原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、液体を前記投影光学系の最終面と前記基板との間隙に供給する供給管とを有し、前記間隙に前記液体を満たした状態で前記基板を露光する液浸露光装置の前記供給管を洗浄する方法であって、前記供給管を通して洗浄液の流量を増加させる増加工程と前記流量を減少させる減少工程とを含むサイクルを含み、前記液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後、又は、少なくとも1枚の基板の露光を終えた後であって、前記液浸露光装置を用いて新たな基板の第1ショット領域を露光する前に、前記サイクルを複数回実行する、ことを特徴とする方法。前記液体を前記間隙から回収する回収管をさらに有し、前記回収管を通して洗浄液の流量を増加させる増加工程と前記流量を減少させる減少工程とを含む第2サイクルをさらに含み、前記液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後、又は、少なくとも1枚の基板の露光を終えた後であって、前記液浸露光装置を用いて新たな基板の第1ショット領域を露光する前に、前記第2サイクルを複数回実行する、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。前記サイクルおよび前記第2サイクルは、前記流量を前記増加工程で増加された流量に維持する工程と前記流量を前記減少工程で減少された流量に維持する工程とをさらに含む、ことを特徴とする請求項2に記載の方法。前記サイクルおよび前記第2サイクルの前記増加工程では、第1流量から前記第1流量より大きな第2流量に前記流量を増加させ、前記減少工程では、前記第2流量から前記第1流量に前記流量を減少させる、ことを特徴とする請求項2又は請求項3記載の方法。前記サイクルおよび前記第2サイクルの前記増加工程では、ゼロから第2流量に前記流量を増加させ、前記減少工程では、前記第2流量からゼロに前記流量を減少させる、ことを特徴とする請求項2又は請求項3記載の方法。原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、液体を前記投影光学系の最終面と前記基板との間隙に供給する供給管とを有し、前記間隙に前記液体を満たした状態で前記基板を露光する液浸露光装置の前記供給管を洗浄する方法であって、前記供給管を通して第1方向に流す洗浄液の流量を増加させる第1増加工程と、前記第1方向に流す流量を減少させる第1減少工程と、前記洗浄液を流す方向を前記第1方向から該第1方向と反対方向の第2方向に切り替えて前記第2方向に流す流量を増加させる第2増加工程と、前記第2方向に流す流量を減少させる第2減少工程と、を含むサイクルを含み、前記液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後、又は、少なくとも1枚の基板の露光を終えた後であって、前記液浸露光装置を用いて新たな基板の第1ショット領域を露光する前に、前記サイクルを複数回実行する、ことを特徴とする方法。前記液体を前記間隙から回収する回収管をさらに有し、前記回収管の第1方向に流す洗浄液の流量を増加させる第1増加工程と、前記第1方向に流す流量を減少させる第1減少工程と、前記洗浄液を流す方向を前記第1方向から該第1方向と反対方向の第2方向に切り替えて前記第2方向に流す流量を増加させる第2増加工程と、前記第2方向に流す流量を減少させる第2減少工程と、を含む第2サイクルをさらに含み、前記液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後、又は、少なくとも1枚の基板の露光を終えた後であって、前記液浸露光装置を用いて新たな基板の第1ショット領域を露光する前に、前記第2サイクルを複数回実行する、ことを特徴とする請求項6に記載の方法。前記サイクルおよび前記第2サイクルは、前記流量を前記第1増加工程で増加された流量に維持する工程と前記流量を前記第2増加工程で増加された流量に維持する工程とをさらに含む、ことを特徴とする請求項7に記載の方法。デバイスを製造する方法であって、請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の方法によって前記供給管が洗浄された液浸露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記工程で露光された基板を現像する工程と、を含む方法。液浸露光装置の露光処理を開始する場合に、その前に投影光学系の最終面とウエハとの間の液浸領域に液浸液を安定して供給する必要がある。液浸液を安定して供給するためには、液浸液の供給管を気泡の残留を伴わずに液浸液を供給できる状態とする必要がある。供給管中に充填させた液浸液に気泡が残留すると、残留気泡が露光中に投影光学系の最終面とウエハとの間の光路に移動して露光欠陥を発生してしまうことがある。供給管からこれらの残留気体を除去するために液浸液を充填するのに長い時間を要すると、液浸露光装置のスループットが低下してしまう。そこで、本発明は、液浸領域に液浸液を安定して供給しうる状態を迅速に確立することを目的とする。