基板に堆積した非結晶シリコンの膜を低温ポリSiLTPSアニーリングすることにより産生される、概ね平面であるポリシリコン膜の表面から一般的には上向きに伸びている隆起または突起を、低減または本質的に排除する方法であって、概ね平面であるポリシリコン膜を有意にエッチングすることなく、概ね平面であるポリシリコン膜を、水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液と、概ね平面であるポリシリコン膜の表面から隆起または突起を選択的にエッチングするのに十分な時間、接触させることを含み、該水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液は、pH12以上を有し、84.5ないし99.8重量の水、テトラアルキル水酸化アンモニウム、コリン、アルカリ水酸化物、アルカリ土類水酸化物およびこれらの混合物からなる群から選択される、0.1ないし10重量の少なくとも1種の強塩基、およびエチレングリコール、グリセロール、エチルカルビトール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコールおよびこれらの混合物からなる群から選択される、0.1ないし10重量の少なくとも1種のエッチング速度制御剤を含む溶液を含むものであり、上記割合はポリシリコン平坦化溶液の総重量に基づくものである、該方法。少なくとも1種の強塩基が、テトラアルキル水酸化アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項1に記載の方法。ポリシリコン平坦化溶液が界面活性剤をさらに含有する、請求項2に記載の方法。界面活性剤がアセチレンジオールである、請求項3に記載の方法。ポリシリコン平坦化溶液中に少なくとも1種の酸化剤も存在する、請求項2に記載の方法。少なくとも1種の酸化剤が、過マンガン酸塩、過クロム酸塩、過硫酸塩、過塩素酸塩、過酸化物、オゾンおよび他の過酸化物質およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項5に記載の方法。ポリシリコン平坦化溶液が、テトラアルキル水酸化アンモニウム、NaOH、KOHおよびこれらの混合物から選択される少なくとも1種の強塩基を含有し、少なくとも1種のエッチング制御剤が、エチレングリコール、グリセロールおよびトリエチレングリコールおよびこれらの混合物から選択され、溶液中にアセチレンジオールから選択される少なくとも1種の界面活性剤および過硫酸塩から選択される少なくとも1種の酸化剤も存在する、請求項1に記載の方法。ポリシリコン平坦化溶液がpH132ないし144を有し、少なくとも1種の強塩基が、テトラメチル水酸化アンモニウム、KOHおよびこれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも1種のエッチング制御剤が、エチレングリコール、トリエチレングリコールおよびこれらの混合物からなる群から選択され、酸化剤が005ないし03重量含まれ、該酸化剤が過硫酸アンモニウムであり、少なくとも1種の界面活性剤が10ないし2000ppm含まれ、これらの割合はポリシリコン平坦化溶液の総重量に基づくものである、請求項1に記載の方法。概ね平面であるポリシリコン膜をポリシリコン平坦化溶液と接触させる前に、概ね平面であるポリシリコン膜の表面から上向きに伸びている隆起または突起が、概ね平面であるポリシリコン膜の表面の上に800ないし1000Åの高さで上向きに伸びている、請求項1に記載の方法。基板に堆積した非結晶シリコンの膜を低温ポリSiLTPSアニーリングすることにより製造される、概ね平面であるポリシリコン膜の表面から一般的には上向きに伸びている隆起または突起を、低減または本質的に排除することができる水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液であって、84.5ないし99.8重量の水、テトラアルキル水酸化アンモニウム、コリン、アルカリ水酸化物、アルカリ土類水酸化物およびこれらの混合物からなる群から選択される、0.1ないし10重量の少なくとも1種の強塩基、およびエチレングリコール、グリセロール、エチルカルビトール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコールおよびこれらの混合物からなる群から選択される、0.1ないし10重量の少なくとも1種のエッチング速度制御剤を含み、上記割合はポリシリコン平坦化溶液の総重量に基づくものであり、pH12以上を有する、ポリシリコン平坦化溶液。少なくとも1種の強塩基が、テトラアルキル水酸化アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項10に記載のポリシリコン平坦化溶液。ポリシリコン平坦化溶液が界面活性剤をさらに含有する、請求項11に記載のポリシリコン平坦化溶液。界面活性剤がアセチレンジオールである、請求項12に記載のポリシリコン平坦化溶液。ポリシリコン平坦化溶液中に少なくとも1種の酸化剤も存在する、請求項11に記載のポリシリコン平坦化溶液。少なくとも1種の酸化剤が、過マンガン酸塩、過クロム酸塩、過硫酸塩、過塩素酸塩、過酸化物、オゾンおよび他の過酸化物質およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項14に記載のポリシリコン平坦化溶液。