"多数の細線を組み合わせた形状を呈する金属製の第1導電層と、ニッケル、亜鉛、金、白金、クロム、アルミニウム、カドミウム、タングステン、スズ、コバルト、鉄、チタン、マンガン若しくはジルコニウム、又はこれらの合金、あるいは、リン酸クロムIII塩、リン酸クロムVI塩、リン酸ジルコニウム塩、リン酸チタン塩、リン酸リチウム塩、リン酸マンガン塩、リン酸亜鉛塩、リン酸コバルト塩、リン酸スズ塩、リン酸ニッケル塩、リン酸タングステン塩、若しくはリン酸モリブデン塩、又はこれらの混合物からなり、少なくとも前記第1導電層の外表面を覆う腐食防止層と、前記腐食防止層を覆う金属酸化物製の第2導電層と、を含む透明電極を有することを特徴とする色素増感型太陽電池用電極基板。前記第1導電層が、銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、チタン、又はステンレスである、請求項1に記載の色素増感型太陽電池用電極基板。前記第1導電層が、銅、ニッケル、チタン、又はステンレスである、請求項2に記載の色素増感型太陽電池用電極基板。前記第1導電層が、銅、ニッケル、又はステンレスである、請求項3に記載の色素増感型太陽電池用電極基板。前記透明電極が、透明樹脂フィルムの片面に形成されており、前記透明電極が、該透明樹脂フィルムの片面に形成された接着剤層を更に含み、該接着剤層によって前記第1導電層が該透明樹脂フィルムに接合されている、請求項1~4のいずれか1項に記載の色素増感型太陽電池用電極基板。前記腐食防止層が、前記第1導電層の外表面の他に該第1導電層の下地層表面のうちで前記第1導電層によって覆われていない領域も覆っている、請求項1~5のいずれか1項に記載の色素増感型太陽電池用電極基板。前記透明電極が、クロム合金、又は酸化クロムを含む表面処理層を更に含み、該表面処理層が前記腐食防止層と前記第2導電層との間に介在している、請求項1~6のいずれか1項に記載の色素増感型太陽電池用電極基板。請求項1~7のいずれか1項に記載の色素増感型太陽電池用電極基板を用いたことを特徴とする色素増感型太陽電池。しかしながら、電極基板の材料として例えばポリエチレンテレフタレート以下、PETと略記する。等の安価で比較的耐熱性の低い透明樹脂フィルムを用いると、透明導電膜を形成する際の温度を透明樹脂フィルムの耐熱温度以下にしなければならないことから、緻密な透明導電膜を形成することが困難になる。同様のことが、特許文献1に記載されている上述の窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ニッケル-クロムメタル等の層を物理的気相蒸着法又は化学的気相蒸着法によって形成する場合についても当てはまる。その結果として、耐熱性が比較的低い透明樹脂フィルムを基材として用いた電極基板を利用して作製された色素増感型太陽電池では、電解質が透明導電膜に浸透してその下地層まで達し易い。光電変換効率の高い色素増感型太陽電池を得るうえからは、上述のI-/I3-レドックス対のようなハロゲン系のレドックス対を含有した電解質層を用いることが好ましいが、ハロゲン系のレドックス対は化学的な活性が高く、多くの金属を腐食させる。特許文献1に記載された色素増感型太陽電池における前述の金属薄膜の材料としては、導電性及び経済性を考慮すると銅Cuが最も好ましいと考えられるが、銅はハロゲン系のレドックス対との接触によって比較的容易に腐食する。このため、特許文献1に記載された色素増感型太陽電池では、光電変換効率が高いものを低コストの下に得ようとすると、その性能が経時的に低下し易くなり、その性能が経時的に低下し難いものを得ようとすると、光電変換効率の高いものを得難くなるという問題が生じる。本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その第1の目的は、光電変換効率が高く、性能の経時的な低下が抑制された色素増感型太陽電池を低コストの下に得ることが容易な色素増感型太陽電池用電極基板を提供することにある。また、本発明の第2の目的は、光電変換効率が高く、性能の経時的な低下が抑制されたものを低コストの下に得ることが容易な色素増感型太陽電池を提供することにある。上述した第1の目的を達成する本発明の色素増感型太陽電池用電極基板は、多数の細線を組み合わせた形状を呈する金属製の第1導電層と、ニッケル、亜鉛、金、白金、クロム、アルミニウム、カドミウム、タングステン、スズ、コバルト、鉄、チタン、マンガン若しくはジルコニウム、又はこれらの合金、あるいは、リン酸クロムIII塩、リン酸クロムVI塩、リン酸ジルコニウム塩、リン酸チタン塩、リン酸リチウム塩、リン酸マンガン塩、リン酸亜鉛塩、リン酸コバルト塩、リン酸スズ塩、リン酸ニッケル塩、リン酸タングステン塩、若しくはリン酸モリブデン塩、又はこれらの混合物からなり、少なくとも前記第1導電層の外表面を覆う腐食防止層と、前記腐食防止層を覆う金属酸化物製の第2導電層と、を含む透明電極を有することを特徴とする以下、この色素増感型太陽電池用電極基板を電極基板Iということがある。。この電極基板Iでは、金属酸化物製の第2導電層の他に金属製の第1導電層が形成されているので、電極基板I全体の導電性を比較的容易に高めることができる。また、第1導電層の外表面を覆う腐食防止層が上記したニッケル等からなるので、基材の耐熱性が比較的低くても、腐食防止層の緻密化を図り易い。更に、この腐食防止層は色素増感型太陽電池用の電解質に対して耐食性を有している。腐食防止層が緻密で、かつ、この腐食防止層が色素増感型太陽電池用の電解質に対して耐食性を有していれば、電極基板Iを用いて色素増感型太陽電池を作製したときに、第1導電層への電解質の浸透が抑制される。したがって、たとえ色素増感型太陽電池の電解質にハロゲン系のレドックス対が含有されていたとしても、また、たとえ第1導電層の材料がハロゲン系のレドックス対によって腐食され易いものであったとしても、このレドックス対によって第1導電層が腐食されることに起因する電極基板Iの導電性の低下を抑制することができる。第1導電層の材料として安価で導電性の高い銅等を使用した場合でも、電極基板Iの導電性の低下を抑制することができる。これらの理由から、本発明の電極基板Iによれば、光電変換効率が高く、性能の経時的な低下が抑制された色素増感型太陽電池を低コストの下に容易に得ることが可能になる。本発明の電極基板においては、前記第1導電層が、銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、チタン、又はステンレスであることが好ましく、前記第1導電層が、銅、ニッケル、チタン、又はステンレスであることがより好ましく、前記第1導電層が、銅、ニッケル、又はステンレスであることが特に好ましい。この電極基板によれば、第1導電層の導電率が高いことから、当該電極基板V全体の導電性を高め易い。本発明の電極基板Iにおいては、1前記透明電極が、透明樹脂フィルムの片面に形成されており、前記透明電極が、前記透明樹脂フィルムの片面に形成された接着剤層を更に含み、該接着剤層によって前記第1導電層が前記透明樹脂フィルムに接合されている以下、この色素増感型太陽電池用電極基板を電極基板IIということがある。こと、2前記腐食防止層が、前記第1導電層の外表面の他に該第1導電層の下地層表面のうちで前記第1導電層によって覆われていない領域も覆っている以下、この色素増感型太陽電池用電極基板を電極基板IIIということがある。こと、又は3前記透明電極が、クロム合金、又は酸化クロムを含む表面処理層を更に含み、該表面処理層が前記腐食防止層と前記第2導電層との間に介在している以下、この色素増感型太陽電池用電極基板を電極基板IVということがある。