光源を用いてガス中の水分濃度を測定する水分濃度測定装置の校正方法であって、測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、前記光源によって測定可能であり前記測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、前記他成分ガスを測定して得られる吸収スペクトルの強度に基づいて、水分濃度測定値を校正すること、を備えた水分濃度測定装置の校正方法。前記測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、前記他成分ガスの吸収スペクトルの強度とは概ね同じである、請求項1に記載の水分濃度測定装置の校正方法。光源を用いてガス中の水分濃度を測定する水分濃度測定装置の校正装置であって、測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、前記光源によって測定可能であり前記測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、を記憶する記憶部と、測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、前記光源によって測定可能であり前記測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、前記他成分ガスを測定して得られる吸収スペクトルの強度に基づいて、水分濃度測定値を校正する校正部と、を備えた水分濃度測定装置の校正装置。前記測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、前記他成分ガスの吸収スペクトルの強度とは概ね同じである、請求項3に記載の水分濃度測定装置の校正装置。前記校正部は、前記他成分ガスの吸収スペクトルの強度を、校正環境において前記光源を用いて測定する測定部と、ランベルトベールの法則に基づいて、前記光源を用いて前記校正環境において測定された他成分ガスの吸収スペクトルの強度を用いて、前記光源を用いて測定環境における他成分ガスの吸収スペクトルの強度を算出し、当該吸収スペクトルの強度に基づいて水分濃度測定値を校正する演算部と、を含む、請求項3又は4に記載の水分濃度測定装置の校正装置。特許文献1に記載の水分濃度の校正装置では、バブリングによって発生させたガスの濃度を補償するために、バブリングの前後で酸素濃度を測定している。しかし、この場合、校正装置を現場まで運ぶ必要があるので、実際の校正作業が困難である。本発明の課題は、比較的容易な作業で水分濃度測定値の校正を正確に行うことにある。以下に、課題を解決するための手段として複数の態様を説明する。これら態様は、必要に応じて任意に組み合せることができる。本発明の一見地に係る方法は、光源を用いてガス中の水分濃度を測定する水分濃度測定装置の校正方法である。この方法は、以下の工程を備えている。◎測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、光源によって測定可能であり測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、他成分ガスを測定して得られる吸収スペクトルの強度に基づいて、水分濃度測定値を校正する。なお、吸収スペクトルの強度同士の関係とは、例えば、両者の比、及び両者の差である。この方法では、測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と当該吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、他成分ガスを測定して得られる吸収スペクトルの強度に基づいて水分濃度測定値が校正されるので、比較的容易な作業で水分濃度測定値を正確に校正できる。つまり、水分濃度の校正のコストが低下し、さらに水分濃度の校正の操作性が良くなる。測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、他成分ガスの吸収スペクトルの強度とは概ね同じであってもよい。この場合、数値の換算作業が不要になる。本発明の他の見地に係る水分濃度校正装置は、光源を用いてガス中の水分濃度を測定する水分濃度測定装置の校正装置である。校正装置は、記憶部と、校正部とを有している。記憶部は、測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、光源によって測定可能であり測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、を記憶する。