Fe又はFe-Co合金からなる磁性金属粒子と、前記磁性金属粒子の表面を覆う被覆層と、からなる磁性ナノ粒子であって、前記被覆層は、前記磁性金属粒子の表面の全部を覆い、Fe-Ni合金又はFe-Co-Ni合金からなる合金層と、前記合金層の表面の全部を覆い、Fe-Ni合金の酸化物又はFe-Co-Ni合金の酸化物からなる酸化物層と、からなり、かつ、前記磁性ナノ粒子全体の粒子径の5以上20以下の厚みを有することを特徴とする、磁性ナノ粒子。前記酸化物層が、前記合金層を構成するFe-Ni合金又はFe-Co-Ni合金の一部が酸化されることにより形成されることを特徴とする、請求項1に記載の磁性ナノ粒子。前記磁性ナノ粒子全体の粒子径が、5nm以上100nm以下であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の磁性ナノ粒子。ところで、上記のような磁性ナノ粒子を、高周波領域の電波が使用される電子通信機器以下、高周波デバイスと称する。で用いる場合には、高い飽和磁化、高い絶縁性比抵抗および高い耐酸化性といった特性が求められる。特に、耐酸化性は、単に酸化の進行を抑制するだけでは足らず、酸化自体を防ぐことが要求される。しかしながら、特許文献1に記載された技術では、磁性金属を構成する元素からなる酸化物を被覆したものであり、これらの酸化物の膜では、磁性金属粒子の酸化速度をある程度低減することはできるものの、酸化自体を完全に阻止することは困難である。その結果、非磁性である酸化物の膜の膜厚酸化物の層の体積が経時的に増加し、磁性金属粒子の充填率および磁化の低下を招くことは避けられない。また、特許文献2に記載された技術でも、磁性金属粒子の表面を不動態被覆しているものの、磁性金属粒子自体の飽和磁化や磁性金属粒子を被覆する層の絶縁性は、高周波デバイスに用いる材料としては満足のいくものではなかった。このように、高い飽和磁化、高い絶縁性および高い耐酸化性といった全ての特性を満足できる磁性ナノ粒子は未だ開示されていない。そこで、本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、コアとなる磁性金属粒子の表面がシェルとなる被覆層で被覆されたコアシェル型の磁性ナノ粒子を高周波デバイスで用いた場合に、高い飽和磁化、高い絶縁性および高い耐酸化性の全ての特性を満足できる磁性ナノ粒子を提供することを目的とする。本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、高飽和磁化を有するFe又はFe-Co合金からなる磁性金属粒子コアを、Fe-Ni合金又はFe-Co-Ni合金からなる合金層と、Fe-Ni合金の酸化物又はFe-Co-Ni合金の酸化物からなる酸化物層の2つの層シェルで被覆することにより、高い飽和磁化が長期間維持されるとともに、高い絶縁性を有する磁性ナノ粒子が得られることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。すなわち、本発明のある観点によれば、Fe又はFe-Co合金からなる磁性金属粒子と、前記磁性金属粒子の表面を覆う被覆層と、からなる磁性ナノ粒子であって、前記被覆層は、前記磁性金属粒子の表面の全部を覆い、Fe-Ni合金又はFe-Co-Ni合金からなる合金層と、前記合金層の表面の全部を覆い、Fe-Ni合金の酸化物又はFe-Co-Ni合金の酸化物からなる酸化物層と、からなり、かつ、前記磁性ナノ粒子全体の粒子径の5以上20以下の厚みを有する、磁性ナノ粒子が提供される。ここで、前記磁性ナノ粒子において、前記酸化物層が、前記合金層を構成するFe-Ni合金又はFe-Co-Ni合金の一部が酸化されることにより形成されることが好ましい。また、前記磁性ナノ粒子において、前記磁性ナノ粒子全体の粒子径が、5nm以上100nm以下であってもよい。