"リソグラフィ装置のための基板テーブルであって、前記基板テーブル上に配置されているエンコーダプレートと、前記エンコーダプレートと前記基板テーブルの上表面との間の隙間であって、前記基板テーブルの外周に対し放射方向に前記エンコーダプレートの内側に位置する隙間と、前記隙間から液体を抽出するために前記隙間の表面にある1つまたは複数の開口をもつ流体抽出システムと、を備える、基板テーブル。ガスナイフ開口が前記隙間に関連しており、前記ガスナイフは前記エンコーダプレートへの液滴の到達防止を支援する気体流れを供給する、請求項1に記載の基板テーブル。前記ガスナイフ開口は、該ガスナイフ開口からの前記気体流れが前記隙間に流入するよう構成されている、請求項2に記載の基板テーブル。リソグラフィ装置のための基板テーブルであって、前記基板テーブル上に配置されているエンコーダプレートと、前記エンコーダプレートと前記基板テーブルの上表面との間の隙間であって、前記基板テーブルの外周に対し放射方向に前記エンコーダプレートの内側に位置する隙間と、前記エンコーダプレートへの液滴の到達を防止する気体流れを供給するガスナイフ開口と、を備える、基板テーブル。基板を支持する基板支持部と、該基板支持部の放射方向外側かつ前記基板テーブルの上表面の放射方向内側にある隙間と、をさらに備える、請求項1から4のいずれかに記載の基板テーブル。カバープレートをさらに備え、前記基板テーブルの上表面の少なくとも一部が前記カバープレートの表面である、請求項1から5のいずれかに記載の基板テーブル。前記エンコーダプレートは前記基板テーブルの外周に配置されている、請求項1から6のいずれかに記載の基板テーブル。前記エンコーダプレートは前記基板テーブルの外周まわりに配置されている、請求項1から7のいずれかに記載の基板テーブル。請求項1から8のいずれかに記載の基板テーブルを備えるリソグラフィ装置。基板テーブルと、エンコーダプレートと、気体の通る通路のための開口であって、投影系に対し放射方向外方に前記エンコーダプレートへと液滴が通過するのを妨げるように、または、前記エンコーダプレートから逸れて放射方向内方に滴を吹き飛ばすように、または、それら両方のために、該開口を出る前記気体を誘導するよう構成されている開口と、を備えるリソグラフィ装置。前記エンコーダプレートは前記基板テーブルの上表面に配置されている、請求項10に記載のリソグラフィ装置。前記開口は前記エンコーダプレートの放射方向外側にある、請求項10または11に記載のリソグラフィ装置。前記開口は前記基板テーブルにある、請求項10から12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記開口は前記基板テーブルから分離されている構成要素にある、請求項10から12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。デバイス製造方法であって、パターンをもつ放射ビームを基板に投影することを含み、放射ビームをセンサビーム経路に沿ってエンコーダプレートに投射するエミッタを使用することにより特性が計測され、投影系に対し放射方向外方に前記エンコーダプレートへと液滴が通過するのを妨げるように、または、前記エンコーダプレートから逸れて放射方向内方に滴を吹き飛ばすように、または、それら両方のために、気体が開口の外へと誘導される、方法。リソグラフィにおいて位置計測は、エンコーダプレートにビームを放ち反射ビームを検出するエンコーダにより実行されてもよい。その投射ビームは、経路にある何らかのものと干渉する可能性がある。そうすると、読み取りに誤差が入り込むか、読み取りがなされないか、あるいは完全に誤った読み取りがなされる結果となりうる。例えば、センサの読み取りにおける誤差の可能性を少なくとも低減する装置を提供することが望ましい。一態様によれば、リソグラフィ装置のための基板テーブルであって、前記基板テーブル上に配置されているエンコーダプレートと、前記エンコーダプレートと前記基板テーブルの上表面との間の隙間であって、前記基板テーブルの外周に対し放射方向に前記エンコーダプレートの内側に位置する隙間と、前記隙間から液体を抽出するために前記隙間の表面にある1つまたは複数の開口をもつ流体抽出システムと、を備える、基板テーブルが提供される。一態様によれば、リソグラフィ装置のための基板テーブルであって、前記基板テーブル上に配置されているエンコーダプレートと、前記エンコーダプレートと前記基板テーブルの上表面との間の隙間であって、前記基板テーブルの外周に対し放射方向に前記エンコーダプレートの内側に位置する隙間と、前記エンコーダプレートへの液滴の到達を防止する気体流れを供給するガスナイフ開口と、を備える、基板テーブルが提供される。一態様によれば、基板テーブルと、エンコーダプレートと、気体の通る通路のための開口であって、投影系に対し放射方向外方に前記エンコーダプレートへと液滴が通過するのを妨げるように、または、前記エンコーダプレートから逸れて放射方向内方に滴を吹き飛ばすように、該開口を出る前記気体を誘導するよう構成されている開口と、を備えるリソグラフィ装置が提供される。一態様によれば、デバイス製造方法であって、パターンをもつ放射ビームを基板に投影することを含み、放射ビームをセンサビーム経路に沿ってエンコーダプレートに投射するエミッタを使用することにより特性が計測され、投影系に対し放射方向外方に前記エンコーダプレートへと液滴が通過するのを妨げるように、または、前記エンコーダプレートから逸れて放射方向内方に滴を吹き飛ばすように、気体が開口の外へと誘導される、方法が提供される。本発明の実施形態が付属の図面を参照して以下に説明されるがこれらは例示に過ぎない。各図面において対応する参照符号は対応する部分を指し示す。図1は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す図である。この装置は、放射ビームB例えばUV放射またはDUV放射を調整するよう構成されている照明系イルミネータILと、パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するよう構成され、いくつかのパラメタに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするよう構成されている第1の位置決め装置PMに接続されている支持構造例えばマスクテーブルMTと、基板例えばレジストで被覆された基板Wを保持するよう構成され、いくつかのパラメタに従ってテーブル例えば基板Wの表面を正確に位置決めするよう構成されている第2の位置決め装置PWに接続されている支持テーブル、例えば1つまたは複数のセンサを支持するセンサテーブルまたは基板テーブルWTと、パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの例えば1つまたは複数のダイからなる目標部分Cに投影するよう構成されている投影系例えば屈折投影レンズ系PSと、を備える。照明系ILは、放射の方向や形状の調整またはその他の制御のために、各種の光学素子例えば屈折光学素子、反射光学素子、磁気的光学素子、電磁気的光学素子、静電的光学素子または他の各種光学部品を含んでもよく、あるいはこれらの任意の組み合わせを含んでもよい。支持構造MTは、パターニングデバイスMAを保持する。支持構造MTは、パターニングデバイスMAの向きやリソグラフィ装置の設計、あるいはパターニングデバイスMAが真空環境下で保持されるか否かなどの他の条件に応じた方式でパターニングデバイスMAを保持する。支持構造MTは、機械的固定、真空固定、静電固定、またはパターニングデバイスMAを保持するその他の固定技術を用いてもよい。支持構造MTは例えばフレームまたはテーブルであってよく、必要に応じて固定されていてもよいし移動可能であってもよい。支持構造MTは、パターニングデバイスMAが例えば投影系PSに対して所望の位置にあることを保証してもよい。