本発明の1つの側面は、原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、液体を前記投影光学系の最終面と前記基板との間隙に供給する供給管とを有し、前記間隙に前記液体を満たした状態で前記基板を露光する液浸露光装置の前記供給管を洗浄する方法であって、前記供給管を通して洗浄液の流量を増加させる増加工程と前記流量を減少させる減少工程とを含むサイクルを含み、前記液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後、又は、少なくとも1枚の基板の露光を終えた後であって、前記液浸露光装置を用いて新たな基板の第1ショット領域を露光する前に、前記サイクルを複数回実行する、ことを特徴とする。本発明によれば、液浸領域に液浸液を安定して供給しうる状態を迅速に確立することができる。以下、図面を参照して、液浸露光装置の投影光学系の最終面と基板との間隙液浸領域に液体液浸液を供給する供給管、前記間隙から液体を回収する回収管を洗浄する方法について説明する。本発明の洗浄方法は、液浸露光装置を設置又はメンテナンスした後であって、液浸露光装置を用いて最初の基板の第1ショット領域を露光する前に行われる。第1~第3実施形態では、供給管および回収管の双方を同時に洗浄するが、本発明は、供給管のみを洗浄する場合にも適用可能である。なお、各図において、同一の部材については、同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。[第1実施形態]図1は、ステップアンドスキャン方式のArF液浸露光装置の概略構成を示したものである。液浸露光装置は、照明系1と、レチクルステージ原版ステージ22と、投影光学系31と、ウエハステージ基板ステージ53と、液浸領域100に液浸液を供給する供給管42と、液浸領域100から液浸液を回収する回収管43とを有する。パターンが形成されたレチクル21を照明する照明系1は、光源部と照明光学系とを有する。光源部は、光源11とビーム整形光学系12を含む。光源11は、本実施形態では、波長約193nmのArFエキシマレーザーである。レチクル21は、レチクルステージ22に支持され、駆動される。レチクル21とウエハ51とは光学的に共役の関係に配置される。投影光学系31は、レチクル21のパターンをウエハ基板51に投影する。投影光学系31は、複数のレンズ素子からなる屈折光学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のミラー素子を有する反射屈折光学系などを使用することができる。ウエハ51には、レジストが塗布されており、チャック等の保持部52を介してウエハステージ53に支持される。投影光学系31の最もウエハ51側に配置された最終レンズの表面最終面と基板との間隙液浸領域に液浸液を満たした状態で、液浸露光装置は、ウエハ51を露光する。投影光学系31の最終面とウエハ51との間に液浸領域100には供給部101から供給管42を通して液浸液が供給され、液浸領域100から液浸液が回収管43を通して回収部102に回収される。液浸液は、露光波長の透過率がよく、レジストプロセスとのマッチングがよく、投影光学系31に汚れを付着しない物質が選択される。液浸液は、例えば、水や有機系液体であり、露光光の波長やウエハ51に塗布したレジストなどとの関係によって選定される。図2は、液浸領域100の周辺を示したものである。図3は、液浸領域100側から投影光学系31の最終レンズ32、ノズル41を見た概略図である。ノズル41は、投影光学系31を取り囲むように、円環状の形状になっている。ノズル41は、投影光学系31とは別に、支持部材44で支持されており、供給管42と回収管43との先端部分を含んでいる。供給管42の先端に形成された供給口111は、ウエハステージ53に対面するように、円環状に配置され、供給管42を介して供給部101と通じている。回収管43の先端に形成された回収口112は、ウエハステージの53に対面するように、円環状に配置され、回収管43を介して回収部102と通じている。液浸露光処理を行うとき、液浸液は、供給部101から矢印301方向に流れ、供給管42、供給口111を通して液浸領域100に供給される。また、液浸液は、回収口112、回収管43を通して矢印302、303の方向に流れ、回収部102に回収される。図4は、供給管42および回収管43を洗浄するために供給管42および回収管43に洗浄液としての液浸液を供給する様子を示したものである。図1に記載したステージ制御部200は、液浸露光時に投影光学系31の最終レンズ32の下方にあったウエハステージ53を他の場所に移動して、最終レンズ32の下方に液浸液を充填するためのステージ61を移動させる。図4に示したように、供給部101から矢印311の向きに液浸液が流れ、液浸液が供給管42に供給される。また、供給部101から矢印312の向きに液浸液が流れ、液浸液が回収管43に供給される。供給管42および回収管43のそれぞれを流れる液浸液の流量は、流量FA1である。供給部101から供給された液浸液は、供給管42および供給口111を通して、また、回収管43および回収口112を通して、ステージ61に流れる。ステージ61には、回収口62があり、配管を介して回収部131に通じている。ステージ61上の液浸液は、回収口62から矢印313の向きに流れ、回収部131に回収される。