"機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を配置し、該排気浄化触媒は直列に配置された上流側触媒と下流側触媒からなり、該上流側触媒は酸素貯蔵能力を有する三元触媒からなり、該下流側触媒の排気ガス流通表面上には貴金属触媒が担持されていると共に該貴金属触媒周りには塩基性の排気ガス流通表面部分が形成されており、該排気浄化触媒は、該排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、該炭化水素濃度の振動周期を該予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に該排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を上記予め定められた範囲内の振幅および上記予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、それにより排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒において還元するようにした内燃機関の排気浄化装置。機関からの排出NOX濃度の高くなる機関の運転状態のときには、振動している炭化水素濃度のピーク濃度が高くされる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。機関からの排出NOX濃度の高くなる機関の運転状態が加速運転および高負荷運転であり、加速運転時や高負荷運転時のときに、振動している炭化水素濃度のピーク濃度が高くされる請求項2に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間である請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記貴金属触媒は白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少くとも一方とにより構成される請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記排気ガス流通表面上にアルカリ金属又はアルカリ土類金属又は希土類又はNOXに電子を供与しうる金属を含む塩基性層が形成されており、該塩基性層の表面が上記塩基性の排気ガス流通表面部分を形成している請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記三元触媒の触媒担体上には貴金属触媒が担持されており、該触媒担体がセリウムCeを含んでいる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。しかしながらNOX吸蔵触媒は高温になるとNOX浄化率が低下するという問題がある。本発明の目的は、排気浄化触媒の温度が高温になっても高いNOX浄化率を得ることができかつ機関からの排出NOX濃度の高くなる機関の運転状態であっても高いNOX浄化率を得ることのできる内燃機関の排気浄化装置を提供することにある。本発明によれば、機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を配置し、排気浄化触媒は直列に配置された上流側触媒と下流側触媒からなり、上流側触媒は酸素貯蔵能力を有する三元触媒からなり、下流側触媒の排気ガス流通表面上には貴金属触媒が担持されていると共に貴金属触媒周りには塩基性の排気ガス流通表面部分が形成されており、排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期をもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期を予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を上述の予め定められた範囲内の振幅および上述の予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、それにより排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒において還元するようにした内燃機関の排気浄化装置が提供される。排気浄化触媒の温度が高温になっても高いNOX浄化率を得ることができかつ機関からの排出NOX濃度の高くなる機関の運転状態であっても高いNOX浄化率を得ることができる。図1に圧縮着火式内燃機関の全体図を示す。図1を参照すると、1は機関本体、2は各気筒の燃焼室、3は各燃焼室2内に夫々燃料を噴射するための電子制御式燃料噴射弁、4は吸気マニホルド、5は排気マニホルドを夫々示す。吸気マニホルド4は吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に連結され、コンプレッサ7aの入口は吸入空気量検出器8を介してエアクリーナ9に連結される。吸気ダクト6内にはステップモータにより駆動されるスロットル弁10が配置され、更に吸気ダクト6周りには吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置11内に導かれ、機関冷却水によって吸入空気が冷却される。一方、排気マニホルド5は排気ターボチャージャ7の排気タービン7bの入口に連結され、排気タービン7bの出口は排気管12を介して排気浄化触媒13に連結される。図1に示されるようにこの排気浄化触媒13は互いに間隔を隔てて直列に配置された上流側触媒14aと下流側触媒14bからなる。排気浄化触媒13上流の排気管12内には圧縮着火式内燃機関の燃料として用いられる軽油その他の燃料からなる炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15が配置される。図1に示される実施例では炭化水素供給弁15から供給される炭化水素として軽油が用いられている。なお、本発明はリーン空燃比のもとで燃焼の行われる火花点火式内燃機関にも適用することができる。