電子ビーム生成装置10において使用するための、支持プレート22と出口窓金属箔20の組立体であって、前記支持プレート22は前記金属箔20における皺を減らすように設計されており、前記皺は組立過程において生じる余分な金属箔に起因して生じうるものであり、前記金属箔20は、閉じた接合線26に沿って前記支持プレート22に接合されており、前記接合線26は、前記支持プレート22に開口部32及び金属箔支持部分34が設けられている領域を囲んでおり、前記領域では、前記金属箔20が前記電子ビーム生成装置10の真空気密な筐体14の壁部の一部としての役割を果たすようにしてある、組立体において、前記支持プレート22は、前記領域内で、開口部32と金属箔支持部分34が交互するパターンが設けられており、前記パターンは、前記筐体14内を真空にしたときに、前記金属箔20のトポグラフィカルプロファイルを形成し、すべての余分な金属箔を実質的に吸引するようになっていることを特徴とする組立体。前記吸引は、前記金属箔20の実質的に主要な曲げが前記開口部32で生じるような方法で行われることを特徴とする請求項1に記載の組立体。前記主要な曲げは、前記支持プレート22の平面内において、前記接合線26に実質的に垂直な方向の軸周りにできることを特徴とする請求項2に記載の組立体。前記接合線26で囲まれた前記領域は、各々が少なくとも1つの開口部32を有する、少なくとも2つの区域38、40に分割されていること、及び、各々の区域38、40では、前記主要な曲げが、隣り合う開口部32で同じ方向に生じていることを特徴とする請求項2、又は、請求項3に記載の組立体。前記接合線26によって囲まれた前記領域が実質的に矩形であること、及び、第1中央区域38内の前記主要な曲げが、前記矩形の第1の側面1と、前記第1の側面1の反対側にある第2の側面2とに実質的に垂直な方向を向いている第1の軸Y周りにできること、及び、第2側方区域40内の前記主要な曲げが、前記矩形の第3の側面3と、それぞれの第4の側面4に実質的に垂直な方向を向いている第2の軸X周りにでき、前記矩形の前記第3及び第4の側面3、4が前記第1及び第2の側面1、2に実質的に垂直であることを特徴とする請求項2から請求項4までのいずれか1項に記載の組立体。前記金属箔支持部分34は、金属箔支持棒状部36として形成されていることを特徴とする請求項5に記載の組立体。第1の組の金属箔支持棒状部36aが前記支持プレート22の前記第1中央区域38に設けられていること、及び、第2の組の支持棒状部36b、36b’が前記第2側方区域40に設けられていて、このような第2側方区域40が前記第1区域38の両側に1つずつ、前記支持プレート22の端部域に設けられていることを特徴とする請求項6に記載の組立体。前記第1の組の支持棒状部の前記支持棒状部36aは、前記矩形の前記第1及び第2の側面1、2に実質的に垂直な方向を向いている前記第1の軸Yに沿って伸びていることを特徴とする請求項7に記載の組立体。前記第1の組の金属箔支持棒状部の前記金属箔支持棒状部36aは、湾曲した経路に沿って伸びていることを特徴とする請求項8に記載の組立体。前記第2の組の金属箔支持棒状部の前記支持棒状部36b、36b’は、前記矩形の前記第3の側面3及びそれぞれの第4の側面4に実質的に垂直な方向を向いている前記第2の軸Xに沿って伸びていることを特徴とする請求項7に記載の組立体。前記第2側方区域40にある前記金属箔支持部分34は、互いに間隔をあけて1列に並べられた要素58であり、前記列は、前記第1の軸Yを実質的にたどっていることを特徴とする請求項5に記載の組立体。前記接合線26は、前記支持プレート22の台地部28の上に配置されている、請求項1から請求項11までのいずれか1項に記載の組立体。