包囲光路をなす光学部品群および検出器を有する干渉計であって、前記包囲光路をなす光学部品群は、少なくとも2つの反射素子と、1つのビームスプリッタと、を有し、前記ビームスプリッタは入力ビームを第1のビームおよび第2のビームへと分割するように構成されており、前記包囲光路をなす光学部品群は、前記第1のビームおよび前記第2のビームを、領域を包囲する光路を逆方向に周るように進ませて、前記第1のビームおよび前記第2のビームを前記検出器に向けて出力し、前記包囲光路をなす光学部品群は、前記第1のビームおよび前記第2のビームを前記検出器上に焦点合わせさせるように構成されており、前記検出器は、前記第1のビームと前記第2のビームの干渉により生じたパターンを検出するよう構成されている、干渉計。前記包囲光路をなす光学部品群による前記ビームの焦点合わせは、前記反射素子の少なくとも1つが湾曲していることによって行われる、請求項1に記載の干渉計。前記包囲光路をなす光学部品群による前記ビームの焦点合わせは、前記反射素子の2つが湾曲していることによって行われる、請求項2に記載の干渉計。前記反射素子の少なくとも1つの前記湾曲は、像面における光の場の形状が、前記検出器の表面の形状と実質的に一致するような態様で、前記第1のビームおよび前記第2のビームを前記検出器上に焦点合わせするよう構成されている、請求項2または請求項3に記載の干渉計。前記反射素子の少なくとも1つの前記湾曲は、像面が平坦な光の場を持つような態様で、前記第1のビームおよび前記第2のビームを焦点合わせするよう構成されている、請求項2から4のいずれか一つに記載の干渉計。2つの反射素子を有し、前記ビームスプリッタと2つの反射素子は、前記第1のビームが前記ビームスプリッタによって前記2つの反射素子のうちの第1の反射素子に向けられ、前記第2のビームが前記ビームスプリッタによって前記2つの反射素子のうちの第2の反射素子に向けられるよう配置されている、請求項1から5のいずれか一つに記載の干渉計。前記反射素子のうちの第1の反射素子は、前記第1のビームを前記反射素子のうちの第2の反射素子に向けるように配置されており、前記反射素子のうちの第2の反射素子は、前記第2のビームを前記反射素子のうちの第1の反射素子に向けるように配置されており、前記第2および第1の反射素子は、それぞれ第1および第2のビームを前記ビームスプリッタに向けるよう配置されている、請求項6に記載の干渉計。前記ビームスプリッタは、前記第1および第2のビームを、それぞれ、透過と反射によって生成する、請求項1から7のいずれか一つに記載の干渉計。前記ビームスプリッタは、前記第1および第2のビームを前記包囲光路から前記検出器へと向ける、請求項1から8のいずれか一つに記載の干渉計。前記ビームスプリッタは、前記第1および第2のビームを、それぞれ、透過と反射によって前記検出器へ向ける、請求項9に記載の干渉計。さらに、前記入力ビームをコリメートするための入力光学部品を有する、請求項1から10のいずれか一つに記載の干渉計。前記入力光学部品は、望遠鏡または双眼鏡を構成する配置を有する、請求項11に記載の干渉計。前記2つの反射素子の曲率は同じである、請求項3から12のいずれか一つに記載の干渉計。前記反射素子の少なくとも1つは凹形である、請求項2から13のいずれか一つに記載の干渉計。前記検出器は、前記第1および第2のビームの干渉によって作られたパターンを直線に沿って検知できるよう構成されている、請求項1から14のいずれか一つに記載の干渉計。前記検出器は、センサの直線状アレイである、請求項15に記載の干渉計。前記検出器は、直線に沿って走査するために動くよう構成された、少なくとも1つのセンサを有する、請求項15に記載の干渉計。前記包囲光路は三角形である、請求項1から17のいずれか一つに記載の干渉計。前記反射素子とビームスプリッタは、互いに対して固定されている、請求項1から18のいずれか一つに記載の干渉計。