"ポリビニルアルコール系化合物Aと、前記ポリビニルアルコール系化合物Aと反応しうる官能基を有する架橋性有機化合物B1及び前記ポリビニルアルコール系化合物Aと反応しうる元素を含む架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bとを含有する水系金属表面処理剤。前記架橋性有機化合物B1が、グリシジルエーテル基、イソシアネート基、メチロール基及びアルデヒド基から選ばれる1種以上の官能基を有する、請求項1に記載の水系金属表面処理剤。前記架橋性無機化合物B2が、Mg、Al、Ca、Mn、Co、Ni、CrIII、Zn、Fe、Zr、Ti、Si、Sr、W、Ce、Mo、V、Sn、Bi、Ta、Te、In、Ba、Hf、Se、Sc、Nb、Cu、Y、Nd及びLaから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む、請求項1又は2に記載の水系金属表面処理剤。請求項1~3のいずれか1項に記載の水系金属表面処理剤を金属材料表面に塗布して形成された表面処理皮膜を有することを特徴とする金属材料。本発明の目的は、金属材料とラミネートフィルム又は樹脂塗膜とが剥離することを防ぐことができる密着性及び耐薬品密着維持性に優れた表面処理皮膜を形成するための水系金属表面処理剤を提供すること及びその金属表面処理剤で処理してなる金属材料を提供することにある。詳しくは、金属材料に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、そのラミネートフィルム又は樹脂塗膜が剥離しないような高い密着性を有するとともに、酸等に曝されても高い密着性を維持し得る耐薬品密着維持性に優れた6価クロムフリー表面処理皮膜を形成するための金属表面処理剤を提供すること及びその金属表面処理剤で処理してなる金属材料を提供することにある。上記課題を解決するための本発明に係る水系金属表面処理剤は、ポリビニルアルコール系化合物Aと、前記ポリビニルアルコール系化合物Aと反応しうる官能基を有する架橋性有機化合物B1及び前記ポリビニルアルコール系化合物Aと反応しうる元素を含む架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bとを含有することを特徴とする。この発明によれば、ポリビニルアルコール系化合物Aと上記した架橋性化合物Bとを含有するので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は、高い密着性を有するとともに、酸等に曝されても高い密着性を維持することができる。その結果、金属材料に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに酸や有機溶剤等に曝された場合であっても、そのラミネートフィルム又は樹脂塗膜が金属材料から剥離することを防ぐことができる。本発明に係る水系金属表面処理剤において、前記架橋性有機化合物B1が、グリシジルエーテル基、イソシアネート基、メチロール基及びアルデヒド基から選ばれる1種以上の官能基を有する。この発明によれば、架橋性有機化合物B1が上記した官能基を有するので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は、より密着性が優れ、また、有機溶剤や酸に曝されても長期間にわたってより安定した密着性を維持することができる。本発明に係る水系金属表面処理剤において、前記架橋性無機化合物B2が、Mg、Al、Ca、Mn、Co、Ni、CrIII、Zn、Fe、Zr、Ti、Si、Sr、W、Ce、Mo、V、Sn、Bi、Ta、Te、In、Ba、Hf、Se、Sc、Nb、Cu、Y、Nd及びLaから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む。この発明によれば、架橋性無機化合物B2が上記した元素を含むので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は、より密着性が優れ、また、有機溶剤や酸に曝されても長期間にわたってより安定した密着性を維持することができる。上記課題を解決するための本発明に係る金属材料は、本発明に係る水系金属表面処理剤を塗布して形成された表面処理皮膜を有することを特徴とする。この発明によれば、上記本発明に係る水系金属表面処理剤を塗布して形成された表面処理皮膜を有するので、その表面処理皮膜を有する金属材料にラミネート加工を施し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、さらに酸等に曝された場合であっても、金属材料の表面に形成されたラミネートフィルム又は樹脂塗膜が剥離することを防ぐことができる。本発明に係る水系金属表面処理剤によれば、金属材料とラミネートフィルム又は樹脂塗膜とが剥離することを防ぐことができる密着性及び耐薬品密着維持性に優れた表面処理皮膜を形成するための水系金属表面処理剤を提供することができる。本発明に係る金属材料によれば、そのような表面処理皮膜を有する金属材料を提供することができる。以下、本発明に係る水系金属表面処理剤及びその金属表面処理剤を金属材料の表面に塗布して形成された表面処理皮膜を有する金属材料について説明する。なお、以下の説明及び図面の形態により本発明の技術的範囲が限定されるものではない。[水系金属表面処理剤]本発明に係る水系金属表面処理剤は、図1に示すように、基材である金属材料1以下、基材金属1という。の表面に、ラミネートフィルム又は樹脂塗膜3の下地用の表面処理皮膜2を形成するための処理剤である。その特徴は、ポリビニルアルコール系化合物Aと、架橋性有機化合物B1及び架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bとを含有することにある。含有するとは、水系金属表面処理剤中にポリビニルアルコール系化合物A及び架橋性化合物B以外の化合物を含んでいてもよいことを意味している。