"燃料ガスを反応させる多孔質の燃料極であって、Ni、及び酸素イオン伝導性を有する酸素イオン伝導物質を含んで構成された燃料極と、酸素を含むガスを反応させる多孔質の空気極と、前記燃料極と前記空気極との間に設けられた緻密な固体電解質膜であって、前記燃料極との界面を有する固体電解質膜と、を備えた固体酸化物形燃料電池において、前記燃料極における前記界面から3μm以内に位置する領域について、前記領域内に存在する前記Niの粒子の径の平均が0.28~0.8μmであり、前記領域内に存在する前記酸素イオン伝導物質の粒子の径の平均が0.28~0.8μmであり、前記領域内に存在する前記燃料極の気孔の径の平均が0.1~0.87μmである、固体酸化物形燃料電池。請求項1に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記領域内において前記固体電解質膜に面して存在する前記Niの粒子の径の平均が0.31~0.7μmであり、前記領域内において前記固体電解質膜に面して存在する前記酸素イオン伝導物質の粒子の径の平均が0.32~0.78μmであり、前記領域内において前記固体電解質膜に面して存在する前記燃料極の気孔の径の平均が0.15~0.8μmである、固体酸化物形燃料電池。請求項1又は請求項2に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記領域内に存在する全ての前記Niの粒子の体積の総和に対する、前記領域内に存在する前記Niの粒子のうちで隣り合う他のNiの粒子と繋がらずに単独で存在するNiの粒子の体積の総和の割合が40以下である、固体酸化物形燃料電池。請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記燃料極、及び前記固体電解質膜は、同時焼成によって形成された、固体酸化物形燃料電池。請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記酸素イオン伝導物質は、イットリア安定化ジルコニアYSZである、固体酸化物形燃料電池。請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記燃料極は、前記固体電解質膜に接する層である燃料極活性部と、前記燃料極活性部以外の残りの部分である前記燃料極活性部に対して酸化性イオン伝導性を有する物質の含有割合が小さい層である燃料極集電部と、の2層で構成され、前記領域は前記燃料極活性部の一部である、固体酸化物形燃料電池。構成図1は、本発明の実施形態に係るSOFCセルの構成を模式的に示す。このSOFCセルは、燃料極110と、燃料極110の上に積層された電解質膜120と、電解質膜120の上に積層された反応防止膜130と、反応防止膜130の上に積層された空気極140と、からなる積層体である。このセルを上方からみた形状は、例えば、1辺が1~30cmの正方形、長辺が5~30cmで短辺が3~15cmの長方形、又は直径が1~30cmの円形である。セルの厚さは0.1~3mmである。燃料極110アノード電極は、例えば、酸化ニッケルNiOとイットリア安定化ジルコニアYSZとを含んで構成される多孔質の薄板状の焼成体である。燃料極110の厚さは0.1~3mmである。セルの各構成部材の厚さのうち燃料極110の厚さが最も大きく、燃料極110は、セルの支持基板として機能している。なお、セルの各構成部材のうちで厚さが最も大きい部材が燃料極110以外の部材であってもよい。燃料極110は、周知の還元処理例えば、NiOをNiに還元する処理を受けることによって導電性を得る。このように燃料極110が導電性を得た状態で、SOFCは作動する。燃料極110は、後述する電解質膜120に接する燃料極活性部活性層と、燃料極活性部以外の残りの部分である燃料極集電部集電層との2層で構成され得る図1を参照。燃料極活性部は、例えば、酸化ニッケルNiOとイットリア安定化ジルコニアYSZ8YSZとから構成され得る。或いは、酸化ニッケルNiOとガドリニウムドープセリアGDCとから構成されてもよい。