コヒーレント光ビームに対するスペックル低減装置であって、処理されるべき前記コヒーレント光ビームが通過するように構成されている光学素子20、120を備えるスペックル低減装置において、前記光学素子20、120を加熱することができる加熱手段22、123と、前記光学素子20、120を冷却することができるように前記光学素子20、120に結合された冷却素子26と、前記加熱手段および前記冷却素子を制御して、前記光学素子20、120にランダムなまたは擬似ランダムな熱的摂動を生じさせ、前記光学素子の屈折率に、対応する変動を生じさせるように構成された制御モジュール34、134と、を備えており、前記光学素子が圧電結晶であり、前記加熱手段が、前記結晶120の振動モードを励起して前記結晶を加熱するように、前記結晶120に取り付けられかつ前記制御手段134に接続された電極123を備えている、スペックル低減装置。前記熱的摂動は、前記屈折率が、50Hzより高い、好ましくは100Hzより高い周波数で変化するように行われる、請求項1に記載のスペックル低減装置。前記光学素子20、120が、処理されるべき前記ビームの波長に対して本質的に透過性である材料からなり、前記材料の屈折率が温度により変化する、請求項1または2に記載のスペックル低減装置。前記圧電結晶が水晶またはベルリナイトからなる、請求項1から3のいずれか一項に記載のスペックル低減装置。前記制御モジュール134が、前記圧電結晶の厚みすべりモードを励起するように構成されている、請求項1から4のいずれか一項に記載のスペックル低減装置。前記加熱手段が、前記光学素子20に取り付けられる1つまたは複数の抵抗加熱素子22を含む、請求項1から5のいずれか一項に記載のスペックル低減装置。前記結晶20、120の発振周波数を測定し、前記発振周波数に基づいて前記結晶の温度を決定する手段36を含んでいる、請求項1から6のいずれか一項に記載のスペックル低減装置。前記冷却素子26が、好ましくは放熱体30に関連付けられた、ペルチェ素子28を含む、請求項1から7のいずれか一項に記載のスペックル低減装置。前記結晶20、120が、厚さに対する直径、長さそれぞれの比が10を超える無限板の形態を有している、請求項1から8のいずれか一項に記載のスペックル低減装置。請求項1から9のいずれか一項に記載のスペックル低減装置を含む投影ユニット。請求項1から9のいずれか一項に記載のスペックル低減装置が設けられた投影ユニットを含むヘッドアップディスプレイ装置。請求項1から9のいずれか一項に記載のスペックル低減装置を含むコヒーレント光源。処理されるべきコヒーレント光ビームが光学素子20、120を通過する、スペックル低減方法において、前記光学素子が、加熱手段22、123および冷却素子26に関連付けられ、前記光学素子の屈折率が人間の眼の感度より高い周波数で変化するように、ランダムなまたは擬似ランダムに前記光学素子に熱的摂動がもたらされ、前記加熱手段が、前記結晶の振動モードを励起して前記結晶を加熱するように、前記結晶120に取り付けられる電極123を備えることを特徴とする方法。前記結晶20、120が無限板の形態を有し、厚みすべりモードが励起される、請求項13に記載の方法。本発明の目的は、既知の並進システムおよび回転システムの不都合のない、コヒーレント光ビームに対する改善されたスペックル低減システムを提案することである。本発明によれば、この目的は、コヒーレント光ビームに対するスペックル低減装置であって、処理されるべきコヒーレント光ビームが通過するように構成されている光学素子と、前記光学素子を加熱することができる手段と、前記光学素子を冷却することができるように、この光学素子に結合された冷却素子と、加熱手段および冷却素子を制御して、光学素子に熱的摂動をもたらし、この光学素子の対応する屈折率の変動をもたらすように構成された制御モジュールと、を備えるスペックル低減装置によって達成される。本発明の一態様によれば、処理されるべき光線が通過する光学素子は圧電結晶であり、結晶の少なくとも1つの振動モードは、その結晶の加熱をもたらすように励起される。