"対象流体の温度を所定の設定温度SVに調整するための温度制御システムであって、前記対象流体の温度を調整するための冷却装置及び昇温装置の少なくとも一方と、前記対象流体の温度を調整するために前記冷却装置及び前記昇温装置の少なくとも一方に対してフィードバック自動制御を実行する第1制御手段と、前記対象流体の設定温度SVに対する前記対象流体の測定温度PVの偏差を検出する検出手段と、前記検出手段によって検出された前記偏差の正負が反転したか否かを判定する判定手段と、前記判定手段によって前記偏差の正負が反転したと判定された場合に、前記第1制御手段によるフィードバック自動制御を停止させると共に、前記冷却装置及び前記昇温装置の少なくとも一方の温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ急激に変更させる急変制御を実行する第2制御手段と、を備えたことを特徴とする温度制御システム。前記第2制御手段は、前記偏差の正負の反転判定により、前記測定温度PVが前記設定温度SVよりも低くなったことが判定された場合に、前記温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ小さい弁開度となるように変更して前記対象流体の温度を上げる昇温動作を実行させ、前記偏差の正負の反転判定により、前記測定温度PVが前記設定温度SVよりも高くなったことが判定された場合に、前記温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ大きい弁開度となるように変更して前記対象流体の温度を下げる降温動作を実行させることを特徴とする請求項1に記載の温度制御システム。前記所定の開度分は、前記温度調節弁の全閉状態を0とし且つ全開状態を100とした場合における少なくとも5分に対応する開度幅であり、前記第2制御手段は、前記判定手段によって前記偏差の正負が反転したと判定されてから1秒以内に、前記温度調節弁の弁開度を前記所定の開度分だけ急激に変更する急変制御を実行することを特徴とする請求項1又は2に記載の温度制御システム。前記第2制御手段は、前記急変制御を実行した後、前記第1制御手段によるフィードバック自動制御の停止を解除することを特徴とする請求項1~3の何れか1項に記載の温度制御システム。対象流体の温度を調整するための冷却装置及び昇温装置の少なくとも一方を備えた温度制御システムにおいて、前記対象流体の温度を所定の設定温度SVに調整するための温度制御方法であって、前記対象流体の温度を調整するために前記冷却装置及び前記昇温装置の少なくとも一方に対してフィードバック自動制御を実行する第1制御ステップと、前記対象流体の設定温度SVに対する前記対象流体の測定温度PVの偏差を検出する検出ステップと、前記検出ステップで検出された前記偏差の正負が反転したか否かを判定する判定ステップと、前記判定ステップで前記偏差の正負が反転したと判定された場合に、前記第1制御ステップによるフィードバック自動制御を停止させると共に、前記冷却装置及び前記昇温装置の少なくとも一方の温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ急激に変更する急変制御を実行する第2制御ステップと、を備えたことを特徴とする温度制御方法。しかしながら、上述した制御方式では、PID制御による出力信号の大きさこそ異なるものの、PID制御としての基本的な出力動作は同じである。つまり、設定温度SVに対して測定温度PVの偏差が逆転した時点で、温度調整をしている温度調節弁が逆方向へ徐々に作動することは同じあり、設定温度SVと測定温度PVの偏差が逆転した時点では、温度調整している温度調節弁の弁開度が開きすぎ又は閉じすぎている傾向となり、明らかに温度制御としての弁動作に遅れが生じていることになる。また、上記特許文献に記載の方式では、システム自体が複雑であることから、コンピューターに対する負荷が高くなり、高価な装置ともなってしまう。また、一方を調整することで、その他も連動してチューニングする必要性が生じるケースも多くなり、これに対応するには、より多く時間と労力が必要となるといった問題もあった。本発明は、簡易な手段により、対象流体の温度を所定の設定温度SVに早期に安定させることができる温度制御システム及び温度制御方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するため、本発明にかかる温度制御システムは、対象流体の温度を所定の設定温度SVに調整するための温度制御システムであって、対象流体の温度を調整するための冷却装置及び昇温装置の少なくとも一方と、対象流体の温度を調整するために冷却装置及び昇温装置の少なくとも一方に対してフィードバック自動制御を実行する第1制御手段と、対象流体の設定温度SVに対する対象流体の測定温度PVの偏差を検出する検出手段と、検出手段によって検出された偏差の正負が反転したか否かを判定する判定手段と、判定手段によって偏差の正負が反転したと判定された場合に、第1制御手段によるフィードバック自動制御を停止させると共に、冷却装置及び昇温装置の少なくとも一方の温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ急激に変更させる急変制御を実行する第2制御手段と、を備えている。