バックロールに支持され搬送される帯状基材の上に、有機薄膜層形成用塗布液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗膜を乾燥する乾燥工程を有する有機薄膜層の形成方法において、前記乾燥工程は、前記バックロールの上に乾燥室を有する乾燥装置を使用していることを特徴とする有機薄膜層の形成方法。前記乾燥室を減圧とすることを特徴とする請求項1に記載の有機薄膜層の形成方法。前記乾燥室の入り口から出口までの高さが、前記バックロールの表面から0.1mmから50mmで連続的に変化していることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機薄膜層の形成方法。前記乾燥工程は前記塗膜に含有される溶媒量が、前記有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して20以上の間に前記塗膜が前記乾燥室内に搬送される位置に配置されていることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の有機薄膜層の形成方法。前記乾燥工程は前記塗膜に含有される溶媒量を、前記有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の0.01質量から10.0質量にすることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の有機薄膜層の形成方法。前記乾燥工程は、吸引方式で形成した層流状態の乾燥風により前記塗膜を乾燥することを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の有機薄膜層の形成方法。前記乾燥風のレイノルズ数Reが70から1950で、且つ平均流速が0.3m/sec以上であることを特徴とする請求項6に記載の有機薄膜層の形成方法。前記層流状態の乾燥風の温度は、前記有機薄膜層形成用塗布液を、前記帯状基材の上に塗布する時の雰囲気温度に対して±5°Cであることを特徴とする請求項6又は7に記載の有機薄膜層の形成方法。前記層流状態の乾燥風は、前記帯状基材の長さ方向と平行で、且つ搬送方向と同じ方向に流れていることを特徴とする請求項6から8の何れか1項に記載の有機薄膜層の形成方法。基材上に少なくとも第1電極と、少なくとも1層の有機層と第2電極を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記有機層が請求項1から9の何れか1項に記載の有機薄膜層の形成方法により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。しかしながら特許文献1に記載の方法は次の問題点があることが判った。1.均一な乾燥風を吐出させるには非常に高い装置精度が要求される。2.高さ方向の風速バラツキが大きく、10.0mPas以下の低粘度塗布液は風紋が発生しやすく適用出来ない。しかしながら特許文献2に記載の方法は次の問題点があることが判った。1.塗布した画素に対して乾燥気流を発生させる気流発生部が必要であり、乾燥能力は気流発生部ノズルの数に依存する。気流発生部の数を増やすことで精度、コストの面で課題がある。2.又、気流発生部と気流発生部及び塗布機構との距離が短い場合には、隣接する気流発生部から発生した給排気の影響で気流が乱れ乾燥ムラが発生する恐れがある。しかしながら特許文献3に記載の方法は次の問題点があることが判った。1.天板と基材及び基材と底板に圧力差が生じ、均一な乾燥が困難である。2.10.0mPas以下の低粘度塗布液は風紋が発生しやすく搬送方向と交わる方向に気流を当てると液寄りが生じ、均一なデバイスが作製出来ない。この様な状況から、連続的に搬送される帯状基材の上に塗布方式で有機薄膜層形成用塗布液を塗布し、乾燥ムラの発生がなく、安定した膜厚を有する有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法及びこの方法による有機EL素子の製造方法の開発が望まれている。本発明は、上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は連続的に搬送される帯状基材の上に塗布方式で有機薄膜層形成用塗布液を塗布し、乾燥ムラの発生がなく、安定した膜厚を有する有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法及びこの方法による有機EL素子の製造方法を提供することにある。本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。1.バックロールに支持され搬送される帯状基材の上に、有機薄膜層形成用塗布液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗膜を乾燥する乾燥工程を有する有機薄膜層の形成方法において、前記乾燥工程は、前記バックロールの上に乾燥室を有する乾燥装置を使用していることを特徴とする有機薄膜層の形成方法。2.前記乾燥室を減圧とすることを特徴とする前記1に記載の有機薄膜層の形成方法。3.前記乾燥室の入り口から出口までの高さが、前記バックロールの表面から0.1mmから50mmで連続的に変化していることを特徴とする前記1又は2に記載の有機薄膜層の形成方法。4.前記乾燥工程は前記塗膜に含有される溶媒量が、前記有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して20以上の間に前記塗膜が前記乾燥室内に搬送される位置に配置されていることを特徴とする前記1から3の何れか1項に記載の有機薄膜層の形成方法。5.前記乾燥工程は前記塗膜に含有される溶媒量を、前記有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の0.01質量から10.0質量にすることを特徴とする前記1から4の何れか1項に記載の有機薄膜層の形成方法。6.前記予備乾燥工程は、吸引方式で形成した層流状態の乾燥風により前記塗膜を乾燥することを特徴とする前記1から5の何れか1項に記載の有機薄膜層の形成方法。7.前記乾燥風のレイノルズ数Reが70から1950で、且つ平均流速が0.3m/sec以上であることを特徴とする前記6に記載の有機薄膜層の形成方法。8.前記層流状態の乾燥風の温度は、前記有機薄膜層形成用塗布液を、前記帯状基材の上に塗布する時の雰囲気温度に対して±5°Cであることを特徴とする前記6又は7に記載の有機薄膜層の形成方法。9.前記層流状態の乾燥風は、前記帯状基材と平行で、且つ搬送方向と同じ方向に流れていることを特徴とする前記6から8の何れか1項に記載の有機薄膜層の形成方法。10.基材上に少なくとも第1電極と、少なくとも1層の有機層と第2電極を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記有機層が前記1から6の何れか1項に記載の有機薄膜層の形成方法により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。連続的に搬送される帯状基材の上に塗布方式で有機薄膜層形成用塗布液を塗布し、乾燥ムラの発生がなく、安定した膜厚を有する有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法及びこの方法による有機EL素子の製造方法を提供することが出来た。本発明の実施の形態を図1から図4を参照しながら説明するが本発明はこれに限定されるものではない。本発明の有機薄膜層の形成方法における乾燥工程は、少なくともバックアップロールの上に乾燥室を有していることを特徴としている。