"透明基材の上に低反射膜を有する物品であって、前記低反射膜が、前記透明基材側の下層および該下層の上に形成された上層の2層からなり、前記下層の屈折率が、1.30~1.44であり、前記上層の屈折率が、1.10~1.29である、物品。前記下層が、独立した空孔を有し、かつ当該下層の前記上層側から透明基材側にわたって連通した空孔を有さない、請求項1に記載の物品。前記下層が、SiO2を主成分とする層である、請求項1または2に記載の物品。前記上層が、SiO2を主成分とする層である、請求項1~3のいずれか一項に記載の物品。前記下層が、中空SiO2微粒子を含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の物品。前記上層が、中空SiO2微粒子を含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の物品。前記下層の屈折率と前記上層の屈折率との差が、0.10~0.30である、請求項1~6のいずれか一項に記載の物品。前記下層の空隙率が、10~30体積である、請求項1~7のいずれか一項に記載の物品。前記下層の厚さが、50~150nmである、請求項1~8のいずれか一項に記載の物品。前記上層の厚さは、50~300nmである、請求項1~9のいずれか一項に記載の物品。前記下層が、独立した空孔を有し、前記独立した空孔の平均空孔径が、10~100nmである、請求項1~10のいずれか一項に記載の物品。太陽電池用カバーガラスである、請求項1~11のいずれか一項に記載の物品。本発明は、広い波長領域において反射率が低く、入射角の大きい光の反射率が比較的低く、かつ耐候性および耐久性が良好である低反射膜を有する物品を提供する。本発明の物品は、透明基材の上に低反射膜を有する物品であって、前記低反射膜が、前記透明基材側の下層および該下層の上に形成された上層の2層からなり、前記下層の屈折率が、1.30~1.44であり、前記上層の屈折率が、1.10~1.29であることを特徴とする。前記下層は、独立した空孔を有し、かつ当該下層の前記上層側から透明基材側にわたって連通した空孔を有さないことが好ましい。前記下層は、SiO2を主成分とする層であることが好ましい。前記上層は、SiO2を主成分とする層であることが好ましい。前記下層は、中空SiO2微粒子を含むことが好ましい。前記上層は、中空SiO2微粒子を含むことが好ましい。前記下層の屈折率と前記上層の屈折率との差は、0.10~0.30であることが好ましい。前記下層の空隙率は、10~30体積であることが好ましい。前記下層の厚さは、50~150nmであることが好ましい。前記上層の厚さは、50~300nmであることが好ましい。前記下層は、独立した空孔を有し、前記独立した空孔の平均空孔径は、10~100nmであることが好ましい。本発明の物品は、太陽電池用カバーガラスであることが好ましい。上記した数値範囲を示す~とは、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用され、特段の定めがない限り、以下本明細書において~は、同様の意味をもって使用される。本発明の物品は、広い波長領域において反射率が低く、入射角の大きい光の反射率が比較的低く、かつ耐候性および耐久性が良好である。図1は、本発明の物品の一例を示す断面図である。物品10は、透明基材12と、透明基材12の表面に形成された低反射膜14とを有する。透明基材透明基材における透明とは、400~1200nmの波長領域の光を平均して80以上透過することを意味する。透明基材の形状としては、板、フィルム等が挙げられる。透明基材の表面には、本発明のアルカリバリア層、接着改善層、耐久性改善層、あるいはその他の機能層等の低反射膜以外の層が、低反射膜を有する物品の性能に影響を及ぼさない範囲において、あらかじめ形成されていてもよい。透明基材の材料としては、ガラス、樹脂等が挙げられる。ガラスとしては、たとえば、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。また、フロート法等により成形された平滑なガラスであってもよく、表面に凹凸を有する型板ガラスであってもよい。