"セルロース樹脂からなる基材と、前記セルロース樹脂並びにA1アクリル系樹脂及びビニル系樹脂から選択される少なくとも一方の樹脂を含有する第1層と、A2バインダー樹脂及びB屈折率が1.40以下である粒子を含有する第2層と、をこの順番で備える反射防止用積層体。前記第2層が前記セルロース樹脂をさらに含有する、請求項1に記載の反射防止用積層体。前記A1樹脂が、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種を含むモノマー組成物の重合物である、請求項1又は請求項2に記載の反射防止用積層体。前記B屈折率が1.40以下である粒子が、中空シリカ粒子である、請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の反射防止用積層体。前記A2バインダー樹脂が、多官能のメタアクリルエステル化合物若しくは多官能のビニル化合物又はこれらの両方を含有するモノマー組成物の重合物である、請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の反射防止用積層体。しかしながら、特許文献1に記載の方法では、シリカ粒子の偏在化が安定して得られないという問題があった。そこで、本発明に係る幾つかの態様は、上記課題を解決することで、低反射率、硬度および耐擦傷性に優れた硬化膜を形成することができる硬化性組成物、あるいは該硬化膜を有する反射防止用積層体ならびにその製造方法を提供するものである。本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することができる。[適用例1]本発明に係る反射防止用積層体の一態様は、セルロース樹脂基材上に、A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物と、B屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、前記A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物の含有量が、全重合性化合物100質量に対して5質量以上75質量以下である硬化性組成物を硬化させて得られる硬化膜を有し、前記粒子が、前記硬化膜中においてセルロース樹脂基材とは反対側に偏在していることを特徴とする。ここでB成分である粒子が硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側に偏在しているとは、前記硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側におけるB成分である粒子の密度が硬化膜中のセルロース樹脂基材側におけるB成分である粒子の密度より高いことをいう。硬化膜中のセルロース樹脂基材側とセルロース樹脂基材とは反対側とにおける粒子の密度の相対的大小は、反射防止用積層体の断面を電子顕微鏡で観察することにより決定することができる。前記硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側にB成分である粒子が高密度に存在しており、前記硬化膜中のセルロース樹脂基材側にはB成分である粒子が実質的に存在していないことが好ましい。かかる反射防止用積層体は、高硬度、耐擦傷性および低反射率の双方を兼ね備えることができる。[適用例2]適用例1の反射防止用積層体において、前記硬化膜が、前記セルロース樹脂基材を形成するセルロース樹脂を含有することができる。[適用例3]適用例1または適用例2の反射防止用積層体において、前記A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物は、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmの基材のセルロース樹脂フィルムを、25°Cで6gの該A1成分中に2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1以上の重合性化合物であることができる。[適用例4]適用例1ないし適用例3のいずれか一例の反射防止用積層体において、前記A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物は、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種であることができる。[適用例5]適用例1ないし適用例4のいずれか一例の反射防止用積層体において、前記B屈折率が1.40以下である粒子は、中空シリカ粒子であることができる。[適用例6]本発明に係る反射防止用積層体の製造方法の一態様は、A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物と、B屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、前記A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物の含有量が、全重合性化合物100質量に対して5質量以上75質量以下である硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程を有することを特徴とする。