"セメント製造設備に隣設される廃棄物処理設備であって、廃棄物をガス化して熱分解ガスを発生させるガス化炉と、前記ガス化炉において発生した熱分解ガスを、チャー及び灰分を含んだまま前記セメント製造設備におけるセメントの予熱器ないし仮焼炉に搬送するガス搬送路と、を備えており、前記ガス化炉からの熱分解ガスの流量が、前記予熱器ないし仮焼炉から排出される排気の流量に対して所定の流量比以下に制限されていることを特徴とする廃棄物処理設備。前記熱分解ガスの流量が前記所定の流量比以下となるように、少なくとも前記ガス化炉への廃棄物の投入量が調整される、請求項1に記載の廃棄物処理設備。前記ガス搬送路が、前記ガス化炉からの熱分解ガスを前記仮焼炉に搬送し、前記ガス化炉への廃棄物の投入量と空気の供給量とが、当該ガス化炉及び前記仮焼炉の少なくとも一方の圧力に応じて調整される、請求項2に記載の廃棄物処理設備。前記所定の流量比が0.3である、請求項1~3のいずれか1つに記載の廃棄物処理設備。前記ガス化炉が流動層式のものである、請求項1に記載の廃棄物処理設備。前記ガス化炉が補助燃料を供給可能に構成されている、請求項5に記載の廃棄物処理設備。平均粒径が0.1~3mmの粉末状補助燃料が、前記ガス化炉内の流動層に投入される、請求項6に記載の廃棄物処理設備。前記ガス搬送路の途中に圧縮空気を吹き込むようにエゼクタ装置が配設されている、請求項1に記載の廃棄物処理設備。前記仮焼炉は、前記セメント製造設備の焼成炉又はクリンカクーラのいずれかから高温の排気が流入するものであり、前記ガス搬送路が、前記ガス化炉からの熱分解ガスを前記仮焼炉に搬送し、前記ガス搬送路から前記仮焼炉内に熱分解ガスを、その流れが、当該仮焼炉内に流入する前記高温の排気の主流と直接的に干渉しない態様で導入するガス導入手段を備える、請求項1に記載の廃棄物処理設備。前記仮焼炉に導入された前記熱分解ガスは、仮焼炉に留まる間に、少なくとも2秒以上、850°C以上で燃焼することを特徴とする、請求項9に記載の廃棄物処理設備。前記仮焼炉が筒状の周壁を有し、その筒軸方向の一端から他端に向かうように前記焼成炉又はクリンカクーラからの排気流の主流が形成されており、前記ガス導入手段は、前記周壁に周方向を指向して設けられ、前記筒軸の周りを旋回するように熱分解ガスを導入するガス導入口からなる、請求項10に記載の廃棄物処理設備。前記仮焼炉の周壁が上下方向に延びていて、その下端に流入する前記焼成炉又はクリンカクーラからの排気が噴流となって上方に向かう一方、前記ガス導入口は熱分解ガスを、水平面に対し下向きに0°よりも大きく且つ40°以下の傾斜角度で導入する、請求項11に記載の廃棄物処理設備。前記ガス導入口から熱分解ガスを5~30m/sの流速で導入する、請求項12に記載の廃棄物処理設備。前記仮焼炉の周壁の下端には前記焼成炉からの排気が流入する一方、当該周壁の下部には、熱分解ガスと同じ向きに旋回する流れを形成するように燃焼用の空気を導入する空気導入口が設けられており、前記空気導入口の上方に所定の間隔を空けて前記ガス導入口が設けられている、請求項11に記載の廃棄物処理設備。前記空気導入口は燃焼用の空気を、水平面に対し下向きに所定の傾斜角度で導入する、請求項14に記載の廃棄物処理設備。前記仮焼炉の下端には、下方に延びた後にL字状に折れ曲がって前記焼成炉の入り口に至るダクトが接続され、前記ガス導入口は、前記仮焼炉の周壁において前記焼成炉の側と反対側に設けられている、請求項14に記載の廃棄物処理設備。前記仮焼炉の周壁において前記ガス導入口の近傍には燃料供給口が設けられている、請求項11に記載の廃棄物処理設備。前記ガス化炉が2基以上、設けられていて、それぞれのガス化炉から熱分解ガスを搬送する2以上のガス搬送路が、前記仮焼炉の周壁に設けられた2以上のガス導入口に個別に連通している、請求項11に記載の廃棄物処理設備。第1の実施形態以下、本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しながら説明する。図1は、第1の実施形態に係る廃棄物処理設備100と、これが隣設されるセメント製造設備200との全体的な系統図である。図の左側に示す廃棄物処理設備100は、廃棄物をガス化炉1において熱分解し、発生したガス熱分解ガスをセメントの焼成工程において混焼させる。この熱分解ガスの量は一例として2~3万Nm3/hくらいであり、図示のセメント製造設備200の排出ガス量一例として30万Nm3/hに比べて格段に少ないので、廃棄物処理設備100は、既設のセメントプラントに殆ど改修を加えることなく、その隣に建設することができる。-廃棄物処理設備-廃棄物処理設備100には、例えば家庭からの一般廃棄物や廃プラスチックを含む産業廃棄物等、可燃物を含んだ廃棄物が集積される。これらの廃棄物は陸送等によって運搬されてきてピット2内のバンカー2aに投入され、図示しない破砕機によって破砕される。こうして破砕された廃棄物はクレーン3によって運搬されて、ホッパやコンベア等からなる搬送装置4に投入され、この搬送装置4の動作によってガス化炉1へ送り出される。一例として搬送装置4のコンベアはスクリューコンベアであり、その動作速度を変更することによって、ガス化炉1への廃棄物の時間当たりの投入量を調整することができる。これにより、以下に述べる流動化空気の流量の調整と併せて、ガス化炉1の温度状態及び熱分解ガスの発生量を制御することができる。すなわち、ガス化炉1は一例として流動層タイプのものであり、炉内の下部に形成されている流動砂流動媒体の層流動層が空気によって流動化されている。流動層に送り込まれる流動化空気は、図の例では電動の送風機5により廃棄物のピット2から吸い出されてガス化炉1に供給される。このため廃棄物のピット2内が負圧に保たれ、外部に異臭が漏れ難くなっている。また、送風機5からガス化炉1までの空気供給路5aの途中には、図示は省略するが、開度の調整が可能なダンパが介設されており、これにより空気の供給量を応答性良く制御することができる。そして、前記送風機5の回転数を変更すること、及びダンパの開度を調整することで流動化空気の流量を調整することができる。例えば流動化空気の流量を増やし、前記廃棄物の投入量を増やせば、ガス化炉1の層温度が一定のままで熱分解ガスの発生量が増大する。