"硬化性樹脂と、熱ラジカル開始剤及び/又は熱硬化剤と、光ラジカル開始剤とを含有する液晶滴下工法用シール剤であって、前記光ラジカル開始剤は、波長400~450nmにおける吸光係数が10mL/gcm以上、かつ、波長450nm以上における吸光係数が1mL/gcm以下であることを特徴とする液晶滴下工法用シール剤。硬化性樹脂は、メタアクリロイルオキシ基を有する樹脂を含有することを特徴とする請求項1記載の液晶滴下工法用シール剤。2枚の透明基板の少なくとも一方に、請求項1又は2記載の液晶滴下工法用シール剤を塗布して枠状のシールパターンを形成する工程1と、前記シールパターンが未硬化の状態で液晶の微小滴を形成したシールパターンの枠内全面に滴下塗布した後、他方の透明基板を重ねあわせる工程2と、重ねあわせた透明基板に波長400nm以上の光を照射する工程3と、重ねあわせた透明基板を加熱してシール剤を硬化させる工程4とを有することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。本発明は、紫外線照射による仮硬化工程を省略してもシールパターンの破れが発生しない液晶滴下工法用シール剤、及び、該液晶滴下工法用シール剤を用いた液晶表示素子の製造方法に関する。本発明は、硬化性樹脂と、光ラジカル開始剤と、熱ラジカル開始剤及び/又は熱硬化剤とを含有する液晶滴下工法用シール剤であって、前記光ラジカル開始剤は、波長400~450nmにおける吸光係数が10mL/gcm以上、かつ、波長450nm以上における吸光係数が1mL/gcm以下である液晶滴下工法用シール剤である。以下に本発明を詳述する。本発明者は、鋭意検討の結果、硬化性樹脂と熱ラジカル開始剤及び/又は熱硬化剤とを含有する熱硬化型の液晶滴下工法用シール剤に、特定の吸光特性を有する光ラジカル開始剤を組み合わせることにより、紫外線照射工程を省略しても、通常の白熱電球等を用いた光照射を行うだけで、シールパターンの破れが発生することなく液晶表示装置を製造できることを見出し、本発明を完成した。本発明の液晶滴下工法用シール剤は、硬化性樹脂を含有する。上記硬化性樹脂は、光及び熱により硬化する性質を有するものであれば特に限定されないが、メタアクリロイルオキシ基を有する樹脂を含有することが好ましい。上記メタアクリロイルオキシ基を有する樹脂は特に限定されず、例えば、メタアクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、メタアクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシメタアクリレート、イソシアネートに水酸基を有するメタアクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタンメタアクリレート等が挙げられる。なお、本明細書において、上記メタアクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を意味し、メタアクリルとは、アクリル又はメタクリルを意味し、メタアクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。また、本明細書において上記エポキシメタアクリレートとは、エポキシ樹脂中の全てのエポキシ基をメタアクリル酸と反応させた化合物のことを表す。上記メタアクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物は特に限定されず、単官能のエステル化合物は、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、メトキシエチレングリコールメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、エチルカルビトールメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、2,2,2,-トリフルオロエチルメタアクリレート、2,2,3,3,-テトラフルオロプロピルメタアクリレート、1H,1H,5H,-オクタフルオロペンチルメタアクリレート、イミドメタアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、n-オクチルメタアクリレート、イソノニルメタアクリレート、イソミリスチルメタアクリレート、2-ブトキシエチルメタアクリレート、2-フェノキシエチルメタアクリレート、ビシクロペンテニルメタアクリレート、イソデシルメタアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、2-メタアクリロイロキシエチルコハク酸、2-メタアクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-メタアクリロイロキシエチル2-ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジルメタアクリレート、2-メタアクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。