燃料極集電部は、例えば、酸化ニッケルNiOとイットリア安定化ジルコニアYSZ8YSZとから構成され得る。或いは、酸化ニッケルNiOとイットリアY2O3とから構成されてもよいし、酸化ニッケルNiOとカルシア安定化ジルコニアCSZとから構成されてもよい。燃料極活性部活性層の厚さは、5~30μmであり、燃料極集電部集電層の厚さは、50~500μmである。このように、燃料極集電部は、電子伝導性を有する物質を含んで構成される。燃料極活性部は、電子伝導性を有する物質と酸素イオン伝導性を有する物質とを含んで構成される。燃料極活性部における気孔部分を除いた全体積に対する酸素イオン伝導性を有する物質の体積割合は、燃料極集電部における気孔部分を除いた全体積に対する酸素イオン伝導性を有する物質の体積割合よりも大きい。電解質膜120は、ジルコニウムを含む材料、例えば、YSZを含んで構成される緻密な薄板状の焼成体である。電解質膜120の厚さは3~30μmである。反応防止膜130は、セリアを含んで構成される薄板状の焼成体である。セリアとしては、具体的には、GDCガドリニウムドープセリア、SDCサマリウムドープセリア等が挙げられる。反応防止膜130は、セル作製時、又はSOFC作動時において、電解質膜120内のジルコニアZrと空気極140内のストロンチウムSrとが反応して電解質膜120と空気極140との間に高抵抗層が形成される現象の発生を抑制するために、電解質膜120と空気極140との間に介装されている。反応防止膜130の厚さは3~20μmである。空気極140カソード電極は、例えば、ペロブスカイト型酸化物を含んで構成される多孔質の薄板状の焼成体である。ペロブスカイト型酸化物としては、ランタンストロンチウムコバルトフェライトLSCFLa,SrCo,FeO3、LSF=La,SrFeO3ランタンストロンチウムフェライト、LNF=LaNi,FeO3ランタンニッケルフェライト、LSC=La,SrCoO3ランタンストロンチウムコバルタイト等が採用され得る。空気極140の厚さは10~100μmである。以上、図1に示したSOFCセルの構成の概要について説明した。複数のSOFCセルが、集電用部材インターコネクタを介して電気的に直列に接続されて使用され得る。これにより、高出力を得ることができる。複数のSOFCセルが電気的に直列に接続される態様として、燃料極、電解質膜、及び、空気極の積層体である発電部が積層方向に複数積層される形式所謂縦縞型、或いは、発電部が板状の支持体の表面上の異なる位置にそれぞれ配置される形式所謂横縞型が採用され得る。製造方法次に、図1に示したSOFCセルの製造方法の一例について説明する。以下、成形体とは、焼成前の状態を指すものとする。先ず、燃料極110の成形体が以下のように形成された。即ち、NiO粉末とYSZ粉末とが混合され、この混合物にバインダーとしてポリビニルアルコールPVAが添加されてスラリーが作製された。このスラリーがスプレードライヤーで乾燥造粒され、燃料極用の粉末が得られた。この粉末が金型プレス成形法により成形されて、燃料極110の成形体が形成された。また、燃料極110が、上述した燃料極活性部と燃料極集電部との2層で構成される場合、先ず、燃料極集電部の成形体が形成される。燃料極集電部の成形体は、上述した手法と同様の手法により得られた燃料極集電部用の粉末が金型プレス成形法等により成形されて形成される。次いで、燃料極活性部の成形体が、以下のように燃料極集電部の成形体の上面に積層形成される。即ち、NiO粉末とYSZ粉末或いは、Y2O3粉末等に水とバインダーが加えられ、この混合物がボールミルで24時間混合されてスラリーが作製された。このスラリーが、燃料極集電部の成形体の上面に塗布乾燥されて、燃料極活性部の成形体膜が形成される。なお、燃料極集電部の成形体の上面に燃料極活性部の成形体を形成するに際し、テープ積層法、印刷法等が用いられてもよい。後に詳述するように、特に、燃料極活性部内のNi粒子径、YSZ粒子径、及び気孔径の調整、並びに、孤立Ni粒子割合後述の調整は、粉末の粉体特性粒径、比表面積、造孔材の混入度合い、スラリー特性固液比率、バインダ等の有機材料の組成、上述した還元処理の条件等を調整することによって達成され得る。