そうした化合物としては、例えば、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、防菌防ばい剤、着色剤等を挙げることができる。これらの化合物を、本発明の趣旨及び皮膜性能を損なわない範囲で含有することができる。以下、本発明の構成を詳しく説明する。ポリビニルアルコール系化合物Aポリビニルアルコール系化合物Aは、ポリビニルアルコール及びその誘導体から選ばれる1種又は2種以上の化合物である。ポリビニルアルコール系化合物Aと架橋性化合物Bとを含むことによって、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性を高めることができる。ポリビニルアルコール及びその誘導体としては、ポリ酢酸ビニルの鹸化物や、酢酸ビニルと他のモノマーとの共重合物の鹸化物等を用いることができる。この鹸化物は、部分鹸化物であってもよいし、完全鹸化物であってもよい。酢酸ビニルと共重合される他のモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マイレン酸及びこれらの塩等のアニオン性コモノマー;スチレン、アクリロニトリル、ビニルエーテル、メタアクリルアミド、N-メチロールメタアクリルアミド、メチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレート、ビニルピロリドン、アクロイルモルホリン、酢酸ビニル等のノニオン性コモノマー;アミノエチルメタアクリレート、N-ヒドロキシプロピルアミノエチルメタアクリレート、ビニルイミダゾール、N,N-ジメチルジアリルアミン等のカチオン性コモノマー;を挙げることができる。また、上記のポリビニルアルコールおよびその誘導体にをジケテンと反応させる事によりアセトアセチル化させたものであっても良い。ポリビニルアルコール系化合物Aの含有量は、水系金属表面処理剤に含まれる全固形分に対して、10質量~90質量であることが好ましく、10質量~80質量であることがより好ましく、20質量~80質量であることが特に好ましい。10質量~90質量とすることで、得られる表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性をより高めることができる。なお、全固形分とは、水系金属表面処理剤を構成する成分のうち、溶剤等の揮発成分等を除いた固形分のことであり、具体的には、ポリビニルアルコール系化合物Aと、架橋性有機化合物B1及び架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bとの合計量のことである。したがって、ポリビニルアルコール系化合物Aの含有量は、ポリビニルアルコール系化合物Aと架橋性化合物Bとの合計量全固形分に対して10質量~90質量であることが好ましく、10質量~80質量であることがより好ましく、20質量~80質量であることが特に好ましい。架橋性化合物B架橋性化合物Bは、架橋性有機化合物B1及び架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の化合物である。水系金属表面処理剤が架橋性化合物Bを含むことによって、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性を高めることができる。架橋性有機化合物B1架橋性有機化合物B1は、ポリビニルアルコールAと反応しうる官能基を有する化合物である。反応しうるとは、ポリビニルアルコールAと接触してそれらに反応することができるという意味である。有するとは、これらの官能基以外に他の官能基や結合単位を有していてもよいという意味である。架橋性有機化合物B1としては、例えば、グリシジルエーテル基、イソシアネート基、メチロール基及びアルデヒド基から選ばれる1種又は2種以上を有する有機化合物を挙げることができる。グリシジルエーテル基を有する有機化合物としては、従来公知の多価グリシジルエーテル化合物を用いることができる。多価グリシジルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールリグリシジルエーテル、ポリグリセロールトリグリシジルエーテル、ペンタエリトリトールテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル等を挙げることができる。イソシアネート基を有する有機化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネートの異性体類;4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類;キシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ジイソシアネート類;イソホロンジイソシアネート、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類;等を挙げることができる。これらのイソシアネート化合物は、特に限定されないが、水系金属表面処理剤の安定性の点から、各種ブロック剤でブロック化したイソシアネート化合物を用いることが好ましい。ブロック剤としては、例えば、フェノール系、アルコール系、オキシム系、活性メチレン系、酸アミド系、カルバミン酸塩系、亜硫酸塩系等の各種ブロック剤を挙げることができる。メチロール基を有する有機化合物としては、例えば、レゾール型フェノール樹脂、メチロールメラミン、N-メチロールアクリルアミドモノマーの単独重合体、N-メチロールアクリルアミドモノマーと他のモノマーとの共重合体等を挙げることができる。アルデヒド基を有する有機化合物としては、例えば、グリオキサール、マロンジアルデヒド、サクシンジアルデヒド、グルタルジアルデヒド、アジピンジアルデヒド、ヘプタンジアール等のジアルデヒド化合物や、三つ以上のアルデヒド基を有する化合物等を挙げることができる。架橋性無機化合物B2架橋性無機化合物B2は、ポリビニルアルコール系化合物Aと反応しうる元素を含む化合物である。