珪酸塩ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、成形するガラス基板の製造方法であって、シリカ源として、Cr含有量が2ppm以下である珪砂原料を用いることを特徴とするガラス基板の製造方法珪酸塩ガラスが、無アルカリアルミノ硼珪酸ガラスであることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。酸化物基準の質量で、SiO250~80、Al2O35~25、B2O33~20、MgO0~15、CaO3~15、SrO0~15、BaO0~15、ROROは、MgO、CaO、SrO及びBaOの合量を表す3~25、ZnO0~10、ZrO20~10であり、かつ実質的にアルカリ金属を含有しない珪酸塩ガラスとなるようにガラス原料を調合することを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。オーバーフローダウンドロー法又はフロート法で成形することを特徴とする請求項1~3の何れかに記載のガラス基板の製造方法。ところで、ガラスの溶融工程において、難溶性物質が原料中より混入すると、ガラス欠陥内面異物となる。内面異物が存在するガラス基板は、高い内面品位が要求されるディスプレイの用途においては、致命的な問題となるため、使用することはできない。ガラス基板内部に存在する異物を発生させない方法として、窯での溶融温度を高温にして異物を溶解してしまうことが考えられる。しかし溶融温度が高くなるほど、窯本体の損傷が激しくなり寿命が短くなる、燃料の消費量が増えることからCO2やNOxの排出が増大し、環境負荷が大きくなる等の問題が生じる。特に無アルカリガラスは、融剤であるアルカリ金属成分が含まれていないので、元々溶融温度が高いという事情がある。それゆえ無アルカリガラスでは、さらに温度を上げて異物を溶解することは非常に困難である。また高温溶融する代わりに、溶解効率を下げて長時間溶融する方法もあるが、効率が悪くコストアップとなる。本発明者の目的は、オーバーフローダウンドロー法、フロート法等の板ガラス成形法を用い、低コストで、内面異物が少なく、且つ高い品位を有するガラス基板を製造する方法を提供することである。本発明者等の調査の結果、無アルカリガラスの原料中から混入する難溶性異物は、クロマイトCr2O3FeO若干のAl2O3やMgOが固溶する場合もあるであり、その混入源は、主としてシリカ源として広く使用されている珪砂であることを突き止めた。そして珪砂に含まれるCrの含有量を制限すれば、クロマイトの内面異物が激減し、高品位を有するガラス基板が得られることを見出し、本発明を提案するに至った。即ち、本発明のガラス基板の製造方法は、珪酸塩ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、成形するガラス基板の製造方法であって、シリカ源として、Cr含有量が2ppm以下である珪砂原料を用いることを特徴とする。なお珪砂中のCr含有量は、クロマイト鉱物含有の指標となる。また本発明において珪酸塩ガラスとは、SiO2を必須成分として含むガラスを意味する。ガラス原料とは、天然原料や合成原料だけでなく、ガラスカレットも含む。珪砂原料とは、天然珪砂をいう。なお天然珪砂中には、不純物としてAl2O3、Fe2O3、Na2O、K2O、Cr2O3等を含んでいる。Cr含有量は、次に示す方法で測定した値を意味する。まず平均粒径D50が10~20μm程度となるように調製した分析用試料をテフロン登録商標ビーカーに秤取り、硫酸-フッ化水素酸で加熱分解したものを希硝酸で定溶する。その後、この試料溶液をICP発光分析装置にて元素測定することにより求めた。上記構成によれば、クロマイトの内面異物が激減するため、ガラス基板、特にフラットパネルディスプレイ装置に用いられるガラス基板として好適である。