"シリンダ内にスライド自在に配置されて、前記シリンダを第1のチャンバと第2のチャンバとに仕切るピストンを備え、前記第1及び第2のチャンバ内の気体又は液体の流体の圧力を制御して、前記ピストンのスライド位置を制御するアクチュエータにおいて、前記それぞれのチャンバごとに用意され、前記第1及び第2のチャンバ内の流体の圧力を設定する制御バルブと、前記ピストンのスライド位置又はそのスライド位置に対応した値を検出する検出部と、前記ピストンの目標位置と、前記検出部が検出した現在位置との差分に比例した圧力を設定する比例制御部と、前記ピストンの目標位置と、前記検出部が検出した現在位置との差分を微分した値に基づいて可変オフセット圧力を設定する微分制御部と、一定の基本オフセット圧力を設定する基本オフセット圧力設定部とを備え、前記第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力設定部が設定した基本オフセット圧力から、前記微分制御部が設定した流体圧力による可変オフセット圧力を減算または加算して得られたオフセット圧力に、前記比例制御部が設定した圧力を加算した流体圧力を設定し、前記第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバの制御バルブで、前記オフセット圧力設定部が設定した基本オフセット圧力に、前記微分制御部が設定した可変オフセット圧力を加算または減算したオフセット圧力を設定するアクチュエータ。前記ピストンのスライド位置が目標位置を過ぎるオーバーシュートを抑制する場合に、前記第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力から、前記可変オフセット圧力を減算して得られたオフセット圧力に、前記比例制御部が設定した圧力を加算した流体圧力を設定し、前記第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力に、前記可変オフセット圧力を加算したオフセット圧力を設定する請求項1記載のアクチュエータ。前記ピストンのスライド位置が目標位置に対して不足または行き過ぎの場合に、前記第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力から、前記可変オフセット圧力を加算して得られたオフセット圧力に、前記比例制御部が設定した圧力を加算した流体圧力を設定し、前記第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力に、前記可変オフセット圧力を減算したオフセット圧力を設定する請求項1記載のアクチュエータ。前記微分制御部は、前記検出部が検出した目標位置と現在位置との差分を微分した値に制御ゲインを乗算して可変オフセット圧力を得る処理を行い、前記ピストンのスライド位置を目標位置に移動させる際に、目標位置を過ぎるオーバーシュート量が所望の範囲内になるように、前記制御ゲインを設定する請求項1記載のアクチュエータ。前記ピストンの目標位置は、一定の単位時間ごとに所定距離ずつ増加又は減少する目標位置とし、前記ピストンのスライド位置を徐々に移動させるランプ制御を行う請求項1記載のアクチュエータ。前記比例制御部または前記微分制御部で乗算されるゲインとして、時間的に変化するゲインを使用した請求項1記載のアクチュエータ。シリンダ内を第1のチャンバと第2のチャンバとに仕切るピストンのスライド位置を、前記第1及び第2のチャンバ内の気体又は液体の流体の圧力により制御するアクチュエータの制御方法において、前記ピストンの目標位置と現在位置との差分に比例した、比例制御による圧力と、前記ピストンの目標位置と現在位置との差分を微分した値に基づいた可変オフセット圧力と、一定の基本オフセット圧力とを取得し、前記第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバに対して、前記基本オフセット圧力から前記可変オフセット圧力を減算または加算して得られるオフセット圧力に、前記比例制御による圧力を加算した流体圧力を設定し、前記第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバに対して、前記基本オフセット圧力から前記可変オフセット圧力を加算または減算して得られるオフセット圧力を設定するアクチュエータの制御方法。