かかる反射防止用積層体の製造方法によれば、基材となるセルロース樹脂に前記硬化性組成物を塗布して硬化させることで、B成分である粒子が前記硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側に偏在した硬化膜を形成することができる。これにより、高硬度、耐擦傷性および低反射率を兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。[適用例7]適用例6の反射防止用積層体の製造方法において、前記A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物は、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmの基材のセルロース樹脂フィルムを、25°Cで6gの該A1成分中に2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1以上の重合性化合物であることができる。[適用例8]適用例6または適用例7の反射防止用積層体の製造方法において、前記A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物は、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種であることができる。[適用例9]適用例6ないし適用例8のいずれか一例の反射防止用積層体の製造方法において、前記B屈折率が1.40以下である粒子は、中空シリカ粒子であることができる。[適用例10]本発明に係る硬化性組成物の一態様は、A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物と、B屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、前記A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物の含有量が、全重合性化合物100質量に対して5質量以上75質量以下であることを特徴とする。[適用例11]適用例10の硬化性組成物において、前記A1成分は、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種であることができる。[適用例12]適用例10または適用例11の硬化性組成物において、前記B屈折率が1.40以下である粒子は、中空シリカ粒子であることができる。本発明に係る反射防止用積層体の製造方法によれば、基材となるセルロース樹脂に前記硬化性組成物を塗布して硬化させることで、B成分である粒子が前記硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側に偏在した硬化膜を形成することができる。これにより、高硬度、耐擦傷性および低反射率を兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。以下、本発明に係る好適な実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は、下記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において実施される各種の変型例も含む。1.硬化性組成物本実施の形態に係る硬化性組成物は、A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物と、B屈折率が1.40以下である粒子と、を含有する。以下、本実施の形態に係る硬化性組成物の各成分について詳細に説明する。なお、以下の記載においてAないしDの各材料を、それぞれA成分ないしD成分と省略して記載することもある。1.1.A重合性化合物本発明の硬化性組成物に用いられるA重合性化合物は、重合性を有する化合物であれば特に限定されないが、エチレン性不飽和基を有する化合物が好ましい。A重合性化合物としては、基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物A1以下、単にA1成分ともいう。とA1成分以外の重合性化合物以下、A2成分ともいう。とがある。本実施の形態に係る硬化性組成物は、A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物を含有する。本発明において基材のセルロース樹脂を溶解するとは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmの基材のセルロース樹脂フィルムを、室温環境下で6gの重合性化合物に2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥したときに、フィルムの質量減少率以下、TAC溶解性という。が1以上であることをいう。本発明の硬化性組成物がA1成分を含有していることにより、後述するB成分が偏在して、高硬度、耐擦傷性および低反射率を兼ね備えた反射防止用積層体を得ることができる。A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物としては、エチレン性不飽和基等の重合性基を1個有する化合物以下、単官能化合物という。やエチレン性不飽和基等の重合性基を2個以上有する化合物以下、多官能化合物という。が挙げられる。