Nビニルラクタムモノマー単位をベースとするポリマーを調製する方法であって、単一または複数種のNビニルラクタムモノマーを含有するモノマー;ラジカル重合の制御剤;および還元剤および酸化剤を含み、酸化剤の標準酸化還元電位と還元剤の標準酸化還元電位との差が少なくとも1Vの酸化還元系である、ラジカル重合開始剤を含む組成物の制御ラジカル重合工程を含む方法。工程が水性媒体中において実施される、請求項1に記載の方法。酸化剤の標準酸化還元電位と還元剤の標準酸化還元電位との差が、少なくとも12Vである、請求項1または2に記載の方法。工程において、制御剤がチオカルボニルチオ基Sを有する、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。制御剤が、キサントゲン酸エステル官能基SO、例えば式SOCH2CH3のOエチルキサントゲン酸エステル官能基を有する化合物である、請求項4に記載の方法。制御剤が、式:SOCH2CH3のOエチルSキサンテートである、請求項5に記載の方法。工程において、前記NビニルラクタムモノマーがNビニルピロリドンモノマーである、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。工程が、40°C未満の温度、例えば室温において実施される、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。工程で適用する酸化剤の標準酸化還元電位Eoxが、使用するNビニルラクタムモノマーの標準酸化還元電位より低い、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。工程において、使用する酸化剤がtertブチルヒドロペルオキシドである、請求項9に記載の方法。工程において、還元剤および酸化剤が4を超えるpKaを有する、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。工程において、還元剤が亜硫酸ナトリウムである、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。工程において、還元剤がアスコルビン酸である、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。工程において、使用する酸化剤がtertブチルヒドロペルオキシドであり、還元剤が亜硫酸ナトリウムである、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。工程において、使用される酸化剤がtertブチルヒドロペルオキシドであり、還元剤がアスコルビン酸である、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。工程の後に、工程の終了時に得られるポリマーの全部または一部、エチレン性不飽和モノマー、およびフリーラジカルの発生源を含む混合物の制御ラジカル重合のための工程を含む、配列化コポリマーを合成するための、請求項1から15のいずれか一項に記載の方法。工程の終了時に得ることができるポリブロックを含む、請求項1から16のいずれか一項に記載の方法によって得ることができるポリマー。請求項16に記載の方法によって得ることができ、ポリブロックと親水性ブロックとを併せて含むコポリマーである、請求項17に記載のポリマー。親水性ブロックPVPブロックタイプのジブロックコポリマー、例えば、ポリアクリルアミドPVPタイプのポリマー等である、請求項18に記載のポリマー。化粧品組成物、ボディケア組成物、摂取可能な組成物、接着剤を処方するための、表面を処理特に洗浄剤として表面を処理するための、植物保護組成物もしくは農業分野向け組成物を処方するための、ラテックスの安定化のため、石油分野での利用のための、または生物学的もしくは医学的な組成物を処方するための、請求項17から19のいずれか一項に記載のポリマーの使用。本発明の目的は、ポリマーの構造の効果的な制御と、合成されたポリマーを水性媒体中において直接使用する可能性との両方を実現できるようにする、Nビニルラクタムモノマー単位をベースとするポリマーを調製する方法を提供することである。本発明の意味におけるNビニルラクタムモノマー単位をベースとするポリマーという概念は、ポリおよび、より広範には、Nビニルラクタムモノマー単位をベースとする少なくとも1つのブロックを含むポリマーを包含する。本発明の重合において求められる制御は、特に、合成されるポリマーの全部または一部分のポリブロック構成要素の構造に対する制御である。