被測定物の一方の第1測定面の形状を測定する第1干渉計と、前記被測定物の他方の第2測定面の形状を測定する第2干渉計と、を備え、前記第1干渉計および前記第2干渉計は、前記第1干渉計から前記第1測定面に照射される第1照射光の光軸と前記第2干渉計から前記第2測定面に照射される第2照射光の光軸が略一致するように構成されることを特徴とする、形状測定装置。前記第1照射光の光軸と前記第2照射光の光軸を略一致させるための光軸調整用治具をさらに備え、前記光軸調整用治具は、前記第1照射光を照射して前記第1照射光の光軸の傾きを調整するための第1平面と、前記第1平面と略平行に形成され、前記第2照射光を照射して前記第2照射光の光軸の傾きを調整するための第2平面と、前記第1照射光および前記第2照射光を照射して前記第1照射光の光軸および前記第2照射光の光軸の位置を調整するための球体と、を備えることを特徴とする、請求項1に記載の形状測定装置。前記光軸調整用治具は、一方の面を前記第1平面とし、他方の面を前記第2平面とする平板を備えることを特徴とする、請求項2に記載の形状測定装置。前記平板は、前記第1平面と前記第2平面の間で貫通する貫通孔を備え、前記球体は、前記貫通孔の内部に配置されることを特徴とする、請求項3に記載の形状測定装置。前記第1測定面および前記第2測定面の少なくとも一方は、非球面であることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれかに記載の形状測定装置。前記被測定物が載置されるステージをさらに備え、前記ステージは、前記被測定物を保持する保持部材と、前記第1照射光の光軸または前記第2照射光の光軸と略直交する面内において互いに略直交するX軸方向およびY軸方向に前記被測定物を移動させる直動機構と、前記X軸周りおよび前記Y軸周りに前記被測定物を回転させる回動機構と、前記第1照射光または前記第2照射光を通過させる孔部と、を備えることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれかに記載の形状測定装置。前記回動機構は、前記X軸周りに回転自在となるように前記直動機構に支持されるX軸周り回動部材と、前記Y軸周りに回転自在となるように前記X軸周り回動部材に支持されると共に前記保持部材を支持するY軸周り回動部材と、を備えることを特徴とする、請求項6に記載の形状測定装置。前記X軸周り回動部材は、環状に構成され、前記Y軸周り回動部材は、前記X軸周り回動部材の内部に配置されることを特徴とする、請求項7に記載の形状測定装置。前記回動機構は、前記X軸周りの回転中心軸と前記Y軸周りの回転中心軸の交点を中心とする部分球面状の滑動面と、前記滑動面を滑動自在に支持する支持部材と、を備えることを特徴とする、請求項6に記載の形状測定装置。前記支持部材は、前記滑動面を少なくとも3点で支持することを特徴とする、請求項9に記載の形状測定装置。前記第1干渉計および前記第2干渉計は、光を出射する光源、および干渉縞を観測する観測部を共用することを特徴とする、請求項1乃至10のいずれかに記載の形状測定装置。干渉計により被測定物の一方の第1測定面の形状、および前記被測定物の他方の第2測定面の形状を測定する形状測定方法であって、前記第1測定面に照射する第1照射光の光軸と前記第2測定面に照射する第2照射光の光軸を略一致させる光軸調整ステップと、前記第1測定面に前記第1照射光を照射しながら前記被測定物を移動させて、前記第1照射光による干渉縞がヌル状態またはヌル状態に近い状態となる基準位置姿勢に前記被測定物を配置するステップと、前記第2測定面に前記第2照射光を照射しながら前記被測定物を移動させて、前記第2照射光による干渉縞がヌル状態またはヌル状態に近い状態となる比較位置姿勢に前記被測定物を配置するステップと、前記基準位置姿勢における前記被測定物の位置および姿勢と前記比較位置姿勢における前記被測定物の位置および姿勢から前記第1測定面の軸心と前記第2測定面の軸心の相対的な偏心量を導出するステップと、を有することを特徴とする、形状測定方法。前記光軸調整ステップは、第1平面に前記第1照射光を照射して得られる干渉縞に基づいて、前記第1平面に略直交するように前記第1照射光の光軸を調整するステップと、第1平面と略平行な第2平面に前記第2照射光を照射して得られる干渉縞に基づいて、前記第2平面に略直交するように前記第2照射光の光軸を調整するステップと、球体に前記第1照射光を照射して得られる干渉縞に基づいて、前記球体の略中心を通過するように前記第1照射光の光軸を調整するステップと、前記球体に前記第2照射光を照射して得られる干渉縞に基づいて、前記球体の略中心を通過するように前記第2照射光の光軸を調整するステップと、有することを特徴とする、請求項12に記載の形状測定方法。被測定物の一方の第1測定面の形状および他方の第2測定面の形状を干渉計によって測定する場合に、前記第1測定面に照射する第1照射光の光軸と前記第2測定面に照射する第2照射光の光軸を略一致させるための光軸調整用治具であって、前記第1照射光を照射して前記第1照射光の光軸の傾きを調整するための第1平面と、前記第1平面と略平行に形成され、前記第2照射光を照射して前記第2照射光の光軸の傾きを調整するための第2平面と、前記第1照射光および前記第2照射光を照射して前記第1照射光の光軸および前記第2照射光の光軸の位置を調整するための球体と、を備えることを特徴とする、光軸調整用治具。しかしながら、上記特許文献1に記載の測定装置では、レンズの一方の面を測定して基準位置を定めた後に、他方の面に可干渉光を照射する光学系の配置を、ミラーや干渉計を含めて調整する必要があるため、やはり測定に手間と時間を要するという問題があった。また、調整時の光学系の配置誤差が測定精度に影響するため、高精度な測定を行うことが難しいという問題があった。また、上記特許文献2に記載の測定装置では、可干渉光を照射する光学系の位置を固定した状態で両面の測定を行うようになってはいるものの、やはり測定に手間と時間を要すると共に、高精度な測定を行うことが難しいという問題があった。具体的には、上記特許文献2に記載の測定装置では、一方の面を測定して基準位置を定めた後に他方の面を測定し、その後被測定レンズを180度回転させて再度一方の面の測定を行うことで、各面の光軸の相対的な偏心を測定している。すなわち、1つのレンズにつき3回の測定を行う必要があるため、測定に手間と時間を要するものとなっていた。また、被測定レンズを180度回転させる際の移動誤差が測定精度を低下させる要因となっていた。また、そもそも従来の測定装置は、基台上に設置された干渉計からの可干渉光を被測定物に対して水平方向に照射するように構成されているため、被測定物の片面のみを測定する場合においても手間と時間を要するものであった。すなわち、測定位置に被測定物を適切に配置するのに時間を要すると共に、測定装置に対する被測定物の搬入搬出の自動化が困難であった。このため、従来の測定装置は、製造ラインに組み込んで使用することのできるものではなかった。本発明は、斯かる実情に鑑み、迅速且つ高精度に形状測定を行うことが可能な形状測定装置および形状測定方法、ならびにこれらに使用される光軸調整用治具を提供しようとするものである。本発明は、被測定物の一方の第1測定面の形状を測定する第1干渉計と、前記被測定物の他方の第2測定面の形状を測定する第2干渉計と、を備え、前記第1干渉計および前記第2干渉計は、前記第1干渉計から前記第1測定面に照射される第1照射光の光軸と前記第2干渉計から前記第2測定面に照射される第2照射光の光軸が略一致するように構成されることを特徴とする、形状測定装置である。本発明はまた、上記手段の形状測定装置において、前記第1照射光の光軸と前記第2照射光の光軸を略一致させるための光軸調整用治具をさらに備え、前記光軸調整用治具は、前記第1照射光を照射して前記第1照射光の光軸の傾きを調整するための第1平面と、前記第1平面と略平行に形成され、前記第2照射光を照射して前記第2照射光の光軸の傾きを調整するための第2平面と、前記第1照射光および前記第2照射光を照射して前記第1照射光の光軸および前記第2照射光の光軸の位置を調整するための球体と、を備えることを特徴とする。本発明はまた、上記手段の形状測定装置において、前記光軸調整用治具は、一方の面を前記第1平面とし、他方の面を前記第2平面とする平板を備えることを特徴とする。本発明はまた、上記手段の形状測定装置において、前記平板は、前記第1平面と前記第2平面の間で貫通する貫通孔を備え、前記球体は、前記貫通孔の内部に配置されることを特徴とする。