"互いに異なる条件で偏光光を一方向に伸びるように照射する複数の偏光光照射部と、各々前記一方向に垂直な方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部が前記一方向に交互に並ぶよう配置されて形成されてなる、前記複数の偏光光照射部の各々に対応するマスクパターンを有するマスクとを備えてなり、前記偏光光照射部の各々は、放電ランプ、および、当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子を有する光出射部と、前記光出射部と前記マスクとの間の光路上に配置された偏光素子とにより構成されており、前記マスクにおいては、各々の偏光光照射部による光照射処理領域において前記一方向に垂直な方向に移動されるよう搬送される被照射物の搬送方向において、一の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける前記透光部が、他の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける前記遮光部と相補的に並ぶ状態で、位置されていることを特徴とする光照射装置。前記光出射部は、前記光源素子の複数が前記一方向に並ぶよう配置されてなる光源素子列を備えてなり、前記光源素子を構成する放電ランプがショートアーク型の放電ランプであることを特徴とする請求項1に記載の光照射装置。前記偏光光照射部の各々は、前記光出射部からの光を前記一方向に伸びる線状に集光して照射する集光部材をさらに備えていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光照射装置。前記複数の偏光光照射部の各々における前記偏光素子は、互いに偏光軸の角度が異なることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の光照射装置。前記リフレクタは、その光軸を中心とする回転放物面状の光反射面を有するものであり、前記集光部材は、断面が放物線状の光反射面を有するシリンドリカルミラーよりなることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の光照射装置。前記リフレクタは、その光軸を中心とする回転放物面状の光反射面を有するものであり、前記光出射部からの光を前記一方向に伸びる帯状の光として前記マスクに向かって反射する平面ミラーが配置されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光照射装置。前記マスクは、互いに独立した、前記複数の偏光光照射部のそれぞれに対応した複数種のマスクパターンが共通の基板上に形成されてなるものであることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の光照射装置。前記偏光光照射部の各々が、各々の偏光光照射部のそれぞれに対応するマスクパターンの間において、前記一方向に沿って前記マスクに垂直な方向に伸びる面に対して対称となる位置に、配置されていることを特徴とする請求項3乃至請求項7のいずれかに記載の光照射装置。前記複数の偏光光照射部の各々は、当該偏光光照射部から照射される偏光光の、前記マスクに対する入射角度が互いに異なる状態で、配置されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の光照射装置。前記偏光光照射部の各々は、当該偏光光照射部から照射される偏光光の光軸が前記マスクに近づくに従って互いに接近する状態で、配置されていることを特徴とする請求項9に記載の光照射装置。前記被照射物を前記マスクパターンにおける透光部が伸びる方向に搬送する搬送手段を備えており、前記被照射物がフィルム状のものであり、前記搬送手段は前記被照射物に接して搬送する円筒状ローラーを有してなり、一対の偏光光照射部と、各々当該一対の偏光光照射部の一方に対応するマスクパターンを有する2種類のマスクとを備えており、前記一対の偏光光照射部が、前記円筒状ローラーの周面に沿って並んだ位置に配置されていることを特徴とする請求項3乃至請求項6のいずれかに記載の光照射装置。前記一対の偏光光照射部が、前記円筒状ローラーの回転中心軸を挟んで互いに対向する位置に配置されていることを特徴とする請求項11に記載の光照射装置。前記マスクは、各々、前記複数の偏光光照射部のそれぞれに対応したマスクパターンが基板上に形成されたマスク構成部材の複数のものが共通の保持部材によって一体に保持されてなるものであることを特徴とする請求項3乃至請求項6のいずれかに記載の光照射装置。互いに異なる条件で偏光光を一方向に伸びるように照射する複数の偏光光照射部の各々からの光を、各々前記一方向に垂直な方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部が前記一方向に交互に並ぶよう配置されて形成されてなる、前記複数の偏光光照射部の各々に対応するマスクパターンを有するマスクを介して、各々の偏光光照射部による光照射処理領域において前記一方向に垂直な方向に移動されるよう搬送される被照射物に照射する光照射方法であって、一の偏光光照射部における、放電ランプ、および、当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子を有する光出射部から出射された光を、偏光素子によって、所定の偏光方向を有する偏光光に偏光し、当該偏光光を、前記マスクにおける当該一の偏光光照射部に対応するマスクパターンを介して被照射物に照射すると共に、他の偏光光照射部における、放電ランプ、および、当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子を有する光出射部から出射された光を、偏光素子によって、前記一の偏光光照射部からの偏光光とは条件の異なる偏光光に偏光し、当該偏光光を、前記マスクにおける、前記遮光部が前記一の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける透光部と被処理物の搬送方向に相補的に並んで位置された、当該他の偏光光照射部に対応するマスクパターンを介して被照射物に照射することを特徴とする光照射方法。前記各々の偏光光照射部における前記光出射部からの光を、集光部材によって前記一方向に伸びる線状に集光し、当該集光された光を前記偏光素子によって偏光し、当該偏光光を、前記マスクにおける各々の偏光光照射部に対応するマスクパターンを介して被照射物に照射することを特徴とする請求項14に記載の光照射方法。しかしながら、上記のようなパターン化位相差フィルムの製造工程においては、光配向膜用材料層における偏光光が照射されて第1の光配向膜が形成された領域に対して、再び、当該偏光光と偏光方向が異なる偏光光が照射されることにより、第1の光配向膜における偏光方向が解除されることがあり、所期のパターン化位相差フィルムを確実に得ることができないという不具合が生ずることが判明した。本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、所期の光学的異方性を有するストライプ状のパターンを確実に形成することのできる光照射装置および光照射方法を提供することにある。