"被処理物を大気圧近傍の処理領域にて表面処理する表面処理装置であって、a前記被処理物を、前記処理領域を通過するように搬送方向に搬送する搬送手段と、b前記処理領域を含む主室と、前記主室の前記搬送方向の搬入側及び搬出側のうち少なくとも搬出側に設けられて前記主室と仕切壁にて仕切られた副室とを有し、かつ搬入側の外壁及び搬出側の外壁並びに前記仕切壁には、前記被処理物を搬入出可能な常開の開口が形成された処理槽と、c前記主室に接続され、前記主室内のガスを吸引して前記主室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より低くする排気手段と、d前記副室に接続され、前記副室内に空気又は不活性ガスを供給して前記副室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より高くする副室給気手段と、を備えたことを特徴とする表面処理装置。前記被処理物が連続シート状であり、前記搬送手段が、前記被処理物を掛け回す複数のガイドロールを含み、前記ガイドロールのうち第1のガイドロールが前記副室内に収容されていることを特徴とする請求項1に記載の表面処理装置。前記第1ガイドロールの直径が前記副室を画成する外壁と仕切壁との間の距離より大きく、前記第1ガイドロールの外周部が前記外壁の開口及び前記仕切壁の開口に入り込んでいることを特徴とする請求項2に記載の表面処理装置。前記第1ガイドロールの周面の周方向の一側部に前記被処理物が巻き付けられており、前記副室給気手段が、前記副室の前記一側部が面する室部分に開口する給気ポートを含むことを特徴とする請求項2又は3に記載の表面処理装置。前記複数のガイドロールのうち前記第1ガイドロールと隣接する第2のガイドロールが、前記処理槽の前記搬送方向の外側又は前記主室内に配置され、前記第1ガイドロールと前記第2ガイドロールとによって前記被処理物が前記開口を通過する位置が設定されていることを特徴とする請求項2~4の何れか1項に記載の表面処理装置。前記搬送手段が、前記処理槽より前記搬出側の外側に配置されて前記被処理物を巻き取る巻取ロールを更に含み、前記第2ガイドロールが、前記搬出側の外壁と前記巻取ロールとの間に配置されていることを特徴とする請求項5に記載の表面処理装置。前記主室の内圧が、前記処理槽の外部の圧力より10Pa~50Pa低く、前記副室の内圧が、前記処理槽の外部の圧力より5Pa~20Pa高いことを特徴とする請求項1~6の何れか1項に記載の表面処理装置。上掲特許文献1の搬入側及び搬出側の二重壁によれば、処理槽からの流出ガスが、一旦、上記二重壁内の小室に溜められる。しかし、その後、ガスが拡散して外部に漏れるおそれがある。特に、搬出側においては、被処理物に接するガスが被処理物に引き連れられて外部に漏れやすい。これを防止するためには、排気ブロアや排気ポンプ等の排気源の容量を大きくする必要がある。本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、被処理物を例えば連続的に搬送しながら処理槽内において表面処理する装置において、処理槽の排気源を大型化しなくても処理ガス成分が処理槽から外部に漏出するのを十分に抑制できるようにすることを主目的とする。上記課題を解決するため、本発明は、被処理物を大気圧近傍の処理領域にて表面処理する表面処理装置であって、a前記被処理物を、前記処理領域を通過するように搬送方向に搬送する搬送手段と、b前記処理領域を含む主室と、前記主室の前記搬送方向の搬入側及び搬出側のうち少なくとも搬出側に設けられて前記主室と仕切壁にて仕切られた副室とを有し、かつ搬入側の外壁及び搬出側の外壁並びに前記仕切壁には、前記被処理物を搬入出可能な常開の開口が形成された処理槽と、c前記主室に接続され、前記主室内のガスを吸引して前記主室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より低くする排気手段と、d前記副室に接続され、前記副室内に空気又は不活性ガスを供給して前記副室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より高くする副室給気手段と、を備えたことを特徴とする。副室給気手段から副室に供給された空気又は不活性ガスが、上記圧力差によって仕切壁の開口から主室内に流入する。この流れによって、主室内の処理ガス成分を含むガスが外部に漏れるのを確実に防止できる。特に、主室内の搬出側の部分においては、被処理物に接するガスが、被処理物に引き連れられて搬出側の副室ひいては槽外へ向けて移動する。これに対し、搬出側の副室からのガスが主室に流入する。この搬出側副室からのガス流入方向は、上記被処理物の移動方向ひいては被処理物上のガスの流れ方向とは大略逆方向である。この逆方向の流入ガスによって、被処理物上のガスを押し戻すことができる。これによって、処理ガス成分を含むガスが被処理物と一緒に外部に漏れるのを確実に防止できる。主室の内圧は大気圧より少し低くすればよく、主室排気手段の排気源の排気容量を大きくする必要がなく、排気源を小型化できる。また、副室給気手段から副室に供給された空気又は不活性ガスの一部は、外壁の開口から外部に流出する。この流れによって、外部の雰囲気ガスが処理槽内に入り込むのを防止することができる。