ケイ酸塩鉱物の粉末と、融点が400~950°Cの無機塩の粉末とを混合してセラミックス組成物を調製し、該セラミックス組成物を850~1200°Cに加熱して焼結することを特徴とする多孔質セラミックスの製造方法。前記無機塩として、アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属のハロゲン化物を用いる、請求項1に記載の多孔質セラミックスの製造方法。前記無機塩として、塩化ナトリウム及び/又は塩化カリウムを用いる、請求項1又は2に記載の多孔質セラミックスの製造方法。前記無機塩の粉末の平均粒径が、1μm~10μmである、請求項1~3のいずれかに記載の多孔質セラミックスの製造方法。請求項1~4のいずれかの方法で得られた多孔質セラミックスを芯材とし、この芯材がガスバリヤー性の包材で真空包装されている真空断熱材。本発明の目的は、空孔径の分布が小さく、水分の残留がない多孔質セラミックスを、生産性よく製造可能な多孔質セラミックスの製造方法及び、断熱性能に優れた真空断熱材を提供することにある。上記目的を達成するため、本発明の多孔質セラミックスの製造方法は、ケイ酸塩鉱物の粉末と、融点が400~950°Cの無機塩の粉末とを混合してセラミックス組成物を調製し、該セラミックス組成物を850~1200°Cに加熱して焼結することを特徴とする。本発明の多孔質セラミックスの製造方法は、前記無機塩として、アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属のハロゲン化物を用いることが好ましい。特に好ましくは、塩化ナトリウム及び/又は塩化カリウムを用いる。また、無機塩の粉末の平均粒径は、1μm~10μmであることが好ましい。また、本発明の真空断熱材は、上記いずれかの方法で得られた多孔質セラミックスを芯材とし、この芯材がガスバリヤー性の包材で真空包装されていることを特徴とする。本発明の多孔質セラミックスの製造方法によれば、ケイ酸塩鉱物の粉末と、融点が400~950°Cの無機塩の粉末とを混合してセラミックス組成物を調製し、該セラミックス組成物を850~1200°Cに加熱して焼結して製造するので、原料として溶液を用いておらず、乾燥工程を経なくても、水分の残留がない多孔質セラミックスを製造でき、生産性に優れている。また、セラミックス組成物を850~1200°Cに加熱することで、焼結時に無機塩の粉末が、軟化ないし溶融して焼結体の表層側に流動するため、焼結後は無機塩の粉末が存在していた部分が空孔となる。この空孔径は、無機塩の粒径に依存しているため、無機塩の粉末の粒径を調整するだけで、容易に、空孔径のサイズを調整したり、空孔径の分布を小さくできる。また、無機塩の粉末の配合割合を調整するだけで、容易に空孔率を調整できる。そして、本発明の真空断熱材は、このようにして得られる多孔質セラミックスを芯材とし、この芯材がガスバリヤー性の包材で真空包装されてなるものであるので、芯材は水分が殆ど残存しておらず、更には空孔径の分布が小さいため、優れた断熱性能を長期にわたって持続できる。まず、本発明の多孔質セラミックスの製造方法について説明する。本発明の多孔質セラミックスの製造方法では、まず、ケイ酸塩鉱物の粉末と、無機塩の粉末とを混合してセラミックス組成物を調製する。ケイ酸塩鉱物としては、ケイ砂、コーディアルライト、モンモイロナイト、ベントナイト、パイロフィライト、タルク、バーミキュライト、カオリナイト、雲母等が挙げられる。ケイ酸塩鉱物の粉末の平均粒径は、1μm~25μmが好ましく、1μm~20μmがより好ましい。ケイ酸塩鉱物の粉末の平均粒径が25μmを超えると、空孔率が低くなると共に、真空断熱材の芯材として利用した場合、芯材の空孔径が、真空断熱材中に残留している気体分子の平均自由工程よりも大きくなってしまい、十分な断熱性能が得られないことがある。1μm未満であると、空孔が独立泡となり易く、後述する無機塩が空孔となりにくくなる。