前述の目標を達成するために、Nビニルラクタムモノマーの制御ラジカル重合のための新規な方法であって、水性媒体中において直接使用することのできるポリマーを提供するとともに、水性媒体中において実施することができ、かつ重合の効果的な制御がもたらされる方法が、本発明によって提案される。より具体的には、第1の態様によれば、本発明の目的は、Nビニルラクタムモノマー単位をベースとするポリマーを調製する方法であって、単一または複数種の、Nビニルラクタムモノマーを含むモノマー、例えばチオカルボニルチオ基Sを含む、ラジカル重合を制御するための試剤、および、還元剤および酸化剤を含み、酸化剤の標準酸化還元電位と還元剤の標準酸化還元電位との差、すなわち差が少なくとも1Vの酸化還元系である、酸化還元系のラジカル重合開始剤を含む組成物の制御ラジカル重合のための工程を含む方法である。別の具体的な態様によれば、本発明の目的は、本発明の方法の終点において得られるタイプのポリマーである。本発明の範囲内において、本発明者らは、上に規定した工程を利用することによって、現況技術において開示されている重合法に認められている欠点を排除できる可能性があることを明らかにした。より具体的には、本発明者らが成し遂げた研究によって、文献のデータを考慮すると驚くべきことに、ラジカル重合反応を酸化還元系を用いて開始させる場合には、水性媒体中において、かつ効果的に制御しながら、Nビニルラクタムモノマー単位のラジカル重合を実際に達成することができることを実証できる可能性が、今や示された。この水性媒体中における制御重合の可能性は、非常によく制御された構造を有し、水中または重合工程の終了時に水性媒体中で直接使用することができるポリの合成への道を開くものである。工程における酸化還元系の利用を考慮に入れると、本工程は水性媒体中において、特には単一溶媒として水を使用して、実施することが有利である。したがって、溶媒を使用する必要なく水性媒体中において直接ポリマーを得ることが可能であり、これによって、本方法は、工業的スケールで用いるのに特に適したものとなっている。本発明の範囲内において、本発明者らが実証した有利な効果は、酸化剤の標準酸化還元電位と還元剤の標準酸化還元電位との差が重要であるがゆえに、一般的にいっそう際立っている。特に、重合が速い転換速度でも起きるようなラジカルフローを得るために、酸化剤の標準酸化還元電位と還元剤の標準酸化還元電位との差、すなわち差は少なくとも1Vであり、より優先的には少なくとも12Vであり、例えば13から2Vの間である。制御剤がチオカルボニルチオ基Sを有する場合、すなわち、キサントゲン酸エステル官能基SO、例えば式SOCH2CH3のOエチルキサントゲン酸エステル官能基を有する制御剤である場合に、非常に興味深い結果が特に観察された。例えばジチオカルバメートまたはトリチオカルバメート等の他の制御剤を用いても、同質の利点を認め得る。さらに、特に制御剤がチオカルボニルチオ基Sを有する場合、得られる利点は、NビニルラクタムモノマーがNビニルピロリドンモノマーを含むモノマーからなる場合に、特に最も明らかとなる。前述の利点に加えて、本発明の方法の制御ラジカル重合工程において酸化還元タイプの開始剤を利用することは、補助的に、別の看過できない利益を有する。すなわち、本重合工程は、高温の施用を必要としないのである。具体的には、工程の重合反応は、現況技術の方法で典型的に反応が行われる60~80°Cの程度の温度よりもかなり低い温度で、実施することができる。エネルギーコストが低いことに加え、低温で操作できるこの可能性によって、形成されるポリマー鎖のリビング性が維持される可能性が生じることが判明しており、これによって、反応制御のさらなる改善が導かれ、また、それ自体よく知られている技術によって配列化ポリマーを合成するために、他のモノマーを用いる後続の重合工程において、工程からのポリマーが利用できるようになる。より具体的には、本発明の範囲内において本発明者らが行った研究によって、特にキサントゲン酸エステルタイプの制御剤が使用される場合に、60~80°Cの程度の温度がきわめて長い時間にわたって保持された場合、形成されるポリマーの反応末端が分解されうることを実証する可能性が示された。特に、ポリマーの反応末端のそのような分解をできる限り抑制するために、工程は、40°C未満の温度で、より優先的には30°C未満の温度で、実施することが推奨される。有利なことには、工程は、室温で実施することができ、すなわち、重合の前に予熱する工程を適用する必要がないという、方法のコストを低下させる観点から示される利点がある。