前記被処理物が連続シート状である場合には、前記搬送手段が、前記被処理物を掛け回す複数のガイドロールを含むことが好ましい。例えば、搬入側の槽外に繰出ロールが設けられ、搬出側の槽外に巻取ロールが設けられ、前記繰出ロール及び前記巻取ロールの間に前記複数のガイドロールが配列される。これら複数のガイドロールの一部又は全部が、処理槽の内部に配置される。前記連続シート状の被処理物は、繰出ロールから繰り出され、前記ガイドロールの列に案内されて処理槽の処理領域を含む主室及び副室を通り、巻取ロールに巻き取られる。前記ガイドロールのうち第1のガイドロールが前記副室内に収容されていることが好ましい。前記第1ガイドロールに連続シート状の被処理物を掛け回すことによって、副室内における連続シート状被処理物を位置決めしてばたつきを防止できる。したがって、外壁及び仕切壁の各開口の開口度を、連続シート状被処理物のばたつきを殆ど考慮することなく小さく設定できる。ひいては、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。前記第1ガイドロールの直径が前記副室を画成する外壁と仕切壁との間の距離より大きく、前記第1ガイドロールの外周部が前記外壁の開口及び前記仕切壁の開口に入り込んでいることが好ましい。これにより、前記第1ガイドロールによって前記開口の大部分を塞ぐようにできる。しかも、前記第1ガイドロールの周面上における前記連続シート状の被処理物の進入接点及び送出接点が、ちょうど前記開口の内部又は前記開口の近傍に位置するようにできる。そうすると、前記連続シート状の被処理物における前記副室内に配置される部分のほぼ全体が前記第1ガイドロールに掛け回される。したがって、前記副室内での前記連続シート状の被処理物のばたつきを確実に防止できる。よって、前記開口の開口度すなわち、前記開口の縁部と前記第1ガイドロールの周面との間に形成される隙間の大きさを十分に小さくでき、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。副室内には第1ガイドロールを1つだけ設ければよく、部品点数を減らすことができる。前記第1ガイドロールの周面の周方向の一側部に前記被処理物が巻き付けられており、前記副室給気手段が、前記副室の前記一側部が面する室部分に開口する給気ポートを含むことが好ましい。これによって、前記室部分を確実に高圧にできる。したがって、主室内の処理ガス成分を含むガスが被処理物に引き連れられて副室に入り込んだり、外部の雰囲気ガスが副室内に入り込んだりするのを確実に低減できる。ひいては、処理ガス成分を含むガスが外部に流出したり、外部の雰囲気ガスが主室内に流入したりするのを一層確実に防止できる。前記複数のガイドロールのうち前記第1ガイドロールと隣接する第2のガイドロールが、前記処理槽の前記搬送方向の外側又は前記主室内に配置され、前記第1ガイドロールと前記第2ガイドロールとによって前記被処理物が前記開口を通過する位置が設定されていることが好ましい。これにより、前記開口の開口度を十分に小さくでき、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。前記第2ガイドロールは、前記繰出ロールと搬入側の副室内のガイドロールとの間、又は搬出側の副室内のガイドロールと前記巻取ロールとの間に介在される。繰出ロール又は巻取ロール上の被処理物の巻き付け径が繰り出し及び巻き取りの進行に伴って変化しても、上記位置が変化することはない。したがって、外壁の開口の開口度を十分に小さく設定できる。ひいては、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。特に、前記第1ガイドロールを搬出側の副室に設け、前記第2ガイドロールを前記搬出側の外壁と前記巻取ロールとの間に配置することによって、前記巻取ロール上の被処理物の巻き付け径が巻き取りの進行に伴って増大しても、被処理物が第1ガイドロールから第2ガイドロールへ送出される角度が変化するのを回避でき、かつ被処理物が前記搬出側の外壁の開口を通過する位置が変化するのを回避できる。したがって、前記搬出側の外壁の開口の縁と被処理物との間に形成される隙間の大きさを一定に維持できる。よって、前記搬出側の外壁の開口の開口度を十分に小さく設定できる。この結果、主室からのガスが前記搬出側の外壁の開口から外部へ流出したり、外部の雰囲気ガスが前記搬出側の外壁の開口から処理槽内に流入したりするのを確実に防止できる。前記主室の内圧は、好ましくは、前記処理槽の外部の圧力より10Pa~50Pa低い。よって、主室排気源の排気容量を小さくできる。前記副室の内圧は、好ましくは、前記処理槽の外部の圧力より5Pa~20Pa高い。これにより、処理ガス成分の漏れを確実に防止できる。ここで、大気圧近傍とは、1.013×104~50.663×104Paの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、1.333×104~10.664×104Paが好ましく、9.331×104~10.397×104Paがより好ましい。本発明によれば、処理ガス成分が処理槽から外部に漏出するのを十分に抑制できる。排気源を大型化する必要はない。以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。図1は、本発明の一実施形態を示したものである。