本発明の光照射装置は、互いに異なる条件で偏光光を一方向に伸びるように照射する複数の偏光光照射部と、各々前記一方向に垂直な方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部が前記一方向に交互に並ぶよう配置されて形成されてなる、前記複数の偏光光照射部の各々に対応するマスクパターンを有するマスクとを備えてなり、前記偏光光照射部の各々は、放電ランプ、および、当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子を有する光出射部と、前記光出射部と前記マスクとの間の光路上に配置された偏光素子とにより構成されており、前記マスクにおいては、各々の偏光光照射部による光照射処理領域において前記一方向に垂直な方向に移動されるよう搬送される被照射物の搬送方向において、一の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける前記透光部が、他の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける前記遮光部と相補的に並ぶ状態で、位置されていることを特徴とする。本発明の光照射装置においては、前記光出射部は、前記光源素子の複数が前記一方向に並ぶよう配置されてなる光源素子列を備えてなり、前記光源素子を構成する放電ランプがショートアーク型の放電ランプである構成とされていることが好ましい。また、本発明の光照射装置においては、前記偏光光照射部の各々は、前記光出射部からの光を前記一方向に伸びる線状に集光して照射する集光部材をさらに備えた構成とされていることが好ましい。さらにまた、本発明の光照射装置においては、前記複数の偏光光照射部の各々における前記偏光素子は、互いに偏光軸の角度が異なるものとされた構成とすることができる。このような構成のものにおいては、前記リフレクタは、その光軸を中心とする回転放物面状の光反射面を有するものであり、前記集光部材は、断面が放物線状の光反射面を有するシリンドリカルミラーよりなる構成とすることができる。また、本発明の光照射装置においては、前記リフレクタは、その光軸を中心とする回転放物面状の光反射面を有するものであり、前記光出射部からの光を前記一方向に伸びる帯状の光として前記マスクに向かって反射する平面ミラーが配置された構成とすることができる。さらにまた、本発明の光照射装置においては、前記マスクは、互いに独立した、前記複数の偏光光照射部のそれぞれに対応した複数種のマスクパターンが共通の基板上に形成されてなるものにより構成されていることが好ましい。さらにまた、前記偏光光照射部の各々が、各々の偏光光照射部のそれぞれに対応するマスクパターンの間において、前記一方向に沿って前記マスクに垂直な方向に伸びる面に対して対称となる位置に、配置された構成とされていることが好ましい。さらにまた、前記複数の偏光光照射部の各々における前記偏光素子は、前記偏光光照射部の各々は、当該偏光光照射部から照射される偏光光の、前記マスクに対する入射角度が互いに異なる状態で、配置された構成とすることができる。このような構成のものにおいては、前記偏光光照射部の各々は、当該偏光光照射部から照射される偏光光の光軸が前記マスクに近づくに従って互いに接近する状態で、配置された構成とされていることが好ましい。さらにまた、本発明の光照射装置においては、前記被照射物を前記マスクパターンにおける透光部が伸びる方向に搬送する搬送手段を備えており、前記被照射物がフィルム状のものであり、前記搬送手段は前記被照射物に接して搬送する円筒状ローラーを有してなり、一対の偏光光照射部と、各々当該一対の偏光光照射部の一方に対応するマスクパターンを有する2種類のマスクとを備えており、前記一対の偏光光照射部が、前記円筒状ローラーの周面に沿って並んだ位置に配置された構成とすることができる。このような構成のものにおいては、一対の偏光光照射部が、前記円筒状ローラーの回転中心軸を挟んで互いに対向する位置に配置された構成とされていることが好ましい。さらにまた、本発明の光照射装置においては、各々、前記複数の偏光光照射部のそれぞれに対応したマスクパターンが基板上に形成されたマスク構成部材の複数のものが共通の保持部材によって一体に保持されてなるものにより構成されていることが好ましい。本発明の光照射方法は、互いに異なる条件で偏光光を一方向に伸びるように照射する複数の偏光光照射部の各々からの光を、各々前記一方向に垂直な方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部が前記一方向に交互に並ぶよう配置されて形成されてなる、前記複数の偏光光照射部の各々に対応するマスクパターンを有するマスクを介して、各々の偏光光照射部による光照射処理領域において前記一方向に垂直な方向に移動されるよう搬送される被照射物に照射する光照射方法であって、一の偏光光照射部における、放電ランプ、および、当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子を有する光出射部から出射された光を、偏光素子によって、所定の偏光方向を有する偏光光に偏光し、当該偏光光を、前記マスクにおける当該一の偏光光照射部に対応するマスクパターンを介して被照射物に照射すると共に、他の偏光光照射部における、放電ランプ、および、当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子を有する光出射部から出射された光を、偏光素子によって、前記一の偏光光照射部からの偏光光とは条件の異なる偏光光に偏光し、当該偏光光を、前記マスクにおける、前記遮光部が前記一の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける透光部と被処理物の搬送方向に相補的に並んで位置された、当該他の偏光光照射部に対応するマスクパターンを介して被照射物に照射することを特徴とする。本発明の光照射方法においては、前記各々の偏光光照射部における前記光出射部からの光を、集光部材によって前記一方向に伸びる線状に集光し、当該集光された光を前記偏光素子によって偏光し、当該偏光光を、前記マスクにおける各々の偏光光照射部に対応するマスクパターンを介して被照射物に照射することが好ましい。本発明の光照射装置によれば、一の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける透光部が、他の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける遮光部と被処理物の移動方向に相補的に並ぶ状態で、位置された構成とされていることにより、被照射物における一の偏光光照射部からの偏光光が照射される光照射領域に対して、他の偏光光照射部からの偏光光が照射されることがないので、所期の光学的異方性を有するストライプ状のパターンを確実に形成することができる。従って、例えばパターン化位相差フィルムの製造において、一の偏光光照射部の偏光光照射により形成される光配向膜の偏光方向が、他の偏光光照射部による偏光光照射によって解除されるといった問題が生ずることを回避することができ、所期のパターン化位相差フィルムを確実に得ることができる。