"透明基板の少なくとも一方の面に、面内のある1方向に配向した微細空孔層を1層以上有する位相差板であり、i番目の前記微細空孔層の配向方向と平行な偏光に対する実効屈折率nTEi、それと直交する方向に対する実効屈折率nTMi、膜厚diとしたとき、使用波長域内のある波長λに対して以下の式を満たし、0225×k≦Σi-nidiλ≦0275×k前記微細空孔層を構成する媒質の屈折率をnm、前記空孔構造の空孔を充填する媒質の屈折率をnpとしたとき、以下の式を満たす層を有することを特徴とする位相差板。-n004前記微細空孔層の周期Pは5nm以上かつ200nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の位相差板。前記位相差板は無機誘電体材料のみで構成されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の位相差板。前記無機誘電体材料はTiO2であることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載の位相差板。前記微細空孔断面の空孔平均径をφ、微細空孔層の平均周期をPとしたとき、φPの値が式を満たす層を1層以上有することを特徴とした請求項4に記載の位相差板。095φP03前記微細空孔層の厚みの総和は500nm以上であることを特徴とした請求項5に記載の位相差板。前記微細空孔層と基板界面、微細空孔層の上面の少なくとも一方に無機誘電体薄膜層を有することを特徴とした請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載の位相差板。基板の両面に前記微細空孔層を有する位相差板であって、各側の膜厚またはφPが等しいことを特徴とする請求項1乃至請求項7の何れか1項に記載の位相差板。前記微細空孔層が2層以上積層された位相差板であって、ある2つの微細空孔層の面内屈折率の平均値は、基板から離れた層の方が小さいことを特徴とする請求項1乃至請求項7の何れか1項に記載の位相差板。請求項1乃至請求項9の何れか1項に記載の前記位相差板を光変調液晶素子の近傍または光源の近傍に配置したことを特徴とした画像投射表示装置。特許文献2のシリカメソ構造体は基板との間に高分子膜が配置されており、位相差の温度依存性や耐環境性の点で課題が残る。さらにシリカメソ構造の持つ屈折率異方性や、位相差板としての特性制御に必要なパラメータに関する記載はなく、位相差板としての構成は開示されていない。本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、熱、温度変化や紫外光等使用環境に対して高い信頼性を有しつつ、簡易に製造可能な位相差板を提供することを目的としている。本出願にかかる位相差板は、透明基板の少なくとも一方の面に、面内のある1方向に配向した微細空孔層を1層以上有する位相差板であり、i番目の微細空孔層の配向方向と平行な偏光に対する実効屈折率nTEi、それと直交する方向に対する実効屈折率nTMi、膜厚diとしたとき、使用波長域内のある波長λに対して以下の式を満たし、前記微細空孔層を構成する媒質の屈折率をnm、前記空孔構造の空孔を充填する媒質の屈折率をnpとしたとき、以下の式を満たす層を有することを特徴としている。0225×k≦Σi-nidiλ≦0275×k-n004本発明の効果により、微細空孔層を位相差板として効果的に用いることで環境信頼性が高く、簡易に製造可能な位相差板を提供することができるので、表示画像の品位を向上することができる。さらに位相差板の保持部材の材質や、冷却に関する配置、風量の制約を緩和でき、設計自由度の向上ひいては表示画像のさらなる品位向上、装置の静音化を図ることが可能である。以下、本発明の実施形態について説明する。本発明の位相差板の特徴を以下に示す。[実施例1]図1は実施例1の位相差板の構成を示す概略図である。実施例1の位相差板10は、基板14上に1軸配向した微細空孔層13を有する構成からなる。微細空孔層13は、無機の誘電体材質であるTiO212中に1軸配向した微細空孔11を有している。微細空孔11は空気または屈折率n10の気体または真空で充填されている。