"放射線源から照射された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の周期パターン像に対して強度変調を与えて第2の周期パターン像を生成する強度変調手段と、前記第1の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線画像検出器と、前記画像データに基づいて位相微分像を生成する位相微分像生成手段と、被検体を配置しない状態でのプレ撮影時に前記位相微分像生成手段により生成される第1の位相微分像と、被検体を配置した状態での本撮影時に前記位相微分像生成手段により生成される第2の位相微分像とについて、値がπ/2から-π/2、または-π/2からπ/2に変化する境界線を求め、所定方向に該境界線を通過するたびにπまたは-πずつ変化する第1の階段状データと第2の階段状データとそれぞれを作成する階段状データ作成手段と、前記第1の位相微分像に前記第1の階段状データを加算して第1の加算済位相微分像を生成し、前記第2の位相微分像に前記第2の階段状データを加算して第2の加算済位相微分像を生成する階段状データ加算手段と、前記第2の加算済位相微分像から前記第1の加算済位相微分像を減算して補正済位相微分像を生成する減算処理手段と、を備えることを特徴とする放射線撮影システム。前記補正済位相微分像を前記第1の格子の周期方向に沿って積分処理することにより、位相コントラスト画像を生成する位相コントラスト画像生成手段を備えることを特徴とする請求項1に記載の放射線撮影システム。前記第1の加算済位相微分像を記憶する記憶手段を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の放射線撮影システム。前記プレ撮影または前記本撮影の指示を入力する入力手段と、前記入力手段により前記プレ撮影の指示が入力された場合に、前記強度変調手段、前記放射線画像検出器、前記位相微分像生成手段、前記階段状データ作成手段、前記階段状データ加算手段を動作させ、前記階段状データ加算手段により生成される前記第1の加算済位相微分像を前記記憶手段に記憶させる制御手段と、を備えることを特徴とする請求項3に記載の放射線撮影システム。前記強度変調手段は、前記第1の周期パターン像に対して位相が異なる複数の相対位置で強度変調を与えて複数の第2の周期パターン像を生成し、前記放射線画像検出器は、前記各第2の周期パターン像を検出して複数の画像データを生成し、前記位相微分像生成手段は、前記複数の画像データに基づき、前記相対位置に対する画素データの強度変化を表す強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより前記位相微分像を生成することを特徴とする請求項1から4いずれか1項に記載の放射線撮影システム。前記強度変調手段は、前記第1の周期パターン像と同一方向の周期パターンを有する第2の格子と、前記第1及び第2の格子のいずれか一方を所定のピッチで移動させる走査手段とからなることを特徴とする請求項5に記載の放射線撮影システム。前記第1及び第2の格子は、吸収型格子であり、前記第1の格子は、前記放射線源からの放射線を前記第1の周期パターン像として前記第2の格子に投影することを特徴とする請求項6に記載の放射線撮影システム。前記第1の格子は位相型格子であり、前記第1の格子は、タルボ干渉効果により、前記放射線源からの放射線を前記第1の周期パターン像として前記第2の格子の位置に形成することを特徴とする請求項6に記載の放射線撮影システム。前記放射線源の射出側に線源格子を備えることを特徴とする請求項1から8いずれか1項に記載の放射線撮影システム。放射線源から照射された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の周期パターン像に対して強度変調を与えて第2の周期パターン像を生成する強度変調手段と、前記第1の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線画像検出器と、前記画像データに基づいて位相微分像を生成する位相微分像生成手段と、を備えた放射線撮影システムの画像処理方法であって、被検体を配置しない状態でのプレ撮影時に前記位相微分像生成手段により生成される第1の位相微分像と、被検体を配置した状態での本撮影時に前記位相微分像生成手段により生成される第2の位相微分像とについて、値がπ/2から-π/2、または-π/2からπ/2に変化する境界線を求め、所定方向に該境界線を通過するたびにπまたは-πずつ変化する第1の階段状データと第2の階段状データとそれぞれを作成するステップと、前記第1の位相微分像に前記第1の階段状データを加算して第1の加算済位相微分像を生成し、前記第2の位相微分像に前記第2の階段状データを加算して第2の加算済位相微分像を生成するステップと、前記第2の加算済位相微分像から前記第1の加算済位相微分像を減算して補正済位相微分像を生成するステップと、を有することを特徴とする画像処理方法。しかしながら、特許文献1に記載された位相微分像のオフセット補正方法では、プレ撮影と本撮影とは、被検体の有無以外については同一の撮影であることが前提であるため、プレ撮影と本撮影との間で、第1及び第2の回折格子の相対走査の開始位置が変動した場合には、逆にアーチファクトが発生してしまうといった問題がある。このアーチファクトの発生原因は、強度変調信号の位相ズレ量の計算式に起因している。位相ズレ量は、特許文献1の第7頁に記載されているように、複素平面での偏角の抽出、すなわちtan-1の関数として表され、-π/2~π/2の範囲の値を取る。このため、プレ撮影で得られる位相微分像に、第1及び第2の回折格子に起因するモアレ縞が生じた場合には、図17aに示すように、モアレ縞に直交する方向に関するプロファイルψ1xは、値が±π/2を跨ぐ部分で不連続となり、ノコギリ状となる。このモアレ縞は、本撮影で得られる位相微分像にも現れ、同図bに示すように、モアレ縞に直交する方向に関するプロファイルψ2xは、同様にノコギリ状となる。