流路内を移動する検出対象に光を照射する第一光源、及び該第一光源から前記検出対象に光を照射することによって発生した第一光学情報を検出する第一検出部を備えた第一検出手段と、該第一検出手段の前記検出対象移動方向の下流側に配置され、光を発射する第二光源、該第二光源からの光を偏向して前記流路内を移動する前記検出対象に偏向光を照射する光偏向器、及び該光偏向器からの偏向光が照射された前記検出対象が発する第二光学情報を検出する第二検出部を備えた第二検出手段と、前記第一光学情報から得られた前記検出対象の位置情報に基づいて、前記光偏向器から照射する前記偏向光に係る偏向角度を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする粒子検出装置。前記光偏向器は、印加電圧により偏向角を制御可能な材料を用いて形成されていることを特徴とする請求項1に記載の粒子検出装置。前記制御手段は、前記印加電圧を生成し、前記電圧の振幅及び周波数を制御する駆動制御回路を備えたことを特徴とする請求項2に記載の粒子検出装置。前記第一光学情報は、前記第一光源からの光を照射された前記検出対象が発生させる検出光情報と、前記第一光源の光束上に配置され、且つ該第一光源に対して位置が固定された基準位置明示手段が発する基準光情報と、を含み、前記制御手段は、前記検出光情報と前記基準光情報との時間差に基づいて、前記第一光源の光軸方向における前記検出対象の位置を算出することを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の粒子検出装置。請求項1乃至4の何れか一項に記載の流体検出装置と、前記検査対象が移動する流路と、前記第二光学情報を分析する分析手段と、を有することを特徴とするフローサイトメータ。流路内を移動する検出対象に第一光源が光を照射し、該第一光源から前記検出対象に光を照射することによって発生した第一光学情報を第一検出部が検出する第一検出ステップと、第二光源が発する光を光偏向器により偏向して前記流路内を移動する前記検出対象に照射し、該偏向光が照射された前記検出対象が発する第二光学情報を第二検出部が検出する第二検出ステップと、を有し、該第二検出ステップは、前記第一光学情報から得られた前記検出対象の位置情報に基づいて、前記光偏向器を制御することにより前記偏向光を前記検出対象に照射することを特徴とする粒子検出方法。特許文献1においては、レーザー照射位置を最適化することによって検出感度の向上を図っている。しかし、従来の照射位置制御は、フローサイトメータの操作者や装置の保守担当者が操作を行い、彼らが主観的に最適と考える位置に調整を行なうものであった。これによりフローサイトメータの計測結果は操作者の個人差や技量レベルに依存してばらつきを生むことがしばしばあるという問題があった。本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであり、適切な照射位置を算出して自動で光の照射位置合わせを行なうことにより、測定結果にばらつきが生じにくい流体検出装置を提供することを目的とする。上記の課題を解決するために、本発明の粒子検出装置は、流路内を移動する検出対象に光を照射する第一光源、及び該第一光源から前記検出対象に光を照射することによって発生した第一光学情報を検出する第一検出部を備えた第一検出手段と、該第一検出手段の前記検出対象移動方向の下流側に配置され、光を発射する第二光源、該第二光源からの光を偏向して前記流路内を移動する前記検出対象に偏向光を照射する光偏向器、及び該光偏向器からの偏向光が照射された前記検出対象が発する第二光学情報を検出する第二検出部を備えた第二検出手段と、前記第一光学情報から得られた前記検出対象の位置情報に基づいて、前記光偏向器から照射する前記偏向光に係る偏向角度を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。本発明においては、第一検出手段において検出対象についての位置情報を検出し、この位置情報に基づいて第二検出手段では、最適な位置に第二光源からの光が照射されるように、第二光源の光束を光偏光器によって偏向して検出対象に照射する。従って、適切な位置に光束が照射されように自動で調整が行われ、結果のばらつきが少ない測定ができる。本発明の実施の形態を説明する。本発明は、フローサイトメータの生物学的粒子の検出方式に際して、以下の特徴を有する。