"構造的触媒体であって、第1表面及び前記第1表面に対向する第2表面を含む少なくとも一つの内部区画壁を含み、前記内部区画壁は、前記第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配を有する構造的触媒体。前記勾配の第1触媒材料は、前記第1表面の幅の周縁において量が減少する、請求項1に記載の構造的触媒体。前記勾配の第1触媒材料は、前記第1表面の幅の中心領域において量が増加する、請求項1に記載の構造的触媒体。前記第1触媒材料の勾配の外形は、前記外形の中点に関して実質対称である、請求項1に記載の構造的触媒体。前記第1表面の幅の前記中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍である、請求項3に記載の構造的触媒体。前記第1表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも2倍である、請求項3に記載の構造的触媒体。前記構造的触媒体は、前記第2表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配をさらに含む、請求項1に記載の構造的触媒体。前記勾配の第1触媒材料は、前記第2表面の幅の周縁において量が減少する、請求項7に記載の構造的触媒体。前記勾配の第1触媒材料は、前記第2表面の幅の中心領域に沿って量が増加する、請求項7に記載の構造的触媒体。前記第2表面に沿った第1触媒材料の勾配は、前記第1表面に沿った第1触媒材料の勾配と実質対称である、請求項7に記載の構造的触媒体。前記第1表面の幅に沿った第2触媒材料の勾配をさらに含む、請求項1に記載の構造的触媒体。前記勾配の第2触媒材料は、前記第1表面の幅の周縁において量が減少する、請求項11に記載の構造的触媒体。前記勾配の第2触媒材料は、前記第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加する、請求項11に記載の構造的触媒体。前記第1表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第2触媒材料の量の少なくとも1.3倍である、請求項13に記載の構造的触媒体。前記構造的触媒体は、前記第2表面の幅に沿った第2触媒材料の勾配をさらに含む、請求項11に記載の構造的触媒体。前記勾配の第2触媒材料は、前記第2表面の幅の中心領域に沿って量が増加する、請求項15に記載の構造的触媒体。前記第2表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、前記第2表面の幅の周縁箇所における第2触媒材料の量の少なくとも1.3倍である、請求項16に記載の構造的触媒体。前記第1表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配をさらに含み、前記構造的触媒体の第1端に、前記第1端と対向する前記構造的触媒体の第2端における第1触媒材料の量と比較して大きな量の第1触媒材料が存在する、請求項1に記載の構造的触媒体。前記第1端は、前記構造的触媒体の流体ストリーム入口側に対応する、請求項18に記載の構造的触媒体。前記第1表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配をさらに含み、前記構造的触媒体の第1端に、前記構造的触媒体の第2端における第2触媒材料の量と比較して大きな量の第2触媒材料が存在する、請求項18に記載の構造的触媒体。前記第2表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配をさらに含み、前記構造的触媒体の第1端に、前記構造的触媒体の第2端における第1触媒材料の量と比較して大きな量の第1触媒材料が存在する、請求項18に記載の構造的触媒体。前記第2表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配をさらに含み、前記構造的触媒体の第1端に、前記構造的触媒体の第2端における第2触媒材料の量と比較して大きな量の第2触媒材料が存在する、請求項21に記載の構造的触媒体。第1表面及び前記第1表面に対向する第2表面を含む複数の追加内部区画壁をさらに含み、前記追加内部区画壁は、前記第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配を有し、前記第1触媒材料は、前記第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加し、前記中心領域における第1触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍である、請求項1に記載の構造的触媒体。前記構造的触媒体の内部区画壁の50パーセント超過が、前記第1表面の幅に沿った前記第1触媒材料の勾配を含む、請求項23に記載の構造的触媒体。前記構造的触媒体の内部区画壁の90パーセント超過が、前記第1表面の幅に沿った前記第1触媒材料の勾配を含む、請求項23に記載の構造的触媒体。前記第1触媒材料は、窒素酸化物の選択触媒還元のために動作可能である、請求項24に記載の構造的触媒体。前記第1触媒材料は、V2O5、WO3、MoO3、及びRuからなる群から選択される、請求項24に記載の構造的触媒体。第1表面及び前記第1表面に対向する第2表面を含む複数の追加内部区画壁をさらに含み、前記追加内部区画壁は、前記第1表面の幅に沿った第2触媒材料の勾配を有し、前記第2触媒材料は、前記第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加し、前記中心領域における第2触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第2触媒材料の量の少なくとも1.3倍である、請求項11に記載の構造的触媒体。前記第2触媒材料は、窒素酸化物の選択触媒還元のために動作可能である、請求項28に記載の構造的触媒体。前記第2触媒材料は、V2O5、WO3、MoO3、及びRuからなる群から選択される、請求項28に記載の構造的触媒体。構造的触媒体であって、少なくとも一つの内部区画壁を含み、前記内部区画壁は、前記内部区画壁の幅に沿ったバルク第1触媒材料の勾配を含む構造的触媒体。前記勾配のバルク第1触媒材料は、前記内部区画壁の幅の周縁において濃度が減少する、請求項31に記載の構造的触媒体。前記勾配のバルク第1触媒材料は、前記内部区画壁の幅の中心領域に沿って濃度が増加する、請求項31に記載の構造的触媒体。前記バルク第1触媒材料の勾配の外形は、前記外形の中点に関して実質対称である、請求項31に記載の構造的触媒体。前記内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、前記第1表面の幅の周縁箇所におけるバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍である、請求項33に記載の構造的触媒体。前記内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、前記第1表面の幅の周縁箇所におけるバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも2倍である、請求項33に記載の構造的触媒体。前記内部区画壁の幅に沿ったバルク第2触媒材料の勾配をさらに含む、請求項31に記載の構造的触媒体。前記勾配のバルク第2触媒材料は、前記内部区画壁の幅の周縁において濃度が減少する、請求項37に記載の構造的触媒体。前記勾配のバルク第2触媒材料は、前記内部区画壁の幅の中心領域に沿って濃度が増加する、請求項37に記載の構造的触媒体。複数の追加内部区画壁をさらに含み、前記追加内部区画壁は、前記内部区画壁の幅に沿ったバルク第1触媒材料の勾配を含み、前記バルク第1触媒材料は、前記内部区画壁の幅の中心領域に沿って濃度が増加し、前記中心領域におけるバルク第1触媒材料の濃度は、前記内部区画壁の幅の周縁箇所におけるバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍である、請求項31に記載の構造的触媒体。前記バルク第1触媒材料は、窒素酸化物の選択触媒還元のために動作可能である、請求項40に記載の構造的触媒体。前記バルク第1触媒材料は、V2O5、WO3、MoO3、及びRuからなる群から選択される、請求項40に記載の構造的触媒体。前記内部区画壁の幅に沿ったバルク第2触媒材料の勾配をさらに含み、前記バルク第2触媒材料は、前記内部区画壁の幅の中心領域に沿って濃度が増加し、前記中心領域における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、前記内部区画壁の幅の周縁箇所におけるバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍である、請求項40に記載の構造的触媒体。前記バルク第2触媒材料は、窒素酸化物の選択触媒還元のために動作可能である、請求項43に記載の構造的触媒体。前記バルク第2触媒材料は、V2O5、WO3、MoO3、及びRuからなる群から選択される、請求項43に記載の構造的触媒体。前記構造的触媒体の内部区画壁の50パーセント超過が、前記バルク第1触媒材料の勾配を含む、請求項40に記載の構造的触媒体。前記構造的触媒体の内部区画壁の90パーセント超過が、前記バルク第1触媒材料の勾配を含む、請求項40に記載の構造的触媒体。構造的触媒体であって、複数の中心ポストを形成するべく交差する複数の内部区画壁を含み、前記中心ポストの少なくとも一つは、バルク第1触媒材料の濃度が、前記中心ポストを形成する各内部区画壁のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍である構造的触媒体。前記構造的触媒体の中心ポストの50パーセント超過は、バルク第1触媒材料の濃度が、前記中心ポストを形成する各内部区画壁のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍である、請求項48に記載の構造的触媒体。前記中心ポストの少なくとも一つは、バルク第2触媒材料の濃度が、前記中心ポストを形成する各内部区画壁のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍である、請求項48に記載の構造的触媒体。前記中心ポストの50パーセント超過は、バルク第2触媒材料の濃度が、前記中心ポストを形成する各内部区画壁のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍である、請求項50に記載の構造的触媒体。触媒モジュールであって、枠と、前記枠内に配置された複数の構造的触媒体とを含み、前記構造的触媒体は複数の内部区画壁を含み、前記内部区画壁は、前記内部区画壁の第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配を含み、前記第1触媒材料は、前記第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加し、前記中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍である触媒モジュール。前記構造的触媒体の内部区画壁の50超過が、前記第1触媒材料の勾配を含む、請求項52に記載の触媒モジュール。前記内部区画壁は、前記第1表面の幅に沿った第2触媒材料の勾配をさらに含む、請求項52に記載の触媒モジュール。前記触媒体間の触媒活性は実質的に均一である、請求項52に記載の触媒モジュール。前記モジュールの触媒体間の触媒活性のばらつきは10未満である、請求項52に記載の触媒モジュール。前記モジュールの触媒体間の二酸化硫黄活性は実質的に均一である、請求項52に記載の触媒モジュール。前記モジュールの触媒体間の二酸化硫黄活性のばらつきは20未満である、請求項52に記載の触媒モジュール。