前記検出器は、前記包囲光路をなす光学部品群に対して固定されている、請求項1から16および請求項18のいずれか一つに記載の干渉計。前記ビームスプリッタは、前記入力ビームを、ほぼ等しい強度を有する第1ビームおよび第2ビームに分割する、請求項1から18のいずれか一つに記載の干渉計。前記包囲光路をなす光学部品群、または、前記反射素子および前記ビームスプリッタは、モノリシックに形成されている、請求項1から21のいずれか一つに記載の干渉計。前記検出器は、干渉パターン中における空間的変化を示す信号を出力するよう構成された、請求項1から22のいずれか一つに記載の干渉計。請求項23に記載の干渉計を有し、さらに、干渉パターンのフーリエ変換に基づいて入力ビームに存在する波長を示すよう構成された分析器を有する、分光計。請求項1から24のいずれか一つに記載の干渉計を有する結像分光計であって、前記検知器は、前記第1および第2のビームを組み合わせることによって生成されたパターンを2次元で検知するように構成されている、結像分光計。前記検知器は、前記第1および第2のビームの干渉によって生成される空間的に変化するパターンを一方向において検知し、かつ、前記入力ビームについての結像情報を第2の方向において検知するよう構成されている、請求項25に記載の結像分光計。前記検出器は、センサの2次元アレイである、請求項25または26に記載の結像分光計。前記検出器は、領域を走査するために直線に沿って動くよう構成された、センサの直線状アレイである、請求項25または26に記載の結像分光計。前記入力ビームの中にある波長と、前記入力ビームに関する結像情報と、を示すように構成された分析器をさらに有する、請求項25から28のいずれか一つに記載の結像分光計。包囲光路の中の1つ以上の鏡が、逆循環ビームを検出器の上に焦点合わせするよう湾曲している、サニャク干渉計。ビーム分割光学部品群と検出器を有する干渉計であって、前記ビーム分割光学部品群は、少なくとも2つの反射素子とビームスプリッタとを有し、前記ビームスプリッタは入力ビームを第1および第2のビームに分割するよう構成されており、第1の前記反射素子は前記第1のビームを第1の光路に沿って検出器へ向かわせるよう構成されており、第2の前記反射素子は前記第2のビームを第2の光路に沿って前記検出器へと向かわせるよう構成されており、前記第1および第2の光路は光路長差を有しており、前記ビーム分割光学部品群は前記第1および第2のビームを前記検出器に焦点合わせするよう構成されており、前記検出器は、前記第1および第2のビームの干渉によって生成されたパターンを検出するよう構成されている、干渉計。前記ビーム分割光学部品群は、第1および第2のビームが領域を包囲する光路を逆方向に周って進むように配置される、請求項31に記載の干渉計。前記第1および第2の反射素子が凹形である、請求項31または32に記載の干渉計。前記ビーム分割光学部品群は、前記第1および第2のビームの干渉パターンを、前記干渉パターンが前記検出器の平面を横切って広がるように生成する、請求項31から33のいずれか一つに記載の干渉計。図3に、本発明による干渉計を示す。この干渉計は、検出器250と包囲光路光学部品群を有している。包囲光路光学部品群は、入力ビームを第1および第2のビームに分割し、それらは次に光路包囲領域のまわりで反対方向に進み、すなわち、2つの光路は反対方向に巡回する。包囲光路光学部品群は、ビームスプリッタすなわち光分割器210、および、鏡221、222のような2つの反射素子を有する。ビームスプリッタ210は、部分反射鏡、薄膜ビームスプリッタ、ビームスプリッタキューブ、平板ビームスプリッタ、などであってよい。鏡221、222は、互いに同じ曲率を持つように湾曲していてもよいし、あるいは異なった曲率を持つように湾曲していてもよい。当該曲率は、凹面鏡を形成するように設定される。検出器250はセンサアレイとするのが好ましいが、空間的に走査される単一のセンサを用いても良い。