ガス化炉1の流動層の温度は通常、500~600°Cくらい最低でも450°C以上になる。この高温の流動層において廃棄物は流動砂によって分散されながら熱分解される。廃棄物の一部が燃焼することによっても熱分解が促進される。一般的な廃棄物の発熱量は1000~3000kcal/kg程度なので、その一部が燃焼することによって流動層の温度を適温に維持することができるが、廃棄物の種類によって、その発熱量が小さい例えば1000kcal/kg未満のいわゆる低品位な廃棄物であると、流動層の温度は低下してしまう。そこで、具体的な構成は図示しないが、この実施形態のガス化炉1では、廃棄物の投入口からガス化炉1内に補助燃料として例えば微粉炭を投入するよう、搬送装置4に近接して微粉炭の供給装置7が設けられている。その供給装置7により流動層に上方から投入される微粉炭の平均粒径は0.1~3mmくらいとされている。微粉炭の粒径が0.1mmであると計算上、その終末速度が約0.9m/sになり、ガス化炉1内を上昇する熱分解ガスや空気の流速ガス基準の空塔流速を少し下回ることから、その多くが飛散してしまい流動層での燃焼に寄与しないからである。一方、微粉炭の粒径が大き過ぎると、すぐに流動層内を沈下して抜け落ちてしまい、あまり燃焼に寄与しないおそれがある。粒径が3.0mmの微粉炭が500°C程度の流動層内で燃焼するのに必要な時間は、粒径0.1mmの粒子の数十倍程度であり、層内の燃焼に寄与させるためには、粒子の層内滞留時間を確保する必要がある。ここで、粒径が3.0mmの微粉炭の最小流動化速度は計算上、約1.8m/sであり、流動層におけるガス基準の空塔流速と同等であるため、平均粒径を3mm以下とすれば、問題はない。よって、必要に応じて微粉炭を供給することにより流動層の温度を適切な範囲に維持することができ、投入される廃棄物は効果的に熱分解されてガス化される。この熱分解ガスはガス化炉1の上部から排出され、ガス搬送ライン6ガス搬送路によってセメント製造設備200に搬送される。熱分解ガス中には未燃分であるチャーや灰分が小さな粒子として浮遊しており、熱分解ガスと一緒に搬送される。流動層式のガス化炉1では、廃棄物が流動砂の動きによって粉砕されるため、チャーや灰分の粒径が小さくなりやすく、その付着、堆積を防止する上で有利である。この実施形態においてガス化炉1からの熱分解ガスは、後述するように仮焼炉20の負圧を利用して搬送されるものであり、このことでガス化炉1内も負圧に保たれ、外部に熱分解ガスが漏れないようになっている。熱分解ガスは仮焼炉20の負圧によって搬送できるから、ガス搬送ライン6には送風機は設けられていない。よって、送風機のインペラ等に熱分解ガス中のチャーや灰分が付着、堆積することによる故障の心配はない。但しガス搬送ライン6のダクトの内壁面には、時間の経過に伴いチャーや灰分が付着し堆積することがあり、これにより圧力損失が増えるので、この実施形態ではガス搬送ライン6の途中に所定以上の間隔をあけて複数のエゼクタ装置6aを配設している。この各エゼクタ装置6aにより、図示しないコンプレッサから供給される圧縮空気を間欠的に吹き込んで、堆積したチャーや灰分を吹き飛ばすことができる。なお、図示は省略するが、ガス搬送ライン6には開閉式のダンパも介設されており、廃棄物処理設備100の運転を休止するときには閉止することができる。そうして廃棄物の熱分解ガスがガス化炉1の上部からガス搬送ライン6へと排出されるのに対して、ガス化炉1における熱分解後の残渣である金属片を含んだ不燃物は、流動砂の中を沈んでその砂と共にガス化炉1の下端から落下する。つまり、廃棄物の残渣は流動層によっていわゆる比重分離される。そうしてガス化炉1から排出された砂と不燃物は、図示しないコンベア等により搬送され、図外の分級装置によって分離された砂がガス化炉1に戻される。一方、不燃物からは選別装置によって金属分が選別され、残りの不燃物はセメント原料として利用される。-セメント製造設備-セメント製造設備200は、図の例では一般的なNSPキルンを備えたものである。セメント原料は、予熱器であるサスペンションプレヒータ10において予熱された後に、仮焼炉20にて900°Cくらいまで加熱され仮焼、焼成炉であるロータリキルン30において1500°Cくらいの高温で焼成される。ロータリキルン30を通過した焼成物はエアクエンチングクーラ40において急冷されて、粒状のセメントクリンカとなり、図外の仕上げ工程に送られる。前記サスペンションプレヒータ10は、上下方向に並んで設けられた複数段のサイクロン11を備えている。サイクロン11は、それぞれがセメント原料を旋回流により搬送しながら、下段から吹き込まれる高温の排気と熱交換させる。この排気の流れは、後述するようにロータリキルン30からの高温の排気以下、キルン排気というが仮焼炉20内を吹き上がって、最下段のサイクロン11に供給されるものである。キルン排気は、図に破線で示すようにサイクロン11を一段ずつ上昇して最上段のサイクロン11に至り、そこから排気ライン50に流出する。図示の如く排気ライン50には、キルン排気を誘引して煙突51に送り出すための大容量の誘引通風機52が設けられ、この誘引通風機52の手前、即ち排気流の上流側にはガスクーラ53一例としてボイラ及び集塵機54が介設されている。誘引通風機52は、サスペンションプレヒータ10及び仮焼炉20を介してロータリキルン30から多量の排気を誘引するとともに、さらに、前記したように仮焼炉20内に負圧を形成し、これによりガス化炉1から熱分解ガスを誘引するという機能も有している。一方、サスペンションプレヒータ10の各サイクロン11においては、前記のようにセメント原料が高温のキルン排気と熱交換した後に、図に実線で示すように下方に落下して、一つ下の段のサイクロン11へと移動する。こうして最上段のサイクロン11から一段ずつ順に複数のサイクロン11を通過する間にセメント原料は十分に予熱されて、最下段の一つ上のサイクロン11から仮焼炉20へと供給される。仮焼炉20は、ロータリキルン30の窯尻に上下方向に延びるように設けられており、詳しくは図2、3を参照して後述するが、その下部にはロータリキルン30から高温のキルン排気が流入するとともに、前記の如くサイクロン11からセメント原料が供給される。