プレ撮影時と本撮影時とで、第1及び第2の回折格子の相対走査の開始位置に変動がない場合には、上記プロファイルψ1x、ψ2xは同一となるため、上記オフセット補正により互いに相殺される。一方、プレ撮影時と本撮影時とで該相対走査の開始位置に変動が生じ、上記プロファイルψ1x、ψ2xの間でずれδが生じた場合には、上記オフセット補正により得られる両者の差分画像には、同図cに示すように、値がほぼπの帯状のアーチファクトが残留する。このアーチファクトは、プレ撮影と本撮影との間での走査開始位置の変動に限られず、プレ撮影と本撮影との間で第1及び第2の回折格子の位置関係に何らかの変動があった場合にも生じ得る。本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、プレ撮影と本撮影との間での格子位置の変動によるアーチファクトの発生を防止することを可能とする放射線撮影システム及びその画像処理方法を提供することを目的とする。上記目的を達成するために、本発明の放射線撮影システムは、放射線源から照射された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の周期パターン像に対して強度変調を与えて第2の周期パターン像を生成する強度変調手段と、前記第1の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線画像検出器と、前記画像データに基づいて位相微分像を生成する位相微分像生成手段と、被検体を配置しない状態でのプレ撮影時に前記位相微分像生成手段により生成される第1の位相微分像と、被検体を配置した状態での本撮影時に前記位相微分像生成手段により生成される第2の位相微分像とについて、値がπ/2から-π/2、または-π/2からπ/2に変化する境界線を求め、所定方向に該境界線を通過するたびにπまたは-πずつ変化する第1の階段状データと第2の階段状データとそれぞれを作成する階段状データ作成手段と、前記第1の位相微分像に前記第1の階段状データを加算して第1の加算済位相微分像を生成し、前記第2の位相微分像に前記第2の階段状データを加算して第2の加算済位相微分像を生成する階段状データ加算手段と、前記第2の加算済位相微分像から前記第1の加算済位相微分像を減算して補正済位相微分像を生成する減算処理手段と、を備える。本発明の放射線撮影システムは、前記補正済位相微分像を前記第1の格子の周期方向に沿って積分処理することにより、位相コントラスト画像を生成する位相コントラスト画像生成手段をさらに備える。本発明の放射線撮影システムは、前記第1の加算済位相微分像を記憶する記憶手段をさらに備える。本発明の放射線撮影システムは、前記プレ撮影または前記本撮影の指示を入力する入力手段と、前記入力手段により前記プレ撮影の指示が入力された場合に、前記強度変調手段、前記放射線画像検出器、前記位相微分像生成手段、前記階段状データ作成手段、前記階段状データ加算手段を動作させ、前記階段状データ加算手段により生成される前記第1の加算済位相微分像を前記記憶手段に記憶させる制御手段と、をさらに備える。前記強度変調手段は、前記第1の周期パターン像に対して位相が異なる複数の相対位置で強度変調を与えて複数の第2の周期パターン像を生成し、前記放射線画像検出器は、前記各第2の周期パターン像を検出して複数の画像データを生成し、前記位相微分像生成手段は、前記複数の画像データに基づき、前記相対位置に対する画素データの強度変化を表す強度変調信号の位相ズレ量を算出することにより前記位相微分像を生成する。前記強度変調手段は、前記第1の周期パターン像と同一方向の周期パターンを有する第2の格子と、前記第1及び第2の格子のいずれか一方を所定のピッチで移動させる走査手段とからなる。前記第1及び第2の格子は、吸収型格子であり、前記第1の格子は、前記放射線源からの放射線を前記第1の周期パターン像として前記第2の格子に投影する。前記第1の格子は位相型格子であり、前記第1の格子は、タルボ干渉効果により、前記放射線源からの放射線を前記第1の周期パターン像として前記第2の格子の位置に形成するものであってもよい。本発明の放射線撮影システムは、前記放射線源の射出側に線源格子を備える。本発明の画像処理方法は、放射線源から照射された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の周期パターン像に対して強度変調を与えて第2の周期パターン像を生成する強度変調手段と、前記第1の周期パターン像を検出して画像データを生成する放射線画像検出器と、前記画像データに基づいて位相微分像を生成する位相微分像生成手段と、を備えた放射線撮影システムの画像処理方法であって、被検体を配置しない状態でのプレ撮影時に前記位相微分像生成手段により生成される第1の位相微分像と、被検体を配置した状態での本撮影時に前記位相微分像生成手段により生成される第2の位相微分像とについて、値がπ/2から-π/2、または-π/2からπ/2に変化する境界線を求め、所定方向に該境界線を通過するたびにπまたは-πずつ変化する第1の階段状データと第2の階段状データとそれぞれを作成するステップと、前記第1の位相微分像に前記第1の階段状データを加算して第1の加算済位相微分像を生成し、前記第2の位相微分像に前記第2の階段状データを加算して第2の加算済位相微分像を生成するステップと、前記第2の加算済位相微分像から前記第1の加算済位相微分像を減算して補正済位相微分像を生成するステップと、を有する。本発明によれば、第1及び第2の位相微分像に第1及び第2の階段状データを加算することにより、第1及び第2の加算済位相微分像は、いずれも連続的なプロファイルとなるため、両者を減算して得られる補正済位相微分像には、プレ撮影と本撮影との間での格子位置の変動によるアーチファクトは発生しない。