こと、が好ましい。上記の1に記載の電極基板IIによれば、第1導電層の材料として例えば圧延によって形成された金属箔を利用することが可能になるので、製造コストを抑え易い。上記の2に記載の電極基板IIIによれば、第1導電層とその下地層との界面に電解質が浸透することに起因する第1導電層の腐食や、下地層が腐食もしくは溶解することに起因する第1導電層の腐食を抑制することが可能になるので、色素増感型太陽電池の性能の経時的な低下を更に抑え易い。そして、上記の3に記載の電極基板IVによれば、ハロゲン系のレドックス対に対する耐食性が高い腐食防止層を形成し易い。前述した第2の目的を達成する本発明の色素増感型太陽電池は、上記した本発明に係る記載の色素増感型太陽電池用電極基板を用いたことを特徴とする。本発明の色素増感型太陽電池によれば、第1の電極基板として上述した本発明の電極基板のいずれかを用いているので、光電変換効率が高く、性能の経時的低下が抑制されたものを低コストの下に得ることが容易である。本発明の色素増感型太陽電池用電極基板によれば、可撓性及び光電変換効率が高く、性能の経時的な低下が抑制された色素増感型太陽電池を低コストの下に得ることが容易になるので、実用的な色素増感型太陽電池を得ることも容易になる。そして、本発明の色素増感型太陽電池によれば、半導体電極を有する第1の電極基板として、上述した本発明の色素増感型太陽電池用電極基板を用いているので、可撓性及び光電変換効率が高いものを低コストの下に提供すること可能になる。以下、本発明の色素増感型太陽電池用電極基板及びその製造方法、並びに色素増感型太陽電池それぞれの形態について、図面を参照しつつ順次説明する。<色素増感型太陽電池用電極基板第1形態及びその製造方法>図1は、本発明の色素増感型太陽電池用電極基板の基本的な断面構造の一例を示す概略図である。図示の色素増感型太陽電池用電極基板20以下、電極基板20と称する。では、透明樹脂フィルム1の片面に、第1導電層6と腐食防止層7と第2導電層8とを含む透明電極10が形成され、この透明電極10上に多孔質半導体電極15が形成されている。多孔質半導体電極15は多数の半導体微粒子15aにより形成されており、半導体微粒子15aの表面には色素17が担持されている。なお、図1においては、便宜上、色素17を1つの層として描いている。以下、電極基板20及びその製造方法について詳述する。1透明樹脂フィルム透明樹脂フィルム1は、その膜厚が125μmであるときに、紫外域から赤外域に亘る波長域中の所望の波長域の光を平均値で概ね85以上透過させ、かつ、所望の耐光性及び耐候性を有するものであればよく、任意の樹脂材料を用いて、また必要に応じて各種の添加剤を併用して、種々の方法により形成することができる。上記所望の波長域は、多孔質半導体電極15及び色素17それぞれの吸収波長域を考慮して、適宜選定可能である。この透明樹脂フィルム1としては、例えば、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートPETフィルム、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体フィルム、ポリエーテルサルフォンPESフィルム、ポリエーテルエーテルケトンPEEKフィルム、ポリエーテルイミドPEIフィルム、ポリイミドPIフィルム、ポリエステルナフタレートPENフィルム、ポリカーボネートPCフィルム、環状ポリオレフィンフィルム等を用いることができる。電極基板20の製造コストを抑えるという観点からは、エンジニアリングプラスチックのような比較的高価な樹脂材料によって形成されたものよりも、比較的安価な樹脂材料によって形成されたものの方が好ましい。透明樹脂フィルム1の膜厚は、電極基板20を用いて作製される色素増感型太陽電池の用途等に応じて、概ね15~500μmの範囲内で適宜選定可能である。なお、後述するように透明電極10及び多孔質半導体電極15を形成する際には熱処理を施す必要があるので、透明樹脂フィルム1の材質及び膜厚を選定するにあたっては、その耐熱性をも考慮することが好ましい。2透明電極透明電極10は、電極基板20を用いて作製された色素増感型太陽電池に所望の波長域の光が照射されたときに、多孔質半導体電極15からキャリア電子を受け取るもの、又は、多孔質半導体電極15にキャリア正孔を伝えるものであり、この透明電極10は、上記の所望波長域の光を概ね80以上透過させるものであることが好ましい。図示の透明電極10は、透明樹脂フィルム1の片面全体に形成された接着剤層5と、接着剤層5によって透明樹脂フィルム1に接合された第1導電層6と、第1導電層6の外表面及び接着剤層3の露出面を覆う腐食防止層7と、腐食防止層7を覆う第2導電層8とを含んでいる。接着剤層5は、主に金属箔圧延金属箔や電解金属箔等をパターニングして第1導電層6を形成する際に使用されるものである。例えば金属蒸着膜をパターニングして第1導電層6を得る場合や、蒸着によって第1導電層6を直接形成する場合には、接着剤層5を省略することができる。この接着剤層5は、i透明電極10の光透過率が所望の値となる光透過性を有していること、ii金属箔と透明樹脂フィルムを接着剤により貼り合せた後に前記の金属箔をエッチングにより所望形状にパターニングして第1導電層6を形成する場合には、耐エッチング性を有していること、iii色素増感型太陽電池の製造過程で多孔質半導体電極に色素を担持させる際に使用される色素溶液に対して耐溶剤性を有していること、iv色素増感型太陽電池に使用される電解質に対して耐性耐電解質性を有していること、が好ましい。このような要件を満たす接着剤層5の材料の具体例としては、アクリル系、エステル系、ウレタン系、フッ素系、ポリイミド系、エポキシ系、ポリウレタンエステル系、アクリルウレタン系等の接着剤が挙げられる。これらの接着剤は、紫外線硬化型であってもよいし、熱硬化型であってもよい。透明樹脂フィルム1と前述の金属箔との接合は、上述した接着剤を用いて、ドライラミネーション法、ウェットラミネーション法等の方法により行うことができる。第1導電層6は、透明電極10の導電性を高めるためのものであり、多数の細線を組み合わせた形状を呈する金属製の導電層である。ここで、本発明でいう金属製の導電層とは、単体金属によって形成された導電層を含む他に、合金によって形成された導電層をも含むものとする。第1導電層6の平面視上の形状は、透明電極10の光透過率が所望の値となる範囲内で、例えば図2に示すような格子状の他、網目状、平行ストライプ状等、適宜選定可能である。導電性の高い透明電極10を得るという観点から、第1導電層6の材料としては、銅Cu、鉄Fe、ニッケルNi、クロムCr、アルミニウムAl、金Au、銀Ag、チタンTi、ステンレス等の金属又は合金を用いることが好ましく、これらの中でも、導電性の高い材料である銅、ニッケル、チタン、ステンレス等を用いることが好ましい。また、電極基板20の製造コストを抑えるという観点からは、安価な金属である銅、ニッケル、ステンレスを用いることが好ましい。第1導電層6の膜厚は、その材質及び形状に応じて、透明電極10の光透過率及びシート抵抗が所望の値となる範囲内で適宜選定でき、概ね5~50μmである。第1導電層6の材料として銅薄膜を用いる場合には、電磁波シールドフィルムの材料として使用される導電性フィルム、すなわち、透明樹脂フィルムの片面に接着剤によって銅箔が接合されているフィルム、あるいは、電磁波シールドフィルムそのものを転用することができるので、電極基板20の製造コストを抑えるうえで有利である。