"鉄を主成分とする金属粉と、当該金属粉表面に形成されたリン酸カルシウム及び金属酸化物からなる絶縁層とを備える被覆金属粉であって、前記絶縁層の表面又は内部に、有機ケイ素化合物を有する被覆金属粉。前記有機ケイ素化合物は、アルコキシシラン又はその反応物である、請求項1記載の被覆金属粉。前記反応物は、アルコキシシランの加水分解物及び/又はアルコキシシランの加水分解縮合物である、請求項2記載の被覆金属粉。前記アルコキシシランは、フェニル基又はベンジル基を有する、請求項3記載の被覆金属粉。前記有機ケイ素化合物は、シリコーン樹脂である、請求項1記載の被覆金属粉。前記シリコーン樹脂は、下記1、2及び3の化合物の少なくとも1種を含有するシリコーン樹脂である、請求項5記載の被覆金属粉。12官能性のシロキサン単位からなるポリオルガノシロキサン21官能性のシロキサン単位、3官能性のシロキサン単位及び4官能性のシロキサン単位の少なくとも1つからなるポリオルガノシロキサンと、2官能性のシロキサン単位からなるポリオルガノシロキサンとの混合物31官能性のシロキサン単位、3官能性のシロキサン単位及び4官能性のシロキサン単位の少なくとも1つと、2官能性のシロキサン単位とからなるポリオルガノシロキサン前記1、2又は3の化合物は、オルガノ基としてアルキル基及び/又はフェニル基を有する、請求項6記載の被覆金属粉。前記シリコーン樹脂は、硬化型のシリコーン樹脂である、請求項5~7のいずれか一項に記載の被覆金属粉。前記リン酸カルシウムは、第一リン酸カルシウム、第二リン酸カルシウム、第二リン酸カルシウム無水、第三リン酸カルシウム、リン酸三カルシウム、α型リン酸三カルシウム、β型リン酸三カルシウム、ヒドロキシアパタイト、リン酸四カルシウム、ピロリン酸カルシウム及びピロリン二水素酸カルシウムからなる群より選ばれる一以上を含む、請求項1~8のいずれか一項に記載の被覆金属粉。前記リン酸カルシウムは、ヒドロキシアパタイトである、請求項1~9のいずれか一項に記載の被覆金属粉。前記金属酸化物の粒子径は、10nmより大きく350nm以下である、請求項1~10のいずれか一項に記載の被覆金属粉。前記金属酸化物は、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、酸化銅及び酸化セリウムからなる群より選択される一以上を含む、請求項1~11のいずれか一項に記載の被覆金属粉。前記金属酸化物は、二酸化ケイ素である、請求項1~12のいずれか一項に記載の被覆金属粉。請求項1~13のいずれか一項に記載の被覆金属粉を加圧及び加熱してなる圧粉磁心。鉄芯を備える電磁機器であって、前記鉄芯は、請求項14に記載の圧粉磁心からなる、電磁機器。請求項1~13のいずれか一項に記載の被覆金属粉を製造する製造方法であって、カルシウムイオン及びリン酸イオンを含有する水溶液と、鉄を主成分とする金属粉とを、金属酸化物の存在下で反応させて前記金属粉表面に絶縁層を形成する工程と、絶縁層が形成された前記被覆金属粉に有機ケイ素化合物を接触させ、前記絶縁層の表面又は内部に前記有機ケイ素化合物を配置させる工程と、を含む、被覆金属粉の製造方法。請求項16の製造方法によって得ることのできる被覆金属粉を、加圧及び加熱する、圧粉磁心の製造方法。しかしながら、Fe-Si粉を用いた場合は、圧粉磁心の成形時において高圧高温の工程や高価な材料が必要となる。これは、Fe-Si粉が、他の磁性粉末、例えば純鉄粉等に比べて硬い性質を有しており、成形時に、非常に高い成形圧が必要となることや、樹脂を加熱しながら成形する高温での温間成形が必須になるためである。また、このような耐熱性樹脂は、高価なものが多いものの、それに見合うだけの成形体の機械的特性が得られない傾向にある。一方、安価な純鉄粉は、前述したような被膜の結合性に加えて、鉄粉表面に凹凸が多く、均一な被膜形成が困難である。そのため、有効な絶縁膜の形成方法が未だ確立されていない。そこで本発明は、凹凸があり歪な形状の粉体を用いても製造可能な、磁気特性や機械的特性に優れた圧粉磁心、このような圧粉磁心の製造に用いられる被覆金属粉、及びこれらの製造方法を提供することを目的とする。被覆金属粉は、鉄を主成分とする金属粉と、当該金属粉表面に形成されたリン酸カルシウム及び金属酸化物からなる絶縁層とを備える被覆金属粉であって、絶縁層の表面又は内部に、有機ケイ素化合物を有する。本発明の被覆金属粉は、このような構成を有することで、無機物である絶縁層と有機ケイ素化合物の相乗効果により優れた絶縁性が発現するとともに、被覆金属粉同士が強固に接合され、圧粉磁心とした際の磁性特性を著しく向上させることができる。また有機ケイ素化合物は、成形体作製時に潤滑剤としても機能すると考えられ、過剰応力によって絶縁層が破壊されることを防止する。この点からも、このような被覆金属粉からなる圧粉磁心は、より優れた絶縁性が得られる。また、鉄粉はFe-Si粉よりも軟らかい性質、すなわち低圧成形性を有する。このため、鉄を主成分とする金属粉を磁性粉末として用いることは、成形圧を可能な限り低圧にして成形用金型の寿命を考慮できる点で、高成形密度、高磁束密度の圧粉磁心を製造するのに向く。また、鉄粉を主成分とする金属粉は、Fe-Si合金粉に比べて高価ではないため、工業的にも望ましいとう利点もある。有機ケイ素化合物としては、アルコキシシラン又はその反応物を適用でき、反応物は、アルコキシシランの加水分解物及び/又はアルコキシシランの加水分解縮合物であることが好ましい。この場合、アルコキシシランのアルコキシ基と、後述するヒドロキシアパタイトの構造内のOH-基又は金属酸化物表面のOH-基とが加水分解した際に、アルコキシシランと、ヒドロキシアパタイト及び金属酸化物とを強固に結合できると考えられる。このような被覆金属粉からなる圧粉磁心は、より優れた絶縁性、機械的特性を示す。アルコキシシランは、フェニル基またはベンジル基を有することが好ましい。特に、アルコキシシランとして、メチルトリエトキシシランやテトラエトキシシランなどを用いることがより好ましく、フェニルトリエトキシシランやジフェニルジエトキシシランなどを用いることがさらに好ましい。このような被覆金属粉からなる圧粉磁心は、より優れた絶縁性が得られる。有機ケイ素化合物としてはまた、シリコーン樹脂を適用できる。また、シリコーン樹脂は、下記1、2及び3の化合物の少なくとも1種を含有するシリコーン樹脂であることが好ましい。12官能性のシロキサン単位からなるポリオルガノシロキサン21官能性のシロキサン単位、3官能性のシロキサン単位及び4官能性のシロキサン単位の少なくとも1つからなるポリオルガノシロキサンと、2官能性のシロキサン単位からなるポリオルガノシロキサンとの混合物31官能性のシロキサン単位、3官能性のシロキサン単位及び4官能性のシロキサン単位の少なくとも1つと、2官能性のシロキサン単位とからなるポリオルガノシロキサン上述したようなシリコーン樹脂は、温度の上昇に伴い、シロキサン結合が進行する。このため、焼鈍等の高温加熱処理を行うことで部分的な架橋から全体的な架橋となり、圧粉磁心とした際の被膜強度が向上する。また、このシリコーン樹脂の被膜は耐熱性に優れるため、成形後の圧粉磁心に対して焼鈍等の高温加熱を行っても破壊等されず、前記の架橋が一層進行して、磁心用粉末の粒子同士の結合が強化される。また、1、2又は3の化合物は、オルガノ基としてアルキル基及び/又はフェニル基を有することが好ましい。特にフェニル基を有すると、圧粉磁心とした際の耐熱性を更に向上させることができる。シリコーン樹脂は、硬化型のシリコーン樹脂であることが好ましい。このシリコーン樹脂被膜は、無機絶縁物の表面を被覆する絶縁被膜として機能するのみならず、構成粒子間の結合するバインダとしても機能させることができる。リン酸カルシウムは、第一リン酸カルシウム、第二リン酸カルシウム、第二リン酸カルシウム無水、第三リン酸カルシウム、リン酸三カルシウム、α型リン酸三カルシウム、β型リン酸三カルシウム、ヒドロキシアパタイト、リン酸四カルシウム、ピロリン酸カルシウム及びピロリン二水素酸カルシウムからなる群より選ばれる一以上を含むことが好ましい。その中でも、ヒドロキシアパタイトであることが好ましい。ヒドロキシアパタイトは、OH-基を有し、金属酸化物やアルコキシシランとの反応性に優れ、かつリン酸カルシウムの中では、耐熱性に優れるため、高温熱処理工程に対しても安定である。このため、リン酸カルシウムとしてヒドロキシアパタイトを採用した場合、圧粉磁心の鉄損を効果的に低減できる。加えて、ヒドロキシアパタイトは、必要に応じて構造内のイオンの一部を他の元素と置換できるといった利点もある。金属酸化物の粒子径としては、平均粒子径で10nm以上350nm以下であることが好ましい。粒子径の大きな金属酸化物を用いるほど、絶縁性に優れ、粒子径の細かな金属酸化物を用いるほど、成形体にした際の強度や成形体密度が高くなる傾向にある。また金属粉表面の被覆率を向上させる点、また金属酸化物層をより密なものとする点で、粒子径の異なる金属酸化物を併用することもできる。金属粉表面に堆積する比較的大きな金属酸化物間に細かな金属酸化物微粒子が混在することで、高密度な絶縁物形成が可能となる。また金属粉表面の凸部曲部では、粒子径が100nm以上の金属酸化物では、均一な被膜形成が困難である。金属酸化物での被膜形成の難しい凸部曲部では、粒子径で100nm未満、より好ましくは50nm以下の金属酸化物を用いることで被膜の均一性を向上させることができる。金属酸化物は、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、酸化銅及び酸化セリウムからなる群より選ばれる一以上を含むことが好ましい。この場合、リン酸カルシウムとともに金属酸化物を金属粉表面に付着させることで、より均一な絶縁層を形成させることができる。その結果、得られる圧粉磁心の磁気特性を高められる。その中でも酸化マグネシウム,酸化アルミニウム,酸化ジルコニウムが好ましく,二酸化ケイ素がさらに好ましい。本発明の圧粉磁心は、上述した被覆金属粉を加圧及び加熱してなるものである。このような圧粉磁心は、金属粉に加えられた歪みが解放されており、ヒステリシス損失が低減したものとなる。電磁機器は、鉄芯を備える電磁機器であって、上述した圧粉磁心からなることが好ましい。この場合、電磁機器の性能向上や小型化を図ることができる。このような電磁機器として、例えば、ハイブリッド車や各種電気自動車のコンバータ、太陽光発電や風力発電の系統連係装置、又はエアコンなどのインバータなどに使う高周波対応リアクトルが挙げられる。被覆金属粉の製造方法は、カルシウムイオン及びリン酸イオンを含有する水溶液と、鉄を主成分とする金属粉とを、金属酸化物の存在下で反応させて金属粉表面に絶縁層を形成する工程と、絶縁層が形成された被覆金属粉に有機ケイ素化合物を接触させ、絶縁層の表面又は内部に有機ケイ素化合物を配置させる工程とを含む。