遠心過給器のタービンより下流の排気通路からコンプレッサより上流の吸気通路へ排気の一部を導くEGR通路を具備するLPL-EGRシステムと、前記EGR通路の接続部位より下流の排気通路に配置される選択還元型触媒と、前記EGR通路の接続部位より上流の排気通路に配置される還元剤添加弁と、前記還元剤添加弁より上流の排気通路から前記EGR通路に至るバイパス通路と、前記バイパス通路と前記EGR通路の接続部位に配置され、該接続部位より上流のEGR通路である第1EGR通路または該接続部位より下流のEGR通路である第2EGR通路の何れか一方を前記バイパス通路と導通させる流路切換弁と、を備える内燃機関の排気浄化装置。請求項1において、前記LPL-EGRシステムにより排気通路から吸気通路へ排気の一部を導く場合に、前記第2EGR通路と前記バイパス通路が導通するように、前記流路を制御する制御部をさらに備える内燃機関の排気浄化装置。ところで、上記した従来技術のように、EGRガスの取り出し部位より下流の排気通路に還元剤添加弁が配置されると、還元剤添加弁から選択還元型触媒までの距離が短くなる可能性がある。特に、乗用車のように搭載スペースが小さい自動車にSCRシステムとLPL-EGRシステムを搭載する場合は、還元剤添加弁から選択還元型触媒へ至る距離が短くなり易い。還元剤添加弁から選択還元型触媒までの距離が短くなると、還元剤が十分に気化しなかったり、還元剤と排気が均質に混合されなかったりする可能性がある。これに対し、還元剤添加弁をEGRガスの取り出し部位より上流の排気通路に配置することにより、還元剤添加弁から選択還元型触媒までの距離を長くする方法が考えられるが、還元剤添加弁から排気中へ添加された還元剤の一部がEGR通路を介して吸気通路に導かれてしまい、選択還元型触媒へ供給される還元剤が過少となる可能性がある。また、還元剤添加弁をEGRガスの取り出し部位より上流の排気通路に配置する構成において、還元剤添加弁から排気中へ還元剤を添加するときにEGR弁を閉弁する方法や、EGR弁を閉弁するときに還元剤添加弁から還元剤を添加させる方法、などが考えられる。しかしながら、上記した方法によれば、還元剤の添加時期が制限されたり、LPL-EGRの作動時期が制限されたりするという問題がある。還元剤の添加時期が制限されると、選択還元型触媒で浄化されずに大気中へ排出される窒素酸化物NOXの量が多くなる可能性がある。一方、LPL-EGRシステムの作動時期が制限されると、内燃機関から排出される窒素酸化物NOXの量が多くなる可能性がある。本発明は、上記したような実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、LPL-EGRシステムとSCRシステムを備えた内燃機関の排気浄化装置において、還元剤の添加時期やLPL-EGRシステムの作動時期を制限することなく還元剤が吸気通路へ流入する事態を回避することができるとともに、還元剤添加弁から選択還元型触媒までの距離を稼ぐことができる技術の提供にある。本発明は、上記した課題を解決するために、以下のような手段を採用した。すなわち、本発明の内燃機関の排気浄化装置は、遠心過給器のタービンより下流の排気通路からコンプレッサより上流の吸気通路へ排気の一部を導くEGR通路を具備するLPL-EGRシステムと、前記EGR通路の接続部位より下流の排気通路に配置される選択還元型触媒と、前記EGR通路の接続部位より上流の排気通路に配置される還元剤添加弁と、前記還元剤添加弁より上流の排気通路から前記EGR通路に至るバイパス通路と、前記バイパス通路と前記EGR通路の接続部位に配置され、該接続部位より上流のEGR通路である第1位通路または該接続部位より下流のEGR通路である第2EGR通路の何れか一方を前記バイパス通路と導通させる流路切換弁と、を備えるようにした。上記した内燃機関の排気浄化装置において、流路切換弁が第1EGR通路とバイパス通路を導通させると、第2EGR通路は遮断された状態になる。その結果、排気の一部がバイパス通路及び第1EGR通路を経て選択還元型触媒へ流入し、残りの排気がバイパス通路の接続部位と選択還元型触媒との間に位置する排気通路以下、被バイパス部と称するを経て選択還元型触媒に流入する。