第1実施形態図1において、本発明の第1実施形態に係るX線撮影システム10は、被検体HにX線を照射するX線源11と、X線源11に対向配置され、X線源11から被検体Hを透過したX線を検出して画像データを生成する撮影部12と、撮影部12から読み出された画像データを記憶するメモリ13と、メモリ13に記憶される複数の画像データを画像処理して位相コントラスト画像を生成する画像処理部14と、画像処理部14により生成された位相コントラスト画像を記録する画像記録部15と、X線源11及び撮影部12の制御を行う撮影制御部16と、操作部やモニタからなるコンソール17と、コンソール17から入力される操作信号に基づいてX線撮影システム10の全体を統括的に制御するシステム制御部18とから構成されている。X線源11は、高電圧発生器、X線管、コリメータいずれも図示せず等から構成されており、撮影制御部16の制御に基づいて、被検体HにX線を照射する。例えば、X線管は、回転陽極型であり、高電圧発生器からの電圧に応じて、フィラメントから電子線を放出し、所定の速度で回転する回転陽極に電子線を衝突させることによりX線を発生する。回転陽極は、電子線が固定位置に当り続けることによる劣化を軽減するために回転しており、電子線の衝突部分が、X線を放射するX線焦点となる。また、コリメータは、X線管から発せられたX線のうち、被検体Hの検査領域に寄与しない部分を遮蔽するように照射野を制限するものである。撮影部12には、半導体回路からなるフラットパネル検出器FPD20、被検体HによるX線の位相変化角度変化を検出し位相イメージングを行うための第1の吸収型格子21及び第2の吸収型格子22が設けられている。FPD20は、X線源11から照射されるX線の光軸Aに沿う方向以下、z方向というに検出面が直交するように配置されている。第1の吸収型格子21は、z方向に直交する面内の一方向以下、y方向というに延伸した複数のX線遮蔽部X線高吸収部21aが、z方向及びy方向に直交する方向以下、x方向というに所定のピッチp1で配列されたものである。同様に、第2の吸収型格子22は、y方向に延伸した複数のX線遮蔽部X線高吸収部22aが、x方向に所定のピッチp2で配列されたものである。X線遮蔽部21a,22aの材料としては、X線吸収性に優れる金属が好ましく、例えば、金Auや白金Ptが好ましい。また、撮影部12には、第2の吸収型格子22を格子線方向y方向に直交する方向x方向に並進移動させることにより、第1の吸収型格子21に対する第2の吸収型格子22との相対位置を変化させる走査機構23が設けられている。走査機構23は、例えば、圧電素子等のアクチュエータにより構成される。走査機構23は、後述する縞走査の際に、撮影制御部16の制御に基づいて駆動される。詳しくは後述するが、メモリ13には、縞走査の各走査ステップで撮影部12により得られる画像データがそれぞれ記憶される。なお、第2の吸収型格子22と走査機構23とが特許請求の範囲に記載の強度変調手段を構成している。図2において、画像処理部14は、位相微分像生成部30、階段状データ作成部31、階段状データ加算部32、オフセットデータ記憶部33、減算処理部34、及び、位相コントラスト画像生成部35により構成される。位相微分像生成部30は、走査機構23による縞走査の各走査ステップで撮影部12により撮影され、メモリ13に記憶された複数の画像データに基づき、位相微分像を生成する。階段状データ作成部31は、位相微分像生成部30により得られた位相微分像について、後述する位相ズレ量が、x方向にπ/2から-π/2、または-π/2からπ/2に変化する境界線を求め、x方向に境界線を通過するたびにπまたは-πだけ変化する階段状データを作成する。階段状データ加算部32は、階段状データ作成部31により作成された階段状データを、位相微分像に加算する。階段状データが加算された位相微分像を、以下、加算済位相微分像と言う。図3aにおいて、位置x1,x2,x3は、位相微分像のx方向に関するプロファイルψxがπ/2から-π/2に変化する境界線の位置を示している。この場合、階段状データ作成部31により作成される階段状データSxは、同図bに示すように、0≦x<x1の領域で0、x1≦x<x2の領域でπ、x2≦x<x3の領域で2π、x3≦xの領域で3πとなる。そして、階段状データ加算部32により階段状データSxが加算された加算済位相微分像のx方向に関するプロファイルψ’xは、同図cに示すように、x方向に単調増加するほぼ直線状となる。図4aにおいて、位置x1,x2,x3は、位相微分像のx方向に関するプロファイルψxが-π/2からπ/2に変化する境界線の位置を示している。この場合、階段状データ作成部31により作成される階段状データSxは、同図bに示すように、0≦x<x1の領域で0、x1≦x<x2の領域で-π、x2≦x<x3の領域で-2π、x3≦xの領域で-3πとなる。そして、階段状データ加算部32により階段状データSxが加算された加算済位相微分像のx方向に関するプロファイルψ’xは、同図cに示すように、x方向に単調減少するほぼ直線状となる。図2において、オフセットデータ記憶部33は、被検体HをX線源11と撮影部12との間に配置しない状態における撮影プレ撮影時に位相微分像生成部30により生成された位相微分像以下、第1の位相微分像と言うに、第1の位相微分像に基づき階段状データ作成部31により作成された階段状データ以下、第1の階段状データと言うが、階段状データ加算部32により加算されてなる加算済位相微分像以下、第1の加算済位相微分像と言うをオフセットデータとして記憶する。オフセットデータ記憶部33は、フラッシュメモリ等の不揮発性記憶装置により構成される。一方、被検体HをX線源11と撮影部12との間に配置した状態における撮影本撮影時に位相微分像生成部30により生成された位相微分像以下、第2の位相微分像と言うに、第2の位相微分像に基づき階段状データ作成部31により作成された階段状データ以下、第2の階段状データと言うが、階段状データ加算部32により加算されてなる加算済位相微分像以下、第2の加算済位相微分像と言うは、減算処理部34に入力される。