上記の導電性フィルム又は電磁波シールドフィルムを転用した場合には、その基材である透明樹脂フィルをそのまま電極基板20の透明樹脂フィル1として利用することができる。腐食防止層7は、電極基板20を用いて色素増感型太陽電池を作製したときに、電解質が第1導電層6にまで浸透するのを防止するためのものであり、電気めっき、無電解めっき、又は化成処理によって形成される。また、この腐食防止層は、色素増感型太陽電池用の電解質に対して耐食性を有している材料によって形成される。第2導電層8は、色素増感型太陽電池に所定の波長域の光が照射されたときに、多孔質半導体電極15からキャリア電子を受け取るもの、又は、多孔質半導体電極15にキャリア正孔を供給するものであり、種々の導電性金属酸化物を用いて形成することが可能である。第1導電層6が開口部を有する場合、第2導電層8は、第1導電層6をその開口部も含めて平面視上覆うように形成することが好ましい。この第2導電層8は、光透過性及び導電性を考慮すると、酸化インジウムスズITO、フッ素ドープ酸化スズ、酸化スズ、酸化インジウム亜鉛IZO、酸化亜鉛ZnO等によって形成することが好ましく、これらの中でも、導電性及び光透過性の両方に優れた材料であるフッ素ドープ酸化スズ又はITOによって形成することが好ましい。第2導電層8の膜厚は概ね0.1nm~500nmの範囲内で適宜選定可能であり、そのシート抵抗は概ね15Ω/□以下のできるだけ低い値であることが好ましい。電極基板20を製造するにあたっては、まず、第1導電層6が片面に形成された透明樹脂フィルム1を用意する準備工程、少なくとも第1導電層6の外表面を覆うようにして腐食防止層7を形成する腐食防止層形成工程、及び腐食防止層7を覆う金属酸化物製の第2導電層8を形成する第2導電層形成工程を順次行って、透明樹脂フィルム1上に透明電極10を形成する。準備工程で用意する透明樹脂フィルム1、すなわち、第1導電層6が片面に形成された透明樹脂フィルム1は、自ら製造してもよいし、他で製造されたものを購入してもよい。第1導電層6を自ら形成する場合、この第1導電層6は、その元となる金属箔又は金属蒸着膜を、例えばフォトリソグラフィーを利用して所望のパターン形状にエッチングすることにより、形成することができる。フォトリソグラフィーを利用して第1導電層6を形成するにあたっては、例えば、レジスト塗布、プリベーク、露光密着露光処理、現像処理、及びポストベークを順次行ってレジストパターンエッチングマスクを形成し、このレジストパターンエッチングマスクを用いて酸化鉄や塩化第二鉄溶液等のエッチング液によるエッチングを行った後に、レジストパターンマスクの剥離、及びリンス処理をこの順番で行う。上記の金属蒸着膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法PVD法や、プラズマCVD等の化学気相成長法CVD法等によって形成することができる。金属蒸着膜を成膜するにあたって、形成したい第1導電層6の形状に対応したパターンの開口部を有するマスクを利用すれば、金属蒸着膜の成膜だけで直接第1導電層6を形成することができる。前述した準備工程に引き続き行われる腐食防止層形成工程では、電気めっき、無電解めっき、又は化成処理によって前述した腐食防止層7を形成する。電気めっき、無電解めっき、又は化成処理によれば、透明樹脂フィル1の耐熱性が低くても、比較的緻密な腐食防止層7を容易に形成することができる。このときのめっき条件、化成処理条件は、透明樹脂フィルム1の耐熱性や形成しようとする腐食防止層7の組成等に応じて、適宜選定される。例えば電気めっきによれば、ニッケルNi、亜鉛Zn、金Au、白金Pt、クロムCr、アルミニウムAl、カドミウムCd、タングステンW、スズSn、コバルトCo、及び鉄Fe等の金属、又は前記の金属同士の合金を含み、色素増感型太陽電池用の電解質に対して耐食性を有する腐食防止層7を形成することができる。電気めっきの際のめっき浴としては、例えば上述の金属のイオンを含有した通常のめっき浴シアン浴、硼弗化浴、ピロリン酸浴、及びジンケート浴や、次亜リン酸又は水素化硼素塩を添加しためっき浴等を用いることができる。無電解めっきによれば、ニッケルNi、亜鉛Zn、金Au、白金Pt、クロムCr、アルミニウムAl、カドミウムCd、タングステンW、スズSn、コバルトCo、鉄Fe、チタンTi、マンガンMn、及びジルコニウムZr等の金属、又は前記の金属同士の合金を含み、色素増感型太陽電池用の電解質に対して耐食性を有する腐食防止層7を形成することができる。無電解めっきの際のめっき浴としては、例えば上述の金属のイオンを含有した通常のめっき浴アルカリ浴等を用いることができる。無電解めっきによれば、対象物全体をめっき溶中に浸漬させることにより、対象物全体に腐食防止層を形成することができる。化成処理方法による腐食防止層7の形成は、例えばリン酸金属塩を含有した化成処理剤以下、リン酸金属塩化成処理剤という。を、第1導電層6まで形成した透明樹脂フィルム1に第1導電層6側から塗布することによって、あるいは、第1導電層6まで形成した透明樹脂フィルム1をリン酸金属塩化成処理剤に浸漬することによって、行うことができる。リン酸金属塩化成処理剤を塗布する場合、塗布方法としては公知の手法を用いることができる。上記のリン酸金属塩の具体例としては、例えばリン酸クロムIII塩、リン酸クロムVI塩、リン酸ジルコニウム塩、リン酸チタン塩、リン酸リチウム塩、リン酸マンガン塩、リン酸亜鉛塩、リン酸コバルト塩、リン酸スズ塩、リン酸ニッケル塩、リン酸タングステン塩、リン酸モリブデン塩等が挙げられる。これらのリン酸金属塩は、1種単独で、又は2種以上を混合して使用される。化成処理剤は、例えばフェノール樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の水溶性合成樹脂を1種又は2種以上含有していてもよい。化成処理剤に水溶性合成樹脂を含有させた場合には、化成処理後に80~200°C程度の熱処理を施して、共有結合や配位結合等の架橋反応を促進させることが好ましい。この熱処理によって、より緻密な腐食防止層7を形成することができる。なお、腐食防止層7を形成するにあたっては、前処理として予め脱脂処理をしておくことが好ましい。脱脂処理の方法としては、例えばアルカリ浸漬法、電解洗浄法、酸洗浄法、電解酸洗浄法、酸活性化法等の公知の方法を用いることができる。予め脱脂処理を行うことにより、より緻密な腐食防止層7を形成することができる。腐食防止層7は、少なくとも第1導電層6の外表面上面及び各側面を覆っていればよいが、図示のように、第1導電層6の外表面の他に、第1導電層6の下地層図示の例では接着剤層5表面のうちで第1導電層6によって覆われていない領域も覆っていることが好ましい。このような腐食防止層7を形成することにより、電極基板20を用いて色素増感型太陽電池を作製したときに、第1導電層6とその下地層との界面に電解質が浸透することに起因する第1導電層6の腐食や、下地層が腐食もしくは溶解することに起因する第1導電層6の腐食を抑制することが可能になる。必要に応じて、腐食防止層7をクロメート処理することもできる。このクロメート処理は、腐食防止層7の主成分が亜鉛であるときに特に好適である。クロメート処理を施すことにより、電極基板20を用いて色素増感型太陽電池を作製したときに電解質が第1導電層6に浸透するのを更に抑制することが可能になる。クロメート処理を行う際の条件は、透明樹脂フィル1の耐熱性や腐食防止層7の組成等に応じて、適宜選定される。