反応しうるとは、ポリビニルアルコール系化合物Aと接触してそれらに反応することができるという意味である。含むとは、これらの元素以外に他の元素を有していてもよいことを意味している。架橋性無機化合物B2としては、例えば、Mg、Al、Ca、Mn、Co、Ni、CrIII、Zn、Fe、Zr、Ti、Si、Sr、W、Ce、Mo、V、Sn、Bi、Ta、Te、In、Ba、Hf、Se、Sc、Nb、Cu、Y、Nd及びLaから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む無機化合物を用いることができる。中でも、Mg、Al、Ca、Mn、CrIII、Zn、Fe、Zr、Ti、Si、Ce、Te及びHfから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む無機化合物がより好ましく、CrIII、Zr、Ti、Si、Ce及びTeから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む無機化合物がさらに好ましい。具体的には、Mg、Al、Ca、Mn、Co、Ni、CrIII、Zn、Fe、Zr、Ti、Si、Sr、W、Ce、Mo、V、Sn、Bi、Ta、Te、In、Ba、Hf、Se、Sc、Nb、Cu、Y、Nd及びLaから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む塩、錯化合物又は金属水和酸化物以下、塩等ともいう。を挙げることができる。より具体的には、ビスアセチルアセトナトジアクアマグネシウムII、アルミン酸マグネシウム、安息香酸マグネシウム、蟻酸マグネシウム、蓚酸マグネシウム、タングステン酸マグネシウム、メタニオブ酸マグネシウム、ホウ酸マグネシウム、モリブデン酸マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、ニリン酸マグネシウム、硝酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、リン酸アンモニウムマグネシウム、リン酸水素マグネシウム、酸化マグネシウム等のマグネシウム塩等;硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、硫酸カリウムアルミニウム、硫酸ナトリウムアルミニウム、硫酸アンモニウムアルミニウム、リン酸アルミニウム、炭酸アルミニウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、フッ化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、酢酸アルミニウム、安息香酸アルミニウム、クエン酸アルミニウム、グルコン酸アルミニウム、セレン酸アルミニウム、蓚酸アルミニウム、酒石酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、パルチミン酸アルミニウム等のアルミニウム塩等;ビスアセチルアセトナトジアクアカルシウムII、安息香酸カルシウム、クエン酸カルシウム、メタスズ酸カルシウム、セレン酸カルシウム、タングステン酸カルシウム、炭酸カルシウム、四ホウ酸カルシウム、モリブデン酸カルシウム、マレイン酸カルシウム、リンゴ酸カルシウム、ニリン酸カルシウム、フッ化カルシウム、ホスフィン酸カルシウム、硝酸カルシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、シュウ酸カルシウム、酸化カルシウム、酢酸カルシウム等のカルシウム塩等;ビスアセチルアセトナトジアクアマンガンII、四酸化三マンガン、酸化マンガンII、酸化マンガンIII、酸化マンガンIV、臭化マンガンII、蓚酸マンガンII、過マンガン酸VII、過マンガン酸カリウムVII、過マンガン酸ナトリウムVII、リン酸二水素マンガンII、硝酸マンガンII、硫酸マンガンII、硫酸マンガンIII、硫酸マンガンIV、フッ化マンガンII、フッ化マンガンIII、炭酸マンガンII、酢酸マンガンII、酢酸マンガンIII、硫酸アンモニウムマンガンII、ヨウ化マンガンII、水酸化マンガンII等のマンガン塩等又はマンガン酸塩等;ビスアセチルアセトナトジアクアコバルトII、トリスアセチルアセトナトコバルトIII、スルファミン酸コバルトII、塩化コバルトII、クロロペンタアンミンコバルト塩化物III、ヘキサアンミンコバルト塩化物III、ジアンミンテトラニトロコバルトIII酸アンモニウム、硫酸コバルトII、硫酸アンモニウムコバルト、硝酸コバルトII、酸化コバルト二アルミニウム、水酸化コバルトII、酸化コバルトII、リン酸コバルト、酢酸コバルトII、蟻酸コバルトII、四酸化三コバルト、臭化コバルトII、蓚酸コバルトII、セレン酸コバルトII、タングステン酸コバルトII、ヒドロキシ炭酸第一コバルトII、モリブデン酸コバルトII、ヨウ化コバルトII、リン酸コバルトII等のコバルト塩等;二スルファミン酸ニッケルII、安息香酸ニッケルII、硝酸ニッケルII、硫酸ニッケルII、炭酸ニッケルII、ニッケルアセチルアセトネートII、塩化ニッケルII、ヘキサアンミンニッケル塩化物、酸化ニッケル、水酸化ニッケルII、酸化ニッケルII、酢酸ニッケル、クエン酸ニッケルII、コハク酸ニッケルII、臭化ニッケルII、蓚酸ニッケルII、酒石酸ニッケルII、セレン酸ニッケルII、ヒドロキシ炭酸ニッケルII、乳酸ニッケルII、モリブデン酸ニッケルII、ヨウ化ニッケルII、二リン酸ニッケルII等のニッケル塩等;蟻酸クロムIII、フッ化クロムIII、硝酸クロムIII、硫酸クロムIII、蓚酸クロムIII、酢酸クロムIII、重燐酸クロムIII、水酸化クロムIII、酸化クロムIII、臭化クロムIII、ヨウ化クロムIII等のクロム塩等;ビスアセチルアセトナト亜鉛II、安息香酸亜鉛II、ヒドロキシ塩化亜鉛II、蟻酸亜鉛II、クエン酸亜鉛II、臭化亜鉛II、蓚酸亜鉛II、酒石酸亜鉛II、メタスズ酸亜鉛II、セレン酸亜鉛II、タングステン酸亜鉛II、フッ化亜鉛II、モリブデン酸亜鉛II、酪酸