"角変位期間を通じてビームシステムのビームカラムを傾動する方法であって、真空チャンバに固設された第1のサブアセンブリであって、第1の開口を有するものを提供する工程と、ビームカラムが固設された第2のサブアセンブリであって、第2の開口を有し前記第1のサブアセンブリに対して角変位の軌道に従って電気機械的に駆動可能であるものを提供する工程と、前記第1の開口と第2の開口の間に真空シールドを提供する工程とからなる方法。ビームカラムのビームが角変位の全範囲に亘って前記第1のサブアセンブリに対して実質的に固定されたままのポイントを通過することを特徴とする請求項1に記載の方法。前記角変位の軌道が円弧であることを特徴とする請求項1に記載の方法。角変位の最中、ビームカラムのビームを含む第1の領域と該ビームを含まない第2の領域の間でガスシールドが維持されることを特徴とする請求項1に記載の方法。更に、前記二つのサブアセンブリの一方に取り付けられたモーターに該モーターの回転軸に取り付けられた第1のギアを装着する工程と、前記第1のギアに噛み合わされた第2のギアであって、前記モーターが取り付けられているサブアセンブリに対向する他のサブアセンブリに取り付けられたものを提供する工程を設け、前記モーターの回転軸が回転して前記両サブアセンブリ間の相対的な運動を引き起こすことを特徴とする請求項1に記載の方法。前記ビームカラムが固設された前記第2のサブアセンブリが前記第1のサブアセンブリに対する一連の空間変位増加ステップを通じて電気機械的に駆動可能であることを特徴とする請求項1に記載の方法。更に、前記角変位の範囲を制限する機構を設ける工程を有することを特徴とする請求項1に記載の方法。更に、前記両サブアセンブリの対向する密着面の間に空気ベアリングを設ける工程を有することを特徴とする請求項1に記載の方法。前記ビームカラムが固設された第2のサブアセンブリを提供する工程に、真空チャンバの外側に延在する一端を有するビームカラムを固設することが含まれ、更に、真空チャンバの外側に、前記第2のサブアセンブリを駆動するための駆動機構を提供することを有することを特徴とする請求項1に記載の方法。角変位の軌道を通じてビームシステムのビームカラムを傾動する装置であって、真空チャンバに固設された第1のサブアセンブリであって、第1の開口を有するものと、ビームカラムが取り付けられた第2のサブアセンブリであって、第2の開口を有するものと、前記第1のサブアセンブリの位置に対して前記角変位の軌道に従って電気機械的に前記第2のサブアセンブリを駆動する電気機械的な駆動システムと、前記第1の開口と第2の開口の間の真空シールドとからなる装置。前記ビームカラムのビームが角変位の全範囲に亘って前記第1のサブアセンブリに対して実質的に固定されたままのポイントを通過することを特徴とする請求項10に記載の装置。前記角変位の最中、前記ビームカラムのビームを含む第1の領域とそのビームを含まない第2の領域の間で、真空シールドによりガスの密閉シールドが維持されることを特徴とする請求項10に記載の装置。真空シールドが、蛇腹装置により行われることを特徴とする請求項10に記載の装置。電気機械的な駆動システムが、更に、前記二つのサブアセンブリの一方に取り付けられたモーターの回転軸に取り付けられた第1のギアを装着した該モーターと、前記第1のギアに噛み合わされた第2のギアであって、前記モーターが取り付けられているサブアセンブリに対向する他のサブアセンブリに取り付けられたものを装備しており、前記モーターの回転軸が回転して前記両サブアセンブリ間の相対的な運動を引き起こすことを特徴とする請求項10に記載の装置。前記モーターが制御自在に、一連の空間変位増加ステップを通じて前記ビームカラムを電気機械的に駆動することを特徴とする請求項14に記載の装置。更に、前記角変位の範囲を制限する機構を有することを特徴とする請求項10に記載の装置。更に、前記機構が角変位の範囲を検出するセンサーを有することを特徴とする請求項16に記載の装置。更に、前記両サブアセンブリの対向する密着面の間に空気ベアリングを設けることを特徴とする請求項10に記載の装置。