A1成分である単官能化合物としては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、アクリロイルモルフォリン、N-ビニルピロリドン、N-ビニルホルムアミド等のTAC溶解性が10以上である重合性化合物、γ-ブチロラクトンアクリレート、N-ビニルカプロラクタム等のTAC溶解性が5以上10未満である重合性化合物、ヒドロキシプロピルメタアクリレート等のTAC溶解性が2以上5未満である重合性化合物等が挙げられる。その他、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート等が挙げられる。A1成分である多官能化合物としては、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート等が挙げられる。これらの成分は、1種単独で用いてもよいし2種以上を混合して用いてもよい。A2成分であるA1成分以外の重合性化合物は、硬化性組成物の成膜性ならびに硬化膜の硬度および耐擦傷性を高める目的で用いられる。A2成分としては、単官能化合物や多官能化合物が挙げられる。これらのうち、架橋構造を形成することにより硬度及び耐擦傷性に優れる硬化膜を形成することができる点で多官能化合物が好ましい。A2成分である多官能化合物としては、例えば多官能のメタアクリルエステル化合物、多官能のビニル化合物、多官能のエポキシ化合物、多官能のアルコキシメチルアミン化合物が好ましく、多官能のメタアクリルエステル化合物、多官能のビニル化合物がより好ましい。多官能のメタアクリルエステル化合物としては、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート等が挙げられる。多官能のビニル化合物としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。多官能のエポキシ化合物としては、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等が挙げられる。多官能のアルコキシメチルアミン化合物としては、ヘキサメトキシメチル化メラミン、ヘキサブトキシメチル化メラミン、テトラメトキシメチル化グリコールウリル、テトラブトキシメチル化グリコールウリル等が挙げられる。また、A2成分は、本願発明の効果を損なわない程度に単官能のメタアクリルエステル化合物、単官能のビニル化合物、単官能のエポキシ化合物等を含んでいてもよい。A2成分中に含まれる多官能化合物の割合は、A2成分の全量を100質量として、50~100質量が好ましく、80~100質量がさらに好ましく、100質量が特に好ましい。本実施の形態に係る硬化性組成物中において、A成分の含有量は、D溶媒を除く成分の合計を100質量としたときに、80~99質量が好ましく、90~98質量がさらに好ましい。A成分の含有量が上記範囲にあることにより、高硬度、耐擦傷性と低反射率を有する硬化膜を形成することができる。A1成分の含有量は、A成分の全量100質量に対して、5質量以上75質量以下であり、より好ましくは10質量以上50質量以下であり、特に好ましくは10質量以上40質量以下である。なお、本明細書においてA成分とは、A1成分とA2成分とを合計したものをいう。A1成分が上記範囲で配合されることで、高硬度および高い耐擦傷性を有する硬化膜を得ることができるだけでなく、硬化膜中で硬化膜中のセルロース樹脂基材と反対側にB成分を偏在させることが容易となる。1.2.B屈折率が1.40以下である粒子本実施の形態に係る硬化性組成物は、屈折率が1.40以下である粒子を含有する。かかる粒子が偏在することにより、硬化膜に反射防止膜としての機能を付与することができる。また、該粒子が偏在することで、硬化膜の硬度を向上させたり、カールを小さくさせたりする効果も期待される。粒子の屈折率は、1.40以下であり、好ましくは1.35以下、より好ましくは1.30以下である。屈折率を1.40以下としたことにより、反射防止性に優れた硬化膜を得ることができる。また、屈折率は、空気の屈折率である1.00を下限として低いほど好ましいが、中空粒子を使用した場合は、屈折率が低くなるにつれ粒子の強度が低下するため、硬化膜の硬度や耐擦傷性も低下する。そのため、中空粒子の屈折率の下限は1.20とすることが好ましい。本明細書中における屈折率とは、25°CにおけるNa-D線波長589nmの屈折率をいう。本明細書中における粒子の屈折率は、同一マトリックス中に、固形分中の粒子含量を、1質量、10質量、20質量とした組成物を成膜し、JISK7105ISO489に相当に従い、25°CにおけるNa-D線での屈折率を測定し、検量線法で計算した粒子含量100質量の値をいう。B粒子としては、屈折率が1.40以下のものであれば特に限定されないが、例えば中空シリカ粒子、フッ化金属粒子等が挙げられる。これらの中でも、シリカを主成分とする中空シリカ粒子であることが好ましい。中空シリカ粒子は、その内部に空洞を有するため、中実粒子と比べてより低屈折率化することができる。透過型電子顕微鏡により測定した粒子の数平均粒子径は、好ましくは1~100nmであり、より好ましくは5~60nmである。粒子の形状は、球状に限定されず不定形の形状であってもよい。中空シリカ粒子の市販品としては、例えば、日揮触媒化成株式会社製のJX1008SIV透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、屈折率1.29、固形分20質量、イソプロピルアルコール溶媒、JX1009SIV透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、屈折率1.29、固形分20質量、メチルイソブチルケトン溶媒等が挙げられる。