"有機発光ダイオード装置用のガラス基材に積層される光抽出フィルムであって、実質的に透明な可撓性フィルムと;前記実質的に透明な可撓性フィルムに適用される低屈折率ナノ構造層と;前記ナノ構造層上に適用される高屈折率平坦化バックフィル層と;前記実質的に透明な可撓性フィルムの前記ナノ構造層とは反対側に積層されるガラス基材と;前記実質的に透明な可撓性フィルムと前記ガラス基材との間の超低屈折率領域と、を含む、光抽出フィルム。前記超低屈折率領域が1以上の空隙を含む、請求項1に記載の光抽出フィルム。前記超低屈折率領域がアルゴン又は窒素を含む、請求項1に記載の光抽出フィルム。前記超低屈折率領域が構造化接着剤を含む、請求項1に記載の光抽出フィルム。前記超低屈折率領域が反射防止構造化表面を含む、請求項1に記載の光抽出フィルム。前記超低屈折率領域が超低屈折率材料を含む、請求項1に記載の光抽出フィルム。前記低屈折率ナノ構造層が、前記実質的に透明な可撓性フィルムに対して表面層の方法で適用されるナノ粒子を含む、請求項1に記載の光抽出フィルム。前記低屈折率ナノ構造層がフォトニック結晶構造又は線形格子を含む、請求項1に記載の光抽出フィルム。前記バックフィル層上に適用される保護層を更に含む、請求項1に記載の光抽出フィルム。有機発光ダイオード装置用のガラス基材に積層される光抽出フィルムを製造する方法であって、実質的に透明な可撓性フィルムを提供する工程と;前記実質的に透明な可撓性フィルムに低屈折率ナノ構造層を適用する工程と;前記ナノ構造層上に高屈折率平坦化バックフィル層を適用する工程と;前記実質的に透明な可撓性フィルムの前記ナノ構造層とは反対側にガラス基材を積層する工程であって、前記実質的に透明な可撓性フィルムと前記ガラス基材との間に超低屈折率領域を提供することを含む工程と、を含む、方法。前記超低屈折率領域が1以上の空隙を含む、請求項10に記載の方法。前記超低屈折率領域がアルゴン又は窒素を含む、請求項10に記載の方法。前記超低屈折率領域が構造化接着剤を含む、請求項10に記載の方法。前記超低屈折率領域が反射防止構造化表面を含む、請求項10に記載の方法。前記超低屈折率領域が超低屈折率材料を含む、請求項10に記載の方法。前記低屈折率ナノ構造層が、前記実質的に透明な可撓性フィルムに対して表面層の方法で適用されるナノ粒子を含む、請求項10に記載の方法。前記低屈折率ナノ構造層がフォトニック結晶構造又は線形格子を含む、請求項10に記載の方法。前記バックフィル層上に保護層を適用する工程を更に含む、請求項10に記載の方法。OLED装置では可撓性及び剛性の基材が両方用いられるので、可撓性及び剛性の基材の両方に適合する光抽出フィルムが必要とされている。本発明に係る光抽出フィルムは、実質的に透明な可撓性フィルムと、フィルムに適用される低屈折率ナノ構造層と、ナノ構造層上に適用される高屈折率平坦化バックフィル層とを含む。ガラス基材は、実質的に透明な可撓性フィルムのナノ構造層とは反対側に積層され、フィルムとガラス基材との間に超超低屈折率領域を含む。本発明に係る光抽出フィルムを製造する方法は、実質的に透明な可撓性フィルムを提供する工程と、フィルムに低屈折率ナノ構造層を適用する工程と、ナノ構造層上に高屈折率平坦化バックフィル層を適用する工程とを含む。また、方法は、実質的に透明な可撓性フィルムのナノ構造層とは反対側にガラス基材を積層する工程と、フィルムとガラス基材との間に超低屈折率領域を提供する工程とを含む。本発明の実施形態は、光抽出フィルム及びOLED装置のためのその使用に関する。光抽出フィルムの例は、米国特許出願公開第2009/001575号及び同第2009/0015142号に記載されている。図1は、ナノ構造を有する光抽出フィルム10の構造の図である。光抽出フィルム10は、実質的に透明な可撓性フィルム基材18と、低屈折率ナノ構造層16と、高屈折率平坦化バックフィル層14と、任意の保護層12とを含む。ナノ構造層16は、ナノ構造を含み、これは少なくとも1つの寸法が2マイクロメートル未満、好ましくは1マイクロメートル未満である構造を意味する。ナノ構造層は、フォトニック結晶構造又は線形格子を含む、周期的、準周期的、若しくはランダムな分布又はパターンの光学ナノ構造を有し得る。フォトニック結晶構造という用語は、材料内で可能な電磁場モードのスペクトラム内で構造体がギャップを作るのを可能にする、十分に異なる屈折率の材料が散在している周期的又は準周期的な光学ナノ構造を指す。ナノ構造は、一次元であってよく、これは、幅等の少なくとも1つの寸法が2マイクロメートル未満であることを意味する。一次元ナノ構造としては、例えば、連続するか又は細長い角柱又は隆起が挙げられる。また、ナノ構造は、二次元であってもよく、これは、例えば2つの面内方向等少なくとも2つの寸法が2マイクロメートル未満であることを意味する。二次元ナノ構造としては、例えば、円形又は正方形状の柱が挙げられる。