前記ビームカラムの一端が真空チャンバの外側に延在し、そして、前記ビームカラムの他端が真空チャンバの内側に延在することを特徴とする請求項10に記載の装置。ワークピースと相互作用するビームシステムであって、真空チャンバに固設された第1のサブアセンブリであって、第1の開口を有するものと、第2の開口を有する第2のサブアセンブリと、前記第1のサブアセンブリの位置に対して角変位の軌道に従って電気機械的に前記第2のサブアセンブリを駆動する電気機械的な駆動システムと、前記第1の開口と前記第2の開口の間の真空シールドと、ビームを発生して前記ワークピースと相互作用するために前記第2のサブアセンブリに取り付けられたビームカラムとからなるビームシステム。角変位の最中、前記ビームを含む第1の領域とそのビームを含まない第2の領域の間でガスシールドが維持されることを特徴とする請求項20に記載のビームシステム。ビームカラムが予め決めることができる一連の角変位を介して駆動可能であることを特徴とする請求項20に記載のビームシステム。更に、ビームカラムの角変位の速度を制御するプロセッサを装備していることを特徴とする請求項20に記載のビームシステム。代表的な集束イオンビームシステムの構成は基板に対して垂直に衝突するビームを提供するものであるが、集束イオンビームシステムは傾斜させて使用されることもあり、そこでは、基板面に対して垂直ではない入射角度でビームが衝突して、特定の角度でイオンビームミリングを行うか、又は、電子ビーム表示を行う。このことは、表示又はエッチングをすべきワークピースを有するステージを傾けることによって達成されるかもしれないが、全ての所望の入射角度に対してビーム衝突の中心点とステージ回転軸の間の一致を維持することが難しい。それとは別に、入射角度の変更は、所望のビーム衝突中心点でワークピースを通過する回転軸の軸回りにおいてビームカラムを傾けることによって達成される。従来の技術の方法においては、システム走査の中断を経ることなくカラムの傾斜角度の変更をする満足のいく方法を提供することはなかった。カラムを傾斜して垂直ではない入射角度を生み出す先行技術には、真空シールドと共にテーパー面を有する固定スペーサーを使用してビームの入射角度を設定することが含まれている。連続する入射角度にワークピースを置くためには、カラムの傾斜角度を設定するために使用されているスペーサーを反復的に変更しなければならない。テーパー面を有するスペーサーを変えることは、サンプルチャンバを露出する必要があり、それによって、傾斜角度を変更した後にそのチャンバを真空にし放射源を再起動してそれを安定にするための別の時間を必要とする。別の先行技術の方法は、蛇腹を採用して、カラムが機械的に傾けられている間も意図的にシステムがシールされたままにするが、しかし、傾斜角度の変更は手動でしなければならず、正確な傾斜角度にカラムを迅速に設定することは困難である。カラム傾斜角度の全範囲に亘ってワークピース上の同一ポイントにビームを集束させたままにすることが望ましい。このことは、ビームが集束されるポイントの回りにおいてビームを傾動して一定のユーセントリックポイントeucentricpointを維持することによって達成される。ユーセントリックポイントは、偏向されていないときにビームが通過する任意のポイントであって、ビーム偏向軸から特定の距離にあるものとして定義される。このユーセントリックポイントは、ビーム衝突中心点に合致するように好適には選択され、そして、ユーセントリックポイントは、好適には、全てのカラム傾斜角度に対して空間内の同じ箇所にとどまる。先行技術の方法は、この一定のユーセントリックポイントを得る満足のいく方法を提供するものではない。更に、先行技術の方法は、システム操作を中断することなく、傾斜角度を変える満足のいく方法を提供するものでもない。したがって、先行技術の限界を克服する、一定のユーセントリックポイントを維持しつつシステム操作中にカラム傾斜角度の範囲に亘ってカラムを傾斜できるシステムと方法を提供することが望ましい。