触媒層であって、複数の構造的触媒体を含み、前記構造的触媒体は複数の内部区画壁を含み、前記内部区画壁は、前記内部区画壁の第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配を含み、前記第1触媒材料は、前記第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加し、前記中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍である触媒層。前記構造的触媒体の内部区画壁の50超過が、前記第1触媒材料の勾配を含む、請求項59に記載の触媒層。前記内部区画壁は、前記第1表面の幅に沿った第2触媒材料の勾配をさらに含む、請求項59に記載の触媒層。前記触媒体間の触媒活性は実質的に均一である、請求項59に記載の触媒層。前記層の触媒体間の触媒活性のばらつきは10未満である、請求項58に記載の触媒層。前記層の触媒体間の二酸化硫黄活性は実質的に均一である、請求項59に記載の触媒層。前記触媒層の触媒体間の二酸化硫黄活性のばらつきは20未満である、請求項59に記載の触媒モジュール。構造的触媒体であって、第1表面及び前記第1表面に対向する第2表面を含む複数の内部区画壁を含み、前記内部区画壁の少なくとも50は、前記内部区画壁の第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配であって、前記第1触媒材料は、前記第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加し、前記中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍である第1触媒材料の勾配と、前記内部区画壁の第2表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配であって、前記第1触媒材料は、前記第2表面の幅の中心領域に沿って量が増加し、前記中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、前記第2表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍である第1触媒材料の勾配とを含む構造的触媒体。前記中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも2倍である、請求項66に記載の構造的触媒体。構造的触媒体であって、第1表面及び前記第1表面に対向する第2表面を含む複数の内部区画壁を含み、前記内部区画壁の少なくとも50は、前記内部区画壁の第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配であって、前記第1触媒材料は、前記第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加し、前記中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍である第1触媒材料の勾配と、前記内部区画壁の第2表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配であって、前記第1触媒材料は、前記第2表面の幅の中心領域に沿って量が増加し、前記中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、前記第2表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍である第1触媒材料の勾配とを含み、前記内部区画壁は複数の中心ポストを形成するべく交差し、前記中心ポストの少なくとも一つは、バルク第1触媒材料の濃度が、前記中心ポストを形成する各内部区画壁のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍である構造的触媒体。前記中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、前記第1表面の幅の周縁箇所における第1触媒材料の量の少なくとも2倍である、請求項68に記載の構造的触媒体。本発明は、以下の詳細な説明及び図面並びにこれらの上記及び下記の説明を参照することにより容易に理解することができる。しかしながら、本発明に係る要素、装置、及び方法は、詳細な説明及び図面に提示される固有実施例に限られない。理解すべきことだが、これらの実施例は本発明の原理の例示にすぎない。当業者には、本発明の要旨及び範囲を逸脱することのない多数の修正及び適応が容易にわかる。さらに、ここに開示されるすべての範囲は、それに含まれる任意の及びすべての部分的範囲をも包含すると理解される。例えば、1から10と記載される範囲は、最小値1と最大値10との間の及びこれらを含む任意の及びすべての部分的範囲、すなわち、例えば1から6.1までの最小値1以上から始まり、例えば5.5から10までの最大値10以下で終わるすべての部分的範囲、を含むとみなされる。加えて、ここに組み込まれるとして言及される任意の言及は、その全体に組み込まれるとして理解される。さらに注目されるのは、本明細書において使用されるように、単数形一つ、一、及び当該は、明示的かつ明確的に一つの指示対象に限られない限り、複数の指示対象を含む。一側面では、いくつかの実施例において触媒材料の不均一分布を示す触媒体がここに記載される。いくつかの実施例において、ここに記載される触媒体は、煙道ガスストリームにおける窒素酸化物の選択触媒還元のために動作をし得る。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、第1表面及び当該第1表面に対向する第2表面を含む少なくとも一つの内部区画壁を含む。内部区画壁は、第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配を有する。いくつかの実施例において、当該勾配の第1触媒材料は、第1表面の幅の周縁において量が減少する。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の内部区画壁の表面は、内部区画壁の一部を深さ約100μmまで含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の表面は、当該内部区画壁の一部を深さ約50μmまで又は約25μmまで含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の表面は、当該内部区画壁の一部を深さ約10μmまで又は約5μmまで含む。いくつかの実施例において、当該勾配の第1触媒材料は、第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加する。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における第1触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における第1触媒材料の量を超える。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量より多い。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.5倍又は少なくとも2倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも3倍又は3.5倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも4倍又は4.5倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも5倍又は少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における複数箇所の第1触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一以上の箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における箇所の第1触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における複数箇所の第1触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一以上の箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。内部区画壁の一セクションのいくつかの実施例において、当該内部区画壁の第1表面の幅の中心領域における第1触媒材料の平均量は、当該内部区画壁セクションの第1表面の幅の周縁における第1触媒材料の平均量の少なくとも1.5倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域は、当該第1表面の幅の中点まわりを中心に、当該第1表面の全幅の約20パーセントまでを含む。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域は、当該第1表面の幅の中点まわりを中心に、当該第1表面の全幅の約40パーセントまでを含む。いくつかの実施例において、第1表面の幅の周縁は、当該第1表面の幅の端から始まり当該中心領域に向かう方向に延びて、当該第1表面の全幅の約15パーセントまでを含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配の外形は、当該外形の中点に関して対称又は実質対称である。ここに記載される構造的触媒体は、いくつかの実施例において、第2表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配をさらに含む。いくつかの実施例において、当該勾配の第1触媒材料は、第2表面の幅の周縁において量が減少する。当該勾配の第1触媒材料は、いくつかの実施例において、第2表面の中心領域に沿って量が増加する。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.5倍又は少なくとも2倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも3倍又は少なくとも3.5倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも4倍又は少なくとも4.5倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも5倍又は少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における複数箇所の第1触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一以上の箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第1触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における複数箇所の第1触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一以上の箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。内部区画壁の一セクションのいくつかの実施例において、当該内部区画壁の第2表面の幅の中心領域における第1触媒材料の平均量は、当該内部区画壁セクションの第2表面の幅の周縁における第1触媒材料の平均量の少なくとも1.5倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域は、当該第2表面の幅の中点まわりを中心に、当該第1表面の全幅の約20パーセントまでを含む。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域は、当該第2表面の幅の中点まわりを中心に、当該第1表面の全幅の約40パーセントまでを含む。