"第1基板と、前記第1基板の上面に設けられた第1電極と、前記第1基板の上方に当該第1基板に対向して設けられ、透明な材料により形成された第2基板と、前記第2基板の下面に設けられ、少なくとも一部が透明な電極材料により形成された第2電極と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備えるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、前記エレクトロクロミック組成物層は、ゲル化されたゲル状エレクトロクロミック組成物を備えることを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイス。請求項1に記載のエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、前記エレクトロクロミック組成物層は、前記第1基板と前記第2基板との間の空間を、前記第1基板および前記第2基板に対して略垂直方向に貫通する複数の区画に仕切る隔壁を備え、前記ゲル状エレクトロクロミック組成物は、前記区画内に導入されていることを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイス。請求項2に記載のエレクトロクロミック表示デバイスの製造方法において、エレクトロクロミック組成物をゲル化して前記ゲル状エレクトロクロミック組成物を生成するゲル化工程と、前記ゲル状エレクトロクロミック組成物を、所定の塗布具を用いて前記隔壁の前記第1基板側または前記第2基板側の面から前記区画内へと押し込むことにより、当該区画内へと導入する押し込み工程と、を有することを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイスの製造方法。このような隔壁を設けることによって、画素間のクロストークが抑制されるので、画像の滲みを大幅に低減させることができる。しかしながら、エレクトロクロミック表示デバイスを1ミリ秒/ライン以上の高速で駆動すると、画像の滲みを十分に抑制することができず、滲んだ画像が表示されてしまう場合がある。特に、文字パターンの表示ではかなりの滲みが観測され、鮮明な文字パターンを表示することが困難であった。本発明の目的は、高速で駆動した場合であっても高品質な表示を実現することが可能なエレクトロクロミック表示デバイスおよび当該エレクトロクロミック表示デバイスの製造方法を提供することである。以上の課題を解決するため、請求項1に記載の発明は、第1基板と、前記第1基板の上面に設けられた第1電極と、前記第1基板の上方に当該第1基板に対向して設けられ、透明な材料により形成された第2基板と、前記第2基板の下面に設けられ、少なくとも一部が透明な電極材料により形成された第2電極と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備えるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、前記エレクトロクロミック組成物層は、ゲル化されたゲル状エレクトロクロミック組成物を備えることを特徴とする。請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、前記エレクトロクロミック組成物層は、前記第1基板と前記第2基板との間の空間を、前記第1基板および前記第2基板に対して略垂直方向に貫通する複数の区画に仕切る隔壁を備え、前記ゲル状エレクトロクロミック組成物は、前記区画内に導入されていることを特徴とする。請求項3に記載の発明は、請求項2に記載のエレクトロクロミック表示デバイスの製造方法において、エレクトロクロミック組成物をゲル化して前記ゲル状エレクトロクロミック組成物を生成するゲル化工程と、前記ゲル状エレクトロクロミック組成物を、所定の塗布具を用いて前記隔壁の前記第1基板側または前記第2基板側の面から前記区画内へと押し込むことにより、当該区画内へと導入する押し込み工程と、を有することを特徴とする。本発明によれば、エレクトロクロミック組成物がゲル化されているので、エレクトロクロミック組成物を構成する構成成分等がエレクトロクロミック組成物層中で沈殿したり、エレクトロクロミック組成物層中に気泡が混入したりすること等を抑制することができ、エレクトロクロミック表示デバイスを高速で駆動した場合であっても、高品質な表示を実現することが可能となる。以下、図面を参照して、本発明の好適な実施形態について説明する。ただし、本発明を適用可能な実施形態はこれに限定されるものではなく、また、本発明は図示例に限定されるものでもない。第1実施形態<エレクトロクロミック表示デバイスの構成>図1は、第1実施形態におけるエレクトロクロミック表示デバイス100を模式的に示す平面図であり、図2は、図1におけるII-II線に沿う断面図であり、図3は、図1におけるIII-III線に沿う断面図である。本実施形態におけるエレクトロクロミック表示デバイス100は、例えば、図1~図3に示すように、第1基板10と、第1基板10の上面に設けられた第1電極20...と、第1基板10の上方に第1基板10に対向して設けられた第2基板30と、第2基板30の下面に設けられた第2電極40...と、第1基板10と第2基板30との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層50と、を備えて構成される。エレクトロクロミック表示デバイス100は、例えば、第1電極20...と第2電極40...との間の通電によって表示を実施するとともに、第1電極20...と第2電極40...との間の当該表示のための通電とは逆方向の通電によって、或いは、当該表示のための通電を遮断することによって、当該表示の消去を実施するパッシブマトリクス駆動の表示デバイスである。第1電極20...は、互いに並行して延在する複数の電極である。第2電極40...は、第1電極20...と直交する方向に互いに並行して延在する複数の透明電極によりなる透明表示電極である。そして、第1電極20...と第2電極40...とが立体交差する部分に画素60...が形成されている。第1基板10は、例えば、平面状に形成された透明基板であり、エレクトロクロミック表示デバイス100の基体としての機能を有する。第1基板10の材質は、電気的に絶縁性の透明基板を構成可能な材質であれば、特に限定されるものではなく、例えば、ガラスやプラスチックを用いることができる。ガラスとしては、例えば、ソーダライム系ガラス、低アルカリホウケイ酸ガラス、無アルカリホウケイ酸ガラス、無アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリアミド類、ポリカーボネート類、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素ポリマー類、ポリエーテル類、ポリスチレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン類、ポリイミド類等が挙げられる。なお、第1基板10は、電気的に絶縁性の基板であれば、必ずしも透明基板でなくてもよい。第1基板10が透明基板でない場合、第1基板10は、白色に見えることが好ましい。したがって、第1基板10の材質をガラスやプラスチックとした場合、例えば、二酸化チタン、硫酸バリウム、カオリン等の白色顔料を配合することによって、白色に見える第1基板10を形成することができる。また、透明基板の下面に、前記白色顔料を塗布したり、白色紙や白色PETシートなどの白色シートを配置したりすることによって、白色に見える第1基板10を形成することができる。第1電極20...は、例えば、幅を有するライン状に形成された透明電極であり、互いに平行な等間隔の縞状に設けられている。第1電極20...は、図1中、列方向上下方向に延在して並列している。なお、図中、省略して8列の第1電極20を示しているが、実際には、第1電極20...は、例えば、768本のラインを成している。第1電極20...は、エレクトロクロミック組成物層50に接するように、かつ、第2電極40...に対向してエレクトロクロミック組成物層50を挟むように、第1基板10の上面に設けられている。