支持体と、前記支持体の上に形成された無機膜とを有する機能性フィルムであって、前記無機膜は、領域B、および、この領域Bよりも高密度かつ薄い領域Aを有し、さらに、厚さ方向に積層された領域B-領域A-領域Bの積層構造を、1以上有することを特徴とする機能性フィルム。前記領域Aの密度をa、前記領域Bの密度をbとした際に、0.6<b/a<1を満たす請求項1または2に記載の機能性フィルム。前記無機膜が、珪素と窒素とを含む請求項1または2に記載の機能性フィルム。前記領域B-領域A-領域Bの積層構造の厚さが10~200nmである請求項1~3のいずれかに記載の機能性フィルム。前記無機膜がガスバリア性を有する請求項1~4のいずれかに記載の機能性フィルム。支持体を搬送しつつ、前記支持体の搬送方向に配列された複数のプラズマCVDによる成膜手段によって、前記支持体の表面に同じ無機膜を形成するものであり、かつ、上流側の成膜手段による無機膜の成膜を行った後、次の成膜手段によるプラズマに曝されるまでに、前記無機膜の表面温度が20°C以下にならないようにして、前記無機膜の形成を行うことを特徴とする機能性フィルムの製造方法。前記成膜手段は、前記支持体の非無機膜形成面側にバイアス電力を供給しつつ、前記無機膜の形成を行う請求項6に記載の機能性フィルムの製造方法。長尺な前記支持体を、長手方向に搬送しつつ、前記複数の成膜手段によって無機膜の形成を行う請求項6または7に記載の機能性フィルムの製造方法。前記長尺な支持体を巻回してなる支持体ロールから支持体を送り出して搬送し、前記無機膜を形成した支持体を、再度、ロール状に巻回する請求項8に記載の機能性フィルムの製造方法。前記長尺な支持体の搬送経路に、前記長尺な支持体を周面に巻き掛けて回転することによって、前記支持体を搬送する円筒状のドラムを有し、前記複数の成膜手段は、前記ドラムの周面に対向して配置される請求項8または9に記載の機能性フィルムの製造方法。前記成膜手段は、前記無機膜として、珪素および窒素を含有する無機膜を形成する請求項6~10のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。前記成膜手段は、前記無機膜として、ガスバリア性を有する無機膜を形成する請求項6~11のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。特許文献1に記載されるガスバリアフィルムでは、無機膜が上述のような密度分布を有すること、すなわち無機膜内部に密度が異なる部分が存在することにより、無機膜内部の構造を単純なものでは無く、複雑化している。特許文献1に記載されるガスバリアフィルムは、この無機膜の内部構造の複雑化によって、水蒸気の透過を妨げる機能を発現し、高いガスバリア性を発現している。しかしながら、このような低密度な領域を形成した後に、高密度な領域を形成してなる無機膜では、膜厚や無機膜の組成によっては、必要な膜厚を形成する際に、全体の膜応力のバランスが崩れ易く、膜のクラックや剥離が生じ易い。この傾向は、高いガスバリア性が得られる緻密な無機膜ほど、高くなる。また、無機膜の形成途中で膜内でクラックや欠陥部が生じてしまった場合は、クラックや欠陥が、そのまま成長してしまうことが多い。この場合には、形成された無機膜に、大きなクラックや欠陥が残存する結果となり、ガスバリア性能が、大幅に低下してしまう。本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、プラスチックフィルム等の支持体の上に無機膜を形成してなる、ガスバリアフィルムなどの機能性フィルムにおいて、優れた性能を有するのみらず、無機膜のクラック、剥離および欠陥部等を大幅に低減し、しかも、無機膜の密着性にも優れる機能性フィルム、および、このような高性能な機能性フィルムを好適に製造できる製造方法を提供することにある。前記目的を達成するために、本発明の機能性フィルムは、支持体と、前記支持体の上に形成された無機膜とを有する機能性フィルムであって、前記無機膜は、領域B、および、この領域Bよりも高密度かつ薄い領域Aを有し、さらに、厚さ方向に積層された領域B-領域A-領域Bの積層構造を、1以上有することを特徴とする機能性フィルムを提供する。このような本発明の機能性フィルムにおいて、前記領域Aの密度をa、前記領域Bの密度をbとした際に、0.6<b/a<1を満たすのが好ましい。また、前記無機膜が、珪素と窒素とを含むのが好ましい。また、前記領域B-領域A-領域Bの積層構造の厚さが10~200nmであるのが好ましい。さらに、前記無機膜がガスバリア性を有するのが好ましい。また、本発明の機能性フィルムの製造方法は、支持体を搬送しつつ、前記支持体の搬送方向に配列された複数のプラズマCVDによる成膜手段によって、前記支持体の表面に同じ無機膜を形成するものであり、かつ、上流側の成膜手段による無機膜の成膜を行った後、次の成膜手段によるプラズマに曝されるまでに、前記無機膜の表面温度を20°C以下にならないようにして、前記無機膜の形成を行うことを特徴とする機能性フィルムの製造方法を提供する。このような本発明の機能性フィルムの製造方法において、前記成膜手段は、前記支持体の非無機膜形成面側にバイアス電力を供給しつつ、前記無機膜の形成を行うのが好ましい。