亜鉛II、ニリン酸亜鉛II、硫酸亜鉛II、炭酸亜鉛II、塩化亜鉛II、ヨウ化亜鉛II、水酸化亜鉛II、酸化亜鉛II等の亜鉛塩等;ビスアセチルアセトナトジアクア鉄II、トリスアセチルアセトナト鉄III、三蓚酸鉄三カリウム、蟻酸鉄II、四バナジン酸鉄III、臭化鉄III、酒石酸鉄III、乳酸鉄II、フッ化鉄II、フッ化鉄III、塩化鉄II、塩化鉄III、ヨウ化鉄II、ヨウ化鉄III、硫酸鉄II、硫酸鉄III、硝酸鉄II、硝酸鉄III、酢酸鉄II、酢酸鉄III、クエン酸鉄IIクエン酸鉄III、グリシン鉄II、グリシン鉄III、蓚酸鉄II、蓚酸鉄III、ピコリン酸鉄II、ピコリン酸鉄III、L-フェニルアラニン鉄II、L-フェニルアラニン鉄III、マロン酸鉄II、マロン酸鉄III、水酸化鉄II、水酸化鉄III、酸化鉄II、酸化鉄III、四酸化三鉄等の鉄塩等;ビスアセチルアセトナトジアクアストロンチウムII、蟻酸ストロンチウムII、クエン酸ストロンチウムIIタングステン酸ストロンチウム、メタスズ酸ストロンチウム、酸化ストロンチウムIV、酸化ストロンチウムII、蓚酸ストロンチウム、メタニオブ酸ストロンチウム、モリブデン酸ストロンチウム、ヨウ化ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、硫酸ストロンチウム、炭酸ストロンチウム、酢酸ストロンチウム、塩化ストロンチウム、リン酸ストロンチウム、乳酸ストロンチウム等のストロンチウム塩等;オキシ二蓚酸チタン二アンモニウム、オキシ二蓚酸チタン二カリウム、酸化チタンII、酸化チタンIII、酸化チタンIV、オキシ硫酸第二チタン、塩基性リン酸チタン、臭化チタンIV、メタチタン酸、メタチタン酸亜鉛II、チタン酸アルミニウムIII、メタチタン酸カリウム、メタチタン三コバルトII、チタン酸ジルコニウム、メタチタン酸ストロンチウム、メタチタン三鉄III、メタチタン酸銅II、チタン酸ナトリウム、二チタン酸ネオジムIII、メタチタン酸バリウム、メタチタン酸ビスマスIII、メタチタン酸マグネシウム、チタン酸マグネシウム、メタチタン酸マンガンII、二チタン酸ランタンIII、メタチタン酸リチウム、ヘキサフルオロチタンIV酸アンモニウム、ヘキサフルオロチタンIV酸カリウム、ヨウ化チタンIV、硫酸チタンIII、硫酸チタンIV、塩化チタン、硝酸チタン、硫酸チタニル、フッ化チタンIII、フッ化チタンIV、ヘキサフルオロチタン酸、乳酸チタン、ペルオキソチタン酸、チタンラウレート、チタニウムアセチルアセトネート、水酸化チタンIV等のチタン塩等又はチタン酸塩等;テトラキスアセチルアセトナトジルコニウムIV、塩化酸化ジルコニウムIV、塩化ジルコニウムIV、ケイ酸ジルコニウム、酢酸酸化ジルコニウムIV、酸化ジルコニウムIV、硝酸酸化ジルコニウムIV、メタジルコニウム酸セシウム、メタジルコニウム酸リチウム、メタジルコニウム酸亜鉛II、メタジルコニウム酸アルミニウムIII、メタジルコニウム酸カルシウム、メタジルコニウム酸コバルトII、メタジルコニウム酸ストロンチウム、メタジルコニウム酸銅II、メタジルコニウム酸ナトリウム、メタジルコニウム酸ニッケルII、メタジルコニウム酸バリウム、メタジルコニウム酸ビスマスIII、メタジルコニウム酸マグネシウム、オキシ炭酸ジルコニウム、ヘキサフルオロジルコニウムIV酸アンモニウム、ヘキサフルオロジルコニウムIV酸カリウム、ヨウ化ジルコニウム、リン酸二水素酸化ジルコニウムIV、塩基性炭酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウムアンモニウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、硫酸ジルコニウムIV、硫酸ジルコニル、ヘキサフルオロジルコニウム酸、オキシリン酸ジルコニウム、ピロリン酸ジルコニウム、リン酸二水素ジルコニル、オキシ塩化ジルコニウム、フッ化ジルコニウム、酢酸ジルコニル、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム等のジルコニウム塩等;ヘキサフルオロケイ酸、シリカ等のケイ酸塩等;塩化タングステンVI、酸化タングステン酸鉄III、塩化タングステンVI、オキシ二塩化タングステン、二酸化タングステン、三酸化タングステン、メタタングステン酸、メタタングステン酸アンモニウム、メタタングステン酸ナトリウム、パラタングステン酸、パラタングステン酸アンモニウム、パラタングステン酸ナトリウム、タングステン酸亜鉛II、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸コバルトII、タングステン酸ストロンチウム、タングステン酸セシウム、タングステン酸銅II、タングステン酸ニッケル、タングステン酸バリウム、タングステン酸マグネシウム、タングステン酸マンガンII、タングステン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム等のタングステン塩等又はタングステン酸塩等;トリスアセチルアセトナトセリウムIII、塩化セリウムIII、酸化セリウムIII、酸化セリウムIV、臭化セリウムIII、蓚酸セリウムIII、水酸化セリウムIV、硫酸第二セリウムアンモニウムIV、硫酸第一セリウムアンモニウムIII、炭酸セリウムIII、硫酸セリウム、酢酸セリウムIII、硝酸セリウムIII、硫酸セリウムIV、フッ化セリウムIII、ヨウ化セリウムIII、リン酸セリウムIII等のセリウム塩等;塩化モリブデンV、酸化モリブデンIV、酸化モリブデンVI、モリブデン酸亜鉛II、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸カルシウム、モリブデン酸コバルトII、モリブデン酸セシウム、モリブデン酸ニッケルII、モリブデン酸バリウム、モリブデン酸ビスマスIII、モリブデン酸マグネシウム、モリブデン酸リチウム、パラモリブデン酸リチウム、モリブデン酸ストロンチウム、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸、モリブデン酸アンモニウム、パラモリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸ナトリウム等のモリブデン塩等又はモリブデン酸塩等;オキシ二塩化バナジウム、オキシ三塩化バナジウム、三塩化バナジウム、酸化バナジウム、四バナジン酸鉄III、臭化バナジウムIII、オキシ蓚酸バナジウム、ヨウ化バナジウムII、五酸化バナジウム、メタバナジン酸、ピロバナジン酸ナトリウム、バナジン酸ナトリウム、メタバナジン酸アンモニウム、メタバナジン酸ナトリウム、メタバナジン酸カリウム、オキシ三塩化バナジウム、三酸化バナジウム、二酸化バナジウム、オキシ硫酸バナジウム、バナジウムオキシアセチルアセテート、バナジウムアセチルアセテート、リンバナドモリブデン酸等のバナジウム塩等又はバナジン酸塩等;塩化スズII、酢酸スズII、蓚酸スズII、酒石酸スズII、酸化スズIV、硝酸スズ、硫酸スズ、フッ化スズII、ヨウ化スズII、ヨウ化スズIV、ピロリン酸スズII、メタスズ酸、メタスズ酸亜鉛、メタスズ酸カルシウム、メタスズ酸ストロンチウム、メタスズ酸バリウム、メタスズ酸マグネシウム等のスズ塩又はスズ酸塩等;安息香酸ビスマスIII、塩化酸化ビスマスIII、クエン酸ビスマスIII、オキシ酢酸ビスマスIII、酸化酒石酸ビスマスIII、酸化ビスマスIII、オキシ硫酸二ビスマス、臭化ビスマスIII、酒石酸ビスマスIII、水酸化ビスマスIII、オキシ炭酸二ビスマス、ジルコニウム酸ビスマスIII、オキシ硝酸ビスマス、四チタン酸ビスマスIII、三チタン酸ビスマスIII、フッ化ビスマスIII、モリブデン酸ビスマスIII、ヨウ化ビスマスIII、硝酸ビスマスIII、塩化ビスマスIII、硫酸ビスマスIII、酢酸ビスマスIII、リン酸ビスマスIII等のビスマス塩等;塩化タンタルV、酸化タンタルV、臭化タンタルV、タンタル酸、六タンタル酸カリウム、メタタンタル酸ストロンチウム、メタタンタル酸ナトリウム、メタタンタル酸リチウム、ヨウ化タンタルV、タンタルオキシアセチルアセトネート、メタタンタル酸、メタタンタル酸アンモニウム、ヘプタフルオロタンタル酸カリウム等のタンタル塩等又はタンタル酸塩等;テルル酸、メタテルル酸アンモニウム、メタテルル酸カリウム、メタテルル酸ナトリウム、ヨウ化テルルIV、テルル酸カリウム、テルル酸ナトリウム、亜テルル酸、亜テルル酸カリウム、亜テルル酸ナトリウム、亜テルル酸バリウム、亜テルル酸リチウム、塩化テルルIV、酸化テルルIV、臭化テルルIV、水酸化硝酸三酸化二テルル、亜テルル酸亜鉛等のテルル塩等又はテルル酸塩等;トリスアセチルアセトナトインジウムIII、アミド硫酸インジウムIII、二塩化インジウム、塩化インジウムI、塩化インジウムIII、酢酸インジウムIII、臭化インジウムIII、ヨウ化インジウムIII、硝酸インジウムIII、硫酸インジウムIII、フッ化インジウムIII、酸化インジウムIII、水酸化インジウムIII等のインジウム塩等;ビスアセチルアセトナトジアクアバリウムII、亜セレン酸バリウム、亜テルル酸バリウム、安息香酸バリウム、アルミン酸バリウム、塩化バリウム、蟻酸バリウム、クエン酸バリウム、酸化バリウム、臭化バリウム、蓚酸バリウム、酒石酸バリウム、メタジルコニウム酸バリウム、水酸化バリウム、メタスズ酸バリウム、タングステン酸バリウム、メタチタン酸バリウム、メタニオブ酸バリウム、乳酸バリウム、メタホウ酸バリウム、モリブデン酸バリウム、ヨウ化バリウム、リン酸水素バリウム、炭酸バリウム、フッ化バリウム等のバリウム塩等;テトラキスアセチルアセトナトハフニウムIV、塩化ハフニウムIV、酸化ハフニウムIV、ヨウ化ハフニウムIV、硫酸ハフニウムIV、硝酸ハフニウムIV、オキシ蓚酸ハフニウムIV、フルオロハフニウム酸、フルオロハフニウム酸塩、フッ化ハフニウム等のハフニウム塩等又はハフニウム酸塩等;亜セレン酸カリウム、亜セレン酸水素カリウム、亜セレン酸三水素セシウム、亜セレン酸水素ナトリウム、亜セレン酸水素リチウム、亜セレン酸銅II、亜セレン酸ナトリウム、亜セレン酸バリウム、オキシ塩化セレン、塩化セレンI、塩化セレンIV、酸化セレンIV、セレン酸アルミニウム、セレン酸、亜セレン酸亜鉛、セレン酸カリウム、セレン酸アンモニウム、セレン酸カルシウム、セレン酸セシウム、セレン酸コバルト、セレン酸銅II、セレン酸ニッケル、セレン酸ナトリウム、セレン酸バリウム、セレン酸亜鉛等のセレン塩等又はセレン酸塩等;塩化スカンジウムIII、蟻酸スカンジウムIII、酢酸スカンジウムIII、硝酸スカンジウムIII、酸化スカンジウムIII、フッ化スカンジウムIII、ヨウ化スカンジウムIII、硫酸スカンジウムIII等のスカンジウム塩等;酸化ニオブII、酸化ニオブV、五蓚酸水素ニオブ、水酸化ニオブV、ニオブオキシアセチルアセトネート、メタニオブ酸、メタニオブ酸カルシウム、メタニオブ酸ストロンチウム、メタニオブ酸バリウム、メタニオブ酸マグネシウム、メタニオブ酸リチウム、メタニオブ酸アンモニウム、メタニオブ酸ナトリウム、五塩化ニオブ等のニオブ塩等又はニオブ酸塩等;アミド硫酸銅II、安息香酸銅II、テトラアンミン銅II硝酸塩、クエン酸銅II、酸化銅I、臭化銅I、蓚酸銅II、蟻酸銅II、酢酸銅II、プロピオン酸銅II、吉草酸銅II、グルコン酸銅II、酒石酸銅II、塩化銅II、臭化銅II、水酸化銅II、酢酸銅II、硝酸銅II、硫酸銅II、炭酸銅II、酸化銅II、ヒドロキシ硝酸第二銅、タングステン酸銅II、炭酸水酸化銅II、乳酸銅II、フッ化銅II、ヨウ化銅I等の銅塩等;トリスアセチルアセトナトイットリウムIII、塩化イットリウムIII、蟻酸イットリウムIII、クエン酸イットリウムIII、酢酸イットリウムIII、酸化イットリウムIII、蓚酸イットリウムIII、硝酸イットリウムIII、炭酸イットリウムIII、フッ化イットリウムIII、ヨウ化イットリウムIII、硫酸イットリウムIII、リン酸イットリウムIII等のイットリウム塩等;トリスアセチルアセトナトランタンIII、塩化ランタンIII、蟻酸ランタンIII、酢酸ランタンIII、酸化ランタンIII、蓚酸ランタンIII、硝酸ランタンIII、炭酸ランタンIII、フッ化ランタンIII、二チタン酸ランタンIII、硫酸ランタンIII、リン酸ランタンIII、ヨウ化ランタンIII等のランタン塩等;トリスアセチルアセトナトネオジムIII、塩化ネオジムIII、蟻酸ネオジムIII、酢酸ネオジムIII、酸化ネオジムIII、臭化ネオジムIII、蓚酸ネオジムIII、硝酸ネオジムIII、炭酸ネオジムIII、二チタン酸ネオジムIII、フッ化ネオジムIII、ヨウ化ネオジムIII、硫酸ネオジムIII、リン酸ネオジムIII等のネオジウム塩等;を挙げることができる。