本発明によれば、高飽和磁化を有するFe又はFe-Co合金からなる磁性金属粒子コアを、Fe-Ni合金又はFe-Co-Ni合金からなる合金層と、Fe-Ni合金の酸化物又はFe-Co-Ni合金の酸化物からなる酸化物層の2つの層シェルで被覆することにより、この構造を有する磁性ナノ粒子を高周波デバイスで用いた場合に、高い飽和磁化、高い絶縁性および高い耐酸化性の全ての特性を満足させることが可能となる。以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。[1.磁性ナノ粒子の構成]まず、図1を参照しながら、本発明の好適な実施形態に係る磁性ナノ粒子の構成について詳細に説明する。図1は、本発明の好適な実施形態に係る磁性ナノ粒子1の構成を示す説明図である。図1に示すように、磁性ナノ粒子1は、コアとなる磁性金属粒子10の表面をシェルとなる被覆層20で覆った所謂コアシェル型の構造を有する粒子である。本発明者は、以下に述べる検討の結果、本実施形態に係る磁性ナノ粒子1に想到したものである。磁性材料の透磁率μは、磁性粒子の飽和磁化Msの大きさに比例するμ∝Ms。よって、透磁率を上げるには、磁化の高い磁性金属を使用することが好ましい。一方、磁気損失tanδについては、比抵抗率ρの逆数に比例するtanδ∝1/ρ。よって、磁気損失を低減するためには、比抵抗率の大きな酸化膜で磁性金属を被覆することが好ましい。そこで、飽和磁化Msの大きなFeまたはFe-Co合金下記表1を参照をコアとし、その表面を比抵抗率の大きなFe-Ni-O複合酸化物またはFe-Co-Ni-O複合酸化物下記表2を参照で被覆したコアシェル型構造を有する磁性ナノ粒子1に想到した。また、Fe-Ni-O複合酸化物またはFe-Co-Ni-O複合酸化物は、表2に示した他の酸化物と異なり、不動態であることから、非常に安定した酸化膜とすることができるため、膜厚を非常に薄くすることができ、かつ、酸化の進行もない。従って、本実施形態に係る磁性ナノ粒子1は、高透磁率化と磁気損失の低減を両立できるものである。なお、磁性金属としてFe-Ni合金を使用し、その表面を酸化処理することで、本実施形態と同様にFe-Ni-O酸化膜を形成することはできるが、コアとなるFe-Ni合金の飽和磁化が非常に低いため表1を参照、透磁率を上げることができない。[1.1.磁性金属粒子10]磁性金属粒子10は、鉄Feまたは鉄-コバルト合金Fe-Co合金からなる。本発明では、磁性金属粒子10自体の飽和磁化を高めるために、高い飽和磁化を有するFeまたはFe-Co合金をナノ粒子化し、コアである磁性金属粒子10として用いている。磁性金属粒子10の粒径は、ナノメートルオーダーの粒径であれば特に限定はされないが、後述するように、例えば、磁性ナノ粒子1を高周波領域で用いられる電子通信機器のアンテナや、ハイパーサーミアやドラックデリバリー等に用いられる高周波領域で使用される医療機器の磁性材料として用いる場合には、磁性ナノ粒子1の粒径を5nm以上100nm以下とすることが好ましく、磁性金属粒子10に被覆層20を被覆した場合にこのような粒径となるように、磁性金属粒子10の粒径を制御することが好ましい。なお、磁性金属粒子10の粒径の制御方法については後述する。磁性金属粒子10をナノ粒子とすることにより、比表面積を大きくして高活性化させることができる。[1.2.被覆層20]被覆層20は、図1に示すように、磁性金属粒子10の表面を覆う合金層21と、この合金層21の表面の全部を覆う酸化物層23とからなる2層構造を有している。このように、本実施形態では、比表面積が大きく高活性なFeまたはFe-Co合金の磁性金属粒子10の飽和磁化を維持するために、磁性金属粒子10の表面にNiを薄く被覆し、基材粒子となる磁性金属粒子10と部分的に合金化させて合金層21を形成させることにより、耐酸化特性を向上させることができる。また、この合金層21の表面を薄く酸化させることにより、絶縁性に優れたFe-Ni複合酸化物またはFe-Co-Ni複合酸化物からなる酸化物層23を形成する。