"式:式中、Wは-CH2-、-S-または-O-であり、aWが-CH2-のときは、Uは-CH2-、-S-もしくは-O-であり、またはbWが-S-もしくは-O-のときは、Uは-CH2-であり、R1は、置換基を有していてもよい炭素環式基、または置換基を有していてもよい複素環式基であり、R2AおよびR2Bについては、aR2Aは、水素原子、置換基を有していてもよいアミノ基、-SO3H、置換基を有していてもよいアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい低級アルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、ヒドロキシル基、もしくは置換基を有しているカルボニルオキシ基であり、および、R2Bは、水素原子であるか、または、bR2AおよびR2Bが、一緒になって置換基を有していてもよいアルケニル基、もしくは置換基を有していてもよいオキシム基であり、ただし、R1がアミノ基が保護されていてもよいアミノチアゾールまたはアミノ基が保護されていてもよいアミノチアジアゾールの場合は、R2AおよびR2Bが、一緒になって置換基を有していてもよいオキシム基ではなく、環Aはベンゼン環、または窒素原子を1~3個有する6員の芳香族複素環式基であり、R3は水素原子、-OCH3または-NH-CH=Oであり、kは0~2の整数であり、R4はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、-CN、-C=O-R6、-C=O-OH、-C=O-OR6または-OR6であり、R6は低級アルキルまたはハロ低級アルキルであり、ならびに、DおよびEについては、aDは単結合、-NR8-もしくは-R7-NR8-であり、R7は置換基を有していてもよい低級アルキレンであり、R8は水素もしくは低級アルキルであり、および、Eは以下の式1~40および42~53から選ばれる、置換基を有していてもよい4級アンモニウム基であるか、または、bDは以下に示される基:式中、qは、0または1の整数を表すであり、および、Eは以下の式10もしくは式41で示される4級アンモニウム基である。Eの4級アンモニウム基以下の式中、左側の結合部位がメチレンに結合し、右側の結合部位がDに結合する。:式中、pは1~3の整数であり、nは1または2の整数であり、RXは置換基を有していてもよい低級アルキルであるただし、R1がフェニルかつEが式53の場合を除く。で示される化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Dが単結合、-NH-、もしくは-R7-NH-式中、R7は請求項1と同意義であるである、請求項1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Dが-NH-、-CH2-NH-または-CH2-CH2-NH-である、請求項1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Dが単結合である、請求項1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Dが以下に示される基:式中、qは請求項1と同意義であるである、請求項1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Eが式1~9、11~40、47~49および51~52から選ばれる、請求項1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Eが式5、6、9~11、26、29~34、36、37および50から選ばれる請求項1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Eが式5、6、10および11から選ばれる請求項1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Eが式1~4、7、8、12~25、27、28、35、38~40、47および48から選ばれる、請求項1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Eが式1~3、7および12から選ばれる、請求項1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Uが-S-である、請求項1~10のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。Wが-CH2-である、請求項1~11のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。R3が水素原子または-OCH3である、請求項1~12のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。式:が、である、請求項1~13のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。式:が、である、請求項1~13のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。式:が、である、請求項1~13のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。R1が置換基を有していてもよいフェニルである、請求項1~16のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。R2Aが水素原子、置換基を有していてもよいアミノ基、-SO3H、置換基を有していてもよいアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、ヒドロキシル基、または置換基を有しているカルボニルオキシ基である、請求項1~17のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。R2Aが以下に示す、置換基を有するアミノ基;以下に示す、置換基を有するアミノスルホニル基式中、環Bは置換基を有していてもよい複素環式基を表す;以下に示す、置換基を有するカルバモイル基式中、環Bは置換基を有していてもよい複素環式基を表す;または以下に示す、置換基を有するカルボニルオキシ基式中、環Bは置換基を有していてもよい複素環式基を表す;である、請求項1~17のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。R2AおよびR2Bが、一緒になって以下に示す、置換基を有するアルケニル基;または、以下に示す、置換基を有するオキシム基式中、R7およびR8は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい炭素環式基、もしくは置換基を有していてもよい複素環式基であり、またはR7およびR8は隣接原子と一緒になって置換基を有していてもよい炭素環式基もしくは置換基を有していてもよい複素環式基を形成していてもよく、R9は置換基を有していてもよい低級アルキルであり、mは0~3の整数を表す;である、請求項1~17のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。請求項1~20のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物を含有する医薬組成物。抗菌作用を有する、請求項21に記載の医薬組成物。本発明は、グラム陰性菌および/またはグラム陽性菌を含む種々の細菌に対して、強力な抗菌スペクトルを示すセフェム化合物を提供する。好ましくは、グラム陰性菌およびグラム陽性菌のいずれに対しても、強力な抗菌スペクトルを示すセフェム化合物を提供する。より好ましくは、β-ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対し強い抗菌活性を示すセフェム化合物を提供する。さらに好ましくは、多剤耐性菌、特にクラスB型のメタロ-β-ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対し強い抗菌活性を示すセフェム化合物を提供する。最も好ましくは、基質特異性拡張型βラクタマーゼESBL産生菌に対しても効果的な抗菌活性を示すセフェム化合物を提供する。本発明は、以下の構造を有する上記課題を解決したセフェム化合物を提供する。項目1式:式中、Wは-CH2-、-S-または-O-であり、aWが-CH2-のときは、Uは-CH2-、-S-もしくは-O-であり、またはbWが-S-もしくは-O-のときは、Uは-CH2-であり、R1は、置換基を有していてもよい炭素環式基、または置換基を有していてもよい複素環式基であり、R2AおよびR2Bについては、aR2Aは、水素原子、置換基を有していてもよいアミノ基、-SO3H、置換基を有していてもよいアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい低級アルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、ヒドロキシル基、もしくは置換基を有しているカルボニルオキシ基であり、および、R2Bは、水素原子であるか、または、bR2AおよびR2Bが、一緒になって置換基を有していてもよいアルケニル基、もしくは置換基を有していてもよいオキシム基であり、ただし、R1がアミノ基が保護されていてもよいアミノチアゾールまたはアミノ基が保護されていてもよいアミノチアジアゾールの場合は、R2AおよびR2Bが、一緒になって置換基を有していてもよいオキシム基ではなく、環Aはベンゼン環、または窒素原子を1~3個有する6員の芳香族複素環式基であり、R3は水素原子、-OCH3または-NH-CH=Oであり、kは0~2の整数であり、R4はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシル基、-CN、-C=O-R6、-C=O-OH、-C=O-OR6または-OR6であり、R6は低級アルキルまたはハロ低級アルキルであり、ならびに、DおよびEについては、aDは単結合、-NR8-もしくは-R7-NR8-であり、R7は置換基を有していてもよい低級アルキレンであり、R8は水素もしくは低級アルキルであり、および、Eは以下の式1~40および42~53から選ばれる、置換基を有していてもよい4級アンモニウム基であるか、または、bDは以下に示される基:式中、qは、0または1の整数を表すであり、および、Eは以下の式10もしくは式41で示される4級アンモニウム基である。Eの4級アンモニウム基以下の式中、左側の結合部位がメチレンに結合し、右側の結合部位がDに結合する。:式中、pは1~3の整数であり、nは1または2の整数であり、RXは置換基を有していてもよい低級アルキルであるただし、R1がフェニルかつEが式53の場合を除く。