本実施の形態に用いられる中空シリカ粒子は、表面改質剤で表面を変性されたものであってもよい。表面改質剤としては、重合性不飽和基および加水分解性シリル基を有する化合物以下、重合性表面改質剤ともいう。を例示することができる。重合性表面改質剤の重合性不飽和基としては、ビニル基、メタアクリロイル基が挙げられる。なお、加水分解性シリル基とは、水と反応してシラノール基Si-OHを生成するものであって、例えば、ケイ素に1以上のメトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基等のアルコキシル基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子が結合したものをいう。本実施の形態に用いられる重合性表面改質剤は、メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の市販品を使用することもできるし、例えば、国際公開公報WO97/12942号公報に記載された化合物を用いることもできる。但し、本明細書において、重合性化合物とはA重合性化合物を指すものとし、重合性表面改質剤で改質する等により重合性基を有するB粒子は、重合性化合物には含まれないものとする。表面改質剤として、フッ素を含有する加水分解性シリル基を有する化合物以下、含フッ素表面改質剤ともいう。を使用することもできる。含フッ素表面改質剤を使用することで、中空シリカ粒子を効率よく偏在させることが可能となる。本実施の形態に用いられる含フッ素変性剤は、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等の市販品を使用することができる。また、アルキル基を有する表面改質剤や、シリコーン鎖を有する表面改質剤も、含フッ素表面改質剤と同様に使用することができる。上記の各種表面改質剤は1種を用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。本実施の形態に用いられる中空シリカ粒子を変性させるためには、中空シリカ粒子と表面改質剤とを混合し、加水分解させることにより両者を結合させればよい。得られた反応性中空シリカ粒子中の有機重合体成分、すなわち加水分解性シランの加水分解物および縮合物の割合は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼させた場合の重量減少の恒量値として、例えば空気中で室温から通常800°Cまでの熱重量分析により求めることができる。反応性中空シリカ粒子への表面改質剤の結合量は、変性後の中空シリカ粒子を100質量として、好ましくは0.01~40質量であり、より好ましくは0.1~30質量、特に好ましくは1~20質量である。中空シリカ粒子に反応させる表面改質剤の量を上記範囲とすることで、組成物中における中空シリカ粒子の分散性を向上させることができるだけでなく、得られる硬化物の透明性や耐擦傷性を高める効果も期待できる。本実施の形態に係る硬化性組成物中において、B成分の含有量は、形成する硬化膜の膜厚に応じて適宜調整できる。具体的には、B成分が後述する低屈折率層を形成する主成分となるため、硬化膜中に偏在化したB成分の厚さが50~200nmになる様な含有量とすることが好ましい。この様な理由から、D溶媒を除く成分の合計を100質量としたときに、0.2~5質量が好ましく、0.3~3質量がさらに好ましい。硬化膜の膜厚に応じた含有量をさらに挙げると、例えば、硬化膜の膜厚が10μmの場合、D溶媒を除く成分の合計を100質量としたときに、好ましくは0.4~1.2質量、より好ましくは0.5~1質量の範囲内である。例えば、硬化膜の膜厚が7μmの場合、好ましくは0.6~1.8質量、より好ましくは0.7~1.5質量であり、硬化膜の膜厚が3μmの場合、好ましくは1.2~4質量、より好ましくは1.5~3質量の範囲内である。B成分の含有量が上記の範囲内にあることにより、反射率低減効果に優れた反射防止用積層体を得ることができる。1.3.C重合開始剤本実施の形態に係る硬化性組成物は、C重合開始剤を含有してもよい。このようなC重合開始剤としては、例えば、A成分としてメタアクリルエステル化合物および/またはビニル化合物を含有する場合は、熱的に活性ラジカル種を発生させる化合物熱重合開始剤、および放射線光照射により活性ラジカル種を発生させる化合物放射線光ラジカル重合開始剤等の汎用品を挙げることができる。また、A成分としてエポキシ化合物および/またはアルコキシメチルアミン化合物を含有する場合は、酸性化合物、および放射線光照射により酸を発生させる化合物放射線光酸発生剤等の汎用品を挙げることができる。これらの中でも、放射線光重合開始剤が好ましい。放射線光ラジカル重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始させられるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3-メチルアセトフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノ-プロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン-1,4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス-2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキシド、オリゴ2-ヒドロキシ-2-メチル-1-4-1-メチルビニルフェニルプロパノン等が挙げられる。