なお、本発明において、ケイ酸塩鉱物の粉末の平均粒径は、レーザー回折法で測定した値を意味する。上記無機塩としては、融点が400~950°C、好ましくは600~900°C、より好ましくは、700~850°Cのものを用いる。具体的には、アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属のハロゲン化物が好ましい。ハロゲン化物としては、塩化物が好ましい。特に好ましい無機塩としては、塩化ナトリウム、塩化カリウムである。なお、塩化ナトリウムの融点は、801°Cであり、塩化カリウムの融点は、748°Cである。無機塩の粉末の平均粒径は、1μm~100μmが好ましく、1μm~50μmがより好ましく、1μm~10μmが特に好ましい。無機塩の粉末の粒径は、得られる多孔質セラミックスの空孔径にほぼ相当するので、無機塩の粉末の平均粒径が上記範囲であれば、断熱性能に優れた多孔質セラミックスを得ることができる。なお、本発明において、無機塩の粉末の平均粒径は、レーザー回折法で測定した値を意味する。ケイ酸塩鉱物の粉末と、無機塩の粉末との混合割合は、質量比で、ケイ酸塩鉱物の粉末:無機塩の粉末=60~80:40~20が好ましく、65~75:35~25がより好ましい。ケイ酸塩鉱物の粉末の割合が60質量未満であると、焼結できなかったり、得られる多孔質セラミックスの機械強度が劣ることがある。ケイ酸塩鉱物の粉末の割合が80質量を超えると、得られる多孔質セラミックスの空孔率が低くなるので、得られる多孔質セラミックスの断熱性能が低下する傾向になる。ケイ酸塩鉱物の粉末と、無機塩の粉末とを混合方法は、特に限定は無く、粉体の乾式混合に使われる従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、ケイ酸塩鉱物の粉末と、無機塩の粉末とを、ローラーポットミル、らいかい機などの従来公知の乾式混合機に導入し、必要に応じてポリビニルアルコールPVA、カルボキシメチルセルロース等の成形助剤を更に加えて混合してセラミックス組成物を調製する。次に、上記のようにして調整したセラミックス組成物を、所定形状に成形して成形体とする。成形方法は、従来公知の方法を使用できる。例えば、一軸加圧成形やゴム型を用いた静水圧成形等の方法で成形する。次に、上記のようにして成形した成形体を、850~1200°Cに加熱して焼結体を得る。加熱温度は、900~1100°Cが好ましく、900~1000°Cがより好ましい。セラミックス組成物を上記温度で加熱することで、焼結を十分に行うことができるので、機械強度に優れた焼結体が得られる。そして、焼結時に無機塩の粉末が、軟化ないし溶融して焼結体の表層側に流動するため、焼結後は無機塩の粉末が存在していた部分が空孔となる。すなわち、無機塩の粉末が鋳型となって空孔が形成される。この空孔径は、無機塩の粒径に依存しているため、無機塩の粉末の粒径を調整するだけで、容易に、空孔径のサイズを調整したり、空孔径の分布を小さくできる。また、無機塩の粉末の配合割合を調整するだけで、容易に空孔率を調整できる。加熱温度が1200°Cを超えると、空孔が潰れて、緻密な焼結体になり易いので、断熱性能が低下する傾向にある。850°C未満であると、焼結が不十分で、焼結体の機械強度が低下する傾向にある。加熱時間は、5~12時間が好ましく、6~10時間がより好ましい。加熱時間が5時間未満であると、焼結が不十分で、焼結体の機械強度が低下する傾向にある。加熱時間が12時間を超えると、緻密な焼結体になり易い。このようにして得られる多孔質セラミックスは、原料として溶液を用いていないので、乾燥工程を経なくても、水分の残留がない多孔質セラミックスを製造でき、生産性に優れている。また、空孔率を高めても機械強度に優れており、ハンドリング性に優れる。更には、空孔率を高め、かつ、空孔径の分布を小さくできるため、断熱性能に優れる。