上吹きランスを用いてCaOを含有する粉体を酸素とともに噴流として溶銑浴面に投射して溶銑の脱燐精錬を行う溶銑の脱燐精錬方法であって、前記上吹きランスからの前記粉体と酸素とからなる前記噴流が前記溶銑浴面に作用する下記1式で定義される浴面動圧Pdを、スピッティングが生じない基準浴面動圧Pd0と同等となるように、上吹きランス高さLhを調整することを特徴とする溶銑の脱燐精錬方法。記Pd=ρU2max21ここで、Umax=U0de200160190098Lh×cosθ、U0=Kv12712、P0=0098FKpndt2、Pd:浴面動圧、ρ:噴流の密度、Umax:噴流の流速、U0:上吹きランスから噴出される際の噴流の流速、de:上吹きランスの出口径、P0:上吹きランスの出口における酸素圧力、Pe:雰囲気圧力、Lh:上吹きランス高さ、θ:上吹きランスから噴出される際の噴流の方向が鉛直方向となす傾角、Kv:噴出係数、F:送酸速度、Kp:背圧係数、N:上吹きランスのノズル数、dt:スロート径前記噴流の密度ρは下記2式で定義される密度ρ’を用いて計算することを特徴とする請求項1に記載の溶銑の脱燐精錬方法。記ρ’=ρ1ρ22ここで、ρ’:噴流の密度、ρ1:酸素の密度、ρ2:固気比粉体の吹込速度÷酸素の吹込速度前記基準浴面動圧Pd0は、酸素のみを上吹きランスから投射して、スピッティングが生じない場合の浴面動圧であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の溶銑の脱燐精錬方法。しかしながら、特許文献1の方法では、脱珪処理を行う分、処理に時間を要し、生産性が低下する問題がある。また、最近では、溶銑に鉄スクラップの投入が行われることもあるが、この場合、脱珪処理を放棄せざるを得ないことがあり、そのため特許文献1の方法は実施できないという難点がある。本発明は、従来技術の以上のような問題を解決するためになされたものである。すなわち、本発明は、溶銑の脱燐精錬の際に生じるスピッティングを防止し、炉口地金の堆積を防止できる、溶銑の脱燐精錬方法を提供することを目的とする。上記した目的を達成するため、発明者らは、上吹きランスを用いてCaOを含有する粉体を酸素とともに噴流として溶銑浴面に投射して脱燐精錬を行う際に生じるスピッティングに影響する要因について鋭意検討した。その結果、スピッティングは上吹きした噴流が溶銑浴面に衝突した結果生ずる浴面動圧が不適切な場合に生じ、粉体を上吹きする場合はしない場合に比べ、浴面動圧が上昇していることを見出した。浴面動圧を低下させるためには、溶銑浴面から上吹きランスの下端までの高さ溶銑の静止浴面と上吹きランス下端間の距離で定義される上吹きランス高さLhを大きくすることが考えられるが、単にLhを経験的に大きくしたのでは、スピッティングを防止するのには有効であるものの、スラグが過酸化になって溶銑と時折急激なCO発生反応を起こし、スラグと地金の混じったものが突沸するスロッピング現象を引き起こすという別の問題が発生するおそれがある。後者のスロッピングが発生する場合も、地金混じりのスラグが炉口に付着するので、スピッティングと同様に炉口地金の堆積を引き起こす。そこで、発明者らは、さらなる検討を加えた結果、CaOを含有する粉体を上吹きする場合には、上吹きランスから投射される噴流の密度が増加すると考え、浴面動圧を計算し、粉体を上吹きしない場合と同等の浴面動圧となるように上吹きランス高さLhを決定すれば安定してスピッティングを防止でき、炉口地金堆積を減少させられることを見出した。本発明は、かかる知見に基づき、さらに検討を加えて完成されたものである。すなわち、本発明の要旨は以下の通りである。1.上吹きランスを用いてCaOを含有する粉体を酸素とともに噴流として溶銑浴面に投射して溶銑の脱燐精錬を行う溶銑の脱燐精錬方法であって、前記上吹きランスからの前記粉体と酸素とからなる前記噴流が前記溶銑浴面に作用する下記1式で定義される浴面動圧Pdを、スピッティングが生じない基準浴面動圧Pd0と同等となるように、上吹きランス高さLhを調整することを特徴とする溶銑の脱燐精錬方法。