次に、電解質膜120の成形体が、以下のように燃料極110の成形体の上面に積層形成された。即ち、YSZ粉末に水とバインダーが加えられ、この混合物がボールミルで24時間混合されてスラリーが作製された。このスラリーが、燃料極110の成形体の上面に塗布乾燥されて、電解質膜120の成形体膜が形成された。なお、燃料極110の成形体の上面に電解質膜120の成形体を形成するに際し、テープ積層法、印刷法等が用いられてもよい。次いで、反応防止膜130の成形体が、以下のように電解質膜120の成形体の上面に形成された。即ち、GDC粉末に水とバインダーが加えられ、この混合物がボールミルで24時間混合されてスラリーが作製された。このスラリーが、電解質膜120の成形体の上面に塗布乾燥され、反応防止膜130の成形体膜が形成された。なお、電解質膜120の成形体の上面に反応防止膜130の成形体を形成するに際し、テープ積層法、印刷法等が用いられてもよい。以上より、燃料極110の成形体、電解質膜120の成形体、及び反応防止膜130の成形体の積層体焼成前が形成された。この積層体焼成前が、1300~1600°Cで2~20時間共焼結されて、多孔質の燃料極110、緻密な電解質膜120、及び、緻密な反応防止膜130の積層体焼成後が得られた。次に、空気極140が、以下のように前記積層体の反応防止膜130の上面に形成された。即ち、LSCF粉末に水とバインダーが加えられ、この混合物がボールミルで24時間混合されてスラリーが作製された。このスラリーが、反応防止膜130の上面に塗布乾燥され、電気炉酸素含有雰囲気中で空気中にて1000°Cで1時間焼成されて、反応防止膜130の上面に多孔質の空気極140が形成された。その後、燃料極110に対して、上述した還元処理が施される。これにより、燃料極110は、導電性を獲得し、SOFCが作動し得る状態となる。具体的な還元処理の条件は以下の通りである。昇温速度:50°Chr~400°Chr還元ガス:水素濃度4以上還元ガス導入温度:400°C以上、好ましくは600°C以上還元温度:700~900°C還元時間:1~50時間以上、図1に示したSOFCセルの製造方法の一例について説明した。界面近傍領域内におけるNi粒子径、YSZ粒子径、及び気孔径の適切な組み合わせ発明の概要の欄で述べたように、SolidStatelonics1781984に記載された上記SEM観察の新たな手法を採用することによって、SOFCセルのサンプルの厚さ方向積層方向の断面において、燃料極内に存在するNi粒子とYSZ粒子と気孔とを個別に見分けることができる。また、発明の概要の欄で述べたように、燃料極内に存在するNi粒子として、上記孤立Ni粒子nonpercolatingNiと、上記連続Ni粒子percolatingNiとが存在する。上記SEM観察の新たな手法を採用することによって、燃料極内に存在する孤立Ni粒子と連続Ni粒子とを個別に見分けることも可能である。図2は、図1に示したSOFCセルのサンプルを厚さ方向積層方向に沿って切断して得られた断面特に、燃料極110の活性部及び電解質膜120の断面を上記SEM観察の新たな手法を用いて観察して得られたSEM画像の一例を示す。図2は、インレンズ二次電子検出器を用いたFE-SEMFieldEmissionScanningElectronMicroscope:電界放射型走査型電子顕微鏡によって倍率10000倍に拡大された、電解質膜と燃料極活性層とを含む断面のSEM画像である。この断面には、精密機械による研磨が施された後に、株式会社日立ハイテクノロジーズのIM4000によってイオンミリング加工処理が施されている。図2は、加速電圧:1kV、ワーキングディスタンス:2mmに設定されたZeiss社ドイツ製のFE-SEM型式:ULTRA55を使用して得られたSEM画像である。図2は、明暗がグレースケールGrayScaleで示されている。