"基材K表面上に下塗り層Dを形成するための、少なくともエチレン性不飽和基を有する化合物Aと光重合開始剤Bとが含まれる、活性エネルギー線硬化型下塗り液Cであって、前記エチレン性不飽和基を有する化合物Aとして、活性エネルギー線硬化型下塗り液C中に少なくともフェノキシエチルメタアクリレートA1が40~80質量、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2が5~30質量、及び2官能ウレタンメタアクリレートA3が1~15質量含まれていることを特徴とする下塗り液。エチレン性不飽和基を有する化合物Aとして、活性エネルギー線硬化型下塗り液C中に少なくとも、フェノキシエチルメタアクリレートA1が40~80質量、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2が5~30質量、及び2官能ウレタンメタアクリレートA3が1~15質量と、光重合開始剤Bとが含まれる活性エネルギー線硬化型下塗り液Cを基材Kの表面に塗布後、活性エネルギー線を照射して該下塗り液Cを硬化して形成された下塗り層。前記基材Kが非吸収性基材であることを特徴とする請求項2に記載の下塗り層。前記下塗り層Dの厚みが1~30μmであることを特徴とする請求項2又は3に記載の下塗り層。前記下塗り層Dのガラス転移温度Tg剛体振り子型物性試験機を用いた対数減衰率の測定に基づくガラス転移温度が0~10°Cであることを特徴とする請求項2から4のいずれかに記載の下塗り層。前記下塗り層Dの粘着性の最大値表面性試験器タック性ロールユニット、新東科学株製、トライボギアTYPE:HEIDON登録商標-14DRを使用して、温度25°C、相対湿度50、ロールの移動速度50mm/min、荷重750gfでの測定条件における、1回の測定での転がり抵抗の振れ幅の最大値が、50~80gfであることを特徴とする請求項2から5のいずれかに記載の下塗り層。前記下塗り層Dと基材K間の剥離強度が15kgf/cm2以上であることを特徴とする請求項2から6のいずれかに記載の下塗り層。エチレン性不飽和基を有する化合物Aとして、少なくとも、活性エネルギー線硬化型下塗り液C中でフェノキシエチルメタアクリレートA1が40~80質量、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2が5~30質量、及び2官能ウレタンメタアクリレートA3が1~15質量と、光重合開始剤Bとが含まれる活性エネルギー線硬化型下塗り液Cを基材Kの表面上に塗布する工程工程1と、前記基材K表面上に塗布された下塗り液Cに活性エネルギー線を照射して硬化させて下塗り層Dを形成する工程工程2と、前記下塗り層D上に、少なくともエチレン性不飽和基を有する化合物EとしてターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートFが20~40質量、着色剤Hが0.5~25質量、及び光重合開始剤Gが含まれる活性エネルギー線硬化型着色液Iをインクジェット方式により付着させる工程工程3と、前記下塗り層D上に付着された活性エネルギー線硬化型着色液Iに活性エネルギー線を照射して硬化させることにより着色層Jを形成する工程工程4、を含むことを特徴とするインクジェット記録方法。本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、普通紙等の吸水性基材、又はプラスチック等の非吸水性基材を記録媒体として使用する場合に、該基材に対して密着性が高く、また該基材と着色層の双方に対して密着性の高い下塗り層を形成可能な、活性エネルギー線照射により硬化される下塗り液、該下塗り液により基材表面に形成される下塗り層、及び該下塗り層上に活性エネルギー線硬化型着色液をインクジェット方式により付着して硬化させるインクジェット記録方法を提供することを目的とする。本発明は上記従来技術の問題点を鑑み、下塗り液中のエチレン性不飽和基を有する化合物として、少なくともフェノキシエチルメタアクリレート、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレート、及び2官能ウレタンメタアクリレートからなる3成分を一定割合使用することにより、予め表面処理することなく、基材として非吸収性基材を使用した場合にも基材と下塗り層との密着性剥離強度の向上が可能になり、また、着色液としてターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートを含む活性エネルギー線硬化型着色液を使用することにより、下塗り層上に形成した着色層の密着性剥離強度を向上させることが可能になることを見出し、本発明を完成させるに至った。即ち、本発明は、以下の1~8に記載する発明を要旨とする。1基材K表面上に下塗り層Dを形成するための、少なくともエチレン性不飽和基を有する化合物Aと光重合開始剤Bとが含まれる、活性エネルギー線硬化型下塗り液Cであって、前記エチレン性不飽和基を有する化合物Aとして、活性エネルギー線硬化型下塗り液C中に少なくともフェノキシエチルメタアクリレートA1が40~80質量、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2が5~30質量、及び2官能ウレタンメタアクリレートA3が1~15質量含まれていることを特徴とする下塗り液以下、第1の態様ということがある。2エチレン性不飽和基を有する化合物Aとして、活性エネルギー線硬化型下塗り液C中に少なくとも、フェノキシエチルメタアクリレートA1が40~80質量、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2が5~30質量、及び2官能ウレタンメタアクリレートA3が1~15質量と、光重合開始剤Bとが含まれる活性エネルギー線硬化型下塗り液Cを基材Kの表面に塗布後、活性エネルギー線を照射して該下塗り液Cを硬化して形成された下塗り層以下、第2の態様ということがある。3前記基材Kが非吸収性基材であることを特徴とする前記2に記載の下塗り層。4前記下塗り層Dの厚みが1~30μmであることを特徴とする前記2又は3に記載の下塗り層。5前記下塗り層Dのガラス転移温度Tg剛体振り子型物性試験機を用いた対数減衰率の測定に基づくガラス転移温度が0~10°Cであることを特徴とする前記2から4のいずれかに記載の下塗り層。6前記下塗り層Dの粘着性の最大値表面性試験器タック性ロールユニット、新東科学株製、トライボギアTYPE:HEIDON登録商標-14DRを使用して、温度25°C、相対湿度50、ロールの移動速度50mm/min、荷重750gfでの測定条件における、1回の測定での転がり抵抗の振れ幅の最大値が、50~80gfであることを特徴とする前記2から5のいずれかに記載の下塗り層。7前記下塗り層Dと基材K間の剥離強度が15kgf/cm2以上であることを特徴とする前記2から6のいずれかに記載の下塗り層。8エチレン性不飽和基を有する化合物Aとして、活性エネルギー線硬化型下塗り液C中に少なくとも、フェノキシエチルメタアクリレートA1が40~80質量、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2が5~30質量、及び2官能ウレタンメタアクリレートA3が1~15質量と、光重合開始剤Bとが含まる活性エネルギー線硬化型下塗り液Cを基材Kの表面上に塗布する工程工程1と、前記基材K表面上に塗布された下塗り液Cに活性エネルギー線を照射して硬化させて下塗り層Dを形成する工程工程2と、前記下塗り層D上に、少なくともエチレン性不飽和基を有する化合物EとしてターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートFが20~40質量、着色剤Hが0.5~25質量、及び光重合開始剤Gが含まれる活性エネルギー線硬化型着色液Iをインクジェット方式により付着させる工程工程3と、前記下塗り層D上に付着された活性エネルギー線硬化型着色液Iに活性エネルギー線を照射して硬化させることにより着色層Jを形成する工程工程4、を含むことを特徴とするインクジェット記録方法以下、第3の態様ということがある。尚、本明細書におけるメタアクリルの記載は、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。活性エネルギー線を照射して下塗り液C第1の態様を硬化して形成された下塗り層D第2の態様は、塗布する基材Kの前処理が不要であり、かつ熱硬化性プラスチック、熱可塑性プラスチック、セラミック、ガラス、金属板等の非吸収性基材、特に好ましくはポリカーボネート板、ポリスチレン板等、及び吸収性基材との密着性にも優れるものである。また、該下塗り層D第2の態様上に活性エネルギー線硬化型着色液Iを付着後、該着色液Iを活性エネルギー線を照射して硬化するインクジェット記録方法第3の態様により形成された着色層Jは、更に下塗り層Dとの密着性にも優れている。以下に、1下塗り液第1の態様、2下塗り層第2の態様、及び3インクジェット記録方法第3の態様について説明する。1下塗り液第1の態様本発明の第1の態様の下塗り液は、基材表面上に下塗り層Dを形成するための、少なくともエチレン性不飽和基を有する化合物Aと光重合開始剤Bとが含まれる、活性エネルギー線硬化型下塗り液Cであって、前記エチレン性不飽和基を有する化合物Aとして、下塗り液C中に少なくともフェノキシエチルメタアクリレートA1が40~80質量、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2が5~30質量、及び2官能ウレタンメタアクリレートA3が1~15質量含まれていることを特徴とする。1エチレン性不飽和基を有する化合物A本発明の下塗り液Cにおける、活性エネルギー線で硬化するエチレン性不飽和基を有する化合物Aとして、前記効果を発揮するためには、少なくともフェノキシエチルメタアクリレートA1、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2、及び2官能ウレタンメタアクリレートA3が必須成分として一定割合含まれる必要がある。イフェノキシエチルメタアクリレートA1フェノキシエチルメタアクリレートA1は、下塗り液Cの成分として、硬化後にポリカーボネート等の非吸収性基材との密着性を向上する作用を発揮する。かかる観点からフェノキシエチルメタアクリレートA1は、下塗り液C中に40~80質量、好ましくは50~70質量含有されるように配合する。尚、本願のフェノキシエチルメタアクリレートA1は、フェノキシエチルメタアクリレート、置換基を含有するフェノキシエチルメタアクリレートおよび、それぞれ変性されたものでもよい。具体的にはフェノキシエチルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレートEO変性、フェノキシエチルメタアクリレートPO変性、メチルフェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルメタアクリレート、2-テトラブロモフェノキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシフェノキシエチルメタアクリレート、メチルフェノキシエチルメタアクリレート等が挙げられる。ここで、EO変性とはエチレンオキシドユニット-CH2-CH2-O-のブロック構造を有することを意味し、PO変性とはプロピレンオキシドユニット-CH2-CHCH3-O-のブロック構造を有することを意味する。ロターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2は、単官能モノマーであり、下塗り液Cの成分として硬化後に着色層Jとの密着性を向上する作用を有する。かかる観点からターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2は、下塗り液C中に5~30質量、好ましくは10~20質量含有されるように配合する。ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2としては、ターシャリーブチルシクロヘキシルアクリレート及びターシャリーブチルシクロヘキシルメタクリレートが例示できる。