"以下の工程を含む、架橋エラストマー粒子を脱硫する方法:加硫されている架橋エラストマー粒子を含む組成物を、脱硫機器に与える工程;及び前記加硫されている架橋エラストマー粒子を含む前記組成物に、前記架橋エラストマー粒子を脱硫するのに十分な周波数及び電圧を有する交流高周波誘電電界を印加する工程。前記交流高周波誘電電界の前記周波数が、約1MHz~100MHzであり、前記交流高周波誘電電界の前記電圧が、約1000~10000Vである、請求項1に記載の方法。前記架橋エラストマー粒子が、極性のある加硫ゴムを含む、請求項1に記載の方法。前記架橋エラストマー粒子が、6~400メッシュの粒子サイズを有する、請求項1に記載の方法。前記組成物が、加硫ゴム粒子及び新たな未加硫ゴムを含む、請求項1に記載の方法。前記新たな未加硫ゴムが、前記組成物の少なくとも10wtを構成する、請求項5に記載の方法。第一の電極と第二の電極との間に位置するモールドに、前記組成物を置く工程を含み、前記交流高周波誘電電界を、前記第一の電極と前記第二の電極との間に発生させる、請求項1に記載の方法。前記交流高周波誘電電界を、第一の上部電極と第二の下部電極との間に発生させ、さらに前記第一の上部電極と前記第二の下部電極との間に、前記組成物を連続的に供給する工程を含む、請求項1に記載の方法。前記第一の上部電極が、1000~10000Vの電圧を有する高電圧電極である、請求項8に記載の方法。前記交流高周波誘電電界を、複数の上部横断電極棒及び複数の下部横断電極棒との間に発生させる、請求項1に記載の方法。前記上部横断電極棒と前記下部横断電極棒との間に、前記組成物を連続的に供給する工程をさらに含む、請求項10に記載の方法。コンベヤーが、前記上部横断電極棒と前記下部横断電極棒との間に前記組成物を運搬する、請求項11に記載の方法。以下の工程を含む、加硫エラストマー組成物の形成方法:加硫されている架橋エラストマー粒子を含む第一の組成物に、前記架橋エラストマー粒子を脱硫して、脱硫したエラストマー粒子を含む第二の組成物を形成するのに十分な周波数及び電圧を有する交流高周波誘電電界を印加する工程;前記脱硫したエラストマー粒子を含む前記第二の組成物に、架橋剤を添加する工程;前記架橋剤を有する前記第二の組成物を加硫して、前記加硫エラストマー組成物を形成する工程。前記交流高周波誘電電界の前記周波数が、約1MHz~100MHzであり、前記交流高周波誘電電界の前記電圧が、約1000~10000Vである、請求項13に記載の方法。前記第一の組成物が、加硫ゴムを含む、請求項13に記載の方法。前記加硫ゴムが、6~400メッシュの粒子サイズを有する、請求項15に記載の方法。前記第一の組成物が、加硫ゴム粒子及び新たな未加硫ゴムを含む、請求項13に記載の方法。前記新たな未加硫ゴムが、前記組第一の組成物の少なくとも10wtを構成する、請求項17に記載の方法。前記加硫工程の前に、新たな未加硫ゴムを前記第二の組成物に添加する工程をさらに含む、請求項13に記載の方法。前記新たな未加硫ゴムが、前記第二の組成物の少なくとも10wtを構成する、請求項19に記載の方法。前記加硫工程の前に、前記第二の組成物にフィラーを添加する工程をさらに含む、請求項13に記載の方法。前記架橋剤が、硫黄又は硫黄供与体である、請求項13に記載の方法。前記加硫工程の前に、前記第二の組成物に加硫促進剤を添加する工程をさらに含む、請求項13に記載の方法。前記加硫工程が、前記架橋剤及び前記脱硫したエラストマー粒子を含む前記第二の組成物を加熱することを含む、請求項13に記載の方法。前記加硫工程が、前記架橋剤及び前記脱硫したエラストマー粒子を含む前記第二の組成物に、前記脱硫したエラストマー粒子を前記架橋剤で加硫させるのに十分な電圧及び周波数で交流高周波誘電電界を印加することを含む、請求項13に記載の方法。この分野では様々な脱硫方法が知られているにもかかわらず、改良した脱硫技術、特にゴム粒子を比較的均一な様式で脱硫することができる技術を開発する必要性が存在し続けている。本発明は、架橋エラストマー粒子を脱硫する方法に向けられる。この方法は、1加硫されている架橋エラストマー粒子を含む組成物を脱硫機器に与えること;及び2随意に、新たな未加硫ゴムを有する上記加硫されている架橋エラストマー粒子を含む組成物に、上記架橋エラストマー粒子を脱硫するのに十分な周波数及び電圧を有する交流高周波誘電電界を印加すること、を含む。1つの態様では、その交流高周波誘電電界の周波数は、約1MHz~100MHzであり、かつその交流高周波誘電電界の電圧は、約1,000~10,000Vである。他の1つの態様では、架橋エラストマー粒子は、極性のある加硫ゴム材料を含む。さらに他の1つの態様では、架橋エラストマー粒子は、6~400メッシュの粒子サイズを有する。さらに他の1つの態様では、上記新たな未架橋ゴムは、その組成物の少なくとも10wtを構成する。1つの態様では、この組成物を、第一の電極例えば、上部電極及び第二の電極例えば、下部電極との間に存在しているモールドに置く。交流高周波電界を、その第一の電極及び第二の電極の間に発生させる。この方法は、バッチ方式で行ってもよく、又はこの組成物を、第一の上部電極と第二の下部電極との間に連続的に供給してもよい。他の1つの態様では、この上部電極は、1000~10000Vの間の電圧を有する高電圧電極である。さらに他の1つの態様では、交流高周波誘電電界を、複数の上部横断電極棒及び複数の下部横断電極棒との間に発生させる。この方法は、バッチ方式で行ってもよく、又はこの組成物を、上部横断電極棒と下部横断電極棒との間に連続的に供給してもよい。典型的な運搬装置としては、コンベヤー及びローラーアセンブリが挙げられる。さらに他の1つの態様では、本発明は、加硫エラストマー組成物の形成プロセスに向けられる。このプロセスは、1加硫されている架橋エラストマー粒子を含む第一の組成物に、上記架橋エラストマー粒子を脱硫するのに十分な周波数及び電圧を有する交流高周波誘電電界を印加して、脱硫したエラストマー粒子を含む第二の組成物を形成すること;2上記脱硫したエラストマー粒子を含む第二の組成物に架橋剤を添加すること;及び3上記架橋剤を含有する第二の組成物を加硫して、上記加硫エラストマー組成物を形成すること。1つの態様では、その交流高周波誘電電界の周波数は、約1MHz~100MHzであり、かつその交流高周波誘電電界の電圧は、約1,000~10,000Vである。第一の組成物は、加硫ゴム、例えば6~400メッシュの粒子サイズを有する加硫ゴムを含んでもよい。