図2から理解できるように、上記SEM観察の新たな手法によれば、明暗差を利用して、燃料極内に存在する連続Ni粒子と孤立Ni粒子とYSZ粒子と気孔とを個別に見分けることができる。具体的には、画像解析等を利用することによって、上記のSEM画像が明度に応じて4種類の領域に分類され得る。最も明るい領域が連続Ni粒子に対応し、2番目に明るい領域が孤立Ni粒子に対応し、3番目に明るい領域がYSZ粒子に対応し、最も暗い領域が気孔に対応する。この画像解析は、例えば、MVTec社ドイツ製の画像解析ソフトHALCONを用いて行われ得る。なお、画像解析に基づいてNi粒子、YSZ粒子、気孔を判別する手法は、SEM画像における明暗差を利用するものには限られない。例えば、同一視野においてSEM-EDSにより元素マッピングを取得した後、この取得結果と、予め得ていたインレンズ二次電子検出器を用いたFE-SEM像インレンズ像とアウトレンズ像を含むとを照らし合わせることによって、SEM画像中の各粒子が同定され得る。この結果、Ni粒子、YSZ粒子、気孔が3値化されることで、Ni粒子、YSZ粒子、気孔を判別することができる。この際、各粒子の同定は、以下のように簡便に行うことができる。即ち、先ず、アウトレンズ像上の低輝度領域が気孔と判定され得る。その後、インレンズ像上の気孔以外の領域における高輝度領域がNi粒子と判定され得、低輝度領域がYSZ粒子と判定され得る。上記画像解析に加えて、上記SEM画像に対応する断面に対してエネルギー分散型X線分析所謂EDS分析を利用した組成分析も行われ得る。これによっても、Ni粒子とYSZ粒子とが判別され得、従って、Ni粒子が特定され得る。このように特定されたNi粒子のうちで、明るい粒子が連続Ni粒子と判別され、暗い粒子が孤立Ni粒子と判別され得る。連続Ni粒子と孤立Ni粒子とは、原子間力顕微鏡AFMを利用した導通試験によっても判別することができる。具体的には、上記SEM画像に対応する断面が露呈したSOFCセルのサンプルに対して、燃料極の前記断面とは異なる部分と電気的に接続されるように導電部材が設けられる。この導電部材とAFMのカンチレバー針との間に所定の電圧が印加された状態で、前記カンチレバーが前記断面上に亘ってスキャンされる。その際に流れる電流の大きさと前記断面上の位置との関係に基づいて、前記断面におけるNi粒子と特定された領域が、導通あり領域と導通なし領域の2つの領域に分類され得る。導通あり領域が連続Ni粒子と判別され、導通なし領域が孤立Ni粒子と判別され得る。なお、連続Ni粒子と孤立Ni粒子との判別について、上述した種々の手法では、SOFCのサンプルを厚さ方向積層方向に沿って機械加工により実際に切断して得られた断面が利用される。従って、前記断面近傍に分布していたNi粒子のうち、切断前には連続Ni粒子であったが切断後に孤立Ni粒子に変わったもの或いは、その逆のものが存在し得ると考えられる。しかしながら、前記断面近傍に分布していたNi粒子のうち切断前後で連続Ni粒子から孤立Ni粒子或いは、その逆に変わったものの割合は非常に小さいと考えられる。従って、後述する孤立Ni粒子割合を論ずる際、SOFCのサンプルを機械加工により実際に切断して得られた断面に基づいて算出された孤立Ni粒子割合は、SOFCのサンプルを切断する前の真の孤立Ni粒子割合とほぼ一致するものと考えられる。本発明者は、このSEM観察の新たな手法を用いて還元処理後の種々の燃料極110の断面をそれぞれ観察した。その際、燃料極の反応背景技術の欄で記載した2式で表される反応に大きく寄与すると考えられる燃料極110における燃料極110と電解質膜120との界面から3μm以内に位置する領域図2を参照、以下、界面近傍領域と呼ぶに特に着目した。なお、燃料極が上述した燃料極集電部と燃料極活性部との2層で構成される場合、界面近傍領域は燃料極活性部の一部に対応する。以下、燃料極が上述した燃料極集電部と燃料極活性部との2層で構成される場合即ち、界面近傍領域が燃料極活性部の一部に対応する場合について説明を続ける。燃料極活性部と電解質膜120との界面の定義について付言する。燃料極活性部と電解質膜120との界面は、例えば、以下のように定義される。