"検出領域において放射遮蔽体の位置を検出するためのモジュール型位置検出システムであって、前記システムは、システムコントローラと、前記システムコントローラに結合された複数のシステムモジュールと、を備え、前記システムモジュールは少なくとも部分的に前記検出領域を取り囲み、前記システムモジュールは1つまたは複数の放射源と1つまたは複数の放射センサとを備えるシステム。前記システムコントローラが前記システムモジュールのそれぞれと通信できるようにするシステム通信バスをさらに備える、請求項1に記載のシステム。前記システムコントローラが前記システムモジュールのそれぞれと結合されている、請求項1に記載のシステム。前記システムコントローラが前記システムモジュールの少なくともいくつかと物理的に結合されている、請求項1に記載のシステム。前記システムコントローラが前記システムモジュールの少なくともいくつかと無線通信システムを介して結合されている、請求項1に記載のシステム。各モジュールは隣接するモジュールと結合するための1つまたは複数のコネクタを備え、前記システム通信バスはモジュール間の相互接続を含む、請求項5に記載のシステム。それぞれのモジュールが前記システムコントローラに結合したモジュールコントローラを備え、前記モジュールコントローラの少なくともいくつかは、前記システムコントローラから受信した制御命令に応答して少なくとも1つの放射センサの動作を制御するように構成され、前記モジュールコントローラの少なくともいくつかは、前記システムコントローラから受信した制御命令に応答して少なくとも1つの放射源の動作を制御するように構成されている、請求項1~6のいずれか1項に記載のシステム。それぞれのモジュールが前記システムコントローラに結合したモジュールコントローラを備え、各モジュールコントローラは前記システムコントローラから受信した制御命令に応答して少なくとも1つの放射源の動作を制御する、請求項1~6のいずれか1項に記載のシステム。前記システムモジュールは、端部センサモジュールと、内角センサモジュールと、外角センサモジュールと、端部放射源モジュールと、内角放射源モジュールと、外角放射源モジュールと、端部混合型モジュールと、内角混合型モジュールと、外角混合型モジュールと、および端部スペーサモジュールと、からなる群から選択されるモジュールの組合せから選択される、複数のモジュールを含む請求項1~8のいずれか1項に記載のシステム。前記システムモジュールは、放射センサモジュール、放射源モジュール、および反射モジュールからなる群から選択されるモジュールの組合せから選択される、複数のモジュールを含む、請求項1~8のいずれか1項に記載のシステム。前記システムモジュールの少なくともいくつかの大きさは、アクセス可能なメモリ内に記録される、請求項1~10のいずれか1項に記載のシステム。前記検出領域がある表面を覆っている、請求項1~11のいずれか1項に記載のシステム。前記検出領域がディスプレー画面の表面を覆っている、請求項1~11のいずれか1項に記載のシステム。前記検出領域がモジュール型ディスプレー画面の表面を覆っている、請求項1~11のいずれか1項に記載のシステム。前記システムモジュールの少なくともあるものの、少なくともある大きさは、前記モジュール型ディスプレー画面を形成するディスプレーモジュールの1つまたは複数の大きさに対応する、請求項1~14のいずれか1項に記載のシステム。前記システムモジュールの少なくともあるものは、1つまたは複数の放射源からの放射を拡散させるための1つまたは複数の拡散器を含む、請求項1~10のいずれか1項に記載のシステム。前記コントローラは前記システムを外部装置に接続するためのインタフェースを備える請求項1~16のいずれか1項に記載のシステム。隣接するシステムモジュール同士は電気的かつ機械的に相互に結合している、請求項1~17のいずれか1項に記載のシステム。前記検出領域が略長方形であり、少なくとも2つの放射センサが前記検出領域の第1の端部に隣接して配置され、複数の放射源が前記検出領域の残りの端部に隣接して配置されている、請求項1~18のいずれか1項に記載のシステム。モジュール型位置検出システムの動作方法であって、検出領域に隣接して一組のシステムモジュールを備え、前記システムモジュールの少なくともいくつかに取り付けられた複数の放射源の位置を測定し、前記システムモジュールの少なくとも1つに取り付けられた2つ以上の放射センサの位置を測定し、前記各放射センサに対応する放射強度信号を収集し、前記放射強度信号に基づいて放射遮蔽体の位置を推定する、方法。前記放射源の位置の測定は、1つまたは複数のシステムモジュールの位置を測定し、前記システムモジュールの少なくともいくつかの大きさに基づいてそれらのシステムモジュールに取り付けられた放射源の位置を測定することを含む、請求項20に記載の方法。前記放射センサの位置の測定は、1つまたは複数のシステムモジュールの位置を測定し、前記システムモジュールの少なくともいくつかの大きさに基づいてそれらのシステムモジュールに取り付けられた放射センサの位置を測定することを含む、請求項20又は21に記載の方法。前記システムモジュールが一緒に結合している順序を連続的に測定し、前記システムモジュールの順序に従って前記放射源と前記放射センサの位置を測定することを含む、請求項20に記載の方法。放射センサに対応するそれぞれの放射強度信号は、少なくともいくつかの前記放射源が順番に作動している間に前記放射センサからの放射強度レベルを順番にサンプリングすることによって収集される、請求項20~23のいずれか1項に記載の方法。前記放射強度信号は同時に収集される、請求項20~24のいずれか1項に記載の方法。前記放射強度信号は順々に収集される、請求項20~24のいずれか1項に記載の方法。前記放射強度源の少なくとも1つは異なる強度で個別に作動されて、第1の放射線センサに対応する放射強度信号と前記第2の放射センサに対応する放射強度信号を生成する、請求項20~26のいずれか1項に記載の方法。前記第1の放射センサに対応する第1の放射強度信号が収集され、その次に前記第2の放射センサに対応する第2の放射強度信号が収集される、請求項26に記載の方法。インタフェースにおいて外部装置を前記システムコントローラに結合することをさらに含む、請求項20~28のいずれか1項に記載の方法。前記1つまたは複数の放射遮蔽体の前記位置を前記外部装置に報告することをさらに含む、請求項29に記載の方法さまざまな形状と構成を有する面及び検出領域での使用に好適な、指や触針やそのほかの放射遮蔽体などの物体の検出システムを提供することが望まれる。本明細書で説明する例示的実施形態は、検知領域において種々の放射源と放射センサに関連させて1つまたは複数の放射遮蔽体の位置を決定するシステムと方法の詳細を提供する。ある実施形態においては、検出領域が、下に配置されるホワイトボードやディスプレーモニタやその他のデバイスなどの装置に対応する形状となっていてもよい。ある実施形態では、システムが、下に配置されるホワイトボード、壁、ディスプレー画面の表面またはそのほかの概ね平坦面などの面を含んでもよいし、またはそれらと共に使用されてもよい。ある実施形態では、ディスプレー画面がディスプレーモジュールのアレイで組み立てられていてもよい。