"下記一般式[1]で表される化合物で反応器の内壁面をコーティングする方法。R1COOlR2mM1[1]上記一般式[1]において、R1は置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表し、R1が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R2は水素原子、ヒドロキシ基、または、置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表し、R2が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。M1は周期律表第1族、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、および、第13族からなる群より選ばれる金属原子を表す。lは1以上の数を、mは0以上の数を表す。ただし、lおよびmは1≦lm≦nを満足する数であり、nはM1の原子価に相当する数を表す。反応器が付加重合用反応器である請求項1に記載のコーティングする方法。請求項1または2に記載の方法により得られるコーティング済反応器。請求項3に記載のコーティング済反応器で行う付加重合方法であって、下記一般式[2]で表される遷移金属化合物Aまたはそのμ-オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’と、活性化剤Bと、を接触して得られる1次触媒を用いて付加重合可能なモノマーを付加重合させる付加重合方法。L1aM2X1b[2]式中、M2は周期律表第4族の遷移金属原子である。L1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のL1は互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。X1はハロゲン原子、ハイドロカルビル基但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く。またはハイドロカルビルオキシ基である。aは0<a≦3を満足する数を、bは0<b≦3を満足する数を表す。遷移金属化合物Aまたはそのμ-オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’と、活性化剤Bと、有機アルミニウム化合物Cと、を接触して得られる1次触媒を用いて付加重合可能なモノマーを付加重合させる請求項4に記載の付加重合方法。活性化剤Bが、下記a、下記b、下記cおよび下記dを接触させて得られる改質された粒子Bである請求項4または5に記載の付加重合方法。a:下記一般式[3]で表される化合物M3L22[3]b:下記一般式[4]で表される化合物R3t1TH[4]c:下記一般式[5]で表される化合物R4t2TH2[5]d:無機酸化物粒子または有機ポリマー粒子上記一般式[3]~[5]においてそれぞれ、M3は周期律表第12族の典型金属原子を表す。L2は水素原子、ハロゲン原子またはハイドロカルビル基を表し、L2が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R3は電子吸引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、R3が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R4はハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表す。Tはそれぞれ独立に周期律表の第15族または第16族の原子を表し、tはそれぞれの化合物のTの原子価に相当する数を表す。付加重合が予備重合である、請求項4~6のいずれかに記載の付加重合方法。請求項7に記載の方法により得られる予備重合済付加重合触媒成分。請求項8に記載の予備重合済付加重合触媒成分を用いる付加重合体の製造方法。請求項8に記載の予備重合済付加重合触媒成分および有機アルミニウム化合物Cを用いる付加重合体の製造方法。一般式[2]で表される遷移金属化合物Aまたはそのμ-オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’と、活性化剤Bと、を接触して得られる1次触媒を用い、付加重合可能なモノマーを予備重合させて予備重合済付加重合触媒成分を得、請求項3に記載のコーティング済反応器内で前記予備重合済付加重合触媒成分の存在下、付加重合可能なモノマーを付加重合させる付加重合体の製造方法。一般式[2]で表される遷移金属化合物Aまたはそのμ-オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’と、活性化剤Bと、を接触して得られる1次触媒を用い、付加重合可能なモノマーを予備重合させて予備重合済付加重合触媒成分を得、請求項3に記載のコーティング済反応器内で、前記予備重合済付加重合触媒成分および有機アルミニウム化合物Cの存在下、付加重合可能なモノマーを付加重合させる付加重合体の製造方法。付加重合体が、エチレンとα-オレフィンとの共重合体である請求項9~12のいずれかに記載の付加重合体の製造方法。本発明の目的は、化学反応を反応器中で行っても反応器内のファウリングを抑制することができる反応器、および付加重合方法を提供することである。本発明の第一は、下記一般式[1]で表される化合物で反応器の内壁面をコーティングする方法にかかるものである。R1COOlR2mM1[1]上記一般式[1]において、R1は置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表し、R1が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R2は水素原子、ヒドロキシ基、または、置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表し、R2が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。M1は周期律表第1族、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、および、第13族からなる群より選ばれる金属原子を表す。lは1以上の数を、mは0以上の数を表す。ただし、lおよびmは1≦lm≦nを満足する数であり、nはM1の原子価に相当する数を表す。本発明の第二は、前記コーティング済反応器にかかるものである。本発明の第三は、前記反応器で行う付加重合方法であって、下記一般式[2]で表される遷移金属化合物Aまたはそのμ-オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’と、活性化剤Bと、必要に応じて有機アルミニウム化合物Cと、を接触して得られる1次触媒を用いて付加重合可能なモノマーを付加重合させる付加重合方法にかかるものである。L1aM2X1b[2]式中、M2は周期律表第4族の遷移金属原子である。L1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のL1は互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。X1はハロゲン原子、ハイドロカルビル基但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く。またはハイドロカルビルオキシ基である。aは0<a≦3を満足する数を、bは0<b≦3を満足する数を表す。本発明の第四は、前期付加重合が予備重合である付加重合方法にかかるものである。本発明の第五は、前記予備重合方法により得られる予備重合済付加重合触媒成分にかかるものである。本発明の第六は、前記予備重合済付加重合触媒成分と、必要に応じて有機アルミニウム化合物Cとを用いることを特徴とする、付加重合体の製造方法にかかるものである。本発明の第七は、一般式[2]で表される遷移金属化合物Aまたはそのμ-オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’と、活性化剤Bと、を接触して得られる1次触媒を用い、付加重合可能なモノマーを予備重合させて予備重合済付加重合触媒成分を得、請求項3に記載のコーティング済反応器内で前記予備重合済付加重合触媒成分の存在下、付加重合可能なモノマーを付加重合させる付加重合体の製造方法にかかるものである。本発明の方法によれば、化学反応を反応器中で行っても反応器内のファウリングを抑制することができる。特に、重合反応を反応器内で連続的に行っても、ファウリングによる重合反応器の伝熱効率の低下を防き、重合を安定して連続運転することが可能となる。以下、本発明について詳細に説明する。コーティング用化合物本発明に用いられるオレフィン反応器の内壁面をコーティングするための化合物は、下記一般式[1]で表される化合物である。R1COOlR2mM1[1]上記一般式[1]において、R1は置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表しR1が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R2は水素原子、ヒドロキシ基、または、置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表し、R2が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。M1は周期律表第1族、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、および、第13族からなる群より選ばれる金属原子を表す。lは1以上の数を、mは0以上の数を表す。ただし、l、mは1≦lm≦nを満足する数であり、nはM1の原子価に相当する数を表す。式[1]のR1の置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基としては、置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基などがあげられる。置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のアルキル基としては、炭素原子数1~20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1~20のアルキル基、置換シリル基を置換基として有する炭素原子数1~20のアルキル基、置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数1~20のアルキル基、ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数1~20のアルキル基などがあげられる。炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n-ヘキシル基、n-へプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基、n-エイコシル基などがあげられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などがあげられる。置換シリル基を置換基として有する炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、トリメチルシリルメチル基、トリメチルシリルエチル基、トリメチルシリルプロピル基、トリメチルシリルブチル基、ビストリメチルシリルメチル基、ビストリメチルシリルエチル基、ビストリメチルシリルプロピル基、ビストリメチルシリルブチル基、トリフェニルシリルメチル基などがあげられる。置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、ジメチルアミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジメチルアミノプロピル基、ジメチルアミノブチル基、ビスジメチルアミノメチル基、ビスジメチルアミノエチル基、ビスジメチルアミノプロピル基、ビスジメチルアミノブチル基、フェニルアミノメチル基、ジフェニルアミノメチル基などがあげられる。ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n-プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、n-ブトキシメチル基、sec-ブトキシメチル基、tert-ブトキシメチル基、フェノキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、n-プロポキシエチル基、イソプロポキシエチル基、n-ブトキシエチル基、sec-ブトキシエチル基、tert-ブトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシ-n-プロピル基、エトキシ-n-プロピル基、n-プロポキシ-n-プロピル基、イソプロポキシ-n-プロピル基、n-ブトキシ-n-プロピル基、sec-ブトキシ-n-プロピル基、tert-ブトキシ-n-プロピル基、フェノキシ-n-プロピル基、メトキシイソプロピル基、エトキシイソプロピル基、n-プロポキシイソプロピル基、イソプロポキシイソプロピル基、n-ブトキシイソプロピル基、sec-ブトキシイソプロピル基、tert-ブトキシイソプロピル基、フェノキシイソプロピル基などがあげられる。置換基を有していてもよい炭素原子数7~20のアラルキル基としては、炭素原子数7~20のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7~20のアラルキル基などがあげられる。炭素原子数7~20のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、2-メチルフェニルメチル基、3-メチルフェニルメチル基、4-メチルフェニルメチル基、2,3-ジメチルフェニルメチル基、2,4-ジメチルフェニルメチル基、2,5-ジメチルフェニルメチル基、2,6-ジメチルフェニルメチル基、3,4-ジメチルフェニルメチル基、4,6-ジメチルフェニルメチル基、2,3,4-トリメチルフェニルメチル基、2,3,5-トリメチルフェニルメチル基、2,3,6-トリメチルフェニルメチル基、3,4,5-トリメチルフェニルメチル基、2,4,6-トリメチルフェニルメチル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニルメチル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニルメチル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニルメチル基、ペンタメチルフェニルメチル基、エチルフェニルメチル基、n-プロピルフェニルメチル基、イソプロピルフェニルメチル基、n-ブチルフェニルメチル基、sec-ブチルフェニルメチル基、tert-ブチルフェニルメチル基、n-ペンチルフェニルメチル基、ネオペンチルフェニルメチル基、n-ヘキシルフェニルメチル基、n-オクチルフェニルメチル基、n-デシルフェニルメチル基、n-デシルフェニルメチル基、n-テトラデシルフェニルメチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、ジフェニルメチル基、ジフェニルエチル基、ジフェニルプロピル基、ジフェニルブチル基などがあげられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7~20のアラルキル基としては、例えば、2-フロオロベンジル基、3-フルオロベンジル基、4-フルオロベンジル基、2-クロロベンジル基、3-クロロベンジル基、4-クロロベンジル基、2-ブロモベンジル基、3-ブロモベンジル基、4-ブロモベンジル基、2-ヨードベンジル基、3-ヨードベンジル基、4-ヨードベンジル基などがあげられる。置換基を有していてもよい炭素原子数6~20のアリール基としては、炭素原子数6~20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6~20のアリール基などがあげられる。炭素原子数6~20のアリール基としては、例えば、フェニル基、2-トリル基、3-トリル基、4-トリル基、2,3-キシリル基、2,4-キシリル基、2,5-キシリル基、2,6-キシリル基、3,4-キシリル基、3,5-キシリル基、2,3,4-トリメチルフェニル基、2,3,5-トリメチルフェニル基、2,3,6-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、3,4,5-トリメチルフェニル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n-プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n-ブチルフェニル基、sec-ブチルフェニル基、tert-ブチルフェニル基、n-ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n-ヘキシルフェニル基、n-オクチルフェニル基、n-デシルフェニル基、n-ドデシルフェニル基、n-テトラデシルフェニル基、ナフチル基、およびアントラセニル基などがあげられる。ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6~20のアリール基としては、例えば、2-フロオロフェニル基、3-フルオロフェニル基、4-フルオロフェニル基、2-クロロフェニル基、3-クロロフェニル基、4-クロロフェニル基、2-ブロモフェニル基、3-ブロモフェニル基、4-ブロモフェニル基、2-ヨードフェニル基、3-ヨードフェニル基、4-ヨードフェニル基などがあげられる。R1として好ましくは、炭素原子数1~20のアルキル基である。式[1]のR2は水素原子、ヒドロキシ基、または、置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表す。R2の置換基を有していてもよい炭素原子数1~20のハイドロカルビル基としては、R1として説明したと同様のハイドロカルビル基が用いられる。R2として好ましくは、ヒドロキシ基、または、炭素原子数1~20のアルキル基である。式[1]のM1は周期律表第1族、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、および、第13族からなる群より選ばれる金属原子を表す。M1の金属原子として好ましくは、周期律表第1族、第2族、第12族、および、第13族からなる群より選ばれる金属原子であり、より好ましくは、周期律表第1族の金属原子であり、さらに好ましくは、ナトリウム原子またはカリウム原子である。一般式[1]で表される化合物として好ましくは、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、酪酸ナトリウム、イソ酪酸ナトリウム、吉草酸ナトリウム、イソ吉草酸ナトリウム、カプロン酸ナトリウム、エナント酸ナトリウム、カプリル酸ナトリウム、ペラルゴン酸ナトリウム、カプリン酸ナトリウム、ラウリン酸ナトリウム、ミリスチン酸ナトリウム、ペンタデシル酸ナトリウム、パルチミン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸カリウム、酪酸カリウム、イソ酪酸カリウム、吉草酸カリウム、イソ吉草酸カリウム、カプロン酸カリウム、エナント酸カリウム、カプリル酸カリウム、ペラルゴン酸カリウム、カプリン酸カリウム、ラウリン酸カリウム、ミリスチン酸カリウム、ペンタデシル酸カリウム、パルチミン酸カリウム、ステアリン酸カリウム、アラキジン酸カリウム、酢酸カルシウム、プロピオン酸カルシウム、酪酸カルシウム、イソ酪酸カルシウム、吉草酸カルシウム、イソ吉草酸カルシウム、カプロン酸カルシウム、エナント酸カルシウム、カプリル酸カルシウム、ペラルゴン酸カルシウム、カプリン酸カルシウム、ラウリン酸カルシウム、ミリスチン酸カルシウム、ペンタデシル酸カルシウム、パルチミン酸カルシウム、ステアリン酸カルシウム、アラキジン酸カルシウム、酢酸鉄、プロピオン酸鉄、酪酸鉄、イソ酪酸鉄、吉草酸鉄、イソ吉草酸鉄、カプロン酸鉄、エナント酸鉄、カプリル酸鉄、ペラルゴン酸鉄、カプリン酸鉄、ラウリン酸鉄、ミリスチン酸鉄、ペンタデシル酸鉄、パルチミン酸鉄、ステアリン酸鉄、アラキジン酸鉄、酢酸コバルト、プロピオン酸コバルト、酪酸コバルト、イソ酪酸コバルト、吉草酸コバルト、イソ吉草酸コバルト、カプロン酸コバルト、エナント酸コバルト、カプリル酸コバルト、ペラルゴン酸コバルト、カプリン酸コバルト、ラウリン酸コバルト、ミリスチン酸コバルト、ペンタデシル酸コバルト、パルチミン酸コバルト、ステアリン酸コバルト、アラキジン酸コバルト、酢酸ニッケル、プロピオン酸ニッケル、酪酸ニッケル、イソ酪酸ニッケル、吉草酸ニッケル、イソ吉草酸ニッケル、カプロン酸ニッケル、エナント酸ニッケル、カプリル酸ニッケル、ペラルゴン酸ニッケル、カプリン酸ニッケル、ラウリン酸ニッケル、ミリスチン酸ニッケル、ペンタデシル酸ニッケル、パルチミン酸ニッケル、ステアリン酸ニッケル、アラキジン酸ニッケル、酢酸銅、プロピオン酸銅、酪酸銅、イソ酪酸銅、吉草酸銅、イソ吉草酸銅、カプロン酸銅、エナント酸銅、カプリル酸銅、ペラルゴン酸銅、カプリン酸銅、ラウリン酸銅、ミリスチン酸銅、ペンタデシル酸銅、パルチミン酸銅、ステアリン酸銅、アラキジン酸銅、酢酸亜鉛、プロピオン酸亜鉛、酪酸亜鉛、イソ酪酸亜鉛、吉草酸亜鉛、イソ吉草酸亜鉛、カプロン酸亜鉛、エナント酸亜鉛、カプリル酸亜鉛、ペラルゴン酸亜鉛、カプリン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、ペンタデシル酸亜鉛、パルチミン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、アラキジン酸亜鉛、モノ酢酸アルミニウム、ジ酢酸アルミニウム、トリ酢酸アルミニウム、モノプロピオン酸アルミニウム、ジプロピオン酸アルミニウム、トリプロピオン酸アルミニウム、モノ酪酸アルミニウム、ジ酪酸アルミニウム、トリ酪酸アルミニウム、モノイソ酪酸アルミニウム、ジイソ酪酸アルミニウム、トリイソ酪酸アルミニウム、モノ吉草酸アルミニウム、ジ吉草酸アルミニウム、トリ吉草酸アルミニウム、モノイソ吉草酸アルミニウム、ジイソ吉草酸アルミニウム、トリイソ吉草酸アルミニウム、モノカプロン酸アルミニウム、ジカプロン酸アルミニウム、トリカプロン酸アルミニウム、モノエナント酸アルミニウム、ジエナント酸アルミニウム、トリエナント酸アルミニウム、モノカプリル酸アルミニウム、ジカプリル酸アルミニウム、トリカプリル酸アルミニウム、モノペラルゴン酸アルミニウム、ジペラルゴン酸アルミニウム、トリペラルゴン酸アルミニウム、モノカプリン酸アルミニウム、ジカプリン酸アルミニウム、トリカプリン酸アルミニウム、モノラウリン酸アルミニウム、ジラウリン酸アルミニウム、トリラウリン酸アルミニウム、モノミリスチン酸アルミニウム、ジミリスチン酸アルミニウム、トリミリスチン酸アルミニウム、モノペンタデシル酸アルミニウム、ジペンタデシル酸アルミニウム、トリペンタデシル酸アルミニウム、モノパルチミン酸アルミニウム、ジパルチミン酸アルミニウム、トリパルチミン酸アルミニウム、モノステアリン酸アルミニウム、ジステアリン酸アルミニウム、トリステアリン酸アルミニウム、モノアラキジン酸アルミニウム、ジアラキジン酸アルミニウム、トリアラキジン酸アルミニウム、であり、さらに好ましくは、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、酪酸ナトリウム、イソ酪酸ナトリウム、吉草酸ナトリウム、イソ吉草酸ナトリウム、カプロン酸ナトリウム、エナント酸ナトリウム、カプリル酸ナトリウム、ペラルゴン酸ナトリウム、カプリン酸ナトリウム、ラウリン酸ナトリウム、ミリスチン酸ナトリウム、ペンタデシル酸ナトリウム、パルチミン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウム、である。コーティング方法本発明のコーティング方法としては、コーティング液を反応器の内壁面に付着させ溶媒を除去する方法、または、コーティング液を別途用意したプレート上に塗布、乾燥して予めフィルムを作製しておき、これを反応器の内壁面に貼り付る方法などが利用できる。コーティング液を反応器の内壁面に付着させ溶媒を除去する方法において、特にコーティング液を反応器の内壁面に付着させる方法としては、各種方法で行うことができる。例えば、コーティング液中を、スプレーガンにて霧化し反応器の内壁面に吹き付ける方法スプレーコート、コーティング液を、刷毛、ローラー、さらし等に含ませて、反応器の内壁面に塗布する方法、反応器をコーティング液で満たし、所定時間経過後コーティング液を抜き出す方法、ピペット、シリンジ、スポイト等を用いて、反応器の内壁に、コーティング液を流し掛ける等の方法が、好適に使用可能である。コーティング液は、前記コーティング化合物と溶媒とを含む液状の組成物である。ここで、溶媒としては、水、脂肪族ハイドロカルビル溶媒、芳香族ハイドロカルビル溶媒等の非極性溶媒、ハロゲン化物溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、フェノール系溶媒、カルボニル系溶媒、リン酸誘導体、ニトリル系溶媒、ニトロ化合物、アミン系溶媒、および硫黄化合物等の極性溶媒が挙げられ、好ましくは、水、アルコール系溶媒であり、特に好ましくはアルコール系溶媒である。