また、長尺な前記支持体を、長手方向に搬送しつつ、前記複数の成膜手段によって無機膜の形成を行うのが好ましい。また、前記長尺な支持体を巻回してなる支持体ロールから支持体を送り出して搬送し、前記無機膜を形成した支持体を、再度、ロール状に巻回するのが好ましい。また、前記長尺な支持体の搬送経路に、前記長尺な支持体を周面に巻き掛けて回転することによって、前記支持体を搬送する円筒状のドラムを有し、前記複数の成膜手段は、前記ドラムの周面に対向して配置されるのが好ましい。また、前記成膜手段は、前記無機膜として、珪素および窒素を含有する無機膜を形成するのが好ましい。さらに、前記成膜手段は、前記無機膜として、ガスバリア性を有する無機膜を形成するのが好ましい。上記構成を有する本発明の機能性フィルムは、プラスチックフィルム等の支持体の上に、目的とする機能を発現する無機膜を有する機能性フィルムにおいて、無機膜が、厚さ方向に、主に無機膜を形成する領域Bと、この領域Bより薄く、かつ、高密度な領域Aとを有し、さらに、厚さ方向に、領域B-領域A-領域Bの積層構造を1以上有する。このような本発明の機能性フィルムは、主に無機膜を形成する領域Bの間に、高密度な領域Aを有するので、全域が均一密度の同じ厚さの無機膜1層構成の無機膜に比して、高い性能を発揮する。また、主に無機膜を形成する領域Bの間に高密度な領域Aを有するサンドイッチ構造を有することで、無機膜全体の膜応力を低減/制御することができる。そのため、緻密で高密度な無機膜でも、膜応力のバランスの崩れ等に起因するクラックや剥離の発生を大幅に防止でき、かつ、無機膜と支持体との密着性および無機膜内部の密着性も優れる。さらに、無機膜の形成中にクラック、剥離、欠陥等が生じても、領域が変わる際に、一度、初期の状態に戻せるため、クラックや欠陥等が大きく成長することを防止できる。そのため、本発明によれば、高性能で、無機膜の密着力が高く、膜応力も低く、クラック、剥離、欠陥等を大幅に低減した、高品質な機能性フィルムを得ることができる。従って、例えば、本発明をガスバリアフィルムに利用することにより、優れたガスバリア性能を有するガスバリアフィルムを得ることができる。また、本発明の製造方法では、支持体を搬送しつつ、支持体の搬送方向に配列された複数のプラズマCVDによる形成手段成膜手段を用い、各形成手段によって同じ無機膜を形成成膜することにより、このような優れた性能を有する機能性フィルムを、高い生産性で、好適に製造することができる。以下、本発明の機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法について、添付の図面に示される好適例を基に、詳細に説明する。図1に、本発明の機能性フィルムの一例を概念的に示す。本発明の機能性フィルム10は、支持体Zと、この支持体Zの上に形成された、無機膜12とを有するものである。ここで、本発明の機能性フィルム10は、支持体Zと無機膜12のみを有するものに限定はされず、支持体Zと、その上に形成された無機膜12とを有するものであれば、各種の層構成が利用可能である。一例として、無機膜12の下に、高品質な無機膜12を形成するための下地層としての有機膜を有してもよい。すなわち、本発明の機能性フィルム10は、プラスチックフィルム等を基材として、その上に、下地層としての有機膜を形成したものを、支持体Zとして用いてもよい。あるいは、有機膜に変えて、もしくは、有機膜の下層および/または上層に、保護層、接着層、光反射層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層等の、各種の機能を得るための層膜が形成されている物を、支持体Zとして用いてもよい。また、本発明の機能性フィルムは、無機膜12の上に、保護層としての有機膜が形成されたものであってもよい。さらに、有機膜と、この有機膜表面に形成された無機膜12との積層構造を、複数、繰り返し有するものでもよく、あるいはさらに、最上層に保護層としての有機膜が形成されたものでもよい。複数の無機膜12を有する場合には、各無機膜12は、同じ物でも、互いに異なる物でもよい。同様に、複数の有機膜を有する場合も、有機膜は、同じ物でも互いに異なる物でもよい。なお、複数の無機膜12を有する場合には、全ての無機膜12が、後述する層構成を有するのが好ましいが、本発明は、これに限定はされない。本発明の機能性フィルム10は、プラスチックフィルム等の基材の上に有機膜を形成した支持体Zのように、支持体Zは、表面に無機膜12の下地層となる有機膜を有するのが好ましい。また、本発明の機能性フィルム10は、最上層に、保護層としての有機膜を有するのが好ましい。本発明において、有機膜の形成材料には、特に限定は無く、公知の有機化合物樹脂/高分子化合物が、各種、利用可能である。具体的には、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸-マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリロイル化合物、などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン、その他の有機珪素化合物の膜が好適に例示される。