放射線光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、チバジャパン株式会社製のイルガキュア184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24-61、ダロキュア1116、1173、BASF社製のルシリンTPO、8893UCB社製のユベクリルP36、ランベルティ社製のエザキュアーKIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B等が挙げられる。熱ラジカル重合開始剤としては、加熱により分解してラジカルを発生して重合を開始するものであれば特に制限はなく、例えば、過酸化物、アゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、t-ブチル-パーオキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。放射線光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩類、ジアリールヨードニウム塩類の化合物を使用することができる。放射線光酸発生剤の市販品としては、サンアプロ社製のCPI-100P、101A等が挙げられる。本実施の形態に係る硬化性組成物中において、必要に応じて用いられるC重合開始剤の含有量は、溶媒を除く成分の合計を100質量としたときに、好ましくは0.01~15質量、より好ましくは0.1~8質量の範囲内である。上記の範囲で配合することで、より硬度及び耐擦傷性の高い硬化物が得られる。なお、C重合開始剤は複数種の化合物を併用することもできる。1.4.D溶媒本実施の形態に係る硬化性組成物は、セルロース樹脂基材に塗布したときの塗膜以下、硬化性組成物層という。の厚さを調節するために、D溶媒で希釈して用いることができる。例えば、本実施の形態に係る硬化性組成物を反射防止膜や被覆材として用いる場合の25°Cにおける粘度は、通常0.1~50,000mPa秒であり、好ましくは、0.5~10,000mPa秒である。D溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類等が挙げられる。本実施の形態に係る硬化性組成物において、必要に応じて用いられるD溶媒の含有量は、D溶媒を除く成分の合計を100質量部としたときに、50~10,000質量部の範囲内であることが好ましい。溶媒の含有量は、塗布膜厚、硬化性組成物の粘度等を考慮して適宜決定することができる。1.5.その他の添加剤本実施の形態に係る硬化性組成物は、必要に応じて、粒子分散剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、老化防止剤、熱重合禁止剤、着色剤、レベリング剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、無機系充填材、有機系充填材、フィラー、濡れ性改良剤、塗面改良剤等を含有することができる。これらのうち、粒子分散剤として、フッ素原子を含有する化合物、シロキサン鎖を有する化合物を使用することで、中空シリカ粒子の偏在を促進し、反射率が低い反射防止用積層体を得ることができる。1.6.硬化性組成物の製造方法本実施の形態に係る硬化性組成物は、A重合性化合物、B粒子、必要に応じてC重合開始剤、D溶媒、その他の添加剤をそれぞれ添加して、室温または加熱条件下で混合することにより調製することができる。具体的には、ミキサー、ニーダー、ボールミル、三本ロール等の混合機を用いて調製することができる。但し、加熱条件下で混合する場合には、熱重合開始剤の分解温度以下で行うことが好ましい。2.反射防止用積層体およびその製造方法2.1.反射防止用積層体の製造方法本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法は、aA1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物と、B屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、前記A1基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物の含有量が、全重合性化合物100質量に対して5質量以上75質量以下である硬化性組成物を準備する工程以下、工程aともいう。と、b前記硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程以下、工程bともいう。と、を含む。かかる反射防止用積層体の製造方法によれば、基材となるセルロース樹脂に前記硬化性組成物を塗布して硬化させることで、B成分である粒子が前記硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側に偏在している硬化膜を形成することができる。これにより、耐擦傷性および低反射率の双方を兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。以下、工程ごとに説明する。2.1.1.