"光透過部または光反射部を連続して配列したメインスケールと、前記メインスケールに対して相対移動可能かつ前記光透過部または光反射部のピッチに関係付けをして配設された複数の受光素子を有する受光部と、前記メインスケールを介して前記受光部に光を照射する発光部とを有し、前記メインスケールは前記相対移動方向に光学的に不連続部分を有する光学式エンコーダにおいて、前記不連続部分は、前記メインスケールの中央位置に対して対称に片側複数個ずつ両側に配置され、前記片側複数個の不連続部分は、異なる種別の不連続性パターンを持つことを特徴とする光学式エンコーダ。前記不連続部分は、前記光透過部または光反射部の少なくとも1つの部分を欠落状態にすることにより形成されることを特徴とする請求項1に記載の光学式エンコーダ。前記請求項1または2に記載の光学式エンコーダの絶対位置を検出する光学式エンコーダの絶対位置検出方法であって、前記メインスケールを予め定められた一方向に駆動するステップと、一番目の前記不連続部分の不連続性パターンと仮絶対位置を検出し、検出した不連続部分の不連続性パターンおよび仮絶対位置を記憶するステップと、二番目の前記不連続部分の不連続性パターンを検出するステップと、前記一番目の不連続部分の仮絶対位置から所定の距離以内で前記二番目の不連続部分の不連続性パターンを検出したか否かと、前記一番目の不連続部分の不連続性パターンの種別とによって、前記不連続部分の絶対位置を検出するステップとを有することを特徴とする光学式エンコーダの絶対位置検出方法。光学式エンコーダに使用されるメインスケールは、基本的に変位を測定する物体の移動距離以上の長さが必要である。そのメインスケール全長のどの位置に原点絶対位置検出用の欠落スリットを設けるかは、その光学式エンコーダを使用する装置や、原点検出のシーケンスによって異なり、必ずしもメインスケールの中央位置とは限らない。ここで、図15のように欠落スリットS51をメインスケール12の端に設ける場合を考える。このようなメインスケール12が存在した場合には、このメインスケール12を装置に組み込む際には必ず決められた方向にメインスケール12を組み込む必要があり、組立作業者の作業性を阻害する要因の一つとなりうる。だからといって、図16のように組立性をあげるためにメインスケール12の両端に同様の欠落スリットS52、S53を設けて方向性を無くしてしまうと、2つある欠落スリットS52、S53のうちどちらの欠落スリットを検出したかが分からなくなってしまう。そのため、本来の原点検出としての機能を失ってしまう。発明の目的本発明の目的は、本来の絶対位置検出機能を失うことなく、メインスケールの組立性を改善することができる光学式エンコーダおよび光学式エンコーダの絶対位置検出方法を提供することである。上記目的を達成するために、本発明の光学式エンコーダは、光透過部または光反射部を連続して配列したメインスケールと、前記メインスケールに対して相対移動可能かつ前記光透過部または光反射部のピッチに関係付けをして配設された複数の受光素子を有する受光部と、前記メインスケールを介して前記受光部に光を照射する発光部とを有し、前記メインスケールは前記相対移動方向に光学的に不連続部分を有する光学式エンコーダにおいて、前記不連続部分が、前記メインスケールの中央位置に対して対称に片側複数個ずつ両側に配置され、前記片側複数個の不連続部分が、異なる種別の不連続性パターンを持つことを特徴とするものである。本発明によれば、本来の絶対位置検出機能を失うことなく、メインスケールの組立性を改善することができる。本発明を実施するための形態は、以下の実施例に記載される通りである。実施例は本発明を限定するものではなく、また、実施例の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが本発明に必須であるとは限らない。本発明の光学式エンコーダは、図4、図6に示されるように、光透過部または光反射部を連続して配列したメインスケールを有する。また、メインスケールに対して相対移動可能かつ光透過部または光反射部のピッチに関係付けをして配設された複数の受光素子を有する受光部を有する。また、メインスケールを介して受光部に光を照射する発光部を有する。図1は本発明の実施例におけるメインスケール12の平面図である。メインスケール12は、相対移動方向に光学的な不連続部分を構成するS41~S44の4つの欠落スリットパターンを設けている。欠落スリットパターンS41とS44、S42とS43はメインスケール12の中央位置に対しておのおの対称の位置に片側複数個ずつ両側に配置されたものであり、片側2個ずつの例として示されている。そして、それぞれ同じパターンによってスリットを欠落状態にさせて不連続部分として形成されている。ここでは仮に欠落スリットパターンS41、S44は2個のスリットを欠落させたパターン以後、Aパターンとする、欠落スリットパターンS42、S43は1個のスリットを欠落させたパターン以後、Bパターンとするとする。