"下記構造式1式中、R1、R2はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル基、iso‐プロピル基、ブチル基、tert‐ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2‐エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基から選択され、X-はp‐トルエンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロボラート、ヘキサフロオロホスフェートから選択され、nは1以上の整数であるで示されるイミダゾリウム塩部位を有する新規スルホキシド誘導体。R1およびR2がメチル基、nが6、X-がp‐トルエンスルホナートである請求項1記載のイミダゾリウム塩部位を有する新規スルホキシド誘導体。R1およびR2がメチル基、nが10、X-がp‐トルエンスルホナートである請求項1記載のイミダゾリウム塩部位を有する新規スルホキシド誘導体。Swern酸化は,強い毒性の重金属酸化物や爆発性の酸化剤を使用しない優れた方法である。しかしながら、このSwern酸化は副生成物として等量のジメチルスルフィドを副生する。このジメチルスルフィドは悪臭が強く、ジメチルスルフィドを副生させない方法が強く求められている。そこで、発明者は鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は新規すなわち、本発明はイミダゾリウム塩部位を有する新規スルホキシド誘導体に関するものである。本発明の実施形態について説明する。本発明は下記構造式1式中、R1、R2はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル基、iso‐プロピル基、ブチル基、tert‐ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2‐エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基から選択され、X-はp‐トルエンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロボラート、ヘキサフロオロホスフェートから選択され、nは1以上の整数であるで示されるイミダゾリウム塩部位を有する新規スルホキシド誘導体に関するもので、悪臭のジメチルスルフィドを副生するSwern酸化において、ジメチルスルホキシドに替えて用いることができる。本発明化合物はSwern酸化において副生するジメチルスルフィドをイオン液体に固定することで、その飛散を防ぎ、そして、イオン液体部位としては汎用性の高いイミダゾリウム塩を用いたものである。なお、構造式1で示されるイミダゾリウム塩部位を有するスルホキシド誘導体は文献未載の新規化合物である。以下にその合成法を明らかにするが、これは例示であり、これに限定されるものではない。本発明化合物は下記反応式に従って2工程で合成される。式中、R1、R2はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル基、iso‐プロピル基、ブチル基、tert‐ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2‐エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基から選択され、X-はp‐トルエンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロボラート、ヘキサフロオロホスフェートから選択され、nは1以上の整数である第1工程はスルフィド化合物Aとイミダゾール化合物Bを反応させることで、イミダゾリウム塩Cを得る工程である。この工程におけて、使用しうる溶媒の例としては、ジクロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、トルエン、あるいはこれら混合溶媒が挙げられる。反応温度は、反応を進行させることができる限りにおいて限定されるものではないが、例えば-20°C以上から溶媒の還流温度の範囲が好ましい。反応時間は、使用する溶媒の種類、反応温度により異なるが、30分から72時間の間で適宜選択される。第2工程はイミダゾリウム塩Cを酸化する工程である。使用しうる酸化剤としては、過酢酸、m‐クロロ過安息香酸、過安息香酸、オキサアジリジン誘導体、重金属酸化物、過酸化水素、過酸化水素/酢酸等が挙げられる。好ましくは過酸化水素/酢酸である。反応温度は-20°Cから100°Cの間で適宜選択される。以下に、本発明の代表例として下記構造式に示すイミダゾリウム塩部位を有するスルホキシド誘導体2および3を取り上げ、Swern酸化への応用を参考例として示し、本発明の有用性を明らかにする。参考例11‐[6‐メチルスルフィニルヘキシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートを用いた4‐メトキシベンジルアルコールのSwern酸化反応1‐[6‐メチルスルフィニルヘキシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナート1.6022g4.0mmolをジクロロメタン6mlに溶解させ、‐70°Cに冷却し、オキサリルジクロリド0.34ml4.0mmolを滴下し、30分間撹拌した。