上記の被覆金属粉の製造方法によれば、鉄を主成分とする絶縁膜形成が困難とされる水アトマイズ粉が適応できる。一般に、水アトマイズ粉のような歪な形状の純鉄粉では、無機物のみ、あるいは樹脂などの有機物のみでは、600°C以上という過酷な熱処理工程後に十分な比抵抗が得られない。そのため、無機物と耐熱性に優れた樹脂などの有機物を複合化することが好ましいと考えられる。無機物の絶縁層を作製する際の課題は、鉄を主成分とする磁性粉末表面は、無機物との接着性に乏しく、水や有機溶媒中に純鉄粉を浮遊させ、無機微粒子のスラリーを添加して攪拌するのみでは、鉄粉表面の付着量に乏しい。そのため、既存の方法としては、無機物を粉末としてそのまま純鉄粉と混入するか、あるいは鉄粉量に対して極少量の高濃度のスラリーを鉄粉に混ぜて攪拌溶媒乾燥することで半強制的に無機微粒子の膜を形成させていた。しかしながら、上記手法では、当然ながら均一な微粒子膜の形成は困難であり、その結果、得られる圧粉磁心の絶縁性は低く、かつ付着させた無機物の剥離も生じやすい。その点、本発明の被覆金属粉を製造する製造方法は、絶縁膜形成が困難な水アトマイズ粉に関して、特に効果的であり、鉄を主成分とする軟磁性粉末全般に対して高い絶縁性が期待できる。加えて、水アトマイズ粉は、安価であるため、量産性に適している。従来の水アトマイズ粉では、その歪な形状により、耐熱性絶縁性に優れる被膜形成が困難である。例えば、純鉄粉において、球状のガスアトマイズ粉を用いたものは、600°Cの焼鈍後においても数百~数千という高い比抵抗が得られているのに対し、特許文献3の水アトマイズ粉を用いた焼鈍600°C後の比抵抗は、0.7~44μΩm程度にとどまっている。また従来では、希土類や遷移金属の酸化物などとリン酸水溶液を混合することで金属粉表面にリン酸カルシウムを形成していたが、本発明では、リン酸を用いず、リン酸イオンと陽イオンの溶解した水溶液をアルカリ環境下で反応させることで目的とするリン酸カルシウムを形成させている。そのため、反応系がアルカリ雰囲気下であるため金属粉表面が酸化されることはなく、磁気特性の低下などの懸念も少ない。さらに、本発明におけるリン酸カルシウムと金属酸化物による絶縁層を形成する工程は、水や各種有機溶媒中で連続的に行うことが可能であり、公知の金属粉の被覆方法に比べて、より均一な無機微粒子膜を形成させることができる。本発明の圧粉磁心の製造方法は、上述した方法で得られた被覆金属粉を用いて加圧及び加熱する。このようにして得られた圧粉磁心は、より優れた磁気特性を示す。本発明は、凹凸があり歪な形状の粉体を用いても製造可能な、磁気特性や機械的特性に優れた圧粉磁心、このような圧粉磁心の製造に用いられる被覆金属粉、及びこれらの製造方法を提供できる。以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。被覆金属粉は、鉄を主成分とする金属粉と、金属粉表面に形成されたリン酸カルシウム及び金属酸化物からなる絶縁層とを備える被覆金属粉であって、絶縁層の表面又は内部に、有機ケイ素化合物を有する。また、被覆金属粉を製造する製造方法は、カルシウムイオン及びリン酸イオンを含有する水溶液と、鉄を主成分とする金属粉とを、金属酸化物の存在下で反応させて金属粉表面に絶縁層を形成する工程と、絶縁層が形成された被覆金属粉に有機ケイ素化合物を接触させ、絶縁層の表面又は内部に有機ケイ素化合物を配置させる工程と、を含む。ここで、金属粉表面に形成されたリン酸カルシウム及び金属酸化物からなるものを絶縁層と呼び、この表面又は内部に有機ケイ素化合物を含む絶縁層を有機ケイ素処理絶縁層と呼ぶ。なお、絶縁層は本来、絶縁層に含まれるリン酸カルシウムなどの粉末粒子が一粒毎に形成されていることが理想的である。しかし、実際には、数個の粒子が固まった状態で層が形成されていることもあり、このような状態であっても特性上何ら問題ない。以下、それぞれの構成要素を順に記載する。鉄を主成分とする金属粉とは、純鉄からなる粉体、鉄合金からなる粉体で鉄の含有量が金属含有量として最大である粉体を意味する。鉄を主成分とする金属粉としては、例えば、鉄粉、ケイ素鋼粉、センダスト粉、パーメンジュール粉、鉄基のアモルファス磁性合金粉例えば、Fe-Si-B系、及びパーマロイ粉等の軟磁性材料が挙げられる。これらは単独で又は二種類以上を混合して使用することができる。その中でも、磁性特性強磁性、高飽和磁束密度が良好であり、安価に入手できる点で、純鉄粉が好ましい。純鉄粉は、形状が歪な水アトマイズ粉であってもよい。このような金属粉は、一般に金属粉の全質量を100質量としたときに、0~10質量のSiと、残部が、1主成分であるFe、及び2磁気特性向上を目的に添加されるAl、Ni、Coなどの改質元素、並びに3不可避不純物とから構成される。この不可避不純物は、金属粉の原料溶湯などに含まれる不純物、粉末形成時に混入する不純物などがあり、コスト的または技術的な理由等により除去することが困難な元素である。本発明に係る金属粉の場合であれば、例えば、C、S、Cr、P、Mn等がある。なお当然ながら、金属粉は基本元素Fe、CoおよびNi、Siなどの種類および組成が重要であるため、改質元素や不可避不純物の割合は特に限定されない。金属粉としては、飽和磁束密度や透磁率、圧縮性に優れる点で、純鉄粉が特に好ましい。このような純鉄粉としては、アトマイズ鉄粉、還元鉄粉及び電解鉄粉等を挙げることができ、例えば株式会社神戸製鋼所製の300NH、川崎製鉄株式会社製のKIP-MG270HやKIP-304AS、ヘガネス社製のアトマイズ純鉄粉商品名:ABC100.30などが挙げられる。金属粉の製造方法は問わない。粉砕粉でもアトマイズ粉でも良く、アトマイズ粉も、水アトマイズ粉、ガスアトマイズ粉、ガス水アトマイズ粉のいずれでも良い。水アトマイズ粉は、現状、最も入手性が良く低コストである。水アトマイズ粉は、その粒子形状がいびつであるので、それを加圧成形した圧粉体の機械的強度を向上させ易いが、均一な絶縁層の形成が難しく、高い比抵抗は得られにくい。一方、ガスアトマイズ粉は、略球状をしている擬球状粉である。各粒子の形状が略球状をしているため、軟磁性粉末を加圧成形した際に、各粉末粒子間の攻撃性が低くなり、絶縁層の破壊等が抑制され、比抵抗の高い圧粉磁心が安定して得られ易い。また、ガスアトマイズ粉は、略球状粒子からなるため、粒子形状の歪な水アトマイズ粉等に比べてその表面積は小さい。このため、有機ケイ素処理絶縁層を構成する微粒子の全量が同じであっても、ガスアトマイズ粉を用いる方がより厚い絶縁層の形成が可能となり、渦電流損失をより低減し易い。逆に、同じ膜厚の絶縁層を設けるのであれば、有機ケイ素処理絶縁層の全量を低減することができ、圧粉磁心の磁束密度を高めることが可能となる。さらに、ガスアトマイズ粉は、粉末粒子内の結晶粒径が大きいため、保磁力が小さくなりヒステリシス損失の低減を図り易い。従って、ガスアトマイズ粉のような擬球状粉を使用することで、磁気的特性の向上と鉄損の低減との両立を図り易い。勿論、軟磁性粉末は、アトマイズ粉以外の粉末でもよく、例えば、合金インゴットをボールミル等で粉砕した粉砕粉でもよい。このような粉砕粉は、熱処理例えば、不活性雰囲気中で800°C以上に加熱によって結晶粒径を大きくすることも可能である。金属粉は、酸化防止を目的にリン酸処理された金属粉を用いることもできる。このような処理を事前に行った金属粉を用いることで金属粉表面の酸化を防止することができる。リン酸処理は、例えば、特開平7-245209公報、特開2000-504785号公報、特開2005-213621公報記載の方法で行うことができ、リン酸処理された金属粉として市販されているものを使用してもよい。金属粉の粒子径は、特に制限はなく、圧粉磁心の用途や要求特性によって適宜決めることができ、一般的には、1μm~300μmの範囲から選択することができる。粒子径が1μm以上であれば、圧粉磁心作製時に成形しやすくなる傾向があり、300μm以下であれば、圧粉磁心の渦電流が大きくなるのを抑制でき、リン酸カルシウムも形成しやすくなる傾向がある。また、粒子径ふるい分け法により算出としては50~250μmのものが好ましい。金属粉の形状に制限はなく、球状、塊状のものや、公知の製法又は機械加工によって、扁平加工した扁平状粉末を用いてもよい。次に有機ケイ素処理絶縁層について説明する。有機ケイ素処理絶縁層の膜厚は、10~1000nm、さらには30~900nm、特には50~300nmであると好ましい。有機ケイ素処理絶縁層の膜厚が過小では、圧粉磁心の比抵抗が小さくなり鉄損を十分に低減できない。一方、有機ケイ素処理絶縁層の膜厚等が過大では、圧粉磁心の磁気的特性の低下を招く。以下、リン酸カルシウム、金属酸化物、有機ケイ素化合物の各構成について順に説明する。金属粉表面を被覆するリン酸カルシウムは、主に金属粉の絶縁被膜としての機能を有する。またリン酸カルシウムが形成されることで後述する金属酸化物も金属粉表面に形成可能となる。かかる観点から、リン酸カルシウムは金属粉の表面を層状に覆う被膜構造となっていることが好ましい。リン酸カルシウムによる絶縁被膜は、金属粉であればいかなる粉末においても形成可能である。リン酸カルシウムによる金属粉の被覆の程度としては、一部金属粉が露出していてもよいが、被覆率が高い方が、成形時の圧粉磁心の比抵抗値絶縁性の指標も高くなり、また後述する金属酸化物や有機ケイ素化合物が付着しやすく、結果として抗折強度も向上する点で好ましい。具体的には、リン酸カルシウム及び金属酸化物を含む2種類以上の無機物により、金属粉表面が90以上被覆されていることが好ましく、95以上被覆されていることがより好ましく、全体ほぼ100被覆していることがさらに好ましい。リン酸カルシウムからなる絶縁被膜は、厚さが10nm~1000nmであることが好ましく、20~500nmであることがさらに好ましい。厚さが10nm以上であれば絶縁の効果を得る傾向があり、1000nm以下であれば大幅な成形体密度の低下を生じることもない。リン酸カルシウムを金属粉表面に形成する量としては、金属粉100質量部に対して、0.1~1.5質量部であることが好ましく、0.4~0.8質量部であることがより好ましい。0.1質量部以上であれば、絶縁性比抵抗の向上や後述する金属酸化物の付着作用が得られる。1.5質量部以下であれば、圧粉磁心にした時に成形体密度が低下するのを防ぐことができる傾向がある。リン酸カルシウムの質量は、得られた被覆金属粉の質量増加分を測定することによって求めることができる。