"メタアクリル系樹脂フィルムから形成された基材層と、該メタアクリル系樹脂フィルムにハードコート層形成用組成物を塗工して形成されたハードコート層と、該基材層と該ハードコート層との間に、該ハードコート層形成用組成物が該メタアクリル系樹脂フィルムに浸透して形成された、厚みが1.2μm以上の浸透層とを備え、該ハードコート層形成用組成物が、硬化性化合物として9個以上のラジカル重合性不飽和基を有する化合物Aと、無機ナノ粒子とを含む、光学積層体。前記ハードコート層中にブロック層が形成され、該ブロック層中に前記化合物Aおよび前記無機ナノ粒子を有する、請求項1に記載の光学積層体。前記メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂の屈折率Nacrと、前記化合物Aの屈折率NAと、前記無機ナノ粒子の屈折率Nnanoとが、NA<Nacr<NnanoまたはNnano<Nacr<NAの関係を示す、請求項1または2に記載の光学積層体。前記化合物Aの含有割合が、前記ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、10重量~100重量である、請求項1から3のいずれかに記載の光学積層体。前記化合物Aの重量平均分子量が、1000以上である、請求項1から4のいずれかに記載の光学積層体。前記ハードコート層形成用組成物が、2個~8個のラジカル重合性不飽和基を有する化合物B1をさらに含み、前記化合物Aの重量平均分子量が2000以上である、請求項1から5のいずれかに記載の光学積層体。前記無機ナノ粒子の表面の少なくとも一部が有機化合物で被覆されている、請求項1から6のいずれかに記載の光学積層体。前記無機ナノ粒子がシリカ粒子である、請求項1から7のいずれかに記載の光学積層体。前記メタアクリル系樹脂フィルムの波長380nmにおける光の透過率が、15以下である、請求項1から8のいずれかに記載の光学積層体。前記メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂が、正の複屈折を発現する構造単位と負の複屈折を発現する構造単位とを有する、請求項1から9のいずれかに記載の光学積層体。前記メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂の重量平均分子量が、30000~500000である、請求項1から10のいずれかに記載の光学積層体。500nm~600nmの波長領域における前記ハードコート層の反射スペクトルの振幅が、0.5以下である、請求項1から11のいずれかに記載の光学積層体。前記ハードコート層の前記浸透層とは反対側の表面が、凹凸構造を有する、請求項1から12のいずれかに記載の光学積層体。前記ハードコート層の前記浸透層とは反対側に、反射防止層をさらに備える、請求項1から13のいずれかに記載の光学積層体。請求項1から14のいずれかに記載の光学積層体を含む、偏光板。請求項1から14のいずれかに記載の光学積層体を含む、画像表示装置。本発明者らは、アクリル系基材フィルムとハードコート層の密着性について、アンカー効果により密着させることを検討したところ、密着性を向上させようとする代表的には、ハードコート層形成用組成物の乾燥温度を上げると、基材フィルム成分がハードコート層に溶出し、耐擦傷性が低下するという新たな課題を見出した。本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、低透湿性のメタアクリル系樹脂を含むメタアクリル系樹脂フィルム基材フィルムを用いても、メタアクリル系樹脂フィルム基材フィルムとハードコート層との密着性を確保するとともに、耐擦傷性の低下を防止し得る光学積層体を提供することにある。本発明の光学積層体は、メタアクリル系樹脂フィルムから形成された基材層と、該メタアクリル系樹脂フィルムにハードコート層形成用組成物を塗工して形成されたハードコート層と、該基材層と該ハードコート層との間に、該ハードコート層形成用組成物が該メタアクリル系樹脂フィルムに浸透して形成された、厚みが1.2μm以上の浸透層とを備え、該ハードコート層形成用組成物が、硬化性化合物として9個以上のラジカル重合性不飽和基を有する化合物Aと、無機ナノ粒子とを含む。好ましい実施形態においては、上記ハードコート層中にブロック層が形成され、該ブロック層中に上記化合物Aおよび上記無機ナノ粒子を有する。好ましい実施形態においては、上記メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂の屈折率Nacrと、上記化合物Aの屈折率NAと、上記無機ナノ粒子の屈折率Nnanoとが、NA<Nacr<NnanoまたはNnano<Nacr<NAの関係を示す。好ましい実施形態においては、上記化合物Aの含有割合が、上記ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、10重量~100重量である。好ましい実施形態においては、上記化合物Aの重量平均分子量が、1000以上である。好ましい実施形態においては、上記ハードコート層形成用組成物が、2個~8個のラジカル重合性不飽和基を有する化合物B1をさらに含み、上記化合物Aの重量平均分子量が2000以上である。好ましい実施形態においては、上記無機ナノ粒子の表面の少なくとも一部が有機化合物で被覆されている。好ましい実施形態においては、上記無機ナノ粒子がシリカ粒子である。好ましい実施形態においては、上記メタアクリル系樹脂フィルムの波長380nmにおける光の透過率が、15以下である。好ましい実施形態においては、上記メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂が、正の複屈折を発現する構造単位と負の複屈折を発現する構造単位とを有する。好ましい実施形態においては、上記メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂の重量平均分子量が、30000~500000である。好ましい実施形態においては、500nm~600nmの波長領域における上記ハードコート層の反射スペクトルの振幅が、0.5以下である。好ましい実施形態においては、上記ハードコート層の上記浸透層とは反対側の表面が、凹凸構造を有する。好ましい実施形態においては、本発明の光学積層体は、上記ハードコート層の上記浸透層とは反対側に、反射防止層をさらに備える。本発明の別の局面によれば、偏光板が提供される。この偏光板は上記光学積層体を含む。本発明のさらに別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は上記光学積層体を含む。本発明によれば、アクリル系樹脂フィルム上に、特定の化合物と無機ナノ粒子とを含むハードコート層形成用組成物を塗工して、ハードコート層と浸透層とを形成することにより、低透湿性のメタアクリル系樹脂フィルム基材フィルムを用いても、メタアクリル系樹脂フィルム基材フィルムとハードコート層との密着性およびハードコート層の耐擦傷性の両方に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。A.光学積層体の全体構成図1aは、本発明の好ましい実施形態による光学積層体の概略断面図であり、図1bは、従来の一般的なハードコート層を有する光学積層体の概略断面図である。図1aに示す光学積層体100は、メタアクリル系樹脂フィルムから形成される基材層10と、浸透層20と、ハードコート層30とをこの順に備える。ハードコート層30は、メタアクリル系樹脂フィルムに硬化性化合物を含むハードコート層形成用組成物を塗工して形成される。浸透層20は、ハードコート層形成用組成物がメタアクリル系樹脂フィルムに浸透して形成される。すなわち、浸透層20とは、メタアクリル系樹脂フィルムにおいて、ハードコート層成分が存在している部分である。浸透層20の厚みは1.2μm以上である。基材層10は、上記のようにハードコート層形成用組成物がメタアクリル系樹脂フィルムに浸透した際に、メタアクリル系樹脂フィルムにおいてハードコート層形成用組成物が到達浸透しなかった部分である。一方、図1bに示す光学積層体200は、浸透層が形成されていない。図1aおよびbに示す境界Aは、メタアクリル系樹脂フィルムのハードコート層形成用組成物塗工面により規定される境界である。したがって、境界Aは、光学積層体100においては浸透層20とハードコート層30との境界であり、浸透層が形成されていない光学積層体200においては基材層10’すなわち、メタアクリル系樹脂フィルムとハードコート層30’との境界である。上記メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂が、ハードコート層形成用組成物に溶出して、ハードコート層中に当該メタアクリル系樹脂が存在していてもよい。本発明によれば、ハードコート層中に当該メタアクリル系樹脂が存在していても、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。本発明に用いるハードコート層形成用組成物は、無機ナノ粒子をさらに含む。当該ハードコート層形成用組成物により形成されたハードコート層30中には、当該無機ナノ粒子1が存在する。無機ナノ粒子を含むハードコート層形成用組成物により、無機ナノ粒子1を含むハードコート層30を形成すれば、ハードコート層形成用組成物に溶出したメタアクリル系樹脂フィルム中の成分代表的には、メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂が、ハードコート層形成時にハードコート層の空気界面にまで拡散することを防いで、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。本発明の光学積層体は、必要に応じて、ハードコート層30の外側に任意の適切なその他の層図示せずが配置されてもよい。