このように、本実施形態では、異種の組成を有する2種類の層、すなわち、合金層21と酸化物層23を高飽和磁化を有する磁性金属粒子10の表面の全体を覆うように被覆することで、高飽和磁化を有する磁性金属粒子10に耐酸化性および絶縁性という2つの異なる特性を同時に付与することができる。さらに、Fe-Ni複合酸化物またはFe-Co-Ni複合酸化物は、非常に安定した酸化物不動態であるため、酸化の進行を防止できることから、飽和磁化の低下とそれによる磁性ナノ粒子1の充填率の低下を招くことはない。以下、合金層21と酸化物層23の構成について詳細に説明する。合金層21合金層21は、磁性金属粒子10の表面の全部を覆い、Fe-Ni合金又はFe-Co-Ni合金からなる層であり、ナノ粒子であるために活性の高い磁性金属粒子10が酸化されることを抑制する耐酸化性を付与する役割を有する。ここで、合金層21が磁性金属粒子10の表面の一部のみを覆っている状態では、磁性金属粒子10の合金層21で覆われてない部分を起点として、FeまたはFe-Co合金の酸化が進行してしまう。このような酸化の進行を抑制するために、合金層21は、磁性金属粒子10の表面の全部を覆っている必要がある。また、後述する酸化物層23により磁性ナノ粒子1の表面全体を覆うようにするためにも、合金層21により磁性金属粒子10の表面全体が覆われている必要がある。合金層21が磁性金属粒子10の全体を覆っていれば、合金層21の厚みは特に限定はされない。ただし、磁性ナノ粒子1の飽和磁化は、非磁性部分の体積が大きいと低下することから、合金層21の厚みは、なるべく薄いことが望ましい。一方、合金層21の厚みが薄すぎると、耐酸化性が不十分となることから、飽和磁化の低下抑制と耐酸化性とのバランスを考慮して、合金層21の厚みを制御することが好ましい。具体的には、合金層21の厚みは、概ね1nm~10nmとすることが好ましい。酸化物層23酸化物層23は、合金層21の表面の全部を覆い、Fe-Ni合金の酸化物以下、Fe-Ni複合酸化物とも称する。又はFe-Co-Ni合金の酸化物以下、Fe-Co-Ni複合酸化物とも称する。からなる層であり、合金層21と同様に、磁性金属粒子10が酸化されることを防止する耐酸化性を付与する役割とともに、磁性ナノ粒子1の表面に絶縁性を付与する役割を有する。合金層21によって酸化の進行が抑制されたとしても、磁性ナノ粒子1の表面が絶縁性を有していないと、磁性ナノ粒子1同士が凝集し、電流パスができることにより抵抗が低下し、渦電流損失が生じてしまう。そのため、合金層21の表面にさらに酸化物層23を設けることにより、絶縁性を付与して、渦電流損失が生じることを防止している。また、Fe-Ni複合酸化物又はFe-Co-Ni複合酸化物は、不動態であることから、Fe-Ni複合酸化物又はFe-Co-Ni複合酸化物のそれ以上の酸化の進行を防ぐことができる。従って、酸化物層23が経時的に厚くなることはないため、磁性ナノ粒子1の飽和磁化の低下も防止することができる。ここで、合金層21を構成するFe-Ni合金又はFe-Co-Ni合金は、高い耐酸化性を有するものであるが、長期間経過すると、経時的にこれらの合金の酸化が進行し、徐々に合金層21の厚みが薄くなり、これに伴い、磁性ナノ粒子1の飽和磁化も低下することとなる。従って、酸化物層23が合金層21の表面の一部のみを覆っている状態では、合金層21の酸化物層23で覆われてない部分を起点として、Fe-Ni合金又はFe-Co-Ni合金の酸化が徐々に進行してしまう。このような酸化の進行を抑制するために、酸化物層23は、合金層21の表面の全部を覆っている必要がある。また、酸化物層23が合金層21の全体を覆っていれば、酸化物層23の厚みは特に限定はされない。ただし、上述したように、磁性ナノ粒子1の飽和磁化は、非磁性部分の体積が大きいと低下することから、酸化物層23の厚みは、なるべく薄いことが望ましい。