工程a工程aは、前述した硬化性組成物を準備する工程である。かかる硬化性組成物の構成や製造方法等は前述したとおりであるため、詳細な説明は省略するものとする。2.1.2.工程b工程bは、工程aで準備された硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程である。工程aで準備された硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布する方法は特に限定されず、例えばバーコート塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の公知の方法を用いることができる。工程aで準備された硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布すると、該硬化性組成物中に含まれるA1成分とセルロース樹脂基材中に含まれるセルロース樹脂とが相互作用して、硬化性組成物層中にセルロース樹脂が混入するか、または、セルロース樹脂にA1成分が浸透する場合がある。塗膜中にセルロース樹脂が混入しているか否かは、例えば、得られた硬化膜をラマン分光測定装置で測定し、前記セルロース樹脂が有する特定の官能基のピークを観測することにより判別することができる。硬化性組成物の硬化条件についても特に限定されるものではない。具体的には、前記硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布し、好ましくは0~200°Cで揮発成分を乾燥させた後、放射線および/または熱で硬化処理を行うことにより反射防止用積層体を形成することができる。熱で硬化させる場合の好ましい条件は、20~150°Cであり、10秒~24時間の範囲で行われる。放射線で硬化させる場合、紫外線または電子線を用いることが好ましい。紫外線の照射光量は、好ましくは0.01~10J/cm2であり、より好ましくは0.1~2J/cm2である。また、電子線の照射条件は、加圧電圧が10~300kV、電子密度が0.02~0.30mA/cm2、電子線照射量が1~10Mradである。2.2.反射防止用積層体図1は、本実施の形態に係る反射防止用積層体を模式的に示した断面図である。図1に示すように、本実施の形態に係る反射防止用積層体100は、基材となるセルロース樹脂基材10の上に前述した硬化性組成物を硬化させた硬化膜20が形成されており、前記硬化膜20のセルロース樹脂基材とは反対側におけるB成分である粒子の密度は硬化膜中のセルロース樹脂基材側におけるB成分である粒子の密度より高い。硬化膜中のセルロース樹脂基材と反対側には粒子22が相対的に高い密度で存在する領域26低屈折率層26ともいう。が形成されており、硬化膜中のセルロース樹脂基材側には粒子22が実質的に存在しない領域24ハードコート層24ともいう。が形成されている。領域24と領域26の境界は、必ずしも明確である必要はないが、硬化膜中のB粒子の大部分が領域26に集まり領域24は実質的にB粒子を含まないことによって境界が明確であることが好ましい。粒子22の屈折率は1.40以下であるため、領域26の屈折率は領域24の屈折率より低く、このため反射率が低い反射防止用積層体を得ることができる。また、領域24がA1成分またはA2成分として多官能化合物を含有する場合には架橋構造を有する硬化膜が形成されるため硬度および耐擦傷性に優れる反射防止用積層体を得ることができる。反射防止用積層体100は、反射防止性能に影響を及ぼさない範囲で、領域26のセルロース樹脂基材10と反対側に接して膜厚30nm以下の他の層を有していても構わない。なお、本発明において硬化膜とは、硬化膜20の硬化性組成物を塗布および硬化して得られる膜をいい、塗布および硬化の課程において成分の加減があっても構わない。B成分が偏在する原因は必ずしも明らかではないが、A1成分がセルロース樹脂を溶解して、セルロース樹脂が硬化性組成物層中へ溶出するため、セルロース樹脂との親和性が低いB成分が硬化性組成物層中のセルロース樹脂濃度が低い側である硬化性組成物層中のセルロース樹脂基材と反対側に偏在するようになると推定される。このような状態で硬化性組成物を硬化させることにより、硬化膜中のセルロース樹脂基材と反対側にB成分が偏在した硬化膜を形成することができる。一方、基材のセルロース樹脂を溶解しない重合性化合物のみを含有する硬化性組成物では、セルロース樹脂との相互作用がないため、硬化膜の表面にB成分を偏在させることができず、硬化膜の反射防止機能が損なわれてしまう。以下、本実施の形態に係る反射防止用積層体の各層について説明する。2.2.1.セルロース樹脂基材本実施の形態に係る反射防止用積層体に用いられる基材は、セルロース樹脂基材である。基材としてセルロース樹脂を用いることにより、前述した硬化性組成物中に含まれるA1成分がセルロース樹脂を溶解または膨潤させることにより、粒子22が比較的高い密度で存在する低屈折率層26を形成することができるものと考えられる。一方、セルロース樹脂以外の樹脂を基材として使用した場合には、前述したような作用効果を奏しない。本実施の形態において、セルロース樹脂基材とは、基材自体がセルロース樹脂で形成されていてもよいし、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート等の基材表面にセルロース樹脂層を有する基材であってもよい。ここで、基材として使用可能なセルロース樹脂としては、トリアセチルセルロース以下、TACともいう。