システム制御部18は、コンソール17から入力される撮影指示に基づき、プレ撮影の場合には、階段状データ加算部32により得られる第1の加算済位相微分像をオフセットデータ記憶部33に記憶させ、本撮影の場合には、階段状データ加算部32により得られる第2の加算済位相微分像を減算処理部34に入力するように制御を行う。また、システム制御部18は、第2の加算済位相微分像を減算処理部34に入力するとともに、オフセットデータ記憶部33に記憶されている第1の加算済位相微分像を読み出して減算処理部34に入力する。減算処理部34は、第2の加算済位相微分像から第1の加算済位相微分像を減算するオフセット補正を行い、補正後の位相微分像以下、補正済位相微分像と言うを位相コントラスト画像生成部35に入力する。位相コントラスト画像生成部35は、入力された補正済位相微分像を走査方向x方向に沿って積分することにより、位相コントラスト画像を生成する。位相コントラスト画像生成部35により生成された位相コントラスト画像は、画像記録部15に記録された後、コンソール17に出力されてモニタ図示せずに表示される。コンソール17は、モニタの他、操作者が撮影指示やその指示内容を入力する入力装置図示せずを備えている。この入力装置としては、例えば、スイッチ、タッチパネル、マウス、キーボード等が用いられる。入力装置の操作により、X線管の管電圧やX線照射時間等のX線撮影条件、撮影タイミング等が入力される。モニタは、液晶ディスプレイやCRTディスプレイからなり、X線撮影条件等の文字や、上記位相コントラスト画像を表示する。図5において、FPD20は、X線を電荷に変換して蓄積する複数の画素40が、x方向及びy方向に沿ってアクティブマトリクス基板上に2次元配列されてなる受像部41と、画素40からの電荷の読み出しタイミングを制御する走査回路42と、画素40から電荷を読み出し、電荷を画像データに変換して出力する読み出し回路43とから構成されている。なお、走査回路42と各画素40とは、行毎に走査線44によって接続されており、読み出し回路43と各画素40とは、列毎に信号線45によって接続されている。画素40の配列ピッチは、x方向及びy方向にそれぞれ100μm程度である。画素40は、アモルファスセレン等の変換層図示せずによりX線を電荷に直接変換し、変換された電荷を変換層の下部の電極に接続されたキャパシタ図示せずに蓄積する直接変換型のX線検出素子である。各画素40には、TFTスイッチ図示せずが設けられ、TFTスイッチのゲート電極が走査線44、ソース電極がキャパシタ、ドレイン電極が信号線45に接続される。走査回路42からの駆動パルスによってTFTスイッチがON状態になると、キャパシタに蓄積された電荷が信号線45に読み出される。なお、画素40は、酸化ガドリニウムGd2O3やヨウ化セシウムCsI等からなるシンチレータ図示せずでX線を一旦可視光に変換し、変換された可視光をフォトダイオード図示せずで電荷に変換して蓄積する間接変換型のX線検出素子としてもよい。また、本実施形態では、放射線画像検出器としてTFTパネルをベースとしたFPDを用いているが、これに限られず、CCDセンサやCMOSセンサ等の固体撮像素子をベースとした各種の放射線画像検出器を用いることも可能である。読み出し回路43は、積分アンプ、補正回路、A/D変換器いずれも図示せず等により構成されている。積分アンプは、各画素40から信号線45を介して出力された電荷を積分して電圧信号画像信号に変換する。A/D変換器は、積分アンプにより変換された画像信号を、デジタルの画像データに変換する。補正回路は、画像データに対して、暗電流補正、ゲイン補正、及びリニアリティ補正等を行い、補正後の画像データをメモリ13に入力する。図6において、第1の吸収型格子21のX線遮蔽部21aは、x方向に所定のピッチp1で、互いに所定の間隔d1を空けて配列されており、間隔d1の部分には、X線低吸収部21bが設けられている。同様に、第2の吸収型格子22のX線遮蔽部22aは、x方向に所定のピッチp2で、互いに所定の間隔d2を空けて配列されており、間隔d2の部分には、X線低吸収部22bが設けられている。第1及び第2の吸収型格子21,22は、入射X線に位相差を与えるものでなく、強度差を与えるものであり、振幅型格子とも称される。X線低吸収部21b,22bは、シリコンSiやポリマーからなることが好ましく、さらには、空隙であっても良い。第1及び第2の吸収型格子21,22は、X線低吸収部21b,22bを通過したX線を線形的幾何光学的に投影するように構成される。具体的には、間隔d1,d2を、X線源11から照射されるX線のピーク波長より十分大きな値とすることで、照射X線に含まれる大部分のX線をX線低吸収部21b,22bで回折させずに、直進性を保ったまま通過するように構成される。例えば、前述のX線管の回転陽極としてタングステンを用い、管電圧を50kVとした場合には、X線のピーク波長は、約0.4Åである。この場合には、間隔d1,d2を1~10μm程度とすれば、X線低吸収部21b,22bで大部分のX線が回折されずに線形的に投影される。格子ピッチp1,p2は、2~20μm程度である。X線源11から照射されるX線は、平行ビームではなく、X線焦点を発光点としたコーンビームであるため、第1の吸収型格子21を通過することにより形成される第1の周期パターン像以下、G1像というは、X線焦点11aからの距離に比例して拡大される。第2の吸収型格子22の格子ピッチp2及び間隔d2は、X線低吸収部22bのパターンが、第2の吸収型格子22の位置におけるG1像の明部の周期パターンとほぼ一致するように決定されている。すなわち、X線焦点11aから第1の吸収型格子21までの距離をL1、第1の吸収型格子21から第2の吸収型格子22までの距離をL2とした場合に、格子ピッチp2及び間隔d2は、次式1及び2の関係を満たすように決定される。第1の吸収型格子21から第2の吸収型格子22までの距離L2は、タルボ干渉計の場合には、第1の回折格子の格子ピッチとX線波長とで決まるタルボ干渉距離に制約されるが、本実施形態の撮影部12では、第1の吸収型格子21が入射X線を回折させずに投影する構成であって、第1の吸収型格子21のG1像が、第1の吸収型格子21の後方のすべての位置で相似的に得られるため、該距離L2を、タルボ干渉距離と無関係に設定することができる。