ここで3次元座標系として板面法線方向をz、1軸配向方向をy、その両方に直交する方向をxと定義する。図2に微細空孔層13のxz断面拡大図を示す。各円筒配列11a11b11cは図2に示すような構造で配置され、微細空孔11は空孔径φの円筒が誘電体媒質中をy方向に配列した構造を有する。ここで空孔径φとは厳密に全ての円筒の径がφであることを示すものではなく、各円筒の平均の空孔径がφであることを示すものである。ただし空孔径のバラつきは平均空孔径に対してφの値の±20以内に収められている。また空孔断面は図2のような円形に限定されるものではなく、楕円、長方形等の断面であっても良い。その場合には空孔径φは楕円長軸と短軸の平均値または空孔断面と等価な面積を有する円の直径として定義される。また構造周期Pは、隣り合う円筒の中心位置の距離として定義され、その大きさは可視光帯域内の使用波長以下である。次に本発明の位相差板の光に対する作用について説明する。入射光が図1の位相差板10に入射すると、回折限界以下の微細な周期構造によりy方向に平行に振動する偏光と、y方向と垂直に振動する偏光に対して実効的に異なる屈折率を生じる。このような現象は構造複屈折と呼ばれる。これにより、TE偏光成分およびTM偏光成分に対する実効的な屈折率に差が生じ、図1の微細空孔層13を透過するTE偏光とTM偏光の間には位相差が生じる。このとき位相差板の遅相軸の方向は図1中y方向となり、進相軸はx方向となる。図2に示すような構造を有する場合には前述の通り構造に起因する屈折率異方性が生まれるため、どのような構造、厚みであってもある量の位相差は発生する。しかし単に図1に示すような微細空孔層を成膜しただけでは位相差板として機能させるには困難である。所望波長に対して所望の位相差を付与する位相差板として効果的に機能させるためには、膜厚および微細空孔の構造を精密に制御、設計しなければならない。本発明は、上記の微細空孔層を位相差板として用いる際に効果的に機能させる事を目的としており、以下でその手法について説明する。まず、微細周期構造により生じる屈折率差は、有効屈折率法や厳密結合波解析などの解析手法を用いて各偏光に対する実効的な屈折率を計算することにより求めることができる。実効的な屈折率は形状、材質等のパラメータにより決定される。本発明の位相差板においては、実効的な屈折率は微細空孔層を構成する材質の屈折率nm、空孔を充填する媒質の屈折率np、空孔径φおよび微細空孔層の周期P、の4つのパラメータにより決定される。図3は、図1または図2に示すような微細空孔層の配向方向に平行または垂直に振動する偏光平行TE偏光、垂直TM偏光とするに対する実効的な屈折率を、横軸φPとしてプロットした図である。異なる材質に対する2つの場合について図31、図32として示した。図31は微細空孔を構成する材質の屈折率nmを148、空孔を満たす媒質の屈折率npを10としており、図32は微細空孔を構成する材質の屈折率nmを232、空孔を満たす媒質の屈折率npを10としている。またP20nmとしている。図3から明らかなように、各偏光に対する実効的な屈折率はφPの値により大きく影響を受ける。またどのようなφPであってもn-n>0となっており、屈折率差が存在する。よってどのようなφPの値を持つ微細空孔層に対しても、必要な膜厚を成膜すれば位相差板として機能させることができる。このときλ4板またはλ2板として必要な膜厚の条件は式で表される。0225×k≦Σi-nidiλ≦0275×kここでλは使用波長域内のある1つの波長を指し、通常は上記λ4、またはλ2の位相差を付与させるべき設計波長を指す。指数kが奇数であればλ4板、偶数であればλ2として機能させる事ができる。また使用波長は350nmから800nm程度の可視域近傍の帯域を示している。本発明の位相差板を実施するにあたっては上記式を満たすように微細空孔層の厚みを選択すればよい。可視域近傍の波長に対し位相差板として用いる場合には05μm数十μmの膜厚が必要である。しかしながら、マイクロメートルのレベルで膜厚を増やすことは製造にかかる時間の増大につながる。また、必要な膜厚を得るために微細空孔層を積層するような場合には、積層の際に配向方向のズレの発生や表面状態の乱れなど、光学特性劣化の可能性が増大する。