この実施形態の被処理物9は、連続シート状のフィルムにて構成されている。被処理フィルムは、例えば偏光板等の光学装置用の光学樹脂フィルムである。ここでは、被処理フィルム9として、偏光板の保護フィルムとなる光学樹脂フィルムが適用されている。被処理フィルム9の主成分としては、例えばトリアセテートセルロースTAC、ポリプロピレンPP、ポリエチレンPE、シクロオレフィン重合体COP、シクロオレフィン共重合体COC、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリメタクリル酸メチルPMMA、ポリイミドPI等が挙げられるが、これに限定されるものではない。フィルムの厚さは、例えば100μm程度である。本実施形態の表面処理装置1は、被処理フィルム9に対し、偏光フィルムとの接着工程における接着性を向上させるための表面処理を施す。処理ガスとして重合性モノマーとキャリアガスの混合ガス等が用いられている。重合性モノマーとしては、例えばアクリル酸CH2=CHCOOHが用いられている。アクリル酸は、酢酸様の臭気を有し、爆発性等をも有しているため、適切な管理を要する。重合性モノマーとしては、アクリル酸に限定されるものではなく、メタクリル酸、イタコン酸、マイレン酸、2-メタクリロイルプロピオン酸、メタクリル酸エチレングリコール、アリルアルコール、メタクリル酸ヒドロキシエチル、酢酸ビニル、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸2-エチル、アクリルアルデヒド、クロトンアルデヒド等であってもよい。キャリアガスとしては不活性ガスが用いられている。不活性ガスとして窒素N2が挙げられるが、これに限定されず、Ar、He等の希ガスであってもよい。表面処理装置1は、処理部10と、搬送手段20と、処理槽30を備えている。処理部10は、大気圧近傍プラズマにて被処理物9を表面処理する大気圧プラズマ処理部にて構成されている。大気圧プラズマ処理部10は、少なくとも2つの電極11を有している。これら電極11は、円筒形状ロール状になっている。2つのロール電極11が、軸線を図1の紙面と直交する水平方向に向けて平行に配置されている。ロール電極11,11どうし間の最も狭くなった箇所及びその近傍の空間が処理領域19になっている。図示は省略するが、2つのロール電極11の一方は電源に接続されている。他方のロール電極11は、電気的に接地されている。電源からの電力供給によって、ロール電極11,11間に大気圧近傍の圧力下でプラズマ放電が生成される。処理領域19の上方及び下方にノズル12がそれぞれ配置されている。各ノズル12の吹出し口が処理領域19に臨んでいる。図示しない処理ガス源からの処理ガスがノズル12に供給され、ノズル12から処理領域19へ吹き出される。これにより、処理ガスが処理領域19内でプラズマ化励起、活性化、ラジカル化、イオン化等を含むされて被処理フィルム9の表面処理がなされる。具体的には、処理ガス中のアクリル酸重合性モノマーが被処理フィルム9上で重合反応を起こし、被処理フィルム9の表面に接着性促進層が形成される。上下のノズル12,12から同時に処理ガスを吹き出してもよく、上下何れか1つのノズル12からのみ処理ガスを吹出し、他方のノズル12を処理領域19の閉塞部材として用いてもよい。被処理フィルム9の搬送方向の上流側のロール電極11の周面上で、アクリル酸等の重合性モノマーを含有するガスを被処理フィルム9に吹き付けて付着させ、続いて処理領域19に窒素等の不活性ガスを供給してプラズマ化し、重合性モノマーの重合反応を起こさせてもよい。搬送手段20は、被処理フィルム9を搬送方向図1において概略右方向に搬送する。搬送手段20は、繰出ロール21と、巻取ロール22と、ガイドロール23を備えている。これらロール21,22,23は、共に軸線を図1の紙面と直交する方向に向けた円筒形状になっている。繰出ロール21は、処理槽30より搬送方向の上流側すなわち搬入側図1において左に配置されている。繰出ロール21から被処理フィルム9が繰り出される。巻取ロール22は、処理槽30より搬送方向の下流側すなわち搬出側図1において右に配置されている。処理済みの被処理フィルム9が巻取ロール22に巻き取られる。繰出ロール21と巻取ロール22の間に複数のガイドロール23231~236が配列されている。これらガイドロール23に被処理フィルム9の中間部分が掛け回されている。ガイドロール23の列の中間にロール電極11,11が配置されている。被処理フィルム9がロール電極11,11の上側部分に半周程度掛け回されている。2つのロール電極11の中間の被処理フィルム9が処理領域19に通されている。各ロール電極11は、軸線まわりに回転可能になっている。ロール21,22及びロール電極11,11が互いに同期して回転駆動し、被処理フィルム9を搬送する。ロール電極11は、搬送手段20の一要素を構成する。ガイドロール23231~236は、被処理フィルム9の搬送に合わせて従動回転する。ガイドロール23によって、被処理フィルム9の搬送経路が設定され、かつ被処理フィルム9に張力が付与されている。処理槽30は、主室31と、搬入側の副室32と、搬出側の副室33を有している。主室31は、処理槽30の内容積の大半を占めている。主室31の内部に処理部10ひいては処理領域19が配置されている。処理槽30の搬入側の壁は、搬入側外壁34と搬入側仕切壁35の二重構造になっている。