即ち、先ず、上記SEM観察の新たな手法を用いて得られた図2に示すようなSEM画像燃料極活性部と電解質膜との界面を含むものが取得される。このSEM画像視野において、燃料極活性部を構成する連続Ni粒子、孤立Ni粒子、YSZ粒子、及び気孔以下、これらを総称して構成体と呼ぶのうちで電解質膜に面して存在している複数の構成体が特定される。上記特定された複数の構成体のそれぞれについて、構成体内に対応する領域において最も電解質膜側図2では上側の点が特定される。特定された複数の点と周知の統計的手法の一つ例えば、最小二乗法とを用いて、特定された複数の点のそれぞれの近傍を通る直線が決定される。この線図2に示した例では、線分Lが燃料極活性部と電解質膜120との界面となる。上述の種々の観察の結果、本発明者は、還元処理後の界面近傍領域内におけるNi粒子、YSZ粒子、及び気孔の3つの径の組み合わせが燃料極活性部の反応抵抗に大きく影響することを発見した。加えて、本発明者は、燃料極活性部の反応抵抗を小さくするために必要な、還元処理後の界面近傍領域内におけるNi粒子、YSZ粒子、及び気孔の3つの径の平均値の組み合わせの適切な範囲を見出した。以下、このことを確認した試験について説明する。なお、或るNi粒子の径とは、上記SEM観察の新たな手法を用いて得られた図2に示すようなSEM画像燃料極活性部と電解質膜との界面を含むものにおけるそのNi粒子孤立Ni粒子又は連続Ni粒子に対応する領域の面積と等しい面積を有する円の直径と定義され得る。YSZ粒子の径、気孔の径についても同様である。このように、2次元の組織断面画像から3次元の構造粒径、気孔径を推定する手法については、水谷惟恭、尾崎義治、木村敏夫、山口喬著、セラミックプロセッシング、技報堂出版株式会社、1985年3月25日発行、第190頁から第201頁に、詳細に記載されている。また、粒径気孔径の平均値とは、複数の異なる部位視野のそれぞれの断面SEM画像を観察解析して得られたデータから算出された平均値である必要がある。これは、燃料極活性部の反応抵抗を小さくするためには界面近傍領域の広い領域に亘って粒径気孔径が適切な範囲内で分布する必要があることに基づく。具体的には、例えば、断面観察が倍率:5000~20000倍で実施され、且つ、20以上の異なる部位視野のそれぞれの断面の解析結果に基づいて算出された平均値が採用されることが好ましい。<試験>この試験では、上記実施形態に係るSOFCに対して、還元処理後の燃料極活性部内のNi粒子、YSZ粒子、及び気孔の3つの径の組み合わせが異なる種々のサンプルが作製された。Ni粒子径の調整は、例えば、燃料極活性部用のスラリー内に混入されるNiO粉末の粉体特性粒径、比表面積を調整することで達成された。YSZ粒子径の調整も、NiO粒子径の場合と同様、燃料極活性部用のスラリー内に混入されるYSZ粉末の粉体特性粒径、比表面積を調整することで達成された。気孔径の調整は、例えば、燃料極活性部用のスラリー内に混入される造孔材の粒径、混入量を調整することで達成された。なお、NiO粒子径の調整、YSZ粒子径の調整、並びに、気孔径の調整は、焼成時間及び焼成温度を調整することによっても達成され得る。上述した各サンプルにおいて、燃料極集電部Ni-YSZの厚さは1000μm、燃料極活性部の厚さは20μm、電解質膜120YSZの厚さは5μm、反応防止膜130GDCの厚さは20μm、空気極140LSCFの厚さは50μmで一定とされた。また、これらのサンプルを上方からみた形状は、直径が30mmの円形とされた。各サンプルに対して、燃料極110側に窒素ガス、空気極140側に空気を供給しながら、800°Cまで昇温し、800°Cに達した時点で燃料極110に水素ガスを供給しながら還元処理が3時間行われた。この還元処理の後、各サンプルに対して、SOFCの出力密度が計測された。出力密度として、温度が800°Cで定格電圧0.8Vでの値が使用された。なお、一般に、SOFCの電気抵抗には、電圧/電流で定義される抵抗所謂IR抵抗と、化学反応の速度に基づく抵抗反応抵抗とが存在する。