以下に本発明における有機薄膜層の形成工程に付き説明する。図1は帯状基材の上に有機薄膜層形成用塗布液を塗布して有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法を示す概略図である。図中、4は有機薄膜層の形成工程を示す。形成工程4は、帯状基材の供給工程4aと、塗布工程4bと、第1の乾燥工程4cと、第2の乾燥工程4dと、回収工程4eとを有している。供給工程4aは繰り出し装置不図示を使用しており、繰り出し装置不図示に装着されたロール状の帯状基材5を繰り出し、塗布工程4bに帯状基材5を供給する。塗布工程4bは湿式塗布機4b1と、帯状基材5を保持するバックロール4b2とを使用しており、湿式塗布機4b1により有機薄膜層形成用塗布液6図2参照をバックロール4b2上の帯状基材5に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜が形成される。使用可能な湿式塗布機としては、例えば、ダイコート方式、スクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式、インクジェット方式、メイヤーバー方式、キャップコート法、スプレー塗布法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法等の塗布機の使用が可能である。これらの湿式塗布機の使用は有機薄膜層の材料に応じて適宜選択することが可能となっている。本図は、湿式塗布機4b1としてダイコート方式の場合を示している。有機薄膜層形成用塗布液に使用する溶媒の蒸気圧は、溶媒乾燥温度を維持するための加熱コスト、乾燥速度液寄りなどを考慮し、5×133Paから50×133Paであることが好ましい。好ましい溶媒としては、有機薄膜層を溶解出来るものであれば特に指定はないが、メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、IPA、n-ブチルアルコールなどのアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、THF、ケトン類、エーテル類、アセトン、ジアセトンアルコール、ジオキサン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリアルキレングリコールなどのグリコール類、2-ピロリドン、キシレン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロフォルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、酢酸n-ブチル、酢酸イソプロピル、γブチルラクトン、ブチルセロソルブ、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、N-メチル-2-ピロリドン、テトラクロロエタン、ニトロベンズアルデヒド、ニトロベンゼン、二硫化炭素、2-ヘプタノン、ベンゼン、テルピネオール及び水などを組み合わせて使用出来る。有機薄膜層形成用塗布液の粘度は、形成する有機薄膜層の材料により異なるが、本発明では、有機薄膜層の電気特性、乾燥速度等を考慮し、0.3mPasから10.0mPasである。粘度は、ブルックフィールドデジタル粘度計HV-50で測定した値を示す。有機薄膜層形成用塗布液の固形分濃度は、形成する有機薄膜層の材料により異なるが、本発明では、塗布液調製後の経時安定性を考慮し、0.1質量から2.0質量が好ましい。第1の乾燥工程4cは、乾燥装置4c1を使用しており、塗布工程4bで形成された有機薄膜層形成用塗膜から溶媒が予備的に除去される。尚、本発明では第1の乾燥工程4cを便宜上、予備乾燥工程と言う。予備乾燥工程4cに関しては図2、図3で詳細に説明する。第2の乾燥工程4dは、乾燥装置4d1を使用しており、予備乾燥工程4cで処理された有機薄膜層形成用塗膜が形成されている帯状基材5を加熱乾燥し有機薄膜層が形成される。乾燥装置4d1としては特に限定はなく、例えばヒーター加熱方式、加熱風方式等が挙げられ必要に応じて適宜選択することが可能となっている。尚、本発明では第2の乾燥工程4dを便宜上、本乾燥工程と言う。回収工程4eは、巻取り装置不図示を使用しており、有機薄膜層が形成された帯状基材5を巻芯に巻取りロール状で回収する。本発明で有機薄膜層とは、10nmから200nmの厚さを言う。又、厚さは、日本ビーコ株製WykoNT9100など光学干渉式膜厚測定機で測定することが可能である。図2は図1のXで示される部分の拡大概略図である。図2aは図1のXで示される部分の拡大概略斜視図である。図2bは図2aの予備乾燥装置側からの概略平面図である。予備乾燥工程4cは、バックロールの上に配置されており、乾燥室を減圧とする乾燥装置4c1を使用している。乾燥装置4c1は、乾燥室4c11と圧力制御部4c12とを有している。乾燥室4c11は側板4c111と、側板4c112と天板4c113と、天板4c113と1体となった取付け板4c114とを有しており、帯状基材5側と圧力制御部4c12側と湿式塗布機4b1側が開いた樋状の構造を有している。乾燥室4c11は取付け板4c114を介して圧力制御部4c12の側板4c124図3参照に固定されている。乾燥室4c11には層流状態の乾燥風が、帯状基材5の搬送方向図中の矢印方向に流れる様になっている。圧力制御部4c12は、側板4c121と、側板4c122と、側板4c123と、側板4c124図3参照と、天板4c125とを有し、帯状基材5側が開けられた箱形構造となっている。4c126は天板4c125に取り付けられた吸引管を示し吸引ポンプ不図示に繋がっている。6は湿式塗布機4b1から吐出された有機薄膜層形成用塗布液を示す。7は有機薄膜層形成用塗布液6を塗布し形成された塗膜を示す。Jは乾燥室4c11の幅を示す。幅Jは有機薄膜層形成用塗布液の塗布幅Lに対して、乾燥室の内側の面部の風の乱れの影響と生産効率等を考慮し、150から180であることが好ましい。Kは帯状基材5の幅を示す。図3は図2aのA-A′に沿った概略断面図である。図3aは図2aのA-A′に沿った拡大概略断面図である。図3bは図3aのYで示される部分の拡大概略図である。図中、4c127は圧力制御室を示す。吸引管4c126を介して吸引ポンプ不図示で圧力制御室を減圧にすることで、乾燥室4c11の開口部4c115から有機薄膜層形成用塗布液を塗布する雰囲気の気体が乾燥風となり流れ込み、開口部4c116へと層流状態で流れる様になっている。尚、圧力制御室を減圧にするとは、塗布室の圧力対して圧力制御室の圧力を下げることを言う。本発明では、開口部4c115を入り口、開口部4c116を出口と言う。4c115は乾燥室4c11の湿式塗布機4b1側の開口部を示し、4c116は乾燥室4c11の圧力制御部4c12側の開口部を示す。開口部4c115から開口部4c116有機薄膜層形成用塗布液を塗布する雰囲気の区間が乾燥室4c11となっている。乾燥室4c11の内側の面は、乾燥室4c11内を流れる乾燥風を層流とするため表面粗さが10μm以下であることが好ましい。表面粗さはキーエンス株KS-1100により測定した値を示す。又、開口部4c115及び開口部4c116の周辺には乾燥室4c11内を流れる乾燥風の層流状態に影響を与える凹状物、凸状物、例えばねじ穴、継ぎ手、バリ等がないことが好ましい。乾燥室4c11内を流れる乾燥風の温度は、塗布液の対流、バックロール等の機械軸振れ精度への影響、加熱機構によるバラツキの影響等を考慮し、帯状基材5の上に有機薄膜層形成用塗布液を塗布する雰囲気温度であることが好ましい。雰囲気温度とは塗布する部屋の温度を言う。