腐食防止層7をクロメート処理した場合には、クロメート処理によって形成された表面処理層図示せず。が、腐食防止層7と第2導電層8との間に介在することになる。上記の表面処理層は、例えば、クロムを含む金属、銅クロム合金等からなるクロム合金、又は酸化クロムからなる被膜である。クロメート処理は、亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきによって形成した腐食防止層7に施すことが特に好ましい。クロメート処理の対象物が亜鉛めっき層又は亜鉛合金めっき層である場合には、表面処理層クロメート処理層とめっき層腐食防止層7との密着性をより高めることができる。上述のようにして腐食防止層を形成する腐食防止層形成工程を行った後、腐食防止層7を覆う金属酸化物製の第2導電層8を形成する第2導電層形成工程を行うことにより、透明電極10を得ることができる。第2導電層8の形成は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長等により行うことができ、製造コストを抑えるという観点からはイオンプレーティング法、スパッタリング法により行うことが好ましい。3多孔質半導体電極多孔質半導体電極15は、光励起された色素17からキャリア電子を受け取ることができるもの、又は、光励起された色素17にキャリア正孔を伝えることができるものであればよい。この多孔質半導体電極15は、単一成分の層とすることもできるし、混合物の層とすることもできる。更には、複数の多孔質半導体膜の積層物とすることもできる。多孔質半導体電極15の導電型は、通常、N型である。多孔質半導体電極15の材料としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムスズ、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化セシウム、酸化ビスマス、酸化マンガン、酸化イットリウム、酸化タングステン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ランタン等の金属酸化物半導体を用いることができる。これらの金属酸化物半導体は多孔質半導体層を形成するのに適しており、色素増感型太陽電池のエネルギー変換効率の向上、コストの削減を図ることができるため好ましい。電極基板20を用いた色素増感型太陽電池の耐久性や、電極基板20を製造する際の安全性及び経済性等を考慮すると、多孔質半導体電極15の材料としては酸化チタンが好ましく、特に、アナターゼ型の酸化チタンが好ましい。なお、本発明でいう半導体微粒子は、微粒子形状の半導体を含む他に、不定形の微小半導体や微粉末状の半導体をも含むものとする。上記の金属酸化物半導体微粒子の平均粒子径は概ね10~250nmの範囲内であることが好ましく、特に、量子サイズ効果が発現する大きさであることが好ましい。また、多孔質半導体層7の膜厚は、概ね5~30μmの範囲内で適宜選定可能である。電極基板20を製造するにあたっては、前述した第2導電層形成工程に引き続き、多数の半導体微粒子を用いて第2導電層8上に多孔質半導体電極15を形成する多孔質半導体電極形成工程を行う。電極基板20を用いた色素増感型太陽電池の光電変換効率を高めるという観点からは、色素9を多孔質半導体電極15に単分子膜状に、かつ、できるだけ多量に担持させることが好ましく、そのためには、多孔質半導体電極15の比表面積をできるだけ大きくすることが好ましい。また、同様の観点から、多孔質半導体電極15は、量子サイズ効果が発現するメソスコピックな多孔質体にすることが特に好ましい。多孔質半導体電極15は、例えばゾルゲル法によって形成することもできるが、ゾルゲル法によって形成する場合には比較的高温での焼結処理が必要となることから、透明樹脂フィルム1の耐熱性が低い場合には不向きである。多孔質半導体電極15を比較的低温で形成するうえからは、所望の金属酸化物半導体微粒子が分散した塗布液を調製し、この塗布液を第2導電層8上に塗布した後に乾燥させることが好ましい。必要に応じて、上記の塗布液には、多孔質半導体電極15において光散乱中心図示せず。として機能する微粒子を含有させることができる。多孔質半導体電極15にこの微粒子を組み込むことにより、色素17の光励起に寄与する光量を増大させることができ、結果として、色素増感型太陽電池の光電変換効率を向上させることができる。光散乱中心として機能する微粒子の具体例としては、例えば粒子径が概ね50~200nmの酸化チタン微粒子を挙げることができる。多孔質半導体電極15を形成するための塗布液は、例えば、i所定の溶媒中で半導体微粒子を結晶化微粒子として析出させてゾル液とする方法、又はii半導体微粒子をボールミル、サンドミル、ロールミル等で適当な分散媒と混合し、混練機、ホモジナイザー、プラネタリーミキサー等の公知の分散機により分散媒中に分散させて分散液とする方法、によって調製することができる。上記iiの方法によって塗布液を調製するにあたって、使用する半導体微粒子が凝集していた場合には、分散液を得るまでの工程の適当な時期、例えば分散媒と混合する前や、分散媒と混合する過程で、あるいは分散媒と混合した後に、凝集している半導体微粒子をほぐすことが好ましい。上記iのゾル液と上記iiの分散液とを混合して塗布液を調製することもできる。上記の分散媒としては、例えば、aクロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系分散媒、bテトラヒドロフラン等のエーテル系分散媒、cトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系分散媒、dアセトン、メチルエチルケトン等のケトン系分散媒、e酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系分散媒、fイソプロピルアルコールIPA、エタノール、メタノール、ブチルアルコール等のアルコール系分散媒、gその他N-メチル-2-ピロリドン、純水等、を用いることができる。塗布液に後述の結着剤を含有させる場合には、この結着剤を溶解させることが可能な分散媒を用いる。多孔質半導体電極15と透明電極10との密着性や多孔質半導体電極15自身の機械的強度を向上させるために、上述の塗布液には、高分子材料からなる結着剤を溶解させることができる。例えば、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂や、ポリエチレングリコールのような多価アルコール類を結着剤として使用することができる。塗布液中への結着剤の添加量は極力少ない方が好ましい。具体的には、塗布液中の全固形分に対する結着剤の割合を0.5質量以下とすることが好ましく、0.2質量以下とすることが更に好ましい。塗布液には、上述の結着剤の他に、その塗工適性を向上させるために各種の添加剤を含有させることができる。この添加剤としては、例えば、界面活性剤、粘度調整剤、分散助剤、pH調整剤等が挙げられる。例えば、pH調整剤としては、硝酸、塩酸、酢酸、ジメチルホルムアミド、アンモニア等を用いることができる。塗布液の塗工方法としては、ダイコート、グラビアコート、グラビアリバースコート、ロールコート、リバースロールコート、バーコート、ブレードコート、ナイフコート、エアナイフコート、スロットダイコート、スライドダイコート、ディップコート、マイクロバーコート、マイクロバーリバースコート、スクリーン印刷ロータリー方式、インクジェット、スプレーコート等、種々の方法を適用することができる。