光記録媒体の初期化装置であって、ビームエキスパンダーと、前記ビームエキスパンダーからのレーザ光を反射させる第1のガルバノミラーと、前記第1のガルバノミラーからのレーザ光を反射させる第2のガルバノミラーと、前記第2のガルバノミラーからのレーザ光を前記光記録媒体の所定のスポットに集光するfθレンズとを備えることを特徴とする光記録媒体の初期化装置。光記録媒体の初期化方法であって、ビームエキスパンダーでレーザビームのビーム径を拡大してレーザ光を出射し、第1のガルバノミラーで前記レーザ光を反射して、第2のガルバノミラーで前記第1のガルバノミラーで反射された前記レーザ光をさらに反射して、fθレンズで、前記第2のガルバノミラーからのレーザ光を前記光記録媒体の所定のスポットに集光する光記録媒体の初期化方法。しかしながら、特許文献1の初期化方法では、ガルバノミラーを回転させると、レーザビームの焦点位置が光ディスクの信号記録層から大きくずれるため、焦点深度の深いfθレンズを使用しても、均一なレーザ照射が不可能であり初期化ムラが発生するという問題があった。そこで、本発明の目的は、上記の問題を解決すべく、均一なレーザ照射が可能であり、初期化ムラが軽減する光記録媒体の初期化装置を提供することである。上記の目的を達成するために、本発明の光記録媒体の初期化装置は、ビームエキスパンダーと、前記ビームエキスパンダーからのレーザ光を反射させる第1のガルバノミラーと、前記第1のガルバノミラーからのレーザ光を反射させる第2のガルバノミラーと、前記第2のガルバノミラーからのレーザ光を前記光記録媒体の所定のスポットに集光するfθレンズとを備える。上記の構成によれば、fθレンズを光ディスク側に設置することにより、ビームスキャン領域全体において集光されたレーザビームの照射を可能とするとともに、焦点ずれによる初期化ムラを解決することを可能とする光記録媒体の初期化装置を提供することができる。さらに本発明は、光ディスクの初期化に限らず、どのような形状のワークでも初期化またはレーザアニールが可能である。以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。実施の形態1図1は、実施の形態1における初期化装置の概略構成図である。100はレーザ光源であり、加熱性のよい近赤外領域の波長0.7~2.513145871456090を有するYAGレーザ、半導体レーザ等を使用する。106はレーザビームであり、レーザ光源100から出射される。101はビームエキスパンダーであり、ビーム径を拡大することにより光ディスク105に照射するレーザスポット径を拡大する。102は第1のガルバノミラー、103は第2のガルバノミラーであり、それぞれ反射面の角度を時系列的に変えることができる。これにより、光ディスクの任意の位置にレーザビーム照射位置を移動させることができる。104はfθレンズであり、レーザ光を所定のスポットに集光する。fθレンズ104は、光ディスクの基板厚みムラ等による初期化記録膜の微小な高さ方向位置変動に対して、レーザスポットサイズの変動を抑制できるよう、焦点深度が十分深いものを使用する。105は相変化書き換え型の光ディスクであり、外形寸法は直径120mm、内周孔直径15mm、板厚1.2mmが一般的である。光ディスク105に反りがあると、初期化装置においてはレーザ照射の際に焦点位置が記録膜からずれ、レーザスポットサイズが変化する。これにより、加熱温度が不均一となり、結晶化状態が不均一となるため、光ディスク105は、真空吸着機構図示せずにより平面性のよいテーブル図示せず上に吸着し固定する。以上のように構成された初期化装置の動作を図1を用いて説明する。まず、光ディスク105は、真空吸着機構図示せずにより平面性の良いテーブル図示せず上に吸着し固定される。次に、レーザ光源100は、レーザビーム106をビームエキスパンダー101に向けて出射する。レーザビーム106は、ビームエキスパンダー101で拡大され、第1のガルバノミラーに入射する。レーザビーム106のビーム径は、ビームエキスパンダー101で拡大されるので、光ディスク105上のレーザスポット照射面積が拡大し、光ディスク105全体の初期化時間が短縮される。