第1電極20...は、第2電極40...と対になり、エレクトロクロミック組成物層50に通電する機能を有する。第1電極20...は、第2電極40...と立体交差、すなわち、間隔を有して交差し、その交点部分に画素60を形成している。第1電極20の材質は、透明電極を構成可能な材質であれば、特に限定されるものではない。透明電極を構成可能な材質としては、例えば、ITO膜やSnO2またはInO2をコーティングした薄膜などが挙げられる。また、ITO膜やSnO2またはInO2をコーティングした薄膜などにSnやSbなどをドーピングしたものであってもよく、MgO、ZnO、FTOなどであってもよい。なお、第1電極20は、必ずしも透明電極でなくてもよく、不透明電極であってもよい。また、第1電極20と第1基板10との間には、第1電極20毎に、各第1電極20に沿って延在する金属電極部21が設けられている。金属電極部21は、第1基板10の上面に設けられており、第1電極20によって覆われている。この金属電極部21が第1電極20に埋め込まれていることにより、第1電極20の抵抗を低減することが可能となる。その結果、通電時における第1電極20の長手方向への電圧降下を防ぐことができるため、各画素60における発色を安定させて、均一な表示を得ることが可能となる。金属電極部21の材質は、特に限定されるものではなく、金属電極を構成可能な材質であれば任意である。金属電極を構成可能な材質としては、例えば、金、白金、銀、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウム、銅、ニッケル、それらの合金等が挙げられる。第2基板30は、例えば、平面状に形成された透明基板であり、第2電極40...の支持体としての機能を有する。第2基板30の材質は、電気的に絶縁性の透明基板を構成可能な材質であれば、特に限定されるものではなく、例えば、ガラスやプラスチックを用いることができる。ガラスとしては、例えば、ソーダライム系ガラス、低アルカリホウケイ酸ガラス、無アルカリホウケイ酸ガラス、無アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリアミド類、ポリカーボネート類、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素ポリマー類、ポリエーテル類、ポリスチレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン類、ポリイミド類等が挙げられる。第2電極40...は、例えば、幅を有するライン状に形成された透明電極であり、互いに平行な等間隔の縞状に設けられている。第2電極40...は、図1中、行方向左右方向に延在して並列している。なお、図中、省略して8行の第2電極40を示しているが、実際には、第2電極40...は、例えば、1024本のラインを成している。また、各第2電極40は、それぞれ同じ数の第1電極20と交差する複数の領域に分割されている。具体的に、各第2電極40は、例えば、それぞれ192本の第1電極20と交差する4つの領域第1領域R1~第4領域R4に分割されている。第2電極40...は、エレクトロクロミック組成物層50に接するように、かつ、第1電極20...に対向してエレクトロクロミック組成物層50を挟むように、第2基板30の下面に設けられている。第2電極40...は、第1電極20...と対になり、エレクトロクロミック組成物層50に通電する機能を有する。第2電極40...は、第1電極20...と立体交差、すなわち、間隔を有して交差し、その交点部分に画素60を形成している。第2電極40の材質は、透明電極を構成可能な材質であれば、特に限定されるものではない。透明電極を構成可能な材質としては、例えば、ITO膜やSnO2またはInO2をコーティングした薄膜などが挙げられる。また、ITO膜やSnO2またはInO2をコーティングした薄膜などにSnやSbなどをドーピングしたものであってもよく、MgO、ZnO、FTOなどであってもよい。また、第2電極40と第2基板30との間には、第2電極40毎に、各第2電極40に沿って延在する金属電極部としての金属電線第1金属電線41~第4金属電線44が設けられている。第1金属電線41~第4金属電線44は、第2基板30の下面に設けられており、第2電極40によって覆われている。具体的には、図1や図4に示すように、第1金属電線41と第2金属電線42は、第2基板30の一方の端部から当該第2基板30の中央側に延在し、第2電極40の第1領域R1から第2領域R2までに亘って配されている。そして、第1金属電線41と第2金属電線42は、第2電極40の両側に互いに離間した状態で並行して設けられている。また、図1や図4に示すように、第3金属電線43と第4金属電線44は、第2基板30の他方の端部から当該第2基板30の中央側に延在し、第2電極40の第4領域R4から第3領域R3までに亘って配されている。そして、第3金属電線43と第4金属電線44は、第2電極40の両側に互いに離間した状態で並行して設けられている。なお、第1金属電線41と第2金属電線42、第3金属電線43と第4金属電線44は、それぞれ第2電極40の縁側に設けられていることが好ましい。第1金属電線41~第4金属電線44は、光透過性を有していないので、第2電極40の縁側に設けられている方が、画素60エレクトロクロミック組成物層50の発色による表示の妨げになりにくく、好適である。より具体的には、図4に示すように、第1金属電線41のうち第2電極40の第2領域R2に対応する部分は絶縁膜45で被覆されている。すなわち、第1金属電線41は、第2電極40の第1領域R1と導通可能に接続され、第2電極40の第2領域R2とは絶縁されている。つまり、第1金属電線41は、第2電極40の第1領域R1の通電に寄与することによって、第1領域R1における画素60の発色に寄与するように構成されている。また、第2金属電線42のうち第2電極40の第1領域R1に対応する部分は絶縁膜45で被覆されている。すなわち、第2金属電線42は、第2電極40の第2領域R2と導通可能に接続され、第2電極40の第1領域R1とは絶縁されている。つまり、第2金属電線42は、第2電極40の第2領域R2の通電に寄与することによって、第2領域R2における画素60の発色に寄与するように構成されている。また、第3金属電線43のうち第2電極40の第4領域R4に対応する部分は絶縁膜45で被覆されている。すなわち、第3金属電線43は、第2電極40の第3領域R3と導通可能に接続され、第2電極40の第4領域R4とは絶縁されている。つまり、第3金属電線43は、第2電極40の第3領域R3の通電に寄与することによって、第3領域R3における画素60の発色に寄与するように構成されている。また、第4金属電線44のうち第2電極40の第3領域R3に対応する部分は絶縁膜45で被覆されている。すなわち、第4金属電線44は、第2電極40の第4領域R4と導通可能に接続され、第2電極40の第3領域R3とは絶縁されている。つまり、第4金属電線44は、第2電極40の第4領域R4の通電に寄与することによって、第4領域R4における画素60の発色に寄与するように構成されている。そして、この金属電線第1金属電線41~第4金属電線44が第2電極40に埋め込まれていることにより、第2電極40の抵抗を低減することが可能となる。その結果、通電時における第2電極40の長手方向への電圧降下を防ぐことができるため、各画素60における発色を安定させて、均一な表示を得ることが可能となる。金属電線第1金属電線41~第4金属電線44の材質は、特に限定されるものではなく、金属電極を構成可能な材質であれば任意である。金属電極を構成可能な材質としては、例えば、金、白金、銀、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウム、銅、ニッケル、それらの合金等が挙げられる。また、絶縁膜45の材質は、特に限定されるものではなく、電気的に絶縁性の膜を構成可能な材質であれば任意である。電気的に絶縁性の膜を構成可能な材質としては、例えば、二酸化ケイ素SiO2や光学露光用レジスト材料などが挙げられる。