リン酸カルシウムとしては、第一リン酸カルシウムCaH2PO420~1H2O、第二リン酸カルシウム無水CaHPO4、第二リン酸カルシウムCaHPO42H2O、第三リン酸カルシウム3Ca3PO42CaOH2、リン酸三カルシウムCa3PO42、α型リン酸三カルシウムα-Ca3PO42、β型リン酸三カルシウムβ‐Ca3PO42、ヒドロキシアパタイトCa10PO46OH2、リン酸四カルシウムCa4PO42O、ピロリン酸カルシウム、ピロリン二水素酸カルシウムCaH2P2O7などが挙げられる。これらの中でも耐熱性に優れるヒドロキシアパタイトが好ましい。またヒドロキシアパタイトは、構造内にOH-基を有するため、金属酸化物、有機ケイ素化合物との反応性にも優れる。ヒドロキシアパタイトは、リン酸カルシウムの一形態であり、化学式:Ca10PO46OH2で表される。本発明に示されるヒドロキシアパタイトは、構造内の一部が他の元素に置き換えられていても良い。リン酸カルシウムとしてヒドロキシアパタイトを析出させる場合、得られるヒドロキシアパタイトの化学量論的な組成式はCa10PO46OH2であるが、大部分がアパタイト構造であって、それが維持できる限り、Ca不足ヒドロキシアパタイトのように非化学量論的な組成であってもよい。すなわち、本発明においては、Ca不足ヒドロキシアパタイトのように非化学量論的なものもヒドロキシアパタイトも含めて考える。具体的には、理論上ヒドロキシアパタイトは、Ca/P=1.66というモル比で形成されるが、Ca/Pが1.4~1.8であってもよい。また、ヒドロキシアパタイトは、特性を損なわない範囲で構造内のイオンの一部を他の元素と置換してもよい。ヒドロキシアパタイトを代表とするアパタイト化合物は、下記一般式Iで示される組成物であり、M2、ZO4―、X―を置換することで様々な化合物の組み合わせがある。X―がOH―である場合を特にヒドロキシアパタイトと呼ぶ。M10ZO46X2I一般式Iにおいて、陽イオンを与える原子M2の位置には、カルシウムに置換しうる金属のイオンが入り、具体的にはナトリウム、マグネシウム、カリウム、アルミニウム、スカンジウム、チタン、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、亜鉛、ストロンチウム、イットリウム、ジルコニウム、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、インジウム、スズ、アンチモン、テルル、バリウム、ランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオジウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウム、ハフニウム、白金、金、水銀、タリウム、鉛、ビスマス等のイオンを挙げることができる。またZO4-の位置には、PO43-、CO32-、CrO43-、AsO43-、VO43-、UO43-、SO42-、SiO44-、GeO44-等が入る。X-の位置には、OH-、ハロゲン化物イオンF-、Cl-、Br-、I-、BO2-、CO32-、O2-等が入る。なお、M2、ZO4-、X―に置換されるイオンは、1種でも2種以上であってもよい。ここで上記Xは、OH-及びF-であることが好ましい。OH-である場合は、親水性が増すことで金属粉への塗布性に優れる点で好ましく、F-である場合は、強度に優れる点で好ましい。即ち、圧粉磁心にした時の絶縁性、耐熱性、更には力学的特性に優れる点で、ヒドロキシアパタイト:Ca10PO46OH2又はフルオロアパタイト:Ca10PO46F2を用いることが特に好ましい。他の元素による各成分の置換度は、カルシウムが他の原子で置換されている場合、その置換度置換する他の原子のモル数/カルシウムのモル数は、30以下が好ましい。同様にリン酸イオンが置換されている場合も、その置換度が30以下であることが好ましいが、水酸基に関しては、他の原子に100置換されていてもよい。リン酸カルシウムは、カルシウムイオンカルシウム以外の原子を含む場合は、後述するカルシウム以外の陽イオンを与える原子Mのイオンを含む溶液と、リン酸イオンを含有する水溶液を反応させることで得られる。カルシウムイオンの代わりに、後述する原子Mのイオンを反応させた場合は、一般式Iにおいて、陽イオンを与える原子M2の位置が当該Mのイオンに置換されたリン酸カルシウムアパタイト化合物等が得られる。リン酸化合物を金属粉表面に析出するには、まず金属、プラスチック、ガラスなどの容器内にカルシウムイオンを含みアルカリ環境下にpH調整を行った水溶液と金属粉を入れ、次いで、リン酸イオンを含む水溶液を添加し、混合後の水溶液中のpHを7以上、Ca/Pを所望の比に調製する。水溶液を調整後、水溶液と水溶液中の金属粉を解砕させながら、混合することが好ましい。この場合、添加順序を変えてリン酸イオンを含む水溶液と金属粉を入れ、後からカルシウムイオンを含む水溶液を添加してもよい。またリン酸イオンを含む水溶液と金属粉及び、カルシウムイオンを同時に入れてもよい。カルシウムイオンとしては、カルシウム化合物に由来するものであれば特に制限はない。具体的には、例えば、カルシウムイオン源としては、水酸化カルシウム等の無機塩基のカルシウム塩、硝酸カルシウム等の無機酸のカルシウム塩、酢酸カルシウム等の有機酸のカルシウム塩、有機塩基のカルシウム塩等を挙げることができる。前記リン酸源としては、リン酸や、リン酸二水素アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム等のリン酸塩、ピロリン酸二リン酸やメタリン酸などの縮合リン酸を挙げることができる。これらのリン酸化合物のうち、水溶液中でリン酸とカルシウムイオンを与える塩硝酸塩、酢酸塩、炭酸塩、硫酸塩、塩化物、水酸化物を反応させることで析出できるものであればいかなるリン酸化合物でもよい。また、混入される不純物の面を考慮すると、リン酸アンモニウム塩を用いて析出させるものが特に良い。金属粉表面にリン酸カルシウムを形成時の反応溶液は、中性領域~塩基性領域であることが好ましい。これにより、金属粉表面の酸化を防ぐことができ、尚且つリン酸カルシウムのうち、特にヒドロキシアパタイトを形成させることができる。形成時の反応溶液は、リン酸カルシウム類の溶解度積を考慮してもpH7以上であることが好ましく、より好ましくは8~11であり、さらに好ましくは10~11である。ヒドロキシアパタイトは、酸性領域では溶解し、中性域ではヒドロキシアパタイト以外のリン酸カルシウムが析出または混在する。また酸性領域では、金属粉の種類によっては、酸化されてしまい、一部酸化物に変換されてサビを生じて変色するものもある。そのためアンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基を用いて、反応液のpHを正確に調整する必要がある。前記解砕とは、撹拌時において金属粉同士の摩擦や衝突によって金属粉にせん断力がかかることを利用して、金属粉の凝集した部分を解きほぐすことをいう。金属粉を解砕しながら金属粉を含む水溶液を混合する方法としては、プラネタリーミキサー、ボールミル、ビーズミル、ジェットミル、ミックスローター、エバポレーター、超音波分散、などの湿式撹拌可能であるものであれば、いかなるものも使用できる。中でも、ミックスローターなどで回転数を調節し、サンプルに応じた撹拌を行うことが好ましい。金属粉の中でも圧粉磁心用の鉄粉は、アトマイズ法で製造され、比較的広い粒度分布を有し、粉砕不十分な粗大な鉄粉や鉄粉同士の凝集がみられる。粗大な粉末の混入は、磁気特性や成形体密度の低下要因にもなりうるため、このような撹拌を行うことで、磁気特性や成形体密度の低下を防ぎながら、金属粉にリン酸カルシウムを被覆することが可能となる。上記撹拌速度としては、使用する容器の容積と使用する金属粉の質量や見かけ体積、また水溶液の体積によって、その最適回転速度は変化するが、例えば容器の容積1000cm3、使用する金属粉300g、水溶液の体積が金属粉の見かけ体積の120~130の場合、30~300rpmが好ましく、40~100rpmがより好ましい。この際、容器の回転に伴い、金属粉が容器内壁を適度に流動することが必要とされ、300rpm以上だと、金属粉が流動せずに内壁に張り付いて回転してしまい、結果的に効率的な撹拌が行われない。一方、30rpm未満だと、容器の回転が遅すぎて、金属粉の自重によって容器内底部撹拌時の一番低い位置の位置に一定的に留まる状態を引き起こし、撹拌が全く行われない。金属粉表面へのリン酸カルシウムの形成時の反応温度は、室温でも特に問題はないが、温度を高めることで反応を促進させ、形成に要する時間を短縮することもできる。反応温度としては、50°C以上であることが好ましく、70°C以上であることがより好ましい。金属粉表面へのリン酸カルシウムの形成時の反応時間としては、カルシウムイオンを含む水溶液とリン酸イオンを含む水溶液の濃度により異なる。各イオンを含む溶液の濃度は、それぞれ0.003~1.0Mの範囲であることが好ましい。各イオンを含む溶液の濃度は、それぞれ0.001~2.0Mの範囲が好ましく、0.1~1.0Mの範囲とすることがより好ましい。この場合の反応時間としては、1~10時間とすることが好ましく、2~5時間であることがより好ましい。2.0M以上だと、金属同士が凝集しやすくなり、成形体とした際の低密度が問題となる。一方、0.01M以下だと、反応時間が必要以上に長くなり、選定した材料次第では、金属粉の均一な被覆が困難となる。また反応時間が少ない場合、例えば1~10分程度では、金属粉表面に目的とするリン酸カルシウムの生成が不十分であり、収率低下、絶縁性比抵抗の不足を招く。金属粉表面へのリン酸カルシウムの形成時の水溶液量としては、容器の回転とともに金属粉が効率的に流動できる量が必要とされ、使用する金属粉のみかけ体積の100~200が好ましく、110~140がより好ましく、120~130が最も好ましい。次に、金属酸化物について説明する。本実施形態に関する金属酸化物は、水中で金属粉表面にリン酸カルシウムを形成させる際または形成後に、該水溶液中に金属酸化物を添加することで、金属粉表面に金属酸化物を形成させる。金属酸化物は、主にリン酸カルシウム上に形成されるが、その一部がリン酸カルシウムの内部あるいは金属粉表面に形成していてもかまわない。前述したリン酸カルシウムと金属酸化物を用いて、無機物による均一な絶縁層を形成させることで高い比抵抗が得られる。金属酸化物は、粉末状のものを使用してもよいが、スラリー状のものの方が好ましい。すなわち、金属酸化物は溶媒水や有機溶剤中で凝集せずに分散していることが好ましい。上記金属酸化物を金属粉表面に形成させる工程において、金属酸化物の添加は、リン酸カルシウムの形成時または形成後に添加する。