面を、前記表面に存在する官能基Aと反応し得る官能基Bを有する離型剤で処理する工程。III工程IIの後、前記モールド本体を加熱加湿下に置く工程。IV前記工程II、および工程IIIを2回以上繰り返す工程。工程I工程Iにおいては、基材の表面に微細凹凸構造を形成してモールド本体を作製する。基材の材料としては、金属表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。、石英、ガラス、樹脂、およびセラミックス等が挙げられる。基材の形状としては、ロール状、円管状、平板状、およびシート状等が挙げられる。モールド本体の作製方法としては、例えば、アルミニウム基材の表面に、2個以上の細孔凹部を有する陽極酸化アルミナを形成する方法が挙げられる。前記方法は大面積化が可能であり、かつ作製が簡便である点から好ましい作製方法である。上記の方法として、具体的には下記の工程a~fを有する方法が好ましい。aアルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。b酸化皮膜を除去し、アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。c工程bの後、アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。d工程cの後、細孔の径を拡大させる工程。e工程dの後、電解液中、再度陽極酸化する工程。f工程dと工程eを繰り返し行い、2個以上の細孔を有する陽極酸化アルミナがアルミニウム基材の表面に形成されたモールド本体を得る工程。工程a:図1に示すように、アルミニウム基材10を陽極酸化すると、細孔12を有する酸化皮膜14が形成される。ここでアルミニウム基材の形状としては、ロール状、円管状、平板状、およびシート状等が挙げられる。アルミニウム基材は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、あらかじめ脱脂処理されることが好ましい。また、アルミニウム基材は、表面状態を平滑にするために、電解研磨処理エッチング処理されることが好ましい。アルミニウムの純度は、99以上が好ましく、99.5以上がより好ましく、99.8以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。電解液としては、硫酸、シュウ酸、およびリン酸等が挙げられる。シュウ酸を電解液として用いる場合:シュウ酸の濃度は、0.7M以下が好ましい。シュウ酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。化成電圧が30~60Vの時、平均間隔が100nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。電解液の温度は、60°C以下が好ましく、45°C以下がより好ましい。電解液の温度が60°Cを超えると、いわゆるヤケといわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。硫酸を電解液として用いる場合:硫酸の濃度は0.7M以下が好ましい。硫酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。化成電圧が25~30Vの時、平均間隔が63nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。電解液の温度は、30°C以下が好ましく、20°C以下がよりに好ましい。電解液の温度が30°Cを超えると、いわゆるヤケといわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。工程b:図1に示すように、酸化皮膜14を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点16にすることで細孔の規則性を向上することができる。酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸/リン酸混合液等が挙げられる。工程c:図1に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム基材10を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔12を有する酸化皮膜14が形成される。陽極酸化条件は、特に限定はないが、工程aと同様な条件または工程aより短い時間での陽極酸化を行う。工程d:図1に示すように、細孔12の径を拡大させる処理以下、細孔径拡大処理と記す。を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、5質量程度のリン酸水溶液等が挙げられる。細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。工程e:図1に示すように、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔12の底部から下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔12がさらに形成される。陽極酸化は、工程aと同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。工程f:図1に示すように、工程dの細孔径拡大処理と、工程eの陽極酸化を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔12を有する酸化皮膜14が形成され、アルミニウム基材10の表面に陽極酸化アルミナアルミニウムの多孔質の酸化皮膜アルマイトを有するモールド本体18が得られる。最後は工程dまたは工程eのいずれで終了してもよいが、工程dで終了することが好ましい。繰り返し回数は、合計で3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。繰り返し回数が2回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて形成されたモスアイ構造の反射率低減効果は不十分である。細孔12の形状としては、略円錐形状、角錐形状、および円柱形状等が挙げられ、円錐形状、および角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。細孔12間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下である。