また、シクロヘキシル基に結合しているターシャリーブチル基は、特に制限されるものではないが製造の容易性から4-ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートを使用することが好ましい。ハ2官能ウレタンメタアクリレートA32官能ウレタンメタアクリレートA3は、下塗り液Cの成分として硬化後に粘着性タック性を発揮して密着性を向上する作用を有するオリゴマーである。本発明に用いられる2官能ウレタンメタアクリレートA3は、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、メタアクリル酸でエステル化することにより得ることができる。2官能ウレタンメタアクリレートA3は下塗り液C中で1~15質量、好ましくは3~10質量の割合となるように配合される。市場で入手し得る2官能ウレタンメタアクリレートA3としては、例えば、日本合成化学株製、商品名紫光UV-3000B、以下、冠名を省略する。UV-3200B、UV-3201B、UV-3310B、UV-3500B、UV-3520TL、UV-3700B、UV-6100B、UV-6640B、UV-2000B、UV-2250EA、UV-2750B;東亞合成株製商品名アロニックスM1100、以下、冠名を省略する。M1200、M1600;ダイセルサイテック株製商品名EBECRYL230、以下、冠名を省略する。244、245、270、284、285、8401、9270;巴工業株販売、サートマー社製商品名CN961E75、CN961H81、CN962、CN963、CN963A80、CN963B80、CN963E75、CN963E80、CN963J85、CN964、CN964E75、CN964A85、CN965、CN965A80、CN966A80、CN966J75、CN968、CN980、CN981、CN982、CN983、CN996、CN9001、CN9002、CN9788、CN9893等が挙げられる。ニ他のエチレン性不飽和基を有する化合物本発明の下塗り液Cの目的と効果を損なわない範囲で他のエチレン性不飽和基を有する化合物として、通常使用されているヘテロ環式モノマー、芳香族単官能アクリレートおよび多官能アクリレート等を配合して使用することができる。ヘテロ環式モノマーは、例えば、アクリロイルモルフォリン、N-ビニルカプロラクタム、N-ビニルピロリドン、N-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等を使用することができる。ヘテロ環式モノマーは、一般に合成樹脂板等の基材に対して侵食性を有し、基材と下塗り層の密着性を向上させることができる。芳香族単官能メタアクリレートとしては、例えばベンジルメタアクリレート、トリロキシエチルメタアクリレート、トリロキシプロピルメタアクリレート、トリロキシポリエチレングリコールメタアクリレート、トリロキシポリプロピレングリコールメタアクリレート、メタアクリロイロキシエチルフタレート、メタアクリロイロキシエチルヒドロキシフタレート、メタアクリロイロキシプロピルフタレート、ベンジルメタアクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエートメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、p-クミルフェニルメタアクリレート、o-フェニルフェニルメタアクリレート、m-フェニルフェニルメタアクリレート、p-フェニルフェニルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート等が例示されるが、特にベンジルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレートが好ましい。芳香族単官能メタアクリレートは、各種基材への密着性に優れるが、硬化性には劣る。多官能メタアクリレートとしては、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート等が例示される。多官能メタアクリレートは、優れた硬化性と塗膜強度が得られるが、ヘテロ環式モノマーや芳香族単官能メタアクリレートに比べると、硬化時の収縮が比較的大きいために配合量を多くすると基材への密着性を阻害するおそれがある。他のエチレン性不飽和基を有する化合物の具体例としては、トリデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート等を配合することができる。このような成分は、硬化後の塗膜が低Tgのため、粘着性タック性が向上して、密着性が向上し、低温高温でも塗膜が柔らかいため割れを抑制する。前記他のエチレン性不飽和基を有する化合物からなる成分は、下塗り液C中で20質量以下の割合となるように配合することが望ましく、20質量を超えて配合された場合、硬化が不十分となるおそれがある。2光重合開始剤B本発明の下塗り液Cに使用する光重合開始剤Bは、電子線、紫外線、赤外線等の活性エネルギー線を受けて、ラジカルを発生し、前記エチレン性不飽和基を有する化合物Aの重合の開始剤となりうるものである。光重合開始剤Bとしては、アシルフォスフィンオキサイド、α-ヒドロキシケトン、α-アミノアルキルフェノン、オキシムエステル等を使用することができる。前記アシルフォスフィンオキサイドとして、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニル-フォスフィンオキサイドイルガキュア819、BASF社製、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチル-ペンチルフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドLucirinTPO:BASF社製等が例示されるが、これらの中でも2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドLucirinTPO:BASF社製が好ましい。