一方、酸化物層23の厚みが薄すぎると、耐酸化性絶縁性が不十分となることから、飽和磁化の低下抑制と耐酸化性絶縁性とのバランスを考慮して、酸化物層23の厚みを制御することが好ましい。具体的には、酸化物層23の厚みは、概ね1nm~10nmとすることが好ましい。被覆層20の厚み本実施形態に係る磁性ナノ粒子1では、被覆層20が、磁性ナノ粒子1全体の粒子径の5以上20以下の厚みを有することが必要である。上述した被覆層20の耐酸化性及び絶縁性を十分に発揮させるためには、被覆層20の厚みが、磁性ナノ粒子1の粒子径の5以上であることが必要である。一方、被覆層20の厚みが厚くなり過ぎると、非磁性部分の体積が大きくなり、磁性ナノ粒子1の飽和磁化が低下して十分な透磁率を確保できなくなってしまうことから、被覆層20の厚みが、磁性ナノ粒子1の粒子径の20以下であることが必要である。[1.3.磁性ナノ粒子1の粒子径]磁性ナノ粒子1全体の粒子径は、ナノメートルオーダーであれば特に限定されるものではなく、磁性ナノ粒子1の用途に応じて適宜定めればよい。例えば、磁性ナノ粒子1を高周波領域で用いられる電子通信機器のアンテナや、ハイパーサーミアやドラックデリバリー等に用いられる高周波領域で使用される医療機器などの磁性材料として用いる場合には、磁性ナノ粒子1の粒子径を5nm以上100nm以下とすることが好ましい。磁性ナノ粒子1の粒子径及び被覆層20の厚みの測定方法等合金層21および酸化物層23が形成されていることは、例えば、磁性ナノ粒子1を透過型電子顕微鏡TEMにより観察することで確認することができる。また、磁性ナノ粒子1全体の粒子径及び被覆層20の厚みは、透過型電子顕微鏡TEM画像を画像処理することにより算出することができる。[1.4.その他の構成]その他、図1に示すように、磁性ナノ粒子1の表面には、絶縁体中に分散させた際の分散性を向上させるために、界面活性剤30を結合させてもよい。この界面活性剤30の量は、磁性ナノ粒子1の飽和磁化、耐酸化性、絶縁性を阻害しない範囲で適宜調整すればよい。[2.磁性ナノ粒子の製造方法]以上、本実施形態に係る磁性ナノ粒子1の構成について詳細に説明したが、続いて、図2及び図3を参照しながら、上述した構成を有する磁性ナノ粒子1の製造方法について詳細に説明する。図2は、本実施形態に係る磁性ナノ粒子1の製造方法の流れを概略的に示す説明図である。本実施形態に係る磁性ナノ粒子1の製造方法は、主に、1ナノ粒子作製工程、2Ni被覆工程、3合金化工程および4表面酸化工程の4つの工程を含む。以下、1~4の各工程について詳細に説明する。[2.1.ナノ粒子作製工程]ナノ粒子作製工程は、図2aに示すように、コアシェル型構造を有する磁性ナノ粒子1のコアとなるFeナノ粒子またはFe-Co合金ナノ粒子を作製する工程である。本工程では、ナノ粒子の有機合成法の1つであるホットソープ法を用い、コアとなるFeナノ粒子またはFe-Co合金ナノ粒子を作製する。ホットソープ法とは、有機金属化合物等を界面活性剤を含んだ高沸点有機溶媒以下、単に溶媒と称する場合もある。中で熱分解して反応させ粒子を生成させることにより、配位性有機化合物で結晶の核生成および成長の過程を制御する方法である。配位性有機化合物が結晶に配位して安定化する状況が、石鹸分子が油滴を水中で安定化する状況に似ているためホットソープ法と呼ばれる。具体的には、界面活性剤を含んだ高沸点有機溶媒中で、Feを金属元素として含む有機金属化合物以下、含Fe有機金属化合物と称する。を熱分解させることで、Feナノ粒子を合成することができる。この際、熱分解条件反応温度、反応時間を制御することにより、所望の粒子径を有するFeナノ粒子を作製することができる。ここで、界面活性剤を含んだ高沸点有機溶媒としては、炭素数の多い炭化水素系の高沸点溶媒が好適であり、例えば、ヘキサデカンC16、融点287°C、オクタデカンC18、融点316°C、1-オクタデセンC18、融点315°C、エイコサンC20、融点342°C、ドコサンC22、融点369°C等を使用することができる。