"一般式:式中、R1とR2は水素原子、置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環、置換基を有してもよい単環性又は二環性複素環、分岐してもよい低級アルキル基、環を形成してもよいアルキル基、置換基を有してもよい単環性又は二環性の芳香環或は複素環が結合した低級アルキル基、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基、置換基を有してもよいアリルオキシ基を有する低級アルキル基、低級ハロアルキルオキシ基を有する低級アルキル基、置換基を有してもよいアミノ基を有する低級アルキル基、低級アルキルチオ基を有する低級アルキル基、低級アルキルスルホニル基を有する低級アルキル基、カルボキシル基を有する低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基を有する低級アルキル基、スルホンアミド基を有する低級アルキル基、水酸基を有する低級アルキル基、スルホン酸を有する低級アルキル基、シアノ基を有する低級アルキル基、ニトロ基を有する低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基炭素数15、低級ハロアルコキシ基炭素数15、低級アルコキシカルボニル基炭素数15、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、ニトロ基、置換してもよいアミノ基、カルバモイル基、アミノスルホニル基、低級アルカノイル基炭素数15、置換してもよいアリルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基炭素数15、低級アルキルチオ基炭素数15、置換してもよいアリルチオ基、低級アルキルスルホニル基炭素数15、置換してもよいアリルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基炭素数15、置換してもよいアリルスルホニルアミノ基、或いはスルホン酸基を示す。R3は置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環、置換基を有してもよい単環性又は二環性複素環、或いは置換基を有してもよいシクロ環を示す。R4は、置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環、或いは置換基を有してもよい単環性又は二環性複素環を示す。Xは、-CH2-、分岐してもよい低級アルキル基を有している炭素原子、酸素原子、カルボニル基、酸素原子を含む環を有する炭素原子、硫黄原子、-SO2-、或いは置換基を有してもよい窒素原子を示す。Yは、CH2CH2m、CR5CR6mR5及びR6は、同一又は異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、OCH2m、m、エチニレン基、或いは、置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環mを示す。mは0~5である。Zは、結合、C、C、或いはSO2を示す。nは0~5を示す。なお、上記のそれぞれの低級アルキル基の炭素数は15である。]で示される化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物。一般式:式中、R1、R2、R3、R4、X、Z、nは前述と同意である。mは0~5を示す。で示される化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物。一般式:式中、R1、R2、R3、R4、X、Z、nは前述と同意である。mは0~5を示す。で示される化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物。一般式:式中、R1、R2、R3、R4、X、Z、nは前述と同意である。mは0~5を示す。で示される化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物。一般式:式中、R1、R2、R3、R4、X、Z、nは前述と同意である。mは0~5を示す。で示される化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物。一般式IにおけるXが、-CH2-又は酸素原子である請求項1記載の化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物。一般式IIにおけるXが、-CH2-又は酸素原子である請求項2記載の化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物。一般式IIIにおけるXが、-CH2-又は酸素原子である請求項3記載の化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物。一般式IVにおけるXが、-CH2-又は酸素原子である請求項4記載の化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物。一般式VにおけるXが、-CH2-又は酸素原子である請求項5記載の化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物。請求項1~10記載の化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物を有効成分とするプロスタグランジン媒介疾患又は病体の治療又は予防に用いる医薬組成物。プロスタグランジン媒介疾患又は病体が、痛み、炎症、アテローム性動脈硬化症、心筋梗塞、脳卒中又は血管閉塞性障害である請求項11の医薬組成物。請求項11又は12記載の医薬組成物に、血小板凝集阻害剤、HMGCoAレダクターゼ阻害剤、抗高脂血症剤及びシクロオキシゲナーゼ阻害剤から選択される薬剤を配合した医薬組成物。本発明は、優れたEP3受容体拮抗作用を有し、優れた抗血小板凝集作用を有する化合物を提供することを目的とし、更に、この化合物を含有する医薬組成物、特に閉塞性動脈疾患及び関連するプロスタグランジン媒介障害の予防及び治療のための医薬組成物を提供することを目的とする。本発明者は、鋭意検討を行った結果、一般式で示される三環性化合物が優れたEP3受容体拮抗作用を有することを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、次式の一般式で示される三環性化合物である。式中、R1とR2は水素原子、置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環、置換基を有してもよい単環性又は二環性複素環、分岐してもよい低級アルキル基、環を形成してもよいアルキル基、置換基を有してもよい単環性又は二環性の芳香環或は複素環が結合した低級アルキル基、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基、置換基を有してもよいアリルオキシ基を有する低級アルキル基、低級ハロアルキルオキシ基を有する低級アルキル基、置換基を有してもよいアミノ基を有する低級アルキル基、低級アルキルチオ基を有する低級アルキル基、低級アルキルスルホニル基を有する低級アルキル基、カルボキシル基を有する低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基を有する低級アルキル基、スルホンアミド基を有する低級アルキル基、水酸基を有する低級アルキル基、スルホン酸を有する低級アルキル基、シアノ基を有する低級アルキル基、ニトロ基を有する低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基炭素数15、低級ハロアルコキシ基炭素数15、低級アルコキシカルボニル基炭素数15、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、ニトロ基、置換してもよいアミノ基、カルバモイル基、アミノスルホニル基、低級アルカノイル基炭素数15、置換してもよいアリルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基炭素数15、低級アルキルチオ基炭素数15、置換してもよいアリルチオ基、低級アルキルスルホニル基炭素数15、置換してもよいアリルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基炭素数15、置換してもよいアリルスルホニルアミノ基、或いはスルホン酸基を示す。R3は置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環、置換基を有してもよい単環性又は二環性複素環、或いは置換基を有してもよいシクロ環を示す。R4は、置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環、或いは置換基を有してもよい単環性又は二環性複素環を示す。Xは、-CH2-、分岐してもよい低級アルキル基を有している炭素原子、酸素原子、カルボニル基、酸素原子を含む環を有する炭素原子、硫黄原子、-SO2-、或いは置換基を有してもよい窒素原子を示す。Yは、CH2CH2m、CR5CR6mR5及びR6は、同一又は異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、OCH2m、m、エチニレン基、或いは、置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環mを示す。mは0~5である。Zは、結合、C、C、或いはSO2を示す。nは0~5を示す。なお、上記のそれぞれの低級アルキル基の炭素数は15である。]で示される化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物である。また、本発明は、一般式Iで示される化合物を有効成分とするプロスタグランジン媒介疾患又は病体の治療又は予防用医薬組成物である。また、一般式Iで示される化合物を有効成分とする痛み、炎症、アテローム性動脈硬化症、心筋梗塞、脳卒中又は血管閉塞性障害の治療又は予防に用いる医薬組成物である。これらの医薬組成物には、血小板凝集阻害剤、HMGCoAレダクターゼ阻害剤、抗高脂血症剤及びシクロオキシゲナーゼ阻害剤から選択される薬剤を配合してもよい。本発明の一般式Iで示される化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物は、優れたEP3受容体拮抗作用を有し、血小板凝集抑制剤として有用であり、また、プロスタグランジン媒介疾患又は病体の治療又は予防、或は痛み、炎症、アテローム性動脈硬化症、心筋梗塞、脳卒中又は血管閉塞性障害の治療又は予防に有用である。一般式Iで示される本発明の三環性化合物につき詳述する。一般式Iにおいて、R1とR2は、水素原子、置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環例えば、フェニル、フルオロフェニル、クロロフェニル、ブロモフェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル、アミノフェニル、シアノフェニル、チオメチルフェニル、メチルスルホニルフェニル、ビフェニル、ナフチル、アズレン等、或いは置換基を有してもよい単環性又は二環性複素環例えば、ピリジン、チオフェン、フラン、ピリミジン、ピラジン、イミダゾール、チアゾ-ル、キノリン、イソキノリン、ベンゾイミダゾール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール等、分岐してもよい低級アルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基等、環を形成してもよいアルキル基例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロへキシル基、シクロへキセニル基等、置換基を有してもよい単環性又は二環性の芳香環或いは複素環が結合した低級アルキル基例えば、ベンジル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、ビフェニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、ナフチルメチル基、アズリルメチル基、ピリジルメチル基、チエニルメチル基、フリルメチル基、ピリミジルメチル基、ピラジルメチル基、キノリルメチル基、イソキノリルメチル基等、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基例えば、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、メトキシペンチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、プロピルオキシメチル基、プロピルオキシエチル基、ブトキシメチル基、ブトキシメチル基、ペンチルオキシメチル基、ペンチルオキシエチル等、置換基を有してもよいアリルオキシを有する低級アルキル基例えば、フェニルオキシメチル基、フェニルオキシエチル基、フェニルオキシプロピル基、フェニルオキシブチル基、フェニルオキシペンチル基、フルオロフェニルオキシメチル基、クロロフェニルオキシメチル基等、低級ハロアルキルオキシ基を有する低級アルキル基例えば、フルオロメトキシメチル基、ジフルオロメトキシメチル基、トリフルオロメトキシメチル基、トリフルオロメトキシエチル基、トリフルオロメトキシプロピル基、トリフルオロメトキシブチル基、222トリフルオロエトキシメチル基等、置換基を有してもよいアミノ基を有する低級アルキル基例えば、アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、アミノペンチル基、メチルアミノメチル基、ジメチルアミノメチル基、エチルアミノメチル基、ジエチルアミノメチル基、アセチルアミノメチル基、メトキシカルボニルアミノメチル基、ブトキシカルボニルメタンスルホニルアミノメチル基、ベンジルオキシカルボニルアミノメチル基、アミノメチル基、メチルアミノカルボニルアミノメチル基等、低級アルキルチオ基を有する低級アルキル基例えば、メチルチオメチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、メチルチオペンチル基、メチルチオエチル基、メチルチオプロピル基、メチルチオブチル基、メチルチオペンチル基等、低級アルキルスルホニル基を有する低級アルキル基例えば、メチルスルホニルメチル基、エチルスルホニルエチル基、プロピルスルホニルメチル基、ブチルスルホニルメチル基、メチルスルホニルペンチル基、メチルスルホニルエチル基、メチルスルホニルプロピル基、メチルスルホニルブチル基、メチルスルホニルペンチル基等、カルボキシル基を有する低級アルキル基例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、カルボキシブチル基、カルボキシペンチル基等、低級アルコキシカルボニル基を有する低級アルキル基例えば、メトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニルプロピル基、メトキシカルボニルブチル基、メトキシカルボニルペンチル基、エトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルエチル基等、スルホンアミド基を有する低級アルキル基例えば、アミノスルホニルメチル基、アミノスルホニルエチル基、アミノスルホニルプロピル基、アミノスルホニルブチル基、アミノスルホニルペンチル基等、水酸基を有する低級アルキル基例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシペンチル基等、スルホン酸基を有する低級アルキル基例えば、スルホメチル基、スルホエチル基、スルホプロピル基、スルホブチル基、スルホペンチル基等、シアノ基を有する低級アルキル基例えば、シアノメチル基、シアノエチル基、シアノプロピル基、シアノブチル基、シアノペンチル基等、ニトロ基を有する低級アルキル基例えば、ニトロメチル基、ニトロエチル基、ニトロプロピル基、ニトロブチル基、ニトロペンチル基等、低級ハロアルキル基例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、222トリフルオロエチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基等、低級アルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基等、低級ハロアルコキシ基例えば、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、222トリフルオロエトキシ基等、低級アルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基等、ハロゲン原子例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、ニトロ基、置換してもよいアミノ基例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、アセチルアミノ基、メチルスルホニルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ基等、カルバモイル基、アミノスルホニル基、低級アルカノイル基例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基等、置換してもよいアリルカルボニル基例えば、ベンゾイル基、フルオロベンゾイル基、クロロベンゾイル基、ブロモベンゾイル基、メチルベンゾイル基、メトキシベンゾイル基、ビフェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、アズレンカルボニル基等、低級アルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基等、低級アルキルチオ基炭素数15、置換してもよいアリルチオ基例えば、フェニルチオ基、フルオロフェニルチオ基、クロロフェニルチオ基、ブロモフェニルチオ基、メチルフェニルチオ基、メトキシフェニルチオ基、ビフェニルチオ基、ナフチルチオ基、アズレンチオ基、ピリジルチオ基、チエニルチオ基、フリルチオ基、ピリミジンチオ基、ピラジンチオ基、キノリルチオ基、イソキノリルチオ基等、低級アルキルスルホニル基例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基等、置換してもよいアリルスルホニル基例えば、フェニルスルホニル基、フルオロフェニルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基、ブロモフェニルスルホニル基、メチルフェニルスルホニル基、メトキシフェニルスルホニル基、ビフェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、アズレンスルホニル基、ピリジルスルホニル基、チエニルスルホニル基、フリルスルホニル基、ピリミジンスルホニル基、ピラジンスルホニル基、キノリルスルホニル基、イソキノリルスルホニル基等、低級アルキルスルホニルアミノ基例えば、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、プロピルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ペンチルアミノスルホニル基等、置換してもよいアリルスルホニルアミノ基例えば、フェニルアミノスルホニル基、メチルフェニルアミノスルホニル基、フルオロフェニルアミノスルホニル基、クロロフェニルアミノスルホニル基、ブロモフェニルアミノスルホニル基、メチルフェニルアミノスルホニル基、メトキシフェニルアミノスルホニル基、ビフェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、アズレンアミノスルホニル基、ピリジルアミノスルホニル基、チエニルアミノスルホニル基、フリルアミノスルホニル基、ピリミジンアミノスルホニル基、ピラジンアミノスルホニル基、キノリルアミノスルホニル基、イソキノリルアミノスルホニル基等、スルホン酸基等を示す。