また、光源素子を構成する放電ランプとして、点光源であるショートアーク型のものを用い、このような放電ランプを有する複数の光源素子を一方向に沿って並ぶよう配置されてなる光源素子列によって光出射部が構成されていることにより、当該光源素子列を構成する光源素子の各々における放電ランプから放射される光を、光源素子が並ぶ一方向において互いに平行な平行光とすることが可能となり、これにより、被照射物におけるマスクの遮光部の直下に位置する領域に光が照射されることが防止または抑制される結果、マスクのマスクパターンに忠実で解像度の高いパターンを形成することができる。以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。[第1の実施の形態]図1は、本発明の第1の実施の形態に係る光照射装置の構成の概略をマスクと平行な平面で切断して示す平面断面図、図2は、図1に示す光照射装置をA-A線で切断して示す側面断面図、図3は、図1に示す光照射装置における偏光光照射部を構成する光出射部の構成の概略を示す正面図である。この第1の実施の形態に係る光照射装置は、例えば液晶パネル用の平板状のガラス基板などの被照射物に対して線状のパターンを形成するために用いられるものであって、互いに異なる条件で偏光光を照射する一対の偏光光照射部を構成する第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bと、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bの各々に対応する2種のマスクパターンを有する一のマスク30と、被照射物Wを搬送する搬送手段図示せずとを備えてなる。第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bは、それぞれ、ショートアーク型の放電ランプ13と、この放電ランプ13を取り囲むよう配置された、当該放電ランプ13からの光を反射するリフレクタ15とよりなる光源素子12の複数例えば3つ以上のものが一方向図2においては紙面に垂直な方向。以下、この一方向をx方向ともいう。に並ぶよう配置されてなる光源素子列11を有する光出射部10と、この光出射部10からの光を、x方向に伸びる線状に集光する集光部材20と、光出射部10とマスク30との間の光路上、具体的には、集光部材20とマスク30との間の光路上に配置された偏光素子45A,45Bとにより構成されている。第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bは、光出射部10における各リフレクタ15の光軸Cに垂直な光出射面17が互いに対向する状態で、x方向に垂直な面内において、後述する第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bのそれぞれに対応する第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bの間において、x方向に沿ってマスク30に垂直な方向に伸びる面当該面上における図2において二点鎖線で示す線をマスクの法線Hという。に対して、対称となる位置に配置されている。放電ランプ13としては、発光管14内にその管軸に沿って互いに対向するよう一対の電極図示省略が配置されると共に水銀、希ガスおよびハロゲンが封入されてなる、例えば波長270~450nmの紫外光を高い効率で放射する超高圧水銀ランプを用いることができる。このような放電ランプ13において、一対の電極間の電極間距離が例えば0.5~2.0mm、水銀の封入量が例えば0.08~0.30mg/mm3である。リフレクタ15は、その光軸Cを中心とする回転放物面状の光反射面16を有するパラボラミラーにより構成されており、当該リフレクタ15は、その光軸Cが放電ランプ13における発光管14の管軸上に位置され、かつ、その焦点Fが放電ランプ13における電極間の輝点に位置されるよう配置され、この状態で、固定部材18によって放電ランプ13に固定されている。集光部材20は、x方向に垂直な断面が放物線状の光反射面21を有する、x方向に沿って伸びるシリンドリカルパラボラミラーにより構成されており、当該集光部材20は、光出射部10における各リフレクタ15の光軸Cに垂直な光出射面17の前方において、その焦点fが被照射物Wの表面上に位置するよう配置されている。この集光部材20は、目的とする波長の紫外光のみを反射させ、不要な可視光および赤外光を透過させるコールドミラーコーティングが施されてなるものであってもよい。偏光素子45A,45Bは、例えば、ガラス若しくは石英ガラスよりなる矩形の透明基板の一面に、例えばアルミニウムや銀などの光反射率が高い金属材料よりなる多数の金属ワイヤーが当該透明基板の一辺に平行な方向に沿って一定の間隔で配置されてなるワイヤーグリッド偏光素子により構成されている。このような偏光素子ワイヤーグリッド偏光素子45A,45Bにおいては、金属ワイヤーの配置ピッチの約2倍以上の波長の光が照射されたときに、当該光を構成する振動成分のうち、金属ワイヤーが伸びる方向に振動する成分を反射若しくは吸収すると共に、金属ワイヤーが伸びる方向と垂直な方向に振動する成分を透過することによって、直線偏光光とされる。この第1の実施の形態に係る光照射装置においては、各偏光光照射部60A,60Bに係る偏光素子45A,45Bは、互いに偏光軸の角度が異なるもの、具体的には、金属ワイヤーの延伸方向が異なるものにより構成されており、例えば偏光方向が90°異なる偏光光を透過するよう構成されている。ここでの角度は、被照射物Wの移動方向に対するものである。マスク30は、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bのそれぞれに対応する互いに独立した第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bが共通の透光性基板31に形成されてなる、x方向に長尺な矩形の板状のものである。このマスク30は、集光部材20の下方において、被照射物Wに対して離間した状態で、当該集光部材20による反射光の光軸Lに対して垂直な平面に沿って被照射物Wと平行に伸びるよう、配置されている。ここに、マスク30と被照射物Wとの間の最小ギャップは、例えば50~1000μmである。第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bは、各々x方向に垂直な方向図2においては左右方向。以下、y方向ともいう。に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部がx方向に交互に並ぶよう配置されて構成されており、第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bが、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bの各々による光照射処理領域においてy方向に移動されるよう搬送される被照射物Wの搬送方向において、第1のマスクパターン38Aにおける透光部36が、第2のマスクパターン38Bにおける遮光部35と相補的に並び、第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35が第2のマスクパターン38Bにおける透光部36と相補的に並ぶ状態で、形成されている。