"支持体上に、複数の開口部を有する補助金属配線と、少なくとも前記開口部に充填された透明樹脂からなる平坦化層とを有する補助電極と、下部電極と有機材料を含む光電変換層と上部電極とをこの順に積層してなる光電変換素子を備えた太陽電池の製造方法であって、前記支持体上に、前記補助金属配線を形成する工程と、多官能メタアクリルモノマーを含む組成物を重合してなる透明樹脂で前記開口部を埋め込むと共に前記補助金属配線を被覆して透明絶縁層を形成する工程と、前記透明絶縁層を、前記補助金属配線の表面の少なくとも一部が露出すると共に前記開口部における該透明絶縁層の表面が該補助金属配線の表面と略同一平面となるまでエッチングする工程と、前記透明絶縁層および前記補助金属配線の表面上に前記下部電極を形成する工程と、前記下部電極上に前記光電変換層および上部電極を順次形成する工程とを有することを特徴とする太陽電池の製造方法。前記透明絶縁層を形成する工程において、前記組成物からなる塗布液を、前記開口部及び前記補助金属配線の表面に塗布した後に光重合させて前記透明絶縁層を形成することを特徴とする請求項1記載の太陽電池の製造方法。前記多官能メタアクリルモノマーは、メタアクリル基の間を連結する連結鎖に酸素を含まないものであることを特徴とする請求項1または2記載の太陽電池の製造方法。前記多官能メタアクリルモノマーが、3官能以上であることを特徴とする請求項1から3いずれか一項記載の太陽電池の製造方法。前記透明絶縁層を形成する工程において、前記透明絶縁層を、該透明絶縁層の表面が、前記補助金属配線の表面上方に後に形成される前記光電変換層の表面よりも高い位置となる厚みで形成し、前記透明絶縁層をエッチングする工程において、前記補助金属配線の表面を含む平面上の少なくとも一部に、前記透明絶縁層の一部が前記下部電極の形成領域の少なくとも一部を区画する絶縁性隔壁として残るようにエッチングすることを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載の太陽電池の製造方法。前記絶縁性隔壁を、前記下部電極の形成領域を取り囲むように形成し、該絶縁性隔壁により取り囲まれた形成領域に、前記下部電極および前記光電変換層を順次形成し、前記上部電極を、前記光電変換層および前記絶縁性隔壁上に、該上部電極と前記絶縁性隔壁とにより前記光電変換層が封止されるように形成することを特徴とする請求項5記載の太陽電池の製造方法。前記支持体上に、前記補助金属配線の位置を光学的に検出するための位置検出用マークを該補助金属配線と同時に形成することを特徴とする請求項1から6いずれか1項記載の太陽電池の製造方法。支持体上に、複数の開口部を有する補助金属配線と、少なくとも前記開口部に充填された透明樹脂からなる平坦化層とを有する補助電極と、下部電極と、有機材料を含む光電変換層と、上部電極とをこの順に積層してなる光電変換素子を備えた太陽電池であって、前記平坦化層が、前記補助金属配線の表面が露出すると共に前記開口部における前記透明樹脂の表面が該補助金属配線の表面と略同一平面となるようにエッチングされて形成されてなり、前記透明樹脂が多官能メタアクリルモノマーを含む組成物を重合してなる樹脂であることを特徴とする太陽電池。特許文献3に記載の紫外線硬化樹脂を成膜して、支持体裏面側から紫外線露光して洗浄することにより、金属配線開口部のみに透明樹脂を形成して表面段差を解消する方法は、比較的容易な方法でコストの抑制も可能と考えられる。しかしながら、金属配線断面は理想的な矩形ではなく、現実は台形端部断面が直角ではなくて鋭角であるため、この方法によると、金属配線端部の斜面に成膜された紫外線硬化樹脂に紫外線が照射されず洗浄工程で除去されてしまう。つまり、金属配線端部に透明樹脂が形成されない溝ができてしまうおそれがある。このような補助電極を用いた場合、その溝による表面段差で、下部電極と上部電極の接触ひいては短絡が発生する恐れがあると考えられる。本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、下部電極に導電性及び透明性が良好な補助電極を備え、短絡故障の発生が抑制された有機薄膜太陽電池を、低工程数および低コストで製造する方法を提供することを目的とするものである。本発明の太陽電池の製造方法は、支持体上に、複数の開口部を有する補助金属配線と、少なくとも前記開口部に充填された透明樹脂からなる平坦化層とを有する補助電極と、下部電極と有機材料を含む光電変換層と上部電極とをこの順に積層してなる光電変換素子を備えた太陽電池の製造方法であって、前記支持体上に、前記補助金属配線を形成する工程と、多官能メタアクリルモノマーを含む組成物を重合してなる透明樹脂で前記開口部を埋め込むと共に前記補助金属配線を被覆して透明絶縁層を形成する工程と、前記透明絶縁層を、前記補助金属配線の表面の少なくとも一部が露出すると共に前記開口部における該透明絶縁層の表面が該補助金属配線の表面と略同一平面となるまでエッチングする工程と、前記透明絶縁層および前記補助金属配線の表面上に前記下部電極を形成する工程と、前記下部電極上に前記光電変換層および上部電極を順次形成する工程とを有することを特徴とするものである。本明細書において、多官能メタアクリルモノマーとは、2つ以上のメタアクリル基を有するモノマー単量体を意味する。メタアクリルとは、アクリルもしくはメタクリルを意味する。前記透明絶縁層を形成する工程において、前記組成物を、前記開口部及び前記補助金属配線の表面に塗布した後に光重合させて前記透明絶縁層を形成することが好ましい。前記多官能メタアクリルモノマーは、3官能以上であることが好ましく、メタアクリル基同士を連結する連結鎖に酸素を含まないことが好ましい。本発明の太陽電池の製造方法の好適な態様としては、前記透明絶縁層を形成する工程において、前記透明絶縁層を、該透明絶縁層の表面が、前記補助金属配線の表面上方に後に形成される前記光電変換層の表面よりも高い位置となる厚みで形成し、前記透明絶縁層をエッチングする工程において、前記補助金属配線の表面を含む平面上の少なくとも一部に、前記透明絶縁層の一部が前記下部電極の形成領域の少なくとも一部を区画する絶縁性隔壁として残るようにエッチングする態様が挙げられる。かかる態様では、前記絶縁性隔壁を、前記下部電極の形成領域を取り囲むように形成し、該絶縁性隔壁により取り囲まれた形成領域に、前記下部電極および前記光電変換層を順次形成し、前記上部電極を、前記光電変換層および前記絶縁性隔壁上に、該上部電極と前記絶縁性隔壁とにより前記光電変換層が封止されるように形成することが好ましい。本発明の太陽電池は、支持体上に、複数の開口部を有する補助金属配線と、少なくとも前記開口部に充填された透明樹脂からなる平坦化層とを有する補助電極と、下部電極と、有機材料を含む光電変換層と、上部電極とをこの順に積層してなる光電変換素子を備え、前記平坦化層が、前記補助金属配線の表面が露出すると共に前記開口部における前記透明樹脂の表面が該補助金属配線の表面と略同一平面となるようにエッチングされて形成されてなり、前記透明樹脂が多官能メタアクリルモノマーを含む組成物を重合してなる樹脂であることを特徴とするものである。