本明細書ではレチクルまたはマスクという用語を用いた場合には、より一般的な用語であるパターニングデバイスに同義であるとみなされるものとする。本明細書ではパターニングデバイスという用語は、基板の目標部分にパターンを形成すべく放射ビームの断面にパターンを付与するために使用され得るいかなるデバイスをも指し示すよう広く解釈されるべきである。放射ビームに与えられるパターンは、基板の目標部分に所望されるパターンと厳密に対応していなくてもよい。このような場合には例えば、放射ビームのパターンが位相シフトフィーチャあるいはいわゆるアシストフィーチャを含む場合がある。一般には、放射ビームに付与されるパターンは、目標部分に形成される集積回路などのデバイスにおける特定の機能層に対応する。パターニングデバイスMAは透過型であっても反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、マスクやプログラマブルミラーアレイ、プログラマブルLCDパネルがある。マスクはリソグラフィの分野では周知であり、バイナリマスクやレベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク、更に各種のハイブリッド型マスクが含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例としては、小型のミラーがマトリックス状に配列され、各ミラーが入射してくる放射ビームを異なる方向に反射するように個別に傾斜されるというものがある。これらの傾斜ミラーにより、マトリックス状ミラーで反射された放射ビームにパターンが付与されることになる。本明細書では投影系という用語は、使用される露光光あるいは液浸や真空の利用などの他の要因に関して適切とされるいかなる投影系をも包含するよう広く解釈されるべきである。投影系には屈折光学系、反射光学系、反射屈折光学系、磁気的光学系、電磁気的光学系、静電的光学系、またはこれらの任意の組み合わせなどが含まれる。以下では投影レンズという用語は、より一般的な用語である投影系と同義に用いられ得る。ここに図示されるのは、例えば透過型マスクを用いる透過型のリソグラフィ装置である。これに代えて、例えば上述のようなプログラマブルミラーアレイまたは反射型マスクを用いる反射型のリソグラフィ装置を用いることもできる。リソグラフィ装置は2つ以上のテーブルまたはステージまたは支持部、例えば2つ以上の基板テーブル、または1つ以上の基板テーブルと1つ以上のセンサテーブルまたは計測テーブルとの組み合わせ、を備えてもよい。こうした多重ステージ型の装置においては多数のテーブルは並行して使用されるか、あるいは1以上のテーブルで露光が行われている間に他の1以上のテーブルで準備工程を実行するようにしてもよい。リソグラフィ装置は、基板テーブル、センサテーブル、または計測テーブルと同様にして並行して使用され得る2つ以上のパターニングデバイステーブルまたはステージまたは支持部を有してもよい。図1を参照すると、イルミネータILは放射源SOから放射ビームを受け取る。例えば放射源SOがエキシマレーザである場合には、放射源SOとリソグラフィ装置とは別体であってもよい。この場合、放射源SOはリソグラフィ装置の一部を構成しているとはみなされなく、放射ビームは放射源SOからイルミネータILへとビーム搬送系BDを介して受け渡される。ビーム搬送系BDは例えば適当な方向変更用のミラー及び/またはビームエキスパンダを備える。あるいは放射源SOが例えば水銀ランプである場合には、放射源SOはリソグラフィ装置に一体に構成されていてもよい。放射源SOとイルミネータILとは、またビーム搬送系BDが必要とされる場合にはこれも合わせて、放射システムと総称される。イルミネータILは放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタADを備えてもよい。一般には、イルミネータILの瞳面における照度分布の少なくとも外径及び/または内径通常それぞれシグマ-アウタσ-outer、シグマ-インナσ-innerと呼ばれるが調整される。加えてイルミネータILは、インテグレータIN及びコンデンサCOなどの他の要素を備えてもよい。イルミネータILはビーム断面における所望の均一性及び照度分布を得るべく放射ビームを調整するために使用されてもよい。放射源SOと同様に、イルミネータILはリソグラフィ装置の一部を構成するとみなされてもよいし、そうでなくてもよい。例えば、イルミネータILは、リソグラフィ装置に一体の部分であってもよいし、リソグラフィ装置とは別体であってもよい。後者の場合、リソグラフィ装置はイルミネータILを搭載可能に構成されていてもよい。イルミネータILは取り外し可能とされ、例えば、リソグラフィ装置の製造業者によって、またはその他の供給業者によって別々に提供されてもよい。放射ビームBは、支持構造例えばマスクテーブルMTに保持されるパターニングデバイス例えばマスクMAに入射して、パターニングデバイスMAによりパターンが付与される。パターニングデバイスMAを通過した放射ビームBは投影系PSに進入する。投影系PSはビームを基板Wの目標部分Cに合焦する。第2の位置決め装置PWと位置センサIF例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなどにより基板テーブルWTを正確に移動させることができる。そうして基板テーブルWTは例えば放射ビームBの経路に異なる目標部分Cを順次位置決めするように移動される。同様に、第1の位置決め装置PMと他の位置センサ図1には明示せずとにより放射ビームBの経路に対してパターニングデバイスMAを正確に位置決めすることができる。この位置決めは例えばマスクライブラリからのマスクの機械的交換後や走査中に行われる。一般に支持構造MTの移動は、第1の位置決め装置PMの一部を構成するロングストロークモジュール粗い位置決め用及びショートストロークモジュール精細な位置決め用により実現される。同様に基板テーブルWTの移動は、第2の位置決め装置PWの一部を構成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールにより実現される。ステッパではスキャナとは異なり、支持構造MTはショートストロークのアクチュエータにのみ接続されているか、あるいは固定されていてもよい。パターニングデバイスMAと基板Wとは、パターニングデバイスアライメントマークM1、M2及び基板アライメントマークP1、P2を用いてアライメントされてもよい。図においては基板アライメントマークが専用の目標部分を占拠しているが、アライメントマークは目標部分間のスペースに配置されてもよいこれはスクライブラインアライメントマークとして公知である。同様に、パターニングデバイスMAに複数のダイがある場合にはパターニングデバイスアライメントマークをダイ間に配置してもよい。図示の装置は例えば次のうちの少なくとも1つのモードで使用され得る。1.ステップモードにおいては、放射ビームBに付与されたパターンの全体が1回の照射すなわち単一静的露光で目標部分Cに投影される間、支持構造MT及び基板テーブルWTは実質的に静止状態とされる。そして基板テーブルWTがX方向及び/またはY方向に移動されて、異なる目標部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で転写される目標部分Cのサイズを制限することになる。2.スキャンモードにおいては、放射ビームBに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間すなわち単一動的露光の間、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期して走査される。