尚、雰囲気温度としては、温度が高過ぎる場合設備コストが高くなり、低過ぎると充分な蒸発速度が得られないため、20°Cから40°Cが好ましい。乾燥室4c11内を流れる乾燥風の状態は、層流状態であることが好ましいが風速が低すぎる場合は、基材の搬送風の影響を受け易くなり、且つ乾燥速度が遅くなるため、レイノルズ数Reが70から1950で、且つ平均流速が0.3m/sec以上であることが好ましい。さらに好ましくは70以上、1000以下、最も好ましくは70以上、750以下である。レイノルズ数を70未満とすると、実質的な乾燥条件としては乾燥風の平均流速が0m/secに近づくため乾燥に時間が掛かり過ぎる。それゆえレイノルズ数の下限は70以上が好ましい。これに対して、レイノルズ数を1950超とすると乱流/層流遷移域となり、塗布液の液界面が乱された状態で乾燥が進むため、塗膜に多少のムラが生じる可能性がある。それ故、レイノルズ数の上限が1950以下とすることが好ましい。レイノルズ数Reは、乾燥室4c11の幅手と高さをそれぞれa、bとした場合、矩形流路相当直径De=2ab/ab、流速は下記に示す測定値m/sec、気体の動粘度μ/ρ式中μ:乾燥風の粘度、ρ:乾燥風の密度を13.35×10-6m2s-1により求めた値を示す。流速は、カノマックス株式会社アネモマスター風速計6003より求めた値を示す。乾燥室4c11内を流れる乾燥風のレイノルズ数Re及び平均流速の調整は、圧力制御室の圧力を制御することで可能となっている。予備乾燥工程4cは、帯状基材5の上に形成された有機薄膜層形成用塗膜中に含有される溶媒量が、風紋の発生を考慮し、有機薄膜層形成用塗布液の溶剤量に対して20質量以上の間に前記塗膜が前記乾燥室内に搬送される様に、バックロールの上の位置に配置されていることが好ましい。予備乾燥工程4cの開口部4c116から出る時の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量は、本乾燥工程4dの乾燥に必要な距離、膜厚ムラ等を考慮し、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の0.01質量から10.0質量であることが好ましい。有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶剤量は、以下に示す方法で測定した値を示す。溶剤量の測定は、キーエンス株製ダブルスキャン型レーザー変位計LT-9500を用いて、ウェット膜厚を測定することで算出した。Mは開口部4c115のバックロール4b2の表面から天板4c113の内面4c117迄の高さ乾燥室の高さを示すを示す。Nは開口部4c116のバックロール4b2の表面から天板4c113の内面4c117迄の高さ乾燥室の高さを示すを示す。開口部入り口4c115から開口部出口4c116迄の高さは、乾燥風を層流とするため、塗膜の乾燥等を考慮し、0.1mmから50mmで連続的に変化していることが必要である。尚、連続的に変化するとは単調に連続的に増加、又は減少することを言う。途中で変化の方向が変わっても、又変化しなくてもよい。具体的には1mm以上の段差がなければよい。又、開口部入り口4c115から開口部出口4c116迄のバックロールの表面からの高さは同じであっても構わない。他の符号は図2と同義である。乾燥室4c11を形成する材料は蒸発する溶媒で影響を受けない材料であれば特に限定はなく、例えば、ステンレス、アルミニウム、石英ガラス等が挙げられる。これらの中でも、視認性、耐溶媒性、精度を考慮し、石英ガラスが好ましく用いられる。図1から図3に示される本発明の有機薄膜層の形成方法により次の効果が挙げられる。1.乾燥ムラの発生がなく、有機薄膜層が安定した膜厚を有すことで長い発光寿命が得られる。2.連続して有機薄膜層の乾燥を行うことが出来、且つ、低コストである。図1から図3に示される本発明の有機薄膜層の形成方法は、ハードコート層、反射防止層等を有する反射防止フィルム、光学用フィルム、有機EL素子を構成している各層の内で塗布方式で形成可能な有機層例えば、正孔輸送層、発光層等、液晶ディスプレーに用いられるカラーフィルター、光学フィルター、各種コーティングフィルムの製造、インクジェット記録用紙、熱現像記録材料等の製造に適用することが可能である。以下に本発明の図1から図3に示す有機薄膜層の形成方法を使用した有機EL素子を製造する方法に付き説明する。図4は図1から図3に示す有機薄膜層の形成方法を使用して有機EL素子を製造する製造工程の概略図である。尚、本発明で有機EL素子とは、基材/第1電極/機能層正孔輸送層/発光層/電子輸送層/第2電極の構成を言う。尚、本図に示す予備乾燥工程は図2、図3に示す予備乾燥工程4cと同じであり、本乾燥工程は図1に示す本乾燥工程4dと同じである。図中、1は有機EL素子の製造工程を示す。製造工程1は、第1供給工程101と、正孔輸送層形成工程102と、発光層形成工程103と、電子輸送層形成工程104と、第1回収工程105と、第2供給工程106と、第2電極形成工程107と第2回収工程108とを有している。第1供給工程101は、ロール状帯状基材2aの繰り出し装置不図示とアキュームレータ101aとを使用ており、連続的に、次工程の正孔輸送層形成工程102に帯状基材2を繰り出す様になっている。アキュームレータ101aは次工程の正孔輸送層形成工程102との速度調整のために配設されている。正孔輸送層形成工程102は、塗布工程102aと、乾燥工程102bとを有し、アキュームレータ102cを使用している。正孔輸送層形成工程102では、第1電極までが形成された帯状基材2の第1電極取り出し電極部を除き第1電極の上に正孔輸送層形成用塗布液が塗布され、乾燥工程102bを経て正孔輸送層が形成され、次工程の発光層形成工程103に搬送される。アキュームレータ102cは次工程の発光層形成工程103との速度調整のために配設されている。塗布工程102aは、湿式塗布機102a1と帯状基材2を保持するバックアップロール102a2とを使用している。湿式塗布機102a1による正孔輸送層形成用塗布液は、帯状基材2に付けられているアライメントマーク不図示をアライメントマーク検出機不図示で検出し、第1電極陽極の取り出し電極不図示を除いて既に形成されている第1電極陽極不図示の上に塗布される。使用可能な湿式塗布機としては、例えば、ダイコート方式、スクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式、インクジェット方式、メイヤーバー方式、キャップコート法、スプレー塗布法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法等の塗布機の使用が可能である。これらの湿式塗布機の使用は正孔輸送層の材料に応じて適宜選択することが可能となっている。尚、本図は照明用に使用する有機EL素子を1例にしているため湿式塗布機102a1は全面塗工タイプとなっているが、有機ELパネルがフルカラー方式の場合は、パターン化されて形成されている第1電極陽極のパターンに合わせて第1電極陽極上に発光層をパターン塗布するため、例えば、インクジェット方式、フレキソ印刷方式、オフセット印刷方式、グラビア印刷方式、スクリーン印刷方式、マスクを用いたスプレー塗布方式等に使用する各種塗布装置を使用することが可能である。乾燥工程102bは、予備乾燥工程102b1と本乾燥工程102b2とを有している。予備乾燥工程102b1に関しては図2、図3に示す予備乾燥工程4cと同じである。本乾燥工程102b2は、乾燥装置102b21と加熱処理装置102b22とを使用している。乾燥装置102b21としては特に限定はなく、例えば加熱方式、加熱風方式、真空乾燥方式等が挙げられ必要に応じて適宜選択することが可能となっている。