"スキャン露光によりマスクのパターンを基板に転写するマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置に設けられ、前記マスクと前記基板とを相対的位置合わせする露光装置用のアライメント装置において、前記基板に設けられた基板アライメントマークと前記マスクに設けられたマスクアライメントマークに、アライメント用の光を照射するアライメント光源と、前記基板と前記マスクとの間に介在して、前記基板アライメントマーク又は前記マスクアライメントマークを夫々前記マスク又は前記基板に正立等倍像として結像させるマイクロレンズアレイと、前記基板アライメントマーク及び前記マスクアライメントマークを、一方は反射光の像及び他方は正立等倍像として撮像するカメラと、このカメラにより撮像された前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとに基づいて、前記マスク及び/又は前記基板の位置を調節する制御装置と、を有し、前記マイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成され相互に積層された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、この単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置に配置され多角形の開口を有する多角視野絞りと、前記単位マイクロレンズアレイ間の開口数を制限する開口絞りと、を有し、前記複数個のマイクロレンズがスキャン露光方向に直交する方向に配列されてマイクロレンズ列を構成し、このマイクロレンズ列が前記スキャン露光方向に複数列配置されると共に、前記スキャン露光方向に隣接する2列のマイクロレンズ列の相互間は前記スキャン露光方向に直交する方向に偏倚するように配置されたものであり、前記制御装置は、前記マイクロレンズアレイを前記基板及び前記マスクに対して相対的に前記スキャン露光方向に移動させると共に、前記マイクロレンズ列の配列ピッチの整数倍でない間隔で前記カメラにより前記基板アライメントマークの像及び前記マスクアライメントマークの像を複数回撮像し、撮像された複数個の像を重ね合わせて、この重ね合わされた基板アライメントマークの像及びマスクアライメントマークの像をアライメントに使用することを特徴とする露光装置用のアライメント装置。スキャン露光によりマスクのパターンを基板に転写するマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置に設けられ、前記マスクと前記基板とを相対的位置合わせする露光装置用のアライメント装置において、前記基板に設けられた基板アライメントマークと前記マスクに設けられたマスクアライメントマークに、アライメント用の光を照射するアライメント光源と、前記基板と前記マスクとの間に介在して、前記基板アライメントマーク又は前記マスクアライメントマークを夫々前記マスク又は前記基板に正立等倍像として結像させるマイクロレンズアレイと、前記基板アライメントマーク及び前記マスクアライメントマークを、一方は反射光の像及び他方は正立等倍像として撮像するカメラと、このカメラにより撮像された前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとに基づいて、前記マスク及び/又は前記基板の位置を調節する制御装置と、を有し、前記マイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成され相互に積層された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、この単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置に配置され多角形の開口を有する多角視野絞りと、前記単位マイクロレンズアレイ間の開口数を制限する開口絞りと、を有し、前記複数個のマイクロレンズがスキャン露光方向に直交する方向に配列されてマイクロレンズ列を構成し、このマイクロレンズ列が前記スキャン露光方向に複数列配置されると共に、前記スキャン露光方向に隣接する2列のマイクロレンズ列の相互間は前記スキャン露光方向に直交する方向に偏倚するように配置されたものであり、前記制御装置は、前記マイクロレンズアレイを前記基板及び前記マスクに対して相対的にスキャン露光方向に移動させると共に、前記カメラにより前記基板アライメントマークの像及び前記マスクアライメントマークの像を連続的に動画として撮像し、連続的に撮像された基板アライメントマークの像及びマスクアライメントマークの像をアライメントに使用することを特徴とする露光装置用のアライメント装置。前記基板アライメントマーク及び前記マスクアライメントマークの一方が、枠状をなし、他方がアライメント時に前記枠の中心に位置する矩形状をなすことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置用のアライメント装置。前記アライメント光源は、前記カメラが検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置用のアライメント装置。前記マイクロレンズアレイは、露光用のマイクロレンズアレイと共用することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の露光装置用のアライメント装置。しかしながら、アライメントマーク1a,2aにより、基板1とマスク2との位置合わせをする場合、±1μm程度の高精度で基板1とマスク2とを位置合わせしようとすると、両アライメントマーク1a,2aを同一のカメラにより同時に観察する必要がある。即ち、異なるカメラで別々にアライメントマーク1a,2aを観察すると、両アライメントマーク1a,2aの相対的な位置を保証できない。特許文献1のような近接露光の場合は、マスクと基板とが200μm程度で近接しており、この間隔はカメラの焦点深度内に収まるので、マスクのアライメントマークと基板のアライメントマークとを同時にカメラで観察することが可能である。しかし、マイクロレンズアレイ3を使用した露光装置においては、基板1とマスク2との間にマイクロレンズアレイ3を介装する必要があるため、基板1とマスク2との間の距離、即ち、アライメントマーク1a,2a間の間隔Gは、5乃至15mm程度存在する。この5乃至15mmの間隔は、通常のカメラのレンズ系では、同時に観察することができない。