放射源は、可視光スペクトルの放射、あるいは紫外スペクトルや赤外スペクトルなどの他のスペクトルの放射をしてもよい。本明細書に記載の実施形態は、例示のみを目的とするものであり、他の実装及び構成もまた可能である。第1の態様のある実施形態においては、検出領域において放射遮蔽体の位置を検出するためのモジュール型位置検出システムが提供され、このシステムは、システムコントローラと、システムコントローラに結合された複数のシステムモジュールとを備え、システムモジュールは少なくとも部分的に検出領域を取り囲み、システムモジュールは1つまたは複数の放射源と1つまたは複数の放射センサとを備える。ある実施形態では、システムコントローラはそれぞれのシステムモジュールに結合している。ある実施形態では、システムコントローラはシステムモジュールの少なくともいくつかに物理的に結合している。ある実施形態では、システムコントローラはシステムモジュールの少なくともいくつかに無線通信システムを介して結合している。ある実施形態では、システムコントローラがシステムモジュールのそれぞれと通信できるようにするシステム通信バスをさらに備える。ある実施形態では、各モジュールは隣接するモジュールと結合するための1つまたは複数のコネクタを備え、システム通信バスはモジュール間の相互接続を含む。ある実施形態では、それぞれのモジュールはシステムコントローラに結合したモジュールコントローラを備え、モジュールコントローラの少なくともいくつかは、システムコントローラから受信した制御命令に応答して少なくとも1つの放射センサの動作を制御するように構成され、かつ、モジュールコントローラの少なくともいくつかは、システムコントローラから受信した制御命令に応答して少なくとも1つの放射源の動作を制御するように構成されている。ある実施形態では、それぞれのモジュールがシステムコントローラに結合したモジュールコントローラを備え、各モジュールコントローラはシステムコントローラから受信した制御命令に応答して少なくとも1つの放射源の動作を制御する。ある実施形態では、システムモジュールは、端部センサモジュール、内角センサモジュール、外角センサモジュール、端部放射源モジュール、内角放射源モジュール、外角放射源モジュール、端部混合型モジュール、内角混合型モジュール、外角混合型モジュール、および端部スペーサモジュールからなる群から選択されるモジュールの組合せから選択される複数のモジュールを含む。ある実施形態では、システムモジュールは、放射センサモジュール、放射源モジュール、および反射モジュールからなる群から選択されるモジュールの組合せから選択される複数のモジュールを含む。ある実施形態では、システムモジュールの少なくともいくつかの大きさは、アクセス可能なメモリ内に記録される。ある実施形態では、検出領域がある表面を覆っている。ある実施形態では、検出領域がディスプレー画面の表面を覆っている。ある実施形態では、検出領域がモジュール型ディスプレー画面の表面を覆っている。ある実施形態では、システムモジュールの少なくともあるものの少なくともある大きさは、モジュール型ディスプレー画面を形成するディスプレーモジュールの1つまたは複数の大きさに対応する。ある実施形態では、システムモジュールの少なくともあるものは、1つまたは複数の放射源からの放射を拡散させるための1つまたは複数の拡散器を含む。ある実施形態では、コントローラはシステムを外部装置に接続するためのインタフェースを備える。ある実施形態では、隣接するシステムモジュール同士は電気的かつ機械的に相互に結合されている。ある実施形態では、システムはある実施形態では、検出領域は通常長方形であり、少なくとも2つの放射センサが検出領域の第1の端部に隣接して配置され、複数の放射源が検出領域のその他の端部に隣接して配置されている。別の態様において、ある実施形態がモジュール型位置検出システムの動作方法を提供し、この方法は、検出領域に隣接して一組のシステムモジュールを備え、システムモジュールの少なくともいくつかに取り付けられた複数の放射源の位置を測定し、システムモジュールの少なくとも1つに取り付けられた2つ以上の放射センサの位置を測定し、各放射センサに対応する放射強度信号を収集し、その放射強度信号に基づいて放射遮蔽体の位置を推定する。ある実施形態では、放射源の位置の測定は、1つまたは複数のシステムモジュールの位置を測定し、システムモジュールの少なくともいくつかの大きさに基づいてそれらのシステムモジュールに取り付けられた放射源の位置を測定することを含む。ある実施形態では、放射センサの位置の測定は、1つまたは複数のシステムモジュールの位置を測定し、そのシステムモジュールの少なくともいくつかの大きさに基づいてそれらのシステムモジュールに取り付けられた放射センサの位置を測定することを含む。ある実施形態では、この方法は、システムモジュール同士が結合している順序を連続的に測定し、システムモジュールの順序に従って放射源と放射センサの位置を測定することを含む。ある実施形態では、放射センサに対応するそれぞれの放射強度信号は、少なくともいくつかの放射源が順番に作動している間に放射センサからの放射強度レベルを順番にサンプリングすることによって収集される。ある実施形態では、放射強度信号は同時に収集される。ある実施形態では、放射強度源の少なくとも1つが異なる強度で別々に作動されて、第1の放射線センサに対応する放射強度信号と第2の放射センサに対応する放射強度信号が生成される。ある実施形態では、放射強度信号は順々に収集される。ある実施形態では、第1の放射センサに対応する第1の放射強度信号が収集され、その次に第2の放射センサに対応する第2の放射強度信号が収集される。ある実施形態では、インタフェースにおいて外部装置がシステムコントローラに結合される。ある実施形態では、この方法は1つまたは複数の放射遮蔽体の位置を外部装置に報告することを含む。様々な実施形態のこれらおよびその他の態様を、以下の様々な実施例の記述の中でさらに説明する。図面は以下に示して説明する実施形態を単に例示するためのものである。これらは制限的なものではなく、また原寸通りに描かれてはいない。先ず図1を参照すると、第1のモジュール型位置検出システム100が示されている。システム100には、角部モジュール102と端部モジュール104とを含む複数のシステムモジュール101が備えられている。システム200にはシステムコントローラ106もまた備えられている。端部モジュールと角部モジュールは一緒に組み立てられて、検出領域108を少なくとも部分的に取り囲んでいる。典型的には、検出領域108は表面110の上を覆っている。システムコントローラ106はシステム100の動作を制御する。システムコントローラ106はプロセッサ120を備え、このプロセッサは、ハードウェア部品、ソフトウェア部品または、ハードウェアとソフトウェアの両方、またはファームウェア、またはそれらの両方を含む部品、などのような、システム100を動作させる任意の種類のデバイスまたは部品であってよい。例えば、プロセッサ120は、マイクロプロセッサ、マイクロコントローラ、ゲートアレイ、または任意の種類のデータ処理あるいはコンピュータデバイスであってよい。このプロセッサは、システム100とその部品を動作させて外部装置と通信するようにプログラムされるかまたはそのように構成することができる。