また、含Fe有機金属化合物としては、例えば、鉄ペンタカルボニルFeCO5等を使用することができる。また、界面活性剤としては、公知の界面活性剤を使用することができるが、例えば、オレイルアミン、ドデシルアミン、デシルアミン、ヘキシルアミン、ステアリルアミン、ジオクチルアミン等が挙げられる。また、Fe-Co合金ナノ粒子を合成する場合には、上記方法にて作製したFeナノ粒子の表面にCoをコーティングして、Fe/Coのコアシェル構造のナノ粒子を作製した後に、熱処理によりFeとCoの相互拡散を促進することで、Fe-Co合金ナノ粒子を得ることができる。具体的には、上記のFeナノ粒子が混在した溶液を室温まで下げた後に、この溶液中にCoを金属元素として含む有機金属化合物以下、含Co有機金属化合物と称する。を添加し、その後、所定温度までゆっくりと昇温例えば、10°C/30分程度で90°C程度まで昇温し、Feナノ粒子の表面にCoをコーティングする。次いで、CoがコーティングされたFeナノ粒子を熱処理例えば、300°Cで2時間程度することで、Fe-Co合金ナノ粒子を作製することができる。この際、原料となる含Fe有機金属化合物例えば、鉄ペンタカルボニルと、含Co有機金属化合物例えば、ジコバルトオクタカルボニルとの配合比モル比を調整することにより、Fe-Co合金の組成比を制御することができる。ここで、含Co有機金属化合物としては、例えば、ジコバルトオクタカルボニルCo2CO8等を使用することができる。[2.2.Ni被覆工程]Ni被覆工程は、図2bに示すように、上記ナノ粒子作製工程で作製した、溶媒中に存在するFeナノ粒子またはFe-Co合金ナノ粒子の表面のみに、Niを選択的に被覆させてNi被膜25を形成させる工程である。Niを被覆するための原料試薬としては、Niを金属元素として含む有機金属化合物以下、含Ni有機金属化合物と称する。を用いることができる。この含Ni有機金属化合物としては、例えば、Niアセチルアセトナート錯体等を用いることができるが、この中でも、特に、化学的に取り扱いの容易なNiアセチルアセトナート錯体Niacac2:下記構造式1を参照を使用することが好ましい。1ここで、磁性金属粒子10Feナノ粒子またはFe-Coナノ粒子にNiを被覆する際に特に重要な点は、Niアセチルアセトナート錯体を添加した後の温度管理である。Niアセチルアセトナート錯体から生成されるNiイオンは、容易に還元されやすいため、磁性金属粒子10の表面に付着するだけでなく、単独でNiナノ粒子を形成してしまう可能性がある。このように、単独で容易に粒子を形成してしまうNiイオンが、Niナノ粒子を形成することを抑制するためには、Niアセチルアセトナート錯体を添加した後の溶液の昇温速度を適切に調節することにより、Niイオンを徐々に還元し、生成されたNi原子が優先的に磁性金属粒子10の表面のみに付着するように、温度条件を最適化することが重要となる。これにより、磁性金属粒子10の表面にNiを被覆することが可能となる。具体的には、上記ナノ粒子作製工程でFeナノ粒子またはFe-Coナノ粒子を作製した後に室温まで下げた溶液中に、Niアセチルアセトナート錯体を添加した後に、概ね2°C/1分程度の非常にゆっくりとした昇温速度で160~200°C程度まで加熱し、最高到達温度で20分程度保持することにより、磁性金属粒子10の表面に、所望の厚みでNiを被覆することができる。ここで、界面活性剤を含んだ高沸点有機溶媒中に添加する含Fe有機金属化合物例えば、FeCO5と含Ni有機金属化合物例えば、Niacac2との配合比モル比を適切に調整することにより、被覆層20の厚み磁性ナノ粒子1の全粒子径に対する被覆層20の厚みの割合を制御することができる。具体的には、例えば、Fe:Niモル比=10:1~10:2程度とすることにより、被覆層20の厚みを磁性ナノ粒子1の全粒子径の5以上20以下とすることができる。