また本発明においては、珪酸塩ガラスが、無アルカリアルミノ硼珪酸ガラスであることが好ましい。ここで無アルカリとは、実質的にアルカリ金属を含まないことを意味し、より具体的にはアルカリ金属Li2O、Na2O及びK2Oの含有量が合量で0.11000ppm以下であることを意味する。アルミノ硼珪酸ガラスとは、SiO2、Al2O3及びB2O3を必須成分として含有するガラスを意味する。アルカリ金属は、クロマイトに対しても融剤となるが、上記構成ではアルカリ金属を実質的に含まないガラスを対象とするため、クロマイトの溶解は一層困難になる。よって本発明を適用する意義は大きい。また本発明においては、酸化物基準の質量で、SiO250~80、Al2O35~25、B2O33~20、MgO0~15、CaO3~15、SrO0~15、BaO0~15、ROROは、MgO、CaO、SrO及びBaOの合量を表す3~25、ZnO0~10、ZrO20~10であり、かつ実質的にアルカリ金属を含有しない珪酸塩ガラスとなるようにガラス原料を調合することが好ましい。ここで実質的にアルカリ金属を含有しないとは、アルカリ金属Li2O、Na2O及びK2Oの含有量が合量で0.11000ppm以下であることを意味する。上記構成によれば、LCD用基板等に要求される諸特性を満足するガラスを得ることが容易になる。また本発明においては、オーバーフローダウンドロー法又はフロート法で成形することが好ましい。上記構成によれば、大型の無アルカリガラス基板を安価に、且つ、大量に製造することが容易になる。本発明のガラス基板の製造方法は、Cr含有量が2ppm以下である珪砂原料を用いることを特徴とする。これにより、ガラスの溶融工程において、異物の原因となるクロマイトがガラス中に混入する事態を回避することができる。以下、本発明の製造方法を詳述する。まず、シリカ源、アルミナ源、アルカリ土類金属源等となるガラス原料を、目標となるガラス基板の組成となるように混合してバッチを調製する。また必要に応じてガラスカレットをガラス原料として使用してもよい。なおガラスカレットとは、ガラスの製造の過程等で排出されるガラス屑である。各原料及びガラス組成については後述する。次いで調合したバッチを、溶融窯のガラス原料投入口から投入し、溶融、ガラス化する。溶融窯へのバッチの投入は、連続的に行われるが、断続的であってもよい。また溶融窯内でのバッチの溶融温度は1500~1600°C程度である。このようにしてガラス原料を溶融し、溶融ガラスとする。次に溶融ガラスを成形装置に供給し、所定の肉厚、表面品位を有するようにガラスを板状に成形する。成形方法としては、公知のオーバーフローダウンドロー法、フロート法、その他の板ガラス成形法を用いることができる。大型のガラス基板を大量に生産するには、オーバーフローダウンドロー法やフロート法を採用すればよい。また研磨工程を省略したい場合には、オーバーフローダウンドロー法を採用すればよい。このようにして作製されたガラス基板は、LCD等、フラットパネルディスプレイの基板材料等の使用に供される。続いて本発明において使用するガラス原料について説明する。シリカ源シリカ源には、珪砂SiO2を用いる。使用する珪砂は、内面異物の原因となるクロマイトを極力含まぬことが重要である。その指標となるCr含有量は、2ppm以下であり、より好ましくは1.5ppm以下、さらに好ましくは1ppm以下である。アルミナ源アルミナ源にはアルミナAl2O3、または水酸化アルミニウムAlOH3等を用いることができる。アルカリ土類金属源アルカリ土類金属酸化物源は、炭酸カルシウムCaCO3、酸化マグネシウムMgCO3、水酸化マグネシウムMgOH2、硝酸バリウムBaNO32、硝酸ストロンチウムSrNO32等が用いられる。清澄剤溶融性、清澄性を高めるため、清澄剤成分として、SnO2、As2O3、Sb2O3、Sb2O5、BaCl2、SrCl2、CaF2、C、BaSO4、SrSO4、CaSO4等から選ばれる1種以上を添加することができる。