検出器250は、像面に設置される。ビームスプリッタは、光または放射線の入力ビーム205の入射角に対して45°に配置されるのが好ましい。入力ビームは、光分割器すなわちビームスプリッタ210によって2つのビームに分割される。上述したタイプのビームスプリッタに関しては、ビームスプリッタは、反射ビーム231破線にて表記および透過ビーム232実線にて表記を生ずる。ビームスプリッタにおける入力ビーム205の入射角を調整することで、透過ビームと反射ビームの振幅の比率を調整できる。入力ビームの入射角が45°である場合に、透過ビームと反射ビームの振幅比が50:50となるようにビームスプリッタが設計されていることが好ましい。しかしながら、あらゆる他の構成も可能である。2つの鏡221、222は、ビームスプリッタからの距離および角度がおよそ等しくなるように配置されているが、正確に等しいわけではない。第1の鏡221は、ビームスプリッタの前側すなわち入力ビーム205と同じ側に設置されており、反射ビーム231を受けるように配置されている。第2の鏡222は、ビームスプリッタ210の後ろ側、すなわち入力ビーム205とは反対の側に設置されており、透過ビーム232を受けるように配置されている。第1の鏡221において、ビームスプリッタからの反射ビーム231は再び反射され、第2の鏡222の方へ向けられる。ビーム231は第2の鏡222でもまた反射され、ビームスプリッタ210の方へ向けられる。ビームスプリッタでは、ビーム231は、像面にある検出器250に向かって反射される。第2の鏡222において、ビームスプリッタからの透過ビーム232は反射され、第1の鏡221の方へ向けられる。ビーム232は第1の鏡221でもまた反射され、ビームスプリッタ210の方へ向けられる。ビーム232はビームスプリッタを透過し、像面にある検出器250へと進む。2つのビーム231、232は、ループすなわち領域のまわりを反対方向に進む。図3に示すように、第1のビーム231はBS-M1-M2-BS-Dの順に進み、第2のビーム232はBS-M2-M1-BS-Dの順に進む。ビーム231、232がビームスプリッタを2回目に離れるとき、それらのビームは互いに対してわずかに変位する。すなわち、光学系のまわりの光路が、2つのビームの間のずれを生む。このずれは、2つの鏡221、222の位置のわずかな違いに起因している。2つのビームが像面で再結合するとき、当該2つのビームの間の相対的な位相差によって、干渉が起こる。検出器における干渉パターンは、インターフェログラム図8a参照として知られており、干渉パターンは、それぞれのビームが光源の画像を形成し、かつ、その2つの画像が同じ光源からコヒーレントに発生する結果として生じる。インターフェログラムのフーリエ変換は、入力ビームの中に存在する波長のスペクトル図8b参照をもたらす。図8aと図8bについての詳細は後述する。2つの光路間の光路長差により、位相差が生じる。図3に示すように、光路長差は、ずれの距離ΔSとずれの角度θRに比例する。光路長差δは、下記の式で決まる。図4および図5は、干渉計に入射するビームの末端が2つになる場合を示す。ビームの2つの末端は、実際の光路長差によって変化し、像面で干渉する。例えば、図5に示すように、光路長差は像面yに沿って変化する。この図に示されている線は、3つの光路、すなわち、ビームの2つの末端とビームの中心とを表す。ずれの角度は再結合の角度でもあるので、光学系の焦点距離の寸法をFとしたとき、次式の関係が成り立つ。ずれの角度θRがゼロから離れて増加するにつれ、焦点面yに沿った距離が変化し、次式の関係が成り立つ。干渉縞の中心は、光路長差ゼロの位置ZPDとなる。これは、像面のy0の位置と考えてもよい。光路長差は、干渉計の性能指数を決めるのに役立つ。レイリー基準によって、像面の特徴から、分解可能な最小間隔すなわち分解能が決定される。