上記した経路が成立しているときに、還元剤添加弁から還元剤の添加が行われると、還元剤の全てが選択還元型触媒へ導かれることになる。したがって、排気通路から吸気通路へ排気の一部を導く必要がないときに、還元剤添加弁から還元剤が添加されても、還元剤の一部がEGR通路を介して吸気通路に導かれる事態を回避することができるとともに、全ての還元剤を選択還元型触媒へ流入させることができる。また、流路切換弁が第2EGR通路とバイパス通路を導通させると、第1EGR通路は遮断された状態になる。その結果、排気の一部がバイパス通路及び第2EGR通路を経て吸気通路に流入し、残りの排気が排気通路の被バイパス部を経て選択還元型触媒に流入する。上記した経路が成立しているときに、還元剤添加弁から還元剤の添加が行われると、還元剤の全てが排気通路の被バイパス部を通って選択還元型触媒へ導かれることになる。したがって、排気通路から吸気通路へ排気の一部を導く必要があるときに、還元剤添加弁から還元剤が添加されても、還元剤の一部がEGR通路を介して吸気通路に導かれる事態を回避することができるとともに、全ての還元剤を選択還元型触媒へ流入させることができる。このような内燃機関の排気浄化装置によれば、EGR通路の接続部位より上流の排気通路に還元剤添加弁が配置される場合において、LPL-EGRシステムの作動時期や還元剤の添加時期を制限することなく、還元剤の一部が吸気通路へ導かれる事態を回避することができる。その結果、選択還元型触媒へ供給される還元剤の量が過少になる事態を避けつつ、還元剤添加弁から選択還元型触媒までの距離を稼ぐことができる。本発明にかかる内燃機関の排気浄化装置は、排気通路から吸気通路へ排気の一部を導入するときに、バイパス通路と第2EGR通路が導通するように、流路切換弁を制御する制御部を備えるようにしてもよい。このような構成によれば、排気通路から吸気通路へ排気の一部が導入されているときに、還元剤添加弁から排気中へ還元剤が添加されても、還元剤が吸気通路へ流入する事態を回避することができる。すなわち、還元剤添加弁から排気中へ添加された還元剤の全てを選択還元型触媒へ流入させることができる。その結果、選択還元型触媒へ流入する還元剤が過少となる事態を回避することができる。なお、制御部は、排気通路から吸気通路へ排気の一部を導入する必要がないときEGRガスの非利用時は、バイパス通路と第1EGR通路が導通するように、流路切換弁を制御すればよい。その場合、還元剤添加弁から添加された還元剤が第2EGR通路へ流入することがないため、全ての還元剤を選択還元型触媒へ流入させることができる。さらに、排気通路の被バイパス部と第1EGR通路との接続部分において、双方の通路を流れる排気が相互に合流するため、排気の流れに乱れが発生する。その結果、排気と還元剤との混合が促進される。本発明によれば、LPL-EGRシステムとSCRシステムを備えた内燃機関の排気浄化装置において、還元剤の添加時期やLPL-EGRシステムの作動時期を制限することなく還元剤がEGR通路へ流入する事態を回避することができるとともに、還元剤添加弁から選択還元型触媒までの距離を稼ぐことができる。以下、本発明の具体的な実施形態について図面に基づいて説明する。本実施形態に記載される構成部品の寸法、材質、形状、相対配置等は、特に記載がない限り発明の技術的範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。図1は、本発明を適用する内燃機関の吸排気系の概略構成を示す図である。図1に示す内燃機関1は、軽油を主燃料とする圧縮着火式の内燃機関ディーゼルエンジン若しくはガソリンを主燃料とする火花点火式の内燃機関ガソリンエンジンである。内燃機関1には、吸気通路2が接続されている。吸気通路2は、大気中から取り込んだ新気空気を内燃機関1へ導くための通路である。吸気通路2の途中には、遠心過給機ターボチャージャ3のコンプレッサ30が配置されている。コンプレッサ30より上流の吸気通路2には、該吸気通路2の通路断面積を変更する吸気絞り弁4が配置されている。また、内燃機関1には、排気通路5が接続されている。