"第1のλ/2板210,230と第2のλ/2板220,240とを含む少なくとも1つの対、を含み、前記第1のλ/2板210,230と前記第2のλ/2板220,240は、互いに部分的に重なり、重ね合わせ領域A,C及び少なくとも1つの非重ね合わせ領域B-1,B-2;D-1,D-2を形成する、ことを特徴とする偏光影響光学装置200。前記重ね合わせ領域A,Cは、前記第1のλ/2板210,230のみが存在する第1の非重ね合わせ領域B-1;D-1と前記第2のλ/2板220,240のみが存在する第2の非重ね合わせ領域B-2;D-2との間に配置されることを特徴とする請求項1に記載の偏光影響光学装置。前記重ね合わせ領域A,C及び前記少なくとも1つの非重ね合わせ領域B-1,B-2;D-1,D-2の各々は、円セグメントの形状の幾何学形状のものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の偏光影響光学装置。前記重ね合わせ領域A,Cを形成する前記円セグメントは、前記少なくとも1つの非重ね合わせ領域B-1,B-2;D-1,D-2を形成する前記円セグメントとは異なる開き角を有することを特徴とする請求項3に記載の偏光影響光学装置。前記第1のλ/2板210,230は、第1の複屈折速軸fa-1を有し、前記第2のλ/2板220,240は、第2の複屈折速軸fa-2を有し、該第1の速軸fa-1と該第2の速軸fa-2は、互いに対して45°±5°の角度で配置されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置。前記重ね合わせ領域A,Cにおいて装置200上に入射する第1の直線偏光光ビームの振動面が、第1の回転角だけ回転され、前記少なくとも1つの非重ね合わせ領域B-1,B-2;D-1,D-2において装置上に入射する第2の直線偏光光ビームの振動面が、第2の回転角だけ回転され、該第1の回転角は、該第2の回転角とは異なることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置。前記第1のλ/2板210,230のみを通過する第2の直線偏光光ビームの前記振動面及び前記第2のλ/2板220,240のみを通過する第3の直線偏光光ビームの前記振動面は、それぞれ、第2及び第3の回転角だけ回転され、該第2の回転角は、該第3の回転角とは異なることを特徴とする請求項6に記載の偏光影響光学装置。前記第2の回転角と前記第3の回転角は、マグニチュードが同じであり、かつ反対の符号のものであることを特徴とする請求項7に記載の偏光影響光学装置。前記第1のλ/2板210,230と前記第2のλ/2板220,240は、前記互いの重ね合わせ領域A,C内で90°回転子を形成することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置。前記2つの対は、それぞれの第1のλ/2板210,230とそれぞれの第2のλ/2板220,240を含み、該第1の対と該第2の対は、装置200の対称軸の互いに反対の側に配置されることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置。マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置200、を含み、前記偏光影響光学装置200は、重ね合わせ領域A,C及び同じく少なくとも1つの非重ね合わせ領域B-1,B-2;D-1,D-2の両方が少なくとも部分的に光学系の光学有効領域内に配置されるように光学系に配置される、ことを特徴とする光学系。前記偏光影響光学装置200は、光学系の作動時に、該装置上に入射する光ビームの光ビーム断面にわたって一定である好ましい偏光方向を有する直線偏光分布410を近似的なタンジェンシャル偏光分布420に変換することを特徴とする請求項11に記載の光学系。前記第1のλ/2板210,230は、前記装置200上に入射する光ビームの前記好ましい偏光方向に対して22.5°±2°の角度で延びる第1の複屈折速軸fa-1を有し、前記第2のλ/2板220,240は、該装置200上に入射する光ビームの該好ましい偏光方向に対して-22.5°±2°の角度で延びる第2の複屈折速軸fa-2を有することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の光学系。照明系と投影対物系とを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、照明系110及び/又は投影対物系130が、請求項11から請求項13のいずれか1項に記載の偏光影響光学装置200又は光学系を有する、ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。