"平板状の部材を支持し、前記部材に対して所定の処理を行なう処理装置において、前記部材に対して処理を行なう処理部と、前記部材を下方側から支持する第一支持体とを備え、前記第一支持体は、前記平板状の部材と平行に延在するとともに、回転軸となる第一ロッドと、前記第一ロッドの周囲に設けられ、前記平板状の部材を支持する複数の第一支持部とを有し、前記回転軸となる第一ロッドを取り囲むとともに、前記第一ロッドの長手方向に沿って離間配置された複数の仮想円上に、それぞれ前記第一支持部が位置し、前記平板状の部材を前記第一ロッド上部に配置した際に、一部の前記仮想円上に配置された一部の前記第一支持部が前記平板状の部材に当接した状態となり、前記第一ロッドを回転させたとき、前記一部の仮想円とは異なる他の前記仮想円上に配置された前記他の一部の第一支持部が前記平板状の部材に当接するように構成された処理装置。請求項1に記載の処理装置において、前記複数の第一支持部は、前記第一ロッドを取り囲む螺旋上に配置されている処理装置。請求項1または2に記載の処理装置において、前記平板状の部材を下方側から支持する第二支持体を備え、前記第一支持体の前記第一ロッドを、前記第二支持体に対し、相対的に上下方向に駆動する駆動部を備える処理装置。請求項3に記載の処理装置において、前記第二支持体は、前記第一ロッドと平行に延在するとともに、第二の回転軸となる第二ロッドと、前記第二ロッドの周囲に設けられ、前記部材を支持する複数の第二支持部とを有し、前記第二ロッドの長手方向に沿って離間配置された複数の仮想円上に、それぞれ前記第二支持部が位置し、前記平板状の部材を前記第二ロッド上部に配置した際に、一部の前記仮想円上に配置された一部の前記第二支持部が前記平板状の部材に当接した状態となり、前記第二ロッドを回転させたとき、前記一部の仮想円とは異なる他の前記仮想円上に配置された前記他の一部の第二支持部が前記平板状の部材に当接するように構成されており、前記駆動部は、前記第一支持体の前記第一ロッドを、前記第二支持体の前記第二ロッドに対し、相対的に上下方向に駆動するように構成されている処理装置。請求項3または4に記載の処理装置において、前記第一支持体の一部の前記第一支持部で前記部材を支持した後、前記第二支持体または前記第一支持体を前記駆動部で駆動して、前記第一支持体の前記部材を支持する前記第一支持部よりも上方に前記第二支持体を移動させて、前記第二支持体により前記部材を支持させ、その後、前記第一支持体の第一ロッドを回転させるとともに、前記第二支持体または前記第一支持体を前記駆動部で駆動して、前記第二支持体よりも、上方に前記第一支持体を移動させ、前記一部の第一支持部が配置された仮想円とは異なる他の仮想円上に配置された他の第一支持部により、前記部材を支持するように構成された処理装置。請求項1ないし5のいずれかに記載の処理装置において、前記第一支持部は、前記第一ロッドを取り囲む螺旋上に配置されており、複数の前記第一支持体を備える第一支持ユニットを含み、前記第一支持ユニットの複数の第一ロッドは互いに平行に配置され、各第一支持体における前記各螺旋のピッチが同じであり、各第一支持体において、前記各螺旋上に配置される前記第一支持部のピッチも同じである処理装置。請求項1乃至6のいずれかに記載の処理装置において、前記第一支持部は、前記第一ロッドを取り囲む螺旋上に配置されており、前記第一ロッドの周囲には、前記複数の第一支持部を含んで構成される螺旋形状の1本の突起が設けられている処理装置。請求項1乃至6のいずれかに記載の処理装置において、前記第一支持部は、前記第一ロッドを取り囲む螺旋上に配置されており、前記第一ロッドの周囲には、前記複数の第一支持部となる複数の突起が離間配置されている処理装置。請求項1乃至8のいずれかに記載の処理装置において、前記第一ロッド内部には、前記平板状の部材の温度を調節するための、温度調整用流体が供給される処理装置。請求項1乃至9のいずれかに記載の処理装置において、前記処理部は、前記平板状の部材を加熱するための加熱部である処理装置。請求項1乃至9のいずれかに記載の処理装置において、前記処理部は、前記平板状の部材の減圧乾燥を行なうものである処理装置。請求項1乃至11のいずれかに記載の処理装置において、当該処理装置は、前記平板状の部材である基板を処理する処理装置。しかしながら、このような特許文献1に開示された処理装置では、各可動ピンに対し、水平変位機構を設ける必要があるため、可動ピンの数だけ水平変位機構が必要となり、処理装置の構造が複雑化してしまう。