そのため位相差板の膜厚は薄い方が好ましく、そのためにはn-n自体の大きさが大きい方が有利である。n-nは空孔径φ、構造周期Pや微細空孔を構成する媒質の屈折率nm、微細空孔を充填する媒質の屈折率npにより影響を受けるが、本発明の位相差板は、式を満たすように各パラメータを設定することが好ましい。n004図4は式の値を縦軸、φPの値を横軸としてプロットした図である。図4中2本の線は、1太線がnm232、np10を示し、2細線がnm=148、np10の場合を示し、3点線がnm232、np148の場合を示している。また図5、図6、図7は図4各線の番号123それぞれの場合において、波長350nm550nm750nmに対してλ4位相差板として機能するために必要な膜厚を、横軸φPとしてプロットしたものである。まず図5図4中1の場合に対応に着目すると、図4から式を満たすφPの範囲は028φP094となる。この範囲を図5内で表すと、図5中縦線と横矢印で示した範囲となっている。図5において上記の横矢印の範囲においては、各波長でλ4の位相差に必要な膜厚が、最低膜厚値近傍に低く抑えられている事が見て取れる。しかし式を満たさない範囲では、所望の位相差に必要な膜厚が急激に増大してしまう。図6、図7についても同様に、図4中において式を満たすφPの範囲においては、必要膜厚が低く抑えられることが判る。このように本発明の位相差板においては、各パラメータを適切に設定して式の数値範囲に収める事により、少ない膜厚でも大きな位相差を得る事が出来ることを見出した。微細空孔層を構成する材質としてはSiO2,Al2O3,SiO,MgO,ZrO2,Y2O3,In2O3,SnO2,HfO2,WO3,CeO2,Ta2O5,TiO2,Nb2O5等の無機誘電体材質が好ましい。層を構成する材質として上記のような無機誘電体媒質を用いれば、吸収が少なく耐環境性に優れた位相差板を得る事が出来る。また式を満たすためには、式右項の分母から微細空孔を構成する材質と空孔を充填する媒質の屈折率差が高い方が有利である。よって微細空孔を構成する材質として特にTiO2が好ましく、その場合にはφPの値が式を満たすように選択することが好ましい。式は式の数値範囲をφPの数値範囲に直したものであり、実質的に式を満たす事と等しい意味を持つ。また構造周期Pについては、400nm以下であることが好ましく、5nm~200nmであることがより好ましい。Pが400nm以上の領域では可視光に対して回折を生じ、透過光量の損失や不要光の発生につながるため好ましくない。図8は本発明の実施例1の位相差板における分光位相差特性を示している。また表1に実施例1の位相差板における設計値を示す。P20nm、φ14nm、微細空孔層厚みを963nmとしている。このとき波長550nmに対する微細空孔層13の実効的な屈折率はn=17844、n=16425となる。実施例1における式の値は0249となり、k1のλ4板として機能する。また式の値は0108となり、式を満足する。実施例1の位相差板は基板14と微細構造層13の界面および微細構造層13の表面に無機誘電体による反射防止層を挟んでいる図1不図示。本発明の位相差板の微細空孔層は1方向に配向した微細構造を有するが、微細空孔層上面部、または微細空孔層と基板との界面には空孔構造は露出せず、図1中12で示される材質で覆われている。そのため膜強度が強く、さらに層の上面や界面に反射防止膜を施すことが可能である。従来の微細周期構造、例えば1次元格子構造においては、特に構造上面部において微細構造が露出しているために、反射防止が困難である場合が多い。しかし本発明の位相差板は微細周期構造による構造複屈折を利用した位相差板でありながら、その構造上面部は平坦であるため、容易に反射防止を行い素子反射率の低減を図ることが出来る。実施例1の位相差板のTETM偏光成分に対する分光反射率を図9に示す。基板14と微細空孔層13の界面、および微細空孔層13の表面に反射防止膜を施すことにより、使用波長近傍において反射の少ない位相差板を得る事ができる。