また、仮焼炉20の下部には、上述したガス化炉1からの熱分解ガスや微粉炭等が供給され、さらに、それらを燃焼させるための空気としてエアクエンチングクーラ40からの高温のクーラ排気が供給される。これら熱分解ガスや燃焼用の空気は、仮焼炉20内の負圧により吸引されており、見方を変えればキルン排気と共に誘引通風機52によって誘引されている。仮焼炉20の下端にはロータリキルン30との間を繋ぐように概略L字状の下部ダクト21が接続されており、この下部ダクト21は、仮焼炉20の下端から下方に延びた後にロータリキルン30の側に向かい折れ曲がって略水平に延びている。この下部ダクト21を介して仮焼炉20の下端に高温のキルン排気が流入し、噴流となって上方へと吹き上がっている。このキルン排気の流れによってセメント原料が吹き上げられて搬送される。こうして吹き上げられて仮焼炉20内を上昇する間にセメント原料が900°Cくらいまで加熱され、石灰分の80~90が脱炭酸反応される。そして、仮焼炉20の最上部に接続された上部ダクト22を介して、サスペンションプレヒータ10の最下段のサイクロン11に搬送される。ここでキルン排気はセメント原料と分離されて一つ上段のサイクロン11へと向かい、一方、セメント原料はサイクロン11の下端から落下してロータリキルン30の入り口へと至る。ロータリキルン30は、一例として70~100mにも及ぶ横長円筒状の回転窯を入り口から出口に向かって僅かに下向きに傾斜させて配置してなる。回転窯がその軸心の周りに緩やかに回転することによって、セメント原料が出口側に搬送される。この出口側には燃焼装置31が配設されていて、石炭、天然ガス、重油等の燃焼による高温の燃焼ガスを入り口側に向かって噴出している。燃焼ガスに包まれたセメント原料は化学反応セメント焼成反応を起こし、その一部が半溶融状態になるまで焼成される。このセメント焼成物がエアクエンチングクーラ40において冷風を受けて急冷され、粒状のセメントクリンカとなる。そして、図示及び詳しい説明は省略するが、セメントクリンカはクリンカサイロに貯蔵された後に、石膏等を加えて成分調整された上でミルにより微粉砕される仕上げ工程。一方、焼成物から熱を奪って800°Cくらいに昇温されたクーラ排気は、前記したように燃焼用の空気として仮焼炉20に供給される。つまり、廃熱を回収して仮焼炉20での燃焼用空気を昇温させることで、熱効率の向上が図られている。-仮焼炉の詳細な構成-以下、この実施形態における仮焼炉20の構造、特に熱分解ガスや燃焼用空気を適切に導入するための構造について、前記図2A,Bの他に図3A~Dも参照して詳細に説明する。図2Aは、ロータリキルン30を右手に見る仮焼炉20の正面図であり、図2Bはロータリキルン30側からの側面図右側面図である。なお、図2Cは後述する変形例である。また、図3A~Cはそれぞれ、仮焼炉20の下部を拡大して示す正面図、右側面図及び左側面図であり、図3Dは、一部を省略し仮焼炉20の下部を拡大して示す平面図である。図2A,Bに示すように仮焼炉20は上下に延びる円筒状であり、その上端から下部に亘る大部分が略同径の側壁部23筒状の周壁とされ、その下方に下窄まりのテーパ壁部24が連なっている。このテーパ壁部24の下端には概略L字状の下部ダクト21の上端が接続されている。上述したが、この下部ダクト21を介してロータリキルン30から高温のキルン排気が噴流となって流入し、仮焼炉20内をその下端から上方に向かって吹き上がる。図3Aに灰色の矢印で示すように、下部ダクト21内を流通するキルン排気の流れは、概略L字状の下部ダクト21の水平部分にロータリキルン30の側図の右側から流入し、屈曲部分において折れ曲がって上方に向かう。こうして流れの方向が変わるときに下部ダクト21の内壁面から受ける力によって、図には誇張して示すが、仮焼炉20の下部を上昇するキルン排気の主流がロータリキルン30の側に偏ることになる。その後、キルン排気の主流は仮焼炉20内を上昇しながら、徐々に中心寄りに移動し、且つ燃焼用空気の旋回流の影響を受けて旋回成分を持つようになる。このようなキルン排気の流れがセメント原料を吹き上げながら仮焼炉20の上端に至り、ここから上部ダクト22へと流出する。上部ダクト22は上方に延びた後に、下部ダクト21とは反対側に向かうよう湾曲して、最下段のサイクロン11図1参照へと至る。そのようなキルン排気の流れと適度に干渉し合い、適度に混ざり合って昇温されるように、仮焼炉20の下部には燃料である微粉炭と燃焼用の空気とが供給される。すなわち、拡大して図3A~Cにも示すように仮焼炉20の下端のテーパ壁部24には、水平面に対して下向きに傾斜する状態で燃焼用空気の導入口25が設けられている。この空気導入口25には、上述したようにエアクエンチングクーラ40からの高温のクーラ排気が供給される。空気導入口25は、図3Aの手前側に示すように仮焼炉20の側壁部23における正面側に設けられ、図3Dに示すように上方から見ると、仮焼炉20の中心の上下軸線20a筒軸線に向かうのではなく、これに対して30~45°くらい円周方向に指向されている。このため、空気導入口25から仮焼炉20内に導入される燃焼用空気の流れは、図3Bに白抜きの矢印で示すようにテーパ壁部24の内周に沿って上下軸線20aの周りを旋回するようになる。また、空気導入口25の断面形状は、図の例では上底辺が下底辺に比べて長い台形状であり、斜辺はそれぞれが対応するテーパ壁部24の傾きに合わせて傾斜している。空気導入口25の流路断面積は後述する燃料供給口26やガス導入口27に比べて大きいので、その流量も比較的多くなる。この比較的流量の多い燃焼用空気の旋回流が下方からのキルン排気の主流と適度に干渉し合う。そして、図4Bに示すように空気流は旋回しながら上方へ向かうようになり、一方、キルン排気の流れは図4Aに示すように上昇しながら旋回するようになる。図4A,BはCFDシミュレーションによるもので、ロータリキルン30の側から見て仮焼炉20内のキルン排気の流れと燃焼用空気の流れとをそれぞれ流線によって模式的に示している。図4Aからは、仮焼炉20内にその下端から噴流となって流入したキルン排気の主流が、左側の空気導入口25から導入される燃焼用空気の流れ白抜き矢印で示すに押されて図の右側へ偏り、その後、旋回成分を持って緩やかな螺旋を描きながら上昇してゆく様子が分かる。