本発明によれば、平板状の部材を支持し、前記部材に対して所定の処理を行なう処理装置において、前記部材に対して処理を行なう処理部と、前記部材を下方側から支持する第一支持体とを備え、前記第一支持体は、前記平板状の部材と平行に延在するとともに、回転軸となる第一ロッドと、前記第一ロッドの周囲に設けられ、前記平板状の部材を支持する複数の第一支持部とを有し、前記回転軸となる第一ロッドを取り囲むとともに、前記第一ロッドの長手方向に沿って離間配置された複数の仮想円上に、それぞれ前記第一支持部が位置し、前記平板状の部材を前記第一ロッド上部に配置した際に、一部の前記仮想円上に配置された一部の前記第一支持部が前記平板状の部材に当接した状態となり、前記第一ロッドを回転させたとき、前記一部の仮想円とは異なる他の前記仮想円上に配置された前記他の一部の第一支持部が前記平板状の部材に当接するように構成された処理装置が提供される。この発明によれば、回転軸となる第一ロッドの周囲を囲む複数の仮想円上にそれぞれ第一支持部が位置し、平板状の部材を前記第一ロッド上部に配置した際に、一部の仮想円上に配置された第一支持部が前記平板状の部材に当接した状態となる。次に、第一ロッドを回転させたとき、一部の仮想円とは異なる他の仮想円上に配置された他の一部の第一支持部が前記平板状の部材に当接する。すなわち、第一ロッドを回転させるだけで、回転前と回転後とで、平板状の部材の異なる箇所が異なる第一支持部により支持されることとなるので、平板状の部材の同じ箇所を、長時間、支持部で支持してしまうことが防止できる。これにより、平板状の部材への支持部の支持の影響を低減させることができる。さらに、本発明の処理装置では、第一ロッドを回転させ、回転前と回転後とで、平板状の部材の異なる箇所が第一支持部により支持されることとなる。長時間、同じ箇所を支持部で支持してしまうことを防止するためには、第一ロッドの周囲の所定の箇所に第一支持部を配置して、第一ロッドを回転すればよい。従来のように、各支持部に対して水平変位機構をそれぞれ設ける必要がないので、処理装置の構造の複雑化を防止できる。本発明によれば、処理対象となる部材の同一箇所を長時間支持してしまうことが防止でき、かつ、処理装置の構造の複雑化を防止する技術が提供される。以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同一符号を付し、その詳細な説明は重複しないように適宜省略される。図1~図6を参照して、はじめに、本実施形態の処理装置1の概要を説明する。処理装置1は、平板状の部材Sを支持し、部材Sに対して所定の処理を行なう処理装置である。本実施形態では平板状の部材Sは、基板である。より具体的には、平板状の部材Sは、ガラス基板であり、処理装置1は、ガラス基板上に塗布された塗膜を熱処理する熱処理装置である。ヒータ13からのふく射伝熱と処理装置1内を流れる風からの対流伝熱の組合せで、揮発物有機溶剤などを揮発させ、排気しながら、前記塗膜を乾燥させる。本実施形態では、処理装置1における乾燥は大気圧下で行われる。この処理装置1は、部材Sに対して処理を行なう処理部ヒータ13と、部材Sを下方側から支持する第一支持体111とを備える。第一支持体111は、平板状の部材Sの板面と平行に延在するとともに、回転軸となる第一ロッド112と、第一ロッド112の周囲に設けられ、平板状の部材Sを支持する複数の第一支持部113A図4参照とを有する。前記回転軸となる第一ロッド112を中心とし、第一ロッド112の長手方向に沿って離間配置された複数の仮想円Rの円周上に、それぞれ第一支持部113Aが位置している。平板状の部材Sを前記第一ロッド112上部に配置した際に、一部の仮想円R上に配置された一部の第一支持部113Aが部材Sに当接した状態となり、他の仮想円R上に配置された第一支持部113Aは、部材Sに当接しない。第一ロッド112を360°未満の回転角で回転させたとき、一部の仮想円R上に配置された一部の第一支持部113Aと部材Sとは当接せずに、回転前とは異なる他の仮想円R上に配置された他の一部の第一支持部113Aが部材Sに当接する。次に、本実施形態の処理装置1について詳細に説明する。処理装置1は、図1~3に示すように、第一支持ユニット11と、第二支持ユニット12と、処理部であるヒータ13とを備える。図1は、処理装置1の斜視図であり、図2は、処理装置1の側面図であり、図3は処理装置1の一部の平面図である。図1においては、見易さを考慮して、ヒータ13を省略している。第一支持ユニット11は、複数の第一支持体111と、複数対の支柱114,115と、モータ116と、昇降台110とを備える。第一支持体111は、部材Sを裏面側から支持するものであり、第一ロッド112と、第一ロッド112の周囲に設けられた複数の第一支持部113A図3、4参照とを備える。