細孔12間の平均間隔は、20nm以上が好ましい。細孔12間の平均間隔の範囲は、20nm以上400nm以下が好ましく、50nm以上300nm以下がより好ましく、90nm以上250nm以下がさらに好ましい。細孔12間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔12間の間隔細孔12の中心から隣接する細孔12の中心までの距離を50点測定し、これらの値を平均したものである。細孔12の深さは、平均間隔が100nmの場合は、80~500nmが好ましく、120~400nmがより好ましく、150~300nmが特に好ましい。細孔12の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率30000倍で観察したときにおける、細孔12の最底部と、細孔12間に存在する凸部の最頂部との間の距離を測定した値である。細孔12のアスペクト比細孔の深さ/細孔間の平均間隔は、0.8~5が好ましく、1.2~4がより好ましく、1.5~3が特に好ましい。工程II工程IIにおいては、モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面を、官能基Aと反応し得る官能基Bを有する離型剤で処理する。官能基Aとは、後述の離型剤が有している反応性の官能基Bと反応して、化学結合を形成し得る基を意味する。官能基Aとしては、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、エポキシ基、およびエステル基等が挙げられ、後述の離型剤が反応性の官能基Bとして有することが多い加水分解性シリル基との反応性がよい点から、水酸基が特に好ましい。離型剤で処理される表面が陽極酸化アルミナの場合、官能基Aは水酸基である。モールド本体の前記微細凹凸構造が形成された側の表面に官能基Aが存在しない場合、例えば、下記の方法II-1、または方法II-2等によって官能基Aを導入してもよい。II-1モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面をプラズマ処理することによって、前記表面に官能基Aを導入する方法。II-2モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面を、官能基Aまたはその前駆体を有する化合物シランカップリング剤等で処理することによって、前記表面に官能基Aを導入する方法。官能基Bとは、官能基Aと反応して化学結合を形成し得る基または前記基に容易に変換し得る基を意味する。官能基Aが水酸基の場合の官能基Bとしては、加水分解性シリル基、シラノール基、チタン原子もしくはアルミニウム原子を含む加水分解性基等が挙げられ、水酸基との反応性がよい点から、加水分解性シリル基またはシラノール基が好ましく、加水分解性シリル基がより好ましい。加水分解性シリル基とは、加水分解によってシラノール基Si-OHを生成する基であり、Si-ORRはアルキル基である。、およびSi-XXはハロゲン原子である。等が挙げられる。離型剤としては、官能基Bを有するシリコーン樹脂、官能基Bを有するフッ素樹脂、および官能基Bを有するフッ素化合物等が挙げられ、加水分解性シリル基を有するフッ素化合物がより好ましい。加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の市販品としてはフルオロアルキルシラン、およびパーフルオロポリエーテル構造を有するものとしてはダイキン工業社製のオプツール登録商標シリーズが挙げられる。さらに離型剤としては、官能基Bを有するフッ素化合物であって、前記官能基Bが加水分解性シリル基であり、かつパーフルオロポリエーテル構造を有するフッ素化合物が特に好ましい。前記官能基Bが加水分解性シリル基であり、かつパーフルオロポリエーテル構造を有すると、官能基Aと反応性がよく、かつ離型性が特に良好である。離型剤による処理方法としては、下記の方法II-3~II-4が挙げられ、モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面をムラなく離型剤で処理できる点から、方法II-3が特に好ましい。II-3離型剤の希釈溶液にモールド本体を浸漬する方法。II-4離型剤またはその希釈溶液を、モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面に塗布する方法。方法II-3としては、下記の工程g~jを有する方法が好ましい。g必要に応じて、工程fの後、モールド本体を水洗する工程。h必要に応じて、工程gの後、モールド本体にエアーを吹き付け、モールド本体の表面に付着した不純物等を除去する工程。i工程f~hの後、加水分解性シリル基を有するフッ素化合物をフッ素系溶媒で希釈した希釈溶液に、表面に水酸基が導入されたモールド本体を浸漬する工程。j必要に応じて、工程iの後、モールド本体を乾燥させる工程。工程g:モールド本体には、微細凹凸構造を形成する際に用いた薬剤細孔径拡大処理に用いたリン酸水溶液等、および不純物埃等等が付着しているため、水洗によってこれを除去する。工程h:モールド本体の表面に水滴が付着していると、工程iの離型剤による処理の効率が低下するため、モールド本体にエアーを吹き付け、目に見える水滴はほぼ除去する。工程i:希釈用のフッ素系溶媒としては、ハイドロフルオロポリエーテル、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ-1,3-ジメチルシクロヘキサン、およびジクロロペンタフルオロプロパン等が挙げられる。加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の濃度は、希釈溶液100質量中、0.01~0.2質量が好ましく、0.06質量以上0.15質量以下がさらに好ましい。加水分解性シリル基を有するフッ素化合物のフッ素化合物の濃度が前記範囲内であると、保存または使用時に離型剤の自己縮合反応により離型剤溶液が劣化することを抑制でき、かつ十分な離型性が得られる。浸漬時間は、1~30分が好ましい。浸漬温度は、0~50°Cが好ましい。工程j:モールド本体を風乾させてもよく、乾燥機等で強制的に加熱乾燥させてもよい。乾燥温度は、50~150°Cが好ましい。乾燥時間は、5~300分が好ましい。工程III工程IIIは、例えば、下記の工程k、および/または工程lからなる。k工程iの後、モールド本体を加熱加湿下に置く工程。l必要に応じて、工程kの直後のモールド本体をフッ素系溶媒で洗浄する工程。