"[A]下記式1で表される化合物、及び[B]エポキシ基を有する化合物を含有する硬化性組成物。式1中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト基、ニトロソ基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ケト基、エステル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数1~12のアルコキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、炭素数1~20の直鎖状の炭化水素基、炭素数3~20の脂環式基、炭素数6~20の芳香族基又は炭素数3~20の複素環基である。但し、上記アルコキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、直鎖状の炭化水素基、脂環式基、芳香族基及び複素環基が有する水素原子の一部又は全部は、置換基で置換されていてもよい。R2は、炭素数6~20の芳香族基又は炭素数3~20の複素環基である。但し、この炭素数6~20の芳香族基及び炭素数3~20の複素環基が有する水素原子の一部又は全部は、置換基で置換されていてもよい。R3は、酸素原子又は硫黄原子である。nは、1~4の整数である。但し、nが2以上の場合、複数のR2及びR3は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。[A]化合物が下記式2で表される請求項1に記載の硬化性組成物。式2中、R3は、上記式1と同義である。R4は、炭素数1~20の直鎖状の炭化水素基、炭素数1~12のアルコキシ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ニトロソ基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ケト基、エステル基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基又はスルホ基である。mは、0~5の整数である。但し、mが2以上の場合、複数のR4は、同一であっても、異なっていてもよい。上記式2におけるR3が酸素原子であり、R4がニトロ基であり、かつmが1であるか、又はR3が硫黄原子であり、かつmが0である請求項2に記載の硬化性組成物。[B]エポキシ基を有する化合物が、b1不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物に由来する構造単位と、b2エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構造単位とを有する重合体である請求項1、請求項2又は請求項3に記載の硬化性組成物。請求項1から請求項4に記載の硬化性組成物から形成される硬化膜。本発明は、上述のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、保存安定性に優れる硬化性組成物及び硬化膜を提供することである。上記課題を解決するためになされた発明は[A]下記式1で表される化合物以下、[A]化合物とも称する、及び[B]エポキシ基を有する化合物以下、[B]化合物とも称するを含有する硬化性組成物である。式1中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト基、ニトロソ基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ケト基、エステル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数1~12のアルコキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、炭素数1~20の直鎖状の炭化水素基、炭素数3~20の脂環式基、炭素数6~20の芳香族基又は炭素数3~20の複素環基である。但し、上記アルコキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、直鎖状の炭化水素基、脂環式基、芳香族基及び複素環基が有する水素原子の一部又は全部は、置換基で置換されていてもよい。R2は、炭素数6~20の芳香族基又は炭素数3~20の複素環基である。但し、この炭素数6~20の芳香族基及び炭素数3~20の複素環基が有する水素原子の一部又は全部は、置換基で置換されていてもよい。R3は、酸素原子又は硫黄原子である。nは、1~4の整数である。但し、nが2以上の場合、複数のR2及びR3は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。[A]化合物は、上記式1で表される特定構造を有していることから、高い感度を有する。当該硬化性組成物は、このような高い感度を有する[A]化合物及び[B]化合物を含有するため、保存安定性に優れる。また、当該硬化性組成物から形成される硬化膜は、優れた耐溶媒性を有する。[A]化合物は、下記式2で表されることが好ましい。式2中、R3は、上記式1と同義である。R4は、炭素数1~20の直鎖状の炭化水素基、炭素数1~12のアルコキシ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ニトロソ基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ケト基、エステル基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基又はスルホ基である。mは、0~5の整数である。但し、mが2以上の場合、複数のR4は、同一であっても、異なっていてもよい。[A]化合物は、上記式2で表される特定構造であることで、より高い感度を有する。そのため、このような高い感度を有する[A]化合物を含有する当該硬化性組成物は、より保存安定性に優れる。上記式2におけるR3が酸素原子であり、R4がニトロ基であり、かつmが1であるか、又はR3が硫黄原子であり、かつmが0であるとよい。[A]化合物は、上記特定構造の化合物であることで、さらに高い感度を有する。