本発明はまた、上記手段の形状測定装置において、前記第1測定面および前記第2測定面の少なくとも一方は、非球面であることを特徴とする。本発明はまた、上記手段の形状測定装置において、前記被測定物が載置されるステージをさらに備え、前記ステージは、前記被測定物を保持する保持部材と、前記第1照射光の光軸または前記第2照射光の光軸と略直交する面内において互いに略直交するX軸方向およびY軸方向に前記被測定物を移動させる直動機構と、前記X軸周りおよび前記Y軸周りに前記被測定物を回転させる回動機構と、前記第1照射光または前記第2照射光を通過させる孔部と、を備えることを特徴とする。本発明はまた、上記手段の形状測定装置において、前記回動機構は、前記X軸周りに回転自在となるように前記直動機構に支持されるX軸周り回動部材と、前記Y軸周りに回転自在となるように前記X軸周り回動部材に支持されると共に前記保持部材を支持するY軸周り回動部材と、を備えることを特徴とする。本発明はまた、上記手段の形状測定装置において、前記X軸周り回動部材は、環状に構成され、前記Y軸周り回動部材は、前記X軸周り回動部材の内部に配置されることを特徴とする。本発明はまた、上記手段の形状測定装置において、前記回動機構は、前記X軸周りの回転中心軸と前記Y軸周りの回転中心軸の交点を中心とする部分球面状の滑動面と、前記滑動面を滑動自在に支持する支持部材と、を備えることを特徴とする。本発明はまた、上記手段の形状測定装置において、前記支持部材は、前記滑動面を少なくとも3点で支持することを特徴とする。本発明はまた、上記手段の形状測定装置において、前記第1干渉計および前記第2干渉計は、光を出射する光源、および干渉縞を観測する観測部を共用することを特徴とする。本発明はまた、干渉計により被測定物の一方の第1測定面の形状、および前記被測定物の他方の第2測定面の形状を測定する形状測定方法であって、前記第1測定面に照射する第1照射光の光軸と前記第2測定面に照射する第2照射光の光軸を略一致させる光軸調整ステップと、前記第1測定面に前記第1照射光を照射しながら前記被測定物を移動させて、前記第1照射光による干渉縞がヌル状態またはヌル状態に近い状態となる基準位置姿勢に前記被測定物を配置するステップと、前記第2測定面に前記第2照射光を照射しながら前記被測定物を移動させて、前記第2照射光による干渉縞がヌル状態またはヌル状態に近い状態となる比較位置姿勢に前記被測定物を配置するステップと、前記基準位置姿勢における前記被測定物の位置および姿勢と前記比較位置姿勢における前記被測定物の位置および姿勢から前記第1測定面の軸心と前記第2測定面の軸心の相対的な偏心量を導出するステップと、を有することを特徴とする、形状測定方法である。本発明はまた、上記手段の形状測定方法において、前記光軸調整ステップは、第1平面に前記第1照射光を照射して得られる干渉縞に基づいて、前記第1平面に略直交するように前記第1照射光の光軸を調整するステップと、第1平面と略平行な第2平面に前記第2照射光を照射して得られる干渉縞に基づいて、前記第2平面に略直交するように前記第2照射光の光軸を調整するステップと、球体に前記第1照射光を照射して得られる干渉縞に基づいて、前記球体の略中心を通過するように前記第1照射光の光軸を調整するステップと、前記球体に前記第2照射光を照射して得られる干渉縞に基づいて、前記球体の略中心を通過するように前記第2照射光の光軸を調整するステップと、有することを特徴とする。本発明はまた、被測定物の一方の第1測定面の形状および他方の第2測定面の形状を干渉計によって測定する場合に、前記第1測定面に照射する第1照射光の光軸と前記第2測定面に照射する第2照射光の光軸を略一致させるための光軸調整用治具であって、前記第1照射光を照射して前記第1照射光の光軸の傾きを調整するための第1平面と、前記第1平面と略平行に形成され、前記第2照射光を照射して前記第2照射光の光軸の傾きを調整するための第2平面と、前記第1照射光および前記第2照射光を照射して前記第1照射光の光軸および前記第2照射光の光軸の位置を調整するための球体と、を備えることを特徴とする、光軸調整用治具である。本発明に係る形状測定装置および形状測定方法、ならびにこれらに使用される光軸調整用治具によれば、迅速且つ高精度に形状測定を行うことが可能という優れた効果を奏し得る。以下、図面を参照して本発明の実施の形態の例について詳細に説明する。<全体構成>まず、本実施形態に係る形状測定装置1の全体構成について説明する。図1は、本実施形態に係る形状測定装置1の構成を示した概略図である。なお、同図においては、光束を二点鎖線で示している。本実施形態に係る形状測定装置1は、被測定物である非球面レンズ100の一方図の上方の第1測定面110および他方図の下方の第2測定面120の形状をそれぞれ測定すると共に、第1測定面110の軸心光軸と第2測定面120の軸心光軸の相対的なずれ偏心を測定するものである。形状測定装置1は、同図に示されるように、所定の光束L1を出射する干渉計ユニット10と、光束L1を第1光路20および第2光路22に向けて分割するビームスプリッタ30と、第1光路20上に配置される第1波面形成器40と、第2光路22上に配置される第2波面形成器50と、非球面レンズ100を保持するステージ60と、を備えて構成されている。また、形状測定装置1は、箱形の基台70と、基台70上に除振ユニット72を介して配置される定盤74と、定盤74から上下方向に延設される柱76と、を備えている。干渉計ユニット10、ビームスプリッタ30、第1波面形成器40および第2波面形成器50は、柱76に取り付けられ、ステージ60は、定盤74上に取り付けられている。干渉計ユニット10は、可干渉光を発するレーザ装置等の光源12と、光源12からの光を所定の光束L1となるように調整する各種レンズ等からなる光学系14と、第1光路20および第2光路22を逆行してきた光における干渉縞を観測する観測部16等を備えている。また、干渉計ユニット10には、コンピュータ等から構成される画像処理装置図示省略が接続されており、観測部16によって観測した干渉縞は、この画像処理装置によって解析される。本実施形態では、この干渉計ユニット10として、既存のフィゾー型干渉計のユニットを使用しているため、ここでは詳細な説明を省略する。干渉計ユニット10は、基台70の内部においてブラケット18を介して柱76の下部に固定されており、上方に向けて光束を出射するように配置されている。なお、干渉計ユニット10としてフィゾー型以外の型式のものを使用するようにしてもよい。ビームスプリッタ30は、干渉計ユニット10から出射された光束L1を、第1光路20を通過する光束L2および第2光路22を通過する光束L3に分割するものである。このビームスプリッタ30としては、キューブタイプ、プレートタイプおよびペリクルタイプ等、各種既存のものを使用することができる。ビームスプリッタ30は、ブラケット32を介して柱76の下部に固定されており、干渉計ユニット10の上方に配置されている。本実施形態では、ビームスプリッタ30によって干渉計ユニット10から出射された光束L1を2分割し、第1光路20および第2光路22を構成することにより、1台の干渉計ユニット10で非球面レンズ100の両面を測定することを可能としている。第1光路20は、干渉計ユニット10から非球面レンズ100の上面である第1測定面110に向かう光路である。本実施形態では、干渉計ユニット10から上方に向けて出射された光束L1の一部をビームスプリッタ30で側方に向けて反射させて形成した光束L2を、3つのミラー80で上方、側方、下方へと順に反射させるように、第1測定面110に向かう第1光路20を構成している。第1光路20を通過した光束L2は、第1波面形成器40を通過した後に、非球面レンズ100の上方から第1測定面110に向けて照射される第1照射光L4となる。なお、3つのミラー80は、それぞれブラケット82を介して柱76に固定されている。第2光路22は、干渉計ユニット10から非球面レンズ100の下面である第2測定面120に向かう光路である。本実施形態では、干渉計ユニット10から上方に向けて出射された光束L1の一部をビームスプリッタ30を透過させて形成した光束L3を、そのまま直進させて上方の第2測定面120に向かうように第2光路22を構成している。第2光路22を通過した光束L3は、第2波面形成器50を通過した後に、非球面レンズ100の下方から第2測定面120に向けて照射される第2照射光L5となる。ビームスプリッタ30の第1光路20側の出口、および第2光路22側の出口には、それぞれ第1シャッタ34および第2シャッタ36が配置されている。