この場合、炭化水素供給弁15からは火花点火式内燃機関の燃料として用いられるガソリンその他の燃料からなる炭化水素が供給される。一方、排気マニホルド5と吸気マニホルド4とは排気ガス再循環以下、EGRと称す通路16を介して互いに連結され、EGR通路16内には電子制御式EGR制御弁17が配置される。また、EGR通路16周りにはEGR通路16内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置18が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置18内に導かれ、機関冷却水によってEGRガスが冷却される。一方、各燃料噴射弁3は燃料供給管19を介してコモンレール20に連結され、このコモンレール20は電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ21を介して燃料タンク22に連結される。燃料タンク22内に貯蔵されている燃料は燃料ポンプ21によってコモンレール20内に供給され、コモンレール20内に供給された燃料は各燃料供給管19を介して燃料噴射弁3に供給される。電子制御ユニット30はデジタルコンピュータからなり、双方向性バス31によって互いに接続されたROMリードオンリメモリ32、RAMランダムアクセスメモリ33、CPUマイクロプロセッサ34、入力ポート35および出力ポート36を具備する。下流側触媒14bの下流には下流側触媒14bの温度を推定するための温度センサ23が取付けられている。この温度センサ23および吸入空気量検出器8の出力信号は夫々対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル40にはアクセルペダル40の踏込み量Lに比例した出力電圧を発生する負荷センサ41が接続され、負荷センサ41の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。更に入力ポート35にはクランクシャフトが例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ42が接続される。一方、出力ポート36は対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁3、スロットル弁10の駆動用ステップモータ、炭化水素供給弁15、EGR制御弁17および燃料ポンプ21に接続される。本発明では上流側触媒14aは酸素貯蔵能力を有する三元触媒からなる。この三元触媒は、三元触媒に流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比となるようにフィードバック制御されたときに排気ガス中に含まれるHC,COおよびNOXを同時に低減する機能を有する。図2Aはこの三元触媒の、即ち上流側触媒14aの基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。図2Aに示されるようにこの上流側触媒14aの例えばアルミナからなる触媒担体50上には貴金属触媒51,52が担持されている。図2Aに示される例では貴金属触媒51は白金Ptからなり、貴金属触媒52はロジウムRhからなる。一方、図2Aに示される例では上流側触媒14aの触媒担体50はセリウムCeを含んでいる。このセリウムCeは酸素が過剰な酸化雰囲気のもとでは酸素を取込んでセリアCeO2の形となり、還元雰囲気のもとでは酸素を放出してCe2O3の形をとる。即ち、触媒担体50は酸化雰囲気のもとでは酸素を吸収し、還元雰囲気のもとでは酸素を放出する、酸素の吸放出機能を有する。触媒担体50がこのような酸素の吸放出機能を有さない場合には排気ガス中の酸素濃度が減少すると上流側触媒14aが有する酸化力は弱まる。これに対し、触媒担体50が酸素の吸放出機能を有する場合には排気ガスの酸素濃度が少なくなると触媒担体50から酸素が放出され、しかもこの酸素は極めて活性が高い。従って触媒担体50が酸素の吸放出機能を有しているときには、即ち上流側触媒14aが酸素貯蔵能力を有しているときには排気ガスの空燃比がリッチになったとしても上流側触媒14aは高い酸化力を有することになる。一方、図2Bは下流側触媒14bの基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。この下流側触媒14bでは図2Bに示されるように例えばアルミナからなる触媒担体54上には貴金属触媒55,56が担持されており、更にこの触媒担体54上にはカリウムK、ナトリウムNa、セシウムCsのようなアルカリ金属、バリウムBa、カルシウムCaのようなアルカリ土類金属、ランタノイドのような希土類および銀Ag、銅Cu、鉄Fe、イリジウムIrのようなNOXに電子を供与しうる金属から選ばれた少くとも一つを含む塩基性層57が形成されている。排気ガスは触媒担体54上に沿って流れるので貴金属触媒55,56は下流側触媒14bの排気ガス流通表面上に担持されていると言える。また、塩基性層57の表面は塩基性を呈するので塩基性層57の表面は塩基性の排気ガス流通表面部分58と称される。一方、図2Bにおいて貴金属触媒55は白金Ptからなり、貴金属触媒56はロジウムRhからなる。即ち、触媒担体54に担持されている貴金属触媒55,56は白金PtおよびロジウムRhから構成されている。なお、下流側触媒14bの触媒担体54上には白金PtおよびロジウムRhに加えて更にパラジウムPdを担持させることができるし、或いはロジウムRhに代えてパラジウムPdを担持させることができる。即ち、触媒担体54に担持されている貴金属触媒55,56は白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される。炭化水素供給弁15から排気ガス中に炭化水素が噴射されるとこの炭化水素は上流側触媒14aにおいて改質される。即ち、炭化水素供給弁15から噴射された炭化水素HCは触媒51によって炭素数の少ないラジカル状の炭化水素HCとなる。