液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び前記射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、少なくとも一部が第1間隙を介して前記外側面と対向する第1内面、及び前記射出面と対向する物体が対向可能な第1下面を有し、前記射出面側に前記第1液体の第1液浸空間を形成する第1部材と、前記光路に対して前記第1部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第2下面を有する第2部材と、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置され、前記第1液体を供給する第1供給口と、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置され、前記第1供給口からの前記第1液体の少なくとも一部を回収する第1回収口と、前記第1部材と前記第2部材との間の第2間隙に面し、前記第2間隙に第2液体を供給する第2供給口と、を備える液浸部材。前記第2供給口は、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置される請求項1に記載の液浸部材。前記第2間隙に面し、前記第2間隙の前記第1液体及び前記第2液体の一方又は両方を回収する第2回収口を有する請求項1又は2に記載の液浸部材。液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び前記射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、少なくとも一部が第1間隙を介して前記外側面と対向する第1内面、及び前記射出面と対向する物体が対向可能な第1下面を有し、前記射出面側に前記第1液体の第1液浸空間を形成する第1部材と、前記光路に対して前記第1部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第2下面を有する第2部材と、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置され、前記第1液体を供給する第1供給口と、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置され、前記第1供給口からの前記第1液体の少なくとも一部を回収する第1回収口と、前記第1部材と前記第2部材との間の第2間隙に面し、前記第2間隙の前記第1液体を回収する第2回収口と、を備える液浸部材。前記第2回収口は、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置される請求項3又は4に記載の液浸部材。前記第1間隙は、前記物体に近い第1部分と、前記第1部分の上方の第2部分と、を有し、前記第2部分の寸法は、前記第1部分の寸法よりも大きい請求項1~5のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第1間隙は、前記光学部材の前記外側面と、前記第1部材の前記第1内面との間に形成され、前記第1内面は、前記物体に近い第1領域と、前記第1領域の上方に配置される第2領域と、前記第1領域の上端と前記第2領域の下端とを結ぶように配置され、前記第1、第2領域とは異なる方向を向く第3領域と、を含む請求項1~6のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第3領域は、前記光路に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する請求項7に記載の液浸部材。前記第1供給口は、前記第1領域に配置される請求項7又は8に記載の液浸部材。前記第2間隙は、前記物体に近い第3部分と、前記第3部分の上方の第4部分と、を有し、前記第4部分の寸法は、前記第3部分の寸法よりも大きい請求項1~10のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第2間隙は、前記第1部材の第1外面と、前記第2部材の第2内面との間に形成され、前記第1外面は、前記物体に近い第4領域と、前記第4領域の上方に配置される第5領域と、前記第4領域の上端と前記第5領域の下端とを結ぶように配置され、前記第4、第5領域とは異なる方向を向く第6領域と、を含む請求項1~10のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第5領域及び前記第6領域の一方又は両方に配置され、前記第2間隙の前記第1液体を回収する第2回収口を有する請求項11に記載の液浸部材。前記第5領域及び第6領域の一方又は両方に配置され、前記第2間隙に第2液体を供給する第2供給口を有する請求項11又は12に記載の液浸部材。前記第6領域は、前記光路に対する放射方向に関して内側に向かって上方に傾斜する請求項11~13のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第2間隙は、前記第1部材の第1外面と、前記第2部材の第2内面との間に形成され、前記第2内面は、前記物体に近い第7領域と、前記第7領域の上方に配置される第8領域と、前記第7領域の上端と前記第8領域の下端とを結ぶように配置され、前記第7、第8領域とは異なる方向を向く第9領域と、を含む請求項1~14のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第8領域及び前記第9領域の一方又は両方に配置され、前記第2間隙の前記第1液体を回収する第3回収口を有する請求項15に記載の液浸部材。前記第8領域及び第9領域の一方又は両方に配置され、前記第2間隙に第2液体を供給する第3供給口を有する請求項15又は16に記載の液浸部材。前記第9領域は、前記光路に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する請求項15~17のいずれか一項に記載の液浸部材。液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び前記射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、少なくとも一部が第1間隙を介して前記外側面と対向する第1内面、及び前記射出面と対向する物体が対向可能な第1下面を有し、前記射出面側に前記第1液体の第1液浸空間を形成する第1部材と、前記光路に対して前記第1部材の外側に配置され、第2間隙を介して前記第1部材の第1外面と対向する第2内面、及び前記物体が対向可能な第2下面を有する第2部材と、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置され、前記第1液体を供給する第1供給口と、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置され、前記第1供給口からの前記第1液体の少なくとも一部を回収する第1回収口と、を備え、前記第1内面及び前記第2内面の一方又は両方は、角部を有する液浸部材。前記第2下面と前記物体の上面との間の寸法は、前記第1下面と前記物体の上面との間の寸法よりも小さい請求項1~19のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第1部材に対して前記第2部材を可動に支持する支持装置を備える請求項1~20のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第2間隙の上部に配置され、前記第2間隙からの液体の流出を抑制する抑制部材を備える請求項1~21のいずれか一項に記載の液浸部材。前記抑制部材の表面の少なくとも一部は、前記第2間隙の液体に対して撥液性である請求項22に記載の液浸部材。前記第1供給口は、前記光路に面するように前記第1部材に配置される請求項1~23のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第1供給口は、前記物体が対向するように前記第1部材に配置される請求項1~24のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第1回収口は、前記物体が対向するように前記第2部材に配置される請求項1~25のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第1回収口は、前記物体に面するように前記第2部材に形成された開口に配置される多孔部材の孔を含む請求項1~26のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第2下面は、前記多孔部材の下面を含む請求項27に記載の液浸部材。前記第1液浸空間の少なくとも一部が、前記第2部材の前記第2下面側に形成される請求項1~28のいずれか一項に記載の液浸部材。前記光路に対して前記第2部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第3下面を有し、前記第3下面側に第2液浸空間の少なくとも一部が形成される第3部材を備える請求項1~29のいずれか一項に記載の液浸部材。前記第3部材に配置され、前記第2液浸空間を形成するための液体を供給する第4供給口と、前記第3部材に配置され、前記第3供給口からの液体の少なくとも一部を回収する第4回収口と、を有する請求項30に記載の液浸部材。前記第4回収口は、前記第2部材の前記第2下面が面する空間から流出した液体を、前記第2液浸空間の液体とともに回収する請求項31に記載の液浸部材。第1液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって、請求項1~32のいずれか一項に記載の液浸部材を備える液浸露光装置。請求項33に記載の液浸露光装置を用いて基板を露光することと、露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第1液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が第1間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第1内面と、前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び前記光路に対して前記第1部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、前記第1液体を供給することと、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、前記第1供給口からの前記第1液体の少なくとも一部を回収することと、前記第1供給口からの前記第1液体の供給と前記第1回収口からの前記第1液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第1液体で満たされるように、前記第1液体の第1液浸空間を形成することと、前記第1液浸空間の前記第1液体を介して前記基板を露光することと、前記第1部材と前記第2部材との間の第2間隙に面する第2供給口から、前記第2間隙に第2液体を供給することと、を含む露光方法。露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第1液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が第1間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第1内面と前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び前記光路に対して前記第1部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、前記第1液体を供給することと、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、前記第1供給口からの前記第1液体の少なくとも一部を回収することと、前記第1供給口からの前記第1液体の供給と前記第1回収口からの前記第1液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第1液体で満たされるように、前記第1液体の第1液浸空間を形成することと、前記第1液浸空間の前記第1液体を介して前記基板を露光することと、前記第1部材と前記第2部材との間の第2間隙に面する第2回収口から、前記第2間隙の前記第1液体を回収することと、を含む露光方法。