第一ロッド112は、部材Sの板面と平行に延在している。この第一ロッド112は、回転軸となるものであり、本実施形態では、円柱状の棒状の部材である。第一ロッド112の内部は中空状であり、第一ロッド112の内部には、部材Sの温度を調整するための、温度調整用の流体が供給される。たとえば、流体としては、空気等の気体、水等の液体があげられる。ここでは、図示していないが、処理装置1は第一ロッド112内に前記流体を供給するとともに、前記第一ロッド112内から前記流体を排出し、再度、第一ロッド112内に前記流体を供給する循環手段を備えている。このような循環手段を設けることで、第一ロッド112から排出された流体の温度を調整した後、再度、第一ロッド112内に流体を供給することができる。ここで、第一ロッド112としては、金属管、樹脂管、ガラス管のいずれかを使用することができる。第一支持部113Aは、図4に示すように、第一ロッド112の周囲に配置されている。図4において、点線で囲んだ円は仮想円Rであり、この仮想円Rは、回転軸となる第一ロッド112を中心とした円である。第一支持部113Aは、それぞれ複数の仮想円R上に位置している。複数の仮想円Rは、第一ロッド112上にその中心点があり、第一ロッド112の長手方向に沿って離間配置されている。仮想円R間の間隔は等しい。なお、すべての第一支持部113Aはそれぞれ仮想円R上に位置しているが、図4では、見やすさを考慮して、一部の仮想円Rのみ記載している。ひとつの仮想円R上には、ひとつの第一支持部113Aが配置されており、本実施形態では、同一の仮想円R上には、複数の第一支持部113Aは配置されていない。また、各仮想円Rの半径は同じであり、各第一支持部113Aの厚み第一ロッド112表面からの高さは同じである。さらに、本実施形態では、ひとつの仮想円R上に、支持部113Aを一つのみ設けている。そして第一ロッド112の端部側からの側面視X軸方向ロッドの長手方向から見た側面視において、3以上好ましくは3以上、6以下、本実施形態では4の第一支持部113Aが等間隔でひとつの第一ロッド112の周囲に配置されている。すなわち、第一ロッド112を所定角度、たとえば、90°回転させると、回転前とは異なる第一支持部113Aが部材Sに接触するように構成されている。図4を参照して説明する。図4Dは、図4Eの状態において、第一ロッド112の上部に位置する第一支持部113AのX軸方向における位置を示したものである。換言すると、部材Sを支持する第一支持部113AのX軸方向における位置を示したものである。図4A~Dは、第一ロッド112を90°づつ回転させた状態における第一ロッド112の上部に位置する第一支持部113AのX軸方向における位置を示したものである。図4Eの状態で第一支持体111上に部材Sを配置すると、第一ロッド112の上方に位置する第一支持部113Aが接触する図4D。次に、第一ロッド112をさらに90°回転させると、第一ロッド112の側方に位置していた他の第一支持部113Aが第一ロッド112の上方に位置することとなる。そして、第一ロッド112の上方に位置する他の第一支持部113Aが部材Sに接触することとなる図4C。ここで、他の第一支持部113Aは、図4Dの状態で部材Sと接触していた第一支持部113Aとは異なる仮想円R上に位置しているため、部材Sの同一箇所が第一支持部113Aで支持されてしまうことはない。その後、さらに、第一ロッド112を90°回転させると、第一ロッド112の側方に位置していた他の第一支持部113Aが第一ロッド112の上方に位置することとなる。そして、第一ロッド112の上方に位置する他の第一支持部113Aが部材Sに接触することとなる図4B。図4Bの状態で部材Sと接触する第一支持部113Aは、図4D、図4Cの状態で部材Sと接触していた第一支持部113Aとは異なる仮想円R上に位置しているため、部材Sの同一箇所が第一支持部113Aで支持されてしまうことはない。その後、さらに、第一ロッド112を90°回転させると、第一ロッド112の側方に位置していた他の第一支持部113Aが第一ロッド112の上方に位置することとなる。そして、第一ロッド112の上方に位置する他の第一支持部113Aが部材Sに接触することとなる図4A。図4Aの状態で部材Sと接触する第一支持部113Aは、図4D、図4C、図4Bの状態で部材Sと接触していた第一支持部113Aとは異なる仮想円R上に位置しているため、部材Sの同一箇所が第一支持部113Aで支持されてしまうことはない。