R3は、置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環例えば、フェニル、フルオロフェニル、クロロフェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル、アミノフェニル、シアノフェニル、チオメチルフェニル、メチルスルホニルフェニル、ナフタレン、アズレン等、置換基を有してもよい単環性又は二環性複素環例えば、ピリジン、フラン、チオフェン、イミダゾール、チアゾ-ル、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアゾ-ル、キノリン、イソキノリン等、あるいはシクロ環例えば、シクロペンタン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロヘキサン、シクロへキセン、シクロへプタン、シクロヘプテン、シクロオクタン、シクロオクテン等を示す。R4は置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環例えば、フェニル、フルオロフェニル、クロロフェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル、アミノフェニル、シアノフェニル、チオメチルフェニル、メチルスルホニルフェニル、ナフタレン、アズレン等、置換基を有してもよい単環性又は二環性複素環例えば、ピリジン、フラン、チオフェン、イミダゾール、チアゾ-ル、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾ-ル、キノリン、イソキノリン等を示す。Xは、-CH2-、分岐してもよい低級アルキル基を有している炭素原子例えば、-CH-、-C2-、-CH-、-C2-、-CH-、-C2-等、酸素原子、カルボニル基、酸素原子を含む環を有する炭素原子例えば、次式で示されるの化合物、式中、oは0或るいは1、硫黄原子、-SO2-、置換基を有してもよい窒素原子例えば、-NH-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-、-N-等を示す。Yは、結合、CH2CH2、CH2CH2CH2、CH2CH2CH2CH2、CH2CH2CH2CH2CH2、CHCH、CFCH、CHCF、CFCF、CCH、CHC、CC、CCH、CHC、CC、CHCH2CH2、CH2CHCH2、CHCH2CH2CH2、CHCH2CH2CH2CH2、OCH2、OCH2CH2、OCH2CH2CH2、OCH2CH2CH2CH2、OCH2CH2CH2CH2CH2、エチニレン基、置換基を有してもよいシクロ環例えば、シクロプロパン、メチルシクロプロパン、ジメチルシクロプロパン、シクロブタン、メチルシクロブタン、ジメチルシクロブタン、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロヘキサン、シクロへキセン、シクロへプタン、シクロヘプテン、シクロオクタン、シクロオクテン等、置換基を有してもよい単環性又は二環性芳香環例えば、フェニル、フルオロフェニル、クロロフェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル、アミノフェニル、シアノフェニル、チオメチルフェニル、メチルスルホニルフェニル、ナフタレン、アズレン等が挙げられる。Zは、結合、C、C、或いはSO2を示す。ここで使用する化合物という用語は、塩、溶媒和物、共結晶及びその化合物の包接錯体を含む。本発明化合物は、いかなる立体異性体、光学異性体、互変異性体及びそれらの任意の混合物等を含有するものである。また、本発明化合物には生体内において代謝されて一般式Iに変換される化合物及び塩に変換される化合物、いわゆるプロドラッグもすべて含むものである。本発明のプロドラッグを形成する基としては、ProgMed521571985に記載されている基や広川書店1990年刊医薬品の開発第7巻分子設計163頁に記載されている基が挙げられる。医薬として許容される塩の語は本発明化合物の生物学的有効性及び特性を保持し、生物学的又はその他の面においても不都合ではない本発明化合物である。本発明化合物の付加塩を形成するものとしては、WILEYVCH出版HandbookofPharmaceuticalSaltsに記載されているものが挙げられる。例えば、酸付加塩は塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸,硝酸、リン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、pトルエンスルホン酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、クエン酸、マロン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、酒石酸、こはく酸、マンデル酸、リンゴ酸、パントテン酸、グルタミン酸、アスパラギン酸等から誘導される。塩基付加塩は水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エタノールアミン、ピロリジン、モルホリン、ピペリジン、ピリジン、ルチジン、コリジン、トリスヒドロキシメチルメチルアミン、トリスヒドロキシエチルメチルアミン、リジン、アルギニン、コリン等から誘導される。上記一般式Iで示される化合物を具体的に以下に例示する。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{347フルオロ1234テトラヒドロシクロペンタbインドール5イルアクリロイル}アミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル}アミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル}アミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{393メチル6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル}アミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{352フルオロ5678910ヘキサヒドロシクロヘプタbインドール4イルアクリロイル}アミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{352フルオロ67891011ヘキサヒドロシクロオクタbインドール4イルアクリロイル}アミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{3567891011ヘキサヒドロシクロオクタbインドール4イルアクリロイル}アミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル}アミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{351345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル}アミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{396フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレン8イルアクリロイル}アミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{396フルオロ33ジオキソ2349テトラヒドロ1H3λ6チア9アザフルオレン8イルアクリロイル}アミド5633オキソプロペニル8フルオロ1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸エチルエステル45ジクロロチオフェン2スルホン酸3963フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸393フルオロ6オキソ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸393フルオロ6ヒドロキシ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸{36tertブチル93フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド45ジメチルチオフェン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミドチオフェン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミドN{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル4メトキシベンゼンスルホンアミドベンゾbチオフェン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド5ブロモN{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル2メトキシベンゼンスルホンアミドベンゾ125チアジアゾール4スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミドナフタレン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルNアクリルアミド393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルNアクリルアミドN393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリルアミド393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルNアクリルアミド393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルNtertブトキシカルボニル2アクリルアミドN{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクロイル}4フルオロベンゼンスルホンアミドN{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクロイル}34ジフルオロベンゼンスルホンアミド5ブロモN{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル2メトキシベンゼンスルホンアミド化合物31ベンゾbチオフェン2スルホン酸{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド5ブロモN{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル2メトキシベンゼンスルホンアミドベンゾ125チアジアゾール4スルホン酸{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミドN{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクロイル}4フルオロベンゼンスルホンアミドN{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクロイル}34ジフルオロベンゼンスルホンアミド5ブロモN{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル2メトキシベンゼンスルホンアミドベンゾ125チアジアゾール4スルホン酸{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル2メトキシベンゼンスルホンアミドN{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル4フルオロベンゼンスルホンアミドN{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル34ジフルオロベンゼンスルホンアミドベンゾ125チアジアゾール4スルホン酸{351345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイルアミドN{351345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル4フルオロベンゼンスルホンアミドN{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル34ジフルオロベンゼンスルホンアミドN{352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリロイル4フルオロベンゼンスルホンアミドN{352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリロイル34フルオロベンゼンスルホンアミドクロロチオフェン2スルホン酸358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸33フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸33フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸96789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸38フルオロ51345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルプロピオニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルプロピオニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸3567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルプロピオニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸493フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルブテ3エノイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸458フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルブテ3エノイルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸493フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルブチリルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルオキシアセチルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸258フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルシクロプロパンカルボニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸252フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸2567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロペント1エンカルボニルアミド45ジクロロチオフェン2スルホン酸496789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルベンゾイルアミドN393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオニル34ジフルオロベンゼンスルホンアミドN293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボニル34ジフルオロベンゼンスルホンアミドN258フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルシクロプロパンカルボニル34ジフルオロベンゼンスルホンアミド上記1、2---78の化合物は、以下においてそれぞれ化合物1、化合物2---化合物78として引用する。本発明化合物は以下の方法で製造することができる。製造に使用する保護基はWILEYInterscience出版ProtectiveGroupsinOrganicSynthesisに記載されている保護基等が挙げられる。A.一般式IIで示される化合物ZSO2の製造方法をスキーム1に示す。式中、Aはハロゲン原子、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はトリフルオロメタンスルホニル基等を示す。R1からR4、X、m及びnは、前記と同義である。第1工程:化合物Xからフェニルヒドラジン誘導体XIを得る工程である。フェニルヒドラジン誘導体XIは、文献記載の方法或るいはそれに準拠した方法により製造できる例えば、AzoandDiazoChemistryP1691961等。第2工程:フェニルヒドラジン誘導体XIとカルボニル化合物XIIを反応させてインドール誘導体XIIIを得る工程である。インドール誘導体XIIIは、文献記載の方法或るいはそれに準拠した方法により製造できる例えば、OrgSynthIV8841963ChemPharmBull192561971JHeterocyclChem72391970JAmChemSoc7743191955等。第3工程:インドール誘導体XIIIと不飽和化合物例えば、アクリル酸エステル、3ブテン酸等との反応で化合物XIVを得る工程である。反応は、塩基存在下、パラジウム配位化合物を触媒として使用して行う。この反応に使用されるパラジウム配位化合物は、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0、ビストリフェニルホスフィンパラジウムクロリド2、酢酸パラジウム-トリoトリルホスフィン等が挙げられる。塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムtブトキシド、カリウムtブトキシド、フッ化カリウム、フッ化セシウム、トリエチルアミン、NNジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン、コリジン等が挙げられる。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしてはベンゼン、トルエン、キシレン、14ジオキサン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、メタノール、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、水等が挙げられる。反応は、通常、室温から溶媒還流温度で行われる。第4工程:化合物XIVの加水分解により化合物XVを得る工程である。反応には塩酸、硝酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等の酸或いは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基を使用する。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしては水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、14ジオキサン等が挙げられる。反応は、通常、0°Cから溶媒還流温度で行われる。第5工程:化合物XVとアルキル化剤XVIとの反応より化合物XVIIを得る工程である。反応は塩基存在下で行われ、塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムtブトキシド、カリウムtブトキシド、ジイソプロピルリチウムアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、メチルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリチウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、18ジアザビシクロ540ウンデカ-7-エン等が挙げられる。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしてはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、14ジオキサン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられる。反応は、通常、78°Cから溶媒還流温度で行われる。第6工程:化合物XVIIとスルホンアミド誘導体XVIIIとの反応より化合物XIXを得る工程である。反応は通常、13ジシクロへキシルカルボジイミド、ジフェニルホスホリルアジド、13エチルカルボジイミド、11’カルボニルジイミダゾール、2クロロ1メチルピリジ二ウムヨ-ダイド、ONNN’N’テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート等の縮合剤存在下、不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはテトラヒドロフラン、14ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、アセトニトリル、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、アセトン等が挙げられる。また、1ヒドロキシベンゾトリアゾール等を添加してもよい。塩基としては、トリエチルアミン、NNジイソプロピルエチルアミン、Nメチルモルホリン、Nエチルモルホリン、ピリジン、ルチジン、コリジン、4ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。反応は通常、0°Cから溶媒還流温度で行われる。B.一般式IIIで示される化合物化合物ZSO2の製造方法をスキーム2に示す。式中、Aはハロゲン原子、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はトリフルオロメタンスルホニル基等を示す。R1からR4、X、m及びnは、前記と同義である。第1工程:前記の化合物XVIIを水素添加反応して化合物XXを得る工程である。反応は触媒存在下で行われ、触媒としてはパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、二酸化白金等が挙げられる。反応は通常、水素ガス、大気圧下或いは加圧下で行われ、反応溶媒としてはメタノール、エタノール、2プロパノール、テトラヒドロフラン、14ジオキサン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、アセトニトリル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。また、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸等の酸を添加してもよい。反応は、通常、0°Cから溶媒還流温度で行われる。第2工程:化合物XXとスルホンアミド誘導体XVIIとの反応より化合物XXIを得る工程である。反応は通常、13ジシクロへキシルカルボジイミド、ジフェニルホスホリルアジド、13エチルカルボジイミド、11’カルボニルジイミダゾール、2クロロ1メチルピリジ二ウムヨ-ダイド、ONNN’N’テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート等の縮合剤存在下、不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはテトラヒドロフラン、14ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、アセトニトリル、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、アセトン等が挙げられる。また、1ヒドロキシベンゾトリアゾール等を添加してもよい。塩基としては、トリエチルアミン、NNジイソプロピルエチルアミン、Nメチルモルホリン、Nエチルモルホリン、ピリジン、ルチジン、コリジン、4ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。反応は通常、0°Cから溶媒還流温度で行われる。C.一般式IVで示される化合物ZSO2の製造方法をスキーム3に示す。式中、Aはハロゲン原子、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はトリフルオロメタンスルホニル基等を示す。R1からR4、X、m及びnは、前記と同義である。第1工程:前記の化合物XIVとアルキル化剤XVIとの反応より化合物XXIIを得る工程である。反応は塩基存在下で行われ、塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムtブトキシド、カリウムtブトキシド、ジイソプロピルリチウムアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、メチルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリチウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、18-ジアザビシクロ540ウンデカ-7-エン等が挙げられる。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしてはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、14ジオキサン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレンジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられる。反応は、通常、78°Cから溶媒還流温度で行われる。第2工程:化合物XXIIのシクロプロパン化反応より化合物XXIIIを得る工程である。反応には、トリメチルスルホニウムヨージドと塩基を使用し、塩基としては塩基としてはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムtブトキシド、カリウムtブトキシド、ジイソプロピルリチウムアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、メチルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリチウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等が挙げられる。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしてはテトラヒドロフラン、14ジオキサン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。反応は、通常、78°Cから溶媒還流温度で行われる。第3工程:化合物XXIIIの加水分解により化合物XXIVを得る工程である。反応には塩酸、硝酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等の酸或いは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の塩基を使用する。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしては水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、14ジオキサン、12ジメトキシエタン等が挙げられる。反応は、通常、0°Cから溶媒還流温度で行われる。第4工程:化合物XXIVとスルホンアミド誘導体XVIIIとの反応より化合物XXVを得る工程である。反応は通常、13ジシクロへキシルカルボジイミド、ジフェニルホスホリルアジド、13エチルカルボジイミド、11’カルボニルジイミダゾール、2クロロ1メチルピリジ二ウムヨ-ダイド、ONNN’N’テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート等の縮合剤存在下、不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはテトラヒドロフラン、14ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、アセトニトリル、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、アセトン等が挙げられる。また、1ヒドロキシベンゾトリアゾール等を添加してもよい。塩基としては、トリエチルアミン、NNジイソプロピルエチルアミン、Nメチルモルホリン、Nエチルモルホリン、ピリジン、ルチジン、コリジン、4ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。反応は通常、0°Cから溶媒還流温度で行われる。D.一般式Vで示される化合物ZSO2の製造方法をスキーム4に示す。式中、Aはハロゲン原子、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はトリフルオロメタンスルホニル基等を示す。R1からR4、X、m及びnは、前記と同義である。第1工程:前記の化合物XIIIとアルキル化剤XVIとの反応より化合物XXVIを得る工程である。反応は塩基存在下で行われ、塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムtブトキシド、カリウムtブトキシド、ジイソプロピルリチウムアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、メチルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリチウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、18-ジアザビシクロ540ウンデカ-7-エン等が挙げられる。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしてはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、14ジオキサン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレンジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられる。反応は、通常、78°Cから溶媒還流温度で行われる。第2工程:化合物XXVIから化合物XXVIIを得る工程である。化合物XXVIをジイソプロピルリチウムアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、メチルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリチウム等と反応させてリチウム試薬を形成した後、ホウ酸トリメチル或いはホウ酸トリイソプロピルでの処理、生じたボロン酸エステルの酸加水分解により化合物XXVIIを製造する。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしてはテトラヒドロフラン、14ジオキサン、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。反応は、通常、78°Cから溶媒還流温度で行われる。ボロン酸エステルの加水分解に使用する酸としては、塩酸、硝酸、硫酸等が挙げられる。第3工程:化合物XXVIIの酸化反応により化合物XXVIIIを得る工程である。酸化剤として、過酸化水素、mクロロ過安息香酸等が使用できる。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしてはテトラヒドロフラン、14ジオキサン、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、ジクロロメタン、クロロホルム、水、酢酸等が挙げられる。反応は、通常、78°Cから溶媒還流温度で行われる。第4工程:化合物XXVIIIとアルキル化剤XXIXとの反応より化合物XXXを得る工程である。反応は塩基存在下で行われ、塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムtブトキシド、カリウムtブトキシド、ジイソプロピルリチウムアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、メチルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリチウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、18-ジアザビシクロ540ウンデカ-7-エン等が挙げられる。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしてはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、14ジオキサン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられる。反応は、通常、78°Cから溶媒還流温度で行われる。第5工程:化合物XXXの加水分解により化合物XXXIを得る工程である。反応には塩酸、硝酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等の酸或いは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の塩基を使用する。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、好適なものとしては水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、14ジオキサン、12ジメトキシエタン等が挙げられる。反応は、通常、0°Cから溶媒還流温度で行われる。第6工程:化合物XXXIとスルホンアミド誘導体XVIIIとの反応より化合物XXXIIを得る工程である。反応は通常、13ジシクロへキシルカルボジイミド、ジフェニルホスホリルアジド、13-エチルカルボジイミド、1,1’カルボニルジイミダゾール、2クロロ1メチルピリジ二ウムヨ-ダイド、ONNN’,N’テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート等の縮合剤存在下、不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはテトラヒドロフラン、14ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、アセトニトリル、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、12ジメトキシエタン、アセトン等が挙げられる。また、1ヒドロキシベンゾトリアゾール等を添加してもよい。塩基としては、トリエチルアミン、NNジイソプロピルエチルアミン、Nメチルモルホリン、Nエチルモルホリン、ピリジン、ルチジン、コリジン、4ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。反応は通常、0°Cから溶媒還流温度で行われる。E.一般式Iで示される化合物Yシクロペンテン、ZSO2の製造方法をスキーム5に示す。式中、R1からR4、X、m及びnは、前記と同義である。第1工程:ボロン酸誘導体XXVIIとエノールトリフラートXXXIIIとの反応で化合物3エチルカルボジイミド、11’カルボニルジイミダゾール、2クロロ1メチルピリジニウムヨーダイド、ONNN’N’テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート等の縮合剤存在下、不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはテトラヒドロフラン、14ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、NNジメチルホルムアミド、Nメチルピロリドン、アセトニトリル、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、tブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、アセトン等が挙げられる。また、1ヒドロキシベンゾトリアゾール等を添加してもよい。塩基としては、トリエチルアミン、NNジイソプロピルエチルアミン、Nメチルモルホリン、Nエチルモルホリン、ピリジン、ルチジン、コリジン、4ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。反応は、通常、0°Cから溶媒還流温度で行われる。上記各製法により得られた反応生成物は、遊離のままあるいは付加塩として単離され、精製される。塩は、通常の造塩反応に付すことにより製造できる。単離、精製は、抽出、濃縮、留去、結晶化、ろ過、再結晶、各種クロマトグラフィー等の化学操作を適用して行われる。本発明の一般式Iで示される化合物、そのプロドラッグ、その医薬上許容される塩、その水和物又はその溶媒和物は、優れたEP3受容体拮抗作用を有し、血小板凝集抑制剤として有用であって、プロスタグランジン媒介疾患又は病体,具体的には痛み、炎症、アテローム性動脈硬化症、心筋梗塞、脳卒中又は血管閉塞性障害の治療又は予防に有用である。また、これを有効成分とする医薬組成物に、血小板凝集阻害剤、HMGCoAレダクターゼ阻害剤、抗高脂血症剤及びシクロオキシゲナーゼ阻害剤から選択される薬剤を配合してもよい。これら高コレステロール治療剤、中性脂肪治療剤や抗血栓剤の併用によって、アテローム性動脈硬化症、及びこれに伴う血栓形成の抑制に高い効果を示す。一般式Iで示される化合物を、上記の医薬品として用いる場合、適宜の薬理学的に許容される担体、賦形剤例えば、デンプン、乳糖、白糖、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム等、結合剤例えば、デンプン、アラビアゴム、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、結晶セルロース、アルギン酸、ゼラチン、ポリビニルピリドン等、滑沢剤例えば、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク等、崩壊剤例えば、カルボキシメチルセルロース、タルク等、希釈剤例えば、生理食塩水等等と混合し、常法により散剤、細粒剤、カプセル剤、錠剤、外用剤又は注射剤等の形態で経口的又は非経口的に投与することができる。本発明の化合物の投与量は投与ルート、対象疾患、患者の症状、体重あるいは年齢、用いる化合物によっても異なり、投与目的に応じて適宜設定することができる。通常、成人に経口投与する場合、001から1000mgkg体重日、好ましくは005から500mgkg体重日を、一日1から数回に分けて投与するのが好ましい。血小板凝集抑制の評価エーテル麻酔したラットの腹部大動脈より38クエン酸ナトリウムの入ったシリンジを用いて採血した。150xgで遠心分離することにより多血小板血漿PRPを得た。残った血液を2400xgで10分間再度遠心分離することにより乏血小板PPPを得た。血球計数器ModelPC608ELMAで血小板数を計測し、PPPを用いて望ましい血小板濃度400000~600000個の血小板μLまで希釈した。血小板凝集は、血小板凝集能測定装置ModelPAM8TELMAにより測定した。コラーゲンLMS及びスルプロストンCaymanChemicalsを血小板凝集促進剤として使用した。PRP215μLの入ったキュベットに、化合物番号63,69,71,73の化合物、及び前記の一般式VIIIで示される化合物化合物VIIIのそれぞれの化合物溶液10μLを添加し、2分後にスルプロストン溶液10μL最終濃度100nM、更にその2分後にコラーゲン懸濁液15μL最終濃度03~04mgmLを添加した。コラーゲン懸濁液添加より7分間凝集の曲線を記録した。血小板凝集を50抑制するのに必要な試験化合物濃度IC50値を算出した。その結果を表1に示す。プロスタグランジン受容体には、EP1、EP2、EP3、EPの4種の受容体が存在するが、血小板はEP3のみが発現する。スルプロストンはプロスタグランジン受容体に結合して作用を発現する。この実験では血小板を用いていることから、プロスタグランジン受容体のうちのEP3受容体に対する拮抗作用を介して血小板凝集抑制作用を発揮していると判断される。したがって、この表1より、化合物番号63,69,71,73の化合物は、化合物VIIIよりも優れたEP3受容体拮抗作用を有し、強力な血小板凝集抑制作用を示すことが分かる。