なお、図16に示すように、基板1のアライメントマーク1aからの反射光と、マスク2のアライメントマーク2aからの反射光とで、光路差を設け、基板1のアライメントマーク1aとマスク2のアライメントマーク2aとのフォーカス差を補正することも考えられる。図16に示すように、基板1とマスク2との間のギャップGは5乃至15mmである。この場合に、視野とアライメント精度とを考慮すると、レンズ倍率は4倍程度が必要である。よって、アライメントのパターンギャップG=5~15mmは、カメラ側でみると、5~15mm×42=80~240mmに相当する。この80乃至240mmのフォーカス差を補正する必要がある。そこで、図16においては、光源20からの光をレンズ21で収束して反射鏡22により反射させ、レンズ23を介してビームスプリッタ47に入射させる。そして、ビームスプリッタ47からの光は、レンズ48及び49を経由してマスク2に入射し、マスク2のアライメントマーク2aで反射すると共に、基板1に入射し、基板1のアライメントマーク1aで反射する。これらのアライメントマーク1a、2aで反射した光は、ビームスプリッタ47に向かい、このビームスプリッタ47を透過した後、レンズ46,45を介して、ビームスプリッタ44に入射する。アライメントマーク1a,2aからの反射光は、ビームスプリッタ44で、ビームスプリッタ41に向かう光と、ミラー43に向かう光とに分離され、ミラー43に向かった光は、ミラー42により、ビームスプリッタ41に向かう。そして、ビームスプリッタ41にて、ビームスプリッタ44からの光はそのまま透過し、ミラー42からの光は反射して、カメラ10に向かう。このようにして、ビームスプリッタ44からミラー43,42を経由した光と、ビームスプリッタ44から直接到達した光とは、カメラ10により検出される。このとき、ビームスプリッタ44からミラー43までの光路と、ミラー43からミラー42までの光路と、ミラー42からビームスプリッタ41までの光路との総長が、ビームスプリッタ44からビームスプリッタ41に直接入射する光の光路の長さよりも、80乃至240mmのフォーカス差だけ長くなるように設定されている。従って、マスク2のアライメントマーク2aからの反射光であってミラー42,43を経由する光路を進行した光と、基板1のアライメントマーク1aからの反射光であってビームスプリッタ44から直接ビームスプリッタ41に入射する光路を進行した光とがいずれもカメラ10のCCD電荷結合素子に結像し、アライメントマーク1a,2aをカメラ10で同時に観察することができる。これにより、基板1とマスク2のアライメントマーク1a,2aのパターンのフォーカス差80乃至240mm相当を、別光路に分けて補正することができる。しかしながら、このように、フォーカス差を別光路で補正すると、各光路での光軸ずれが生じた場合に、アライメントマーク1a,2aの両パターンの相対位置がずれてしまうという問題点がある。このため、この方法では、アライメント精度が低下する。アライメント精度が低下すると、露光パターン精度も低下し、近時の高精細液晶パネルの露光にとって、致命的な問題となる。本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる露光装置用のアライメント装置を提供することを目的とする。本発明に係る露光装置用のアライメント装置は、スキャン露光によりマスクのパターンを基板に転写するマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置に設けられ、前記マスクと前記基板とを相対的位置合わせする露光装置用のアライメント装置において、前記基板に設けられた基板アライメントマークと前記マスクに設けられたマスクアライメントマークに、アライメント用の光を照射するアライメント光源と、前記基板と前記マスクとの間に介在して、前記基板アライメントマーク又は前記マスクアライメントマークを夫々前記マスク又は前記基板に正立等倍像として結像させるマイクロレンズアレイと、前記基板アライメントマーク及び前記マスクアライメントマークを、一方は反射光の像及び他方は正立等倍像として撮像するカメラと、このカメラにより撮像された前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとに基づいて、前記マスク及び/又は前記基板の位置を調節する制御装置と、を有し、前記マイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成され相互に積層された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、この単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置に配置され多角形の開口を有する多角視野絞りと、前記単位マイクロレンズアレイ間の開口数を制限する開口絞りと、を有し、前記複数個のマイクロレンズがスキャン露光方向に直交する方向に配列されてマイクロレンズ列を構成し、このマイクロレンズ列が前記スキャン露光方向に複数列配置されると共に、前記スキャン露光方向に隣接する2列のマイクロレンズ列の相互間は前記スキャン露光方向に直交する方向に偏倚するように配置されたものであり、前記制御装置は、前記マイクロレンズアレイを前記基板及び前記マスクに対して相対的に前記スキャン露光方向に移動させると共に、前記マイクロレンズ列の配列ピッチの整数倍でない間隔で前記カメラにより前記基板アライメントマークの像及び前記マスクアライメントマークの像を複数回撮像し、撮像された複数個の像を重ね合わせて、この重ね合わされた基板アライメントマークの像及びマスクアライメントマークの像をアライメントに使用することを特徴とする。本発明に係る他の露光装置用のアライメント装置は、スキャン露光によりマスクのパターンを基板に転写するマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置に設けられ、前記マスクと前記基板とを相対的位置合わせする露光装置用のアライメント装置において、前記基板に設けられた基板アライメントマークと前記マスクに設けられたマスクアライメントマークに、アライメント用の光を照射するアライメント光源と、前記基板と前記マスクとの間に介在して、前記基板アライメントマーク又は前記マスクアライメントマークを夫々前記マスク又は前記基板に正立等倍像として結像させるマイクロレンズアレイと、前記基板アライメントマーク及び前記マスクアライメントマークを、一方は反射光の像及び他方は正立等倍像として撮像するカメラと、このカメラにより撮像された前記基板アライメントマークと前記マスクアライメントマークとに基づいて、前記マスク及び/又は前記基板の位置を調節する制御装置と、を有し、前記マイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成され相互に積層された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、この単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置に配置され多角形の開口を有する多角視野絞りと、前記単位マイクロレンズアレイ間の開口数を制限する開口絞りと、を有し、前記複数個のマイクロレンズがスキャン露光方向に直交する方向に配列されてマイクロレンズ列を構成し、このマイクロレンズ列が前記スキャン露光方向に複数列配置されると共に、前記スキャン露光方向に隣接する2列のマイクロレンズ列の相互間は前記スキャン露光方向に直交する方向に偏倚するように配置されたものであり、前記制御装置は、前記マイクロレンズアレイを前記基板及び前記マスクに対して相対的にスキャン露光方向に移動させると共に、前記カメラにより前記基板アライメントマークの像及び前記マスクアライメントマークの像を連続的に動画として撮像し、連続的に撮像された基板アライメントマークの像及びマスクアライメントマークの像をアライメントに使用することを特徴とする。本発明に係る露光装置用のアライメント装置においては、例えば、前記基板アライメントマーク及び前記マスクアライメントマークの一方が、枠状をなし、他方がアライメント時に前記枠の中心に位置する矩形状をなすように構成できる。前記アライメント光源は、例えば前記カメラが検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射するように構成できる。本発明に係る露光装置用のアライメント装置において、例えば前記マイクロレンズアレイは、露光用のマイクロレンズアレイと共用することができる。本発明に係る露光装置用のアライメント装置は、アライメント光源によりアライメント光をマスクアライメントマーク及び基板アライメントマークに照射すると、このアライメント光はマスクを透過し、基板上に照射され、基板上の基板アライメントマークで反射した後、反射光は、マイクロレンズアレイにより、マスク上に、基板アライメントマークの正立等倍像として結像する。又は、アライメント光は基板を透過し、マスク上に照射され、マスク上のマスクアライメントマークで反射した後、反射光はマイクロレンズアレイにより、基板上に、マスクアライメントマークの正立等倍像として結像する。本発明においては、アライメント光源により基板の下方からアライメント光を基板アライメントマーク及びマスクアライメントマークに照射すると、基板が例えばPIポリイミド及びITOスズドープ酸化インジウム等の光透過性の材料からなる場合においては、このアライメント光は基板を透過し、マスク上に照射され、マスク上のマスクアライメントマークで反射した後、反射光は、マイクロレンズアレイにより、基板上に、マスクアライメントマークの正立等倍像として結像する。よって、基板アライメントマーク及びマスクアライメントマークを、カメラにより、マスク上又は基板上で一方は反射光の像及び他方は正立等倍像として撮像することができ、基板とマスクとの間のギャップGに起因するカメラ側のフォーカス差が0となる。よって、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、カメラにより検出される両アライメントマーク同士の相対位置は変化せず、基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる。例えば、基板とマスクとのアライメントがとれているにも拘わらず、カメラにおいては、アライメントがとれていないと誤観察されたり、基板とマスクとのアライメントがとれていないにも拘わらず、カメラにおいては、アライメントがとれていると誤観察されることを防止できる。そして、本発明においては、制御装置は、カメラにより検出される基板アライメントマークとマスクアライメントマークとが一致するように、マスク及び/又は基板の位置を調節するので、基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる。また、本発明においては、マイクロレンズアレイにより結像される像は、単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置に配置された多角視野絞りにより、その開口の形状に対応した像となり、瞬間的には、アライメントマークの端縁を検出できず、検出されたアライメントマークを基板とマスクとのアライメントに使用できない場合が生じる。しかし、本発明においては、アライメントマークの正立等倍像を結像させるマイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズがスキャン露光に直交する方向に配列されてマイクロレンズ列を構成し、このマイクロレンズ列が、そのスキャン露光方向に複数列配置されると共に、スキャン露光方向に隣接する2列のマイクロレンズ列の相互間は、スキャン露光方向に直交する方向に偏倚するように配置されたものであり、制御装置により基板及びマスクに対して相対的にスキャン露光方向に移動される。よって、カメラにより、両アライメントマークの像を、マイクロレンズ列の配列ピッチの整数倍でない間隔で複数回撮像して、撮像されたアライメントマークの像を重ね合わせるか、又は連続的に動画として撮像することにより、マイクロレンズアレイにより結像されるアライメントマークの端縁を確実に検出することができ、検出したアライメントマークをマスクと基板とのアライメントに使用できる。以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照して具体的に説明する。図1a乃至図1cは、本発明の第1実施形態に係るアライメント装置において、多角視野絞りを介して検出される基板アライメントマークの像をマイクロレンズアレイと共に示す図、及びカメラにより撮像された基板アライメントマークの像を重ね合わせた状態を示す図、図2aは本発明の第1実施形態に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図2bは検出されるアライメントマークの相対的位置関係を示す図である。図2に示すように、本実施形態においては、アライメント装置が設けられる露光装置は、従来のマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置と同様に、基板1とマスク2との間にマイクロレンズアレイ3が設けられており、露光光源8から出射された露光光をマスク2に形成されたパターンに透過させ、マイクロレンズアレイ3により、パターンの正立等倍像を基板上に結像させる。