校正部は、測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、光源によって測定可能であり測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、他成分ガスを測定して得られる吸収スペクトルの強度に基づいて、水分濃度測定値を校正する。測定予定濃度の水分のスペクトルの強度と、他成分ガスのスペクトルの強度とは概ね同じであってもよい。校正部は、測定部と、演算部とを有している。測定部は、校正環境において他成分ガスの吸収スペクトルの強度を、光源を用いて測定する。演算部は、ランベルトベールの法則に基づいて、光源を用いて校正環境において測定された他成分ガスの吸収スペクトルの強度を用いて、光源を用いて測定環境における他成分ガスの吸収スペクトルの強度を算出し、当該吸収スペクトルの強度に基づいて水分濃度測定値を校正する。本発明に係る水分濃度測定装置の校正方法及び校正装置では、比較的容易な作業で水分濃度測定値の校正が正確に行われる。1ガス分析装置全体の構成図1を用いて、本発明の一実施形態に係るガス分析装置100を説明する。図1は、本発明の一実施形態に係るガス分析装置の模式断面図である。ガス分析装置100は、煙道1を流れる試料ガス中の所定成分濃度を分析するガス分析装置である。ガス分析装置100は、レーザ光を用いるものであり、例えば、分散型赤外分光光度計又はフーリエ変換赤外分光光度計である。ガス分析装置100は、1つの照射部2と、第1のリフレクタ3と、1つの受光部4と、第2のリフレクタ5と、既知物質収容部6と、演算制御部7と、切替部8と、プローブ管9とを備えている。第1のリフレクタ3と、第2のリフレクタ5と、既知物質収容部6は、プローブ管9の中に収められている。照射部2と受光部4は、光学ユニットを構成しており、これらは光学ユニットの筐体11内に収められている。筐体11とプローブ管9の接続箇所には、光学窓12が配置されている。光学窓12は、測定光Lbを透過する素材で形成された板状部材である。プローブ管9は、試料ガスSgを拡散により内部に導入する導入孔91が設けられた円筒状の部材である。プローブ管9の材質は、ガス分析装置100の使用環境に応じて任意の金属素材を選択してよい。導入孔91は、プローブ管9の側面に断続的なスリットとして形成されている。プローブ管9内の先端部には、第1のリフレクタ3が備えられている。一方、プローブ管9内の基端部には、第2のリフレクタ5及び既知物質収容部6が備えられている。照射部2は、筒状の煙道1を構成する壁1aの外側に配置され、測定光Lbを煙道1内に流れる試料ガスSg中へ照射するものである。照射部2は、典型的には、赤外線レーザ発振装置等、直進性の高い所定波長域光を射出する光源装置である。第1のリフレクタ3は、照射部2から出射され煙道1の中を通過した測定光Lbを受光部4に向けて反射するものである。すなわち、第1のリフレクタ3は、照射部2から出射された光光軸の向きを受光部4の方向へ変更する手段であって、例えばコーナーキューブである。受光部4は、照射部2の近傍でかつ壁1aの外側に配置され、第1のリフレクタ3で反射された測定光Lbを受光するものである。受光部4は、測定光Lbを受光面において受光する受光装置である。受光部4は、典型的には、フォトダイオード等の光電変換装置である。受光部4は、演算制御部7と電気的に接続され、受光した測定光Lbに関する情報例えば光量を電気信号として演算制御部7へ送信する。第2のリフレクタ5は、壁1aの外側に配置され、測定光Lbを受光部4に向けて反射するものである。すなわち、第2のリフレクタ5は、照射部2から出射された光光軸の向きを受光部4の方向へ変更する手段であって、例えばコーナーキューブである。また、図1に示すようにプローブ管9には、導入孔91の対向面両端側試料ガスSgの流れの上流側に孔17、18が各々形成されている。このような孔17、18から試料ガスSgを流入させることにより、パージエアPaはプローブ管9の中央部に流入することを防止することができ、試料ガスSgと混ざり合って、導入孔91から排出されるSgPa。以上に述べた孔17、18間が、測定環境における測定場になっており、その長さが光路長として定義されている。既知物質収容部6は、照射部2と第2のリフレクタ5の間及び第2のリフレクタ5と受光部4の間の光路上の空間領域に設けられ、照射部2から照射される測定光Lbを減衰させないか又は所定量減衰させる既知物質を収容するものである。ここで、既知物質は、測定光Lbを照射した場合に透過する光量が予め分かっている物質であればよく、例えば、ゼロガスやスパンガス、さらには測定光に対して完全に透明又は透過する測定光を所定量に制限するような光透過板や光学素子を含むものである。この実施形態では、既知物質収容部6は、ガス分析装置100を補正又は校正するために使用される既知の濃度のガスゼロガスやスパンガスを充填するようになっている。