平坦化バックフィル層14は、ナノ構造層16を平坦化し、屈折率差を提供するためにナノ構造層16上に適用される。高屈折率平坦化バックフィル層14を有する低屈折率ナノ構造層16とは、バックフィル層14がナノ構造層16よりも高い屈折率を有し、かつバックフィル層14及びナノ構造層16が、光抽出フィルム10との光通信においてOLED装置の光抽出を促進するのに十分な屈折率差を有することを意味する。低屈折率ナノ構造層16は、典型的に、1.4~1.6の範囲の屈折率を有するが、異なる範囲を用いてもよい。光抽出フィルム用の高屈折率バックフィル層の例は、2008年10月31日出願の米国特許出願第12/262393号に記載されている。図2は、ナノ粒子を有する光抽出フィルム20の図である。光抽出フィルム20は、実質的に透明な可撓性フィルム28と、低屈折率ナノ構造層26と、高屈折率平坦化バックフィル層24と、任意の保護層22とを含む。ナノ構造層26は、ナノ粒子を含み、これは、少なくとも1つの寸法が2マイクロメートル未満、好ましくは1マイクロメートル未満である粒子を意味する。ナノ粒子は、有機材料で構成されても他の材料で構成されてもよく、規則的又は不規則な、任意の粒子形状を有し得る。あるいは、ナノ粒子は、多孔質粒子で実施することができる。また、ナノ構造体の分布は、様々なピッチ及び機構寸法を有してもよい。ナノ粒子の少なくとも一部は、好ましくは、可撓性基材と接触し、ナノ粒子は、その直下に間隙を有してもよい。ナノ粒子の層は、単層内にナノ粒子で、ナノ粒子の凝集体を有する層で、又は多層内に実施することができる。ナノ粒子は、ナノ粒子を凝集させる結合剤を使用することなくコーティングすることができる。更に、ナノ粒子は、好ましくは、コーティングされるか、又は表面層の方法で可撓性基材に適用される。光抽出フィルムで用いられるナノ粒子の例は、2008年12月17日出願の米国特許出願第12/336889号に記載されている。平坦化バックフィル層24は、ナノ構造層26を平坦化し、屈折率差を提供するためにナノ構造層26上に適用される。高屈折率バックフィル層24を有する低屈折率ナノ構造層26とは、バックフィル層24がナノ構造層26におけるナノ粒子よりも高い屈折率を有し、かつバックフィル層24及びナノ構造層26におけるナノ粒子が、光抽出フィルム20との光通信においてOLED装置の光抽出を促進するのに十分な屈折率差を有することを意味する。光抽出フィルム10及び20の基材、低屈折率層、高屈折率層、及び任意の保護層の材料は、上記公開特許出願に提供されている。光抽出フィルム10及び20を製造するプロセスも、上記公開特許出願に提供されている。図3は、接着剤34と、空気又は窒素若しくはアルゴン等の不活性ガスを含有するギャップ40とを用いてガラス基材36上に積層された光抽出フィルム32を有するOLED装置30の図である。光抽出フィルム32は、フィルム18及び28等の可撓性フィルム基材のナノ構造層とは反対側に接着剤34及びギャップ40を用いて積層されて、光抽出フィルム32とガラス基材36との間に超低屈折率の領域を提供する。超低屈折率領域を用いて、ガラス基材36で生じる更なる光損失を確実になくすか又はわずかなものにする。ギャップ40の幅は、超低屈折率領域を提供するために制御される。接着剤34は、ギャップ40を提供するためにガラス基材36の外辺部の周囲に配置されてもよく、接着剤34は、複数の空隙又はエアポケットを提供するために、例えばストライプ又は方形パターン等、ガラス基材36上にパターン化されてもよい。図4は、構造化接着剤46でガラス基材48上に積層された光抽出フィルム44を有するOLED装置42の図である。光抽出フィルム44は、フィルム18及び28等の可撓性フィルム基材のナノ構造層とは反対側に接着剤46を用いて積層されて、光抽出フィルム44とガラス基材48との間に超低屈折率の領域を提供する。超低屈折率領域を用いて、ガラス基材48を通じたOLED装置42からの光抽出を促進する。接着剤46の構造化により、光抽出フィルム44とガラス基材48との間に空気が捕捉され、捕捉された空気が超低屈折率領域をもたらす。接着剤46は、接着剤46に付与する構造化パターンを有する用具を使用する等の様々な方法で構造化されて、積層中にエアポケットを生じさせることができる。構造化接着剤の使用に代わるものとして、超低屈折率領域は、反射防止AR構造化表面を含んでもよく、AR構造化表面の例は、2008年12月30日出願の米国仮出願第61/141517号に記載されている。構造化接着剤と同様に、AR構造化表面も空気を捕捉して、超低屈折率領域を生じさせる。図5は、超低屈折率材料54を用いてガラス基材56上に積層された光抽出フィルム52を有するOLED装置50の図である。光抽出フィルム52は、フィルム18及び28等の可撓性フィルム基材のナノ構造層とは反対側に超低屈折率材料54を用いて積層されて、光抽出フィルム52とガラス基材56との間に超低屈折率の領域を提供する。