本発明ではこのとき改質された炭化水素を用いて下流側触媒14bにおいてNOXを浄化するようにしている。なお、このとき上流側触媒14aの触媒担体50上が還元雰囲気になると図3において図解的に示されるように触媒担体50から酸素が放出され、この放出された酸化によって炭化水素が炭素数の少ないラジカル状の炭化水素に改質される。また、燃料噴射弁3から燃焼室2内に燃料、即ち炭化水素を膨張行程の後半或いは排気行程中に噴射してもこの炭化水素は燃焼室2内又は上流側触媒14aにおいて改質され、排気ガス中に含まれるNOXはこの改質された炭化水素によって浄化される。従って本発明では炭化水素供給弁15から機関排気通路内に炭化水素を供給する代りに、膨張行程に後半或いは排気行程中に燃焼室2内に炭化水素を供給することもできる。このように本発明では炭化水素を燃焼室2内に供給することもできるが、以下炭化水素を炭化水素供給弁15から機関排気通路内に噴射するようにした場合を例にとって本発明を説明する。図4は炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給タイミングと排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化とを示している。なお、この空燃比A/Finの変化は排気浄化触媒13に流入する排気ガス中の炭化水素の濃度変化に依存しているので図4に示される空燃比A/Finの変化は炭化水素の濃度変化を表しているとも言える。ただし、炭化水素濃度が高くなると空燃比A/Finは小さくなるので図4においては空燃比A/Finがリッチ側となるほど炭化水素濃度が高くなっている。図5は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させることによって図4に示されるように排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finを変化させたときの排気浄化触媒13によるNOX浄化率を排気浄化触媒13の各触媒温度TCに対して示している。本発明者は長い期間に亘ってNOX浄化に関する研究を重ねており、その研究課程において、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、図5に示されるように400°C以上の高温領域においても極めて高いNOX浄化率が得られることが判明したのである。更にこのときには窒素および炭化水素を含む多量の還元性中間体が上流側触媒14a内において生成され、この還元性中間体が高NOX浄化率を得る上で中心的役割を果していることが判明したのである。次にこのことについて図6A,6Bおよび6Cを参照しつつ説明する。なお、図6Aおよび6Bは上流側触媒14aの触媒担体50の表面部分を図解的に示しており、図6Cは下流側触媒14bの触媒担体54の表面部分を図解的に示している。これら図6A,6Bおよび6Cには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動せしめたときに生ずると推測される反応が示されている。図6Aは上流側触媒14aに流入する炭化水素の濃度が低いときを示しており、図6Bは炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されて上流側触媒14aに流入する炭化水素の濃度が高くなっているときを示している。さて、図4からわかるように排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比は一瞬を除いてリーンに維持されているので上流側触媒14aに流入する排気ガスは通常酸素過剰の状態にある。従って排気ガス中に含まれるNOは図6Aに示されるように白金51上において酸化されてNO2となり、次いでこのNO2は更に酸化されてNO3となる。また、NO2の一部はNO2-となる。この場合、NO3の生成量の方がNO2-の生成量よりもはるかに多い。従って白金Pt51上には多量のNO3と少量のNO2-が生成されることになる。これらNO3およびNO2-は活性が強く、以下これらNO3およびNO2-を活性NOXと称する。一方、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されるとこの炭化水素は前述したように上流側触媒14a内において改質され、ラジカルとなる。その結果、図6Bに示されるように活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなる。活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなると図6Bに示されるように活性NOXは白金51上においてラジカル状の炭化水素HCと反応し、それにより還元性中間体が生成される。なお、このとき最初に生成される還元性中間体はニトロ化合物R-NO2であると考えられる。このニトロ化合物R-NO2は生成されるとニトリル化合物R-CNとなるがこのニトリル化合物R-CNはその状態では瞬時しか存続し得ないのでただちにイソシアネート化合物R-NCOとなる。このイソシアネート化合物R-NCOは加水分解するとアミン化合物R-NH2となる。ただしこの場合、加水分解されるのはイソシアネート化合物R-NCOの一部であると考えられる。従って図6Bに示されるように生成される還元性中間体の大部分はイソシアネート化合物R-NCOおよびアミン化合物R-NH2であると考えられる。これら上流側触媒14aにおいて生成された還元性中間体R-NCOやR-NH2は下流側触媒14bに送り込まれる。このように上流側触媒14aからは下流側触媒14b内に多量の還元性中間体が送り込まれる。また、上流側触媒14aにおいて生成された活性NOXの一部は上流側触媒14aから流出し、下流側触媒14b内に送り込まれる。更に、下流側触媒14b上では図6Cに示されるように活性NOXが生成される。これらの活性NOXは下流側触媒14bの塩基性層57の表面上に付着又は吸着することによって保持される。