被加熱物を加熱する加熱室と水溜部と、上記水溜部内に配置された蒸気発生ヒータと、上記水溜部に設けられた超音波振動ユニットと、上記水溜部に水を供給する水タンクと、上記蒸気発生ヒータを制御して、水蒸気を発生させる蒸気発生ヒータ制御部と、上記超音波振動ユニットを制御して、超音波振動によりミストを発生させる超音波振動ユニット制御部と、上記水溜部で上記蒸気発生ヒータにより発生させた水蒸気または上記水溜部で上記超音波振動ユニットにより発生させたミストを上記加熱室に供給するための供給経路とを備えたことを特徴とする加熱調理器。請求項1に記載の加熱調理器において、上記水溜部は、仕切壁により底側の一部を除いて仕切られた蒸気発生用凹部とミスト発生用凹部とを有し、上記蒸気発生ヒータを上記蒸気発生用凹部内に配置すると共に、上記超音波振動ユニットを上記ミスト発生用凹部に設けたことを特徴とする加熱調理器。請求項1または2に記載の加熱調理器において、上記水溜部の底部に一端が接続された排水経路と、上記水溜部と上記水タンクとの接続を外したとき、上記排水経路を開いて上記水溜部内の水を上記排水経路を介して排水する一方、上記水溜部と上記水タンクとを接続したとき、上記排水経路を閉じる排水部とを備えたことを特徴とする加熱調理器。請求項1から3までのいずれか1つに記載の加熱調理器において、上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを上記加熱室に供給するとき、上記蒸気発生ヒータ制御部により上記蒸気発生ヒータを制御して、上記蒸気発生ヒータにより上記水溜部内の水を加熱することを特徴とする加熱調理器。請求項4に記載の加熱調理器において、上記水溜部内の水の温度を検出する水温センサを備え、上記蒸気発生ヒータ制御部は、上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを上記加熱室に供給するとき、上記水温センサにより検出された上記水溜部内の水の温度が予め設定された温度になるように上記蒸気発生ヒータを制御することを特徴とする加熱調理器。請求項1から5までのいずれか1つに記載の加熱調理器において、上記超音波振動ユニット制御部は、上記超音波振動ユニットを制御して、イオンを含む水を溜める上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動によりイオンを含むミストを発生させることを特徴とする加熱調理器。そこで、この発明の課題は、簡単な構成で雑菌の発生を防ぎつつ超音波を用いてミストを加熱室内に供給できる加熱調理器を提供することにある。上記課題を解決するため、この発明の加熱調理器は、被加熱物を加熱する加熱室と水溜部と、上記水溜部内に配置された蒸気発生ヒータと、上記水溜部に設けられた超音波振動ユニットと、上記水溜部に水を供給する水タンクと、上記蒸気発生ヒータを制御して、水蒸気を発生させる蒸気発生ヒータ制御部と、上記超音波振動ユニットを制御して、超音波振動によりミストを発生させる超音波振動ユニット制御部と、上記水溜部で上記蒸気発生ヒータにより発生させた水蒸気または上記水溜部で上記超音波振動ユニットにより発生させたミストを上記加熱室に供給するための供給経路とを備えたことを特徴とする。上記構成によれば、水溜部に着脱自在に接続された水タンクからの水が水溜部に供給される。そして、加熱室に水蒸気を供給する調理では、蒸気発生ヒータ制御部により蒸気発生ヒータを制御して、水溜部で蒸気発生ヒータの加熱により発生させた水蒸気を供給経路を介して加熱室に供給する。一方、加熱室にミストを供給する調理では、超音波振動ユニット制御部により超音波振動ユニットを制御して、水溜部で超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを供給経路を介して加熱室に供給する。上記水溜部で超音波振動ユニットの超音波振動によりミストを発生させた後に、水溜部で蒸気発生ヒータの加熱により水を沸騰させて水蒸気を発生させることによって、水溜部内が高温に加熱されて雑菌の発生を防ぐことが可能になる。したがって、上記加熱調理器によれば、簡単な構成で雑菌の発生を防ぎつつ超音波を用いてミストを加熱室内に供給できる。また、水溜部を蒸気発生用とミスト発生用に併用することによって、構成を簡略化でき、省スペース化や低コスト化が図れる。また、一実施形態の加熱調理器では、上記水溜部は、仕切壁により底側の一部を除いて仕切られた蒸気発生用凹部とミスト発生用凹部とを有し、上記蒸気発生ヒータを上記蒸気発生用凹部内に配置すると共に、上記超音波振動ユニットを上記ミスト発生用凹部に設けた。