工程は、代替として、温度を特に低く、例えば20°C未満、さらには10°C未満に保持して実施することもできる。低温で工程を実施できる可能性によって、さらに、32°Cである曇り点未満の温度での重合が必要とされる、水性媒体中におけるNビニルカプロラクタムの重合に、その工程の利用を期待できる可能性がもたらされる。この範囲内において、本発明の方法は、特に、ポリ、またはNVCLモノマー単位とNVPモノマー単位との両方をベースとする両親媒性ポリマーを合成するために、利用することができる。次に、本発明の方法の様々な特性および有利な実施形態を、より詳細に述べる。[Nビニルラクタムモノマー]これらは、工程の制御ラジカル重合反応において利用される、エチレン性不飽和モノマーである。典型的には、これらは以下の式に適合する化合物である式中、nは2~6の範囲の整数であり、典型的には3、4または5に相当する。好ましくは、工程で使用するモノマーは、NビニルピロリドンNVPを含む。特定の実施形態では、工程で使用するモノマーの全体がNVPモノマーである。本発明によれば、他のNビニルラクタムモノマーも有利であり得、中でも、Nビニルカプロラクタムを、限定しない例として特に挙げることができる。可能な実施形態によれば、Nビニルラクタムモノマーは、他の非エチレン性不飽和モノマーとの混合物として、工程において共重合させてもよく、これによって、典型的には、ランダムポリマーブロックの形成、または工程の間における勾配が生じる。このシナリオでは、Nビニルラクタムモノマーの含量は、質量で、工程で施用されるモノマーの全質量に対して、一般的には、50以上、より優先的には70以上である。工程における、Nビニルラクタムモノマーとの共重合に関して興味深い非エチレン性不飽和モノマーとして、Nビニルイミダゾールを特に挙げることができる。他の非モノマーも使用することができ、その中では、アクリル酸、AMPS、APTAC、NNジメチルアクリルアミドNIPAM、NNジエチルアクリルアミド、DADMAC、ビニルホスホン酸、ジアルキルビニルホスホネート、または他のビニルスルホネートを、限定しない例として挙げ得る。[制御剤]制御ラジカル重合において今日知られている制御剤の多くは、工程において利用することができる。興味深い別法では、工程で使用される制御剤は、チオカルボニルチオ基Sを有する化合物である。好ましくは、これはRAFTまたはMADIX制御剤である。特定の実施形態では、制御剤は幾つかのチオカルボニルチオ基を有してもよい。制御剤は、場合によっては、上記の基を有するポリマー鎖であってもよい。したがって、特定の実施形態では、工程で使用される制御剤は、予備工程から生じるリビングポリマーであり、予備工程では、エチレン性不飽和モノマー、少なくとも1つのチオカルボニルチオ基Sを含むラジカル重合制御剤、および、ラジカル重合開始剤を含む組成物のラジカル重合が行われる。この実施形態では、工程の重合から生じるポリマー鎖に結合した少なくとも1つのポリブロックを含む配列化コポリマーが、工程によって導かれる。この実施形態により、新たな配列化コポリマーが利用可能となる。具体的には、本発明の方法によって、ポリブロックと結合した親水性ブロックを含む配列化ポリマー、例えばジブロックタイプ親水性ブロックPVPブロック、例えばポリアクリルアミドPVPタイプのコポリマーであって、NVPが非水性媒体中においてのみ重合されるために、これまで得られなかったポリマーを、水中で合成できる可能性が生じる。この特定のポリマーは、出願人の知識の限りにおいて、今日まで述べられておらず、本発明における、別の特段の目的となっている。より一般的には、工程で利用される制御剤は、有利には以下の式に適合する。式中、Zは、水素原子、塩素原子、場合により置換されていてもよいアルキル、場合により置換されていてもよいアリール基場合により置換されていてもよいヘテロ環、場合により置換されていてもよいアルキルチオ基、場合により置換されていてもよいアリールチオ基、場合により置換されていてもよいアルコキシ基、場合により置換されていてもよいアリールオキシ基、場合により置換されていてもよいアミノ基、場合により置換されていてもよいヒドラジン基、場合により置換されていてもよいアルコキシカルボニル基、場合により置換されていてもよいアリールオキシカルボニル基、場合により置換されていてもよいカルボキシ、アシルオキシ基、場合により置換されていてもよいアロイルオキシ基、場合により置換されていてもよいカルバモイル基、シアノ基、ジアルキル、もしくはジアリールホスホナート基、ジアルキルホスフィナート、もしくはジアリールホスフィナート基、または、ポリマー鎖、を表し、R1は、場合により置換されていてもよいアルキル、アシル、アリール、アラルキル、アルケンもしくはアルキン基、飽和もしくは不飽和の、場合により置換されていてもよい炭素環もしくは芳香族ヘテロ環、または、ポリマー鎖を表す。