ところでこのように活性NOXが塩基性層57の表面上に保持された後、或いは活性NOXが生成された後、活性NOX周りの酸素濃度が高い状態が一定時間以上継続すると活性NOXは酸化され、硝酸イオンNO3-の形で塩基性層57内に吸収される。しかしながらこの一定時間が経過する前に上流側触媒14aに流入する炭化水素濃度が高くされて還元性中間体が送り込まれてくると図6Cに示されるように活性NOXは送り込まれてきた還元性中間体R-NCOやR-NH2と反応してN2,CO2,H2Oとなり、斯くしてNOXが浄化されることになる。このように排気浄化触媒13では、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を一時的に高くすることにより還元性中間体を生成し、生成された還元性中間体を活性NOXと反応させることにより、NOXが浄化される。即ち、排気浄化触媒13によりNOXを浄化するには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させる必要がある。無論、この場合、還元性中間体を生成するのに十分高い濃度まで炭化水素の濃度を高める必要がある。即ち、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅で振動させる必要がある。一方、炭化水素の供給周期を長くすると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給されるまでの間において酸素濃度が高くなる期間が長くなり、従って活性NOXは還元性中間体を生成することなく硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収されることになる。これを回避するためには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の周期でもって振動させることが必要となる。因みに図4に示される例では噴射間隔が3秒とされている。上述したように炭化水素濃度の振動周期、即ち炭化水素HCの供給周期を予め定められた範囲内の周期よりも長くすると下流側触媒14bにおいて活性NOXは図7Aに示されるように硝酸イオンNO3-の形で塩基性層57内に拡散し、硝酸塩となる。即ち、このときには排気ガス中のNOXは硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収されることになる。一方、図7BはこのようにNOXが硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収されているときに排気浄化触媒13内に流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比又はリッチにされた場合を示している。この場合には排気ガス中の酸素濃度が低下するために反応が逆方向NO3-→NO2に進み、斯くして塩基性層57内に吸収されている硝酸塩は順次硝酸イオンNO3-となって図7Bに示されるようにNO2の形で塩基性層57から放出される。次いで放出されたNO2は排気ガス中に含まれる炭化水素HCおよびCOによって還元される。図8は塩基性層57のNOX吸収能力が飽和する少し前に排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finを一時的にリッチにするようにした場合を示している。なお、図8に示す例ではこのリッチ制御の時間間隔は1分以上である。この場合には排気ガスの空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層57内に吸収されたNOXは、排気ガスの空燃比A/Finが一時的にリッチにされたときに塩基性層57から一気に放出されて還元される。従ってこの場合には塩基性層57はNOXを一時的に吸収するための吸収剤の役目を果している。なお、このとき塩基性層57がNOXを一時的に吸着する場合もあり、従って吸収および吸着の双方を含む用語として吸蔵という用語を用いるとこのとき塩基性層57はNOXを一時的に吸蔵するためのNOX吸蔵剤の役目を果していることになる。即ち、この場合には、機関吸気通路、燃焼室2および上流側触媒14a上流の排気通路内に供給された空気および燃料炭化水素の比を排気ガスの空燃比と称すると、下流側触媒14bは、即ち排気浄化触媒13は、排気ガスの空燃比がリーンのときにはNOXを吸蔵し、排気ガス中の酸素濃度が低下すると吸蔵したNOXを放出するNOX吸蔵触媒として機能している。図9は、排気浄化触媒13をこのようにNOX吸蔵触媒として機能させたときのNOX浄化率を示している。なお、図9の横軸は下流側触媒14bの触媒温度TCを示している。排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合には図9に示されるように下流側触媒14bの温度TCが300°Cから400°Cのときには極めて高いNOX浄化率が得られるが触媒温度TCが400°C以上の高温になるとNOX浄化率が低下する。このように触媒温度TCが400°C以上になるとNOX浄化率が低下するのは、触媒温度TCが400°C以上になると硝酸塩が熱分解してNO2の形で排気浄化触媒13から放出されるからである。即ち、NOXを硝酸塩の形で吸蔵している限り、触媒温度TCが高いときに高いNOX浄化率を得るのは困難である。しかしながら図4から図6A,6Bに示される新たなNOX浄化方法では図6A,6Bからわかるように硝酸塩は生成されず或いは生成されても極く微量であり、斯くして図5に示されるように触媒温度TCが高いときでも高いNOX浄化率が得られることになる。