上記のように本実施形態の撮影部12は、タルボ干渉計を構成するものではないが、第1の吸収型格子21でX線の回折が生じ、タルボ干渉効果が生じていると仮定した場合のタルボ干渉距離Zは、第1の吸収型格子21の格子ピッチp1、X線波長ピーク波長λ、及び正の整数mを用いて、次式3で表される。式3は、X線源11から照射されるX線がコーンビームである場合のタルボ干渉距離を表す式であり、AtsushiMomoseetalJapaneseJournalofAppliedPhysicsVol47No102008年10月8077頁により知られている。本実施形態では、前述のように距離L2をタルボ干渉距離と無関係に設定することができるため、撮影部12のz方向への薄型化を目的とし、距離L2を、m=1の場合の最小のタルボ干渉距離Zより短い値に設定する。すなわち、距離L2は、次式4を満たす範囲の値に設定される。X線遮蔽部21a,22aは、コントラストの高い周期パターン像を生成するためには、X線を完全に遮蔽吸収することが好ましいが、上記したX線吸収性に優れる材料金、白金等を用いたとしても、吸収されずに透過するX線が少なからず存在する。このため、X線の遮蔽性を高めるためには、X線遮蔽部21a,22aのそれぞれの厚みz方向の厚さをできるだけ厚くすることすなわち、アスペクト比を高めることが好ましい。例えば、X線管の管電圧が50kVの場合に、照射X線の90以上を遮蔽することが好ましく、X線遮蔽部21a,22aの厚みは、10μm~200μmの範囲であることが好ましい。以上のように構成された第1及び第2の吸収型格子21,22では、第1の吸収型格子21により生成されたG1像が第2の吸収型格子22との重ね合わせにより部分的に遮蔽され、強度変調されることにより、第2の周期パターン像以下、G2像というが生成される。このG2像はFPD20によって撮像される。第2の吸収型格子22の位置におけるG1像のパターン周期と、第2の吸収型格子22の格子ピッチp2とは、配置誤差などにより若干の差異が生じている。この微小な差異により、G2像にはモアレ縞が生じる。また、第1及び第2の吸収型格子21,22の格子配列方向に誤差が生じ、配列方向が同一でない場合には、G2像にいわゆる回転モアレが発生する。しかし、G2像にこのようなモアレ縞が発生した場合でも、モアレ縞のx方向またはy方向の周期が画素40の配列ピッチより大きい範囲であれば特に問題が生じることはない。X線源11と第1の吸収型格子21との間に被検体Hを配置すると、FPD20により検出されるG2像は、被検体Hにより変調を受ける。この変調量は、被検体Hによる屈折効果によって偏向したX線の角度に比例する。したがって、FPD20で検出されたG2像を解析することによって、被検体Hの位相コントラスト画像を生成することができる。次に、G2像の解析方法について原理的な説明を行う。同図には、被検体Hのx方向に関する位相シフト分布Φxに応じて屈折する1つのX線が例示されている。符号50は、被検体Hが存在しない場合に直進するX線の経路を示している。この経路50を進むX線は、第1及び第2の吸収型格子21,22を通過してFPD20に入射する。符号51は、被検体Hが存在する場合に、被検体Hにより屈折して偏向したX線の経路を示している。この経路51を進むX線は、第1の吸収型格子21を通過した後、第2の吸収型格子22のX線遮蔽部22aにより遮蔽される。被検体Hの位相シフト分布Φxは、被検体Hの屈折率分布をnx,z、zをX線の進む方向として、次式5で表される。第1の吸収型格子21から第2の吸収型格子22の位置に投影されたG1像は、被検体HでのX線の屈折により、その屈折角φに応じた量だけx方向に変位する。この変位量Δxは、X線の屈折角φが微小であることに基づいて、近似的に次式6で表される。ここで、屈折角φは、X線波長λと被検体Hの位相シフト分布Φxを用いて、次式7で表される。このように、被検体HでのX線の屈折によるG1像の変位量Δxは、被検体Hの位相シフト分布Φxに関連している。そして、この変位量Δxは、FPD20で検出される各画素40の強度変調信号の位相ズレ量ψに、次式8のように関連している。したがって、各画素40の強度変調信号の位相ズレ量ψを求めることにより、式8から屈折角φが求まり、式7を用いて位相シフト分布Φxの微分量が求まるから、これをxについて積分することにより、被検体Hの位相シフト分布Φx、すなわち被検体Hの位相コントラスト画像を生成することができる。被検体Hがない場合でも、第1及び第2の吸収型格子21,22の歪みや、作製誤差、配置誤差などによりX線に屈折が生じるため、本実施形態では、被検体Hがない場合の位相微分像第1の位相微分像と、被検体Hがある場合の位相微分像第2の位相微分像とを位相微分像生成部30によりそれぞれ生成する。位相微分像生成部30は、下記に示す縞走査法を用いて位相ズレ量ψを算出することにより、第1及び第2の位相微分像を生成する。縞走査法では、第1及び第2の吸収型格子21,22の一方を他方に対して相対的にx方向に並進移動させながら撮影を行うすなわち、両者の格子周期の位相を変化させながら撮影を行う。本実施形態では、前述の走査機構23により第2の吸収型格子22を移動させる。G2像に生じるモアレ縞は、第2の吸収型格子22の移動に伴って移動し、並進距離x方向への移動量が、第2の吸収型格子22の格子周期の1周期格子ピッチp2に達するとすなわち、位相変化が2πに達すると、元の位置に戻る。このように、格子ピッチp2の整数分の1ずつ第2の吸収型格子22を移動させながら、FPD20でG2像を撮影する。撮影により得られた複数の画像データから各画素の強度変調信号を取得し、位相微分像生成部30により、強度変調信号の位相ズレ量ψを画素ごとに算出する。この位相ズレ量ψの2次元分布が位相微分像に相当する。図7は、格子ピッチp2をM2以上の整数個に分割した走査ピッチp2/Mずつ第2の吸収型格子22を移動させる様子を模式的に示している。