そして、マスク2及び基板1に対して、マイクロレンズアレイ3と露光光源及び光学系を、一体的に、図2における紙面に垂直の方向以下、スキャン露光方向とよぶに相対移動させることにより、露光光が基板1上をスキャンし、マスク2のパターンが基板1上に転写されるように構成されている。この露光装置において、アライメント装置は、基板1とマスク2との相対的位置合わせに使用される。本実施形態に係るアライメント装置には、マスク2の上方に、基板1に設けられた基板アライメントマーク1aとマスク2に設けられたマスクアライメントマーク2aに、マスク2の上方からアライメント用の光を照射するアライメント光源5が設けられている。図2aに示すように、本実施形態においては、アライメント光源5は、基板アライメントマーク1a及びマスクアライメントマーク2aを検出するカメラ6と共に、1焦点型の同軸落射式顕微鏡に内蔵されている。そして、アライメント光源5は、カメラ6が検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射するように構成されている。このアライメント光源5としては、レーザ光又は干渉フィルタを透過したランプ光を使用することができる。ランプ光源としては、例えばハロゲンランプを使用すれば、コストを低減でき、好ましい。なお、アライメント光源5は、カメラ6とは別体的に設けられていてもよい。アライメント光源5から出射された光は、例えば反射鏡及びビームスプリッタ等の光学系を介して、マスク2及び基板1に照射される。マイクロレンズアレイ3は、図14に示す従来のマイクロレンズアレイと同様に、例えば、4枚8レンズ構成であり、4枚の単位マイクロレンズアレイ3-1,3-2,3-3,3-4が積層された構造を有する。各単位マイクロレンズアレイ3-1乃至3-4は、複数個のマイクロレンズ4が2次元的に配置されて構成されている。例えば単位マイクロレンズアレイ3-1乃至3-4は、複数個のマイクロレンズが配列されたマイクロレンズ列が、その配列方向に直交する方向に複数列配置されたものである。そして、隣接するマイクロレンズ列のマイクロレンズ同士は、相互に列方向に偏倚しており、例えば3列のマイクロレンズ列により、1マイクロレンズ列群が構成されている。そして、マイクロレンズアレイ3は、各マイクロレンズ列におけるマイクロレンズの配列方向が、基板1及びマスク2に対する相対的スキャン露光方向に直交する方向となるように、露光装置及びアライメント装置に配置されている。本実施形態においては、マイクロレンズアレイ3は、基板1とマスク2との相対的位置合わせの際には、基板アライメントマーク1aとマスクアライメントマーク2aとの間に移動され、1枚のマイクロレンズアレイ3を露光時とアライメント時で移動させ、露光用のマイクロレンズアレイ3をアライメント用に共用して使用される。露光装置には、例えばマイクロレンズアレイ3を移動させる駆動装置図示せずが設けられており、制御装置により制御されている。そして、露光時には、制御装置は、マイクロレンズアレイ3を光源8と一体的にスキャン露光方向に移動させるように制御する。また、アライメント時においては、アライメント光が照射された状態で、制御装置は、マイクロレンズアレイ3をスキャン露光方向に移動させるように制御し、これにより、基板1から反射された光が、マイクロレンズアレイ3の6角視野絞り31の6角形の開口に対応して、カメラ6側から検出されるように構成されている。本実施形態においては、マイクロレンズアレイ3の移動方向は、露光時とアライメント時とで同一の方向である。マスク2には、例えば枠状のマスクアライメントマーク2aが設けられており、基板1には、例えばマスクアライメントマーク2aよりも大きさが小さく、矩形の基板アライメントマーク1aが設けられている。そして、アライメント時に、基板1とマスク2とが所定の位置関係にあるときには、図2bに示すように、カメラ6により検出される基板アライメントマーク1aは、マスクアライメントマーク2aの中心に位置する。本実施形態においては、基板1とマスク2とのアライメントの際には、マイクロレンズアレイ3により、基板アライメントマーク1aから反射した正立等倍像がマスク2上に結像され、マスク2の上方に設けられたカメラ6により、マスクアライメントマーク2aから反射した反射光及びマスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの正立等倍像を同時に検出するように構成されている。図2aに示すように、カメラ6は、マスク2の位置を制御する第2の制御装置9に接続されており、第2の制御装置9は、カメラ6による検出結果によって、基板1とマスク2とのアライメントが必要な場合には、マスク2を移動させるように構成されている。例えば、カメラ6により検出される基板アライメントマーク1aの位置が枠状のマスクアライメントマーク2aの中心からずれている場合には、第2の制御装置9は、基板アライメントマーク1aがマスクアライメントマーク2aの中心に位置するようにマスク2を移動させる。なお、図2aに二点鎖線で示すように、第2の制御装置9は、例えば基板1が載置されるステージ等に接続され、基板1を移動させることにより、基板1とマスク2とのアライメントを行うように構成されていてもよい。又は、第2の制御装置9は、基板1及びマスク2の双方を移動させることにより、基板1とマスク2とのアライメントを行うように構成されていてもよい。アライメントの際には、マスクアライメントマーク2aと基板アライメントマーク1aとの間に配置されたマイクロレンズアレイ3により、基板アライメントマーク1aから反射された反射光は、マイクロレンズアレイ3を透過し、マスク2上には、基板アライメントマーク1aの正立等倍像が結像される。よって、基板1とマスク2との間には、実際には、5乃至15mmのギャップGが存在するが、このギャップGに起因するカメラ6側のフォーカス差が0となる。よって、カメラ6のセンサに対する距離が異なる基板1及びマスク2のアライメントマーク1a,2aをカメラ6に同時に結像させることができ、各アライメントマークを指標として、基板1とマスク2との位置を調整すれば、基板1とマスク2とのアライメントを高精度で行うことができる。また、カメラ側のフォーカス差を0にすることにより、図3aに示すように、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、アライメントマーク同士の相対位置は変化せず図3b、極めて高いアライメント精度を得ることができる。