"n個n≧1の励起光源と、中心軸に対して平行で、互いに対向する光学研磨された2個の面と、前記中心軸に対して平行で、互いに対向し、それぞれクラッドが接続されている2個の面と、前記中心軸に対して垂直で発振光が入出射する2個の面と、前記中心軸となす角が鋭角なn個n≧1の励起光入射面とを有する多角柱形状からなり、前記励起光源で励起されてレーザ光を出力するレーザ媒質と、前記光学研磨された2個の面の少なくとも一部に設けられた光損失手段とを備え、前記レーザ媒質のn個の励起光入射面は、当該励起光入射面の中心軸となる角度がレーザ発振光に対して臨界角より大きく、かつ、励起光が前記光学研磨された面に対して臨界角より大きい角度で入射するよう形成すると共に、前記クラッドの材料が、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッドまたは第2のクラッドの屈折率、n2はレーザ媒質の屈折率とした時にn2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2を満足することを特徴とする導波路型レーザ装置。励起光源から出力される励起光のレーザ媒質の励起光入射面との入射角をブリュースター角とすることを特徴とする請求項1記載の導波路型レーザ装置。n個n≧1の励起光源と、中心軸に対して平行で、互いに対向する光学研磨された2個の面と、前記中心軸に対して平行で、互いに対向するクラッドが接続されている2個の面と、前記中心軸に対して垂直で発振光が入出射する2個の面とを有する直方体形状からなり、前記励起光源で励起されてレーザ光を出力するレーザ媒質と、前記中心軸に対して平行で互いに対向して光学研磨され、かつ、一方の面が前記レーザ媒質の光学研磨された面との接触面である2個の面と、前記中心軸に対して平行で互いに対向するクラッドが接続されている2個の面と、前記中心軸となす角が鋭角な励起光入射面とを有する1個または2個の多角柱形状の透明ブロックと、前記レーザ媒質と前記透明ブロックの光学研磨された面のうち、少なくとも一部に設けられた光損失手段とを備え、前記透明ブロックの励起光入射面の中心軸となる角度はレーザ発振光に対して臨界角より大きくなるよう形成されると共に、励起光が前記レーザ媒質の光学研磨された面に対して臨界角より大きい角度で入射するよう形成され、かつ、前記クラッドの材料が、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッドまたは第2のクラッドの屈折率、n2はレーザ媒質の屈折率とした時にn2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2を満足することを特徴とする導波路型レーザ装置。n個n≧1の励起光源と、中心軸に対して平行で、互いに対向する光学研磨された2個の面と、前記中心軸に対して平行で、互いに対向するクラッドが接続されている2個の面と、前記中心軸に対して垂直で発振光が入出射する2個の面とを有する直方体形状からなり、前記励起光源で励起されてレーザ光を出力するレーザ媒質と、前記光学研磨された2個の面の少なくとも一部に設けられた光損失手段と、前記中心軸に対して平行で、前記レーザ媒質の光学研磨された面と接触する面と、前記中心軸に対して平行で互いに対向する2個の面と、前記中心軸に対して垂直な1個の面と、前記中心軸となす角が鋭角な励起光入射面とを有するn個n≧1の三角柱形状の透明ブロックとを備え、前記透明ブロックの励起光入射面の中心軸となる角度はレーザ発振光に対して臨界角より大きくなるよう形成されると共に、励起光が前記レーザ媒質の光学研磨された面に対して臨界角より大きい角度で入射するよう形成され、かつ、前記クラッドの材料が、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッドまたは第2のクラッドの屈折率、n2はレーザ媒質の屈折率とした時にn2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2を満足することを特徴とする導波路型レーザ装置。n個n≧1の励起光源と、中心軸に対して平行で、互いに対向する光学研磨された2個の面と、前記中心軸に対して平行で、互いに対向するクラッドが接続されている2個の面と、前記中心軸に対して垂直で発振光が入出射する2個の面とを有する直方体形状からなり、前記励起光源で励起されてレーザ光を出力するレーザ媒質と、前記光学研磨された2個の面の少なくとも一部に設けられた光損失手段と、前記中心軸に対して平行で互いに対向し、かつ、一方の面が前記光学研磨された面との接触面である2個の面と、前記中心軸に対して平行で互いに対向する2個の面と、前記中心軸に対して垂直な励起光が入射する面と、前記中心軸となす角が鈍角な励起光反射面とを有するn個n≧1の四角柱形状の透明ブロックとを備え、前記励起光が前記レーザ媒質の光学研磨された面に対して臨界角より大きい角度で入射し、かつ、前記クラッドの材料が、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッドまたは第2のクラッドの屈折率、n2はレーザ媒質の屈折率とした時にn2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2を満足することを特徴とする導波路型レーザ装置。しかしながら、例えば非特許文献1に示されたような従来の固体レーザ装置では、励起光源であるレーザダイオードがレーザ発振器の光軸上にあるため、レーザ発振時、特にQスイッチ動作時に発振光の一部がレーザダイオードに入射し、LDの出力が不安定になったり、破壊が生じたりするという課題があった。また、励起光の吸収効率を高めるために、レーザ媒質であるNd:YAGの励起光入射端面に対して向かい合う端面に、励起波長に対して全反射する反射膜を設けた場合、レーザ媒質の未吸収光がレーザ媒質や励起光学系を往復し、レーザダイオードに入射し、レーザダイオードの出力が不安定になったり、レーザダイオードを破壊するという課題もあった。また、特許文献1に示されたような従来の固体レーザ装置は、励起光入射面にレーザ光の高反射膜を有するが、レーザ発振時、特にQスイッチ動作時に発振光が一部漏れ、励起光源に入射し、LDの出力が不安定になったり、破壊が生じたりするという課題があった。また、向かい合う面からも励起しているため、励起光の未吸収光がレーザ光の高反射膜を透過して励起光源に入射し、レーザダイオードの出力が不安定になったり、レーザダイオードを破壊したりするという課題があった。さらに、特許文献2に示されたような従来の固体レーザ装置では、励起入射手段が必要であるため、レーザ装置が大型、複雑になるという課題があった。また、側面に励起クラッドがあり、全反射膜を用いると、高価になるという課題があり、しかも、光学接触手段によって励起光が吸収され、効率が低下するといった課題があった。この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、安定した励起光源出力が得られ、レーザ発振時等の励起光源の破壊を防止でき、装置が小型かつ安価で、高効率の導波路型レーザ装置を得ることを目的としている。この発明に係る導波路型レーザ装置は、n個n≧1の励起光源と、中心軸に対して平行で、互いに対向する光学研磨された2個の面と、中心軸に対して平行で、互いに対向し、それぞれクラッドが接続されている2個の面と、中心軸に対して垂直で発振光が入出射する2個の面と、中心軸となす角が鋭角なn個n≧1の励起光入射面とを有する多角柱形状からなり、励起光源で励起されてレーザ光を出力するレーザ媒質と、光学研磨された2個の面の少なくとも一部に設けられた光損失手段とを備え、レーザ媒質のn個の励起光入射面は、励起光入射面の中心軸となる角度がレーザ発振光に対して臨界角より大きく、かつ、励起光が光学研磨された面に対して臨界角より大きい角度で入射するよう形成すると共に、クラッドの材料が、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッドまたは第2のクラッドの屈折率、n2はレーザ媒質の屈折率とした時にn2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2を満足するようにしたものである。