、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。また、基材をセルロース樹脂とする反射防止用積層体は、カメラのレンズ部、テレビCRTの画面表示部、あるいは液晶表示装置における偏光子の保護フィルム等の広範なハードコートおよび/または反射防止膜の利用分野において、優れた耐擦傷性および反射防止効果を得ることができる。2.2.2.ハードコート層ハードコート層24は、前述した硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜20のセルロース樹脂基材10側に形成される、粒子22が実質的に存在しない領域から構成される。ハードコート層24の厚さは、特に限定されないが、好ましくは1~50μm、より好ましくは1~10μmである。ハードコート層24の厚さが1μm未満であると、硬度が不足する場合があり、一方、50μmを超えると、均質な膜を形成することが困難となったり、積層体のカールが大きくなり扱いづらくなる場合があるからである。ハードコート層の形成において、前述の通りA1成分を含むA成分がセルロース樹脂を溶解させるため、形成されるハードコート層24はA成分の他にセルロース樹脂を含有する層となる。2.2.3.低屈折率層低屈折率層26は、前述した硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜20のセルロース樹脂基材10と反対側に形成される、粒子22が相対的に高い密度で存在する領域から構成される。低屈折率層26の厚さは、特に限定されないが、好ましくは50~200nm、より好ましくは60~150nm、特に好ましくは80~120nmである。低屈折率層26の厚さを上記範囲内とすることで可視領域の波長において十分な反射防止効果を得ることができる。本実施の形態に係る反射防止用積層体100におけるハードコート層24と低屈性率層26との屈折率差は、0.05以上の値とすることが好ましい。この理由は、ハードコート層24と低屈折率層26との屈折率差が0.05未満の値であると、これらの反射防止膜での相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する場合があるからである。3.実施例以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。3.1.表面改質した中空シリカ粒子の調製例中空シリカ粒子商品名JX-1009SIV、屈折率1.29、メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成株式会社製90.9質量部固形分濃度;20質量部、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシランGE東芝シリコーン株製1質量部、イソプロパノール0.1質量部およびイオン交換水0.05質量部の混合液を、80°Cで3時間攪拌後、オルトギ酸メチルエステル0.7質量部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌することで無色透明の粒子分散液B-1を得た。B-1をアルミ皿に2g秤量後、120°Cのホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、22.5質量であった。3.2.硬化性組成物の製造例紫外線を遮蔽した容器中において、中空シリカ粒子商品名JX-1009SIV、屈折率1.29、メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成株式会社製5質量部固形分として1質量部、2-ヒドロキシエチルアクリレート商品名ライトエステルHOA、共栄社化学株式会社製26質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート商品名SR399E、サートマー社製70質量部、2-メチル-1[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン商品名イルガキュア登録商標907、チバジャパン株式会社製3質量部、サイラプレーンFM0725チッソ株式会社製0.1質量部、さらにメチルイソブチルケトンを適量加えて室温で2時間撹拌することにより均一な硬化性組成物を得た。この溶液をアルミ皿に2g秤量後、175°Cのホットプレート上で30分間乾燥させ、秤量した後固形分含量を求めたところ、50質量であった。3.3.実施例1反射防止用積層体の作製前記3.2.硬化性組成物の製造で得られた硬化性組成物をトリアセチルセルロースフィルム上にバーコーターを用いて全体の硬化膜厚が約7μmとなるように塗布し、80°Cで2分間乾燥後、窒素フロー下で高圧水銀灯300mJ/cm2を用いて硬化させて反射防止用積層体を得た。3.4.実施例2~22、比較例1~53.2.硬化性組成物の製造で得られた硬化性組成物に替えて、表2~表4に示す成分を用いて硬化性組成物を調製したこと以外は、実施例1と同様にして反射防止用積層体を得た。但し、実施例11、12では、トリアセチルセルロースフィルムに替えて、セルロースアセテートブチレート樹脂商品名CAB-381-20、イーストマンケミカル社製をアセトンに20質量に溶解した溶液を、ポリエチレンテレフタレートフィルム上実施例11またはポリカーボネートフィルム上実施例12に、バーコーターを用いて塗布し80°Cで3分間乾燥させ、5μmのセルロース樹脂膜を形成した基材を使用した。