図6に示すように、スペクトル分解能については、一方の画像または特徴の一次回折の最小値が他方の画像または特徴の最大値と一定するような、2つの画像または特徴間の間隔Δνによって与えられる。分解能の決定には次式Griffiths2002が用いられてきた。ここで、δmaxは、ずれの角度が干渉計のとりうる最大値となった結果実現される、最大光路長差である。このように、ずれの離間距離やずれの角度が大きくなると、分解能は向上する。したがって、ずれの角度を大きくすると、検出器において干渉パターンが大きく広がるので、長い検出器が必要になるかもしれない。検出器がすでに十分長い場合には、信号対ノイズ比の良い検出器や、デジタル-アナログ変換分解能の良い検出器を使えば、インターフェログラムを正確にデータ表現できるかもしれない。これは、波長スペクトルを作り出すための、曲線のより良い当てはめやフーリエ変換に使うことができる。したがって、ある程度の分解能を達成するために、検出器アレイの長さや光路長差のパラメータが、利用可能な成分に合うように交換されうる。分解能を増加させるためには、画素ピッチを小さくすることもできよう。本発明の干渉計において、検出器の長さを長くして分解能を増やすことは、マイケルソン干渉計においては、より大きな距離にわたって可動鏡を走査して分解能を増やすことに相当する。いずれの場合も、光路長差を増やす結果となる。鏡221、222は、像面に平坦な場を作り出すよう湾曲していることが好ましい。検出器はその像面に配置される。検出器が正確に像面になく、像面に対して傾いて配置されている場合、インターフェログラムは歪んでしまい、ZPDから離れるにつれてインターフェログラムに非線形性が生じる。これは、平坦な検出器を用いることを前提とした場合である。そうではなく、もし検出器が湾曲している場合、像面における場は検出器の湾曲に適合しなくてはならない。鏡は、検出器の形状と合わせるために像面を平坦にし、あるいは、湾曲させるように設計される。鏡221、222は同一の球面を持つことが望ましいが、そうすると2つの鏡を装置専用にあつらえることが必要になるため、一方の鏡は民生品とし、他方の鏡は専用にあつらえることで、検出器において要求される場の形を作り出すことが可能である。収差を減らすため、一方または両方の鏡は非球面にしてもよい。他の実施例としては、検出器の上に焦点を合わせるために、包囲光路すなわち逆方向巡回経路の中の他の光学部品を用いてもよいが、鏡221、222の焦点効果を組み入れた実施例が好ましい。検出器における場の形は、検査される物体または光源のタイプによっても決まる。物体または光源からの入力ビームは、無限遠におけるレーザ光源または物体からのビームのように、コリメートされるのが好ましい。物体光または光源光がコリメートされない場合には、単純な結像システムを干渉計への入力に用いることができる。例えば、双眼鏡または望遠鏡の結像システムを使えば、無限遠に物体または光源を出現させることができる。そのようなシステムは、オープンパス望遠鏡、光ファイバー光、赤外分光に用いられるような全反射減衰ATR:AttenuatedTotalReflectance光学装置、などを含んでもよい。双眼鏡や望遠鏡などの入力光学系は、検出器におけるインターフェログラムの構造を変化させる。これについての詳細は後述する。鏡の形状は、入力ビームの特徴を矯正するのにも使われる。例えば、直交軸の中で入力ビームの光の位相が整合しない場合、鏡の1つが、球状に湾曲した凹面鏡とは異なり、等しくない曲率半径を有して楕円形状に湾曲していてもよい。図7に示すように、干渉計は分光システムに組み入れられてもよい。光源301などから来た光の入力ビーム300は、干渉計330に入射する。干渉計は、検出器の各画素に入射した光の強度に基づいて、信号331を生成する。信号331は分析器350に入力される。分析器は、検出器の各画素の受光強度に基づいてインターフェログラムを表示してもよい。