マイクロレンズアレイ3の単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置には、例えば図14及び図15に示すような6角視野絞り31が配置されている。よって、マスク2上に結像される基板アライメントマーク1aの像は、6角視野絞り31の開口に対応した像となる。従って、瞬間的には、基板アライメントマーク1aの端縁が6角視野絞り31の開口に対応する位置にない場合が生じ、カメラ6側から基板アライメントマーク1aの端縁を検出できず、基板アライメントマーク1aの中心位置が特定できずに、検出した像を基板1とマスク2とのアライメントに使用できない場合が生じる。しかし、本実施形態においては、マイクロレンズアレイ3は、複数個のマイクロレンズがスキャン露光方向に直交する方向に配列されてマイクロレンズ列を構成し、このマイクロレンズ列が、そのスキャン露光方向に複数列配置されると共に、スキャン露光方向に隣接する2列のマイクロレンズ列の相互間は、スキャン露光方向に直交する方向に偏倚するように配置されたものであり、アライメント時には、制御装置によりスキャン露光方向に移動するように制御される。そして、制御装置は、カメラにより、両アライメントマークの像を、マイクロレンズアレイ3の各マイクロレンズ列の配列ピッチの整数倍でない間隔で複数回撮像し、撮像された複数個の像を重ね合わせて、この重ね合わされた基板アライメントマーク1a及びマスクアライメントマーク2aの像をアライメントに使用する。よって、多角視野絞りが設けられている場合においても、基板アライメントマークの1aの端縁を確実に特定できる。即ち、図1a乃至図1cに示すように、カメラ6により検出される基板アライメントマーク1aの像は、瞬間的には、その端縁が検出できない場合がある。例えば図1aに示すように、アライメントマーク1aの左側の端縁は、カメラ6により検出できない。しかし、制御装置が、マイクロレンズアレイ3をスキャン露光方向に移動させながら、カメラ6により、基板アライメントマーク1aの像を、マイクロレンズアレイ3のマイクロレンズ列の配列ピッチの整数倍でない間隔で複数回撮像し、図1a乃至図1cの右側の図に示すように、撮像した複数枚の像を重ね合わせることにより、基板アライメントマーク1aの端縁を確実に検出でき、基板1とマスク2とのアライメントを行うことができる。このとき、カメラ6によるアライメントマーク1a,2aの撮像が、マイクロレンズ列の配列ピッチの整数倍の間隔で行われると、基板アライメントマーク1aの像は、複数回の撮像により、スキャン露光方向に直交する方向に並ぶように検出される。よって、基板アライメントマーク1aのスキャン方向における端縁が1回目の撮像で検出できなかった場合、2回目以降の撮像においても、基板アライメントマーク1aのスキャン露光方向における端縁を検出できない。このカメラ6による撮像回数は、マイクロレンズ列群を構成するマイクロレンズ列の列数以上であることが好ましい。次に、上述のごとく構成された本実施形態に係るアライメント装置の動作について説明する。マイクロレンズアレイ3は、露光時には、マスク2に設けられたパターン領域の下方に位置する。先ず、このマイクロレンズアレイ3が、図2における右方向に移動されて、基板アライメントマーク1aとマスクアライメントマーク2aとの間に移動される。次に、カメラ6に内蔵されたハロゲンランプ等のアライメント光源5からアライメント光を出射させると共に、制御装置により、マイクロレンズアレイ3がスキャン露光方向に移動するように制御する。このアライメント光は、例えば反射鏡及びビームスプリッタ等の光学系を介して、先ず、マスク2に照射される。マスク2に照射されたアライメント光は、マスクアライメントマーク2aにより反射される。一方、マスク2に透過されたアライメント光は、マスク2の下方に配置されたマイクロレンズアレイ3に透過され、基板1上に照射される。そして、基板アライメントマーク1aに反射された反射光は、マイクロレンズアレイ3を透過して、再度マスク2に入射され、マスク2上に基板アライメントマーク1aの正立等倍像が結像される。そして、各反射光は、カメラ6のセンサに入射され、マスクアライメントマーク2a及びマスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの正立等倍像が検出される。このように、本実施形態においては、マスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの正立等倍像をカメラ6により検出するため、基板1とマスク2との間には、実際には、5乃至15mmのギャップGが存在するが、カメラ6側では、このギャップGに起因するフォーカス差が0となる。制御装置は、カメラ6により、マスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの像を、マスクアライメントマーク2aと共に複数回撮像させる図1。即ち、マイクロレンズアレイ3には、単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置に6角視野絞り31が設けられているため、マスク2上に結像される基板アライメントマーク1aの像は、6角視野絞り31の開口に対応した像となり、瞬間的には、カメラ6側から基板アライメントマーク1aの端縁を検出できない場合が生じる。例えば図1aに示すように、基板アライメントマーク1aの左側の端縁が検出できず、基板アライメントマーク1aの中心位置が特定できずに、撮像されたアライメントマーク1aの像を基板1とマスク2とのアライメントに使用できない場合が生じる。しかし、本実施形態においては、制御装置により、マイクロレンズアレイ3をスキャン露光方向に移動させながら、カメラ6により、マイクロレンズアレイ3の各マイクロレンズ列の配列ピッチの整数倍でない間隔で基板アライメントマーク1aの像を複数回撮像する。そして、制御装置は、撮像された複数枚の像を重ね合わせて、この重ね合わされたアライメントマーク1a,2aの像をアライメントに使用する。これにより、基板アライメントマーク1aの端縁を確実に検出できる。よって、基板アライメントマーク1aの中心位置を確実に特定することができ、高精度のアライメントに使用できる。そして、カメラ6により検出される基板及びマスクの各アライメントマーク1a,2aにより、基板1とマスク2とのアライメントを行う。例えば、カメラ6により検出される基板アライメントマーク1aの位置が枠状のマスクアライメントマーク2aの中心からずれている場合には、第2の制御装置9により、基板アライメントマーク1aがマスクアライメントマーク2aの中心に位置するようにマスク2を移動させて基板1とマスク2とのアライメントを行う。