微細構造構成要素をマイクロリソグラフィ製造する方法であって、感光材料の層が少なくとも部分的に適用された基板140を準備する段階と、結像される構造を有するマスク125を準備する段階と、請求項14に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置100を準備する段階と、前記マスク125の少なくとも一部を前記投影露光装置100を用いて前記層のある一定の領域上に投影する段階と、を含むことを特徴とする方法。本発明の目的は、望ましい偏光分布を具備する上で高い柔軟性を可能にする偏光影響光学装置とマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系とを提供することである。この目的は、独立請求項1に記載の特徴による装置、及び請求項11に記載の特徴による光学系によって遂げられる。偏光影響光学装置は、第1のλ/2板と第2のλ/2板とを含む少なくとも1つの対を含み、第1のλ/2板と第2のλ/2板は、互いに部分的に重なり、重ね合わせ領域及び少なくとも1つの非重ね合わせ領域を形成する。本発明による偏光影響光学装置の構成は、互いに異なる偏光照明設定をこれらの照明設定の間の変更に対して偏光影響光学装置を交換又はその位置に関して変更する必要なく、この装置の異なる領域の部分照明を用いて柔軟に設定することを可能にする。従って、本発明は、2つのλ/2板の部分重ね合わせによって少なくとも2つの領域を設け、これらの領域を光が通過する際にλ/2板のうちの片方だけを通過するか、両方のλ/2板を通過するか、又はλ/2板のうちのいずれをも通過しないかに依存して互いに異なる射出偏光分布を生成するという概念に基づいている。このようにして投影露光装置において可能になる異なる照明設定の柔軟な設定は、特に付加的な光学構成要素の必要なく行うことができ、それによって構造的な複雑さ及び経費、更に、例えば、リソグラフィ工程におけるコストが低減される。更に、上述のことによって付加的な光学構成要素の使用に伴う伝達損失が回避される。実施形態では、重ね合わせ領域は、第1のλ/2板のみが存在する第1の非重ね合わせ領域と、第2のλ/2板のみが存在する第2の非重ね合わせ領域との間に配置される。重ね合わせ領域及び少なくとも1つの非重ね合わせ領域の各々は、特に円セグメント形状にあるそれぞれの幾何学形状を有することができる。この場合、重ね合わせ領域を形成する円セグメントは、少なくとも1つの非重ね合わせ領域を形成する円セグメントとは異なる開き角を有することができる。実施形態では、第1のλ/2板は第1の複屈折速軸を有し、第2のλ/2板は第2の複屈折速軸を有し、第1の速軸と第2の速軸は、互いに対して45°±5°の角度で配置される。実施形態では、装置上に重ね合わせ領域内で入射する第1の直線偏光光ビームの振動面は、第1の回転角だけ回転され、装置上に少なくとも1つの非重ね合わせ領域内で入射する第2の直線偏光光ビームの振動面は、第2の回転角だけ回転され、第1の回転角は、第2の回転角とは異なる。実施形態では、第1のλ/2板のみを通過する第2の直線偏光光ビームの振動面及び第2のλ/2板のみを通過する第3の直線偏光光ビームの振動面は、それぞれ第2及び第3の回転角だけ回転され、第2の回転角は、第3の回転角とは異なる。実施形態では、第2の回転角と第3の回転角は、マグニチュードが同じであり、反対の符号のものである。実施形態では、第1のλ/2板と第2のλ/2板は、互いの重ね合わせ領域内で90°回転子を形成する。実施形態では、本発明による装置の各々は、それぞれの第1のλ/2板とそれぞれの第2のλ/2板とを含む2つの対を有し、第1の対と第2の対は、装置の対称軸の互いに反対の側に配置される。更に別の態様では、本発明は、本発明による偏光影響光学装置を含むマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系に関し、偏光影響光学装置は、光学系内で重ね合わせ領域及び同じく少なくとも1つの非重ね合わせ領域の両方が、少なくとも部分的に光学系の光学有効領域に配置されるように配置される。実施形態では、偏光影響光学装置は、光学系の作動時に、装置上に入射する光ビームの光ビーム断面にわたって一定の好ましい偏光方向を有する直線偏光分布を近似的なタンジェンシャル偏光分布に変換する。実施形態では、第1のλ/2板は、装置上に入射する光ビームの好ましい偏光方向に対して22.5°±2°の角度で延びる第1の複屈折速軸を有し、第2のλ/2板は、装置上に入射する光ビームの好ましい偏光方向に対して-22.5°±2°の角度で延びる第2の複屈折速軸を有する。本発明は、更に、マイクロリソグラフィ投影露光装置、及び微細構造構成要素のマイクロリソグラフィ製造のための方法に関する。