また、2官能のエステル化合物は、例えば、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,3-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、1,10-デカンジオールジメタアクリレート2-n-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールAジメタアクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジメタアクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールFジメタアクリレート、ジメチロールジシクロペンタジエニルジメタアクリレート、1,3-ブチレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-メタアクリロイロキシプロピルメタアクリレート、カーボネートジオールジメタアクリレート、ポリエーテルジオールジメタアクリレート、ポリエステルジオールジメタアクリレート、ポリカプロラクトンジオールジメタアクリレート、ポリブタジエンジオールジメタアクリレート等が挙げられる。また、3官能以上のエステル化合物は、例えば、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリメタアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート、プロピレンオキシド付加グリセリントリメタアクリレート、トリスメタアクリロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。上記メタアクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシメタアクリレートは特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂とメタアクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られるもの等が挙げられる。上記エポキシメタアクリレートを合成するための原料となるエポキシ樹脂は特に限定されず、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、2,2’-ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スルフィド型エポキシ樹脂、エーテル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、アルキルポリオール型エポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、グリシジルエステル化合物、ビスフェノールA型エピスルフィド樹脂等が挙げられる。上記ビスフェノールA型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート828EL、エピコート1001、エピコート1004いずれもジャパンエポキシレジン社製、エピクロン850-SDIC社製等が挙げられる。上記ビスフェノールF型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート806、エピコート4004いずれもジャパンエポキシレジン社製等が挙げられる。上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンEXA1514DIC社製等が挙げられる。上記2,2’-ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、RE-810NM日本化薬社製等が挙げられる。上記水添ビスフェノール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンEXA7015DIC社製等が挙げられる。上記プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、EP-4000SADEKA社製等が挙げられる。上記レゾルシノール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、EX-201ナガセケムテックス社製等が挙げられる。上記ビフェニル型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコートYX-4000Hジャパンエポキシレジン社製等が挙げられる。上記スルフィド型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、YSLV-50TE東都化成社製等が挙げられる。上記エーテル型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、YSLV-80DE東都化成社製等が挙げられる。上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、EP-4088SADEKA社製等が挙げられる。上記ナフタレン型エポキシ樹脂としては、例えば、エピクロンHP4032、エピクロンEXA-4700いずれもDIC社製等が挙げられる。上記フェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンN-770DIC社製等が挙げられる。上記オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンN-670-EXP-SDIC社製等が挙げられる。