"現場製造されたゲル/沈降シリカの複合材料であって、該複合材料は20~85体積のシリカゲルを含み、ここで該複合材料は150ml/100gより大きいアマニ油吸収を示し、そして該複合材料は約1.0~5.0mg損失/100,000回転の範囲の10BrassEinlehner硬度を示す、前記の複合材料。該複合材料が45~65体積のシリカゲルを含む、請求項1に記載の複合材料。該複合材料が3~20μmのメジアン粒径を示す粒子の形態である、請求項1又は2に記載の複合材料。請求項1~3のいずれかに記載の該複合材料を含む歯磨配合物。該複合材料以外の研磨物質をさらに含む請求項4に記載の歯磨配合物。請求項1に記載の複合材料を製造する方法であって、a水性溶液内で4~35重量の濃度を有する十分量のアルカリケイ酸塩と、水性溶液内で5~25重量の酸濃度を有する酸性化剤を、約40~約90°Cの温度で撹拌下に一緒に混合してシリカゲル粒子を含む組成物を形成させ;そして前記形成されたシリカゲル粒子を含む組成物を最初に洗浄、改質又は精製をせずに、bその後、シリカゲル粒子を含む前記組成物に十分量のアルカリケイ酸塩と酸性化剤を導入して、沈降シリカを形成させることによってゲル/沈降シリカ複合材料を製造する順次工程、ただし全反応のpHは3~10の範囲にあるを含む方法。工程aの濃度が10~20重量である、請求項6に記載の方法。現場製造されたゲル/沈降シリカの複合材料であって、該複合材料は20~85体積のシリカゲルを含み、ここで該複合材料が試験歯磨剤組成物内に単一の研磨成分として組み込まれたときに、該歯磨剤組成物が約0.80~約3.5のPCR:RDA比、約50~約80のPCR値及び約20~約80のRDAレベルを示す、複合材料。該複合材料が45~65体積のシリカゲルを含む、請求項8に記載の複合材料。請求項8又は9に記載の複合材料を含む、歯磨剤組成物。該複合材料以外の研磨材料をさらに含む、請求項10に記載の歯磨剤組成物。請求項8に記載の複合材料を製造する方法であって、a水性溶液内で4~35重量の濃度を有する十分量のアルカリケイ酸塩と、水性溶液内で5~25重量の酸濃度を有する酸性化剤を、約40~約90°Cの温度で撹拌下に一緒に混合してシリカゲル粒子を含む組成物を形成させ;そして前記形成されたシリカゲル粒子を含む組成物を最初に洗浄、改質又は精製をせずに、bその後、シリカゲル粒子を含む前記組成物に十分量のアルカリケイ酸塩と酸性化剤を導入して、沈降シリカを形成させることによってゲル/沈降シリカ複合材料を製造する順次工程、ただし全反応のpHは3~10の範囲にあるを含む方法。工程aの濃度が10~20重量である、請求項12に記載の方法。購入、貯蔵及び歯磨剤内への導入を必要とする添加剤の数を制限したい希望は常にある。従って、同時に増粘特性と研磨特性を提供し、そのような性質のために複数の成分を添加せずにすむ能力は、業界内ではまだ満たされていないニーズである。発明の目的及び要旨今回、沈降シリカの製造法における改変によって、その中に標的量のシリカゲルを現場で同時製造できることを見出した。特に現場生成された複合材料の最終構造を制御できる改変法である。そのような新規方法は、歯磨剤内で優れた象牙質研磨能と被膜清掃能を提供する現場生成されたゲル/沈降シリカ材料の製造を可能にする。あるいは、望ましい研磨及び清掃性だけでなく優れた増粘性も示す製剤が、そのように特異的に製造され、貯蔵され導入された添加剤の導入によって可能になる。特に、特異的な現場形成された複合材料は放射性象牙質研磨結果の低さに比べて非常に高レベルの被膜清掃性を示すので、得られた材料は、歯磨剤製造業者がある高レベルの清掃性と低い研磨性を求めて他の研磨材料例えば低構造性の沈降シリカ、炭酸カルシウムなどと共に加えることもできる。そうすることにより最終ユーザーに対して研磨からの保護には大きな余裕を提供しながら清掃の最適化が提供される。また、特定の科学的理論に拘束されるつもりはないが、最終複合材料中のシリカゲルの量を増やすと、高い清掃性と削減された象牙質研磨レベルの制御された結果に寄与する狭い粒径範囲の提供に役立つとも考えられている。