α-ヒドロキシケトンとしては、1-ヒドロキシ-シクロヘキシルーフェニルケトンイルガキュア184、BASF社製、2-ヒドロキシ-1-{4-4-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル-ベンジル-フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オンイルガキュア127、BASF社製、2-ヒドロキシ-4′-ヒドロキシエトキシ-2-メチルプロピオフェノンイルガキュア2959、BASF社製、オリゴ[2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-1-メチルビニルフェニル]プロパノン]Esacureone、ランベルティ社製が好ましい。α-アミノアルキルフェノンとしては、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1イルガキュア369、BASF社製が好ましい。また、オキシムエステルとしては、1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-o-アセチルオキシムが好ましい。前記LucirinTPOやイルガキュア127は、酸素による重合阻害を発生し難いために、インクジェットで形成された薄膜の硬化性に特に有効である。また、前記LucirinTPO、イルガキュア2959、及びイルガキュア369は内部硬化性に優れているため、厚膜での硬化性に特に有効である。LucirinTPOは活性エネルギー線に高感度で反応する。また、アシルフォスフィンオキサイド、α-ヒドロキシケトン、及びα-アミノアルキルフェノンを組み合わせて使用することにより、薄膜と厚膜両方の硬化性に優れ、活性エネルギー線に対して高感度かつ短時間で硬化させることができる。光重合開始剤Bの添加量は、下塗り液C中で好ましくは3~15質量であり、この範囲外であると硬化性が低下するおそれがある。3添加剤本発明の下塗り液Cには、前記成分の他に可塑剤、非感放射性樹脂、溶剤、表面調整剤、紫外線防止剤、光安定化剤、酸化防止剤等の種々の添加剤を配合することができる。また、色材を入れてもよく、有機無機微粒子、シリカ、酸化チタン、アルミペースト、マイカ、パール顔料なども配合することができる。4下塗り液Cの調製本発明の下塗り液Cは、前記配合成分をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより調製される。下塗り液Cは、孔径3μm以下、更には1μm以下のフィルターにて濾過することが好ましい。2下塗り層第2の態様本発明の下塗り層D第2の態様は、エチレン性不飽和基を有する化合物Aとして、活性エネルギー線硬化型下塗り液C中に少なくとも、フェノキシエチルメタアクリレートA1が40~80質量、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2が5~30質量、及び2官能ウレタンメタアクリレートA3が1~15質量と、光重合開始剤Bとが含まれる活性エネルギー線硬化型下塗り液Cを基材Kの表面に塗布後、活性エネルギー線を照射して該下塗り液Cを硬化して形成されることを特徴とする。基材K上に着色層Jを形成する際に、該着色層Jとの密着性を向上するために、予め基材K上にプライマー層としての下塗り層Dを形成しておき、該下塗り層D上に着色層Jを形成することにより密着性の向上を図るものである。1エチレン性不飽和基を有する化合物A、光重合開始剤Bエチレン性不飽和基を有する化合物Aと、光重合開始剤Bについては、前記下塗り液第1の態様における記載内容と同様である。2基材K下塗り層Dを形成する際に使用する基材Kは特に制限されるものではなく、吸収性基材又は非吸収性基材のいずれも使用することができる。吸収性基材としては、更紙、中質紙、上質紙、非塗工紙、コート紙、アート紙等が例示でき、非吸収性基材としてはポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ABS系樹脂、セラミック、ガラス、ポリエステル系樹脂、ポリプロピレン系合成紙、塩化ビニル樹脂、ポリイミド樹脂、金属、金属箔コート紙等が例示できるがこれらに限定されるものはない。3下塗り液Cの塗布方法基材Kへの下塗り液Cの塗布方法は特に限定されないが、実用上、スプレー法、コーター法、インクジェット法、グラビア法、フレキソ法等から選択された1種または2種以上であることが好ましい。また、抄紙機に付属の塗工装置で下塗り液Cを塗布することもできる。これらの塗布方法の中でもインクジェット法が下塗り液Cを必要量のみ塗布できるためより好ましい。下塗り液Cの基材Kへの塗布方法として上記方法等を採用後、活性エネルギー線の照射で硬化させることにより、基材K上の着色液Iを付着又は印刷等する箇所に予め下塗り層Dを形成することが可能になる。4活性エネルギー線照射による下塗り液Cの硬化活性エネルギー線の光源としては、紫外線を照射する場合には、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、紫外線レーザー、および太陽光を使用することができる。電子線により硬化させる場合には、通常300eV以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、1~5Mradの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。5下塗り層D下塗り液Cを基材Kの表面に塗布後、活性エネルギー線を照射して該下塗り液Cを硬化して形成される下塗り層Dは、下記iからiiiに記載する形状、物性を有することが好ましい。i下塗り層Dの厚み下塗り層Dの厚みは1~30μmであることが好ましく、5~30μmであることがより好ましい。下塗り層Dの厚みが1μm未満では下塗り層Dの上に形成される着色層Jの基材Kへの密着性が不十分になるおそれがある。一方、厚みが30μmを超えると下塗り層Dにひび割れや傷が入るおそれがある。該下塗り層Dの厚みは、基材K上への下塗り液Cの塗布量により制御することができる。ii下塗り層Dのガラス転移温度Tg下塗り層Dのガラス転移温度Tg剛体振り子型物性試験機を用いた対数減衰率の測定に基づくガラス転移温度は、0~10°Cであることが好ましい。