そのため、このような高い感度を有する[A]化合物を含有する当該硬化性組成物は、さらに保存安定性に優れる。[B]エポキシ基を有する化合物は、b1不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物に由来する構造単位と、b2エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構造単位とを有する重合体以下、[B-1]重合体とも称するであることが好ましい。当該硬化性組成物が含有する[B]エポキシ基を有する化合物は、現像工程において用いられるアルカリに対して可溶性を示し、その結果、高い現像性が発現され、高解像度なパターンを有する硬化膜を形成することができる。本発明には当該硬化性組成物から形成される硬化膜も好適に含まれる。当該硬化性組成物から形成される硬化膜は、耐溶媒性に優れ、かつ高解像度なパターンを有する。従って、当該硬化膜は、液晶デバイス、半導体デバイス等の用途に好適に用いることができる。本発明の硬化性組成物が含有する[A]は、室温下において保存安定性に優れると共に、熱及び光に対して高い感度を有する。そのため、当該硬化性組成物は、保存安定性に優れ、高解像度なパターン及び十分な耐溶媒性を有する硬化膜を形成することができる。従って、当該硬化膜は、液晶デバイス、半導体デバイス等の各種用途に好適に用いることができる。<硬化性組成物>本発明の硬化性組成物は、[A]化合物及び[B]化合物を含有する。また、当該硬化性組成物は、本発明の効果を損なわない限り、その他の任意成分を含有していてもよい。以下、各成分を詳述する。<[A]化合物>[A]化合物は、上記式1で表される化合物である。上記式1中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト基、ニトロソ基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ケト基、エステル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数1~12のアルコキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、炭素数1~20の直鎖状の炭化水素基、炭素数3~20の脂環式基、炭素数6~20の芳香族基又は炭素数3~20の複素環基である。但し、上記アルコキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、直鎖状の炭化水素基、脂環式基、芳香族基及び複素環基が有する水素原子の一部又は全部は、置換基で置換されていてもよい。R2は、炭素数6~20の芳香族基又は炭素数3~20の複素環基である。但し、この炭素数6~20の芳香族基及び炭素数3~20の複素環基が有する水素原子の一部又は全部は、置換基で置換されていてもよい。R3は、酸素原子又は硫黄原子である。nは、1~4の整数である。但し、nが2以上の場合、複数のR2及びR3は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。上記R1で表される炭素数1~12のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられる。上記R1で表されるn価の炭素数1~20の直鎖状の炭化水素基としては、例えばメタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等からn個の水素原子を除いた基等が挙げられる。上記R1で表されるn価の炭素数3~20の脂環式基としては、例えばシクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、ノルボルナン、アダマンタン等からn個の水素原子を除いた基等が挙げられる。上記R1で表されるn価の炭素数6~20の芳香族基としては、例えばベンゼン、ナフタレン等からn個の水素原子を除いた基等が挙げられる。上記R1で表されるn価の炭素数4~20の複素環基としては、例えばイミダゾール、ピリジン、ピペラジン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、チオラン、チオフェニン、フラン、ピラン等からn個の水素原子を除いた基等が挙げられる。上記R1又はR2で表される炭素数6~20の芳香族基及び炭素数4~20の複素環基が有する水素原子の一部又は全部が、置換されていてもよい置換基である炭素数1~20の直鎖状の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。上記R2で表される炭素数6~20の芳香族基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。上記R2で表される炭素数4~20の複素環基としては、例えばイミダゾール、ピリジン、ピペラジン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、チオラン、チオフェニン、フラン、ピラン等から1個の水素原子を除いた基等が挙げられる。上記R2としては、感放射線性を発現させる観点から、炭素数6~20の芳香族基、炭素数4~20の複素環基が好ましい。上記R1としては、ニトロ基が好ましい。R3としては、簡便に合成できる観点から酸素原子が好ましい。上記式1で表される化合物としては、下記式で表される化合物が好ましい。[A]化合物は、安定性、感熱性及び感放射線性向上の観点から、上記式2で表される化合物であることが好ましい。上記式2中、R3は、上記式1と同義である。R4は、炭素数1~20の直鎖状の炭化水素基、炭素数1~12のアルコキシ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ニトロソ基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ケト基、エステル基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基又はスルホ基である。mは、0~5の整数である。但し、mが2以上の場合、複数のR4は、同一であっても、異なっていてもよい。