"少なくとも一つの電磁放射を少なくとも一つのサンプルに提供する装置であって:少なくとも部分的に環帯形状を有する前記少なくとも一つの電磁放射を提供するように構成される複数のアキシコンレンズ;を備える、装置。前記アキシコンレンズを少なくとも部分的に囲むハウジング構成をさらに備える、請求項1に記載の装置。前記ハウジング構成は、解剖構造に挿入されるように形成されて構造化される、請求項2に記載の装置。前記ハウジング構成は、内視鏡に挿入されるように形成されて構造化される、請求項2に記載の装置。光学構成をさらに備え、前記光学構成は、前記少なくとも一つの電磁放射を受けるときに、前記アキシコンレンズのうちの少なくとも1つの伝達関数とは異なる前記光学構成の伝達関数を生成するさらなる放射を生成する、請求項1に記載の装置。複数の導波構成をさらに備え、前記複数の導波構成のうちの一つは、アキシコン構成のうちの少なくとも1つに結合され、前記複数の導波構成のうちの他の一つは、前記光学構成に結合される、請求項5に記載の装置。第1のおよび第3の放射が光学的開口を有する少なくとも一つの光学構成に衝撃を与えるときに、結果として生じるそれぞれの放射は、焦点深度または照射の最大径のほぼローリー範囲よりも大きい集束範囲のうちの少なくとも1つに少なくとも部分的に集中する、請求項1に記載の装置。焦点のスポット径は10μmよりも小さく、前記焦点深度または前記集束範囲はほぼ1mmよりも大きい、請求項7に記載の装置。焦点のスポット径は10μmよりも小さく、前記焦点深度または前記集束範囲はほぼ0.5mmよりも大きい、請求項7に記載の装置。焦点のスポット径は10μmよりも小さく、前記焦点深度または前記集束範囲はほぼ2mmよりも大きい、請求項7に記載の装置。少なくとも一つの電磁放射を少なくとも一つのサンプルに提供する装置であって:少なくとも一つの光学構成であって、少なくとも部分的に円形に対称なパターンを有する少なくとも一つの放射を前記光学構成を介して前記少なくとも一つのサンプルに送り、前記パターンの円形の断面を通して送られる前記放射の少なくとも一つの第1の部分は、前記パターンの少なくとも一つの他の断面を通して送られる前記放射の少なくとも一つの第2の部分の光学パス長さとは異なる光学パス長さを有する、光学構成;を備える、装置。前記少なくとも一つの放射の前記第1および第2の部分は、互いに異なるそれぞれの第1および第2の伝達関数と関連づられる、請求項11に記載の装置。複数の検出器を含む光干渉構成をさらに備え、前記検出器の各々は、前記第1の伝達関数および前記第2の伝達関数を検出するように構成される、請求項11に記載の装置。第1のおよび第3の放射が光学的開口を有する少なくとも一つの光学構成に衝撃を与えるときに、結果として生じるそれぞれの放射は、焦点深度または照射の最大径のほぼローリー範囲よりも大きい集束範囲のうちの少なくとも1つに少なくとも部分的に集中する、請求項13に記載の装置。焦点のスポット径は10μmよりも小さく、前記焦点深度または前記集束範囲はほぼ1mmよりも大きい、請求項11に記載の装置。焦点のスポット径は10μmよりも小さく、前記焦点深度または前記集束範囲はほぼ0.5mmよりも大きい、請求項11に記載の装置。焦点のスポット径は10μmよりも小さく、前記焦点深度または前記集束範囲はほぼ2mmよりも大きい、請求項11に記載の装置。前記少なくとも一つの光学構成は複数の導波構成を備え、前記導波構成の各々の放出位置で、前記少なくとも一つの光学構成は、前記電磁放射の各々の位相に予め決められた値をもたせる、請求項11に記載の装置。前記少なくとも一つの光学構成は、少なくとも一つの放射を生成するように構成される複数のアキシコンレンズを含む、請求項11に記載の装置。少なくとも一つの電磁放射を少なくとも一つのサンプルに提供する方法であって:複数のアキシコンレンズを用いて、少なくとも部分的に環帯形状を有する前記少なくとも一つの電磁放射を提供するステップ;を含む、方法。少なくとも一つの電磁放射を少なくとも一つのサンプルに提供する方法であって:少なくとも一つの光学構成を介して少なくとも一つの放射を前記少なくとも一つのサンプルに送るステップ;を含み、前記少なくとも一つの放射は、少なくとも部分的に円形に対称なパターンを有し、前記パターンの円形の断面を通して送られる前記放射の少なくとも一つの第1の部分は、前記パターンの少なくとも一つの他の断面を通して送られる前記放射の少なくとも一つの第2の部分の光学パス長さとは異なる光学パス長さを有する;方法。上述の課題に対処および/または克服するために、本開示の目的の1つは、特定の分解能にて少なくとも1つの解剖構造の微細画像を提供することができる、本開示に従ったシステム、方法およびコンピュータがアクセス可能な媒体の例示的実施形態を提供することである。本開示の別の目的は、従来のガウスビームの制限された焦点深度という制限、および延伸された焦点深度イメージングのOCT手順および/またはシステム並びに他の形態のためのベッセルビームシステムの空間周波数損失を克服することである。本開示の別の例示的実施形態によれば、2つを超えるイメージングチャネルが異なるベッセルおよび/またはガウスビームを照射/検出できる。さらなる例示的実施形態において、異なる伝達関数を照射および/または検出できる。このような付加的な例示的ビームで得られた画像の例示的な組合せは、回折限界の場合に提供されるμOCTCTFを促進することができ、また、被写界深度の延伸をさらに促進することができる。したがって、少なくとも一つの電磁放射を少なくとも一つのサンプルに提供するプローブ、装置、システムおよび方法の例示的実施形態は、提供されることができる。例えば、少なくとも部分的に環帯形状を有する電磁放射を提供するように構成される複数のアキシコンレンズは。提供されることができる。アキシコンレンズを少なくとも部分的に囲むハウジング構成housingarrangement、ハウジング装置は、提供されることができる。ハウジング構成は、解剖構造および/または内視鏡に挿入されるように形成されて構造化されることができる。電磁放射を受けるときに、アキシコンレンズのうちの少なくとも1つの伝達関数とは異なる光学構成の伝達関数を生成するさらなる放射を生成する光学構成opticalarrangement、光学装置は、提供されることができる。複数の導波構成のうちの一つは、アキシコン構成axiconarrangement、アキシコン装置のうちの少なくとも1つに結合され、複数の導波構成のうちの他の一つは、光学構成に結合される複数の導波構成wave-guidingarrangement、導波装置は、提供されることができる。他の例示的実施形態において、第1のおよび第3の放射が光学的開口を有する光学構成に衝撃を与えるときに、結果として生じるそれぞれの放射は、焦点深度および/または照射の最大径のほぼローリー範囲よりも大きい集束範囲に少なくとも部分的に集中することができる。焦点のスポット径は10μmよりも小さくありえて、焦点深度または集束範囲はほぼ1mm、0.5mm、2mm、などよりも大きくありえる。本開示のさらに他の例示的実施形態によれば、少なくとも一つの電磁放射を少なくとも一つのサンプルに提供するさらなるプローブ、装置、システムおよび方法は、提供されることができる。例えば、少なくとも一つの光学構成であって、少なくとも部分的に円形に対称なパターンを有する少なくとも一つの放射を光学構成を介してサンプルに送る光学構成は、提供されることができる。例えば、パターンの円形の断面sectionを通して送られる放射の少なくとも一つの第1の部分は、パターンの少なくとも一つの他の断面sectionを通して送られる放射の少なくとも一つの第2の部分の光学パス長さとは異なる光学パス長さを有する。本開示のなおさらなる例示的実施形態において、放射の第1および第2の部分は、互いに異なるそれぞれの第1および第2の伝達関数と関連づられることができる。複数の検出器を含み、検出器の各々は、第1の伝達関数および第2の伝達関数を検出するように構成される光干渉構成interferometricarrangement、光干渉装置は、提供されることができる。第1のおよび第3の放射が光学的開口を有する少なくとも一つの光学構成に衝撃を与えるときに、結果として生じるそれぞれの放射は、焦点深度または照射の最大径のほぼローリー範囲よりも大きい集束範囲に少なくとも部分的に集中することができる。本開示のさらなる例示的実施形態によれば、焦点のスポット径は10μmよりも小さくありえて、焦点深度または集束範囲はほぼ1mm、0.5mm、2mm、などよりも大きくありえる。光学構成は複数の導波構成を備えることができ、そして、導波構成の各々の放出位置で、光学構成は、電磁放射の各々の位相に予め決められた値をもたせることができる。光学構成は、少なくとも一つの放射を生成するように構成される複数のアキシコンレンズを含むことができる。下記の本開示の例示的実施形態の詳細な説明を、添付した請求の範囲とともに読むことで、本開示の例示的実施形態の上記および他の目的、特徴および利点が明らかになる。本開示の実施形態を図示する添付図面と組み合わせて下記の詳細な説明から、本発明のさらなる目的、特徴および利点が明白になる。各図の説明を以下に記す。図面の全体にわたって、特に記載がない限り、図示した実施形態における類似の特徴、要素、構成要素または部分を表すために同じ参照数字および文字を用いている。また、以下において、図面を参照して本開示について詳細に説明するが、これは図示した実施形態に関連して行うものである。添付した請求の範囲によって定義されるような本開示の真実の範囲および精神から外れずに、記載された例示的実施形態に対して変更や改造を行うことができるように意図している。本開示の一例示的実施形態によれば、複数のイメージングチャネルを用いることができ、例えば、ベッセルビーム照射または検出を提供するものを少なくとも1つと、ガウスビーム照射または検出を提供する別のものを少なくとも1つ用いることができる。この例示的な構成は、各組合せが異なるOCT画像に対応することができる、3つ以上の固有で分離可能な照射検出の組合せ例、ベッセル-ベッセル、ベッセル-ガウス、ガウス-ガウス等を用いることを促進することができる。図2の例示的なグラフで示されるように、2.5μm直径スポット用コヒーレント伝達関数CTFが提供される。