本発明を、更に下記の実施例で詳しく説明する。これらの実施例は本発明を限定するものではなく、また本発明の範囲で変化させてもよい。プロトン核磁気共鳴スペクトルデータの記載には次の略号を用いた。すなわち、sはシングレット、dはダブレット、tはトリプレット、qはカルテット、mはマルチプレット、bはブロードである。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{347フルオロ1234テトラヒドロシクロペンタbインドール5イルアクリロイル}アミド化合物1の製造例2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩の製造2ブロモ4フルオロアニリン11045gの酢酸62mLと濃塩酸186mL混合物に0°C以下で亜硝酸ナトリウム4412gの水82mL溶液を滴下した後、同温で1時間攪拌した。反応液を亜硫酸ナトリウム36600gの水1237mLの混合物中に注ぎ、この混合物を60‐70°Cで15時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、濃塩酸618mL中に注ぎ、この混合物を60‐80°Cで約125時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾取した。不溶物を水洗した後、乾燥して表題化合物13049gを得た。5ブロモ7フルオロ1234テトラヒドロシクロペンタbインドールの製造2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩5000g、10水酸化ナトリウム水溶液130mL、クロロホルム200mLの混合物を室温で攪拌した。クロロホルム層を分液し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去して2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジンを得た。2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジンのベンゼン180mL溶液に室温でシクロペンタノン0739gを加えて1間攪拌した後、無水硫酸ナトリウムを加えた。濾過後、濾液に塩化亜鉛1197gを室温で加えた後、22時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、10水酸化ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分液した後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去し、得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィーで表題化合物1276gを分離した。1HNMRδ=2502572762782862907017057993アクリル酸メチルエステルの製造5ブロモ7フルオロ1234テトラヒドロシクロペンタbインドール1200gのアセトニトリル120mL溶液にトリエチルアミン40mL、アクリル酸メチルエステル085mL、トリホスフィン0216g、酢酸パラジウム0053gを室温で加えた後、19時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去し、得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物1087gを分離した。1HNMRδ=244-2512722843766757177358121146.3アクリル酸の製造3アクリル酸メチルエステル0500gのテトラヒドロフラン50mLとメタノール50mL懸濁液に室温で10水酸化ナトリウム水溶液50mLを加えた後、同温で15時間攪拌した。反応液を減圧留去した後、残留水層に10塩酸水溶液を加えてpHを約2に調節した。酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去し、表題化合物0440gを得た。1HNMRδ=24226127228366371572980511431243347フルオロ1234テトラヒドロシクロペンタbインドール5イルアクリル酸の製造3アクリル酸0500gのテトラヒドロフラン50mL溶液に氷冷下でカリウムtブトキシド0503gと24ジクロロベンジルクロリド0478gを順次加えた後、室温で135時間攪拌した。反応液に水、tブチルメチルエーテル、nヘキサンを加え、セライトを使用して濾過した。濾液に10塩酸水溶液を加えてpHを約2に調節した。酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルとnヘキサンで結晶化して表題化合物0589gを得た。1HNMRδ=245251277283544622628709724731764767122845ジクロロチオフェン2スルホン酸{347フルオロ1234テトラヒドロシクロペンタbインドール5イルアクリロイル}アミド化合物1の製造347フルオロ1234テトラヒドロシクロペンタbインドール5イルアクリル酸0560gのジクロロメタン56mL溶液に室温で45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0354g、13エチルカルボジイミド塩酸塩0292g、4ジメチルアミノピリジン0186gを順次加えて同温で4時間攪拌した。反応液に10塩酸水溶液を加えて酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0469gを分離した。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル}アミド化合物2の製造例8ブロモ6フルオロ2349テトラヒドロ1Hカルバゾールの製造2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩5000g、10水酸化ナトリウム水溶液130mL、クロロホルム200mLの混合物を室温で攪拌した。クロロホルム層を分液し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去して2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジンを得た。2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジンに室温で酢酸200mLとシクロヘキサノン2235gを加えて3間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、10水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。酢酸エチルで抽出した後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去し、得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィーで表題化合物3985gを分離した。1HNMRδ=182193m4H261265m2H2722767027067793アクリル酸メチルエステルの製造8ブロモ6フルオロ2349テトラヒドロ1Hカルバゾール3800gとアクリル酸メチルエステル26mLを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物3648gを得た。1HNMRδ=1851942652753846477057147918023アクリル酸の製造3アクリル酸メチルエステル0600gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0560gを得た。1HNMRδ=18025627066271472479711191243393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸の製造3アクリル酸0560gと24ジクロロベンジルクロリド0507gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0708gを得た。1HNMRδ=182258265539618dJ9Hz1H623dJ15Hz1H711729732,764dJ15Hz1H768d2Hz1H123045ジクロロチオフェン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸}アミド化合物2の製造393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0650gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0397gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0524gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル}アミド化合物3の製造例2ブロモフェニルヒドラジン塩酸塩の製造2ブロモアニリン10000gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物6215gを得た。8ブロモ2349テトラヒドロ1Hカルバゾールの製造2ブロモフェニルヒドラジン塩酸塩3622gとシクロヘキサノン1741gを使用して、実施例2と同様の操作を行い、表題化合物2741gを得た。1HNMRδ1851932682756947237257357397853アクリル酸メチルエステルの製造8ブロモ2349テトラヒドロ1Hカルバゾール2603gとアクリル酸メチルエステル19mLを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1710gを得た。1HNMRδ1861952702763846477097327507988063アクリル酸の製造3アクリル酸メチルエステル0600gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0523gを得た。1HNMRδ17818426627265669773874180511091229396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸の製造3アクリル酸0510gと24ジクロロベンジルクロリド0496gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0601gを得た。1HNMRδ18018425626753961561670472272875176776945ジクロロチオフェン2スルホン酸{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸}アミド化合物3の製造396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0550gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0351gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0531gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{393メチル6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル}アミド化合物4の製造例2ブロモ4メチルフェニルヒドラジン塩酸塩の製造2ブロモ4メチルアニリン52gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物4015gを得た。8ブロモ6メチル2349テトラヒドロ1Hカルバゾールの製造2ブロモ4メチルフェニルヒドラジン塩酸塩2000gとシクロヘキサノン0909gを使用して、実施例2と同様の操作を行い、表題化合物1162gを得た。1HNMRδ1831922412642737087167733アクリル酸メチルエステルの製造8ブロモ6メチル2349テトラヒドロ1Hカルバゾール1815gとアクリル酸メチルエステル13mLを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1305gを得た。1HNMRδ1861932442672743836457147297927943アクリル酸の製造3アクリル酸メチルエステル0499gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0452gを得た。1HNMRδ175182236257268656718718720797393メチル6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸の製造3アクリル酸0430gと24ジクロロベンジルクロリド0395gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0460gを得た。1HNMRδ177184237254264536611615707726730765769121045ジクロロチオフェン2スルホン酸{393メチル6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸}アミド化合物4の製造393メチル6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0400gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0246gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0310gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{352フルオロ5678910ヘキサヒドロシクロヘプタbインドール4イルアクリロイル}アミド化合物5の製造例4ブロモ2フルオロ5678910ヘキサヒドロシクロヘプタbインドールの製造2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩45gとシクロヘプタノン2298gを使用して、実施例2と同様の操作を行い、表題化合物2753gを得た。1HNMRδ1751801881892722857017087813アクリル酸メチルエステルの製造4ブロモ2フルオロ5678910ヘキサヒドロシクロヘプタbインドール2643gとアクリル酸メチルエステル17mLを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1864gを得た。1HNMRδ1761902742863846467047157928043アクリル酸の製造3アクリル酸メチルエステル0600gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0528gを得た。1HNMRδ16618326728566272172880411191245352フルオロ5678910ヘキサヒドロシクロヘプタbインドール4イルアクリル酸の製造3アクリル酸0330gと24ジクロロベンジルクロリド0283gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0190gを得た。1HNMRδ17018327027954261962970573273675976945ジクロロチオフェン2スルホン酸{352フルオロ5678910ヘキサヒドロシクロヘプタbインドール4イルアクリロイル}アミド化合物5の製造352フルオロ5678910ヘキサヒドロシクロヘプタbインドール4イルアクリル酸0190gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0098gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0030gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{352フルオロ67891011ヘキサヒドロシクロオクタbインドール4イルアクリロイル}アミド化合物6の製造例4ブロモ2フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドールの製造2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩2000gとシクロオクタノン1354gを使用して、実施例2と同様の操作を行い、表題化合物1701gを得た。1HNMRδ1451691772782867027087813アクリル酸メチルエステルの製造4ブロモ2フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール1644gとアクリル酸メチルエステル10mLを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1037gを得た。1HNMRδ1451721792802883846477057177928043アクリル酸の製造3アクリル酸メチルエステル0500gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0470gを得た。1HNMRδ13416116927528566372172880411191244352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリル酸の製造3アクリル酸0470gと24ジクロロベンジルクロリド0383gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0301gを得た。1HNMRδ13314015316327054461661970572973876276845ジクロロチオフェン2スルホン酸{352フルオロ67891011ヘキサヒドロシクロオクタbインドール4イルアクリロイル}アミド化合物6の製造352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリル酸0289gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0144gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0030gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{3567891011ヘキサヒドロシクロオクタbインドール4イルアクリロイル}アミド化合物7の製造例4ブロモ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドールの製造2ブロモフェニルヒドラジン塩酸塩4000gとシクロオクタノン2484gを使用して、実施例2と同様の操作を行い、表題化合物2279gを得た。1HNMRδ1451721772812896957247417863アクリル酸メチルエステルの製造4ブロモ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール2200gとアクリル酸メチルエステル14mLを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1404gを得た。1HNMRδ13716317127928737566769774274771311103アクリル酸の製造3アクリル酸メチルエステル1400gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1316gを得た。1HNMRδ136163170279287658696736744804110612403567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリル酸の製造3アクリル酸0400gと24ジクロロベンジルクロリド0348gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1598gを得た。