以下で詳細に検討するが、そのような材料の物理的混合物すなわち同一反応内で同時に製造されていないには、そのような性質を限られたレベルでしか与えられず、許容可能な高被膜清掃レベルを付与すると同時に、非常に高い、有害でありうる程度の象牙質研磨水準を示す材料特に沈降シリカ成分を用意する必要があるということが分かっている。新規な現場生成沈降/ゲルの組合せシリカは、思いがけず高度の被膜清掃性と著しく低い象牙質研磨値を提供するので、より良好な歯保護のためにより望ましい可能性のある低研磨材料というだけにとどまらないものを歯磨剤工業にもたらす。様々な量のそのようなシリカゲル成分の存在は、ゲル凝集体が研磨のために呈示する鋭いエッジの利益が、共存する様々なレベルの異なる構造のシリカ沈降物とともに、高清掃、中間的清掃、又は増粘/低清掃の三つの一般的性質のうちの一つを示す総体的複合材料をもたらすのを可能にすることは認識されている。そのような一般的性質は、総体的なゲル/沈降複合材料の構造前述のようにアマニ油の吸収によって測定にすべて依存している。現場製造された場合、得られたゲル/沈降材料は、別個に製造されたそのような成分の乾燥ブレンドと比較して、思いがけず改良された性質を提供する。このようにして、高清掃の場合を一例に挙げると、被膜清掃レベルは極めて高いが、実際には象牙質研磨レベルは制限されるので、標的の歯基質に対して高すぎる研磨レベルを与えることのない優れた清掃材料が提供される。あるいは、しかし決して重要性は劣らないのが、象牙質研磨及び被膜清掃特性前段落で記載したものより程度は低いがと一緒に増粘性も提供するシリカ系成分の材料を同じ反応媒体内で同時に製造し、単一の添加剤でそのような有益な結果を可能にする能力である。出発材料の濃度及び/又はゲル及び/又は沈降物の反応条件の変更を通じて、最終複合材料中のシリカゲルの量及び/又はその中の沈降成分の目標とする高-、中-、又は低構造を制御する能力は、複合材料自体の総体的清掃、研磨、及び/又は増粘特性を制御する能力を提供する。従って、より大きい増粘特性と削減されてはいるが効果的な被膜清掃特性を示す複合材料は、多量のシリカゲル及び/又は多量の高構造沈降物のいずれかを含み、その結果、総体的複合材料は十分に高いアマニ油吸収150ml超/100g材料を示し、目標とする所望の増粘性/低研磨性を提供する。このように、シリカゲル/沈降物のそうした製造パラメータを制御することによって、単一の添加剤でこれらの多様な清掃、研磨、及び/又は増粘性を、高価な可能性のあるそして/又は配合が困難な材料を同じ目的のために複数添加しなくても提供できることが分かった。本明細書中で使用しているすべての部、パーセンテージ及び比率は特に明記しない限り重量による。本明細書中に引用したすべての文献は参照によって本明細書に援用する。従って、本発明の一つの目的は、改良された被膜清掃性を提供しつつ象牙質又はエナメルの研磨レベルはそれに応じて許容しがたいほど高く増加しない沈降シリカ及びゲルシリカの複合材料を提供することである。本発明の別の目的は、そのように有効な沈降物/ゲルのシリカ組合せ物を製造するための新規方法を提供することである。その場合、該材料は同時に現場で製造されるので歯磨剤の製造中ではなく材料の製造中に該材料の適正比率を決めることが可能になる。また、本発明の目的は、現場生成された沈降/ゲルのシリカ複合材料によって示されるアマニ油吸収レベルが三つの範囲のうちの一つに入る複合材料を提供することである。すなわち、非常に高い清掃材料の場合、吸油量40~100ml/複合材料100g、中間的高さの清掃材料の場合、100より大~150mlまで/100g、そして清掃/増粘/低研磨材料の場合、150より大である。従って、本発明は、シリカゲルと沈降シリカを同時に製造する方法を包含し、前記方法は、a十分量のアルカリケイ酸塩と酸性化剤を一緒に混合してシリカゲル組成物を形成させ;そして前記形成されたシリカゲル組成物を最初に洗浄、精製、又は改質せずに、b前記シリカゲル組成物に十分量のアルカリケイ酸塩と酸性化剤を同時に導入して沈降シリカを形成させ、それによって沈降/ゲルのシリカ組合せ物を製造する順次工程を含む。