電子ビーム生成装置10の出口窓金属箔20における皺を減らす方法であって、前記皺は組立過程において生じる余分な金属箔に起因して生じうるものであり、前記金属箔20は、閉じた接合線26に沿って支持プレート22に接合されており、前記接合線26は、前記支持プレート22に開口部32及び金属箔支持部分34が設けられている領域を囲んでおり、前記領域では、前記金属箔20が前記電子ビーム生成装置10の真空気密な筐体14の壁部の一部としての役割を果たすようになっている、方法において、前記領域内で、開口部32と金属箔支持部分34が交互するパターンを前記支持プレート22に設けるステップであって、前記パターンは、前記筐体14内を真空にしたときに、前記金属箔20のトポグラフィカルプロファイルを形成し、すべての余分な金属箔を実質的に吸引するようになっているステップを含むことを特徴とする方法。前記吸引は、前記金属箔20の実質的に主要な曲げが前記開口部32で生じるような方法で行われる、請求項13に記載の方法。充填機械において、たとえば包装資材のウェブのような包装資材を殺菌するための方法において、請求項1に記載の組立体を備える電子ビーム生成装置を使用するステップを含む方法。したがって、本発明の目的は、支持プレートと出口窓金属箔の組立体であって、支持プレートが金属箔の皺を効率的且つ注意深く減らすように設計されているものを提供することである。この目的は、電子ビーム生成装置において使用するための、支持プレートと出口窓金属箔の組立体であって、上記支持プレートが上記金属箔における皺を減らすように設計されており、皺は組立過程において生じる余分な金属箔に起因して生じうるものであり、上記金属箔は、閉じた接合線に沿って支持プレートに接合されており、この接合線は、支持プレートに開口部及び金属箔支持部分が設けられている領域を囲んでおり、この領域では、金属箔が電子ビーム生成装置の真空気密な筐体の壁部の一部としての役割を果たすようにしてある、組立体によって達成される。上記組立体は、支持プレートが、上記領域内で、開口部と金属箔支持部分が交互するパターンが設けられており、このパターンが、筐体内を真空にしたときに、金属箔のトポグラフィカルプロファイルを形成し、すべての余分な金属箔を実質的に吸引するようになっていることを特徴としている。たとえば金属箔を引っ張ることから生じる余分な金属箔は、生じたところでは注意を要することを理解するのは重要である。支持プレートと金属箔は、接合線において互いに連結されており、余分な金属箔を一部領域に蓄積させうる、金属箔と支持プレートの間のどのような動きも、おそらくは皺も作る。このために、余分な金属箔は、可能な限り多くを直下の支持プレートの中へと、つまり、支持プレートの面に垂直な方向へと、吸引する必要がある。よって、金属箔は、支持プレートに対して、支持プレートの面の方向に著しく動かないように管理してもよい。吸引という言い回しは、ここ及び以下において、いかなる余分な金属箔領域も管理された方法で下方へ膨らませて、張力がかかった金属箔にすることができるような方法で金属箔を波形の表面に収めなければならないことを示すのに用いている。張力がかかったという言い回しは、ここ及び以下において、筐体内を真空にしたときに、金属箔が大きくて抑制できない皺を形成できないことを示すために用いている。しかしながら、金属箔内に過度の応力が生じるという意味で金属箔に張力がかけられるのではない。組立体の現在のところ好ましい実施例では、吸引は、金属箔の実質的に主要な曲げが上記開口部で生じるような方法で行われる。支持プレートのパターンは、金属箔が一重に湾曲するのを促進し、可能な限り二重に湾曲するのを防ぐべきであることが理解された。有害な皺は、金属箔が著しく二重に湾曲している領域でより生じやすいことが分かった。本発明では、金属箔の主要な曲げを各開口部内で行わせることにより、二重の湾曲が大幅に減った。主要な曲げという言い回しは、ここ及び以下において、本質的に一重の湾曲であるか、二重湾曲の些細な又は小さな寄与を含む一重の湾曲と定義される。金属箔の二重湾曲を完全に取り除くのは困難であるが、金属箔を可能な限り1つの方向に膨らませたり、又は、曲げたりして、これにより、その方向に主要な曲げを生じさせれば、他のあらゆる方向の付加的で小さな曲げの影響は減らすことができる。主要な曲げは、支持プレートの各々の1つの開口部でどのように金属箔を局所的に曲げたいかということと、金属箔を全体的に、つまり、たくさんの隣り合う開口部にわたって、どのように曲げたいかということの両方に関係している。