また、本発明にかかる温度制御方法は、対象流体の温度を調整するための冷却装置及び昇温装置の少なくとも一方を備えた温度制御システムにおいて、対象流体の温度を所定の設定温度SVに調整するための温度制御方法であって、対象流体の温度を調整するために冷却装置及び昇温装置の少なくとも一方に対してフィードバック自動制御を実行する第1制御ステップと、対象流体の設定温度SVに対する対象流体の測定温度PVの偏差を検出する検出ステップと、検出ステップで検出された偏差の正負が反転したか否かを判定する判定ステップと、判定ステップで偏差の正負が反転したと判定された場合に、第1制御ステップにおけるフィードバック自動制御を停止させると共に、冷却装置及び昇温装置の少なくとも一方の温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ急激に変更する急変制御を実行する第2制御ステップと、を備えている。本発明に係る温度制御システム及び温度制御方法では、対象流体の設定温度SVに対する測定温度PVの偏差の正負が反転したと判定された場合に、フィードバック自動制御を停止させると共に、冷却装置及び昇温装置の少なくとも一方の温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ急激に変更させる急変制御を実行するようになっている。この場合、温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ急激に変更させるようにしているため、設定温度SVに対する測定温度PVの偏差の正負が逆転した時点で開きすぎ又は閉じすぎている傾向がある温度調節弁の弁開度を早期に適度な開度に是正することができる。その結果、急変制御をするといった簡易な手段により、対象流体の温度を所定の設定温度SVに早期に安定させることが可能となる。また、本発明に係る温度制御システムでは、第2制御手段は、偏差の正負の反転判定により、測定温度PVが設定温度SVよりも低くなったことが判定された場合に、温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ小さい弁開度となるように変更して対象流体の温度を上げる昇温動作を実行させ、偏差の正負の反転判定により、測定温度PVが設定温度SVよりも高くなったことが判定された場合に、温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ大きい弁開度となるように変更して対象流体の温度を下げる降温動作を実行させるようにすることが好ましい。この場合、対象流体の温度を所定の設定温度SVに早期に安定させることを確実に実行することができる。また、本発明に係る温度制御システムでは、所定の開度分は、温度調節弁の全閉状態を0とし且つ全開状態を100とした場合における少なくとも5分に対応する開度幅であり、第2制御手段は、判定手段によって偏差の正負が反転したと判定されてから1秒以内に、温度調節弁の弁開度を所定の開度分だけ急激に変更する急変制御を実行することが好ましい。特に、急変制御する際の所定の開度分が5~40の間の開度幅であることがより好ましい。また、本発明に係る温度制御システムでは、第2制御手段は、急変制御を実行した後、第1制御手段によるフィードバック自動制御の停止を解除することが好ましい。この場合、設定温度SVに対する測定温度PVの偏差の正負が逆転した時点で開きすぎ又は閉じすぎている傾向がある温度調節弁の弁開度が是正された後に、再度、フィードバック自動制御を行うことになるため、対象流体の温度を所定の設定温度SVに更に早期に安定させることができる。本発明に係る温度制御システム及び温度制御方法によれば、簡易な手段により、対象流体の温度を所定の設定温度SVに早期に安定させることができる。以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。まず、図1を参照して、本発明に係る温度制御装置9を含む化学プラント1の全体構成について説明する。化学プラント1は、リアクタ2、ジャケット3、温水タンク4、ポンプ5、温水循環用の配管6、リアクタ温度出力部TIC-27、温度計8、温度制御装置TIC-19、温度計10、昇温装置11、流量調節弁12温度調節弁、冷却装置13、及び、流量調節弁14温度調節弁を備えて構成される。化学プラント1では、後述するように、循環する温水W対象流体によってリアクタ2を冷却等することにより、リアクタ2内の温度を所定の値に調整できるようになっている。リアクタ2は、撹拌機付きベッセルタイプの反応槽であり、例えば高分子材料ポリマーを重合反応にて製造するための反応槽である。ジャケット3は、リアクタ2内における各種化学反応による発熱を除熱するために用いられる温調部材であり、リアクタ2の外周の少なくとも一部を覆うようにその壁面に付帯される。ジャケット3は、その内部に冷却用の温水W例えば70°Cが循環して流れ込むように構成されており、リアクタ2内における重合反応の温度例えば80°Cを安定させるように作用する。温水タンク4は、配管6aによってジャケット3から戻される温水や昇温装置11の流量調節弁12から供給されるスチームを温水Wとして溜め込むタンクである。温水タンク4には、予め水を加熱して形成されたスチームが昇温装置11から供給されており、温水タンク4内に溜め込まれる温水Wが、ジャケット3の入口の温水温度例えば70°Cよりも高い温度例えば80°Cになるように調整されている。昇温装置11の流量調節弁12は、温水タンク4内の温水Wが所定の温度例えば80°Cに安定した後、その弁開度が一定になるように制御されている。温水タンク4は、溜め込まれた温水Wが所定量よりも多くなった場合には、オーバフローするよう構成されている。温水タンク4で所定温度に調整された温水Wは、ポンプ5により温水タンク4の下端から配管6bを介して、ジャケット3へ供給される。温水タンク4からジャケット3へ温水Wを供給するための配管6bには、その途中に冷却装置13の流量調節弁14が接続されており、冷却装置13からの冷却水が供給されるようになっている。温水タンク4から供給される温水Wに冷却水が供給されることにより、所定温度例えば70°Cの温水Wに調整され、温度調整された温水Wがジャケット3に供給される。