で示される化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目2Dが単結合、-NH-、もしくは-R7-NH-式中、R7は項目1と同意義であるである、項目1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目3Dが-NH-、-CH2-NH-または-CH2-CH2-NH-である、項目1または2に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目4Dが単結合である、項目1または2に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目5Dが以下に示される基:式中、qは項目1と同意義であるである、項目1に記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目6Eが式1~9、11~40、47~49および51~52から選ばれる、項目1~5のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目7Eが式5、6、9~11、26、29~34、36、37および50から選ばれる、項目1~5のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目8Eが式5、6、10および11から選ばれる、項目1~5のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目9Eが式1~4、7、8、12~25、27、28、35、38~40、47および48から選ばれる、項目1~5のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目10Eが式1~3、7および12から選ばれる、項目1~5のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目11Uが-S-である、項目1~10のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目12Wが-CH2-である、項目1~11のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目13R3が水素原子または-OCH3である、項目1~12のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目14式:が、である、項目1~13のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目15式:が、である、項目1~13のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目16式:が、である、項目1~13のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目17R1が置換基を有していてもよいフェニルである、項目1~16のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目18R2Aが水素原子、置換基を有していてもよいアミノ基、-SO3H、置換基を有していてもよいアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、ヒドロキシル基、または置換基を有しているカルボニルオキシ基である、項目1~17のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目19R2Aが以下に示す、置換基を有するアミノ基;以下に示す、置換基を有するアミノスルホニル基式中、環Bは置換基を有していてもよい複素環式基を表す;以下に示す、置換基を有するカルバモイル基式中、環Bは置換基を有していてもよい複素環式基を表す;または以下に示す、置換基を有するカルボニルオキシ基式中、環Bは置換基を有していてもよい複素環式基を表す;である、項目1~17のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目20R2AおよびR2Bが、一緒になって以下に示す、置換基を有するアルケニル基;または、以下に示す、置換基を有するオキシム基式中、R7およびR8は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい炭素環式基、もしくは置換基を有していてもよい複素環式基であり、またはR7およびR8は隣接原子と一緒になって置換基を有していてもよい炭素環式基もしくは置換基を有していてもよい複素環式基を形成していてもよく、R9は置換基を有していてもよい低級アルキルであり、mは0~3の整数を表す;である、項目1~17のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物。項目21項目1~20のいずれかに記載の化合物、エステル体、もしくはその7位側鎖の環上にアミノ基が存在する場合の該アミノ基における保護体またはそれらの製薬上許容される塩もしくはそれらの溶媒和物を含有する医薬組成物。項目22抗菌作用を有する、項目21に記載の医薬組成物。項目23抗菌的に有効量の項目1~20のいずれかに記載の化合物をヒトに投与することを特徴とする、感染症の治療方法。項目24感染症の予防または治療における使用のための項目1~20のいずれかに記載の化合物。項目25感染症の予防または治療のための医薬を製造するための項目1~20のいずれかに記載の化合物の使用。本発明に係る化合物は、少なくとも以下のいずれかの特徴を有する点で医薬品として有用である。1グラム陰性菌および/またはグラム陽性菌を含む種々の細菌に対して、強力な抗菌スペクトルを示す。2β-ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対し強い抗菌活性を示す。3多剤耐性菌、特にクラスB型のメタロ-β-ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対し強い抗菌活性を示す。4基質特異性拡張型βラクタマーゼESBL産生菌に対し強い抗菌活性を示す。5既存のセフェム薬および/またはカルバペネム薬と交叉耐性を示さない。6生体内への投与後に、発熱などの副作用を示さない。以下、本発明に関して、発明の実施の形態を説明する。本明細書の全体にわたり、単数形の表現例えば、英語の場合はa、an、theなど、他の言語における対応する冠詞、形容詞などは、特に言及しない限り、その複数形の概念をも含むことが理解されるべきである。また、本明細書において使用される用語は、特に言及しない限り、当該分野で通常用いられる意味で用いられることが理解されるべきである。したがって、他に定義されない限り、本明細書中で使用される全ての専門用語および科学技術用語は、本発明の属する分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を有する。矛盾する場合、本明細書定義を含めてが優先する。以下に、本明細書において具体的に使用される用語について具体的な定義を記載する。本明細書における各用語は、単独または他の用語と組合わされて、以下の通り定義される。ハロゲンとは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素を包含する。好ましくはフッ素、塩素、臭素であり、さらに好ましくは塩素である。低級アルキルとは、炭素数1~8、好ましくは1~6、さらに好ましくは1~4の直鎖状または分枝状のアルキルを包含し、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、n-へプチル、イソヘプチル、n-オクチル等が挙げられる。低級アルキレンとは、炭素数1~8、好ましくは1~6、さらに好ましくは1~4、最も好ましくは1または2の直鎖状アルキレンを包含し、例えば、メチレン、エチレン、n-プロピレン、n-ブチレン、n-ペンチレン、n-ヘキシレン等が挙げられる。ハロ低級アルキルとは、上記低級アルキルの任意の位置で1以上の上記ハロゲンで置換されている基であり、例えば、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、モノクロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、モノブロモメチル、モノフルオロエチル、モノクロロエチル、クロロジフルオロメチル等が挙げられる。好ましくはトリフルオロメチル、トリクロロメチルである。置換基を有していてもよいアミノ、または置換基を有していてもよいカルバモイルの置換基としては、モノもしくはジ低級アルキル、低級アルキルカルボニルまたは低級アルキルスルホニル、置換基を有していてもよい低級アルキル例:メチル、エチル、イソプロピル、ベンジル、カルバモイルアルキル例:カルバモイルメチル、モノまたはジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル例:ジメチルカルバモイルエチル、ヒドロキシ低級アルキル、ヘテロサイクル低級アルキル例:モルホリノエチル、テトラヒドロピラニルエチル、アルコキシカルボニル低級アルキル例:エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルエチル、モノまたはジ低級アルキルアミノ低級アルキル例:ジメチルアミノエチル、低級アルコキシ低級アルキル例えば、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエチル、イソプロポキシエチル等、アシル例:ホルミル、置換基を有していてもよい低級アルキルカルボニル例:アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、メトキシエチルカルボニル、2,2,2-トリフルオロエチルカルボニル、エトキシカルボニルメチルカルボニル、低級アルコキシ低級アルキルカルボニル例:メトキシエチルカルボニル、低級アルキルカルバモイル低級アルキルカルボニル例:メチルカルバモイルエチルカルボニル、アルコキシカルボニルアセチル、置換基を有していてもよいアリールカルボニル例えば、ベンゾイル、トルオイル、置換基を有していてもよいアラルキル例えば、ベンジル、4-フルオロベンジル、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルスルホニル例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、イソプロピルスルホニル、2,2,2-トリフルオロエタンスルホニル、ベンジルスルホニル、メトキシエチルスルホニル、低級アルキルまたは置換基としてハロゲンを有していてもよいアリールスルホニル例:ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル、4-フルオロベンゼンスルホニル、シクロアルキル例:シクロプロピル、置換基として低級アルキルを有していてもよいアリール例:フェニル、トリチル、低級アルキルアミノスルホニル例:メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、低級アルキルアミノカルボニル例:ジメチルアミノカルボニル、低級アルコキシカルボニル例:エトキシカルボニル、シクロアルキルカルボニル例:シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、置換基を有していてもよいスルファモイル例:スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、低級アルキルカルボニルアミノ例:メチルカルボニルアミノ、ヘテロサイクル例:モルホリノ、テトラヒドロピラニル、置換基を有していてもよいアミノ例:モノまたはジアルキルアミノ例:ジメチルアミノ、ホルミルアミノ等が挙げられる。アルケニルは、上記低級アルキルに1個又はそれ以上の二重結合を有する炭素数2~8個の直鎖状又は分枝状のアルケニルを意味し、例えば、ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、1,3-ブタジエニル、3-メチル-2-ブテニル等が挙げられる。好ましくは、低級アルケニルであり、低級アルケニルは、炭素数2~6個、より好ましくは炭素数2~4個のアルケニルである。置換基を有していてもよいアミノまたは置換基を有していてもよいカルバモイル、のアミノ基は、アミノ基の2つの置換基が隣接する窒素原子と共に硫黄原子および/または酸素原子を環内に含有していてもよい含窒素ヘテロサイクル好ましくは5~7員環であり、また好ましくは飽和であるを形成してもよく、該環はオキソまたはヒドロキシで置換基を有していてもよい。