[2.3.合金化工程]合金化工程は、図2cに示すように、上記Ni被覆工程で磁性金属粒子10の表面に被覆したNi被膜25と、磁性金属粒子10を構成するFeまたはFe-Co合金とを合金化させて、合金層21を形成する工程である。本工程では、Ni被覆後にさらに昇温し、磁性金属粒子10とNi被膜25との接触界面において、Ni原子とFe原子とを相互拡散、または、Ni原子とFe原子及びCo原子とを相互拡散させ、部分的に合金化を促進させる。これにより、Fe-Ni合金、または、Fe-Co-Ni合金からなる合金層21が形成される。合金化の際の熱処理条件としては、Ni原子とFe原子Ni原子とFe原子及びCo原子との相互拡散が起こるように適宜設定すればよいが、例えば、300°C程度で10分~1時間程度の熱処理を行えばよい。[2.4.表面酸化工程]表面酸化工程は、図2dに示すように、上記合金化工程で形成された合金層21の表面の一部のみを酸化させて、薄い酸化膜不動態膜である酸化物層23を形成する工程である。具体的には、本工程では、上記合金化工程における合金化反応の終了後に、合金層21が表面に形成された磁性金属粒子10を回収し、回収した粒子の表面合金層21の表面の一部のみを酸化させる。粒子の回収方法としては、特に限定されないが、例えば、合金層21が表面に形成された磁性金属粒子10が混在した溶液中から、遠心分離機等を用いて粒子のみを分離回収する方法が挙げられる。また、合金層21の表面を酸化させる方法としても特に限定はされず、大気中で自然酸化あるいは制御された低酸素雰囲気のもとで徐酸化させればよい。ただし、自然酸化または徐酸化させる場合には、合金層21の表面の全部が酸化物層23で覆われるようにするためには数時間~1日程度の長時間がかかることから、例えば、合金層21が表面に形成された磁性金属粒子10を、Ar/10O2ガス雰囲気中で200°C、1時間の加熱処理をすることで、最表面がFe-Ni-O複合酸化物、または、Fe-Co-Ni-O複合酸化物からなる膜不動態膜で覆われたコアシェル型の磁性ナノ粒子1を得ることができる。次に、実施例を用いて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例にのみ限定されるものではない。[1.コアシェル型磁性ナノ粒子の作製方法]本発明の実施例となるコアシェル型磁性ナノ粒子、及び比較例となる磁性ナノ粒子を以下の方法で作製した。実施例1、3、5、7オクタデカンを溶媒として使用し、30mLのオクタデカンと0.5mL1.5mmolの界面活性剤オレイルアミンとの混合溶液を加熱し、100°Cになった時点で当該混合溶液中に、0.265mL2mmolの鉄ペンタカルボニルFeCO5を添加し、この鉄ペンタカルボニルを熱分解させることで、コア磁性金属粒子となるFeナノ粒子を合成した。このときの熱分解条件は180°Cで30分間とした。次に、Feナノ粒子が混在した混合溶液の温度を室温まで降温し、当該混合溶液中に、0.0514g0.2mmolのニッケルアセチルアセトナートNiacac2を添加した。その後、2°C/1分という非常にゆっくりとした昇温速度で180°Cまで加熱し、20分間温度を保持してFeナノ粒子の表面にNiをコーティングした。その後、さらに、混合溶液の温度を300°Cまで加熱し、300°Cで10分間の熱処理を行うことで、表面の被膜中のNiとコアであるFeナノ粒子中のFeとが相互拡散して合金化することにより、Feナノ粒子の表面にFe-Ni合金からなる合金層を形成した。この時点での合金層の厚みは、最表面に酸化物層を形成して本発明の実施例に係る磁性ナノ粒子を形成した後の被覆層合金層酸化物層の厚みと同一であり、この厚みは、下記の表3に示している。続いて、上記方法により作製した表面に合金層が形成されたFeナノ粒子が混在した混合溶液中から、遠心分離機を用いてFeナノ粒子のみを採取した。