"偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の保護膜とを有する偏光板を有する液晶表示装置であって、前記保護膜の少なくとも一枚が、フィルム流延方向および幅方向のうちの少なくとも1方向における弾性率が3.5~10GPaである膜厚20~70μmのセルロースアシレートフィルムであり、視野角が上下左右の内、少なくとも3方向で極角80°以上であり、白表示の輝度/黒表示の輝度で表される正面方向のコントラストが300以上である、液晶表示装置。前記セルロースアシレートフィルムの正面レターデーションReが20~80nmの範囲であり、膜厚方向のレターデーションRthが100~250nmの範囲である、請求項1に記載の液晶表示装置。前記セルロースアシレートフィルムのヘイズが1以下である、請求項1または2に記載の液晶表示装置。前記セルロースアシレートフィルムが、下記式IおよびIIを満たすセルロースアシレートから実質的になることを特徴とする、請求項1~3のいずれかに記載の液晶表示装置。式I:2.6≦AB≦3.0式II:0<B式IおよびIIにおいて、Aは前記セルロースアシレートのグルコース単位における水酸基のアセチル基による置換度であり、Bは、前記セルロースアシレートのグルコース単位における水酸基の、プロピオニル基、ブチリル基またはベンゾイル基による置換度であるOCBまたはVAモードの液晶表示装置である、請求項1~4のいずれかに記載の液晶表示装置。液晶セルと該液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有するVAモードの液晶表示装置であって、前記セルロースアシレートフィルムをバックライト側偏光板に有する請求項1~5のいずれかに記載の液晶表示装置。上述の文献に開示されている方法のようにセルロースアシレートフィルムを用いることは、安価でかつ薄い液晶表示装置が得られる点で有効である。しかしながらセルロースアシレートフィルムを薄くしてゆくと、フィルムのたるみやしわ、折れ曲がりが生じやすく、取り扱いが難しいという課題が発生した。この問題は偏光板に加工する際や、液晶表示装置に貼り合せる際とくに顕著になっていた。本発明の目的は、正面および膜厚方向レターデーションの発現性に優れ、薄くてかつ、製造加工時の取り扱いが容易なセルロースアシレートフィルムを提供することである。本発明の第二の目的は、前記セルロースアシレートフィルムを用いた、視野角特性変化の少ない液晶表示装置および液晶表示装置に使用する偏光板の提供である。本発明者らは鋭意研究の結果、セルロースアシレートフィルムの弾性率を、従来用いられたフィルムより高弾性である、特定の範囲に調整することで、薄膜化に伴う上記問題を解決することが出来、製造加工時の取り扱いが容易なセルロースアシレートフィルムを提供することができることを見出した。同時にこのような、薄くてかつ高弾性率のセルロースアシレートフィルムを、上記問題を解決し、さらには破断やヘイズを生じることなく製造する方法を見出した。セルロースアシレートフィルムの弾性率としては、従来は2~3.5GPa程度の物が広く用いられてきたが、本発明者らは、弾性率を3.5GPa以上とすることで、薄いフィルムであっても、偏光板に加工する際や、液晶表示装置に貼り合せる際のたるみやしわ、折れ曲がりが生じないことを見出した。一方弾性率が10GPaを越えると、フィルムのスリットや偏光板の打ち抜きの際に切屑が発生する場合があることも見出した。すなわち弾性率を3.5~10GPaとすることにより上記の本発明の目的を達成でき、弾性率4~7GPaが好ましく、最も好ましくは4~6GPaである。なお本明細書における弾性率は、サンプルを25°C60RHの環境下で24hr調湿し、JISK7127に記載の方法に従って弾性率を測定した値である。引っ張り試験機は株エーアンドデイ製テンシロンを用いた。またセルロースアシレートフィルムの膜厚は、安価でかつ薄い液晶表示装置を実現するためには、薄いほど好ましいが、薄くなりすぎると、弾性率を前述のように適切に調整したとしても、貼り合わせ時のしわ等の問題のため取り扱いが困難となり、膜厚を20~70μmにすることで、これらの問題が生じないことを見出した。したがって膜厚を20~70μmとすることにより上記の本発明の目的を達成でき、膜厚30~60μmが好ましく、最も好ましくは30~50μmである。さらに本発明者らは、延伸フィルムの製造方法について鋭意研究した結果、直交する2軸方向にそれぞれ、1.2~4.0倍、1.05~3.8倍延伸することで上記の本発明の目的を達成することが可能であることを見出した。このような2軸延伸法では、延伸倍率を高く設定しすぎると、延伸中の破断が生じることがあるのを見出したことによる。延伸倍率を特定範囲とすることで、上述のような薄くてかつ高弾性率のセルロースアシレートフィルムを実現することができる。また本発明者らはさらに検討を進め、プロピオニル基、ブチリル基またはベンゾイル基による置換基を有するセルロースアシレートを用いることで、前記のような破断を防止する上でもより好ましいことを見出した。さらに上記のような薄膜フィルムを作る際に延伸倍率が高くなると、従来はフィルムのヘイズが大きくなる傾向があった。ヘイズが大きくなると、フィルムを液晶表示装置に使用する際に画像の解像度やコントラストが低下するため、できるだけヘイズの小さなフィルムが望まれる。そこで、本発明者らは、延伸時の温度と延伸速度にも着目し検討した結果、セルロースアシレートフィルムのガラス転移温度25°C以上、結晶化温度以下の温度で2軸延伸を実施するか、あるいは延伸速度10/分以下で2軸延伸を実施することにより、高倍率延伸で作製した薄いフィルムであっても、ヘイズを小さくすることができることを見出した。特にセルロースアシレートフィルムのヘイズ値は、小さいほど好ましいといえるが、1以下が好ましく、0.7以下がさらに好ましい。なおヘイズ値は、ヘイズメーターMODEL1001DP日本電色工業株製を用いて測定した値である。本明細書における延伸倍率の表記について補足する。2.0倍延伸とは未延伸フィルムの寸法を1.0倍としたときにその2倍の長さに延伸するという意味の記述であり、100延伸という記述と等価である。また延伸速度の10/分という表記は、0.1倍/分という表記と等価の関係にある。具体的には10/分とは、未延伸フィルムを1としたときに毎分0.1の長さ延伸することを意味する。本発明は、上述の本発明者らが見出した点に基づいてなされたものであり、具体的には以下の構成を有するものである。1偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の保護膜とを有する偏光板を有する液晶表示装置であって、前記保護膜の少なくとも一枚が、フィルム流延方向および幅方向のうちの少なくとも1方向における弾性率が3.5~10GPaである膜厚20~70μmのセルロースアシレートフィルムであり、視野角が上下左右の内、少なくとも3方向で極角80°以上であり、白表示の輝度/黒表示の輝度で表される正面方向のコントラストが300以上である、液晶表示装置。2前記セルロースアシレートフィルムの正面レターデーションReが20~80nmの範囲であり、膜厚方向のレターデーションRthが100~250nmの範囲である、1に記載の液晶表示装置。3前記セルロースアシレートフィルムのヘイズが1以下である、1または2に記載の液晶表示装置。4前記セルロースアシレートフィルムが、下記式IおよびIIを満たすセルロースアシレートから実質的になることを特徴とする、1~3のいずれかに記載の液晶表示装置。式I:2.6≦AB≦3.0式II:0<B式IおよびIIにおいて、Aは前記セルロースアシレートのグルコース単位における水酸基のアセチル基による置換度であり、Bは、前記セルロースアシレートのグルコース単位における水酸基の、プロピオニル基、ブチリル基またはベンゾイル基による置換度である5OCBまたはVAモードの液晶表示装置である、1~4のいずれかに記載の液晶表示装置。6液晶セルと該液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有するVAモードの液晶表示装置であって、前記セルロースアシレートフィルムをバックライト側偏光板に有する1~5のいずれかに記載の液晶表示装置。本発明は、上記1~6に係る発明であるが、以下、それ以外の事項についても記載している。1膜厚が20~70μmであり、かつフィルム流延方向および幅方向のうちの少なくとも1方向における弾性率が3.5~10GPaであることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。2正面レターデーションReが20~80nmの範囲であり、膜厚方向のレターデーションRthが100~250nmの範囲であることを特徴とする1に記載のセルロースアシレートフィルム。3フィルムのヘイズが1以下であることを特徴とする、1または2に記載のセルロースアシレートフィルム。4下記式IおよびIIを満たすセルロースアシレートから実質的になることを特徴とする、1~3のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。式I:2.6≦AB≦3.0式II:0<B式IおよびIIにおいて、Aは前記セルロースアシレートのグルコース単位における水酸基のアセチル基による置換度であり、Bは、前記セルロースアシレートのグルコース単位における水酸基の、プロピオニル基、ブチリル基またはベンゾイル基による置換度である5延伸工程を有するセルロースアシレートフィルムの製造方法であって、該延伸工程が、互いに直交する2軸方向の延伸倍率をそれぞれ、1.2~4.0倍、1.05~3.8倍の範囲とし、かつ延伸処理温度をフィルムのガラス転移温度25°C以上、結晶化温度以下として延伸処理する工程であり、延伸工程後のフィルムの膜厚が20~70μmであることを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。6延伸工程を有するセルロースアシレートフィルムの製造方法であって、該延伸工程が、互いに直交する2軸方向の延伸倍率をそれぞれ、1.2~4.0倍、1.05~3.8倍の範囲とし、かつ互いに直交する2軸方向の、少なくとも一方の延伸速度が10/分以下として延伸処理する工程であり、延伸工程後のフィルムの膜厚が20~70μmであることを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。75または6に記載の製造方法で作製されたことを特徴とする、1~4のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。8偏光膜と、該偏光膜を挟持する一対の保護膜とを有する偏光板であって、前記保護膜の少なくとも一枚が1~4、7のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする偏光板。91~4、7のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムまたは8に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。10液晶セルと該液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有するOCBまたはVAモードの液晶表示装置であって、前記偏光板のうちの少なくとも1枚が8に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。11液晶セルと該液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有するVAモードの液晶表示装置であって、8に記載の偏光板をバックライト側に有することを特徴とする液晶表示装置。本発明によれば、正面および膜厚方向レターデーションの発現性に優れ、薄くてかつ、製造加工時の取り扱いが容易なセルロースアシレートフィルムが提供される。また本発明によれば、前記セルロースアシレートフィルムを用いた、視野角特性変化の少ない液晶表示装置、および液晶表示装置に使用する偏光板が提供される。以下、本発明について更に詳細に説明する。本発明のセルロースアシレートフィルムは、膜厚が特定の範囲内であり、かつフィルム流延方向および幅方向のうちの少なくとも1方向における弾性率が特定の範囲内であることを特徴とする。以下、まず、本発明のセルロースアシレートフィルムの原材料、製造方法、フィルム自体の説明の順で詳述する。<セルロースアシレートフィルムの原材料>セルロースアシレートまず本発明において用いられるセルロースアシレートについて詳細に記載する。本発明においては異なる2種類以上のセルロースアシレートを混合して用いても良い。前記セルロースアシレートとしては、セルロースアシレートのグルコース単位における水酸基のアセチル基による置換度をAとし、プロピオニル基、ブチリル基またはベンゾイル基による置換度をBとした時、A、Bが式IおよびIIを満たすセルロースアシレートを好ましく用いることができる。式I:2.6≦AB≦3.0式II:0<Bセルロースを構成するβ-1,4結合しているグルコース単位は、2位、3位および6位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部をアシル基によりエステル化した重合体ポリマーである。アシル置換度は、2位、3位および6位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合100のエステル化はそれぞれの位置で置換度1を意味する。アシル置換度は、ASTM-D817-96に従い測定できる。本発明では、水酸基のAとBとの置換度の総和ABは、上記式Iに示すように、2.6~3.0であることが好ましい。また、Bの置換度は上記式IIに示すように、0より大であることが好ましく、より好ましくは0.5以上1.2以下であり、さらに好ましくは0.6以上0.8以下である。ABが2.6未満であると、親水性が強くなり過ぎることによる環境湿度の影響を受けやすいので上記範囲とすることが好ましい。また、Bが0より大、すなわちプロピオニル基、ブチリル基またはベンゾイル基による置換基を有するセルロースアシレートを用いることで、前述のとおり、フィルムの破断を防止することができ好ましい。セルロースアシレートは、置換度Bにおける置換基、すなわちプロピオニル基、ブチリル基またはベンゾイル基を、1種類以上有していてもよい。{セルロースアシレートの合成方法}セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学180~190頁共立出版、1968年に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物-酢酸-硫酸触媒による液相酢化法である。前記セルロースアシレートを得るには、具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート2位、3位および6位のアシル置換度の合計が、ほぼ3.00を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸例えば無水酢酸および無水プロピオン酸、あるいは無水ブチリル酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。エステル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒一般には、残存する硫酸の存在下で、50~90°Cに保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理を行う等して、前記の特定のセルロースアシレートを得ることができる。前記セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が実質的に上記式IIIを満たすセルロースアシレートからなることが好ましい。実質的にとは、ポリマー成分の55質量以上好ましくは70質量以上、さらに好ましくは80質量以上を意味する。前記セルロースアシレートは、粒子状で使用することも好ましい。使用する粒子の90質量以上は、0.5~5mmの粒子径を有することが好ましい。また、使用する粒子の50質量以上が1~4mmの粒子径を有することが好ましい。セルロースアシレート粒子は、なるべく球形に近い形状を有することが好ましい。