"一般式I:<式中、-X----Y-は、-CH=CH-、-CH2-C=O-、-CH2-CH2-、又は-CH2-CHR13-式中、R13はヒドロキシル基又は低級アルキルカルボニルオキシ基を表すを表し、R1と4’位炭素原子の間の----は単結合又は二重結合を表し、R2と5位炭素原子の間の----は単結合又は二重結合を表し、1-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-を表し、R1と4’位炭素原子の間の----が二重結合を表すとき、R1は=CR11R12{式中、R11は置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、-CH=N-OR3式中、R3は水素原子又は低級アルキル基を表す、低級アルケニルカルボニル基、-CH=N-NH-CONH2、シアノ基、-COR4[式中、R4はヒドロキシル基、低級アルケニルオキシ基、又は-NR5R6式中、R5及びR6は隣接する窒素原子と一緒になって含窒素複素環基を形成するを表す]、低級アルケニルオキシカルボニル基で置換されたビニル基、-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RX式中、RXは低級アルキル基を表す、又は-CH=CH-COOHを表し、R12は水素原子を表すが、R11がシアノ基を表すときにはR12は水素原子又は低級アルキル基を表す}を表すか、又は4’位炭素原子と一緒になってカルボニル基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が単結合であるときにR2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が二重結合であるときにR2は5位の炭素原子と一緒になってカルボニル基又はヒドロキシム基[-C=NOH-]を形成し、2-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-を表し、R1と4’位炭素原子の間の----が単結合を表すとき、R1はヒドロキシル基又は-OCHR1aR1b{式中、R1aは置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、-CH=N-OR7式中、R7は水素原子又は低級アルキル基を表す、低級アルケニルオキシカルボニル基、-CH=N-NH-CONH2、シアノ基、-COR8[式中、R8はアリールアルキルオキシ基アリール基は1個又は2個以上のヘテロ原子を環構成原子として含んでいてもよい又は-NR9R10式中、R9及びR10は隣接する窒素原子と一緒になって含窒素複素環基を形成するを表す]、低級アルケニルオキシカルボニル基で置換されたビニル基、-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RY式中、RYは低級アルキル基を表す、-CH=CH-COOH、又は置換若しくは非置換のアリール基を表し、R1bは水素原子を表すが、R1aがカルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいを表す場合には、R1bはさらに低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、カルボキシル基、シアノ基又はアリール基を表してもよい}、カルボキシメチル基又はシアノメチル基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が単結合であるときにR2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が二重結合であるときにR2は5位の炭素原子と一緒になってカルボニル基又はヒドロキシム基[-C=NOH-]を形成し、3-X----Y-が-CH2-C=O-を表し、R1と4’位炭素原子の間の----が二重結合を表すとき、R1は=CR11aR12a[式中、R11aは低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい又は-COOCH2CH=CH2を表し、R12aは水素原子を表す]を表すか、又は4’位炭素原子と一緒になってカルボニル基を表し、R2と5位炭素原子の間の----は単結合を表し、R2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、4-X----Y-が-CH2-C=O-を表し、R1と4’位炭素原子の間の----が単結合を表すとき、R1は-OCHR1aaR1ba{式中、R1aaは置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、-CH=N-OR7a式中、R7aは水素原子又は低級アルキル基を表す、低級アルケニルオキシカルボニル基、-CH=N-NH-CONH2、シアノ基、-COR8a[式中、R8aはアリールアルキルオキシ基アリール基は1個又は2個以上のヘテロ原子を環構成原子として含んでいてもよい又は-NR9aR10a式中、R9a及びR10aは隣接する窒素原子と一緒になって含窒素複素環基を形成するを表す]、低級アルケニルオキシカルボニル基で置換されたビニル基、-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RYa式中、RYaは低級アルキル基を表す、-CH=CH-COOH、又は置換若しくは非置換のアリール基を表し、R1baは水素原子を表すが、R1aaがカルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいを表す場合には、R1baはさらに低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、カルボキシル基、シアノ基又はアリール基を表してもよい}を表し、R2と5位炭素原子の間の----が単結合であるときにR2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が二重結合であるときにR2は5位の炭素原子と一緒になってカルボニル基又はヒドロキシム基[-C=NOH-]を形成し、5-X----Y-が-CH2-CHR13-式中、R13は前記と同義であるを表し、R1と4’位炭素原子の間の----が二重結合を表すとき、R1は=CR11bR12b式中、R11bはシアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基又は低級アルケニルオキシカルボニル基を表すか、又は4’位炭素原子と一緒になってカルボニル基を表し、R12bは水素原子を表すを表し、R2と5位炭素原子の間の----は単結合を表し、R2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、6-X----Y-が-CH2-CHR13-式中、R13は前記と同義であるを表し、R1と4’位炭素原子の間の----が単結合を表すとき、R1は-OCHR1abR1bb{式中、R1abは置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、-CH=N-OR7b式中、R7bは水素原子又は低級アルキル基を表す、低級アルケニルオキシカルボニル基、-CH=N-NH-CONH2、シアノ基、-COR8b[式中、R8bはアリールアルキルオキシ基アリール基は1個又は2個以上のヘテロ原子を環構成原子として含んでいてもよい又は-NR9bR10b式中、R9b及びR10bは隣接する窒素原子と一緒になって含窒素複素環基を形成するを表す]、低級アルケニルオキシカルボニル基で置換されたビニル基、-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RYb式中、RYbは低級アルキル基を表す、-CH=CH-COOH、又は置換若しくは非置換のアリール基を表し、R1bbは水素原子を表すが、R1abがカルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいを表す場合には、R1bbはさらに低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、カルボキシル基、シアノ基又はアリール基を表してもよい}を表し、R2と5位炭素原子の間の----が単結合であるときにR2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が二重結合であるときにR2は5位の炭素原子と一緒になってカルボニル基又はヒドロキシム基[-C=NOH-]を形成する>で表される化合物又はその塩。-X----Y-が-CH=CH-である請求項1に記載の化合物又はその塩。-X----Y-が-CH2-CH2-である請求項1に記載の化合物又はその塩。R11が置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、シアノ基、又は-COR4式中、R4は前記と同義であるである請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の化合物又はその塩。R1がヒドロキシル基又は-OCH2R1ac[式中、R1acは置換若しくは非置換の低級アルキル基、カルボキシル基、又は低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいを表す]である請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の化合物又はその塩。R2がヒドロキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の化合物又はその塩。請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含む医薬。請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含む寄生虫症の治療剤。抗寄生虫剤の製造のための請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の化合物又はその生理学的に許容されるその塩の使用。本発明の目的は、抗寄生虫活性を有するエバーメクチン誘導体を提供することにある。本発明者らは、より高い抗寄生虫活性を有するエバーメクチン誘導体を見出すべく、エバーメクチンB1a、エバーメクチンB2a及びイベルメクチンを原料として、誘導体を種々合成した。その結果、下記の一般式Iで表される抗寄生虫活性が高い誘導体を得ることに成功し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、一般式I:<式中、-X----Y-は、-CH=CH-、-CH2-C=O-、-CH2-CH2-、又は-CH2-CHR13-式中、R13はヒドロキシル基又は低級アルキルカルボニルオキシ基を表すを表し、R1と4’位炭素原子の間の----は単結合又は二重結合を表し、R2と5位炭素原子の間の----は単結合又は二重結合を表し、1-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-を表し、R1と4’位炭素原子の間の----が二重結合を表すとき、R1は=CR11R12{式中、R11は置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、-CH=N-OR3式中、R3は水素原子又は低級アルキル基を表す、低級アルケニルカルボニル基、-CH=N-NH-CONH2、シアノ基、-COR4[式中、R4はヒドロキシル基、低級アルケニルオキシ基、又は-NR5R6式中、R5及びR6は隣接する窒素原子と一緒になって含窒素複素環基を形成するを表す]、低級アルケニルオキシカルボニル基で置換されたビニル基、-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RX式中、RXは低級アルキル基を表す、又は-CH=CH-COOHを表し、R12は水素原子を表すが、R11がシアノ基を表すときにはR12は水素原子又は低級アルキル基を表す}を表すか、又は4’位炭素原子と一緒になってカルボニル基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が単結合であるときにR2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が二重結合であるときにR2は5位の炭素原子と一緒になってカルボニル基又はヒドロキシム基[-C=NOH-]を形成し、2-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-を表し、R1と4’位炭素原子の間の----が単結合を表すとき、R1はヒドロキシル基又は-OCHR1aR1b{式中、R1aは置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、-CH=N-OR7式中、R7は水素原子又は低級アルキル基を表す、低級アルケニルオキシカルボニル基、-CH=N-NH-CONH2、シアノ基、-COR8[式中、R8はアリールアルキルオキシ基アリール基は1個又は2個以上のヘテロ原子を環構成原子として含んでいてもよい又は-NR9R10式中、R9及びR10は隣接する窒素原子と一緒になって含窒素複素環基を形成するを表す]、低級アルケニルオキシカルボニル基で置換されたビニル基、-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RY式中、RYは低級アルキル基を表す、-CH=CH-COOH、又は置換若しくは非置換のアリール基を表し、R1bは水素原子を表すが、R1aがカルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいを表す場合には、R1bはさらに低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、カルボキシル基、シアノ基又はアリール基を表してもよい}、カルボキシメチル基又はシアノメチル基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が単結合であるときにR2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が二重結合であるときにR2は5位の炭素原子と一緒になってカルボニル基又はヒドロキシム基[-C=NOH-]を形成し、3-X----Y-が-CH2-C=O-を表し、R1と4’位炭素原子の間の----が二重結合を表すとき、R1は=CR11aR12a[式中、R11aは低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい又は-COOCH2CH=CH2を表し、R12aは水素原子を表す]を表すか、又は4’位炭素原子と一緒になってカルボニル基を表し、R2と5位炭素原子の間の----は単結合を表し、R2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、4-X----Y-が-CH2-C=O-を表し、R1と4’位炭素原子の間の----が単結合を表すとき、R1は-OCHR1aaR1ba{式中、R1aaは置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、-CH=N-OR7a式中、R7aは水素原子又は低級アルキル基を表す、低級アルケニルオキシカルボニル基、-CH=N-NH-CONH2、シアノ基、-COR8a[式中、R8aはアリールアルキルオキシ基アリール基は1個又は2個以上のヘテロ原子を環構成原子として含んでいてもよい又は-NR9aR10a式中、R9a及びR10aは隣接する窒素原子と一緒になって含窒素複素環基を形成するを表す]、低級アルケニルオキシカルボニル基で置換されたビニル基、-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RYa式中、RYaは低級アルキル基を表す、-CH=CH-COOH、又は置換若しくは非置換のアリール基を表し、R1baは水素原子を表すが、R1aaがカルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいを表す場合には、R1baはさらに低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、カルボキシル基、シアノ基又はアリール基を表してもよい}を表し、R2と5位炭素原子の間の----が単結合であるときにR2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が二重結合であるときにR2は5位の炭素原子と一緒になってカルボニル基又はヒドロキシム基[-C=NOH-]を形成し、5-X----Y-が-CH2-CHR13-式中、R13は前記と同義であるを表し、R1と4’位炭素原子の間の----が二重結合を表すとき、R1は=CR11bR12b式中、R11bはシアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基又は低級アルケニルオキシカルボニル基を表すか、又は4’位炭素原子と一緒になってカルボニル基を表し、R12bは水素原子を表すを表し、R2と5位炭素原子の間の----は単結合を表し、R2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、6-X----Y-が-CH2-CHR13-式中、R13は前記と同義であるを表し、R1と4’位炭素原子の間の----が単結合を表すとき、R1は-OCHR1abR1bb{式中、R1abは置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、-CH=N-OR7b式中、R7bは水素原子又は低級アルキル基を表す、低級アルケニルオキシカルボニル基、-CH=N-NH-CONH2、シアノ基、-COR8b[式中、R8bはアリールアルキルオキシ基アリール基は1個又は2個以上のヘテロ原子を環構成原子として含んでいてもよい又は-NR9bR10b式中、R9b及びR10bは隣接する窒素原子と一緒になって含窒素複素環基を形成するを表す]、低級アルケニルオキシカルボニル基で置換されたビニル基、-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RYb式中、RYbは低級アルキル基を表す、-CH=CH-COOH、又は置換若しくは非置換のアリール基を表し、R1bbは水素原子を表すが、R1abがカルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいを表す場合には、R1bbはさらに低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよい、カルボキシル基、シアノ基又はアリール基を表してもよい}を表し、R2と5位炭素原子の間の----が単結合であるときにR2はヒドロキシル基、低級アルコキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、R2と5位炭素原子の間の----が二重結合であるときにR2は5位の炭素原子と一緒になってカルボニル基又はヒドロキシム基[-C=NOH-]を形成する>で表される化合物又はその塩を提供するものである。