さらに、第1のガルバノミラー102から出射したレーザビーム106は、第2のガルバノミラー103に入射する。制御部図示せずは、2枚のガルバノミラー102、103を予め設定された光ディスク105の初期化条件情報に基づき、時系列的に鏡面の角度を計算し、2枚のガルバノミラー102、103を回転させることで角度を変える。これにより、レーザビーム106は、初期化条件で規定された通りに、光ディスク105上でスキャンされる。ここで、光ディスク105の初期化条件とは、初期化開始半径、初期化終了半径、レーザビームスキャン速度、レーザビーム送りピッチ、初期化レーザパワー等の情報である。第2のガルバノミラー103を出射したレーザビーム106は、fθレンズ104に入射し、所定のスポットに集光し、光ディスク105の記録膜上に照射する。この構成により、光ディスク105を停止したままで、記録膜の所定の領域を、所定のレーザビームスキャン条件で、非結晶状態から結晶状態に変化させる初期化を可能とする。この構成では、fθレンズ104を2枚のガルバノミラー102、103よりも光ディスク105側に配置することにより、オートフォーカス系無しで、光ディスク105全域に渡り集光したレーザスポット照射を可能とし、従来例におけるガルバノミラー回転時のレーザビーム焦点ずれを解決することができる。また本実施の形態の初期化装置は、一般的な光ディスクを回転させる初期化装置と比較し、複雑な光学系によるオートフォーカス系が不要となり、簡単な構成となる。さらに光ディスクを停止したままで初期化が可能であるため、光ディスクの回転系、レーザ送り系も無くすことができ、装置全体で大幅なコストダウンが可能となる。なお、実施の形態1では、光ディスクに関する初期化装置を説明したが、初期化する対象である記録媒体を回転させる必要がないため、光ディスクのような円盤型の記録媒体に限らず、光テープのような円盤型ではないフィルム状の記録媒体にも適用可能である。実施の形態2図2は、実施の形態2における初期化装置の概略構成図である。実施の形態1との差異部分のみ説明する。実施の形態2の初期化装置は、実施の形態1の初期化装置と同様、光ディスクを停止したままで初期化が可能であり、従来例の問題点である初期化領域での焦点位置ずれによる照射スポットサイズの変化を抑制するものである。実施の形態1との相違は、fθレンズを使用せず2枚のガルバノミラーとビームエキスパンダー101の間に集光用の対物レンズ111および対物レンズ移動手段107を設置し、対物レンズ111を光軸方向に直線往復移動可能にした点である。対物レンズ移動手段107はボイスコイルモータリニアモータであり対物レンズの直線高速移動を可能にする。図2のように構成された初期化装置では、まず実施の形態1と同様、光ディスク105は、真空吸着機構図示せずにより平面性の良いテーブル図示せず上に固定される。次に、レーザ光源100は、レーザビーム106をビームエキスパンダー101に向けて出射する。レーザビーム106は、ビームエキスパンダー101で拡大され、対物レンズ111に入射し、所定のスポットに集光する。次に、対物レンズ111を出射したレーザビーム106は、第1のガルバノミラー102に入射する。さらに、第1のガルバノミラー102から出射したレーザビーム106は、第2のガルバノミラー103に入射する。第2のガルバノミラー103を出射したレーザビーム106は、光ディスク105の記録膜上に照射する。制御部図示せずは、実施の形態1と同様、2枚のガルバノミラー102、103を予め設定した光ディスク105の初期化条件情報に基づき、時系列的に鏡面の角度を計算し、2枚のガルバノミラー102、103を回転させることで角度を変える。これにより、レーザビーム106は、初期化条件情報に規定された通りにスキャンされる。本実施の形態2では、さらに、制御部図示せずは、光ディスク105上のレーザビーム照射位置から対物レンズまでのビーム距離を算出し、このビーム距離が対物レンズ111の焦点距離を保つように、対物レンズ移動手段107により対物レンズ111を光軸上で移動させる。これにより、実施の形態1と同様、光ディスク105を停止したままで、記録膜の所定の領域を、所定のレーザビームスキャン条件で、非結晶状態から結晶状態に変化させる初期化を可能とする。