露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第1液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が第1間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第1内面と前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び前記光路に対して前記第1部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、前記第1液体を供給することと、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、前記第1供給口からの前記第1液体の少なくとも一部を回収することと、前記第1供給口からの前記第1液体の供給と前記第1回収口からの前記第1液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第1液体で満たされるように、前記第1液体の第1液浸空間を形成することと、前記第1液浸空間の前記第1液体を介して前記基板を露光することと、を含み、前記第1内面及び前記第2内面の一方又は両方は、角部を有する露光方法。請求項35~37のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第1液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、少なくとも一部が第1間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第1内面と、前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び前記光路に対して前記第1部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、前記第1液体を供給することと、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、前記第1供給口からの前記第1液体の少なくとも一部を回収することと、前記第1供給口からの前記第1液体の供給と前記第1回収口からの前記第1液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第1液体で満たされるように、前記第1液体の第1液浸空間を形成することと、前記第1液浸空間の前記第1液体を介して前記基板を露光することと、前記第1部材と前記第2部材との間の第2間隙に面する第2供給口から、前記第2間隙に第2液体を供給することと、を実行させるプログラム。コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第1液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、少なくとも一部が第1間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第1内面と前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び前記光路に対して前記第1部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、前記第1液体を供給することと、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、前記第1供給口からの前記第1液体の少なくとも一部を回収することと、前記第1供給口からの前記第1液体の供給と前記第1回収口からの前記第1液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第1液体で満たされるように、前記第1液体の第1液浸空間を形成することと、前記第1液浸空間の前記第1液体を介して前記基板を露光することと、前記第1部材と前記第2部材との間の第2間隙に面する第2回収口から、前記第2間隙の前記第1液体を回収することと、を実行させるプログラム。コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第1液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、少なくとも一部が第1間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第1内面と前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び前記光路に対して前記第1部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、前記第1液体を供給することと、前記第1部材及び前記第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、前記第1供給口からの前記第1液体の少なくとも一部を回収することと、前記第1供給口からの前記第1液体の供給と前記第1回収口からの前記第1液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第1液体で満たされるように、前記第1液体の第1液浸空間を形成することと、前記第1液浸空間の前記第1液体を介して前記基板を露光することと、を実行させ、前記第1内面及び前記第2内面の一方又は両方は、角部を有するプログラム。請求項39~41のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。液浸露光装置において、例えば液体の質が低下したり、液体が所定の空間から流出したりすると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、液浸露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。本発明の第1の態様に従えば、液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、少なくとも一部が第1間隙を介して外側面と対向する第1内面、及び射出面と対向する物体が対向可能な第1下面を有し、射出面側に第1液体の第1液浸空間を形成する第1部材と、光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材と、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置され、第1液体を供給する第1供給口と、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置され、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収する第1回収口と、第1部材と第2部材との間の第2間隙に面し、第2間隙に第2液体を供給する第2供給口と、を備える液浸部材が提供される。本発明の第2の態様に従えば、液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、少なくとも一部が第1間隙を介して外側面と対向する第1内面、及び射出面と対向する物体が対向可能な第1下面を有し、射出面側に第1液体の第1液浸空間を形成する第1部材と、光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材と、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置され、第1液体を供給する第1供給口と、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置され、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収する第1回収口と、第1部材と第2部材との間の第2間隙に面し、第2間隙の第1液体を回収する第2回収口と、を備える液浸部材が提供される。本発明の第3の態様に従えば、液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、少なくとも一部が第1間隙を介して外側面と対向する第1内面、及び射出面と対向する物体が対向可能な第1下面を有し、射出面側に第1液体の第1液浸空間を形成する第1部材と、光路に対して第1部材の外側に配置され、第2間隙を介して第1部材の第1外面と対向する第2内面、及び物体が対向可能な第2下面を有する第2部材と、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置され、第1液体を供給する第1供給口と、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置され、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収する第1回収口と、を備え、第1内面及び第2内面の一方又は両方は、角部を有する液浸部材が提供される。本発明の第4の態様に従えば、第1液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって、第1~第3のいずれか一つの態様の液浸部材を備える液浸露光装置が提供される。本発明の第5の態様に従えば、第4の態様の液浸露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。本発明の第6の態様に従えば、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第1液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が第1間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第1内面と、射出面と対向する基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、第1液体を供給することと、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収することと、第1供給口からの第1液体の供給と第1回収口からの第1液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第1液体で満たされるように、第1液体の第1液浸空間を形成することと、第1液浸空間の第1液体を介して基板を露光することと、第1部材と第2部材との間の第2間隙に面する第2供給口から、第2間隙に第2液体を供給することと、を含む露光方法が提供される。本発明の第7の態様に従えば、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第1液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が第1間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第1内面と射出面と対向する基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、第1液体を供給することと、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収することと、第1供給口からの第1液体の供給と第1回収口からの第1液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第1液体で満たされるように、第1液体の第1液浸空間を形成することと、第1液浸空間の第1液体を介して基板を露光することと、第1部材と第2部材との間の第2間隙に面する第2回収口から、第2間隙の第1液体を回収することと、を含む露光方法が提供される。本発明の第8の態様に従えば、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第1液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が第1間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第1内面と射出面と対向する基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、第1液体を供給することと、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収することと、第1供給口からの第1液体の供給と第1回収口からの第1液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第1液体で満たされるように、第1液体の第1液浸空間を形成することと、第1液浸空間の第1液体を介して基板を露光することと、を含み、第1内面及び第2内面の一方又は両方は、角部を有する露光方法が提供される。