上記ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンHP7200DIC社製等が挙げられる。上記ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、NC-3000P日本化薬社製等が挙げられる。上記ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ESN-165S東都化成社製等が挙げられる。上記グリシジルアミン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート630ジャパンエポキシレジン社製、エピクロン430DIC社製、TETRAD-X三菱ガス化学社製等が挙げられる。上記アルキルポリオール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ZX-1542東都化成社製、エピクロン726DIC社製、エポライト80MFA共栄社化学社製、デナコールEX-611、ナガセケムテックス社製等が挙げられる。上記ゴム変性型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、YR-450、YR-207いずれも東都化成社製、エポリードPBダイセル化学工業社製等が挙げられる。上記グリシジルエステル化合物のうち市販されているものとしては、例えば、デナコールEX-147ナガセケムテックス社製等が挙げられる。上記ビスフェノールA型エピスルフィド樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコートYL-7000ジャパンエポキシレジン社製等が挙げられる。上記エポキシ樹脂のうちその他に市販されているものとしては、例えば、YDC-1312、YSLV-80XY、YSLV-90CRいずれも東都化成社製、XAC4151旭化成社製、エピコート1031、エピコート1032いずれもジャパンエポキシレジン社製、EXA-7120DIC社製、TEPIC日産化学社製等が挙げられる。上記メタアクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシメタアクリレートは、具体的には、例えば、レゾルシノール型エポキシ樹脂EX-201、ナガセケムテックス社製360重量部と、重合禁止剤としてp-メトキシフェノール2重量部と、反応触媒としてトリエチルアミン2重量部と、アクリル酸210重量部とを、空気を送り込んで還流攪拌しながら、90°Cで5時間反応させることによって得ることができる。上記エポキシメタアクリレートのうち市販されているものとしては、例えば、EBECRYL860、EBECRYL3200、EBECRYL3201、EBECRYL3412、EBECRYL3600、EBECRYL3700、EBECRYL3701、EBECRYL3702、EBECRYL3703、EBECRYL3800、EBECRYL6040、EBECRYLRDX63182いずれもダイセルサイテック社製、EA-1010、EA-1020、EA-5323、EA-5520、EA-CHD、EMA-1020いずれも新中村化学工業社製、エポキシエステルM-600A、エポキシエステル40EM、エポキシエステル70PA、エポキシエステル200PA、エポキシエステル80MFA、エポキシエステル3002M、エポキシエステル3002A、エポキシエステル1600A、エポキシエステル3000M、エポキシエステル3000A、エポキシエステル200EA、エポキシエステル400EAいずれも共栄社化学社製、デナコールアクリレートDA-141、デナコールアクリレートDA-314、デナコールアクリレートDA-911いずれもナガセケムテックス社製等が挙げられる。上記イソシアネートに水酸基を有するメタアクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタンメタアクリレートは、例えば、2つのイソシアネート基を有する化合物1当量に対して水酸基を有するメタアクリル酸誘導体2当量を、触媒量のスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。上記イソシアネートに水酸基を有するメタアクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタンメタアクリレートの原料となるイソシアネートは特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン-4,4’-ジイソシアネートMDI、水添MDI、ポリメリックMDI、1,5-ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネートXDI、水添XDI、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリスイソシアネートフェニルチオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、1,6,10-ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。