超低屈折率領域を用いて、ガラス基材56を通じたOLED装置50からの光抽出を促進する。超低屈折率材料の例は、両方とも2010年1月13日出願の米国特許出願第61/294600号及び同第61/294577号に記載されている。光抽出フィルム32、44、及び52は、OLED装置からの光抽出を促進するために、例えば、上記光抽出フィルム10及び20又は他のフィルムで実施してもよい。超低屈折率領域は、典型的に、1.0~1.5の範囲の屈折率を有するが、異なる範囲を用いてもよい。光抽出フィルムは、ガラス基材にフィルムを積層するための任意の方法を用いて積層することができる。被着材を積層する方法は、米国特許出願公開第2008/0196822号に記載されている。ガラス基材に積層された光抽出フィルムを提供することにより、それらは、剛性基材を使用するか又は必要とするOLED装置に適合する。更に、超低屈折率領域の使用は、OLED装置をガラス基材上に直接積層したときに生じる損失を減少させるのを助けることで、OLED装置からの光抽出を促進する。実施例1酸化インジウムスズITO層の厚みが100nmであったことを除いて、上記米国特許出願第12/262393号の実施例5に記載の通りOLED装置を構築した。かみそりの刃を用いてOCA81713MCompany,St.Paul,MNから入手可能な光学接着剤から約2.54cm×2.54cm1インチ×1インチの正方形を正確に切り出した。正確に切り出されたOCA8171フィルムを用いて、制御された幅の空隙を維持しながらOLED装置をガラス上に積層した。この装置では、OLED装置の作用領域においてフィルムとガラスとの間にエアポケットを残すことにより空隙を提供した。0~20mA/cm2の電流密度範囲において装置の軸上輝度-電流-電圧LIVの特徴を、PR650フォトニックカメラPhotoResearch,Inc.,Chatsworth,CAから入手可能及びKeithley2400ソースメータKeithleyInstruments,Inc.,Cleveland,OHから入手可能を用いて記録した。LIV測定値は、積層されたOLED装置が1000nitにおいて35Cd/Aのピーク効率を有していることを示し、これは、1000nitにおいて36Cd/Aであった積層前の装置のピーク効率と非常に類似していた。10mA/m2における軸上輝度は、積層前が5221Cd/m2、積層後が5729Cd/m2であった。10mA/m2における積分強度は、積層前が10460ルーメン/m2、積層後が11192ルーメン/m2であった。実施例2比較例ITO層の厚みが100nmであったことを除いて、米国特許出願第12/262393号の実施例5に記載の通りOLED装置を構築した。OCA8171フィルムの連続層を用いてOLED装置をガラス上に積層した。積層されたOLED装置のLIV測定値は、積層していない装置に比べて外部効率が著しく低下したことを示した。LIV測定値は、積層されたOLED装置が1000nitにおいて36Cd/Aのピーク効率を有していたことを示し、これは、1000nitにおいて42Cd/Aであった積層前の装置のピーク効率よりも著しく低かった。実施例3まず、バックフィルされたピッチ500nmのフォトニック結晶ナノ構造フィルムをガラス上に積層し、次いで、ITO層を付着させ、次いで、OLED層を付着させて装置を構築したことを除き、実施例1の装置と同様にOLED装置を構築した。フォトニック結晶をガラス上に積層するために、実施例1の通り正確に切り出されたOCA8171フィルムを調製した。正確に切り出されたOCA8171フィルムにフォトニック結晶フィルムを積層することにより、OLED装置のガラスと作用領域との間に制御された幅の空隙を生じさせた。比較のために、ガラス上にフォトニック結晶フィルムを積層しない複製の装置を構築した。実施例1の通りLIV測定を実施した。LIV測定値は、積層されたOLED装置が1000nitにおいて45Cd/Aのピーク効率を有していたことを示し、これは、積層しない装置のピーク効率と同じであった。10mA/m2における軸上輝度は、積層しない場合4282Cd/m2、積層した場合5428Cd/m2であった。10mA/m2における積分強度は、積層しない場合8261ルーメン/m2、積層した場合10626ルーメン/m2であった。実施例4比較例OCA8171の連続層を積層に用いたことを除いて、実施例3の装置と同様の装置を構築した。実施例1の通りLIV測定を実施した。LIV測定値は、積層されたOLED装置が1000nitにおいて32Cd/Aのピーク効率を有していたことを示し、これは、1000nitにおいて42Cd/Aであった積層していない装置のピーク効率よりも著しく低かった。10mA/m2における軸上輝度は、積層しない場合5215Cd/m2、積層した場合3802Cd/m2であった。10mA/m2における積分強度は、積層しない場合10573ルーメン/m2、積層した場合8573ルーメン/m2であった。"