分析器は、検出器から受け取った信号331のフーリエ変換を実行することで、入力ビーム300に含まれる波長を表す出力を発する。ひとつの実施例としては、当該信号は、検出器アレイにおける各画素についての信号数を含んでいてもよい。分析器350は高速フーリエ変換FFTアルゴリズムを用いてフーリエ変換を行ってもよい。図8に結果の例を示す。図8aはインターフェログラムを示し、図8bは波長スペクトルを示す。横軸は、検出器に沿った距離、すなわち、像面yの中の距離に相当する。検出器に沿った画素数に相当するy位置2400と2500の間には、重要な信号が見られる。図8aの垂直軸は、強度に相当する。検出器の大部分に沿っては干渉が起こらないし、それゆえに入力ビームは単に検出器アレイを横切って広がるだけである。データ点2400と2500の間の領域では、重なり合いまたは打ち消しあう干渉が起こり、検出器の画素に入射する強度は大きくなりまたは小さくなって、インターフェログラムの重要な特徴を作り出す。波長スペクトルは、このインターフェログラムのフーリエ変換から導き出される。本発明による干渉計の利点は、機械的な走査が不要である点である。例えば、図1に示された従来のマイケルソン干渉計については、光路長差を生じさせるためには一方の鏡を空間的に走査することが必要であり、そのような走査は著しく高度な正確さを要求される。本発明の干渉計では、光学的配置と直線状の検出器アレイの利用によって光路長差が作られるので、可動部品は不要である。本発明による干渉計の他の利点としては、可動部品がないため、原理上は走査時間がとても短く、検出器からの信号の読み出しにかかる時間によってのみ制限される点である。これは、干渉計と分析器が、入力光のスペクトルの変化についての一時的情報を作り出すことを意味する。例えば、リアルタイムでほぼ連続的にまたは毎秒多くの回数で更新される入力ビームの中の波長のグラフを作り出す。可動部品がないことにより、極度の温度や振動のために可動部品が誤動作する傾向がある人工衛星などの、厳しい環境の中で使うのに適した装置にもなる。本発明による干渉計のさらなる利点としては、焦点合わせが鏡に組み入れられるので、干渉計が従来の干渉計よりも小型にできる点が挙げられる。他の実施例では、直線形の検出器アレイが、像面を横切って機械的に走査される単一部品検出器に置き換えられる。この実施例はより安価な装置となるであろうが、頑丈さは低下するであろう。また、像面を横切って単一部品検出器を動かすのに時間がかかるので、入力波長の変化について得られる一時的情報も少なくなるであろう。それでも、単一部品検出器を利用すれば、インターフェログラム全体を横切ってサンプリングするのに同一の部品が使えるので、像面を横切った直線性を改善できるかもしれない。つまり、検出器アレイの場合には多数の画素があり、それぞれの画素ごとに性能特性が異なるかもしれないのに対し、像面を横切る検出器の性能は変化しないであろう。他の実施例では、検出器は画素の2次元アレイを有する。この実施例では、干渉計は結像分光器の一部を形成するかもしれない。例えば、図9に示すように、2次元検出器アレイによって、対象の光景についての限定的な空間情報が作られる。上述の干渉計は、瞳面干渉計pupilplaneinterferometerである。図9に示すように、対象の光景の線502に沿った各点例えば501について、インターフェログラムが2次元検出器アレイの線510に沿って生成される。このように、瞳面干渉計は、線502に沿った501のような各点について、一連のインターフェログラムを作成する。すなわち、空間情報が一方向に作られ、結像情報が直行する方向に作られる。図9では、空間情報は水平方向に示されている。これは、図3に示された検出器250の線に沿う方向に相当する。対象の光景についての限定的な空間情報は、図9において鉛直方向に含まれたものとして示されている。これは、図3の紙面に垂直な方向に相当する。瞳面干渉計は、図3の入力ビーム205として、コリメートされたビームを受け取る。