光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成装置であって、真空槽と、前記真空槽内に配置された複数の放出口から光反応性材料を放出するシャワープレートと、少なくとも前記シャワープレートと対面する面が前記真空槽内に配置された基板ステージと、前記基板ステージ上に配置された成膜対象物を冷却する冷却装置と、前記基板ステージ上の前記成膜対象物に配置されるマスクを保持するマスク保持装置と、前記シャワープレートと前記基板ステージの間を移動しながら前記マスクに向けて光を放射する光照射装置と、前記シャワープレートを昇温させる加熱装置とを有する有機膜形成装置。前記シャワープレートと前記基板ステージとの間の空間のうち、前記基板ステージに近い部分の取り囲むシールド板と、前記シールド板を加熱するシールド板用加熱装置とを有し、前記シールド板で取り囲まれた空間である成膜空間に向けて、前記シャワープレートから前記光反応性材料が放出されるように構成され、前記真空槽内を真空排気する排気口は、前記成膜空間の外部に設けられた請求項1記載の有機膜形成装置。前記光照射装置は、前記成膜空間の外側から、前記シールド板と前記シャワープレートの間を通って、前記基板ステージと前記シャワープレートとの間を通過するように構成された請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の有機膜形成装置。光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を成膜対象物の表面に形成する有機膜形成方法であって、真空槽内に配置された基板ステージ上に前記成膜対象物を配置し、前記成膜対象物の表面にマスクを接触して配置し、前記成膜対象物を冷却し、前記真空槽内を真空排気しながら、前記マスク上から前記光反応性材料を放出して、前記マスクの開口底面に露出する前記成膜対象物の表面に付着させ、付着した部分に前記光反応性材料の液状膜を形成し、前記真空槽内の真空排気を停止した状態で、光を放射する光照射装置に、前記マスク上を移動させながら前記光を放射させ、前記開口底面に露出する前記成膜対象物表面上に位置する前記液状膜に入射させ、前記液状膜を硬化させて前記光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成方法。前記基板ステージ上の空間をシールド板で囲っておき、前記真空槽内の前記シールド板で囲まれた成膜空間の外側を真空排気し、前記シールド板を加熱しながら前記光反応性材料を前記成膜空間に充満させる請求項4記載の有機膜形成方法。前記光照射装置から光を放射させて前記液状膜に照射する際、前記真空槽内の真空排気を停止する請求項4又は請求項5のいずれか1項記載の有機膜形成方法。本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、有機材料を付着させた後、成膜対象物を静止させたまま、有機材料を硬化して、有機膜を成膜できる有機膜形成装置及び有機膜形成方法を提供することにある。上記課題を解決するために本発明は、光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成装置であって、真空槽と、前記真空槽内に配置された複数の放出口から光反応性材料を放出するシャワープレートと、少なくとも前記シャワープレートと対面する面が前記真空槽内に配置された基板ステージと、前記基板ステージ上に配置された成膜対象物を冷却する冷却装置と、前記基板ステージ上の前記成膜対象物に配置されるマスクを保持するマスク保持装置と、前記シャワープレートと前記基板ステージの間を移動しながら前記マスクに向けて光を放射する光照射装置と、前記シャワープレートを昇温させる加熱装置とを有する有機膜形成装置である。本発明は、前記シャワープレートと前記基板ステージとの間の空間のうち、前記基板ステージに近い部分の取り囲むシールド板と、前記シールド板を加熱するシールド板用加熱装置とを有し、前記シールド板で取り囲まれた空間である成膜空間に向けて、前記シャワープレートから前記光反応性材料が放出されるように構成され、前記真空槽内を真空排気する排気口は、前記成膜空間の外部に設けられた有機膜形成装置である。