第1シャッタ34は、第1光路20を通過する光束L2を遮断するものであり、第2シャッタ36は、第2光路22を通過する光束L3を遮断するものである。第1シャッタ34および第2シャッタ36は、ビームスプリッタ30と共にブラケット32を介して柱76の下部に固定されている。本実施形態では、このように、第1光路20および第2光路22に第1シャッタ34および第2シャッタ36をそれぞれ配置することで、いずれか一方の光路を使用している際には他方の光路を遮断するようにしている。なお、この第1シャッタ34および第2シャッタ36としては、ソレノイド式電子シャッタ等、各種既存のものを使用することができる。第1波面形成器40は、第1光路20から非球面レンズ100の第1測定面110に照射される第1照射光L4において、第1測定面110に相当する形状の波面、すなわち非球面波を形成するものである。なお、本実施形態では、第1波面形成器40として、計算機合成ホログラムComputerGeneratedHologramを使用しているが、各種レンズ等、その他の方式によって非球面波を形成するようにしてもよい。第1波面形成器40の上流側には、第1波面形成器40に隣接して第1アパーチャ42が配置されている。この第1アパーチャ42の内部には、光束L2において球面波を形成する球面波形成レンズ群図示省略が配置されている。従って、第1波面形成器40は、この球面波形成レンズ群によって形成された球面波を、第1測定面110の形状に相当する非球面波に変換するように構成されている。また、球面波レンズ群において球面波が形成される面が、干渉計における参照面となっている。なお、球面波形成レンズ群に代えて、平面波を形成する平面波形成レンズ群を設けるようにしてもよい。この場合、第1波面形成器40は、平面波を第1測定面110の形状に相当する非球面波に変換するように構成することとなる。第1波面形成器40および第1アパーチャ42は、位置姿勢調整機構44を介して第1可動ブラケット46に固定されている。位置姿勢調整機構44は、第1波面形成器40および第1アパーチャ42をティップティルト可能な既知の構造を備えており、本実施形態では、この位置姿勢調整機構44によって第1照射光L4の光軸S1を調整するようにしている。第1可動ブラケット46は、駆動装置図示省略に駆動されて上下方向にスライド移動可能に柱76の上部に固定されている。本実施形態では、この第1可動ブラケット46を移動させることにより、第1照射光L4の焦点位置を調整するようにしている。第2波面形成器50は、第2光路22から非球面レンズ100の第2測定面120に照射される第2照射光L5において、第2測定面120に相当する形状の波面、すなわち非球面波を形成するものである。第2波面形成器50は、第1波面形成器40と同様に、計算機合成ホログラムから構成されている。また、第2波面形成器50の上流側には、第1アパーチャ42と同様の構成の第2アパーチャ52が配置されている。第2波面形成器50および第2アパーチャ52は、位置姿勢調整機構54を介して第2可動ブラケット56に固定されている。位置姿勢調整機構54は、位置調整機構44と同様の構造を備えており、この位置調整機構54によって第2照射光L5の光軸S2を調整可能となっている。また、第2可動ブラケット56は、第1可動ブラケット46と同様に、駆動装置図示省略に駆動されて上下方向にスライド移動可能に柱76の下部に固定されており、この第2可動ブラケット56の移動によって第2照射光L5の焦点位置を調整可能となっている。ステージ60は、非球面レンズ100を保持すると共に、非球面レンズ100の位置および姿勢を変化させることが可能に構成されている。また、ステージ60には、第1照射光L4および第2照射光L5を通過させるために、上下方向に貫通した孔部62を備えている。ステージ60は、定盤74上において第1波面形成器40および第2波面形成器50の間に配置される。また、図示は省略するが、形状測定装置1は、上述の構成に加えて、装置全体を制御する制御装置を備えている。この制御装置は、コンピュータ等から構成されており、干渉計ユニット10、シャッタ34等の各部の動作を制御するように構成されている。なお、上述の画像処理装置と制御装置を1台のコンピュータから構成するようにしてもよい。このような構成により、本実施形態では、干渉計ユニット10、第1アパーチャ42および第1波面形成器40から、非球面レンズ100の第1測定面110の形状を測定する第1干渉計2を構成している。そして、干渉計ユニット10、第2アパーチャ52および第2波面形成器50から、非球面レンズ100の第2測定面120の形状を測定する第2干渉計3を構成している。すなわち、本実施形態の形状測定装置1は、干渉計ユニット10を共用する2つの干渉計を備えている。また、本実施形態では、第1干渉計2による第1照射光L4の光軸S1と、第2干渉計3による第2照射光L5の光軸S2が略一致する略一直線状となるように、第1波面形成器40および第1アパーチャ42、ならびに第2波面形成器50および第2アパーチャ52を配置している。このように光軸S1、S2を揃えることによって、非球面レンズ100の両面の形状を迅速且つ高精度に測定することが可能となる。光軸S1、S2の調整方法および形状測定方法の詳細については、後述する。また、本実施形態では、全ての光学要素およびステージ60を除振ユニット72上に配置された定盤74および定盤74に固定された柱76に取り付けるようにしているため、周囲の振動に影響されることなく、高精度な形状測定を行うことが可能となっている。<ステージ>次に、ステージ60の構成について詳細に説明する。図2aおよびbは、ステージ60の構成を示した概略図である。なお、同図aはステージ60の平面図であり、同図bはステージ60の一部をX軸に沿う断面で示した正面図である。なお、本実施形態では、水平面内において互いに略直交する方向にX軸およびY軸を設定し、上下方向にZ軸を設定している。従って、第1照射光L4の光軸S1および第2照射光L5の光軸S2は、X軸およびY軸に略直交すると共に、Z軸に略平行となる。これらの図に示されるように、ステージ60は、被測定物である非球面レンズ100をX軸方向およびY軸方向に移動させる直動機構64と、非球面レンズ100をX軸周りおよびY軸周りに回転させる回動機構66と、非球面レンズ100を保持する保持部材67と、を備えて構成されている。また、ステージ60は、制御装置図示省略に接続されており、直動機構64および回動機構66はこの制御装置に制御されて動作する。直動機構64は、定盤74上に配置されるベース64aと、ベース64aの上部に配置されるテーブル64bと、を備え、テーブル64bをX軸方向およびY軸方向に移動可能ないわゆるX-Yテーブルを構成している。ベース64aには、テーブル64bの移動をガイドするリニアガイド等図示省略と共に、ステッピングモータおよびボールねじ伝導機構等から構成されるX軸方向駆動装置64cおよびY軸方向駆動装置64dが配置されている。X軸方向駆動装置64cは、テーブル64bをX軸方向に移動させると共にX軸方向の任意の位置で停止させることが可能に構成されている。また、Y軸方向駆動装置64dは、テーブル64bをY軸方向に移動させると共にY軸方向の任意の位置で停止させることが可能に構成されている。さらに、X軸方向駆動装置64cおよびY軸方向駆動装置64dは、所定のエンコーダを備えており、テーブル64bのX軸方向およびY軸方向の位置、すなわち非球面レンズ100のX軸方向およびY軸方向の位置を検出することが可能に構成されている。直動機構64の中央部には、孔部62の一部を構成する下側孔部62aが上下方向に貫通するように設けられている。第2照射光L5は、この下側孔部62aを通過して、非球面レンズ100の第2測定面120に照射されるようになっている。回動機構66は、直動機構64のテーブル64b上に配置されており、テーブル64bと共にX軸方向およびY軸方向に移動するように構成されている。そして、回動機構66は、X軸周りに回動するX軸周り回動部材66aと、Y軸周りに回動するY軸周り回動部材66bと、保持部材67を支持する傾動ステージ66cと、X軸周りの回動を駆動するX軸周り駆動装置66dと、Y軸周りの回動を駆動するY軸周り駆動装置66eと、を備えている。X軸周り回動部材66aは、円環状の部材であり、外周端からX軸に沿って突出するように2つのX軸周り回転軸66a1が設けられている。そして、これら2つのX軸周り回転軸66a1は、テーブル64bに固定配置された軸受66a2を介してそれぞれ回転自在に支持されている。すなわち、X軸周り回動部材66aは、2つのX軸周り回転軸66a1および軸受66a2を介して回転自在にテーブル64bに支持されており、X軸を回転中心軸としてテーブル64bに対して回動するように構成されている。