そこで本発明による第1実施例では、機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒13を配置し、排気浄化触媒13は直列に配置された上流側触媒14aと下流側触媒14bからなり、上流側触媒14aは酸素貯蔵能力を有する三元触媒からなり、下流側触媒14bの排気ガス流通表面上には貴金属触媒51,52が担持されていると共に貴金属触媒51,52周りには塩基性の排気ガス流通表面部分54が形成されており、排気浄化触媒13は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期をこの予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、それにより排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒13において還元するようにしている。即ち、図4から図6A,6Bに示されるNOX浄化方法は、貴金属触媒を担持しかつNOXを吸収しうる塩基性層を形成した排気浄化触媒を用いた場合において、ほとんど硝酸塩を形成することなくNOXを浄化するようにした新たなNOX浄化方法であると言うことができる。実際、この新たなNOX浄化方法を用いた場合には排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合に比べて、塩基性層57から検出される硝酸塩は極く微量である。なお、この新たなNOX浄化方法を以下、第1のNOX浄化方法と称する。次に図10から図15を参照しつつこの第1のNOX浄化方法についてもう少し詳細に説明する。図10は図4に示される空燃比A/Finの変化を拡大して示している。なお、前述したようにこの排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化は同時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化を示している。なお、図10においてΔHは排気浄化触媒13に流入する炭化水素HCの濃度変化の振幅を示しており、ΔTは排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期を示している。更に図10においてA/Fbは機関出力を発生するための燃焼ガスの空燃比を示すベース空燃比を表している。言い換えるとこのベース空燃比A/Fbは炭化水素の供給を停止したときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比を表している。一方、図10においてXは、活性NOXと改質された炭化水素から十分な量の還元性中間体を生成することができかつ活性NOXを硝酸塩の形で塩基性層57内に吸蔵させることなく還元性中間体と反応させることのできる空燃比A/Finの上限を表しており、活性NOXと改質された炭化水素から十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを硝酸塩の形で塩基性層57内に吸蔵させることなく還元性中間体と反応させるには空燃比A/Finをこの空燃比の上限Xよりも低くすることが必要となる。別の言い方をすると図10のXは、十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるのに必要な炭化水素の濃度の下限を表しており、十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるには炭化水素の濃度をこの下限Xよりも高くする必要がある。この場合、十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応するか否かは活性NOX周りの酸素濃度と炭化水素濃度との比率、即ち空燃比A/Finで決まり、十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるのに必要な上述の空燃比の上限Xを以下、要求最小空燃比と称する。図10に示される例では要求最小空燃比Xがリッチとなっており、従ってこの場合には十分な量の還元性中間体を生成させかつ活性NOXを還元性中間体と反応させるために空燃比A/Finが瞬時的に要求最小空燃比X以下に、即ちリッチにされる。これに対し、図11に示される例では要求最小空燃比Xがリーンとなっている。この場合には空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させることによって十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応せしめられる。この場合、要求最小空燃比Xがリッチになるかリーンになるかは上流側触媒14aの酸化力による。この場合、上流側触媒14aは例えば貴金属51の担持量を増大させれば酸化力が強まり、酸性を強めれば酸化力が強まる。従って上流側触媒14aの酸化力は貴金属51の担持量や酸性の強さによって変化することになる。さて、酸化力が強い上流側触媒14aを用いた場合に図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、空燃比A/Finが低下せしめられたときに炭化水素が完全に酸化されてしまい、その結果還元性中間体を生成することができなくなる。これに対し、酸化力が強い上流側触媒14aを用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると空燃比A/Finがリッチにされたときに炭化水素は完全に酸化されることなく部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応することになる。従って酸化力が強い上流側触媒14aを用いた場合には要求最小空燃比Xはリッチにする必要がある。一方、酸化力が弱い上流側触媒14aを用いた場合には図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、炭化水素は完全に酸化されずに部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と反応せしめられる。