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影系PSの拡大縮小特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光での目標部分Cの非走査方向の幅を制限し、走査移動距離が目標部分Cの走査方向の長さを決定する。3.別のモードにおいては、支持構造MTがプログラム可能パターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、基板テーブルWTが移動または走査される。このモードではパルス放射源が通常用いられ、プログラム可能パターニングデバイスは、基板テーブルWTの毎回の移動後、または走査中の連続放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のプログラマブルミラーアレイ等のプログラム可能パターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。上記で記載したモードを組み合わせて動作させてもよいし、各モードに変更を加えて動作させてもよいし、さらに全く別のモードでリソグラフィ装置を使用してもよい。本明細書ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、リソグラフィ装置はマイクロスケールの、更にはナノスケールをもつ要素の製造における他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。こうした他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用案内パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどがある。投影系PSの最終要素と基板との間に液体を提供する構成は少なくとも三種類に分類することができる。浴槽型の構成と、いわゆる局所液浸システムと、全濡れ液浸システムと、である。浴槽型は基板Wの実質的に全体と任意的に基板テーブルWTの一部とが液槽に浸される。局所液浸システムは、基板の局所域にのみ液体を供給する液体供給システムを使用する。液体で満たされる空間は平面図にて基板上面よりも小さく、液体で満たされた領域は基板Wがその領域の下を移動しているとき投影系PSに対し実質的に静止状態にある。図2乃至図5はこうしたシステムに使用可能である異なる液体供給デバイスをそれぞれ示す。局所域に液体を封じるためのシール構造が存在する。そのための構成として提案されている1つの手法がPCT特許出願公開第WO99/49504号に開示されている。全濡れ型においては液体が閉じ込められない。基板上面全体と基板テーブルの全体または一部が液浸液で覆われる。少なくとも基板を覆う液体の深さは浅い。液体はフィルム状であってもよく、基板上の薄い液体フィルムであってもよい。液浸液は、投影系の領域と投影系に対向する対向表面こうした対向表面は基板表面及び/または基板テーブル表面であってもよいとに供給されてもよい。図2乃至図5の液体供給デバイスのいずれもがこうしたシステムにも使用可能であるが、シール構造はなくすか、動作させないか、通常ほどは効果的でないようにするか、あるいはその他の手法で、局所域のみに液体を封じないようにする。図2及び図3に示されるように、液体が少なくとも1つの入口によって基板上に、好ましくは最終要素に対する基板の移動方向に沿って供給される。液体は、投影系の下を通過した後に少なくとも1つの出口によって除去される。基板が-X方向に最終要素の下を走査されると、液体が要素のX側にて供給され、-X側にて除去される。図2は、液体が入口を介して供給され、低圧源に接続された出口によって要素の他方側で除去される構成を概略的に示したものである。図2では液体が最終要素に対する基板の移動方向に沿って供給されるが、こうである必要はない。最終要素の周囲に配置された入口及び出口の様々な方向及び数が可能であり、一例が図3に示され、ここでは各側に4組の入口と出口が、最終要素の周囲に規則的なパターンで設けられる。図2及び図3においては液体の流れ方向を矢印で示す。局所液体供給システムをもつ液浸リソグラフィの更なる解決法が、図4に示されている。液体は、投影系PSの両側にある2つの溝入口によって供給され、入口の半径方向外側に配置された複数の分離された出口によって除去される。入口は、投影ビームを通す穴を実質的に中心に有するプレートに設けることができる。液体は、投影系PSの一方側にある1つの溝入口によって供給され、投影系PSの他方側にある複数の分離された出口によって除去され、これによって投影系PSと基板Wとの間に液体の薄膜の流れが生じる。入口と出口のどちらの組合せを使用するかの選択は、基板Wの移動方向によって決まる他方の組合せの入口及び出口は作動させない。図4において矢印で液体流れ方向及び基板の方向を示す。本明細書にその全体が援用される欧州特許出願公開第1420300号及び米国特許出願公開第2004-0136494号には、二重ステージまたはデュアルステージの液浸リソグラフィ装置の着想が開示されている。こうした装置には基板を支持するための2つのテーブルが設けられている。レベリング計測が1つのテーブルで第1位置で液浸液なしで実行され、露光が1つのテーブルで第2位置で液浸液ありで実行される。代替例においては、装置は1つのテーブルのみを有する。提案されている別の構成は流体閉じ込め構造をもつ液体供給システムを設けることである。流体閉じ込め構造は、投影系の最終要素と基板テーブルとの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延在する。こうした構成を図5に示す。図5は、液体閉じ込め構造12を有する局所液体供給システムまたは流体ハンドリングデバイスを模式的に示す図である。局所液体供給システムは、投影系の最終要素と基板テーブルWTまたは基板Wとの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延在する以下の説明においては、そうではないと明示していない限り、基板Wの表面との言及は、それに加えてまたはそれに代えて基板テーブルの表面にも言及するものである。液体閉じ込め構造12は、投影系に対してXY面で実質的に静止しているが、Z方向光軸方向では多少の相対運動があってよい。一実施例においては、液体閉じ込め構造12と基板Wの表面との間にシールが形成され、このシールはガスシールガスシールをもつシステムは欧州特許出願公開第1420298号に開示されているまたは液体シール等の非接触シールであってもよい。液体閉じ込め構造12は、投影系PSの最終要素と基板Wとの間の空間11の少なくとも一部に液体を収容する。基板Wに対する非接触シール16が投影系PSの像フィールドの周囲に形成され、基板W表面と投影系PSの最終要素との間の空間に液体が閉じ込められてもよい。この空間11は少なくとも一部が、投影系PSの最終要素の下方に配置され当該最終要素を囲む液体閉じ込め構造12により形成される。液体が、投影系PSの下方かつ液体閉じ込め構造12内部の空間に、液体入口13によって供給される。液体出口13によって液体が除去されてもよい。液体閉じ込め構造12は、投影系の最終要素の少し上方まで延在していてもよい。液位が最終要素の上まで上昇することで、液体のバッファが提供される。一実施例においては液体閉じ込め構造12は、上端において内周が投影系またはその最終要素の形状に近似し、例えば円形であってもよい。下端において内周が像フィールドの形状に近似し、例えば長方形であってもよい。これらの形状は必須ではない。液体は、バリア部材12の底部と基板Wの表面との間に使用時に形成されるガスシール16によって空間11に収容されてもよい。ガスシール16は気体によって形成される。ガスシールの気体は、圧力の作用で入口15を介してバリア部材12と基板Wとの隙間に提供される。気体は出口14から抜き取られる。気体入口15での過剰圧力、出口14の真空レベル、及び隙間の幾何学的形状は、液体を閉じ込める内側への高速の気体流れ16が存在するように構成される。