上述した種々のサンプルについてIR抵抗を計測した結果、IR抵抗の差異は小さいことが別途確認されている。従って、出力密度の大きさは反応抵抗の大きさに強く依存すると考えられる。即ち、出力密度が大きいことは燃料極活性部の反応抵抗が小さいことを意味する、ということができる。図3は、還元処理後の界面近傍領域内に存在するNi粒子の径を変化させることによって得られたNi粒子径の平均値とSOFCの出力密度との関係を示す。各サンプルについて、Ni粒子径の平均値とは、還元処理後の界面近傍領域内に存在するNi粒子孤立Ni粒子連続Ni粒子の径の平均値である。図3に示した関係において、還元処理後の界面近傍領域内に存在するYSZ粒子の径は0.4~0.6μmに維持され、還元処理後の界面近傍領域内に存在する気孔の径は0.3~0.5μmに維持されている。図4は、還元処理後の界面近傍領域内に存在するYSZ粒子の径を変化させることによって得られたYSZ粒子径の平均値とSOFCの出力密度との関係を示す。各サンプルについて、YSZ粒子径の平均値とは、還元処理後の界面近傍領域内に存在するYSZ粒子の径の平均値である。図4に示した関係において、還元処理後の界面近傍領域内に存在するNi粒子孤立Ni粒子連続Ni粒子の径は0.4~0.6μmに維持され、還元処理後の界面近傍領域内に存在する気孔の径は0.3~0.5μmに維持されている。図5は、還元処理後の界面近傍領域内に存在する気孔の径を変化させることによって得られた気孔径の平均値とSOFCの出力密度との関係を示す。各サンプルについて、気孔径の平均値とは、還元処理後の界面近傍領域内に存在する気孔の径の平均値である。図5に示した関係において、還元処理後の界面近傍領域内に存在するNi粒子孤立Ni粒子連続Ni粒子の径は0.4~0.6μmに維持され、還元処理後の界面近傍領域内に存在するYSZ粒子の径は0.4~0.6μmに維持されている。この試験では、上記出力密度が0.7W/cm2以上となる領域を高出力状態と判定する。図3、図4、及び、図5から理解できるように、還元処理後の界面近傍領域内において、Niの粒子径の平均値が0.28~0.8μmであり、YSZ粒子径の平均値が0.28~0.8μmであり、気孔径の平均値が0.1~0.87μmである場合に高出力状態が得られる。即ち、還元処理後の界面近傍領域内におけるNi粒子、YSZ粒子、及び気孔の3つの径の平均値の組み合わせが上記の範囲内の場合に燃料極活性部の反応抵抗が小さい、ということができる。以上、燃料極活性部の反応抵抗低減のために必要となる還元処理後の界面近傍領域内におけるNi粒子径、YSZ粒子径、及び気孔径の適切な組み合わせについて説明した。なお、還元処理後の界面近傍領域内において、上記3つの径の平均値の組み合わせが上記の範囲内の場合における、Ni粒子径の標準偏差は0.10~0.60であり、YSZ粒子径の標準偏差は0.15~0.60であり、気孔径の標準偏差は0.05~0.70であった。電解質膜に面するNi粒子径、YSZ粒子径、及び気孔径の適切な組み合わせ本発明者は、界面近傍領域内に存在するNi粒子、YSZ粒子、及び気孔の中でも燃料極活性部の反応に最も大きく寄与すると考えられる電解質膜に面して存在するNi粒子、YSZ粒子、及び気孔についてのそれぞれの径の組み合わせにも更に調査した。図6は、還元処理後の電解質膜120に面して存在するNi粒子の径を変化させることによって得られたNi粒子径の平均値とSOFCの出力密度との関係を示す。各サンプルについて、Ni粒子径の平均値とは、電解質膜120に面して存在するNi粒子孤立Ni粒子連続Ni粒子の径の平均値である。図6に示した関係において、還元処理後の電解質膜120に面して存在するYSZ粒子の径は0.4~0.6μmに維持され、還元処理後の電解質膜120に面して存在する気孔の径は0.3~0.5μmに維持されている。図7は、還元処理後の電解質膜120に面して存在するYSZ粒子の径を変化させることによって得られたYSZ粒子径の平均値とSOFCの出力密度との関係を示す。各サンプルについて、YSZ粒子径の平均値とは、電解質膜120に面して存在するYSZ粒子の径の平均値である。