本実施形態においては、複数の第一支持部113Aは、第一ロッド112を取り囲むひとつの仮想の螺旋上に配置されている。複数の第一支持部113Aをつなぐことで、1回巻き以上、好ましくは複数回巻きの螺旋を描くことができる。なお、本実施形態では、第一ロッド112の周囲には、複数の第一支持部113Aを含んで構成される螺旋形状の1本の突起113が設けられている。突起113は、複数回巻きの螺旋形状である。このような突起113の材料としては、テトラフルオロエチレン樹脂テフロン登録商標等の樹脂を採用することができる。第一ロッド112を構成する管を樹脂製のチューブ内に通し、熱収縮等で固着させる。前記チューブは、テフロン等の柔軟でパーティクルを生じにくい樹脂で構成されていることが好ましい。その後、このチューブの外表面が螺旋状となるように切削加工することで、突起113を形成することができる。なお、チューブを切削加工する際に、第一ロッド112を構成する管が露出するようにしてもよく、また、図5に示すように、チューブの外表面のみを切削加工して、突起113を形成し、前記管がチューブにより覆われている状態としてもよい。この場合には、第一ロッド112は、管と樹脂製のチューブとで構成されることとなる。管は、第一ロッド112のたわみを防止するために、金属管、ガラス管等の剛性の高いものであることが好ましい。なお、後述する第二支持部123Aも同様の方法で作成できる。ここで、第一支持部113Aの断面形状第一ロッド112の長手方向と直交する方向の断面は、図5に示すように矩形形状であってもよく、図6に示すように台形形状であってもよい。第一支持部113Aの断面形状を台形形状とすることで、部材Sとの接触面積を小さくしつつ、部材Sの荷重に対する耐性を高くすることができる。なお、後述する第二支持部123Aにおいても同様である。また、第一支持ユニット11は、複数の第一支持体111を備えるが、各第一支持体111において、突起113の描く螺旋のピッチ、螺旋の半径は同じであり、各螺旋上に配置される第一支持部113A間ピッチも同じである。第一支持部113Aのピッチとは前記螺旋に沿った第一支持部113A間の間隔である。すなわち、複数の第一支持体111は同一の構造のものである。また、図3の平面図に示すように、複数の第一支持体111は平行配置され、複数の第一支持体111において、Y軸方向に隣り合う第一支持部113Aは、同一の直線L2上に位置するように配置されている。これにより安定的に部材Sを支持できる。さらに、隣り合う第一支持体111間の間隔は、同一である。図1~4に示すように、モータ116は、第一ロッド112を回転駆動させるための駆動手段である。モータ116は、第一ロッド112の一方の端部に接続され、このモータ116を駆動することで第一ロッド112が回転することとなる。各第一ロッド112に対応してモータ116が設けられている。モータ116は、支柱114の上端部に固定され、第一ロッド112の一方の端部はモータ116を介して支柱114に固定されることとなる。一方で、第一ロッド112の他方の端部は、軸受部117を介して支柱115に固定される。支柱115,114は対向配置され、第一ロッド112の端部をそれぞれ支持する支持部材となる。この支柱115,114は、昇降台110に固定されている。昇降台110は、第一支持体111を第二支持体121に対して上下方向図面Z軸方向に駆動させるためのものである。昇降台110は、昇降機構であるねじ軸14を介してベース15に固定され、ボールねじ機構により、Z軸方向に上下駆動する。昇降台110とねじ軸14とねじ軸14を回転させるモータM1とで第一支持体111を駆動する駆動部が構成される。なお、昇降台110には後述する第二支持ユニット12の支柱124,125が貫通する貫通孔が形成されている。次に、第二支持ユニット12について説明する。第二支持ユニット12は、複数の第二支持体121と、複数対の支柱124,125と、モータ126と、昇降台120とを備える。第二支持体121は、第一支持体111と同様のものである。説明のしやすさを考慮して、第一支持体111とは別の符号を付しているが、第二支持体121は第一支持体111と同様の構成である。具体的には、第二支持体121は、部材Sを裏面側から支持するものであり、第二ロッド122と、第二ロッド122の周囲に設けられた複数の第二支持部123A図3、4参照とを備える。第二ロッド122は第一ロッド112と同じものであり、部材Sの板面と平行に延在している。第二支持部123Aは、第一支持部113Aと同様の構成であり、第二支持部123Aは、第二ロッド122を取り囲むひとつの仮想の螺旋上に配置されている。