本発明の一般式Iにおいて、-X----Y=が-CH=CH-である化合物又はその塩が好ましい。中でも、R11が置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、シアノ基、又は-COR4式中、R4は前記と同義であるである化合物、R1がヒドロキシル基又は-OCH2R1ac[式中、R1acは置換若しくは非置換の低級アルキル基、カルボキシル基、又は低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいを表す]である化合物、又はそれらの塩がより好ましい。また、本発明の一般式Iにおいて、-X----Y-が-CH2-CH2-である化合物又はその塩が好ましい。中でも、R11が置換若しくは非置換の低級アルキル基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、シアノ基、又は-COR4式中、R4は前記と同義であるである化合物、R1がヒドロキシル基又は-OCH2R1ac[式中、R1acは置換若しくは非置換の低級アルキル基、カルボキシル基、又は低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいを表す]である化合物、又はそれらの塩がより好ましい。さらに、本発明の一般式Iにおいて、R2がヒドロキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物又はその塩が好ましい。別の観点からは、本発明により上記の一般式Iで表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含む医薬が提供される。この医薬は、ヒトを含む哺乳類動物に対して寄生虫症の治療剤として投与することができる。さらに別の観点からは、上記医薬の製造のための上記の一般式Iで表される化合物又は生理学的に許容されるその塩の使用、及び寄生虫症の治療方法であって、上記の一般式Iで表される化合物又は生理学的に許容されるその塩の治療有効量をヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法が本発明により提供される。以下、一般式Iで表される化合物を化合物Iという。他の式番号の化合物についても同様である。本発明の化合物Iにおいて、-X----Y-は、-CH=CH-、-CH2-C=O-、-CH2-CH2-、又は-CH2-CHR13-式中、R13は前記と同義であるを表すこれらの式中、左側の炭素原子がXを表す。本発明の化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-であり、かつR1と4’位炭素原子の間の----が二重結合である化合物を化合物Iaといい、-X----Y-が-CH=CH-であり、かつR1と4’位炭素原子の間の----が単結合である化合物をIcという。本発明の化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH2-CH2-であり、かつR1と4’位炭素原子の間の----が二重結合である化合物を化合物Ibといい、-X----Y-が-CH2-CH2-であり、かつR1と4’位炭素原子の間の----が単結合である化合物を化合物Idという。本発明の化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH2-C=O-である化合物を化合物Ieといい、-X----Y-が-CH2-CHR13-式中、R13は前記と同義であるである化合物を化合物Ifという。化合物Iの各基の定義において、低級アルキル基は、炭素数1~8の直鎖状、分岐状、環状、又はそれらの組み合わせのいずれでもよく、好ましくは炭素数1~8の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、又はオクチル基等を挙げることができる。低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシル基、又は低級アルキルカルボニルオキシ基の低級アルキル部分を有する官能基における低級アルキル部分についても、特に言及しない場合には前記の低級アルキル基と同義である。アリールアルキルオキシ基のアルキレン部分は低級アルキルから水素原子を1つ除いた基を表す。低級アルケニルカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルケニルオキシ基及び低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基における低級アルケニル部分としては、炭素数2~6の直鎖状又は分岐状のアルケニル基を挙げることができ、例えば、ビニル基、アリル基、メタクリル基、ブテニル基、ペンテニル基、又はヘキセニル基等が包含される。特に好ましいのはアリル基である。アルケニル基に存在する二重結合の個数は特に限定されないが、好ましくは1個である。アリール基及びアリールアルキルオキシ基のアリール部分としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等を挙げることができる。複素環基は、芳香族複素環基又は脂肪族複素環基のいずれでもよい。芳香族複素環基としては、例えば5員又は6員の単環性芳香族複素環基該単環性芳香族複素環基は、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を少なくとも1つ含むが挙げられ、より具体的には、例えば、ピリジル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、ピラジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、又はオキサゾリル基等が包含される。脂肪族複素環基としては、例えば5員又は6員の単環性脂肪族複素環基該単環性脂肪族複素環基は、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を少なくとも1つ含むが挙げられ、より具体的には、例えば、ピロリジニル基、テトラヒドロフリル基、又はテトラヒドロピラニル基等が挙げられる。隣接する窒素原子と一緒になって形成される含窒素複素環基には、モルホリノ基、チオモルホリノ基、ピペリジノ基、1-ピペラジニル基、又は1-ピロリジニル基等が包含される。置換低級アルキル基上の置換基の種類及び個数は特に限定されないが、好ましくは1~3個のヒドロキシル基、ハロゲン原子本明細書においてハロゲン原子という場合には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子のいずれでもよい、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、モノ低級アルキルアミノ基、モノ低級アルコキシアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、アジド基、複素環基該複素環基としては前記複素環基及び隣接する窒素原子と一緒になって形成される含窒素複素環基で例示された基が挙げられる、低級アルカノイルオキシ基、複素環カルボニルオキシ基複素環-C=O-O-:複素環部分は前記複素環基と同義であり、複素環部分はハロゲン原子又は低級アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい、複素環オキシ基テトラヒドロピラニルオキシ基等、アリール基、置換若しくは非置換のアリールカルボニルオキシ基該置換アリールカルボニルオキシ基のアリール基上の置換基の種類及び個数は特に限定されないが、好ましくは1~5個の、ハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基等が挙げられる、置換若しくは非置換のアリールスルホニルオキシ基該置換アリールスルホニルオキシ基上の置換基は前記と同義の低級アルキルである、低級アルキルスルホニルオキシ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基等が包含される。置換低級アルキル上の置換基の定義において、モノ低級アルキルアミノ基、モノ低級アルコキシアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルカノイルオキシ基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキルスルホニルオキシ基の低級アルキル部分は、前記低級アルキル基と同義である。置換低級アルキル基上の置換基の定義において、アリール基、アリールカルボニルオキシ基及びアリールスルホニルオキシ基のアリール部分は前記アリール基と同義である。置換アリール基上の置換基の種類及び個数は特に限定されないが、好ましくは1~5個のニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子等を挙げることができる。化合物Iの塩としては、酸付加塩、金属塩、アンモニウム塩、又は有機アミン付加塩等が包含される。酸付加塩としては、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、又はクエン酸塩等の有機酸塩が挙げられる。金属塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、又は亜鉛塩等が挙げられ、アンモニウム塩としては、アンモニウム又はテトラメチルアンモニウム等の塩が挙げられ、有機アミン付加塩としては、モルホリン又はピペリジン等の付加塩が挙げられる。本発明の医薬の有効成分として化合物Iの塩を用いる場合には、生理学的に許容される塩を用いることが望ましい。次に化合物Iの製造方法について説明する。本発明で開示される化合物Iの中間体として利用可能なエバーメクチンB1aモノサッカライド、エバーメクチンB2aモノサッカライド及びイベルメクチンモノサッカライド22,23-ジヒドロエバーメクチンB1aモノサッカライドは、文献記載の方法[JMedChem2311341136]に準じて、それぞれエバーメクチンB1a及びエバーメクチンB2aより合成した。原料となるエバーメクチンB1a及びエバーメクチンB2aは、ストレプトミセスエバーミチリスStreptomycesavermitilisの培養物から採取される化合物であって、公知化合物である特開平3-74397号公報、特開平3-254678号公報、米国特許第5,206,155号明細書等。本発明の化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-である化合物化合物Ia又は化合物Icは、上記中間体エバーメクチンB1aモノサッカライドから、-X----Y-が-CH2-CH2-である化合物化合物Ib又は化合物Idは、上記中間体イベルメクチンモノサッカライドからそれぞれ誘導される。また本発明の化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH2-C=O-である化合物Ieは、上記中間体エバーメクチンB2aモノサッカライドの23位ヒドロキシル基を適宜の酸化試薬で酸化した化合物より誘導され、-X----Y-が-CH2-CHR13-式中、R13は前記と同義であるである化合物Ifは、上記中間体エバーメクチンB2aモノサッカライドから誘導される。なお、下記に示した製造法において、定義した基が実施方法の条件下で変化するか、又は方法を実施するのに不適切な場合、有機合成化学で常用される保護基の導入及び脱離方法[例えば、プロテクティブグループスインオーガニックシンセシスProtectiveGroupsinOrganicSynthesis、グリーンTWGreene著、ジョンワイリーアンドサンズインコーポレイテッドJohnWileySonsInc参照]等を用いることにより、目的化合物を得ることができる。製造法1化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-、-CH2-CH2-又は-CH2-C=O-であり、R1が複素環基で置換されていてもよい低級アルコキシカルボニルメチリデン基、低級アルケニルオキシカルボニルメチリデン基若しくは=CH-COOCH2CH=CH2、又はシアノメチリデン基であり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia2、化合物Ib2及び化合物Ie2は、次の工程に従い得ることができる。式中、R11aはR11又はR11aの定義中、複素環基で置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基若しくは-COOCH2CH=CH2、又はシアノ基を表し、R2aはR2の定義中、低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基を表し、-X1----Y1-は-CH=CH-、-CH2-CH2-又は-CH2-C=O-を表す化合物Ia1、化合物Ib1又は化合物Ie1を不活性溶媒中、1~10当量のRO2POCH2R11a式中、Rは前記と同義の低級アルキル基を表し、R11aは前記と同義であるで表される化合物IIと、1~10当量の塩基共存下、-78°C~使用した溶媒の沸点間の温度で、1分間~24時間反応させて、化合物Ia2、化合物Ib2又は化合物Ie2を得ることができる。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン等を単独又は混合して用いることができ、塩基としては、tert-ブトキシカリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、リチウムヘキサメチルジシラザン、リチウムジイソプロピルアミド等を挙げることができる。また、後記の製造法4で得られる-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-であり、R11がカルボキシル基であり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia5又は化合物Ib5を原料として用い、-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-であり、R11が複素環基で置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル基であり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia2-1又は化合物Ib2-1を製造することもできる。反応は不活性溶媒中、対応する複素環基で置換されていてもよい低級アルコール、又は対応する複素環基で置換されていてもよい低級アルコールのエステルと化合物Ia5又は化合物Ib5とを、塩基の存在下又は非存在下で、0°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~3日間反応させることで行うことができる。不活性溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノール等の低級アルコール、テトラヒドロフラン、エーテル、クロロホルム、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン等が用いられる。対応する複素環基で置換されていてもよい低級アルコール、又は対応する複素環基で置換されていてもよい低級アルコールのエステルを溶媒として上記の不活性溶媒の代わりに用いてもよい。塩基としては、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン等を用いることができる。さらに、上記製造法1で得られる-X----Y-が-CH=CH-でありR11がシアノ基である化合物又は後記製造法4で得られる-X----Y-が-CH=CH-でありR11がカルボキシル基である化合物を、ベンゼン等の溶媒中、トリフェニルホスフィンロジウムクロライド等の触媒存在下、水素、蟻酸アンモニウム等の水素源存在下、1分間~100時間、0°C~用いる溶媒の沸点間の温度で、接触還元することにより、R1がシアノメチル基又はカルボキシメチル基であり、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつ-X----Y-が-CH2-CH2-である化合物を得ることができる。製造法2化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-であり、R11がヒドロキシメチル基であり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia3又は化合物Ib3は、次の工程に従い得ることができる。式中、R11A1はR11Aの定義中、複素環基で置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル基又は低級アルケニルオキシカルボニル基を表し、-X2----Y2-は-CH=CH-又は-CH2-CH2を表し、R2aは前記と同義である製造法1で得られる化合物のうち、R11Aが複素環基で置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル基又は低級アルケニルオキシカルボニル基であり、-X1----Y1-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-である化合物化合物Ia2-2又は化合物Ib2-2を不活性溶媒中、1当量~過剰量の還元剤で、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間処理して、化合物Ia3又は化合物Ib3を得ることができる。不活性溶媒としてはメタノール、エタノール、水、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン、ピリジン、ヘキサン、塩化メチレン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン等を単独又は混合して用いることができ、還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等が挙げられる。