また、本発明は、前記光照射装置は、前記成膜空間の外側から、前記シールド板と前記シャワープレートの間を通って、前記基板ステージと前記シャワープレートとの間を通過するように構成された有機膜形成装置である。本発明は、光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を成膜対象物の表面に形成する有機膜形成方法であって、真空槽内に配置された基板ステージ上に前記成膜対象物を配置し、前記成膜対象物の表面にマスクを接触して配置し、前記成膜対象物を冷却し、前記真空槽内を真空排気しながら、前記マスク上から前記光反応性材料を放出して、前記マスクの開口底面に露出する前記成膜対象物の表面に付着させ、付着した部分に前記光反応性材料の液状膜を形成し、前記真空槽内の真空排気を停止した状態で、光を放射する光照射装置に、前記マスク上を移動させながら前記光を放射させ、前記開口底面に露出する前記成膜対象物表面上に位置する前記液状膜に入射させ、前記液状膜を硬化させて前記光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成方法である。本発明は、前記基板ステージ上の空間をシールド板で囲っておき、前記真空槽内の前記シールド板で囲まれた成膜空間の外側を真空排気し、前記シールド板を加熱しながら前記光反応性材料を前記成膜空間に充満させる有機膜形成方法である。本発明は、前記光照射装置から光を放射させて前記液状膜に照射する際、前記真空槽内の真空排気を停止する有機膜形成方法である。有機材料を付着させた後、成膜対象物を静止させたまま、有機材料を硬化させるUV光を照射できるため、成膜対象物の温度の変化による有機材料の再蒸発を防ぎ、また、マスクを用いたパターン成膜が可能となる。図1を参照し、符号10は、本発明の有機膜形成装置であり、符号5は、有機膜形成装置10によって表面に有機膜を形成する成膜対象物を示している。この有機膜形成装置10は、真空ポンプ12が接続された真空槽11と、成膜対象物5を配置する基板ステージ14と、気体状又は微小液滴状のいずれか一方又は両方の状態の光反応性材料を、キャリアガスと共にシャワープレート15に供給する原料供給装置18とを有している。シャワープレート15は、内部が中空であり、原料供給装置18からキャリアガスと共に供給される光反応性材料は、中空部分の中に導入される。シャワープレート15は、一面に中空の部分に接続された複数の放出口16が設けられており、光反応性材料は、放出口16から放出される。放出口16が設けられたシャワープレート15の面と、基板ステージ14の成膜対象物5が配置される面とは、真空槽11の内部に位置し、互いに対面するように配置されている。原料供給装置18から、光反応性材料がキャリアガスと共にシャワープレート15に供給されると、シャワープレート15の放出口16から前記基板ステージ14の成膜対象物5を配置する面に向けて、光反応性材料の気体又は微小液滴が放出されるように構成されている。真空槽11の内部には、シールド板21が設けられており、基板ステージ14とシャワープレート15との間の空間のうち、シャワープレート15よりも基板ステージ14に近い部分はシールド板21によって取り囲まれている。シールド板21によって取り囲まれた空間を成膜空間22と呼ぶと、成膜空間22の外部である真空槽11の壁面には、排気口13が設けられ、真空槽11の外部に配置された真空ポンプ12はこの排気口13に接続されており、この真空ポンプ12を動作させると、成膜空間22の外部が真空ポンプ12によって真空排気される。成膜空間22は、真空槽11内の成膜空間22の外部の空間と接続されているから、成膜空間22も真空排気される。シールド板21とシャワープレート15との間には隙間が設けられている。真空槽11の内部には、光を放射する光照射装置24が配置されている。光照射装置24は移動装置25に取り付けられており、真空槽11の内部において、成膜空間22の外部と内部との間を、シールド板21とシャワープレート15との間の隙間を通って出入りでき、成膜空間22の内部を通過できるように構成されている。そのとき、光照射装置24は、シャワープレート15と基板ステージ14との間を通過する。光照射装置24が放射する光は、紫外線であり、アクリル樹脂を硬化させる際には、アクリル樹脂の原料に、アクリル樹脂を硬化させる波長の光を照射する。ここでは、200nm~450nmの光を照射する。