"実質的に静止しているフレームに対してオブジェクトテーブルを位置決めするためのステージ装置であって、前記ステージ装置が、オブジェクトテーブルと、実質的に静止しているフレームに対して前記オブジェクトテーブルを位置決めするように構成された位置決めデバイスと、前記オブジェクトテーブルの第1の位置依存信号を提供するように構成された測定システムであって、前記オブジェクトテーブル上に取り付けられた第1の測定システム部品と、前記実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた第2の測定システム部品とを備え、使用時に、前記第1及び第2の測定システム部品が前記第1の位置依存信号を提供するために互いに協働する測定システムと、前記位置決めデバイスを制御するために制御信号を生成するように構成されたコントローラと、前記第2の測定システム部品を前記実質的に静止しているフレーム上に取り付けるように構成された取付けデバイスと、前記実質的に静止しているフレームに対する前記第2の測定システム部品の位置を表す第2の位置依存信号を提供するように構成された位置センサと、を備え、前記コントローラが、その入力端末で前記第1及び第2の位置依存信号を受信するように構築及び配置され、前記制御信号が、前記第1及び第2の両方の位置依存信号に基づくステージ装置。前記コントローラが、前記第1の位置依存信号を調整するために前記第2の位置依存信号を適用するように構築及び配置される、請求項1に記載のステージ装置。前記測定システムがエンコーダタイプの測定システムであり、前記第2の測定システム部品がセンサ又はセンサアレイを備え、前記第1の測定システム部品が回折格子又はグリッドを備えるセンサターゲットオブジェクトを備える、請求項1又は2のいずれかに記載のステージ装置。前記測定システムがエンコーダタイプの測定システムであり、前記第1の測定システム部品が少なくとも1つのセンサを備え、前記第2の測定システム部品が回折格子又はグリッドを備えるセンサターゲットオブジェクトを備える、請求項1又は2のいずれかに記載のステージ装置。前記実質的に静止しているフレームに対する前記第2の測定システム部品の移動及び/又は変形を少なくとも部分的に補償するように構成された補償器をさらに備える、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のステージ装置。前記補償器が、前記センサターゲットオブジェクトの移動及び/又は変形をダンピングするように構成されたダンパを備える、請求項5に記載のステージ装置。前記ダンパが、受動式ダンパ又は能動式ダンパである、請求項6に記載のステージ装置。前記補償器が、フィードバック位置制御システムを備える、請求項5から7のいずれか一項に記載のステージ装置。前記補償器が、実質上前記センサターゲットオブジェクトの共振周波数領域内で補償するように構成されたダンパと、実質上前記共振周波数領域よりも低い周波数領域内で補償するように構成された位置コントローラとを備える、請求項5から8のいずれか一項に記載のステージ装置。前記位置センサが、前記第2の位置依存信号を提供するように構成された1つ又は複数の容量センサを備える、請求項1乃至請求項9のいずれか一項に記載のステージ装置。リソグラフィ装置であって、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築されたパターニングデバイス支持体であって、前記パターニングデバイスが、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターニングデバイス支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、前記投影システムが取り付けられる実質的に静止しているフレームに対して、前記基板テーブル又はパターニングデバイス支持体を位置決めするように構成された位置決めデバイスと、前記基板テーブル又はパターニングデバイス支持体の第1の位置依存信号を提供するように構成された測定システムであって、前記基板テーブル又はパターニングデバイス支持体上に取り付けられた第1の測定システム部品と、前記実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた第2の測定システム部品とを備え、使用時に、前記第1及び第2の部品が前記第1の位置依存信号を提供するために互いに協働する測定システムと、前記位置決めデバイスを制御するために制御信号を生成するように構成されたコントローラと、前記第2の部品を前記実質的に静止しているフレーム上に取り付けるように構成された取付けデバイスと、前記実質的に静止しているフレームに対する前記第2の測定システム部品の位置を表す第2の位置依存信号を提供するように構成された位置センサと、を備え、前記コントローラが、その入力端末で前記第1及び第2の位置依存信号を受信するように構築及び配置され、前記制御信号が、前記第1及び第2の両方の位置依存信号に基づくリソグラフィ装置。前記測定システムが、エンコーダタイプの測定システムである、請求項11に記載のリソグラフィ装置。オブジェクトテーブルを位置決めするように構成された位置決めデバイスと、前記オブジェクトテーブルの第1の位置依存信号を提供するために互いに協働するように構成された第1の測定システム部品及び第2の測定システム部品を備える測定システムとを使用して実質的に静止しているフレームに対して前記オブジェクトテーブルを位置決めする方法であって、前記実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた前記第2の測定システム部品に対する前記オブジェクトテーブル上に取り付けられた前記第1の測定システム部品の位置を表す第1の位置依存信号を提供するステップと、前記実質的に静止しているフレームに対する前記第2の測定システム部品の位置を表す第2の位置依存信号を提供するステップと、前記位置決めデバイスを制御するために、コントローラの入力端末で前記第1及び第2の位置依存信号を提供するステップと、前記コントローラによって前記位置決めデバイスを制御するための制御信号を提供するステップと、を含み、前記制御信号が、前記第1及び第2の両方の位置依存信号に基づく方法。