工程k:モールド本体を加熱加湿下に放置することによって、フッ素化合物離型剤の加水分解性シリル基が加水分解されてシラノール基が生成し、前記シラノール基とモールド本体の表面の水酸基との反応が十分に進行し、フッ素化合物の定着性が向上する。加熱温度は、40~100°Cが好ましい。加湿条件は、相対湿度85以上が好ましい。放置時間は、10分~1日が好ましい。工程l:洗浄用のフッ素系溶媒としては、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ-1,3-ジメチルシクロヘキサン、およびジクロロペンタフルオロプロパン等が挙げられる。フッ素系溶媒で洗浄されたモールド本体を、水、またはアルコール類等でさらに洗浄してもよい。工程IV工程IVは、例えば、下記の工程m、および/または工程nからなる。m工程i~工程lを1サイクルとし、前記サイクルを2回以上繰り返す工程。n必要に応じて、工程mの後、モールド本体を乾燥させる工程。工程m:工程i~工程lのサイクルの繰り返し回数は、2回以上であり、2~10回が好ましく、3~5回がより好ましい。繰り返し回数が2回以上であれば、モールドの離型性を長時間にわたって維持できる。工程n:モールド本体を風乾させてもよく、乾燥機等で強制的に加熱乾燥させてもよい。乾燥温度は、40~150°Cが好ましい。乾燥時間は、5~300分が好ましい。作用効果以上説明した本発明のモールドの製造方法にあっては、モールド本体の前記微細凹凸構造が形成された側の表面を離型剤で処理する工程IIと、前記モールド本体を加熱加湿下に置く工程IIIとを2回以上繰り返すため、表面の微細凹凸構造を繰り返し転写しても離型性を長時間にわたって維持できるモールドを製造できる。本発明のモールドの製造方法は、下記の理由から、表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造方法として特に有効である。陽極酸化アルミナの表面は、加水分解性シリル基シラノール基と反応しにくく、離型剤で1回処理しただけでは、離型剤の存在しない隙間が形成されやすい。そのため、前記隙間から離型剤の剥離が生じやすく、モールドの離型性が低下しやすい。一方、本発明においては、離型剤による処理を2回以上繰り返しているため、隙間を離型剤でできるだけ埋めることができ、モールドの離型性が低下しにくい。<微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法>微細凹凸構造を表面に有する物品は、例えば、図2に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。表面に微細凹凸構造図示略を有するロール状モールド20と、ロール状モールド20の表面に沿って移動する帯状のフィルム42物品本体との間に、タンク22から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。ロール状モールド20と、空気圧シリンダ24によってニップ圧が調整されたニップロール26との間で、フィルム42および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、フィルム42とロール状モールド20との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド20の微細凹凸構造の凹部内に充填する。ロール状モールド20の下方に設置された活性エネルギー線照射装置28から、フィルム42を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、ロール状モールド20の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層44を形成する。剥離ロール30により、表面に硬化樹脂層44が形成されたフィルム42をロール状モールド20から剥離することによって、図3に示すような物品40を得る。活性エネルギー線照射装置28としては、高圧水銀ランプ、またはメタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、100~10000mJ/cm2が好ましい。フィルム42は、光透過性フィルムである。フィルムの材料としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂トリアセチルセルロース等、ポリオレフィン、および脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。硬化樹脂層44は、後述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる膜であり、表面に微細凹凸構造を有する。陽極酸化アルミナのモールドを用いた場合の物品40の表面の微細凹凸構造は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる2以上の凸部46を有する。微細凹凸構造としては、略円錐形状、または角錐形状等の突起凸部が2個以上並んだ、いわゆるモスアイ構造が好ましい。突起間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。凸部間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下が好ましい。陽極酸化アルミナのモールドを用いて凸部を形成した場合、凸部間の平均間隔は100nm程度となることから、200nm以下がより好ましく、150nm以下が特に好ましい。凸部間の平均間隔は、凸部の形成のしやすさの点から、20nm以上が好ましい。凸部間の平均間隔の範囲は、20~400nmが好ましく、50~300nmがより好ましく、90~250nmがさらに好ましい。凸部間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部間の間隔凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離を50点測定し、これらの値を平均したものである。凸部の高さは、平均間隔が100nmの場合は、80~500nmが好ましく、120~400nmがより好ましく、150~300nmが特に好ましい。凸部の高さが80nm以上であれば、反射率が十分低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部の高さが500nm以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。