下塗り層Dのガラス転移温度Tgが0°C未満では下塗り層Dの粘着性タック性が強すぎて下塗り層Dを形成した基材の扱いが困難となり、一方、10°Cを超えると低温試験での密着性が不十分となる。下塗り層Dのガラス転移温度Tgは使用するエチレン性不飽和基を有する化合物A等の選択により、調整することが可能である。尚、上記ガラス転移温度Tgは、剛体振り子型物性試験機株エーアンドデイ製、型式:RPT-3000Wにより、-30~30°Cまでの対数減衰率を測定し、得られた測定値からガラス転移温度を算出することができる。iii下塗り層Dの粘着性タック性下塗り層Dの粘着性タック性は、表面性試験器タック性ロールユニット、新東科学株製、トライボギアTYPE:HEIDON登録商標-14DR、ロールの材質:SUS303製で、ロールサイズ:直径3cm、幅2cm、ロール表面はハードクロムメッキ加工されている。を使用して転がり抵抗の振れ幅の最大値により評価することができる。測定条件を、温度25°C、相対湿度50、ロールの移動速度50mm/min、荷重750gfとした場合の粘着性の最大値1回の測定での転がり抵抗の振れ幅の最大値は、50~80gfであることが好ましい。粘着性測定値の最大値が50gf未満では下塗り層Dの上に形成される着色層Jと基材Kとの密着性が不十分になるという不都合を生じるおそれがあり、一方、80gfを超えると粘着性タック性が高くなり下塗り層Dを形成した基材Kの扱いが困難となるおそれがある。尚、下塗り層Dの粘着性は使用するエチレン性不飽和基を有する化合物A等の選択により調整することが可能である。iv下塗り層Dの剥離強度基材Kと下塗り層D間の剥離強度は、引張りせん断強度の測定値から、張り合わされた面積で除して得られる剥離強度の測定により、評価することが可能である。基材Kと下塗り層Dの剥離強度は、15kgf/cm2以上であることが好ましい。該剥離強度が15kgf/cm2で未満では、着色層Jと下塗り層Dの密着性が不十分になるおそれがある。基材Kと下塗り層Dの剥離強度は、15kgf/cm2以上が好ましい。該剥離強度が15kgf/cm2で未満では、着色層Jと下塗り層Dの密着性が不十分になるおそれがある。尚、該剥離強度は一般に70kgf/cm2以下が好ましい、該剥離強度が70kgf/cm2を超えると下塗り層Dを形成した基材Kの扱いが困難となるおそれがある。下塗り層Dの剥離強度は使用するエチレン性不飽和基を有する化合物A等の選択により、調整することが可能である。3インクジェット記録方法第3の態様本発明の第3の態様であるインクジェット記録方法は、エチレン性不飽和基を有する化合物Aとして、活性エネルギー線硬化型下塗り液C中に少なくとも、フェノキシエチルメタアクリレートA1が40~80質量、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2が5~30質量、及び2官能ウレタンメタアクリレートA3が1~15質量と、光重合開始剤Bとが含まる活性エネルギー線硬化型下塗り液Cを基材Kの表面上に塗布する工程工程1と、前記基材K表面上に塗布された下塗り液Cに活性エネルギー線を照射して硬化させて下塗り層Dを形成する工程工程2と、前記下塗り層D上に、少なくともエチレン性不飽和基を有する化合物EとしてターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートFが20~40質量、着色剤Hが0.5~25質量、及び光重合開始剤Gが含まれる活性エネルギー線硬化型着色液Iをインクジェット方式により付着させる工程工程3と、前記下塗り層D上に付着された活性エネルギー線硬化型着色液Iに活性エネルギー線を照射して硬化させることにより着色層Jを形成する工程工程4、を含むことを特徴とする。以下に各工程について説明する。1工程1工程1は、下塗り液Cを基材Kの表面上に塗布する工程である。下塗り液Cは第1の態様に、また基材Kと塗布は、前記下塗り層D第2の態様における記載内容と同様である。2工程2工程2は、下塗り液Cを硬化して下塗り層Dを形成する工程である。基材K上に塗布された下塗り液Cは、前記下塗り層D第2の態様に記載した活性エネルギー線照射により硬化されて下塗り層Dが形成される。該下塗り層Dの形状、物性等は前記下塗り層D第2の態様における記載内容と同様である。3工程3、及び工程4工程3は、着色液Iを下塗り層D上に付着する工程であり、工程4は、該付着させた着色液Iに活性エネルギー線を照射して硬化する工程である。上記工程1~4により、基材K上に、ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートFを含む下塗り層Dと着色層Jを積層した積層体が得られる。尚、上記工程1~4では、下塗り層Dを硬化させた後に着色液Iを塗布後、該着色液Iを硬化させているが、基材Kの表面上に下塗り液Cを塗布後、更に着色液Iを塗布し、その後に下塗り層Dと下塗り層Dに活性エネルギー線を照射して両層を硬化して積層体を得ることも可能である。前記着色層Iにじみが発生することがあるため、下塗り層Dを硬化させた後に、着色層Iを塗布後、該着色液Iを硬化させる工程が好ましい。3-1着色液I着色液Iは、少なくともエチレン性不飽和基を有する化合物EとしてターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートF20~40質量、着色剤H0.5~25質量、及び光重合開始剤Gを含有する活性エネルギー線硬化型着色液である。イエチレン性不飽和基を有する化合物E本発明の工程3において、エチレン性不飽和基を有する化合物Eとして、着色液I中に単官能基であるターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートFを20~40質量含有されるように配合する。該ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートFは、下塗り液Cで使用するターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2と同様のものを使用することが好ましい。該ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートFは、下塗り液C中に10~20質量含まれるターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートA2の硬化物である下塗り層Dと親和性を発揮して、着色層Jの定着性及び密着性を向上する。エチレン性不飽和基を有する化合物E中のターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレートF以外の化合物として、前記下塗り液Cに示したエチレン性不飽和基を有する化合物を使用することができる。着色液I中のエチレン性不飽和基を有する化合物Eの含有量は、下塗り層D上での定着性、密着性等を考慮すると20~40質量が好ましい。また、エチレン性不飽和基を含有する化合物Eには、単官能モノマーが60~95質量含まれていることが好ましい。ロ着色剤H着色剤Hとしては、従来の油性インク組成物に通常用いられている無機顔料又は有機顔料を用いることができる。顔料としてはカーボンブラック、カドミウムレッド、モリブデンレッド、クロムイエロー、カドミウムイエロー、チタンイエロー、酸化チタン、パール系顔料、アルミニウム、酸化クロム、ビリジアン、チタンコバルトグリーン、ウルトラマリンブルー、プルシアンブルー、コバルトブルー、ジケトピロロピロール、アンスラキノン、ベンズイミダゾロン、アンスラピリミジン、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、イソインドリノン系顔料、ジオキサジン系顔料、スレン系顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キノフタロン系顔料、金属錯体顔料等を用いることができる。尚、下塗り層D上に着色層Jを形成する場合には、必要によりイエロー着色液、シアン着色液、マゼンタ着色液、ブラック着色液等から選択される1~4種類の着色液Iを調製する。顔料一次粒子の体積平均粒径は、レーザー散乱による測定値で平均粒径50~200nmの微細顔料であることが好ましい。顔料の平均粒径が50nm未満の場合は、粒径が小さくなることによる耐光性の低下が生じ、200nmを超える場合は、分散の安定維持が困難になり、顔料の沈澱が生じやすくなる。また、着色剤Hの含有量は、着色液I中に好ましくは0.5~25質量、より好ましくは0.5~15質量、更に好ましくは1~10質量である。ハ光重合開始剤G着色液Hを活性エネルギー線照射で硬化させるために添加される光重合開始剤Gは、特に限定されるものではなく、下塗り液Cの成分として例示した光重合開始剤等が使用可能である。光重合開始剤Gは、着色液I中に3~15質量程度含まれることが好ましい。ニ分散剤着色液Iに分散剤を配合することが好ましく、該分散剤としては、高分子分散剤の使用が好ましい。高分子分散剤としては、例えば、主鎖がポリエステル系、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリアミン系、ポリカプロラクトン系等からなり、側鎖としてアミノ基、カルボキシル基、スルホン基、ヒドロキシル基等の極性基を有するもので、好ましくはポリエステル系分散剤であり、例えばルブリゾール社製SOLSPERSE32000、SOLSPERSE20000、SOLSPERSE24000、SOLSPERSE71000、味の素ファインテクノ社製アジスパーPB821、アジスパーPB822等が例示される。分散剤の添加量は着色剤H1質量部に対して固形分として好ましくは0.03~5質量部、より好ましくは0.05~5質量部の割合であり、着色液I中に好ましくは0.1~30質量、より好ましくは0.5~20質量である。ホその他の成分着色液Iに配合されるその他の成分としては、可塑剤、表面調整剤、紫外線防止剤、光安定化剤、酸化防止剤等の種々の添加剤を含有することができる。ヘ着色液Iの調製本発明で使用する着色液Iは、例えば着色剤Hをエチレン性不飽和基を有する化合物E、及び分散剤と共にサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散して分散液を得、該分散液に、エチレン性不飽和基を有する化合物E、光重合開始剤Gを添加し、均一混合することにより調製することができる。あらかじめ着色剤Hが高濃度の濃縮液を作成しておいてエチレン性不飽和基を有する化合物Eで希釈することが好ましく、通常の分散機による分散においても充分な分散が可能であり、安定性に優れた着色液Iが調製される。着色液Iは、孔径3μm以下、さらには1μm以下のフィルターにて濾過することが好ましい。着色液Iの塗布には、吐出性を向上するため、プリンタヘッドに加温機構が組み込まれたインクジェット記録方式のプリンタを使用することができる。その場合、40°Cでの粘度が5~20mPasとすることが好ましい。粘度が5mPas未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、20mPasを超える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、吐出できなくなるおそれがある。3-2着色液Iの下塗り層D上への付着、硬化本発明のイエロー、シアン、マゼンタ、及びブラックの顔料等がそれぞれ配合された着色液Iは、インクジェット記録方式用プリンタのプリンタヘッドに供給し、このプリンタヘッドから下塗り層D上にそれぞれ吐出される。その具体例としては、先ずイエロー着色液を下塗り層D上にインクジェット記録方式により付着させ、次に活性エネルギー線を照射して該付着したイエロー着色液を速やかに硬化させる。次にシアン着色液を同様に下塗り層D上に付着させて、次に活性エネルギー線を照射して該付着したシアン着色液を硬化させ、その後、同様にマゼンタ着色液、ブラック着色液の順でそれぞれ下塗り層Dに付着後、活性エネルギー線を照射してこれらの着色液を硬化させる。なお、活性エネルギー線の光源としては、紫外線を照射する場合には、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、紫外線レーザー、および太陽光を使用することができる。