加熱処理装置102b22は正孔輸送層形成用塗膜不図示を帯状基材2の裏面側から裏面伝熱方式で加熱する様になっている。加熱処理装置102b22における正孔輸送層不図示の加熱処理条件として、正孔輸送層の平滑性向上、残留溶媒の除去等を考慮し、正孔輸送層を構成している樹脂のガラス転移温度に対して-30°Cから30°C、且つ、正孔輸送層を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。乾燥工程102bと発光層形成工程103との間には必要に応じて帯電防止手段102b3を配設することが好ましい。帯電防止手段帯電防止手段102b3は、非接触式帯電防止装置102b31と接触式帯電防止装置102b32とを有している。非接触式帯電防止装置102b31としては例えば、非接触式のイオナイザーが挙げられる。イオナイザーの種類については特に制限はなく、イオン発生方式はAC方式、DC方式どちらでも構わない。ACタイプ、ダブルDCタイプ、パルスACタイプ、軟X線タイプが用いることが出来るが、特に精密除電の観点から、ACタイプが好ましい。ACタイプの使用の際に必要となる噴射気体については、空気かN2が用いられるが、充分に純度が高められたN2で行うことが好ましい。又、インラインで行う観点より、ブロワータイプもしくはガンタイプより選ばれる。接触式帯電防止装置102b32としては、除電ロール又はアース接続した導電性ブラシを用いて行われる。除電器としての除電ロールは、接地されており、除電された表面に回転自在に接触して表面電荷を除去する。この様な除電ロールとしては、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス等の金属製ロールの他に、カーボンブラック、金属粉、金属繊維等の導電性材料を混合した弾性のあるプラスチックやゴム製のロールが使用される。特に、帯状基材2との接触をよくするため、弾性のあるものが好ましい。アース接続した導電性ブラシとは、一般には、線状に配列した導電性繊維からなるブラシ部材や線状金属製のブラシを有する除電バー又は除電糸構造のものを挙げることが出来る。除電バーについては、特に限定はないが、コロナ放電式のものが好ましく用いられ、例えば、キーエンス社製のSJ-Bが用いられる。除電糸についても、特に限定はないが、通常フレキシブルな糸状のものが好ましく用いられ、例えば、日本精線社製ステンレス鋼除電繊維ナスロンをその一例として挙げることが出来る。非接触式帯電防止装置102b31は帯状基材2の上に形成されている正孔輸送層面側に使用し、接触式帯電防止装置102b32は帯状基材2の裏面側に使用することが好ましい。正孔輸送層の膜厚は、発光効率、寿命等を考慮し適宜調整される。発光層形成工程103は、塗布工程103aと、乾燥工程103bとを有し、アキュームレータ103cを使用している。アキュームレータ103cは次工程の電子輸送層形成工程104との速度調整のために配設されている。発光層形成工程103では、正孔輸送層までが形成された帯状基材2の第1電極取り出し電極部を除き正孔輸送層の上に発光層形成用塗布液が塗布され、乾燥工程103bを経て発光層が形成され、次工程の電子輸送層形成工程104に搬送される。塗布工程103aは、湿式塗布機103a1と、帯状基材2を保持するバックアップロール103a2とを使用している。湿式塗布機103a1による発光層形成用塗布液は、帯状基材2に付けられているアライメントマーク不図示をアライメントマーク検出機不図示で検出し、第1電極陽極の取り出し電極不図示を除いて既に形成されている正孔輸送層不図示の上に塗布される。使用可能な湿式塗布機としては、正孔輸送層形成工程102の塗布工程102aに使用する湿式塗布機と同じものを使用することが可能である。乾燥工程103bは、予備乾燥工程103b1と本乾燥工程103b2とを有している。予備乾燥工程103b1は正孔輸送層形成工程102の予備乾燥工程102b1と同じ構成となっている。本乾燥工程103b2は、乾燥装置103b21と加熱処理装置103b22とを使用している。乾燥装置103b21としては特に限定はなく、例えば加熱方式、加熱風方式等が挙げられ必要に応じて適宜選択することが可能となっている。加熱処理装置103b22は発光層形成用塗膜不図示を帯状基材2の裏面側から裏面伝熱方式で加熱する様になっている。加熱処理装置103b22における発光層不図示の加熱処理条件として、発光層の平滑性向上、残留溶媒の除去、発光層の硬化等を考慮し、発光層を構成している樹脂のガラス転移温度に対して-30°Cから30°C、且つ、発光層を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。乾燥工程103bと電子輸送層形成工程104との間には必要に応じて帯電防止手段102b3と同じ帯電防止手段103b3を配設することが好ましい。発光層の膜厚は、膜の均質性、素子寿命、発光効率等を考慮し、通常、5nmから1μm、好ましくは20nmから100nmの範囲で選ばれる。発光層不図示が多層の場合は、積層する数に合わせて塗布工程、乾燥工程を配設する必要がある。例えば、発光層を多層にすることで白色素子の作製が可能である。本発明において、発光層とは青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を指す。発光層を積層する場合の積層順としては、特に制限はなく、又各発光層間に非発光性の中間層を有していてもよい。又、発光層を4層以上設ける場合には、陽極に近い順から、例えば青色発光層/緑色発光層/赤色発光層/青色発光層、青色発光層/緑色発光層/赤色発光層/青色発光層/緑色発光層、青色発光層/緑色発光層/赤色発光層/青色発光層/緑色発光層/赤色発光層の様に青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を順に積層することが、輝度安定性を高める上で好ましい。発光層の膜厚の総和は特に制限はないが、膜の均質性、発光に必要な電圧等を考慮し、通常2nmから5μm、好ましくは2nmから200nmの範囲で選ばれる。更に10nmから100nmの範囲にあるのが好ましい。膜厚を100nm以下にすると電圧面のみならず、駆動電流に対する発光色の安定性が向上する効果があり好ましい。電子輸送層形成工程104は、塗布工程104aと、乾燥工程104bとを有し、アキュームレータ104cを使用している。アキュームレータ104cは次工程の第1回収工程105との速度調整のために配設されている。電子輸送層形成工程104では、発光層までが形成された帯状基材2の第1電極取り出し電極部を除き発光層の上に電子輸送層形成用塗布液が塗布され、乾燥工程104bを経て電子輸送層が形成され、次工程の第1回収工程105に搬送され一旦回収される。塗布工程104aは、湿式塗布機104a1と、帯状基材2を保持するバックアップロール104a2とを使用している。湿式塗布機104a1による電子輸送層形成用塗布液は、帯状基材2に付けられているアライメントマーク不図示をアライメントマーク検出機不図示で検出し、第1電極陽極の取り出し電極不図示を除いて既に形成されている発光送層不図示の上に塗布される。使用可能な湿式塗布機としては、正孔輸送層形成工程102の塗布工程102aに使用する湿式塗布機と同じものを使用することが可能である。乾燥工程104bは、予備乾燥工程104b1と本乾燥工程104b2とを有している。予備乾燥工程104b1は正孔輸送層形成工程102の予備乾燥工程102b1と同じ構成となっている。本乾燥工程104b2は、乾燥装置104b21と加熱処理装置104b22とを使用している。乾燥装置104b21としては特に限定はなく、例えば加熱方式、加熱風方式等が挙げられ必要に応じて適宜選択することが可能となっている。