"被検光学系の瞳透過率分布を測定する測定方法であって、前記被検光学系の瞳と光学的にフーリエ変換の関係にある第1面上の所定位置に第1の光束を供給することと、前記第1面上の第1位相領域を経た光に第1の位相値を付与すると共に、前記第1位相領域に隣接する第2位相領域を経た光に前記第1の位相値とは異なる第2の位相値を付与することにより、前記第1の光束を回折させることと、前記第1の光束を回折させることを経て生成された前記第1の光束の1次回折光を前記瞳の有効領域内の第1瞳部分領域に通過させ且つ前記第1の光束を回折させることを経て生成された前記第1の光束の-1次回折光を前記有効領域内において前記第1瞳部分領域から離れた第2瞳部分領域に通過させることと、前記第1瞳部分領域および前記被検光学系を経た前記第1の光束の1次回折光の強度と、前記第2瞳部分領域および前記被検光学系を経た前記第1の光束の-1次回折光の強度とを計測することと、前記第1の光束の1次回折光の強度の計測値および前記第1の光束の-1次回折光の強度の計測値に基づいて、前記第1瞳部分領域における瞳透過率と前記第2瞳部分領域における瞳透過率との比を求めることと、を備えた測定方法。請求項1に記載の測定方法において、前記第1面上の前記第1位相領域と前記第2位相領域とは交互に配置され、前記第2の位相値は前記第1の位相値とπだけ異なる。請求項1または2に記載の測定方法において、前記第1の光束を供給することでは、前記第1の光束として前記被検光学系の光軸に対して傾いた斜め光束が前記所定位置に入射される。請求項1乃至3のいずれか1項に記載の測定方法は、さらに、前記第1面上の前記所定位置に第2の光束を供給することと、前記第1面上の前記第1位相領域を経た光に前記第1の位相値を付与すると共に、前記第2位相領域を経た光に前記第2の位相値を付与して前記第2の光束を回折させることと、前記第2の光束を回折させることを経て生成された前記第2の光束の1次回折光を前記有効領域内において前記第1及び前記第2瞳部分領域から離れた第3瞳部分領域に通過させ且つ前記第2の光束を回折させることを経て生成された前記第2の光束の-1次回折光を前記有効領域内において前記第1乃至前記第3瞳部分領域から離れた第4瞳部分領域に通過させることと、を備える。請求項4に記載の測定方法において、前記第1の光束と前記第2の光束とは、同時に前記所定位置に入射される。請求項5に記載の測定方法において、前記第1の光束を回折させることを経て生成される前記第1の光束の±3次回折光が前記瞳において前記第1乃至前記第4瞳部分領域から離れた瞳部分領域を通過するように、前記第1の光束と前記第2の光束とが同時に前記所定位置に入射される。請求項5または6に記載の測定方法は、さらに、前記第1および第2の光束を入射させることの前または後に、前記所定位置に第3の光束を入射させることと、前記第3の光束を回折させることを経て生成された前記第3の光束の1次回折光を前記有効領域内において前記第1及び前記第2瞳部分領域を包含する第1包含領域内の第5瞳部分領域に通過させ且つ前記第3の光束を回折させることを経て生成された前記第3の光束の-1次回折光を前記有効領域内において前記第3及び前記第4瞳部分領域を包含する第2包含領域内の第6瞳部分領域に通過させることと、を備える。請求項1乃至7のいずれか1項に記載の測定方法において、前記第1および第2位相領域は、矩形状の前記第1位相領域と矩形状の前記第2位相領域とが市松格子状に配置される。被検光学系の瞳透過率分布を測定する測定方法であって、前記被検光学系の瞳と光学的にフーリエ変換の関係にある第1面上の所定位置に前記被検光学系の光軸に対して傾いた第1の光束を供給することと、前記第1の光束を回折させることと、前記第1の光束を回折させることを経て生成された前記第1の光束の1次回折光を前記瞳の有効領域内の第1瞳部分領域に通過させ且つ前記第1の光束を回折させることを経て生成された前記第1の光束の-1次回折光を前記有効領域内において前記第1瞳部分領域から離れた第2瞳部分領域に通過させることと、前記第1瞳部分領域および前記被検光学系を経た前記第1の光束の1次回折光の強度と、前記第2瞳部分領域および前記被検光学系を経た前記第1の光束の-1次回折光の強度とを計測することと、前記第1の光束の1次回折光の強度の計測値および前記第1の光束の-1次回折光の強度の計測値に基づいて、前記第1瞳部分領域における瞳透過率と前記第2瞳部分領域における瞳透過率との比を求めることと、を備えた測定方法。請求項9に記載の測定方法において、前記第1の光束を回折させることでは、前記第1面上の第1位相領域を経た光に第1の位相値を付与すると共に、前記第1位相領域に隣接する第2位相領域を経た光に前記第1の位相値とは異なる第2の位相値を付与することにより、前記第1の光束は回折させられる。請求項10に記載の測定方法において、前記第1面上の第1位相領域と前記第2位相領域とは交互に配置され、前記第2の位相値は前記第1の位相値とπだけ異なる。請求項10または11に記載の測定方法は、さらに、前記第1面上の前記所定位置に第2の光束を供給することと、前記第1面上の前記第1位相領域を経た光に前記第1の位相値を付与すると共に、前記第2位相領域を経た光に前記第2の位相値を付与して前記第2の光束を回折させることと、前記第2の光束を回折させることを経て生成された前記第2の光束の1次回折光を前記有効領域内において前記第1及び前記第2瞳部分領域から離れた第3瞳部分領域に通過させ且つ前記第2の光束を回折させることを経て生成された前記第2の光束の-1次回折光を前記有効領域内において前記第1乃至前記第3瞳部分領域から離れた第4瞳部分領域に通過させることと、を備える。請求項12に記載の測定方法において、前記第1の光束と前記第2の光束とは、同時に前記所定位置に入射される。請求項13に記載の測定方法において、前記第1の光束を回折させることを経て生成される前記第1の光束の±3次回折光が前記瞳において前記第1乃至前記第4瞳部分領域から離れた瞳部分領域を通過するように、前記第1の光束と前記第2の光束とは同時に前記所定位置に入射される。請求項13または14に記載の測定方法は、さらに、前記第1および第2の光束を入射させることの前または後に、前記所定位置に第3の光束を入射させることと、前記第3の光束を回折させることを経て生成された前記第3の光束の1次回折光を前記有効領域内において前記第1及び前記第2瞳部分領域を包含する第1包含領域内の第5瞳部分領域に通過させ且つ前記第3の光束を回折させることを経て生成された前記第3の光束の-1次回折光を前記有効領域内において前記第3及び前記第4瞳部分領域を包含する第2包含領域内の第6瞳部分領域に通過させることと、を備える。請求項11乃至15のいずれか1項に記載の測定方法において、前記第1および第2位相領域は、矩形状の前記第1位相領域と矩形状の前記第2位相領域とが市松格子状に配置される。請求項1乃至16のいずれか1項に記載の測定方法は、さらに、前記被検光学系に関して前記第1面と光学的に共役な第2面上の所定位置に、前記第1面および前記被検光学系を介した較正光束を供給することと、前記第2面上の第3位相領域を経た光に第3の位相値を付与すると共に、前記第3位相領域に隣接する第4位相領域を経た光に前記第3の位相値とは異なる第4の位相値を付与して前記較正光束を回折させることと、前記較正用光束を回折させることを経て生成された前記較正用光束の1次回折光の強度と、前記較正用光束を回折させることを経て生成された前記較正用光束の-1次回折光の強度とを計測することと、を備える。請求項17に記載の測定方法において、前記較正光束は、前記第1面で回折されない。請求項17または18に記載の測定方法は、さらに、前記第1瞳部分領域および前記被検光学系を経た前記較正用光束の1次回折光と、前記第2瞳部分領域および前記被検光学系を経た前記較正用光束の-1次回折光とを計測光学系に通過させることを備え、前記計測光学系を通過した前記較正用光束の1次回折光および前記較正用光束の-1次回折光の強度は計測される。請求項19に記載の測定方法において、前記較正用光束を回折させることを経て生成されて前記計測光学系を経た前記較正用光束の1次回折光の強度と、前記較正用光束を回折させることを経て生成されて前記計測光学系を経た前記較正用光束の-1次回折光の強度とが計測される。請求項20に記載の測定方法において、前記較正用光束を回折させることを経て生成されて前記計測光学系を経た前記較正用光束の1次回折光および前記較正用光束の-1次回折光の強度の計測値を用いて、前記瞳透過率の比の算出結果が較正される。請求項1乃至21のいずれか1項に記載の測定方法を処理装置に実行させるプログラム。請求項1乃至21のいずれか1項に記載の測定方法をコンピュータに実行させるコンピュータプログラムを格納する、コンピュータが読み込み可能な媒体。所定のパターンを照明する照明光学系と、前記所定のパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを備えた露光装置の制御方法において、請求項1乃至21のいずれか1項に記載の測定方法を用いて測定された前記投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて、前記所定のパターンを照明する照明条件を変更すること、を含むことを特徴とする制御方法。前記照明条件は、前記照明光学系による前記第1面での照度分布および前記照明光学系の瞳での瞳輝度分布のうちの少なくとも一方であることを特徴とする請求項24に記載の制御方法。所定のパターンを照明することと、投影光学系を用いて前記所定のパターンを感光性基板に露光することとを含む露光方法において、請求項1乃至21のいずれか1項に記載の測定方法を用いて測定された前記投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて、前記所定のパターンを照明する照明条件を変更すること、を含むことを特徴とする露光方法。所定のパターンを照明することと、投影光学系を用いて前記所定のパターンを感光性基板に露光することとを含む露光方法において、請求項1乃至21のいずれか1項に記載の測定方法を用いて測定された前記投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて作成されたパターンを用いること、を含むことを特徴とする露光方法。請求項26または27に記載の露光方法を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。被検光学系の瞳透過率分布を測定する測定装置において、前記被検光学系の瞳と光学的にフーリエ変換の関係にある第1面に設置可能な回折格子であって、到達した光を回折する回折格子と、前記第1面に設置された前記回折格子を経て生成された前記光の1次回折光が前記瞳の有効領域内の第1瞳部分領域を通過し且つ前記回折格子を経て生成された前記光の-1次回折光が前記有効領域内において前記第1瞳部分領域から離れた第2瞳部分領域を通過するように、前記被検光学系の光軸に対して傾いた光束を前記第1面の所定位置に入射させる照明光学系と、前記第1瞳部分領域および前記被検光学系を経た前記光の1次回折光の強度と、前記第2瞳部分領域および前記被検光学系を経た前記光の-1次回折光の強度とを計測する計測部と、を備え、前記光の1次回折光の強度の計測値および前記光の-1次回折光の強度の計測値に基づいて、前記第1瞳部分領域における瞳透過率と前記第2瞳部分領域における瞳透過率との比を求める測定装置。請求項29に記載の測定装置において、前記照明光学系は、前記瞳と光学的に共役な第1共役面において前記照明光学系の光軸から離れた位置に局在した光強度分布を有する少なくとも1つの局在光束を形成する局在光束形成部を有する。請求項30に記載の測定装置において、前記局在光束形成部は、前記第1共役面において照明光路に対して挿脱可能な開口絞りを有する。