"a一般式1:-OCOCR1=CH21式中、R1は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わすで表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する重合体、b一般式2:-[SiR22-bYbO]m-SiR33-aYa式中、R2およびR3は、同一若しくは異なって、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-で表されるトリオルガノシロキシ基を示す式中、R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基を示す。複数のR′は同一であってもよく又は異なっていてもよい。R2またはR3がそれぞれ2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示す。Yが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を示す。bは0、1、または2を示す。mは0~19の整数を示す。ただし、amb≧1であることを満足する。で表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する重合体、c分子内にメルカプト基を有する化合物、を含む硬化性組成物。a成分および/またはb成分がビニル系重合体である、請求項1に記載の硬化性組成物。a成分および/またはb成分がメタアクリル系重合体である、請求項1または2に記載の硬化性組成物。a成分、b成分の重合体の分子量分布が1.8未満である、請求項1~3のいずれかに記載の硬化性組成物。c成分の添加量が、a成分100重量部に対して、0.1~10部である請求項1~4のいずれかに記載の硬化性組成物。d一般式3:-OCOCR4=CH23式中、R4は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わすで表わされる基を1個以上有する、分子量500以下である化合物を含み、d成分の使用量が組成物中の1~50重量である、請求項1~5のいずれかに記載の硬化性組成物。請求項1~6のいずれかに記載の硬化性組成物を、画像表示モジュールパネルとカバーボードの接着に用い、製造される画像表示装置。請求項1~6のいずれかに記載の硬化性組成物を、タッチパネル用電極基板とカバーボードの接着に用い、製造される画像表示装置。請求項7または8の画像表示装置において、接着に用いられる2枚の基材のいずれか一方の基材に請求項1~6のいずれかに記載の硬化性組成物を塗布し、その基材をもう一方の基材と貼り合わせて硬化性組成物を基材一面に展開させてから、硬化させることを特徴とする画像表示装置の製造方法。本発明は、紫外線などの活性エネルギー線および空気中の湿分により速硬化可能で、柔軟性に優れ、かつ高温時においても形状変化などを起こさない硬化性組成物およびそれより得られる接着剤、特に画像表示装置の空間部充填用接着剤およびそれを用いて製造される画像表示装置の提供を目的とする。上述の現状に鑑み、本発明者らが鋭意検討した結果、メタアクリロイル系基を含有する重合体、加水分解性シリル基を含有する重合体およびメルカプト基を含む化合物を必須成分とする硬化性組成物を使用することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、a一般式1:-OCOCR1=CH21式中、R1は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わすで表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する重合体、b一般式2:-[SiR22-bYbO]m-SiR33-aYa式中、R2およびR3は、同一若しくは異なって、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-で表されるトリオルガノシロキシ基を示す式中、R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基を示す。複数のR′は同一であってもよく又は異なっていてもよい。R2またはR3がそれぞれ2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示す。Yが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を示す。bは0、1、または2を示す。mは0~19の整数を示す。ただし、amb≧1であることを満足する。で表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する重合体、c分子内にメルカプト基を有する化合物を含む硬化性組成物に関する。a成分および/またはb成分がビニル系重合体であることが好ましい。a成分および/またはb成分がメタアクリル系重合体であることが好ましい。a成分、b成分の重合体の分子量分布が1.8未満であることが好ましい。c成分の添加量が、a成分100重量部に対して、0.1~10部であることが好ましい。d一般式3:-OCOCR4=CH23式中、R4は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わすで表わされる基を1個以上有する、分子量500以下である化合物を含み、d成分の使用量が組成物中の1~50重量であることが好ましい。前記に記載の硬化性組成物を、画像表示モジュールパネルとカバーボードの接着に用い、製造される画像表示装置に関する。前記に記載の硬化性組成物を、タッチパネル用電極基板とカバーボードの接着に用い、製造される画像表示装置に関する。前記の画像表示装置において、接着に用いられる2枚の基材のいずれか一方の基材に前記に記載の硬化性組成物を塗布し、その基材をもう一方の基材と貼り合わせて硬化性組成物を基材一面に展開させてから、硬化させることを特徴とする画像表示装置の製造方法に関する。本発明の硬化性組成物により得られる硬化物は、柔軟性に優れ、高温時における液状化現象が生じないため、接着剤用途に適した効果を発揮する。以下に本発明の硬化性組成物について詳述する。<a成分>a成分は、一般式1:-OCOCR1=CH21式中、R1は水素原子または炭素数1~20の有機基を表わすで表わされる基メタアクリロイル系基を1分子あたり1個以上有する重合体である。a成分におけるメタアクリロイル系基の数は、架橋させるという観点から1分子あたり1個以上である。前記メタアクリロイル系基は、架橋点間分子量を均一かつ大きくする、好ましくは500~100000にすることでゴム弾性を得るという観点から、重合体の分子末端に存在するのが好ましい。メタアクリロイル系基中のR1は、水素原子または炭素数1~20の有機基を表わし、好ましくは水素原子または炭素数1~20の炭化水素基である。