上記実施形態によれば、仕切壁により底側の一部を除いて仕切られた蒸気発生用凹部とミスト発生用凹部とは底側で連通しており、水溜部に接続された水タンクからの水が蒸気発生用凹部とミスト発生用凹部に供給される。上記水溜部の蒸気発生用凹部とミスト発生用凹部とが仕切壁により仕切られて底側でのみ連通しているので、水溜部内の全体に溜まった水を超音波振動ユニットにより振動させるよりも、仕切壁により仕切られたミスト発生用凹部内の少ない水を効率よく振動させることができ、ミストの発生効率を向上できる。また、一実施形態の加熱調理器では、上記水溜部の底部に一端が接続された排水経路と、上記水溜部と上記水タンクとの接続を外したとき、上記排水経路を開いて上記水溜部内の水を上記排水経路を介して排水する一方、上記水溜部と上記水タンクとを接続したとき、上記排水経路を閉じる排水部とを備えた。上記実施形態によれば、水溜部と水タンクとの接続を外したとき、排水経路を開いて水溜部内の水を排水経路を介して排水するので、水溜部内に水が滞ることがなく、雑菌の発生を確実に防止できると共に、析出したスケールが水と共に排出され、スケールが水溜部内に固着するのを防止できる。また、一実施形態の加熱調理器では、上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを上記加熱室に供給するとき、上記蒸気発生ヒータ制御部により上記蒸気発生ヒータを制御して、上記蒸気発生ヒータにより上記水溜部内の水を加熱する。上記実施形態によれば、水溜部で超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを加熱室に供給するとき、蒸気発生ヒータ制御部により蒸気発生ヒータを制御して、蒸気発生ヒータにより水溜部内の水を加熱することにより温めて、温水から超音波振動ユニットによりミストを発生させるので、ミストの噴霧量を増大させることができる。また、一実施形態の加熱調理器では、上記水溜部内の水の温度を検出する水温センサを備え、上記蒸気発生ヒータ制御部は、上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを上記加熱室に供給するとき、上記水温センサにより検出された上記水溜部内の水の温度が予め設定された温度になるように上記蒸気発生ヒータを制御する。上記実施形態によれば、水溜部で超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを加熱室に供給するとき、水温センサにより検出された水溜部内の水が予め設定された温度になるように、蒸気発生ヒータにより水溜部内全体の水を温めることによって、温水を沸騰させることなく、ミストの噴霧量を効果的に増大させることが可能になる。また、一実施形態の加熱調理器では、上記超音波振動ユニット制御部は、上記超音波振動ユニットを制御して、イオンを含む水を溜める上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動によりイオンを含むミストを発生させる。上記実施形態によれば、ミスト供給時に、水タンク内に酸性またはアルカリ性のイオンを含む水を入れて、超音波振動ユニット制御部により超音波振動ユニットを制御して、水溜部内のイオンを含む水から超音波振動ユニットにより発生させたイオンを含むミストを加熱室に供給することにより、食品のあく抜きや茹で調理および蒸し調理において、食品の発色を促進させたり、食品の退色を防いだりすることが可能となる。以上より明らかなように、この発明の加熱調理器によれば、簡単な構成で雑菌の発生を防ぎつつ超音波を用いてミストを加熱室内に供給できる加熱調理器を実現することができる。以下、この発明の加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。図1はこの発明の実施の一形態の加熱調理器の正面斜視図を示している。この実施の形態の加熱調理器は、図1に示すように、直方体形状の本体ケーシング1の正面に、下端側の辺を略中心に回動する扉2が取り付けられている。この扉2の上部にハンドル3を取り付けると共に、扉2の略中央に耐熱ガラス4を取り付けている。また、扉2の右側に操作パネル5を設けている。この操作パネル5は、カラー液晶表示部6とボタン群7を有している。また、本体ケーシング1の上側かつ右側後方に排気ダクト8を設けている。