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメタクリル酸メチル等が挙げられる。透明基材が建築用または車両用の窓ガラスの場合、下記の組成を有するソーダライムガラスが好ましい。酸化物基準の質量百分率表示で、SiO2:65~75、Al2O3:0~10、CaO:5~15、MgO:0~15、Na2O:10~20、K2O:0~3、Li2O:0~5、Fe2O3:0~3、TiO2:0~5、CeO2:0~3、BaO:0~5、SrO:0~5、B2O3:0~15、ZnO:0~5、ZrO2:0~5、SnO2:0~3、SO3:0~0.5、を含む。透明基材が無アルカリガラスの場合、下記の組成を有するものが好ましい。酸化物基準の質量百分率表示で、SiO2:39~70、Al2O3:3~25、B2O3:1~30、MgO:0~10、CaO:0~17、SrO:0~20、BaO:0~30、を含む。透明基材が混合アルカリ系ガラスの場合、下記の組成を有するものが好ましい。酸化物基準の質量百分率表示で、SiO2:50~75、Al2O3:0~15、MgOCaOSrOBaOZnO:6~24、Na2OK2O:6~24、を含む。透明基材が太陽電池用カバーガラスの場合、表面に凹凸をつけた梨地模様の型板ガラスが好ましい。型板ガラスとしては、通常の窓ガラス等に用いられるソーダライムガラス青板ガラス:若干青味を帯びたソーダライムガラスの通称名よりも鉄の成分比が少なく、透明度が高い高透過ガラス白板ガラスが好ましい。ここで謂う通称名、白板ガラスとは、波長400~800nmにおける透過率が普通のソーダライムガラスより高いガラスをいう。例えば、ガラス板が4mmで波長400~800nmのときの透過率が90以上のガラスをいう。低反射膜低反射膜14は、透明基材12側の下層16および下層16の上に下層16面と接して形成された上層18の2層からなり、下層16の屈折率が1.30~1.44であり、上層18の屈折率が1.10~1.29であることを特徴とする。低反射膜14を構成する各層の屈折率nは、屈折率を求めたい層の単層膜を透明基材の表面に形成し、該単層膜について分光光度計で測定した波長300~1200nmの範囲内における最低反射率いわゆるボトム反射率Rminと、透明基材の屈折率nsとから下式1によって算出する。Rmin=n-ns2/nns21。下層16の屈折率と上層18の屈折率との差は、0.10~0.30が好ましく、0.14~0.24がより好ましい。屈折率の差が0.10以上であれば、入射角の大きい光に対する反射が十分に抑えられる。屈折率の差が0.30以下であれば、下層16と上層18との界面における反射が充分に抑えられる。下層下層16の屈折率は、1.30~1.44であり、1.31~1.42が好ましく、1.32~1.38がより好ましい。下層16の屈折率が1.30未満では、下層16の空隙率が高くなりやすく、透明基板12まで水分等が浸透しやすくなり、耐候性が低下する。下層16の屈折率が1.44を超えると、下層16の空隙率が低くなりすぎ、下層16が密になって透明基板12に反りが発生しやすくなる。下層16は、独立した空孔を有し、かつ上層18から透明基材12にわたって連通した空孔を有さないことが好ましい。下層16における空孔が、下層16の上層18の面側から透明基材12の面側にわたって連通した空孔ではなく、ほとんどが独立した空孔であれば、透明基板12まで水分等が浸透しにくくなり、耐候性が向上する。下層16の空孔の平均空孔径は、10~100nmが好ましく、20~70nmがより好ましい。平均空孔径が10nm以上であれば、下層16の屈折率を1.44以下にしやすくなる。平均空孔径が100nm以下であれば、透明基板12まで水分等が浸透しにくくなり、耐候性が向上する。平均空孔径は、下層膜の断面を走査型電子顕微鏡にて観察して得られる像から計測した100個の空孔の直径を平均して得られる。下層16の空隙率は、10~30体積が好ましく、13~20体積がより好ましい。空隙率が10体積以上であれば、下層16の屈折率を1.44以下にしやすくなる。空隙率が30体積以下であれば、透明基板12まで水分等が浸透しにくくなり、耐候性が向上する。