いくつかの実施例において、第2表面の幅の周縁は、当該第2表面の幅の端から始まり当該中心領域に向かう方向に延びて、当該第2表面の全幅の約15パーセントまでを含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の第2表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配の外形は、当該外形の中点に関して対称又は実質対称である。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、当該少なくとも一つの内部区画壁の第1表面の幅に沿った第2触媒材料の勾配をさらに含む。いくつかの実施例において、当該勾配の第2触媒材料は、第1表面の幅の周縁において量が減少する。いくつかの実施例において、当該勾配の第2触媒材料は、第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加する。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における第2触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における第2触媒材料の量を超える。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量より多い。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.5倍又は少なくとも2倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも3倍又は少なくとも3.5倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも4倍又は少なくとも4.5倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも5倍又は少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における複数箇所の第2触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一以上の箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、第1表面の幅の中心領域における複数箇所の第2触媒材料の量は、当該第1表面の幅の周縁における一以上の箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1表面の幅に沿った第2触媒材料の勾配の外形は、当該外形の中点に関して対称又は実質対称である。内部区画壁の一セクションのいくつかの実施例において、当該内部区画壁の第1表面の幅の中心領域における第2触媒材料の平均量は、当該内部区画壁セクションの第1表面の幅の周縁における第2触媒材料の平均量の少なくとも1.5倍である。ここに記載される構造的触媒体は、いくつかの実施例において、第2表面の幅に沿った第2触媒材料の勾配をさらに含む。いくつかの実施例において、当該勾配の第2触媒材料は、第2表面の幅の周縁において量が減少する。当該勾配の第2触媒材料は、いくつかの実施例において、第2表面の中心領域に沿って量が増加する。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.5倍又は少なくとも2倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも3倍又は少なくとも3.5倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも4倍又は少なくとも4.5倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも5倍又は少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における複数箇所の第2触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一以上の箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における一箇所の第2触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域における複数箇所の第2触媒材料の量は、当該第2表面の幅の周縁における一以上の箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。内部区画壁の一セクションのいくつかの実施例において、当該内部区画壁の第2表面の幅の中心領域における第2触媒材料の平均量は、当該内部区画壁セクションの第2表面の幅の周縁における第2触媒材料の平均量の少なくとも1.5倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第2表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配の外形は、当該外形の中点に関して対称又は実質対称である。図1は、ここに記載される一実施例に係る構造的触媒体の内部区画壁の表面の幅に沿った第1及び第2触媒材料の勾配外形を例示する。図1に例示されるように、五酸化バナジウムV2O5の第1触媒材料及び酸化タングステンWO3の第2触媒材料は、内部区画壁表面の幅の中心領域に沿って量が増加する。さらに、V2O5第1触媒材料及びWO3第2触媒材料は、内部区画壁表面の幅の周縁において量が減少する。V2O5第1触媒材料及びWO3第2触媒材料の外形はまた、当該外形の中点に関して実質対称である。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、少なくとも一つの内部区画壁の幅に沿ったバルク第1触媒材料の勾配を含む。いくつかの実施例において、当該勾配のバルク第1触媒材料は、内部区画壁の幅の周縁において濃度が減少する。いくつかの実施例において、バルク第1触媒材料は、内部区画壁の幅の中心領域に沿って濃度が増加する。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅に沿ったバルク第1触媒材料の勾配は、中点に関して対称又は実質対称な外形を有する。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.5倍又は少なくとも2倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも3倍又は少なくとも3.5倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも4倍又は少なくとも4.5倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも5倍又は少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における複数箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一以上の箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における複数箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一以上の箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における複数箇所のバルク第1触媒材料の一濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一以上の箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域は、当該内部区画壁の幅の中点まわりを中心に、当該内部区画壁の全幅の約20パーセントまでを含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域は、当該内部区画壁の幅の中点まわりを中心に、当該内部区画壁の全幅の約40パーセントまでを含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の周縁は、当該内部区画壁の幅の端から始まり当該中心領域に向かう方向に延びて、当該内部区画壁の全幅の約15パーセントまでを含む。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、バルク第1触媒材料の勾配を含む当該少なくとも一つの内部区画壁の幅に沿ったバルク第2触媒材料の勾配をさらに含む。いくつかの実施例において、当該勾配のバルク第2触媒材料は、内部区画壁の幅の周縁において濃度が減少する。いくつかの実施例において、バルク第2触媒材料は、内部区画壁の幅の中心領域に沿って濃度が増加する。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅に沿ったバルク第2触媒材料の勾配は、当該外形の中点に関して対称又は実質対称の外形を有する。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.5倍又は少なくとも2倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも3倍又は少なくとも3.5倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも4倍又は少なくとも4.5倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも5倍又は少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における複数箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一以上の箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅の中心領域における複数箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の幅の周縁における一以上の箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、内部区画壁の第1表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配をさらに含む。内部区画壁の第1表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配は、いくつかの実施例において、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端における第1触媒材料の量と比較して大きな量の第1触媒材料を含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端における第1表面上の一箇所の第1触媒材料の量は、当該内部区画壁の第2端における第1表面上の一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端における第1表面上の一箇所の第1触媒材料の量は、当該内部区画壁の第2端における第1表面上の一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、内部区画壁の第1表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配をさらに含む。