前記実質的に静止しているフレームに対する前記第2の測定システム部品の移動及び/又は変形を少なくとも部分的に補償するステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。前記補償するステップが、前記第2の測定システム部品の移動及び/又は変形をダンピングするステップを含む、請求項14に記載の方法。0010測定の精度が、擾乱、特にオブジェクトテーブルの移動によって生じる擾乱によって実質的に影響を受けない可動オブジェクトの位置依存信号を測定するための、好ましくはエンコーダタイプの高精度の測定システムを含むステージ装置を提供することが望ましい。0011本発明のある実施形態によれば、実質的に静止しているフレームに対してオブジェクトテーブルを位置決めするためのステージ装置であって、該ステージ装置が、オブジェクトテーブルと、実質的に静止しているフレームに対してオブジェクトテーブルを位置決めするように構成された位置決めデバイスと、オブジェクトテーブルの第1の位置依存信号を提供するように構成された測定システムであって、オブジェクトテーブル上に取り付けられた第1の測定システム部品と、実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた第2の測定システム部品とを備え、使用時に、第1及び第2の測定システム部品が第1の位置依存信号を提供するために互いに協働する測定システムと、位置決めデバイスを制御するために制御信号を生成するように構成されたコントローラと、第2の測定システム部品を実質的に静止しているフレーム上に取り付けるように構成された取付けデバイスと、実質的に静止しているフレームに対する第2の測定システム部品の位置を表す第2の位置依存信号を提供するように構成された位置センサとを備え、コントローラがコントローラの入力端末で第1及び第2の位置依存信号を受信するように構築及び配置され、制御信号が第1及び第2の両方の位置依存信号に基づくステージ装置が提供される。0012本発明のある実施形態によれば、リソグラフィ装置であって、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築されたパターニングデバイス支持体であって、パターニングデバイスが、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターニングデバイス支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、投影システムが取り付けられる実質的に静止しているフレームに対して、基板テーブル又はパターニングデバイス支持体を位置決めするように構成された位置決めデバイスと、基板テーブル又はパターニングデバイス支持体の第1の位置依存信号を提供するように構成された測定システムであって、基板テーブル又はパターニングデバイス支持体上に取り付けられた第1の測定システム部品と、実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた第2の測定システム部品とを備え、使用時に、第1及び第2の部品が第1の位置依存信号を提供するために互いに協働する測定システムと、位置決めデバイスを制御するために制御信号を生成するように構成されたコントローラと、第2の部品を実質的に静止しているフレーム上に取り付けるように構成された取付けデバイスと、実質的に静止しているフレームに対する第2の測定システム部品の位置を表す第2の位置依存信号を提供するように構成された位置センサとを備え、コントローラがコントローラの入力端末で第1及び第2の位置依存信号を受信するように配置され、制御信号が第1及び第2の両方の位置依存信号に基づくリソグラフィ装置が提供される。0013本発明のある実施形態によれば、オブジェクトテーブルを位置決めするための位置決めデバイスと、オブジェクトテーブルの第1の位置依存信号を提供するために協働する第1の測定システム部品及び第2の測定システム部品を備える測定システムとを使用して実質的に静止しているフレームに対してオブジェクトテーブルを位置決めする方法であって、実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた第2の測定システム部品に対するオブジェクトテーブル上に取り付けられた第1の測定システム部品の位置を表す第1の位置依存信号を提供するステップと、実質的に静止しているフレームに対する第2の測定システム部品の位置を表す第2の位置依存信号を提供するステップと、位置決めデバイスを制御するために、コントローラの入力端末で第1及び第2の位置依存信号を提供するステップと、コントローラによって位置決めデバイスを制御するための制御信号を提供するステップとを含み、制御信号が第1及び第2の両方の位置依存信号に基づく方法が提供される。0024図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームB例えば、UV放射又は任意の他の適切な放射を調節するように構成された照明システムイルミネータILと、パターニングデバイス例えば、マスクMAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に配置するように構成された第1の位置決めデバイスPMに接続されたパターニングデバイス支持体又は支持構造例えば、マスクテーブルMTとを含む。この装置は、また、基板例えば、レジストコートウェーハWを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に配置するように構成された第2の位置決めデバイスPWに接続された基板テーブル例えば、ウェーハテーブルWT又は基板支持体を含む。さらに、この装置は、基板Wのターゲット部分C例えば、1つ又は複数のダイを含む上にパターニングデバイスMAによって放射ビームBへ付与されたパターンを投影するように構成された投影システム又はレンズ列例えば、レンズ列などを含む屈折投影レンズシステム4を含む。