システムコントローラ106はメモリ122も含み、これはプロセッサ120によってアクセスされる。プロセッサ120はシステムコントローラ106とシステム100の動作を制御する。命令はメモリ122に記録され、プロセッサに読み込まれて、以下で説明するようなシステムコントローラ106並びにシステム100の動作を制御するために、プロセッサが、制御、データ処理、データ変換、および通信操作を実行できるように構成されてよい。命令のほかに、データもメモリ122に記録できる。システムコントローラ106はインタフェース124を含み、これはこの実施形態においてはUSBユニバーサルシリアルバスポートである。プロセッサ120はインタフェース124に結合されている。外部装置図示せずがインタフェース124を介してプロセッサ120に結合されてもよく、プロセッサが検出領域108内の放射遮蔽体の位置を外部装置に報告し、外部装置から制御命令とデータを受信することを可能とする。別の実施形態では、インタフェースは任意の種類の通信インタフェースであってよい。例えば、インタフェース124はアナログインタフェースまたは、シリアルデータポートあるいはパラレルデータポートなどのデジタルデータインタフェースであってよい。本発明によるシステムは、放射源モジュール、センサモジュール、混合型モジュールを含む様々な種類のモジュールを備えていてもよい。システム100は、角部放射源モジュール102r、角部センサモジュール102s、端部放射源モジュール104r、端部センサモジュール104s、および端部スペーサモジュール104oを含む。各モジュールは、1つまたは複数の隣接するモジュールと電気的及び機械的に結合している。システム100において、システムモジュール101aから反時計方向に、検出領域108を取り囲んで以下のモジュールが順番に組み立てられている。システムモジュール101は、上側162、左側164、右側166と下側168を持つ枠160を形成する。図2には、システムモジュール101a、101b、101tが示されている。システム100の各システムモジュール101は、上流モジュール間コネクタ116と下流モジュール間コネクタ117とを備えている。各モジュールの下流コネクタ117は隣接するシステムモジュール101の上流コネクタ116に結合されている。各システムモジュール101はまたモジュールコントローラ112を持っており、これがシステムモジュール101のモジュール間コネクタ116、117のそれぞれに接続されている。システムモジュールのモジュールコントローラ112はモジュール間コネクタを介して共に結合されて、システム通信バスを形成している。システムコントローラ106はまたシステム通信バスに結合されていて、それぞれのモジュールコントローラ112と独立して通信することができる。システムモジュール101aは、角部センサモジュール102isである。角部センサモジュール102isのそれぞれは、モジュールコントローラ112aと、放射センサ114aと、上流モジュール間コネクタ116と、下流モジュール間コネクタ117を含んでいる。モジュールコントローラ112aは、システムコントローラ106、放射センサ114aとモジュール間コネクタ116、117に結合している。この実施形態において、各角部センサモジュール102isは相互に直角の位置にある2つの隣接するモジュールに結合している。システムモジュール101aの上流コネクタ116に結合している上流システムモジュール101tは、システムモジュール101aの下流コネクタ117に結合している下流システムモジュール101bに対して90度の方向を向いている。センサ114aは角部センサモジュール102aの端部140、142から1cmの所にある。システム100において、システムモジュール101aのモジュールコントローラ112aは、システムコントローラ106に結合され、モジュールコントローラ112aを介してシステム通信バスへ結合されている。それぞれのモジュールコントローラ112は、システムコントローラから受信した制御命令に応答して、そのシステムモジュール101の動作を制御する。システムモジュール101bは端部放射源モジュール104rである。各端部放射源モジュール104rは、モジュールコントローラ112b、複数の放射源126、上流モジュール間コネクタ116、下流モジュール間コネクタ117、および拡散器130を備えている。モジュールコントローラ112bは、各放射源126と、各モジュール間コネクタ116、117とに結合している。システム100において、端部放射源モジュール104rのそれぞれは、長さが30cmであり、20個の放射源126を持っている。放射源は1.5cmほど離れて配置され、最初の放射源126は上流システムモジュール101aから0.75cm離れて配置されており、また最後の放射源126は下流システムモジュール101c図1から0.75cm離れて配置されている。図1からすぐわかるように、システムモジュール101cは別の端部放射源モジュール104rであり、システムモジュール101bと同様のものである。端部放射源モジュール104r内に放射源126が配置された結果、放射源は1.5cmの等間隔で離れており、隣接する放射源モジュール104rは横方向に互いに接して配置されている。図3には放射源126が示されている。システム100の各放射源126はシステムモジュール101の内部に設けられ、そのシステムモジュール101のモジュールコントローラ112に結合されている。各放射源126には放射源ドライバすなわち放射源駆動回路134と発光体136が含まれている。放射源ドライバ134はモジュールコントローラ112に結合されていて、発光体作動信号138を受信する。放射源ドライバ134は発光体136を作動させる。発光体は作動すると、検出領域108の少なくとも一部に亘る放射を行う図1。システム100の各放射源126は独立して作動してもよい。この実施形態においては、各放射源126はLEDであり、赤外スペクトルの放射を行う。別の実施形態においては、放射源は可視光スペクトルおよび紫外スペクトルを含む他のスペクトルの放射を行うさまざまな種類の放射源であってもよい。図2を再び参照すると、端部放射源モジュール104rには拡散器130が含まれている。放射源モジュール104rと102irの拡散器130は、モジュールの放射源126と検出領域108との間に組み込まれている。拡散器130は放射源から出た放射を拡散させる。それにより、実際は枠160の左側と下側と右側に沿って放射源から放出される放射量を、放射センサ114から見た場合に平滑化させる。この実施形態において、枠の左側と右側および放射センサとに対する放射遮蔽体150の相対的角度位置が、システム100に関して既に述べたようにして評価される。発明者らは、放射源126から放出された光を拡散させることにより、放射遮蔽体の位置をより正確に評価できることを見出した。様々な材料が拡散器130としての利用に適しており、これには、僅かに曇らせた、すなわち半透明のプラスチックや、拡散はさせるが放射源からの放射を放射センサ114が正確に計測できる範囲内で散乱させるその他の材料が含まれる。ある実施形態では、拡散はさせるが拡散器を通過する光を実質的に遮蔽はしない、光学グレードの拡散器を効果的に利用してもよく、これには、回折格子やレンチキュラー拡散器が含まれ、またレンチキュラー回折格子も拡散器の代用として利用することができる。