さらに、上記で得られたR11がヒドロキシメチル基である化合物Ia3又は化合物Ib3を、不活性溶媒中、ハロゲン化剤で、塩基共存下又は非共存下で-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で、1分間~24時間処理して、R11がハロメチル基である化合物を得ることができる。不活性溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、ベンゼン、エーテル、テトラヒドロフラン等を単独又は混合して用いることができ、ハロゲン化剤としては、p-トルエンスルホニルクロリド、塩化チオニル、臭化チオニル等を用いることができる。塩基としては、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン等を用いることができる。さらに、R11がハロメチル基である化合物を、不活性溶媒中でアジ化剤と、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で、1分間~24時間反応させて常法により還元することでR11がアミノメチル基である化合物を得ることができる。アジ化剤としては、ナトリウムアジド、カリウムアジド等を用いることができる。不活性溶媒としてはエーテル、テトラヒドロフラン等が単独又は混合して用いられる。製造法3化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-であり、R11がホルミル基であり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia4又は化合物Ib4は、次の工程に従い得ることができる。式中、R2a及び-X2----Y2-はそれぞれ前記と同義である製造法2で得られる化合物Ia3又は化合物Ib3を、不活性溶媒中、1当量~過剰量の酸化剤で、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間処理して、化合物Ia4又は化合物Ib4を得ることができる。不活性溶媒としては水、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、ヘキサン、塩化メチレン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、tert-ブタノール等を単独又は混合して用いることができ、酸化剤としてはピリジニウムクロロクロメート、ピリジニウムジクロメート、二酸化マンガン、過マンガン酸カリウム等が挙げられる。また、製造法2で原料として用いられる化合物Ia2-2又は化合物Ib2-2から、製造法2に記載の還元反応条件を調節することによっても化合物Ia4又は化合物Ib4を得ることができる。化合物Ia2-2又は化合物Ib2-2を還元して、化合物Ia4又は化合物Ib4を得る場合の反応溶媒、還元剤、還元剤当量、反応時間及び反応温度としては製造法2で例示されたものが挙げられる。さらに、上記で得られたR11がホルミル基である化合物Ia4又は化合物Ib4をWittig反応に付することにより、R11がビニル基又は置換ビニル基である化合物例えばR11が-CH=CH-COOHである化合物を得ることができる。Wittig反応で用いられる溶媒、反応温度、試薬の当量数、反応時間等は製造法1に記載されたものと同様である。製造法4化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-であり、R11がカルボキシル基であり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia5又は化合物Ib5は、次の工程に従い得ることができる。式中、R2a及び-X2----Y2-はそれぞれ前記と同義である製造法2で得られる化合物Ia3又は化合物Ib3を、不活性溶媒中、1当量~過剰量の酸化剤で、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間処理して化合物Ia5又は化合物Ib5を得ることができる。不活性溶媒としては水、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、ヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン、tert-ブタノール等を単独又は混合して用いることができ、酸化剤としては、ピリジニウムジクロメート、ピリジニウムクロロクロメート、ジョーンズ試薬、三酸化クロム、過マンガン酸カリウム等が挙げられる。また、化合物Ia3又は化合物Ib3から化合物Ia5又は化合物Ib5を製造する上記の方法に準じて、製造法3で得られる化合物Ia4又は化合物Ib4のホルミル基を酸化することで化合物Ia5又は化合物Ib5を得ることもできる。また、製造法1で得られる化合物Ia2又は化合物Ib2を不活性溶媒中で、1当量~過剰量の酸又は塩基共存下に加水分解することで、化合物Ia5又は化合物Ib5を得ることもできる。不活性溶媒としてはメタノール、エタノール、水、テトラヒドロフラン、エーテル、又はアセトニトリル等が挙げられる。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられ、塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられる。製造法1で得られる化合物Ia2又は化合物Ib2のうち、R11aが低級アルケニルオキシカルボニル基である化合物を、不活性溶媒中、1当量~過剰量の還元剤でパラジウム触媒存在下、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間処理して、化合物Ia5又は化合物Ib5を得ることもできる。不活性溶媒としては、メタノール、エタノール等が挙げられ、還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、蟻酸、ヒドラジン等が挙げられ、パラジウム触媒としては、テトラキストリフェニルホスホノパラジウム等が挙げられる。上記で得られたR11がカルボキシル基である化合物Ia5又は化合物Ib5をさらにHS-CH2-CH2-NH-CO-RX式中、RXは前記と同義であると反応させることによって、R11が-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RX式中、RXは前記と同義であるである化合物を得ることができる。化合物Ia5又は化合物Ib5から、R11が-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RX式中、RXは前記と同義であるである化合物を製造する場合には通常、縮合剤及び塩基を共存させて反応を行う。化合物Ia5又は化合物Ib5から、R11が-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RX式中、RXは前記と同義であるである化合物を製造する場合に用いられる溶媒及び塩基としては、後記の製造法9において化合物Ia5又は化合物Ib5と化合物Vを反応させる場合の不活性溶媒及び塩基等が挙げられる。縮合剤としては、後記の製造法9において化合物Ia5又は化合物Ib5と化合物Vを反応させる場合の縮合剤の他に、ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート等を用いることができる。化合物Ia5又は化合物Ib5から、R11が-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RX式中、RXは前記と同義であるである化合物を製造する場合の反応時間、反応温度、試薬の当量数等は、後記の製造法9において化合物Ia5又は化合物Ib5と化合物Vを反応させる場合で例示するものに準じる。製造法5化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-であり、R11が低級アルカノイルオキシメチル基、置換若しくは非置換のアリールカルボニルオキシメチル基又は複素環カルボニルオキシメチル基であり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia6又は化合物Ib6は以下の製造法で得ることができる。[式中、R7xは低級アルキル、置換若しくは非置換のアリール基該置換アリール基上の置換基の種類及び個数は特に限定されないが、好ましくは1~5個の、ハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基等が挙げられる又は複素環基該複素環基は、ハロゲン原子又は低級アルコキシカルボニル基で置換されていてもよいを表し、R2a及び-X2----Y2-はそれぞれ前記と同義である。R7xの定義における低級アルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子及び低級アルコキシカルボニル基は、それぞれ前記と同義である]製造法2で得られる化合物Ia3又は化合物Ib3を不活性溶媒中、1当量~過剰量のR7xCOCl式中、R7xは前記と同義であるで表される化合物IIIaと1当量~過剰量の塩基存在下又は非存在下で-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間反応させて、化合物Ia6又は化合物Ib6を得ることができる。不活性溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン、ピリジン等が挙げられ、塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。また、化合物Ia3又は化合物Ib3を不活性溶媒中、1当量~過剰量のR7xCO2O式中、R7xは前記と同義であるで表される化合物IIIbと1当量~過剰量の塩基存在下又は非存在下で-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間反応させることで目的の化合物Ia6又は化合物Ib6を得ることもできる。用いられる不活性溶媒及び塩基としては、化合物Ia3又は化合物Ib3に化合物IIIaを反応させる際と同様のものが挙げられる。また、化合物Ia3又は化合物Ib3を不活性溶媒中、1当量~過剰量のR7xCOOH式中、R7xは前記と同義であるで表される化合物IIIcと、1当量~過剰量の塩基存在下又は非存在下で、1当量~過剰量の縮合剤の存在下、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間反応させることで目的の化合物Ia6又は化合物Ib6を得ることもできる。不活性溶媒及び塩基としては化合物Ia3又は化合物Ib3に化合物IIIaを反応させる際と同様のものが挙げられ、縮合剤としては、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミドWSCI塩酸塩、1,3-ジシクロヘキシルカルボジイミド等が挙げられる。製造法6化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-であり、R11が-CH=N-OR3式中、R3は前記と同義である又は-CH=N-NH-CONH2であり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia7又は化合物Ib7は製造法3で得られる化合物Ia4又は化合物Ib4を原料として、以下の方法で得ることができる。[式中、R9xは-OR3式中、R3は前記と同義である又は-NH-CONH2を表し、R2a及び-X2----Y2-はそれぞれ前記と同義である]化合物Ia4又は化合物Ib4を不活性溶媒中、1当量~過剰量の塩基の存在下又は非存在下、1当量~過剰量のH2N-OR3式中、R3は前記と同義であるで表される化合物IV若しくはその塩塩としては前記と同義の酸付加塩が挙げられる、又は1当量~過剰量のセミカルバジド若しくはその塩塩としては前記と同義の酸付加塩が挙げられるを-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間反応させることで化合物Ia7又は化合物Ib7を得ることができる。不活性溶媒としてはメタノール、エタノール等が挙げられる。塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。さらに、上記で得られたR11が-CH=N-OR3である化合物を還元することによって、R11が-CH2-NH-OR3である化合物を得ることができる。還元は、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン等の不活性溶媒中で水素化ジイソブチルアルミニウム等の還元試薬を用いて行うことができる。製造法7化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-であり、R11がテトラヒドロピラニルオキシメチル基であり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia8又は化合物Ib8は、製造法2で得られる化合物Ia3又は化合物Ib3を用いて、以下の方法で得ることができる。式中、R2a及び-X2----Y2-はそれぞれ前記と同義である製造法2で得られる化合物Ia3又は化合物Ib3を不活性溶媒中、酸触媒存在下に1当量~過剰量のジヒドロピランと反応させることで化合物Ia8又は化合物Ib8を得ることができる。酸触媒としては、塩酸、p-トルエンスルホン酸、ピリジニウムp-トルエンスルホン酸等が挙げられ、不活性溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。製造法8化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-であり、R11がアミノメチル基又はメチルアミノメチル基であり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia9又は化合物Ib9は、製造法3で得られる化合物Ia4又は化合物Ib4を原料として用い、以下の方法で得ることができる。式中、R10xは水素原子又はメチル基を表し、R2a及び-X2----Y2-はそれぞれ前記と同義である化合物Ia4又は化合物Ib4に不活性溶媒中、触媒量~過剰量の金属塩共存下に、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間、1当量~過剰量のヘキサメチルジシラザンを反応させた後に、1当量~過剰量の還元剤を加えることで化合物Ia9又は化合物Ib9においてR10xが水素原子である化合物を得ることができる。不活性溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、メタノール、エタノール等が挙げられる。金属塩としては、塩化亜鉛等が挙げられ、還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、蟻酸、水素ガス、水素化リチウムアルミニウム等が挙げられる。また、上記のヘキサメチルジシラザンの代わりに、ヘプタメチルジシラザンを用いることにより、化合物Ia9又は化合物Ib9においてR10xがメチル基である化合物を得ることができる。製造法9化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-又は-CH2-CH2-であり、R11が-CONR5R6式中、R5及びR6はそれぞれ前記と同義であるであり、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物化合物Ia10又は化合物Ib10は、製造法4で得られる化合物Ia5又は化合物Ib5を原料として用い、以下の方法で得ることができる。[式中、R31は-NR5R6式中、R5及びR6はそれぞれ前記と同義であるを表し、R2a及び-X2----Y2-はそれぞれ前記と同義である]化合物Ia5又は化合物Ib5を不活性溶媒中、1当量~過剰量の塩基及び縮合剤の存在下に、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間、1当量~過剰量のR31H式中、R31は前記と同義であるで表される化合物Vと反応させることで、化合物Ia10又は化合物Ib10を得ることができる。不活性溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、メタノール、エタノール等が挙げられる。縮合剤としては、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミドWSCI塩酸塩、1,3-ジシクロヘキシルカルボジイミド等が挙げられる。塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、ピリジン等が挙げられる。また、化合物Ia5又は化合物Ib5を、不活性溶媒中又は溶媒非存在下、氷冷下~用いる溶媒の沸点溶媒を用いない場合は、使用する塩素化剤の沸点間の温度で、塩素化剤により対応する酸塩化物に導き、不活性溶媒中、氷冷下~用いる溶媒の沸点間の温度で塩基共存下にR31H式中、R31は前記と同義であるで表される化合物Vと反応させて、化合物Ia10又は化合物Ib10を得ることもできる。塩素化剤としては、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、塩化チオニル、臭化チオニル等が挙げられる。塩素化の際の不活性溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン、トルエン、ベンゼン等を挙げることができる。縮合反応を行う際の不活性溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール等が挙げられる。塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、ピリジン等が挙げられる。製造法10化合物IにおいてR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物、又は化合物Iの中間体となる化合物Iの5位に相当する部分がtert-ブチルジメチルシリルオキシ基等のトリ低級アルキルシリルオキシ基該トリ低級アルキルシリルオキシ基の低級アルキル基部分は前記低級アルキル基と同義であり、各低級アルキル基部分は、同一でも異なっていてもよいである化合物は、エバーメクチンB1aモノサッカライド、エバーメクチンB2aモノサッカライド、イベルメクチンモノサッカライド等から、特公平6-33273号公報、特開平3-74397号公報等に記載の方法又はそれらに準じて得ることができる。さらに、化合物IにおいてR1と4’位炭素原子が一緒になってカルボニル基を表す化合物は、特公平6-33273号公報、特開平3-74397号公報等に記載の方法又はそれらに準じて、化合物Iにおいて4’位がヒドロキシル基である化合物の4’位ヒドロキシル基を酸化することにより得ることができる。