基板本体がガラス基板である第1基板と、前記第1基板に対向して設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた表示媒体層と、前記第1基板と前記第2基板との間に前記表示媒体層を周回するように設けられ、前記第1基板と前記第2基板とを接着すると共に前記表示媒体層を封止するシールと、を備えた表示パネルであって、前記第1基板は、前記表示媒体層側に、前記シールの外側のパネル周縁に位置する部分に設けられたスクライブマークと、各々、透明導電性酸化膜で形成された複数の画素電極と、金属材料で形成された電極線と、基板を被覆するように設けられた平坦化膜と、を有し、前記平坦化膜には、パネル周縁に位置する部分に、前記シールが露出するようにシール露出開口部が形成されており、前記スクライブマークは、前記平坦化膜における前記シール露出開口部と端辺との間の部分の上に前記第1基板の端面から離間して設けられている表示パネル。前記スクライブマークは、平面視において、1または複数のマークにより構成されている、請求項1に記載された表示パネル。前記スクライブマークは、平面視において、前記第1基板の端面に沿うように設けられた辺を有する形状のマークを含む、請求項2に記載された表示パネル。前記スクライブマークにおける前記辺を有する形状のマークが、上底及び下底が前記第1基板の端面に沿うように設けられた台形状のマークである、請求項3に記載された表示パネル。前記スクライブマークは、平面視において、前記第1基板の端面側を向くように設けられた頂角を有する形状のマークを含む、請求項2に記載された表示パネル。前記スクライブマークにおける前記頂角を有する形状のマークが、三角形状のマークである、請求項5に記載された表示パネル。前記スクライブマークが金属材料で形成されている、請求項1乃至6のいずれかに記載された表示パネル。前記スクライブマークが前記電極線と同一の金属材料で形成されている、請求項7に記載された表示パネル。前記スクライブマークを形成する金属材料がタングステン又はタンタルで構成されている、請求項8に記載された表示パネル。前記スクライブマークが透明導電性酸化膜で形成されている、請求項1乃至6のいずれかに記載された表示パネル。前記スクライブマークが前記複数の画素電極と同一の透明導電性酸化膜で形成されている、請求項10に記載された表示パネル。前記スクライブマークを形成する透明導電性酸化膜がインジウムスズ酸化物又はインジウム亜鉛酸化物で構成されている、請求項11に記載された表示パネル。前記複数の画素電極は前記平坦化膜の上に設けられている、請求項1乃至12のいずれかに記載された表示パネル。前記電極線は前記平坦化膜の下に設けられている、請求項1乃至13のいずれかに記載された表示パネル。前記平坦化膜に形成された前記シール露出開口部は、パネル周縁に位置する部分における少なくとも一の角隅部に設けられている、請求項1乃至14のいずれかに記載された表示パネル。前記電極線が、相互に並行に延びる複数のゲートライン、又は、該複数のゲートラインに対して絶縁膜を介して設けられ該複数のゲートラインの延びる方向に角度をなして相互に並行に延びる複数のソースラインである、請求項1乃至15のいずれかに記載された表示パネル。前記表示媒体層が液晶層である、請求項1乃至16のいずれかに記載された表示パネル。本発明の目的は、高い製造効率で製造可能な表示パネルを提供することである。本発明に係る第1の表示パネルは、第1の基板と、第1の基板に対向して設けられた第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に設けられた表示媒体層と、第1の基板と第2の基板との間に表示媒体層を周回するように設けられ、第1の基板と第2の基板とを接着すると共に表示媒体層を封止するシールとを備えている。本発明に係る第1の表示パネルでは、第1の基板における表示パネル周縁に位置する部分の表示媒体層側表面は平坦である。第1の基板における表示パネル周縁に位置する部分の両表面表示媒体層側表面、及び表示媒体層とは反対側の表面が平坦であることが好ましく、それら両表面が平坦且つ平滑であることがさらに好ましい。第1の基板は、第1の基板本体と、第1の基板本体における少なくとも表示パネル周縁に位置する部分の表示媒体層側表面全体を覆う平坦化膜とを有するものであってもよい。平坦化膜は樹脂膜であってもよい。尚、本明細書において樹脂膜とは、有機樹脂やシリコン樹脂を含む膜のことをいう。また、表示媒体層とは、互いに対向する電極間の電位差により光透過率又は光反射率が変調される層、若しくは互いに対向する電極間を流れる電流により自発光する層をいう。