これは、金属粉のリン酸カルシウムによる被覆は、水を溶媒として行うため、金属酸化物の滴下手順は、特に限定されないという意味である。形成時に金属酸化物を投入するとリン酸カルシウムと金属酸化物が混在することになり、鉄粉全体にわたりリン酸カルシウムと金属酸化物の分布が均一で、尚且つ密な層が形成される。一方、リン酸カルシウム層形成後、金属酸化物を添加した場合には、リン酸カルシウム層表面に微細な金属酸化物膜が形成される。特に、成形体作製時にクラックの生じやすい凹凸のある表面部位に集中して金属酸化物が付着するため緩衝材としての効果がより高くなる。金属酸化物としては、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化亜鉛、酸化珪素、酸化錫、酸化銅、酸化ホルミウム、酸化ビスマス、酸化コバルト、酸化インジウムなどが挙げられる。これらの金属酸化物は、単独で又は二種類以上組み合わせて使用することができ、粉末のまま投入してもよいが、スラリーのような形態が好ましい。目的とする金属酸化物の粉末を適当な溶媒水や有機溶媒に分散させて使用することでより均一な微粒子膜を形成させることができる。金属酸化物の分散方法は、特に限定されないが、具体的には、ビーズミル、ジェットミルなどの機器を用いた粉砕方法や、超音波分散などが例示できる。またスラリーとして販売されている製品をそのまま使用してもよい。形状は、球状、ダルマ状などの様々なものがあるが、特に制限はない。具体的なスラリー製品としては、シーアイ化成株式会社製のNanoTekSlurryシリーズや扶桑化学工業株式会社のクォートロンPLシリーズやSPシリーズ、日産化学工業株式会社製のスノーテックスシリーズコロイダルシリカ、オルガノゾル、アルミナゾル、ナノユース、株式会社アドマテックスのアドマファインなどが例示できる。金属酸化物の粒子径としては、様々な大きさのものが使用できるが、成膜性のためにはサブミクロン以下の粒子径であることが好ましい。これら金属酸化物の平均粒子径は、動的光散乱法やレーザー回折法などの機器分析を用いて測定することができる。またリン酸カルシウム表面に形成された微細な金属酸化物をSEMなどの電子顕微鏡や光学顕微鏡などを用いた直接観察して測定することもできる。直接観察した際は、例えば、1枚の走査型電子顕微鏡写真内から任意に当該金属酸化物粒子10個選定し、10個の各々の測定値を得、この各々の測定値の総和を10で除した平均値を粒子径と言う。以下、単に粒子径とのみ記載する。金属酸化物の粒子径としては、平均粒子径で10nm以上350nm以下であることが好ましい。粒子径の大きな金属酸化物を用いるほど、絶縁性に優れ、粒子径の細かな金属酸化物を用いるほど、成形体にした際の強度や成形体密度が高くなる傾向にある。また金属粉表面の被覆率を向上させる点、また金属酸化物層をより密なものとする点で、粒子径の異なる金属酸化物を併用することもできる。金属粉表面に堆積する比較的大きな金属酸化物間に細かな金属酸化物微粒子が混在することで、高密度な絶縁物形成が可能となる。また金属粉表面の凸部曲部では、粒子径が100nm以上の金属酸化物では、均一な被膜形成が困難である。金属酸化物での被膜形成の難しい凸部曲部では、粒子径で100nm未満、より好ましくは50nm以下の金属酸化物を用いることで被膜の均一性を向上させることができる。金属酸化物を分散させる溶媒としては、特に制限はなく、具体的には、メタノールやエタノール、イソプロピルアルコールなどに代表されるアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトンに代表されるケトン系溶剤、トルエンに代表される芳香族系溶剤が挙げられる。また水を用いても何ら問題ない。なお、金属酸化物の添加量は使用する金属粉100質量部に対し、0.05~2.0質量部とすることが好ましい。添加量が0.05質量部以上であれば、金属酸化物が金属粉に均一に被覆でき、絶縁性比抵抗の向上効果が得られる傾向がある。一方2.0質量部以下であれば、圧粉磁心にした際に成形体密度の低下を防ぎ、かつ得られる圧粉磁心の抗折強度の低下も防ぐことができる傾向がある。次に、有機ケイ素化合物について説明する。有機ケイ素化合物の第1の態様は、アルコキシシラン又はその反応物である。アルコキシシラン又はその反応物は、鉄を主成分とする金属粉と、該金属粉表面に形成された絶縁層の表面又は内部に形成される。アルコキシシランのアルコキシ基と、ヒドロキシアパタイトの構造内のOH-基、金属酸化物表面のOH-基とが加水分解した際は、その反応物である、アルコキシシランの加水分解物及び/又はアルコキシシランの加水分解縮合物が絶縁層の表面又は内部に形成される。この場合、アルコキシシランと、ヒドロキシアパタイト及び金属酸化物とが強固に結合すると考えられるため、このような被覆金属粉からなる圧粉磁心は、より優れた絶縁性、機械的特性を示す。アルコキシシランは、低分子から高分子まで様々な化合物が使用でき、得られる成形体の比抵抗及び成形体の強度の向上効果があればいかなる化合物も使用できる。このようなアルコキシシランは、無機物‐金属粉表面及び被覆された金属粉同士を強固に接合する機能バインダ成分を持つとともに、成形体作製時の加圧成形の際には、潤滑剤としても機能し、過剰応力によって絶縁層が破壊されることを防止するために作用する。このため、圧粉磁心の強度の向上や、渦電流損の低減にも効果的である。一方、アルコキシシランのようなバインダ成分を用いず無機物のみでも、少なからず比抵抗は発現するものの、その磁気特性は、非常に低いものである。アルコキシシランは、圧粉磁心の強度向上だけでなく、比抵抗向上のためにも有効に作用している。アルコキシシランは、リン酸カルシウムや金属酸化物などの無機物を付着させた後に金属粉表面を被覆することで圧粉磁心に対して上記の効果を付与する。またアルコキシシランは、金属酸化物微粒子を含有する溶液と同時に添加し、攪拌混合することで、両者を同時に金属粉表面に付着させてもよく、複数回この作業を繰り返すことで、より均一な樹脂被膜を形成することもできる。なお、溶媒の乾燥促進や、アルコキシシランの縮合反応などを目的として、加熱処理を行ってもよい。このようなアルコキシシランとしては、下記一般式IIで表される化合物を用いることができる。R1nSiOR24-nII式中nは1~3の整数であり、R1及びR2は一価の有機基を示す。前記一般式IIにおいて、R1として具体的には、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、C1~C6炭素数が1~6のアルキル基等を挙げることができる。また、R2としては、一価の有機基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基等が挙げられる。前記一般式IIで表されるアルコキシシランの具体例としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、iso-プロピルトリメトキシシラン、n-ブチルトリメトキシシラン、tert-ブチルトリメトキシシラン、n-ペンチルトリメトキシシラン、n-ヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ベンジルトリメトキシシラン、フェネチルトリメトキシシラン等のトリメトキシシラン類、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、iso-プロピルトリエトキシシラン、n-ブチルトリエトキシシラン、tert-ブチルトリエトキシシラン、n-ペンチルトリエトキシシラン、n-ヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシランPTES、ベンジルトリエトキシシラン、フェネチルトリエトキシシラン等のトリエトキシシラン類、ジフェニルジメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、エチルメチルジメトキシシラン、メチルn-プロピルジメトキシシラン、メチルiso-プロピルジメトキシシラン、n-ブチルメチルジメトキシシラン、メチルtert-ブチルジメトキシシラン、メチルn-ペンチルジメトキシシラン、n-ヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ベンジルメチルジメトキシシラン、フェネチルメチルジメトキシシラン等のジメトキシシラン類、ジメチルジエトキシシラン、エチルメチルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルn-プロピルジエトキシシラン、メチルiso-プロピルジエトキシシラン、n-ブチルメチルジエトキシシラン、メチルtert-ブチルジエトキシシラン、メチルn-ペンチルジエトキシシラン、n-ヘキシルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジエトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、ベンジルメチルジエトキシシラン、フェネチルメチルジエトキシシラン等のジエトキシシラン類、などを挙げることができる。これらのアルコキシシランは、単独で又は二種類以上組み合わせて使用することができる。これらの中でも、構造内にフェニル基またはベンジル基を有するものが好ましい。これらのアルコキシシランは、焼鈍後もCまたはSiO2などとして多く残るため耐熱性に優れる。アルコキシシランを溶解させる溶媒は、アルコキシシランを十分に溶解できるものであれば、いかなる溶媒も使用できる。例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、ベンゼン、キシレン、トルエンなどの芳香族系溶媒、エタノール、メタノールなどのアルコール系溶媒などに代表される有機溶媒を用いることもできる。なお、これらの中から任意に選んだ2種以上の溶媒を適当な配合で組み合わせて使用してもよい。アルコキシシランは、微量の被覆金属粉の表面付着水と反応することで加水分解が進み、表面に強固な絶縁膜を形成する。反応促進を目的に、必要に応じて水を加えても良い。アルコキシシランの量は、金属粉100質量部に対して、0.01~3.0質量部が好ましく、より好ましくは、0.05~1.5質量部である。3.0質量部以上では、成形体密度が著しく低下し、かつ比抵抗も低くなる傾向にある。一方、アルコキシドの割合が少なくなりすぎると、十分な金属粉同士の付着や比抵抗向上効果が得られない。アルコキシシランは、官能基により、成形体とした際の強度や耐熱性が大きく異なる。さらに官能基の置換により様々な溶剤に可溶となる。