"右目用透過光に対応する第1の位相差を与えるために、液晶が配向されて第1の膜厚を有する右目用領域と、左目用透過光に対応する第2の位相差を与えるために、液晶が配向されて第2の膜厚を有する左目用領域とが、帯状に交互にパターンニングされたパターン位相差フィルムの製造方法であって、フィルム基材上に塗布された賦型用樹脂に、帯状に交互にパターンニングされた凹凸部を転写する凹凸転写工程と、前記賦型用樹脂の凹凸部に液晶材料をコートする液晶コート工程と、前記液晶材料の凹凸部に1方向を向いた微小キズを転写する微小キズ転写工程と、を備えたパターン位相差フィルムの製造方法。右目用透過光に対応する第1の位相差を与えるために、液晶が配向されて第1の膜厚を有する右目用領域と、左目用透過光に対応する第2の位相差を与えるために、液晶が配向されて第2の膜厚を有する左目用領域とが、帯状に交互にパターンニングされたパターン位相差フィルムの製造方法であって、フィルム基材上に塗布された賦型用樹脂に、1方向を向いた微小キズを転写する微小キズ転写工程と、前記賦型用樹脂の微小キズに液晶材料をコートする液晶コート工程と、前記液晶材料の微小キズに、帯状に交互にパターンニングされた凹凸部を転写する凹凸転写工程と、を備えたパターン位相差フィルムの製造方法。右目用透過光に対応する第1の位相差を与えるために、液晶が配向されて第1の膜厚を有する右目用領域と、左目用透過光に対応する第2の位相差を与えるために、液晶が配向されて第2の膜厚を有する左目用領域とが、帯状に交互にパターンニングされたパターン位相差フィルムの製造方法であって、フィルム基材上に塗布された賦型用樹脂に、帯状に交互にパターンニングされ、1方向を向いた微小キズが形成された微小キズ付き凹凸部を転写する微小キズ付き凹凸転写工程と、前記賦型用樹脂の微小キズ付き凹凸部に液晶材料をコートする液晶コート工程と、前記液晶材料の上にベタ版を転写するベタ版転写工程と、を備えたパターン位相差フィルムの製造方法。請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のパターン位相差フィルムの製造方法において、前記第1の膜厚と前記第2の膜厚とは、一方が他方の略3倍であること、を特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法。本発明の課題は、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムを容易かつ大量に作製することができるパターン位相差フィルムの製造方法を提供することである。前記課題を解決するために、請求項1の発明は、右目用透過光に対応する第1の位相差を与えるために、液晶が配向されて第1の膜厚t1を有する右目用領域Aと、左目用透過光に対応する第2の位相差を与えるために、液晶が配向されて第2の膜厚t2を有する左目用領域Bとが、帯状に交互にパターンニングされたパターン位相差フィルムの製造方法であって、フィルム基材2上に塗布された賦型用樹脂3に、帯状に交互にパターンニングされた凹凸部を転写する凹凸転写工程102と、前記賦型用樹脂の凹凸部に液晶材料4をコートする液晶コート工程105と、前記液晶材料の凹凸部に1方向を向いた微小キズを転写する微小キズ転写工程106と、を備えたパターン位相差フィルムの製造方法を提供する。請求項2の発明は、右目用透過光に対応する第1の位相差を与えるために、液晶が配向されて第1の膜厚t1を有する右目用領域Aと、左目用透過光に対応する第2の位相差を与えるために、液晶が配向されて第2の膜厚t2を有する左目用領域Bとが、帯状に交互にパターンニングされたパターン位相差フィルムの製造方法であって、フィルム基材2上に塗布された賦型用樹脂に、1方向を向いた微小キズを転写する微小キズ転写工程202と、前記賦型用樹脂の微小キズに液晶材料4をコートする液晶コート工程205と、前記液晶材料の微小キズに、帯状に交互にパターンニングされた凹凸部を転写する凹凸転写工程206と、を備えたパターン位相差フィルムの製造方法を提供する。