このような塗工方法により単数回又は複数回、塗布液の塗布及び乾燥を繰り返して、所望の膜厚の多孔質半導体電極15を形成する。塗膜の乾燥は、透明樹脂フィルム1の耐熱温度以下で行う必要がある。具体的には、概ね100°C以上、透明樹脂フィルム1の耐熱温度以下の温度範囲内で加熱乾燥することが好ましい。4色素色素17は、多孔質半導体電極15を増感させるためのものである。この色素17としては、Aその吸収波長域が、多孔質半導体電極15の吸収波長域よりも長波長側にまで及んでいるもの、B多孔質半導体電極15がN型半導体である場合には、光励起されたときの電子のエネルギー準位が多孔質半導体電極15の伝導帯端の位置よりも高いもの、C多孔質半導体電極15がN型半導体である場合には、多孔質半導体電極15へキャリアを注入するのに要する時間が、多孔質半導体電極15からキャリアを再捕獲するのに要する時間に比べて短いもの、が好ましい。例えば多孔質半導体電極15がアナターゼ型の酸化チタンによって形成されている場合、色素17としては、下式Iによって表されるルテニウム錯体を用いることが好ましい。電極基板20を用いて光電変換効率の高い色素増感型太陽電池を得るうえからは、上記の式Iで示されるルテニウム錯体の中でも、XがNCSチオシアネートであるシス-ジチオシアネート-N、N’-ビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムIIを用いることが特に好ましい。勿論、上述したルテニウム錯体以外の金属錯体色素や、有機色素を使用することもできる。有機色素の具体例としては、例えば、アクリジン系、アゾ系、インジゴ系、キノン系、クマリン系、メロシアニン系、フェニルキサンテン系の色素が挙げられる。これらの有機色素の中でも、クマリン系の色素が好ましい。電極基板20を製造するにあたっては、前述した多孔質半導体電極形成工程に引き続き、多孔質半導体電極15に色素を担持させる色素担持工程を行う。この工程で、色素17は、多孔質半導体電極15を形成している半導体微粒子15aの表面に担持される。光電変換効率の高い色素増感型太陽電池を得るという観点からは、できるだけ多くの半導体微粒子15aに色素17を担持させることが好ましく、特に、多孔質半導体電極15を形成している半導体微粒子15aそれぞれの表面に色素17を担持させることが好ましい。そのためには、多孔質半導体電極15の細孔内表面にまで色素17を吸着させることが可能な方法によって、多孔質半導体電極15に色素17を担持させることが好ましい。例えば、色素の溶液以下、色素担持用塗工液という。を調製し、この色素担持用塗工液に多孔質半導体電極15まで形成した電極基板を浸漬し、その後に乾燥するという方法、あるいは、色素担持用塗工液を多孔質半導体電極15に塗布し、浸透させた後に乾燥するという方法等によれば、多孔質半導体電極15の細孔内表面にまで色素9を吸着させることができ、半導体微粒子15aそれぞれの表面に色素17を担持させることも可能である。色素担持用塗工液は、用いる色素の種類に応じて水系溶媒及び有機系溶媒のいずれかを適宜選択して、調製する。光電変換効率の高い色素増感型太陽電池を得るという観点からは、色素17を単分子膜の状態で多孔質半導体電極15に担持させることが好ましく、そのためには、多孔質半導体電極15に担持された余分な色素を、色素担持用塗工液の調製に使用し得る溶媒等によって洗浄、除去することが好ましい。多孔質半導体電極15に予め表面処理を施しておくことにより、多孔質半導体電極15がN型半導体のときには色素17から多孔質半導体電極15へのキャリアの移動速度を高めることが可能である。多孔質半導体電極15に色素17を担持させた後にこれら多孔質半導体電極15及び色素17に所定の処理、例えば、多孔質半導体電極15が酸化チタンによって形成され、色素17が上述したルテニウム錯体である場合には、t-ブチルピリジン等の塩基による処理を施すことにより、電極基板20を用いた色素増感型太陽電池の光電変換効率を向上させることが可能である。5任意部材必要に応じて、電極基板20にはガスバリア層やパターニング層等を形成することができる。以下、これらの任意部材について説明する。aガスバリア層ガスバリア層は、電極基板20を用いて色素増感型太陽電池を作製したときに、電極基板20を通して酸素や水分が色素増感型太陽電池内に侵入すること、及び、色素増感型太陽電池で使用される電解質が電極基板20を通して外部に揮散すること、を防止するためのものであり、透明樹脂フィルム1と透明電極10との間又は透明樹脂フィルム1の背面透明電極10が形成されている面とは反対側の面を意味する。に設けることができる。このガスバリア層の酸素透過率は概ね1cc/m2/dayatm約10ml/m2/day/MPa以下であることが好ましく、その水蒸気透過率は概ね1g/m2/day以下であることが好ましい。このようなガスバリア層は、所望の有機材料の蒸着膜物理気相成長法又は化学気相成長法によって形成された膜を意味する。以下同じ。又はフィルムによって、あるいは、所望の無機材料の蒸着膜によって、形成することができる。色素増感型太陽電池内への酸素の侵入を防止することにより、色素17や電解質の劣化が抑制されるので、色素増感型太陽電池の性能の経時的な低下を抑制することができる。また、水分の侵入を抑制することにより、例えば第2導電層8をITOのように比較的水分によって劣化し易い材料によって形成した場合でもその性能の経時的低下が抑制されるので、色素増感型太陽電池の性能の経時的低下を抑制することができる。bパターニング層本明細書でいうパターニング層とは、光照射によって表面の濡れ性を変化させることができる層を意味する。このパターニング層の具体例としては、i疎水性バインダー中に光触媒光半導体の微粒子が分散した構造を有する光触媒含有層、iiクロロシランやアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して得られるオルガノポリシロキサンの層、iii撥水牲や撥油性に優れた反応性シリコーンが架橋したオルガノポリシロキサンの層、ivフルオロアルキルシラン等を用いた撥水性を示す自己組織化膜、等を挙げることができる。上記iの光触媒含有層は、この光触媒含有層に含まれている光触媒の吸収波長を含む波長域の光でその表面を選択的に露光することにより、露光された領域の濡れ性を変化させてここを親水化することができる。このような光触媒含有層は、例えば、疎水性バインダー中に光触媒が分散した塗工液を調製し、この塗工液を所望箇所に塗布して塗膜を形成した後、この塗膜を乾燥することにより形成することができる。また、上記ii~ivの各層は、例えば紫外光によってその表面を選択的に露光することにより、露光された領域の濡れ性を変化させてここを親水化することができる。上記ii~ivの各層の表面を選択的に露光するにあたっては、必要に応じて、フォトマスク紫外線マスクにおける被露光物側の表面に光触媒含有層を設けることができる。この光触媒含有層をフォトマスクに設けることにより、より長波長の紫外光によっても所望の親水化処理を施すことが可能になる。パターニング層は透明電極10上に設けられて、多孔質半導体電極15の下地層として使用される。パターニング層の表面のうちで多孔質半導体電極15を形成しようとする領域が上述のようにして親水化される。この状態のパターニング層上に多孔質半導体層15の材料となる前述の塗布液を塗工すると、実質的に上記の親水化された領域上にのみ塗膜、ひいては多孔質半導体電極15を形成することができる。