1HNMRδ13314015316327054461661970572973876276845ジクロロチオフェン2スルホン酸{3567891011ヘキサヒドロシクロオクタbインドール4イルアクリロイル}アミド化合物7の製造3567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリル酸1598gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0331gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0184gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル}アミド化合物8の製造例6ブロモ8フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドーの製造2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩2000gとテトラヒドロ4Hピラン4オン1074gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1002gを得た。1HNMRδ2882904054836997098023アクリル酸メチルエステルの製造6ブロモ8フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール1000gとアクリル酸メチルエステル067mLを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0517gを得た。1HNMRδ28237539347367772274081111523アクリル酸の製造3アクリル酸メチルエステル0500gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0475gを得た。1HNMRδ28139247366572073580411491250358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸の製造3アクリル酸0460gと24ジクロロベンジルクロリド0413gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0442gを得た。1HNMRδ271395478543618623715728734763768122945ジクロロチオフェン2スルホン酸{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル}アミド化合物8の製造358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0300gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0182gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0338gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{351345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル}アミド化合物9の製造例6ブロモ1345テトラヒドロピラノ43bインドールの製造2ブロモフェニルヒドラジン塩酸塩6000gとテトラヒドロ4Hピラン4オン3212gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0849gを得た。1HNMRδ2904064896967308073アクリル酸メチルエステルの製造6ブロモ1345テトラヒドロピラノ43bインドール0800gとアクリル酸メチルエステル06mLを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0408gを得た。1HNMRδ2903844064916497117367417998253アクリル酸の製造3アクリル酸メチルエステル0100gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0065gを得た。1HNMRδ289404485655703738809351345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸の製造3アクリル酸0182gと24ジクロロベンジルクロリド0176gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0135gを得た。1HNMRδ27039648254361561870772573074976945ジクロロチオフェン2スルホン酸{351345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル}アミド化合物9の製造351345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0130gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0083gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0110gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{396フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレン8イルアクリロイル}アミド化合物10の製造例8ブロモ6フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレンの製造2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩6000gと4オキソチアン3740gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1934gを得た。1HNMRδ3003043777047107918ブロモ96フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレンの製造8ブロモ6フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレン0600gのテトラヒドロフラン60mL溶液に室温でカリウムtブトキシド0282gと24ジクロロベンジルクロリド0492gを順次加えた後、同温で30分間、50°Cで15時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和塩化アンモニウム水溶液中に注いだ。トルエンで抽出した後、抽出液を水と飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0525gを分離した。1HNMRδ281300381569612704711742396フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレン8イルアクリル酸メチルエステルの製造8ブロモ96フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレン0525gのアセトニトリル53mL溶液にトリエチルアミン099mL、アクリル酸メチルエステル021mL、トリホスフィン0054g、酢酸パラジウム0013gを室温で加えた後、125時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去し、得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルクロロホルムで表題化合物0300gを分離した。1HNMRδ285303373384532619626719717396フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレン8イルアクリル酸の製造396フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレン8イルアクリル酸メチルエステル0130gのテトラヒドロフラン13mLとメタノール13mL懸濁液に室温で10水酸化ナトリウム水溶液08mLを加えた後、同温で155時間攪拌した。反応液を減圧留去した後、残留水層に10塩酸水溶液を加えてpHを約2に調節した。酢酸エチルで抽出した後、抽出液を水と飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去し、表題化合物0100gを得た。1HNMRδ28229838154161662271372974076076945ジクロロチオフェン2スルホン酸{396フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレン8イルアクリロイル}アミド化合物10の製造396フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレン8イルアクリル酸0090gのジクロロメタン20mL溶液に室温で45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0054g、13エチルカルボジイミド塩酸塩0045g、4ジメチルアミノピリジン0029gを順次加えて同温で6時間攪拌した。反応液に10塩酸水溶液を加えて酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0081gを分離した。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{396フルオロ33ジオキソ2349テトラヒドロ1H3λ6チア9アザフルオレン8イルアクリロイル}アミド化合物11の製造例396フルオロ33ジオキソ2349テトラヒドロ1H3λ6チア9アザフルオレン8イルアクリロイル酸メチルエステルの製造396フルオロ1249テトラヒドロ3チア9アザフルオレン8イルアクリル酸メチルエステル0160gのテトラヒドロフラン16mL-メタノール16mL-水16mL懸濁液に室温でオキソン0212g加えた後、18時間攪拌した。反応液に2M炭酸ナトリウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水と飽和塩化アンモニウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0147gを分離した。1HNMRδ327336374436538621628702711713752768396フルオロ33ジオキソ2349テトラヒドロ1H3λ6チア9アザフルオレン8イルアクリロイル酸の製造396フルオロ33ジオキソ2349テトラヒドロ1H3λ6チア9アザフルオレン8イルアクリロイル酸メチルエステル0147gを使用して、実施例10と同様の操作を行い、表題化合物0142gを得た。1HNMRδ327336436538621628702711713752768110145ジクロロチオフェン2スルホン酸{396フルオロ33ジオキソ2349テトラヒドロ1H3λ6チア9アザフルオレン8イルアクリロイル}アミド化合物11の製造396フルオロ33ジオキソ2349テトラヒドロ1H3λ6チア9アザフルオレン8イルアクリロイル酸0142gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0078gを使用して、実施例10と同様の操作を行い、表題化合物0108gを得た。5633オキソプロペニル8フルオロ1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸エチルエステル化合物12の製造例6ブロモ8フルオロ1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸エチルエステルの製造2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩1000gと4オキソピペリジン1カルボン酸エチルエステル0918gの酢酸100mL溶液を80°Cで約2時間攪拌した後、硫酸01mLを加えて更に80°Cで16時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、反応液に水を加えた。析出固体を濾取し、固体を水洗後、乾燥して表題化合物0951gを得た。1HNMRδ1312873864204627057128046ブロモ58フルオロ1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸エチルエステルの製造6ブロモ8フルオロ1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸エチルエステル0930gと24ジクロロベンジルクロリド0639gを使用して、実施例10と同様の操作を行い、表題化合物1094gを得た。1HNMRδ13026638442046656761070471174258フルオロ62メトキシカルボニルビニル1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸エチルエステルの製造6ブロモ58フルオロ1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸エチルエステル0500gとアクリル酸メチル018mLを使用して、実施例10と同様の操作を行い、表題化合物0401gを得た。1HNMRδ13127037338842146953561962469770871874977158フルオロ62メトキシカルボニルビニル1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸の製造58フルオロ62メトキシカルボニルビニル1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸エチルエステル0358gを使用して、実施例10と同様の操作を行い、表題化合物0312gを得た。1HNMRδ1212673754094605436196227057297407477675633オキソプロペニル8フルオロ1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸エチルエステル化合物12の製造58フルオロ62メトキシカルボニルビニル1345テトラヒドロピリド43bインドール2カルボン酸0300gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0156gを使用して、実施例10と同様の操作を行い、表題化合物0328gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸3963フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物13の製造例8ブロモブチル6フルオロ2349テトラヒドロ1Hカルバゾールの製造2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩4000gと14シクロヘキサジオンモノエチレンアセタール3046gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物2400gを得た。1HNMRδ20728929640540970170672579136ブチル3フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸メチルエステルの製造8ブロモブチル6フルオロ2349テトラヒドロ1Hカルバゾール2390gとアクリル酸メチル13mLを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1804gを得た。1HNMRδ20829129638440540864670571172678981636ブチル3フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸の製造36ブチル3フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸メチルエステル1400gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1186gを得た。1HNMRδ19427728339466271773080011313693フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸の製造36ブチル3フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸1180gと24ジクロロベンジルクロリド0801gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1206gを得た。1HNMRδ1962722853946166227127297607683963フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物13の製造3693フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0300g45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0152gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0295gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸393フルオロ6オキソ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物14の製造例3963フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド0195gのテトラヒドロフラン50mL溶液に室温で10塩酸水溶液05mLを加えた後、25時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、水を加えた。析出結晶を濾取し、水洗後、乾燥して表題化合物0107gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸393フルオロ6ヒドロキシ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物15の製造例45ジクロロチオフェン2スルホン酸393フルオロ6オキソ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド0368gのテトラヒドロフラン17mL溶液に氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム0005gを加えた後、65時間攪拌した。反応液にアセトンと飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。析出結晶を濾取し、水洗後、乾燥して表題化合物0204gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸{36tertブチル93フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物16の製造例8ブロモ3tertブチル6フルオロ2349テトラヒドロ1Hカルバゾールの製造2ブロモ4フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩2000gと4tertブチルシクロヘキサノン1655gを使用して、実施例2と同様の操作を行い、表題化合物2525gを得た。1HNMRδ0991522132352722807037087803アクリル酸メチルエステルの製造8ブロモ3tertブチル6フルオロ2349テトラヒドロ1Hカルバゾール2510gとアクリル酸メチル14mLを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1400gを得た。1HNMRδ1001522142562732803846467057167918093アクリル酸の製造3アクリル酸メチルエステル1400gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1319gを得た。1HNMRδ096140198207250277278661719723800112036tertブチル93フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸の製造3アクリル酸0700gと24ジクロロベンジルクロリド0520gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0589gを得た。