本発明はまた、そのようなプロセスの生成物も包含し、その中に存在するシリカゲルの量は、得られた全沈降/ゲルシリカの同時製造組合せ物の5~80体積である。さらに本発明には、上記三つの吸油測定値の範囲に入る複合材料、及び上記発明的プロセスの生成物のみならずそのような材料も含む歯磨剤も包含される。一般的に、合成沈降シリカは、希アルカリケイ酸塩溶液を強鉱酸水溶液と、ゾル及びゲルへの凝集が起こりえない条件下で混合し、撹拌し、次いでろ過して沈降シリカを取り出すことによって製造される。得られた沈降物は次に洗浄、乾燥され、そして所望サイズに粉砕される。また一般的に、シリカゲルは、シリカヒドロゲル、含水ゲル、エーロゲル、及びキセロゲルを含む。シリカゲルも、アルカリケイ酸塩溶液を強酸と又はその逆反応させてヒドロゾルを形成させ、新しく形成されたヒドロゾルを熟成してヒドロゲルにすることによって形成される。次いで該ヒドロゲルを洗浄、乾燥し、粉砕して所望材料にする。前述のように、そのような材料を別に製造することは、歴史的に、これらの別材料の製造と、歯磨剤への配合時にその所望の清掃/研磨レベルを提供するように二つを一緒に適正に計量することを必要としてきた。これに対し、そのような材料を同時製造する発明的方法は、製造者が、製造中のパラメータ制御を通じて、シリカゲル及び沈降シリカ成分の量の範囲と共に沈降成分の構造も標的にすることで所望の清掃/研磨レベルを付与することを可能にする。これは、従来の別々の配合によるそのような材料の物理的混合物すなわち乾燥ブレンドとは著しく異なる。基本的に、新規方法は、所望のシリカゲルの量を標的とし、そしてそのような所望レベルを生み出すためにアモルファス沈降シリカ製造中にある反応条件を特定的に選択することを含む。発明的研磨組成物は、歯磨剤、練り歯磨きなどの口腔清掃組成物を製造する際のすぐに使える添加剤である。特に練り歯磨き製造プロセスにおける原料として適している。さらに、そのようなシリカ生成物は、鋭いエッジと低研磨性が望まれる用途、例えば食洗機用洗剤これだけに限らないのようなある種の製剤中の抑泡剤これだけに限らないにも利用できる。そのような材料の追加の使用可能性は、食品運搬容器、ゴムの添加剤及び担体、化粧品添加剤、パーソナルケア用品添加剤、プラスチック粘着防止添加剤、及び医薬品添加剤などであるが、これらに限定されない。最初のゲル形成実施例1~2最初の二つの実施例で、全般的なゲル/沈降物製造法の中の最初のシリカゲル製造について示す。最初の製造後、これらのサンプルの一部を洗浄及び精製して、実際のゲルが最初に形成されたかどうか、そしてまたそのようなサンプルによって示されるその他のゲルの性質を調べるために、得られた材料を分析した。残りのサンプルは、さらに以下のゲル/沈降生成物を製造するために何らの洗浄、精製などされずに利用されたことに注意するのは重要である。各実施例で、3.3モル比の特定濃度のケイ酸ナトリウム水溶液を一定量、30ガロンの反応器に入れ、その中で60rpmで撹拌した。次に反応器内容物を50°Cに加熱し、次いで11.4の硫酸30°Cに加熱されているを特定速度で特定時間の間加え、次いで得られた生成物をゲル様材料に変化させた。次にこの材料をろ過し、その後水約60°Cで洗浄し、噴霧乾燥させた。このようにして回収及び乾燥させた材料を、次に以下に示すようないくつかの性質について試験した。そのための試験法は上に示した。以下の表1に反応パラメータ及び条件を示す。表2には最初に製造されたこれらのゲル生成物の性質の分析結果を示す。分析により、シリカゲル材料が最初に形成されたことは明白であった。繰り返すが、それらの回収後に実施されたろ過及び洗浄工程は、形成されたゲルを以下の表2にあるようないくつかの性質についてさらに分析するために必要だったにすぎない。