そのような回折格子の例は、米国特許出願第61/320,334号明細書に図示、説明されており、参照により本願に援用する。図2に示した拡散器はモジュールの長さ方向に沿って連続となっている。別の実施形態においては、放射源のいくつかまたはすべてに対して、個別の拡散器が設けられていてもよい。システムモジュール101tは端部スペーサモジュール104oである。端部スペーサモジュールはモジュールコントローラ112tと上流モジュール間コネクタ116と下流モジュール間コネクタ117とを持っている。この実施形態において、端部スペーサモジュール104oには放射源も放射センサもない。各モジュールコントローラ112は、それぞれのシステムモジュール101の部品をシステムコントローラ106の制御の下に動作させる。各モジュールコントローラはシステム通信バスを介してシステムコントローラ106と直接通信するか、あるいは他のシステムモジュール101のモジュールコントローラ112を経由して間接的に通信する。システム100においては、モジュールコントローラ112aはシステムコントローラ106と結合している。モジュールコントローラ112aは制御命令とデータをシステムコントローラ106から受信し、データをシステムコントローラ106に提供する。モジュールコントローラ112aはシステムモジュール101b放射源モジュール104rのモジュールコントローラ112bと、図2に示すようにそれぞれのモジュール間コネクタ116を経由して結合している。モジュール間コネクタ116、117はモジュール同士間の双方向のデータ通信を提供し、各システムモジュール101内のモジュールコントローラがシステムコントローラ106及び任意選択で他のモジュールコントローラ112と通信できるようにする。システム100の動作とモジュールコントローラ116の役割については以下で詳細に説明する。次にシステムモジュール101d~101fを示した図4を参照する。システムモジュール101dは端部放射源モジュール104rであり、上記のシステムモジュール101bと同じ構造を有する。同様に101fもまた端部放射源モジュール104rであり、上記のシステムモジュール101bと同じ構造を有する。システムモジュール101eは角部放射源モジュール102irである。角部放射源モジュール102irは、モジュールコントローラ112e、複数の放射源126、一対のモジュール間コネクタ116と拡散器130を備えている。モジュールコントローラ112eは、各放射源126とモジュール間コネクタ116、117とに結合している。システムモジュール101eの放射源126は端部放射源モジュール101bの放射源126と同様であり、図3に関連して説明した通りである。システムモジュール101eの各放射源126はモジュールコントローラ112eによって個別に作動させられてもよい。放射源126xは、端144から1cm、システムモジュール101の端146から2cmの位置にある。放射源126yは、端144から2cm、端146から1cmの位置にある。次に図5には、端部センサモジュール104sであるシステムモジュール101rが示されている。端部センサモジュール101rには、モジュールコントローラ112rと放射センサ114bと一対のモジュール間コネクタ116、117がある。モジュールコントローラ112rは放射センサ114bに結合していて、システムコントローラ106図1、2の制御の下にその動作を制御する。放射センサ114sはモジュールの中央にあって、検出領域108図1に隣接する内側端部148から1cm離れている。再び図1を参照すると、システムモジュール101aと101tでは、各モジュールコントローラ112が各モジュール間コネクタ116、117を介して繋がり、互いに結合されている。図1においては、各システムモジュール101の種類に関する様々な詳細がメモリ122に記録され、システムプロセッサ120でアクセス可能となっている。システム100において、各システムモジュールの種類に関して次のような情報が記録される。さらに図1において、システム100はシステムモジュール101b~101nに複数の放射源を含んでいる。システム100はまた3つの放射センサ114a~114cを含んでいる。各放射センサは放射源から送信される放射に対して感度を持っている。各放射センサはセンサに入射する放射強度に対応する強度水準を、対応するモジュールコントローラへ報告する。後で詳細に述べるように、システムコントローラ106はモジュールコントローラと通信して、放射センサから与えられる強度水準を取得する。次に図6には、システムコントローラ106がシステム100を構成するシステムモジュールの配置を測定し、放射源と放射センサとの間の幾何学的関係を決定する方法600が示されている。方法600はシステム100の始動時にシステムコントローラ106の制御の下に実行される。方法600を用いてシステムコントローラはシステム100におけるシステムモジュール101の配置を決定する。方法600はステップ602から始まり、そこでシステム100が初期化される。これは、システム100に電力が投入された時、またはシステム通信バスを通じてリセットまたはそのほかの命令が送信されてきたときに実行される。様々な実施形態において、主コントローラ106は様々な方法でモジュールコントローラ112のアドレス指定と通信を行ってよい。例えば、各モジュールコントローラは特定のアドレスを持っているか割り当てられるかして、主コントローラが対応するアドレスを利用して各モジュールコントローラを特定してもよい。例えば、主コントローラは、モジュールコントローラのアドレスと共に放射源の作動命令などのような制御命令を送信してもよい。システム100において、各モジュールコントローラ112は、モジュールアドレスシフトレジスタと称される1ビットのシフトレジスタを保持しており、システムコントローラ106がモジュールコントローラ112のアドレス指定を可能とする。初期化の段階で、モジュールコントローラ112aを除く各モジュールコントローラ112は、そのモジュールアドレスシフトレジスタを0に設定する。モジュールコントローラ112aは、そのモジュールアドレスシフトレジスタを1に設定する。モジュールコントローラ112aは、モジュール101aが主コントローラに直接結合されていることを判定し、そのような結合に応答してそのモジュールアドレスシフトレジスタを1に設定するようになっていてもよい。あるいは、主コントローラがモジュールアドレスシフトレジスタを1に設定するようにモジュールコントローラ112aへ向けた制御信号を送信してもよい。システム100においては、システムモジュール101の1つのみがモジュールアドレスシフトレジスタに1の値を持つようになっている。このモジュールをアクティブモジュールと呼んでもよい。上記のように、各モジュールコントローラ112はシステム通信バスに結合されている。主コントローラ106はシステム通信バス上にアドレスビットのシフト命令を送信し、すべてのモジュールコントローラ112がそれを受信することができる。この命令を受信すると、各モジュールコントローラは、すぐ上流にあるシステムモジュールのアドレスビットにそれまで記録されていた値を受信する。