ポリシリコン平坦化溶液が、テトラアルキル水酸化アンモニウム、NaOH、KOHおよびこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種の強塩基を含有し、少なくとも1種のエッチング制御剤が、エチレングリコール、グリセロールおよびトリエチレングリコールおよびこれらの混合物からなる群から選択され、溶液中にアセチレンジオールから選択される少なくとも1種の界面活性剤および過硫酸塩から選択される少なくとも1種の酸化剤も存在する、請求項10に記載のポリシリコン平坦化溶液。ポリシリコン平坦化溶液がpH132ないし144を有し、少なくとも1種の強塩基が、テトラメチル水酸化アンモニウム、KOHおよびこれらの混合物からなる群から選択され、少なくとも1種のエッチング制御剤が、エチレングリコール、トリエチレングリコールおよびこれらの混合物からなる群から選択され、酸化剤が005ないし03重量含まれ、該酸化剤が過硫酸アンモニウムであり、少なくとも1種の界面活性剤が10ないし2000ppm含まれ、これらの割合はポリシリコン平坦化溶液の総重量に基づくものである、請求項10に記載のポリシリコン平坦化溶液。基板に堆積した非結晶シリコンの膜を低温ポリSiLTPSアニーリングすることにより産生されたポリシリコン膜を有する基板であって、該ポリシリコン膜の表面が、請求項1ないし請求項9のいずれかに記載の方法で膜表面から上向きに伸びている隆起または突起を低減または排除することにより平面化された基板。非結晶シリコンからのアニーリングによるポリシリコン膜コーティングの形成方法において、構造的な障壁および問題に遭遇することが見出された。これらの問題の中に、概ね平面であるポリシリコン膜層から上向きに隆起または突起する鋭い山型構造の形成がある。これらの上向きに隆起または突起する山型構造の高低差と鋭い形状は、ポリシリコン表面に酸化物または窒化物層を堆積させるときに漏れ電流および構造の変形による信頼性の減弱の原因になると報告された。従って、ポリシリコン膜表面または天然酸化SiSiOxにより覆われた他の領域の表面を損傷またはエッチングすることなく、これらのポリシリコン膜層の高低差を低減または排除できる必要がある。発明の要旨本発明によると、水、少なくとも1種の強塩基および少なくとも1種のエッチング速度制御剤を含む、水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液が提供される。その溶液は、例えば少なくとも1種の酸化剤および少なくとも1種の界面活性剤などの他の場合による成分を含有し得、一般的にはこれらを含有する。基板に堆積した非結晶シリコンの膜層のアニーリングにより形成され、概ね平面であるポリシリコン膜層の表面から上向きに伸びている山型構造、隆起または突起を有するポリシリコン膜層を、そのような水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液と接触させ、概ね平面であるポリシリコン平面層または概ね平面であるポリシリコン膜上のいかなる酸化Si層を有意にエッチングせずに、それらの上向きに伸びている山型構造、隆起または突起を実質的に低減または排除する。水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液は、水、少なくとも1種の強塩基および少なくとも1種のエッチング制御溶媒、場合により少なくとも1種の酸化剤および/または少なくとも1種の界面活性剤を有するものである。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化組成物は、一般的にはpH12またはそれ以上、一般的にはpH約132ないし約145を有する。発明の詳細な説明および好ましい実施態様本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液は、水、強塩基およびエッチング速度制御剤を含み、場合により界面活性剤および酸化剤を含有する。水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液は、一般的にはpH12以上、好ましくはpH約132ないし約145を有する。本発明はさらに、非結晶シリコンの膜層を基板上でアニーリングすることにより形成され、概ね平面であるポリシリコン膜層の表面から上向きに伸びている山型構造または隆起または突起を有するポリシリコン膜層を、そのような水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液と接触させ、概ね平面であるポリシリコン膜を有意にエッチングせずに、それらの上向きに伸びている山型構造、隆起または突起を実質的に低減または排除する方法を対象とする。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液は、一般的には、pH12以上、通例約pH132ないし145、より好ましくは、pH約135ないし約144を有する。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液には、強塩基が平坦化溶液の約01ないし約10重量、好ましくは約10ないし約60重量、より好ましくは約18重量ないし約32重量の量で存在する。水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液には、少なくとも1種の強塩基が存在する。