その他上記以外にも、ガラス組成に応じて種々のガラス原料を用いることができる。例えば亜鉛源として、酸化亜鉛ZnOを使用することができる。最後に、目標とするガラス組成を説明する。本発明で製造されるガラス基板は、LCD基板用素材として使用される場合、電気特性、耐熱性、耐久性等に優れることが要求される。このような要求を満たすために、本発明においては、酸化物基準の質量で、SiO250~80、Al2O35~25、B2O33~20、MgO0~15、CaO3~15、SrO0~15、BaO0~15、ROROは、MgO、CaO、SrO及びBaOの合量を表す3~25、ZnO0~10、ZrO20~10であり、かつ実質的にアルカリ金属を含有しないガラスとなるようにガラス原料を調合することが好ましい。なお以下の説明では特に断りのない限りは質量を意味する。各成分の割合を上記のように限定した理由を以下に述べる。SiO2SiO2の含有量が少なすぎると、ガラスの歪点が低下し、ディスプレイ装置を製造する際の熱処理工程で、ガラス基板が割れたり、熱変形や、熱収縮が起こりやすくなったりする。また熱膨張係数が大きくなりすぎて、周辺材料の熱膨張係数との整合性が取りにくくなったり、耐熱衝撃性が低下しやすくなったりする。さらに、耐酸性も悪化する。一方、SiO2の含有量が多すぎると、ガラスの高温粘度が高くなり、ガラスの溶融や成形が困難となる。また、熱膨張係数が小さくなりすぎて、周辺材料の熱膨張係数との整合性が取りにくくなる。SiO2含有量の好適な範囲は52~70である。Al2O3Al2O3の含有量が多すぎると、ガラスの歪点が低下し、ディスプレイを製造する際の熱処理工程で、ガラス基板が割れたり、熱変形や熱収縮が起こりやすくなったりする。一方、Al2O3の含有量が少なすぎると、ガラスの耐バッファードフッ酸性が低下したり、ガラスの液相温度が上昇してガラス基板の成形が困難になったりする。Al2O3含有量の好適な範囲は7~22である。B2O3B2O3は、ガラスの粘性を低下させ、かつガラスの溶融性を高める成分であるが、過剰に含有すると、ガラスの歪点が低くなり、ディスプレイを製造する際の熱処理工程で、ガラス基板が割れたり、熱変形や熱収縮が起こりやすくなったりする。一方、B2O3の含有量が少なすぎると、融剤としての効果を得難くなる。B2O3含有量の好適な範囲は3~20である。MgOMgOは、ガラスの歪点を低下させずに、高温粘度を低下させて、ガラスの溶融性を改善する成分である。MgOの含有量が多すぎると、クリストバライトやエンスタタイトの失透ブツが発生しやすくなる傾向にある。さらに耐バッファードフッ酸性が低下し、フォトエッチング工程でガラス基板が侵食され、その反応生成物がガラス基板の表面に付着し、ガラス基板が白濁しやすくなる。MgO含有量の好適な範囲は0~10である。CaOCaOは、ガラスの歪点を低下させずに高温粘度のみを低下させて、ガラスの溶融性を改善する。CaOの含有量が多すぎると、耐バッファードフッ酸性が低下するとともに、ガラスの密度や熱膨張係数が上昇する。CaOの含有量が少なすぎると高温粘度が上昇し溶融性が悪化し易くなる。CaO含有量の好適な範囲は3~12である。SrOSrOは、ガラスの耐薬品性と耐失透性を向上させる成分である。SrOの含有量が多すぎると、ガラスの密度や熱膨張係数が上昇する。SrO含有量の好適な範囲は0~12である。BaOBaOは、ガラスの耐薬品性と耐失透性を向上させる成分である。BaOの含有量が多すぎると、ガラスの密度や熱膨張係数が上昇する。BaO含有量の好適な範囲は0~12である。ROアルカリ土類金属酸化物MgO、CaO、SrO及びBaOは、混合して含有させると、ガラスの溶融性と、耐失透性を向上させることができるが、これらの成分の合量ROが多すぎると、ガラスの密度が上昇する傾向にあり、ガラス基板の軽量化が困難となる。