1HNMRδ10013914320723325325327553761462170972673476276645ジクロロチオフェン2スルホン酸{36tertブチル93フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物16の製造36tertブチル93フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0260g45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0140gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0196gを得た。45ジメチルチオフェン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物17の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0128gのジクロロメタン30mL溶液に室温で45ジメチルチオフェン2スルホンアミド0070g、13エチルカルボジイミド塩酸塩0070g、4ジメチルアミノピリジン0045gを順次加えて同温で18時間攪拌した。反応液に10塩酸水溶液を加えて酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0121gを分離した。チオフェン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物18の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0300gとチオフェン2スルホンアミド0129gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0240gを得た。N{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル4メトキシベンゼンスルホンアミド化合物19の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0261gと4メトキシベンゼンスルホンアミド0139gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0152gを得た。ベンゾbチオフェン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物20の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0261gとベンゾbチオフェン2スルホンアミド0147gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0171gを得た。5ブロモN{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル2メトキシベンゼンスルホンアミド化合物21の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0200gと5ブロモ2メトキシベンゼンスルホンアミド0140gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0199gを得た。ベンゾ125チアジアゾール4スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物22の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0209gとベンゾ125チアジアゾール4スルホンアミド0118gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0116gを得た。ナフタレン2スルホン酸{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物23の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0230gとナフタレン2スルホンアミド0125gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0190gを得た。393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルNアクリルアミド化合物24の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0230gと3メチルイソキサゾール5イルアミン0077gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0169gを得た。393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルNアクリルアミド化合物25の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0300gと34メチルイソキサゾール5イルアミン0088gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0137gを得た。N393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリルアミド化合物26の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0300gのジクロロメタン60mL懸濁液に氷冷下で4ブロモ3メチルイソキサゾール5イルアミン0152g、トリエチルアミン04mL、2クロロ1メチルピリジ二ウムヨ-ダイド0366gを加えた後、室温で215時間攪拌した。反応液を5クエン酸水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0134gを分離した。393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルNアクリルアミド化合物27の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0300gと3メチルイソキサゾール5イルアミン0077gを使用して実施例17の方法と同様の操作を行い、表題化合物0207gを得た。393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルNtertブトキシカルボニル2アクリルアミド化合物28の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0500gと2アニリン0431gを使用して実施例26と同様の操作を行い、表題化合物0398gを得た。N{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクロイル}4フルオロベンゼンスルホンアミド化合物29の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0200gと4フルオロベンゼンスルホンアミド0100gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0195gを得た。N{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクロイル}34ジフルオロベンゼンスルホンアミド化合物30の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0200gと34ジフルオロベンゼンスルホンアミド0110gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0156gを得た。5ブロモN{393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル2メトキシベンゼンスルホンアミド化合物31の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0200gと5ブロモ2メトキシベンゼンスルホンアミド0120gを使用して実施例17のと同様の操作を行い、表題化合物0134gを得た。ベンゾbチオフェン2スルホン酸{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物32の製造例396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0250gとベンゾbチオフェン2スルホンアミド0147gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0212gを得た。5ブロモN{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイル2メトキシベンゼンスルホンアミド化合物33の製造例396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0110gと5ブロモ2メトキシベンゼンスルホンアミド0080gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0119gを得た。ベンゾ125チアジアゾール4スルホン酸{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物34の製造例396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0100gとベンゾ125チアジアゾール4スルホンアミド0059gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0060gを得た。N{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクロイル}4フルオロベンゼンスルホンアミド化合物35の製造例396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0200gと4フルオロベンゼンスルホンアミド0098gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0216gを得た。N{396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクロイル}34ジフルオロベンゼンスルホンアミド化合物36の製造例396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0200gと34ジフルオロベンゼンスルホンアミド0098gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0211gを得た。5ブロモN{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル2メトキシベンゼンスルホンアミド化合物37の製造例358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0100gと5ブロモ2メトキシベンゼンスルホンアミド0070gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0110gを得た。ベンゾ125チアジアゾール4スルホン酸{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル2メトキシベンゼンスルホンアミド化合物38の製造例358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0250gとベンゾ125チアジアゾール4スルホンアミド0141gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0256gを得た。N{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル4フルオロベンゼンスルホンアミド化合物39の製造例358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0200gと4フルオロベンゼンスルホンアミド0109gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0154gを得た。N{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル34ジフルオロベンゼンスルホンアミド化合物40の製造例358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0200gと34ジフルオロベンゼンスルホンアミド0109gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0136gを得た。ベンゾ125チアジアゾール4スルホン酸{351345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイルアミド化合物41の製造例351345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0200gとベンゾ125チアジアゾール4スルホンアミド0110gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0240gを得た。N{351345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル4フルオロベンゼンスルホンアミド化合物42の製造例358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0200gと4フルオロベンゼンスルホンアミド0097gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0215gを得た。N{358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイル34ジフルオロベンゼンスルホンアミド化合物43の製造例358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0200gと34ジフルオロベンゼンスルホンアミド0104gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0165gを得た。N{352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリロイル4フルオロベンゼンスルホンアミド化合物44の製造例352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリル酸0159gと4フルオロベンゼンスルホンアミド0074gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0090gを得た。N{352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリロイル34フルオロベンゼンスルホンアミド化合物45の製造例352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリル酸0159gと34フルオロベンゼンスルホンアミド0075gを実施例17の方法に従って反応させて表題化合物0063gを得た。クロロチオフェン2スルホン酸358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイルアミド化合物46358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0250gとチオフェン2スルホンアミド0107gを使用して実施例17と同様の操作を行い、表題化合物0241gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物47の製造例3アクリル酸の製造3アクリル酸0540gと1ナフタレン0441gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0713gを得た。1HNMRδ18125626958862062571172973576076678279881945ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物47の製造3アクリル酸0713gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0348gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0420gを得た。5ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物48の製造例3アクリル酸の製造3アクリル酸0313gと2ナフタレン0320gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0259gを得た。1HNMRδ18118625226755762370871272873974574777378580245ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物48の製造3アクリル酸0244gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0136gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0204gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物49の製造例3アクリル酸の製造3アクリル酸0998gと2ベンゾbチオフェン0844gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物1244gを得た。1HNMRδ18118826427556663471171572873377278682045ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物49の製造例3アクリル酸0400gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0252gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0470gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物50の製造例3アクリル酸の製造3アクリル酸0400gと3ベンゾbチオフェン0542gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0478gを得た。1HNMRδ18026227556062366571173074074278578979745ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物50の製造3アクリル酸0230gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0145gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0285gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物51の製造例3アクリル酸の製造3アクリル酸0400gと3ブロモメチルビフェニル0509gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0588gを得た。1HNMRδ175187246266547625665710726758804123445ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物51の製造3アクリル酸0294gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0176gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0335gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物52の製造例3アクリル酸の製造3アクリル酸0400gと4ブロモメチルビフェニル0509gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0501gを得た。