例えば、図2は、予備データ210において用いられる回折限界200、延伸集束範囲0.15mmと、以下において集束範囲が2.0mmであるμOCTと呼ぶ、本開示に従う手順または技術の例示的実施形態の例示的結果との視覚的な比較を示す。本開示の一例示的実施形態によれば、heμOCTCTFは、例えば、ガウス-ガウス画像220、ベッセル-ガウス画像230およびベッセル-ベッセル画像240を組み合わせることによって、生成することができる。本開示の別の例示的実施形態では、例えば、0.5mm、1mm、2mm等他のものも同様によりも大きくあってもよい、軸方向の合焦範囲にわたって、例示的μOCTCTF手順/技術を使用したりおよび/または提供することができる。本開示のさらなる例示的実施形態によれば、横断方向のFWHMスポット径が、5μm、2μm、1μm等他のものも同様によりも小さくありうる。本開示のさらなる別の例示的実施形態では、平面波またはガウスビームによる照射と比較して、例えば約2、5、10、20、50、100等そして可能性としてはもっとの倍率で焦点深度を大きくすることができる。本開示のさらなる別の例示的実施形態では、異なる伝達関数と画像を組み合わせることにより、画像における高、低、中間の空間周波数の内容を、少なくとも部分的に回復することができる。図3A-3Cは、本開示の例示的実施形態に従う例示的な手順/技術を用いて得られた死体の冠状動脈斑の例示的なOCT画像を示す。例えば、図3Aでは、例示的なガウス-ガウス画像は低い空間周波数の情報を含む。図3Bでは、例示的なベッセル-ベッセル画像は、高分解能を提供するが、低および中程度の空間周波数を失っている。また、図3Cでは、結合したμOCT画像例、ガウス-ガウスガウス-ベッセルベッセル-ベッセルが提供され、画像は正規化され、同じ輝度/コントラスト値で表示されている。図4は、本開示に従うOCTカテーテルシステムの遠位の光学要素の別の例示的実施形態を示す。例えば、図4の例示的なシステムは、この例示的実施形態に従う遠位の光学設計の、アキシコン構成例、ペア、および環状図4において暗い影付きで示すおよびガウスビーム図4において暗い影付きで示すのルーティングを示す。図4に示す例示的なシステムは、特に、回折限界のCTF、および、例えば、回折限界の焦点深度より10倍長いことがありえる、軸方向の合焦範囲例、焦点深度を発生させることができる。導波路500の出力を、例示的なカテーテルシステムの中央に位置するコリメーター510によって平行化できる。平行にされた電磁放射例、光は、複数のアキシコン520および530を用いて、環状ビームに変換することができる。別の例示的実施形態によれば、アキシコンは屈折率勾配gradientindex、GRINを用いて、発生させたり作ることができる。図4に示すように、別の導波路540を、環帯の中央を通るようにルーティングすることができる。導波路の出力を、環帯の中央に位置するコリメーター550によって平行化できる。図5Aにおいて、平行にされた環状およびガウスビームのシミュレーションされた横断方向の強度プロファイルを示した。一または複数のGRINレンズ560のようなレンズを用いて、平行にされた環状ガウスビームをサンプルで合焦させることができる。複数のビームを合焦させることに加えて、意図的に色収差を生成し、かつ、透光性の外側シース570によって誘因された収差を補うように、GRINレンズ560を構成することができる。この色収差を生成によって軸方向の焦点をさらに延ばすことができる図5Bに示すように。デフレクター580によって動脈壁に電磁放射例、光を導くことができる。図6は、本開示の例示的実施形態に従ってμOCT画像を生成する造影システムの概要図を示す。図6の例示的実施形態で示したように、電磁放射例、光放射を提供するソース600の出力を、線形の偏波子602によって線形偏波させ、ビームスプリッタ604によって複数のビームに分割することができる。ビームの少なくとも1つをスイッチ606の入力ポートへと方向転換させることができる。スイッチ606の出力の少なくとも1つをビームスプリッタ610を介して送信することができ、第1の光/電磁放射ガイド612へつなぐことができる。スイッチ606の出力の他のものを、減衰器614によって減衰させることができ、第2の光/電磁放射ガイド616によって第3のビームスプリッタ618へとガイドすることができ、また、減衰器622、第3の光/電磁放射624および分散補償構成dispersioncompensationarrangement、分散補償装置626を介して基準リフレクタ620へと方向転換させることができる。光導波路612の出力を、カテーテル628のベッセル照射およびベッセル検出チャネルに接続することができる。図6に示すように、ビームスプリッタ604の出力のさらに別の1つを、第2の3ポートスイッチ630の入力ポートへと方向転換させることができる。スイッチ630の出力の1つを、ビームスプリッタ632を介して送信することができ、第4の光/電磁放射ガイド634へとつなぐことができる。スイッチ630の出力の別の1つを、減衰器635によって減衰させ、第5の光導波路636によって第4のビームスプリッタ638へとガイドされ、減衰器642、第5の光導波路644および第2の分散補償構成646を介して基準リフレクタ640へと方向転換させることができる。