これによりリアクタ2内の温度が所定値に調整される。なお、冷却水の供給による温水温度の調整を温水タンク4にて行わないのは、温水タンク4内で温度調整を行うと、目標温度に到達するまでに時間がかかり、リアクタ2の温度を制御するまでに時間の遅れが生じてしまうからである。上述したような温度調整を担う流量調節弁14は、温度制御装置9によって、その弁開度が制御される。温度制御装置9は、一般的なPID制御装置温度調節器から構成されており、ジャケット3に供給される温水Wの温度を測定する温度計10から、その測定温度PVの情報入力を受けつけることができるように構成される。温度制御装置9は、測定温度PVの情報を受け付けると、その測定温度PVが予め設定した設定温度SVに近づくように、いわゆるPID制御を実行することによって、冷却装置13の流量調節弁14の弁開度を制御する。冷却装置13の流量調節弁14は、温度制御装置9からの制御信号により、その弁開度が、全閉状態0から全開状態100までの間の所定の開度例えば40となるように調整される。リアクタ温度出力部7は、リアクタ2内の温度を測定する温度計8から、その温度情報を受け付けることができるようになっており、受け付けた温度情報を温度制御装置9に出力する。温度制御装置9は、リアクタ2内の温度に応じて、ジャケット3に供給される温水Wの設定温度SVを変更させる。なお、以下の説明では、温度制御装置9による制御を分かりやすくするため、温水Wの設定温度SVが一定の場合で説明するが、設定温度SVがリアクタ2内の温度に応じて変更する場合でも同様の制御を適用することができる。温度制御装置9は、基本的にPID制御によって流量調節弁14の弁開度を制御し温水Wの温度を調整する装置であり、特定の条件に合致した場合にのみPID制御を停止して他の制御方法を実行する装置である。このような温度制御装置9は、図2に示されるように、PID制御部21第1制御手段、検出部22検出手段、判定部23判定手段、急変制御部24第2制御手段及び記憶部25を備えている。PID制御部21は、配管6内の温水Wの温度を徐々に調整するため、冷却装置13の流量調節弁14に対して、フィードバック自動制御の一つであるPID制御を実行する部分である。PID制御部21は、温度計10から温水Wの測定温度PVが入力されると、温水Wの温度が予め定められた設定温度SVに徐々に近づくようなPID制御を実行し、その制御信号を流量調節弁14に出力する。設定温度SVの値は記憶部25に記憶されており、PID制御部21は記憶部25から設定温度SVの値を取得する。流量調節弁14では、PID制御部21からの制御信号に基づいて、温水Wの温度が設定温度SVに徐々に近づくように流量調節弁14の弁開度を制御し、所定量の冷却水を配管6bに供給する。本実施形態で行うPID制御は公知技術を用いているため、詳細な説明は省略する。検出部22は、配管6内の温水Wの設定温度SVに対する温水Wの測定温度PVの偏差を継続的に検出する部分である。検出部22は、温度計10から温水Wの測定温度PVが入力されると、予め定められた設定温度SVに対する測定温度PVの偏差を検出し、検出した偏差を判定部23に出力する。ここでいう偏差とは、具体的には、測定温度PVから設定温度SVを引いた値であり、測定温度PVが設定温度SVよりも高い場合には偏差がプラス正となり、逆に、測定温度PVが設定温度SVよりも低い場合には偏差がマイナス負となるものである図4a参照。判定部23は、検出部22によって検出された偏差の正負プラス/マイナスが反転したか否かを判定する部分である。判定部23は、検出部22から継続的に出力される偏差を受け付け、連続する2つの偏差の正負を特定し、これら偏差の正負が反転、即ち、プラスからマイナス又はマイナスからプラスに変わったか否かを判定する。判定部23は、偏差の正負が反転したと判定した場合には、プラスからマイナスに反転したか又はマイナスからプラスに反転したかの情報を含めて、偏差の正負が反転した旨の情報を急変制御部24に出力する。偏差の正負が反転したと判定された場合に、上述した特定の条件に合致したものと判定される。急変制御部24は、判定部23によって偏差の正負が反転したと判定された場合に、PID制御部21によるPID制御を一旦停止させると共に、冷却装置13の流量調節弁14の弁開度を、所定の開度分α例えば10の変化幅だけ急激に変更させる急変制御を実行する部分である。急変制御部24は、偏差の正負の反転判定により、測定温度PVが設定温度SVよりも低くなったこと即ち偏差がプラスからマイナスに変更したことが判定された場合には、流量調節弁14の弁開度を所定の開度分αだけ小さい弁開度となるように急激に変更して冷却水の供給量を急激に低減させる。これにより、温水Wの温度を上げる昇温動作が実行される。一方、急変制御部24は、偏差の正負の反転判定により、測定温度PVが設定温度SVよりも高くなったこと即ち偏差がマイナスからプラスに変更したことが判定された場合には、流量調節弁14の弁開度を所定の開度分αだけ大きい弁開度となるように急激に変更して冷却水の供給量を急激に増加させる。これにより、温水Wの温度を下げる降温動作が実行される。このように、急変制御部24は、判定部23によって偏差の正負が反転したと判定されてから、流量調節弁14の弁開度を所定の開度分αだけ急激に例えば1秒以内に変更する急変制御を実行する。そして、急変制御部24は、上述した急変制御の何れかを実行した後、直ちにPID制御部21によるPID制御の停止を解除し、PID制御部21によるPID制御を再び行うようにする。なお、急変制御後の流量調節弁14の弁開度は最大で100であり最小で0である。なお、上述した急変制御部24によって行われる急変制御に適用される流量調節弁14の弁開度の変化幅αは、流量調節弁14の全閉状態を0とし且つ全開状態を100とした場合図4b参照において、少なくとも5分に対応する開度幅であることが好ましく、5~40の間の何れかの開度幅であることが一層好ましい。