空隙率は、低反射膜付き透光性基体の断面を走査型電子顕微鏡で観察して得られる像より空隙の面積を計測した値から算出される。下層16の厚さは、50~150nmが好ましく、60~140nmがより好ましい。下層16の厚さが50nm以上であれば、透明基板12まで水分等が浸透しにくくなり、耐候性が向上する。下層16の厚さが150nm以下であれば、波長が400~1200nmの光に対して反射率を低く抑えることができる。下層16の厚さは、低反射膜の断面を走査型電子顕微鏡にて観察して得られる像から計測される。下層16としては、比較的屈折率が低く、化学的安定性に優れ、ガラスとの密着性に優れる点から、SiO2を主成分とする層が好ましく、実質的にSiO2からなる層がより好ましい。SiO2を主成分とする層とは、SiO2の割合が下層16100質量のうち90質量以上であることを意味し、実質的にSiO2からなる層とは、不可避不純物を除いてSiO2のみから構成されていることを意味する。下層16は、SiO2微粒子およびマトリックスから構成されていることが好ましい。SiO2微粒子としては、中空SiO2微粒子または中実SiO2微粒子が挙げられ、独立した空孔を有し、かつ上層18から透明基材12にわたって連通した空孔を有さない下層16を形成できる点から、中空SiO2微粒子が好ましい。中空SiO2微粒子は、各粒子が独立した状態で存在していてもよく、各粒子が鎖状に連結していてもよく、各粒子が凝集していてもよい。中空SiO2微粒子の平均一次粒子径は、5~150nmが好ましく、50~100nmがより好ましい。中空SiO2微粒子の平均一次粒子径が5nm以上であれば、低反射膜14の反射率が充分に低くなる。中空SiO2微粒子の平均一次粒子径が150nm以下であれば、低反射膜14のヘイズが低く抑えられる。中実SiO2微粒子は、各粒子が独立した状態で存在していてもよく、各粒子が鎖状に連結していてもよく、各粒子が凝集していてもよい。中実SiO2微粒子の平均一次粒子径は、5~150nmが好ましく、50~100nmがより好ましい。中実SiO2微粒子の平均一次粒子径が5nm以上であれば、低反射膜14の反射率が充分に低くなる。中実SiO2微粒子の平均一次粒子径が150nm以下であれば、低反射膜14のヘイズが低く抑えられる。平均一次粒子径は、電子顕微鏡写真から100個の微粒子を無作為に選び出し、各微粒子の粒子径を測定し、100個の微粒子の粒子径を平均して求める。マトリックスとしては、アルコキシシランの加水分解物ゾルゲルシリカの焼成物、シラザンの焼成物等が挙げられるが、アルコキシシランの加水分解物の焼成物がより好ましい。アルコキシシランの加水分解に用いる触媒としては、中空SiO2微粒子の分散を妨げないものが好ましい。アルコキシシランとしては、テトラアルコキシシラン例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン例えば、パーフルオロポリエーテルトリエトキシシラン等、パーフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン例えば、パーフルオロエチルトリエトキシシラン等、ビニル基を有するアルコキシシラン例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等、エポキシ基を有するアルコキシシラン例えば、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等、アクリロイルオキシ基を有するアルコキシシラン例えば、3-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等等が挙げられる。アルコキシシランの加水分解は、テトラアルコキシシランの場合、アルコキシシランの4倍モル以上の水、および触媒として酸またはアルカリを用いて行う。酸としては、無機酸例えば、HNO3、H2SO4、HCl等、有機酸例えば、ギ酸、シュウ酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリクロル酢酸等が挙げられる。アルカリとしては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。