"有機溶剤と、金属イオン不含ケイ酸塩とを含有しない、水性アルカリ性洗浄組成物であって、前記組成物は、A少なくとも1つの第一アミノ基および少なくとも1つのメルカプト基を有する少なくとも1つのチオアミノ酸、B少なくとも1つの第四級アンモニウム水酸化物、C少なくとも2つの第一アミノ基を有する脂肪族および脂環式アミン、ならびに少なくとも1つの水酸基を有する脂肪族および脂環式アミンからなる群から選択される少なくとも1つのキレート剤および/または腐食防止剤、Dアセチレンアルコール、アルキルオキシ化されたアセチレンアルコールおよびアルキルオキシ化されたソルビタンモノカルボン酸モノエステルの群から選択される少なくとも1つの非イオン性界面活性剤を有する、水性アルカリ性洗浄組成物。アミノ酸Aは、以下の一般式I:[式中、nは1~3の整数であり;R1およびR2は、-水素原子;-直鎖のおよび分岐した、飽和および不飽和の、置換および非置換の1~10の炭素原子を有する脂肪族残基;-置換および非置換の、飽和および不飽和の、3~8の炭素原子を有する脂環式残基;-置換および非置換の、飽和および不飽和のアルキルシクロアルキル残基であって、その際、アルキル基が1~4の炭素原子を有し、かつシクロアルキル基が3~8の炭素原子を有する;-6~16の炭素原子を有する、置換および非置換のアリール;-置換および非置換のアルキルアリール残基であって、その際、アルキル基が1~4の炭素原子を有し、かつアリール基が6~16の炭素原子を有する;-置換および非置換のシクロアルキルアリール残基であって、その際、シクロアルキル基が3~8の炭素原子を有し、かつアリール基が6~16の炭素原子を有する;-置換および非置換のヘテロアリール残基であって、ここで当該ヘテロアリール残基は、酸素、硫黄、窒素およびリン原子からなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子を有するものであり;-置換および非置換のアルキルヘテロアリール残基であって、その際、アルキル基が1~4の炭素原子を有し、かつヘテロアリール基が酸素、硫黄、窒素およびリン原子からなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子を有する;-置換および非置換のシクロアルキルヘテロアリール残基であって、その際、シクロアルキル基が3~8の炭素原子を有し、かつヘテロアリール基が酸素、硫黄、窒素およびリン原子からなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子を有する;-置換および非置換のアリールヘテロアリール残基であって、その際、アリール基が6~16の炭素原子を有し、かつヘテロアリール基が酸素、硫黄、窒素およびリン原子からなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子を有する;からなる群から互いに独立して選択されるか、あるいは、R1およびR2は、互いに一緒になって、飽和または不飽和、置換または非置換の3~6の炭素原子を有する環を形成し、その際、炭素原子は置換されていないか、あるいは1または2つの炭素原子が酸素、硫黄、窒素およびリン原子からなる群から選択される1つのヘテロ原子により置換されており;R3は、R1もしくはR2の単一の残基、あるいは共有結合、あるいは残基R1もしくはR2の1つまたは残基R1とR2により形成された環に対してアミノ基およびカルボキシル基を有する炭素原子をつなげる二価の基である]を有する、請求項1に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。チオアミノ酸Aは、ラセミもしくはエナンチオマーの混合物であるか、または各エナンチオマーもしくはジアステレオマーのいずれかである、請求項2に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。残基R1、R2およびR3の少なくとも1つは水素原子である、請求項3に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。チオアミノ酸Aの残基R1、R2およびR3の全てが水素原子である、請求項4に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。チオアミノ酸Aは、L-システインである、請求項5に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。第四級アンモニウム水酸化物Bは、以下の一般式II:[式中、残基R1は、水素元素を除いた上述で定義した意味を有し、一方で全ての残基R1は、同じであるか、あるいは少なくとも2つの残基R1は互いに異なっており、かつ全ての残基R1は単一の残基であるか、あるいは少なくとも2つの残基R1は、飽和または不飽和、置換または非置換の3~6の炭素原子を有する環を形成し、その際、炭素原子は置換されていないか、あるいは1または2つの炭素原子が酸素、硫黄、窒素およびリン原子の群から選択される1つのヘテロ原子により置換されている]を有する、請求項1~6のいずれか1項に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。一般式IIの残基R1は、メチルである、請求項7に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。少なくとも2つの第一アミノ基を有する脂肪族アミンCは、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、n-ブチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ジプロピレントリアミン、ジ-n-ブチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、トリプロピレンテトラアミンおよびトリ-n-ブチレンテトラアミンからなる群から選択され;脂環式アミンCは、1,2-ジアミノシクロヘキサン、1,3-ジアミノシクロヘキサンおよび1,4-ジアミノシクロヘキサンからなる群から選択され;少なくとも1つの水酸基を有する脂肪族アミンCは、エタノールアミン、ジエタノールアミンおよびトリエタノールアミンからなる群から選択され;ならびに、少なくとも1つの水酸基を有する脂環式アミンCは、2-ヒドロキシシクロヘキシルアミン、3-ヒドロキシシクロヘキシルアミンおよび4-ヒドロキシシクロヘキシルアミンからなる群から選択される、請求項1~8のいずれか1項に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。非イオン性界面活性剤Dは、アセチレンモノアルコールおよびジオール;アルキルオキシ化されたアセチレンモノアルコールおよびジオール;ならびにアルキルオキシ化されたソルビタンモノカルボン酸脂肪酸モノエステルからなる群から選択される、請求項1~9のいずれか1項に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。成分A、B、CおよびDとは異なる少なくとも1つの機能性添加剤Eをさらに有する、請求項1~10のいずれか1項に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。機能性添加剤Eは、腐食防止剤、塩基、錯化剤またはキレート剤、被膜剤、界面活性剤ならびにpH調整剤からなる群から選択される、請求項11に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。基板の表面を、少なくとも1回は請求項1~12のいずれか1項に記載の少なくとも1つの水性アルカリ性洗浄組成物と接触させる加工工程を有する、電気デバイスおよび光学デバイスの製造に有益な基板を製造する方法。加工工程は、表面処理工程、めっき前洗浄工程、ポストエッチ洗浄工程または化学研磨後洗浄工程の少なくとも1つである、請求項13記載の方法。電気デバイスは、半導体集積回路ICs;液晶パネル;有機エレクトロルミネセントパネル;プリント回路基板;マイクロマシン;DNAチップ;マイクロプラントおよび磁気ヘッドであり、かつ光学デバイスは、光学ガラス;無機導電性膜;光集積回路;光スイッチング素子;光導波路;光学単結晶;固体レーザー単結晶;青色レーザーLED用のサファイア基板;半導体単結晶;および磁気ディスク用のガラス基板である、請求項13または14記載の方法。電気デバイスおよび光学デバイスの製造に有益な基板を製造するための請求項1~12のいずれか1項に記載の水性アルカリ性洗浄組成物の使用。基板の表面処理、めっき前洗浄、ポストエッチ洗浄および化学機械研磨後洗浄のための請求項16記載の使用。"