図4は、マスクの具体的な構成の一例を示す説明図であり、Aは平面図、Bは側面図、CはAの一部を示す拡大図である。このマスク30においては、例えば石英ガラスよりなる透光性基板31の一面に、例えばクロムよりなる多数の線状の遮光膜32が所要の間隔で離間して並ぶよう配置されており、これにより、遮光膜32が形成された領域によって線状の遮光部35が形成されると共に隣接する遮光膜32間の領域によって透光部36が形成されて、第1の偏光光照射部60Aに係る第1のマスクパターン38Aが形成されている。そして、第1の偏光光照射部60Aに係る第1のマスクパターン38Aにおける透光部36のy方向に平行な延長線上に位置される領域の各々に、例えばクロムよりなる多数の線状の遮光膜32が配置されており、これにより、遮光膜32が形成された領域によって線状の遮光部35が形成されると共に隣接する遮光膜32間の領域によって透光部36が形成されて、第2の偏光光照射部60Bに係る第2のマスクパターン38Bが形成されている。このマスク30には、第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bが形成された領域のそれぞれに、図4Aにおいて破線Lb1,Lb2で示すように、遮光部35および透光部36が並ぶx方向に伸びる帯状の光が入射され、被照射物Wがy方向に搬送されることにより、被照射物Wにおける、第1のマスクパターン38Aの透光部36の直下を通過した領域が、第2のマスクパターン38Bの遮光部35の直下を通過し、且つ、第1のマスクパターン38Aの遮光部35の直下を通過した領域が、第2のマスクパターン38Bの透光部36の直下を通過する。搬送手段は、例えば、被照射物Wをy方向にマスク30の透光性基板31と平行に搬送するステージよりなる。この第1の実施の形態に係る光照射装置においては、先ず、第1の偏光光照射部60Aにおける光出射部10から出射された光が、集光部材20、偏光素子45Aおよびマスク30における第1のマスクパターン38Aを介して、搬送手段によってy方向に搬送される被照射物Wに照射された後、第2の偏光光照射部60Bにおける光出射部10から出射された光が、集光部材20、偏光素子45Bおよびマスク30における第2のマスクパターン38Bを介して、当該被照射物Wに照射される。具体的に説明すると、第1の偏光光照射部60Aの光出射部10においては、光源素子列11における各光源素子12の放電ランプ13から放射された光が、当該光源素子12におけるリフレクタ15の光反射面16によって反射されることにより、当該リフレクタ15の光軸Cに沿った平行光とされて光出射面17から集光部材20に向かって出射される。その後、光出射部10から出射された平行光とされた光は、集光部材20における光反射面21により下方に向かって反射されることにより、x方向に伸びる線状に集光されながら、偏光素子45Aに入射されて、偏光素子45Aによって直線偏光光とされて、マスク30における第1のマスクパターン38Aに入射される。このとき、マスク30に入射される光は、x方向において互いに平行な平行光である。そして、マスク30における第1のマスクパターン38Aに入射された光が当該第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35および透光部36によってストライプ状に整形されて被照射物Wに照射されることにより、被照射物Wの表面には、第1のマスクパターン38Aにおける透光部36のパターンに対応するストライプ状の光照射領域が形成される。一方、第2の偏光光照射部60Bの光出射部10においても同様に、放電ランプ13から放射された光が、リフレクタ15の光軸Cに沿った平行光とされて光出射面17から出射されて集光部材20に入射され、集光部材20によって、x方向に伸びる線状に集光されながら偏光素子45Bに入射される。そして、集光部材20からの光は、偏光素子45Bによって、第1の偏光光照射部60Aから照射される偏光光とは互いに偏光方向の異なる直線偏光光とされ、マスク30における第2のマスクパターン38Bに入射され、当該第2のマスクパターン38Bにおける遮光部35および透光部36によってストライプ状に整形されて被照射物Wに照射されることにより、被照射物Wの表面には、第2のマスクパターン38Bにおける透光部36のパターンに対応するストライプ状の光照射領域が、第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35のパターンに対応する領域に形成され、これにより、当該被照射物Wに対して、所要の光照射処理が達成される。上記の第1の実施の形態に係る光照射装置によれば、マスク30における第1の偏光光照射部60Aに係る第1のマスクパターン38Aおよび第2の偏光光照射部60Bに係る第2のマスクパターン38Bが、第1のマスクパターン38Aにおける透光部36が第2のマスクパターン38Bにおける遮光部35と被照射物Wの搬送方向y方向に並び、第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35が第2のマスクパターン38Bにおける透光部36と被照射物Wの搬送方向y方向に並ぶ状態で、相補的に形成された構成とされていることにより、第1の偏光光照射部60Aからの偏光光が照射されることによって被照射物Wの表面に形成される第1のマスクパターン38Aにおける透光部36のパターンに対応するストライプ状の光照射領域に対して、第1の偏光光照射部60Aからの偏光光とは偏光方向の異なる第2の偏光光照射部60Bからの偏光光が照射されることが防止されるので、第1の偏光光照射部60Aによる光照射領域における偏光状態が解除される、といった不具合が生じることを回避することができ、従って、所期の光学的異方性を有するストライプ状のパターンを確実に形成することができる。また、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bの各々に対応する第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bが共通の透光性基板31上に形成されてなるマスク30が用いられた構成とされていることにより、第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bにおける遮光部35および透光部36の位置合わせ精度を高いものとすることができ、また、第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bを接近させて形成することができて、被照射物Wがマスク30における透光部36が伸びる方向y方向に沿って搬送されずに、やや蛇行気味に搬送された場合であっても、被照射物Wにおける、第1の偏光光照射部60Aによる光照射領域に対して、第2の偏光光照射部60Bからの偏光光が照射されることを確実に防止することができるので、上記効果を一層確実に得ることができる。