焼鈍工程で外部熱源から熱伝達がなされる焼鈍工程用の熱処理装置であって、コイルが置かれるベースプレートと、前記コイルを囲むように下部が開放され、下側開放部が前記ベースプレートの縁にシーリングされるカバーと、前記ベースプレートの下部に外部熱源による輻射熱伝達が伝達される熱伝達空間部が形成されるように前記ベースプレートの下部を支持するサポートユニットと、を有することを特徴とする焼鈍工程用の熱処理装置。前記ベースプレートの縁には、シーリング部材が充填されるシーリング溝部が形成されて、前記下側開放部が前記シーリング部材に挿入されることを特徴とする請求項1記載の焼鈍工程用の熱処理装置。前記ベースプレートは、熱伝達に優れた特徴を有するスチール材質で構成され、前記熱伝達空間部を介して伝達された熱源を前記コイルの下部に伝達することを特徴とする請求項1記載の焼鈍工程用の熱処理装置。前記サポートユニットは、前記ベースプレートの中心下側面に配置される中心サポート片と、前記ベースプレートの下側面に放射状に配置される複数の展開サポート片を含むことを特徴とする請求項1記載の焼鈍工程用の熱処理装置。前記複数の展開サポート片は、前記中心サポート片に向かって長く延長形成される第1サポート片と、前記第1サポート片より短く延長形成される第2サポート片で構成されることを特徴とする請求項4記載の焼鈍工程用の熱処理装置。前記第1サポート片の間には前記第2サポート片が位置して、第1サポート片と第2サポート片が交替で反復するように配置されたことを特徴とする請求項5記載の焼鈍工程用の熱処理装置。前記ベースプレートは、コイルが置かれることができるよう円形のプレート形状からなることを特徴とする請求項1記載の焼鈍工程用の熱処理装置。前記サポートユニットは、クリープの変形によるベースプレートの撓みを防止するために耐火物材質からなることを特徴とする請求項1記載の焼鈍工程用の熱処理装置。このような問題点を解決するための本発明の目的は、コイルの下部に流入する熱量を増加させて、熱処理時にコイル内の温度偏差を減少させることができる焼鈍工程用の熱処理装置を提供することである。前記の目的を達成するための本発明による焼鈍工程用の熱処理装置は、焼鈍工程で外部熱源から熱伝達がなされる焼鈍工程用の熱処理装置であって、コイルが置かれるベースプレートと、前記コイルを囲むように下部が開放され、開放された下側開放部が前記ベースプレートの縁にシーリングされるカバーと、前記ベースプレートの下部に外部熱源による輻射熱伝達が伝達される熱伝達空間部が形成されるように前記ベースプレートの下部を支持するサポートユニットを含む。好ましくは、前記ベースプレートの縁にはシーリング部材が充填されるシーリング溝部が形成されて、前記下側開放部が前記シーリング部材に挿入される。好ましくは、前記ベースプレートは、熱伝達に優れた特徴を有するスチール材質で構成され、前記熱伝達空間部を介して伝達された熱源を前記コイルの下部に伝達する。好ましくは、前記サポートユニットは、前記ベースプレートの中心下側面に配置される中心サポート片と、前記ベースプレートの下側面に放射状に配置される複数の展開サポート片を含む。好ましくは、前記複数の展開サポート片は、前記中心サポート片に向かって長く延長形成される第1サポート片と、前記第1サポート片より短く延長形成される第2サポート片で構成される。本発明によれば、コイルが置かれるベースプレートを外部熱源に直接露出させることにより、コイルの加熱/冷却速度を著しく改善し、COF工程でコイルの磁性品質に大きな影響を及ぼすコイル内の温度偏差を著しく減らすことができるという利点がある。まず各図面の構成要素に参照符号を付けるにおいて、同一の構成要素については、他の図面上に表示されたとしても可能な限り同一の符号を有するようにしていることに留意しなければならない。また、本発明を説明するにおいて、関連する公知の構成または機能についての具体的な説明が本発明の要旨をばかす恐れがあると判断される場合には、その詳細な説明は省略することにする。添付された図面に基づいて本発明の実施例を詳しく説明することにする。図3ないし図4に示されたように、本発明による焼鈍工程用の熱処理装置は、カバー200を介した輻射熱伝達と、ベースプレートを介した熱伝導によって、焼鈍工程でコイル400に対する効率的な加熱/冷却を具現し、コイル400内の温度偏差を減らすようにする。本実施例では、輻射熱伝達により加熱される外部加熱源と、対流熱伝達される外部冷却源を通称して外部熱源と定義する。