0025照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組合せなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。0026パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。このパターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。パターニングデバイス支持体は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書においてレチクル又はマスクという用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語であるパターニングデバイスと同義と見なすことができる。0027本明細書において使用するパターニングデバイスという用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。0028パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルLCDパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。0029本明細書において使用する投影システムという用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において投影レンズという用語を使用した場合、これはさらに一般的な投影システムという用語と同義と見なすことができる。0030本明細書で示すように、本装置は透過タイプである例えば透過マスクを使用する。あるいは、装置は反射タイプでもよい例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する。0031リソグラフィ装置は2つデュアルステージ又はそれ以上の基板テーブル又は基板支持体及び/又は2つ以上のマスクテーブル又はマスク支持体を有するタイプでよい。このようなマルチステージ機械においては、追加のテーブル又は支持体を並行して使用するか、又は1つ又は複数の他のテーブル又は支持体を露光に使用している間に1つ又は複数のテーブル又は支持体で予備工程を実行することができる。0032リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばパターニングデバイス例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を上げるために使用することができる。本明細書で使用する液浸という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。0033図1を参照すると、イルミネータILは放射源SOから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び/又はビームエクスパンダなどを含むビームデリバリシステムBDの助けにより、放射源SOからイルミネータILへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源SO及びイルミネータILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDとともに放射システムと呼ぶことができる。0034イルミネータILは、放射ビームの角度強度分布を調整するように構成されたアジャスタADを含んでいてもよい。通常、少なくともイルミネータの瞳面における強度分布の外側及び/又は内側半径範囲一般にそれぞれ、σouter及びσinnerと呼ばれるを調整することができる。また、イルミネータILは、インテグレータIN及びコンデンサCOなどの他の種々のコンポーネントを含んでいてもよい。イルミネータを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。0035放射ビームBは、パターニングデバイス支持体例えば、マスクテーブルMT上に保持されたパターニングデバイス例えば、マスクMAに入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。パターニングデバイス例えばマスクMAを横断した放射ビームBは、投影システム4を通過し、投影システム4は、ビームを基板Wのターゲット部分C上に合焦させる。第2の位置決めデバイスPW及び測定システムMS例えばエンコーダタイプの測定システムの助けにより、例えば放射ビームBの経路内で異なるターゲット部分Cを位置決めするために、基板テーブルWTを正確に移動させることができる。本発明のある実施形態によれば、測定システムMSを使用して、基板テーブルWT又は同様に、マスク支持構造MTの位置を決定する。これを実行するために、測定システムは、基板テーブルWTに取り付けられた第1の測定システム部品MS1一般に、オブジェクトテーブルと、メトロロジーフレーム3などの実質的に静止しているフレームに取り付けられた第2の測定システム部品MS2とを備える。一実施形態によれば、実質的に静止しているフレームに対するシステム部品MS2の取付けは、直接取付け、すなわち両方の部品の接続、又は両方の部品を互いに接続するために中間デバイスすなわち、例えば板ばねのフレームを含むことができる取付けデバイスが使用される間接取付けの両方を含むものとみなされる。測定システムMSは、さらに、第2の測定システム部品MS2に対する第1の測定システム部品MS1の位置を表す第1の位置依存信号を、位置決めデバイスPWを制御するように構成されたコントローラCUへと提供するように配置される。リソグラフィ装置は、実質的に静止しているフレーム3に対する第2の測定システム部品MS2の位置を表す第2の位置依存信号をコントローラCUへと提供するように構成された位置センサ図示せずをさらに備える。