図7に示した関係において、還元処理後の電解質膜120に面して存在するNI粒子孤立Ni粒子連続Ni粒子の径は0.4~0.6μmに維持され、還元処理後の電解質膜120に面して存在する気孔の径は0.3~0.5μmに維持されている。図8は、還元処理後の電解質膜120に面して存在する気孔の径を変化させることによって得られた気孔径の平均値とSOFCの出力密度との関係を示す。各サンプルについて、気孔径の平均値とは、電解質膜120に面して存在する気孔の径の平均値である。図8に示した関係において、還元処理後の電解質膜120に面して存在するNi粒子孤立Ni粒子連続Ni粒子の径は0.4~0.6μmに維持され、還元処理後の電解質膜120に面して存在するYSZの径は0.4~0.6μmに維持されている。図6、図7、及び、図8から理解できるように、電解質膜に面して存在する還元処理後の構成体において、Niの粒子径の平均値が0.31~0.7μmであり、YSZ粒子径の平均値が0.32~0.78μmであり、気孔径の平均値が0.15~0.8μmである場合に高出力状態が得られる。即ち、電解質膜に面して存在する還元処理後のNi粒子、YSZ粒子、及び気孔の3つの径の平均値の組み合わせが上記の範囲内の場合に燃料極活性部の反応抵抗がより小さい、ということができる。なお、電解質膜に面して存在する還元処理後の構成体において、上記3つの径の平均値の組み合わせが上記の範囲内の場合における、Ni粒子径の標準偏差は0.14~0.55であり、YSZ粒子径の標準偏差は0.13~0.60であり、気孔径の標準偏差は0.10~0.65であった。また、本実施形態では、上述した粒径Ni粒子径、YSZ粒子径、並びに、気孔径の平均値、標準偏差の算出において、上述の画像解析ソフトによって認識された0.1μm以下の粒径のデータは使用されていない。これは、さらに高倍率での観察結果によると、上述の画像解析ソフトで認識された0.1μm以下の粒子及び気孔の存在自体が不確かであり、それらを出力性能を支配する因子として考慮に入れるのは相応しくないと考えられることに基づく。孤立Ni粒子割合の適切な範囲界面近傍領域内に存在する全てのNiの粒子孤立Ni粒子連続Ni粒子の体積の総和に対する、界面近傍領域内に存在する孤立Ni粒子のみの体積の総和の割合を孤立Ni粒子割合と呼ぶ。本発明者は、孤立Ni粒子割合が燃料極活性部の反応抵抗の低減に寄与するのではないかと考え、孤立Ni粒子割合についても更に調査した。孤立Ni粒子割合は、例えば、以下のように決定される。即ち、先ず、上記SEM観察の新たな手法を用いて得られた図2に示すようなSEM画像燃料極活性部と電解質膜との界面を含むものが取得される。このSEM画像視野において、上述の手法によって燃料極活性部と電解質膜120との界面が決定される。従って、このSEM画像において界面近傍領域が決定される。次いで、このSEM画像における界面近傍領域内に存在する孤立Ni粒子と連続Ni粒子が特定される。次いで、このSEM画像における孤立Ni粒子に対応する領域の総面積総面積1と、このSEM画像における連続Ni粒子に対応する領域の総面積総面積2とが取得される。そして、総面積1を総面積1と総面積2の和で除することによって、孤立Ni粒子割合が決定される。孤立Ni粒子割合の調整即ち、隣り合うNi粒子間の接合状態の調整は、例えば、燃料極活性部用のスラリー内に混入されるNiO粉末の粉体特性粒径、比表面積を調整することで達成された。また、孤立Ni粒子割合の調整は、焼成時間及び焼成温度を調整すること、或いは、造孔材の粒径、添加量を調整することによっても達成され得る。更には、上記の種々の調整要素の組合せによっても孤立Ni粒子割合が調整され得る。図9は、還元処理後の孤立Ni粒子割合を変化させることによって得られた孤立Ni粒子割合とSOFCの出力密度との関係を示す。図9に示した関係において、還元処理後の界面近傍領域内に存在するNi粒子孤立Ni粒子連続Ni粒子の径は0.4~0.6μmに維持され、還元処理後の界面近傍領域内に存在するYSZ粒子の径は0.4~0.6μmに維持され、還元処理後の界面近傍領域内に存在する気孔の径は0.3~0.5μmに維持されている。