その他の層は、代表的には、粘着剤層図示せずを介して配置される。図2は、本発明の別の実施形態による光学積層体の概略断面図である。光学積層体300は、ハードコート層30中に、ブロック層31とブロック層以外の層32とを有する。ブロック層31は、光学積層体の最外層として形成される。ブロック層31は、上記メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂が、ハードコート層形成用組成物に溶出し、ハードコート層形成用組成物が、当該メタアクリル系樹脂を含む相とメタアクリル系樹脂を含まない相とに相分離を起こすことにより形成される。ブロック層31を備える光学積層体は、耐擦傷性に優れる。ブロック層31の成分の詳細は後述する。好ましくは、図2に示すように、無機ナノ粒子1は、ハードコート層30においてブロック層31中に偏在している。無機ナノ粒子1がブロック層31中に偏在していれば、干渉ムラが抑制された光学積層体を得ることができる。本発明の光学積層体の500nm~600nmの波長領域におけるハードコート層の反射スペクトルの振幅は、好ましくは1.0以下であり、より好ましくは0.5以下であり、さらに好ましくは0.3以下であり、特に好ましくは0.1以下である。本発明によれば、反射スペクトルの振幅の小さい、すなわち、干渉ムラの少ない光学積層体を得ることができる。本発明の光学積層体は、所定厚みの浸透層を有するので、メタアクリル系樹脂フィルムおよびハードコート層の形成材料として屈折率差の大きい材料を選択しても、干渉ムラの発生を防止することができる。本発明の光学積層体は、例えば、基材層の屈折率とハードコート層の屈折率との差の絶対値を0.01~0.15とすることができる。もちろん、当該屈折率の差の絶対値を0.01未満に設定することも可能である。B.基材層上記基材層は、メタアクリル系樹脂フィルムから形成される。より詳細には、上記のように、基材層は、メタアクリル系樹脂フィルムにハードコート層形成用組成物を塗工した際に、メタアクリル系樹脂フィルムにおいて、当該ハードコート層形成用組成物が到達浸透しなかった部分である。上記メタアクリル系樹脂フィルムは、メタアクリル系樹脂を含む。メタアクリル系樹脂フィルムは、例えば、メタアクリル系樹脂を主成分として含む樹脂成分を含有する成形材料を、押出し成形して得られる。上記メタアクリル系樹脂フィルムの透湿度は、好ましくは200g/m224hr以下であり、より好ましくは80g/m224hr以下である。本発明によれば、このように透湿度の高いメタアクリル系樹脂フィルムを用いても、メタアクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。なお、透湿度は、例えば、JISZ0208に準じた方法により、40°C、相対湿度92の試験条件で測定することができる。上記メタアクリル系樹脂フィルムの波長380nmにおける光の透過率は、好ましくは15以下であり、より好ましくは12以下であり、さらに好ましくは9以下である。波長380nmの光の透過率がこのような範囲であれば、優れた紫外線吸収能が発現するので、光学積層体の外光等による紫外線劣化が防止され得る。上記メタアクリル系樹脂フィルムの面内位相差Reは、好ましくは10nm以下であり、より好ましくは7nm以下であり、さらに好ましくは5nm以下であり、特に好ましくは3nm以下であり、最も好ましくは1nm以下である。メタアクリル系樹脂フィルムの厚み方向位相差Rthは、好ましくは15nm以下であり、より好ましくは10nm以下であり、さらに好ましくは5nm以下であり、特に好ましくは3nm以下であり、最も好ましくは1nm以下である。面内位相差および厚み方向位相差がこのような範囲であれば、位相差に起因する画像表示装置の表示特性への悪影響が顕著に抑制され得る。より具体的には、干渉ムラや3Dディスプレイ用液晶表示装置に用いる場合の3D像の歪みが顕著に抑制され得る。面内位相差および厚み方向位相差がこのような範囲のメタアクリル系樹脂フィルムは、例えば、後述のグルタルイミド構造を有するメタアクリル系樹脂を用いて得ることができる。なお、面内位相差Reおよび厚み方向位相差Rthは、それぞれ、以下の式で求められる:Re=nx-ny×dRth=nx-nz×dここで、nxはメタアクリル系樹脂フィルムの遅相軸方向の屈折率であり、nyはメタアクリル系樹脂フィルムの進相軸方向の屈折率であり、nzはメタアクリル系樹脂フィルムの厚み方向の屈折率であり、dnmはメタアクリル系樹脂フィルムの厚みである。遅相軸は、フィルム面内の屈折率が最大になる方向をいい、進相軸は、面内で遅相軸に垂直な方向をいう。代表的には、ReおよびRthは、波長590nmの光を用いて測定される。上記メタアクリル系樹脂としては、任意の適切なメタアクリル系樹脂を採用し得る。例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリメタアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル-メタアクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル-メタアクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル-アクリル酸エステル-メタアクリル酸共重合体、メタアクリル酸メチル-スチレン共重合体MS樹脂など、脂環族炭化水素基を有する重合体例えば、メタクリル酸メチル-メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル-メタアクリル酸ノルボルニル共重合体などが挙げられる。好ましくは、ポリメタアクリル酸メチルなどのポリメタアクリル酸C1-6アルキルが挙げられる。より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分50~100重量、好ましくは70~100重量とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。上記メタアクリル系樹脂の重量平均分子量は、好ましくは30000~500000であり、より好ましくは50000~500000である。本発明によれば、重量平均分子量の小さいメタアクリル系樹脂を用いても、すなわちハードコート層に比較的溶出しやすいメタアクリル系樹脂を用いても、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。重量平均分子量の小さいメタアクリル系樹脂を用いれば、メタアクリル系樹脂フィルム中に十分な厚みの浸透層を形成させて、メタアクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。上記メタアクリル系樹脂のガラス転移温度は、好ましくは110°C以上であり、より好ましくは120°C以上である。ガラス転移温度がこのような範囲であれば、耐久性および耐熱性に優れたメタアクリル系樹脂フィルムが得られ得る。ガラス転移温度の上限は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは170°C以下である。上記メタアクリル系樹脂は、好ましくは、正の複屈折を発現する構造単位と負の複屈折を発現する構造単位とを有する。これらの構造単位を有していれば、その存在比を調整して、メタアクリル系樹脂フィルムの位相差を制御することができ、低位相差のメタアクリル系樹脂フィルムを得ることができる。正の複屈折を発現する構造単位としては、例えば、ラクトン環、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン等を構成する構造単位、後述の一般式1で示される構造単位が挙げられる。負の複屈折を発現する構造単位としては、例えば、スチレン系モノマー、マレイミド系モノマー等を由来とする構造単位、ポリメチルメタクリレートの構造単位、後述の一般式3で示される構造単位等が挙げられる。本明細書において、正の複屈折を発現する構造単位とは、当該構造単位のみを有する樹脂が正の複屈折特性を示す場合すなわち、樹脂の延伸方向に遅相軸が発現する場合の構造単位を意味する。また、負の複屈折を発現する構造単位とは、当該構造単位のみを有する樹脂が負の複屈折特性を示す場合すなわち、樹脂の延伸方向と垂直な方向に遅相軸が発現する場合の構造単位を意味する。上記メタアクリル系樹脂として、ラクトン環構造またはグルタルイミド構造を有するメタアクリル系樹脂が好ましく用いられる。ラクトン環構造またはグルタルイミド構造を有するメタアクリル系樹脂は耐熱性に優れる。より好ましくは、グルタルイミド構造を有するメタアクリル系樹脂である。グルタルイミド構造を有するメタアクリル系樹脂を用いれば、上記のように、低透湿、かつ、位相差および紫外線透過率の小さいメタアクリル系樹脂フィルムを得ることができる。グルタルイミド構造を有するメタアクリル系樹脂以下、グルタルイミド樹脂とも称するは、例えば、特開2006-309033号公報、特開2006-317560号公報、特開2006-328329号公報、特開2006-328334号公報、特開2006-337491号公報、特開2006-337492号公報、特開2006-337493号公報、特開2006-337569号公報、特開2007-009182号公報、特開2009-161744号公報に記載されている。これらの記載は、本明細書に参考として援用される。好ましくは、上記グルタルイミド樹脂は、下記一般式1で表される構造単位以下、グルタルイミド単位とも称すると、下記一般式2で表される構造単位以下、メタアクリル酸エステル単位とも称するとを含む。式1において、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素または炭素数1~8のアルキル基であり、R3は、水素、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、または炭素数5~15の芳香環を含む置換基である。