"各々が、センサモジュールを有するカメラモジュール、またはセンサモジュールを有するカメラモジュールのための光学モジュールとなる複数の光学装置を、ウェハスケール上で製造する方法であって、前記複数の光学装置の各々は、光学経路を規定し、前記方法は、レンズのパターンと、複数のフィルタ部を備えるためのパターンが形成された波長選択フィルタとを備える、第1のウェハスケール基板を供給するステップと、前記レンズの前記パターンに対応する穴のパターンに配置された複数の穴を有する、ウェハスケールスペーサを供給するステップと、前記第1の基板と前記スペーサとを互いに積み重ねるステップとを備え、前記穴および前記レンズは、整列され、前記それぞれの光学経路が前記それぞれのフィルタ部を横断するように、前記複数のフィルタ部が配置されるとともに寸法づけられ、前記積み重ねるステップは、ウェハスケールスタックを与え、前記ウェハスケールスタックを前記光学装置に分割するステップをさらに備える、方法。前記前記ウェハスケールスタックを前記分割するステップの前に、第2のウェハスケール基板を供給するステップと、前記第2のウェハスケール基板と前記スペーサとを互いに積み重ねるステップとをさらに備える、請求項1に記載の方法。前記第2のウェハスケール基板は、光学要素のアレイを有する透明な光学基板である、請求項2に記載の方法。前記第2のウェハスケール基板は、前記センサモジュールのアレイを備える電気光学ウェハである、請求項2に記載の方法。前記分割するステップの前に、第2のスペーサを供給するステップと、前記第2のスペーサと前記ウェハスケールスタックとを互いに積み重ねるステップとをさらに備える、請求項3に記載の方法。前記フィルタは、前記第1の基板の表面に設けられ、前記第1の基板の前記表面は、物面側を向くとともに、前記スペーサから離れる側を向く、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。前記第1のウェハスケール基板は、第2のフィルタを備え、前記第2のフィルタは、前記第1の基板の第2の表面に複数のフィルタ部を備え、第2の表面は、像面側を向くとともに、前記スペーサを向く、請求項6に記載の方法。前記フィルタは、前記第1の基板の表面に設けられ、前記第1の基板の前記表面は、像面側を向くとともに、前記スペーサを向く、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。前記第1のウェハスケール基板は、前記第1の基板の表面に設けられた第2のフィルタを備え、前記第1の基板の前記表面は、物面側を向くとともに、前記スペーサから離れる側を向く、請求項8に記載の方法。前記複数の光学装置の各々は、他の光学装置のフィルタ部から間隔を空けて配置された1つのフィルタ部、または、前記光学ビーム経路に沿った伝搬方向に対応する方向に間隔を空けて配置されるとともに、各々が他の光学装置のフィルタ部から間隔を空けて配置される複数のフィルタ部を備える、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。前記フィルタは赤外線フィルタであって、前記フィルタ部は、赤外線フィルタ部である、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。本質的に平面である平行な2つの表面を有し、光学的に透明な材料の基板本体と、前記2つの表面のうちの一方の表面に適用された波長選択フィルタとを備え、前記フィルタは、互いに間隔を空けて配置されるとともにアレイ状に配置される複数のフィルタ部を備える、ウェハスケール光学基板。カメラであって、センサモジュールと、光軸を規定する光学システムとを備え、前記カメラは、少なくとも1つのスペーサと、前記光学システムの少なくとも1つの透明基板とをさらに備え、前記基板は、光学要素を有し、前記センサモジュールと、前記スペーサと、前記光学要素を有する前記基板とは、前記光軸に関して垂直に積み重ねられ、少なくとも1つのフィルタが前記基板に接着され、前記基板は、前記光軸に垂直な第1の領域を有し、前記フィルタは、前記第1の領域よりも小さい第2の領域を有し、前記光学システムおよび前記センサモジュールによって規定される光学経路は、前記フィルタを横断する、カメラ。