外壁34が処理槽30の搬入側の外部と処理槽30の内部とを仕切っている。仕切壁35によって、主室31と搬入側副室32が仕切られている。外壁34と仕切壁35との間に搬入側副室32が形成されている。搬入側副室32は、ロール23の軸線と同方向図1の紙面と直交する方向に延びる筒状空間になっている。搬入側副室32の内容積は、主室31の内容積より十分に小さい。搬入側副室32の内容積は、主室31の内容積の例えば500分の1~2000分の1である。処理槽30の搬出側の壁は、搬出側外壁36と搬出側仕切壁37の二重構造になっている。外壁36が処理槽30の搬出側の外部と処理槽30の内部とを仕切っている。仕切壁37によって、主室31と搬出側副室33が仕切られている。外壁36と仕切壁37との間に搬出側副室33が形成されている。搬出側副室33は、ロール23の軸線と同方向図1の紙面と直交する方向に延びる筒状空間になっている。搬出側副室33の内容積は、搬入側副室32の内容積とほぼ同じであり、主室31の内容積より十分に小さい。搬出側副室33の内容積は、主室31の内容積の例えば500分の1~2000分の1である。搬入側の副室32の内容積と搬出側の副室33の内容積が互いに異なっていてもよい。処理槽30の搬入側部及び搬出側部の構造を更に詳述する。搬入側の外壁34に搬入側外開口34aが形成されている。開口34aを介して搬入側の外部空間と搬入側副室32が連通している。搬入側仕切壁35に搬入側内開口35aが形成されている。開口35aを介して搬入側副室32と主室31が連通している。被処理フィルム9が、外部から外開口34aを通して搬入側副室32に搬入され、更に内開口35aを通して主室31に搬入される。搬入開口34a,35aは、常開であり、扉が設けられていない。搬入側副室32内に搬入側副室内ガイドロール232第1ガイドロールが収容されている。副室内ガイドロール232の直径は、副室32の水平短手方向図1の左右方向の寸法すなわち壁34,35間の距離より若干大きい。副室内ガイドロール232の左右の周側部が、各搬入開口34a,35aに少し入り込んでいる。副室内ガイドロール232によって、搬入開口34a,35aの大部分が塞がれている。各搬入開口34a,35aの上下の縁と副室内ガイドロール232の周面との間の隙間クリアランスは十分に狭い。各搬入開口34a,35aの上縁と副室内ガイドロール232の周面との垂直方向の離間距離は、好ましくは0.5mm~4mm程度であり、より好ましくは1mm程度である。各搬入開口34a,35aの下縁と副室内ガイドロール232の周面との垂直方向の離間距離は、上記上縁側の離間距離より若干大きく、好ましくは1mm~6mm程度であり、より好ましくは3mm程度である。副室内ガイドロール232によって、搬入側副室32が、ガイドロール232より下側の室部分32aと、ガイドロール232より上側の室部分32bとに仕切られている。図2に示すように、副室内ガイドロール232の軸線L2に沿う軸長は、搬入側副室32の軸線L2に沿う長さより短く、更には搬入開口34a,35aの軸線L2に沿う長さより少し短い。副室内ガイドロール232の軸線L2方向の端面と、搬入開口34a,35aの軸線L2方向の端縁との間のクリアランスは、好ましくは1mm~3mm程度である。副室内ガイドロール232の軸方向の両側の各端面と搬入側副室32の同側の内端面との間には十分な広さの連通空間32eが形成されている。副室32の下側の室部分32aと上側の室部分32bが連通空間32eを介して連通している。図1に示すように、被処理フィルム9が、副室内ガイドロール232の周面の下側部周方向の一側部に部分的に巻き付けられている。被処理フィルム9のガイドロール232への巻き付け部分9aは、被処理フィルム9における搬入側副室32内に配置された部分のほぼ全体に及んでいる。巻き付け部分9aは、搬入側副室32の下側の室部分32aに面している。副室内ガイドロール232によって被処理フィルム9の搬入側副室32内における位置ないしは姿勢が決められている。副室内ガイドロール232とその前段に隣接する槽外ガイドロール231第2ガイドロールとによって、被処理フィルム9が槽外から副室内ガイドロール232に進入する角度及び副室内ガイドロール232の周面に接する位置進入接点a、並びに被処理フィルム9が外開口34aを通過する位置が決められている。上記進入接点aは、ちょうど外開口34a又はその近傍に位置している。副室内ガイドロール232とその後段に隣接する主室内ガイドロール233第2ガイドロールとによって、被処理フィルム9が副室内ガイドロール232の周面から送り出される位置送出接点b及び角度、並びに被処理フィルム9が内開口35aを通過する位置が決められている。上記送出接点bは、ちょうど内開口35aの内部又はその近傍に位置している。上記槽外ガイドロール231は、処理槽30の搬入側の外部に、外開口34aに近接して配置されている。槽外ガイドロール231は、繰出ロール21と搬入側の外壁34との間に介在されている。上記主室内ガイドロール233は、主室31の内部に、内開口35aに近接して配置されている。同様に、処理槽30の搬出側の仕切壁37に搬出側内開口37aが形成されている。開口37aを介して主室31と搬出側副室33が連通している。搬出側外壁36に搬出側外開口36aが形成されている。