これらの化合物は無水物であってもよいし、水和物であってもよい。また、単独で使用してもよいし、2種以上組み合わせて使用してもよい。さらに、水系金属表面処理剤溶剤中に溶解していてもよいし、分散していてもよい。架橋性有機化合物B1及び架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bの含有量の総計B=B1B2は、水系金属表面処理剤に含まれる全固形分に対して、10質量~90質量とすることが好ましく、20質量~90質量とすることがより好ましく、30質量~85質量とすることが特に好ましい。架橋性化合物Bの含有量が10質量~90質量の範囲にあると、その水系金属処理剤で処理して得られる表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性がさらに向上する。溶剤本発明に係る水系金属表面処理剤は、金属材料表面に塗布する際の作業性を良くするために、必要に応じて各種の溶剤を含有することができる。溶剤としては、例えば、水;ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶剤;ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤;エタノール、1-ブタノール、エチルセロソルブ等のアルコール系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブトキシエチル等のエステル系溶剤;ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等のアミド系溶剤;ジメチルスルホキシド等のスルホン系溶剤;ヘキサメチルリン酸トリアミド等のリン酸アミド系溶剤;等が挙げられる。これらの溶剤は、上記各溶剤のうち1種類を用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。このうち、環境上、経済上有利である理由から、水が好ましい。その他の添加剤本発明に係る水系金属表面処理剤は、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、防菌防ばい剤、着色剤等を、本発明の趣旨及び皮膜性能を損なわない範囲で含有することができる。水系金属表面処理剤の調製方法本発明に係る水系金属表面処理剤の製造方法は、特に限定されない。例えば、ポリビニルアルコール系化合物Aと架橋性化合物Bは、任意に含まれる添加剤及び任意に含まれる溶媒等と混ぜ、混合ミキサー等の攪拌機を用いて十分に混合することによって調製することができる。[金属材料]本発明に係る金属材料10は、図1に示すように、基材金属1と、その表面に本発明に係る水系金属表面処理剤を塗布して形成された表面処理皮膜2を有する。塗布とは、後述する塗布工程によって、基材金属1の表面に水系金属表面処理剤を塗ることをいう。有するとは、基材金属1及び表面処理皮膜2以外に他の構成を有していてもよいことを意味している。例えば、表面処理皮膜2の上にラミネート加工によって形成された樹脂フィルム3を有していてもよい。表面処理皮膜2は、上記した本発明に係る水系金属表面処理剤を基材金属1に塗布して形成されるので、密着性及び耐薬品密着維持性に優れている。金属材料10は、そのような表面処理皮膜2を有するので、表面処理皮膜2の上に樹脂フィルム3又は樹脂塗膜3を形成した後、深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに酸等に曝された場合であっても、樹脂フィルム3又は樹脂塗膜3が金属材料10から剥離することを防ぐことができる。なお、図1では、基材金属1の一方の表面に、表面処理皮膜2と、樹脂フィルム3又は樹脂塗膜3とを形成した例を示しているが、基材金属1の両面に、すなわち他方の表面にも表面処理皮膜2を形成し、さらに樹脂フィルム3又は樹脂塗膜3を設けてもよい。基材金属1の種類は、特に限定されず、各種のものを適用できる。例えば、食品用缶のボディー又は蓋材、食品用容器、乾電池容器、2次電池の外装材等に適用可能な金属材料を挙げることができるが、これらに限定されず、広い用途に応用可能な金属材料を用いることができる。特に、携帯電話、電子手帳、ノート型パソコン又はビデオカメラ等に用いられるモバイル用リチウムイオン2次電池の外装材、電気自動車又はハイブリッド自動車の駆動エネルギーとして用いるリチウムイオン2次電池の外装材として利用可能な金属材料を挙げることができる。これらの金属材料のうち、その表面に表面処理皮膜を形成することができ、さらに表面処理皮膜の上に樹脂フィルムをラミネート等することができ、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施すことができる金属材料を好ましく用いることができる。そうした金属材料としては、例えば、純銅、銅合金等の銅材料、純アルミニウム、アルミニウム合金等のアルミニウム材料、普通鋼、合金鋼等の鉄材料、純ニッケル、ニッケル合金等のニッケル材料等を挙げることができる。銅合金としては、銅を50質量以上含有するものが好ましく、例えば、黄銅等を用いることができる。銅合金における銅以外の合金成分としては、例えば、Zn、P、Al、Fe、Ni等を挙げることができる。アルミニウム合金としては、アルミニウムを50質量以上含有するものが好ましく、例えば、Al-Mg系合金等を用いることができる。