前記光学システムは、不透明層に設けられた穴によって形成される開口をさらに備える、請求項13に記載のカメラ。前記フィルタは、赤外線フィルタである、請求項13または14に記載のカメラ。ウェハスケールアセンブリの1つの潜在的な課題は、ダイシングプロセスすなわちスタックを個別の光学装置に分割するプロセスである。このダイシングプロセスは、機械的手段たとえば半導体ウェハのダイシングのようなによって、たとえばのこぎり状工具、フライス加工用工具、または潜在的にはレーザ切断、ウォータジェット切断などの他の手段も用いて実行され得る。集積カメラモジュールまたはカメラモジュールのための光学モジュールがダイシングされるときに、しばしば材料が緩み、たとえばセンサモジュールの上またはレンズの上など、ウェハダイスの間の空間に落ちる。これはカメラまたは光学モジュールの大量の不良をもたらし、結果的にコストを増大させる。本発明の概要本発明の目的は、従来技術の方法および光学装置の欠点を克服する、改良された方法および改良された光学装置を提供することである。この光学装置とは、入射される光をカメラのセンサ素子上に適切に焦点があった状態において方向付けるのに適したカメラまたはカメラのための光学モジュールであり得る。本発明のある局面に従うと、方法は、カメラモジュールの位置の穴パターンに配置された複数の穴を有するウェハスケールスペーサを供給するステップと、波長選択フィルタを有するウェハスケール基板を供給するステップとを備える。波長選択フィルタとは、たとえば複数のフィルタ部を備えるようにパターンが形成された赤外線IRフィルタである。フィルタ部はフィルタパターンに配置される。フィルタパターンは、基板を通ってカメラモジュールの上に至る照射経路がフィルタ部を通過するように形成される。方法は、穴および整列されたフィルタ部によって基板とスペーサとを互いに積み重ねるステップをさらに備える。一般に、フィルタは光学経路によって横断されるであろう。ここで光学経路とは、光学構成要素を通過するすべての光線経路の合計であり、一般にシステム開口を通り、センサモジュールの上に至る。このため、光学経路とは、生成されるべき画像に寄与するすべての光線経路の合計である。フィルタ部に加えて、基板は、その一面または両面に、レンズまたは他の光学要素のアレイを備え得る。光学要素は、フィルタ部と整列され、積み重ねるステップの後には穴と整列されるであろう。一般に、光学要素は、カメラのセンサモジュールの方向に向かって光学要素を通過する光がフィルタを通過しなければならないように、フィルタと整列されるであろう。一般に、フィルタ部は分離されており、互いに接触していない。本発明のある実施の形態に従えば、同一のフィルタ層のフィルタ部は、同一の構成を有するであろう。すなわち、フィルタ部は、フィルタ部を与えるために層の平面内で水平方向に構築された共通の層からなる。また、所定の角度からフィルタ部に衝突する照射光線のための透過特性は同一である。フィルタ部は、同一または異なる形状を有するが、同一の垂直構造を有する。ある実施の形態に従えば、フィルタ部はIRフィルタ部であろう。他の実施の形態に従えば、フィルタ部はカラーフィルタ部であり得る。異なるカラーフィルタ部は同一の構成を有し得る。あるいは、異なるカラーフィルタ部は異なる透過特性を有してもよい。以下に示される本発明の実施の形態の説明は、主にIRフィルタに関する。しかしながら、この教示はカラーフィルタにも同様に適用される。IRフィルタは、画像品質における赤外線照射の阻害効果を回避するために用いられるカメラモジュール共通の特徴である。従来技術のウェハスケールアセンブリでは、図1に示されるように、ウェハ1の1つにはIRフィルタ11が与えられる。図1は、複製レンズ3を有する第1のウェハ1と、第1のウェハレンズ3と整列された複数のスルーホール6を有するスペーサウェハと、第1のウェハレンズ3およびスルーホールと整列された複数の第2のウェハレンズ7を有する第2のウェハ2との将来組み立てられるスタックを示す。