Y軸周り回動部材66bは、略同心円状にX軸周り回動部材66aの内部半径方向内側に配置される円環状の部材であり、外周端からY軸に沿って突出するように2つのY軸周り回転軸66b1が設けられている。そして、これら2つのY軸周り回転軸66b1は、外側のX軸周り回動部材66aの内周端部においてそれぞれ回動自在に支持されている。すなわち、Y軸周り回動部材66bは、2つのY軸周り回転軸66b1を介して回転自在にX軸周り回動部材66aに支持されており、Y軸を回転中心軸としてX軸周り回動部材66aに対して回動するように構成されている。また、Y軸周り回動部材66bは、X軸周り回動部材66aと共に回動することにより、X軸周りにも回動可能となっている。傾動ステージ66cは、角を丸めた略矩形状の平板であり、Y軸周り回動部材66b上に固定配置されている。従って、傾動ステージ66cは、X軸周り回動部材66aおよびY軸周り回動部材66bと共にX軸周りに回動し、Y軸周り回動部材66bと共にY軸周りに回動するように構成されている。傾動ステージ66cおよびY軸周り回動部材66bには、孔部62の一部を構成する上側孔部62bが設けられており、保持部材67は、この上側孔部62b内に一部を挿入された状態で傾動ステージ66cに支持される。X軸周り駆動装置66dおよびY軸周り駆動装置66eは、略同一の構成となっている。このうち、X軸周り駆動装置66dは、傾動ステージ66cからY軸方向に突出するアーム66d1と、アーム66dの先端部から下方に向けて突設されたカムフォロア66d2と、カムフォロア66d2と当接する楔形状のカム66d3と、カム66d3をスライド移動させる直動アクチュエータ66d4と、を備えて構成されている。また、Y軸周り駆動装置66eは、傾動ステージ66cからX軸方向に突出するアーム66e1と、アーム66eの先端部から下方に向けて突設されたカムフォロア66e2と、カムフォロア66e2と当接する楔形状のカム66e3と、カム66e3をスライド移動させる直動アクチュエータ66e4と、を備えて構成されている。X軸周り駆動装置66dのカム66d3は、テーブル64bに固定されたブラケット64b1上において水平方向にスライド可能に配置されており、直動アクチュエータ66d4は、カム66d3を押圧してスライド移動させるようにブラケット64b1上に配置されている。そして、カムフォロワ66d2は、上方からカム66d3の傾斜面に当接しており、カム66d3の移動に伴って上昇または下降するようになっている。すなわち、X軸周り駆動装置66dは、直動アクチュエータ66d4でカム66d3を移動させることによってカムフォロワ66d2を任意の高さまで上昇または下降させるように構成されている。そして、傾動ステージ66cは、カムフォロワ66d2の上昇または下降に伴って、Y軸周り回動部材66bおよびX軸周り回動部材66aと共にX軸を回転中心軸として回動し、任意の角度で傾斜した状態となる。同様に、Y軸周り駆動装置66eのカム66e3は、テーブル64bに固定されたブラケット64b2上において水平方向にスライド可能に配置されており、直動アクチュエータ66e4は、カム66e3を押圧してスライド移動させるようにブラケット64b2上に配置されている。そして、カムフォロワ66e2は、上方からカム66e3の傾斜面に当接しており、カム66e3の移動に伴って上昇または下降するようになっている。すなわち、Y軸周り駆動装置66eは、直動アクチュエータ66e4でカム66e3を移動させることによってカムフォロワ66e2を任意の高さまで上昇または下降させるように構成されている。そして、傾動ステージ66cは、カムフォロワ66e2の上昇または下降に伴って、Y軸周り回動部材66bと共にY軸を回転中心軸として回動し、任意の角度で傾斜した状態となる。また、X軸周り駆動装置66dおよびY軸周り駆動装置66eは、それぞれ所定のエンコーダを備えており、これらのエンコーダの出力に基づいて、傾動ステージ66cのX軸周りの傾斜角度およびY軸周りの傾斜角度、すなわち非球面レンズ100の傾斜角度を導出することが可能となっている。保持部材67は、上部が開口した有底円筒状の円筒部67aと、円筒部67aの開口部の縁に形成されたフランジ部67bと、からなる部材である。保持部材67は、円筒部67aを上側孔部62bに挿入した状態で傾動ステージ66c上面にフランジ部67bが載置される。そして、フランジ部67bと傾動ステージ66cをボルト等によって締結することで、保持部材67は、傾動ステージ66cに固定される。円筒部67aの底部には、板バネから構成される付勢部材67cが3箇所に配置されている。また、円筒部67aの底部の中央部には、下方からの第2照射光L5を通過させるための孔部67dが形成されている。非球面レンズ100は、円筒部67aの底部上に載置され、3つの付勢部材67cの間に挟持されることで円筒部67aの底部の略中央に保持される。本実施形態では、非球面レンズ100の厚みに合わせて保持部材67の円筒部67aの深さを適宜に設定することにより、保持部材67に保持された非球面レンズ100の上面第1測定面110の頂点がX軸およびY軸の交点Oに位置するようにしている。このようにすることで、回動機構66によって非球面レンズ100を回転させる場合に、非球面レンズ100のX軸方向の移動およびY軸方向の移動を最小限にすることが可能となる。これにより、非球面レンズ100の位置および姿勢の導出を容易にすると共に、測定を高精度に行うことができる。また、非球面レンズ100の種類毎に保持部材67を用意しておくことにより、保持部材67を交換するだけで、多種類の非球面レンズ100の測定を高精度に行うことができる。本実施形態では、ステージ60に下側孔部62aおよび上側孔部62bを設けると共に、これらの内部に保持部材67の円筒部67aが挿入されるようにしているため、円筒部67aの深さを広い範囲で設定することが可能となっている。なお、非球面レンズ100の下面第2測定面120の頂点が交点Oに位置するように円筒部67aの深さを設定してもよいし、非球面レンズ100の上面の頂点と下面の頂点の中間点が交点Oに位置するように円筒部67aの深さを設定してもよい。また、非球面レンズの上面の頂点または下面の頂点から所定の距離だけ離れた点に交点Oが位置するようにしてもよいし、非球面レンズ100の所定の基準面または基準点から所定の距離だけ離れた位置に交点Oが位置するようにしてもよい。また、本実施形態では、付勢部材67cによって非球面レンズ100を側方から挟持することにより、上方から非球面レンズ100を容易に着脱することを可能としている。このようにすることで、例えば搬送装置による非球面レンズ100の自動搬入および自動搬出が可能となるため、形状測定を自動化すると共に高速化することができる。図3a~dは、回動機構66の動作を示した概略図である。なお、同図aおよびbはステージ60の一部をY軸に沿う断面で示した側面図であり、同図cおよびdはステージ60の一部をX軸に沿う断面で示した正面図である。同図aおよびbに示されるように、X軸周り駆動装置66dの直動アクチュエータ66d4がカム66d3をスライド移動させることにより、カムフォロア66d2が上昇同図aまたは下降同図bする。そして、カムフォロワ66d2の上昇または下降により傾動ステージ66c、Y軸周り回動部材66bおよびX軸周り回動部材66aがX軸を回転中心軸として回動し、傾動ステージ66cに固定された保持部材67を回動させる。これにより、非球面レンズ100はX軸周りに回動し、所定の角度で傾斜した状態となる。また、同図cおよびdに示されるように、Y軸周り駆動装置66eの直動アクチュエータ66e4がカム66e3をスライド移動させることにより、カムフォロア66e2が上昇同図cまたは下降同図dする。そして、カムフォロワ66e2の上昇または下降により傾動ステージ66cおよびY軸周り回動部材66bがY軸を回転中心軸として回動し、傾動ステージ66cに固定された保持部材67を回動させる。これにより、非球面レンズ100はY軸周りに回動し、所定の角度で傾斜した状態となる。このように、ステージ60の回動機構66は、非球面レンズ100をX軸周りおよびY軸周りに回動させることで、非球面レンズ100を任意の姿勢に配置するように構成されている。特に、本実施形態では、回動機構66にX軸周り回動部材66aおよびY軸周り回動部材66bを組み合わせた構成を採用しているため、ステージ60の高さを従来以上に低くすることが可能となっている。