環を形成する硫黄原子は置換基としてオキソを有していてもよい。例えば、ピペラジニル、ピペリジノ、モルホリノ、ピロリジノ、2-オキソピペリジノ、2-オキソピロリジノ、4-ヒドロキシモルホリノ等の5員または6員の環等が好ましい。置換基を有していてもよい低級アルキルの置換基としては、置換基群αから選択される1以上の基が挙げられる。複数の置換基群αで置換される場合、置換基群αは同一でも異なっていてもよい。置換基を有していてもよい低級アルキレンの置換基としては、置換基を有していてもよい低級アルキル、ならびに置換基群αから選択される1以上の基が挙げられる。複数の置換基で置換される場合、置換基は同一でも異なっていてもよい。置換基を有していてもよいアミノスルホニルの置換基としては、置換基を有していてもよい低級アルキル、ならびに置換基群αから選択される1以上の基が挙げられる。置換基を有していてもよい低級アルキルオキシカルボニルの置換基としては、置換基を有していてもよい低級アルキル、ならびに置換基群αから選択される1以上の基が挙げられる。置換基を有しているカルボニルオキシの置換基としては、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基として複素環式基を有するアミノ、ならびに置換基群αから選択される1以上の基が挙げられる。置換基を有していてもよいオキシムの置換基としては、置換基特に、カルボキシル等を有していてもよい低級アルキルメチル、エチル、イソプロピルなど、置換基として複素環式基を有するアミノ、ならびに置換基群αから選択される1以上の基が挙げられる。置換基を有していてもよい4級アンモニウム基の置換基としては、置換基を有していてもよい低級アルキル、ならびに置換基群αから選択される1以上の基、あるいは2つ以上の置換基が一緒になって炭素環式基または複素環式基を形成するものが挙げられる。ここで置換基群αとは、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、カルボキシ、アミノ、アシルアミノ、低級アルキルアミノ、イミノ、ヒドロキシイミノ、低級アルコキシイミノ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ヒドロキシ低級アルキルカルバモイル、スルファモイル、低級アルキルスルファモイル、低級アルキルスルフィニル、シアノ、ニトロ、炭素環式基および複素環式基からなる群である。低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシイミノ、低級アルキルチオ、低級アルキルカルバモイル、ヒドロキシ低級アルキルカルバモイル、低級アルキルスルファモイル、低級アルキルスルフィニルにおける低級アルキル部分も、上記低級アルキルと同意義である。置換基を有していてもよい低級アルキルにおける置換基の好ましい態様としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシメトキシ、ヒドロキシエトキシ、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、アミノ、アセチルアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、イミノ、ヒドロキシイミノ、メトキシイミノ、メチルチオ、カルバモイル、メチルカルバモイル、ヒドロキシメチルカルバモイル、スルファモイル、メチルスルファモイル、低級アルキルスルファモイル、シアノ、ニトロ、フェニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシル、ピリジル、モルホリニル等が挙げられる。置換基を有していてもよい低級アルキルの好ましい態様としては、メチル、エチルイソプロピル、tert-ブチル、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、カルバモイルメチル、カルバモイルエチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メチルチオメチル、エチルチオメチル、ベンジル、フェネチル、4-ヒドロキシベンジル、4-メトキシベンジル、4-カルボキシベンジル等が挙げられる。炭素環式基としては、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリールおよび非芳香族縮合炭素環式基等を包含する。シクロアルキルとは炭素数3~10、好ましくは炭素数3~8、より好ましくは炭素数4~8の炭素環式基であり、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルおよびシクロデシル等を包含する。シクロアルケニルとは、上記シクロアルキルの環中の任意の位置に1以上の二重結合を有しているものを包含し、具体的にはシクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロへプチニル、シクロオクチニルおよびシクロヘキサジエニル等が挙げられる。アリールとは、フェニル、ナフチル、アントリルおよびフェナントリル等を包含し、特にフェニルが好ましい。非芳香族縮合炭素環式基とは、上記シクロアルキル、シクロアルケニルおよびアリールから選択される2個以上の環状基が縮合した基を包含し、具体的にはインダニル、インデニル、テトラヒドロナフチルおよびフルオレニル等が挙げられる。複素環式基としては、O、SおよびNから任意に選択されるヘテロ原子を環内に1以上有する複素環式基を包含し、具体的にはピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、フリルおよびチエニル等の5~6員のヘテロアリール;インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、インドリニル、イソインドリニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンゾピラニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、ピラゾロピリジン、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、キナゾリニル、キノリル、イソキノリル、ナフチリジニル、ジヒドロベンゾフリル、テトラヒドロキノリル、テトラヒドロイソキノリル、ジヒドロベンズオキサジン、テトラヒドロベンゾチエニル等の2環の縮合複素環式基;カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル、イミダゾキノリル等の3環の縮合複素環式基;ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、チアゾリジン、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル、ジヒドロベンズイミダゾリル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル等の非芳香族複素環式基を包含する。好ましくは5~6員のヘテロアリールまたは非芳香族複素環式基である。より好ましくは5~6員のヘテロアリールである。置換基を有していてもよい炭素環式基、および置換基を有していてもよい複素環式基の置換基としては、置換基を有していてもよい低級アルキル、および置換基群αから選択される1以上の基が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素環式基、および置換基を有していてもよい複素環式基における置換基の好ましい態様としては、メチル、エチルイソプロピル、tertブチル、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシメトキシ、ヒドロキシエトキシ、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、アミノ、アセチルアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、イミノ、ヒドロキシイミノ、メトキシイミノ、メチルチオ、カルバモイル、メチルカルバモイル、ヒドロキシメチルカルバモイル、スルファモイル、メチルスルファモイル、テイキュウアルキルスルファモイル、シアノ、ニトロ、フェニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシル、ピリジル、モルホリニル等が挙げられる。窒素原子を1~3個有する6員の芳香族複素環式基としては、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、1,3,5-トリアジン、1,2,4-トリアジン、1,2,3-トリアジンなどが挙げられる。R1の置換基を有していてもよい炭素環式基、または置換基を有していてもよい複素環式基の例としては、例えば、フェニル、ヒドロキシフェニル、置換基としてハロゲンを有するフェニル、ヒドロキシフェニル、アミノチアゾール、置換基としてハロゲンを有するアミノチアゾール、アミノチアジアゾール、チオフェン、フラン、ベンゾチアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、アミノピリジンなどが挙げられる。R2AおよびR2Bは以下のように定義される。すなわち、aR2Aは、水素原子、置換基を有していてもよいアミノ基、-SO3H、置換基を有していてもよいアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい低級アルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、ヒドロキシル基、もしくは置換基を有しているカルボニルオキシ基であり、および、R2Bは、水素原子であるか、または、bR2AおよびR2Bが、一緒になって置換基を有していてもよいアルケニル基、もしくは置換基を有していてもよいオキシム基であり、ただし、R1がアミノ基が保護されていてもよいアミノチアゾールまたはアミノ基が保護されていてもよいアミノチアジアゾールの場合は、R2AおよびR2Bが、一緒になって置換基を有していてもよいオキシム基ではない。そして、R2Aの例としては、水素原子、置換基を有していてもよいアミノ基、-SO3H、置換基を有していてもよいアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、ヒドロキシル基、または置換基を有しているカルボニルオキシ基であり、例えば、以下に示す、置換基を有するアミノ基;以下に示す、置換基を有するアミノスルホニル基式中、環Bは置換基を有していてもよい複素環式基を表す;以下に示す、置換基を有するカルバモイル基式中、環Bは置換基を有していてもよい複素環式基を表す;または以下に示す、置換基を有するカルボニルオキシ基式中、環Bは置換基を有していてもよい複素環式基を表す;である。あるいは、R2AおよびR2Bが、一緒になって以下に示す、置換基を有するアルケニル基;または、以下に示す、置換基を有するオキシム基式中、R7およびR8は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい炭素環式基、もしくは置換基を有していてもよい複素環式基であり、またはR7およびR8は隣接原子と一緒になって置換基を有していてもよい炭素環式基もしくは置換基を有していてもよい複素環式基を形成していてもよく、R9は置換基を有していてもよい低級アルキルであり、mは0~3の整数を表すである。