式2において、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素または炭素数1~8のアルキル基であり、R6は、水素、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、または炭素数5~15の芳香環を含む置換基である。グルタルイミド樹脂は、必要に応じて、下記一般式3で表される構造単位以下、芳香族ビニル単位とも称するをさらに含んでいてもよい。式3において、R7は、水素または炭素数1~8のアルキル基であり、R8は、炭素数6~10のアリール基である。上記一般式1において、好ましくは、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、R3は水素、メチル基、ブチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、R1はメチル基であり、R2は水素であり、R3はメチル基である。上記グルタルイミド樹脂は、グルタルイミド単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式1におけるR1、R2、およびR3が異なる複数の種類を含んでいてもよい。グルタルイミド単位は、上記一般式2で表されるメタアクリル酸エステル単位をイミド化することにより、形成することができる。また、グルタルイミド単位は、無水マレイン酸等の酸無水物、または、このような酸無水物と炭素数1~20の直鎖または分岐のアルコールとのハーフエステル;アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、クロトン酸、フマル酸、シトラコン酸等のα,β-エチレン性不飽和カルボン酸等をイミド化することによっても、形成することができる。上記一般式2において、好ましくは、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、R6は水素またはメチル基であり、さらに好ましくは、R4は水素であり、R5はメチル基であり、R6はメチル基である。上記グルタルイミド樹脂は、メタアクリル酸エステル単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式2におけるR4、R5、およびR6が異なる複数の種類を含んでいてもよい。上記グルタルイミド樹脂は、上記一般式3で表される芳香族ビニル単位として、好ましくはスチレン、α-メチルスチレン等を含み、さらに好ましくはスチレンを含む。このような芳香族ビニル単位を有することにより、グルタルイミド構造の正の複屈折性を低減し、より低位相差のメタアクリル系樹脂フィルムを得ることができる。上記グルタルイミド樹脂は、芳香族ビニル単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、R7およびR8が異なる複数の種類を含んでいてもよい。上記グルタルイミド樹脂における上記グルタルイミド単位の含有量は、例えばR3の構造等に依存して変化させることが好ましい。グルタルイミド単位の含有量は、グルタルイミド樹脂の総構造単位を基準として、好ましくは1重量~80重量であり、より好ましくは1重量~70重量であり、さらに好ましくは1重量~60重量であり、特に好ましくは1重量~50重量である。グルタルイミド単位の含有量がこのような範囲であれば、低位相差のメタアクリル系樹脂フィルムが得られ得る。上記グルタルイミド樹脂における上記芳香族ビニル単位の含有量は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。用途によっては、芳香族ビニル単位の含有量は0であってもよい。芳香族ビニル単位が含まれる場合、その含有量は、グルタルイミド樹脂のグルタルイミド単位を基準として、好ましくは10重量~80重量であり、より好ましくは20重量~80重量であり、さらに好ましくは20重量~60重量であり、特に好ましくは20重量~50重量である。芳香族ビニル単位の含有量がこのような範囲であれば、低位相差、かつ、耐熱性および機械的強度に優れたメタアクリル系樹脂フィルムが得られ得る。上記グルタルイミド樹脂には、必要に応じて、グルタルイミド単位、メタアクリル酸エステル単位、および芳香族ビニル単位以外のその他の構造単位がさらに共重合されていてもよい。その他の構造単位としては、例えば、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、N-メチルマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体から構成される構造単位が挙げられる。これらのその他の構造単位は、上記グルタルイミド樹脂中に、直接共重合していてもよいし、グラフト共重合していてもよい。上記メタアクリル系樹脂フィルムは、紫外線吸収剤を含む。紫外線吸収剤としては、上記所望の特性が得られる限りにおいて、任意の適切な紫外線吸収剤が採用され得る。上記紫外線吸収剤の代表例としては、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ベンゾオキサジン系紫外線吸収剤、およびオキサジアゾール系紫外線吸収剤が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。上記紫外線吸収剤の含有量は、メタアクリル系樹脂100重量部に対して、好ましくは0.1重量部~5重量部であり、より好ましくは0.2重量部~3重量部である。紫外線吸収剤の含有量がこのような範囲であれば、紫外線を効果的に吸収することができ、かつ、フィルム成形時のフィルムの透明性が低下することがない。紫外線吸収剤の含有量が0.1重量部より少ない場合、紫外線の遮断効果が不十分となる傾向がある。紫外線吸収剤の含有量が5重量部より多い場合、着色が激しくなったり、成形後のフィルムのヘイズが高くなり、透明性が悪化したりする傾向がある。上記メタアクリル系樹脂フィルムは、目的に応じて任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤;耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤;ガラス繊維、炭素繊維等の補強材;近赤外線吸収剤;トリスジブロモプロピルホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤;アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤;有機フィラーや無機フィラー;樹脂改質剤;有機充填剤や無機充填剤;可塑剤;滑剤;帯電防止剤;難燃剤;位相差低減剤等が挙げられる。含有される添加剤の種類、組み合わせ、含有量等は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。上記メタアクリル系樹脂フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、メタアクリル系樹脂と、紫外線吸収剤と、必要に応じてその他の重合体や添加剤等とを、任意の適切な混合方法で充分に混合し、予め熱可塑性樹脂組成物としてから、これをフィルム成形することができる。あるいは、メタアクリル系樹脂と、紫外線吸収剤と、必要に応じてその他の重合体や添加剤等とを、それぞれ別々の溶液にしてから混合して均一な混合液とした後、フィルム成形してもよい。上記熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサー等、任意の適切な混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いられる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機等の押出機や加圧ニーダー等、任意の適切な混合機を用いることができる。上記フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法溶液流延法、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法等、任意の適切なフィルム成形法が挙げられる。溶融押出法が好ましい。溶融押出法は溶剤を使用しないので、製造コストや溶剤による地球環境や作業環境への負荷を低減することができる。上記溶融押出法としては、例えば、Tダイ法、インフレーション法等が挙げられる。成形温度は、好ましくは150~350°C、より好ましくは200~300°Cである。上記Tダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にTダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、1軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時2軸延伸、逐次2軸延伸等を行うこともできる。上記メタアクリル系樹脂フィルムは、上記所望の位相差が得られる限りにおいて、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、1軸延伸フィルムまたは2軸延伸フィルムのいずれでもよい。2軸延伸フィルムである場合は、同時2軸延伸フィルムまたは逐次2軸延伸フィルムのいずれでもよい。上記延伸温度は、フィルム原料である熱可塑性樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくはガラス転移温度-30°C~ガラス転移温度30°C、より好ましくはガラス転移温度-20°C~ガラス転移温度20°Cの範囲内である。