さらに、本発明の現在のところ好ましい実施例を従属クレーム3~12に記載した。本発明はまた、電子ビーム生成装置の出口窓金属箔における皺を減らす方法であって、この皺は組立過程において生じる余分な金属箔に起因して生じうるものであり、上記金属箔は、閉じた接合線に沿って支持プレートに接合されており、接合線は、支持プレートに開口部及び金属箔支持部分が設けられている領域を囲んでおり、その領域では、金属箔が電子ビーム生成装置の真空気密な筐体の壁部の一部としての役割を果たすようになっている方法を含む。この方法は、上記領域内で、開口部と金属箔支持部分が交互するパターンを支持プレートに設けるステップであって、このパターンが、筐体内を真空にしたときに、金属箔のトポグラフィカルプロファイルを形成し、すべての余分な金属箔を実質的に吸引するようになっているステップを含む。本発明はさらに、充填機械において、たとえば包装資材のウェブのような包装資材を殺菌するための方法を含む。この方法は、請求項1に記載の組立体を備える電子ビーム生成装置を使用するステップを含む。以下、本発明の現在のところ好ましい実施例をより詳細に、添付の図面を参照しながら説明する。さまざまな実施例において、同じ参照番号が同様な特徴部について使用されている。図1は、電子ビーム生成装置10の1つの実例の非常に模式的な図を示している。この装置は、電子出口窓12を備えており、電子は、照射すべき標的に向けてこの電子出口窓12を通って送出される。開示した構造によれば、電子ビーム生成装置10は、概して、真空チャンバー14を備えており、この真空チャンバー14には、フィラメント16と、制御グリット18とが設けられている。フィラメント16は、好ましくは、タングステンで作られている。電流をフィラメント16に流すと、フィラメントの電気抵抗により、フィラメントが2000°Cのオーダーの温度まで加熱される。この加熱により、フィラメント16は電子群を放出する。制御グリット18はフィラメント16の前方に設けられていて、電子を管理された方法で分散させるのに役立っている。電子は、グリッド18及び出口窓12の間の電圧によって加速される。電子ビーム生成装置10は、一般に、低電圧電子ビーム放射源と呼ばれており、この放出源は、通常、電圧が300kV以下である。開示した構造では、加速電圧が70~85kVのオーダーである。この電圧は、各電子では、70~85keVの運動起動エネルギーになる。電子出口窓12は、図2に示されるように、支持プレート22と、電子出口窓金属箔20との組立体である。金属箔20は支持プレート22の外側表面24に取り付けられており、この外側表面24は、図2では、支持プレート22の上面として見られる。したがって、支持プレート22は、金属箔20の内側に設けられている。すなわち、金属箔20は周囲に面しており、一方、支持プレート22は電子ビーム生成装置10の内側を向いている。金属箔20の支持プレート22への取り付けは、連続した接合線26図には2つの点としてのみ示されているに沿って行われる。接合線26の全体と、接合線26が囲んでいる領域が、図2の組立体を示す図3において、点線で表されている。好ましい実施例では、支持プレート22及び金属箔20が実質的に矩形であり、接合線26が実質的に同様な形状の領域を囲んでいる。この領域のことを矩形と呼ぶが、図面から分かるように、この領域は、角部が丸い、実質的に矩形の形状である。この矩形は、第1の側面1と、第1の側面1の反対側にある第2の側面2とを有する。さらに、この矩形は、第3の側面3と、第3の側面3の反対側にある第4の側面4とを有する。各々の対の側面は、実質的に平行である。第1及び第2の側面1、2は、第3及び第4の側面3、4に実質的に垂直である。金属箔20を支持プレート22に接合しうる技術は、たとえば、レーザー溶接、電子ビーム溶接、ろう付け、超音波溶接、拡散接合、及び、接着であろう。接合線26は、電子ビーム生成装置10の内部で真空を保つことができるように連続している。連続という用語を用いているのは、この線が無限、又は、閉じているという意味を明確にするためである。