前記炭素数1~20の炭化水素基としては、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、ニトリル基などがあげられ、これらは水酸基などの置換基を有していてもよい。前記炭素数1~20のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基など、炭素数6~20のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基など、炭素数7~20のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェニルエチル基などがあげられる。Raの具体例としては、例えば-H、-CH3、-CH2CH3、-CH2nCH3nは2~19の整数を表わす、-C6H5、-CH2OH、-CNなどがあげられ、好ましくは-H、-CH3である。<b成分>b一般式2:-[SiR22-bYbO]m-SiR33-aYa式中、R2およびR3は、同一若しくは異なって、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-で表されるトリオルガノシロキシ基を示す式中、R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基を示す。複数のR′は同一であってもよく又は異なっていてもよい。R2またはR3がそれぞれ2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示す。Yが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を示す。bは0、1、または2を示す。mは0~19の整数を示す。ただし、amb≧1であることを満足する。で表わされる基を有する重合体である。Yの加水分解性基としては、たとえば、水素原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基などの一般に使用されている基があげられる。これらのうちでは、アルコキシ基、アミド基、アミノオキシ基が好ましいが、加水分解性がマイルドで取り扱い易いという点から、アルコキシ基がとくに好ましい。<a成分、b成分の構造>a成分およびb成分の主鎖を構成する成分に特に限定はないが、耐熱性の観点からビニル系重合体が好ましく、さらにメタアクリル系重合体が好ましい。ビニル系重合体の原料となるビニル系モノマーには特に限定はなく、各種のものを用いることができる。例示するならば、メタアクリル酸、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸n-プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸n-ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸tert-ブチル、メタアクリル酸n-ペンチル、メタアクリル酸n-ヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸n-ヘプチル、メタアクリル酸n-オクチル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸ノニル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸ドデシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸トルイル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸-2-メトキシエチル、メタアクリル酸3-メトキシブチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸ステアリル、メタアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸2-アミノエチル、γ-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、メタアクリル酸のエチレンオキサイド付加物、メタアクリル酸トリフルオロメチルメチル、メタアクリル酸2-トリフルオロメチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチル-2-パーフルオロブチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチル、メタアクリル酸パーフルオロメチル、メタアクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、メタアクリル酸2-パーフルオロメチル-2-パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロヘキシルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロデシルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロヘキサデシルエチルなどのメタアクリル系モノマー;スチレン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン、クロルスチレン、スチレンスルホン酸およびその塩などの芳香族ビニル系モノマー;パーフルオロエチレン、パーフルオロプロピレン、フッ化ビニリデンなどのフッ素含有ビニルモノマー;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどのケイ素含有ビニル系モノマー;無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステル;フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステル;マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミドなどのマレイミド系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリル基含有ビニル系モノマー;アクリルアミド、メタクリルアミドなどのアミド基含有ビニル系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニルなどのビニルエステル類;エチレン、プロピレンなどのアルケン類;ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類;塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩化アリル、アリルアルコールなどがあげられる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。なかでも、生成物の物性などの点から、芳香族ビニル系モノマーおよびメタアクリル系重合体の原料であるメタアクリル系モノマーが好ましい。