凸部の高さは、電子顕微鏡によって倍率30000倍で観察したときにおける、凸部の最頂部と、凸部間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した値である。凸部のアスペクト比凸部の高さ/凸部間の平均間隔は、0.8~5が好ましく、1.2~4がより好ましく、1.5~3が特に好ましい。凸部のアスペクト比が0.8以上であれば、反射率が十分に低くなる。凸部のアスペクト比が5以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。凸部の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、および釣鐘型等の形状が好ましい。硬化樹脂層44の屈折率とフィルム42の屈折率との差は、0.2以下が好ましく、0.1以下がより好ましく、0.05以下が特に好ましい。屈折率差が0.2以下であれば、硬化樹脂層44とフィルム42との界面における反射が抑えられる。表面に微細凹凸構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。硬化樹脂層44の材料が疎水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、90 ゚以上が好ましく、110 ゚以上がより好ましく、120 ゚以上が特に好ましい。水接触角が90 ゚以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。硬化樹脂層44の材料が疎水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角の範囲は、90 ゚以上180 ゚以下が好ましく、110 ゚以上180 ゚以下がより好ましく、120 ゚以上180 ゚以下が特に好ましい。硬化樹脂層44の材料が親水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、30°以下が好ましく、25 ゚以下がより好ましく、23 ゚以下がさらに好ましく、21 ゚以下が特に好ましい。水接触角が30 ゚以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。前記水接触角は、硬化樹脂層44の吸水による微細凹凸構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、3 ゚以上が好ましい。硬化樹脂層44の材料が親水性の場合の、微細凹凸構造の表面の水接触角の範囲は、3 ゚以上30 ゚以下が好ましく、3 ゚以上25 ゚以下がより好ましく、3 ゚以上23 ゚以下がさらに好ましく、3 ゚以上21 ゚以下が特に好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および/またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、および反応性ポリマー等が挙げられる。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、非反応性のポリマー、および活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、および多官能モノマーが挙げられる。単官能モノマーとしては、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、i-ブチルメタアクリレート、s-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、アルキルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、アリルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、および2-エトキシエチルメタアクリレート等のメタアクリレート誘導体;メタアクリル酸、メタアクリロニトリル;スチレン、およびα-メチルスチレン等のスチレン誘導体;およびメタアクリルアミド、N-ジメチルメタアクリルアミド、N-ジエチルメタアクリルアミド、およびジメチルアミノプロピルメタアクリルアミド等のメタアクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。多官能モノマーとしては、エチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,5-ペンタンジオールジメタアクリレート、1,3-ブチレングリコールジメタアクリレート、ポリブチレングリコールジメタアクリレート、2,2-ビス4-メタアクリロキシポリエトキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-メタアクリロキシエトキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-3-メタアクリロキシ-2-ヒドロキシプロポキシフェニルプロパン、1,2-ビス3-メタアクリロキシ-2-ヒドロキシプロポキシエタン、1,4-ビス3-メタアクリロキシ-2-ヒドロキシプロポキシブタン、ジメチロールトリシクロデカンジメタアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ジメタアクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物ジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ジビニルベンゼン、およびメチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー;ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリメタアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、およびイソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリメタアクリレート等の三官能モノマー;コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリストールペンタメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、およびテトラメチロールメタンテトラメタアクリレート等の四官能以上のモノマー;二官能以上のウレタンアクリレート、および二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、およびビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステルメタアクリレート、ポリエーテルメタアクリレート、ポリオールメタアクリレート、エポキシメタアクリレート、ウレタンメタアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、および側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、および熱可塑性エラストマー等が挙げられる。