本発明の第9の態様に従えば、第6~第8のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。本発明の第10の態様に従えば、コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第1液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、少なくとも一部が第1間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第1内面と、射出面と対向する基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、第1液体を供給することと、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収することと、第1供給口からの第1液体の供給と第1回収口からの第1液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第1液体で満たされるように、第1液体の第1液浸空間を形成することと、第1液浸空間の第1液体を介して基板を露光することと、第1部材と第2部材との間の第2間隙に面する第2供給口から、第2間隙に第2液体を供給することと、を実行させるプログラムが提供される。本発明の第11の態様に従えば、コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第1液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、少なくとも一部が第1間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第1内面と射出面と対向する基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、第1液体を供給することと、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収することと、第1供給口からの第1液体の供給と第1回収口からの第1液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第1液体で満たされるように、第1液体の第1液浸空間を形成することと、第1液浸空間の第1液体を介して基板を露光することと、第1部材と第2部材との間の第2間隙に面する第2回収口から、第2間隙の第1液体を回収することと、を実行させるプログラムが提供される。本発明の第12の態様に従えば、コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第1液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、少なくとも一部が第1間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第1内面と射出面と対向する基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、第1液体を供給することと、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収することと、第1供給口からの第1液体の供給と第1回収口からの第1液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第1液体で満たされるように、第1液体の第1液浸空間を形成することと、第1液浸空間の第1液体を介して基板を露光することと、を実行させ、第1内面及び第2内面の一方又は両方は、角部を有するプログラムが提供される。本発明の第13の態様に従えば、第10~第12のいずれか一つのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれと直交する方向すなわち鉛直方向をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸まわりの回転傾斜方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。<第1実施形態>第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置EXの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置EXは、液体LQを介して露光光ELで基板Pを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Pに照射される露光光ELの光路Kが液体LQで満たされるように液浸空間LS1が形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分空間、領域をいう。基板Pは、液浸空間LS1の液体LQを介して露光光ELで露光される。本実施形態においては、液体LQとして、水純水を用いる。図1において、露光装置EXは、マスクMを保持して移動可能なマスクステージ1と、基板Pを保持して移動可能な基板ステージ2と、マスクMを露光光ELで照明する照明系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターンの像を基板Pに投影する投影光学系PLと、液体LQの液浸空間LS1を形成する液浸部材3と、マスクステージ1及び基板ステージ2の位置を計測する計測システム4と、露光装置EX全体の動作を制御する制御装置5と、制御装置5に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置6とを備えている。記憶装置6は、例えばRAM等のメモリ、ハードディスク、CD-ROM等の記録媒体を含む。記憶装置6には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステムOSがインストールされ、露光装置EXを制御するためのプログラムが記憶されている。マスクMは、基板Pに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクMは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクMとして、反射型マスクを用いることもできる。基板Pは、デバイスを製造するための基板である。基板Pは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材フォトレジストの膜である。また、基板Pが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Pが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜トップコート膜を含んでもよい。本実施形態において、液浸部材3は、投影光学系PLの複数の光学素子のうち、投影光学系PLの像面に最も近い終端光学素子7の周囲の少なくとも一部に配置される。終端光学素子7は、露光光ELが射出される射出面7Rと、射出面7Rの周囲に配置される外側面7Sとを有する。本実施形態において、液浸空間LS1は、射出面7R側に形成される。液浸空間LS1は、射出面7Rから射出される露光光ELの光路Kが液体LQで満たされるように形成される。本実施形態において、液浸部材3は、射出面7R側に液体LQの液浸空間LS1を形成する第1部材30と、光路Kに対して第1部材30の外側に配置される第2部材60とを含む。また、露光装置EXは、少なくとも投影光学系PLを支持するボディフレーム100を備えている。また、露光装置EXは、露光光ELが進行する空間102の環境温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つを調整するチャンバ装置103を備えている。チャンバ装置103は、空間102を形成するチャンバ部材104と、その空間102の環境を調整する環境制御装置105とを有する。空間102は、チャンバ部材104が形成する内部空間である。ボディ100は、空間102に配置される。空間102は、空間102A及び空間102Bを含む。空間102Aは、基板Pが処理される空間である。基板ステージ2は、空間102Aを移動する。環境制御装置105は、空間102A、102Bに気体Gsを供給する給気部105Sを有し、その給気部105Sから空間102A、102Bに気体Gsを供給して、その空間102A、102Bの環境を調整する。本実施形態においては、少なくとも基板ステージ2、及び投影光学系PLの終端光学素子7が空間102Aに配置される。本実施形態においては、環境制御装置105から空間102に供給される気体Gsは、空気である。照明系ILは、所定の照明領域IRに露光光ELを照射する。照明領域IRは、照明系ILから射出される露光光ELが照射可能な位置を含む。照明系ILは、照明領域IRに配置されたマスクMの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ELで照明する。照明系ILから射出される露光光ELとして、例えば水銀ランプから射出される輝線g線、h線、i線及びKrFエキシマレーザ光波長248nm等の遠紫外光DUV光、ArFエキシマレーザ光波長193nm、及びF2レーザ光波長157nm等の真空紫外光VUV光等が用いられる。本実施形態においては、露光光ELとして、紫外光真空紫外光であるArFエキシマレーザ光を用いる。マスクステージ1は、マスクMを保持した状態で、ベース部材8のガイド面8G上を移動可能である。マスクステージ1は、マスクMの少なくとも一部が照明領域IRを移動するように、ガイド面8G上を移動する。マスクステージ1は、例えば米国特許第6452292号明細書に開示されているような平面モータを含む駆動システム1Dの作動により移動する。平面モータは、マスクステージ1に配置された可動子と、ベース部材8に配置された固定子とを有する。本実施形態においては、マスクステージ1は、駆動システム1Dの作動により、ガイド面8G上において、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZ方向の6つの方向に移動可能である。なお、マスクステージ1を移動させる駆動システム1Dは、平面モータでなくてもよい。例えば、駆動システム1Dがリニアモータを含んでもよい。投影光学系PLは、所定の投影領域PRに露光光ELを照射する。投影領域PRは、投影光学系PLから射出される露光光ELが照射可能な位置を含む。投影光学系PLは、投影領域PRに配置された基板Pの少なくとも一部に、マスクMのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系PLは、その投影倍率が例えば1/4、1/5、又は1/8等の縮小系である。なお、投影光学系PLは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系PLの光軸は、Z軸と平行である。また、投影光学系PLは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系PLは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。終端光学素子7の射出面7Rは、投影光学系PLの像面に向けて露光光ELを射出する。投影領域PRは、射出面7Rから射出される露光光ELが照射可能な位置を含む。また、本実施形態において、投影領域PRは、射出面7Rと対向する位置を含む。基板ステージ2は、基板Pを保持した状態で、ベース部材9のガイド面9G上を移動可能である。基板ステージ2は、基板Pの少なくとも一部が投影領域PRを移動するように、ガイド面9G上を移動する。基板ステージ2は、例えば米国特許第6452292号明細書に開示されているような平面モータを含む駆動システム2Dの作動により移動する。平面モータは、基板ステージ2に配置された可動子と、ベース部材9に配置された固定子とを有する。本実施形態においては、基板ステージ2は、駆動システム2Dの作動により、ガイド面9G上において、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZ方向の6つの方向に移動可能である。なお、基板ステージ2を移動させる駆動システム2Dは、平面モータでなくてもよい。例えば、駆動システム2Dがリニアモータを含んでもよい。本実施形態において、基板ステージ2は、例えば米国特許出願公開第2007/0177125号明細書、米国特許出願公開第2008/0049209号明細書等に開示されているような、基板Pの下面をリリース可能に保持する第1保持部21と、第1保持部21の周囲に配置され、カバー部材Tの下面をリリース可能に保持する第2保持部22とを有する。カバー部材Tは、第1保持部21に保持された基板Pの周囲に配置される。本実施形態において、第1保持部21は、基板Pを保持する。第2保持部22は、カバー部材Tを保持する。