バリア部材12と基板Wとの間の液体に作用する気体の力が空間11に液体を収容する。入口及び出口は空間11を取り巻く環状溝であってもよい。環状溝は連続していてもよいし不連続であってもよい。気体流れ16は空間11に液体を収容する効果がある。こうしたシステムは本明細書にその全体が援用される米国特許出願公開第2004-0207824号に開示されている。一実施例においては、液体閉じ込め構造12は、ガスシールを有しない。図5の例はいわゆる局所域型であり、液体はいかなる時点においても基板Wの上面の局所域に供給されるのみである。異なる構成も可能であり、例えば米国特許出願公開第2006-0038968号には、単相抽出器または二相抽出器を利用する流体ハンドリングシステムを含む構成が開示されている。一実施例においては、単相抽出器または二相抽出器は、多孔質材料に覆われている入口を備えてもよい。一実施例の単相抽出器においては、多孔質材料が気体から液体を分離し液体単相の液体抽出を可能とするために使用される。多孔質材料の下流のチャンバがいくらか負圧に保たれて液体で満たされる。そのチャンバの負圧は、多孔質材料の孔に形成されるメニスカスが周囲の気体のチャンバへの引き込みを妨げるような大きさとされる。その一方、多孔質材料が液体に接触すれば流れを制限するメニスカスはなくなるので液体が自由にチャンバに流入できる。多孔質材料は多数の小孔、例えば5μm乃至300μmの、望ましくは5μm乃至50μmの範囲の直径の小孔を有する。一実施例においては、多孔質材料は少なくともいくらかの親液性例えば親水性をもつ。すなわち、多孔質材料は液浸液例えば水に対する接触角が90度未満である。その他にも多様な液体供給システムが可能である。本発明の一実施形態は、投影系の最終要素と基板との間に液体を閉じ込める閉じ込め型液浸システムへの使用に有利であり、例えばその使用を最適とするが、本発明の一実施形態はいかなるその他の液体供給システムにも使用可能であり、いかなる特定の形式の液体供給システムにも限定されない。図1に示されるように、リソグラフィ装置のテーブル例えば基板テーブルWTには、第1及び第2の位置検出システムが設けられている。第1の位置検出システムはエンコーダ型のシステムであり、例えばUS2007/0288121号に記載されており、本文献は参照によりその全体が本明細書に援用される。第1の位置検出システムは、ターゲットまたはエンコーダプレート100と、複数のエンコーダまたは検出器110エンコーダヘッドとも呼ばれると、を備える。エンコーダまたは検出器110は、エミッタとレシーバとの組合せY1乃至Y10、及びX1乃至X5を備える。ターゲットまたはエンコーダプレート100とエンコーダ100との一方が基板テーブルWTに搭載されている。図1に示すように、複数のエンコーダ110が基板テーブルWTに搭載され、ターゲットまたはエンコーダプレート100が投影系に対し固定された位置に搭載されている。代替的な一実施例においては、図6に示すように、ターゲットまたはエンコーダプレート100が基板テーブルWTに搭載され、複数のエンコーダ110が基板テーブルWTの上方で投影系PSに対し固定された位置に搭載されている。ターゲットまたはエンコーダプレート100は、例えば1次元または2次元のグリッドを備える。位置検出システムは、任意の一時点において少なくとも3つのエンコーダ110が放射ビームをターゲットまたはエンコーダプレート100へと送出し、反射及び/または屈折された放射ビームを受光するように構成されている。第2の位置検出システムIFは、3つのエミッタとレシーバとの組合せ120と、基板テーブルWTの端部に実質的に垂直に搭載されている少なくとも2つのミラー130、140と、を含む干渉計を備える。エミッタとレシーバとの組合せ120からの放射ビームは、ミラー130、140へと向けられ、反射により戻される。1つまたは2つのエミッタとレシーバとの組合せ120がそれぞれの軸に設けられる。測定される位置は、X自由度、Y自由度、及びRz自由度であってもよい。一実施例においては、測定される位置はさらに、Rx自由度とRy自由度とを含む。第1の位置検出システムは特に正確であり、第1の位置検出システムの固定されている構成要素に近接する微細な位置計測に使用することができる。例えば、ターゲットまたはエンコーダプレート100及び複数のエンコーダ110のうち固定されている構成要素は、投影系PSの軸を包囲する固定された位置に存在する。しかしながら、基板テーブルWTの平面でのサイズに制限があるために、このシステムは、固定された構成要素のために大きなフットプリントを必要とするかふつうそうしたフットプリントは得られないが、ある局所域の位置決めのみに使用可能である。エンコーダシステムの1つの構成においては、1つまたは複数のエンコーダプレート例えばエンコーダグリッドプレート100が基板テーブルWTに搭載されており、これらは関連する検出器110エンコーダヘッドとも呼ばれるを使用して検出される。検出器110は例えば、別個のフレームに搭載されている。その別個のフレームは例えば、投影系PL、及び/または液浸液供給システムIHの構造体を保持してもよい。液浸液が存在することにより、エンコーダシステムは動作に際し困難に遭遇する。エンコーダシステムの1つの設計においては、1つまたは複数のエンコーダプレート100は基板テーブルWTの表面に搭載されている。ところがこれは露出された配置であるから、そこに置かれたエンコーダプレート100にはその上に液滴または液体フィルム以下では滴との言及はフィルムを含むものとするが付着しがちである。滴は、局所液浸システムIHの液体例えば水から失われた液体、例えば液浸液閉じ込め構造液浸フードとも呼ばれるに閉じ込められた液体から失われた液体に由来するかもしれない。エンコーダプレート100上に付着した液滴は蒸発冷却、更にはエンコーダプレート100の局所冷却、及び/またはエンコーダプレート100の歪みを引き起こすかもしれない。エンコーダプレート100上に滴または滴により運ばれたかもしれない汚染物質がある場合には、適切なエンコーダ計測がなされないおそれがある。滴が乾くと乾燥マークが残るかもしれない。こうした滴、汚染物質、及び/または乾燥マークは一般に汚染とみなされうる。エンコーダプレート100上の汚染部分はエンコーダ計測に使用されるべきではなく、洗浄されるべきである。洗浄はダウンタイム及び生産性の損失を発生させうる。こうした歪みまたは汚染のある位置でのエンコーダプレート100を使用する計測は、エンコーダシステムによりなすべき十分に精度のよい計測を妨げる可能性がある。エンコーダシステムのオーバレイ精度が低下するかもしれない。1つの解決策は、図1及び図6に示して説明したエンコーダシステムに加えて予備の干渉計システムを有することである。こうしたシステムにおいては、エンコーダプレート100上の歪み及び/または汚染のためにエンコーダ計測結果を使用できない場合に、位置決めシステム及び/または計測システムは代替として上述の干渉計システムを使用する。干渉計システムの使用はオーバレイ精度低下の代償であるが、複雑さが増すことになる。液浸システムの1つの設計においては、液体を気体とともに除去するための基板流体抽出システムが、基板テーブルWTに存在するときの基板Wのエッジと基板Wを包囲するテーブルWTの表面210との間の内側隙間200に配置されていてもよい表面210は、露光中に基板をその中に配置するためのテーブルWTの凹部のある一部分を形成してもよい。。エンコーダプレート100が基板Wと基板Wを包囲する基板テーブルWTの表面210との外側にある場合には、もう1つの流体抽出システムが、エンコーダプレート100と基板Wを包囲するテーブルWTの表面210との間の外側隙間300または溝に配置されていてもよい。一実施例においては、エンコーダプレート100はテーブルWTの表面210を包囲する。任意的に、基板テーブルWTの更なる表面がエンコーダプレート100の外側にあってもよい。