本実施形態においては、基板1とマスク2との間のギャップGに起因するカメラ6側のフォーカス差が0となるため、基板1及びマスク2のアライメントマーク1a,2aを指標として、基板1とマスク2とのアライメントを高精度で行うことができる。また、マスク2上に基板アライメントマーク1aの正立等倍像を結像させるため、図3aに示すように、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、カメラ6により検出される基板及びマスクのアライメントマーク1a及び2aの相対位置は、図3bに示すように、アライメント光が基板1及びマスク2に垂直に照射される図2bの場合から変化せず、アライメント光の光軸の傾斜によりアライメント精度が低下することもない。以下、アライメント光の光軸が傾斜した場合における上記効果について、比較例と比較して詳細に説明する。図4は、本発明の比較例に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図5は本発明の比較例に係るアライメント装置において、アライメント光の光路を示す図である。図4及び図5に示すように、このアライメント装置は、2焦点型の同軸落射照明を使用したアライメント装置であり、例えば、長波長光を出射する第1の光源27と、短波長光を出射する第2の光源26とが設けられており、第1の光源27からの長波長光は、反射鏡29で反射した後、ビームスプリッタ28に向かい、第2の光源26からの短波長光がこのビームスプリッタ28で、第1の光源27からの長波長光と集合する。そして、これらの集合光は、レンズ30で収束された後、ビームスプリッタ24にて反射して、レンズ25を経た後、マスク2及び基板1に向かう。この集合光は、マスク2及び基板1にその面に垂直に入射し、マスク2のアライメントマーク2a及び基板1のアライメントマーク1aで反射して、入射光路と同一の光路を戻ってくる。この反射光は、ビームスプリッタ24を通過し、レンズ23,22と、フィルタ21を経て、カメラ20に入射する。よって、反射鏡29及びビームスプリッタ28が、第1及び第2の光源27,26から出射した長波長光と短波長光とを同一光路に集合させる第1の光学系を構成し、レンズ30、ビームスプリッタ24、レンズ25が、この第1の光学系からの集合光をマスク2及び基板1にそれらの面に垂直に照射する第2の光学系を構成し、レンズ25、ビームスプリッタ24、レンズ23、レンズ22が、マスク2及び基板1のアライメントマーク2a,1aで反射した反射光を第2の光学系と同一の光路を戻した後カメラ20まで導く第3の光学系を構成する。この比較例において、第1の光源27から例えば波長が670nmの赤色光を出射し、第2の光源26から例えば波長が405nmの青色光を出射すると、これらの光は、ビームスプリッタ28で集合した後、カメラ20まで同一光路を進行する。即ち、集合光は、図4に示すように、ビームスプリッタ24からマスク2及び基板1に向かい、このマスク2及び基板1に対し、その面に垂直に入射する。その後、マスク2のアライメントマーク及び基板1のアライメントマークで反射した集合光の反射光は、入射光と同一光路をとおり、ビームスプリッタ24を直進して、フィルタ21を透過し、カメラ20のセンサに入射する。このとき、集合光は同一レンズ25,23,22からなる光学系を通過するので、このような同一レンズの場合、青色光波長405nmは焦点距離が短く、赤色光波長670nmは焦点距離が長い。よって、レンズ25、23,22の光学定数等を適切に設定すれば、カメラ20のセンサに入射する光のうち、マスク2のアライメントマークで反射した光は、青色光の成分がカメラ20のセンサで合焦点となり、カメラ20からより遠い基板1のアライメントマークで反射した光は、赤色光の成分がカメラ20のセンサで合焦点となるようにすることができる。このように構成された比較例のアライメント装置において、基板1とマスク2との間のギャップGは5乃至15mm程度であるが、カメラ20に対する入射光のうち、赤色光と青色光とが異なる光路長を経てセンサに合焦点となるので、ギャップGの例えば5mmを吸収して、基板1及びマスク2の双方のアライメントマーク1a、2aをカメラ20のセンサ上でフォーカスすることができ、基板1上のアライメントパターンと、マスク2上のアライメントパターンとの双方をセンサにフォーカスさせて、同時に観察することができる。このように構成された比較例のアライメント装置においては、図6aに示すように、アライメント光が基板1及びマスク2に垂直に照射される場合には、図6bに示すように、所定のアライメント精度が得られる。しかし、図6cに示すように、アライメント光の光軸が傾斜した場合においては、反射光の光路が変化し、基板1とマスク2との間のギャップGにより、基板1とマスク2とが所定の位置関係にある場合においても、図6dに示すように、カメラ6側で検出するアライメントマーク1a,2aの位置がずれてしまう。そうすると、実際上、アライメントマーク2aとアライメントマーク1aとはその位置が一致しており、マスク2と基板1とはアライメントがとれているにも拘わらず、カメラ6においては、アライメントがとれていないと誤観察されてしまう。換言すれば、基板1とマスク2とでアライメントがとれていないにも拘わらず、カメラ6にて、アライメントマーク1aがアライメントマーク2aの中心にあるように観察されてしまうことが生じ、基板1とマスク2とがアライメントがとれていると誤観察されてしまう。これに対して、本実施形態においては、マイクロレンズアレイ3により、基板アライメントマーク1aの正立等倍像を、マスク2上に結像させるため、図3aに示すように、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、図3bに示すように、カメラ6により検出される基板及びマスクのアライメントマーク1a及び2aの相対位置は変化せず、極めて高いアライメント精度を得ることができる。また、上記比較例においては、波長が異なる2個のアライメント光源を設ける必要があり、構造及びアライメント方法が若干複雑であるが、本実施形態に係るアライメント装置においては、アライメント時には、露光用のマイクロレンズアレイ3を基板アライメントマーク1aとマスクアライメントマーク2aとの間に移動させるだけで、基板1とマスク2との間のギャップGに起因するカメラ6側のフォーカス差を0にして高いアライメント精度が得られ、アライメント光源も1個だけでよい。基板1とマスク2とのアライメント後には、マイクロレンズアレイ3は、図2における左方向に移動されて、マスク2に設けられたパターン領域の下方に移動され、その後、露光光が出射されて、マイクロレンズアレイ3によるスキャン露光が開始される。