本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で、好ましくは200~700、より好ましくは250~550、更に好ましくは250~400であり、特に好ましくは250~350である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第18巻第1号、105~120頁、1962年により測定できる。更に特開平9-95538号公報に詳細に記載されている。低分子成分が除去されると、平均分子量重合度が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため、前記セルロースアシレートとしては低分子成分を除去したものが有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロースアシレート100質量部に対して0.5~25質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい分子量分布の均一なセルロースアシレートを合成することができる。セルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は2質量以下であることが好ましく、さらに好ましくは1質量以下であり、特には0.7質量以下である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており含水率2.5~5質量が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥すればよく、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。前記セルロースアシレートの原料綿や合成方法は、発明協会公開技報公技番号2001-1745号2001年3月15日発行、発明協会p.7-12に詳細に記載されている原料綿や合成方法を採用できる。本発明のセルロースアシレートフィルムは、前記の特定のセルロースアシレートと必要に応じて添加剤とを有機溶媒に溶解させた溶液を用いてフィルム化することにより得ることができる。{添加剤}本発明において前記セルロースアシレート溶液に用いることができる添加剤としては、例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、レターデーション光学異方性発現剤、微粒子、剥離促進剤、赤外吸収剤などを挙げることができる。本発明においては、レターデーション発現剤を用いてもよい。また、可塑剤、紫外線吸収剤および剥離促進剤の少なくとも1種以上を用いるのも好ましい。それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば20°C以下と20°C以上の紫外線吸収剤を混合して用いたり、同様に可塑剤を混合して用いることができ、例えば特開平2001-151901号公報などに記載されている。紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系である。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-アセトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2’-ジ-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2’-ジ-ヒドロキシ-4,4’-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-n-オクトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-ドデシルオキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-2-ヒドロキシ-3-メタクリロキシプロポキシベンゾフェノン等をあげることができる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、22’-ヒドロキシ-3’-tert-ブチル-5’-メチルフェニル-5-クロルベンゾトリアゾール、22’-ヒドロキシ-5’-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、22’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-アミルフェニルベンゾトリアゾール、22’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-ブチルフェニル-5-クロルベンゾトリアゾール、22’-ヒドロキシ-5’-tert-オクチルフェニルベンゾトリアゾール等をあげることができる。サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、p-オクチルフェニルサリシレート、p-tert-ブチルフェニルサリシレート等をあげることができる。これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2’-ジ-ヒドロキシ-4,4’-メトキシベンゾフェノン、22’-ヒドロキシ-3’-tert-ブチル-5’-メチルフェニル-5-クロルベンゾトリアゾール、22’-ヒドロキシ-5’-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、22’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-アミルフェニルベンゾトリアゾール、22’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-ブチルフェニル-5-クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ、液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。特に好ましい紫外線吸収剤は、先に上げたベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不要な着色が少ないことから、好ましい。また、紫外線吸収剤については、特開昭60-235852号、特開平3-199201号、同5-1907073号、同5-194789号、同5-271471号、同6-107854号、同6-118233号、同6-148430号、同7-11056号、同7-11055号、同7-11056号、同8-29619号、同8-239509号、特開2000-204173号の各公報に記載の化合物も用いることができる。紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレート100質量部に対し0.001~5質量部が好ましく、0.01~1質量部がより好ましい。添加量が0.001質量部以上であれば添加効果を十分に発揮することができ、添加量が5質量部以下であれば、フィルム表面へ紫外線吸収剤がブリードアウトすることがなく好ましい。また、紫外線吸収剤はセルロースアシレート溶解時に同時に添加しても良いし、溶解後のドープに添加しても良い。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができ、好ましい。前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止することができる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物特開平8-325537号公報、グアニジン化合物特開平5-271471号公報、ベンゾトリアゾール系UV吸収剤特開平6-235819号公報、ベンゾフェノン系UV吸収剤特開平6-118233号公報などの化合物がある。可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルであることが好ましい。また、前記可塑剤が、トリフェニルホスフェートTPP、トリクレジルホスフェートTCP、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジメチルフタレートDMP、ジエチルフタレートDEP、ジブチルフタレートDBP、ジオクチルフタレートDOP、ジフェニルフタレートDPP、ジエチルヘキシルフタレートDEHP、O-アセチルクエン酸トリエチルOACTE、O-アセチルクエン酸トリブチルOACTB、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートから選ばれたものであることがより好ましい。さらに、前記可塑剤が、ジペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。剥離促進剤としてはクエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。さらにまた、赤外吸収剤としては例えば特開平2001-194522号に記載されている。これらの添加剤を添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層である場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開平2001-151902号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これら添加剤の種類や添加量の選択によって、セルロースアシレートフィルムの動的粘弾性測定機バイブロン:DVA-225アイティー計測制御株式会社で測定するガラス転移点Tgを70~150°Cにすることが好ましい。より好ましくは、ガラス転移点Tgが80~135°Cである。すなわち、本発明のセルロースアシレートフィルムは、偏光板加工や液晶表示装置組立ての工程適性の点で、ガラス転移点Tgを上記の範囲とすることが好ましい。さらに添加剤については、発明協会公開技報公技番号2001-1745号2001年3月15日発行、発明協会p.16以降に詳細に記載されているものを適宜用いることができる。これらの添加剤は、本発明の所望の効果を損なわない範囲の添加量で添加することができる。{レターデーション発現剤}本発明では好ましいレターデーション値を発現させるため、レターデーション発現剤を用いてもよい。本発明において用いることができるレターデーション発現剤としては、棒状又は円盤状化合物からなるものを挙げることができる。上記棒状又は円盤状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。棒状化合物からなるレターデーション発現剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分100質量部に対して0.1~30質量部であることが好ましく、0.5~20質量部であることがさらに好ましい。円盤状のレターデーション発現剤は、前記セルロースアシレートを含むポリマー成分100質量部に対して、0.05~20質量部の範囲で使用することが好ましく、0.1~10質量部の範囲で使用することがより好ましく、0.2~5質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、0.5~2質量部の範囲で使用することが最も好ましい。円盤状化合物はRth発現性において棒状化合物よりも優れているため、特に大きなRthを必要とする場合には好ましく使用される。二種類以上のレターデーション発現剤を併用してもよい。棒状または円盤状化合物からなる前記レターデーション発現剤は、250~400nmの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。円盤状化合物について説明する。円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。本明細書において、芳香族環は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族炭化水素環は、6員環すなわち、ベンゼン環であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および1,3,5-トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および1,3,5-トリアジン環が好ましく、特に1,3,5-トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開2001-166144号公報に開示の化合物が円盤状化合物として好ましく用いられる。前記円盤状化合物が有する芳香族環の数は、2~20であることが好ましく、2~12であることがより好ましく、2~8であることがさらに好ましく、2~6であることが最も好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、a縮合環を形成する場合、b単結合で直結する場合およびc連結基を介して結合する場合に分類できる芳香族環のため、スピロ結合は形成できない。結合関係は、a~cのいずれでもよい。aの縮合環二つ以上の芳香族環の縮合環の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。bの単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。cの連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、-CO-、-O-、-NH-、-S-またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。c1:-CO-O-c2:-CO-NH-c3:-アルキレン-O-c4:-NH-CO-NH-c5:-NH-CO-O-c6:-O-CO-O-c7:-O-アルキレン-O-c8:-CO-アルケニレン-c9:-CO-アルケニレン-NH-c10:-CO-アルケニレン-O-c11:-アルキレン-CO-O-アルキレン-O-CO-アルキレン-c12:-O-アルキレン-CO-O-アルキレン-O-CO-アルキレン-O-c13:-O-CO-アルキレン-CO-O-c14:-NH-CO-アルケニレン-c15:-O-CO-アルケニレン-芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル基の炭素原子数は、1~8であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基例、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基を有していてもよい。アルキル基置換アルキル基を含むの例には、メチル基、エチル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基、2-ヒドロキシエチル基、4-カルボキシブチル基、2-メトキシエチル基および2-ジエチルアミノエチル基が含まれる。アルケニル基の炭素原子数は、2~8であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基および1-ヘキセニル基が含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、2~8であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、1-ブチニル基および1-ヘキシニル基が含まれる。脂肪族アシル基の炭素原子数は、1~10であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基およびブタノイル基が含まれる。脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1~10であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、1~8であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基例、アルコキシ基を有していてもよい。