本体の頂部両側に一対の垂下用耳部を有する銅電解用アノードを、間欠的に回転移動するターンテーブル上の鋳型を用いて鋳造する際、ターンテーブル上の離型剤散布位置において、硫酸バリウムより熱伝導率が高い離型剤aを前記鋳型の中心部に散布し、前記離型剤aより熱伝導率が低い離型剤を前記鋳型の周縁部に散布することを特徴とする銅電解用アノードの鋳造方法。硫酸バリウムより熱伝導率が高い離型剤aを、前記鋳型の中心部に散布し、ついで前記離型剤aより熱伝導率が低い離型剤を前記鋳型の周縁部に散布することを特徴とする請求項1に記載の銅電解用アノードの鋳造方法。前記離型剤aより熱伝導率が低い離型剤が、硫酸バリウムであることを特徴とする請求項1又は2に記載の銅電解用アノードの鋳造方法。銅電解用アノード本体の頂部両側に一対の垂下用耳部を有する銅電解用アノードを、鋳型を用いて鋳造する回転式のアノード鋳造用設備において、前記鋳型を間欠的に回転移動させるターンテーブル上の同一停止位置に、離型剤散布設備と、亀裂防止用離型剤散布設備を備え、前記鋳型の周縁部に前記離型剤aより熱伝導率が低い離型剤の散布用のノズルを備えていることを特徴とする。アノードの凝固過程に限らず、通常、鋳造工程においては、鋳型の中心部と周縁部で冷却速度の差がある。すなわち、中心部はなかなか冷えず、したがって冷却速度が小さく、これに対して周縁部では冷却速度が大きいということである。このためアノードの鋳造工程でも、鋳型の位置によって凝固過程で発生する応力分布の偏りが発生し、特に周縁部では冷却速度が速く応力が集中するので亀裂が発生し、上記のような問題点が発生する。もちろん、亀裂の低減のみに対応する対策では不充分であり、前記した、例えば鋳張りも同時に抑制可能な対策が求められる。しかも、保温設備など新規設備の設置による解決は、投資コストの増加、あるいは、冷却効率の調整および作業時間の変更による作業効率の低下などを招き易く、生産性や競争力の低下につながるため望ましくない。以上のことから、本発明は、アノードの鋳造時に鋳型の中心部や周縁部における銅アノード内の冷却速度の偏りを緩和し、アノード周縁部の亀裂を抑制し、しかも鋳張りも悪化せず、コストも低い、銅電解用アノードの鋳造方法、および鋳造装置を提供することを目的とするものである。本発明者らは、離型剤の熱伝導率および散布方法に着目することにより、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明の第1の発明によれば、本体の頂部両側に一対の垂下用耳部を有する銅電解用アノードを、間欠的に回転移動するターンテーブル上の鋳型に鋳造する際、ターンテーブル上の離型剤散布位置において、硫酸バリウムより熱伝導率が高い離型剤以下、離型剤aと称すこともあるを、鋳造する鋳型の中心部に散布し、離型剤aより熱伝導率が低い離型剤を、鋳造する鋳型の周縁部に散布することを特徴とする銅電解用アノードの鋳造方法である。本発明の第2の発明は、第1の発明における硫酸バリウムより熱伝導率が高い離型剤離型剤aを鋳型の中心部に散布し、次いで離型剤aより熱伝導率が低い離型剤を鋳型の周縁部に散布することを特徴とする銅電解用アノードの鋳造方法である。本発明の第3の発明は、第1、2の発明における熱伝導率が高い離型剤離型剤aより熱伝導率が低い離型剤が、硫酸バリウムであることを特徴とする銅電解用アノードの鋳造方法である。本発明の第4の発明は、銅電解用アノード本体の頂部両側に一対の垂下用耳部を有する銅電解用アノードを、鋳型を用いて鋳造する回転式アノード鋳造用設備において、その鋳型を間欠的に回転移動させるターンテーブル上の同一停止位置に、離型剤散布設備と、亀裂防止用離型剤散布設備を備え、鋳型の周縁部に離型剤aより熱伝導率が低い亀裂防止用離型剤の散布用のノズルを備えていることを特徴とするアノード鋳造用設備である。本発明によれば、亀裂防止用離型剤より熱伝導率の高い粘土等の離型剤aと、硫酸バリウム等の亀裂防止用離型剤のノズルを同一のブロック位置に設置した場合、散布ノズルやフードなどの設備に大幅な改造を施すことなく、さらには、鋳張りの発生も悪化させること無く、アノードの亀裂を抑制し、銅電解工程におけるアノード落下などの問題点を解決することができるので、その工業的価値は極めて大きい。本発明者らは、アノードの亀裂発生原因をアノード鋳造過程および温度分布を観察するとともに、種々検討し、アノード周縁部が中心に比べ早い段階で凝固するために、アノード全体の凝固収縮の応力が周縁部に集中し易く、特にその応力が大きくなる時に生じることを見出し、その部分にのみに亀裂防止用の熱伝導率の低い硫酸バリウム等の離型剤を用いることで鋳張りの発生を悪化させること無く、亀裂の発生を抑制できることを見出した。