"粒子線の線量を測定する線量監視装置と、前記線量監視装置を通過する粒子線の線量を測定する前記線量監視装置より小型の電離箱とを有し、粒子線を走査して照射対象の照射位置に粒子線を照射する粒子線治療装置であって、前記線量監視装置で照射された粒子線の線量を測定し、前記線量監視装置を通過する粒子線の線量を前記小型の電離箱で測定して、前記小型の電離箱で測定した粒子線の線量を基に、前記照射位置に対応する前記線量監視装置で測定された線量の補正係数を求めるようにした線量監視装置の感度補正方法。さらに、治療計画装置を備え、前記治療計画装置が計画した照射対象の照射位置に基づいて、粒子線を走査して照射対象の前記照射位置に粒子線を照射し、前記照射位置に対応する前記線量監視装置で測定された線量の補正係数を求めるようにした請求項1記載の線量監視装置の感度補正方法。さらに、照射位置設定装置を備え、前記照射位置設定装置で指令される粒子線のエネルギーとX,Y方向走査電磁石の励磁量をもとに設定される照射位置に基づいて、粒子線を走査して照射対象の前記照射位置に粒子線を照射し、前記照射位置に対応する前記線量監視装置で測定された線量の補正係数を求めるようにした請求項1記載の線量監視装置の感度補正方法。さらに、粒子線の位置モニタを備え、前記位置モニタに照射された粒子線の照射位置を測定して、粒子線の照射対象の前記照射位置を確認するようにした請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の線量監視装置の感度補正方法。前記小型の電離箱は、平行平板型であることを特徴とする請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の線量監視装置の感度補正方法。粒子線の照射対象の前記照射位置が粒子線の進行方向の軸上にあるときの前記線量監視装置の前記補正係数を基準として、粒子線の照射対象の前記照射位置が前記軸上と異なるときの前記線量監視装置の補正係数を、基準とした前記補正係数との比率で求めるようにした請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の線量監視装置の感度補正方法。前記小型の電離箱は、アイソセンタを含み、粒子線の進行方向の軸に垂直な平面上に配置される請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の線量監視装置の感度補正方法。粒子線を走査して照射対象の照射位置に粒子線を照射する粒子線治療装置において、前記粒子線の線量を測定する線量監視装置と、前記線量監視装置を通過する粒子線の線量を測定する前記線量監視装置より小型の電離箱と、前記線量監視装置で測定された照射された粒子線の線量と、前記照射位置と、前記小型の電離箱で測定された前記線量監視装置を通過する粒子線の線量とから、前記小型の電離箱で測定した粒子線の線量を基に、前記照射位置に対応する前記線量監視装置で測定された線量の補正係数を求める計算手段とを備え、前記補正係数に基づき照射線量を調整する粒子線治療装置。さらに、治療計画装置を備え、前記治療計画装置が計画した照射対象の照射位置に基づいて、粒子線を走査して照射対象の前記照射位置に粒子線を照射し、前記照射位置に対応する前記線量監視装置で測定された線量の補正係数を求めるようにした請求項8記載の粒子線治療装置。さらに、照射位置設定装置を備え、前記照射位置設定装置で指令される粒子線のエネルギーとX,Y方向走査電磁石の励磁量をもとに設定される照射位置に基づいて、粒子線を走査して照射対象の前記照射位置に粒子線を照射し、前記照射位置に対応する前記線量監視装置で測定された線量の補正係数を求めるようにした請求項8記載の粒子線治療装置。さらに、粒子線の位置モニタを備え、前記位置モニタに照射された粒子線の照射位置を測定して、粒子線の照射対象の前記照射位置を確認するようにした請求項8~請求項10のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。前記小型の電離箱は、平行平板型であることを特徴とする請求項8~請求項11のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。