この試験では、上記出力密度が0.8W/cm2以上となる領域を高出力状態と判定する。図9から理解できるように、孤立Ni粒子割合が2~40と小さい場合により大きい出力密度が得られる。即ち、孤立Ni粒子割合が上記の範囲内の場合に、高出力状態が得られる、即ち、燃料極活性部の反応抵抗がより小さい、ということができる。なお、この結果は、孤立Ni粒子割合が小さいほど即ち、連続Ni粒子が密に存在するほど、燃料極活性部の反応によって生成される電子を伝導する通路パスが密に形成されることに基づく、と考えられる。また、上記出力密度が1.2W/cm2以上となる領域を高出力状態と判定するものとすると、図9から理解できるように、孤立Ni粒子割合が2~20と小さい場合に更に大きい出力密度が得られる。以上、上記SEM観察の新たな手法を用いて得られた試験結果によれば、還元処理後の界面近傍領域内に存在するNiの粒子径の平均値が0.28~0.8μmとなり、還元処理後の界面近傍領域内に存在するYSZ粒子径の平均値が0.28~0.8μmとなり、還元処理後の界面近傍領域内に存在する気孔径の平均値が0.1~0.87μmとなるようにSOFCを構成すると、SOFCの燃料極活性部の反応抵抗が小さくなることが判明した。加えて、電解質膜に面して存在する還元処理後のNiの粒子径の平均値が0.31~0.7μmとなり、電解質膜に面して存在する還元処理後のYSZ粒子径の平均値が0.32~0.78μmとなり、電解質膜に面して存在する還元処理後の気孔径の平均値が0.15~0.8μmとなるようにSOFCを構成すると、SOFCの燃料極活性部の反応抵抗がより小さくなることが判明した。更には、還元処理後の孤立Ni粒子割合が2~40となるようにSOFCを構成すると、SOFCの燃料極活性部の反応抵抗がより小さくなることも判明した。以下、本実施形態に係る燃料極活性部の微構造を実現するための手法について付言する。1.原料粉末NiOとYSZの平均粒径が0.3μm以上1.3μm以下とされた。粒径0.1μm以下の微細粒子と、粒径20μm以上の粗大粒子とが、分級処理により除去された。この分級処理には、例えば、気流式分級機が適用され得る。2.造孔材の平均粒径が0.8μm以上10μm以下とされた。粒径0.2μm以下の微細粒子と、粒径30μm以上の粗大粒子とが、分級処理により除去された。造孔材としては、例えば、セルロースやPMMAポリメタクリル酸メチル樹脂が適用され得る。3.造孔材の添加量が、セラミックス原料NiOYSZに対して、30体積以下とされた。4.燃料極活性部と電解質膜反応防止膜も含むとの共焼成温度が1350°C以上1500°C以下とされ、共焼成時間が1時間以上20時間以下とされた。5.燃料料極活性層を形成する材料印刷法で形成される場合は印刷ペーストが均一に混合された。6.燃料極活性層を形成する材料として印刷ペーストが作製される場合、適切な分散剤例えば、ビックケミージャパン株式会社製の湿潤分散剤DISPERBYKR180等が添加された分散性の良いスラリーが作製され、その後、十分なポットミル混合とトリロールミル混合により、前記スラリーが均一に混合された。更に、本実施形態に係る燃料極活性部の微構造を実現するためには、不純物の混入を制御することによって、焼成時と還元時とで、多孔質構造を安定化させることが必要である。具体的には、下記のように、不純物の混入濃度の管理が重要である。その際、原料中の混入濃度のみならず、製造プロセス中での混入も管理される必要がある。Si:200ppm以下、望ましくは100ppm以下P:50ppm以下、望ましくは30ppm以下Cr:100ppm以下、望ましくは50ppm以下B:100ppm以下、望ましくは50ppm以下S:100ppm以下、望ましくは30ppm以下これらの元素を微量に添加することにより焼結性が改善し、多孔質電極の骨格が強化され得る一方で、これらの元素を過度に添加すると、多孔質電極の再現性が低下して好ましくないことが判明している。"