"マイクロリソグラフィ投影露光装置10の照明系であって、a投影光PLを生成するように構成された光源30と、b瞳平面84と、c前記瞳平面84内の投影光PLの放射照度分布が、該投影光PLによって回折光学要素48上に照明される視野96a、96b、96cの位置に依存するように、前記光源30と該瞳平面84の間に配置された回折光学要素48と、d前記光源30と前記回折光学要素48の間に配置された光学結像系34、134、234、334と、を含むことを特徴とする照明系。前記光学結像系34、134、234、334は、物体平面36と該物体平面36が結像される像平面38とを有し、前記光源30の光射出窓32が、前記物体平面363に配置され、前記回折光学要素48は、前記像平面38に配置される、ことを特徴とする請求項1に記載の照明系。前記光学結像系34、334は、その物体側及びその像側でテレセントリックであることを特徴とする請求項1に記載の照明系。前記光学結像系34、334は、屈折パワー又は反射パワーを有する少なくとも3つの光学要素L1、L2、L3を備えることを特徴とする請求項3に記載の照明系。前記光学結像系34、334は、2つの正のレンズL1、L3と該2つの正のレンズの間に配置された負のレンズL2とを備えることを特徴とする請求項4に記載の照明系。前記光源30と前記光学結像系334の間に配置された多重ビーム折り返し系100を備えることを特徴とする請求項3から請求項5のいずれか1項に記載の照明系。前記多重ビーム折り返し系100は、複数のプリズム102、104、106又は平面ミラーを備えることを特徴とする請求項6に記載の照明系。少なくとも1つのプリズム106又はミラーが、案内レール108上にそれを該案内レールに沿った異なる位置に固定することができるように装着されることを特徴とする請求項7に記載の照明系。前記光学結像系34、134、234、334は、|β|>1である横倍率βを有することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の照明系。前記光学結像系34、134、234、334は、|β|>3である横倍率βを有することを特徴とする請求項9に記載の照明系。前記光学結像系334と前記回折光学要素48の間に配置され、かつ該光学結像系334から射出する平行光ビームの直径を縮小するように構成されたビーム縮小ユニット110を備えることを特徴とする請求項10に記載の照明系。前記光学結像系の全ての光学要素が、前記光源と照明系のビーム送出部との間に配置されることを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の照明系。前記回折光学要素48を照明系12の光学軸OAと平行ではない変位方向Xに沿って変位させるように構成された変位機構56を備えることを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の照明系。本発明の目的は、位置依存の回折効果を有する回折光学要素を用いてマスクレベルで角度放射照度分布を連続的かつ柔軟に変更することを可能にし、一方、装置のオペレータによって角度放射照度分布が定められた状態で角度放射照度分布が安定することを保証するマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系を提供することである。本発明により、この目的は、投影光を生成するように構成された光源と、瞳平面と、回折光学要素とを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系によって達成される。回折光学要素は、瞳平面内の投影光の放射照度分布が、投影光によって回折光学要素上に照明される視野の位置に依存するように、光源と瞳平面の間に配置される。更に、照明系は、光源と回折光学要素の間に配置された光学結像系を含む。光学結像系は、回折光学要素が実際に光源の像によって照明されるという効果を有する。この像と回折光学要素の間の距離は小さく、又は更にゼロであるので、光源によって放出される投影光ビームの方向及び発散の変化は、投影光によって回折光学要素上に照明される視野部分に対して影響を持たないか、又は少なくとも有意な影響を持たない。光源の光射出窓が物体平面に配置され、回折光学要素が光学結像系の像平面に配置される場合には、光源の光射出窓は、回折光学要素上に厳密に結像されることになる。その結果、投影光の方向及び発散の変化は、投影光によって回折光学要素上に照明される視野の位置に対して影響を全く持たないことになる。