電子線により硬化させる場合には、通常300eV以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、1~5Mradの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。以下、本発明について以下の実施例、比較例により具体的に説明する。実施例1~7において、下塗り液を基材上に塗布後硬化させて形成した下塗り層の評価を行った。実施例8~10において、上記下塗り層上に更に着色層を形成して、該下塗り層と着色層間の密着性の評価を行った。以下に、本実施例、比較例で使用した、原材料、及び評価方法について記載する。1原材料1-1基材非吸収性基材であるポリカーボネート樹脂シート旭硝子株製、商品名:レキサンフィルム8010を使用した。1-2下塗り液の成分イエチレン性不飽和基を有する成分iフェノキシエチルメタアクリレート成分A1フェノキシエチルメタアクリレート成分として、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートEO変性を使用した。iiターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレート成分A2ターシャリーブチルシクロヘキシルメタアクリレート成分として、4-ターシャリーブチルシクロヘキシルアクリレートを使用した。iii2官能ウレタンアクリレート成分A32官能ウレタンアクリレート成分として、サートマージャパン株製、CN966J752官能脂肪族ウレタンアクリレートを使用した。iv他のエチレン性不飽和基を有する成分iv-12-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレートiv-2ラウリルアクリレートロ光重合開始剤光重合開始剤成分として、以下の光重合開始剤1~光重合開始剤3を使用した。i重合開始剤1:2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドii重合開始剤2:1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンiii重合開始剤3:オリゴ[2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-1-メチルビニルフェニル]プロパノン]ハ重合禁止剤重合禁止剤として、フェノチアジンチオジフェニルアミンを使用した。1-3着色液の成分イエチレン性不飽和基を有する成分i4-ターシャリーブチルシクロヘキシルアクリレートiiその他のエチレン性不飽和基を有する成分ii-1フェノキシエチルアクリレートii-2サートマージャパン株製、CN9682官能脂肪族ウレタンアクリレート成分ii-3N-ビニルカプロラクタムロ光重合開始剤光重合開始剤成分として、以下の光重合開始剤1、光重合開始剤2を使用した。i光重合開始剤1:2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドii光重合開始剤2:1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンハ着色剤着色剤としてC.I.ピグメントブルー15:6銅フタロシアニンを使用した。ニ重合禁止剤重合禁止剤として、フェノチアジンチオジフェニルアミンを使用した。ホ分散剤アミン基含有高分子化合物ビックケミー社製、商品名:DisperBYK168を使用した。2評価方法2-1下塗り層の評価イ下塗り層の基材との密着性剥離強度基材上に形成された下塗り層試験片サイズ:1×5cmに、張り合わせ面積が1×2cmとなるようシアノアクリレート系瞬間接着剤東亞合成株製、商品名:アロンアルフア登録商標ハイスピードEXで表面加工されていないABS樹脂製原反サイズ:1×5cmアクリロニトリル-ブタジエンースチレン共重合体シート、タキロン株製と張り合わせる。該瞬間接着剤を硬化させた後に、オートグラフAG-X株島津製作所製にて、張り合わせたABS樹脂製原反部分を引っ張った際の引張り強度を測定し、該測定値を張り合わせ面積で割った値を剥離強度とした。ロガラス転移温度基材上に形成された下塗り層を用いて剛体振り子型物性試験機株エーアンドデイ製、型式:RPT-3000Wにより、-30~30°Cまでの対数減衰率を測定し、得られた測定値からガラス転移温度を算出した。ハ吸水率JISK7209に基づき、50°Cのオーブンで24時間乾燥後、デシケーターで冷却したときの重さW1と、23°Cで相対湿度50の条件下で24時間保管後の重さW2の変化を100分率[W2-W1/W2×100質量]で示した。ニ粘着性最大値下塗り層Dの粘着性タック性は、表面性測定機タック性ロールユニット、新東科学株製、トライボギアTYPE:HEIDON登録商標-14DR、ロールの材質:SUS303製で、ロール表面はハードクロムメッキ加工されている。を用い、該タック性ロールユニットのステンレスロール直径3cm、幅2cm、SUS303製、ロール表面はハードクロムメッキ加工されているの1回の測定における転がり抵抗の振れ幅の最大値粘着性の最大値を表1に示した。尚、測定条件は、温度25°C、相対湿度50、ロールの移動速度50mm/min、荷重750gfとした。ホ総合判定上記評価結果から総合的にみて、実用性の有無を評価した。評価基準は下記の通りである。○:実用上優れた結果を有する場合×:実用上の不都合が存在する場合2-2下塗り層と着色層の密着性基材上の下塗り層に形成された着色層サイズ:試験片1×5cmに、張り合わせ面積が1×2cmとなるようシアノアクリレート系瞬間接着剤東亞合成株製、商品名:アロンアルフア登録商標ハイスピードEXで、表面加工されていないABS樹脂製原反1×5cmアクリロニトリル-ブタジエンースチレン共重合体シート、タキロン株製と張り合わせた。オートグラフAG-X株島津製作所製にて、下塗り層と着色層間の引張り強度を測定する方法で、試験片とABS樹脂製原反が剥がれるまで引っ張り、1×2cmの張り合わせ面積中において、下塗り層から着色層が剥がれた面積の割合を評価した。