本発明の太陽電池の製造方法では、多数の開口部を有する補助金属配線の開口部を埋め込む平坦化層を、多官能メタアクリルモノマーを含む組成物を重合してなる透明樹脂で補助金属配線を覆うように形成した後に、補助金属配線の表面が露出するまでエッチングすることにより形成する。かかる方法によれば、平坦化層の透明樹脂の形状保持性が高いため、エッチングにより表面平滑性の良好な平坦化層を形成することができる。また、多官能メタアクリルモノマーを含む組成物を重合してなる透明樹脂は、耐熱性及び耐溶剤性に優れるため、後工程のアニール処理等の加熱処理や、透明樹脂上に成膜される物質による平滑性への悪影響が少ない。従って、本発明によれば、下部電極の補助電極として、導電性,透明性及び平滑性の良好な補助電極を備え、短絡故障の発生が抑制された有機薄膜太陽電池を、低工程数および低コストで製造することができる。以下、本発明の実施の形態を説明する。第1の実施形態本発明の第1の実施形態にかかる太陽電池の製造方法について、図1A~図1Cを参照して説明する。図1A、図1Bは、第1の実施形態の太陽電池の製造方法における製造工程を示す断面図であり、図1Cは、本実施形態の製造方法により製造される太陽電池の構造を示す断面図である。まず、図1Aに示すように、支持体10の表面に、複数の開口部を有する補助金属配線26を形成する。補助金属配線26は、例えばメッシュ状の配線であり、メッシュの目が開口部となる。この補助金属配線26は、例えば、支持体10上にハロゲン化銀を含む組成物を塗布してハロゲン化銀含有層を形成する工程と、ハロゲン化銀含有層の一部を露光する工程と、ハロゲン化銀含有層を現像する工程と、現像済みハロゲン化銀含有層を定着して銀を含む該補助配線を形成する工程とを順に行うことにより形成することができる。補助金属配線26の詳しい形成方法については後述する。その後、図1Aに示すように、この補助金属配線26が形成された支持体10上に、多官能メタアクリルモノマーを含む組成物を重合してなる透明樹脂で補助金属配線26の開口部を埋め込むと共に、補助金属配線26を被覆するように透明絶縁層30を形成する。透明絶縁層30の形成方法は、特に制限されないが、多官能メタアクリルモノマーを含む組成物からなる塗布液を、前記開口部及び前記補助金属配線の表面に塗布した後に重合させて形成することが好ましい。塗布の際は、多官能メタアクリルモノマーを含む組成物塗布液によって開口部を充填し、補助金属配線26を被覆するように過剰の塗布液を塗布する。多官能メタアクリルモノマーを含む組成物の重合方法は特に制限されないが、光もしくは電子線を用いた光重合であることが好ましい。組成物中には、モノマーの種類に応じて好適な光重合開始剤を含んでいることが好ましい。光及び電子線の波長は、モノマー及び重合開始剤の種類応じて適宜選択すればよい。製造工程における照射光波長との関係で増感剤を添加してもよい。多官能メタアクリルモノマーは、重合により架橋構造を形成することができるため、単官能メタアクリルモノマーを用いた場合に比して、耐熱性及び耐溶剤性に優れる透明絶縁層30を形成することができる。ここで、耐溶剤性とは、有機溶剤及びモノマーに対する耐性を意味する。多官能メタアクリルモノマーとしては、特に制限されないが、メタアクリル基を3つ以上有する以下、3官能以上とするモノマーであることが好ましい。3官能のメタアクリルモノマーとしては、下記トリメチロールプロパントリアクリレートTMPTA及びペンタエリスリトールトリアクリレートPETIAを好ましく用いることができる。2官能メタアクリルモノマーとしては、下記1,6ヘキサンジオールジアクリレートを好ましく用いることができる。多官能メタアクリルモノマーは、複数のメタアクリル基を有している。下記ポリエチレングリコールジアクリレートA-600のように、メタアクリル基同士を連結する部分連結鎖に酸素原子を含む構造の多官能メタアクリルモノマーを重合して得られる樹脂は、酸素原子を含まない構造のものに比して形状保持性が低くなる。従って、多官能メタアクリルモノマーとしては、メタアクリル基同士を連結する部分連結鎖に酸素原子を含まない構造を有するものが好ましい。その他の2官能メタアクリルモノマーとしては、下記の化合物が例示される。多官能メタアクリルモノマーを含む組成物は、その他のビニルモノマーを含んでもよい。多官能メタアクリレートモノマーを含む組成物における多官能メタアクリレートモノマーの組成比は50質量~100質量であることが好ましく、60質量~100質量であることがより好ましく、さらには70質量~100質量であることがより好ましい。ビニルモノマーの例としては、メタアクリレート、メタアクリルアミド、スチレン等が挙げられ、単官能メタアクリレートモノマーが好ましい。以下に、単官能メタアクリレートモノマーの好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。次に、図1Bに示すように、補助金属配線26上に堆積した過剰の透明絶縁層30を、補助金属配線26の表面が露出し、開口部に埋め込まれた絶縁層30の表面が補助金属配線26の表面と略面一となるまでエッチングして除去する。なお、ここで補助金属配線開口部に埋め込まれてエッチングにより補助金属配線26の表面と略同一の面を有する絶縁層30を平坦化層31と称し、補助金属配線26と平坦化層31とにより構成される電極を補助電極11と称する。透明絶縁層30のエッチング方法は特に制限されず、各種のドライエッチング例えば反応性イオンエッチング、プラズマエッチングなどを用いることができ、中でも、プラズマエッチングが好ましく、酸素プラズマエッチングが特に好ましい。プラズマエッチングは樹脂を構成する炭素-炭素結合を切断しながら、樹脂を削っていくため、補助金属配線26がちょうど露出してエッチングを終了した後の透明絶縁層30の表面は通常プラズマダメージを受ける。多官能メタアクリルモノマーを含む組成物の重合体が架橋構造形成できることを既に述べたが、架橋構造を有する場合は形状保持性が高く、ドライエッチング性、とりわけ耐プラズマ性が高くなる。従って、このようなプラズマダメージが少なく、その結果として平坦化層31の平坦性が確保され、更に、補助金属配線26と平坦化層31との段差のほとんどない、平坦性の良好な補助電極11を形成することができる。平坦化層31と補助金属配線26の上部は段差がなく面一となっていることが好ましいが、上に形成する下部電極層12の平坦性が確保できる程度の段差は許容される。平坦化層31と補助金属配線26の上部との段差は1μm以下であることが好ましく、より好ましくは500nm以下であることが好ましく、さらには200nm以下であることが好ましい。上記のように、本実施形態の製造方法によれば、補助金属配線26の開口部を良好に埋め込んで平坦性の良好な補助金属配線26を有する補助電極11を製造することができる。かかる方法では、補助金属配線26の厚みを厚く形成することができるため、高い導電性及び透明性を有する補助電極11を形成することができる。次に、補助金属配線26と平坦化層31からなる補助電極11上に下部電極層12を形成する。