上記R4で表される炭素数1~20の直鎖状の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。上記R4で表される炭素数1~12のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。[A]化合物としては、上記式2におけるR3が酸素原子であり、R4がニトロ基であり、かつmが1であるか、又はR3が硫黄原子であり、かつmが0である化合物が好ましい。[A]化合物において、芳香環や複素環等の共役骨格や電子吸引性、電子供与性部位を有する化合物は、感熱性だけでなく感放射線性にも優れ、放射線の照射によって塩基性のアミン化合物を発生することができる。また、ピリジル基を有する化合物は、強塩基性を示すアミノピリジンを発生することができる。ウレア状態ではウレア結合の電位吸引性により低塩基性であったピリジル部位の窒素原子が、結合開劣の結果アミノピリジンとなるとアミノ基からの電子供与を受けることになり、大幅に塩基性が向上する。即ち、結合開劣前は低反応性であったものが、熱や放射線照射により高活性化する。<[A]化合物の合成方法>[A]化合物の合成方法としては、特に限定されず、公知の技術を組み合わせて合成することができ、例えばフェニルイソシアネートに4-アミノピリジンを反応させたり、フェニルイソチオシアネートと4-アミノピリジンとを反応させることで合成することができる。同様に、他の[A]化合物についても上記合成方法に準じて、又は上記手順の一部を変更して合成することができる。<[B]化合物>[B]化合物としては、1分子中に1又は2以上のエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されず、公知の化合物を使用することができる。当該硬化性組成物において、[B]エポキシ基を有する化合物は、塩基反応性物質として機能し、加熱又は放射線の照射により部分的に変性する。結果として、アルカリ現像液に不溶となり、ネガ型の高い感放射線特性を示すこととなる。なお、本発明においてエポキシ基とは、環状エーテル構造を有するものであって、例えばオキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。分子内に1のエポキシ基を有する化合物としては、例えばメタアクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸3,4-エポキシブチル、α-エチルアクリル酸3,4-エポキシブチル、メタアクリル酸6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、3-メチル-3-メタアクリロイロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-メタアクリロイロキシメチルオキセタン、フェニルグリシジルエーテル、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルジエトキシシラン等が挙げられる。分子内に2以上のエポキシ基を有する化合物としては、例えばビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル等のビスフェノール型ジグリシジルエーテル類;1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;フェノールノボラック型エポキシ樹脂;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂;ポリフェノール型エポキシ樹脂;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類;脂肪族ポリグリシジルエーテル類;エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。分子内に2以上のエポキシ基を有する化合物の市販品としては、例えばビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート1001、同1002、同1003、同1004、同1007、同1009、同1010、同828以上、ジャパンエポキシレジン製等;ビスフェノールF型エポキシ樹脂として、エピコート807ジャパンエポキシレジン製等;フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート152、同154、同157S65以上、ジャパンエポキシレジン製、EPPN201、同202以上、日本化薬製等;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、EOCN102、同103S、同104S、1020、1025、1027以上、日本化薬製、エピコート180S75ジャパンエポキシレジン製等;ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート1032H60、同XY-4000以上、ジャパンエポキシレジン製等;環状脂肪族エポキシ樹脂として、CY-175、同177、同179、アラルダイトCY-182、同192、184以上、チバスペシャルティケミカルズ製、ERL-4234、4299、4221、4206以上、U.C.C製、ショーダイン509昭和電工製、エピクロン200、同400以上、大日本インキ製、エピコート871、同872以上、ジャパンエポキシレジン製、ED-5661、同5662以上、セラニーズコーティング製等;脂肪族ポリグリシジルエーテルとして、エポライト100MF共栄社化学製、エピオールTMP日本油脂製等が挙げられる。[B]化合物としては、現像処理工程において使用されるアルカリ現像液に対して可溶性を示すアルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、b1不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物以下、化合物b1とも称するに由来する構造単位と、エポキシ基含有不飽和化合物以下、化合物b2とも称するに由来する構造単位とを有する重合体[B-1]重合体がより好ましい。