下塗り層と着色層の密着性は、初期下記ヒートサイクル前と、下記ヒートサイクル後の双方について測定した。ヒートサイクル試験は、実施例8~10、比較例7、8で作製した評価用試料を-15°Cで30分間、その後80°C湿度:95下で30分間保存後の密着性を測定した。評価基準は下記の通りである。○:張り合わせ面積中に10以下の剥がれがあった。△:張り合わせ面積中に10超~30以下の剥がれがあった。×:張り合わせ面積中に30超の剥がれがあった。[実施例1~7]実施例1~7において、以下に示す通り、下塗り液を調製し、得られた下塗り液を基材上に塗布した。その後、塗布した下塗り液に活性エネルギー線を照射して、下塗り層を形成し評価を行った。1下塗り層の形成エチレン性不飽和基を有する本発明の必須成分として、A1成分として、フェノキシエチルアクリレートA1-1、フェノキシエチルアクリレートEO変性A1-2、A2成分として、4-ターシャリーブチルシクロヘキシルアクリレート、及びA3成分として2官能ウレタンアクリレート、並びにその他の成分として、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、及びラウリルアクリレートを表1に示す割合になるように配合した。重合開始剤は、重合開始剤1として2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、重合開始剤2として1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、重合開始剤3としてオリゴ[2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-1-メチルビニルフェニル]プロパノン]を表1に示す割合になるように配合した。また、重合禁止剤としてフェノチアジンを表1に示す割合になるように配合した。前記エチレン性不飽和基を有する成分、重合開始剤、及び重合禁止剤をディゾルバーにより混合して下塗り液を調製した。次に、調製した下塗り液をバーコーター6を用いて基材上に硬化後の厚みが6μmとなるように塗布した後、UV硬化システムFusionUVSystemInc製、I6P1/LHにて搬送速度60m/min、ランプと基材との距離1cmの条件1パスの積算光量97.2mJ/cm2、ピーク照度965.52mW/cm2で塗布した下塗り液を硬化させて下塗り層を形成した。2下塗り層の評価得られた下塗り層について、基材との密着性、ガラス転移温度、吸水率、粘着性最大値の評価を行った。評価結果をまとめて表1に示す。[比較例1~6]エチレン性不飽和基を有する本発明の必須成分とその他の成分、重合開始剤、及び重合禁止剤を表1に示す割合で配合した以外は実施例1~6に記載したのと同様の方法で下塗り液を調製した。次に、調製した下塗り液を実施例1~6に記載したのと同様の方法で塗布、硬化させて下塗り層を形成した。得られた下塗り層について、実施例1~6に記載したのと同様の評価を行った。評価結果をまとめて表1に示す。[実施例8~10]1下塗り層の形成エチレン性不飽和基を有する本発明の必須成分とその他の成分、重合開始剤、及び重合禁止剤を表2に示す割合で配合した以外は実施例1~7に記載したのと同様の方法で下塗り液を調製した。次に、調製した下塗り液を基材上に硬化後の厚みが6μmとなるようにインクジェット方式A1Jetプリンタ、株トライテック製、KJ512ヘッド、コニカミノルタ製、吐出温度40°Cにより塗布した後、UVランプIntegrationTechnology社製、積算光量98.7mJ/cm2、ピーク照度643.7mW/cm2を照射して塗布した下塗り液を硬化させて下塗り層を形成した。2下塗り層上に着色層の形成エチレン性不飽和基を有する本発明の必須成分とその他の成分、重合開始剤、顔料、及び重合禁止剤を表2に示す割合で配合し、ディゾルバー3000rpmにて1時間攪拌した後、ジルコニアビーズ0.8mmを充填したビーズミルで予備分散した。更にジルコニアビーズ0.3mmで本分散を行い、着色液を得た。次に、調製した着色液を硬化後の厚みが6μmとなるようにインクジェット方式A1Jetプリンタ、株トライテック製、KJ512ヘッド、コニカミノルタ製、吐出温度40°Cにより、下塗り層上に着色液を付着させた後、UVランプIntegrationTechnology社製、積算光量98.7mJ/cm2、ピーク照度643.7mW/cm2を照射して塗布した着色液を硬化させて着色層を形成した。結果をまとめて表2に示す。3下塗り層上に形成された着色層の密着性の評価下塗り層上に形成された着色層の密着性の評価を行った。評価結果をまとめて表2に示す。[比較例7、8]1下塗り層の形成エチレン性不飽和基を有する本発明の必須成分とその他の成分、重合開始剤、顔料、及び重合禁止剤を表2に示す割合で配合した以外は実施例1~6に記載したのと同様の方法で下塗り液を調製した。次に、調製した下塗り液をインクジェット方式A1Jetプリンタ、株トライテック製、KJ512ヘッド、コニカミノルタ製、吐出温度40°Cを用いて基材上に硬化後の厚みが6μmとなるように塗布した後、UVランプIntegrationTechnology社製、積算光量98.7mJ/cm2、ピーク照度643.7mW/cm2を照射して塗布した下塗り液を硬化させて下塗り層を形成した。2下塗り層上に着色層の形成エチレン性不飽和基を有する成分、重合開始剤、顔料、及び重合禁止剤を表2に示す割合で配合し、ディゾルバー3000rpmにて1時間攪拌した後、ジルコニアビーズ0.8mmを充填したビーズミルで予備分散した。更にジルコニアビーズ0.3mmで本分散を行い、着色液を得た。次に、調製した着色液を硬化後の厚みが5~10μmとなるようにインクジェット方式A1Jetプリンタ、株トライテック製、KJ512ヘッド、コニカミノルタ製、吐出温度40°Cにより、下塗り層上に着色液を付着させた後、UVランプIntegrationTechnology社製、積算光量98.7mJ/cm2、ピーク照度643.7mW/cm2を照射して塗布した着色液を硬化させて着色層を形成した。3下塗り層上に形成された着色層の密着性の評価下塗り層上に形成された着色層の密着性の評価を行った。評価結果をまとめて表2に示す。"