R7およびR8は隣接原子と一緒になって置換基を有していてもよい炭素環式基もしくは置換基を有していてもよい複素環式基を形成の例としては、式中、各記号は項目20と同意義であるにおけるR7およびR8が、環上に置換基群αから選択される基を有していてもよいシクロアルキル、シクロアルケニル、もしくは非芳香族複素環式基を形成しているものが挙げられ、例えば、環上に置換基群αから選択される基を有していてもよい以下の式:であるもの等が挙げられる。Eの式1~式40または42~53のいずれかから選ばれる置換基を有していてもよい環式基とは、各環式基の炭素原子上の水素原子が、置換基を有していてもよい低級アルキルもしくは置換基群αから選択される同一又は異なる1以上の基で置き換わったものを包含する。置換基の好ましい態様としては、メチル、エチルイソプロピル、tertブチル、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシメトキシ、ヒドロキシエトキシ、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、アミノ、アセチルアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、イミノ、ヒドロキシイミノ、メトキシイミノ、メチルチオ、カルバモイル、メチルカルバモイル、ヒドロキシメチルカルバモイル、スルファモイル、メチルスルファモイル、低級アルキルスルファモイル、シアノ、ニトロ、フェニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシル、ピリジル、モルホリニル等が挙げられる。より好ましい態様は、無置換である。以下に式Iの各部位における例または態様を示すが、本発明の範囲は下記に記載されるものに限定されない。Wの好ましい態様は-CH2-であり、Uは-CH2-、-S-もしくは-O-である。より好ましくは、Wが-CH2-、Uが-S-もしくは-O-であり、さらに好ましくは、Wが-CH2-、Uが-S-である。R7およびR8の例としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、ヒドロキシ、カルボキシ、メチル、エチル、イソプロピル、tert-ブチル、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、カルバモイルメチル、カルバモイルエチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メチルチオメチル、エチルチオメチル、ベンジル、4-ヒドロキシベンジル、4-メトキシベンジル、4-カルボキシベンジル、フェニル、ナフチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、フリルおよびチエニル等が挙げられる。R7およびR8の好ましい組合せは、R7、R8が、水素原子、水素原子、メチル、水素原子、水素原子、メチル、メチル、メチル、エチル、水素原子、水素原子、エチル、エチル、エチル、フェニル、水素原子、水素原子、フェニル、カルボキシメチル、水素原子、水素原子、カルボキシメチル、カルボキシエチル、水素原子、水素原子、カルボキシエチル、ヒドロキシエチル、水素原子、水素原子、ヒドロキシルエチル、カルバモイルメチル、水素原子、水素原子、カルバモイルメチル、トリフルオロメチル、水素原子、カルボキシ、水素原子、カルバモイルエチル、水素原子、ベンジル、水素原子、4-ヒドロキシベンジル、水素原子等が挙げられる。R7およびR8は隣接原子と一緒になって置換基を有していてもよい炭素環式基もしくは置換基を有していてもよい複素環式基を形成している場合の好ましい態様としては、3~8員のシクロアルキル、3~8員のシクロアルケニルもしくは3~8員の非芳香族複素環式基が挙げられる。より好ましくは式:式中、各記号は項目20と同意義であるにおけるR7およびR8がであるものが挙げられる。R3は水素原子、または-OCH3が好ましく、より好ましくは水素原子である。R4の例としては、水素原子、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、シアノ、ヒドロキシ、アセチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメチル等が挙げられる。好ましくは、R4は水素原子、ヒドロキシ、または塩素原子である。本明細書において、DおよびEについては、aDは単結合、-NR8-もしくは-R7-NR8-であり、R7は置換基を有していてもよい低級アルキレンであり、R8は水素もしくは低級アルキルであり、および、Eは項目1の式1~40および42~53から選ばれる、置換基を有していてもよい4級アンモニウム基であるか、または、bDは以下に示される基:式中、qは、0または1の整数を表すであり、および、Eは項目1の式10もしくは式41で示される4級アンモニウム基である。-E-D-C=O-の例としては、以下の式1A~53A:式中、左側の結合部位がメチレンに結合し、右側の結合部位が環Aに結合し、pは1~3の整数であり、nは1または2の整数であり、およびRXは置換基を有していてもよい低級アルキルであるが挙げられる。ここで、Rxの好ましい例としては、メチル、エチル、トリフルオロメチル、カルボキシメチル、カルバモイルメチル、ヒドロキシエチル等が挙げられる。-E-D-C=O-の好ましい態様は、以下の式1B~53B:式中、左側の結合部位がメチレンに結合し、右側の結合部位が環Aに結合する。である。-E-D-C=O-のさらに好ましい態様は、以下の式:式中、左側の結合部位がメチレンに結合し、右側の結合部位が環Aに結合する。である。また、Eについては、以下もまた好ましい。式:式中、各記号は項目1と同意義であるの環Aにおける好ましい態様は、窒素原子を1~3個有する6員の芳香族複素環式基である。R4の好ましい態様は、水素原子、塩素原子またはヒドロキシである。kは、0または1が好ましい。式:式中、各記号は項目1と同意義であるのより好ましい態様は、である。式:式中、各記号は項目1と同意義であるのさらに好ましい態様は、である。式:式中、各記号は項目1と同意義であるの最も好ましい態様は、である。式Iのセフェム骨格上の置換位置の命名は、以下のとおりとする。本明細書中における7位側鎖および3位側鎖とは、下記セフェム骨格の7位および3位に結合している基を示す。式Iのエステル体とは、好ましくは7位側鎖上および/または4位のカルボキシル基におけるエステル体を包含する。7位側鎖上のカルボキシル基におけるエステル体は、式:式中、各記号は項目1と同意義である。で示されるR1またはR2AもしくはR2Bの末端において、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアミノスルホニル基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい低級アルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換基を有しているカルボニルオキシ基等におけるカルボキシル基がエステル構造を有しているもの例えば、カルボキシル-COOHの場合、カルボキシル保護基等のエステル残基を示すRaとともに示される-COORaという構造で示される。などを挙げることができ、体内で容易に代謝されてカルボキシの状態になるエステルを包含する。式Iの4位のカルボキシル基におけるエステル体とは、式:式中、各記号は項目1と同意義であり、Rbはカルボキシル保護基等のエステル残基を表わす。で示されるようにセフェム骨格の4位カルボキシル基がエステル構造になっている化合物を意味する。該エステルは、体内で容易に代謝されてカルボキシの状態になるエステルを包含する。上記のカルボキシル等の保護基としては、ProtectiveGroupsinOrganicSynthesis、T.W.Green著、JohnWileySonsInc.1991年等に記載の方法で保護および/または脱保護できる基であればよく、例えば、低級アルキル例:メチル、エチル、t-ブチル、低級アルキルカルボニルオキシメチル例:ピバロイル、置換されていてもよいアラルキル例:ベンジル、ベンズヒドリル、フェネチル、p-メトキシベンジル、p-ニトロベンジル、シリル基例:t-ブチルジメチルシリル、ジフェニルt-ブチルシリル等が挙げられる。式Iの7位側鎖上のアミノ基における保護体とは、式:式中、各記号は項目1と同意義であり、R1および/またはR2Aがアミノ基を有している場合、その保護体は、-NHRcという式で表され、ここでRcはアミノ保護基を表わす。で示される、環上のアミノ基が保護されている構造を意味する。該アミノ保護基は、体内で容易に代謝されてアミノになる基も包含する。上記のアミノ保護基としては、ProtectiveGroupsinOrganicSynthesis、T.W.Green著、JohnWileySonsInc.1991年等に記載の方法で保護および/または脱保護できる基であればよく、例えば、低級アルコキシカルボニル例:t-ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、p-ニトロベンジルオキシカルボニル、置換されていてもよいアラルカノイル例:ベンゾイル、p-ニトロベンゾイル、アシル例:ホルミル、クロロアセチル等が挙げられる。R1がアミノ基が保護されていてもよいアミノチアゾールまたはアミノ基が保護されていてもよいアミノチアジアゾールとは、以下の式:式中、Rcはアミノ保護基であるを表す。式Iの塩とは、4位のカルボキシル基、7位のカルボキシル基および/またはピリドン誘導体のヒドロキシル基の水素原子が解離して、カウンターカチオンと塩を形成しているもの、7位側鎖アミノ基が無機酸や有機酸と塩を形成しているもの、ならびに3位側鎖4級アミン部位が、カウンターアニオンと塩を形成しているものを包含する。式Iの製薬上許容される塩としては、無機塩基、アンモニア、有機塩基、無機酸、有機酸、塩基性アミノ酸、ハロゲンイオン等により形成される塩又は分子内塩が例示される。該無機塩基としては、アルカリ金属Na、K等、アルカリ土類金属Mg等、有機塩基としては、プロカイン、2-フェニルエチルベンジルアミン、ジベンジルエチレンジアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ポリヒドロキシアルキルアミン、N-メチルグルコサミン等が例示される。無機酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等が例示される。有機酸としては、p-トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、マレイン酸等が例示される。塩基性アミノ酸としては、リジン、アルギニン、オルニチン、ヒスチジン等が例示される。本明細書中、溶媒和物とは、水または有機溶媒例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトンとの溶媒和物を意味するが、好ましくは水和物である。本発明化合物Iは、特定の異性体に限定するものではなく、以下に例示されるような全ての可能な異性体、ラセミ体および共鳴構造を包含する。例えば式Iにおける式:式中、各記号は項目1と同意義であるは、式中、各記号は項目1と同意義であるを包含する。例えば式Iにおける式:式中、各記号は項目1と同意義であるは、式中、R4は項目1と同意義であるなどの共鳴構造を包含する。合成法本発明に係る式Iで示される化合物は、例えば、下記に示す一般的合成法によって製造することができる。式中、U、Ra、Rbは、前記と同意義であり、P-は、4級アミンのカウンターアニオンであり、式:は、3位側鎖の4級アンモニウム基部分を包含する式Iの以下の部分:式中、各記号は前記と同意義であるを示し、Yは脱離基例えば、ヒドロキシ、ハロゲンCl、Br、I、置換されていてもよいカルバモイルオキシ、アシルオキシ、メタンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ等を示し、Reは水素またはアミノ保護基を示す。