表示媒体層の具体例としては、例えば、液晶層、無機または有機エレクトロルミネッセンス層、発光ガス層、電気泳動層、エレクトロクロミック層等が挙げられる。従って、本発明に係る第1の表示パネルは液晶表示パネル、無機又は有機エレクトロルミネッセンス表示パネル等であってもよい。また、本明細書において平坦とは、表面の微少変位量が0.3μm以下であることをいう。尚、表面の微少変位量は、KLA-テンコール社製、触針式段差表面粗さ形状測定装置P-15により測定することができる。また、第1の基板はアクティブマトリクス基板であってもよい。すなわち、第1の基板は、第1の基板本体の上に設けられた複数の薄膜トランジスタ素子と、複数の薄膜トランジスタ素子の上に設けられると共に、複数の薄膜トランジスタ素子に開口する複数のスルーホールが形成された層間絶縁膜と、層間絶縁膜の上に設けられ、各々複数のスルーホールを経由して薄膜トランジスタに電気的に接続された複数の画素電極とを有していてもよい。この場合、層間絶縁膜が、平坦化膜として、第1の基板本体における表示パネル周縁に位置する部分全体の上に設けられていることが好ましい。本発明に係る第1の表示パネルでは、第2の基板における表示パネル周縁に位置する部分の表示媒体層側表面が平坦であることが好ましい。第2の基板における表示パネル周縁に位置する部分の両表面表示媒体層側表面、及び表示媒体層とは反対側の表面が平坦であることが好ましく、それら両表面が平坦且つ平滑であることがさらに好ましい。本発明に係る第2の表示パネルは、複数の導電部材が設けられた第1の基板と、第1の基板に対向して設けられた第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に設けられた表示媒体層と、第1の基板と第2の基板との間に表示媒体層を周回するように設けられ、第1の基板と第2の基板とを接着すると共に表示媒体層を封止するシールとを備えている。本発明に係る第2の表示パネルでは、第1の基板における表示パネル周縁に位置する部分に、複数の導電部材のうち最も薄い導電部材と同一の膜からなる1又は複数のスクライブマークが形成されている。尚、本明細書において、導電部材とは、定常状態で106S/m以上の電気伝導度を示す部材をいう。尚、電気伝導度は四端子法等により測定することができる。本発明に係る第2の表示パネルでは、第1の基板はアクティブマトリクス基板であってもよい。すなわち、第1の基板は、相互に並行に延びる複数のゲートラインと、複数のゲートラインの延びる方向に角度をなして相互に並行に延びる複数のソースラインと、各々複数のゲートラインと複数のソースラインとの双方に接続されたスイッチング素子と、スイッチング素子の上に設けられると共に、スイッチング素子に開口する複数のスルーホールが形成された層間絶縁膜と、複数のスルーホールを経由してスイッチング素子に電気的に接続された複数の画素電極とを有していてもよい。この場合、複数の導電部材は複数のゲートラインと、複数のソースラインと、複数の画素電極とを含む。複数のゲートラインと、複数のソースラインと、複数の画素電極とのうち最も薄い導電部材と同一の膜からなる1又は複数のスクライブマークが形成されていてもよい。また、複数の画素電極が実質的に導電性酸化物からなり、1又は複数のスクライブマークが複数の画素電極と同一の膜で形成されていてもよい。尚、導電性酸化物としては、例えばインジウムスズ酸化物ITO、インジウム亜鉛酸化物IZO、酸化錫SnO等が挙げられる。1又は複数のスクライブマークは実質的に金属からなるものであってもよい。例えば、1又は複数のスクライブマークは、第1の基板に設けられた実質的に金属からなる電極ラインと同一の膜から形成されていてもよい。1又は複数のスクライブマークは第1の基板の端面から離間するように設けられていることが好ましい。1又は複数のスクライブマークは、平面視において、一辺が第1の基板の端辺と共通する平面視多角形状に形成されていてもよい。その場合、1又は複数のスクライブマークは、平面視において、第1の基板の端辺に垂直に接する少なくとも一つの端辺を有することが好ましい。1又は複数のスクライブマークは実質的に導電性酸化物からなるものであってもよい。以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。実施形態1図1~4は、本実施形態1に係る液晶表示パネル1を示す。本実施形態1に係る液晶表示パネル1は、第1の基板としてのアクティブマトリクス基板10と、第2の基板としての対向基板30と、アクティブマトリクス基板10と対向基板30との間に設けられた、表示媒体層としての液晶層20とを備えている。