金属箔20は、電子に対して実質的に透明であり、好ましくは、金属、たとえばチタンによって、又は、いくつかの材料のサンドイッチ構造によって作られている。金属箔20の厚みは、約6~10μmのオーダーである。支持プレート22は、金属箔20に対する支持体としての役割を果たす。図示の実施例では、支持プレート22は2つの部材を備えている。すなわち、金属箔20の中央部分を支持する第1支持プレート部材22aと、枠体形状をしていて、金属箔接合線26が設けられている第2支持プレート部材22bである。枠体という用語は、ここでは、中央に穴が開いた形状構成の要素と解釈しなければならない。さらに、接合線26は、枠体の穴の開いた形状構成に沿ってであるが、枠体の外縁の内側を伸びている点を明確にしておかなければならない。好ましくは、接合線26は、枠体の外縁から一定の距離のところを伸びている。さらに、少なくとも1つの接合線26が設けられる。したがって、2つ以上の接合線を設けることであってもよい。たとえば、内側及び外側の接合線を枠体に設けてもよいし、その2つの線は、たとえば、互いに同心であってもよい。組み立てた状態において、2つの支持プレート部材22a及び22bは、互いに接合されている。2つの部材は、異なる材料からでも、同じような材料からでも製造できる。現在のところ好ましい実施例では、第1支持プレート部材22aは銅又はアルミニウムから作られていて、第2支持プレート部材22bはステンレススチールから作られている。図2及び図3では、真空チャンバー筐体14も部分的に示されており、支持プレート22は、この真空チャンバー筐体14に取り付けられている。図2に見られるように、接合線26は、台地部28の上に配置されている。支持プレートの第2の部材22b、すなわち、枠体は、第1支持プレート部材22aとの関係において、枠体の上面が台地部28を形成するような方法で配置されている。すなわち、第2の部材22bは、第1支持プレート部材22aの上面30よりも高く配置された、つまり、持ち上げられた面を形成している。第1実施例が図3~図9に示されている。第1支持プレート部材22aは、複数の開口部32が設けられており、開口部32の一部は、電子が通過できるように貫通している。さらに、支持プレート22は、金属箔支持部分34が設けられている。金属箔支持部分34には、電子ビーム生成装置10を真空にしたときに、金属箔20と接触するように設計された上面がある。接合線26で囲まれた領域内では、支持プレート22に、これら開口部32と金属箔支持部分34が交互するパターンが設けられており、このパターンは、筐体14内を真空にしたときに、あらゆる余分な金属箔を実質的に吸引する、金属箔20のトポグラフィカルプロファイルを形成するようになっている。余分な金属箔を吸引することにより、皺を回避すること、又は、少なくとも大幅に減らすことができる。トポグラフィカルプロファイルという言い方は、金属箔20が平坦でない、波形の表面を有し、一部の領域又は点が持ち上がっていて、一部の領域又は点が相互の関係において沈んでいることを説明するために用いている。現在のところ好ましい実施例では、開口部32と金属箔支持部分34のパターンは、金属箔20の主要な曲げが開口部32内で生じるような方法で設計されている。接合線26で囲まれた領域は、この実施例では、3つの区域に分割されており、このような区域の各々がいくつかの開口部32を備えている。このような区域の各々において、主要な曲げは、隣り合う開口部32で同じ方向にできる。このことは、支持プレート22の構造との関係で、以下により詳細に説明する。第1の実施例では、第1支持プレート部材22aの金属箔支持部分34が金属箔支持棒状部36として形成される。金属箔支持棒状部の第1の組がその領域の第1の区域38に設けられており、この第1の区域は第1支持プレート部材22aの中央区域である。以下、これらの棒状部を第1支持棒状部36aと呼ぶ。支持棒状部の第2の組が第1支持プレート部材22aの第2側方区域40に設けられており、このような第2側方区域40は、第1の中央区域38の両側に1つずつ設けられている。以下、これらの棒状部を第2支持棒状部36bと呼ぶ。