複数の第二支持部123Aをつなぐことで、第一支持部113Aと同様、1回巻き以上、好ましくは複数回巻きの螺旋を描くことができる。そして、突起113と同様の1本の突起123が第二ロッド122の周囲に設けられている。また、第二支持ユニット12は、複数の第二支持体121を備えるが、各第二支持体121において、突起123の描く螺旋のピッチは同じであり、各螺旋上に配置される第二支持部123A間ピッチも同じである。第二支持部123Aのピッチとは前記螺旋に沿った第二支持部123A間の間隔である。すなわち、複数の第二支持体121は同一の構造のものである。さらに、本実施形態では、第一支持部113Aと同様、第二ロッド122を90°回転させると、回転前とは異なる他の第二支持部123Aが部材Sに接触するように構成されている。第二ロッド122を回転させた際の第二支持部123Aと部材Sとの当接は、第一ロッド112を回転させた際の第一支持部113Aと部材Sとの当接の場合と同じであるため、説明は省略するが、図4に示すとおりである。さらに、第二ロッド122内部には、第一ロッド112と同様に、部材Sの温度を調整するための、温度調整用の流体が供給される。処理装置1は、図示しないが、第二ロッド122内部へ流体を供給するとともに、第二ロッド122から前記流体を排出し、再度、第二ロッド122内に前記流体を供給する循環手段を備えている。図3に示すように、処理装置1を平面視した状態において、第一支持体111と第二支持体121とは交互に配置され、第一支持体111と第二支持体121とは平行に配置されている。第一支持体111と第二支持体121との間の間隔は等間隔となっている。さらに、図3の平面図に示すように、複数の第二支持体121は平行配置され、複数の第二支持体121において、Y軸方向に隣り合う第二支持部123Aは、同一の直線L1上に位置するように配置されている。図1~図4に示すように、モータ126は、第二ロッド122を回転駆動させるための駆動手段であり、モータ116と同様の構造および配置となっている。モータ126は、第二ロッド122の一方の端部に接続されている。モータ126は、支柱124の上端部に固定されている。支柱124は支柱114と同様のものである。一方で、第二ロッド122の他方の端部は、軸受部127を介して支柱125に固定される。支柱125、軸受部127は、支柱115、軸受部117とそれぞれ同じものである。支柱125,124は対向配置され、第二ロッド122の端部をそれぞれ支持する支持部材となる。この支柱125,124は、昇降台120に固定されている。昇降台120は、第一支持体111に対して、第二支持体121を上下方向図面Z軸方向に駆動させるためのものである。昇降台120は、昇降機構であるねじ軸16を介してベース15に固定され、ボールねじ機構により、Z軸方向に昇降台120が上下駆動する。昇降台120とねじ軸16とねじ軸16を回転させるモータM2とで、第二支持体121を駆動する駆動部が構成される。なお、昇降台120は昇降台110の下方に位置しており、支柱125,124は、昇降台110に形成された貫通孔を貫通し、貫通孔内を上下に駆動することとなる。本実施形態では、第一支持体111を上下方向に駆動する駆動部および第二支持体121を上下方向に駆動する駆動部の少なくともいずれか一方を駆動することで、第一支持体111が第二支持体121に対して、相対的に上下方向に駆動することとなる。第一支持体111が第二支持体121に対して相対的に上下方向に駆動するとは、第一支持体111が第二支持体121よりも上方に位置する状態と、第一支持体111が第二支持体121よりも下方に位置する状態の2状態をとることができることを意味する。次に、図4,7を参照して、本実施形態の処理装置1を使用した部材Sの処理方法について説明する。図7は、処理装置1の駆動状態を模式的に示したものである。はじめに、昇降台120を上方に移動させて、第二支持体121が第一支持体111よりも上方に位置するように第二支持体121を配置する処理S1。次に、図7Aに示すように、部材Sを第二支持体121の突起123上に配置する処理S2。部材Sは、突起123の一部の第二支持部123Aに支持されることとなる。第二支持体121の初期の状態が図4Eに示す状態であった場合、部材Sの裏面に当接する第二支持部123Aの配置は図4Dのようになる。なお、平面視において、部材Sは、複数の第一支持体111、複数の第二支持体121にまたがるように配置される。次に、ヒータ13により部材Sを所定時間加熱した後、昇降台110を上昇させて、第一支持体111と第二支持体121のZ軸方向の高さ位置を同じ位置とする図7B。