"表示基板と、表示電極と、前記表示電極上に設けられたエレクトロクロミック層と、対向基板と、前記対向基板上に各々分離して設けられた複数の駆動素子と、前記複数の駆動素子上に設けられた複数の画素電極と、前記複数の画素電極上に連続層として設けられた電荷保持層と、前記表示電極と前記電荷保持層とに挟まれるように設けられた電解質層とを有し、前記電荷保持層が、導電体微粒子又は半導体微粒子とポリマーの混合膜からなるエレクトロクロミック表示素子。前記電荷保持層は、表面抵抗が1.0E06Ω/□以上の高抵抗層であることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロクロミック表示素子。請求項1又は2に記載のエレクトロクロミック表示素子と、表示データが格納されるVRAMと、前記VRAMに格納されている表示データに基づいて前記エレクトロクロミック表示素子を制御する表示コントローラと、を備える表示装置。請求項3に記載の表示装置と、前記表示装置に情報を表示する制御装置と、を備える情報機器。エレクトロクロミック表示素子を用いた実用的な電子ペーパーの開発に当たっては、駆動素子としてTFTが多用されることになるが、TFTには複数の画素電極対向電極となるが微小間隔をおいて配置されている。このような画素電極上に特許文献4に開示されているような低抵抗層を形成する場合、それぞれの画素電極上にのみ、分離形成する必要があった。なお、このとき、複雑な作製工程を嫌って簡単化のために低抵抗層を複数の画素電極上に連続層としてベタ形成すれば、発色/消色駆動時の電荷拡散により、発色にじみ、画像ボケがおこり、所望の形状に発色させることができなくなったり、場合によっては発色不全が生じて著しく表示品質を損なうことになる。また、一般的にエレクトロクロミック表示素子では、電極特に対向電極として用いる金属または導電性金属酸化物などが、電解質層との接触により侵食され劣化する場合が多く、実用的にはこれを防ぐための電極に対する何らかの保護層が必要であった。本発明は、かかる事情の下になされたもので、その第1の目的は、低コストで簡単な工程により表示性に優れたエレクトロクロミック表示素子を提供することにある。また、本発明の第2の目的は、高コスト化を招くことなく、情報を優れた解像度で表示することができる表示装置を提供することにある。また、本発明の第3の目的は、高コスト化を招くことなく、情報を優れた解像度で表示することができる情報機器を提供することにある。本発明は、第1の観点からすると、表示基板と、表示電極と、前記表示電極上に設けられたエレクトロクロミック層と、対向基板と、前記対向基板上に各々分離して設けられた複数の駆動素子と、前記複数の駆動素子上に設けられた複数の画素電極と、前記複数の画素電極上に連続層として設けられた電荷保持層と、前記表示電極と前記電荷保持層とに挟まれるように設けられた電解質層とを有し、前記電荷保持層が、導電体微粒子又は半導体微粒子とポリマーの混合膜からなるエレクトロクロミック表示素子である。これによれば、低コストで簡単な工程により表示性に優れたエレクトロクロミック表示素子を実現することができる。本発明は、第2の観点からすると、本発明のエレクトロクロミック表示素子と、表示データが格納されるVRAMと、前記VRAMに格納されている表示データに基づいて前記エレクトロクロミック表示素子を制御する表示コントローラと、を備える表示装置である。これによれば、高コスト化を招くことなく、情報を優れた解像度で表示することができる。本発明は、第3の観点からすると、本発明の表示装置と、前記表示装置に情報を表示する制御装置と、を備える情報機器である。これによれば、高コスト化を招くことなく、情報を優れた解像度で表示することができる。以下、本発明の一実施形態を図1~図6に基づいて説明する。図1には、一実施形態に係る情報機器としての電子書籍リーダ100の概略構成が示されている。この電子書籍リーダ100は、表示装置110、メインコントローラ120、ROM130、RAM132、フラッシュメモリ134、キャラクタジェネレータ136、インターフェース138などを備えている。なお、図1における矢印は、代表的な信号や情報の流れを示すものであり、各ブロックの接続関係の全てを表すものではない。ROM130には、メインコントローラ120にて解読可能なコードで記述された各種プログラム、及びプログラムの実行に必要な各種データが格納されている。RAM132は、作業用のメモリである。フラッシュメモリ134には、コンテンツである書籍の電子データが格納されている。