アルミニウム合金におけるアルミニウム以外の合金成分としては、例えば、Si、Fe、Cu、Mn、Cr、Zn、Ti等を挙げることができる。合金鋼としては、鉄を50質量以上含有するものが好ましく、例えば、ステンレス鋼等を用いることができる。合金鋼における鉄以外の合金成分としては、例えば、C、Si、Mn、P、S、Ni、Cr、Mo等を挙げることができる。ニッケル合金としては、ニッケルを50質量以上含有するものが好ましく、例えば、Ni-P合金等を用いることができる。ニッケル合金におけるニッケル以外の合金成分としては、例えば、Al、C、Co、Cr、Cu、Fe、Zn、Mn、Mo、P等を挙げることができる。基材金属1は、上記した金属材料以外の金属材料、セラミックス材料又は有機材料の表面に、上記した金属元素を含む皮膜を形成したものであってもよい。そのような金属皮膜は、例えば、めっき、蒸着、クラッド等の手法により形成することができる。また、基材金属1の形状、構造等は特に限定されず、例えば、板状又は箔状の金属材料を用いることができる。以上説明したように、本発明に係る水系金属表面処理剤によれば、上記したポリビニルアルコール系化合物Aと、上記した架橋性有機化合物B1及び上記した架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bとを含むので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜が高い密着性を有するとともに、酸等に曝されても高い密着性を維持することができる。その結果、表面処理皮膜が形成された金属材料に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、さらに酸や有機溶剤等に曝された場合であっても、そのラミネートフィルム又は樹脂塗膜が金属材料から剥離することを防ぐことができる。[表面処理方法]水系金属表面処理剤を用いた金属表面の処理方法は、水系金属表面処理剤を基材金属の表面に塗布する塗布工程と、塗布工程の後、水洗することなく乾燥し、表面処理皮膜を形成する乾燥工程とによって形成することができる。塗布工程塗布工程は、水系金属表面処理剤を基材金属の表面に塗布する工程である。塗布する方法は、特に限定されず、例えば、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、カーテンコート、スピンコート、又はこれらを組み合わせた方法を用いることができる。水系金属表面処理剤の使用条件は、特に限定されない。例えば、塗布する際の水系金属表面処理剤及び金属材料の温度は、10°C~90°Cであることが好ましく、20°C~60°Cであることがより好ましい。温度が60°C以下であると、無駄なエネルギーの使用を抑制することができる。また、塗布する時間及び塗布する量は、得られる表面処理皮膜の求められる膜厚に応じて適宜設定することができる。乾燥工程乾燥工程は、塗布工程後、水洗することなく乾燥し、表面処理皮膜を形成する工程である。乾燥温度は、使用する溶剤に合わせた温度とすることができる。例えば、水を溶剤として用いた場合には、50°C~260°Cの範囲であることが好ましい。乾燥装置は特に限定されないが、バッチ式、連続式又は熱風循環式の乾燥炉、コンベアー式熱風乾燥炉又はIHヒーターを用いた電磁誘導加熱炉等を用いることができ、その風量と風速等は任意に設定することができる。こうして得られる表面処理皮膜は、その上にさらに樹脂フィルムラミネートフィルム又は樹脂塗膜を形成後、深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに酸等に曝されても、ラミネートフィルム又は樹脂塗膜からなる樹脂皮膜が剥離することを防ぐことができる。なお、得られる表面処理皮膜の膜厚は、0.01μm~1μmとすることが好ましく、0.02μm~0.05μmとすることがより好ましい。この範囲とすることで、表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性をより高めることができる。以下、実施例及び比較例により本発明をさらに詳しく説明する。本発明は以下の実施例により限定されるものではない。なお、以下において、部とは質量部のことであり、質量は重量と同義であり、以下では特に断らない限り単にと表すこともある。ppmはmg/Lと同義である。[ポリビニルアルコール系化合物A]用いたポリビニルアルコール系化合物Aを以下に示す。Aa:鹸化度96、粘度25mPaSのポリビニルアルコールAb:鹸化度99、粘度12mPaS、アセトアセチル化度9.8のアセトアセチル化ポリビニルアルコール[架橋性化合物B]架橋性有機化合物B1グリシジルエーテル基を有する有機化合物B1aとして、グリセロールポリグリシジルエーテル3官能、エポキシ当量144、粘度170mPaSを用いた。また、イソシアネート基を有する有機化合物B1bとして、ヘキサメチレンジイソシアネート-アセト酢酸エチルブロック体を用いた。また、メチロール基を有する有機化合物記号B1cとして、メチロールメラミンを用いた。また、アルデヒド基を有する有機化合物B1dとして、グリオキサールを用いた。架橋性無機化合物B2用いた架橋性無機化合物B2を以下に示す。B2a:チタンフッ化水素酸濃度40.0質量B2b:ジルコニウムフッ化水素酸濃度40.0質量B2c:シリカゾル表面電荷カチオン、粒子径10~20nm、19.0質量、pH=4.7B2d:乳酸チタン濃度44.0質量B2e:非晶質ジルコニアゾル不揮発分濃度10.0質量、粒子径10~30nm、pH=2.8B2f:ケイフッ化水素酸濃度40.0質量B2g:フッ化クロムIIICr濃度1.0質量B2h:フッ化鉄IIIFe濃度2.5質量B2i;酸化セレンIVB2j;酸化セリウムゾル不揮発分濃度15、pH=3.5B2k;酢酸クロムIII[水系金属表面処理剤]ポリビニルアルコール系化合物Aa及び/又はAbと、架橋性有機化合物B1a~B1d及び架橋性無機化合物B2a~B2gから選ばれる1種又は2種以上とを所定の含有量で組み合わせ、溶剤を水として、表1~表3に示す実施例1~41及び比較例1~18の水系金属表面処理剤を準備した。