"セリサイトを、酸化チタンと、酸化亜鉛とで被覆した粉状物と、エックス線及び電子線遮蔽材を常温で撹拌し、該撹拌されたものに、微粒酸化鉄を入れ、更に非イオン性界面活性剤を入れることによりペーストを製造することを特徴とするペースト製造方法。前記エックス線及び電子線遮蔽材は、全体の比率のうち20~30であることを特徴とする請求項1記載のペースト製造方法。前記エックス線及び電子線遮蔽材は、紫外線遮蔽能も有することを特徴とする請求項1または2記載のペースト製造方法。前記エックス線及び電子線遮蔽材は、少なくともケイ素、ストロンチウム、マグネシウム、ユーロピウム及びジスプロシウムを必須元素として有することを特徴とする請求項1記載のペースト製造方法。前記エックス線及び電子線遮蔽材は、ケイ素5~30質量、ストロンチウム30~60質量、マグネシウム1~20質量、ユーロピウム0.1~5質量、及びジスプロシウム0.1~5質量を含有することを特徴とする請求項1記載のペースト製造方法。前記エックス線及び電子線遮蔽材は、少なくともケイ素酸化物、炭酸ストロンチウム、酸化マグネシウム、酸化ユーロピウム及び酸化ジスプロシウムを焼成して得られることを特徴とする請求項1記載のペースト製造方法。セリサイトを、酸化チタンと、酸化亜鉛とで被覆した粉状物と、ガンマ線遮蔽材を常温で撹拌し、該撹拌されたものに、微粒酸化鉄を入れ、更に非イオン性界面活性剤を入れることによりペーストを製造することを特徴とするペースト製造方法。前記ガンマ線遮蔽材は、全体の比率のうち20~30であることを特徴とする請求項7記載のペースト製造方法。前記ガンマ線遮蔽材は、紫外線遮蔽能も有することを特徴とする請求項7または8記載のペースト製造方法。前記ガンマ線遮蔽材は、ビスマス及びチタンの少なくとも1種、ケイ素、並びにストロンチウムを必須元素として有することを特徴とする請求項7記載のペースト製造方法。前記ガンマ線遮蔽材は、ビスマス20~50質量、ケイ素3~25質量及びストロンチウム20~50質量を含有することを特徴とする請求項7記載のペースト製造方法前記ガンマ線遮蔽材は、チタン20~50質量、ケイ素3~25質量及びストロンチウム20~50質量を含有することを特徴とする請求項7記載のペースト製造方法。前記ガンマ線遮蔽材は、酸化ビスマス、チタン及び酸化チタンの少なくとも1種、ケイ素酸化物、並びに炭酸ストロンチウムを焼成して得られることを特徴とする請求項7記載のペースト製造方法。酸化チタンと、酸化亜鉛と、エックス線及び電子線遮蔽材と、イオン性界面活性剤とを含むことを特徴とするペースト。酸化チタンと、酸化亜鉛と、ガンマ線遮蔽材と、イオン性界面活性剤とを含むことを特徴とするペースト。したがって、エックス線等を遮蔽できる新しい種類の無鉛の放射線遮蔽材を含有するペーストの提供が望まれている。本発明に係るペースト製造方法は、セリサイトを、酸化チタンと、酸化亜鉛とで被覆した粉状物と、エックス線及び電子線遮蔽材を常温で撹拌し、該撹拌されたものに、微粒酸化鉄を入れ、更に非イオン性界面活性剤を入れることによりペーストを製造する。本発明に係るペースト製造方法は、エックス線及び電子線遮蔽材は、全体の比率のうち20~30であってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、エックス線及び電子線遮蔽材は、紫外線遮蔽能も有するものであってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、エックス線及び電子線遮蔽材は、少なくともケイ素、ストロンチウム、マグネシウム、ユーロピウム及びジスプロシウムを必須元素として有するものであってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、エックス線及び電子線遮蔽材は、ケイ素5~30質量、ストロンチウム30~60質量、マグネシウム1~20質量、ユーロピウム0.1~5質量、及びジスプロシウム0.1~5質量を含有するものであってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、エックス線及び電子線遮蔽材は、少なくともケイ素酸化物、炭酸ストロンチウム、酸化マグネシウム、酸化ユーロピウム及び酸化ジスプロシウムを焼成して得られるものであってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、セリサイトを、酸化チタンと、酸化亜鉛とで被覆した粉状物と、ガンマ線遮蔽材を常温で撹拌し、該撹拌されたものに、微粒酸化鉄を入れ、更に非イオン性界面活性剤を入れることによりペーストを製造するものであってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、ガンマ線遮蔽材は、全体の比率のうち20~30であってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、ガンマ線遮蔽材は、紫外線遮蔽能も有するものであってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、ガンマ線遮蔽材は、ビスマス及びチタンの少なくとも1種、ケイ素、並びにストロンチウムを必須元素として有するものであってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、ガンマ線遮蔽材は、ビスマス20~50質量、ケイ素3~25質量及びストロンチウム20~50質量を含有するものであってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、ガンマ線遮蔽材は、チタン20~50質量、ケイ素3~25質量及びストロンチウム20~50質量を含有するものであってもよい。本発明に係るペースト製造方法は、ガンマ線遮蔽材は、酸化ビスマス、チタン及び酸化チタンの少なくとも1種、ケイ素酸化物、並びに炭酸ストロンチウムを焼成して得られるものであってもよい。本発明に係るペーストは、少なくとも、酸化チタンと、酸化亜鉛と、エックス線及び電子線遮蔽材と、イオン性界面活性剤とを含むものである。本発明に係るペーストは、酸化チタンと、酸化亜鉛と、ガンマ線遮蔽材と、イオン性界面活性剤とを含むものである。本発明に係るペースト製造方法およびペーストによれば、エックス線を遮蔽することができる。また、紫外線も遮蔽することができる。[第1の実施形態:ペーストの製造方法]以下、本発明の実施の形態を添付の図により説明する。ペースト製造方法は、セリサイトを、酸化チタンと、酸化亜鉛とをセリサイトで被覆した粉状物と、エックス線及び電子線遮蔽材を常温で撹拌し、該撹拌されたものに、微粒酸化鉄を入れ、更にイオン性界面活性剤を入れることによりペーストを製造する。具体的には、セリサイトを、酸化鉄含有微粒子50nm~100nm酸化チタンと、酸化亜鉛とで被覆した粉状物パウダーと、エックス線及び電子線遮蔽材を常温で撹拌し、該撹拌されたものに、微粒酸化鉄を投入し、更に非イオン性界面活性剤アクアビーチカーネルオイルを入れることにより、ジェル状を整え、テクスチャーを作る。このペーストは、少なくとも、酸化チタンと、酸化亜鉛と、エックス線及び電子線遮蔽材と、イオン性界面活性剤とを含むものである。なお、非イオン性界面活性剤は、ショ糖脂肪酸エステルであってもよい。なお、エックス線及び電子線遮蔽材およびガンマ線遮蔽材の詳細な内容については、後述する。エックス線及び電子線遮蔽材は、全体の比率のうち20~30である。その場合、酸化チタン10、酸化亜鉛5、非イオン性界面活性剤は、65~55エックス線及び電子線遮蔽材の数値変動に応じて変動となる。また、後述するようにエックス線及び電子線遮蔽材は、紫外線遮蔽能も有するものである。