本発明の一実施形態によれば、コントローラCUは、位置決めデバイスPWを制御する制御信号を提供するように構成され、制御信号は、第1及び第2の位置依存信号に基づく。したがって、メトロロジーフレーム3に対する第2の測定システム部品MS2のいずれの変位又は変形も、少なくとも部分的に補償又は補正することができる。その結果、投影システム4に対するオブジェクトテーブルWTのより正確な位置決めが得られ、結果として、パターニングされたビームが基板Wのターゲット部分C上により正確に投影される。0036第2の測定システム部品MS2の変位又は変形は、様々なタイプのセンサによって、及び様々な自由度で観察することができることが理解されよう。一例として、メトロロジーフレームに対する第2の測定システム部品MS2の隅のZ位置を監視するために、矩形回折格子プレート、4つの容量センサ、又は加速度計を備える第2の測定システム部品MS2が適用できるものとする。0037同様に、第1の位置決めデバイスPMと別の位置センサ図1には明示されていないを用いて、パターニングデバイスライブラリからの機械的な取り出し後又はスキャン中などに放射ビームBの経路に対してパターニングデバイス例えばマスクMAを正確に位置決めできる。一般に、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMTの移動は、第1の位置決めデバイスPMの部分を形成するロングストロークモジュール粗動位置決め及びショートストロークモジュール微動位置決めの助けにより実現できる。同様に、基板テーブルWT又は基板支持体の移動は、第2のポジショナPWの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを用いて実現できる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMTをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定してもよい。パターニングデバイス例えばマスクMA及び基板Wは、パターニングデバイスアライメントマークM1、M2及び基板アライメントマークP1、P2を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間に位置してもよいスクライブレーンアライメントマークとして周知である。同様に、パターニングデバイス例えばマスクMA上に複数のダイを設ける状況では、パターニングデバイスアライメントマークをダイ間に配置してもよい。0038図示のリソグラフィ装置は、以下のモードのうち少なくとも1つにて使用可能である。1.ステップモードにおいては、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMT又はマスク支持体及び基板テーブルWT又は基板支持体は、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影されるすなわち単一静的露光。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWT又は基板支持体がX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。2.スキャンモードにおいては、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMT又はマスク支持体及び基板テーブルWT又は基板支持体は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影されるすなわち単一動的露光。パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMT又はマスク支持体に対する基板テーブルWT又は基板支持体の速度及び方向は、投影システムPSの拡大縮小及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の非スキャン方向における幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分のスキャン方向における高さが決まる。3.別のモードでは、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMT又はマスク支持体はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWT又は基板支持体を移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWT又は基板支持体を移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。0039上述した使用モードの組合せ及び/又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。0040図2では、ステージ装置の一実施形態の側面図が概略的に示されている。ステージ装置は、オブジェクトテーブルOTと、オブジェクトテーブルOTを位置決めするように構成された位置決めデバイスPWとを備える。ステージ装置は、オブジェクトテーブルに取り付けられた第1の部品MS1例えばエンコーダセンサと、取付けデバイス7を使用してステージ装置の実質的に静止しているフレーム3に取り付けられた第2の部品MS2とを有する測定システムをさらに備える。測定システムは、第2の測定システム部品MS2に対する第1の測定システム部品MS1の位置を表す第1の位置依存信号S1を、位置決めデバイスPWを制御するように構成されたコントローラCUへと提供するように配置される。ステージ装置は、実質的に静止しているフレーム3に対する第2の部品MS2の位置を決定するように構成された位置センサPoSをさらに備える。本発明の一実施形態によれば、第2の部品MS2は剛体とみなしてもよく、位置は、相対変位x,y,z及び回転によって特徴付けられることに留意されたい。別の方法としては、第2の部品MS2の位置への参照は、第2の部品MS2の形状又は形を参照するものであってもよく、位置は第2の部品MS2の変形を特徴付ける。