キャラクタジェネレータ136には、各種キャラクタデータに対応するドットデータが格納されている。インターフェース138は、外部機器との接続を制御する。このインターフェース138には、メモリカード、パソコン、公衆回線を接続することが可能である。なお、パソコン及び公衆回線への接続は、有線、無線いずれも可能である。表示装置110は、タッチパネル付きの表示パネル10、VRAM41、表示コントローラ43、タッチパネルドライバ45などを有している。表示パネル10は、複数画素ドットからなる画像をフルカラーで表示することができる表示パネルである。VRAM41には、表示パネル10に表示するデータ以下では、表示データと略述するが格納される。なお、ここに格納される表示データは、表示パネル10の複数画素に個別に対応しており、画素毎に表示色情報を含んでいる。表示コントローラ43は、所定のタイミング毎にVRAM41に格納されている表示データを読み出し、該表示データに応じて、表示パネル10における複数画素の表示色を個別に制御する。ここでは、表示コントローラ43は、発色させる画素を特定するための画素選択信号と、その色を特定するための色指定信号とを表示パネル10に出力する。タッチパネルドライバ45は、表示パネル10上においてユーザがタッチした位置情報をメインコントローラ120に出力する。メインコントローラ120は、ROM130に格納されているプログラムに従って上記各部を統括的に制御する。例えば、メインコントローラ120は、ユーザによって電源がオンされると、初期メニュー画面データをROM130から読み出し、キャラクタジェネレータ136を参照してドットデータに変換し、VRAM41に転送する。これによって、初期メニュー画面が表示パネル10に表示される。このとき、フラッシュメモリ134に格納されているコンテンツの一覧が表示される。表示パネル10上のメニューの1つがユーザによって選択され、その表示部分がタッチされると、メインコントローラ120は、タッチパネルドライバ45からの位置情報に基づいて、ユーザの選択内容を取得する。例えば、ユーザがコンテンツを指定し、該コンテンツの閲覧を要求した場合には、メインコントローラ120は、該コンテンツの電子データをフラッシュメモリ134から読み出し、キャラクタジェネレータ136を参照してドットデータに変換し、VRAM41に転送する。また、例えば、ユーザがインターネットを介したコンテンツの購入を要求した場合には、メインコントローラ120は、インターフェース138を介して所定の購入サイトに接続し、通常のブラウザとして機能する。すなわち、該購入サイトからの情報が表示パネル10に表示される。そして、ユーザがコンテンツを購入し、該コンテンツの電子データがダウンロードされると、該コンテンツの電子データをフラッシュメモリ134に格納する。次に、表示パネル10について説明する。この表示パネル10は、複数のエレクトロクロミック表示素子、及びそれらを個別に駆動する駆動回路を含んでいる。各エレクトロクロミック表示素子の構造が図2に示されている。このエレクトロクロミック表示素子20は、表示基板21、第1表示電極22、第1エレクトロクロミック層23、絶縁層24、第2表示電極25、第2エレクトロクロミック層26、絶縁層27、第3表示電極28、第3エレクトロクロミック層29、電解質層30、白色反射層31、電荷保持層32、複数の画素電極33、TFT層34、対向基板35などを有している。なお、ここでは、XYZ3次元直交座標系において、表示基板21の表面に直交する方向をZ軸方向として説明する。表示基板21は、透明な基板であり、ガラス及びプラスチックフィルムを用いることができる。第1表示電極22は、第1エレクトロクロミック層23を発色させるための電極である。第2表示電極25は、第2エレクトロクロミック層26を発色させるための電極である。第3表示電極28は、第3エレクトロクロミック層29を発色させるための電極である。各表示電極は、いわゆる透明電極であり、スズがドープされた酸化インジウムITO、フッ素がドープされた酸化スズFTO、アンチモンがドープされた酸化スズATOなどを用いることができる。第1エレクトロクロミック層23は、シアン色を発色するエレクトロクロミック層である。第2エレクトロクロミック層26は、マゼンタ色を発色するエレクトロクロミック層である。第3エレクトロクロミック層29は、イエロー色を発色するエレクトロクロミック層である。各エレクトロクロミック層での発色は、対応する表示電極と画素電極33との間に印加される電圧の大きさによって、その諧調を異ならせることができる。