次に、本発明の真空断熱材について説明する。本発明の真空断熱材は、上述のようにして得られた多孔質セラミックスを芯材とし、この芯材がガスバリヤー性の包材で真空包装されてなるものである。包材内部の圧力は、10Pa以下に減圧されていることが好ましく、1~10Paに減圧されていることがより好ましい。包材内部の圧力が10Paを超えると、十分な断熱性が得られない。真空包装された状態での芯材の嵩密度は、0.2~1.8g/cm3が好ましく、0.2~1.5g/cm3がより好ましい。嵩密度が0.2g/cm3未満であると強度的に不足する傾向にあり、1.8g/cm3を超えると熱伝導率の向上につながる。なお、芯材の嵩密度は、アルキメデス法で測定したである。真空包装された状態での芯材の空孔率は、45~82であることが好ましく、63~82がより好ましい。空孔率が45未満であると熱伝導率の低下につながり、82を超えると強度的に不足する傾向にある。なお、芯材の空孔率は、アルキメデス法で測定した値である。本発明の真空断熱材は、真空包装された状態での芯材の空孔径が、気体分子の平均自由工程よりも小さいことが好ましく、1μm~100μmがより好ましく、1μm~10μmが特に好ましい。芯材の空孔径が、気体分子の平均自由工程よりも小さくされていることにより、気体の熱伝導性をより低くすることができる。なお、気体分子の平均自由工程とは、気体分子のある衝突から、次の衝突までの気体分子の飛行距離の平均値のことである。例えば、大気圧下での空気の平均自由工程は約68nmであり、約1Paでの空気の平均自由工程は約100μmである。芯材の空孔径は、走査型電子顕微鏡SEM観察し、観察部をFIBによりイオンシーニングして3次元像を取得して測定することができる。本発明の真空断熱材に用いられる包材は、ガスバリヤー性を有するものであればよく、特に限定は無い。例えば、熱溶着層と、ガスバリヤー層と、保護層とで構成されるラミネート材が一例として挙げられる。熱溶着層としては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等が挙げられる。ガスバリヤー層としては、アルミニウム、鉄、銅、ニッケル及びこれらの合金等で構成される、金属箔又は金属蒸着膜等が挙げられる。保護層としては、ナイロンフィルム等が挙げられる。本発明の真空断熱材は、上記多孔質焼成体からなる芯材が、ガスバリヤー性の包材で真空包装されている。このようにして得られる、本発明の真空断熱材は、長期にわたって優れた断熱性能を発揮できる。また、機械強度に優れ、補強部材などで補強する必要が無く、取り扱い性に優れている。本発明の真空断熱材は、冷凍庫、冷蔵庫、保温庫、自動販売機等の電気製品や、住宅の壁材等様々な産業において好ましく用いることができる。タルク平均粒径14μm700gと、塩化カリウム平均粒径50μm300gをローラーポットミルに入れ、混合し、芯材用原料組成物を調製した。この原料組成物を一軸加圧用成形型に入れ、加圧成形を行った。その際、型の内圧は2.0t/cm2とした。この成形体を電気炉に入れ、900°Cで、8時間焼成した。塩化カリウムの融点は、748°Cであり、タルクの焼結温度より低いため、図1に示すように、タルクの焼結中に塩化カリウムが溶融して外部へ流れ出し、塩化カリウムの粒子があった部分は、焼結後は空砲となり、多孔質構造を持つ焼結体が得られた。この焼結体の空孔径は10μmで、空孔率は70であった。次に、得られた焼結体を、ポリアミド、アルミ箔、ポリエチレンからなるラミネートフィルムを三方製袋したものに入れ、真空チャンバー内で10Pa以下に減圧して真空封止し、真空断熱材を作製した。得られた真空断熱材の熱伝導率を、熱伝導率計英弘精機HC-074を用い、JIS-A1412に基づき、平均温度20~60°C、温度差20°Cの条件で測定した。平均温度20°Cでの熱伝導率は、0004W/mKであった。