尚、説明の便宜上、図4bには対向基板30は描画していない。アクティブマトリクス基板10と対向基板30との間には、液晶層20を周回するようにシール40が設けられている。このシール40によりアクティブマトリクス基板10と対向基板30とが接着されており、且つ、液晶層20が封止されている。図3に示すように、アクティブマトリクス基板10は、例えばガラス製の第1基板本体11と、相互に並行に延びる複数のゲートライン12と、相互に並行に延びる複数のソースライン13と、複数の薄膜トランジスタ素子以下、TFT素子とすることがある。14と、層間絶縁膜15と、実質的に透明導電性酸化物例えば、インジウムスズ酸化物、インジウム亜鉛酸化物等からなる複数の画素電極16と、第1基板本体11の周縁部分に、第1基板本体11の端面から離間するように形成された平面視略台形状のスクライブマーク50と、第1ラビング膜配向膜18と、第1基板本体11の液晶層20とは反対側の表面上に設けられた第1偏光板19とを備えている。複数のゲートライン12は第1基板本体11上に形成されている。複数のソースライン13はゲートライン12の上に、ゲートライン12の延びる方向と交差する方向に典型的には、直交して相互に並行に延びるように形成されている。尚、ゲートライン12及びソースライン13は、例えば、タングステンWやタンタルTa等の金属により形成することができる。また、ゲートライン12とソースライン13との間には絶縁膜例えば、酸化シリコン膜やチッ化シリコン膜等が形成されており、相互に絶縁されている。複数のゲートライン12と複数のソースライン13との交差部近傍のそれぞれには、ゲートライン12とソースライン13との双方に電気的に接続されたスイッチング素子としてのTFT素子14が設けられている。複数のTFT素子14の上には有機樹脂例えば、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、オルソジアゾナフトキノン-ノボラック系の樹脂等を主成分とした樹脂製の層間絶縁膜15が設けられている。尚、層間絶縁膜15に用いる樹脂は、高い光透過率を有し、比誘電率が低く、比抵抗値が大きく、且つ高い機械的強度を有するものであることが好ましい。層間絶縁膜15の上には、所定配列で配列された典型的には、マトリクス配列で配列された複数の画素電極16、及びスクライブマーク50が形成されている。層間絶縁膜15には、TFT素子14に開口するスルーホール15aが形成されており、そのスルーホール15aを経由して画素電極16とTFT素子14とが電気的に接続されている。尚、本明細書においてスクライブマーク50とは、分断を精度よく行うためのアライメントマークのことである。本実施形態1に係る液晶表示パネル1では、ゲートライン12、ソースライン13といった電極線、画素電極16等を含む導電部材の中で、画素電極16が最も層厚が薄くなるように形成されている。スクライブマーク50は導電部材の中で最も薄い導電性酸化物例えば、ITO製の画素電極16と同一の膜から形成されている。図4に示すように、TFT素子14と画素電極16とを離間すると共に絶縁する層間絶縁膜15は、第1基板本体11のシール40の一部例えば、屈曲部と重畳する部分の一部を露出させると共に、第1基板本体11における液晶表示パネル1の周縁に位置する部分の液晶層20側表面全体を覆うように形成されている。この層間絶縁膜15は第1基板本体11における液晶表示パネル1の周縁に位置する部分の液晶層20側表面を平坦にする所謂平坦化膜としての機能を兼ね備えており、液晶表示パネル1では、アクティブマトリクス基板10は液晶表示パネル1周縁に位置する部分の液晶層20側表面を含む両方の表面が平坦且つ平滑となるように形成されている。尚、層間絶縁膜15を、第1基板本体11のシール40の一部例えば、屈曲部と重畳する部分の一部を露出させるのは、一般的に無機物に対して良好な接着性を示す、例えば、エポキシ系熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂等を主成分とする材料により形成されるシール40とアクティブマトリクス基板10との接着性を向上させるためである。一方、対向基板30は、例えばガラス製の第2基板本体31と、カラーフィルタ層32と、上部共通電極33と、第2ラビング膜配向膜34と、第2基板本体31の液晶層20側とは反対側の表面上に設けられた第2偏光板35とを備えている。カラーフィルタ層32は、第2基板本体31の上に形成されており、相互に透過させる光の色調が異なる複数種類のフィルタ層と、それらフィルタ層をそれぞれに分断するブラックマトリクス層とにより構成されている。