既知物質収容部6は、例えば、光透過性のセル61と、セル61内に既知のガスを供給するガス導入パイプ62と、セル61内の既知のガスを排出するガス排出パイプ63とで構成することができる。なお、既知物質収容部6の構成は、上記した構成に限定されるものではなく、例えば、光透過性のセル61を設けずに、第2のリフレクタ5が光路上に配置されている状態で、光学窓12と第2のリフレクタ5の間の空間領域に既知のガスを導入して充填させることで構成してもよい。切替部8は、壁1aの外側に配置され、成分濃度の分析を行うときには第2のリフレクタ5を光路上から外し、補正又は校正を行うときには第2のリフレクタ5を光路上に配置するものである。2演算制御部の構成次に、図2を用いて、演算制御部7を説明する。図2は、演算制御部の構成を示すブロック図である。演算制御部7は、照射部2、受光部4、及び切替部8の動作を制御する制御機能を有している。それにより、照射部2が測定光Lbを出射し、測定光Lbが第1のリフレクタ3で反射させられ、反射光が受光部4に入射する。さらに、演算制御部7は、受光部4によって検出された反射光に基づいてプローブ管9内の試料ガスSgの成分濃度を分析する演算機能を有している。さらに、演算制御部7は、照射部2から出射された測定光Lbを第2のリフレクタ5で反射させてガス分析装置100の既知のガスを用いた補正又は校正を行う校正機能を有している後述。演算制御部7は、典型的には、CPUCentralProcessingUnit等の情報処理装置、メモリ等の記憶装置、ユーザの操作を受け付けるインターフェース装置、分析結果を表示する表示装置等を備え、ユーザの操作及び記憶装置に記憶されたプログラムに基づいた制御処理、演算処理、校正処理を行う。より詳細には、演算制御部7は、CPU111と、レーザ駆動部112と、A/D113と、メモリ114とを有している。CPU111は、前述の各種機能を実現可能である。レーザ駆動部112は、CPU111からの駆動指令に基づいて照射部2を駆動する。A/D113は、受光部4からの検出信号をA/D変換した後に、CPU111に送信する。メモリ114は、プログラム及び各種データを保存している。さらに、CPU111には、表示装置115及び操作装置116が接続されている。表示装置115は、例えば、液晶ディスプレイである。操作装置116は、例えば、キーボード、マウス、タッチパネルである。3水分濃度測定値の校正方法次に、図3を用いて、水分濃度測定値の校正方法を説明する。図3は、水分濃度1.1の水の吸収スペクトルと120ppmのアンモニアの吸収スペクトルの関係を示すグラフである。水の吸収スペクトル101は実線で示され、アンモニアの吸収スペクトル102は破線で示されている。上記のような吸収スペクトルの取得の一般例を説明する。例えば、波長可変型レーザを用いて水分濃度及びアンモニア濃度を測定する場合、レーザへの印加電流の制御により、レーザに変調をかけ、その信号を検波することにより吸収スペクトルを得る。具体的には、レーザ光を検出器で受光し、その信号をAD変換し、CPUにて変調の2倍の周波数にて検波することにより吸収スペクトルを得ている。図3から明らかなように、同じ波長領域において、水とアンモニアの信号強度が同一である。このように測定環境での所定濃度の水を含むガスの信号出力と所定濃度の特定成分を含むガスの信号出力が概ね同じであるという情報が予め得られている。このことは、測定に用いられる水の吸収係数εとアンモニアの吸収係数εとの関係が判明していることを意味する。上記の関係情報測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、照射部2によって測定可能であり測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度との比が分かる吸収スペクトルの強度を有する第1の濃度の他成分ガスとの関係は、CPU111によって取得されてメモリ114に保存されている。以下、水分濃度測定値の校正方法を説明する。なお、以下の各装置を制御する動作は、主に、演算制御部7のCPU111によって実行される。最初に、第2のリフレクタ5が下降し、既知物質収容部6にアンモニアを含む校正ガスが導入される。続いて、照射部2が測定光Lbを発射し、第2のリフレクタ5で反射された光が受光部4に入力される。この結果、CPU111は、校正ガス測定時の信号出力が得られる。この得られた信号出力に基づいて、CPU111は水分濃度測定値の校正に用いる係数を算出する。以下、上記の校正について詳細に説明する。ガスの吸収強度吸光度は、ランベルト-ベール則α=εcLによって得られる。αは吸光度、εは吸収係数、cは濃度、Lは光路長である。ここで、吸収係数εは、同一のガス種であっても吸収線一本ごとに異なっており、また校正環境例えば、温度、圧力によっても変化する。