しかし、多くの場合に、投影光によって回折光学要素上に照明される視野内でより均一な放射照度分布を得るために、回折光学要素は、僅かにデフォーカスされた軸上位置に配置されることが望ましいものになる。デフォーカスは、回折光学要素を光学結像系の像平面を外して配置すること、光源の光射出窓を光学結像系の物体平面を外して配置すること、又は両方の構成要素を像平面及び物体平面それぞれを外して配置することのいずれかによって達成することができる。多くの場合に、物体側と、更に像側とでテレセントリックである光学結像系を有することが好ましい。付加的な制約条件として、屈折パワー又は反射パワーを有し、かつビーム送出部に配置される光学要素を光学結像系が含んではならないことが追加される場合には、光学結像系は、少なくとも、屈折パワー又は反射パワーを有する3つの光学要素を備えなければならないことを見ることができる。3つよりも少ない光学要素のみを有する場合には、テレセントリック性を達成すること、及びビーム送出部内へのそのような光学要素の配列を回避することは可能ではない。例えば、光学結像系は、2つの正のレンズと、これらの2つの正のレンズの間に配置された負のレンズとを含むことができる。そのような光学結像系は、小さい追加容積しか必要とせず、照明系の残りの構成要素、特にビーム送出部を実質的に修正する必要なく光源とビーム送出部の間に配置することができる。上述したように、ビーム送出部の全長は、多くの場合に、半導体製作工場における局所条件に依存する。従って、光学結像系は、異なる長さのビーム送出部に迅速かつ簡単に適応させることができるように構成すべきである。光学結像系は、その物体側と像側でテレセントリックである場合には、余儀なく無限焦点のものである。この場合、テレセントリック性が維持されるように自由物体距離を変更することにより、自由像距離を変更することができる。光学結像系の物体長を簡単な方式で変更することを可能にするために、照明は、光源と光学結像系の間に配置された多重ビーム折り返し系を含むことができる。そのような多重ビーム折り返し系は、例えば、複数のプリズム又は平面ミラーを含むことができ、かつプリズム又は平面ミラーのうちの1つ又はそれよりも多くを変位させることにより、多重ビーム折り返し系内の光路長を簡単に調節することができるように構成することができる。例えば、少なくとも1つのプリズム又はミラーは、案内レールに沿った異なる位置に固定することができるように案内レール上に装着することができる。一部の実施形態において、光源と回折光学要素の間の軸上距離は、2mと25mの間、特に5mと20mの間にある。光学結像系は、|β|>1、好ましくは|β|≧2である横倍率βを有することができる。自由像距離の増加Δdiは、自由物体距離の増加Δdo=Δdi/β2を必要とすることになるので、|β|>1という条件は、自由物体距離の増加Δdoが自由像距離の増加よりも常に小さくなることを保証する。実際に、ビーム送出部長さに対応するある一定の自由像距離を得るべき場合には、|β|が大きい程、自由物体距離の調節は小さくなる。更に、|β|>1である横倍率βは、自由物体距離が自由像距離よりも小さくなることを保証する。これは、その場合に光学結像系内に含まれる全ての光学要素を光源と照明系のビーム送出部の間に配置することができることから有利である。最後に、1つ重要な点を追加すると、|β|>1である横倍率βは、回折光学要素上に照明される視野が、通常望ましいこととして投影光が光源によって放出される時の投影光のビーム断面よりも大きいという効果を有する。しかし、横倍率が非常に大きい場合には、回折光学要素上に照明される視野のサイズが最終的に大き過ぎる場合がある。この場合、光学結像系と回折光学要素の間に補助的なビーム縮小ユニットを配置することができる。このユニットは、光学結像系から射出する平行な光ビームの直径を縮小するように構成される。照明系は、回折光学要素を光学軸と平行ではない変位方向に沿って変位させるように構成された変位機構を含むことができる。この場合、回折光学要素を変位方向に沿って変位させることにより、回折光学要素によって生成される回折効果を光視野の位置に依存して変更することができる。投影光に対して回折光学要素を変位させる代わりに、固定された回折光学要素に対して投影光ビームを移動すること、又は更に両方の手段を組み合わせることを考えることができる。投影光ビームを移動するために、ビームステアリングデバイスを使用することができ、これは、回折光学要素が一時的に静止する場合に光視野の位置を変更するように構成される。定義本明細書では光という用語をあらゆる電磁放射線、特に、可視光、UV光、DUV光、及びVUV光を表す上に使用する。