一方、図4Bからは、空気導入口25からの燃焼用空気の流れが、仮焼炉20の下端のテーパ壁部24において旋回しながら、下方からのキルン排気の流れ灰色の矢印で示すによって押し上げられ、上方へ向かう様子が分かる。燃焼用空気の流れの一部はキルン排気の主流に乗って急速に上昇するが、別の一部の流れはキルン排気の主流に巻き付くような上向きの螺旋を描く。そうして旋回しながら上方に向かう空気の流れと混ざり合うように、仮焼炉20の側壁部23の最下部には燃料供給口26が設けられている。この燃料供給口26に供給される燃料は例えば微粉炭や天然ガス、重油等であり、微粉炭を用いる場合はこれを空気流により搬送し、燃料供給口26から仮焼炉20内に吹き込むようにすればよい。燃料として天然ガスや重油を用いる場合は、それを所定の圧力で燃料供給口26から噴射すればよい。図3A~Cに各々示すように2つの燃料供給口26は、側壁部23の正面側及び背面側においてそれぞれ略水平に延びるように設けられている。また、図3Dから分かるように2つの燃料供給口26は、ロータリキルン30側とその反対側とにずれて平行に設けられている。言い換えると、2つの燃料供給口26は、それぞれ側壁部23の内周に沿って燃料を吹き込むように、同一の円周上において互いに略180°位相をずらし且つその円周の接線方向に設けられている。そして、それら2つの燃料供給口26のうち、側壁部23の正面側のものの直ぐ上に近接して熱分解ガスの導入口27が設けられ、その上方にはセメント原料の投入口28が設けられている。ガス導入口27は、上述したようにガス搬送ライン6によって廃棄物処理設備100から搬送されてくる熱分解ガスを、以下に説明する所定の態様で仮焼炉20内に導入する。また、原料投入口28からは、上述したようにサイクロン11から落下してくるセメント原料が投入される。図3A~Cに示すようにガス導入口27は、空気導入口25の上方に所定の間隔例えば2~6mをあけて設けられ、図の例では空気導入口25と同じく水平面に対し下向きに熱分解ガスを導入する。また、図3Dから分かるようにガス導入口27は、仮焼炉20の側壁部23においてロータリキルン30の側とは反対側同図の下側に設けられており、この周壁部23の内周に沿って熱分解ガスを導入するように、周方向に指向されている。このガス導入口27から導入される熱分解ガスは仮焼炉20の側壁部23の内周に沿って流れ、図3Bに黒い矢印で示すように、燃焼用空気の旋回流白抜きの矢印で示すの上方に並んで上下軸線20aの周りを旋回するようになる。言い換えると、ガス導入口27から導入される熱分解ガスは、仮焼炉20の略中央を上方に吹け上がるキルン排気の主流の周りを旋回するように流れ、この主流と直接的には干渉しない。また、熱分解ガスの旋回流の下方に、より流量の多い燃焼用空気の旋回流が形成されていることによって、熱分解ガスの流れとキルン排気の流れとの干渉が抑制される。すなわち、図4A等を参照して上述したようにキルン排気の主流は、仮焼炉20の下部において燃焼用空気の流れに押されて空気導入口25の反対側へ偏ることになり、こうしてキルン排気の主流が偏る側と反対側に、熱分解ガスが導入されるからである。さらに、この実施形態では図3A等を参照して上述したように、L字状の下部ダクト21において折れ曲がったキルン排気の主流が、仮焼炉20の下部を上昇するときにはロータリキルン30の側に偏るのに対して、これと反対側に熱分解ガスが導入されることになり、このことによっても熱分解ガスの流れとキルン排気の流れとの干渉が抑制される。そのようにして熱分解ガスの流れとキルン排気の流れとの干渉が抑制されている一方、図4Bを参照して上述したように燃焼用空気の旋回流は、下方からのキルン排気の流れと干渉し合い十分に昇温されるとともに、上方へ押し上げられる。こうして押し上げられる燃焼用空気の流れと、その上方を並行して旋回する熱分解ガスの流れとがよく混ざり合いながら上昇する間に、熱分解ガスが十分に燃焼する。ここで、仮焼炉20へ熱分解ガスを導入する向きを異ならせて調べた結果について説明する。例えば、図3Dに示すようにガス導入口27の水平面内における位置及び向きを、ロータリキルン30の側を基準として角度θ1で表し、図3Cに示すようにガス導入口27の水平面に対する下向きの傾斜角度をθ2で表す。この下向きの傾斜角度θ2について、ガス化炉1からロータリキルン30の側までのガス搬送ライン6は水平を基本としているため、ガス導入口27では少なくとも下向きの傾斜θ2>0としていればよいともいえるが、15°以上とするのが好ましい。但し、図5に示すように、θ2があまり大きいと熱分解ガスの流れの旋回成分水平方向速度が小さくなってしまうので、θ2は最大でも40°以下とし、30°以下とするのが好ましい。また、熱分解ガスとキルン排気あるいは燃焼用空気との混合という観点から、ガス導入口27における熱分解ガスの流速は高い方が好ましいといえるが、流速が高くなってくると、ガス導入口27での圧力損失が大きくなり、一例として、ガス流速30m/sでは0.3~0.5kPa程度となる。そこで、ガス導入口27での圧力損失が大きくなり過ぎないためには熱分解ガスの流速は30m/s以下とすることが望ましい。一方、ガス流速が遅いとガスの旋回力が小さくなって、キルン排気の流れに同伴されすぎてしまうため、ガス流速はキルン排気流速と同等レベルの5m/s以上とすることが望ましい。さらに、図6には熱分解ガス中の一酸化炭素COの仮焼炉20内での拡散状況を調べるために実施したシミュレーション結果を示す。図6の横軸には熱分解ガス投入口からの高さをとり、縦軸にはCO濃度の無次元標準偏差をとっている。すなわち、CO濃度の無次元標準偏差が小さいほど、仮焼炉20内での熱分解ガスの混合が良いとみなせる。なお、本シミュレーションではCOの燃焼は考慮していない。図6より、熱分解ガス投入口付近では、CO濃度の無次元標準偏差が大きく、熱分解ガスの混合が不十分であることがわかる。熱分解ガス投入口から上方に向かうにつれて、CO濃度の無次元標準偏差は小さくなっており、熱分解ガスと空気の混合が促進されていることがわかる。