お互いに対するレンズの整列は、多くの場合、レンズに対するスルーホール6の整列よりも重要である。組み立てられた後および潜在的にはさらなる製造ステップの後に、スタックがダイシングされる位置を破線で示す。それぞれがレンズを有する2つの受動光学ウェハ1,2のスタックに代えて、スタックは、光学ウェハと、センサモジュールが設けられたウェハとのスタックであってもよい。これらのウェハの間には、スペーサウェハが設けられる。このような構成は、温度変化を受けると、IRフィルタ層11を有するウェハ2ウェハ2は多くの場合、薄く柔軟であるが曲がる傾向があるという欠点を特徴とする。このようなウェハ曲がりは、複数のウェハのウェハスケールアセンブリでは容認されない。ウェハ曲がりの問題を回避するために、図2に示された他の従来技術の方法は、ウェハ1の2つの表面上に、ほぼ等しい厚みを有する2つのIRフィルタ11.1,11.2を配置することを提案する。IRフィルタ11.1,11.2では、単一のIRフィルタと比べて、フィルタ容量が低下する可能性がある。このため、IRフィルタ11.1,11.2が合わさった効果は、図1の配置における単一のIRフィルタの効果と等しい。たとえば、IRフィルタが複数の交互に重なった層から構成されている場合、2つのフィルタ11.1,11.2の一対の層の数の合計は、単一フィルタ配置での単一のIRフィルタの一対の層の数と対応し得る。その結果として生じる対称性がウェハ曲がりの問題を回避する。図2は、レンズ3を有する光学ウェハ1にとってのこの対称性を示す。光学ウェハ1は、センサモジュール8を有するセンサモジュールウェハ9と組み立てられる。しかしながら、本発明の発明者によって、スペーサウェハとの接触面のIRフィルタは、ダイシングプロセスによって生じる信頼性問題の原因となる傾向があることが発見された。この問題は、たとえば後の信頼性試験において観察される。ダイシングは、IRフィルタ層に小さなクラック21を生じさせることが観察された。IRフィルタにはスペーサウェハが接続されているため、同様のことが力を受けて起こり得る潜在的な接着層は図3に示されておらず、その後の図にも示されていない。このようなクラック21は、ダイシングストレイトダイシング後の外表面から内部に伝播し得る。その後、クラック21は図3に示されるように、センサ8の上への材料22の落下を引き起こす。アセンブルされたウェハがいずれもセンサモジュールのウェハでない場合でも、ウェハのアセンブリおよびダイシングの後に生じる空洞23への材料の落下は問題である。なぜならば、空洞から材料を取り除く可能性がないからである。材料は、光学モジュールを構成するカメラによって生成される画像の品質に影響を与え得る。本発明のこの局面に従う方法は、これら従来技術の方法の問題を解決する。IRフィルタのパターニングは、スペーサウェハと光学ウェハとの接触面から離れてIRフィルタを設けることを可能にする。第1の選択肢に従うと、パターンが形成されたIRまたはカラーフィルタは、スペーサウェハが接続されたウェハ表面に配置される。パターニングは、IRフィルタ部の平面における延在部がスペーサウェハの穴の断面内にあることが好ましい。さらに、パターンが形成されたまたはパターンが形成されていない追加のIRフィルタも、同様にどこに存在してもよい。たとえば、パターンが形成された第1のフィルタが存在する基板以外の基板の表面上であってもよく、第2の透明基板の表面上であってもよい。第2の選択肢に従うと、パターンが形成されたIRまたはカラーフィルタは、スペーサウェハが接続されたウェハ表面とは異なるウェハに配置される。これにより、IRフィルタのパターンは、穴のパターンに対応して形成される。しかし、IRフィルタ部は、穴の断面よりも大きくてもよい。繰り返すように、さらにIRフィルタを用いることも可能である。第1の選択肢と第2の選択肢との組合せも可能であり、以下により詳細に説明される。