被処理材を固定する固定装置と、前記固定装置に固定された被処理材に処理液を噴霧する装置と、前記固定装置に固定された被処理材に水洗液を噴霧する装置と、処理液を収容する処理液タンクと、前記処理液タンクから処理液を導出し、導出した処理液を、前記処理液を噴霧する装置に供給する供給系統と前記処理液タンクに戻して循環する循環系統を有する供給循環装置と、処理液の噴霧を制御し、水洗液の噴霧を制御し、処理液の噴霧を停止してから水洗液の噴霧を開始するまでの時間を制御し、かつ処理液の噴霧開始と連動して処理液の循環を停止し、処理液の噴霧停止と連動して処理液の循環を開始する制御を行う制御装置と、を備えることを特徴とする被処理材の処理試験設備。本発明は、被処理材を処理液に接触させる処理を行った後水洗液で水洗する処理を行う際に、被処理材を処理液に接触させる処理を終了してから水洗を開始するまでの移行時間を1秒以下にできる処理試験設備を提供することを課題とする。上記課題を解決する本発明の手段は、被処理材を固定する固定装置と、前記固定装置に固定された被処理材に処理液を噴霧する装置と、前記固定装置に固定された被処理材に水洗液を噴霧する装置と、処理液を収容する処理液タンクと、前記処理液タンクから処理液を導出し、導出した処理液を、前記処理液を噴霧する装置に供給する供給系統と前記処理液タンクに戻して循環する循環系統を有する供給循環装置と、処理液の噴霧を制御し、水洗液の噴霧を制御し、処理液の噴霧を停止してから水洗液の噴霧を開始するまでの時間を制御し、かつ処理液の噴霧開始と連動して処理液の循環を停止し、処理液の噴霧停止と連動して処理液の循環を開始する制御を行う制御装置と、を備えることを特徴とする被処理材の処理試験設備である。本発明によれば、被処理材を処理液に接触させる処理工程から水洗液で水洗を行う工程への移行時間を1秒以下にでき、またその移行時間の変動を低減できる。本発明の処理試験装置の考え方を説明する。従来の試験設備で各処理間の移行時間が数秒もかかっていたのは、被処理材の移送時間が必要なためである。そこで、本発明では、試験材は移送せずに固定することとした。次に、固定した被処理材に処理液を接触させる方法を検討した。従来の方法は、被処理材を処理槽に浸漬する方法であったが、この方法は、処理液を処理槽に充填する時間と処理槽から排出する時間が必要となり、移行時間の短縮には限界が有る。そこで、浸漬法に代わる方法として、スプレー法を採用することとした。スプレー法では、噴霧開始、終了をほぼ瞬時に行うことが可能となる。水洗も、スプレー法を採用することとした。これによって、水洗開始を瞬時に行うことが可能になる。処理液は、処理液タンクに収容し、処理液タンクの処理液を、ポンプを用いて導出し、処理液の導出系統に三方弁三方電磁弁を設け、三方電磁弁出側の処理液の送液系統として、処理液を処理液タンクに戻して循環する循環系統と、処理液を噴霧装置に送液する噴霧系統の2系統を配置する。ポンプは常時作動させる。処理液を噴霧しないときは、三方電磁弁出側の噴霧系統の弁を閉、循環系統の弁を開として処理液を循環させ、処理液を噴霧するときは、三方電磁弁出側の噴霧系統の弁を開き、それに連動して循環系統の弁を閉じて、処理液の噴霧を開始し、それに連動して処理液の循環を停止する。これによって、処理液の噴霧開始と終了を瞬時に行い、また処理液の噴霧開始時の噴霧液量の変動を抑制する。また、処理液の噴霧停止から水洗液の噴霧開始までの時間を設定するタイマーを設け、処理液の噴霧停止から水洗液の噴霧開始までの移行時間を任意の時間に調整できるようにする。タイマーの設定時間を0.1秒の単位で設定可能とすることで、噴霧時間が1秒未満の短時間の噴霧処理を行うことが可能になる。またタイマーの設定時間を0秒とすることで、処理液の噴霧停止とほぼ同時に水洗液の噴霧を開始し、処理液の噴霧工程から水洗工程への移行時間を0秒にすることができるようになる。以下、図面を用いて本発明の実施形態を詳しく説明する。図1は、本発明の実施の形態に係る処理試験設備の要部及び制御フローを示す概略図である。図1において、1は処理液、2は処理液タンク、3は処理液を噴霧する噴霧装置、4は水洗液を噴霧する噴霧装置、5は被処理材6を固定する固定装置である。噴霧装置3、4は特に限定されない。通常使用されるスプレー装置を使用できる。固定装置5で被処理材を固定する方法は特に限定されない。処理液1も特に限定されない。アルカリ液、酸液等の各種処理液を用いることができる。7は処理液導出管で、途中にポンプ8と、該ポンプ8の下流に三方弁三方電磁弁9を備え、三方電磁弁9の出側は、処理液を処理液タンク2に戻す循環用配管10及び処理液を噴霧装置3に送液する噴霧用配管11に接続されている。これらは、処理液の供給循環装置を構成する。