即ち、粒子検出装置は、流路内を移動する検出対象の位置を検出する手段として、検出対象に光を照射する第一光源、及び第一光源からの光を照射された検出対象が発する第一光学情報を検出する第一検出部を備えた第一検出手段を有している。さらに、第一光学情報から得られた検出対象の位置情報に基づいて適切な位置に光を照射する手段として、第一検出手段の下流側に配置され、光を照射する第二光源、第二光源からの光を偏向して流路内を移動する検出対象に偏向光を照射する光偏向器、及び光偏向器からの偏向光が照射された検出対象が発する第二光学情報を検出する第二検出部を備えた第二検出手段を有している。第一光学情報に基づいて算出された検出対象の位置から、制御手段が最適な照射位置を算出して光偏向器を制御することにより、第二検出手段では最適な照射位置に向けて偏向器で出射方向を制御された光束が出射される。これにより操作者が光束照射位置調整の設定を行なわなくても適切な位置調整が自動でなされるので、結果のばらつきが少ない測定ができることが特徴になっている。上記記載の本発明の特徴について、以下の図面を用いて詳細に解説する。図1は、本実施形態に係る粒子検出装置の一例を示す図である。粒子検出装置1は、第一検出手段10と、第二検出手段20と、制御手段30と、を備えている。また、フローサイトメータ100は、粒子検出装置1を含んで構成されており、検出対象111を含むサンプル液110が注入されるフローセル113流路と、第二検出手段20によって得られた検出対象111の光学情報を分析する分析手段とを備えている。なお、符号112は、シース流である。なお、以下の説明においては、第一検出手段10と制御手段30を含む系を第一検出系と呼び、第二検出手段20と制御手段30を含む系を第二検出系と呼ぶことがある。フローサイトメータ100においては、サンプル液110中にある検出対象111がシース流112によって一列に整列した状態でフローセル113内を矢印A方向に移動する。ここで、検出対象111は、例えば、細胞や微生物、DNA、タンパク質等の生物学的粒子を含む、フローセル113内を移動可能な全ての物質を指すものとする。粒子検出装置1において、第一検出手段10は、第一光源11と、第一検出部13とを有する。第一光源11は、フローセル113内をシース流112と共に移動する検出対象111に光を照射する機能を有する。第一光源11は、出射光がフローセル113内のシース流112に垂直に照射されるようにアライメントされている。第一光源11は、本発明に係る第一光源の代表的な一例である。第一検出部13は、検出対象111に対して第一光源11から光を照射することによって発生した光学情報を検出する機能を有する。第一検出部13が検出した光学情報光信号は、光電変換されて電気信号となり制御手段30に入力される。ここで、光学情報とは、側方や後方の散乱光、蛍光等である。第一検出部13は、本発明に係る第一検出部の代表的な一例である。第二検出手段20は、第一検出手段10よりもフローセル113の下流側に配置されている。第二検出手段20は、第二光源21と、光偏向器22と、第二検出部23とを有する。第二光源21は、光偏向器22に光を照射する機能を有する。第二光源21は、出射光が光偏向器22に照射されるようにアライメントされている。第二光源21は、本発明に係る第二光源の代表的な一例である。光偏向器22は、第二光源21から出射された光を偏向し、検出対象111に偏向光を照射する機能を有する。第二検出部23は、光偏向器22からの偏向光が照射された検出対象111が発する光学情報を検出する機能を有する。第二検出部23が検出した検出対象111が発する光学情報光信号は、光電変換されて電気信号となり制御手段30に入力される。ここで、光学情報とは、側方や後方の散乱光、蛍光等である。第二検出部23は、本発明に係る第二検出部の代表的な一例である。第一光源11及び第二光源21としては、検出対象111が発する光学情報散乱光や蛍光等を確実に発生させるために、出射光の方向、出射光の波長、出射光の強度が一定である光源を用いることが好ましい。第一光源11及び第二光源21としては、例えば、半導体レーザ等のレーザ光源を用いると好適である。第一光源11及び第二光源21として、例えば、LEDLightEmittingDiode、SHGSecondHarmonicGeneration素子等を用いることもできる。なお、第一光源11としては、一定出力を出力しつづけるCWレーザーContinuouswavelaserを用いることが望ましい。第一検出部13及び第二検出部23としては、例えば、フォトダイオード等を用いることができる。