予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量及びフォーカス値の適正値で基板の表面に形成されたレジスト膜に設定される露光領域を露光するように露光装置を設定する設定方法において、予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量とフォーカス値との適正値が各々決定されている第1の状態の露光装置で前記露光領域を露光した後に現像して、パターンを形成した基準基板を撮像することにより得られる前記露光領域の輝度を特定した基準データを取得する工程と、前記予め設定された寸法のパターンを形成することができる前記露光量とフォーカス値とのうちの少なくとも一方の適正値が不明な第2の状態の露光装置で、前記露光領域が複数設定された検査基板を、当該露光領域毎に露光量とフォーカス値とを各々変更して露光した後に現像してパターンを形成する工程と、前記パターンを形成した検査基板を撮像し、前記各露光領域についての輝度を特定した検査画像データを作成する工程と、前記基準データの露光領域の輝度と検査画像データの各露光領域の輝度とに基づいて、前記第2の状態で前記予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量及びフォーカス値の適正値を決定する工程と、を備えることを特徴とする露光装置の設定方法。基準基板及び検査基板は縦横に配置された複数の露光領域を備え、前記縦横の一方において一端から他端に向けて露光量が大きくなり、前記縦横の他方において一端から他端に向けてフォーカス値が大きくなるように各露光領域に露光が行われ、前記基準データは基準基板の前記各露光領域の輝度を特定したデータであることを特徴とする請求項1記載の露光装置の設定方法。第1の状態で露光する露光装置と、第2の露光状態で露光する露光装置とは同一であり、前記露光量及びフォーカス値の適正値を決定する工程は、基準基板の各露光領域の輝度と、検査基板の各露光領域の輝度とに基づいて基準基板と検査基板とを重ね合わせたときの各基板のずれ量を算出する工程と、このずれ量から予め設定された計算式を用いて前記露光量及びフォーカス値の適正値を決定する工程と、を含むことを特徴とする請求項2記載の露光装置の設定方法。基準基板の各露光領域の輝度と、前記各露光領域に対応付けられた検査基板の各露光領域の輝度との差を算出して表示する工程を含むことを特徴とする請求項2または3記載の露光装置の設定方法。基準基板の露光領域の少なくとも一つは、前記予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量及びフォーカス値の適正値にて露光され、検査基板の各露光領域の輝度と、前記各露光領域を露光した露光量及びフォーカス値との対応関係を表示する工程を含み、前記露光量及びフォーカス値を決定する工程は、表示された前記対応関係と、前記基準基板の露光領域の輝度とに基づいて行われることを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置の設定方法。予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量及びフォーカス値の適正値で基板の表面に形成されたレジスト膜に設定される露光領域を露光するように露光装置を設定するために用いる基板撮像装置において、予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量とフォーカス値との適正値が各々決定されている第1の状態の露光装置で前記露光領域を露光した後に現像して、パターンを形成した基準基板を撮像することにより得られる前記露光領域の輝度を特定した基準データを記憶する基準データ記憶部と、前記予め設定された寸法のパターンを形成することができる前記露光量とフォーカス値とのうちの少なくとも一方の適正値が不明な第2の状態の露光装置で、前記露光領域が複数設定された検査基板を、当該露光領域毎に露光量とフォーカス値とを各々変更して露光した後に現像してパターンを形成した検査基板を撮像する撮像部と、前記検査基板の前記各露光領域についての輝度を特定した検査画像データを記憶する検査画像データ記憶部と、前記基準データ記憶部に記憶される前記基準データの露光領域の輝度と、前記検査データ記憶部に記憶される検査画像データの各露光領域の輝度とに基づいて、前記第2の状態で前記予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量及びフォーカス値の適正値を決定するための決定手段と、を備えることを特徴とする基板撮像装置。