本明細書では光線という用語を線によって表すことができる伝播経路を有する光を表す上に使用する。本明細書では光束という用語を視野平面に共通の起点を有する複数の光線を表す上に使用する。本明細書では光ビームという用語を特定のレンズ又は別の光学要素を通過する光を表す上に使用する。本明細書では位置という用語を3次元空間内でのエンティティ又は無形物体光等の基準点の場所を表す上に使用する。通常は位置を3つの直交座標の組によって示している。従って、向き及び位置は、3次元空間内でのエンティティの配置を完全に説明する。本明細書では方向という用語を直線の空間的な向きを表す上に使用する。従って、特定の方向に沿った物体の移動は、この物体がこの線上の2つの反対の向きに移動することが許されることを意味する。本明細書では面という用語を3次元空間内でのあらゆる平面又は曲面を表す上に使用する。面は、エンティティの一部とすることができ、又は通常は視野又は瞳平面においてそうであるように、エンティティとは完全に別個のものとすることができる。本明細書では視野平面という用語をマスク平面と光学的に共役な平面を表す上に使用する。本明細書では共役平面という用語を間に結像関係が確立される平面を表す上に使用する。共役平面の概念に関する更に別の情報は、1次設計及び図という名称のE.Delanoの論文、応用光学、1963年、第2巻第12号、1251~1256ページに説明されている。本明細書では瞳平面という用語をマスク平面内の異なる点を通過する周辺光線が交わる平面を表す上に使用する。数学的な意味で平面ではなく、若干湾曲した面を指し、従って、厳密な意味では瞳面と呼ぶべき場合にも、瞳平面という用語を使用する。本明細書では光学ラスター要素という用語を各光学ラスター要素が複数の隣接する光学チャンネルのうちの1つに関連付けられるように他の同一又は類似の光学ラスター要素と共に配置されたあらゆる光学要素、例えば、レンズ、プリズム、又は回折光学要素を表す上に使用する。本明細書ではテレセントリックという用語を視野平面から射出した光束の主光線が光学軸と平行に伝播することを表す上に使用する。本明細書では光学インテグレーターという用語をNAが開口数であってaが照明視野内で照明される面積である時に積NAaを増大させる光学系を表す上に使用する。本明細書ではコンデンサーという用語を2つの平面の間、例えば、視野平面と瞳平面の間にフーリエ関係を確立する少なくとも近似的に光学要素又は光学系を表す上に使用する。本明細書では自由物体距離という用語を光学結像系の最初の物体側光学要素の頂点と物体平面の間の軸上距離を表す上に使用する。本明細書では自由像距離という用語を光学結像系の最後の像側光学要素の頂点と像平面の間の軸上距離を表す上に使用する。本明細書では空間放射照度分布という用語を光が入射する実面又は虚面にわたって合計放射照度が如何に変化するかを表す上に使用する。通常、空間放射照度分布は、x,yが面上の点の空間座標である時に、関数Isx,yによって表すことができる。本明細書では角度放射照度分布という用語を光束の放射照度が光束を構成する光線の角度に依存して如何に変化するかを表す上に使用する。通常、角度放射照度分布は、α、βが光線の方向を表す角度座標である時に、関数Iaα,βによって表すことができる。本発明の様々な特徴及び利点は、以下に続く詳細説明を添付図面と併せて参照することによってより容易に理解することができる。I.投影露光装置の一般的な構成図1は、本発明による投影露光装置10の大幅に簡略化した斜視図である。装置10は、投影光ビーム図示せずを生成する照明系12を含む。照明系12は、図1に細線として略示す複数の小さい特徴部19によって形成されたパターン18を含むマスク16上に視野14を照明する。この実施形態において、照明視野14は、リングセグメントの形状を有する。しかし、他の形状、例えば、矩形の照明視野14も考えられている。投影対物系20は、照明視野14内のパターン18を基板24によって支持された感光層22、例えば、フォトレジスト上に結像する。シリコンウェーハによって形成することができる基板24は、感光層22の上面が投影対物系20の像平面に厳密に位置するようにウェーハ台図示せず上に配置される。マスク16は、投影対物系20の物体平面内にマスク台図示せずを用いて位置決めされる。投影対物系20は、|M|<1である拡大率Mを有し、照明視野14内のパターン18の縮小像18’が感光層22上に投影される。この実施形態において、投影対物系20の設計は、照明視野14が投影対物系20の光学軸26を外して位置決めされることを必要とする。