希釈液の濃度としては、通常0.01wt~10wtであり、好ましくは0.05wt~1wtである。溶媒を除去する方法としては、通常、室温~200°Cの温度範囲、10分~20時間の時間範囲で保持することにより溶媒を乾燥蒸発させることができる。残留溶媒は、必要により加熱条件下、減圧乾燥または窒素などの不活性ガスで掃引することにより除去することが好ましい。コーティング済反応器におけるコーティング層の厚みは、通常5mm以下であり、好ましくは1mm以下である。反応器の内壁面積に対するコーティング化合物の量として、好ましくは0.01~50g/m2であり、より好ましくは0.1~5g/m2である。本発明のコーティング済反応器は、様々の化学反応用に用いることができるが、好ましい用途としては、付加重合用途である。遷移金属化合物Aまたはそのμ-オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’本発明に用いられる遷移金属化合物Aまたはそのμ―オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’としては、活性化剤Bと合わせて用いることにより、あるいは必要に応じて有機アルミニウム化合物Cと合わせて用いることにより付加重合活性を示す遷移金属化合物であれば特に限定されないが、通常、メタロセン錯体等の遷移金属化合物が使用される。なお、本発明の遷移金属化合物は、従来の三塩化チタンや四塩化チタンを用いる固体触媒通常、チーグラーナッタ触媒と呼ばれる触媒と区別される触媒であって、メタロセン錯体等の遷移金属化合物を用いる触媒を意味する。かかる遷移金属化合物としては、具体的には下記式[2]で表される遷移金属化合物Aまたはそのμ-オキソタイプの遷移金属化合物の二量体A’が例示される。L1aM2X1b[2]式中、M2は周期律表第4族の遷移金属原子である。L1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のL1は互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。X1はハロゲン原子、ハイドロカルビル基但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く。またはハイドロカルビルオキシ基である。aは0<a≦3を満足する数を、bは0<b≦3を満足する数を表す。式[2]のM2としては、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子であり、より好ましくはジルコニウム原子である。式[2]のL1のシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、例えば、置換シクロペンタジエニル基、置換インデニル基および置換フルオレニル基を挙げることができる。具体的には、シクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、n-ブチルシクロペンタジエニル基、tert-ブチルシクロペンタジエニル基、1,2-ジメチルシクロペンタジエニル基、1,3-ジメチルシクロペンタジエニル基、1-メチル-2-エチルシクロペンタジエニル基、1-メチル-3-エチルシクロペンタジエニル基、1-tert-ブチル-2-メチルシクロペンタジエニル基、1-tert-ブチル-3-メチルシクロペンタジエニル基、1-メチル-2-イソプロピルシクロペンタジエニル基、1-メチル-3-イソプロピルシクロペンタジエニル基、1-メチル-2-n-ブチルシクロペンタジエニル基、1-メチル-3-n-ブチルシクロペンタジエニル基、η5-1,2,3-トリメチルシクロペンタジエニル基、η5-1,2,4-トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル基、インデニル基、4,5,6,7-テトラヒドロインデニル基、2-メチルインデニル基、3-メチルインデニル基、4-メチルインデニル基、5-メチルインデニル基、6-メチルインデニル基、7-メチルインデニル基、2-tert-ブチルインデニル基、3-tert-ブチルインデニル基、4-tert-ブチルインデニル基、5-tert-ブチルインデニル基、6-tert-ブチルインデニル基、7-tert-ブチルインデニル基、2,3-ジメチルインデニル基、4,7-ジメチルインデニル基、2,4,7-トリメチルインデニル基、2-メチル-4-イソプロピルインデニル基、4,5-ベンズインデニル基、2-メチル-4,5-ベンズインデニル基、4-フェニルインデニル基、2-メチル-5-フェニルインデニル基、2-メチル-4-フェニルインデニル基、2-メチル-4-ナフチルインデニル基、フルオレニル基、2,7-ジメチルフルオレニル基および2,7-ジ-tert-ブチルフルオレニル基を例示することができる。式[2]のL1に用いられるシクロペンタジエン型アニオン骨格を有する基の多座性ηは特に限定されなく、シクロペンタジエン型アニオン骨格を有する基のとりうるいずれの値でもよい。例えば、5座、4座、3座、2座、単座が挙げられ、好ましくは5座、3座または単座であり、より好ましくは5座または3座である。式[2]におけるL1のヘテロ原子を含有する基におけるヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、リン原子を挙げることができ、かかる基としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、チオアルコキシ基、チオアリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルホスフィノ基、アリールホスフィノ基、キレート性配位子、あるいは酸素原子、硫黄原子、窒素原子および/またはリン原子を環内に有する芳香族複素環基もしくは脂肪族複素環基が好ましい。式[2]におけるL1のヘテロ原子を含有する基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基,2,6-ジメチルフェノキシ基、2,4,6-トリメチルフェノキシ基、2-エチルフェノキシ基、4-n-プロピルフェノキシ基、2-イソプロピルフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルフェノキシ基、4-sec-ブチルフェノキシ基、4-tert-ブチルフェノキシ基、2,6-ジ-sec-ブチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ基、2,6-ジメトキシフェノキシ基、3,5-ジメトキシフェノキシ基、2-クロロフェノキシ基、4-ニトロソフェノキシ基、4-ニトロフェノキシ基、2-アミノフェノキシ基、3-アミノフェノキシ基、4-アミノチオフェノキシ基、2,3,6-トリクロロフェノキシ基、2,4,6-トリフルオロフェノキシ基、チオメトキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジフェニルアミノ基、イソプロピルアミノ基、tert-ブチルアミノ基、ピロリル基、ジメチルホスフィノ基、2-2-オキシ-1-プロピルフェノキシ基、カテコール、レゾルシノール、4-イソプロピルカテコール、3-メトキシカテコール、1,8-ジヒドロキシナフチル基、1,2-ジヒドロキシナフチル基、2,2’-ビフエニルジオール基、1,1’-ビ-2-ナフトール基、2,2’-ジヒドロキシ-6,6’-ジメチルビフェニル基、4,4’,6,6’-テトラ-tert-ブチル-2,2’メチレンジフェノキシ基、および4,4’,6,6’-テトラメチル-2,2’-イソブチリデンジフェノキシ基を挙げることができる。また、上記ヘテロ原子を含有する基としては、例えば、下記式[6]で表される基も挙げることができる。R53P=N-[6]式中、R5はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子またはハイドロカルビル基を表し、複数のR5は互いに同じであっても異なっていてもよく、複数のR5のうち、任意の2つ以上が互いに結合していてもよく、環構造を形成していてもよい。前記式[6]におけるR5の具体例としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、tert-ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロへプチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、およびベンジル基を例示することができる。更に前記ヘテロ原子を含有する基としては下記式[7]で表される基も例示することができる。式中、R6はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハイドロカルビル基、ハロゲン化ハイドロカルビル基、ハイドロカルビルオキシ基、シリル基またはアミノ基を表し、複数のR6は互いに同じであっても異なっていてもよく、複数のR6のうち、任意の2つ以上が互いに結合していてもよく、環構造を形成していてもよい。上記式[7]におけるR6の具体例として、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、tert-ブチル基、2,6-ジメチルフェニル基、2-フルオレニル基、2-メチルフェニル基、4-トリフルオロメチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、4-ピリジル基、シクロヘキシル基、2-イソプロピルフェニル基、ベンジル基、メチル基、トリエチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、1-メチル-1-フェニルエチル基、1,1-ジメチルプロピル基、2-クロロフェニル基、およびペンタフルオロフェニル基を例示することができる。前記式[2]におけるL1のキレート性配位子とは、複数の配位部位を有する配位子を指し、その配位子としては、例えば、アセチルアセトナート、ジイミン、オキサゾリン、ビスオキサゾリン、テルピリジン、アシルヒドラゾン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポルフィリン、クラウンエーテル、およびクリプタートを挙げることができる。前記式[2]におけるL1の複素環基としては、例えば、ピリジル基、N-置換イミダゾリル基およびN-置換インダゾリル基を挙げることができ、なかでも、好ましくはピリジル基である。前記式[2]において、複数のL1が、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子またはリン原子を含有する残基を介して連結されている場合すなわち、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基同士がその残基を介して連結されている場合、ヘテロ原子を含有する基同士がその残基を介して連結されている場合、またはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基とヘテロ原子を含有する基とがその残基を介して連結されている場合、その残基として好ましくは、2つのL1と結合する原子が炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子またはリン原子であって、2つのL1を結合させる最小原子数が3以下の2価の残基である。その残基として、メチレン基、エチレン基およびプロピレン基等のアルキレン基;ジメチルメチレン基イソプロピリデン基およびジフェニルメチレン基等の置換アルキレン基;シリレン基、ジメチルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、テトラメチルジシリレン基、およびジメトキシシリレン基等の置換シリレン基;窒素原子、酸素原子、硫黄原子、およびリン原子等のヘテロ原子を例示することができる。なかでも、特に好ましくは、メチレン基、エチレン基、ジメチルメチレン基イソプロピリデン基、ジフェニルメチレン基、ジメチルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジフェニルシリレン基またはジメトキシシリレン基である。前記式[2]におけるX1のハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を挙げることができる。X1のハイドロカルビル基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、およびアルケニル基を挙げることができ、なかでも、好ましくは、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数7~20のアラルキル基、炭素原子数6~20のアリール基または炭素原子数3~20のアルケニル基である。炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、n-ペンタデシル基、およびn-エイコシル基を挙げることができ、なかでも、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、イソブチル基またはアミル基である。これらのアルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、およびパーブロモプロピル基を挙げることができる。またこれらのアルキル基は、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等で置換されていてもよい。炭素原子数7~20のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、2-メチルフェニルメチル基、3-メチルフェニルメチル基、4-メチルフェニルメチル基、2,3-ジメチルフェニルメチル基、2,4-ジメチルフェニルメチル基、2,5-ジメチルフェニルメチル基、2,6-ジメチルフェニルメチル基、3,4-ジメチルフェニルメチル基、3,5-ジメチルフェニルメチル基、2,3,4-トリメチルフェニルメチル基、2,3,5-トリメチルフェニルメチル基、2,3,6-トリメチルフェニルメチル基、3,4,5-トリメチルフェニルメチル基、2,4,6-トリメチルフェニルメチル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニルメチル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニルメチル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニルメチル基、ペンタメチルフェニルメチル基、エチルフェニルメチル基、n-プロピルフェニルメチル基、イソプロピルフェニルメチル基、n-ブチルフェニルメチル基、sec-ブチルフェニルメチル基、tert-ブチルフェニルメチル基、n-ペンチルフェニルメチル基、ネオペンチルフェニルメチル基、n-ヘキシルフェニルメチル基、n-オクチルフェニルメチル基、n-デシルフェニルメチル基、n-ドデシルフェニルメチル基、ナフチルメチル基、およびアントラセニルメチル基を挙げることができ、より好ましくはベンジル基である。これらのアラルキル基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等で置換されていてもよい。炭素原子数6~20のアリール基としては、例えば、フェニル基、2-トリル基、3-トリル基、4-トリル基、2,3-キシリル基、2,4-キシリル基、2,5-キシリル基、2,6-キシリル基、3,4-キシリル基、3,5-キシリル基、2,3,4-トリメチルフェニル基、2,3,5-トリメチルフェニル基、2,3,6-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、3,4,5-トリメチルフェニル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n-プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n-ブチルフェニル基、sec-ブチルフェニル基、tert-ブチルフェニル基、n-ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n-ヘキシルフェニル基、n-オクチルフェニル基、n-デシルフェニル基、n-ドデシルフェニル基、n-テトラデシルフェニル基、ナフチル基、およびアントラセニル基を挙げることができ、より好ましくはフェニル基である。これらのアリール基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等で置換されていてもよい。炭素原子数3~20のアルケニル基としては、例えば、アリル基、メタリル基、クロチル基、1,3-ジフェニル-2-プロペニル基を挙げることができ、なかでも、より好ましくはアリル基またはメタリル基である。一般式[2]におけるX1のハイドロカルビルオキシ基としては、例えば、アルコキシ基、アラルキルオキシ基およびアリールオキシ基を挙げることができ、なかでも、好ましくは、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基または炭素原子数6~20のアリールオキシ基である。炭素原子数1~20のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペントキシ基、ネオペントキシ基、n-ヘキソキシ基、n-オクトキシ基、n-ドデソキシ基、n-ペンタデソキシ基、およびn-イコソキシ基を挙げることができ、なかでも、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、またはtert-ブトキシ基である。これらのアルコキシ基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等で置換されていてもよい。炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、2-メチルフェニルメトキシ基、3-メチルフェニルメトキシ基、4-メチルフェニルメトキシ基、2、3-ジメチルフェニルメトキシ基、2、4-ジメチルフェニルメトキシ基、2、5-ジメチルフェニルメトキシ基、2、6-ジメチルフェニルメトキシ基、3,4-ジメチルフェニルメトキシ基、3,5-ジメチルフェニルメトキシ基、2,3,4-トリメチルフェニルメトキシ基、2,3,5-トリメチルフェニルメトキシ基、2,3,6-トリメチルフェニルメトキシ基、2,4,5-トリメチルフェニルメトキシ基、2,4,6-トリメチルフェニルメトキシ基、3,4,5-トリメチルフェニルメトキシ基、2,3,4,5-テトラメチルフェニルメトキシ基、2,3,4,6-テトラメチルフェニルメトキシ基、2,3,5,6-テトラメチルフェニルメトキシ基、ペンタメチルフェニルメトキシ基、エチルフェニルメトキシ基、n-プロピルフェニルメトキシ基、イソプロピルフェニルメトキシ基、n-ブチルフェニルメトキシ基、sec-ブチルフェニルメトキシ基、tert-ブチルフェニルメトキシ基、n-ヘキシルフェニルメトキシ基、n-オクチルフェニルメトキシ基、n-デシルフェニルメトキシ基、ナフチルメトキシ基、およびアントラセニルメトキシ基を挙げることができ、なかでも、より好ましくはベンジルオキシ基である。これらのアラルキルオキシ基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等で置換されていてもよい。炭素原子数6~20のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、2、3-ジメチルフェノキシ基、2、4-ジメチルフェノキシ基、2、5-ジメチルフェノキシ基、2、6-ジメチルフェノキシ基、3,4-ジメチルフェノキシ基、3,5-ジメチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-3-メチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-5-メチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-メチルフェノキシ基、2,3,4-トリメチルフェノキシ基、2,3,5-トリメチルフェノキシ基、2,3,6-トリメチルフェノキシ基、2,4,5-トリメチルフェノキシ基、2,4,6-トリメチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-3,4-ジメチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-3,5-ジメチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-3,6-ジメチルフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチル-3-メチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-4,5-ジメチルフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ基、3,4,5-トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5-テトラメチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-3,4,5-トリメチルフェノキシ基、2,3,4,6-テトラメチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-3,4,6-トリメチルフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチル-3,4-ジメチルフェノキシ基、2,3,5,6-テトラメチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-3,5,6-トリメチルフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチル-3,5-ジメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n-プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n-ブチルフェノキシ基、sec-ブチルフェノキシ基、tert-ブチルフェノキシ基、n-ヘキシルフェノキシ基、n-オクチルフェノキシ基、n-デシルフェノキシ基、n-テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、およびアントラセノキシ基を挙げることができる。これらのアリールオキシ基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等で置換されていてもよい。式[2]におけるX1として、より好ましくは塩素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フェニル基、フェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基、3,4,5-トリフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-ペンタフルオロフェニルフェノキシ基またはベンジル基である。式[2]におけるaは0<a≦3を満たす数であり、bは0<b≦3を満たす数であり、M2の価数に応じて適宜選択される。M2がチタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子である場合、aは2であることが好ましく、bも2であることが好ましい。