各エレクトロクロミック層は、色素系、ポリマー系、金属錯体系、金属酸化物系等の公知のエレクトロクロミック化合物を含んでいる。色素系及びポリマー系のエレクトロクロミック化合物としては、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、ジピリジン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系などの低分子系有機エレクトロクロミック化合物、及びポリアニリン、ポリチオフェンなどの導電性高分子化合物を用いることができる。このとき、ビオロゲン系化合物例えば、特許3955641号公報、特開2007-171781号公報参照又はジピリジン系化合物例えば、特開2007-171781号公報、特開2008-116718号公報参照を含むことが好ましい。これらの材料は、発色及び消色の電位が低く、良好な色値を示す。また、金属酸化物系のエレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化インジウム、酸化チタン、酸化ニッケル、酸化バナジウム、プルシアンブルーなどを用いることができる。ここでは、エレクトロクロミック化合物は、一例として図3に示されるように、導電性微粒子又は半導体性微粒子に担持されている。具体的には、対応する表示電極の表面に粒径5nm~50nm程度の微粒子を塗布し、表示電極と微粒子、及び微粒子同士が部分的に接合するように、所定の条件で温度及び時間加熱した。そして、該微粒子の表面にホスホン酸、カルボキシル基、シラノール基などの極性基を有する有機エレクトロクロミック化合物を吸着させている。この構造は、微粒子の大きな表面積を利用して、効率良く有機エレクトロクロミック化合物に電子が注入されるため、発色したときの色の濃度が高く、さらに発色及び消色の速度が速い。さらに、微粒子を用いることで、エレクトロクロミック層を透明な層とすることができるため、発色していないときに高い白反射率を得ることができる。なお、微粒子に複数種類の有機エレクトロクロミック化合物を担持させることも可能である。導電性微粒子及び半導体性微粒子としては特に限定されるものではないが、金属酸化物が好ましい。例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ホウ素、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、アルミノケイ酸、リン酸カルシウム、アルミノシリケート等を主成分とする金属酸化物を用いることができる。また、これらの金属酸化物は、単独で用いられても良いし、2種以上が混合されて用いられても良い。なお、発色及び消色に関して速い応答速度が要求される場合には、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化インジウム、及び酸化タングステンのいずれか、もしくはそれらの混合物を用いるのが好ましい。特に、酸化チタンを用いると、応答速度に優れた表示が可能である。また、導電性微粒子及び半導体性微粒子の形状は、特に限定されるものではないが、単位体積当たりの表面積比表面積が大きい形状であることが好ましい。例えば、導電性微粒子及び半導体性微粒子がナノ粒子の集合体であるときは、大きな比表面積を有するため、より効率的にエレクトロクロミック化合物を担持することができる。絶縁層24は、第1エレクトロクロミック層23と第2表示電極25との間に設けられ、それらを電気的に絶縁する。絶縁層27は、第2エレクトロクロミック層26と第3表示電極28との間に設けられ、それらを電気的に絶縁する。そこで、第1エレクトロクロミック層23、第2エレクトロクロミック層26、及び第3エレクトロクロミック層29の発色及び消色を個別に制御することができ、フルカラー表示が可能である。各絶縁層の材料としては、多孔質の絶縁体であれば良く、特に限定されるものではないが、絶縁性及び耐久性が高く、成膜性に優れた材料が好ましい。特に好ましいのは、少なくともZnSを含む材料である。ZnSはスパッタリングにより高速成膜が可能であるとともに、エレクトロクロミック層にダメージを与えることなく成膜することができる。ZnSを主成分とする膜としては、ZnS-SiO2、ZnS-SiC、ZnS-Si、ZnS-Geなどが挙げられる。電解質層30は、各表示電極と対向電極との間でイオンを移動させることで電荷を移動させ、各エレクトロクロミック層における発色反応及び消色反応を起こすためのものである。そこで、各エレクトロクロミック層は、電解質層30の中に設けられている。