"A過酸化水素、B硝酸、Cフッ素イオン供給源、Dアゾール類、E第四級アンモニウムヒドロキシド及びF過酸化水素安定剤を含み、pHが1.5~2.5である銅層及びチタン層を含む多層薄膜用エッチング液。Cフッ素イオン供給源が、フッ化アンモニウム及び/又は酸性フッ化アンモニウムである請求項1に記載のエッチング液。Dアゾール類が、5-アミノ-1H-テトラゾールである請求項1又は2に記載のエッチング液。E第四級アンモニウムヒドロキシドが、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド及び/又はヒドロキシアルキルトリアルキルアンモニウムヒドロキシドである請求項1~3のいずれかに記載のエッチング液。F過酸化水素安定剤が、フェニル尿素及び/又はフェノールスルホン酸である請求項1~4のいずれかに記載のエッチング液。A過酸化水素を4.5~7.5質量、B硝酸を3~6質量、Cフッ素イオン供給源を0.1~0.5質量、Dアゾール類を0.1~0.5質量、E第四級アンモニウムヒドロキシドを3~6質量、F過酸化水素安定剤を0.01~0.1質量を含む請求項1~5のいずれかに記載のエッチング液。多層薄膜が、チタン層上に銅層が積層したものである請求項1~6のいずれかに記載のエッチング液。エッチング対象物を請求項1~6のいずれかに記載のエッチング液に接触させることを特徴とする銅層及びチタン層を含む多層薄膜のエッチング方法。多層薄膜が、チタン層上に銅層が積層したものである請求項8に記載のエッチング方法。本発明は、このような状況下になされたもので、銅層及びチタン層を含む多層薄膜用エッチング液及びこれを用いた銅層及びチタン層を含む多層薄膜のエッチング方法を提供することを目的とするものである。本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、エッチング液において、A過酸化水素、B硝酸、Cフッ素イオン供給源、Dアゾール類、E第四級アンモニウムヒドロキシド及びF過酸化水素安定剤という特定の組合せで配合することにより、その目的を達成し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。すなわち、本発明の要旨は下記のとおりである。[1]A過酸化水素、B硝酸、Cフッ素イオン供給源、Dアゾール類、E第四級アンモニウムヒドロキシド及びF過酸化水素安定剤を含み、pHが1.5~2.5である銅層及びチタン層を含む多層薄膜用エッチング液。[2]Cフッ素イオン供給源が、フッ化アンモニウム及び/又は酸性フッ化アンモニウムである上記1に記載のエッチング液。[3]Dアゾール類が、5-アミノ-1H-テトラゾールである上記1又は2に記載のエッチング液。[4]E第四級アンモニウムヒドロキシドが、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド及び/又はヒドロキシアルキルトリアルキルアンモニウムヒドロキシドである上記1~3のいずれかに記載のエッチング液。[5]F過酸化水素安定剤が、フェニル尿素及び/又はフェノールスルホン酸である上記1~4のいずれかに記載のエッチング液。[6]A過酸化水素を4.5~7.5質量、B硝酸を3~6質量、Cフッ素イオン供給源を0.1~0.5質量、Dアゾール類を0.1~0.5質量、E第四級アンモニウムヒドロキシドを3~6質量、F過酸化水素安定剤を0.01~0.1質量を含む上記1~5のいずれかに記載のエッチング液。[7]多層薄膜が、チタン層上に銅層が積層したものである上記1~6のいずれかに記載のエッチング液。[8]エッチング対象物を上記1~6のいずれかに記載のエッチング液に接触させることを特徴とする銅層及びチタン層を含む多層薄膜のエッチング方法。[9]多層薄膜が、チタン層上に銅層が積層したものである上記8に記載のエッチング方法。本発明によれば、銅層及びチタン層を含む多層薄膜のエッチング工程において、加工精度が高く、エッチング残渣やむらが少なく、バスライフが長く、かつエッチング後の良好な配線形状を得ることでディスプレイの大型化及び高解像度化に対応しうるエッチング液、及びこれを用いた銅層及びチタン層を含む多層薄膜のエッチング方法を提供することができる。また、当該エッチング方法により、銅層及びチタン層を含む多層薄膜を有する配線を、一括でエッチングを行うことができるので、高い生産性で得ることができ、かつエッチング後の配線形状を良好とすることができる。