例えば動作電圧又は動作電流の大きい色素増感型太陽電池を得るうえからは、この色素増感型太陽電池の構造を、比較的小型のセルが複数個、電気的に並列又は直列に接続された構造にすることが好ましい。この場合、1つの電極基板20には、1つの透明電極10が形成されてその上に複数の多孔質半導体電極15が形成されるか、又は、複数の透明電極10が形成されて個々の透明電極10上に多孔質半導体電極15が1つずつ形成されることになる。パターニング層は、複数の多孔質半導体電極15を所望箇所に形成するうえで有用である。以上説明した部材によって構成されている電極基板20では、金属酸化物製の第2導電層8の他に金属製の第1導電層6が形成されているので、全体の導電性を比較的容易に高めることができる。また、第1導電層6の外表面を覆う腐食防止層7として、電気めっき、無電解めっき、又は化成処理によって形成されたものが用いられているので、透明樹脂フィルム1の耐熱性が比較的低くても、腐食防止層7の緻密化を図り易い。更に、この腐食防止層7は色素増感型太陽電池用の電解質に対して耐食性を有している。したがって、たとえ色素増感型太陽電池の電解質にハロゲン系のレドックス対が含有されていたとしても、また、たとえ第1導電層6の材料がハロゲン系のレドックス対によって腐食され易いものであったとしても、このレドックス対によって第1導電層6が腐食されることに起因する電極基板20の導電性の低下を抑制することができる。第1導電層6の材料として安価で導電性の高い銅等を使用した場合でも、電極基板20の導電性の低下を抑制することができる。これらの理由から、電極基板20によれば、光電変換効率が高く、性能の経時的な低下が抑制された色素増感型太陽電池を低コストの下に容易に得ることが可能になる。<色素増感型太陽電池用基板第2形態>図3は、本発明の色素増感型太陽電池用電極基板の基本的な断面構造の他の例を示す概略図である。図示の色素増感型太陽電池用電極基板20A以下、電極基板20Aと称する。は、99.3よりも高純度のアルミニウムによって第1導電層6Aが形成され、かつ、図1に示した第1形態の電極基板20で形成されている腐食防止層7が当該電極基板20Aでは省略されているという点で、第1形態の電極基板20と異なる。この点を除けば、本形態の電極基板20Aは第1形態の電極基板20と同様の構成を有している。図示のように、第2導電層8は、第1導電層6Aの外表面を覆っていると共に、第1導電層6Aによって覆われることなく露出している接着剤層5の表面を覆っている。図3に示した構成部材のうち、第1導電層6A以外の構成部材は図1に示した電極基板20と共通するので、これらの構成部材については図1で用いた参照符号と同じ参照符号を付してその説明を省略する。第1導電層6Aは、上述のように高純度のアルミニウムによって形成されたものである。この第1導電層6Aは、例えば、所望膜厚のアルミニウム箔を接着剤層5によって透明樹脂フィルム1上に接合し、その上に所定形状のエッチングマスクを形成してからエッチングを施して所望形状にパターニングすることにより、得ることができる。第1導電層6Aの材料として用いるアルミニウムの純度は、ヨウ素系のレドックス対を含有した電解液に対する耐食性が高い電極基板20Aを得るという観点から、99.3よりも高いことが好ましく、99.5以上であることが更に好ましい。このように、電極基板20Aは高純度のアルミニウムによって形成された第1導電層6Aを有しているので、電解液にヨウ素系のレドックス対が含有されている色素増感型太陽電池用の電極基板として特に好適である。この電極基板20A5では、第1導電層6Aの耐食性が高いことから、第1形態の電極基板20で使用されている腐食防止層7を省略したとしても、第1導電層6Aが腐食されることに起因する導電性の低下を抑制することができる。したがって、電極基板20Aによれば、光電変換効率が高く、性能の経時的な低下が抑制された色素増感型太陽電池を低コストの下に容易に得ることが可能になる。なお、必要に応じて、第1形態の電極基板20におけるのと同様にして、第1導電層6Aの外表面を覆う腐食防止層を電気めっき、無電解めっき、又は化成処理により形成することもできる。<色素増感型太陽電池第1形態>図4は、本発明の色素増感型太陽電池の基本的な断面構造の一例を示す概略図である。図示の色素増感型太陽電池50では、上述した第1形態の電極基板20が光電極として用いられており、透明樹脂フィル22の片面に第1導電膜24と第2導電膜26とがこの順番で積層された色素増感型太陽電池用電極基板30以下、電極基板30と称する。が対極として用いられている。電極基板30に代えて、図1に示した透明電極10が透明樹脂フィルムの片面に形成され、この透明電極10上に図4に示した第2導電膜26に相当する導電膜が形成されている電極基板を用いてもよい。電極基板20の構成については既に説明したので、ここでは省略する。また、対極として用いられている電極基板30における透明樹脂フィルム22及び第1導電膜24としては、それぞれ、上述した電極基板20での透明樹脂フィルム1又は第2導電層8と同様のものを用いることができるので、これら透明樹脂フィルム22及び第1導電膜24についても、ここではその説明を省略する。第2導電膜26は、電極基板20の導電性を向上させるためのものである。第2導電膜26は、電極基板30を用いた色素増感型太陽電池で使用される電解質の種類に応じて、この電解質に対して耐食性を有する導電性材料を適宜選択して形成することが好ましい。第2導電膜26の材料としては白金Ptが最も好ましいが、カーボン、導電性高分子等によって第2導電膜26を形成することもできる。電極基板30を用いて光電変換効率の高い色素増感型太陽電池を得るという観点からは、色素増感型太陽電池の電解質においてレドックス対を構成する一方のイオン種が光照射時にキャリアと反応して他方のイオン種を生成する際に触媒として機能し得る金属例えば白金Ptによって、第2導電膜26を形成することが好ましい。この第2導電膜26は、例えば蒸着法、スパッタリング法、CVD法等の方法により形成することができ、その膜厚は概ね1~500nmの範囲内で適宜選定可能である。電極基板30の製造コストを抑えるという観点からは、スパッタリング法によって第2導電膜26を形成することが好ましい。光電極である電極基板20と対極である電極基板30とは、電極基板20中の多孔質半導体電極15と電極基板30中の第2導電膜26とが互いに対向するようにして配置されており、これらの電極基板20、30の間には電解質層35が介在している。電極基板20中の透明電極10はリード線40aによって負荷45に接続されており、この負荷45はリード線40bによって電極基板30中の第1導電膜24に接続されている。なお、図示を省略しているが、色素増感型太陽電池50では、電解質層35を形成している電解質が漏出するのを防止するために、電極基板20、30及び電解質層35の周囲を封止剤により封止している。電極基板20、30の間隔を精度よく所望の間隔に保って短絡を防止するために、電極基板20と電極基板30との間にガラススペーサ、樹脂スペーサ、オレフィン系多孔質膜等のスペーサを配置してもよい。スペーサは、電極基板20、30の一方に予め形成しておくこともできるし、色素増感型太陽電池を組み立てる際に電極基板20、30の少なくとも一方に固着させて使用することもできる。また、前記スペーサが封止剤を兼ねることもできる。電解質層35は、電極基板20と電極基板30との間に位置し、光励起された色素17によって還元される一方で、電極基板30を介して供給されるキャリア電子によって酸化されて、電極基板20、リード線40a、負荷45、リード線40b、及び電極基板30を含む閉回路の形成を可能にする。