17位アミド化および3位側鎖形成;化合物Xの合成第一工程7位アミド化反応:市販または文献例:特開昭60-231684、特開昭62-149682などに記載の方法に準じて合成される化合物VIIおよび所望の側鎖に対応する式:式中、Rproは水素またはカルボキシ保護基であり、その他の記号は前記と同意義であるで示される化合物を反応させることにより、化合物IXが得られる。この場合、好ましくは、Rbはカルボキシ保護基、RproおよびReは水素である。式VIの化合物は、市販試薬および/または公知の方法を用いて得ることができる。化合物VIの使用量は、化合物VII1モルに対して通常、約1~5モル、好ましくは1~2モルである。反応溶媒としては、例えばエーテル類例:ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エステル類例:ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ハロゲン化炭化水素類例:ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、炭化水素類例:n-ヘキサン、ベンゼン、トルエン、アミド類例:ホルムアミド、NN-ジメチルホルムアミド、NN-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ケトン類例:アセトン、メチルエチルケトン、ニトリル類例:MeCN、プロピオニトリル、ジメチルスルホキシド、水などまたはそれらの混合溶媒等が例示される。反応温度は通常、約-40~80°C、好ましくは約-20~50°C、より好ましくは約-10~30°Cである。上記アミド化反応は、カルボキシル部分を反応性誘導体例:無機塩基塩、有機塩基塩、酸ハライド、酸アジド、酸無水物、混合酸無水物、活性アミド、活性エステル、活性チオエステルに変換して行ってもよい。該無機塩基としてはアルカリ金属、アルカリ土類金属などが、有機塩基としてはトリメチルアミン、トリエチルアミン、tert-ブチルジメチルアミン、ジベンジルメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、N-メチルモルホリン、ジイソプロピルエチルアミンなどが、酸ハライドとしては酸クロライド、酸ブロマイドなどが、混合酸無水物としてはモノアルキル炭酸混合酸無水物、脂肪族カルボン酸混合酸無水物、芳香族カルボン酸混合酸無水物、有機スルホン酸混合酸無水物などが、活性アミドとしては含窒素複素環化合物とのアミドなどが例示される。活性エステルとしては有機リン酸エステル、p-ニトロフェニルエステル、24-ジニトロフェニルエステル、シアノメチルエステルなどが例示される。活性チオエステルとしては、芳香族複素環チオール化合物とのエステルなどが例示される。また上記反応においては所望により適当な縮合剤を用いてもよい。縮合剤としては例えば、1-ジメチルアミノプロピル-3-エチルカルボジイミド塩酸塩WSCDHCl、NN’-ジシクロヘキシルカルボジイミド、NN’-カルボニルジイミダゾール、NN’-チオカルボニルジイミダゾール、N-エトキシカルボニル-2-エトキシ-12-ジヒドロキノリン、オキシ塩化リン、アルコキシアセチレン、2-クロロピリジニウムメチルアイオダイド、2-フルオロピリジニウムメチルアイオダイド、無水トリフルオロ酢酸などが用いられる。第二工程3位側鎖形成反応:化合物IXと対応する3級アミンを反応させることにより化合物Xが得られる。この場合、好ましくは、Rbはカルボキシ保護基である。対応する3級アミンの使用量は、化合物IX1モルに対して通常1~5モル、好ましくは1~2モルである。反応溶媒としては、例えばエーテル類例:ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エステル類例:ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ハロゲン化炭化水素類例:ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、炭化水素類例:n-ヘキサン、ベンゼン、トルエン、アミド類例:ホルムアミド、NN-ジメチルホルムアミド、NN-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ケトン類例:アセトン、メチルエチルケトン、ニトリル類例:アセトニトリルMeCN、プロピオニトリル、ジメチルスルホキシド、水などまたはそれらの混合溶媒等が例示される。反応温度は、通常、-20~60°C、好ましくは-10~40°C、より好ましくは0~20°Cである。また、化合物XにおいてU=Sである化合物は、化合物XにおいてU=SOを還元することにより得ることができる。還元剤としては、ヨウ化カリウム-アセチルクロライド等が挙げられる。33位側鎖形成および7位アミド化;化合物Xの合成第三工程3位側鎖形成反応:化合物VIIと対応する3級アミンを反応させることにより化合物VIIIが得られる。この場合、好ましくは、Rbはカルボキシ保護基であり、Reはアミノ保護基である。対応する3級アミンの使用量は、化合物VII1モルに対して通常1~5モル、好ましくは1~2モルである。反応溶媒としては、例えばエーテル類例:ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エステル類例:ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ハロゲン化炭化水素類例:ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、炭化水素類例:n-ヘキサン、ベンゼン、トルエン、アミド類例:ホルムアミド、NN-ジメチルホルムアミド、NN-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ケトン類例:アセトン、メチルエチルケトン、ニトリル類例:MeCN、プロピオニトリル、ジメチルスルホキシド、水などまたはそれらの混合溶媒等が例示される。反応温度は、通常、-20~60°C、好ましくは-10~40°C、より好ましくは0~20°Cである。なお、第二工程および第三工程の3位側鎖形成反応において用いる3級アミン部分項目1の置換基Eに対応するは、いずれも市販の試薬、公知の方法および/または本明細書に記載の方法によって得ることができる。第四工程7位アミド化反応:化合物VIIIおよび化合物VIを反応させることにより、化合物Xが得られる。この場合、好ましくは、Rbはカルボキシ保護基、Rcはアミノ保護基、RproおよびReは水素である。化合物VIの使用量は、化合物VIII1モルに対して通常、約1~5モル、好ましくは1~2モルである。反応溶媒としては、例えばエーテル類例:ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エステル類例:ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ハロゲン化炭化水素類例:ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、炭化水素類例:n-ヘキサン、ベンゼン、トルエン、アミド類例:ホルムアミド、NN-ジメチルホルムアミド、NN-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ケトン類例:アセトン、メチルエチルケトン、ニトリル類例:MeCN、プロピオニトリル、ジメチルスルホキシド、水などまたはそれらの混合溶媒等が例示される。反応温度は通常、約-40~80°C、好ましくは約-20~50°C、より好ましくは約-10~30°Cである。上記アミド化反応は、カルボキシル部分を反応性誘導体例:無機塩基塩、有機塩基塩、酸ハライド、酸アジド、酸無水物、混合酸無水物、活性アミド、活性エステル、活性チオエステルに変換して行ってもよい。該無機塩基としてはアルカリ金属、アルカリ土類金属などが、有機塩基としてはトリメチルアミン、トリエチルアミン、tert-ブチルジメチルアミン、ジベンジルメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、N-メチルモルホリン、ジイソプロピルエチルアミンなどが、酸ハライドとしては酸クロライド、酸ブロマイドなどが、混合酸無水物としてはモノアルキル炭酸混合酸無水物、脂肪族カルボン酸混合酸無水物、芳香族カルボン酸混合酸無水物、有機スルホン酸混合酸無水物などが、活性アミドとしては含窒素複素環化合物とのアミドなどが例示される。活性エステルとしては有機リン酸エステル、p-ニトロフェニルエステル、24-ジニトロフェニルエステル、シアノメチルエステルなどが例示される。活性チオエステルとしては、芳香族複素環チオール化合物とのエステルなどが例示される。また上記反応においては所望により適当な縮合剤を用いてもよい。縮合剤としては例えば、1-ジメチルアミノプロピル-3-エチルカルボジイミド塩酸塩WSCDHCl、NN’-ジシクロヘキシルカルボジイミド、NN’-カルボニルジイミダゾール、NN’-チオカルボニルジイミダゾール、N-エトキシカルボニル-2-エトキシ-12-ジヒドロキノリン、オキシ塩化リン、アルコキシアセチレン、2-クロロピリジニウムメチルアイオダイド、2-フルオロピリジニウムメチルアイオダイド、無水トリフルオロ酢酸などが用いられる。また、化合物XにおいてU=Oである化合物は、化合物VIIにおいてU=Oを用いることにより得ることができる。4脱保護反応:第五工程:化合物Xを当業者周知の方法により脱保護反応に付すことにより化合物Iが得られる。反応溶媒としては、例えばエーテル類例:アニソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エステル類例:ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ハロゲン化炭化水素類例:ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、炭化水素類例:n-ヘキサン、ベンゼン、トルエン、アミド類例:ホルムアミド、NN-ジメチルホルムアミド、NN-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ケトン類例:アセトン、メチルエチルケトン、ニトリル類例:MeCN、プロピオニトリル、ニトロ類例:ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン、ジメチルスルホキシド、水などが例示される。これらの溶媒は単独で使用しても、2種以上を混合して使用してもよい。反応温度は通常、約-30~100°C、好ましくは約0~50°C、より好ましくは約0~10°Cである。触媒としては、ルイス酸例:AlCl3、SnCl4、TiCl4、プロトン酸例:HCl、HBr、H2SO4、HCOOH等が使用できる。なお得られた化合物Iを更に化学修飾してエステル体、もしくはその7位のチアゾール環上のアミノにおける保護体、またはそれらの製薬上許容される塩もしくは溶媒和物を合成することもできる。保護基アミノ保護基、ヒドロキシ保護基などとしては、例えばエトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、アセチル、ベンジルなどの、ProtectiveGroupsinOrganicSynthesis、T.W.Green著、JohnWileySonsInc.1991年などに記載されている保護基をあげることができる。