さらにまた、照射領域を狭くできるため、マスク30の寸法を小さくすることができ、これにより、マスク30の撓みを低減することができると共にコストの低減を図ることができ、マスク30と被照射物Wとのギャップを安定させることができる。さらにまた、上記の第1の実施の形態に係る光照射装置によれば、次のような効果が得られる。イ光源素子12を構成する放電ランプ13として、点光源であるショートアーク型のものを用い、このような放電ランプ13を有する複数の光源素子12を一方向に沿って並ぶよう配置されてなる光源素子列11によって光出射部10が構成されていることにより、当該光源素子列11を構成する光源素子12の各々における放電ランプ13から放射される光を、当該光源素子12の各々におけるリフレクタ15および集光部材20によって、光源素子12が並ぶ一方向x方向において互いに平行な平行光とすることが可能となり、これにより、被照射物Wにおけるマスク30の遮光部35の直下に位置する領域に偏光光が照射されることが防止または抑制される結果、マスク30における第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bに忠実で解像度の高いパターンを形成することができる。ロ例えば一の被照射物Wに対して光照射処理を行う毎に被照射物Wを交換する、いわゆるバッチ処理方式の構成のものであれば、被照射物Wを交換する毎にマスク30および被照射物Wを所要の位置に精度良くアライメントするといった煩わしい作業が必要とされるが、上記の光照射装置によれば、被照射物Wをマスク30における透光部36が伸びる方向に搬送する搬送手段を備えた構成とされていることにより、このような作業が不要となるので、光照射処理を迅速に行うことが可能となり、生産効率を高いものとすることができる。[第2の実施の形態]図5は、本発明の第2の実施の形態に係る光照射装置の構成の概略を示す側面断面図である。この第2の実施の形態に係る光照射装置は、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bが、各々の偏光光照射部60A,60Bからの偏光光の光軸集光部材20の光軸Lと一致の、マスク30における第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bに対する入射角度が互いに異なる状態で、配置された構成とされていることの他は、第1の実施の形態に係る光照射装置と同一の構成を有する。第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bは、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bの各々から照射される偏光光の光軸が、マスク30に近づくに従って互いに接近するようマスク30の法線Hに対して傾斜する状態で、配置された構成とされており、これにより、被照射物Wの表面には、互いに偏光方向の異なる偏光光が、マスク30における対応するマスクパターン38A,38Bを介して照射される。この第2の実施の形態に係る光照射装置によれば、上述した第1の実施の形態に係る光照射装置と同様の効果、すなわち、マスク30における第1の偏光光照射部60Aに係る第1のマスクパターン38Aおよび第2の偏光光照射部60Bに係る第2のマスクパターン38Bが、第1のマスクパターン38Aにおける透光部36が第2のマスクパターン38Bにおける遮光部35と被照射物Wの搬送方向y方向に並び、第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35が第2のマスクパターン38Bにおける透光部36と被照射物Wの搬送方向y方向に並ぶ状態で、相補的に形成された構成とされていることにより、第1の偏光光照射部60Aからの偏光光が照射されることによって被照射物Wの表面に形成される第1のマスクパターン38Aにおける透光部36のパターンに対応するストライプ状の光照射領域に対して、第1の偏光光照射部60Aからの偏光光とは偏光方向の異なる第2の偏光光照射部60Bからの偏光光が照射されることが防止されるので、第1の偏光光照射部60Aによる光照射領域における偏光状態が解除される、といった不具合が生じることを回避することができ、従って、所期の光学的異方性を有するストライプ状のパターンを確実に形成することができる。しかも、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bが、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bの各々から照射される偏光光の光軸が、マスク30に近づくに従って互いに接近するようマスク30の法線Hに対して傾斜する状態で、配置された構成とされていることにより、集光部材20が衝突することなく、第1のマスクパターン38Aおよび第2のマスクパターン38Bを接近させて形成することができて、被照射物Wがマスク30における透光部36が伸びる方向に沿って搬送されずに、やや蛇行気味に搬送された場合であっても、被照射物Wにおける、第1の偏光光照射部60Aによる光照射領域に対して、第2の偏光光照射部60Bからの偏光光が照射されることを確実に防止することができるので、上記効果を一層確実に得ることができる。さらにまた、照射領域を狭くできるため、マスク30の寸法を小さくすることができ、これにより、マスク30の撓みを低減することができると共にコストの低減を図ることができ、マスク30と被照射物Wとのギャップを安定させることができる。さらに、図6に示すように、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bが、第1の偏光光照射部60Aから照射される偏光光の光軸の第1のマスクパターン38Aに対する入射角θ1が例えば-45°、第2の偏光光照射部60Bから照射される偏光光の光軸の第2のマスクパターン38Bに対する入射角θ2が例えば45°となる状態で、配置された構成のものは、例えば液晶パネルの製造において、液晶の配向角を傾斜させるために、チルト角と呼ばれる角度をつけて偏光光を照射するような光照射プロセスを行う場合に極めて有用なものとなる。[第3の実施の形態]図7は、本発明の第3の実施の形態に係る光照射装置の構成の概略を示す側面断面図である。この第3の実施の形態に係る光照射装置は、例えばパターン化位相差フィルムを製造するために用いられるものであって、互いに異なる条件で偏光光を照射する一対の偏光光照射部を構成する第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bと、各々第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bの一方に対応するマスクパターン38A,38Bを有する2種類のマスク30A,30Bと、フィルム状の被照射物Wに接して当該被処理物Wを搬送する円筒状ローラー41を有する搬送手段40とを備えてなる。ここに、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60B、並びに、集光部材20は、第1の実施の形態に係る光照射装置におけるものと同様の構成を有する。