本実施形態において、第1保持部21に保持された基板Pの上面と第2保持部22に保持されたカバー部材Tの上面とは、ほぼ同一平面内に配置されるほぼ面一である。なお、カバー部材Tは、基板ステージ2に一体的に形成されていてもよい。この場合、第2保持部22は省略される。計測システム4は、干渉計システム及びエンコーダシステムの一方又は両方を含む。干渉計システムは、マスクステージ1の計測ミラーに計測光を照射して、そのマスクステージ1の位置を計測する干渉計ユニットと、基板ステージ2の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ2の位置を計測する干渉計ユニットとを含む。エンコーダシステムは、例えば米国特許出願公開第2007/0288121号明細書に開示されているような、計測光を射出する照射装置及び計測光を受光する受光装置を有するエンコーダヘッドを備える。エンコーダヘッドは、基板ステージ2に配置され、格子スケール、格子線を有するスケール部材に照射装置からの計測光を照射して、その格子を介した計測光を受光装置で受光して、その格子の位置を計測する。基板Pの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置5は、計測システム4の計測結果に基づいて、駆動システム1D、2Dを作動し、マスクステージ1マスクM、及び基板ステージ2基板Pの位置制御を実行する。次に、本実施形態に係る液浸部材3について説明する。図2は、本実施形態に係る液浸部材3の一例を示すYZ平面と平行な側断面図、図3は、図2の一部を拡大した図である。図2及び図3に示すように、液浸部材3は、終端光学素子7の周囲の少なくとも一部に配置される。終端光学素子7は、露光光ELが射出される射出面7Rと、射出面7Rの周囲に配置される外側面7Sとを有する。本実施形態において、射出面7Rは、-Z方向を向いており、XY平面と平行である。なお、-Z方向を向いている射出面7Rは、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。終端光学素子7の光軸AXは、Z軸と平行である。本実施形態において、射出面7Rから射出される露光光ELは、-Z方向に進行する。本実施形態において、外側面7Sは、露光光ELを射出しない。換言すれば、露光光ELは、外側面7Sを通過しない。本実施形態において、外側面7Sは、終端光学素子7の光軸AXに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。本実施形態において、液浸空間LS1は、終端光学素子7と、射出面7Rが対向する物体との間の露光光ELの光路Kが液体LQで満たされるように、射出面7R側に形成される。本実施形態において、射出面7Rが対向する物体は、投影領域PRに配置可能な物体を含む。本実施形態において、その物体は、基板ステージ2カバー部材T、及び基板ステージ2第1保持部21に保持された基板Pの少なくとも一つを含む。また、その物体は、液浸部材3の下面と対向するように配置可能である。基板Pの露光において、基板Pに照射される露光光ELの光路Kが液体LQで満たされるように、射出面7R側に液浸空間LS1が形成される。基板Pに露光光ELが照射されているとき、投影領域PRを含む基板Pの上面表面の一部の領域だけが液体LQで覆われるように液浸空間LS1が形成される。本実施形態において、液浸部材3は、第1部材30と第2部材60とを含む。本実施形態において、第1部材30及び第2部材60は、支持装置10を介して、ボディ100に支持される。本実施形態において、ボディ100の位置は、実質的に固定されている。支持装置10は、物体基板P等の上方に、第1部材30及び第2部材60を支持する。本実施形態において、支持装置10は、第1部材30及び第2部材60が接続される支持部材11と、支持部材11とボディ100とを連結する連結部材12とを含む。本実施形態において、支持部材11及び連結部材12の位置は、実質的に固定されている。換言すれば、支持部材11及び連結部材12とボディ100との相対位置は、変化しない。本実施形態において、支持装置10は、第1部材30と支持部材11とを接続する第1支持機構13と、第2部材60と支持部材11とを接続する第2支持機構14とを含む。本実施形態において、第1支持機構13は、支持部材11に対する第1部材30の位置が変化しないように、第1部材30を支持する。すなわち、本実施形態において、第1部材30の位置は、変化しない。本実施形態において、第2支持機構14は、支持部材11に対する第2部材60の位置が変化するように、第2部材60を支持する。すなわち、本実施形態において、第2部材60の位置は、変化可能である。換言すれば、第2部材60と支持部材11との相対位置は、変化可能である。したがって、本実施形態において、第2支持機構14は、第1部材30に対して第2部材60を可動に支持する。本実施形態において、第2部材60は、第2支持機構14によって、能動的に移動可能に支持されている。例えば、第2支持機構14が、第2部材60を移動可能なアクチュエータを含む駆動装置を備えてもよい。なお、第2部材60は、第2支持機構14によって、受動的に移動可能に支持されてもよい。例えば、第2支持機構14が、ばね部材及びベローズ部材の一方又は両方を含み、第2部材60を移動可能に支持してもよい。本実施形態において、第2部材60は、少なくともZ軸方向に移動可能に支持される。なお、第2部材60が、X軸方向、Y軸方向、θX方向、及びθY方向、θZ方向の少なくとも一つに関して移動可能に支持されてもよい。なお、第1支持機構13が、第1部材30を移動可能に支持してもよい。例えば、第1部材30が、ばね部材及びベローズ部材の一方又は両方を含む第1支持機構13によって、受動的に移動可能に支持されてもよい。例えば、第1部材30が、アクチュエータを含む第2支持機構14によって、能動的に移動可能に支持されてもよい。また、第1部材30は、Z軸方向に移動可能に支持されてもよいし、X軸方向、Y軸方向、Z軸方向、θX方向、θY方向、及びθZ方向の少なくとも一つに関して移動可能に支持されてもよい。なお、第2部材60の位置が、実質的に固定されてもよい。なお、第1部材30及び第2部材60の一方又は両方が、支持装置10とは異なる部材で支持されてもよい。例えば、第1部材30及び第2部材60の一方又は両方が、支持装置10とは異なる支持部材を介して、ボディ100に支持されてもよいし、投影光学系PLの少なくとも一つの光学素子を支持する支持部材で支持されてもよい。また、第1部材30と第2部材60の一方又は両方が、投影光学系PLを支持していないボディフレームに、連結するようにしてもよい。第1部材30は、第1内面30Aと、第1下面30Bとを有する。第1内面30Aの少なくとも一部は、第1間隙G1を介して、終端光学素子7の外側面7Sと対向する。第1下面30Bは、射出面7Rと対向する物体が対向可能である。図2及び図3においては、射出面7R及び第1下面30Bが対向する物体の一例として基板Pが示されているが、上述したように、その物体としては、例えば基板ステージ2カバー部材Tでもよいし、基板ステージ2及び基板Pとは別の物体でもよい。以下の説明においては、射出面7Rが対向する物体が基板Pである場合を例にして説明する。本実施形態において、第1部材30は、環状の部材である。第1部材30の少なくとも一部は、終端光学素子7の周囲に配置される。また、本実施形態においては、第1部材30の少なくとも一部は、終端光学素子7と基板Pとの間の光路Kの周囲にも配置される。なお、第1部材30は、環状の部材でなくてもよい。例えば、第1部材30が終端光学素子7の周囲において、間隔をあけて複数配置されてもよい。また、第1部材30が、終端光学素子7の周囲の一部に配置されてもよい。また、第1部材30が、終端光学素子7の周囲の少なくとも一部に配置され、終端光学素子7と基板Pとの間の光路Kの周囲には配置されなくてもよい。第2部材60は、光路K終端光学素子7の光軸AXに対して第1部材30の外側に配置される。第2部材60は、第2内面60Aと、第2下面60Bとを有する。第2内面60Aの少なくとも一部は、第2間隙G2を介して、第1部材30の第1外面30Cと対向する。第2下面60Bは、基板Pが対向可能である。本実施形態において、終端光学素子7と第1部材30との間に空間SP1が形成される。第1部材30と第1部材30の下面と対向する物体基板P等との間に空間SPaが形成される。第2部材60と第2部材の下面と対向する物体基板P等との間に空間SPbが形成される。第1部材30と第2部材60との間に空間SP2が形成される。空間SP1は、上端に開口23を有する。開口23は、外側面7Sと第1内面30Aの上端との間に形成される。空間SP1は、開口23を介して、液浸部材3の周囲の雰囲気に開放されている。すなわち、空間SP1は、開口23を介して、チャンバ装置103によって形成される空間102102Aに開放されている。換言すれば、空間SP1は、開口23を介して、空間102と接続される。なお、空間102の圧力は、大気圧に調整されていてもよし、大気圧より高い圧力に調整されてもよいし、低い圧力に調整されてもよい。空間SP2は、上端に開口25を有し、下端に開口26を有する。開口25は、第1外面30Cの上端と第2内面60Aとの間に形成される。開口26は、第1外面30Cの下端と第2内面60Aとの間に形成される。空間SP2は、開口25を介して、液浸部材3の周囲の雰囲気に開放されている。すなわち、空間SP2は、開口25を介して、空間102102Aと接続される。空間SP2は、開口26を介して、空間SPa及び空間SPbに接続される。また、空間SPa及び空間SPbも、液浸部材3の周囲の雰囲気に開放される。液浸部材3は、液体LQを供給する供給口31と、供給口31からの液体LQの少なくとも一部を回収する回収口62とを有する。供給口31は、液浸空間LS1が形成されるように、液体LQを供給する。供給口31から供給される液体LQの少なくとも一部は、光路Kに供給される。本実施形態において、回収口62は、光路K光軸AXに対する放射方向に関して供給口31の外側に配置される。本実施形態において、供給口31は、第1部材30に配置される。本実施形態において、供給口31は、供給口31Aと供給口31Bとを含む。供給口31Aは、空間SP1に面するように配置される。本実施形態において、供給口31Aは、射出面7Rと基板Pとの間の光路Kに面するように、第1部材30に配置される。本実施形態において、第1内面30Aに供給口31Aが配置される。第1内面30Aの少なくとも一部は、供給口31Aの周囲に配置される。なお、供給口31Aが、終端光学素子7の外側面7Sと対向するように、第1内面30Aに配置されてもよい。供給口31Bは、空間SPaに面するように配置される。本実施形態において、供給口31Bは、基板Pが対向するように、第1部材30に配置される。本実施形態において、第1下面30Bに供給口31Bが配置される。第1下面30Bの少なくとも一部は、供給口31Bの周囲に配置される。なお、本実施形態において、供給口31Aが設けられ、供給口31Bが省略されてもよいし、供給口31Bが設けられ、供給口31Aが省略されてもよい。なお、供給口31が、第1外面30Cの少なくとも一部に配置された供給口を含んでもよい。なお、供給口31が、第2部材60の少なくとも一部に設けられた供給口を含んでもよい。例えば、液体LQを供給する供給口が第2部材60の第2下面60Bの少なくとも一部に配置されてもよいし、第2内面60Aの少なくとも一部に配置されてもよい。すなわち、液体LQを供給する供給口が、第1部材30及び第2部材60の両方に配置されてもよい。本実施形態において、回収口62は、第2部材60に配置される。本実施形態において、回収口62は、空間SPbに面するように配置される。本実施形態において、回収口62は、基板Pが対向するように、第2部材60に配置される。本実施形態において、第2下面60Bに回収口62が配置される。第2下面60Bの少なくとも一部は、回収口62の周囲に配置される。本実施形態において、第2部材60は、基板Pに面するように形成された開口60Kを有する。開口60Kは、第2部材60の内部に形成された空間60Sの下端に配置される。本実施形態において、開口60Kに、多孔部材63が配置される。本実施形態において、多孔部材63は、空間60Sに面する上面と、上面の反対方向を向く下面と、上面と下面とを結ぶ複数の孔とを有する。本実施形態において、回収口62は、多孔部材63の孔を含む。本実施形態において、第2下面60Bは、多孔部材63の下面を含む。液体LQは、多孔部材63の孔を介して回収される。なお、回収口62は、多孔部材63の孔でなくてもよい。例えば、回収口62が、第2部材60に形成された開口でもよい。すなわち、第2部材60が多孔部材を介さずに、液体LQを回収してもよい。なお、回収口62が、第2下面60Bに配置されず、第2部材60の第2内面60Aの少なくとも一部に配置されてもよい。なお、回収口62が、第2内面60Aに配置された回収口、及び第2下面60Bに配置された回収口を含んでいてもよい。