前記ピストンのスライド位置が目標位置を過ぎるオーバーシュートを抑制する場合に、前記第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバに対して、前記基本オフセット圧力から、前記可変オフセット圧力を減算して得られたオフセット圧力に、前記比例制御による圧力を加算した流体圧力を設定し、前記第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力に、前記可変オフセット圧力を加算したオフセット圧力を設定する請求項7記載のアクチュエータの制御方法。前記ピストンのスライド位置が目標位置に対して不足または行き過ぎの場合に、前記第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力から、前記可変オフセット圧力を加算して得られたオフセット圧力に、前記比例制御で設定した圧力を加算した流体圧力を設定し、前記第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力に、前記可変オフセット圧力を減算したオフセット圧力を設定する請求項7記載のアクチュエータの制御方法。シリンダ内を第1のチャンバと第2のチャンバとに仕切るピストンのスライド位置を、前記第1及び第2のチャンバ内の気体又は液体の流体の圧力により設定するアクチュエータを制御するコンピュータに実現させるためのプログラムにおいて、前記ピストンの目標位置と現在位置との差分に比例した、比例制御による圧力を得る機能と、前記ピストンの目標位置と現在位置との差分を微分した値に基づいた可変オフセット圧力を得る機能と、一定の基本オフセット圧力を得る機能と、前記第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバに対して、前記基本オフセット圧力から前記可変オフセット圧力を減算または加算して得られるオフセット圧力に、前記比例制御による圧力を加算した流体圧力を設定する機能と、前記第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバに対して、前記基本オフセット圧力から前記可変オフセット圧力を加算または減算して得られるオフセット圧力を設定する機能を、コンピュータに実現させるためのプログラム。前記ピストンのスライド位置が目標位置を過ぎるオーバーシュートを抑制する場合に、前記第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバに対して、前記基本オフセット圧力から、前記可変オフセット圧力を減算して得られたオフセット圧力に、前記比例制御による圧力を加算した流体圧力を設定する機能と、前記第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力に、前記可変オフセット圧力を加算したオフセット圧力を設定する機能を、コンピュータに実現させるための、請求項10記載のプログラム。前記ピストンのスライド位置が目標位置に対して不足または行き過ぎの場合に、前記第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力から、前記可変オフセット圧力を加算して得られたオフセット圧力に、前記比例制御で設定した圧力を加算した流体圧力を設定する機能と、前記第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバの制御バルブで、前記基本オフセット圧力に、前記可変オフセット圧力を減算したオフセット圧力を設定する機能を、コンピュータに実現させるための、請求項10記載のプログラム。図11に示した制御構成とした場合、オーバーシュートの発生を抑制した良好なシリンダの制御が可能であるが、制御構成要素として、比例制御と微分制御と積分制御の3つを制御要素としたPID制御器26と、比例制御を制御要素としたP制御器29と、微分制御を制御要素としたD制御器30とが必要である。したがって、制御要素として5つのパラメータが必要であり、各チャンバ内の圧力を算出する構成が複雑である。また、シリンダ内のピストンの位置を目標位置に動かす制御状態として、1つのステップごとに目標位置を指示する、いわゆるステップ制御を行う場合には、上述したオーバーシュートの発生を抑制することが重要である。これに対して、例えば決められた時間をかけて、ピストンを低速でスムーズに目標位置まで徐々に移動させるような、いわゆるランプ制御を行う場合には、今まで提案された応答性やオーバーシュートの抑制だけに着目した制御では不十分な場合がある。