光導波路634の出力を、カテーテル628のガウス照射およびガウス検出チャネルに接続することができる。例えば、スイッチ606の状態が1で、第4のビームスプリッタ638の状態が2である場合、サンプルがベッセル照射チャネル図6の表1を参照によって照射されるように、光/電磁放射ガイド612だけを照射することができる。カテーテル628のベッセルおよびガウス検出チャネルの両方、いくらかまたはすべてによって、サンプルからの後方散乱光を採取することができる図6の表1を参照。ベッセル検出チャネルによって採取された電磁放射/光の部分を、第1の電磁放射/光導波路612によってビームスプリッタ610へと導くことができ、ここにおいて、このような放射/光を、基準リフレクタ620からの光と結合したり干渉することができる。また、図6に示すように、干渉信号の少なくとも一部を、ビームスプリッタ610によってピンホール648へと導くことができる。ピンホール648の出力を、偏波ビームスプリッタ650によって平行にしたり分割することができる。偏波ビームスプリッタ650の出力のうちの1つを、半波長板652を介して送り、分光計654によって検出することができる。偏波ビームスプリッタ650の出力の別のものを、第2の分光計656によって検出することができる。ガウス検出チャネルによって採取された電磁放射/光の一部を、光導波路634によってビームスプリッタ632へと導くことができ、ここで、基準リフレクタ640からの光と結合したり干渉する。干渉信号の少なくとも一部を、ピンホール658へのビームスプリッタ634によって導くことができる。ピンホール658の出力を偏波ビームスプリッタ660によって平行にし分割することができる。偏波ビームスプリッタ660の出力の少なくとも1つを、半波長板662を介して送り、第3の分光計664によって検出することができる。偏波ビームスプリッタ660の出力の別のものを、第4の分光計666によって検出することができる。例えば、スイッチ606の状態が2でスイッチ638の状態が1である場合、第4の電磁放射/光導波路634だけが照射されることができ、その結果、サンプルがガウス照射チャネルによって照射される図6の表1に示した。カテーテル630図6の表1に示されるのベッセルおよびガウス検出チャネルの両方によって、サンプルからの後部散乱された電磁放射/光を採取することができる。ベッセル検出チャネルによって採取された電磁放射/光の少なくとも一部が、電磁放射/光導波路612によってビームスプリッタ610へと導かれ、ここで、基準リフレクタ620からの光と結合したり干渉することができる。干渉信号の少なくとも一部をビームスプリッタ610によってピンホール648へと導くことができる。ピンホール648の出力を偏波ビームスプリッタ650によって平行にし分割することができる。偏波ビームスプリッタ650の出力の少なくとも1つを、半波長板652を介して送り、分光計654によって検出することができる。偏波ビームスプリッタ650の出力の別のものを、第2の分光計656によって検出することができる。ガウス検出チャネルによって採取された光の部分を、電磁放射/光導波路634によってビームスプリッタ632へと導き、ここで、基準リフレクタ640からの光/放射と結合し、干渉する。干渉信号の少なくとも一部を、第4の電磁放射/光導波路634によってピンホール658へと導くことができる。ピンホール658の出力を偏波ビームスプリッタ660によって平行にし分割する。偏波ビームスプリッタ660の2つの出力の少なくとも1つを、半波長板662を介して送り、第3の分光計664によって検出することができる。偏波ビームスプリッタ660の出力の別のものを、第4の分光計666によって検出することができる。このような偏波ビームスプリッタ650、半波長板652および分光計654、656の組合せ、および/または偏波ビームスプリッタ660、半波長板662、分光計664、666の組合せによって実装された図6に示した例示的な偏波ダイバーシティ検出スキーム/構成は、組織または光ファイバーの複屈折に伴う人工物を減少および/または排除することができる。図6に示した本開示に従うμOCTカテーテルシステムの例示的実施形態は、例えば、カテーテルから導波路612および632に光/放射を独立して送出および/または受けることができる、複数の導波路を含むことができる。検出された信号は、画像取得ボード670を介してコンピュータ668によってデジタル化し転送することができる。データを、モニター672にまたはモニター672を介してデジタル表示し、および/または記憶装置674に保存することができる。本開示に従うと、一例示的実施形態においては時間ドメインOCTTD-OCTシステムを用いて、別の例示的実施形態においてはスペクトルドメインSD-OCTのシステムを用いて、さらなる別の例示的実施形態においては光周波数ドメイン干渉法OFDIシステムを用いて、μOCT検出技術を実装することができる。本開示に従う造影システムの例示的実施形態を用いて、異なる伝達関数の照射および検出の構成からの複素画像および/または実画像を得ることができる。