また、非球面レンズ100の上面の頂点が回転中心となるX軸およびY軸の交点Oに位置するようにしているため、非球面レンズ100のX軸方向およびY軸方向の位置変化を最小限としながら、非球面レンズ100を任意の姿勢に配置することが可能となっている。さらに、下側孔部62aおよび上側孔部62bを設けているため、非球面レンズ100の上面第1測定面110および下面第2測定面120の両方を測定することが可能となっている。なお、本実施形態では、X軸周り駆動装置66dにおいて、カム66d3がY軸方向にスライド移動するように配置しているが、X軸周り駆動装置66dの構成はこれに限定されるものではなく、例えばカム66d3がX軸方向にスライド移動するようにカム66d3および直動アクチュエータ66d4を配置してもよい。同様に、Y軸周り駆動装置66eにおいて、カム66e3がY軸方向にスライド移動するようにカム66e3および直動アクチュエータ66e4を配置してもよい。また、本実施形態では、X軸周り回動部材66aを円環状に構成しているが、X軸周り回動部材66aの形状はこれに限定されるものではなく、Y軸周り可動部材66bを内部に収容可能な略環状の形状であればよい。また、Y軸周り回動部材66aの形状も、本実施形態で示した円環状に限定されるものではなく、傾動ステージ66cまたは保持部材67を保持可能な形状であれば、その他の形状であってもよい。また、ステージ60は、上述した構成とは異なる構成の回動機構66を備えるものであってもよい。図4a~dは、その他の構成の回動機構66を備えるステージ60の例を示した概略図である。なお、同図a、cおよびdはステージ60の一部をX軸に沿う断面で示した正面図であり、同図bはステージ60の一部をY軸に沿う断面で示した側面図である。また、以下の説明においては、上述の例と共通する部分に同一の符号を付すと共に、その説明を省略する。この例の回動機構66は、同図aに示されるように、X軸周り回動部材66aおよびY軸周り回動部材66bに代えて、テーブル64bに固定配置される支持部材68と、この支持部材68によって回動可能に支持される回動部材69を備えている。このうち、回動部材69は、外周表面にX軸およびY軸の交点Oを中心とする部分球面状に形成された滑動面69aを備えている。また、支持部材68は、滑動面69aにおける部分球面の相補的形状に形成された凹面68aを備えている。そして、回動部材69は、滑動面69aが支持部材68の凹面68a内に嵌り込んだ状態で支持部材68上に載置されており、滑動面69aは凹面68aに沿って自由に滑動可能な状態となっている。すなわち、この例の回動機構66は、滑動面69aが凹面68aに対して滑動することにより、回動部材69がX軸周りおよびY軸周りに回動するように構成されている。なお、滑動面69aおよび凹面68aの間に潤滑剤を塗布するようにしてもよい。傾動ステージ66cは、回動部材69の上部に固定配置されており、回動部材69と共に回動するようになっている。また、回動部材69の中央部には、上側孔部62bが形成されており、保持部材67は、円筒部67aがこの上側孔部62b内に挿入された状態で傾動ステージ66cに固定されている。同図bに示されるように、X軸周り駆動装置66dにおいてカムフォロア66d2を上昇または下降させると、これに伴い滑動面69aが凹面68aに沿って滑動する。すなわち、滑動面69aは、交点Cを中心とする部分球面に沿って滑動するため、回動部材69はX軸周りに回動することとなる。同様に、同図cに示されるように、Y軸周り駆動装置66eにおいてカムフォロア66e2を上昇または下降させると、これに伴い滑動面69aが凹面68aに沿って、すなわち交点Cを中心とする部分球面に沿って滑動し、回動部材69はY軸周りに回動することとなる。この例の回動機構66では、このようにして非球面レンズ100をX軸周りおよびY軸周りに回転させる。なお、滑動面69aを支持する凹面68aは、滑動面69aを全周にわたって支持するように形成されるものであってもよいし、部分的に支持するように形成されたものであってもよい。また、同図a~cに示したように、滑動面69aを面で支持するのではなく、点で支持するように支持部材68を構成するようにしてもよい。同図dは、滑動面69aを3点で支持するように支持部材68を構成した例を示した図である。この例では、支持部材68は、滑動面69aの周方向において均等に配置された3つの突起部68bを備えている。そして、これらの突起部68bを滑動面69aに当接させることによって回動部材69を支持している。このように、滑動面69aを点で支持した場合においても、滑動面69aは交点Cを中心とする部分球面に沿って滑動するため、回動部材69はX軸周りおよびY軸周りに回動することとなる。なお、突起部68bは、支持部材68に固定されたものであってもよいし、滑動面69aの移動に伴って回転するボールやローラ等から構成されるものであってもよい。また、突起部68bの個数は、滑動面60aに対して均等に当接させるためには3つであることが好ましいが、これに限定されるものではなく、3つ以上の突起部68bを設けるようにしてもよい。このように、ステージ60の回動機構66を、交点Cを中心とする滑動面69aを有する回動部材69と、回動部材69の滑動面69aを滑動自在に支持する支持部材68とを備えて構成することにより、ステージ60をシンプル且つコンパクトに構成することが可能となる。また、X軸周り回動部材66aおよびY軸周り回動部材66bを備える場合と比較して、より滑らかに回動部材69を回動させることができるため、非球面レンズ100の姿勢をより高速且つ高精度に決定することができる。<光軸調整用治具>次に、形状測定装置1が備える光軸調整用治具90について説明する。上述のように、本実施形態の形状測定装置1では、非球面レンズ100の第1測定面110に照射する第1照射光L4の光軸S1と、第2測定面120に照射する第2照射光L5の光軸S2を略一致させている。このため、光軸S1と光軸S2を高精度に一致させるための光軸調整用治具90を備えている。図5aおよびbは、光軸調整用治具90を示した概略図である。なお、同図aは光軸調整用治具90の平面図であり、同図bは同図aのA-A線断面図である。これらの図に示されるように、光軸調整用治具90は、略円盤状の平板92と、球体94とを備えて構成されている。平板92は、適宜に研磨された光学平面である第1平面92aと、同様に光学平面である第2平面92bを両面に有している。このうち、第1平面92aは、第1照射光L4を照射して第1照射光L4の光軸S1の傾きを調整するための平面であり、第2平面92bは、第2照射光L5を照射して第2照射光L5の光軸S2の傾きを調整するための平面である。従って、光軸S1および光軸S2を略平行に調整するために、第1平面92aおよび第2平面92bは、互いに略平行に形成されている。なお、第1平面92aおよび第2平面92bの平行度は特に限定されるものではなく、要求される光軸の一致度に応じて適宜に決定すればよいが、一般的な非球面レンズ100を測定する場合には平行度が±1秒以内であることが好ましい。平板92の中央部には、第1平面92aと第2平面92bの間で貫通するテーパ状の貫通孔92cが形成されている。そして、この貫通孔92cの内部に球体94が配置されている。この球体94は、第1照射光L4および第2照射光L5を中心に向けて照射するように調整することで、第1照射光L4の光軸S1と第2照射光L5の光軸S2の位置を略一致させるためのものである。球体94の大きさは、特に限定されるものではないが、光軸の一致度を向上させるためには小径であることが好ましく、直径が2mm以下であればより好ましく、直径が1mm以下であることが最も好ましい。また、球体94の真球度は、特に限定されるものではないが、光軸の一致度を向上させるためには、真球度が0.06μm以下であることが好ましく、真球度が0.05μm以下であればより好ましい。また、球体94を配置する位置は、第1照射光L4および第2照射光L5を照射可能な位置であれば、特に限定されるものではないが、球体94の中心が第2平面92aおよび第2平面92bの中間点に位置していることが好ましい。なお、平板92の形状は、矩形状等、その他の形状であってもよい。さらに、平板92の厚みは、特に限定されるものではなく、ブロック状のものであってもよい。また、本実施形態では、貫通孔92をテーパ状に形成し、この中に落とし込むようにして球体94を固定配置しているが、その他の既知の手法によって球体94を平板92に固定するようにしてもよい。また、光軸調整用治具90は、光軸調整を行うときにのみステージ60や定盤74に配置されるものであってもよいし、ステージ60や定盤74に恒常的に配置されるものであってもよい。