粒子線の照射対象の前記照射位置が粒子線の進行方向の軸上にあるときの前記線量監視装置の前記補正係数を基準として、粒子線の照射対象の前記照射位置が前記軸上と異なるときの前記線量監視装置の補正係数を、基準とした前記補正係数との比率で求めるようにした請求項8~請求項12のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。前記小型の電離箱は、アイソセンタを含み、粒子線の進行方向の軸に垂直な平面上に配置される請求項8~請求項13のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。前記小型の電離箱は、前記線量監視装置より粒子線の進行方向について上流に設置されることを特徴とする請求項8~請求項13のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。しかしながら、従来の線量監視装置線量モニタにおいては、コレクタ電極に避けられないたわみが発生した場合の対策については、その解決策が講じられていない。線量監視装置において、粒子線の透過窓が小口径の場合は、コレクタ電極のたわみも少なく、たわみによる影響は無視できる程度であったが、大口径になるに従って、コレクタ電極のたわみによる影響が無視できなくなり、線量の測定精度を悪化させる問題が発生してきた。この発明は、前記問題点に鑑み、電極のたわみによる線量の測定精度の悪化に対して、照射対象の照射位置に対応する線量監視装置で測定された線量の補正係数を求めて、線量監視装置の感度を補正する方法及び粒子線治療装置を提供しようとするものである。この発明に係わる線量監視装置の感度補正方法は、粒子線の線量を測定する線量監視装置と、前記線量監視装置を通過する粒子線の線量を測定する前記線量監視装置より小型の電離箱とを有し、粒子線を走査して照射対象の照射位置に粒子線を照射する粒子線治療装置であって、前記線量監視装置で照射された粒子線の線量を測定し、前記線量監視装置を通過する粒子線の線量を前記小型の電離箱で測定して、前記小型の電離箱で測定した粒子線の線量を基に、前記照射位置に対応する前記線量監視装置で測定された線量の補正係数を求めるようにしたものである。この発明に係わる粒子線治療装置は、粒子線を走査して照射対象の照射位置に粒子線を照射する粒子線治療装置において、前記粒子線の線量を測定する線量監視装置と、前記線量監視装置を通過する粒子線の線量を測定する前記線量監視装置より小型の電離箱と、前記線量監視装置で測定された照射された粒子線の線量と、前記照射位置と、前記小型の電離箱で測定された前記線量監視装置を通過する粒子線の線量とから、前記小型の電離箱で測定した粒子線の線量を基に、前記照射位置に対応する前記線量監視装置で測定された線量の補正係数を求める計算手段とを備え、前記補正係数に基づき照射線量を調整するようにしたものである。この発明に係る線量監視装置の感度補正方法及び粒子線治療装置によれば、電極のたわみによる線量の測定精度の悪化に対して、照射対象の照射位置に対応する線量監視装置で測定された線量の補正係数を求めて、線量監視装置の感度を補正するようにしたので、線量監視装置が、走査式照射に必要な比較的大きな照射野においても、照射対象の照射位置において精度の良い線量測定が可能となる。この発明の上記以外の目的、特徴、観点及び効果は、図面を参照する以下のこの発明の詳細な説明から、さらに明らかになるであろう。実施の形態1.図1はこの発明の実施の形態1に係わる線量監視装置が設置される粒子線治療装置を示す概略全体構成図である。図2は実施の形態1に係わる線量監視装置が設置される粒子線治療装置の照射装置を示す構成図である。図1において、入射器16で発生し前段加速された荷電ビーム粒子線は、加速器シンクロトロン14に入射され、必要なビームエネルギーまで加速され、出射デフレクタ17からビーム輸送装置15に出射され、照射装置18に至り、照射対象の照射位置に照射される。ビーム輸送装置15は収束電磁石13と偏向電磁石12を有している。ビーム輸送装置15の一部と照射装置18とは回転ガントリ19に搭載され、回転ガントリ19の図で矢印に示す回転で照射装置18の照射方向を変えことができる。