本発明は、上記先行技術の課題を解決したものであって、その第1の発明に係わる、角変位の期間を通じてビームシステムのビームカラムを傾動する方法は、真空チャンバに固設された第1のサブアセンブリであって、第1の開口を有するものを提供する工程と、ビームカラムが固設された第2のサブアセンブリであって、第2の開口を有し前記第1のサブアセンブリに対して角変位の軌道に従って電気機械的に駆動可能であるものを提供する工程と、前記第1の開口と第2の開口の間に真空シールドを提供する工程とからなる。また、第2の発明に係わる、角変位の軌道を通じてビームシステムのビームカラムを傾動する装置は、真空チャンバに固設された第1のサブアセンブリであって、第1の開口を有するものと、ビームカラムが取り付けられた第2のサブアセンブリであって、第2の開口を有するものと、前記第1のサブアセンブリの位置に対して前記角変位の軌道に従って電気機械的に前記第2のサブアセンブリを駆動する電気機械的な駆動システムと、前記第1の開口と第2の開口の間の真空シールドとからなる。更に、第3の発明に係わる、ワークピースと相互作用するビームシステムは、真空チャンバに固設された第1のサブアセンブリであって、第1の開口を有するものと、第2の開口を有する第2のサブアセンブリと、前記第1のサブアセンブリの位置に対して角変位の軌道に従って電気機械的に前記第2のサブアセンブリを駆動する電気機械的な駆動システムと、前記第1の開口と前記第2の開口の間の真空シールドと、ビームを発生して前記ワークピースと相互作用するために前記第2のサブアセンブリに取り付けられたビームカラムとからなる。これらの発明は、走査ビームシステムの作動中において、一定のユーセントリックなポイントを維持し、カラムとワークチャンバの真空程度を維持しつつ、著しい振動を持ち込むこともなく連続的な角度区間に亘ってビームカラムの傾斜角度を自動的に調整するものである。これらの発明によれば、ビームカラムは角変位の全範囲に亘って電気機械的に駆動可能であり、一定のユーセントリックポイントを維持しつつ傾斜角度の正確な制御を可能にする。電気機械的駆動システムは、コンピュータによって制御されて、ビームシステムの稼働中においてカラムが傾斜される所望の連続角変位を提供する。空気ベアリングの支持が提供されてシステム内の摩擦や振動を最小にする。固有の蛇腹が用いられてカラムが傾斜しているときの真空又は低圧環境を保持する。上記説明は、以下に記載する詳細な発明の説明がよりよく理解できるようにするために、本発明の特徴と技術的な利点をできるだけ広範囲に概説したものである。本発明の別の特徴や利点も以下に説明する。ここに提供された開示事項が本発明と同じ目的を実現するために他の構造に改作するか又はそのような構造を設計するための基礎として容易に利用可能であることは、業界において通常の知識を有する者であれば容易に理解されることである。業界において通常の知識を有する者は、上記特許請求の範囲に記載された発明の精神と範囲を逸脱しない範囲でそのような均等構造物が存在することと、本発明によって達成され得るあらゆる目的が上記特許請求の範囲に記載されたそれぞれの実施の形態の全てにおいて必ずしも達成される必要がないことを理解する。本発明は、走査ビームシステムの作動中において、一定のユーセントリックなポイントを維持し、カラムとワークチャンバの真空程度を維持しつつ、著しい振動を持ち込むこともなく連続的な角度区間に亘ってビームカラムの傾斜角度を自動的に調整する方法とそれを用いる装置を提供するものである。本発明は、これから、例示目的で、集束イオンビームシステムにおける使用状態に基づいて説明される。しかしながら、本発明の方法は、走査電子顕微鏡や透過型走査電子顕微鏡を含む電子ビームシステムのような他の走査システムにおいても使用され得ることは明らかである。図1において、集束イオンビームシステム8は、液体金属イオン源14と、引き出し電極及び静電光学系を内蔵した集束カラム16がその内部に配置されている上部ネック部12を装備した真空容器10を有する。イオンビーム18は、イオン源14から集束カラム16を通り、20で略示された静電偏向機構の間を通過して、下部チャンバ26内で移動自在のX-Yステージ24上に配置された、例えば、半導体デバイスからなる試料22に至る。イオンポンプ28は、ネック部12を排気するために用いられていろ。