この電解質層35の材料としては、キャリアの輸送に寄与するレドックス対を少なくとも含有した、色素増感型太陽電池に用いられる種々の電解質を用いることができ、その形態は液体状、固体状、及びゲル状のいずれでもよい。色素増感型太陽電池50の耐久性及び安定性の向上を図るという観点からは、常温溶融塩電解液又はゲル状の電解質を用いることが好ましい。上記のレドックス対は、電解質に用いられるものであれば特に限定はされるものではなく、その原料の組み合わせとしては、ヨウ素とヨウ化物との組み合わせ、又は、臭素と臭化物との組み合わせが挙げられる。例えば、ヨウ素とヨウ化物との組合せの具体例としては、ヨウ化リチウムLiI、ヨウ化ナトリウムNaI、ヨウ化カリウムKI、ヨウ化カルシウムCaI2等の金属ヨウ化物とヨウ素I2との組み合わせを挙げることができる。また、臭素と臭化物との組み合わせの具体例としては、臭化リチウムLiBr、臭化ナトリウムNaBr、臭化カリウムKBr、臭化カルシウムCaBr2等の金属臭化物と臭素Br2との組み合わせを挙げることができる。電解質層35の材料としてゲル状の電解質を用いる場合、この電解質は物理ゲル及び化学ゲルのいずれであってもよい。物理ゲルは物理的な相互作用で室温付近でゲル化しているものであり、化学ゲルは架橋反応等の化学結合でゲルを形成しているものである。物理ゲルは、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリレート等のゲル化剤を用いて作製することができ、化学ゲルは、アクリル酸エステル系、メタクリル酸エステル系のもの等を用いることができる。また、電解質層35の材料として固体状の電解質を用いる場合、この電解質としてはヨウ化銅CuIや、ポリピロール、ポリチオフェン等の正孔輸送性の高い導電性の高分子を用いることが好ましい。電解質層35の厚さは適宜選定可能であるが、電解質層35の厚さと多孔質半導体電極15の膜厚との合計が2μm~100μmの範囲内、その中でも、2μm~50μmの範囲内になるように電解質層35の厚さを選定することが好ましい。上記の範囲よりも電解質層35の厚さが薄いと、多孔質半導体電極15と第2導電膜26とが接触し易くなるため、短絡の原因となる。また、電解質層35の厚さが上記の範囲よりも厚いと、色素増感型太陽電池50の内部抵抗が大きくなり、性能が低下する。上述した電解質層35は、その材料に応じて、種々の方法により形成することができる。例えば、電解質層35の形成に用いる電解質層形成用塗工液を多孔質半導体電極15上に塗布し、乾燥させることにより形成する方法以下、塗布法と記載する場合がある。、又は、多孔質半導体電極15と第2導電層26とが所定の間隔を有するように電極基板20、30を配置し、電極基板20と電極基板30との間隙に電解質層形成用塗工液を注入することにより電解質層35を形成する方法以下、注入法と記載する場合がある。等を挙げることができる。以下、これらの塗布法及び注入法について説明する。I塗布法塗布法は、主に固体状の電解質層を形成するために用いられる方法であり、この塗布法で用いる電解質層形成用塗工液としては、少なくともレドックス対とこのレドックス対を保持する高分子とを含有したものを用いる。他に、架橋剤や光重合開始剤等が添加されていることが好ましい。電解質層形成用塗工液の塗布は、ダイコート、グラビアコート、グラビアリバースコート、ロールコート、リバースロールコート、バーコート、ブレードコート、ナイフコート、エアナイフコート、スロットダイコート、スライドダイコート、ディップコート、マイクロバーコート、マイクロバーリバースコートや、スクリーン印刷ロータリー方式等、種々の方法によって行うことができる。電解質層形成用塗工液に上述の光重合開始剤が含有されている場合には、この電解質層形成用工液を塗布した後に光重合開始剤を感光させることにより、電解質層35を形成することができる。II注入法注入法は、液体状、ゲル状又は固体状の電解質層を形成するために用いられる方法であり、この方法で電解質層35を形成する際には、前述したスペーサを利用して、電極基板20と電極基板30とが所望の間隔に保持されたセルを予め形成しておくことが好ましい。電解質層形成用塗工液の注入は、例えば毛細管現象を利用して行うことができる。ゲル状又は固体状の電解質層35を形成する場合には、電解質層形成用塗工液を注入した後に例えば温度調整、紫外線照射、電子線照射等を行って、二次元又は三次元の架橋反応を生じさせる。以上説明した色素増感型太陽電池50は、前述した第1形態の電極基板20を備えているので、当該電極基板20についての説明の中で述べた理由と同じ理由から、光電変換効率が高く、性能の経時的低下が抑制されたものを低コストの下に得ることが容易なものである。<色素増感型太陽電池第2形態>図5は、本発明の色素増感型太陽電池の基本的な断面構造の他の例を示す概略図である。図示の色素増感型太陽電池60は、図3に示した第2形態の電極基板20Aが光電極として用いられているという点で、第1形態の色素増感型太陽電池50と異なる。この点を除けば、本形態の色素増感型太陽電池60は第1形態の色素増感型太陽電池50と同様の構成を有しているので、図5に示した構成部材のうちの電極基板20A以外の構成部材については、図4で用いた参照符号と同じ参照符号を付してその説明を省略する。このような構成を有する色素増感型太陽電池60は、前述した第2形態の電極基板20Aを備えているので、当該電極基板20Aについての説明の中で述べた理由と同じ理由から、光電変換効率が高く、性能の経時的低下が抑制されたものを低コストの下に得ることが容易なものである。<実施例1>準備工程まず、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートPETフィルム東洋紡社製のE5100と厚さ9μmの銅箔とを、ウレタン系接着剤Tg;20°C、平均分子量;3万を用いたドライラミネーション加工により貼り合わせた。次に、上記の銅箔上にレジストを塗布してレジスト層を形成し、このレジスト層に所定形状のマスクを用いての露光処理、及び現像処理を順次施して所定形状のエッチングマスクを形成してから、前記の銅箔をエッチングし、その後にレジスト除去エッチングマスクの剥離を行った。これにより、前記の銅箔が格子状にパターニングされて、第1導電層が得られた。この第1導電層における開口部格子の目に相当する部分の大きさは300μm□であり、各部の線幅は10μmである。また、第1導電層の開口率は90である。第1導電層の各開口部からは、上記のPETフィルムと銅箔とを貼り合わせるために用いた接着剤層が露出している。腐食防止層形成工程まず、水に塩化ニッケルを300g/l、塩化スズを15g/l、酸性フッ化アンモニウムを56g/l、ホウ酸を30g/lの割合でそれぞれ溶解させて、ニッケルNi-スズSn合金めっき浴を調製した。次に、第1導電層が形成された上記のPETフィルムを上述のめっき浴に浸漬し、10分間電気めっきを行った。これにより、第1導電層の外表面にはNi-Sn合金からなる腐食防止層が形成された。なお、腐食防止層の組成は、X線回折により同定した。第2導電層形成工程腐食防止層まで形成した上記のPETフィルムをイオンプレーティング装置のチャンバー内に配置し、このPETフィルムに成膜圧力1.5×10-1Pa、アルゴンガス流量18sccm、酸素ガス流量28sccm、成膜電流値60Aの条件の下に昇華材料としての酸化インジウムスズITOを蒸着させて、ITOからなる膜厚150nmの第2導電層を形成した。