主コントローラ106がアドレスビットシフト命令を送信すると、モジュールコントローラ101aに格納されていた1の値がモジュールコントローラ101bへシフトされる。モジュールコントローラ101bから101tに格納されていた0の値もまた下流へシステムモジュール1つだけ移動し、その結果図1の反時計方向、つまり下流方向へ移動してシステムモジュール101cから101aがそれぞれのモジュールアドレスシフトレジスタに0の値を持つ。システムコントローラ106が連続的にアドレスビットシフト命令を送信すると、連続的に下流の各システムモジュール101がアクティブモジュールとなり、モジュール101tがアクティブモジュールになるまでそれが続く。その次にアドレスビットシフト命令が送信されると、モジュール101aが再びアクティブモジュールとなる。システムコントローラ106は様々な制御命令、データ要求、およびその他の命令をシステム通信バス上に送信することができる。アドレスビットシフト命令などのある命令は、全モジュールコントローラ112によって受信されて応答される。命令のあるものは、アクティブモジュールのみにより応答されてもよい。方法600は次にステップ604に移り、そこでシステムコントローラ106が直接接続されているシステムモジュール101に問合せしてそのシステムモジュールの種類を判定する。既に説明したように、モジュール101aのモジュールアドレスシフトレジスタは最初1に設定されており、これはそのほかの全システムモジュール101のモジュールアドレスシフトレジスタが0に設定されていることを示す。システムコントローラ106が、モジュール情報送信命令を送信し、アクティブモジュールのみがこれに応答する。モジュール101aが、自分が角部センサモジュール102isであることを確認して応答する。モジュール101aはそのモジュールに関するそのほかの情報を提供してもよい。例えば、モジュール101aがそのモジュールをシステム100の他の全てのモジュールと区別する固有のモジュール識別子を送信してもよい。固有のモジュール識別子は、後で、システムコントローラ106がモジュール101aを特定してアドレス指定するために利用されてもよい。システムモジュールのあるものは、モジュールが垂直方向配向を識別することのできる方向センサを含んでもよい。モジュール101aがそのようなセンサを含むとすると、モジュール101aは垂直からの回転に対応する角度を主コントローラ106に提供してもよい。主コントローラ106はモジュール101aから提供されるモジュール情報を記録する。方法600は次にステップ606に進み、システムコントローラ106がアドレスビットシフト命令を送信して、システムモジュール101bをアクティブモジュールとする。方法600は次に判定ステップ608に進む。その時のアクティブシステムモジュールが、システムコントローラによって既に識別済みである場合、これは全システムモジュールが識別済みであることを意味し、方法600はステップ612へ進む。そうでない場合には、方法600はステップ610に進む。ステップ610において、システムコントローラ106はモジュール情報送信命令を送信する。アクティブモジュールコントローラ112はモジュールの種類を明示して応答し、前に述べたようにその他の情報を提供してもよい。コントローラ106はステップ604とその後のステップ610の反復によって連続的なシステムモジュールに関する情報を受信する。システム100において、ステップ606~610の反復は、システムモジュール101b~101tのそれぞれがステップ610でシステムコントローラ106によって問合せを受けるまで継続される。その次のステップ606の反復時に、システムモジュール101aがアクティブモジュールになり、方法600がステップ606からステップ612へ進む。ステップ612において、コントローラ106は連続する各モジュールの種類とモジュールの各種類に関してメモリ122に記録された情報とに基づいてシステム配置を構築する。図1において、放射センサ114aはx-y面上の点0,0にあるものとみなされる。コントローラ106は、下流への連続的なモジュールの順番とメモリ122に記録された情報とを用いて、放射センサ114と放射源126の位置をx-y面に関して決定することができる。放射源126のあるもの或いは全てが各放射源から見えるようになっていてもよい。例えば、放射源126a~126cは放射センサ114aからは見えない。しかし放射源126d~126fおよび126k~126mは放射センサ114aからは見える。それぞれの放射センサ114に関して、コントローラ106がその放射センサから見える各放射源126の角度を測定して記録する。システム101において、放射センサ114aに対する各放射源の角度θが記録され、放射センサ114bに対する各放射源の角度φが記録され、放射センサ114cに対する各放射源の角度αが記録される。そうして方法600が終了する。アクティブモジュールをアドレス指定することに加えて、システム100においては、システムコントローラ106が一部またはすべてのシステムモジュールを直接アドレス指定して、それがアクティブモジュールでないとしてもその特定のモジュールに制御命令を送信してデータを受信することも可能である。システムコントローラ106は、ステップ604または610で最初に問合せするときに、各モジュールに対して固有のモジュールアドレスを割り当ててもよい。従って、システムコントローラ106は各システムモジュールに対してその個別のモジュールアドレスを用いてアドレス指定してもよい。次に図1と図7を参照する。方法600の次に、システム100は運用段階に切り替わり、方法700によって検出領域108における放射遮蔽体の位置を特定する。方法700はステップ702から始まり、そこでは、コントローラ106が放射源126aから放射源126zまでの各放射源を順番に作動させる。システム100においては、コントローラ106は放射源モジュール101aから101nのそれぞれを順番にアクティブモジュールとすることによりこれを行う。それぞれの放射源モジュールがアクティブモジュールである間に、アクティブモジュールのモジュールコントローラがそれぞれの放射源を順番に瞬間的に作動させる。各放射源が作動している間に、システムコントローラが1つまたは複数の放射センサ114に入射する放射強度をサンプリングする。各センサから放射強度レベルを取得するために、システムコントローラ106は対応するシステムモジュールのモジュールコントローラをアドレス指定し、放射センサ114に放射強度レベルを報告するように要求する。モジュールコントローラは放射センサ114からサンプリングを行い、放射強度レベルをシステムコントローラ106へ送信する。連続する各放射源が作動している間に放射センサによって報告された放射強度レベルに対応して、システムコントローラ106が各放射センサ114に対する放射強度信号を生成する。放射センサ114の動作、放射強度レベル、および放射強度信号については米国特許出願第61/320,334号明細書にさらに説明されており、これを参照により本願に援用する。放射遮蔽体150が検出領域108にある場合に、放射遮蔽体は、ある放射源126から一部またはすべての放射センサ114に到達する放射強度を減衰させる。放射強度信号は、放射遮蔽体によって遮蔽された放射源に対応する、減衰された放射強度レベルを含む。