下部電極層12は、例えば、補助電極11表面に、例えば水系塗布法により導電性ポリマーを形成することにより製造することができる。下部電極層12の形成時に、その下地となる補助電極11平坦化層31の表面は、その形成方法及び下部電極層12の材料によってはその平滑性に影響を及ぼすことがある。例えば、導電性ポリマーからなる下部電極層12を塗布法により形成する場合は、塗布液に対する平坦化層31の耐性が低いとその表面平滑性が低下する。また、下部電極層12の形成時やその後のアニール処理等により加熱工程を必要とする場合も、平坦化層31の耐熱性が低いと平滑性を損なう原因となる。上記したように、本実施形態の平坦化層31は、耐熱性及び耐溶剤性に優れることから、下部電極層12の形成時も、良好な平滑性を保持することができる。下部電極層12の形成前及び形成時形成中に、補助電極11において透明絶縁層30が補助金属配線26から盛り上がっている状態となっていたり、透明絶縁層30によって補助金属配線26の開口部が埋められていない場合、平坦化されていない部分に段差が生じる。この段差があるとその部分の下部電極層12は厚みが薄くなるために、有機薄膜太陽電池において、段差の角部で上部電極との短絡が生じやすくなり、変換効率にも悪影響を及ぼす。上記のように、本発明によれば、補助電極11の平坦性を良好にすることができるため、下部電極層12の膜厚の均一性を良好にし、太陽電池における短絡を生じにくくすることができる。次に、下部電極層12上に、少なくとも有機材料を含む光電変換層15を積層する。図1Cに示す太陽電池1は、下部電極12と光電変換層15との間にさらに正孔輸送層などの半導体層13を備えることができる。さらに、光電変換層15上に上部電極21を形成することにより図1Cに示すような太陽電池1を形成する。なお、光電変換層15と上部電極21間には電子輸送層などの半導体層を備えていてもよい。以上のようにして、太陽電池1を製造することができる。本実施形態の太陽電池1の製造方法では、多数の開口部を有する補助金属配線26の開口部を埋め込む平坦化層31を、多官能メタアクリルモノマーを含む組成物を重合してなる透明樹脂で補助金属配線26を覆うように形成した後に、補助金属配線26の表面が露出するまでエッチングすることにより形成する。かかる方法によれば、平坦化層31の透明樹脂の形状保持性が高いため、エッチングにより表面平滑性の良好な平坦化層31を形成することができる。また、多官能メタアクリルモノマーを含む組成物を重合してなる透明樹脂は、耐熱性及び耐溶剤性に優れるため、後工程のアニール処理等の加熱処理や、透明樹脂上に成膜される物質による平滑性への悪影響が少ない。従って、本発明によれば、下部電極層12の補助電極11として、導電性,透明性及び平滑性の良好な補助電極11を備え、短絡故障の発生が抑制された有機薄膜太陽電池1を、低工程数および低コストで製造することができる。第2の実施形態本発明の第2の実施形態にかかる太陽電池の製造方法について、図2A~図2Gを参照して説明する。図2Aから図2Fは、第2の実施形態の太陽電池の製造方法における製造工程を示すものであり、図2Aは平面図、図2B~図2Fは断面図であり、図2Gは本実施形態の製造方法により製造される太陽電池の構造を示す断面図である。なお、第1の実施形態の太陽電池の構成要素と同一の要素には同等の符号を付し詳細な説明を省略する。まず、図2Aに示すように、支持体10の表面に、補助金属配線25を形成する。補助金属配線としては、図2Aに示すように、素子形成位置に対応する領域には、メッシュ状の配線26を設け、その両端にはやや太いライン状の配線バスライン27をメッシュ状の配線に連続して設ける。なお、この補助金属配線25の形成時に、十字模様のアライメントマーク位置検出用マーク28を同時に補助金属配線と同じ材料で形成することが好ましい。アライメントマーク28を形成しておくことにより、後の工程において、このアライメントマークを位置合わせの基準点として、画像認識機能を備えた各種製造装置や印刷装置を用いて、所望の位置に精度よく絶縁性隔壁などの機能膜の形成を行うことができる。補助金属配線25のメッシュ状の配線26の間および素子形成位置以外の補助金属配線が形成されていない領域以下においては、両者を併せて配線開口部と称する。に、図2Bに示すように、補助金属配線25を埋め込むように透明絶縁層30を形成する。たとえば、アクリル系やエポキシ系などの光硬化性材料を塗布し、その材料に適した波長の光を全面に照射する事で、補助金属配線25を光硬化性樹脂からなる透明絶縁層30により被覆する。熱硬化性材料や電子線硬化性材料でも透明絶縁層30を形成できる。さらに、図2Cに示すように、透明絶縁層30上にさらに光硬化性材料を塗布し、塗布膜30aを形成し、先に形成した銀からなるアライメントマーク28を位置合せの基準点として、絶縁性隔壁を形成する部分のみにフォトマスク50を介して光照射し、この部分のみを硬化させる。なお、このとき、塗布膜30aを、先に設けた透明絶縁層の材料とは異なる透明絶縁性の材料により形成してもよい。その後未硬化の光硬化性材料を適切な溶媒で洗浄すれば、図2Dに示すように、露光されなった部分の塗布膜30aを除去することができる。これにより、2度光照射を行なった部分に厚い透明絶縁層30が形成される。次に、第1の実施形態の場合と同様に、補助金属配線25表面と補助金属配線開口部に形成された透明絶縁層30の表面が略同一平面になるまで、光硬化性樹脂の表面をプラズマエッチングして、平坦化層31を形成する図2E参照。。このエッチングの際、透明絶縁層30の厚い部分は、後に形成する下部電極の形成領域の少なくとも一部を区画する絶縁性隔壁32として残る。このとき絶縁性隔壁32は、その表面が、後工程において形成される光電変換層の表面よりも高い位置となるように立設する。その後、図2Fに示すように、下部電極12、正孔輸送層などの半導体層13および有機材料を含む光電変換層15を順次積層形成し、さらに、光電変換層15上、絶縁性隔壁32および露出している端部の平坦化層31上に上部電極層20を形成する。電極層20のうち、光電変換層15直上に形成されている部分が上部電極21として機能し、上部電極21から連続的に形成された端部領域は外部接続端子23として機能する。次に、上部電極21上および一部露出している下部電極12、正孔輸送層などの半導体層13、光電変換層15を覆うように、保護層40を形成する。最後に、封止フィルム41を保護層40上に配置してラミネートすることにより、図2Gに示す太陽電池2を作製することができる。本実施形態では、平坦化層31の作製工程で、絶縁性隔壁32を同時に作り込むことができる。絶縁性隔壁32を平坦化層31の形成工程の後に、別途の工程で形成してもよい。しかしながら、本実施形態のように、絶縁性隔壁を平坦化層と同時に形成することにより、工程数をあまり増加させることなく、絶縁性隔壁32を形成することができ、さまざまな構造の光電変換素子を支持体上に形成することが可能となる。