基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた導電層;および前記導電層の少なくとも一面に備えられた吸光層を含む構造体。前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が15以下であることを特徴とする、請求項1に記載の構造体。前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が10以下であることを特徴とする、請求項1または2に記載の構造体。前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が5以下であることを特徴とする、請求項1から3の何れか1項に記載の構造体。前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が3以下であることを特徴とする、請求項1から4の何れか1項に記載の構造体。前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が15以下であることを特徴とする、請求項1から5の何れか1項に記載の構造体。前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が10以下であることを特徴とする、請求項1から6の何れか1項に記載の構造体。前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が5以下であることを特徴とする、請求項1から7の何れか1項に記載の構造体。前記吸光層が前記導電層と基材との間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が3以下であることを特徴とする、請求項1から8の何れか1項に記載の構造体。前記導電層が基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が15以下であることを特徴とする、請求項1から9の何れか1項に記載の構造体。前記導電層が前記基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が10以下であることを特徴とする、請求項1から10の何れか1項に記載の構造体。前記導電層が前記基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が5以下であることを特徴とする、請求項1から11の何れか1項に記載の構造体。前記導電層が前記基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が3以下であることを特徴とする、請求項1から12の何れか1項に記載の構造体。前記構造体の20度光沢gloss値が350以下であることを特徴とする、請求項1から13の何れか1項に記載の構造体。前記構造体の20度光沢gloss値が300以下であることを特徴とする、請求項1から14の何れか1項に記載の構造体。前記構造体の60度光沢gloss値が300以下であることを特徴とする、請求項1から15の何れか1項に記載の構造体。前記構造体の60度光沢gloss値が250以下であることを特徴とする、請求項1から16の何れか1項に記載の構造体。前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が30~40であることを特徴とする、請求項1から17の何れか1項に記載の構造体。前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が25~30であることを特徴とする、請求項1から18の何れか1項に記載の構造体。前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が16~25であることを特徴とする、請求項1から19の何れか1項に記載の構造体。前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が5~16であることを特徴とする、請求項1から20の何れか1項に記載の構造体。前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が1~5であることを特徴とする、請求項1から21の何れか1項に記載の構造体。前記吸光層は、誘電性物質、金属、金属の合金、金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物および金属の炭化物からなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、請求項1から22の何れか1項に記載の構造体。前記金属は、Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、Ti、V、AuおよびAgからなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、請求項23に記載の構造体。基材;前記基材の少なくとも一面に備えられた導電性パターン;および前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターンを含む構造体を含むタッチパネル。前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの両面のうちディスプレイモジュールが取り付けられる面に対向する面に備えられることを特徴とする、請求項25に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの両面に備えられることを特徴とする、請求項25または26に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて10~20減少することを特徴とする、請求項25から27の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて20~30減少することを特徴とする、請求項25から28の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて30~40減少することを特徴とする、請求項25から29の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて40~50減少することを特徴とする、請求項25から30の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記吸光性パターンがないことを除いて同一の構成を有する構造体の全反射率R0に比べて50~70減少することを特徴とする、請求項25から31の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が40以下であることを特徴とする、請求項25から32の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が30以下であることを特徴とする、請求項25から33の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が20以下であることを特徴とする、請求項25から34の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が10以下であることを特徴とする、請求項25から35の何れか1項に記載のタッチパネル。