粒子のサイズを削減するための粒子処理方法であって、実質的に円筒形の部分と、実質的に円筒形の部分内に同軸状に配置された素早く回転するローターで両者の間に実質的に同軸環状円筒形空間を規定するものをもったチェンバーと、ローターの円周の周りに等距離で間隔を空けられた2つ以上のブレードでその各々がローターから伸びており円筒形の部分の内壁と各それぞれのブレードの外側エッジまたは面との間に分離ギャップを規定するものがあり、それぞれのブレードの間に1つ以上の渦をサポートし規定する空間があり、円筒形の部分の内壁の少なくともいくつかは摩擦誘発表面を有する装置中に、処理されるべき粒子を導入するステップと、結果として得られた処理された粒子を収集するステップと、を含む方法。渦をサポートし規定する空間の少なくともいくつか中に突き出したランダムに成形された部分を更に含む、請求項1記載の粒子処理方法。実質的に円筒形のチェンバーの周縁の周りの間隔を空けられた位置に配置された摩擦誘発表面部分を更に含む、請求項1記載の粒子処理方法。摩擦誘発部分は、傾斜した先細りを少なくとも1つの位置において提供するように配置され成形されていることを更に含む、請求項3記載の粒子処理方法。処理中のローターの回転速度は、250mmのローター上で12000から20000回転毎分の範囲内であることを更に含む、請求項1記載の粒子処理方法。実質的に円筒形の部分と、実質的に円筒形の部分内に同軸状に配置された回転するローターをもったチェンバーと、ローターの円周の周りに等距離で間隔を空けられた2つ以上のブレードでその各々がローターから放射状に伸びており実質的に円筒形の部分の内壁とそれぞれのブレードの外側エッジとの間に分離ギャップを規定するものを含み、それぞれのブレードの間に1つ以上の渦をサポートし規定する空間があり、実質的に円筒形の部分の内壁の少なくともいくつかは、摩擦誘発表面と、チェンバー中で処理されるべき粒子のための入口と、入口から間隔を空けられた処理された粒子のための出口を有する、装置。渦をサポートし規定する空間の少なくともいくつか中に突き出したランダムに成形された部分を更に含む、請求項6記載の粒子処理装置。実質的に円筒形のチェンバーの周縁の周りの間隔を空けられた位置に配置された摩擦誘発表面部分を更に含む、請求項6記載の粒子処理装置。摩擦誘発部分は、傾斜した先細りを少なくとも1つの位置において提供するように配置され成形されていることを更に含む、請求項8記載の粒子処理装置。装置は、処理中のローターの回転速度が、250mmのローター上で12000から20000回転毎分の範囲内となることを可能とするように適応されていることを更に含む、請求項6から9のいずれか1つに記載の粒子処理装置。請求項6から10のいずれか1つに記載の装置に導入され取り扱われることによって処理された材料。ここで図面、特に第1の実施形態を描写している図面を詳細に参照すると、それに対してローター3が同軸状に回転する壁によって規定された円筒形の部分を含んだチェンバー1がある。ローター3はシャフト4によって支持され、それは5において典型的に示された軸受によって支持される。これはロックナット6によってその位置に保持される。ローター3は、シャフト4に取り付けられた手段によって回転可能に配置され、それは図面中には示されていないが、この場合には、処理されている材料に適切となるように選択された、概ね12000rpmから20000rpmの範囲にある回転速度で例として250mm直径のローターを駆動すべく、滑車とベルトの適当なセットを通して接続された電気モーターを含む。関係する速度は、ローターの円周において生成された相対的速度であるように見え、200km/hrから1200km/hrが有用であることが見つけられた。チェンバー1は更に、上方プレート7と更なるプレート8を有することによって規定され、それらはそれらと円筒形壁2の間にチェンバー1を規定する。ローター3は、円筒形の外側寸法のものであり、複数の外向きに伸びているブレード9を含み、それらは各場合においてローターの頂部からローターの底部11まで伸びている細長い長方形の寸法のものであり、各場合においてローター3の直径の周りに同じ距離で分離されるべく位置付けされている。これらのブレード9は、12において典型的に示される複数の螺子によってしっかり取り付けられる。これらのブレードは、連動スロット中にフィットされることによって代替的な配置にしっかり取り付けられる。外側壁2は外側ジャケット13を有し、それを通して水がジャケット13の中及び外に16および17におけるような管によって向き付けされるところの水冷却またはもし適切であれば加熱空間14を規定するようになっている。同様のやり方で、更なる壁18と入口および出口管19および20によって、プレート7についても水冷却または加熱が成し遂げられる。処理されるべき材料は、この場合には装置の中心にありシャフト4の軸と同軸状の入口1を通して直立させられる。一旦処理された材料のための出口は、この場合にはフード付き出口20を通して収集されることによって向き付けされ、プレート8の周りにシャフト4の軸から共通の直径における間隔を空けられた位置に位置する複数のそのようなフード付き出口がある。