このような分析は、目的のゲル/沈降シリカ組合せ物の実際の発明的現場製造中には一般的に実施されない。シリカゲルが最初に形成されたかどうか、そしてその性質を分類目的のために調べたいという単なる興味である。さらに、本表並びに本開示全体にわたって、得られなかった又は測定されなかったデータはいずれもダッシュで表してある。さらに、シリカゲル単独について測定された吸油性は、発明的ゲル/沈降シリカ組合せ物全体についての油吸収の測定値を示すものでもそれと混同すべきものでもないことに注意することは重要である。ゲル/沈降物複合材料の現場製造実施例3~7実施例3~7は、約10~23体積のゲルと、従って約90~約77体積の沈降シリカを含有する添付の表に示すとおり。これらの実施例の生成物は、低構造LSから中間的構造MSから高構造HSまでの様々なシリカ構造レベルを有していた。特定濃度ケイ酸塩濃度A及びSiO2:Na2O比3.3の、ある体積のケイ酸ナトリウム水溶液ケイ酸塩体積Aを反応器に入れ、その中で撹拌する反応器のサイズに応じて撹拌速度は約60~約92rpmであるが、該プロセスには任意の速度を利用してもよいという第一段階の手順に従った。反応器の内容物を50°Cに加熱し、次いで11.4の硫酸を特定速度酸速度Aで特定時間酸添加時間Aの間加えた。例えば実施例5の場合、撹拌機の速度は60rpmにセットしたが、酸添加時間4~5分の間に1分間だけ120RPMに上げた。この時点で、必要であれば形成されたシリカゲルに特定体積の水を加えた。この後、シリカゲルが視覚的に確認され、スラリーのpHを試験し、所望により、指示通り酸添加速度を調整することによってpH5.0に維持した。次に、得られたスラリーを93°Cにまで加熱しその他はそれより低い80°Cほどの温度にしか加熱しなかったが、第二段階の沈降開始後は93°Cまで加熱を続けた、その温度をバッチ製造中維持した。その後、第二の量のケイ酸ナトリウム水溶液の同時添加を開始した。すなわち、85°Cに予熱されたものを特定濃度ケイ酸塩濃度B及び特定速度ケイ酸塩速度Bで、そして同じ硫酸を特定速度酸速度Bで加えた。反応器内容物の75LPMの速度での再循環は、酸とケイ酸塩の同時添加開始後に始まり、消化の間継続した。特定時間のケイ酸ナトリウム導入ケイ酸塩添加時間B後、その流れを停止させた。反応器内容物のpHは、同時添加段階中、連続してモニタした。酸の添加は、バッチ全体のpHが約7.0に降下するまで続けた。このpHが達成されたら、酸の流れを約2.7リットル/分に減速し、得られたバッチの全般的pHが4.6に低下するまでその速度で続けた。次に完成したバッチを93°Cに10分間加熱した消化。この間、バッチのpHは4.6に維持された。次に得られたスラリーをろ過によって回収し、ろ液の導電率をモニタすることによって測定した硫酸ナトリウム濃度が約5未満好ましくは4未満、最も好ましくは2未満になるまで洗浄した。次いで入口温度~480°Cを利用して約5の水分レベルにまで噴霧乾燥させた。次に乾燥生成物を粉砕して均一サイズにした。実施例3~7で用いたパラメータを表3に示す。以下に示すように、一部の実施例については酸速度レベルを反応中に調整した。実施例3~7のいくつかの性質を前述の方法に従って測定し、結果を表4にまとめた。実施例8~12実施例8~12は、約25~35体積のゲルと約75~約65体積の沈降シリカを含有する。これらの実施例の生成物は、非常に低構造~高構造までの様々なシリカ構造レベルを有していた。これらの実施例は実施例3~7に示した手順に従って製造されたが、パラメータは以下の表5に記載のものを用いた実施例12は容積約40,000リットルの非常に大型の反応器中、撹拌速度約92rpm及び高剪断再循環流速約3050リットル/分で製造されたことに注意する。実施例8~12のいくつかの性質を前述の方法に従って測定し、結果を表6にまとめた。実施例13~14実施例13~14は、約50のゲルと約50の沈降シリカを含有する。これらの実施例の生成物は、低構造~非常に高構造までの様々なシリカ構造レベルを有していた。