この発明の導波路型レーザ装置は、励起光入射面の中心軸となる角度がレーザ発振光に対して臨界角より大きく、かつ、励起光が光学研磨された面に対して臨界角より大きい角度で入射するよう形成し、また、クラッドの材料が、n2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2を満足するようにしたので、安定した励起光源出力が得られ、レーザ発振時等の励起光源の破壊を防止でき、装置が小型かつ安価で、高効率の導波路型レーザ装置を得ることができる。実施の形態1.図1は、この発明の実施の形態1による導波路型レーザ装置を示す構成図である。図1に示す導波路型レーザ装置1は、レーザ媒質2と、励起光源3と、第1のクラッド4a及び第2のクラッド4bと、第1の光損失手段5a及び第2の光損失手段5bで構成される。レーザ媒質2は、多角柱形状で、第1の面2a、第2の面2b、第3の面2c、第4の面2d、第5の面2e、第6の面2f、第7の面2gからなる。第1の面2aと第2の面2bは、レーザ媒質2の中心軸CAに対して垂直であると共に、第3の面2c、第4の面2d、第5の面2e、第6の面2fに対して垂直であり、互いが平行に対向している。第3の面2cと第4の面2dは、レーザ媒質2の中心軸CAに対して平行で、第1の面2a、第2の面2b、第5の面2e、第6の面2fに対して垂直で互いが平行に対向している。第5の面2eと第6の面2fは、レーザ媒質2の中心軸CAに対して平行で、第1の面2a、第2の面2b、第3の面2c、第4の面2dに対して垂直で互いが平行に対向している。第7の面2gは、中心軸CAとなす角が鋭角で、第1の面2aと第3の面2cと第5の面2eと第2の面2fと接続している。第1のクラッド4aはレーザ媒質2の第5の面2eに、第2のクラッド4bはレーザ媒質2の第6の面2fに設けている。第1の光損失手段5aはレーザ媒質2の第3の面2cの一部のレーザ媒質2の第2の面2bの近傍に設けている。第2の光損失手段5bはレーザ媒質2の第4の面2dの一部のレーザ媒質2の第2の面2bの近傍に設けている。励起光源3は、レーザ媒質2の第7の面2gに対して近接配置している。次に、実施の形態1の導波路型レーザ装置1の動作について説明する。図2は、図1のx-z面方向の励起光源3から出射された励起光PLとレーザ発振光OLの進行光路を示す説明図である。励起光PLは励起光源3から出力され、空間に伝搬後、レーザ媒質2の第7の面2gからレーザ媒質2内に入射する。このとき、励起光PLの光軸とレーザ媒質2の第7の面2gの法線が一致していれば、励起光PLは角度を変えずにレーザ媒質2内に入射する。一方、励起光PLの光軸とレーザ媒質2の第7の面2gの法線が一致していない場合は、レーザ媒質2の第7の面2gで屈折し、レーザ媒質2内に入射する。なお、図2は、励起光PLの光軸とレーザ媒質2の第7の面2gの法線が一致している場合の例を示している。レーザ媒質2内に入射した励起光PLはレーザ媒質2内を吸収されながら伝搬し、レーザ媒質2の第4の面2dまで達すると全反射し、レーザ媒質2の第3の面2cの方向に向きを変えてレーザ媒質2内を伝搬する。レーザ媒質2の第3の面2cまで達すると全反射し、レーザ媒質2の第4の面2dの方向に向きを変えて伝搬する。励起光PLはレーザ媒質2の第3の面2cと第4の面2dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質2の第2の面2bまで達し、レーザ媒質2で吸収されなかった励起光PLはレーザ媒質2の第2の面2bから励起光は出射され、空間に放射される。図3は、図1のレーザ媒質2の第2の面2bに励起光PLに対して全反射膜が設けられた時のx-z面方向の励起光源3から出射された励起光PLとレーザ発振光OLの進行光路を示す説明図である。レーザ媒質2内に入射した励起光PLはレーザ媒質2内を吸収されながら伝搬し、レーザ媒質2の第4の面2dまで達すると全反射し、レーザ媒質2の第3の面2cの方向に向きを変えてレーザ媒質2内を伝搬する。レーザ媒質2の第3の面2cまで達すると全反射し、レーザ媒質2の第4の面2dの方向に向きを変えて伝搬する。励起光PLはレーザ媒質2の第3の面2cと第4の面2dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質2の第2の面2bまで達する。励起光PLは、レーザ媒質2の第2の面2bで反射し、レーザ媒質1の第1の面2a方向に向かって、レーザ媒質2の第3の面2cと第4の面2dを反射しながら、伝搬していく。例えば、レーザ媒質2の第1の面2a側と第2の面2b側にレーザ媒質2の第1の面2a、2bに対して平行に2枚の共振器ミラーを設けると、レーザ媒質の中心軸に対して平行な方向にレーザ発振光OLが発生する。レーザ発振光はレーザ媒質2の第1の面2aから入射し、レーザ媒質2内を増幅しながら伝搬し、第2の面2bから出射される。その後、共振器ミラーで一部透過し、反射したレーザ発振光レーザ媒質2の第2の面2bに入射し、レーザ媒質2内を増幅しながら伝搬し、レーザ媒質2の第1の面2aから出射し、共振器ミラーで全反射し、再度レーザ媒質2の第1の面2aに入射する。これを複数回繰り返し、利得が共振器内の損失より大きくなると、レーザ発振が開始され、共振器ミラーからレーザ光が発振する。レーザ発振光OLの一部はレーザ媒質2の第7の面2gに入射されるが、レーザ発振光OLの光軸と第7の面2gの法線とのなす角が臨界角より大きいため、レーザ媒質2の第7の面2gによって全反射する。導波路の閉じ込めが十分強い場合、第5の面2eと第6の面2fで全反射する光が第1の面2a、第2の面2bで全反射し、レーザ媒質2内で周回する寄生発振モードが発生する。全反射周回モードを抑制する条件は、端面への入射角度が端面の全反射条件角度よりも小さくなる条件として次式で与えられる。n2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2ここで、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッド4aまたは第2のクラッド4bの屈折率、n2はレーザ媒質2の屈折率である。第1のクラッド4aまたは第2のクラッド4bは、少なくとも一方においては、上記の全反射周回モード抑制条件を満足する材料を用いている。また、第1のクラッド4aと第2のクラッド4bに上記の全反射周回モード抑制条件を満足しない場合においても、第1のクラッド4aまたは第2のクラッド4bの厚さを全反射周回モードがクラッド外に染み出す厚さにし、かつ、第1のクラッド4aまたは第2のクラッド4bの外側に、光吸収手段を設けることによって、寄生発振モードを抑制することが可能である。発振光OLの波長の光はレーザ媒質2内の第3の面2c、第4の面2d、第5の面2e、第6の面2fで全反射するため、発振光OL以外の光で発振する寄生発振の発生が懸念される。そこで本実施の形態では、寄生発振を抑制するため、レーザ媒質2の第3の面2cと、レーザ媒質2の第4の面2dの一部にそれぞれ第1の光損失手段5aと第2の光損失手段5bとを設けている。レーザ媒質2の第1の面2aにレーザ発振光OLの波長に対して全反射機能を、第2の面2bに部分反射機能を設け、出力鏡の機能を持たせることも可能である。図4は、図1のy-z面方向の励起光源3から出射された励起光PLとレーザ発振光OLの進行光路を示す説明図である。励起光PLは励起光源3から出力され、導波路内でビームが広がりながら伝搬する。レーザ媒質2の第5の面2eに達した励起光PLは第1のクラッド4aによって反射し、レーザ媒質2の第6の面2fに向かって伝搬する。レーザ媒質2の第6の面2fに達した励起光PLは第2のクラッド4bによって反射し、レーザ媒質2の第5の面2eに向かって伝搬する。このように、励起光PLは第5の面2eと第6の面2f間で反射を繰り返しながらレーザ媒質1内を伝搬する。例えば1.0μm帯のレーザでは、レーザ媒質2の材料として、Nd:YAG、Nd:YVO4、Nd:YLF、Nd:glass、Yb:YAGを、波長1.5~1.7μmのアイセーフ波長帯のレーザでは、レーザ媒質2の材料として、Er:YAG、Er:glass、Er:YVO4、Er:YLFを使用すれば良い。第1のクラッド4aまたは第2のクラッド4bの材料の一例として、レーザ媒質2にNd:YAG、Yb:YAG、Er:YAGを用いた場合、A12O3、M2、M3、無添加YAGを用いると良い。レーザ媒質2にNd:YVO4、Er:YVO4を用いた場合は、レーザ媒質2の第5の面2eと第6の面2fに蒸着する膜としてTa2O5や無添加YVO4を用いると良い。