加熱処理装置104b22は電子輸送層形成用塗膜不図示を帯状基材2の裏面側から裏面伝熱方式で加熱する様になっている。加熱処理装置104b22における電子輸送層不図示の加熱処理条件として、電子輸送層の平滑性向上、残留溶媒の除去、電子輸送層の硬化等を考慮し、電子輸送層を構成している樹脂のガラス転移温度に対して-30°Cから30°C、且つ、電子輸送層を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。乾燥工程104bと第1回収工程105との間には必要に応じて帯電防止手段102b3と同じ帯電防止手段104b3を配設することが好ましい。電子輸送層の膜厚は発光効率、寿命等を考慮し適宜調整される。第2供給工程106は、電子輸送層迄が形成されロール状に巻取られたロール状帯状基材2aの繰り出し装置不図示とアキュームレータ106aとを使用ており、次工程の第2電極形成工程107に電子輸送層迄が形成された帯状基材2を繰り出す様になっている。アキュームレータ106aは次工程の第2電極形成工程107との速度調整のために配設されている。第2電極形成工程107は、蒸発源容器107bを有する蒸着装置107aとアキュームレータ107cとを有している。アキュームレータ107cは次工程の第2回収工程108との速度調整のために配設されている。第2電極形成工程107では第2供給工程106から供給されてくる電子輸送層迄が形成された帯状基材2に付けられているアライメントマーク不図示を検出装置不図示で読み取り、検出装置不図示の情報に従って蒸着装置107aで決められた位置に、取り出し電極不図示を有する第2電極陰極不図示を、既に形成されている電子注入層不図示の上にマスクパターン成膜する。第2電極陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nmから5μm、好ましくは50nmから200nmの範囲で選ばれる。この段階で、基材/第1電極陽極/正孔輸送層/発光層/電子注入層/第2電極陰極の構成を有する有機EL素子3が出来上がる。この後、封止材料で有機EL素子を封止することで有機ELパネルが製造される。第2電極陰極の形成方法については、特に限定はなく、例えばスパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法などを用いることが出来る。本発明の有機薄膜層の形成方法で正孔輸送層、発光層、電子輸送層を湿式塗布方式で形成した有機EL素子は各層が安定して形成することが出来、安定した性能を有する有機EL素子の製造が可能となった。本図は、正孔輸送層形成工程から電子輸送層形成工程と、第2電極形成工程とに分割した場合を示したが正孔輸送層形成工程から第2電極形成工程までを連続することも可能である。以下に、本発明の有機薄膜層の形成方法により製造される製品に係わる材料に付き説明する。有機EL素子又、本発明の塗布方法で有機EL素子を製造する際に使用する材料は、国際公開第06/100868号パンフレット、特開2006-294536号公報、特開2007-73332公報等に記載されている公知の材料を使用することが可能である。その他尚、本発明の塗布方法で反射防止フィルム、光学フィルムを製造する際に使用する材料は、特開2008-296421号公報、同2008-242003号公報、同2008-224718号公報、同2008-200600号公報、同2007-098833号公報、同2006-293201号公報、同2006-285217号公報等に記載されている公知の材料を使用することが可能である。以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、実施例において部あるいはの表示を用いるが、特に断りがない限り質量部あるいは質量を表す。実施例1帯状基材の準備厚さ100μm、幅200mm、長さ500mのポリエチレンテレフタレートフィルム帝人デュポン社製フィルム、以下、PETと略記するを帯状基材として準備した。第1電極ITO膜の形成準備した帯状基材の上にスパッタ装置を用いて厚さ100nmのITO膜を形成した。有機薄膜層形成用塗布液の準備アセトン100質量部に市販の染料、C.I.アシッドレッド249を1.5質量部を溶解した塗布液調製し、粘度1.0mPsになる様にポリビニルブチレートPVBの添加量調整し塗布液を準備した。塗布液の粘度は東機産業株式会社製の、E型粘度計VISCONICED型及び同社製コントローラーE-200型を使用し、温度25°Cで測定した値を示す。スリット型ダイコーターの準備以下に示すスリット型ダイコーターを準備した。スリット型ダイコーターの幅170mmスリット間隙O100μm塗布幅100mm塗布図1に示す製造工程で準備したスリット型ダイコーターを使用し、準備した有機薄膜層形成用塗布液を、直径300mmのバックロールに支持された、準備した帯状基材の上に形成したITO膜の上に、塗布速度1.0m/minから10.0m/minで塗布し、ウェット膜厚6μmの有機薄膜層形成用塗膜を形成し表1に示す様に乾燥室の入り口及び出口のバックロールの表面からの高さを連続的に変えた乾燥装置を使用した図2、図3に示す予備乾燥工程で処理し、引き続き本乾燥工程で加熱装置により温度120°C、平均風速0.3m/secで乾燥し有機薄膜層を形成し試料No.101から110とした。ドライ膜厚乾燥後の膜厚は100nmであった。尚、予備乾燥工程に入る時の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶剤量は、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して95.0であった。予備乾燥工程に入る前の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量は、キーエンス社製ダブルスキャン型レーザー変位計LT-9500を用いウェット膜厚より算出した値を使用した。尚、予備乾燥工程を通過させた後に含まれる溶媒量は1.2質量であった。予備乾燥工程を通過させた後の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量とは、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対する割合質量を示す。尚、ウェット膜厚とは、下式で算出される理論膜厚を言う。ウェット膜厚=塗布液供給流量/塗布幅×塗布速度又、塗布速度は、三菱電機株製レーザドップラ速度計LV203で測定した。塗布条件塗布条件としては、塗布幅100mm、塗布長50m、塗布液の塗布時の温度は25°Cで行った。予備乾燥工程の条件乾燥室を流れる乾燥風の温度:25°C乾燥室の入り口から出口までの距離:200mm乾燥室の内側の表面の表面粗さRa:5μm乾燥室の有機薄膜層形成用塗布液の塗布幅に対する割合:150乾燥室の減圧度:30Pa乾燥風の流れる方向は帯状基材の搬送方向と同じとした。比較試料の作製予備乾燥工程を使用せずに本乾燥工程で温度120°Cで乾燥した他は全て同じ条件で行い有機薄膜層を形成し比較試料No.111とした。評価作製した各試料No.101から111に付き、始め5mと、終わり5mとの箇所から試料を抜き取り、膜厚安定性を以下に示す測定方法により測定し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表1に示す。膜厚安定性の測定方法濃度と膜厚との関係が直線関係にあることから、コニカミノルタ製コニカデンシトメーターPDM-7を使用し、幅手方向に10mm間隔で濃度を測定し、試料に付き31点の濃度のバラツキを膜厚安定性として、次の式より計算で求めた。