続いて、上述した温度制御装置9による温度制御方法について、図3及び図4を参照して説明する。まず、ステップS1において、温度制御装置9による温水Wの温度制御主としてPID制御を継続して行うか否かを判定する。そして、ステップS1において、温度制御装置9による温水Wの温度制御を行う場合には、ステップS2に進み、PID制御部21によるPID制御を実行して、温水Wの測定温度PVが設定温度SVに近づくように、冷却装置13の流量調節弁14の制御を行う第1制御ステップ。続いて、ステップS3に進み、検出部22によって、温水Wの設定温度SVに対する温水Wの測定温度PVの偏差を検出する検出ステップ。そして、ステップS3の検出ステップで検出された偏差の正負が反転したか否かを判定部23によって判定するステップS4;判定ステップ。そして、ステップS4において、偏差の正負が反転したと判定されるまで、PID制御部21によるPID制御を繰り返すステップS4のNO。このPID制御の繰り返しは、例えば、図4aにおけるS0→S1間の測定温度PVの線として表される。続いて、ステップS4において、偏差の正負が反転したと判定された場合に例えば図4aにおける測定温度PVの線がS1となった場合、PID制御部21によるPID制御を停止させると共に、冷却装置13の流量調節弁14の弁開度を所定の開度分αだけ急激に変更する急変制御を実行するステップS5;第2制御ステップ。このような急変制御は、例えば、図4bのS1における弁開度Vの下降線矢印として表されており、流量調節弁14の弁開度が所定の開度分αだけ小さな弁開度となるように急激に弁開度が変更され、冷却水の供給量が急激に低減させられる。これにより、温水Wの温度を上げる昇温動作が実行される。ステップS5で急変制御を実行した後は、再度、ステップS1YES及びステップS2に戻り、直ちにPID制御部21によるPID制御の停止を解除し、PID制御部21によるPID制御を再び行うようにする図4aにおけるS1~S2間の測定温度PVの線を参照。そして、温度制御装置9による温水Wの温度制御を行わないとステップS1において判定するまで図4a及びbにおけるS2以降の測定温度PVの線と弁開度Vの線を参照、PID制御部21によるPID制御と急変制御部24による急変制御とを繰り返し行う。その後、ステップS1において、温水Wの温水制御を終了すると判定されると、温度制御処理を終了する。以上、本実施形態に係る温度制御装置9によれば、制御対象となる温水Wの設定温度SVに対する測定温度PVの偏差の正負が反転したと判定された場合に、PID制御を一時的に停止させると共に、冷却装置13の流量調節弁14の弁開度を開度分αだけ急激に変更させる急変制御を実行するようになっている。このため、設定温度SVに対する測定温度PVの偏差の正負が逆転した時点で開きすぎ又は閉じすぎている傾向がある流量調節弁14の弁開度を早期に適度な開度に是正することができる。その結果、急変制御をするといった簡易な手段により、制御対象となる温水Wの温度を所定の設定温度SVに早期に安定させることが可能となる。言い換えると、通常のPID制御のみによってジャケット3へ供給される温水Wの温度等を調整しようとすると、外乱等により冷却水の供給量等が変動した場合、温水W等の温度が容易に乱れてしまい、また、リアクタ2の温度がハンチングしてしまう可能性もある。さらに、何らかの原因でリアクタ2自体の温度が設定温度SVから逸脱してしまう場合もある。このような場合において温水Wの温度等を安定化させるには、図5に示されるように測定温度PVの振れが大きいため、かなりの時間が必要とされ、場合にはよっては人的介入により調整せざるを得ない場合もでてきてしまう。しかしながら、本実施形態に係る温度制御装置9によれば、図4に示されるように、例えば温水Wの温度調整を基本的にはPID制御によって実行しつつ、温水Wの設定温度SVに対して測定温度PVの偏差がマイナスからプラス或はプラスからマイナスへ反転した場合には、その時点で流量調節弁14の弁開度を開度分αだけ急激に開け或いは急激に閉じるようにしているので、外乱因子等に大きく影響されることなく、安定的な温度制御を行うことができる。また、本実施形態に係る温度制御装置9では、急変制御部24は、偏差の正負の反転判定により、測定温度PVが設定温度SVよりも低くなったことが判定された場合に、流量調節弁14の弁開度を所定の開度分αだけ小さい弁開度となるように変更して温水Wの温度を上げる昇温動作を実行させ、一方、偏差の正負の反転判定により、測定温度PVが設定温度SVよりも高くなったことが判定された場合に、流量調節弁14の弁開度を所定の開度分αだけ大きい弁開度となるように変更して温水Wの温度を下げる降温動作を実行させるようにしている。このため、温水Wの温度を設定温度SVに早期に安定させることを確実に実行できる。また、本実施形態に係る温度制御装置9では、急変制御部24は、急変制御を実行した後、PID制御部21によるPID制御の停止を解除し、再度、PID制御を行うようになっている。このように、設定温度SVに対する測定温度PVの偏差の正負が逆転した時点で開きすぎ又は閉じすぎている傾向がある流量調節弁14の弁開度が是正された後に、再度、PID制御を行うことになるため、温水Wの温度を設定温度SVに更に早期に安定させることができる。以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、コスト面や取扱いの容易性等から、昇温装置11や冷却装置13がスチームや冷却水を用い、これらを直接、循環する温水Wに混入させて温度調整するようにしていたが、昇温装置11等として、ブラインヒータ、オイルヒータ又は電気式ヒーターなどを用いて間接的に温水Wの温度を調整するようにしてもよい。