請求項3の発明は、右目用透過光に対応する第1の位相差を与えるために、液晶が配向されて第1の膜厚t1を有する右目用領域Aと、左目用透過光に対応する第2の位相差を与えるために、液晶が配向されて第2の膜厚t2を有する左目用領域Bとが、帯状に交互にパターンニングされたパターン位相差フィルムの製造方法であって、フィルム基材2上に塗布された賦型用樹脂3に、帯状に交互にパターンニングされ、1方向を向いた微小キズが形成された微小キズ付き凹凸部を転写する微小キズ付き凹凸転写工程303と、前記賦型用樹脂の微小キズ付き凹凸部に液晶材料4をコートする液晶コート工程305と、前記液晶材料の上にベタ版を転写するベタ版転写工程306と、を備えたパターン位相差フィルムの製造方法を提供する。請求項4の発明は、請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のパターン位相差フィルムの製造方法において、前記第1の膜厚t1と前記第2の膜厚t2とは、一方が他方の略3倍であること、を特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法を提供する。以上、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明したが、これに限定されるものではない。なお、符号を付して説明した構成は、適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成に代替してもよい。本発明によれば、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムを容易かつ大量に作製することができる、という効果がある。パターン位相差フィルムの第1実施形態以下、図面等を参照して、本発明の実施の形態について、さらに詳しく説明する。図1Aは、本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。第1実施形態のパターン位相差フィルム1は、液晶の膜厚で位相差を制御しようというものであり、透明フィルムによる基材2に賦型樹脂層3、位相差層4が順次積層されている。このパターン位相差フィルム1は、位相差層4が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を賦型樹脂層3のパターン状の微小キズ付き凹凸部3aの配向規制力により規制し、賦型樹脂層3の凹凸部に対応した位相差層4の厚みt1,t2により、右目用領域Aと左目用領域Bの位相差を付与する。このパターン位相差フィルム1は、上記パターニングにより、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用領域Aと、左目用領域Bとが順次交互に帯状にパターンニングされ、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。パターン位相差フィルムの第2実施形態図1Bは、本発明の第2実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。第2実施形態のパターン位相差フィルム1Aは、透明フィルムによる基材2に微小キズ付き樹脂層3A、凹凸賦型位相差層4Aが順次積層されている。このパターン位相差フィルム1Aは、賦型位相差層4Aが液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を微小キズ付き樹脂層3Aの配向規制力により規制し、賦型位相差層4Aのパターン状の凹凸部4bに対応した賦型位相差層4の厚みt1,t2により、右目用領域Aと左目用領域Bの位相差を付与する。パターン位相差フィルムの製造方法の第1実施形態図2~図8は、第1実施形態に係るパターン位相差フィルムの製造方法を示す模式図である。第1実施形態に係るパターン位相差フィルムの製造方法は、賦型用樹脂コート工程101と、凹凸転写工程102と、賦型用樹脂硬化工程103と、離型工程104と、液晶コート工程105と、微小キズ転写工程106と、液晶硬化工程107、離型工程108などとを備えている。賦型用樹脂コート工程101は、図2に示すように、TAC等の透明フィルムからなる基材2に、硬化してないアクリル系などのUV硬化型の賦型用樹脂3を塗布する工程である。凹凸転写工程102は、図2に示すように、成形型5によって、基材2にコートされた賦型用樹脂3に、凹凸部3aを賦型する工程である。この成形型5は、右目用透過光に対応する位相差を与える右目用領域5Aと、左目用透過光に対応する位相差を与える左目用領域5Bとが、帯状の凹凸部5aとして交互に形成されたものである。