図2は、照射装置18の拡大構成図で、荷電粒子ビームはビーム輸送装置15の偏向電磁石12を経て照射装置18に導入される。荷電粒子ビームはX方向走査指令値励磁量により制御されるX方向走査電磁石20と、Y方向走査指令値励磁量により制御されるY方向走査電磁石21で走査され、ダクトを伸縮させるダクト伸縮手段ベローズ22、真空ダクト23,24を経て、ビームを取出すビーム取出し窓25から出射される。図2では粒子線35がY軸方向に走査される様子を示している。矢印XYZでXYZ軸方向を示している。走査式照射を実現する粒子線治療装置では、通常照射や積層照射と異なり、XY平面上に照射されたスポットに対して線量を制御するため、ビーム取出し窓25の下流には粒子線の線量監視装置26と粒子線の位置を測定する位置モニタ11が配置されている。線量監視装置26と位置モニタ11は粒子線の進行方向の軸に直角に配置されている。なお、各図中で同一符号は同一又は相当部分を示す。図3は実施の形態1に係わる線量監視装置電離箱を示す構成図であり、その動作を合わせて説明する図である。線量監視装置26は、電極支え10に保持されたコレクタ電極27と高圧電極28を有している。コレクタ電極27,高圧電極28は例えばアルミニウムなどの金属薄板で構成されている。コレクタ電極27と高圧電極28間には電源29が接続されている。コレクタ電極27は、例えば0Vであり、高圧電極28は、例えば、-1kV又は-3kVである。コレクタ電極27と電源29間に電流計31が接続されている。線量監視装置26は容器32で被われ、コレクタ電極27と高圧電極28間には、絶縁物33を介在させて電気的絶縁と共に機械的支持をしている。線量監視装置26は、例えば大気開放の電離箱であり、平行平板状の両面に粒子線の透過窓34を有している。図3において、ガス体例えば空気で満たされた線量監視装置26内を粒子線35が通過すると、粒子線35とガス体の分子が衝突して、ガス体が電離される。コレクタ電極27と高圧電極28との間に高圧電源29を用いて電界を印加すると、電離した電子e―がコレクタ電極27に、イオンiが高圧電極28に集極される。電離する電子e―、イオンiの数は通過する粒子線の強度に比例する。粒子線の強度は電流計31で測定された電流により測定される。ところで、走査式照射を実現する粒子線治療装置では、粒子線のスポットサイズは、散乱による増大を少なくすることが望ましい。そのため、線量監視装置26内での散乱の影響を少なくするために、線量監視装置26は、図2において、照射装置18の最下流に近い位置に搭載される。最下流に近い位置であるため、照射装置18の粒子線の照射野は大きくなる。その大きな照射野の粒子線を測定するために、線量監視装置26は、測定有効面積が大きくなる。大きくなると、コレクタ電極27と高圧電極28は全領域において、完全な平行とはならなく、粒子線の強度測定において、無視できないたわみが発生する。図4は線量監視装置26の電極のたわみと粒子線の強度測定の悪化を説明する図である。コレクタ電極27と高圧電極28は、両電極間の電磁圧力や重力によってたわみが発生する。破線は、両電極27,28にたわみがない平行な状態を示している。電極27,28がたわむことにより、粒子線の照射角度以外に、両電極27,28の測定有効面積内の位置XY平面上の位置、例えば、中心と周縁部において、両電極27,28間の距離にばらつきが発生し、その間のガス体の量にばらつきが発生すると想定される。そのため、粒子線の同一強度に対して、測定有効面積内の照射位置において異なった測定値となり、粒子線強度の測定精度が悪化する。図5は実施の形態1における線量監視装置の感度補正方法を説明する図である。線量監視装置26の平面XY面は、その中央部に粒子線の透過窓34が形成されており、粒子線の進行方向の軸Z軸に垂直に配置されている。位置モニタ11は、線量監視装置26の下流に近接して配置され、その平面XY面は、粒子線の進行方向の軸Z軸に垂直に配置されている。なお、位置モニタ11の配置は、照射対象の照射位置を測定換算して測定できる位置であればよく、線量監視装置26の上流側又は線量監視装置26より離間して配置させてもよい。小型の平行平板型電離箱38は、線量監視装置26と位置モニタ11の下流に配置される。