ナフサの分解により生成されるナフサ分解生成物を処理する処理設備における、該ナフサ分解生成物を分離して得られるC5留分から重質物を分離除去する蒸留設備の蒸留塔に対し、圧力制御ガスを導入して該蒸留塔の圧力を制御する方法において、該圧力制御ガスとして、前記処理設備中に存在するC5以上の炭化水素を含まないガスを使用することを特徴とする蒸留塔の圧力制御方法。請求項1において、前記処理設備中に存在するC5以上の炭化水素を含まないガスが、C4以下の炭化水素ガスを含有することを特徴とする蒸留塔の圧力制御方法。請求項1又は2において、前記処理設備中に存在するC5以上の炭化水素を含まないガスが、前記処理設備内のC5留分から軽沸物を除去するための蒸留装置から分離されるオフガスであることを特徴とする蒸留塔の圧力制御方法。本発明は、低コストかつ安全にC5留分の蒸留を行うことが可能な蒸留塔の圧力制御方法を提供することを目的とする。本発明者らは鋭意検討した結果、ナフサ分解物の処理設備のC5留分から重質物を分離除去する蒸留塔において、該蒸留塔の圧力制御ガスとして、該ナフサ分解物の処理設備中に存在するC5以上の炭化水素を含まないガスを使用することにより、この蒸留工程でナフサ分解物の処理設備内に危険濃度以上の窒素ガスが混入することが防止され、低コストにて安全にC5留分の蒸留を行うことができることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明請求項1の蒸留塔の圧力制御方法は、ナフサの分解により生成されるナフサ分解生成物を処理する処理設備における、該ナフサ分解生成物を分離して得られるC5留分から重質物を分離除去する蒸留設備の蒸留塔に対し、圧力制御ガスを導入して該蒸留塔の圧力を制御する方法において、該圧力制御ガスとして、前記処理設備中に存在するC5以上の炭化水素を含まないガスを使用することを特徴とするものである。請求項2の蒸留塔の圧力制御方法は、請求項1において、前記処理設備中に存在するC5以上の炭化水素を含まないガスが、C4以下の炭化水素ガスを含有することを特徴とするものである。請求項3の蒸留塔の圧力制御方法は、請求項1又は2において、前記処理設備中に存在するC5以上の炭化水素を含まないガスが、前記処理設備内のC5留分から軽沸物を除去するための蒸留装置から分離されるオフガスであることを特徴とするものである。本発明では、C5留分から重質物を分離除去する蒸留塔の圧力制御ガスとして、処理設備中に存在する、C5以上の炭化水素を含まないガスを用いるため、外部ガスを用いる場合と比べて安価であると共に、処理設備内のC5以上の炭化水素を含まないガスであれば、窒素濃度を処理設備全体で危険濃度以下の濃度に保つことができ、危険濃度以上の酸化窒素の生成は起こらず、安全である。この処理設備中に存在するC5以上の炭化水素を含まない圧力制御ガスは、ナフサ分解生成物の処理設備中のC4以下の炭化水素ガスを含むガスであることが好ましく、C5留分から軽沸物を除去するための蒸留装置から分離されるオフガスであることが特に好ましい。本発明は、ナフサの分解により生成されるナフサ分解生成物を処理する処理設備本明細書中では、処理設備と称することがあるにおける、該ナフサ分解生成物を分離して得られるC5留分から重質物を分離除去する蒸留設備の蒸留塔に対し、圧力制御ガスを導入して該蒸留塔の圧力を制御する方法において、該圧力制御ガスとして、前記処理設備中に存在する、C5炭素数5以上の炭化水素を含まないガスを使用することを特徴とする蒸留塔の圧力制御方法である。ここで、ナフサの分解により生成されるナフサ分解生成物の処理設備とは、ナフサを高温で熱分解して、メタン、エタン、エチレン、プロピレン、ブタン、ブタジエン、及び炭素数5の炭化水素、ベンゼン、キシレン、その他のオフガス、重質油などを生成させ、これらを分離取得していく設備の全般をいう。このナフサ分解生成物の処理設備としては、例えば、ナフサ分解炉、分解ガス急冷部等の熱回収装置、脱硫設備、蒸留分離設備などを含むものが用いられるが、本発明に係る処理設備は、C5留分の分離設備を含み、全体としてナフサ分解生成物の処理を行うものであれば何れのものでもよい。また、ナフサ分解生成物を分離して得られるC5留分とは、ナフサを熱分解したナフサ分解生成物に含まれる、沸点が炭素数5の炭化水素の範囲にある成分の混合物であり、具体的には、沸点が9~60°Cの範囲にある物質の混合物である。