当該硬化性組成物が含有する[B]化合物が[B-1]重合体であることで、現像工程において用いられるアルカリに対して可溶性を示し、その結果、高い現像性が発現され、正確なパターンを有する硬化膜を形成することができる。化合物b1としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、2-アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸、2-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸等のジカルボン酸;上記ジカルボン酸の酸無水物等が挙げられる。これらのうち、共重合反応性や得られる[B-1]重合体のアルカリ現像液に対する溶解性の観点から、アクリル酸、メタクリル酸、2-アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸、無水マレイン酸が好ましい。化合物b1は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。[B]化合物における化合物b1に由来する構造単位の含有率としては、好ましくは5質量~60質量、より好ましくは7質量~50質量、特に好ましくは8質量~40質量である。化合物b1に由来する構造単位の含有率を上記特定範囲とすることで、感度、現像性等の諸特性がより高いレベルでバランスされた硬化性組成物が得られる。化合物b2としては、例えばオキシラニル基1,2-エポキシ構造を有する不飽和化合物、オキセタニル基1,3-エポキシ構造を有する不飽和化合物等のエポキシ基含有不飽和化合物等が挙げられる。オキシラニル基を有する不飽和化合物としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロへキシルメタクリレート等が挙げられる。オキセタニル基を有する不飽和化合物としては、例えば3-アクリロイルオキシメチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-メチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-フェニルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-フェニルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン等のアクリル酸エステル;3-メタクリロイルオキシメチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-メチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-フェニルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-フェニルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン等のメタクリル酸エステル等が挙げられる[B-1]重合体は、本発明の効果を損なわない限り、上記化合物b1及びb2以外の化合物に由来する構造単位を有していてもよい。上記化合物b1及びb2以外の化合物としては、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸n-プロピル、アクリル酸i-プロピル、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸sec-ブチル、アクリル酸t-ブチル等のアクリル酸アルキルエステル;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-プロピル、メタクリル酸i-プロピル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸sec-ブチル、メタクリル酸t-ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル;アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2-メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、アクリル酸2-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチル、アクリル酸イソボロニル等のアクリル酸脂環式エステル;メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2-メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、メタクリル酸2-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチル、メタクリル酸イソボロニル等のメタクリル酸脂環式エステル;アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸のアリールエステル又はアラルキルエステル;メタクリル酸2-ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸3-ヒドロキシプロピルエステル等のメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル類;メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸のアリールエステル又はアラルキルエステル;マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル等の不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステル;アクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、アクリル酸テトラヒドロピラン-2-イル、アクリル酸2-メチルテトラヒドロピラン-2-イル等の含酸素複素5員環又は含酸素複素6員環を有するアクリル酸エステル;メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、メタクリル酸テトラヒドロピラン-2-イル、メタクリル酸2-メチルテトラヒドロピラン-2-イル等の含酸素複素5員環又は含酸素複素6員環を有するメタクリル酸エステル;スチレン、α-メチルスチレン、p-メトキシスチレン等のビニル芳香族化合物;1,3-ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン系化合物等が挙げられる。