[銅層及びチタン層を含む多層薄膜用エッチング液]本発明のエッチング液は、銅層及びチタン層を含む多層薄膜のエッチングに用いられ、A過酸化水素、B硝酸、Cフッ素イオン供給源、Dアゾール類、E第四級アンモニウムヒドロキシド及びF過酸化水素安定剤を含み、pHが1.5~2.5であることを特徴とするものである。《A過酸化水素》本発明のエッチング液で用いられる過酸化水素は酸化剤として銅配線を酸化する機能を有し、該エッチング液中の含有量は、3~10質量が好ましく、4.5~7.5質量がより好ましい。過酸化水素の含有量が上記の範囲内であれば、適度なエッチング速度が確保できるので、エッチング量の制御が容易となり、かつ銅配線の局所腐食を生じることがないので好ましい。《B硝酸》本発明のエッチング液で用いられる硝酸は、A過酸化水素により酸化した銅の溶解に寄与するものであり、該エッチング液中の含有量は、2~10質量が好ましく、3~6質量がより好ましい。硝酸の含有量が上記の範囲内であれば、適度なエッチング速度が得られ、かつ良好なエッチング後の配線形状を得ることができる。また、本発明のエッチング液では、硝酸以外の鉱酸、例えばリン酸、硫酸などを、本発明のエッチング液の効果を阻害しない範囲で用いることもできる。《Cフッ素イオン供給源》本発明のエッチング液で用いられるフッ素イオン供給源は、チタン系金属からなるバリア膜のエッチングに寄与するものであり、該エッチング液中の含有量は、0.05~1質量が好ましく、0.1~0.5質量がより好ましい。フッ素イオン供給源の含有量が上記範囲内であれば、ガラス等の基板の腐食速度が増大することなく、良好なチタン系金属からなるバリア膜のエッチング速度を得ることができる。フッ素イオン供給源としては、エッチング液中でフッ素イオンを発生するものであれば特に制限はないが、フッ化水素酸、フッ化アンモニウム、酸性フッ化アンモニウムなどが好ましく挙げられ、これらを単独で又は複数を組み合わせて使用することができる。これらのなかでも、低毒性である観点から、フッ化アンモニウム及び/又は酸性フッ化アンモニウムがより好ましい。《Dアゾール類》本発明のエッチング液で用いられるアゾール類としては、1,2,4-トリアゾール、1H-ベンゾトリアゾール、5-メチル-1H-ベンゾトリアゾール、3-アミノ-1H-トリアゾールなどのトリアゾール類;1H-テトラゾール、5-メチル-1H-テトラゾール、5-フェニル-1H-テトラゾール、5-アミノ-1H-テトラゾールなどのテトラゾール類;1,3-チアゾール、4-メチルチアゾールなどのチアゾール類などが好ましく挙げられる。これらのうち、テトラゾール類が好ましく、なかでも5-アミノ-1H-テトラゾールが好ましい。エッチング液中のアゾール類の含有量は、0.05~1質量が好ましく、0.1~0.5質量がより好ましい。アゾール類の含有量が上記範囲内であれば、銅配線のエッチング速度を適度に制御することが可能であり、良好なエッチング後の配線形状を得ることができる。《E第四級アンモニウムヒドロキシド》本発明のエッチング液で用いられる第四級アンモニウムヒドロキシドとしては、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、ヒドロキシアルキルトリアルキルアンモニウムヒドロキシドが好ましく挙げられる。ここで、アルキル基としては、炭素数1~8の直鎖状、枝分かれ状、環状のいずれであってもよく、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが好ましく挙げられる。これらのアルキル基は同じでも異なっていてもよく、バスライフを長くする観点から、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。すなわち、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシドとしてはテトラメチルアンモニウムヒドロキシドが、ヒドロキシアルキルトリアルキルアンモニウムヒドロキシドとしては2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシドが好ましい。また、本発明においては、これらを単独で、又は複数を組み合わせて使用することができる。エッチング液中の第四級アンモニウムヒドロキシドの含有量は、2~10質量が好ましく、3~6質量がより好ましい。第四級アンモニウムヒドロキシドの含有量が上記範囲内であれば、バスライフが十分長いものとなる。《F過酸化水素安定剤》本発明のエッチング液は、過酸化水素安定剤を含有する。