この第2導電層は、腐食防止層を覆うと共に、接着剤層表面のうちで第1導電層又は腐食防止層によって覆われることなく露出したままとなっていた領域も覆っている。第2導電層まで形成することにより、前述のPETフィルムの片面には、接着剤層、第1導電層、及び第2導電層によって構成される透明電極が形成された。この透明電極の表面抵抗値は、0.052Ω/□であった。耐久性の確認上記の透明電極まで形成したPETフィルムのヨウ素電解質に対する耐性を確認するために、まず、メトキシアセトニトリルを溶媒とするヨウ素電解質溶液を調製した。このヨウ素電解質溶液は、ヨウ化リチウムを0.1mol/l、ヨウ素を0.05mol/l、ジメチルプロピルイミダゾリウムアイオダイドを0.3mol/l、ターシャリーブチルピリジンを0.5mol/lの割合でそれぞれ含有している。次に、透明電極まで形成した前述のPETフィルムを上記のヨウ素電解質溶液に一昼夜浸漬してから、その表面抵抗値を測定した。その結果、ヨウ素電解質溶液に浸漬した後での表面抵抗値は0.051Ω/□であり、浸漬前の抵抗値を維持していた。多孔質半導体電極形成工程まず、一次粒子径が15nmの酸化チタンTiO2微粒子昭和電工社製のF-5と結着剤としてのポリエステル樹脂とを、水とポリプロピレングリコールモノメチルエーテルとの混液中にホモジナイザーを用いて溶解、分散させて、前記のTiO2微粒子を20.5質量含有し、前記の結着剤を0.3質量含有する塗布液スラリーを調製した。次いで、上記のスラリーをドクターブレード法により前述の透明電極上に塗布し、その後に150°Cで30分間乾燥して、多数の半導体微粒子TiO2微粒子によって形成された膜厚12μmの多孔質半導体電極を得た。色素担持工程増感色素としてのルテニウム錯体小島化学株式会社製をその濃度が3×10-4mol/lとなるようにエタノールに溶解させた色素担持用塗工液を用意し、上述の多孔質半導体電極まで形成したPETフィルムをこの色素担持用塗工液中に浸漬して、液温40°Cの条件下で1時間放置した。次いで、前記のPETフィルムを色素担持用塗工液から引き上げ、多孔質半導体電極に付着した色素担持用塗工液を風乾させた。これにより、多孔質半導体電極を形成している半導体微粒子TiO2微粒子の表面に上記の色素が坦持された。この後、平面視したときに前述した多孔質半導体電極が1cm×1cmの正方形となるようにトリミングして、図1に示した電極基板20と同様の構成を有する色素増感型太陽電池用電極基板以下、電極基板Aという。を得た。<実施例2>水に塩化ニッケルを35g/l、塩化亜鉛を7g/l、クエン酸ナトリウムを118g/l、次亜リン酸ナトリウムを64g/lの割合でそれぞれ溶解させてめっき浴を調製し、このめっき浴を用いた無電解めっきによって腐食防止層を形成した以外は実施例1と同様にして、色素増感型太陽電池用電極基板以下、電極基板Bという。を得た。本実施例で形成した腐食防止層は、ニッケル及び亜鉛を含有するものであり、この腐食防止層は、第1導電層の外表面のみならず、第1導電層の下地となっている接着剤層表面のうちで第1導電層によって覆われていない領域をも覆っている。腐食防止層の形成後に、透明電極の耐久性を実施例1と同条件の下に確認したところ、ヨウ素電解質溶液に浸漬した後での表面抵抗値は0.054Ω/□と確認前の抵抗値を維持していた。<実施例3>リン酸ニッケル塩を主成分とする水溶液リン酸ニッケル塩の濃度は10質量とアミノフェノール系樹脂平均分子量;5000、アミノ含有量;50molの5質量水溶液とを混合してリン酸金属塩化成処理剤を調製し、この化成処理剤を用いた化成処理によって腐食防止層を形成した以外は実施例1と同様にして、色素増感型太陽電池用電極基板以下、電極基板Cという。を得た。上記の化成処理は、リン酸金属塩化成処理剤をワイヤーバーにより第1導電層及びその周囲に塗布した後に、120°Cで2分間加熱乾燥することで行った。この化成処理により、第1導電層の外表面にはリン酸ニッケル塩による化成処理皮膜層腐食防止層が形成された。腐食防止層の形成後に、透明電極の耐久性を実施例1と同条件の下に確認したところ、ヨウ素電解質溶液に浸漬した後での表面抵抗値は0.050Ω/□と確認前の抵抗値を維持していた。<実施例4>第1導電層の材料として厚さ12μmのアルミニウム箔東洋アルミニウム社製、純度99.7を用い、腐食防止層を形成しない以外は実施例1と同様にして、PETフィルムの片面に接着剤層、第1導電層、平坦化透明層及び第2導電層からなる色素増感型太陽電池用電極基板以下、電極基板Dという。を形成した。この透明電極の表面抵抗値は、0.009Ω/□であった。透明電極の耐久性を実施例1と同条件の下に確認したところ、ヨウ素電解質溶液に浸漬した後での表面抵抗値は0.010Ω/□と確認前の抵抗値を維持していた。<実施例5>まず、実施例1での第2導電層の形成と同じ条件の下に、膜厚100μmのPETフィルム東洋紡社製のE5100の片面に第1導電膜としてのITO膜膜厚150nmを形成し、その上に、第2導電膜としての白金薄膜膜厚50nmをスパッタリング法によって形成して、図3に示した電極基板30と同様の構成を有する色素増感型太陽電池用電極基板以下、電極基板Xという。を得た。この電極基板Xと実施例1で作製した電極基板Aとを厚さ20μmの熱融着フィルムデュポン社製のサーリン商品名を用いて貼り合せ、電極基板Xと電極基板Aとの間隙に電解質層形成用塗工液を充填して、図3に示した色素増感型太陽電池50と同様の構成を有する色素増感型太陽電池を得た。このとき、上記の熱融着フィルムは、電極基板X、電極基板Aそれぞれの内縁部にのみ融着するように、その形状を予め矩形枠状に成形して用いた。また、電解質層形成用塗工液としては、メトキシアセトニトリルを溶媒とし、この溶媒にヨウ化リチウムを0.1mol/l、ヨウ素を0.05mol/l、ジメチルプロピルイミダゾリウムアイオダイドを0.3mol/l、ターシャリーブチルピリジンを0.5mol/lの割合でそれぞれ溶解させたものを用いた。得られた色素増感型太陽電池の性能を測定するにあたり、擬似太陽光AM1.5、照射強度100mW/cm2を光源として用いたときの電流電圧特性を、ソースメジャーユニットケースレー2400型により求めた。その結果、電池特性としての変換効率は5.5、曲線因子は0.62であった。<実施例6>電極基板Aに代えて実施例2で作製した電極基板Bを用いた以外は実施例5と同様にして、色素増感型太陽電池を得た。この色素増感型太陽電池の性能を実施例5と同様にして求めたところ、電池特性としての変換効率は5.2、曲線因子は0.60であった。<実施例7>電極基板Aに代えて実施例3で作製した電極基板Cを用いた以外は実施例5と同様にして、色素増感型太陽電池を得た。この色素増感型太陽電池の性能を実施例5と同様にして求めたところ、電池特性としての変換効率は5.6、曲線因子は0.63であった。<実施例8>電極基板Aに代えて実施例4で作製した電極基板Dを用いた以外は実施例5と同様にして、色素増感型太陽電池を得た。この色素増感型太陽電池の性能を実施例5と同様にして求めたところ、電池特性としての変換効率は6.2、曲線因子は0.69であった。<比較例1>腐食防止層を形成しない以外は実施例1と同様にして、PETフィルムの片面に接着剤層、第1導電層、及び第2導電層からなる透明電極を形成した。そして、このPETフィルムのヨウ素電解質に対する耐性を実施例1と同条件の下に確認した。その結果、ヨウ素電解質溶液に一昼夜浸漬した後での表面抵抗値は、測定限界106Ω/□を超えていた。"