第一の組成物は、ゴム粒子及び随意に新たな未架橋ゴムを加硫してもよい。1つの態様では、その新たな未加硫ゴムは、第一の組成物の少なくとも10wtを構成する。さらに他の1つの態様では、本発明は、加硫工程の前に、新たな未加硫ゴムを第二の組成物に添加する工程を含む。1つの態様では、新たな未加硫ゴムは、第二の組成物の少なくとも10wtを構成する。さらに他の1つの態様では、このプロセスは、加硫工程の前に、フィラー及び/又は加硫促進剤を第二の組成物に添加する工程を含む。適切な架橋剤としては、硫黄又は硫黄供与体が挙げられる。さらなる他の1つの態様では、加硫工程は、架橋剤及び脱硫したエラストマー粒子を含む第二の組成物を加熱することを含む。本発明のさらなる態様、並びにそれに付随する利点及び新規な特徴は、以下の記載で部分的に示され、また一部は、以下の説明に基づいて当業者に明らかとなり、又は本発明の実施から学ぶことができる。本発明の対象及び利点は、請求項に特に規定した手段及び組合せによって、理解されかつ達成される。本発明は、加硫エラストマーに交流高周波電界を印加することによって、架橋した加硫エラストマーを脱硫する方法に向けられる。その交流高周波誘電電界を、様々な架橋した熱硬化性の加硫エラストマーに印加してもよく、例えば多くの熱硬化性樹脂中にポリマーネットワークが見出されるエラストマーに印加してもよい。列挙する例に限定されないが、これらの加硫エラストマーとしては、ポリウレタン、エポキシ/フェノール樹脂、エポキシ樹脂、飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール/ホルムアルデヒド樹脂、ゴム及びこれらの組合せが挙げられる。このエラストマーを脱硫したら、これをさらに有用な最終製品へと再加硫することができる。このエラストマーを、脱硫プロセスの間に他の材料と組み合わせてもよい。例えば、靴全体を、破砕し、裁断し、又はあるいは切断して、小さな粒子にしてもよく、そしてその靴からのゴムを本発明に従って脱硫してもよいということが考えられる。用語加硫とは、エラストマー例えば、ゴム分子間の三次元架橋構造をいう。それゆえ、加硫ゴムは、ゴム分子間に三次元架橋構造を有するゴムを包含する。その架橋構造の導入は、当業者に公知の様々な架橋方法によって行うことができ、例えば硫黄加硫、チウラム硬化、過酸化物加硫等を含む架橋方法によって行うことができる。用語脱硫は、架橋した加硫エラストマー例えば、加硫ゴムの特定の表面特性及びバルク特性が、本発明に従って交流高周波誘電電界を印加することによって化学的に変性することを表すために用いられる。一般に、初期の加硫プロセスの間にポリマー架橋を形成するモノスルフィド、ジスルフィド、及びポリスルフィドの数は、交流高周波誘電電界の脱硫プロセスによって減少する。したがって、そのエラストマー例えば、ゴムは、最終の脱硫した製品にある程度の架橋が残っている場合があると理解されても、脱硫したとして述べられる。用語新たな、生又は未架橋は、エラストマー例えば、ゴムが架橋されていないことを表すために用いられる。1つの典型的な実施態様では、本発明に従って交流高周波誘電電界を用いて脱硫する加硫エラストマーは、ゴムエラストマーである。それゆえ、本発明は、加硫したゴムに、交流高周波誘電電界を印加することによってゴムを脱硫する方法に向けられる。そのプロセス1の全体を、図1に示す。一般的に、加硫ゴム組成物2、例えばタイヤで見られる加硫ゴム組成物を、破砕又は粉砕して、小さな粒子サイズを有するクラムラバー組成物3を形成する。このクラムラバー組成物3を、新たな又は生の未加硫ゴム4と随意に組み合わせて、そして本発明に従って交流高周波誘電電界を印加することによって脱硫する。その生成脱硫ゴム組成物5は、追加の新たな又は生の未加硫ゴム4とさらに随意に組み合わせて、そして再加硫して最終製品を形成する。本発明に従って交流高周波誘電電界を印加することによって脱硫する、加硫ゴム組成物2、又はより一般的には、架橋した加硫エラストマーは、極性のゴム、無極性のゴム、又は極性の低いゴムのいずれかを含んでもよい。すなわち、加硫ゴムは、固有の極性を有するゴム、例えばポリクロロプレンゴム、ニトリルゴム、ニトリルゴム-ポリ塩化ビニル配合物[例えば、最大30重量のポリ塩化ビニル、及び典型的には約20重量のポリ塩化ビニル]、ブロモブチルゴム、又はクロロブチルゴムで形成されていてもよい。殆ど全ての商用のタイヤは、極性ゴムで構成されている。そのゴム組成物に導入した他の材料例えば、カーボンブラックの結果として極性が導入されているならば、加硫した無極性ゴム又は低極性ゴム例えば、ポリオレフィンゴム例えば、エチレン-プロピレンゴム、ブタジエンゴム、スチレン-ブタジエンゴム、フルオロカーボンゴム、例えばテフロン商標、及びシリコーンゴムを、本発明に従って脱硫することができる。それゆえ、ゴム組成物の極性を、望むように改良又は調節するために、様々な添加剤を、ゴム組成物に添加してもよい。添加剤の使用については、Marcの米国特許出願公開第2006/0012083号に広く記載されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。交流高周波誘電電界プロセスによって脱硫することができる特定の加硫ゴムの他の例は、ポリアルキレン、4~10の炭素原子を有する共役ジエンのモノマーから作製した合成エラストマー、又はそれらのジエン間での共重合体1、若しくはそれらのジエンと8~12の炭素原子を有するビニル置換芳香族炭化水素のモノマーとの共重合体2が挙げられる。加硫ゴムを、多数の商用の供給業者から得ることができ、これは、多数の製造業者からの加硫ゴムの均一な又は不均一な混合体を含むことができる。好ましくは、加硫ゴムは、使用済みタイヤから得る。使用済みの自動車タイヤ又はトラックタイヤに由来する加硫ゴムは、通常多数の製造業者に由来する製品、及び化学的構成及び化学的組成の幅広い取り合わせを含む製品を包含するということが、当業者に容易に理解される。したがって、様々な異なる化学物質が、加硫ゴム中に存在するということが予期される。加硫エラストマー例えば、加硫ゴムは、好ましくは小さなエラストマー粒子の形態である。加硫ゴムの粒子サイズは、好ましくは6~400メッシュの範囲例えば、10、40、80、120、140、160、180、200、220、240、260、280、300、320、340、360、380、400メッシュ、又はこれらの間の範囲である。