活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、およびアルキルシリケート化合物等が挙げられる。アルコキシシラン化合物としては、下記式1の化合物が挙げられる。R11xSiOR12y1ただし、R11、およびR12は、それぞれ炭素数1~10のアルキル基を表し、x、およびyは、xy=4の関係を満たす整数を表す。アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ-i-プロポキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-t-ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、およびトリメチルブトキシシラン等が挙げられる。アルキルシリケート化合物としては、下記式2の化合物が挙げられる。R21O[SiOR23OR24O]zR222ただし、R21~R24は、それぞれ炭素数1~5のアルキル基を表し、zは、3~20の整数を表す。アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、n-プロピルシリケート、n-ブチルシリケート、n-ペンチルシリケート、およびアセチルシリケート等が挙げられる。光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p-メトキシベンゾフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、α,α-ジメトキシ-α-フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、および2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、およびテトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド;およびベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、t-ブチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2,4-ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、および2,4-ジクロロチオキサントン等のチオキサントン;ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、ベンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシル-フェニルケトン、2-メチル-2-モルホリノ4-チオメチルフェニルプロパン-1-オン、および2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン等のアセトフェノン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、およびベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、およびビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド;メチルベンゾイルホルメート;1,7-ビスアクリジニルヘプタン;および9-フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t-ブチルパーオキシオクトエート、t-ブチルパーオキシベンゾエート、およびラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物;および前記有機過酸化物にN,N-ジメチルアニリン、およびN,N-ジメチル-p-トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。重合開始剤の量は、重合性化合物100質量部に対して、0.1~10質量部が好ましい。重合開始剤の量が0.1質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が10質量部を超えると、硬化膜が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、離型剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤、微粒子、および少量の溶媒を含んでいてもよい。疎水性材料硬化樹脂層44の微細凹凸構造の表面の水接触角を90°以上にするためには、疎水性の材料を形成し得る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。フッ素含有化合物:フッ素含有化合物としては、下記式3で表されるフルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。-CF2n-X3ただし、Xは、フッ素原子または水素原子を表し、nは、1以上の整数を表し、1~20が好ましく、3~10がより好ましく、4~8が特に好ましい。フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、およびフッ素含有ポリマー等が挙げられる。フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、およびフルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換メタアクリレート、フルオロアルキル基置換メタアクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、およびフルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、およびフルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換メタアクリレートが好ましく、下記式4の化合物が特に好ましい。