さらに、本体ケーシング1の扉2の下方に、露受容器9を着脱自在に取り付けている。図2は図1のII-II線から見た加熱調理器の縦断面の模式図を示している。図2に示すように、水タンク11から供給された水を蒸気発生装置12で加熱して飽和水蒸気を生成する。蒸気発生装置12で生成された飽和水蒸気は、蒸気供給経路34を介して、加熱室13の右側面に取り付けられた循環ユニット14の蒸気吸込口15の加熱室13側に供給される。上記蒸気供給経路34を、加熱室13の右側面と平行になるように、循環ユニット14の蒸気吸込口15の近傍に取り付けている。また、循環ユニット14内には、蒸気吸込口15に対向するように循環ファン18を配置している。循環ファン18は、ファンモータ19によって回転駆動される。上記加熱室13の上面および左側面を覆うように、L字状に屈曲した蒸気ダクト100を取り付けている。この蒸気ダクト100は、加熱室13の上面側に固定された第1ダクト部110と、第1ダクト部110の左側方から下側に屈曲する屈曲部120と、加熱室13の左側面側に固定され、屈曲部120を介して第1ダクト部110に連なる第2ダクト部130とを有している。この蒸気ダクト100の第1ダクト部110に、過熱蒸気生成ヒータ20を収納している。蒸気ダクト100の第1ダクト部110と、過熱蒸気生成ヒータ20で過熱蒸気生成装置21を構成している。なお、過熱蒸気生成装置は、蒸気ダクトとは別に設けてもよい。そして、蒸気ダクト100の第1ダクト部110の右側は、循環ユニット14の上部に設けられた蒸気供給口22に連通している。加熱室13の天面には、複数の第1蒸気吹出口24が設けられており、蒸気ダクト100の第1ダクト部110は、第1蒸気吹出口24を介して加熱室13内に連通している。一方、蒸気ダクト100の第2ダクト部130は、加熱室13の左側面に設けられた複数の第2蒸気吹出口25を介して加熱室13内に連通している。上記加熱室13と蒸気ダクト100との隙間は、耐熱樹脂などによりシールされている。また、加熱室13と蒸気ダクト100は、加熱室13の前面開口を除いて断熱材により覆われている。上記循環ユニット14と過熱蒸気生成装置21と加熱室13とそれらを接続する接続部材とによって、蒸気の循環経路が形成されている。そして、この循環経路における循環ユニット14の加熱室13との境界部に、蒸気発生装置12で生成された飽和水蒸気が供給される。また、加熱室13の下部にはマグネトロン80が配置されている。このマグネトロン80で発生したマイクロ波は、導波管によって加熱室13の下部中央に導かれ、モータ37によって駆動される回転アンテナ38によって攪拌されながら加熱室13内の上方に向かって放射されて被加熱物27を加熱する。また、本体ケーシング1内の下側には、冷却ファン部と電装部品17を配置している。電装部品17は、加熱調理器の各部を駆動する駆動回路やこの駆動回路を制御する制御回路等を有している。図3は図2のIII-III線から見た加熱調理器の縦断面の模式図を示している。なお、図3において、図2に示す同一の構成部には同一参照番号を付している。また、図3では、図を見やすくするために排気ダクト8の上側を除いて省略している。図3に示すように、加熱室10の右側方に、前面側から着脱自在に挿入された給水タンク11を配置すると共に、その給水タンク11の後面側に蒸気発生装置12を配置している。この蒸気発生装置12は、給水タンク11に接続され、蒸気発生ヒータ51の加熱によって蒸気を発生する。蒸気発生装置12に蒸気供給通路34の一端が接続され、蒸気供給通路34の他端が循環ユニット14に接続されている。また、蒸気発生装置12の底部かつ前面側に排水経路64の一端を接続し、その排水経路64の他端を、給水タンク11の下方に配置された排水トレイ90に接続している。また、図4は上記加熱調理器の蒸気発生装置12を含む要部の断面模式図を示している。図4に示すように、水タンク11が接続された蒸気発生装置12は、蒸気発生用凹部50aとミスト発生用凹部50bとを有する水溜部50を備える。蒸気発生用凹部50a内に蒸気発生ヒータ51が配置されていると共に、ミスト発生用凹部50bの底部に超音波振動ユニット52が配置されている。この水溜部50の上部は、上面部60により覆われている。そして、上面部60から下方に向かって立設された仕切壁53によって、底側の連通穴54を除いて蒸気発生用凹部50aとミスト発生用凹部50bとの間を仕切っている。なお、ミスト発生用凹部50bの底面は、蒸気発生用凹部50aの底面よりも浅く設定されている。