中でも、強度等に優れる等の点で、ラジカル重合性化合物および/またはエーテル基を官能基に有するカチオン重合性化合物の重合物から構成された有機膜は、好適であり、中でも特に、前記強度に加え、屈折率が低い、光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよびまたはメタクリレートのモノマーやオリゴマーの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂空なる有機膜は、好適に例示される。本発明の機能性フィルム10において、支持体基材/基体Zには、特に限定はなく、プラズマCVDによる無機膜12の形成が可能な、各種のシート状物が、全て利用可能である。具体的には、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレートなどの有機物からなるプラスチックフィルム樹脂フィルムが、支持体Zとして、好適に利用可能である。なお、支持体Zは、このようなプラスチックフィルムの表面に、無機膜12の下地層となる有機膜などを形成した物も好適に利用されるのは、前述の通りである。前述のように、本発明の機能性フィルム10は、支持体Zの上に、無機膜12を形成してなるものである。本発明の機能性フィルム10において、無機膜12は、無機化合物からなる膜である。ここで、無機膜12は、厚さ方向の全域が同じ無機化合物からなる膜であるが、密度が異なる2種類の領域2種類の層の積層構造となっている。図1に示される機能性フィルム10において、無機膜12は、層12a~12eの5つの層5つの領域で構成される膜であり、層12bおよび12dは、層12a、12cおよび12eよりも薄く、かつ、高密度で緻密である。なお、本例では、便宜的に層と称してはいるが、無機膜12を形成する各層は、隣接した層の密度が異なるだけで、界面を有する1枚の独立した膜というわけではなく、一体的に形成されている。すなわち、無機膜12は、5つの領域を有する1枚の膜である。また、領域Aは、内部に、厚さ方向に連続的傾斜的に密度が変化する領域を有してもよい。あるいは、領域Aは、全域が、厚さ方向に連続的に密度が変化していてもよい。ここで、領域Aが、密度が連続的に変化する領域を有する場合には、通常、この領域の密度は、領域Aの中央に向かって、漸次、高くなる傾向を有する。図示例の機能性フィルム10においては、層12a、12cおよび12eが、本発明における領域Bであって、主に無機膜12を構成するものである。また、層12bおよび12dが、領域Bよりも高密度で、かつ、厚さが薄い、本発明における領域Aである。なお、層12a、12cおよび12eは、基本的に同じ密度であり、同様に、層12bおよび12dも、基本的に同じ密度である。従って、図示例の機能性フィルム10は、本発明における領域B-領域A-領域Bの積層構造として、層12a-層12b-層12cの積層構造と、層12c-層12d-層12eの積層構造との、2つを有する。本発明の機能性フィルムは、このような緻密で高密度な領域Aを主に無機膜12を形成する領域Bで挟んでなる積層構造領域B-領域A-領域Bの積層構造を1つ以上、有することにより、この積層構造による緩衝効果によって、無機膜全体の膜応力を低減/制御することができる。そのため、高密度かつ緻密な無機膜12であっても、膜応力のバランスの崩れ等に起因するクラックや剥離の発生を大幅に防止でき、かつ、無機膜12と支持体Zとの密着性も向上できる。しかも、後述するが、領域Aは、上流側の成膜手段によって成膜された無機膜の表面が、下流側の成膜手段によって、再度、プラズマに曝されることによって形成される高密度領域であるので、領域Aと領域Bとの密着性すなわち無機膜12の内部の密着性も高い。また、無機膜12は、基本的にプラズマCVDによって形成成膜されるが、形成中に、無機膜12においてクラック、剥離、欠陥等が生じても、領域が変わる際に、一度、成膜初期の状態に戻るためリセットできるため、クラックや欠陥等が大きく成長するのを防止できる。しかも、無機膜12は、高密度な領域Aを主に無機膜12を形成する領域Bで挟んでなる積層構造を有するので、同じ厚さの1層構成厚さ方向の全域が均一な密度の無機膜に比して、非常に高い性能を発揮する。すなわち、本発明によれば、高い性能を有し、無機膜12の密着性が良好で、しかも、と支持体Zとの密着性が高く、かつ、クラック、剥離、欠陥等を大幅に低減した、高品質な機能性フィルムを得ることができる。従って、例えば、本発明をガスバリアフィルムに利用することにより、強度が高く、しかも、優れたガスバリア性能を有するガスバリアフィルムを得ることができる。なお、本発明の機能性フィルム10において、無機膜12の構成は、図示例に限定はされず、領域Aと領域Bとを厚さ方向に交互に有し、かつ、領域B-領域A-領域Bの積層構造を1以上有するものであれば、各種の構成が利用可能である。例えば、図1に示す機能性フィルム10の無機膜12において、層12a~層12cの3層3領域から構成される無機膜でもよい。あるいは、図1に示す機能性フィルム10の無機膜12において、層12eの上に、さらに領域Aおよび領域Bが1層ずつ形成さられた、7層構成の無機膜であってもよく、あるいは、9層以上から構成される無機膜であってもよい。なお、本発明の機能性フィルム10において、無機膜12は、最も下最下層および最も上最上層は、共に、主に無機膜12を形成する領域Bとなる。