排気通路5は、内燃機関1の気筒内で燃焼されたガス排気を後述する排気浄化装置などに導くための通路である。排気通路5の途中には、ターボチャージャ3のタービン31が配置されている。タービン31より下流の排気通路5には、第1排気浄化装置6が配置されている。第1排気浄化装置6は、円筒状のケーシング内にパティキュレートフィルタや酸化触媒などを収容した装置である。第1排気浄化装置6より下流の排気通路5には、第2排気浄化装置7が配置されている。第2排気浄化装置7は、円筒状のケーシング内に選択還元型触媒や酸化触媒などを収容した装置である。第1排気浄化装置6より下流、且つ第2排気浄化装置7より上流の排気通路5には、還元剤添加弁9が取り付けられている。還元剤添加弁9は、アンモニア由来の還元剤を排気通路5内へ噴射する噴射弁である。ここで、アンモニア由来の還元剤としては、尿素やカルバミン酸アンモニウムなどの水溶液を用いることができる。本実施例では、アンモニア由来の還元剤として、尿素水溶液を用いるものとする。還元剤添加弁9から排気通路5内へ噴射された尿素水溶液は、排気とともに第2排気浄化装置7へ流入する。その際、尿素水溶液が排気の熱を受けて熱分解又は加水分解される。尿素水溶液が熱分解又は加水分解されると、アンモニアNH3が生成される。このようにして生成されたアンモニアNH3は、第2排気浄化装置7の選択還元型触媒に吸着又は吸蔵される。選択還元型触媒に吸着又は吸蔵されたアンモニアNH3は、排気中に含まれる窒素酸化物NOXと反応して窒素N2や水H2Oを生成する。つまり、アンモニアNH3は、窒素酸化物NOXの還元剤として機能する。また、第1排気浄化装置6より下流、且つ第2排気浄化装置7より上流の排気通路5には、低圧EGR通路8の基端が接続されている。低圧EGR通路8の終端は、吸気絞り弁4より下流、且つコンプレッサ30より上流の吸気通路2に接続されている。低圧EGR通路8は、排気通路5から吸気通路2へ排気の一部EGRガスを導くための通路である。低圧EGR通路8の途中には、低圧EGR弁80とEGRクーラ81が配置されている。低圧EGR弁80は、低圧EGR通路8の通路断面積を変更する弁機構であって、低圧EGR通路8を流れるEGRガス量を調整する弁機構である。EGRクーラ81は、低圧EGR通路8を流れるEGRガスを冷却する機器であり、たとえばEGRガスと冷却水との間で熱交換を行わせる熱交換器である。なお、低圧EGR通路8、低圧EGR弁80、及びEGRクーラ81は、LPL-EGRシステムの構成要素である。ところで、低圧EGR通路8の接続部位より下流の排気通路5に還元剤添加弁9が配置されると、還元剤添加弁9から選択還元型触媒までの距離が短くなる可能性がある。還元剤添加弁9から選択還元型触媒までの距離が短くなると、還元剤添加弁9から噴射された尿素水溶液が熱分解又は加水分解される前に選択還元型触媒へ流入したり、アンモニアNH3が排気と均質に混合する前に選択還元型触媒へ流入したりする可能性がある。それらの場合、選択還元型触媒の一部にアンモニアNH3が密集してしまい、選択還元型触媒のNOX浄化能力を十分に発揮させることができなくなる可能性がある。一方、低圧EGR通路8の接続部位より上流の排気通路5に還元剤添加弁9が配置されると、LPL-EGRシステムの作動時期低圧EGR弁80の開弁により排気通路5と吸気通路2が導通される時期と尿素水溶液の添加時期還元剤添加弁9が尿素水溶液を噴射する時期とが重複した場合に、尿素水溶液の一部が排気通路5から低圧EGR通路8を介して吸気通路2へ流入する可能性がある。その結果、低圧EGR通路8、EGRクーラ81、低圧EGR弁80などにアンモニア由来の固形物が付着或いは堆積したり、選択還元型触媒へ供給されるアンモニアNH3の量が過少となったりする虞がある。これに対し、本実施例の内燃機関の排気浄化装置は、低圧EGR通路8の接続部位より上流に還元剤添加弁9を配置することにより還元剤添加弁9から選択還元型触媒までの距離を稼ぐとともに、還元剤添加弁9より上流の排気通路から還元剤添加弁9を迂回して低圧EGR通路8に至るバイパス通路10と該バイパス通路10の導通先を切り換える流路切換弁11とを設けることにより尿素水溶液が吸気通路2やEGRクーラ81等に流入しないようにした。