前記決定手段は、前記基準基板の露光領域の輝度を表示すると共に前記検査基板の各露光領域の輝度を、前記各露光領域を露光するために設定された露光量及びフォーカス値に対応付けて表示する表示部により構成されることを特徴とする請求項6記載の基板撮像装置。基準基板には露光量とフォーカス値とが各々変更して露光される露光領域が複数設定され、前記基準データは各露光領域の輝度データを含み、前記表示部は、前記基準基板の各露光領域の輝度を、各露光領域に設定された露光量及びフォーカス値に対応付けて表示することを特徴とする請求項7記載の基板撮像装置。基準基板及び検査基板は同一の露光装置で露光されると共に縦横に配置された複数の露光領域を備え、前記縦横の一方において一端から他端に向けて露光量が大きくなり、前記縦横の他方において一端から他端に向けてフォーカス値が大きくなるように基準基板及び検査基板の各露光領域に露光が行われ、前記基準データ及び検査データは各露光領域の輝度データを含み、前記決定手段は、基準基板の各露光領域の輝度と、検査基板の各露光領域の輝度とに基づいて基準基板と検査基板とを重ね合わせたときの各基板のずれ量を算出し、このずれ量から予め設定された計算式を用いて前記露光量及びフォーカス値の適正値を決定する演算部により構成されることを特徴とする請求項6記載の基板撮像装置。予め設定された寸法のパターンを形成することができる前記露光量とフォーカス値とのうちの少なくとも一方の適正値が不明な状態の露光装置で露光領域毎に露光量とフォーカス値とを各々変更して露光した後に現像してパターンを形成した検査基板を撮像する基板撮像装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、前記コンピュータプログラムは、請求項1ないし5のいずれか一つに記載の露光装置の設定方法を実行するように構成されたステップ群を備えていることを特徴とする記憶媒体。本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は露光量及びフォーカス値についての設定時間を短くすることができる技術を提供することである。本発明の露光装置の設定方法は、設定した露光量及びフォーカス値に応じて基板に異なる寸法のパターンを形成するように、前記基板の表面に形成されたレジスト膜に設定される露光領域を露光する露光装置の設定方法において、予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量とフォーカス値とが各々決定されている第1の状態の露光装置で前記露光領域を露光した後に現像して、パターンを形成した基準基板を撮像することにより得られる前記露光領域の輝度を特定した基準データを取得する工程と、前記予め設定された寸法のパターンを形成することができる前記露光量とフォーカス値とのうちの少なくとも一方が不明な第2の状態の露光装置で、前記露光領域が複数設定された検査基板を、当該露光領域毎に露光量とフォーカス値とを各々変更して露光した後に現像してパターンを形成する工程と、前記パターンを形成した検査基板を撮像し、前記各露光領域についての輝度を特定した検査画像データを作成する工程と、前記基準データの露光領域の輝度と検査画像データの各露光領域の輝度とに基づいて、前記第2の状態で前記予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量及びフォーカス値を決定する工程と、を備えることを特徴とする。前記設定方法の具体的な態様としては例えば下記の通りである。1基準基板及び検査基板は縦横に配置された複数の露光領域を備え、前記縦横の一方において一端から他端に向けて露光量が大きくなり、前記縦横の他方において一端から他端に向けてフォーカス値が大きくなるように各露光領域に露光が行われ、前記基準データは基準基板の前記各露光領域の輝度を特定したデータである。2第1の状態で露光する露光装置と、第2の露光状態で露光する露光装置とは同一であり、前記露光量及びフォーカス値を決定する工程は、基準基板の各露光領域の輝度と、検査基板の各露光領域の輝度とに基づいて基準基板と検査基板とを重ね合わせたときの各基板のずれ量を算出する工程と、このずれ量から予め設定された計算式を用いて前記露光量及びフォーカス値を決定する工程と、を含む。3基準基板の各露光領域の輝度と、前記各露光領域に対応付けられた検査基板の各露光領域の輝度との差を算出して表示する工程を含む。4基準基板の露光領域の少なくとも一つは、前記予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量及びフォーカス値にて露光され、検査基板の各露光領域の輝度と、前記各露光領域を露光した露光量及びフォーカス値との対応関係を表示する工程を含み、前記露光量及びフォーカス値を決定する工程は、表示された前記対応関係と、前記基準基板の露光領域の輝度とに基づいて行われる。