エレクトロクロミック組成物層50は、第1基板10と第2基板30との間の空間を第1基板10および第2基板30に対して略垂直方向に貫通する複数の区画rに仕切る隔壁51や、隔壁51により形成された区画r...内に導入されたゲル状エレクトロクロミック組成物52などを備えて構成される。エレクトロクロミック組成物層50の厚みは、特に限定されるものではないが、好ましくは10μm~500μm、より好ましくは30μm~200μmに設定することによって、ゲル状エレクトロクロミック組成物52の表示機能を効果的に発現させることができる。隔壁51は、第1基板10と第2基板30との間に、一定の体積で、ゲル状エレクトロクロミック組成物52を保持する役割を有する。すなわち、隔壁51は、ゲル状エレクトロクロミック組成物52を含むことによって、ゲル状エレクトロクロミック組成物52を第1基板10と第2基板30との間で支えるとともに、隔壁51の厚みによって、ゲル状エレクトロクロミック組成物52の量を均一に制御する役割を有する。具体的には、隔壁51は、例えば図5Aに示すように、平面視六角形の六角柱形状の区画rが形成されるように仕切るものであってもよいし、例えば図5Bに示すように、平面視四角形の四角柱形状の区画rが形成されるように仕切るものであってもよい。なお、区画rの形状は、六角柱形状や四角形状に限定されるものではなく、第1基板10および第2基板30に対して略垂直方向に沿う形状であれば任意であり、例えば、その他の角柱形状であってもよいし、円柱形状であってもよい。区画rの平面視におけるサイズおよび位置は、画素60と同期する必要はない。すなわち、区画rの平面視におけるサイズおよび位置は、画素60と同期していてもよいし、画素60と同期していなくてもよい。なお、区画rが画素60と同期していない場合、区画rの平面視におけるサイズは、画素60のサイズよりも小さい方が好ましいが、画素60のサイズよりも大きくてもよい。また、区画r,r同士の間の距離は小さい方が好ましい、すなわち隔壁51の開口率は大きい方が好ましいが、これに限定されるものではなく、区画r,r同士の間の距離隔壁51の開口率は適宜選択可能である。隔壁51の材質は、上述した厚みや形状を有するものを形成できるのであれば、特に限定されるものではなく、無機材料および有機材料の何れも用いることができる。好ましい材質としては、例えば、電気的に絶縁性の無機材料としてアルミナ特に陽極酸化アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム、SiC、ガラス等、電気的に絶縁性の有機材料および高分子物質としてテフロン米国デュポン社の登録商標、ナイロン、ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネート等、半導体を含む金属酸化物材料としてTiO2、SrTiO3、ZnO、SnO2、InSnOX、Nb2O3、WO3、CuO、CoO2、MnO2、V2O5等、化合物半導体を含む金属カルコゲナイドおよび他元素複合化合物としてCdS、ZnS、GaP、GaAs、InP、FeS2、PbS、CuInS2、CuInSeなどに代表される化合物半導体、ペロブスカイト構造を有する化合物や複合化合物等、金属および半金属材料として金、白金、銀、銅、クロム、亜鉛、錫、チタン、タングステン、アルミニウム、ニッケル、鉄、シリコン、ゲルマニウム等、炭素材料としてグラファイト、グラシーカーボン、ダイヤモンド等が挙げられるが、これに限定されるものではない。隔壁51は、単一の材料から構成されていてもよいし、複数の材料から構成されていてもよい。複数の材料から構成される場合は、区画r...の内壁部分とその他の部分、区画r...の上部と下部、といったように部分毎に材料を変えて構成することも可能である。区画r...の内壁部分を構成する材料は、絶縁体材料または半導体材料が好ましい。具体的には、金属のカルコゲナイド例えば、酸化物、硫化物、セレン化物等、シリコンが好ましく、金属酸化物がより好ましく、アルミニウム、アルミナ、所定の繊維例えば、テフロン、ナイロン米国デュポン社の登録商標、ポリエステル等が最も好ましい。隔壁51の作製方法は、上述した厚みや形状を有するものを形成できるのであれば、特に限定されるものではない。好ましい作製方法の一例として、例えば、量産のために、広い面積にわたって細孔ピッチを制御しながら作製する方法、具体的には、例えば、化学反応において、イオンや分子の拡散および輸送が関わる自己組織化反応を制御することで隔壁51を作製する方法が挙げられる。この自己組織化によって規則的細孔配列を持つ隔壁51多孔性ナノ構造体、多孔質膜を作製する方法としては、下記に示すような公知の技術を応用することができる。公知の技術としては、例えば、1陽極電解酸化によって作製される陽極酸化アルミナ、2ダイヤモンドフィルム上にポーラスアルミナ膜を鋳型として載置してプラズマエッチングを行い、その後、ソフトエッチング例えば、リン酸によるソフトエッチング等によりポーラスアルミナ膜を溶かすことによって作製されるダイヤモンド多孔性ナノ構造体、3転写によって作製される金属多孔性構造体、4スパッタリング法によって基板上にアルミニウムシリコン混合膜を成膜し、混合膜中のアルミニウム領域アルミニウムを含む柱状構造体領域のみを選択的にエッチングエッチング法としては、アルミニウムのみを選択的に溶解する酸やアルカリを用いたウエットエッチングが好ましい。することによって作製されるシリコン多孔質膜、5自己組織化により作製した陽極酸化アルミナを用いて、細孔の凹凸構造をポリメタクリル酸メチルなどの重合体に一度転写した後、転写体上にゾルゲル反応などにより無機金属酸化物の層を形成させることによって作製される各種材料からなる多孔性ナノ構造体、6ブロック共重合体を利用して、数十ナノメートル間隔で膜方向に垂直に配向したミクロ相分離構造を形成することによりミクロ相分離構造膜を作製し、例えばシリンダー部分を溶解することによって作製される多孔質膜、7高分子、金属、プラスチック等に選択的エッチングにより細孔を形成することによって作製される多孔質膜、或いは、作製された多孔質膜を鋳型として用い、他の高分子、金属、プラスチック等に転写することによって作製される多孔質膜、といった多孔質体を作製する方法等が挙げられるが、これに限定されるものではない。また、好ましい作製方法の一例として、例えば、スクリーン印刷法やフォトリソグラフィー法を用いて、適宜、ハニカム状や格子状などに形成された隔壁51を作製する方法が挙げられる。スクリーン印刷法による場合は、区画r,r同士の間の距離に制限およそ30μm以上があるとともに、開孔率に制限があるが、上述した厚みや形状を有する隔壁51を作製することができる。好ましい材料としては、ゲル状エレクトロクロミック組成物52は極性溶剤を必須成分としていることから、その極性溶剤に対して耐性のあるものが好ましく、例えば、ガラスペーストや極性溶剤耐性のある熱硬化性樹脂などを用いることができる。ガラスペーストとしては、例えば、旭硝子株式会社製AP誘電体ペーストAP5346G,AP5695BD、日本電気硝子株式会社製ガラスペーストPLS-3124、日本電気硝子株式会社製粉末ガラスLS-0241等が挙げられるが、これに限定されるものではない。極性溶剤耐性のある熱硬化性樹脂としては、例えば、1液性のエポキシ樹脂具体的には、例えば、株式会社スリーボンド製スリーボンド2200シリーズのうち、2217,2217B,2219D等等が挙げられるが、これに限定されるものではない。フォトリソグラフィー法による場合は、微細な構造を有する隔壁51を作製することができる。好ましい材料としては、上述のとおり極性溶剤に対して耐性のあるものが好ましく、具体的には、例えば、アスペクト比の高い隔壁51を、1回露光で得ることができる東京応化工業株式会社製MEMS用永久レジストTMMRS-2000等などが挙げられるが、これに限定されるものではない。また、隔壁51は、上述した厚みや形状を有するものであれば、市販のものであっても良い。