請求項30または31に記載の測定装置において、前記局在光束形成部は、前記第1共役面において前記照明光学系の前記光軸から離れた位置に局在した光強度分布を形成するために、前記第1共役面へ向かう光束に角度分布を与える空間光変調器を有する。請求項32に記載の測定装置において、前記空間光変調器は、回折光学素子またはミラーアレイを有する。請求項29乃至33のいずれか1項に記載の測定装置において、前記回折格子は、位相型の回折格子を含む。請求項34に記載の測定装置において、前記位相型の回折格子は、透過光に対して第1の位相値を付与する第1位相領域と、透過光に対して前記第1の位相値とπだけ異なる第2の位相値を付与する第2位相領域とが交互に配置された形態を有する。請求項34に記載の測定装置において、前記位相型の回折格子は、矩形状の前記第1位相領域と矩形状の前記第2位相領域とが市松格子状に配置された形態を有する。請求項29乃至36のいずれか1項に記載の測定装置において、前記計測部は、前記瞳と光学的に共役な第2共役面と前記被検光学系との間の光路中に配置された対物光学系と、前記第1瞳部分領域および前記対物光学系を経た前記光の1次回折光および前記第2瞳部分領域および前記対物光学系を経た前記光の-1次回折光を前記第2共役面において光電検出する光電検出器とを有する。請求項37に記載の測定装置は、さらに、前記被検光学系と前記対物光学系との間の光路中において前記第2共役面と光学的にフーリエ変換の関係にある第2面に設置可能な第2の回折格子を備える。請求項29乃至36のいずれか1項に記載の測定装置において、前記計測部は、前記被検光学系に関して前記第1面と光学的に共役な第2面から離れた位置に配置されて、前記第1瞳部分領域を経た前記光の1次回折光および前記第2瞳部分領域を経た前記光の-1次回折光を前記離れた位置において光電検出する光電検出器を有する。請求項39に記載の測定装置は、さらに、前記第2面に設置可能な第2の回折格子を備える。請求項38または40に記載の測定装置において、前記第2の回折格子は、位相型の回折格子を含む。請求項41に記載の測定装置において、前記第2の回折格子は、透過光に対して第1の位相値を付与する第1位相領域と、透過光に対して前記第1の位相値とπだけ異なる第2の位相値を付与する第2位相領域とが交互に配置された形態を有する。請求項42に記載の測定装置において、前記第2の回折格子は、矩形状の前記第1位相領域と矩形状の前記第2位相領域とが市松格子状に配置された形態を有する。所定のパターンを照明する照明光学系と、前記所定のパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを備えた露光装置であって、請求項1乃至21のいずれか1項に記載の測定方法により測定された前記投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて、前記所定のパターンの照明条件を切り換えるために前記照明光学系を制御する制御部を備えた露光装置。請求項44に記載の露光装置において、前記照明条件は、前記照明光学系による前記第1面での照度分布および前記照明光学系の瞳での瞳輝度分布のうちの少なくとも一方である。所定のパターンを照明する照明光学系と、前記所定のパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを備えた露光装置であって、前記投影光学系の瞳透過率分布を測定するための請求項29乃至43のいずれか1項に記載の測定装置を備えた露光装置。請求項44乃至46のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を備えたデバイス製造方法。請求項47に記載のデバイス製造方法において、前記露光することでは、前記投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて作成されたパターンが用いられる。請求項1乃至8、10乃至16のいずれか1項に記載の測定方法を実施する際に用いられる測定用レチクルであって、前記第1位相領域および前記第2位相領域が前記測定用レチクルの表面上に形成された測定用レチクル。請求項49に記載の測定用レチクルにおいて、光透過性基板の表面に前記第1位相領域および前記第2位相領域が形成されている。請求項9乃至16の何れか1項に記載の測定方法を実施する際に用いられる開口絞りであって、前記第1の光束を供給する照明光学系の光路中であって前記瞳と光学的に共役な第1共役面において前記照明光学系の光軸から離れた位置に局在した光強度分布を形成するために、前記離れた位置に形成された開口部を備えた開口絞り。請求項9乃至16の何れか1項に記載の測定方法を実施する際に用いられる空間光変調器であって、前記第1の光束を供給する照明光学系の光路中であって前記瞳と光学的に共役な第1共役面において前記照明光学系の光軸から離れた位置に局在した光強度分布を形成するために、前記第1共役面へ向かう光束に角度分布を与える空間光変調器。請求項52に記載の空間光変調器は、回折光学素子またはミラーアレイを備える。請求項9乃至16の何れか1項に記載の測定方法を実施する際に用いられる空間光変調器の制御方法であって、前記第1の光束を供給する照明光学系の光路中であって前記瞳と光学的に共役な第1共役面において前記照明光学系の光軸から離れた位置に局在した光強度分布を形成するために、前記第1共役面へ向かう光束に角度分布を与えるように、前記空間変調器を制御する空間光変調器の制御方法。請求項54に記載の制御方法を処理装置に実行させるプログラム。請求項54に記載の制御方法をコンピュータに実行させるコンピュータプログラムを格納する、コンピュータが読み込み可能な媒体。発明者らは、従来の瞳透過率分布の測定方法について検討した結果、以下のような課題を発見した。すなわち、非特許文献1に開示された測定方法では、明暗型回折格子を経て生成される回折光のうち±1次回折光成分の強度が0次光成分に比して著しく小さくなるため、非常に広いダイナミックレンジを用いて各成分を検出する必要があり、ひいては瞳透過率分布の高精度な測定が困難である。また、瞳有効領域の全体に亘って分布する複数の位置を通過する±1次回折光成分を検出するには、明暗パターンのピッチが互いに異なる複数の回折格子を準備し、ピッチ方向を変化させつつ各回折格子を用いた測定を繰り返す必要があるため、測定にかかる負荷が比較的高く迅速な測定が困難である。本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、被検光学系の瞳透過率分布を高精度に且つ比較的低い負荷で迅速に測定することのできる測定方法および測定装置を提供することを目的とする。また、本発明は、搭載された投影光学系の瞳透過率分布を高精度に且つ迅速に測定する測定方法および測定装置を用いて、コントラストの高いパターン像を形成することのできる露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法を提供することを目的とする。前記課題を解決するために、本実施形態は、被検光学系の瞳透過率分布を測定する測定方法を提供する。当該測定方法の一態様は、光束供給工程、光束回折工程、領域通過工程、強度計測工程、及び透過率比算出工程を備える。光束供給工程では、被検光学系の瞳と光学的にフーリエ変換の関係にある第1面上の所定位置に第1の光束が供給される。光束回折工程では、第1面上の第1位相領域を経た光に第1の位相値を付与すると共に、第1位相領域に隣接する第2位相領域を経た光に第1の位相値とは異なる第2の位相値を付与することにより、第1の光束が回折させられる。領域通過工程では、第1の光束を回折させることを経て生成された1次回折光が、瞳の有効領域内の第1瞳部分領域を通過させられ、且つ、第1の光束を回折させることを経て生成された-1次回折光が、有効領域内において第1瞳部分領域から離れた第2瞳部分領域を通過させられる。強度計測工程では、第1瞳部分領域および被検光学系を経た1次回折光の強度と、第2瞳部分領域および被検光学系を経た前記-1次回折光の強度とが計測される。透過率比算出工程では、1次回折光の強度の計測値および-1次回折光の強度の計測値に基づいて、第1瞳部分領域における瞳透過率と第2瞳部分領域における瞳透過率との比が算出される。本実施形態が提供する測定方法の他の形態も、光束供給工程、光束回折工程、領域通過工程、強度計測工程、及び透過率比算出工程を備える。光束供給工程では、被検光学系の瞳と光学的にフーリエ変換の関係にある第1面上の所定位置に前記被検光学系の光軸に対して傾いた第1の光束が供給される。光束回折工程では、第1の光束が回折させられる。領域通過工程では、第1の光束を回折させることを経て生成された1次回折光が前記瞳の有効領域内の第1瞳部分領域を通過させられ、且つ、第1の光束を回折させることを経て生成された-1次回折光が有効領域内において第1瞳部分領域から離れた第2瞳部分領域を通過させられる。強度計測工程では、第1瞳部分領域および被検光学系を経た1次回折光の強度と、第2瞳部分領域および被検光学系を経た-1次回折光の強度とが計測される。透過率比算出工程では、1次回折光の強度の計測値および-1次回折光の強度の計測値に基づいて、第1瞳部分領域における瞳透過率と第2瞳部分領域における瞳透過率との比が算出される。本実施形態は、上記いずれかの態様の測定方法を処理装置に実行させるプログラムを提供する。また、本実施形態は、かかるプログラムを格納する記録媒体を提供する。本実施形態は、露光装置の制御方法を提供する。当該露光装置の制御方法は、所定のパターンを照明する照明光学系と、前記所定のパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを備えた露光装置を制御する。具体的に当該制御方法は、上記いずれかの態様の測定方法を用いて測定された投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて、所定のパターンを照明する照明条件を変更する。本実施形態は、露光方法を提供する。当該露光方法の一態様は、所定のパターンを照明することと、投影光学系を用いて所定のパターンを感光性基板に露光することを備える。具体的に当該露光方法の一態様は、上記いずれかの態様の測定方法を用いて測定された前記投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて、所定のパターンを照明する照明条件を変更する。本実施形態が提供する露光方法の他の態様も、所定のパターンを照明することと、投影光学系を用いて所定のパターンを感光性基板に露光することを備える。具体的に当該露光方法の他の態様は、上記いずれかの態様の測定方法を用いて測定された投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて作成されたパターンを用いる。本実施形態は、上記いずれかの態様の露光方法を用いたデバイス製造方法を提供する。当該デバイス製造方法は、露光工程と、マスク層形成工程と、加工工程を備える。露光工程では、上記いずれかの態様の露光方法を用いて、所定のパターンが感光性基板に露光される。マスク層形成工程では、所定のパターンが転写された感光性基板が現像されることで、所定のパターンに対応する形状のマスク層が感光性基板の表面に形成される。加工工程では、マスク層を介して感光性基板の表面が加工される。本実施形態は、被検光学系の瞳透過率分布を測定する測定装置を提供する。当該測定装置は、回折格子と、照明光学系と、計測部を備える。回折格子は、被検光学系の瞳と光学的にフーリエ変換の関係にある第1面に設置可能な光学素子である。照明光学系は、第1面に設置された回折格子を経て生成された1次回折光が瞳の有効領域内の第1瞳部分領域を通過し、且つ、回折格子を経て生成された-1次回折光が前記有効領域内において第1瞳部分領域から離れた第2瞳部分領域を通過するように、被検光学系の光軸に対して傾いた光束を前1面の所定位置に入射させる。