膜厚安定性バラツキ=最高濃度-最小濃度/平均濃度×100膜厚安定性バラツキの評価ランク◎:バラツキが1.0未満○:バラツキが1.0以上、3.0未満△:バラツキが3.0以上、5.0未満×:バラツキが5.0以上有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したITO膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、バックロールの上に入り口から出口のバックロールの表面からの高さを0.1mmから10.0mmで連続的に単調に増加した乾燥室を有し、乾燥室を減圧とする乾燥装置を使用し、層流状態の乾燥風が流れる予備乾燥工程を通過させ、本乾燥工程で乾燥し有機薄膜層を形成した試料No.102から109は膜厚安定性が優れた性能を示すことが確認された。予備乾燥工程の乾燥室の上に入り口のバックロールの表面からの高さを0.0.07mm、出口のバックロールの表面からの高さを20.0mmと連続的に単調に増加した乾燥室を有し、乾燥室を減圧とする乾燥装置を使用して作成した試料No.101は、膜厚バラツキが本発明の試料No.102から109に比べ実用上問題にはならないが僅かに劣ることが確認された。予備乾燥工程の乾燥室の上に入り口のバックロールの表面からの高さを20.0mm、出口のバックロールの表面からの高さを55.0mmと連続的に単調に増加した乾燥室を有し、乾燥室を減圧とする乾燥装置を使用して作成した試料No.109は、膜厚バラツキが本発明の試料No.102から109に比べ実用上問題にはならないが僅かに劣ることが確認された。有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したITO膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、予備乾燥工程を使用せず、加熱した層流の乾燥風で乾燥して作製した試料No.111は膜が流れることで、膜厚安定性が本発明の試料No.101から110に比べ劣ることが確認された。本発明の有効性を確認した。実施例2帯状基材の準備実施1と同じ帯状基材を準備した。第1電極ITO膜の形成実施1と同じ方法で準備した帯状基材の上に第1電極ITO膜を形成した。有機薄膜層形成用塗布液の準備実施例1と同じ有機薄膜層形成用塗布液を準備した。塗布実施例1で使用したものと同じスリット型ダイコーターを使用し、図1に示す製造工程で、準備した有機薄膜層形成用塗布液を準備した帯状基材の上に塗布速度1.0m/minから10.0m/minで塗布し、ウェット膜厚6.0μmの有機薄膜層形成用塗膜を形成し、予備乾燥工程を通過させた後の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量を表2に示す様に変化させた他は、実施例1で作成した試料No.106と同じ方法で帯状基体の上に有機薄膜層を形成し試料No.201から208とした。尚、予備乾燥工程を通過させた後に有機薄膜層形成用塗膜に含まれる溶媒量を0.007から10.5質量までの調整は、乾燥室の入り口から出口までのバックロールの表面からの高さ、乾燥装置内の圧力制御室の圧力、搬送速度、等を変化させることで行った。予備乾燥工程を通過させた後の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量とは、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対する割合質量を示す。尚、ウェット膜厚とは、実施例1と同じ理論膜厚を言い、実施例1と同じ方法で測定した値を示す。又、塗布速度は、三菱電機株製レーザドップラ速度計LV203で測定した。塗布条件塗布条件としては、実施例1と同じ条件で行った。評価作製した各試料No.201から208に付き、始め5mと、終わり5mとの箇所から試料を抜き取り、膜厚安定性を実施例1と同じ方法で測定し、実施例1と同じ評価ランクに従って評価した結果を表2に示す。有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したITO膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、層流状態の乾燥風が流れる予備乾燥工程を通過させ、予備乾燥工程を通過させた後の前記有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量が、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の0.01質量から10.0質量の状態で、本乾燥工程で乾燥し有機薄膜層を形成した試料No.202から207は膜厚安定性が優れた性能を示すことが確認された。有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したITO膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、層流状態の乾燥風が流れる予備乾燥工程を通過させ、予備乾燥工程を通過させた後の前記有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量が、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の0.007質量状態で、本乾燥工程で乾燥し有機薄膜層を形成した試料No.201は膜厚安定性が本発明の試料No.202から207に比べ実用上問題ない程度で劣ることが確認された。有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したITO膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、層流状態の乾燥風が流れる予備乾燥工程を通過させ、予備乾燥工程を通過させた後の前記有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量が、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量の7質量状態で、本乾燥工程で乾燥し有機薄膜層を形成した試料No.208は、膜厚安定性が本発明の試料No.202から207に比べ実用上問題ない程度で劣ることが確認された。有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に形成したITO膜の上に塗布し、有機薄膜層形成用塗膜を形成した後、予備乾燥工程を使用せず、加熱した層流の乾燥風で乾燥して作製した試料No.209は膜が流れることで、膜厚安定性が本発明の試料No.201から208に比べ劣ることが確認された。本発明の有効性を確認した。実施例3帯状基材の準備実施1と同じ帯状基材を準備した。第1電極ITO膜の形成実施1と同じ方法で準備した帯状基材の上に第1電極ITO膜を形成した。有機薄膜層形成用塗布液の準備実施例1と同じ有機薄膜層形成用塗布液を準備した。塗布実施例1で使用したものと同じスリット型ダイコーターを使用し、図1に示す製造工程で、準備した有機薄膜層形成用塗布液を準備した帯状基材の上に塗布速度1.0m/minから10.0m/minで塗布し、ウェット膜厚6.0μmの有機薄膜層形成用塗膜を形成し、表3に示す様に図2、図3に示す予備乾燥工程に入る前の有機薄膜層形成用塗膜の残存溶媒量を、帯状基材の搬送速度、スリット型ダイコーターと予備乾燥装置の開口部までの距離を変化させて処理した後、引き続き本乾燥工程で温度120°Cで乾燥し有機薄膜層を形成し試料No.301から308とした。尚、ドライ膜厚乾燥後の膜厚は100nmであった。