1HNMRδ18318726654762769771172874575876380245ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物52の製造3アクリル酸0300gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0181gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0335gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物53の製造例3アクリル酸の製造3アクリル酸0500gと5ブロモベンゾ125チアジアゾール0532gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0703gを得た。1HNMRδ18118626756362470780845ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物53の製造3アクリル酸0350gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0191gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0184gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸33フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物54の製造例33フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸の製造3アクリル酸0500gと4クロロ2フルオロベンジルクロリド0518gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0603gを得た。1HNMRδ17718426054262062870871272774477945ジクロロチオフェン2スルホン酸33フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物54の製造33フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0300gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0191gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0184gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸33フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物55の製造例33フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸の製造3アクリル酸0500gと2クロロ4フルオロベンジルクロリド0414gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0456gを得た。1HNMRδ17918625626453761862073075176145ジクロロチオフェン2スルホン酸33フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物54の製造33フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0228gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0145gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0095gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物56の製造例3アクリル酸の製造3アクリル酸0200gとブロモメチルシクロヘキサン0164gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0149gを得た。1HNMRδ133152182256267295639714720824145ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物56の製造3アクリル酸0140gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0101gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0110gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物57の製造例3アクリル酸の製造3アクリル酸0241gと1ナフタレン0212gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0220gを得た。1HNMRδ182255273589613627704708723729732755766775782797800821119045ジクロロチオフェン2スルホン酸3アクリロイルアミド化合物57の製造3アクリル酸0180gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0120gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0169gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸96789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物58の製造例396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸の製造3アクリル酸0400gと1クロロメチル3メチルアズレン0340gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0265gを得た。1HNMRδ189195249268280582614699703710717753757797817819119045ジクロロチオフェン2スルホン酸96789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリロイルアミド化合物58の製造396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0185gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0119gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0111gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸38フルオロ51345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイルアミド化合物59の製造例38フルオロ51245テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸の製造3アクリル酸0400gと1クロロメチル3メチルアズレン0339gを使用して実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0219gを得た。1HNMRδ24327239448058562468370871373176279782183745ジクロロチオフェン2スルホン酸38フルオロ51345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリロイルアミド化合物59の製造351245テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸0200gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0123gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0215gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオニルアミド化合物60の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオン酸の製造393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0350gのテトラヒドロフラン35mLとメタノール35mL溶液に5パラジウム炭素0035gを加え、水素ガス雰囲気下、室温で30分間攪拌した。反応液を濾過後、濾液を減圧留去し、表題化合物0301gを得た。1HNMRδ178183246255262284543595670706727769121645ジクロロチオフェン2スルホン酸393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオニルアミド化合物60の製造393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオン酸0290gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0176gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0230gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオニルアミド化合物61の製造例396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオン酸の製造396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸0370gのテトラヒドロフラン35mLとメタノール35mL溶液に5パラジウム炭素0037gを加え、水素ガス雰囲気下、室温で2時間30分間攪拌した。反応液を濾過後、濾液を減圧留去し、表題化合物0350gを得た。1HNMRδ194245258276284536630704711720755121645ジクロロチオフェン2スルホン酸396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオニルアミド化合物61の製造396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオン酸0332gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0210gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0050gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルプロピオニルアミド化合物62の製造例358フルオロ1245テトラヒドロピラノ43bインドール6イルプロピオン酸の製造358フルオロ1245テトラヒドロピラノ43bインドール6イルプロピオン酸0300gを使用して実施例60と同様の操作を行い、表題化合物0222gを得た。1HNMRδ2462692852954804775475976747087297701218745ジクロロチオフェン2スルホン酸358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルプロピオニルアミド化合物62の製造358フルオロ1245テトラヒドロピラノ43bインドール6イルプロピオン酸0175gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0106gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0176gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルプロピオニルアミド化合物63の製造例392フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルプロピオン酸の製造352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリル酸0300gを使用して実施例60と同様の操作を行い、表題化合物0280gを得た。1HNMRδ12913814916024225027328454759766671272576645ジクロロチオフェン2スルホン酸352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルプロピオニルアミド化合物63の製造392フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルプロピオン酸0280gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0159gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0304gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸3567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルプロピオニルアミド化合物64の製造例3967891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルプロピオン酸の製造3567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクロイル酸0355gを使用して実施例60と同様の操作を行い、表題化合物0338gを得た。1HNMRδ13013815616224427728354859568169272373576645ジクロロチオフェン2スルホン酸3567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルプロピオニルアミド化合物64の製造3967891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルプロピオン酸0338gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0201gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0170gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸493フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルブテ3エノイルアミド化合物65の製造例493フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルブテ3エノイル酸の製造8ブロモ96フルオロ2349テトラヒドロ1Hカルバゾール1000gのアセトニトリル100mL溶液にトリエチルアミン21mL、3ブテン酸0423g、トリホスフィン0112g、酢酸パラジウム0028gを室温で加えた後、2時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、水を加えた。10塩酸水溶液を加えてpHを約2に調節した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、10塩酸水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣をnヘキサンで洗浄した後、乾燥して表題化合物0899gを得た。1HNMRδ179187275267302304543584588612658691700728737770123045ジクロロチオフェン2スルホン酸493フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルブテ3エノイルアミド化合物65の製造493フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルブテ3エノイル酸0246gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0152gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0135gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸458フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルブテ3エノイルアミド化合物66の製造例458フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルブテ3エノイル酸の製造6ブロモ58フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール0100gを使用して、実施例65と同様の操作を行い、表題化合物0079gを得た。1HNMRδ270302395477545593612656677715728769122945ジクロロチオフェン2スルホン酸458フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルブテ3エノイルアミド化合物66の製造458フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルブテ3エノイル酸0079gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0046gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0093gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸493フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルブチリルアミド化合物67の製造例45ジクロロチオフェン2スルホン酸493フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルブテ3エノイルアミド0203gのテトラヒドロフラン20mLとメタノール20mL溶液に5パラジウム炭素0021gを加え、水素ガス雰囲気下、室温で2時間攪拌した。反応液を濾過後、濾液を減圧留去し、得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0185gを分離した。1HNMRδ166182227252264538588669690722728765783126045ジクロロチオフェン2スルホン酸293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルオキシアセチルアミド化合物68の製造例93フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1ボロン酸の製造8ブロモ96フルオロ2349テトラヒドロ1Hカルバゾール0600gのテトラヒドロフラン30mL溶液に78°Cで276Mnブチルリチウム/nヘキサン溶液056mLを滴下した後、同温で50分間攪拌した。同温で反応液にトリイソプロピルボレート036mLを滴下した後、室温で20時間37分間攪拌した。反応液に室温で05規定塩酸30mLを加え、同温で20分間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0042gを分離した。1HNMRδ18825227147553359969171071173774593フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1オールの製造93フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1ボロン酸0040gの水04mL懸濁液に室温で30過酸化水素水溶液0012gを加えて18時間45分間攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0020gを分離した。