また、上記イソシアネートに水酸基を有するメタアクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタンメタアクリレートの原料となるイソシアネートは特に限定されず、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、ポリプロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。上記イソシアネートに水酸基を有するメタアクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタンメタアクリレートの原料となる、水酸基を有するメタアクリル酸誘導体は特に限定されず、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート等の市販品やエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノメタアクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノメタアクリレート又はジメタアクリレート、ビスフェノールA型エポキシアクリレート等のエポキシメタアクリレート等が挙げられる。上記イソシアネートに水酸基を有するメタアクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタンメタアクリレートは、具体的には、例えば、トリメチロールプロパン134重量部、重合禁止剤としてBHT0.2重量部、反応触媒としてジブチル錫ジラウリレート0.01重量部、イソホロンジイソシアネート666重量部を加え、60°Cで還流攪拌しながら2時間反応させ、次に、2-ヒドロキシエチルアクリレート51重量部を加え、空気を送り込んで還流攪拌しながら90°Cで2時間反応させることにより得ることができる。上記ウレタンメタアクリレートのうち市販されているものとしては、例えば、M-1100、M-1200、M-1210、M-1600いずれも東亞合成社製、エベクリル230、エベクリル270、エベクリル4858、エベクリル8402、エベクリル8804、エベクリル8803、エベクリル8807、エベクリル9260、エベクリル1290、エベクリル5129、エベクリル4842、エベクリル210、エベクリル4827、エベクリル6700、エベクリル220、エベクリル2220いずれもダイセルサイテック社製、アートレジンUN-9000H、アートレジンUN-9000A、アートレジンUN-7100、アートレジンUN-1255、アートレジンUN-330、アートレジンUN-3320HB、アートレジンUN-1200TPK、アートレジンSH-500Bいずれも根上工業社製、U-122P、U-108A、U-340P、U-4HA、U-6HA、U-324A、U-15HA、UA-5201P、UA-W2A、U-1084A、U-6LPA、U-2HA、U-2PHA、UA-4100、UA-7100、UA-4200、UA-4400、UA-340P、U-3HA、UA-7200、U-2061BA、U-10H、U-122A、U-340A、U-108、U-6H、UA-4000いずれも新中村化学工業社製、AH-600、AT-600、UA-306H、AI-600、UA-101T、UA-101I、UA-306T、UA-306I等が挙げられる。上記メタアクリロイルオキシ基を有する樹脂は、液晶への悪影響を抑える点で、-OH基、-NH-基、-NH2基等の水素結合性のユニットを有するものが好ましく、合成の容易さ等からエポキシメタアクリレートが特に好ましい。また、上記メタアクリロイルオキシ基を有する樹脂は、反応性の高さから分子中にメタアクリロイルオキシ基を2~3個有するものが好ましい。上記硬化性樹脂は、得られる液晶滴下工法用シール剤の接着性を向上させることを目的として、更に、エポキシ基を有する樹脂を含有することが好ましい。上記エポキシ基を有する樹脂は特に限定されず、例えば、上記エポキシメタアクリレートを合成するための原料となるエポキシ樹脂や、部分メタアクリル変性エポキシ樹脂等が挙げられる。なお、本明細書において上記部分メタアクリル変性エポキシ樹脂とは、1分子中にエポキシ基とメタアクリロイルオキシ基とをそれぞれ1つ以上有する樹脂を意味し、例えば、2つ以上のエポキシ基を有する樹脂の一部分のエポキシ基をメタアクリル酸と反応させることによって得ることができる。本発明の液晶滴下工法用シール剤が上記エポキシ基を有する樹脂を含有する場合、メタアクリロイルオキシ基とエポキシ基との比が50:50~95:5になるように上記メタアクリロイルオキシ基を有する樹脂と上記エポキシ基を有する樹脂とを配合することが好ましい。メタアクリロイルオキシ基の比率が50以下であると、熱重合が完了しても未硬化のエポキシ樹脂成分が多く存在するため液晶を汚染することがある。メタアクリロイルオキシ基の比率が95以上であると、得られる液晶滴下工法用シール剤が充分な接着力がなく接着性に劣るものとなることがある。本発明の液晶滴下工法用シール剤は、熱ラジカル重合開始剤及び/又は熱硬化剤を含有する。上記熱ラジカル重合開始剤は特に限定されず、例えば、過酸化物やアゾ化合物等が挙げられる。上記熱ラジカル重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、V-30、V-501、V-601、VPE-0201、いずれも和光純薬工業社製、パーブチルO、パーヘキシルO、パーブチルPVいずれも日油社製等が挙げられる。上記熱ラジカル重合開始剤の含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂100重量部に対して、好ましい下限は2重量部、好ましい上限は10重量部である。