前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が90以下であることを特徴とする、請求項25から36の何れか1項に記載のタッチパネル。前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が70以下であることを特徴とする、請求項25から37の何れか1項に記載のタッチパネル。前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が30以下であることを特徴とする、請求項25から38の何れか1項に記載のタッチパネル。前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が10以下であることを特徴とする、請求項25から39の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体の20度光沢gloss値が350以下であることを特徴とする、請求項25から40の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体の20度光沢gloss値が300以下であることを特徴とする、請求項25から41の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体の60度光沢gloss値が300以下であることを特徴とする、請求項25から42の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体の60度光沢gloss値が250以下であることを特徴とする、請求項25から43の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が30~40であることを特徴とする、請求項25から44の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が25~30であることを特徴とする、請求項25から45の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が16~25であることを特徴とする、請求項25から46の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が5~16であることを特徴とする、請求項25から47の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が1~5であることを特徴とする、請求項25から48の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体のヘイズ値は5以下であることを特徴とする、請求項25から49の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体のヘイズ値は3以下であることを特徴とする、請求項25から50の何れか1項に記載のタッチパネル。前記構造体のヘイズ値は1.5以下であることを特徴とする、請求項25から51の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは、前記導電性パターンと前記基材との間に備えられることを特徴とする、請求項25から52の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの前記基材側の反対面に備えられることを特徴とする、請求項25から52の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは、前記導電性パターンと前記基材との間、および前記導電性パターンの前記基材側の反対面に全て備えられることを特徴とする、請求項25から52の何れか1項に記載のタッチパネル。基材と、前記基材の少なくとも一面上に備えられた導電性パターン、および前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域に備えられた吸光性パターンを含む積層体をさらに含むことを特徴とする、請求項25から55の何れか1項に記載のタッチパネル。2個の前記積層体の間に絶縁層が備えられることを特徴とする、請求項56に記載のタッチパネル。2個の前記積層体は、互いに反対方向または同じ方向に配置されることを特徴とする、請求項56または57に記載のタッチパネル。前記基材の両面に、各々、前記導電性パターンおよび吸光性パターンが備えられることを特徴とする、請求項25から58の何れか1項に記載のタッチパネル。前記導電性パターンは、不規則なパターン形態を有することを特徴とする、請求項25から59の何れか1項に記載のタッチパネル。前記導電性パターンは、ボロノイ図をなす図形の境界線形態であることを特徴とする、請求項60に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの線幅と等しいか大きい線幅を有するパターン形態を有することを特徴とする、請求項25から61の何れか1項に記載のタッチパネル。前記導電性パターンの線幅は10μm以下、厚さは2μm以下、およびピッチは600μm以下であることを特徴とする、請求項25から62の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは、蒸着法によって形成されることを特徴とする、請求項25から63の何れか1項に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンおよび前記導電性パターンは、蒸着法によって形成されることを特徴とする、請求項25から64の何れか1項に記載のタッチパネル。