これに関連して、圧電結晶は、好ましくは、結晶の厚みすべり振動として知られる振動モードこれは、実際には、明白な振動をもたらさずかつ作動に使用することができない、微小変形のモードであることが留意されるべきであるに付勢して使用されることが理解されよう。この場合、加熱手段は、有利には、所要の振動モードを励起することができるように結晶に取り付けられかつ制御モジュールに接続された電極を備える。したがって、ディフューザの回転または並進に基づくスペックル低減システムとは反対に、本発明による装置は、処理されるべきコヒーレント光ビームが通過する光学素子の屈折率の変動による、スペックル現象の減衰を提案する。したがって、採用されるスペックル低減原理は、光学素子の固有特性の変動に基づくものであり、ディフューザの変位には基づいていない。屈折率の変動は、光学素子において故意にもたらされる熱的摂動からもたらされることが理解されよう。実際には、既知であるように、媒体の屈折率はまた、この媒体の温度によっても決まる。言い換えれば、本発明は、透過性光学素子の屈折率の変動を、その光学素子の温度の初期温度たとえば25°Cからの変動をもたらすことによって利用する。温度変動は、光学素子における制御された温度変動の発生を可能にする、加熱手段および冷却素子の複合使用によって生成される。コントローラは、有利には、ランダムなまたは擬似ランダムな熱的摂動をもたらすように構成される。光学素子の屈折率の変動により、その光学素子を通過する光ビームの位相変動がもたらされ、また、熱的摂動の周波数および振幅を適当に制御することで、人間の眼に対する補償または平均化効果、したがってスペックル低減がもたらされる。この目的で、制御モジュールは、有利には、人間の眼の感度網膜知覚より高い周波数で屈折率の変動をもたらす熱的摂動を生成するように構成される。本発明を実施するために、光学素子に対して選択される材料は、処理されるべき光ビームの波長で本質的に透過性であるべきであり、その屈折率は、所要の現象を観察するために、所要の動作温度の範囲内で検出可能な変動を提供するべきである。好ましくは、屈折率の変動は、20°Cから125°Cの間でおよそ少なくとも15絶対値、好ましくはおよそ30である。光学素子を加熱する手段は、たとえば光学素子に取り付けられる1つまたは複数の抵抗加熱素子を備え得る。制御の改善のために、本装置は、有利には、光学素子の温度を確定する手段を含む。1つの可能性は、熱電対または他の適当な装置で温度を測定することからなる。しかしながら、透過性素子が圧電結晶である場合、結晶の温度を、水晶の熱弾性的結合により、したがって結晶の実際の発振周波数を測定することによって確定することができる。好ましくは、光学素子は、金属固定支持体によって保持され、それはまた、冷却素子との熱的結合も確実にする。冷却素子は、好ましくは放熱体に関連付けられたペルチェ素子を含むことができる。ペルチェ素子は、その制御および小型化装置における組込機能のために有利である。理解されるように、本スペックル低減装置は、コヒーレント光源を用いる投影ユニットにおいて主に適用される。したがって、追加の用途は、本スペックル低減装置が設けられた投影ユニットを含むヘッドアップディスプレイ装置の分野である。本発明による本装置に回転機構または並進機構がないことにより、極度の小型化が可能になり、装置のサイズは、およそ200μmの寸法に達することができることも留意されよう。したがって、本スペックル低減装置を、レーザ等のコヒーレント光源に直接組み込むことができ、光学素子は、たとえば、光源の出力窓を形成することができる。このように光源に組み込む場合、光学素子は、このビームの直径に適合する、コヒーレント光ビームが通過する処理ゾーンを有し、この処理ゾーンは、たとえば、およそ200μmの直径を有することができる。したがって、光学素子を、適切な場合は、発光素子たとえば半導体タイプまたは周波数2逓倍結晶の後に、出力窓として用いることができる。光学素子を、光源のケースに外部から取り付けられるペルチェ素子に熱的に結合することができる。