特公平6-33273号公報、特開平3-74397号公報等に記載の酸化方法の例としては、酢酸イソプロピル中での、フェニルジクロロホスフェートC6H5OPOCl2/トリエチルアミンTEA/ジメチルスルホキシドDMSOによる酸化、塩化メチレン中での、モレキュラシーブス4AMS4A共存下でのテトラプロピルアンモニウムパールテネートC3H74NRuO4/4-メチルモルホリン-N-オキシドNMOによる酸化、ジメチルスルホキシドDMSO中での三酸化硫黄-ピリジン錯体による酸化等を挙げることができる。製造法11化合物Ia、化合物Ib又は化合物Ieにおいて5位がヒドロキシル基である化合物の5位ヒドロキシル基をtert-ブチルジメチルシリル基等のトリ低級アルキルシリル基該トリ低級アルキルシリル基の低級アルキル基部分は前記低級アルキル基と同義であり、各低級アルキル基部分は同一でも異なっていてもよいで保護した化合物から、製造法1~10に記載の方法により得られる化合物化合物A、又はR2が低級アルケニルオキシカルボニル基である製造法1~10等で得られる化合物化合物IAの5位の脱保護反応を行うことで、化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH=CH-、-CH2-CH2-又は-CH2-C=O-であり、R1と4’位炭素原子の間の結合が二重結合であり、かつR2がヒドロキシである化合物化合物Ia11、化合物Ib11又は化合物Ie11を得ることができる。[式中、R1及び-X1----Y1-はそれぞれ前記と同義であり、R2aは低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基該低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基の低級アルキル基部分は前記低級アルキル基と同義である又はトリ低級アルキルシリルオキシ基該トリ低級アルキルシリルオキシ基の低級アルキル基部分は前記低級アルキル基と同義であり、各低級アルキル基部分は、同一でも異なっていてもよいを表す]製造法1~10等で得られる化合物IAを不活性溶媒中でテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム化合物の存在下で水素供給源として水素化ホウ素ナトリウム等を用いて還元することにより、低級アルケニルオキシカルボニル基を脱離することができる。反応は、通常-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間で終了する。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、エーテル等のエーテル系溶媒、エタノール等のアルコール系溶媒等を単独又は混合して用いることができる。また、5位の低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基は、その他の部位の官能基変換を行う際の反応条件によっては、ヒドロキシル基に変換される場合もある。また、製造法1~10等に準じて得られる化合物Aを不活性溶媒中、触媒量~溶媒量の脱シリル化剤で、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で1分間~24時間処理することにより、トリ低級アルキルシリル基を脱離することができる。不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、トルエン、ピリジン、酢酸イソプロピル等を単独又は混合して用いることができ、脱シリル化剤としては、フッ化水素、塩酸、臭化水素、硫酸、フッ化水素-ピリジン錯体等が挙げられる。また、5位のトリ低級アルキルシリルオキシ基は、その他の部位の官能基変換を行う際の反応条件によっては、ヒドロキシル基に変換される場合もある。製造法12製造法11又は製造法13~製造法15で得られる化合物Iにおいて、R2がヒドロキシル基である化合物化合物IBを酸化することにより、化合物IにおいてR2が5位炭素原子と一緒になってカルボニル基を表す化合物ICを得ることができる。化合物IBを不活性溶媒中、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で、1当量から過剰量の酸化剤で処理することにより化合物ICを得ることができる。反応は通常、1分間~2日間で終了する。不活性溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン等が挙げられ、酸化剤としては、二酸化マンガン、ピリジニウムクロロクロメート、三酸化クロム、ピリジニウムジクロメート等が挙げられる。さらに、化合物ICとヒドロキシルアミン又はその塩塩としては前記と同義の酸付加塩が挙げられるとを反応させることによって、R2が5位炭素原子と一緒になってヒドロキシム基を形成する化合物を得ることができる。化合物ICとヒドロキシルアミン又はその塩との反応は、不活性溶媒中で塩基存在下又は非存在下、-78°C~用いる溶媒の沸点間の温度で行うことができる。ヒドロキシルアミン又はその塩及び塩基は1当量から過剰量用いることができ、反応は通常、1分間~2日間で終了する。不活性溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール等の低級アルコール類、エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、クロロホルム、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。塩基としては、ピリジン、2,6-ジメチルピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が挙げられる。製造法13上記製造法10に従い得られる化合物において、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、-X----Y-が-CH2-CHOH-であり、かつR1と4’位炭素原子が一緒になってカルボニル基を表す化合物を、製造法1又は製造法4と同様に処理することにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、-X----Y-が-CH2-CHOH-であり、かつR11bがシアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基又は低級アルケニルオキシカルボニル基である化合物If1を得ることができる。さらに、R2がヒドロキシル基であり、-X----Y-が-CH2-CHOH-であり、かつR11bがシアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基又は低級アルケニルオキシカルボニル基である化合物If2は、化合物If1から、製造法11に記載の方法に準じて得ることができる。製造法14化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH2-CHR13a-式中、R13aは低級アルキルカルボニルオキシ基を表す。ここで、低級アルキルカルボニルオキシ基は前記と同義であるであり、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR11bがシアノ基、低級アルコキシカルボニル基、又は低級アルケニルオキシカルボニル基である化合物If3は、製造法13で得られた化合物If1のうちR11bがシアノ基、低級アルコキシカルボニル基、又は低級アルケニルオキシカルボニル基である化合物を原料として用い、製造法5と同様の方法により得ることができる。さらに、R2がヒドロキシル基であり、-X----Y-が-CH2-CHR13a-式中、R13aは前記と同義であるであり、かつR11bがシアノ基、低級アルコキシカルボニル基、又は低級アルケニルオキシカルボニル基である化合物If4は、化合物If3から、製造法11に記載の方法に準じて得ることができる。製造法15化合物Iにおいて、-X----Y-が-CH2-CHR13-式中、R13は前記と同義であるであり、R2がヒドロキシル基又は低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR11bがカルボキシル基である化合物If5は、製造法13又は製造法14で得られる化合物Iのうち、-X----Y-が-CH2-CHR13-式中、R13は前記と同義であるであり、かつR11bがシアノ基、低級アルコキシカルボニル基、又は低級アルケニルオキシカルボニル基である化合物を常法に従い加水分解することでも得ることができる。さらに、化合物If5のうちR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基である化合物If5-iから、製造法11に記載の方法に準じて、化合物If5のうちR2がヒドロキシル基である化合物If5-iiへと変換することもできる。以下に化合物Iにおいて、R1と4’位炭素原子の間の----が単結合である化合物化合物IDの製造法に関して述べる。製造法16化合物Iにおいて、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がヒドロキシル基である化合物ID1に、ジアゾ酢酸低級アルキル誘導体例えば、ジアゾ酢酸エチル、ジアゾマロン酸ジエチル等を反応させることで、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいで置換されたメトキシ基である化合物ID2を得ることができる。さらに、この化合物ID2をアルコール性水酸化カリウム等の塩基で処理することにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がカルボキシル基で置換されたメトキシ基である化合物ID3を得ることができる。また、化合物ID1にジアゾシアノ酢酸低級アルキル誘導体例えば、ジアゾシアノ酢酸エチル等を反応させることで、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がシアノ基及び低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいで置換されたメトキシ基である化合物ID4を得ることができる。また、化合物ID1にジアゾアリール酢酸低級アルキル誘導体例えば、ジアゾフェニル酢酸エチル等を反応させることで、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がアリール基及び低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいで置換されたメトキシ基である化合物ID5を得ることができる。さらに、化合物ID4又は化合物ID5をアルコール性水酸化カリウム等の塩基で処理することにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がシアノ基及びカルボキシル基又はアリール基及びカルボキシル基で置換されたメトキシ基である化合物を得ることができる。製造法17製造法16で得られるR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がカルボキシル基で置換されたメトキシ基である化合物ID3を、縮合剤の存在下で環状アミン化合物ピペラジン、モルホリン等と反応させることにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が-CONR9xR10x式中、R9x及びR10xはそれぞれ前記R9及びR10と同義であるで置換されたメトキシ基である化合物ID6を得ることができる。縮合剤としては、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミドWSCI塩酸塩、1,3-ジシクロヘキシルカルボジイミド等が挙げられる。また、化合物ID3をアリールアルキルアルコールアリール基は1個又は2個以上のヘテロ原子を環構成原子として含んでいてもよいと縮合剤の存在下で反応させることにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が-COR8d式中、R8dはアリールアルキルオキシ基を表し、アリール基は1個又は2個以上のヘテロ原子を環構成原子として含んでいてもよいで置換されたメトキシ基である化合物ID7を得ることができる。製造法18製造法16で得られるR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がカルボキシル基で置換されたメトキシ基である化合物ID3、又は、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が低級アルコキシカルボニル基で置換されたメトキシ基である化合物ID2を還元することにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がホルミル基で置換されたメトキシ基である化合物ID8を得ることができる。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等が用いられる。さらに、化合物ID8を、H2N-OR7x式中、R7xは前記R7と同義であるで表される化合物と反応させることにより、かつR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であるオキシム化合物ヒドロキシム化合物又はアルコキシム化合物に変換することができる。また、化合物ID3又は化合物ID2を、さらに強力な還元剤を用いて処理することにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がヒドロキシメチル基で置換されたメトキシ基である化合物ID9を得ることができる。還元剤としてはリチウムトリエチルボロヒドリド等を用いることができる。製造法19化合物ID1にp-ニトロベンジルブロミドを反応させることにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がp-ニトロフェニル基で置換されたメトキシ基である化合物ID10を得ることができる。さらに、化合物ID10を還元することにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がp-アミノフェニル基で置換されたメトキシ基である化合物ID11を得ることができる。還元は、例えばパラジウム炭素触媒の存在下で接触還元により行われる。製造法20製造法18で得られるR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がヒドロキシメチル基で置換されたメトキシ基である化合物ID9を原料として、別の化合物IDを得ることができる。化合物ID9を、塩基存在下で置換若しくは非置換のアリールスルホニルクロリド等と反応させることにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が置換若しくは非置換のアリールスルホニルオキシメチル基で置換されたメトキシ基である化合物ID11を得ることができる。また、化合物ID9の4’位のヒドロキシメチル基で置換されたメトキシ基のヒドロキシル基部分を、ハロゲン化することで、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がハロゲン化メチル基で置換されたメトキシ基である化合物ID12を得ることができる。ハロゲン化条件としては、塩基存在下でのトリフェニルホスフィン/四臭化炭素との反応、塩基存在下でのトリフェニルホスフィン/ヨウ素との反応等が挙げられる。さらに、化合物ID12を、必要により塩基共存下で、HNR9YR10Y式中、R9Y及びR10Yはそれぞれ前記R9及びR10と同義であると反応させることにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がCH2NR9YR10Y式中、R9Y及びR10Yはそれぞれ前記と同義であるで置換されたメトキシ基である化合物ID13を得ることができる。また、製造法20で得られる化合物ID12をアジ化することで、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がアジ化メチル基で置換されたメトキシ基である化合物ID14を得ることができる。アジ化条件としては、極性溶媒中での、アジ化ナトリウム、アジ化カリウム等のアルカリアジドとの反応等が挙げられる。さらに、化合物ID14を還元することで、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がアミノメチル基で置換されたメトキシ基である化合物ID15を得ることができる。還元条件としては、常法により用いられる、水素ガス、ヒドラジン等の水素源存在下での還元触媒による還元、トリフェニルホスフィンによる還元等が挙げられる。さらに、化合物ID15を、低級アルカノイル化することで、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が低級アルカノイルアミノメチル基で置換されたメトキシ基である化合物ID16を得ることができる。低級アルカノイル化方法としては、例えば、化合物ID15を、ハロゲン化低級アルカノイルと反応させる方法、酸無水物と反応させる方法等が挙げられる。製造法21R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が低級アルケニルオキシカルボニル基で置換されたメトキシ基である化合物ID17、及びR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がシアノ基で置換されたメトキシ基である化合物ID18は、製造法16R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が低級アルコキシカルボニル基該低級アルコキシカルボニル基の低級アルキル部分は複素環基で置換されていてもよいで置換されたメトキシ基である化合物ID2の製造法に準じて得ることができる。R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が-CH=N-NH-CONH2で置換された化合物ID19は、製造法18で得られるR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がホルミル基で置換されたメトキシ基である化合物ID8と、H2N-NH-CONH2又はその塩酸付加塩等から得ることができる。また、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が、低級アルケニルオキシカルボニル基が置換したビニル基で置換されたメトキシ基である化合物ID20は、化合物ID8を適当なWittig試薬例えば、アリルジエチルホスホノアセテートから調製されるWittig試薬等と反応させて得ることができる。