保護基の導入および脱離方法は、有機合成化学で常用される方法[例えば、ProtectiveGroupsinOrganicSynthesis、T.W.Greene著、JohnWileySonsInc.1991年参照]などに記載の方法あるいはそれらに準じて得ることができる。また、各置換基に含まれる官能基の変換は、上記製造法以外にも公知の方法[例えば、ComprehensiveOrganicTransformations、R.C.Larock著1989年など]によっても行うことができ、本発明の化合物の中には、これを合成中間体としてさらに新規な誘導体へ導くことができるものもある。上記各製造法における中間体および目的化合物は、有機合成化学で常用される精製法、例えば中和、濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィなどに付して単離精製することができる。また、中間体においては、特に精製することなく次の反応に供することも可能である。本発明化合物はスペクトルの広い抗菌活性を有し、人を含む各種哺乳動物における病原性細菌により生ずる種々の疾病、例えば気道感染症、尿路感染症、呼吸器感染症、敗血症、腎炎、胆嚢炎、口腔内感染症、心内膜炎、肺炎、骨髄膜炎、中耳炎、腸炎、蓄膿、創傷感染、日和見感染等の予防又は治療のために使用され得る。本発明化合物は、特にグラム陰性菌、好ましくは、腸内細菌科のグラム陰性菌大腸菌、クレブシエラ、セラチア、エンテロバクター、シトロバクター、モルガネラ、プロビデンシア、プロテウス等、呼吸器に定着するグラム陰性菌ヘモフィルス、モラキセラ等およびブドウ糖非発酵のグラム陰性菌緑膿菌、緑膿菌以外のシュードモナス、ステノトロフォモナス、バークホルデリア、アシネトバクター等に対して高い抗菌活性を示す。これらのグラム陰性菌が産生するクラスA、B、CおよびDに属するβ-ラクタマーゼに安定であり、ESBL産生菌などの各種β-ラクタム薬耐性グラム陰性菌に高い抗菌活性を有する。特にIMP型、VIM型,L-1型などを含むクラスBに属するメタロ-β-ラクタマーゼに対しても極めて安定であるので、セフェムやカルバペネムを含む各種β-ラクタム薬耐性グラム陰性菌に対しても有効である。また本発明化合物は、メチシリン感受性黄色ブドウ球菌MRSA、ペニシリン耐性肺炎ブドウ球菌PRSP等を含むグラム陽性菌に対しても抗菌活性を有している。さらに好ましい化合物は、体内動態として、血中濃度が高い、効果の持続時間が長い、および/または組織移行性が顕著である等の特徴も有している。また好ましい化合物は副作用の点で安全である。また好ましい化合物は、水溶性が高く、特に注射薬として好適である。本発明化合物は、経口的又は非経口的に投与することができる。経口投与による場合、本発明化合物は通常の製剤、例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤等の固形剤;水剤;油性懸濁剤;又はシロップ剤もしくはエリキシル剤等の液剤のいずれかの剤形としても用いることができる。非経口投与による場合、本発明化合物は、水性又は油性懸濁注射剤、点鼻液として用いることができる。その調製に際しては、慣用の賦形剤、結合剤、滑沢剤、水性溶剤、油性溶剤、乳化剤、懸濁化剤、保存剤、安定剤等を任意に用いることができる。なお、抗HIV薬としては、特に経口剤が好ましい。本発明の製剤は、治療有効量の本発明化合物を製薬上許容される担体又は希釈剤とともに組み合わせる例えば混合することによって製造される。本発明化合物は、注射剤、カプセル剤、錠剤、顆粒剤として非経口または経口的に投与できるが、好ましくは注射剤として投与される。投与量は、通常、患者または動物の体重1kg当たり、約0.1~100mg/日、好ましくは約0.5~50mg/日を、所望により1日2~4回に分割して投与すればよい。注射剤として用いられる場合の担体は、たとえば蒸留水、生理食塩水などであり、またpH調節のための塩基等を使用してもよい。カプセル剤、顆粒剤、錠剤として用いられる場合の担体は、公知の賦形剤、結合剤、滑沢剤等である。以下に、実施例および試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。実施例中、各略語の意味は以下の通りである。ODS:オクタドデシルシリルPMB:パラメトキシベンジルBH:ベンズヒドリルBoc:tert-ブトキシカルボニルt-Bu:tert-ブチルBn:ベンジルTrt:トリチルMe:メチルCbz:ベンジルオキシカルボニル実施例1:化合物I-1の合成化合物2化合物3から化合物4を経て、化合物I-1を製造化合物2107g10mmolの塩化メチレン溶液を0°Cに冷却し、化合物3303mg095mmol、ピリジン105μl13mmol、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩230mg12mmolを順に加えた後、0°Cにて35時間攪拌した。反応混合物に01moll塩酸、酢酸エチル、テトラヒドロフランを加えた後、減圧下で塩化メチレンを留去し、酢酸エチルテトラヒドロフラン混合溶媒で抽出した。有機層を、01moll塩酸、亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順に洗浄し、減圧下で溶媒を留去した。得られた濃縮残渣を塩化メチレンに溶解させた後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。無機物をろ過により除き、減圧濃縮した後、減圧下で乾燥することにより化合物4を褐色フォームとして得た。得られた化合物4全量を塩化メチレンに溶解させ、40°Cに冷却した後、アニソールと2moll塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液を順に加え、40°Cで1時間攪拌した。反応液に2moll塩酸水、アセトニトリル、ジイソプロピルエーテルを加えて攪拌した後、デカンテーションにより不溶物と上澄みを分離させた。上澄みからは水層を分取した。一方、容器に付着した不溶物に希塩酸水、アセトニトリルを加えて攪拌し、完全に溶解させた後、ジイソプロピルエーテルを加え水層を分取した。有機層は水で再度抽出し、すべての水層を合せHP20SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィにより精製した。所望の化合物を含む分画を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物I-1を淡黄色粉末として得た。収量240mg1HNMRδ:108202208337395499504558564676726744841946985MS79835元素分析:C36H40ClN7O10S34H2O計算値:C5031H549Cl412N1141S373実験値:C5027H535Cl422N1131S388実施例2:化合物I-2の合成化合物2化合物6から化合物7を経て、化合物I-2を製造化合物6238mg11mmolの塩化メチレン溶液を0°Cに冷却し、ジイソプロピルエチルアミン480μl275mmol、トリメチルクロロシラン422μl33mmolを順に加えた後、室温で2時間攪拌した。次いで反応混合物を30°Cまで冷却し、塩化チオニル96μl132mmolを加えた後、0°Cで1時間攪拌し、酸塩化物の溶液とした。一方、化合物2107g10mmolは塩化メチレンに溶液させた後60°Cまで冷却し、トリブチルアミン951μl40mmolを加えた。得られた混合液に前述の酸塩化物の溶液を30分かけて滴下した。0°Cで1時間攪拌した後、反応混合物に05moll塩酸を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を、02moll塩酸、亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。無機物をろ過により除き、減圧濃縮した後、減圧下で乾燥することにより化合物7を褐色泡状固体として得た。得られた化合物7全量を塩化メチレンに溶解させ、40°Cまで冷却した後、アニソールと2moll塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液を順に加え、40°Cで1時間攪拌した。反応液に2moll塩酸水、アセトニトリル、ジイソプロピルエーテルを加えて攪拌した後、デカンテーションにより不溶物と上澄みを分離させた。上澄みからは水層を分取した。一方、容器に付着した不溶物に希塩酸水、アセトニトリル加えて攪拌し、完全に溶解させた後、ジイソプロピルエーテルを加え水層を分取した。有機層は再度水で抽出し、すべての水層を合せHP20SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィにより精製した。所望の化合物を含む分画に02moll水酸化ナトリウム水溶液を加えpH60に調整した後、ドライアイス一片を加えた。得られた溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物I-2を白色粉末として得た。収量155mg1HNMRδ:221335456505525572685695745760MS69527元素分析:C29H30ClN4O10S2Na01NaHCO343H2O計算値:C4372H483Cl443N701S802Na316実験値:C4360H470Cl446N726S808Na330実施例3:化合物I-3の合成化合物2化合物9から化合物10を経て、化合物I-3を製造化合物2107g10mmol及び化合物9415mg095mmolを用い実施例1と同様にして合成した。ODSカラムクロマトグラフィにて精製した後、所望の化合物を含む分画に02moll水酸化ナトリウム水溶液を加えpH60に調整した後、ドライアイス一片を加えた。得られた溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物I-3を白色粉末として得た。収量160mg1HNMRδ:214331406442515563681687717MS67527元素分析:C30H30ClN4O10SNa40H2O計算値:C4685H498Cl461N728S417Na299実験値:C4683H488Cl488N720S378Na300実施例4:化合物I-4の合成工程1:化合物4a化合物4b→化合物4c化合物4a溶液に氷冷下、化合物4bに溶かし、40°Cまで冷却した後、アニソールと、2moll塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液を順に加え、氷冷下1時間攪拌した。反応液を水、2moll塩酸水溶液、アセトニトリルに溶解させた後、ジイソプロピルエーテルで洗浄した。水層にHP20SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィにより精製した。得られた溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物I-4を淡橙色粉末として得た。収量1864mg1HNMRδ1031936884842691677624558509507392376341357197215元素分析:C26H29ClN6O7S221計算値:C4627H496Cl525N1245S950実験値:C4642H502Cl516N1243S929実施例5:化合物I-5の合成工程1:化合物5a化合物5b→化合物5c化合物5aを用いて、実施例4と同様にして合成した。工程2:化合物5c→化合物I-5得られた化合物5c全量を用いて実施例4と同様にして合成した。収量1330mg1HNMRδ1033936900842792677559510508393342196215元素分析:C25H28ClN7O7S222計算値:C4430H482Cl523N1447S946実験値:C4436H482Cl526N1436S941実施例6:化合物I-6の合成工程1:化合物6a化合物6b→化合物6c化合物6aを用いて実施例4と同様にして合成した。