この粒子サイズは、典型的には10~200メッシュの間であり、典型的には30~40メッシュである。さらに、より小さな粒子サイズが最も好ましく、通常は100メッシュ超、及びさらに好ましくは200メッシュ超である。加硫ゴムの粒子サイズを、この分野で知られた任意の適切な手段を用いて、この好ましい範囲へと低下させることができる。典型的には、加硫ゴムを機械的に破砕、粉砕、剪断、又はあるいは細粒化して、クラムラバーとして知られる種類のゴムにする。クラムラバーを形成するために低温プロセスを用いてもよい。例えば、Perfidoらの米国特許第5,588,600号;及びEdsonの米国特許第5,927,627号を参照できる。さらに、クラムラバーの様々な商業的な供給業者が当分野で知られている。さらに、図1に示すように、交流高周波誘電電界を加硫ゴム又は他の加硫エラストマーに印加する前に、加硫ゴム又は他の加硫エラストマーを、生の又は新たな未加硫エラストマー、例えば生の又は新たな未加硫ゴムと組み合わせてもよい。そのような生の又は新たな未加硫ゴムは、極性であっても、無極性であってもよく、例えば天然イソプレンゴム、スチレン-ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、ニトリルブタジエンゴム等であってもよい。典型的には、加硫エラストマー例えば、加硫ゴムの粒子、及び生の又は新たな未加硫エラストマー例えば、未加硫ゴムの粒子を、事前に一緒に混合する。加硫ゴムは、脱硫する組成物中に、任意の適切な水準で存在することができ、例えば、約10、20、30、40、50、60、70、80、90又は100wt又はこれらの間の範囲で存在することができる。好ましくは、生の又は新たなゴムは、組成物全体の少なくとも10wtを構成する。これは、ゴム製品の用途及び適用先、並びに望ましい特性によって決められることがある。そして、ターゲットを加硫ゴム中の化学結合に選択するようにして、加硫ゴム及び随意に生の又は新たな未加硫ゴム組成物に、交流高周波誘電電界を印加する。特に、加硫ゴムの硫黄-炭素結合及び硫黄-硫黄結合が、交流高周波誘電電界によるターゲットとなる。この交流電界は、分子を振動させて、この振動がゴム分子間に内部摩擦を生成する。交流高周波誘電電界を用いて架橋エラストマー材料を脱硫することは、その材料に渡って比較的均一な高周波エネルギーの印加をもたらす。加硫タイヤゴム例えば、クラムラバーの脱硫に関して、交流高周波誘電電界の周波数は、好ましくは約1MHz~100MHzの範囲であり、より好ましくは約10~60MHzの範囲であり、最も好ましくは約25~40MHzの範囲である。最も好ましい周波数は、産業、科学、及び医療ISMの用途に関して許可されている中心周波数である周波数、すなわち27.12MHz又は40.68MHzである。その電圧は、好ましくは約1,000~10,000Vの範囲であり、より好ましくは約3,000~7,000Vであり、さらにより好ましくは約4,000~6,000Vの範囲である。交流高周波誘電電界への露出時間は、印加する電圧、印加する周波数、脱硫機器のサイズ、及びゴムの力率powerfactorに依存して様々となるが、通常は数秒から1分までの範囲である。例えば、27.12MHzで30秒間4000Vの印加をすることは、破砕したタイヤゴムから形成されたゴム粒子を脱硫するのに典型的には十分である。周波数を27.12MHzに維持しつつ、電圧を8000Vに挙げる場合、露出時間は短くなり、例えば約7.5秒である。交流高周波誘電電界を、多数の異なる装置を用いて加硫ゴムに印加してもよい。典型的な装置を、図2に示す。一般的に、加硫ゴムが事実上、キャパシタの誘電体となるように、そのゴムを2つの電極の間に置く。電極の間に発生させた交流高周波誘電電界は、電界の極性を急速に変化させることによって、ゴム中の極性分子を引き付けさせ、そして反発させる。分子の動きからもたらされる摩擦は、ゴムの架橋の劣化をもたらす。より詳しくは、脱硫機器10は、上部電極12及び下部電極14を具備し、この両方が、電極間に誘電電界を発生させることができる電磁波エネルギー源又は発生器図示していないに接続されている。例えば、上部電極12を、高電圧電極とする一方、下部電極を接地電極とすることができる又は、この逆もできる。誘電電界を、約1MHz~100MHzの範囲の周波数で発生させてもよく、好ましくは約25~40MHzの範囲で発生させる。最も好ましくは、誘電電界は、27.12MHz又は40.68MHzのいずれかで発生させるこれらはどちらも、産業、科学、及び医療ISMでの用途に関して許可されている中心周波数である。さらに機器10に含まれる物は、上部モールド16及び下部モールド18であり、これらは共にその間にモールディングキャビティを画定する。示された例では、加硫ゴム組成物20及び随意に新たな又は生の未加硫ゴムを、モールディングキャビティ内に置く。上部モールド16及び下部モールド18を圧縮して、モールディングキャビティからできるだけ多くの空気を取り除く。モールディングキャビティから空気をさらに取り除くために、随意の減圧ライン25を、上部モールド16若しくは下部モールド18の1つ又は両方に形成してもよい。運転中に、誘電電界をゴム組成物20に渡って適用し、ゴムの分子を振動させて、そしてゴムの脱硫をする。ゴム組成物の温度は、脱硫プロセスの間に、約95~175°C、好ましくは約120°C~130°Cに典型的には上昇する。この発生器は、電力増幅管powertube及びLC回路を具備してもよく、あるいは半導体技術solid-statetechnologyを含んでもよい。好ましくは、この発生器を、調節して所望の周波数で共鳴させる。これは、負荷すなわち、加硫ゴム粒子を含む合計のキャパシタンスが合計のインダクタンスと等しくなるときに起こる。望ましい周波数を選択したら、キャパシタンス及びインダクタンスを、次のように計算することができる:C=L=1/2πL...1ここで、C:ファラッド単位でのキャパシタンスL:ヘンリー単位でのインダクタンスf:ヘルツ単位での誘電電界の周波数である。図3に示すように、発生器によって発生するシグナルは、実質的に波長λを有する正弦波である。好ましくは、上部電極12と下部電極14との間に加硫ゴム粒子を、発生器の電力増幅管から1/4λの位置である中心位置に置く。この正弦波のピークは、この1/4λの位置にあり、これはこの正弦波上で最も一定の電圧すなわち、最も小さな電圧の変化を与えるということが理解できる。