さらに、光軸調整用治具90を、ステージ60または定盤74の一部として一体的に構成するようにしてもよい。<光軸調整方法>次に、第1照射光L4の光軸S1および第2照射光L5の光軸S2の調整方法について説明する。図6a~cは、光軸S1、S2の調整方法の概要を示した概略図である。光軸S1、S2の調整では、最初のステップとして、光軸調整用治具90を第1波面形成器40および第2波面形成器50の間の所定の位置に配置する。このとき、光軸調整用治具90の第1平面92aを第1波面形成器40に対向させ、第2平面92bを第2波面形成器50に対向させるように、光軸調整用治具90を配置する。光軸調整用治具90の配置は、専用の保持部材67を介して光軸調整用治具90をステージ60に保持させるようにしてもよいし、傾動ステージ66c上に光軸調整用治具90を直接載置するようにしてもよい。また、光軸調整専用のステージを定盤74上に配置するようにしてもよいし、定盤74上に光軸調整用治具90を直接載置するようにしてもよい。次のステップでは、干渉計ユニット10から光束L1を出射する。このとき、第1シャッタ34および第2シャッタ36は閉じた状態としておく。次のステップでは、第1シャッタ34を開き、同図aに示されるように、第1照射光L4を第1平面92aに照射する。そして、第1平面92aからの反射光と参照面からの参照光の干渉縞I1を観測し、この干渉縞I1が真円となるように、第1波面形成器40および第1アパーチャ42の姿勢を位置姿勢調整機構44によって調整する。干渉縞I1が略真円となれば、第1照射光L4の光軸S1が第1平面92aに対して略直交するように調整されたこととなる。次のステップでは、第1シャッタ34を閉じると共に第2シャッタ36を開き、同図aに示されるように、第2照射光L5を第2平面92bに照射する。そして、第2平面92bからの反射光と参照面からの参照光の干渉縞I2を観測し、この干渉縞I2が真円となるように、第2波面形成器50および第2アパーチャ52の姿勢を位置姿勢調整機構54によって調整する。干渉縞I2が略真円となれば、第2照射光L5の光軸S2が第2平面92bに対して略直交するように調整されたこととなる。以上の手順により、第1照射光L4の光軸S1および第2照射光L5の光軸S2が略平行に調整される。次のステップでは、同図bに示されるように、光軸調整用治具90を移動させて第1照射光L4および第2照射光L5が球体94に照射される位置まで、光軸調整用治具90を移動させる。次のステップでは、第2シャッタ36を閉じると共に第1シャッタ34を開き、同図cに示されるように、第1照射光L4を球体94に照射する。そして、球体94からの反射光と参照面からの参照光の干渉縞I1を観測し、この干渉縞I1が真円となるように、第1波面形成器40および第1アパーチャ42の位置を位置姿勢調整機構44によって調整する。干渉縞I1が略真円となれば、第1照射光L4の光軸S1が球体94の中心を略通過する位置に調整されたこととなる。次のステップでは、第1シャッタ34を閉じると共に第2シャッタ36を開き、同図cに示されるように、第2照射光L5を球体94に照射する。そして、球体94からの反射光と参照面からの参照光の干渉縞I2を観測し、この干渉縞I2が真円となるように、第2波面形成器50および第2アパーチャ52の位置を位置姿勢調整機構54によって調整する。干渉縞I2が略真円となれば、第2照射光L5の光軸S2が球体94の中心を略通過する位置、すなわち第1照射光L4の光軸S1と略同一の位置に調整されたこととなる。以上の手順により、第1照射光L4の光軸S1と第2照射光L5の光軸S2を略一致させる略一直線上とすることができる。上記手順による光軸調整は、形状測定装置1による形状測定を最初に実施する前に行う必要があるが、一旦光軸S1、S2を調整した後は、所定の周期で定期的に実行すればよい。また、測定する非球面レンズ100の種類が変更されるような場合には、焦点位置の調整と共に光軸調整を実行することが好ましい。なお、上記手順は、制御装置および画像処理装置によって自動的に行うようにしてもよいし、測定者が手動で行うようにしてもよい。また、上記手順おいては、干渉縞I1、I2が完全な真円となるまで調整する必要はなく、許容される所定の誤差範囲内で真円に近い状態となればよい。また、上記手順においては、必要に応じて各ミラー80やビームスプリッタ30、干渉計ユニット10の位置姿勢等を調整してもよいことは言うまでもない。また、上記手順においては、光軸S1の傾き→光軸S2の傾き→光軸S1の位置→光軸S2の位置の順に調整を行うようにしているが、この他にも、光軸S2の傾き→光軸S1の傾き→光軸S2の位置→光軸S1の位置の順に調整を行うようにしてもよいし、光軸S1の傾き→光軸S2の傾き→光軸S2の位置→光軸S1の位置の順に調整を行うようにしてもよいし、光軸S2の傾き→光軸S1の傾き→光軸S1の位置→光軸S2の位置の順に調整を行うようにしてもよい。<非球面レンズの形状>次に、非球面レンズ100の形状について説明する。図7a~dは、非球面レンズ100の形状の例を示した概略図である。同図aに示されるように、この例の非球面レンズ100は、上面が非球面状の凸面に形成され、下面が非球面状の凹面に形成されている。そして、本実施形態では、上面を第1測定面110とし、下面を第2測定面120としている。同図aは、非球面レンズ100が理想的な形状である場合を示している。非球面レンズ100は、第1測定面110の軸心光軸C1と、第2測定面120の軸心光軸C2が一致していることが理想的であり、この理想的な形状に基づいて非球面レンズ100自体の性能や、非球面レンズ100が使用される各種光学系の設計値が設定されている。しかしながら、実際に製造される非球面レンズ100においては、製造時の様々な条件により、第1測定面110の光軸C1と第2測定面120の光軸C2が相対的にずれている、すなわち相対的に偏心している場合がほとんどである。光軸C1と光軸C2の相対的な偏心の態様は、2種類に大別することができる。1つは、同図bに示されるように光軸C1および光軸C2が互いに傾いている態様であり、もう1つは、同図cに示されるように光軸C1および光軸C2の横方向の位置がずれている態様である。実際に製造された非球面レンズ100においては、上記2つの偏心の態様が複合的に生じている場合が多い。すなわち、実際の非球面レンズ100においては、同図dに示されるように、光軸C1および光軸C2が相対的に傾くと共に横方向の位置がずれていることが多い。従って、非球面レンズ100の形状測定においては、光軸C1と光軸C2の相対的な傾きおよび横方向の位置ずれの両方を高精度に導出することが最重要課題となっている。なお、同図a~dにおいては、光軸C1と光軸C2の相対的な偏心を2次元的に示しているが、実際の偏心が3次元的に生じることは言うまでもない。<形状測定方法>次に、非球面レンズ100の形状測定方法について説明する。図8aおよびbならびに図9aおよびbは、非球面レンズ100の形状測定方法の概要を示した概略図である。非球面レンズ100の形状測定では、最初のステップとして、上述の手順により第1照射光L4の光軸S1と第2照射光L5の光軸S2を略一致させる光軸調整を行う。なお、この光軸調整は、測定毎に行う必要はなく、最初に実行した後は、測定回数が所定の回数に達したときや、測定する非球面レンズ100の種類を変更したとき等、適宜のタイミングで実行すればよい。次のステップでは、測定する非球面レンズ100をステージ60の保持部材67に配置する。この非球面レンズ100の配置は、作業者が手で行ってもよいし、搬送装置等によって自動的に行ってもよい。次のステップでは、干渉計ユニット10から光束L1を出射する。このとき、第1シャッタ34および第2シャッタ36は閉じた状態としておく。次のステップでは、第1シャッタ34を開き、図8aに示されるように、第1照射光L4を第1測定面110に照射する。そして、第1測定面110からの反射光と参照面からの参照光の干渉縞を観測し、この干渉縞がヌル状態、すなわち干渉縞がない状態となるようにステージ60を操作して非球面レンズ100を移動させ、非球面レンズ100の位置および姿勢を調整する。具体的には、直動機構64によって非球面レンズ100のX軸方向位置およびY軸方向位置を変化させて非球面レンズ100の位置を調整し、回動機構66によって非球面レンズ100のX軸周りの傾斜角度およびY軸周りの傾斜角度を変化させて非球面レンズ100の姿勢を調整する。