また、昇温装置11や冷却装置13は、一方を常時、温度調整される温水Wに供給又は間接的に接触させ、他方を必要に応じて供給又は間接的に接触するようにしてもよい。また、昇温装置11や冷却装置13は、一方を常時、温度調整される温水Wに供給又は間接的に接触させ、両方を必要に応じて供給又は間接的に接触するようにしてもよい一般的にスプリットタイプの調節弁と呼ばれる。また、温度調整される流体温水W等が再循環されるシステムでもよいし、再循環されないワンパスタイプのシステムでもよい。また、再循環されるシステムでは、循環路の途中に温水タンク4のようなストックタンクを設置せずに配管のみ循環するようにしてもよい。但し、ストックタンクを設けた方が、流体の温度調整が行い易くコスト的には好ましい。ストックタンクを設けた場合、ストックタンク内で温度調整される流体に供給される流体または間接的に接触させる装置は、ストックタンクに常時一定量の昇温流体または冷却流体を供給または間接的に接触させることが望ましい。また、温度調整される流体に供給される流体または間接的に接触させる装置は、流体と接触する部分ですばやく混合或いは熱分散し温度が均一になる機器や仕様にすることが望ましく、その他いろいろな測定ポイントに悪影響を与えないような場所を選ぶことが望ましい。そして、昇温、冷却は同一の流体を使用し直接混合し温度調整を行った方が好ましい。ここで、測定される流体の温度計と必要に応じて供給または間接的に接触する流体は可能な限り近くに設置する事が好ましいが、必要に応じて供給または間接的に接触する流体によって温度調整される流体に温度変化が生じるため、流体の温度が確実に均一になった時点で温度を測定できる距離をおく事が好ましい。流体と必要に応じて供給または接触する流体が接触するポイントはラインミキサーなどを設置するのが好ましい。また、温度調整に使用される温度計は流体の流れ方向に対して、必要に応じて供給または間接的に接触する流体の供給ポイントより下流に設置することが望ましい。また、昇温装置11からの昇温流体又は冷却装置13からの冷却流体が温度調整される流体と同一の場合には、これら流体が温度調整される流体よりもその流体圧力が高い方が好ましい。なお、本発明に係る温度制御システムを一般のフィードバック制御システムに組み込む方法としては、別途シーケンスプログラムを組み込んだリレー方式による制御システムを採用しても構わないが、最も経済的で煩雑さを必要としない方法としては、工業、化学プラントにおいて一般的に使用されている分散形計装制御システムのシーケンステーブルを使用する方法等がある。以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。本実施例では、図1に示される構成のシステムを用い、ポリプロピレン重合反応槽であるリアクタ2に付属しているジャケット3内の温水Wの温度を温度制御装置9によって制御し、ジャケット3の入り口付近の測定温度PVが設定温度SVに達し安定するまでの時間分について確認を行った。なお、本実施例において、測定温度PVが安定したと判断する目安は、測定温度PVが設定温度SVに達し、測定温度PVの振れ幅が1°C以下となった場合、又は、測定温度PVの振れ幅が1°C以上であっても、測定温度PVの振れる周期が一定となった場合とした。本実施例では、本発明に係る温度制御システム又は温度制御方法が一般的なPID制御よりも迅速に且つその後の温度も安定することを確認するため、以下の実験を行った。即ち、本発明に係る温度制御装置9を用い、ジャケット3の入り口前の温度計10をある温度で一旦安定させた後、ジャケット3の設定温度SVを、プラス2°C、その後マイナス2°C、更にプラス4°C、その後マイナス4°Cと変化させた時の温度制御装置9によるジャケット3の入り口温度の制御性設定温度SVに達するまでの時間を確認した。本実験に使用するリアクタ2として、容積160Lの攪拌機付きベッセルタイプの反応槽を用いた。また、温水循環によるジャケット3の温度調整設備は、次の仕様としている。まず温水Wは再循環方式による温度調整方法を採用し、循環ポンプ5は、エバラ株式会社製の渦巻きポンプを用いた。ポンプ5の能力は10m3/時間であり、ヘッドは16m、温水循環ラインの配管6のサイズは11/2インチであった。ポンプ5の吐出圧は、0.14MPa-Gであった。温水循環の途中にオーバフロー式の温水タンク4を設置した。温水タンク4のタンク容量は450Lであり、温水タンク4には、常時一定のスチームが供給されていた。スチームの流量調節弁12は、モトヤマエンジニアリング株式会社製の調節弁であり、バルブの流量特性を表示する係数であるCVが9.0EQ、スチームの配管は、3/4B、上流圧は0.3MPa-Gであった。本試験中は常にスチームの弁開度を80とした。循環する温水Wの温度調整は、冷却装置13からの冷却水の供給によって行われ、冷却水の流量調節弁14は、YAMATAKE株式会社製であり、CV=9.0EQであり、冷却水の配管サイズは1インチ、上流圧は1.0MPa-Gであった。この冷却水の流量調節弁14を温度制御装置9の仕様として温度調整の制御性を確認した。本実施例で使用した温度制御装置9は、横河電機株式会社製の分散形計装制御システムの中位機種であるマイクロエクセル内に組み込まれている計器を使用した。また、上記記載のプログラム制御は、同様にマイクロエクセル内に組み込まれているシーケンステーブルを用いて作成した。実施例1上記の温度調整システムにて、リアクタ2にブタン44Lを仕込み、ジャケット3の入り口温度が70°Cになるように冷却水を本発明に係る温度制御装置9を用いて供給制御した。温度制御装置9のPID制御調節器のPID値は、P=150、D=20、I=1とした。