本発明の機能性フィルム10において、領域Aおよび領域Bの密度には、特に限定はなく、機能性フィルム10の用途や無機膜12を形成する無機化合物等に応じて、適宜、設定すればよい。ここで、本発明においては、領域Aの密度をa、領域Bの密度をbとした際に、無機膜12が、0.6<b/a<1を満たすのが好ましい。無機膜12が0.6<b/a<1を満たすことにより、膜の応力バランス、支持体Zとの密着力、耐久性経時変化の抑制効果など等の点で、好ましい結果を得ることができる。また、無機膜12の厚さにも、特に限定はなく、機能性フィルム10の用途、機能性フィルム10無機膜12に要求される性能、無機膜12を形成する無機化合物、要求される生産性等に応じて、適宜、設定すればよい。ここで、本発明の機能性フィルム10においては、領域B-領域A-領域Bの厚さが、10~200nmであるのが好ましい。このような構成を有することにより、膜の応力バランス、耐久性経時変化の抑制効果など、生産性装置構成など等等の点で好ましい結果を得ることができる。なお、領域A同士、および、領域B同士は、互いに厚さが同じでも異なってもよい。また、領域Aと領域Bとの厚さの比にも特に限定はないが、先と同様の理由で、領域Aの厚さが、隣接する領域Bの厚さの3~30であるのが好ましい。ここで、前述のように、本発明の機能性フィルム10の無機膜12では、領域Aと領域Bとは密度が異なるだけで一体的になっており、境界が明確に現れるわけではない。従って、一例として、無機膜12として想定した一定の密度が厚さ方向に連続する領域を領域Bとし、これ以外の領域を領域Aとして、前記積層構造の厚さを設定する。本発明において、無機膜12を形成する無機化合物無機膜12の主成分となる無機化合物には、特に限定はなく、機能性フィルム10の用途に応じて、要求される機能を発現する無機化合物が、各種、利用可能である。一例として、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズITOなどの金属酸化物;窒化アルミニウムなどの金属窒化物;炭化アルミニウムなどの金属炭化物;酸化珪素、酸化窒化珪素、酸炭化珪素、酸化窒化炭化珪素などの珪素酸化物;窒化珪素、窒化炭化珪素などの珪素窒化物;炭化珪素等の珪素炭化物;これらの水素化物;これら2種以上の混合物;および、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が、好適に例示される。ここで、本発明の機能性フィルム10は、クラック、剥離、欠陥等の極めて少ない無機膜12を有する。そのため、これらに起因する性能劣化が大きな用途には、好適に利用され、中でも特に、ガスバリアフィルムには、好適に利用される。従って、無機膜12は、ガスバリア性を有する膜であるのが好ましく、無機膜12を形成する無機化合物は、窒化珪素、酸化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム等のガスバリア性を発現する無機化合物が、好適に利用される。中でも、窒化珪素や酸化窒化珪素などの珪素と窒素とを含有する無機化合物は、特に好適である。図2に、本発明の機能性フィルムの製造方法の一例を実施して、本発明の機能性フィルム10を製造する、プラズマCVD装置の一例を概念的に示す。図2に示すプラズマCVD装置14以下、CVD装置14とするは、長尺な支持体Zウエブ状のフィルム原反を長手方向に搬送しつつ、この支持体Zの表面に、容量結合型プラズマCVDCCPCapacitivelyCoupledPlasma-CVDによって無機膜12を形成成膜して、ガスバリアフィルムや各種の光学フィルムなどの本発明の機能性フィルム10を製造するものである。なお、本発明の製造方法においては、無機膜12の形成は、CCP-CVDによって行うのに限定はされず、ICP-CVD誘導結合型プラズマCVD等、各種のプラズマCVDが、利用可能である。図2に示すCVD装置14は、長尺な支持体Zをロール状に巻回してなる支持体ロールZrから支持体Zを送り出し、支持体Zを長手方向に搬送しつつ、連続的に無機膜12を形成し、無機膜12を形成した支持体Zを巻取り軸16に、再度、ロール状に巻き取る、いわゆるロールトゥロールRolltoRoll以下、RtoRともいうを利用して無機膜を形成する装置である。なお、本発明の製造方法は、長尺な支持体Zを用いるRtoRを利用するものに限定はされない。すなわち、本発明は、無機膜12を形成する支持体Zを搬送しつつ、搬送方向に配列された複数のプラズマCVD手段によって無機膜12を形成するものであれば、カットシート状の支持体Zに、無機膜12を形成するものでもよい。しかしながら、生産性を考慮すれば、図示例のようなRtoRによって無機膜12を形成するのが好ましい。このCVD装置14は、供給室18と、成膜室20と、巻取り室24とを有している。なお、CVD装置14は、図示した部材以外にも、各種のセンサ、搬送ローラ対や支持体Zの幅方向の位置を規制するガイド部材など、支持体Zを所定の経路で搬送するための各種の部材搬送手段等、長尺な支持体Zに、RtoRによって、プラズマCVDで形成を行なう装置が有する各種の部材を有してもよい。供給室18は、回転軸28と、ガイドローラ30と、真空排気手段32とを有する。支持体Zを巻回した支持体ロールZrは、供給室18の回転軸28に装着される。