このC5留分としては、ペンタン、イソプレン、2-メチルブタン、シクロペンタジエン等が挙げられる。このC5留分の製造法としては、例えば、ナフサ分解生成物から炭素数9以上のヘビーエンド油を除去し、残部から炭素数1~4のオレフィン類等を分離した残部本明細書中では分解ガソリンと称することがあるから、沸点が60°C以上の物質を分離する方法などが挙げられる。上記分解ガソリンには、C5炭素数5~C8炭素数8の脂肪族炭化水素とC6炭素数6~C8炭素数8の芳香族炭化水素等が含まれる。なお、分離の仕組み上、C4炭素数4以下やC9炭素数9以上の炭化水素も少量含まれる。このC5留分は、該C5留分に含まれる物質を分離精製して製造する工程に供される。その工程の一部として、まず、C5留分から蒸留により重質物を除去する蒸留工程を行う。本発明の蒸留塔の圧力制御方法は、当該蒸留工程における蒸留設備の蒸留塔の圧力制御方法である。ここで除去される重質物とは、C5留分よりも高沸のものをいい、主にC10炭素数10留分である。蒸留設備の構成としては、例えば、棚段を備えた竪型の蒸留塔の塔底に1.5MPaGの蒸気を加熱源としたリボイラーを備え、塔頂にはコンデンサーを備えた蒸留塔などが用いられる。蒸留塔は単独でもよいし、複数の蒸留塔を並列に構成したものでもよい。C5留分から前記重質物を除去する蒸留の条件は、原料であるC5留分の供給量や設備の仕様等に応じて適宜選択することができるが、例えば、塔底温度は150~170°C、塔頂圧力は0.01~0.1MPaG、還流比は0.01~1程度が好ましい。本発明では、この蒸留塔の圧力の制御を、ナフサ分解生成物の処理設備中に存在する、C5以上の炭化水素を含まないガス圧力制御ガスにより行う。この圧力制御ガスは、前記のナフサ分解生成物の処理設備中のいずれの場所で排出されるガスでもよいが、C5以上の炭化水素を含まないガスである必要があるので、炭素数4以下の炭化水素を扱う設備から発生するものを用いることが好ましい。ここで、処理設備中に存在するC5以上の炭化水素を含まないガスとしては、具体的には処理設備中に存在していて、さらにC4以下の炭化水素を含むガスが好ましく、例えば、上記重質物が除去されたC5留分から低沸物を除去するための蒸留装置から分離されるオフガス等がより好ましく用いられる。かくして重質物が除去されたC5留分は、この後、必要に応じ上記低沸物などが除去された後、該C5留分に含まれる有用物質の分離精製工程に供され、炭素数5の炭化水素製品の製造が行われる。次に、第1図を用いて本発明についてより具体的に説明する。第1図は、本発明の蒸留塔の圧力制御方法の実施の形態を説明する系統図である。第1図中の総ての装置類は、ナフサ分解生成物の処理設備の一部を構成するものである。[分解系1]分解系1では、ナフサ分解炉内にナフサと該ナフサの希釈用の蒸気とが導入され、ナフサが熱分解される。[急冷系2]上記分解系1で生成されたナフサ分解生成物は、急冷系2に導入され、重質油及び分解ガソリンの分離除去が行われる。分離された分解ガソリンは、後述する前留系10に供給される。これら分解ガソリン及び重質油の分離後のガスは、次の圧縮系3に供給される。[圧縮系3]上記急冷系2から流出されたガスは、圧縮系3に供給され、ガス圧縮機で圧縮されると共に、必要に応じてその一部又は全部が苛性ソーダ等で洗浄され、さらに圧縮により発生した凝縮水が分離される。[深冷系4]上記圧縮系3から流出された圧縮ガスは、深冷系4に導入されて冷却され、水素が分離される。[低温精製系5]上記深冷系4から流出された圧縮ガスは、低温精製系5に導入され、メタン、エチレン及びエタンが分留される。[高温精製系6]上記低温精製系5でメタン、エチレン及びエタンが分留除去された後の留分は、高温精製系6に導入され、プロピレン、プロパン、ブタン及びブタジエンが分留される。この高温精製系6でプロピレン、プロパン、ブタン及びブタジエンが分留された後の留分は、上記急冷系2から流出された分解ガソリンと共に、後述する前留系10に供給される。[前留系10]上記急冷系2から流出される分解ガソリンはC9以上の炭化水素を含んでおり、上記高温精製系6から流出される留分はC6以上C8以下の炭化水素を含んでいる。