この時、ジャケット3の設定温度SVと測定温度PVの偏差がプラスからマイナス、或いはマイナスからプラスに変化したときに急激に変化急変制御させる弁開度の変化幅αを、実施例1では80とした。まず、温水Wの温度が70°Cで安定した後、設定温度SVを72°Cに変更し、温水Wの測定温度PVが72°Cに安定するまでの昇温時間分を確認した。このデータを採取後、設定温度SVを70°Cに戻し、温水Wの測定温度PVが70°Cに安定するまでの降温時間分を確認した。その結果、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が2分であり、降温時間が1分であった。なお、設定温度SVを70°Cから72°Cに変更した際の温度安定後の温度振れは1.57°Cであり、72°Cから70°Cに変更した際の温度安定後の温度振れは1°C以下であった。同様に、温水Wの温度が70°Cで安定した後、設定温度SVを74°Cに変更し、温水Wの測定温度PVが74°Cに安定するまでの昇温時間分を確認した。このデータを採取後、設定温度SVを70°Cに戻し、温水Wの測定温度PVが70°Cに安定するまでの降温時間分を確認した。その結果、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が4分であり、降温時間が1分であった。なお、設定温度SVを70°Cから74°Cに変更した際の温度安定後の温度振れは2.1°Cであり、74°Cから70°Cに変更した際の温度安定後の温度振れは1.92°Cであった。実施例2流量調節弁14の弁開度を急変制御させるための弁開度の変化幅αを60に変更させる以外は実施例1と同様の条件で昇温時間及び降温時間の確認を行った。その結果、設定温度SVを70°Cと72°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が2分であり、降温時間が1分であった。なお、設定温度SVを70°Cから72°Cに変更した際の温度安定後の温度振れは1.31°Cであり、72°Cから70°Cに変更した際の温度安定後の温度振れは1°C以下であった。また、設定温度SVを70°Cと74°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が3分であり、降温時間が2分であった。なお、設定温度SVを70°Cから74°Cに変更した際の温度安定後の温度振れは1.5°Cであり、74°Cから70°Cに変更した際の温度安定後の温度振れは1.48°Cであった。実施例3流量調節弁14の弁開度を急変制御させるための弁開度の変化幅αを40に変更させる以外は実施例1と同様の条件で昇温時間及び降温時間の確認を行った。その結果、設定温度SVを70°Cと72°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が2分であり、降温時間が1分であった。なお、設定温度SVを70°Cから72°Cに変更した際、及び、72°Cから70°Cに変更した際の温度安定後の温度振れは共に1°C以下であった。また、設定温度SVを70°Cと74°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が3分であり、降温時間が3分であった。なお、設定温度SVを70°Cから74°Cに変更した際、及び、74°Cから70°Cに変更した際の温度安定後の温度振れは共に1°C以下であった。実施例4流量調節弁14の弁開度を急変制御させるための弁開度の変化幅αを20に変更させる以外は実施例1と同様の条件で昇温時間及び降温時間の確認を行った。その結果、設定温度SVを70°Cと72°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が2分であり、降温時間が3分であった。また、設定温度SVを70°Cと74°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が3分であり、降温時間が4分であった。なお、温度安定後の温度振れはすべて1°C以下であった。実施例5流量調節弁14の弁開度を急変制御させるための弁開度の変化幅αを10に変更させる以外は実施例1と同様の条件で昇温時間及び降温時間の確認を行った。その結果、設定温度SVを70°Cと72°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が2分であり、降温時間が6分であった。また、設定温度SVを70°Cと74°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が3分であり、降温時間が10分であった。なお、温度安定後の温度振れはすべて1°C以下であった。実施例6流量調節弁14の弁開度を急変制御させるための弁開度の変化幅αを5に変更させる以外は実施例1と同様の条件で昇温時間及び降温時間の確認を行った。その結果、設定温度SVを70°Cと72°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が3分であり、降温時間が10分であった。また、設定温度SVを70°Cと74°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が6分であり、降温時間が13分であった。なお、温度安定後の温度振れはすべて1°C以下であった。実施例7温水Wの当初の設定温度SVを60°Cとした点と、流量調節弁14の弁開度を急変制御させるための弁開度の変化幅αを20に変更させる以外は、実施例1と同様の条件で昇温時間及び降温時間の確認を行った。その結果、設定温度SVを60°Cと62°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が2分であり、降温時間が6分であった。