本実施形態においては、上記のように、高いアライメント精度が得られるため、スキャン露光における露光精度を極めて高く維持することができる。なお、本実施形態における基板及びマスクのアライメントマーク1a,2aの形状は、一例であり、各アライメントマーク1a,2aをカメラ6で検出して、基板1とマスク2とのアライメントを行うことができる限り、本発明は、アライメントマーク1a,2aの形状により限定されるものではない。また、本実施形態においては、アライメント光源5は、カメラ6と共に顕微鏡に内蔵されており、カメラ6が検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射するように構成されている場合について説明したが、本発明においては、基板1及びマスク2の一方の正立等倍像を他方に結像させ、これをカメラ6により検出するため、アライメント光源5が出射する光の光軸は、カメラにて検出される反射光の光軸とが同軸でなくてもよい。次に、本発明の第2実施形態に係る露光装置用のアライメント装置について説明する。図7a乃至図7dは、本発明の第2実施形態に係るアライメント装置において、多角視野絞りを介して検出される基板アライメントマークの像、及びカメラにより連続的に動画として撮像された基板アライメントマークの像を示す図である。本実施形態が第1実施形態と異なるのは、アライメント時に、カメラ6は、マスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの正立等倍像を連続的に撮像する点にある。なお、図7においては、一例として、スキャン露光方向に並ぶマイクロレンズアレイ3の各マイクロレンズ列を、スキャン露光方向における配列ピッチずつ移動させた状態を示している。本実施形態においては、アライメント時には、制御装置は、マイクロレンズアレイ3を移動させながら、カメラ6により、マスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの正立等倍像を所定時間連続的に撮像することにより、図7b乃至図7dに示すように、6角視野絞り31の開口に対応してマスク2上に結像された基板アライメントマーク1aの像は、スキャンにより、その像が帯状に延びていくように検出される。そして、例えば図7に示すように、マイクロレンズアレイ3が、スキャン露光方向にマイクロレンズ列が3列配置されて1マイクロレンズ群を構成しているものである場合においては、カメラ6による撮像時間を、マイクロレンズアレイ3がマイクロレンズ列の配列ピッチの3ピッチだけ移動される時間以上とすることにより、図7dに示すように、基板アライメントマーク1aの全体をカメラ6側で検出することができる。よって、本実施形態においては、基板アライメントマーク1aの中心位置を第1実施形態よりも高精度で検出できる。次に、本発明の第3実施形態に係る露光装置用のアライメント装置について説明する。図8aは本発明の第3実施形態に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図8bは検出されるアライメントマークの相対的位置関係を示す図である。第1実施形態及び第2実施形態においては、露光用のマイクロレンズアレイ3を露光時とアライメント時とで移動させて、1枚のマイクロレンズアレイを露光用とアライメント用とで共用した場合を説明したが、図8に示すように、本実施形態においては、マイクロレンズアレイ3は、露光光が照射される露光位置と、アライメント光が照射されるアライメント位置とを包含する大きさで設けられている。その他の構成については、第1実施形態と同様である。本実施形態のように、1枚の共有マイクロレンズアレイ3を、露光位置とアライメント位置とを包含する大きさのマイクロレンズアレイで構成することにより、露光時とアライメント時とで、マイクロレンズアレイ3を移動させる必要がなくなる。また、露光時及びアライメント時に夫々マイクロレンズアレイ3を移動させる構成、例えば駆動装置を共用することもできる。その他の効果は、第1実施形態と同様である。なお、第2実施形態と同様に、アライメント時に、マイクロレンズアレイ3を移動させながら、カメラ6により、マスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの像を、マスクアライメントマーク2aの像と共に連続的に撮像するように構成することにより、第2実施形態と同様の効果が得られる。次に、本発明の第4実施形態に係る露光装置用のアライメント装置について説明する。図9aは本発明の第3実施形態に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図9bは検出されるアライメントマークの相対的位置関係を示す図、図10a,bは図9に示す露光装置において、アライメント光の光路が傾斜した場合を示す図である。図9に示すように、本実施形態においては、マイクロレンズアレイは、露光用の第1のマイクロレンズアレイ3とアライメント用の第2のマイクロレンズアレイ7とが2枚設けられている。そして、第2のマイクロレンズアレイ7は、光学特性が第1のマイクロレンズアレイ3と同一である。その他の構成は、第1実施形態と同様である。本実施形態においても、基板アライメントマーク1aの正立等倍像を、マスク2上に結像させることができ、基板1とマスク2との間の5乃至15mmのギャップGに起因するカメラ6側のフォーカス差を0とすることができ、第1実施形態と同様に、基板1とマスク2とのアライメントを高精度で行うことができる。また、図10に示すように、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、アライメントマーク同士の相対位置は変化せず、極めて高いアライメント精度を得ることができる。また、マイクロレンズアレイは、露光用のマイクロレンズアレイ3とアライメント用のマイクロレンズアレイ7とが別体で構成されていることにより、第3実施形態と同様に、露光時とアライメント時とで、マイクロレンズアレイ3を移動させる必要がなくなる。そして、本実施形態においても、アライメント時に、制御装置が、マイクロレンズアレイ7を移動させながら、カメラ6により、マスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの像を、マスクアライメントマーク2aと共に、マイクロレンズアレイ3の各マイクロレンズ列の配列ピッチの整数倍でない間隔で複数回撮像し、撮像されたアライメントマークの像を重ね合わせてアライメントに使用することにより、第1実施形態と同様の効果が得られる。