12は、水洗液を噴霧装置4に供給する水洗液供給管で、途中に弁電磁弁13が設置されている。14は固定装置5の下方に配置された受液タンクで、被処理材6に衝突後下方に流下する処理液、水洗液を溜める。20は操作パネル、21は制御装置である。制御装置21は、制御部22、タイマー23~25を備える。制御部22は、三方電磁弁9、電磁弁13の開閉を制御する。タイマー23は処理液の噴霧時間、タイマー24は処理液の噴霧を停止してから水洗液の噴霧を開始するまでの時間、タイマー25は水洗液の噴霧時間を設定する。各タイマーは、設定時間を0.1秒の単位で任意の時間に設定可能である。本設備を用いて、処理液の噴霧工程、水洗液の噴霧工程を行う方法を説明する。図2は、処理液の噴霧工程、水洗液の噴霧工程のタイムチャートを示す図である。処理液の噴霧工程を行う前に、以下の準備をする。電磁弁13を閉じた状態で、ポンプ8を作動させ、三方電磁弁9出側の噴霧用配管11の弁を閉じ、循環用配管10の弁を開いて、処理液を循環させる。タイマー23に処理液の噴霧時間t1、タイマー24に処理液の噴霧を停止してから水洗液の噴霧を開始するまでの時間t2、タイマー25に水洗液の噴霧時間t3を設定する。固定装置5に被処理材6を固定する。前記準備作業を完了したら、処理液の噴霧工程から水洗液の噴霧工程までの工程を行う。この一連の工程は、操作パネル20に設置されているスタートボタンでスタートさせる。操作パネル20に設置されているスタートボタン図示なしを押す。その信号は制御装置21の制御部22に出力される。制御部22は、三方電磁弁9出側の噴霧用配管11の弁を開き、それに連動して循環用配管10の弁を閉じるように制御し、同時にタイマー23に信号を出力する。この制御により、処理液の噴霧工程が開始され、処理液の循環が停止する。タイマー23は、信号が入力された時からの経過時間を計測し、経過時間が設定時間t1になると信号を制御部22に出力する。制御部22は、この信号を受けると、三方電磁弁9出側の噴霧用配管11の弁を閉じ、それに連動して循環用配管10の弁を開くように制御し、同時にタイマー24に信号を出力する。この制御により、処理液の噴霧工程が終了し、同時に処理液の循環が再開される。三方電磁弁9出側の噴霧用配管11の弁を開き、それに連動して循環用配管10の弁を閉じるようにし、また、三方電磁弁9出側の噴霧用配管11の弁を閉じ、それに連動して循環用配管10の弁を開くようにする制御は、例えば、図3に示すように、三方電磁弁出側の循環用配管の弁の開閉を行うスイッチと、噴霧用配管の弁の開閉を行うスイッチを共用し、一方の配管の弁の開閉を行うスイッチをオンにして当該配管の弁を閉じたときに、他方の配管の開閉を行うスイッチがオフになって当該配管の弁が開くように動作する例えば循環用配管の弁の開閉を行うスイッチの回路が閉になって当該配管の弁が閉じるとき、噴霧用配管の弁の開閉を行うスイッチの回路が開になって当該配管の弁が開くように動作するスイッチ回路を採用することで容易に実行できる。この制御を行うことで、噴霧装置への送液と循環系統への送液の切り替え、処理液の噴霧、停止を一つの操作で同時にかつ簡単に行うことができる。タイマー24は、信号が入力された時からの経過時間を計測し、経過時間が設定時間t2になると信号を制御部22に出力する。制御部22は、この信号を受けると、水洗液供給管12の電磁弁13を開くように制御し、同時にタイマー25に信号を出力する。この制御により、水洗液の噴霧工程が開始される。タイマー25は、信号が入力された時からの経過時間を計測し、経過時間が設定時間t3になると信号を制御部22に出力する。制御部22はこの信号を受けると電磁弁13を閉じるように制御する。この制御により、水洗液の噴霧工程が終了、すなわち処理液の噴霧工程から水洗液の噴霧工程までの一連の工程が終了する。次いで、被処理材を固定装置から取り外す。取り外した被処理材は、必要に応じて乾燥、その他の処理を施す。本設備を用いて引き続き別の被処理材を処理するときは、前記の操作を繰り返す。本設備によれば、処理液を噴霧する処理を行った後水洗液で水洗する処理を行う一連の処理を、処理液の噴霧工程から洗浄液の噴霧工程に移行する移行時間の変動を抑制しながら確実に行うことができる。また、水洗液の処理液の噴霧を停止してから水洗液の噴霧を開始するまでの時間t2を0秒に設定することで、処理液噴霧停止と同時に水洗液の噴霧を開始することができる。実製造設備が、被処理材を処理液に接触させる処理を行った後水洗液で水洗する処理を行う工程を有し、被処理材を処理液に接触させる処理を終了してから水洗を開始するまでの移行時間が1秒以下である条件を有していても、本発明設備を用いることで、当該実製造設備の条件を的確にシミュレーションすることができる。