上記水溜部50の上面部60には、蒸気発生用凹部50a側に蒸気吹出口50cが設けられ、ミスト発生用凹部50b側にミスト吹出口50dが設けられている。また、水溜部50の上面部60の蒸気発生用凹部50a側に複数の電極棒を備えた水位センサ55を配置している。また、蒸気発生用凹部50a内に水温を検出するための水温センサ57を配置している。また、水溜部50の蒸気発生用凹部50aの水タンク11側において、フロート式の弁体56が上下方向に出没自在に取り付けられている。この弁体56の上部から上方に延びる軸部56aを、上面部60に設けられた穴60aに出没自在に挿入している。この穴60aの上側にバッファ部61が設けられ、バッファ部61の底側かつ側方に連結部61が取り付けられている。この連結部61に水タンク11の給水口11aが接続されている。この状態で水タンク11内の水位とバッファ部61内の水位は同じになり、バッファ部61内の水位を検出する水位センサをバッファ部61内に配置している。また、水溜部50の蒸気発生用凹部50aの底部かつ前面側に排水弁63が設けられ、この排水弁63に排水経路64の一端が接続されている。この排水弁63は、水タンク11の給水口11aが連結部61に接続されているときは閉じている。そして、水タンク11が取り出されて水タンク11の給水口11aが連結部61から外れた状態になると、排水弁63が開いて水溜部50内の水を排水経路64を介して排水トレイに排水する。水タンク11の給水口11aが連結部61には夫々、接続時に開いて接続が外れたときに閉じる弁機構が設けられている。この排水弁63の開閉機構は、例えば、水タンク11の着脱に連動するアームにより排水弁63を開閉するものでもよいし、水タンク11の着脱をセンサにより検出して、そのセンサの検出信号に基づいて、排水弁としての電磁弁を開閉するものでもよい。上記構成の加熱調理器において、水溜部50の連結部61に水タンク11の給水口11aが接続されると、水タンク11内の水が連結部61を介してバッファ部61内に流入する。このとき、蒸気発生用凹部50a内に水がない状態では、フロート式の弁体56は下方に下がって、穴60aが開いた状態になっている。そして、バッファ部61に流入した水は、底部の穴60aを介して蒸気発生用凹部50a内に供給され、さらに蒸気発生用凹部50aからミスト発生用凹部50bに供給される。そうして、蒸気発生用凹部50a内の蒸気発生ヒータ51全体が水に浸るほどの水位になると、フロート式の弁体56が上方に上がって、弁体56により穴60aが閉じた状態になって、水位が一定に保たれる。そして、蒸気発生ヒータ51により蒸気発生や超音波振動ユニット52によるミスト発生により水溜部50内の水量が減って水位が下がると、弁体56が下方に下がって、再び穴60aが開いた状態になってバッファ部61内の水が、穴60aを介して蒸気発生用凹部50a内およびミスト発生用凹部50b内に供給される。図5は上記加熱調理器の制御ブロック図を示している。この加熱調理器は、マイクロコンピュータと入出力回路などからなる制御装置200を電装品部17内に備えている。制御装置200は、過熱蒸気生成ヒータ20循環ファン用モータ19冷却ファン用モータ16操作パネル5庫内温度センサ29水位センサ55水温センサ57蒸気発生ヒータ51超音波振動ユニット52およびマグネトロン80が接続されている。操作パネル5からの信号および庫内温度センサ29水位センサ55水温センサ57からの検出信号に基づいて、制御装置200は、過熱蒸気生成ヒータ20循環ファン用モータ19冷却ファン用モータ16操作パネル5蒸気発生ヒータ51超音波振動ユニット52およびマグネトロン80などを制御する。上記制御装置200は、蒸気発生ヒータ51を制御して、水溜部50の蒸気発生用凹部50aで蒸気発生ヒータ51の加熱により水蒸気を発生させる蒸気発生ヒータ制御部200aと、超音波振動ユニット52を制御して、水溜部50のミスト発生用凹部50bで超音波振動ユニット52の超音波振動によりミストを発生させる超音波振動ユニット制御部200bを備える。上記加熱調理器において、加熱室13に水蒸気を供給する調理を行う場合は、蒸気発生ヒータ制御部200aにより蒸気発生ヒータ51を制御して、水溜部50の蒸気発生用凹部50aで蒸気発生ヒータ51の加熱により発生させた水蒸気を蒸気供給経路34を介して加熱室13に供給する。