他の種類の投影対物系では、照明視野14は、光学軸26を中心とすることができる。投影中に、マスク16及び基板24は、図1に示すY方向に対応する走査方向に沿って移動する。この場合、照明視野14は、照明視野14よりも大きいパターン化区域を連続して結像することができるようにマスク16にわたって走査される。基板24の速度とマスク16の速度の間の比は、投影対物系20の拡大率Mに等しい。投影対物系20が、像を反転させる場合にはM<0、図1に矢印A1とA2とに示すように、マスク16と基板24は反対方向に移動する。一方、本発明は、マスクの投影中にマスク16及び基板24が移動しないステッパツールに対して使用することができる。II.照明系の一般的な構成図2は、図1に示す照明系12を通る子午断面図である。明瞭化の目的で、図2の図は大幅に簡略化したものであり、正確な縮尺のものではない。これは、特に、異なる光学ユニットを1つ又は非常に少数の光学要素だけによって表すことを意味する。実際に、これらのユニットは、有意に多くのレンズ及び他の光学要素を含むことができる。照明系12は、ハウジング28と、図示の実施形態では光射出窓32を有するエキシマレーザとして達成される光源30とを含む。光源30は、約193nmの波長VUVを有する投影光PLを放出する。他の種類の光源30及び他の波長、例えば、248nmDUV又は157nmも考えられている。図示の実施形態において、投影光PLは、光射出窓32を射出し、3つのレンズL1、L2、及びL3を含む光学結像系34に入射する。光学結像系34は、光源30の光射出窓32が配置された物体平面36と像平面38とを有する。光学結像系34から射出した投影光PLは、第1の平面ビーム経路折り返しミラー42と第2の平面ビーム経路折り返しミラー44とが配置されたビーム送出部40を通過する。ビーム送出部40の全長は、2mと25mの間の範囲にあるとすることができる。次に、投影光PLは、次の瞳平面に変更可能な空間放射照度分布を生成するのに使用される瞳定義ユニット46に入射する。この目的のために、瞳定義ユニット46は、照明系12の光学軸OAに実質的に直交する平面内で延びる回折光学要素48を含む。拡大抜粋図50で最も明快に分るように、回折光学要素48は、平面基板54上に形成された複数の微小回折構造52を含む。回折光学要素48は、当業技術で一般に知られているように、コンピュータ生成ホログラムCGHとして達成することができる。回折光学要素48の光学特性に対しては、図3を参照して以下に更に説明する。更に、瞳定義ユニット46は、回折光学要素48をX方向双方向矢印A3を参照されたいに沿って変位させるように構成された変位機構56を含む。この目的のために、変位機構56は、回折光学要素48に歯車60によって結合されたサーボモータ58を含む。サーボモータ58は、全体系制御器64に連結した制御ユニット62によって制御される。更に、瞳定義ユニット46は、第1のアクチュエータ70を用いて光学軸OAに沿って双方向矢印A4を参照されたい変位させることができるズームコリメータレンズ68と、相補的な円錐面を有する第1及び第2のアキシコン要素72、74とを含む。アキシコン要素72、74の間の光学軸OAに沿った距離は、双方向矢印A5に示すように、第2のアクチュエータ76を用いて変更することができる。この実施形態において、第2のアクチュエータ76は、第2のアキシコン要素74だけに結合され、2つのアキシコン要素72、74の間の距離を変更するための他の構成も利用可能である。アキシコン要素72、74は、第1のアキシコン要素72の入射面における放射照度分布が半径方向に外向きにシフトされるという効果を有する。半径方向シフトの量は、第1のアキシコン要素72と第2のアキシコン要素74の間の距離に依存する。アキシコン要素72、74を通過した光は、図示の実施形態では2つの光学ラスター要素アレイ80、82を含む光学インテグレーター78上に入射する。各光学ラスター要素は、当業技術で一般に知られているように、2つの円柱レンズを交差させることによって形成される。光学ラスター要素は、例えば、矩形の境界線を有する回転対称レンズによって形成することができる。光学インテグレーター78は、瞳平面84内に複数の2次光源を生成する。各2次光源は、同じX座標とY座標とを有するアレイ80、82の2つの光学ラスター要素によって定められる光学チャンネルに関連付けられる。コンデンサー86は、2次光源によって生成された角度光分布を次の中間視野平面88における空間放射照度分布に変換する。全ての2次光源は、実質的に同じ角度放射照度分布を生成するので、中間視野平面88内の空間放射照度分布も非常に類似する。