本発明によれば、パターンを形成した基準基板の露光領域を撮像して得られる輝度と、パターンを形成した検査基板の複数の露光領域を撮像して得られる輝度とに基づいて露光装置のフォーカス値及び露光量を設定するため、前記検査基板の各露光領域のパターンの寸法を計測する必要が無い。従って、露光装置における露光量及びフォーカス値の設定を速やかに行うことができ、露光装置の生産効率を高くすることができる。本発明の露光装置の設定方法を実施するために用いる基板撮像装置1について説明する。図1、図2は基板撮像装置1の縦断平面、横断平面を夫々示している。基板撮像装置1は、その筐体10内にウエハWの裏面側中央部を吸着し、ウエハWを水平に保持する載置台11を備えている。図中12はウエハWの筐体10内への搬入及び筐体10内からの搬出を行うための搬送口である。このウエハWについては後述する。載置台11は水平駆動部13に支持されている。筐体10内において搬送口12が開口している側を手前側とすると、基板撮像装置1への床面には手前側から奥側に向かってガイドレール14が敷設されており、水平駆動部13はこのガイドレール14に沿って水平移動自在に構成されている。ガイドレール14上には筐体10の左右に伸びる横長のハーフミラー15が設けられており、このハーフミラー15は当該ガイドレール14の伸長方向に対して斜めに設けられている。また、ハーフミラー15の上方には当該ハーフミラー15を介して下方に光を照射する照明部16が設けられている。ハーフミラー15の奥側には撮像カメラ21が設けられている。この撮像カメラ21は、レンズ22と、レンズ22に写った像が結像する多数のCCD素子からなる撮像素子群23とを備えており、この撮像素子群23からのアナログ信号の出力が不図示のA/D変換器により、ディジタル信号に変換されて、後述の制御部4に出力される。照明部16からの照明がハーフミラー15を通過し、ハーフミラー15の下方の照射領域に当てられる。そして、この照射領域における物体の反射光がハーフミラー15で反射し、撮像カメラ21に取り込まれる。すなわち撮像カメラ21は、ハーフミラー15の下方に位置する物体を撮像することができる。そして、ウエハWがガイドレール14に沿ってハーフミラー15の下方を手前側から奥側に向けて移動しているときに、撮像カメラ21が制御部4の制御信号に従って間欠的に撮像を行い、ウエハWの表面全体が撮像される。ここで、この基板撮像装置1により撮像されるウエハWについて、図3を参照しながら説明する。このウエハWはFEMFocusExposureMatrixウエハと呼ばれるウエハWであり、その周端部を除いた表面のパターン形成領域20にはマトリクス状に多数の矩形の露光領域25が互いに隣接して設定されている。各露光領域25の配列方向を各々X方向、Y方向とし、各露光領域25のX方向、Y方向の大きさは互いに等しく設定されている。なお、図3中の露光領域25の数は実際に設定される露光領域25の数よりも少なく示している。このウエハWの表面にはレジスト膜が形成されており、露光装置により露光領域25毎に設定を変えたフォーカス値及び露光量で露光されている。つまり一つの露光領域25内は、同じフォーカス値及び露光量に設定されて露光されている。前記X方向の一端から他端に向かうにつれて露光領域25に設定した露光量が大きくなり、X方向に互いに隣り合う各露光領域25間の露光量の差は互いに等しく設定されている。また、前記Y方向の一端から他端に向かうにつれてフォーカス値が大きくなり、Y方向に互いに隣り合う各露光領域25間の露光量の差は互いに等しく設定されている。ウエハWは、このように露光を行った上で現像処理が行われており、各露光領域25にレジストパターンが形成されている。ところで、既述したように露光装置のフォーカス値及び露光量は、実際の値と設定値との間でずれが生じる場合がある。所望の寸法のレジストパターンを形成するための適切な露光量の設定値及びフォーカス値の設定値が明らかになっている状態で露光装置にて各露光領域25を露光して作成した前記ウエハWを基準ウエハW1とする。この基準ウエハW1では、例えばウエハWの中央部に位置する露光領域25をそのように適切な露光量の設定値、適切なフォーカス値の設定値で露光している。この例では前記露光量の設定値は15.6mJ/cm2であり、前記フォーカス値の設定値は0.3μmである。また、露光量の設定を12.0mJ/cm2~19.2mJ/cm2の範囲で、フォーカス値の設定を-0.6μm~1.2μmの範囲で夫々変化させて各露光領域25に露光を行っている。