第1の光損出手段5aと第2の光損失手段5bや第1のクラッド4aおよび第2のクラッド4bが上記の全反射周回条件を満足しないときの光吸収手段の一例として、面荒らしやCrやNi等の発振光OLに対して吸収が大きい金属膜等が考えられる。次に、励起光PLがレーザ媒質2の第4の面2dで全反射し、かつ、レーザ発振光OLがレーザ媒質2の第7の面2gで全反射する、レーザ媒質2の第7の面2gのレーザ媒質の中心軸CAとなす角αの条件を導出する。図5に説明図を示す。励起光源3から出力される励起光PLはレーザ媒質2の第7の面2gに対して垂直に入射し、レーザ媒質2の第7の面2gで屈折しないとする。励起光PLがレーザ媒質2の第4の面2dで全反射する条件は、励起光PLのレーザ媒質2の第4の面2dへの入射角θが臨界角より大きいこととなる。また、発振光OLがレーザ媒質2の第7の面2gで全反射する条件は、発振光OLのレーザ媒質2の第7の面2gへの入射角θ’が臨界角より大きいこととなる。レーザ媒質の中心軸CAとレーザ媒質2の第7の面2gとのなす角をαとすると、励起光PLとレーザ媒質2の第7の面2gは垂直であるため、θ=π/2-θ’=αとなる。臨界角θcは、空気の屈折率をn0、レーザ媒質2の屈折率をn2とすると、θc=sin-1n0/n2と表せるため、励起光PLがレーザ媒質2の第4の面2dで全反射し、かつ、レーザ発振光OLがレーザ媒質2の第7の面2gで全反射するためのレーザ媒質2の第7の面2gのレーザ媒質の中心軸CAとなす角αの条件は、sin-1n0/n2<α<π/2-sin-1n0/n2と表せる。例えば、レーザ媒質2にYAGを用いた場合、YAGの波長1μmの屈折率は1.82であるため、レーザ媒質2の第7の面2gのレーザ媒質の中心軸CAとなす角αの条件は、33.3°~56.7°となる。次に、励起光PLがレーザ媒質2の第7の面2gで屈折する場合、レーザ媒質2の第4の面2dで全反射し、かつ、レーザ発振光OLがレーザ媒質2の第7の面2gで全反射する時のレーザ媒質2の第7の面2gのレーザ媒質の中心軸CAとなす角αの条件を導出する。図6に説明図を示す。レーザ媒質2の中心軸CAと励起光とのなす角をδとすると、スネルの式を考慮して、sin-1n0/n2<αsin-1n0/n2×sinπ/2-δ-α<π/2-sin-1n0/n2と表せる。例えば、レーザ媒質2にYAGを用いた場合、レーザ媒質2の中心軸CAと励起光とのなす角をδを10°とすると、レーザ媒質2の第7の面2gのレーザ媒質の中心軸CAとなす角αの条件は、49.5°~64.5°となる。さらに、励起光PLがp偏光の場合、励起光PLのレーザ媒質2の第7の面2gに対する入射角をブリュースター角にすると、レーザ媒質2の第7の面2gには励起光PLに対して反射防止膜が不要になる。ここでは、前記の励起光PLがレーザ媒質2の第4の面2dで全反射し、かつ、レーザ発振光OLがレーザ媒質2の第7の面2gで全反射し、かつ、励起光PLのレーザ媒質2の第7の面2gに対する入射角がブリュースター角φBとなる条件を導出する。レーザ媒質2の第7の面2gのレーザ媒質の中心軸CAとなす角αはα=φBδとなり、sin-1n0/n2<φBδsin-1n0/n2×sinφB<π/2-sin-1n0/n2と表せる。例えば、レーザ媒質2にYAGを用いた場合、レーザ媒質2の中心軸CAと励起光とのなす角をδを10°とすると、レーザ媒質2の第7の面2gのレーザ媒質の中心軸CAとなす角αを18.5°にすれば、励起光PLはブリュースター角を満足でき、励起光PLのレーザ媒質2の第4の面2dへの入射角は、47.4°となり、レーザ発振光OLのレーザ媒質2の第7の面2gへの入射角は、42.6°となり、全反射条件を満足する。このように、実施の形態1の導波路型レーザ装置1においては、レーザ媒質2は、レーザ発振光OLのレーザ媒質2の第7の面2gの入射角が臨界角より大きくなるような構造を備え、励起光PLをレーザ媒質2の第7の面2gから入射し、レーザ媒質2に入射後の励起光PLがレーザ媒質2の第4の面2dへの入射角が臨界角より大きく、レーザ媒質2の第3の面2c、第4の面2dを複数回反射しながら伝搬させるため、レーザ発振光が励起光源に入射することなく、安定した励起光出力が得られ、励起光源の破壊が抑制できる。また、レーザ媒質の上下面、側面で励起光を閉じ込めるため、励起光学系が不要で励起光を側面で折り返すことから、高い吸収効率を維持したままレーザ媒質の長さを短くでき、レーザ装置の小型化が実現できる。さらに、レーザ媒質の側面および入射面は臨界角やブリュースター角を利用すると、反射膜や反射防止膜を施す必要がなく、安価な導波路型レーザ装置が提供できる。以上説明したように、実施の形態1の導波路型レーザ装置によれば、n個n≧1の励起光源と、中心軸に対して平行で、互いに対向する光学研磨された2個の面と、中心軸に対して平行で、互いに対向し、それぞれクラッドが接続されている2個の面と、中心軸に対して垂直で発振光が入出射する2個の面と、中心軸となす角が鋭角なn個n≧1の励起光入射面とを有する多角柱形状からなり、励起光源で励起されてレーザ光を出力するレーザ媒質と、光学研磨された2個の面の少なくとも一部に設けられた光損失手段とを備え、レーザ媒質のn個の励起光入射面は、励起光入射面の中心軸となる角度がレーザ発振光に対して臨界角より大きく、かつ、励起光が光学研磨された面に対して臨界角より大きい角度で入射するよう形成すると共に、クラッドの材料が、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッドまたは第2のクラッドの屈折率、n2はレーザ媒質の屈折率とした時にn2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2を満足するようにしたので、安定した励起光源出力が得られ、レーザ発振時等の励起光源の破壊を防止でき、装置が小型かつ安価で、高効率の導波路型レーザ装置を得ることができる。また、実施の形態1の導波路型レーザ装置によれば、励起光源から出力される励起光のレーザ媒質の励起光入射面との入射角をブリュースター角としたので、反射膜や反射防止膜を施す必要がなく、導波路型レーザ装置の低コスト化を図ることができる。実施の形態2.図7は、この発明の実施の形態2による導波路型レーザ装置11を示す構成図である。図7において、導波路型レーザ装置11は、レーザ媒質12と、励起光源13と、第1のクラッド14aと、第2のクラッド14bと、第1の光損失手段15aと、第2の光損失手段15bと、透明ブロック16と、光学的接続手段17とで構成される。レーザ媒質12は、直方体形状で、第1の面12a、第2の面12b、第3の面12c、第4の面12d、第5の面12e、第6の面12fからなり、第1の面12aと第2の面12bは、レーザ媒質12の中心軸CAに対して垂直であると共に、第3の面12c、第4の面12d、第5の面12e、第6の面12fに対して垂直で、互いが平行に対向している。第3の面12cと第4の面12dは、レーザ媒質12の中心軸CAに対して平行で、かつ、第1の面12a、第2の面12b、第5の面12e、第6の面12fに対して垂直で互いが平行に対向している。第5の面12eと第6の面12fは、レーザ媒質12の中心軸CAに対して平行で、かつ、第1の面12a、第2の面12b、第3の面12c、第4の面12dに対して垂直で互いが平行に対向している。透明ブロック16は、四角柱形状で、第1の面16a、第2の面16b、第3の面16c、第4の面16d、第5の面16e、第6の面16fからなる。第1の面16aは、中心軸CAとなす角が鋭角となるよう形成され、第3の面16cと第4の面16dと第5の面16eと第6の面16fと接続している。第2の面16bは、レーザ媒質12の中心軸CA、透明ブロックの第3の面16c、第4の面16d、第5の面16e、第6の面16fに対して垂直となる。透明ブロック16の第3の面16cと第4の面16dは、レーザ媒質12の中心軸CAに対して平行で、かつ、透明ブロック16の第2の面16b、第5の面16e、第6の面16fに対して垂直で互いが平行に対向している。第5の面16eと第6の面16fは、レーザ媒質12の中心軸CAに対して平行で、かつ、透明ブロック16の第2の面16b、第3の面16c、第4の面16dに対して垂直で互いが平行に対向している。第1のクラッド14aはレーザ媒質12と透明ブロック16の第5の面12e,16eに、第2のクラッド14bはレーザ媒質2と透明ブロック16の第6の面12f,16fに設けている。