図3には、3次元座標系が加えてある。Yで表されている座標系の第1の軸は、おおよその方向を定義しており、接合線26で囲まれた領域を構成している矩形の第1及び第2の側面1、2に垂直な方向を向いている。Xで表されている第2の軸は、別のおおよその方向を定義しており、矩形の第3及び第4の側面3、4に垂直な方向を向いている。第1の組の支持棒状部における支持棒状部36aは、最初のY軸に沿って伸びており、第2の組の金属箔支持棒状部の支持棒状部36bは、2番目のX軸に沿って伸びている。これは、それぞれの支持棒状部がそれぞれの軸に沿って長手方向に伸びていることを意味する。これらの軸は一般的なこととして解釈しなければならず、好ましい実施例での支持棒状部は、実際には、より厳密で、局所的な軸に沿って伸びることが分かるであろう。Zで表される第3の軸は、組立体の深さを構成するだいたいの補足的な方向を定義している。第1支持棒状部36aは、湾曲した経路に沿って伸びている。この湾曲した経路は、形状が実質的に等しく、弧状に形成されている。弧状の支持棒状部36aの間は等間隔であり、2つの弧の間の間隔が第2方向Xにおいて変動しないように、支持棒状部36aはすべて同じ方向に向けられている。さらに、これら第1支持棒状部36aの金属箔を支持する上面42は、第3方向Zの高さが等しい。この高さは、金属箔20が接合される台地部28の上面の高さよりも低い。このことは、図6及び図7から分かる。作動中は、電子ビーム生成装置10が加熱され、そしてその結果、金属箔支持プレート22も加熱される。第1支持棒状部36aは、熱膨張に起因するあらゆる形状変化の可能性を管理するために弧状に形成されている。つまり、第1支持棒状部36aの抑制できないあらゆるねじれや反りが防止される。加熱すると、材料のどのような熱膨張によっても支持棒状部36a内の力が増し、支持棒状部がねじれを始めうる。弧状に形成した支持棒状部36aを設けることにより、この力は、第2方向Xの成分を直接的に有するようになり、これにより、その方向にさらに曲げを生じやすくする。つまり、棒状部はなおさら弧状になるのである。前述したように、第2支持棒状部36bは、第1支持プレート部材22aの第2の外側にある側方区域40に設けられており、第1の組の支持棒状部36aの両側に1つずつある。さらに、第2支持棒状部36bは、第2の軸Xに沿って伸びている。さらにまた、第2支持棒状部36bは、実質的にまっすぐであり、実質的に互いに平行であり、また、好ましくは、第2支持棒状部36bの間が等間隔となるように、第2区域40において均等に分布している。しかしながら、他の分布や不均一な間隔も、もちろん可能である。第2支持棒状部36bの支持を行う上面44は傾斜している図4~図7参照。傾斜は、支持棒状部36bが第1支持棒状部36aの近傍で最も低く、接合線26の近傍で最も高いように作られている。上面44の最も低い高さは、第1支持棒状部36aの上面42の高さよりも低い。上面44の最も高い高さは、台地部28の上面の高さよりも低い。つまり、台地部28の上面が支持プレート22の最上面である。第1区域と、各々の第2区域との間の、第3区域と呼ばれる小さな境界領域では、弧状に形成された第1支持棒状部36aと同様な形状で伸びている支持棒状部46が設けられている。以下、この支持棒状部46を第3支持棒状部46と呼ぶ。第3支持棒状部46の上面48は、第1支持棒状部36aの上面42よりも低い高さに配置されている。第2支持棒状部36bはこの第3支持棒状部46と連結されており、第3支持棒状部46の上面48は、第2支持棒状部36bの傾斜した上面44の最も低い側の高さと等しい高さにある。前述したように、開口部32は支持棒状部36の間に設けられている。第1中央領域では、第1支持棒状部36aの間において開口部32が貫通している。つまり、開口部32は、支持プレート22が電子に対して透明となるように、支持プレート22の全体にわたって伸びている。しかしながら、第1支持プレート部材22aの外縁の周りでは、開口部32は貫通していない。