記Pd=ρU2max21ここで、Umax=U0de200160190098Lh×cosθ、U0=Kv12712、P0=0098FKpndt2、Pd:浴面動圧、ρ:噴流の密度、Umax:噴流の流速、U0:上吹きランスから噴出される際の噴流の流速、de:上吹きランスの出口径、P0:上吹きランスの出口における酸素圧力、Pe:雰囲気圧力、Lh:上吹きランス高さ、θ:上吹きランスから噴出される際の噴流の方向が鉛直方向となす傾角、Kv:噴出係数、F:送酸速度、Kp:背圧係数、N:上吹きランスのノズル数、dt:スロート径2.前記噴流の密度ρは下記2式で定義される密度ρ’を用いて計算することを特徴とする1.に記載の溶銑の脱燐精錬方法。記ρ’=ρ1ρ22ここで、ρ’:噴流の密度、ρ1:酸素の密度、ρ2:固気比粉体の吹込速度÷酸素の吹込速度3.前記基準浴面動圧Pd0は、酸素のみを上吹きランスから投射して、スピッティングが生じない場合の浴面動圧であることを特徴とする1.又は2.に記載の溶銑の脱燐精錬方法。本発明によれば、溶銑の脱燐精錬の際に生じるスピッティングを防止し、炉口地金の堆積を防止でき、産業上格段の効果を奏する。本発明では、上吹きランスからの粉体と酸素とからなる噴流が溶銑浴面に作用する浴面動圧Pdを、スピッティングが生じない基準浴面動圧Pd0と同等となるように、上吹きランス高さLhを調整する。浴面動圧Pdの算出:浴面動圧Pdは、気体が堰き止められたときに気体の持つ運動エネルギー動圧が静圧に変わることを表し、下記1式で定義される。Pd=ρU2max21ここで、Umax=U0de200160190098Lh×cosθ、U0=Kv12712、P0=0098FKpndt2、Pd:浴面動圧、ρ:噴流の密度、Umax:噴流の流速、U0:上吹きランスから噴出される際の噴流の流速、de:上吹きランスの出口径、P0:上吹きランスの出口における酸素圧力、Pe:雰囲気圧力、Lh:上吹きランス高さ、θ:上吹きランスから噴出される際の噴流の方向が鉛直方向となす傾角、Kv:噴出係数、F:送酸速度、Kp:背圧係数、N:上吹きランスのノズル数、dt:スロート径である。上記Umax、U0、P0の定義式に用いられる各種指数や係数は、実験結果に基づいて得られる値を用いる。また、上記1式中の噴流の密度ρは、酸素の密度に対し、粉体を混合することによる密度の増加分として固気比を加算する、下記2式で定義される密度ρ’を用いて計算するのが好ましい。ρ’=ρ1ρ22ここで、ρ’:噴流の密度、ρ1:酸素の密度、ρ2:固気比粉体の吹込速度÷酸素の吹込速度である。なお、本発明では、溶銑の脱燐精錬を行う際の脱燐剤として、CaOを含有する粉体を用いるが、CaO以外の成分としては、酸化鉄や蛍石やそれらの混合物などが使用される。基準浴面動圧Pd0の算出:基準浴面動圧Pd0は、酸素のみを上吹きランスから投射して、スピッティングが生じない場合の浴面動圧であるのが好ましい。すなわち、酸素のみを上吹きランスから投射した場合に、経験的にスピッティングが生じない最も低い上吹きランス高さを上吹きランス高さ基準位置Lh0とし、上記1式のLhにLh0を代入して得られる、下記1’式にて定義される値を、基準浴面動圧Pd0とするのが好ましい。Pd0=ρ1U2max21’Umax=U0de200160190098Lh0×cosθ以下、前記1式の場合と同じ。ただし、ρ1:酸素の密度Lh0:上吹きランス高さ基準位置である。上吹きランス高さがLh0を超えて高すぎると、溶銑の撹拌が弱くなるために脱燐反応が遅滞したり、スラグが過酸化になって溶銑と時折急激なCO発生反応を起こし、スラグと地金の混じったものが突沸するスロッピング現象を引き起こすので、上吹きランス高さは低い方が好ましい。このため、経験的にスピッティングが生じない最も低い上吹きランス高さLh0を用いて基準浴面動圧Pd0を決めるのが好ましい。上吹きランス高さLh調整方法:以上検討した結果に基づき、上吹きランスからの粉体と酸素とからなる噴流が溶銑浴面に作用する浴面動圧Pdを、スピッティングが生じない基準浴面動圧Pd0と同等となるように、上吹きランス高さLhを調整するにあたり、Lhは次のようにして計算する。すなわち、1式のPdと1’式のPd0を等しいとおくことで、酸素だけの場合に酸素の密度ρ1と上吹きランス高さ基準位置Lh0から計算される浴面動圧Pd0に等しくなるような、粉体CaOを酸素とともに噴流として溶銑浴面に投射する場合の上吹きランス高さLhを、計算により求める。そして、該上吹きランス高さLhに実際に上吹きランスを設定して、粉体CaOを酸素とともに噴流として溶銑浴面に投射する。