式[2]で表される、遷移金属原子がチタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子である化合物としては、例えば、ビスシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスエチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスn-ブチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスtert-ブチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1,2-ジメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1,3-ジメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-2-エチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-3-エチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-2-n-ブチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-3-n-ブチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-2-イソプロピルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-3-イソプロピルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-tert-ブチル-2-メチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-tert-ブチル-3-メチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1,2,3-トリメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1,2,4-トリメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビステトラメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスペンタメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスインデニルチタンジクロライド、ビス4,5,6,7-テトラヒドロインデニルチタンジクロライド、ビスフルオレニルチタンジクロライド、ビス2-フェニルインデニルチタンジクロライド、式[1]で表される、遷移金属原子がチタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子である化合物としては、例えば、ビスシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスエチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスn-ブチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスtert-ブチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1,2-ジメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1,3-ジメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-2-エチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-3-エチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-2-n-ブチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-3-n-ブチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-2-イソプロピルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-メチル-3-イソプロピルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-tert-ブチル-2-メチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1-tert-ブチル-3-メチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1,2,3-トリメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビス1,2,4-トリメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビステトラメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスペンタメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ビスインデニルチタンジクロライド、ビス4,5,6,7-テトラヒドロインデニルチタンジクロライド、ビスフルオレニルチタンジクロライド、ビス2-フェニルインデニルチタンジクロライド、ビス[2-ビス-3,5-トリフルオロメチルフェニルインデニル]チタンジクロライド、ビス[2-4-tert-ブチルフェニルインデニル]チタンジクロライド、ビス[2-4-トリフルオロメチルフェニルインデニル]チタンジクロライド、ビス[2-4-メチルフェニルインデニル]チタンジクロライド、ビス[2-3,5-ジメチルフェニルインデニル]チタンジクロライド、ビス[2-ペンタフルオロフェニルインデニル]チタンジクロライド、シクロペンタジエニルペンタメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、シクロペンタジエニルインデニルチタンジクロライド、シクロペンタジエニルフルオレニルチタンジクロライド、インデニルフルオレニルチタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルインデニルチタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルフルオレニルチタンジクロライド、シクロペンタジエニル2-フェニルインデニルチタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル2-フェニルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビスシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2-メチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス3-メチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2-n-ブチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス3-n-ブチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2,3-ジメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2,4-ジメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2,5-ジメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス3,4-ジメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2,3-エチルメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2,4-エチルメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2,5-エチルメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス3,5-エチルメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2,3,4-トリメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2,3,5-トリメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビステトラメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビスインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2-メチルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2-tert-ブチルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2,3-ジメチルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2,4,7-トリメチルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2-メチル-4-イソプロピルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス4,5-ベンズインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2-メチル-4,5-ベンズインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2-フェニルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス4-フェニルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2-メチル-4-フェニルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2-メチル-5-フェニルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス2-メチル-4-ナフチルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビス4,5,6,7-テトラヒドロインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニルフルオレニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニルフルオレニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニルフルオレニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニルインデニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニルフルオレニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンビスフルオレニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニルテトラメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニルフルオレニルチタンジクロライド、シクロペンタジエニルチタントリクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリクロライド、シクロペンタジエニルジメチルアミドチタンジクロライド、シクロペンタジエニルフェノキシチタンジクロライド、シクロペンタジエニル2,6-ジメチルフェニルチタンジクロライド、シクロペンタジエニル2,6-ジイソプロピルフェニルチタンジクロライド、シクロペンタジエニル2,6-ジ-tert-ブチルフェニルチタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル2,6-ジメチルフェニルチタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル2,6-ジイソプロピルフェニルチタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル2,6-tert-ブチルフェニルチタンジクロライド、インデニル2,6-ジイソプロピルフェニルチタンジクロライド、フルオレニル2,6-ジイソプロピルフェニルチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル3-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル3,5-ジメチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル3,5-ジ-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル5-メチル-3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル3-tert-ブチルジメチルシリル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル5-メチル-3-トリメチルシリル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メトキシ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-クロロ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル3,5-ジアミル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンシクロペンタジエニル1-ナフトキシ-2-イルチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル3-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル3,5-ジメチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル3,5-ジ-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル5-メチル-3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチルジメチルシリル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル5-メチル-3-トリメチルシリル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メトキシ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-クロロ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル3,5-ジアミル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンメチルシクロペンタジエニル1-ナフトキシ-2-イルチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル3-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル3,5-ジメチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル3,5-ジ-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル5-メチル-3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチルジメチルシリル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル5-メチル-3-トリメチルシリル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メトキシ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-クロロ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル3,5-ジアミル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンn-ブチルシクロペンタジエニル1-ナフトキシ-2-イルチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル3-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル3,5-ジメチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル3,5-ジ-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル5-メチル-3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチルジメチルシリル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル5-メチル-3-トリメチルシリル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メトキシ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-クロロ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル3,5-ジアミル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンtert-ブチルシクロペンタジエニル1-ナフトキシ-2-イルチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル3-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル3,5-ジメチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル3,5-ジ-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル5-メチル-3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチルジメチルシリル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル5-メチル-3-トリメチルシリル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メトキシ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-クロロ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル3,5-ジアミル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンテトラメチルシクロペンタジエニル1-ナフトキシ-2-イルチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル3-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル3,5-ジメチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル3,5-ジ-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル5-メチル-3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル3-tert-ブチルジメチルシリル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル5-メチル-3-トリメチルシリル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-メトキシ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル3-tert-ブチル-5-クロロ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル3,5-ジアミル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレントリメチルシリルシクロペンタジエニル1-ナフトキシ-2-イルチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル3-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル3,5-ジメチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル3-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル3,5-ジ-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル5-メチル-3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル3-tert-ブチルジメチルシリル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル5-メチル-3-トリメチルシリル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル3-tert-ブチル-5-メトキシ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル3-tert-ブチル-5-クロロ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル3,5-ジアミル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンインデニル1-ナフトキシ-2-イルチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル3-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル3,5-ジメチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル3-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル3,5-ジ-tert-ブチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル5-メチル-3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル3-tert-ブチルジメチルシリル-5-メチル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル5-メチル-3-トリメチルシリル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル3-tert-ブチル-5-メトキシ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル3-tert-ブチル-5-クロロ-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル3,5-ジアミル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル3-フェニル-2-フェノキシチタンジクロライド、ジメチルシリレンフルオレニル1-ナフトキシ-2-イルチタンジクロライド、tert-ブチルアミドテトラメチルシクロペンタジエニル-1,2-エタンジイルチタンジクロライド、メチルアミドテトラメチルシクロペンタジエニル-1,2-エタンジイルチタンジクロライド、エチルアミドテトラメチルシクロペンタジエニル-1,2-エタンジイルチタンジクロライド、tert-ブチルアミドテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジクロライド、ベンジルアミドテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジクロライド、フェニルフォスファイドテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジクロライド、tert-ブチルアミドインデニル-1,2-エタンジイルチタンジクロライド、tert-ブチルアミドテトラヒドロインデニル-1,2-エタンジイルチタンジクロライド、tert-ブチルアミドフルオレニル-1,2-エタンジイルチタンジクロライド、tert-ブチルアミドインデニルジメチルシランチタンジクロライド、tert-ブチルアミドテトラヒドロインデニルジメチルシランチタンジクロライド、tert-ブチルアミドフルオレニルジメチルシランチタンジクロライド、ジメチルアミノメチルテトラメチルシクロペンタジエニルチタンIIIジクロライド、ジメチルアミノエチルテトラメチルシクロペンタジエニルチタンIIIジクロライド、ジメチルアミノプロピルテトラメチルシクロペンタジエニルチタンIIIジクロライド、N-ピロリジニルエチルテトラメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、B-ジメチルアミノボラベンゼンシクロペンタジエニルチタンジクロライド、シクロペンタジエニル9-メシチルボラアントラセニルチタンジクロライド、2,2’-チオビス[4-メチル-6-tert-ブチルフェノキシ]チタンジクロライド、2,2’-チオビス[4-メチル-6-1-メチルエチルフェノキシ]チタンジクロライド、2,2’-チオビス4,6-ジメチルフェノキシチタンジクロライド、2,2’-チオビス4-メチル-6-tert-ブチルフェノキシチタンジクロライド、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-tert-ブチルフェノキシチタンジクロライド、2,2’-エチレンビス4-メチル-6-tert-ブチルフェノキシチタンジクロライド、2,2’-スルフィニルビス4-メチル-6-tert-ブチルフェノキシチタンジクロライド、2,2’-4,4’,6,6’-テトラ-tert-ブチル-1,1’ビフェノキシチタンジクロライド、ジ-tert-ブチル-1,3-プロパンジアミドチタンジクロライド、ジシクロヘキシル-1,3-プロパンジアミドチタンジクロライド、[ビストリメチルシリル-1,3-プロパンジアミド]チタンジクロライド、[ビスtert-ブチルジメチルシリル-1,3-プロパンジアミド]チタンジクロライド、[ビス2,6-ジメチルフェニル-1,3-プロパンジアミド]チタンジクロライド、[ビス2,6-ジイソプロピルフェニル-1,3-プロパンジアミド]チタンジクロライド、[ビス2,6-ジ-tert-ブチルフェニル-1,3-プロパンジアミド]チタンジクロライド、[ビストリイソプロピルシリルナフタレンジアミド]チタンジクロライド、[ビストリメチルシリルナフタレンジアミド]チタンジクロライド、[ビスtert-ブチルジメチルシリルナフタレンジアミド]チタンジクロライド、[ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート]チタントリクロライド、[ヒドロトリス3,5-ジエチルピラゾリルボレート]チタントリクロライド、[ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート]チタントリクロライド、[トリス3,5-ジメチルピラゾリルメチル]チタントリクロライド、[トリス3,5-ジエチルピラゾリルメチル]チタントリクロライド、および[トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルメチル]チタントリクロライドや、これらの化合物のチタンをジルコニウムまたはハフニウムに置き換えた化合物、2-フェノキシを3-フェニル-2-フェノキシ、3-トリメチルシリル-2-フェノキシ、または3-tert-ブチルジメチルシリル-2-フェノキシに置き換えた化合物、ジメチルシリレンをメチレン、エチレン、ジメチルメチレンイソプロピリデン、ジフェニルメチレン、ジエチルシリレン、ジフェニルシリレン、またはジメトキシシリレンに置き換えた化合物、ジクロライドをジフルオライド、ジブロマイド、ジアイオダイド、ジメチル、ジエチル、ジイソプロピル、ジフェニル、ジベンジル、ジメトキシド、ジエトキシド、ジn-プロポキシド、ジイソプロポキシド、ジフェノキシド、またはジペンタフルオロフェノキシドに置き換えた化合物、ならびにトリクロライドをトリフルオライド、トリブロマイド、トリアイオダイド、トリメチル、トリエチル、トリイソプロピル、トリフェニル、トリベンジル、トリメトキシド、トリエトキシド、トリn-プロポキシド、トリイソプロポキシド、トリフェノキシド、またはトリペンタフルオロフェノキシドに置き換えた化合物、を挙げることができる。