代わりに、支持棒状部36、46は、ここでは、相互連結領域50によって互いに連結されており、相互連結領域50は、支持棒状部36、46のすべての上面42、44、48に対して沈んでいる上面52を有する。支持棒状部36、46の上面42、44、48と、相互連結領域50の上面52との間の間隔は十分に大きく、金属箔20が相互連結領域50と接触することは確実にない。前述したように、相互連結領域50は、第1支持プレート部材22aの外縁の周りに広がっている。図3及び図4では、相互連結領域50が第2支持棒状部36と第3支持棒状部46の間だけでなく、第1支持棒状部36aの端部の間にも広がっていることが分かる。さらに、開口部32が貫通している第1支持棒状部36aの中央領域では、薄い相互連結部分54が設けられている。図4~図7から、これらの相互連結部分54には上面56があり、上面56は、第1支持棒状部36aの上面42が配置されている高さよりも高さが低いことが分かる。第3の方向Zに沿った、第1支持棒状部36aの上面42と、相互連結部分54の上面56との間隔は十分に大きく、金属箔20が部分と接触しないことは確実である。相互連結部分54の機能は、すべての第1支持棒状部36aの間を同じ間隔に保つことである。薄い相互連結部分54は、その長手方向の広がりが第2の方向Xにあるが図3参照、まっすぐな、中央線ではなく、代わりに、不図示の仮想中心線から第1の方向Yにある距離ずらされている。2つ目の部分毎に支持プレート22の第1の側面1の方へずれており、残りは、第2の側面2の方へずれていて、ジグザグの線を形成している。第2の方向Xにまっすぐな線の代わりにジグザグの線を形成することにより、反りを防止できる。つまり、一直線の相互連結部分54は、第2の方向Xに伸びる棒状部になりうるし、このような棒状部が潜在的に反りの影響を受けうるのである。弧状に形成された支持棒状部36aの第2の方向Xにおける厚さは約0.55mmであり、実質的に中央に配置された相互連結部分54の第1の方向Yにおける厚さは約0.4mmである。第3支持棒状部46の厚さは、第2の方向Xに、約0.55mmである。第2支持棒状部36の厚さは、第1の方向Yに、約0.55mmである。以下では、図5~図8に関して、電子ビーム生成装置10の内側から真空にしたときに、金属箔20がどのようにして支持プレート22に収まるかを説明する。真空にすると、開口部32及び金属箔支持部分34は、金属箔20のトポグラフィカルプロファイルを形成し、そうでなければ損傷を受けやすい皺となるであろう、実質的にすべての余分な金属箔を吸引する。一般的に、金属箔20が開口部の内側に膨らみ、支持プレート22の仮想面にある接合線26に実質的に垂直な方向の軸周りに金属箔20の実質的に主要な曲げができることが好ましい。このことは、好ましい実施例では接合線が実質的に矩形であるので、主要な曲げの方向が、好ましくは、第1と第2の区域38、40とで異なることを意味する。第1の区域38では、金属箔20が支持棒状部36aの間で開口部32の内側に膨らみ、金属箔20の実質的に主要な曲げが第1の軸Y周りに生じる。第2側方区域40では、支持棒状部36bの間の実質的に主要な曲げが第2の軸X周りとなる。金属箔20の膨らみ、すなわち、吸引は、どちらの場合にも、第3の軸Zの負の方向においてなされる。ここまでは、第1の区域38における主要な曲げが第1の軸Y周りになされるとおおまかに説明してきた。しかし、当然のことながら、これは、現実をいくらか簡単にしたものであることを理解されたい。第1支持棒状部36aは弧状に形成されており、主要な曲げは、この弧の形状に従う軸に沿ってできる。この軸は、任意の局所座標系の軸Y1によって表すことができる図3参照。軸Y1の方向は、弧の形状に従い、そのために、弧に沿ったすべての位置で異なる。軸Y1は、より一般的な軸Yの小さな修正とみなすべきである。図9は、図3の小さな表示部D内の金属箔の主要な曲げを示している。図9は、2つの支持棒状部の間の開口部におけるボリュームを非常に模式的に示している。金属箔は、主要な曲げを軸Y1周りに有し、下方へ、つまり、第3の軸Zの方向へ膨らんでいる。図8は、図3の線Cに沿ってとった部分断面図を非常に模式的に表したものを示しており、支持棒状部の第2の組からいくつかの支持棒状部36bと、金属箔20とを示している。