当業者は、加硫ゴム粒子の全領域に渡る同様の電圧の印加が、加硫ゴム粒子に実質的に均一な加熱をもたらすということを理解するであろう。この正弦波の波長を、次のように表すことができる:λ=c/f...2ここで、λ:メートル単位での正弦波の波長c:光速3×108m/secf:ヘルツ単位での誘電電界の周波数である。式2を用いると、27.12MHzで発生させた誘電電界の正弦波の波長は、次の通りである:λ=3×108/27.12×106=11.1メートル=36.3フィートそれゆえ、1/4λは、発生器の電力増幅管から9.1フィートの場所に位置するであろう。同様に、40.68MHzで発生させた誘電電界の正弦波の波長は、次の通りである:λ=3×108/40.68×106=7.5メートル=24.6フィートそれゆえ、1/4λは、発生器の電力増幅管から6.15フィートの場所に位置するであろう。当業者は、比較的低い周波数例えば、27.12MHzの使用が、比較的長い波長λに起因して、より均一な加熱を与えることを理解するであろう。しかし、比較的高い周波数例えば、40.68MHzの使用は、加硫ゴム粒子をより速い速度で加熱するであろう。それゆえ、任意の所定の用途に関して、これらを考慮して、望ましい周波数を選択してもよい。上述したように、1/4λの位置又はこれに近い位置に置けば、図2に示す機器10を用いて、加硫ゴム粒子の全領域に渡って同じ電圧を印加することができる。この電極の構成を用いて、図2に点Xとして指定される単一の点を、正弦波の最も高い電圧に対応する1/4λの位置に置く。加硫ゴム粒子の全領域にわたってより均一な電圧を印加するために、上部電極12を、複数の点が1/4波長の位置に置かれている上部電極と置き換えてもよい。これを行うために、上部電極は、複数の点のそれぞれが発生器の電力増幅管から同じ距離すなわち、1/4λに位置するように、区分けされかつ置かれた、電気接続された複数のプレートを有してもよい。好ましい実施態様では、この電気接続されたプレートを、段上の構成で配置する。ここでは、メインプレートが上部モールドに隣接して位置し、比較的小さな複数のプレートが、メインプレートと発生器の電力増幅管との間の様々なレベルでこのメインプレートに実質的に平行に位置する。これらのプレートは、メインプレートの複数の点が、発生器の電力増幅管から同じ距離すなわち、1/4λにそれぞれ位置するように、電気的に接続される。実際には、1/4λ位置に置かれる点の数を増やすことによって、正弦波のピークを実質的に平らにすることができる。こうして、この機器は、加硫ゴム粒子の全領域にわたって比較的均一な電圧を印加することができ、そして加硫ゴム粒子の比較的均一な加熱をもたらすことができる。そのような機器の例を、図4に参照の符号10Aとして示す。図2の機器10と図4の機器10Aとの差は上部電極の構成のみであると理解されるべきである。図2において、上部電極12は、単一のプレートを有する。しかし、図4では、上部電極22が、プレート22b、22c、22d及び22eと電気的に接続しているメインプレート22aを含むということを理解することができる。そして、プレート22b及び22cは、プレート22fに電気的に接続し、そしてプレート22d及び22eは、プレート22gに電気的に接続する。さらに、プレート22f及び22gは、プレート22hに電気的に接続し、これは発生器の電力増幅管又は他の半導体の供給源solid-statesupplyに電気的に接続する。図4に示すように、点A、B、C、D、E、F、G及びHは、メインプレート22aの長さに沿って均等に間隔があり、発生器の電力増幅管は、点Oとして指定されている。様々なプレートのサイズ及び位置が、OA、OB、OC、OD、OE、OF、OG及びOHの距離が同じになるように選択され、そうして点A、B、C、D、E、F、G及びHは、1/4波長の位置にそれぞれ置かれる。例えば、選択した周波数が27.12MHz又は40.68MHzの場合、点A、B、C、D、E、F、G及びHのそれぞれが、点Oから各々9.1フィート又は6.15フィートに置かれるであろう。対照的に、図2に示すように、点Xのみが1/4波長位置に置かれる。もちろん、当業者は、上部電極22が、加硫ゴム粒子の全領域にわたって比較的一定の電圧を与えるのに用いることができる電極の単なる1つの例であると理解するであろう。また、当業者は、複数の点が1/4波長位置に置かれる、他の構成も用いることができるということを理解するであろう。図5は、図3の正弦波のピークを示し、これは、上部電極12図2と上部電極22図4との構成の違いを説明するために、重ね合せた点X図2及び点A、B、C、D、E、F、G及びH図4を有する。理解できるであろうが、点X及び点A、B、C、D、E、F、G及びHは、それぞれ正弦波のピークにそれぞれ位置しており、これは最も高い電圧に対応する。実際に、上部電極22の構成は、正弦波のピークを実質的に平らにする。そうして、上部電極22を用いて、加硫ゴム粒子の全領域にわたって比較的均一な電圧を印加することができ、そうして上部電極12と比較して、比較的均一な加熱をもたらすことができる。図2及び図4に一般的に示される脱硫装置を良好に適合して、ゴム及び他のエラストマーをバッチプロセスで脱硫するが、交流高周波誘電電界を連続方式で印加してもよいということが理解されるであろう。図6は、実際は連続的である第二の実施態様に従う、典型的な脱硫装置110を示す。脱硫装置110は、上部電極112及び下部電極114を具備し、これらは両方とも、電極間に交流電界を発生させるために使用できる電場エネルギー源図示せずに接続されている。例えば、上部電極112は高電圧電極114となることができ、一方で下部電極は接地電極となる又はその逆。上部電極112は、単一のプレート例えば、図2に概略的に描かれたようなプレートを有してもよく、又は電気接続された複数のプレート例えば、図4に概略的に描かれたようなプレートを有してもよい。交流電界を約1MHz~100MHzの範囲の周波数で発生させてもよく、好ましくは約25MHz~40MHzの周波数で発生させる。さらに、機器110内に含まれる物はコンベヤー118であり、これは、加硫ゴム粒子120例えば、新たな又は生の未加硫ゴムを随意に混合したクラムラバーを含む組成物を交流高周波誘電電界に連続的に供給するために、下部電極114に面して位置する。加硫ゴム粒子120を含む組成物は、好ましくはホッパー130から、1以上の一式のローラー132、134に送られ、加硫ゴム粒子及び随意に新たな又は生の未加硫ゴムの略連続的なシートを形成する。