本発明は、シリンダの制御を行う際に、簡単な制御で応答性のよい動作を実現できるアクチュエータ、及びそのアクチュエータの制御方法、並びにプログラムを提供することを目的とする。本発明のアクチュエータは、シリンダ内にスライド自在に配置されて、シリンダを第1のチャンバと第2のチャンバとに仕切るピストンを備え、第1及び第2のチャンバ内の気体又は液体の流体の圧力を制御して、ピストンのスライド位置を制御するアクチュエータに適用される。本発明のアクチュエータは、それぞれのチャンバごとに用意され、第1及び第2のチャンバ内の流体の圧力を設定する制御バルブと、ピストンのスライド位置又はそのスライド位置に対応した値を検出する検出部とを備える。さらに、ピストンの目標位置と検出部が検出した現在位置との差分に比例した圧力を設定する比例制御部と、ピストンの目標位置と検出部が検出した現在位置との差分を微分した値に基づいて可変オフセット圧力を設定する微分制御部と、一定の基本オフセット圧力を設定する基本オフセット圧力設定部とを備える。そして、第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバの制御バルブで、基本オフセット圧力設定部が設定した基本オフセット圧力から、微分制御部が設定した流体圧力による可変オフセット圧力を減算または加算して得られたオフセット圧力に、比例制御部が設定した圧力を加算した流体圧力が設定される。また、第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバの制御バルブで、オフセット圧力設定部が設定した基本オフセット圧力に、微分制御部が設定した可変オフセット圧力を加算または減算したオフセット圧力が設定される。また、本発明のアクチュエータの制御方法は、シリンダ内を第1のチャンバと第2のチャンバとに仕切るピストンのスライド位置を、第1及び第2のチャンバ内の気体又は液体の流体の圧力により制御するアクチュエータの制御方法である。そして、ピストンの目標位置と現在位置との差分に比例した、比例制御による圧力と、ピストンの目標位置と現在位置との差分を微分した値に基づいた可変オフセット圧力と、一定の基本オフセット圧力が取得される。そして、第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバに対して、基本オフセット圧力から前記可変オフセット圧力を減算または加算して得られるオフセット圧力に、比例制御による圧力を加算した流体圧力が設定される。また、第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバに対して、基本オフセット圧力から可変オフセット圧力を加算または減算して得られるオフセット圧力が設定される。また、本発明のプログラムは、シリンダ内を第1のチャンバと第2のチャンバとに仕切るピストンのスライド位置を、第1及び第2のチャンバ内の気体又は液体の流体の圧力により設定するアクチュエータを制御するコンピュータに実現させるためのプログラムである。このプログラムは、以下~の機能をコンピュータで実現する。すなわち、ピストンの目標位置と現在位置との差分に比例した、比例制御による圧力を得る機能と、ピストンの目標位置と現在位置との差分を微分した値に基づいた可変オフセット圧力を得る機能、一定の基本オフセット圧力を得る機能、第1及び第2のチャンバの内の推進側となるチャンバに対して、基本オフセット圧力から可変オフセット圧力を減算または加算して得られるオフセット圧力に、比例制御による圧力を加算した流体圧力を設定する機能、第1及び第2のチャンバの内の抵抗側となるチャンバに対して、基本オフセット圧力から可変オフセット圧力を加算または減算して得られるオフセット圧力を設定する機能である。本発明によると、少ないパラメータによる簡単な制御で、オーバーシュートの発生を抑制した効率のよいアクチュエータ制御が可能になる。また、圧力総力を従来よりも少なくすることができる。さらに、ピストンのスライド位置を比較的低速で徐々に移動させるランプ制御を行う場合にも、目標に追随したスムーズなランプ制御が可能になる。以下、本発明の一実施の形態の例以下、本例と称するを、図1~図10を参照して説明する。[1.シリンダの制御構成例]図1は、本例の流体シリンダを使用したアクチュエータの制御構成を示す図である。エアシリンダ10は、内部にスライド可能なピストン13を配置した復動型エアシリンダである。そのスライド可能なピストン13により、エアシリンダ10の内部が、第1チャンバ11と第2チャンバ12とに区切られる。