さらに耐熱性耐環境性の観点からメタアクリル系モノマーが好ましい。本発明においては、これらの好ましいモノマーを他の前記モノマーと共重合させてもよく、その際は、これらの好ましいモノマーが重量比で40以上含まれていることが好ましい。a成分およびb成分の分子量分布ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCで測定した重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比には、特に限定はないが、好ましくは1.8未満、より好ましくは1.7以下、さらに好ましくは1.6以下、特に好ましくは1.5以下、特別に好ましくは1.4以下、最も好ましくは1.3以下である。なお、本発明におけるGPC測定の際には、通常は、クロロホルムまたはテトラヒドロフランを移動相として、ポリスチレンゲルカラムを使用し、分子量の値はポリスチレン換算値で求めている。a成分およびb成分の数平均分子量の下限は、好ましくは500、より好ましくは3,000であり、上限は、好ましくは100,000、より好ましくは40,000である。分子量が500未満であると、重合体の本来の特性が発現されにくくなる傾向があり、100,000をこえると、ハンドリングが困難になりやすい傾向がある。a成分とb成分の重量比は、a成分/b成分=9/1~1/9が好ましく、7/3~3/7がより好ましい。9/1より大きいと高温時に形状変化が生じるため好ましくない。また、1/9未満であると活性エネルギー線による硬化が不十分であるため好ましくない。<a成分およびb成分の製造方法>a成分およびb成分の製造方法については特に限定はないが、ビニル系重合体である場合は一般に、アニオン重合あるいはラジカル重合によって製造される。中でもモノマーの汎用性あるいは制御の容易さからラジカル重合が好ましい。ラジカル重合の中でも、リビングラジカル重合あるいは連鎖移動剤を用いたラジカル重合によって製造されるのが好ましく、特に前者が好ましい。重合a成分およびb成分の製造に用いられるラジカル重合法は、重合開始剤としてアゾ系化合物、過酸化物などを用いて、特定の官能基を有するモノマーとビニル系モノマーとを単に共重合させる一般的なラジカル重合法と、末端などの制御された位置に特定の官能基を導入することが可能な制御ラジカル重合法に分類することができる。一般的なラジカル重合法は簡便な方法であるが、この方法では特定の官能基を有するモノマーは確率的にしか重合体中に導入されないので、官能化率の高い重合体を得ようとした場合には、このモノマーをかなり大量に使う必要があり、逆に少量の使用ではこの特定の官能基が導入されない重合体の割合が大きくなるという問題がある。また、フリーラジカル重合であるため、分子量分布が広く粘度の高い重合体しか得られないという問題もある。制御ラジカル重合法は、さらに、特定の官能基を有する連鎖移動剤を用いて重合を行なうことにより末端に官能基を有するビニル系重合体が得られる連鎖移動剤法と、重合生長末端が停止反応などを起こさずに生長することによりほぼ設計どおりの分子量の重合体が得られるリビングラジカル重合法とに、分類することができる。連鎖移動剤法は、官能化率の高い重合体を得ることが可能であるが、開始剤に対してかなり大量の特定の官能基を有する連鎖移動剤が必要であり、処理も含めて経済面で問題がある。また、前記の一般的なラジカル重合法と同様、フリーラジカル重合であるため分子量分布が広く、粘度の高い重合体しか得られないという問題もある。これらの重合法とは異なり、リビングラジカル重合法は、重合速度が高く、ラジカル同士のカップリングなどによる停止反応が起こりやすいため制御が難しいとされるラジカル重合でありながら、停止反応が起こりにくく、分子量分布の狭いMw/Mnが1.1~1.5程度重合体が得られるとともに、モノマーと開始剤の仕込み比によって分子量を自由にコントロールすることができる。したがって、リビングラジカル重合法は、分子量分布が狭く、粘度が低い重合体を得ることができる上に、特定の官能基を有するモノマーを重合体のほぼ任意の位置に導入することができるため、前記特定の官能基を有するビニル系重合体の製造方法としてはより好ましいものである。なお、リビング重合とは、狭義においては、末端が常に活性を持ち続けて分子鎖が生長していく重合のことをいうが、一般には、末端が不活性化されたものと活性化されたものが平衡状態にありながら生長していく擬リビング重合も含まれる。本発明における定義も後者である。リビングラジカル重合法は、近年様々なグループで積極的に研究がなされている。その例としては、例えばジャーナルオブジアメリカンケミカルソサイエティーJ.Am.Chem.Soc.、1994年、116巻、7943頁に示されるようなコバルトポルフィリン錯体を用いるもの、マクロモレキュルズMacromolecules、1994年、27巻、7228頁に示されるようなニトロキシド化合物などのラジカル捕捉剤を用いるもの、有機ハロゲン化物などを開始剤とし遷移金属錯体を触媒とする原子移動ラジカル重合AtomTransferRadicalPolymerization:ATRPなどがあげられる。リビングラジカル重合法の中でも、有機ハロゲン化物あるいはハロゲン化スルホニル化合物などを開始剤、遷移金属錯体を触媒としてビニル系モノマーを重合する原子移動ラジカル重合法は、前記のリビングラジカル重合法の特徴に加えて、官能基変換反応に比較的有利なハロゲンなどを末端に有し、開始剤や触媒の設計の自由度が大きいことから、特定の官能基を有するビニル系重合体の製造方法としては、さらに好ましい。前記原子移動ラジカル重合法としては、例えばMatyjaszewskiら、ジャーナルオブジアメリカンケミカルソサイエティーJ.Am.Chem.Soc.1995年、117巻、5614頁、マクロモレキュルズMacromolecules1995年、28巻、7901頁、サイエンスScience1996年、272巻、866頁、WO96/30421号パンフレット,WO97/18247号パンフレットあるいはSawamotoら、マクロモレキュルズMacromolecules1995年、28巻、1721頁などに記載の方法があげられる。本発明において、これらのうちのどの方法を使用するかには特に制約はないが、基本的には制御ラジカル重合法が利用され、さらに制御の容易さなどからリビングラジカル重合法が好ましく、特に原子移動ラジカル重合法が好ましい。官能基の導入a成分を得るために、一般式1のような重合性の炭素-炭素二重結合を重合体へ導入する方法としては、公知の方法を利用することができる。例えば、特開2004-203932号公報段落[0080]~[0091]記載の方法が挙げられる。これらの方法以外としては、水酸基末端を有するメタアクリル系重合体にイソシアネート基および1式のような重合性の炭素-炭素二重結合を有するモノマーを反応させる方法があり、例えば2‐メタアクリロイルオキシエチルイソシアネートなどを用いる方法が挙げられる。