触媒としては、アルコキシシランの加水分解物の長期保存性の点から、酸が好ましい。上層上層18の屈折率は、1.10~1.29であり、1.12~1.27が好ましく、1.15~1.25がより好ましい。上層18の屈折率が1.10未満では、上層18が疎になりすぎ、耐久性が低下する。上層18の屈折率が1.29を超えると、低反射膜の反射率が高くなる。上層18の厚さは、50~300nmが好ましく、100~250nmがより好ましい。上層18の厚さが50nm以上であれば、波長が400~1200nmの光に対して反射率を低く抑えることができる。上層18の厚さが300nm以下であれば、実用的な耐摩耗性が確保できる。上層18の厚さは、低反射膜の断面を走査型電子顕微鏡にて観察して得られる像から計測される。上層18としては、比較的屈折率が低く、化学的安定性に優れ、下層16との密着性に優れる点から、SiO2を主成分とする層が好ましく、実質的にSiO2からなる層がより好ましい。上層18は、SiO2微粒子およびマトリックスから構成されていることが好ましい。SiO2微粒子としては、中空SiO2微粒子または中実SiO2微粒子が挙げられ、上層18には低い屈折率が要求される点から、中空SiO2微粒子が好ましい。中空SiO2微粒子、中実SiO2微粒子およびマトリックスとしては、下層16に用いたものと同様のものを用いればよい。物品の製造方法本発明の物品は、たとえば、透明基材の上に、各層を形成するための塗布液を順次、塗布、必要に応じて予熱し、最後に焼成することによって製造できる。本発明において、焼成とは、透明基材面上に塗布液を塗布することによって得られた塗布膜を加熱して硬化処理することも含めるものとする。塗布液としては、SiO2微粒子の分散液とマトリックス前駆体の溶液例えば、アルコキシシランの加水分解物の溶液、シラザンの溶液等との混合物等が挙げられる。塗布液は、レベリング性向上のための界面活性剤、塗膜の耐久性向上のための金属化合物等を含んでいてもよい。SiO2微粒子の分散液の分散媒としては、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。アルコキシシランの加水分解物の溶液の溶媒としては、水とアルコール類例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール等との混合溶媒が好ましい。塗布方法としては、公知のウェットコート法例えば、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スクリーンコート法、インクジェット法、フローコート法、グラビアコート法、バーコート法、フレキソコート法、スリットコート法、ロールコート法等等が挙げられる。塗布温度は、室温~200°Cが好ましく、室温~150°Cがより好ましい。焼成温度は、30°C以上が好ましく、透明基材、微粒子またはマトリックスの材料に応じて適宜決定すればよい。たとえば、透明基材の材料が樹脂の場合、焼成温度は樹脂の耐熱温度以下になるが、その温度であっても充分な反射防止効果が得られる。透明基材がガラスの場合、焼成温度は200°C~ガラスの軟化点温度以下が好ましい。焼成温度が200°C以上であれば、下層が緻密化して耐久性が向上する。焼成温度が、ガラスの軟化点温度以下例えば、800°C以下であれば、低反射膜中の空孔が消失することなく、低反射膜の反射率が充分に低くなる。作用効果以上説明した本発明の物品にあっては、低反射膜が透明基材側から順に、屈折率が1.30~1.44の下層と、屈折率が1.10~1.29の上層との2層構成からなるため、広い波長領域において反射率が低く、また、入射角の大きい光の反射率が単層の低反射膜に比べ低い。また、本発明の物品にあっては、下層の屈折率が1.30~1.44である。すなわち下層が緻密な層であるため、透明基材まで水分等が浸透しにくく、耐候性が良好である。また、本発明の物品にあっては、低反射膜が2層からなるため、3層以上の低反射膜に比べ摩擦耐久性が良好である。反射率の波長依存性については、具体的には、5°入射の光に対する波長400~1200nmの平均反射率が、0.1~1.2であることが好ましい。