市販の隔壁51としては、例えば、Whatman社製アノディスクメンブレンフィルタとして入手できる酸化アルミによるメンブレンフィルタ、ミリポア社製オム二ポアメンブレン、ミリポア社製ナイロンネットフィルタ、ミリポア社製アイソポアメンブレン、日東電工株式会社製超高分子量ポリエチレン多孔質フィルムサンマップ、SefarInc製NYTALナイロンメッシュクロス、SefarInc製PETEXポリエステルメッシュクロス等が挙げられるが、これに限定されるものではない。ゲル状エレクトロクロミック組成物52は、支持電解質と、極性溶剤と、ロイコ染料と、を含むエレクトロクロミック組成物を所定のゲル化剤によりゲル化したものである。なお、ゲル状エレクトロクロミック組成物52には、エレクトロクロミック表示デバイス100の表示品質の劣化を抑制するための表示品質劣化抑制剤や、第1電極20...と第2電極40...との間の消去のための通電時にロイコ染料を吸着する吸着剤や、エレクトロクロミック組成物層50の地色の白さを増加させるための白色剤などが添加されていてもよい。ゲル状エレクトロクロミック組成物52は、エレクトロクロミック表示デバイス100の表示にかかる発色および消色の機能を有する。具体的には、ゲル状エレクトロクロミック組成物52は、第1電極20...と第2電極40...との間の通電によって発色し、発色のための通電とは逆方向の通電によって、或いは、発色のための通電を遮断することによって消色する。ゲル状エレクトロクロミック組成物52の構成成分である支持電解質は、ゲル状エレクトロクロミック組成物52内を電流が流れ易くするための機能を有する。支持電解質は、一般に溶融塩と称する化合物を含む。支持電解質は、各化合物を単独で用いてもよいし、複数を混合して用いてもよい。支持電解質は、ゲル状エレクトロクロミック組成物52全体の重量に対して、0.01~20重量となるように添加することが好ましく、前記機能の十分な発現のためには、0.1~20重量となるように添加することがより好ましい。具体的には、支持電解質は、前記機能を有する化合物であれば、特に限定されるものではなく、例えば、第1の支持電解化合物および/または第2の支持電解化合物が挙げられる。第1の支持電解化合物としては、例えば、NaClO4、LiClO4、KClO4、RbClO4、CsClO4、NH4ClO4、LiBF4、LiPF6等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、第2の支持電解化合物としては、例えば、CH34NClO4、C2H54NClO4、n-C4H94NClO4、CH34NBF4、C2H54NBF4、n-C4H94NBF4、CH34NCl、C2H54NCl、CH34NBr、C2H54NBr、n-C4H94NBr、n-C4H94NI、C6H5CH33NClO4、C6H5C2H53NClO4、C8H17CH33NClO4、C2H54NPF6、n-C4H94NPF6、CH34NCF3SO3、C2H54NCF3SO3等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。ゲル状エレクトロクロミック組成物52の構成成分である極性溶剤は、支持電解質を用い通電性を示す有機溶媒の少なくとも1種であり、ロイコ染料の消色を電圧および/または電流の遮断により促進する機能を有する。極性溶剤は、各種を単独で用いてもよいし、適宜2種類以上を組み合わせて用いてもよい。以下に、好適な極性溶剤の例を示すが、これらは例示であり、極性溶剤を限定するものではない。極性溶剤の具体例としては、例えば、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、プロピレンカーボネート、ジメチルスルフォキシド、γブチロラクトン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等が挙げられる。ゲル状エレクトロクロミック組成物52の構成成分であるロイコ染料は、無色または淡色の電子供与性染料前駆体であり、フェノール性化合物などの顕色剤、酸性物質、電子受容性物質によって発色する化合物である。ロイコ染料としては、例えば、部分骨格にラクトン、ラクタム、スルトン、スピロピラン、エステルまたはアミド構造を有する実用上無色となりうる化合物等が挙げられる。具体的には、例えば、トリアリルメタン化合物、ビスフェニルメタン化合物、キサンテン化合物、フルオラン化合物、チアジン化合物、スピロピラン化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。ロイコ染料は、前記化合物の中から適宜選択することによって、各種カラーの発色を行うことができる。したがって、ロイコ染料を用いたエレクトロクロミック表示デバイス100の表示色は、ロイコ染料によって適宜選択することができる。具体的には、例えば、ブラックに発色するロイコ染料を用いる場合は、白黒およびグレー表示が可能となる。ロイコ染料の配合量は、ロイコ染料の溶解度に依存するため、一概に表すことは難しいが、ロイコ染料は、発色のために充分な量が配合されている必要がある。溶解度が小さいロイコ染料の場合は、必要な量が含まれるように、例えば、各画素60に対応するエレクトロクロミック組成物層50の体積隔壁51の厚みを大きくする等して、ロイコ染料の配合量を調節するとよい。ゲル状エレクトロクロミック組成物52に添加可能な表示品質劣化抑制剤は、ロイコ染料の発色、消色の繰り返し動作に伴うエレクトロクロミック表示デバイス100の表示品質の劣化を抑制する機能を有する化合物である。表示品質劣化抑制剤の添加量は、ロイコ染料の含有量に対して、1~20重量となるように添加することが好ましく、前記機能の十分な発現のためには、5~20重量となるように添加することが好ましい。表示品質劣化抑制剤は、第1の表示品質劣化抑制化合物ハイドロキノン誘導体および/またはカテコール誘導体と、第2の表示品質劣化抑制化合物フェロセン誘導体と、第3の表示品質劣化抑制化合物カルボニル基を有する化合物例えば、アセトフェノン誘導体、ジベンゾイル誘導体および/またはベンゾキノン誘導体と、のうちの少なくとも何れか1種からなる。ゲル状エレクトロクロミック組成物52に添加可能な吸着剤は、例えば、酸化アルミニウムおよび/または水酸化アルミニウムである。吸着剤の添加の態様は、超音波やボールミルやホモミキサーなどのホモジナイザーを用いて、吸着剤が均一に分散している吸着剤分散液を生成し、その吸着剤分散液をエレクトロクロミック組成物に添加することが好ましいが、これに限定されるものではない。吸着剤の添加量は、用いる酸化アルミニウムおよび/または水酸化アルミニウムの活性度、粒径等により異なる。具体的には、αアルミナのように表面積の小さい酸化アルミニウム、10μm以上の粒径を有する大きな酸化アルミニウム、表面積の小さい水酸化アルミニウム、10μm以上の粒径を有する水酸化アルミニウムは、ロイコ染料の吸着効果が小さく、十分な吸着動作を発現するためには、1グラムのロイコ染料に対して、0.5グラム~5グラム、好ましくは1グラム~3グラムの添加が好ましい。また、γアルミナのように表面積の大きい酸化アルミニウム、1μm以下の粒径を有する小さい酸化アルミニウム、表面積の大きい水酸化アルミニウム、1μm以下の粒径を有する小さい水酸化アルミニウムは、ロイコ染料の吸着効果が大きいため、1グラムのロイコ染料に対して、0.1グラム~0.5グラムの添加で、十分な吸着動作を発現する。また、薄層クロマトグラフィなどに用いられる活性アルミナの類は、数10μmの粒径を有する大粒子であっても、1グラムのロイコ染料に対して、0.1グラム~0.5グラムの添加で、十分な吸着動作を発現する。ロイコ染料を吸着する吸着剤は、化成品にて容易に入手できる。以下に、好適な市販の吸着剤の例を示すが、これらは例示であり、吸着剤を限定するものではない。市販の吸着剤としては、例えば、メルク社製薄層クロマト用酸化アルミニウム60GNeutral粒径4μm~50μm、日本軽金属製ローソーダアルミナLS235粒径0.47μm,活性アルミナC200粒径4.4μm,水酸化アルミニウムB1403粒径1.5μm、住友化学製γアルミナKC501粒径1μm等が挙げられる。ゲル状エレクトロクロミック組成物52に添加可能な白色剤は、例えば、二酸化チタンや硫酸バリウムである。白色剤の添加の態様は、超音波やボールミルやホモミキサーなどのホモジナイザーを用いて、白色剤が均一に分散している白色剤分散液を生成し、その白色剤分散液をエレクトロクロミック組成物に添加することが好ましいが、これに限定されるものではない。