前記積層体の導電性パターンのうち電気的に接続された導電性パターンの面抵抗が0.5~200オーム/スクエアであることを特徴とする、請求項56に記載のタッチパネル。前記吸光性パターンは、誘電性物質、金属、金属の合金、金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物および金属の炭化物からなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、請求項25から66の何れか1項に記載のタッチパネル。前記金属は、Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、Ti、V、AuおよびAgからなる群から選択される1種以上を含むことを特徴とする、請求項67に記載のタッチパネル。請求項25から68の何れか1項に記載のタッチパネルおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイ。透明基材;前記透明基材の少なくとも一面に備えられ、金属、金属合金、金属酸化物、金属窒化物および金属酸窒化物のうち少なくとも1つを含む導電層;および前記導電層の少なくとも一面に備えられた吸光層を含み、前記吸光層が前記導電層と透明基材との間に備えられ、前記透明基材側において測定した全反射率が15以下であることを特徴とする構造体。透明基材;前記透明基材の少なくとも一面に備えられ、アルミニウム、銀、銅、ネオジムおよびニッケルからなる金属群から選択される1種以上の金属、前記金属群から選択される2種以上の金属の合金、前記金属群から選択される1種以上の金属を含む酸化物、前記金属群から選択される1種以上の金属を含む窒化物、および前記金属群から選択される1種以上の金属を含む酸窒化物からなる群から選択される少なくとも1つを含む導電性パターン;および前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターンを含む構造体を含むタッチパネル。本発明は、従来のITOを基にした導電性膜を用いたタッチパネルとは差別化される、有効画面部に備えられた導電性パターンを含むタッチパネルにおいて、導電性パターンの視認性および外部光に対する反射特性を改善することをその目的とする。前記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた導電層、および前記導電層の少なくとも一面に備えられた吸光層を含む構造体を提供する。また、本発明は、基材;前記基材の少なくとも一面に備えられた導電性パターン;および前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターンを含む構造体を含むタッチパネルを提供する。また、本発明は、前記タッチパネルおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイを提供する。また、本発明は、透明基材;前記透明基材の少なくとも一面に備えられ、金属、金属合金、金属酸化物、金属窒化物、および金属酸窒化物のうち少なくとも1つを含む導電層;および前記導電層の少なくとも一面に備えられた吸光層を含み、前記吸光層が前記導電層と透明基材との間に備えられ、前記透明基材側において測定した全反射率が15以下であることを特徴とする構造体を提供する。また、本発明は、透明基材;前記透明基材の少なくとも一面に備えられ、アルミニウム、銀、銅、モリブデン、ネオジムおよびニッケルなどからなる金属群から選択される1種以上の金属、前記金属群から選択される2種以上の金属の合金、前記金属群から選択される1種以上の金属を含む酸化物、前記金属群から選択される1種以上の金属を含む窒化物、および前記金属群から選択される1種以上の金属を含む酸窒化物からなる群から選択される少なくとも1つを含む導電性パターン;および前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターンを含む構造体を含むタッチパネルを提供する。本発明では、有効画面部に備えられた導電性パターンを含むタッチパネルにおいて、使用者が見る側に吸光性パターンを導入することにより、導電性パターンの導電度に影響を及ぼすことなく導電性パターンによる反射を防止し、吸光度を向上させることによって導電性パターンの隠蔽性を向上させることができる。また、前記のような吸光性パターンの導入により、タッチパネルのコントラスト特性をより向上させることができる。本発明による構造体は、基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた導電層、および前記導電層の少なくとも一面に備えられた吸光層を含むことを特徴とする。本発明において、前記吸光層は吸光性を有する層を意味するものであり、吸光層だけでなく、黒化層、暗色化層などの用語で表現されてもよい。本発明による構造体において、前記吸光層の前記導電層と接する面の反対面方向において測定した全反射率が15以下であってもよく、10以下であってもよく、5以下であってもよく、3以下であってもよい。本発明において、前記全反射率は、測定しようとする面の反対面を黒層perfectblackで処理した後、測定しようとする面に90度で入射した550nmの光の反射率を意味する。本発明による構造体において、前記吸光層が前記導電層と基材の間に備えられ、前記基材側において測定した全反射率が15以下であってもよく、10以下であってもよく、5以下であってもよく、3以下であってもよい。本発明による構造体において、前記導電層が基材と接する面の反対面に前記吸光層が備えられ、前記吸光層側において測定した全反射率が15以下であってもよく、10以下であってもよく、5以下であってもよく、3以下であってもよい。本発明による構造体において、前記吸光層の測定しようとする面に90度で入射した光の全反射率を測定して下記の図16~18に示す。下記の図16および図18に示すように、550nmの光に対する全反射率が15以下、好ましくは10以下、より好ましくは5以下、さらに好ましくは3以下である場合に、吸光層の役割を充分に果たすことができるということが分かる。本発明による構造体の20度光沢gloss値が350以下であってもよく、300以下であってもよい。また、本発明による構造体の60度光沢gloss値が300以下であってもよく、250以下であってもよい。下記の図16による本発明の構造体の20度光沢gloss値は76であり、60度光沢gloss値は112であった。また、下記の図17による本発明の構造体の20度光沢gloss値は237であり、60度光沢gloss値は197であった。また、下記の図18による本発明の構造体の20度光沢gloss値は10であり、60度光沢gloss値は64であった。