そして、部材Sの裏面に第二支持部123Aおよび第一支持部113Aを当接させる処理S3。その後、昇降台120を下降させて、第一支持体111が第二支持体121よりも上方に配置されるようにする。これにより、部材Sは、第二支持体121から第一支持体111に引き渡されて、第一支持体111にのみ支持されることとなる処理S4、図7C。この状態で、さらにヒータ13による部材Sの加熱を続ける。ここで、各第二支持体121において、第二ロッド122をモータ126により回転させる処理S5。ここでは、すべての第二ロッド122を図4Eの状態から同一角度90°回転させる。これにより、第二ロッド122の上方に位置していた第二支持部123Aが、第二ロッド122の側方に位置し、第二ロッド122の側方に位置していた他の第二支持部123Aが第二ロッド122の上方に位置することとなる図4C参照。次に、昇降台120を上方に移動させて、第一支持体111と第二支持体121のZ軸方向の高さ位置を同じ位置とし、部材Sの裏面に第二支持部123Aおよび第一支持部113Aを当接させる処理S6。その後、昇降台110を下降させて、第二支持体121が第一支持体111よりも上方に配置されるようにする処理S7。これにより、部材Sは、第一支持体111から第二支持体121に引き渡されて、第二支持体121にのみ支持されることとなる。前述したように、第二ロッド122を予め90°回転させていたため、第二ロッド122を回転させる前とは異なる他の第二支持部123Aが部材Sに接触することとなる。一方で、各第一支持体111において、第一ロッド112をモータ116により回転させる処理S8。ここでは、第一ロッド112を図4Eの状態から90°回転させる。これにより、第一ロッド112の上方に位置していた第一支持部113Aが、第一ロッド112の側方に位置し、第一ロッド112の側方に位置していた他の第一支持部113Aが第一ロッド112の上方に位置することとなる図4C参照。その後、昇降台110を上方に移動させて、第一支持体111と第二支持体121のZ軸方向の高さ位置を同じ位置とし、部材Sの裏面に第二支持部123Aおよび第一支持部113Aを当接させる処理S9。次に、昇降台120を下降させて、第一支持体111が第二支持体121よりも上方に配置されるようにする。これにより、部材Sは、第二支持体121から第一支持体111に引き渡されて、第一支持体111にのみ支持されることとなる処理S10。その後、処理S5~S10を繰り返し、部材Sに当接していない支持体におけるロッドを90°づつ回転させることで、図4B、Aに示すように、部材Sと接触する支持部113A、123Aをロッドの回転前とは異なるものとすることができ、部材Sを同一箇所で支持してしまうことが防止されることとなる。次に、本実施形態の作用効果について説明する。回転軸となるロッド112122の周囲の仮想円Rの円周上に支持部113A123Aが位置し、平板状の部材Sをロッド112122上部に配置した際に、一部の仮想円Rの円周上に配置された支持部113A123Aが平板状の部材Sに当接した状態となる。次に、ロッド112122を回転させたとき、回転前とは異なる他の仮想円Rの円周上に配置された他の一部の支持部113A123Aが平板状の部材Sに当接する。すなわち、ロッド112122を回転させるだけで、回転前と回転後とで、部材Sの異なる箇所が支持部113A123Aにより支持されることとなるので、長時間、同じ箇所を支持部113A123Aで支持してしまうことが防止できる。これにより、板状の部材Sへの支持部113A123Aからの熱影響を低減させることができる。さらに、処理装置1では、ロッド112122を回転させ、回転前と回転後とで、部材Sの異なる箇所が異なる支持部113A123Aにより支持されることとなる。部材Sの同じ箇所を、長時間、支持部113A123Aで支持してしまうことを防止するためには、ロッド112122の周囲の所定の箇所に支持部113A123Aを配置して、ロッド112122を回転させるだけでよい。従来のように、各支持部に対して水平変位機構をそれぞれ設ける必要がなく、処理装置1の構造の複雑化を防止できる。これに加え、本実施形態では、ロッド112122の周囲に支持部113A123Aを含んで構成される1本の螺旋状の突起113123を設けており、複数の113A123Aが一体的に構成されているので、処理装置1を構成する部材点数の削減も図ることができる。処理装置1において、部材Sを載せた状態でロッド112122を回転させてもよいが、この場合、部材Sが水平方向に移動してしまう可能性がある。