内部区画壁の第1表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配は、いくつかの実施例において、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端における第2触媒材料の量と比較して大きな量の第2触媒材料を含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端における第1表面上の一箇所の第2触媒材料の量は、当該内部区画壁の第2端における第1表面上の一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端における第1表面上の一箇所の第2触媒材料の量は、当該内部区画壁の第2端における第1表面上の一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、内部区画壁の第2表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配をさらに含む。内部区画壁の第2表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配は、いくつかの実施例において、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端における第1触媒材料の量と比較して大きな量の第1触媒材料を含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端における第2表面上の一箇所の第1触媒材料の量は、当該内部区画壁の第2端における第2表面上の一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第2端における第2表面上の一箇所の第1触媒材料の量は、当該内部区画壁の第2端における第2表面上の一箇所の第1触媒材料の量の少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第2表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配は、当該内部区画壁の第1表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配と対称又は実質対称である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端は構造的触媒体の流体ストリーム入口側に対応し、第2端は当該構造的触媒体の流体ストリーム出口側に対応する。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、内部区画壁の第2表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配をさらに含む。内部区画壁の第2表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配は、いくつかの実施例において、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端における第2触媒材料の量と比較して大きな量の第2触媒材料を含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端における第2表面上の一箇所の第2触媒材料の量は、当該内部区画壁の第2端における第2表面上の一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第2端における第2表面上の一箇所の第2触媒材料の量は、当該内部区画壁の第2端における第2表面上の一箇所の第2触媒材料の量の少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第2表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配は、当該内部区画壁の第1表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配と対称又は実質対称である。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、少なくとも一つの内部区画壁の長さに沿ったバルク第1触媒材料の勾配を含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の長さに沿ったバルク第1触媒材料の勾配は、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端におけるバルク第1触媒材料の濃度と比較して高い濃度のバルク第1触媒材料を含む。ここに記載されるように、いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端は、構造的触媒体の流体ストリーム入口側に対応し、第2端は、当該構造的触媒体の流体ストリーム出口側に対応する。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の第2端における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の第2端における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、少なくとも一つの内部区画壁の長さに沿ったバルク第2第1触媒材料の勾配をさらに含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の長さに沿ったバルク第2触媒材料の勾配は、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端におけるバルク第2触媒材料の濃度と比較して高い濃度のバルク第2触媒材料を含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の第2端における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、当該内部区画壁の第2端における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも10倍である。ここに記載される構造的触媒体は、いくつかの実施例において、少なくとも一つの追加内部区画壁をさらに含む。当該少なくとも一つの追加内部区画壁は、内部区画壁のための、ここに記載される第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の一以上の勾配を含む。いくつかの実施例において、当該少なくとも一つの追加内部区画壁は、第1表面及び第2表面と、当該第1表面の幅に沿った第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の勾配とを含む。いくつかの実施例において、当該少なくとも一つの追加内部区画壁は、第2表面の幅に沿った第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の勾配をさらに含む。当該少なくとも一つの追加内部区画壁の第1表面及び/又は第2表面の幅に沿った第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の勾配は、いくつかの実施例において、内部区画壁のために上述した同じものと合致する一以上の特性を有する。さらに、いくつかの実施例において、当該少なくとも一つの追加内部区画壁は、当該追加内部区画壁の幅に沿ったバルク第1触媒材料及び/又はバルク第2触媒材料の勾配を含む。いくつかの実施例において、当該少なくとも一つの追加内部区画壁は、当該内部区画壁の長さに沿ったバルク第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の勾配を含む。当該少なくとも一つの追加内部区画壁は、いくつかの実施例において、第1表面及び/又は第2表面の長さに沿った第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の勾配を含む。当該少なくとも一つの追加内部区画壁の第1表面及び/又は第2表面の長さに沿った第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の勾配は、いくつかの実施例において、内部区画壁のために上述した同じものと合致する一以上の特性を有する。いくつかの実施例において、当該少なくとも一つの追加内部区画壁は複数の追加内部区画壁を含む。その結果、構造的触媒体の内部区画壁の約50パーセント超過又は約70パーセント超過が、ここに記載される触媒材料の一以上の勾配を含む。いくつかの実施例において、構造的触媒体の内部区画壁の約90パーセント超過が、ここに記載される触媒材料の一以上の勾配を含む。いくつかの実施例において、構造的触媒体の内部区画壁の約95パーセント超過が、ここに記載される触媒材料の一以上の勾配を含む。図2は、ここに記載される一実施例に係るハニカム状構造的触媒体を例示する。図2の構造的触媒体は、外部周縁壁10及び複数の内部区画壁11を含む。内部区画壁11の一以上は、ここに記載される第1及び/又は第2触媒材料の一以上の勾配を有する。内部区画壁11は、複数の流れチャネル又はセル12を画定する。当該流れチャネル又はセル12は、ハニカム状構造的触媒体を長手方向に貫通する。図3は、ここに記載される一実施例に係るハニカム状構造的触媒体の一部の断面図を例示する。構造的触媒体の流れチャネル12は内部区画壁11によって画定される。複数の内部区画壁11及びこれらの外部周縁壁10との連結箇所が、隣接する流れチャネル12の境界として機能する。内部区画壁11は、第1表面14、第2表面15、及び第1表面14と第2表面15とをつなぐ断面領域16を含む。第1表面14及び/又は第2表面15は、ここに記載される第1表面及び/又は第2表面の幅に沿った第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の勾配を有する。図3の実施例における内部区画壁表面の幅は、18として例示される。図3に例示されるハニカム状構造的触媒体の流れチャネル12の断面外形は正方形であるから、内部区画壁11は等しい又は実質的に等しい幅18を有する。いくつかの実施例において、流れチャネルの断面外形は、名目上、三角形、正方形、矩形、又は六角形のような多角形であり得る。いくつかの実施例において、流れチャネルの断面外形は、円形若しくは楕円形又は多角形との組み合わせ、及び環状扇形のような湾曲形状であり得る。さらに、いくつかの実施例において、触媒体の外部周縁壁の外周の断面外形は、正方形、矩形、円形、楕円形、パイスライス若しくは四分円のような円扇形、又は所定用途に便宜な他の任意の一若しくは複数の幾何学的形状であり得る。図6は、ここに記載される一実施例に係る波形構造的触媒体の一部の断面図を例示する。構造的触媒体60の流れチャネル61は、内部区画壁62、63によって画定される。複数の内部区画壁62、63及びこれら相互の連結又は交差が、隣接する流れチャネル61の境界として機能する。図6に例示されるように、波形触媒体60は、AC間の距離によって画定される幅を有する平坦内部区画壁63を含む。当該波形触媒体はまた、AB間の距離によって画定される幅を有する湾曲内部区画壁62も有する。内部区画壁62、63は第1表面64及び第2表面65を含む。第1表面64及び/又は第2表面65は、ここに記載される第1表面及び/又は第2表面の幅に沿った第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の勾配を有する。さらに、例えば箇所A、B、及びCにおける内部区画壁62相互の交差は、中心ポスト構造66を与える。いくつかの実施例において、外部周縁壁はバルク第1触媒材料を含み、構造的触媒体の内部区画壁は当該外部周縁壁よりもバルク第1触媒材料を多く含む。いくつかの実施例において、例えば、内部区画壁における一箇所のバルク第1触媒材料は、外部周縁壁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の約1.1から約10倍である。