これらの遷移金属化合物は一種類のみを用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。以上に例示した遷移金属化合物のうち、本発明で用いる遷移金属化合物Aとして好ましくは、上記の式[2]で表される遷移金属化合物である。なかでも、上記式[2]におけるM2がジルコニウム化合物が好ましく、特に式[2]におけるL1としてシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を少なくとも一つ有する遷移金属化合物が好ましい。なかでも、式[2]におけるL1としてシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を2つ有し、L1が互いに炭素原子、ケイ素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されているジルコニウム化合物が特に好ましい。式[2]で表される遷移金属化合物は、特開平6-340684号公報、特開平7-258321号公報、国際特許公開第95/00562号明細書などに記載の製造方法によって製造することが可能である。活性化剤B本発明に用いられる活性化剤Bは前記の遷移金属化合物Aまたはそのμ―オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’を活性化できるものであればいずれでもよく、また、生成する付加重合体粒子の形成を伴う重合例えばスラリー重合、気相重合、バルク重合等に適用する場合、特定の粒子を触媒成分のひとつとして用いて、生成する付加重合体の形状を定形にすることが好ましく、下記I、下記IIおよび下記IIIの改質された粒子を好適に用いることができる。I:下記a、下記b、下記cおよび下記dを接触させて得られる改質された粒子a:下記一般式[3]で表される化合物M3L22[3]b:下記一般式[4]で表される化合物R3t1TH[4]c:下記一般式[5]で表される化合物R4t2TH2[5]d:無機酸化物粒子または有機ポリマー粒子上記一般式[3]~[5]においてそれぞれ、M3は周期律表第12族の典型金属原子を表す。L2は水素原子、ハロゲン原子またはハイドロカルビル基を表し、L2が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R3は電子吸引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、R3が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R4はハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表す。Tはそれぞれ独立に周期律表の第15族または第16族の原子を表し、tはそれぞれの化合物のTの原子価を表す。II:無機酸化物粒子または有機ポリマー粒子dと、アルミノキサンeとを接触させて得られる改質された粒子III:無機酸化物粒子または有機ポリマー粒子dと、アルミノキサンeと、遷移金属化合物とを接触させて得られる改質された粒子以下、これらにつき順次さらに説明する。上記一般式[3]におけるM3は、元素の周期律表IUPAC無機化学命名法改訂版1989第12族の典型金属原子を表す。その具体例としては、亜鉛原子、カドミウム原子、水銀原子が挙げられる。M3として特に好ましくは亜鉛原子である。上記一般式[3]において、L2は水素原子、ハロゲン原子またはハイドロカルビル基である。L2のハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。L2のハイドロカルビル基として好ましくは、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基である。L2のハイドロカルビル基のアルキル基として好ましくは、炭素原子数1~20のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、n-ペンタデシル基、およびn-エイコシル基が挙げられ、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基またはイソブチル基である。これらのアルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換された炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、1H,1H-パーフルオロプロピル基、1H,1H-パーフルオロブチル基、1H,1H-パーフルオロペンチル基、1H,1H-パーフルオロヘキシル基、1H,1H-パーフルオロオクチル基、1H,1H-パーフルオロドデシル基、1H,1H-パーフルオロペンタデシル基、1H,1H-パーフルオロエイコシル基、および、これらのアルキル基のフルオロをクロロ、ブロモまたはヨードに置き換えたアルキル基を挙げることができる。これらのアルキル基はいずれも、メトキシ基、およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基で置換されていてもよい。L2のハイドロカルビル基のアリール基として好ましくは、炭素原子数6~20のアリール基であり、例えば、フェニル基、2-トリル基、3-トリル基、4-トリル基、2,3-キシリル基、2,4-キシリル基、2,5-キシリル基、2,6-キシリル基、3,4-キシリル基、3,5-キシリル基、2,3,4-トリメチルフェニル基、2,3,5-トリメチルフェニル基、2,3,6-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、3,4,5-トリメチルフェニル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n-プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n-ブチルフェニル基、sec-ブチルフェニル基、tert-ブチルフェニル基、イソブチルフェニル基、n-ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n-ヘキシルフェニル基、n-オクチルフェニル基、n-デシルフェニル基、n-ドデシルフェニル基、n-テトラデシルフェニル基、ナフチル基、およびアントラセニル基が挙げられ、より好ましくはフェニル基である。これらのアリール基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等で置換されていてもよい。上記アラルキル基としては、炭素原子数7~20のアラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル基、2-メチルフェニルメチル基、3-メチルフェニルメチル基、4-メチルフェニルメチル基、2,3-ジメチルフェニルメチル基、2,4-ジメチルフェニルメチル基、2,5-ジメチルフェニルメチル基、2,6-ジメチルフェニルメチル基、3,4-ジメチルフェニルメチル基、3,5-ジメチルフェニルメチル基、2,3,4-トリメチルフェニルメチル基、2,3,5-トリメチルフェニルメチル基、2,3,6-トリメチルフェニルメチル基、3,4,5-トリメチルフェニルメチル基、2,4,6-トリメチルフェニルメチル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニルメチル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニルメチル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニルメチル基、ペンタメチルフェニルメチル基、エチルフェニルメチル基、n-プロピルフェニルメチル基、イソプロピルフェニルメチル基、n-ブチルフェニルメチル基、sec-ブチルフェニルメチル基、tert-ブチルフェニルメチル基、イソブチルフェニルメチル基、n-ペンチルフェニルメチル基、ネオペンチルフェニルメチル基、n-ヘキシルフェニルメチル基、n-オクチルフェニルメチル基、n-デシルフェニルメチル基、ナフチルメチル基、およびアントラセニルメチル基を挙げることができ、なかでも、より好ましくはベンジル基である。これらのアラルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等で置換されていてもよい。式[3]のL2として好ましくは、水素原子、アルキル基またはアリール基であり、更に好ましくは水素原子またはアルキル基であり、特に好ましくはアルキル基である。上記一般式[4]または[5]におけるTはそれぞれ独立に、元素の周期律表IUPAC無機化学命名法改訂版1989の第15族または第16族の原子を表す。一般式[4]におけるTと一般式[5]におけるTとは同じであっても異なっていてもよい。第15族原子の具体例としては、窒素原子、リン原子などが、第16族原子の具体例としては、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。Tとして好ましくは、それぞれ独立に窒素原子または酸素原子であり、特に好ましくはTは酸素原子である。上記一般式[4]または[5]におけるtはそれぞれのTの原子価を表し、Tが第15族原子の場合はtは3であり、Tが第16族原子の場合はtは2である。上記一般式[4]におけるR3は、電子吸引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、R3が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。電子吸引性の指標としては、ハメット則の置換基定数σ等が知られており、ハメット則の置換基定数σが正である官能基が電子吸引性基として挙げられる。電子吸引性基の具体例として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホン基、フェニル基等が挙げられる。電子吸引性基を含有する基としてはハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、ハロゲン化アルキルアリール基、シアノ化アリール基、ニトロ化アリール基、エステル基アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基やアリールオキシカルボニル基等が挙げられる。ハロゲン化アルキル基の具体例としては、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ジブロモメチル基、ジヨードメチル基トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、2,2,2-トリブロモエチル基、2,2,2-トリヨードエチル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタクロロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタブロモプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタヨードプロピル基、2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエチル基、2,2,2-トリクロロ-1-トリクロロメチルエチル基、2,2,2-トリブロモ-1-トリブロモメチルエチル基、2,2,2-トリヨード-1-トリヨードメチルエチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1-ビストリクロロメチル-2,2,2-トリクロロエチル基、1,1-ビストリブロモメチル-2,2,2-トリブロモエチル基、1,1-ビストリヨードメチル-2,2,2-トリヨードエチル基等が挙げられる。ハロゲン化アリール基の具体例としては、2-フルオロフェニル基、3-フルオロフェニル基、4-フルオロフェニル基、2,4-ジフルオロフェニル基、2,6-ジフルオロフェニル基、3,4-ジフルオロフェニル基、3,5-ジフルオロフェニル基、2,4,6-トリフルオロフェニル基、3,4,5-トリフルオロフェニル基、2,3,5,6-テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-トリフルオロメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-ペンタフルオロフェニルフェニル基、パーフルオロ-1-ナフチル基、パーフルオロ-2-ナフチル基、2-クロロフェニル基、3-クロロフェニル基、4-クロロフェニル基、2,4-ジクロロフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基、3,4-ジクロロフェニル基、3,5-ジクロロフェニル基、2,4,6-トリクロロフェニル基、3,4,5-トリクロロフェニル基、2,3,5,6-テトラクロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、2,3,5,6-テトラクロロ-4-トリクロロメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラクロロ-4-ペンタクロロフェニルフェニル基、パークロロ-1-ナフチル基、パークロロ-2-ナフチル基、2-ブロモフェニル基、3-ブロモフェニル基、4-ブロモフェニル基、2,4-ジブロモフェニル基、2,6-ジブロモフェニル基、3,4-ジブロモフェニル基、3,5-ジブロモフェニル基、2,4,6-トリブロモフェニル基、3,4,5-トリブロモフェニル基、2,3,5,6-テトラブロモフェニル基、ペンタブロモフェニル基、2,3,5,6-テトラブロモ-4-トリブロモメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラブロモ-4-ペンタブロモフェニルフェニル基、パーブロモ-1-ナフチル基、パーブロモ-2-ナフチル基、2-ヨードフェニル基、3-ヨードフェニル基、4-ヨードフェニル基、2,4-ジヨードフェニル基、2,6-ジヨードフェニル基、3,4-ジヨードフェニル基、3,5-ジヨードフェニル基、2,4,6-トリヨードフェニル基、3,4,5-トリヨードフェニル基、2,3,5,6-テトラヨードフェニル基、ペンタヨードフェニル基、2,3,5,6-テトラヨード-4-トリヨードメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラヨード-4-ペンタヨードフェニルフェニル基、パーヨード-1-ナフチル基、パーヨード-2-ナフチル基等が挙げられる。ハロゲン化アルキルアリール基の具体例としては、2-トリフルオロメチルフェニル基、3-トリフルオロメチルフェニル基、4-トリフルオロメチルフェニル基、2,6-ビストリフルオロメチルフェニル基、3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基、2,4,6-トリストリフルオロメチルフェニル基、3,4,5-トリストリフルオロメチルフェニル基等が挙げられる。シアノ化アリール基の具体例としては、2-シアノフェニル基、3-シアノフェニル基、4-シアノフェニル基等が挙げられる。ニトロ化アリール基の具体例としては、2-ニトロフェニル基、3-ニトロフェニル基、4-ニトロフェニル基等が挙げられる。エステル基の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ノルマルプロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、ペンタフルオロフェノキシカルボニル基等が挙げられる。R3として好ましくはハロゲン化ハイドロカルビル基であり、より好ましくはハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アリール基である。さらに好ましくは、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチル基、2-フルオロフェニル基、3-フルオロフェニル基、4-フルオロフェニル基、2,4-ジフルオロフェニル基、2,6-ジフルオロフェニル基、3,4-ジフルオロフェニル基、3,5-ジフルオロフェニル基、2,4,6-トリフルオロフェニル基、3,4,5-トリフルオロフェニル基、2,3,5,6-テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-トリフルオロメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-ペンタフルオロフェニルフェニル基、パーフルオロ-1-ナフチル基、パーフルオロ-2-ナフチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、2,2,3,3,3-ペンタクロロプロピル基、2,2,2-トリクロロ-1-トリクロロメチルエチル基、1,1-ビストリクロロメチル-2,2,2-トリクロロエチル基、4-クロロフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基、3.5-ジクロロフェニル基、2,4,6-トリクロロフェニル基、3,4,5-トリクロロフェニル基、またはペンタクロロフェニル基であり、特に好ましくは、フルオロアルキル基またはフルオロアリール基であり、最も好ましくは、トリフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチル基、3,5-ジフルオロフェニル基、3,4,5-トリフルオロフェニル基またはペンタフルオロフェニル基である。上記一般式[5]におけるR4はハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表す。R4におけるハイドロカルビル基としては、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基が好ましく、一般式[3]におけるL2として説明したと同様のハイドロカルビル基が用いられる。R4におけるハロゲン化ハイドロカルビル基としては、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、ハロゲン化アルキルアリール基等が挙げられ、上記一般式[4]のR3における電子吸引性基の具体例として挙げたものと同様のハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、ハロゲン化アルキルアリール基が用いられる。上記一般式[5]におけるR4として好ましくはハロゲン化ハイドロカルビル基であり、さらに好ましくはフッ素化ハイドロカルビル基である。改質された粒子Iに用いられる化合物aとしては、M2が亜鉛原子の場合、例えば、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジ-n-ブチル亜鉛、ジイソブチル亜鉛、ジ-n-ヘキシル亜鉛等のジアルキル亜鉛、ジフェニル亜鉛、ジナフチル亜鉛、およびビスペンタフルオロフェニル亜鉛等のジアリール亜鉛、ジアリル亜鉛等のジアルケニル亜鉛、ビスシクロペンタジエニル亜鉛、塩化メチル亜鉛、塩化エチル亜鉛、塩化プロピル亜鉛、塩化n-ブチル亜鉛、塩化イソブチル亜鉛、塩化n-ヘキシル亜鉛、臭化メチル亜鉛、臭化エチル亜鉛、臭化プロピル亜鉛、臭化n-ブチル亜鉛、臭化イソブチル亜鉛、臭化n-ヘキシル亜鉛、ヨウ化メチル亜鉛、ヨウ化エチル亜鉛、ヨウ化プロピル亜鉛、ヨウ化n-ブチル亜鉛、ヨウ化イソブチル亜鉛、およびヨウ化n-ヘキシル亜鉛等のハロゲン化アルキル亜鉛、フッ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、およびヨウ化亜鉛等のハロゲン化亜鉛が挙げられる。化合物aとして好ましくは、ジアルキル亜鉛であり、更に好ましくは、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジn-ブチル亜鉛、ジイソブチル亜鉛またはジn-ヘキシル亜鉛であり、特に好ましくはジメチル亜鉛またはジエチル亜鉛である。化合物bを具体例に例示すると、アミン類としては、ジフルオロメチルアミン、ジクロロメチルアミン、ジブロモメチルアミン、ジヨードメチルアミン、ビスジフルオロメチルアミン、ビスジクロロメチルアミン、ビスジブロモメチルアミン、ビスジヨードメチルアミン、ビストリフルオロメチルアミン、ビストリクロロメチルアミン、ビストリブロモメチルアミン、ビストリヨードメチルアミン、ビス2,2,2-トリフルオロエチルアミン、ビス2,2,2-トリクロロエチルアミン、ビス2,2,2-トリブロモエチルアミン、ビス2,2,2-トリヨードエチルアミン、ビス2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルアミン、ビス2,2,3,3,3-ペンタクロロプロピルアミン、ビス2,2,3,3,3-ペンタブロモプロピルアミン、ビス2,2,3,3,3-ペンタヨードプロピルアミン、ビス2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエチルアミン、ビス2,2,2-トリクロロ-1-トリクロロメチルエチルアミン、ビス2,2,2-トリブロモ-1-トリブロモメチルエチルアミン、ビス2,2,2-トリヨード-1-トリヨードメチルエチルアミン、ビス1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチルアミン、ビス1,1-ビストリクロロメチル-2,2,2-トリクロロエチルアミン、ビス1,1-ビストリブロモメチル-2,2,2-トリブロモエチルアミン、ビス1,1-ビストリヨードメチル-2,2,2-トリヨードエチルアミン、ビス2-フルオロフェニルアミン、ビス3-フルオロフェニルアミン、ビス4-フルオロフェニルアミン、ビス2-クロロフェニルアミン、ビス3-クロロフェニルアミン、ビス4-クロロフェニルアミン、ビス2-ブロモフェニルアミン、ビス3-ブロモフェニルアミン、ビス4-ブロモフェニルアミン、ビス2-ヨードフェニルアミン、ビス3-ヨードフェニルアミン、ビス4-ヨードフェニルアミン、ビス2,6-ジフルオロフェニルアミン、ビス3,5-ジフルオロフェニルアミン、ビス2,6-ジクロロフェニルアミン、ビス3,5-ジクロロフェニルアミン、ビス2,6-ジブロモフェニルアミン、ビス3,5-ジブロモフェニルアミン、ビス2,6-ジヨードフェニルアミン、ビス3,5-ジヨードフェニルアミン、ビス2,4,6-トリフルオロフェニルアミン、ビス2,4,6-トリクロロフェニルアミン、ビス2,4,6-トリブロモフェニルアミン、ビス2,4,6-トリヨードフェニルアミン、ビス3,4,5-トリフルオロフェニルアミン、ビス3,4,5-トリクロロフェニルアミン、ビス3,4,5-トリブロモフェニルアミン、ビス3,4,5-トリヨードフェニルアミン、ビスペンタフルオロフェニルアミン、ビスペンタクロロフェニルアミン、ビスペンタブロモフェニルアミン、ビスペンタヨードフェニルアミン、ビス2-トリフルオロメチルフェニルアミン、ビス3-トリフルオロメチルフェニルアミン、ビス4-トリフルオロメチルフェニルアミン、ビス2,6-ジトリフルオロメチルフェニルアミン、ビス3,5-ジトリフルオロメチルフェニルアミン、ビス2,4,6-トリトリフルオロメチルフェニルアミン、ビス3,4,5-トリトリフルオロメチルフェニルアミン、ビス2-シアノフェニルアミン、3-シアノフェニルアミン、ビス4-シアノフェニルアミン、ビス2-ニトロフェニルアミン、ビス3-ニトロフェニルアミン、ビス4-ニトロフェニルアミン等が挙げられる。