別の態様によれば、本発明はまた、処理されるコヒーレント光ビームが光学素子を通過する、スペックル低減方法に関し、この方法は、この光学素子が、加熱手段および冷却素子に関連付けられるということと、この光学素子において熱的摂動がもたらされ、その屈折率が変化するようになるということとを特徴とする。好ましくは、熱的摂動は、ランダムにまたは擬似ランダムに生成される。結果としての屈折率の変動は、有利には、人間の眼の感度より高い周波数を有する。代替的実施形態によれば、光学素子は圧電結晶であって、その加熱、好ましくは厚みすべり振動モードをもたらす振動モードに付勢された圧電結晶である。別の代替的実施形態によれば、加熱手段は、光学素子に取り付けられた1つまたは複数の抵抗電極を含む。本発明の他の特徴および特性は、添付の図面を参照して、例として、以下に提示するいくつかの有利な実施形態の詳細な説明から明らかとなろう。本スペックル低減装置は、処理されるべきコヒーレント光ビームが通過する光学素子の屈折率の変動によって得られる光線の位相変動によるスペックル低減に基づき、この変動は、光学素子で生じる熱的摂動によって得られる。屈折率nの媒体における波の伝播速度vは以下の関係によって得られることが知られている。v=c/ncは、真空における光の速度である。したがって、波の位相速度は、この波が伝播する媒体の屈折率によって決まる。媒体の屈折率は、幾分か応答的に、温度によって決まることがさらに知られている。したがって、本装置は、屈折率と温度との間のこの関係を利用して、装置を通過する放射光に制御された位相変動をもたらし、この変動は、使用者の眼に位相の平均化をもたらすように生成され、スペックル効果が減衰される。図1は、従来の構成において、たとえばレーザ等のコヒーレント光源12と、レーザビーム回折性またはその他を成形する光学ユニット14と、ディスプレイ16とを備えた投影ユニット10の例を示す。光源12とディスプレイ16との間のコヒーレント光ビームの経路において、ここではビームを成形する光学ユニット14の後に、スペックル低減装置18が配置されている。図2に、スペックル低減装置18の実施形態を詳細に示す。スペックル低減装置18は、処理されるべきレーザビームが通過するように構成されている光学素子20を備えている。本代替的実施形態では、この光学素子20は水晶である。本発明によれば、スペックルを低減するために利用されるのは、温度の関数としての水晶20の屈折率の変動である。この変動を、図3のグラフによって示す。図示するように、水晶を25°Cから125°Cまで加熱することにより、水晶の屈折率が30低減する。図2において、参照符号22は、水晶20の前面に取り付けられた2つの抵抗電極たとえばプラチナ製を示し、それらは互いに接続され、水晶を加熱して、水晶の屈折率を変化させることを可能にする。これらの電極は、好ましくは、水晶20の温度の不均一な分布をもたらすように非対称構成で配置される。選択された構成を鑑みると、本装置18は、処理されるべき光ビームが、光学処理経路を形成する、水晶20の中心部分24を通過するように配置されなければならない。冷却素子26が、選択的に水晶20から熱を抽出しその温度を変更することができるように水晶20に関連付けられている。好ましくは、冷却素子26は、放熱体30に接して配置されているペルチェ素子28を備えている。ペルチェ素子自体の動作原理は既知であり、それについては本明細書では説明しない。冷却素子26と水晶20との間の熱的結合は、水晶の金属固定支持体32によってなされる。水晶20の基部は、ペルチェ素子28と直接接触していてもよい。最後に、装置18は、冷却素子26とともに加熱電極22を制御する制御モジュール34によって制御される。説明したように、制御モジュール34は、加熱効果および冷却効果を組み合わせて、水晶における温度変動をもたらし、その屈折率を変化させる。温度変動を最適に制御するために、処理ゾーン24に近接して水晶の温度を決定することが望ましい。それは、従来の温度測定によって行うことができるが、圧電結晶の発振周波数から導出することが好ましい。