いくつかの実施例において、外部周縁壁はバルク第2触媒材料をさらに含み、構造的触媒体の内部区画壁は当該外部周縁壁よりもバルク第2触媒材料を多く含む。いくつかの実施例において、例えば、内部区画壁における一箇所のバルク第2触媒材料は、外部周縁壁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の約1.1から約10倍である。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は格納構造を含む。当該格納構造には、内部区画壁が、例えば当該格納構造の中にある平板触媒要素又は波形触媒要素の配列で配置される。図3に例示されるように、ハニカムの内部区画壁11の交差が、中心ポスト構造17を形成する。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の平板触媒要素のスペーサ構造及び/又は壁の交差が、中心ポスト構造を形成する。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の波形触媒要素の交差壁が、中心ポスト構造を形成する。構造的触媒体は、いくつかの実施例において、中心ポストと当該中心ポストに接続される少なくとも一つの内部区画壁との間に、バルク第1触媒材料の勾配をさらに含む。いくつかの実施例において、例えば、当該少なくとも一つの内部区画壁は、バルク第1触媒材料の濃度が中心ポストよりも高い。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、中心ポストと、当該中心ポストに接続される複数の内部区画壁との間にバルク第1触媒材料の勾配を含む。いくつかの実施例において、中心ポストに接続される各内部区画壁は、バルク第1触媒材料の濃度が当該中心ポストよりも高い。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.5倍又は少なくとも2倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも3倍又は少なくとも3.5倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも4倍又は少なくとも4.5倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも5倍又は少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における複数箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一以上の箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における複数箇所のバルク第1触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一以上の箇所のバルク第1触媒材料の濃度の少なくとも1.3倍から10倍である。構造的触媒体は、いくつかの実施例において、中心ポストと当該中心ポストに接続される少なくとも一つの内部区画壁との間に、バルク第2触媒材料の勾配をさらに含む。いくつかの実施例において、例えば、当該少なくとも一つの内部区画壁は、バルク第2触媒材料の濃度が中心ポストよりも高い。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、中心ポストと当該中心ポストに接続される複数の内部区画壁との間にバルク第2触媒材料の勾配を含む。いくつかの実施例において、中心ポストに接続される各内部区画壁は、バルク第2触媒材料の濃度が当該中心ポストよりも高い。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.5倍又は少なくとも2倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも3倍又は少なくとも3.5倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも4倍又は少なくとも4.5倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも5倍又は少なくとも10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における複数箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一以上の箇所のバルク第2触媒材料の濃度の少なくとも1.1倍又は1.3倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における一箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一箇所のバルク第2触媒材料の濃度の1.3倍から10倍である。いくつかの実施例において、内部区画壁における複数箇所のバルク第2触媒材料の濃度は、中心ポストにおける一以上の箇所のバルク第2触媒材料の濃度の1.3倍から10倍である。ここに記載される実施例は、構造的触媒体は、第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の上記勾配の任意の組み合わせを有する構造的触媒体を想定している。いくつかの実施例において、例えば、ここに記載される構造的触媒は、図5の表Iに与えられる第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の勾配の任意の組み合わせを有し得る。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の外部周縁壁及び内部区画壁は、耐熱性金属酸化物組成を含む無機酸化物組成のような担体材料から形成される。無機酸化物組成は、いくつかの実施例において、チタニアTiO2、アルミナAl2O3、ジルコニアZrO2、シリカSiO2、ケイ酸塩、又はこれらの混合物を含む。いくつかの実施例において、当該化学組成は、TiO2、Al2O3、ZrO2、若しくはSiO2という無機酸化物、又はこれらの混合物を、約70重量パーセントから100重量パーセントの範囲にある量で含む。いくつかの実施例において、当該無機酸化物組成は、当該構造的触媒体の機械的完全性を増加させるべく焼結されるか又は他の加熱処理がされる。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の外部周縁壁及び内部区画壁は、触媒材料を含む組成から形成される。いくつかの実施例において、構造的触媒体の外部周縁壁及び内部区画壁は、50-99.99重量の無機酸化物組成及び少なくとも0.01重量の触媒的に活性な金属官能基を含む化学組成から形成される。いくつかの実施例において、触媒的に活性な金属官能基は、ここに記載される触媒材料のいずれをも含み得る。いくつかの実施例において、触媒材料を含む組成から形成される外部周縁壁及び内部区画壁を含む構造的触媒体は、米国特許第7,807,110号、第7,776,786号、及び第7,658,898号明細書に記載されている。これらは、その全体がここに参照として組み入れられる。いくつかの実施例において、触媒的に活性な金属官能基は、当該化学組成全体に分散される。いくつかの実施例において、触媒的に活性な金属官能基は、当該化学組成全体に均一又は実質均一に分散される。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、未使用の構造的触媒体を含む。未使用お構造的触媒体は、いくつかの実施例において、流体ストリームにおける触媒反応を行う触媒反応器で使用され又はこの中に前もって設置されたことがない。いくつかの実施例において、記載される構造的触媒体は使用済み又は再生済みである。使用済みの構造的触媒体は、いくつかの実施例において、流体ストリームにおける触媒反応を行う触媒反応器の中に前もって設置されたことがある。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の勾配の触媒材料は、一以上の遷移金属を含む。いくつかの実施例において、触媒材料の遷移金属は、バナジウム、タングステン、モリブデン、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、鉄、金、銀、銅、若しくはニッケル、又はこれらの合金若しくは酸化物を含む。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の勾配の一以上の触媒材料は、SCR用途及びプロセスに適する。いくつかの実施例において、例えば、触媒材料は、V2O5、WO3、若しくはMoO3、又はこれらの混合物を含む。いくつかの実施例において、ここに記載される第1触媒材料は、バナジウム、タングステン、モリブデン、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、鉄、金、銀、銅、若しくはニッケル、又はその合金若しくは酸化物からなる群から選択される遷移金属を含む。いくつかの実施例において、例えば、第1触媒材料はV2O5、WO3、又はMoO3である。さらに、いくつかの実施例において、ここに記載される第2触媒材料は、バナジウム、タングステン、モリブデン、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、鉄、金、銀、銅、若しくはニッケル、又はその合金若しくは酸化物からなる群から選択される遷移金属を含む。いくつかの実施例において、例えば、第2触媒材料はV2O5、WO3、又はMoO3である。いくつかの実施例において、ここに記載される当該少なくとも一つの追加触媒材料は、バナジウム、タングステン、モリブデン、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、鉄、金、銀、銅、若しくはニッケル、又はその合金若しくは酸化物からなる群から選択される遷移金属を含む。いくつかの実施例において、例えば、当該少なくとも一つの追加触媒材料は、V2O5、WO3、又はMoO3である。ここに記載される構造的触媒体は、本発明の目的に矛盾しない任意の寸法及び機械的特性を有し得る。いくつかの実施例において、構造的触媒体は、SCR用途及びプロセスでの使用に適する寸法及び機械的特性を有する。いくつかの実施例において、例えば、構造的触媒体は、米国特許第7,807,110号、第7,776,786号、及び第7,658,898号明細書に記載されている構造的触媒体に合致する一以上の特性を有し得る。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、複数の平板触媒体又は波形触媒体を含む。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、一以上の平板触媒要素又は波形触媒要素を含み得る。他側面では、ここに記載される触媒モジュールは、一の枠と、当該枠内に配置される複数の構造的触媒体とを含む。当該構造的触媒体は、ここに記載される少なくとも一つの内部区画壁の表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配を含む。当該モジュールの触媒体の触媒活性は実質的に均一である。実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の触媒活性のばらつきは、いくつかの実施例において約20未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の触媒活性のばらつきは10未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の触媒活性のばらつきは5未満である。いくつかの実施例において、触媒活性は、窒素酸化物の選択触媒還元、水銀の酸化、若しくはアンモニアの酸化、又はこれらの組み合わせを含む。いくつかの実施例において、当該モジュールの触媒体の二酸化硫黄酸化活性は、実質的に均一である。