基R1あるいはZは、それらが置換される場合は、場合により置換されていてもよいフェニル基、場合により置換されていてもよい芳香族基、飽和もしくは不飽和の炭素環、飽和もしくは不飽和のヘテロ環、またはアルコキシカルボニルもしくはアリールオキシカルボニル、カルボキシ、アシルオキシ、カルバモイル、シアノ、アルキルカルボニル、アルキアリールカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、フタルイミド、マレイミド、スクシンイミド、アミジノ、グアニジノ、ヒドロキシル、アミノ基、ハロゲン、ペルフルオルアルキルCnF2n1、アリル、エポキシ、アルコキシ、Sアルキル、Sアリール基、親水性もしくはイオン性を有する基、ポリアルキレンオキシドの鎖、カチオン性置換基で置換されてよく、Rはアルキル基もしくはアリール基、またはポリマー鎖を表す。特定の実施形態では、R1は、置換されているかもしくは置換されていないアルキル基であり、好ましくは置換されている。場合により置換されていてもよいアルキル、アシル、アリール、アラルキルまたはアルキニル基は、一般的には、1~20個の炭素原子、好ましくは1~12個、より優先的には1~9個の炭素原子を有する。それらは、直鎖でもよく、または分岐していてもよい。それらは、酸素原子、硫黄または窒素原子で置換されていてもよい。アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、tertブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシルまたはドデシル基を、特に挙げ得る。アルキニル基は、一般的には、2~10個の炭素原子を有する基であり、アセチレニル基等の、少なくとも1つのアセチレン不飽和部位を有する。アシル基は、一般的には、1~20個の炭素原子を有し、カルボニル基を含む基である。アリール基としては、特にニトロまたはヒドロキシル官能基で場合により置換されていてもよいフェニル基を、特に挙げ得る。アラルキル基としては、特にニトロもしくはヒドロキシル官能基で場合により置換されていてもよい、ベンジルまたはフェネチル基を、特に挙げ得る。R1またはZがポリマー鎖である場合、このポリマー鎖は、ラジカル重合もしくはイオン重合によって、または重縮合によって生じるものでもよい。本発明の範囲内において、キサントゲン酸エステル、ジチオカルバメートまたはジチオカルバゼートを制御剤として使用することが、特に興味深い。有利には、例えば式:SOCH2CH3であるOエチルSキサンテート等のキサントゲン酸エステル化合物が、工程における制御剤として使用される。RhodiaからRhodixanA1として市販されている化合物が特に興味深いことが判明している。[酸化還元系]酸化還元系には2つの試剤、すなわち酸化剤と還元剤とが含まれ、これらは工程において、同時にまたは連続的に導入されてもよい。興味深い実施形態では、還元剤および酸化剤は、工程の媒体中に別々に導入され、それによって、重合の開始が2番目の試剤の導入まで先延ばしされる。有利には、工程は、第1に、モノマーおよび制御剤とともに、混合物中の酸化剤または還元剤のうちの1つを含む混合物を作ることによって、次に、その混合物に、他の試剤を加えることによって、実施される。本明細書において上述した通り、本発明の範囲内において、酸化剤の標準酸化還元電位と還元剤の標準酸化還元電位との差が、1から2Vの間に含まれることが推奨される。さらに、特にNビニルラクタムモノマーの酸化反応を避けるために、工程で利用される酸化剤の標準酸化還元電位Eoxが、使用されるNビニルラクタムモノマーの標準酸化還元電位よりも低くなるか否かが、興味深いものとなり得る。より一般的には、Nビニルラクタムモノマーを酸化させないために、酸化剤の標準酸化還元電位Eoxを十分に低くすることが好ましい。NVPモノマーは特に酸化による影響を受けやすく、NVPが重合される場合には、酸化剤の酸化電位Eoxは、2V未満、より優先的には18V未満、例えば15から18Vの間であることが好ましい。この範囲内において、特に適した酸化剤はヒドロペルオキシドであり、特にはtertブチルヒドロペルオキシドであり、これは、NVPモノマーを重合する場合に特に興味深い。過酸化水素は、別の可能な酸化剤である。