カラーフィルタ層32の上には上部共通電極33が形成されており、さらに上部共通電極33の上には、液晶層20に接する第2ラビング膜34が形成されている。尚、対向基板30は液晶表示パネル1周縁に位置する部分の液晶層20側表面を含む両方の表面が平坦且つ平滑となるように形成されている。次に、このような液晶表示パネル1の製造工程について図5~図12を参照しながら詳細に説明する。まず、図5に示すように、アクティブマトリクス基板10の基材となる第1マザーガラス基板60を用意する。第1マザーガラス基板60はアクティブマトリクス基板10が複数枚例えば、縦10列、横12列にマトリクス状に配列された計120枚程度のアクティブマトリクス基板10が切り出せるような大判のガラス基板である。第1マザーガラス基板60の上に、ゲートライン12、ソースライン13、TFT素子14、画素電極16、スクライブマーク50等を順次形成し、第1マザーガラス基板60を第1基板本体11として相互に連結されたアクティブマトリクス基板10の複数の構成単位を同時に形成する。尚、アクティブマトリクス基板形成工程では、画素電極16を形成する工程において、画素電極16と同一の膜からスクライブマーク50を同時形成する。また、上記工程と並行して、対向基板30の基材となる第2マザーガラス基板70を用意する。第2マザーガラス基板70は対向基板30が複数枚例えば、一方向に配列された10枚程度の対向基板30が切り出せるような、第1マザーガラス基板60よりも小さい中判のガラス基板である。その第2マザーガラス基板70の上に、カラーフィルタ層32、上部共通電極33、及び第2ラビング膜34等を順次形成し、一方向に配列された一連の対向基板30の複数の構成単位を同時に形成する。その後、第1マザーガラス基板60上に、例えばスクリーン印刷法によって、開口液晶注入口を有する環状の複数のシール40を形成する。そして、そのシール40の上に第2マザーガラス基板70を配置接着し、図5に表される、複数の構成単位が所定配列で典型的には、マトリクス配列で形成された基板構造体貼り合わせ基板80を作製する。次に、その基板構造体80を切断し、図7に示す、複数の構成単位が一方向に配列された短冊状の基板構造体81を作製する以下、この工程を第1分断工程とすることがある。。具体的には、まず、対向配置された一対のスクライブマーク50を目印として、カッターホイールを用いて、図5及び図6に示すような、一対のスクライブマーク50の間隙中央を通過する第1スクライブライン線状のクラック61aをアクティブマトリクス基板10及び対向基板30の双方に形成する。そして、その第1スクライブライン61aに沿って基板を分断することにより、図7に示すような短冊状の基板構造体81を作製する。一般的には、製造工程簡略化の観点から、この状態で、短冊状に配置された複数の空セルに同時に液晶を注入することにより液晶層20を形成する。液晶層20形成後、短冊状に配置された複数の構成単位をそれぞれに分断することにより、複数の液晶表示パネル1を完成させる以下、この工程を第2分断工程とすることがある。。具体的には、アクティブマトリクス基板10及び対向基板30の双方に、短冊状に配列された構成単位をそれぞれに分断するための第2スクライブライン61b以下、第1スクライブライン61aと第2スクライブライン61bとを合わせてスクライブライン61とすることがある。を対向配置された一対のスクライブマーク50の間隙中央を通過するように形成する。そして、その第2スクライブライン61bに沿って基板を分断することにより液晶表示パネル1を完成させる。従来は、この第1及び第2分断工程において、アクティブマトリクス基板10や対向基板30に割れやカケが高い確率で発生するという問題がある。上述の通り、シール40は有機部材と比較して無機部材に高い接着性を示す。このため、アクティブマトリクス基板10と対向基板30とを高強度に接着する観点から、図8に示すように、従来、液晶表示パネルの角部近傍には層間絶縁膜15を形成せず、シール40の一部例えば、屈曲部を露出させるのが通常である。この場合、スクライブライン61上に層間絶縁膜15が形成されている部分と層間絶縁膜15が形成されていない部分とが形成される。従って、図9に示すように、層間絶縁膜15が形成されている部分と形成されていない部分との境界に段差15bが形成されることとなる。スクライブライン61は段差15bを横切って形成されることとなるが、その場合、段差部15bには比較的大きな応力が加わるため、段差15b近傍で不要なクラックや欠け等が発生する可能性が高く、その不要なクラックに起因してアクティブマトリクス基板10や対向基板30に割れやカケが発生する虞がある。