実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは、いくつかの実施例において40未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは20未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは10未満である。さらに、いくつかの実施例において、モジュールの触媒体は、少なくとも一つの内部区画壁の表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配に加え、ここに記載される一以上の触媒勾配を含む。いくつかの実施例において、例えば、当該モジュールの触媒体はまた、ここに記載される少なくとも一つの内部区画の幅及び/又は長さに沿ったバルク第1触媒材料の勾配も含む。いくつかの実施例において、モジュールの触媒体は図5の表Iに与えられる勾配の任意の組み合わせを有し得る。他側面では、ここに記載される触媒反応器の少なくとも一つの触媒層は、複数の構造的触媒体を含む。当該構造的触媒体は、ここに記載される少なくとも一つの内部区画壁の表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配を含む。当該触媒層の構造的触媒体の触媒活性は実質的に均一である。実質的に均一であると、いくつかの実施例において、当該触媒層の触媒体間の触媒活性のばらつきは約20未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該触媒層の触媒体間の触媒活性のばらつきは約10未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該触媒層の触媒体間の触媒活性のばらつきは約5未満である。いくつかの実施例において、触媒活性は、窒素酸化物の選択触媒還元、水銀の酸化、若しくはアンモニアの酸化、又はこれらの組み合わせを含む。いくつかの実施例において、当該触媒層の触媒体の二酸化硫黄酸化活性は、実質的に均一である。実質的に均一であると、当該触媒層の触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは、いくつかの実施例において40未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該触媒層の触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは20未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該触媒層の触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは10未満である。いくつかの実施例において、触媒層の触媒体は、少なくとも一つの内部区画壁の表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配に加え、ここに記載される一以上の触媒勾配を含む。いくつかの実施例において、例えば、当該触媒層の触媒体はまた、ここに記載される少なくとも一つの内部区画の幅及び/又は長さに沿ったバルク第1触媒材料の勾配も含む。いくつかの実施例において、触媒層の触媒体は図5の表Iに与えられる勾配の任意の組み合わせを有し得る。いくつかの実施例において、触媒層の触媒体は、一以上のモジュールに配列される。他側面では、ここに記載される構造的触媒体を製造する方法が与えられる。いくつかの実施例において、構造的触媒体を製造する方法は、第1表面及び当該第1表面に対向する第2表面を含む少なくとも一つの内部区画壁を含む触媒担体を与えることと、当該少なくとも一つの内部区画壁に、第1触媒材料を含む溶液を含浸させることと、当該少なくとも一つの内部区画壁を、当該第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配が確立される態様で乾燥させることとを含む。いくつかの実施例において、当該勾配の第1触媒材料は、第1表面の幅の周縁において量が減少する。いくつかの実施例において、当該勾配の第1触媒材料は、第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加する。いくつかの実施例において、第1触媒材料の勾配はまた、第2表面の幅に沿って確立される。いくつかの実施例において、当該勾配の第1触媒材料は、第2表面の幅の周縁において量が減少する。当該勾配の第1触媒材料は、いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域に沿って量が増加する。いくつかの実施例において、第2表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配外形は、第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配外形と対称又は実質対称である。いくつかの実施例において、構造的触媒担体の当該少なくとも一つの内部区画壁は、当該内部区画壁の幅に沿ったバルク第1触媒材料の勾配が確立される態様で乾燥される。いくつかの実施例において、当該勾配のバルク第1触媒材料は、内部区画壁の幅の周縁において濃度が減少する。いくつかの実施例において、バルク第1触媒材料は、内部区画壁の幅の中心領域に沿って濃度が増加する。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅に沿ったバルク第1触媒材料の勾配は、中点に関して対称又は実質対称な外形を有する。いくつかの実施例において、構造的触媒担体の当該少なくとも一つの内部区画壁は、当該内部区画壁の第1表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配が確立される態様で乾燥される。内部区画壁の第1表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配は、いくつかの実施例において、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端における第1触媒材料の量と比較して大きな量の第1触媒材料を含む。いくつかの実施例において、第1触媒材料の勾配はまた、内部区画壁の第2表面の長さに沿って確立される。内部区画壁の第2表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配は、いくつかの実施例において、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端における第1触媒材料の量と比較して大きな量の第1触媒材料を含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の第2表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配外形は、当該内部区画壁の第1表面の長さに沿った第1触媒材料の勾配外形と対称又は実質対称である。いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端は構造的触媒体の流体ストリーム入口側に対応し、第2端は当該構造的触媒体の流体ストリーム出口側に対応する。代替的に、いくつかの実施例において、内部区画壁の第1端は構造的触媒体の出口側に対応し、第2端は当該流体ストリーム入口側に対応する。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の当該少なくとも一つの内部区画壁は、当該内部区画壁の長さに沿ったバルク第1触媒材料の勾配が確立される態様で乾燥される。いくつかの実施例において、内部区画壁の長さに沿ったバルク第1触媒材料の勾配は、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端におけるバルク第1触媒材料の濃度と比較して高い濃度のバルク第1触媒材料を含む。ここに記載される方法のいくつかの実施例において、構造的触媒体は複数の内部区画壁を含む。内部区画壁は、第1触媒材料を含む溶液が含浸され、当該内部区画壁の一以上の表面の幅及び/又は長さに沿った当該第1触媒材料の勾配が確立される態様で乾燥される。いくつかの実施例において、内部区画壁は、当該内部区画壁の幅及び/又は長さに沿ったバルク第1触媒材料の勾配が確立される態様で乾燥される。いくつかの実施例において、ここに記載される方法により製造される構造的触媒体の複数の内部区画壁が、一以上の中心ポストを形成するべく交差する。いくつかの実施例において、少なくとも一つの中心ポストは、第1触媒材料を含む溶液が含浸され、当該中心ポストと当該内部区画壁の少なくとも一つとの間にバルク第1触媒材料の勾配が確立される態様で乾燥される。いくつかの実施例において、例えば、少なくとも一つの内部区画壁は、バルク第1触媒材料の濃度が中心ポストよりも高い。いくつかの実施例において、中心ポストに接続される各内部区画壁は、バルク第1触媒材料の濃度が当該中心ポストよりも高い。ここに記載される方法のいくつかの実施例において、含浸溶液は第2触媒材料をさらに含む。いくつかの実施例において、バルク金属又は金属酸化物第2触媒材料の勾配は、内部区画壁の幅に沿って確立される。代替的に、いくつかの実施例において、ここに記載される第1触媒材料の一以上の勾配を含む構造的触媒体の少なくとも一つの内部区画壁は、金属又は金属酸化物第2触媒材料を含む溶液がさらに含浸され、内部区画壁の第1表面及び/又は第2表面の幅に沿った金属又は金属酸化物の勾配が確立される態様で乾燥される。いくつかの実施例において、バルク金属又は金属酸化物第2触媒材料の勾配は、内部区画壁の幅に沿って確立される。いくつかの実施例において、当該勾配の第2触媒材料は、第1表面の幅の周縁において量が減少する。いくつかの実施例において、当該勾配の第2触媒材料は、第1表面の幅の中心領域に沿って量が増加する。いくつかの実施例において、第2触媒材料の勾配はまた、内部区画壁の第2表面の幅に沿って確立される。いくつかの実施例において、当該勾配の第2触媒材料は、第2表面の幅の周縁において量が減少する。当該勾配の第2触媒材料は、いくつかの実施例において、第2表面の幅の中心領域に沿って量が増加する。いくつかの実施例において、第2表面の幅に沿った第2触媒材料の勾配外形は、第1表面の幅に沿った第2触媒材料の勾配外形と対称又は実質対称である。いくつかの実施例において、第2触媒材料の勾配はまた、内部区画壁の第1表面の長さに沿って確立される。内部区画壁の第1表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配は、いくつかの実施例において、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端における第2触媒材料の量と比較して大きな量の第2触媒材料を含む。いくつかの実施例において、第2触媒材料の勾配はまた、内部区画壁の第2表面の長さに沿って確立される。内部区画壁の第2表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配は、いくつかの実施例において、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端における第2触媒材料の量と比較して大きな量の第2触媒材料を含む。いくつかの実施例において、内部区画壁の第2表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配外形は、当該内部区画壁の第1表面の長さに沿った第2触媒材料の勾配外形と対称又は実質対称である。いくつかの実施例において、バルク第2触媒材料の勾配はまた、内部区画壁の第2表面の幅に沿って確立される。いくつかの実施例において、バルク第2触媒材料の勾配は、内部区画壁の幅の周縁において濃度が減少する。いくつかの実施例において、バルク第2触媒材料は、内部区画壁の幅の中心領域に沿って濃度が増加する。