CH2=CR41COO-CH2m-CF2n-X4ただし、R41は、水素原子またはメチル基を表し、Xは、水素原子またはフッ素原子を表し、mは、1~6の整数を表し、1~3が好ましく、1または2がより好ましく、nは、1~20の整数を表し、3~10が好ましく、4~8がより好ましい。フッ素含有シランカップリング剤としては、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好ましく、下記式5の化合物が特に好ましい。RfaR51bSiYc5Rfは、エーテル結合またはエステル結合を1個以上含んでいてもよい炭素数1~20のフッ素置換アルキル基を表す。Rfとしては、3,3,3-トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチル基、3-トリフルオロメトキシプロピル基、および3-トリフルオロアセトキシプロピル基等が挙げられる。R51は、炭素数1~10のアルキル基を表す。R51としては、メチル基、エチル基、およびシクロヘキシル基等が挙げられる。Yは、水酸基または加水分解性基を表す。加水分解性基としては、アルコキシ基、およびハロゲン原子、R52COOただし、R52は、水素原子または炭素数1~10のアルキル基を表す。等が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、i-プロピルオキシ基、ブトキシ基、i-ブトキシ基、t-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基、およびラウリルオキシ基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、Cl、Br、およびI等が挙げられる。R52COOとしては、CH3COO、C2H5COO等が挙げられる。a、b、およびcは、abc=4であり、かつa≧1、およびc≧1を満たす整数を表し、a=1、b=0、およびc=3が好ましい。フッ素含有シランカップリング剤としては、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル-3,3,3-トリフルオロプロピルメトキシシラン、およびトリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、およびフルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤としては、炭素数2~10のフルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3-[オメガ-フルオロアルキルC6~C11オキシ]-1-アルキルC3~C4スルホン酸ナトリウム、3-[オメガ-フルオロアルカノイルC6~C8-N-エチルアミノ]-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルC11~C20カルボン酸またはその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸C7~C13またはその金属塩、パーフルオロアルキルC4~C12スルホン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、N-プロピル-N-2-ヒドロキシエチルパーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルC6~C10スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルC6~C10-N-エチルスルホニルグリシン塩、およびモノパーフルオロアルキルC6~C16エチルリン酸エステル等が挙げられる。フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有脂肪族一級、二級または三級アミン酸、パーフルオロアルキルC6~C10スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族4級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、およびイミダゾリニウム塩等が挙げられる。フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリオキシアルキレン基含有モノマーとの共重合体、およびフルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーとポリオキシアルキレン基含有モノマーとの共重合体が好ましい。ポリオキシアルキレン基としては、下記式6で表される基が好ましい。-OR61p-6ただし、R61は、炭素数2~4のアルキレン基を表し、pは、2以上の整数を表す。R61としては、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CHCH3CH2-、および-CHCH3CHCH3-等が挙げられる。ポリオキシアルキレン基は、同一のオキシアルキレン単位OR61からなるものであってもよく、2種以上のオキシアルキレン単位OR61からなるものであってもよい。2種以上のオキシアルキレン単位OR61の配列は、ブロックであってもよく、ランダムであってもよい。シリコーン系化合物:シリコーン系化合物としては、メタアクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、およびシリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。メタアクリル酸変性シリコーンとしては、シリコーンジメタアクリレート等が挙げられる。親水性材料硬化樹脂層44の微細凹凸構造の表面の水接触角を25°以下にするためには、親水性の材料を形成し得る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、少なくとも親水性モノマーを含む組成物を用いることが好ましい。また、耐擦傷性や耐水性付与の観点からは、架橋可能な多官能モノマーを含むものがより好ましい。なお、親水性モノマーと架橋可能な多官能モノマーは、同一すなわち、親水性多官能モノマーであってもよい。