本発明による構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が1~40であってもよい。より具体的には、前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が30~40であってもよく、25~30であってもよく、16~25であってもよく、5~16であってもよく、1~5であってもよい。下記の図16による本発明の構造体の吸光層の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が25~30であり、下記の図18による本発明の構造体の吸光層の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が5~12であった。本発明による構造体は、前記基材、導電層および吸光層が各々別個の層として積層される構造だけでなく、前記導電層および吸光層がスパッタリングなどのような蒸着工程によって順次蒸着された多層構造を意味する。本発明による構造体は、積層体、多層構造体などの用語としても表現されてもよい。また、本発明によるタッチパネルは、基材と、前記基材の少なくとも一面に備えられた導電性パターン、および前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターンを含む構造体を含むことを特徴とする。本発明では、有効画面部に備えられた導電性パターンを含むタッチパネルにおいて、前記導電性パターンの視認性に前記導電性パターンによる光反射が主要な影響を及ぼすという事実を見出し、これを改善しようとした。具体的には、従来のITOを基にしたタッチパネルでは、ITO自体の高い透過度のために導電性パターンの反射率による問題がそれほど大きく現れなかったが、有効画面部内に備えられた導電性パターンを含むタッチパネルでは、前記導電性パターンの反射率および吸光性が重要であるということを見出した。そこで、本発明では、タッチパネルにおいて、導電性パターンの反射率を下げて隠蔽性を向上させるために、吸光性パターンを導入することを特徴とする。本発明において、前記吸光性パターンは、タッチパネルにおいて、使用者が見る側、必要な場合、両側に備えられることにより、前記導電性パターンの高い反射率による隠蔽性を向上させることができる。具体的には、前記吸光性パターンは吸光性を有するため、導電性パターン自体に入射される光と導電性パターンから反射される光の量を減少させることにより、導電性パターンによる反射率を下げることができる。また、前記吸光性パターンは、導電性パターンに比べて低い反射率を有することが好ましい。これにより、使用者が導電性パターンを直接見る場合に比べて光の反射率を下げることができるため、導電性パターンの視認性を大幅に下げることができる。本発明によるタッチパネルにおいて、前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの両面のうちディスプレイモジュールが取り付けられる面に対向する面に備えられることができる。また、前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの両面に備えられることができる。前記吸光性パターンを構成する材料と導電性パターンを構成する材料とからなる全面層の全反射率は小さいほど好ましく、15以下であってもよく、10以下であってもよく、5以下であってもよく、3以下であってもよい。Ag、AuまたはAlのように高い全反射率を有する物質は、本発明における吸光性パターンに好適ではない物質と言える。このような全反射率は小さいほど好ましいが、物質選択の観点から全面層における全反射率が0.1以上である材料を用いることができる。本発明によるタッチパネルにおいて、前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、下記数学式1で計算することができる。[数学式1]全反射率Rt=タッチ強化ガラスの反射率表面がフィルムである場合は、フィルムの反射率閉鎖率×吸光性パターンの反射率また、前記タッチパネルの構成が、構造体の2種がラミネートされた場合は、構造体の全反射率Rtは、下記数学式2で計算することができる。[数学式2]全反射率Rt=タッチ強化ガラスの反射率表面がフィルムである場合は、フィルムの反射率閉鎖率×吸光性パターンの反射率×2したがって、吸光性パターンがある場合とない場合の差は吸光性パターンの反射率に依存し、このような観点から、前記吸光性パターンがないことを除いて同様の構成を有する構造体の全反射率R0に比べ、10~20減少したものであってもよく、20~30減少したものであってもよく、30~40減少したものであってもよく、40~50減少したものであってもよく、50~70減少したものであってもよい。すなわち、前記数学式1および2において、閉鎖率範囲を1~10範囲で変化させて反射率範囲を1~30まで変化させる場合、最大70の反射率の減少効果を示すことができ、最小10の反射率の減少効果を示すことができる。本発明によるタッチパネルにおいて、前記吸光性パターンは前記導電性パターンと接する第1面および前記第1面に対向する第2面を含み、前記吸光性パターンの第2面側において前記構造体の全反射率を測定した時、前記構造体の全反射率Rtは、前記基材の全反射率R0との差が40以下であってもよく、30以下であってもよく、20以下であってもよく、10以下であってもよい。本発明によるタッチパネルにおいて、前記タッチパネルは前記構造体の一側に備えられた基板をさらに含み、前記構造体が備えられた基板の全反射率を前記基板側において測定した時、前記基板の全反射率との差が90以下であってもよく、70以下であってもよく、30以下であってもよく、10以下であってもよい。ここで、前記全反射率は、吸光性パターンを含むタッチセンサ自体の全反射率を意味する。本明細書において、全反射率は、入射光を100にした時、光が入射した対象層または積層体によって反射された反射光のうち波長550nmの値を基準に測定した値が好ましく、これは、550nmの波長の全反射率が通常の全体的な全反射率と大きくは違わないためである。例えば、基材上に前記吸光性パターンを構成する材料を蒸着法、例えば、スパッタリング法、CVDchemicalvapordeposition法、熱蒸着thermalevaporation法、電子ビームe-beam蒸着法などの方法を利用して全面吸光層を形成した後、空気側から入射された可視光線の反射率550nmを測定することができる。