また、窒素原子がリン原子に置換されたホスフィン化合物も同様に例示することができる。それらホスフィン化合物は、上述の具体例のアミンをホスフィンに書き換えることによって表される化合物等である。また化合物bの具体例としてアルコール類としては、フルオロメタノール、クロロメタノール、ブロモメタノール、ヨードメタノール、ジフルオロメタノール、ジクロロメタノール、ジブロモメタノール、ジヨードメタノール、トリフルオロメタノール、トリクロロメタノール、トリブロモメタノール、トリヨードメタノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、2,2,2-トリクロロエタノール、2,2,2-トリブロモエタノール、2,2,2-トリヨードエタノール、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロパノール、2,2,3,3,3-ペンタクロロプロパノール、2,2,3,3,3-ペンタブロモプロパノール、2,2,3,3,3-ペンタヨードプロパノール、2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエタノール、2,2,2-トリクロロ-1-トリクロロメチルエタノール、2,2,2-トリブロモ-1-トリブロモメチルエタノール、2,2,2-トリヨード-1-トリヨードメチルエタノール、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエタノール、1,1-ビストリクロロメチル-2,2,2-トリクロロエタノール、1,1-ビストリブロモメチル-2,2,2-トリブロモエタノール、1,1-ビストリヨードメチル-2,2,2-トリヨードエタノール等が挙げられる。また、酸素原子が硫黄原子に置換されたチオール化合物も同様に例示することができる。それらチオール化合物は、上述の具体例のメタノールをメタンチオールに、エタノールをエタンチオールに、プロパノールをプロパンチオールに書き換えることによって表される化合物等である。化合物bの具体例としてフェノール類としては、2-フルオロフェノール、3-フルオロフェノール、4-フルオロフェノール、2,4-ジフルオロフェノール、2,6-ジフルオロフェノール、3,4-ジフルオロフェノール、3,5-ジフルオロフェノール、2,4,6-トリフルオロフェノール、3,4,5-トリフルオロフェノール、2,3,5,6-テトラフルオロフェノール、ペンタフルオロフェノール、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-トリフルオロメチルフェノール、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-ペンタフルオロフェニルフェノール、パーフルオロ-1-ナフトール、パーフルオロ-2-ナフトール、2-クロロフェノール、3-クロロフェノール、4-クロロフェノール、2,4-ジクロロフェノール、2,6-ジクロロフェノール、3,4-ジクロロフェノール、3,5-ジクロロフェノール、2,4,6-トリクロロフェノール、3,4,5-トリクロロフェノール、2,3,5,6-テトラクロロフェノール、ペンタクロロフェノール、2,3,5,6-テトラクロロ-4-トリクロロメチルフェノール、2,3,5,6-テトラクロロ-4-ペンタクロロフェニルフェノール、パークロロ-1-ナフトール、パークロロ-2-ナフトール、2-ブロモフェノール、3-ブロモフェノール、4-ブロモフェノール、2,4-ジブロモフェノール、2,6-ジブロモフェノール、3,4-ジブロモフェノール、3,5-ジブロモフェノール、2,4,6-トリブロモフェノール、3,4,5-トリブロモフェノール、2,3,5,6-テトラブロモフェノール、ペンタブロモフェノール、2,3,5,6-テトラブロモ-4-トリブロモメチルフェノール、2,3,5,6-テトラブロモ-4-ペンタブロモフェニルフェノール、パーブロモ-1-ナフトール、パーブロモ-2-ナフトール、2-ヨードフェノール、3-ヨードフェノール、4-ヨードフェノール、2,4-ジヨードフェノール、2,6-ジヨードフェノール、3,4-ジヨードフェノール、3,5-ジヨードフェノール、2,4,6-トリヨードフェノール、3,4,5-トリヨードフェノール、2,3,5,6-テトラヨードフェノール、ペンタヨードフェノール、2,3,5,6-テトラヨード-4-トリヨードメチルフェノール、2,3,5,6-テトラヨード-4-ペンタヨードフェニルフェノール、パーヨード-1-ナフトール、パーヨード-2-ナフトール、2-トリフルオロメチルフェノール、3-トリフルオロメチルフェノール、4-トリフルオロメチルフェノール、2,6-ビストリフルオロメチルフェノール、3,5-ビストリフルオロメチルフェノール、2,4,6-トリストリフルオロメチルフェノール、3,4,5-トリストリフルオロメチルフェノール、2-シアノフェノール、3-シアノフェノール、4-シアノフェノール、2-ニトロフェノール、3-ニトロフェノール、4-ニトロフェノール等が挙げられる。また、酸素原子が硫黄原子に置換されたチオフェノール化合物も同様に例示することができる。それらチオフェノール化合物は、上述の具体例のフェノールをチオフェノールに書き換えることによって表される化合物等である。化合物bとして好ましくは、アミン類としては、ビストリフルオロメチルアミン、ビス2,2,2-トリフルオロエチルアミン、ビス2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルアミン、ビス2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエチルアミン、ビス1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチルアミン、またはビスペンタフルオロフェニルアミン、アルコール類としては、トリフルオロメタノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロパノール、2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエタノール、または1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエタノール、フェノール類としては、2-フルオロフェノール、3-フルオロフェノール、4-フルオロフェノール、2,6-ジフルオロフェノール、3,5-ジフルオロフェノール、2,4,6-トリフルオロフェノール、3,4,5-トリフルオロフェノール、ペンタフルオロフェノール、2-トリフルオロメチルフェノール、3-トリフルオロメチルフェノール、4-トリフルオロメチルフェノール、2,6-ビストリフルオロメチルフェノール、3,5-ビストリフルオロメチルフェノール、2,4,6-トリストリフルオロメチルフェノール、または3,4,5-トリストリフルオロメチルフェノールである。化合物bとしてより好ましくは、ビストリフルオロメチルアミン、ビスペンタフルオロフェニルアミン、トリフルオロメタノール、2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエタノール、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエタノール、2-フルオロフェノール、3-フルオロフェノール、4-フルオロフェノール、2,6-ジフルオロフェノール、3,5-ジフルオロフェノール、2,4,6-トリフルオロフェノール、3,4,5-トリフルオロフェノール、ペンタフルオロフェノール、4-トリフルオロメチルフェノール、2,6-ビストリフルオロメチルフェノール、または2,4,6-トリストリフルオロメチルフェノールであり、さらに好ましくは、3,5-ジフルオロフェノール、3,4,5-トリフルオロフェノール、ペンタフルオロフェノール、または1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエタノールである。化合物cとしては、例えば、水、硫化水素、アミン、およびアニリン化合物が挙げられる。アミンとしては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、n-プロピルアミン、イソプロピルアミン、n-ブチルアミン、sec-ブチルアミン、tert-ブチルアミン、イソブチルアミン、n-ペンチルアミン、ネオペンチルアミン、イソペンチルアミン、n-ヘキシルアミン、n-オクチルアミン、n-デシルアミン、n-ドデシルアミン、n-ペンタデシルアミン、およびn-エイコシルアミン等のアルキルアミン、アリルアミン、シクロペンタジエニルアミン、およびベンジルアミン等のアラルキルアミン、フルオロメチルアミン、ジフルオロメチルアミン、トリフルオロメチルアミン、2,2,2-トリフルオロエチルアミン、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルアミン、2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエチルアミン、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチルアミン、パーフルオロプロピルアミン、パーフルオロブチルアミン、パーフルオロペンチルアミン、パーフルオロヘキシルアミン、パーフルオロオクチルアミン、パーフルオロドデシルアミン、パーフルオロペンタデシルアミン、パーフルオロエイコシルアミン、および、これらのアミンのフルオロをクロロ、ブロモまたはヨードに置き換えたハロゲン化アルキルアミンが挙げられる。化合物cのアニリン化合物としては、例えば、アニリン、ナフチルアミン、アントラセニルアミン、2-トリルアミン、3-トリルアミン、4-トリルアミン、2,3-キシリルアミン、2,4-キシリルアミン、2,5-キシリルアミン、2,6-キシリルアミン、3,4-キシリルアミン、3,5-キシリルアミン、2,3,4-トリメチルアニリン、2,3,5-トリメチルアニリン、2,3,6-トリメチルアニリン、2,4,6-トリメチルアニリン、3,4,5-トリメチルアニリン、2,3,4,5-テトラメチルアニリン、2,3,4,6-テトラメチルアニリン、2,3,5,6-テトラメチルアニリン、ペンタメチルアニリン、2-エチルアニリン、3-エチルアニリン、4-エチルアニリン、2,3-ジエチルアニリン、2,4-ジエチルアニリン、2,5-ジエチルアニリン、2,6-ジエチルアニリン、3,4-ジエチルアニリン、3,5-ジエチルアニリン、2,3,4-トリエチルアニリン、2,3,5-トリエチルアニリン、2,3,6-トリエチルアニリン、2,4,6-トリエチルアニリン、3,4,5-トリエチルアニリン、2,3,4,5-テトラエチルアニリン、2,3,4,6-テトラエチルアニリン、2,3,5,6-テトラエチルアニリン、ペンタエチルアニリン、および、これらのエチルをn-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、n-オクチル、n-デシル、n-ドデシル、またはn-テトラデシルに置き換えたアルキルアニリン、2-フルオロアニリン、3-フルオロアニリン、4-フルオロアニリン、2,6-ジフルオロアニリン、3,5-ジフルオロアニリン、2,4,6-トリフルオロアニリン、3,4,5-トリフルオロアニリン、およびペンタフルオロアニリン等のハロゲン化アニリン、2-トリフルオロメチルアニリン、3-トリフルオロメチルアニリン、4-トリフルオロメチルアニリン、2,6-ジトリフルオロメチルアニリン、3,5-ジトリフルオロメチルアニリン、2,4,6-トリトリフルオロメチルアニリン、および、これらのフルオロをクロロ、ブロモまたはヨードに置き換えたハロゲン化アルキルアニリンが挙げられる。化合物cとして好ましくは、水、硫化水素、メチルアミン、エチルアミン、n-プロピルアミン、イソプロピルアミン、n-ブチルアミン、sec-ブチルアミン、tert-ブチルアミン、イソブチルアミン、n-オクチルアミン、アニリン、2,6-キシリルアミン、2,4,6-トリメチルアニリン、ナフチルアミン、アントラセニルアミン、ベンジルアミン、トリフルオロメチルアミン、ペンタフルオロエチルアミン、パーフルオロプロピルアミン、パーフルオロブチルアミン、パーフルオロペンチルアミン、パーフルオロヘキシルアミン、パーフルオロオクチルアミン、パーフルオロドデシルアミン、パーフルオロペンタデシルアミン、パーフルオロエイコシルアミン、2-フルオロアニリン、3-フルオロアニリン、4-フルオロアニリン、2,6-ジフルオロアニリン、3,5-ジフルオロアニリン、2,4,6-トリフルオロアニリン、3,4,5-トリフルオロアニリン、ペンタフルオロアニリン、2-トリフルオロメチルアニリン、3-トリフルオロメチルアニリン、4-トリフルオロメチルアニリン、2,6-ビストリフルオロメチルアニリン、3,5-ビストリフルオロメチルアニリンまたは2,4,6-トリストリフルオロメチルアニリンであり、特に好ましくは、水、トリフルオロメチルアミン、パーフルオロブチルアミン、パーフルオロオクチルアミン、パーフルオロペンタデシルアミン、2-フルオロアニリン、3-フルオロアニリン、4-フルオロアニリン、2,6-ジフルオロアニリン、3,5-ジフルオロアニリン、2,4,6-トリフルオロアニリン、3,4,5-トリフルオロアニリン、ペンタフルオロアニリン、2-トリフルオロメチルアニリン、3-トリフルオロメチルアニリン、4-トリフルオロメチルアニリン、2,6-ビストリフルオロメチルアニリン、3,5-ビストリフルオロメチルアニリン、または2,4,6-トリストリフルオロメチルアニリンであり、最も好ましくは水またはペンタフルオロアニリンである。dとしては、無機酸化物粒子や有機ポリマー粒子が挙げられるが、それらの中で、好ましくは、一般に担体として用いられている粒径の整った、多孔質の粒子である。dの粒径分布としては、得られる付加重合体の粒径分布の観点から、好ましくは、dの粒径の体積基準の幾何標準偏差が2.5以下であり、より好ましくは2.0以下であり、さらに好ましくは1.7以下である。dの無機酸化物粒子としては、どのような無機酸化物を用いてもよく、複数の無機物質を混合して用いてもよい。無機酸化物としては、例えば、SiO2、Al2O3、MgO、ZrO2、TiO2、B2O3、CaO、ZnO、BaO、およびThO2、ならびにこれらの混合物、SiO2-MgO、SiO2-Al2O3、SiO2-TiO2、SiO2-V2O5、SiO2-Cr2O3、およびSiO2-TiO2-MgOが挙げられる。これらの無機酸化物として好ましくは、SiO2および/またはAl2O3であり、特に好ましくはSiO2即ちシリカである。上記無機酸化物は、少量のNa2CO3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4、Al2SO43、BaSO4、KNO3、MgNO32、AlNO33、Na2O、K2O、Li2O等の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していてもよい。無機酸化物は、乾燥され、実質的に水分が除去されていることが好ましく、乾燥方法として好ましくは加熱乾燥である。乾燥温度は、目視で水分を確認できない無機酸化物については、通常温度100~1500°Cであり、好ましくは100~1000°Cであり、更に好ましくは200~800°Cである。乾燥時間は特に限定されないが、好ましくは10分間~50時間、より好ましくは1時間~30時間である。加熱乾燥の方法としては、例えば、加熱中に乾燥した不活性ガス例えば、窒素またはアルゴン等を一定の流速で流通させて乾燥する方法、または、減圧下で加熱乾燥する方法等が挙げられる。無機酸化物には通常、表面にヒドロキシ基が生成し存在しているが、無機酸化物として、表面ヒドロキシ基の活性水素を種々の置換基で置換した、改質無機酸化物を使用してもよい。改質無機酸化物としては、例えば、トリメチルクロロシラン、tert-ブチルジメチルクロロシラン等のトリアルキルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン等のトリアリールクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン等のジアリールジクロロシラン、メチルトリクロロシラン等のアルキルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン等のアリールトリクロロシラン、トリメチルメトキシシラン等のトリアルキルアルコキシシラン、トリフェニルメトキシシラン等のトリアリールアルコシキシランおよびジメチルジメトキシシラン等のジアルキルジアルコキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のジアリールジアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、テトラメトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン等のアルキルジシラザン、テトラクロロシラン、メタノールおよびエタノール等のアルコール、フェノール、ジブチルマグネシウム、ブチルエチルマグネシウム、ブチルオクチルマグネシウム等のジアルキルマグネシウム、ブチルリチウム等のアルキルリチウムで接触処理された無機酸化物が挙げられる。更に、トリアルキルアルミニウムと接触後、ジエチルアミン、ジフェニルアミン等のジアルキルアミン、メタノール、エタノール等のアルコール、フェノールで接触処理された無機酸化物が挙げられる。無機酸化物はヒドロキシ基同士が水素結合することにより無機酸化物自体の強度が高まっていることがある。その場合、仮に表面ヒドロキシ基の活性水素すべてについて種々の置換基で置換してしまうと、粒子強度の低下等をまねく場合がある。よって、無機酸化物の表面ヒドロキシ基の活性水素は必ずしもすべて置換する必要はなく、表面ヒドロキシ基の置換率は適宜決めればよい。表面ヒドロキシ基の置換率を変化させる方法は特に限定されない。その方法としては、例えば、接触処理に使用する化合物の使用量を変化させる方法が挙げられる。無機酸化物粒子の平均粒子径は特に限定されないが、通常1~5000μmであり、好ましくは5~1000μmであり、より好ましくは10~500μmであり、更に好ましくは10~100μmである。細孔容量として好ましくは、0.1ml/g以上であり、より好ましくは0.3~10ml/gである。比表面積はとして好ましくは、10~1000m2/gであり、より好ましくは100~500m2/gである。dの有機ポリマー粒子は、どのような有機ポリマーを用いてもよく、また複数種の有機ポリマーの混合物を用いてもよい。有機ポリマーとして好ましくは、活性水素を有する官能基または非プロトン供与性のルイス塩基性官能基を有する重合体である。活性水素を有する官能基としては、活性水素を有していれば特に限定されない。その官能基としては、例えば、1級アミノ基、2級アミノ基、イミノ基、アミド基、ヒドラジド基、アミジノ基、ヒドロキシ基、ヒドロペルオキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、スルフェン酸基、チオール基、チオホルミル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピペリジル基、インダゾリル基、およびカルバゾリル基が挙げられる。好ましくは、1級アミノ基、2級アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホン酸基またはチオール基であり、特に好ましくは、1級アミノ基、2級アミノ基、アミド基またはヒドロキシ基である。これらの基はハロゲン原子や炭素原子数1~20のハイドロカルビル基で置換されていてもよい。非プロトン供与性のルイス塩基性官能基としては、活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する官能基であれば特に限定されない。その官能基としては、例えば、ピリジル基、N-置換イミダゾリル基、N-置換インダゾリル基、ニトリル基、アジド基、N-置換イミノ基、N,N-置換アミノ基、N,N-置換アミノオキシ基、N,N,N-置換ヒドラジノ基、ニトロソ基、ニトロ基、ニトロオキシ基、フリル基、カルボニル基、チオカルボニル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、N,N-置換カルバモイル基、チオアルコキシ基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、および置換スルホン酸基が挙げられる。好ましくは複素環基であり、更に好ましくは、酸素原子および/または窒素原子を環内に有する芳香族複素環基である。特に好ましくは、ピリジル基、N-置換イミダゾリル基、N-置換インダゾリル基であり、最も好ましくはピリジル基である。これらの基はハロゲン原子や炭素原子数1~20のハイドロカルビル基で置換されていてもよい。有機ポリマー中の活性水素を有する官能基または非プロトン供与性のルイス塩基性官能基の含有量は特に限定されない。その含有量は、好ましくは、重合体の単位グラム当りの官能基のモル量として0.01~50mmol/gであり、より好ましくは0.1~20mmol/gである。活性水素を有する官能基または非プロトン供与性のルイス塩基性官能基を有する有機ポリマーの製造方法としては、例えば、活性水素を有する官能基もしくは非プロトン供与性のルイス塩基性官能基と1個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーを単独重合させる方法、またはそのモノマーと重合性不飽和基を有する他のモノマーとを共重合させる方法が挙げられる。このとき更に2個以上の重合性不飽和基を有する架橋重合性モノマーをも一緒に共重合することが好ましい。重合性不飽和基としては、例えば、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、エチン基等のアルキニル基が挙げられる。活性水素を有する官能基と1個以上の重合性不飽和基を有するモノマーとしては、例えば、ビニル基含有1級アミン、ビニル基含有2級アミン、ビニル基含有アミド化合物、およびビニル基含有ヒドロキシ化合物が挙げられる。そのモノマーとしては、例えば、N-1-エテニルアミン、N-2-プロペニルアミン、N-1-エテニル-N-メチルアミン、N-2-プロペニル-N-メチルアミン、1-エテニルアミド、2-プロペニルアミド、N-メチル-1-エテニルアミド、N-メチル-2-プロペニルアミド、ビニルアルコール、2-プロペン-1-オール、3-ブテン-1-オールが挙げられる。活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する官能基と1個以上の重合性不飽和基を有するモノマーとしては、例えば、ビニルピリジン、ビニルN-置換イミダゾール、およびビニルN-置換インダゾールが挙げられる。重合性不飽和基を有する他のモノマーとしては、例えば、エチレン、α-オレフィン、芳香族ビニル化合物および環状オレフィン化合物を挙げることができる。そのモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、スチレン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエンが挙げられる。好ましくはエチレンまたはスチレンである。これらのモノマーは2種以上を用いてもよい。上記2個以上の重合性不飽和基を有する架橋重合性モノマーとしては、例えば、ジビニルベンゼン等を挙げることができる。有機ポリマー粒子の平均粒子径は特に限定されないが、通常1~5000μmであり、好ましくは5~1000μmであり、より好ましくは10~500μmである。細孔容量としては特に限定されないが、好ましくは0.1ml/g以上であり、より好ましくは0.3~10ml/gである。比表面積としては特に限定されないが、好ましくは10~1000m2/gであり、より好ましくは50~500m2/gである。これらの有機ポリマー粒子は、乾燥され、実質的に水分が除去されていることが好ましく、加熱乾燥により乾燥されたものが好ましい。乾燥温度は通常、目視で水分を確認できない有機ポリマーについては30~400°Cであり、好ましくは50~200°Cであり、更に好ましくは70~150°Cである。加熱時間は特に限定されないが、好ましくは10分間~50時間であり、より好ましくは1時間~30時間である。加熱乾燥の方法としては、例えば、加熱中に乾燥した不活性ガス例えば、窒素またはアルゴン等を一定の流速で流通させて乾燥する方法、または、減圧下で加熱乾燥する方法等が挙げられる。