開口36aを介して搬出側副室33と搬出側の外部空間とが連通している。処理部10にて処理済みの被処理フィルム9が、主室31から内開口37aを通して搬出側副室33に出され、更に外開口36aを通して外部に搬出される。搬出開口36a,37aは、常開であり、扉が設けられていない。図3及び図4に示すように、搬出側副室33内に搬出側副室内ガイドロール235第1ガイドロールが収容されている。副室内ガイドロール235の直径は、副室33の水平短手方向図1の左右方向の寸法すなわち壁36,37間の距離より若干大きい。副室内ガイドロール235の左右の周側部が、各搬出開口36a,37aに少し入り込んでいる。副室内ガイドロール235によって、搬出開口36a,37aの大部分が塞がれている。各搬出開口36a,37aの上下の縁と副室内ガイドロール235の周面との間の隙間クリアランスは十分に狭い。各搬出開口36a,37aの上縁と副室内ガイドロール235の周面との垂直方向の離間距離は、好ましくは0.5mm~4mm程度であり、より好ましくは1mm程度である。各搬出開口36a,37aの下縁と副室内ガイドロール235の周面との垂直方向の離間距離は、上記上縁側の離間距離より若干大きく、好ましくは1mm~6mm程度であり、より好ましくは3mm程度である。副室内ガイドロール235によって、搬出側副室33が、ガイドロール235より下側の室部分33aと、ガイドロール235より上側の室部分33bとに仕切られている。図2及び図4に示すように、副室内ガイドロール235の軸線L3に沿う軸長は、搬出側副室33の軸線L3に沿う長さより短く、更には搬出開口36a,37aの軸線L3に沿う長さより少し短い。副室内ガイドロール235の軸線L3方向の端面と、搬出開口36a,37aの軸線L3方向の端縁との間のクリアランスは、好ましくは1mm~3mm程度である。副室内ガイドロール235の軸方向の両側の端面と搬出側副室33の同側の内端面との間には十分な広さの連通空間33eが形成されている。副室33の下側の室部分33aと上側の室部分33bが連通空間33eを介して連通している。図1に示すように、被処理フィルム9が、副室内ガイドロール235の周面の下側部周方向の一側部に部分的に巻き付けられている。被処理フィルム9のガイドロール235への巻き付け部分9bは、被処理フィルム9における搬出側副室33内に配置された部分のほぼ全体に及んでいる。巻き付け部分9bは、搬出側副室33の下側の室部分33aに面している。副室内ガイドロール235によって被処理フィルム9の搬出側副室33内における位置ないしは姿勢が決められている。副室内ガイドロール235とその前段に隣接する主室内ガイドロール234第2ガイドロールとによって、被処理フィルム9が主室31から副室内ガイドロール235に進入する角度及び副室内ガイドロール235の周面に接する位置進入接点c、並びに被処理フィルム9が内開口35aを通過する位置が決められている。上記進入接点cは、ちょうど内開口35a又はその近傍に位置している。副室内ガイドロール235とその後段に隣接する槽外ガイドロール236第2ガイドロールとによって、被処理フィルム9が副室内ガイドロール235の周面から送り出される位置送出接点d及び角度、並びに被処理フィルム9が外開口36aを通過する位置が決められている。上記送出接点dは、ちょうど外開口36aの内部又はその近傍に位置している。上記主室内ガイドロール234は、主室31内に配置され、かつ仕切壁37ひいてはその開口37aに近接して配置されている。上記槽外ガイドロール236は、処理槽30の搬出側の外部に、外開口36aに近接して配置されている。槽外ガイドロール236は、搬出側の外壁36と巻取ロール22との間に介在されている。処理槽30の主室31に主室排気手段40が接続されている。排気手段40は、排気ポート41と、排気源43を含む。主室31の底部に排気ポート41が設けられている。ポート41から排気路42が延びている。この排気路42が排気源43に連なっている。排気源43は、ブロアにて構成されているが、排気ポンプにて構成されていてもよい。排気源43の駆動によって、主室31内のガスが排気ポート41から吸い込まれ、排気路42を経て排出される。図1に示すように、搬入側副室32には搬入側副室給気手段51が接続されている。副室給気手段51は、複数の給気ポート51pと、給気源51xを含む。図2に示すように、給気ポート51pは、搬入側副室32の底部に軸線L2に沿って間隔を置いて設けられている。図1に示すように、各給気ポート51pは、搬入側副室32の下側の室部分32aに開口している。副室内ガイドロール232の下側部被処理フィルム9が巻き付けられた部分と給気ポート51pが上下に対向している。給気源51xは、ブロアにて構成されているが、給気ポンプにて構成されていてもよい。給気源51xからの給気路51aが複数図では5つに分岐し、各給気ポート51pに連なっている。給気源51xの駆動によって、空気が給気路51aを経て、各給気ポート51pから搬入側副室32内に供給される。図1に示すように、搬出側副室33には搬出側副室給気手段52が接続されている。副室給気手段52は、複数の給気ポート52pと、給気源52xを含む。図2及び図4に示すように、給気ポート52pは、搬出側副室33の底部に軸線L3に沿って間隔を置いて設けられている。図3及び図4に示すように、各給気ポート52pは、搬出側副室33の下側の室部分33aに開口している。