混合後、加熱あるいは風乾により溶媒を乾燥させて、使用しているアルコキシシランの性質、用途、要求特性などを考慮し、硬化焼付け処理を行うこともできる。熱処理の温度としては、使用する溶媒にもよるが、70~250°Cで10~300分程度行うことが好ましい。熱処理は、空気中でも不活性ガスN2、Ar等雰囲気下でもどちらでも構わない。有機ケイ素化合物の第2の態様は、シリコーン樹脂である。シリコーン樹脂としては、下記1、2及び3の化合物の少なくとも1種を含有するものが好ましい。12官能性のシロキサン単位D単位からなるポリオルガノシロキサン例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン21官能性のシロキサン単位M単位、3官能性のシロキサン単位T単位及び4官能性のシロキサン単位Q単位の少なくとも1つからなるポリオルガノシロキサン例えば、M単位とQ単位とからなるMQレジンと、2官能性のシロキサン単位D単位をからなるポリオルガノシロキサン例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンとの混合物この混合物は室温で粘着性を有するのもであっても、加熱により粘着性を生じるものであってもよい31官能性のシロキサン単位M単位、3官能性のシロキサン単位T単位及び4官能性のシロキサン単位Q単位の少なくとも1つと、2官能性のシロキサン単位D単位。例えば、ジメチルシロキサン単位、メチルフェニルシロキサン単位とからなるポリオルガノシロキサンD単位の数は、M単位、T単位及びQ単位の合計数より多いことが好ましい。当該ポリオルガノシロキサンとしては、T単位及びQ単位の少なくとも1つと、D単位とからなるオルガノシロキサンが好ましい。シリコーン樹脂は、硬化型特には熱硬化型のシリコーン樹脂が好ましい。このシリコーン樹脂被膜は、無機絶縁物の表面を被覆する絶縁被膜として機能するのみならず、構成粒子間の結合するバインダとしても機能する。シリコーン樹脂がゲル化する変態温度はシリコーン樹脂の種類によって異なるため一概に特定することはできないが、ほぼ150~300°C程度である。この温度に加熱することで軟磁性粉末の粒子表面に付着したシリコーン樹脂は硬質なシリコーン樹脂被膜となる。このシリコーン樹脂被膜は、温度の上昇に伴い、シロキサン結合が進行するため、焼鈍等の高温加熱処理を行うことで部分的な架橋から全体的な架橋となり、被膜強度が向上する。また、このシリコーン樹脂皮膜は耐熱性に優れるため、成形後の圧粉磁心に対して焼鈍等の高温加熱を行っても破壊等されず、前記の架橋が一層進行して、磁心用粉末の粉末同士の結合が強化される。シリコーン樹脂は、熱によって縮合硬化する加熱硬化型と、室温で硬化する室温硬化型に大別される。前者は熱を加えることで官能基が反応しシロキサン結合が起こることで架橋が進行し、縮合硬化が生じる。一方、後者は加水分解反応により室温で官能基が反応し、シロキサン結合が起こることで架橋が進行し、縮合硬化する。シリコーン樹脂のシラン化合物の官能基数は、1から最大で4つまである。本発明で用いるシリコーン樹脂の官能基数に制限はないが、3または4の官能性シラン化合物を有するシリコーンを用いることで架橋密度が高くなり好ましい。シリコーン樹脂の種類としては、レジン系をはじめ、シラン化合物系、ゴム系シリコーン、シリコーンパウダー、有機変性シリコーンオイル、またはそれら複合物など、用途によって形態が異なる。本発明では、いずれのシリコーン樹脂を用いても良い。もっとも、レジン系のコーティング用シリコーン樹脂、すなわち、シリコーンのみで構成されているストレートシリコーンレジンあるいはシリコーンと有機系ポリマーアルキド、ポリエステル、エポキシ、アクリルなどとで構成されている変性用シリコーンレジンを用いると、耐熱性、耐候性、耐湿性、電気絶縁性、被覆する際の簡便性の点で好ましい。シリコーン樹脂としては、Si上の官能基が、メチル基またはフェニル基となっているメチルフェニルシリコーン樹脂が一般的である。フェニル基を多く持つ方が、耐熱性に優れる傾向にあるためより好ましい。なお、シリコーン樹脂のメチル基とフェニル基の比率や官能性については、FT-IR等で分析可能である。本発明で使用されるシリコーン樹脂としては、たとえば東レダウコーニング株式会社製の、SH805、SH806A、SH840、SH997、SR620、SR2306、SR2309、SR2310、SR2316、DC12577、SR2400、SR2402、SR2404、SR2405、SR2406、SR2410、SR2411、SR2416、SR2420、SR2107、SR2115、SR2145、SH6018、DC6-2230、DC3037、DC3074、QP8-5314、217FlakeResinや、モメンティブパフォーマンス株式会社製のYR3370、YR3286、TSR194、TSR125R、信越化学工業株式会社製のKR251、KR255、KR114A、KR112、KR2610B、KR2621-1、KR230B、KR220、KR220L、KR285、K295、KR300、KR2019、KR2706、KR165、KR166、KR169、KR2038、KR221、KR155、KR240、KR101-10、KR120、KR105、KR271、KR282、KR311、KR211、KR212、KR216、KR213、KR217、KR9218、SA-4、KR206、KR5206、ES1001N、ES1002T、ES1004、KR9706、KR5203、KR5221、X-52-1435などが挙げられる。ここに挙げた以外のシリコーン樹脂を使用しても構わない。また、これらの物質、あるいはこれらの原料物質を変成したシリコーン樹脂を使用しても構わない。さらに、種類、分子量、官能基が異なる2種以上のシリコーン樹脂を、適当な割合で混合したシリコーン樹脂を使用しても構わない。シリコーン樹脂被膜の付着量は、金属粉に対して、0.01~0.8質量となるように調整することが好ましい。0.01質量より少ないと、絶縁性に劣り、電気抵抗が低くなる。一方、0.8質量より多く加えると、加熱乾燥後の粉末がダマになりやすく、またそのようなダマ状の粉末を用いて作製する成形体の高密度化が達成しにくく、成形時に被膜が破壊されてしまうため渦電流損の低減も不十分となりやすい。シリコーン樹脂被膜は、アルコール類や、ケトン類、トルエン、キシレン等の石油系有機溶剤等にシリコーン樹脂を溶解させ、この溶液と鉄粉とを混合して有機溶媒を揮発させることにより形成することができる。被膜形成条件は、特に限定されるわけではないが、固形分が0.5~5.0質量になるように調製した樹脂溶液を、前記した絶縁粒子によって被覆された磁性粉末100質量部に対し、0.5~10質量部程度添加して混合し、乾燥すればよい。0.5質量部より少ないと混合に時間がかかることや、被膜が不均一になる恐れがある。一方、10質量部を超えると溶液量が多いため乾燥に時間がかかったり、乾燥が不充分になる恐れがある。樹脂溶液は適宜加熱しておいても構わない。シリコーン樹脂被膜の厚みは、磁束密度の低下に大きく影響を与える。そのため10~500nmが好ましい。より好ましい厚みは20~200nmである。また無機絶縁物とシリコーン樹脂被膜との合計厚みは100nm~1500nmとすることが好ましい。シリコーン樹脂の乾燥工程は、用いた有機溶剤が揮発する温度で、かつシリコーン樹脂の硬化温度未満に加熱して有機溶剤を充分に蒸発揮散させることが望ましい。具体的な乾燥温度としては、各有機溶媒の沸点以上の温度で行うことになるが、例えば、ケトン類などの溶媒を用いた場合の乾燥の具体例としては、100~250°Cで10~60分の加熱乾燥を行うとよく、より好ましくは120~200°Cで10~30分加熱乾燥することが好適である。前記乾燥工程では、樹脂被膜の乾燥溶媒の除去とともにシリコーン樹脂の予備硬化を目的としている。予備硬化によって、温間成形時100~250°C程度に磁性粉末の流れ性を確保することができる。具体的な手法としては、シリコーン樹脂被膜が形成された磁性粉末を、シリコーン樹脂の硬化温度近傍で短時間加熱する。この予備硬化と硬化との違いは、予備硬化では、粉末同士が完全に接着固化することなく、容易に解砕が可能であるのに対し、粉末の成形後に行う高温加熱処理工程焼鈍では、樹脂が硬化して粉末同士が接着固化して成形体強度が向上する。上記したように、シリコーン樹脂を予備硬化させた後、解砕することで金型充填時に流動性に優れた粉末が得られる。予備硬化させないと、例えば温間成形の際に粉末同士が付着して、成形型への短時間での投入が困難となることがある。実操業上、ハンドリング性の向上は非常に有意義であり、予備硬化させることによって、得られる圧粉磁心の比抵抗が向上することが見出されている。この理由は明確ではないが、硬化の際の鉄粉との密着性が上がるためではないかと考えられる。また必要に応じて乾燥後に凝集ダマを除くことを目的として、目開き50~500μm程度の篩を通過させてもよい。圧粉磁心の製造圧粉磁心は、上述した被覆金属粉を加圧及び加熱する工程を含む製造方法で得ることができる。ここで圧粉磁心の製造方法は、被覆金属粉に必要に応じて潤滑剤を混合し、それを加圧及び加熱する工程を含んでもよい。即ちこの圧粉磁心は、被覆金属粉に必要に応じて潤滑剤を混合し、それを加圧及び加熱して得られても構わない。また潤滑剤は、適当な分散媒に分散して分散液とし、それを金型ダイス内壁面パンチと接触する壁面に塗布、乾燥してから使用することもできる。作製した被覆金属粉は、大きく磁心用粉末を成形用金型へ充填する充填工程と、この圧粉磁心用金属粉を加圧成形する成形工程とを経て圧粉磁心と呼ばれる成形体となる。成形用金型へ充填した圧粉磁心用被覆金属粉上記混合粉末を含むの加圧成形は、冷間、温間、熱間を問わず、粉末中に内部潤滑剤等を混合した一般的な成形法により行っても良い。しかし、高密度化による磁気特性の向上を図る観点から、次に述べる金型潤滑温間加圧成形法を採用するのがより好ましい。これにより、成形圧力を大きくしても、成形用金型の内面と被覆金属粉との間でかじりを生じたり抜圧が過大となったりせず、金型寿命の低下も抑制できる。そして、高密度な圧粉磁心を試験レベルではなく、工業レベルで量産可能となる。潤滑剤としては、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸リチウムなどの金属石鹸、ワックス等の長鎖炭化水素、シリコーンオイル等が使用できる。成形工程における加圧の程度は、圧粉磁心の仕様や製造設備等により適宜選択されるが、上記金型潤滑温間加圧成形法を用いた場合、従来の成形圧力を超越した高圧力下で成形可能である。