この時、前記基材の背面、すなわち前記吸光層が形成されない面に全面黒化処理を実施することにより、基材の背面における反射を除去することができる。前記基材としては透明基板を用いることができるが、特に限定されず、例えば、ガラス、プラスチック基板、プラスチックフィルムなどを用いることができる。本発明によるタッチパネルにおいて、前記構造体の20度光沢gloss値は350以下であってもよく、300以下であってもよい。また、本発明による構造体の60度光沢gloss値は300以下であってもよく、250以下であってもよい。本発明によるタッチパネルにおいて、前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が1~40であってもよい。より具体的には、前記構造体の色範囲は、CIE色座標を基準に、L値が30~40であってもよく、25~30であってもよく、16~25であってもよく、5~16であってもよく、1~5であってもよい。本発明によるタッチパネルにおいて、前記構造体のヘイズ値は5以下であってもよく、3以下であってもよく、1.5以下であってもよい。本発明によるタッチパネルにおいて、前記吸光性パターンは前記導電性パターンと基材との間に備えられてもよく、前記吸光性パターンは前記導電性パターンの基材側の反対面に備えられてもよい。また、前記吸光性パターンは、前記導電性パターンと基材との間、および前記導電性パターンの基材側の反対面に全て備えられてもよい。前記吸光性パターンを構成する材料からなる全面層の吸光度は特に限定されないが、5以上であってもよく、15以上であってもよく、20以上であってもよい。また、前記吸光性パターンを構成する材料からなる全面層の光透過率は、特に限定されるものではない。前記吸光性パターンは、蒸着法、例えば、スパッタリング法、CVDchemicalvapordeposition法、熱蒸着thermalevaporation法、電子ビームe-beam蒸着法などの方法を利用して吸光層を形成した後、これをパターン化することによって形成することができる。特に、スパッタリング法を利用する場合は、吸光性パターンのフレキシブルflexible特性に優れる。前記熱蒸着thermalevaporation法および電子ビームe-beam蒸着法は、単純に粒子が積もるが、スパッタリング法は、衝突によって粒子が核を形成し、核が成長して曲がっても機械的物性に優れるという特徴がある。また、前記スパッタリング法を利用する場合は、前記吸光性パターンと他の層の界面接着力に優れる。上記のように蒸着法を利用することにより、粘着層または接着層を用いることなく基材または導電性パターンに吸光性パターンを直接形成することができ、所望の厚さおよびパターン形状を実現することができる。本発明によるタッチパネルは、基材と、前記基材の少なくとも一面上に備えられた導電性パターン、および前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域に備えられた吸光性パターンを含む構造体をさらに含むことができる。ここで、前記2個の積層体の間には、絶縁層が備えられることができる。また、前記2個の積層体は、互いに反対方向または同じ方向に配置されてもよい。前記基材の両面に、各々、前記導電性パターンおよび吸光性パターンが備えられてもよい。本発明によるタッチパネルに含まれる積層体の例を図1~図3に例示する。図1~図3は、基材、導電性パターンおよび吸光性パターンの積層順を例示するためのものであり、前記導電性パターンおよび前記吸光性パターンは、実際には全面層ではなくパターン形態を有する。図1によれば、前記吸光性パターンが前記基材と前記導電性パターンとの間に配置された場合を例示するものである。これは、使用者が基材側からタッチパネルを見る場合、導電性パターンによる全反射率を大幅に減少させることができる。図2によれば、前記吸光性パターンが前記導電性パターンの基材側の反対面に配置された場合を例示するものである。これは、使用者が基材側の反対面からタッチパネルを見る場合、導電性パターンによる全反射率を大幅に減少させることができる。図3によれば、前記吸光性パターンが前記基材と前記導電性パターンとの間、および前記導電性パターンの基材側の反対面に全て配置された場合を例示するものである。これは、使用者がタッチパネルを基材側から見る場合とその反対側から見る場合のいずれも導電性パターンによる全反射率を大幅に減少させることができる。図4に吸光性パターンに入射した光の経路を例示する。吸光性パターンに入射した光の一部は空気層と吸光性パターンの界面から反射し、光の一部は吸光性パターンに吸収され、光の一部は吸光性パターンと基材の界面から反射し、光の一部は吸光性パターンを透過することができる。本発明において、前記吸光性パターンは、前記導電性パターンと同時にまたは別途にパターン化されることはできるが、各々のパターンを形成するための層は別途に形成される。このようにパターンを形成することにより、吸光層パターン自体の効果を最適化および最大化し、且つ、静電容量式タッチパネルに求められる微細な導電性パターンを実現することができる。静電容量式タッチパネルにおいて、微細な導電性パターンを実現することができない場合、抵抗などのタッチパネルに求められる物性を達成することができない。本発明において、前記吸光性パターンと前記導電性パターンは別途のパターン層が積層構造をなすという点で、吸光物質の少なくとも一部が導電性パターン内に陥没または分散している構造や単一層の導電層が表面処理によって表面側の一部が物理的または化学的に変形がなされた構造とは差別される。また、本発明によるタッチパネルにおいて、前記吸光性パターンは、接着層または粘着層を介在することなく、前記基材上に直接または前記導電性パターン上に直接備えられる。接着層または粘着層は、耐久性や光学物性に影響を及ぼし得る。また、本発明によるタッチパネルに含まれる積層体は接着層または粘着層を用いる場合と比較する時、製造方法が全く相違する。さらに、接着層や粘着層を用いる場合に比べ、本発明では、基材または導電性パターンと吸光性パターンの界面特性に優れる。本発明において、前記吸光性パターンの厚さは、前述した全反射率を有するのであれば、特に限定されない。但し、製造工程中の導電性パターンとのエッチングetching特性を考慮する場合、10nm~400nmの間から選択することが好ましいが、用いる材料および製造工程に応じて好ましい厚さは異なってもよく、本発明の範囲が前記数値範囲によって限定されるものではない。前記吸光性パターンは単一層からなってもよく、2層以上の複数層からなってもよい。前記吸光性パターンは無彩色系列の色を帯びることが好ましいが、特にこれに限定されるものではない。