また、露光領域25がX方向に1つずれると露光量の設定は0.3mJ/cm2変化し、露光領域25がY方向に1つずれるとフォーカス値の設定は0.1μm変化するように露光が行われている。前記適切な露光量の設定値、適切なフォーカス値の設定値は、夫々特許請求の範囲に記載した露光量の適正値及びフォーカス値の適正値である。またこれ以降、記載を簡略にするために適切な露光量、適切なフォーカス値とも記載する場合がある。基準ウエハW1の作成後、所定の時間が経過したときに、前記基準ウエハW1の露光を行った露光装置により基準ウエハW1と同じ位置の各露光領域25を、基準ウエハW1を作成したときと同じ設定の露光量及びフォーカス値で露光したウエハWを検査ウエハW2と表記する。つまり、検査ウエハW2の各部は基準ウエハW1の各部と同じ設定の露光量及びフォーカス値で露光しているが、実際の露光量及びフォーカス値は基準ウエハW1の作成時と検査ウエハW2の作成時との間で差がある場合があり、従って基準ウエハW1と検査ウエハW2との間で同じ露光領域25に形成されるパターンの寸法が互いに異なる場合がある。ここで基準ウエハW1の露光量及びフォーカス値の適正値を決定する手順について説明する。先ず、上記のFEMウエハWを作成する。ただし、上記の検査ウエハW1では各露光領域25に対する露光量を12.0mJ/cm2~19.2mJ/cm2の範囲で、フォーカス値を-0.6μm~1.2μmの範囲で夫々設定しているが、これらの露光量及びフォーカス値の範囲については任意に設定する。そして、FEMウエハWの各露光領域25の寸法を測定し、その測定結果により所望のパターンの寸法を得るための露光量及びフォーカス値の適正値を決定する。そして、決定した露光量及びフォーカス値の適正値上記の例では夫々15.6mJ/cm2、0.3μmを基準ウエハW1の中心部の露光領域25の露光量及びフォーカス値とする。従って、当該露光領域25のパターンの寸法は既知の値である。そして、前記中心部の露光領域25の露光量及びフォーカス値を基準に、上記のように露光量がX方向に所定の値ずつずれてゆき、フォーカス値がY方向に所定の値ずつずれるようにして、前記中心部以外の露光領域25の露光量及びフォーカス値を設定する。続いて、上記の基板撮像装置1で行う処理の概略について説明する。この処理では各ウエハWの露光領域25に形成したレジストパターンの線幅に応じて、当該露光領域の輝度明暗値が変化することを利用する。輝度明暗値とは2次光源、即ち被写体であるウエハWが撮像カメラ21に向かって発する光の強さであり、画像の明るさグレーレベルで表現される無単位の値である。基板撮像装置1は、基準ウエハW1を撮像して取得される画像データから、各露光領域25の輝度のメジアン中央値と、各露光領域25に設定した露光量及びフォーカス値との対応関係を示すグラフ基準グラフと表記する31を表示する。そして、図4は、前記基準グラフ31の一例を示しており、横軸にフォーカス値単位:μm、縦軸に輝度のメジアンを夫々設定し、露光量毎にグラフの線を引いている。グラフ中の数値は矢印で指したグラフの線の露光量を示している。さらに、基板撮像装置1は、検査ウエハW2を撮像して取得される画像データから各露光領域25の輝度のメジアンと、各露光領域25に設定した露光量及びフォーカス値との対応関係を示すグラフ検査グラフと表記する32を表示する。図5は、この検査グラフ32の一例を示しており、基準グラフ31と同様に横軸にフォーカス値単位:μm、縦軸に輝度を夫々設定し、露光量毎にグラフの線を作成している。既述のように基準ウエハW1を作成するときには露光装置のフォーカス値、露光量を夫々0.3μm、15.6mJ/cm2に設定することで所望の寸法のパターンが得られる。基準グラフ31より、そのような設定のときに露光領域25の輝度が205であることが分かる。ところで、フォーカス値の適切な値は当該値の若干の変動によりパターンの寸法が変動し難い、即ち輝度が変動し難い値であるため、グラフの線のピークに対応する値に設定することが好ましい。そして検査グラフ32を見ると、前記ピークが0.5μmに対応する位置にある。つまり適切なフォーカス値は0.5μmである。そして、このフォーカス値が0.5μmであるときに輝度が205となる露光量は16.2mJ/cm2である。従って、検査ウエハW2を作成したときには前記露光装置のフォーカス値、露光量を、夫々0.5μm、16.2mJ/cm2に設定することで、所望の線幅のパターンがウエハWに形成できることになるため、ユーザはそのように前記露光装置のフォーカス値及び露光量を設定する。