さらに、採取したFeナノ粒子を、Ar/10O2ガス雰囲気中で、200°C、1時間の加熱処理をすることで、合金層の表面を酸化し、Fe-Ni-O酸化物からなる酸化物層を形成した。以上の合成プロセスにより、Feナノ粒子をコアとし、かつ表1に示した総粒径と被覆層厚を有するコアシェル型磁性ナノ粒子を作製した実施例1、3、5、7。なお、参考までに、図3に、実施例1、3、5、7の磁性ナノ粒子を作製する際の温度プロファイルを示した。実施例2、4、6、8実施例1、3、5、7のコアシェル型磁性ナノ粒子をそれぞれ、1週間大気放置し、実施例2、4、6、8のコアシェル型ナノ粒子とした。比較例1上述した合成プロセスにて作製した、粒径が15nmのFeナノ粒子Niコーティング前のみを遠心分離機により採取し、比較例1の磁性ナノ粒子とした。比較例2比較例1の磁性ナノ粒子を1週間大気放置し、Feナノ粒子の表面に自然酸化膜Fe3O4を形成し、比較例2の磁性ナノ粒子とした。[2.磁性ナノ粒子の評価]磁性ナノ粒子全体の粒径総粒径および被覆層厚は、透過型電子顕微鏡TEM像を画像処理することにより算出した。また、実施例1~8および比較例1、2の飽和磁化Msは、試料振動型磁力計VSMにより測定した。表1に算出した総粒径および被覆層厚と、飽和磁化量の測定値を記載した。実施例1~6は、磁性ナノ粒子の総粒径を20nmに固定し、被覆層厚の総粒径に対する割合を5.1~19.2まで変えたものである。また、実施例7~8は、被覆層厚の総粒径に対する割合を5に固定し、磁性ナノ粒子の総粒径を実施例1~2に対して大きくしたものである。また、比較例1~2は、従来の自然酸化膜が形成されたFeナノ粒子である。作製した実施例および比較例の磁性ナノ粒子は、粒子サイズがnmオーダーであるため磁性体としての体積が小さく、結果として熱擾乱の影響と、Feよりも飽和磁化値が小さい、もしくは、非磁性となるFe-Ni合金層およびFe-Ni-O酸化物層の体積増加分の効果から、Feバルク体の理論飽和磁化値である215[emu/g]より小さい値となっている。次に、被覆層厚の磁性ナノ粒子の総粒径に対する割合を5~20に変化させた実施例1、3、5および総粒径を大きくした実施例7、ならびに従来の磁性ナノ粒子となる比較例1を1週間大気放置した、実施例2、4、6、8および比較例2の飽和磁化量の減衰率を比較した。なお、各実施例を1カ月以上大気放置しても、飽和磁化値は、1週間放置した時の値とほぼ同等であり、1週間以上で飽和磁化量の減衰率が飽和していることを確認しており、本発明の実施例によるコアシェル型磁性ナノ粒子の耐酸化性の評価には、1週間大気放置した飽和磁化量を比較することで、適切に評価することができる。実施例1の磁性ナノ粒子を1週間大気放置した後の飽和磁化値は、放置前と比較して多少減少するものの、その減衰率は全て10未満と非常に良好であり、本発明の効果である磁性粒子の酸化による飽和磁化量の劣化を抑制する効果を示していることがわかる。また、その抑制量は、カバレージ性の向上に起因して、磁性ナノ粒子の総粒径に対する被覆層の割合が大きいほど、増大する傾向にある。しかし、これら被覆層の割合の増加は、飽和磁化量の低下につながるものであるため、磁性ナノ粒子の総粒径の20以上の厚みを有する被覆層は、目的とする高周波デバイス性能の達成には現実的ではない。さらに、従来の磁性ナノ粒子の例となる比較例では、自然酸化膜の膜厚の増加に起因して、1週間大気放置した後の飽和磁化の値がほぼ半減し、経時変化が大きいことから、従来の自然酸化膜を有する磁性ナノ粒子の高周波デバイスへの適用は困難であることがわかった。以上の結果から、本発明によるコアシェル型磁性ナノ粒子は、高透磁率を有し、かつ、耐酸化性が非常に優れており、磁性ナノ粒子を適用する高周波デバイスや医療用デバイス用の磁性ナノ粒子として最適であるといえる。以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。