予備乾燥工程に入る前の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量とは、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対する割合質量を示す。予備乾燥工程に入る前の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量は、実施例1と同じ方法で測定した値を使用した。尚、ウェット膜厚とは、実施例1と同じ理論膜厚を言い、実施例1と同じ方法で測定した値を示す。下式で算出される理論膜厚を言う。又、塗布速度は、三菱電機株製レーザドップラ速度計LV203で測定した。塗布条件塗布条件としては、実施例1と同じ条件で行った。予備乾燥工程を出る時の有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量は、乾燥室の入り口から出口までのバックロールの表面からの高さ、乾燥装置内の圧力制御室の圧力、搬送速度、等を変化させることで、有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して1.2質量とした。評価作製した各試料No.301から308付き、始め5mと、終わり5mとの箇所から試料を抜き取り、膜厚安定性を実施例1と同じ方法で測定し、実施例1と同じ評価ランクで評価した結果を表3に示す。有機薄膜層形成用塗膜に含有される溶媒量中の溶剤量が有機薄膜層形成用塗布液に含有される溶剤量に対して20質量以上で、予備乾燥工程に搬送し作製した試料No.301から307は膜厚安定性において優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。実施例4予備乾燥工程の乾燥風の温度を表4に示す様に変えた他は全て実施例1で作製した試料No.106と同じ条件で有機薄膜層を形成し試料No.401から407とした。尚、塗布を行った際の、雰囲気温度は25°Cであった。評価作製した各試料No.401から407に付き、始め5mと、終わり5mとの箇所から試料を抜き取り、膜厚安定性を実施例1と同じ方法で測定し、実施例1と同じ評価ランクで評価した結果を表4に示す。層流状態の乾燥風の温度を、有機薄膜層形成用塗布液を帯状基材の上に塗布する時の雰囲気温度25°C±5°Cにすることで塗布液膜の熱対流を抑え膜厚安定性に優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。実施例5予備乾燥工程の風流路乾燥風温度、乾燥流路高さ及び乾燥風流路の有機薄膜層形成用塗布液の塗布幅に対する割合を変え、乾燥風のレイノルズ数Re及び平均流速を表5に示す様に変えた他は全て実施例1で作製した試料No.106と同じ条件で有機薄膜層を形成し試料No.501から512とした。Re数は以下に示す式で表される。Re=ρvd/μ相当直径をd、乾燥風の密度ρ、乾燥風の粘度μ、乾燥風の粘性μ、平均流速をvとした時とする。評価作製した各試料No.501から512に付き、始め5mと、終わり5mとの箇所から試料を抜き取り、膜厚安定性を実施例1と同じ方法で測定し、実施例1塗同じ評価ランクで評価した結果を表5に示す。層流状態の乾燥風のレイノルズ数Reが73から1950で、且つ平均流速が0.3m/sec以上の条件にすることで膜厚安定性が優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。実施例6帯状の有機EL素子構造体可撓性基材/第1電極陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/第2電極陰極を図4に示す製造工程を使用し、予備乾燥工程を通過させた後の発光層形成用塗膜に含有される溶媒量を表7に示す様に変化させ、以下に示す方法で作製した後、断裁し有機EL素子を作製し試料No.601から608とした。尚、正孔輸送層、発光層、電子輸送層はスリット型ダイコーターで塗布し形成し、第1電極陽極、第2電極陰極は蒸着方式で成膜し形成した。帯状基材の準備厚さ100μm、幅200mm、長さ500mのポリエチレンテレフタレートフィルム帝人デュポン社製フィルム、以下、PETと略記するを帯状基材として準備した。尚、帯状基材には、予め第1電極を形成する位置を示すためにアライメントマークを第1電極が形成される面及び反対の面の同じ位置に設けた。第1電極の形成準備した帯状基材の上に5×10-1Paの真空環境条件で厚さ120nmのITOインジウムチンオキシドをスパッタリング法により、マスクパターン成膜を行い、取り出し電極を有する12mm×5mmの大きさの第1電極を一定間隔で12列連続的に形成し、一旦巻取り保管した。正孔輸送層形成用塗布液の準備ポリエチレンジオキシチオフェンポリスチレンスルホネートPEDOT/PSS、Bayer社製BytronPAI4083を純水で65、メタノール5で希釈した溶液を正孔輸送層形成用塗布液として準備した。正孔輸送層形成用塗布液の粘度は0.7mPasであった。粘度はブルックフィールド社製デジタル粘度計LVDV-Iを使用し、20°Cで測定した値を示す。正孔輸送層の形成準備したスリット型ダイコーターを使用し、準備された第1電極が形成されたロール状のPETを帯電除去処理した後、バックアップロールに保持されたPETの第1電極の上全面但し、両端の10mmは除くに、準備した正孔輸送層形成用塗布液を以下に示す条件で塗布した後、乾燥加熱処理を行った。帯電除去処理帯電除去処理は第1電極形成側を非接触式帯電防止装置を、裏面側を接触式帯電防止装置を使用した。非接触式帯電防止装置はヒューグルエレクトロニクス株製フレキシブルAC式イオナイズィングバーMODEL4100Vを使用し行った。接触式帯電防止装置は都ローラー工業株製導電性ガイドロールME-102を使用し行った。正孔輸送層形成用塗布液の塗布条件塗布条件としては、正孔輸送層形成用塗布液を塗布速度5m/min、塗布幅180mm、ウェット膜厚は2μm、正孔輸送層形成用塗布液の塗布時の温度は25°C、露点温度-20°C以下のN2ガス環境の大気圧下で、且つ清浄度クラス5以下JISB9920で行った。予備乾燥工程を通過した後の正孔輸送層形成用塗膜に含有される溶媒量は、正孔輸送層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して5質量とした。バックロールは直径300mmのものを使用した。予備乾燥工程の条件乾燥室を流れる乾燥風の温度:25°C乾燥室を流れる乾燥風の平均風速:1.0m/sec乾燥室の入り口のバックロール表面からの高さ:5mm乾燥室の出口のバックロール表面からの高さ:5mm乾燥室の入り口から出口までの距離:200mm乾燥室の内側の表面の表面粗さRa:5μm乾燥室の有機薄膜層形成用塗布液の塗布幅に対する割合:150乾燥風の流れる方向は帯状基材の搬送方向と同じとした。ウェット膜厚は、流量供給量/塗布幅×塗布速度により算出した理論値を示す。尚、塗布速度は、三菱電機株製レーザドップラ速度計LV203で測定した。乾燥及び加熱処理条件正孔輸送層形成用塗膜の乾燥及び加熱処理条件としては、正孔輸送層形成用塗布液を塗布し予備乾燥工程を通過した後、乾燥装置を使用し、乾燥装置のスリットノズル形式の流出口から成膜面に向け高さ100mm、流出風速1m/sec、幅手の風速分布5、温度120°Cの熱風を吹き付け残留溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置により温度150°Cで裏面伝熱方式の熱処理を行い、正孔輸送層を形成した。尚、ドライ膜厚乾燥後の膜厚は100nmであった。発光層形成用塗布液の調製ジカルバゾール誘導体CBP1.00質量イリジウム錯体Irppy30.05質量トルエン98.95質量発光層形成用塗布液の粘度は0.59mPasであった。