また、基板撮像装置1は、このようなグラフ表示の他に基準ウエハW1の画像データ、検査ウエハW2の画像データの夫々に基づいて当該基準ウエハW1、検査ウエハW2の輝度明暗値の分布を示すマップ表示を行う。図6は、基準ウエハW1の面内の輝度分布を示すマップ基準マップとする33の一例を示しており、図7は検査ウエハW2の面内の輝度分布を示すマップ検査マップとする34の一例を示している。基準マップ33は、基準ウエハW1の各露光領域25の輝度のメジアンに応じて、当該基準ウエハW1の面内の対応する位置を当該メジアンに応じたカラーで表示したものであり、実際には基準ウエハW1の面内でグラデーションが掛けられたように示される。そして、そのように表示されるカラーによって、ユーザは基準ウエハW1の面内各部の輝度が把握できるようになっている。検査マップ34は、検査ウエハW2の各露光領域25の輝度のメジアンに応じて、検査ウエハW2の面内の対応する位置を当該メジアンに応じたカラーで表示したことを除いて基準マップ33と同様である。図6及び図7では、図示の便宜上、輝度が所定の範囲である領域を等高線で囲い、この等高線により各領域を互いに区画して示している。既述のように基準ウエハW1の中央部の露光領域25には所望の寸法のパターンが形成されているため、当該露光領域25のカラーと同じカラーが表示されている箇所を検査マップ34から探し、その箇所に設定された露光量及びフォーカス値を検査マップ34から読み取る。つまり、例えば検査マップ34において、フォーカス値、露光量が夫々0.5μm、16.2mJ/cm2である箇所の色が、基準マップ33中央部の色と同色であれば、そのように露光装置のフォーカス値及び露光量を設定する。それによって基準グラフ31及び検査グラフ32を用いる場合と同様に所望のパターンをウエハWに形成できる。ただし、露光量及びフォーカス値の設定によっては検査マップ34において、基準マップ33の中央部のカラーと同じカラーとなる箇所が複数表示されるので、精度高く露光量及びフォーカス値の設定を行うために、上記のように基準グラフ31及び検査グラフ32を用いて設定を行うことが有効である。また、基板撮像装置1は、基準ウエハW1の画像データ及び検査ウエハW2の画像データから互いに同じ座標の画素の輝度の差分を演算する。そして、図8に示すように互いにX方向、Y方向の向きと中心位置とを揃えて重ね合わされたウエハW1、W2便宜上図8ではこの重ね合わせたウエハをW3としているの面内において、前記差分の分布を示す差分マップ35を表示することができる。即ち、基準ウエハW1の各露光領域25の輝度のメジアンと、前記各露光領域25に対応付けられた検査ウエハW2の各露光領域25の輝度のメジアンとの差が算出されて表示される。この差分マップ35は、基準マップ33及び検査マップ34同様に、演算された差分を当該差分に対応するカラーとしてウエハW3の面内の対応する箇所に表示する。この差分マップ35により、ユーザは基準ウエハW1作成時の露光量及びフォーカス値に対する検査ウエハW2作成時の露光量及びフォーカス値のずれの大きさを確認することができる。つまり、前記ずれが小さいほど、この差分マップ35の面内各部には前記ずれが0を示すカラーまたは0に近いことを示すカラーが表示され、ウエハW3面内のカラーのばらつきも小さい。そして、前記ずれが大きくなるほど、ウエハW3の面内各部で夫々差分が大きくなったことを示すカラーが表示され、ウエハW3の面内のカラーもばらつくことになる。また、上記のようにこの例では所望の寸法のパターンを形成するための露光量及びフォーカス値は、基準ウエハW1作成時には夫々15.6mJ/cm2及び0.3μmに設定されている。この基板撮像装置1では、検査ウエハW2を作成したときに前記所望のパターンを形成するための露光量15.6mJ/cm2に対する補正量DoffsetmJ/cm2、フォーカス値0.3μmに対する補正量Foffsetμmを予め設定した数式により算出することができる。これら各補正量の算出方法について説明する。図9は基準ウエハW1の画像データ及び検査ウエハW2の画像データを各々模式的に示している。図中各ウエハW1、W2のパターン形成領域20内には各部の輝度を記載している。これらの画像データを用いて、基準ウエハW1のパターン形成領域20の輝度と、例えば検査ウエハW2のパターン形成領域20内にて予め設定した任意の領域38の輝度とに基づいて正規化相関マッチングを行う。具体的に、基準ウエハW1のパターン形成領域20の輝度と、検査ウエハW2の前記領域38の輝度との差が最も小さくなるように、基準ウエハW1の画像データと検査ウエハW2の画像データとをX方向、Y方向の向きが夫々揃うように互いに重ね合わせる。