この時、無彩色系列の色とは、物体の表面に入射する光が選択吸収されず、各成分の波長に対して均一に反射吸収される時に表れる色を意味する。前記吸光性パターンの材料として、好ましくは、全面層を形成した時に前述した全反射率を有する材料であれば、特に制限されることなく用いることができる。例えば、カラーフィルターにおいてブラックマトリックス材料として用いられるものなどを用いることができる。また、前記吸光性パターンの材料としては、反射防止機能が与えられた吸光性材料を用いることもできる。例えば、前記吸光性パターンは、Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cuなどを用いて、当業者が設定した蒸着条件などに応じて形成した酸化物膜、窒化物膜、酸化物-窒化物膜、炭化物膜または金属膜およびこれらの組み合わせであってもよい。本発明者は、Mo、AlまたはCuを用いる場合において、酸化物の場合に比べて窒化物の場合が、本発明で言及した吸光性パターンにより好適な光学的特性を有することを確認した。具体的な例として、前記吸光性パターンは、NiおよびMoを同時に含むことができる。前記吸光性パターンは、Ni50~98原子およびMo2~50原子を含むことができ、その他の金属、例えば、Fe、Ta、Tiなどの原子を0.01~10原子さらに含むことができる。ここで、前記吸光性パターンは、必要な場合、窒素0.01~30原子または酸素および炭素4原子以下をさらに含むこともできる。また1つの具体的な例として、前記吸光性パターンは、SiO、SiO2、MgF2およびSiNxxは1以上の整数から選択される誘電性物質およびFe、Co、Ti、V、Al、Cu、AuおよびAgのうちから選択される金属を含むことができ、Fe、Co、Ti、V、Al、Cu、AuおよびAgのうちから選択される2種以上の金属の合金をさらに含むことができる。前記誘電性物質は外部光が入射される方向から遠くなるほど次第に減少するように分布しており、前記金属および合金成分はその逆に分布していることが好ましい。この時、前記誘電性物質の含量は20~50重量、前記金属の含量は50~80重量であることが好ましい。前記吸光性パターンが合金をさらに含む場合、前記吸光性パターンは、誘電性物質10~30重量、金属50~80重量および合金5~40重量を含むことが好ましい。また1つの具体的な例として、前記吸光性パターンは、ニッケルとバナジウムの合金、ニッケルとバナジウムの酸化物、窒化物または酸窒化物のうちいずれか1つ以上を含む薄膜からなることができる。この時、バナジウムは26~52原子で含まれることが好ましく、ニッケルに対するバナジウムの原子比は26/74~52/48であることが好ましい。また1つの具体的な例として、前記吸光性パターンは2以上の元素を有し、1つの元素組成比率が外光が入射する方向に応じて100オングストローム当たり最大約20ずつ増加する遷移層を含むことができる。この時、1つの元素はクロム、タングステン、タンタル、チタン、鉄、ニッケルまたはモリブデンのような金属元素であってもよく、金属元素以外の元素は酸素、窒素または炭素であってもよい。また1つの具体的な例として、前記吸光性パターンは、第1酸化クロム層、金属層、第2酸化クロム層およびクロムミラーを含むことができ、この時、クロムの代わりに、タングステン、バナジウム、鉄、クロム、モリブデンおよびニオビウムのうちから選択された金属を含むことができる。前記金属層は10~30nmの厚さ、前記第1酸化クロム層は35~41nmの厚さ、前記第2酸化クロム層は37~42nmの厚さを有することが好ましい。また1つの具体的な例として、前記吸光性パターンとしては、アルミナAl2O3層、クロム酸化物Cr2O3層およびクロムCr層の積層構造を用いることができる。ここで、前記アルミナ層は反射特性の改善および光拡散の防止特性を有し、前記クロム酸化物層は鏡面反射率を減少させてコントラスト特性を向上させることができる。また1つの具体的な例として、前記吸光性パターンとしては、窒化アルミニウムAlNxおよびAlからなる積層構造を用いることができる。ここで、前記窒化アルミニウムAlNx層は、全体層の反射率を減少させてコントラスト特性を向上させることができる。本発明において、前記吸光性パターンは、基材と導電性パターンとの間に備えられることが好ましいが、タッチパネルの構成において、使用者が見る面が基材面でない他の面を通して見る場合、使用者と最も隣接した面に配置されることがより好ましい。本発明において、前記吸光性パターンは、前記導電性パターンに対応する領域に備えられる。ここで、導電性パターンに対応する領域とは、前記導電性パターンと同一形状のパターンを有することを意味する。但し、吸光性パターンのパターン規模が前記導電性パターンと完全に同一である必要はなく、吸光性パターンの線幅が導電性パターンの線幅に比べて狭いか広い場合でも本発明の範囲に含まれる。例えば、前記吸光性パターンは、前記導電性パターンが備えられた面積の50~150の面積を有することが好ましい。前記吸光性パターンは、前記導電性パターンの線幅と等しいか大きい線幅を有するパターン形態を有することが好ましい。前記吸光性パターンが前記導電性パターンの線幅より大きい線幅を有するパターン形状を有する場合、使用者が見る時、吸光性パターンが導電性パターンを遮る効果をより大幅に与えることができるため、導電性パターン自体の光沢や反射による効果を効率的に遮断できるという長所がある。しかし、前記吸光性パターンの線幅が前記導電性パターンの線幅と等しくても本発明が目的とする効果を達成することができる。前記吸光性パターンの線幅は、導電性パターンの線幅より、下記数学式3による値だけさらに大きい幅を有することが好ましい。[数学式3]Tcon×tangentΘ3×2前記数学式3において、Tconは、導電性パターンの厚さであり、Θ3は、タッチパネルの使用者の視角が位置したところから入射した光が前記導電性パターンおよび前記吸光性パターンのコーナーを通過する時、光が基材表面に対する法線となす角である。例えば、図1のような積層構造において、前記数学式3による計算式は図5に示す。Θ3は、タッチパネルの使用者の視角と基材がなす角Θ1が基材の屈折率および前記吸光性パターンと導電性パターンが配置された領域の媒質、例えば、タッチパネルの粘着剤の屈折率によってスネルの法則に応じて変化された角である。一例として、見る人がΘ3の値が約80度の角をなすように前記積層体を見ると仮定し、導電性パターンの厚さが約200nmであると仮定すれば、吸光性パターンが導電性パターンに対比し、線幅が側面を基準にする時に約2.24μm200nm×tan80×2だけ大きいことが好ましい。