一例示的実施形態では、このような例示的な画像をフィルタリングし、再結合して、品質向上した新しい画像および回折限界のCTFをより正確に近似するCTFを生成することができる。異なる伝達関数を有する例示的な画像を非干渉的および/または干渉的にフィルタリングまたは再結合して、回折限界のCTF手順/技術をより正確に近似するCTF手順/技術によって新しい画像を生成することができる。図7は、回折限界のCTF、および例えば、回折限界の焦点深度より約10倍長いことがある軸方向の合焦範囲例、焦点深度を発生させる、本開示に従うOCTカテーテルの遠位の光学構成の別の例示的実施形態を示す。例えば、導波路700の出力をコリメーター710によって平行化できる。実際に、導波路700を環状ビームを介してルーティングすることができ、平行にされたガウスビームを環帯の中央を通るようにルーティングすることができる。複数のアキシコン、例えば、GRINgradientindex、屈折率勾配アキシコン720および730、を介して平行にされた光を環状ビームに変換することができる。個別の導波路740を環帯の中央を通ってルーティングすることができる。導波路740の出力を環帯の中央に位置するコリメーター750によって平行化できる。平行にされた環状ガウスビームを、例えば、一または複数のGRINレンズとすることができる、一または複数のレンズ760を用いて、サンプルに合焦させることができる。ビームを合焦させることに加えて、色収差を意図的に発生させるようにGRINレンズ760を構成および/または構築することができ、これによって、軸方向の焦点をさらに延ばし、透光性の外側シースが誘因した収差を補うことができる。光/放射をデフレクター770によって動脈壁に導くことができる。図8は、本開示に従うOCTカテーテルの遠位の光学構成の別の例示的実施形態を示す。このような例示的な構成は回折限界のCTF、および、例えば、回折限界の焦点深度より10倍を超えて長い焦点深度を発生させるために用いることができる。導波路800の出力をコリメーター810によって平行化できる。コリメーター810によって作られた瞳の開口は、複数のビーム、すなわち、中央の円形ビーム、および環状ビーム、に分割することができる。実質的に中央領域と類似または同一な開口を有する、対物レンズ、色消しレンズ、アプラナートレンズまたはGRINレンズのような、一または複数のレンズ820が、組織またはサンプルへと低NAガウスビームを合焦させることができる。環状ビームをスペーサー830を介して送信し、実質的に環状ビームと類似または同一の開口を有する環状のアキシコンレンズ840によってサンプルに合焦させることができる。ビームをデフレクター850によってサンプルに導くことができる。例えば、中央照射/中央検出、中央照射/環状検出、環状照射/環状検出、環状照射/中央検出である、4つのチャネル、から4つの画像を生成することができる。例えば、4つの、生成された画像のそれぞれを経路長符号化できるように、レンズ820の光路長をスペーサー830の光路長とは異なるように構成することができる。この例示的実施形態では、異なる画像を検出することができ、本開示に記載した例示的な方法および/または手順に従って、それらのCTFを組み合わせることができる。図9は、本開示に従うOCTカテーテルシステムの遠位の光学構成の別の例示的実施形態を示し、これは、回折限界のCTF、および回折限界の焦点深度より長い焦点深度を生成するために用いることができる。例えば、図9に示すように、導波路900の出力をコリメーター910によって平行化できる。コリメーター910によって作られた瞳の開口を、対物レンズの開口の中央に位置する円形のガラス窓920によって複数の領域に分割することができる。例えば、i円形のガラス窓920を介して送られる中央の円形領域およびii環状の領域である。中央の円形ビームを低NAガウスビームとして組織および/またはサンプルに合焦させることができ、環状ビームをレンズ930によって組織内のベッセルビーム焦点へと合焦させることができる。ガラス窓を空気よりも高屈折率とすることができ、異なるチャネルを経る光/放射の場を経路長分離および/または符号化できるように、ガラス窓の厚さを選ぶことができる。各Aラインでは、例えば、4つのチャネルから到来する信号は、3つ以上のセグメントがあることができる。すなわち、中央照射/中央検出、中央照射/環状検出、環状照射/環状検出、環状照射/中央検出である。図10は、回折限界のCTF、および回折限界の焦点深度より長くなりうる焦点深度を発生させる、OCTカテーテルシステムの遠位の光学構成の例示的実施形態を示す。導波路1000の出力をコリメーター1010によって平行化できる。コリメーター1010によって作られた瞳の開口を、いくつかの同心状の領域1020、1030、1040に分割することができる。各領域におけるビームを異なる軸方向の合焦位置に合焦させることができるように、GRINレンズのような多焦点レンズを用いることができる。このような散乱したビームが互いに干渉しないように、各領域からの散乱光/放射を光路長符号化することができる。この例示的実施形態では、本開示に記載された例示的な方法および手順に従って、異なる画像を検出することができ、それらのCTFを結合することができる。