第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bは、光出射部10における各リフレクタ15の光軸Cに垂直な光出射面17が互いに対向する状態で、x方向に垂直な面内において、被照射物Wが円筒状ローラー41に接する領域の周方向中央位置Qと、円筒状ローラー41の回転中心軸Oとを結ぶ仮想直線Vに対して対称となる位置において、搬送手段40を構成する円筒状ローラー41の周面に沿って並んで、配置されている。この光照射装置における、第1の偏光光照射部60Aからの偏光光をストライプ状に整形するマスク30Aおよび第2の偏光光照射部60Bからの偏光光をストライプ状に整形するマスク30Bは、いずれも、各々y方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部がx方向に交互に並ぶよう配置されて構成されており、第1の偏光光照射部60Aに係るマスク30Aおよび第2の偏光光照射部60Bに係るマスク30Bが、第1のマスクパターン38Aにおける透光部36が第2のマスクパターン38Bにおける遮光部35と被照射物Wの搬送方向y方向に並び、第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35が第2のマスクパターン38Bにおける透光部36と被照射物Wの搬送方向y方向に並ぶ状態で、相補的に位置されている。これらのマスク30A,30Bは、各々の偏光光照射部60A,60Bにおける集光部材20の焦点fが位置される被照射物Wの表面上の位置において円筒状ローラー41に接する仮想平面と平行に伸びる状態で、被照射物Wに対して離間して配置されている。マスク30A,30Bと被照射物Wとの間の最小ギャップG図8参照は、例えば50~1000μmであることが好ましく、これにより、被照射物Wのパターニング精度を高いものとすることができる。また、被照射物Wは、円筒状ローラー41に接した状態で搬送されることにより、マスク30と被照射物Wとの間のギャップは、当該被照射物Wがy方向に搬送されるにつれて変動するため、各々のマスク30A,30Bにおける集光部材20からの光が入射される有効照射幅は、マスク30と被照射物Wとの間のギャップの許容変動値や、円筒状ローラー41の半径を考慮して可能な範囲で小さく設定することが好ましい。これは、以下の理由による。すなわち、被照射物Wが搬送されてマスク30A,30Bの直下領域を通過する際には、被照射物Wとマスク30A,30Bとの間のギャップは、先ず、被照射物Wがy方向に移動するにつれて小さくなり、マスク30A,30Bの中央位置の直下に到達した後には、被照射物Wがy方向に移動するにつれて大きくなるが、最小有効照射幅が大きい程、ギャップGの変動幅も大きくなるため、マスク30A,30Bのパターンに忠実で高解像度のパターンを形成することができないからである。具体的には、図8に示すように、マスク30A30Bと被照射物Wとの間のギャップの許容変動値をa、円筒状ローラー41の半径をrとしたとき、有効照射幅dは、d=√{r2-r-a2}×2により求めることができる。この式において、理論上は、被照射物Wの厚みを勘案することが必要であるが、被照射物Wの厚みは、円筒状ローラー41の半径に比較して極めて小さいため、無視することができる。具体的な例を挙げると、マスク30A30Bと被照射物Wとの間のギャップの許容変動値aが50μm、円筒状ローラー41の半径rが300mmである場合には、有効照射幅dは約11mm以下であることが好ましい。従って、上記した光出射部10におけるショートアーク型の各放電ランプ13からの放射光を、各リフレクタ15および集光部材20によりx方向に伸びる線状に集光することが、かかる有効照射幅dの範囲内に光を集光させるために有効であり、ひいては、マスク30A30Bのパターンに忠実で高解像度のパターンを形成することに繋がる。搬送手段40における円筒状ローラー41は、被照射物Wに接する箇所がマスク30A,30Bの直下位置に位置されるよう、当該円筒状ローラー41の回転中心軸Oがx方向に伸びる姿勢で配置されており、当該円筒状ローラー41が回転することにより、被照射物Wがマスク30A,30Bの直下領域においてマスク30A,30Bにおける透光部の伸びる方向に搬送される。上記の光照射装置においては、図7に示すように、先ず、第1の偏光光照射部60Aから出射された光が、集光部材20、偏光素子45Aおよびマスク30Aにおける第1のマスクパターン38Aを介して、搬送手段40によってy方向に搬送される被照射物Wに照射される。具体的には、光出射部10における放電ランプ13から放射された光が、リフレクタ15の光軸Cに沿った平行光とされて光出射面17から出射されて集光部材20に入射され、集光部材20によって、x方向に伸びる線状に集光されながら偏光素子45Aに入射される。そして、集光部材20からの光は、偏光素子45Aによって、直線偏光光とされ、マスク30Aにおける第1のマスクパターン38Aに入射され、当該第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35および透光部36によってストライプ状に整形されて被照射物Wに照射されることにより、被照射物Wの表面には、第1のマスクパターン38Aにおける透光部36のパターンに対応するストライプ状の光照射領域が形成される。次いで、被照射物Wが搬送手段40における円筒状ローラー41の回転によって搬送されて、第2の偏光光照射部60Bにおける光出射部10から出射された光が、集光部材20、偏光素子45Bおよびマスク30Bにおける第2のマスクパターン38Bを介して、当該被照射物Wに照射される。具体的には、放電ランプ13から放射された光が、リフレクタ15の光軸Cに沿った平行光とされて光出射面17から出射されて集光部材20に入射され、集光部材20によって、x方向に伸びる線状に集光されながら偏光素子45Bに入射される。そして、集光部材20からの光は、偏光素子45Bによって、第1の偏光光照射部60Aから照射される偏光光とは互いに偏光方向の異なる直線偏光光とされ、マスク30Bにおける第2のマスクパターン38Bに入射され、当該第2のマスクパターン38Bにおける遮光部35および透光部36によってストライプ状に整形されて被照射物Wに照射されることにより、被照射物Wの表面には、第2のマスクパターン38Bにおける透光部36のパターンに対応するストライプ状の光照射領域が、第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35のパターンに対応する領域に形成され、これにより、当該被照射物Wに対して、所要の光照射処理が達成される。