たとえば、下部電極12の形成領域を取り囲むように、且つ、光電変換層15の表面位置よりも表面位置が高い絶縁性隔壁32を設けることにより、光電変換層15が絶縁性隔壁32と上部電極層20間に封止された構造とすることができる。このように、有機材料からなる光電変換層15を封止する構造とすることにより、耐久性のさらなる向上を図ることができる。上記実施形態においては、単一の光電変換素子からなる太陽電池について説明したが、本発明の製造方法は複数の光電変換素子を直列接続した集積化太陽電池の製造にも同様に適用することができる。集積化太陽電池を製造する場合には、支持体10上に、素子毎に対応させて、素子間で分離した補助金属配線25を形成する。また、絶縁性隔壁32を、隣接素子間で下部電極同士や光電変換層同士が接触しないように少なくとも素子間に形成する。上部電極層20を、素子間において、下部電極層12あるいは補助金属配線25と接触するように形成することにより、上部電極層20の素子間領域は電極接続配線部として機能し、素子同士を直列接続させることができる。以下、本発明の太陽電池の製造方法に好ましく用いることができる材料等について詳しく述べる。<支持体>支持体10は、補助金属配線2625や平坦化層31を保持できる表面平滑な基板あるいはフィルムであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択できるが、通常、透明性使用する光の透過性を有する支持体が好ましい。例としては、プラスチックフィルムやガラスの薄層板などが挙げられる。なお、仮支持体を用いて太陽電池を形成し、この仮支持体を剥離して任意の透明支持体上に太陽電池を配置する場合には、仮支持体は特に透明性を必要とせず、プラスチックフィルム、金属箔、紙にプラスチックや金属をラミネートした積層体などを任意に選択して用いることができる。以下、透明支持体の代表的な例としてプラスチックフィルム基板について説明する。プラスチックフィルム基板プラスチックフィルム基板は、材質、厚み等に特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。基板に用いうるプラスチックフィルムの素材としては、具体的には、例えば、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸-マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。プラスチックフィルム基板としてはTgの高い耐熱性樹脂も好ましく用いられる。耐熱性樹脂の例としては、例えば、ポリエチレンナフタレートPEN:120°C、ポリカーボネートPC:140°C、脂環式ポリオレフィン例えば日本ゼオン株製ゼオノア1600:160°C、ポリアリレートPAr:210°C、ポリエーテルスルホンPES:220°C、ポリスルホンPSF:190°C、シクロオレフィンコポリマーCOC:特開2001-150584号公報の化合物:162°C、フルオレン環変性ポリカーボネートBCF-PC:特開2000-227603号公報の化合物:225°C、脂環変性ポリカーボネートIP-PC:特開2000-227603号公報の化合物:205°C、アクリロイル化合物特開2002-80616号公報の化合物:300°C以上、ポリイミド等が挙げられ括弧内はTgを示す、これらは本発明における基材として好適である。本発明においてプラスチックフィルムは、光に対して透明であることが求められる。より具体的には、400nm~800nmの波長範囲の光に対する光透過率は、通常80以上であることが好ましく、より好ましくは85以上、さらに90以上であることが好ましい。光透過率は、積分球式光透過率測定装置を用いて全光透過率として測定することができる。プラスチックフィルムの厚みに関して特に制限はないが、典型的には1μm~800μmであり、好ましくは10μm~300μmである。易接着層/下塗り層プラスチックフィルム基板は、易接着層もしくは下塗り層を有していてもよい。易接着層もしくは下塗り層の構成としては、単層であっても、多層構造であってもよい。易接着層はバインダーポリマーを含有することが必須であるが、適宜マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、屈折率制御のための微粒子などを含有してもよい。易接着層に用いうるバインダーポリマーには特に制限はなく、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、及び、ゴム系樹脂などから適宜選択して用いることができる。易接着層もしくは下塗り層の乾燥後の塗布膜厚は、50nm~2μmの範囲であることが好ましい。なお、支持体を仮支持体として用いる場合には、支持体表面に易剥離性処理を施すことも可能である。アクリル樹脂とはアクリル酸、メタクリル酸及びこれらの誘導体を成分とするポリマーである。具体的には、例えばアクリル酸、メタクリル酸、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、アクリルアミド、アクリロニトリル、ヒドロキシルアクリレートなどを主成分とし、これらと共重合可能なモノマー例えば、スチレン、ジビニルベンゼンなどを共重合したポリマーであることが好ましい。ポリウレタン樹脂とは主鎖にウレタン結合を有するポリマーの総称であり、通常ポリイソシアネートとポリオールの反応によって得られる。ポリイソシアネートとしては、TDITolyleneDiisocyanate、MDIMethylDiphenylIsocyanate、HDIHexylenediisocyanate、IPDIIsophorondiisocyanateなどがあり、ポリオールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどを好ましく挙げることができる。さらに、本発明のイソシアネートとしてはポリイソシアネートとポリオールの反応によって得られたポリウレタンポリマーに鎖延長処理をして分子量を増大させたポリマーも使用できる。ポリエステル樹脂とは主鎖にエステル結合を有するポリマーの総称であり、通常ポリカルボン酸とポリオールの反応で得られる。ポリカルボン酸としては、例えば、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などがあり、ポリオールとしては例えば前述のものがある。ゴム系樹脂とは合成ゴムのうちジエン系合成ゴムをいう。具体例としてはポリブタジエン、スチレン-ブタジエン共重合体、スチレン-ブタジエン-アクリロニトリル共重合体、スチレン-ブタジエン-ジビニルベンゼン共重合体、ブタジエン-アクリロニトリル共重合体、ポリクロロプレンなどがある。<補助電極><<補助金属配線>>補助金属配線2625を構成する金属材料の例としては、金、白金、鉄、銅、銀、アルミニウム、クロム、コバルト、ステンレス鋼等が挙げられる。金属材料の好ましい例としては、銅、銀、アルミニウム、金等の低抵抗金属が挙げられ、なかでも、製造コストと材料コストが低く、酸化されにくい銀もしくは銅が好ましく用いられる。補助金属配線2625のパターン形状は特に限定されないが、光透過性及び導電性の観点から、メッシュ状のものメッシュパターン電極が好ましい。