この構成では、対物レンズ111および対物レンズ移動手段107を、2枚のガルバノミラー102、103よりレーザ側に配置することにより、オートフォーカス系無しで、光ディスク105全域に渡り集光したレーザスポット照射を可能とし、従来例におけるガルバノミラー回転時のレーザビーム焦点ずれを解決することができる。また、本実施の形態2においても、実施の形態1と同様、オートフォーカス系を無くすことにより、初期化装置の光学系が簡単な構成となる。さらに光ディスクを停止したままで初期化が可能であるため、光ディスクの回転系、レーザ送り系も無くすことができ、装置全体で大幅なコストダウンが可能となる。なお、実施の形態2では、光ディスクに関する初期化装置を説明したが、初期化する対象である記録媒体を回転させる必要がないため、光ディスクのような円盤型の記録媒体に限らず、光テープのような円盤型ではないフィルム状の記録媒体にも適用可能である。実施の形態3図3は、実施の形態3における初期化装置の概略構成図である。実施の形態1および2との差異部分のみ説明する。実施の形態3の初期化装置は、実施の形態1および2の初期化装置と同様、光ディスクを停止したままで初期化が可能であり、従来例の問題点である初期化領域での照射スポットサイズの変化を抑制するものである。実施の形態1および2との相違は、テレセントリックfθレンズ108を使用することにより光ディスク105の全域に渡りレーザビームを集光した状態で、垂直照射することを可能にした点である。このような構成にすることにより、実施の形態1および2におけるレーザビームの傾きによる微小なスポットサイズの変化をも無くすことができる。図3のように構成された初期化装置では、まず実施の形態1と同様、光ディスク105を真空吸着機構図示せずにより平面性の良いテーブル図示せず上に固定する。次に、レーザ光源100は、レーザビーム106をビームエキスパンダー101に向けて出射する。レーザビーム106は、ビームエキスパンダー101で拡大され、第1のガルバノミラー102に入射する。さらに、第1のガルバノミラー102から出射したレーザビーム106は、第2のガルバノミラー103に入射する。制御部図示せずは、2枚のガルバノミラー102、103を予め設定された光ディスク105の初期化条件情報に基づき、時系列的に鏡面の角度を計算し、2枚のガルバノミラー102、103を回転させることで角度を変える。これにより、レーザビーム106は、初期化条件に規定された通りに、光ディスク105上でスキャンされる。ここで、光ディスク105の初期化条件とは、実施の形態1と同じである。第2のガルバノミラー103を出射したレーザビーム106は、テレセントリックfθレンズ108に入射し、所定のスポットに集光し、常に光ディスク105の全域に渡り、記録膜への垂直照射を可能とする。この構成により、光ディスク105を停止したままで、レーザビーム106のスキャン領域におけるスポットサイズの変化を、入射角が変化する実施例1および2よりも少なくし、所定のレーザビームスキャン条件で、より均一に非結晶状態から結晶状態に変化させる初期化を可能とする。この構成では、テレセントリックfθレンズ108を2枚のガルバノミラー102、103より光ディスク側に配置することにより、複雑なオートフォーカス系無しで、光ディスク105全域に渡り集光したレーザスポットの垂直照射が可能となり、従来例の焦点位置ずれの問題点を解決し、さらに実施の形態1および2におけるレーザビーム照射時の傾きについても補正するものである。実施の形態3では、実施の形態1および2と同様、オートフォーカス系を無くすことにより、初期化装置は光学系が簡単な構成となる。さらに光ディスクを停止したままで初期化が可能であるため、光ディスクの回転系、レーザ送り系も無くすことができ、装置全体で大幅なコストダウンが可能となる。なお、実施の形態3では、光ディスクに関する初期化装置を説明したが、初期化する対象である記録媒体を回転させる必要がないため、光ディスクのような円盤型の記録媒体に限らず、光テープのような円盤型ではないフィルム状の記録媒体にも適用可能である。実施の形態4実施の形態4は、実施の形態1~3の初期化装置において、初期化品質と生産性の向上に有効なレーザビーム106を提供するものである。