走査機構23は、k=0,1,2,,M-1のM個の各走査位置に、第2の吸収型格子22を順に並進移動させる。なお、同図では、第2の吸収型格子22の初期位置を、被検体Hが存在しない場合における第2の吸収型格子22の位置でのG1像の暗部が、X線遮蔽部22aにほぼ一致する位置k=0としているが、この初期位置は、k=0,1,2,,M-1のうちいずれの位置としてもよい。まず、k=0の位置では、主として、被検体Hにより屈折されなかったX線の成分非屈折成分が第2の吸収型格子22を通過する。次に、k=1,2,と順に第2の吸収型格子22を移動させていくと、第2の吸収型格子22を通過するX線は、非屈折成分が減少する一方で、被検体Hにより屈折されたX線の成分屈折成分が増加する。特に、k=M/2の位置では、主として、屈折成分のみが第2の吸収型格子22を通過する。k=M/2の位置を超えると、逆に、第2の吸収型格子22を通過するX線は、屈折成分が減少する一方で、非屈折成分が増加する。k=0,1,2,,M-1の各位置で、FPD20により撮影を行うと、各画素40について、M個の画素データが得られる。以下に、このM個の画素データ強度変調信号に基づき、位相ズレ量ψを算出する方法を説明する。第2の吸収型格子22の位置kにおける各画素40の画素データIkxは、一般に次式9で表される。ここで、xは画素のx方向に関する座標、A0は入射X線の強度、Anは強度変調信号のコントラストに対応する値、nは正の整数、iは虚数単位である。また、φxは、上記屈折角φを画素40の座標xの関数として表したものである。次式10で表される関係式を適用すると、上記屈折角φxは、式11で表される。ここで、arg[]は、偏角の抽出を意味しており、次式12で示すように、座標xにおける位相ズレ量ψxに相当する。また、式12は、次式13に示すようにtan-1の関数として表される。図8a,bにおいて、各画素40で得られる画素データIkxは、第2の吸収型格子22の位置kに対して、格子ピッチp2の周期で周期的に変化する。同図中の破線は、プレ撮影時に得られる強度変調信号を例示しており、位相ズレ量ψ1xを有している。実線は、本撮影時に得られる強度変調信号を例示しており、位相ズレ量ψ2xを有している。プレ撮影時の位相ズレ量ψ1xは、第1及び第2の吸収型格子21,22の歪みや、作製誤差、配置誤差などにより生じるものである。同図aは、被検体Hを透過したX線が入射する画素40の強度変調信号を例示しており、被検体Hの影響により強度変調信号に位相ズレψ2x-ψ1xが生じている。これに対して、同図bは、被検体Hが配置された領域外の素抜け領域に位置する画素40の強度変調信号を例示している。この場合、強度変調信号は、被検体Hの影響を受けないため、ψ2xとψ1xは等しくなるべきであるが、プレ撮影時と本撮影時とでの第1及び第2の吸収型格子21,22の位置関係に変動がある場合にはズレが生じる。例えば、走査機構23として、圧電素子等のアクチュエータを用いた場合には、走査ピッチp2/Mは比較的精度良く制御することが可能であるが、第2の吸収型格子22を、k=0からk=M-1まで走査を行った後、k=0の初期位置に戻した際に、精度良く元の位置に戻らず、無視することのできない程度数μm程度の誤差が生じることがある。この誤差が、プレ撮影時と本撮影時とでの第1及び第2の吸収型格子21,22の位置関係の変動量に相当する。以上の説明では、画素40のy方向に関するy座標を考慮していないが、y座標について同様の演算を行うことにより、位相ズレ量の2次元像ψ1x,y及びψ2x,yが得られる。2次元像ψ1x,yが前述の第1の位相微分像に対応し、2次元像ψ2x,yが前述の第2の位相微分像に対応する。なお、本実施形態では、位相微分像を、位相ズレψの2次元分布としているが、位相シフト分布Φx,yの微分値と比例関係を有するものであれば、屈折角φ等、いかなる物理量の2次元分布を位相微分像としてもよい。次に、以上のように構成されたX線撮影システム10の作用を説明する。図9のフローチャートに示すように、コンソール17からプレ撮影の開始指示がなされるとステップS10;YES、X線撮影システム10の各部が連携動作し、第2の吸収型格子22を移動させながら、各走査位置でX線源11によるX線の曝射及びFPD20による検出動作が行われ、複数の画像データが生成されるステップS11。例えば、走査ステップ数M=5の場合には、k=0,1,,4の各走査位置で曝射検出動作が行われ、図10に示すように、各走査位置kごとに画像データが得られる。各画像データには、前述のモアレ縞が生じている。このモアレ縞の位置は、走査位置kの変化に応じてx方向に移動し、走査位置kが格子ピッチp2に相当する1周期分変化すると元の位置に戻る。これらの画像データは、メモリ13に記憶され、位相微分像生成部30により上記式13を用いて第1の位相微分像ψ1x,yが生成されるステップS12。この第1の位相微分像ψ1x,yには、図11aに示すように、上記画像データのモアレ縞の1/2倍の周期を有するモアレ縞が生じる。このモアレ縞において色が黒い部分ほど値がπ/2に近く、色が白い部分ほど値が-π/2に近い。x方向図中下から上に沿って、黒色から白色に変化する部分が、π/2から-π/2に変化する境界線BLである。次いで、この境界線BLに基づいて、階段状データ作成部31により、同図bに示すように、第1の階段状データS1x,yが生成されるステップS13。なお、図11aでは、座標xの原点を下端とし、原点から上方向にサーチすることにより境界線BLを求めているが、図12aに示すように、座標xの原点を上端とし、原点から下方向にサーチすることにより境界線BLを求めてもよい。この場合には、境界線BLでは、値が-π/2からπ/2に変化するため、第1の階段状データS1x,yは、図12bに示すように生成される。図11a,bのx方向に関するプロファイルが、図3a,bに対応し、図12a,bのx方向に関するプロファイルが、図4a,bに対応する。