過酸化水素安定剤としては、通常過酸化水素安定剤として用いられるものであれば制限なく使用することが可能であるが、フェニル尿素、アリル尿素、1,3-ジメチル尿素、チオ尿素などの尿素系過酸化水素安定剤のほか、フェニル酢酸アミド、フェニルエチレングリコール、フェノ-ルスルホン酸などが好ましく挙げられ、なかでもフェニル尿素、フェノールスルホン酸が好ましい。また、本発明においては、これらを単独で、又は複数を組み合わせて使用することができる。本発明のエッチング液中のF過酸化水素安定剤の含有量は、その添加効果を十分に得る観点から、0.01~0.1質量が好ましい。《pH》本発明のエッチング液は、pH1.5~2.5であることを要する。pH1.5未満であるとエッチング速度が速くなりすぎるため、銅配線の局所腐食が発生し、銅配線にエッチング斑などが形成してしまうことがある。また、pH2.5よりも大きいと、A過酸化水素の安定性が低下し、銅配線のエッチング速度が減少し、バスライフも減少してしまう。《その他の成分》本発明のエッチング液は、上記したA~F成分のほか、水、その他エッチング液に通常用いられる各種添加剤をエッチング液の効果を害しない範囲で含む。水としては、蒸留、イオン交換処理、フィルター処理、各種吸着処理などによって、金属イオンや有機不純物、パーティクル粒子などが除去されたものが好ましく、特に純水、超純水が好ましい。[銅層及びチタン層を含む多層薄膜のエッチング方法]本発明のエッチング方法は、銅層及びチタン層を含む多層薄膜をエッチングする方法であり、本発明のエッチング液、すなわちA過酸化水素、B硝酸、Cフッ素イオン供給源、Dアゾール類、E第四級アンモニウムヒドロキシド及びF過酸化水素安定剤を含み、pHが1.5~2.5である銅層及びチタン層を含む多層薄膜用エッチング液を用いることを特徴とし、エッチング対象物と本発明のエッチング液とを接触させる工程を有するものである。また、本発明のエッチング方法により、銅層及びチタン層を含む多層薄膜を一括でエッチングを行うことができ、かつエッチング後の良好な配線形状を得ることができる。本発明のエッチング方法において、エッチング液は、例えば、図1に示されるような、ガラス等の基板上に、チタン系材料からなるバリア膜チタン層と銅又は銅を主成分とする材料からなる銅配線銅層とを順に積層してなる銅層及びチタン層を含む多層薄膜上に、さらにレジストを塗布し、所望のパターンマスクを露光転写し、現像して所望のレジストパターンを形成したものをエッチング対象物とするものである。ここで、本発明においては、銅層及びチタン層を含む多層薄膜は、図1のようにチタン層の上に銅層が存在する態様をはじめとし、銅層の上にチタン層が存在する態様も含まれる。本発明のエッチング方法においては、図1に示されるようなチタン層の上に銅層が存在するエッチング対象物が、本発明のエッチング液の性能が有効に発揮される観点から、好ましい。また、このような銅層及びチタン層を含む多層薄膜は、フラットパネルディスプレイ等の表示デバイスなどの配線に好ましく用いられるものである。よって、チタン層の上に銅層が存在するエッチング対象物は、利用分野の観点からも、好ましい態様である。銅配線は、銅又は銅を主成分とする材料により形成されていれば特に制限はなく、当該バリア膜を形成するチタン系材料としては、Tiチタン及びその窒化物であるTiN窒化チタンが挙げられる。エッチング対象物にエッチング液を接触させる方法には特に制限はなく、例えばエッチング液を滴下枚葉スピン処理やスプレーなどの形式により対象物に接触させる方法や、対象物をエッチング液に浸漬させる方法などの湿式ウェットエッチング方法を採用することができる。本発明においては、エッチング液を対象物にスプレーして接触させる方法が好ましく採用される。エッチング液の使用温度としては、10~70°Cが好ましく、特に20~50°Cが好ましい。エッチング液の温度が10°C以上であれば、エッチング速度が遅くなりすぎないので、生産効率が著しく低下することがない。一方、70°C以下の温度であれば、液組成変化を抑制し、エッチング条件を一定に保つことができる。エッチング液の温度を高くすることで、エッチング速度は上昇するが、エッチング液の組成変化を小さく抑えることなども考慮した上で、適宜最適な処理温度を決定すればよい。本発明のエッチング方法において、エッチング液に含まれるA過酸化水素及びB硝酸は、上記したように各々銅配線の酸化剤として消費され、またB硝酸は、酸化された銅の溶解にも消費されるため、使用するエッチング液中のA過酸化水素及びB硝酸の濃度の低下に起因したエッチング液の性能の低下が生じる場合がある。このような場合には、適宜A過酸化水素及びB硝酸を同時に、あるいは別々に添加することにより、バスライフを長くすることができる。