b成分を得るために重合体へ架橋性シリル基を導入する方法としては特に限定がないが、例えば特開2004-210858号公報段落102~112記載の方法が挙げられる。これらの方法の中でも制御がより容易である点から、架橋性シリル基を持つヒドロシラン化合物によるヒドロシリル化反応により、末端アルケニル基を有する重合体のアルケニル基を架橋性シリル基に変換する方法により製造されたものであることが好ましい。<c成分>c成分は分子内にメルカプト基を1個以上含む化合物である。メルカプト基を1個以上含んでいれば特に限定はないが、例えばオクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、1,2-エタンジチオールなどのアルキルメルカプタン類、3-メルカプトプロピルアルコールなどのメルカプトアルキルアルコール類、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシランなどのメルカプトシラン類、β-メルカプトプロピオン酸、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトプロピオネート、トリス-[3-メルカプトプロピオニルオキシエチル]イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス3-メルカプトプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサキス3-メルカプトプロピオネートなどのβ-メルカプトプロピオン酸誘導体類、ペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトブチレート、1,4-ビス3-メルカプトブチルオキシブタン、トリス-[3-メルカプトブチルオキシエチル]イソシアヌレートなどのβ-メルカプトブタン酸誘導体類などが挙げられる。また、ポリチオール化合物を用いることも可能である。c成分としては、これらの化合物を単独で用いても良いし、複数を用いることも可能である。c成分はa成分100重量部に対して、0.1~10部用いることが好ましい。0.1部以下であると、柔軟な硬化物が得られないため好ましくない、また、10部以上用いると硬化物物性が低下するため好ましくない。より好ましくは0.2~5部であり、さらに好ましくは0.5~4部である。<光重合開始剤>本発明の硬化性組成物には、特に限定されないが、速く硬化させたり、充分な性状の硬化物を得たりするために光重合開始剤を使用することが好ましい。光重合開始剤としては、特に限定はないが、光重合開始剤としては、光ラジカル開始剤、光カチオン開始剤、光アニオン開始剤、近赤外光重合開始剤等が挙げられ、光ラジカル開始剤、光アニオン開始剤が好ましく、光ラジカル開始剤が特に好ましい。光ラジカル開始剤としては、例えば、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、キサントール、フルオレイン、ベンズアルデヒド、アンスラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3-メチルアセトフェノン、4-メチルアセトフェノン、3-ペンチルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、4-メトキシアセトフェノン、3-ブロモアセトフェノン、4-アリルアセトフェノン、p-ジアセチルベンゼン、3-メトキシベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4-クロロ-4’-ベンジルベンゾフェノン、3-クロロキサントーン、3,9-ジクロロキサントーン、3-クロロ-8-ノニルキサントーン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ビス4-ジメチルアミノフェニルケトン、ベンジルメトキシケタール、2-クロロチオキサントーン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1、ジベンゾイル等が挙げられる。これらのうち、α-ヒドロキシケトン化合物例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン等、フェニルケトン誘導体例えば、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、3-メチルアセトフェノン、4-メチルアセトフェノン、3-ペンチルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、4-メトキシアセトフェノン、3-ブロモアセトフェノン、4-アリルアセトフェノン、3-メトキシベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4-クロロ-4’-ベンジルベンゾフェノン、ビス4-ジメチルアミノフェニルケトン等が好ましい。光カチオン開始剤としては、特開2009-102482に例示されるスルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩などのオニウム塩類が挙げられる。光アニオン開始剤としては、例えば、1,10-ジアミノデカン、4,4’-トリメチレンジピペラジン、カルバメート類及びその誘導体、コバルト-アミン錯体類、アミノオキシイミノ類、アンモニウムボレート類等が挙げられる。近赤外光重合開始剤としては、近赤外光吸収性陽イオン染料等を使用しても構わない。近赤外光吸収性陽イオン染料としては、650~1500nmの領域の光エネルギーで励起する、例えば特開平3-111402号公報、特開平5-194619号公報等に開示されている近赤外光吸収性陽イオン染料-ボレート陰イオン錯体等を用いるのが好ましく、ホウ素系増感剤を併用することがさらに好ましい。これらの光重合開始剤は、単独、又は2種以上混合して用いても、他の化合物と組み合わせて用いてもよい。他の化合物との組み合わせとしては、具体的には、ジエタノールメチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミンとの組み合わせ、さらにこれにジフェニルヨードニウムクロリド等のヨードニウム塩を組み合わせたもの、メチレンブルー等の色素及びアミンと組み合わせたもの等が挙げられる。なお、前記光重合開始剤を使用する場合、必要により、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノン、パラターシャリーブチルカテコール等の重合禁止剤類を添加することもできる。光重合開始剤を使用する場合、その添加量は特に制限はないが、硬化性と貯蔵安定性の点から、a成分のビニル系重合体100重量部に対して、0.001~10重量部が好ましい。<硬化触媒>本発明で使用されるb成分は、従来公知の各種縮合触媒硬化触媒、硬化剤と言うこともあるの存在下、あるいは非存在下にシロキサン結合を形成することにより架橋、硬化する。硬化物の性状としては、重合体の分子量と主鎖骨格に応じて、ゴム状のものから樹脂状のものまで幅広く作製することができる。