前記下部チャンバ26は、真空制御器32の制御の基に、ターボ分子及び機械的ポンプシステム30によって排気される。真空系は、下部チャンバ26内部に、約1×10-7Torrから5×10-4Torrの間の真空度の真空を提供する。エッチングアシストガス又はエッチング抑制ガスが用いられる場合には、チャンババックグラウンド圧力は、概して、1×10-5Torrである。高圧電源34は、液体金属イオン源14に接続されると共に、集束カラム16内の適切な電極に接続されて約1keV乃至60keVのイオンビーム18を生成しそれを下側に配向する。パターン発生器38によって提供された所定のパターンに関連して作動される偏向制御器及び増幅器36は偏向プレート20と連結され、それによって、ビーム18が試料22の上面に対応するパターンを描く。ある種のシステムにおいては、業界において周知であるように、偏向プレートが最終レンズの前に配置される。イオン源14は、マルチカスプmulti-cusp又は他のプラズマイオン源のような別のイオン源も使用できるが、主に、ガリウムの金属イオンビームを提供する。このイオン源14は、主に、試料22において0.1ミクロン未満の幅のビームに集束可能であり、イオンミリングによって試料22を改作し強化エッチングを行い材料堆積を行うか、又は、試料22の表面を映像化する。二次イオン又は二次電子放出を検出し映像化するために使用される荷電粒子倍増器40は、ビデオ回路及び増幅器42に接続されるが、該ビデオ回路及び増幅器42は制御器36から偏向信号を受信するビデオモニター44にドライブ信号を供給する。下部チャンバ26内の荷電粒子倍増器40の配置は、様々な実施の形態において変動する。例えば、好適な荷電粒子倍増器40は、イオンビームと同軸上におかれると共に、イオンビームを通過させるための穴を有する。走査電子顕微鏡41は、その電源及び制御器45と共に、FIBシステム8に任意に装備される。流体噴射システム46は、任意に、下部チャンバ26に延出し試料22に向かってガス蒸気を導入噴射する。粒子ビーム処理のためのガス噴射システムと題し、Casella他に付与されて本願出願人に譲渡された米国特許第5,851,413号には、適切な流体噴射システム46が記載されている。ドア60は、試料22を入れて、加熱又は冷却されるステージ24上にそれを配置するために、そして、貯蔵器50を点検するために開扉される。そのドアは、システムが真空状態にある場合には開扉することができないようにしっかりと締め切られている。高圧電源34は、適当な加速電圧をイオンビームカラム16内部の電極に引加してイオンビーム18を励振し集束する。それが試料22に衝突したとき、試料から材料がスパッタされる、すなわち、それが物理的に放出される。集束イオンビームシステムは、例えば、本出願の出願人である米国オレゴン州ヒルズボロのFEIカンパニーから商業的に入手可能である。偏向制御器及び増幅器36に加えられる信号は、パターン発生器38によって制御されるパターンに従って集束イオンビームを映像化若しくはミリングされるべきターゲット領域内で移動させる。本発明の好適な実施の形態が図2に斜視図として示されている。そのカラム傾動装置2000は、第1のサブアセンブリ2100と第2のサブアセンブリ2200を装備する。該第1のサブアセンブリ2100は据え置きにされるが、一方、第2のサブアセンブリ2200は第1のサブアセンブリ2100に対して移動する。ビームカラムは、両サブアセンブリを通過する円筒形の穴2800に挿入されて、前記ビームカラムによって発生されたビームが前記カラム傾動装置2000の直下に配置された基板にまで到達できるようにする。ビームカラムは、それが第2のサブアセンブリ2200と共に動くように、そのサブアセンブリ2200に取り付けられる。図1は、第1のサブアセンブリ2100と下部チャンバ26とFIBカラムハウジング12と第2のサブアセンブリ2200の関係を略式に図示している。以下に詳述するように、円筒形の穴2800は、移動可能なサブアセンブリ2200に取り付けられた上部と据え置きされた下部を有する蛇腹組み立て体の内部にある。