反射率の入射角依存性については、具体的には、70°入射の光に対する波長400~1200nmの平均反射率が、3.0~9.0であることが好ましい。耐候性については、具体的には、0°入射の光に対する波長400~1200nmの平均透過率の変化が、後述する耐湿試験前後で1.0以下であることが好ましい。摩耗耐久性については、具体的には、0°入射の光に対する波長400~1200nmの平均透過率の変化が、後述する摩耗試験前後で1.0以下であることが好ましい。以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。例1~5は実施例であり、例6~10は比較例である。微粒子の平均一次粒子径中空微粒子の平均一次粒子径は、中空微粒子の分散液をエタノールで0.1質量に希釈した後、コロジオン膜上にサンプリングして透過型電子顕微鏡日立製作所社製、H-9000にて観察し、100個の中空微粒子を無作為に選び出し、各微粒子の粒子径を測定し、100個の微粒子の粒子径を平均して、中空微粒子の平均一次粒子径を求めた。中空微粒子以外の微粒子の平均一次粒子径は、球形粒子が担体に均一に分散されていると仮定して、BET法により測定した比表面積と球形粒子の体積から換算して算出した。中空微粒子の外殻の厚さおよび空孔径中空微粒子の外殻の厚さおよび空孔径は、中空微粒子の分散液をエタノールで0.1質量に希釈した後、コロジオン膜上にサンプリングして透過型電子顕微鏡日立製作所社製、H-9000にて観察し、100個の中空微粒子を無作為に選び出し、各中空微粒子の外殻の厚さおよび空孔径を測定し、100個の中空微粒子の外殻の厚さおよび空孔径をそれぞれ平均して、中空微粒子の外殻の厚さおよび空孔径を求めた。屈折率低反射膜の屈折率は、低反射膜付き透光性基体をエリプソメーターJ.A.Woollam社製、型式:M-2000DIで測定し、波長550nmの屈折率を求めた。空隙率低反射膜の空隙率は、低反射膜付き透光性基体の断面を走査型電子顕微鏡日立製作所社製、型式:S-4300で観察して得られる像より空隙の面積を計測した値から算出した。空孔形態低反射膜の空孔形態は、低反射膜付き透光性基体の断面を走査型電子顕微鏡日立製作所社製、型式:S-4300で観察して得られる像より特定した。平均空孔直径低反射膜の平均空孔直径は、低反射膜付き透光性基体の断面を走査型電子顕微鏡日立製作所社製、型式:S-4300で観察して得られる像より計測した。膜厚低反射膜の膜厚は、低反射膜付き透光性基体の断面を走査型電子顕微鏡日立製作所社製、型式:S-4300で観察して得られる像より計測した。反射率低反射膜付き透光性基体の反射率は分光光度計日立製作所社製、型式:U-4100を用いて測定した。なお、反射率は、波長400~1200nmの平均反射率である。透過率低反射膜付き透光性基体の透過率は分光光度計日立製作所社製、型式:U-4100を用いて測定した。なお、透過率は、波長400~1200nmの平均透過率である。耐湿試験低反射膜付き透光性基体を80°C90の恒温恒湿槽に投入し、1000時間保持した後、透過率を測定して波長400~1200nmの平均透過率を求めた。試験前後の平均透過率から耐湿試験による変化を求めた。摩耗試験低反射膜付き透光性基体の表面を、フェルトにて1kg荷重で1000回往復磨耗した後、透過率を測定して波長400~1200nmの平均透過率を求めた。試験前後の平均透過率から摩耗試験による変化を求めた。中空状SiO2微粒子分散液Aエタノールの59gを撹拌しながら、ZnO微粒子水分散液固形分濃度:20質量、平均一次粒子径:30nmの30g、テトラエトキシシランSiO2換算固形分量:29質量の10gを加えた後、28質量のアンモニア水溶液の1gを加え、分散液のpHを10に調整し、20°Cで6時間撹拌して、コア-シェル型微粒子分散液固形分濃度:6質量の100gを得た。得られたコア-シェル型微粒子分散液に、強酸性カチオン交換樹脂三菱化学社製、ダイヤイオン、総交換量:2.0mseq/mL以上の100gを加え、1時間撹拌してpHが4となった後、ろ過により強酸性カチオン樹脂を除去し、該分散液を限外ろ過することでSiO2換算固形分濃度が15質量の中空状SiO2微粒子分散液Aを得た。