液浸液の矢印313の向きの流れは、制御部203により制御されるバルブ123の開閉により制御される。その後、時刻TA1になると、図5に示したように、制御部201によってバルブ121が開き、供給管42に供給されていた液浸液の一部が矢印314の向きに流れて、回収部102に回収される。このとき、供給管42に供給される液浸液の流量は流量FA2に減少される。同時に、制御部202によってバルブ122が開き、回収管43に供給されていた液浸液の一部が矢印315、316の向きに流れて、液回収部102に回収される。この時、回収管43に供給される液浸液の流量は流量FA2に減少される。更に、時刻TA2になると、制御部201によってバルブ121が閉じて、図4の矢印311の方向にのみ液浸液が流れ、供給管42に流す液浸液の流量が増加されて再び流量FA1となる。同時に、制御部202によってバルブ122が閉じ、図4の矢印312の方向にのみ液浸液が流れ、回収管43に流す液浸液が増加されて再び流量FA1となる。このように、供給管42および回収管43を通して流す液浸液の流量を増加させる増加工程と減少させる減少工程とを含むサイクルサイクルおよび第2サイクルを複数回実行する。流量FA2は、減少工程で減少された第1流量であり、流量FA1は、増加工程で増加され、第1流量より大きな第2流量である。図6の6Aには、本実施形態における供給管42および回収管43に対する液浸液の流量の時間変化を示した。例えば、時刻TA1で、流量を流量FA1から流量FA2まで減少させる減少工程が、時刻TA1から時刻TA2までの間で流量を一定に維持する維持工程が、時刻TA2で、流量を流量FA2から流量FA1まで増加させる増加工程が実行される。これらの増加工程、維持工程、減少工程を含むサイクルが所定回実行した後、ステージ制御部200によって、液浸液充填ステージ61を最終レンズ32の下方から他の場所に移動して、ウエハステージ53を最終レンズ32の下方に移動させる。サイクルを実行する回数は、供給管42、回収管43に残存する気泡の数を計測する計測器を取り付け、その計測結果をもとに決定してもよい。その後、液浸液を供給部101から供給口111を介して供給して、最終面32とウエハ51との間隙に液浸領域100が形成される。その後、液浸露光装置を用いて、装置を設置若しくはメンテナンスした後、最初のウエハ51の第1ショット領域に対する露光処理が開始される。第1実施形態の液浸露光装置においては、液浸液を供給する供給管42と液浸液を回収する回収管43とに対して液浸液の流量を増加させる増加工程と流量を減少させる減少工程との切り換えを繰り返し行いながら液浸液を供給する。そうすることで、供給管42、回収管43中から気泡を効率的に除去することができ、気泡の残留による影響を液浸露光装置に及ぼさない。また、短時間で気泡の除去を行えることから、液浸露光装置のスループットを低下させない。第1実施形態では、液浸液の流量の切り換えは、図6の6Aに示したように瞬時に行ったが、6Bに示したように、ΔT1の時間をかけて流量を減少させて、ΔT2の時間をかけて流量を増加させてもよい。また、第1実施形態では、供給管42と回収管43に供給する液浸液の流量を同一としたが、異なる流量でも構わない。第1実施形態では、供給管42と回収管43とに対する液浸液の流量切り換えを同時に行ったが、異なるタイミングで行ってもよい。また、供給管42と回収管43との一方の管に対して液浸液による洗浄を行ってもよい。また、ステージ61を上下動することによって、供給管42、回収管43への供給流量を切り換えてもよい。また、ノズル支持部44を上下動することでノズル41の位置を変化させることにより、供給管42、回収管43への供給流量を切り換えてもよい。本実施形態では、供給管、回収管の液浸液による洗浄を、液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後であって、最初の基板の第1ショット領域に対する露光処理の開始前に行った。しかし、洗浄処理の時期を、液浸露光装置を用いて少なくとも1枚の基板の露光を終えた後であって、新たな基板の第1ショット領域に対する露光処理の開始前、例えば、ロットの最初の基板の第1ショット領域に対する露光処理の開始前としてもよい。本実施形態では、供給管、回収管の液浸液による洗浄をステージ61上で行ったが、ウエハステージ53上で行ってもよい。また、気泡の残留がないように液浸液により洗浄する態様について述べたが、洗浄液、リンス液、装置停止中における部材の劣化を防止するための保護液などを用いて洗浄してもよい。また、本実施形態は、ステップアンドスキャン方式のArF液浸露光装置に限らず、ステップアンドリピート方式の露光装置、KrFやF2レーザー光や紫外線ランプを光源に用いた液浸露光装置に適用しても同様の効果を得ることができる。[第2実施形態]第2実施形態を図4、図5及び図6の6Cを用いて説明する。図4に示したように、供給部101から矢印311の向きに液浸液が流れ、液浸液が供給管42、供給口111を通してステージ61に供給される。また、供給部101から矢印312の向きに液浸液が流れ、液浸液が回収管43、回収口112を通してステージ61に供給される。それぞれの流量は、流量FC1である。