さらに、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、その他のモノマーを含んでいてもよい。親水性の材料を形成し得る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、下記の重合性化合物を含む組成物を用いることがより好ましい。4官能以上の多官能メタアクリレートの10~50質量、2官能以上の親水性メタアクリレートの30~80質量、および単官能モノマーの0~20質量の合計100質量からなる重合性化合物。4官能以上の多官能メタアクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類ダイセルサイテック社製:EBECRYL220、EBECRYL1290、EBECRYL1290K、EBECRYL5129、EBECRYL8210、EBECRYL8301、KRM8200、ポリエーテルアクリレート類ダイセルサイテック社製:EBECRYL81、変性エポキシアクリレート類ダイセルサイテック社製:EBECRYL3416、ポリエステルアクリレート類ダイセルサイテック社製:EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL800、EBECRYL810、EBECRYL811、EBECRYL812、EBECRYL1830、EBECRYL845、EBECRYL846、EBECRYL1870等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。4官能以上の多官能メタアクリレートとしては、5官能以上の多官能メタアクリレートがより好ましい。4官能以上の多官能メタアクリレートの割合は、10~50質量が好ましく、耐水性、耐薬品性の点から、20~50質量がより好ましく、30~50質量が特に好ましい。4官能以上の多官能メタアクリレートの割合が10質量以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。4官能以上の多官能メタアクリレートの割合が50質量以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。2官能以上の親水性メタアクリレートとしては、アロニックスM-240、アロニックスM260東亞合成社製、NKエステルAT-20E、およびNKエステルATM-35E新中村化学社製等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート;およびポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、6~40が好ましく、9~30がより好ましく、12~20が特に好ましい。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が6以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が40以下であれば、4官能以上の多官能メタアクリレートとの相溶性が良好となり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が分離しにくい。2官能以上の親水性メタアクリレートの割合は、30~80質量が好ましく、40~70質量がより好ましい。2官能以上の親水性メタアクリレートの割合が30質量以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。2官能以上の親水性メタアクリレートの割合が80質量以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。親水性単官能モノマーとしては、M-20G、M-90G、M-230G新中村化学社製等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能メタアクリレート;ヒドロキシアルキルメタアクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能メタアクリレート;単官能アクリルアミド類;およびメタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、およびメタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、およびビニルピロリドン等の粘度調整剤;および物品本体への密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。単官能モノマーの割合は、0~20質量が好ましく、5~15質量がより好ましい。単官能モノマーを用いることにより、物品本体と硬化樹脂との密着性が向上する。単官能モノマーの割合が20質量以下であれば、4官能以上の多官能メタアクリレートまたは2官能以上の親水性メタアクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。単官能モノマーは、1種または2種以上を共重合した低重合度の重合体として活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に0~35質量部配合してもよい。低重合度の重合体としては、M-230G新中村化学社製等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能メタアクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの40/60共重合オリゴマーMRCユニテック社製、MGポリマー等が挙げられる。用途物品40の用途としては、反射防止物品、防曇性物品、防汚性物品、および撥水性物品、より具体的にはディスプレー用反射防止、自動車メーターカバー、自動車ミラー、自動車窓、有機または無機エレクトロルミネッセンスの光取り出し効率向上部材、および太陽電池部材等が挙げられる。作用効果以上説明した本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法にあっては、本発明のモールドの製造方法で得られたモールドを用いているため、モールドの微細凹凸構造を物品の表面に繰り返し転写した場合であっても、離型性が低下しにくくなり、その結果、微細凹凸構造を表面に有する物品を生産性よく製造できるようになる。なお、微細凹凸構造を表面に有する物品は、図示例の物品40に限定はされない。