本発明の改質された粒子Iを得るために、上記の成分a、b、cおよびdを接触させる順序は、特に限定されることはなく、例えば、以下の順序を挙げることができる。<1>aとbとの接触物と、cとを接触させて得られる接触物とdとを接触させる。<2>aとbとの接触物と、dとを接触させて得られる接触物とcとを接触させる。<3>aとcとの接触物と、bとを接触させて得られる接触物とdとを接触させる。<4>aとcとの接触物と、dとを接触させて得られる接触物とbとを接触させる。<5>aとdとの接触物と、bとを接触させて得られる接触物とcとを接触させる。<6>aとdとの接触物と、cとを接触させて得られる接触物とbとを接触させる。<7>bとcとの接触物と、aとを接触させて得られる接触物とdとを接触させる。<8>bとcとの接触物と、dとを接触させて得られる接触物とaとを接触させる。<9>bとdとの接触物と、aとを接触させて得られる接触物とcとを接触させる。<10>bとdとの接触物と、cとを接触させて得られる接触物とaとを接触させる。<11>cとdとの接触物と、aとを接触させて得られる接触物とbとを接触させる。<12>cとdとの接触物と、bとを接触させて得られる接触物とaとを接触させる。接触順序として、好ましくは、上記の<1>、<2>、<3>、<5>、<11>または<12>である。特に好ましくは、<2>または<5>である。このような接触処理は不活性気体雰囲気下で行うことが好ましい。処理温度は通常-100~300°Cであり、好ましくは-80~200°Cである。処理時間は通常1分間~200時間であり、好ましくは10分間~100時間である。また、このような処理は溶媒を用いてもよく、または溶媒を用いることなくこれらの化合物を直接接触処理してもよい。溶媒としては、上記化合物a、b、c、d、およびそれらの接触物に対して不活性な溶媒が用いられる。しかしながら、上述のように、段階的に各化合物を接触させる場合には、ある段階においてある化合物と反応する溶媒であっても、その溶媒が他の段階において各化合物と反応しない溶媒であれば、その溶媒を他の段階で用いることができる。つまり、各段階における溶媒は相互に、同じかまたは異なる。その溶媒としては、例えば、脂肪族ハイドロカルビル溶媒、芳香族ハイドロカルビル溶媒等の非極性溶媒、ハロゲン化物溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、フェノール系溶媒、カルボニル系溶媒、リン酸誘導体、ニトリル系溶媒、ニトロ化合物、アミン系溶媒、および硫黄化合物等の極性溶媒が挙げられる。例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、2,2,4-トリメチルペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族ハイドロカルビル溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族ハイドロカルビル溶媒、ジクロロメタン、ジフルオロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、1,2-ジブロモエタン、1,1,2-トリクロロ-1,2,2-トリフルオロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化物溶媒、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ-n-ブチルエーテル、メチル-tert-ブチル-エーテル、アニソール、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、ビス2-メトキシエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール、3-メチル-1-ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン等のアルコール系溶媒、フェノール、p-クレゾール等のフェノール系溶媒、アセトン、エチルメチルケトン、シクロヘキサノン、無水酢酸、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン等のカルボニル系溶媒、ヘキサメチルリン酸トリアミド、リン酸トリエチル等のリン酸誘導体、アセトニトリル、プロピオニトリル、スクシノニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、ピリジン、ピペリジン、モルホリン等のアミン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物が挙げられる。化合物a、bおよびcを接触させて得られる接触生成物eと、粒子dとを接触させる場合、つまり上記の<1>、<3>、<7>の各方法において、接触生成物eを製造する場合の溶媒s1として好ましくは、上記の脂肪族ハイドロカルビル溶媒、芳香族ハイドロカルビル溶媒またはエーテル系溶媒である。接触生成物eと粒子dとを接触させる場合の溶媒s2としては極性溶媒が好ましい。溶媒の極性を表す指標としては、ETN値C.Reichardt,SolventsandSolventsEffectsinOrganicChemistry,2nded.,VCHVerlag1988.等が知られており、0.8≧ETN≧0.1なる範囲を満足する溶媒が特に好ましい。かかる極性溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロジフルオロメタンクロロホルム、1,2-ジクロロエタン、1,2-ジブロモエタン、1,1,2-トリクロロ-1,2,2-トリフルオロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、o-ジクロロベンゼン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ-n-ブチルエーテル、メチル-tert-ブチルエーテル、アニソール、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、ビス2-メトキシエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール、3-メチル-1-ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、アセトン、エチルメチルケトン、シクロヘキサノン、無水酢酸、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、リン酸トリエチル、アセトニトリル、プロピオニトリル、スクシノニトリル、ベンゾニトリル、ニトロメタン、ニトロベンゼン、エチレンジアミン、ピリジン、ピペリジン、モルホリン、ジメチルスルホキシド、およびスルホランを挙げることができる。溶媒s2として更に好ましくは、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ-n-ブチルエーテル、メチル-tert-ブチルエーテル、アニソール、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、ビス2-メトキシエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール、3-メチル-1-ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、ジエチレングリコールまたはトリエチレングリコールであり、特に好ましくはジ-n-ブチルエーテル、メチル-tert-ブチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール、3-メチル-1-ブタノールまたはシクロヘキサノールであり、最も好ましくはテトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、1-プロパノールまたは2-プロパノールである。また、前記溶媒s2としては、これら極性溶媒とハイドロカルビル溶媒との混合溶媒を用いることもできる。ハイドロカルビル溶媒としては上に例示した脂肪族ハイドロカルビル溶媒や芳香族ハイドロカルビル溶媒が用いられる。極性溶媒とハイドロカルビル溶媒との混合溶媒としては、例えば、ヘキサン/メタノール混合溶媒、ヘキサン/エタノール混合溶媒、ヘキサン/1-プロパノール混合溶媒、ヘキサン/2-プロパノール混合溶媒、ヘプタン/メタノール混合溶媒、ヘプタン/エタノール混合溶媒、ヘプタン/1-プロパノール混合溶媒、ヘプタン/2-プロパノール混合溶媒、トルエン/メタノール混合溶媒、トルエン/エタノール混合溶媒、トルエン/1-プロパノール混合溶媒、トルエン/2-プロパノール混合溶媒、キシレン/メタノール混合溶媒、キシレン/エタノール混合溶媒、キシレン/1-プロパノール混合溶媒、およびキシレン/2-プロパノール混合溶媒を挙げることができる。好ましくはヘキサン/メタノール混合溶媒、ヘキサン/エタノール混合溶媒、ヘプタン/メタノール混合溶媒、ヘプタン/エタノール混合溶媒、トルエン/メタノール混合溶媒、トルエン/エタノール混合溶媒、キシレン/メタノール混合溶媒、キシレン/エタノール混合溶媒である。更に好ましくはヘキサン/メタノール混合溶媒、ヘキサン/エタノール混合溶媒、トルエン/メタノール混合溶媒またはトルエン/エタノール混合溶媒である。最も好ましくはトルエン/エタノール混合溶媒である。トルエン/エタノール混合溶媒における、エタノール分率の好ましい範囲は10~50体積であり、更に好ましくは15~30体積である。化合物a、bおよびcを接触させて得られる接触生成物eと、dとを接触させる方法、つまり上記の<1>、<3>、<7>の各方法において、溶媒s1および溶媒s2として、共にハイドロカルビル溶媒を用いることもできる。この場合は、化合物a、bおよびcを接触させた後、得られた接触生成物eと粒子dとを接触させるまでの時間は短い方が好ましい。時間として好ましくは0~5時間であり、更に好ましくは0~3時間であり、最も好ましくは0~1時間である。また、接触生成物eと粒子dとを接触させる場合の温度は、通常-100°C~40°Cであり、好ましくは-20°C~20°Cであり、最も好ましくは-10°C~10°Cである。上記の<2>、<5>、<6>、<8>、<9>、<10>、<11>、<12>の場合、上記の非極性溶媒、極性溶媒いずれも使用することができる。好ましくは、非極性溶媒である。なぜならば、aとcとの接触生成物や、aとbとの接触生成物とcとが接触した接触生成物は一般的に非極性溶媒に対し溶解性が低いので、これら接触物が生成する時に反応系内にdが存在する場合、生成した接触生成物がdの表面に析出し、より固定化されやすい、と考えられるからである。上記a、b、c各化合物の使用量は特に制限はないが、各化合物の使用量のモル比率をa:b:c=1:y:zのモル比率とすると、yおよびzが下記式1を実質的に満足することが好ましい。|m-y-2z|<11上記式1において、mはM3の原子価を表す。上記式1におけるyとして好ましくは0.01~1.99の数であり、より好ましくは0.10~1.80の数であり、さらに好ましくは0.20~1.50の数であり、最も好ましくは0.30~1.00の数であり、また上記式1におけるzの同様の好ましい範囲は、m、yおよび上記式1によって決定される。化合物aおよびdの使用量は、改質された粒子Iに含まれる化合物aに由来する典型金属原子が、得られる粒子1gに含まれる典型金属原子のモル数にして、0.05mmol以上となる量であることが好ましく、0.1~20mmolとなる量であることがより好ましい。反応をより速く進行させるため、上記のような接触処理の後に、より高い温度での加熱工程を付加することが好ましい。加熱工程では、より高温とするために、沸点の高い溶媒を使用することが好ましく、加熱工程を行う際に、接触工程で用いた溶媒を他のより沸点の高い溶媒に置き換えてもよい。改質された粒子Iは、このような接触処理の結果、原料である化合物a、b、cおよび/またはdが未反応物として残存していてもよい。しかし、予め未反応物を除去する洗浄処理を行った方が好ましい。その際の溶媒は、接触時の溶媒と同じでも異なっていてもよい。このような洗浄処理は不活性気体雰囲気下で実施するのが好ましい。処理温度は通常-100~300°Cであり、好ましくは-80~200°Cである。処理時間は通常1分間~200時間であり、好ましくは10分間~100時間である。また、上記の洗浄処理の際に、改質された粒子Iを沈降させ不定形や微粉粒子がスラリー上部で浮遊している状態で、上部の溶媒を除去することは粒径や形状の整った改質された粒子Iを得るために好ましい。また、このような接触処理や洗浄処理の後、生成物から溶媒を留去し、その後0°C以上の温度で減圧下1時間~24時間乾燥を行うことが好ましい。より好ましくは0°C~200°Cの温度で1時間~24時間であり、更に好ましくは10°C~200°Cの温度で1時間~24時間であり、特に好ましくは10°C~160°Cの温度で2時間~18時間であり、最も好ましくは15°C~160°Cの温度で4時間~18時間である。改質された粒子Iの製造方法の具体例を、M3が亜鉛原子であり、化合物bが3,4,5-トリフルオロフェノールであり、化合物cが水であり、dがシリカである場合についてさらに詳細に以下に示す。テトラヒドロフランを溶媒とし、そこへジエチル亜鉛のヘキサン溶液を加え、3°Cに冷却し、そこへジエチル亜鉛に対して等モル量の3,4,5-トリフルオロフェノールを滴下し室温にて10分間~24時間攪拌を行った後、さらにジエチル亜鉛に対して0.5倍モル量の水を滴下し室温にて10分間~24時間撹袢する。その後、溶媒を留去し、120°Cで減圧下8時間乾燥を行う。以上の操作によって得られた固体成分に、テトラヒドロフラン、シリカを加え、40°Cで2時間攪拌する。固体成分をテトラヒドロフランで洗浄した後、120°Cで減圧下8時間乾燥を行う。かくして本発明の改質された粒子Iを製造することができる。改質された粒子IIの調製に用いられるアルミノキサンeとしては、一般式{-AlE2-O-}bで示される構造を有する環状のアルミノキサンおよび/または一般式E3{-AlE3-O-}cAlE32で示される構造を有する線状のアルミノキサンが好ましく用いられる。但し、E1、E2、およびE3は、それぞれハイドロカルビル基であり、全てのE1、全てのE2および全てのE3は同じであっても異なっていてもよい。Zは水素原子またはハロゲン原子を表し、全てのZは同じであっても異なっていてもよい。aは0<a≦3を満足する数を、bは2以上の数を、cは1以上の数を表す。E1、E2、またはE3におけるハイドロカルビル基としては、炭素数1~8のハイドロカルビル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。上記E2、E3の具体例としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基を例示することができる。bは2以上の数であり、cは1以上の数である。好ましくは、E2およびE3はメチル基、またはイソブチル基であり、bは2~40、cは1~40である。上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム例えば、トリメチルアルミニウムなどを適当な有機溶剤ベンゼン、脂肪族ハイドロカルビルなどに溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム例えば、トリメチルアルミニウムなどに結晶水を含んでいる金属塩例えば、硫酸銅水和物などを接触させて作る方法が例示できる。このような方法で得られたアルミノキサンは通常、環状のアルミノキサンと線状のアルミノキサンとの混合物となっていると考えられる。改質された粒子IIに用いられる粒子dは、改質された粒子Iに用いられるdと同様な粒子を用いることができる。アルモキサンeと粒子dは任意の方法により接触させ改質された粒子IIを製造することができる。具体的には粒子dを溶媒中に分散させ、そこへアルミノキサンeを添加することにより製造される。この場合の溶媒は、改質された粒子Iで記載のいずれの溶媒も用いることができ、アルミノキサンeと反応しないものが好ましく、アルミノキサンeを溶解させる溶媒がより好ましい。具体的にはトルエンやキシレンなどの芳香族ハイドロカルビル溶媒またはヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族ハイドロカルビル溶媒が好ましく、トルエンまたはキシレンが更に好ましい。接触させる温度、時間は任意に取ることが出来るが、温度は通常-100°C~200°C、好ましくは-50°C~150°C、更に好ましくは-20°C~120°Cである。特に反応初期は発熱を抑えるために低温で反応させるのが好ましい。接触させる量は、任意に選ぶことが出来るが、粒子dの単位グラム当たりアルミノキサンeをアルミニウム原子換算で通常0.01~100mmol、好ましくは0.1~20mmol、更に好ましくは1~10mmolである。改質された粒子IIIは、改質された粒子IIの調製時にさらに遷移金属化合物を用いて得られるものである。遷移金属化合物としては、上記一般式[2]に示した遷移金属化合物Aまたはそのμ―オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’が用いられる。アルモキサンe、粒子dおよび遷移金属化合物の接触は任意の方法により実施され、改質された粒子IIIが製造される。その際、溶媒を使用するのが好ましく、該溶媒としては上記記載のいずれの溶媒も用いることができ、アルミノキサンeおよび遷移金属化合物と反応しないものが好ましく、アルミノキサンeおよび遷移金属化合物を溶解させる溶媒がより好ましい。具体的にはトルエンやキシレンなどの芳香族ハイドロカルビル溶媒またはヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族ハイドロカルビル溶媒が好ましく、トルエンまたはキシレンが更に好ましい。接触させる温度、時間は任意に取ることが出来るが、温度は通常-100°C~200°C、好ましくは-50°C~150°C、更に好ましくは-20°C~120°Cである。特に反応初期は発熱を抑えるために低温で反応させるのが好ましい。接触させる量は、任意に選ぶことが出来るが、粒子dの単位グラム当たりアルミノキサンeをアルミニウム原子換算で通常0.01~100mmol、好ましくは0.1~20mmol、更に好ましくは1~10mmolである。また、粒子dの単位グラム当たり遷移金属化合物Aを遷移金属原子換算で通常0.1~1000μmol、好ましくは1~500μmol、更に好ましくは10~200μmolである。有機アルミニウム化合物C本発明に用いられる有機アルミニウム化合物Cは、公知の有機アルミニウム化合物が使用できる。好ましくは、下記一般式[8]で示される有機アルミニウム化合物である。R7dAlY3d[8]式中、R7はハイドロカルビル基を表し、全てのR7は同一であっても異なっていてもよい。Yは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、またはアリールオキシ基を表し、全てのYは同一であっても異なっていてもよい。dは0<d≦3を満足する数を表す。有機アルミニウム化合物を表す一般式[8]におけるR7として好ましくは炭素原子数1~24のハイドロカルビル基であり、より好ましくは炭素原子数1~24のアルキル基である。具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシル基、2-メチルヘキシル基、n-オクチル基等が挙げられ、好ましくはエチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシル基またはn-オクチル基である。また、Yがハロゲン原子である場合の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子である。Yにおけるアルコキシ基としては炭素原子数1~24のアルコキシ基が好ましく、具体例としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペントキシ基、ネオペントキシ基、n-ヘキソキシ基、n-オクトキシ基、n-ドデソキシ基、n-ペンタデソキシ基、n-イコソキシ基などが挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基またはtert-ブトキシ基である。Yにおけるアリールオキシ基としては炭素原子数6~24のアリールオキシ基が好ましく、具体例としては、例えばフェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、2,3-ジメチルフェノキシ基、2,4-ジメチルフェノキシ基、2,5-ジメチルフェノキシ基、2,6-ジメチルフェノキシ基、3,4-ジメチルフェノキシ基、3,5-ジメチルフェノキシ基、2,3,4-トリメチルフェノキシ基、2,3,5-トリメチルフェノキシ基、2,3,6-トリメチルフェノキシ基、2,4,5-トリメチルフェノキシ基、2,4,6-トリメチルフェノキシ基、3,4,5-トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5-テトラメチルフェノキシ基、2,3,4,6-テトラメチルフェノキシ基、2,3,5,6-テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n-プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n-ブチルフェノキシ基、sec-ブチルフェノキシ基、tert-ブチルフェノキシ基、n-ヘキシルフェノキシ基、n-オクチルフェノキシ基、n-デシルフェノキシ基、n-テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などが挙げられる。Yにおけるアラルキルオキシ基としては炭素原子数7~24のアラルキルオキシ基が好ましく、具体例としては、例えばベンジルオキシ基、2-メチルフェニルメトキシ基、3-メチルフェニルメトキシ基、4-メチルフェニルメトキシ基、2,3-ジメチルフェニルメトキシ基、2,4-ジメチルフェニルメトキシ基、2,5-ジメチルフェニルメトキシ基、2,6-ジメチルフェニルメトキシ基、3,4-ジメチルフェニルメトキシ基、3,5-ジメチルフェニルメトキシ基、2,3,4-トリメチルフェニルメトキシ基、2,3,5-トリメチルフェニルメトキシ基、2,3,6-トリメチルフェニルメトキシ基、2,4,5-トリメチルフェニルメトキシ基、2,4,6-トリメチルフェニルメトキシ基、3,4,5-トリメチルフェニルメトキシ基、2,3,4,5-テトラメチルフェニルメトキシ基、2,3,5,6-テトラメチルフェニルメトキシ基、ペンタメチルフェニルメトキシ基、エチルフェニルメトキシ基、n-プロピルフェニルメトキシ基、イソプロピルフェニルメトキシ基、n-ブチルフェニルメトキシ基、sec-ブチルフェニルメトキシ基、tert-ブチルフェニルメトキシ基、n-ヘキシルフェニルメトキシ基、n-オクチルフェニルメトキシ基、n-デシルフェニルメトキシ基、n-テトラデシルフェニルメトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基である。一般式[8]で表される有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ-n-プロピルアルミニウム、トリ-n-ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ-n-ヘキシルアルミニウム、トリ-n-オクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム;ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジ-n-プロピルアルミニウムクロライド、ジ-n-ブチルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジ-n-ヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド;メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、n-プロピルアルミニウムジクロライド、n-ブチルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、n-ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド;ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジ-n-プロピルアルミニウムハイドライド、ジ-n-ブチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジ-n-ヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド;メチルジメトキシアルミニウム、メチルジエトキシアルミニウム、メチルジ-tert-ブトキシアルミニウム等のアルキルジアルコキシアルミニウム;ジメチルメトキシアルミニウム、ジメチルエトキシアルミニウム、ジメチルtert-ブトキシアルミニウム等のジアルキルアルコキシアルミニウム;メチルジフェノキシアルミニウム、メチルビス2,6-ジイソプロピルフェノキシアルミニウム、メチルビス2,6-ジフェニルフェノキシアルミニウム等のアルキルジアリールオキシアルミニウム;ジメチルフェノキシアルミニウム、ジメチル2,6-ジイソプロピルフェノキシアルミニウム、ジメチル2,6-ジフェニルフェノキシアルミニウム等のジアルキルアリールオキシアルミニウム等を例示することができる。