しかし、前述したように、吸光性パターンが導電性パターンと等しい線幅を有する場合でも本発明で目的とする効果を達成することができる。前述した吸光層と導電層の構造を形成するために、当業者に応じ、エッチング条件あるいは蒸着厚さなどを異にすることによってこれを適用することができる。本発明において、前記基材の材料は本発明による積層体を適用しようとする分野に応じて適切に選択されることができ、好ましい例としてはガラスまたは無機材料基板、プラスチック基板またはフィルムなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。前記導電性パターンの材料は特に限定されないが、金属であることが好ましい。前記導電性パターンの材料は、導電度に優れ、エッチングetchingが容易な材料であるほど好ましい。但し、一般的に導電度に優れる材料は反射率が高いという短所がある。しかし、本発明では、前記吸光性パターンを用いることにより、反射率の高い材料を用いて導電性パターンを形成することができる。本発明では、全反射率が70~80以上である材料を用いる場合でも、前記吸光性パターンを通じて反射率を下げ、導電性パターンの視認性を下げ、コントラスト特性を維持または向上させることができる。前記導電性パターンの材料の具体的な例としては、金、銀、アルミニウム、銅、ネオジム、モリブデン、ニッケルまたはこれらの合金を含む単一膜または多層膜が好ましい。ここで、前記導電性パターンの厚さは特に限定されないが、0.01~10μmであることが導電性パターンの導電度および形成工程の経済性の側面で好ましい。本発明の一実施例により、吸光層材料と導電層材料とからなる積層材を1つの材料とみなして測定した比抵抗値は1×106オームcm~30×106オームcmの間であることが好ましく、7×106オームcm以下であることがより好ましい。前記導電性パターンの形成方法としては特に限定されず、導電性パターンを印刷方法によって直接形成してもよく、導電層を形成した後にこれをパターン化する方法を利用してもよい。前記導電性パターンを印刷方法によって形成する場合、導電性材料のインクあるいはペーストを用いることができ、前記ペーストは、導電性材料の他に、バインダー樹脂、溶媒またはガラスフリットなどをさらに含むこともできる。導電層を形成した後にこれをパターン化する場合、エッチングレジストEtchingresist特性を有する材料を用いることができる。前記導電層は、蒸着、スパッタリング、湿式コーティング、蒸発、電解メッキまたは無電解メッキ、金属箔のラミネーションなどの方法によって形成することができる。前記導電層の形成方法として、有機金属、ナノ金属またはこれらの複合体溶液を基板上にコーティングした後、焼成および/または乾燥によって導電度を与える方法を利用することもできる。前記有機金属としては有機銀を用いることができ、前記ナノ金属としてはナノ銀粒子などを用いることができる。前記導電層のパターン化は、エッチングレジストパターンを用いた方法を利用することができる。エッチングレジストパターンは、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法またはレーザー転写、例えば、熱転写イメージングthermaltransferimagingなどを利用して形成することができ、印刷法またはフォトリソグラフィ法がより好ましい。前記エッチングレジストパターンを用いて前記導電性パターンをエッチングし、前記エッチングレジストパターンは除去することができる。本発明において、前記導電性パターンは、線幅が10μm以下、好ましくは0.1~10μm、より好ましくは0.2~8μm、さらに好ましくは5μm以下であることが良い。前記導電性パターンの厚さは10μm以下、好ましくは2μm以下、より好ましくは10~300nmであることが良い。前記導電性パターンの開口率は、85~99.5であることが好ましい。前記導電性パターンは、規則的なパターンであってもよく、不規則的なパターンであってもよい。規則的なパターンとしては、メッシュパターンなど当技術分野のパターン形態が用いられることができる。不規則なパターンとしては特に限定されないが、ボロノイ図をなす図形の境界線形態であってもよい。本発明において、不規則なパターンと吸光性パターンを共に用いる場合、不規則なパターンによって、指向性のある照明による反射光の回折パターンを除去することもでき、吸光性パターンによって、光の散乱による影響を最小化することができるため、視認性における問題点を最小化することができる。前記導電性パターンのピッチは600μm以下であることが好ましく、270μm以下がより好ましいが、これは、当業者が所望する透過度および導電度に応じて調整することができる。本発明において、前記基材、前記導電性パターンおよび前記吸光性パターンを含む構造体は、面抵抗が1~250オーム/スクエアであることが好ましい。このような範囲内であることがタッチパネルの作動に有利である。本発明において、前記吸光性パターンと前記導電性パターンはその側面が正テーパー角を有してもよいが、導電性パターンの基材側の反対面上に位置する吸光性パターンまたは導電性パターンは逆テーパー角を有してもよい。本発明によるタッチパネルは、前述した基材、導電性パターンおよび吸光性パターンを含む構造体の他に追加の構造体をさらに含むことができる。この場合、図6のように2個の構造体が互いに同じ方向に配置されてもよく、図7のように2個の構造体が互いに反対方向に配置されてもよい。図6および図7は、同一構造の構造体を2つ含む場合を例示したが、本発明のタッチパネルに含まれる構造体は同一構造である必要はなく、いずれか1つ、好ましくは使用者に最も近い側の構造体だけが前述した基材、導電性パターンおよび吸光性パターンを含むものであってもよく、さらに含まれる構造体は吸光性パターンを含まなくてもよい。また、2つ以上の構造体内の層の積層構造が互いに相違してもよい。2つ以上の構造体が含まれる場合、これらの間には絶縁層が備えられることができる。この時、絶縁層は、粘着層の機能がさらに与えられてもよい。また、本発明によるタッチパネルにおいて、前記基材の両面に各々導電性パターンおよび吸光性パターンが備えられることができる。本発明による導電性パターンおよび吸光性パターンを含む構造体で構成されたタッチパネルの全反射率は10以下であってもよく、7以下であってもよく、5以下であってもよく、2以下であってもよい。ここで、タッチパネルの全反射率は吸光性パターンが備えられた側から入射した光の全反射率を意味し、基材と空気層の界面における反射率は除いた値である。吸光性パターンを構成する材料の選択に応じた反射率の調節だけでなく、導電性パターンと吸光性パターンの界面における反射率、導電性パターンの厚さ、パターンの形態などの調節を通じて構造体全体の全反射率がさらに調節されることができる。