さらに、化合物ID20を、適当な脱保護条件酸による脱保護、テトラキストリフェニルホスホノパラジウム等の金属触媒存在下、水素化ホウ素ナトリウム、水素又はヒドラジン等の水素源による脱保護等で処理することにより、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が-CH=CH-COOHで置換されたメトキシ基である化合物ID21を得ることができる。また、R2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1が-CO-S-CH2-CH2-NH-CO-RY式中、RYは前記と同義であるで置換されたメトキシ基である化合物ID22は、製造法16で得られるR2が低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基であり、かつR1がカルボキシル基で置換されたメトキシ基である化合物ID3を、HS-CH2-CH2-NH-CO-RY式中、RYは前記と同義であると反応させて得ることができる。製造法22R1が-OCHR1aR1b、-OCHR1aaR1ba又は-OCHR1abR1bbであり、R2に相当する部分がtert-ブチルジメチルシリルオキシ基等のトリ低級アルキルシリルオキシ基該トリ低級アルキルシリルオキシ基の低級アルキル基部分は前記低級アルキル基と同義であり、各低級アルキル基は同一でも異なっていてもよいである化合物から、製造法16~21に記載の方法に準じて得られる化合物、又は製造法16~22で得られる化合物を、製造法11に準じて5位の脱保護に付すことで、R1が-OCHR1aR1b、-OCHR1aaR1ba又は-OCHR1abR1bbであり、R2がヒドロキシル基である化合物ID23を得ることができる。製造法23上記の製造法22で得られる化合物ID23におけるR2のヒドロキシル基を常法により酸化することで、R1が-OCHR1aR1b、-OCHR1aaR1ba又は-OCHR1abR1bbであり、R2と5位の炭素原子が一緒になってカルボニル基である化合物ID24を得ることができる。さらに、得られたR2と5位の炭素原子が一緒になってカルボニル基である化合物ID24を、常法によりヒドロキシルアミン又はその塩塩酸塩等の酸付加塩等が挙げられると反応させることで、R2と5位の炭素原子が一緒になってヒドロキシム基である化合物ID25を製造することもできる。以上に記載した方法は化合物Iの製造方法の代表例として示したものであり、化合物Iの製造方法はこれらに限定されることはない。他の製造方法によっても本発明の化合物を得ることができること、及び上記に説明した方法を適宜組み合わせ、あるいは必要に応じて適宜の修飾ないし改変を加えて実施することによっても化合物Iを得ることができることは当業者に容易に理解されよう。また、有機合成化学の分野で通常用いられる官能基変換法を適宜組み合わせることによっても、化合物Iを得ることができる。例えば、R2がメトキシ基である化合物IはR2がヒドロキシル基である対応の化合物のヒドロキシル基を常法によりメチル化することにより得ることができる。同様にして、R2が低級アルコキシル基である化合物Iは、R2がヒドロキシル基である対応の化合物のヒドロキシル基を常法によりアルキル化することにより得ることができる。官能基変換の際に、必要に応じて、有機合成化学で常用される保護基の導入方法例えば、プロテクティブグループスインオーガニックシンセシスProtectiveGroupsinOrganicSynthesis、グリーンTWGreene著、ジョンワイリーアンドサンズインコーポレイテッドJohnWileySonsInc参照等で適宜の官能基を保護しておくことにより、所望の官能基変換を効率的に行うことができる。なお、上記の製造法の具体例及びその他の製造方法が実施例に記載されているので、当業者は、上記の一般的説明及び実施例の具体的説明を参照しつつ、反応原料、反応試薬、反応条件等を適宜選択し、必要に応じて適宜の改変又は修飾を加えることによって、一般式Iに包含される化合物をいずれも製造することが可能である。上記製造法における目的化合物の精製は、有機合成化学で常用される方法、例えば濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、結晶化、各種クロマトグラフィー等を適宜組み合わせて行うことができる。また、中間体においては、精製することなく次の反応に供することも可能である。化合物Iには、位置異性体、幾何異性体、互変異性体、又は光学異性体のような異性体が存在し得るが、可能な全ての異性体及び該異性体のいかなる比率における混合物も本発明に包含される。なお、本明細書において、二重結合を形成する炭素原子上に置換する官能基の結合を波線で示した場合には、その化合物がE体、Z体、又はそれらの混合物のいずれかであることを意味する。化合物Iの塩を取得したいとき、化合物Iが塩の形で得られる場合は、そのまま精製すればよく、また、遊離の形で得られる場合は、適当な溶媒に溶解又は懸濁させ、酸又は塩基を加えて塩を形成させ単離、精製すればよい。また、化合物I及びその塩は、水又は各種溶媒との付加物水和物又は溶媒和物の形で存在することもあるが、これらの付加物も本発明に包含される。さらに、任意の結晶形も本発明の範囲に包含される。本発明によって得られる化合物Iの具体例を第1表~第5表に示すが、本発明の化合物はこれらの例に限定されることはない。本発明の医薬の有効成分としては、一般式Iで表される遊離形態の化合物及び生理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質の1種又は2種以上を用いることができる。異性体の任意の混合物又は純粋な形態の異性体を用いてもよい。本発明の医薬は、通常、1又は2以上の製剤用添加物と有効成分である上記物質とを含む医薬組成物の形態で提供される。投与経路は特に限定されず、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、シロップ剤、散剤等を用いて経口的に投与するか、あるいは注射、直腸内投与、経粘膜投与等の手段で非経口的に投与することができる。経口投与又は非経口投与に適する製剤形態は当業者に周知であり、その製剤の製造に適する製剤用添加物も当業者が適宜選択可能である。本発明の医薬は各種の寄生虫症に適用可能であり、寄生虫の種類は特に限定されない。また、本発明の医薬はヒト又はヒト以外の哺乳類動物に対して適用可能である。ヒト以外の哺乳類動物に適用する場合には、医薬組成物として投与してもよいが、医薬組成物又は上記有効成分をそれ自体で飼料に配合することも可能である。本発明の化合物はアオバエ、ゴキブリ、ノミ等に対する害虫駆除剤等の農薬としても適用可能である。以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されることはない。実施例に記載した化合物の機器データは下記の機器を用いて測定した。また、化合物番号及び構造は上記の第1~5表に記載したとおりである。IR:HoribaFT-210NMR:JEOL日本電子JMN-EX270MS:JEOL日本電子JMS-AX505実施例1:化合物1窒素雰囲気下、参考例1で得られた中間体110gをテトラヒドロフラン69mLに溶解し、テトラメチルエチレンジアミン050mL、アリルクロロホルメート017mLを順次加え、-20°Cで30分間撹拌した。精製水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=4/1~3/1~2/1で溶出にて精製し、化合物1080g,72を得た。HRFABMS:計算値C45H64O13[MNa]8354245,実測値8354250IRKBrλmaxcm-1:3473,2966,2933,1747,1716,1454,1379,1344,1308,1254,1184,1161,1116,1080,1051,9931HNMR270MHz,CDCl3,部分データδppm:5865H,m,5571H,m,5551H,dd,J=99,23Hz,5383H,m,5261H,d,J=105Hz,4981H,m,4811H,d,J=33Hz,4644H,m,4121H,d,J=62Hz,3951H,br,3862H,m,3522H,m,3483H,s,3371H,d,J=23Hz,3161H,d,J=90Hz,2511H,m,2294H,m,2021H,dd,J=123,36Hz,1813H,s,1493H,s,1273H,d,J=63Hz,1153H,d,J=69Hz13CNMR678MHz,CDCl3δppm:1734,1548,1392,1380,1362,1351,1330,1314,1277,1247,1215,1204,1187,1182,957,950,817,808×2,783,760,748,735,687,685,684,683,681,566,457,404,397,365,351,342,338,305,275,201,196,177,163,151,129,120実施例2:化合物2窒素雰囲気下、実施例1で得られた化合物1010gをジメチルスルホキシド12mLに溶解し、トリエチルアミン54μLを加えた後、三酸化硫黄-ピリジン錯体97mgのジメチルスルホキシド12mL溶液をゆっくり滴下し、0°Cで1時間撹拌した。反応液に精製水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を精製水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=5/1~2/1で溶出にて精製し、化合物2067g,68を得た。HRFABMS:計算値C45H62O13[MNa]8334088,実測値8334087IRKBrλmaxcm-1:3471,2966,2933,1743,1456,1379,1344,1308,1254,1182,1161,1118,1076,1051,9971HNMR270MHz,CDCl3,部分データδppm:5895H,m,5571H,m,5551H,dd,J=99,23Hz,5373H,m,5271H,d,J=105Hz,5051H,m,4961H,d,J=23Hz,4654H,m,4501H,dd,J=128,66Hz,4251H,dd,J=125,63Hz,4121H,d,J=59Hz,4071H,br,3891H,m,3563H,s,3481H,d,J=99Hz,3371H,d,J=20Hz,2581H,m,2501H,dd,J=122,62Hz,2313H,m,2092H,m,1823H,s,1533H,s,1273H,d,J=66Hz,1173H,d,J=69Hz13CNMR678MHz,CDCl3δppm:2056,1733,1547,1396,1373,1363,1348,1330,1314,1277,1251,1215,1202,1187,1186,957,945,822,808×2,781,774,748,735,707,687,684,682,585,456,404,396,390,366,351,342,305,274,201,196,163,151,139,130,120実施例3:化合物3窒素雰囲気下、0°Cでリチウムヘキサメチルジシラザンの10mol/Lテトラヒドロフラン溶液017mLにジエチルホスホノ酢酸アリル54μLを加え、0°Cで1時間撹拌した。その後、実施例2で得られた化合物267mgのテトラヒドロフラン溶液10mLをゆっくりと滴下し、さらに、0°Cで1時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=5/1~2/1で溶出にて精製し、化合物3043g,58を得た。1HNMR270MHz,CDCl3,部分データδppm:5952H,m,5881H,s,5754H,m,5561H,m,5541H,dd,J=96,23Hz,5354H,m,5262H,d,J=102Hz,5161H,brs,5031H,m,4901H,t,J=64Hz,4637H,m,4101H,dd,J=53Hz,4031H,br,3841H,m,3482H,m,3363H,s,2,511H,m,2334H,m,2011H,m,1803H,s,1473H,s,1393H,d,J=63Hz,1113H,d,J=66Hz実施例4:化合物4窒素雰囲気下、0°Cでリチウムヘキサメチルジシラザンの10mol/Lテトラヒドロフラン溶液049mLにジエチルホスホノシアノメチル80μLを加え、0°Cで1時間撹拌した。その後、実施例2で得られた化合物2020gのテトラヒドロフラン溶液25mLをゆっくりと滴下し、さらに、0°Cで1時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、化合物4の粗生成物を得た。該粗生成物をショートシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、実施例7の反応に用いた。実施例5:化合物5窒素雰囲気下、実施例1で得られた化合物1030gを塩化メチレン060mLに溶解し、ジアセチルロジウムダイマー10mgを加え、室温で10分間撹拌した。続いてエチルジアゾアセテート43μLの塩化メチレン060mL溶液をゆっくり滴下し、室温で6時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=6/1~5/1~4/1~2/1で溶出にて精製し、化合物591mg,27を得た。1HNMR270MHz,CDCl3,部分データδppm:5955H,m,5551H,dd,J=99,23Hz,5393H,m,5271H,d,J=105Hz,4991H,m,4761H,d,J=30Hz,4654H,m,4402H,d,J=20Hz,4212H,m,4121H,d,J=63Hz,3993H,m,3781H,m,3481H,d,J=99Hz,3443H,s,3371H,d,J=23Hz,2971H,t,J=91Hz,2511H,m,2244H,m,2021H,m,1823H,s,1493H,s,1306H,m,1123H,d,J=69Hz実施例6:化合物6実施例3で得られた化合物342mgをエタノール500μLに溶解し、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム10mgを加え、0°Cで10分間撹拌した。続いて水素化ホウ素ナトリウム50mgを加えた後、1時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をプレートシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム/メタノール=10/1で溶出にて精製し、化合物43mg,58を得た。1HNMR270MHz,CDCl3,部分データδppm:5891H,s,5841H,m,5761H,d,J=99Hz,5701H,m,5551H,dd,J=99,23Hz,5411H,brs,5371H,m,5081H,brs,5041H,m,4911H,t,J=61Hz,4672H,brs,4591H,m,4291H,d,J=60Hz,4041H,brs,3961H,d,J=63Hz,3851H,m,3491H,d,J=99Hz,3403H,s,3281H,d,J=20Hz,2521H,m,2314H,m,2011H,dd,J=119,40Hz,1863H,s,1483H,s,1403H,d,J=62Hz,1123H,d,J=69Hz13CNMR678MHz,CDCl3δppm:1736,1695,1584,1394,1382,1378,1363,1353,1277,1246,1204,1181,1179,1164,957,935,812,803,791,748,706,684×3,677,672,566,457,405,397,365,351,343,330,305,275,199,195,191,163,149,130,120実施例7:化合物7実施例4で得られた化合物4015gをエタノール18mLに溶解し、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム10mgを加え、0°Cで10分間撹拌した。続いて水素化ホウ素ナトリウム70mgを加え、5分間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=5/1~1/1で溶出にて精製し、化合物7013g,100を得た。1HNMR270MHz,CDCl3,部分データδppm:5861H,m,5753H,m,5551H,dd,J=99,23Hz,5451H,s,5401H,m,5371H,s,5011H,m,4881H,t,J=42Hz,4672H,s,4561H,m,4361H,t,J=63Hz,4291H,d,J=60Hz,4001H,s,3961H,d,J=63Hz,3961H,m,3533H,s,3481H,d,J=102Hz,3291H,d,J=23Hz,2531H,m,2294H,m,1873H,s,1493H,s,1346H,d,J=66Hz,1133H,d,J=69Hz実施例8:化合物8参考例7で得られた中間体749mg,530μmolをテトラヒドロフラン16mLに溶解し、フッ化水素-ピリジン錯体60μLを加え、室温で12時間撹拌した。反応液を0°Cに冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10mLで中和し、酢酸エチル10mLx3で抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10mL、飽和食塩水10mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルプレートクロロホルム/メタノール=15/1で展開にて精製し、化合物8410mg,84を得た。HRFABMS:計算値C46H64O12[MNa]8314295,実測値8314296IRKBrλmaxcm-1:3475,2966,2933,1722,1658,1466,1377,1340,1242,1186,1159,1117,1082,1036,9951HNMR270MHz,CDCl3,部分データδppm:594ddt,J=172,102,56Hz,1H,588s,1H,583m,1H,575dd,J=99,17Hz,1H,572m,2H,554dd,J=99,23Hz,1H,540s,1H,535m,1H,533dd,J=172,17Hz,1H,525dd,J=102,17Hz,2H,516t,J=31Hz,1H,503m,1H,489t,J=63Hz,1H,469dd,J=145,23Hz,1H,463dd,J=145,23Hz,1H,462d,J=56Hz,2H,458dq,J=66,13Hz,1H,427d,J=63Hz,1H,403brs,1H,394d,J=63Hz,1H,384m,1H,348d,J=96Hz,1H,336s,3H,227q,J=23Hz,1H,185s,3H,147s,3H,138d,J=66Hz,3H,111d,J=66Hz,3H13CNMR678MHz,CDCl3δppm:1736,1654,1573,1395,1383,1378,1362,1353,1320,1278,1245,1204,1185,1180,1179,1165,957,935,812,803,791,748,700,684683×2,677,672,650,563,457,405,397,365,351,343,328,305,275,199,194,193,164,148,130,120実施例9:化合物9実施例8と同様にして、参考例8で得られた中間体8700mg,768μmolから化合物9612mg,100を得た。