また、ペースト製造方法は、セリサイトを、酸化チタンと、酸化亜鉛とをセリサイトで被覆した粉状物と、ガンマ線遮蔽材を常温で撹拌し、該撹拌されたものに、微粒酸化鉄を入れ、更にイオン性界面活性剤を入れることによりペーストを製造するものであってもよい。具体的には、セリサイトを、酸化鉄含有微粒子50nm~100nm酸化チタンと、酸化亜鉛とで被覆した粉状物パウダーと、ガンマ線遮蔽材を常温で撹拌し、該撹拌されたものに、微粒酸化鉄を投入し、更に非イオン性界面活性剤アクアビーチカーネルオイルを入れることにより、ジェル状を整え、テクスチャーを作る。このペーストは、酸化チタンと、酸化亜鉛と、ガンマ線遮蔽材と、イオン性界面活性剤とを含むものである。また、非イオン性界面活性剤は、ショ糖脂肪酸エステルであってもよい。ガンマ線遮蔽材は、全体の比率のうち20~30であって、酸化チタン10、酸化亜鉛5、非イオン性界面活性剤は、65~55エックス線及び電子線遮蔽材の数値変動に応じて変動となる。また、ガンマ線遮蔽材は、紫外線遮蔽能も有する。上述したこれらのペーストは、放射能の散乱剤と吸収材という2つの効能を備え、内外被ばくを阻止する。また、ほとんどの成分をミネラルで構成していることから、放射線防護服参照図4を着る着用者に、長時間塗布しても肌への負荷がほとんど無く、長時間効果を持続することができる。図5に示す、着用者の甲状腺Kやリンパ腺部分Rに対して、上述したペーストを塗る。また、上述したこれらのペーストは、非イオン性界面活性剤を用いているにも関わらず、白濁をおこさず、肌への刺激性が少なく、アレルギーを起こすことが少なく、目を刺激しない。また、当該ペーストは、肌に塗りやすく浸透感がある。また当該ペーストは、有害な紫外線UV-A波および、UV-B波を遮蔽する。また、当該ペーストにチタンを含有させることも可能であり、当該ペーストにチタンを含有させたものは、紫外線の遮蔽率は向上する。以下に、ガンマ線遮蔽材と、エックス線及び電子線遮蔽材について、詳細に説明する。[ガンマ線遮蔽材]前述した独自のガンマ線遮蔽材は、ビスマス及びチタンの少なくとも1種、ケイ素、並びにストロンチウムを必須元素として有する。例えば、ビスマス20~50質量、ケイ素3~25質量及びストロンチウム20~50質量を含有する。一例として、チタン20~50質量、ケイ素3~25質量及びストロンチウム20~50質量を含有する。酸化ビスマス、チタン及び酸化チタンの少なくとも1種、ケイ素酸化物、並びに炭酸ストロンチウムを焼成して得ても良い。上記ガンマ線遮蔽材の製造に際して、ビスマス化合物及びチタン化合物の少なくとも1種、ケイ素化合物、並びにストロンチウム化合物を混合し、焼成する焼成工程を備えても良い。一例として、この焼成工程は、上記化合物に加えて、さらにホウ酸を混合し、焼成する工程である。以下、上記ガンマ線遮蔽材について詳述する。上記ガンマ線遮蔽材は、ビスマス及びチタンの少なくとも1種、ケイ素、並びにストロンチウムを必須元素として有することを特徴とする。これらの元素を組み合わせることにより、ガンマ線を良好に遮蔽することができる。また、ケイ酸塩系化合物であるため鉛よりも比重が軽く、さらには加工性にも優れている。ビスマスBi及びチタンTiの少なくとも1種の含有量は、例えば20~50質量、好ましくは30~40質量である。ケイ素Siの含有量は、例えば3~25質量、好ましくは5~15質量である。ストロンチウムSr含有量は例えば、20~50質量、好ましくは25~40質量質量である。ガンマ線遮蔽材は、上記必須元素に加えて、酸素原子好ましくは5~30質量、より好ましくは10~20質量を含んでいてもよい。また、ホウ素原子、上記以外の放射線吸収原子例えば、エルビウム等のランタノイド元素等を含んでいてもよく、さらには、製造上不可避な不純物等を含んでいてもよい。上記ガンマ線遮蔽材では、有害性の観点から、鉛元素を実質的に含まないことが好ましい。例えば、5質量以下、好ましくは1質量以下である。