工程2:化合物6c→化合物I-6得られた化合物6c全量を用いて実施例4と同様にして合成した。収量1100mg1HNMRδ1015925895840705679675666552509505391374357344214199元素分析:C29H31ClN4O8S25計算値:C5151H537Cl524N829S474実験値:C5157H536Cl523N819S486実施例7:化合物I-7の合成工程1:化合物7a化合物7b→化合物7c化合物7aを用いて実施例4と同様にして合成した。工程2:化合物7c→化合物I-7得られた化合物7c全量を用いて実施例4と同様にして合成した。収量2063mg1HNMRδ11451047959842725715700678572517506395373359344197215元素分析:C29H29ClFN5O9S22計算値:C4853H469Cl494F265N976S447実験値:C4851H478Cl495F254N969S452実施例8:化合物I-8の合成工程1:化合物8a化合物8b→化合物8c化合物8aを用いて実施例4と同様にして合成した。工程2:化合物8c→化合物I-8得られた化合物8c全量を塩化メチレンに溶かし、40°Cまで冷却した後、アニソールと2moll塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液を順に加え、氷冷下1時間攪拌した。さらに2moll塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液を加え、室温で1時間攪拌した。反応液を水、2moll塩酸水溶液、アセトニトリルに溶解させた後、ジイソプロピルエーテルで洗浄した。水層にHP20SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィにより精製した。得られた目的化合物の溶液に02moll水酸化ナトリウム水溶液をpH60まで加えた後、ドライアイスを1欠片加えた。得られた溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物I-8を淡黄色粉末として得た。収量969mg1HNMRδ697687668659652647585578537529417411397350324322287223元素分析:C29H30ClN6O9S2Na37計算値:C4377H474Cl445N1056S806Na289実験値:C4357H483Cl441N1084S806Na239実施例9:化合物I-9の合成工程1:化合物9a→化合物9b化合物9a溶液に二酸化セレンを得た。1HNMRδ790732748722525工程2:化合物9c→化合物9d化合物9b→化合物9e化合物9cの塩化メチレン溶液を30°Cに冷却した後、メチルヒドラジンを加え室温で30分間撹拌した。反応溶液をろ過した後、ろ液にトルエンを加え減圧濃縮した。残渣にメタノール、化合物9bを加え室温で1時間撹拌した。減圧濃縮した後、ジイソプロピルエーテルで結晶化させ、濾取する事により、化合物9eを得た。1HNMRδ1395733746711515143138工程3:化合物9f化合物9e→化合物9g化合物9fと化合物9eを用いて実施例4と同様にして合成した。工程4:化合物9g→化合物I-9得られた化合物9g全量を塩化メチレンに溶かし、40°Cまで冷却した後、アニソールと2moll塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液を順に加え、氷冷下1時間攪拌した。反応液を水、2moll塩酸水溶液、アセトニトリルに溶解させた後、ジイソプロピルエーテルで洗浄した。水層にHP20SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィにより精製した。得られた目的化合物の溶液に02moll水酸化ナトリウム水溶液をpH60まで加えた後、ドライアイスを1欠片加えた。得られた溶液を減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物I-9を淡黄色粉末として得た。収量1326mg1HNMRδ755696686590539415399348224151150元素分析:C33H35ClN5O11SNa53計算値:C4589H532Cl411N811S371Na266実験値:C4574H506Cl494N804S386Na254実施例10:化合物I-10の合成工程1:化合物10a化合物10b→化合物10c化合物10a、化合物10bのジメチルアセトアミド溶液に、ヨウ化ナトリウムを加え、室温にて3時間攪拌した。氷冷下、反応液にジメチルホルムアミドを加えた後、ヨウ化カリウム、塩化アセチルを順次加え、氷冷下2時間攪拌した。反応混合物を氷冷した亜硫酸水素ナトリウムを含む5食塩水にゆっくりと加えた。析出した固体をろ取し、水洗した後、水に懸濁させ、凍結乾燥することにより化合物10cを淡橙色固体として得た。得られた化合物10cは精製せずそのまま次の反応に用いた。工程2:化合物10c→化合物10d得られた化合物10c全量をアセトンに溶解させ、6規定塩酸水溶液を加え室温で6時間攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、硫酸マグネシウムにより乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧濃縮し、化合物10dを得た。工程3:化合物10d化合物10e→化合物10f化合物10dと化合物10eを用いて実施例4と同様にして合成した。工程4:化合物10f→化合物I-10得られた化合物10f全量を用いて実施例4と同様にして合成した。収量1830mg1HNMRδ1027952883691681663624560555521501431345187227元素分析:C27H29ClN6O7S23計算値:C4612H502Cl504N1195S912実験値:C4617H507Cl508N1189S900実施例11:化合物I-11の合成工程1:化合物11a化合物11b→化合物11c化合物11aと化合物11bを用いて実施例4と同様にして合成した。工程2:化合物11c→化合物I-11得られた化合物11c全量を用いて実施例4と同様にして合成した。収量3019mg1HNMRδ1041956901793683663561557522502429347191227元素分析:C26H28ClN7O7S233計算値:C4401H491Cl500N1382S904実験値:C4400H488Cl504N1367S921実施例12:化合物I-12の合成工程1:化合物12a化合物12b→化合物12c化合物12aと化合物12bを用いて実施例4と同様にして合成した。工程2:化合物12c→化合物I-12得られた化合物12c全量を用いて実施例4と同様にして合成した。収量1531mg1HNMRδ1031952927897706702682668662554550518498432344188227元素分析:C30H31ClN4O8S29計算値:C5182H533Cl510N806S461実験値:C5181H531Cl511N815S463実施例13:化合物I-13の合成工程1:化合物13a化合物13b→化合物13c化合物13aと化合物13bを用いて実施例4と同様にして合成した。工程2:化合物13c→化合物I-13得られた化合物13c全量を用いて実施例4と同様にして合成した。収量1723mg1HNMRδ114510431025960942727713698683662572569515502390345227185元素分析:C30H29ClFN5O9S35計算値:C4784H482Cl471F252N930S426実験値:C4786H473Cl473F253N929S442実施例14:化合物I-14の合成工程1:化合物14a化合物14b→化合物14c化合物14aと化合物14bを用いて実施例4と同様にして合成した。工程2:化合物14c→化合物I-14得られた化合物14c全量を用いて実施例4と同様にして合成した。収量969mg1HNMRδ696647587577537527441423398321287250204元素分析:C30H30ClN6O9S2Na52計算値:C4316H488Cl425N1007S768Na275実験値:C4309H490Cl418N1026S780Na228実施例15:化合物I-15の合成工程1:化合物15a化合物15b→化合物15c化合物15aと化合物15bを用いて実施例4と同様にして合成した。工程2:化合物15c→化合物I-15得られた化合物15c全量を用いて実施例9と同様にして合成した。収量480mg1HNMRδ754698682591537433397344202250151元素分析:C34H35ClN5O11SNa51計算値:C4683H522Cl407N803S368Na264実験値:C4679H525Cl421N813S378Na224実施例16:化合物I-16の合成工程1:化合物16a→化合物16b化合物16aのピリジン溶液に二酸化セレンを加え80°Cで6時間攪拌した。室温まで冷却後、不用物を濾去し、濾液を濃縮乾固した。得られた化合物16bを含む粗生成物はそのまま次の反応に用いた。工程2:化合物16c→化合物16d→化合物16e化合物16cのジクロロメタン溶液にメチルヒドラジンを加えて30分間攪拌した。析出した不溶物を濾去し、濾液を濃縮した。残渣をメタノールに溶解し、氷冷攪拌下、上で合成した化合物16bのメタノール溶液を加えた。反応液を3時間攪拌した後、酢酸エチルと水で希釈し、水槽のpHを3に希塩酸で調整した。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した濾液を濃縮して化合物16eを得た。化合物16eは精製されることなく次の反応に用いた。工程3:化合物16e化合物16f→化合物16g化合物16eの酢酸エチル溶液に化合物16fを加えて-40°C下、フェニルリン酸ジクロリド、次いでN‐メチルモルホリンを加えた。反応液を-40°Cで1時間攪拌した後、10クエン酸水溶液を加えた。有機層を水及び食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過した濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、目的の化合物16gを得た。1HNMRδ884863789747730700598506446440369353154152147工程4:化合物16g→化合物16h化合物16gのジクロロメタン溶液にm‐クロロ過安息香酸のジクロロメタン溶液を-40°C下加えた。反応液を同温で1時間攪拌した後、10チオ硫酸ナトリウム水溶液及び酢酸エチルを加えた。ジクロロメタンを減圧留去した後、有機層を食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過して得られた濾液を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、目的の化合物16hを得た。1HNMRδ885862814791747729697620498459418385345155153147工程5:化合物16h→化合物I-16化合物I-16は前記の最終物の合成法と同様の手法により合成した。1HNMRδ865858803756692688574530460391386334356195149148元素分析C34H36ClN6O10SNa90計算値C4338H578Cl377N893S341Na244実測値C4336H560Cl386N891S343Na260実施例17:化合物I-17の合成工程1:化合物17a→化合物17b化合物17aと4‐メトキシベンジルアルコールの混合物に18‐クラウン‐6‐エーテル及び炭酸カリウムを加えた。