あるいは、干渉計は、相対的に同じ位置に配置された、同じ反射部品、ビームスプリッタ、および検出器を用いる像面干渉計として構成されてもよい。像面干渉計は、追加的に、システムの焦点を瞳面ではなく像面に位置させる、双眼鏡や望遠用の光学系のような入力光学部品を含む。これにより、検出器にわたる画像を持つ像面干渉計となり、それゆえに、検出器にDC信号を生じさせ、画像の上に上書きされた干渉パターンに起因する変調を生じさせる。検出器の各画素は、やはり位置に依存する光路長差OPDを有する。画像の光景の中にある個々の点について、完全なインターフェログラムを発生するため、当該点は検出器の線を横切って走査されなければならない。この技術は、信号の時間領域積分TDI:TimeDomainIntegrationとして知られており、フーリエ変換が実行される前に完了しなければならない。上述したとおり、像面干渉計については、インターフェログラムは、検出器を横切って画像の光景の中の点を走査することにより形成される。これは、入力光学系にある走査鏡を用いて行われる。逆に、瞳面干渉計については、完全なインターフェログラムが既に形成されているが、完全な画像を生成するためには走査が必要となる。走査鏡を用いて、あるいは分光計それ自身が動くことによって、走査が再び行われる。像面干渉計には、各インターフェログラムについての画素あたりの信号が、瞳面干渉計よりも大きいという利点がある。瞳面干渉計には、信号が検出器アレイを横切る方向に平坦に分布するという利点がある。瞳面干渉計こそが本明細書の中心である。なぜなら、瞳面干渉計は、波長スペクトルを得る装置の動き、または当該装置の中の動きを必要としないからである。干渉計は民生品COTSの部品を用いて組み立てられている。干渉計に用いられている2つの凹面鏡は、NewportOptics社の曲率半径100mmのものである。鏡のコーティングは、保護されたアルミニウムである。これらの鏡は、図3の鏡221、222M1、M2の役目を務める。ビームスプリッタ210は、ソーラボThorlabs社の平板ビームスプリッタであり、700-1200nmの範囲でビームの分割ができるように近赤外コーティングが施されている。検出器は、Mightex社米国の3648画素のCCD直線形検出器アレイである。干渉計をテストするために、OceanOptics社が供給する白色光タングステンハロゲン光源から光が入力された。光源は可視-近赤外で作動し、光はBiFiOptilas社の標準ファイバー光学コリメータを通って入力される。Mightex社のCCDによって、スペクトルが500-1100nmの範囲で計測された。Mightex社の3648画素直線形アレイ検出器の画素ピッチは7μmであった。画素ピッチが2.2μmである5メガピクセル2次元検出器も、この構成例において用いられている。波長範囲は、異なった波長範囲を感受できる異なった検出器を用いて広げることができる。例えば、InGaS系検出器は900-2550nmの放射を検出でき、MCTHgCdTeは5-15μmの放射を検出できる。広いまたは異なった波長を検出することが望まれるのであれば、ビームスプリッタに異なったコーティングを施すことが必要となろう。COTS干渉計の設置面積は約40mm×40mmであり、装置の高さは約25mmである。鏡とビームスプリッタとの間隔はおよそ15mmである。ビームスプリッタと検出器アレイの間隔は約30mmである。Mightex社の3648検出器アレイの長さは約30mmである。2つの鏡はビームスプリッタ面に対して約30°の角度である。検出器はビームスプリッタ面に対して約80°の角度である。これらの角度および距離は一例にすぎず、他の様々な構成をとることが可能である。これらの構成部品により、EMスペクトルの可視光領域において約0.1-0.5nmの分解能を有する干渉分光計ができる。鏡、ビームスプリッタ、検出器の相対位置は光学モデリングソフトウェアを用いて決定される。