これに対し、酸化力が弱い上流側触媒14aを用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると多量の炭化水素は酸化されることなく単に上流側触媒14aから排出されることになり、斯くして無駄に消費される炭化水素量が増大することになる。従って酸化力が弱い上流側触媒14aを用いた場合には要求最小空燃比Xはリーンにする必要がある。即ち、要求最小空燃比Xは図12に示されるように上流側触媒14aの酸化力が強くなるほど低下させる必要があることがわかる。このように要求最小空燃比Xは上流側触媒14aの酸化力によってリーンになったり、或いはリッチになったりするが、以下要求最小空燃比Xがリッチである場合を例にとって、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅や排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期について説明する。さて、ベース空燃比A/Fbが大きくなると、即ち炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高くなると空燃比A/Finを要求最小空燃比X以下とするのに必要な炭化水素の供給量が増大する。従って、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅を大きくする必要がある。図13は同一のNOX浄化率が得られるときの、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度と炭化水素濃度の振幅ΔHとの関係を示している。図13から同一のNOX浄化率を得るためには炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させる必要があることがわかる。即ち、同一のNOX浄化率を得るにはベース空燃比A/Fbが高くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを増大させることが必要となる。別の言い方をすると、NOXを良好に浄化するためにはベース空燃比A/Fbが低くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを減少させることができる。ところでベース空燃比A/Fbが最も低くなるのは加速運転時であり、このとき炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm程度あればNOXを良好に浄化することができる。ベース空燃比A/Fbは通常、加速運転時よりも大きく、従って図14に示されるように炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm以上であれば良好なNOX浄化率を得ることができることになる。一方、ベース空燃比A/Fbが最も高いときには炭化水素濃度の振幅ΔHを10000ppm程度にすれば良好なNOX浄化率が得られることがわかっている。従って本発明では炭化水素濃度の振幅の予め定められた範囲が200ppmから10000ppmとされている。また、炭化水素濃度の振動周期ΔTが長くなると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給される間、活性NOX周りの酸素濃度が高くなる。この場合、炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなると活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層57内に吸収され始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなるとNOX浄化率が低下することになる。従って炭化水素濃度の振動周期ΔTは5秒以下とする必要がある。一方、炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になると供給された炭化水素が排気浄化触媒13上に堆積し始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になるとNOX浄化率が低下する。そこで本発明では炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間とされている。さて、本発明では炭化水素供給弁15からの炭化水素供給量および噴射時期を変化させることによって炭化水素濃度の振幅ΔHおよび振動周期ΔTが機関の運転状態に応じた最適値となるように制御される。この場合、本発明による実施例ではこの最適な炭化水素濃度の振幅ΔHを得ることのできる炭化水素供給量Wが燃料噴射弁3からの噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図16に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。また、最適な炭化水素濃度の振動振幅ΔT、即ち炭化水素の噴射周期ΔTも同様に噴射量Qおよび機関回転数Nの関数としてマップの形で予めROM32内に記憶されている。次に図17から図20を参照しつつ排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法について具体的に説明する。このように排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法を以下、第2のNOX浄化方法と称する。この第2のNOX浄化方法では図17に示されるように塩基性層57に吸蔵された吸蔵NOX量ΣNOXが予め定められた許容量MAXを越えたときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finが一時的にリッチにされる。排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされると排気ガスの空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層57内に吸蔵されたNOXが塩基性層57から一気に放出されて還元される。