"参照面と被検面との間の距離を測定する干渉計であって、光源からの光を2つの光に分割して、一方の光を前記参照面に入射させ、他方の光を前記被検面に入射させる光分割素子と、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して前記干渉光の信号を検出する検出部と、前記距離を求める処理を行う処理部と、を有し、前記処理部は、前記光源からの光の波長を固定して当該光を前記光分割素子を含む光路を介して前記参照面及び前記被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して第1の信号を出力するように前記検出部を制御し、前記光源からの光の波長を連続的に変更させながら当該光を前記光路を介して前記参照面及び前記被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して第2の信号を出力するように前記検出部を制御し、前記第2の信号を周波数解析して前記第2の信号に含まれる周期誤差を算出し、前記第1の信号に含まれる周期誤差と前記第2の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第2の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第1の信号に含まれる周期誤差を特定し、前記第1の信号から前記特定された周期誤差を減算し、その結果から前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求めることを特徴とする干渉計。参照面と被検面との間の距離を測定する干渉計であって、光源からの光を2つの光に分割して、一方の光を前記参照面に入射させ、他方の光を前記被検面に入射させる光分割素子と、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して前記干渉光の信号を検出する検出部と、前記距離を求める処理を行う処理部と、を有し、前記処理部は、前記光源からの光の位相を固定して当該光を前記光分割素子を含む光路を介して前記参照面及び前記被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して第1の信号を出力するように前記検出部を制御し、前記光源からの光の位相を変調させながら当該光を前記光路を介して前記参照面及び前記被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して第2の信号を出力するように前記検出部を制御し、前記第2の信号を周波数解析して前記第2の信号に含まれる周期誤差を算出し、前記第1の信号に含まれる周期誤差と前記第2の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第2の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第1の信号に含まれる周期誤差を特定し、前記第1の信号から前記特定された周期誤差を減算し、その結果から前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求めることを特徴とする干渉計。参照面と被検面との間の距離を測定する干渉計であって、光源からの光を2つの光に分割して、一方の光を前記参照面に入射させ、他方の光を前記被検面に入射させる光分割素子と、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光の信号を検出して前記干渉光の信号を出力する検出部と、前記距離を求める処理を行う処理部と、を有し、前記処理部は、前記参照面を固定して前記光源からの光を前記光分割素子を含む光路を介して前記参照面及び前記被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して第1の信号を出力するように前記検出部を制御し、前記参照面を移動させながら前記光源からの光を前記光路を介して前記参照面及び前記被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して第2の信号を出力するように前記検出部を制御し、前記第2の信号を周波数解析して前記第2の信号に含まれる周期誤差を算出し、前記第1の信号に含まれる周期誤差と前記第2の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第2の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第1の信号に含まれる周期誤差を特定し、前記第1の信号から前記特定された周期誤差を減算し、その結果から前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求めることを特徴とする干渉計。前記処理部は、前記光源からの光の波長を第1の基準波長、第2の基準波長及び第3の基準波長のそれぞれに設定し、前記第1の基準波長、前記第2の基準波長及び前記第3の基準波長のそれぞれについて、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して前記干渉光の信号を出力するように前記検出部を制御し、前記第1の基準波長、前記第2の基準波長及び前記第3の基準波長のそれぞれにおいて前記検出部から出力される信号から前記特定された周期誤差を減算した結果から求まる前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相と、前記第1の基準波長と前記第2の基準波長との合成波長と、前記第2の基準波長と前記第3の基準波長との合成波長と、前記第2の基準波長から前記第3の基準波長に連続的に変更した際に発生する位相飛び数とを用いて、前記距離を求めることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の干渉計。前記周波数解析は、高速フーリエ変換及び離散フーリエ変換の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の干渉計。