アルコキシ基の置換アルコキシ基を含む例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基およびメトキシエトキシ基が含まれる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2~10であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基およびエトキシカルボニル基が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、2~10であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基およびエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。アルキルチオ基の炭素原子数は、1~12であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基およびオクチルチオ基が含まれる。アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1~8であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基およびエタンスルホニル基が含まれる。脂肪族アミド基の炭素原子数は、1~10であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミド基が含まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1~8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基およびn-オクタンスルホンアミド基が含まれる。脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、1~10であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基および2-カルボキシエチルアミノ基が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、2~10であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基およびジエチルカルバモイル基が含まれる。脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、1~8であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基およびジエチルスルファモイル基が含まれる。脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、2~10であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基およびモルホリノ基が含まれる。円盤状化合物からなるレターデーション発現剤の分子量は、300~800であることが好ましい。本発明では前述の円盤状化合物の他に、直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができる。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト{例えば、WinMOPAC2000、富士通株製}を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が140度以上であることを意味する。これら円盤状化合物および棒状化合物の具体例としては、特開2004-243628号公報、特開2005-134863号公報に挙げられている化合物を単独あるいは複数組み合わせて用いることができる。溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長λmaxが250nmより短波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。棒状化合物は、文献記載の方法により合成できる。文献としては、Mol.Cryst.Liq.Cryst.,53巻、229ページ1979年、同89巻、93ページ1982年、同145巻、111ページ1987年、同170巻、43ページ1989年、J.Am.Chem.Soc.,113巻、1349ページ1991年、同118巻、5346ページ1996年、同92巻、1582ページ1970年、J.Org.Chem.,40巻、420ページ1975年、Tetrahedron、48巻16号、3437ページ1992年を挙げることができる。{マット剤微粒子}本発明のセルロースアシレートフィルムは、添加剤として、マット剤としての微粒子を加えてなることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、1次平均粒子径が20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上であるものが好ましい。1次粒子の平均径が5~16nmと小さいものがフイルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は90~200g/リットル以上が好ましく、100~200g/リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。前記二酸化珪素微粒子を用いる場合の使用量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分100質量部に対して0.01~0.3質量部とするのが好ましい。これらの微粒子は、通常平均粒子径が0.1~3.0μmの2次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、1次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に0.1~3.0μmの凹凸を形成させる。2次平均粒子径は0.2μm以上1.5μm以下が好ましく、0.4μm以上1.2μm以下がさらに好ましく、0.6μm以上1.1μm以下が最も好ましい。1.5μmよりも大きいとヘイズが強くなり、0.2μmよりも小さいときしみ防止効果が小さくなる。1次、2次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とする。また、場所を変えて粒子200個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とする。二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600以上日本アエロジル株製などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976およびR811以上日本アエロジル株製の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でアエロジル200V、アエロジルR972Vが1次平均粒子径が20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。本発明において2次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作製し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は5~30質量が好ましく、10~25質量が更に好ましく、15~20質量が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は1m2あたり0.01~1.0gが好ましく、0.03~0.3gが更に好ましく、0.08~0.16gが最も好ましい。使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースアシレートフィルムの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。{有機溶媒}次に、本発明のセルロースアシレートフィルムを作製する際に上記セルロースアシレートを溶解させる有機溶媒について記述する。本発明においては、有機溶媒として、塩素系有機溶媒を主溶媒とする塩素系溶媒と塩素系有機溶媒を含まない非塩素系溶媒とのいずれをも用いることができる。塩素系溶媒本発明のセルロースアシレートの溶液を作製するに際しては、主溶媒として塩素系有機溶媒が好ましく用いられる。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し流延、製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りはその塩素系有機溶媒の種類は特に限定されない。これらの塩素系有機溶媒は、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。特にジクロロメタンが好ましい。また、塩素系有機溶媒以外の有機溶媒を混合することも特に問題ない。その場合は、ジクロロメタンは有機溶媒全体量中少なくとも50質量使用することが必要である。本発明で塩素系有機溶剤と併用される他の有機溶媒について以下に記す。すなわち、好ましい他の有機溶媒としては、炭素原子数が3~12のエステル、ケトン、エーテル、アルコール、炭化水素などから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基すなわち、-O-、-CO-および-COO-のいずれかを二つ以上有する化合物も溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を同時に有していてもよい。二種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が3~12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテート等が挙げられる。炭素原子数が3~12のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノン等が挙げられる。炭素原子数が3~12のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等が挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2-エトキシエチルアセテート、2-メトキシエタノールおよび2-ブトキシエタノール等が挙げられる。また塩素系有機溶媒と併用されるアルコールとしては、好ましくは直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級~第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、t-ブタノール、1-ペンタノール、2-メチル-2-ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、2-フルオロエタノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、2,2,3,3-テトラフルオロ-1-プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。塩素系有機溶媒と他の有機溶媒との組合せ例としては以下の組成を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。ジクロロメタン/メタノール/エタノール/ブタノール80/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/アセトン/メタノール/プロパノール80/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/メタノール/ブタノール/シクロヘキサン80/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール80/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/アセトン/メチルエチルケトン/エタノール/イソプロパノール75/8/5/5/7、質量部、ジクロロメタン/シクロペンタノン/メタノール/イソプロパノール80/7/5/8、質量部、ジクロロメタン/酢酸メチル/ブタノール80/10/10、質量部、ジクロロメタン/シクロヘキサノン/メタノール/ヘキサン70/20/5/5、質量部、ジクロロメタン/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール50/20/20/5/5、質量部、ジクロロメタン/1、3ジオキソラン/メタノール/エタノール70/20/5/5、質量部、ジクロロメタン/ジオキサン/アセトン/メタノール/エタノール60/20/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/アセトン/シクロペンタノン/エタノール/イソブタノール/シクロヘキサン65/10/10/5/5/5、質量部、ジクロロメタン/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール70/10/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/アセトン/酢酸エチル/エタノール/ブタノール/ヘキサン65/10/10/5/5/5、質量部、ジクロロメタン/アセト酢酸メチル/メタノール/エタノール65/20/10/5、質量部、ジクロロメタン/シクロペンタノン/エタノール/ブタノール65/20/10/5、質量部。非塩素系溶媒次に、本発明のセルロースアシレートの溶液を作製するに際して好ましく用いられる非塩素系有機溶媒について記載する。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し流延、製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは非塩素系有機溶媒は特に限定されない。本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、炭素原子数が3~12のエステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基すなわち、-O-、-CO-および-COO-のいずれかを2つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。2種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が3~12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが挙げられる。炭素原子数が3~12のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが挙げられる。炭素原子数が3~12のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2-エトキシエチルアセテート、2-メトキシエタノールおよび2-ブトキシエタノールが挙げられる。以上のセルロースアシレートに用いられる非塩素系有機溶媒については、前述のいろいろな観点から選定されるが、好ましくは以下のとおりである。すなわち、非塩素系溶媒としては、前記非塩素系有機溶媒を主溶媒とする混合溶媒が好ましく、互いに異なる3種類以上の溶媒の混合溶媒であって、第1の溶媒が酢酸メチル、酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセトン、ジオキソラン、ジオキサンから選ばれる少なくとも一種あるいは或いはそれらの混合液であり、第2の溶媒が炭素原子数が4~7のケトン類またはアセト酢酸エステルから選ばれ、第3の溶媒として炭素数が1~10のアルコールまたは炭化水素、より好ましくは炭素数1~8のアルコールから選ばれる、混合溶媒である。なお第1の溶媒が、2種以上の溶媒の混合液である場合は、第2の溶媒がなくてもよい。