メッシュパターンには特に制限がなく、正方形、長方形、菱形等の格子状、縞状ストライプ状、ハニカム、あるいは曲線の組合せを用いてもよい。これらのメッシュデザインは開口率光透過率と表面抵抗電気伝導率が所望の値となるように調整される。このようなメッシュパターンの補助金属配線26とする場合、メッシュの開口率は通常は70以上であり、80以上が好ましく、85以上がより好ましい。補助金属配線2625の表面抵抗は10Ω/□以下であることが好ましく、3Ω/□以下であることがさらに好ましく、1Ω/□以下であることがより好ましい。光透過率と電気伝導率はトレードオフの関係にあるため、開口率は大きいほど好ましいが、現実的には95以下となる。補助金属配線2625の厚みは特に制限は無いが、通常は0.02μm~20μm程度である。補助金属配線2625のメッシュパターンにおける線幅は、光透過性と導電性の観点から、平面視による線幅が1μm~500μmの範囲であり、1μm~100μmが好ましく、3μm~20μmがより好ましい。補助金属配線2625のメッシュパターンにおけるピッチは小さいメッシュが細かい方が太陽電池の特性上有利である。しかしながらピッチが小さいと光の透過率が低下するので、妥協点が選ばれる。ピッチは金属細線の線幅に応じて変化するが、平面視によるピッチが50μm~2000μmであることが好ましく、100μm~1000μmがより好ましく、150μm~500μmがさらに好ましい。開口部の観点から言えば補助金属配線2625の繰り返し単位となる開口部の面積が1×10-9m2~1×10-4m2であることが好ましく、3×10-9m2~1×10-5m2であることがより好ましく、1×10-8m2~1×10-6m2であることがさらに好ましい。補助金属配線2625の形成方法としては特に制限はなく、公知の形成方法を適宜使用しうる。例えば、予め作製したメッシュパターン金属を支持体表面に貼り合せる方法、導電材料をメッシュパターンに塗布する方法、蒸着もしくはスパッタ等のPVD法を用いて導電膜を全面に形成した後にエッチングしてメッシュパターンの導電膜を形成する方法、スクリーン印刷、インクジェット印刷などの各種印刷法によりメッシュパターンの導電材料を塗布する方法、蒸着もしくはスパッタによりシャドウマスクを用いてメッシュパターンの金属補助配線を基材表面に直接形成する方法、特開2006-352073号公報、特開2009-231194号公報等に記載のハロゲン化銀感光材料を用いる方法以下、銀塩法と呼ぶことがある等が挙げられる。補助金属配線2625をメッシュ電極として形成する場合は、そのピッチが小さいため、銀塩法で形成することが好ましい。銀塩法で補助金属配線25を形成する場合、補助金属配線を形成するための塗液を支持体上に設け、補助金属配線25を形成するための塗膜に対してパターン露光を行う工程と、パターン露光された塗膜を現像する工程と、現像された塗膜を定着する工程とにより、支持体上に所望のパターンを有する補助金属配線2625を形成することができる。銀塩法で作製される補助金属配線2625は、銀と親水性ポリマーの層である。親水性ポリマーの例としては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマー、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどのセルロースエステル等が例示される。層内には銀や親水性ポリマーのほかにも塗布、現像、定着工程に由来する物質が含まれる。銀塩法で補助配線を形成した後に銅めっきを施して、さらに抵抗の低い補助配線を得る方法も好ましく用いられる。<<アライメントマーク>>補助金属配線25を形成する工程において、後工程で積層する各機能膜やフィルム基板の重ね合せ精度を向上させて集積化密度を高めるため、位置検出用のアライメントマーク28を該金属配線と同時に形成することが好ましい。アライメントマークは、各機能膜の製造装置や印刷装置の画像認識仕様が指定するパターンを適宜形成するが、縞、十字、矩形、円やそれらを組合わせた幾何学的模様や、記号、文字などが好ましく使用される。<<平坦化層、絶縁性隔壁>>平坦化層31、絶縁性隔壁32の材料及び好ましい製造方法については既に述べたとりである。絶縁性隔壁32を備えた太陽電池を作製する場合、平坦化層31と絶縁性隔壁32は別工程で作製することも可能であるが、第2の実施形態にて説明したように、同一工程にて作製することが好ましい。<下部電極層>下部電極層12は、光透過性を有する各種導電材料から選ばれる。光透過性を有する導電材料としては、透明導電性ポリマーやITO酸化インジウムスズ等が挙げられるが、可撓性に優れることから導電性ポリマーを主成分とする層であることが好ましい。下部電極に好適な導電性ポリマー層は、特願2010-181078号本出願時において未公開に詳細が開示されている。上記補助電極11と下部電極層12とによる構成される太陽電池の正極は、表面抵抗値が、20Ω/sq以下であることが好ましく、10Ω/sq以下であることがより好ましく、1Ω/sq以下であることが更に好ましいJIS7194に従って測定。また、400nm~800nmの光波長範囲の平均透過率は50以上であり、60以上であることが好ましく、70以上がより好ましい。光透過率は、支持体と同様、積分球式光透過率測定装置を用いて全光透過率として測定することができる。また、正極の一部として酸化モリブデンを用いてもよい。<機能性層>支持体10の裏面側下部電極を形成しない面側には機能性層を設けてもよい。例えば、ガスバリア層、マット剤層、反射防止層、ハードコート層、防曇層、防汚層、易接着層等が挙げられる。このほか、機能性層に関しては特開2006-289627号公報の段落番号0036~0038に詳しく記載されており、ここに記載の機能性層を目的に応じて設けてもよい。<光電変換層>光電変換層15は、太陽光を受けて励起子電子-正孔対を生成した後に、その励起子が電子と正孔に解離して、電子が負極側へ、正孔が正極側へ、輸送されるという光電変換過程が高効率で発現する材料から選択して構成される。有機薄膜太陽電池とする場合は、有機材料からなる電子供与領域ドナーを含む光電変換層15を形成し、変換効率の観点から、バルクへテロ接合型の光電変換層適宜、バルクへテロ層という。が好ましく適用される。バルクヘテロ層は電子供与材料ドナーと電子受容材料アクセプターが混合された有機の光電変換層である。電子供与材料と電子受容材料の混合比は変換効率が最も高くなるように調整されるが、通常は、質量比で、10:90~90:10の範囲から選ばれる。このような混合層の形成方法は、例えば、共蒸着法が用いられる。あるいは、両方の有機材料に共通する溶媒を用いて溶剤塗布することによって作製することも可能である。バルクヘテロ層の膜厚は10~500nmが好ましく、20~300nmが特に好ましい。電子供与材料ドナー又は正孔輸送材料ともいう。