図4は、初期化途中の光ディスクを上側レーザビーム入射側から平面的に見た図であり、109は楕円形状に整形されたレーザスポットである。レーザスポット109は、破線の矢印で示すレーザスポット109の移動方向には、楕円形の短軸方向、垂直方向には長軸方向となるよう配置する。レーザビーム106の移動方向に楕円の短軸方向を配置することにより、レーザスポット109の移動照射において、光ディスク105の記録膜の加熱時間スポット通過時間の短縮が可能であり、長時間加熱した場合に問題となる記録膜の熱的損傷を防止可能とする。またレーザビーム106の移動方向の垂直方向に楕円の長軸方向を配置することでビームスキャンの際の送りピッチが拡大でき、初期化時間の短縮が可能となり生産性が向上する。本実施の形態4では、レーザスポットとして、短軸長さ10μm以下、長軸方向100μm以上のサイズのスポットを使用する。なお、実施の形態4では、光ディスクに関する初期化装置を説明したが、光ディスクのような円盤型の記録媒体に限らず、光テープのような円盤型ではないフィルム状の記録媒体にも適用可能である。実施の形態5実施の形態5は、実施の形態1~3の初期化装置において初期化強度分布を改善するレーザビーム106の照射方法を提供するものである。図5は、初期化途中のレーザビームと光ディスク記録層の位置関係を光ディスクの断面図にて示した図である。光ディスク105の記録膜とレーザビーム焦点位置との距離をLとする。実施の形態1~3では、レーザビームを光ディスク105の記録膜に集光させる、即ちL=0として説明した。L=0ではレーザのパワー密度が高く、最も低パワーで効率的な初期化が可能である。しかしながら、レーザプロファイルによっては、初期化ムラが発生する可能性がある。この場合、レーザビームの焦点を記録膜より下方向にずらし、ぼかした状態のレーザスポットで初期化することによりレーザプロファイルによる初期化ムラの改善が可能である。なお、実施の形態5では、光ディスクに関する初期化装置を説明したが、光ディスクのような円盤型の記録媒体に限らず、光テープのような円盤型ではないフィルム状の記録媒体にも適用可能である。実施の形態6実施の形態6は、光ディスク初期化または、光ディスク以外の薄いフィルムのレーザアニールにおいて、熱により損傷が発生しやすい材料に対する好適なレーザビーム照射方法を提供する。連続発振光による照射では、レーザ照射部分から周辺へ熱が拡散することにより、記録膜や基板に損傷が発生しやすいので、熱的にダメージを受けやすい材料には、図6に示すようなパルス状のレーザビーム照射を行うことにより初期化品質またはアニール品質が改善される。本実施例ではパルス幅を0.1μs以上、周期を20μs以下とする。このような設定をすることで、パルス幅が短い場合にピークパワーが高くなり過ぎることにより発生するパルススポット中心部と周辺部の加熱ムラ、および周期が長い場合に発生するパルススポット間の照射不足による加熱ムラを防止するという効果が得られる。なお、実施の形態6では、光ディスクに関する初期化装置を説明したが、光ディスクのような円盤型の記録媒体に限らず、光テープのような円盤型ではないフィルム状の記録媒体にも適用可能である。実施の形態7実施の形態7は、初期化ムラを改善するレーザビームのスキャン方法を提供するものである。図7は、初期化途中の光ディスクを上側レーザビーム入射側から平面的に見た図であり、楕円状のレーザスポット110により光ディスク上をスキャンして初期化している途中の状態を示している。楕円状のレーザスポット110の長さをA、スキャン送りピッチをBとする。ここでA=kBの関係が成り立つよう、AをBの整数倍に設定する。このように設定すると、スキャン開始位置付近と終了位置付近を除いて、各初期化領域はレーザビームが1/kずつ位置をずらしながら、k回スキャンされることになり、1回ではレーザプロファイル分布による初期化ムラが発生しても複数回レーザビームをずらしてスキャンすることにより初期化ムラを少なくすることが可能となる。ここでkは2以上の整数に設定する。なお、実施の形態7では、光ディスクに関する初期化装置を説明したが、光ディスクのような円盤型の記録媒体に限らず、光テープのような円盤型ではないフィルム状の記録媒体にも適用可能である。