その一方で、特に工程において使用されるモノマーがNVPタイプのモノマーである場合、酸化還元系に存在する試剤は、モノマーの寄生反応を引き起こして望ましくない副生成物を導きうるような、いかなる酸も含まないことが好ましく、より一般的には、そのような反応を引き起こすような、十分に小さいpKaを有する化合物を含まないことが好ましい。したがって、好ましくは、pKaが4より大きい、より優先的には6より大きい、またはさらに65よりも大きい、かつ好ましくは少なくとも7である、還元剤および酸化剤を使用することが特に推奨され、これによって、合成したポリマー中の副生成物の量が、一般的には最大で数パーセント低下する。この範囲内において、特に適した還元剤は亜硫酸ナトリウムであり、例えばこれによって、NVPの重合における副生成物の量が5未満に制限され得る。本発明の方法の工程に施用するのに適した酸化還元系は、アスコルビン酸または亜硫酸ナトリウムから選択される還元剤とともに、酸化剤としてtertブチルヒドロペルオキシドを含む。tertブチルヒドロペルオキシド亜硫酸ナトリウムの酸化還元系は、特に工程で使用するモノマーが、NVPモノマーであるかまたはNVPモノマーを含む場合に、特に最も興味深いということが判明している。工程においてこの系を使用することにより、NVPの重合を、室温で、かつ水中で行うことができるようになり、この時、副生成物の量は非常に少なく、典型的には5よりはるかに少なくとどまる。[合成されたポリマーの使用]特に、前述の優先的な条件の下で実施する場合、本発明の方法の工程によって、水性媒体中において直接使用することができる、Nビニルラクタムモノマー単位をベースとするポリマーを、迅速、容易かつ効果的に得ることのできる可能性が得られる。この時、合成されたポリマーの構造が、きわめてよく制御され、かつ、合成されたポリマーの末端の官能性の安定性がきわめて良好である。ポリマーの反応末端の安定性の完全性を考慮に入れると、工程によって得られるポリマーは、工程で合成されるブロックと他のブロックとを併せて含む配列化コポリマーを合成するためのリビングポリマーとして使用することができる。この範囲内において、工程で得られるポリマーは、工程の後の重合工程における制御剤として使用することができる。したがって、特定の実施形態では、本発明の方法は、工程の後に、工程の終点で得られるポリマーの全部または一部、エチレン性不飽和モノマー、および、フリーラジカルの発生源を含む混合物の制御ラジカル重合のための工程を含む、配列化コポリマーを合成するための方法であってよい。この実施形態によって、純粋な水性媒体中で製造されるポリに基づく配列化コポリマーが利用可能となる。具体的には、本発明の方法によって、Nビニルラクタムモノマーに基づく2つのブロックを含む配列化ポリマーを、水中で合成することができる可能性が生じる。代替として、ポリマーに企図される用途に応じて、工程の終点で得られるポリマーの反応末端を不活性化することが望ましいことがある。この、他の実施形態では、工程の終点において、工程の後の鎖末端の化学的処理のための工程であって、有利なことには直接水中で行うことができる工程が、本方法にさらに含まれる。例えば、工程で使用される制御剤がキサントゲン酸エステルである場合、ポリマーから、そのリビング性を取り除くために、ポリマー上に得られるキサントゲン酸エステル反応末端を不活性化してもよく、それは例えば、キサントゲン酸エステル反応末端を様々な、およびSO3Hの酸化種へ酸化させる過酸化水素の作用によって不活性化させる。興味深い実施形態では、キサントゲン酸エステル反応末端は、単に温度を上昇させることによって不活性化することができ、これによって、追加の化学試薬を用いる必要なしに、末端官能基の不活性化を達成できる可能性が生じる。本発明によって調製されるポリマーの多分散度は、典型的には18よりはるかに小さく、特には16以下である。本発明によって調製されるポリマーは、単一ブロックポリマーであっても、ランダムポリマーであっても、あるいはグラジエントポリマーであってもよい。代替として、該ポリマーは、配列化タイプのポリマー、例えばジブロックもしくはマルチブロック、櫛形、グラフト、または場合により星形のポリマーであってもよい。このために、本発明の方法においては、本説明において上述したタイプの工程およびまたは工程で合成されたリビングポリマーが、それに続く制御ラジカル重合反応における制御剤として使用されるの前に、前述したタイプの制御ラジカル重合工程を少なくとも1つ含むことが有利である。本発明によって得られるポリマーは、親水性であるがゆえに、多くの分野で様々な使用法が見出される。