HRFABMS:計算値C45H64O12[MNa]8194295,実測値8194297IRKBrλmaxcm-1:3448,2966,2933,1720,1655,1460,1379,1340,1244,1186,1159,1116,1082,1034,989実施例10:化合物10実施例8と同様にして、参考例9で得られた中間体9700mg,805μmolから化合物10637mg,100を得た。HRFABMS:計算値C43H77O11[MNa]7774190,実測値7774180IRKBrλmaxcm-1:3453,2966,2931,1735,1714,1456,1376,1340,1244,1184,1160,1117,1080,1038,995実施例11:化合物11実施例8と同様にして、参考例14で得られた中間体14970mg,805μmolから化合物11774mg,92を得た。HRFABMS:計算値C43H61ClO10[MNa]7953851,実測値7953833IRKBrλmaxcm-1:3455,2966,2933,1712,1456,1376,1340,1255,1184,1159,1116,1080,1038,997実施例12:化合物12参考例10で得られた中間体10700mg,792μmolをtert-ブタノール08mLに溶解し、4-ジメチルアミノピリジン3mg,237μmol及びジ-tert-ブチルカーボネート25mg,118μmolを順次加え、室温で2時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液05mLを加えた後、酢酸エチル3mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水5mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、実施例8と同様にして、該粗生成物から化合物12464mg,53,2工程を得た。HRFABMS:計算値C47H68O12[MNa]8474608,実測値8474599IRKBrλmaxcm-1:3475,2964,2929,1716,1456,1396,1340,1307,1248,1159,1117,1080,1038,997実施例13:化合物13参考例10で得られた中間体10700mg,792μmolを塩化メチレン08mLに溶解し、モルホリン10μL,103μmol、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール無水物20mg,103μmol、及び1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩20mg,103μmolを順次加え、室温で12時間撹拌した。反応液に精製水05mLを加えた後、塩化メチレン5mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水3mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、実施例8と同様にして、該粗生成物から化合物13663mg,100,2工程を得た。HRFABMS:計算値C47H67NO12[MNa]8604561,実測値8604512IRKBrλmaxcm-1:3456,2964,2927,1735,1735,1648,1460,1379,1338,1244,1182,1161,1117,1074,1045,999実施例14:化合物14参考例14で得られた中間体14700mg,798μmolをエタノール1mLに溶解し、モルホリン10μL,103μmolを加え、40°Cで12時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液05mLを加えた後、酢酸エチル5mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水3mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、実施例8と同様にして、該粗生成物から化合物14500mg,77,2工程を得た。HRFABMS:計算値C47H70NO11[MNa]8244949実測値8244938IRKBrλmaxcm-1:3458,2964,2929,1731,1718,1456,1377,1338,1311,1270,1182,1161,1117,1080,1038,995実施例15:化合物15参考例9で得られた中間体9700mg,805μmolを塩化メチレン1mLに溶解し、二酸化マンガン700mgを加え、室温で10時間撹拌した。セライト登録商標を用いて反応液を濾過した後、減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、実施例8と同様にして、該粗生成物から化合物15862mg,65,2工程を得た。実施例16:化合物16参考例9で得られた中間体9500mg,575μmolを塩化メチレン06mLに溶解し、ニコチノイルクロライド塩酸塩150mg,862μmol、ジイソプロピルエチルアミン15μL,862μmoL、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩170mg,862μmol、及び4-ジメチルアミノピリジン3mg,237μmolを順次加え、室温で4時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液05mLを加えた後、塩化メチレン3mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水5mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、実施例8と同様にして、該粗生成物から化合物16400mg,66,2工程を得た。HRFABMS:計算値C49H65NO12[MNa]8824404,実測値8824399IRKBrλmaxcm-1:3454,2962,2929,1735,1456,1377,1344,1244,1196,1171,1119,1074,1038,993実施例17:化合物17参考例9で得られた中間体9700mg,805μmolを塩化メチレン08mLに溶解し、イソニコチノイルクロライド塩酸塩220mg,120μmol、ジイソプロピルエチルアミン21μL,120μmoL、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩230mg,120μmol、及び4-ジメチルアミノピリジン500mg,400μmolを順次加え、室温で4時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液05mLを加えた後、塩化メチレン3mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水5mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、実施例8と同様にして、該粗生成物から化合物17600mg,87,2工程を得た。HRFABMS:計算値C49H65NO12[MNa]8824404,実測値8824438IRKBrλmaxcm-1:3458,2964,2931,1732,1456,1377,1326,1279,1182,1159,1119,1084,1039,997実施例18:化合物18参考例9で得られた中間体9700mg,805μmolを塩化メチレン08mLに溶解し、4-ニトロベンゾイルクロライド塩酸塩220mg,120μmol、ジイソプロピルエチルアミン21μL,120μmoL、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩230mg,120μmol、及び4-ジメチルアミノピリジン500mg,400μmolを順次加え、室温で4時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液05mLを加えた後、塩化メチレン3mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水5mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、実施例8と同様にして、該粗生成物から化合物18705mg,97,2工程を得た。HRFABMS:計算値C50H65NO14[MNa]9264303,実測値9264338IRKBrλmaxcm-1:3482,2966,2931,1726,1529,1458,1348,1271,1182,1161,1117,1086,1039,997実施例19:化合物19実施例8と同様にして、参考例16で得られた中間体16700mg,791μmolから化合物19488mg,80を得た。HRFABMS:計算値C43H62O12[MNa]7934139,実測値7934185IRKBrλmaxcm-1:3455,2962,2931,1712,1655,1458,1377,1340,1243,1198,1171,1119,1082,1036,993実施例20:化合物20実施例8と同様にして、参考例11で得られた中間体11700mg,756μmolから化合物20611mg,100を得た。HRFABMS:計算値C46H66O12[MNa]8334452,実測値8334457IRKBrλmaxcm-1:3456,2962,2929,1722,1456,1379,1340,1243,1196,1165,1119,1080,1037,993実施例21:化合物21実施例8と同様にして、参考例12で得られた中間体12700mg,756μmolから化合物21611mg,100を得た。HRFABMS:計算値C46H66O12[MNa]8334452,実測値8334457IRKBrλmaxcm-1:3456,2962,2929,1722,1456,1379,1340,1243,1196,1165,1119,1080,1037,993実施例22:化合物22実施例8と同様にして、参考例13で得られた中間体13154mg,177μmolをから化合物22123mg,92を得た。HRFABMS:計算値C43H61NO10[MNa]7744193,実測値7744222IRKBrλmaxcm-1:3483,2960,2931,2221,1712,1458,1377,1340,1243,1196,1174,1119,1086,1027,993実施例23:化合物23実施例12と同様にして、参考例16で得られた中間体16700mg,791μmolから化合物23530mg,81,2工程を得た。HRFABMS:計算値C47H70O12[MNa]8494765,実測値8494727IRKBrλmaxcm-1:3479,2964,2931,1716,1456,1377,1339,1248,1171,1119,1035,993実施例24:化合物24実施例13と同様にして、参考例16で得られた中間体16700mg,791μmolから化合物24664mg,100,2工程を得た。HRFABMS:計算値C47H69NO12[MNa]8624717,実測値8624731IRKBrλmaxcm-1:3461,2962,2929,1731,1713,1633,1456,1377,1338,1244,1172,1117,1072,1043,996実施例25:化合物25実施例8と同様にして、参考例15で得られた中間体15600mg,688μmolから化合物25340mg,65を得た。HRFABMS:計算値C43H64O11[MNa]7794346,実測値7794361IRKBrλmaxcm-1:3455,2962,2929,1722,1456,1379,1340,1306,1244,1196,1165,1119,1072,1036,993実施例26:化合物26実施例15と同様にして、参考例15で得られた中間体15700mg,803μmolから化合物26480mg,79,2工程を得た。HRFABMS:計算値C43H62O11[MNa]7774190,実測値7774179IRKBrλmaxcm-1:3473,2962,2931,1713,1674,1456,1377,1338,1244,1174,1119,1074,1041,995実施例27:化合物27実施例8と同様にして、参考例19で得られた中間体19600mg,674μmolから化合物27420mg,80を得た。HRFABMS:計算値C43H62ClO10[MNa]7974007,実測値7973985IRKBrλmaxcm-1:3471,2962,2929,1713,1456,1377,1338,1243,1195,1172,1119,1074,1038,997実施例28:化合物28実施例14と同様にして、参考例19で得られた中間体19700mg,805μmolから化合物28530mg,80,2工程を得た。HRFABMS:計算値C47H71NO11[MNa]8484925,実測値8484913IRKBrλmaxcm-1:3440,2962,2929,1734,1713,1456,1377,1346,1243,1172,1119,1074,1038,993実施例29:化合物29実施例16と同様にして、参考例15で得られた中間体15700mg,805μmolから化合物29410mg,38,2工程を得た。HRFABMS:計算値C49H67NO12[MNa]8444561,実測値8444595IRKBrλmaxcm-1:3457,2962,2929,1728,1456,1375,1336,1279,1173,1119,1087,1038,995実施例30:化合物30実施例17と同様にして、参考例15で得られた中間体15600mg,690μmolから化合物30580mg,84,2工程を得た。HRFABMS:計算値C49H67NO12[MNa]8444561,実測値8444561IRKBrλmaxcm-1:3454,2962,2929,1731,1456,1375,1327,1279,1173,1119,1087,1039,993実施例31:化合物31実施例18と同様にして、参考例15で得られた中間体15600mg,690μmolから化合物31580mg,93,2工程を得た。HRFABMS:計算値C50H67NO14[MNa]9284459,実測値9284433IRKBrλmaxcm-1:3444,2962,2931,1726,1531,1456,1375,1348,1270,1173,1119,1087,1039,995実施例32:化合物32参考例16で得られた中間体16700mg,791μmolを塩化メチレン08mLに溶解し、ピペリジン10μL,158μmol、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール無水物130mg,103μmol、及び1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩180mg,103μmolを加え、室温で23時間撹拌した。反応液に精製水05mLを加えた後、塩化メチレン5mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水5mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、実施例8と同様にして、該粗生成物から化合物32590mg,89,2工程を得た。HRFABMS:計算値C48H71O11[MNa]8604925,実測値8604951IRKBrλmaxcm-1:3454,2960,2931,1735,1712,1628,1446,1375,1340,1265,1173,1119,1036,997実施例33:化合物33参考例16で得られた中間体16700mg,791μmolを塩化メチレン08mLに溶解し、ピペラジン14mg,158μmol、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール無水物130mg,103μmol、及び1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩180mg,103μmolを加え、室温で23時間撹拌した。反応液に精製水05mLを加えた後、塩化メチレン5mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水5mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、実施例8と同様にして、該粗生成物から化合物33280mg,42,2工程を得た。HRFABMS:計算値C47H70N2O11[MNa]8614877,実測値8614888IRKBrλmaxcm-1:3448,2960,2929,1735,1716,1628,1456,1377,1338,1244,1173,1119,1039,997実施例34:化合物34実施例5で得られた化合物591mgをエタノール10mlに溶解し、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム12mgを加え、0°Cで10分間撹拌した。続いて水素化ホウ素ナトリウム38mgを加え、5分間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=5/1~2/1~1/1で溶出にて精製し、化合物3467mg,82を得た。