第1の溶媒は、さらに好ましくは酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチルあるいはこれらの混合物であり、第2の溶媒は、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセチル酢酸メチルが好ましく、これらの混合溶媒であってもよい。第3の溶媒であるアルコールは、直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級~第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、t-ブタノール、1-ペンタノール、2-メチル-2-ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、2-フルオロエタノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、2,2,3,3-テトラフルオロ-1-プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。これらの第3の溶媒であるアルコールおよび炭化水素は単独でもよいし2種類以上の混合物でもよく特に限定されない。第3の溶媒としては、好ましい具体的化合物は、アルコールとしてはメタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、およびシクロヘキサノール、シクロヘキサン、ヘキサンを挙げることができ、特にはメタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノールである。以上の3種類の混合溶媒の混合割合は、混合溶媒全体量中、第1の溶媒が20~95質量、第2の溶媒が2~60質量さらに第3の溶媒が2~30質量の比率で含まれることが好ましく、さらに第1の溶媒が30~90質量であり、第2の溶媒が3~50質量、さらに第3のアルコールが3~25質量含まれることが好ましい。また特に第1の溶媒が30~90質量であり、第2の溶媒が3~30質量、第3の溶媒がアルコールであり3~15質量含まれることが好ましい。以上の本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、さらに詳細には発明協会公開技報公技番号2001-1745号2001年3月15日発行、発明協会p.12-16に詳細に記載されている。本発明の好ましい非塩素系有機溶媒の組合せは以下挙げることができるが、これらに限定されるものではない。酢酸メチル/アセトン/メタノール/エタノール/ブタノール75/10/5/5/5、質量部、酢酸メチル/アセトン/メタノール/エタノール/プロパノール75/10/5/5/5、質量部、酢酸メチル/アセトン/メタノール/ブタノール/シクロヘキサン75/10/5/5/5、質量部、酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール81/8/7/4、質量部、酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール82/10/4/4、質量部、酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール80/10/4/6、質量部、酢酸メチル/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール80/10/5/5、質量部、酢酸メチル/アセトン/メチルエチルケトン/エタノール/イソプロパノール75/8/5/5/7、質量部、酢酸メチル/シクロペンタノン/メタノール/イソプロパノール80/7/5/8、質量部、酢酸メチル/アセトン/ブタノール85/10/5、質量部、酢酸メチル/シクロペンタノン/アセトン/メタノール/ブタノール60/15/14/5/6、質量部、酢酸メチル/シクロヘキサノン/メタノール/ヘキサン70/20/5/5、質量部、酢酸メチル/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール50/20/20/5/5、質量部、酢酸メチル/1、3-ジオキソラン/メタノール/エタノール70/20/5/5、質量部、酢酸メチル/ジオキサン/アセトン/メタノール/エタノール60/20/10/5/5、質量部、酢酸メチル/アセトン/シクロペンタノン/エタノール/イソブタノール/シクロヘキサン65/10/10/5/5/5、質量部、ギ酸メチル/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール50/20/20/5/5、質量部、ギ酸メチル/アセトン/酢酸エチル/エタノール/ブタノール/ヘキサン65/10/10/5/5/5、質量部、アセトン/アセト酢酸メチル/メタノール/エタノール65/20/10/5、質量部、アセトン/シクロペンタノン/エタノール/ブタノール65/20/10/5、質量部、アセトン/1,3-ジオキソラン/エタノール/ブタノール65/20/10/5、質量部、1、3-ジオキソラン/シクロヘキサノン/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール55/20/10/5/5、質量部。更に下記の方法で調整したセルロースアシレート溶液を用いることもできる。酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール81/8/7/4、質量部でセルロースアシレート溶液を作製しろ過濃縮後に2質量部のブタノールを追加添加する方法、酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール84/10/4/2、質量部でセルロースアシレート溶液を作製しろ過濃縮後に4質量部のブタノールを追加添加する方法、酢酸メチル/アセトン/エタノール84/10/6、質量部でセルロースアシレート溶液を作製しろ過濃縮後に5質量部のブタノールを追加添加する方法、本発明に用いるドープには、上記本発明の非塩素系有機溶媒以外に、ジクロロメタンを本発明の全有機溶媒量の10質量以下含有させてもよい。{セルロースアシレート溶液特性}セルロースアシレートの溶液は、前記有機溶媒にセルロースアシレートを10~30質量の濃度で溶解させた溶液であるのが製膜流延適性の点で好ましく、より好ましくは13~27質量であり、特に好ましくは15~25質量である。これらの濃度にセルロースアシレートを調整するには、溶解する段階で所定の濃度になるように実施してもよく、また予め低濃度溶液例えば9~14質量として作製した後に後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度のセルロースアシレート溶液としてもよく、いずれの方法でも本発明のセルロースアシレート溶液濃度になるように実施されれば特に問題ない。次に、本発明ではセルロースアシレート溶液を同一組成の有機溶媒で0.1~5質量にした希釈溶液中のセルロースアシレートの会合体分子量が15万~1500万であることが、好ましい。さらに好ましくは、会合分子量が18万~900万である。この会合分子量は静的光散乱法で求めることができる。その際に同時に求められる慣性自乗半径は10~200nmになるように溶解することが好ましい。さらに好ましい慣性自乗半径は20~200nmである。更にまた、第2ビリアル係数が-2×10-4~4×10-4となるように溶解することが好ましく、より好ましくは第2ビリアル係数が-2×10-4~2×10-4である。ここで、本発明での会合分子量、さらに慣性自乗半径および第2ビリアル係数の定義について述べる。これらは下記方法に従って、静的光散乱法を用いて測定する。測定は装置の都合上希薄領域で測定するが、これらの測定値は本発明の高濃度域でのドープの挙動を反映するものである。まず、セルロースアシレートをドープに使用する溶剤に溶かし、0.1質量、0.2質量、0.3質量、0.4質量の溶液を調製する。なお、秤量は吸湿を防ぐためセルロースアシレートは120°Cで2時間乾燥したものを用い、25°C,10RHで行う。溶解方法は、ドープ溶解時に採用した方法常温溶解法、冷却溶解法、高温溶解法に従って実施する。続いてこれらの溶液、および溶剤を0.2μmのテフロン登録商標製フィルターで濾過する。そして、ろ過した溶液を静的光散乱を、光散乱測定装置大塚電子株製DLS-700を用い、25°Cに於いて30度から140度まで10度間隔で測定する。得られたデータをBERRYプロット法にて解析する。なお、この解析に必要な屈折率はアッベ屈折系で求めた溶剤の値を用い、屈折率の濃度勾配dn/dcは、示差屈折計大塚電子株製DRM-1021を用い、光散乱測定に用いた溶剤、溶液を用いて測定する。次に、本発明のセルロースアシレートフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムの製造方法は、延伸工程を有し、該延伸工程が、互いに直交する2軸方向の延伸倍率をそれぞれ特定の範囲とし、かつ延伸処理温度を特定の範囲として延伸処理する工程であり、延伸工程後のフィルムの膜厚が特定の範囲であることを特徴とする。本発明の製造方法は、本発明のセルロースアシレートフィルムの製造に際して用いることができる他、他のセルロースアシレートフィルムの製造に際しても用いることができる。以下の説明においては、本発明のセルロースアシレートフィルムの製造に沿って説明する。本発明のセルロースアシレートフィルムは、ドープ調整、延伸処理の工程を含む各工程を行う事により製造するのが好ましい。{ドープ調製}セルロースアシレート溶液ドープの調製について述べる。セルロースアシレートの溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。これらに関しては、例えば特開平5-163301、特開昭61-106628、特開昭58-127737、特開平9-95544、特開平10-95854、特開平10-45950、特開2000-53784、特開平11-322946、さらに特開平11-322947、特開平2-276830、特開2000-273239、特開平11-71463、特開平04-259511、特開2000-273184、特開平11-323017、特開平11-302388号各公報などにセルロースアシレート溶液の調製法が記載されている。以上記載したこれらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、本発明においても適宜本発明の範囲であればこれらの技術を適用できるものである。これらの詳細は、特に非塩素系溶媒系については発明協会公開技報公技番号2001-1745号2001年3月15日発行、発明協会p.22-25に詳細に記載されている方法で実施される。さらに本発明のセルロースアシレートのドープ溶液は、溶液濃縮,ろ過が通常実施され、同様に発明協会公開技報公技番号2001-1745号2001年3月15日発行、発明協会p.25に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。セルロースアシレート溶液は、その溶液の粘度と動的貯蔵弾性率が以下に述べる範囲であることが、流延しやすく好ましい。試料溶液1mLをレオメーターCLS500に直径4cm/2°のSteelCone共にTAInstruments社製を用いて測定する。測定条件はOscillationStep/TemperatureRampで40°C~-10°Cの範囲を2°C/分で可変して測定し、40°Cの静的非ニュートン粘度nPaSおよび-5°Cの貯蔵弾性率G’Paを求める。尚、試料溶液は予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に測定を開始する。本発明では、40°Cでの粘度が1~400Pasであり、15°Cでの動的貯蔵弾性率が500Pa以上であるのが好ましく、より好ましくは40°Cでの粘度が10~200Pasで、15°Cでの動的貯蔵弾性率が100~100万Paである。さらには低温での動的貯蔵弾性率が大きいほど好ましく、例えば流延部の金属支持体が-5°Cの場合は動的貯蔵弾性率が-5°Cで1万~100万Paであることが好ましく、流延部の金属支持体が-50°Cの場合は-50°Cでの動的貯蔵弾性率が1万~500万Paが好ましい。本発明においては、前述のセルロースアシレートを用いた場合、高濃度のドープが得られるので、濃縮という手段に頼らずとも高濃度でしかも安定性の優れたセルロースアシレート溶液が得られる。更に溶解し易くするために低い濃度で溶解してから、濃縮手段を用いて濃縮してもよい。濃縮の方法としては、特に限定するものはないが、例えば、低濃度溶液を筒体とその内部の周方向に回転する回転羽根外周の回転軌跡との間に導くとともに、溶液との間に温度差を与えて溶媒を蒸発させながら高濃度溶液を得る方法例えば、特開平4-259511号公報等、加熱した低濃度溶液をノズルから容器内に吹き込み、溶液をノズルから容器内壁に当たるまでの間で溶媒をフラッシュ蒸発させるとともに、溶媒蒸気を容器から抜き出し、高濃度溶液を容器底から抜き出す方法例えば、米国特許第2,541,012号、米国特許第2,858,229号、米国特許第4,414,341号、米国特許第4,504,355号各明細書等などに記載の方法等で実施できる。溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。セルロースアシレート溶液の濾過には絶対濾過精度が0.1~100μmのフィルタを用いることが好ましく、さらには絶対濾過精度が0.5~25μmであるフィルタを用いることが好ましい。フィルタの厚さは、0.1~10mmが好ましく、更には0.2~2mmが好ましい。その場合、ろ過圧力は1.6MPa以下が好ましく、より好ましくは1.2MPa以下、更には1.0MPa以下、特に0.2MPa以下で濾過することが好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知である材料を好ましく用いることができ、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。セルロースアシレート溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、通常10Pas~2000Pasの範囲に調製されることが好ましく、30Pas~1000Pasがより好ましく、40Pas~500Pasが更に好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは-5~70°Cであり、より好ましくは-5~55°Cである。{製膜}本発明のセルロースアシレートフィルムは、前記セルロースアシレート溶液を用いて製膜を行うことにより得ることができる。製膜方法および設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機釜から調製されたドープセルロースアシレート溶液を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金スリットからエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜ウェブとも呼ぶを金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。電子ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。以下に各製造工程について簡単に述べるが、これらに限定されるものではない。まず、調製したセルロースアシレート溶液ドープは、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製される際に、ドープをドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が5~40質量となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が30°C以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましく用いられ、特には-10~20°Cの金属支持体温度であることが好ましい。さらに特開2000-301555号、特開2000-301558号、特開平07-032391号、特開平03-193316号、特開平05-086212号、特開昭62-037113号、特開平02-276607号、特開昭55-014201号、特開平02-111511号、および特開平02-208650号の各公報に記載の方法を本発明では用いることができる。