本発明の更に別の構成は、本明細書及び特許請求の範囲において明らかになる。以下では、添付図面に図示の実施形態を用いて本発明をより詳細に説明する。図1は、光源ユニット101と、照明系110と、結像される構造を有するマスク125と、投影対物系130と、露光される基板140とを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置100の概略図である。光源ユニット101は、その光源としてDUV又はVUVレーザ、例えば、193nmのためのArFレーザ、157nmのためのF2レーザ、126nmのためのAr2レーザ、又は109nmのためのNe2レーザを含み、更に平行光ビームを生成するビーム形成光学手段を含む。光ビームの光線は直線偏光分布を有し、個々の光線の電界ベクトルの振動面は単一の方向に延びている。平行光ビームは、発散増大光学要素111上に入射する。発散増大光学要素111は、例えば、回折ラスタ要素又は屈折ラスタ要素のラスタ板とすることができる。各ラスタ要素は、ラスタ要素の広がり及び焦点距離によって決められる角度分散を有する光線束を生成する。ラスタ板は、その後の対物系112の物体平面内、又はその近位に配置される。対物系112は、可変直径の平行光ビームを生成するズーム対物系である。平行光ビームは、方向変更ミラー113により、アキシコン115を含む光学ユニット114へともたらされる。ズーム対物系112とアキシコン115との併用により、アキシコン要素のそれぞれのズーム設定及び位置によっては、瞳平面116内に異なる照明構成が生成される。瞳平面116内、又はその直近には偏光影響光学装置200が配置され、その構造及び動作モードを図2から図5を参照して以下に説明する。光学ユニット114にはレチクルマスキングシステムREMA118が続き、レチクルマスキングシステム118は、REMA対物系119によって構造保持マスクレチクル125上に結像され、それによってレチクル125上の照明領域の境界を定める。構造保持マスク125は、投影対物系130を用いて感光基板140上に結像される。この例では、投影対物系130の最後の光学要素135と感光基板140との間には、空気とは異なる屈折率を有する液浸液136が配置される。図1に示している偏光影響光学装置200は、照明系内に用いられるが、更に別の実施形態では、投影対物系内での使用も可能である。図2aは、本発明の実施形態による偏光影響光学装置200の模式図を示している。図示の実施形態における偏光影響光学装置200は、それぞれ部分的に相互に重なるλ/2板210、220、及び230、240を含み、これらのλ/2板は、装置200の対称軸図2では、対称軸は、水平方向又はx方向に延びるの互いに反対側に設けられ、互いに類似の構造のものであり、従って、説明を大幅に容易にするために、λ/2板210、220から構成される第1の対だけを参照する。λ/2板210、220の各々は、望ましい作動波長において十分な透過性を有する適切な複屈折材料、例えば、結晶石英SiO2又はフッ化マグネシウムMgF2から作られ、各々、円セグメントの形状にある幾何学形状のものであり、図示の実施形態では、それぞれの円セグメントは、各々90°の開き角を含む。この点に関して、図2の例における部分重ね合わせは、Aによって示している重ね合わせ領域が、60°の開き角一般的に、好ましくは、60°±20°、特に60°±10°にわたって延び、それに対して重ね合わせ領域Aの両側に設けられた非重ね合わせ領域B-1及びB-2は、30°一般的に、好ましくは、30°±10°、特に30°±5°の開き角にわたって延びるように選択される。しかし、本発明が、指定した特定の開き角又は開き角の範囲に限定されず、従って、実施されるそれぞれの望ましい照明設定に依存して他の開き角を選択ことができることは理解されるであろう。また、図2は、y方向に延びる一定の好ましい偏光方向Pを有する直線偏光光の入射放射線を含む状況において、光が偏光影響光学装置200を通過した後に各場合に与えられる好ましい偏光方向も示している。この場合、それぞれ得られる好ましい偏光方向は、第1の非重ね合わせ領域B-1すなわち、第1のλ/2板210だけによって覆われる領域に対してP’で表しており、第2の非重ね合わせ領域B-2すなわち、第2のλ/2板220だけによって覆われる領域に対してP’’で表しており、重ね合わせ領域Aすなわち、第1のλ/2板210及び同じく第2のλ/2板220によって覆われる領域に対してP’’’で表している。上述の領域内でのそれぞれの好ましい偏光方向の発生を図3a~図3dに模式的に示しており、これらの図では、複屈折速軸高屈折率の方向に延びるのそれぞれの位置を第1のλ/2板210に対して破線fa-1で示しており、第2のλ/2板220に対して破線fa-2で示している。