一方、これらの成分の合量ROが少なすぎると溶融性が悪化し、失透性が悪化し易くなる。ROの好適な範囲は1~22である。ZnOZnOは、ガラスの耐バッファードフッ酸性を改善するとともに、ガラスの溶融性を改善する成分である。ZnOの含有量が多すぎると、ガラスが失透しやすくなったり、歪点が低下したりする。ZnO含有量の好適な範囲は0~5である。ZrO2ZrO2は、ガラスの耐薬品性、特に耐酸性を改善し、ヤング率を向上させる成分である。ZrO2の含有量が多すぎると、ガラスの液相温度が上昇し、ジルコンの失透ブツが出やすくなる。ZrO2含有量の好適な範囲は0~2である。清澄剤SnO2、As2O3、Sb2O3、Cl、F等は、清澄剤として作用する成分であり、その含有量は合量で0~2である。また清澄剤として、CやSO3もガラス基板の透過率に影響を与えない範囲で含有させることができる。As2O3やSb2O3は、透過率に影響を与える成分であり、ガラス中に含有させるとガラス基板の透過率が低下しやすくなる。一方、SnO2はガラス中に0.01~2含有させると、その還元効果により、ガラスの透過率を高めることができる。ただし、環境保護の点から、清澄剤として、実質的にAs2O3やSb2O3を含有しないことが好ましい。ここで、実質的にAs2O3やSb2O3を含有しないとは、ガラス組成中のAs2O3やSb2O3の含有量が、各々0.11000ppm以下であることを意味する。以上の点を考慮すれば、清澄剤としてSnO2を必須成分として含有し、実質的にAs2O3及びSb2O3を含有しないことが好ましい。Fe2O3Fe2O3は、ガラスの透過率に影響を与える。Fe2O3は、工程中或いは原料から不純物として混入する成分であるが、その含有量を0.001~0.1となるように調整することが好ましい。Fe2O3の含有量が多すぎると、ガラス基板の透過率が低下しやすくなる。一方、Fe2O3の含有量を0.001より少なくしようとすると、原料コストや製造コストが上昇する。アルカリ金属酸化物本発明で作製されるガラス基板が液晶ディスプレイ基板等に使用される場合、ガラス中にアルカリ金属酸化物Li2O、Na2O、K2Oを実質的に含有しないことが好ましい。アルカリ金属酸化物を実質的に含有しないとは、その含有量を0.1以下に抑えるという意味である。アルカリ金属酸化物の含有量が合量で0.1を超えると、基板上にTFTを成膜する際の熱処理時に、アルカリ金属が成膜されたTFT半導体物質中に拡散し、膜特性が劣化する。その他上記以外にも、本発明の特徴となるガラス特性が損なわれない限り、種々の成分を添加可能である。例えばY2O3、La2O3、Nd2O3、TiO2等を添加しても良い。以下、実施例に基づいて本発明を説明する。表1は本発明の実施例No.1~3を、表2は比較例No.4、5をそれぞれ示している。表中の各試料は、次のようにして作製した。表中のガラス組成となるように、ガラス原料を調合した。なおシリカ源として、Cr含有量の異なる珪砂を用いた。次いで調合されたガラスバッチを連続溶融炉に投入し、1500~1600°Cで溶融した。続いて、オーバーフローダウンドロー法を用いて、肉厚が0.7mmとなるようガラスを成形し、1800mm×1500mmのサイズに切断することで試料ガラスとした。このようにして得られた各試料について、クロマイト異物の量を測定した。その結果を各表に示す。表から明らかなように、実施例であるNo.1~3の各試料は、クロマイト異物量が1個t以下と少なく、フラットパネルディスプレイ装置に用いられるガラス基板として使用できることが確認された。これに対して、比較例であるNo.4、5の各試料は、クロマイト異物の数が4個t以上と多く、品位が劣っていた。なおクロマイト異物の数は、ガラス基板表面を光学装置にて検出し、これをカウントした個数をガラス製品1tトン当りに換算して求めた。