これらの内、好ましくはトリアルキルアルミニウムであり、さらに好ましくはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ-n-ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ-n-ヘキシルアルミニウムまたはトリ-n-オクチルアルミニウムであり、特に好ましくはトリイソブチルアルミニウムまたはトリ-n-オクチルアルミニウムである。これらの有機アルミニウム化合物は一種類のみを用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。電子供与性化合物D本発明の予備重合および付加重合体の製造にあたり、電子供与性化合物Dを接触させてもよい。電子供与性化合物Dとしては、窒素原子、リン原子、酸素原子または硫黄原子を含む化合物が好ましく、酸素含有化合物、窒素含有化合物、リン含有化合物、硫黄含有化合物が挙げられ、なかでも酸素含有化合物または窒素含有化合物が好ましい。酸素含有化合物としては、アルコキシケイ素類、エーテル類、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類、有機酸または無機酸のエステル類、有機酸または無機酸の酸アミド類、酸無水物類などが挙げられ、なかでもアルコキシケイ素類またはエーテル類が好ましい。窒素含有化合物としては、アミン類、ニトリル類、イソシアネート類等が挙げられ、アミン類が好ましい。アルコキシケイ素類としては、一般式R8rSiOR94r式中、R8は炭素原子数1~20のハイドロカルビル基、水素原子またはヘテロ原子含有置換基を表し、R9は炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表し、rは0≦r<4を満足する数を表す。全てのR8および全てのR9はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。で表されるアルコキシケイ素化合物が好ましく用いられる。R8やR9がハイドロカルビル基の場合、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等の直鎖状アルキル基、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、tert-アミル基等の分岐鎖状アルキル基、シクロペンンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、シクロペンテニル基等のシクロアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基等が挙げられる。R8がヘテロ原子含有置換基の場合、ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子が挙げられる。具体的にはジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルn-プロピルアミノ基、ジn-プロピルアミノ基、ピロリル基、ピリジル基、ピロリジニル基、ピペリジル基、パーヒドロインドリル基、パーヒドロイソインドリル基、パーヒドロキノリル基、パーヒドロイソキノリル基、パーヒドロカルバゾリル基、パーヒドロアクリジニル基、フリル基、ピラニル基、パーヒドロフリル基、チエニル基等が挙げられる。アルコキシケイ素類としては、R8およびR9がアルキル基であることが好ましく、更にrが4>r≧2を満足する数であることが好ましい。前記アルコキシケイ素類の具体例としては、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ノルマルプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ノルマルブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、sec-ブチルトリメトキシシラン、tert-ブチルトリメトキシシラン、ノルマルペンチルトリメトキシシラン、tert-アミルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジノルマルブチルジメトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、ジ-tert-ブチルジメトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルノルマルプロピルジメトキシシラン、メチルノルマルブチルジメトキシシラン、メチルイソブチルジメトキシシラン、tert-ブチルメチルジメトキシシラン、tert-ブチルエチルジメトキシシラン、tert-ブチルノルマルプロピルジメトキシシラン、tert-ブチルイソプロピルジメトキシシラン、tert-ブチルノルマルブチルジメトキシシラン、tert-ブチルイソブチルジメトキシシラン、tert-アミルメチルジメトキシシラン、tert-アミルエチルジメトキシシラン、tert-アミルノルマルプロピルジメトキシシラン、tert-アミルノルマルブチルジメトキシシラン、イソブチルイソプロピルジメトキシシラン、ジシクロブチルジメトキシシラン、シクロブチルメチルジメトキシシラン、シクロブチルエチルジメトキシシラン、シクロブチルイソプロピルジメトキシシラン、シクロブチルノルマルブチルジメトキシシラン、シクロブチルイソブチルジメトキシシラン、シクロブチル-tert-ブチルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、シクロペンチルメチルジメトキシシラン、シクロペンチルノルマルプロピルジメトキシシラン、シクロペンチルイソプロピルジメトキシシラン、シクロペンチルノルマルブチルジメトキシシラン、シクロペンチルイソブチルジメトキシシラン、シクロペンチル-tert-ブチルジメトキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、シクロヘキシルノルマルプロピルジメトキシシラン、シクロヘキシルイソプロピルジメトキシシラン、シクロヘキシルノルマルブチルジメトキシシラン、シクロヘキシルイソブチルジメトキシシラン、シクロヘキシル-tert-ブチルジメトキシシラン、シクロヘキシルシクロペンチルジメトキシシラン、シクロヘキシルフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルエチルジメトキシシラン、フェニルノルマルプロピルジメトキシシラン、フェニルイソプロピルジメトキシシラン、フェニルノルマルブチルジメトキシシラン、フェニルイソブチルジメトキシシラン、フェニル-tert-ブチルジメトキシシラン、フェニルシクロペンチルジメトキシシラン、2-ノルボルナンメチルジメトキシシラン、ビスパーヒドロキノリノジメトキシシラン、ビスパーヒドロイソキノリノジメトキシシラン、パーヒドロキノリノパーヒドロイソキノリノジメトキシシラン、パーヒドロキノリノメチルジメトキシシラン、パーヒドロイソキノリノメチルジメトキシシラン、パーヒドロキノリノエチルジメトキシシラン、パーヒドロイソキノリノエチルジメトキシシラン、パーヒドロキノリノn-プロピルジメトキシシラン、パーヒドロイソキノリノn-プロピルジメトキシシラン、パーヒドロキノリノtert-ブチルジメトキシシラン、パーヒドロイソキノリノtert-ブチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリノルマルプロピルメトキシシラン、トリイソプロピルメトキシシラン、トリノルマルブチルメトキシシラン、トリイソブチルメトキシシラン、トリ-tert-ブチルメトキシシラン等が挙げられる。これらの化合物のメトキシをエトキシ、プロポキシ、ノルマルブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシ、フェノキシに置き換えた化合物も例示することができる。好ましくは、ジアルキルジアルコキシシランまたはトリアルキルモノアルコキシシランであり、より好ましくはトリアルキルモノアルコキシシランである。エーテル類の例としては、ジアルキルエーテル、アルキルアリールエーテル、ジアリールエーテル、ジエーテル化合物、環状エーテル類および環状ジエーテル類を挙げることができる。具体例としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジノルマルブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジ‐tert-ブチルエーテル、ジシクロヘキシルエーテル、ジフェニルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルノルマルプロピルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、メチルノルマルブチルエーテル、メチルイソブチルエーテル、メチル-tert-ブチルエーテル、メチルシクロヘキシルエーテル、メチルフェニルエーテル、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、オキセタン、テトラヒドロフラン、2,5-ジメチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタン、1,2-ジイソブトキシエタン、2,2-ジメトキシプロパン、1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジイソブチル-1,3-ジメトキシプロパン、2-イソプロピル-2-イソペンチル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ビスシクロヘキシルメチル-1,3-ジメトキシプロパン、2-イソプロピル-2-3,7-ジメチルオクチル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジイソプロピル-1,3-ジメトキシプロパン、2-イソプロピル-2-シクロヘキシルメチル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジシクロヘキシル-1,3-ジメトキシプロパン、2-イソプロピル-2-イソブチル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジイソプロピル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジプロピル-1,3-ジメトキシプロパン、2-イソプロピル-2-シクロヘキシル-1,3-ジメトキシプロパン、2-イソプロピル-2-シクロペンチル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジシクロペンチル-1,3-ジメトキシプロパン、2-ヘプチル-2-ペンチル-1,3-ジメトキシプロパン、1,2-ジメトキシベンゼン、1.3-ジメトキシベンゼン、1,4-ジメトキシベンゼン、1,3-ジオキソラン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、等を挙げることができる。好ましくは、ジエチルエーテル、ジノルマルブチルエーテル、メチルノルマルブチルエーテル、メチルフェニルエーテル、テトラヒドロフラン、1,3-ジオキサン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソランであり、更に好ましくは、ジエチルエーテル、ジノルマルブチルエーテルまたはテトラヒドロフランである。カルボン酸エステル類の具体例としては、モノおよび多価のカルボン酸エステルが挙げられ、それらの例として飽和脂肪族カルボン酸エステル、不飽和脂肪族カルボン酸エステル、脂環式カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エステルを挙げることができる。具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ノルマルブチル、酢酸イソブチル、酢酸-tert-ブチル、酢酸フェニル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸エチル、吉草酸エチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ノルマルブチル、安息香酸イソブチル、安息香酸-tert-ブチル、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、アニス酸メチル、アニス酸エチル、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、コハク酸ジノルマルブチル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジノルマルブチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジノルマルブチル、フタル酸モノエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸メチルエチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジノルマルプロピル、フタル酸ジイソプロピル、フタル酸ジノルマルブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジ-tert-ブチル、フタル酸ジペンチル、フタル酸ジ-n-ヘキシル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジノルマルオクチル、フタル酸ジ2-エチルヘキシル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ジフェニル、イソフラル酸ジメチル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジノルマルブチル、イソフタル酸ジイソブチル、イソフタル酸ジ-tert-ブチル、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジノルマルブチル、テレフタル酸ジイソブチル、テレフタル酸ジ-tert-ブチル等を挙げることができる。好ましくは酢酸メチル、酢酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジノルマルブチル、フタル酸ジイソブチル、テレフタル酸ジメチルまたはテレフタル酸ジエチルであり、更に好ましくは、安息香酸メチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソブチルまたはテレフタル酸ジメチルである。アミン類の例示化合物としては、トリヒドロカルビルアミンが挙げられ、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリノルマルブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、トリドデシルアミン、トリフェニルアミンが挙げられる。好ましくは、トリエチルアミンまたはトリオクチルアミンである。電子供与性化合物Dとしては、アルコキシケイ素類、エーテル類またはアミン類が好ましく用いられる。更にアミン類がより好ましく用いられる。これらの電子供与性化合物Dは一種類のみを用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。本発明の付加重合体の製造方法は、下記の4つの方法を含む。1本発明のコーティング済反応器において、1次触媒の存在下、モノマーを付加重合して付加重合体を製造する方法2本発明のコーティング済反応器で1次触媒の存在下、モノマーを予備重合することにより予備重合済付加重合触媒成分を得、コーティングしてない反応器で該予備重合済付加重合触媒成分の存在下、モノマーを付加重合して付加重合体を製造する方法3コーティングしてない反応器で1次触媒の存在下、モノマーを予備重合することにより予備重合済付加重合触媒成分を得、本発明のコーティング済反応器で該予備重合済付加重合触媒成分の存在下、モノマーを付加重合して付加重合体を製造する方法4本発明のコーティング済反応器で1次触媒の存在下、モノマーを予備重合することにより予備重合済付加重合触媒成分を得、本発明のコーティング済反応器で該予備重合済付加重合触媒成分の存在下、モノマーを付加重合して付加重合体を製造する方法1次触媒本発明における1次触媒は、上記の成分Aまたはそのμ-オキソタイプの遷移金属化合物二量体A’と、成分Bと、必要に応じて成分Cとを接触させて得られる。各成分の接触量比としては、成分AまたはA’の接触量は、成分Bに対して、通常0.1~1000μmol/gであり、好ましくは1~500μmol/gであり、より好ましくは10~300μmol/gである。成分Cの接触量は成分AまたはA’に対して、通常0.01~10000mmol/gであり、好ましくは0.1~1000mmol/gであり、より好ましくは0.5~200mmol/gである。各成分の接触方法は、成分AまたはA’と、成分Bと成分Cとを予め接触させて得られた反応物を用いてもよく、反応器に別々に投入して用いてもよい。それらの内の任意の成分を予め接触させて、その後残りの成分を接触させてもよい。それらの接触方法の中で、重合反応器に別々に投入する方法が好ましい。また、成分AまたはA’を粉体はたは溶媒に懸濁させたスラリー状態で投入しても構わない。また、各成分の接触は、溶媒が存在していても存在していなくてもよい。溶媒を用いる方が効率よく活性点を形成することができるので溶媒が存在する方が好ましい。接触の際に使用する溶媒としては、生成する活性点を失活しないものであればいずれの溶媒でも用いることができる。また、接触の際に、成分AまたはA’が溶解する溶媒の方が更に好ましく、具体的には、ブタン、ペンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族ハイドロカルビル溶媒およびベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族ハイドロカルビル溶媒、ジクロロメタンのようなハロゲン化ハイドロカルビル溶媒、エーテル類、エステル類、ケトン類等の極性溶媒も使用できる。粒子を形成する重合例えば、スラリー重合、気相重合、バルク重合等に用いる場合、生成する付加重合体が溶媒に溶けないほうが好ましく、具体的には脂肪族ハイドロカルビル溶媒が好ましい。また、接触時にモノマーが存在していてもよい。各成分を接触する際の温度は、任意に設定することが出来る。通常-50°Cから100°C、好ましくは-30°Cから80°C、更に好ましくは-10°Cから60°Cが好ましい。接触する時間は、任意に設定することが出来る。通常連続的に投入実質的に0分から24時間、好ましくは1分間から12時間、更に好ましくは3分間から10時間である。各成分を接触する際に攪拌を行うことが好ましい。予備重合方法および予備重合済付加重合触媒成分予備重合方法は特に限定されるものではないが、溶媒を使用する溶液重合、スラリー重合等が好ましい。例えば、1次触媒の存在下で予備重合する方法等を挙げることができる。1次触媒の存在下で予備重合する方法において使用する重合溶媒としては、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、およびオクタンのような脂肪族ハイドロカルビル溶媒、ベンゼンおよびトルエンのような芳香族ハイドロカルビル溶媒、およびジクロロメタンのようなハロゲン化ハイドロカルビル溶媒を挙げることができる。また、モノマー自体を重合溶媒に用いることも可能であり、該モノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1-ブテンおよび1-ヘキセンを挙げることができる。予備重合方法は、回分式重合、連続式重合のいずれでも可能であり、さらに重合を反応条件の異なる2段階以上に分けて行ってもよい。重合時間は、一般に、目的とするオレフィン重合体の種類、反応装置により適宜決定されるが、1分間~20時間の範囲を取ることができる。予備重合温度は、通常―50°Cから100°C、好ましくは-30°Cから80°C、更に好ましくは-10°Cから60°Cが好ましい。また、温度を途中で変化させてもよい。また、予備重合時の圧力は、通常0.001MPaから5MPa、好ましくは0.01MPaから2MPaである。モノマーの投入方法も任意に選ぶことができる。予備重合に使用するモノマーは、炭素原子数2~20からなるオレフィンのいずれをも用いることができ、同時に2種類以上のオレフィンを用いることもできる。該オレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-ノネン、1-デセン、4-メチル-1-ペンテン、4-メチル-2-ペンテン、およびビニルシクロヘキサン等を挙げることができる。予備重合に同時に2種類以上のモノマーを用いて予備共重合体を形成する場合、共重合体を構成するモノマーの組み合わせとしては、例えば、エチレンとプロピレン、エチレンと1-ブテン、エチレンと1-ヘキセン、およびプロピレンと1-ブテン等の組み合わせを挙げることができる。予備重合において水素等の分子量調節剤を共存させて、予備重合体の分子量を調節することもできる。予備重合によって予備重合済付加重合触媒成分を形成させた後、得られた予備重合済付加重合触媒成分をそのまま本重合に用いてもよく、または次のような処理を行ってから用いてもよい。溶媒の存在下で予備重合する方法によって予備重合済付加重合触媒成分を形成した場合、その予備重合済付加重合触媒成分を溶液またはスラリー液状態で使用してもよく、または脱モノマー、溶媒留去、ろ過、洗浄、および乾燥等の処理を行い、固体状態で本重合に用いてもよい。予備重合によって生成する重合体量予備重合度ともいうは、成分B1g当たり、通常0.1~1000gの範囲であり、好ましくは0.5~500gの範囲であり、特に好ましくは1~100gの範囲となるよう予備重合は実施される。付加重合方法および付加重合体本発明において、付加重合体を製造するに際しては、1次触媒を用いてモノマーを付加重合する方法、および、予備重合済付加重合触媒成分を用いてモノマーを付加重合する方法本重合が挙げられる。予備重合済付加重合触媒成分を用いる場合には、予備重合済付加重合触媒成分をそのまま用いてもよいし、予備重合済付加重合触媒成分と有機アルミニウム化合物Cとを接触させて用いてもよい。重合活性において優れる観点から、後者が好ましい。後者の場合の有機アルミニウム化合物としては、前記化合物Cとして例示した有機アルミニウム化合物が用いられる。有機アルミニウム化合物をこのように使用する場合、その使用量は、成分AまたはA’に対して、通常1~10000mol/molであり、好ましくは10~5000mol/molであり、より好ましくは30~1000mmol/gである。予備重合済付加重合触媒成分および有機アルミニウム化合物Cを接触させて用いる場合、該予備重合済付加重合触媒成分および該有機アルミニウム化合物Cは重合時に、重合反応器に任意の順序で投入し使用することができ、またそれらを予め接触させてから重合反応器に投入して使用してもよい。本発明の予備重合済付加重合触媒成分および有機アルミニウム化合物Cを触媒調製用反応器もしくは本重合の重合反応器に供給する方法は、特に限定されない。該方法としては、例えば、各成分を固体状態で供給する方法、および水分や酸素等の触媒成分を失活させる成分を十分に取り除いたハイドロカルビル溶媒に溶解させた溶液状態、または懸濁もしくはスラリー化させた状態で供給する方法等を挙げることができる。このときのハイドロカルビル溶媒としては、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、およびオクタンのような脂肪族ハイドロカルビル溶媒、ベンゼンおよびトルエンのような芳香族ハイドロカルビル溶媒、およびジクロロメタンのようなハロゲン化ハイドロカルビル溶媒を挙げることができ、なかでも、脂肪族ハイドロカルビル溶媒または芳香族ハイドロカルビル溶媒が好ましく、脂肪族ハイドロカルビル溶媒が更に好ましい。付加重合方法としては、例えば、1ガス状のモノマー中で重合を行う気相重合法、2溶媒中で重合させる溶液重合法、またはスラリー重合法懸濁重合法、3モノマーを溶媒として用いるバルク重合法を挙げることができる。溶液重合またはスラリー重合に用いる重合溶媒としては、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、およびオクタンのような脂肪族ハイドロカルビル溶媒、ベンゼンおよびトルエンのような芳香族ハイドロカルビル溶媒、ならびにジクロロメタンのようなハロゲン化ハイドロカルビル溶媒を挙げることができる。本重合の方式は、回分式重合、連続式重合のいずれでも可能であり、更に本重合を反応条件の異なる2段階以上に分けて行ってもよい。本重合の重合時間は、一般に、目的とする付加重合体の種類、重合反応器により決定され、通常、1分間~20時間である。本発明の予備重合済付加重合触媒成分は、スラリー重合、気相重合、およびバルク重合のように、本重合において付加重合体が粒子状に生成する重合に特に好適に適用される。スラリー重合は、公知の方法および条件に従って行うことができる。該方法の好ましい方法は、モノマーおよびコモノマー、稀釈剤およびその他の供給物等を必要に応じて重合反応器に連続的または間欠的に供給し、生成した付加重合体スラリーを重合反応器から連続的または間欠的に抜き出す方法である。