このため、硬質なFe-Si系磁性粉末であっても、高密度な圧粉磁心を容易に得ることができる。その成形圧力は、例えば、500MPa以上、1000MPa以上、2000MPaさらには2500MPaともできる。成形圧力が高圧である程、高密度の圧粉磁心が得られるが、2000MPa以下で十分である。そこまで高圧成形すると圧粉磁心の密度は真密度に近づき、それ以上の高密度化が実質的に望めず、成形圧力を700~1500MPaとするとことが金型寿命や生産性の観点から好ましい。被覆金属粉を加圧成形すると、その内部には残留応力や残留歪を生じる。これを除去するために、成形体を加熱、徐冷する熱処理工程焼鈍を施すと好適である。これにより、ヒステリシス損が低減される。また、交番磁界に対する追従性等の良好な圧粉磁心が得られる。なお、焼鈍工程で除去される残留歪等は、成形工程前から金属粉内に蓄積された歪等であっても良い。残留歪等は、熱処理温度が高い程、有効に除去される。最も、耐熱性を有する有機ケイ素処理絶縁層であっても少なくとも部分的な破壊を生じる。そこで、有機ケイ素処理絶縁層の耐熱性をも考慮して熱処理温度を決定することが好ましい。例えば、熱処理温度を450~800°Cとすると、残留歪の除去と有機ケイ素処理絶縁層の保護の両立を図れる。加熱時間は、効果と経済性とから考えて、1~300分、好ましくは10~60分である。熱処理を行うときの雰囲気は、非酸化雰囲気中が好ましい。例えば、真空雰囲気や不活性ガスN2、Ar雰囲気又は還元ガスH2雰囲気である。なお、熱処理工程を非酸化雰囲気中で行うのは、圧粉磁心やそれを構成する磁性粉末が過度に酸化されて、磁気特性や電気特性が低下するのを抑止するためである。具体的には、FeOの生成やFe2SiO4層が生成する場合がある。上述した被覆金属粉を用いて作製した圧粉磁心は、例えば、モータ特に、コアやヨーク、アクチュエータ、リアクトルコア、トランス、誘導加熱器IH、スピーカ等の様々な電磁機器に利用できる。特に、この圧粉磁心は、高磁束密度と共に焼鈍等によるヒステリシス損の低減も図れ、比較的低周波数域で使用される機器等においても適応可能である。圧粉磁心の成形体密度は、7.0g/cm3以上であることが好ましく、7.3g/cm3以上であることがさらに好ましい。密度が7.3g/cm3以上であれば該圧粉磁心の磁束密度が向上する傾向がある。成形体密度g/cm3は、マイクロメーター等で寸法を測定し、圧粉磁心の質量を測定することで、質量/体積として算出できる。また、別法としてアルキメデス法を用いて、精密天秤によって決定することもできる。圧粉磁心の成形体の電気抵抗値比抵抗は、四端子法と二端子法などで測定することができるが、四端子法にて測定することが好ましい。これは、一定電流を流し込むところ電流電極と試料表面との間で、界面現象のために接触抵抗と呼ばれる電圧降下が生じるため、それを排除し、試料の真の体積抵抗率を求めるためである。即ち、四端子法では、電流印加端子と電圧測定端子とを分離することにより、接触抵抗の影響を取り除き、高精度な測定が可能となる。また四探針法では、試料に四本の針状の電極を直線上に置き、外側の二探針間に一定電流を流し、内側の二探針間に生じる電位差を測定し抵抗を求め、次に求めた抵抗に試料厚さ、補正係数をかけて体積抵抗を算出する。四探針法と四端子法とでは測定系は共通であり、試料と接触する電極部分のみが異なるものである。圧粉磁心の電気抵抗値比抵抗は、600°Cでの焼鈍プロセスを経て経られた場合に、30μΩm以上であることが好ましく、50μΩm以上であることがより好ましく、90μΩm以上であることがさらに好ましい。電気抵抗が30μΩm以上であれば、前記圧粉磁心の絶縁特性は良好に維持されていると考えられ、ヒステリシス損低減と渦電流損低減の両方の効果を得ることができる傾向がある。以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例によって制限されるものではない。実施例150mlのポリプロピレン製の円筒形容器に純鉄粉水アトマイズ粉、川崎製鉄社製KIP-304AS30gを入れ、これに硝酸カルシウム水溶液3.4ml0.358M、純水10ml、25アンモニア水0.5ml、リン酸二水素アンモニウム水溶液3.4ml0.215Mを添加した。添加後直ちに蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて撹拌した。2時間後、容器を開封し、超高純度コロイダルシリカ扶桑化学工業株式会社製クオートロンPL-1、粒子径40nm、SiO2濃度12質量を2.0g滴下し、再度蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて、1.0時間撹拌した。撹拌後の鉄粉分散液を、定量分析用No.5Cのろ紙を用いて吸引ろ過を行い、ろ過物をアセトンで洗浄した。得られた鉄粉を真空デシケータ中で乾燥して、シリカ/ヒドロキシアパタイト被覆鉄粉を得た以下、シリカをSiO2、ヒドロキシアパタイトをHAPと称する。次いで、上記SiO2/HAP被覆鉄粉30gを容量50mlのポリプロピレン製容器に入れ、信越化学工業株式会社製のフェニルトリエトキシシラン以下、PTES、0.23g/エタノール2.0gの混合液を滴下し、容器中で10分間振とうした。その後、内容物をステン製シャーレに取り出し、大気圧下、200°Cにて30分予備硬化した。得られた鉄粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、成形圧力1000MPaにて、円柱状の錠剤に成形した。この時、得られた錠剤の厚みは約5mmとなる。潤滑剤には、1massステアリン酸亜鉛/エタノール溶液を使用し、金型の壁面に塗布して成形した。この錠剤を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面の研磨後、体積抵抗率比抵抗を四探針測定器ナプソン株式会社製RT-70/RG-5で測定した測定試料数n=5。成形体の比抵抗は23.2μΩm、成形体密度は7.39g/cm3であった。比較例1HAPのみ0.6担持した被覆金属粉を作製した。すなわち、50mlのポリプロピレン製の円筒形容器に純鉄粉30gを入れ、これに硝酸カルシウム水溶液5.0ml0.358M、純水10ml、25アンモニア水0.5ml、リン酸二水素アンモニウム水溶液5.0ml0.215Mを添加した。添加後直ちに蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて撹拌した。撹拌後の鉄粉分散液を、定量分析用No.5Cのろ紙を用いて吸引ろ過を行い、ろ過物をアセトンで洗浄した。得られた鉄粉を真空デシケータ中で乾燥してHAP被覆鉄粉を得た。得られた鉄粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、成形圧力1000MPaにて、円柱状の錠剤に成形した。この時、得られた錠剤の厚みは約5mmとなる。潤滑剤には、1massステアリン酸亜鉛/エタノール溶液を使用し、金型の壁面に塗布して成形した。この錠剤を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面の研磨後、比抵抗を測定した測定試料数n=5。成形体の比抵抗は0.03μΩm、成形体密度は7.61g/cm3であった。比較例2SiO2のみを0.6担持した被覆金属粉を作製した。すなわち、50mlのポリプロピレン製の円筒形容器に純鉄粉30gを入れ、これにSiO2を1.5g滴下し、再度蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて、撹拌した。攪拌後の溶液は、2時間経過後も白濁しており、HAPによる被膜を有しない金属粉では、SiO2被膜の形成が困難なことであることが分かった。比較例3PTESのみを0.75塗布した被覆金属粉を作製した。すなわち、50mlのポリプロピレン製の円筒形容器に純鉄粉30gを入れ、これにPTES0.23g/エタノール2.0gの混合液を滴下し、容器中で10分間振とうした。その後、内容物をステン製シャーレに取り出し、大気圧下、200°Cにて30分予備硬化した。得られた鉄粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、成形圧力1000MPaにて、円柱状の錠剤に成形した。この時、得られた錠剤の厚みは約5mmとなる。潤滑剤には、1massステアリン酸亜鉛/エタノール溶液を使用し、金型の壁面に塗布して成形した。この錠剤を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面の研磨後、比抵抗を測定した測定試料数n=5。成形体の比抵抗は0.01μΩm、成形体密度は7.65g/cm3であった。比較例4HAPを0.6、SiO2を0.6担持した被覆金属粉を作製した。すなわち、50mlのポリプロピレン製の円筒形容器に純鉄粉30gを入れ、これに硝酸カルシウム水溶液5.0ml0.358M、純水10ml、25アンモニア水0.5ml、リン酸二水素アンモニウム水溶液5.0ml0.215Mを添加した。添加後直ちに蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて撹拌した。2時間後、容器を開封し、SiO2を1.5g滴下し、再度蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて、1.0時間撹拌した。撹拌後の鉄粉分散液を、定量分析用No.5Cのろ紙を用いて吸引ろ過を行い、ろ過物をアセトンで洗浄した。得られた鉄粉を真空デシケータ中で乾燥してSiO2/HAP被覆鉄粉を得た。得られた鉄粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、成形圧力1000MPaにて、円柱状の錠剤に成形した。この時、得られた錠剤の厚みは約5mmとなる。潤滑剤には、1massステアリン酸亜鉛/エタノール溶液を使用し、金型の壁面に塗布して成形した。この錠剤を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面の研磨後、比抵抗をで測定した測定試料数n=5。成形体の比抵抗は3.0μΩm、成形体密度は7.43g/cm3であった。比較例5HAPを0.6担持し、PTESを0.75塗布した被覆金属粉を作製した。すなわち、50mlのポリプロピレン製の円筒形容器に純鉄粉30gを入れ、これに硝酸カルシウム水溶液5.0ml0.358M、純水10ml、25アンモニア水0.5ml、リン酸二水素アンモニウム水溶液5.0ml0.215Mを添加した。