なお、同図におけるCaseA,C1,C2,D1,D2は仮焼炉20へ熱分解ガスを導入する向きの異なる5つのケースを表している。具体的には図3Dに示したように、ガス導入口27の水平面内における向きをロータリキルン30の側を基準として表したθ1と、図3Cに示したようにガス導入口27の水平面に対する下向きの傾斜角度θ2とをそれぞれ3通りと、2通りに異ならせている。より具体的には下表に示すとおりである。図6のグラフを仔細に見れば、CaseAすなわちθ1が70°のときは、熱分解ガス導入口27からの高さが高くなるにつれて、CaseC1,C2,D1,D2に比べて、熱分解ガスと空気との混合が悪くなることがわかる。また、CaseC1,C2、即ちθ1が95°の場合と、CaseD1,D2、即ちθ1が135°の場合とを比較すると、最終的にはCaseD1,D2の方が熱分解ガスと空気との混合が僅かに良いことがわかる。一方、ガス導入口27の傾斜角度にθ2については、20°のときと25°のときで、有意な差は認められない。上述の如き構成の仮焼炉20には、前記したようにガス化炉1からの熱分解ガスがチャー及び灰分を含んだままガス搬送ライン6によって搬送されてくる。この仮焼炉20にはロータリキルン30からの高温のキルン排気が流入し、噴流となって上方へ吹け上がっているが、このキルン排気の主流と直接的には干渉しないようにして熱分解ガスを導入することで、熱分解ガス及びチャーが吹き抜けることなく、仮焼炉20内において十分に燃焼される。すなわち、仮焼炉20の周壁部23の下部に設けたガス導入口27から熱分解ガスを、キルン排気の主流の周りを旋回するように導入するとともに、その下方には、より大流量の燃焼用空気の旋回流を形成して、これが下方からのキルン排気の流れと先に干渉するようにしたから、キルン排気の流れによる熱分解ガスの吹き抜けをより確実に抑制できる。そして、キルン排気により昇温された燃焼用空気と並行して旋回する熱分解ガスとがよく混ざり合い、その着火性、燃焼性が高くなる上に、ガス導入口27と近接して設けた燃料供給口26から微粉炭のような燃料が供給されて着火、燃焼することで、これが火種となって熱分解ガスの着火性をさらに高めることも期待できる。-仮焼炉の変形例-なお、前記したように第1の実施形態では、セメント製造設備200の仮焼炉20に対して熱分解ガスを、その流れがキルン排気の主流の周りを旋回するようにして導入するとともに、その下方に並んで旋回するように燃焼用の空気を導入しているが、これに限ることはない。すなわち、燃焼用の空気は熱分解ガスの旋回流よりも上方で仮焼炉20内に導入するようにしてもよいし、燃焼用空気及び熱分解ガスの双方を旋回させずに導入するようにしてもよい。要するに熱分解ガスを仮焼炉20内のキルン排気の主流と直接的に干渉しないように導入すればよいので、例えばキルン排気が仮焼炉20内に旋回流として流入する場合には、その流れの旋回中心に沿って熱分解ガスを導入するようにしてもよい。また、第1の実施形態では熱分解ガスや燃焼用空気を仮焼炉20の周壁部23においてロータリキルン30の側とは反対側に導入しているが、これに限ることもなく、一例としてロータリキルン30の側に導入してもよいし、一例として図2Cに示すようにガス導入口27を空気導入口25の途中に接続し、熱分解ガスを燃焼用の空気と予混合させながら仮焼炉20内に流入させるようにしてもよい。また、熱分解ガスの導入口27の個数は1つに限らず、仮に廃棄物処理設備100においてガス化炉1を2つ以上、設置する場合には、各々のガス化炉1から別々のガス搬送ライン6によって搬送した熱分解ガスを、個別に仮焼炉20内に導入するようにしてもよい。一例として図7A~Dには、仮焼炉20にガス導入口27を2つ設けた変形例を示す。この変形例では、前記した第1実施形態の仮焼炉20とはガス導入口27の数及び位置が異なるだけで、それ以外は同じものである。図7A~Cに示すように変形例の仮焼炉20において2つのガス導入口27は、ロータリキルン30の側とその反対側とにおいてそれぞれ、第1実施形態と同様に水平面に対し下向きに傾斜して設けられている。また、同図Dに示すように平面視では2つのガス導入口27は、それぞれ側壁部23の内周に沿って熱分解ガスを導入するよう円周方向に指向され、互いに略180°位相をずらして平行に設けられている。つまり、2つのガス導入口27は、同一の円周上に同じ向きの旋回流を形成するように熱分解ガスを導入する。こうして流れの旋回成分を強化しながら、できるだけ離れた部位に熱分解ガスを導入することで、熱分解ガスの燃焼性がさらに高くなる。-バイパスライン-以上のような構成に加えて、図1に示すようにこの実施形態のセメント製造設備200には、サスペンションプレヒータ10や仮焼炉20を循環する間にガス中の塩素分やアルカリ分が濃縮されることを防ぐためにバイパスライン60が設けられている。すなわち、この実施形態のようにセメント製造設備において廃棄物の熱分解ガスを混焼すると、元々廃棄物に含まれている塩素分やアルカリ分の影響でセメントクリンカ中の塩素分やアルカリ分濃度が高くなる傾向があり、付着トラブルが発生するおそれもあった。そこで、図示のセメント製造設備200においては、仮焼炉20の下部或いは下部ダクト21に接続したバイパスライン60によってガスの一部を抽出し、冷却器61で冷却した後にサイクロン62分級器に送ってダストを分級する。冷却器61にはファン63により冷風が送られていて、抽気ガスを塩素化合物等の融点以下まで急冷することにより、抽気ガス中の塩素分あるいはアルカリ分を固体ダストとして分離する。そして、サイクロン62において抽気ガス中のダストが粗粉と微粉とに分級され、塩素分やアルカリ分が殆ど含まれていない粗粉は、サイクロン62の下端から落下し、一部を省略して示す戻しライン60aによって仮焼炉20へと戻される。一方、塩素分やアルカリ分の濃度が高い微粉は、サイクロン62から吸い出される抽気ガスに乗ってバイパスライン60の下流側ライン60bに排出され、集塵機54に捕集される。なお、図1においてはバイパスライン60の下流側ライン60bを排気ライン50の途中に接続して、キルン排気を煙突51に送り出すための誘引通風機52、ガスクーラ53及び集塵機54を共用するように示しているが、実際の設備ではバイパスライン60に専用の誘引通風機、ガスクーラ及び集塵機を設けて、排気ライン50とは独立させている。