該重合反応器としては、例えば、ループ反応器、攪拌機付反応器、および種類や重合反応条件の異なる複数の攪拌機付反応器を直列、並列またはこれらの組合せで結合した反応器を挙げることができる。上記稀釈剤としては、例えば、パラフィン、シクロパラフィンおよび芳香族ハイドロカルビルのような不活性稀釈剤媒質を挙げることができる。該媒質、ならびに重合温度および重合圧力は、触媒を懸濁状態に保持し、媒質および少なくとも一部のモノマーおよびコモノマーを液相で維持し、モノマーおよびコモノマーを接触させることができるように選択される。該重合温度は、通常約0°C~約150°Cであり、好ましくは30°C~100°Cである。該重合圧力は通常約0.1MPa~約10MPaであり、好ましくは0.5MPa~5MPaである。付加重合体の分子量の制御は、重合温度または例えば水素のような分子量調節剤によって行なうことができる。各触媒成分、およびモノマーおよびコモノマーは、公知の任意の方法によって、任意の順序で重合反応器へ供給することができる。重合反応器への供給方法としては、例えば、1同時に供給する方法、および2逐次に供給する方法、を挙げることができる。各触媒成分はモノマーおよびコモノマーと接触させる前に、不活性雰囲気中において予備接触させてもよい。気相重合は、公知の方法および条件に従って行うことができる。該気相重合用の反応器は流動層型反応器、好ましくは、拡大部を有する流動層型反応器である。該反応器は、反応器内に攪拌翼を設置していてもよい。各触媒成分を反応器に供給する方法としては、例えば、通常、窒素およびアルゴンのような不活性ガス、水素、またはエチレンとともに、水分のない状態で供給する方法、または、溶媒に溶解した溶液または稀釈したスラリーで供給する方法を挙げることができる。各触媒成分は個別に供給してもよいし、任意の成分を任意の順序にあらかじめ接触させて供給してもよい。重合温度は、製造される付加重合体の溶融温度未満であれば特に限定されないが、好ましくは0°C~150°C、特に好ましくは30°C~100°Cである。製造される付加重合体の溶融流動性を調節する目的で、分子量調節剤として水素を添加しても構わない。また、重合に際して、混合ガス中に不活性ガスを共存させてもよい。本発明の付加重合体の製造方法におけるモノマーとしては、例えば、炭素原子数2~20のオレフィン、ジオレフィン、環状オレフィン、アルケニル芳香族ハイドロカルビル、および極性モノマーを挙げることができ、同時に2種以上のモノマーを用いることもできる。該モノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテン、5-メチル-1-ヘキセン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-ノネン、1-デセン、およびビニルシクロヘキサンのようなオレフィン;1,5-ヘキサジエン、1,4-ヘキサジエン、1,4-ペンタジエン、1,7-オクタジエン、1,8-ノナジエン、1,9-デカジエン、4-メチル-1,4-ヘキサジエン、5-メチル-1,4-ヘキサジエン、7-メチル-1,6-オクタジエン、5-エチリデン-2-ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、5-ビニル-2-ノルボルネン、ノルボルナジエン、5-メチレン-2-ノルボルネン、1,5-シクロオクタジエン、5,8-エンドメチレンヘキサヒドロナフタレン、1,3-ブタジエン、イソプレン、1,3-ヘキサジエン、1,3-オクタジエン、1,3-シクロオクタジエン、および1,3-シクロヘキサジエンのようなジオレフィン;ノルボルネン、5-メチル-2-ノルボルネン、5-エチル-2-ノルボルネン、5-ブチル-2-ノルボルネン、5-フェニル-2-ノルボルネン、5-ベンジル-2-ノルボルネン、テトラシクロドデセン、トリシクロデセン、トリシクロウンデセン、ペンタシクロペンタデセン、ペンタシクロヘキサデセン、8-メチルテトラシクロドデセン、8-エチルテトラシクロドデセン、5-アセチル-2-ノルボルネン、5-アセチルオキシ-2-ノルボルネン、5-メトキシカルボニル-2-ノルボルネン、5-エトキシカルボニル-2-ノルボルネン、5-メチル-5-メトキシカルボニル-2-ノルボルネン、5-シアノ-2-ノルボルネン、8-メトキシカルボニルテトラシクロドデセン、8-メチル-8-テトラシクロドデセン、および8-シアノテトラシクロドデセンのような環状オレフィン;スチレン、アルケニルベンゼン例えば、2-フェニルプロピレン、2-フェニルブテン、および3-フェニルプロピレン、アルキルスチレン例えば、p-メチルスチレン、m-メチルスチレン、o-メチルスチレン、p-エチルスチレン、m-エチルスチレン、o-エチルスチレン、α-メチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、2,5-ジメチルスチレン、3,4-ジメチルスチレン、3,5-ジメチルスチレン、3-メチル-5-エチルスチレン、1,1-ジフェニルエチレン、p-第3級ブチルスチレン、およびp-第2級ブチルスチレン、および、ビスアルケニルベンゼン例えば、ジビニルベンゼン、アルケニルナフタレン例えば、1-ビニルナフタレンのようなアルケニル芳香族ハイドロカルビル;ならびに、α,β-不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、およびビシクロ2,2,1-5-ヘプテン-2,3-ジカルボン酸、該α,β-不飽和カルボン酸の、ナトリウム、カリウム、リチウム、亜鉛、マグネシウム、およびカルシウムのような金属の金属塩、α,β-不飽和カルボン酸エステル例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n-プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸tert-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n-ブチル、およびメタクリル酸イソブチル、不飽和ジカルボン酸例えば、マレイン酸およびイタコン酸、ビニルエステル例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、およびトリフルオロ酢酸ビニル、および、不飽和カルボン酸グリシジルエステル例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、およびイタコン酸モノグリシジルエステルのような極性モノマー、を挙げることができる。本発明は、これらのモノマーの単独重合または共重合に適用される。共重合体を構成するモノマーの組み合わせとしては、例えば、エチレンとプロピレン、エチレンと1-ブテン、エチレンと1-ヘキセン、エチレンと1-オクテン、プロピレンと1-ブテンを挙げることができる。本発明の予備重合済付加重合触媒成分は、オレフィン重合体の製造に好適に用いられる。該オレフィン重合体は、特に好ましくはエチレンとα-オレフィンとの共重合体であり、なかでも、好ましくは、ポリエチレン結晶構造を有するエチレンとα-オレフィンとの共重合体である。該α-オレフィンとしては、例えば、炭素原子数3~8のα-オレフィンが好ましく、例えば、1-ブテン、1-ヘキセン、および1-オクテンを挙げることができる。以下、実施例および比較例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例における改質された粒子の元素分析、および、オレフィン重合体の性質は下記の方法により測定した。1元素分析Zn:試料を硫酸水溶液1Mに投じたのち超音波をあてて金属成分を抽出した。得られた液体部分についてICP発光分析法により定量した。F:酸素を充填させたフラスコ中で試料を燃焼させて生じた燃焼ガスを水酸化ナトリウム水溶液10に吸収させ、得られた当該水溶液についてイオン電極法を用いて定量した。2MFR:JISK7210-1995に規定された方法に従い、190°Cにて荷重21.18N2.16kgで測定したメルトフローレート値である単位:g/10分。3スウェル比=SR:MFR測定時に得られたストランド径をダイの内径である2.095mmで除した値である。4予備重合済付加重合触媒成分の粒径が60μm以下である粒子の累積重量分率SYMPATEC社製レーザー回折式粒度分布測定装置HELOSRODOSシステムを使用して以下の測定条件により、予備重合済付加重合触媒成分を乾燥状態で分散させて粒度分布を測定し、粒径が60μm以下の予備重合済付加重合触媒成分の量を体積換算で算出した。測定条件レンジ:R41.8~350μmトリガー条件:リファレンス持続時間2秒:タイムベース100m秒:スタートchannel15≧0.5:停止2s、channel15≦0.5、10s実時間分散条件:RODOS乾式気流型分散ユニット直投式:フィーダーVIBRI:送り50:インジェクター4mm:分散圧1.5bar[実施例1]1改質された粒子Bの製造特開2009-79180号公報の実施例11および2の成分Aの調製と同様の方法で、本明細書中の改質された粒子Bを製造した。元素分析の結果、Zn=11wt、F=6.4wtであった。2コーティング済反応器の製造90°Cに加熱した内容積3リットルの攪拌機付き反応器の内壁に、濃度を1mg/mlに調整した酪酸ナトリウム[CH3CH22COO]Naのエタノール溶液50mlをピペットで塗布した後、90°Cで1時間ほど減圧乾燥し、溶媒のエタノールを蒸発させて、内壁面をコーティングした。反応器の内壁面積に対するコーティング化合物の量は486mg/m2であった。3予備重合コーティング済反応器を減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビスインデニルジルコニウムジフェノキシドA191mg358μmolを加えた。50°Cにて1時間攪拌した後、30°Cまで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記1で得られた改質された粒子B7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムCのヘキサン溶液3.5ml3.5mmolを加え予備重合を開始した。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30°Cで30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス水素濃度:0.182molに切り替え、0.81g/分で供給しながら、50°Cへ30分間かけて昇温し、引き続き50°Cで2時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、予備重合済付加重合触媒成分を回収した。回収量は、121.3gであり、改質された粒子Bあたりの重合度は17.4g/gであった。反応器の内壁には全くポリマーが付着していなかった。粒度分布測定の結果、予備重合済付加重合触媒成分中の60μm以下である粒子の含有量は4.1であった。4本重合減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン-1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70°Cまで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.91mol、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記3で得られた予備重合済付加重合触媒成分359.8mgを投入した。全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス水素0.304molをフィードしながら70°Cで、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体16gが得られた。活性化剤B当りの重合活性は760g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=3.57、SR=1.48であった。[実施例2]1コーティング済反応器の製造酪酸ナトリウムの代わりに、ステアリン酸ナトリウム[CH3CH216COO]Naを用いたこと、以外は実施例12と同様にコーティング済み反応器を製造した。反応器の内壁面積に対するコーティング化合物の量は486mg/m2であった。2予備重合コーティング済反応器を減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビスインデニルジルコニウムジフェノキシドA202mg378μmolを加えた。50°Cにて1時間攪拌した後、30°Cまで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、実施例11で得られた改質された粒子B7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムCのヘキサン溶液3.5ml3.5mmolを加え予備重合を開始した。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30°Cで30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス水素濃度:0.195molに切り替え、0.81g/分で供給しながら、50°Cへ30分間かけて昇温し、引き続き50°Cで2時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、予備重合済付加重合触媒成分を回収した。回収量は、120.6gであり、改質された粒子Bあたりの重合度は17.3g/gであった。また、回収した予備重合済付加重合触媒成分の1.1gは反応器の内壁付着物として回収された。粒度分布測定の結果、予備重合済付加重合触媒成分中の60μm以下である粒子の含有量は4.4であった。3本重合減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン-1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70°Cまで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.81mol、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記2で得られた予備重合済付加重合触媒成分356.2mgを投入した。全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス水素0.293molをフィードしながら70°Cで、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体80gが得られた。活性化剤B当りの重合活性は3890g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=3.40、SR=1.47であった。[実施例3]1コーティング済反応器の製造酪酸ナトリウムの代わりに、ステアリン酸カルシウム[CH3CH216COO]2Caを用いたこと、以外は実施例12と同様にコーティング済み反応器を製造した。反応器の内壁面積に対するコーティング化合物の量は486mg/m2であった。2予備重合コーティング済反応器を減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビスインデニルジルコニウムジフェノキシドA213mg399μmolを加えた。50°Cにて1時間攪拌した後、30°Cまで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、実施例11で得られた改質された粒子B7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムCのヘキサン溶液3.5ml3.5mmolを加え予備重合を開始した。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30°Cで30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス水素濃度:0.193molに切り替え、0.81g/分で供給しながら、50°Cへ30分間かけて昇温し、引き続き50°Cで2時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、予備重合済付加重合触媒成分を回収した。回収量は、129.1gであり、改質された粒子Bあたりの重合度は18.5g/gであった。また、回収した予備重合済付加重合触媒成分の5.1gは反応器の内壁付着物として回収された。粒度分布測定の結果、予備重合済付加重合触媒成分中の60μm以下である粒子の含有量は5.9であった。3本重合減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン-1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70°Cまで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.93mol、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記2で得られた予備重合済付加重合触媒成分380.7mgを投入した。全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス水素0.298molをフィードしながら70°Cで、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体131gが得られた。活性化剤B当りの重合活性は6370g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=1.42、SR=1.41であった。[実施例4]1コーティング済反応器の製造酪酸ナトリウムの代わりに、ステアリン酸亜鉛[CH3CH216COO]2Znを用いたこと、以外は実施例12と同様にコーティング済み反応器を製造した。反応器の内壁面積に対するコーティング化合物の量は486mg/m2であった。2予備重合コーティング済反応器を減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビスインデニルジルコニウムジフェノキシドA220mg412μmolを加えた。50°Cにて1時間攪拌した後、30°Cまで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、実施例11で得られた改質された粒子B6.9gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムCのヘキサン溶液3.5ml3.5mmolを加え予備重合を開始した。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30°Cで30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス水素濃度:0.195molに切り替え、0.81g/分で供給しながら、50°Cへ30分間かけて昇温し、引き続き50°Cで2時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、予備重合済付加重合触媒成分を回収した。回収量は、127.2gであり、改質された粒子Bあたりの重合度は18.4g/gであった。また、回収した予備重合済付加重合触媒成分の3.8gは反応器の内壁付着物として回収された。粒度分布測定の結果、予備重合済付加重合触媒成分中の60μm以下である粒子の含有量は10.5であった。3本重合減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン-1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70°Cまで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.90mol、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記2で得られた予備重合済付加重合触媒成分375.4mgを投入した。全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス水素0.309molをフィードしながら70°Cで、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体105gが得られた。活性化剤B当りの重合活性は5120g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=2.05、SR=1.43であった。[実施例5]1コーティング済反応器の製造酪酸ナトリウムの代わりに、モノステアリン酸アルミニウム[CH3CH216COO]OH2Alを用いたこと、以外は実施例12と同様にコーティング済み反応器を製造した。反応器の内壁面積に対するコーティング化合物の量は486mg/m2であった。2予備重合コーティング済反応器を減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビスインデニルジルコニウムジフェノキシドA220mg412μmolを加えた。50°Cにて1時間攪拌した後、30°Cまで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、実施例11で得られた改質された粒子B7.1gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムCのヘキサン溶液3.5ml3.5mmolを加え予備重合を開始した。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30°Cで30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス水素濃度:0.223molに切り替え、0.81g/分で供給しながら、50°Cへ30分間かけて昇温し、引き続き50°Cで2時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、予備重合済付加重合触媒成分を回収した。回収量は、129.3gであり、改質された粒子Bあたりの重合度は18.3g/gであった。また、回収した予備重合済付加重合触媒成分の2.1gは反応器の内壁付着物として回収された。粒度分布測定の結果、予備重合済付加重合触媒成分中の60μm以下である粒子の含有量は3.9であった。3本重合減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン-1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70°Cまで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.91mol、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記2で得られた予備重合済付加重合触媒成分367.1mgを投入した。全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス水素0.293molをフィードしながら70°Cで、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体120gが得られた。活性化剤B当りの重合活性は5960g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=1.94、SR=1.43であった。[比較例1]1予備重合エチレンビスインデニルジルコニウムジフェノキシドAを198mg372μmol、および改質された粒子Bを7.0g添加し、コーティングが施されていない反応器を用い、エチレン/水素混合ガスとして、水素濃度:0.183molのガスを使用した以外は実施例13と同様に予備重合を実施した。回収量は130.3gであり、改質された粒子Bあたりの重合度は18.6g/gであった。また、回収した予備重合済付加重合触媒成分の7.1gは反応器の内壁付着物として回収された。粒度分布測定の結果、予備重合済付加重合触媒成分中の60μm以下である粒子の含有量は11.0であった。2本重合減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン-1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70°Cまで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.90mol、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記1で得られた予備重合済付加重合触媒成分384.1mgを投入した。全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス水素0.315molをフィードしながら70°Cで、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体104gが得られた。活性化剤B当りの重合活性は5170g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=1.86、SR=1.42であった。"