計測部は、第1瞳部分領域および被検光学系を経た1次回折光の強度と、第2瞳部分領域および被検光学系を経た-1次回折光の強度とを計測する。特に、当該測定装置は、1次回折光の強度の計測値および-1次回折光の強度の計測値に基づいて、第1瞳部分領域における瞳透過率と第2瞳部分領域における瞳透過率との比を求める。本実施形態は、所定のパターンを照明する照明光学系と、所定のパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを備えた露光装置を提供する。当該露光装置の一態様は、上記いずれかの態様の測定方法により測定された投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて、所定のパターンの照明条件を切り換えるために照明光学系を制御する制御部を備える。本実施形態が提供する露光装置の他の態様も、所定のパターンを照明する照明光学系と、所定のパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを備える。当該露光装置の他の態様は、投影光学系の瞳透過率分布を測定するための上記測定装置を備える。本実施形態は、上記いずれかの態様の露光装置を用いたデバイス製造方法を提供する。当該デバイス製造方法は、露光工程と、マスク層形成工程と、加工工程を備える。露光工程では、上記いずれかの態様の露光装置を用いて、所定のパターンが感光性基板に露光される。マスク層形成工程では、所定のパターンが転写された感光性基板を現像することにより、所定のパターンに対応する形状のマスク層が感光性基板の表面に形成される。加工工程では、マスク層を介して感光性基板の表面が加工される。本実施形態は、上記何れかの測定方法を実施する際に用いられる測定用レチクルを提供する。当該測定用レチクルには、第1位相領域および第2位相領域がその表面上に形成されている。本実施形態は、上記他の態様の測定方法を実施する際に用いられる開口絞りを提供する。当該開口絞りは、第1の光束を供給する照明光学系の光路中であって瞳と光学的に共役な第1共役面において照明光学系の光軸から離れた位置に局在した光強度分布を形成するために、該離れた位置に形成された開口部を備える。本実施形態は、上記他の態様の測定方法を実施する際に用いられる空間光変調器を提供する。当該空間変調器は、第1の光束を供給する照明光学系の光路中であって瞳と光学的に共役な第1共役面において照明光学系の光軸から離れた位置に局在した光強度分布を形成するために、第1共役面へ向かう光束に角度分布を与える。本実施形態は、上記他の態様の測定方法を実施する際に用いられる空間光変調器の制御方法を提供する。当該空間変調器の制御方法は、第1の光束を供給する照明光学系の光路中であって瞳と光学的に共役な第1共役面において照明光学系の光軸から離れた位置に局在した光強度分布を形成するために、第1共役面へ向かう光束に角度分布を与えるように、空間変調器を制御する。本実施形態は、上記空間変調器の制御方法を処理装置に実行させるプログラムを提供する。また、本実施形態は、かかるプログラムを格納する記録媒体を提供する。なお、この発明に係る各実施形態は、以下の詳細な説明及び添付図面によりさらに十分に理解可能となる。これら実施形態は単に例示のために示されるものであって、この発明を限定するものと考えるべきではない。また、この発明のさらなる応用範囲は、以下の詳細な説明から明らかになる。しかしながら、詳細な説明及び特定の事例はこの発明の好適な実施形態を示すものではあるが、例示のためにのみ示されているものであって、この発明の範囲における様々な変形および改良はこの詳細な説明から当業者には自明であることは明らかである。本実施形態の一態様にしたがう測定装置では、被検光学系の瞳と光学的にフーリエ変換の関係にある物体面に設置された位相回折格子を経て生成される回折光のうち測定対象となる±1次回折光成分の強度が互いに等しいので、計測部では比較的狭いダイナミックレンジを用いて各回折光成分の高精度な検出が可能であり、ひいては被検光学系の瞳透過率分布を高精度に測定することができる。また、被検光学系の物体面に固定的に設置された位相回折格子へ入射する測定光束の入射角度を変化させるだけで、各回折光成分が被検光学系の瞳を通過する領域を変化させることができるので、被検光学系の瞳透過率分布を比較的低い負荷で迅速に測定することができる。本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図1は、第1実施形態にかかる瞳透過率分布の測定装置の構成を概略的に示す図である。すなわち、第1実施形態は、被検光学系としての結像光学系20の瞳透過率分布を測定する測定装置10に適用される。図1では、結像光学系20の像面20iの法線方向にz軸を、像面20iにおいて図1の紙面に平行な方向にy軸を、像面20iにおいて図1の紙面に垂直な方向にx軸を設定している。第1実施形態の測定装置10は、結像光学系20の物体面20oに設置可能な位相型の回折格子11と、物体面20oの所定位置ひいては回折格子11の所定位置に測定光を入射させる照明光学系12と、結像光学系20を経た測定光の強度を計測する計測部13とを備えている。回折格子11は、図2に示すように、透過光に対して第1の位相値を付与する第1位相領域11aと、透過光に対して第1の位相値とπだけ異なる第2の位相値を付与する第2位相領域11bとが一方向に沿って交互に配置された形態を有する。以下の説明では、回折格子11は、位相領域11a,11bのピッチ方向がy方向と一致し、且つ回折光学面が物体面20oと一致するように設置されるものとする。また、結像光学系20と照明光学系12とは、その光軸AX1およびAX2図3を参照がz方向に延びる1本の直線に沿って共軸配置されているものとする。照明光学系12は、図3に示すように、光源21からの光に基づいて、照明瞳12pに所定の光強度分布を形成する空間光変調器12aおよび第1リレー光学系12bと、照明瞳12pにおいて照明光路に対して挿脱可能な開口絞り12cと、開口絞り12cを経た光を結像光学系20の物体面20oへ導く第2リレー光学系20dとを備えている。光源21は、例えば結像光学系20の使用光を供給する。空間光変調器12aとして、回折光学素子、ミラーアレイなどを用いることができる。ミラーアレイは、所定面内に配列されて個別に制御可能な複数のミラー要素を有する空間光変調器であって、その構成および作用は、例えば上記特許文献1~4に開示されている。照明瞳12pは、結像光学系20の物体面20oと光学的にフーリエ変換の関係にあり、且つ結像光学系20の瞳20pと光学的に共役な位置にある。ここでは、上記特許文献1~4の開示を参照として援用する。計測部13は、図4に示すように、結像光学系20の像面20iと光学的にフーリエ変換の関係にある面13pを形成する対物光学系13aと、面13pに沿って配置された検出面13baを有する光電検出器13bとを備え、xy平面に沿って一体的に移動可能に構成されている。すなわち、対物光学系13aは結像光学系20の瞳20pと光学的に共役な面13pと結像光学系20との間の光路中に配置され、光電検出器13bの検出面13baは対物光学系13aの瞳面13pに沿って配置されている。光電検出器13bとして、例えばCCDイメージセンサやCMOSイメージセンサなどの固体撮像素子や撮像管などを用いることができる。対物光学系13aの最も結像光学系20側には、結像光学系20の像面20iに沿った平面を有する平凸レンズ13aaが配置されている。平凸レンズ13aaの入射平面13i上には、図5に示すように、例えばクロム又は酸化クロムで形成された遮光部13eと、計測用開口部13fと、波面収差計測結果を較正するための較正用ピンホール13gと、瞳透過率分布計測結果を較正するための較正用位相回折格子13hとが形成されている。計測部13の構成において較正用位相回折格子13hを除く部分は、例えば上記特許文献5に開示されている。ここでは上記特許文献5の開示を参照として援用する。なお、計測部13は、メモリMR等の記録媒体を有する処理装置コンピュータであってもよく、このメモリMRには、本実施形態にかかる測定方法、露光装置や空間変調器12aの制御方法を当該処理装置に実行させるプログラムが格納される。以下、測定装置10の作用の理解を容易にするために、最も単純な例として、図6に示すように単一の円形状の開口部31が形成された開口絞り12cを用いる場合について考える。図6において、光軸AX2を中心とした破線で示す円は、照明瞳12pの有効領域を示している。開口絞り12cは開口部31の中心が光軸AX2から-y方向側に離れて位置するように設置され、開口絞り12cには開口部31を含む所要領域に光束が入射する。この場合、開口絞り12cは、結像光学系20の瞳20pと光学的に共役な照明瞳12pにおいて光軸AX2から離れた位置に局在した光強度分布を有する円形状の局在光束を形成する局在光束形成部として機能する。開口絞り12cの開口部31を経た光束は、第2リレー光学系12dを介して、回折格子11の所定位置ひいては結像光学系20の物体面20oの所定位置に、結像光学系20の光軸AX1に対してひいては照明光学系12の光軸AX2に対して傾いた光束となって入射する。回折格子11への斜め光束の入射位置は、例えば複数のレンズを有する第2リレー光学系12dの光路中において物体面20oと光学的に共役な位置またはその近傍に配置された視野絞り不図示、あるいは物体面20oの直前の位置に配置された視野絞り不図示などにより可変的に決定される。以下、説明を単純化するために、照明光学系12の照明瞳12pと結像光学系20の瞳20pとは、x方向およびy方向に関して照明瞳12pの正立像を瞳20pに形成する共役関係にあるものとする。図1および図7を参照すると、回折格子11に斜め入射して生成された回折光のうち、1次回折光40aあるいは40bは結像光学系20の瞳20pの有効領域20pe内の瞳部分領域41aを通過し、-1次回折光40bあるいは40aは瞳有効領域20pe内において瞳部分領域41aから離れた瞳部分領域41bを通過して、結像光学系20からそれぞれ射出される。瞳部分領域41aおよび41bは、開口部31と同様に円形状であり、互いに同じ大きさを有する。瞳部分領域41aと41bとは、瞳有効領域20peにおいて光軸AX1を通りy方向に延びる直線上の1点41cを挟んで対称な位置にある。ここで、点41cは、回折格子11を経て0次光図1において破線で示すが仮に発生したときに、その0次光が瞳20pを通過する領域の中心である。すなわち、瞳部分領域41aと41bとの中心位置41cは、開口絞り12cの開口部31の位置に依存する。瞳部分領域41aおよび41bの大きさは、開口絞り12cの開口部31の大きさに依存する。瞳部分領域41aと41bとの中心間距離は、回折格子11における位相領域11a,11bのピッチに依存する。図1、図3および図5を参照すると、瞳部分領域41aおよび結像光学系20を経た1次回折光40a、並びに瞳部分領域41bおよび結像光学系20を経た-1次回折光40bは、計測部13の計測用開口部13fを介して、対物光学系13aに入射する。対物光学系13aを経た1次回折光40a,40bは、対物光学系13aの瞳面13pに配置された検出面13baにおいて光電検出器13bにより検出される。なお、図1では、図面の明瞭化のために、結像光学系20の像面20iから下側に間隔を隔てて計測部13を配置した様子を示している。以下、説明を単純化するために、回折格子11を経て生成された1次回折光40aの強度と-1次回折光40bの強度とが互いに同じであり、且つ結像光学系20の像面20iに達したときの1次回折光40aと-1次回折光40bとの強度比が、計測部13の検出面13baにおいて検出される1次回折光40aと-1次回折光40bとの強度比に一致するものとする。換言すれば、計測部13は、対物光学系13aの瞳透過率分布の影響などを受けることなく、結像光学系20の像面20iに達したときの1次回折光40aと-1次回折光40bとの強度比を正確に計測することができるものとする。