光源からの光を2つの光に分割して、一方の光を参照面に入射させ、他方の光を被検面に入射させる光分割素子と、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して前記干渉光の信号を出力する検出部とを備えた干渉計を用いて、前記参照面と前記被検面との間の距離を測定する測定方法であって、前記光源からの光の波長を固定して当該光を前記光分割素子を含む光路を介して前記参照面及び前記被検面に入射させ、前記検出部が、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して第1の信号を出力するステップと、前記光源からの光の波長を連続的に変更させながら当該光を前記光路を介して前記参照面及び前記被検面に入射させ、前記検出部が、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して第2の信号を出力するステップと、前記第2の信号を周波数解析して前記第2の信号に含まれる周期誤差を算出するステップと、前記第1の信号に含まれる周期誤差と前記第2の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第2の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第1の信号に含まれる周期誤差を特定するステップと、前記第1の信号から前記特定された周期誤差を減算し、その結果から前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求めるステップと、を有することを特徴とする測定方法。しかしながら、特許文献1の技術では、被検体が低速度又は静止状態である場合、即ち、ドップラーシフトした周波数と主干渉信号の周波数とを区別できない場合には、位相計の周波数分解能の制限から周期誤差を算出することができない。一方、特許文献2の技術は、被検体が低速度又は静止状態である場合にも周期誤差を算出することが可能であるが、実時間における周期誤差を過去に求めた周期誤差の1つの補正係数即ち、1つの補正値で代用している。従って、周期誤差の時間的な変化によって周期誤差の補正精度が低下し、測定精度が制限されることになる。本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、参照面と被検面との間の距離の測定に有利な技術を提供することを例示的目的とする。上記目的を達成するために、本発明の一側面としての干渉計は、参照面と被検面との間の距離を測定する干渉計であって、光源からの光を2つの光に分割して、一方の光を前記参照面に入射させ、他方の光を前記被検面に入射させる光分割素子と、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して前記干渉光の信号を検出する検出部と、前記距離を求める処理を行う処理部と、を有し、前記処理部は、前記光源からの光の波長を固定して当該光を前記光分割素子を含む光路を介して前記参照面及び前記被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して第1の信号を出力するように前記検出部を制御し、前記光源からの光の波長を連続的に変更させながら当該光を前記光路を介して前記参照面及び前記被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出して第2の信号を出力するように前記検出部を制御し、前記第2の信号を周波数解析して前記第2の信号に含まれる周期誤差を算出し、前記第1の信号に含まれる周期誤差と前記第2の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第2の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第1の信号に含まれる周期誤差を特定し、前記第1の信号から前記特定された周期誤差を減算し、その結果から前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求めることを特徴とする。本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。本発明によれば、例えば、参照面と被検面との間の距離の測定に有利な技術を提供することができる。以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。図1は、本発明の一側面としての干渉計の処理部で行われる参照面と被検面との間の距離を求める処理を模式的に示す図である。かかる処理は、後述するように、参照面で反射された光と被検面で反射された光との干渉光の信号に含まれる周期誤差を低減する処理を含む。第1の処理PR1では、光源からの光の波長を安定化させて即ち、光源からの光の波長を固定して、参照面で反射された光と被検面で反射された光との干渉光の信号である第1の干渉信号第1の信号ISIG1を取得する。第2の処理PR2では、第1の干渉信号ISIG1とは干渉位相の変化率が異なる第2の干渉信号第2の信号ISIG2を取得する。第3の処理PR3では、第2の処理PR2で取得された第2の干渉信号ISIG2を周波数解析して第2の干渉信号ISIG2に含まれる信号の周波数を検出し、かかる周波数における信号の振幅及び位相を求めて周期誤差を算出する。第4の処理PR4では、第3の処理PR3で算出された周期誤差から第1の干渉信号ISIG1に含まれる周期誤差を特定し、特定した周期誤差を第1の干渉信号ISIG1から減算し、その結果から参照面と被検面との間の光路長に対応する位相を算出する。以下、各実施形態において、本発明の一側面としての干渉計の構成や参照面と被検面との間の距離を求める処理について詳細に説明する。<第1の実施形態>図2は、第1の実施形態における干渉計1の構成を示す概略図である。干渉計1は、参照面と被検面との間の距離を測定する光波干渉計であって、本実施形態では、ヘテロダイン干渉を用いた干渉計として具現化される。