一実施例として、例えば、測定環境において濃度1の水を含むガスの信号出力を1にしたい場合に、水1の信号出力と1000ppmの成分Aのガスの信号出力が同じであるという関係情報が事前に得られているとする。そして、成分Aのガスを測定した条件が、既知物質収容部6の光路長L=10cm、濃度c=100ppmであった場合に、信号出力が0.9であったとする。また、測定環境において、光路長L=10cmである。その場合に、以下の数式が成立する。この式より、1000ppmの成分Aの出力信号x=水1の出力信号が算出される。このxの値を用いて、水分濃度測定値が校正される。例えば、測定環境での信号出力を1としたい場合は、測定された水分濃度の測定値の校正以前の値に1/xを掛ければよい。なお、水とアンモニアでは、波長掃引範囲を狭くでき、校正時間を短縮させることができる。また、注入電流による温度の立ち上がりを少なくできるので、測定精度も向上する。図4は、水分濃度4の水の吸収スペクトルと40ppmの塩化水素の吸収スペクトルの関係を示すグラフである。水の吸収スペクトル103は実線で示され、塩化水素の吸収スペクトルは破線104で示されている。図4から明らかなように、異なる波長領域において、水と塩化水素の信号強度が同一である。このように両者の波長領域は異なるが、レーザの温度を変更することで波長領域を変更できその再現性も良いので、レーザの発振が可能な波長領域内にあれば、近傍の吸収線以外でも校正に用いることができる。4実施形態の作用効果上記実施形態は、下記のように表現可能である。A上記の校正方法は、照射部2光源の一例を用いてガス中の水分濃度を測定するガス分析装置100水分濃度測定装置の一例を校正する方法である。この方法は、以下の工程を備えている。◎測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、照射部2によって測定可能であり測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、他成分ガスを測定して得られる吸収スペクトルの強度に基づいて、水分濃度測定値を校正する。この方法では、測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と当該吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、他成分ガスを測定して得られる吸収スペクトルの強度とに基づいて水分濃度測定値が校正されるので、比較的容易な作業で水分濃度測定値を正確に校正できる。その結果、水分濃度測定値の校正のコストが低下し、さらに水分濃度測定値の校正の操作性が良くなる。B測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、他成分ガスの吸収スペクトルの強度とは概ね同じである。ただし、両者は必ずしも同じでなくてもよい。両者の比が分かればランベルトベールの法則が利用可能だからである。C校正装置は、光源を用いてガス中の水分濃度を測定する水分濃度測定装置水分濃度測定装置に用いられる。校正装置は、メモリ114記憶部の一例と、CPU111校正部の一例とを有している。メモリ114は、測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、照射部2によって測定可能であり測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、を記憶する。CPU111は、測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度と、照射部2によって測定可能であり測定予定濃度の水分の吸収スペクトルの強度との関係が分かる他成分ガスの吸収スペクトルの強度との関係と、他成分ガスを測定して得られる吸収スペクトルの強度に基づいて、水分濃度測定値を校正する。DCPU111は、測定機能と、演算機能とを有している。測定機能は、他成分ガスの吸収スペクトルの強度を、照射部2を用いて校正環境において測定する。演算機能は、ランベルトベールの法則に基づいて、照射部2を用いて校正環境において測定された他成分ガスの吸収スペクトルの強度を用いて、照射部2を用いて測定環境における第1光路長における他成分ガスの吸収スペクトルの強度を算出し、当該吸収スペクトルの強度に基づいて水分濃度測定値を校正する。5他の実施形態以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。特に、本明細書に書かれた複数の実施形態及び変形例は必要に応じて任意に組み合せ可能である。aガス分析装置の具体的な構造は前記実施形態に限定されない。b既知濃度ガスを別途導入する代わりに、既知濃度のガスを封入したガスセルをガス分析装置内に設けてもよい。c既知濃度のガスとして、濃度変化の少ない大気中のガス酸素又は二酸化炭素を用いてもよい。