延伸温度がガラス転移温度-30°C未満であると、得られるフィルムのヘイズが大きくなり、あるいは、フィルムが裂けたり、割れたりして所定の延伸倍率が得られないおそれがある。逆に、延伸温度がガラス転移温度30°Cを超えると、得られるフィルムの厚みムラが大きくなったり、伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質が十分に改善できなかったりする傾向がある。さらに、フィルムがロールに粘着するといったトラブルが発生しやすくなる傾向がある。上記延伸倍率は、好ましくは1.1~3倍、より好ましくは1.3~2.5倍である。延伸倍率がこのような範囲であれば、フィルムの伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質を大幅に改善することができる。結果として、厚みムラが小さく、複屈折が実質的にゼロでありしたがって、位相差が小さく、さらに、ヘイズが小さいフィルムを製造することができる。上記メタアクリル系樹脂フィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理アニーリング等を行うことができる。熱処理の条件は、任意の適切な条件を採用し得る。上記メタアクリル系樹脂フィルムの厚みは、好ましくは10μm~200μmであり、より好ましくは20μm~100μmである。厚みが10μm未満であると、強度が低下するおそれがある。厚みが200μmを超えると、透明性が低下するおそれがある。上記メタアクリル系樹脂フィルムの表面の濡れ張力は、好ましくは40mN/m以上、より好ましくは50mN/m以上、さらに好ましくは55mN/m以上である。表面の濡れ張力が少なくとも40mN/m以上であると、メタアクリル系樹脂フィルムと偏光子との接着強度がさらに向上する。表面の濡れ張力を調整するために、任意の適切な表面処理を施すことができる。表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、コロナ放電処理、プラズマ処理である。C.浸透層上記浸透層は、上記のとおり、メタアクリル系樹脂フィルムにハードコート層形成用組成物が浸透することにより形成される。言い換えれば、浸透層はメタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂とハードコート層を形成する化合物との相溶化領域の一部に対応し得る。上記浸透層において、メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂の濃度が、ハードコート層側から基材層側にかけて連続的に高くなることが好ましい。メタアクリル系樹脂の濃度が連続的に変化すること、すなわちメタアクリル系樹脂の濃度変化に起因する界面が形成されていないことにより界面反射を抑制することができ、干渉ムラの少ない光学積層体を得ることができるからである。上記浸透層の厚みの下限は1.2μmであり、好ましくは1.5μmであり、より好ましくは2μmであり、さらに好ましくは3μmである。浸透層の厚みの上限は、好ましくはメタアクリル系樹脂フィルムの厚み×70μmであり、より好ましくはメタアクリル系樹脂フィルムの厚み×40μmであり、さらに好ましくはメタアクリル系樹脂フィルムの厚み×30μmであり、特に好ましくはメタアクリル系樹脂フィルム×20μmである。浸透層の厚みがこのような範囲であれば、メタアクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。なお、浸透層の厚みは、ハードコート層の反射スペクトルにより測定することができる。浸透層の厚みの測定方法の詳細は、実施例における評価方法として後述する。D.ハードコート層ハードコート層は、上記のとおり、上記メタアクリル系樹脂フィルム上にハードコート層形成用組成物を塗工して形成される。ハードコート層形成用組成物は、硬化性化合物および無機ナノ粒子を含む。上記硬化性化合物は、例えば、熱、光紫外線等または電子線等により硬化し得る。好ましくは、上記硬化性化合物は、光硬化型である。硬化性化合物は、モノマー、オリゴマーおよびプレポリマーのいずれであってもよい。なお、上記無機ナノ粒子は、後述のように、有機化合物代表的には重合性不飽和基を有する有機化合物で被覆され得るが、本明細書においては、このような無機ナノ粒子であっても、当該無機ナノ粒子を硬化性化合物に含まない。上記ハードコート層形成用組成物は、硬化性化合物として、9個以上のラジカル重合性不飽和基を有する化合物Aを含む。化合物Aを含むハードコート層形成用組成物を塗工してハードコート層を形成すれば、ハードコート層形成用組成物に溶出したメタアクリル系樹脂フィルム中の成分代表的には、メタアクリル系樹脂フィルム中の樹脂成分が、ハードコート層形成時にハードコート層の空気界面にまで拡散することを防いで、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。上記化合物Aが有するラジカル重合性不飽和基の数は、好ましくは10個以上であり、より好ましくは20個以上であり、さらに好ましくは20個~100個である。化合物Aが有するラジカル重合性不飽和基の数が多いほど、ハードコート層自体の耐擦傷性を向上させることができる。好ましくは、上記ハードコート層中に、上記化合物Aを有するブロック層図2の符号31で示す層が形成される。ブロック層が形成されていれば、より耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。上記化合物Aは、上記メタアクリル系樹脂フィルムからハードコート層形成用組成物に溶出したメタアクリル系樹脂との相溶性が低いため、ハードコート層形成時にハードコート層形成用組成物が当該メタアクリル系樹脂を含む相と化合物Aを含む相メタアクリル系樹脂を含まない相とに相分離を起こし、その結果、ブロック層が形成される。ブロック層は、実質的に、ハードコート層形成用組成物に溶出した当該メタアクリル系樹脂を含まない。ブロック層の厚みは、好ましくは1μm~5μmであり、より好ましくは2μm~4μmである。上記ラジカル重合性不飽和基としては、例えば、メタアクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基等が挙げられる。上記化合物Aとしては、例えば、ウレタンメタアクリレート、ポリエステルメタアクリレート、エポキシメタアクリレート、メラミンメタアクリレート、トリアジンメタアクリレート、シリコーンメタアクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマー;不飽和基を有するメタクリレートポリマー等が挙げられる。なかでも、反応性と透明性の点から、ウレタンメタアクリレートのオリゴマーまたはプレポリマーが好ましい。化合物Aは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。上記ウレタンメタアクリレートは、例えば、メタアクリル酸またはメタアクリル酸エステルとポリオールとから得られるヒドロキシメタアクリレートを、ジイソシアネートと反応させることにより得ることができる。上記メタアクリル酸エステルとしては、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート等が挙げられる。上記ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,2-プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、トリシクロデカンジメチロール、1,4-シクロヘキサンジオール、スピログリコール、トリシクロデカンジメチロール、水添ビスフェノールA、エチレンオキサイド付加ビスフェノールA、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールA、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、3-メチルペンタン-1,3,5-トリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グルコース類等が挙げられる。上記ジイソシアネートとしては、例えば、芳香族、脂肪族または脂環族の各種のジイソシアネート類を使用することができる。上記ジイソシアネートの具体例としては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、4,4-ジフェニルジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、3,3-ジメチル-4,4-ジフェニルジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、4,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、およびこれらの水添物等が挙げられる。上記化合物Aの含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、10重量~100重量であり、好ましくは15重量~100重量であり、より好ましくは15重量~85重量であり、さらに好ましくは20重量~80重量である。このような範囲であれば、ハードコート層形成用組成物に溶出したメタアクリル系樹脂フィルム中の成分代表的には、メタアクリル系樹脂フィルム中の樹脂成分が、ハードコート層形成時にハードコート層の空気界面にまで拡散することを防いで、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。上記化合物Aの重量平均分子量は、好ましくは1000以上であり、より好ましくは2000以上であり、さらに好ましくは3000~50000である。