エレクトロクロミック組成物をゲル化するためのゲル化剤は、エレクトロクロミック組成物の粘度を高めて取り扱いを容易にする機能、エレクトロクロミック組成物を構成するロイコ染料などの構成成分等が区画r...内で沈殿することを抑制する機能、エレクトロクロミック組成物を区画r...内に導入する際に気泡が混入することを抑制する機能等を有する。ゲル化剤は各種を単独で用いてもよいし、適宜2種類以上を組み合わせて用いてもよい。ゲル化剤の好ましい配合量は、エレクトロクロミック組成物全体の重量に対して、0.1~80重量とすることが好ましい。下記の式1~式7に、好適なゲル化剤の例を示すが、これらは例示であり、ゲル化剤を限定するものではない。以上に説明したゲル状エレクトロクロミック組成物52は、一例であり、その他にも電気化学的な発色が可能な組成物であれば、これを隔壁51により形成される区画r...内に導入したものをエレクトロクロミック組成物層50として用いることが可能である。例えば、本実施形態では、ゲル状エレクトロクロミック組成物52の構成成分である染料としてロイコ染料を用いたが、これに限定されるものではなく、ビオロゲン染料等のその他の有機染料を用いることも可能である。<エレクトロクロミック表示デバイスの製造方法>次に、エレクトロクロミック表示デバイス100の製造方法の一例について説明する。エレクトロクロミック表示デバイス100の製造方法は、以下の[1]~[9]の工程を有する。[1]第1の蒸着工程第1の蒸着工程は、第1基板10の上面第2基板30側の面に金属電極部21を設ける工程である。金属電極部21は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法等によって成膜され、次いで、フォトリソグラフィー法等によってパターニングされ、次いで、エッチング法等によって形成される。[2]第2の蒸着工程第2の蒸着工程は、金属電極部21の上に第1電極20を設ける工程である。金属電極部21は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法等によって成膜され、次いで、フォトリソグラフィー法等によってパターニングされ、そして、エッチング法等によって形成される。[3]第3の蒸着工程第3の蒸着工程は、第2基板30の下面第1基板10側の面に第1金属電線41~第4金属電線44を設ける工程である。第1金属電線41~第4金属電線44は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法等によって成膜され、次いで、フォトリソグラフィー法等によってパターニングされ、そして、エッチング法等によって形成される。[4]第4の蒸着工程第4の蒸着工程は、第1金属電線41~第4金属電線44の下に絶縁膜45を設ける工程である。絶縁膜45は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法等によって成膜され、次いで、フォトリソグラフィー法等によってパターニングされ、そして、エッチング法等によって形成される。[5]第5の蒸着工程第5の蒸着工程は、第1金属電線41~第4金属電線44および絶縁膜45の下に第2電極40を設ける工程である。第2電極40は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法等によって成膜され、次いで、フォトリソグラフィー法等によってパターニングされ、そして、エッチング法等によって形成される。[6]隔壁設置工程隔壁設置工程は、第1電極20...が形成された第1基板10の上面に隔壁51を設置する工程である。具体的には、例えば、第1電極20...が形成された第1基板10の上面第1電極20...が形成されている面に、ガラスペースト例えば、日本電気硝子株式会社製ガラスペーストPLS-3124等をスクリーン印刷することによって、隔壁51を設置する。或いは、例えば、第1電極20...が形成された第1基板10の上面第1電極20...が形成されている面に、フォトレジスト例えば、東京応化工業株式会社製MEMS用永久レジストTMMRS-2000等を付与する。そして、フォトリソグラフィー法等によりパターン状に立体成形することによって隔壁51を形成して設置する。なお、隔壁51は、第1電極20...が形成された第1基板10の上面ではなく、第2電極40...が形成された第2基板30の下面第2電極40...が形成されている面に設置することも可能である。[7]ゲル化工程ゲル化工程は、エレクトロクロミック組成物をゲル化して、ゲル状エレクトロクロミック組成物52を生成する工程である。具体的には、例えば、支持電解質と極性溶剤とロイコ染料とを含むエレクトロクロミック組成物を生成して、表示品質劣化抑制剤や吸着剤や白色剤などの添加物を適宜添加する。そして、所定のゲル化剤を添加し、表示品質劣化抑制剤や吸着剤や白色剤などが適宜添加されたエレクトロクロミック組成物をゲル化することによって、ゲル状エレクトロクロミック組成物52を生成する。[8]押し込み工程押し込み工程は、ゲル状エレクトロクロミック組成物52を、所定の塗布具を用いて隔壁51により形成される区画r...内へと押し込むことにより、当該区画r...内へと導入する工程である。具体的には、例えば、第1電極20...が形成された第1基板10に設置されている隔壁51の上面第2基板30側の面にゲル状エレクトロクロミック組成物52を載置する。次いで、へら等の所定の塗布具を用いて、隔壁51の上面に載置されているゲル状エレクトロクロミック組成物52を、区画r...内へと押し込みながら隔壁51の上面全体に塗り付けていくことによって、区画r...内へと導入する。そして、区画r...内へと導入されずに隔壁51の上面に残ったゲル状エレクトロクロミック組成物52を除去する。これにより、第1電極20...が形成された第1基板10の上面にエレクトロクロミック組成物層50が形成される。[9]貼り合わせ工程貼り合わせ工程は、第1電極20...が形成された第1基板10と第2電極40...が形成された第2基板30とを、エレクトロクロミック組成物層50を介して貼り合わせる工程である。具体的には、例えば、第1電極20...が形成された第1基板10の上面第1電極20...が形成されている面と、第2電極40...が形成された第2基板30の下面第2電極40...が形成されている面と、が対向するとともに、第1電極20...が第2電極40...に対して直交し、かつ、その直交部が画素60...となるように調整して、当該第1基板10の上面に形成されたエレクトロクロミック組成物層50に当該第2基板30を重ね合せる。そして、この重ね合せたものの側面を、所定の接着剤を用いて、接着封止する。これにより、エレクトロクロミック表示デバイス100が作製される。なお、上記のエレクトロクロミック表示デバイス100の製造方法は、一例であって、これに限定されるものではない。<エレクトロクロミック表示デバイスの駆動方法>エレクトロクロミック表示デバイス100は、例えば、パッシブマトリックス駆動によって、以下のように駆動される。エレクトロクロミック表示デバイス100の各画素60は、第1電極20...と第2電極40...とにより挟まれたエレクトロクロミック組成物層50によって構成される。エレクトロクロミック表示デバイス100の表示発色は、第1電極20...と第2電極40...との間に通電することによってゲル状エレクトロクロミック組成物52に通電すると、エレクトロクロミック組成物層50と第2電極40...との間第2電極40の表面にてゲル状エレクトロクロミック組成物52が電気化学的な変化を起こすことによって行われる。また、エレクトロクロミック表示デバイス100の消色は、表示のための通電とは逆方向の通電によって、或いは、表示のための通電を遮断して放置することによって行われるが、表示のための通電とは逆方向の通電の方が、速やかに消去動作を実施することができる。