例えば、微細凹凸構造は、硬化樹脂層44を設けることなくフィルム42の表面に直接形成されていてもよい。ただし、ロール状モールド20を用いて効率よく微細凹凸構造を形成できる点から、硬化樹脂層44の表面に微細凹凸構造が形成されていることが好ましい。以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。陽極酸化アルミナの細孔陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡日本電子社製、JSM-7400Fを用いて、加速電圧3.00kVの条件にて、断面を観察し、細孔の間隔、および細孔の深さを測定した。各測定は、それぞれ50点について行い、平均値を求めた。転写試験、剥離強度モールドの微細凹凸構造が形成された側の表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aを1μL流し込み、ポリエチレンテレフタレートPETフィルムを被せた後、UV照射機高圧水銀ランプ:積算光量1100mJ/cm2によって硬化を行った。ついで、PETフィルムごと硬化樹脂をモールドから剥離離型した。モールドを変更することなく、この操作をくりかえし、400回目の離型時に90度剥離試験を行い、剥離強度を求めた。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物ATAS:コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物;45質量部、C6DA:1,6-ヘキサンジオールジアクリレート大阪有機化学社製;45質量部、X-22-1602:ラジカル重合性シリコーンオイル信越化学工業社製;10質量部、Irg184:1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンチバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュア184;3質量部。実施例150mm×50mm×厚さ0.3mmのアルミニウム板純度99.99を、過塩素酸/エタノール混合溶液1/4体積比中で電解研磨したものを使用した。工程a:前記アルミニウム板について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16°Cの条件で6時間陽極酸化を行った。工程b:酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、6質量リン酸/1.8質量クロム酸混合水溶液に3時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。工程c:前記アルミニウム板について、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16°Cの条件で30秒間陽極酸化を行った。工程d:酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、32°Cの5質量リン酸水溶液に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。工程e:前記アルミニウム板について、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16°Cの条件で30秒間陽極酸化を行った。工程f:前記工程dおよび工程eを合計で4回繰り返し、最後に工程dを行い、平均間隔:100nm、深さ:240nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたモールド本体aを得た。工程g:シャワーを用いてモールド本体aの表面のリン酸水溶液を軽く洗い流した後、モールド本体aを流水中に10分間浸漬した。工程h:モールド本体aにエアーガンからエアーを吹き付け、モールド本体aの表面に付着した水滴を除去した。工程i:モールド本体aを、オプツールDSXダイキン化成品販売社製を希釈剤HD-ZVハーベス社製で0.1質量に希釈した溶液に室温で10分間浸漬した。モールド本体aを希釈溶液から3mm/secでゆっくりと引き上げた。工程j:モールド本体aを15分間風乾した。工程k:離型剤処理したモールド本体aについて、恒温恒湿器楠本化成社製を用いて、温度60°C、相対湿度85に1時間放置し、加熱加湿処理した。工程m:工程i~kをさらに4回繰り返した。工程n:モールド本体aを一晩風乾し、モールドを得た。前記モールドを用いて転写試験を行った。90度剥離試験から求めた1回目から400回目の剥離強度を指数近似により外挿して800回目の剥離強度とし、剥離強度が35N/mに達する転写回数を概算し、転写可能回数とした。結果を表1に示す。なお、後述の比較例1では転写可能回数240回で剥離強度が35N/mに達し、モールド側に硬化樹脂が付着したために離型出来ない領域が発生した。実施例2工程mにおける繰り返し回数を2回とした以外は、実施例1と同様にしてモールドを得た。前記モールドを用いて実施例1と同様に転写試験を行った。結果を表1に示す。実施例3工程mにおける繰り返し回数を1回とした以外は、実施例1と同様にしてモールドを得た。前記モールドを用いて実施例1と同様に転写試験を行った。結果を表1に示す。比較例1工程kおよび工程mを行わなかったこと以外は、実施例1と同様にしてモールドを得た。前記モールドを用いて実施例1と同様に転写試験を行った。結果を表1に示す。比較例2工程mを行わなかったこと以外は、実施例1と同様にしてモールドを得た。前記モールドを用いて実施例1と同様に転写試験を行った。結果を表1に示す。比較例3工程kを行わなかったこと以外は、実施例2と同様にしてモールドを得た。前記モールドを用いて実施例1と同様に転写試験を行った。結果を表1に示す。比較例4オプツールDSXの希釈溶液の濃度を0.3質量に変更した以外は、比較例1と同様にしてモールドを得た。前記モールドを用いて実施例1と同様に転写試験を行った。結果を表1に示す。比較例5オプツールDSXの希釈溶液の濃度を0.3質量に変更した以外は、比較例2と同様にしてモールドを得た。前記モールドを用いて実施例1と同様に転写試験を行った。結果を表1に示す。以上の実施例および比較例より、適切な離型剤濃度下で離型剤処理したモールド本体に加熱加湿処理を繰り返すことで、表面の微細凹凸構造を繰り返し転写しても離型性を長時間にわたって維持できるモールドを製造できることがわかる。特に、離型剤の濃度0.1質量付近で加熱加湿処理を2回以上繰り返すことで、非常に長時間にわたって離型性を維持できることがわかる。"