好ましい実施の形態において、IRまたはカラーフィルタ部のパターンは、スペーサの穴のパターンと対応する。すなわち、双方のパターンのピッチは等しく、一般に各穴には1つのIRフィルタ部が存在する。しかしながら、第2の選択肢の実施の形態では、各々が複数のモジュールに対応する複数のフィルタ部を提供することも同様に可能である。これにより、複数のフィルタ部の各々は、1よりも多くの穴を覆う。本発明は、表面に適用されたIRフィルタを有する光学的に透明なウェハスケール基板にも同様に関連する。IRフィルタは、アレイに配置された複数のIRフィルタ部を備える。IRフィルタ部は、互いに接触しないという意味においてアイランドである。本発明は、本プロセスによって製造され得るカメラにさらに関連する。カメラは、光軸およびセンサモジュールと、少なくとも1つのスペーサと、光学要素を有する少なくとも1つの透明基板とを備える。センサモジュールと、スペーサと、光学要素を有する基板とは、光軸に関して垂直に積み重ねられる。たとえばIRフィルタのような、少なくとも1つの波長選択フィルタは基板に接着する。基板は、光軸に垂直な第1の領域を有する。フィルタは、第1の領域よりも小さい第2の領域を有する。センサモジュールに向けられたカメラに衝突した光は、フィルタを横断する。IRフィルタは、スペーサが基板に接着する領域と重なり合わないように、横方向に構築され得る。カメラの光学手段は開口をさらに含み得る。開口は、たとえばクロムをベースとする層のような不透明の開口層の穴によって形成される。当然のことながら、開口は、レンズまたは他の光学手段と整列される。任意選択的に、開口層から垂直に間隔を空けられた第2の不透明層が存在し得る。第2の不透明層は穴を有し、開口とともに、バッフルを形成する。このような任意選択的な第2の不透明層もまた、表面に達しないように横方向に構築されてもよい。ある実施の形態では、たとえばIRフィルタのような波長選択フィルタは、開口層との重複を有する。たとえば、波長選択フィルタは、開口の周辺であって開口の周りを取り囲む周辺部分を有する。ある実施の形態において、カメラは、複数の透明基板と、複数のスペーサとを備える。ここで波長選択フィルタは、あるいは複数の波長選択フィルタが存在する場合には少なくとも1つの波長選択フィルタは、物面側に最も近い基板に接着して存在し得る。たとえば、カメラのIRフィルタは、物面側の基板に接着する1または2のIRフィルタ部から構成され得る。本文におけるウェハという用語は、ウェハスケール基板の形状の観点に限定されて理解されるべきではない。この用語は、後に個別の構成要素に分割される複数の光学レンズすなわちそれぞれ複数のセンサモジュールに適したあらゆる基板と理解されるべきである。本文におけるウェハまたはウェハスケールは、より特定的には、半導体ウェハのサイズに相当する円板状または板状の基板を指す。たとえば、5cmと40cmとの間の直径を有する円板または板である。本文に用いられるウェハまたは基板の意味は、円板、長方形の板、または、任意の寸法安定性を有する材料であって他のいかなる形状を有してもよい板である。ウェハが光学ウェハである場合には、材料は透明であることが多い。ウェハディスクの直径は典型的には5cmと40cmとの間であり、たとえば10cmと31cmとの間である。多くの場合、ウェハディスクは2インチ、4インチ、6インチ、8インチ、または12インチの直径を有する円筒状である。1インチは約2.54cmである。光学ウェハのウェハ厚は、たとえば0.2mmと10mmとの間であり、典型的には0.4mmと6mmとの間である。ウェハは、半導体ウェハのように、円形のディスク形状を有することが好ましい。しかし、略長方形状、略6角形状などの他の形状を除外するものではない。本文におけるウェハという用語は、一般に、形状に限定するものと解釈されるべきではない。図面の簡単な説明本発明の原理およびその実施の形態は、添付図面を参照しながら以下の本文においてより詳細に説明されるであろう。図面において、同一の参照符号は同一または類似の要素を示す。図面はすべて模式図であって、正確な縮尺を示すものではない。図面は以下を示す。好ましい実施の形態の説明図4~図8のすべてにおいて、示される実施の形態は、単一の光学的に透明な基板1を備える。基板1は、2つの複製レンズまたはサブレンズ3を有する。レンズ3は、カメラのセンサモジュール8のためのカメラレンズとしての役割をともに果たす。透明基板1は、スペーサ5によってカメラモジュール8に取り付けられる。しかしながら、これら図面を参照して説明される教示は、2以上の基板を備えるスタックにも用いられ得る。基板は、その表面に接着される1または2の複製レンズまたは他の光学手段を有する。示された実施の形態において、構築された波長選択フィルタはIRフィルタである。IRフィルタを構築する方法は、基板が物面側から見て第1の基板であるか否かに関わらず、IRフィルタまたは複数のIRフィルタのうちの1つを有するあらゆる基板に用いられ得る。異なる基板にIRフィルタが適用される場合には、この教示は、これら基板のうちの1以上またはそのすべてに関連し得る。図4に示されたカメラモジュールは、第1の透明基板1上に、第1のIRフィルタ11.1および第2のIRフィルタ11.2を備える。第2のIRフィルタは、スペーサ5の方向を向く基板の表面上に設けられる。クロムの開口31は、物面側レンズの周りを囲み、レンズによって構成される光学システム以外の経路を通って光がカメラに入射しないようにする。開口に加えて、光学モジュールは、光軸30に関して横方向からカメラに光が入射することを防止する手段を有してもよい。図4の実施の形態は、以下の図に示される実施の形態と同様に、任意選択的な第2のクロム層32を備える。第2のクロム層32は環状である。これは、第2のクロム層32がクロム開口とともにバッフルを形成し、スペーサ5と基板1との接触面にクロムがない状態に保つためである。図面において、クロム開口およびバッフル層は、それらが接着される支持部基板またはIRフィルタからわずかな距離であるように示される。これは、IRフィルタからCR層を明確に区別して図示することを単に目的とする。当然ながら実際には、CR層は支持部と直接的に接触して設けられるであろう。カメラモジュールの製造中に第2のIRフィルタ11.2は、各モジュールに1つのIRフィルタを備えるように構築される。第2のIRフィルタ11.2は、ダイシング位置に横方向に到達せず、好ましくは、スペーサ5が基板1に接触する領域にまで延在しないように配置される。この方法によれば、スペーサ5と基板との接触面はIRフィルタの材料がない状態に保たれる。図4の実施の形態は空洞23に材料が落下する問題を解決する一方で、ダイシング前のウェハスタック内の第1のIRフィルタ11.1が接触するが第2のIRフィルタはしないという事実から、残りのウェハ曲がりがいくらか生じ得る。従来技術と比較して、このウェハ曲がりの傾向は潜在的に低減される。これは、第2のIRフィルタの存在のために、第1のIRフィルタが単一のIRフィルタよりも薄くなり得るからである。この残りのウェハ曲がりがそれでもなお問題である場合には、図5に示されるように、ダイシングの前に接触するIRフィルタ全体を除去し、その結果として、残りの構築されたフィルタを潜在的に厚くすることが可能である。図5の実施の形態において、IRフィルタ11は、スペーサの方向を向く基板側に設けられる。IRフィルタ11は、基板とスペーサとの接触面にはIRフィルタの材料がない状態がなるように構築される。図6に示されるように、スペーサから離れた方向を向くとともに、物体の方向を向く基板側にIRフィルタを配置することも可能である。図6の実施の形態では、IRフィルタ11は、スペーサウェハ内のスルーホール6を超えて横方向に延在し得るしかし必須ではない。これは、ウェハ/スペーサ接触面での重複は、光学ウェハのスペーサを向く側の側でのIRフィルタの重複と比べて、不利でないからである。また、図6の実施の形態では、IRフィルタは、ウェハスケールにおいて本質的に、接触するのではなく個別のIRフィルタ部によって構成されるべきである。図7の実施の形態は、ウェハの2面の各々に、IRフィルタ部11.1,11.2を備える。