特に、本実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス100における第2電極40は、第1領域R1~第4領域R4の4つの領域に分割されており、第2電極40の各領域第1領域R1~第4領域R4はそれぞれに対応する金属電線第1金属電線41~第4金属電線44により通電がなされるように構成されている。つまり、4つの領域第1領域R1~第4領域R4ごとにゲル状エレクトロクロミック組成物52に対する通電を行い、それら4つの領域第1領域R1~第4領域R4ごとの表示発色を独立して行うことができるように構成されている。ここで、従来のエレクトロクロミック表示デバイスにおいては、1画面分の表示を行う場合に、第1電極20を768本スキャンするパッシブマトリックス駆動を要していた。これに対し、本実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス100においては、4つの領域第1領域R1~第4領域R4を同時にスキャンするように、各領域の第1電極20を192本スキャンするパッシブマトリックス駆動によって、1画面分の表示を行うことができる。このように、本実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス100では、全ての第1電極20のスキャンに要する時間を従来の四分の一にすることができ、1画面の表示に要する時間を四分の一にすることが可能になる。なお、エレクトロクロミック表示デバイス100の発色濃度は、通電する電気量によって任意に調節することができる。さらに、通電は、電流の連続的な供給によっても、電流の間欠的な供給によっても可能である。電流の間欠的な供給とは、例えば、パルスによる駆動を指す。また、エレクトロクロミック表示デバイス100の発色は、通電の遮断によって消色するが、電子ペーパー等に適用する場合には、発色を維持する必要がある。エレクトロクロミック表示デバイス100の発色の維持は、例えば、表示のために印加した電流よりも小さい電流の供給によって行うことができる。連続的な電流の供給であれば、発色の維持は、電圧または電流を発色時の半分以下にして行うことができる。また、間欠的な電流の供給、すなわちパルス駆動であれば、発色の維持は、例えば、通電期間を発色時よりも短くしたり、パルスの強度や幅を発色時よりも小さくしたり、パルスの間隔を発色時よりも大きくしたりして行うことができる。<実施例>以下に、具体的な実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。エレクトロクロミック表示デバイスの作製第1基板10として、0.7mm厚の矩形状の無アルカリガラス基板を用い、その一方の面上面に、金Auの薄膜をスパッタ形成した。スパッタされた金の薄膜は、膜厚100nmであった。スパッタ形成された金の薄膜を、エッチング法を用いて、ストライプ幅10μm、ピッチ150μmとして、金属電極部21をストライプ状にパターン形成した。次いで、金属電極部21のストライプパターンの上に、一面的にITO膜をスパッタ形成した。スパッタ形成されたITO膜は、膜厚200nm、表面抵抗10Ω/□であった。スパッタ形成されたITO膜を、エッチング法を用い、ストライプ幅140μm、ピッチ150μmとして、ストライプ状にパターン形成することにより、第1電極20...を形成した。また、第2基板30として、0.7mm厚の矩形状の無アルカリガラス基板を用い、その一方の面下面に、金Auの薄膜をスパッタ形成した。スパッタされた金の薄膜は、膜厚100nmであった。スパッタ形成された金の薄膜を、エッチング法を用いて、ストライプ幅10μm、ピッチ75μmとして、金属電線をストライプ状にパターン形成するとともに、それら金属電線の長手方向の中央部分を間隔10μmになるように切断し、金属電線を左右に振り分けるようにして、金属電線第1金属電線41~第4金属電線44を形成した。次いで、金属電線第1金属電線41~第4金属電線44のストライプパターンの上に、一面的に二酸化ケイ素の絶縁層をスパッタ形成し、そのスパッタ形成された絶縁層をエッチング法によりパターニングして、各金属電線第1金属電線41~第4金属電線44をそれぞれ部分的に被覆する絶縁膜45を形成した。次いで、金属電線第1金属電線41~第4金属電線44および絶縁膜45の上に、一面的にITO膜をスパッタ形成した。スパッタ形成されたITO膜は、膜厚200nm、表面抵抗10Ω/□であった。スパッタ形成されたITO膜を、エッチング法を用い、ストライプ幅140μm、ピッチ150μmとして、ストライプ状にパターン形成するとともに、そのストライプ方向長手方向にITO膜を四等分して、それぞれの間隔が10μmになるように分割された第2電極40...を形成した図4参照。次いで、第1電極20...が形成された第1基板10の上面に、東京応化工業株式会社製MEMS用永久レジストTMMRS-2000を、スピナーを用いて付与し、所定のマスクを用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン状に立体成形することによって隔壁51を形成して設置した。次いで、所定の添加物表示品質劣化抑制剤や吸着剤や白色剤などが添加されたエレクトロクロミック組成物に、所定のゲル化剤を添加して、ゲル状エレクトロクロミック組成物52以下ゲル状エレクトロクロミック組成物Aと呼ぶを生成した。ゲル状エレクトロクロミック組成物Aの組成は、支持電解質:TBAFBテトラnブチルアンモニウムテトラフルオロボレート,n-C4H94NBF4160mg、極性溶剤:DMSOジメチルスルフォキシド1.0gチタニア分散液用溶媒DMSOを0.4g含むと、PCプロピレンカーボネート1.0gチタニア分散液用溶媒PCを0.4g含むと、の混合溶剤、ロイコ染料:BLACK100山田化学工業株製300mg、第1の表示品質劣化抑制化合物:25ジtertアミル14ハイドロキノン188mg、第2の表示品質劣化抑制化合物:フェロセン2.5mg、第3の表示品質劣化抑制化合物:ベンゾイルアセトン122mg、白色剤分散液:チタニアTiO2,石原産業株式会社製CR-9310gを、バインダーとしてポリビニルブチラール積水化学エスレックBH30.2gを含む溶媒DMSO10g及びPC10gの混合溶剤中にボールミル分散1.2g、吸着剤分散液:酸化アルミニウム住友化学製KC5017.5gを、溶媒DMSO20g及びPC20gの混合溶剤中に分散40mg、バインダー:ポリビニルブチラール0.05g、ゲル化剤:上記の式10.06g、である。次いで、第1電極20...が形成された第1基板10に設置されている隔壁51の上面にゲル状エレクトロクロミック組成物Aを載置し、へらを用いて、隔壁51の上面に載置されているゲル状エレクトロクロミック組成物52を、区画r...内へと押し込みながら隔壁51の上面全体に塗り付けていくことによって、区画r...内へと導入した。そして、区画r...内へと導入されずに隔壁51の上面に残ったゲル状エレクトロクロミック組成物52を除去して、第1電極20...が形成された第1基板10の上面にエレクトロクロミック組成物層50を形成した。次いで、第1電極20...が形成された第1基板10の上面と、第2電極40...が形成された第2基板30の下面と、が対向するとともに、第1電極20...が第2電極40...に対して直交し、かつ、その直交部が画素60...となるように調整して、当該第1基板10の上面に形成されたエレクトロクロミック組成物層50に当該第2基板30を重ね合せた。そして、この重ね合せたものの4つの側面厚み方向に平行する面を、所定の接着剤例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂で接着封止し、エレクトロクロミック表示デバイス100以下表示デバイスAと呼ぶを作製した。また、比較例1として、エレクトロクロミック組成物をゲル化していない点のみが表示デバイスAとは異なるエレクトロクロミック表示デバイス以下表示デバイスBと呼ぶを作製した。また、比較例2として、第1電極20...が形成された第1基板10の上面と、第2電極40...が形成された第2基板30の下面と、の間に、スペーサ粒状体積水化学製ミクロパールGS-260粒径60μmを挟み、そのスペーサにゲル状エレクトロクロミック組成物Aを染み込ませた点のみが表示デバイスAとは異なるエレクトロクロミック表示デバイス以下表示デバイスCと呼ぶを作製した。