いくつかの実施例において、内部区画壁の幅に沿ったバルク第2触媒材料の勾配は、当該外形の中点に関して対称又は実質対称の外形を有する。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の当該少なくとも一つの内部区画壁を乾燥させることはまた、当該内部区画壁の長さに沿ったバルク第2触媒材料の勾配を確立する。いくつかの実施例において、内部区画壁の長さに沿ったバルク第2触媒材料の勾配は、当該内部区画壁の第1端に、当該第1端と対向する当該内部区画壁の第2端におけるバルク第2触媒材料の濃度と比較して高い濃度のバルク第2触媒材料を含む。さらに、ここに記載される方法のいくつかの実施例において、第2触媒材料の勾配はまた、構造的触媒体の複数内部区画壁の一以上の表面の幅及び/又は長さに沿って確立される。いくつかの実施例において、バルク第2触媒材料の勾配はまた、構造的触媒体の複数内部区画壁の幅及び/又は長さに沿って確立される。いくつかの実施例において、構造的触媒体の少なくとも一つの中心ポストは、第2触媒材料をさらに含む当該溶液が含浸され、当該構造的触媒体を乾燥させることはまた、当該中心ポストと当該中心ポストを形成する内部区画壁の少なくとも一つとの間にバルク第2触媒材料の勾配を確立する。いくつかの実施例において、例えば、少なくとも一つの内部区画壁は、バルク第2触媒材料の濃度が中心ポストよりも高い。いくつかの実施例において、中心ポストを形成する各内部区画壁は、バルク第2触媒材料の濃度が当該中心ポストよりも高い。加えて、いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の外部周縁壁は、第2触媒材料が含浸される。いくつかの実施例において、外部周縁壁はバルク第2触媒材料を含み、構造的触媒体の内部区画壁は、当該バルク第2触媒材料の濃度が当該外部周縁壁よりも高い。いくつかの実施例において、ここに記載される方法により製造される構造的触媒体の勾配の第1及び/又は第2触媒材料は、一以上の遷移金属を含む。いくつかの実施例において、第1及び/又は第2触媒材料の遷移金属は、バナジウム、タングステン、モリブデン、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、鉄、金、銀、銅、若しくはニッケル、又はその合金若しくは酸化物を含む。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の勾配の第1及び/又は第2触媒材料は、SCR用途及びプロセスに適する。いくつかの実施例において、例えば、第1及び/又は第2触媒材料は、V2O5、WO3、若しくはMoO3、又はこれらの混合物を含む。いくつかの実施例において、第1及び/又は第2触媒材料は、SCR用途に適する触媒材料を形成する一以上の前駆体を含む。いくつかの実施例において、例えば、第1及び/又は第2触媒材料は、V2O5、WO3、若しくはMoO3、又はこれらの混合物を形成する一以上の前駆体を含む。いくつかの実施例において、構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストを乾燥させることは、当該内部区画壁及び/又は中心ポストの表面上に、ここに記載される第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の一以上の勾配を確立するのに十分な速度及び/又は温度においてガスを流すことを含む。ここに記載される第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の一以上の勾配を確立するべく内部区画壁及び/又は中心ポストの表面上にガスを流すことは、本発明の目的に矛盾しない任意の態様で施すことができる。いくつかの実施例において、構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストのすべて又は実質すべての上に、均等又は実質均等な態様でガスが流される。加えて、いくつかの実施例において、ここに記載される方法の含浸溶液は、少なくとも一つの追加触媒材料をさらに含む。当該実施例において、構造的触媒体を乾燥させることにより、追加触媒材料の一以上の勾配を与えることができる。当該追加触媒材料は、ここに記載される第1及び/又は第2触媒材料の勾配のいずれにも合致する構造的触媒体上の構成及び/又は配置を有する。いくつかの実施例において、構造的触媒担体は未使用である。未使用の構造的触媒担体は、いくつかの実施例において、流体ストリームにおける触媒反応を行う触媒反応器で使用され又はこの中に前もって設置されたことがない。いくつかの実施例において、構造的触媒担体は使用済みである。使用済みの構造的触媒担体は、いくつかの実施例において、流体ストリームにおける触媒反応を行う触媒反応器の中に前もって設置されたことがある。いくつかの実施例において、使用済み触媒担体は、再生を必要とする構造的触媒体の一部である。いくつかの実施例において、未使用又は使用済みの構造的触媒担体は、ハニカム状構造的担体、平板構造的担体、又は波形構造的担体を含む。ここに記載される方法のいくつかの実施例において、複数内部区画壁を含む構造的触媒担体は、一触媒モジュールの枠内に配列される。当該実施例において、当該構造的触媒担体を含む触媒モジュールは、当該構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストに触媒材料を含浸させるべく、触媒材料の溶液に浸漬され得る。いくつかの実施例において、第1触媒材料の溶液が含浸された構造的触媒担体は、ここに記載される第1触媒材料の一以上の勾配を確立するべく、当該触媒モジュールの枠内に残っている間に乾燥される。いくつかの実施例において、含浸溶液は第2触媒材料をさらに含み、当該触媒モジュールの枠内に残っている間に当該構造的触媒担体を乾燥させることにより、ここに記載される第2触媒材料の一以上の勾配も確立される。いくつかの実施例において、例えば、当該モジュールを通って、かつ、構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストの表面上に、ここに記載される第1及び/又は第2触媒材料の一以上の勾配を確立するのに十分な速度及び/又は温度においてガスが流される。いくつかの実施例において、ガスは、当該モジュールの枠内に配列される構造的触媒担体を通って均等又は実質均等に流れる。その結果、得られた構造的触媒体の触媒活性は当該モジュールにわたって実質的に均一となる。実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の触媒活性のばらつきは、いくつかの実施例において約20未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の触媒活性のばらつきは10未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の触媒活性のばらつきは5未満である。いくつかの実施例において、触媒活性は、窒素酸化物の選択触媒還元、水銀の酸化、若しくはアンモニアの酸化、又はこれらの組み合わせを含む。いくつかの実施例において、当該モジュールの触媒体の二酸化硫黄酸化活性は、当該モジュールにわたって実質的に均一である。実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは、いくつかの実施例において40未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは20未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは10未満である。いくつかの実施例において、上記方法により製造される第1及び/又は第2触媒材料の勾配は、当該第1及び/又は第2触媒材料のための、ここに記載される構造上及び/又は組成上の特性のいずれをも含み得る。いくつかの実施例において、例えば、ここに記載される一以上の方法により製造される構造的触媒は、図5の表Iに与えられる第1触媒材料及び/又は第2触媒材料の勾配の任意の組み合わせを有し得る。ここに記載される方法のいくつかの実施例において、構造的触媒担体が触媒材料溶液の中に浸漬又はディップされ、当該触媒材料溶液が、当該内部区画壁及び/又は中心ポストに含浸される。いくつかの実施例において、当該溶液の触媒材料は、一以上の遷移金属を含む。いくつかの実施例において、遷移金属は、バナジウム、タングステン、モリブデン、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、鉄、金、銀、銅、若しくはニッケル、又はこれらの合金若しくは酸化物を含む。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体の勾配の一以上の触媒材料は、SCR用途及びプロセスに適する。いくつかの実施例において、例えば、触媒材料は、V2O5、WO3、若しくはMoO3、又はこれらの混合物を含む。いくつかの実施例において、ここに記載される溶液の第1触媒材料は、バナジウム、タングステン、モリブデン、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、鉄、金、銀、銅、若しくはニッケル、又はその合金若しくは酸化物からなる群から選択される遷移金属を含む。さらに、いくつかの実施例において、ここに記載される溶液の第2触媒材料は、バナジウム、タングステン、モリブデン、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、鉄、金、銀、銅、若しくはニッケル、又はその合金若しくは酸化物からなる群から選択される遷移金属を含む。いくつかの実施例において、ここに記載される溶液の当該少なくとも一つの追加触媒材料は、バナジウム、タングステン、モリブデン、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、レニウム、鉄、金、銀、銅、若しくはニッケル、又はその合金若しくは酸化物からなる群から選択される遷移金属を含む。いくつかの実施例において、例えば、水溶液が、シュウ酸バナジル、硫酸バナジル、若しくはメタバナジン酸アンモニウム、又はこれらの混合物を含むバナジル塩のような、バナジウム塩の第1触媒材料を含む。いくつかの実施例において、当該水溶液は、メタタングステン酸アンモニウムを含むタングステン酸塩のような、タングステン塩の第2触媒材料をさらに含む。いくつかの実施例において、当該水溶液は、モリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸ナトリウム、又はこれらの混合物のような、モリブデン塩の少なくとも一つの追加触媒材料をさらに含む。触媒材料は、当該触媒担体が含浸される溶液に、本発明の目的に矛盾しない任意の量で存在し得る。いくつかの実施例において、構造的触媒担体が、第1、第2、及び/又は追加触媒材料の溶液に、本発明の目的に矛盾しない任意の所望時間量の間浸漬される。いくつかの実施例において、構造的触媒担体は、触媒材料溶液に約5秒の時間浸漬される。いくつかの実施例において、構造的触媒担体は、触媒材料溶液に少なくとも約10秒又は少なくとも約30秒の時間浸漬される。いくつかの実施例において、構造的触媒担体は、触媒材料溶液に少なくとも約1分の時間浸漬される。いくつかの実施例において、構造的触媒担体は、触媒材料溶液に少なくとも約5分又は少なくとも約10分の時間浸漬される。構造的触媒担体は、いくつかの実施例において、触媒材料溶液に約1分から約15分の範囲の時間浸漬される。いくつかの実施例において、構造的触媒担体の細孔表面及び/又は他の表面は、当該触媒材料溶液の内部区画壁及び/又は中心ポストへの含浸を禁止又は促進する能力を有する阻止流体又は他の作用剤によって、当該触媒材料溶液に当該構造的触媒体を浸漬する前に又はした後に処理されることがない。いくつかの実施例において、構造的触媒担体は、当該触媒材料溶液に完全に浸漬される。いくつかの実施例において、触媒担体は、当該触媒材料溶液に一部のみが浸漬される。