本発明によれば、化合物Aは9個以上のラジカル重合性不飽和基を有しているので、化合物Aが比較的小さい重量平均分子量であっても、メタアクリル系樹脂フィルム中の成分がハードコート層の空気界面にまで拡散することを防ぎ、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。また、化合物Aの重量平均分子量は、上記基材層を形成するメタアクリル系樹脂の重量平均分子量よりも小さいことが好ましい。上記ハードコート層形成用組成物は、硬化性化合物として、8個以下のラジカル重合性不飽和基を有する化合物Bをさらに含み得る。ハードコート層形成用組成物が化合物Bを含んでいれば、十分な厚みの浸透層を形成して、基材層とハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。また、ハードコート層形成用組成物が化合物Bを含んでいれば、ハードコート層形成時の加熱温度を低くしても浸透層を形成させることができ、ガラス転位温度の低いメタアクリル系樹脂フィルムを用いても、当該フィルムを変形させることなく基材層とハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。1つの実施形態においては、化合物Bは、2個~8個のラジカル重合性不飽和基を有する化合物B1である。好ましくは、化合物B1は、2個~6個のラジカル重合性不飽和基を有し、より好ましくは2個または3個のラジカル重合性不飽和基を有する。上記化合物B1としては、例えば、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、1,10-デカンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、1,9-ノナンジオールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールメタアクリレート、イソシアヌル酸トリメタアクリレート、およびこれらのオリゴマーまたはポリマー等のメタアクリロイル基を有する化合物;ウレタンメタアクリレート、およびこれらのオリゴマーまたはプレポリマー等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。上記ハードコート層形成用組成物が化合物B1を含む場合、上記化合物B1の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、好ましくは90重量以下であり、より好ましくは85重量以下であり、さらに好ましくは15重量~85重量であり、特に好ましくは20重量~80重量である。上記化合物B1の含有割合は、所望とする基材層とハードコート層との密着性、耐擦傷性およびハードコート層形成時の加熱温度に応じて、決定することができる。上記化合物B1の重量平均分子量は、好ましくは3000以下であり、より好ましくは2000以下であり、さらに好ましくは1500以下であり、特に好ましくは1000以下であり、最も好ましくは500未満である。上記化合物B1の重量平均分子量が小さいほど、浸透層の厚みを大きくすることができ、基材層とハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。上記ハードコート層形成用組成物が2個~8個のラジカル重合性不飽和基を有する化合物B1を含む場合、上記化合物Aの重量平均分子量は、好ましくは2000以上であり、より好ましくは3000以上であり、さらに好ましくは3000~50000である。2個~8個のラジカル重合性不飽和基を有する化合物B1と、当該範囲の重量平均分子量を有する化合物Aとを組み合わせて用いれば、基材層とハードコート層との密着性および耐擦傷性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。上記化合物B1の重量平均分子量は、上記化合物Aの重量平均分子量より小さいことが好ましい。別の実施形態においては、上記化合物Bは、単官能モノマーB2である。単官能モノマーB2は、メタアクリル系樹脂フィルムに容易に浸透するので、単官能モノマーを含んでいれば、メタアクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。単官能モノマーB2は、好ましくは、メタアクリレートモノマーである。なお、上記化合物B1および単官能モノマーB2は併用してもよい。上記ハードコート層形成用組成物が単官能モノマーB2を含む場合、単官能モノマーB2の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、好ましくは40重量以下であり、より好ましくは20重量以下である。単官能モノマーの含有割合が40重量より多い場合、所望の硬度および耐擦傷性が得られないおそれがある。上記単官能モノマーの重量平均分子量は、好ましくは500以下である。このような単官能モノマーであればメタアクリル系樹脂フィルムに容易に浸透および拡散する。このような単官能モノマーとしては、例えば、エトキシ化o-フェニルフェノールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、イソステアリルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、イソホロニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシメタアクリレート、アクリロイルモルホリン、ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシブチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド等が挙げられる。上記ハードコート層形成用組成物が単官能モノマーB2を含む場合、上記化合物Aの重量平均分子量は、好ましくは2000以上であり、より好ましくは3000以上であり、さらに好ましくは3000~50000である。単官能モノマーB2と、当該範囲の重量平均分子量を有する化合物Aとを組み合わせて用いれば、基材層とハードコート層との密着性および耐擦傷性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。上記ハードコート層形成用組成物は、好ましくは、任意の適切な光重合開始剤を含む。光重合開始剤としては、例えば、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、3-メチルアセトフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、N,N,N’,N’-テトラメチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、チオキサントン系化合物等が挙げられる。上記ハードコート層形成用組成物は、無機ナノ粒子を含む。これにより、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。詳細には、以下の作用により、このような効果が得られると考えられる。即ち、ハードコート層形成時には、ハードコート層形成用組成物中にメタアクリル系樹脂フィルム中の成分具体的には樹脂成分等が溶出する。この溶出した成分がハードコート層の空気界面側表面側にまで及ぶと、空気界面側のハードコート層形成用組成物の割合が低下し、耐擦傷性が低下することになる。本発明では、ハードコート層形成用組成物中に無機ナノ粒子を含有することによって、この空気界面側へのメタアクリル系樹脂フィルム中の成分の拡散を防いで、耐擦傷性の低下を防止することができる。さらに、上記のようにブロック層図2の符号31で示す層が形成されて、ハードコート層中のブロック層以外の層図2における層32とブロック層とによる界面が存在する場合にも、無機ナノ粒子によりブロック層の屈折率を調整して、干渉ムラを抑制することができる。なお、本発明に用いる無機ナノ粒子は、上記メタアクリル系樹脂フィルム中の成分と親和性が低いので、ブロック層に偏在させることができ、その結果、上記のような優れた効果を得ることができる。ブロック層の平均屈折率と、ハードコート層中のブロック層以外の層の平均屈折率との差は、好ましくは0~0.03であり、より好ましくは0~0.01であり、特に好ましくは0~0.005である。上記メタアクリル系樹脂フィルムを形成するメタアクリル系樹脂の屈折率Nacrと、上記化合物Aの屈折率NAと、上記無機ナノ粒子の屈折率Nnanoとは、好ましくは、NA<Nacr<NnanoまたはNnano<Nacr<NAの関係を示す。例えば、屈折率Nacrが1.49~1.55のメタアクリル系樹脂、屈折率NAが1.51~1.60の化合物Aおよび屈折率Nnanoが1.25~2.70の無機ナノ粒子を適宜採用することができるが、特にこれに限定されない。上記関係式を満たす材料を適宜選択できる。屈折率が上記関係にあれば、干渉ムラが抑制された光学積層体を得ることができる。上記無機ナノ粒子としては、例えば、酸化ケイ素シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウムアルミナ、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムジルコニア等の金属酸化物微粒子が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、酸化ケイ素シリカ、酸化アルミニウムアルミナまたは酸化ジルコニウムジルコニアの微粒子が好ましく、酸化ケイ素シリカがより好ましい。ハードコート層形成用組成物の硬化収縮を小さくし、かつハードコート層を高硬度とすることができるからである。上記無機ナノ粒子は、好ましくはその表面の少なくとも一部が有機化合物で被覆されている。