ピストン13にはピストン棒14が取り付けられており、このピストン棒14の先端で、回動機構部15が駆動される。回動機構部15は、例えばロボットの関節部を駆動する回動機構部であり、回動機構部15の回動位置θがピストン棒14の突出長により設定される。なお、エアシリンダ10内のピストン13の駆動時に、ピストン13を押し出す側のチャンバが推進側となり、ピストン13が押し込まれる側のチャンバが抵抗側となる。回動機構部15の回動位置θは、角度検出部41で検出される。角度検出部41が検出した回動位置θの値が、現在値設定部42にセットされる。一方、回動機構部15の回動位置θの目標値が、目標値設定部43にセットされる。この目標値設定部43にセットされる目標値は、例えばアクチュエータの動作を指示する制御装置によりセットされる。そして、現在値設定部42にセットされた現在値が、符号反転部44で符号を反転された後、加算器45に供給される。この加算器45で、目標値設定部43にセットされた目標値と現在値設定部42にセットされた現在値との差分が得られる。そして、エアシリンダ10を制御するパラメータを決める制御器として、P制御器46と、D制御器47とを備える。これらのP制御器46とD制御器47には、加算器25で得た目標値と現在値との差分が供給される。さらに、これらの制御器46,47の他に、基本オフセット圧力発生器48を備える。P制御器46は、比例制御を制御要素として、目標値と現在値との差分から制御値を得る比例制御部である。P制御器46で得られた制御値は、エアシリンダ10の第1チャンバ11と第2チャンバ12との内の、推進側となるチャンバの制御バルブに供給する。すなわち、P制御器46で得られた制御値は、スイッチ49を介して第1チャンバ11側の圧力値を得る加算器53に送られると共に、スイッチ50を介して第2チャンバ12側の圧力値を得る加算器55に供給される。このとき、2つのスイッチ49,50は、推進側となるチャンバに接続されたスイッチがオンとなり、抵抗側となるチャンバに接続されたスイッチがオフとなって、推進側となるチャンバだけにP制御器46からの制御値が供給される。D制御器47は、微分制御を制御要素として、目標値と現在値との差分から可変オフセット圧力値を得る微分制御部である。D制御器47で得た可変オフセット圧力値は、符号設定部51を介して第1チャンバ11側の圧力値を得る加算器53に送られると共に、符号設定部52を介して第2チャンバ12側の圧力値を得る加算器55に供給される。符号設定部51,52は、相互に異なる符号を設定する。すなわち、推進側となるチャンバの制御バルブに制御値を供給する際、制御値にマイナスの符号を設定し、抵抗側となるチャンバの制御バルブに制御値を供給する際、圧力制御値にプラスの符号を設定する。基本オフセット圧力発生器48は、一定の基本オフセット圧力値を発生し、その発生した一定の基本オフセット圧力値を、加算器53,55に供給する。加算器53,55は、基本オフセット圧力発生器48からの基本オフセット圧力値に、D制御器47が出力した可変オフセット圧力値を加算又は減算した上で、さらにP制御器46が出力した制御値を選択的に加算する。例えば、第1チャンバ11が推進側であるとき、加算器53は、基本オフセット圧力発生器48からの基本オフセット圧力値に、D制御器47が出力した可変オフセット圧力値を減算し、さらにP制御器46が出力した制御値を加算する。また、例えば第1チャンバ11が抵抗側であるとき、加算器53は、基本オフセット圧力発生器48からの基本オフセット圧力値に、D制御器47が出力した可変オフセット圧力値を加算する。第2チャンバ12側の加算器55も同じ加算動作を行う。但し、推進側である第1チャンバ11で、加算器53で可変オフセット圧力値の減算を行い、抵抗側である第2チャンバ12で、加算器55で可変オフセット圧力値の加算を行うのは、ピストン13のスライド位置が目標位置を過ぎるオーバーシュートを抑制する場合である。つまり、目標位置に対して現在位置が行き過ぎそうになる時には推進側でオフセット圧力の減算比例制御からの出力を行い、抵抗側でオフセット圧力の加算を行う。一方、目標位置に対して現在位置が不足や行き過ぎの時には推進側でオフセット圧力の加算比例制御からの出力を行い、抵抗側でオフセット圧力の減算を行う。加算器53は、加算した圧力値を第1チャンバ用圧力制御バルブ54に供給する。第1チャンバ用圧力制御バルブ54は、第1チャンバ11内のエア圧力が、指示された圧力値となるように制御する。加算器55は、加算した値を第2チャンバ用圧力制御バルブ56に供給する。