これらの化合物b1及びb2以外の化合物のうち、共重合反応性の観点から、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、スチレン、p-メトキシスチレン、メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、1,3-ブタジエン、メタクリル酸2-ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2-メチルグリシジル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルが好ましい。当該硬化性組成物における[B]化合物の含有量としては、[A]化合物1質量部に対して、好ましくは1質量部以上1,000質量部以下、より好ましくは5質量部以上150質量部以下である。[B]化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、硬化性組成物の感度及び形成される硬化膜の耐溶媒性をより向上することができる。<[B]化合物の合成方法>[B]化合物のうち、当該硬化性組成物に好適に用いられる[B-1]重合体の合成方法を以下に説明する。[B-1]重合体は、適当な溶媒中、ラジカル重合開始剤の存在下、各単量体を重合することで合成できる。重合に用いられる溶媒としては、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、アルコキシプロピオン酸アルキル、酢酸エステルが好ましい。これらの溶媒は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。上記ラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、4,4’-アゾビス4―シアノバレリン酸、ジメチル-2,2’-アゾビス2-メチルプロピオネート等のアゾ化合物が挙げられる。これらのラジカル重合開始剤は、単独又は2種以上を混合して使用することができる。[B-1]重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCによるポリスチレン換算質量平均分子量Mwとしては、好ましくは2,000~100,000、より好ましくは5,000~50,000である。[B-1]重合体のMwを上記特定範囲とすることで、現像性、感度等がより高いレベルでバランスされた硬化性組成物、並びに耐溶媒性に優れる硬化膜を形成することができる。なお、本明細書における重合体のMwは、下記の条件によるゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにより測定した。装置:GPC-101昭和電工製カラム:GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803及びGPC-KF-804を結合移動相:テトラヒドロフランカラム温度:40°C流速:1.0mL/分試料濃度:1.0質量試料注入量:100μL検出器:示差屈折計標準物質:単分散ポリスチレン当該硬化性組成物における[B]化合物が[B-1]重合体である場合の含有量としては、[A]化合物1質量部に対して、好ましくは10質量部~1,000質量部、より好ましくは30質量部~150質量部である。[B-1]重合体の含有量を上記特定範囲とすることで、現像性により優れる硬化性組成物を得ることができる。<その他の任意成分>当該硬化性組成物は、[A]化合物及び[B]化合物に加え、本発明の効果を損なわない範囲で必要に応じて界面活性剤、[A]化合物以外の塩基発生剤、密着助剤等のその他の任意成分を含有できる。これらの各任意成分は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。以下、各任意成分を詳述する。[界面活性剤]界面活性剤は、硬化性組成物の塗膜形成性を向上させるために使用することができる。このような界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、例えば1,1,2,2-テトラフルオロ-n-オクチル1,1,2,2-テトラフルオロ-n-プロピルエーテル、1,1,2,2-テトラフルオロ-n-オクチルn-ヘキシルエーテル、ヘキサエチレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロ-n-ペンチルエーテル、オクタエチレングリコールジ1,1,2,2-テトラフルオロ-n-ブチルエーテル、ヘキサプロピレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロ-n-ペンチルエーテル、オクタプロピレングリコールジ1,1,2,2-テトラフルオロ-n-ブチルエーテル、パーフルオロ-n-ドデカンスルホン酸ナトリウム、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロ-n-デカン、1,1,2,2,3,3,9,9,10,10-デカフルオロ-n-ドデカン、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルリン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキスフルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フルオロアルキルエステル等が挙げられる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えばBM-1000、BM-1100以上、BMCHEMIE製、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