この第3の実施の形態に係る光照射装置によれば、第1の実施の形態に係る光照射装置と同様の効果、すなわち、第1の偏光光照射部60Aに係るマスク30Aおよび第2の偏光光照射部60Bに係るマスク30Bが、マスク30Aに形成された第1のマスクパターン38Aにおける透光部36がマスク30Bに形成された第2のマスクパターン38Bにおける遮光部35と被照射物Wの搬送方向y方向に並び、第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35が第2のマスクパターン38Bにおける透光部36と被照射物Wの搬送方向y方向に並ぶ状態で、相補的に位置された構成とされていることにより、第1の偏光光照射部60Aからの偏光光が照射されることによって被照射物Wの表面に形成される第1のマスクパターン38Aにおける透光部36のパターンに対応するストライプ状の光照射領域に対して、第1の偏光光照射部60Aからの偏光光とは偏光方向の異なる第2の偏光光照射部60Bからの偏光光が照射されることが防止されるので、第1の偏光光照射部60Aによる光照射領域における偏光状態が解除される、といった不具合が生じることを回避することができ、従って、所期の光学的異方性を有するストライプ状のパターンを確実に形成することができる。また、搬送手段40として円筒状ローラー41を有するものが用いられており、当該円筒状ローラー41によって、フィルム状の被照射物Wが円筒状ローラー41に適正な大きさのテンションが作用された状態で搬送される構成とされていることにより、被照射物Wがマスク30A,30Bにおける透光部36が伸びる方向に対して大きく横ずれしながら搬送されることが防止されるので、上記効果を一層確実に得ることができる。以上のような、例えばパターン化位相差フィルムを製造するために用いられる光照射装置においては、図9に示すように、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bが、前記円筒状ローラー41の回転中心軸Oを挟んで互いに対向する位置に配置された構成とされていることが好ましい。このような構成の光照射装置によれば、上記の第3の実施の形態に係る光照射装置と同様の効果が得られることに加えて、第1の偏光光照射部60Aに係るマスク30Aに対して、第2の偏光光照射部60Bに係るマスク30Bをx方向に移動させるという簡単な作業で、2つのマスク30A,30Bの、円筒状ローラー41に対する配置位置を所定の位置関係を維持した状態で調整することができるので、光照射装置の調整作業を極めて容易に行うことができ、実用上、高い利便性が得られるという効果が奏される。[第4の実施の形態]図10は、本発明の第4の実施の形態に係る光照射装置における光出射部を示す正面図である。この第4の実施の形態に係る光照射装置は、光出射部を除き、第1の実施の形態に係る光照射装置と同様の構成である。この光照射装置の、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bにおける光出射部10は、2つの光源素子列11a,11bが互いに同方向に伸びて並ぶよう配置されて構成されている。具体的に説明すると、光源素子列11a,11bの各々は、複数の光源素子12が一方向x方向に並ぶよう配置されて構成され、光源素子12の各々は、ショートアーク型の放電ランプ13と、この放電ランプ13を取り囲むよう配置された、当該放電ランプ13からの光を反射するリフレクタ15とを有する。放電ランプ13およびリフレクタ15は、第1の実施の形態に係る光照射装置における放電ランプ13およびリフレクタ15と同様の構成である。そして、2つの光源素子列11a,11bは、一方の光源素子列11aに係る光源素子12における放電ランプ13の電極間中心点と、当該光源素子12に最も接近する、他方の光源素子列11bに係る光源素子12における放電ランプ13の電極間中心点とを結ぶ直線Tが、x方向に伸びる直線Xと斜交するよう配置されている。図11は、本発明の第4の実施の形態に係る光照射装置において、光出射部からの光を集光部材によって集光したときの光照射領域におけるx方向の照度分布を示す曲線図である。この図において、縦軸は相対照度、横軸はx方向における相対的な位置を示し、曲線1は、一方の光源素子列からの光による光照射領域の照度分布曲線、曲線2は他方の光源素子列からの光による光照射領域の照度分布曲線、曲線3は、光出射部全体からの光による光照射領域の照度分布曲線である。図11に示すように、一方の光源素子列11aおよび他方の光源素子列11bのいずれか一方からの光による照度分布においては、当該光源素子列における各光源素子12からの光による光照射領域が互いに重畳することなく並んでいるため、照度のピークとボトムとの差が極めて大きいものである。これに対し、光出射部10全体からの光による照度分布においては、一方の光源素子列11aからの光による光照射領域と他方の光源素子列11bからの光による光照射領域とが重畳され、しかも、一方の光源素子列11aからの光による光照射領域における照度のピーク位置と、他方の光源素子列11bからの光による光照射領域における照度のピーク位置とが互いに異なるため、照度のピークとボトムとの差が極めて小さいものであり、均一な照度分布が得られることが理解される。このように、第4の実施の形態に係る光照射装置によれば、第1の実施の形態に係る光照射装置と同様の効果が得られると共に、光出射部10が、それぞれ同方向に伸びる2つの光源素子列11a、11bが特定の位置関係で配置されて構成されているため、x方向において均一な照度分布を有する光を照射することができる。[第5の実施の形態]図12は、本発明の第5の実施の形態に係る光照射装置の構成の概略をマスクと平行な平面で切断して示す平面断面図、図13は、図12に示す光照射装置をA-A線で切断して示す側面断面図である。この第5の実施の形態に係る光照射装置は、例えば液晶パネル用の平板状のガラス基板などの被照射物に対して線状のパターンを形成するために用いられるものであって、光出射部10の光出射方向前方において、集光部材の代わりに平面ミラー70A,70Bが配置された構成とされていることの他は、第1の実施の形態に係る光照射装置と同一の構成を有する。平面ミラー70A,70Bは、例えば石英ガラスよりなる平板状の基材の一面に、目的とする波長の紫外光のみを反射させ、不要な可視光および赤外光を透過させるコールドミラーコーティングが施されて光反射面71A,71Bが形成されてなるものである。平面ミラー70A,70Bは、光反射面71A,71Bの法線がリフレクタ15の光軸Cに対して例えば45°の角度で傾いた状態平面ミラー70A,70Bによる反射光がマスク30にその法線H方向から入射される状態で配置されている。この光照射装置においては、先ず、第1の偏光光照射部60Aにおける光出射部10から出射された光が、平面ミラー70A、偏光素子45Aおよびマスク30における第1のマスクパターン38Aを介して、搬送手段によってy方向に搬送される被照射物Wに照射された後、第2の偏光光照射部60Bにおける光出射部10から出射された光が、平面ミラー70B、偏光素子45Bおよびマスク30における第2のマスクパターン38Bを介して、当該被照射物Wに照射される。具体的には、第1の偏光光照射部60Aの光出射部10においては、光源素子列11における各光源素子12の放電ランプ13から放射された光が、当該光源素子12におけるリフレクタ15の光反射面16によって反射されることにより、当該リフレクタ15の光軸Cに沿った平行光とされて光出射面17から平面ミラー70Aに向かって出射される。