すなわち、化粧品組成物、ボディケア組成物、摂取可能な組成物、接着剤の処方に、または他のより特別な用途に、本ポリマーを使用することができる。本ポリマーはまた、表面処理、特に洗浄剤として有用であり、またはさらに、植物保護もしくは農業分野向け組成物の処方に有用である。以下に述べる例示的な適用例によって、本発明およびその利点がさらに示されよう。[実施例1]:本発明による低モル質量のポリの合成tertブチルヒドロペルオキシド亜硫酸ナトリウムのペア室温において、15mLのシュレンクに、2gのNビニルピロリドン、1gの蒸留水、150mgのOエチルSキサンテートSOEt、および40mgのtertブチルヒドロペルオキシド溶液を導入する。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、アルゴン流下で、40mgの亜硫酸ナトリウムを一度に添加した。反応媒体は、室温で24時間攪拌しながら放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は92であった。1HNMRによって、キサントゲン酸エステル末端の存在もまた認められる。LiClを添加し、ポリの比較校正を行った、行うDMF中における立体排除クロマトグラフィー分析によって、以下の数平均モル質量および高分子指数の値が得られる。Mn3600gmolMwMn118いかなるカチオン化剤も用いない、4レゾルシノールマトリックスを用いるMALDITOF分光分析によって、予期されるポリマーの構造が確認される。[実施例2]:本発明による高モル質量のポリの合成tertブチルヒドロペルオキシド亜硫酸ナトリウムのペア室温において、15mLのシュレンクに、2gのNビニルピロリドン、1gの蒸留水、43mgのOエチルSキサンテートSOEt、および40mgのtertブチルヒドロペルオキシド溶液を導入する。反応混合物は、超高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、アルゴン流下で、40mgの亜硫酸ナトリウムを一度に添加した。反応媒体は、室温で24時間攪拌しながら放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は89であった。1HNMRによって、キサントゲン酸エステル末端の存在も認められる。LiClを添加し、ポリの比較校正を行った、DMF中における立体排除クロマトグラフィー分析によって、以下の数平均モル質量および高分子指数の値が与えられる。Mn22700gmolMwMn14[実施例3]:本発明による低モル質量のポリの合成tertブチルヒドロペルオキシドアスコルビン酸のペア室温において、15mLのシュレンクに、2gのNビニルピロリドン、1gの蒸留水、230mgのOエチルSキサンテートSOEt、および40mgのtertブチルヒドロペルオキシド溶液を導入する。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、アルゴン流下で、45mgのアスコルビン酸を一度に添加した。反応媒体は、室温で24時間攪拌しながら放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は98であった。1HNMRによって、キサントゲン酸エステル末端の存在も認められる。LiClを添加し、ポリの比較校正を行った、DMF中における立体排除クロマトグラフィー分析によって、以下の数平均モル質量および高分子指数の値が与えられる。Mn3100gmolMwMn118いかなるカチオン化剤も用いない、4レゾルシノールマトリックスを用いるMALDITOF分光分析によって、予期されるポリマーの構造が確認される。[実施例4]:本発明による高モル質量のポリの合成tertブチルヒドロペルオキシドアスコルビン酸のペア室温において、15mLのシュレンクに、4gのNビニルピロリドン、2gの蒸留水、21mgのOエチルSキサンテートSOEt、および80mgのtertブチルヒドロペルオキシド溶液を導入する。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、アルゴン流下で、90mgのアスコルビン酸を一度に添加した。反応媒体は、室温で24時間攪拌しながら放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は89であった。1HNMRによって、キサントゲン酸エステル末端の存在も認められる。LiClを添加し、ポリの比較校正を行った、DMF中における立体排除クロマトグラフィー分析によって、以下の数平均モル質量および高分子指数の値が与えられる。