4‐メトキシベンジルアルコール2.0mmolをジクロロメタン3mlに溶解させた溶液を滴下し、さらに30分間撹拌した。トリエチルアミン1.66ml6.0mmolを滴下し,‐70°Cで1時間撹拌した。次いで‐60°Cで1.5時間、‐50°Cで1時間撹拌後、室温に戻し2時間撹拌した。水10mlで反応を停止させ、1NHClで中和pH=6.0~7.0した後、ジエチルエーテル40mlを加えて分液×2回した。有機層を水10mlで洗浄×2回した後、Na2SO4で乾燥、濾過し、濾液を減圧濃縮すると4‐メトキシベンズアルデヒドが収率92で得られた。なお、この操作の際、ジメチルスルフィドに由来する悪臭は全く生じなかった。以下に得られた4‐メトキシベンズアルデヒドの物性を示す。IRneat:2840,2739,1683cm-1;1HNMRCDCl3,TMS:δ=3.90s,3H,7.01d,J=8.7Hz,2H,7.85d,J=8.7Hz,2H,9.89s,1H;13CNMRCDCl3,TMS:δ=55.52,114.25,129.88,131.92,164.55,190.78;参考例21‐[6‐メチルスルフィニルヘキシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートを用いたtrans‐けい皮アルコールのSwern酸化反応参考例1の4‐メトキシベンジルアルコールをtrans‐けい皮アルコールに替え、同様の操作を行なうことで目的物であるtrans‐けい皮アルデヒドが収率99で得られた。なお、この操作の際、ジメチルスルフィドに由来する悪臭は全く生じなかった。以下に得られたtrans‐けい皮アルデヒドの物性を示す。IRneat:2816,2743,1676cm-1;1HNMRCDCl3,TMS:δ=6.73dd,J=16.0Hz,7.8Hz,1H,7.44‐7.51m,4H,7.57‐7.59m,2H,9.72d,J=7.8Hz,1H;13CNMRCDCl3,TMS:δ=128.48,128.56,129.09,131.26,133.95,152.82,193.74.参考例31‐[10‐メチルスルフィニルデシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホートを用いた5α‐コレスタノールのSwern酸化反応1‐[10‐メチルスルフィニルデシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナート0.91332g2.0mmolをジクロロメタン6mlに溶解させ、‐70°Cに冷却し、オキサリルジクロリド0.163ml2.0mmolを滴下し、30分間撹拌した。5α‐コレスタノール1.0mmolをジクロロメタン2mlに溶解させた溶液を滴下し、さらに30分間撹拌した。トリエチルアミン0.832ml3.0mmolを滴下し,‐70°Cで1時間撹拌した。次いで‐60°Cで1.5時間、‐50°Cで1時間撹拌後、室温に戻し2時間撹拌した。水10mlで反応を停止させ、1NHClで中和pH=6.0~7.0した後、ジエチルエーテル40mlを加えて分液×2回した。有機層を水10mlで洗浄×2回した後、Na2SO4で乾燥、濾過し、濾液を減圧濃縮すると5α‐コレスタ‐3‐オンが収率99で得られた。なお、この操作の際、ジメチルスルフィドに由来する悪臭は全く生じなかった。参考例41‐[10‐メチルスルフィニルデシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートを用いたピペロニルアルコールのSwern酸化反応参考例3の5α‐コレスタノールをピペロニルアルコールに替え、同様の操作を行なうことで目的物であるピペロナールが収率92で得られた。なお、この操作の際、ジメチルスルフィドに由来する悪臭は全く生じなかった。以上のように、従来のジメチルスルホキシドを用いるSwern酸化では悪臭のジメチルスルフィドが副生するが、本発明に係るイミダゾリウム塩部位を有するスルホキシド誘導体を用いたSwern酸化では全く悪臭物質を副生しない。これまでSwern酸化の問題とされていたジメチルスルフィドの悪臭の難点を解決するに至った。また反応終了後に副生する1‐[6‐メチルチオヘキシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートおよび1‐[10‐メチルチオデシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートは固体で、ジエチルエーテルに不溶のため、ジエチルエーテルを用いたろ過操作のみで分離、回収することが可能である。さらに、再酸化することで1‐[6‐メチルスルフィニルヘキシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートおよび1‐[10‐メチルスルフィニルデシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートに導くことができ、再利用が可能である。次に,本発明を実施例により更に詳細に説明する。なお、本発明の範囲は、かかる実施例に限定されないことは言うまでもない。本発明の範囲内では変形が可能なことは当業者には明らかであろう。