電解質層30の材料としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩などの無機イオン塩、4級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩を用いることができる。具体的には、LiClO4、LiBF4、LiAsF6、LiPF6、LiCF3SO3、LiCF3COO、KCl、NaClO3、NaCl、NaBF4、NaSCN、KBF4、MgClO42、MgBF42などを挙げることができる。また、電解質層30の材料として、イオン性液体を用いることも可能である。特に、有機のイオン性液体は、室温を含む幅広い温度領域で液体を示す分子構造を有している。該分子構造の例としては、カチオン成分としてN、N-ジメチルイミダゾール塩、N、N-メチルエチルイミダゾール塩、N、N-メチルプロピルイミダゾール塩などのイミダゾール誘導体、N、N-ジメチルピリジニウム塩、N、N-メチルプロピルピリジニウム塩などのピリジニウム誘導体など芳香族系の塩、または、トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩などのテトラアルキルアンモニウムなど脂肪族4級アンモニウム系が挙げられる。アニオン成分としては、大気中での安定性の面でフッ素を含んだ化合物が良く、BF4-、CF3SO3-、PF4-、CF3SO22N-などが挙げられる。また、上記カチオン成分とアニオン成分の組み合わせにより処方したイオン性液体を用いることができる。これらは、光重合性モノマー、オリゴマー、及び液晶材料のいずれかに直接溶解させても良い。なお、溶解性が悪い場合は、少量の溶媒例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ―ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、-ジメトキシエタン、-エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類などに溶解させ、この溶液を光重合性モノマー、オリゴマー、及び液晶材料のいずれかと混合して用いれば良い。白色反射層31は、白色反射率を向上させるためのものである。この白色反射層31は、電解質層30内に白色顔料粒子を分散させることによって形成することができる。白色顔料粒子の材料としては、例えば、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、シリカ、酸化セシウム、酸化イットリウムなどを用いることができる。電荷保持層32は、各表示電極と複数の画素電極33との間での電荷の授受においてバッファ的に作用して、各表示電極と複数の画素電極33との間に印加される電圧を低減する。その結果として、発色と消色の繰り返し耐久性を改善することができる。電荷保持層32の材料としては、導電体微粒子又は半導体微粒子と、ポリマーとの混合膜を用いることができる。該混合膜におけるポリマーの材料には、特別な制約はなく、例えば、アクリル系、アルキド系、フッ素系、イソシアネート系、ウレタン系、アミノ系、エポキシ系、フェノール系などを用いることができる。上記混合膜における導電体微粒子としては、例えば、ITO、FTO、ATOなどを用いることができる。また、上記混合膜における半導体微粒子としては、例えば、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、クロム、モリブデン、タングステン、バナジウム、ニオブ、タンタル、銀、亜鉛、ストロンチウム、鉄、ニッケルなどの酸化物を用いることができる。上記混合膜は、ポリマー材料と微粒子材料を混合して分散媒に分散させ、スピンコーティング、ブレードコーティング、あるいはその他の印刷手法を用いて画素電極33上に塗布することによって形成することができる。この場合、画素電極33上のみに選択的に塗布する必要はなく、画素電極33と画素電極33との間の部分にも塗布されても良い。これにより、製造の際の作業性が向上し、電荷保持層がない場合に比べて、製造コストの上昇を抑えることができる。電荷保持層32では、ポリマー材料と微粒子材料の混合比、形成される混合膜の膜厚などについての特別な制約はないが、得られた混合膜の表面抵抗が1.0E06Ω/□以上であることが必要である。発明者らは、電荷保持層32がこの条件を満たす場合に、エレクトロクロミック表示素子20の駆動電圧が上昇せずに安定化するとともに、良好な発色及び消色が可能となり、それにより繰り返し耐久性も向上し、かつ、膜平面方向への電荷の拡散が抑制されて発色時のボケが抑えられて解像度の確保が可能になることを見出した。