ガンマ線遮蔽材の形状は、遮蔽材の使用方法等に応じて適宜決定すればよいが、例えば、粒状粉体、ペレット状、塊状、フィルム状、板状等が挙げられる。特に、上記遮蔽材は、粉体加工が可能で、他の有機物粉状、繊維状等に混入させ、様々な遮蔽用途に使用することができる。粒状の場合は、例えば、平均粒子径が0.1μm~1000μm、好ましくは1μm~100μmとすればよい。また、上記ガンマ線遮蔽材は、上記必須元素等を含有する化合物単独で使用してもよいし、例えば、水、有機溶剤アルコール、エーテル等、界面活性剤、樹脂バインダー、無機粒子、有機粒子、上記独自のガンマ線遮蔽材以外のガンマ線遮蔽材等といった添加剤と併せて使用してもよい。上記ガンマ線遮蔽材は、放射線を遮蔽防護する用途に様々な形で使用できる。例えば、防護エプロン、医療用エプロン、防護服、宇宙服、壁紙、外装壁面、屋根材、化粧品、日焼け止め、顔用クリーム、医療機器マンモグラフィー等などに使用することができる。上記ガンマ線遮蔽材の好適な製造方法は、ビスマス化合物及びチタン化合物の少なくとも1種、ケイ素化合物、並びにストロンチウム化合物を混合し、焼成する焼成工程を備える。図1に、上記ガンマ線遮蔽材の製造方法の一例を示す。具体的には、例えば、i酸化ビスマスBi2O3、チタン及び酸化チタンの少なくとも1種、iiケイ素酸化物、並びにiii炭酸ストロンチウムSrCO3、を混合し、焼結する工程を経ることにより製造することができる。酸化チタンは、一酸化チタンTiO、二酸化チタンTiO2等のいずれでもよい。ケイ素酸化物としては、二酸化ケイ素SiO2、一酸化ケイ素SiO等のいずれでもよいが、一例として、SiO2が好適に用いられる。配合割合は限定的でないが、例えば、1酸化ビスマス30~60質量、好ましくは40~50質量ケイ素酸化物5~30質量、好ましくは10~20質量、炭酸ストロンチウム30~60質量、好ましくは40~50質量、2チタン又は酸化チタン30~60質量、好ましくは40~50質量ケイ素酸化物5~30質量、好ましくは10~20質量、炭酸ストロンチウム30~60質量、好ましくは40~50質量、等とすればよい。上記原料に加えて、さらにホウ酸H3BO3等のホウ素化合物を加えてもよい。これにより、焼成時に金属間の電子移動を容易にさせ、酸化還元作用を促進させることができる。ホウ酸の配合量は限定的でないが、好ましくは0.1~5質量、より好ましくは0.5~3質量である。混合した後、ボールミル、ロッドミル等の粉砕機で上記原料を粉砕してもよいし、粉砕しなくてもよいが、粉砕することが好ましい。焼成温度は、例えば、電気炉にて500~2000°C、好ましくは800~1500°Cとすればよい。焼成雰囲気は、大気雰囲気及び不活性ガス雰囲気のいずれでもよいが、好ましくは大気雰囲気である。焼成時間は、焼成温度、焼成雰囲気等に応じて適宜決定すればよいが、例えば、10分~10時間、好ましくは30分~5時間とすればよい。上記焼成する焼成工程に代えて、または焼成工程後に、プラズマ焼結工程を行ってもよい。これにより、得られるガンマ線遮蔽材のガンマ線の吸収量を向上させることができる。プラズマ焼結は、常法に従って行えばよく、例えばプラズマ焼結機で、500~2000°C好ましくは700~1500°Cにて焼結すればよい。焼結時間は、焼結温度に応じて適宜決定すればよいが、例えば、5分~2時間、好ましくは10分~1時間とすればよい。上記ガンマ線遮蔽材を、以下に実施例を用いて、さらに詳細に説明する。なお、上記ガンマ線遮蔽材は、以下の実施例に限定されるものではない。<ガンマ線遮蔽材の実施例1>SiO2岩井化学薬品社製12.58質量、SrCO3本荘ケミカル社製42.42質量、Bi2O3岩井化学薬品社製43.85質量及びH3BO3岩井化学薬品社製1.15質量をボールミル混合器に入れ、1時間混合した。次いで、電気炉に入れ、大気雰囲気で、900°C、2時間の条件で焼成した。焼成後、常温まで自然冷却し、ボールミル混合機にて平均粒子径が7μmになるまで粉砕した図1参照。