この場合、測定装置10では、1次回折光40aの強度の計測値および-1次回折光40bの強度の計測値に基づいて、瞳部分領域41aにおける瞳透過率と瞳部分領域41bにおける瞳透過率との比を求め、ひいては瞳部分領域41aおよび41bに関して結像光学系20の瞳透過率分布を測定する。なお、測定装置10において測定すべき瞳透過率分布は、瞳有効領域20peにおける瞳透過率の絶対値の分布ではなく、瞳透過率分布の相対比情報であって、例えば瞳有効領域20peの中心光軸AX1の位置における瞳透過率を1としたときの規格化された分布である。測定装置10では、間隔を隔てた一対の瞳部分領域41aおよび41bに関して結像光学系20の瞳透過率分布を測定する際に、瞳部分領域41aの中心と瞳部分領域41bの中心とを結ぶ線分の中点41cに光学的に対応する位置に開口部31を配置している。このことは、瞳有効領域20peにおいて測定すべき一対の瞳部分領域に対応する位置に開口部31が配置されるように開口絞り12cをxy平面に沿ってステップ移動させつつ計測部13による計測を繰り返すことにより、任意の一対の瞳部分領域における瞳透過率の比の集合が得られ、ひいては所望の分布にしたがう所望数の瞳部分領域に関して結像光学系20の瞳透過率分布を測定することができることを意味している。具体的に、開口絞り12cをxy平面に沿ってステップ移動させつつ、ひいては回折格子11に入射する測定光の入射角度を変化させつつ、任意の一対の瞳部分領域における瞳透過率の比を順次求めることにより、瞳有効領域20peの全体に亘って分布する所望数の瞳部分領域間の瞳透過率の相対情報が得られる。そして、瞳有効領域20peにおけるこれらの離散的な瞳透過率の相対値の分布を、例えばツェルニケフィッティングすることにより、結像光学系20の二次元的な瞳透過率分布が関数化分布として直接的に得られる。なお、離散的な計測値の分布をツェルニケフィッティングして関数化分布を得る手法は、波面収差を対象とした通常のツェルニケフィッティングを参照することができ、線形最小二乗法で算出できる。なお、測定装置10では、回折格子11を介して、回折格子の製造誤差に起因した0次光、±3次回折光、±5次回折光なども発生する。この場合、±3次回折光、±5次回折光などを測定対象外にするとともに、±3次回折光、±5次回折光などが結像光学系20の瞳20pにおいて測定対象である±1次回折光と重なり合わないように設定すれば良い。ただし、現実的には、±5次回折光およびそれ以上の高次回折光の強度は測定対象である±1次回折光の強度に比して著しく小さく無視することができる。0次光と±3次回折光とが被検光学系の瞳において±1次回折光と重なり合わないように設定する手法については、第2実施形態において具体的に説明する。以上のように、測定装置10において、回折格子11は、被検光学系である結像光学系20の瞳20pと光学的にフーリエ変換の関係にある物体面20oに設置可能である。照明光学系12は、物体面20oに設置された回折格子11を経て生成された1次回折光41aが瞳有効領域20pe内の瞳部分領域41aを通過し且つ回折格子11を経て生成された-1次回折光40bが瞳有効領域20pe内において瞳部分領域41aから離れた瞳部分領域41bを通過するように、結像光学系20の光軸AX1に対して傾いた光束ただし、垂直入射する光束を含むことを排除しないを物体面20oの所定位置に入射させる。計測部13は、瞳部分領域41aおよび結像光学系20を経た1次回折光40aの強度および瞳部分領域41bおよび結像光学系20を経た-1次回折光40bの強度を計測する。第1実施形態の測定装置10では、2種類の位相領域11aと11bとが交互に配置された位相回折格子11を用いているので、回折格子11を経て生成される回折光のうち測定対象となる±1次回折光成分の強度は互いに等しい。その結果、計測部13の光電検出器13bでは比較的狭いダイナミックレンジを用いて各回折光成分の高精度な検出が可能であり、ひいては結像光学系20の瞳透過率分布を高精度に測定することができる。また、πの位相差を有する2種類の位相領域11aと11bとが交互に配置された位相回折格子11を用いているので、測定対象でない0次光が発生して±1次回折光成分の強度の計測に影響を及ぼすことがなく、各成分の高精度な検出が可能である。また、回折格子11の姿勢を変化ピッチ方向を変化させたり特性の異なるピッチの異なる他の回折格子と交換したりすることなく、単一の開口部31を有する開口絞り12cを所要回数に亘ってxy平面に沿ってステップ移動させるだけで、結像光学系20の瞳透過率分布を比較的低い負荷で迅速に測定することができる。換言すれば、回折格子11を固定的に設置した状態で、開口絞り12cの開口部31をxy平面に沿ってステップ移動させて、回折格子11へ入射する測定光の入射角度を変化させるだけで、結像光学系20の瞳透過率分布を比較的低い負荷で迅速に測定することができる。第1実施形態の測定装置10では、各回折光成分の強度を正確に検出するために瞳部分領域41aと41bとが離れていることが重要であり、瞳透過率分布を正確に測定するために瞳部分領域41a,41bの大きさひいては開口部31の大きさをある程度小さく抑えることが重要である。すなわち、開口絞り12cの開口部31に光学的に対応する一対の瞳部分領域41a,41bの中心間距離を過度に大きく設定しなくてもよいので、回折格子11における位相領域11aと11bとのピッチを過度に小さく設定する必要がなく、ひいては回折格子11の製作が容易である。なお、上述の第1実施形態に関する説明では、単一の開口部31が設けられた開口絞り12cをステップ移動させつつ計測部13による計測を繰り返している。しかしながら、これに限定されることなく、複数の開口部が設けられた開口絞りを用いて、そのステップ移動の回数、ひいては計測部による計測の回数を減らすことにより、結像光学系20の瞳透過率分布をさらに迅速に測定することもできる。一例として、図8に、照明瞳12pにおいて光軸AX2を挟んでy方向に対称配置された一対の開口部を経た第1光束と第2光束とが同時に回折格子11上の所定位置に斜め入射して、第1光束に対する第1の±1次回折光と第2光束に対する第2の±1次回折光とが生成される様子を示す。あるいは、所要の分布にしたがって配置された複数の開口部を有する開口絞り12cを用いて、開口部と同数の光束を回折格子11上の所定位置に同時に供給し、各光束について生成された±1次回折光に基づいて結像光学系20の瞳透過率分布を一括的に測定することもできる。この場合、開口絞り12cをステップ移動させる必要がなく、計測部13による計測も1回だけになるので、瞳透過率分布の測定を最も迅速に行うことができる。複数の開口部を有する開口絞りを用いて被検光学系の瞳透過率分布を一括的に測定する手法については、第2実施形態において具体的に説明する。また、上述の第1実施形態に関する説明では、開口絞り12cが、照明瞳12pにおいて光軸AX2から離れた位置に局在した光強度分布を有する1つの円形状の局在光束を形成する局在光束形成部として機能している。しかしながら、これに限定されることなく、照明瞳に形成される局在光束の数、形状、大きさ、位置などについて様々な形態が可能である。具体的に、例えば多角形状の局在光束を形成するために多角形状の開口部を設けたり、光軸AX2の位置に局在した局在光束を含むように光軸AX2の位置にも開口部を配置したりしても良い。また、開口部12cに代えて、あるいは開口部12cに加えて、空間光変調器12aを局在光束形成部として機能させることもできる。この場合、局在光束形成部としての空間光変調器12aは、照明瞳12pにおいて光軸AX2から離れた位置に局在した少なくとも1つの光強度分布を形成するために、照明瞳12pへ向かう光束に角度分布を与える。具体的に、空間光変調器12aとして、回折光学素子だけを用いても良いし、ミラーアレイだけを用いても良いし、回折光学素子とミラーアレイとを併用しても良い。回折光学素子だけを用いる場合、特性の異なる複数の回折光学素子を準備し、回折格子11へ入射させる光束に必要な入射角度に応じて所要の回折光学素子を照明光路中に設定する必要がある。ミラーアレイだけを用いる場合、回折格子11へ入射させる光束に必要な入射角度に応じて複数のミラー要素を個別に制御すれば良い。具体的に、ミラーアレイの複数のミラー要素を個別に制御することにより、入射角度を変化させつつ1つまたは複数の光束を順次回折格子11へ入射させても良いし、様々な入射角度を有する複数の光束を同時に回折格子11へ入射させても良い。また、上述の第1実施形態に関する説明では、回折格子11として、πの位相差を有する2種類の位相領域11aと11bとが一方向に沿って交互に配置された形態を有する位相回折格子を用いている。しかしながら、これに限定されることなく、回折格子の具体的な構成については様々な形態が可能である。例えばπ以外の適当な位相差を有する2種類の位相領域が一方向に沿って交互に配置された形態の回折格子を用いることができる。この場合、0次光が発生することになるが、この0次光を測定対象外にするとともに、0次光が結像光学系20の瞳20pにおいて±1次回折光と重なり合わないように設定すれば良い。また、例えば2種類の矩形状の位相領域がチェックフラッグパターンを形成するように配置された回折格子、すなわち2種類の矩形状の位相領域が市松格子状に配置された形態の回折格子を用いることができる。この場合、回折格子に入射する1つの光束に対して一対の1次回折光と一対の-1次回折光とが生成される。πの位相差を有する2種類の矩形状の位相領域が市松格子状に配置された形態の回折格子を用いて被検光学系の瞳透過率分布を測定する手法については、第2実施形態において具体的に説明する。また、位相型の回折格子11に代えて、明暗型の回折格子を用いることもできる。この場合、被検光学系の瞳と光学的にフーリエ変換の関係にある位置に固定的に設置された回折格子に入射する測定光の入射角度を変化させつつ、被検光学系の瞳透過率分布を比較的低い負荷で迅速に測定することができる。すなわち、明暗パターンのピッチが互いに異なる複数の回折格子を準備して、ピッチ方向を変化させつつ各回折格子を用いた測定を繰り返さなくても良い。また、上述の第1実施形態に関する説明では、計測部13が対物光学系13aの瞳透過率分布の影響を受けることなく、1次回折光40aと-1次回折光40bとの強度比を正確に計測することができるものと想定している。ただし、対物光学系13aの瞳透過率分布の影響が無視できる程度に小さくない場合には、以下の手法にしたがって、対物光学系13aの瞳透過率分布に起因する計測結果の誤差分を検出し、結像光学系20の瞳透過率分布の測定結果を較正することができる。まず、対物光学系13aの瞳透過率分布に起因する計測結果の誤差分の検出動作すなわち計測部13のキャリブレーション動作に際して、図9に示すように、回折格子11に代えて、例えば回折格子11と同じ厚さおよび同じ屈折率を有する平行平面板14を結像光学系20の物体面20oに設置する。そして、開口部31から平行平面板14上の所定位置回折格子11への測定光束の入射位置と同じ位置へ入射して結像光学系20を経た光が較正用位相回折格子13hを通過するように、計測部13をxy平面に沿って位置決めする。較正用位相回折格子13hは、回折格子11と同様に、πの位相差を有する2種類の位相領域がy方向に沿って交互に配置された形態を有する。この場合、例えば図6に示すように設置された開口絞り12cの開口部31から射出されて平行平面板14および結像光学系20を通過した較正光束平行平面板14により回折されない光束は、較正用位相回折格子13hにより回折される。較正用位相回折格子13hを経て生成された1次回折光42aあるいは42bおよび-1次回折光42bあるいは42aは、対物光学系13aを介して、その瞳面13pに配置された光電検出器13の検出面13baに達する。計測部13は、1次回折光42aの強度および-1次回折光42bの強度を計測する。