成膜空間22には、マスク31が配置されている。このマスク31は、マスク保持装置32によって、基板ステージ14上に配置される成膜対象物5の表面と平行に保持されている。本実施例ではマスク保持装置32に硬化用移動装置33が設けられている。硬化用移動装置33は、マスク保持装置32をマスク31と一緒に移動させ、基板ステージ14上の成膜対象物5とマスク31との間の距離を変更し、成膜対象物5とマスク31とを密着させることと、成膜対象物5とマスク31とを離間させることとができるようにされている。硬化用移動装置33は、上述したように、基板ステージ14上の成膜対象物5とマスク31との間の距離を変更し、成膜対象物5とマスク31とを密着させ、成膜対象物5とマスク31とを離間させることができるのであればよい。つまり、上記構成に限定されず、硬化用移動装置33は、基板ステージ14に設けられ、基板ステージ14を成膜対象物5と一緒に移動させるように構成されてもよいし、基板ステージ14とマスク保持装置32の両方に設けられて、基板ステージ14とマスク保持装置32の両方をそれぞれ移動させるように構成されてもよい。マスク31は、薄い金属製の板であり、所定の開口34が一乃至複数個形成され、マスク31と成膜対象物5とが密着されてときには、開口34底面に成膜対象物5の表面が部分的に露出する。図1は、基板ステージ14とマスク31とが離間した状態で、成膜対象物5が、有機膜形成装置10に接続された不図示の処理装置から搬入されて基板ステージ14上に配置された状態である。基板ステージ14の内部には、冷却装置35が設けられている。真空槽11の外部には、循環装置30が設けられており、循環装置30によって、冷却された冷却媒体が冷却装置35に供給され、基板ステージ14は所定温度に冷却される。冷却媒体は基板ステージ14内を流れて昇温されると、循環装置30に戻って冷却され、基板ステージ14に供給される。基板ステージ14上に成膜対象物を配置して処理する際に冷却装置35の動作が維持されると、基板ステージ14上の成膜対象物5は、冷却装置35によって、基板ステージ14を介して所定温度に冷却される。成膜対象物5が基板ステージ14に配置される際には、位置決め装置によって成膜対象物5が予め設定された位置で静止し、マスク31と成膜対象物5との間が、予め設定された相対的な位置関係にされることで位置合わせがされる。あるいは、位置合わせ装置29を設けておき、成膜対象物5が基板ステージ14に配置された後、位置合わせ装置29によって、成膜対象物5とマスク31とを撮影し、成膜対象物5とマスク31とにそれぞれ設けられたアラインメントマークを一致させるように、基板ステージ14又はマスク保持装置32のいずれか一方又は両方を移動させるようにしてもよい。その場合は、成膜対象物5とマスク31との間の距離を維持しながら移動させ、マスク31と成膜対象物5との間を、予め設定された相対的な位置関係にする。位置合わせがされた状態で、硬化用移動装置33により、基板ステージ14又はマスク保持装置32のいずれか一方又は両方が移動され基板ステージ13とマスク31との間の距離が小さくされると、図2に示すように、マスク31と成膜対象物5とが接触する。原料供給装置18には、アクリル樹脂の原料と光反応開始剤とが含有された液状の光反応性材料19が配置されている。光反応性材料19には、1分子中に少なくとも1個の重合性官能基例えば、ビニル基を持つUV硬化型モノマー例えば、ネオペンチルグリコールジアクリレートやUV硬化型オリゴマー例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートが用いられる。原料供給装置18では、光反応性材料19が微小な液滴にされ、または、光反応性材料19の気体が生成されて、微小液滴又は気体のいずれか一方又は両方の状態の光反応性材料がシャワープレート15に供給される。真空槽11の内部は真空ポンプ12によって排気口13から真空排気され、真空雰囲気にされており、真空槽11の内部を排気口13から真空排気しながらシャワープレート15に設けられたバルブ17が開くと、シャワープレート15の放出口16から、光反応性材料がキャリアガスと共に成膜空間22に向けて放出される。基板ステージ14は、冷却装置35によって、冷却されており、従って、成膜対象物5は、基板ステージ14を介して、冷却装置35によって冷却されている。