それによってNOXが浄化される。吸蔵NOX量ΣNOXは例えば機関から排出されるNOX量から算出される。本発明による実施例では機関から単位時間当り排出される排出NOX量NOXAが噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図18に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されており、この排出NOX量NOXAから吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。この場合、前述したように排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされる周期は通常1分以上である。この第2のNOX浄化方法では図19に示されるように燃焼室2内に燃料噴射弁3から燃焼用燃料Qに加え、追加の燃料WRを噴射することによって排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされる。なお、図19の横軸はクランク角を示している。この追加の燃料WRは燃焼はするが機関出力となって現われない時期に、即ち圧縮上死点後ATDC90°の少し手前で噴射される。この燃料量WRは噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図20に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。無論、この場合炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量を増大させることによって排気ガスの空燃比A/Finをリッチにすることもできる。さて、機関から排出されるNOXを良好に浄化するためには機関から排出されるNOX量が増大するほど炭化水素の供給量を増大する必要がある。ところがこのように炭化水素の供給量が増大されると排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finは理論空燃比近くのリーンとなるか、或いはリッチとなる。その結果、排気ガス中の酸素濃度が低くなるために炭化水素の部分酸化反応が生じずらくない、斯くして還元性中間体が生成されずらくなる。しかしながら本発明では上流側触媒14aが酸素貯蔵能力を有する三元触媒から形成されているために排気ガスの酸素濃度が低下しても上流側触媒14aから酸素が放出され、その結果炭化水素の部分酸化反応が活発に行われることになる。従って炭化水素の供給量が増大されても十分な量の還元性中間体が生成されかつ活性NOXが還元性中間体と十分に反応せしめられるので良好なNOX浄化率を確保できることになる。このように上流側触媒14aが酸素貯蔵機能を有する三元触媒から形成されていると機関からの排出NOX濃度が高くなったときに炭化水素濃度の振幅を大きくすれば、即ち炭化水素のピーク濃度を高くすれば良好にNOXを浄化することができることになる。そこで本発明では、機関からの排出NOX濃度の高くなる機関の運転状態のときには、振動している炭化水素濃度のピーク濃度が高くされる。具体的に言うと、機関からの排出NOX濃度の高くなる機関の運転状態のときに例えば図16に基づき算出された供給量Wでもって炭化水素が供給されると図21Aに示されるように排気ガスの空燃比A/Finのピーク値がかなりリーンとなる場合には、図21Bに示されるように一回当りの炭化水素の噴射量を増大せしめることによって炭化水素濃度のピーク濃度が高くされるか、或いは図21Cに示されるようにベース空燃比A/Fbをリッチ側とすることにより炭化水素濃度のピーク濃度が高くされる。なお、機関からの排出NOX濃度が高くなるのは加速運転が行われたときや、高負荷運転が行われたときである。従って本発明による実施例では、機関の運転状態が加速運転時や高負荷運転時のときに、振動している炭化水素濃度のピーク濃度が高くされる。図22にNOX浄化制御ルーチンを示す。このルーチンは一定時間毎に割込みによって実行される。図22を参照するとまず初めにステップ60において温度センサ23の出力信号から下流側触媒14bの温度TCが活性化温度TXを越えているか否かが判別される。TC≧TXのとき、即ち下流側触媒14bが活性化しているときにはステップ61に進んで加速運転時であるか否かが判別される。加速運転時でないときにはステップ62に進んで高負荷運転時であるか否かが判別される。高負荷運転時でないときにはステップ63に進んで図16から算出された供給量Wでもって炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給制御が行われる。このとき第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が実行される。これに対し、ステップ61において加速運転時であると判別された場合、或いはステップ62において高負荷運転時であると判別された場合にはステップ64に進んで排気浄化触媒13に流入する炭化水素のピーク濃度が高くされる。このとき機関からのNOX排出濃度が高くても第1のNOX浄化方法による良好なNOX浄化作用が行われる。一方、ステップ60においてTC<TXであると判断されたときには第2のNOX浄化方法を用いるべきであると判断され、ステップ65に進む。ステップ65では図18に示すマップから単位時間当りの排出NOX量NOXAが算出される。次いでステップ66ではΣNOXに排出NOX量NOXAを加算することによって吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。次いでステップ67では吸蔵NOX量ΣNOXが許容値MAXを越えたか否かが判別される。ΣNOX>MAXになるとステップ68に進んで図20に示すマップから追加の燃料量WRが算出され、追加の燃料の噴射作用が行われる。次いでステップ69ではΣNOXがクリアされる。"