{重層流延}セルロースアシレート溶液を、金属支持体としての平滑なバンド上或いはドラム上に単層液として流延してもよいし、2層以上の複数のセルロースアシレート液を流延してもよい。複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭61-158414号、特開平1-122419号、および特開平11-198285号の各公報などに記載の方法が適応できる。また、2つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってフィルム化することでもよく、例えば特公昭60-27562号、特開昭61-94724号、特開昭61-947245号、特開昭61-104813号、特開昭61-158413号、および特開平6-134933号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭56-162617号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高、低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出すセルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。更に又、特開昭61-94724号および特開昭61-94725号の各公報に記載の外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。或いはまた2個の流延口を用いて、第一の流延口により金属支持体に成型したフィルムを剥離し、金属支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭44-20235号公報に記載されている方法である。流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらにセルロースアシレート溶液は、他の機能層例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、UV吸収層、偏光層などを同時に流延することも実施しうる。従来の単層液では、必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多かった。この解決として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に金属支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができた。共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の1~50であることが好ましく、より好ましくは2~30の厚さである。ここで、3層以上の共流延の場合は金属支持体に接した層と空気側に接した層のトータル膜厚を外側の厚さと定義する。共流延の場合、前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロースアシレート溶液を共流延して、積層構造のセルロースアシレートフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層/コア層/スキン層といった構成のセルロースアシレートフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、又はスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよい。又、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えばスキン層に低揮発性の可塑剤および/又は紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。また、剥離促進剤を金属支持体側のスキン層のみ含有させることも好ましい態様である。また、冷却ドラム法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、スキン層に貧溶媒であるアルコールをコア層より多く添加することも好ましい。スキン層とコア層のTgが異なっていても良く、スキン層のTgよりコア層のTgが低いことが好ましい。又、流延時のセルロースアシレートを含む溶液の粘度もスキン層とコア層で異なっていても良く、スキン層の粘度がコア層の粘度よりも小さいことが好ましいが、コア層の粘度がスキン層の粘度より小さくてもよい。{流延}溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやTダイタイプ等があるがいずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施でき、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造するのに使用されるエンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルトバンドといってもよいが用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムの製造に用いられる加圧ダイは、金属支持体の上方に1基或いは2基以上の設置でもよい。好ましくは1基又は2基である。2基以上設置する場合には流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるセルロースアシレート溶液の温度は、-10~55°Cが好ましくより好ましくは25~50°Cである。その場合、工程のすべてが同一でもよく、あるいは工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。{乾燥}セルロースアシレートフィルムの製造に係わる金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属支持体ドラム或いはベルトの表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム或いはベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム或いはベルトを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度はドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より1~10°C低い温度に設定することが好ましい。尚、流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。{延伸処理}延伸工程は、上述のように、互いに直交する2軸方向の延伸倍率をそれぞれ特定の範囲とし、かつ延伸処理温度を特定の範囲として行う。互いに直交する2軸方向の延伸倍率とは、MD方向流延方向とTD方向MD方向に直交する方向である。本発明のセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することができる。更には、積極的に幅方向に延伸する方法もあり、例えば、特開昭62-115035号、特開平4-152125号、特開平4-284211号、特開平4-298310号、および特開平11-48271号の各公報などに記載されている。これは、セルロースアシレートフィルムの正面レターデーション値を高い値とするために、製造したフィルムを延伸する。さらに、特開2003-014933号公報には、延伸する方法として、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を横方向に広げて横方向に延伸するテンターと呼ばれる横延伸機を好ましく用いることができることが記載されている。また縦方向に延伸または収縮させるには、同時2軸延伸機を用いて搬送方向縦方向にクリップやピンの搬送方向の間隔を広げたりまたは縮めることで行うことができることも開示されている。また、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかに延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましく、また、縦方向に延伸する方法としては、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法も用いることができることがしめされている。なお、これらの延伸方法は複合して用いることもでき、縦延伸、横延伸、縦延伸または縦延伸、縦延伸などのように、延伸工程を2段階以上に分けて行ってもよいことが記載されている。フィルムの延伸処理の温度は、フィルムのガラス転移温度Tgより25°C高い温度以上、結晶化温度以下である。延伸処理の温度は、延伸時におけるフィルム自体の表面温度を意味する。この範囲内の温度とすることにより、高倍率延伸で作製した薄いフィルムとした場合にヘイズを小さくすることができる。延伸倍率は、互いに直交する2軸方向MD方向とTD方向にそれぞれ、1.2~4.0倍、1.05~3.8倍である。好ましい延伸倍率は、それぞれ、1.2~3.0倍、1.2~2.8倍、とくに好ましくはそれぞれ、1.2~2.0倍、1.2~1.8倍である。延伸倍率を上記特定の範囲内とすることで、薄くかつ高弾性率のセルロースアシレートフィルムを実現することができ、正面および膜厚方向レターデーションの発現性に優れ、製造加工時の取り扱いが容易なフィルムを得ることができる。さらに延伸倍率がそれぞれ1.2倍又は1.05倍未満であると、所望の光学特性を満たすことが困難になる。4.0倍又は3.8倍を超えると、延伸中の破断が生じることがある。また、互いに直交する2軸方向の、少なくとも一方の延伸速度が10/分以下であるのが好ましく、10~3/分とするのが更に好ましい。この範囲内とすることにより、高倍率延伸で作製した薄いフィルムであっても、ヘイズを小さくすることができる。具体的には、MD方向とTD方向とのいずれか一方は10/分以下の延伸速度とする必要があるが、何れか一方がこの延伸速度の範囲内であれば、他方の延伸速度は特に制限されない。より好ましくは両方共にこの範囲内の延伸速度とすることである。フィルムの複屈折は幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また、延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理しても良い。前者の場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行っても良く、残留溶剤量が2~30で好ましく延伸することができる。乾燥および延伸中のフィルムの表面温度の管理は、本発明所望の効果を奏するセルロースアシレートフィルムを得るための有用な手段となる。一般に、セルロースアシレートフィルムの乾燥が進みフィルム中の溶媒量揮発分が低下するにつれ、フィルムのガラス転移温度Tgは上昇する傾向にある。乾燥初期の工程揮発分が70前後乾燥質量基準の時期、延伸工程、乾燥終期工程揮発分がほぼ0質量の時期のいずれかの工程において、フィルムの表面温度がガラス転移温度を上回るよう、乾燥あるいは延伸中の加熱温度を設定することが有効である。特に延伸工程においてフィルムの表面温度を特定の値にすることが有効である。すなわち延伸工程においてフィルムの表面温度をフィルムのTgより25°C高い温度以上、結晶化温度以下とする。25°C~200度°C高くなるように温度管理することが好ましく、フィルムのTgより40~150°C高くなるように温度管理することがさらに好ましく、フィルムのTgより、60°C~100°C高くなるように温度管理することがとくに好ましい。なお上記のガラス転移温度Tgは、示差走査熱量測定機DSCを用い、下記条件で測定した吸熱発熱カーブの、低温側の変曲点の温度を、カーブの接線の交点から求めた値である。結晶化温度TcはTgの高温側に現れる発熱ピークの、頂点の温度を読み取った値である。容器ステンレス製密封容器70μl測定モードModulatedDSC走査温度域-50~200°C昇温速度2°C/分降温速度20°C/分昇温時振幅±1°C振幅周期80秒またフィルムの表面温度とは非接触赤外線温度計で測定したフィルム表面の温度である。一般にフィルムの表面温度は、乾燥ゾーンの給気温度より低くなる傾向にあり、特に、揮発分が高い時期においては蒸発潜熱の影響でこの傾向が大きくなるので、表面温度を実測で管理することが重要である。前述したように、本発明のセルロースアシレートフィルムの膜厚は、20~70μmであることを特徴とする。本発明の製造方法において本発明のセルロースアシレートフィルムを製造した場合についても、延伸工程後に得られるセルロースアシレートフィルムの膜厚が、20~70μmである。膜厚は、30~60μmがさらに好ましく、最も好ましくは30~50μmである。膜厚が20μm未満であると、弾性率を本発明規定の範囲内に適切に調整したとしても、貼り合わせ時のしわ等の問題のため取り扱いが困難となる。また、前述したように本発明のセルロースアシレートフィルムの弾性率は、3.5~10GPaであり、4~7GPaがさらに好ましく、最も好ましくは4~6GPaである。3.5GPa未満であると、薄いフィルムとした場合に、偏光板に加工する際や、液晶表示装置に貼り合せる際のたるみやしわ、折れ曲がりを生じ、一方10GPaを超えると、フィルムのスリットや偏光板の打ち抜きの際に切屑が発生する場合がある。延伸倍率を特定範囲とすることで、上記のように薄く、且つ上記のような特定の高い弾性率のセルロースアシレートフィルムを実現できる。また、本発明のセルロースアシレートフィルムのヘイズは、1以下であるのが好ましく、0.7以下がさらに好ましい。ヘイズが1以下であれば、フィルムを液晶表示装置に使用する際に画像の解像度やコントラストが低下することがないため、好ましい。ヘイズは、セルロースアシレートフィルムのガラス転移温度25°C以上、結晶化温度以下の温度で2軸延伸を実施するか、あるいは延伸速度10/分以下で2軸延伸を実施することにより、上記の範囲とすることができる。一方、フィルムの波長589nmにおける正面レターデーションReは20~80nmの範囲であることが好ましく、より好ましくは25~75nmの範囲であり、さらに好ましくは30~70nmの範囲である。膜厚方向のレターデーションRthが100~250nmの範囲であることが好ましく、より好ましくは110~190nmの範囲であり、さらに好ましくは120~180nmの範囲である。本明細書において、Reλ、Rthλは各々、波長λにおける正面レターデーションおよび膜厚方向のレターデーションを表す。ReλはKOBRA21ADHまたはWR王子計測機器株製において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Rthλは前記Reλを、面内の遅相軸KOBRA21ADHまたはWRにより判断されるを傾斜軸回転軸として遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とするのフィルム法線方向に対して法線方向から片側50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA21ADHまたはWRが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸回転軸として遅相軸がない場合にはフイルム面内の任意の方向を回転軸とする、任意の2方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式1及び式2よりRthを算出することもできる。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブックJOHNWILEYSONS,INC、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する:セルロースアシレート1.48、シクロオレフィンポリマー1.52、ポリカーボネート1.59、ポリメチルメタクリレート1.49、ポリスチレン1.59である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA21ADHまたはWRはnx、ny、nzを算出する。