成形型5は、凹凸部5aが形成されているのは、液晶の膜厚を変えるための段差を賦型用樹脂3に付与するためである。この実施形態では、成形型5の凹凸部の段差は、2μmとしてある。賦型用樹脂硬化工程103は、図3に示すように、成形型5で、未硬化のUV硬化型の賦型樹脂3に型押ししながら、UV紫外線を照射して硬化させる工程である。離型工程104は、成形型5を離型する工程であり、図4に示すように、賦型樹脂層3には、賦型用樹脂に賦型された凹凸部3aが形成される。液晶コート工程105は、賦型樹脂層3の凹凸部3aに、液晶材料をコートする工程である。コーティング方法は、ダイコート、グラビア、スピンコート、バーコート等を用いることができる。微小キズ転写工程106は、成形型6により、液晶材料4の凹凸部4aに液晶を配向するための、1方向凹凸部4aの長手方向から45度の方向を向いた微小キズ6aを転写する工程である。成形型6は、図6に示すように、微小キズ6aがラビング又は研磨により、ほぼ5nm~500μmの範囲内でランダムに形成されている。液晶硬化工程107は、UVの照射により、液晶材料を硬化させる工程である。離型工程108は、成形型5を離型する工程であり、図8に示すように、パターン位相差フィルム1は、基材2に賦型樹脂層3、位相差層4が順次積層されており、液晶表面から凹部の底部までの液晶の膜厚t1と、液晶表面から凸部の頂部までの液晶の膜厚t2によって、右目用領域Aと左目用領域Bの位相差が付与されている。以上説明したように、第1実施形態によれば、成形型5は、2μmの段差のある凹凸部3aが形成されている。また、成形型6は、その表面にラビング等で微小キズ6aを付けてあり、この微小キズ6aの方向配向方向は、1方向に揃っている。この成形型5により、賦型層3に凹凸部3aを賦型し、そこに液晶材料をコートする。ついで、成形型6で液晶材料に微小キズ6aを転写することにより、液晶が配向された位相差層4は、液晶表面から凹部の底部までの液晶の膜厚t1と、液晶表面から凸部の頂部までの液晶の膜厚t2によって、右目用領域Aと左目用領域Bの位相差を付与する。この液晶表面は、凸部の頂部から1μmの厚さに均一に形成されている。右目用領域Aは、膜厚t1=3μmで、厚み方向のリタデーション値Re1=375nmとなり、偏光の振動方向が3λ/4となる。左目用領域Bは、膜厚t2=1μmで、厚み方向のリタデーション値Re2=125nmとなり、偏光の振動方向がλ/4となる。従って、右目用領域Aと左目用領域Bで、λ/2の位相差が付与される。このように、膜厚を一方が他方の3倍となるようにすれば、厚みに比例したリタデーション値を付与できる。これは、液晶の性質であり、材料に関係なく3倍の厚み差があれば、それに比例したリタデーション値が得られる。図9は、第1実施形態に係るパターン位相差フィルムの製造装置を示す略線図である。第1実施形態の製造装置10は、基材2がロールにより提供され、この基材2を供給リール11から供給する。この製造装置10は、ダイ12によりこの基材2にUV硬化型の賦型用樹脂3Aをコートする賦型用樹脂コート工程101。この製造装置10において、ロール版13は、図2で説明した成形型5と同様な型が周囲に形成された円筒形状の金型である。製造装置10は、賦型用樹脂が塗布された基材2を加圧ローラ14によりロール版13に押圧し凹凸転写工程102、紫外線照射装置15による紫外線の照射により賦型用樹脂を硬化させるUV硬化工程103。これにより、製造装置10は、ロール版13に形成された凹凸部を基材2に塗布された賦型用樹脂に転写する。その後、剥離ローラ16によりロール版13から基材2を剥離し離型工程104、ダイ19により液晶材料4Aを塗布する液晶コート工程105。次に、この製造装置10において、ロール版13Aは、図6で説明した成形型6と同様な微小キズ6aが形成された型が周囲に形成された円筒形状の金型である。製造装置10は、液晶材料が塗布された基材2を加圧ローラ14Aによりロール版13Aに押圧し微小キズ転写工程106、紫外線照射装置15Aによる紫外線の照射により液晶材料を硬化させるUV硬化工程107。これにより、製造装置10は、ロール版13Aに形成された微小キズ6aを基材2に塗布された液晶材料に転写する。その後、剥離ローラ16Aによりロール版13から基材2を剥離し離型工程108、さらに、その後巻き取りリール18に巻き取る。