上記熱ラジカル重合開始剤の含有量が2重量部未満であると、重合が充分に進行しなかったり、反応が遅くなりすぎたりすることがある。上記熱ラジカル重合開始剤の含有量が10重量部を超えると、作業性が低下したり、反応が不均一になったりすることがある。上記熱ラジカル重合開始剤の含有量のより好ましい下限は3重量部、より好ましい上限は8重量部である。上記熱硬化剤は特に限定されず、例えば、有機酸ヒドラジド、イミダゾール誘導体、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。なかでも、固形の有機酸ヒドラジドが好適に用いられる。上記固形の有機酸ヒドラジドは特に限定されず、例えば、セバシン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド等が挙げられ、市販されているものとしては、例えば、SDH日本ファインケム社製、アミキュアVDH、アミキュアUDHいずれも、味の素ファインテクノ社製、ADH大塚化学社製等が挙げられる。上記熱硬化剤の含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂100重量部に対して、好ましい下限は1.0重量部、好ましい上限は10.0重量部である。上記熱硬化剤の含有量が1.0重量部未満であると、重合が充分に進行しなかったり、反応が遅くなりすぎたりすることがある。上記熱硬化剤の含有量が10.0重量部を超えると、作業性が低下したり、反応が不均一になったりすることがある。上記熱硬化剤の含有量のより好ましい下限は3.0重量部、より好ましい上限は8.0重量部である。本発明の液晶滴下工法用シール剤は、光ラジカル重合開始剤を含有する。上記光ラジカル重合開始剤は特に限定されず、例えば、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル、チオキサントン等が挙げられる。上記光ラジカル開始剤は、波長400~450nmにおける吸光係数が10mL/gcm以上である。本明細書において波長400~450nmにおける吸光係数が10mL/gcm以上であるとは、必ずしも波長400~450nmに吸収波長のピークを有することは意味しない。400nm以下の波長域に吸収波長のピークを有する場合であっても、該ピークのテーリング部分が400~450nmにまで伸びていて、その結果として波長400~450nmにおける吸光係数が10mL/gcm以上であればよい。上記光ラジカル開始剤の波長400~450nmにおける吸光係数が10mL/gcm未満であると、波長400nm以上の光を照射しても充分な液晶滴下工法用シール剤の粘度の上昇がなく、シールパターンの破れを防止することができない。上記光ラジカル開始剤の波長400~450nmにおける吸光係数のより好ましい下限は20mL/gcmである。上記吸光係数は、高ければ高いほど反応性が高くなる傾向があることから、特に上限はない。上記光ラジカル開始剤は、波長450nm以上における吸光係数が1mL/gcm以下である。波長450nm以上における吸光係数が1mL/gcmを超えると、作業中に容易に液晶滴下工法用シール剤の硬化が始まってしまい、作業性に劣る。波長450nm以上における吸光係数のより好ましい上限は0.5mL/gcmである。上記吸光特性を有する光ラジカル重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、IRGACUREOXE01、IRGACURE819、IRGACURE379いずれもチバスペシャリティケミカルズ社製等が挙げられる。上記光ラジカル重合開始剤の含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂100重量部に対して、好ましい下限は0.1重量部、好ましい上限は5.0重量部である。上記光ラジカル重合開始剤の含有量が0.1重量部未満であると、光重合が充分に進行しなかったり、反応が遅くなりすぎたりすることがある。上記光ラジカル重合開始剤の含有量が5.0重量部を超えると、作業性が低下したり、反応が不均一になったりすることがある。本発明の液晶滴下工法用シール剤は、応力分散効果による接着性の改善、線膨張率の改善等を目的としてフィラーを含有することが好ましい。上記フィラーは特に限定されず、例えば、タルク、石綿、シリカ、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、モンモリロナイト、珪藻土、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ガラスビーズ、窒化珪素、硫酸バリウム、石膏、珪酸カルシウム、セリサイト活性白土、窒化アルミニウム等の無機フィラーや、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子等の有機フィラーが挙げられる。上記フィラーの含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂100重量部に対して、好ましい下限は1重量部、好ましい上限は100重量部である。上記フィラーの含有量が1重量部未満であると、フィラーを配合することによる効果が充分に得られないことがある。上記フィラーの含有量が100重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤が耐湿性に劣るものとなることがある。