目的は、真空にしたときの、第1の軸Yに沿った金属箔20のトポグラフィカルプロファイルを図示することである。金属箔20が第2支持棒状部36bの間の開口部32の中へ、下方へと膨らんでいること、及び、各開口部での主要な曲げが、ここでは、第2の軸X周りにできていることが分かる。第2支持棒状部36bはまっすぐであり、第2の方向Xに伸びているので、一般座標系を用いることができる。しかし、別の好ましい実施例では、支持棒状部の第2の組の棒状部は、別の形状構成をしていてもよい。図10は、支持プレート22の第2実施例の部分図を示しており、この図では、第2支持棒状部36b’が第3支持棒状部46から扇形状の形状構成で設けられている。支持棒状部36’は、この実施例では、たとえば、湾曲させた第3支持棒状部46の接線に対して垂直な方向に向けられていることであってもよい。主要な曲げは、この場合には、局所座標系の軸X2周りにできる。軸X2は、より一般的な軸Xの小さな修正とみなすべきである。第1及び第2の区域38、40における曲げの間で移行を滑らかに行わせるために、境界領域での第3支持棒状部46の上面48は、第1支持棒状部36aの上面42に比べて低くなっている図7参照。このようにすることで、この領域での金属箔20は、一方の主要な曲げからもう一方へと強制的に移行させられるときのように張力をかけられることもないし、支持棒状部を越えて同時に力を加えられることもない。これは、なぜ第2支持棒状部36bが最も低いところを第1支持棒状部36aに向けて傾斜させているかということの理由でもある。図5~図8より、特に図5を参照すると、金属箔20が支持プレート22の上にまっすぐ置かれるのではなく、あらゆる余分な金属箔を実質的に吸引するトポグラフィカルプロファイルを形成することが分かる。図11~図13は、支持プレート22の第3の好ましい実施例を示している。この実施例では、第1及び第2の実施例と同様に、第1の中央区域38における主要な曲げが第1の軸Y周りにできており、第2側方区域40における主要な曲げが第2の軸X周りにできている。第1の中央区域38は、第1及び第2の実施例を参照しながら先に説明したものと同様の第1支持棒状部36aという形態の金属箔支持部分34を備えている。全体的に、第1の中央区域38における構造は、前述した第1及び第2の実施例におけるのと少なくとも実質的に同じである。さらに、第1及び第2の区域の間の小さな境界領域であり、第3支持棒状部46を備えている第3の区域もまた前述したのと実質的に同じである。第1及び第2の区域38、40の両方にわたって広がる、上面52を有する相互連結領域50もまた、この第3実施例では、前述した実施例におけるものと同じである。しかしながら、第2側方区域40における金属箔支持部分34の構造及び分布は、前述したものとは実質的に異なる。第2側方区域40は、各々、細長い形状の要素58である金属箔支持部分を備えている。この細長い形状の要素58は、相互連結領域50の上面52に位置し、上面60を有し、この上面60は、第1支持棒状部36aの上面42と同じ高さにある。さらに、この細長い形状の要素58は、相互に間隔をおいて、1列に並べられている。要素58のこの列は、湾曲した経路に沿って伸びている。この湾曲した経路は、弧の形状になっている。この弧の形状は、第1及び第3支持棒状部36a、46の弧の形状に実質的に対応している。したがって、細長い形状の要素58の列は、ある意味で、第1及び第3支持棒状部36a、46に対応する追加の支持棒状部を形成するものとみなすことができる。各細長い形状の要素58は、その最も長い広がり、すなわち長さが、弧に沿っている。各要素58の長さは、等しくてもよいし、要素58間で異なっていてもよい。示した実例では、弧の端にある要素58は、弧の中央よりも長い。長さの間隔は、好ましくは2~4mmの間である。長手方向に垂直な方向における要素58の厚さは、約1.6mmである。前述したように、第2側方区域40での主要な曲げは、第2の軸X周りにできる。より具体的には、主要な曲げは、この場合には、任意の局所座標系の軸X3周りにできる。