図10にはそのように重ね合わせた基準ウエハW1及び検査ウエハW2の各画像データを示している。上記のように基準ウエハW1、W2はX方向、Y方向に露光量、フォーカス値を段階的に変化させて作成している。従って、このようにウエハW1、W2の画像データを重ね合わせたときのX方向の画像の位置ずれxは基準ウエハW1を作成したときの露光量と、検査ウエハW2を作成したときの露光量とのずれに対応し、Y方向の画像の位置ずれyは基準ウエハW1を作成したときのフォーカス値と、検査ウエハW2を作成したときのフォーカス値とのずれに対応する。下記の式1、式2により画像の位置ずれx、yから露光量のずれ、フォーカス値のずれを算出し、これら各ずれを前記露光量についての補正量Doffset、フォーカス値についての補正量Foffsetとする。なお、この手法において検出される画像の位置ずれx、yの単位はピクセルであるが、予め設定された計算式によりこのピクセル単位のずれは実世界におけるμmの単位に変換されて式1、式2が演算されるため、位置ずれx、yの単位はμmとして説明する。DoffsetDstep式1FoffsetFstep式2式1におけるDstepはX方向に隣り合う露光領域25の露光量の設定値の差mJ/cm2であり、上記のようにこの例では0.3mJ/cm2である。SSxは1つの露光領域25のX方向の大きさμmである。式2におけるFstepはY方向に隣り合う露光領域25のフォーカス値の設定値の差μmであり、上記のようにこの例では0.1μmである。SSyは1つの露光領域25のY方向の大きさμmである。このように計算により補正量を算出することで、上記のようにグラフやマップを目視する場合よりも補正量及びフォーカス値を精度高く補正することができる。次に上記の各処理を行うために基板撮像装置1に設けられ、適切なフォーカス値及び露光量の決定手段を構成する制御部4について図11を参照しながら説明する。制御部4はバス41を備え、バス41には各種の演算を行うCPU42、プログラム43が格納される格納部44、メモリ45、表示部46及び入力部47が接続されている。プログラム43は、制御部4から基板撮像装置1の各部に制御信号を送り、後述の各モードの処理を進行させるように命令各ステップが組み込まれている。プログラム格納部44は、コンピュータ記憶媒体例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、MO光磁気ディスク等からなる。メモリ45は、基準ウエハW1の画像データ、検査ウエハW2の画像データを夫々格納する画像データ記憶領域51、52と、上記の式1、式2を格納する数式記憶領域53とを備えている。表示部46は演算値表示領域54、グラフ表示領域55及びマップ表示領域56を備えている。演算値表示領域54は、既述の式1及び式2により演算されたDoffset、Foffsetを表示する領域である。グラフ表示領域55には上記の基準グラフ31、検査グラフ32が表示される。マップ表示領域56には上記の基準マップ33、検査マップ34及び差分マップ35が表示される。入力部47はマウス、キーボードやタッチパネルなどからなり、この入力部47にてユーザが基板撮像装置1を操作して、上記の各マップ、各グラフの表示や式1、式2による補正量の演算及び表示が行われる。続いて、基板撮像装置1を用いた露光装置の露光量及びフォーカス値についての設定手順について図12のフローを参照しながら説明する。上記のように基準ウエハW1を作成し、当該基準ウエハW1を所定の方向に向けて載置台11に載置し、載置台11をガイドレール14に沿って移動させながら撮像カメラ21により撮像が行われ、基準ウエハW1の画像データが取得されるステップS1。そして、既述したように露光量及びフォーカス値について基準ウエハW1と同様の設定で各露光領域25に露光した後、現像を行って検査ウエハW2を作成するステップS2。この検査ウエハW2を基準ウエハW1と同様に撮像カメラ21で撮像し、検査ウエハW2の画像データが取得されるステップS3。そして、取得した各画像データについて、平滑化処理や平均化処理などのフィルタ処理が行われ、画像のノイズが除去される。そして、例えばユーザが入力部47から指示を行うと、基準ウエハW1の画像データにおいて各露光領域ショット25の輝度明暗値のメジアンと、各露光領域25に設定した露光量及びフォーカス値とに基づいて、上記の基準グラフ31及び基準マップ33が表示されるステップS4。そして、検査ウエハW2の画像データの各露光領域ショット25の輝度明暗値のメジアンと、各露光領域25に設定した露光量及びフォーカス値とに基づいて、上記の検査グラフ32及び検査マップ34が表示されるステップS5。