モーター2220とギアユニット2240が第2のサブアセンブリ2200に装着されている。図3Aは、カラム傾動装置2000の側面図である。モーター2220はギア2212を装着している。ギア2212は、他のギア2215と噛み合わされている。図3Bに示すように、そのギア2215は小ギア2216を装備し、ギアユニット2240も装備している。図3Bに示すように、ギア2216は据え置きの第1のサブアセンブリ2100に装着されたギアセグメント2111と噛み合わされている。図4は、ギアユニット2240の側断面図である。ギアユニットハウジング2242は、第2のサブアセンブリ2200に装着されて、それと共に移動する。ギア2215と2216がその一端に取り付けられているシャフト2246は、ギアユニットハウジング2242を通過して延在し、その内部でボールベアリング2244に対して回動自在である。モーター2220が回動すると、ギア2212が回動する。ギア2212の回動がギア2215と2216を回動させる。ギア2216が据え置きの第1のサブアセンブリ2100に装備されたギアセグメント2111と噛み合わされているので、第2のサブアセンブリ2200が強制的に移動させられる。再び、図2に関連して、サブアセンブリ2100と2200は、それぞれ、仕上げ面2150と2250を有するが、それらは図3Bに図示されたギアセグメント2111によって示された曲率半径と同じ曲率半径を示しており、ギア2216の角回転が第2のサブアセンブリ2200の角変位を決定する。ビームカラムが第2のサブアセンブリ2200に装着されているので、それは第2のサブアセンブリ2200と共に移動し、したがって、ギア2216に伝えられたモーターの角回転がビームカラムの角変位を制御し決定する。仕上げ面2150と2250の曲率半径は、好適には、第2のサブアセンブリ2200の角変位がビームをビームシステムのユーセントリックポイントを通過する軸の軸回りを回転させるようにする。モーター2220は、所望のビームカラムの角変位に対応する電気信号によって制御される。このように、ビームシステムが稼働中であるにもかかわらず、ビームカラムの角変位はモーター2220を駆動する電気信号の制御された変動によって調整される。ギア2215と2216が回動させられると、シャフト2246も、それによって回動させられる。ギア2215と2216が取り付けられている一端とは反対側のシャフト2246の端部には、図4に示すように、フラグ2248が取り付けられている。このフラグ2248は、シャフト2246と共に回動する。図2に関連して、第2のサブアセンブリ2200が時計回り若しくは反時計回りに極端な角変位にまで回動したときには、フラグ2248が、好ましくは赤外線センサーである光学センサー2250の光路を遮断するような位置に両光学センサー2250、2250が取り付けられている。光路遮断が生じたとき、センサー2250はモーター2220に回転停止を命令する電気信号を発生し、それによって、第2のサブアセンブリ2200、そして、その結果ビームカラムもその角変位を停止するようにする。更に、光学格子とステップモーターとエンコーダとを組み合わせて、そのステップモーターは制御され、加工精度限界にまで最小にすることができる機械的な許容誤差を条件にして、1/30000度以上の精度で角変位を生成することができる。仕上げ面2150と2250の間の摩擦は、空気ベアリングによって好ましくは解消されるか、若しくは、少なくとも最小にされる。すなわち、圧縮空気が供給されて第2のサブアセンブリ2200が第1のサブアセンブリ2100の上に、若干、例えば、10ミクロン又は、2ミクロン以下の場合すらあるにまで浮揚するようにして、仕上げ面2150と2250の間の摩擦接触を阻止し、振動を最小にする。ここに開示された事項に基づいて、仕上げ面2150と2250の間の振動と摩擦を抑制する他の方法は色々あるが、業界において通常の知識を有する者であればそれを容易に理解する。図5は、他のカラム傾動装置2000の斜視図であり、ギア2215と噛み合わされたギア2212に接続されたモーター2220を図示する。ギアユニット2240は、電子部品組み立て体2270との電気的接続の支持体となるカバープレート2290の背後に配置されている。