ドープされた二酸化スズ層からなる層を表面に有し、スズ:ドーパントのモル比が、99.99:0.01から97:3である、薄片状基材をベースとする顔料。スズ:ドーパントのモル比が、99.8:0.2から99:1であることを特徴とする、請求項1に記載の顔料。ドープされた二酸化スズ層が、半導電性層であることを特徴とする、請求項1または2に記載の顔料。ドーパントが、カチオンまたはアニオンまたは二以上のカチオンの混合物または少なくとも一のカチオンと少なくとも一のアニオンの混合物または少なくとも二のアニオンの混合物であることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の顔料。ドーパントが、アンチモン、コバルト、タングステン、モリブデン、チタン、鉄、クロム、銅、アルミニウム、リンおよびヒ素の群からのカチオンであることを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の顔料。顔料が、50から80重量の基材および20から50重量のドープされた二酸化スズ層からなり、ここで基材とドープされた二酸化スズ層の合計が100重量であることを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の顔料。基材が、TiO2薄片、合成雲母薄片、天然雲母薄片、ガラス薄片、SiO2薄片、セリサイト、カオリン、タルク、Al2O3薄片、またはそれらの混合物の群から選択されることを特徴とする、請求項1から6のいずれかに記載の顔料。薄片状基材の形状因子、厚さに対する粒子の最長軸の比が、≧4であることを特徴とする、請求項1から7のいずれかに記載の顔料。基材が、雲母薄片であることを特徴とする、請求項1から8のいずれかに記載の顔料。基材が、粒径<15μmを有する雲母薄片であることを特徴とする、請求項1から9のいずれかに記載の顔料。二酸化スズが、アンチモンカチオンでドープされていることを特徴とする、請求項1から10のいずれかに記載の顔料。TiO2、ZnO、Al2O3、Cr2O3、またはSiO2の群から選択される一または複数の酸化物層が、ドープされた二酸化スズ層上に位置することを特徴とする、請求項1から11のいずれかに記載の顔料。酸化物層が、TiO2層であることを特徴とする、請求項1から12のいずれかに記載の顔料。以下の層構造基材ドープされたSnO2基材ドープされたSnO2TiO2基材ドープされたSnO2SiO2基材ドープされたSnO2ZnO基材ドープされたSnO2Al2O3基材ドープされたSnO2Cr2O3が、基材上に位置することを特徴とする、請求項1から13のいずれかに記載の顔料。顔料が、以下の構造雲母薄片ドープされたSnO2雲母薄片ドープされたSnO2TiO2雲母薄片ドープされたSnO2SiO2雲母薄片ドープされたSnO2ZnO雲母薄片ドープされたSnO2Cr2O3雲母薄片ドープされたSnO2Al2O3Al2O3薄片ドープされたSnO2Al2O3薄片ドープされたSnO2TiO2Al2O3薄片ドープされたSnO2SiO2Al2O3薄片ドープされたSnO2ZnOAl2O3薄片ドープされたSnO2Cr2O3Al2O3薄片ドープされたSnO2Al2O3を有することを特徴とする、請求項1から14のいずれかに記載の顔料。ドープされた二酸化スズ層での薄片状基材のコーティングが、湿式化学法によって、ゾルゲル法、CVDおよび/またはPVD法を用いて、実行されることを特徴とする、請求項1から15のいずれかに記載の顔料の調製のための方法。基材薄片を水中に懸濁し、そして、金属酸化物、金属水酸化物または金属酸化物水和物が、二次沈殿が起こることなく、基材薄片上に直接沈殿するように選択された、加水分解にとって適切なpHで、一または複数の加水分解性の金属塩を添加し、ここで前記pHが塩基または酸の同時計量添加によって一定に保持され、そして、顔料を、ドープされた二酸化スズ層を付けた後に分離し、乾燥し、場合によって空気中または不活性ガスもしくは還元条件下でか焼することを特徴とする、請求項15に記載の方法。金属酸化物または金属酸化物水和物の層が、ドープされた二酸化スズ層での薄片状基材のコーティング後に付けられることを特徴とする、請求項16または17に記載の方法。塗料、コーティング、印刷用インク、プラスチック、センサー、保安用途、床敷物、フィルム、配合物、セラミック材料、ガラス、紙における、レーザーマーキングのための、熱保護における、乾燥調製物における、顔料調製物における、光半導体としての、および機能材料におけるバリスタ顔料としての、請求項1から15のいずれかに記載の顔料の使用。高電圧技術のための機能材料におけるバリスタ顔料としての、請求項19に記載の顔料の使用。