中空状SiO2微粒子の外殻厚さは8nmであり、空孔径は26nmであり、平均一次粒子径は42nmであった。中空状SiO2微粒子分散液Bエタノールの49.5gを撹拌しながら、ZnO微粒子水分散液固形分濃度:20質量、平均一次粒子径:80nmの45g、テトラエトキシシランSiO2換算固形分量:29質量の5gを加えた後、28質量のアンモニア水溶液の0.5gを加え、分散液のpHを10に調整し、20°Cで6時間撹拌して、コア-シェル型微粒子分散液固形分濃度:10.5質量の100gを得た。得られたコア-シェル型微粒子分散液に、強酸性カチオン交換樹脂三菱化学社製、ダイヤイオン、総交換量:2.0mseq/mL以上の200gを加え、1時間撹拌してpHが4となった後、ろ過により強酸性カチオン樹脂を除去し、SiO2換算固形分濃度が15質量の中空状SiO2微粒子分散液Bを得た。中空状SiO2微粒子の外殻厚さは4nmであり、空孔径は66nmであり、平均一次粒子径は74nmであった。鎖状中実SiO2微粒子分散液C日産化学工業社製、IPA-ST-UP商品名、SiO2換算固形分濃度:15質量、一次粒子径:5~40nm、分散媒:イソプロパノール。マトリックス前駆体の溶液Dコルコート社製、コルコートP商品名、アルコキシシランの加水分解物の溶液、SiO2換算固形分濃度:2質量、エタノール:4質量、イソプロパノール:40質量、n-ブタノール:50質量、水:4質量。例1エタノールの78.0gを撹拌しながら、これに中空状SiO2微粒子分散液Aの12.0gおよびマトリックス前駆体の溶液Dの10.0gを加え、固形分濃度が2.0質量の上層用塗布液を調製した。この組成を表1に示す。また、ガラス板屈折率ns:1.53の表面に、後述の上層形成条件と同じ条件にて上層用塗布液を塗布、焼成して単層膜を形成し、屈折率、膜厚、反射率、透過率、耐湿試験後および摩耗試験後の透過率の変化、その他の性状等を求めた。結果を表2に示す。エタノールの66.4gを撹拌しながら、これに中空状SiO2微粒子分散液Aの5.6gおよびマトリックス前駆体の溶液Dの28.0gを加え、固形分濃度が1.4質量の下層用塗布液を調製した。組成を表1に示す。また、ガラス板屈折率ns:1.53の表面に、後述の下層形成条件と同じ条件にて下層用塗布液を塗布、焼成して単層膜を形成し、屈折率、膜厚を求めた。結果を表2に示す。透明基材として型板ガラス旭硝子社製、Solite、低鉄分で高透過ガラスであるソーダライムガラス通称名:白板ガラス、サイズ:100mm×100mm、厚さ:3.2mmを用意し、酸化セリウム水分散液で型板ガラスの表面を研磨し、水で酸化セリウムを洗い流した後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。上記型板ガラスの表面に下層用塗布液をスピンコート500rpm、20秒間にて塗布した。塗布後の型板ガラスを予熱炉にて予熱した後、さらに上層用塗布液をスピンコート500rpm、20秒間にて塗布した。その後、650°Cで10分間焼成し、低反射膜が形成された物品を得た。該物品を評価した。結果を表2に示す。例2~9塗布液の組成を表1に示す組成に変更した以外は、例1と同様にして低反射膜が形成された物品を得た。該物品を評価した。結果を表2に示す。また、例1の物品の断面の走査型電子顕微鏡写真を図2に示す。例10表1に示す3種類の下層用、中間層用および上層用の塗布液を調製し、上層と下層との間に中間層を形成する以外は、例1と同様にして低反射膜が形成された物品を得た。該物品を評価した。結果を表2に示す。例6は、低反射膜が単層であるため、70°入射の光に対する波長400~1200nmにおける平均反射率が高い。また、透明基材まで水分等が浸透しやすく、耐候性が低い。例7は、下層の屈折率が低すぎるため、70°入射の光に対する波長400~1200nmにおける平均反射率が高い。また、透明基材まで水分等が浸透しやすく、耐候性が低い。例8は、下層の屈折率が高すぎるため、70°入射の光に対する波長400~1200nmにおける平均反射率が高い。また、透明基材に反りが生じる。例9は、下層が、上層に連通した空孔を有するため、透明基材まで水分等が浸透しやすく、耐候性が低い。例10は、低反射膜が3層であるため、摩耗耐久性が低い。"