このような変形は、フレーム3に対する第2の部品MS2の複数の位置測定によって特徴付けられるものとしてもよい。本発明の一実施形態によれば、位置センサは、実質的に静止しているフレーム3に対する第2の測定システム部品MS2の位置を表す第2の位置依存信号S2を、位置決めデバイスPWを制御するコントローラCUへと提供するように構成される。位置センサPoSは、実質的に静止しているフレーム3に対する第2の部品MS2のZ位置を測定するように配置することができる。例として、位置センサPoSは1つ又は複数の容量センサを備えてもよい。容量センサは、比較的低周波の偏移例えば、2Hz未満の周波数域内でオブジェクトテーブルの移動によって発生する圧力波によって発生する偏移などを観察するために特に有用である。また、このようなセンサによって例えば、周波数領域約200~400Hzでの第2の部品MS2の典型的な共振モード、比較的高い周波数偏移が捕捉されてもよい。別の方法としては、位置センサとして加速度計を使用することができ、それによって第2の部品MS2の加速度が観察され、二重積分の後、加速度計及び加速度計に取り付けられたオブジェクトの位置を表す信号が使用可能となる。通常、1kHzを超える比較的高い周波数での偏移を観察するために、加速度計が好ましい。さらに別の方法としては、エンコーダベースの位置センサを等しく適用することができる。このような構成では、位置センサPoSは、第2の測定システム部品MS2に取り付けられた回折格子と、回折格子と協働する検出器とを備えることができ、この検出器は静止しているフレーム3に取り付けられている。別の方法としては、回折格子は静止しているフレーム3に取り付けることができるが、回折格子と協働する検出器は第2の測定システム部品MS2に取り付けられる。ある実施形態では、位置センサは圧力センサである。オブジェクトテーブルの移動によって生じる圧力波は、絶対圧力センサ又は差圧センサで検出することができる。圧力センサを使用して、オブジェクトテーブルと第1の部品MS1又は静止しているフレーム3に接続された第2の部品MS2との間の圧力を測定してもよい。他の圧力センサを使用して、第1の部品MS1又は第2の部品MS2と静止しているフレーム3との間の圧力を測定してもよい。圧力センサ及び他の圧力センサによって測定された圧力を比較することによって、第1の部品MS1又は第2の部品MS2上に働く力を決定することができる。リソグラフィ装置の関連部品の剛性、例えば静止しているフレーム3に対する回折格子の剛性がわかった場合、第1の部品MS1又は第2の部品MS2の変形を決定することができる。ある実施形態では、差圧センサを使用して圧力差が直接測定される。圧力センサは、リソグラフィ装置内の複数の場所に配置されてもよい。ある実施形態では、特定の周波数領域にわたって、第2の測定システム部品MS2の偏移すなわち変位又は変形を査定する際に、異なるタイプのセンサの組合せが有用であることを証明し得る。0041ある実施形態では、ステージ装置で適用されるような測定システムは、エンコーダベースの測定システムであり、これによって自由度6でのオブジェクトテーブルOTの位置を決定することが可能となる。このような構成では、オブジェクトテーブルに第1の測定システム部品MS1を形成する複数のセンサを提供することができ、このセンサは第2の測定システム部品MS2を形成する1つ又は複数のグリッドプレート又は回折格子と協働し、第2の部品MS2は取付けデバイスによって実質的に静止しているフレーム3に取り付けられている。別の方法としては、1つ又は複数の回折格子は、オブジェクトテーブルに取り付けられた第1の測定システム部品MS1を形成してもよく、第2の測定システム部品MS2は、1つ又は複数の回折格子と協働するセンサアレイを備える。このようなセンサアレイは、グリッドプレート又は回折格子と同様にフレーム3に取り付けられてもよい。0042本発明の一実施形態によれば、適用されるような測定システムは、干渉計ベースの測定システムであってもよい。このような実施形態では、第1の測定システム部品MS1が、第2の測定システム部品MS2を形成する1つ又は複数のミラーと協働する1つ又は複数のレーザ干渉計を備えてもよい。別の方法としては、第2の測定システム部品MS2が、第1の測定システム部品MS1を形成する1つ又は複数のミラーと協働する1つ又は複数のレーザ干渉計を備えてもよい。0043本発明の一実施形態によれば、オブジェクトテーブルを位置決めするために使用される位置決めデバイスは、位置依存信号S1及びS2の両方によって制御される。ある実施形態では、測定システムから取得された際に信号S1を調整又は補正するために位置依存信号S2が適用される。当業者であれば理解されるように、信号S1は、第2の測定システム部品MS2がフレーム3に対して公称位置にあることを条件として、フレーム3に対するオブジェクトテーブルの位置を正確に表すものとしてもよい。偏移が観察された場合、すなわち第2の測定システム部品MS2がフレーム3に対して公称位置にない場合、信号S1に対して補正が適用でき、補正された信号S1は、その後、位置決めデバイスを制御するためにコントローラによって適用される。信号S1の所望の補正又は調整を決定するために、信号S2の変換が望ましい場合がある。例として、信号S2は、第2の測定システム部品MS2の回転などの変形を表すものとしてもよい。測定システムによって測定された位置でのこのような変形の効果は、測定システムの幾何形状に依存するか、又はオブジェクトテーブルの位置に依存するものとしてもよい。したがって、フレーム3に対する第2の部品MS2の位置の観察された偏移に基づき信号S2により、補正されたS1信号にモデル関数又は伝達関数を適用してもよい。0044例として、位置センサPoSは、実質的に静止しているフレームに取り付けられた第2の測定システム部品MS2に沿って配置されたセンサ例えば容量センサのアレイを備えてもよい。このような実施形態の詳細が、図3に概略的に示されている。図3では、第2の測定システム部品MS2が、取付けデバイス7を形成する板ばねによって実質的に静止しているフレーム3に取り付けられている。