成膜対象物5は、光反応性材料の蒸発温度よりも低い温度に冷却されており、例えば、30°C以下の温度に冷却されている。冷却装置35は、成膜対象物5を0°C以下の温度に冷却するように構成されていれば、好ましい。シャワープレート15から光反応性材料とキャリアガスとが放出されている間は、真空槽11内は成膜空間22の外部に位置する排気口13から真空排気されており、成膜空間22に放出された光反応性材料の気体とキャリアガスとがマスク31の開口34底面下に位置する成膜対象物5表面に接触すると、接触した場所に付着し、成膜対象物5表面のうち、開口34の底面下に位置する部分に液体状の光反応性材料の薄膜液状膜を形成する。マスク31の表面は、光反応性材料が付着しにくい性質を有しており、マスク31と成膜対象物5に付着しなかった光反応性材料は、成膜空間22中に充満し、シールド板21とシャワープレート15との間の隙間を通って流出し、排気口13に到達して真空排気される。シャワープレート15はシャワープレート用加熱装置37によって加熱されており、特に、放出口16が形成された面は、光反応性材料の真空雰囲気中での蒸発温度以上の温度に昇温されている。また、シールド板21と、真空槽11の内壁面も、シールド板用加熱装置38と真空槽用加熱装置39とによって光反応性材料の真空雰囲気中での蒸発温度以上の温度に昇温されており、成膜空間22から成膜空間22の外部へ光反応性材料が流出する際に、光反応性材料の温度が低下して、シャワープレート15、シールド板21、又は真空槽11内壁面に液体となって付着しないようにされている。成膜対象物5は冷却されており、成膜対象物5の表面には、液体状の光反応性材料の薄膜液状膜が形成され、所定膜厚になったところで、シャワープレート15からの光反応性材料とキャリアガスとの放出を停止し、排気口13からの真空槽11内部の真空排気も停止する。この状態では、真空槽11の内部は、10Pa以上であって数100Pa以下の圧力にされており、成膜対象物5は冷却されているので、液体状の光反応性材料の薄膜液状膜は蒸発しない。従って、液体状の光反応性材料の薄膜液状膜の膜厚値は減少しない状態である。シャワープレート15が光反応性材料とキャリアガスとを放出する際には、光照射装置24は、シールド板21の外側であって、基板ステージ14とシャワープレート15との間よりも外側に位置しており、放出口16から放出された光反応性材料が当たらない場所に位置している。シャワープレート15からの光反応性材料とキャリアガスとの放出が停止された後、光照射装置24は光の放射を開始し、光照射装置24と対面する場所の成膜対象物5表面とマスク31表面に光を照射する。光放射の開始と共に、光照射装置24は移動を開始し、マスク31とシャワープレート15との間を移動してマスク31表面及び開口34底面に露出する成膜対象物表面5と対面し、成膜対象物5表面の液状の光反応性材料の薄膜液状膜を反応させて硬化させ、光反応性材料から得られた有機膜を成膜対象物5表面のマスク31の開口34が位置した場所に形成する。ここでは、アクリル樹脂膜が形成される。マスク31の開口34の深さが1mm程度であるのに対し、形成される有機膜の膜厚は1μm~2μm程度であり、アクリル樹脂膜の場合は、成膜対象物5の表面を保護し、水分の侵入を防止する保護膜として用いている。図3は、光照射装置24の移動途中の状態を示している。有機膜が開口底面に位置する成膜対象物5表面に形成された後、マスク31と成膜対象物5とを離間させ、有機膜が形成された成膜対象物5を真空槽11の外部に搬出し、未成膜の成膜対象物5を基板ステージ14上に配置して上記と同じ手順で有機膜を形成する。なお、シャワープレート15の放出口16が設けられた面と、基板ステージ14の成膜対象物5が配置される面とは、真空槽11の内部に位置し、互いに対面するように配置されているのであれば、図1乃至図3に示すように、シャワープレート15が基板ステージ14の上方に配置されている場合に限定されず、シャワープレート15が基板ステージ14の下方に配置されていてもよいし、シャワープレート15と基板ステージ14が互いに同じ高さに配置されていてもよい。また、光反応性材料19は、上述したアクリル樹脂の原料と光反応開始剤とが含有された有機材料に限定されず、光が照射されると硬化する他の有機材料を用いることもできる。