第1の光損失手段15aは透明ブロック16の第3の面16c内の透明ブロック16の第2の面16bの近傍に設けている。第2の光損失手段15bはレーザ媒質12の第4の面12d内のレーザ媒質12の第2の面12bの近傍に設けている。レーザ媒質12の第3の面12cと透明ブロック16の第4の面16dは、平行で光学的接続手段17によって接着されている。励起光源13は、透明ブロック16の第1の面16aに対して近接配置している。次に、実施の形態2の導波路型レーザ装置11の動作について説明する。図8は、図7のx-z面方向に関する励起光源13から出射された励起光PLとレーザ発振光OLの進行光路を示す説明図である。励起光PLは励起光源13から出力され、空間に伝搬後、透明ブロック16の第1の面16aから透明ブロック16内に入射する。このとき、励起光PLが透明ブロックの第1の面16aに垂直に入射していれば、励起光PLは角度を変えずに透明ブロック16内に入射する。一方、励起光PLが透明ブロック16の第1の面16aに対して垂直に入射していないと透明ブロック16の第1の面16aで屈折し、透明ブロック16内に入射する。なお、図8は、励起光PLが透明ブロックの第1の面16aに垂直に入射した場合の例を示している。透明ブロック16に入射した励起光PLは透明ブロック16内を伝搬し、透明ブロック16の第4の面16dまで達し、光学的接続手段17を透過し、レーザ媒質12の第3の面12cからレーザ媒質12内に入射する。励起光PLはレーザ媒質12内で吸収されながら伝搬し、レーザ媒質12の第4の面12dまで達すると全反射し、レーザ媒質12の第3の面12cの方向に向きを変えてレーザ媒質12内を伝搬する。レーザ媒質12の第3の面12cまで達すると、光学的接続手段17を透過し、透明ブロック16の第4の面16dから透明ブロック16内に入射する。励起光PLは透明ブロック16内を伝搬し、透明ブロック16の第3の面16cに達すると全反射し、透明ブロック16の第4の面16dの方向に向きを変えて伝搬する。励起光PLは、このように透明ブロック16の第3の面16cとレーザ媒質12の第4の面12dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質12の第2の面12bおよび透明ブロック16の第2の面16bまで達し、レーザ媒質12で吸収されなかった励起光PLはレーザ媒質12の第2の面12bまたは透明ブロック16の第2の面16bから励起光は出射され、空間に放射される。レーザ媒質12の第2の面12bおよび透明ブロック16の第2の面16bに励起光PLに対して全反射膜を設けると、レーザ媒質12の第2の面12bおよび透明ブロック16の第2の面16bまで達した光は反射され、レーザ媒質12の第1の面12a方向に向かって、透明ブロック16の第3の面16cとレーザ媒質12の第4の面12dを反射しながら、伝搬していく。y-z面方向に関する励起光PLは励起光源13から出力され、導波路内でビームが広がりながら伝搬する。レーザ媒質12の第5の面12eに達した励起光PLは第1のクラッド14aによって反射し、レーザ媒質12の第6の面12fに向かって伝搬する。レーザ媒質12の第6の面12fに達した励起光PLは、第2のクラッド14bによって反射し、レーザ媒質12の第5の面12eに向かって伝搬する。このように、励起光PLは、第5の面12eと第6の面12f間で反射を繰り返しながらレーザ媒質12内を伝搬する。導波路の閉じ込めが十分強い場合、第5の面12eと第6の面12fで全反射する光が第1の面12a、第2の面12bで全反射し、レーザ媒質12内で周回する寄生発振モードが発生する。全反射周回モードを抑制する条件は、端面への入射角度が端面の全反射条件角度よりも小さくなる条件として次式で与えられる。n2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2ここで、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッド14aまたは第2のクラッド14bの屈折率、n2はレーザ媒質12の屈折率である。第1のクラッド14aまたは第2のクラッド14bは、少なくとも一方においては、上記の全反射周回モード抑制条件を満足する材料を用いている。また、第1のクラッド14aと第2のクラッド14bに上記の全反射周回モード抑制条件を満足しない場合においても、第1のクラッド14aまたは第2のクラッド14bの厚さを全反射周回モードがクラッド外に染み出す厚さにし、かつ、第1のクラッド14aまたは第2のクラッド14bの外側に光吸収手段を設けることによって、寄生発振モードを抑制することが可能である。発振光OLの波長の光は透明ブロック16内の第3の面16c、レーザ媒質12内の第4の面12d、レーザ媒質12と透明ブロック16の第5の面12e,16e、第6の面12f,16fで全反射するため、発振光OL以外の光で発振する寄生発振の発生が懸念される。そこで本実施の形態では、寄生発振を抑制するため、透明ブロック16の第3の面16cと、レーザ媒質12の第4の面12dの一部にそれぞれ第1の光損失手段15aと第2の光損失手段15bとを設けている。尚、第1の光損失手段15aは透明ブロック16の第3の面16c以外に設けられていてもよく、例えば、レーザ媒質12の第3の面12cに設けられていてもよい。また、光損失手段は、レーザ媒質12及び透明ブロック16の第3の面12c,16cと第4の面12d,16dのうち、少なくとも1箇所に設けられていれば寄生発振の抑制効果を得ることができる。このように、実施の形態2の導波路型レーザ装置11では、未発振部分を透明ブロック16にするため、吸収損失を低下させることが可能となり、効率の向上が期待できる。以上説明したように、実施の形態2の導波路型レーザ装置によれば、n個n≧1の励起光源と、中心軸に対して平行で、互いに対向する光学研磨された2個の面と、中心軸に対して平行で、互いに対向するクラッドが接続されている2個の面と、中心軸に対して垂直で発振光が入出射する2個の面とを有する直方体形状からなり、励起光源で励起されてレーザ光を出力するレーザ媒質と、中心軸に対して平行で互いに対向して光学研磨され、かつ、一方の面がレーザ媒質の光学研磨された面との接触面である2個の面と、中心軸に対して平行で互いに対向するクラッドが接続されている2個の面と、中心軸となす角が鋭角な励起光入射面とを有する1個または2個の多角柱形状の透明ブロックと、レーザ媒質と透明ブロックの光学研磨された面のうち、少なくとも一部に設けられた光損失手段とを備え、透明ブロックの励起光入射面の中心軸となる角度はレーザ発振光に対して臨界角より大きくなるよう形成されると共に、励起光がレーザ媒質の光学研磨された面に対して臨界角より大きい角度で入射するよう形成され、かつ、クラッドの材料が、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッドまたは第2のクラッドの屈折率、n2はレーザ媒質の屈折率とした時にn2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2を満足するようにしたので、実施の形態1と同様の効果を有すると共に、さらに、吸収損失を低下させることが可能となり、効率の向上を図ることができる。実施の形態3.図9は、この発明の実施の形態3による導波路型レーザ装置21を示す構成図である。図9において、導波路型レーザ装置21は、レーザ媒質22、励起光源23、第1のクラッド24a及び第2のクラッド24b、第1の光損失手段25a及び第2の光損失手段25b、透明ブロック26、光学的接続手段27で構成される。レーザ媒質22は、直方体形状で、第1の面22a、第2の面22b、第3の面22c、第4の面22d、第5の面22e、第6の面22fからなる。第1の面22aと第2の面22bは、レーザ媒質22の中心軸CAに対して垂直であると共に、第3の面22c、第4の面22d、第5の面22e、第6の面22fに対して垂直で、かつ、互いが平行に対向している。第3の面22cと第4の面22dは、レーザ媒質22の中心軸CAに対して平行で、かつ、第1の面22a、第2の面22b、第5の面22e、第6の面22fに対して垂直で互いが平行に対向している。第5の面22eと第6の面22fは、レーザ媒質22の中心軸CAに対して平行で、かつ、第1の面22a、第2の面22b、第3の面22c、第4の面22dに対して垂直で互いが平行に対向している。