Lh0は前述したように、酸素のみを上吹きランスから投射した場合に、経験的にスピッティングが生じない最も低い上吹きランス高さ上吹きランス高さ基準位置である。この値は、従来蓄積された転炉の脱炭精錬や脱燐精錬における操業経験から把握されている値を使用すればよい。一般的傾向として、例えば溶銑中のSi濃度が低い場合や事前投入石灰量が少ない場合にはカバースラグの形成が遅れるので、スピッティングを避けるため、Lh0は高めに設定される。また、転炉の炉容が大きい場合には、溶銑浴面から炉口までの距離が大きいために、スピッティングした地金が炉口まで届きにくいことから、Lh0は低めに設定される。また吹錬酸素の流量が大きい場合には、溶銑浴面到達時のガスの動圧が大きく、スピッティングが発生し易いので、Lh0は高めに設定される。また、吹錬の初期吹錬開始から十分なカバースラグが形成されるまでの間は、スピッティングが発生しやすいので、Lh0は高めに設定される。一方、吹錬の中期以降カバースラグの形成後は溶銑浴面に衝突したガスの動圧によって吹き飛ばされた溶銑滴はスラグ中にトラップされてしまうので、炉口まで到達するようなスピッティングは生じ難くなる。そのため吹錬の中期以降でのLh0は吹錬初期よりも低く設定される。したがって、Lh0は吹錬の進行につれて高→低に設定して操業されているが、通常、操業のし易さの観点から、2~3パターンの高さをステップ状に変化させて操業している。例えば、初期Lh0を2600mmとして吹錬を開始し、吹錬予定時間の20経過した時点でLh0を2250mmにする等の操業がなされる。一方、粉体CaOを酸素と共に上吹きランスから吹込み時のランス高さLhは必ずしも吹錬の全期間にわたって上記の数式によって算出して決定する必要はなく、粉体吹込みを行っている時期通常、吹き込んだ粉体が滓化して脱燐反応に寄与する時間を考慮して、粉体吹き込みは、吹錬の初期のみ、あるいは吹錬の初期から中期の初めの時期にのみ行われることが多いについてのみ算出してLhを設定し、それ以降の時期は通常操業のLh0と同等に設定して吹錬を行えば良い。炉容300tの上吹き転炉において、溶銑の脱燐精錬を行う場合について、粉体吹込みを行わない場合比較例1、粉体吹込みを行うも、Lhを本発明に従わずに設定した場合比較例2、3および4およびLhを本発明に従って設定した場合本発明例について比較した。なお、比較例2、3および本発明例のランスからの粉体吹込みは吹錬開始から吹錬時間の20の間について行った。各例での吹錬条件を表1に示す。なお、比較例1は従来経験的に知られている、スピッテイングの生じない最低のランス高さでの操業例である。比較例1である上吹きランス高さLh0を2250mmとして酸素のみを60000Nm3hrの流量で噴射した場合の動圧は148kPaと計算された。そこで、CaOの粉体を500kgmin投射する場合に、これと同等になるように、Lhを算出したところ2583mmが得られた。しかし、実設備におけるランス高さのコントロールはcm単位でしかできないので、これに最も近い値として2600mmに設定した。このときの動圧は150kPaであり、Pd0に対して13の不一致があるが、ランス高さの測定誤差等を考慮すると許容範囲である。これが本発明例である。本発明例の場合、ランス高さLhはLh0に対して350mm増加したことに相当する。この本発明のLh増分に対して、100mm低くしたものが比較例2、100mm増やしたものが比較例3である。比較例2の動圧は169kPa、比較例3の動圧は139kPaであった。また、比較例4はランス高さを粉体吹込みしない場合と変化させずに2250mmで操業した例であり、この場合の動圧は200kPaであった。各吹錬の前後において、転炉を直立させた状態で、転炉設備の装入側および出鋼側から炉口を観察し、炉口に新たに付着した地金の面積を定量した。具体的には図2に示す炉口地金付着記録用紙に記入し、地金の付着が増加した部分の方眼紙マス目を数え、10倍した値を地金付着指数とした。得られた結果を図1に示す。Lh増加分が350mmだと、粉体の投射なし、すなわち、酸素のみの場合と同等の範囲に収まる。Lh増加分が250mmである比較例2、0mmである比較例4はスピッティングにより炉口地金付着量が増大した。またLh増加分が450mmである比較例3は、理論上スピッティングは抑制できる条件であるが、炉口地金付着が増加しており、スロッピングによるものと推定される。