図1において放射遮蔽体150は、放射源126b~126cから放射センサ114bに到達する放射を減衰させ、放射源126d~126eから放射センサ114cに到達する放射を減衰させ、放射源126g~126hから放射センサ114aに到達する放射を減衰させる。放射強度信号のそれぞれに関して放射強度信号が取得され終わると、方法700はステップ704に進む。ステップ704において、システムコントローラ106は放射遮蔽体150の推定位置を計算する。システムコントローラ106は、少なくとも2つの放射センサに対する放射遮蔽体150の角度を計算する。例えば、放射強度レベルが減衰している放射強度信号のそれぞれに対して、システムコントローラ106は、その放射強度レベルが減衰している放射源の位置に対応する角度を判定する。一群の隣接する放射源に対応する一群の放射強度レベルが減衰している場合には、システムコントローラは、複数の減衰放射源の位置の平均または加重平均の角度位置に対応する角度を算出してもよい。システムコントローラは、放射強度信号中の減衰されたスプリアス放射の強度レベルを無視するように構成されていてもよい。それぞれの角度は対応するセンサから出る線を画定する。次にシステムコントローラ106は算出された複数の角度を組合せてx-y面上の位置x150,y150を推定する。例えば、2つの放射センサに対応する角度と線がシステムコントローラによって識別されると、放射遮蔽体150の位置が2つの線の交点として推定できる。それぞれが放射センサ114a、114b、114cから出て放射遮蔽体150の位置またはその近くを通る線174、176、178などのような、3つの放射センサに対応する線をシステムコントローラが識別した場合には、この3つの線は典型的には三角形を画定する。放射遮蔽体150の位置はこの三角形に基づいて推定されてよい。例えば、放射遮蔽体150の位置は、三角形の重心、三角形の内接円の中心、三角形の各辺までの距離の和が最小となる点、三角形の各辺までの距離の和またはその二乗が最小となる点、三角形と交差するまたは外接する円の中心、などのような三角形内の点として推定されてもよい。その他の種々の幾何学的手法を用いて放射遮蔽体150の位置が推定されてもよい。このような角度を計算し、角度の対を組合せる様々な方法が米国特許出願第61/320,334号明細書に記述されている。これらの手法、またはそれとは別の方法に従って、システムコントローラ106が放射遮蔽体の推定位置x150,y150を計算する。方法700は次にステップ706に移る。ステップ706において、システムコントローラ106はインタフェース124において推定位置x150,y150を報告する。方法700は次にステップ702に移る。方法702~706は繰返し実行される。反復のそれぞれにおいて、放射遮蔽体150の位置に対応する更新された位置x150,y150がインタフェース124に報告される。インタフェース124に結合されたコンピュータなどの外部装置は連続的な位置を受信することができる。システム100はそのような外部装置に対しては入力装置として作用する。検出領域108は前に述べたようにある面を覆っていてもよい。ある実施形態では、検出領域はディスプレー画面のマトリックスで形成されたディスプレーシステムを覆っていてもよい。そのような実施形態において、システムの水平辺と垂直辺に使用される端部モジュール104は長さが違っていてもよい。例えばある実施形態では、ディスプレーシステムは、幅40cm×高さ30cmの寸法のディスプレー画面のマトリックスで形成されている。端部モジュール104は辺の長さに対応する大きさとなっていてもよい。それぞれのディスプレー画面の幅方向に使用される端部モジュールは40cmの長さで、それぞれのディスプレー画面の高さ方向に使用される端部モジュールは30cmの長さであってよい。システム100において、検出領域108はシステムモジュール101で囲まれている。プロセッサ120は、メモリ122に記録された情報から、各システムモジュール101内の放射源または放射センサのそれぞれの大きさと位置にアクセスしてよい。システムコントローラ106はシステムモジュール101の順番を入手するので、プロセッサ120は各放射源126と放射センサ114の位置をその記録された情報を利用して決定することができる。別の実施形態において、放射源と放射センサの位置は手動でメモリ122に記録されてもよい。さらに、システムモジュールの大きさ、順序、および相互接続が手動でメモリ122に記録されてもよい。システム100において、端部スペーサモジュール104oは他のシステムモジュール101同士の間のシステム通信バスを完結させ、また他のシステムモジュール内の放射センサと放射源がプロセッサ120によって確実に正確に計算されるようにするために使用される。別の実施形態においては、放射源や放射センサがない所にはシステムモジュールを設けないで、ケーブルまたはそのほかの手段でモジュール同士が相互接続されてもよい。ある実施形態では、検出領域はシステムモジュールで部分的にのみ囲まれていてもよい。次に図8を参照すると、別のモジュール型位置検出システム800が示されている。システム800はシステム100と類似しており、対応する部品は同様の符号で表されている。システム800には、システム100に関して前述したように複数のシステムモジュール801a~801xがあって相互に結合されている。システム800にはシステム100図1には示されていない2つの種類のモジュール:外角放射源モジュール802orと端部放射源/センサモジュール804rsとが含まれている。図8および図9を参照すると、システムモジュール801fと801nが外角放射源モジュール802orである。それぞれの外角放射源モジュール802orは、システムモジュール801で形成された枠860を270度回転させる。各外角放射源モジュール802orには、モジュールコントローラ812f、複数の放射源826、上流モジュール間コネクタ816、下流モジュール間コネクタ817、および拡散器830が含まれる。モジュールコントローラ812fは上記のように各放射源826に結合してそれらを動作させる。モジュール間コネクタ816、817も前に説明したように、モジュールコントローラ812を隣接したシステムモジュール801へ結合する。モジュール802orは、検出領域808に面する2つの側面870と872を持っている。放射源826が、側面870、872とこれらの側面の間の角部に亘る拡散器830を通して放射するように配置されている。検出領域808はほぼT字型となっている。検出領域808のある部分は、それぞれが角部放射センサモジュール801a、801sの中にある放射センサ814aと814cからは見えない。例えば、放射遮蔽体850は角部放射センサモジュール801sからは見ることができない。図10には端部放射源/センサモジュール804rsが示されている。端部放射源/センサモジュール804rsは、端部放射源モジュール804rと類似なものであるが、これに加えて放射センサ814dが含まれている。放射センサ814dはモジュールコントローラ812jに結合されており、これが、端部放射源モジュール101b図2に関して既に説明したように、端部放射源/センサモジュール804rs中の放射源826を動作させ、かつ端部センサモジュール101r図5に関して既に説明したように放射センサ814dを動作させる。