ここで、較正用位相回折格子13hは、1次回折光42aが図1を参照して説明した1次回折光40aに対応し且つ-1次回折光42bが-1次回折光40bに対応するように構成されている。その結果、計測部13では、1次回折光42aおよび-1次回折光42bの強度の計測値を用いて一対の瞳部分領域41a,41bにおける瞳透過率の比の算出結果を較正する。さらに、開口部31を有する開口絞り12cをxy平面に沿ってステップ移動しつつ計測部13による計測を繰り返すことにより、結像光学系20の瞳有効領域20pe内の任意の一対の瞳部分領域における瞳透過率の比の算出結果を較正する。こうして、対物光学系13aの瞳透過率分布に起因する計測結果の誤差分を検出し、結像光学系20の瞳透過率分布の測定結果を較正することができる。なお、複数の開口部が設けられた開口絞りを用いる場合、そのステップ移動の回数、ひいては計測部による計測の回数を減らすことにより、対物光学系13aの瞳透過率分布に起因する計測結果の誤差分をさらに迅速に検出することができる。あるいは、所要の分布にしたがって配置された複数の開口部を有する開口絞りを用いる場合、開口部と同数の光束を平行平面板14上の所定位置に同時に供給し、各光束について較正用位相回折格子13hを経て生成された±1次回折光に基づいて対物光学系13aの瞳透過率分布に起因する計測結果の誤差分を一括的に検出することもできる。結像光学系20の瞳透過率分布の測定に使用する回折格子11の構成に応じて、較正用位相回折格子13hとして、例えばπ以外の適当な位相差を有する2種類の位相領域が一方向に沿って交互に配置された形態の回折格子を用いることができる。また、較正用位相回折格子13hとして、例えば2種類の矩形状の位相領域がチェックフラッグパターンを形成するように配置された回折格子、すなわち2種類の矩形状の位相領域が市松格子状に配置された形態の回折格子を用いることもできる。また、上述の第1実施形態に関する説明では、計測部13が、対物光学系計測光学系13aと、対物光学系13aの瞳面結像光学系20の瞳20pと光学的に共役な面13pにおいて±1次回折光成分を光電変換して検出する光電検出器13bとを有する。しかしながら、計測部の具体的な構成については様々な形態が可能である。例えば、図10に示すように、PDIPointDiffractionInterferometer点回折干渉計やLDILineDiffractionInterferometer線回折干渉計を利用する計測部13Aを用いることもできる。このようなPDI/LDI型の計測部13Aは、平面状の入射面13Aiを有する光透過性基板13Aaと、光透過性基板13Aaの平面状の射出面13Ajと接触するように配置された検出面13baを有する光電検出器13bとを備えている。光透過性基板13Aaの入射平面13Aiには、図11に示すように、例えばクロム又は酸化クロムで形成された遮光部13Aeと、計測用開口部13Afと、球面基準波発生用ピンホール13Agと、瞳透過率分布計測結果を較正するための較正用位相回折格子13Ahとが形成されている。計測部13Aの構成において較正用位相回折格子13Ahを除く部分は、例えば特表2008-502126号公報およびそれに対応する米国特許公開第2008/0252876A1号公報の図3に開示されている。計測部13Aでは、計測用開口部13Afを通過する被検光学系からの波面と、球面基準波発生用ピンホール13Agから生じる球面波とを干渉させて、光電検出器13bの検出面13ba上に干渉縞を形成する。この干渉縞は、被検光学系の波面収差の情報を含んでいる。ここで、計測用開口部13Afのみに光が入射するようにすれば、検出面13ba上には、被検光学系の瞳透過率分布に応じた光強度分布が形成される。そして、較正用位相回折格子13Ahのみに光が入射されるようにすれば、光透過性基板13Aaの透過率分布に起因する計測結果の誤差分を検出することができる。なお、光電検出器13bの検出面13baは、NAが1を超える光束を受光するために光透過性基板13Aaの射出面13Ajに接触している。また、例えば図12に示すように、シアリング干渉計を利用する計測部13Bを用いることもできる。計測部13Bは、計測部13Aと同様に、平面状の入射面13Biを有する光透過性基板13Baと、光透過性基板13Baの平面状の射出面1BAjと接触するように配置された検出面13baを有する光電検出器13bとを備えている。光透過性基板13Baの入射平面13Biには、図13に示すように、例えばクロム又は酸化クロムで形成された遮光部13Beと、計測用開口部13Bfと、波面計測用回折格子13Bgと、瞳透過率分布計測結果を較正するための較正用位相回折格子13Bhとが形成されている。計測部13Bの構成において計測用開口部13Bfおよび較正用位相回折格子13Bhを除く部分は、例えば上記特許文献6の図2や図5、上記特許文献7~8などに開示されている。ここでは上記特許文献6~8の開示を参照として援用する。計測部13Bでは、被検光学系からの波面が波面計測用回折格子13Bgによって横ずらしされ、互いに横ずらしされた波面同士が干渉して光電検出器13bの検出面13ba上に干渉縞を形成する。この干渉縞は、被検光学系の波面収差の情報を含んでいる。ここで、計測用開口部13Bfのみに光が入射するようにすれば、検出面13ba上には、被検光学系の瞳透過率分布に応じた光強度分布が形成される。そして、較正用位相回折格子13Bhのみに光が入射されるようにすれば、光透過性基板13Baの透過率分布に起因する計測結果の誤差分を検出することができる。なお、光電検出器13bの検出面13baは、NAが1を超える光束を受光するために光透過性基板13Baの射出面13Bjに接触している。また、上述の第1実施形態に関する説明では、回折格子11へ供給する測定光束の偏光状態に言及していないが、被検光学系である結像光学系20の瞳透過率分布が入射光の偏光状態に比較的大きく依存することがある。この場合、例えばx方向に偏光した直線偏光状態で回折格子11へ入射する測定光を用いてx方向直線偏光に関する結像光学系20の瞳透過率分布を測定し、y方向に偏光した直線偏光状態で回折格子11へ入射する測定光を用いてy方向直線偏光に関する結像光学系20の瞳透過率分布を測定すれば良い。また、上述の第1実施形態に関する説明では、第1の入射角度を有する第1の測定光束が回折格子11を経て生成する±1次回折光に基づいて第1の対の瞳部分領域における瞳透過率の比を求め、第2の入射角度を有する第2の測定光束が回折格子11を経て生成する±1次回折光に基づいて第2の対の瞳部分領域における瞳透過率の比を求めている。ただし、第1の対の瞳部分領域における瞳透過率比と第2の対の瞳部分領域における瞳透過率比とは必ずしも同一条件で計測されていないため、第1の対の瞳部分領域における瞳透過率と第2の対の瞳部分領域における瞳透過率との比を正確に求めていることにはならない。したがって、必要に応じて、第1の測定光束および第2の測定光束による計測の前または後に、回折格子11の所定位置に第3の測定光束を入射させることにより、第1の対の瞳部分領域における瞳透過率と第2の対の瞳部分領域における瞳透過率との比を求め、この瞳透過率比に基づいて瞳透過率分布の相対比情報を補完することができる。このとき、第3の測定光束は、回折格子11を経て生成される1次回折光が第1の対の瞳部分領域を包含する第1包含領域内の瞳部分領域を通過し、回折格子11を経て生成される-1次回折光が第2の対の瞳部分領域を包含する第2包含領域内の瞳部分領域を通過するように所要の入射角度で回折格子11へ入射する。上述のように瞳透過率分布の相対比情報を補完する手法については、第2実施形態において具体的に説明する。図14は、第2実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。すなわち、第2実施形態は、被検光学系としての投影光学系PLの瞳透過率分布を測定する測定装置を備えた露光装置に適用される。図14において、感光性基板であるウェハWの表面転写面の法線方向に沿ってZ軸を、ウェハWの表面内において図1の紙面に平行な方向にY軸を、ウェハWの表面内において図1の紙面に垂直な方向にX軸をそれぞれ設定している。図14を参照すると、第2実施形態の露光装置では、光源LSから露光光照明光が供給される。光源LSとして、たとえば193nmの波長の光を供給するArFエキシマレーザ光源や、248nmの波長の光を供給するKrFエキシマレーザ光源などを用いることができる。光源LSから射出された光は、照明光学系ILを介して、転写すべきパターンが形成されたマスクレチクルMを照明する。ステップアンドリピート方式の露光装置の場合、照明光学系ILは、マスクMの矩形状のパターン領域の全体を照明する。ステップアンドスキャン方式の露光装置の場合、照明光学系ILは、矩形状のパターン領域のうち、走査方向であるY方向と直交するX方向に沿って細長い矩形状の領域を照明する。光源LSから射出された光束は、図15に示すように、周知の構成を有するビーム送光系51に入射する。ビーム送光系51に入射した光束は、所定の矩形状の断面を有する光束に整形された後、ビーム形状可変部52を介して、マイクロフライアイレンズまたはフライアイレンズ53に入射する。ビーム送光系51は、入射光束を適切な大きさおよび形状の断面を有する光束に変換しつつビーム形状可変部52へ導くとともに、ビーム形状可変部52ひいてはマイクロフライアイレンズ53に入射する光束の位置変動および角度変動をアクティブに補正する機能を有する。ビーム形状可変部52は、空間光変調器52a、リレー光学系53bなどを含み、マイクロフライアイレンズ53の入射面に形成される照野の大きさおよび形状を、ひいてはマイクロフライアイレンズ53の後側焦点面に形成される実質的な面光源の大きさおよび形状を変化させる機能を有する。空間光変調器52aとして、例えば制御部CRからの制御信号にしたがって照明光路に対して交換可能な複数の回折光学素子を用いることができる。回折光学素子は、入射光束の断面形状を異なる断面形状に変換する光学素子である。一般に、回折光学素子は、基板に露光光照明光の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され、入射ビームを所望の角度に回折する作用を有する。なお、制御部CRは、メモリMR等の記録媒体を有する処理装置コンピュータであってもよく、このメモリMRには、本実施形態にかかる測定方法、露光装置や空間変調器52aの制御方法を当該処理装置に実行させるプログラムが格納される。空間光変調器52aとして、例えば照明光路に対して固定的に設置されたミラーアレイを用いることもできる。ミラーアレイは、前述したように、所定面内に配列されて個別に制御可能な複数のミラー要素を有する空間光変調器である。ミラーアレイでは、例えば制御部CRからの制御信号に応じて複数のミラー要素がそれぞれ所定の向きに設定され、複数のミラー要素によりそれぞれ所定の角度で反射された光がマイクロフライアイレンズ53の入射面に所望の大きさおよび形状を有する照野を形成する。空間光変調器52aとして、回折光学素子とミラーアレイとを併用することもできる。マイクロフライアイレンズ53は、たとえば縦横に且つ稠密に配列された多数の正屈折力を有する微小レンズからなる光学素子であり、平行平面板にエッチング処理を施して微小レンズ群を形成することによって構成されている。マイクロフライアイレンズでは、互いに隔絶されたレンズエレメントからなるフライアイレンズとは異なり、多数の微小レンズ微小屈折面が互いに隔絶されることなく一体的に形成されている。しかしながら、レンズ要素が縦横に配置されている点でマイクロフライアイレンズはフライアイレンズと同じ波面分割型のオプティカルインテグレータである。マイクロフライアイレンズ53における単位波面分割面としての矩形状の微小屈折面は、マスクM上において形成すべき照野の形状ひいてはウェハW上において形成すべき露光領域の形状と相似な矩形状である。