-熱分解ガスの流量比-上述したように、この実施形態の廃棄物処理設備100では、セメント製造設備200においてキルン排気を誘引するための負圧を利用して、ガス化炉1から熱分解ガスを誘引し、ガス搬送ライン6により仮焼炉20まで搬送するようにしている。すなわち、仮焼炉20においては誘引通風機52によってキルン排気が誘引されて負圧状態になっており、これらの排気の流量が十分に多ければ、これに対して相対的に少量の熱分解ガスが流入しても十分に大きな負圧を維持できる。この実施形態ではセメント製造設備200の排出ガス量が、ガス化炉1で発生する熱分解ガスの量の10倍以上と圧倒的に多いので、仮焼炉20の負圧状態は安定している。そこで、この安定した負圧を利用して、ガス化炉1からの熱分解ガスを搬送するようにしており、ガス搬送ライン6には送風機を設けていない。また、ガス化炉1内も負圧に保たれ、外部に熱分解ガスが漏れることがない。但し、熱分解ガスの流量が多くなると、仮焼炉20の燃焼状態やガス化炉1における熱分解ガスの発生量等が変動したときに、一時的にガス化炉1を負圧状態に保つことができなくなって、熱分解ガスが外部に漏れる可能性もある。本発明の発明者らは、キルン排気の流量に対する熱分解ガスの流量比を段階的に大きくしながら、これによるガス化炉1内の圧力の変化をシミュレーションによって確認した。まず、図8A~Cには、この実施形態のように流量比を1/10程度としたときのシミュレーション結果を示す。図8Aは、ガス化炉1の流動層に送り込む空気量の変動を考慮して、これを外乱として与えたときのガス化炉1における熱分解ガスの発生量の変動状態である。このガス量の変動はシミュレーションにより求められる。一方、実際のセメント仮焼炉を用いた実験によりその内部のガス圧の変動状態を計測し、その変動幅を3倍に拡大したものが図8Bのグラフである。前記のガス化炉ガス発生量の変動と仮焼炉ガス圧力の変動とに基づいてシミュレーションすると、図8Cのようにガス化炉1内のガス圧力の変動を表すグラフが得られる。このガス圧力は最大でも-0.5kPa以下に収まっており、流量比が1/10と余裕がある状態では、熱分解ガスの発生量が変動してもガス化炉1内は好適な負圧状態に保たれることが分かる。次に図9には、熱分解ガスの流量比とガス化炉1内の圧力との関係を示す。実線のグラフは、或る流量比におけるガス化炉1内の圧力の平均値であり、前記のような変動を考慮したものが破線のグラフである。グラフの左端流量比=0に示すように、キルン単独運転時の仮焼炉圧力は-0.9kPaとしている。流量比の増大、即ち、熱分解ガスの発生量の増大に連れてガス化炉1内の圧力が高くなり、大気圧に近づいてゆく。グラフから、この実施形態のように流量比が0.1=1/10程度であれば、ガス化炉1内の圧力は-0.5~-0.7kPaであり、熱分解ガスの流量比が0.2程度になると実線のグラフで示すように、ガス化炉内圧の平均値が概ね大気圧0になることが分かる。このことから、ガス化炉1からの熱分解ガスをセメントの仮焼炉20にその負圧でもって搬送するためには、熱分解ガスの流量をキルン排気の流量の1/5以下にしなければならない、といえる。但し、前記のシミュレーションは、既存のセメントプラントに殆ど改修を加えることなく、廃棄物処理設備100を隣設する場合についてのものである。すなわち、一般にセメントプラントにおいてはキルン排気を排出する誘引通風機52の容量に10程度の余裕を持たせており、前記のように熱分解ガスの流量が多くなってガス化炉1内を負圧に維持できなくなるのは、熱分解ガスの供給によって仮焼炉20からの排気の流量が10程度増えたとき、ということになる。ここで、一般的な廃棄物の発熱量は1000~3000kcal/kgと、石炭等に比べて低いので、単位燃焼ガス量あたりの発熱量も小さくなる。そのため、仮焼炉20での燃焼によって必要な発熱量を確保するという前提にたてば、発熱量の低い廃棄物由来の熱分解ガスを加えると、仮焼炉20からの排気、即ち熱分解ガスや微粉炭の燃焼ガスとキルン排気とを合わせた排気の総流量は増大することになる。例えば、石炭の発熱量を5500kcal/kgとして試算すると、熱分解ガスを加えることによる総排気流量の変化は、図10Aのグラフに示すようになる。このグラフの横軸はキルン排気の流量に対する熱分解ガスの流量比であり、縦軸は総排気流量比、即ち、熱分解ガスを加えないときを基準とした仮焼炉20からの総排気流量の増加割合である。同図によれば、熱分解ガスの流量比が大きいほど、仮焼炉20からの総排気流量が増大することが分かる。また、図には実線、破線、一点鎖線の順に示すように、廃棄物の発熱量が低くなるほど、同じ流量比であっても総排気流量は多くなっている。それぞれのグラフに示す廃棄物の発熱量は2500kcal/kg、1400kcal/kg、1000kcal/kgである。破線のグラフで示すように廃棄物の発熱量が1400kcal/kgであると、熱分解ガスの流量比が0.2のときに総排気流量比が1.1になっている。これは、図9を参照して上述したように、セメントプラントにおけるキルン排気の通風系の余裕が10程度のときに、流量比が0.2になるとガス化炉1内が正圧になることに対応している。これに対し、既存のセメントプラントにおけるキルン排気の通風系を増強したり、或いはセメントプラントを新規に建設する際に通風系の余裕を大きめに設定すれば、流量比はさらに大きくしてもガス化炉1内を負圧に維持することができる。仮に20~25程度の余裕があるとすれば、前記図10Aの一点鎖線のグラフから、廃棄物の発熱量が1000kcal/kgとかなり低いときであっても、流量比を0.3程度まで大きくできる。次に、図10Bのグラフには縦軸に、仮焼炉20の燃焼による発熱のうち、微粉炭の燃焼によるものの割合石炭発熱量比を取って、横軸の流量比との相関を調べたものである。流量比が高いほど燃料に占める熱分解ガスの割合が高くなるので、石炭発熱量比は低くなっていくが、その度合いは熱分解ガスの発熱量が大きいものほど、つまり、一点鎖線、破線、実線の順に強くなっている。