ステージ61に供給された液浸液は、回収口62から矢印313の向きに流れ、回収部131に回収される。その後、時刻TC1になると、図5に示したように、制御部201によってバルブ121が開き、矢印314の向きに液浸液が流れ、液浸液はすべて回収部102に回収される。このとき、供給管42に供給される液浸液の流量はゼロになる。同時に、制御部202によってバルブ122が開き、矢印315、316の向きに液浸液が流れ、液浸液はすべて回収部102に回収される。このとき、回収管43に供給される液浸液の流量はゼロになる。更に、時刻TC2になると、制御部201によってバルブ121が閉じ、図4の矢印311の向きに液浸液が流れ、供給管42を通して液浸液が供給される。同時に、制御部202によってバルブ122が閉じ、図4の矢印312の向きに液浸液が流れ、回収管43を通して液浸液が供給される。供給管42、回収管43それぞれへの流量第2流量は、流量FC1である。このように、供給管42および回収管43への液浸液の供給と停止を繰り返す。図6の6Cには、第2実施形態における供給管42および回収管43への液浸液の供給停止の時間変化を示した。第2実施形態の液浸露光装置においては、供給管42と回収管43に対して液浸液の供給および停止を繰り返すことで、供給管42、回収管43中から気泡を効率的に除去することができ、気泡の残留による影響を液浸露光装置に及ぼさない。また、短時間に気泡の除去を行えることから、液浸露光装置のスループットを低下させない。[第3実施形態]第3実施形態を図6の6Dと図7、図8を用いて説明する。図7に示したように、液浸液が供給部101から矢印311の向きに流れ、供給管42に供給される。また、供給部101から矢印312の向きに液浸液が流れて、液浸液が回収管43に供給される。このとき、回収管43に流れる液浸液の流量は、流量FD1である。これらの液浸液は、供給管42および供給口111を介して、また回収管43および回収口112を介して、ステージ61に流れる。ステージ61上の液は、回収口62から矢印313の向きに流れ回収部131に回収される。その後、時刻TD1になると、図8に示したように、制御部204によってバルブ124が制御されて、液浸液は矢印317の向きに流れて回収部102に回収される。これにより、回収管43を流れる液浸液の向きが反転して、その流量はFD2になる。更に、時刻TD2になると、制御部204によってバルブ124が制御され、図7の矢印312の向きに液浸液が流れ、回収管43を流れる液浸液の向きが再び反転する。このように、回収管43へ供給する液浸液の流れ方向の切り換えを繰り返す。図6の6Dには、矢印312の方向を正、矢印313の方向を負として、回収管43に流れる液浸液の流量の時間変化を示した。第3実施形態では、第1増加工程と第1減少工程と第2増加工程と第2減少工程とを含むサイクルを複数回実行することで回収管43を洗浄する。第1増加工程では、回収管43の第1方向に流す液浸液の流量を増加させる。第1減少工程では、第1方向に流す流量を減少させる。第2増加工程では、液浸液を流す方向を第1方向から該第1方向と反対方向の第2方向に切り替えて第2方向に流す流量を増加させる。第2減少工程では、第2方向に流す流量を減少させる。第3実施形態におけるサイクルは、第1増加工程と第1減少工程と第2増加工程と第2減少工程に加えて、第1増加工程で増加された流量を維持する工程と、第2増加工程で増加された流量を維持する工程とを含んでいる。第3実施形態の液浸露光装置においては、回収管43に液浸液を流す方向を第1方向と該第1方向と反対方向の第2方向とに切り替えることを繰り返して行うことで、回収管43から気泡を除去することができ、気泡による影響を液浸露光装置に及ぼさない。また、また、短時間に気泡の除去を行えることから、液浸露光装置のスループットを低下させない。本実施形態では、回収管43を洗浄の対象としたが、供給管42、また、供給管42および回収管43の双方を洗浄の対象としてもよい。本実施形態では、回収管43に供給する液浸液の流れの向きを繰り返し反転させたが、回収管43内の流れ方向を局所的に変化させてもよい。その方法としては、ノズル支持部44を駆動させて回収管43の位置を変化させたり、ステージ61を上下動させたりする方法がある。また、供給口111および回収口112を増やして、液浸液を供給する口と回収する口を繰り返し切り換えることによって、ノズル内の液の流れを変化させてもよい。[デバイス製造方法]本発明の一実施形態のデバイス半導体デバイス、液晶表示デバイス等の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハ基板に集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の液浸露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、前記工程で露光されたウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程ダイシング、ボンディングと、パッケージング工程封入を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、液体供給の流量流れ方向を変化させる方法として、上記の各実施例に記載の方法を適宜組み合わせてもよい。