電子部品組み立て体2270は、制御信号がモーター2220に伝わるようにし、更に、センサー信号をセンサー2250から受信できるようにする。集束ビームシステムにおいて真空を維持しながら、サブアセンブリ2100と2200の間での動きを可能にするために蛇腹アセンブリ2300が円筒形の穴2800内に挿入され取り付けられる。図6は、蛇腹アセンブリ2300の斜視図である。第1の取り付けフランジ2320が、蛇腹アセンブリ2300を第2のサブアセンブリ2200に取り付けるために提供されるが、孔2322が図5に示された孔2222と整列されて、ボルト又は他の適切な機構で第2のサブアセンブリ2200に蛇腹アセンブリ2300を固着する。第2の取り付けフランジ2340は、また、第1のサブアセンブリ2100が取り付けられる固定構造支持組み立て体に蛇腹アセンブリ2300を取り付けるために提供される。このようにして、蛇腹アセンブリ2300の上部は第2のサブアセンブリ2200と共に動くが、蛇腹アセンブリ2300の下部は固定されたままである。第1の蛇腹サブアセンブリ2350と第2の蛇腹サブアセンブリ2360が、また、図6に部分的に図示されている。蛇腹アセンブリ2300の断面図である図7に、これらのサブアセンブリが詳細に示されている。第1の蛇腹サブアセンブリ2350と第2の蛇腹サブアセンブリ2360は、好ましくは、複数の低円筒形のリング状部材で構成されるが、それぞれは約3.2インチの内径と約4.2インチの外形を有し、0.05インチの定格厚みを有するステンレススチールでできている。蛇腹を構成するために、第1と第2の隣接リングがそれらの内径に溶着されている。第2と第3の隣接リングがそれらの外径に溶着されている。図7に示されているように、アコーデオン構造の蛇腹サブアセンブリ2350,2360を構成するために、第3と第4の隣接リングがそれらの内径等に溶着されている。蛇腹サブアセンブリ2350の上端は、フランジ状の構造物2320に溶着され、蛇腹サブアセンブリ2350の下端は、円筒形の構造物2370に溶着されている。同様に、蛇腹サブアセンブリ2360の下端は、フランジ状の構造物2340に溶着され、蛇腹サブアセンブリ2360の上端は、円筒形の構造物2370に溶着されている。第2のサブアセンブリ2200が第1のサブアセンブリ2100に対して移動された場合、蛇腹サブアセンブリ2350,2360はアコーデオンのように伸縮される。薄い鋼材でできた円筒形の構造物2370は、その内部にいかなる粒子状物質をも入れないようにして、その系内の汚染を阻止する。複数のOリングが用いられて、一側で蛇腹アセンブリとビームカラムの間の真空シールドを、他側で蛇腹アセンブリとシステム真空チャンバの間の真空シールドを保持する。特に、図6に示すようにOリング溝2380が設けられて、図6に示すフランジ2390の係合面と図示しないビームカラムの係合フランジにおいて圧力シールを形成する。これによって、蛇腹アセンブリ2300の低圧内部領域と傾動装置の外部環境の間における漏洩が無くなる。図示しない同様のOリング溝が、フランジ2340とシステム真空チャンバとの間にシールドを形成する。前記のように、ビームがそこを通過して放出されるビームカラムの端部が、蛇腹アセンブリの中央穴に挿入され、蛇腹アセンブリによって真空シールドされて、ビームが真空内を移動してワークピースに至ることを可能にする。そして、ビームカラムは、真空シールドを維持しながら、角変位を通じて傾動される。ここに説明された蛇腹アセンブリは、実際にフルストロークサイクルが行われていなくても、10000回のフルストロークに耐えられる。このように、蛇腹アセンブリはそれが使用されているビームシステムの寿命を引き延ばすことができる。それとは別に、蛇腹アセンブリは、2時間以内に保守要員によって交換することも可能である。蛇腹アセンブリ2300は、第2のサブアセンブリ2200に少なくとも5度好ましくは10度の角変位を提供するように構成される。基板にエッチングされる回路特性の輪郭が重要であるときに、このことは有利である。