また、設定温度SVを60°Cと64°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が3分であり、降温時間が5分であった。なお、温度安定後の温度振れはすべて1°C以下であった。実施例8流量調節弁14の弁開度を急変制御させるための弁開度の変化幅αを5に変更させる以外は実施例7と同様の条件で昇温時間及び降温時間の確認を行った。その結果、設定温度SVを60°Cと62°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が3分であり、降温時間が10分であった。また、設定温度SVを60°Cと64°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が5分であり、降温時間が19分であった。なお、温度安定後の温度振れはすべて1°C以下であった。比較例1比較例として、一般的なPID制御を行った場合における昇温時間及び降温時間の確認を行った。具体的には、流量調節弁14の弁開度を急変制御させない点を除き、実施例1~6と同様の条件で昇温時間及び降温時間の確認を行った。その結果、設定温度SVを70°Cと72°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が10分であり、降温時間が17分であった。また、設定温度SVを70°Cと74°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が20分であり、降温時間が24分であった。なお、温度安定後の温度振れはすべて1°C以下であった。比較例2また、別の比較例として、流量調節弁14の弁開度を急変制御させない点を除き、実施例7,8と同様の条件で昇温時間及び降温時間の確認を行った。その結果、設定温度SVを60°Cと62°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が22分であり、降温時間が31分であった。また、設定温度SVを60°Cと64°Cとの間で変更させた場合に、それぞれの温度が安定するまでに要した時間は、昇温時間が31分であり、降温時間が37分であった。なお、温度安定後の温度振れはすべて1°C以下であった。以上、上述した実施例1~6と比較例1との比較結果および実施例7,8と比較例2との比較結果から明らかなように、本発明にかかる温度制御装置9を用いた温度制御によれば、一般的なPID制御のみを用いた温度制御の場合に比べ、10分の1~半分程度の時間で、対象流体の温度を所定の設定温度SVに安定させることができた。しかも、流量調節弁14の弁開度が5~40の場合には、温度安定後の温度振れも1°C以内に収まっており、対象流体の温度を安定させることもできた。続いて、上記とは別の実施例として、ポリプロピレンの重合反応槽に付属するジャケットに温度制御された温水を循環通水することによってポリプロピレン重合反応槽の温度調整を行うカスケード制御に対し、本発明に係る温度制御方法を適用した。なお、本実施例では、ポリプロピレンは、一般的なTi-Mg型固体触媒に反応促進材である有機アルミニュム以下、トリエチルアルミニウムと称すると、ポリマーの規則性を向上させる有機ケイ素化合物以下、シクロヘキシルエチルジメトキシシランと称するとを接触させ、液化プロピレン中で重合反応により得る方法で製造した。実施例9まず、重合反応槽および重合反応槽の温度を調整する温水Wの温調設備として、図1に示す装置に類似した構成の装置を準備した。この装置では、反応槽2は、容積40Lの攪拌機付きベッセルタイプの反応槽とした。反応槽2は、ジャケット3付きであり、重合温度の制御は、このジャケット3に温水Wを通水して調整される。この反応槽2の他に数基反応槽があり、これらの反応槽を連結しシリーズ重合を実施する事もあり、この反応槽2は第一槽に使用することから、プラントの4階に設置した。また、ジャケット3に温水Wを通水して調整する温水Wの温度調整設備は以下のように設置した。温水Wは、再循環方式による温度調整方法を採用し、設置スペース等の問題から温水ストックタンク4は設置せず、温水Wは配管のみで循環し、渦巻きポンプ5にて送り出すようにした。循環ポンプ5は、日機装社製の渦巻きポンプで、その能力は10m3/時間であり1階に設置した。温水循環ラインの配管のサイズは1インチであり、実際の温水Wの流量は7m3/時間であった。ポンプの吐出圧は0.3MPa-Gであった。循環ラインの液補充および循環水Wのベース温度を安定させる為、ミニマムフローとして300L/時間の工業用水常温を供給した。冷却/昇温装置は、以下の調節弁を用いた。冷却装置は、モトヤマ社製の調節弁でCV値は3であり、工業用水を用い元圧は0.7MPa-Gであった。昇温装置は、モトヤマ社製の調節弁であり、CV値は9でスチームを用いた。スチームの元圧は0.4MPa-Gであった。冷却/昇温装置は、反応槽2に付属しているジャケット3の入口付近に設置する予定であったが、スペースの問題や装置のメンテナンスの関係から温水循環ポンプ5付近に設置し、温水ラインに供給する仕様とした。温水循環ポンプ5から反応槽2までは、道のりで約19mであった。循環温水を測定する温度計10は、ジャケット3の入口付近に設置した。循環温水Wの温度調整は、ジャケット3の入り口付近に設置された温度計10を測定し、本発明に係る温度調整システム9によって調整されるようにした。本発明の温調システム9の出力側は、出力=0~50で冷却水の流量を調整し0で弁は全開、50で全閉となるリニア動作とし、50~100はスチームの流量を調整し、50で全閉、100で全開となるリニア動作とする所謂スプリットタイプにて調整弁を制御し温度調整を行った。