これに対し、本実施形態では、第一支持ユニット11と第二支持ユニット12とを設け、第一支持ユニット11の第一支持体111と第二支持ユニット12の第二支持体121との間で部材Sの引渡しを行なっている。これにより、部材Sを支持していない方の支持体のロッドを回転させることができ、ロッドの回転に伴い部材Sが水平方向に移動してしまうことを防止できる。また、本実施形態では、複数の第一支持体111において、第一ロッド112の周囲を取り囲む螺旋状の突起113のピッチを同一としている。さらに、第一支持部113Aのピッチも同じとしている。そして、各第一ロッド112を回転させる際に、同一角度で回転させている。これにより、第一ロッド112の回転前における隣接する第一支持体111間の部材Sを支持する第一支持部113A間の間隔と、第一ロッド112の回転後における隣接する第一支持体111間の部材Sを支持する第一支持部113A間の間隔とを同じ程度とすることができる。そのため、第一ロッド112の回転前後において、隣接する第一支持体111間における第一支持部113A間の間隔が極度に狭くなったり、極度に広くなったりするようなことが防止でき、部材Sを安定的に支持することができる。なお、第二支持体121においても同様の効果がある。さらに、本実施形態では、各ロッド112122を90°づつ回転させている。90°づつ回転させることで、回転前に支持部113A123Aが部材Sと当接していた箇所と、回転後に支持部113A123Aが部材Sに当接する箇所とを一定程度、離間させることができ、部材Sへの熱影響を低減させることができる。本実施形態では、支持部113A123Aを螺旋上に配置している。各ロッド112122を回転させることで、部材Sを支持する支持部113A123Aおよび部材Sの支持箇所が互いに異なる4つの形態をとることができる図4A~D。そのため、部材Sの同一箇所が多数回、同一の支持部113A123Aに支持されてしまうことが防止でき、部材Sへの支持による影響を確実に低減させることができる。さらに、本実施形態では、各ロッド112122の周囲に螺旋状に突起113123を設けている。そのため、ロッド112122の回転角度を正確に精密に制御しなくても、部材Sを支持することができる。換言すると、ロッド112122を360°未満で回転させれば、突起113123のうち、回転前に部材Sを支持していた部分とは異なる部分で、部材Sを支持することができる。そして、部材Sも、回転前とは異なる箇所で支持されることとなる。本実施形態では、ロッド112122をおおよそ90°回転できればよく、ロッド112122の回転角度を正確に精密に制御するようなモータを使用しなくてもよく、処理装置1にかかるコストを低減させることができる。さらに、本実施形態では、図3に示すように、第一支持体111と、第二支持体121とを交互に配置している。これにより、部材Sを安定的に支持することができる。また、本実施形態では、部材Sが第一支持ユニット11の第一支持体111で支持され、加熱処理されている状態、第一支持ユニット11から第二支持ユニット12へ部材Sを引き渡す際、部材Sが第二支持ユニット12の第二支持体121で支持され、加熱処理されている状態において、部材Sの高さ位置は同じであり、部材Sの高さ位置が変動しない。そのため、部材Sを動かすことで周囲に対流が生じ、部材Sの温度分布が変化してしまうことを防止でき、効率よく、部材Sを加熱処理することができる。さらに、本実施形態では、第一支持体111および第二支持体121の双方において、ロッド112、122を回転させるだけで、回転前と回転後とで、部材Sの異なる箇所が異なる支持部113A、123Aにより支持される構造となっている。ここで、第一支持体で部材Sを支持した後1回目の支持、第二支持体へ部材Sを引き渡し、その後、第二支持体から部材Sを第一支持体に引き渡して再度第一支持体で部材Sを支持する2回目の支持ことを考える。この場合、1回目の支持の際の部材Sと第一支持体との当接箇所と、2回目の支持の際の部材Sと第一支持体との当接箇所が同じである場合には、2回目の支持時間を短くする必要がある。これに対し、本実施形態では、1回目の支持が終了し、第一支持体111から第二支持体121へ部材Sを引き渡した後、第一支持体111のロッド112を所定角度回転させているので、1回目の支持の際の部材Sと第一支持体111との当接箇所と、2回目の支持の際の部材Sと第一支持体111との当接箇所とを異なるものとすることができ、2回目の支持時間を短くしなくてもよい。同様の効果は第二支持体121でも奏することができる。これにより、第一支持体111、第二支持体121間での引き渡しを頻繁に行う必要がなく、作業性に優れた処理装置1とすることができる。