このような縮合触媒としては、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジエチルヘキサノエート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジメチルマレート、ジブチル錫ジエチルマレート、ジブチル錫ジブチルマレート、ジブチル錫ジイソオクチルマレート、ジブチル錫ジトリデシルマレート、ジブチル錫ジベンジルマレート、ジブチル錫マレエート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジステアレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジエチルマレート、ジオクチル錫ジイソオクチルマレート等のジアルキル錫ジカルボキシレート類、例えば、ジブチル錫ジメトキシド、ジブチル錫ジフェノキシド等のジアルキル錫アルコキサイド類、例えば、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、ジブチル錫ジエチルアセトアセテートなどのジアルキル錫の分子内配位性誘導体類、例えば、ジブチル錫オキサイドやジオクチル錫オキサイド等のジアルキル錫オキサイドと例えば、ジオクチルフタレート、ジイソデシルフタレート、メチルマレエート等のエステル化合物との反応物、ジアルキル錫オキサイド、カルボン酸およびアルコール化合物を反応させて得られる錫化合物、例えば、ジブチル錫ビストリエトキシシリケート、ジオクチル錫ビストリエトキシシリケート等のジアルキル錫オキサイドとシリケート化合物との反応物、およびこれらジアルキル錫化合物のオキシ誘導体スタノキサン化合物等の4価の錫化合物類;例えば、オクチル酸錫、ナフテン酸錫、ステアリン酸錫、フェルザチック酸錫等の2価の錫化合物類、あるいはこれらと後述のラウリルアミン等のアミン系化合物との反応物および混合物;例えば、モノブチル錫トリスオクトエートやモノブチル錫トリイソプロポキシド等のモノブチル錫化合物やモノオクチル錫化合物等のモノアルキル錫類;例えば、テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラ2-エチルヘキシルチタネート、イソプロポキシチタンビスエチルアセトアセテート等のチタン酸エステル類;アルミニウムトリスアセチルアセトナート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、ジ-イソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート等の有機アルミニウム化合物類;カルボン酸ビスマス、カルボン酸鉄、カルボン酸チタニウム、カルボン酸鉛、カルボン酸バナジウム、カルボン酸ジルコニウム、カルボン酸カルシウム、カルボン酸カリウム、カルボン酸バリウム、カルボン酸マンガン、カルボン酸セリウム、カルボン酸ニッケル、カルボン酸コバルト、カルボン酸亜鉛、カルボン酸アルミニウム等のカルボン酸2-エチルヘキサン酸、ネオデカン酸、バーサチック酸、オレイン酸、ナフテン酸等金属塩、あるいはこれらと後述のラウリルアミン等のアミン系化合物との反応物および混合物;ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトナート、ジブトキシジルコニウムジアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナートビスエチルアセトアセテート、チタンテトラアセチルアセトナート等のキレート化合物類;メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、2-エチルヘキシルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ペンタデシルアミン、セチルアミン、ステアリルアミン、シクロヘキシルアミン等の脂肪族第一アミン類;ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジアミルアミン、ジオクチルアミン、ジ2-エチルヘキシルアミン、ジデシルアミン、ジラウリルアミン、ジセチルアミン、ジステアリルアミン、メチルステアリルアミン、エチルステアリルアミン、ブチルステアリルアミン等の脂肪族第二アミン類;トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン等の脂肪族第三アミン類;トリアリルアミン、オレイルアミン、などの脂肪族不飽和アミン類;ラウリルアニリン、ステアリルアニリン、トリフェニルアミン等の芳香族アミン類;および、その他のアミン類として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、2,4,6-トリスジメチルアミノメチルフェノール、モルホリン、N-メチルモルホリン、2-エチル-4-メチルイミダゾール、1,8-ジアザビシクロ5,4,0ウンデセン-7DBU等のアミン系化合物、あるいはこれらのアミン系化合物のカルボン酸等との塩;ラウリルアミンとオクチル酸錫の反応物あるいは混合物のようなアミン系化合物と有機錫化合物との反応物および混合物;過剰のポリアミンと多塩基酸とから得られる低分子量ポリアミド樹脂;過剰のポリアミンとエポキシ化合物との反応生成物;γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ベンジル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ビニルベンジル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。また、これらを変性した誘導体である、アミノ変性シリルポリマー、シリル化アミノポリマー、不飽和アミノシラン錯体、フェニルアミノ長鎖アルキルシラン、アミノシリル化シリコーン等のアミノ基を有するシランカップリング剤;等のシラノール縮合触媒、さらにはフェルザチック酸等の脂肪酸や有機酸性リン酸エステル化合物等他の酸性触媒、塩基性触媒等の公知のシラノール縮合触媒等が例示できる。酸性触媒の有機酸性リン酸エステル化合物としては、CH3O2-P=O-OH、CH3O-P=O-OH2、C2H5O2-P=O-OH、C2H5O-P=O-OH2、C3H7O2-P=O-OH、C3H7O-P=O-OH2、C4H9O2-P=O-OH、C4H9O-P=O-OH2、C8H17O2-P=O-OH、C8H17O-P=O-OH2、C10H21O2-P=O-OH、C10H21O-P=O-OH2、C13H27O2-P=O-OH、C13H27O-P=O-OH2、C16H33O2-P=O-OH、C16H33O-P=O-OH2、HO-C6H12O2-P=O-OH、HO-C6H12O-P=O-OH2、HO-C8H16O-P=O-OH、HO-C8H16O-P=O-OH2、[CH2OHCHOHO]2-P=O-OH、[CH2OHCHOHO]-P=O-OH2、[CH2OHCHOHC2H4O]2-P=O-OH、[CH2OHCHOHC2H4O]-P=O-OH2などがあげられるが、例示物質に限定されるものではない。