パターン位相差フィルム1は、この巻き取りリール18に巻き取ったフィルム材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これにより、パターン位相差フィルム1は、ロール版13、13Aを用いた凹凸部3a及び微小キズ4aの転写により、ロールにより提供される基材2を連続して処理して効率よく製造される。パターン位相差フィルムの製造方法の第2実施形態図10~図16は、第2実施形態に係るパターン位相差フィルムの製造方法を示す模式図である。以下の各実施形態では、前述した第1実施形態と同様な機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する記載や図面を適宜省略する。第2実施形態に係るパターン位相差フィルムの製造方法は、賦型用樹脂コート工程201と、微小キズ転写工程202と、賦型用樹脂硬化工程203と、離型工程204と、液晶コート工程205と、凹凸転写工程206と、液晶硬化工程207、離型工程208などとを備えている。賦型用樹脂塗布工程201は、図10に示すように、TAC等の透明フィルムからなる基材2に、硬化してないアクリル系などのUV硬化型の賦型用樹脂3を塗布する工程である。微小キズ転写工程202は、成形型6により、賦型用樹脂3に液晶を配向するための、1方向後述する凹凸部4bの長手方向から45度の方向を向いた微小キズ6aを転写する工程である。成形型6は、図10に示すように、微小キズ6aがラビング又は研磨により、ほぼ5nm~500μmの範囲内でランダムに形成されている。賦型用樹脂硬化工程203は、図11に示すように、成形型6で、未硬化のUV硬化型の賦型樹脂3に型押ししながら、UV紫外線を照射して硬化させる工程である。離型工程204は、成形型6を離型する工程であり、図12に示すように、賦型樹脂層3には、賦型用樹脂に賦型された微小キズ3bが形成される。液晶コート工程205は、賦型樹脂層3の微小キズ3bに、液晶材料をコートする工程である。コーティング方法は、ダイコート、グラビア、スピンコート、バーコート等を用いることができる。凹凸転写工程206は、図14に示すように、成形型5によって、微小キズ3b上にコートされた液晶材料に、凹凸部4bを賦型する工程である。この成形型5は、右目用透過光に対応する位相差を与える右目用領域5Aと、左目用透過光に対応する位相差を与える左目用領域5Bとが、帯状の凹凸部5aとして交互に形成されたものである。成形型5は、凹凸部5aが形成されているのは、液晶の膜厚を変えるための段差を賦型用樹脂3に付与するためである。この実施形態では、成形型5の凹凸部の段差は、2μmとしてある。液晶硬化工程207は、UVの照射により、液晶材料を硬化させる工程である。離型工程208は、成形型5を離型する工程であり、図16に示すように、パターン位相差フィルム1Aは、基材2に賦型樹脂層3A、位相差層4Aが順次積層されており、液晶底面から凸部の頂部までの液晶の膜厚t1と、液晶底面から凹部の底部までの液晶の膜厚t2によって、右目用領域Aと左目用領域Bの位相差が付与されている。以上説明したように、第2実施形態によれば、成形型6は、その表面にラビング等で微小キズ6aを付けてあり、この微小キズ6aの方向配向方向は、1方向に揃っている。また、成形型5は、2μmの段差のある凹凸部5aが形成されている。この成形型6で賦型樹脂に微小キズ6aを転写し、そこに液晶材料をコートする。ついで、成形型5により、液晶材料に凹凸部4bを賦型することにより、液晶が配向された位相差層4は、液晶底面から凸部の頂部までの液晶の膜厚t1と、液晶底面から凹部の底部までの液晶の膜厚t2によって、右目用領域Aと左目用領域Bの位相差を付与する。この液晶表面は、凸部の頂部から1μmの厚さに均一に形成されている。右目用領域Aは、膜厚t1=3μmで、厚み方向のリタデーション値Re1=375nmとなり、偏光の振動方向が3λ/4となる。左目用領域Bは、膜厚t2=1μmで、厚み方向のリタデーション値Re2=125nmとなり、偏光の振動方向がλ/4となる。従って、右目用領域Aと左目用領域Bで、λ/2の位相差が付与される。第2実施形態に係るパターン位相差フィルムの製造装置においては、ロール版13は、図10で説明した成形型6と同様な微小キズ6aが形成された型が周囲に形成された円筒形状の金型であり、ロール版13Aは、図14で説明した成形型5と同様な凹凸部5aが周囲に形成された円筒形状の金型である以外は、図9の装置と同様であるので、説明は省略する。