これらの実施例は実施例3~7に示した手順に従って製造されたが、パラメータは以下の表7に記載のものを用いた。実施例13~14のいくつかの性質を前述の方法に従って測定し、結果を表8にまとめた。実施例15~17実施例15~17は、ゲル/沈降物製造中の沈降シリカ成分のpH調整を通じて、また反応濃度の変化を通じて、ゲルの量とシリカ構造が調整できる能力を反映したものである。これらの実施例は実施例3~12に示した手順に従って製造されたが、パラメータは以下の表9に記載のものを用い、上記実施例12に示したのと同じ反応器内及び同じ撹拌条件下で実施した。実施例15及び17は高剪断再循環なしであったが、実施例16は実施例12と同じ高剪断再循環流速を用いた。実施例15~17のいくつかの性質を前述の方法に従って測定し、結果を表10にまとめた。歯磨剤の製剤上記のゲル/沈降シリカのいくつかの実施例を用いて練り歯磨剤を製造し、発明的組成物が、二つの成分を最適の歯保護利益のためにさらに計量せずともすぐに使えるオンデマンド能力を持つことを実証した。歯磨剤の製造のため、グリセリン、ナトリウムカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール及びソルビトールを一緒に混合し、成分が溶解して第一の混合物を形成するまで撹拌した。脱イオン水、フッ化ナトリウム、ピロリン酸四ナトリウム及びナトリウムサッカリンも一緒に混合して、これらの成分が溶解して第二の混合物を形成するまで撹拌した。次にこれら二つの混合物を撹拌しながら合わせた。この後、所望により着色剤を撹拌しながら加え、プレミックスを得た。プレミックスをRossミキサーModel130LDMに入れ、シリカ増粘剤、研磨シリカ及び二酸化チタンを減圧なしに混合した。30インチの真空に引き、得られた混合物を約15分間撹拌した。最後にラウリル硫酸ナトリウムとフレーバーを加え、混合物を減速した混合速度で約5分間撹拌した。得られた歯磨剤をプラスチックラミネートの練り歯磨き用チューブに移し、今後の試験のために保管した。歯磨剤の配合を以下の表11に示す。使用した歯磨剤の配合は、発明及び比較の清掃研磨剤のPCR及びRDA並びに粘度を測定する目的にふさわしい試験用の歯磨剤の配合であるとみなされた。物理的及び美的観点から歯磨剤の適正な形成を可能にするためにカルボキシメチルセルロースの量を状況によって変化させたが、その分は加えた脱イオン水の量で相殺した。しかしながら、全般的な基本の歯磨剤の配合は前述のように行った試験に関しては本質的に固定されていた。1コネチカット州ダンベリーのUnionCarbideCorporationより入手したポリエチレングリコール2デラウェア州ウィルミントンのHerculesCorporationのAualonディヴィジョンから入手したカルボキシメチルセルロース;Noviantから入手可能なCMCであるCEKOL登録商標2000も使用可上記のように調製した歯磨剤を前述の方法に従ってPCR及びRDAの性質について評価した。各歯磨剤の測定値並びにPCR:RDA比を以下の表12に示す。製剤1、3、及び8のPCRデータは、ルイジアナ州ポートアレンのSoutheasternDentalResearchCorporationから得、残りのPCRデータはインジアナ州インジアナポリスのOralHealthResearchInstituteから得た。結果は、様々な性能を示しているが、非常に効果的な清掃能と比較的低い象牙質研磨性を有している。いくつかの別の歯磨剤も調製した。製剤12~14については2個の発明的シリカの組合せ、製剤11については発明的シリカと市販シリカJ.M.HuberCorporationのZEODENT登録商標115の組合せを使用した。歯磨剤は前述の方法に従って製造し、成分のほとんどは上記の表11と同じであった。以下の表13に、異なるシリカ研磨剤のブレンドを配合したこれらの練り歯磨きの配合表を、本明細書中に記載の発明との関連で提供する。1メリーランド州ハバードグラースのJ.M.HuberCorporationから入手した低構造沈降シリカ。