この実施形態では、第2の測定システム部品MS2は、第1の位置依存信号S1を生成するためにオブジェクトテーブル図示せずに取り付けられた回折格子又はグリッドプレートと協働するように配置されたセンサSAのアレイを備えている。この実施形態は、フレーム3に対するシステム部品MS2の位置例えばZ位置を測定するために、システム部品MS2に沿ってy方向に配置された位置センサPoS例えば容量センサのアレイをさらに備えている。位置センサPoSの出力信号S2は、コントローラCUに提供され、オブジェクトテーブル図示せずの位置を制御するための制御信号を提供するために、測定システムによって提供された信号S1図示せずと共に使用される。位置センサPoSのアレイを使用することによって、第2の測定システム部品MS2の変位又は変形、したがって測定システムによって実行される位置測定に与える変位又は変形の影響をより正確に計算することが可能となる。図3に概略的に示されるように、システム部品MS2の変形の結果、1つ又は複数のセンサのアレイSAは、システム部品MS2が変形しなかった場合の公称測定方向であるZ方向をもはや指し示さない。位置センサPoSから取得された信号S2を使用して、測定システム部品MS2の形状を導出又は推定することができ、位置依存信号S1を補正して、システム部品MS2の形状を考慮することができる。0045本発明の一実施形態で、第2の測定システム部品MS2を実質的に静止しているフレーム3に取り付けるために使用される取付けデバイスは、図4に示された比較的大型で剛性の構造であってもよい。図4では、取付けデバイス7はフレーム3に取り付けられた1対の剛性アームを備え、その上に測定システム部品MS2例えばエンコーダベースのセンサが取り付けられる。このアームにより、実質的に静止しているフレーム3に対する測定システム部品MS2の変形又は変位を測定するために、測定システム例えばオブジェクトテーブルOTに取り付けられた回折格子である部品MS1、及び例えばエンコーダセンサである部品MS2を構成するをオブジェクトテーブルOTの下に配置することができる。このような変形又は変位は、実質的に静止しているフレーム3に対する取付けデバイスの位置測定からも導出することができ、これによって、本発明の範囲内で、実質的に静止しているフレーム3に対する測定システム部品MS2の変形又は変位の間接測定が構成されることを理解することができるだろう。したがって、例えば容量センサ又は加速度計又はエンコーダベースのセンサを使用してフレーム3に対する取付けデバイス7の位置を観察することにより、測定システムMS1、MS2から取得された位置依存信号S1を補正するために適用できる位置依存信号S2を位置センサPoSから取得することができる。その後、補正された位置依存信号を使用して、ベースフレームBFに取り付けられた位置決めデバイス図示せずを用いてオブジェクトテーブルOTを変位させてもよい。0046ある実施形態では、ステージ装置又はリソグラフィ装置は、例えば1次元又は2次元のグリッドプレート又は回折格子あるいはエンコーダベースのセンサアレイなどの第2の測定システム部品MS2の変位又は変形を少なくとも部分的に軽減するように構成された補償デバイス又は補償器をさらに備える。このような補償デバイス又は補償器は、取付けデバイスに組み込むか又はその一部とすることができる。0047以下でより詳細に説明するように、実質的に静止しているフレームに第2の測定システム部品MS2を取り付けるように構成された取付けデバイスは、板ばね及び能動式ダンパ又は受動式ダンパなどの補償デバイス又は補償器、あるいは、例えば、第2の部品MS2の変位又は変形を少なくとも部分的に抑制するために第2の測定システム部品MS2に対して力又はトルクを働かせるように構成された1つ又は複数のアクチュエータを備えることができる位置制御システムなどの様々なコンポーネントを備えてもよい。0048図5及び図6は、ステージ装置又はリソグラフィ装置で適用できる測定システム及び取付けデバイスの一実施形態の側面図及び底面図を示し、測定システムは、一般に参照番号1で示されている。測定システム1は、基板ステージ2、一般に、いわゆるメトロロジーフレーム又はメトロフレーム3に対して基板2aを支持するオブジェクトテーブルの位置を測定するように構成される。メトロフレーム3は、レンズ列4、一般には投影システムが取り付けられる実質的に静止しているフレームである。この点で、実質的に静止しているフレームは、実質的に静止した位置で受動的又は能動的に保持された任意のフレームであってもよい。従来のリソグラフィ装置のメトロフレーム3は、工場の床の振動などのいかなる外部擾乱をもフィルタリングするために、受動式又は能動式エアマウントと共にベースフレーム上に取り付けられる。このようにして、レンズ列は実質的に静止した位置に保持される。基板ステージの移動をスキャンしている間、レンズ列に対する基板ステージの位置を認識することが望ましい。したがって、位置測定システム1が提供され、これによってメトロフレーム3に対する基板ステージの位置を決定することができる。0049測定システム1は、センサターゲットプレートなどの回折格子又はグリッドを備えるセンサターゲットオブジェクトに対する基板ステージの位置の変化を決定するために使用される1つ又は複数のセンサ5を備える。図5及び図6に示された実施形態では、センサターゲットオブジェクトは2次元グリッドを備えるグリッドプレート6である。グリッドプレート6は、グリッドプレート6に対する1つ又は複数のセンサ5の位置を決定するために使用される多数のグリッド線又はスポットを備える。本明細書で使用されるグリッドプレートという用語は、測定システムの一部としてグリッド又は回折格子を備える任意のタイプのセンサターゲットオブジェクトを意味するものであってもよい。このような測定システムは、通常エンコーダタイプの測定システムと呼ばれ、当分野では周知である。0050グリッドプレート6は、レンズ列4のための中心孔を有し、例えば板ばねなどの3つのたわみ要素8を備える取付けデバイス7と共に、メトロフレーム3上に取り付けられる。