なお、マイクロフライアイレンズ53として、例えばシリンドリカルマイクロフライアイレンズを用いることもできる。シリンドリカルマイクロフライアイレンズの構成および作用は、例えば米国特許第6913373号明細書に開示されている。マイクロフライアイレンズ53に入射した光束は多数の微小レンズにより二次元的に分割され、その後側焦点面またはその近傍の照明瞳ILpには、入射面に形成される光強度分布とほぼ同じ光強度分布を有する二次光源多数の小光源からなる実質的な面光源:瞳強度分布が形成される。マイクロフライアイレンズ53の直後の照明瞳ILpに形成された二次光源からの光束は、照明開口絞り54に入射する。照明開口絞り54は、マイクロフライアイレンズ53の後側焦点面またはその近傍に配置され、二次光源に対応した形状の開口部光透過部を有する。照明開口絞り54は、照明光路に対して挿脱自在に構成され、且つ大きさおよび形状の異なる開口部を有する複数の開口絞りと切り換え可能に構成されている。照明開口絞り54の切り換え方式として、たとえば周知のターレット方式やスライド方式などを用いることができる。照明開口絞り54は、後述する投影光学系PLの瞳PLpと光学的に共役な位置に配置され、二次光源の照明に寄与する範囲を規定する。なお、照明開口絞り54の設置を省略することもできる。照明開口絞り54により制限された二次光源からの光は、コンデンサー光学系55を介して、マスクブラインド56を重畳的に照明する。こうして、照明視野絞りとしてのマスクブラインド56には、マイクロフライアイレンズ53の矩形状の微小屈折面の形状と焦点距離とに応じた矩形状の照野が形成される。マスクブラインド56の矩形状の開口部光透過部を介した光束は、照明結像光学系57の集光作用を受けた後、所定のパターンが形成されたマスクMを重畳的に照明する。すなわち、照明結像光学系57は、マスクブラインド56の矩形状の開口部の像をマスクM上に形成することになる。マスクMのパターン面を透過した光は、例えば縮小倍率を有する投影光学系PLを介して、フォトレジストが塗布されたウェハ感光性基板Wの単位露光領域にマスクMのパターン像を形成する。すなわち、マスクM上での照明領域に光学的に対応するように、ウェハWの単位露光領域において、マスクMのパターン領域全体と相似な矩形状の領域に、あるいはX方向に細長い矩形状の領域静止露光領域に、マスクパターン像が形成される。マスクMは、そのパターン面が投影光学系PLの物体面PLoと一致するように、マスクステージMS上においてXY平面と平行に保持されている。マスクステージMSには、X方向、Y方向、Z方向、およびZ軸廻りの回転方向にマスクMを移動させる機構が組み込まれている。マスクステージMSには図示を省略した移動鏡が設けられ、この移動鏡を用いるマスクレーザ干渉計MIFが、マスクステージMSひいてはマスクMのX方向の位置、Y方向の位置、およびZ軸廻りの回転方向の位置をリアルタイムに計測する。ウェハWは、その表面転写面が投影光学系PLの像面PLiと一致するように、基板ステージWS上においてXY平面と平行に保持されている。基板ステージWSには、X方向、Y方向、Z方向、およびZ軸廻りの回転方向にウェハWを移動させる機構が組み込まれている。基板ステージWSには図示を省略した移動鏡が設けられ、この移動鏡を用いる基板レーザ干渉計WIFが、基板ステージWSひいてはウェハWのX方向の位置、Y方向の位置、およびZ軸廻りの回転方向の位置をリアルタイムに計測する。マスクレーザ干渉計MIFの出力および基板レーザ干渉計WIFの出力は、制御部CRに供給される。制御部CRは、マスクレーザ干渉計MIFの計測結果に基づいて、マスクMのX方向の位置、Y方向の位置、およびZ軸廻りの回転方向の位置の制御を行う。即ち、制御部CRは、マスクステージMSに組み込まれている機構に制御信号を送信し、この機構が制御信号に基づいてマスクステージMSを移動させることにより、マスクMのX方向の位置、Y方向の位置、およびZ軸廻りの回転方向の位置の調整を行う。制御部CRは、オートフォーカス方式により、ウェハWの表面を投影光学系PLの像面PLiと一致させるために、ウェハWのZ方向の位置フォーカス位置の制御を行う。また、制御部CRは、基板レーザ干渉計WIFの計測結果に基づいて、ウェハWのX方向の位置、Y方向の位置、およびZ軸廻りの回転方向の位置の制御を行う。即ち、制御部CRは、基板ステージWSに組み込まれている機構に制御信号を送信し、この機構が制御信号に基づいて基板ステージWSを移動させることにより、ウェハWのX方向、Y方向およびZ軸廻りの回転方向の位置の調整を行う。ステップアンドリピート方式では、ウェハW上に縦横に設定された複数の単位露光領域のうちの1つの単位露光領域に、マスクMのパターン像を一括的に露光する。その後、制御部CRは、基板ステージWSをXY平面に沿ってステップ移動させることにより、ウェハWの別の単位露光領域を投影光学系PLに対して位置決めする。こうして、マスクMのパターン像をウェハWの単位露光領域に一括露光する動作を繰り返す。ステップアンドスキャン方式では、制御部CRは、投影光学系PLの投影倍率に応じた速度比でマスクステージMSおよび基板ステージWSをY方向に移動させつつ、マスクMのパターン像をウェハWの1つの単位露光領域に走査露光する。その後、制御部CRは、基板ステージWSをXY平面に沿ってステップ移動させることにより、ウェハWの別の単位露光領域を投影光学系PLに対して位置決めする。こうして、マスクMのパターン像をウェハWの単位露光領域に走査露光する動作を繰り返す。すなわち、ステップアンドスキャン方式では、マスクMおよびウェハWの位置制御を行いながら、矩形状の静止露光領域の短辺方向であるY方向に沿って、マスクステージMSと基板ステージWSとを、ひいてはマスクMとウェハWとを同期的に移動走査させることにより、ウェハW上には静止露光領域の長辺に等しい幅を有し且つウェハWの走査量移動量に応じた長さを有する領域に対してマスクパターンが走査露光される。以下、被検光学系である投影光学系PLと照明光学系ILとは、その光軸AXpおよびAXiがZ方向に延びる1本の直線に沿って共軸配置されているものとする。第2実施形態では、マイクロフライアイレンズ53により形成される二次光源を光源として、照明光学系ILの被照射面に配置されるマスクMをケーラー照明する。このため、二次光源が形成される位置は投影光学系PLの開口絞りASの位置ひいては投影光学系PLの瞳PLpの位置と光学的に共役であり、二次光源の形成面を照明光学系ILの照明瞳面と呼ぶことができる。典型的には、照明瞳面に対して被照射面マスクMが配置される面、または投影光学系PLを含めて照明光学系と考える場合にはウェハWが配置される面が光学的なフーリエ変換面となる。瞳強度分布とは、照明光学系ILの照明瞳面または当該照明瞳面と光学的に共役な面における光強度分布輝度分布である。マイクロフライアイレンズ53による波面分割数が比較的大きい場合、マイクロフライアイレンズ53の入射面に形成される大局的な光強度分布と、二次光源全体の大局的な光強度分布瞳強度分布;瞳輝度分布とが高い相関を示す。このため、マイクロフライアイレンズ53の入射面および当該入射面と光学的に共役な面における光強度分布についても瞳強度分布と称することができる。第2実施形態の露光装置は、投影光学系PLの波面収差を計測する計測装置13を備えている。計測装置13は、第1実施形態における計測装置13と同じ構成を有し、図1におけるx座標、y座標およびz座標が図14におけるX座標、Y座標およびZ座標にそれぞれ対応するように、基板ステージWSに取り付けられている。第2実施形態の測定装置10’図16を参照では、投影光学系PLを介して形成されるパターン像のコントラストの向上を図るために、露光装置に搭載された状態で投影光学系PLの瞳透過率分布を随時測定する。投影光学系PLの瞳透過率分布の測定に際して、図16に示すように、照明光学系IL中の照明開口絞り54に代えて照明開口絞り54の設置を省略する場合にはその位置に測定用開口絞り54aを設置し、マスクMに代えて測定用レチクルTRを設置する。さらに、制御部CRからの指令にしたがって基板ステージWSを移動させて、平凸レンズ13aaの入射平面13iが投影光学系PLの像面PLiに一致し且つ計測用開口部13fが像面PLi上の所定位置投影光学系PLを経た測定光が像面PLiに入射する位置に配置されるように計測装置13を位置決めする。測定装置10’は、照明瞳ILpに設置された測定用開口絞り54aを含む照明光学系ILと、測定用レチクルTRと、計測部13とを備えている。測定用開口絞り54aは、比較的単純な一例として、図17に示すように、9つの開口部61,62,63,64,65,66,67,68,69を有する。以下、説明を単純化するために、各開口部61~69は円形状であり、互いに同じ大きさを有するものとする。開口部61~64,66~69は、その中心点が中央の開口部65を中心とする正方形の頂点または各辺の中点と一致するように配列されているものとする。測定用開口絞り54aは、開口部65の中心点が照明光学系ILの光軸AXiに一致するように配置されているものとする。具体的には、開口部61~69のピッチPpiを、開口部61~69の直径Dpiの10倍程度に設定することができる。開口部61~69の直径Dpが大き過ぎると、各開口部61~69および測定用レチクルTRの位相格子を経て生成される±1次回折光が投影光学系PLの瞳PLpを通過する瞳部分領域瞳PLpに形成される回折スポット像同士が部分的に重なり合ってしまう。開口部61~69のピッチPpiについては、その絶対値に関して任意性があるが、後述するように測定用レチクルTRの位相格子のピッチPrと所定の相対関係を満たすように制約することができる。ただし、開口部61~69のピッチPpiが大き過ぎると、瞳部分領域同士が部分的に重なり合うことが容易に回避されるが、測定用開口絞り54aをXY平面に沿ってステップ移動させることなく投影光学系PLの瞳透過率分布を一括的に測定する場合には、瞳透過率分布情報の横分解能が犠牲になってしまう。測定用レチクルTRの表面には、図18に示すように、透過光に対して第1の位相値を付与する矩形状の第1位相領域11cと、透過光に対して第1の位相値とπだけ異なる第2の位相値を付与する矩形状の第2位相領域11dとが互いに直交する二方向に沿って交互に配置された位相格子位相パターンが形成されている。換言すれば、測定用レチクルTRの位相格子は、2種類の矩形状の位相領域11c,11dがチェックフラッグパターンを形成するように配置された形態すなわち2種類の矩形状の位相領域11c,11dが市松格子状に配置された形態を有する。以下の説明では、各位相領域11c,11dが正方形状で、互いに同じ大きさを有するものとする。また、測定用レチクルTRは、位相領域11c,11dのピッチ方向がX方向およびY方向と一致し、且つ回折光学面が投影光学系PLの物体面PLoと一致するように設置されるものとする。位相領域11c,11dのピッチPrについては、後述するように、開口絞り54aに設けられた開口部61~69のピッチPpiと所定の相対関係を満たすように制約することができる。開口絞り54aには、開口部61~69を含む所要領域例えば開口部61~69を包含する円形領域に光束が入射する。この場合、中央の開口部65を経た光束は、照明光学系ILから射出され、測定用レチクルTRの位相格子上の所定位置ひいては投影光学系PLの物体面PLoの所定位置に垂直入射投影光学系PLの光軸AXpと平行に入射する。開口部65を除く他の開口部61~64,66~69を経た光束、すなわち投影光学系PLの瞳PLpと光学的に共役な照明瞳ILpにおいて光軸AXiから離れた位置に局在した光強度分布を有する円形状の局在光束は、照明光学系ILから射出され、測定用レチクルTRの位相格子上の所定位置に、光軸AXpに対してひいては光軸AXiに対して傾いた8つの光束となって入射する。測定用レチクルTRへの9個の光束の入射位置は、例えばマスクブラインド56の作用により可変的に決定される。