強塩基は、テトラアルキル水酸化アンモニウム、コリン、水酸化ナトリウムまたはカリウムなどのアルカリ水酸化物、水酸化マグネシウムまたはカルシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、アルカリ、アルカリ土類またはアルキル炭酸塩、アルカリ、アルカリ土類またはアルキル酢酸塩、アルカリ、アルカリ土類またはアルキルアルコキシド、アルカリ、アルカリ土類またはアルキルシアン化物、アルカリ、アルカリ土類またはアルキル過塩素酸塩、メルカプト化合物、アルキルリン酸塩、アルキル砒化物、プロトンイオンを容易に受容できるルイス塩基、およびこれらの混合物から選択される。テトラアルキル水酸化アンモニウムが好ましい塩基であり、式[R4N]p[X]-q式中、各Rは、独立して、置換または非置換アルキル、好ましくは炭素原子1個ないし22個、より好ましくは1個ないし6個、さらにより好ましくは1個ないし4個のアルキルまたはヒドロキシアルキルであり;Xは、OHまたは炭酸塩などの適する塩陰イオンであり;そして、pおよびqは等しく、1ないし3の整数であるの任意の適するテトラアルキル水酸化アンモニウムである。最も好ましくは、テトラアルキル水酸化アンモニウムは、テトラメチル水酸化アンモニウムTMAHである。アルカリ金属水酸化物を用いるならば、それは、好ましくはNaOHまたはKOHである。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液は、少なくとも1種のエッチング速度制御剤を含有する。かかるエッチング速度制御剤は、アルコールまたはグリコールである。任意の適するアルコールまたはグリコールのエッチング速度制御剤を用い得る。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液中のエッチング速度制御剤として有用なかかるアルコールおよびグリコールの例には、エチレングリコール、グリセロール、エチルカルビトールcarbitol、トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールおよびこれらの混合物が含まれるが、これらに限定されない。少なくとも1種のエッチング速度制御剤は、一般的には、水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液中、その溶液の約01ないし約10重量、好ましくは約05ないし約5重量、より好ましくは約05ないし約2重量の量で存在する。水は、本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液中、平坦化溶液の重量をベースとして、約845ないし約998重量、好ましくは約845ないし約97重量、より好ましくは約90ないし約97重量の量で存在する。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液は、少なくとも1種の酸化剤を場合により含有し得、一般的にはこれらを含有する。任意の適する酸化剤を用い得る。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液で用い得るそのような酸化剤の例として、過マンガン酸塩、過クロム酸塩、過硫酸塩、過塩素酸塩、過酸化物、オゾンおよび他の過酸化物質およびこれらの混合物に言及し得る。本発明の平坦化溶液における使用に適する酸化剤には、過硫酸アンモニウム、過塩素酸アンモニウム、過マンガン酸アンモニウムおよび過クロム酸アンモニウムが含まれるがこれらに限定されない。酸化剤成分は、本発明の溶液中で用いられる場合、一般的には、水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液中、溶液の重量をベースとして、約001ないし約05重量、好ましくは005ないし03重量、より好ましくは約01ないし約02重量の量で存在する。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液はまた、場合により、少なくとも1種の界面活性剤を含有する。界面活性剤は、組成物中に存在するとき、エッチング速度制御剤としても作用し得る。界面活性剤が存在するとき、界面活性剤の量は、一般的には約10ないし約2000ppm、好ましくは約30ないし約1500ppm、より好ましくは約100ないし約1000ppmの量である。任意の適する界面活性剤を用い得る。水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液で用い得る、適する界面活性剤には、任意の適する水溶性の、両性、非イオン性、陽イオン性または陰イオン性界面活性剤がある。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液で有用な両性界面活性剤には、アルキルベタイン、アミドアルキルベタイン、アルキルスルホベタインおよびアミドアルキルスルホベタインなどのベタインおよびスルホベタイン;アムホamphoグリシネート、アムホプロピオネート、アムホジグリシネートおよびアムホジプロピオネートなどのアミノカルボン酸誘導体;アルコキシアルキルイミノ二塩基酸またはアルコキシアルキルイミノ二塩基酸などのイミノ二塩基酸iminodiacid;アルキルアミン酸化物およびアルキルアミドアルキルアミン酸化物などのアミン酸化物;フルオロアルキルスルホネートおよびフッ化アルキル両性物質amphoteric;およびこれらの混合物が含まれる。好ましくは、両性界面活性剤は、ココアミドcocoamideプロピルベタイン、ココアミドプロピルジメチルベタイン、ココアミドプロピルヒドロキシスルタンsultaine、カプリロアムホジプロピオネート、ココアミドジプロピオネート、ココアムホプロピオネート、ココアムホヒドロキシエチルプロピオネート、イソデシルオキシプロピルイミノジプロピオン酸、ラウリルイミノジプロピオネート、ココアミドプロピルアミンオキシドおよびココアミンオキシドおよびフッ化アルキル両性物質である。