処理スペース22を越えた空気と処理されている粒子状材料の通路上にある程度の制約を提供すべく配置された、処理ギャップ22の下に位置するチョーク21がある。このチョーク21は、空気流と粒子のいくらかの穏やかな摩擦またはチョーキングを提供するがこれをある程度に制限すべく垂直軸方向に傾斜された上方面を含む。ここまでに記載された機械は、ローターの外側円周エリアとその間の円筒の内壁の間のエリアで、その入口中に供給されその出口において収集された粒子を処理してその崩壊を成し遂げることをその目的として有する。ローター3の速度、つまり回転速度と、ローターとローターから突き出しているブレードの直径と、ブレードの深さと、これらのブレードの分離の度合いは、非常に小さいサイズへの材料の効率的な崩壊を成し遂げるように選ばれている。どのように機械が働き得るかの分析は、それが回転経路に従うにつれて各ブレードの背後では、空気が乱流となることが引き起こされるが、ブレードの形状と分離の度合いの理由により、およびこの装置が使われた時に高い程度の脱水が成し遂げられるという発見から、各ブレードの直ぐに背後に渦が形成されていると考えられ、そのような渦の高度に真空状の中心の中に入ることあるいは恐らくそのような渦に入ることとそこから出ることの両方の衝撃が、高い程度の効率的な崩壊と脱水の両方を有するように見えるものである、ということに示唆されている。従って、特に粒子で負荷された時に、そのような渦をより効果的に誘起し維持するために、円筒形壁2の内部側の摩擦誘発特性を増加することによってこれを達成することができるということが見つけられた。これは、一つの場合には、23において示されているような外側壁に接着するランダムに成形され位置付けされた堅い粒子を有することによって達成される。この実施形態ではこの表面は、円筒形壁2の内部表面の全ての周り全体に提供されている。一つの場合には、そのような表面は、マトリクス中に保持されたシリコンカーバインsiliconcarbine粒子からなる。使用において、摩擦誘発表面であるが研磨表面とも呼ばれ得る表面は、処理されている材料に研磨粉砕効果を提供しないことが観察されている。効率の向上は、それぞれのブレード9の背後に誘起されている渦を捕捉していて更に回転することを引き起こしている摩擦誘発表面によって引き起こされているように見え、高い程度の摩擦誘発では、渦自体と運ばれるであろう粒子材料の負荷はより強烈であろう。これまでに行われた実験では、この実施形態でこのプロセスを使って材料を粉砕する時に、摩擦誘発表面23上には極最小の研磨効果しか見られず、それは再度、より積極的でより効果的な渦巻を引き起こしているのは、処理されるべき材料と直接係合する材料ではなく、むしろ間接的な効果であるという理論を導き出す。摩擦誘発表面または粗くした壁と対照的に円滑な壁の使用と比較すると、効果は多くの材料との関係で効率の向上を導いたし、また機械中での使用から結果として得られる粒子のサイズを削減する能力を導いたし、いくつかの場合には5ミクロン以下のサイズまで小さいものがあった。効率の向上の程度は、異なる材料の処理で変動するが、いくつかの場合には少なくとも100で効率を向上させた、ということは少なくとも同じ回転速度とパワー供給について2倍の量の材料がこの摩擦誘発表面が含まれていない以前と比肩する時間で処理できるということである。チェンバー40と、入口41と、シャフト43によって支持されたローター42と、円筒形チェンバー45を規定している外側壁44と、フード付き出口47をもった複数の長方形で細長いブレード46を含んだ第2の実施形態がある。ここでの違いは、内側44上の摩擦誘発表面が、突き出していてランダムに間隔を空けられ成形され、マトリクス中に保持され、それにより細長い楔形状部材50に接着している、粒子からなる外側表面49を各々が有する別々のセグメントで作られていることである。これらの部材50は、それぞれのブレード46の間の分離と同等な距離で等しく間隔を空けられている、間隔を空けられた位置において円周の周りに位置している。すると再度、これの効果はそれぞれの平行なブレード46の背後に渦を誘起し維持することを補助することであるが、それらはセグメントとして別々に配置されることができるので、それらはまずもし損傷されても製造し置き換えるのがより安価であるという利点をそれらは有する。形状は、先導するエッジが壁44の内部表面に最も近い一方で一部がそれから下流方向にこれから外向きに突き出す、僅かに楔形状である。ある程度保護された前方エッジを有することによって、これは研磨パーツをその場所に保持しているあらゆる溶接されたマトリクスまたは塗膜材料の潜在的な持ち上げ剥がしを最小化すると考えられる。ある程度驚いたことに、そのような別々のセグメントを含むこともまた、研磨表面または摩擦誘発表面が内部円周の周り全体に配置されたもので経験されたのと同等の向上を導く。すると再度、チョーク51を含んだ、機械のその他の部分が含まれる。図8では、これは最良の崩壊効果を得るための円滑な内部壁61からの外側エッジ60の離された距離が実際に非常に小さかった従来技術の描写であり、それはこの場合には3mmであるが、勿論これは今度は摩擦誘発または研磨表面で増加されることができ、それでも多くの場合に5ミクロンのサイズまでになる細かい粒子を達成し、また適切なところで脱水されることの利点を有するということが見つけられた。