副室内ガイドロール235の下側部被処理フィルム9が巻き付けられた部分と給気ポート52pが上下に対向している。給気源52xは、ブロアにて構成されているが、給気ポンプにて構成されていてもよい。1つの給気源が、搬入側副室給気源51x及び搬出側副室給気源52xとして共用されていてもよい。給気源52xからの給気路52aが複数図では5つに分岐し、各給気ポート52pに連なっている。給気源52xの駆動によって、空気が給気路52aを経て、各給気ポート52pから搬出側副室33内に供給される。上記構成の表面処理装置1の動作を、処理槽30内の圧力制御を中心に説明する。被処理フィルム9を、繰出ロール21から連続的に繰り出し、ガイドロール23及びロール電極11の列に沿って連続的に搬送し、途中の処理領域19において表面処理し、巻取ロール22にて連続的に巻き取る。上記被処理フィルム9の搬送及び表面処理と併行して、主室排気手段40によって主室31内のガスを吸引して排出する。これにより、主室31の内圧が、大気圧近傍の圧力範囲内において処理槽30の外部の圧力大気圧より低くなる。好ましくは、主室31の内圧を大気圧より10Pa~50Pa程度低くし、より好ましくは20Pa程度低くする。さらに、副室給気手段51,52によって、副室32,33に空気を供給する。この空気は、給気ポート51p,52pから、先ず副室32,33の下側の室部分32a,33aに充填され、更に連通空間32e,33eを通って、上側の室部分32b.33b内に充填される。これにより、副室32,33の内圧が、大気圧近傍の圧力範囲内において処理槽30の外部の圧力大気圧より高くなる。好ましくは、副室32,33の内圧を大気圧より5Pa~20Pa程度高くする。したがって、以下の関係が成立する。主室31の内圧<大気圧<副室32,33の内圧式1そのため、副室給気手段51,52から副室32,33に供給された空気が、外開口34a,36aから外部に流出するとともに、内開口35a,37aから主室31内に流入する。外開口34a,36aから外部に流出する流れによって、外部の雰囲気ガスが処理槽30内に入り込むのを防止できる。内開口35a,37aから主室31内に流入する流れによって、主室31内の処理ガス成分を含むガスが外部に漏れるのを防止できる。更に、給気ポート51p,52pからの空気は、直接的には下側の室部分32a,33aに供給され、そこから上側の室部分32b,33bに拡散するため、以下の関係が成立する。下側の室部分32a,33aの内圧>上側の室部分32b,33bの内圧...式2したがって、下側の室部分32a,33a、すなわち被処理フィルム9の巻き付け部分9a,9bが面する室部分32a,33aの内圧を確実に高圧にできる。よって、主室31内の処理ガス成分を含むガスが、室部分32a,33aを経て、外部に流出したり、外部の雰囲気ガスが、室部分32a,33aを経て、主室32内に流入したりするのを一層確実に防止できる。特に、図3に示すように、主室31の搬出側の部分においては、被処理フィルム9に接するガスg1が、被処理フィルム9に引き連れられて搬出側副室33ひいては処理槽30の搬出側の外部へ向けて移動する。これに対し、フィルム巻き付け側の室部分33a内の空気が、搬出側副室内ガイドロール235と搬出側内開口37aの下縁との間を通って主室31内に流入する。この流入ガスg3の流れ方向は、被処理フィルム9の搬送方向ひいては被処理フィルム9上のガスg1の流れとは逆方向である。この逆方向の流入ガスg3によって、被処理フィルム9上のガスg1を被処理フィルム9から離して主室31の内側へ押し戻すことができる。これによって、ガスg1が被処理フィルム9と一緒に槽外に流出するのを確実に防止できる。したがって、処理ガス成分の外部への漏出を確実に防止できる。よって、環境負荷を軽減できる。処理ガスがアクリル酸を含む場合、アクリル酸特有の酢酸様の臭気が外部雰囲気中に漂うのを確実に防止でき、良好な作業環境を確保できる。主室31の内圧は大気圧より少し低くすればよく、主室排気源43の排気容量を大きくする必要がなく、主室排気源43を小型化できる。搬出側副室33内における被処理フィルム9は、搬出側副室内ガイドロール235に掛け回されることによって位置決めされている。したがって、被処理フィルム9が搬出側副室33内でばたつくのを防止できる。しかも、被処理フィルム9の搬出側副室33内における部分のほぼ全体が副室内ガイドロール235に掛け回されているため、搬出側副室33内におけるばたつきを確実に防止できる。加えて、搬出側主室内ガイドロール234及び搬出側副室内ガイドロール235によって、被処理フィルム9の搬出側副室内ガイドロール235への進入接点c、並びに被処理フィルム9が搬出側仕切壁37を横切る位置及び角度を確定できる。したがって、搬出側内開口37aの下縁と副室内ガイドロール235の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。よって、被処理フィルム9上のガスg1が開口37aを通過しにくくなり、ガスg1の槽外への流出を確実に防止できる。副室33からのガスg3の流入の勢いが増すことも、ガスg1の槽外への流出防止に寄与する。搬出側副室内ガイドロール235及び搬出側槽外ガイドロール236によって、被処理フィルム9の搬出側副室内ガイドロール235からの送出接点d、並びに被処理フィルム9が搬出側外壁36を横切る位置及び角度を確定できる。