Mn25500gmolMwMn15[実施例5]:本発明によるポリbポリジブロックコポリマーの合成tertブチルヒドロペルオキシド亜硫酸ナトリウムのペア[51キサントゲン酸エステル末端を有する、リビングポリポリマーの合成]室温において、15mLのフラスコに、4gのアクリル酸、15gの蒸留水、2gのエタノール、1gのOエチルSキサンテートSOEt、および25mgの44アゾビス酸を導入する。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、フラスコを60°Cの恒温オイルバス中に置き、その温度で3時間攪拌しながら、媒体を放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は98であった。この結果、調製されたポリマーP5について、1HNMRによって、数モル質量がMn800gmolと計算される。[52ジブロックコポリマーの合成]工程51からの反応混合物を真空内で乾燥させ、エタノール中に取り込ませ、ジエチルエーテルから沈殿させた。残留溶媒を取り除くために、得られた沈殿物を真空内で24時間乾燥させ、それによって、ポリマーP5が粉末として得られる。室温において、15mLのシュレンクに、この粉末を105mg導入し、次に、1gのNビニルピロリドン、2gの蒸留水、および40mgのtertブチルヒドロペルオキシド溶液を添加した。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、アルゴン流下で、40mgの亜硫酸ナトリウムを一度に添加した。反応物は、室温で24時間攪拌しながら放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は100であった。ポリマーP5および本実施例のコポリマーのDOSYNMRによる分析を比較し、P5と最終コポリマーとの拡散係数の差を考慮することで、コポリマーのジブロック性が確認される。PAAPVPジブロックについてD89μm2sである一方、P5についてD203μm2sであった。さらに、これら2つの試料のDOSY2Dマッピングによって、P5が、NVPを重合する工程の間に完全に反応して、PAAPVPジブロックに組み込まれていると考え得ることが示される。[実施例6]:本発明によるポリbポリジブロックコポリマーの合成tertブチルヒドロペルオキシド亜硫酸ナトリウムのペア[61キサントゲン酸エステル末端を有する、リビングポリポリマーの合成]室温において、25mLのフラスコに、8gの2アクリルアミド2メチルプロパンスルホン酸溶液、4gのエタノール、1gのOエチルSキサンテートSOEt、および25mgの44アゾビス酸を導入した。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、フラスコを60°Cの恒温オイルバス中に置き、その温度で3時間攪拌しながら、媒体を放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は97であった。この結果、調製されたポリマーP6について、1HNMRによって、数モル質量がMn1800gmolと計算される。[62ジブロックコポリマーの合成]工程61からの反応混合物を真空内で乾燥させ、エタノール中に取り込ませ、ジエチルエーテルから沈殿させた。残留溶媒を取り除くために、得られた沈殿物を真空内で24時間乾燥させ、それによって、ポリマーP6が粉末として得られた。室温において、15mLのシュレンクに、この粉末を110mg導入し、次に、1gのNビニルピロリドン、2gの蒸留水、および40mgのtertブチルヒドロペルオキシド溶液を添加した。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、アルゴン流下で、40mgの亜硫酸ナトリウムを一度に添加した。反応物は、室温で24時間攪拌しながら放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は99であった。ポリマーP6および本実施例のコポリマーのDOSYNMR分析を比較し、P6と最終コポリマーとの拡散係数の差を考慮することで、コポリマーのジブロック性が確認される。PAAPVPジブロックについてD66μm2sである一方、P6についてD260μm2sであった。さらに、これら両試料のDOSY2Dマッピングによって、P6が、NVPを重合する工程の間に完全に反応して、PAMPSPVPジブロックに組み込まれていると考え得ることが示される。