回転軸28に支持体ロールZrが装着されると、支持体Zが支持体ロールZrから引き出され、供給室18から、成膜室20を通り、巻取り室24の巻取り軸14に至る所定の搬送経路を通紙される所定の搬送経路を通される。CVD装置14においては、支持体ロールZrからの支持体Zの送り出しと、巻取り室24の巻取り軸14における支持体Zの巻き取りとを同期して行なって、長尺な支持体Zを所定の搬送経路で長手方向に搬送しつつ、成膜室20において、支持体Zに、CCP-CVDによる無機膜12の形成を連続的に行なう。供給室18は、図示しない駆動源によって回転軸28を図中反時計方向に回転して、支持体ロールZrから支持体Zを送り出し、ガイドローラ30によって所定の経路を案内して、支持体Zを、隔壁34に設けられたスリット34aから、成膜室20に送る。図示例のCVD装置14においては、好ましい態様として、供給室18に真空排気手段32を、巻取り室24に真空排気手段70を、それぞれ設けている。CVD装置14においては、形成中は、それぞれの真空排気手段によって、供給室18および巻取り室24の圧力を、後述する成膜室20の圧力形成圧力に応じた、所定の圧力に保つ。これにより、隣接する室の圧力が、成膜室20の圧力すなわち、成膜室20での形成に影響を与えることを防止している。真空排気手段32には、特に限定はなく、ターボポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ、ロータリーポンプなどの真空ポンプ、さらには、クライオコイル等の補助手段、到達真空度や排気量の調整手段等を利用する、真空形成装置に用いられている公知の真空排気手段が、各種、利用可能である。この点に関しては、後述する他の真空排気手段60および70も同様である。前述のように、支持体Zは、ガイドローラ30によって案内されて、隔壁34のスリット34aから成膜室20に搬送される。成膜室20は、支持体Zの表面に、CCP-CVDによって領域Aおよび領域Bで形成される無機膜12を形成成膜するものである。前述のように、領域Bは、無機膜12を主に構成するものであり、領域Aは、領域Bよりも薄く、かつ、高密度である。図示例において、成膜室20は、ドラム38と、ガイドローラ42、46、48および50と、無機膜12を形成する3つの成膜手段52a、52bおよび52cと、バイアス電源58と、真空排気手段60とを有する。なお、図示例のCVD装置14は、支持体Zの搬送方向に配列されて、3つの成膜手段を有するが、本発明は、これに限定はされず、成膜手段は2つであってもよく、あるいは、4つ以上の成膜手段を有してもよい。成膜室20のドラム38は、中空の円筒状の部材で、中心線を前記円筒と一致する回転軸を中心に、図中矢印方向時計方向に回転する。ドラム38は、ガイドローラ42および46によって所定の経路に案内された支持体Zを、表面の所定領域に掛け回して所定の巻き掛け角で掛け回して、図示しない駆動源によって回転することにより、支持体Zを所定位置に位置しつつ、長手方向に搬送する。本発明の製造方法において、支持体Zを掛け回して搬送するドラム38は、CCP-CVDにおける対向電極としても作用する。すなわち、ドラム38と、後述する各成膜手段のシャワー電極40成膜電極とで、CCP-CVDによる成膜を行なうための電極対を形成する。そのため、好ましい態様として、ドラム38には、バイアス電力を供給するためのバイアス電源58が接続されている。なお、本発明の製造方法を実施する成膜手段は、これに限定はされず、バイアス電源58を有さずに設置されていてもよく、あるいは、バイアス電源との接続と接地とが、切り換え可能であってもよい。また、ドラム38は、支持体Zの冷却や加熱を行うため、支持体Zを支持する周面の温度を調整する、温度調整手段を有するのが好ましい。成膜手段52a、52bおよび52cは、いずれも、ドラム38に巻き掛けられて搬送される支持体Zに、CCP-CVDによって無機膜12を形成するものである。成膜手段52a、52bおよび52cは、基本的に、同じ構成を有するものであって、シャワー電極40と、高周波電源54と、ガス供給手段58とを有して構成される。シャワー電極40は、支持体Zの対向面から原料ガスを噴射する、CCP-CVDによる成膜に利用される、公知のシャワー電極シャワープレートである。成膜室20では、シャワー電極40とドラム38とによって、CCP-CVDを行うための電極対を構成するのは、前述のとおりである。図示例において、シャワー電極40は、一例として、一面がドラム38すなわち支持体Zに対面して配置される、内部に空間ガス供給空間が形成された、略直方体形状を有する。また、シャワー電極40のドラム38との対向面には、この内部空間に連通するガス供給孔が、多数、形成されている。また、図示例において、シャワー電極40のドラム38と対向対面する面は、ドラム38と表面と平行になるようにすなわち、ドラム38とシャワー電極との間隔が全面的に均一になるように、凹状の曲面となっている。成膜室20においては、各成膜手段のシャワー電極40が、支持体Zの搬送方向すなわちドラム38の回転方向に配列して、配置される。すなわち、図示例のCVD装置14において、成膜室20は、プラズマCVDによる3つの成膜手段によって、1つの無機膜12を形成するものであり、支持体Zは、ドラム38に巻き掛けられ搬送されることで、CCP-CVDによる同じ無機膜の成膜を最大で3回行われて、表面に無機膜12が形成される。