小型の平行平板型電離箱38は、粒子線の透過窓が小口径で狭い範囲の測定に適しており、電極のたわみは無視することができ、粒子線の強度に対して精度の高い測定ができる。小型の平行平板型電離箱38としては、例えば、PTW社のIONIZINGRADIAIONの一種として市販されている、商品名:ブラッグピークチェンバーBraggPeakChamberが適しており、粒子線の透過窓がある平板面は、例えば、直径80mm程度であり、例えば、ビームサイズ1σ=5mmと比べて十分大きく、ほとんどの粒子を通過させることができる。ブラッグピークチェンバーの構成は、線量監視装置26XY平面の透過窓、つまり照射野が、例えば、400mm×300mmの大きさを小型にしたものであり、構成は同様である。小型の平行平板型電離箱38は、線量監視装置26の感度補正時に粒子線の照射位置に配置され、感度補正時に所定のXY平面粒子線の進行方向のZ軸に垂直な平面上でその位置を変更してもよく、感度補正後に取り除かれる。線量監視装置26の感度補正方法は、次のように実施する。例えば、治療計画装置が有する照射位置設定装置を用いて、指令した粒子線のエネルギーとX,Y方向走査電磁石の励磁量をもとに設定される照射位置に基づいて、粒子線を走査して照射対象の前記照射位置に粒子線を照射する。図5に示す配置において、初めに、粒子線35を進行方向の軸Z軸上に照射する。粒子線35は、線量監視装置26のXY平面上の原点x=0,y=0と位置モニタ11のXY平面上の原点x=0,y=0を通過し、照射対象の照射位置のXY平面上の原点x=0,y=0に配置された小型の平行平板型電離箱38に達する。このとき、線量監視装置26からは、粒子線の強度に応じた電流が電流計31で得られ、照射対象の前記照射位置に対応するカウント値Dooに換算される。位置モニタ11からは、照射対象の前記照射位置のXY平面上の照射位置0,0が測定換算測定される。小型の平行平板型電離箱38からは、粒子線の強度に応じた電流が電流計図示せずで得られ、照射対象の前記照射位置{照射位置0,0}に対応する小型の平行平板型電離箱38の電荷Cooに換算される。ここで電離箱は電極間に存在するガスの質量によって感度が変化するため、内部の圧力や気温に応じて感度補正を行う必要があるが、線量監視装置26と小型の平行平板電離箱38の両方を大気開放型のものを使用することにより、温度と気圧の影響が相殺されるため、補正を必要とせず、得られた電荷量からのみ演算することが可能となる。小型の平行平板型電離箱38で測定された粒子線の強度電荷は、精度が高いため、その測定値を基準にして、式1を用いて、線量監視装置26の前記照射位置0,0に対応する校正係数補正係数aooを算出する。Cxy=axyDxy1但し、Dxy:照射対象の照射位置x,yに対応する線量監視装置のカウント値axy:照射対象の照射位置x,yに対応する線量監視装置の校正係数Cxy:照射対象の照射位置x,yに対応する小型の平行平板型電離箱の電荷なお、照射対象の照射位置x,yは、照射位置のXY平面上の位置を示す。aoo=Coo/Doo2次に、照射対象の照射位置を替え、線量監視装置26のXY平面上での粒子線の照射位置を替えると共に、小型の平行平板型電離箱38も所定XY平面上で粒子線が照射される位置に替える。ここで、位置モニタ11から、照射対象の前記照射位置のXY平面上の照射位置x,yが測定換算測定される。線量監視装置26からカウント値Dxyを測定し、小型の平行平板型電離箱38から、電荷Cxyを測定する。これらの測定値を式1に代入して、その時の校正係数補正係数axyを式3で得る。axy=Cxy/Dxy3さらに、照射対象の照射位置を替え、線量監視装置26のXY平面上での粒子線の照射位置を他の位置に替えると共に、小型の平行平板型電離箱38も所定XY平面上で粒子線が照射される他の位置に替えることにより、線量監視装置26の他の照射位置における校正計数axyを式3で同様に得ることができる。このようにして、小型の平行平板型電離箱38で測定した粒子線の線量を基に、照射対象の照射位置に対応する線量監視装置で測定された線量の校正係数補正係数を求めることができる。また、照射対象の照射位置が位置0,0における校正計数aooを基準として設定すると、照射対象の他の照射位置x,yにおける補正計数Axyを、基準位置0,0に対する比率として式4で求めることもできる。