たわみ要素8は、仮想円9の円周上に等しい角度で実質的に水平面に配置される。仮想円9の中心は、リソグラフィ装置のレンズ列4の中心軸A-Aに実質的に対応する。メトロフレーム3は、温度又は他の外部の影響によって形状を変化させる場合がある。従来のリソグラフィ装置では、このメトロフレームの形状変化は、レンズ列4の中心軸に対して実質的に対称である。たわみ要素8は、グリッドプレート6内に大幅な形状変化をもたらすことなく、レンズ列4の中心軸に対して半径方向へのメトロフレーム3の変化を可能にするように配置される。グリッドプレート6の形状又は位置の比較的小さな変化は依然として発生し得る。たわみ要素8のメトロフレーム側の移動方向は、図6の両方向矢印で示されている。メトロフレーム2の形状変化はレンズ列の中心軸A-Aに対して実質的に対称であるため、グリッドプレート6はその位置から移動することはない。0051しかし、基板ステージ2の移動時に、基板ステージ2の作業スペース内の空気が変位する。結果として圧力波が作業スペースを通して伝搬し得る。特に、グリッドプレートの取付けデバイスはグリッドプレートの支持体内に何らかの柔軟性を導入するため、これらの圧力波によってグリッドプレート6の移動及び/又は変形が発生し得る。しかし、たとえグリッドプレート6のより堅固な取付けが使用される場合であっても、圧力波はグリッドプレート6を移動又は変形させ得る。0052図5及び図6の実施形態では、これらの移動又は変形を補償するために、ダンピングデバイス又はダンパ10を備える補償デバイス又は補償器が3カ所に提供される。この点で、補償という用語は、グリッドプレートの移動及び/又は変形が、ダンパの提供によって、又はより一般的には適用される補償器によって、かなり抑制されることを意味する。ダンパ10は永久磁石11を備える受動式ダンパであり、この永久磁石が、グリッドプレート6上にアルミニウムが提供されている場合、要素12の変位に対して反対の方向に向かう力を発生させる。0053代替実施形態では、受動式ダンパは、グリッドプレート6の移動又は変形に対してダンピング効果を与える任意のデバイスであってもよい。0054他の実施形態では、ダンパは、グリッドプレート6の位置を測定するように構成された1つ又は複数のセンサと、メトロフレーム3に対するグリッドプレート6の任意の変位をダンピングするように構成された1つ又は複数のアクチュエーションデバイス又はアクチュエータとを備える能動式ダンパであってもよい。0055受動式又は能動式ダンパは、特に、グリッドプレート6の共振周波数において、グリッドプレート3の変位、すなわち移動又は変形の効率的な補償を提供することがわかっているが、ダンパは、また他の周波数領域でも適切なダンピングを提供することができる。0056図5及び図6の実施形態では、ダンパ10は垂直方向、すなわち、グリッドプレートの主平面に対して実質的に垂直の方向のグリッドプレート6の変位をダンピングするように構成される。他の方向での、例えば1つ又は複数の水平方向、すなわちグリッドプレート6の主平面に対して実質的に平行な方向、あるいは任意の他の所望の方向でのグリッドプレート6の変位に対しても同様の備えが提供されてよい。0057さらに、円形に配置された3つのダンパ10が提供される。本発明の一実施形態によるダンパ又はより一般的な補償器の数、及びその位置は、グリッドプレート6の移動及び/又は変形を補償するための任意の好適な構成とすることができる。0058図7は、本発明の一実施形態のステージ装置又はリソグラフィ装置で適用できる測定システムを示す。この実施形態では、フィードバック位置制御システム又はコントローラ15が、メトロフレーム3に対するグリッドプレート6の位置を制御するための補償器として提供される。フィードバック位置制御システム15は、1つ又は複数のセンサ16と、コントローラ17と、1つ又は複数のアクチュエータ18とを備える。フィードバック制御システムは、グリッドプレート6をメトロフレーム3に対して実質的に同じ位置に維持するために提供される。さらに位置制御システム15は、当分野で周知の任意の制御システムによって設計されてもよい。0059図7の実施形態では、フィードバック位置制御システム15は、図ではグリッドプレート6の主平面に対して実質的に垂直の方向である垂直方向のグリッドプレート6の変位を抑制するために適用されている。位置制御システム15は、また、1つ又は複数の他の方向の変位を抑制するために適用することもできる。0060位置制御システムの提供は、低周波数領域、すなわち共振周波数領域よりも低い周波数領域での移動又は変形の抑制に特に有用であることがわかっている。しかし、フィードバック位置制御システムの提供は、また、他の周波数領域でのグリッドプレート6の変位を抑制するためにも有益であり得る。ある実施形態では、位置制御システムは、共振周波数領域でのダンピング、並びに低周波数領域での位置制御の両方を提供するように設計することもできる。0061図8は、本発明の一実施形態によるステージ装置又はリソグラフィ装置に適用できる測定システムを示す。この実施形態では、第2の実施形態の受動式ダンパ及びフィードバック位置制御システム15が組み合わされる。ダンパ及び位置制御システム15は両方とも、グリッドプレート6の主平面に対して実質的に垂直の方向のグリッドプレート6の変位を抑制するために提供される。受動式ダンパは、特に共振周波数領域での変位を抑制するために提供される一方、フィードバック位置制御システム15は、特により低い周波数領域での変位を抑制するように設計される。0062受動式ダンパは、グリッドプレート上に提供された第1のダンピング要素21と、メトロフレーム3上に取り付けられた第2のダンピング要素22とを備える。この2つのダンピング要素21、22の間に小さな空隙が形成され、これが摩擦のないダンピングデバイスとして機能する。この空隙は、例えば50~150μmであってよく、一実施形態では、例えば200cm2などの比較的広い区域にわたって延在する。0063図5のダンパ10又は他のダンパなどの任意のタイプのダンパも提供することができる。ダンピングは、また、第2の実施形態に関して説明した位置制御システム15によって実行することもできる。