次に、本発明を実施例により、さらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。エッチング後の銅層及びチタン層を含む多層薄膜の断面の観察実施例及び比較例で得られた、エッチングを行った後の銅層及びチタン層を含む多層薄膜試料を切断し、走査型電子顕微鏡S5000H形型番;日立製を用いて観察倍率50000倍加速電圧2kV、加速電流10μAで観察した。得られたSEM画像をもとに、図1で示されるテーパー角、トップCDロスμm、ボトムCDロスμm及びバリア膜テイリングμmを得た。テーパー角、トップCDロスμm、ボトムCDロスμm及びバリア膜テイリングμmは、表1に記載の基準範囲内であれば合格として、エッチング液の性能を判断した。なお、表中の初浴とは、エッチング液に銅が未溶解の状態のことであり、金属溶解時とは後述するバスライフの評価におけるエッチング液中の銅の溶解量が許容最大溶解量のときのことである。バスライフの評価エッチングを行い、テーパー角、トップCDロスμm、ボトムCDロスμm及びバリア膜テイリングμmのうちいずれかが、表2に示される基準範囲外となる直前のエッチング液中の銅の溶解量を許容最大溶解量とし、バスライフを評価した。ガラス腐食の評価実施例及び比較例で得られた試料について、腐食部と非腐食部との段差を接触式粗さ計SV-2100型番;株式会社ミツトヨ製で測定し腐食速度を求めた。作製例銅層及びチタン層を含む多層薄膜の作製ガラスを基板とし、チタンTiをスパッタしチタンからなるバリア膜チタン層を形成し、次いで銅を主成分とする材料をスパッタして配線素材を成膜銅層、次いでレジストを塗布し、パターンマスクを露光転写後、現像して配線パターンを形成し、チタン層上に銅層が積層した、銅層及びチタン層を含む多層薄膜を作製した。実施例1~10作製例で得られた銅層及びチタン層を含む多層薄膜を、表2に示されるエッチング液を用いて、35°Cで60~150秒間エッチングし、エッチング後の銅層及びチタン層を含む多層薄膜試料を得て、このときのエッチング液中の金属溶解量を測定した。得られた試料について、上記の方法により、初浴時のテーパー角、トップCDロスμm、ボトムCDロスμm及びバリア膜テイリングμmを得た。これらの数値が表1の基準範囲内のときは、さらに作製例で得られた新たな銅層及びチタン層を含む多層薄膜のエッチングを行った。得られた試料のテーパー角、トップCDロスμm、ボトムCDロスμm及びバリア膜テイリングμmが表1の基準範囲内のときは、新たな銅層及びチタン層を含む多層薄膜のエッチングを繰り返し、これらの数値のいずれかの値が表1の基準範囲外となった時点で、エッチング処理を終了し、これらの数値が全て基準範囲内であった最後の回に使用したエッチング液中の金属溶解量を測定し、これをエッチング液中の銅の許容最大溶解量とし、バスライフの評価を行った。得られた評価を表2、3に示す。比較例1~6実施例1において、エッチング液を表4に示す配合のものを用いる以外は、実施例1と同様にして、エッチングを行った。得られた銅層及びチタン層を含む多層薄膜のテーパー角、トップCDロスμm、ボトムCDロスμm、バリア膜テイリングμm、バスライフの評価及びガラス腐食の評価を表4に示す。本発明のエッチング液を用いた実施例は、エッチング後の配線形状が良好であり、かつバスライフ、ガラス腐食の評価の点でも優れた結果を示した。一方、E及びF成分を含まないエッチング液を用いた比較例1では、ガラス腐食は抑制できるものの、バスライフが500ppmと短くなってしまい、実施例における2500ppm以上、3000ppm以上あるいは4000ppm以上という長いバスライフに比べて十分ではなかった。E成分を含まずpHが本発明の規定範囲外にあるエッチング液を用いた比較例2では、エッチング速度が速すぎて、エッチング斑が生じてしまい均一なエッチングができず、配線形状も悪く、テーパー角やCDロスなどの測定ができなかった。D成分を含まないエッチング液を用いた比較例3では、エッチング速度が速く、配線形状を制御することができず、特にCDロスが悪くなってしまった。pHが2.8と本発明の規定範囲外にあるエッチング液を用いた比較例4では、バスライフが短くなってしまった。E成分を含まないエッチング液を用いた比較例5では、比較例2同様にエッチング速度が速すぎて、エッチング斑が生じてしまい均一なエッチングができず、配線形状も悪く、テーパー角やCDロスなどの測定ができなかった。また、比較例5と同様にE成分を含まないエッチング液を用いた比較例6では、テーパー角やCDロスの値は良好であったもののバスライフが短くなってしまった。"