本発明によるタッチパネルは、前記構造体上に前記導電性パターンが形成された有効画面部の他に電極部またはパッド部をさらに含むことができ、この時、有効画面部と電極部/パッド部は同一の導電体で構成されることができる。本発明によるタッチパネルは、保護フィルム、偏光フィルム、反射防止フィルム、防幻フィルム、耐指紋性フィルム、低反射フィルムなどのフィルムを1種以上さらに含むことができる。また、本発明は、タッチパネルの製造方法を提供する。本発明の一実施状態によれば、本発明は、基材上に導電性パターンを形成するステップ、および前記導電性パターンの形成前、後または前と後の全てに吸光性パターンを形成するステップを含むタッチパネルの製造方法を提供する。本発明のまた1つの実施状態によれば、基材上に導電性パターン形成用導電層を形成するステップと、前記導電層の形成前、後または前と後の全てに吸光性パターン形成用吸光層を蒸着するステップ、および前記導電層および前記吸光層を各々または同時にパターニングするステップを含む静電容量式タッチパネルの製造方法を提供する。前記製造方法では、前述した各層の材料および形成方法が利用されてもよい。また、本発明による構造体は、透明基材と、前記透明基材の少なくとも一面に備えられ、金属、金属合金、金属酸化物、金属窒化物、および金属酸窒化物のうち少なくとも1つを含む導電層、および前記導電層の少なくとも一面に備えられた吸光層を含み、前記吸光層が前記導電層と透明基材との間に備えられ、前記透明基材側において測定した全反射率が15以下であることを特徴とする。また、本発明によるタッチパネルは、透明基材と、前記透明基材の少なくとも一面に備えられ、アルミニウム、銀、銅、モリブデン、ネオジムおよびニッケルからなる金属群から選択される1種以上の金属、前記金属群から選択される2種以上の金属の合金、前記金属群から選択される1種以上の金属を含む酸化物、前記金属群から選択される1種以上の金属を含む窒化物、および前記金属群から選択される1種以上の金属を含む酸窒化物からなる群から選択される少なくとも1つを含む導電性パターン、および前記導電性パターンの少なくとも一面に備えられ、前記導電性パターンに対応する領域のうち少なくとも一部に備えられた吸光性パターンを含む構造体を含むことを特徴とする。また、本発明は、前記タッチパネルおよびディスプレイモジュールを含むディスプレイを提供する。以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。但し、以下の実施例は本発明を例示するためのものであり、これによって本発明の範囲が限定されるものではない。<実験例1>基材上にMo系酸窒化物を用いて形成した吸光層を形成した後、その上にCuを用いて導電層を形成した。次に、全反射率測定のために前記導電層の上面に全面黒化処理を実施し、前記基材から可視光線を入射させて全反射率Specularreflection/550nmを測定した。この時、反射率は6.1であった。実験例1による積層体を図8に図示する。<実験例2>基材上にAl系酸窒化物を用いて形成した吸光層を形成した後、その上にAlを用いて導電層を形成した。次に、全反射率測定のために前記導電層の上面に全面黒化処理を実施し、前記基材から可視光線を入射させて全反射率Specularreflection/550nmを測定した。この時、反射率は2.1であった。<実験例3>基材上にCu系酸窒化物を用いて形成した吸光層を形成した後、その上にCuを用いて導電層を形成した。次に、全反射率測定のために前記導電層の上面に全面黒化処理を実施し、前記基材から可視光線を入射させて全反射率Specularreflection/550nmを測定した。この時、反射率は6であった。<実験例4>基材上にAl系酸窒化物を用いて形成した吸光層を形成した後、その上にCuを用いて導電層を形成した。次に、全反射率測定のために前記導電層の上面に全面黒化処理を実施し、前記基材から可視光線を入射させて全反射率Specularreflection/550nmを測定した。この時、反射率は3.1であった。<実験例5>吸光層を形成しないことを除いては、前記実験例1と同様に実施した。この時、基材の背面に全面黒化処理を実施し、前記導電層側に可視光線を入射させて全反射率Specularreflection/550nmを測定した。この時、反射率は49.9であった。<実験例6>前記実験例1のように製造された構造体において、使用者が、吸光層側でない、導電層側を見る場合の全反射率を測定した。このために、基材の背面に全面黒化処理を実施し、前記導電層側に可視光線を入射させて全反射率Specularreflection/550nmを測定した。この時、全反射率は49.9であった。実験例6による全反射率の測定方法を図9に図示する。<実験例7>前記実験例1で用いられたものと同じ基材単独の全反射率を測定した。前記基材単独の全反射率は、基材の一面に全面黒化処理を実施し、その反対面に可視光線を入射させて全反射率Specularreflection/550nmを測定した。基材単独の全反射率は4.5であった。実験例7による反射率の測定方法を図10に図示する。実験例1、実験例5および実験例7で製造された構造体の全反射率を図11に図示する。上記のように、本発明では、有効画面部に備えられた導電性パターンを含むタッチパネルにおいて、使用者が見る側に吸光性パターンを導入することにより、導電性パターンの導電度に影響を及ぼすことなく導電性パターンによる反射を防止し、吸光度を向上することによって導電性パターンの隠蔽性を向上させることができる。また、前記のような吸光性パターンの導入により、タッチパネルのコントラスト特性をより向上させることができる。また、前記実験例1の構造体の顕微鏡反射光測定の結果を下記の図12に示し、太陽光回折反射パターンを観察して下記の図13に示す。また、前記実験例5の構造体の顕微鏡反射光測定の結果を下記の図14に示し、太陽光回折反射パターンを観察して下記の図15に示す。また、前記実験例2の構造体の吸光層の色度colorityおよび全反射率を下記の図18に示し、前記実験例3の構造体の吸光層の色度colorityおよび全反射率を下記の図16に示す。また、前記実験例4の構造体の吸光層の色度colorityおよび全反射率は下記の図18と類似するように表れた。下記の図12~18の結果のように、本発明のように吸光性パターンを含むタッチパネルは、顕微鏡を通じて反射モードで測定する時、吸光性パターンによって線が暗く見えることを確認することができ、点光源の反射イメージでは、回折光の強度がさらに弱化して表れることを確認することができる。