これを具現するための熱処理装置は、コイル400が置かれるベースプレート100と、コイル400を囲むようにベースプレート100の縁にシーリングされるカバー200と、ベースプレート100の下側に熱伝達空間部520が形成されるようにベースプレート100の下部を支持するサポートユニット300を含んで構成される。ベースプレート100は、コイル400が置かれる円形のプレート形状で、該当下側に熱伝達空間部520が形成されて外部熱源に直接露出するように構成される。このために、ベースプレート100は、熱伝導率に優れた材質で構成されるが、本実施例では、外部熱源をコイル400側に効果的に伝達することができるスチールsteal材料が使用された。ベースプレート100は、熱伝達に優れた特徴を有するスチールstee1材質で構成され、このベースプレート100にはコイル400を囲むカバー200が結合される。この時、これらの間に効果的なシーリング効果を具現するために、ベースプレート100の縁にはシーリング部材510が充填されるシーリング溝部1l0が形成され、シーリング溝部110内のシーリング部材510には、カバー200の下側開放部210がシーリングされるように挿入される。カバー200は、コイル400を囲むように下部が開放される構造で、開放される下側開放部210がベースプレート100のシーリング溝部110にシーリングされるように結合される。このカバー200は、外部雰囲気ガスとカバー200内の内部雰囲気ガスを遮断するが、カバー200内部の加熱/冷却のための1次加熱/冷却源として作用し、カバー200による間接加熱/冷却によってコイル400の上部が2次加熱/冷却される。特に、従来技術の場合、コイルが置かれる円形板が上部サポート及び下部サポートに支持され、これらの構成がカバーによって囲まれる構造であるため、カバーを介してコイルの上部に主に熱伝達がなされる反面、本発明の場合、カバー200がベースプレート100のみを囲み、ベースプレート100の下側に熱伝達空間部520が形成される構造であるため、カバー200を介してコイル400の上部は勿論、ベースプレート100を介してコイル400の下部で熱伝達がなされることができる。このように、ベースプレート100の上部と下部を外部雰囲気ガスの熱源に露出させることにより、コイル400の上部及び下部に対する熱伝達効率が極大化することができ、コイル400の上部と下部間の加熱/冷却の時間差をなくし、コイル400内の温度偏差を最小化することができる。ベースプレート100の下部には、サポートユニット300が設けられる。サポートユニット300は、ベースプレート100の下部に熱伝達空間部520が形成されるようにベースプレート100の下部を支持するが、好ましくは、クリープcreepの変形によるベースプレート100の撓みを防止するために耐火物材質で構成される。このようなサポートユニット300は、熱伝達空間部520を間に置いて離隔配置される中心サポート片310と、展開サポート片320で構成される。中心サポート片310は、ベースプレート100の中心下側面を支持する円形のサポート片で構成され、展開サポート片320は、ベースプレート100の下側面で中心サポート片310を中心に放射状に配置される第1サポート片321と第2サポート片322が交互に配置されて構成される。ここで、第2サポート片322は、第1サポート片321より短く延長形成されるため、サポート片の効率的な配置設計を具現し、ベースプレート100の下側に十分な熱伝達空間を確保することができる。図5に示されたように、本発明の熱処理装置は、従来技術に比べて熱処理時にヒートサイクルに付いていく速度がさらに早く、コイル400内の最高温度部と最低温度部間の温度差が従来技術に比べて加熱帯で100°C減少するものと確認された。また、カバー200によるコイル400の上部加熱/冷却は、従来技術と同じ効率を示しているが、ベースプレート100によるコイル400の下部加熱/冷却は、従来技術に比べて著しく改善したことが示された。上述したように、本発明は、コイル400が置かれるベースプレート100を外部熱源に直接露出させることにより、コイル400の上下部に対する加熱/冷却速度を著しく改善して、コイル400内の温度偏差を減少させ、COF工程でコイル400の磁性品質を向上させることができる。前記で、本発明を、望ましい実施例を使用して詳しく説明したが、本発明の範囲は、特徴実施例に限定されるのではなく、添付された特許請求の範囲によって解釈されるべきものである。また、この技術分野で通常の知識を習得した者であれば、本発明の範囲から外れずとも多くの修正と変形が可能であることを理解すべきものである。