光偏向器22としては、例えば、電気光学効果ElectroOpticeffectを有する電気光学材料EO材料からなる偏向素子等を用いることができる。電気光学材料EO材料からなる偏向素子を用いた場合、偏向の制御は光偏向器22への電圧印加量によって行うことができ、操作が簡易である。代表的な電気光学材料EO材料としては、例えば、ニオブ酸リチウムLiNbO3の単結晶や、タンタル酸ニオブ酸カリウムKTa1-xNbxO3の単結晶等を用いることができる。なお、光偏向器22として、MEMSミラーやガルバノミラー、AOD音響光学素子等を用いてもよい。制御手段30は、第一検出部13が光学情報を検出したことを示す検出信号、及び検出対象111に関する情報に基づいて、光偏向器22の偏向角を算出し、第二検出手段20の検出領域を通過する検出対象111に偏向光が照射されるように光偏向器22を制御する機能等を有する。ここで、検出対象111に関する情報とは、検出対象111のフローセル113内における位置等である詳しくは後述する。制御手段30は、例えばCPU、ROM、メインメモリ等を含み、制御手段30の各種機能は、ROM等に記録されたプログラムがメインメモリに読み出されてCPUにより実行されることによって実現できる。但し、制御手段30の一部又は全部は、ハードウェアのみにより実現されてもよい。又、制御手段30は、物理的に複数の装置により構成されてもよい。制御手段30は、第二検出部23によって検出された検出対象111が発する光学情報を光電変換した電気信号に対して所定の処理を施し、検出対象111の形状や数を分析する分析手段を含んでいてもよい。但し、制御手段30をパーソナルコンピュータ等に接続し、パーソナルコンピュータ等で分析手段を実現してもよい。上述のとおり粒子検出装置1は、第一検出手段10と第二検出手段20の2つの検出手段を有する。第一検出手段10の第一検出部13にて検出された検出対象111のX方向の位置情報を第二検出系に送信する。ここで、X方向とは、第一光源11の光軸に沿った方向を意味する。第二検出系は第一検出系から粒子の位置情報を受け取ると、備える光偏向器を用いて光束を偏向させ、位置情報から得られた最適な照射位置に光束が向くように微調整する。ここで、従来の粒子検出装置の検出プロセスと比較しながら、本実施形態にかかる粒子検出装置の検出プロセスについて説明する。図2は、従来の粒子検出装置の検出プロセスを例示する図である。図3は、本実施形態にかかる粒子検出装置の検出プロセスを例示する図である。図2を参照するに、従来の粒子検出装置の検出プロセスでは、まず、光源から出射された出射光をシース流中の検出対象に照射しステップS201、散乱光等を発生させるステップS202。次に、ステップS202で発生させた散乱光等及び透過光を検出部が検出するステップS203。そして、検出部が検出した散乱光等及び透過光を光電変換した電気信号データを数理処理することにより、検出対象を認識するステップS204。一方、本実施形態に係る粒子検出装置の検出プロセスでは、まず、第一検出手段10の第一検出部13が検出対象111のX方向における位置を検知するステップS301。なお、X方向における位置を検出する装置の構成や測定方向の位置関係については後述する。この検出信号検出対象111の位置情報は、制御手段30に伝達されるステップS302。位置情報は、第二光源21からの光の照射位置を最適に調整するための情報として用いられる。次に、第二検出系では、制御手段30が検出対象111の位置情報に基づいて第二光源21から出射される光の偏向角を計算しステップS303、第二光源21の偏向角の調整を行うステップS304。これにより、第二光源21から光偏向器22を介して検出対象111に照射される光の照射位置の最適化を行う。ステップS305以降の処理は、図2に示す従来のステップS202以降の処理と同様であるため、その説明を省略する。ここで、図4を参照しながら、本実施形態に係る粒子検出装置の各機能について説明する。図4は、粒子検出装置の機能について説明する図である。図4に示すように、検出対象111がフローセル113内を流速v、粒子間隔dで移動する場合を考える。第一検出手段10の第一光源11から出射された光束が検出対象111に衝突して、検出対象111が光学情報散乱光等を発生させる。光学情報は、第一検出部13にて検出される。第一検出部13にて、検出された光学情報は光電変換され、光電変換された電気信号が制御手段30に送られる。光学情報が検出されることにより、検出対象111のX方向における通過位置を算出することができる。通過位置算出方法の詳細については後述する。