表面の少なくとも一部が有機化合物で被覆されている無機ナノ粒子は、ハードコート層形成用組成物中での分散性に優れるので、メタアクリル系樹脂フィルム中の成分のハードコート層形成用組成物への拡散結果として、ハードコート層への拡散を有効に防ぐことができ、より耐擦傷性に優れるハードコート層を得ることができる。また、分散性に優れていれば、ハードコート層の光散乱および透過率の低下を防止し、優れた透明性を有する光学積層体を得ることができる。無機ナノ粒子の表面の少なくとも一部が有機化合物で被覆されている態様としては、例えば、無機ナノ粒子が金属酸化物微粒子であり、当該金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に有機化合物が反応して、無機ナノ粒子金属酸化物微粒子の表面の少なくとも一部に有機化合物が結合した態様、無機ナノ粒子金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機化合物を付着させた態様、ポリマー粒子中に1個以上の無機ナノ粒子を含有する態様等が挙げられる。上記無機ナノ粒子を被覆する有機化合物は、好ましくは、分散条件下において、上記無機ナノ粒子の表面に存在する官能基と化学結合可能な官能基を有する。このような官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基、カルボキシル基、リン酸基、酸無水物基、酸塩化物基、酸アミド基、エステル基、イミノ基、ニトリル基、イソニトリル基、水酸基、チオール基、エポキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、Si-OH基、シランの加水分解性残基等が挙げられる。無機ナノ粒子を被覆する有機化合物が有する官能基は、無機ナノ粒子の表面に存在する官能基と、共有結合、イオン結合、配位結合または水素結合により結合し得ることが好ましく、共有結合、イオン結合または配位結合により結合し得ることがより好ましい。上記無機ナノ粒子を被覆する有機化合物は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。上記無機ナノ粒子を被覆する有機化合物は、より好ましくは、重合性不飽和基を有する。重合性不飽和基が上記ハードコート層形成用組成物中の硬化性化合物と反応硬化することで、ハードコート層の硬度を向上させることができる。重合性不飽和基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基が好ましい。上記重合性不飽和基は、光感応性基であることも好ましい。上記無機ナノ粒子を被覆する有機化合物としては、例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルハイドロジェンシロキサン等のポリシロキサン;γ-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランGPTS、γ-グリシジルオキシプロピルジメチルクロロシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシランAPTS、3-アミノプロピルトリエトキシシランAPTES、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-[N’-2’-アミノエチル-2-アミノエチル]-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、2-[メトキシポリエチレンオキシプロピル]トリメトキシシラン、ビス-ヒドロキシエチル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-ヒドロキシエチル-N-メチルアミノプロピルトリエトキシシラン、3-メタアクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタアクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、CH2=CHSiOOCCH33、CH2=CHSiCl3、CH2=CHSiOC2H53、CH2=CH-SiOC2H4OCH33、CH2=CH-CH2-SiOC2H53、CH2=CH-CH2-SiOOCCH33等のシランカップリング剤;等が挙げられる。好ましくは、無機ナノ粒子を被覆する有機化合物として、シランカップリング剤が用いられる。シランカップリング剤は金属酸化物との反応性が良好であり、また、黄変性が少ないからである。上記光感応性基を有する有機化合物により被覆された無機ナノ粒子は、例えば、無機ナノ粒子を光感応性基を有するシランカップリング剤で処理することで得られる。光感応性基を有するシランカップリング剤としては、例えば、CH2=CHSiOOCCH33、CH2=CHSiCl3、CH2=CHSiOC2H53、CH2=CH-SiOC2H4OCH33、CH2=CH-CH2-SiOC2H53、CH2=CH-CH2-SiOOCCH33等が挙げられる。光感応性基を有するシランカップリング剤の製造方法は、例えば、特開平9-100111号公報に記載されている。光感応性基を有するシランカップリング剤は、例えば、iメルカプトアルコキシシランと、ポリイソシアネート化合物と、イソシアネート基と反応可能な活性水素基含有重合性不飽和化合物との付加反応、ii分子中にアルコキシシリル基及びイソシアネート基を有する化合物と、活性水素基含有重合性不飽和化合物との反応、iii分子中に重合性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物と、メルカプトアルコキシシランとの付加反応等により得ることができる。上記無機ナノ粒子の形状は、任意の適切な形状が採用され得る。無機ナノ粒子の形状は、球形状、直方体形状、針形状、または板形状であり得る。上記無機ナノ粒子の重量平均粒径は、好ましくは100nm以下であり、さらに好ましくは1nm~50nmであり、より好ましくは1nm~20nmである。このような範囲であれば、ハードコート層の光散乱を防止し、透過率の低下を防止し、着色を防止し、かつ、優れた透明性を確保することができる。無機ナノ粒子の重量平均粒径は、例えば、コールターカウント法により測定できる。上記無機ナノ粒子の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の硬化性化合物および無機ナノ粒子の合計に対して、1.5重量~50重量である。このような範囲であれば、メタアクリル系樹脂フィルム中の成分のハードコート層形成用組成物への拡散結果として、ハードコート層への拡散を有効に防ぐことができ、耐擦傷性に優れるハードコート層を得ることができる。上記ハードコート層形成用組成物は、好ましくは、任意の適切な光重合開始剤を含む。光重合開始剤としては、例えば、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、3-メチルアセトフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、N,N,N’,N’-テトラメチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、チオキサントン系化合物等が挙げられる。1つの実施形態においては、ハードコート層の基材層とは反対側の表面は、凹凸構造を有する。ハードコート層の表面が凹凸構造であれば、光学積層体に防眩性を付与することができる。このような凹凸構造を形成する方法としては、例えば、ハードコート層形成用組成物に微粒子を含有させる方法が挙げられる。微粒子は無機微粒子であってもよく、有機微粒子であってもよい。無機微粒子としては、例えば、酸化ケイ素微粒子、酸化チタン微粒子、酸化アルミニウム微粒子、酸化亜鉛微粒子、酸化錫微粒子、炭酸カルシウム微粒子、硫酸バリウム微粒子、タルク微粒子、カオリン微粒子、硫酸カルシウム微粒子等が挙げられる。有機微粒子としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル樹脂粉末PMMA微粒子、シリコーン樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ポリオレフィン樹脂粉末、ポリエステル樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末等が挙げられる。これらの微粒子は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。上記微粒子の形状は、任意の適切な形状が採用され得る。好ましくは略球形であり、より好ましくはアスペクト比が1.5以下の略球形である。微粒子の重量平均粒径は、好ましくは1μm~30μmであり、より好ましくは2μm~20μmである。微粒子の重量平均粒径は、例えば、コールターカウント法により測定できる。上記ハードコート層形成用組成物が上記微粒子を含む場合、上記微粒子の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、好ましくは1重量~60重量であり、より好ましくは2重量~50重量である。上記ハードコート層形成用組成物は、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤としては、例えば、レベリング剤、ブロッキング防止剤、分散安定剤、揺変剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、増粘剤、分散剤、界面活性剤、触媒、フィラー、滑剤、帯電防止剤等が挙げられる。上記レベリング剤としては、例えば、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤が挙げられ、好ましくは、シリコーン系レベリング剤である。上記シリコーン系レベリング剤としては、例えば、反応性シリコーン、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン等が挙げられる。