第1のクラッド24aは、レーザ媒質22の第5の面22eに、第2のクラッド24bはレーザ媒質22の第6の面22fに設けている。第1の光損失手段25aは、レーザ媒質22の第3の面22c内の第2の面22b近傍に設けている。第2の光損失手段25bは、レーザ媒質22の第4の面22d内の第2の面22b近傍に設けている。励起光源23は、透明ブロック26の第1の面26aに対して近接配置している。透明ブロック26は、三角柱形状で、第1の面26a、第2の面26b、第3の面26c、第4の面26d、第5の面26eからなる。第1の面26aは、中心軸CAとなす角が鋭角となるよう形成され、第3の面26cと第4の面26dと第5の面26eと接続している。第2の面26bは、レーザ媒質22の中心軸CA、透明ブロック26の第3の面26c、第4の面26d、第5の面26eに対して垂直となる。第3の面26cは、レーザ媒質22の中心軸CAに対して平行で、第2の面26b、第4の面26d、第5の面26eに対して垂直である。第4の面26dと第5の面26eは、レーザ媒質22の中心軸CAに対して平行で、第2の面26b、第3の面26cに対して垂直で互いが平行に対向している。レーザ媒質22の第3の面22cと透明ブロック26の第3の面26cは、平行で光学的接続手段27によって接着されている。励起光源23は、透明ブロック26の第1の面26aに対して近接配置している。次に、実施の形態3の導波路型レーザ装置21の動作について説明する。図10は、図9のx-z面方向に関する励起光源23から出射された励起光PLとレーザ発振光OLの進行光路を示す説明図である。励起光PLは励起光源23から出力され、空間に伝搬後、透明ブロック26の第1の面26aから透明ブロック26内に入射する。このとき、励起光PLが透明ブロックの第1の面26aに垂直に入射していれば、励起光PLは角度を変えずに透明ブロック26内に入射する。一方、励起光PLが透明ブロック26の第1の面26aに対して垂直に入射していないと透明ブロック26の第1の面26aで屈折し、透明ブロック26内に入射する。なお、図10は、励起光PLが透明ブロックの第1の面26aに垂直に入射した場合の例を示している。透明ブロック26に入射した励起光PLは透明ブロック26内を伝搬し、透明ブロック26の第3の面26cまで達し、光学的接続手段27を透過し、レーザ媒質22の第3の面22cからレーザ媒質22内に入射する。励起光PLはレーザ媒質22内で吸収されながら伝搬し、レーザ媒質22の第4の面22dまで達すると全反射し、レーザ媒質22の第3の面22cの方向に向きを変えてレーザ媒質22内を伝搬する。レーザ媒質22の第3の面22cまで達すると全反射し、第4の面22dの方向に向きを変えてレーザ媒質22内を伝搬する。励起光PLはこのように、レーザ媒質22の第3の面22cとレーザ媒質22の第4の面22dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質22の第2の面22bまで達し、レーザ媒質22で吸収されなかった励起光PLはレーザ媒質22の第2の面22bから励起光は出射され、空間に放射される。y-z面方向に関する励起光PLは励起光源23から出力され、導波路内でビームが広がりながら伝搬する。レーザ媒質22の第5の面22eに達した励起光PLは第1のクラッド24aによって反射し、レーザ媒質22の第6の面22fに向かって伝搬する。レーザ媒質22の第6の面22fに達した励起光PLは第2のクラッド24bによって反射し、レーザ媒質22の第5の面22eに向かって伝搬する。このように、励起光PLは第5の面22eと第6の面22f間で反射を繰り返しながら、レーザ媒質22内を伝搬する。導波路の閉じ込めが十分強い場合、第5の面22eと第6の面22fで全反射する光が第1の面22a、第2の面22bで全反射し、レーザ媒質22内で周回する寄生発振モードが発生する。全反射周回モードを抑制する条件は、端面への入射角度が端面の全反射条件角度よりも小さくなる条件として次式で与えられる。n2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2ここで、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッド24aまたは第2のクラッド24bの屈折率、n2はレーザ媒質22の屈折率である。第1のクラッド24aまたは第2のクラッド24bは、少なくとも一方においては、上記の全反射周回モード抑制条件を満足する材料を用いている。また、第1のクラッド24aと第2のクラッド24bが上記の全反射周回モード抑制条件を満足しない場合においても、第1のクラッド24aまたは第2のクラッド24bの厚さを全反射周回モードがクラッド外に染み出す厚さにし、かつ、第1のクラッド24aまたは第2のクラッド24bの外側に、光吸収手段を設けることによって、寄生発振モードを抑制することが可能である。発振光OLの波長の光はレーザ媒質22内の第3の面22c、第4の面22d、第5の面22e、第6の面22fで全反射するため、発振光OL以外の光で発振する寄生発振の発生が懸念される。そこで本実施の形態では、寄生発振を抑制するため、レーザ媒質22の第3の面22cと、レーザ媒質22の第4の面22dの一部にそれぞれ第1の光損失手段25aと第2の光損失手段25bとを設けている。レーザ媒質22の第2の面22bに励起光PLに対して全反射膜を設けると、レーザ媒質22の第2の面22bまで達した光は反射され、レーザ媒質22の第1の面22a方向に向かって、第3の面22cと第4の面22dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質22内を伝搬していく。このように、実施の形態3の導波路型レーザ装置21においては、未発振部分を透明ブロックし、光学的接続手段27の透過回数を1回に減少させることができるため、吸収損失や光学的接続手段27を透過することによって発生する損失を低下させることが可能となり、効率の向上が期待できる。以上説明したように、実施の形態3の導波路型レーザ装置によれば、n個n≧1の励起光源と、中心軸に対して平行で、互いに対向する光学研磨された2個の面と、中心軸に対して平行で、互いに対向するクラッドが接続されている2個の面と、中心軸に対して垂直で発振光が入出射する2個の面とを有する直方体形状からなり、励起光源で励起されてレーザ光を出力するレーザ媒質と、光学研磨された2個の面の少なくとも一部に設けられた光損失手段と、中心軸に対して平行で、レーザ媒質の光学研磨された面と接触する面と、中心軸に対して平行で互いに対向する2個の面と、中心軸に対して垂直な1個の面と、中心軸となす角が鋭角な励起光入射面とを有するn個n≧1の三角柱形状の透明ブロックとを備え、透明ブロックの励起光入射面の中心軸となる角度はレーザ発振光に対して臨界角より大きく、かつ、励起光がレーザ媒質の光学研磨された面に対して臨界角より大きい角度で入射するよう形成され、かつ、クラッドの材料が、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッドまたは第2のクラッドの屈折率、n2はレーザ媒質の屈折率とした時にn2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2を満足するようにしたので、実施の形態1と同様の効果を有すると共に、吸収損失や光学的接続手段を透過することによって発生する損失を低下させることが可能となり、効率の向上を図ることができる。実施の形態4.図11は、この発明の実施の形態4による導波路型レーザ装置31を示す構成図である。図11において、導波路型レーザ装置31は、レーザ媒質32と、励起光源33と、第1のクラッド34a及び第2のクラッド34bと、第1の光損失手段35a及び第2の光損失手段35bと、透明ブロック36と、光学的接続手段37とで構成される。レーザ媒質32は、直方体形状で、第1の面32a、第2の面32b、第3の面32c、第4の面32d、第5の面32e、第6の面32fからなる。第1の面32aと第2の面32bは、レーザ媒質32の中心軸CA、第3の面32c、第4の面32d、第5の面32e、第6の面32fに対して垂直で、互いが平行に対向している。第3の面32cと第4の面32dは、レーザ媒質32の中心軸CAに対して平行で、第1の面32a、第2の面32b、第5の面32e、第6の面32fに対して垂直で互いが平行に対向している。