詳細には、流路切換弁11は、バイパス通路10と低圧EGR通路8との接続部位に設けられ、バイパス通路10の接続部位より上流の低圧EGR通路8以下、第1EGR通路8aと称する又はバイパス通路10の接続部位より下流の低圧EGR通路8以下、第2EGR通路8bと称するの何れか一方をバイパス通路10と導通させる三方切換弁である。なお、前記した流路切換弁11は、電子制御ユニットECU12により電気的に制御されるようになっている。ECU12は、内燃機関1の運転状態燃料噴射量、燃料噴射時期、点火時期などの制御に加え、前記した吸気絞り弁4、低圧EGR弁80、還元剤添加弁9を電気的に制御するものである。以下、ECU12による流路切換弁11の制御手順について述べる。先ず、内燃機関1の運転条件がLPL-EGRシステムの作動領域に属さない場合は、ECU12は、第1EGR通路8aがバイパス通路10と導通するように流路切換弁11を制御する。その場合、図2に示すように、バイパス通路10と第1EGR通路8aが導通状態になると同時に、第2EGR通路8bが遮断される。その結果、図2中の一点鎖線の矢印が示すように、第1排気浄化装置6から流出した排気の一部はバイパス通路10及び第1EGR通路8aを経て第2排気浄化装置7へ流入し、残りの排気はバイパス通路10の接続部位と低圧EGR通路8の接続部位との間の排気通路被バイパス部50を通って第2排気浄化装置7に流入する。図2に示すような経路が成立しているときは、排気通路5と吸気通路2が非導通状態になるため、排気通路5から吸気通路2へEGRガスが流れることはない。よって、図2に示すような経路が成立しているときに、還元剤添加弁9から尿素水溶液が噴射されても、尿素水溶液が吸気通路2へ流れ込まなくなる。その結果、尿素水溶液の全てが選択還元型触媒へ流入するようになる。さらに、低圧EGR通路8と排気通路5との接続部位において排気が合流した際に、排気の流れに乱れが生じるため、尿素水溶液又はアンモニアNH3と排気との混合が促進される。なお、バイパス通路10がEGRクーラ81より上流の低圧EGR通路8に接続されれば、低圧EGR弁80やEGRクーラ81にアンモニア由来の固形物が付着又は堆積する事態を回避することもできる。次に、内燃機関1の運転条件がLPL-EGRシステムの作動領域に属する場合は、ECU12は、第2EGR通路8bがバイパス通路10と導通するように流路切換弁11を制御する。その場合、図3に示すように、バイパス通路10と第2EGR通路8bが導通状態になると同時に、第1EGR通路8aが遮断される。その結果、図3中の一点鎖線の矢印が示すように、第1排気浄化装置6から流出した排気の一部はバイパス通路10及び第2EGR通路8bを経て吸気通路2へ導かれ、残りの排気は排気通路5の被バイパス部50を通って第2排気浄化装置7に流入する。図3に示すような経路が成立しているときは、還元剤添加弁9より上流の排気通路5からEGRガスが取り出されるため、還元剤添加弁9が配置された部位を通過した排気がEGRガスとして取り出されることがない。よって、図3に示すような経路が成立しているときに、還元剤添加弁9から尿素水溶液が噴射されても、尿素水溶液が吸気通路2へ流れ込まなくなる。その結果、尿素水溶液の全てが選択還元型触媒へ流入するようになる。以上述べた実施例によれば、低圧EGR通路8の接続部位より上流の排気通路5に還元剤添加弁9が配置された場合に、LPL-EGRシステムの作動時期と尿素水溶液の点火時期とが重複しても、還元剤添加弁9から噴射された尿素水溶液の一部が低圧EGR通路8を介して吸気通路2に流れこむ事態を回避することができる。その結果、還元剤添加弁9から選択還元型触媒までの距離を稼ぎつつ、還元剤添加弁9から噴射された尿素水溶液の全てを選択還元型触媒へ流入させることができる。なお、本実施例では、LPL-EGRシステムを備えた内燃機関を例に挙げたが、LPL-EGRシステムに加え、タービン31より上流の排気通路5からコンプレッサ30より下流の吸気通路2へ排気の一部を導くHPL-EGRシステムを備えた内燃機関にも適用することができる。