外側隙間300にはガスナイフ開口例えばエアナイフ開口310が配置されていてもよい。ガスナイフ開口310は、ガスナイフ開口310からの気体流れ例えば空気流れ320がエンコーダプレート100への液滴の到達を妨げることを支援する障壁として働くように配置される。滴がエンコーダプレート100に向かって移動する場合には、ガスナイフからの気体流れ320によって遮られ、更なる流体抽出システム330によって及び/または内側隙間200に関連する基板流体抽出システムによって捕捉される。一実施例においては、内側隙間200に関連する基板流体抽出システム及び更なる流体抽出システム330は、1つまたは複数の液体除去能力例えば低圧源に接続されそうした液体除去能力を共用していてもよい。そのような構成の1つを図7に示す。図8を参照するに、バールチャックまたは基板支持部400は、基板Wを、例えば真空源410によって、支持し保持する。基板支持部400を包囲する基板テーブルカバー例えばカバープレート500も同様にして真空によって保持されているが、一実施例においては基板支持部400に一体化されていてもよい。カバー500が取り外し可能な形式であることにより、そのコーティングが劣化したときのメンテナンスに際して容易に交換することができる。カバー500が基板Wとエンコーダプレート100との間の基板テーブルWTの表面210を提供してもよい。こうした構成の1つを図8に示す。一実施例においては、カバー500とエンコーダプレート100との間の外側隙間300には、溝部305と、排出路307を備える流体抽出システムBES気泡抽出システム330と、がある。外側隙間300は、基板テーブルWT上の1つまたは複数のエンコーダプレート100の内側境界に沿って、またはその内側境界周りにあってもよい。基板テーブルWTは、基板Wとカバー500との間で基板Wまわりに内側隙間200を有してもよい図6乃至図8参照。内側隙間200に関連する流体抽出システム、外側隙間300に関連する流体抽出システム、またはそれら両方は、対応する溝部205、305に残っている液体を除去する。液体は単相流で除去されてもよいし、二層流で除去されてもよい。外側排出路307にある流体抽出システムは、基板テーブルWT上のガスナイフ310図6参照と組み合わされて、エンコーダプレート100への液滴の付着を妨げることを支援する。滴がエンコーダプレート100に向かって例えば転がって移動する場合に、ガスナイフ310によってその滴がエンコーダプレート100に到達することが妨げられるであろう。その滴は、外側隙間300にある流体抽出システム及び/または内側隙間200にある流体抽出システムによって捕捉されるであろう。ガスナイフ310からのガスの少なくともいくらかは外側隙間300にある流体抽出システムによって抽出されてもよい。図9の設計においては、エンコーダプレートBESまたは排出路307すなわち外側隙間300に関連する流体抽出システム330が、基板テーブルカバー500とエンコーダプレート100との間にある。基板テーブルWTは、エンコーダプレートBESの放射方向外側に1つまたは複数のガスナイフ310を有する。ガスナイフからの気体流れは、エンコーダプレート100を変形させ得る蒸発冷却を促す。エンコーダプレート100の歪みによってオーバレイ性能が悪化するおそれがある。この冷却作用は、周囲環境のガスよりも暖かいガス周囲温度よりも暖かいガスをガスナイフが吹き出すことによって補償することも可能であろう。それに代えて、またはそれとともに、ガスナイフ310からの気体流れが湿潤なガスを含むことにより、蒸発冷却速度を小さくすることも可能であろう。本装置のガス雰囲気は好ましくは一定の湿度である。異なる湿度をもつガスを混ぜ合わせることは不安定の原因となる。よって、一実施例においては、本ツールにおいて基板テーブルWTを取り巻く雰囲気に放出されるあらゆるガスは実質的に同一の湿度を有する。湿潤な雰囲気が好ましい。エンコーダグリッドプレート100は、石英で形成されているか、石英で被覆されていてもよいが、石英は熱負荷による歪みの影響を非常に受けやすい。そのため蒸発は石英に好ましくなく、防止されるべきである。よって、滴はエンコーダシステムに問題となりうる。大きな滴はグリッドプレートから離れた状態を保つことができる。小さい滴はエンコーダグリッドに到達するが、湿潤な雰囲気を使用することにより蒸発を抑制し、エンコーダプレート100に蒸発熱負荷を与えるのを防ぐことが可能である。エンコーダグリッド100に関連する流体抽出システム330は、二相抽出及び/または単相抽出を使用することができる。単相抽出の場合、雰囲気の湿度は重要ではない。しかし、流体抽出システム330が二相抽出を使用する場合には、エンコーダ周囲の雰囲気は好ましくは高い湿度をもつべきである。一実施例においては、1つまたは複数のエンコーダプレート100は、ガスナイフ310、及び/または内側隙間200及び/または外側隙間300の流体抽出システムからの気体流れ320から、またはそれらにより誘起される気体流れ320から熱的に絶縁されている。一実施例においては、リソグラフィ装置のコントローラ50は、液体閉じ込め構造IHの近傍のエンコーダプレート100の部位に気体流れ320のみが供給されるようにガスナイフ310を制御してもよい。例えば、液浸液閉じ込め構造IHが基板テーブルWTの一方の片側に位置する場合には、その片側にあるガスナイフ310を動作させ他方の片側にあるガスナイフ310は動作させない。同様に、液浸液閉じ込め構造IHが基板テーブルWTの一つの象限に位置する場合には、その象限にあるガスナイフ310を動作させ1つまたは複数の他の象限にあるガスナイフ310は動作させない。一実施例においては、液浸液閉じ込め構造IHから所定距離内にあるガスナイフ310の一部が作動され、その距離の外側では作動させない。この距離は、1cm以下であってもよいし、2cm以下であってもよいし、3cm以下であってもよいし、4cm以下であってもよいし、5cm以下であってもよいし、6cm以下であってもよいし、10cm以下であってもよいし、15cm以下であってもよいし、または、20cm以下であってもよい。液浸液閉じ込め構造IHがガスナイフ310からの気体流れ320の経路を通過する場合には、ガスナイフ310は液浸液に気泡を導入するかもしれない。気泡の含有が生じ得るのは、例えば基板交換に際して閉じ込められた液浸液を例えば別のステージ基板ステージまたは基板を支持するようには構成されていない計測ステージに移動させるときである。その防止を支援するために、図9には、基板交換に際して例えば液浸液閉じ込め構造IHに閉じ込められた液浸液の下方を通過する基板テーブルWT表面の領域312からガスナイフ310開口を欠落させている構成を示す。一実施例においては、透過イメージセンサTIS600が、こうしたガスナイフ310の欠落領域312に配置されていてもよい。この構成は、本構成とは異なる構成、つまりエンコーダプレート100のガスナイフ310の上方または近傍でTIS600を使用して液体を通じて計測するという構成よりも有利である。一実施例においては、TIS600と別のステージへの移動経路とは、ガスナイフ310がない点で同様の配置であってもよい。一実施例においては、ガスナイフ310のないエンコーダプレート100の部位は計測に使用されなくてもよく、その状況において別のエンコーダプレート100またはエンコーダプレート100の他の部位が例えば別のエンコーダ110によって使用されてもよい。一実施例においては、ガスナイフ310の欠落を有する代わりに、リソグラフィ装置のコントローラ50は、上述の実施例と同様に例えばガスナイフ310からの冷却作用を小さくするために、閉じ込められた液体が領域312に到達または接近するときにガスナイフ310を非作動に制御してもよい。図10乃至図21は、外側隙間300及びガスナイフ310の可能な異なる複数の構成を示す。ガスナイフ310開口、カバー500、及びエンコーダプレート100の相対位置が外側隙間300に対して異なっている。