具体的には、各画素電極を発色及び消色させるための電荷が隣接画素の発色及び消色に影響を与えることなく、シャープな画像が得られることを確認した。ところで、各エレクトロクロミック層のエレクトロクロミック化合物は、いずれも酸化発色材料であるか、あるいは、いずれも還元発色材料であることが好ましい。このとき、各エレクトロクロミック層のエレクトロクロミック化合物が、いずれも酸化発色材料である場合には、ポリマーと混合する微粒子材料としてはATOが特に好ましい。一方、各エレクトロクロミック層のエレクトロクロミック化合物が、いずれも還元発色材料である場合には、ポリマーと混合する微粒子材料としては酸化タングステンが特に好ましい。いずれの場合も、他の材料を用いるよりもエレクトロクロミック表示素子20の駆動電圧が低下し、繰り返し耐久性が向上した。複数の画素電極33は、各表示電極の電位を制御する電極であり、表示パネル10の複数画素に対応して設けられている。各画素電極33の材料は、導電性を有する材料であれば、特に限定されるものではないが、ITO、FTO、酸化亜鉛などの透明な導電膜、あるいは亜鉛、白金などの導電性金属膜、さらにはカーボンなどを用いることができる。そこで、第1表示電極22と画素電極33との間の電位を制御することにより、第1エレクトロクロミック層23の発色及び消色を制御することができる。また、第2表示電極25と画素電極33との間の電位を制御することにより、第2エレクトロクロミック層26の発色及び消色を制御することができる。また、第3表示電極28と画素電極33との間の電位を制御することにより、第3エレクトロクロミック層29の発色及び消色を制御することができる。各画素電極33と対向基板35との間には、各画素電極33に対応した複数の駆動素子を有するTFT層34が設けられている。すなわち、複数の画素電極は、複数の駆動素子の上に設けられている。ここでは、表示コントローラ43からの前記画素選択信号によって、その選択された画素に対応する駆動素子が駆動し、選択された画素に所定の電圧が印加される。なお、画素選択信号は、例えば、従来の液晶ディスプレイと同様に、選択される画素の縦方向の位置と横方向の位置とを指定する信号である。また、表示コントローラ43からの前記色指定信号によって、その指定色に応じて、対応する表示電極に所定の電圧が印加される。次に、エレクトロクロミック表示素子20の製造方法について説明する。1電解質の前駆体材料の調製過塩素酸テトラブチルアンモニウムTBAPの炭酸プロピレン溶液を調製する。ここでのTBAP濃度は、2mol/lである。これに、DIC株製のPNLC用の液晶組成物、モノマー組成物、及び重合開始剤の混合物製品名:PNM-170を混合する。この溶液におけるTBAP濃度が約0.04mol/lになるように調整し、電解質層の前駆体材料とする。そして、作製される電解質層の層厚を規定するために、粒径10μmの真球状樹脂ビーズを0.2wt濃度で上記電解質の前駆体材料に分散させる。2各表示電極、各エレクトロクロミック層及び白色反射層の作製表示基板21としてのガラス基板40mm×40mmの表面全面にスパッタ法により約100nmのITO膜を形成し、第1表示電極22を作製する。この第1表示電極22の表面抵抗は約200Ωであった。この上に、酸化チタンのナノ粒子分散液SP210:昭和タイタニウム社製をスピンコートし、120°C、15分のアニール処理により、酸化チタン粒子膜を形成する。この上に、エレクトロクロミック化合物である、4,4’-isooxazole-3,5-diylbis1-2-phosphonoethylpyridiniumbromideを1wt含む2、2、3、3-テトラフロロプロパノール以下ではTFPという溶液をスピンコートし、120°C、10分のアニール処理により、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第1エレクトロクロミック層23を形成する。この上に、ポリNビニルアミドの0.1wtエタノール溶液、ポリビニルアルコールの0.5wt水溶液をスピンコート法により塗布することによって保護層を形成する。この上に、8:2の組成比を有するZnS-SiO2を、スパッタ法により140nmの膜厚になるように成膜し絶縁層24を形成する。この上に、ITO膜をスパッタ法により約100nmの厚さになるように成膜することによって、第2表示電極25を形成する。この第2表示電極25の表面抵抗は約200Ωであった。