ガス供給手段56は、プラズマCVD装置等の真空形成装置に用いられる、公知のガス供給手段である。このガス供給手段56は、シャワー電極40の内部空間に原料ガスを供給する。また、前述のように、シャワー電極40のドラム38との対向面には、内部空間に連通する多数のガス供給孔が形成されている。従って、シャワー電極40に供給された原料ガスは、このガス供給孔から、シャワー電極40とドラム38との間に供給される。なお、ガス供給手段56が供給する原料ガスプロセスガス/材料ガスは、形成する無機膜12に応じた公知のものでよい。例えば、窒化珪素膜を形成する場合には、ガス供給手段56は、一例として、シランガス、アンモニアガスおよび窒素ガスあるいはさらに水素ガスを供給する。高周波電源54は、CCP-CVDにおける成膜電極であるシャワー電極40に、プラズマ励起電力を供給する電源である。高周波電源54は、13.56MHzの高周波電力を供給する電源等、各種のプラズマCVD装置で用いられる公知の高周波電源である。また、バイアス電源58は、前述のように、CCP-CVDにおける対向電極として作用するドラム38に、バイアス電力を供給バイアス電位を印加する電源である。バイアス電源58も、各種のプラズマCVD装置で用いられる公知の電源である。真空排気手段60は、プラズマCVDによる成膜のために、形成室内を排気して、所定の圧力に保つものであり、前述のように、真空形成装置に利用されている、公知の真空排気手段である。なお、本発明の製造方法において、支持体Zの搬送速度、形成圧力、原料ガスの供給量、プラズマ励起電力の強さなど、無機膜12の成膜条件には、特に限定はない。すなわち、成膜条件は、通常のプラズマCVDによる成膜と同様に、形成する無機膜12の種類や膜厚、支持体Zの種類等に応じて、適宜、設定すればよい。なお、無機膜12を形成する際には、成膜手段52a、52bおよび52cは、基本的に、同じ成膜条件で成膜を行う。しかしながら、本発明は、これに限定はされず、必要に応じて、無機膜12を形成する際に、成膜手段52a、52bおよび52cの1以上で、他の成膜手段と成膜条件を変えてもよい。図示例の成膜室20において、支持体Zは、3つの成膜手段52a、52bおよび52cによって、順次、無機膜を形成されて、無機膜12が形成される。すなわち、支持体Zは、成膜室20に搬送されると、まず、成膜手段52aにおける成膜領域シャワー電極40とドラム38支持体Zとが対面している領域において、無機膜を形成され、主に無機膜12を構成する領域Bである層12aが形成される。層12aが形成された支持体Zは、次いで、図3に概念的に示すように、成膜手段52bにおける成膜領域に搬送される。ここで、成膜手段52bにおいては、まず、先に成膜手段52aによって形成された無機膜である層12aの表面が、図3に矢印xで示す成膜領域の入口近傍支持体搬送方向の最上流部付近において、再度、プラズマに曝される。このプラズマとの接触によって、層12aの表面で、いわゆるマイグレーションが促進される。その結果、層12aの表面には、まず、高密度で緻密な無機膜、すなわち領域Aである層12bが、若干、形成された後、その上に、主に無機膜12を構成する領域Bである層12cが形成される。特に、図示例のように、CCP-CVDの対向電極であるドラム38に、バイアス電力を供給しつつ成膜を行うことにより、プラズマが層12aに強く引き込まれる。そのため、この層12aの表面がプラズマに曝される効果は、大きくなる。その結果、層12bは、非常に緻密かつ高密度な無機膜となる。成膜手段52bにおいて、層12bおよび層12cが形成された支持体Zは、次いで、成膜手段52cにおける成膜領域に搬送される。ここで、成膜手段52cにおいても、同様に、成膜領域の入口付近で、先に成膜手段52bによって形成された無機膜である層12cの表面が、再度、プラズマに曝され、層12cの表面に、まず、高密度な無機膜すなわち領域Aである層12dが、若干、形成され、その後、その上に、主に無機膜12を構成する領域Bである層12eが形成される。これにより、図1に示す、領域Aおよび領域Bが交互に積層され、領域B-領域A-領域Bの積層構成を2つ有する、層12a~層12eの5つの層領域のからなる無機膜12が形成される。ここで、本発明の製造方法においては、上流の成膜手段によって無機膜を形成した後、下流の成膜手段によるプラズマに曝されるまでに、無機膜の表面温度が20°C以下にならないようにすることが重要である。言い換えれば、上流での無機膜の成膜後、次の成膜手段によるプラズマに曝されるまでの間、無機膜の表面温度を20°C超に維持する。すなわち、図示例においては、成膜手段52aによって層12aを形成した後、成膜手段52bによるプラズマに曝されるまでの間、領域12aの表面温度が20°C以下にならないようにする。同様に、成膜手段52bによって層12cを形成した後、成膜手段52cによるプラズマに曝されるまでの間、領域12cの表面温度が20°C以下にならないようにする。図2に示されるように、支持体Zの搬送方向に複数の成膜手段を配列して、同じ無機膜を連続的に形成しても、無機膜の成膜後、無機膜の表面温度が下がり過ぎると、下流の成膜手段で無機膜の表面がプラズマに曝されても、無機膜のマイグレーションが促進されない。