あるいは、マスクブラインド56の近傍に配置された視野絞り不図示、または物体面PLoの直前の位置に配置された視野絞り不図示などにより可変的に決定される。こうして、開口部61~69からの9つの光束は、測定用レチクルTRの位相格子上の同じ位置へ同時に入射する。以下、説明を単純化するために、照明光学系ILの照明瞳ILpと投影光学系PLの瞳PLpとは、X方向およびY方向に関して照明瞳ILpの正立像を瞳PLpに形成する共役関係にあるものとする。測定用レチクルTRへ入射する1つの光束に着目すると、測定用レチクルTRの位相格子を経て生成された回折光のうち、測定対象である一対の1次回折光および一対の-1次回折光は、図19に示すように、投影光学系PLの瞳PLpの有効領域内の4つの瞳部分領域60aを通過し、投影光学系PLからそれぞれ射出される。4つの瞳部分領域60aは、開口部61~69と同様に円形状であり、互いに同じ大きさを有する。4つの瞳部分領域60aの各中心は、点60cを中心としてX方向およびY方向に延びる4つの辺によって規定される正方形の頂点位置にある。点60cは、測定用レチクルTRの位相格子を経て0次光が仮に発生したときに、その0次光が瞳PLpを通過する領域60dの中心である。すなわち、4つの瞳部分領域60aの中心位置60cは、開口絞り54aの該当する開口部の位置に依存する。瞳部分領域60aの大きさは、開口絞り54aの各開口部61~69の大きさに依存する。瞳部分領域60aのピッチPppは、測定用レチクルTRの位相格子における位相領域11c,11dのピッチPrに依存する。具体的に、瞳部分領域60aのピッチPppは、光の波長をλとし、投影光学系PLの入射側物体側の開口数をNAoとするとき、次の式1で表される。また、瞳部分領域60aの中心と点60cとの距離Lpcは、次の式2で表される。なお、式1および式2では、ピッチPrを、投影光学系PLに入射する光束の開口数NAoで規格化している。Ppp=2×λ/Pr/NAo...1Lpc=√2×λ/Pr/NAo...2開口絞り54aの9つの開口部61~69および測定用レチクルTRの位相格子を経て生成された±1次回折光は、図20に示すように、投影光学系PLの瞳PLpの有効領域PLpe内の36個=4×9の瞳部分領域61a~69aを通過し、投影光学系PLからそれぞれ射出される。36個の瞳部分領域61a~69aの配列パターンは、図17に示す開口絞り54aの9つの開口部61~69の配列パターンと、図19に示すように1つの光束に対して発生する±1次回折光が投影光学系PLの瞳PLpを通過する4つの瞳部分領域60aの配列パターンとのコンボリューションにより得られる。後述するように、投影光学系PLの瞳PLpにおいて測定対象外の±3次回折光が測定対象の±1次回折光と重なり合うことを回避するために、図20において1つの光束に対応する4つの瞳部分領域と別の光束に対応して隣り合う4つの瞳部分領域とのX方向間隔およびY方向間隔が、4つの瞳部分領域のピッチPppの半分の値すなわちPpp/2になるように、36個の瞳部分領域61a~69aが配列されるものとする。この場合、4つの瞳部分領域の中心と、これに隣り合う4つの瞳部分領域の中心との距離すなわち開口部のピッチPpiに光学的に対応する距離は、4つの瞳部分領域のピッチPppの3/2倍の値になる。36個の瞳部分領域61a~69aおよび投影光学系PLを経た±1次回折光は、計測部13の計測用開口部13fを介して、対物光学系13aに入射する。対物光学系13aを経た±1次回折光は、瞳面13pに配置された検出面13baにおいて光電検出器13bにより検出される。その結果、検出面13baにおいても、投影光学系PLの瞳PLpにおける36個の瞳部分領域61a~69aの配列パターンと同様に離散的に分布する36個の円形状の光入射領域不図示が形成される。以下、説明を単純化するために、測定用レチクルTRの位相格子を経て生成された36個の±1次回折光の強度が互いに同じであり、且つ投影光学系PLの像面PLiに達したときの36個の±1次回折光の相互の強度比が、計測部13の検出面13baにおいて検出される36個の±1次回折光の相互の強度比に一致するものとする。換言すれば、計測部13は、対物光学系13aの瞳透過率分布の影響などを受けることなく、投影光学系PLの像面PLiに達したときの36個の±1次回折光の相互の強度比を正確に計測することができるものとする。この場合、測定装置10’は、所要の分布にしたがって配列された9つの開口部61~69を有する開口絞り54aを用いて、開口部61~69と同数の9つの光束を測定用レチクルTRの位相格子上の所定位置に同時に供給し、各光束について生成された合計36個の±1次回折光の強度を計測部13により計測する。測定装置10’は、その計測値に基づいて、投影光学系PLの瞳有効領域PLpeの全体に亘って分布する36個の瞳部分領域61a~69aにおける瞳透過率の相対比を求め、ひいては36個の瞳部分領域61a~69aに関して投影光学系PLの瞳透過率分布を一括的に測定する。その結果、投影光学系PLの瞳有効領域20peの全体に亘って分布する36個の瞳部分領域間の瞳透過率の相対情報が得られ、これらの離散的な瞳透過率の相対値の分布を、例えばツェルニケフィッティングすることにより、投影光学系PLの二次元的な瞳透過率分布が関数化分布として直接的に得られる。このように、第2実施形態の測定装置10’では、開口絞り54aをステップ移動させる必要がなく、計測部13による計測も1回だけになるので、露光装置に搭載された状態で投影光学系PLの瞳透過率分布を高精度に且つ迅速に随時測定することができる。以上のように、第2実施形態の測定装置10’では、2種類の位相領域11c,11dがチェックフラッグパターンを形成するように配置された位相格子が設けられた測定用レチクルTRを用いているので、測定用レチクルTRの位相格子を経て生成される回折光のうち測定対象となる±1次回折光成分の強度は互いに等しい。その結果、計測部13の光電検出器13bでは比較的狭いダイナミックレンジを用いて各回折光成分の高精度な検出が可能であり、ひいては投影光学系PLの瞳透過率分布を高精度に測定することができる。また、πの位相差を有する2種類の位相領域11cと11dとが交互に配置された位相格子が設けられた測定用レチクルTRを用いているので、測定対象でない0次光が発生して±1次回折光成分の強度の計測に影響を及ぼすことがなく、各成分の高精度な検出が可能である。また、測定用レチクルTRの姿勢を変化させたり特性の異なる他の測定用レチクルと交換したりする必要がなく、複数の開口部61~69を有する開口絞り54aを照明光路に固定的に設置するだけで、投影光学系PLの瞳透過率分布を一括的に測定すること、すなわち非常に低い負荷で迅速に測定することができる。換言すれば、測定用レチクルTRおよび開口絞り54aを固定的に設置した状態で、計測部13による1回の計測結果に基づいて、投影光学系PLの瞳透過率分布を非常に低い負荷で迅速に測定することができる。第2実施形態の測定装置10’では、各回折光成分の強度を正確に検出するために36個の瞳部分領域61a~69aが互いに離れていることが重要であり、瞳透過率分布を正確に測定するために瞳部分領域61a~69aの大きさひいては開口部61~69の大きさをある程度小さく抑えることが重要である。すなわち、開口絞り54aの開口部61~69に光学的に対応する各瞳部分領域61a~69aの中心間距離を過度に大きく設定しなくてもよいので、測定用レチクルTRの位相格子における位相領域11cと11dとのピッチPrを過度に小さく設定する必要がなく、ひいては測定用レチクルTRの製作が容易である。第2実施形態の露光装置では、制御部CRが、測定装置10’により測定装置10’による測定方法を用いて測定された投影光学系PLの瞳透過率分布の測定結果に基づいて、マスクMのパターンを照明する照明条件を変更して所望の露光を行う。具体的に、制御部CRは、瞳透過率分布の測定結果を参照して、投影光学系PLを介して形成されるパターン像のコントラストが向上するように、例えば空間光変調器52aを含むビーム形状可変部52へ制御信号を供給し、空間光変調器52aなどの作用によりマスクMのパターン面に形成される照明領域での照度分布、および/または照明瞳ILpでの瞳輝度分布を変更する。また、第2実施形態の露光装置では、照度分布および/または瞳輝度分布の変更に代えて、あるいは照度分布および/または瞳輝度分布の変更に加えて、測定装置10’により測定された投影光学系PLの瞳透過率分布の測定結果に基づいて作成されたパターンを有するマスクMを用いて、投影光学系PLを介して形成されるパターン像のコントラストの向上を図ることもできる。第2実施形態の露光装置では、例えば所定のプログラムにしたがって、情報処理装置としての制御部CRに、測定装置10’による測定方法を実行させても良い。なお、第2実施形態の測定装置10’においても、第1実施形態における測定装置10の場合と同様に、測定用レチクルTRの位相格子を介して、±3次回折光、±5次回折光などが発生する。この場合、±3次回折光、±5次回折光などを測定対象外にするとともに、測定対象である±1次回折光に比して著しく強度の小さい±5次回折光およびそれ以上の高次回折光を無視し、±3次回折光が投影光学系PLの瞳PLpにおいて±1次回折光と重なり合わないように設定すれば良い。以下、第2実施形態において±3次回折光が投影光学系PLの瞳有効領域PLpe内において±1次回折光と重なり合わないように設定する手法について説明する。測定用レチクルTRへ入射する1つの光束に着目すると、測定用レチクルTRの位相格子を経て生成された回折光のうち、測定対象外である±3次回折光は、図21に示すように、投影光学系PLの瞳PLpにおいて12個の瞳部分領域60eを通過し、投影光学系PLからそれぞれ射出される。12個の瞳部分領域60eは、±1次回折光に関する4つの瞳部分領域60aと同様に円形状であり且つ互いに同じ大きさを有する。12個の瞳部分領域60eの各中心は、点60cを中心としてX方向およびY方向に延びる4つの辺によって規定される正方形の頂点位置、および各辺を3等分する点の位置にある。12個の瞳部分領域60eにおいてX方向,Y方向に隣り合う2つの中心間距離は、4つの瞳部分領域60aにおいてX方向,Y方向に隣り合う2つの中心間距離であるピッチPppと等しい。そして、12個の瞳部分領域60eの各中心を結んで形成される正方形の辺は、4つの瞳部分領域60aの各中心を結んで形成される正方形の辺の3倍の長さ=3×Pppを有する。したがって、開口絞り54aにおいてY方向に隣り合う2つの開口部64,65および測定用レチクルTRの位相格子を経て生成された±3次回折光は、図22に示すように、投影光学系PLの瞳PLpにおいて24個=12×2の瞳部分領域64e,65eを通過し、投影光学系PLからそれぞれ射出される。図22では、図面の明瞭化のために、他の開口部61~63,66~69および測定用レチクルTRの位相格子を経て生成された±1次回折光および±3次回折光に対応する瞳部分領域の図示を省略している。しかしながら、図22を参照すると、測定対象である±1次回折光に対応する36個の瞳部分領域61a~69aが図20に示す配列パターンを呈するように設定されているので、投影光学系PLの瞳PLpにおいて±3次回折光が±1次回折光と最も重なり合い難い関係になっていることが容易に推測される。ここで、図19~図22を参照して、±1次回折光に対応する36個の瞳部分領域61a~69aが図20に示す配列パターンを呈するときに満たすべき条件について考える。±1次回折光に対応する瞳部分領域60a;61a~69aのピッチPppは、前述の式1で表される。4つの瞳部分領域例えば64aの中心とこれに隣り合う4つの瞳部分領域例えば65aの中心との距離Ppe、すなわち投影光学系PLの瞳PLpにおいて開口部61~69のピッチPpiに光学的に対応する距離Ppeは、ピッチPppの3/2倍の値=3×λ/Pr/NAoに等しい。一方、距離Ppeは、開口部61~69のピッチPpiと投影光学系PLの瞳有効領域PLpeの半径Raとを用いて、次の式3で表される。