さらに、基準ウエハW1の画像データの各画素の輝度と、検査ウエハW2の画像データの各画素の輝度との差分を演算し、その演算値に基づいて、上記の差分マップ35が表示される。さらに、上記の基準ウエハW1の画像データ及び検査ウエハW2の画像データの正規化相関マッチングが行われ、図10に示した画像のずれ量x、yが算出されるステップS6。次いでこのx、yに基づいて既述の式1、式2により露光量補正量Doffset及びフォーカス値補正量Foffsetが算出されて表示されるステップS7。ユーザは表示されたグラフまたはマップから所望の寸法のパターンが得られる適切な露光量及びフォーカス値を読み取るか、あるいは基準ウエハW1を作成したときの露光量15.6mJ/cm2、フォーカス値0.3μmにDoffset、Foffsetを夫々加算した値を、適切な露光量及びフォーカス値とする。そして、この適切な値に前記露光装置の露光量及びフォーカス値を設定するステップS8。このような露光装置の露光量及びフォーカス値の設定方法によれば、所望の寸法のレジストパターンが得られるように適切な露光量及びフォーカス値で露光された露光領域25を含む基準ウエハW1の画像の輝度と、露光量及びフォーカス値を露光領域25毎に変更して露光した検査ウエハW2から撮像した検査ウエハW2の画像の輝度と、に基づいて検査ウエハW2を作成したときの露光装置の状態においても所望の寸法のレジストパターンが得られるように露光量及びフォーカス値の補正を行っている。従って、前記補正を行うにあたり、検査ウエハW2の各露光領域25についてレジストパターンの線幅を測定する必要が無いため、当該補正を速やかに行うことができる。また、露光量及びフォーカス値の経時的変化を速やかに観察することができる。従って、前記各補正量の決定に要する時間を短くできる分、露光装置の稼働時間を長くすることができるので露光装置の生産効率を高くし、半導体装置の生産効率を高くすることができる。ところで、上記の実施形態ではグラフ、マップ及び式1、2による演算値のすべてを表示しているが、これらのうちどれか一つを表示して露光装置の露光量の及びフォーカス値の補正量を決定してもよい。また、このようなグラフ、マップ及び演算値のユーザに対する表示を行わず、例えば上記の基準グラフ31、検査グラフから制御部4が露光量及びフォーカス値を検出し、露光装置のアクチュエータに検出信号を送信する。そして、アクチュエータが検出した露光量及びフォーカス値になるように露光装置の設定を変更するようにしてもよい。マップや演算値を用いて露光装置の設定を補正する場合も、このようにアクチュエータを介して設定の変更を行うようにすることができる。上記の実施形態においては基板撮像装置1により基準ウエハW1及び検査ウエハW2を各々撮像して各画像データを取得しているが、例えば複数の基板撮像装置1を用意し、一の基板撮像装置1で基準ウエハW1を撮像して取得した画像データを、検査ウエハW2を撮像する他の基板撮像装置1に送信して、上記のデータ処理を行ってもよい。つまり、基準ウエハW1の画像データは、検査ウエハW2の画像データを取得する基板撮像装置1により取得することには限られない。また、上記のように検査グラフ32を用いて補正を行う場合は、所望のパターンが形成された露光領域25についての輝度のデータが分かればよいため、基準画像データの代わりに当該輝度の数値についてのデータを取得するようにしてもよい。また、検査グラフ32を用いて補正を行う場合は、所望のパターンが形成された露光領域25についての輝度のデータが分かればよいため、基準ウエハW1については少なくとも1つの露光領域25を適切な露光量及びフォーカス値に設定して露光するようにしてもよい。つまり上記の例においては、中央部の露光領域25だけ露光量15.6mJ/cm2、フォーカス値0.3μmで露光し、他の箇所は露光せずに撮像を行い、当該露光領域25の輝度を取得し、その輝度に基づいて検査グラフ32から適切な露光量を読み取ることができる。このときフォーカス値は上記の実施形態と同じく、検査グラフ32の波形のピークの値を読み取り、その値を適切なフォーカス値とする。ただし、上記のように露光領域25毎に露光量及びフォーカス値を変更し、基準グラフ31を表示することでグラフの波形からウエハWの中央部の露光領域25のフォーカス値の設定が適切か否かを確認することができるため、基準ウエハW1については上記のように少なくともフォーカス値の設定を露光領域25ごとに変更して作成することが好ましい。また、上記の例では基準ウエハW1、検査ウエハW2は同じ露光装置により露光しているが、上記のようにグラフを用いる場合は互いに異なる露光装置により露光を行った基準ウエハW1及び検査ウエハW2を用いてもよい。