その結果、領域Bの表面に高密度な領域Aを形成できず、全域が、ほぼ同じ密度である、通常の無機膜になってしまう。これに対し、上流の成膜手段による無機膜の形成後、下流の成膜手段によるプラズマに曝されるまで、無機膜の表面温度が20°C超となるようにすることにより、下流の成膜手段でのプラズマに曝されることによる無機膜のマイグレーションを好適に促進して、高密度な領域Aを形成することができる。また、より高密度な領域Aを安定して形成できる等の点で、好ましくは、上流の成膜手段によって無機膜を成膜した後、下流の成膜手段によるプラズマに曝されるまで、無機膜の表面温度を35°C以上とするのが好ましい。上流の成膜手段によって無機膜を形成した後、下流の成膜手段によるプラズマに曝されるまでに、無機膜の表面温度が20°C以下にならないようにする方法には、特に限定は無く、各種の方法が利用可能である。例えば、図示例のように、ドラム38に支持体Zを巻き掛けて搬送しつつ、無機膜を形成する装置であれば、ドラム38に温度調節手段を内蔵させて、ドラム38の表面温度を制御する方法が例示される。また、上流の成膜手段による成膜後、下流の成膜手段によるプラズマに曝されるまでに、無機膜の表面温度が20°C以下にならないように、成膜手段間での支持体Zの搬送時間を制御してもよい。なお、成膜手段間での支持体Zの搬送時間は、成膜手段間の距離、支持体Zの搬送速度によって調整可能である。以上のように、RtoRによる成膜のように支持体Zを搬送しつつ成膜を行うと共に、複数の成膜手段を支持体の搬送方向に配列し、かつ、下流の成膜手段によるプラズマに曝される時点で無機膜12の表面温度が20°C以下にならないようにして、同じ空間内真空を開放することなくで連続的に無機膜を形成することにより、領域Aおよび領域Bが交互に積層され、かつ、領域B-領域A-領域Bの積層構造を1以上有する、本発明の機能性フィルムを、好適に製造することができる。しかも、本発明においては、複数の成膜手段によって無機膜12を形成する、高い生産性で、前述のように優れた性能を有する機能性フィルムが製造できる。言い換えれば、前記領域B-領域A-領域Bの積層構成を1つ以上有する本発明の機能性フィルムは、例えばCCP-CVDを利用する無機膜12の形成における複数電極化にも適しているので、高生産化の点でも、有利である。無機膜12が形成された支持体Zすなわち機能性フィルム10は、ガイドローラ48および50に案内されて、隔壁64のスリット64aから、巻取り室24に搬送される。図示例において、巻取り室24は、ガイドローラ68と、巻取り軸14と、真空排気手段70とを有する。巻取り室24に搬送された支持体Zは、ガイドローラ68に案内されて巻取り軸14に搬送され、巻取り軸14によってロール状に巻回されガスバリアフィルムなどの機能性フィルムを巻回してなるロールとして、次の工程に供される。また、先の供給室18と同様、巻取り室24にも真空排気手段70が配置され、形成中は、巻取り室24も、成膜室20における形成圧力に応じた真空度に減圧される。以下、CVD装置14の作用を説明する。回転軸28に支持体ロールZrが装着されると、支持体Zは、支持体ロールZrから引き出される。支持体ロールZrから引き出された支持体は、ガイドローラ30によって案内されて成膜室20に至り、成膜室20において、ガイドローラ42および46に案内されて、ドラム38の表面の所定領域に掛け回され、次いで、ガイドローラ48および50によって案内されて巻取り室24に至り、巻取り室24において、ガイドローラ68に案内されて巻取り軸14に至る、所定の搬送経路を通紙される。支持体Zの通紙が終了すると、供給室18、成膜室20および巻取り室24が閉塞される密閉される。次いで、真空排気手段32、60、および70が駆動され、供給室18、成膜室20および巻取り室24が、所定の圧力まで減圧される。各室の圧力が安定したら、成膜室20では、成膜手段52a、52bおよび52cにおいて、ガス供給手段56からシャワー電極40に、原料ガスが供給される。成膜室20内が形成に対応する所定圧力で安定したら、供給室18から巻取り室24に向かう支持体Zの搬送が、開始され、また、成膜手段52a、52bおよび52cにおいて、高周波電源54からシャワー電極40へのプラズマ励起電力の供給を開始し、あるいはさらに、バイアス電源58からドラム38へのバイアス電力の供給を開始する。供給室18から成膜室20に搬送された支持体Zは、ガイドローラ42および46によって案内され、ドラム38に巻き掛けられた状態で搬送されつつ、搬送方向に配列された成膜手段52a、52bおよび52cによって、領域12a~領域12eが、順次、形成され、無機膜12が形成される。具体的には、前述のように、まず、成膜手段52aにおいて領域Bである層12aが形成され、次いで、成膜手段52bにおいて、領域Aである層12bが薄く形成され、その後、領域Bである層12cが形成され、さらに、成膜手段52cにおいて、領域Aである層12bが薄く形成され、その後、領域Bである層12cが形成され、層12a~層12eからなる無機膜12が形成される。無機膜12が形成された支持体Zすなわち機能性フィルム10は、ガイドローラ48および50によって案内されて、巻取り室24に搬送される。巻取り室24に搬送された支持体Zは、ガイドローラ68によって所定の経路に案内され、巻取り軸14によってロール状に巻回される。