制御手段30にて得られた検出対象111の通過位置に関する情報は、第二検出系に伝達される。この位置情報に基づいて、制御手段30が適切な位置に光束を照射するように光偏向器22を制御する。ここで、検出対象111の流速v、粒子間隔dのとき、図3のステップS301からステップS304の動作までに要する時間は、t=d/vsec.以内である必要がある。これが処理と偏向制御に利用できる時間に相当する。なお、流速vは、粒子検出装置1を制御する制御装置側不図示で制御される装置固有の場合もある。粒子間隔dはサンプル液110中の検出対象111の濃度と流速vによって以下のように概算値を求めることが出来る。一例として流速20m/sec、検出粒子7000個/secのフローサイトメータを考えると、v=20m/sec、d=20m/7000≒3mmである。粒子間隔によって制限される動作間隔はt=310^-3/20=0.15msecと求めることが出来る。つまり、この場合は、検出対象111が第一検出部13で検出されてから0.15msec以内に、第二光源21からの光の照射位置の調整ができれば、検出対象111粒子ごとに照射位置を最適化できる。ここで、通過位置検知手法について図5に基づいて説明する。図5a、bは、通過位置検知の手法について説明する図である。本実施形態における検出対象の通過位置の検知では、第一光源の光軸方向に位置が固定された物体基準位置明示手段からの散乱光基準光と、検出対象からの散乱光検出光との時間差を検出することにより、検出対象となる粒子の、第一光源の光軸方向における位置X方向位置を算出する。aは、フローセル113の中心付近を流れてきた検出対象111の位置情報を検知している場面の説明である。図示するように、第一光源11から出射された光束は、第一検出部13に到達するまでに3度散乱光を発生する。つまり、フローセル113に入射する際のフローセル113の壁114aとの散乱光、検出対象111との散乱光、フローセル113から出射する際のフローセル113の壁114bとの散乱光である。この例では、フローセル113の壁114を基準位置明示手段として用い、壁114からの散乱光を基準光として用いることができる。入射する際の壁114aとの散乱と、検出対象111との散乱の間の検出間隔時間が検出対象111の壁114aからの距離に相当する。つまり、Xフローセル113壁から検出対象111までの距離=散乱の検出間隔時間×光速である。また、bに示すように、入射側のフローセル113の壁114a近くを検出対象111が流れている場合は、図のように入射側のフローセル113の壁114aとの散乱と検出対象111との散乱までの検出間隔時間が短くなる。フローセル113の壁との散乱によって十分な検出強度が得られない場合、シース流が流れる管フローセル113の表面に目印となる散乱板基準位置明示手段を設置して、検出対象111からの距離を算出することもできる。取得された検出対象の位置情報Xは速やかに第二検出系に伝達されるものとする。続いて、第二検出手段における検出対象に対する光束照射位置の最適化手法について説明する。図6は、光束照射位置の最適化の手法について説明する図である。ここで最適な照射位置とは、第二光源21の光束の中心が、1つ1つの検出対象111の中心に照射されることである。第二検出系は、第一検出系より伝達された検出対象111の位置情報Xの方向に光束を偏向可能な機構になっている。第二光源21の光束の照射方向を偏向させ照射位置を調整するために光偏向器22を用いる。例えば、光偏向器22として電気光学効果を有するEO材料の偏向素子を用いた場合、偏向の制御は光偏向器22への電圧印加量によって行うことができる。偏向角は電気光学効果の屈折率変化によって決定される。屈折率変化は印加電圧に比例するなお偏向角と印加電圧の関係は計算式により求められる。また照射位置調整の分解能は電圧印加のステップに相当する。ここで、図6に示すように、偏向領域X=Ltanθ/2と求めることができる。例えば光偏向器22の偏向面から、検出対象111の中心までの距離がL=200mmであり、光偏向器22の偏向性能がθ=6degreeのとき、偏向領域X≒10mmである。これは一般的なフローサイトメータにおいてほぼ流路径相当ということができ、検出対象位置における流路径内におさまるあらゆるばらつきに対応するのに十分な変位領域である。電圧印加についての概算を加えておく。光偏向器22への電圧印加Vpp=500Vでこの変位性能を実現した場合、照射位置調整の分解能はステップ1Vでおおよそ100mm÷500V=20um/Vである。