なお、回収口62が、第1部材30の少なくとも一部に設けられてもよい。例えば、回収口62が第1部材30の第1下面30Bの少なくとも一部に配置されてもよいし、第1外面30Cの少なくとも一部に配置されてもよい。なお、回収口62が、第1部材30に配置された回収口、及び第2部材60に配置された回収口を含んでいてもよい。本実施形態において、液浸部材3の下面と対向する物体基板P等の上面は、間隙Gaを介して、第1部材30の第1下面30Bと対向する。物体基板P等の上面は、間隙Gbを介して、第2部材60の第2下面60Bと対向する。本実施形態において、間隙Gbの寸法は、間隙Gaの寸法よりも小さい。なお、間隙Gbの寸法と間隙Gaの寸法とが等しくてもよいし、間隙Gbの寸法が、間隙Gaの寸法よりも大きくてもよい。本実施形態において、第1下面30Bは、XY平面と実質的に平行である。第2下面60Bは、XY平面と実質的に平行である。本実施形態において、第1下面30Bは、基板Pの上面と実質的に平行である。本実施形態において、第2下面60Bは、基板Pの上面と実質的に平行である。なお、第1下面30B及び第2下面60Bの一方又は両方が、XY平面に対して傾斜してもよい。また、第1下面30B及び第2下面60Bの一方又は両方が、曲面を含んでもよい。本実施形態において、第1部材30は、少なくとも一部が射出面7Rと基板Pの上面との間に配置される第1部分30PAと、終端光学素子7の周囲の少なくとも一部に配置される第2部分30PBとを含む。第1部分30PAは、射出面7Rが対向する上面と、その上面の反対方向を向く下面とを含む。また、第1部分30PAは、射出面7Rから射出される露光光ELが通過する開口孔24を有する。開口24は、第1部分30PAの上面と下面とを結ぶように形成される。第1下面30Bは、第1部分30PAの下面を含む。第1内面30Aは、第2部分30PBに配置される。本実施形態において、第1内面30Aは、光路K光軸AXに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。本実施形態において、第1内面30Aは、終端光学素子7の外側面7Sと実質的に平行である。なお、第1内面30Aは、終端光学素子7の外側面7Sと非平行でもよい。本実施形態において、空間SP1は、開口24を介して、空間SPaと接続される。第1外面30Cは、光路K光軸AXを囲むように配置される。本実施形態において、第1外面30Cは、Z軸と実質的に平行である。なお、第1外面30Cが、光路K光軸AXに対する放射方向に関して内側に向かって上方に傾斜してもよい。なお、第1外面30Cが、光路K光軸AXに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。第2内面60Aは、光路K光軸AXを囲むように配置される。本実施形態において、第2内面60Aは、第1外面30Cと実質的に平行である。本実施形態において、第2内面60Aは、Z軸とほぼ平行である。なお、第2内面60Aは、第1外面30Cと非平行でもよい。なお、第2内面60Aが、光路K光軸AXに対する放射方向に関して内側に向かって上方に傾斜してもよい。なお、第2内面60Aが、光路K光軸AXに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。本実施形態において、液体LQ及び空間102の気体Gsを含む流体は、空間SP1と空間SPaとの間を流通移動可能である。また、流体は、空間SP2と空間SPaとの間を流通移動可能である。また、流体は、空間SP2と空間SPbとの間を流通移動可能である。また、流体は、空間SPaと空間SPbとの間を流通移動可能である。本実施形態において、液浸部材3は、第1部材30と第2部材60との間の第2間隙G2空間SP2に面し、その第2間隙G2に液体LRを供給する供給口61を備えている。本実施形態において、液体LRは、液体LQと同種類の液体である。すなわち、本実施形態において、液体LRは、水純水である。なお、供給口61から供給される液体LRが、供給口31から供給される液体LQと異なる種類の液体でもよい。例えば、液体LRが、液体LQとは異なる粘性粘度を有する液体でもよい。また、液体LRが、液体LQとは異なる透過率露光光ELに対する透過率を有する液体でもよい。本実施形態において、供給口61は、第2間隙G2空間SP2に面するように、第2部材60の第2内面60Aに配置されている。なお、供給口61が、第2間隙G2に面するように、第1部材30の第1外面30Cに配置されてもよい。なお、供給口61が、第2間隙G2に面するように、第1部材30及び第2部材60の両方に配置されてもよい。なお、供給口61が、第2間隙G2に面するように、第1部材30及び第2部材60とは別の部材に配置されてもよい。本実施形態において、供給口61は、Z軸方向に関して、供給口3131A、31Bよりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、供給口61は、Z軸方向に関して、射出面7Rよりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、供給口61は、Z軸方向に関して、回収口62よりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、供給口61は、Z軸方向に関して、第2内面60Aの中央部よりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、供給口61は、Z軸方向に関して、第1外面30Cの中央部よりも高い位置に配置される。なお、供給口61が、Z軸方向に関して、供給口31Bよりも高い位置に配置され、供給口31Aよりも低い位置に配置されてもよい。本実施形態において、供給口3131A、31Bは、第1部材30の内部に形成された供給流路3232A、32Bを介して、液体LQを供給可能な液体供給装置33と接続される。液体供給装置33は、クリーンで温度調整された液体LQを供給可能である。供給口31Aは、液体供給装置33からの液体LQを、終端光学素子7と基板Pとの間の光路Kを含む空間に供給する。また、供給口31Bは、液体供給装置33からの液体LQを、第1部材30と基板Pとの間の空間SPaに供給する。本実施形態において、供給口31Aから供給された液体LQは、射出面7Rと第1部分30PAの上面との間の空間を流れ、開口24を介して、基板P上に供給される。供給口31Aから供給され、開口24を通過した液体LQの少なくとも一部は、空間SPaに供給される。供給口31Aから空間SPaに供給された液体LQの少なくとも一部、及び供給口31Bから空間SPaに供給された液体LQの少なくとも一部は、開口26を介して、第1部材30と第2部材60との間の空間SP2第2間隙G2に流入する可能性がある。また、供給口31Aから空間SPaに供給された液体LQの少なくとも一部、及び供給口31Bから空間SPaに供給された液体LQの少なくとも一部は、第2部材60と基板Pとの間の空間SPbに流入する。空間SPbの液体LQの少なくとも一部は、空間SPbに面するように配置されている回収口62多孔部材63の孔から回収される。本実施形態において、回収口62は、第2部材60の内部に形成された回収流路空間60Sを介して、液体LQを回収可能な液体回収装置63と接続される。液体回収装置63は、例えば真空システムを含み、液体LQを回収吸引可能である。液体供給装置33及び液体回収装置63は、制御装置5に制御される。本実施形態においては、供給口3131A、31Bからの液体LQの供給と並行して、回収口62からの液体LQの回収が実行されることによって、一方側の終端光学素子7、第1部材30、及び第2部材60と、他方側の基板Pとの間に、液体LQで液浸空間LS1が形成される。本実施形態において、液浸空間LS1の少なくとも一部は、第1部材30の第1下面30B側に形成される。また、液浸部材LS1の少なくとも一部は、第2部材60の第2下面60B側に形成される。本実施形態において、供給口61は、第2部材60の内部に形成された供給流路64を介して、液体LRを供給可能な液体供給装置65と接続される。液体供給装置65は、液体LRを供給可能である。供給口61は、液体供給装置65からの液体LRを、第1部材30と第2部材60との間の空間SP2第2間隙G2に供給する。本実施形態において、供給口61から供給された液体LRは、第1外面30Cと第2内面60Aとの間の空間SP2を流れ、空間SP2の下端に配置された開口26を介して、基板P上に供給される。供給口61から供給され、開口26を通過した液体LRの少なくとも一部は、空間SPbに流入する。供給口61から空間SP2に供給され、開口26を介して空間SPbに流入した液体LRの少なくとも一部は、空間SPbに面するように配置されている回収口62多孔部材63の孔から回収される。液体回収装置63は、液体LRも回収可能である。液体供給装置65は、制御装置5に制御される。本実施形態においては、供給口3131A、31Bからの液体LQの供給、及び供給口61からの液体LRの供給と並行して、回収口62からの液体LQ、LRの回収が実行される。なお、供給口31及び供給口61の一方からの液体供給を行い、他方からの液体供給を停止することもできるなお、本実施形態において、供給口31から供給される液体LQの温度と、供給口61から供給される液体LRの温度とが異なってもよい。例えば、第1部材30及び第2部材60の一方又は両方の温度を調整するために、供給口61から供給される液体LRの温度が、供給口31から供給される液体LQの温度よりも高くてもよいし、低くてもよい。また、供給口31から供給される液体LQのクリーン度と、供給口61から供給される液体LRのクリーン度とが異なってもよい。例えば、供給口61から供給される液体LRのクリーン度が、供給口31から供給される液体LQのクリーン度よりも低くてもよい。次に、上述の構成を有する露光装置EXを用いて基板Pを露光する方法について説明する。制御装置5は、露光前の基板Pを第1保持部21に搬入ロードする処理を実行する。制御装置5は、露光前の基板Pを第1保持部21に搬入ロードするために、基板ステージ2を、液浸部材3から離れた基板交換位置に移動する。なお、例えば露光後の基板Pが第1保持部21に保持されている場合、その露光後の基板Pが第1保持部21から搬出アンロードする処理が実行された後、露光前の基板Pを第1保持部21に搬入ロードする処理が実行される。基板交換位置は、基板Pの交換処理が実行可能な位置である。基板Pの交換処理は、搬送装置を用いて、第1保持部21に保持された露光後の基板Pを第1保持部21から搬出アンロードする処理、及び第1保持部21に露光前の基板Pを搬入ロードする処理の少なくとも一方を含む。制御装置5は、液浸部材3から離れた基板交換位置に基板ステージ2を移動して、基板Pの交換処理を実行する。露光前の基板Pが第1保持部21にロードされた後、制御装置5は、基板ステージ2を投影領域PRに移動して、終端光学素子7及び液浸部材3と基板ステージ2基板Pとの間に液体LQの液浸空間LS1を形成する。制御装置5は、液浸空間LS1を形成するために、供給口31から液体LQを供給する。また、制御装置5は、供給口31からの液体LQの少なくとも一部を回収口62から回収する。供給口31からの液体LQの供給と回収口62からの液体LQの回収とにより、射出面7Rと基板Pとの間の露光光ELの光路Kが液体LQで満たされるように、終端光学素子7、第1部材30、及び第2部材60の少なくとも一部と、基板P基板ステージ2との間に、液浸空間LS1が形成される。光路Kが液体LQで満たされるように液浸空間LS1が形成された後、制御装置5は、基板Pの露光処理を開始する。制御装置5は、液浸空間LS1が形成され、射出面7と基板Pの少なくとも一部とが対向している状態で、照明系ILから露光光ELを射出する。照明系ILはマスクMを露光光ELで照明する。マスクMからの露光光ELは、投影光学系PL及び液体LQを介して基板Pに照射される。これにより、基板Pは、液浸空間LS1の液体LQを介して露光光ELで露光され、マスクMのパターンの像が基板Pに投影される。本実施形態の露光装置EXは、マスクMと基板Pとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクMのパターンの像を基板Pに投影する走査型露光装置所謂スキャニングステッパである。本実施形態においては、基板Pの走査方向同期移動方向をY軸方向とし、マスクMの走査方向同期移動方向もY軸方向とする。制御装置5は、基板Pを投影光学系PLの投影領域PRに対してY軸方向に移動するとともに、その基板PのY軸方向への移動と同期して、照明系ILの照明領域IRに対してマスクMをY軸方向に移動しつつ、投影光学系PLと基板P上の液浸空間LS1の液体LQとを介して基板Pに露光光ELを照射する。本実施形態においては、液浸空間LS1が形成されている状態で、供給口61から液体LRが供給される。なお、液浸空間LS1が形成された後に供給口61からの液体供給を開始してもよいし、液浸空間LS1が形成される前に供給口61からの液体供給を開始してもよい。