この算出されたnx,ny,nzよりNz=nx-nz/nx-nyが更に算出される。式1式1中のReθは法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。式2Rth=nxny/2-nzxdフィルム厚さの調製は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。以上のようにして得られたセルロースアシレートフィルムの幅は0.5~3mが好ましく、より好ましくは0.6~2.5m、さらに好ましくは0.8~2.2mである。長さは1ロールあたり100~10000mで巻き取るのが好ましく、より好ましくは500~7000mであり、さらに好ましくは1000~6000mである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、幅は3mm~50mmが好ましく、より好ましくは5mm~30mm、高さは0.5~500μmが好ましく、より好ましくは1~200μmである。これは片押しであっても両押しであっても良い。全幅のRe値のばらつきが±5nmであることが好ましく、±3nmであることが更に好ましい。また、Rth値のバラツキは±10nmが好ましく、±5nmであることが更に好ましい。また、長さ方向のRe値、およびRth値のバラツキも幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。<偏光板>次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、上述の本発明のセルロースアシレートフィルムを少なくとも1枚、偏光膜の保護膜として用いたものである。偏光板は、通常、偏光膜およびその両側に配置された偏光膜を挟持する一対の保護膜からなる。そして、本発明では、少なくとも一方の保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いる。他方の保護膜は、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いても、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。例えば、得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平6-94915号、特開平6-118232号に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護膜処理面と偏光膜を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。偏光板は偏光膜およびその両面を保護する保護膜で構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成してもよい。プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムの偏光膜への貼り合せ方は、偏光膜の透過軸と本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。なお、偏光板クロスニコル下で作製した偏光板は、本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸と偏光膜の吸収軸透過軸と直交する軸との直交精度が1°より大きいと、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下して光抜けが生じ、液晶セルと組み合わせた場合に、十分な黒レベルやコントラストが得られない為、本発明のセルロースアシレートフィルムの主屈折率nxの方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが1°以内、好ましくは0.5°以内であることが好ましい。本発明の偏光板は、25°C60RHにおける単板透過率TT、平行透過率PT、直交透過率CT、偏光度Pが下記式a~dの少なくとも1つ以上を満たすことが好ましい。a40.0≦TT≦45.0b30.0≦PT≦40.0cCT≦2.0d95.0≦P単板透過率TT、平行透過率PT、直交透過率CTはこの順でそれぞれ、より好ましくは、40.5≦TT≦45、32≦PT≦39.5、CT≦1.5であり、さらに好ましくは41.0≦TT≦44.5、34≦PT≦39.0、CT≦1.3である。偏光度Pは95.0以上であることが好ましく、より好ましくは96.0以上、さらに好ましくは97.0以上である。本発明の偏光板は、波長λにおける直交透過率をTλとしたときに、T380、T410、T700が下記式e~gの少なくとも1つ以上を満たすことが好ましい。eT380≦2.0fT410≦1.0gT700≦0.5より好ましくはT380≦1.95、T410≦0.9、T700≦0.49であり、さらに好ましくはT380≦1.90、T410≦0.8、T700≦0.48である。本発明の偏光板は、60°C95RHの条件下に500時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔCT、偏光度変化量ΔPが下記式j、kの少なくとも1つ以上を満たすことが好ましい。j-6.0≦ΔCT≦6.0k-10.0≦ΔP≦0.0ただし、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値を示すより好ましくは-5.8≦ΔCT≦5.8、-9.5≦ΔP≦0.0、更に好ましくは、-5.6≦ΔCT≦5.6、-9.0≦ΔP≦0.0である。本発明の偏光板は、60°C90RHの条件下に500時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔCT、偏光度変化量ΔPが下記式h、iの少なくとも1つ以上を満たすことが好ましい。h-3.0≦ΔCT≦3.0i-5.0≦ΔP≦0.0本発明の偏光板は、80°Cの条件下に500時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔCT、偏光度変化量ΔPが下記式l、mの少なくとも1つ以上を満たすことが好ましい。l-3.0≦ΔCT≦3.0m-2.0≦ΔP≦0.0偏光板の単板透過率TT、平行透過率PT、直交透過率CTはUV3100PC島津製作所社製を用い、380nm~780nmの範囲で測定し、TT、PT、CTともに、10回測定の平均値400nm~700nmでの平均値を用いる。偏光板耐久性試験は1偏光板のみと2偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた、2種類の形態で次のように行う。偏光板のみの測定は、2つの偏光膜の間に本発明のセルロースアシレートフィルムが挟まれるように組み合わせて直交、同じものを2つ用意し測定する。ガラス貼り付け状態のものはガラスの上に偏光板を本発明のセルロースアシレートフィルムがガラス側にくるように貼り付けたサンプル約5cm×5cmを2つ作製する。単板透過率測定ではこのサンプルのフィルムの側を光源に向けてセットして測定する。2つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を単板の透過率とする。{表面処理}本発明のセルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層例えば、下塗層およびバック層との接着の向上を達成することができる。表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、10-3~20Torr0.133Pa~2.66kPaの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報公技番号2001-1745号2001年3月15日発行、発明協会p.30-32に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば10~1000Kev下で20~500Kgyの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは30~500Kev下で20~300Kgyの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法または鹸化液をセルロースアシレートフィルム塗布する方法で実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびE型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液をセルロースアシレートフィルムに対して塗布するために、濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によってセルロースアシレートフィルム表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、KOH、NaOHがさらに好ましい。鹸化塗布液のpHは10以上が好ましく、12以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で1秒以上5分以下が好ましく、5秒以上5分以下がさらに好ましく、20秒以上3分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。また、本発明の偏光板は、偏光板の他方の側の保護膜の表面にハードコート層、防眩層、反射防止層の少なくとも一層を設けたものであるのが好ましい。すなわち、偏光板の液晶表示装置への使用時において液晶セルと反対側に配置される保護膜には反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましく、かかる機能性膜としてハードコート層、防眩層、反射防止層の少なくとも一層を設けるのが好ましい。なお、各層はそれぞれ別個の層として設ける必要はなく、例えば、防眩層を、反射防止層やハードコート層にその機能を持たせることにより反射防止層および防眩層としても良い。反射防止層本発明では保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層されてなる反射防止層又は保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。{保護膜上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層}保護膜上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層の好ましい例について述べる。光散乱層には、マット粒子が分散されているのが好ましく、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は1.50~2.00の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は1.20~1.49の範囲にあることが好ましい。本発明において光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、1層でもよいし、複数層、例えば2層~4層で構成されていてもよい。反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さRaが0.08~0.40μm、10点平均粗さRzがRaの10倍以下、平均山谷距離Smが1~100μm、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が0.5μm以下、中心線を基準とした平均山谷距離Smの標準偏差が20μm以下、傾斜角0~5度の面が10以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。また、C光源下での反射光の色味がa値-2~2、b値-3~3、380nm~780nmの範囲内での反射率の最小値と最大値の比0.5~0.99であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またC光源下での透過光のb値が0~3とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。また、面光源上と本発明の反射防止フィルムの間に120μm×40μmの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が20以下であると、高精細パネルに本発明のフィルムを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。本発明で用いることができる反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率2.5以下、透過率90以上、60度光沢度70以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は1以下がより好ましく、0.5以下であることが最も好ましい。ヘイズ20~50、内部ヘイズ/全ヘイズ値0.3~1、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が15以内、くし幅0.5mmにおける透過像鮮明度20~50、垂直透過光/垂直から2度傾斜方向の透過率比が1.5~5.0とすることで、高精細LCDパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。低屈折率層本発明で用いることができる低屈折率層の屈折率は、好ましくは1.20~1.49であり、更に好ましくは1.30~1.44の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式VIIIを満たすことが低反射率化の点で好ましい。数式VIIImλ/4×0.7<n1d1<mλ/4×1.3式中、mは正の奇数であり、n1は低屈折率層の屈折率であり、そして、d1は低屈折率層の膜厚nmである。また、λは波長であり、500~550nmの範囲である。低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。低屈折率層は、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが好ましい。含フッ素ポリマーとしては動摩擦係数0.03~0.20、水に対する接触角90~120°、純水の滑落角が70°以下の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の偏光板を画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、引張り試験機で測定した場合に500gf4.90N以下が好ましく、300gf2.94N以下がより好ましく、100gf0.98N以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、0.3GPa以上が好ましく、0.5GPa以上がより好ましい。低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物例えばヘプタデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロデシルトリエトキシシランの加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール等、メタアクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類例えばビスコート6FM大阪有機化学製やM-2020ダイキン製等、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジルメタアクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー例えばメタアクリル酸、メチロールメタアクリレート、ヒドロキシアルキルメタアクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によってメタアクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できるが挙げられる。