00641つ又は複数の他の方向でのダンピング/位置制御のために、ダンパ及び/又は位置制御システムの同様の組合せにより提供されてもよい。0065図9は、一実施形態に従ってステージ装置又はリソグラフィ装置に適用できる測定システムを示す。この実施形態では、測定システムは、メトロフレーム上に取り付けられ、保持位置及び自由位置の2つの位置の間を移動可能な把持デバイス又はグリッパ25を備える。図9の左側に示された保持位置では、グリッドプレート6は少なくともグリッドプレート6の主平面に対して実質的に垂直の方向に固定される。図9の右側に示された自由位置では、把持デバイスはグリッドプレート6を保持せず、好ましくは把持デバイス25とグリッドプレート6との間に物理的な接触がない。0066上述のように、たわみ要素8は、グリッドプレート6に対するメトロフレームの移動を補償するために提供される。このため、一般に、メトロフレーム3の相対的な移動がグリッドプレート6に伝達されるため、自由度6でグリッドプレート6を固定する取付けデバイスを提供することは望ましくない。しかし、メトロフレームの移動は、特に温度変化又は温度差によって生じる場合、比較的遅い。0067さらに、基板ステージのスキャン移動中、すなわち基板のスキャン中又は露光中は、特に高精度の測定システムが望ましい。把持デバイス25を使用して、基板ステージのスキャン移動中にグリッドプレート6を固定し、これらのスキャン移動中の外部擾乱によるグリッドプレートの移動又は変形を実質的に抑制することができる。スキャン移動の前後に把持デバイス25を自由位置に配置することができるため、2つのスキャン移動間のメトロフレーム3のいかなる形状変化も補償することができる。このようにして、メトロフレーム3内の擾乱及びグリッドプレート3上の外部擾乱の両方を補償でき、測定システムの精度が向上する。0068本出願で使用される把持デバイスという用語は、ある一定の期間中、少なくとも1つの方向にグリッドプレート6を実質的に固定し、他の期間中、グリッドプレート6を解放することが可能な任意のデバイスを意味する。0069この実施形態では、把持デバイス25は、少なくともグリッドプレートの主平面に実質的に垂直な方向にグリッドプレート6の位置を固定するための固定デバイスとして使用される。他の実施形態では、把持デバイス25は、より多くの方向又は他の方向にグリッドプレートを固定するように設計されてもよい。ある実施形態では、グリッドプレートを自由度6で保持位置に固定するように構成された1つ又は複数の把持デバイスが提供される。0070本発明の代替実施形態では、測定システムは、1つの大きなグリッドプレートの機能を引き継ぐ、実質的に同じ平面内に配置された2つ又はそれ以上のグリッドプレートを備えてもよい。これらのグリッドプレートはそれぞれ、本出願で説明した補償デバイスを備えるものとしてよい。0071他の実施形態では、1つ又は複数のセンサを実質的に静止しているフレーム上に配置してもよく、一方グリッドプレートはオブジェクトテーブル上に配置される。このような実施形態では、可動オブジェクトに対するグリッドプレートの移動及び/又は変形を補償するために、各グリッドプレートに補償器を提供してもよい。このような移動/変形は、可動オブジェクトの移動による圧力波などの擾乱によって発生し得る。このような他の実施形態は、本発明の範囲内に入るものとみなされる。0072上記の説明では、リソグラフィ装置のメトロフレームに対するグリッドプレートの移動及び/又は変形の補償について説明してきた。また、補償器を使用して、それぞれのシステム部品が取り付けられたフレームに対する測定システムの他のシステム部品の移動又は変位を補償してもよい。このような実施形態は本発明の範囲内に入る。0073本文ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書でウェーハ又はダイという用語を使用している場合、それぞれ、基板又はターゲット部分という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール、メトロロジーツール及び/又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板は、例えば多層ICを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。0074光リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組合せを印加することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると、内部にパターンが残される。0075本明細書で使用する放射及びビームという用語は、イオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームのみならず、紫外線UV放射例えば、365nm、248nm、193nm、157nm若しくは126nm、又はこれら辺りの波長を有する及び極端紫外線光EUV放射例えば、5nm~20nmの範囲の波長を有するを含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。0076レンズという用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電気光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか一つ、又はその組合せを指すことができる。0077以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の1つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスクの形態をとることができる。0078上記の説明は例示的であり、限定的ではない。それ故、添付の特許請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。"