本実施形態において、供給口31から供給された液体LQの少なくとも一部は、開口26を介して、空間SP2第2間隙G2に流入する。本実施形態においては、空間SP2の少なくとも一部に液体LQが存在する状態で、供給口61から液体LRが供給される。これにより、空間SP2の少なくとも一部において、液体LQ、LRが流動する。また、開口26を介して空間SP2に流入した液体LQの少なくとも一部は、開口26を介して空間SP2から排出される。また、空間SP2の液体LRの少なくとも一部も、開口26を介して空間SP2から排出される。空間SP2から排出された液体LQ、LRの少なくとも一部は、空間SPbに流入し、回収口62から回収される。本実施形態においては、供給口61から空間SP2第2間隙G2に液体LRが供給されるため、空間SP2において液体LQLRが長時間滞留することが抑制される。これにより、滞留に起因する空間SP2における液体LQLRの汚染が抑制される。すなわち、空間SP2において液体LQLRが長時間滞留すると、バクテリアが発生する等、空間SP2における液体LQLRの質水質が低下したり、液体LQLRが汚染したりする可能性がある。その結果、光路Kに存在する液体LQの質、あるいは基板Pに接触する液体LQの質が低下し、露光不良が発生する可能性がある。本実施形態によれば、空間SP2第2間隙G2に面するように配置された供給口61から、その空間SP2に液体LRを供給するようにしたので、その空間SP2において液体LQLRを流動させることができる。また、その空間SP2から液体LQLRを排出することができる。これにより、空間SP2に液体LQLRが滞留することが抑制される。したがって、液体LQの汚染等が抑制され、露光不良の発生が抑制される。また、本実施形態によれば、供給口61から液体LRが供給されることにより、空間PSP2における液体LQLRの表面界面LG2の位置が調整されてもよい。例えば、供給口61からの単位時間当たりの液体LRの供給量が調整されることによって、空間SP2における液体LQの滞留を抑制しつつ、空間SP2における液体LQLRの表面LG2の位置がほぼ一定に維持してもよい。これにより、空間SP2の液体LQLRが、例えば空間SP2の上端の開口25から流出することが抑制される。以上説明したように、本実施形態によれば、空間SP2第2間隙G2に面するように配置された供給口61から、その空間SP2に液体LRを供給するようにしたので、空間SP2における液体LQを所望の状態に維持することができる。例えば、空間SP2における液体LQLRの滞留を抑制しつつ、その空間SP2からの液体LQLRの流出を抑制することができる。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生を抑制することができる。<第2実施形態>次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。図4は、第2実施形態に係る液浸部材3002の一例を示す図である。図4に示すように、本実施形態において、液浸部材3002は、第1部材302と第2部材602との間の第2間隙G2空間SP2に面し、その第2間隙G2の液体LQを回収する回収口66を備えている。本実施形態において、回収口66は、第2間隙G2に面するように、第2部材602の第1内面602Aに配置されている。なお、回収口66が、第2間隙G2に面するように、第1部材302の第1外面302Cに配置されてもよい。なお、回収口66が、第2間隙G2に面するように、第1部材302及び第2部材602の両方に配置されてもよい。なお、回収口66が、第2間隙G2に面するように、第1部材302及び第2部材602とは別の部材に配置されてもよい。本実施形態において、回収口66は、Z軸方向に関して、供給口3131A、31Bよりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、回収口66は、Z軸方向に関して、射出面7Rよりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、回収口66は、Z軸方向に関して、回収口62よりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、回収口66は、Z軸方向に関して、第2内面602Aの中央部よりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、回収口66は、Z軸方向に関して、第1外面302Cの中央部よりも高い位置に配置される。なお、回収口66が、Z軸方向に関して、供給口31Bよりも高い位置に配置され、供給口31Aよりも低い位置に配置されてもよい。本実施形態において、回収口66は、第2部材602の内部に形成された回収流路67を介して、液体LQを回収可能な液体回収装置68と接続される。液体回収装置68は、回収口66を真空システムに接続可能であり、液体LQを回収可能である。本実施形態において、制御装置5は、液体LQで液浸空間LS1が形成された状態で、回収口66の回収動作を行う。本実施形態においては、供給口31から供給され、開口26を介して空間SPaから空間SP2へ流入した液体LQの少なくとも一部は、回収口66から回収される。これにより、露光不良の発生が抑制される。例えば、回収口66から空間SP2の液体LQの少なくとも一部が回収されることによって、その空間SP2における液体LQの滞留が抑制される。したがって、液体LQの汚染等が抑制される。また、回収口66から空間SP2の液体LQの少なくとも一部が回収されることによって、空間SP2の液体LQが空間SP2の上端の開口25を介して空間SP2から流出することが抑制される。また、回収口66から空間SP2の液体LQの少なくとも一部が回収されることによって、空間SP2における液体LQの表面界面LG2の位置が調整されてもよい。また、回収口65から空間SP2の液体LQの少なくとも一部が回収されることによって、空間SP2における液体LQの表面界面LG2の位置が実質的に一定に維持してもよい。本実施形態においても、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。<第3実施形態>次に、第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。図5は、第3実施形態に係る液浸部材3003の一例を示す図である。図5に示すように、本実施形態において、液浸部材3003は、第2間隙G2に面し、第2間隙G2に液体LRを供給する供給口61Cと、第2間隙G2に面し、第2間隙G2の液体LQ及び液体LRの一方又は両方を回収する回収口66Cとを有する。本実施形態において、供給口61Cは、第2間隙G2に面するように、第2部材603の第2内面603Aに配置される。回収口66Cは、第2間隙G2に面するように、第1部材303の第1外面303Cに配置される。本実施形態においては、Z軸方向に関して、供給口61Cと回収口66Cとは、ほぼ同じ位置高さに配置される。なお、供給口61Cが回収口66Cよりも高い位置に配置されてもよいし、低い位置に配置されもよい。なお、供給口61Cが、第1部材303の第1外面303Cに配置され、回収口66Cが、第2部材603の第2内面603Aに配置されてもよい。なお、供給口61C及び回収口66Cの両方が、第2部材603に配置され、第1部材303に配置されなくてもよい。なお、供給口61C及び回収口66Cの両方が、第1部材303に配置され、第2部材603に配置されなくてもよい。なお、供給口61C及び回収口66Cが、第1部材303及び第2部材603の両方に配置されてもよい。なお、供給口61C及び回収口66Cの一方又は両方が、第2間隙G2に面するように、第1部材303及び第2部材603とは別の部材に配置されてもよい。本実施形態においては、供給口61Cからの液体LRの供給と並行して、回収口66Cからの液体LQ、LRの回収が行われる。なお、制御装置5は、回収口66Cの回収動作を実行せずに、供給口61Cからの液体LRの供給を実行し、供給口61Cからの液体LRの供給動作を開始してから第1の時間が経過後、その供給動作を停止するとともに、回収口66Cからの回収動作を実行してもよい。また、制御装置5は、回収口66Cからの回収動作を開始してから第2の時間が経過後、その回収動作を停止するとともに、供給口61Cからの液体LRの供給動作を開始してもよい。すなわち、供給口61Cからの供給動作と回収口66Cからの回収動作とが交互に実行されてもよい。本実施形態において、制御装置5は、液体LQで液浸空間LS1が形成された状態で、供給口61Cの供給動作及び回収口66Cの回収動作を行う。本実施形態においては、供給口31から供給され、開口24を介して空間SPaから空間SP2へ流入した液体LQの少なくとも一部、及び供給口61Cから空間SP2へ供給された液体LRの少なくとも一部は、回収口66Cから回収される。これにより、露光不良の発生が抑制される。例えば、供給口61Cからの液体LRの供給、及び回収口66Cからの空間SP2の液体LQ、LRの回収の一方又は両方によって、その空間SP2における液体LQ、LRの滞留が抑制される。したがって、空間SP2における液体LQ、LRの汚染等が抑制される。また、供給口61Cの供給動作及び回収口66Cの回収動作の一方又は両方によって、空間SP2の液体LQLRが、空間SP2の上端の開口25を介して空間SP2から流出することが抑制される。また、供給口61Cの供給動作及び回収口66Cの回収動作の一方又は両方によって、空間SP2における液体LQLRの表面界面LG2の位置が調整されてもよい。また、供給口61Cの供給動作及び回収口66Cの回収動作の一方又は両方によって、空間SP2における液体LQLRの表面界面LG2の位置が実質的に一定に維持してもよい。本実施形態においても、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。<第4実施形態>次に、第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。図6は、第4実施形態に係る液浸部材3004の一例を示す図である。図6において、液浸部材3004は、第1内面304Aを有する第1部材304と、第2内面604Aを有する第2部材604とを備える。本実施形態において、終端光学素子7の外側面7Sと第1内面304Aとの間の第1間隙G1は、基板Pに近い第1部分B1と、第1部分B1の上方の第2部分B2とを有する。本実施形態において、第2部分B2における第1間隙G1の寸法は、第1部分B1における第1間隙G1の寸法よりも大きい。本実施形態において、第1内面304Aは、基板Pに近い第1領域A1と、第1領域A1の上方に配置される第2領域A2と、第1領域A1の上端と第2領域A2の下端とを結ぶように配置され、第1、第2領域A1、A2とは異なる方向を向く第3領域A3とを含む。本実施形態において、第1部分B1は、外側面7Sと第1領域A1との間の第1間隙G1を含む。第2部分B2は、外側面7Sと第2、第3領域A2、A3との間の第1間隙G1を含む。本実施形態において、第3領域A3は、光路K光軸AXに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。なお、第3領域A3が、XY平面とほぼ平行でもよい。本実施形態において、供給口31Aは、第1領域A1に配置される。供給口31Aは、液浸空間LS1の液体LQに浸かるように配置される。本実施形態において、第1内面304Aは、角部K1及び角部K2を有する。角部K1は、第1領域A1と第3領域A3との境界に形成される。角部K2は、第3領域A3と第2領域A2との境界に形成される。角部K1は、外側面7Sに向かって凸である。角部K2は、外側面7Sに対して凹む。本実施形態において、第2間隙G2は、基板Pに近い第3部分B3と、第3部分B3の上方の第4部分B4とを有する。第4部分B4における第2間隙G2の寸法は、第3部分B3における第2間隙G2の寸法よりも大きい。本実施形態において、第1外面304Cは、基板Pに近い第4領域A4と、第4領域A4の上方に配置される第5領域A5と、第4領域A4の上端と第5領域A5の下端とを結ぶように配置され、第4、第5領域A4、A5とは異なる方向を向く第6領域A6とを含む。本実施形態において、第3部分B3は、第4領域A4と第2内面604Aとの間の第2間隙G2を含む。第4部分B4は、第5、第6領域A5、A6と第2内面604Aとの間の第2間隙G2を含む。本実施形態において、第6領域A6は、光路K光軸AXに対する放射方向に関して内側に向かって上方に傾斜する。なお、第6領域A6が、XY平面とほぼ平行でもよい。本実施形態において、第5領域A5に、回収口66Dが配置される。回収口66Dは、第2間隙G2に面するように配置される。回収口66Dは、第2間隙G2の液体LQを回収する。なお、回収口66Dは、第6領域A6に配置されてもよいし、第5領域A5及び第6領域A6の両方に配置されてもよい。