上記のように調製した歯磨剤を前述の方法に従ってPCR及びRDAの性質について評価した。各歯磨剤の測定値並びにPCR:RDA比を以下の表14に示す。これらの組合せ、特に製剤12、13、及び14の清掃能は、これらの製剤が研磨レベルはかなり低いのに非常に驚くほど効果的な歯研磨及び被膜除去材料であることを明示している。図面の詳細な説明図1は、上掲の一部の歯磨剤で得られたRDAとPCRの比を、Riceの米国特許第5,658,553号に開示されているのとほとんど同じようにして製造されたシリカゲルと沈降シリカの物理的混合物と比較したグラフ図である。各線の傾きは、それぞれ異なる製剤によって得られた一般的結果を示すが、本発明の同時形成された組合せ物がより大きなPCR結果と、相関して低いRDAを提供していることを示している。従って、そのような発明的組合せ物は、同時に許容できないほど大きく象牙質を研磨することなく大きい清掃能を可能にしていることが思いがけず発見された。すべての歯磨剤は、許容可能な粘度、フッ化物利用性、及び優れた美学立ち上がり、質感、分散を示した。特に図1のグラフ図を見ると、比較のためのそのような材料の物理的ブレンドが、現場生成された本発明の組合せ物と同じように望ましい被膜清掃効率と低いRDA値を示さないことは明白である。同様に図2に発明的な現場製造されたシリカ組合せ物の増粘能とRice特許に記載のゲルと沈降物の物理的ブレンドのそれとの比較を提供する上記と同じ試験歯磨剤において。これらの異なるタイプの材料の全般的構造とその結果としての機能には著しい違いがあることが明白である。現場生成された複合材料は、その中に存在するゲル/沈降物の量の範囲全体にわたってRice特許のブレンドとは異なる増粘度を示している。従って、明らかにこれらの二つの異なるタイプの歯磨剤用添加物には形態及び特徴上の差がある。さらに、図3に発明的ゲル/沈降物複合材料の広範囲にわたるPCR対RDAの読みの測定を従来の沈降シリカ研磨剤の同じ測定と比較したグラフ図を示すこの場合も上記と同じ試験歯磨剤での測定。この図から、発明的ゲル/沈降シリカ複合材料は従来の研磨材料よりも高いPCR結果と、相関して低いRDA性とを可能にしていることが明白で、比較の研磨剤と発明的な現場製造タイプとの間には顕著な差があることが示されている。このようにして、驚くべきことに、シリカゲルと沈降シリカ材料のブレンドの現場製造法は、改良された被膜清掃利益を提供しながら、同時にずっと低い象牙質研磨の読みを示すことが認められた。これによって、使用中に歯表面を有害に研磨する傾向の低い、より効果的な清掃材料が提供される。本発明をある好適な態様及び実施と関係づけて説明及び開示してきたが、本発明をそのような特定の態様に制限することは全く意図していない。それどころか添付の特許請求の範囲及びその等価物によって定義されうる等価の構造、構造的等価物並びにあらゆる代替の態様及び変形もカバーするものとする。[本発明の態様][1]現場製造されたゲル/沈降シリカの組合せ物であって、前記組合せ物は、a十分量のアルカリケイ酸塩と酸性化剤を一緒に混合してシリカゲル組成物を形成させ;そして前記形成されたシリカゲル組成物を最初に洗浄又は精製をせずに、bその後前記シリカゲル組成物に十分量のアルカリケイ酸塩と酸性化剤を導入して、シリカゲルに影響を及ぼすことなく沈降シリカを形成させることによってゲル/沈降シリカ組合せ物を製造する順次工程を含む方法によって製造される組合せ物。[2]前記組合せ物が3~20ミクロンの範囲のメジアン粒径を示す粒子の形態である、1に記載の現場製造されたゲル/沈降シリカ組合せ物。[3]1に記載の現場製造されたゲル/沈降シリカ組合せ物を含む歯磨剤。[4]前記歯磨剤が、前記現場製造されたゲル/沈降シリカ組合せ物とは異なる研磨成分を含む、3に記載の歯磨剤。[5]2に記載の現場製造されたゲル/沈降シリカ組合せ物を含む歯磨剤。[6]前記歯磨剤が、前記現場製造されたゲル/沈降シリカ組合せ物とは異なる研磨成分を含む、5に記載の歯磨剤。"