一方、加熱室13にミストを供給する調理を行う場合は、超音波振動ユニット制御部200bにより超音波振動ユニット52を制御して、水溜部50のミスト発生用凹部50bで超音波振動ユニット52の超音波振動により発生させたミストを蒸気供給経路34を介して加熱室13に供給する。また、過熱蒸気によって加熱調理を行う場合には、図2に示す過熱蒸気生成ヒータ20をオンすると共に、循環ファン18を回転駆動する。そうして、蒸気発生装置12から循環ユニット14の蒸気吸込口15の近傍上流側に供給された飽和水蒸気は、循環ファン18の回転によって負圧になっている循環ユニット14内に蒸気吸込口15を介して吸い込まれて、蒸気供給口22から過熱蒸気生成装置21内に吹き出される。そして、過熱蒸気生成装置21の過熱蒸気生成ヒータ20によって加熱されて過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の加熱室13の天面に設けられた複数の第1蒸気吹出口24から、加熱室13内に下方に向かって吹き出す。また、過熱蒸気の他の一部は、蒸気ダクト100を介して加熱室13の第2蒸気吹出口25から加熱室13内に吹き出す。そして、加熱室13内に供給された過熱蒸気は、トレイ30上の網40に搭載された被加熱物27を加熱した後、加熱室13の右壁面に循環ユニット14の蒸気吸込口15に対向して形成された吸込口28から循環ユニット14内に吸い込まれる。そうして、再び循環経路を通って加熱室13内に戻るという循環を繰り返す。これに対して、非過熱蒸気によって被加熱物27を蒸すかまたは暖める運転を行う場合には、過熱蒸気生成ヒータ20をオフすると共に、循環ファン18を停止する。そうすると、循環ファン18が停止しているため、循環経路内に循環気流が発生することがなく、蒸気発生装置12から循環ユニット14の蒸気吸込口15の近傍上流側に供給された飽和水蒸気は、循環ユニット14内に強制的に吸い込まれない。これにより、蒸気圧によって自然に加熱室13内に流れ込む飽和水蒸気により、被加熱物27を蒸すかまたは暖める。ここで、加熱室13内の左壁面および右壁面には、図2に示すように、トレイ30の両端部を係止する係止部39a39b39cが上下方向に3段に設けられている。そして、蒸気供給経路34は、上段の係止部39aよりもやや上側に位置するように配置されている。蒸し暖めモードにおいて、被加熱物27を搭載した2つのトレイ30を上段と中段とに配置する場合には、蒸気導入室36内に架設された蒸気供給経路34の総てのノズルを加熱室13方向に斜め下向きにしておく。こうすることにより、被加熱物27を搭載したトレイ30が上段および中段の何れの位置にあっても、蒸気供給経路34の斜め下向きのノズルから引き出された飽和水蒸気を被加熱物27に当てることができる。したがって、蒸気供給経路34のノズルからの吹き出し方向を操作することなく、上中2段の被加熱物27に蒸し斑や暖め斑が生ずることがないようにできる。次に、イオンを含むミストを用いた調理について説明する。まず、加熱室13にミストを供給する調理を行うときは、水タンク11内に酸性またはアルカリ性のイオンを含む水を入れて、水タンク11を本体ケーシング1に装着する。そうして、水タンク11からイオンを含む水が水溜部50内の蒸気発生用凹部50aからミスト発生用凹部50bに供給される。次に、超音波振動ユニット制御部200bにより超音波振動ユニット52を制御して、水溜部50のミスト発生用凹部50bで超音波振動ユニット52の超音波振動により発生させたイオンを含むミストを蒸気供給経路34を介して加熱室13に供給する。ここで、イオンを含むミストが供給された加熱室13において、過熱蒸気生成ヒータ20をオンすると共に循環ファン18を回転駆動して、過熱蒸気を循環させる調理を行ってもよいし、イオンを含むミストを加熱室13に所定時間供給した後、蒸気発生ヒータ制御部200aにより蒸気発生ヒータ51を制御して、蒸気発生ヒータ51により蒸気発生用凹部50aで発生させた飽和水蒸気を加熱室13に供給する調理を行ってもよい。例えば、ナスや黒豆等の野菜では、発色を促進させるために茹で調理や蒸し調理を行うとき、ミョウバン等の三価金属イオンを含む酸性の水を水タンク11内に入れて、イオンを含むミストを用いて調理を行うことによって、発色を促進したり、煮崩れを防いだりして調理物の外観を良好に仕上げることができる。また、酸性の水を水タンク11内に入れて、イオンを含むミストをゴボウやレンコン等の根菜や栗に供給してあく抜きすることによって、退色を防いで調理物の外観を良好に仕上げることができる。このようにして、調理物の外観を良好に仕上げることができる。