なお、第5領域A5に、第2間隙G2に面し、第2間隙G2に液体LRを供給する供給口61Dが、回収口66Dの替わりに、あるいは回収口66Dとともに、配置されもよい。なお、供給口61Dは、第6領域A6に配置されてもよいし、第5領域A5及び第6領域A6の両方に配置されてもよい。なお、第2間隙G2に液体LQを供給する供給口61D及び第2間隙G2の液体LQ、LRを回収する回収口66Dの一方又は両方が、第5、第6領域A5、A6に対向する第2内面604Aの少なくとも一部に配置されてもよい。本実施形態において、第1外面304Cは、角部K3及び角部K4を有する。角部K3は、第4領域A4と第6領域A6との境界に形成される。角部K4は、第6領域A6と第5領域A5との境界に形成される。角部K3は、第2内面604Aに向かって凸である。角部K4は、第2内面604Aに対して凹む。本実施形態においては、第1間隙G1において角部K1が設けられているため、第1間隙G1において、液体LQの表面界面LG1が角部K1よりも上方へ移動することが抑制される。これにより、第1間隙G1の液体LQが、開口23を介して第1間隙G1から流出することが抑制される。また、本実施形態においては、第2間隙G2において角部K3が設けられているため、第2間隙G2において、液体LQの表面界面LG2が角部K3よりも上方へ移動することが抑制される。これにより、第2間隙G2の液体LQが、開口25を介して第2間隙G2から流出することが抑制される。なお、本実施形態において、第2間隙G2から液体LQを回収する回収口66D、及び第2間隙G2に液体LRを供給する供給口61Dの一方又は両方が省略されてもよい。また、回収口66D及び供給口61Dの一方又は両方が角部K3よりも下方に配置されてもよい。<第5実施形態>次に、第5実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。図7は、第5実施形態に係る液浸部材3005の一例を示す図である。図7において、液浸部材3005は、第1内面305Aを有する第1部材305と、第2内面605Aを有する第2部材605とを備える。本実施形態において、第2間隙G2は、基板Pに近い第3部分B3と、第3部分B3の上方の第4部分B4とを有する。第4部分B4における第2間隙G2の寸法は、第3部分B3における第2間隙G2の寸法よりも大きい。本実施形態において、第2内面605Aは、基板Pに近い第7領域A7と、第7領域A7の上方に配置される第8領域A8と、第7領域A7の上端と第8領域A8の下端とを結ぶように配置され、第7、第8領域A7、A8とは異なる方向を向く第9領域A9とを含む。本実施形態において、第3部分B3は、第1外面305Cと第7領域A7との間の第2間隙G2を含む。第4部分B4は、第1外面305Cと第8、第9領域A8、A9との間の第2間隙G2を含む。本実施形態において、第9領域A9は、光路K光軸AXに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。なお、第9領域A9がXY平面と実質的に平行でもよい。本実施形態において、第8領域A8に、第2間隙G2に面し、第2間隙G2の液体LQを回収する回収口66Eが配置される。なお、回収口66Eは、第9領域A9に配置されてもよいし、第8領域A8及び第9領域A9の両方に配置されてもよい。なお、第8領域A8に、第2間隙G2に面し、第2間隙G2に液体LRを供給する供給口61Eが、回収口66Eの替わりに、あるいは回収口66Eとともに配置されてもよい。なお、供給口61Eは、第9領域A9に配置されてもよいし、第8領域A8及び第9領域A9の両方に配置されてもよい。なお、第2間隙G2に液体LQを供給する供給口61E及び第2間隙G2の液体LQ、LRを回収する回収口66Eの一方又は両方が、第8、第9領域A8、A9に対向する第2内面605Aの少なくとも一部に配置されてもよい。本実施形態において、第2内面605Aは、角部K5及び角部K6を有する。角部K5は、第7領域A7と第9領域A9との境界に形成される。角部K6は、第9領域A9と第8領域A8との境界に形成される。角部K5は、第1外面305Cに向かって凸である。角部K6は、第1外面305Cに対して凹む。本実施形態においては、第2間隙G2において角部K5が設けられているため、第2間隙G2において、液体LQの表面界面LG2が角部K5よりも上方へ移動することが抑制される。これにより、第2間隙G2の液体LQが、開口25を介して空間SP2から流出することが抑制される。なお、本実施形態において、第2間隙G2から液体LQを回収する回収口66E、及び第2間隙G2に液体LRを供給する供給口61Eの一方、又は両方が省略されてもよい。また、回収口66D及び供給口61Dの一方又は両方が角部K5よりも下方に配置されてもよい。なお、液浸部材3005が、上述の第4実施形態で説明した、角部K3、K4を含む第1外面304Cを有する第1部材304と、第5実施形態で説明した、角部K5、K6を含む第2内面605Aを有する第2部材605とを備えてもよい。<第6実施形態>次に、第6実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。図8は、第6実施形態に係る第1部材306の第1内面306Aの一例を示す図である。例えば図8に示すように、第1内面306Aに角部が無くてもよい。図8において、第1内面306Aは、外側面7Sとの距離が上方開口23に向かって徐々に大きくなるように傾斜している。図8に示す例においても、液体LQの表面張力によって、第1間隙G1の液体LQの表面界面LG1が上方開口23に向かって移動することが抑制される。したがって、第1間隙G1の液体LQが開口23から流出することが抑制される。<第7実施形態>次に、第7実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。図9は、第7実施形態に係る第1部材307の第1外面307C及び第2部材607の第2内面607Aの一例を示す図である。例えば図9に示すように、第1外面307C及び第2内面607Aに角部が無くてもよい。図9において、第2内面607Aは、第1外面307Cとの距離が上方開口25に向かって徐々に大きくなるように傾斜している。図9に示す例においても、液体LQの表面張力によって、第2間隙G2の液体LQの表面界面LG2が上方開口25に向かって移動することが抑制される。したがって、第2間隙G2の液体LQが開口25から流出することが抑制される。<第8実施形態>次に、第8実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。図10は、第8実施形態に係る液浸部材3008の一例を示す図である。図10において、液浸部材3008は、第2間隙G2の上部に配置され、第2間隙G2からの液体LQの流出を抑制する抑制部材70を備えている。本実施形態において、抑制部材70は、第1部材308の第1外面308Cに接続され、第2部材608に接触しない。本実施形態において、抑制部材70は、プレート状の部材である。抑制部材70は、第2間隙G2空間SP2に面する下面と、下面の反対方向を向く上面と、上面と下面とを結ぶ側面とを有する。本実施形態において、抑制部材70の側面は、第2内面608Aと対向する。抑制部材70の側面は、間隙Guを介して第2内面608Aと対向する。間隙Guは、第2間隙G2よりも小さい。第2間隙G2空間SP2は、間隙Guを介して雰囲気に開放される。なお、抑制部材70の少なくとも一部と第2部材608とが接触してもよい。なお、本実施形態においては、抑制部材70は、第1部材308に接続されているが、第2部材608に接続されてもよい。第2部材608に接続される抑制部材70は、第1部材308から離れていてもよいし、接触していてもよい。本実施形態において、抑制部材70は、Z軸方向に関して、第1外面308Cの中央部及び第2内面608Aの中央部よりも高い位置に配置される。本実施形態において、抑制部材70の表面の少なくとも一部は、第2間隙G2の液体LQに対して撥液性である。少なくとも、抑制部材70の下面及び側面は、液体LQに対して撥液性である。液体LQに対する抑制部材70の表面の接触角は、例えば90度以上である。なお、液体LQに対する抑制部材70の表面の接触角が、例えば100度以上でもよいし、110度以上でもよい。本実施形態においては、抑制部材70を配置したので、空間SP2第2間隙G2の液体LQが、開口25を介して空間SP2から流出することが抑制される。なお、抑制部材70を上述の第1実施形態~第7実施形態に適用することができる。<第9実施形態>次に、第9実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。図11は、第9実施形態に係る液浸部材3009の一部を示す図、図12は、液浸部材3009を下方から見た図である。図11及び図12において、液浸部材3009は、終端光学素子7の周囲の少なくとも一部に配置された第1部材309と、光路K光軸AXに対して第1部材309の外側に配置された第2部材609と、光路K光軸AXに対して第2部材609の外側に配置された第3部材809とを備えている。第3部材809は、第2部材609の第2外面609Cと対向する第3内面809Aと、基板P物体が対向可能な第3下面809Bとを有する。第3下面809Bと基板Pとの間に空間SPcが形成される。本実施形態において、第3下面809Bと基板Pの上面との間隙Gcの寸法は、第2下面609Bと基板Pの上面との間隙Gbの寸法とほぼ等しい。なお、間隙Gcの寸法が、間隙Gbの寸法よりも大きくてもよいし、小さくてもよい。本実施形態において、第3下面809B側に、液体LPの液浸空間LS2の少なくとも一部が形成される。本実施形態において、液浸空間LS2は、第3下面809Bと基板P物体との間に保持される液体LPによって形成される。本実施形態において、液体LPは、液体LQと同種類の液体である。すなわち、本実施形態において、液体LPは、水純水である。なお、液体LPが、液体LQと異なる種類の液体でもよい。例えば、液体LPが、液体LQとは異なる粘性粘度を有する液体でもよい。また、液体LPが、液体LQとは異なる透過率露光光ELに対する透過率を有する液体でもよい。本実施形態において、液浸空間LS2は、液浸空間LS1よりも小さい。本実施形態において、XY平面内における液浸空間LS2の大きさは、液浸空間LS1の大きさよりも小さい。また、本実施形態において、液浸空間LS2を形成する液体LPの体積重量は、液浸空間LS1を形成する液体LQの体積重量よりも小さい。なお、本実施形態において、第2部材609の第2外面609Cと第3部材809の第3内面809Aとの間隙G3の寸法は、間隙G2の寸法よりも小さい。なお、第2部材609の第2外面609Cと第3部材809の第3内面809Aの少なくとも一部とが接触してもよい。本実施形態において、第3部材809は、液浸空間LS2を形成するための液体LPを供給する供給口75と、供給口75からの液体LPの少なくとも一部を回収する回収口76とを有する。本実施形態において、供給口75は、基板Pが対向するように配置される。本実施形態において、回収口76は、基板Pが対向するように配置される。本実施形態において、供給口75及び回収口76は、第3部材809の第3下面809Bに配置される。本実施形態においては、第3下面809Bにおいて、回収口76は、供給口75の周囲に配置される。供給口75は、液体LPを供給可能な液体供給装置に接続される。回収口76は、液体を回収可能な液体回収装置に接続される。液体供給装置及び液体回収装置は、制御装置5によって制御される。供給口75からの液体LPの供給と並行して、回収口76からの液体LPの回収が行われることによって、第3部材809と基板Pとの間に液体LPで液浸空間LS2が形成される。図12に示すように、本実施形態において、第3部材809は、光路K光軸AXに対してY軸方向走査方向に配置される。本実施形態においては、第3部材809は、光路K光軸AXに対するY側及び-Y側のそれぞれに配置される。液浸空間LS2は、液浸空間LS1のY側及び-Y側のそれぞれに形成される。本実施形態においては、例えば液浸空間LS1が形成されている状態で、基板PがXY平面内において移動するとき、液浸空間LS1の液体LQが、第2部材609の第2下面609B側の空間のうち、光路Kに対してY側の一部の空間、及び-Y側の一部の空間に誘導される。以下の説明において、一部の空間を適宜、誘導空間GPS、と称する。本実施形態においては、液浸空間LS1が形成されている状態で、基板PがXY平面内において移動するとき、液体LQが誘導空間GPSに誘導されるように、第1下面309B及び第2下面609B多孔部材63の形状が定められている。本実施形態において、液浸空間LS2は、誘導空間GPSに隣接するように形成される。例えば、基板Pの移動条件等に起因して、液浸空間LS1の液体LQの少なくとも一部が、第2部材609の第2下面609Bが面する空間SPbから流出する可能性がある。