このため、図7の実施の形態は、図5および図6の方法の組合せである。図8は、ダイシングの前におけるウェハスケールでの図6の実施の形態を示す。図8ではクロム層が示されない。一般に、カメラモジュールの各々のための開口部を有する少なくとも1つの開口層と、任意選択的に、開口部を有する不透明層とが存在するであろう。図8~図10における破線は、ダイシングが行なわれる位置を示す。図8は、カメラモジュールに隣接するIRフィルタ部11が、ウェハスケール上で互いに接触しないことを示す。さらに、図示された実施の形態では、IRフィルタ部は横方向にダイシング位置にまで到達しない。図9は、図6および図8の実施の形態のための光学ウェハを示す。IRフィルタ部は、円形であり得る。フィルタ部の中心には光軸が位置する。また、長方形または特定の光学対称性に適応した形状などの他のIRフィルタ部の形状も可能である。図10は、図6、図8、および図9の実施の形態の変形例を示す。図6、図8、および図9では、フィルタ部11が複数のカメラモジュールに延在する。より特定的には、ウェハスケール上でのフィルタ部の各々は、隣接するカメラモジュールのグループを覆う。図示された実施の形態では、4つのカメラモジュールがフィルタ部の各々によって覆われる。また、この実施の形態において、フィルタ部は接触していない。フィルタ部が延在し過ぎていない限りにおいて、個別のフィルタ部が互いに離れて配置される事実から、ウェハ曲がりの問題は解決されるであろう。すべての実施の形態において、以下を有し得る。IRまたはカラーフィルタまたは複数のフィルタは、当技術分野で周知の種類のIRまたはカラーフィルタまたは複数のフィルタである。たとえば、IRまたはカラーフィルタまたは複数のフィルタは、屈折率が異なる複数の層を備え得る。複数の層は、様々な厚みを有し交互に重ねられる第1および第2の層を含み得る。一例として、IRフィルタまたは複数のフィルタは一連の酸化シリコンおよび酸化チタンの層から構成され得る。透明基板は、ガラスウェハまたは他の透明な薄いシートであってもよい。このシートは、たとえば、2つの平面が並行であって、大きな表面を有する材料からなる。レンズは、ウェハスケールUV複製により製造されたレンズであり得る。このレンズは、たとえば国際公開WO2004/068198号公報、国際公開WO2007/107025号公報、およびさまざまな他の文献において説明されている。開口および、もし存在する場合には追加の不透明層は、たとえば国際公開WO2009/076787号公報に説明されるように、クロムをベースとする層から作られ得る。スペーサは透明であっても不透明であってもよい。またスペーサは、国際公開WO2009/076787号公報で説明されるガラス、セラミック、金属などから作られるスペーサのようにプラスチックを含むあらゆる安定した材料から作られ得る。一般に、材料組成のような量は、本発明を実施において重要でない。また、当業者はカメラモジュールの製造に適したさまざまな材料組成の変形例を理解するであろう。図11は、本発明の実施の形態のフローチャートを示す。フィルタがIRフィルタである実施の形態について本発明を説明した。しかし、この教示は、他の波長選択フィルタを有する実施の形態にも適用され得る。たとえば、フィルタ部は、同一または異なる色のカラーフィルタであってもよい。ある特別な実施の形態においては、フィルタは、赤色、緑色、または青色のサブ画像を取得するためのサブカメラのカラーフィルタであってもよい。複数のサブ画像を組み合わせることによりカラー画像が生成される。センサ自身がそれぞれのカラーフィルタで覆われる従来技術の方法とは対照的に、本発明のカラーフィルタの実施の形態に従う方法は、フィルタがセンサからより離れた距離に位置するという利点を特徴とする。したがって、従来技術の実施の形態とは対照的に、たとえば微細な擦り傷などのような、フィルタの深刻でない不良は、重要な問題ではない。これらの不良は、光がセンサに衝突する前に、通過した光が方向付けられる光学手段によって平均化されるためである。"