端部放射源/センサモジュール804rsは放射源モジュールと放射センサモジュールの動作を兼ね備えている。放射センサ814dは、いくつかの放射源826の上に配置されている。放射源/センサ兼用モジュールの他の実施形態において、放射センサは放射源と同一平面内にあるか、放射源の面の上または下にある。図8では、システム800は大きさの異なる端部放射源モジュール804rを含んでいる。モジュール801iと801kは、端部放射源モジュール801bなどの他の端部放射源モジュールに比べると長さの短い端部放射源モジュールとなっている。任意の特定の実施形態において、さまざまな端部モジュールと角部モジュールが利用されてよい。それぞれの端部または角部モジュールは、1つまたは複数の放射源、1つまたは複数の放射センサを含んでいてよく、これらは任意の配置を取ってよい。それぞれの種類のモジュール構造は、各モジュールの物理的寸法とモジュール内の各放射源と放射センサの位置とを含めて、メモリ822に記録される。それぞれの角部モジュールについては、記録されたデータには上流及び下流のモジュール間コネクタとの間の角度が含まれる。例えば外角放射源モジュール802orでは、隣接する上流モジュールと隣接する下流モジュールすなわち、外角放射源モジュール801fの場合にはモジュール801eと801gとの間に時計方向に270度の角度がある。他の実施形態において、角部モジュールは上流側と下流側との間にそのほかの任意の角度関係を持ってもよく、直角や90度の倍数でない角度も含まれてよい。ある実施形態では、角部モジュールは、モジュール内に組み込まれたセンサで測定可能な可変角度を持っていてもよく、その角度はシステムコントローラ806に報告される。ある実施形態では、角部モジュールの内側角部すなわち、検出領域808内へ向かっている角部は丸くなっていてもよい。システムコントローラ806は方法600図6を利用して、システム800の初期化の際にシステム800内のシステムモジュール801の配置を測定する。システムコントローラ806は各システムモジュール801に問合せを行って様々な種類のモジュールの配置を取得し、このモジュールの配置とメモリ822に記録されている各種のモジュールに関する情報とを利用してシステムの幾何学的システム配置を構築する。それぞれの放射センサ814に関して、システムコントローラ806がその放射センサ814から見える各放射源826の角度または何らかの対応するデータを測定して記録する。システムコントローラ806は方法700図7を利用して検出領域808内にある放射遮蔽体の位置を推定する。放射遮蔽体の位置に依存して、異なる放射源126と放射センサ814との間の放射経路が遮蔽される。システムコントローラ806はステップ702~706を反復実行し、各放射センサに対応する放射強度信号を取得し、それぞれの放射強度信号において減衰された放射源を特定し、減衰された放射源の位置に対応する1つまたは複数の放射遮蔽体の位置を推定する。ある放射遮蔽体の位置を推定するのに利用される特定の放射強度信号は、検出領域808内の放射遮蔽体の位置に依存し得る。例えば、放射遮蔽体850の位置は、線874、876、878の交点上またはその近くの点を特定することによって推定されてもよい。線874は放射源826aと放射センサ814aとの間の放射経路に対応する。線876は放射源826bと放射センサ814bとの間の放射経路に対応する。線878は放射源826cと放射センサ814dとの間の放射経路に対応する。任意の放射源と放射センサ814cとの間の直線経路で、遮蔽されないで放射遮蔽体850を通過するものはない。例えば、モジュール801kの放射源826と放射センサ814cとの間の直線経路はモジュール801nによって遮蔽される。放射遮蔽体850が検出領域808内を動き回る場合、異なる組合せの放射源と放射センサの間の放射経路が遮蔽される。例えば、放射遮蔽体850が位置851に移動したとすると、放射センサ814dからは見えなくなるであろうつまり、位置851を通過して、放射源と放射センサ814dとを結ぶ直線経路はすべて遮蔽される。システムコントローラ806は、方法700のステップ704に関連して既に述べたように、さまざまな放射源と2つ以上の放射センサとの間の遮蔽された経路を基にして、検出領域808内の放射遮蔽体の位置を2つ以上の放射センサとの相対位置として推定する。次に図11を参照すると、別のモジュール型位置検出システム1100が示されている。システム1100はシステム100と類似しており、対応する部品は同様の符号で示されている。検出領域1108は、全体としてディスプレー画面1182を形成するディスプレーモジュール1180のアレイからなる表面を覆っている。ディスプレー画面1182はコンピュータなどの外部装置に結合されていてもよい。一般的には、モジュール型位置検出システム1100とディスプレー画面1182は、コンピュータまたはコンピュータデバイスなどの同一外部装置図示せずに結合されている。外部装置は、検出領域1108内及びディスプレー画面1182の表面上の放射遮蔽体の位置に関する入力情報を受信してもよい。外部装置はディスプレー画面を制御して、入力情報に対応する情報がディスプレー画面上に表示されるようになっていてもよい。ある実施形態では、ディスプレー画面上に表示された情報は、モジュール型位置検出システムから受信された入力と共に位置的に同期化または整列されて登録されてもよい。図11に示すように、異なる端部モジュール104の長さはディスプレーモジュール1180の大きさに合わせるようになっていてもよい。端部モジュール1104raはエッジモジュール1104rbやエッジモジュール1104o、1104sa、1104sbよりも短い。別の実施形態では、ディスプレーモジュールの長さはディスプレーモジュールの大きさとは異なる長さになっていてもよい。このシステムでは、角部センサモジュール1102isと端部モジュール1104sa、1104sbに合計で4つの放射センサ1114がある。異なる放射センサからの放射強度信号は検出領域1108内の放射遮蔽体の位置に依存するので、それを利用してシステムコントローラ1106は放射遮蔽体の位置を推定する。次に、図12には別のモジュール型位置検出システム1200が示されている。システム1200の部品はこれまでに述べたシステムの部品と同様であり、同じ参照番号で示す。システム1200には、複数の放射源モジュール1202と複数の反射モジュール1204と一対の放射センサモジュール1214がある。この実施形態においては、ディスプレーモジュール1280のアレイで構成されたディスプレー画面1282を覆う検出領域1208の端部にモジュールが取り付けられている。反射モジュール1204aと1204bの長さは、それぞれ隣接するディスプレーモジュール1280の長さに対応している。それぞれの放射源モジュール1202には検出領域1208全体に亘って放射を行う放射源1226が含まれる。反射モジュール1204のそれぞれは、放射源からの放射を少なくとも1つの放射センサモジュール1214に向けて反射する内部表面1205を持っている。内部表面は基本的に放射源となり、それを放射センサモジュール1214で検知することができる。