第2チャンバ用圧力制御バルブ56は、第2チャンバ12内のエア圧力が、指示された圧力値となるように制御する。第1チャンバ用圧力制御バルブ54と第2チャンバ用圧力制御バルブ56には、エア圧力源16からの高圧のエアが供給され、第1チャンバ11と第2チャンバ12内の圧力が、それぞれの圧力制御バルブ54,56で指示された圧力値に設定される。圧力制御バルブ54,56は、例えば入力電圧に比例した圧力を設定する。第1チャンバ用圧力制御バルブ54が取り付けられたエア圧力供給路には、第1チャンバ用圧力制御バルブ54と並列に、排気バルブ57を配置する。この排気バルブ57では定量の排気を行い、第1チャンバ用圧力制御バルブ54から第1チャンバ11に供給されるエア圧力の制御で、第1チャンバ11内のエア圧力が決まる。第2チャンバ用圧力制御バルブ56が取り付けられたエア圧力供給路には、第2チャンバ用圧力制御バルブ56と並列に、排気バルブ58を配置する。この排気バルブ58では定量の排気を行い、第2チャンバ用圧力制御バルブ56から第2チャンバ12に供給されるエア圧力の制御で、第2チャンバ12内のエア圧力が決まる。[2.シリンダの制御則]次に、本例の流体シリンダの制御則を、数式を用いて説明する。第1チャンバ11のエア圧力を制御する第1チャンバ用圧力制御バルブ54に供給する電圧をu1tとし、第2チャンバ12のエア圧力を制御する第2チャンバ用圧力制御バルブ56に供給する電圧をu2tとしたとき、電圧u1t,u2tは、次の1式、2式で示される。u1t=γ{αuPtuoff1t}1u2t=γ{βuPtuoff2t}2この1式及び2式において、γは圧力値から圧力制御バルブ54,56の制御電圧に変換するための係数を示し、uPtはP制御器46による圧力制御値である。αとβは、P制御器46による制御の切り替え用係数で、uPt≧0の場合、α=1,β=0となり、uPt<0の場合、α=0,β=-1となる。α=1のとき、スイッチ49がオンとなり、α=0のとき、スイッチ49がオフとなる。また、β=-1のとき、スイッチ50がオンとなり、β=0のとき、スイッチ50がオフとなる。uoff1tは、第1チャンバ11のオフセット圧力値を示し、uoff2tは、第2チャンバ12のオフセット圧力値を示す。比例制御を制御要素とするP制御器46の制御値uPtは、次の3式で示される。uPt=kpet3この3式において、etはピストン13の目標値と現在値との差分偏差を示し、kpは比例ゲインを示す。すなわち、差分etに比例ゲインkpを乗算することで、制御値uPtが得られる。第1チャンバ11のオフセット圧力値uoff1tと、第2チャンバ12のオフセット圧力値uoff2tは、次の4式、5式で示される。uoff1t=off0KD{det/dt}4uoff2t=off0-KD{det/dt}5この4式、5式において、off0は、基本オフセット圧力発生器48が発生する基本オフセットの圧力値で、予め決められた一定値である。ここでは、基本オフセット圧力off0として、2[atm]とする。また、KD{det/dt}は、D制御器47により設定される可変オフセット圧力値である。この可変オフセット圧力値KD{det/dt}は、ピストン13の目標値と現在値との差分の微分値{det/dt}に、制御ゲインKDを乗算した値である。この制御ゲインKDは、オーバーシュートが目的とする値になるように調整した値である。[3.可変オフセット圧力の制御ゲインの決定処理]次に、図4のフローチャートを参照して、この制御ゲインKDを設定する際の処理例について説明する。この制御ゲインKDを設定する作業は、作業者がピストン13を実際に駆動させて、その駆動結果を見て設定する作業である。まず、基本オフセット圧力off0を一定に決め、オーバーシュート量が20~30[]となるピストン13の駆動結果が得られるように、P制御器46による圧力制御値uPtを得る際のゲインkpを調整するステップS1。この調整作業で、ゲインkpを決める。次に、可変オフセット圧力値を決める制御ゲインKDを0.01に設定し、制御ゲインKD=0.01でピストン13を駆動し、制御結果を得るステップS2。そして、作業者は、このときの制御結果のオーバーシュートが目的とする値になったか否かを判断するステップS3。ステップS3でオーバーシュートが適正でないと判断した場合には、制御ゲインKDの値を0.01加算し、その加算した制御ゲインでピストン13を駆動し、制御結果を得るステップS4。その後、ステップS3に戻り、オーバーシュートが目的とする値になったか否かを判断する。