この上に、酸化チタンナノ粒子分散液としてSP210をスピンコート法により塗布し、120°C、15分のアニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子膜を形成する。この上に、エレクトロクロミック化合物である、4,4’-1-phenyl-1H-pyrrole-2,5-diylbis1-4-phosphonomethylbenzylpyridiniumbromideを1wt含むTFP溶液をスピンコート法により塗布し、120°C、10分のアニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第2エレクトロクロミック層26を形成する。この上に、ポリNビニルアミドの0.1wtエタノール溶液、ポリビニルアルコールの0.5wt水溶液をスピンコート法により塗布することによって保護層を形成する。この上に、8:2の組成比を有するZnS-SiO2を、スパッタ法により140nmの膜厚になるように成膜することによって絶縁層27を形成する。この上に、ITO膜をスパッタ法により約100nmの厚さになるように成膜することによって、第3表示電極28を形成する。この第3表示電極28の表面抵抗は約200Ωであった。その上に、酸化チタンナノ粒子分散液としてSP210をスピンコート法により塗布し、120°C、15分のアニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子膜を形成する。その上に、エレクトロクロミック化合物である4,4’-4,4’-1,3,4-oxadiazole-2,5-diylbis4,1-phenylenebis1-8-phosphonooctylpyridiniumbromideを1wt含むTFP溶液をスピンコート法により塗布し、120°C、10分のアニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第3エレクトロクロミック層29を形成する。その上に、酸化チタン及び水性ポリウレタン樹脂のTFP分散液をスピンコートし、120°C、10分のアニール処理により白色反射層31を形成する。そして、各表示電極、各エレクトロクロミック層及び白色反射層31を壁部材図2参照で取り囲む。なお、ここで作成された各表示電極、各エレクトロクロミック層、白色反射層31及び壁部材からなる構成体を、便宜上、第1構成体という。3複数の画素電極及び電荷保持層の作製対向基板35としてのガラス基板40mm×40mm上に、140ppiの密度で複数の駆動素子を有するTFT層34を形成する。TFT層34の全面にスパッタ法により約100nmのITO膜を形成した後、フォトリソグラフィにより、複数の駆動素子に対応する複数の画素電極33を作製する。その上に、水性ポリウレタン樹脂及びATOナノ粒子三菱マテリアル社製のTFP分散液ATOとポリマーの混合比は重量比で45:55をスピンコートし、120°C、15分のアニール処理により、電荷保持層32を形成する。ここでは、電荷保持層の厚さは0.64μmであり、その表面抵抗は1.0E06Ω/□であった。なお、ここで作成された複数の画素電極及び電荷保持層32からなる構成体を、便宜上、第2構成体という。4エレクトロクロミック表示素子の作製上記2で作製された第1構成体における白色反射層の上から、上記1で調製された電解質の前駆体材料を塗布注入する。その上に、工程3で作製された第2構成体における電荷保持層32を重ね合わせる。高圧水銀ランプにより、中心波長が365nmの紫外線を、50mW/cm2の照射光強度で、複数の画素電極側から2分間照射し、前駆体材料を光重合相分離させ、電解質層30を形成する。次に、このようにして作製されたエレクトロクロミック表示素子の駆動素子を所定の方法で駆動したところ、第1エレクトロクロミック層23、第2エレクトロクロミック層26、及び第3エレクトロクロミック層29のそれぞれが対応する画像を表示し、鮮明なカラー画像を得ることができた。このとき、駆動開始から画像が得られるまでの時間は、約500ミリ秒であった。また、画像の消去に要した時間も約500ミリ秒であった。上記カラー画像を表示させた後、30分静置したが、画像の見え方に変化はなく、画像のボケは認識できなかった。続いて、カラー画像の表示と消去を交互に1000回繰り返した後であっても、画像の表示状態には特別な変化は見られなかった。ところで、電荷保持層32の効果を確認するため、図4に示されるような評価用のエレクトロクロミック表示素子20Aを作製した。