1HNMR270MHz,CDCl3,部分データδppm:5841H,m,5723H,m,5531H,dd,J=99,23Hz,5401H,s,5371H,m,4961H,m,4741H,d,J=33Hz,4652H,brs,4372H,d,J=20Hz,4271H,m,4202H,q,J=73Hz,3941H,d,J=63Hz,3911H,brs,3872H,m,3701H,m,3461H,d,J=89Hz,3413H,s,3271H,d,J=20Hz,2941H,t,J=91Hz,2472H,m,2244H,m,2001H,dd,J=122,43Hz,1853H,s,1473H,s,1306H,m,1123H,d,J=69Hz13CNMR678MHz,CDCl3δppm:1733,1705,1395,1380,1379,1362,1351,1277,1247,1204,1183,1180,957,948,847,820,803,791,787,748,700,684,683×2,676,672,606,564,456,404,397,365,351,345,342,305,274,201,199,179,163,150,142,129,120実施例35:化合物35参考例20で得られた中間体20100mg,999μmolをテトラヒドロフラン20mLに溶解し、1mol/L水酸化カリウム水溶液50μLを加え、室温で5時間撹拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液5mLで中和し、酢酸エチル5mLx3で抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液5mLと飽和食塩水5mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、実施例8と同様にして、該粗生成物から化合物35558mg,71,2工程を得た。HRFABMS:計算値C43H61O13[M2Na]8313908,実測値8313970IRKBrλmaxcm-1:3470,2968,2933,1760,1737,1713,1452,1381,1342,1308,1273,1192,1161,1124,1070,1038,993実施例36:化合物36実施例8と同様にして、参考例21で得られた中間体21800mg,833μmolから化合物36490mg,76を得た。HRFABMS:計算値C43H64O12[MNa]7954295,実測値7954298IRKBrλmaxcm-1:3450,2966,2933,1733,1716,1456,1381,1340,1309,1272,1193,1161,1124,1066,989実施例37:化合物37実施例8と同様にして、参考例22で得られた中間体22502mg,491μmolから化合物37359mg,88を得た。HRFABMS:計算値C43H63BrO11[MNa]8573451,実測値8573463IRKBrλmaxcm-1:3465,2964,2931,1737,1718,1456,1377,1340,1309,1273,1184,1161,1122,1072,995実施例38:化合物38実施例8と同様にして、参考例24で得られた中間体24100mg,997μmolから化合物38571mg,70を得た。HRFABMS:計算値C45H68O13[MNa]8394558,実測値8394553IRKBrλmaxcm-1:3473,2962,2931,1759,1736,1716,1456,1379,1340,1306,1275,1244,1198,1173,1120,1066,1036,991実施例39:化合物39実施例35と同様にして、参考例24で得られた中間体24832mg,829μmolから化合物39336mg,51,2工程を得た。HRFABMS:計算値C43H63O13[M-H]7874269,実測値7874231IRKBrλmaxcm-1:3456,2962,2931,1763,1736,1716,1456,1379,1342,1308,1273,1244,1198,1173,1120,1070,1036,991実施例40:化合物40実施例8と同様にして、参考例25で得られた中間体25768mg,798μmolから化合物40462mg,75を得た。HRFABMS:計算値C43H66O12[MNa]7974452,実測値7974448IRKBrλmaxcm-1:3450,2962,2931,1732,1718,1456,1379,1340,1308,1273,1244,1196,1171,1120,1066,1010,989実施例41:化合物41実施例8と同様にして、参考例26で得られた中間体26939mg,916μmolから化合物41617mg,80を得た。HRFABMS:計算値C43H65BrO11[MNa]8593698,実測値8593586IRKBrλmaxcm-1:3482,2962,2931,1716,1458,1379,1340,1308,1275,1244,1196,1171,1120,1072,1036,989参考例1:中間体1エバーメクチンB1aモノサッカロイド文献記載の方法JMedChem2311341136に従って、エバーメクチンB1a200g,229mmolから中間体1155g,93を得た。HRFABMS;計算値C41H60O11[MNa]7514033,実測値7514052IRKBrλmaxcm-1:3467,2967,2931,1741,1633,1456,1378,1338,1308,1193,1161,1120,1078,1053,9891HNMR270MHz,CDCl3δppm:586m,1H,575m,3H,554dd,J=99,27Hz,1H,542s,1H,539m,1H,498m,1H,481d,J=33Hz,1H,467brs,2H,429d,J=66Hz,1H,401s,1H,396d,J=66Hz,1H,395brs,1H,385m,2H,355ddd,J=115,89,46Hz,1H,348d,J=103Hz,1H,347s,3H,329q,J=23Hz,1H,315t,J=92Hz,1H,265brs,1H,258m,1H,243brs,1H,226m,4H,201dd,J=119,33Hz,1H,186s,3H,178dd,J=125,23Hz,1H,148s,3H,145m,5H,126d,J=63Hz,3H,114d,J=69Hz,3H,093m,9H,084m,1H13CNMR678MHz,CDCl3δppm:1737,1396,1380,1379,1363,1351,1277,1247,1204,1183,1180,958,951,818,804,791,783,761,749,684,683×2,681,677,566,457,405,397,366,351,342,339,305,275,202,199,177,164,151,129,120参考例2:中間体2窒素雰囲気下、参考例1で得られた中間体1350g,480mmolをN,N-ジメチルホルムアミド96mLに溶解し、イミダゾール078g,576mmol、tert-ブチルジメチルシリルクロライド078g,115mmolを順次加え、室温で2時間撹拌した。反応液に精製水20mLを加えた後、酢酸エチル20mLx3で抽出した。有機層を精製水20mLx3と飽和食塩水20mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出にて精製し、中間体2250g,62を得た。HRFABMS:計算値C47H74O11Si[MNa]8654898,実測値8654901IRKBrλmaxcm-1:3467,2962,2931,1716,1628,1463,1379,1336,1251,1194,1160,1124,1082,1051,9891HNMR270MHz,CDCl3δppm:582m,1H,573m,2H,571dd,J=99,26Hz,1H,554dd,J=99,23Hz,1H,535m,1H,532m,1H,498m,1H,480d,J=33Hz,1H,468dd,J=145,20Hz,1H,457dd,J=145,20Hz,1H,441d,J=56Hz,1H,408brs,1H,394brs,1H,387m,2H,381d,J=56Hz,1H,355ddd,J=115,86,42Hz,1H,348s,3H,346m,1H,338q,J=22Hz,1H,315t,J=91Hz,1H,250m,1H,243brs,1H,226m,4H,203dd,J=122,43Hz,1H,178s,3H,178m,1H,149s,3H,146m,5H,126d,J=63Hz,3H,113d,J=69Hz,3H,092m,9H,091s,9H,087m,1H,012s,6H13CNMR678MHz,CDCl3δppm:1740,1401,1375×2,1362,1351,1278,1248,1194,1183,1172,957,951,819,802,801,783,761,748,694,684,683,681,679,570,458,404,396,365,351,343,339,305,275,258×3,202,200,184,177,163,151,129,120,-46,-49参考例3:中間体3イベルメクチンモノサッカロイド参考例1と同様にして、イベルメクチン100g,114mmolから中間体3783g,93を得た。HRFABMS:計算値C41H62O11[MNa]7534190,実測値7514186IRKBrλmaxcm-1:3450,2962,2931,1714,1456,1379,1338,1308,1196,1173,1118,1080,1053,9891HNMR270MHz,CDCl3δppm:587m,1H,572m,2H,543s,1H,539m,1H,498m,1H,482d,J=33Hz,1H,471dd,J=142,20Hz,1H,464dd,J=142,20Hz,1H,429t,J=66Hz,1H,409s,1H,397d,J=66Hz,1H,396brs,1H,386dd,J=92,63Hz,1H,367m,1H,356ddd,J=116,89,43Hz,1H,347s,3H,328q,J=23Hz,1H,322d,J=83Hz,1H,316t,J=92Hz,1H,254m,1H,236m,3H,198m,1H,187s,3H,177m,1H,168-140m,8H,150s,3H,135m,1H,127d,J=63Hz,3H,115d,J=69Hz,3H,093t,J=73Hz,3H,085d,J=66Hz,3H,082m,1H,078d,J=52Hz,3H13CNMR678MHz,CDCl3δppm:1737,1396,1380,1379,1349,1247,1204,1183,1181,975,945,816,804,791,783,766,760,686,684,681,677,672,566,457,412,397,369,357,354,341,339,312,280,274,202,199,177,174,151,124,121参考例4:中間体4参考例2と同様にして、参考例3で得られた中間体3600g,820mmolから、中間体4509g,74を得た。HRFABMS:計算値C47H76O11Si[MNa]8675055,実測値8675044IRKBrλmaxcm-1:3477,2960,2931,1712,1462,1379,1338,1250,1196,1173,1120,1082,1051,9891HNMR270MHz,CDCl3δppm:582m,1H,572m,2H,533brs,1H,532m,1H,498m,1H,482d,J=33Hz,1H,468dd,J=145,23Hz,1H,457dd,J=145,23Hz,1H,443d,J=56Hz,1H,417s,1H,395brs,1H,387m,1H,382d,J=56Hz,1H,364m,1H,356ddd,J=115,92,46Hz,1H,348s,3H,339q,J=23Hz,1H,321m,1H,316t,J=92Hz,1H,251m,1H,227m,3H,199dd,J=121,40Hz,1H,179s,3H,175m,1H,167-131m,9H,151s,3H,127d,J=63Hz,3H,114d,J=69Hz,3H,093s,9H,093t,J=75Hz,3H,085d,J=66Hz,1H,078d,J=53Hz,3H,013s,6H13CNMR678MHz,CDCl3δppm:1740,1401,1375,1374,1349,1247,1194,1183,1173,974,949,817,802,801,783,765,760,694,687,680,679,672,565,457,412,396,368,357,354,341,339,312,280,272,258×3,202,200,184,177,174,151,124,121,-46,-49参考例5:中間体5窒素雰囲気下、参考例2で得られた中間体2500g,593mmolをジメチルスルホキシド30mLに溶解し、トリエチルアミン82mL,593mmolを加えた後、三酸化硫黄-ピリジン錯体76g,296mmolのジメチルスルホキシド20mL溶液をゆっくり滴下し、室温で2時間撹拌した。反応液に精製水100mLを加えた後、酢酸エチル60mLx3で抽出した。有機層を精製水20mLx3、飽和食塩水20mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出にて精製し、中間体5446g,89を得た。HRFABMS:計算値C47H72O11Si[MNa]8634742,実測値8634736IRKBrλmaxcm-1:3473,2962,2931,1741,1712,1628,1461,1379,1338,1251,1184,1160,1124,1079,1051,9991HNMR270MHz,CDCl3δppm:583m,1H,580m,2H,575dd,J=96,20Hz,1H,554dd,J=99,23Hz,1H,536m,1H,532d,J=14Hz,1H,506m,1H,496d,J=20Hz,1H,469dd,J=145,20Hz,1H,458dd,J=145,20Hz,1H,450q,J=66Hz,1H,443brd,J=53Hz,1H,425dd,J=120,64Hz,1H,412brs,1H,406brs,1H,387m,1H,382d,J=53Hz,1H,355s,3H,348d,J=99Hz,1H,339q,J=23Hz,1H,254m,1H,249m,1H,228m,3H,213dt,J=120,40Hz,1H,202dd,J=116,50Hz,1H,178s,3H,177m,1H,164m,2H,153s,3H,147m,2H,127d,J=66Hz,3H,116d,J=69Hz,3H,093m,10H,092s,9H,012s,6H13CNMR678MHz,CDCl3δppm:2057,1740,1406,1375,1368,1362,1348,1277,1252,1192,1187,1172,958,945,823,802,801,781,748,707,694,684,682,679,585,457,404,396,390,366,351,343,305,275,258×3,203,200,184,164,152,139,130,120,-46,-49参考例6:中間体6参考例5と同様にして、参考例4で得られた中間体4421g,496mmolから、中間体6411g,98を得た。HRFABMS:計算値C47H74O11Si[MNa]8654989,実測値8654888IRKBrλmaxcm-1:3473,2960,2931,1740,1713,1461,1379,1336,1250,1182,1120,1078,1053,1012,9911HNMR270MHz,CDCl3,部分データδppm:584m,1H,575m,2H,532s,1H,530m,1H,505m,1H,496d,J=23Hz,1H,468dd,J=145,20Hz,1H,457dd,J=145,20Hz,1H,450q,J=66Hz,1H,443brd,J=53Hz,1H,425dd,J=120,64Hz,1H,421brs,1H,406brs,1H,382d,J=53Hz,1H,368m,1H,356s,3H,338q,J=23Hz,1H,321d,J=73Hz,1H,260m,1H,250m,1H,233m,2H,211m,1H,199dd,J=124,45Hz,1H,179s,3H,154s,3H,128d,J=66Hz,3H,117d,J=69Hz,3H,094t,J=73Hz,3H,092s,9H,085d,J=69Hz,3H,078d,J=46Hz,3H,013s,6H13CNMR678MHz,CDCl3δppm:2057,1741,1407,1375,1368,1346,1252,1192,1187,1172,975,944,823,802,800,781,767,707,695,687,679,671,585,457,412,396,391,369,357,355,341,312,281,273,259×3,203,200,184,175,152,139,125,121,-46,-49参考例7:中間体7窒素雰囲気下、0°Cでリチウムヘキサメチルジシラザンの10mol/Lテトラヒドロフラン溶液24mL,236mmolをテトラヒドロフラン3mLに添加し、続いてジエチルホスホノ酢酸アリル050mL,236mmolを加え、0°Cで30分間撹拌した。その後、参考例5で得られた中間体5100g,118mmolのテトラヒドロフラン溶液90mLをゆっくりと滴下し、さらに0°Cで1時間撹拌した。反応液に精製水20mLを加えた後、酢酸エチル20mLx3で抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液20mL、飽和食塩水20mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=10/1で溶出にて精製し、中間体7108g,100を得た。HRFABMS:計算値C52H78O12Si[MNa]9455160,実測値9455157IRKBrλmaxcm-1:3500,2962,2931,1724,1655,1459,1377,1336,1250,1186,1159,1124,1084,1035,9971HNMR270MHz,CDCl3,部分データδppm:594ddt,J=172,102,56Hz,1H,587s,1H,575dd,J=99,17Hz,1H,574m,3H,554dd,J=99,23Hz,1H,534dd,J=172,13Hz,1H,533m,1H,531s,1H,526dd,J=102,13Hz,1H,516t,J=31Hz,1H,503m,1H,490t,J=63Hz,1H,467dd,J=142,23Hz,1H,463d,J=56Hz,2H,452m,1H,442d,J=56Hz,1H,403brs,1H,384m,1H,380d,J=56Hz,1H,348d,J=96Hz,1H,336s,3H,178s,3H,148s,3H,139d,J=66Hz,3H,110d,J=69Hz,3H,092s,9H,012s,6H13CNMR678MHz,CDCl3δppm:1739,1654,1574,1401,1378,1374,1362,1353,1320,1278,1246,1194,1185,1179,1173,1165,957,935,813,801×2,747,700,695,684,683,679,671,650,565,457,405,396,364,351,343,328,305,275,258×3,200,195,193,184,164,149,130,120,-46,-49参考例8:中間体8窒素雰囲気下、0°Cでリチウムヘキサメチルジシラザンの10mol/Lテトラヒドロフラン溶液95mL,950mmolをテトラヒドロフラン12mLに添加し、続いてトリエチルホスホノ酢酸18mL,950mmolを加え、0°Cで30分間撹拌した。