なお、実施例20で使用したUN-3320HSは根上工業株式会社製のウレタンアクリレートオリゴマーである。3.5.評価試験3.5.1.樹脂成分のトリアセチルセルロースに対する溶解性まず、表2~表4に記載の各樹脂成分のトリアセチルセルロースに対する溶解性について評価した。18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム商品名TDY-80UL、富士フイルム社製を、25°Cで、6gの重合性化合物に2時間浸し、取り出したフィルムを80°Cで24時間真空乾燥機で乾燥したときのトリアセチルセルロースフィルムの質量減少率を測定し、質量減少率が2以上である場合には該重合性化合物がトリアセチルセルロースを溶解するものと判断し、2未満である場合には該重合性化合物がトリアセチルセルロースを溶解しないものと判断した。結果を表1に示す。なお、ヒドロキシエチルアクリレートへのセルロースアセテートブチレートの溶解性を同様に試験したところ、質量減少率は39であった。次に、実施例および比較例で得られた硬化性組成物および反射防止用積層体の特性を下記項目について評価した。その結果を表2~表4に併せて示す。3.5.2.反射率得られた反射防止用積層体のセルロース樹脂基材面を黒色スプレーで塗装し、分光反射率測定装置大型試料室積分球付属装置150-09090を組み込んだ自記分光光度計U-3410、日立製作所株式会社製により波長340~700nmの範囲における反射率を基材側から測定して評価した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準100として、各波長における反射防止用積層体反射防止膜の反射率を測定し、そのうち波長550nmにおける光の反射率を表2に併せて示した。反射率は、3未満であれば低反射性を有すると判断することができる。3.5.3.鉛筆硬度得られた反射防止用積層体をガラス基板上に固定させて、JISK5600-5-4ISO/DIS15184に準拠して評価した。3.5.4.耐擦傷性スチールウール耐性テスト得られた反射防止用積層体をスチールウールボンスターNo.0000、日本スチールウール株式会社製を学振型摩擦堅牢度試験機AB-301、テスター産業株式会社製に取り付け、硬化膜の表面を荷重200gの条件で10回繰り返し擦過し、当該硬化膜の表面における傷の発生の有無を以下の基準により目視で確認した。評価基準は、以下のとおりである。A:硬化膜に傷が発生しない。B:硬化膜の剥離や傷の発生がほとんど認められないか、あるいは硬化膜にわずかな細い傷が認められる。C:硬化膜全面に筋状の傷が認められる。D:硬化膜の一部に剥離が生じる。E:硬化膜の全面に剥離が生じる。3.5.5.中空シリカ粒子の偏在得られた反射防止用積層体の断面を透過型電子学顕微鏡で観察し、硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側における中空シリカ粒子の密度が硬化膜中のセルロース樹脂基材側における中空シリカ粒子の密度より高い場合を、中空シリカ粒子が偏在していると判定した。図2は、実施例1に係る反射防止用積層体を電子顕微鏡で観察したときの断面写真である。図3は、実施例1に係る反射防止用積層体において粒子が偏在した様子を電子顕微鏡で観察したときの断面写真である。図2および図3の写真に示されるように、実施例1に係る反射防止用積層体では中空シリカ粒子が界面に偏在している様子が確認された。3.6.評価結果表2および表3の結果から、実施例1~22においては、反射率が3未満となり優れた反射防止性を有していることがわかった。また、耐スチールウール性の結果から耐擦傷性にも優れていることがわかった。これに対し、表4の結果から、A1成分を含有していない比較例1~3においては、耐擦傷性には優れているが、反射率が3を超えてしまい反射率が劣ることがわかった。全重合性化合物中のA1成分の含有量が過小である比較例4においても、同様の結果であった。全重合性化合物中のA1成分の含有量が100質量である比較例5においては、鉛筆硬度と耐擦傷性が著しく低下した。また、実施例1、2、7および比較例1の硬化膜において、断面をスライスしてハードコート層のラマン分光測定日本電子株式会社製、形式JRS-SYSTEM2000を使用を行った。その結果、実施例1、2および7のハードコート層からは、トリアセチルセルロースのカルボニル基に由来する1740cm-1のピークが検出されたが、比較例1のハードコート層からはトリアセチルセルロースに由来するピークは検出されなかった。すなわち、実施例1、2および7のハードコート層中には、基材のトリアセチルセルロースが混入していることが示唆された。実施例1~22の全てにおいて、硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側における中空シリカ粒子の密度が硬化膜中のセルロース樹脂基材側における中空シリカ粒子の密度より高く、硬化膜中のセルロース樹脂基材側には中空シリカ粒子が実質的に存在しなかった。これに対して、比較例1~5では、中空粒子の密度は硬化膜中でほぼ均一であった。本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的および効果が同一の構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。"