次いで、階段状データ加算部32により、第1の位相微分像ψ1x,yに第1の階段状データS1x,yが加算され、第1の加算済位相微分像ψ1’x,yが生成されるステップS14。第1の加算済位相微分像ψ1’x,yのx方向に関するプロファイルは、図11の場合には、図3cに示すようにほぼ直線状となり、図12の場合には、図4cに示すようにほぼ直線状となる。第1の加算済位相微分像ψ1’x,yは、オフセットデータとしてオフセットデータ記憶部33に記憶されるステップS15。プレ撮影は、以上で動作が終了し、第2の吸収型格子22は、走査開始位置初期位置k=0に戻されるステップS16。そして、プレ撮影が終了した旨が、モニタへのメッセージ表示等により操作者に向けて報知されるステップS17。このプレ撮影は、本撮影の前に毎回行う必要はなく、X線撮影システム10の立ち上げ時等に適宜行われる。一度プレ撮影を行った後、再度プレ撮影が行われた場合には、オフセットデータ記憶部33に記憶された既存のオフセットデータは、新たに得られたオフセットデータに上書きされる。次に、被検体HをX線源11と第1の吸収型格子21との間に配置した状態で本撮影が行われる。図13のフローチャートに示すように、コンソール17から本撮影の開始指示がなされるとステップS20;YES、プレ撮影と同様に、第2の吸収型格子22を移動させながら、各走査位置でX線源11によるX線の曝射及びFPD20による検出動作が行われ、複数の画像データが生成されるステップS21。これらの画像データは、メモリ13に記憶され、位相微分像生成部30により上記式13を用いて第2の位相微分像ψ2x,yが生成されるステップS22。この第2の位相微分像ψ2x,yにも、第1の位相微分像ψ1x,yと同様にモアレ縞が生じる。次いで、プレ撮影時と同様の手順で、階段状データ作成部31により、第2の階段状データS2x,yが生成されステップS23、階段状データ加算部32により、第2の位相微分像ψ2x,yに第2の階段状データS2x,yが加算され、第2の加算済位相微分像ψ2’x,yが生成されるステップS24。ここで、第2の加算済位相微分像ψ2’x,yのx方向に関するプロファイルは、ほぼ直線状となる。なお、被検体HによるX線の屈折は、該直線状のプロファイルをやや変形させる程度の影響を与える。第2の加算済位相微分像ψ2’x,yが減算処理部34に入力されるとともに、オフセットデータ記憶部33から第1の加算済位相微分像ψ1’x,yが読み出され、減算処理部34に入力される。そして、減算処理部34により、第2の加算済位相微分像ψ2’x,yから第1の加算済位相微分像ψ1’x,yを減算するオフセット補正が行われ、補正済位相微分像が生成されるステップS25。第1及び第2の加算済位相微分像ψ1’x,y,ψ2’x,yは、いずれもx方向に関するプロファイルがほぼ直線化されているため、減算処理後の補正済位相微分像からは、従来のようなプレ撮影と本撮影との間での第1及び第2の吸収型格子21,22の位置変動によるアーチファクトの発生が防止される。減算処理部34により生成された補正済位相微分像は、位相コントラスト画像生成部35に入力され、x方向への積分処理がなされることにより、位相コントラスト画像が生成されるステップS26。この位相コントラスト画像は、画像記録部15に記録された後、コンソール17に出力され、モニタに表示されるステップS27。以上で、本撮影動作は終了する。なお、位相コントラスト画像に代えて、画像記録部15に補正済位相微分像を記録することや、モニタに補正済位相微分像を表示することも可能である。なお、図11及び図12は、モアレ縞の境界線BLが走査方向x方向に直交するように生じた場合を例示しているが、第1及び第2の吸収型格子21,22にz軸周りの回転誤差が生じた場合には、図14aに示すように、モアレ縞に回転が生じ、境界線BLがy方向に対して傾斜してしまう。そこで、階段状データ加算部32を、回転モアレが生じた場合にも適切な階段状データを作成すべく、第1及び第2の位相微分像ψ1x,y,ψ2x,yに対して以下の処理を行うように構成することが好ましい。以下、第1の位相微分像ψ1x,yを例にとって説明する。まず、階段状データ加算部32は、第1の位相微分像ψ1x,yの1つの角x=0,y=0を原点としてy方向に1ライン分のスキャンを行うとともに、値がπ/2から-π/2、または-π/2からπ/2に変化する境界点を求め、原点から境界点を通過するたびにπまたは-πずつ加算することにより、x=0における初期値S10,yを算出する。同図に示すように検出点y1,y2が得られた場合、S10,yは、0≦y<y1で0、y1≦y<y2で-π、y2≦y<y3で-2π、y3≦yで-3πとなる。次に、階段状データ加算部32は、x=0の各y座標からx方向にスキャンを行うとともに、値がπ/2から-π/2、または-π/2からπ/2に変化する境界点を求め、境界点を通過するたびに、初期値S10,yにπまたは-πずつ加算する。以上の処理により、境界線を通過するたびに、値がπずつ変化した第1の階段状データS1x,yが得られる。階段状データ加算部32は、第2の位相微分像ψ2x,yについても同様の処理を行い第1の階段状データS2x,yを生成する。上記説明では、原点からy方向にスキャンすることにより初期値S10,yを求め、x=0の各y座標からx方向にスキャンを行うことにより第1の階段状データS1x,yを求めているが、逆に、原点からx方向にスキャンすることにより初期値S1y,0を求め、y=0の各x座標からy方向にスキャンを行うことにより第1の階段状データS1x,yを求めるようにしてもよい。また、S10,0を、0以外の値としても良い。さらに、第1の位相微分像ψ1x,yの4つの角のうちいずれの位置を原点としても良い。第2実施形態上記第1実施形態では、X線源11からFPD20までの距離を長くした場合に、X線焦点11aの焦点サイズ一般的に0.1mm~1mm程度によるG1像のボケが影響し、位相コントラスト画像の画質の低下をもたらす恐れがある。そこで、本発明の第2実施形態として、図15に示すように、X線源11の射出側にマルチスリット線源格子60を配置する。