パターン位相差フィルムの製造方法の第3実施形態図17~図22は、第3実施形態に係るパターン位相差フィルムの製造方法を示す模式図である。本実施形態に係るパターン位相差フィルムの製造方法は、賦型用樹脂コート工程301と、微小キズ付き凹凸転写工程302と、賦型用樹脂硬化工程303と、離型工程304と、液晶コート工程305と、ベタ版転写工程306と、液晶硬化工程307と、離型工程308などとを備えている。賦型用樹脂塗布工程301は、図17に示すように、TAC等の透明フィルムからなる基材2に、硬化してないアクリル系などのUV硬化型の賦型用樹脂を塗布する工程である。微小キズ付き凹凸転写工程302は、図17に示すように、成形型20によって、基材2にコートされた賦型用樹脂3に、微小キズ付き凹凸部3cを賦型する工程である。この成形型20は、右目用透過光に対応する位相差を与える右目用領域20Aと、左目用透過光に対応する位相差を与える左目用領域20Bとが、帯状の凹凸部21として交互に形成され、凹凸部21の表面に、研磨又はラビング等で配向用の微小キズ22が同一方向凹凸部4aの長手方向から45度の方向に形成されものである。成形型20は、凹凸部21が形成されているのは、液晶の膜厚を変えるための段差を賦型用樹脂3に付与するためである。この実施形態では、成形型20の凹凸部の段差は、2μmとしてある。また、微小キズ22は、ほぼ5nm~500μmの範囲内でランダムに形成されている。賦型用樹脂硬化工程303は、図18に示すように、成形型10で、未硬化のUV硬化型の賦型樹脂3に型押ししながら、UV紫外線を照射して硬化させる工程である。離型工程304は、成形型10を離型する工程であり、図19に示すように、賦型樹脂層3には、賦型用樹脂に賦型された微小キズ付き凹凸部3cが形成される。液晶コート工程305は、賦型樹脂層3の微小キズ付き凹凸部3cに、液晶材料をコートする工程である。コーティング方法は、ダイコート、グラビア、スピンコート、バーコート等を用いることができる。ベタ版転写工程306は、液晶材料の上にベタ版を転写する工程である。成形型30は、図20に示すように、版面が鏡面仕上げされたベタ版であり、液晶材料の上面を平坦化されるためのものである。液晶硬化工程307は、UVの照射により、液晶材料を硬化させる工程である。離型工程308は、成形型30を離型する工程であり、図22に示すように、パターン位相差フィルム1は、基材2に賦型樹脂層3、位相差層4が順次積層されており、液晶表面から凹部の底部までの液晶の膜厚t1と、液晶表面から凸部の頂部までの液晶の膜厚t2によって、右目用領域Aと左目用領域Bの位相差が付与されている。以上説明したように、第3実施形態によれば、成形型20は、2μmの段差のある凹凸部21の表面にラビング等で微小キズ22を付けている。この微小キズ22の方向配向方向は、1方向に揃っている。また、成形型30は、ベタ版である。この成形型20で、賦型層3にキズ付き凹凸部を賦型し、そこに液晶材料をコートすることにより、液晶が配向された位相差層4は、液晶表面から凹部の底部までの液晶の膜厚t1と、液晶表面から凸部の頂部までの液晶の膜厚t2によって、右目用領域Aと左目用領域Bの位相差を付与する。この液晶表面は、成形型30によって平滑化されるので、頂部から1μmの厚さに均一に形成されている。右目用領域Aは、膜厚t1=3μmで、厚み方向のリタデーション値Re1=375nmとなり、偏光の振動方向が3λ/4となる。左目用領域Bは、膜厚t2=1μmで、厚み方向のリタデーション値Re2=125nmとなり、偏光の振動方向がλ/4となる。従って、右目用領域Aと左目用領域Bで、λ/2の位相差が付与される。第3実施形態に係るパターン位相差フィルムの製造装置においては、ロール版13は、図17で説明した成形型20と同様な微小キズ付き凹凸部3cが形成された型が周囲に形成された円筒形状の金型であり、ロール版13Aは、図20で説明した成形型30と同様なベタ版が周囲に形成された円筒形状の金型である以外は、図9の装置と同様であるので、説明は省略する。変形形態以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の技術的範囲内である。1微小キズの方向は、45度に限らず、90度、135度、180度等であってもよい。"