このとき、第1測定面110が理想的な形状であれば、非球面レンズ100の位置および姿勢の調整によって干渉縞を完全なヌル状態とすることができるが、第1測定面110に凹凸やうねりが生じている場合には、非球面レンズ100の位置および姿勢をいかに調整しても干渉縞を完全なヌル状態にすることはできない。従って、ここでは、干渉縞が最もヌル状態に近い状態となるように非球面レンズ100の位置および姿勢を調整すればよい。図8bは、第1照射光L4による干渉縞がヌル状態またはヌル状態に最も近い状態となった場合の非球面レンズ100の位置および姿勢を示している。本実施形態では、このときの非球面レンズ100の位置および姿勢を、基準位置姿勢としている。非球面レンズ100が基準位置姿勢に配置された場合、図8bに示されるように、第1測定面110の光軸C1が第1照射光L4の光軸S1および光軸S2と略一致した状態となる。次のステップでは、基準位置姿勢における非球面レンズ100の位置情報および姿勢情報を基準位置姿勢情報として所定の記憶装置に記憶する。具体的には、ステージ60が備える各種エンコーダの出力から基準位置姿勢における非球面レンズ100のX軸方向位置、Y軸方向位置、X軸周りの傾斜角度およびY軸周りの傾斜角度を導出し、RAMやハードディスク等の所定の記憶装置に記憶する。さらに、必要に応じて基準位置姿勢における干渉縞の情報を所定の記憶装置に記憶する。次のステップでは、第1シャッタ34を閉じて第2シャッタ36を開き、図9aに示されるように、第2照射光L5を第2測定面120に照射する。そして、第2測定面120からの反射光と参照面からの参照光の干渉縞を観測し、この干渉縞がヌル状態またはヌル状態に最も近い状態となるようにステージ60を操作して非球面レンズ100を移動させ、非球面レンズ100の位置および姿勢を調整する。図9bは、第2照射光L5による干渉縞がヌル状態またはヌル状態に最も近い状態となった場合の非球面レンズ100の位置および姿勢を示している。本実施形態では、このときの非球面レンズ100の位置および姿勢を、比較位置姿勢としている。非球面レンズ100が比較位置姿勢に配置された場合、図9bに示されるように、第2測定面120の光軸C2が第2照射光L5の光軸S2および光軸S1と略一致した状態となる。次のステップでは、比較位置姿勢における非球面レンズ100の位置情報および姿勢情報、すなわち非球面レンズ100のX軸方向位置、Y軸方向位置、X軸周りの傾斜角度およびY軸周りの傾斜角度を比較位置姿勢情報として所定の記憶装置に記憶する。さらに、必要に応じて基準位置姿勢における干渉縞の情報を所定の記憶装置に記憶する。次のステップでは、記憶した基準位置姿勢情報および比較位置姿勢情報を比較して、第1測定面110の光軸C1と第2測定面120の光軸C2の相対的な偏心量を導出する。すなわち、光軸C1に対する光軸C2のX軸周りおよびY軸周りの傾き角度、ならびに光軸C1に対する光軸C2のX軸方向およびY軸方向の位置ずれ量を導出する。導出した偏心量は、所定の記憶装置に記憶する。本実施形態では、第1照射光L4の光軸S1と第2照射光L5の光軸S2を略一致させているため、基準位置姿勢情報および比較位置姿勢情報は、それぞれ同一の基準軸に第1測定面110の光軸C1および第2測定面120の光軸C2を略一致させた状態における非球面レンズ100の位置および姿勢の情報となっている。従って、基準位置姿勢情報および比較位置姿勢情報の差を求めるだけで容易に偏心量を導出することが可能となっている。次のステップでは、必要に応じて、基準位置姿勢における干渉縞の情報から第1測定面110における凹凸やうねり等の詳細な形状を導出して所定の記憶装置に記憶する。また、比較位置姿勢における干渉縞の情報から第2測定面120の詳細な形状を導出して所定の記憶装置に記憶する。以上の手順により、非球面レンズ100の第1測定面110の光軸C1および第2測定面120の光軸C2の相対的な偏心を測定することができる。なお、上記手順は、制御装置および画像処理装置によって自動的に行うようにしてもよいし、測定者が手動で行うようにしてもよい。また、上記手順では、第1照射光L4による測定を先に行っているが、第2照射光L5による測定を先に行うようにしてもよい。また、上記手順では、第1測定面110の光軸C1が第1照射光L4の光軸S1と略一致する状態を基準位置姿勢としているが、第2測定面120の光軸C2が第2照射光L5の光軸S2と略一致する状態を基準位置姿勢としてもよい。以上説明したように、本実施形態に係る形状測定装置1は、被測定物非球面レンズ100の一方の第1測定面110の形状を測定する第1干渉計2と、被測定物の他方の第2測定面120の形状を測定する第2干渉計3と、を備え、第1干渉計2および第2干渉計3は、第1干渉計2から第1測定面110に照射される第1照射光L4の光軸S1と第2干渉計3から第2測定面120に照射される第2照射光L5の光軸S2が略一致するように構成されている。このような構成とすることで、非球面レンズ100のように両面に非球面形状を有する被測定物であっても、迅速且つ高精度に形状測定を行うことができる。特に、被測定物を配置し直すことなく被測定物の両面の形状を測定することができるため、簡便且つ迅速に測定を行うことができる。また、光軸S1、S2を略一致させることにより、第1測定面110の形状測定の基準軸と第2測定面120の形状測定の基準軸を統一することができるため、従来の測定装置では困難であった第1測定面110の軸心C1と第2測定面120の軸心C1の相対的な偏心量の導出を、容易且つ高精度に行うことができる。さらに、例えば形状測定装置1を非球面レンズ100の製造ラインに組み込み、製造した非球面レンズ100の全数検査を行うといったことも可能となるため、非球面レンズ100の品質および歩留りを向上させることができる。また、形状測定装置1は、第1照射光L4の光軸S1と第2照射光L5の光軸S2を略一致させるための光軸調整用治具90をさらに備え、光軸調整用治具90は、第1照射光L4を照射して第1照射光L4の光軸S1の傾きを調整するための第1平面92aと、第1平面92aと略平行に形成され、第2照射光L5を照射して第2照射光L5の光軸S2の傾きを調整するための第2平面92bと、第1照射光L4および第2照射光L5を照射して第1照射光L4の光軸S1および第2照射光L5の光軸S2の位置を調整するための球体94と、を備えている。このようにすることで、第1照射光L4の光軸S1と第2照射光L5の光軸S2を容易且つ高精度に一致させることが可能となるため、第1測定面110の軸心C1と第2測定面120の軸心C2の相対的な偏心量の導出を、より高精度に行うことができる。また、光軸調整用治具90は、一方の面を第1平面92aとし、他方の面を第2平面92bとする平板92を備えている。このようにすることで、高精度な光軸調整用治具90を低コストで実現することができる。また、平板92は、第1平面92aと第2平面92bの間で貫通する貫通孔92cを備え、球体94は、貫通孔92cの内部に配置されている。このようにすることで、球体94を光軸調整に最適な位置に確実に配置することができる。すなわち、第1平面92aおよび第2平面92bによる光軸S1、S2の傾き調整の後に光軸調整用治具90をスライド移動させるだけで、球体94による光軸S1、S2の位置調整を行うことができるように光軸調整用治具90を構成することができる。また、高精度な光軸調整用治具90を低コストで実現することができる。また、形状測定装置1によれば、第1測定面110および第2測定面120の少なくとも一方が、測定の困難な非球面である場合にも、迅速且つ高精度に両面の形状測定を行うことができる。なお、本実施形態では、両面が非球面である非球面レンズ100を被測定物とした例を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、被測定物は、一方の面のみが非球面のものであってもよい。また、本実施形態では、一方の面が凸面で他方の面が凹面の非球面レンズ100を被測定物とした例を示したが、被測定物は、両面が凸面または凹面のものであってもよい。また、形状測定装置1は、被測定物が載置されるステージ60をさらに備え、ステージ60は、被測定物を保持する保持部材67と、第1照射光L4の光軸S1または第2照射光L5の光軸S2と略直交する面内において互いに略直交するX軸方向およびY軸方向に被測定物を移動させる直動機構64と、X軸周りおよびY軸周りに被測定物を回転させる回動機構66と、第1照射光L4または第2照射光L5を通過させる孔部62と、を備えている。このようにすることで、第1照射光L4の光軸S1および第2照射光L5の光軸S2を固定した状態のままで、被測定物のみを移動させて被測定物の両面の形状を測定することが可能となり、形状測定を迅速且つ高精度に行うことができる。