なかでも好ましくは、反応性シリコーンである。反応性シリコーンを添加すれば、ハードコート層表面に滑り性が付与され耐擦傷性が長期間にわたり持続するようになる。上記レベリング剤の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中のモノマー、オリゴマーおよびプレポリマーの合計量に対して、好ましくは5重量以下であり、より好ましくは0.01重量~5重量である。上記ハードコート層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、1,3,5-トリオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノンCPN、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n-ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n-ペンチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、1-ペンタノール、2-メチル-2-ブタノール、シクロヘキサノール、イソプロピルアルコールIPA、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトンMIBK、2-オクタノン、2-ペンタノン、2-ヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。本発明によれば、溶媒を含まないハードコート層形成用組成物、あるいは溶媒としてメタアクリル系樹脂フィルム形成材料の貧溶媒のみを含むハードコート層形成用組成物を用いても、ハードコート形成用組成物がメタアクリル系樹脂フィルムに浸透して、所望の厚みを有する浸透層を形成することができる。上記ハードコート層の厚みは、好ましくは3μm以上であり、より好ましくは5μm以上であり、さらに好ましくは7μm~20μmである。このような範囲であれば、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。また、本発明の光学積層体は、上記のようにメタアクリル系樹脂フィルム中の成分のハードコート層ハードコート層形成用組成物への拡散が抑制されるため、ハードコート層の厚みを薄くしても、耐擦傷性に優れる。E.その他の層本発明の光学積層体は、必要に応じて、ハードコート層の外側に任意の適切なその他の層が配置され得る。代表例としては、反射防止層およびアンチグレア層が挙げられる。反射防止層およびアンチグレア層としては、当業界で通常用いられている反射防止層およびアンチグレア層が採用され得る。F.光学積層体の製造方法本発明の光学積層体の製造方法は、メタアクリル系樹脂フィルム上にハードコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、該塗布層を加熱することを含む。好ましくは、ハードコート層は、加熱後の塗布層を硬化処理して形成される。ハードコート層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットオリフィスコート法、カーテンコート法、ファウンテンコート法、コンマコート法が挙げられる。上記塗布層の加熱は、好ましくは、メタアクリル系樹脂フィルムに含まれる樹脂のガラス転移温度以下の温度でなされる。加熱温度は、好ましくは90°C~140°Cであり、より好ましくは100°C~130°Cであり、さらに好ましくは105°C~120°Cである。このような範囲の温度で加熱すれば、ハードコート層形成用組成物中のモノマー、オリゴマーおよび/またはプレポリマーがメタアクリル系樹脂フィルム中に良好に浸透および拡散する。当該加熱、その後の硬化処理を経て、浸透したハードコート層形成用組成物およびメタアクリル系樹脂フィルムの形成材料により、上記D項で説明した浸透層が形成される。その結果、メタアクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。一方、ハードコート層形成用組成物は上記化合物Aを含んでいるため、塗布層を上記温度で加熱しても、メタアクリル系樹脂フィルム中の樹脂成分がハードコート層の空気界面にまで拡散することを防ぐことができ、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。すなわち、本発明によれば、上記温度で加熱して十分な厚みの浸透層を形成させても、ハードコート層の耐擦傷性にも優れる光学積層体を得ることができる。なお、ハードコート層形成用組成物が溶媒を含む場合、当該加熱により、塗布したハードコート層形成用組成物を乾燥させることができる。上記加熱温度は、ハードコート層形成用組成物の組成に応じて、設定することが好ましい。例えば、ハードコート層形成用組成物中の硬化性化合物が、上記化合物Aのみである場合、加熱温度は105°C~140°Cとすることが好ましい。また、ハードコート層形成用組成物中の硬化性化合物として化合物Bをさらに含む場合、加熱温度は90°C~125°Cとすることが好ましい。化合物Bを有することにより、低温度での加熱であっても、浸透層を形成することができ、密着性に優れ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。また、加熱温度を低くすることができるので、ガラス転位温度の低いメタアクリル系樹脂フィルムを使用することが可能となる。一方、高温で加熱を行うと、化合物Bがメタアクリル系樹脂フィルムを形成する樹脂成分と相溶し、耐擦傷性が低下するおそれがある。上記硬化処理としては、任意の適切な硬化処理が採用され得る。代表的には、硬化処理は紫外線照射により行われる。紫外線照射の積算光量は、好ましくは200mJ~400mJである。以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における評価方法は以下のとおりである。また、実施例において、特に明記しない限り、部およびは重量基準である。1耐擦傷性実施例および比較例で得られた光学積層体を幅11mm、長さ100mmの大きさに切断し、基材層を下にしてガラス板に載せた。次いで、当該光学積層体のハードコート層側表面上で、直径11mmの円柱の断面に取り付けたスチールウール0000を、荷重1000g、100mm/secで10往復させた。その後のハードコート層側表面を目視観察し、以下の基準で評価した。4:傷が全くない3:わずかに傷がつく2:細かい傷が残る1:傷が著しい2鉛筆硬度実施例および比較例で得られた光学積層体のハードコート層側表面について、JISK5400に準じて荷重500g、鉛筆硬度を評価した。3ハードコート層の密着性ハードコート層の基材フィルムに対する密着性を、JISK-5400の碁盤目剥離試験碁盤目数:100個に準じて評価した。4干渉ムラ1実施例および比較例で得られた光学積層体の基材フィルム側に、黒色アクリル板三菱レイヨン社製、厚み2mmをアクリル系粘着剤を介して貼着した後、3波長蛍光灯下で、干渉ムラを目視観察し、以下の基準で評価した。4:干渉ムラの発生無し3:少し干渉ムラの発生が認められるが、実用上の問題はない2:多くの干渉ムラの発生が認められる1:顕著な干渉ムラの発生が認められる5浸透層の厚み実施例および比較例で得られた光学積層体の基材層側に、黒色アクリル板三菱レイヨン社製、厚み2mmを、厚み20μmのアクリル系粘着剤を介して貼着した。次いで、ハードコート層の反射スペクトルを、瞬間マルチ測光システム大塚電子社製、商品名:MCPD3700を用いて以下の条件で測定し、FFTスペクトルのピーク位置から、ハードコート層浸透層の厚みを評価した。なお屈折率は、アタゴ社製のアッベ屈折率計商品名:DR-M2/1550を用い、中間液としてモノブロモナフタレンを選択して測定した。反射スペクトル測定条件リファレンス:ミラーアルゴリズム:FFT法計算波長:450nm~850nm検出条件露光時間:20msランプゲイン:ノーマル積算回数:10回FFT法膜厚値の範囲:2~15μm膜厚分解能:24nmまた、ハードコート層の厚みは、下記積層体Rについての上記反射スペクトル測定により評価した。積層体R:基材フィルムとしてPET基材東レ社製、商品名:U48-3、屈折率:1.60を用い、塗布層の加熱温度を60°Cとした以外は、実施例1と同様にして得た。なお、これらの積層体に用いられるPET基材には、ハードコート層形成用組成物が浸透しないので、積層体Rから得られるFFTスペクトルのピーク位置から、ハードコート層のみの厚みが測定される。当該評価の結果、ハードコート層の厚みは5.3μmであった。ハードコート層浸透層の厚み-ハードコート層の厚みから算出される正の値を浸透層の厚みとした。なお、当該定義式により負の値のみが算出される場合、浸透層は形成されていないと判断することができるとともに、当該負の値は基材フィルム形成材料がハードコート層中に溶出して形成される層の厚みであると判断することができる。また、FFTスペクトルのピークが2本検出されて、当該定義式により、正負2つの値が算出される場合、正の値が浸透層の厚みであると判断できる。6干渉ムラ2実施例および比較例で得られた光学積層体について、上記5の評価で測定したハードコート層の反射スペクトルの500nm~600nmの波長領域における振幅から、干渉ムラを評価した。<製造例1>基材フィルムAの作製特開2010-284840号公報の製造例1に記載のイミド化MS樹脂100重量部およびトリアジン系紫外線吸収剤アデカ社製、商品名:T-7120.62重量部を、2軸混練機にて220°Cにて混合し、樹脂ペレットを作製した。得られた樹脂ペレットを、100.5kPa、100°Cで12時間乾燥させ、単軸の押出機にてダイス温度270°CでTダイから押出してフィルム状に成形した厚み160μm。