添加後直ちに蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて撹拌した。撹拌後の鉄粉分散液を、定量分析用No.5Cのろ紙を用いて吸引ろ過を行い、ろ過物をアセトンで洗浄した。得られた鉄粉を真空デシケータ中で乾燥してHAP被覆鉄粉を得た。次いで、上記ヒドロキシアパタイト被覆鉄粉30gを容量50mlのポリプロピレン製容器に入れ、PTES0.23g/エタノール2.0gの混合液を滴下し、容器中で10分間振とうした。その後、内容物をステン製シャーレに取り出し、大気圧下、200°Cにて30分予備硬化した。得られた鉄粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、成形圧力1000MPaにて、円柱状の錠剤に成形した。この時、得られた錠剤の厚みは約5mmとなる。潤滑剤には、1massステアリン酸亜鉛/エタノール溶液を使用し、金型の壁面に塗布して成形した。この錠剤を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面の研磨後、比抵抗を測定した測定試料数n=5。成形体の比抵抗は1.7μΩm、成形体密度は7.48g/cm3であった。以上、実施例1及び比較例1~5を表1にまとめる。表1より、高い比抵抗には、リン酸カルシウムヒドロキシアパタイト:HAP、金属酸化物SiO2、アルコキシシランPTESの三成分が必須であることが分かった。続いて、SiO2の粒子径を変更して被覆金属粉を作製した。実施例250mlのポリプロピレン製の円筒形容器に純鉄粉30gを入れ、これに硝酸カルシウム水溶液3.4ml0.358M、純水10ml、25アンモニア水0.5ml、リン酸二水素アンモニウム水溶液3.4ml0.215Mを添加した。添加後直ちに蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて撹拌した。2時間後、容器を開封し、超高純度コロイダルシリカ扶桑化学工業株式会社製クオートロンPL-7、粒子径:120nm、SiO2濃度23質量を1.0g滴下し、再度蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて、1.0時間撹拌した。撹拌後の鉄粉分散液を、定量分析用No.5Cのろ紙を用いて吸引ろ過を行い、ろ過物をアセトンで洗浄した。得られた鉄粉を真空デシケータ中で乾燥してSiO2/HAP被覆鉄粉を得た。次いで、上記SiO2/HAP被覆鉄粉30gを容量50mlのポリプロピレン製容器に入れ、PTES0.23g/エタノール2.0gの混合液を滴下し、容器中で10分間振とうした。その後、内容物をステン製シャーレに取り出し、大気圧下、200°Cにて30分予備硬化した。得られた鉄粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、成形圧力1000MPaにて、円柱状の錠剤に成形した。潤滑剤には、1massステアリン酸亜鉛/エタノール溶液を使用し、金型の壁面に塗布して成形した。この時、得られた錠剤の厚みは約5mmとなる。この錠剤を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面の研磨後、比抵抗を測定した測定試料数n=5。成形体の比抵抗は45.6μΩm、成形体密度は7.32g/cm3であった。実施例1と実施例2を表2にまとめた。成形体の密度が若干低下したが、SiO2の粒子径を40nmから120nmに変更したことで比抵抗の明らかな向上がみられた。続いて、実施例2において、SiO2を他の金属酸化物に変更して実施例3~8の被覆金属粉を作製した。実施例3実施例2において、SiO2を酸化アルミニウムAl2O3、日産化学工業株式会社製、アルミナゾル100.Al2O3濃度10質量に変更した。各材料の鉄粉に対する仕込み量、被覆方法は、全て実施例2と同一とした。実施例4実施例2において、SiO2を酸化亜鉛ZnO、シーアイ化成工業株式会社製、NanoTekSlurryに変更した。各材料の鉄粉に対する仕込み量、被覆方法は、全て実施例2と同一とした。実施例5実施例2において、SiO2を酸化イットリウムY2O3、シーアイ化成工業株式会社製、NanoTekSlurryに変更した。各材料の鉄粉に対する仕込み量、被覆方法は、全て実施例2と同一とした。実施例6実施例2において、SiO2を酸化マグネシウムMgO、シーアイ化成工業株式会社製、NanoTekSlurryに変更した。各材料の鉄粉に対する仕込み量、被覆方法は、全て実施例2と同一とした。実施例7実施例2において、SiO20.8をSiO20.4とMgO0.4に変更して二種の金属酸化物を併用した。各材料の鉄粉に対する仕込み量、被覆方法は、全て実施例2と同一とした。実施例8実施例2において、SiO20.8をMgO0.4とY2O30.4に変更して二種の金属酸化物を併用した。各材料の鉄粉に対する仕込み量、被覆方法は、全て実施例2と同一とした。実施例3から実施例8にて得られた鉄粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、成形圧力1000MPaにて、円柱状の錠剤に成形した。潤滑剤には、2massステアリン酸亜鉛/エタノール溶液を使用し、金型の壁面に塗布して成形した。この錠剤を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面の研磨後、比抵抗測定した測定試料数n=5。成形体の比抵抗及び成形体密度を表3にまとめた。いずれも高い比抵抗を示し、SiO2以外には、Y2O3、MgOを用いたもので若干高い比抵抗が得られた。次に、実施例2において、アルコキシシランのみ変更して、実施例9メチルトリエトキシシラン、実施例10デシルトリエトキシしシラン、実施例11ジフェニルジエトキシシラン、実施例12テトラエトキシシランの被覆金属粉を作製した。また、実施例13としてフェニルトリエトキシシランとメチルトリエトキシシランを併用して被覆金属粉を作製し、実施例14では、フェニルトリエトキシシランとジフェニルジエトキシシランを併用して被覆金属粉を作製した。その他の工程は、いずれも実施例2と同一とした。得られた鉄粉7.0gを金型に充填し、実施例2と同様に円柱状の錠剤に成形した。潤滑剤には、2massステアリン酸亜鉛/エタノール溶液を使用し、金型の壁面に塗布して成形した。この錠剤を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面の研磨後、比抵抗を測定した測定試料数n=5。成形体の比抵抗及び成形体密度を表4にまとめた。表4より、構造内にフェニル基を有するもので高い比抵抗が得られる傾向にあることが分かった。またデシルトリエトキシシランでは、錠剤側面にクラックが生じたため、炭素数の大きいアルキル基を有するものは、あまり適さないことが推察される。表4の成形体密度を比べるといずれも7.3~7.4g/cm3であり、アルコキシシランの置換基の違いによる大幅な密度の違いは生じない。実施例21500mlのポリプロピレン製の円筒形容器に純鉄粉水アトマイズ粉、川崎製鉄社製KIP-304AS、以下鉄粉と称す300gを入れ、これに硝酸カルシウム水溶液50mL0.358M、25アンモニア水5.0mL、リン酸二水素アンモニウム水溶液50ml0.215Mを添加した。添加後直ちに蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて撹拌した。2時間後、容器を開封し、超高純度コロイダルシリカ扶桑化学工業株式会社製クオートロンPL-7、粒子径125nm、SiO2濃度23質量9.0g、超高純度コロイダルシリカ扶桑化学工業株式会社製クオートロンPL-3、粒子径70nm、SiO2濃度20質量1.8gをそれぞれ滴下し、再度蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて、1.0時間撹拌した。撹拌後の鉄粉を含む水溶液を、定量分析用No.5Cのろ紙を用いて吸引ろ過を行い、ろ過物を水で洗浄した。得られた鉄粉を真空デシケータ中で乾燥した。このようにして、鉄粉上にリン酸カルシウムを介して無機絶縁物による層を形成させた。鉄粉の重量増加量を測定したところ1.18質量であった。次いで、モメンティブパフォーマンス社製のTSR194ポリアルキルフェニルシロキサン及びエポキシ変性アルキッド樹脂を含むシリコーン変性エポキシワニスをアセトンに溶解させて、固形分濃度2.0質量の樹脂溶液を作製した。得られたシリコーン樹脂溶液を鉄粉に対して樹脂固形分が0.2となるように添加混合し、200°Cにて30分間加熱乾燥した。得られた鉄粉を目開きが250μmの篩を用いて分級し、巨大会合粒子を除去し、0.2質量の樹脂が被覆された被覆金属粉を作製した。次に得られた被覆金属粉を用いて成形体を作製した。ステアリン酸亜鉛をアルコールに分散させて金型表面に塗布した後、前記被覆金属粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、成形圧力1000MPaにて、円柱状の錠剤に成形した。この時、得られた錠剤の厚みは約5mmであった。成形体の即部や上面底面には、クラックや突起もみられず、成形性も特に問題なかった。この錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面の研磨後、比抵抗を測定した結果、成形体の比抵抗は131μΩmであった測定試料数n=5。また、得られた成形体の寸法と質量測定を行ったところ成形体密度は、7.24g/cm3であった。比較例11実施例21において、シリコーン樹脂TSR194をコートせず無機絶縁層のみを鉄粉上に形成させ、得られた被覆鉄粉を用いて成形体を作製した。得られた成形体を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍した。成形体表面研磨後の比抵抗及び得られた成形体の成形体密度を測定したところ、それぞれ、5.3μΩm、成形体密度7.38g/cm3であった。比較例12実施例21において、シリコーン樹脂TSR194、0.2質量のみを鉄粉上に形成させ、得られた被覆鉄粉を用いて成形体を作製した。得られた成形体を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面研磨後の比抵抗及び得られた成形体の成形体密度を測定したところ、それぞれ、18μΩm、成形体密度7.54g/cm3であった。比較例13実施例21において、シリコーン樹脂をTSR194からレゾール型変性フェノール樹脂S890カネボウ株式会社製に変えて成形体を作製した。