また、比較例3として、第1電極20...が形成された第1基板10の上面と、第2電極40...が形成された第2基板30の下面と、の間に、スペーサ粒状体積水化学製ミクロパールGS-260粒径60μmを挟み、そのスペーサにゲル化されていないエレクトロクロミック組成物を染み込ませ点のみが表示デバイスAとは異なるエレクトロクロミック表示デバイス以下表示デバイスDと呼ぶを作製した。表示動作表示デバイスA~Dの、ライン電極第1電極20768ライン768本の金属電極部21、およびデータ電極第2電極401024ライン各1024本の金属電線第1金属電線41~第4金属電線44の部分にパターン作製回路を接続した。次いで、パッシブマトリクス駆動法を用いて、多電位法により表示のための通電を行った。具体的には、発色させる画素を選択し、その選択した画素60選択画素を形成する第1電極20を負電極、当該選択画素を形成する第2電極40を正電極として、1ライン当たり1ミリ秒の速度で、当該選択画素を形成する電極間に第1電位差の電圧を印加することにより、当該選択画素を発色させるとともに、当該選択画素以外の画素非選択画素を形成する第1電極20を正電極、当該非選択画素を形成する第2電極40を負電極として、1ライン当たり1ミリ秒の速度で、当該非選択画素を形成する電極間に、第1電位差よりも小さく通電が生じない第2電位差の電圧を印加することにより、当該非選択画素の状態を非表示状態に維持することによって、エレクトロクロミック表示デバイス100に画像文字パターンを表示させた。特に、データ電極第2電極40に対応する4つの領域第1領域R1~第4領域R4を同時にスキャンするように、1ライン当たり1ミリ秒の速度で各領域第1領域R1~第4領域R4のライン電極第1電極20を192本スキャンするパッシブマトリックス駆動によって、0.192秒間で表示パターンを形成した。消去動作次いで、表示と反対方向に通電、すなわち消去のための通電を行った。具体的には、前記選択画素を形成する第1電極20を正電極、当該選択画素を形成する第2電極40を負電極として、1ライン当たり1ミリ秒の速度で、当該選択画素を形成する電極間に所定の電位差の電圧具体的には、電極間に電流が流れる電極間電圧を印加することにより、当該選択画素の発色を消去するとともに、前記非選択画素を形成する第1電極20を負電極正電極であってもよい。、当該非選択画素を形成する第2電極40を正電極負電極であってもよい。として、1ライン当たり1ミリ秒の速度で、当該非選択画素を形成する電極間に所定の電位差の電圧具体的には、電極間に電流が流れない電極間電圧を印加することにより、当該非選択画素の状態を非表示状態に維持することによって、エレクトロクロミック表示デバイス100に表示されている画像文字パターンを消去した。視覚による評価表示デバイスA実施例においては、図6に示すように、上記表示動作によって、解像度の高い文字パターンを高速で表示させることができた。これにより、表示デバイスA実施例においては、高速本実施例では1ミリ秒/ラインで駆動しても、滲みの少ない鮮明な文字パターンを表示できることが分かった。また、表示デバイスA実施例においては、上記消去動作によって、表示された文字パターンを確実に消去することができた。エレクトロクロミック組成物がゲル化されていない表示デバイスB比較例1においては、図7に示すように、上記表示動作によって、解像度の高い文字パターンを高速で表示させることができなかった。これにより、表示デバイスB比較例1においては、高速で駆動すると、滲みの多い不鮮明な文字パターンが表示されることが分かった。これは、エレクトロクロミック組成物がゲル化されていないため、エレクトロクロミック組成物を構成するロイコ染料等の構成成分やエレクトロクロミック組成物に添加した添加物などが区画r...内で沈殿したり、エレクトロクロミック組成物を区画r...内に導入する際に気泡が混入したりしたこと等が原因であると考えられる。隔壁51を備えていない表示デバイスC比較例2においては、図8に示すように、上記表示動作によって、解像度の高い文字パターンを高速で表示させることができなかった。これは、隔壁51を備えていないため、画素間のクロストークを抑制できなかったこと等が原因であると考えられる。ここで、表示デバイスA実施例において、隔壁51により形成される区画r...の平面視におけるサイズおよび位置は、画素60...と同期していないが、画素間のクロストークが抑制されている。これにより、本発明のような隔壁51を備えることで、区画が画素と同期した隔壁、すなわち緻密で煩雑な工程を経て形成される隔壁を備えなくても、画素間のクロストークを抑制できることが分かった。また、隔壁51を備えていない表示デバイスC比較例2においては、表示デバイスB比較例1よりは滲みの少ない鮮明な文字パターンを表示することができた。これにより、隔壁51を設けるよりも、エレクトロクロミック組成物をゲル化した方が、滲みの少ない鮮明な文字パターンを表示できることが分かった。これは、エレクトロクロミック組成物をゲル化することによって、エレクトロクロミック組成物層50中でエレクトロクロミック組成物を構成する構成成分やエレクトロクロミック組成物に添加した添加物などが沈殿したり、エレクトロクロミック組成物層50中に気泡が混入したりすること等を抑制できるためであると考えられる。エレクトロクロミック組成物がゲル化されておらず隔壁51も備えられていない表示デバイスC比較例3においては、図9に示すように、比較例1や比較例2よりも滲みの多い不鮮明な文字パターンが表示されることが分かった。以上説明した本発明のエレクトロクロミック表示デバイス100によれば、第1基板10と、第1基板10の上面に設けられた第1電極20と、第1基板10の上方に当該第1基板10に対向して設けられ、透明な材料により形成された第2基板30と、第2基板30の下面に設けられ、少なくとも一部が透明な電極材料により形成された第2電極40と、第1基板10と第2基板30との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層50と、を備え、エレクトロクロミック組成物層50は、ゲル化されたゲル状エレクトロクロミック組成物52を備えている。したがって、エレクトロクロミック組成物がゲル化されているので、エレクトロクロミック組成物を構成する構成成分やエレクトロクロミック組成物に添加した添加物などがエレクトロクロミック組成物層50中で沈殿したり、エレクトロクロミック組成物層50中に気泡が混入したりすること等を抑制することができ、エレクトロクロミック表示デバイス100を高速で駆動した場合であっても、高品質な表示を実現することが可能となる。また、以上説明した本発明のエレクトロクロミック表示デバイス100によれば、エレクトロクロミック組成物層50は、第1基板10と第2基板30との間の空間を、第1基板10および第2基板30に対して略垂直方向に貫通する複数の区画rに仕切る隔壁51を備え、ゲル状エレクトロクロミック組成物52は、区画r...内に導入されている。したがって、ゲル状エレクトロクロミック組成物52を、隔壁51により形成される区画r...内に導入するだけで、画素間のクロストークを抑制できるため、エレクトロクロミック表示デバイス100を高速で駆動した場合であっても、より高品質な表示を実現することが可能となる。また、以上説明した本発明のエレクトロクロミック表示デバイス100の製造方法によれば、エレクトロクロミック組成物をゲル化してゲル状エレクトロクロミック組成物52を生成するゲル化工程と、ゲル状エレクトロクロミック組成物52を、所定の塗布具を用いて隔壁51の第1基板10側または第2基板30側の面から区画r...内へと押し込むことにより、当該区画r...内へと導入する押し込み工程と、を有している。すなわち、ゲル状エレクトロクロミック組成物52を、所定の塗布具を用いて区画r...内へと押し込むようにして当該区画r...内へと導入するので、エレクトロクロミック組成物層50中に気泡が混入したりすること等を抑制することができる。したがって、高速で駆動した場合であっても、高品質な表示を実現することが可能なエレクトロクロミック表示デバイス100を製造することができる。