これにより、実施例1のガンマ線遮蔽材を得た。なお、実施例1のガンマ線遮蔽材の組成比率を測定したところ、Bi37.05質量、Si9.68質量、Sr35.12質量、O酸素原子13.94質量であり、残りは不純物であった。比重を測定したところ、4.78g/cm3であった。蛍光X線分析で測定したところ、上記実施例1は、Bi2O3SrSiO3であることが推定された。<ガンマ線遮蔽材の実施例2>SiO2岩井化学薬品社製12.58質量、SrCO3本荘ケミカル社製42.42質量、Tiトーホーテック社製43.85質量及びH3BO3岩井化学薬品社製1.15質量をボールミル混合器に入れ、1時間混合した。次いで、プラズマ焼結機SPSシンテック社製、製品名SPS-1030にて、1000°Cで、約30分焼結した。これにより、実施例2のガンマ線遮蔽材ペレット状、厚み3mmを得た。なお、実施例2のガンマ線遮蔽材の組成比率を測定したところ、Ti37.95質量、Si6.45質量、Sr27.37質量、O酸素原子17.73質量であり、残りは不純物であった。比重を測定したところ、4.67g/cm3であった。蛍光X線分析で測定したところ、上記実施例2は、SrTiO2.6TiOSrSiO3であることが推定された。<ガンマ線遮蔽材の比較例>鉛板厚さ1mm、市販品、アルミニウム板厚さ3mm、市販品をそれぞれ比較例1及び比較例2とした。<ガンマ線遮蔽材のガンマ線遮蔽性能試験>実施例1のガンマ線遮蔽材については、さらにプラズマ焼結によりペレット状厚み3mmに加工した。下記の条件にて、実施例及び比較例の試料にガンマ線を照射し、遮蔽率を測定した。この結果を表1に示す。条件上記の結果から、ガンマ線遮蔽性能において、上記独自のガンマ線遮蔽材の実施例1及び2は、厚みを考慮するとガンマ線遮蔽性能としては非常に有用な鉛板比較例1には及ばないものの、実用的な厚さで十分な高さの遮蔽率を示し、良好なガンマ線遮蔽能を有していることが分かる。特に、比較例2のアルミニウムと比較すると、より高い遮蔽率を示し、十分なガンマ線遮蔽能を有していることが分かる。また、上記独自のガンマ線遮蔽材は、比重が鉛の比重11.34よりも大幅に軽く、粒状や板状に容易に変形することができ加工性にも優れている。よって、さまざまな用途や形態で使用可能であることが分かる。また、上記独自のガンマ線遮蔽材は、エックス線及び電子線を遮蔽することもできる。[エックス線及び電子線遮蔽材]前述した独自のエックス線及び電子線遮蔽材は、少なくともケイ素、ストロンチウム、マグネシウム、ユーロピウム及びジスプロシウムを必須元素として有する。例えば、ケイ素5~30質量、ストロンチウム30~60質量、マグネシウム1~20質量、ユーロピウム0.1~5質量、及びジスプロシウム0.1~5質量を含有する。一例として、少なくともケイ素酸化物、炭酸ストロンチウム、酸化マグネシウム、酸化ユーロピウム及び酸化ジスプロシウムを焼成して得られる。この場合、焼成後、さらにプラズマ焼結されて、少なくともケイ素酸化物、炭酸ストロンチウム、酸化マグネシウム、酸化ユーロピウム及び酸化ジスプロシウムを得てもよい。上記エックス線及び電子線遮蔽材を製造する際には、例えば、ケイ素化合物、ストロンチウム化合物、マグネシウム化合物、ユーロピウム化合物及びジスプロシウム化合物を混合し、焼成する焼成工程を備える。前記焼成工程が、上記化合物に加えて、さらにホウ酸を混合し、焼成する工程であってもよい。さらに、プラズマ焼結する工程を備えてもよい。以下、上記エックス線及び電子線遮蔽材について詳述する。上記エックス線及び電子線遮蔽材は、少なくともケイ素、ストロンチウム、マグネシウム、ユーロピウム及びジスプロシウムを必須元素として有することを特徴とする。これらの元素を組み合わせることにより、実用的なレベルで、エックス線を遮蔽することができる。また、紫外線の吸収も可能である。