さらに、ここに記載される方法のいくつかの実施例において、複数の内部区画壁を含む構造的触媒担体は、触媒モジュールの枠内に配列される。当該実施例において、構造的触媒担体を含む触媒モジュールは、第1、第2、及び/又は追加触媒材料の溶液に浸漬され、当該構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストに当該触媒材料が含浸される。構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストは、ここに記載される第1、第2、及び/又は追加触媒材料の一以上の勾配を確立するべく乾燥される。いくつかの実施例において、構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストを乾燥させることは、当該内部区画壁及び/又は中心ポストの表面上に、ここに記載される触媒材料の勾配の一以上を確立するのに十分な速度及び/又は温度においてガスを流すことを含む。構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストの表面上に乾燥プロセス中に流されるガスは、ここに記載される触媒材料の一以上の勾配を確立することに合致する任意の所望流速を有し得る。いくつかの実施例において、ガスは、表Iに記載される範囲のいずれかに係る流速を有する。さらに、構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストの表面上に乾燥プロセス中に流されるガスは、ここに記載される触媒材料の一以上の勾配を確立することに合致する任意の所望温度を有し得る。ガスは、いくつかの実施例において、少なくとも約140°Cの温度まで加熱される。いくつかの実施例において、ガスは、少なくとも約160°Cの温度まで加熱される。いくつかの実施例において、ガスは約100°Cから約350°Cの範囲の温度まで加熱される。いくつかの実施例において、ガスは350°Cより高い温度まで加熱される。いくつかの実施例において、ガスの流速及びガスの温度は、構造的触媒担体の内部区画壁の幅に沿って度合いが異なる触媒材料の勾配をもたらすべく、構造的触媒体の製造中に相互に又は独立して調整することができる。一以上の内部区画壁の表面上を流れるのに適するガスは、ここに記載される触媒材料の一以上の勾配を確立することに矛盾しない任意のガスを含み得る。いくつかの実施例において、ガスは空気を含む。いくつかの実施例において、ガスは窒素又はアルゴンを含む。いくつかの実施例において、ガスは燃焼煙道ガスを含む。いくつかの実施例において、ここに記載される構造的触媒体は、触媒材料の一以上の勾配を確立した後に焼成される。構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストは、ここに記載される触媒材料の一以上の勾配を確立することに合致する任意の所望時間、当該流れるガスにさらされ得る。いくつかの実施例において、内部区画壁及び/又は中心ポストは、約1分から約1.5時間の範囲の時間、当該流れるガスにさらされる。いくつかの実施例において、内部区画壁及び/又は中心ポストは、約5分から約45分の範囲の時間、当該流れるガスにさらされる。いくつかの実施例において、内部区画壁及び/又は中心ポストは、約10分から約30分の範囲の時間、当該流れるガスにさらされる。ここに記載される触媒材料の一以上の勾配を確立するべく内部区画壁及び/又は中心ポストの表面上にガスを流すことは、本発明の目的に矛盾しない任意の態様で施すことができる。いくつかの実施例において、構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストのすべて又は実質すべての上に、均等又は実質均等な態様でガスが流される。いくつかの実施例において、例えば、当該触媒担体の開放面にコンジットが結合され、当該コンジットを通って及び当該構造的触媒担体の流れチャネルを通ってガスが流れる。これにより、ガスは、内部区画壁及び/又は中心ポスト上を均等又は実質均等に流れる。いくつかの実施例において、コンジットは、構造的触媒担体の外表面に沿った空気流を排除若しくは禁止するべく構造的触媒担体の開放面にシールされる。いくつかの実施例において、触媒担体の開放面の前にディフューザが配置され、乾燥プロセス中に当該構造的触媒体を通る均等又は実質均等なガス流を与える補助となる。いくつかの実施例において、ディフューザは穿孔平板を含み得る。加えて、いくつかの実施例において、ディフューザは単独で又はコンジットと組み合わせて使用し得る。いくつかの実施例において、第1、第2、及び/又は追加触媒材料の溶液が含浸された構造的触媒担体は、ここに記載される触媒材料の一以上の勾配を確立するべく、触媒モジュールの枠に残されたまま乾燥される。いくつかの実施例において、例えば、当該モジュールを通って、かつ、構造的触媒担体の内部区画壁及び/又は中心ポストの表面上に、ここに記載される触媒材料の一以上の勾配を確立するのに十分な速度及び/又は温度においてガスが流される。いくつかの実施例において、ガスは、当該モジュールの枠内に配列される構造的触媒担体を通って均等又は実質均等に流れる。その結果、得られた構造的触媒体の触媒活性は当該モジュールにわたって実質的に均一となる。実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の触媒活性のばらつきは、いくつかの実施例において約20未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の触媒活性のばらつきは10未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の触媒活性のばらつきは5未満である。いくつかの実施例において、触媒活性は、窒素酸化物の選択触媒還元、水銀の酸化、若しくはアンモニアの酸化、又はこれらの組み合わせを含む。いくつかの実施例において、当該モジュールの触媒体の二酸化硫黄酸化活性は、当該モジュールにわたって実質的に均一である。実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは、いくつかの実施例において40未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは20未満である。いくつかの実施例において、実質的に均一であると、当該モジュールの触媒体間の二酸化硫黄酸化活性のばらつきは10未満である。いくつかの実施例において、当該モジュールの開放面にコンジットが結合され、当該コンジットを通って及び当該モジュールの構造的触媒担体を通ってガスが流れる。いくつかの実施例において、コンジットは、当該モジュールの外表面に沿った空気流を排除又は禁止するべく当該モジュールの開放面にシールされる。いくつかの実施例において、触媒モジュールの開放面の前にディフューザが配置され、乾燥プロセス中に当該構造的触媒体を通る均等又は実質均等なガス流を与える補助となる。いくつかの実施例において、ディフューザは穿孔平板を含み得る。加えて、いくつかの実施例において、ディフューザは単独で又はコンジットと組み合わせて使用し得る。他側面では、煙道ガス又は燃焼ガスストリームのような流体ストリームを処理する方法がここに記載される。いくつかの実施例において、流体ストリームを処理する方法は、第1表面及び当該第1表面に対向する第2表面を含む少なくとも一つの内部区画壁を含む構造的触媒体を与えることであって、当該内部区画壁は当該第1表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配を有することと、当該流体ストリームに当該構造的触媒体を通過させることと、当該流体ストリームにおける少なくとも一つの化学種を触媒反応させることとを含む。いくつかの実施例において、流体ストリームは、構造的触媒体の一以上の流れチャネルを通って流れる。いくつかの実施例において、流体ストリームにおける少なくとも一つの化学種を触媒反応させることは、流体ストリームにおける窒素酸化物を触媒還元することを含む。いくつかの実施例において、流体ストリームにおける少なくとも一つの化学種を触媒反応させることは、流体ストリームにおけるアンモニア及び/又は水銀を酸化することを含む。流体ストリームを処理する方法のいくつかの実施例において、当該流体ストリームにおいて二酸化硫黄を三酸化硫黄に酸化することが低減される。一実施例において、例えば、ここに記載される構造的触媒体によって、流体ストリームにおける窒素酸化物の選択触媒還元中における二酸化硫黄の酸化が低減される。いくつかの実施例において、流体ストリームを処理する方法の触媒体は、少なくとも一つの内部区画壁の表面の幅に沿った第1触媒材料の勾配に加え、ここに記載される一以上の触媒勾配を含む。いくつかの実施例において、例えば、当該触媒層の触媒体はまた、ここに記載される少なくとも一つの内部区画の幅及び/又は長さに沿ったバルク第1触媒材料の勾配も含む。いくつかの実施例において、ここに記載される方法の触媒体は、図5の表Iに与えられる勾配の任意の組み合わせを有し得る。いくつかの実施例において、触媒体は、ここに記載される複数の触媒体を含む一モジュールの一部である。流体ストリームは、当該モジュールの中に入り当該触媒体を通過する。いくつかの実施例において、当該モジュールは、触媒反応器の触媒層の一部である。構造的触媒体のこれら及び他の実施例が、以下の非限定的実施例によってさらに例示される。構造的触媒体TiO2粉末をフィラ、バインダ、押出補助剤、及び潤滑剤と混合することにより押出組成が与えられた。押出組成は、バナジウムを実質的に含有しなかった<0.10V2O5。押出組成は、タングステン含有量が≦1.80WO3だった。押出組成が押し出されて、外部周縁壁及び複数の内部区画壁を含む構造的触媒担体が与えられた。内部区画壁は、構造的触媒担体の複数の流れチャネルを画定した。当該流れチャネルは、正方形断面外形を有した。押し出された触媒担体が乾燥及び焼成された。水吸収試験によって構造的触媒担体の多孔度が決定された。シュウ酸バナジル及びメタタングステン酸アンモニウム粉末を脱イオン水の容器に加えることによって、バナジウム第1触媒材料及びタングステン第2触媒材料の溶液が与えられた。当業者にはわかるように、加えられたシュウ酸バナジル及びメタタングステン酸アンモニウムの量は、構造的触媒担体の所望のバルク化学及び多孔度に応じて決定された。触媒材料の溶液濃度は、x線蛍光XRFによって確認された。構造的触媒体が、触媒材料溶液に3分間浸漬され、その後除去された。バナジウム第1触媒材料及びタングステン第2触媒材料が含浸した構造的触媒担体が、熱空気ブロワによって乾燥された。構造的触媒体は、当該ブロワから受ける加熱空気が、実質的に均等な態様で流れチャネルを通って及び内部区画壁上を流れるようにラップかつシールされた。ここに記載されるように、加熱空気を送達するべく構造的触媒体の当該面にコンジットがシールされ得る。当該ブロワからの空気は、当該構造的触媒体を乾燥するべく、20°C/分の速度で設定点温度160°Cまで加熱され及び30分間保持された。当該空気の温度はその後、20°C/分の速度で350°Cまで増加され、構造的触媒体の15分の焼成が施された。得られた構造的触媒体は、図1に例示されたものに合致する第1V2O5及び第2WO3触媒材料の勾配を実証した。さらに、本実施例により製造された構造的触媒体の、窒素酸化物及び二酸化硫黄酸化の選択触媒還元のための触媒活性が測定された。構造的触媒体の触媒活性は、内部区画壁の幅に沿った第1及び第2触媒材料の勾配を欠く従来型構造的触媒体と比較された。図4は、触媒活性試験の結果を例示する。図4に例示されるように、本例Aの構造的触媒体は、二酸化硫黄酸化の単位当たりの窒素酸化物選択還元速度が、従来型触媒体Bと比較して著しく高いことを実証した。本発明の様々な実施例が、本発明の様々な目的を達成するように記載されてきた。理解すべきことだが、これらの実施例は本発明の原理の例示にすぎない。本発明の要旨及び範囲から逸脱することなく、これらの多数の修正例及び適応例が当業者にとって容易にわかる。"