一般的には、このローラーは、加硫ゴム粒子を圧縮し、これはゴムからの空気の除去を促進する。示された例では、加硫ゴムと共に随意の新たな又は生の未加硫ゴムを、ローラー132、134からコンベヤー118上に送る。これは、ゴム組成物120からできるだけ多くの空気を取り除くように行う。運転中には、ゴム組成物120に渡って交流電界を印加し、これはゴムの分子を振動させ、そしてゴムの脱硫をもたらす。1以上のローラー、プレス又は他の圧縮装置136を用いて、脱硫プロセス中又は脱硫プロセスの後に、好ましくは脱硫ゴムが熱い間に、このシート材料を圧縮してもよい。ゴム組成物の温度は、脱硫プロセスの間に、通常は約95~175°C、好ましくは約120~130°Cに上げる。図7は、第三の実施態様に従う脱硫装置210を示す。この脱硫装置210は、複数の上部横断電極棒212及び複数の下部横断電極棒214を有する。例えば、複数の上部横断電極棒を、高電圧電極とする一方、下部電極を接地電極とすることができる又は、この逆もできる。この棒212、214は、電極棒間に交流電界を発生させるために使用できる電場エネルギー源図示せずに接続されている。交流電界を約1MHz~100MHzの範囲の周波数で発生させてもよく、好ましくは約25MHz~40MHzの周波数で発生させる。さらに、機器210内に含まれる物はコンベヤー218であり、これは、加硫ゴム粒子220例えば、新たな又は生の未加硫ゴムを随意に混合したクラムラバーを含む組成物を交流高周波誘電電界に連続的に供給するために、下部電極214に渡って位置する。加硫ゴム粒子220は、好ましくはホッパー230から、1以上の一式のローラー232、234に送られ、加硫ゴム粒子の略連続的なシートを形成する。一般的には、このローラーは、加硫ゴム粒子120を圧縮し、これはゴムからの空気の除去を促進する。示された例では、加硫ゴム220と共に随意の新たな又は生の未加硫ゴムを、ローラー232、234からコンベヤー210上に送る。これは、ゴム組成物120からできるだけ多くの空気を取り除くように行う。運転中には、ゴム220に渡って交流電界を印加し、これはゴムの分子を振動させ、そしてゴムの脱硫をもたらす。1以上のローラー、プレス又は他の圧縮装置236を用いて、脱硫プロセス中又は脱硫プロセスの後に、好ましくは脱硫ゴムが熱い間に、このシート材料を圧縮してもよい。ゴム組成物の温度は、脱硫プロセスの間に、通常は約95~175°C、好ましくは約120~130°Cに上げる。また、本発明は、本明細書で論じたように交流高周波誘電電界を用いて形成された脱硫したエラストマーを、再加硫する方法に向けられる。すなわち、図1に概略的に示すように、交流高周波誘電電界の適用によって形成された脱硫したエラストマーを、新たな有用な物品を与えるために再加硫することができる。交流高周波誘電電界を用いて形成された脱硫したエラストマーを、他のポリマー材料例えば、生の又は新たな未加硫ゴムと組み合わせて、そして再加硫してもよく又は他の場合には架橋してもよい。典型的な実施態様では、本発明に従って脱硫したゴムを、単独で再加硫する、又は脱硫したゴムと生の又は新たな未加硫ゴムとを組み合わせて、これを加硫プロセスに処理することによって、再加硫する。交流高周波誘電電界を用いて形成された脱硫したゴムは、再加硫する組成物中に、任意の適切な水準で存在することができ、例えば、約10、20、30、40、50、60、70、80、90又は100wtで存在することができる。好ましくは、脱硫したゴムは、最終製品の少なくとも10wtを構成する。ある種の物品、例えばベルト、ホース又はシュートレッドに関しては、再加硫プロセス中に100の脱硫したゴムを用いることができる。本発明の脱硫したゴムを用いて、様々なタイヤトレッド及びタイヤトレッドキャップゴム組成物、例えば参照により本明細書に組み込まれるBauerらの米国特許第5,378,754号及びBurlettらの米国特許第5,023,301号で教示される組成物を形成することができる。例えば、脱硫したゴムを、天然又は合成のcis-1,4-ポリイソプレン、cis-1,4-ポリブタジエン、3,4-ポリイソプレン、スチレン/ブタジエンコポリマー、スチレン/イソプレン/ブタジエンターポリマー、ブタジエン/アクリロニトリルコポリマー、イソプレン/アクリロニトリルコポリマー、ニトリル/ブタジエンコポリマー及びこれらの混合物からなる群より選択されるゴムと配合することができる。また、本発明の脱硫ゴムを、適切なフィラーと組み合わせてもよい。フィラーの例としては、限定されないが、シリカ、アルミナ、珪藻土、二酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、金属鉄及び他の同様の酸化物;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、及び他の同様の水酸化物;炭酸カルシウム軽質及び重質、炭酸マグネシウム、ドロマイト、ドーソナイト、及び同様の炭酸塩;硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸カルシウム並びに同様の硫酸塩及び亜硫酸塩;タルク、雲母、粘土、ガラス繊維、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト、ベントナイト及び同様のケイ酸塩;ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸カルシウム、ホウ酸ナトリウム及び他の同様のホウ酸塩;カーボンブラック、グラファイト、炭素繊維及び同様の形態の炭素;さらに、粉体化した鉄、粉体化した銅、粉体化したアルミニウム、亜鉛華、硫酸モリブデン、ホウ素繊維、チタン酸カリウム及びチタン酸ジルコン酸鉛が挙げられる。合成樹脂を、有機フィラーとして用いることができる。その例としては、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル、アクリル樹脂、アセタール樹脂、ポリエチレン、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスルホン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、フルオロ樹脂、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニルコポリマー及び様々な他の同様の熱硬化性樹脂の粉体若しくは熱可塑性樹脂の粉体又はこれらの樹脂のコポリマーの粉体が挙げられる。