互いに離された第一および第二面の少なくとも2つの面を有する、流体を分離するように適合されている基体の欠陥の位置を捜しあてるためのシステムであって、基体または基体を含むデバイスは流体が基体を通過するための出口点を有し、該システムがa基体が第一面から第二面へ通すように適合されている粒子サイズよりも大きい制御されたサイズの粒子を生成することができる粒子生成機;b基体の第一および第二面の間に圧力差をつくるシステム;c拡散光源;d粒子が通過できる複数の流路を有するバッフル;e粒子生成機から基体の第一面への閉鎖流路;を備え、前記光源は基体の第二面または基体の出口の方向に向けられ、該光源からの光の方向と前記バッフルとの角度は、光源からの検出可能な光が基体の第一面または基体を含むデバイスの出口に直接接触することがないように適合されている上記システム。さらに基体の第一第二面または出口を通過する粒子からの反射光の画像を撮るように適合された撮像デバイスを備える請求項1に記載のシステム。さらに基体を保持するように適合されている構造部材、粒子生成機、流路およびバッフルを互いに選択された配列で備える請求項1または2に記載のシステム。基体の第二面を粒子生成機から離し、そして粒子生成機により生成される粒子が第一面と接触できるように基体の第一面と流路との接触を維持するために、前記システムが、流路と基体との間にシールをさらに備える前記請求項1から3のいずれか1項に記載のシステム。前記基体の第一と第二面との間に圧力差をつくるためのシステムが、流路の圧力、すなわち基体の第一面の圧力を上げるか、またはシステムが基体の第二面の圧力を下げるいずれかである、請求項1から4のいずれか1項に記載のシステム。前記バッフルが金網を備え、該金網のパターンはその間を粒子が通過できる流路を作る請求項1から5のいずれか1項に記載のシステム。光のパターンの中心で1本の線により測定される光の方向が、表面の平面または基体の出口によりつくられる平面に対して90度未満である請求項1から6のいずれか1項に記載のシステム。光のパターンの中心で1つのベクトルにより測定される光の方向が、基体の第二面の平面または基体を含むデバイスの出口によりつくられる平面に対して約2度から85度の間である請求項1から7のいずれか1項に記載のシステム。光源により生成される光の大部分をバッフルの表面に集めるように適合されたレンズを、光源とバッフルとの間に配置する請求項1から8のいずれかに1項に記載のシステム。第一および第二面を有する基体、またはこの基体を含むデバイス中の漏れの位置を捜しあてる方法であって、基体が第一面から第二面へ基体を通る流体の流れを防ぐか、または流体の成分を分離するように適合されており、この方法が:a第一面を第二面から離す過程と;b第一面と第二面との間に第一面の圧が第二面よりも高い圧力差をつくる過程と;c基体の第二面または基体を含むデバイスの出口を、第二面または基体を含むデバイスの出口を覆うために十分なサイズのバッフルと接触させる過程と、このバッフルは粒子が通過できる複数の流路を有し;dバッフルの表面を拡散光源からの光に暴露する過程と;e基体の第一側を、基体の第一面に保持するように基体が設計されている粒子サイズの粒子を含有する運搬流体と接触させる過程と;f基体を通過した粒子により散乱された光について、バッフルの表面上の空間をモニタリングする過程とを有する該方法。バッフルの相互連結部の配置、第二面の平面または基体の出口に対して垂直方向のバッフルの厚さ、および光源により作られる光線の中心を通って引かれる線の、バッフルの表面により作られる平面に対する角度が、直接的光線が基体の第二面または基体の出口と直接接触して、それらから反射される光が、基体または基体を含むデバイスの出口を出る粒子の確認を妨げることがないように選択される、請求項10に記載の方法。前記バッフルの表面が、画像を撮影することができるシステムにより、基体を通した粒子による光の反射についてモニタリングされる請求項10または11に記載の方法。さらに光源により生成された大部分の光をバッフルの表面に集めるために、光源からの光が、光源とバッフルとの間に配置されたレンズを通る過程を有する請求項10から12のいずれか1項に記載の方法。基体をわたる圧力差が、基体の第一面に圧力をかけることによりつくられる請求項10から13のいずれか1項に記載の方法。基体をわたる圧力差が、基体の第二面に真空を適用することによりつくられる請求項10から14のいずれか1項に記載の方法。基体が膜またはフィルムである請求項10から14のいずれか1項に記載の方法。基体がウォールフローフィルターである請求項10から14のいずれか1項に記載の方法。ウォールフローフィルターが2つの向かい合う面およびハニカム構造を有し、該ハニカム構造はこの構造を通過する流路を2つの向かい合う面に対して垂直方向に設定し、フィルターの第一面では流体が密閉された通路を通って流れることができないように一つおきに通路が密閉され、そしてフィルターの第二面ではフィルターの第一面で密閉されていない通路が密閉され、各通路は1面だけが密閉される、請求項17に記載の方法。基体の第一面が、粒子と連通する流路を有するウォールフローフィルターの壁を有し、粒子が該通路を介してウォールフローフィルターに導入される、請求項18に記載の方法。バッフルが、粒子が導入される流路ではない開いた流路を有するハニカム円筒の末端に接している請求項18または19に記載の方法。