本発明における微細空孔層の作製方法は、例えば、繰り返しユニットの分子構造中に二つ以上の連続したメチレン基を含んでいる高分子化合物表面上に、配向したロッド状の細孔を有するメソ構造体薄膜を形成する方法により作製できるが、上記製法に限定されない。また基板と微細空孔層との間には配向膜を用い、微細空孔層の空孔構造を1次元に配向させることが好ましい。配向膜としては構造異方性を持たせたポリアミド等の高分子やSiO2等の無機酸化物を用いる事が好ましいが、本発明の微細空孔層の製法または配向方法はこれに限定されない。[実施例2]次に、本発明の実施例2の位相差板について説明する。実施例2の位相差板の構造概略図は実施例1と同じであるため省略する。実施例2の位相差板は、実施例1の位相差板における微細空孔層を構成する材質をTiO2からSiO2へと置き換えたものとなっている。無機の誘電体材質であるSiO212中に1軸配向した微細空孔11を有している。微細空孔11は空気または屈折率n10の気体または真空で充填されている。図10は実施例2の位相差板における分光位相差特性を示している。また表2に実施例2の位相差板の設計値を示す。P20nm、φ15nm、微細空孔層厚みを4270nmとしている。このとき波長550nmに対する微細空孔層13の実効的な屈折率はn=12690、n=12368となる。実施例1における式の値は0250となり、k1のλ4板として機能する。また式の値は0069となり、式を満足する。またTETM偏光成分の分光反射率を図11に示す。基板14と微細空孔層13の界面、および微細空孔層13の表面に表2に示す反射防止膜を施すことにより、反射の少ない位相差板を得る事ができる。[実施例3]次に、本発明の実施例3の位相差板について説明する。図12に実施例3の位相差板の構成概略図を示す。実施例3の位相差板30は、基板35の両面に1軸配向した微細空孔層3334を有する構成からなる。微細空孔層33、34は、無機の誘電体材質であるSiO232中に1軸配向した微細空孔31を有している。微細空孔31は空気または屈折率n10の気体または真空で充填されている。図13は実施例3の位相差板における分光位相差特性を示している。また表3に実施例3の位相差板の設計値を示す。実施例3の位相差板においては微細空孔層3334ともにP20nm、φ15nm、微細空孔層厚みを2135nmとしている。このとき波長550nmに対する微細空孔層33または34の実効的な屈折率はn=12690、n=12368となる。ここで実施例3における式のΣiについて説明する。位相差板が複数の微細空孔層を有する場合には、各層で生じる位相差が全体として所望の位相差となるように設計する必要があるため、式のΣ内の項を入射偏光が透過する微細空孔層の数iだけ積算する。すなわち、実施例3においては基板の上下に1層ずつある微細空孔層それぞれのnndλを足し合わせる。このとき式の値は0123×20246となり、基板上下の微細空孔層を通過することによりk1のλ4板として機能する。また式の値は微細空孔層3334ともに0069となり、式を満足する。実施例3の位相差板は実施例2の位相差板に比べて片面の層厚みを半分にできるため、製造を容易化できる。特に微細空孔層3334をディップコート法で製造する場合は基板面の両面側に同一の構造が形成されるので、より好ましい。しかし本発明の位相差板は上記構成に限定されるものではなく、微細空孔層3334は異なる材質、または異なる構造φまたはPであっても良い。TETM偏光成分の分光透過率を図14に示す。基板34と微細空孔層3334の界面、および微細空孔層33、34の表面に表3に示す反射防止膜図12中不図示を施すことにより、透過率の高い位相差板を得る事ができる。[実施例4]次に、本発明の実施例4の位相差板について説明する。図15に実施例4の位相差板の構成概略図を示す。実施例4の位相差板40は、基板47の上面に1軸配向した微細空孔層434445を積層した構成からなる。微細空孔層43は無機の誘電体材質SiO242a中に1軸配向した微細空孔41aを有し、微細空孔層44、45は無機の誘電体材質TiO242b42c中に1軸配向した微細空孔41b41cを有する。微細空孔41は空気または屈折率n10の気体または真空で充填されている。