[実施例7]:本発明によるポリbポリの合成tertブチルヒドロペルオキシド亜硫酸ナトリウムのペア[71キサントゲン酸エステル末端を有する、リビングポリポリマーの合成]室温において、25mLのフラスコに、4gのアクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド溶液、3gの蒸留水、45gのエタノール、750mgのOエチルSキサンテートSOEt、および15mgのV50開始剤ジヒドロクロリドを導入する。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、フラスコを60°Cの恒温オイルバス中に置き、その温度で3時間攪拌しながら、媒体を放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は100であった。この結果、調製されたポリマーP7について、1HNMRによって、数モル質量がMn1500gmolと計算される。[72ジブロックコポリマーの合成]工程71からの反応混合物を真空内で乾燥させ、エタノール中に取り込ませ、ジエチルエーテルから沈殿させた。残留溶媒を取り除くために、得られた沈殿物を真空内で24時間乾燥させ、それによって、ポリマーP7が粉末として得られた。室温において、15mLのシュレンクに、この粉末を110mg導入し、次に、1gのNビニルピロリドン、2gの蒸留水、および40mgのtertブチルヒドロペルオキシド溶液を添加した。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、アルゴン流下で、40mgの亜硫酸ナトリウムを一度に添加し、反応物は、室温で24時間攪拌しながら放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は99であった。ポリマーP7および本実施例のコポリマーのDOSYNMRによる分析を比較し、P7と最終コポリマーとの拡散係数の差を考慮することで、コポリマーのジブロック性が確認される。PAAPVPジブロックについてD63μm2sである一方、P7についてD204μm2sであった。さらに、これら両試料のDOSY2Dマッピングによって、P7が、NVPを重合する工程の間に完全に反応して、PAPTACPVPジブロックに組み込まれていると考え得ることが示される。[実施例8]:本発明によるポリbポリジブロックコポリマーの合成tertブチルヒドロペルオキシド亜硫酸ナトリウムのペア[81キサントゲン酸エステル末端を有する、リビングポリポリマーの合成]室温において、25mLのフラスコに、銅で安定化させたアクリルアミド溶液10g、52gのエタノール、12gのOエチルSキサンテートSOEt、および160mgのtertブチルヒドロペルオキシド溶液を導入した。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、アルゴン流下で、160mgの亜硫酸ナトリウムを一度に添加した。反応物は、室温で24時間攪拌しながら放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は85である。この結果、調製されたポリマーP8について、1HNMRによって、数モル質量がMn1200gmolと計算される。[82ジブロックコポリマーの合成]工程81からの反応媒体を真空内で乾燥させ、エタノール中に取り込ませ、ジエチルエーテルから沈殿させた。残留溶媒を取り除くために、得られた沈殿物を真空内で24時間乾燥させ、それによって、ポリマーP8が粉末として得られた。室温において、15mLのシュレンクに、この粉末を100mg導入し、次に、1gのNビニルピロリドン、2gの蒸留水、および40mgのtertブチルヒドロペルオキシド溶液を添加した。反応混合物は、高純度のアルゴンで30分間バブリングして脱気した。次に、アルゴン流下で、40mgの亜硫酸ナトリウムを一度に添加した。反応物は、室温で24時間攪拌しながら放置した。反応の終点において、1HNMRによって測定した転換率は99であった。ポリマーP8および本実施例のコポリマーのDOSYNMRによる分析を比較し、P8と最終コポリマーとの拡散係数の差を考慮することで、コポリマーのジブロック性が確認される。PAMPVPジブロックについてD63μm2sである一方、P8についてD185μm2sであった。さらに、これら両試料のDOSY2Dマッピングによって、P8が、NVPを重合する工程の間に完全に反応して、PAMPVPジブロックに組み込まれていると考え得ることが示される。