さらに、ケイ酸塩系化合物であるため鉛よりも比重が軽く、加工性にも優れている。ケイ素Siの含有量は、好ましくは5~30質量、より好ましくは10~20質量である。ストロンチウムSrの含有量は、好ましくは30~60質量、より好ましくは40~50質量である。マグネシウムMgの含有量は、好ましくは1~20質量、より好ましくは5~10質量である。ユーロピウムEuの含有量は、好ましくは0.1~5質量、より好ましくは0.5~3質量である。ジスプロシウムDyの含有量は、好ましくは0.1~5質量、より好ましくは0.5~3質量である。上記エックス線及び電子線遮蔽材は、上記必須元素以外にも酸素原子好ましくは10~50質量、より好ましくは20~40質量を含んでいてもよい。また、ホウ素原子、上記以外の放射線吸収原子例えば、エルビウム等のランタノイド元素等を含んでいてもよく、さらには、製造上不可避な不純物等を含んでいてもよい。上記エックス線及び電子線遮蔽材では、有害性の観点から、鉛元素を実質的に含まないことが好ましい。例えば、5質量以下、好ましくは1質量以下である。上記エックス線及び電子線遮蔽材の形状は、遮蔽材の使用方法等に応じて適宜決定すればよいが、例えば、粒状粉体、ペレット状、塊状、フィルム状、板状等が挙げられる。特に、上記遮蔽材は、粉体加工が可能で、他の有機物粉状、繊維状等に混入させ、様々な遮蔽用途に使用することができる。粒状の場合は、例えば、平均粒子径が0.1μm~1000μm、好ましくは1μm~100μmとすればよい。また、上記エックス線及び電子線遮蔽材は、上記必須元素等を含有する化合物単独で使用してもよいし、例えば、水、有機溶剤アルコール、エーテル等、界面活性剤、樹脂バインダー、無機粒子、有機粒子、上記独自のエックス線及び電子線遮蔽材以外のエックス線及び電子線遮蔽材等といった添加剤と併せて使用してもよい。特に、上記独自のエックス線及び電子線遮蔽材では、チタン、酸化チタン等のチタン化合物を併用することが好ましい。これにより、紫外線の遮蔽性をより向上させることができる。上記独自のエックス線及び電子線遮蔽材は、放射線を遮蔽防護する用途に様々な形で使用できる。例えば、防護エプロン、医療用エプロン、防護服、宇宙服、壁紙、外装壁面、屋根材、化粧品、日焼け止め、顔用クリーム、医療機器マンモグラフィー等などに使用することができる。なお、エックス線のみならず紫外線も遮蔽できるため、化粧品、日焼け止め等に適用することもできる。上記エックス線及び電子線遮蔽材の製造方法は、ケイ素化合物、ストロンチウム化合物、マグネシウム化合物、ユーロピウム化合物及びジスプロシウム化合物を混合し、焼成する焼成工程を備えることを特徴とする。図2に、上記エックス線及び電子線遮蔽材の製造方法の一例を示す。具体的には、例えば、ケイ素酸化物、炭酸ストロンチウムSrCO3、酸化マグネシウムMgO、酸化ユーロピウムEu2O3及び酸化ジスプロシウムDy2O3を混合し、焼結する工程を経ることにより製造することができる。ケイ素酸化物としては、二酸化ケイ素SiO2、一酸化ケイ素SiO等のいずれでもよいが、一例として、SiO2が好適に用いられる。配合割合は限定的でないが、例えば、ケイ素酸化物20~60質量、好ましくは30~50質量、炭酸ストロンチウム20~60質量、好ましくは30~50質量、酸化マグネシウ5~40質量、好ましくは10~30質量、酸化ユーロピウム0.1~5質量、好ましくは0.2~1質量及び酸化ジスプロシウム0.1~5質量、好ましくは0.2~1質量、とすればよい。上記原料に加えて、さらにホウ酸H3BO3等のホウ素化合物を加えてもよい。これにより、焼成時に金属間の電子移動を容易にさせ、酸化還元作用を促進させることができる。ホウ酸の配合量は限定的でないが、好ましくは0.1~5質量、より好ましくは0.5~3質量である。混合した後、ボールミル、ロッドミル等の粉砕機で上記原料を粉砕してもよいし、粉砕しなくてもよいが、粉砕することが好ましい。