搬出側副室内ガイドロール235と巻取ロール22との間に槽外ガイドロール236を介在させることで、巻取ロール22上の被処理フィルム9の巻き付け径が巻き取りの進行に伴って変化しても、上記副室内ガイドロール235の周面上の送出接点d並びに被処理フィルム9が外壁36を横切る位置及び角度が変化することはない。図3の二点鎖線にて示すように、槽外ガイドロール236と巻取ロール22との間の被処理フィルム9の角度が、巻き取りの進行に伴って変化する。したがって、搬出側外開口36aの下縁と副室内ガイドロール235の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。また、各搬出開口36a,37aの上縁と副室内ガイドロール235の周面との間のクリアランスは、副室内ガイドロール235が各搬出開口36a,37aの上縁に接しない範囲で可能な限り小さくできる。この結果、主室31内の処理ガス成分を含むガスが、搬出側副室33を経て外部に漏れるのを一層確実に防止できる。また、外部の雰囲気ガスが搬出側副室33を経て主室31内に流入するのを確実に防止できる。搬入側副室32内における被処理フィルム9は、搬入側副室内ガイドロール232に掛け回されることによって位置決めされている。したがって、被処理フィルム9が搬入側副室32内でばたつくのを防止できる。しかも、被処理フィルム9の搬入側副室32内における部分のほぼ全体が副室内ガイドロール232に掛け回されているため、搬入側副室32内におけるばたつきを確実に防止できる。加えて、搬入側槽外ガイドロール231及び搬入側副室内ガイドロール232によって、被処理フィルム9の搬入側副室内ガイドロール232への進入接点a、並びに被処理フィルム9が搬入側外壁34を横切る位置及び角度を確定できる。繰出ロール21と副室内ガイドロール232との間に槽外ガイドロール231を介在させることで、繰出ロール21上の被処理フィルム9の巻き付け径が繰り出しの進行に伴って変化しても、上記副室内ガイドロール232の周面上の進入接点a並びに被処理フィルム9が外壁34を横切る位置及び角度が変化することはない。したがって、搬入側外開口34aの下縁と副室内ガイドロール232の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。搬入側副室内ガイドロール232及び搬入側主室内ガイドロール233によって、被処理フィルム9の搬入側副室内ガイドロール232からの送出接点b、並びに被処理フィルム9が搬入側仕切壁35を横切る位置及び角度を確定できる。したがって、搬入側内開口35aの下縁と搬入側副室内ガイドロール232の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。また、各搬入開口34a,35aの上縁と副室内ガイドロール232の周面との間のクリアランスは、副室内ガイドロール232が各搬入開口34a,35aの上縁に接しない範囲で可能な限り小さくできる。この結果、主室31内の処理ガス成分を含むガスが搬入側副室32を経て外部に漏れるのを確実に防止でき、かつ外部の雰囲気ガスが搬入側副室32を経て主室31内に流入するのを確実に防止できる。よって、表面処理装置1を、例えば偏光板の製造ラインなどに簡単に組み込むことができ、容易にインライン化することができる。本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の改変をなすことができる。例えば、副室給気手段51,52から副室32,33に供給されるガスは、空気に限られず、窒素等の不活性ガスであってもよい。処理槽30には搬入側副室32及び搬出側副室33のうち少なくとも搬出側副室33が設けられていればよい。特に、処理槽30内の処理ガス成分を含むガスが被処理フィルム9と一緒に外部に漏出するのを防止する観点からは、搬入側副室32及び搬出側副室33のうち搬出側副室33だけを設け、搬入側副室32を省略してもよい。なお、槽外のガスが被処理フィルム9と一緒に処理槽30内に入り込むのを防止する観点からは、搬入側副室32及び搬出側副室33のうち搬入副室32だけを設けることにしてもよい。副室給気手段51,52を副室32,33の上側の室部分51b,52bに接続し、副室給気手段51,52からガスを上記上側の室部分51b,52bに直接的に供給してもよい。副室給気手段51,52からガスを、副室32,33の上側の室部分51b,52bと下側の室部分51a,52aにそれぞれ直接的に供給してもよい。副室内ガイドロール232,235の直径は、副室32,33の水平短手方向図1の左右の内寸法と等しくてもよく、上記内寸法より小さくてもよい。この場合、副室32,33の開口34a,35a,36a,37aの上下方向の幅は、1~10mm程度であることが好ましい。搬出側副室33内にガイドロール235を2つ以上配置してもよい。この場合、1つのガイドロール235を内開口37aの近傍に配置し、他の1つのガイドロール235を外開口36aの近傍に配置するのが好ましい。搬入側副室32内にガイドロール232を2つ以上配置してもよい。この場合、1つのガイドロール232を外開口34aの近傍に配置し、他の1つのガイドロール232を内開口35aの近傍に配置するのが好ましい。