ステップS3でオーバーシュートが適正になったと判断した場合には、そのときの制御ゲインKDを、ピストン13を駆動する制御ゲインKDとして確定するステップS5。なお、ステップS3でのオーバーシュートが目的とする値になったか否かの判断は、例えば、目標位置になるまでの立ち上がり時間が短い状態で、かつオーバーシュートが最も少ない状態である。図5は、可変オフセット圧力値KD{det/dt}の制御ゲインKDを可変させた例を示す。図5は、縦軸を回動機構部15の回動位置θで示し、目標位置を50[deg]として、横軸を駆動開始からの経過時間秒で示す。図5a~dに示した4つの例は、a,b,c,dの順で、制御ゲインKDの値を高くした例である。ここでは、図5cに示した特性θ13が、適正な制御ゲインKDの例を示す。図5cに示したKD=100[]は、制御ゲインKDが適正値であることを示す。この図5cの特性θ13は、目標位置50[deg]になるまでの立ち上がり時間が短時間で、かつオーバーシュートがほとんどない状態を示している。これに対して、図5aの特性θ11は、制御ゲインKD=0[]のときの例であり、立ち上がり時に目標位置50[deg]を大きく過ぎるオーバーシュートが発生する。また、図5bの特性θ12は、制御ゲインKD=50[]のときの例であり、この状態でも、立ち上がり時に目標位置50[deg]を過ぎるオーバーシュートが発生する。さらに、図5dに示した特性θ14は、制御ゲインKDを適正値よりも大きくして、制御ゲインKD=150[]のときの例である。この状態では、オーバーシュートの発生はないが、目標位置を50[deg]となるまでの立ち上がり時間が適正状態よりも長くかかっている。この図5に示すように制御ゲインKDを可変して、目標位置になるまでの立ち上がり時間とオーバーシュートの発生状態を見ることで、適正な制御ゲインKDを決めることができる。本例の場合、図5cから判るように、オーバーシュートがほとんどない状態で短時間に目標位置に駆動できる、良好な制御ができることがわかる。[4.ランプ入力時の特性例]次に、本例のアクチュエータ制御を行った場合に、ピストン13を低速でスムーズに目標位置まで徐々に移動させる、いわゆるランプ制御を行った場合の例を、従来から知られた他の制御例と比較して示す。図6は、目標位置40[deg]に移動させた後、その位置からランプ制御で徐々に目標位置を方向に低速で移動させた例である。図6の各例では、縦軸を回動機構部15の回動位置θで示し、横軸を駆動開始からの経過時間秒で示す。図6aは、偏差に比例した比例制御P制御と、偏差に比例した微分制御D制御とを制御要素として制御する、いわゆるPD制御の場合の例である。図6bは、偏差に比例した比例制御P制御と、積分制御I制御と、微分制御D制御とを制御要素として制御する、いわゆるPID制御の場合の例である。そして、図6cは、本例による基本オフセットと可変オフセットを加えた上で、比例制御P制御を行う場合の例である。図6の各例は、タイミングT11から、2.0[degs]で目標位置を可変させたランプ入力を示し、破線で示した位置が理想的な目標位置である。図6aのPD制御の場合の特性θ21は、ランプ制御時に目標位置から若干離れた位置となってしまう。図6bのPID制御の場合の特性θ22は、PD制御の場合に比べて、ランプ制御時に目標位置に近い位置が得られる。そして、図6cに示す本例による特性θ23は、ランプ制御時に、PID制御よりもさらに目標位置に近づき、ほぼ目標位置に追随した、非常にスムーズな特性となっている。また、図6cに示す本例による特性θ23は、最初の立ち上がり時にも、PID制御やPD制御よりも短時間で目標位置になっている。図7は、目標位置40[deg]に移動させた後、タイミングT12で、その40[deg]の位置から-2.0[degs]によるランプ制御で徐々に目標位置を-方向に低速で移動させた例である。この図7の各例でも、縦軸を回動機構部15の回動位置θで示し、横軸を駆動開始からの経過時間秒で示し、図7aはPD制御の場合、図7bはPID制御の場合、図7cは、本例の場合である。図7に示した減少時のランプ制御の場合にも、図6に示した増加時のランプ制御と同様の特性になる。すなわち、図7aのPD制御の場合の特性θ31は、ランプ制御時に目標位置から若干離れた位置となってしまう。図7bのPID制御の場合の特性θ32は、PD制御の場合に比べて、ランプ制御時に目標位置に近い位置が得られる。そして、図7cに示す本例による特性θ33は、ランプ制御時に、PID制御よりもさらに目標位置に近づき、ほぼ目標位置に追随した、非常にスムーズな特性となっている。