フローサイトメータに求められる照射位置分解能は10um程度といわれており、ステップ0.5Vで電圧を変位できればこの分解能を実現することができる。図7を参照しながら、信号処理について説明する。図7は、信号処理及び電圧印加について説明する図である。aは第一検出系において検出する光学情報を示す図であり、bは光偏光器に印加する電圧を示す図であり、cは信号の流れを示す図である。図7aに示すように、第一検出部13が時刻t1の時に検出対象111からの光学情報を検出したとする。このとき、図4において説明した通過位置算出法を用いて、検出対象111の位置情報X1を得る。第一検出部13が検出した位置情報X1は、図7cに示すように、電気信号検出信号に変換されて、制御手段30の駆動制御回路33に送信される。駆動制御回路33は電圧電源34に接続されており、位置情報X1に基づいて算出されたDC電圧VDCを光偏向器22に印加する。これにより第二光源21の光の照射方向が制御される。なお、駆動制御回路33は、主としてDC電圧を所定のステップで光偏向器22に印加することが想定されるが、種々の印加パターンに対応可能とするために、生成した電圧の振幅及び周波数を制御する機能波形/掃引速度制御手段を有していることが望ましい。この場合、駆動制御回路33自体に波形信号の生成や周波数制御を行う回路を備える構成としても、駆動制御回路33が専用の信号生成器と接続されていることによって上記機能を実現する構成としてもよい。駆動制御回路33から光偏向器22に電圧が印加されるタイミングはt1Δtである。なお、Δtの扱いについては後述する。次に時刻t2の時に検出対象111からの光学情報を検出し、位置情報X2を得ている。位置情報X2も駆動制御回路33に送信され、光偏向器22に印加される電圧に反映される。図7bに示す偏向器印加電圧のように、検知された検出対象111の位置情報に合わせて、駆動制御回路33から光偏向器22に印加される電圧を順次変更していくことで、第二光源21の光は検出対象111ごとに最適化された位置に照射される。Δtについて説明する。Δtは図4で示した例流速20m/sec.検出粒子7000個/sec.のフローサイトメータにおいて算出した数字でいうと、粒子間隔によって制限される動作間隔は0.15msecであるから、これよりも小さい動作間隔とすることで粒子ごとの照射位置制御を実現できる。粒子間隔と流速の関係上、ひとつの粒子測定のために割ける時間が限られており、この時間を超えると次の粒子の計測のための照射位置制御が間に合わないためである。本発明は粒子ごとに照射位置を制御できなければその効果を発揮できないというものではない。すなわち、任意の時間間隔で照射位置制御を行う場合であっても、フローサイトメータの検出感度向上に十分効果があると考えられるからである。しかし、各粒子への最適化を実現するための処理と偏向角制御の時間オーダーがmsecからusecと非常に短い時間でなければならないことを上記の数字は示している。電気光学効果を用いた光偏向器では数百kHzオーダーの速度で偏向角走査が可能であり、スキャン性能において速度は問題ないといえる。以上のように、本発明では、第一検出手段において、検出対象についての位置情報を粒子ごと又は測定単位ごとに検出し、この位置情報に基づいて第二検出手段では、最適な位置に第二光源からの光が照射されるように、第二光源の光束の偏向角度を算出し、光偏光器によって偏向して検出対象に照射する。従来のフローサイトメータにおいて、レーザーの照射位置は操作者が操作調整することによって最適化されている。レーザーの出射方向は経時変化や温度変化により微妙に変化し、流路の位置を完全に所定の状態に保持することは難しい。よって操作者が測定の都度、もしくは保守担当者が一定期間ごとに最適化のための調整を行なうのである。この調整は計測感度に強く関わる重要な作業である。従来のフローサイトメータの開発においては、調整を容易かつ高精度にするためにピコモーターのような駆動装置をフローサイトメータに組込むことや、圧電素子などで流路の位置を可変にすることなどが取り組まれてきた。一方照射位置の調整を自動化できれば操作の人的なばらつきやエラーを回避できるメリットがある。この実現のためにはフローサイトメータにおいて、装置内で最適な照射位置を認識する手段と、その位置に適宜レーザーを照射可能にする手段とが備え付けられている必要がある。本発明では、操作者がレーザーの位置調整の設定を行なわなくても、適切な位置に光束が照射されるように自動で調整を行うので、測定分解能が高く、結果のばらつきが少ない測定が可能となる。