図示の実施形態では、第1のλ/2板210の複屈折速軸fa-1は、装置200上に入射する光ビームの好ましい偏光分布Pに対して22.5°±2°の角度で延び、第2のλ/2板220の複屈折速軸fa-2は、装置200上に入射する光ビームの好ましい偏光分布Pに対して-22.5°±2°の角度で延びている。光が第1のλ/2板210を通過した後に与えられる好ましい偏光方向P’は、元の入射する好ましい偏光方向Pの速軸fa-1に関する鏡像に対応し図3aを参照されたい、光が第2のλ/2板220を通過した後の好ましい偏光方向P’’は、元の入射する好ましい偏光方向Pの速軸fa-2に関する鏡像に対応する図3bを参照されたい。その結果、それぞれ光が非重ね合わせ領域B-1及びB-2を通過した後の好ましい偏光方向P’及びP’’は、装置20上に入射する光ビームの好ましい偏光方向Pに対して±45°の角で延びている。装置200上に重ね合わせ領域A内で入射する光ビーム対しては、第1のλ/2板210から射出する光ビームの好ましい偏光方向P’図3cを参照されたいは、第2のλ/2板200上に入射する光ビームの入射偏光分布に対応し、従って、図3dで重ね合わせ領域Aから射出する光ビームの好ましい偏光方向P’’’は、装置200上に入射する光ビームの好ましい偏光方向Pに対して90°の角度で延びている。図4は、装置200の光学有効区域全体が、図4に示している一定の直線的な好ましい偏光方向を有する偏光分布410を含む光で照明される状況において、光が装置200を通過した後に発生する偏光分布420を示している。偏光分布420は、内部で好ましい偏光方向がそれぞれ一定に少なくとも近似的にタンジェンシャル方向に、すなわち、光軸OAに向く半径に対して垂直に延びる円セグメントの形状にある8つの領域421~428を有する準タンジェンシャル偏光分布である。λ/2板210、220、又は230、240のうちのいずれもが、光が装置200を通過した後に発生する偏光分布420の領域423及び427内には配置されないので、好ましい偏光方向は、元の好ましい偏光方向に対応し、従って、y方向に延びている。本発明による偏光影響光学装置に関連して可能な異なる偏光分布の柔軟な設定は、図5a~図5bを参照することによって明らかになる。この場合、準タンジェンシャル偏光分布を有する図5aに示している四重極照明設定510、又は光軸OAの回りに図5aに対して45°だけ回転されて、同じく準タンジェンシャル偏光分布を有する図5bに示している四重極照明設定520クエーサー照明設定の両方は、これらの2つの照明設定の間の変更に対して偏光影響光学装置200を交換するか又はその位置を変更する必要なく、図4の領域421、423、425、及び427、又は図4の領域422、424、426、及び428のいずれかだけの部分照明を用いて生成することができる。本発明による装置200を用いて可能な2つの照明設定510と520の間の変更は、特に装置200では、例えば、OPC法OPC=光学近接効果補正を用いて準タンジェンシャル照明設定510に最適化された従来実施されている生成工程を更に実施することができるが、更に、照明設定52045°だけ回転された照明極内に準タンジェンシャル偏光分布を有するを用いることができるという利点を有する。更に別の実施形態図示せずによると、偏光影響光学装置200に加えてビーム経路内に90°回転子を配置することができ、その結果、上述の図4及び図5の準タンジェンシャル偏光分布420、510、及び520の代わりに、好ましい偏光方向又は電界強度ベクトルの振動方向が、対応する位置においてラジアル方向に、すなわち、光軸OAに向く半径と平行に延びる準ラジアル射出偏光分布を相応に生成することができる。この90°回転子は、代替的に、光伝播方向に偏光影響光学装置200の上流又は同じく下流に配置することができ、ビームの各個々の直線偏光光線の電界強度ベクトルの振動面が90°だけ回転されることを公知の方式で可能にする。90°回転子の可能な構成は、αpが光学活性結晶の特定の回転能を指定する場合に、約90°/αpの厚みを有する平行平面板をビーム経路内に設ける段階を含む。90°回転子の更に別の可能な構成は、複屈折結晶の2つのλ/2板から90°回転子を構成する段階を伴っている。本発明を特定的な実施形態を用いて説明したが、当業者には、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び/又は交換によって数々の変形及び別の実施形態が明らかであろう。従って、当業者は、そのような変形及び別の実施形態も同様に本発明に包含され、かつ本発明の範囲は、特許請求の範囲及びその均等物の意味においてのみ限定されることを認めるであろう。"