さらに用いることができる他の有機フィラーの例としては、芳香族ポリアミド繊維又は脂肪族ポリアミド繊維、ポリプロピレン繊維、ポリエステル繊維及びアラミド繊維が挙げられる。酸化防止剤、UV光安定剤及びプロセスオイルを含むこともできる。酸化防止剤としては、酸化を最小化させる物理的防護剤physicalprotectorant及び化学物質が挙げられる。化学物質としては、アミン、フェノール類及び亜リン酸塩が挙げられる。プロセスオイルは、通常、ゴムとの適合性及び望ましい色並びに/又は劣化性に基づいて選択される。それらは、有機エステル可塑剤、ミネラルオイル、ベジタブルオイル、パラフィンオイル、ナフテンオイル、又は他の芳香オイルaromaticoilであってもよい。ゴム組成物は、潤滑剤、帯電防止剤、顔料、染料、難燃剤又はプロセス助剤を含んでもよく、これらは当業者に周知である。交流高周波誘電電解を用いて事前に脱硫したエラストマー材料を再加硫するために用いる方法としては、この分野で知られたあらゆる方法が挙げられる。一般的には、加硫装置は、エラストマー材料と反応させ、そして架橋させるのに適したものである。エラストマーに応じて、適切な架橋剤又は硬化剤として、硫黄、硫黄供与体、過酸化物、金属酸化物、ジアミン、ビスマレイミド等が挙げられる。粉体化した硫黄、硫黄華、塩化硫黄、脱酸素硫黄deoxygenatedsulfur、堆積硫黄sedimentsulfur、コロイド硫黄、表面処理された硫黄等を、硫黄として用いることができる。用いることができる過酸化物としては、例えば、ジ-t-ブチルパーオキサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、及び他の同様のジアルキルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、及び他の同様のジアシルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5-トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、及び他の同様のケトンパーオキサイド、1,1-ビスt-ブチルパーオキシシクロヘキサン、及び他の同様のパーオキシケタール、t-ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3-テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、p-メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5-ジメチルヘキサン-2,5-ジハイドロパーオキサイド及び他の同様のハイドロパーオキサイド、t-ブチルパーオキシアセテート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノアート、t-ブチルパーオキシベンゾエート、t-ブチルパーオキシイソプロピルカーボナート及び他の同様のパーオキシエステルが挙げられる。マレイミド系架橋剤の例は、m-フェニレンビスマレイミド4,4’-m-フェニレンビスマレイミド、4,4’-ビニレンジフェニルビスマレイミド、p-フェニレンビスマレイミド、4,4’-スルホニルジフェニルビスマレイミド、2,2’-ジチオジフェニルビスマレイミド、4,4’-エチレン-ビス-オキソフェニルビスマレイミド、3,3’-ジクロロ-4,4’-ビフェニルビスマレイミド、ヘキサメチレンビスマレイミド、及び3,6-durineビスマレイミドがある。酸化亜鉛は、単独で、又はハロゲンゴム、例えばブロモブチルゴム用の他の架橋剤と組み合わせて用いることができる。樹脂架橋剤を用いることができる。その樹脂としてはメチロールフェノール樹脂、臭素化フェノール樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。最も好ましい架橋剤は、硫黄である。それを、ゴムポリマー100重量部に対して約0.1~約3.0重量部の量で用いることが好ましい。硫黄の好ましい量は、約1.0~2.0wtである。様々な加硫促進剤、加硫助剤及び/又は開始剤を、加硫混合物に添加することができる。通常の加硫促進剤としては、必ずしも限定されないが、グアニジン系加硫促進剤、アルデヒド-アンモニア系加硫促進剤、スルフェンアミド系加硫促進剤、チウラム系加硫促進剤、キサンテート系加硫促進剤、アルデヒド-アミン系加硫促進剤、チアゾール系加硫促進剤、チオ尿素系加硫促進剤、ジチオカルバマート系加硫促進剤及びこれらの混合系。加硫促進剤の例としては、例えば、テトラメチルチウラムジスルフィドTMTD、テトラメチルチウラムモノスルフィドTMTM、N-オキシジエチレン-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミドOBS、N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアジルスルフェンアミドCBS、N-t-ブチル-2-ベンゾチアジルスルフェンアミドTBBS、ベンゾチアジル-2-スルフェンモルホリドMBS、N-ジシクロヘキシル-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミドDCBS、テトラメチルチウラムジスルフィドTMTD;ジフェニルグアニジンDPG、メルカプトベンゾチアゾールMBT、メルカプトベンゾチアゾールジスルフィドMBTS、メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩ZMBT、テトラメチルチウラムヘキサスルフィド、N,N-ジフェニル尿素、モルホリンチオベンゾチアゾール、亜鉛ジ-n-ブチルジチオカルバマート、亜鉛ジメチルジチオカルバマート及び亜鉛華が挙げられる。グアニジン系加硫促進剤の例としては、ジフェニルグアニジン、トリフェニルグアニジン、ジ-オルト-トリルグアニジン、オルト-トリルビグアニド及びジフェニルグアニジンフタラートが挙げられる。アルデヒド-アンモニア加硫促進剤の例としては、ヘキサメチレンジアミン及びアセトアルデヒド-アンモニアが挙げられる。