なお、前述したエレクトロクロミック表示素子20と同一若しくは同等の構成部分については同一の符号を用い、その説明を簡略化し若しくは省略するものとする。この場合は、1つのエレクトロクロミック層23のみを有し、画素電極33に代えて、ライン幅が150μm、スペースが150μm、ライン長が40mmのストライプパターンを形成し、対向電極36とした。エレクトロクロミック表示素子20Aの表示電極22を負極、対向電極36を正極として、6Vの電圧を印加したところ、対向電極36のストライプパターンの形に合わせて、エレクトロクロミック層23が発色した。この発色は約500ミリ秒で高速に起こった。次に、-6Vの電圧を印加したところ約500ミリ秒で高速に消色した。また、エレクトロクロミック層23が発色した状態で30分静置したが、発色パターンは発色直後と変化がなく、画像のボケは認識できなかった。これを測長可能な顕微鏡で詳細に計測したところ、発色しているストライプ幅は158μmであり、電荷の拡散による発色滲みの幅はわずか4μmと微小であった。また、エレクトロクロミック表示素子20Aに対し、発色及び消色の繰り返しを1000回行なったが、発色及び消色の動作に変化は見られず、発色時の表示欠陥も見られなかった。比較例1として、図5に示されるように、エレクトロクロミック表示素子20Aにおける電荷保持層32が形成されていないエレクトロクロミック表示素子20Bを作製した。エレクトロクロミック表示素子20Bの表示電極22を負極、対向電極36を正極として、6Vの電圧を印加したところ、対向電極36のストライプパターンの形に合わせて、エレクトロクロミック層23が発色した。この発色は約500ミリ秒で高速に起こった。次に、-6Vの電圧を印加したところ約500ミリ秒で高速に消色した。また、エレクトロクロミック層23が発色した状態で30分静置したが、発色パターンは発色直後と変化がなく、画像のボケは認識できなかった。しかしながら、エレクトロクロミック表示素子20Bに対し、発色及び消色の繰り返しを行ったところ、繰り返し回数が400回程度から徐々に、発色濃度の低下及び発色時の表示欠陥濃度ムラが顕著になり、繰り返し回数が1000回になると、ほとんど発色しない状態になった。比較例2として、エレクトロクロミック表示素子20Aにおける電荷保持層32の膜厚が2.3μmであり、表面抵抗が2.0E05Ω/□であるエレクトロクロミック表示素子20Cを作製した。エレクトロクロミック表示素子20Cの表示電極22を負極、対向電極36を正極として、6Vの電圧を印加したところ、発色直後においてすでに画像ボケが著しく、ストライプパターンが認識できなかった。なお、エレクトロクロミック表示素子20Cに対し、発色及び消色の繰り返しを1000回行なったが、発色及び消色の動作に変化は見られなかった。比較例3として、エレクトロクロミック表示素子20Aにおける電荷保持層32の膜厚が1.1μmであり、表面抵抗が6.2E05Ω/□であるエレクトロクロミック表示素子20Dを作製した。エレクトロクロミック表示素子20Dの表示電極22を負極、対向電極36を正極として、6Vの電圧を印加したところ、発色直後においてすでに画像ボケが著しく、ストライプパターンが認識できなかった。なお、エレクトロクロミック表示素子20Dに対し、発色及び消色の繰り返しを1000回行なったが、発色及び消色の動作に変化は見られなかった。比較例4として、エレクトロクロミック表示素子20Aにおける電荷保持層32の膜厚が0.85μmであり、表面抵抗が8.9E05Ω/□であるエレクトロクロミック表示素子20Eを作製した。エレクトロクロミック表示素子20Eの表示電極22を負極、対向電極36を正極として、6Vの電圧を印加したところ、発色直後はストライプパターンが認識できたものの、数分のうちに画像ボケによりストライプパターンが認識できなくなった。なお、エレクトロクロミック表示素子20Eに対し、発色及び消色の繰り返しを1000回行なったが、発色及び消色の動作に変化は見られなかった。比較例5として、水性ポリウレタン樹脂及びATOナノ粒子三菱マテリアル社製のTFP分散液におけるATOとポリマーの混合比重量比が30/70であり、形成された電荷保持層の膜厚が1.6μm、その表面抵抗が9.3E05Ω/□のエレクトロクロミック表示素子20Fを作製した。エレクトロクロミック表示素子20Fの表示電極22を負極、対向電極36を正極として、6Vの電圧を印加したところ、発色直後はストライプパターンが認識できたものの、数分のうちに画像ボケによりストライプパターンが認識できなくなった。なお、エレクトロクロミック表示素子20Fに対し、発色及び消色の繰り返しを1000回行なったが、発色及び消色の動作に変化は見られなかった。