このソフトウェアは、鏡121、122の位置と曲率半径を正しく決定し、焦点が平面になる位置に検出器が来るように分光計の部品を最適に整列させる。上述の構成の変形により、光学部品は様々な態様で変更してもよく、異なった波長のために最適化したり、異なった装置サイズのために最適化したりしてよい。例えば、ビームスプリッタ、鏡、検出器は、上述したCOTS装置で用いられるものからすべて変更してもよい。ビームスプリッタは、使われる光学材料を変えることにより変更してもよい。当該使われる材料は、必要とされる動作の波長領域にとって最適なものとしてよい。利用可能な材料としては、可視光の場合には、BK7、石英、フッ化カルシウムが、赤外の場合には、ゲルマニウム、セレン化亜鉛、臭化カリウムが選ばれてもよい。ビームスプリッタは、特定の波長に用いるのに最適なコーティングを含んでもよい。コーティングは、ビームスプリッタのタイプやビームスプリッタのどの表面がコーティングされるかに応じて、非反射性としても反射性としてもよい。コーティングは、望まれるスペクトル範囲をカバーする広帯域であることが望ましい。上述したとおり、薄膜型や平板型など、異なったタイプのビームスプリッタを用いてよい。これらの中には、当該波長および当該装置が用いられる環境について有望なものがあろう。ビームスプリッタの形状もまた、透過光や反射光の特有の分散を調整するように変更してよい。例えば、形状を変えることによって、収差を補償したり、ビームをチャープしたりしてもよい。ビームのチャープは、平板形の代わりにくさび形ビームスプリッタを用いて実現してもよい。鏡は、検出器における平面に沿って放射を焦点合わせするような形状に作られている。このためには、鏡の曲率半径と位置が正確に決定される必要がある。鏡の曲率半径を変えると、焦点距離が代わり、それによってシステムの焦点面の位置が変わる。したがって、鏡の曲率半径を変えることにより、機器のサイズとスペクトル分解能が変わりうる。2つの鏡はまた、互いに異なる局率半径を有するように特徴づけられてもよい。鏡はまた、波面収差を補償するために非球面の表面を有してもよい。使われる鏡のタイプもまた、性能要求を満たすように変更してもよい。鏡のコーティングは、装置が動作する波長に応じて、金、銀、アルミニウムとしてよい。鏡を用いる代わりに、回折格子を光学反射部品として用いることもできる。回折格子は、波長に依存する干渉特徴、すなわちフィルター機能をもたらすために用いられるであろう。機械的に焦点距離を変えられるような、変形可能な鏡を用いてもよい。検出器の材料、画素数、画素サイズなどのパラメータは、装置の性能を決定する。上述のとおり、2次元アレイなら画像情報を出力するし、直線形アレイなら高感度と高速読み出しを実現する。使われる検出器のタイプは、サンプリングされる放射の波長に依存する。異なった波長に対する検出器のタイプの例としては、以下のものが挙げられる。可視-CCD、CMOS検出器など。近赤外-InGaAs、InSb、Ge、MTCなど。中赤外-MTC、量子井戸赤外フォトダイオードQWIP:quantumwellinfraredphotodiode。広帯域ボロメータアレイ。代わりに、単一素子の検出器が用いられてもよい。単一素子は、上述したとおり、像面を横切って機械的に走査するように構成されてもよい。上述したとおり、干渉分光計はインターフェログラム情報のみを作り出すように構成することができ、あるいは、2次元検出器アレイを用いて画像情報を作り出すこともできる。分光計はさらに、入力放射を検出器で計測できる波長にヘテロダインするための局所発振器を組み入れてもよい。上述の実施例は、COTS部品のような別個の光学部品を用いて説明してきた。しかし、装置は単一のガラス片から、またはシリコンの中にマイクロマシニングにより、モノリシックに製作することもできる。