図10乃至図21は、図7乃至図9の実施例に基づく実施例である。図10乃至図21の実施例は後述の点で図7乃至図9の実施例と異なる。図10に示されるように、図7の外側隙間300の構成が内側隙間200に適用されてもよい。図11の実施例においては、ガスナイフ310からの気体流れが外側隙間300または基板Wに向けて傾斜している。ガスナイフ310の開口で終端する通路が傾斜しており、その傾斜は当該開口から出る気体がエンコーダプレート100から離れる方向の水平成分を与えるようになっている。これは、エンコーダプレート100に移動する滴を防ぐのにより効果的である。図12においては、ガスナイフ310は、基板テーブルWTの上表面よりも低位置に開口を有する。この上面は、基板W、カバー500、及びエンコーダプレート100の上面と共通の面であってもよい。ガスナイフ310の開口は溝部305の側壁にあり、溝部305の底部には排出路307が形成されている。ガスナイフ310の開口が配置されている側壁は、エンコーダプレート100から離れるほうを向く側壁即ち、エンコーダプレート100に近いほうの側壁である。その側壁は、基板支持部400よりもエンコーダプレート100に近接していてもよい。図13の実施例においては、ガスナイフ310の開口は、基板W、カバー500、及び/またはエンコーダプレート100により形成される基板テーブルWTの上表面に実質的に平行であり、及び/または、高さが合わされている。ガスナイフ310の開口からの気体流れ320の経路は、エンコーダプレート100から離れる向きである例えば、外側隙間300及び/または基板Wに向かう向きである。ガスナイフ310の開口は、基板テーブルWTの上表面の平面から上方に持ち上げられた尾根部315に形成されていてもよい。持ち上げられた尾根部315は、エンコーダプレート100への滴の経路に対し物理的な障壁として働くことができる。図14においては、気体抽出開口317がガスナイフ310の開口と流体抽出システム330の溝部305との間に形成されている。その開口317は、ガスナイフ310から当該抽出開口317を通じて気体を抽出するための負圧源に接続されている。多すぎる気体流れ320はエンコーダの機能及びその調整を阻害する。気体がガスナイフ310から供給され抽出されない場合には、局所的な圧力が変化して性能に影響する。したがって、図14の実施例は、ガスナイフ310からの余剰の気体を抽出することにより局所圧力を安定化するという点で好ましい。図15の実施例は図13の実施例と同様であるが、エンコーダプレート100が基板テーブルWTの上表面のその他の部分に対し距離hだけ持ち上げられている点で異なる。これにより、エンコーダプレート100に滴が到達する可能性を減らすことができる。気体流れ320の経路は基板Wに対して放射方向内方に向けられている。持ち上げられたエンコーダプレートの詳細は、本明細書に参照により援用される2009年9月11日出願の米国特許出願第61/241,724号に開示された構成と同様である。図16乃至図18の実施例は、エンコーダプレートの基板に対して最外端から放射方向内向きの気体流れを生成する。この気体流れはガスナイフ310によって供給されてもよい。気体流れ320はエンコーダプレート100から滴を放射方向内方に吹き飛ばすよう誘導されている。図16及び図17の実施例においては、ガスナイフ310開口がエンコーダプレート100の放射方向外側にある基板テーブルWTの突部315に配置されている。ガスナイフ310から出る気体の流れ経路320は、エンコーダプレート100の上にて放射方向内向きである。その気体流れはエンコーダプレートへの滴の移動を妨害し、たとえ滴がエンコーダプレートにたどり着いたとしても外側隙間300へと吹き戻される。つまり、滴はガスナイフ310からの気体流れ320に引きずられて外側隙間300へと排除される。図16に示されるように、ガスナイフ310は、上記とともにまたはそれに代えて、液体供給システム例えば液体閉じ込め構造IHの側表面に位置していてもよい。こうした実施例においては、気体流れ320はエンコーダプレート100の上で放射方向外向きであり、その流れ途中にてエンコーダプレートにある滴を放射方向外方へと移動させる効果がある。ガスナイフ310により吹かれた液体を液体閉じ込め構造IHに回復するためのシステムが適所に設けられてもよい。コントローラ50は、気体が出る開口の一部がエンコーダプレート100の所定距離内にあるときにのみガスナイフ310を気体が出るようにするために使用されてもよい。図17の実施例は図16の実施例と同様であるが、抽出口開口700が基板テーブルWTに対向する上方の表面に形成されている点で異なる。抽出口開口700は、エンコーダプレート100の上表面の上を放射方向内向きに通過した気体を、該開口が形成されている表面においてその本体へと抽出するためのものである。開口700は例えば、ガス調整システムの開口であってもよく、こうしたガス調整システムによって基板テーブルWT上方で気体流れが回復されてもよい。ガス調整システムは、1つまたは複数のエンコーダ110を支持するエンコーダヘッド支持部800に付随していてもよい。1つまたは複数の抽出口開口700は、エンコーダ位置決め装置が動作可能であるすべての位置においてエンコーダプレート100の上に気体流れ320を生成可能であるように設けられていてもよい。それは即ち、すべての動作可能位置においてエンコーダプレート100の基板Wに対し放射方向内側に少なくとも1つの抽出口開口700が位置決めされる、ということである。ある開口700がエンコーダプレート100の放射方向内側にあるときにのみ、及び/または、ある開口700が最も近いエンコーダプレート100の放射方向内側にあるときにのみ、その開口700を通じた抽出が生じるように、コントローラ50が使用されてもよい。図17の実施例は図16のガスナイフ構成310とともに示しているが、基板テーブルWT上方の開口700は本明細書に記載されたいずれのガスナイフ構成とともに使用されてもよい。特に開口700は、図18に示す構成に使用されてもよいし、またはガスナイフ310が液体供給システムIHに設けられている図16の実施例に使用されてもよい。図18の実施例においては、ガスナイフ310の開口は、基板テーブルWTから分離された構成要素または本体に配置されている。気体流れ320は図16及び図17に示すものと同様の経路をたどる。これには、基板テーブルWTに高さの段差が存在しないという利点がある。こうした段差は望ましくない可能性がある。高さの段差は、液体のメニスカスを留めることによって、液体流れに影響を及ぼす。ガスナイフ310の開口がある他の構成要素は、図17に示すエンコーダ支持部800であってもよいし、装置のフレームに搭載されていてもよいし、例えばあるエンコーダ自身に搭載されていてもよい。図16乃至図18更には図19の実施例はガスナイフ310を出る湿潤な気体の使用に特に適する。エンコーダプレート100の上の気体流れを調整気体としても使用することができるからである。調整気体は、屈折率の変化ひいてはセンサの読み取り誤差または不正確を避けるために、一定の組成、及び/または一定の温度、及び/または一定の湿度である一様な流体である。図19の実施例においては、ガスナイフ310開口は、基板テーブルWT上方の表面に、例えば基板テーブルWT上方に配置されたフレームの表面に、配置されている。そのフレームは例えばエンコーダヘッド支持部800であってもよい。ガスナイフ310は図示のように基板テーブル表面WTに向けて下向きに気体を吹き出すことができる。複数のガスナイフ310が、エンコーダプレート100に滴が移動するのを防ぐように、及び/または、任意の時点で基板テーブルWTの位置測定に使用されているいずれかのエンコーダ110とエンコーダプレート100との間で気体を調整するために、設けられていてもよい。