この場合も上記の例と同様に基準ウエハW1を撮像して適切な露光量及びフォーカス値が設定された露光領域25の輝度を特定し、その輝度に対応する露光量を検査グラフ32から読み取る。マップを用いる場合も同様に異なる露光装置によりウエハW1、W2を露光してもよい。ただし、上記のマッチングと計算式とにより補正量を決定する場合、上記の画像のずれ量x、yは同じ露光装置において、基準ウエハW1作成時と検査ウエハW2作成時との間における露光量及びフォーカス値の設定値に対して実際の値とのずれの大きさの変化に対応するものであるため、基準ウエハW1と検査ウエハW2とは同じ露光装置で露光して作成することになる。式1、式2により補正量を求めるために上記のマッチングを行う際に、カラーの画像データである場合には各画素におけるRGBの夫々の輝度が最小になるようにマッチングが行われ、上記のx、yが決定される。つまり、画像データは画像データとしてはモノクロの画像データであってもカラーの画像データであってもよい。また、上記の例では基準ウエハW1及び検査ウエハW2の各露光領域25ごとに輝度のメジアンを算出して、各グラフ31、32及び各マップ33、34を作成しているが、前記メジアンの代わりに各露光領域25の輝度の平均値を算出し、この平均値によって各グラフ31、32及び各マップ33、34を作成してもよい。評価試験1上記の実施形態同様に基準ウエハW1、検査ウエハW2を作成し、各ウエハW1、W2の露光領域25の中心部のレジストパターンの寸法である線幅について光学式CD測定機により測定した。その測定結果に基づき、ウエハW1、W2について夫々前記線幅とフォーカス値と露光量との対応関係を示すグラフを作成した。このグラフの作成にあたり各ウエハWについて379箇所の線幅を測定している。試験で用いた各ウエハW1、W2について更に説明すると、基準ウエハW1において、面内の中心部の露光領域25には所望の寸法である線幅112nmのパターンを形成するために露光量、フォーカス値を夫々15.6mJ/cm2、0.3μmに設定した。そして、上記の実施形態と同様にX方向に隣接する露光領域同士で露光量が0.3mJ/cm2ずつ変化するように設定し、Y方向に隣接する露光領域25同士でフォーカス値は0.1μmずつ変化するように設定した。1つの露光領域25のX方向の大きさは11040μm、Y方向の大きさは14560μmである。検査ウエハW2もこの基準ウエハW1と同様の設定で作成している。基準ウエハW1について測定された線幅と露光量とフォーカス値との対応を示すグラフを図13に示す。この図13は、図4で示した基準グラフ31に対応し、縦軸には輝度の代わりにパターンの線幅nmを設定している。図中で矢印により各グラフの線を指すように記載した数値は露光量である。各グラフの線のピークはフォーカス値が0.3μmの位置にある。つまり、フォーカス値が0.3μmの前後は線幅が殆ど変動しないので、当該0.3μmがフォーカス値の適切な値である。そして、フォーカス値が0.3μmで露光量が15.6mJ/cm2のときに所望の線幅112nmが得られていることが分かる。検査ウエハW2について測定された線幅と露光量とフォーカス値との対応を示すグラフを図14に示す。この図14のグラフは図13のグラフと同様に横軸、縦軸に夫々フォーカス値、線幅を設定している。各グラフの線のピークはフォーカス値が0.5μmの位置にある。そして、フォーカス値が0.5μmであるときに所望の線幅112nmとなる露光量は16.2mJ/cm2である。従って、パターンの線幅を112nmにするために適切な露光量、フォーカス値は夫々16.2mJ/cm2、0.5μmである。従って、基準ウエハW1を作成したときの露光量に対する補正量、フォーカス値に対する補正量は夫々16.2-15.6=0.6mJ/cm2、0.5-0.3=0.2μmである。この評価試験1では基準ウエハW1及び検査ウエハW2の撮像を開始してからグラフ表示するまでに1800秒かかっている。評価試験2評価試験2では評価試験1と同様の基準ウエハW1、検査ウエハW2について、上記の実施形態に従って画像データを取得し、画像の位置ずれ量x、yを算出し、式1、式2を用いて露光量の補正量、フォーカス値の補正量を算出した。その結果、位置ずれ量xは17581μm、yは25915μmであり、演算された露光量の補正量Doffsetは048mJ/cm2、フォーカス値の補正量Foffsetは018μmであった。この評価試験2では基準ウエハW1及び検査ウエハW2の撮像を開始してから補正量を表示するまでに15秒かかっている。このように評価試験1、2で得られた各補正量は互いに近い値であり、補正量を得るまでに要する時間は評価試験2の方が短い。従って、本発明の効果が示された。