図11は、回折限界のCTF、および回折限界の焦点深度より長い軸方向の合焦範囲例、焦点深度を発生させる、OCTカテーテルシステムの遠位の光学構成のさらなる別の例示的実施形態を示す。例えば、点物体1100の出力を、ミラートンネルデバイス1110によって、例えば、0次のビーム1120、1次のビーム1130、2次のビーム1140等の複数の次数の光/放射ビームに変換することができる。放射の次数の大部分またはすべてがサンプル内の同じ合焦位置で合焦するように合焦装置1150が用いられると、各次数の放射が合焦装置の照射/検出CTFの空間周波数の固有なバンドを含むことができる。さらなる別の例示的実施形態において、これらの次数は、それらによって生成された画像を検出できるように経路長符号化することができ、それらのCTFが本開示に記載された例示的なCTF組合せ方法および/または手順に従って異なる次数に対応する異なる画像を用いて組み合わせられる。図12は、回折限界のCTF、および回折限界の焦点深度より長い焦点深度を発生させる本開示に従うOCTカテーテルシステムの遠位の光学構成の別の例示的実施形態を示す。図12に示すように、導波路1200の出力をハーフボールレンズ1210によって合焦させることができる。ハーフボールレンズ1210の平面の表面には、二成分の位相パターン1220を有することができる。さらなる別の例示的実施形態において、小さな位相シフトを作るようにパターンの深さを構成することができる。例えば、198nm850nmのπ位相シフトのパターン深さである。別の例示的実施形態では、上面をAu等によって反射被覆で覆うことができ、底面を同じ被覆および/またはAl等によって別の被覆で覆うことができ、最終位相シフトが、ガラスマスク例、金属被覆ではないの光位相長差および総位相シフト例、マスク被覆を示す図13のグラフで示された曲線1300によって与えられる。図13のグラフの曲線1310および曲線1320は、45度の入射角でのそれぞれBK7-AlおよびBK7-Auでの反射の際に、p偏波光の波長依存相転移を有することができる。曲線1330は、BK7-空気の界面における45度反射の際の、例えば、198nmの高さの差に起因する光の波長依存性位相シフトであることができる。二成分の位相マスクは、回折限界の軸方向の焦点図14aに図示と比較して延びた軸方向の焦点図14bに図示を作るように最適化することができる。異なる位相シフトを示す表面から伝わる光/放射が異なる伝達関数を発生させることができ、これを、本開示に記載された例示的な方法および/または手順に従って異なるCTFを用いて新しい画像を作るように検出し組み合わせることができる。図15Aは、回折限界のCTF、および回折限界の焦点深度より長い焦点深度を発生させるOCTカテーテルシステムの遠位の光学構成の別の例示的実施形態の側方断面図である。例えば、図15Aのシステムは、例えば、約2、5、10、20、10、100等の倍率の結果を発生させる。導波路1500の出力を一または複数のレンズ1510によって平行化できる。この平行ビームを、同一または類似の位相パターンを有する正位相プレートおよび負位相プレートを含むことができる、位相ダブレット1520によって空間変調することができる。正位相プレートおよび負位相プレートのアッベ数を一致させることによって、波長依存性位相エラーをなくすかまたは減少させることができる。図15Bは、図15Aに示した例示的なマスク例、BK7-SNPH2位相ダブレットマスクの横断方向の位相プロファイルの例示的なグラフを示す。例えば、Ohara社のS-NPH2Vd=18.896912、Nd=1.922860およびSchott社のBK7Vd=64.167336、Nd=1.5168を深さ7.2554μmおよび13.4668μmでそれぞれ選ぶことにより、位相プロファイルが図15Bで示されるものとなる。空間変調されたビームを対物レンズ1530によって延伸した軸方向の焦点へ合焦させることができる。図16は、好ましくは、約2、5、10、20、10、100等の倍率の分回折限界の焦点深度より長い、本開示に従う回折限界のCTFおよび焦点深度を発生させるOCTカテーテルシステムの遠位の光学構成のさらなる別の例示的実施形態を示す。光源1600の出力をビームスプリッタ1610によって分割することができる。ビームスプリッタの出力の少なくとも1つのビームの開口アパーチャを、ロッドミラー1620によって複数の領域に分割または分離することができる。例えば、ロッドミラー1620は、ビームの中央部を対物レンズ1640によって基準リフレクタ1630へと方向転換させることができる。環状ビームを一または複数のレンズ1640と実質的に類似または同一とすることができる、第2の対物レンズ1660によってサンプルのベッセル焦点へと合焦させることができる。これは、延伸した軸方向の焦点および横断方向における超分解能という特徴を有する図18Dの例示的μOCT画像に示すように。サンプルから後部散乱した光を、ピンホール1660にてロッドミラーを介して基準リフレクタから反射された光と結合させる。ピンホール1660の出力は、分光計1670によって検出される。