上記フィラーの含有量のより好ましい下限は5重量部、より好ましい上限は50重量部である。本発明の液晶滴下工法用シール剤は、更に、揺変剤を含有することが好ましい。上記揺変剤は特に限定されず、例えば、アマイド系、ひまし油系、酸化ポリエチレン系等の揺変剤が挙げられる。なかでも、上記メタアクリロイルオキシ基を有する樹脂との相溶性が高く、液晶滴下工法用シール剤のチクソ性を向上させる効果を発揮しやすいことからアマイド系の揺変剤が好ましい。揺変剤のうち市販されているものとしては、例えば、ディスパロン305、ディスパロン4300、ディスパロン6650、ディスパロン6500、ディスパロン6700、ディスパロンF9050いずれも楠本化成社製等が挙げられる。上記揺変剤の含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂100重量部に対して、好ましい下限は1重量部、好ましい上限は7重量部である。上記揺変剤の含有量が1重量部未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤がチクソ性に劣るものとなることがある。上記揺変剤の含有量が7重量部を超えると、シール剤中に溶けきれずに析出することがある。上記揺変剤の含有量のより好ましい下限は2重量部、より好ましい上限は4重量部である本発明の液晶滴下工法用シール剤は、更に、シランカップリング剤を含有することが好ましい。上記シランカップリング剤は、主に液晶滴下工法用シール剤と基板等とを良好に接着するための接着助剤としての役割を有する。上記シランカップリング剤は特に限定されないが、基板等との接着性を向上させる効果に優れ、硬化性樹脂と化学結合することにより液晶中への硬化性樹脂の流出を抑制することができることから、例えば、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が好適に用いられる。これらのシランカップリング剤は単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。本発明の液晶滴下工法用シール剤は、更に、必要に応じて、応力緩和剤、硬化促進剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤等のその他の公知の添加剤を含有してもよい。本発明の液晶滴下工法用シール剤を製造する方法は特に限定されず、例えば、硬化性樹脂、熱ラジカル重合開始剤、熱硬化剤、光ラジカル重合開始剤と、必要に応じて配合されるフィラー、揺変剤、シランカップリング剤等の添加剤を、3本ロール等を用いた従来公知の方法により混合し、均一に分散させる方法等が挙げられる。このとき、イオン性の不純物を除去するために層状珪酸塩鉱物等のイオン吸着性固体と接触させてもよい。本発明の液晶滴下工法用シール剤を用いれば、従来の紫外線照射に代えて、通常の白熱電球等を用いた光照射を行うだけで、シールパターンの破れが発生することなく液晶表示装置を製造できる。2枚の透明基板の少なくとも一方に、本発明の液晶滴下工法用シール剤を塗布して枠状のシールパターンを形成する工程1と、上記シールパターンが未硬化の状態で液晶の微小滴を形成したシールパターンの枠内全面に滴下塗布した後、他方の透明基板を重ねあわせる工程2と、重ねあわせた透明基板に波長400nm以上の光を照射する工程3と、重ねあわせた透明基板を加熱してシール剤を硬化させる工程4とを有する液晶表示素子の製造方法もまた、本発明の1つである。本発明の液晶表示装置の製造方法の工程1では、本発明の液晶滴下工法用シール剤を塗布して枠状のシールパターンを形成する。シールパターンを形成は特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。なお、上記工程1において、本発明の液晶滴下工法用シール剤を塗布する際に、本発明の液晶滴下工法用シール剤を25~45°Cの範囲で加熱することにより、シールパターンの描画の精度を向上させることができ、かつ、シールパターンを形成する際の本発明の液晶滴下工法用シール剤の粘度が高くなり、シールパターンの破れ防止性をより高いものとすることができる。本発明の液晶表示装置の製造方法の工程2では、上記シールパターンが未硬化の状態で液晶の微小滴を形成したシールパターンの枠内全面に滴下塗布した後、他方の透明基板を重ねあわせる。具体的の方法は、従来公知の液晶滴下工法の方法を用いることができる。本発明の液晶表示装置の製造方法の工程3では、重ねあわせた透明基板に波長400nm以上の光を照射する。上記工程3は、従来公知の液晶滴下工法のように、シール剤の仮硬化を目的とするものではない。本発明の液晶表示装置の製造方法は、基本的には熱のみによる硬化を志向するものである。上記工程3は、熱のみによる硬化を行った場合に、シール剤を増粘させて、シールパターンの破れが発生するのを防止することを目的とする。上記工程3に用いる光源は、波長400nm以上の光を照射できるものであれば特に限定されず、白熱電球等のごく通常の光源を用いることができる。本発明の液晶表示装置の製造方法の工程4では、重ねあわせた透明基板を加熱してシール剤を硬化させる。具体的には、オーブン等を用いて80~140°C、30~120分間加熱することにより硬化させることができる。本発明によれば、紫外線照射による仮硬化工程を省略してもシールパターンの破れが発生しない液晶滴下工法用シール剤、及び、該液晶滴下工法用シール剤を用いた液晶表示素子の製造方法を提供することができる。