図16乃至図19のそれぞれは、エンコーダプレート100の放射方向内側に図7乃至図15と同様にもう1つの流体抽出システム330を示す。これが有利であるのは、ガスナイフ310からの気体を流体抽出システム330が回収し、基板Wに到達させないからである。こうした構成は、フレーム例えばメトロフレーム即ちメトロロジフレームに取り付けられているガス供給部を有し、当該ガス供給部は液浸液閉じ込め構造IHに対し静止するようになっていてもよい。エンコーダプレート100の放射方向内側の抽出及び基板Wの放射方向外側の抽出は、大きな滴がエンコーダプレート100に到達することを防ぎ、エンコーダプレート100での調整気体が基板Wに作用することを防ぐ。図20においては、上記の追加の流体抽出システム330とガスナイフ310との位置が図9の実施例とは反転している。図21の実施例は、追加の流体抽出システム330の両側にあるガスナイフ310A、310Bを示す。図22は、図19と同様の実施例を示し、エンコーダ110の周りでエンコーダプレート100、基板テーブルWTの表面の上に水平流れ320が生成されている。エンコーダプレート100とガスナイフ310の開口が形成された表面との間に形成された間隙によって、エンコーダプレート100に実質的に平行な気体の流れが生じる。これにより、エンコーダ110から放射方向外向きの流れが生じる。よってエンコーダプレート100上のいずれの滴も、エンコーダ110に対する初期位置に依存して、放射方向内側または放射方向外側にあるいは側方へと吹かれる。その水平流れはエンコーダプレート100に到達するいずれの滴にもせん断力を与えるせん断流れである。図22の実施例においては、エンコーダ110からグリッドプレート100への放射の入射位置に滴が到達するのをせん断圧力が防ぐ。ガスナイフ310の開口が形成された表面の底部とグリッドプレート100の上表面との間隔は好ましくは0.1mm乃至1mmであり、エンコーダプレート100の上表面に平行な平面におけるその間隔の長さは望ましくは2mm乃至20mmである。この幾何形状が望ましいのは、エンコーダ110から離れる強力な放射方向外向きの気体流れ310を生成するからである。本明細書に参照により援用される2010年8月24日出願の米国特許出願第61/376,653号に開示されるものと同様の代替的一実施例においては、第1流れ320a特性をもつ流体即ち乱流を供給するための第1出口310aが第2出口310bの放射方向内側に設けられている。第2出口310bは、第1流れ320a特性とは異なる第2流れ320b特性をもつ流体例えば層流を供給する。内側流れ320aの目的はエンコーダ110の周りの雰囲気を調整することにあり、外側流れ320bはエンコーダ110から液体を遠ざけエンコーダグリッド100から液体を排除し続けるための層流である。内側の高速乱流ジェットもまたエンコーダ110から滴を遠ざけるガスナイフとして機能しうる。第2の放射方向外側の気体供給は、それより穏やかな層流である。この気体がバッファとして使用されることで、良好に制御された外側流れ320bのみが乱流内側流れ320aに混合されるようにして、周囲区画の空気から内側流れを隔離し続けることができる。気体流れ320は、流体抽出システム330またはBESの開口、例えば外側隙間300に実質的に平行な平面内にあってもよいし図16乃至図18参照、外側隙間300に実質的に垂直な平面内にあってもよい図19、図22、図23。一実施例においては、ガスナイフ310は、流体抽出システム330なしで、例えばエンコーダプレート100と基板テーブルWTの放射方向内側表面例えばカバープレート500との間の外側隙間300に関連して設けられてもよい。ガスナイフ310は、複数の孔の形式をとる開口であってもよい。孔は、円形、一組の細長い孔例えばスリット、1つの連続スリット、2次元アレイ、または多孔質プレート例えばマイクロシーブであってもよい。開口は1つまたは複数のエンコーダプレート100の内側周縁周りにあってもよい。開口は、直線または曲線、及び/または複数の直線または曲線にあってもよい。図示の構成においては、流体抽出システム330及びガスナイフ310開口を有する外側隙間300は、エンコーダプレート100とカバー500とに両者の間で隣接している。これらの特徴は例えば、基板支持部400とカバー500とに両者の間で隣接していてもよいし図9に示すように、エンコーダプレート100の外周端のまわりにあってもよいし、及び/または、交差レーンに沿っていてもよい2009年9月11日出願の米国特許出願第61/241,724号を参照。ガスナイフ310開口周囲の表面は、疎液性例えば疎水性表面を、例えばコーティングの形式で、有してもよい。ガスナイフ310開口周囲の表面は、それを包囲する表面例えば基板テーブル、エンコーダプレート、またはその両方と実質的に同じ高さにあってもよいし、それらより高くされていてもよいし、あるいは低くされていてもよい。一実施例においては、外側隙間300は受動的であってもよい。例えば、外側隙間300は液体を吸収するスポンジを有してもよい。流体抽出システム及び/またはガスナイフを有する能動的な外側隙間に比べて蒸発冷却を小さくし得るという利点がある。一実施例においては、Oリングシール及び/またはステッカがカバー500とエンコーダプレート100との間に設けられてもよい。Oリングシール及び/またはステッカは親液性を有してもよい。本発明の一実施形態は液浸液滴のエンコーダプレート100への付着を防ぎ、オーバレイ精度の向上に役立ち得る。エンコーダプレート100に付着する滴をなくさないとしても減らすことにより、エンコーダプレート100の汚染を低減することに役立ち得る。その結果、エンコーダプレート100を洗浄するためのダウンタイムが低減される。理解されるように、任意の上記の特徴は他の任意の特徴とともに例えば図10乃至図23の実施例のいずれかを組み合わせて使用可能であり、本願にて網羅される明記された組み合わせには限られない。例えば、本発明の一実施形態は、図2乃至図4の実施例に適用することも可能であろう。本明細書ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、リソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用案内パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどがある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書におけるウェーハあるいはダイという用語がそれぞれ基板あるいは目標部分という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。基板は露光前または露光後においてトラック典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置、メトロロジツール、及び/またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ICを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味する。本明細書において放射及びビームという用語は、紫外UV放射例えば約365nm、248nm、193nm、157nm、または126nmの波長を有するを含むあらゆる種類の電磁放射を示す。レンズという用語は、文脈が許す限り、屈折光学素子及び反射光学素子を含む1つの光学素子またはこれら各種の光学素子の組み合わせを指し示すものであってもよい。本発明の特定の実施形態が上述されたが、説明したもの以外の態様で本発明が実施されてもよい。例えば、本発明の実施形態は、上述の方法を記述する機械で読み取り可能な命令の1つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラムの形式をとってもよいし、そのコンピュータプログラムを記録したデータ記録媒体例えば半導体メモリ、磁気ディスク、または光ディスクであってもよい。