放射センサモジュール1214は、反射された放射を検知する。各放射源1226と各放射センサは、システムコントローラ1206に結合されていて、動作が制御される。この実施形態においては、放射源モジュール1214aは放射センサモジュール1214aと対になっており、放射源モジュール1214bは放射センサモジュール1214bと対となっている。システムコントローラ1206は放射源1226aと1226bとを交互に作動させる。放射源1226が作動すると、検出領域全面に亘って放射が行われ、反射モジュールの内部表面1205のあるものに放射が到達する。放射は内部表面から反射されて、アクティブな放射源1226に対応する放射センサモジュール1214に向かう。この元の放射の方向へ放射を反射させて戻すことを逆反射と称してもよい。この特性を示す表面を、逆反射性と称してもよい。多くの表面は少なくともわずかには逆反射性であって、内部表面1205から十分な放射が反射されてその反射が放射センサモジュール1214で検出可能でありさえすれば、その内部表面を特別に処理する必要はない。ある実施形態では、反射モジュール1204の内部表面1205は、成形や被覆、またはそのほかの適合が図られて内部表面の逆反射性を高めるようにされてもよい。例えば、内部表面は逆反射性外形形状または被覆を有していてもよい。ある実施形態では、内部表面は三角形または曲線またはその他の外形形状を持っていて、内部表面に入射した放射の方向への反射がより高まるようになっていてもよい。ある実施形態では、内部表面は反射性すなわち逆反射性の高い薄膜または塗料で被覆されてもよい。ある実施形態では、放射源からの放射を反射するように選択されたレンズなど光学部品を利用して内部表面の逆反射性を高めてもよい。各放射源が作動されると、システムコントローラは対応する放射センサモジュール1214から放射強度信号を受信する。放射遮蔽体1250などのような放射遮蔽体が検出領域内にあれば、内部表面1205のある部分から反射された放射は遮蔽されて放射センサモジュール1214に到達しない。図13と14を参照すると、放射センサモジュール1214aの例が示されている。システム1200への使用に適したそのほかの放射センサは、同時係属出願中のPCT特許出願第PCT/CA2010/000884号明細書に記載されており、参照によりこれを本願に援用する。モジュール1214aはリニアアレイセンサ1282と開口プレート1284を備えている。リニアアレイセンサはプロセッサ1206に結合されている。リニアアレイセンサ1282はセンサ支持1286上に取り付けられ、センサ支持は底板1280上に取り付けられている。開口プレート1284も底板1280上に取り付けられている。アレイセンサ1282には、反射モジュール1204にほぼ平行に直線的に配置された複数のセンサ要素1283がある。各センサ要素1283は、反射モジュール1204の内部表面1205から反射された放射に対して感度を有する。センサアレイ1282は、各センサ要素1283に入射した放射強度に応じた放射強度信号をプロセッサ1206に与える。開口プレート1284には1つの開口1285があり、内部表面1205から反射された放射がこの開口1285を通ってセンサ要素1283に到達するようになっている。この実施形態においては、開口1285はスリットである。他の実施形態では、開口は孔であってよいし、または他の形状であってもよい。ある実施形態では、開口の形状大きさを含むは、センサ要素1283の感度、形状及び間隔に基づいて選択されてよい。放射遮蔽体1250が検出領域1208内をx方向またはy方向にセンサモジュール1214aに対して相対的に移動すると、内部表面1205の異なる部分から反射された放射が遮蔽されてセンサ要素1283のある部分に届かなくなる。図13では、1283bにある一連のセンサ要素の全体または部分が、放射遮蔽体1250の影の中に入る。これらのセンサ要素は線1288と1290の間の内部表面1205で、内部表面1205の部分1292から反射された放射に対応する。センサアレイ1282により提供される放射強度信号の内センサ要素1283bに対応する部分は、これらのセンサ要素に入射した、減少した放射レベルを反映する。再び図12を見ると、システム1200の部品の寸法はメモリ1222に記録され、プロセッサ1120でアクセス可能である。例えば、システム1200そのものの寸法、各反射モジュール1204の位置と配向、および放射センサモジュール1214の位置と配向がメモリ1222に記録される。プロセッサ1220は、放射センサモジュール1214aのセンサアレイ1282からの放射強度信号をこれらの記録された寸法、位置および配向と結びつけて、放射センサモジュール1214aに対する放射遮蔽体1250の相対的な方向を推定する。プロセッサ1220は、放射強度信号の中で、放射遮蔽体1250によって遮蔽された1つまたは複数のセンサ要素1283を識別し、この領域センサ要素に対応する方向を特定する。例えば、プロセッサは線1288と1290の間にある放射センサモジュール1204から発する光線を計算することができる。同様に、プロセッサ1220は、放射センサモジュール1204bからの放射強度信号を記録されているデータと結びつけて、モジュール1204bに関して放射遮蔽体1250に対応する光線を推定する。プロセッサ1220は、放射遮蔽体1250の位置を、2つの光線の交点またはその付近に推定する。推定された位置は、インタフェース1224にある外部装置へ報告されてもよい。本発明によるこの外のモジュール型位置検出システムは、さまざまなその他の種類のモジュールを含んでよい。例えば、他のシステムでは、曲線的なモジュールを含んでもよいし、あるいは、異なる外形を取れるように調整することができるモジュールや、任意の数の放射源または放射センサまたはその両方を含むモジュールや、任意の距離または変化する距離だけ離れた放射源または放射センサ、などを含んでもよい。任意の特定の実施形態における検出領域は任意形状をしていてもよい。システム100と800などのような実施形態のあるものでは、検出領域がシステム枠内に囲まれた領域の実質的にすべてまたはほとんどを含む様に放射源と放射センサが配置されてもよい。また別の実施形態において、放射遮蔽体の位置が検出される検出領域が枠で囲まれた領域のごく一部だけとなるように、放射源と放射センサが枠内に配置されてもよい。ある実施形態では、検出領域及び場合によっては検出領域でない領域を取り囲む枠が連続的とならないように、モジュール間に空隙があってもよい。上記のシステムにおいて、システムコントローラは各モジュールにデイジーチェーン方式で直列的に結合されていてもよい。他の実施形態において、システムコントローラは、モジュールの一部または全部と直接結合されていて、他のモジュールコントローラを経由するとかシステム通信バスを経由するのではなくて、個々のモジュールコントローラと直接通信するようになっていてもよい。ある実施形態では、システムコントローラは、モジュールの一部または全部と有線通信システム経由ではなくて、無線通信システム経由で通信するようになっていてもよい。本発明の様々な例示的実施形態を単なる例示として説明した。本発明の精神と範囲から外れることなしにこれらの例示的実施形態に対して種々の変形と変更を行うことができる。"