また、ステージ60に孔部62を設けることにより、被測定物を配置し直すことなく被測定物の両面の形状を測定することが可能となる。また、回動機構66は、X軸周りに回転自在となるように直動機構64に支持されるX軸周り回動部材66aと、Y軸周りに回転自在となるようにX軸周り回動部材66aに支持されると共に保持部材67を支持するY軸周り回動部材66bと、を備えている。このようにすることで、被測定物をX軸周りおよびY軸周りに自在に回転させることが可能となるため、被測定物を任意の姿勢にスムーズに配置することができる。また、X軸周り回動部材66aは、環状に構成され、Y軸周り回動部材66bは、X軸周り回動部材66aの内部に配置されている。このようにすることで、回動機構66の高さを従来以上に低くし、ステージ60をコンパクトに構成することができる。また、被測定物の上面または下面の頂点がX軸周りの回転中心軸X軸とY軸周りの回転中心軸Y軸の交点Oの近傍に位置するように被測定物を保持することが可能となり、被測定物を回転させたときのX軸方向およびY軸方向の移動を最小限にすることができるため、高精度測定を行うことが可能となる。また、回動機構66は、X軸周りの回転中心軸X軸とY軸周りの回転中心軸Y軸の交点Oを中心とする部分球面状の滑動面69aと、滑動面69aを滑動自在に支持する支持部材68と、を備えるものであってもよい。この場合、よりシンプル且つコンパクトに回動機構66を構成すると共に、より滑らかに被測定物を回転させることが可能となる。また、この場合、支持部材68は、滑動面69aを少なくとも3点で支持するものであってもよい。このようにすることで、滑動面69aをより高精度に支持することが可能となり、被測定物の回転をより高精度にすることができる。また、回転するローラやボール等によって滑動面69aを支持することにより、摩擦抵抗を低減することが可能となる。また、第1干渉計2および第2干渉計3は、光を出射する光源12、および干渉縞を観測する観測部16を共用している。このようにすることで、形状測定装置1をコンパクト且つ低コストに構成することができる。なお、本発明はこれに限定されるものではなく、第1干渉計2および第2干渉計3がそれぞれ専用の光源12および観測部16を備える、すなわちそれぞれ専用の干渉計ユニット10を備えるものであってもよいことは言うまでもない。また、本実施形態に係る形状測定方法は、干渉計により被測定物の一方の第1測定面110の形状、および被測定物の他方の第2測定面120の形状を測定する形状測定方法であって、第1測定面110に照射する第1照射光L4の光軸S1と第2測定面120に照射する第2照射光L5の光軸S2を略一致させる光軸調整ステップと、第1測定面110に第1照射光L4を照射しながら被測定物を移動させて、第1照射光L4による干渉縞がヌル状態またはヌル状態に近い状態となる基準位置姿勢に被測定物を配置するステップと、第2測定面120に第2照射光L5を照射しながら被測定物を移動させて、第2照射光L5による干渉縞がヌル状態またはヌル状態に近い状態となる比較位置姿勢に被測定物を配置するステップと、基準位置姿勢における被測定物の位置および姿勢と比較位置姿勢における被測定物の位置および姿勢から第1測定面110の軸心C1と第2測定面120の軸心C2の相対的な偏心量を導出するステップと、を有している。このような構成とすることで、非球面レンズ100のように両面に非球面形状を有する被測定物であっても、迅速且つ高精度に形状測定を行うことができる。特に、光軸調整ステップを有することにより、第1測定面110の形状測定の基準軸と第2測定面120の形状測定の基準軸を統一することができるため、従来の測定装置では困難であった第1測定面110の軸心C1と第2測定面120の軸心C2の相対的な偏心量の導出を、容易且つ高精度に行うことができる。また、形状測定方法における光軸調整ステップは、第1平面92aに第1照射光L4を照射して得られる干渉縞に基づいて、第1平面92aに略直交するように第1照射光L4の光軸S1を調整するステップと、第1平面92aと略平行な第2平面92bに第2照射光L5を照射して得られる干渉縞に基づいて、第2平面92bに略直交するように第2照射光L5の光軸S2を調整するステップと、球体94に第1照射光L4を照射して得られる干渉縞に基づいて、球体94の略中心を通過するように第1照射光L4の光軸S1を調整するステップと、球体94に第2照射光L5を照射して得られる干渉縞に基づいて、球体94の略中心を通過するように第2照射光L5の光軸S2を調整するステップと、有している。このような構成とすることで、第1照射光L4の光軸S1と第2照射光L5の光軸S2を容易且つ高精度に一致させることが可能となるため、第1測定面110の軸心C1と第2測定面120の軸心C2の相対的な偏心量の導出を、より高精度に行うことができる。また、本実施形態に係る光軸調整用治具90は、被測定物の一方の第1測定面110の形状および他方の第2測定面120の形状を干渉計によって測定する場合に、第1測定面110に照射する第1照射光L4の光軸S1と第2測定面120に照射する第2照射光L5の光軸S2を略一致させるための光軸調整用治具であって、第1照射光L4を照射して第1照射光L4の光軸S1の傾きを調整するための第1平面92aと、第1平面92aと略平行に形成され、第2照射光L5を照射して第2照射光L5の光軸S2の傾きを調整するための第2平面92bと、第1照射光L4および第2照射光L5を照射して第1照射光L4の光軸S1および第2照射光L5の光軸S2の位置を調整するための球体94と、を備えている。このような構成とすることで、第1照射光L4の光軸S1と第2照射光L5の光軸S2を容易且つ高精度に一致させることが可能となるため、第1測定面110の軸心C1と第2測定面120の軸心C2の相対的な偏心量の導出を、より高精度に行うことができる。次に、本発明のその他の実施形態に係る形状測定装置4について説明する。なお、形状測定装置4については、形状測定装置1と異なる部分についてのみ説明し、形状測定装置1と同一の部分については図面に同一の符号を付すと共にその説明を省略する。図10は、形状測定装置4の構成を示した概略図である。同図に示されるように、本実施形態の形状測定装置4は、干渉計ユニット10、第2アパーチャ52および第2波面形成器50から構成される第2干渉計3のみを備えており、非球面レンズ100の下側の第2測定面120の形状のみを測定するように構成されている。また、形状測定装置4は、定盤74から下方に向けて延設される柱76を備えており、干渉計ユニット10、第2アパーチャ52および第2波面形成器50は、柱76に取り付けられている。従って、干渉計ユニット10から上方に向けて出射された光束L1は、第2光路22をそのまま直進して第2アパーチャ52に入射するようになっている。その後、光束L1は、第2波面形成器50を通過し、非球面レンズ100の下方から第2測定面120に向けて照射される第2照射光L5となる。このように、定盤74から下方に向けて延接した柱76に第2干渉計3を構成する各機器を取り付けることにより、第2干渉計3を基台70内に収容した状態で配置すると共に、定盤74上にステージ60のみを配置するようにすることができる。そして、これにより、第2干渉計3を適切に保護すると共に、ステージ60へのアクセスを容易にし、ステージ60に対する非球面レンズ100被測定物の搬入および搬出を迅速化することができる。特に、本実施形態では、上下方向に貫通する孔部62をステージ60に設けているため、この孔部62を介して上方から載置するだけで、きわめて容易に非球面レンズ100をステージ60に配置することが可能となっている。また、非球面レンズ100の搬入搬出に複雑な構成の搬送装置を必要とせず、搬入搬出のタクトタイムも短縮可能であるため、形状測定装置4を非球面レンズ100の製造ラインに組み込んで、測定を自動化することができる。このように、本実施形態の形状測定装置4によれば、被測定物の片面のみを測定する場合においても、従来の測定装置以上に迅速且つ高精度に形状測定を行うことが可能となっている。なお、非球面レンズ100を反転させて配置すれば、第1測定面110も測定可能であることは言うまでもない。以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明の形状測定装置および形状測定方法、ならびにこれらに使用される光軸調整用治具は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。