これら有機酸類とアミンの併用系は、触媒活性が高くなるため、使用量を減少できる観点でより好ましい。有機酸とアミン併用系の中では、酸性リン酸エステルとアミン、有機カルボン酸とアミン、特に有機酸性リン酸エステルとアミン、脂肪族カルボン酸とアミンの併用系は、触媒活性がより高く、速硬化性の観点で好ましい。詳細は以下に示す。これらの触媒は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。<d成分反応性希釈剤>本発明の硬化性組成物には必要に応じてd成分として一般式3の構造を有する反応性希釈剤を用いることができる。一般式3:-OCOCR4=CH23式中、R4は水素原子又は炭素数1~20の有機基を表わす本剤を使用することにより、粘度反応性接着性モジュラスなの諸物性を任意に制御することが可能である。一般式3の構造を1個以上有する化合物であれば、特に限定はないが、例えば、単官能メタアクリレート類、多官能メタアクリレート類などが挙げられる。単官能メタアクリレートとしては、メタアクリル酸、エチルメタアクリレート、1-メトキシエチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ヘプチルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ノニルメタアクリレート、デシルメタアクリレート、ドデシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールメタアクリレート、ノニルフェノキシエチルメタアクリレート、ノニルフェノキシテトラエチレングリコールメタアクリレート、ジメチルメタアクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ジメチルアミノプロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリルアミド、ジエチルメタアクリルアミド、ヒドロキシエチルメタアクリルアミド、メタアクリロイルモルフォリン、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、エトキシジエチレングリコールメタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、2-エチルヘキシルポリエチレングリコールメタアクリレート、ノニルフェニルポリプロピレングリコールメタアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、グリセロールメタアクリレート、ポリエチレングリコールメタアクリレート、ポリプロピレングリコールメタアクリレート、エピクロロヒドリン変性ブチルメタアクリレート、エピクロロヒドリン変性フェノキシメタアクリレート、エチレンオキサイド変性フタル酸メタアクリレート、エチレンオキサイド変性コハク酸メタアクリレート、カプロラクトン変性2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルメタアクリレート、N,N-ジエチルアミノエチルメタアクリレート、モルホリノメタアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸メタアクリレート、トリメトキシシリルメタアクリレートなどが挙げられる。多官能アクリレートとしては、1、3-ブチレングリコールジメタアクリレート、1,4-ブチレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、1,6-ヘキサングリコールジメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレ-ト、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ビスフェノールAジメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジメタアクリレート、エピクロロヒドリン変性ビスフェノールAジメタアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールSジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジメタアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキサイド変性ジシクロペンテニルジメタアクリレート、ジメタアクリロイルイソシアヌレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタメタアクリレート等が挙げられる。本発明においてはこれらの化合物を単独で用いても良いし、複数を用いることも可能である。反応性希釈剤の使用量は、硬化性組成物中の1~50重量であることが好ましく、10~50重量であることがより好ましい。1重量未満であると、基材の接着性が充分に得られなくなるため好ましくない。また50重量より大きいと、硬化収縮が大きくなり、基材変形などが生じるため相応しくない。<その他の添加剤>本発明に用いられる硬化性組成物においては、目的とする物性に応じて、各種の配合剤を添加しても構わない。例えば、金属石鹸、充填材、微小中空粒子、酸化防止剤、可塑剤、光安定剤、接着性付与剤、シランカップリング剤、溶剤、難燃剤、老化防止剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、オゾン劣化防止剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、発泡剤、などがあげられる。これらの各種添加剤は単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。<用途>本発明の硬化性組成物は、光硬化性の接着剤として使用することができる。用途は特に限定されないが、例えばLCD有機ELプラズマディスプレイ電子ペーパーなどといった画像表示パネルモジュール用部品の接着、または画像表示パネルモジュールとそれを保護するためのカバーボードとの接着、抵抗膜式タッチパネル用電極基板または静電容量式タッチパネル用電極基板とそれを保護するためのカバーボードとの接着、CDDVDBDなどといった光学ディスクの記録再生装置用部品およびその周辺材料の接着、マイクロスピーカー装置用部品およびその周辺材料の接着などに好ましく用いることができる。特に、LCD有機ELプラズマディスプレイ電子ペーパーなどの画像表示モジュールパネルとそれを保護するためのカバーボードとの接着、抵抗膜式タッチパネル用電極基板または静電容量式タッチパネル用電極基板とそれを保護するためのカバーボードとの接着に好ましく用いることができる。