軸X3は、より一般的な軸Xの小さな修正とみなすべきである。軸Y3は、湾曲した経路に沿った方向を向いており、軸X3は、湾曲した経路の接線に実質的に垂直な方向に向けられている。所望の主要な曲げを得るために、列内で続く要素58の間隔又は間隙は、要素58から第3支持棒状部46までの間隔、及び、要素58から第2支持プレート部材22bを構成する枠体までの間隔と実質的に等しいか、それよりも長い。間隔が等しい場合でも、皺が接合線26に垂直に、この場合には、矩形の側面3及び4に垂直により生じやすいので、主要な曲げは軸X3周りに生じる。理解しやすいように、接合線26を図11に加えている。図13は、図11の線Cに沿って、つまり、細長い形状の要素58が並べられている湾曲した経路に沿ってとった部分断面図を非常に模式的に表したもの示している。図は、いくつかの細長い形状の要素58と、金属箔20とを示している。目的は、真空にしたときの、細長い形状の要素58上の金属箔20のトポグラフィカルプロファイルを図示することである。金属箔20が、細長い形状の要素58の間の間隙の中へ、下方へと膨らんでいること、及び、各間隙での主要な曲げが、ここでは、第2の軸X周りにできることが分かる。本発明はまた方法も含むが、この方法は、大部分を組立体との関係ですでに説明している。この方法は、前述した領域内で、開口部32と金属箔支持部分34が交互するパターンを支持プレート22に設けるステップを含み、このパターンは、筐体14内を真空にすると、金属箔20のトポグラフィカルプロファイルを形成し、あらゆる余分な金属箔を実質的に吸引するようになっている。好ましくは、金属箔20の実質的に主要な曲げが各開口部32に生じるような方法で行われる。本発明は、さらに、充填機械において、たとえば包装資材ウェブのような包装資材を殺菌するための方法を含む。この方法は、図1を参照しながら最初に説明した種類のもので、本発明による組立体を備える電子ビーム発生装置を使用するステップを含む。食品用容器を形成するときに使用する包装資材ウェブは、紙からなる芯層と、ポリマーからなる内層及び外層とを含む包装用積層体を有することであってもよい。ウェブを容器の形にする前に、ウェブは、電子ビーム生成装置10を使って殺菌しなければならない。電子ビーム生成装置10は、前述した形式の組立体を含んでいる。前述した形式の組立体を有する電子ビーム生成装置は、包装用の入れ物の外側表面を殺菌するのにも用いることができる。好ましくは、電子ビーム生成装置が包装用入れ物の側面に向けられ、外側表面全体を殺菌するために、包装用入れ物を回転させる。包装資材の従来のウェブを殺菌するようにしてある電子ビーム生成装置は、図に示したよりも矩形形状の電子出口窓組立体を有する。実際に、組立体の透明な中央部分、つまり、電子が通過できる部分は、長さが第1の方向Yに約40mmで、幅が第2の方向Xに約400mmである。しかしながら、支持プレート22の全体的な構造は、より矩形形状の組立体において実質的に変わらない。幅がより広いので、支持棒状部の第1の区域38は、より大きく、より多くの第1支持棒状部36aがある。殺菌中、包装資材のウェブは、電子生成装置10の電子出口窓12のところを通過する。ウェブの送り方向は、第1の方向Yに対応する。つまり、送り方向と第1の方向Yは揃えられる。本発明を現在のところ好ましい実施例について説明したが、さまざまな修正や変更を、添付の特許請求の範囲に定義した発明の目的及び範囲から逸脱することなく行うことができることを理解されたい。第1支持棒状部36aは、現在のところ好ましい実施例では、湾曲した経路に沿って伸びていて、弧状に形成されていると説明した。湾曲した経路を説明する別の方法は、数学用語の多項式を用いることである。たとえば図3に示した弧は、2次の多項式である。特定の用途では、支持プレートの支持棒状部における熱膨張に焦点がおかれ、熱膨張の影響を最小限にすることが望まれる。そのような場合には、支持棒状部の代替構造として、たとえば3次及び4次の多項式がある。支持棒状部の間の相互連結部分は、多項式の軸が交差する位置に設けることであってもよい。