すなわち、本発明の鋳造設備では、離型剤の種類を底面と側面で変更し、かつ散布ノズルを同一のブロックに設けたフード内に設置することにより従来の技術における問題を解決したものである。本発明におけるターンテーブル上の同一停止位置において粘土水等の離型剤aと、硫酸バリウム等の亀裂防止用離型剤を散布する場合の粘土水等の離型剤aと硫酸バリウム等の亀裂防止用離型剤の鋳型に対する散布位置について図1を参照して説明する。図1の斜線部分Aに、亀裂防止用離型剤より熱伝導率の高い粘土水などの離型剤aを散布し、斜線部分Bに、硫酸バリウム等の離型剤aより熱伝導率の低い亀裂防止用離型剤を散布する。すなわち、図1において鋳型1の中央部分に粘土等の離型剤a用のノズル先端部が位置するようにノズルを配置する。一方周辺部分に硫酸バリウム等の亀裂防止用離型剤の散布ノズルの先端部が位置するようにノズルを配置する。たとえば図1において○印に粘土等の離型剤a、△印に硫酸バリウム等の亀裂防止用離型剤の散布ノズルを配置すればよい。本発明における離型剤の散布順序は、粘土等の離型剤a用散布ノズルと硫酸バリウム等の亀裂防止用離型剤用散布ノズルとを備える散布ブロックに鋳型が、停止あるいは停止直前に、先ず離型剤aを散布し、その鋳型がつぎのブロックへ移動を開始する直前までに亀裂防止用離型剤を散布する。また、本発明の効果を充分に引き出すためには、硫酸バリウムより熱伝導率の高い離型剤aに粘土を使用した場合、鋳型1枚当たり105~115gの粘土を1.1~1.5リットルの水に懸濁させた粘土水を、鋳型中央部分に散布する。さらに、離型剤aより熱伝導率が低い亀裂防止用離型剤として硫酸バリウムを用いる場合、鋳型1枚当たり145~155gの硫酸バリウムを0.7~0.8リットルの水に懸濁させた溶液を鋳型所定部分に散布することが好ましい。それぞれ、散布後に鋳型表面において、適切な範囲に広がり、また、充分に水分が蒸発するために、上記の濃度と量の範囲が適している。以下、実施例を用いて本発明を詳細する。1ブロックを12~13秒で間欠的に回転移動し、かつ一定位置にある散布ブロックに12~13秒停止するというサイクルで運転されるターンテーブルを用い、図3に示すタイムテーブルに従って各離型剤を散布した。すなわち、離型剤aはターンテーブル上の鋳型が前のブロックから回転移動を開始してから11~12秒後、すなわち粘土等の離型剤aの散布用ノズルと硫酸バリウム等の亀裂防止用離型剤の散布用ノズルが備えられる散布ブロックに停止する直前に粘土等の離型剤aを離型剤散布用ノズルから散布を開始し、約5~6秒の間、散布した。次に、亀裂防止用離型剤の硫酸バリウムは、前のブロックからのターンテーブルの回転開始から21~22秒後、すなわち散布ブロックに停止してから8~9秒後に亀裂防止用離型剤散布用ノズルより約2~3秒間散布した。使用した散布用ノズルは、図1に示すように各々配置されている。すなわち、図1の○で示す位置から離型剤aの粘土水を、△で示す位置から亀裂防止用硫酸バリウムを散布した。なお、離型剤aの粘土水は、鋳型1枚当たり110gの粘土を1.3リットルの水に懸濁させて鋳型中央部分に散布し、また亀裂防止用離型剤である硫酸バリウムを鋳型1枚当たり150gで0.75リットルの水に懸濁させて鋳型側面部分に散布した。このようにして鋳造を行った後、異なった10の鋳造ロットから得られた各20枚ずつ、計200枚の銅アノードを取り出し、各銅アノードについて亀裂発生量を測定し、その測定結果の平均値を下記する表1に示す。比較例1図1の△で示す位置から、離型剤としてシリコンオイル濃度10重量に水で希釈を散布したこと以外は、実施例1と同様のターンテーブルを用い、かつ実施例1と同様の散布条件で鋳造を行った。そして実施例1と同様に異なった10の鋳造ロットから得られた各20枚ずつ、計200枚の銅アノードについて亀裂発生量を計測し、その結果の平均値を表1に示す。比較例2図2に示す○の位置から離型剤として粘土水を、●で示す位置から離型剤として硫酸バリウムを散布したこと以外は、実施例1と同様のターンテーブルを用い、かつ実施例1と同様の散布条件で鋳造を行った。そして実施例1と同様に異なった10の鋳造ロットから得られた各20枚ずつ、計200枚の銅アノードについて亀裂発生量を計測し、その結果の平均値を表1に示す。表1から明らかなように、実施例1では比較例1、2と比較して、大幅に亀裂発生量は削減されており、鋳張りを悪化させることなく、亀裂を抑制する効果が得られることがわかる。