183、同F178、同F191、同F471、同F476以上、大日本インキ化学工業製、フロラードFC-170C、同-171、同-430、同-431以上、住友スリーエム製、サーフロンS-112、同-113、同-131、同-141、同-145、同-382、サーフロンSC-101、同-102、同-103、同-104、同-105、同-106以上、旭硝子製、エフトップEF301、同303、同352以上、新秋田化成製、フタージェントFT-100、同-110、同-140A、同-150、同-250、同-251、同-300、同-310、同-400S、フタージェントFTX-218、同-251以上、ネオス製等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えばトーレシリコーンDC3PA、同DC7PA、同SH11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA、同SH-190、同SH-193、同SZ-6032、同SF-8428、同DC-57、同DC-190以上、東レダウコーニングシリコーン製、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452以上、GE東芝シリコーン製、オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業製等が挙げられる。界面活性剤の含有量としては、[A]化合物1質量部に対して、0.01質量部~10質量部が好ましく、0.05質量部~0.5質量部がより好ましい。界面活性剤の使用量を上記特定範囲とすることで、基板上に塗膜を形成する際の塗布ムラを低減することができる。[[A]化合物以外の塩基発生剤]当該硬化性組成物は、本発明の効果を損なわない限り、その他の塩基発生剤として[A]化合物以外に、[A]化合物とは異なるその他の塩基発生剤を含有することができる。その他の光塩基発生剤としては、例えばN-2-ニトロベンジルオキシカルボニルピロリジン、トリフェニルメタノール、O-カルバモイルヒドロキシアミド、O-カルバモイルオキシム、4-メチルチオベンゾイル-1-メチル-1-モルホリノエタン、4-モルホリノベンゾイル-1-ベンジル-1-ジメチルアミノプロパン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン、ヘキサアンミンコバルトIIIトリストリフェニルメチルボレート等が挙げられる。その他の塩基発生剤の含有量としては、[A]化合物1質量部に対して、0.005質量部以上10質量部以下が好ましい。その他の塩基発生剤の含有量を上記特定範囲とすることで、当該硬化性組成物は、低加熱量又は低露光量の場合でも、高い感度を示し、十分な耐溶媒性を有する硬化膜を形成することができる。[密着助剤]当該硬化性組成物は、得られる硬化膜と基板との密着性を向上させるために密着助剤を含有することができる。このような密着助剤としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましい。密着助剤としては、例えばγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等が挙げられる。密着助剤の含有量としては、[A]化合物1質量部に対して、0.05質量部~100質量部が好ましく、0.05質量部~8質量部がより好ましい。密着助剤の含有量を上記特定範囲とすることで、基板に対する硬化膜の密着性を改善しつつ、パターン形成能を高いレベルに保つことができる。<硬化性組成物の調製方法>当該硬化性組成物は、[A]化合物、[B]化合物及び任意成分を所定の割合で混合することにより調製される。この感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。当該硬化性組成物の調製に用いられる溶媒としては、各成分を均一に溶解すると同時に、各成分と反応しないものが用いられる。このような溶媒としては、各成分の溶解性、各成分との非反応性、塗膜形成の容易性等の観点から、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ベンジルアルコール、3-メトキシブタノールが好ましい。これらの溶媒は、単独で又は2種以上を混合して使用できる。当該硬化性組成物を溶液状態として調製する場合、固形分濃度組成物溶液中に占める溶媒以外の成分は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意の濃度例えば5質量~50質量に設定することができる。調製された硬化性組成物の溶液は、孔径0.2μm~0.5μm程度のミリポアフィルタ等を用いてろ過した後、使用に供することもできる。<硬化膜の形成方法>本発明には当該硬化性組成物から形成される硬化膜も好適に含まれる。当該硬化性組成物から形成される硬化膜は、耐溶媒性に優れ、かつ正確なパターンを有する。従って、当該硬化膜は、液晶デバイス、半導体デバイス等の各種用途に好適に用いることができる。本発明の硬化膜の形成方法は、少なくとも1当該硬化性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2上記塗膜に放射線を照射、又は加熱する工程、3放射線照射後の塗膜を現像する工程、及びを有する。以下、各工程を詳述する。[工程1]本工程では、当該硬化性組成物の塗膜を基板上に形成する。基板としては、例えばソーダライムガラス、無アルカリガラス等のガラス基板、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックからなる樹脂基板等が挙げられる。塗布法により塗膜を形成する場合、当該感放射線性樹脂組成物の溶液を塗布した後、好ましくは塗布面を加熱プレベークすることにより塗膜を形成することができる。塗布法に用いる組成物溶液の固形分濃度としては、5質量~50質量が好ましく、10質量~40質量がより好ましく、15質量~35質量が特に好ましい。当該感放射線性樹脂組成物の塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリット塗布法スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法が採用できる。