機械で読み取り可能な命令は2以上のコンピュータプログラムにより実現されてもよい。それら2以上のコンピュータプログラムは1つまたは複数の異なるメモリ及び/またはデータ記録媒体に記録されていてもよい。本明細書に記載のいずれかのコントローラは各々がまたは組み合わされて、リソグラフィ装置の少なくとも1つの構成要素内部に設けられた1つまたは複数のコンピュータプロセッサによって1つまたは複数のコンピュータプログラムが読み取られたときに動作可能であってもよい。コントローラは信号を受信し処理し送信するのに適切ないかなる構成であってもよい。1つまたは複数のプロセッサは少なくとも1つのコントローラに通信可能に構成されていてもよい。例えば、複数のコントローラの各々が上述の方法のための機械読み取り可能命令を含むコンピュータプログラムを実行するための1つまたは複数のプロセッサを含んでもよい。各コントローラはコンピュータプログラムを記録する記録媒体及び/またはそのような媒体を受けるハードウェアを含んでもよい。コントローラは1つまたは複数のコンピュータプログラムの機械読み取り可能命令に従って動作してもよい。本発明の1つまたは複数の実施形態はいかなる液浸リソグラフィ装置に適用されてもよい。上述の形式のものを含むがこれらに限られない。液浸液が浴槽形式で提供されてもよいし、基板の局所領域のみに提供されてもよいし、非閉じ込め型であってもよい。非閉じ込め型においては、液浸液が基板及び/または基板テーブルの表面から外部に流れ出ることで、基板テーブル及び/または基板の覆われていない実質的に全ての表面が濡れ状態であってもよい。非閉じ込め液浸システムにおいては、液体供給システムは液浸流体を閉じ込めなくてもよいし、液浸液の一部が閉じ込められるが完全には閉じ込めないようにしてもよい。本明細書に述べた液体供給システムは広く解釈されるべきである。ある実施形態においては投影系と基板及び/または基板テーブルとの間の空間に液体を提供する機構または構造体の組合せであってもよい。1つまたは複数の構造体、及び1つまたは複数の流体開口の組合せを含んでもよい。流体開口は、1つまたは複数の液体開口、1つまたは複数の気体開口、1つまたは複数の二相流のための開口を含む。開口のそれぞれは、液浸空間への入口または流体ハンドリング構造からの出口または液浸空間からの出口または流体ハンドリング構造への入口であってもよい。一実施例においては、液浸空間の表面は基板及び/または基板テーブルの一部であってもよい。あるいは液浸空間の表面は基板及び/または基板テーブルの表面を完全に含んでもよいし、液浸空間が基板及び/または基板テーブルを包含してもよい。液体供給システムは、液体の位置、量、性質、形状、流速、またはその他の性状を制御するための1つまたは複数の要素をさらに含んでもよいが、それは必須ではない。要約すれば、本開示は以下の特徴の少なくとも1つまたは複数を含む。1.リソグラフィ装置のための基板テーブルであって、前記基板テーブル上に配置されているエンコーダプレートと、前記エンコーダプレートと前記基板テーブルの上表面との間の隙間であって、前記基板テーブルの外周に対し放射方向に前記エンコーダプレートの内側に位置する隙間と、前記隙間から液体を抽出するために前記隙間の表面にある1つまたは複数の開口をもつ流体抽出システムと、を備える、基板テーブル。2.ガスナイフ開口が前記隙間に関連しており、前記ガスナイフは前記エンコーダプレートへの液滴の到達防止を支援する気体流れを供給する、特徴1に記載の基板テーブル。3.前記ガスナイフ開口は、該ガスナイフ開口からの前記気体流れが前記隙間に流入するよう構成されている、特徴2に記載の基板テーブル。4.リソグラフィ装置のための基板テーブルであって、前記基板テーブル上に配置されているエンコーダプレートと、前記エンコーダプレートと前記基板テーブルの上表面との間の隙間であって、前記基板テーブルの外周に対し放射方向に前記エンコーダプレートの内側に位置する隙間と、前記エンコーダプレートへの液滴の到達を防止する気体流れを供給するガスナイフ開口と、を備える、基板テーブル。5.基板を支持する基板支持部と、該基板支持部の放射方向外側かつ前記基板テーブルの上表面の放射方向内側にある隙間と、をさらに備える、上記の特徴のいずれかに記載の基板テーブル。6.カバープレートをさらに備え、前記基板テーブルの上表面の少なくとも一部が前記カバープレートの表面である、上記の特徴のいずれかに記載の基板テーブル。7.前記エンコーダプレートは前記基板テーブルの外周に配置されている、上記の特徴のいずれかに記載の基板テーブル。8.前記エンコーダプレートは前記基板テーブルの外周まわりに配置されている、上記の特徴のいずれかに記載の基板テーブル。9.上記の特徴のいずれかに記載の基板テーブルを備えるリソグラフィ装置。10.投影系と対向表面との間に液浸液を供給し閉じ込める液体閉じ込め構造をさらに備え、前記対向表面は前記基板テーブル、前記基板により支持される基板、またはそれら両方を備える、特徴9に記載のリソグラフィ装置。11.基板テーブルと、エンコーダプレートと、気体の通る通路のための開口であって、投影系に対し放射方向外方に前記エンコーダプレートへと液滴が通過するのを妨げるように、または、前記エンコーダプレートから逸れて放射方向内方に滴を吹き飛ばすように、または、それら両方のために、該開口を出る前記気体を誘導するよう構成されている開口と、を備えるリソグラフィ装置。12.前記エンコーダプレートは前記基板テーブルの上表面に配置されている、特徴11に記載のリソグラフィ装置。13.前記開口は前記エンコーダプレートの放射方向外側にある、特徴11または12に記載のリソグラフィ装置。14.前記開口は前記基板テーブルにある、特徴11から13のいずれかに記載のリソグラフィ装置。15.前記開口は前記基板テーブルから分離されている構成要素にある、特徴11から13のいずれかに記載のリソグラフィ装置。16.前記開口は前記エンコーダプレートの上方で前記エンコーダプレートに対向する表面にある、特徴15に記載のリソグラフィ装置。17.前記開口は使用時に前記エンコーダプレートへと前記気体を向ける、特徴15または16に記載のリソグラフィ装置。18.前記エンコーダプレートと前記開口が形成されている表面との間に形成されている隙間によって前記エンコーダプレートに実質的に平行に流れる気体が生じる、特徴17に記載のリソグラフィ装置。19.前記開口はガスナイフの開口である、特徴11から18のいずれかに記載のリソグラフィ装置。20.本体へと流体を抽出する該本体の表面にある1つまたは複数の開口をもつ流体抽出システムをさらに備える、特徴11から19のいずれかに記載のリソグラフィ装置。21.前記本体は前記基板テーブルである、特徴20に記載のリソグラフィ装置。22.前記本体は前記基板テーブル以外の本体である、特徴20に記載のリソグラフィ装置。23.前記表面は使用時に前記エンコーダプレートの上方で前記エンコーダプレートに対向する表面である、特徴22に記載のリソグラフィ装置。24.前記気体は前記エンコーダプレートから離れる方向に前記開口を出るか、または、前記気体流れは前記エンコーダプレートの放射方向幅の方向にある、特徴11から23のいずれかに記載のリソグラフィ装置。25.デバイス製造方法であって、パターンをもつ放射ビームを基板に投影することを含み、放射ビームをセンサビーム経路に沿ってエンコーダプレートに投射するエミッタを使用することにより特性が計測され、投影系に対し放射方向外方に前記エンコーダプレートへと液滴が通過するのを妨げるように、または、前記エンコーダプレートから逸れて放射方向内方に滴を吹き飛ばすように、または、それら両方のために、気体が開口の外へと誘導される、方法。上述の説明は例示であり、限定を意図しない。よって、後述の請求項の範囲から逸脱することなく既述の本発明に変更を加えることができるということは、関連技術の当業者には明らかなことである。"