これらの放射照度分布の重ね合わせは、中間視野平面88内での視野の非常に均一な照明をもたらす。中間視野平面88は、視野絞り90と共に、視野絞り対物系92により、マスク16が配置されたマスク平面94上に結像される。従って、マスク16上に照明される視野14は、複数の2次光源によって中間視野平面88内に照明されて視野絞り90によって遮蔽される視野像である。III.回折光学要素の光学特性以下では、図3を参照して回折光学要素48の光学特性をより詳細に説明する。図3は、その上部に回折光学要素48の上面図を示している。簡略化の目的で図3には示していない回折光学要素48の回折構造52は、回折光学要素48によって生成される回折効果が投影光PLによって回折光学要素48上に照明される光視野の位置に依存するように設計される。図3には、そのような光視野の第1、第2、及び第3の位置を示しており、これらをそれぞれ96a、96b、及び96cで表している。3つの位置96a、96b、96cは、X方向に沿ったこれらの場所に関してのみ互いに異なる。投影光PLが、第1の回折光学要素42上の第1の位置96aにある視野を照明する場合には、第1の回折光学要素42は、この実施形態において、遠視野内に又は同じことであるが、ズームコリメータレンズ68によるフーリエ変換の後に、図3に98aで表す第1の空間放射照度分布に対応する角度光分布を生成すると仮定する。この第1の空間放射照度分布98aでは、X方向に沿って分離された2つの小さい極P1、P2のみが照明される。各極P1、P2は、外側半径rpoと内側半径rpiとを有するリングのセグメントの形状を有する。以下で角度αを有する極と呼ぶリングセグメントの角度広がりは、両方の極P1、P2において同一である。投影光PLが、第1の回折光学要素42上の第2の位置96bにある視野を照明する場合には、遠視野内に、極P1、P2がより大きい極幅角度αを有する同様の空間放射照度分布が生成されることになる。光視野の第3の位置96cでは、極幅角度αは最大値を有する。光視野の全ての中間位置において、極幅角度αが図3に3つの位置96a、96b、及び96cにおいて示すものの間の値を有する同様の極P1、P2が生成されることになることを理解すべきである。この実施形態において、図3に示す異なる位置96a、96b、96cは、固定された回折光学要素42にわたって投影光PLを移動することによってではなく、変位機構56を用いて回折光学要素48を固定された投影光PLのビームに対して変位させることによって生成される。IV.機能光学結像系34は、光源30の光射出窓32を回折光学要素48の前の短い距離の位置に配置された像平面38上に結像する。像平面38に対して僅かにデフォーカスされた回折光学要素48の配列は、回折光学要素48上により均一な放射照度分布をもたらす。従って、回折光学要素48は、実際に光源30の光射出窓32の像によって照明される。この像と回折光学要素48の間の距離が小さいので、光源30の光射出窓32において放出された投影光の方向及び発散の変化は、投影光PLによって回折光学要素48上に照明される視野の位置に対して影響を持たないか、又は少なくとも実質的な影響を持たない。これは、光学結像系34の不在の場合には異なることになり、これは、その場合には光射出窓32から射出する投影光ビームの方向及び発散の小さい変化が長いビーム送出部40によって大きく増幅され、従って、回折光学要素48上に照明される視野の位置及びサイズが数ミリメートル又は更に数センチメートルだけ変化することになるからである。光学結像系34を設けることにより、回折光学要素48上に照明される視野の位置は、専ら変位機構56によって決定される。高精度機構を使用することにより、1mmを大幅に下回る精度でこの位置を設定することができる。このようにして、回折光学要素48上の照明視野の位置、従って、瞳平面84内の放射照度分布を作動条件及び光源30内で発生する短期又は長期のドリフト効果に関係なく厳密に設定して一定に保つことができる。瞳平面84内の放射照度分布は、アクチュエータ70、76を用いてズームコリメータレンズ68及びアキシコン要素74の軸上位置を変更することによって更に変更することができる。V.光学結像系の代替の実施形態以下では、光学結像系34の様々な代替の実施形態を図4から図11を参照して説明する。図4は、単一の正のレンズL11のみを含む光学結像系134を通る子午断面図である。光学結像系134も、回折光学要素48上に照明される視野の安定した位置を保証するが、通常は様々な理由から望ましくないレンズL11をビーム送出部に配置することを必要とするという欠点を有する。