第5の面32eと第6の面32fは、レーザ媒質32の中心軸CAに対して平行で、第1の面32a、第2の面32b、第3の面32c、第4の面32dに対して垂直で互いが平行に対向している。第1のクラッド34aはレーザ媒質32の第5の面32eに、また、第2のクラッド34bはレーザ媒質32の第6の面32fに設けている。第1の光損失手段35aはレーザ媒質32の第3の面32c内の第2の面近傍に設けている。第2の光損失手段35bはレーザ媒質32の第4の面32d内の第2の面32b近傍に設けている。励起光源33は、透明ブロック36の第1の面36aに対して近接配置している。透明ブロック36は、多角柱形状で、第1の面36a、第2の面36b、第3の面36c、第4の面36d、第5の面36e、第6の面36fからなる。第1の面36aは、レーザ媒質32の中心軸CAに対して垂直であると共に、第3の面36cと第4の面36dと第5の面36eと第6の面36fとに垂直である。第2の面36bは、第3の面36cとなす角が鈍角で第3の面36cと第4の面36dと第5の面36eと第6の面36fと接続している。第3の面36cと第4の面36dは、レーザ媒質32の中心軸CAに対して平行で透明ブロック36の第1の面36a、第5の面36e、第6の面36fと垂直で互いが平行に対向している。第5の面36eと第6の面36fは、レーザ媒質32の中心軸CAに対して平行で第1の面36a、第3の面36c、第4の面36dと垂直で互いが平行に対向している。レーザ媒質32の第3の面32cと透明ブロック36の第4の面36dは、平行で光学的接続手段37によって接着されている。励起光源33は、透明ブロック36の第1の面36aに対して近接配置している。次に、実施の形態4の導波路型レーザ装置31の動作について説明する。図12は、図11のx-z面方向に関する励起光源33から出射された励起光PLとレーザ発振光OLの進行光路を示す説明図である。励起光PLは励起光源33から出力され、空間に伝搬後、透明ブロック36の第1の面36aから透明ブロック36内に入射する。このとき、励起光PLが透明ブロックの第1の面36aに垂直に入射していれば、励起光PLは角度を変えずに透明ブロック36内に入射する。一方、励起光PLが透明ブロック36の第1の面36aに対して垂直に入射していないと透明ブロック36の第1の面36aで屈折し、透明ブロック36内に入射する。なお、図12は、励起光PLが透明ブロックの第1の面36aに垂直に入射した場合の例を示している。透明ブロック36に入射した励起光PLは透明ブロック36内を伝搬し、透明ブロック36の第2の面36bまで達すると全反射し、透明ブロック36の第4の面36dに達し、光学的接続手段37を透過し、レーザ媒質32の第3の面32cからレーザ媒質32内に入射する。励起光PLはレーザ媒質32内で吸収されながら伝搬し、レーザ媒質32の第1の面32aで反射し、レーザ媒質32の第4の面32dまで達すると全反射し、レーザ媒質32の第3の面32cの方向に向きを変えてレーザ媒質32内を伝搬する。レーザ媒質32の第3の面32cまで達すると全反射し、第4の面32dの方向に向きを変えてレーザ媒質32内を伝搬する。励起光PLはこのように、レーザ媒質32の第3の面32cとレーザ媒質32の第4の面32dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質32の第2の面32bまで達し、レーザ媒質32で吸収されなかった励起光PLはレーザ媒質32の第2の面32bから励起光は出射され、空間に放射される。y-z面方向に関する励起光PLは励起光源33から出力され、導波路内でビームが広がりながら伝搬する。レーザ媒質32の第5の面32eに達した励起光PLは第1のクラッド34aによって反射し、レーザ媒質32の第6の面32fに向かって伝搬する。レーザ媒質32の第6の面32fに達した励起光PLは第2のクラッド34bによって反射し、レーザ媒質32の第5の面32eに向かって伝搬する。このように、励起光PLは第5の面32eと第6の面32f間で反射を繰り返しながら、レーザ媒質32内を伝搬する。導波路の閉じ込めが十分強い場合、第5の面32eと第6の面32fで全反射する光が第1の面32a、第2の面32bで全反射し、レーザ媒質32内で周回する寄生発振モードが発生する。全反射周回モードを抑制する条件は、端面への入射角度が端面の全反射条件角度よりも小さくなる条件として次式で与えられる。n2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2ここで、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッド34aまたは第2のクラッド34bの屈折率、n2はレーザ媒質32の屈折率である。第1のクラッド34aまたは第2のクラッド34bは、少なくとも一方においては、上記の全反射周回モード抑制条件を満足する材料を用いている。また、第1のクラッド34aと第2のクラッド34bが、上記の全反射周回モード抑制条件を満足しない場合においても、第1のクラッド34aまたは第2のクラッド34bの厚さを全反射周回モードがクラッド外に染み出す厚さにし、かつ、第1のクラッド34aまたは第2のクラッド34bの外側に光吸収手段を設けることによって、寄生発振モードを抑制することが可能である。発振光OLの波長の光はレーザ媒質32内の第3の面32c、第4の面32d、第5の面32e、第6の面32fで全反射するため、発振光OL以外の光で発振する寄生発振の発生が懸念される。そこで本実施の形態では、寄生発振を抑制するため、レーザ媒質32の第3の面32cと第4の面32dの一部にそれぞれ第1の光損失手段35aと第2の光損失手段35bとを設けている。レーザ媒質32の第2の面32bに励起光PLに対して全反射膜を設けると、レーザ媒質32の第2の面32bまで達した光は反射され、レーザ媒質32の第1の面32a方向に向かって、第3の面32cと第4の面32dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質32内を伝搬していく。このように、実施の形態4の導波路型レーザ装置31においては、レーザ媒質32の第1の面32aに反射させて、レーザ媒質32の第3の面32cと第4の面32d間を繰り返し反射させており、未励起領域が小さくなるため、レーザ媒質32が三準位レーザの場合は、吸収損失が小さくすることが可能となり、効率の向上が期待できる。以上説明したように、実施の形態4の導波路型レーザ装置によれば、n個n≧1の励起光源と、中心軸に対して平行で、互いに対向する光学研磨された2個の面と、中心軸に対して平行で、互いに対向するクラッドが接続されている2個の面と、中心軸に対して垂直で発振光が入出射する2個の面とを有する直方体形状からなり、励起光源で励起されてレーザ光を出力するレーザ媒質と、光学研磨された2個の面の少なくとも一部に設けられた光損失手段と、中心軸に対して平行で互いに対向し、かつ、一方の面が光学研磨された面との接触面である2個の面と、中心軸に対して平行で互いに対向する2個の面と、中心軸に対して垂直な励起光が入射する面と、中心軸となす角が鈍角な励起光反射面とを有するn個n≧1の四角柱形状の透明ブロックとを備え、励起光がレーザ媒質の光学研磨された面に対して臨界角より大きい角度で入射し、かつ、クラッドの材料が、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッドまたは第2のクラッドの屈折率、n2はレーザ媒質の屈折率とした時にn2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2を満足するようにしたので、実施の形態1と同様の効果を有すると共に、吸収損失や光学的接続手段を透過することによって発生する損失を低下させることが可能となり、効率の向上を図ることができる。実施の形態5.図13は、この発明の実施の形態5による導波路型レーザ装置41を示す構成図である。図13において、導波路型レーザ装置41は、レーザ媒質42と、第1の励起光源43a及び第2の励起光源43bと、第1のクラッド44a及び第2のクラッド44bと、第1の光損失手段45a及び第2の光損失手段45bとで構成される。レーザ媒質42は、多角柱形状で、第1の面42a、第2の面42b、第3の面42c、第4の面42d、第5の面42e、第6の面42f、第7の面42g、第8の面42hからなる。