Aパターン、Bパターンは異なる種別の不連続性パターンを構成する。このように複数の欠落スリットパターンを中央位置に対称に配置することで、メインスケール12の方向性が無くなり、組立性を改善することができる。また、図1の下段にはこのメインスケール12における和信号Cの出力を示している。前述の図5、図10や図13、図14で説明した通り和信号Cの電圧低下レベルや低下時間はその対応するメインスケールの欠落スリットパターンによって異なる。そのため、その和信号Cの出力によって欠落スリットパターンがAパターンとBパターンのどちらのパターンなのかを識別することができる。次に、図1のメインスケール12に対しての絶対位置検出方法を図2のフローチャートを用いて説明する。そこで説明のために、図1において欠落スリットパターンS41、S42、S43、S44の各絶対位置をL2、L1、R1、R2とする。まず、ステップS101にて初期化処理を行う。初期化処理のステップS101では光源11発光部の電源投入や内部処理フラグのクリアなどを行う。次に、ステップS102にて起動時の光学式エンコーダの現状位置を仮の絶対位置仮原点として設定する。続いて、絶対位置検出をするためにアクチュエータを動作させS103、第一の欠落スリットパターンを探索するS106。なお、ここでは駆動方向は予め定められた一方向、例えば図1における右方向とする。そして、第一一番目の欠落スリットパターンを検出したらS107、その第一の欠落スリットパターンの種別AパターンかBパターンを記憶しS108、さらにその欠落スリットパターンの仮絶対位置も記憶するS109。この際、欠落スリットパターンが見つかる前に駆動範囲端に達してしまった場合にはS104、逆方向に探索を行うか、もしくはエラー処理とするS105。ここで一旦、図3のフローチャートと図14の出力信号波形を用いて、欠落スリットパターンの検出方法について説明する。まず、フォトダイオードアレイP1~P4の出力の和信号Cの値xを取得するS201。そして、その和信号Cの値xが所定のレベル内LV1<x<LV2であるかどうかを判定するS202。もし、所定の出力レベル内ではなかったものが、所定レベル内に入った場合S203には、その所定レベル内に入ったときの光学式エンコーダの仮絶対位置として欠落開始位置Pos1を記憶しS204、欠落測定フラグをセットするS205。この欠落測定フラグはセットされることで、現在、和信号Cの出力が所定レベル内にあることを示している。そして、一度所定レベル内にあった信号が所定レベル外となった場合S206には、その所定レベルから外れた際の仮絶対位置として欠落終了位置Pos2をも記憶し、欠落測定フラグをクリアするS207,S208。この欠落開始位置Pos1と欠落終了位置Pos2から、その欠落スリットパターンの欠落幅を求めることができS209、それによって所定の欠落幅であるかどうかを判定S210する。それら欠落スリットパターン通過中の和信号Cの出力レベルと欠落幅から、欠落スリットパターンの種別を判定し、それにより欠落スリットパターンを検出したものとするS211。このとき同時に、欠落開始位置Pos1および欠落終了位置Pos2から、その中点を欠落スリットパターンの仮絶対位置として算出するS212。再び、図2のフローチャートを用いて絶対位置検出方法について説明する。第一の欠落スリットパターンの探索に続いて、次に第二二番目の欠落スリットパターンを探索する。引き続き、アクチュエータを動作させS110、第二の欠落スリットパターンの検出を行うS111。このとき、第一の欠落スリットパターンから所定の距離以内で探索をおこなっても、二番目の欠落スリットパターンが見つからないときS113には、第一の欠落スリットパターンの種別によって、第一の欠落スリットパターンがS41~S44のどの欠落スリットパターンであったか判定することが可能となるS114。なお、ここでの所定の距離とは欠落スリットパターンS41とS42との距離とほぼ等しい。もし、第一の欠落スリットパターンの種別がAパターンであった場合には、二番目の欠落スリットパターンが所定の距離移動しても見つからないことから、その第一の欠落スリットパターンは欠落スリットパターンS42であることが分かりS116、それにより第一の欠落スリットパターンの仮絶対位置は絶対位置L1と等しくなる。同様に、第一の欠落スリットパターンの種別がパターンBであった場合には、第一の欠落スリットパターンはS44であることがわかりS118、その結果絶対位置R2が求まるS119。一方、探索により第二の欠落スリットパターンが見つかった場合には、その第一および第二の欠落スリットパターンの種別から、絶対位置R1、L2を求めることができる。このように、駆動方向と2つの種別の欠落スリットパターンの検出順序によって、それぞれの欠落スリットパターンS41~44を識別することができ、それによって絶対位置を求めることができる。"