粘度はブルックフィールド社デジタル粘度計LVDV-Iを使用し、20°Cで測定した値を示す。発光層の形成準備された正孔輸送層までが形成されたロール状のPETを帯電除去処理した後、正孔輸送層の上全面但し、PETの両端の10mmは除くに、準備したスリット型ダイコーターを使用し、発光層形成用塗布液を以下に示す条件で塗布した。塗布後、予備乾燥工程で処理し、予備乾燥工程を通過させた後の発光層形成用塗膜に含有される溶媒量を表5に示す様に変化させ、引き続き乾燥部で以下に示す条件により乾燥加熱処理を行った引き続き電子輸送層形成工程に搬送した。予備乾燥工程を通過させた後の発光層形成用塗膜に含有される溶媒量とは、発光層形成用塗布液に含有される溶媒量に対する割合質量を示す。予備乾燥工程を通過させた後の発光層形成用塗膜に含有される溶媒量の変化は、乾燥風流路を流れる乾燥風の平均流速を0.08m/secから2.5m/secに変えることで行った。帯電除去処理は発光層側に対して非接触式帯電防止装置を、裏面側に対して接触式帯電防止装置を使用した。非接触式帯電防止装置及び触式帯電防止装置は正孔輸送層を形成する時と同じものを使用した。発光層形成用塗布液の塗布条件塗布条件としては、発光層形成用塗布液を塗布速度5m/min、塗布幅180mm、ウェット膜厚は3μm、発光層形成用塗布液の塗布時の温度は25°C、露点温度-20°C以下のN2ガス環境の大気圧下で、且つ、清浄度クラス5以下JISB9920で行った。尚、塗布速度は、正孔輸送層の塗布速度と同じ測定方法で行った。予備乾燥工程の条件乾燥風流路を流れる乾燥風の平均流速を除いて正孔輸送層形成の時と同じ条件とした。予備乾燥工程内に搬送される時の発光層形成用塗膜に含有される溶媒量は、帯状基材の搬送速度、スリット型ダイコーターと予備乾燥装置の開口部までの距離を調整し、発光層形成用塗布液に含有される溶媒量に対して90質量とした。乾燥及び加熱処理条件発光層形成用塗膜の乾燥及び加熱処理条件としては、発光層形成用塗布液を塗布した後、乾燥装置を使用し、乾燥条件は、乾燥装置のスリットノズル形式の流出口から成膜面に向け高さ100mm、流出風速1m/sec、幅手の風速分布5、温度120°Cで溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置により温度150°Cで裏面伝熱方式の熱処理を行い、発光層を形成した。尚、ドライ膜厚乾燥後の膜厚は100nmであった。電子輸送層形成用塗布液の準備電子輸送層形成用塗布液として、0.5質量の電子輸送材料1を含有する1-ブタノール溶液を準備した。電子輸送層の形成準備された発光層までが形成されたロール状のPETを帯電除去処理した後、発光層の上全面但し、PETの両端の10mmは除くに、準備したスリット型ダイコーターを使用し、準備した電子輸送層形成用塗布液を以下に示す条件で塗布した。塗布後、乾燥部で以下に示す条件により乾燥加熱処理を行った後、第1電極の取り出し電極部の上に形成された正孔送層、発光層及び電子輸送層を除去し、パターン化した電子輸送層までを形成したPETを作製し、一旦巻取り保管した。帯電除去処理帯電除去処理は電子輸送層側を非接触式帯電防止装置を、裏面側を接触式帯電防止装置を使用した。非接触式帯電防止装置及び触式帯電防止装置は正孔輸送層を形成する時と同じものを使用した。電子輸送層形成用塗布液の塗布条件塗布条件としては、電子輸送層形成用塗布液を、塗布速度5m/min、塗布幅180mm、ウェット膜厚は2μm、電子輸送層形成用塗布液の塗布時の温度は25°C、露点温度-20°C以下のN2ガス環境の大気圧下で、且つ、清浄度クラス5以下JISB9920で行った。尚、塗布速度は、正孔輸送層の塗布速度と同じ測定方法で行った。予備乾燥工程の条件乾燥風流路を流れる乾燥風の平均流速も含め、正孔輸送層形成の時と同じ条件とした。ウェット膜厚は、流量供給量/塗布幅×塗布速度により算出した理論値を示す。尚、塗布速度は、三菱電機株製レーザドップラ速度計LV203で測定した。乾燥及び加熱処理条件電子輸送層形成用塗膜の乾燥及び加熱処理条件としては、電子輸送層形成用塗布液を塗布した後、乾燥装置を使用し、乾燥条件は、乾燥装置のスリットノズル形式の流出口から成膜面に向け高さ100mm、流出風速1m/sec、幅手の風速分布5、温度120°Cで溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置により温度150°Cで裏面伝熱方式の熱処理を行い、電子輸送層を形成した。尚、ドライ膜厚乾燥後の膜厚は50nmであった。第2電極の形成引き続き、電子輸送層までが形成されたPETに付けられたアライメントマークを検出し、アライメントマークの位置に従って形成された電子輸送層の上に第1電極の大きさ及び第2電極用取り出し電極を形成する大きさで、5×10-4Paの真空下にて第2電極形成材料としてアルミニウムを使用し、蒸着法にてマスクパターン成膜し、厚さ100nmの第2電極を積層し複数の有機EL素子を形成した有機EL素子構造体を作製した。断裁準備した複数の有機EL素子が連続的に繋がった状態のものを個別の有機EL素子の大きさにPETに付けられたアライメントマークを検出し、アライメントマークの位置に従って断裁し個別の有機EL素子を作製した。比較試料の作製予備乾燥工程を使用せずに本乾燥工程で正孔輸送層、発光層、電子輸送層を温度150°Cで乾燥した他は全て同じ条件で行い有機薄膜層を形成し比較試料No.609とした。評価作製した試料No.601から609に付き、始め5mと、終わり5mとの箇所から作製した試料を抜き取り、リーク電流特性、輝度ムラを以下に示す試験方法により試験し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表6に示す。リーク電流特性の試験方法定電圧電源を用いて、逆方向の電圧逆バイアスを5Vを5秒間印加し、その時有機EL素子に流れる電流を測定した。サンプル10枚の発光領域について測定を行い、最大電流値をリーク電流とした。リーク電流特性の評価ランク◎:最大電流値が1×10-6A未満○:最大電流値が1×10-6A以上、1×10-5A未満△:最大電流値が1×10-5A以上、1×10-3A未満×:最大電流値が1×10-3A以上。発光ムラ輝度ムラの測定方法定電圧電源を用いて、有機ELパネルに直流5Vを印加し、サンプル中央部の発光部6箇所の輝度差を目視で観察した。発光ムラ輝度ムラの評価ランク◎:輝度の差が全くない○:6箇所中、1箇所の輝度が異なる△:6箇所中、2箇所以上4箇所未満の輝度が異なる×:6箇所中、4箇所以上の輝度が異なる。本発明の予備乾燥の条件で、作製した可撓性基材/第1電極陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/第2電極陰極の層構成を有する有機EL素子である試料No.602から607は何れもリーク電流特性、輝度ムラ共に安定した性能を示すことを確認した。本発明の予備乾燥の条件外予備乾燥工程を通過させた後の塗膜に含まれる溶媒量が、塗布液に含まれる溶媒量に対して0.007質量で、作製した有機EL素子である試料No.601は、リーク電流特性、輝度ムラ共に試料No.602から607に対して劣る結果を示した。本発明の予備乾燥の条件外予備乾燥工程を通過させた後の塗膜に含まれる溶媒量が、塗布液に含まれる溶媒量に対して7.0質量で、作製した有機EL素子である試料No.608は、リーク電流特性、輝度ムラ共に試料No.602から607に対して劣る結果を示した。予備乾燥を行わずに作製した有機EL素子である試料No.609は、リーク電流特性、輝度ムラ共に試料No.602から607に対して劣る結果を示した。本発明の有効性が確認された。