また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等、アクリル酸エステル類アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸エステル類メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等、スチレン誘導体スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン等、ビニルエーテル類メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等、ビニルエステル類酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等、アクリルアミド類N-tert-ブチルアクリルアミド、N-シクロヘキシルアクリルアミド等、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。上記のポリマーに対しては特開平10-25388号および特開平10-147739号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。光散乱層光散乱層は、表面散乱および/または内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。また、このような光散乱層を設けることにより、該光散乱層が防眩層としても機能し、偏光板が防眩層を有することになる。光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する目的で、1~10μmが好ましく、1.2~6μmがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が不足となる。光散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの共重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、および窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を含むものを選択することもできる。二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールとメタアクリル酸とのエステル例、エチレングリコールジメタアクリレート、ブタンジオールジメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,4-シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,2,3-シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体例、1,4-ジビニルベンゼン、4-ビニル安息香酸-2-アクリロイルエチルエステル、1,4-ジビニルシクロヘキサノン、ビニルスルホン例、ジビニルスルホン、アクリルアミド例、メチレンビスアクリルアミドおよびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは2種以上併用してもよい。高屈折率モノマーの具体例としては、ビス4-メタクリロイルチオフェニルスルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4-メタクリロキシフェニル-4’-メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を保護膜上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して光散乱層を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を保護膜上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して光散乱層を形成することができる。二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が1~10μm、好ましくは1.5~7.0μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、TiO2粒子等の無機化合物の粒子;アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。また、粒子径の異なる2種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも20以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の1以下であることが好ましく、より好ましくは0.1以下であり、さらに好ましくは0.01以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット粒子を得ることができる。上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは10~1000mg/m2、より好ましくは100~700mg/m2となるように光散乱層に含有される。マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、平均粒径が0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.06μm以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、TiO2、ZrO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、ITOとSiO2等が挙げられる。TiO2およびZrO2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の10~90であることが好ましく、より好ましくは20~80であり、特に好ましくは30~75である。なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。光散乱層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクすなわち光散乱層のマット粒子以外の部分の屈折率は、1.50~2.00であることが好ましく、より好ましくは1.51~1.80である。屈折率を上記範囲とするには、バインダーおよび無機フィラーの種類および量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を光散乱層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。{保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を設けた反射防止層}次に保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止層について述べる。保護膜上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層最外層の順序の層構成から成る反射防止層は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>保護膜の屈折率>低屈折率層の屈折率又、保護膜と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更にまた、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層の構成であってもよい。例えば、特開平8-122504号公報、同8-110401号公報、同10-300902号公報、特開2002-243906号公報、特開2000-111706号公報等に記載の反射防止層が挙げられる。又、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの例、特開平10-206603号公報、特開2002-243906号公報等等が挙げられる。反射防止層のヘイズは、5以下あることが好ましく、3以下がさらに好ましい。又膜の強度は、JISK5400に従う鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。高屈折率層および中屈折率層反射防止層の高い屈折率を有する層は、平均粒径100nm以下の高屈折率の無機化合物微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率1.65以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率1.9以上のものが挙げられる。例えば、Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。このような微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること例えば、シランカップリング剤等:特開平11-295503号公報、同11-153703号公報、特開2000-9908、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤:特開2001-310432号公報等、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること特開2001-166104等、特定の分散剤併用例、特開平11-153703号公報、特許番号US6210858B1、特開2002-2776069号公報等等が挙げられる。マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。更に、ラジカル重合性および/又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも2個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物およびその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも1種の組成物が好ましい。例えば、特開2000-47004号公報、同2001-315242号公報、同2001-31871号公報、同2001-296401号公報等に記載の化合物が挙げられる。又、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開2001-293818号公報等に記載されている。高屈折率層の屈折率は、1.70~2.20であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、5nm~10μmであることが好ましく、10nm~1μmであることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50~1.70であることが好ましい。また、厚さは5nm~10μmであることが好ましく、10nm~1μmであることがさらに好ましい。低屈折率層低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は1.20~1.55であることが好ましい。より好ましくは1.30~1.50である。耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。また、含フッ素化合物はフッ素原子を35~80質量の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。例えば、特開平9-222503号公報明細書段落番号[0018]~[0026]、同11-38202号公報明細書段落番号[0019]~[0030]、特開2001-40284号公報明細書段落番号[0027]~[0028]、特開2000-284102号公報等に記載の化合物が挙げられる。含フッ素化合物の屈折率は1.35~1.50であることが好ましい。より好ましくは1.36~1.47である。シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン例、サイラプレーンチッソ株製等、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン特開平11-258403号公報等等が挙げられる。架橋又は重合性基を有する含フッ素および/又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより低屈折率層を形成することが好ましい。又、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物特開昭58-142958号公報、同58-147483号公報、同58-147484号公報、特開平9-157582号公報、同11-106704号公報記載等記載の化合物、フッ素含有長鎖基であるポリパーフルオロアルキルエーテル基を含有するシリル化合物特開2000-117902号公報、同2001-48590号公報、同2002-53804号公報記載の化合物等等が挙げられる。低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤例えば、二酸化珪素シリカ、含フッ素粒子フッ化マグネシウム,フッ化カルシウム,フッ化バリウム等の一次粒子平均径が1~150nmの低屈折率無機化合物、特開平11-3820公報の段落番号[0020]~[0038]に記載の有機微粒子等、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。低屈折率層の膜厚は、30~200nmであることが好ましく、50~150nmであることがさらに好ましく、60~120nmであることが最も好ましい。ハードコート層ハードコート層は、反射防止層を設けた保護膜に物理強度を付与するために、保護膜の表面に設けることが好ましい。特に、保護膜と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光および/又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性化合物における硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。又加水分解性官能基含有の有機金属化合物や有機アルコキシシリル化合物も好ましい。これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開2002-144913号公報、同2000-9908号公報、国際公開第00/46617号パンフレット等記載のものが挙げられる。ハードコート層は高屈折率層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。ハードコート層は、平均粒径0.2~10μmの粒子を含有させて防眩機能アンチグレア機能を付与した防眩層を兼ねることもできる。ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、0.2~10μmであることが好ましく、より好ましくは0.5~7μmである。ハードコート層の強度は、JISK5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。又、JISK5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。反射防止層の他の層さらに、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。