これらのうち、スピンコート法又はスリット塗布法が好ましい。上記プレベークの条件としては、各成分の種類、配合割合等によって異なるが、70°C~120°Cが好ましく、1分~15分間程度である。塗膜のプレベーク後の膜厚は、0.5μm~10μmが好ましく、1.0μm~7.0μm程度がより好ましい。[工程2]本工程は、形成された塗膜に放射線を照射するか、又は加熱する工程である。形成された塗膜に放射線を照射する場合には、この放射線の作用により、当該硬化性組成物が含有する[A]化合物等の塩基発生剤から塩基成分が発生し、エポキシ化合物の架橋反応を促進させることで、塗膜を硬化させることができる。このとき、塗膜の一部にのみ照射する際には、例えば所定のパターンを有するフォトマスクを介して照射する方法によることができる。照射に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線等が挙げられる。このうち波長が250nm~550nmの範囲にある放射線が好ましい。放射線照射量露光量は、照射される放射線の波長365nmにおける光度を照度計OAImodel356、OpticalAssociatesInc.製により測定した値として、100J/m2~5,000J/m2が好ましく、200J/m2~3,000J/m2がより好ましい。形成された塗膜を加熱する場合には、形成された塗膜をホットプレート、オーブン等の加熱装置を用い、比較的高温で加熱することによって、当該硬化性組成物が含有する[A]化合物等の塩基発生剤が塩基成分を発生し、エポキシ化合物の熱架橋反応を促進させることで、硬化膜を得ることができる。上記加熱装置により塗膜の全面を加熱した場合には、パターン形成をすることなく、塗膜全体を硬化することができる。当該工程における加熱温度は、例えば120°C~250°Cである。加熱時間は、加熱機器の種類により異なるが、例えば、ホットプレート上で加熱工程を行う場合には5分間~30分間、オーブン中で加熱工程を行う場合には30分間~90分間とすることができる。2回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。[工程3]本工程では、放射線照射後の塗膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定のパターンを形成する。現像に使用される現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等のアルカリ性化合物の水溶液が挙げられる。上記アルカリ性化合物の水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒及び/又は界面活性剤を適当量添加してもよい。アルカリ濃度としては、適当な現像性を得る観点から、好ましくは0.1質量以上5質量以下である。現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、シャワー法等が挙げられる。現像時間としては、常温で10秒~180秒が好ましい。現像処理に続いて、例えば流水洗浄を30秒~90秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素で風乾することによって所望のパターンが得られる。次いで、得られたパターン状塗膜をホットプレート、オーブン等の適当な加熱装置により焼成ポストベークすることにより硬化膜を得る。焼成温度としては、100°C~200°Cが好ましく、150°C~180°Cがより好ましい。焼成時間としては、例えばホットプレート上では5分間~40分間、オーブンでは30分間~180分間が好ましい。なお、工程2において、加熱する方法を用いた場合には、本工程を省略することもできる。以下、実施例に基づいて本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。<[A]化合物の合成>[実施例1]下記合成スキームに従って、下記式で表される化合物[A-1]を合成した。加熱乾燥後の200mLの二口フラスコに4-アミノピリジン1.5g16.0mmol、フェニルイソシアネート1.6mL15.0mmol及びトルエン120mLを入れ、80°Cで12時間攪拌した。反応の進行に伴い白色固体の析出が確認された。薄層クロマトグラフィーTLCにより化合物A-1の生成を確認した後、白色固体を濾取した。得られた白色固体はメタノールでの再結晶により精製し、化合物A-1を得た。化合物A-1の1H-NMR測定の結果を下記に示す。1H-NMRDMSO-d6,300Mhz;δ7.021H,t,δ7.312H,t,δ7.442H,d,δ7.452H,d,δ8.362H,d,δ8.831H,s,δ9.091H,s.[実施例2]フェニルイソシアネートの代わりに下記式で表されるフェニルチオイソシアネートを出発物質とし、溶媒としてピリジンを用いた以外は、実施例1と同様に操作し、下記式で表される化合物A-2を得た。化合物A-2の1H-NMR測定の結果を下記に示す。1H-NMRDMSO-d6,300Mhz;δ7.171H,t,δ7.362H,t,δ7.492H,d,δ7.622H,d,δ8.432H,d,δ10.202H,s.[実施例3]下記合成スキームに従って、最終生成物としての化合物A-3を合成した。200mLの2口ナス型フラスコにトリホスゲン1.76g5.9mmol、dryジクロロメタン32mLを加えて溶解させた後アイスバスに浸け、滴下漏斗よりo-ニトロアニリン2.2g15.9mmol、ジイソプロピルエチルアミン4.6g35.2mmolのdryジクロロメタン溶液56mLを30分かけて滴下した。滴下後アイスバスを外し、室温で1時間撹拌した後、アミノピリジン1.5g15.9mmol、ジイソプロピルエチルアミン4.6g35.2mmolのピリジン溶液32mLを加えた。3時間後に1H-NMR及びTLCより、化合物A-3の生成を確認した。溶媒留去後、クロロホルムを加え、蒸留水、飽和重層水、ブラインで分液洗浄した。その後メタノールで再結晶し黄色固体の化合物A-3を得た。化合物A-3の1H-NMR測定の結果を下記に示す。