チウラム加硫促進剤の例としては、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド及びジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドが挙げられる。アルデヒド-アミン加硫促進剤の例としては、ブチルアルデヒドとアニリンとの反応生成物、並びにアルデヒド-アンモニア化合物、例えばヘキサメチレンジアミン及びアセトアルデヒド-アンモニアが挙げられる。キサンテート系加硫促進剤の例としては、必ずしも限定されないが、イソプロピルキサントゲン酸ナトリウム、イソプロピルキサントゲン酸亜鉛、エチルキサントゲン酸亜鉛、ブチルキサントゲン酸亜鉛及びジブチルキサンテートジスルフィドが挙げられる。チアゾール系加硫促進剤の例としては、Nシクロヘキシル-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N-オキシジエチレン-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N,N-ジイソプロピル-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-2,4-ジニトロフェニルメルカプトベンゾチアゾール、2-2,6-ジエチル-4-モルホリノチオベンゾチアゾール及びベンゾチアジルジスルフィドが挙げられる。チオ尿素加硫促進剤の例としては、チオカルバニリド、ジエチルチオ尿素、ジブチルチオ尿素、トリメチルチオ尿素、及びジ-オルト-トリルチオ尿素が挙げられる。ジチオカルバマート系加硫促進剤の例としては、必ずしも限定されないが、ナトリウムジメチルジチオカルバマート、ナトリウムジエチルジチオカルバマート、ナトリウムジ-n-ブチルジチオカルバマート、亜鉛エチルフェニルジチオカルバマート、亜鉛ジメチルジチオカルバマート、亜鉛ジエチルジチオカルバマート、亜鉛ジ-n-ブチルジチオカルバマート、亜鉛ジベンジルチオカルバマート、亜鉛N-ペンタメチレンジチオカルバマート、亜鉛ジメチルペンタメチレンジチオ-カルバマート、亜鉛エチルフェニルジチオカルバマート、セレンジメチルジチオカルバマート、セレンジエチルジチオカルバマート、テルルジエチルジチオカルバマート、カドミウムジエチルジチオカルバマート、ジメチルアンモニアジメチルジチオカルバマート、ジブチルアンモニアジブチルジチオカルバマート、ジエチルアミンジエチルジチオカルバマート、N,N’-ジメチルシクロヘキサン、ジブチルジチオカルバミン酸の塩、ピペコリンメチルペンタメチレンジチオカルバマート等が挙げられる。用いる特定の架橋促進剤に応じて、好ましい量の促進剤は、通常はゴムポリマー100重量部に対して約0.1~約3.0重量部の範囲である。例えば、約0.5~2wtのMBTS及び0.1~0.3wtのTMTDを含む促進剤の系を、再加硫プロセスの間に多くのタイヤからのクラムラバーを脱硫するために用いることができる。加硫の時間は、架橋剤、加硫促進剤及び加硫温度に応じて変えることができる。本発明ではカップリング剤も用いることができる。カップリング剤に特定の制限はなく、目的に適切な選択をすることができる。しかし、典型的なシランカップリング剤には、Si69がある。他のシランカップリング剤の例としては、ビス3-トリエトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス2-1トリエトキシシリルエチルテトラスルフィド、ビス3-トリメトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス2-トリメトキシシリルエチルテトラスルフィド、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、2-メルカプトエチルトリメトキシシラン、3-ニトロプロピルトリメトキシシラン、3-ニトロプロピルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリエトキシシラン、2-クロロエチルトリメトキシシラン、2-クロロエチルトリエトキシシラン、3-トリメトキシシリルプロピル-N,N’-ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、3-トリエトキシシリルプロピル-N,N’-ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、2-トリエトキシシリルエチル-N,N-ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、3-トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾールテトラスルフィド、3-トリエトキシシリルプロピルベンゾチアゾールテトラスルフィド、3-トリエトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィド及び3-トリメトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィドが挙げられる。好ましい態様では、交流高周波誘電電界を用いて脱硫したエラストマーを、2つの好ましい方法の1つを用いて再加硫する。第一の方法は、脱硫したエラストマー好ましくは、生の又は新たな未加硫ゴムと共にを、適切な時間で適切な温度に加熱する。通常は、オーブンで150°C~180°Cで、5~25分間の加熱が、十分な再加硫をもたらすであろう。第二の方法では、エラストマーを、交流高周波モールドで加熱することができる。これは、例えば、Marcの米国特許出願公開第2009/236030号に記載されており、これは参照により組み込まれる。交流誘電高周波電界の周波数は、好ましくは約1MHz~100MHzの範囲であり、より好ましくは約10MHz~60MHzの範囲であり、最も好ましくは約25MHz~40MHzの範囲である。電圧は、約1000~10000Vの範囲であり、より好ましくは約3000~7000Vの範囲であり、最も好ましくは約4000~6000Vの範囲である。交流高周波誘電電界に処理する時間は、印加する電圧に応じて様々であるが、通常は数秒~2分の間の範囲である。それゆえ、この処理時間は、通常、ゴムを脱硫するのに用いられる時間よりも長い。例えば、27.12MHzで10~50秒間8000Vで印加することは、硫黄架橋剤を添加している約0.1~1インチの厚みのゴム組成物を加硫するのに通常は十分である。