第1の面42aと第2の面42bは、レーザ媒質42の中心軸CAに対して垂直であると共に、第3の面42c、第4の面42d、第5の面42e、第6の面42fに対して垂直で、互いが平行に対向している。第3の面42cと第4の面42dは、レーザ媒質42の中心軸CAに対して平行で、第1の面42a、第2の面42b、第5の面42e、第6の面42fに対して垂直で互いが平行に対向している。第5の面42eと第6の面42fは、レーザ媒質42の中心軸CAに対して平行で、第1の面42a、第2の面42b、第3の面42c、第4の面42dに対して垂直で互いが平行に対向している。第7の面42gは、中心軸CAとなす角が鋭角で、第1の面42aと第3の面42cと第5の面42eと第6の面42fとに接続している。第8の面42hは、中心軸CAとなす角が鋭角で第1の面42aと第4の面42dと第5の面42eと第6の面42fとに接続している。第1の励起光源43aはレーザ媒質42の第7の面42gに、第2の励起光源43bはレーザ媒質42の第8の面42hに対して近接配置している。次に、実施の形態5の導波路型レーザ装置41の動作について説明する。図14は、図13のx-z面方向の第1の励起光源43aと第2の励起光源43bから出射された励起光PL1とPL2とレーザ発振光OLの進行光路を示す説明図である。励起光PL1は第1の励起光源43aから出力され、空間に伝搬後、レーザ媒質42の第7の面42gからレーザ媒質42内に入射する。このとき、励起光PL1とレーザ媒質42の第7の面42gの法線が一致していれば、励起光PL1は角度を変えずにレーザ媒質42内に入射する。一方、励起光PL1とレーザ媒質42の第7の面42gの法線が一致していないとレーザ媒質42の第7の面42gで屈折し、レーザ媒質42内に入射する。レーザ媒質42内に入射した励起光PL1はレーザ媒質42内を吸収されながら伝搬し、レーザ媒質42の第4の面42dまで達すると全反射し、レーザ媒質42の第3の面42cの方向に向きを変えてレーザ媒質42内を伝搬する。レーザ媒質42の第3の面42cまで達すると全反射し、レーザ媒質42の第4の面42dの方向に向きを変えて伝搬する。励起光PL1はレーザ媒質42の第3の面42cと第4の面42dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質42の第2の面42bまで達し、レーザ媒質42で吸収されなかった励起光PL1はレーザ媒質42の第2の面42bから励起光は出射され、空間に放射される。励起光PL2は第2の励起光源43bから出力され、空間に伝搬後、レーザ媒質42の第8の面42hからレーザ媒質42内に入射する。このとき、励起光PL2とレーザ媒質42の第8の面42hの法線が一致していれば、励起光PL1は角度を変えずにレーザ媒質42内に入射する。一方、励起光PL1とレーザ媒質42の第8の面42hの法線が一致していないとレーザ媒質42の第8の面42hで屈折し、レーザ媒質42内に入射する。レーザ媒質42内に入射した励起光PL2はレーザ媒質42内を吸収されながら伝搬し、レーザ媒質42の第3の面42cまで達すると全反射し、レーザ媒質42の第4の面42dの方向に向きを変えてレーザ媒質42内を伝搬する。レーザ媒質42の第4の面42dまで達すると全反射し、レーザ媒質42の第3の面42cの方向に向きを変えて伝搬する。励起光PL1はレーザ媒質42の第3の面42cと第4の面42dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質42の第2の面42bまで達し、レーザ媒質42で吸収されなかった励起光PL2はレーザ媒質42の第2の面42bから励起光は出射され、空間に放射される。レーザ媒質42の第2の面42bに励起光PL1と励起光PL2に対して全反射膜を設けると、レーザ媒質42の第2の面42bまで達した光は反射され、レーザ媒質42の第1の面42a方向に向かって、レーザ媒質42の第3の面42cとレーザ媒質42の第4の面42dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質42内を伝搬していく。y-z面方向に関する励起光PL1と励起光PL2はそれぞれ第1の励起光源43aと第2の励起光源43bから出力され、導波路内でビームが広がりながら伝搬する。レーザ媒質42の第5の面42eに達した励起光PL1は第1のクラッド44aによって反射し、レーザ媒質42の第6の面42fに向かって伝搬する。レーザ媒質42の第6の面42fに達した励起光PL1または励起光PL2は第2のクラッド44bによって反射し、レーザ媒質42の第5の面42eに向かって伝搬する。このように、励起光PL1または励起光PL2は第5の面42eと第6の面42f間で反射を繰り返しながら、レーザ媒質41内を伝搬する。導波路の閉じ込めが十分強い場合、第5の面42eと第6の面42fで全反射する光が第1の面42a、第2の面42bで全反射し、レーザ媒質42内で周回する寄生発振モードが発生する。全反射周回モードを抑制する条件は、端面への入射角度が端面の全反射条件角度よりも小さくなる条件として次式で与えられる。n2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2ここで、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッド44aまたは第2のクラッド44bの屈折率、n2はレーザ媒質42の屈折率である。第1のクラッド44aまたは第2のクラッド44bは、少なくとも一方においては、上記の全反射周回モード抑制条件を満足する材料を用いている。また、第1のクラッド44aと第2のクラッド44bが上記の全反射周回モード抑制条件を満足しない場合においても、第1のクラッド44aまたは第2のクラッド44bの厚さを全反射周回モードがクラッド外に染み出す厚さにし、かつ、第1のクラッド44aまたは第2のクラッド44bの外側に、光吸収手段を設けることによって、寄生発振モードを抑制することが可能である。発振光OLの波長の光は、レーザ媒質42内の第3の面42c、第4の面42d、第5の面42e、第6の面42fで全反射するため、発振光OL以外の光で発振する寄生発振の発生が懸念される。そこで本実施の形態では、寄生発振を抑制するため、レーザ媒質42の第3の面42cと第4の面42dの一部にそれぞれ第1の光損失手段45aと第2の光損失手段45bとを設けている。以上のように、実施の形態5による導波路型レーザ装置41においては、2個の励起光源を用いることができるため、レーザ装置の高出力化が可能となる。なお、実施の形態2~4の構成においても、実施の形態5と同様にレーザ媒質や透明ブロック、励起光源をレーザ媒質の中心軸に対して線対称な位置に配置することができ、レーザ装置の高出力化が実現できる。実施の形態6.図15は、この発明の実施の形態6による導波路型レーザ装置51を示す構成図である。図15において導波路型レーザ装置51は、レーザ媒質52と、第1の励起光源53aと、第2の励起光源53bと、第3の励起光源53cと、第4の励起光源53dと、第1のクラッド54aと、第2のクラッド54bと、第1の光損失手段55aと、第2の光損失手段55bと、第3の光損失手段55cと、第4の光損失手段55dとで構成される。レーザ媒質52は、多角柱形状で、第1の面52a、第2の面52b、第3の面52c、第4の面52d、第5の面52e、第6の面52f、第7の面52g、第8の面52h、第9の面52i、第10の面52jからなる。第1の面52aと第2の面52bは、レーザ媒質52の中心軸CAに対して垂直であると共に、第3の面52c、第4の面52d、第5の面52e、第6の面52fに対して垂直で、互いが平行に対向している。第3の面52cと第4の面52dは、レーザ媒質52の中心軸CAに対して平行で、第1の面52a、第2の面52b、第5の面52e、第6の面52fに対して垂直で互いが平行に対向している。第5の面52eと第6の面52fは、レーザ媒質52の中心軸CAに対して平行で、第1の面52a、第2の面52b、第3の面52c、第4の面52dに対して垂直で互いが平行に対向している。第7の面52gは、中心軸CAとなす角が鋭角で、第1の面52aと第3の面52cと第5の面52eと第6の面52fと接続している。第8の面52hは、中心軸CAとなす角が鋭角で、第1の面52aと第4の面52dと第5の面52eと第6の面52fと接続している。第9の面52iは、中心軸CAとなす角が鋭角で、第2の面52bと第4の面52dと第5の面52eと第6の面52fと接続している。