本発明の位相差板の微細空孔層上面部、または微細空孔層と基板との界面には空孔構造は露出していないため、微細空孔層の上面または下面にも微細空孔層を形成することが可能である。実施例4の位相差板では、空孔径φや材質の異なる微細空孔層を積層することにより、反射防止と位相差付与の両方を兼ね備えることができる。図16は実施例4の位相差板における分光位相差特性を示している。また表4に実施例4の位相差板の設計値を示す。実施例4の微細空孔層43はP20nm、φ128nm、厚み961nmを有し、このとき微細空孔層43の実効的な屈折率はn=12988、n=12678となる。微細空孔層44はP20nm、φ14nm、厚み2114nmを有し、このとき微細空孔層44の実効的な屈折率はn=16877、n=15499となる。微細空孔層45はP20nm、φ14nm、厚み765nmを有し、このとき微細空孔層45の実効的な屈折率はn=17844、n=16425となる。微細空孔層43と44の実効的な屈折率を比較すると、微細空孔層43の方が全体的に低い屈折率である。この微細空孔層43は微細空孔層44の上面で反射する光を低減する効果を兼ね備えている。また実施例4の位相差板40に式を適用すると、000540053001974=02558となり、k1のλ4板として機能する。また式の値は、微細空孔層44が01044、微細空孔層45が01075となり、式を満足する。TETM偏光成分の分光透過率を図14に示す。基板34と微細空孔層3334の界面に表4に示す反射防止膜図12中不図示を施すことに加え、微細空孔層43が位相差の付与と反射防止層としての効果を兼ね備えている。このようにして波長550nmに対してλ4板として機能しつつ、反射率の低い位相差板を得る事ができる。実施例4の位相差板は微細空孔層を3層積層した構成となっているが、もちろん2層でも良く、3層以上でも良い。反射防止としての機能を兼ね備えるにはある2つの微細空孔層の面内屈折率の平均値nとnTMの平均値について、基板から離れた層の方が小さくなるように構成すれば良い。[実施例5]次に本発明の位相差板を用いた投射型液晶画像表示装置について説明する。図18は本発明の位相差板を用いた投射型液晶画像表示装置100の構成概略図である。図中101は光源、102は光源からの入射光で102g102b102rはそれぞれ緑色、青色、赤色光を示す。103は偏光変換素子、104g104b104rは偏光変換された緑色、青色、赤色光を示す。105はダイクロイックミラー、106は偏光板、107は波長選択性位相差板、109a109bは緑色用、及び青、赤色用偏光分離素子である。111は液晶表示素子、112は14波長板、118は合成プリズム、120は投射レンズ光学系である。このとき液晶表示素子または偏光分離素子109a109bにより生じる偏光状態のズレを補償する目的で、λ4板113g、113b、113rが偏光分離素子109a109bと液晶表示素子111g、111b、111rとの間に配置される。また偏光変換素子103は、一方の偏光を反射し一方の偏光を透過する偏光分離素子とλ2板を組み合わせることにより、無偏光の入射光102g102b102rを偏光方向の整った光束104g104b104rとして出力するものである。このとき高輝度の投射型液晶画像表示装置においては、液晶表示素子近傍に配置されたλ4板113g113b113rや、光源近傍に配置された偏光変換素子を構成するλ2板が長時間熱や紫外線等に晒される事により光学特性が変化する。そのため投射画像のコントラストや色味が変化して画像の品位が劣化する。そのような際に、本発明のλ4板またはλ2板を用いることにより、耐環境性に優れた位相差板を簡易に得ることができ、高輝度かつ高品位な液晶画像表示装置を提供することができる。本実施例の投射型画像表示装置は反射型の液晶表示素子を用いた構成であるが、これに限定されるものではなく透過型の液晶画像表示装置においても同等の効果が得られるものである。その際には偏光分離素子は液晶表示素子の光路前後に配置された偏光板等で置き換えられるが、λ4板等の位相差板は液晶表示素子と少なくともどちらか一方の偏光板との間に配置され、偏光板または液晶表示素子に起因する偏光状態のズレを補償する。"