Marcの米国特許出願公開第2009/236030号は、交流高周波誘電電界を用いたゴムの加硫方法を記載しているが、本明細書に記載した本発明は、加硫ゴムを交流高周波誘電電界を用いて脱硫する方法についての発明であると理解されるであろう。理論的には、一部の架橋は、脱硫ゴム中の残留硫黄により起こりうるが、加硫は、ずっと高い温度150~220°Cの程度、典型的には約160~190°C及び架橋剤の添加を必要とする。以下の例は、本発明を例証することを意図している。その記載は、本発明の範囲を決して限定しない。実施例では、加硫ゴムのサンプルの組合せの特性を、以下のように評価する。摩擦係数:アルミニウムシートを用いての測定。摩耗減量:ダイヤモンドホイール研磨機での4000回転後の重量損失。引張強度:ASTM標準D412試験法Aに従って測定を行った。破断伸度:ASTM標準D412試験法Aに従って百分率の値で測定した。ショア硬度:ASTM標準D2240に従って測定を行った。300モジュラス:ASTM標準D412試験法Aに従って測定を行った。例1:トラック及び車のタイヤゴムこの例では、破砕していないタイヤからの加硫タイヤゴムの物理的パラメーターを、表1の1列目に示す。比較のため、QuestRecyclingServicesコンコルディア、カンザス州からのトラック及び車のタイヤの混合体から得た、加硫されている破砕したタイヤゴムVGTR:vulcanizedgroundtirerubberを、約30~50秒間、27.12MHzの周波数で、約4000~6000Vの電圧を有する交流高周波誘電電界を印加することによって脱硫した。VGTRは、30メッシュの粒子サイズであり、ニトリルブタジエンゴムとスチレンブタジエンゴムとの未知の比の混合体を有していたと考えられる。このVGTRを、8×12インチで約1/4の厚みを有し、かつおおよそ図2に示すような構成を有するモールドに置いた。脱硫に続いて、脱硫し破砕したタイヤゴムDGTR:devulcanizedgroundtirerubberを、生の又は新たな未加硫ゴムFRと様々な量で組み合わせて、そして加硫した。FRは、イソプレン、スチレンブタジエン、ポリブタジエン、フィラー、酸化亜鉛、ステアリン酸、オイル、硫黄及び促進剤の混合物を含んでいた。ゴムの重量に基づいて約2.5wtの硫黄、1.75のMBTS及び0.3のTMTDを、様々な組成のDGTR/FRに添加し、そしてこれらの組成物をオーブン中で加熱した。加硫の間、ゴム組成物の温度は、約160~190°Cの温度に達した。交流高周波誘電電界を用いてVGTRを脱硫してDGTRを形成し、そして再加硫した組成物の特性を、表1の2列目~7列目に示す。例2:シューラバーこの例では、生の又は新たなシューソールラバーFSSR:freshshoesolerubber及びスクラップの脱硫し破砕したシューソールラバーDGSSR:devulcanizedgroundshoesolerubberを含む組成物から導いた、加硫されているシューソールラバーの物理的パラメーターを、表2に示す。加硫し破砕したシューソールラバーVGSSR:vulcanizedgroundshoesolerubberを、小さな粒子40メッシュに破砕し、そして約30~50秒間、27.12MHzの周波数で、約4000~6000Vの電圧を有する交流高周波誘電電界を印加することによって脱硫した。このVGSSRを、8×12インチで約1/8の厚みを有し、かつおおよそ図2に示すような構成を有するモールドに置いた。脱硫に続いて、DGSSRを、FSSRと様々な量で組み合わせて、そして加硫した。より詳しくは、ゴムの重量に基づいて約1.1wtの硫黄、0.8のMBTS及び0.12のTMTDを、様々な組成のDGSSR/FSSRに添加し、そしてこれらの組成物をオーブン中で加熱した。加硫の間、ゴム組成物の温度は、6分間に渡って約160°Cの温度に達した。交流高周波誘電電界を用いてVGSSRを脱硫してDGSSRを形成し、そして再加硫した組成物の特性を、表2に示す。例3:乗用車タイヤラバーこの例では、生の又は新たなゴムFR:freshrubber及び脱硫し破砕した乗用車タイヤゴムDGCTR:devulcanizedgroundpassengercartirerubberを含む組成物から導いた加硫した乗用車タイヤゴムの物理的パラメーターを、表3に示す。LehighTechnologiesタッカー、ジョージア州からの加硫されている破砕した乗用車タイヤゴムVGCTR:vulcanizedgroundpassengercartirerubberは、40メッシュの粒子サイズを有していた。これを、約30~50秒間、27.12MHzの周波数で、約4000~6000Vの電圧を有する交流高周波誘電電界を印加することによって脱硫した。このVGCTRを、8×12インチで約1/4の厚みを有し、かつおおよそ図2に示すような構成を有するモールドに置いた。脱硫に続いて、脱硫し破砕したタイヤゴムDGCTRを、生の又は新たな未加硫ゴムFRと様々な量で組み合わせて、そして加硫した。FRは、イソプレン、スチレンブタジエン、ポリブタジエン、フィラー、酸化亜鉛、ステアリン酸、オイル、硫黄及び促進剤の混合物を含んでいた。より詳しくは、ゴムの重量に基づいて約2.5wtの硫黄、1.75のMBTS及び0.3のTMTDを、様々な組成のDGCTR/FRに添加し、そしてこれらの組成物をオーブン中で加熱した。加硫の間、ゴム組成物の温度は、約160~190°Cの温度に達した。交流高周波誘電電界を用いてVGCTRを脱硫してDGCTRを形成し、そして再加硫した組成物の特性を、表3に示す。上記から、本発明は、上記の全ての目的及び対象、並びに明らかでありかつ本発明に内在する他の利点を達成するのに、良好に適合することが分かるであろう。多くの可能な実施態様を、本発明の範囲から離れることなく本発明から構成することができ、明細書で述べた全ての事項又は添付の図面に示した全ての事項は、例証であるとして解釈され、限定的な意味に解釈されないということが理解されるべきである。特定の実施態様を示し、論じているが、当然に様々な変更をなすことができ、本発明は、特許請求の範囲に含まれる限定を除いて、特定の形態又は記載した部品若しくは工程の構成に限定されない。さらに、特定の特徴及び下位の組合せsubcombinationが有用であり、かつ他の特徴及び下位組合せに参照することなく、用いることができることが理解されるであろう。これは、特許請求の範囲内であり、またその範囲内であると考慮される。"