対物レンズ1650は意図的に色収差と球面収差を発生させるように構成され、これによって、軸方向の焦点をさらに延伸する図18Cおよび18Dの例示的なμOCT画像に示すように。図18Aは、複数の白血球矢を示す冠状動脈斑の例示的なμOCT画像を示す。また、図18Bは、2つの異なる細胞の種類の複数の白血球矢を示す冠状動脈斑の例示的μOCT画像を示し、一方は、細胞質が不十分ぎみなリンパ球Lが均一な比較的小さな細胞であり、他方は、単球Mを示す、高度に分散した細胞質を有する比較的大きな細胞である。実際に、図18Aは、本開示に従う方法、システムおよび装置の例示的実施形態を用いて生成された複数の白血球1800を示す冠状動脈斑の例示的μOCT画像を示す。図18Bは、2つの異なる細胞の種類の複数の白血球を示す冠状動脈斑の例示的μOCT画像を示し、一方は、細胞質が不十分ぎみでリンパ球が均一な比較的小さな細胞1810であり、他方は、単球を示唆する、高度に分散した細胞質を有する比較的大きな細胞1820である。図18Cは、単球のぎざぎざが付いた豆形の核の特徴を有する細胞1830を示す冠状動脈斑の例示的μOCT画像を示す。図18Dは、多重葉状の核を有する白血球1840を示す冠状動脈斑の例示的μOCT画像を示し、これは、内皮表面に付着する好中球を示唆している。図18Eは、偽足1860によって内皮表面に拘束された複数の白血球1850を示す冠状動脈斑の例示的μOCT画像を示す。図18Fは、この断面に単球の形態を有する細胞1870を示す冠状動脈斑の例示的μOCT画像を示し、挿入箇所は、内皮1880を介しての移動を示す。また、図18Gは、内皮表面上で分配された複数の白血球1890の例示的μOCT画像を示す。図19A-19Eは、本開示に従う方法、システムおよび装置の例示的実施形態を用いて生成された例示的な画像を示す。例えば、図19Aは、小さな血小板1920黄色の矢に付着する、好中球1910Nの白血球特徴部分に隣接した血小板1900Pの例示的μOCT画像を示す。図19Bは、冠状動脈壁における間隙を架橋する線形の鎖のように見えるフィブリン1930Fの例示的μOCT画像を示す。図19Cは、図19Bの隣接したサイトにおけるフィブリンに付着する、白血球1940Lのクラスターの例示的μOCT画像を示す。図19Dは、複数のトラップされた白血球を含む線維素性血栓1950Tの例示的μOCT画像を示す。図19Eは、白血球1970矢およびフィブリン鎖1980挿入箇所、Fを示す、より進行した血栓1960TのμOCT画像である。図20A-20Dは、本開示に従う方法、システムおよび装置の例示的実施形態を用いて生成された例示的な画像をさらに示す。例えば、図20Aは、培養下の内皮細胞2000の断面の例示的μOCT画像を示す。図20Bは、培養下の内皮細胞2010の正面の例示的μOCT画像を示す。図20Cは、野生ブタの冠状動脈断面2020の例示的μOCT画像を示す。図20Dは、内皮の舗装2030を示す、ブタの冠状動脈の三次元レンダリングを示す。図20A-20Dは、本開示に従う方法、システムおよび装置の例示的実施形態を用いて生成された例示的な画像をさらに示す。図21Aは、繊維キャップ2100のμOCT画像内の明るい部分として表れている微細石灰化の例示的なμOCT画像を示す。図21Bは、対応する組織2110における紫の部分として表れている微細石灰化の例示的μOCT画像を示す。また、図20A-20Dは、本開示に従う方法、システムおよび装置の例示的実施形態を用いて生成された例示的な画像をさらに示す。例えば、図22Aは、破裂した内膜/内皮2200を示す、大規模なカルシウム小結節の例示的μOCT画像を示す。図22Bは、フィブリン2210を均一に含有する微視的な組織鎖を示す赤い長方形で囲まれた例示的な領域の拡大図を示し、非保護のカルシウム2220が、対向する脱離した内膜に隣接している。図22Cは、フィブリン2230および露出された石灰性の表面2240を示す対応する組織を示す。また、図23A-26Cは、本開示に従う方法、システムおよび装置の例示的実施形態を用いて生成された例示的な画像をさらに示す。例えば、図23Aは、上面および底面から反射するという特徴を有する、厚いコレステロール結晶2310を示す、大規模な壊死性コア2300線維アテロームfibroatheromaの例示的μOCT画像を示す。図23Bは、別の壊死性コア斑2330のキャップを貫通する、薄い結晶2320の例示的μOCT画像を示し、挿入箇所にて詳細に示した。図24Aは、低い後方散乱したスピンドル形の細胞挿入箇所として表れている多数の平滑筋細胞2400の例示的μOCT画像を示す。図24Bは、コラーゲンを作る平滑筋細胞の例示的μOCT画像を示し、これは、スピンドル形状であり、それぞれ細胞体2430およびコラーゲンマトリックス2440を表わしうる例、微細構造の挿入箇所、高度に後方散乱される内部2410および低い後方散乱の光背2420を有する。図25Aは、ポリマー2500なしのもの、薬品2510なしのポリマーありのもの、および薬品2520ありのポリマーありのものの、TaxusLiberie米国マサチューセッツ州NatickのBostonScientific社製品のストラットの例示的μOCT画像を示す。