Ax,y=axy/aoo4このようにして、粒子線の照射対象の照射位置が粒子線の進行方向の軸上にあるときの線量監視装置の校正係数補正係数を基準として、粒子線の照射対象の照射位置が粒子線の進行方向の軸上と異なるときの線量監視装置の補正係数を、基準とした前記校正係数との比率で求めるようにしてもよい。なお、実施の形態1に係わる線量監視装置の感度補正方法を用いた粒子線治療装置のブロック図は、図7,図8に示す。実施の形態2.実施の形態1では、照射位置設定装置を備え、前記照射位置設定装置で指令した粒子線のエネルギーとX,Y方向走査電磁石の励磁量をもとに設定される照射位置に基づいて、粒子線を走査して照射対象の前記照射位置に粒子線を照射したが、同様に、治療計画装置を備え、前記治療計画装置が計画した照射対象の照射位置に基づいて、粒子線を走査して照射対象の前記照射位置に粒子線を照射してもよい。なお、実施の形態2に係わる線量監視装置の感度補正方法を用いた粒子線治療装置のブロック図は、図7,図8に示す。また、照射対象の照射位置の確認には、前述したように、位置モニタ11を用いて、照射対象の照射位置のXY平面上の照射位置x,yを測定測定換算し確認するようにしてもよい。実施の形態3.図6は実施の形態3における線量監視装置の感度補正方法を示す説明図である。線量監視装置26の感度を補正する補正係数は、粒子線治療装置の実際の照射に近い状態で求めることが望ましい。図6では、実施の形態1と同様に、線量監視装置26と位置モニタ11と小型の平行平板型電離箱38を有している。実施の形態3では、回転ガントリ19図1の角度が0度で、アイソセンタ40を含む位置に水ファントム39を配置し、アイソセンタ40を含んで、粒子線の進行方向の軸Z軸に垂直なXY平面36上に、小型の平行平板型電離箱38を配置し、照射位置に移動させている。線量監視装置26の補正係数は、実施の形態1,2と同様に求めることができる。補正係数が求められれば、粒子線治療装置の実際の照射前に、水ファントム39と小型の平行平板型電離箱38は取り除かれる。線量監視装置26の補正係数は、粒子線治療装置の調整時に求めることができ、さらに、定期的に求めるようにしてもよい。実施の形態4.図7は実施の形態4における、線量監視装置の感度補正方法を用いた粒子線治療装置を示すブロック図である。線量監視装置26では照射された粒子線の線量を測定して線量の強度に応じた電流を得る。その電流はI/Fコンバータ41で電流に応じた周波数に変換され、カウンタ42で周波数に応じたカウント値Dに換算され、計算手段44に導入される。位置センサ11では、照射対象の照射位置x,yを測定換算測定する。粒子線の照射対象の照射位置x,yは、実施の形態2で説明した治療計画装置が計画した照射位置より特定でき、計算手段44に導入される。小型の平行平板型電離箱38では、線量監視装置26を通過する粒子線の線量を測定して線量の強度に応じた電流を得、エレクトロメータ43でその電流に応じた電荷Cを得て、計算手段44に導入される。なお、粒子線の照射対象の照射位置x,yは、位置センサ11で換算測定した照射対象の照射位置x,yを用いても良い。粒子線治療装置の調整時に、粒子線治療装置を始動して、初めに、粒子線35を進行方向の軸Z軸上に照射する。粒子線35は、線量監視装置26のXY平面上の原点x=0,y=0と位置モニタ11のXY平面上の原点x=0,y=0を通過し、所定のXY平面上の原点x=0,y=0に配置された小型の平行平板型電離箱38に達する。このとき、線量監視装置26からは、粒子線の強度に応じた電流がI/Fコンバータで周波数に変換された後、カウンタ42でカウントされることにより、照射対象の照射位置0,0に対応するカウント値Dooが測定される。なお、線量監視装置26の一部として、通常I/Fコンバータ41とカウンタ42が備わっている。位置モニタ11からは、照射対象の照射位置であるXY平面上の照射位置0,0が測定される。粒子線の照射対象の照射位置0,0は、治療計画装置が計画した照射位置より特定できる。小型の平行平板型電離箱38からは、粒子線の強度に応じた電流がエレクトロメータ43から得られ、照射対象の照射位置0,0に対応する小型の平行平板型電離箱38の電荷Cooに換算される。