帯電防止層帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が10-8Ωcm-3以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により10-8Ωcm-3の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、帯電防止層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色しているものがあるが、これらの金属酸化物を帯電防止層素材として用いるとフィルム全体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属としてZn,Ti,AL,In,Si,Mg,Ba,Mo,W又はVをあげることができ、これらの金属から選ばれる少なくとも一つを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例としては、ZnO,TiO2,SnO2,Al2O3,In2O3,SiO2,MgO,BaO,MoO3,V2O5等、あるいはこれらの複合酸化物がよく、特にZnO,TiO2およびSnO2が好ましい。また、異種原子を含んでもよく、例えばZnOに対してはAl,In等の添加物、SnO2に対してはSb,Nb,ハロゲン元素等の添加、またTiO2に対してはNb,Taなどの添加が効果的である。更にまた、特公昭59-6235号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子あるいは繊維状物例えば酸化チタンに上記の金属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。尚、体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較することはできないが、体積抵抗値で10-8Ωcm-3以下の導電性を確保するためには、該帯電防止層が概ね10-10Ω/□以下の表面抵抗値を有していればよく更に好ましくは10-8Ω/□である。帯電防止層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値として測定されることが必要であり、積層フィルムを形成する途中の段階で測定することができる。<液晶表示装置>本発明の液晶表示装置は、前述の本発明のセルロースアシレートフィルム、又は本発明の偏光板のいずれかを用いた液晶表示装置第1形態、液晶セル上下に一対の偏光板を有し、該偏光板の内の少なくとも1枚が本発明の偏光板であるOCBまたはVAモード液晶表示装置第2形態、および液晶セル上下に一対の偏光板を有し、本発明の偏光板をバックライト側に用いたVAモード液晶表示装置第3形態である。すなわち、本発明のセルロースアシレートフィルムは液晶表示装置に用いた場合、光学補償シートとして有利に用いることができる。また、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は、液晶表示装置に有利に用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。TNTwistedNematic、IPSIn-PlaneSwitching、FLCFerroelectricLiquidCrystal、AFLCAnti-ferroelectricLiquidCrystal、OCBOpticallyCompensatoryBend、STNSupperTwistedNematic、VAVerticallyAlignedおよびHANHybridAlignedNematicのような様々な表示モードが提案されており、本発明のセルロースアシレートフィルム、それを用いた偏光板は何れにも使用することができるが、このうち、VAモードまたはOCBモードに好ましく用いることができる。VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。VAモードの液晶セルには、1棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル特開平2-176625号公報記載に加えて、2視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化したMVAモードの液晶セルSID97、Digestoftech.Papers予稿集281997845記載、3棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモードn-ASMモードの液晶セル日本液晶討論会の予稿集58~591998記載および4SURVAIVALモードの液晶セルLCDインターナショナル98で発表が含まれる。VAモードの液晶表示装置としては、液晶セルVAモードセルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなるものが挙げられる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。本発明の透過型液晶表示装置の一つの態様では、本発明のセルロースアシレートフィルムを光学補償シートとして用い、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。本発明の透過型液晶表示装置の別の態様では、液晶セルと偏光膜との間に配置される偏光板の保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルムが用いられる。一方の偏光板における液晶セルと偏光膜との間の保護膜のみに上記のセルロースアシレートフィルムを用いてもよいし、あるいは双方の偏光板における液晶セルと偏光膜との間の二枚の保護膜に、上記のセルロースアシレートフィルムを用いてもよい。液晶セルへの張り合わせは、本発明のセルロースアシレートフィルムをVAセル側にすることが好ましい。一方の偏光板における液晶セルと偏光膜との間の保護膜のみに上記のセルロースアシレートフィルムを用いた場合、これが、上側偏光板観察者側、下側偏光板光源側:バックライト側のどちら側でもよく、機能的には何ら問題がない。ただし、上側偏光板として使用すると機能性膜を観察者側上側に設ける必要性があり生産得率が下がる可能性があるため、下側偏光板として使用する場合が高いと考えられ、より好ましい実施形態であると考えられる。保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルム以外のものを用いる場合には、通常のセルレートアシレートフィルムでも良く、本発明のセルロースアシレートフィルムより薄いことが好ましい。たとえば、40~80μmが好ましく、市販のKC4UX2Mコニカオプト株式会社製40μm、KC5UXコニカオプト株式会社製60μm、TD80富士写真フイルム製80μm等が挙げられるが、これらに限定されない。以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明は下記例に制限されるものではない。以下、実施例3、4、8~10は、それぞれ、参考例3、4、8~10に読み替えるものとする。[実施例1]セルロースアシレート原料のセルロースに、触媒として硫酸を添加し、さらにアシル置換基の原料となる無水カルボン酸を添加してアシル化反応を行い、その後、中和、ケン化熟成することによってセルロースアシレートを調製した。このとき、触媒量、無水カルボン酸の種類、量、中和剤の添加量、水添加量、反応温度、熟成温度を調整することで、アシル基の種類、置換度、嵩比重、重合度の異なるセルロースアシレートを調製した。さらにこのセルロースアシレートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。ドープの調整およびセルロースアシレートフィルムの作製上記のようにして調整したセルロースアシレートのうち、アセチル基の置換度式IにおけるA2.00、プロピオニル基の置換度式IにおけるB0.60、粘度平均重合度350のセルロースアシレートを用い、セルロースアシレート100質量部、エチルフタリルエチルグリコレート5質量部、トリフェニルフォスフェイト3質量部、塩化メチレン290質量部、エタノール60質量部を密閉容器に入れ、混合物をゆっくり攪拌しながら徐々に昇温し、60分かけて80°Cまで上げ溶解した。容器内は1.5気圧となった。このドープを安積濾紙株製の安積濾紙No.244を使用して濾過した後、24時間静置しドープ中の泡を除いた。また、これとは別に、上記セルロースアシレート5質量部、TINUVIN109チバスペシャリティケミカルズ株製5質量部、TINUVIN326チバスペシャリティケミカルズ株製15質量部、AEROSILR972V日本アエロジル株製0.5質量部を塩化メチレン94質量部とエタノール8質量部を混合し撹拌溶解し、紫外線吸収剤溶液を調製した。R972Vは、予め、上記エタノールに分散して添加した。上記ドープ100質量部に対して前記紫外線吸収剤溶液を6質量部の割合で加え、スタチックミキサーにより十分混合した。上述のドープを、ガラス板流延装置を用いて流延した。給気温度70°Cの温風で6分間乾燥し、ガラス板から剥ぎ取ったフィルムを枠に固定し、給気温度100°Cの温風で10分間、給気温度140°Cの温風で20分間乾燥し、膜厚100μmの最終製品の前駆体としてのセルロースアシレートフィルムを製造した。該セルロースアシレートフィルムのガラス転移点温度は140°C、結晶化温度は180°Cであった。このフィルムを、2軸延伸試験装置株東洋精機製作所製にて4辺を把持し、表1の条件で同時2軸延伸工程を行った。共通条件として、延伸前に各例での指定給気温度で3分間の予備加熱を行い、延伸後にクリップで把持したまま5分間、送風冷却を行い、最終製品であるセルロースアシレートフィルムを得た。得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚や弾性率などを表1に示す。なお、表中のMDとはガラス板流延時の流延方向を指し、TDとはそれと直行する幅方向を指す。[実施例2~7および比較例1~8]以下、実施例2~7よび比較例1~8は、延伸温度、延伸倍率を表1の値に変更した以外は実施例1と同様にして作製した。実施例1~7、比較例1~8で得られたセルロースアシレートフィルムのRe、Rth、弾性率、ヘイズ、視野角特性について調べた。結果を表1に示す。[測定法]Re、Rthの測定方法および定義は前述の通りである。ヘイズはヘイズメーターMODEL1001DP日本電色工業株製を用いて測定した。弾性率はTD方向に切り出したサンプルを、25°C60RHの環境下で24hr調湿し、JISK7127に記載の方法に従って弾性率を測定した。引っ張り試験機は株エーアンドデイ製テンシロンを用いた。視野角:実施例1~7ないし比較例1~8のセルロースアシレートフィルムを用いて、下記のように偏光板および液晶表示装置を作製して評価した。セルロースアシレートフィルムの鹸化処理まず、実施例1~7ないし比較例1~8のセルロースアシレートフィルムを、1.3mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液に、55°Cで2分間浸漬し、次いで室温の水洗浴槽中で洗浄し、30°Cで0.05mol/Lの硫酸を用いて中和した後、再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに100°Cの温風で乾燥した。このようにして、セルロースアシレートフィルムの表面を鹸化し、以下の偏光板試料作製に供した。また、市販のセルローストリアセテートフィルムフジタックTD80UF、富士写真フイルム株製を同条件で鹸化し、以下の偏光板試料作製に供した。偏光板の作製延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した。さらに上記で鹸化処理した市販のセルローストリアセテートフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。この時、実施例および比較例のセルロースアシレートフィルムを貼り付ける際のシワの発生の有無を評価した。○シワの発生なし○△貼り付け時にフィルムの一部にシワが発生したが、後工程で解消した△貼り付け時にフィルムの一部にシワが発生し、最終的に残った×貼り付けたフィルムの1/3以上の面積でシワが発生し、最終的に残った液晶セルの作製液晶セルは、基板間のセルギャップを3.6μmとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料MLC6608、メルク社製を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のレターデーションすなわち、記液晶層の厚さdμmと屈折率異方性Δnとの積Δndを300nmとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。液晶表示装置の作製図1に示すような液晶表示装置を作製した。すなわち、図1に示す液晶表示装置は、上記の垂直配向型の液晶セル31を使用し、上側観察者側偏光板30として、偏光膜34の両側に保護膜33,35を有する市販品のスーパーハイコントラスト品HLC2-5618、株サンリッツ製を、下側バックライト側偏光板32として、前述のようにして作製した偏光板32を、実施例1~7ないし比較例1~8のセルロースアシレートフィルム36が液晶セル31側となるように、粘着剤を介してそれぞれ貼り付けて作製したものである。なお符号37は偏光膜であり、符号38は市販のセルローストリアセテートフィルムである。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。また、測定機EZ-Contrast160D、ELDIM社製を用いて、黒表示L1から白表示L8までの8段階で視野角コントラスト比が10以上で黒側の階調反転のない極角範囲を測定し、以下のように評価した。◎視野角上下左右で極角80°以上○視野角上下左右の内、3方向で極角80°以上△視野角上下左右の内、2方向で極角80°以上×視野角上下左右の内、0~1方向で極角80°以上また正面コントラストとして、同測定における正面方向のコントラストL8の輝度/L1の輝度を評価した。◎500以上○500~300△300~100×100未満表1に示すように、本発明に係る、膜厚が20~70μmであり、かつフィルム流延方向または幅方向の少なくとも1方向の弾性率が3.5~10GPaであることを特徴とする実施例1~7のセルロースアシレートフィルムは、偏光板貼り付け時のシワの発生がないことがわかる。比較例3はシワは発生しないものの、厚いセルロースアシレートフィルムのため、偏光板を作成した際にも偏光板が厚くなってしまう。比較例3と実施例1~7との比較から、Reを20~80nmの範囲、Rthを100~250nmの範囲に調整することで、液晶表示装置としての良好な視野角を提供できることが確認できた。さらに実施例3、4と実施例1、2、5~7の比較から、ヘイズを1以下に抑制した場合には、液晶表示装置としてより高い正面コントラストが得られることも確認できた。表1からはさらに、上記のような薄くてかつ高弾性率のセルロースアシレートフィルムをヘイズを抑えながら製造する方法として、互いに直交する2軸方向の延伸倍率をそれぞれ、1.2~4.0倍、1.05~3.8倍の範囲とし、延伸処理の温度をフィルムのガラス転移温度25°C以上、結晶化温度以下とすることが有効であることが確認できた。互いに直交する2軸方向の、少なくとも一方の延伸速度を10/分以下とすることはヘイズを抑えるのに有効であることも確認できた。[実施例8~10、比較例9]次に、アセチル基略号Acの置換度、プロピオニル基略号Prの置換度、ブチリル基略号Btの置換度を表2の値に変更した以外は実施例1と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。該セルロースアシレートフィルムのガラス転移点温度は140°C、結晶化温度は180°Cであった。測定方法も実施例1と同じである。[比較例10]TD方向とMD方向の延伸倍率をそれぞれ、1.25倍と1.05倍に変更した以外は比較例9と同様にしてセルロースアシレートフィルムを作製した。測定方法も比較例9と同じである。表2に示すように、本発明に係るプロピオニル基またはブチリル基またはベンゾイル基による置換度Bが0よりも大きい本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、置換度Bが0である比較例のセルロースアシレートフィルムに比べて、薄い膜厚であっても、所望のRe、Rthの値を確保し、かつ高弾性率を実現することができることがわかる。この結果として、偏光板貼り付け時のシワの発生がないこと、液晶表示装置としての良好な視野角を提供することも確認できた。"