焼成温度は、例えば、電気炉にて500~2000°C、好ましくは1000~1500°Cとすればよい。焼成雰囲気は、大気雰囲気及び不活性ガス雰囲気のいずれでもよいが、好ましくは大気雰囲気である。焼成時間は、焼成温度、焼成雰囲気等に応じて適宜決定すればよいが、例えば、10分~10時間、好ましくは30分~5時間とすればよい。また、上記焼成工程後に、さらにプラズマ焼結工程を加えることが好ましい。これにより、得られるエックス線及び電子線遮蔽材のエックス線の吸収量を向上させることができる。プラズマ焼結は、常法に従って行えばよく、例えばプラズマ焼結機で、500~2000°C好ましくは700~1500°Cにて焼結すればよい。焼結時間は、焼結温度に応じて適宜決定すればよいが、例えば、5分~2時間、好ましくは10分~1時間とすればよい。上記エックス線及び電子線遮蔽材を、以下に実施例を用いて、さらに詳細に説明する。なお、上記エックス線及び電子線遮蔽材は、以下の実施例に限定されるものではない。<エックス線及び電子線遮蔽材の実施例1>SiO2岩井化学薬品社製40質量、SrCO3本荘ケミカル社製38.2質量、MgO宇部マテリアルズ社製20質量、Eu2O3ネオマグ社製0.4質量、Dy2O3ネオマグ社製0.4質量及びH3BO3岩井化学薬品社製1質量をボールミル混合器に入れ、1時間混合した。次いで、電気炉に入れ、大気雰囲気で、1300°C、2時間の条件で焼成した。焼成後、常温まで自然冷却し、ボールミル混合機にて平均粒子径が7μmになるまで粉砕した図2参照。これにより、実施例1のエックス線及び電子線遮蔽材を得た。実施例1で得られたエックス線及び電子線遮蔽材の画像を図3に示す。なお、実施例1のエックス線及び電子線遮蔽材の組成比率を測定したところ、Si13.3質量、Sr42.4質量、Mg6.23質量、Eu0.84質量、Dy1.83質量、O酸素原子31.3質量であり、残りは不純物であった。比重を測定したところ、3.7g/cm3であった。X線回折装置による定性分析及び蛍光X線分析で測定したところ、上記実施例1は、Sr2MgSi2O7Eu3,Dy3であることが推定された。<エックス線及び電子線遮蔽材の実施例2>実施例1で得られたエックス線及び電子線遮蔽材をさらに、プラズマ焼結機SPSシンテック社製、製品名SPS-1030にて、1000°Cで、約30分焼結した。焼結後、常温まで自然冷却し、実施例2のエックス線及び電子線遮蔽材ペレット状、厚み3mmを得た。<エックス線及び電子線遮蔽材の比較例>鉛板厚さ0.3mm、市販品、アルミニウム板厚さ3mm、市販品をそれぞれ比較例1及び比較例2とした。<エックス線及び電子線遮蔽材のエックス線遮蔽性能エックス線透過率測定>実施例1のエックス線及び電子線遮蔽材は、さらにプレス機によりペレット状厚み3.95mmに加工した。透過法により、測定エネルギー50keVの条件で、実施例1~2及び比較例1~2の試料のエックス線の透過率を測定し、透過率から線吸収係数を計算した。なお、線吸収係数は、透過率の自然対数をとった値を、試料の厚みcmで除することにより計算される。得られた測定結果を表1に示す。<エックス線及び電子線遮蔽材の紫外線遮蔽能:紫外線透過測定>紫外可視分光光度計UV2400PC、島津製作所製により、実施例1の紫外線の透過率を測定した。その結果、250nm~400nmの波長域においては、透過率が20以下であった。上記の結果から、エックス線透過率測定において、実施例1及び2は、比較例1のエックス線遮蔽物質としては非常に優れている鉛には及ばないものの、実用的な厚さで十分低い透過率を得ることができ、良好な線吸収係数を有している。特に、比較例2のアルミニウムと比較すると、十分に良好な線吸収係数を持っていることが分かる。加えて、上記独自のエックス線及び電子線遮蔽材の実施例1は、紫外線の透過率が低いため、良好な紫外線遮蔽性能を有していることも分かる。さらには、電子線に対しても効果がある。"