1H-NMRDMSO-d6,300Mhz;δ7.261H,t,δ7.462H,d,δ7.731H,t,δ8.101H,d,δ8.241H,d,δ8.402H,d,δ9.671H,s,δ10.201H,s[実施例4]フェニルイソシアネートの代わりに下記式で表されるメチレンジフェニル-4,4’-ジイソシアネートを出発物質とし、反応させるアミンを2等量とした以外は、実施例1と同様に操作し、下記式で表される化合物A-4を得た。化合物A-4の1H-NMR測定の結果を下記に示す。1H-NMRDMSO-d6,300Mhz;δ3.832H,s,δ7.144H,d,δ7.374H,d,δ7.424H,d,δ8.344H,d,δ8.792H,s,δ9.052H,s.<[B]化合物の合成>[合成例1]冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル5質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート250質量部を仕込み、続いて化合物a1としてのメタクリル酸18質量部、並びに化合物a2としてのメタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル25質量部、スチレン5質量部、メタクリル酸2―ヒドロキシエチルエステル22質量部及びメタクリル酸グリシジル30質量部を仕込んで窒素置換した。次いで、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持して重合することにより、固形分濃度28.8の共重合体B-3溶液を得た。得られた共重合体B-3のMwは、13,000であった。<硬化性組成物の調製>各硬化性組成物の調製に用いた[A]化合物及び上記共重合体B-3以外の成分の詳細を下記に示す。a-1:下記式で表される化合物<[B]化合物>B-1:ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂ジャパンエポキシレジン製、エピコート1001B-2:フェノールノボラック型エポキシ樹脂ジャパンエポキシレジン製、エピコート152[実施例5][A]塩基性発生剤としての化合物A-1を含有する溶液を1質量部固形分に相当する量、[B]化合物としての化合物B-1100質量部及び界面活性剤としてのフッ素系界面活性剤ネオス製、FTX-2180.3質量部を混合し、固形分濃度が20質量となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解させた後、孔径0.2μmのメンブランフィルタでろ過して、硬化性組成物の溶液を調製した。[実施例6~14及び比較例1]含有した各成分の種類及び含有量を表1に記載の通りとした以外は、実施例5と同様に操作して、各硬化性組成物を調製した。なお、表1中の-は、該当する成分を含有しなかったことを示す。<評価>調製した各硬化性組成物を用いて下記の評価をした。結果を表1にあわせて示す。なお、実施例11、12、13及び14については、アルカリ現像によるパターン形成を以下に示す方法により行い、パターン形成が可能であることを確認した。<パターン形成方法>無アルカリガラス基板上に、各感放射線性樹脂組成物溶液をスピンナーにより塗布した後、100°Cのホットプレート上で2分間プレベークすることにより膜厚3.0μmの塗膜を形成した。次いで、得られた塗膜に直径20μmの丸状残しパターンを有するフォトマスクを介し、高圧水銀ランプを用いて露光量を600J/m2で放射線照射を行った。その後、23°Cの0.40質量水酸化カリウム水溶液を現像液として、現像圧1kgf/cm2、ノズル径1mmで吐出することによりシャワー現像を行い、純水洗浄を1分間行った。さらにオーブン中230°Cにて30分間ポストベークすることにより、パターンを形成した。[熱硬化性の評価]無アルカリガラス基板上に、各硬化性組成物の溶液をスピンナーにより塗布した後、90°Cのホットプレート上で3分間プレベークすることにより、硬化性組成物の塗膜膜厚3.0μmを形成した。得られた塗膜をクリーンオーブンで、150から230°Cの温度範囲で1時間加熱した。得られた硬化膜について、JIS-K5400-1990の8.4.1鉛筆引っかき試験により、硬化膜の鉛筆硬度を測定した。このとき鉛筆硬度がH以上になる場合の温度を求めた。鉛筆高度がH以上になる温度が200°C以下の場合、低温で熱硬化可能であり熱硬化性が良好と判断した。鉛筆硬度がH以上になる時の温度を表1に示す。[光硬化性の評価]無アルカリガラス基板上に、各硬化性組成物の溶液をスピンナーにより塗布した後、90°Cのホットプレート上で3分間プレベークすることにより、硬化性組成物の塗膜膜厚3.0μmを形成した。得られた塗膜上にフォトマスクを使用せず,高圧水銀ランプを用い、露光量を変量しつつ塗膜に露光を行った。得られた硬化膜について、JIS-K5400-1990の8.4.1鉛筆引っかき試験により、硬化膜の鉛筆硬度を測定した。鉛筆硬度がH以上になる場合の露光量を求め、露光量が800J/m2以下の場合、感度が良好と判断した。鉛筆硬度がH以上になる時の露光量を感度J/m2とし、表1に示す。[保存安定性]上記感度の評価と同様に操作して、塗膜を形成し膜厚を測定した下記式において、調製直後の膜厚と称する。また、5日間25°Cで各硬化性組成物の溶液を保存し、5日後に同様に形成した塗膜を形成し膜厚を測定した下記式において、5日後の膜厚と称する。膜厚増加率を下記式から算出し、保存安定性とした。膜厚増加率=5日後の膜厚-調製直後の膜厚/調製直後の膜厚×100膜厚増加率が3以下の場合、保存安定性が良好と判断した。[耐溶媒性]上記感度の評価と同様に操作してガラス基板上に膜厚3.0μmの塗膜を形成した。塗膜に水銀ランプによって積算照射量が2,000J/m2となるように紫外線を照射し、硬化膜の膜厚T1を測定した。次いで、アセトン中に20分間浸漬させ、浸漬後の膜厚t1を測定した。膜厚増加率を下記式から算出し、耐溶媒性とした。膜厚変化率={t1-T1/T1}×100膜厚変化率が5以下の場合、耐溶媒性が良好と判断した。表1の結果から明らかなように、[A]化合物を含む当該硬化性組成物を用いた実施例では、比較例と比較して感度が高く、かつ保存安定性に優れることがわかった。また、当該硬化性組成物から形成される硬化膜は、耐溶媒性に優れることがわかった。"