その後、参考例5で得られた中間体5400g,475mmolのテトラヒドロフラン溶液30mLをゆっくりと滴下し、さらに0°Cで1時間撹拌した。反応液に精製水50mLを加えた後、酢酸エチル50mLx3で抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液50mL、飽和食塩水50mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=15/1で溶出にて精製し、中間体8382g,85を得た。HRFABMS:計算値C51H78O12Si[MNa]9335160,実測値9335152IRKBrλmaxcm-1:3482,2962,2931,1720,1655,1462,1379,1340,1250,1186,1159,1126,1083,1033,997参考例9:中間体9窒素雰囲気下、参考例8で得られた中間体8280g,307mmolを塩化メチレン30mLに溶解し、この溶液に-78°Cで水素化ジイソブチルアルミニウムの095mol/Ln-ヘキサン溶液15mL,153mmolを滴下し、-78°Cで1時間撹拌した。反応液を塩化メチレン100mLで希釈し、続いてメタノールを加えて反応を止めた。さらに、この溶液に硫酸ナトリウム十水和物20gとセライト登録商標20gを加え、激しく撹拌した。1時間後、反応液を濾過した後、減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=3/1で溶出にて精製し、中間体9183g,69を得た。HRFABMS:計算値C49H76O11Si[MNa]8915055,実測値8915037IRKBrλmaxcm-1:3448,2966,2933,1720,1655,1460,1379,1340,1244,1186,1159,1116,1082,1034,989参考例10:中間体10テトラキストリフェニルフォスフィンパラジウム1mg,645μmolを含む参考例7で得られた中間体7596mg,645μmolのエタノール65mL溶液に、水素化ホウ素ナトリウム360mg,967μmolを加え、2時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液5mLを加えた後、酢酸エチル10mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水10mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出にて精製し、中間体10567mg,100を得た。HRFABMS:計算値C49H74O12Si[MNa]9054817,実測値9054892IRKBrλmaxcm-1:3448,2962,2931,1716,1460,1379,1342,1251,1186,1161,1124,1084,1038,999参考例11:中間体11参考例7と同様にして、参考例6で得られた中間体6120g,142mmolから、中間体11127g,97を得た。HRFABMS:計算値C42H80O12Si[MNa]9475317,実測値9475336IRKBrλmaxcm-1:3473,2960,2931,1724,1649,1460,1379,1338,1248,1197,1163,1120,1088,1037,1012,991参考例12:中間体12参考例8と同様にして、参考例6で得られた中間体6210g,249mmolから、中間体12160g,70を得た。HRFABMS:計算値C51H80O12Si[MNa]9365317,実測値9355298IRKBrλmaxcm-1:3448,2960,2931,1720,1462,1379,1338,1248,1198,1163,1120,1090,1036,991参考例13:中間体13窒素雰囲気下、0°Cでリチウムヘキサメチルジシラザンの10mol/Lテトラヒドロフラン溶液523μL,523μmolをテトラヒドロフラン1mLに添加し、続いてジエチルホスホノシアノメチル84μL,523μmolを加え、0°Cで30分間撹拌した。反応液に参考例6で得られた中間体6210mg,249μmolのテトラヒドロフラン溶液14mLをゆっくりと滴下し、さらに0°Cで1時間撹拌した。反応液に精製水5mLを加えた後、酢酸エチル5mLx3で抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液10mL、飽和食塩水10mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=15/1で溶出にて精製し、中間体13206mg,96を得た。参考例14:中間体14参考例9で得られた中間体9100mg,112μmolを塩化メチレン11mLに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン77μL,448μmol、4-ジメチルアミノピリジン20mg,168μmol、p-トルエンスルホニルクロライド85mg,448μmolを順次加え、室温で16時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液2mLを加えた後、塩化メチレン5mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水5mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出にて精製し、中間体14978mg,96を得た。HRFABMS:計算値C49H75ClO10[MNa]9094716,実測値9094748IRKBrλmaxcm-1:3480,2962,2931,1733,1462,1379,1338,1255,1186,1161,1122,1084,1038,997参考例15:中間体15参考例9と同様にして、参考例12で得られた中間体12140g,135mmolから、中間体15862mg,65を得た。HRFABMS:計算値C49H78O11Si[MNa]8935211,実測値8935220IRKBrλmaxcm-1:3477,2960,2931,1735,1712,1678,1458,1379,1338,1252,1196,1174,1119,1086,1038,993参考例16:中間体16参考例10と同様にして、参考例11で得られた中間体11924mg,999μmolから、中間体16760mg,86を得た。HRFABMS:計算値C49H76O12Si[MNa]9075004,実測値9075019IRKBrλmaxcm-1:3464,2960,2931,1714,1460,1377,1340,1250,1184,1172,1120,1088,1036,993参考例17:中間体17窒素雰囲気下、参考例2で得られた中間体2820mg,972μmolをN,N-ジメチルホルムアミド9mLに溶解し、イミダゾール463mg,680mmol、トリメチルシリルクロライド042mL,340mmolを順次加え、室温で20時間撹拌した。反応液に精製水50mLを加えた後、酢酸エチル50mLx3で抽出した。有機層を精製水100mLx3、飽和食塩水50mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出にて精製し、中間体17101g,100を得た。HRFABMS:計算値C53H90O11Si3[MNa]10095689,実測値10095690IRKBrλmaxcm-1:2960,2933,1745,1462,1385,1336,1311,1252,1205,1161,1128,1105,1086,991参考例18:中間体18参考例17で得られた中間体17940mg,951μmolをテトラヒドロフラン25mLに溶解し、酢酸5mLと精製水5mLの混合物を加え、室温で10時間撹拌した。反応液を飽和水素炭酸ナトリウム水溶液100mLに注ぎ、続いて酢酸エチル50mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水50mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出にて精製し、中間体18831mg,96を得た。HRFABMS:計算値C50H82O11Si2[MNa]9375293,実測値9375276IRKBrλmaxcm-1:3450,2960,2933,1743,1458,1381,1336,1251,1160,1130,1086,995参考例19:中間体19参考例14と同様にして、参考例15で得られた中間体15400mg,459μmolから、中間体19407mg,99を得た。HRFABMS:計算値C49H77ClO10Si[MNa]8884975,実測値8885025IRKBrλmaxcm-1:3483,2960,2931,1712,1460,1377,1338,1250,1172,1120,1087,1038,995参考例20:中間体20窒素雰囲気下、参考例18で得られた中間体18500mg,546μmolを塩化メチレン1mLに溶解し、ロジウムアセテートダイマー1mg,273μmolを添加した。この溶液に、エチルジアゾアセテート12μL,109μmolの塩化メチレン1mL溶液を、室温で滴下した。室温で2時間攪拌した後、減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=6/1で溶出にて精製し、中間体20204mg,87を得た。HRFABMS:計算値C54H88O13Si2[MNa]10235661,実測値10235696IRKBrλmaxcm-1:3450,2960,2933,1743,1458,1381,1336,1252,1159,1130,1086,997参考例21:中間体21窒素雰囲気下、-78°Cで、参考例20で得られた中間体20300mg,300μmolのテトラヒドロフラン21mL溶液に、スーパーハイドライドの10mol/Lテトラヒドロフラン溶液15mL,150mmolを滴下し、30分間撹拌した。30過酸化水素水溶液200μLを加えた後、-78°Cで30分間撹拌した。亜硫酸ナトリウム100mgを加え、酢酸エチル10mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水10mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー15g,ヘキサン/酢酸エチル=3/1で溶出にて精製し、中間体21907mg,32を得た。HRFABMS:計算値C52H86O12Si2[MNa]9815556,実測値9815597IRKBrλmaxcm-1:3475,2960,2933,1743,1462,1385,1336,1309,1252,1205,1161,1128,1085,989参考例22:中間体22窒素雰囲気下、参考例21で得られた中間体21845mg,827μmolを塩化メチレン17mLに溶解し、トリフェニルホスフィン542mg,0207mmol及びイミダゾール685mg,0207mmolを加え、室温で3時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニム3mLを加え、塩化メチレン10mLx3で抽出した。有機層を飽和食塩水10mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。該粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー15g,ヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶出にて精製し、中間体22502mg,59を得た。HRFABMS:計算値C52H85BrO11Si2[MNa]10434712,実測値10434658IRKBrλmaxcm-1:3465,2960,2933,1743,1462,1381,1336,1309,1252,1205,1161,1128,1095,993参考例23:中間体23窒素雰囲気下、参考例4で得られた中間体4212g,251mmolをN,N-ジメチルホルムアミド25mLに溶解し、イミダゾール119g,175mmol、トリメチルシリルクロライド11mL,878mmolを順次加え、室温で20時間撹拌した。反応液に精製水200mLを加えた後、酢酸エチル100mLx3で抽出した。有機層を精製水200mLx3、飽和食塩水100mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、粗生成物を得た。次いで、参考例18と同様にして、該粗生成物から中間体23189g,82,2工程を得た。HRFABMS:計算値C50H84O11Si2[MNa]9395450,実測値9395452IRKBrλmaxcm-1:3489,2960,2933,1743,1462,1389,1336,1309,1252,1203,1168,1120,1084,1051,1009,989参考例24:中間体24参考例20と同様にして、参考例23で得られた中間体23189g,207mmolから中間体24443mg,21を得た。HRFABMS:計算値C54H90O13Si2[MNa]10255818,実測値10255837IRKBrλmaxcm-1:3455,2960,2931,1759,1741,1462,1379,1336,1308,1252,1203,1169,1132,1088,1035,991参考例25:中間体25参考例21と同様にして、参考例24で得られた中間体24326mg,324μmolから中間体25271mg,87を得た。HRFABMS:計算値C52H88O12Si2[MNa]9835712,実測値9835719IRKBrλmaxcm-1:3456,2958,2931,1743,1458,1380,1336,1309,1251,1205,1169,1128,1088,1010,989参考例26:中間体26参考例22と同様にして、参考例25で得られた中間体25768mg,798μmolから中間体26943mg,74を得た。HRFABMS:計算値C52H87BrO11Si2[MNa]10454868,実測値10454890IRKBrλmaxcm-1:3488,2960,2931,1743,1462,1379,1336,1309,1252,1205,1169,1128,1088,1009,989上記の参考例で得られた中間体及び原料を第6表に示す。試験例1本発明で開示される各化合物の抗寄生虫作用の測定方法を以下に示す。抗寄生虫及び殺虫活性を簡便に測定するためのモデル動物としては、個体が容易に得られ、実験室レベルで飼育が可能で、人に対して病原性がない動物が望ましい。蒸し蠕虫の代表として、遺伝学の実験等で広く用いられている非寄生性線虫セノブデティスエレガンスcaenorhabditiselegansを用い、昆虫の代わりにブラインシュリンプの名で熱帯魚の飼料として用いられているアルテミアサリーナartemiasalinaを用いた。<評価に用いるセノブデティスエレガンスの調製>セノブデティスエレガンスの餌となる大腸菌ウラシル要求変異株を、少量のウラシルを加えた大腸菌種培地に植え継ぎ、27°Cで1日間振とう培養した。直径6cmのシャーレに線虫増殖用寒天培地を10mL入れて固まらせた後、大腸菌の培養液05mLをシャーレの一面に塗布し、37°Cで保温して大腸菌を増殖させた。セノブデティスエレガンスが十分に増殖しているシャーレから白金耳を用いて寒天辺をとり、大腸菌が増殖したシャーレに植え継ぎ20°Cで保温し、セノブデティスエレガンスを増殖させた。線虫の寿命は約2週間のため、1週間ごとに継代を行い、植え継ぎ後3-5日経過し、シャーレ一面に生育したものを実験に用いた。<評価に用いるアルテミアサリーナの調製>アルテミアサリーナ用緩衝液[Tris024、塩化ナトリウム257、塩化マグネシウム047、塩化カリウム007、炭酸ナトリウム002、硫酸マグネシウム064、及び塩化カルシウム011を蒸留水に溶解し、塩酸でpH71に調整した緩衝溶液]に、アルテミアサリーナの乾燥卵[テトラブラインシュリンプエッグスワーナーランバート社]を入れ、孵化後1~2日目のノープリウス幼生を実験に用いた。<線虫増殖用寒天培地の作成方法>溶液Aは、塩化ナトリウム03、バクト-寒天DIFCO社、17、バクト-ペプトンDIFCO社、05及び酵母エキスDIFCO社、10を蒸留水に溶解した溶液である。溶液Bは、コレステロール05をエタノールに溶解した溶液である。溶液Cは、塩化カルシウム139を蒸留水に溶解した溶液である。溶液Dは、硫酸マグネシウム7水和物308を蒸留水に溶解した溶液である。溶液Eは、KH2PO41354及びK2HPO4445を蒸留水に溶解した溶液である。なお、上記の培地A、C及びDは121°Cで20分間オートクレーブにかけ、各々の溶液は4°Cで保存した。溶液A:100mL、溶液B:01mL、溶液C:005mL、溶液D:01mL、溶液E:25mLの比率で混ぜpH無調整、60×15mmシャーレに10mLずつ分注して、線虫増殖用寒天培地を作成した。<大腸菌種培地の作成方法>バクト-トリプトンDIFCO社、20、塩化ナトリウム055及びウラシルSIGMA社、pH74、0001を蒸留水に溶解し、121°Cで20分間オートクレーブにかけた。<試験方法>96穴マイクロプレートに試験化合物溶液溶媒:メタノールを入れ、真空ポンプで溶媒を溜去した後、アッセイ培地250μL[アッセイ培地は、蒸留水に炭酸水素ナトリウム75mmol/L、塩化カリウム75mmol/L、塩化カルシウム2水和物75mmol/L、及び硫酸マグネシウム7水和物75mmol/Lを溶解させ、レシチン001を添加して作成した]を加え、マイクロプレートミキサーで15分間振とうした。この中に、セノブデティスエレガンスは爪楊枝を用いて寒天の表面を軽くこすって数匹入れ、アルテミアサリーナは数匹入るように緩衝液ごと50μLを加えた。これを20°Cで保温し、24時間後及び48時間後の様子を顕微鏡40倍下で観察し、試験化合物無添加のものと比較して4段階で評価した。評価結果は以下の0~3の4段階の指標で表した。3:全く運動しない2:1と3の間1:多少弱っている0:活発に運動している4段階のうち、指標3及び指標2を活性あり、指標1及び指標0を活性なしと判定した。結果を第7表に示す。第7表中の各化合物の数値は、上記の評価方法においてセノブデティスエレガンス及びアルテミアサリーナが各々、指標2又は指標3になるための最小濃度MIC:最小阻害濃度である。なお、第7表において、セノブデティスエレガンス及びアルテミアサリーナをそれぞれ、CE及びASと略記した。"