は、その最高被占軌道HOMO準位が4.5~6.0eVのπ電子共役系化合物であり、具体的には、各種のアレーン例えば、チオフェン、カルバゾール、フルオレン、シラフルオレン、チエノピラジン、チエノベンゾチオフェン、ジチエノシロール、キノキサリン、ベンゾチアジアゾール、チエノチオフェンなどをカップリングさせた共役系ポリマー、フェニレンビニレン系ポリマー、ポルフィリン類、フタロシアニン類等が例示される。このほか、ケミカルレビュー第107巻、953~1010頁2007年にHole-TransportingMaterialsとして記載されている化合物群やジャーナルオブジアメリカンケミカルソサエティー第131巻、16048頁2009年に記載のポルフィリン誘導体も適用可能である。これらの中では、チオフェン、カルバゾール、フルオレン、シラフルオレン、チエノピラジン、チエノベンゾチオフェン、ジチエノシロール、キノキサリン、ベンゾチアジアゾール、チエノチオフェンからなる群より選ばれた構成単位をカップリングさせた共役系ポリマーが特に好ましい。具体例としてはポリ-3-ヘキシルチオフェンP3HT、ポリ-3-オクチルチオフェンP3OT、ジャーナルオブジアメリカンケミカルソサエティー第130巻、3020頁2008年に記載の各種ポリチオフェン誘導体、アドバンストマテリアルズ第19巻、2295頁2007年に記載のPCTBT、ジャーナルオブジアメリカンケミカルソサエティー第130巻、732頁2008年に記載のPCDTQx、PCDTPP、PCDTPT、PCDTBX、PCDTPX、ネイチャーフォトニクス第3巻、649頁2009年に記載のPBDTTT-E、PBDTTT-C、PBDTTT-CF、アドバンストマテリアルズ第22巻、E135~E138頁2010年に記載のPTB7等が挙げられる。電子受容材料アクセプター又は電子輸送材料ともいう。は、その最低空軌道LUMO準位が3.5~4.5eVであるようなπ電子共役系化合物であり、具体的にはフラーレンおよびその誘導体、フェニレンビニレン系ポリマー、ナフタレンテトラカルボン酸イミド誘導体、ペリレンテトラカルボン酸イミド誘導体等が挙げられる。これらの中では、フラーレン誘導体が好ましい。フラーレン誘導体の具体例としてはC60、フェニル-C61-酪酸メチルエステル文献等でPCBM、60PCBM、あるいはPC61BMと称されるフラーレン誘導体、C70、フェニル-C71-酪酸メチルエステル多くの文献等でPCBM、70PCBM、あるいはPC71BMと称されるフラーレン誘導体、およびアドバンストファンクショナルマテリアルズ第19巻、779~788頁2009年に記載のフラーレン誘導体、ジャーナルオブジアメリカケミカルソサエティー第131巻、16048頁2009年に記載のフラーレン誘導体SIMEF等が挙げられる。<電子輸送層>必要に応じて、光電変換層バルクヘテロ層15と負極の間に電子輸送材料からなる電子輸送層を設置しても良い。電子輸送層に用いることのできる電子輸送材料としては、前記の光電変換層で挙げた電子受容材料および、ケミカルレビュー第107巻、953~1010頁2007年にElectron-TransportingandHole-BlockingMaterialsとして記載されているものが挙げられる。各種金属酸化物も安定性が高い電子輸送層の材料として好ましく利用され、例えば、酸化リチウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ストロンチウム、酸化ニオブ、酸化ルテニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化バリウムが挙げられる。これらのうち比較的に安定な酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛がより好ましい。電子輸送層の膜厚は0.1~500nmであり、好ましくは0.5~300nmである。電子輸送層は、塗布などによる湿式製膜法、蒸着やスパッタ等のPVD法による乾式製膜法、転写法、印刷法など、いずれによっても好適に形成することができる。<その他の半導体層>必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、電子阻止層、電子注入層、正孔阻止層、励起子拡散防止層等の補助層を有していてもよい。なお、本発明において、下部電極12と上部電極21の間に形成された、バルクヘテロ層、正孔注入層、正孔輸送層、電子阻止層、電子注入層、電子輸送層、正孔阻止層、励起子拡散防止層など、電子や正孔を輸送する層の総称として半導体層の言葉を用いる。<上部電極負極>上部電極を構成する材料としては、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。上部電極が負極として機能する場合は、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、チタン、クロム、マンガン、鉄、銅、亜鉛、ストロンチウム、銀、インジウム、錫、バリウム、ビスマスなどの金属やこれらの合金が好ましく用いられる。上部電極が正極として機能する場合は、コバルト、ニッケル、銅、モリブデン、パラジウム、銀、タンタル、タングステン、白金、金などの金属やこれらの合金、TCO,導電性ポリマーが好ましく用いられる。これらは、1種のみで使用しても、2種以上を混合または積層してもよい。上部電極の形成方法については、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことできる。例えば、塗布や印刷による湿式製膜法、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等のPVD法や各種化学的気相製膜法CVD法による乾式製膜法などの中から、前記した構成材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って形成することができる。上部電極を形成するに際してのパターニングは、フォトリソグラフィなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、シャドウマスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等を行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。また、負極と半導体層との間に、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の弗化物、酸化物等による誘電体層を0.1~5nmの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。誘電体層は、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等のPVD法により形成することができる。上部電極の厚みは、その構成材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、導電性の観点から、通常、0.01μm~10μm程度であり、0.05μm~1μmが好ましい。