なお、表1~表3における濃度は、水系金属表面処理剤に含まれる各化合物の不揮発分濃度質量を示す。また、A濃度は、水系金属表面処理剤中の全固形分に対するポリビニルアルコール系化合物Aの合計含有量質量を示し、B1B2濃度は、水系金属表面処理剤中の全固形分に対する架橋性化合物Bの含有量であって、架橋性有機化合物B1と架橋性無機化合物B2との合計含有量質量を示す。[金属材料]基材金属として用いた金属材料を以下に示す。Al:A1100P、厚さ0.3mmCu:C1020P、厚さ0.3mmNi:純ニッケル板:純度99質量以上、厚さ0.3mmSUS:SUS304板、厚さ0.3mmNiめっきCu:電気NiめっきCu板厚さ0.3mm、Niめっき厚2μmこれら金属材料から、表1~表3の基材欄に示す金属材料を選択し、実施例1~41及び比較例1~22の基材金属として準備した。[供試材の作製]表面処理表1~表3に示した実施例1~41及び比較例1~18の基材金属を、ファインクリーナー359E日本パーカライジング株式会社製のアルカリ脱脂剤の3水溶液で65°C、1分間スプレー脱脂した後、水洗して表面を清浄した。続いて、金属材料の表面の水分を蒸発させるために、80°Cで1分間、加熱乾燥した。脱脂洗浄した基材金属の表面に、それぞれ、表1~表3に示した実施例1~41及び比較例1~18の水系金属表面処理剤を3SUSマイヤーバーを用い、バーコートによって塗布し塗布工程、熱風循環式乾燥炉内で200°C、1分間乾燥し乾燥工程、表面処理皮膜を有する金属材料を得た。なお、同種の水系金属表面処理剤を用いて表面処理した金属材料をそれぞれ2つずつ準備し、以下に示すように、表面処理皮膜の上にそれぞれ別の方法でラミネート加工を施した。また、比較例19~22に記載の金属材料を準備し、水系金属表面処理剤を塗布しないで、上記と同様に脱脂、水洗の後に加熱乾燥し、表面処理皮膜を有しない金属材料を得た。なお、同種の金属材料を2つずつ準備し、以下に示すように、それぞれ別の方法で表面にラミネート加工を施した。ラミネート加工2つずつ準備した表面処理皮膜を有する金属材料の1つについて、その表面処理皮膜の上に、ヒートラミネーションによるラミネート加工を施した。他の1つの表面処理皮膜の上に、ドライラミネーションによるラミネート加工を施した。表面処理皮膜を有しない金属材料についても、2つのうち1つの片側表面にヒートラミネーションを施し、他の1つの片側表面にドライラミネーションを施した。ヒートラミネーションによるラミネート加工は、次のように行った。酸変性ポリプロピレンのディスパージョン三井化学株式会社製、R120K、不揮発分濃度20質量を8SUSマイヤーバーを用い、バーコートによって塗布した後、熱風循環式乾燥炉内で200°C、1分間乾燥することで接着剤層を形成した。その後、この接着剤層と、厚さ30μmのポリプロピレンフィルム東セロ株式会社製、CPPSとを、190°C、2MPaで10分間熱圧着することでヒートラミネーションによるラミネート加工を行い、ポリプロピレンフィルムが積層された金属材料を得た。ドライラミネーションによるラミネート加工は、次のように行った。ウレタン系ドライラミネート接着剤東洋モートン株式会社製、AD-503/CAT10、不揮発分濃度25質量を、8SUSマイヤーバーを用い、バーコートによって塗布した後、熱風循環式乾燥炉内で80°C、1分間乾燥し、その後、この接着剤層と30μmの未延伸ポリプロピレンフィルム二村化学工業株式会社製、FCZXのコロナ放電処理面とを100°C、1MPaで圧着後、40°Cで4日間養生することで、ドライラミネーションによるラミネート加工を行い、ポリプロピレンフィルムが積層された金属材料を得た。成形加工ヒートラミネーションによって得たポリプロピレンフィルム積層金属材料と、ドライラミネーションによって得たポリプロピレンフィルム積層金属材料とを、それぞれ絞りしごき加工試験で深絞り加工した。直径160mmに打ち抜いた被覆金属板を絞り加工1回目し、直径100mmのカップを作製した。続いて、そのカップを直径75mmに再度絞り加工2回目し、さらに直径65mmに絞り加工3回目し、供試材である缶を作製した。なお、1回目の絞り加工、2回目の絞り加工、3回目の絞り加工におけるしごき薄肉化分率は、それぞれ、5、15、15であった。[性能評価]密着性成形加工後の缶について、ポリプロピレンフィルムの剥離の有無以下、初期密着性という。を評価した。缶が作製でき、フィルムの剥離がなく初期密着性に優れるものを3点とし、フィルムの一部が剥離したものを2点とし、フィルムが全面剥離したものを1点とした。評価試験の結果を表4及び表5に示す。耐薬品密着維持性耐薬品密着維持性のうち、ここでは、電解液に対する密着維持性以下、耐電解液密着維持性という。について評価した。詳しくは、次のようにして、成形加工後にさらに電解液に浸漬した後の缶について、ポリプロピレンフィルムの剥離の有無を評価した。深絞り加工した後の缶を、密閉容器中に充填された、イオン交換水を1000ppm添加したリチウムイオン2次電池用電解液電解質;1mol/LのLiPF6、溶剤;EC:DMC:DEC=1:1:1体積中に浸漬した後、60°C恒温槽中に7日間投入した。なお、ECはエチレンカーボネートのことであり、DMCはジメチルカーボネートのことであり、DECはジエチルカーボネートのことである。その後、供試材を取り出し、イオン交換水中に1分間浸漬、揺動することで洗浄した後、熱風循環式乾燥炉内で、100°Cで10分間乾燥した。その後フィルム面をピンセットの先で引っ掻き、フィルムの剥離がなく耐電解液密着維持性に優れるものを3点、フィルムの一部が剥離したものを2点とし、フィルムが全面剥離したものを1点として評価した。評価試験の結果を表4及び表5に示す。表4及び表5に示すように、実施例1~41に記載の水系金属表面処理剤を塗布して形成された表面処理皮膜を有する金属材料は、初期密着性及び耐電解液密着維持性に非常に優れることが確認された。"