以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。実施例11シール剤の調製硬化性樹脂としてアクリル樹脂ダイセルサイテック社製、EB370080重量部、エポキシ樹脂としてDIC社製、エピクロン850-S20重量部と、熱ラジカル重合開始剤として高分子アゾ化合物和光純薬工業社製、VPE02015重量部と、熱硬化剤としてセバシン酸ジヒドラジド日本ファインケム社製、SDH5重量部と、光ラジカル重合開始剤としてオキシムエステル系開始剤チバスペシャリティケミカルズ社製、IRGACUREOXE012重量部と、シランカップリング剤としてγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン信越シリコーン社製、KBM4032重量部と、フィラーとしてシリカアドマテックス社製、SO-C110重量部と、接着助剤としてアクリル重合体微粒子ガンツ化成社製、F35110重量部とを配合し、遊星式攪拌装置シンキー社製、あわとり練太郎にて攪拌した後、セラミック3本ロールにて均一に混合してシール剤を得た。ここで、光ラジカル重合剤として用いた、オキシムエステル系開始剤チバスペシャリティケミカルズ社製、IRGACUREOXE01は、波長400~450nmにおける吸光係数が50mL/gcm、かつ、波長450nm以上における吸光係数が0.5mL/gcmであった。2液晶表示装置の製造ディスペンサー武蔵エンジニアリング社製、SHOTMASTER300を用いて、得られたシール剤を、線幅が約1.5mmの正方形の枠を描くようにITO薄膜付きの透明電極基板に塗布してシールパターンを形成した。次いで、TN/VA液晶チッソ社製、JC-5001LAの微小滴を液晶滴下装置にてシールパターンの枠内に滴下塗布し後、別の透明電極基板と真空張り合わせ装置にて5Paの減圧下にて張り合わせた。真空解除後、白熱電灯東芝ライテック社製、レフレクターランプ60Wを用いて光照射を行った。次いで、120°Cのオーブンにて60分間加熱してシール剤を熱硬化させ、液晶表示素子を得た。実施例2実施例1で調製したシール剤を用い、TN/VA液晶チッソ社製、JC-5001LAに代えて、PAS液晶製造元不明を用いた以外は実施例1と同様にして液晶表示素子を得た。比較例1光ラジカル重合開始剤を配合しなかった以外は実施例1と同様にしてシール剤を調製し、液晶表示素子を得た。比較例2光ラジカル重合開始剤として光ラジカル重合剤としてオキシムエステル系開始剤チバスペシャリティケミカルズ社製、IRGACUREOXE012重量部に代えて、アセトフェノン系開始剤チバスペシャルティーケミカルズ社製、IRGACURE651を用いた以外は実施例1と同様にしてシール剤を調製し、液晶表示素子を得た。ここで、光ラジカル重合剤として用いたアセトフェノン系開始剤チバスペシャルティーケミカルズ社製、IRGACURE651は、波長365nmに吸収ピークを有するものであって、波長400~450nmにおける吸光係数が0.5mL/gcm、かつ、波長450nm以上における吸光係数が0.1mL/gcmであった。比較例3比較例2で調製したシール剤を用い、TN/VA液晶チッソ社製、JC-5001LAに代えて、PAS液晶を用いた以外は実施例1と同様にして液晶表示素子を得た。比較例4光ラジカル重合開始剤として光ラジカル重合剤としてオキシムエステル系開始剤チバスペシャリティケミカルズ社製、IRGACUREOXE012重量部に代えて、チタノセン系開始剤チバスペシャルティーケミカルズ社製、IRGACURE7842重量部を用いた以外は実施例1と同様にしてシール剤を調製し、液晶表示素子を得た。ここで、光ラジカル重合剤として用いたチタノセン系開始剤チバスペシャルティーケミカルズ社製、IRGACURE784は、波長400~450nmにおける吸光係数が100mL/gcm、かつ、波長450nm以上における吸光係数が50mL/gcmであった。比較例5熱ラジカル重合開始剤を配合しなかった以外は実施例1と同様にしてシール剤を調製し、液晶表示素子を得た。参考例1実施例1で調製したシール剤を用い、白熱電灯東芝ライテック社製、レフレクターランプ60Wによる光照射を行わなかった以外は実施例1と同様にして液晶表示素子を得た。<評価>実施例及び比較例で得られたシール剤及び液晶表示素子について以下の評価を行った。結果を表1に示した。1シールパターンの破れの防止性実施例及び比較例で得られた液晶表示素子について、シールパターンの形状観察を行った。その結果、内部の液晶によりシールパターンの形状が乱されていなかったものを○、シールパターンの形状が乱されていたものを△、液晶がシールパターンを突き破って外部に漏れ出したものを×として評価した。2液晶表示素子の表示性能実施例及び比較例で得られた液晶表示素子の作製直後におけるシール剤付近の液晶配向乱れを目視によって確認した。配向乱れは表示部の色むらにより判断し、色むらの程度に応じて、色むらが全くない場合を○、色むらが少しある場合を△、色むらがかなりある場合を×として評価した。3作業性実施例及び比較例で得られたシール剤について、イエローランプ条件下での作業性について評価した。シールをガラス基板に描画した後イエローランプ環境下で1時間放置し、その後貼り合わせを行った後、ギャップが十分にでた場合を○、ギャップが不十分であり、潰れなかった場合を×として評価した。"