<保護層>保護層40の材料としては、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素SiOx、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム等の金属酸化物、窒化珪素SiNx等の金属窒化物、窒化酸化珪素SiOxNy等の金属窒化酸化物金属酸化窒化物、弗化リチウム、弗化マグネシウム、弗化アルミニウム、弗化カルシウム等の金属弗化物、ダイヤモンド状炭素DLC、などの無機材料が挙げられる。また、有機材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ弗化ビニリデン、ポリパラキシリレン、ポリビニルアルコール等のポリマーが挙げられる。これらのうち、金属の酸化物、窒化物、窒化酸化物やDLCが好ましく、珪素、アルミニウムの酸化物、窒化物、窒化酸化物が特に好ましい。保護層は単層でも多層構成であっても良い。保護層の形成方法については、特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、MBE分子線エピタキシ法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法などのPVD法や、原子層堆積法ALD法またはALE法を含む各種CVD法、塗布法、印刷法、転写法を適用できる。<ガスバリア層>水分子や酸素分子など活性因子の浸透を阻止する目的の保護層を特にガスバリア層ともいい、有機薄膜太陽電池はガスバリア層を有することが好ましい。ガスバリア層は、水分子や酸素分子等の活性因子を遮断する層であれば、特に制限はないが、保護層として先に例示した材料が通常利用される。これらは純物質でもよいし、複数組成からなる混合物や傾斜組成でもよい。これらのうち、珪素、アルミニウムの酸化物、窒化物、窒化酸化物が好ましい。ガスバリア層は単層でも、複数層でも良い。有機材料層と無機材料層の積層でも良く、複数の無機材料層と複数の有機材料層の交互積層でも良い。有機材料層は平滑性があれば特に制限はないが、メタアクリレートの重合物からなる層などが好ましく例示される。無機材料層は、上述の保護層材料が好ましく、珪素、アルミニウムの酸化物、窒化物、窒化酸化物が特に好ましい。無機材料層の厚みに関しては特に限定されないが、1層に付き、通常は5~500nmであり、好ましくは10~200nmである。無機材料層は複数のサブレイヤーから成る積層構造であってもよい。この場合、各サブレイヤーが同じ組成であっても異なる組成であってもよい。また、米国特許出願公開2004/0046497号明細書に開示してあるようにポリマーからなる有機材料層との界面が明確で無く、組成が膜厚方向で連続的に変化する層であってもよい。<封止フィルム>ガスバリア層をプラスチックフィルム基板上にあらかじめ形成したものを本発明では封止フィルムと表現している。有機光電変換素子からなる太陽電池を形成した後に、封止フィルムを公知の接着剤やシーラントで貼り合せる製造方法が、該太陽電池の製造工程数を削減できるので好ましく使用されている。特に、太陽電池の支持体10がプラスチックフィルムからなる場合は、支持体の裏面下部電極を形成しない面側からも水分子や酸素分子などの活性分子が浸透するので、該太陽電池の両面に封止フィルムを貼り合せるラミネートすることが好ましい。本発明に製造方法により製造される太陽電池の厚さは特に限定されないが、光透過性を有する有機薄膜太陽電池とする場合は、50μm~1mmであることが好ましく、100μm~500μmであることがより好ましい。以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。実施例1実施例1として図1A~図1Cに示した第1の実施形態の製造方法に沿って太陽電池1を製造した。支持体10としてポリエチレンナフタレートPENフィルム100μm厚、50mm角を用い、PENフィルム上に、0.01mm幅、0.2mmピッチ、2μm厚の正方格子状の補助金属配線26を形成した。補助金属配線の形成方法は、以下の通りとした。[ハロゲン化銀乳剤の調製]反応容器内で下記溶液Aを34°Cに保ち、特開昭62-160128号公報記載の混合撹拌装置を用いて高速に撹拌しながら、硝酸濃度6を用いて水素イオン濃度pHを2.95に調整した。引き続き、ダブルジェット法を用いて下記溶液Bと下記溶液Cを一定の流量で8分6秒間かけて添加した。添加終了後に、炭酸ナトリウム濃度5を用いてpHを5.90に調整し、続いて下記溶液Dと溶液Eを添加した。溶液Aアルカリ処理不活性ゼラチン平均分子量10万18.7g塩化ナトリウム0.31g溶液I下記1.59cm3純水1,246cm3溶液B硝酸銀169.9g硝酸濃度65.89cm3純水にて全量を317.1cm3とした。溶液Cアルカリ処理不活性ゼラチン平均分子量10万5.66g塩化ナトリウム58.8g臭化カリウム13.3g溶液I下記0.85cm3溶液II下記2.72cm3純水にて全量を317.1cm3とした。溶液D2-メチル-4ヒドロキシ-1,3,3a,7-テトラアザインデン0.56g純水112.1cm3溶液Eアルカリ処理不活性ゼラチン平均分子量10万3.96g溶液I下記0.40cm3純水128.5cm3溶液Iポリイソプロピレンポリエチレンオキシジ琥珀酸エステルナトリウム塩の10質量メタノール溶液溶液II六塩化ロジウム錯体の10質量水溶液上記操作終了後に、常法に従い40°Cにてフロキュレーション法を用いて脱塩及び水洗処理を施し、溶液Fと防黴剤を加えて60°Cでよく分散し、40°CにてpHを5.90に調整して、最終的に臭化銀を10mol含む平均粒子径0.09μm、変動係数10の塩臭化銀立方体粒子乳剤を得た。溶液Fアルカリ処理不活性ゼラチン平均分子量10万16.5g純水139.8cm3上記塩臭化銀立方体粒子乳剤に対し、チオ硫酸ナトリウムをハロゲン化銀1mol当たり20mg用い、40°Cにて80分間化学増感を行い、化学増感終了後に4-ヒドロキシ-6-メチル-1,3,3a,7-テトラザインデンTAIをハロゲン化銀1mol当たり500mg、1-フェニル-5-メルカプトテトラゾールをハロゲン化銀1mol当たり150mg添加して、ハロゲン化銀乳剤を得た。このハロゲン化銀乳剤のハロゲン化銀粒子とゼラチンの体積比ハロゲン化銀粒子/ゼラチンは0.625であった。[塗布]さらに硬膜剤としてテトラキスビニルスルホニルメチルメタンをゼラチン1g当たり200mgの比率となるようにして添加し、また塗布助剤界面活性剤として、スルホ琥珀酸ジ2-エチルヘキシルナトリウムを添加し、表面張力を調整した。こうして得られた塗布液を、銀換算の目付け量が0.625gm-2となるように、下塗り層を施したPENフィルム基板支持体上に塗布した後、50°C24時間のキュア処理を実施して感光材料を得た。[露光]得られた感光材料を、メッシュパターンのフォトマスク線幅0.01mm、ピッチ0.2mmを介して紫外線露光した。[化学現像]露光した感光材料を、下記現像液DEV-1を用いて25°Cで60秒間の現像処理を行った後、下記定着液FIX-1を用いて25°Cで120秒間の定着処理を行った。