この目的で、水晶の前面に電極36が固定され、反対側の面に対称的な電極図示せずが固定され、制御モジュール34は発振器回路を含む。これらの電極36のうちの一方に静電場を与えることにより、静電場と電極の重量とにより周波数の発生が可能になる周波数は、好ましくは、厚みすべり振動として知られる励振に対する周波数である。反対側の面の電極によってこれらの周波数が検出されることにより、使用される材料すなわち、使用されるカットの水晶の周波数-温度係数を用いて、水晶の温度を確定することができる。このように、電極36を用いて水晶の発振周波数が測定されることにより、上述したような水晶構成で、およそ500Hz/°Cの周波数変動が推定されることが分かっていることで、水晶20の温度を確定することができる。さらに、圧電結晶の加熱は、単に、その振動モードを励起することによって行うことができることに留意されたい。こうした実施形態を図6に示し、図1のものと同一かまたは同様の要素は、同じ参照符号に100を足した符号で示す。抵抗電極22の代りに、水晶120の2つの面に2つの励起電極123が対称的に配置されている。水晶120の中心部分124は、処理されるべき光ビームが通過しなければならない光学処理経路を構成する。図1の装置に関して、冷却素子126は、選択的に水晶120から熱を抽出しその温度を変更することができるように、水晶120に関連付けられている。好ましくは、冷却素子126は、放熱体130に取り付けられているペルチェ要素28を含む。冷却素子126と水晶120との間の熱的結合は、水晶の金属固定支持体132によってなされる。水晶120の基部は、ペルチェ素子128に直接接触していてもよい。制御モジュール134は、加熱効果および冷却効果の組合せを管理して、水晶に温度変動をもたらし、その屈折率を変化させる。励起電極123は、好ましくは、金または銀からなる全体的に環状形態の電極が用いられ、これらの電極は、制御モジュール134に組み込まれた発振回路によって制御される。温度を測定するために、同じ中心電極136が保持される。図1および図6に示すように、実際には、励起電極、抵抗電極および/または温度検出電極等の光学素子に適用される素子は、好ましくは、光学素子の処理ゾーン24の周辺に配置されている。この処理ゾーンの寸法面積は、当然ながら、処理されるべきビームの直径に適合する。本装置18、118の全体的な動作原理を図5に示す。制御モジュールは、加熱電極22および励起電極123それぞれと冷却ユニット26、126とを制御して、水晶20、120に制御された温度変動をもたらす。制御モジュール34、134はまた、電極36、136を制御して、水晶20、120の温度を確定し、したがって加熱/冷却サイクルを制御する。本装置の好ましい制御シナリオを図4に示す。図示するように、水晶は、それぞれ電極22、123によって永久的に加熱される。一方、冷却素子26、126は、一時的に活性化され、振動モードによってもたらされる加熱を抑制する。ペルチェ素子28、128の動作時間および停止時間を好適に制御することにより、水晶20、120の屈折率に、決定された振幅および周波数の変動がもたらされる。好ましくは、制御モジュールは、屈折率のランダムなまたは擬似ランダムな変動をもたらし、これは、視覚的知覚の周波数以上の周波数である。したがって、使用者の眼におけるコヒーレントビームの位相平均化の効果が得られる。この目的で、ここでは、ペルチェ素子28、128は、少なくとも50Hzの周波数で制御され、それは、この水晶について、屈折率の毎秒少なくとも50の上昇エッジおよび下降エッジの交番を含む。全体として、およそ100Hzから5000Hzの周波数で動作することが可能である。さらに、応答効果のために、好ましくは、ある期間の最低温度と最高温度との間で少なくとも15から20絶対値、より好ましい方法では少なくとも30の屈折率の変動をもたらす温度範囲が使用される。したがって、水晶の温度が、ここでは、各期間に周囲温度から100°Cを超える温度まで変化させられる。