さらに、本実施形態では、ロッド112122内部には、部材Sの温度を調整するための、温度調整用の流体が供給される。これにより部材Sの温度を適切なものに保つことができる。流体は部材Sを冷却する冷却用の流体であってもよく、また、部材Sを加熱する加熱用の流体であってもよい。ロッド112122内に前記流体を通す場合には熱伝導性の高いものが好ましい。なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。たとえば、前記実施形態では、ロッド112123の周囲には、螺旋状の突起113123が設けられているとしたが、螺旋状の突起はなくてもよい。たとえば、図8A、Bに示すように、ロッド112の周囲に複数の第一支持部333Aを離間配置してもよい。複数の第一支持部333Aはロッド112を取り囲む仮想の螺旋上に位置している。また、複数の第一支持部333Aは、それぞれ異なる仮想円R上に位置しており、ひとつの仮想円R上には支持部333Aがひとつのみ存在する。そして、図8Bに示すように、ロッド112の端部側からの側面視X軸方向からの側面視において、第一支持部333Aが3以上好ましくは3以上、6以下、ここでは4ひとつのロッド112の周囲に等間隔で配置されている。ロッド112を90°回転させることで、回転前後で異なる第一支持部333Aで部材Sを支持できるとともに、部材Sにおける支持位置も異なる箇所とすることができる。ここでは、第一支持部333Aは円錐形状、あるいは円錐台形状となっている。なお、第二支持部も図8に示すような構造としてもよい。さらに、前記実施形態では、複数の支持部113A123Aがひとつの螺旋上に配置されているとしたが、これに限らず、螺旋上に配置されていなくてもよい。たとえば、図9に示すように、ロッド112を挟んで対向する位置に、支持部333Aが配置されていてもよい。この場合においても、ロッド112を90°回転させることで、回転前後で異なる第一支持部333Aで部材Sを支持できるとともに、部材Sにおける支持位置も異なる箇所とすることができる。さらに、前記実施形態では、部材Sを第二支持体121から第一支持体111に引き渡す際に、昇降台110を上昇させて、第一支持体111を第二支持体121のZ軸方向の高さ位置まで上昇させたが、これに限らず、第二支持体121を下降させて、第一支持体111と第二支持体121との高さ位置をそろえてもよい。さらには、部材Sを第二支持体121から第一支持体111に引き渡す際に、昇降台110を上昇させて、第一支持体111を第二支持体121のZ軸方向の高さ位置まで上昇させ、さらに、第一支持体111を上昇させることで、第一支持体111に部材Sを支持させてもよい。また、前記実施形態では、ロッド112122を一方向に90°づつ回転させていたが、これに限らず、ロッドを一定角度たとえば、90°回転させたのち、一定角度たとえば、90°逆回転させるものとしてもよい。また、ロッドの回転角度は90°に限られるものではなく、360°未満であればよい。さらに、前記実施形態では、第二支持体121は、第一支持体111と同様のものであるとしたが、これに限らず、たとえば、第二支持体は、支柱124,125間に架張され、支柱124、125に固定されたワイヤ等であってもよい。この場合には、第二支持体のワイヤよりも、第一支持体111が上方に位置するように、あらかじめ第一支持体111の高さを調整しておく。第一支持体111上に部材Sを載せた後、所定時間、部材Sの熱処理を行う。その後、昇降台120を駆動して第二支持体であるワイヤを部材Sに接触させる。次に、第一支持体111が前記ワイヤよりも下方に位置するように、昇降台110を駆動する。これにより、部材Sが前記ワイヤに引き渡されワイヤに支持されることとなる。部材Sがワイヤに支持されている間に、ロッド112を90°回転させる。その後、昇降台110を駆動して、部材Sに、第一支持部113Aを接触させる。次に、昇降台120を駆動して、ワイヤが第一支持体111よりも下方に位置するように、ワイヤを下降させる。このような作業を繰り返すことで、部材Sを処理することができる。ただし、この場合には、ワイヤと部材Sとが長時間接触しないように、制御することが好ましい。さらに、前記実施形態では、処理装置1を大気圧下で、熱処理して、乾燥させる装置としたが、減圧乾燥装置としてもよい。たとえば、処理装置1からヒータ13を除去した構成の装置を真空ポンプ等の減圧手段に接続されたチャンバ内に配置し、減圧乾燥装置を構成してもよい。この場合、処理部は、基板を減圧乾燥させるものであり、真空ポンプ等で構成されることとなる。"