本実施形態においては、液体LQは、空間SPbの液体LQは、誘導空間GPSから、空間SPbの外側に流出する可能性が高い。本実施形態においては、誘導空間GPSに隣接するように、液浸空間LS2が形成される。したがって、空間SPb誘導空間GPSから流出した液体LQは、液浸空間LS2の液体LPと接触する。また、流出した液体LQは、液浸空間LS2の液体LPと一体となる。空間SPbから流出した液体LQは、液浸空間LS2の液体LPとともに、回収口76から回収される。これにより、空間SPbから液体LQが流出したとしても、その流出した液体LQが空間SPcの外側に流出することが抑制される。以上説明したように、本実施形態よれば、光路Kに対して第2部材609の外側に、液浸空間LS2を形成するための第3部材809を設けたので、空間SPbから流出した液体LQを、液浸空間LS2によって捕捉することができる。したがって、液体LQが空間SPcの外側に流出することが抑制される。なお、第1部材309と第2部材609との間の空間に面する部分に、上述の第1実施形態~第8実施形態の構造を適用することができる。また、第2部材609と第3部材809との間にも空間が形成される場合には、第2部材609と第3部材809の、その空間に面する部分に、上述の第1実施形態~第8実施形態の第1部材30等と第2部材60等の構造を適用してもよい。また、上述の第1実施形態~第8実施形態に、液浸空間LS2を形成するための第3部材を設けてもよい。なお、上述の第1実施形態~第9実施形態の少なくとも一つで説明した色々な変形例は、他の実施形態にも適用できる。なお、上述したように、制御装置5は、CPU等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置5は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置6は、例えばRAM等のメモリ、ハードディスク、CD-ROM等の記録媒体を含む。記憶装置6には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステムOSがインストールされ、露光装置EXを制御するためのプログラムが記憶されている。なお、制御装置5に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。記憶装置6に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置コンピュータシステム5が読み取り可能である。記憶装置6には、制御装置5に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第1液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。記憶装置6に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置5に、少なくとも一部が第1間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第1内面と、射出面と対向する基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、第1液体を供給することと、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収することと、第1供給口からの第1液体の供給と第1回収口からの第1液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第1液体で満たされるように、第1液体の第1液浸空間を形成することと、第1液浸空間の第1液体を介して基板を露光することと、第1部材と第2部材との間の第2間隙に面する第2供給口から、第2間隙に第2液体を供給することと、を実行させてもよい。また、記憶装置6に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置5に、少なくとも一部が第1間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第1内面と射出面と対向する基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、第1液体を供給することと、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収することと、第1供給口からの第1液体の供給と第1回収口からの第1液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第1液体で満たされるように、第1液体の第1液浸空間を形成することと、第1液浸空間の第1液体を介して基板を露光することと、第1部材と第2部材との間の第2間隙に面する第2回収口から、第2間隙の第1液体を回収することと、を実行させてもよい。また、記憶装置6に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置5に、少なくとも一部が第1間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第1内面と射出面と対向する基板が対向可能な第1下面とを有する第1部材、及び光路に対して第1部材の外側に配置され、物体が対向可能な第2下面を有する第2部材の一方又は両方に配置された第1供給口から、第1液体を供給することと、第1部材及び第2部材の一方又は両方に配置された第1回収口から、第1供給口からの第1液体の少なくとも一部を回収することと、第1供給口からの第1液体の供給と第1回収口からの第1液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第1液体で満たされるように、第1液体の第1液浸空間を形成することと、第1液浸空間の第1液体を介して基板を露光することと、を実行させてもよい。この場合において、第1内面及び第2内面の一方又は両方は、角部を有してもよい。記憶装置6に記憶されているプログラムが制御装置5に読み込まれることにより、基板ステージ2、及び液浸部材3等、露光装置EXの各種の装置が協働して、液浸空間LS1が形成された状態で、基板Pの液浸露光等、各種の処理を実行する。なお、上述の各実施形態においては、投影光学系PLの終端光学素子7の射出面7R側像面側の光路Kが液体LQで満たされているが、投影光学系PLが、例えば国際公開第2004/019128号パンフレットに開示されているような、終端光学素子7の入射側物体面側の光路も液体LQで満たされる投影光学系でもよい。なお、上述の各実施形態においては、液体LQが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体LQは、露光光ELに対して透過性であり、露光光ELに対して高い屈折率を有し、投影光学系PLあるいは基板Pの表面を形成する感光材フォトレジスト等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体LQが、ハイドロフロロエーテルHFE、過フッ化ポリエーテルPFPE、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体LQが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。なお、上述の各実施形態においては、基板Pが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版合成石英、シリコンウエハ等を含んでもよい。なお、上述の各実施形態においては、露光装置EXが、マスクMと基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを走査露光するステップアンドスキャン方式の走査型露光装置スキャニングステッパであることとしたが、例えばマスクMと基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを一括露光し、基板Pを順次ステップ移動させるステップアンドリピート方式の投影露光装置ステッパでもよい。また、露光装置EXが、ステップアンドリピート方式の露光において、第1パターンと基板Pとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第1パターンの縮小像を基板P上に転写した後、第2パターンと基板Pとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第2パターンの縮小像を第1パターンと部分的に重ねて基板P上に一括露光する露光装置スティッチ方式の一括露光装置でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板P上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Pを順次移動させるステップアンドスティッチ方式の露光装置でもよい。また、露光装置EXが、例えば米国特許第6611316号明細書に開示されているような、2つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、1回の走査露光によって基板上の1つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置EXが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクションアライナー等でもよい。また、露光装置EXが、例えば米国特許第6341007号明細書、米国特許第6208407号明細書、及び米国特許第6262796号明細書等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、露光装置EXが2つの基板ステージを備えている場合、射出面7と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの基板保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの基板保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。また、露光装置EXが、例えば米国特許第6897963号明細書、及び欧州特許出願公開第1713113号明細書等に開示されているような、基板ステージと、基板を保持せずに、計測器計測部材を搭載する計測ステージとを備えた露光装置でもよい。その場合、終端光学素子7及び液浸部材との間で液浸空間を形成可能な物体は、基板ステージ及び計測ステージの少なくとも一つを含む。また、露光装置EXが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。露光装置EXが、基板Pに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子CCD、マイクロマシン、MEMS、DNAチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン又は位相パターン減光パターンを形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第6778257号明細書に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれるを用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。上述の各実施形態においては、露光装置EXが投影光学系PLを備えることとしたが、投影光学系PLを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。また、露光装置EXが、例えば国際公開第2001/035168号パンフレットに開示されているような、干渉縞を基板P上に形成することによって基板P上にラインアンドスペースパターンを露光する露光装置リソグラフィシステムでもよい。上述の実施形態の露光装置EXは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図13に示すように、マイクロデバイスの機能性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスクレチクルを製作するステップ202、デバイスの基材である基板を製造するステップ203、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理露光処理を含む基板処理ステップ204、デバイス組み立てステップダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む205、検査ステップ206等を経て製造される。なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。