例11.5mm直径の銅ワイヤが7mmの長さに切断され、含まれた摩擦誘発表面無しの機械への供給材料として使われた。円滑な壁の水冷却された円筒が、ローターの深さより下の部分的チョークとして働く傾斜した部分をもった粉砕チェンバーの外側壁として使われた。ローターより上の重複は3mmであった。ローターの直径は200mmであった。ローターの直径の周りに等しく間隔を空けられ、ローターから17mm突き出している3つのブレードがローターの外側周縁にしっかり取り付けられた。各ブレードの形状とサイズは同じで概ね長方形であり、各々はその頂部最外側エッジにおいてと底部最外側エッジにおいて斜角を付けられている。頂部の斜角寸法は、頂部から下方に5mm、エッジから中に斜角を付けられて9mmである。底部での斜角は、底部から上方に12mm、外側エッジから中に5mmである。機械がこの特定のセットアップと材料について有利であることが以前に見つけられていた回転速度である14000RPMで回転していた時に、銅ワイヤの供給材料が供給された。これは銅材料を200ミクロンより下で90ミクロンの平均粒子サイズをもった小さいピースに崩壊させた。一回のパスで供給された147gmの内、20gmは直径が2mmの大きなボールのまま残り、粉砕プロセスを続行するように一旦供給が停止すると十分な材料が機械中になかったので、それらは粉砕セッションの終りにおいてチェンバー中に残された。それはそれから、回転速度が19000RPMまで増加され、50ミクロンの平均サイズでサイズが100ミクロンまで落とされた2回目を通して供給された。例2第2の実行で使われた外側壁上の摩擦誘発表面材料で銅ワイヤを粉砕する第2の例1.5mm直径の銅ワイヤが7mmの長さに切断され、粉砕機械への供給材料として使われた。円滑な壁の水冷却された円筒が、ローターの深さより主に下の45度円錐をもった粉砕チェンバーの外側壁として使われた。ローターより上の重複は3mmであった。ローターの直径は200mmであった。ローターから突き出している3つのブレードの深さは17mmで、それらのブレードは等しく間隔を空けられている。ブレードの形状は、頂部と底部において斜角を付けられており、頂部の斜角寸法は、頂部から下方に5mm、エッジから中に斜角を付けられて9mmである。底部での斜角は、底部から上方に12mm、外側エッジから中に5mmである。機械が14000RPMで行っていた時に、銅ワイヤの供給材料が供給され、これは銅ワイヤを200ミクロンより下で90ミクロンの平均粒子サイズをもった小さいピースに壊した。147gmの内、20gmは直径が2mmの大きなボールのまま残り、粉砕プロセスを続行するように一旦供給が停止すると十分な材料が機械中になかったので、それらは粉砕セッションの終りにおいてチェンバー中に残された。それから、円筒の外側壁のセクションが、この場合には外側円筒に追加された摩擦誘発表面を有した部分で置き換えられた。それらのランプは、75mmであるローターの深さとマッチする円筒の壁の深さ全体であり、それらは傾斜した表面チョークの頂部のレベルよりちょっと上で終了した。それらの部分の幅は25mmであり、材料の表面のピッチはローターと同じ方向に流れる3.5度である。この銅ワイヤが、19000RPMで2回目に通された。それは3ミクロンの平均でトップエンドが60ミクロンまでサイズを削減した。摩擦誘発表面は、処理された材料のサイズの相当な削減に結果としてなり、それにより強化された効果と増加された効率を提供した。例3ゼオライト供給材料として銅の代わりにゼオライトで同じ実験が繰り返された。供給材料は3mmのランダムに成形されたゼオライト礫であった。円滑な壁の水冷却された円筒が、ローターの深さより主に下の傾斜した表面チョークをもった粉砕チェンバーの外側壁として使われた。ローターより上の重複は3mmであった。ローターの直径は200mmであった。ローターから突き出している3つのブレードの深さは17mmで、それらのブレードは等しく間隔を空けられていた。ブレードの形状は、頂部と底部において斜角を付けられていた。頂部の斜角寸法は、頂部から下方に5mm、エッジから中に斜角を付けられて9mmである。底部での斜角は、底部から上方に12mm、外側エッジから中に5mmである。ゼオライトが、19000RPMで走らされ、大きなサイズは、5ミクロンの平均サイズで10ミクロンであった。それから、摩擦誘発表面のセクションが外側円筒に追加された試験が繰り返された。それらのセクションは、実質的に円筒形のスペース中に突き出した各々ランダムに成形された部分であり、75mmであるローターの深さとマッチする円筒の壁の深さ全体であり、それらは傾斜した表面チョークの頂部のレベルよりちょっと上で終了した。それらのセクションの幅は25mmであり、セクションの各々の先細りはローターと同じ方向に流れる3.5度であった。このゼオライトが通された。供給材料は3ミクロンのゼオライトでローター速度は19000RPMであり、トップサイズは7ミクロンで平均は1.5ミクロンであった。これは再度、追加の摩擦誘発材料の利点を開示した。