これらにより、計算手段44で、粒子線の照射対象の照射位置00に対応する線量監視装置26の校正係数aoo=Coo/Dooを得る。次に、照射対象の照射位置を替え、線量監視装置26のXY平面上での粒子線の照射位置を替えると共に、小型の平行平板型電離箱38も所定XY平面上で粒子線が照射される位置に替える。ここで、同様にして、位置モニタ11から、照射対象の照射位置を測定する。粒子線の照射対象の照射位置x,yは、治療計画装置が計画した照射位置より特定できる。線量監視装置26からカウント値Dxy得、小型の平行平板型電離箱38から電荷Cxyを得る。これらにより、計算手段44で、粒子線の照射対象の照射位置x,yに対応する線量監視装置26の校正係数axy=Cxy/Dxyを得る。また、照射対象の照射位置を他の位置に替え、線量監視装置26のXY平面上での粒子線の照射位置を他の位置に替えると共に、小型の平行平板型電離箱38も所定XY平面上で粒子線が照射される他の位置に替えることにより、粒子線の照射対象の他の照射位置x,yに対応する線量監視装置26の校正計数axyを、計算手段44で、同様に得ることができる。さらに、計算手段44により、照射対象の照射位置が位置0,0に対応する線量監視装置26の校正計数aooを基準として設定し、照射対象の他の照射位置x,yに対応する補正計数Axyを、基準位置0,0に対する校正計数aooの比率として求める。Ax,y=axy/aooこのようにして、計算手段44で求めた、粒子線の照射対象の照射位置毎に対応する線量監視装置26の補正係数Ax,yをデータベース45に格納する。一方、治療計画装置47により患者に対する計画が作成される。計画には各スポットの照射対象の照射位置と投与線量が指定されており、この内の照射位置毎の投与線量について、補正手段48で、データベース45の照射位置毎の補正係数に従って感度補正を行う。実際の治療の際には照射位置毎に感度補正された線量が照射プリセットとして出力され、この照射プリセットに基づいて、粒子線の照射が実施される。照射プリセット値と線量監視装置26で測定された線量に応じた値とをカウンタ42で比較し、線量に応じた値が、照射プリセット値となると、加速器14が制御され、治療照射が終了する。実施の形態5.図8は実施の形態5における、線量監視装置の感度補正方法を用いた粒子線治療装置を示すブロック図である。実施の形態5では、実施の形態4と同様に、治療計画装置47により患者に対する計画が作成される。計画には各スポットの照射対象の照射位置と投与線量が指定されており、この内の照射位置毎の投与線量について、補正手段48で、データベース45の照射位置毎の補正係数に従って感度補正を行う。実際の治療の際には照射位置毎に感度補正された線量が照射プリセットとして出力され、この照射プリセットに基づいて、粒子線の照射が実施される。このとき、位置モニタ11で照射対象の照射位置を測定して、測定した照射位置x,yデータを異常検出器50に入力する。他方、治療計画装置47により作成された各スポットの照射対象の照射位置x,yデータを異常検出器50に入力する。両入力の差異が所定の設定値を超えたときは、異常情報を出力する。このようにして、粒子線の照射位置の異常を検出するようにしてもよい。実施の形態6.実施の形態1では、小型の平行平板型電離箱を線量監視装置の下流に設置する場合について述べたが、小型の平行平板電離箱は線量監視装置の上流に設置してもよい。この場合、粒子線は走査電磁石で走査される前のビーム位置がビーム軸から変動していない状態、又は走査された後、線量監視装置に到達する前の変動幅が線量監視装置の位置よりも小さい状態で小型の平行平板型電離箱にて線量測定されるため、小型の平行平板型電離箱は当然ながら線量監視装置よりも小型にでき、かつビーム軸に直行するXY平面上でビーム位置に合わせて動かす必要がない。そのため、ビーム軸上で固定して使用することができる。実施の形態6の場合、小型の平行平板型電離箱は患部への照射位置アイソセンタには無いため、照射の妨げにはならず、感度補正後に粒子線ラインから取り除く必要がない利点がある。この発明の各種の変形または変更は、関連する熟練技術者が、この発明の範囲と精神を逸脱しない中で実現可能であり、この明細書に記載された各実施の形態には制限されないことと理解されるべきである。"