更に、光学結像系134は、その物体側においても、かつ像側においてもテレセントリックではない。多くの場合に、テレセントリック性は必須であり、これは、そうでなければ回折光学要素48が望ましい遠視野空間放射照度分布を生成することができない場合があるからである。図5は、物体平面36の非常に近くに配置されていることにより、ビーム送出部40内に配列されて装着しなくてもよい2つのレンズL21、L22を含む光学結像系234を通る子午断面図である。しかし、光学結像系234は、依然として望ましいテレセントリック性を持たない。図6は、図2に示す光学結像系34を通る拡大子午断面図である。物体平面36の直後に配置されたレンズL1は、物体平面36から射出する光束が光学軸に向けて傾斜されることを保証する。それによって望ましいテレセントリック性を得ることが可能になり、すなわち、光学結像系34は、物体側と像側の両方でテレセントリックである。図6に示す光学結像系34では、投影光PLは、負のレンズL2上の比較的小さい区域上に集中される。例えば、レンズL2内で材料劣化の危険性があるのでこの集中化が回避される場合には、図7の子午断面図に代替の光学結像系334に示すように、3つのレンズL31、L32、L33の修正配列を使用することができる。この場合、負のレンズL32上で照射される区域が大きくなるように、レンズL31、L32、L33の距離及び屈折パワーが修正される。図6及び図7に示すテレセントリック光学結像系34及び334は、テレセントリック性を損なうことなしに物体平面36と最初のレンズL1又はL31それぞれとの間の自由物体距離dOを変更することにより、最後のレンズL3又はL33それぞれと像平面38の間の自由像距離diを変更することを可能にする。これを図7に示す配列と比較してΔdoだけ増加された自由物体距離doを備えた図7に示す光学結像系334を通る子午断面図である図8に例示している。この増加は、図7に示す配列と比較してΔdiだけ短縮された自由像距離diをもたらす。光学結像系が横倍率βを有する場合には、ΔdiとΔdoの間の関係は、Δdi=β2Δdoによって与えられる。従って、光学結像系334の横倍率βが大きい程、ある一定の自由像距離変化Δdiを得るのに必要な自由物体距離doの調節は小さい。そのような変化に対する要求は、多くの場合に、光源30が照明系12の残りの構成要素から分離した有意な距離の位置に配置される場合にもたらされる。この場合、図8に示す自由像距離diに対応するビーム送出部40の全長を投影露光装置10が設置される場所における特定の要件に対して調節することができなければならない。原理的に、可変自由像距離diは、ズーム光学結像系を用いて得ることができるが、この使用は、光学結像系の複雑さを有意に増大させる。図9及び図10は、光源30と光学結像系334の間に配置された多重ビーム折り返し系100を用いて自由物体距離doの変化が得られる実施形態を示している。多重ビーム折り返し系100は、2つの固定プリズム102、104と、案内レール108に沿った異なる長手位置に固定することができる変位可能プリズム106とを含む。変位可能プリズム106の位置が距離xだけ変更された場合は図10を参照されたい、図8に示す自由物体距離doは、Δdo=2xだけ変化し、それによって自由像距離di、すなわち、ビーム送出部40の長さの変化Δdi=β22xをもたらす。例えば、案内レール108が1mの長さを有し、光学結像系334がβ=2の横倍率を有する場合には、約8mの範囲にわたって自由像距離diを変更することができる。可能な自由像距離diの範囲が上述の範囲よりも大きくなる場合には、より長い案内レール108を使用することができる。代替として、図11に示すように、より大きい横倍率β、例えば、β=4を有する光学結像系334’を使用することができる。この場合、1mの案内レール108を用いて、32mまでの自由像距離diの変更を提供することができる。しかし、大きい横倍率βに起因して、回折光学要素48上に照明される視野は、その時に過度に大きくなる場合がある。以上の理由から、図11に示す実施形態は、この特定的な実施形態では正のレンズと負のレンズで構成される補助的なビーム縮小ユニット110を含む。ビーム縮小ユニットは、光学結像系334’と回折光学要素48の間に配置され、光学結像系334’から射出する実質的に平行化された投影光ビームの直径を望ましい値まで縮小する。ビーム縮小ユニット110は、ビーム送出部40を反射パワー又は屈折パワーを有するいずれの光学要素も存在しない状態を保つことができるように、回折光学要素48の直前に配置することができる。"