また、マイクロレンズアレイ7を移動させながら、カメラ6によりマスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの像を、マスクアライメントマーク2aの像と共に連続的に撮像するように構成することにより、第2実施形態と同様の効果が得られる。本実施形態においては、露光用のマイクロレンズアレイ3とアライメント用のマイクロレンズアレイ7とが設けられていることにより、露光時のマイクロレンズアレイ3のスキャン露光方向とアライメント時のマイクロレンズアレイ7の移動方向とを異なる方向にすることができる。即ち、第2の駆動装置によるマイクロレンズアレイ7の移動方向が、マイクロレンズ列を構成するマイクロレンズの配列方向に直交する方向であれば、本発明の効果が得られる。次に、本発明の第5実施形態に係る露光装置用のアライメント装置について説明する。図11aは本発明の第4実施形態に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図11bは検出されるアライメントマークの相対的位置関係を示す図である。図11に示すように、本実施形態においては、アライメント光源5及びカメラ6は、基板1の下方に配置されており、基板の下方からアライメント用の光を照射する。また、基板アライメントマーク1bが枠状をなし、マスクアライメントマーク2bは矩形状をなしている。本実施形態においては、露光対象の基板1は、例えばPIポリイミド及びITOスズドープ酸化インジウム等の光透過性の材料からなり、アライメント用の光は、基板1を透過して、マスク2に照射される。即ち、本実施形態においては、基板1が光透過性の材料からなる場合において、アライメント光の照射方向並びに基板1及びマスク2の各アライメントマーク1b,2bの形状が第1実施形態と異なり、その他の構成は、第1実施形態と同様である。本実施形態においても、露光用のマイクロレンズアレイ3は、基板1とマスク2との相対的位置合わせの際には、マスクアライメントマーク2bと基板アライメントマーク1bとの間に移動され、1枚のマイクロレンズアレイ3を露光時とアライメント時で移動させて使用される。そして、アライメントの際には、マイクロレンズアレイ3により、マスクアライメントマーク2bにより反射された反射光は、マイクロレンズアレイ3を透過し、基板1上にマスクアライメントマーク2bの正立等倍像が結像される。このとき、マイクロレンズアレイ3の単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置に設けられた6角視野絞り31により、基板1上に結像されるマスクアライメントマーク2bの像は、6角視野絞り31の開口に対応した像となる。よって、瞬間的には、カメラ6側からマスクアライメントマーク2bの端縁を検出できず、マスクアライメントマーク2bの中心位置が特定できずに、撮像されたアライメントマーク2bの像を基板1とマスク2とのアライメントに使用できない場合が生じる。しかし、マイクロレンズアレイ3は、複数個のマイクロレンズがスキャン露光方向に直交する方向に配列されてマイクロレンズ列を構成し、このマイクロレンズ列が、そのスキャン露光方向に複数列配置されると共に、スキャン露光方向に隣接する2列のマイクロレンズ列の相互間は、スキャン露光方向に直交する方向に偏倚するように配置されたものであり、アライメント時には、制御装置によりスキャン露光方向に移動するように制御される。よって、本実施形態においても、制御装置が、カメラ6により、基板1上に結像したマスクアライメントマーク2bの像を、基板アライメントマーク1bと共に、マイクロレンズアレイ3の各マイクロレンズ列の配列ピッチの整数倍でない間隔で複数回撮像し、撮像した複数枚の像を重ね合わせて、この重ね合わされた基板アライメントマーク1a及びマスクアライメントマーク2aの像をアライメントに使用することにより、多角視野絞りが設けられている場合においても、基板アライメントマークの1aの端縁を確実に特定でき、基板1とマスク2とのアライメントに使用することができる。また、基板1とマスク2との間には、5乃至15mmのギャップGが存在するが、このギャップGに起因するカメラ6側のフォーカス差が0となる。よって、本実施形態においても、上記第1乃至第4実施形態と同様に、基板1及びマスク2のアライメントマーク1b,2bを指標として、基板1とマスク2とのアライメントを高精度で行うことができる。例えば、カメラ6により検出されるマスクアライメントマーク2bの位置が枠状の基板アライメントマーク1bの中心からずれている場合には、第2の制御装置9により、マスクアライメントマーク2bが基板アライメントマーク1bの中心に位置するようにマスク2を移動させて基板1とマスク2とのアライメントを行う。また、基板1上にマスクアライメントマーク2aの正立等倍像を結像させるため、アライメント光の光軸が傾斜した場合においても、カメラ6により検出される基板及びマスクのアライメントマーク1b及び2bの相対位置は、アライメント光が基板1及びマスク2に垂直に照射される場合から変化せず、極めて高いアライメント精度を得ることができる。なお、本実施形態においても、アライメント時に、制御装置が、マイクロレンズアレイ3を移動させながら、カメラ6によりマスク2上に結像した基板アライメントマーク1aの像を、マスクアライメントマーク2aの像と共に連続的に撮像するように構成することにより、第2実施形態と同様の効果が得られる。また、マイクロレンズアレイ3を、露光光が照射される露光位置と、アライメント光が照射されるアライメント位置とを包含する大きさで設けることにより、第3実施形態と同様に、露光時とアライメント時とで、マイクロレンズアレイ3を移動させる必要がなくなる。次に、本発明の第6実施形態に係る露光装置用のアライメント装置について説明する。12aは本発明の第6実施形態に係る露光装置用のアライメント装置を示す図、図12bは検出されるアライメントマークの相対的位置関係を示す図である。図12に示すように、本実施形態においては、第4実施形態と同様に、マイクロレンズアレイは、露光用のマイクロレンズアレイ3とアライメント用のマイクロレンズアレイ7とが2枚設けられている。そして、アライメント用のマイクロレンズアレイ7は、光学特性が露光用のマイクロレンズアレイ3と同一である。これにより、本実施形態においては、第4実施形態と同様の効果が得られる。なお、本実施形態においても、第4実施形態と同様に、露光時のマイクロレンズアレイ3のスキャン露光方向とアライメント時のマイクロレンズアレイ7の移動方向第1方向とを異なる方向にすることができる。即ち、制御装置によるマイクロレンズアレイ7の移動方向が、マイクロレンズ列を構成するマイクロレンズの配列方向に直交する方向であれば、本発明の効果が得られる。"