さらに当該フィルムを、その搬送方向に150°Cの雰囲気下に延伸し厚み80μm、次いでフィルム搬送方向と直交する方向に150°Cの雰囲気下に延伸して、厚み40μmの基材フィルムAメタアクリル系樹脂フィルムを得た。得られた基材フィルムA中のメタアクリル系樹脂の屈折率Nacrは1.50であった。得られた基材フィルムAの波長380nmの光の透過率は8.5、面内位相差Reは0.4nm、厚み方向位相差Rthは0.78nmであった。また、基材フィルムAの透湿度は、61g/m224hrであった。なお、光透過率は、日立ハイテク株社製の分光光度計装置名称;U-4100を用いて波長範囲200nm~800nmで透過率スペクトルを測定し、波長380nmにおける透過率を読み取った。また、位相差値は、王子計測機器株製商品名KOBRA21-ADHを用いて、波長590nm、23°Cで測定した。透湿度は、JISK0208に準じた方法により、温度40°C、相対湿度92の条件で測定した。<実施例1>下記組成からなる紫外線硬化型樹脂DIC社製、商品名:PC1070、固形分:66、溶媒:酢酸エチル、酢酸ブチル100部、ペンタエリスリトールトリアクリレートPETA大阪有機化学工業社製、商品名:ビスコート30040部、下記組成からなる重合性不飽和基を有するシリカ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂JSR社製、商品名:オプスターZ7540、固形分:56、溶媒:酢酸ブチル/メチルエチルケトン30部、光重合開始剤チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名:イルガキュア9073部、およびレベリング剤DIC社製、商品名:GRANDICPC-41005部を混合し、固形分濃度が50となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して、ハードコート層形成用組成物を調製した。製造例1で得られた基材フィルムA上に、得られたハードコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、当該塗布層を100°Cで1分間加熱した。加熱後の塗布層にメタルハライドランプにて積算光量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、基材層、ハードコート層および浸透層を形成し、光学積層体を得た。なお、上記紫外線硬化型樹脂商品名:PC1070中のメタアクリルポリマー官能基数:10以上の屈折率NAは1.53であり、上記有機無機ハイブリッド樹脂中のシリカ粒子の屈折率Nnanoは1.46であったすなわち、Nnano<Nacr<NAを満たした。得られた光学積層体を上記上記1~6の評価に供した。結果を下記表1に示す。また、上記5の評価で得られた実際のFFTスペクトルを図3Aに、反射スペクトルを図3Bに示す。紫外線硬化型樹脂商品名:PC1070の組成ペンタエリスリトール系アクリレートと水添キシレンジイソシアネートとから得られるウレタンアクリレート100部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート49部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート41部、ペンタエリスリトールトリアクリレート24部、2-ヒドロキシエチル基および2、3-ジヒドロキシプロピル基を有するメタアクリルポリマー分子量:3000、官能基数:10以上58部、光重合開始剤チバジャパン社製、商品名:イルガキュア184;BASF社製、商品名:ルシリンTPO有機無機ハイブリッド樹脂オプスターZ7540の組成ジペンタエリスリトール66部、イソホロンジイソシアネート系ポリウレタンアクリレート34部、シリカ微粒子重量平均粒径100nm以下150部、光重合開始剤チバジャパン社製、商品名:イルガキュア184<実施例2>紫外線硬化型樹脂DIC社製、商品名:PC1070、固形分:66、溶媒:酢酸エチル、酢酸ブチル100部およびペンタエリスリトールトリアクリレートPETA大阪有機化学工業社製、商品名:ビスコート30040部に代えて、9官能ウレタンアクリレートオリゴマーダイセルサイテック社製、商品名:KRM7804、重量平均分子量:300070部およびペンタエリスリトールトリアクリレートPETA大阪有機化学工業社製、商品名:ビスコート30030部を用いた以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。なお、上記9官能ウレタンアクリレートオリゴマー商品名:KRM7804の屈折率NAは1.53であったすなわち、Nnano<Nacr<NAを満たした。得られた光学積層体を上記1~6の評価に供した。結果を下記表1に示す。また、上記5の評価で得られた実際のFFTスペクトルを図4に示す。<実施例3>重合性不飽和基を有するシリカ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂JSR社製、商品名:オプスターZ7540、固形分:56、溶媒:酢酸ブチル/メチルエチルケトンの添加量30部を40部と以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記1~6の評価に供した。結果を下記表1に示す。<実施例4>重合性不飽和基を有するシリカ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂JSR社製、商品名:オプスターZ7540、固形分:56、溶媒:酢酸ブチル/メチルエチルケトンの添加量30部を50部と以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記1~6の評価に供した。結果を下記表1に示す。<比較例1>重合性不飽和基を有するシリカ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂JSR社製、商品名:オプスターZ7540、固形分:56、溶媒:酢酸ブチル/メチルエチルケトンを添加しなかった以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記1~6の評価に供した。結果を下記表1に示す。また、上記5の評価で得られた実際のFFTスペクトルを図5に示す。<比較例2>紫外線硬化型樹脂DIC社製、商品名:PC1070、固形分:66、溶媒:酢酸エチル、酢酸ブチル100部およびペンタエリスリトールトリアクリレートPETA大阪有機化学工業社製、商品名:ビスコート30040部に代えて、9官能ウレタンアクリレートオリゴマーダイセルサイテック社製、商品名:KRM7804、重量平均分子量:300070部およびペンタエリスリトールトリアクリレートPETA大阪有機化学工業社製、商品名:ビスコート30040部を用い、また、重合性不飽和基を有するシリカ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂JSR社製、商品名:オプスターZ7540、固形分:56、溶媒:酢酸ブチル/メチルエチルケトンを添加しなかった以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記1~6の評価に供した。結果を下記表1に示す。また、上記5の評価で得られた実際のFFTスペクトルを図6に示す。<比較例3>紫外線硬化型樹脂DIC社製、商品名:PC1070、固形分:66、溶媒:酢酸エチル、酢酸ブチル100部およびペンタエリスリトールトリアクリレートPETA大阪有機化学工業社製、商品名:ビスコート30040部に代えて、6官能ウレタンアクリレートオリゴマー日本合成化学社製、商品名:UV7600B、重量平均分子量:140050部とペンタエリスリトールトリアクリレートPETA大阪有機化学工業社製、商品名:ビスコート30050部を用いた以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記1~6の評価に供した。結果を下記表1に示す。<比較例4>紫外線硬化型樹脂DIC社製、商品名:PC1070、固形分:66、溶媒:酢酸エチル、酢酸ブチル100部およびペンタエリスリトールトリアクリレートPETA大阪有機化学工業社製、商品名:ビスコート30040部に代えて、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート新中村化学社製、商品名:A-DPH、重量平均分子量:140050部およびペンタエリスリトールトリアクリレートPETA大阪有機化学工業社製、商品名:ビスコート30050部を用いた以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記1~6の評価に供した。結果を下記表1に示す。表1から明らかなように、アクリル系樹脂フィルム上に、9個以上のラジカル重合性不飽和基を有する化合物Aと無機ナノ粒子とを含むハードコート層形成用組成物塗工して、ハードコート層と浸透層とを形成することにより、低透湿性のメタアクリル系樹脂フィルム基材フィルムを用いても、メタアクリル系樹脂フィルム基材フィルムとハードコート層との密着性およびハードコート層の耐擦傷性の両方に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。また、本発明の光学積層体のFFTスペクトル測定結果図3Aおよび図4における1000nm~3000nmのピークは、比較例の測定結果比較例1図5および比較例2図6に比べて、小さくなっている。当該ピークは、ハードコート層中のブロック層以外の層とブロック層とによる界面での反射に対応している。したがって、上記測定結果は、ハードコート層中に無機ナノ粒子を有する本発明の光学積層体では、当該界面での反射が低減されていることを示す。当該界面での反射が低減された結果、上記のように、干渉ムラが抑制される。"