これら分解ガソリンと高温精製系6からの留分との混合物は、脱C5塔11に導入され、C5留分が分離されて塔頂から流出される。C5留分が分離された残りの留分は、塔底から流出され、図示しない水添系、中間蒸留系、脱アルキル系、精製系等に供給されて、ベンゼン、粗ベンゼン、タール、メタン、エタン、ラフィネート等が製造される。この脱C5塔11の塔頂から流出されるC5留分以下、粗C5留分と称することがある。の組成の一例は以下の通りである。<粗C5留分の組成>C5留分:65~90volC4以下の留分:0~10volC6以上の留分:0~30volこの粗C5留分は、第1の蒸留塔12に導入され、重質物を除去する蒸留工程第1の蒸留工程が行われる。なお、この重質物を除去する蒸留工程の詳細は、上述した通りである。この第1の蒸留塔12の塔頂から流出される、重質物が分離された粗C5留分は、第2の蒸留塔13に導入され、C4以下の低沸物を除去する蒸留工程第2の蒸留工程が行われる。このC4以下の低沸物は塔頂から流出され、C5留分以下、精製C5留分と称することがある。が塔底から流出される。この精製C5留分は、イソプレン、ピペリレン、ジシクロペンタジエン、アミレンなどの有用成分を含んでいる。これらの有用成分は、図示しない後工程で分離精製される。なお、上記の第1の蒸留塔12の圧力制御ガスとしては、このナフサ分解生成物の処理設備中に存在するC5以上の炭化水素を含まないガスを使用する。例えば、第2の蒸留塔13の塔頂から流出されるC4以下の低沸物、深冷系4から流出される水素、低温精製系5から流出されるメタン、エチレン及びエタン、高温精製系6から流出されるプロピレン、プロパン、ブタン及びブタジエン、水添系よりも下流側で生成されるC5以上の炭化水素を含まないガスメタンやエタン等などの中から選択される1種以上を用いることができる。このように、圧力制御ガスとしてナフサ分解生成物の処理設備中に存在するガスを使用することにより、該処理設備の外部からの外部ガスを使用する場合と比べてコストを低減することができる。また、処理設備内に上記ナフサ分解生成物の処理設備中に存在するガスを入れても、処理設備全体で窒素が危険濃度以下に保持されるので、リサイクルにより窒素ガスがナフサ分解炉で危険濃度以上の酸化窒素となることを防止することができ、安全である。なお、圧力制御ガスとして第2の蒸留塔13の塔頂から流出される低沸物を使用する場合は、この処理設備内で製造された上記炭化水素製品を使用する場合と比べてより安価である。以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。[実施例1]第1図のナフサ分解生成物の処理設備において、第1の蒸留塔12の圧力制御ガスとして、第2の蒸留塔13の塔頂から流出されるC4以下の低沸物を使用して運転を行った。なお、第1の蒸留塔12の運転条件は以下の通りとした。また、脱C5塔11の塔頂から流出される粗C5留分の組成は表1の通りであった。粗C5留分の供給量:10t/h塔底温度:160°C塔頂圧力:0.04MPaG還流比:0.033運転開始から1週間後、第1の蒸留塔12の塔頂から流出する塔頂留分の組成を分析した。その結果を表2に示す。表2に示す通り、第1の蒸留塔12の塔頂留分は、C5以下の炭化水素を主体としたものとなった。このように実施例1によると、外部からガスを導入することなく、安価で安全に蒸留塔の運転を行うことができることが確認された。[比較例1]実施例1と同様のナフサ分解生成物の処理設備のスタティックシミュレーションモデルを、コンピューター上に構築した。そして、第1の蒸留塔12の圧力制御ガスとして、上記表1の粗C5留分100重量部に対して0.1重量部のN2を添加したものを使用すること以外は、実施例1と同様に運転する条件として、第1の蒸留塔12の塔頂留分の組成を計算した。その結果を表3に示す。表3に示す通り、第1の蒸留塔12の塔頂留分の組成の0.09wtが窒素となった。AIChEの検討では、該処理設備の深冷分離装置内にppmオーダーの窒素が蓄積すると、爆発の危険が生じるとされている非特許文献3。このため、この第1の蒸留塔12の塔頂留分がナフサを熱分解分離する系すなわち、第1図の圧縮系3に回収されリサイクルガスとして危険濃度以上の窒素が混入する場合に、危険濃度の酸化窒素が蓄積する可能性があることがわかった。