一実施形態によれば、選択される圧電結晶は、およそ40°Cから50°Cの振幅の温度の範囲にわたって、すなわち周囲温度からおよそ60°Cまで、およそ10から25、特に15から20の屈折率の変動を示す。概括的な動作原理を与えて、実行のいくつかの好ましい詳細を提供する。水晶20、120は、好ましくは、厚さの小さい板の形態、好ましくは無限板に向かう傾向があり、厚みすべり振動として知られる変動/変形モードで機能するように切り出される板の形態を有している。無限板とは、厚さが、板の平面においてその広がりに対して小さく、その結果、厚さに対する直径または長さの比が好ましくは10を超える板を意味する。たとえば、水晶20、120は、厚さに対する直径または長さの比が10または15を超える板形態を有することができる。上記の2つの代替的実施形態で、したがって温度測定だけでなく装置118用の水晶の加熱を得るためにも用いられるのは、この振動または無限小変形厚さすべりモードである。したがって、従来γθと呼ばれる単一回転カットで切り出された水晶単結晶を使用することが可能になる。既知であるように、水晶の熱特性は、関係が経験的なままであるとしても、その切出しの角度によって決まる。本装置の用途に対して、カットは、ATと呼ばれるカットとBTと呼ばれるカットとの間の範囲内で変化することができ、それはθに対して-49°=θ=35を示す。-30°Cからおよそ160°Cの温度範囲内の動作の場合、角度θを、特に、4°から24°の間隔内とすることができ、特に好ましい値はおよそ14°である。水晶のこのカットにより、共振周波数が数MHzから数100MHz、典型的には1MHzから500MHzの間となる。図1の代替的実施形態において、圧電効果が、水晶にもたらされる加熱を検出するために用いられることが理解されるが、図6の代替的実施形態では、圧電効果が、所望の屈折率の変動をもたらすように水晶を加熱するためにも用いられる。通常は作動するように意図されていない振動モードにおいて、高い振動周波数が利用される。水晶の変形は、数nm程度であり、したがって、巨視的には観察されない。したがって、本装置は、圧電効果を使用するけれども、回転機構または並進機構を用いるスペックル低減システムに比較して、静的または準静的であるとみなすことができる。従来、水晶のカットは、X線回折による角度θの測定の後に行われ、その後、得られた水晶片が研磨される。電極を製造するために、従来水晶振動子の製造に使用されるプロセスを適用することができる。変更実施形態によれば、各面にかつ真空下で、連続的にクロムの層、次いで金の層を堆積させる。抵抗電極の場合、プラチナを用いることができる。図6の代替的実施形態では、電極123および136は、水晶板の面の各々の略全体光の通過ゾーン124を除くを覆うように選択される。たとえば、水晶120の一面において、電極の面積と板120の面積との比中心ゾーン124を除くは、好ましくは0.6を超える。電極123および136は、図7に示すように、板の2つの面に対称的に堆積する。電極123および136の重量は、厚さの変形厚みすべり変形をもたらすことに関与する。次いで、フォトリソグラフィによって電極の形態が生成される。2つの面に、感光性樹脂の層が付与される。電極の形態に対応する開口部を有する2つのフォトマスクが、水晶の両側に配置される。次いで、水晶の2つの面がフォトマスクを通してUVに同時に露光され、樹脂の露光部分を重合化し、これにより、電極の相対的な位置決めにおいて高い精度を得ることができる。非重合樹脂が除去され、その後、樹脂の非重合層で保護されていないクロムおよび金が、適当な化学溶液によって除去される。最後に、残っている樹脂が除去され、電極が残る。制御のレベルで、制御モジュールは、電極36、136に接続されかつ水晶振動子20、120を制御する発振回路を備えている。電極36、136または電極123の環状形態により、厚みすべり振動モードの最適な励起が可能になると考えられる。最後に、本代替的実施形態は水晶を使用するが、当業者は、本発明を、適当な光学特性および圧電特性を有する他の結晶で実施することができることが明らかである。特に、たとえばベルリナイトAlPO4を使用することができる。