このため、従来の基板構造体80からは高い製造効率で液晶表示パネルを得ることは困難である。一方、本実施形態1では、スクライブライン61上には段差が形成されず、平坦であるため、アクティブマトリクス基板10や対向基板30に割れやカケが発生する確率が低い。本実施形態1では、図6に示すように、層間絶縁膜15は、シール40の一部例えば、屈曲部と重畳する一部を露出させると共に、スクライブライン61上部を被覆するように形成されている。このため、図10に示すように、第1マザーガラス基板60のスクライブライン61上近傍部分の液晶層20側表面は平坦である。すなわち、層間絶縁膜15は、分断されて液晶表示パネル1となった後の、第1基板本体11の周縁部分の液晶層20側表面を覆うように設けられており、第1基板本体11の周縁部分の液晶層20側表面は平坦である。よって、本実施形態1では、第1分断工程及び第2分断工程において、第1マザーガラス基板60にスクライブライン61を形成する際に、アクティブマトリクス基板10の液晶層20側表面から不要なクラックが発生することが効果的に抑制される。従って、液晶表示パネル1を高い製造効率で製造することが可能となる。第1マザーガラス基板60のスクライブライン61上近傍部分の液晶層20側表面を平坦化するための平坦化膜は、本実施形態1のように樹脂好ましくは有機樹脂製であることが好ましい。樹脂によりスクライブライン61上を被覆することによって、スクライブ工程における不要なクラックの発生をより効果的に抑制することができる。同様に、本実施形態1においては、分断されて液晶表示パネル1となった後の、対向基板30の液晶表示パネル1周縁に位置する部分の液晶層20側表面も平坦である。すなわち、第2マザーガラス基板70上のスクライブライン61上近傍部分の液晶層20側表面は平坦である。このため、本実施形態1では、第1分断工程及び第2分断工程において、第2マザーガラス基板70にスクライブライン61を形成する際に、対向基板30の液晶層20側表面から不要なクラックが発生することが効果的に抑制される。従って、液晶表示パネル1を高い製造効率で製造することが可能となる。次に、本実施形態1におけるスクライブマーク50についてさらに詳細に説明する。本実施形態1では、スクライブマーク50はスクライブライン61上に形成されておらず、スクライブライン61を挟んで対峙するように形成されている。言い換えれば、スクライブマーク50は、分断された後の液晶表示パネル1のアクティブマトリクス基板10の端面から離間するように形成されている。例えば、スクライブマーク50がスクライブライン61上を横切るように形成されている場合は、スクライブマーク50と第1マザーガラス基板60との材質特性例えば、硬度等の相違に起因して、スクライブ工程において、スクライブマーク50の形成された箇所近傍に不要なクラックが発生してしまう可能性が高い。しかしながら、本実施形態1では、スクライブマーク50がスクライブライン61上に形成されていないため、このような不要なクラックの発生を抑制することができる。従って、液晶表示パネル1を高い製造効率で製造することが可能となる。また、本実施形態1では、スクライブマーク50は各種電極ラインゲートライン12、ソースライン13等や画素電極16といった導電部材の中で最も層厚の薄い画素電極16と同一の膜から形成されている。言い換えれば、本実施形態1では、スクライブマーク50は比較的薄く形成されている。このため、効果的に対向基板30の割れやカケを抑制することができる。対向基板30側にスクライブライン61を形成する場合、対向基板30側にカッターホイール90が押圧走査される。対向基板30はアクティブマトリクス基板10と比較して層厚が比較的薄いため、カッターホイール90の押圧によりアクティブマトリクス基板10に対して凸状に変形する。ここで、スクライブライン61が形成されるラインを挟んで対峙して設けられたスクライブマーク50の層厚が比較的厚い場合は、図11に示すように、変形した対向基板30がスクライブマーク50に当接する虞がある。対向基板30がスクライブマーク50に当接した場合、対向基板30は一対のスクライブマーク50とカッターホイール90との合計3部材により押圧されることとなり、対向基板30に割れやカケが発生する可能性が高くなる。このため、製造効率が低下してしまう虞がある。それに対して、本実施形態1では、スクライブマーク50が比較的薄く形成されているため、図12に示すように、スクライブマーク50が対向基板30に当接することが抑制される。このため、対向基板30に不要なクラック等が発生することを抑制することができるので、液晶表示パネル1を高い製造効率で製造することが可能となる。