カバーボードの素材に特に制限はないが、ある程度の加工性、強度を有し、かつ画像を鮮明に認識する観点から無色透明である素材であることが好ましい。例えば、ガラス、ポリメチルメタクリレートPMMA、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリカーボネートPCなどが挙げられる。これらの中でも、特にガラス、PMMAが透明性の観点から好ましい。<画像表示装置の製造方法>本発明の画像表示装置は、任意の方法で製造することができる。製造に関しては、大きく分けて、脱泡、塗布、貼り合わせ、硬化の4ステップがある。まず脱泡について説明する。図1の6の容器に4,3を順に取り付けて密閉状態にし、本発明の硬化性組成物を1より6に投入する。3、4、6の素材については特に限定はないが、減圧および加圧への耐久性の観点からステンレス製であることが好ましい。次に硬化性組成物を脱泡するために、7に真空ポンプなどの減圧装置を接続し、容器内を減圧させる。この際、一気に低真空状態102Pa前後に到達させると激しく発泡し、7,8のライン内に組成物が混入するため、段階を踏んで減圧を行うことが好ましい。したがって真空ラインの中間にニードルバルブやボールバルブ、三方コックなどの真空度を調節できる設備を導入することが好ましい。また、5の攪拌羽根を回転させれば脱泡が促進されるので、必要に応じて使用してもよい。ただし、回転が速すぎると系内の気体が樹脂に噛み込み、むしろ気泡が発生してしまう可能性があるので1~100rpm程度の速度で攪拌するのが好ましい。脱泡を行った後、容器内を常圧に戻し、さらに8より加圧空気を送り容器内を加圧状態にする。このときの圧力は組成物の粘度や吐出量速度に応じて任意に設定可能で、0.1~0.4MPaであることが好ましい。これにより組成物は9によって11のディスペンスバルブに送られる。塗布に関しては、ディスペンス法や印刷法などが考えられ、ディスペンス法を用いる場合は、例えば図1に模式的に示す設備で実施することができる。10にはエアー供給ラインが接続され、ディスペンスシステムにより吐出量をコントロールしながら組成物を12の基板上に塗布することが可能である。このディスペンスシステムは市販のものを使用することが可能で、例えばPerformsシリーズ、UltimsシリーズEFD社製、SuperΣシリーズ、ML-808シリーズ以上、武蔵エンジニアリング社製、ACCURAシリーズ岩下エンジニアリング社製、DPS-800シリーズエース技研社製、TOMシリーズトミタエンジニアリング社製などが挙げられる。そして貼り合わせプロセスおよび展開プロセスにおいて気泡が混入しないよう、塗布するにあたっては任意の塗布パターンを描くことが可能であるが、例えば特開2009‐186959に挙げられている塗布パターンが好ましい。次に、貼り合わせの方法としては、上記の方法で塗布した基材をもう一方の基材に重ね合わせた後、上方の基材の自重で組成物を基材一面に展開する方法や、重ね合わせた後、任意の方法で貼り合わせた基材に荷重を与えて展開速度を上げる方法が好ましい。また、貼り合わせる直前に基材を真空チャンバなどの真空系に投入し、その系で貼り合わせる方法も好ましい。この方法を用いると、貼り合わせ時に気泡が混入してもその気泡の気圧は真空系の気圧と同等であるため、基材が常圧雰囲気に戻されるときに気泡は一気に収縮し、目視では確認できないレベルにまで小さくなるか、組成物中に溶解する。したがって塗布パターンの自由度が向上し、より多様な塗布プロセスを導入することが可能である。この際の真空度は、10-1~102Paであることが好ましい。10-1Pa未満だと減圧に時間を要しタクトタイムが伸びるので好ましくなく、102Paより大きいと減圧が不十分で気泡が完全に見えなくならない場合があるので好ましくない。また、基材にフレキシビリティがある場合はラミネート法を用いて貼り合わせることも可能である。硬化については、まず光源としては高圧水銀ランプやメタルハライドランプなどのUV光源を用いた方法が一般的であるが、基材の種類や使用環境に応じて、近紫外LED光源やキセノンランプ、ハロゲンランプ、紫外線レーザーなど任意の光源を用いることが可能である。照射方法としては、コンベア上に貼り合わせ基材を乗せてランプに照射し連続的に製造したり、照射用チャンバに基材を入れてバッチ式で製造したりすることができる。またb成分および硬化触媒を使用することで組成物を塗布する際に取り込まれる水分および、貼り合わせ部周囲から取り込まれる水分によって縮合硬化させることが可能である。上記製造方法を用いて、画像表示装置における画像表示部の貼り合わせを行うことができ、具体的には液晶ディスプレイLCD有機エレクトロルミネッセンスELディスプレイプラズマディスプレイ電子ペーパーなど画像表示パネルモジュールとそれを保護するためのカバーボードとの貼り合せ、抵抗膜式タッチパネル用電極基板または静電容量式タッチパネル用電極基板とそれを保護するためのカバーボードとの貼り合せ、もしくは画像表示パネルモジュールと各種タッチパネル用電極基板との貼り合せなどが可能である。カバーボードの素材に特に制限はないが、ある程度の加工性、強度を有し、かつ画像を鮮明に認識する観点から無色透明である素材であることが好ましい。例えば、ガラス、ポリメチルメタクリレートPMMA、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリカーボネートPCなどが挙げられる。これらの中でも、特にガラス、PMMAが透明性の観点から好ましい。<画像表示装置>本発明の硬化性組成物を画像表示パネルモジュールとカバーボードの間の充填用接着剤、およびタッチパネル用電極基板とカバーボードの間の充填用接着剤として用いて製造される画像表示装置の用途に制限はないが、例えば、テレビ、カーナビゲーションシステム、PDA、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、電子広告板デジタルサイネージ、携帯ゲーム機、音楽再生装置、パソコン、電子書籍電子ペーパー用端末装置などのディスプレイ部分に使用することができる。以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。また、下記実施例中、数平均分子量及び分子量分布重量平均分子量と数平均分子量の比は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCを用いた標準ポリスチレン換算法により算出した。ただし、GPCカラムとしてポリスチレン架橋ゲルを充填したものshodexGPCK-804およびK8025;昭和電工株製、GPC溶媒としてクロロホルムを用いた。下記実施例中、平均末端メタアクリロイル基数は、重合体1分子当たりに導入されたメタアクリロイル基数であり、1H-NMR分析及びGPCにより求められた数平均分子量より算出した。ただし、1H-NMRはBruker社製ASX-400を使用し、溶媒として重クロロホルムを用いて23°Cにて測定した。なお、下記実施例及び比較例中の部及びは、それぞれ重量部及び重量を表す。