反応液を120°Cで2時間攪拌した後、氷水、酢酸エチルを加えた。水槽を酢酸エチルで抽出し、先の有機層と合わせた酢酸エチル溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後得られた濾液を濃縮し、固体となった残渣をジエチルエーテルを用いて濾取した。この固体を減圧乾燥して化合物17bを得た。1HNMRδ767772737704692514382254工程2:化合物17b→化合物17c化合物17bのピリジン溶液に二酸化セレンを加えて、80°Cで3時間攪拌した。さらに二酸化セレンを追加して、80°Cで4時間攪拌した。不溶物を濾去して濾液を濃縮後、酢酸エチル、2規定塩酸で希釈した。有機層を水、食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過して得られた濾液を減圧下濃縮、乾燥して化合物17cを得た。1HNMRδ771779748742696523376工程3:化合物17c化合物17d→化合物17f化合物17fは実施例16と同様な手法により化合物17c及び化合物17dから得た。化合物17fは幾何異性体の混合物であり、そのまま次の工程で用いた。工程4:化合物17f化合物16f→化合物17h化合物17hは実施例16の合成法と同様な手法により化合物17f及び化合物16fから化合物17gを経て合成した。化合物17hは幾何異性体の混合物で、次の工程でそのまま用いた。工程5:化合物17h→化合物I-17化合物I-17は他の最終物と同様な手法により合成した。1HNMRδ746726702695687588538414397347223152150元素分析C33H34ClFN5O11SNa7801計算値C4250H536Cl418F204N751S344Na271実測値C4244H523Cl433F211N757S334Na274実施例18:化合物I-18の合成工程:化合物18a化合物18b→化合物18c→化合物I-18化合物18bのジメチルアセトアミド溶液を15°Cまで冷却した後、化合物18aを加え、減圧脱気した。ヨウ化ナトリウムを加え、15°Cで6時間攪拌した。ジメチルホルムアミドを加えた後、40°Cに冷却し、三臭化リンを加え、40°Cで30分間攪拌した。反応混合物を氷冷した5食塩水にゆっくりと加えた。析出した固体をろ取し、水洗した後、水に懸濁させ、凍結乾燥することにより化合物18cを褐色固体として得た。得られた化合物18cは精製せずそのまま次の反応に用いた。得られた化合物18c全量をジクロロメタンに溶解させ、40°Cまで冷却した後、アニソールと2moll塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液を順に加え、0°Cで30分間攪拌した。反応液にジイソプロピルエーテル、及び少量の水を加えて攪拌し沈殿を生成させ、デカンテーションにより上澄みを除いた。容器に付着した不溶物に希塩酸水、アセトニトリルを加えて攪拌し、完全に溶解させた後、ジイソプロピルエーテルを加え、水層を分取した。有機層を再度水で抽出した後、すべての水層を合せHP20SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィにより精製した。所望の化合物を含む分画を集め、減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物I-18を白色粉末として得た。収量390mg1HNMRδ108191198230253295353400484499558565670677729744832946985MS82444元素分析:C38H42ClN7O10S50H2O計算値:C4991H573Cl388N1072S351実験値:C4995H565Cl409N1061S355実施例19:化合物I-19の合成工程:化合物18a化合物19a→化合物19b→化合物I-19化合物18aと化合物19aから実施例18と同様にして化合物I-19を白色粉末として得た。収量456mg1HNMRδ108195223353425493512557565662682728744946985MS81030元素分析:C37H40ClN7O10S49H2O計算値:C4946H559Cl395N1091S357実験値:C4941H543Cl397N1088S359実施例20:化合物I-20の合成工程:化合物18a化合物20a→化合物20b→化合物I-20化合物18aと化合物20aから実施例18と同様にして化合物I-20を白色粉末として得た。収量136mg1HNMRδ108195210347393499504558566728745797881946985MS76533元素分析:C35H40N8O10S39H2O計算値:C5034H577N1342S384実験値:C5034H564N1319S375実施例21:化合物I-21の合成工程:化合物18a化合物21a→化合物21b→化合物I-21化合物21aのジメチルアセトアミド溶液を15°Cまで冷却した後、化合物18aを加え、減圧脱気した。ヨウ化ナトリウムを加え、15°Cで1時間攪拌した後、冷蔵庫で終夜静置した。ジメチルホルムアミドを加えた後、0°Cに冷却し、ヨウ化カリウム、塩化アセチルを順に加え、0°Cで3時間攪拌した。反応混合物を氷冷した5食塩水にゆっくりと加えた。析出した固体をろ取し、水洗した後、水に懸濁させ、凍結乾燥することにより化合物21bを褐色固体として得た。得られた化合物21bは精製せずそのまま次の反応に用いた。得られた化合物21b全量をジクロロメタンに溶解させ、40°Cまで冷却した後、アニソールと2moll塩化アルミニウム/ニトロメタン溶液を順に加え、0°Cで30分間攪拌した。反応液にジイソプロピルエーテル、及び少量の水を加えて攪拌し沈殿を生成させ、デカンテーションにより上澄みを除いた。容器に付着した不溶物に希塩酸水、アセトニトリルを加えて攪拌し、完全に溶解させた後、ジイソプロピルエーテルを加え、水層を分取した。有機層を再度水で抽出した後、すべての水層を合せHP20SS樹脂を加えアセトニトリルを減圧留去した。得られた混合液をODSカラムクロマトグラフィにより精製した。所望の化合物を含む分画を集め、減圧濃縮した後、凍結乾燥することにより化合物I-21を白色粉末として得た。収量73mg1HNMRδ1081962073384034965025615657277457517879499851180MS78137元素分析:C35H40N8O11S30H2O計算値:C5035H555N1342S384実験値:C5044H554N1317S380実施例22:化合物I-22の合成工程:化合物18a化合物22a→化合物22b→化合物I-22化合物18aと化合物22aから実施例18と同様にして化合物I-22を白色粉末として得た。収量242mg1HNMRδ108194210323391500506560565728744868948985MS79839元素分析:C36H40ClN7O10S37H2O計算値:C4999H552Cl410N1134S371実験値:C4999H550Cl448N1122S367実施例23:化合物I-23の合成工程:化合物23a化合物23b→化合物I-23化合物23aをN,N-ジメチルホルムアミドに溶解し、ヨウ化ナトリウムを加え20°Cで10分間撹拌した。反応液に化合物23bを加え20°Cで5時間撹拌した。反応液を酸性5食塩水に注加し、得られた残渣をろ取し、精製水で洗浄し、減圧下乾燥し化合物23cを得た。化合物23cをジクロロメタンに溶解し40°Cに冷却した。溶液にアニソール109ml10mmol、2M塩化アルミニウムニトロメタン溶液を加え、0°Cで撹拌した。反応液に精製水、ジイソプロピルエーテルを加えた。反応液にアセトニトリル、2M塩酸を加え、析出物を溶解させた後、水層を分離した。有機層を水/アセトニトリル/希塩酸混液で抽出し、合わせた水槽にHP20SSを加えて濃縮した。濃縮した懸濁液をHP20SS-ODSカラムクロマトグラフィに付し、水-アセトニトリルで溶離した目的物を含む分画を減圧濃縮し、濃縮液を凍結乾燥することによって化合物I-23を粉末として得た。収量178mg収率24MS808501HNMRδ985922830820753723674567547538507442419397383311182165108元素分析:計算値:C5071H585N1089Cl394実験値:C5058H567N1115Cl404本発明は、以下に示される式II-A、II-B、II-C、II-D、II-E、II-F、II-G、II-H、II-I、II-J、II-K、II-L、II-M、II-N、II-O、II-P:において、R1、R2A、またはR2AおよびR2B、ならびに-E-D-が、それぞれ以下の表1~表10のR1-1~R1-6、R2A-1~R2A-11またはR2AB-1~R2AB-37、ならびにED1~ED104から選ばれる組合せの化合物も包含する。試験例1本発明化合物IのInVitro抗菌活性を確認した。化合物I-1~I-9、I-16、I-17およびI-23の試験方法:最小発育阻止濃度MIC:μgmlの測定は日本化学療法学会標準法に準じ、接種菌量は1000cfuspot,試験培地は感受性ディスク培地を用いて、寒天平板希釈法により実施した。菌株番号5:最小発育阻止濃度MIC:μgmlの測定はCLSIClinicalandLaboratoryStandardsInstitute法に準じ、接種菌量は10000cfuspot,試験培地はミューラーヒントン寒天培地を用いて、寒天平板希釈法により実施した。化合物I-10~I-15の試験方法:最小発育阻止濃度の測定はCLSIClinicalandLaboratoryStandardsInstitute法に準じ、試験菌量は5×105cfumL、試験培地はヒトApotransferrinを添加したカチオン調整ミューラーヒントン液体培地を用いて、微量液体希釈法により実施した。菌株番号6~8:最小発育阻止濃度の測定はCLSIClinicalandLaboratoryStandardsInstitute法に準じ、試験菌量は5×105cfumL、試験培地はカチオン調整ミューラーヒントン液体培地を用いて、微量液体希釈法により実施した。化合物I-18~I-22の試験方法:最小発育阻止濃度の測定はCLSIClinicalandLaboratoryStandardsInstitute法に準じ、試験菌量は5×105cfumL、試験培地はヒトApotransferrinを添加したカチオン調整ミューラーヒントン液体培地を用いて、微量液体希釈法により実施した。試験結果を表11に示す。表中、阻害活性の数値の単位はμg/mlである。上記の表における代表的な菌種、菌株が産生する酵素β-ラクタマーゼと株種の説明を表12に示す。試験例2本発明化合物IのInVivo抗菌活性は以下の方法で確認する。試験方法感染は,PaeruginosaSR27001多剤耐性緑膿菌IMP1産生株をマウスICR系,雄,5週齢腹腔内に接種することにより惹起する。感染15時間後の計2回静脈内投与で治療を行ない,7日後の生存率からED50値を算出する。以上の結果から、本発明化合物が広範な抗菌スペクトルを有し、特にグラム陰性菌に対して強力な抗菌スペクトルを示し、および/または多剤耐性菌に対しても有効であり、β-ラクタマーゼ産生グラム陰性菌に対しても高い安定性を有していることが示される。また、類似構造を有するβ-ラクタマーゼ耐性セファロスポリン系抗生物質として市販されている化合物cefepimehydrochloridehydrate;CFPMと比較した場合に、本発明化合物が高い抗菌活性を示すため、本発明化合物は医薬品として有用であることが示される。製剤例1本発明化合物を粉末充填することにより注射剤を調製する。"