反応槽2の温度制御系は、一般的なPIDフィードバック自動制御計器を使用した。本実施例にて実施する温調システム9は、反応槽温度の制御系と温水温度の制御系の2次制御系統からなるカスケード制御である。詳細な制御機構は以下の通りである。カスケードループにて反応槽温度を制御中、ジャケット3の付近に設置している温度計10の設定温度SVと測定温度PVの偏差がプラスからマイナス、あるいはマイナスからプラスへ逆転した時点で、カスケード制御からプログラム制御急変制御に切り替える。シーケンスプログラムによりカスケードループを解除し、温水制御系をマニュアル制御に切り替える。ジャケット3の付近に設置している温度計10の指示値が高くなった場合は、冷却設備による冷却動作あるいは昇温設備による供給熱源の減少により温度を下げる作動を行った。また、指示値が低くなった場合は、冷却設備による供給冷却量の減少あるいは昇温設備による熱源の供給により温度を上げる作動を行った。そして、これら動作の後、すぐに再度フィードバック自動制御、さらには反応槽温度制御系とのカスケード制御に切り替えて温度制御を行った。冷却/昇温する為に冷却水/スチーム弁を調整するが、設定温度SVと測定温度PVの偏差がプラスからマイナス、あるいはマイナスからプラスへ逆転した時点で温度制御弁の弁開度として10を、温水温度が冷却あるいは昇温する方向へ偏差がプラスからマイナス、あるいはマイナスからプラスへ逆転した時点での弁開度から作動させた。反応槽側の一次制御系のPID値は、P=250、I=90、D=2を入力し、温水側の二次制御系のPIDセット値は、P=180、I=15、D=1を入力した。本実施例で使用した温度制御計器は、横河電機社製の分散形計装制御システムの中位機種であるマイクロエクセル内に組み込まれている計器を使用した。また、上記記載のプログラム制御は、同様にマイクロエクセル内に組み込まれているシーケンステーブルを用いて作成した。[Ti-Mg型固体触媒の準備]まず、内容積200Lの攪拌機付きSUS製反応容器を窒素で置換した後、脱水脱気処理したヘキサン80L、テトラブトキシチタン6.55モル、フタル酸ジイソブチル2.8モル、およびテトラエトキシシラン98.9モルを投入し均一溶液とした。次に、濃度2.1モル/Lのブチルマグネシウムクロリドのジイソブチルエーテル溶液51Lを、反応容器内の温度を5°Cに保ちながら5時間かけて徐々に滴下した。滴下終了後、室温で1時間攪拌し、室温で固液分離した後、トルエン70Lで3回洗浄を行った。続いて、スラリー濃度が0.2Kg/Lになるようにトルエンを加えた後、フタル酸ジイソブチル47.6モルを加え、95°Cで30分間反応を行なった。反応後、固液分離し、トルエンで2回洗浄を行なった。次に、フタル酸ジイソブチル3.13モル、ブチルエーテル8.9モルおよび四塩化チタン274モルを加え、105°Cで3時間反応を行なった。反応終了後、同温度で固液分離し、同温度にてトルエン90Lで2回洗浄を行なった。続いて、スラリー濃度を0.4Kg/Lに調整した後、ブチルエーテル8.9モルおよび四塩化チタン137モルを加え、105°Cで1時間反応を行なった。反応終了後、同温度で固液分離し、同温度でトルエン90Lで3回洗浄を行なった後、さらにヘキサン70Lで3回洗浄し、減圧乾燥して固体触媒成分11.4Kgを得た。該固体触媒成分のチタン原子含有量は2.1重量であった。[予備重合触媒の製造]内容積3Lの攪拌機付きSUS製オートクレーブに、攪拌させながら、脱水脱気処理したn-ヘキサン1Lを仕込み、液温度を4°Cに保ち、トリエチルアルミニウム25.0mmolを添加した。その後、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン1.25mmolを添加した。更に、上記Ti-Mg型固体触媒12.7gチタン原子換算で5.57mmolを添加し接触処理した。次に、プロピレンを連続的に供給し、液温度を4~7.3°Cに保ちながらトータルで12.7gを30分かけて供給した。30分間エージングを実施し、予備重合体以下、予備重合触媒と称する。のスラリーを得た。該スラリーから予備重合触媒の一部を取り出して脱灰処理して、予備重合触媒中のポリプロピレンの割合を求めたところ、1.0g-ポリプロピレン/g-固体触媒であった。[本重合と温度調整]内容積40Lの攪拌機付きSUS製反応容器2内をプロピレンで置換し、その後、重合系内を70°Cに保ちながら、プロピレンを35kg/時間、水素を315L/時間、トリエチルアルミニウムを41.6mmol/時間、シクロヘキシルエチルジメトキシシランを6.07mmol/時間を連続的に供給し、系内の液レベルを18Lに設定し、ダミー運転を開始した。重合系内を安定させたところで、上記予備重合触媒のスラリーを予備重合触媒として0.96g/時間を連続的に供給した。滞留時間は0.23時間で、圧力は3.39MPaであり、重合によりポリプロピレンが4.0kg/時間で得られた。ポリプロピレンと未反応物質は間欠的に排出された。ここで、上述したように本発明に係る温度制御方法にて、反応槽2の温度制御を行った。本発明に係るPID制御調節器を用いたカスケードループにて反応槽2の温度を制御した場合は、予備重合触媒の供給量が、供給ポンプの不調等で不安定になり槽温が乱れたりしても、設定した反応温度70°Cに収束し、安定運転を継続することができた。比較例3[本重合と温度調整]実施例9の比較例として、ジャケット温水の温度調整を一般的なPID演算によるフィードバック自動制御にて温度調整を行い、このときのPIDのチューニングとして、P=50~500、I=0~50、D=0~200の範囲で調整した以外は、実施例9と同様の温度制御を行った。この比較例3では、触媒の供給量が安定しているにも関わらず、重合槽温度のハンチングが大きくなり、人的介入なしでは、温度調整は不可能であった。"