Ppe=Ppi/Ra...3したがって、次の式4に示す関係を満足するときに、測定対象である±1次回折光に対応する36個の瞳部分領域61a~69aが図20に示すような配列パターンを呈し、ひいては投影光学系PLの瞳PLpにおいて±3次回折光が±1次回折光と最も重なり合い難くなる。現実的には、式4に示す関係をほぼ満足するように設定することにより、±3次回折光の影響を受けることなく瞳透過率分布の高精度な測定が可能になる。Ppi/Ra=3×λ/Pr/NAo...4なお、上述の第2実施形態に関する説明では、所要の分布にしたがって配置された複数の開口部を有する開口絞り54aを用いて、開口部と同数の光束を測定用レチクルTRの位相格子上の所定位置に同時に供給し、各光束について生成された±1次回折光に基づいて投影光学系PLの瞳透過率分布を一括的に測定している。しかしながら、これに限定されることなく、空間光変調器52aとしてのミラーアレイの作用により、開口絞り54aの各開口部を順次照明することにより、各開口部を経た光束を測定用レチクルTRの位相格子上の所定位置に順次供給し、各光束について順次生成された±1次回折光に基づいて投影光学系PLの瞳透過率分布を測定することもできる。さらに、開口絞り54aの設置を省略し、ミラーアレイの作用により、各開口部に対応する局在光束を同時にまたは順次形成する手法も可能である。また、上述の第2実施形態に関する説明では、計測部13が対物光学系13aの瞳透過率分布の影響を受けることなく、±1次回折光の相互の強度比を正確に計測することができるものと想定している。しかしながら、対物光学系13aの瞳透過率分布の影響が無視できる程度に小さくない場合には、第1実施形態に関連して説明した前述の手法にしたがって、計測部13の対物光学系13aの瞳透過率分布に起因する計測結果の誤差分を検出し、投影光学系PLの瞳透過率分布の測定結果を較正することができる。また、計測部13に代えて、PDI/LDI型の計測部13Aや、シアリング干渉計を利用する計測部13Bを用いることもできる。また、上述の第2実施形態に関する説明では、1つの光束に対応する4つの瞳部分領域における瞳透過率比と別の光束に対応する4つの瞳部分領域における瞳透過率比とが互いに同じ条件で計測されるものと想定している。しかしながら、この想定が成り立たない場合には、例えば4つの瞳部分領域64aにおける瞳透過率比を正確に求めることができ、且つ別の4つの瞳部分領域65aにおける瞳透過率比を正確に求めることができても、瞳部分領域64aにおける瞳透過率と瞳部分領域65aにおける瞳透過率との比を正確に求めることはできない。この場合、開口絞り54aを図17に示すように配置して行う測定の前または後に、例えば開口絞り54aをX方向にPpi/3だけ移動させ且つY方向にPpi/3だけ移動させた状態で測定を行う。その結果、開口絞り54aの開口部64および測定用レチクルTRの位相格子を経て生成された±1次回折光は、図23に示すように、投影光学系PLの瞳PLpにおいて4つの瞳部分領域64m1,64m2,64m3,64m4を通過し、投影光学系PLからそれぞれ射出される。このとき、4つの瞳部分領域64m1~64m4は、投影光学系PLの瞳PLpにおいて4つの瞳部分領域64aからX方向にPpe/3だけ移動し且つY方向にPpe/3だけ移動した位置にある。その結果、瞳部分領域64m1は1つの光束に対応する4つの瞳部分領域64aを包含する包含領域64r内にあり、瞳部分領域64m2は別の光束に対応する4つの瞳部分領域65aを包含する包含領域65r内にある。こうして、例えば瞳部分領域64m1における瞳透過率と瞳部分領域64m2における瞳透過率との比を求め、この瞳透過率比に基づいて瞳部分領域64aおよび65aについて瞳透過率分布の相対比情報を補完することができる。図23では、図面の明瞭化のために、開口絞り54aの他の開口部61~63,65~29および測定用レチクルTRの位相格子を経て生成された±1次回折光に対応する瞳部分領域の図示を省略している。しかしながら、図23を参照すれば、瞳部分領域61a~69aについて瞳透過率分布の相対比情報を補完することができることは容易に推測される。また、上述の第2実施形態に関する説明では、透過型のマスクMを用いる露光装置を対象としているため、透過型のマスクMに代えて透過型の測定用レチクルTRを用いている。しかしながら、例えば反射型のマスクを用いる露光装置の場合には、反射型のマスクに代えて反射型の測定用レチクルを用いることになる。また、上述の第2実施形態においても第1実施形態の場合と同様に、測定用レチクルの位相格子の具体的な構成、計測部の具体的な構成、照明瞳に形成される局在光束の数、形状、大きさ、位置などについては、様々な形態が可能である。また、上述の第2実施形態では、露光装置に用いられる投影光学系を被検光学系としたが、結像光学系であればどのような光学系であっても被検光学系とすることができる。また、例えばフーリエ変換光学系などの非結像光学系を被検光学系とする場合には、当該被検光学系を瞳透過率分布が既知のフーリエ変換光学系などと組み合わせて結像光学系を構成し、この結像光学系の瞳透過率分布の計測結果から、上述の組み合わせられた光学系の瞳透過率分布の分を差し引けば、非結像光学系の瞳透過率分布の計測結果を得ることができる。上述の実施形態では、マスクの代わりに、所定の電子データに基づいて所定パターンを形成する可変パターン形成装置を用いることができる。このような可変パターン形成装置を用いれば、パターン面が縦置きでも同期精度に及ぼす影響を最低限にできる。なお、可変パターン形成装置としては、たとえば所定の電子データに基づいて駆動される複数の反射素子を含むDMDデジタルマイクロミラーデバイスを用いることができる。DMDを用いた露光装置は、例えば上記特許文献9及び10に開示されている。また、DMDのような非発光型の反射型空間光変調器以外に、透過型空間光変調器を用いても良く、自発光型の画像表示素子を用いても良い。ここでは、上記特許文献10の教示を参照として援用する。上述の実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行っても良い。次に、上述の実施形態にかかる露光装置を用いたデバイス製造方法について説明する。図24は、半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図24に示すように、半導体デバイスの製造工程では、半導体デバイスの基板となるウェハWに金属膜を蒸着しステップS40、この蒸着した金属膜上に感光性材料であるフォトレジストを塗布するステップS42。つづいて、上述の実施形態の投影露光装置を用い、マスクレチクルMに形成されたパターンをウェハW上の各ショット領域に転写しステップS44:露光工程、この転写が終了したウェハWの現像、つまりパターンが転写されたフォトレジストの現像を行うステップS46:現像工程。その後、ステップS46によってウェハWの表面に生成されたレジストパターンをマスクとし、ウェハWの表面に対してエッチング等の加工を行うステップS48:加工工程。ここで、レジストパターンとは、上述の実施形態の投影露光装置によって転写されたパターンに対応する形状の凹凸が生成されたフォトレジスト層であって、その凹部がフォトレジスト層を貫通しているものである。ステップS48では、このレジストパターンを介してウェハWの表面の加工を行う。ステップS48で行われる加工には、例えばウェハWの表面のエッチングまたは金属膜等の成膜の少なくとも一方が含まれる。なお、ステップS44では、上述の実施形態の投影露光装置は、フォトレジストが塗布されたウェハWを、感光性基板つまりプレートPとしてパターンの転写を行う。図25は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図25に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程ステップS50、カラーフィルタ形成工程ステップS52、セル組立工程ステップS54およびモジュール組立工程ステップS56を順次行う。ステップS50のパターン形成工程では、プレートPとしてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、上述の実施形態の投影露光装置を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、上述の実施形態の投影露光装置を用いてフォトレジスト層にパターンを転写する露光工程と、パターンが転写されたプレートPの現像、つまりガラス基板上のフォトレジスト層の現像を行い、パターンに対応する形状のフォトレジスト層を生成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板の表面を加工する加工工程とが含まれている。ステップS52のカラーフィルタ形成工程では、RRed、GGreen、BBlueに対応する3つのドットの組をマトリックス状に多数配列するか、またはR、G、Bの3本のストライプのフィルタの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルタを形成する。ステップS54のセル組立工程では、ステップS50によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップS52によって形成されたカラーフィルタとを用いて液晶パネル液晶セルを組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルタとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。ステップS56のモジュール組立工程では、ステップS54によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。また、本実施形態は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子CCD等、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びDNAチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本実施形態は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスクフォトマスク、レチクル等をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程露光装置にも適用することができる。なお、上述の実施形態では、露光光としてArFエキシマレーザ光波長:193nmやKrFエキシマレーザ光波長:248nmを用いているが、これに限定されることなく、他の適当なレーザ光源、たとえば波長157nmのレーザ光を供給するF2レーザ光源なども本実施形態へ適用可能である。また、上述の実施形態において、投影光学系と感光性基板との間の光路中を1.1よりも大きな屈折率を有する媒体典型的には液体で満たす手法、所謂液浸法を適用しても良い。この場合、投影光学系と感光性基板との間の光路中に液体を満たす手法としては、上記特許文献11に開示されているような局所的に液体を満たす手法や、上記特許文献12に開示されているような露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる手法や、上記特許文献13に開示されているようなステージ上に所定深さの液体槽を形成し、その中に基板を保持する手法などを採用することができる。ここでは、上記特許文献11~13の教示を参照として援用する。また、上述の実施形態において、上記特許文献14及び15に開示されるいわゆる偏光照明方法を適用することも可能である。ここでは、上記特許文献14及び15の教示を参照として援用する。"