あるいは、独立した部品を組み立てることによって、ビームスプリッタや鏡面が統合された単一のモノリシック光学系として作ることもできる。光学系はまた、光学部品や電子部品を統合した単一の検出器チップ、すなわちラブオンチップシステムを作るMEMSMicroElectroMechanicalSystems技術を用いて製造してもよい。他にも、包囲光路の中に焦点光学系あるいはフーリエ光学系を含ませたような光学的構成も可能である。例えば、図10が示す光学的配置は、図3の実施例と比較して、さらに別の鏡を含んでいる。光が進む包囲光路は、図3に示した三角形の光路とは異なり、およそ正方形または長方形である。図10の実施例は、ビームスプリッタすなわち光分割器310、検出器350、3つの鏡321、322、323を含んでいる。鏡321、322、323は1つ、2つ、または3つの曲面鏡であってもいいし、残りの鏡は平面鏡であってもいい。図10の構成では、2つの曲面鏡が321と322に、1つの平面鏡が323に示されている。入力ビーム305は、ここでも、コリメートされたビームであることが好ましい。入力ビームは光分割器310に入射し、そこで反射ビーム331と透過ビーム332になる。反射ビーム331は、BS-M1-M3-M2-BS-Dの光路を周り、最後に検出器Dに入射する。透過ビーム332は、BS-M2-M3-M1-BS-Dの光路を周り、やはり最後に検出器Dに入射する。図3と同様、この鏡の整列によって、2つの光路間に小さな光路長差が生じる。この光路長差により、検出器において干渉がおこり、それによって上述したものと同様のインターフェログラムが作られる。他にも、フーリエ光学系が包囲光路に含まれた光学配置が可能である。互いの光路間での光路長差は、分析される光の可干渉距離よりもずっと小さくしなければならない。図10の実施例はより多くの部品を有しているので、組立てや調整が難しいかもしれない。さらに他にも、ビームスプリッタで生じた2つのビームが包囲光路のまわりを逆方向に伝播しない実施例が可能である。例えば、ビームスプリッタが発する第1および第2のビームが、図3の90°よりも小さな角度、例えば30°で分かれてもよい。そして、2つの凹面鏡が、第1および第2のビームを検出器に向けるようにしてもよい。この実施例では、鏡は離間して配置され、双方が同じ方向を向いているかもしれない。第1および第2のビームが包囲光路を周らない実施例でも、鏡により焦点効果が起こるので、干渉計は小型にできる。すべての実施例において、光学部品の数を減らせるならばそれは利点である。それでも、図3の実施例には、インターフェログラムを作るための光学部品の調整がが、相対的に容易であり、場合によっては自己調整であると考えられる、というさらなる利点がある。本発明による干渉光学系が使えるかもしれない応用分野は非常に多く、多岐にわたる。本発明の装置は次に記す応用ができるかもしれない。すなわち、大気汚染の監視例えば、都市地域または工業地域における原位置での監視、または、無人機や気球やロケットゾンデの配備、化学処理のセンサ例えば、大規模な薬学あるいは石油化学の製造工場で用いられる化学処理の原位置でのオンライン測定、化学薬品および爆発物の検知および分析のための反テロリズムあるいは軍事上の応用、大気遠隔探知およびその他の科学測定、環境試験すなわち、危険物の試験、道端の車両の排気試験、ガス漏れ監視、呼気による糖尿病試験のような医療診断、などである。装置が化学薬品の判別に用いられるような実施例もあるかもしれない。装置はサニャク干渉計に基づいているので、装置は加速度計としても使われるかもしれない。上述の装置には、添付した特許請求の範囲の範囲から外れないような様々な修正および改変がなされてもよいことを、当業者は理解するであろう。例えば、干渉計は可視および赤外の波長で用いられると説明してきたが、これらの波長には限定されず、他の波長で用いられてもよい。光学部品やコーティングには、用いられる特定の波長にあわせた最適化が必要となるかもしれない。