エレクトロクロミック表示素子20Aの変形例1として、電荷保持層の膜厚が0.35μm、その表面抵抗が3.1E06Ω/□のエレクトロクロミック表示素子20A1を作製した。このエレクトロクロミック表示素子20A1は、発色/消色動作、画像ボケ、繰り返し耐久性の全てにおいてエレクトロクロミック表示素子20Aとほぼ同様の結果が得られた。エレクトロクロミック表示素子20Aの変形例2として、水性ポリウレタン樹脂及びATOナノ粒子三菱マテリアル社製のTFP分散液におけるATOとポリマーの混合比重量比が30/70であり、形成された電荷保持層の膜厚が1.2μm、その表面抵抗が1.5E06Ω/□のエレクトロクロミック表示素子20A2を作製した。このエレクトロクロミック表示素子20A2は、発色/消色動作、画像ボケ、繰り返し耐久性の全てにおいてエレクトロクロミック表示素子20Aとほぼ同様の結果が得られた。エレクトロクロミック表示素子20Aの変形例3として、水性ポリウレタン樹脂及びATOナノ粒子三菱マテリアル社製のTFP分散液におけるATOとポリマーの混合比重量比が30/70であり、形成された電荷保持層の膜厚が0.84μm、その表面抵抗が6.1E06Ω/□のエレクトロクロミック表示素子20A3を作製した。このエレクトロクロミック表示素子20A3は、発色/消色動作、画像ボケ、繰り返し耐久性の全てにおいてエレクトロクロミック表示素子20Aとほぼ同様の結果が得られた。エレクトロクロミック表示素子20Aの変形例4として、水性ポリウレタン樹脂及びATOナノ粒子三菱マテリアル社製のTFP分散液におけるATOとポリマーの混合比重量比が30/70であり、形成された電荷保持層の膜厚が0.43μm、その表面抵抗が1.0E07Ω/□のエレクトロクロミック表示素子20A4を作製した。このエレクトロクロミック表示素子20A4は、発色/消色動作、画像ボケ、繰り返し耐久性の全てにおいてエレクトロクロミック表示素子20Aとほぼ同様の結果が得られた。これらのことから、図6に示されるように、電荷保持層を有し、しかもその表面抵抗が1.0E06Ω/□以上であれば、画像ボケが小さく、繰り返し耐久性に優れたエレクトロクロミック表示素子を得ることが可能であることが明らかである。以上説明したように、本実施形態に係るエレクトロクロミック表示素子20によると、表示基板21、第1表示電極22、第1エレクトロクロミック層23、絶縁層24、第2表示電極25、第2エレクトロクロミック層26、絶縁層27、第3表示電極28、第3エレクトロクロミック層29、電解質層30、白色反射層31、電荷保持層32、複数の画素電極33、TFT層34、対向基板35などを有している。そして、電荷保持層32は、導電体微粒子又は半導体微粒子と、ポリマーとの混合膜であり、その表面抵抗は1.0E06Ω/□以上である。この場合は、発色と消色の繰り返し耐久性に優れ、かつ画像ボケを極めて小さくすることができる。その結果、表示パネル10は、解像度に優れた表示を安定して行うことができる。また、簡便な方法及び作製工程により作製することができるため、製造コストを低く抑えることができる。すなわち、低コストで簡単な工程により表示性に優れたエレクトロクロミック表示素子を実現することが可能である。そして、表示装置110は、表示パネル10を備えているため、高コスト化を招くことなく、指定された情報を優れた解像度で表示することができる。そして、電子書籍リーダ100は、表示装置110を備えているため、結果として、高コスト化を招くことなく、ユーザが指定したコンテンツを優れた解像度で表示することができる。なお、上記実施形態では、エレクトロクロミック表示素子20が、3つのエレクトロクロミック層を有する場合について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、モノクロ表示のみの場合には、1つのエレクトロクロミック層のみを有しても良い。また、上記実施形態において、表示装置110がキャラクタジェネレータ136を有していても良い。また、上記実施形態において、他の入力手段がある場合は、前記表示パネル10は、タッチパネル付きでなくても良い。この場合は、タッチパネルドライバ45は不要である。また、上記実施形態では、情報機器として電子書籍リーダ100の場合について説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、電子広告、モバイルパソコン、携帯端末などであっても良い。要するに、表示装置110を備えた情報機器であれば良い。"