1HNMRδ18625026650153461862467370273093フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルオキシ酢酸エチルエステルの製造93フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1オール0030gのNNジメチルホルムアミド05mL溶液に室温で炭酸カリウム0014gとブロモ酢酸エチルエステル0011mLを加え、3時間50分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0020gを分離した。1HNMRδ12718524826538542545161762567970073793フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルオキシ酢酸の製造93フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルオキシ酢酸エチルエステル0020gのテトラヒドロフラン015mLとメタノール015mL溶液に室温で10水酸化ナトリウム水溶液02mLを加えた後、同温で4時間40分間攪拌した。反応液を減圧留去した後、残留水層に10塩酸水溶液を加えてpHを約2に調節した。酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルムメタノールで表題化合物0011gを分離した。1HNMRδ17623525641954860761766768872045ジクロロチオフェン2スルホン酸293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルオキシアセチルアミド化合物68の製造93フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルオキシ酢酸0011gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0007gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0009gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボニルアミド化合物69の製造例396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸メチルエステルの製造8ブロモ96フルオロ2349テトラヒドロ1Hカルバゾール3000gのアセトニトリル300mL溶液にトリエチルアミン59mL、メチルアクリレート126mL、トリoトリルホスフィン0321g酢酸パラジウム0079gを加え、20時間31分間加熱還流した。反応液を放冷し、飽和塩化アンモニウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物2354gを分離した。1HNMRδ184191257270372534618626693707718748773293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸メチルエステルの製造水素化ナトリウム0160gにジメチルスルホキシド60mLを加え、約50°Cで1時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、トリメチルスルホニウムヨージド0993gを加え、31分間攪拌した。反応液に同温で396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸メチルエステル0650gのジメチルスルホキシド10mL溶液を加え、約45°Cで2時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和塩化アンモニウム水溶液中に注いだ。トルエンで抽出し、抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0413gを分離した。1HNMRδ124131138143183188249261265268365552559598660700706740293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸の製造293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸メチルエステル0390gのテトラヒドロフラン40mLとメタノール40mL溶液に室温で10水酸化ナトリウム水溶液20mLを加えた後、同温で15時間21分間攪拌した。反応液を減圧留去した後、残留水層に10塩酸水溶液を加えてpHを約2に調節した。酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去し表題化合物0315gを得た。1HNMRδ117119132134174180244261557592664711726764123045ジクロロチオフェン2スルホン酸293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボニルアミド化合物69の製造293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸0300gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0177gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0258gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボニルアミド化合物70の製造例296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸メチルエステルの製造396789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルアクリル酸メチルエステル0200gを使用して、実施例69と同様の操作を行い、表題化合物0161gを得た。1HNMRδ130135138142183190249265273275365556558602686698703731743296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸の製造296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸メチルエステル0250gを使用して、実施例69と同様の操作を行い、表題化合物0207gを得た。1HNMRδ116122126131172182242257267267561592681694726736765122645ジクロロチオフェン2スルホン酸296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボニルアミド化合物70の製造296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸0197gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0121gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0172gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸258フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルシクロプロパンカルボニルアミド化合物71の製造例258フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルシクロプロパンカルボン酸メチルエステルの製造358フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルアクリル酸メチルエステル0400gを使用して、実施例69と同様の操作を行い、表題化合物0373gを得た。1HNMRδ128132140144186189261264366403487556559601696703742298フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸の製造298フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸メチルエステル0370gを使用して、実施例69と同様の操作を行い、表題化合物0299gを得た。1HNMRδ11812013313417517824226339047559159359466771372676445ジクロロチオフェン2スルホン酸258フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルシクロプロパンカルボニルアミド化合物71の製造298フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸0230gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0135gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0220gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸252フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボニルアミド化合物72の製造例252フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボン酸メチルエステルの製造352フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリル酸メチルエステル0400gを使用して、実施例69と同様の操作を行い、表題化合物0223gを得た。1HNMRδ124144155158166169186191261266269282365560563603659701709741252フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボン酸の製造252フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボン酸メチルエステル0210gを使用して、実施例69と同様の操作を行い、表題化合物0188gを得た。1HNMRδ115161176180240250271280563565597662717727764122045ジクロロチオフェン2スルホン酸252フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボニルアミド化合物72の製造252フルオロ67891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボン酸0180gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0100gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0159gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸2567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボニルアミド化合物73の製造例2567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボン酸メチルエステルの製造3567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルアクリル酸メチルエステル0300gを使用して、実施例69と同様の操作を行い、表題化合物0145gを得た。1HNMRδ1371411501711902692883645655676066856977037407472567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボン酸の製造2567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボン酸メチルエステル0145gを使用して、実施例69と同様の操作を行い、表題化合物0138gを得た。1HNMRδ12913714616117327028256659567869372274176345ジクロロチオフェン2スルホン酸2567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボニルアミド化合物73の製造2567891011ヘキサヒドロ5Hシクロオクタbインドール4イルシクロプロパンカルボン酸0117gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0068gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0108gを得た。45ジクロロチオフェン2スルホン酸296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロペント1エンカルボニルアミド化合物74の製造例96789テトラヒドロ5Hカルバゾール1ボロン酸の製造8ブロモ92349テトラヒドロ1Hカルバゾール1000gのテトラヒドロフラン50mL溶液に78°Cで276Mnブチルリチウム/nヘキサン溶液098mLを滴下した後、同温で51分間攪拌した。同温で反応液にトリイソプロピルボレート064mLを滴下した後、室温で1時間51分間攪拌した。反応液に室温で05規定塩酸50mLを加え、同温で1時間7分間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0483gを分離した。296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロペント1エンカルボン酸エチルエステルの製造96789テトラヒドロ5Hカルバゾール1ボロン酸0483gと2トリフルオロメタンスルホニルオキシシクロペント1エンカルボン酸エチルエステル0327gの12ジメトキシエタン65mL溶液に2M炭酸ナトリウム水溶液075mLとテトラキスパラジウム0149gを加えた後、2時間3分間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、飽和塩化アンモニウム推移溶液を加えた。、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0533gを分離した。1HNMRδ082150154172195228253262278376513533597671695705736744296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロペント1エンカルボン酸の製造296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロペント1エンカルボン酸エチルエステル0150gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0133gを得た。1HNMRδ14014317818924326651054059566269571873376245ジクロロチオフェン2スルホン酸296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロペント1エンカルボニルアミド化合物74の製造296789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロペント1エンカルボン酸0133gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0082gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0139gを得た。2トリフルオロメタンスルホニルオキシシクロペント1エンカルボン酸エチルエステルの製造水素化ナトリウム2286gのテトラヒドロフラン1000mL懸濁液に氷冷下で2オキソシクロペンタンカルボン酸エチルエステル73mLを滴下した後、同温で14分間攪拌した後、Nフェニルビストリフルオロメタンスルホンイミド21435gを加え、室温で16時間20分間攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、エーテル抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィーエーテルnヘキサンで表題化合物12787gを分離した。1HNMRδ13013419720526927442645ジクロロチオフェン2スルホン酸496789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルベンゾイルアミド化合物75の製造例496789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イル安息香酸メチルエステルの製造8ブロモ92349テトラヒドロ1Hカルバゾール0500gと4メトキシカルボニルフェニルボロン酸0265gの12ジメトキシエタン50mL溶液に2M炭酸ナトリウム水溶液10mLとテトラキスパラジウム0142gを加えた後、13時間34分間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、飽和塩化アンモニウム推移溶液を加えた。、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧留去した。得られた残渣からシリカゲルカラムクロマトグラフィー酢酸エチルnヘキサンで表題化合物0533gを分離した。1HNMRδ190250281395475593685697708714720756783496789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イル安息香酸の製造496789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イル安息香酸メチルエステル0500gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0403gを得た。1HNMRδ178183247274480584677705709722742751774129345ジクロロチオフェン2スルホン酸496789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルベンゾイルアミド化合物75の製造496789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イル安息香酸0403gと45ジクロロチオフェン2スルホンアミド0228gを使用して、実施例1と同様の操作を行い、表題化合物0233gを得た。N393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオニル34ジフルオロベンゼンスルホンアミド化合物76の製造例393フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルプロピオン酸0255gと34ジフルオロベンゼンスルホンアミド0129gを使用して、実施例30と同様の操作を行い、表題化合物0166gを得た。N293フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボニル34ジフルオロベンゼンスルホンアミド化合物77の製造例298フルオロ6789テトラヒドロ5Hカルバゾール1イルシクロプロパンカルボン酸0435gと34ジフルオロベンゼンスルホンアミド0214gを使用して、実施例30と同様の操作を行い、表題化合物0333gを得た。N258フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルシクロプロパンカルボニル34ジフルオロベンゼンスルホンアミド化合物78258フルオロ1345テトラヒドロピラノ43bインドール6イルシクロプロパンカルボン酸0140gと34ジフルオロベンゼンスルホンアミド0068gを使用して、実施例30と同様の操作を行い、表題化合物0069gを得た。実施例1~78で得られた化合物1~化合物78の化学構造式並びに1HNMRデータ及びMSデータを、表1~表16に示す。"