得られた錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面研磨後の比抵抗及び得られた成形体の成形体密度を測定したところ、それぞれ、29μΩm、成形体密度7.25g/cm3であった。実施例21及び比較例11~13の比抵抗成形体密度を比較すると、比較例11シリコーン樹脂がなく、無機絶縁物のみ、比較例12シリコーン樹脂のみは、ともに比抵抗が低く十分な絶縁性が得られない。比較例13では、樹脂としてフェノール樹脂を選定し、ほぼ同等の成形体密度は得られているが、樹脂の耐熱性が不十分であり実施例1のような高い比抵抗が得られなかった。以上より、600°Cという高い焼鈍後も高い比抵抗を維持するためには、無機絶縁層とシリコーン樹脂有機ケイ素処理絶縁層が必須であると言える。次いで、TSR194以外のシリコーン樹脂を検討した。実施例22~25に示す。実施例22実施例21のシリコーン樹脂をTSR194からYR3286東レダウコーニング社製、メチル系シリコーン粘着剤を変更した以外は、全て実施例21と同様の処理を行った。この錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面研磨後の比抵抗を測定したところ102μΩm、成形体密度は7.23g/cm3であった。実施例23実施例21のシリコーン樹脂をTSR194からSH805モメンティブパフォーマン株式会社社製、フェニルメチル系、高分子量タイプの加熱硬化型シリコーンレジンに変えて成形体を作製した。シリコーン樹脂を変更した以外は、全て実施例21と同様の処理を行った。この錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面研磨後の比抵抗を測定したところ88μΩm、成形体密度は7.28g/cm3であった。実施例24実施例21のシリコーン樹脂をTSR194からYR3370東レダウコーニング社製、メチル系シリコーンレジンに変えて成形体を作製した。シリコーン樹脂を変更した以外は、全て実施例21と同様の処理を行った。この錠剤を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面研磨後の比抵抗を測定したところ、59μΩm、成形体密度は7.28g/cm3であった。実施例25実施例21のシリコーン樹脂をTSR194からKR311信越化学工業株式会社製、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジンに変えて成形体を作製した。シリコーン樹脂を変更した以外は、全て実施例21と同様の処理を行った。この錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面研磨後の比抵抗を測定したところ、52μΩm、成形体密度は7.24g/cm3であった。実施例26実施例21のシリコーン樹脂をTSR194から840RESIN東レダウコーニング社製、メチルフェニル系シリコーンレジンに変えて成形体を作製した。シリコーン樹脂を変更した以外は、全て実施例1と同様の処理を行った。この錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面研磨後の比抵抗を測定したところ、72μΩm、成形体密度は7.24g/cm3であった。実施例22~26の結果より、いずれのシリコーン樹脂においても高い比抵抗が得られている。これは、金属粉表面に形成された結合剤リン酸カルシウムと金属酸化物による均一な無機絶縁層と耐熱性に優れるシリコーン樹脂の相乗効果により優れた絶縁性が発現しているものと考えられる。次に、絶縁性粒子をコロイダルシリカから他の金属酸化物に変更した。以下、実施例27、28に示す。実施例27実施例21の超高純度コロイダルシリカPL3からアルミナスラリーシーアイ化成株式会社製、NanoTekslurry、粒子径31nm、Al2O3濃度20質量に変更した。コロイダルシリカを変更した以外は、全て実施例1と同様の処理を行った。この錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面研磨後の比抵抗を測定したところ、121μΩm、成形体密度は7.24g/cm3であった。絶縁性粒子を変更しても実施例21と同様に高い比抵抗を示した。実施例28実施例21の超高純度コロイダルシリカからイットリアスラリーシーアイ化成株式会社製、NanoTekslurry、粒子径33nm、Y2O3濃度20質量に変更した。コロイダルシリカを変更した以外は、全て実施例1と同様の処理を行った。この錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600°Cにて1時間焼鈍し、成形体表面研磨後の比抵抗を測定したところ、119μΩm、成形体密度は7.22g/cm3であった。絶縁性粒子を変更しても実施例21と同様に高い比抵抗を示した。次にシランカップリング剤の導入を検討した。以下、実施例29~32に示す。実施例29実施例21において、エポキシシランの導入を検討した。すなわち、500mlのポリプロピレン製の円筒形容器に純鉄粉水アトマイズ粉、川崎製鉄社製KIP-304AS300gを入れ、これに硝酸カルシウム水溶液50mL0.358M、25アンモニア水5.0mL、リン酸二水素アンモニウム水溶液50ml0.215Mを添加した。添加後直ちに蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて撹拌した。2時間後、容器を開封し、超高純度コロイダルシリカ扶桑化学工業株式会社製クオートロンPL-7、粒子径125nm、SiO2濃度23質量9.0g、超高純度コロイダルシリカ扶桑化学工業株式会社製クオートロンPL-3、粒子径70nm、SiO2濃度20質量1.8gをそれぞれ滴下し、再度蓋をして、回転数40rpmに設定したミックスローターにて、1.0時間撹拌した。撹拌後の鉄粉を含有する水溶液を、定量分析用No.5Cのろ紙を用いて吸引ろ過を行い、ろ過物を水で洗浄した。得られた鉄粉を真空デシケータ中で乾燥した。乾燥後の粉末の重量増加量を測定したところ1.18質量であった。次いで、モメンティブパフォーマンス社製のTSR194をアセトンに溶解させて、固形分濃度2.0質量の樹脂溶液を作製した。このシリコーン樹脂溶液にエポキシ基を有するシランカップリング剤信越化学工業株式会社製、KBM-403をシリコーン樹脂10に対して1の割合シリコーン樹脂:シランカップリング剤=10:1で添加した。得られた溶液を鉄粉に対して樹脂固形分が0.2となるように添加混合し、200°Cにて30分間加熱乾燥した。得られた被覆金属粉を目開きが250μmの篩を用いて分級し、粗大な粉末を除去し粒度を調整した。得られた被覆金属粉を用いて実施例21と同条件にて錠剤状の成形体を作製し、600°Cで焼鈍後の比抵抗、成形体密度を測定した。測定結果を表5に示す。実施例30実施例29のエポキシ基を有するシランカップリング剤からフェニル基を有するシランカップリング剤信越化学工業株式会社製、KBM103に変更した。シランカップリング剤を変更した以外は、全て実施例29と同様の処理を行った。得られた被覆金属粉を目開きが250μmの篩を用いて分級し、粗大な粉末を除去し粒度を調整した。得られた被覆金属粉を用いて実施例21と同条件にて錠剤状の成形体を作製し、600°Cで焼鈍後の比抵抗、成形体密度を測定した。測定結果を表5に示す。実施例31実施例29のエポキシ基を有するシランカップリング剤からアミノ基を有するシランカップリング剤信越化学工業株式会社製、KBM903に変更した。シランカップリング剤を変更した以外は、全て実施例29と同様の処理を行った。得られた被覆金属粉を目開きが250μmの篩を用いて分級し、粗大な粉末を除去し粒度を調整した。得られた被覆金属粉を用いて実施例21と同条件にて錠剤状の成形体を作製し、600°Cで焼鈍後の比抵抗、成形体密度を測定した。測定結果を表5に示す。実施例32実施例29のエポキシ基を有するシランカップリング剤からメタクリロキシ基を有するシランカップリング剤信越化学工業株式会社製、KBM503に変更した。シランカップリング剤を変更した以外は、全て実施例29と同様の処理を行った。得られた被覆金属粉を目開きが250μmの篩を用いて分級し、粗大な粉末を除去し粒度を調整した。得られた被覆金属粉を用いて実施例21と同条件にて錠剤状の成形体を作製し、600°Cで焼鈍後の比抵抗、成形体密度を測定した。測定結果を表5に示す。実施例29から32について、表5にまとめた。シランカップリング剤を導入することで比抵抗の向上が確認された。官能基がフェニル基実施例30、アミノ基実施例31のものでは、非常に高い比抵抗向上効果が確認でき、成形体密度の大幅な低下もみられなかった。次に、実施例21から実施例23において成形条件を変えて成形体実施例33から35を作製した。実施例33実施例21と同様にして被覆金属粉を作製し、得られた被覆金属粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、150°Cに金型を加熱しながら成形圧力1500MPaにて成形した。この錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600、650、700°Cにてそれぞれ30分間焼鈍し、成形体表面研磨後の成形体の比抵抗及び成形体密度を測定した。実施例34実施例22と同様にして被覆金属粉を作製し、得られた被覆金属粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、150°Cに金型を加熱しながら成形圧力1500MPaにて成形した。この錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600、650、700°Cにてそれぞれ30分間焼鈍し、成形体表面研磨後の成形体の比抵抗及び成形体密度を測定した。実施例35実施例23と同様にして被覆金属粉を作製し、得られた被覆金属粉7.0gを内径14mmの金型に充填し、150°Cに金型を加熱しながら成形圧力1500MPaにて成形した。この錠剤状の成形体を窒素雰囲気下、600、650、700°Cにてそれぞれ30分間焼鈍し、成形体表面研磨後の成形体の比抵抗及び成形体密度を測定した。実施例33から35の結果を表6に示す。成形条件を変更した結果、いずれも比抵抗成形体密度の向上が確認できた。金属粉は、高温になると塑性変形しやすく、室温からわずかな温度上昇によっても降伏強さは大きく低下する。またシリコーン樹脂に関しても樹脂の流動性が高まったと推察できる。そのため温間成形でかつ成形圧力を高めたことでより緻密な成形体及び絶縁被膜が形成されたと推察できる。"