また、CVD装置14では、成膜手段52a、52bおよび52cの全てを駆動するのに限定もされず、2以上を駆動すればよい。すなわち、例えば、成膜手段52a、52bおよび52cの何れかを駆動しないことにより無くすことにより、図1に示す無機膜12において、層12a~層12cの3つの層からなる無機膜を形成できる。以上、本発明の機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。[実施例1]図1に示すようなCVD装置14を用いて、支持体Zの表面に、窒化珪素膜を形成して、ガスバリアフィルムを製造した。ドラム38は、ステンレス製で、直径1500mmの物を用いた。また、このドラム38は、温度調節手段を内蔵しており、成膜中は、ドラム38の表面温度を35°Cに調節した。支持体Zは、幅100cm、厚さ70μmのPETフィルムを用いた。原料ガスは、シランガスSiH4、アンモニアガスNH3、水素ガスH2および窒素ガスN2を用いた。成膜圧力は100Paとした。シャワー電極40には、高周波電源54から、周波数13.5MHzで、3kWのプラズマ励起電力を供給した。以上の条件において、成膜手段52aおよび52bの2つを駆動して、支持体Zの表面に、厚さ約100nmの窒化珪素膜を形成し、ガスバリアフィルムを作製した。なお、赤外線放射温度計によって、成膜手段52bそのシャワー電極40との対面位置の直上流における無機膜の表面温度を測定したところ、35°C以上であった。TEMによる断面構造の観測によって測定したところ、窒化珪素膜は、図1に示す無機膜12における層12a~層12cの3つの層からなるものであった。すなわち、この窒化珪素膜は、領域B-領域A-領域Bの積層構造を1つ有するものである。また、領域Aである層12bの厚さは約5nmであり、領域Bである層12aおよび12cの厚さは約47nmであった。[実施例2]成膜手段52a、52bおよび52cの全てを駆動して、実施例1と同様にして、厚さ約100nmの窒化珪素膜を形成して、ガスバリアフィルムを作製した。なお、膜厚は、支持体Zの搬送速度で調整した。また、実施例1と同様にして、成膜手段52bの直上流、および、成膜手段52cの直上流における無機膜の表面温度を測定したところ、いずれも、35°C以上であった。実施例1と同様に測定したところ、窒化珪素膜は、図1に示す無機膜12と同様の層12a~層12eの5つの層からなるものであった。すなわち、この窒化珪素膜は、領域B-領域A-領域Bの積層構造を2つ有するものである。また、領域Aである層12bおよび12dの厚さは約5nmで、層12a、12cおよび12eの厚さは約30nmであった。[実施例3]成膜時にバイアス電源58を駆動して、対向電極であるドラム38に1kWのバイアス電力を供給した以外は、実施例1と同様にして、厚さ約100nmの窒化珪素膜を形成して、ガスバリアフィルムを作製した。なお、実施例1と同様にして、成膜手段52bの直上流における無機膜の表面温度を測定したところ、35°C以上であった。実施例1と同様に測定したところ、窒化珪素膜は、図1に示す無機膜12における層12a~層12cの3つの層からなるものであった。すなわち、この窒化珪素膜は、領域B-領域A-領域Bの積層構造を1つ有するものである。また、領域Aである層12bの厚さは約5nmであり、領域Bである層12aおよび12cの厚さは約47nmであった。[比較例1]成膜手段52aのみを駆動して、実施例1と同様にして、厚さ約100nmの窒化珪素膜を形成して、ガスバリアフィルムを作製した。なお、膜厚は、先の例と同様、支持体Zの搬送速度で調整した。実施例1と同様に測定したところ、無機膜12は、領域Bからなる1層のみで構成されていた。[比較例2]成膜中におけるドラム38の表面温度を10°Cに調節した以外は、実施例1と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。なお、実施例1と同様にして、成膜手段52bの直上流における無機膜の表面温度を測定したところ、20°C以下であった。実施例1と同様に測定したところ、無機膜12は、領域Bからなる1層のみで構成されていた。作製した5種のガスバリアフィルムについて、ガスバリア性および密着性を測定した。ガスバリア性は、モコン法によって水蒸気透過率gを測定することで、測定した。なお、モコン法の測定限界を超えた例は、カルシウム腐食法特開2005-283561号公報に記載される方法によって、水蒸気透過率を測定した。密着性は、テープ剥離試験によって無機膜を剥離することで測定した。テープ剥離試験によって、無機膜が全く剥離しなかったものをランクA;テープ剥離試験によって、無機膜の一部が剥離したものをランクB;テープ剥離試験によって、無機膜が全面剥離しものをランクC;と評価した。結果を下記表に示す。上記表に示されるように、領域B-領域A-領域Bの積層構造を1以上有する本発明の機能性フィルムにかかる実施例1および実施例2のガスバリアフィルムは、いずれも、優れたガスバリア性を有し、さらに、無機膜の密着性も高い。これに対し、領域Aと領域Bとの積層構造を有さない比較例1および比較例2のガスバリアフィルムは、ガスバリア性および無機膜の密着性が、共に、低い。以上の結果より、本発明の効果は明らかである。