例えば、集積回路の製造時に、集束イオンビームシステムを使用して回路の各層の断面を露出することはよくあることである。エッチングされた壁部が湾曲している、即ち、基板表面に垂直でない場合、露呈された表面の歪んだ断面を見ることとなる。映像化された断面の解像度を最高にするためには、集積回路が形成されるウェーハ表面に対してエッチングが垂直に下側に直線的に行われることが好ましい。集束イオンビームの電流分布が一様ではないので、垂直の集束イオンビームは、表面に垂直な縁をエッチングするものではない。図8Aは、集束イオンビームの電流強度2705分布のグラフであり、イオン電流がゼロに瞬時に落ちずにビームの縁で徐々に消え去ることを示している。図8Bは、図8Aに示された電流強度分布を有する集束イオンビームによってエッチングされた代表的な壁部2710の断面を示す。好適には垂直から約4度傾いた傾斜集束イオンビームを用いたエッチングによって、壁が垂直にエッチングされる。図8Cは、傾斜集束イオンビームを用いてエッチングされた代表的な壁部2730を示す。壁部2730は、ウェーハ表面2740に対してほとんど垂直である。このように、荷電粒子ビームカラムを傾動するので、ワークピース表面にほとんど垂直なエッチングされた壁部を生成して露呈された壁部の高解像度の映像を得る方法を提供することができる。同様の効果はステージを傾けることによっても達成されるけれども、ステージを傾けることは本願出願人の傾動カラムを使用した集束粒子ビームシステムと方法と題する米国特許第6,039,000号に記載されたいくつかの不都合を有する。上記システムによって提供された傾斜運行の幾何学的構成が図9に示されている。基準軸Aはその基準軸に対して固定されている第1のサブアセンブリ2810を通過する。傾斜軸Bは、ビームカラムが取り付けられた第2のサブアセンブリ2820を通過するとともに、カラムのビーム軸と共軸関係にある。第2のサブアセンブリ2820は、傾斜軸Bに対して固定されてはいるが、空間的な変位経路Sに従って、第1のサブアセンブリ2810に対しては移動可能である。傾斜軸Bは、基準軸Aと共軸であってもよいし、又は、軸AとBに対して垂直な回転軸Cの回りを回動して、変位角θを形成するようにしてもよい。曲率半径Rが角θに対して一定である限り、空間変位の経路Sは円弧である。このことは、ビームカラムの空間変位中に第1のサブアセンブリ2810に対して実質的に不変更なままのポイントをビームが通過することとなり、それによって、システムは全ての傾斜角度において実質的に一定のユーセントリックなポイントを維持することができるようになる。このような角変位は、上記本発明の好適実施の形態によって達成される。更に、そのことは、システム操作を中断することなく一定範囲の連続傾斜角度において最小の振動を伴って実現される。上記のように、モータ2220は、ビームカラムの所望の角変位に対応する電気信号によって制御される。このように、ビームシステムが稼働中においても、ビームカラムの角変位はモータ2220を駆動する電気信号の制御された変動によって調整される。モータ2220とそれに関連する電気信号は履行されて、連続的に、ステッピングモータの場合には段階的に、現在の位置から所望の角変位に従って又は特定の所望の傾斜角度に、移動自在のサブアセンブリを電気機械的に駆動する。ある時間間隔中においてカラムが傾斜される所望の一連の角変位は、マイクロプロセッサ又は他のプログラム可能な機械をプログラムするソフトウェアによって実現され、モーター制御サブシステム内の電子回路が前記所望の一連の角変位に従ってカラムを駆動するのに必要な電気信号を発生することを可能にする。このシステムの利用者は、例えば、ビデオモニターとキーボードのような情報表示装置と情報入力装置によって一連の角変位をプログラムすることができる。このシステムの利用者は、ビデオモニターに表示され、そして、コンピュータに送られる情報をキーボードを通じて入力することによってカラムの傾斜を制御する。コンピュータは、そこに送られてきた情報によって起動して、モーター制御サブシステムが所望の一連の角変位を通じて第2のサブアセンブリ2200を駆動する信号を発生する一連の出力を開始する。