なお、アルカリ性の水は、例えば重曹などの溶解性添加剤を水に溶解して作る。一方、酸性の水は、例えばミョウバンクエン酸酢酸などの溶解性添加剤を水に溶解して作る。また、溶解性添加剤を用いずに、電解水生成装置によって食塩などの電解質を添加した水を電気分解することで、陰極側からアルカリ性の水を生成すると共に、陽極側から塩素を含んだ酸性の水を生成して、必要に応じて酸性の水とアルカリ性の水のいずれか一方を水タンク11内に入れて調理を行う。上記構成の加熱調理器によれば、水溜部50のミスト発生用凹部50bで超音波振動ユニット52の超音波振動によりミストを発生させた後に、水溜部50の蒸気発生用凹部50aで蒸気発生ヒータ51の加熱により水を沸騰させて水蒸気を発生させることによって、水溜部50内が高温に加熱されて雑菌の発生を防ぐことが可能になる。したがって、上記加熱調理器によれば、簡単な構成で雑菌の発生を防ぎつつ超音波を用いてミストを加熱室13内に供給できる。また、水溜部50を蒸気発生用とミスト発生用に併用することによって、構成を簡略化でき、省スペース化や低コスト化を図ることができる。また、上記水溜部53の蒸気発生用凹部50aとミスト発生用凹部50bとが仕切壁53により仕切られて底側でのみ連通しているので、水溜部50内の全体に溜まった水を振動させるよりも、仕切壁53により仕切られたミスト発生用凹部50b内の少ない水を超音波振動ユニット52により効率よく振動させることができ、ミストの発生効率を向上できる。また、上記水溜部50と水タンク11との接続を外したとき、排水経路64を開いて水溜部50内の水を排水経路64を介して排水トレイ90に排水するので、水溜部50内に水が滞ることがなく、雑菌の発生を確実に防止できると共に、析出したスケールが水と共に排出され、スケールが水溜部50内に固着するのを防止することができる。また、上記ミスト発生用凹部50bで超音波振動ユニット52の超音波振動により発生させたミストを加熱室13に供給するとき、蒸気発生ヒータ制御部200aにより蒸気発生ヒータ51を制御して、蒸気発生ヒータ51により水溜部50内全体の水を温めて温水にし、その温水から超音波振動ユニット52によりミストを発生させるので、ミストの噴霧量を増大させることができる。また、上記ミスト供給時に、水温センサ57により検出された水溜部50内の水の温度が所定温度になるように、蒸気発生ヒータ51により水溜部50内全体の水を温めることによって、温水を沸騰させることなく、ミストの噴霧量を効果的に増大させることが可能になる。また、上記ミスト供給時に、水タンク11内に酸性またはアルカリ性のイオンを含む水を入れて、超音波振動ユニット制御部200bにより超音波振動ユニット52を制御して、ミスト発生用凹部50b内のイオンを含む水から超音波振動ユニット52により発生させたイオンを含むミストを加熱室13に供給することにより、食品のあく抜きや茹で調理および蒸し調理において、食品の発色を促進させたり、食品の退色を防いだりすることが可能となる。上記実施の形態では、水溜部50の蒸気発生用凹部50aとミスト発生用凹部50bとの間を仕切壁53により仕切った加熱調理器について説明したが、仕切壁のない水溜部に蒸気発生ヒータと超音波振動ユニットを設けた加熱調理器にこの発明を適用してもよい。また、この発明の加熱調理器としては、例えば、過熱水蒸気を使用するオーブンレンジのみならず、過熱水蒸気を使用するオーブン、過熱水蒸気を使用しないオーブンレンジ、過熱水蒸気を使用しないオーブンなどがある。この発明の加熱調理器では、オーブンレンジなどにおいて、過熱水蒸気または飽和水蒸気を用いることによって、ヘルシーな調理を行うことができる。例えば、本発明の加熱調理器では、温度が100°C以上の過熱水蒸気または飽和水蒸気を食品表面に供給し、食品表面に付着した過熱水蒸気または飽和水蒸気が凝縮して大量の凝縮潜熱を食品に与えるので、食品に熱を効率よく伝えることができる。また、凝縮水が食品表面に付着して塩分や油分が凝縮水と共に滴下することにより、食品中の塩分や油分を低減できる。さらに、加熱室内は過熱水蒸気または飽和水蒸気が充満して低酸素状態となることにより、食品の酸化を抑制した調理が可能となる。ここで、低酸素状態とは、加熱室内において酸素の体積が10以下である状態を指す。この発明の具体的な実施の形態について説明したが、この発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更して実施することができる。