また、流量比が高いときほど、熱分解ガスの発熱量の違いによる石炭発熱量比の変化が大きくなっており、熱分解ガスの発熱量のばらつきに起因する燃焼温度の変動が大きくなることが分かる。つまり、熱分解ガスの流量比が高いほど、廃棄物の種類等の違いに起因する発熱量の変動が、仮焼炉20における燃焼温度に強く反映され、仮焼炉20の温度が変動することになる。この点について図10Bの3つのグラフを見ると、石炭発熱量比の平均値が約0.8になるのは流量比が0.3のときであり、言い換えると、このときには熱分解ガス及び微粉炭の燃焼による発熱のうち、約80が微粉炭の燃焼によるものとなる。つまり、熱分解ガスの流量比を0.3以下にすれば、仮焼炉20の温度に対して微粉炭の燃焼が支配的になるといえる。このことで、熱分解ガスの発熱量のばらつきが大きくなっても、セメント製造設備200の安定的な運転が可能になる。この実施形態では流量比が1/10くらいになるように、ガス化炉1への廃棄物の投入量を搬送装置4の動作速度の制御によって調整するとともに、流動化空気の流量を送風機5の回転数の制御やダンパ開度の制御によって調整し、熱分解ガスの発生量を制御している。一例として、ガス化炉1の負圧やガス搬送ライン6における熱分解ガスの流量、或いは仮焼炉20の負圧や排気流量等を計測し、この計測値に基づいて制御を行うようにしてもよい。以上、説明したように、第1の実施形態に係る廃棄物処理設備100では、ガス化炉1において廃棄物から発生した熱分解ガスが、チャー及び灰分を含んだままガス搬送ライン6によってセメント製造設備200へ搬送され、仮焼炉20に導入される。この際、熱分解ガスの流量のキルン排気に対する流量比を所定値以下に制限することで、仮焼炉20の温度の変動を抑制し、セメント製造設備200の運転の安定性を確保することができる。また、仮焼炉20の負圧によって熱分解ガスを搬送し、ガス搬送ライン6やガス化炉1内を負圧状態に維持することができるので、ガス搬送ライン6には送風機を設けなくて済み、送風機のインペラ等に熱分解ガス中のチャーや灰分が付着、堆積することによる故障の心配がない。ガス化炉1からの熱分解ガスの漏洩も防止できる。さらに、仮に何らかのトラブルによってガス化炉1の運転を停止し、仮焼炉20への熱分解ガスやチャーの供給が止まったとしても、その分、微粉炭等の補助燃料の供給を増やせば仮焼炉20の運転に支障をきたすことはない。また、ガス化炉1として流動層式のものを用いており、流動砂の動きによって廃棄物が細かく粉砕されることから、熱分解ガス中のチャーや灰分の粒径も小さくなりやすく、ガス搬送ライン6におけるチャーや灰分の付着、堆積を抑える上で有利になる。さらに、補助燃料として微粉炭を供給することで、低品位の廃棄物を処理する場合でもガス化炉1の温度を十分に高くすることができ、このこともガス搬送ライン6におけるチャーや灰分の付着、堆積を抑える上で有利になる。加えて、ガス搬送ライン6の途中にエゼクタ装置6aを複数、配設して間欠的に圧縮空気を吹き込むようにしており、これにより、ガス搬送ライン6の内部に堆積したチャーや灰分も除去することができる。さらに仮焼炉20に熱分解ガスを導入するガス導入口27については下向きに傾斜させることによって、チャーや灰分の付着、堆積を抑えることができる。第2の実施形態次に、本発明の第2の実施形態に係る廃棄物処理設備及びセメント製造設備について図11を参照して説明する。同図は上述した第1の実施形態1の図1に相当する。なお、この実施形態では、セメント製造設備200のサスペンションプレヒータ10及び仮焼炉20の構成が第1の実施形態と異なっているが、仮焼炉20については空気導入口25がないことを除いて第1実施形態のものと同じなので、同じ符号20を付する。それ以外の同じ構成の部材にも同一符号を付してその説明は省略する。また、同図においてはガス搬送ライン6の一部がサスペンションプレヒータ10の陰に隠れているため、エゼクタ装置6aの図示を省略している。同様に便宜上、バイパスライン60の図示も省略しているが、第1の実施形態と同じくガス搬送ライン6には複数のエゼクタ装置6aが配設されており、また、バイパスライン60、冷却器61、サイクロン62等も備えている。そして、この第2の実施形態のセメント製造設備200では、サスペンションプレヒータ10が2系統に分かれていて、各系統毎に一例として5段のサイクロン11を備えている。図の左側の系統には下段からキルン排気が吹き込まれるようになっており、仮焼炉20が設けられていないことを除けば、第1実施形態のものと同じである。一方、図の右側の系統には仮焼炉20が設けられているが、ここにはキルン排気ではなく、エアクエンチングクーラ40からの高温のクーラ排気が流入している。クーラ排気は、第1の実施形態におけるキルン排気と同様に仮焼炉20の下端に流入し、噴流となって上方へと吹き上がっている図には一点鎖線で示す。このクーラ排気は仮焼炉20内に導入される熱分解ガスと混ざり合い、これを燃焼させながらセメント原料を吹き上げて、上部ダクト22から最下段のサイクロン11に至る。そして、一段ずつサイクロン11を上昇して最上段のサイクロン11から排気ライン50に流出する。仮焼炉20の下部には、詳細の図示は省略するが、第1の実施形態と同じくサイクロン11からセメント原料が供給されるようになっており、また、ガス化炉1からの熱分解ガスを導入するガス導入口27が設けられているが、これを燃焼させるための空気の導入口25は設けられていない。前記のように仮焼炉20内を吹き上がるクーラ排気は、キルン排気とは異なり酸素を多量に含んでいるからである。その点を除いて仮焼炉20の構造は第1の実施形態と同じであり、熱分解ガスは、その流量がクーラ排気の流量の1/10程度に抑えられているとともに、仮焼炉20にはガス導入口27から旋回流として導入される。つまり、この実施形態においても熱分解ガスは、クーラ排気の主流と直接的には干渉しない態様で仮焼炉20に導入される。また、熱分解ガスは、水平面に対して下向きに傾斜して設けられたガス導入口27から仮焼炉20内に導入される。そして、熱分解ガスはクーラ排気の主流に乗って仮焼炉20を吹き抜けることなく、吹き上がるクーラ排気の主流の周りを螺旋状に旋回しながら徐々に混ざり合って、十分に燃焼される。この燃焼によってクーラ排気の温度が900°C以上まで上昇し、これにより吹き上げられるセメント原料の仮焼脱炭酸反応が促進される。