副室33の内部又は仕切壁37の近くにエアナイフノズルを設け、被処理フィルム9の表面に沿ってエアナイフを吹き付け、被処理フィルム9上のガスg1を被処理フィルム9から離し、又は主室31の内側へ押し戻してもよい。処理部10の電極構造は、一対のロール電極11に限られず、ロール電極と平板電極の組み合わせでもよく、ロール電極と該ロール電極の周面に沿う凹曲面を有する凹板電極との組み合わせでもよく、平行平板電極でもよい。処理部10は、一対の電極間に被処理物を導入してプラズマを直接的に照射する所謂ダイレクト式のプラズマ処理部に限られず、一対の電極間で生成したプラズマガスを吹き出して、電極間空間から離れて配置された被処理物に吹き付ける所謂リモート式のプラズマ処理部であってもよい。被処理フィルム9は、連続フィルムに限られず、ガラス基板や半導体ウェハであってもよい。搬送手段20は、ロール21,22,23の列に限られず、移動ステージでもよく、コロコンベアでもよく、マニピュレータでもよい。処理内容は、樹脂フィルムの接着性向上のためのプラズマ処理に限られない。更に、処理内容は、プラズマ処理に限られない。本発明は、洗浄、表面改質、エッチング、成膜等の種々の表面処理に適用できる。処理ガスの成分は、処理内容に応じて適宜選択される。例えば、撥水化処理やシリコン含有膜のエッチング処理においては、処理ガス成分としてCF4、C2F6、C3F6、C3F8、CHF3、CH2F2、CH3F、SF6、NF3、XeF2等のフッ素含有化合物を用いる。親水化処理においては、処理ガス成分としてO2、N2等を用いる。実施例を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。図1及び図2と実質的に同じ構造の装置1を用いた。被処理フィルム9としてTACフィルムを用いた。フィルム9の幅図1の紙面と直交する方向の寸法は、1540mmであった。ガイドロール232,235の軸長は、1586mmであった。ガイドロール232,235の直径は、φ100mmであった。副室32,33の上記軸長方向の長さは、1095mmであった。副室32の水平短手方向の寸法は、128mmであった。開口34a,35a,36a,37aの下縁と副室内ガイドロール232,235の周面との間のクリアランスは、垂直方向に3mmであった。開口34a,35a,36a,37aの上縁と副室内ガイドロール232,235の周面との間のクリアランスは、垂直方向に1mmであった。開口34a,35a,36a,37aの軸線L2,L3方向の端縁と副室内ガイドロール232,235の端面との間のクリアランスは、2mmであった。主室排気ブロア43の排気流量を、10m3/minに設定した。搬入側副室給気ブロア51x及び搬出側副室給気ブロア52xの給気流量を、それぞれ0.5m3/minに設定した。フィルム9の搬送速度は、5m/min~40m/minの範囲で調節した。処理部10におけるプラズマ条件は以下の通りとした。供給電力:1200W印加電圧:Vpp=17kVロール電極11,11間のギャップ:1mm上記ロール電極11,11間において空気放電を起こし、オゾンを発生させた。ノズル12からのガス供給は行なわなかった。主室31の内圧を差圧センサにて測定したところ、フィルム9の搬送速度が5m/min~15m/minの範囲では、主室31の内圧を大気圧より20Pa低い陰圧に維持できた。搬送速度を40m/minにしても、主室31の内圧は大気圧より17Pa低い陰圧を維持できた。したがって、搬送速度を大きくしても、搬入開口34aからのガス流入量を抑制でき、主室排気手段の排気流量を増大させる必要がないことが確認された。さらに、各外壁開口34a,36aの外側にオゾン検出器理研計器株式会社製、型番GD-K77Dを設置してオゾン検出を行なったところ、何れの開口34a,36a側でも搬送速度にかかわらずオゾンは検出されなかった。したがって、主室31内のガスが開口34a,36aから外部に漏れるのを十分に防止できることが確認された。なお、上記オゾン検出器の検出限界オゾン濃度は、0.02ppmであった。実施例2では、実施例1と同じ装置1を用い、主室排気ブロア43の排気流量を、2.5m3/min~30m3/minの範囲で調節した。フィルム9の搬送速度は、15m/min一定とした。それ以外の条件及び検出方法は、実施例1と同じにした。主室排気ブロア43の排気流量が2.5m3/min~5.0m3/minのときは、両開口34a,36a側でオゾンが検出された。排気流量5.0m3/minのときの主室31の内圧は、大気圧より4.5Pa低い陰圧であった。主室排気ブロア43の排気流量が7.5m3/minのときは、オゾンが検出されたり、されなかったりした。主室排気ブロア43の排気流量が10.0m3/min~30.0m3/minのときは、何れの開口34a,36a側でもオゾンは検出されなかった。排気流量10.0m3/minのときの主室31の内圧は、大気圧より16.5Pa低い陰圧であった。排気流量15.0m3/minのときの主室31の内圧は、大気圧より34.5Pa低い陰圧であった。排気流量20.0m3/minのときの主室31の内圧は、大気圧より48Pa低い陰圧であった。したがって、主室31の内圧を大気圧より10Pa程度低くすれば、漏れを防止できることが確認された。主室31の内圧を大気圧より15Pa程度以上低くすれば、漏れを十分に防止できることが確認された。よって、主室排気手段の排気容量を大きくする必要はない。"