DEV-1純水500cm3メトール2g無水亜硫酸ナトリウム80gハイドロキノン4gホウ砂4gチオ硫酸ナトリウム10g臭化カリウム0.5g水を加えて全量を1000cm3とした。FIX-1純水750cm3チオ硫酸ナトリウム250g無水亜硫酸ナトリウム15g氷酢酸15cm3カリミョウバン15g水を加えて全量を1000cm3とした。[物理現像]次に、下記物理現像液PDEV-1を用いて30°Cで10分間物理現像を行った後、水道水で10分間洗い流して水洗処理を行った。PDEV-1純水900cm3クエン酸10gクエン酸三ナトリウム1gアンモニア水281.5gハイドロキノン2.3g硝酸銀0.23g水を加えて全量を1000cm3とした。[電解めっき]物理現像処理の後に、下記電解めっき液を用いて25°Cで電解銅めっき処理を施した後、水洗、乾燥処理を行った。なお電解銅めっきにおける電流制御は3Aで1分間、次いで1Aで12分間、計13分間かけて実施した。めっき処理終了後に、水道水で10分間洗い流して水洗処理を行い、乾燥風50°Cを用いてドライ状態になるまで乾燥した。電解めっき液硫酸銅五水和物200g硫酸50g塩化ナトリウム0.1g水を加えて全量を1000cm3とした。以上のようにして補助金属配線補助銀配線26を形成した後、図1Aに示すように、光重合開始剤Lamberti製、EsacureKTO46を添加したトリメチロールプロパントリアクリレートTMPTA:共栄社化学製の2‐アセトキシ‐1‐メトキシプロパンPGMEA溶液を回転塗布し、塗布膜全面に対して紫外線波長365nm照射する事で、補助金属配線26を透明絶縁性材料であるアクリル樹脂を主成分とする透明絶縁層30により被覆した。その後、図1Bに示すように、補助金属配線26の表面と、補助金属配線開口部に形成された透明絶縁層30の表面が略同一平面になるまで、ArガスとO2ガスを導入した真空度1Paの雰囲気で、透明絶縁層30の表面をプラズマエッチングして、平坦化層31を形成し、補助電極11を形成した。その後、この平坦化層31および補助金属配線26からなる平面上に、ジメチルスルホキシドDMSOを添加したポリエチレンジオキシチオフェン‐ポリスチレンスルホン酸水溶液PEDOT-PSS:H.C.StarckClevios製、CleviosPH500以下ではPEDOT-PSS水溶液Iと略記する。を回転塗布し、100°Cで20分間加熱処理した。これにより下部電極層12膜厚0.2μmを形成した。次に、別組成のPEDOT-PSS水溶液H.C.StarckClevios製、CleviosPVP.AI4083以下ではPEDOT-PSS水溶液IIと略記する。を下部電極層12上に回転塗布し、100°Cで20分間加熱処理した。これにより正孔輸送層13膜厚0.04μmを形成した。電子供与材料としてP3HTMerck製、lisiconSP001、及び、電子受容材料としてPC61BMフロンティアカーボン製、nanomspectraE100Hをクロロベンゼンに溶解させた組成物を、乾燥窒素雰囲気で正孔輸送層13上に回転塗布し、110°Cで20分間加熱処理した。これによりバルクヘテロ接合型の光電変換層15を形成し、膜厚は0.2μmであった。光電変換層15上に、弗化リチウム膜厚1nmとアルミニウム膜厚0.4μmを連続して真空蒸着して上部電極21を形成した。このとき、素子面積が1.1cm2となるようにシャドウマスクを用いた。以上の構成の有機光電変換素子では、補助電極11及び下部電極層12のPEDOT-PSSが正極として、上部電極21のアルミニウムが負極として機能する。上記のようにして得られた太陽電池について、PENフィルム支持体10の裏面下部電極12を形成しない面側から擬似太陽光を80mWcm-2照射して変換効率を測定した。具体的には、有機薄膜太陽電池へキセノンランプNewport製96000にエアマスフィルタNewport製84094を組合せた光源を照射しながら、ソースメータKeithleyInstruments製Model2400により電圧を印加して電流値を測定した。得られた電流-電圧特性からPeccellI-VCurveAnalyzerペクセルテクノロジーズ製ver.2.1を用いて変換効率を算出した。得られた変換効率は2.7であった。実施例2透明絶縁層30のモノマーとして、ペンタエリスリトールトリアクリレートPETIA:ダイセルサイテック製を用いた以外は実施例1と同様にして太陽電池を作製した。得られた太陽電池の変換効率は2.5であった。実施例3透明絶縁層30のモノマーとして、1,6ヘキサンジオールジアクリレート新中村化学工業製を用いた以外は実施例1と同様にして太陽電池を作製した。得られた太陽電池の変換効率は2.5であった。実施例4透明絶縁層30のモノマーとして、ポリエチレングリコールジアクリレートA-600:新中村化学工業製を用いた以外は実施例1と同様にして太陽電池を作製した。得られた太陽電池の変換効率は1.6であった。比較例1透明絶縁層30のモノマーとして、t-ブチルアクリレートを用いた以外は実施例1と同様にして太陽電池を作製した。得られた太陽電池の変換効率は1.5であった。比較例2実施例1と同様にして補助金属配線を形成した後、補助金属配線上にポリエチレンフィルムを配した後加熱圧接してポリエチレンにより透明絶縁層30を形成した。実施例1と同様にして透明絶縁層30の表面にプラズマエッチングを施したが、補助金属配線の表面が露出するまでエッチングができず、補助電極11としての表面導電性が得られなかった。比較例3平坦化層13を形成しなかった以外は実施例1と同様にして太陽電池を作製した。得られた太陽電池は、短絡していて、電池特性が得られなかった。この有機薄膜太陽電池の断面を電顕観察したところ、補助銀配線と上部アルミニウム電極が接触している部分が複数確認された。比較例4TMPTAの光重合において、PEN基板裏面銀配線を形成しない面側から紫外線を照射して重合した後、PGMEAにより洗浄することにより平坦化層13を形成した以外は実施例1と同様にして太陽電池を作製した。得られた太陽電池は短絡していて、電池特性が得られなかった。この有機薄膜太陽電池の断面を電顕観察したところ、アクリル樹脂が形成されていない溝が、補助銀配線の外縁に沿うように複数箇所形成されており、この溝の部分において、上部アルミニウム電極の接触が確認された。評価表1に、上記実施例1~4及び比較例1~4における、エッチング性及び下部電極層表面の導電性及び、光電変換効率について評価した結果を示す。エッチング性については、表面平滑性が良好で、補助銀配線と平坦化層との段差が200nm以下であるものを○、表面平滑性が良好であるが、補助銀配線と平坦化層との段差が500nm以上の箇所が発見されたものを△、エッチング不良又は、平坦化層形成不良により補助電極の表面導電性が得られなかったもの、又は短絡してしまったものを×とした。また、下部電極層表面の導電性について、メッシュ電極開口部の導電材料の面抵抗が150Ω/□以下のものを○、面抵抗が150Ω/□以上1000Ω/□以下のものを△、補助電極の表面導電性が得られなかったもの又は短絡してしまったものを×とした。"