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液で有用な非イオン性界面活性剤には、アセチレンジオール、エトキシル化アセチレンジオール、フッ化アルキルアルコキシレート、フッ化アルキルエステル、フッ化ポリオキシエチレンアルカノール、多価アルコールの脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンモノアルキルエーテル、ポリオキシエチレンジオール、シロキサン型界面活性剤、およびアルキレングリコールモノアルキルエーテルが含まれる。好ましくは、非イオン性界面活性剤は、アセチレンジオールまたはエトキシル化アセチレンジオールである。特に有用なのは、アセチレンジオール界面活性剤Surfynol465である。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液で有用な陰イオン性界面活性剤には、カルボン酸塩、N-アシルサルコシン酸塩、スルホン酸塩、硫酸塩、並びにリン酸デシルなどのオルトリン酸のモノおよびジエステルが含まれる。本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液で有用な陽イオン性界面活性剤には、アミンエトキシレート、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、ジアルキルモルホリウムmorpholinum塩、アルキルベンジルジメチルアンモニウム塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩およびアルキルピリジニウム塩が含まれる。概ね平面であるポリシリコン膜から上向きに伸びているポリシリコンの隆起または突起の高さは、一般的には約800ないし約1000Åの範囲にあるが、基板上のポリシリコン膜の概ね平面である表面上の高さで多少低いことも高いこともあり得る。本発明の平坦化溶液は、概ね平面であるポリシリコン膜層をエッチングせずに、本質的または実質的に、これらの隆起または突起を排除することができる。基板上の概ね平面であるポリシリコン膜の表面からそびえ立つ隆起または突起は、概ね平面であるポリシリコン膜の表面を、本発明の水性の高い強塩基性のポリシリコン平坦化溶液と、これらの隆起または突起の選択的除去を達成するのに十分な時間と温度で接触させることにより、本質的または実質的に排除される。一般的には、接触時間は、約05分間ないし約10分間、好ましくは約1ないし約6分間、より好ましくは約2ないし約3分間である。この方法の温度は、約40°Cないし約80°C、好ましくは約55°Cないし約75°C、より好ましくは約60°Cないし約70°Cの温度である。最も好ましくは、約2-3分間、約60-70°Cで本方法を実行する。組成の変化、LTPSパネルの状態レーザーの照射エネルギーおよびエージング時間agingtimeに左右されるを含むがこれらに限定されないパラメーターにより本方法の条件が変動し得るので、温度および時間は可変の数値である。任意の適する手段により、LTPS製パネル上の概ね平面であるポリシリコン膜の表面から上向きに伸びている隆起または突起を接触させることができ、例えば、パネルを本発明の平坦化溶液に浸すか、または、本発明の平坦化組成物をLTPSパネルに噴霧することによる。本発明を以下の例示的であるが非限定的な実施例により例示説明する。実施例1-6高さ約800ないし約1000Åの上向きに伸びている隆起または突起を有するLTPSパネルを、各々PTFA被覆パネルバスケット/マガジンに入れ、それを、約65°Cないし約70°Cの温度に加熱した本発明のLTPS平坦化組成物で満たした槽に浸した。その槽は、槽の温度を一定にするインペラー撹拌器およびSUS加熱器を有した。設定した時間分の後、パネルバスケット/マガジンを平坦化組成物から出し、新しい水で溢れさせた脱イオン水槽に移した。次いで、各LTPSパネルをDI水ですすぎ、エアナイフモジュールで乾燥させた。全てのLTPSパネルサンプル片の同じ場所をFESEMで観察し、新しいLTPS平坦化組成物の性能を測定した。結果を下表に記載する。各場合で、本発明のLTPS平坦化組成物は、概ね平面であるポリシリコン膜を有意にエッチングせずに、LTPSパネル上で上向きに伸びている隆起または突起を低減または実質的に排除した。実施例1ないし3の塩基:テトラメチル水酸化アンモニウム実施例4の塩基:テトラメチル水酸化アンモニウム水酸化カリウム20:01実施例5の塩基:テトラメチル水酸化アンモニウム水酸化カリウム30:01実施例6の塩基:テトラメチル水酸化アンモニウム水酸化カリウム25:05実施例1および2のエッチング制御剤:トリエチレングリコール実施例3のエッチング制御剤:エチレングリコール実施例4のエッチング制御剤:エチレングリコール01トリエチレングリコール09実施例5および6のエッチング制御剤:トリエチレングリコール05Surfynol46505実施例1、3、4および6の酸化剤:過硫酸アンモニウム特定の実施態様を参照して本発明を説明したが、本明細書に開示した本発明の概念の精神および範囲から逸脱せずに、変更、改変および変動を成し得ることが理解されよう。従って、添付の特許請求の範囲の精神および範囲内にある全てのそのような変更、改変および変動が包含されることを企図している。