ポリマー被覆を施したストラットについては、ポリマー反射2530、ストラット反射2540および繰り返し反射2550および2560が見られる。図25Bは、新内膜2580でカバーされたポリマーなしのストラットを示す、注入されたBMS2570を含む死体の冠状動脈の試験片の例示的μOCT画像を示す。図25Cは、ストラット反射2595挿入箇所に重なったポリマーを示す、別の死体からの注入されたDESストラット2590を含む死体の冠状動脈の試験片の例示的μOCT画像を示す。また、図26Aは、組織2600がステントストラット2620からポリマー2610を分離し、ポリマーが2630を破砕されたことを示す例示的なOCT画像を示す。図26Bは、表面的な白血球クラスター2640および隣接して付着した白血球2650がポリマー破損2660のサイトに重なっていることを示す例示的μOCT画像を示す。図26Cは、別の患者からのストラット2680の端にある炎症2670を示す例示的μOCT画像を示す。図26Dは、内皮がまったく重なっていない無被覆のストラット2690を示す例示的μOCT画像を示す。図27Aは、本開示の一例示的実施形態に従う少なくとも1つのサンプルの少なくとも1つの部分に関連づけられたデータを提供する方法の流れ図を示す。例えば、手順2710では、少なくとも1つの光学構成例、本開示にて記載された様々な例示的実施形態に記載されているようにを介してサンプルの少なくとも1つの部分へと少なくとも1つの第1の放射が送られ、第1の放射に基づく少なくとも1つの第2の放射が当該部分から受けられる。光学構成と、第1の放射および/または第2の放射との間の相互作用に基づいて、この光学構成が第1の伝達関数を有する。次に手順2720では、少なくとも1つの第3の放射はこのような光学構成を介して当該部分へ送られ、第3の放射に基づく少なくとも1つの第4の放射が当該部分から受けられる。この光学構成と、第3の放射および/または第4の放射との間の相互作用に基づいて、光学構成が第2の伝達関数を有する。第1の伝達関数は、第2の伝達関数とは少なくとも部分的に異なることができる。また、手順2730では、部分に関連づけられたデータを第2および第4の放射に基づいて生成することができる。図27Bは、本開示の別の例示的実施形態に従う少なくとも1つのサンプルの少なくとも1つの部分に関連づけられたデータを提供する方法の流れ図を示す。例えば、手順2760では、少なくとも1つの第1の放射を少なくとも1つの第1の光学構成例、本開示における様々な例示的実施形態に記載されているようにを介してサンプルの少なくとも1つの部分へ送り、第1の放射に基づく少なくとも1つの第2の放射を当該部分から受ける。第1の光学構成と、第1の放射および/または第2放射との間の相互作用に基づいて、第1の光学構成が第1の伝達関数を有する。次に、手順2770において、少なくとも1つの第3の放射が少なくとも1つの第2の光学構成を介して当該部分へ送られ、第3の放射に基づく少なくとも1つの第4の放射を当該部分から受ける。第2の光学構成と、第3の放射および/または第4の放射との間の相互作用に基づいて、光学構成が第2の伝達関数を有する。第1の伝達関数は、第2の伝達関数とは少なくとも部分的に異なることができる。また、手順2780において、当該部分に関連づけられたデータを第2および第4の放射に基づいて生成することができる。上記は、本開示の原理を単に示したにすぎない。記載された実施形態に対する様々な変更や変質は、本開示の教示を考慮すると当業者に明白である。例えば、記載された例示的な構成、放射および/またはシステムを複数、本開示の例示的な実施形態を実装するために実装することができる。実際に、本発明の例示的な実施形態に従う構成、システムおよび方法を、いずれのOCTシステム、OFDIシステム、SD-OCTシステムまたは他の造影システムとともに実装することができる。例えば、2004年9月8日出願の国際特許出願PCT/US2004/0291482005年5月26日に国際特許公報WO2005/047813として刊行、2005年11月2日出願の米国特許出願11/266,7792006年5月4日に米国特許出願公報2006/0093276として刊行、2004年6月4日出願の米国特許出願10/861,1792005年1月27日に米国特許出願公報2005/0018201として刊行、2004年7月9日出願の米国特許出願10/501,276、2006年6月1日出願の米国特許出願11/445,990、2007年4月5日出願の国際特許出願PCT/US2007/066017、および2006年8月9日出願の米国特許出願11/502,330に記載されたものであり、これらの開示全体を参照によって本開示に組み入れる。本開示に明示的に示されていなかったり記載されていなくても、本開示の原理を実装し、したがって、本開示の精神および範囲内にある、数々のシステム、構成および方法を当業者が実現することができることが理解できるであろう。また、上において先行技術の知識が参照によって明示的に本開示に組み込まれていない場合であっても、それら先行技術の知識全体を明示的に本開示に組み込む。本開示において上に参考文献として掲載した刊行物はすべて、参照によって全体を本開示に組み入れる。"