第2実施形態のX線撮影システムは、マルチスリット60を備えること以外は、上記第1実施形態と同一構成である。マルチスリット60は、第1及び第2の吸収型格子21,22と同様な構成の吸収型格子であり、y方向に延伸した複数のX線遮蔽部61が、x方向に周期的に配列されたものである。このマルチスリット60は、X線源11からのX線を部分的に遮蔽してx方向に関する実効的な焦点サイズを縮小するとともに、x方向に多数の点光源分散光源を形成することにより、G1像のボケを抑制する。なお、x方向に隣接するX線遮蔽部61の間には、同様に、X線低吸収部図示せずが設けられている。本実施形態では、プレ撮影と本撮影との間でマルチスリット60を含む格子位置に何らかの変動があった場合においても、その変動によるアーチファクトの発生が防止される。第3実施形態上記第1及び第2実施形態では、第1の吸収型格子21を、X線低吸収部21bを通過したX線を線形的に投影するように構成しているが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、第1の吸収型格子21でX線を回折することにより、いわゆるタルボ干渉効果が生じる構特許第4445397号公報等に記載の構成とすることも可能である。本発明の第3実施形態として、第1の吸収型格子21を回折格子とし、第1及び第2の吸収型格子21,22の間の距離L2をタルボ干渉距離に設定して、タルボ干渉計を構成する。本実施形態では、タルボ干渉効果により第1の格子21により生成されるG1像自己像が、第2の吸収型格子22の位置に形成される。また、本実施形態では、第1の吸収型格子21を、位相型格子位相型回折格子としても良い。この場合には、X線高吸収部21aとX線低吸収部21bとの間で、X線にπまたはπ/2の位相差が生じるように、厚みや材料を設定すれば良い。なお、上記第1~第3実施形態では、被検体HをX線源11と第1の吸収型格子21との間に配置しているが、被検体Hを第1の吸収型格子21と第2の吸収型格子22との間に配置しても良い。この場合にも同様に位相コントラスト画像の生成が可能である。第4実施形態また、上記第1~第3実施形態では、第2の吸収型格子22がFPD20とは独立して設けられているが、特開平2009-133823号公報に開示された構成のX線画像検出器を用いることにより、第2の吸収型格子22を排することができる。本発明の第4実施形態として、第2の吸収型格子22を排して、下記の構成のX線画像検出器を用いる。本実施形態のX線画像検出器は、X線を電荷に変換する変換層と、変換層において変換された電荷を収集する電荷収集電極とを備えた直接変換型のX線画像検出器において、各画素の電荷収集電極が、一定の周期で配列された線状電極を互いに電気的に接続してなる複数の線状電極群を、互いに位相が異なるように配置することにより構成されている。本実施形態では、電荷収集電極が特許請求の範囲に記載の強度変調手段を構成している。図16において、本実施形態のFPD70には、画素71がx方向及びy方向に沿って一定のピッチで2次元配列されており、各画素71には、X線を電荷に変換する変換層によって変換された電荷を収集するための電荷収集電極72が形成されている。電荷収集電極72は、第1~第6の線状電極群72a~72fから構成されており、各線状電極群の線状電極の配列周期の位相がπ/3ずつずれている。具体的には、第1の線状電極群72aの位相を0とすると、第2の線状電極群72bの位相はπ/3、第3の線状電極群72cの位相は2π/3、第4の線状電極群72dの位相はπ、第5の線状電極群72eの位相は4π/3、第6の線状電極群72fの位相は5π/3である。さらに、各画素71には、電荷収集電極72により収集された電荷を読み出すためのスイッチ群73が設けられている。スイッチ群73は、第1~第6の線状電極群72a~72fのそれぞれに設けられたTFTスイッチからなる。第1~第6の線状電極群72a~72fにより収集された電荷を、スイッチ群73を制御してそれぞれ個別に読み出すことによって、一度の撮影により、互いに位相の異なる6種類のG2像が検出される。この6種類のG2像に対応する複数の画像データに基づいて位相コントラスト画像が生成される。その他の構成については、上記第1実施形態と同一であるので、説明は省略する。本実施形態では、撮影部12から第2の吸収型格子22が不要となるため、コスト削減とともに、さらなる薄型化が可能となる。また、本実施形態では、一度の撮影により、異なる位相で強度変調が行われた複数のG2像を検出することが可能であるため、縞走査のための物理的な走査が不要となり、走査機構23を排することができる。なお、上記構成の電荷収集電極72に代えて、特開平2009-133823号公報に記載のその他の構成の電荷収集電極を用いることも可能である。さらに、第2の吸収型格子22を排することを可能とする別の実施形態として、X線画像検出器により得られたG1像直接検出しを、信号処理によって位相を変えながら周期的にサンプリングすることで、互いに位相の異なる複数のG2像に対応する画像データを生成することも可能である。第5実施形態また、上記第1~第4実施形態では、縞走査法により位相微分像を求めているが、本発明はこれに限定されず、国際公開WO2010/050483に記載されたフーリエ変換法により位相微分像を求めてもよい。このフーリエ変換法は、X線画像検出器により得られた1枚分の画像データをフーリエ変換することによって画像データに生じるモアレ縞のフーリエスペクトルを取得し、このフーリエスペクトルからキャリア周波数に対応したスペクトルを分離して逆フーリエ変換を行なうことにより位相微分像を得る方法である。この場合には、第1及び第2の吸収型格子21,22を移動させる必要がなく、走査機構23が不要となる。以上説明した各実施形態は、医療診断用の放射線撮影システムに限定されず、工業用等のその他の放射線撮影システムに適用することが可能である。また、放射線として、X線以外に、ガンマ線等を用いることも可能である。"