このシステムのビームカラムは、第2のサブアセンブリ2200の傾斜軸を有するビームカラムによって発射されたビームの軸と整列する方向になるように第2のサブアセンブリ2200に取り付けられる。発射されたビームは、したがって、チャンバの内部領域を通過して所望の現状の入射角においてチャンバ内のワークステーションの固着されたワークピースに衝突する。傾斜角度だけではなく角変位の起きる速度も制御可能なソフトウェアプログラムはコンピュータ内に組み込み可能である。コンピュータは、傾斜角度における連続する変更の間において決められた傾斜角度における一時停止時間を制御するようにプログラムされている。更に、コンピュータは、ワークステーションの移動と移動速度を制御するようにプログラムされている。このように、ワークステーションとビームカラムのビームの間の相対的な向きと相対的な運行速度の制御が提供される。次いで、ビーム発射が、制御可能及び指定可能な時間間隔の間停止される。したがって、例えば、ビームカラムとワークステーションの間の相対的な運行が生じたとき、ビームは所望の場合消される。本発明のシステムは、更に、映像化ビーム源と検出器からなる映像化サブシステムを装備することもできる。この映像化ビーム源と検出器はビームカラムによって発射されたビームと干渉せずにワークステーションに対してワークピースの映像化が可能なような角度と距離に配設される。別の実施の形態において、映像化ビーム源は第2のサブアセンブリ2200に取り付けられたビームカラムで選択可能な傾斜角度で映像化を可能にするものにすることもできる。検出器は、ワークピースから受け取った輻射物に応じて信号を発生する。これらの信号は、そして、処理されてビデオモニターに送られてワークピースの映像を表示する。このように、本願発明は、予め決めておくことができる一連の変位を通してビームカラムを駆動する自動操縦可能な電気機械式駆動装置を提供する。本発明とその利点を詳細に説明してきたが、特許請求の範囲に記載された発明の精神とその範囲を逸脱することなく、様々な変更、置換、改変が行われ得ることが理解されるべきである。例えば、業界において通常の知識を有する者は、無制限に、ここに記載する電気機械駆動システムが液動部材を装備することを容易に理解する。上記回転モーターの代わりに、リニアモーターを使用することもできる。装置の変位範囲を制限するために利用されたセンサーの代わりに、若しくは、それに追加して機械的に作動する遮断スイッチが使用可能である。本発明は、複数の目的を達成するものであるが、本発明は異なる目的のための異なる用途に使用され得るので、特許請求の範囲内のあらゆる実施の形態が必ずしも全ての目的を達成するものではない。更に、本願の範囲は、明細書に記載された方法、機械、製造物、組成物、手段、手順、又は工程の特定の実施の形態に制限されることを意図するものではない。業界において通常の知識を有する者は本発明の開示から容易に分かるように、ここに記載された対応実施の形態と実質的に同じ機能を行い、又は実質的に同じ結果を招来する、現存する若しくは今後開発されるであろう方法、機械、製造物、組成物、手段、手順、又は工程は本発明に従って利用され得る。したがって、特許請求の範囲は、そのような方法、機械、製造物、組成物、手段、手順、又は工程をその権利範囲内に包摂することを意図している。本願発明に係わるビームシステムのビームカラムを傾動する方法は、一定のユーセントリックなポイントを維持し、カラムとワークチャンバの真空程度を維持しつつ、著しい振動を持ち込むこともなく連続的な角度区間に亘ってビームカラムの傾斜角度を自動的に調整する効果を奏する。本発明に係わるビームシステムのビームカラムを傾動する装置は、一定のユーセントリックなポイントを維持しつつ、カラムとワークチャンバの真空シールを維持した状態で、正確な傾斜角度をカラムに付与するように迅速に設定される効果を奏する。本発明に係わるビームシステムは、一定のユーセントリックなポイントを維持しつつ、カラムとワークチャンバの真空シールを維持した状態で、連続する入射角度に対してワークピースを置くことができ、例えば、優れたエッチングや堆積などを実行できる効果を奏する。"