実施例11‐[6‐メチルスルフィニルヘキシル]-3‐メチル‐1H‐イミダゾリウムイウムp‐メチルベンゼンスルホナートの合成6‐メチルチオヘキシルp‐メチルベンゼンスルホナート6.0490g20mmoをアセトニトリル15mlに溶解させ、この溶液にN‐メチルイミダゾール1.724321mmolを室温で加え、55°Cで48時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、ジエチルエーテル20mlを加え、攪拌し、1‐[6‐メチルチオヘキシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートが沈殿、デカンテーションでジエチルエーテルを除いた。さらにジエチルエーテル10mlで2回洗浄後、減圧下乾燥し、1‐[6‐メチルチオヘキシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートを収率99で得た。次いで、この1‐[6‐メチルチオヘキシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナート7.6912g20mmolをTHF/AcOH15ml:30mlに溶解させ、0°Cにて30過酸化水素水1.47ml48mmolをゆっくり滴下し、室温で2時間撹拌した。過剰量の飽和Na2SO3水溶液を加えて反応を止め、減圧濃縮した。クロロホルム20mlを加え、次いでNa2SO4を加え、濾過した。濾液を減圧濃縮して1‐[6‐メチルスルフィニルヘキシル]-3‐メチル‐1H‐イミダゾリウムp‐メチルベンゼンスルホナートの粘調な液体を収率99で得た。以下に得られた1‐[6‐メチルスルフィニルヘキシル]‐3‐メチル‐1H‐イミダゾリウムp‐メチルベンゼンスルホナートの物性値を示す。IRneat:1034cm-1;1HNMRCDCl3,TMS:δ=1.28‐1.49m,4H,1.67‐1.86m,4H,2.34s,3H,2.55s,3H,2.68t,J=7.6Hz,2H,3.93s,3H,4.19t,J=7.4Hz,2H,7.15d,J=7.9Hz,2H,7.36‐7.38m,2H,7.74d,J=8.2Hz,2H,9.63s,1H;13CNMRCDCl3,TMS:δ=21.21,22.06,25.37,27.59,29.59,36.25,38.30,49.49,53.79,121.96,123.38,125.71,128.64,137.63,139.48,143.43;HRMSAPPICalcdforC11H21ON2S[M]:229.1369.Found:229.1357.実施例21‐[10‐メチルスルフィニルデシル]-3‐メチル‐1H‐イミダゾリウムイウムp‐メチルベンゼンスルホナートの合成10‐メチルチオデシルp‐メチルベンゼンスルホナート7.1712g20mmolをアセトニトリル15mlに溶解させ、この溶液にN‐メチルイミダゾール1.7243g21mmolを室温で加え、55°Cで48時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、ジエチルエーテル20mlを加え、攪拌し、1‐[10‐メチルチオデシル‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートが沈殿、デカンテーションでジエチルエーテルを除いた。さらにジエチルエーテル10mlで2回洗浄後、減圧下乾燥し、1‐[10‐メチルチオデシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナートを収率99で得た。次いで、この1‐[10‐メチルチオデシル]‐3‐メチルイミダゾリウムp‐トルエンスルホナート8.8132g20mmolをTHF/AcOH15ml:30mlに溶解させ、0°Cにて30過酸化水素水1.47ml48mmolをゆっくり滴下し、室温で2時間撹拌した。過剰量の飽和Na2SO3水溶液を加えて反応を止め、減圧濃縮した。クロロホルム20mlを加え、次いでNa2SO4を加え、濾過した。濾液を減圧濃縮して1‐[10‐メチルスルフィニルデシル]-3‐メチル‐1H‐イミダゾリウムp‐メチルベンゼンスルホナートの粘調な液体を収率99で得た。以下に得られた1‐[10‐メチルスルフィニルデシル]-3‐メチル‐1H‐イミダゾリウムp‐メチルベンゼンスルホナートの物性値を示す。IRnujol:1034cm-1;1HNMRCDCl3,TMS:δ=1.24‐1.50m,12H,1.72-1.80m,4H,2.34s,3H,2.56s,3H,2.62‐2.76m,2H,3.97s,3H,4.16t,J=7.4Hz,2H,7.14d,J=8.0Hz,2H,7.25t,J=1.9Hz,1H,7.36t,J=1.7Hz,1H,7.77d,J=8.1Hz,2H,9.68s,1H;13CNMRCDCl3,TMS:δ=21.27,22.44,26.03,28.56,28.74,28.97,29.02,30.03,36.37,38.50,49.87,54.58,121.63,123.38,125.82,128.62,137.85,139.36,143.46onecarbonoverlapped;HRMSAPPICalcdforC15H29N2OS[M]:285.1995.Found:285.1998."