製造例1、2:a成分アクリル系重合体の製造各原料の使用量を表1に示す。1重合工程アクリル酸エステル予め混合されたアクリル酸エステルを脱酸素した。攪拌機付ステンレス製反応容器の内部を脱酸素し、臭化第一銅、全アクリル酸エステルの一部表1では初期仕込みモノマーとして記載を仕込み、加熱攪拌した。アセトニトリル表1では重合用アセトニトリルと記載、開始剤としてジエチル2,5-ジブロモアジペートDBAEまたは2-ブロモブチル酸エチルを添加、混合し、混合液の温度を約80°Cに調節した段階でペンタメチルジエチレントリアミン以下、トリアミンと略すを添加し、重合反応を開始した。残りのアクリル酸エステル表1では追加モノマーとして記載を逐次添加し、重合反応を進めた。重合途中、適宜トリアミンを追加し、重合速度を調整した。重合時に使用したトリアミンの総量を重合用トリアミンとして表1に示す。重合が進行すると重合熱により内温が上昇するので内温を約80°C~約90°Cに調整しながら重合を進行させた。2酸素処理工程モノマー転化率重合反応率が約95以上の時点で反応容器気相部に酸素‐窒素混合ガスを導入した。内温を約80°C~約90°Cに保ちながらしながら反応液を数時間加熱攪拌して反応液中の重合触媒と酸素を接触させた。アセトニトリル及び未反応のモノマーを減圧脱揮して除去し、重合体を含有する濃縮物を得た。濃縮物は著しく着色していた。3第一粗精製酢酸ブチルを重合体の希釈溶媒として使用した。重合体100kgに対して100~150kg程度の酢酸ブチルで2の濃縮物を希釈し、ろ過助剤ラジオライトR900、昭和化学工業製および/または吸着剤キョーワード700SEN、キョーワード500SHを添加した。反応容器気相部に酸素‐窒素混合ガスを導入した後、約80°Cで数時間加熱攪拌した。不溶な触媒成分をろ過除去した。ろ液は重合触媒残渣によって着色および若干の濁りを有していた。4第二粗精製ろ液を攪拌機付ステンレス製反応容器に仕込み、吸着剤キョーワード700SEN、キョーワード500SHを添加した。気相部に酸素-窒素混合ガスを導入して約100°Cで数時間加熱攪拌した後、吸着剤等の不溶成分をろ過除去した。ろ液はほとんど無色透明な清澄液であった。ろ液を濃縮し、ほぼ無色透明の重合体を得た。5メタアクリロイル基導入工程重合体100kgをN,N-ジメチルアセトアミドDMAc約100kgに溶解し、アクリル酸カリウム末端Br基に対して約2モル当量、熱安定剤H-TEMPO:4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-n-オキシル、吸着剤キョーワード700SEN、を添加し、約70°Cで数時間加熱攪拌した。DMACを減圧留去し、重合体濃縮物を重合体100kgに対して約100kgのトルエンで希釈し、ろ過助剤を添加して固形分をろ別し、ろ液を濃縮し、末端にアクリロイル基を有する重合体[P1]、[P2]を得た。得られた重合体の1分子あたりに導入されたアクリロイル基数、数平均分子量、分子量分布を併せて表1に示す。製造例3:b成分アクリル系重合体の製造1重合工程製造例1および2の1~4の工程に準ずる。2ジエン反応工程上記濃縮物に1,7-オクタジエン以下ジエン若しくはオクタジエンと略す、アセトニトリル表1ではジエン反応用アセトニトリルと記載を添加し、トリアミン表1ではジエン反応用トリアミンと記載を追加した。内温を約80°C~約90°Cに調節しながら数時間加熱攪拌させて、重合体末端にオクタジエンを反応させた。アセトニトリル及び未反応のオクタジエンを減圧脱揮して除去し、末端にアルケニル基を有する重合体を含有する濃縮物を得た。3粗精製工程上記濃縮物をトルエンで希釈し、ろ過助剤、吸着剤キョーワード700SEN:協和化学工業株製、ハイドロタルサイトキョーワード500SH:協和化学工業株製を添加し、80~100°C程度に加熱攪拌した後、固形成分をろ別した。ろ液を濃縮し、重合体粗精製物を得た。4高温加熱処理吸着精製工程重合体粗精製物、熱安定剤スミライザーGS:住友化学株製、吸着剤キョーワード700SEN、キョーワード500SHを添加し、減圧脱揮、加熱攪拌しながら昇温し、約170°C~約200°Cの高温状態で数時間程度加熱攪拌、減圧脱揮を行った。吸着剤キョーワード700SEN、キョーワード500SH、を追加し、重合体に対して約10重量部のトルエンを添加し、約170°C~約200°Cの高温状態で更に数時間程度加熱攪拌した。処理液を更にトルエンで希釈し、吸着剤をろ別した。ろ液を濃縮し、両末端にアルケニル基を有する重合体を得た。5シリル化工程上記方法により得られた重合体、メチルジメトキシシランDMS、オルト蟻酸メチルMOF、白金触媒[ビス1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体触媒のイソプロパノール溶液:以下白金触媒という]を所定量混合し、約100°Cに加熱攪拌した。1時間程度加熱攪拌後、未反応のDMS等の揮発分を減圧留去し、両末端にメトキシシリル基を有する重合体[P3]を得た。得られた重合体の1分子あたりに導入されたシリル基数、分子量、分子量分布を併せて表2に示す。実施例1a成分として、製造例1、2で得られた重合体[P1]を30部、[P2]を30部、b成分として、製造例3で得られた重合体[P3]40部、c成分としてn-ドデシルメルカプタンNDM和光純薬製0.5部、その他、イソボロニルアクリレート商品名;IBXA、大阪有機化学製15部、ジシクロペンタニルメタクリレート商品名FA-513M、日立化成製2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン商品名;DAROCUR1173、BASF製1部、トリメトキシビニルシラン商品名A171、モメンティブ製4部、2-エチルヘキシルアシッドホスフェート0.3部、ジアザビシクロウンデセンDBU0.03部を加え、2Lのプラネタリーミキサー井上製作所製で2時間混練して、硬化性組成物を得た。実施例2~3、比較例1~4表3に示す配合比で、実施例1同様の方法で硬化性組成物を得た。実施例2のPEMPはペンタエリスリトールテトラキス3-メルカプトプロピオネートSC有機化学製、実施例3のTEA-1000は、ポリブタジエンアクリレート日本曹達製である。次に、得られた組成物をUV照射装置FUSION製LightHammer6にて6000mJ/cm2の積算光量の紫外線を照射し、硬化させた。得られた硬化物の硬度、および伸びを以下の条件で測定した。硬度はA型硬度計高分子計器製を用いて、JISK6253の方法に準拠して測定した。伸びはSTEREOGRAPHW2島津製作所製を用いて、JISK6251の方法に準拠して測定した。各物性の測定の結果、各実施例の硬化性組成物より得られる硬化物は、比較例1の硬化物よりも硬度が低く、高伸びを有することが明らかとなった。また、各硬化物を90°Cの高温装置内に硬化物を24時間静置したところ、各実施例の硬化性組成物より得られる硬化物は形状を保持したままであったが、比較例2の硬化物は高温状態で液状化し形状を保持していなかった。"