図8a,b,cは、図6a,b,cの各図の立ち上がり時を拡大して示した図である。図8aのPD制御の場合の特性θ21と、図8bのPID制御の場合の特性θ22と、図8cに示す本例による特性θ33とを比較すると判るように、本例による特性θ23が最も短い時間で目標位置40[deg]に移動できていることが判る。図9は、図7cに示す本例の制御でランプ制御を行った場合の、第1チャンバ11のオフセット圧力図9aと、第2チャンバ12のオフセット圧力図9bを示す。この例では、基本オフセット圧力を2[atm]としてあり、立ち上がり期間Taを経過した後、第1チャンバ11が抵抗側となり、第2チャンバ12が推進側となる。なお、立ち上がり期間Ta中は、オーバーシュートが発生したときには、抵抗側と推進側とが一時的に切り替わる。そして、ランプ入力が開始されるタイミングT12以降は、第1チャンバ11が抵抗側となり、第2チャンバ12が推進側となる。図9のオフセット圧力の変化の平均を、図10に示す。図10aに示すように、第1チャンバ11のuoff1tの平均値は、ランプ入力が開始するタイミングT12で、僅かに高くなっている。一方、図10bに示すように、第2チャンバ12のuoff2tの平均値は、ランプ入力が開始するタイミングT12で、僅かに低くなっている。この図10に示すオフセット圧力の変化があることで、低速でピストン13を移動させるランプ入力時にも、目標に追随したスムーズな動きが実現できる。[5.本発明の実施の形態による効果]以上説明したように、本発明の実施の形態による制御は、従来の他の制御に比べて、オーバーシュートがほとんどない状態で目標位置になるまでの立ち上がり時間を短縮できると共に、低速でほぼ一定速度で駆動するランプ入力時にも、従来よりも目標位置に近い制御が可能になる。そして、本発明の実施の形態による制御では、制御構成要素として、比例制御を行う比例制御を制御要素としたD制御器47と、微分制御を制御要素としたP制御器46とでよく、制御要素として2つのパラメータだけでよく、各チャンバ内の圧力を算出する構成が簡単になる。例えば図11に示した従来例の場合、5つのパラメータが必要であったのに比べ、本発明では制御演算構成が非常に簡単になる。また、本発明の実施の形態では、オフセット圧力の総量を、図11に示した従来のバイアス圧力を2つのチャンバに加える方式の場合のバイアス圧力総量よりも減らすことができ、少ない圧力で良好な制御ができる。すなわち、本発明の実施の形態で説明した図3と、従来例で説明した図13とを比較すると判るように、本発明の場合には、推進側が基本オフセットx-可変オフセットβP制御圧力で、抵抗側が基本オフセットx可変オフセットβで、合計した圧力総量は、2基本オフセットxP制御値となる。一方、図13の従来例では、推進側が基本xバイアスαPID制御値で、抵抗側が基本xバイアスαで、合計した圧力総量は、2基本xバイアスαPID制御圧力となる。ここで、図13の従来例でオーバーシュートを抑圧するために必要なバイアス圧力αは、比較的高い圧力が必要であり、合計した圧力総量は、図3に示した本発明の実施の形態よりも高い圧力総量となる。したがって、本発明によると、使用する圧力総量を従来よりも削減でき、少ない圧力で良好な制御が可能なる。[6.変形例]上述した本発明の実施の形態の例では、シリンダ内のチャンバに供給するエア空気の圧力で制御する例とした。これに対して、空気以外の気体、あるいは液体をシリンダ内のチャンバに供給するアクチュエータとする場合に、同様の圧力制御を行う構成としてもよい。また、上述した本発明の実施の形態の例では、可変オフセット圧力値を決める制御ゲインKDは、時間的に変化しない固定ゲインとして説明した。これに対して、制御ゲインKDを、時間的に変化する可変ゲインとしてもよい。また、比例制御を制御要素とするP制御器での比例ゲインについても、時間的に変化しない固定ゲインとして説明したが、時間的に変化する可変ゲインとしてもよい。また、図1に示した構成では、D制御器やP制御器を備える構成を示したが、これらのD制御器やP制御器などの図1の各部に相当する機能は、プログラムソフトウェアで実現してもよい。すなわち、図1に示した各構成に相当する機能を実現するプログラムを作成し、そのプログラムを、シリンダの圧力制御値を求めるコンピュータ装置に実装させることで、同様の制御を行うことができる。さらに、図1に示した例では、回動機構部15の回動角度を制御するアクチュエータに適用したが、その他の動作を行うアクチュエータに適用してもよい。"