その後、光出射部10から出射された平行光は、平面ミラー70Aにおける光反射面71Aによって、下方に向かってx方向に伸びる帯状の光として反射されることにより、偏光素子45Aに入射されて、偏光素子45Aによって直線偏光光とされて、マスク30における第1のマスクパターン38Aに入射される。このとき、マスク30に入射される光は、x方向において互いに平行な平行光である。そして、マスク30における第1のマスクパターン38Aに入射された光が当該第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35および透光部36によってストライプ状に整形されて被照射物Wに照射されることにより、被照射物Wの表面には、第1のマスクパターン38Aにおける透光部36のパターンに対応するストライプ状の光照射領域が形成される。一方、第2の偏光光照射部60Bの光出射部10においても同様に、放電ランプ13から放射された光が、リフレクタ15の光軸Cに沿った平行光とされて光出射面17から出射されて平面ミラー70Bに入射され、平面ミラー70Bの光反射面71Bによってx方向に伸びる帯状の光として反射されながら、偏光素子45Bに入射される。そして、平面ミラー70Bからの光は、偏光素子45Bによって、第1の偏光光照射部60Aから照射される偏光光とは互いに偏光方向の異なる直線偏光光とされ、マスク30における第2のマスクパターン38Bに入射され、当該第2のマスクパターン38Bにおける遮光部35および透光部36によってストライプ状に整形されて被照射物Wに照射されることにより、被照射物Wの表面には、第2のマスクパターン38Bにおける透光部36のパターンに対応するストライプ状の光照射領域が、第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35のパターンに対応する領域に形成され、これにより、当該被照射物Wに対して、所要の光照射処理が達成される。この第5の実施の形態に係る光照射装置によれば、上述した第1の実施の形態に係る光照射装置と同様の効果を得ることができる。この第5の実施の形態に係る光照射装置は、ガラス基板などの平板状の被照射物Wだけでなく、フィルム状の被処理物に対して線状のパターンを形成するに際して比較的大きな有効照射幅dが許容される場合においても、適用することができる。以上のような光照射装置においては、光重合性液晶材料を用い、以下のようにしてパターン化位相差フィルムを製造することができる。先ず、図14Aに示すように、フィルム基材51上に、液状の光配向膜用材料を塗布して乾燥または硬化することによって光配向膜用材料層55Aを形成する。次いで、光配向膜用材料層55Aに対して、図14Bに示すように、第1の偏光光照射部60Aからの直線偏光光をマスクにおける第1のマスクパターン38Aを介して選択的に照射することにより選択的露光処理、フィルム基材51上にストライプ状にパターニングされた第1の光配向膜55を形成する。更に、図14Cに示すように、第2の偏光光照射部60Bからの、第1の偏光光照射部60Aからの直線偏光光とは偏光方向が例えば90°異なる直線偏光光を、マスクにおける第2のマスクパターン38Bを介して、第1の光配向膜55が形成されたフィルム基材51における、第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35のパターンに対応する領域に対して照射し、隣接する第1の光配向膜55間に第2の光配向膜56を形成する。その後、図14Dに示すように、第1の光配向膜55および第2の光配向膜56の表面上に、光重合性液晶材料層57Aを形成し、その後、光重合性液晶材料層57Aに対し、適宜の光照射装置によって全面露光処理を行って、当該光重合性液晶材料層57Aを硬化させることにより、図14Eに示すように、第1の光配向膜55上に形成された第1の液晶ポリマー層部分57およびこの第1の液晶ポリマー層部分57とは液晶の配向状態が異なる第2の液晶ポリマー層部分58がストライプ状にパターン化されてなる液晶ポリマー層59を形成し、以て、パターン化位相差フィルムを得ることができる。以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。例えば、第1の実施の形態、第2の実施の形態、第4の実施の形態および第5の実施の形態に係る光照射装置におけるマスク30は、図15に示すように、第1の偏光光照射部60Aに対応する第1のマスクパターン38Aが形成された透光性基板31がマスクフレーム33Aに固定されてなるマスク構成部材301、および、第2の偏光光照射部60Bに対応する第2のマスクパターン38Bが形成された透光性基板31がマスクフレーム33Bに固定されてなるマスク構成部材302の2つのマスク構成部材が、透光性基板31の面方向に並んだ状態で、共通の枠状のマスク保持部材34によって一体に保持されてなるものにより構成されていてもよい。このマスク30においては、一方のマスク構成部材、この例では、第2の偏光光照射部60Bに対応する第2のマスクパターン38Bを有するマスク構成部材302が、位置調整機構39によって、第2のマスクパターン38Bにおける透光部36が伸びる方向に垂直な方向x方向に位置調整可能とされており、第1の偏光光照射部60Aに係るマスク構成部材301および第2の偏光光照射部60Bに係るマスク構成部材302が、第1の偏光光照射部60Aおよび第2の偏光光照射部60Bの各々による光照射処理領域においてy方向に移動されるよう搬送される被照射物Wの搬送方向において、マスク構成部材301に形成された第1のマスクパターン38Aにおける透光部36がマスク構成部材302に形成された第2のマスクパターン38Bにおける遮光部35と相補的に並び、第1のマスクパターン38Aにおける遮光部35が第2のマスクパターン38Bにおける透光部36と相補的に並ぶ状態で、位置されるよう、2つのマスク構成部材301,302が精度良く固定される。位置調整機構39は、マスク構成部材302のx方向における一端部に設けられた位置調整用ネジ39Aと、マスク構成部材302のx方向における他端部に設けられた、マスク構成部材302をx方向一端側に向かって付勢するバネ材39Bとを有する。ここに、図15における34Aは、位置調整時には、マスク構成部材302をx方向に摺動可能な程度に緩められた状態とされ、位置調整後には固定された状態とされる支持部材である。また、第1の実施の形態、第2の実施の形態、第4の実施の形態および第5の実施の形態に係る光照射装置においては、y方向に互いに離間して配置された、各々第1の偏光光照射部および第2の偏光光照射部の一方に対応するマスクパターンを有する2種類のマスクが用いられた構成とされていてもよい。また、偏光素子が配置される位置は、光出射部とマスクとの間の光路上であればよく、従って、集光部材または平面ミラーとマスクとの間の光路上に限定されず、例えば光出射部と集光部材または平面ミラーとの間の光路上であってもよい。また、光出射部は、それぞれx方向に伸びる3つ以上の光源素子列が、一の光源素子列に係る光源素子における放電ランプの電極中心点と、当該光源素子に最も接近する、他の光源素子列に係る光源素子における放電ランプの電極中心点とを結ぶ直線が、x方向に伸びる直線と斜交するよう配置されて構成されていてもよい。"