第10の面52jは、中心軸CAとなす角が鋭角で、第2の面52bと第4の面52dと第5の面52eと第6の面52fと接続している。第1の励起光源53aはレーザ媒質52の第7の面52gに、第2の励起光源53bはレーザ媒質52の第8の面52hに、第3の励起光源53cはレーザ媒質52の第9の面52iに、第4の励起光源53dはレーザ媒質52の第10の面52jに対して近接配置している。次に、実施の形態6の導波路型レーザ装置51の原理について説明する。図16は、図15のx-z面方向の第1の励起光源53aと第2の励起光源53bと第3の励起光源53cと第4の励起光源53dから出射された励起光PL1とPL2とPL3とPL4とレーザ発振光OLの進行光路を示す説明図である。励起光PL1は第1の励起光源53aから出力され、空間に伝搬後、レーザ媒質52の第7の面52gからレーザ媒質52内に入射する。このとき、励起光PL1とレーザ媒質52の第7の面52gの法線が一致していれば、励起光PL1は角度を変えずにレーザ媒質52内に入射する。一方、励起光PL1とレーザ媒質52の第7の面52gの法線が一致していないとレーザ媒質52の第7の面52gで屈折し、レーザ媒質52内に入射する。レーザ媒質52内に入射した励起光PL1はレーザ媒質52内を吸収されながら伝搬し、レーザ媒質52の第4の面52dまで達すると全反射し、レーザ媒質52の第3の面52cの方向に向きを変えてレーザ媒質52内を伝搬する。レーザ媒質52の第3の面52cまで達すると全反射し、レーザ媒質52の第4の面52dの方向に向きを変えて伝搬する。励起光PL1はレーザ媒質52の第3の面52cと第4の面52dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質52の第2の面52bまで達し、レーザ媒質52で吸収されなかった励起光PL1はレーザ媒質52の第2の面52bから励起光は出射され、空間に放射される。励起光PL2は第2の励起光源53bから出力され、空間に伝搬後、レーザ媒質52の第8の面52hからレーザ媒質52内に入射する。このとき、励起光PL2とレーザ媒質52の第8の面52hの法線が一致していれば、励起光PL2は角度を変えずにレーザ媒質52内に入射する。一方、励起光PL2とレーザ媒質52の第8の面52hの法線が一致していないとレーザ媒質52の第8の面52hで屈折し、レーザ媒質52内に入射する。レーザ媒質52内に入射した励起光PL2はレーザ媒質52内を吸収されながら伝搬し、レーザ媒質52の第3の面52cまで達すると全反射し、レーザ媒質52の第4の面52dの方向に向きを変えてレーザ媒質52内を伝搬する。レーザ媒質52の第4の面52dまで達すると全反射し、レーザ媒質52の第3の面52cの方向に向きを変えて伝搬する。励起光PL2はレーザ媒質52の第3の面52cと第4の面52dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質52の第2の面52bまで達し、レーザ媒質52で吸収されなかった励起光PL2はレーザ媒質52の第2の面52bから励起光は出射され、空間に放射される。励起光PL3は励起光源53cから出力され、空間に伝搬後、レーザ媒質52の第9の面52iからレーザ媒質52内に入射する。このとき、励起光PL3とレーザ媒質52の第9の面52iの法線が一致していれば、励起光PL3は角度を変えずにレーザ媒質52内に入射する。一方、励起光PL3とレーザ媒質52の第9の面52iの法線が一致していないとレーザ媒質52の第9の面52iで屈折し、レーザ媒質52内に入射する。レーザ媒質52内に入射した励起光PL3はレーザ媒質52内を吸収されながら伝搬し、レーザ媒質52の第4の面52dまで達すると全反射し、レーザ媒質52の第3の面52cの方向に向きを変えてレーザ媒質52内を伝搬する。レーザ媒質52の第3の面52cまで達すると全反射し、レーザ媒質52の第4の面52dの方向に向きを変えて伝搬する。励起光PL3はレーザ媒質52の第3の面52cと第4の面52dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質52の第1の面52aまで達し、レーザ媒質52で吸収されなかった励起光PL3はレーザ媒質52の第1の面52aから励起光は出射され、空間に放射される。励起光PL4は励起光源53dから出力され、空間に伝搬後、レーザ媒質52の第10の面52jからレーザ媒質52内に入射する。このとき、励起光PL4とレーザ媒質52の第10の面52jの法線が一致していれば、励起光PL4は角度を変えずにレーザ媒質52内に入射する。一方、励起光PL4とレーザ媒質52の第10の面52jの法線が一致していないとレーザ媒質52の第10の面52jで屈折し、レーザ媒質52内に入射する。レーザ媒質52内に入射した励起光PL4はレーザ媒質52内を吸収されながら伝搬し、レーザ媒質52の第3の面52cまで達すると全反射し、レーザ媒質52の第4の面52dの方向に向きを変えてレーザ媒質52内を伝搬する。レーザ媒質52の第4の面52dまで達すると全反射し、レーザ媒質52の第3の面52cの方向に向きを変えて伝搬する。励起光PL4はレーザ媒質52の第3の面52cと第4の面52dとの反射を繰り返しながら、レーザ媒質52の第1の面52aまで達し、レーザ媒質52で吸収されなかった励起光PL4はレーザ媒質52の第1の面52aから励起光は出射され、空間に放射される。y-z面方向に関する励起光PL1と励起光PL2と励起光PL3と励起光PL4はそれぞれ第1の励起光源53aと第2の励起光源53bと第3の励起光源53cと第4の励起光源53dから出力され、導波路内でビームが広がりながら伝搬する。レーザ媒質52の第5の面52eに達した励起光PL1または励起光PL2または励起光PL3または励起光PL4は、第1のクラッド54aによって反射し、レーザ媒質52の第6の面52fに向かって伝搬する。レーザ媒質52の第6の面52fに達した励起光PL1または励起光PL2または励起光PL3または励起光PL4は、第2のクラッド54bによって反射し、レーザ媒質52の第5の面52eに向かって伝搬する。このように励起光PL1または励起光PL2または励起光PL3または励起光PL4は、第5の面52eと第6の面52f間で反射を繰り返しながら、レーザ媒質52内を伝搬する。導波路の閉じ込めが十分強い場合、第5の面52eと第6の面52fで全反射する光が第1の面52a、第2の面52bで全反射し、レーザ媒質52内で周回する寄生発振モードが発生する。全反射周回モードを抑制する条件は、端面への入射角度が端面の全反射条件角度よりも小さくなる条件として次式で与えられる。n2×sinπ/2-sin-1n0/n2<n1<n2ここで、n0は空気の屈折率、n1は第1のクラッド54aまたは第2のクラッド54bの屈折率、n2はレーザ媒質52の屈折率である。第1のクラッド54aまたは第2のクラッド54bは、少なくとも一方においては、上記の全反射周回モード抑制条件を満足する材料を用いている。また、第1のクラッド54aと第2のクラッド54bに上記の全反射周回モード抑制条件を満足しない場合においても、第1のクラッド54aまたは第2のクラッド54bの厚さを全反射周回モードがクラッド外に染み出す厚さにし、かつ、第1のクラッド54aまたは第2のクラッド54bの外側に、光吸収手段を設けることによって、寄生発振モードを抑制することが可能である。発振光OLの波長の光はレーザ媒質52内の第3の面52c、第4の面52d、第5の面52e、第6の面52fで全反射するため、発振光OL以外の光で発振する寄生発振の発生が懸念される。そこで本実施の形態では、寄生発振を抑制するため、レーザ媒質52の第3の面52cと、レーザ媒質52の第4の面52dの一部にそれぞれ第1の光損失手段55aと第2の光損失手段55bと第3の光損失手段55cと第4の光損失手段55dとを設けている。以上のように、実施の形態6による導波路型レーザ装置51においては、4個の励起光源を用いることができ、また、未励起部分が小さくなるため、レーザ装置の高出力、高効率化が可能となる。なお、実施の形態2~4の構成においても、実施の形態6と同様にレーザ媒質や透明ブロック、励起光源をレーザ媒質の中心に対して点対称な位置に配置することができ、レーザ装置の高出力化が実現できる。また、本願発明はその発明の範囲内において、各実施の形態の自由な組み合わせ、あるいは各実施の形態の任意の構成要素の変形、もしくは各実施の形態において任意の構成要素の省略が可能である。"