また、廃棄物由来の熱分解ガスには、ダイオキシンが含まれることがあり、これを分解するためには、約2秒以上の時間、850°C以上の雰囲気に維持する必要があるが、この実施形態では、仮焼炉20内で燃焼する熱分解ガスの温度が4秒以上、900°C以上に維持され、ダイオキシンは十分に分解される。そして、この第2の実施形態においても熱分解ガスの流量は、クーラ排気の流量の1/10程度に抑えられていることから、その発熱量が廃棄物の種類等によって変動しても、仮焼炉20の温度の変動はあまり大きくはならない。また、熱分解ガスは、仮焼炉20に生成される負圧を利用して搬送される。したがって、この第2の実施形態のように仮焼炉20にクーラ排気を流入させるようにした場合でも、その仮焼炉20からの排気の流量に対してガス化炉1からの熱分解ガスの流量を、所定の流量比以下に制限することによって、セメント製造設備200の安定的な運転を行うことができるとともに、熱分解ガスを仮焼炉20の負圧のみによって搬送することができる。このため、ガス搬送ライン6には送風機を設けなくても済み、その故障を心配する必要はない。その他の実施形態図12及び図13には、それぞれ、セメント製造設備200の仮焼炉の構成が異なる実施形態を示す。また、図14には仮焼炉のない場合について示す。これらのいずれの実施形態も仮焼炉に関する構成以外は上述した第1の実施形態と同じなので、同一部材には同一符号を付してその説明は省略する。まず、図12に示す実施形態の仮焼炉70は、第1実施形態のものと同様にしてロータリキルン30の窯尻に設けられた混合室71と、その下部に連通する旋回仮焼室72とを有し、この旋回仮焼室72には燃焼装置73が配設されていて、石炭、天然ガス、重油等の燃焼による高温の燃焼ガスを噴出している。図示のように旋回仮焼室72には、エアクエンチングクーラ40からの高温のクーラ排気空気が旋回流として導入されるとともに、最下段の一つ上のサイクロン11からは予熱されたセメント原料が供給される。そのセメント原料が燃焼装置73からの燃焼ガスを受けて仮焼されながら混合室71へと移動し、ここでは下方からのキルン排気の噴流によって上方に吹き上げられる。すなわち、混合室71ではキルン排気の流れにセメント原料を含んだ燃焼ガスの流れが合流し、両者が混じり合いながら上昇するようになる。この上昇流に乗って吹き上げられる間にセメント原料は十分に仮焼され、混合室71の最上部の出口からダクトを介して最下段のサイクロン11へと搬送される。なお、ガス化炉1からの熱分解ガスは、ロータリキルン30の入り口から混合室71の出口までの間、或いは旋回仮焼室72と混合室71との間に導入すればよい。一方、図13に示す実施形態の仮焼炉75は、第1実施形態のものと概ね同じ構造であり、ロータリキルン30の窯尻に上下方向に延びるように設けられているが、その上下のほぼ中央部位に環状の括れ部75aが形成されていて、この括れ部75aにおいても仮焼炉75内に空気を導入するようにしたものである。すなわち、上述した第1実施形態のものと同じく仮焼炉75の下部には、エアクエンチングクーラ40からの高温のクーラ排気が旋回流として導入されるようになっているが、このクーラ排気の供給路から分かれた分岐路によってクーラ排気の一部が前記括れ部75aに導かれ、ここに形成されている導入口から仮焼炉75内へ導入される。こうして導入されたクーラ排気の一部は、仮焼炉75内を吹け上がるキルン排気の噴流の中に再燃焼用の空気として供給される。この実施形態においてもガス化炉1からの熱分解ガスは、ロータリキルン30の入り口から仮焼炉75の出口までの間に導入すればよい。そして、図14に示す実施形態では仮焼炉は設けられておらず、ロータリキルン30の入り口に接続された下部ダクト21と、サスペンションプレヒータ10の最下段のサイクロン11に接続された上部ダクト22との間は、立ち上がり管29によって繋がれている。この立ち上がり管29にセメント原料とガス化炉1からの熱分解ガスとがそれぞれ供給されて、キルン排気の噴流により吹き上げられる。熱分解ガスは、キルン排気に含まれている酸素と反応して立ち上がり管29及びサスペンションプレヒータ10の中で燃焼する。なお、上述した各実施形態の説明は例示に過ぎず、本発明、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものではない。例えば、前記の各実施形態では、セメントの仮焼炉20の負圧のみによって熱分解ガスを搬送するようにしているが、これに限ることはない。仮焼炉の負圧を利用して熱分解ガスを搬送する、というのは、補助的に送風機を付加することを除外するという意味ではなく、送風機を設けなくても負圧によって仮焼炉20まで熱分解ガスを搬送し、ガス化炉1内を負圧状態に維持できるという意味である。また、発熱量が例えば1000kcal/kg以上の一般的な廃棄物のみを処理すればよいのであれば、その一部が燃焼することによってガス化炉1の流動層の温度を適温に維持することができるので、前記各実施形態のように補助燃料を供給する必要はなく、そのための微粉炭の供給装置7は省略してもよい。同様に、塩素分やアルカリ分の比較的少ない廃棄物のみを処理すればよいのであれば、前記各実施形態においてバイパスライン60を省略してもよい。また、前記各実施形態においては、ガス化炉1から仮焼炉20までのガス搬送ライン6にエゼクタ装置6aを配設し、堆積したチャーや灰分を吹き飛ばすようにしているが、これを省略することも可能である。さらに、廃棄物処理設備100のガス化炉1やセメント製造設備200のキルン焼成炉等の構造についても前記の各実施形態には限定されない。ガス化炉1は流動層タイプに限定されず、同じく低温ガス化方式のキルンタイプとしてもよいし、高温ガス化方式としてもよい。また、焼成炉もロータリキルン30に限定されず、例えば流動層キルンであってもよい。また、前記の各実施形態ではガス化炉1へ供給する廃棄物として家庭からの一般廃棄物や廃プラスチックを含む産業廃棄物等を想定しているが、これにも限定されず、ガス化炉1へは間伐材や木屑等の木質系バイオマス、或いは家畜の糞尿、下水汚泥のような他のバイオマスを供給することも可能である。"