すなわち、アクティブマトリクス基板10に形成されたスクライブマーク50は、スクライブ工程において対向基板30と接触しないような層厚に形成しておくことが好ましい。尚、本実施形態1では、スクライブマーク50は導電性酸化物からなる画素電極16と同一の膜から形成されているが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、例えば、スクライブマーク50は実質的に金属材料により形成されていてもよい。その場合、例えばゲートライン12やソースライン13といった各種電極線と同一の膜から形成されていてもよい。金属材料により形成されたスクライブマーク50は視認性に優れるため、より高精度な分断を可能にせしめる。変形例1:実施形態1の変形例図13は本変形例1に係る液晶表示パネルを示す。図13に示すように、カラーフィルタ層32に含まれるブラックマトリクス層32aが第2基板本体の液晶表示パネル周縁に位置する部分の液晶層20側表面を被覆するように形成されていることによって、液晶層20側表面が平坦化されていてもよい。言い換えれば、ブラックマトリクス層32aが第2マザーガラス基板70のスクライブライン61が形成される部分の上を被覆するように形成されていてもよい。変形例2:実施形態1の変形例図14は本変形例2に係る液晶表示パネルを示す。図15はその製造工程を表す。図14及び図15に示すように、スクライブマーク50を平面視略正三角形状の複数のマークにより構成してもよい。実施形態2図16は本実施形態2に係る液晶表示パネル2を示す。図17はその製造工程を表す。本実施形態2に係る液晶表示パネル2は、スクライブマーク50の配置構成を除いては、上記実施形態1に係る液晶表示パネル1と同様の形態を有する。ここでは、本実施形態2におけるスクライブマーク50の配置構成について詳細に説明する。尚、本実施形態2の説明において、実質的に同じ機能を有する構成要素を上記実施形態1と共通の参照符号で説明し、説明を省略する。本実施形態2に係る液晶表示パネル2では、スクライブマーク50が平面視において一辺がアクティブマトリクス基板10の短辺と共通する平面視略矩形状に形成されている。すなわち、図17に示すように、平面視略矩形状のスクライブマーク50がスクライブライン61上に形成されている。この場合、スクライブマーク50は金属材料により形成されていてもよいが、導電性酸化物により例えば、画素電極16と同一の膜から形成されていることが好ましい。ガラス製の第1基板本体11とは材料特性が大きく異なる金属材料により形成されたスクライブマーク50の上部がスクライブされるとスクライブマーク50の近辺から不要なクラック等が発生しやすい。しかしながら、本実施形態2のように、ガラスと材料特性が比較的類似するインジウムスズ酸化物やインジウム亜鉛酸化物等の導電性酸化物によりスクライブマーク50を形成することによって、スクライブマーク50近辺からクラック等が発生することを効果的に抑制することができる。従って、高い製造効率で製造可能な液晶表示パネル2を実現することができる。また、本実施形態2においては、スクライブマーク50の辺50aがアクティブマトリクス基板10の端面スクライブライン61と直交する。この構成を採用することによって、例えば、スクライブマーク50の辺50aとスクライブライン61とが傾斜する場合と比較して、スクライブマーク50付近からクラック等が発生することを効果的に抑制することができる。尚、上記実施形態1、2及び変形例1、2で例示したスクライブマーク50は単なる例示であって、本発明において、スクライブマークはこれらの形態に限定されるものではない。以上、実施形態1、2及び変形例1、2に係るアクティブマトリクス方式の液晶表示パネルを例に挙げて本発明に係る表示パネルの好ましい形態を説明してきたが、本発明に係る表示パネルはアクティブマトリクス方式の表示パネルに限定されない。例えば、パッシブマトリクス方式やセグメント方式の表示パネルであってもよい。また、平坦化膜も層間絶縁膜15に限定されるものではなく、他の膜であってもよい。例えば、パッシブマトリクス方式の表示パネルである場合は金属反射膜例えば、特開平11-242215号公報等やカラーフィルタ平坦化膜例えば、特開平4-60517号公報等等であってもよい。また、本発明に係る表示パネルは、液晶表示パネルに限定されず、無機エレクトロルミネッセンス表示パネル、有機エレクトロルミネッセント表示パネル、フィールドエミッション表示パネル、プラズマ表示パネル等の各種表示パネルであってもよい。さらに本発明は各種電子部品一般にも応用適用することができるものである。