また、以上説明した本発明のエレクトロクロミック表示デバイス100によれば、第2電極40に関する4つの領域第1領域R1~第4領域R4を同時にスキャンするように、各領域の第1電極20を192本スキャンするパッシブマトリックス駆動によって、1画面分の表示を行うことができる。これにより、従来のエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、1画面分の表示に、第1電極20を768本スキャンするパッシブマトリックス駆動に要していた時間を四分の一にすることができる。具体的には、1ライン当たり1ミリ秒の速度で、第1電極20を768本スキャンした場合、0.768秒間で1画面分の表示パターンを形成することに対し、本発明のように、各領域第1領域R1~第4領域R4の第1電極20を192本スキャンすることによっては、0.192秒間で1画面分の表示パターンを形成することができる。このように、本発明のエレクトロクロミック表示デバイス100では、全ての第1電極20のスキャンに要する時間を従来の四分の一にすることができ、1画面の表示に要する時間を四分の一にすることが可能になる。そして、エレクトロクロミック表示デバイス100は、1画面あたりの表示に要する時間を短縮することによって、より早く画面の表示を切り替えることが可能になる。つまり、このエレクトロクロミック表示デバイス100は、より早い画面の切り替えが可能な表示デバイスとして機能することができる。第2実施形態次に、本発明に係るエレクトロクロミック表示デバイスの第2実施形態について説明する。なお、第1実施形態と同様の構成については、同符号を付して説明を割愛する。本実施形態におけるエレクトロクロミック表示デバイス101は、例えば、図10~図12に示すように、第1基板10と、第1基板10の上面に設けられた第1電極20...と、第1基板10の上方に第1基板10に対向して設けられた第2基板30と、第2基板30の下面に設けられた第2電極40...と、第1基板10と第2基板30との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層50と、を備えて構成される。そして、図10~図13に示すように、第2電極40と第2基板30との間には、第2電極40毎に、各第2電極40に沿って延在する金属電極部としての金属電線第1金属電線41~第4金属電線44が設けられている。第2金属電線42は、第2基板30の下面に設けられており、その第2金属電線42に重なるように第1金属電線41が設けられている。また、第3金属電線43は、第2基板30の下面に設けられており、その第3金属電線43に重なるように第4金属電線44が設けられている。そして、これら金属電線第1金属電線41~第4金属電線44は、第2電極40によって覆われている。具体的には、図10や図13に示すように、第2金属電線42は、第2基板30の一方の端部から当該第2基板30の中央側に延在し、第2電極40の第1領域R1から第2領域R2までに亘って配されている。また、第1金属電線41は、第2金属電線42に重なる配置で第2基板30の一方の端部から第2電極40の第1領域R1までに亘って配されている。つまり、第1金属電線41と第2金属電線42は、第2基板30の下面に積層された状態で設けられている。また、図10や図13に示すように、第3金属電線43は、第2基板30の他方の端部から当該第2基板30の中央側に延在し、第2電極40の第4領域R4から第3領域R3までに亘って配されている。また、第4金属電線44は、第3金属電線43に重なる配置で第2基板30の他方の端部から第2電極40の第4領域R4までに亘って配されている。つまり、第4金属電線44と第3金属電線43は、第2基板30の下面に積層された状態で設けられている。なお、金属電線第1金属電線41~第4金属電線44は、第2電極40の縁側に設けられていることが好ましい。金属電線第1金属電線41~第4金属電線44は、光透過性を有していないので、第2電極40の縁側に設けられている方が、画素60エレクトロクロミック組成物層50の発色による表示の妨げになりにくく、好適である。より具体的には、図13に示すように、第2金属電線42のうち第2電極40の第1領域R1に対応する部分は絶縁膜45で被覆されている。すなわち、第2金属電線42は、第2電極40の第2領域R2と導通可能に接続され、第2電極40の第1領域R1とは絶縁されている。つまり、第2金属電線42は、第2電極40の第2領域R2の通電に寄与することによって、第2領域R2における画素60の発色に寄与するように構成されている。また、第1金属電線41は、第2電極40の第1領域R1において、第2金属電線42を被覆している絶縁膜45上に設けられている。すなわち、第1金属電線41は、第2電極40の第1領域R1と導通可能に接続されている。つまり、第1金属電線41は、第2電極40の第1領域R1の通電に寄与することによって、第1領域R1における画素60の発色に寄与するように構成されている。また、図13に示すように、第3金属電線43のうち第2電極40の第4領域R4に対応する部分は絶縁膜45で被覆されている。すなわち、第3金属電線43は、第2電極40の第3領域R3と導通可能に接続され、第2電極40の第4領域R4とは絶縁されている。つまり、第3金属電線43は、第2電極40の第3領域R3の通電に寄与することによって、第3領域R3における画素60の発色に寄与するように構成されている。また、第4金属電線44は、第2電極40の第4領域R4において、第3金属電線43を被覆している絶縁膜45上に設けられている。すなわち、第4金属電線44は、第2電極40の第4領域R4と導通可能に接続されている。つまり、第4金属電線44は、第2電極40の第4領域R4の通電に寄与することによって、第4領域R4における画素60の発色に寄与するように構成されている。そして、本実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス101においても、第2電極40は、第1領域R1~第4領域R4の4つの領域に分割されており、第2電極40の各領域第1領域R1~第4領域R4はそれぞれに対応する金属電線第1金属電線41~第4金属電線44により通電がなされるように構成されている。つまり、4つの領域第1領域R1~第4領域R4ごとにゲル状エレクトロクロミック組成物52に対する通電を行い、それら4つの領域第1領域R1~第4領域R4ごとの表示発色を独立して行うことができるように構成されている。本実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス101であっても、第1実施形態のエレクトロクロミック表示デバイス100同様、1ライン当たり1ミリ秒の速度で、第2電極40の各領域第1領域R1~第4領域R4に対応する第1電極20を192本スキャンすることによって、0.192秒間で1画面分の表示パターンを形成することができ、従来の四分の一の時間で1画面分の表示を行うことができる。そして、エレクトロクロミック表示デバイス101は、従来の表示デバイスよりも1画面あたりの表示に要する時間を短縮することができるので、より早く画面の表示を切り替えることが可能な表示デバイスとして機能する。なお、本発明は上記の実施形態に限定されず、本発明の趣旨から逸脱しない限り、適宜変更可能であることはいうまでもない。上記の実施形態では、第2電極40を4つの領域第1領域R1~第4領域R4に分割したが、本発明はこれに限定されるものではなく、その他任意の数に分割して、その数に応じた金属電線を形成するように構成することも可能である。また、図14や図15に示すエレクトロクロミック表示デバイス102のように、第2電極40を分割せずに構成することも可能である。この場合、第2電極40に金属電線例えば、第1金属電線41~第4金属電線44を埋め込んで構成することも可能であるし、図14や図15に示すように、第2電極40に金属電線を埋め込まずに構成することも可能である。また、上記の実施形態では、第1電極20に金属電極部21を埋め込んだが、本発明はこれに限定されるものではなく、図14や図15に示すように、第1電極20に金属電極部21を埋め込まずに構成することも可能である。"