但し、干渉計1は、ヘテロダイン干渉を用いた干渉計に限定するものではなく、ホモダイン干渉を用いた干渉計であってもよい。干渉計1は、第1の光源固定波長光源10と、第2の光源可変波長光源11と、結合ミラー12と、ビームスプリッタ13と、偏光ビームスプリッタ14と、第1の分光素子15と、第1の検出部16と、第2の検出部17とを有する。更に、干渉計1は、第2の分光素子18と、第3の検出部19と、第4の検出部20と、処理部21とを有する。第1の光源10及び第2の光源11は、ガスセルに封入されたガスの吸収線又はファブリペローエタロンの透過スペクトルなどを用いて、射出する光の波長が安定するように制御される。例えば、第1の光源10から射出される光の波長は、第1の基準波長λ1に安定化される。一方、第2の光源11から射出される光の波長は、第2の基準波長λ2又は第3の基準波長λ3に安定化されると共に、第2の基準波長λ2と第3の基準波長λ3との間で連続して変更走査可能である。また、第1の光源10から射出される光は、直交する偏光の周波数が互いにωRだけ異なっている。同様に、第2の光源11から射出される光は、直交する偏光の周波数が互いにωRだけ異なっている。このように、第1の光源10及び第2の光源11は、ヘテロダイン光源としての機能を有する。なお、本実施形態では、第1の光源10と第2の光源11とを独立した光源として構成しているが、例えば、光通信に用いられる多波長光源と同様に、複数の半導体レーザを1つの素子に集積して光源を構成してもよい。これにより、装置コストや装置寸法の面で有利となる。結合ミラー12は、第1の光源10からの光の光線軸及び偏光角度と第2の光源11からの光の光線軸及び偏光角度とが一致するように、第1の光源10からの光及び第2の光源11からの光を調整する。ビームスプリッタ13は、第1の光源10及び第2の光源11からの光の一部を透過して偏光ビームスプリッタ14に導光し、残りを反射して第2の分光素子18に導光する。偏光ビームスプリッタ14は、その偏光角が第1の光源10及び第2の光源11からの光の偏光方向と一致するように配置され、第1の光源10及び第2の光源11のそれぞれからの光を2つの光に分割する。偏光ビームスプリッタ14で分割される2つの光のうち、偏光ビームスプリッタ14で反射される光は、参照面RSに入射し、偏光ビームスプリッタ14を透過する光は、被検面TSに入射する。このように、偏光ビームスプリッタ14は、第1の光源10及び第2の光源11のそれぞれからの光を2つの光に分割して、一方の光を参照面RSに入射させ、他方の光を被検面TSに入射させる光分割素子として機能する。参照面RSは、例えば、複数の反射面からなるコーナーキューブで構成され、距離測定の基準となる基準構造体に固定されている。また、被検面TSは、参照面RSと同様に、コーナーキューブで構成され、距離測定の対象物体被検物体に固定されている。参照面RSで反射された光参照光と被検面TSで反射された光被検光とは、偏光ビームスプリッタ14で合波され即ち、干渉光となり、第1の分光素子15に入射する。第1の分光素子15は、例えば、ダイクロイックミラーで構成され、第1の光源10からの光と第2の光源11からの光とを分光する。第1の分光素子15は、本実施形態では、第1の光源10からの光を反射し、第2の光源11からの光を透過する。第1の分光素子15で反射された光第1の光源10からの光は、第1の検出部16に入射し、第1の分光素子15を透過した光第2の光源11からの光は、第2の検出部17に入射する。第1の検出部16及び第2の検出部17のそれぞれでは、参照面RSで反射された光と被検面TSで反射された光との干渉光が検出される。そして、第1の検出部16及び第2の検出部17のそれぞれは、ヘテロダイン信号である干渉信号即ち、参照面RSで反射された光と被検面TSで反射された光との干渉光の信号を処理部21に出力する。第2の分光素子18は、例えば、ダイクロイックミラーで構成され、第1の光源10からの光と第2の光源11からの光とを分光する。第2の分光素子15は、本実施形態では、第1の光源10からの光を反射し、第2の光源11からの光を透過する。第2の分光素子18で反射された光第1の光源10からの光は、第3の検出部19に入射し、第2の分光素子18を透過した光第2の光源11からの光は、第4の検出部20に入射する。第3の検出部19及び第4の検出部20のそれぞれでは、ヘテロダイン信号が検出され、参照干渉信号として処理部21に入力される。処理部21は、CPUやメモリなどを含み、干渉計1の各部を制御する。処理部21は、図1で説明したように、参照面RSと被検面TSとの間の距離を求める処理を行う。以下では、処理部21で行われる参照面RSと被検面TSとの間の距離を求める処理を詳細に説明する。まず、第1の干渉信号ISIG1の取得第1の処理PR1について説明する。この際、処理部21は、第1の光源10からの光の波長を固定して、かかる光を偏光ビームスプリッタ14を含む光路を介して参照面RS及び被検面TSに入射させ、第1の干渉信号ISIG1を検出するように各検出部を制御する。第1の検出部16で検出される計測干渉信号IM1t、及び、第2の検出部17で検出される参照干渉信号IR1tのそれぞれは、以下の式1で表される。なお、式1において、AM1は振幅、φ10は初期位相、ωRは直交する偏光の周波数差、即ち、ヘテロダイン信号の基準周波数である。ある時刻tにおける被検面TSの位置をLj、被検面TSの移動速度をvとすると、被検面TSの移動に伴うドップラーシフト量ωD1及び被検光と参照光との光路差に依存する位相φ1のそれぞれは、以下の式2及び式3で表される。なお、干渉計1は、図2に示すように、シングルパスの構成を有しているため、参照面RSから被検面TSに至る通路の数pを2としている。また、n1は、計測光路における平均屈折率である。計測干渉信号IM1tにおける周波数ωRωD1に対して、離散フーリエ変換や高速フーリエ変換などのフーリエ解析法、或いは、フィッティング法などを施すことで位相φ1φ10を算出する。参照干渉信号IR1tに対しても、同様な処理を施すことで初期位相φ10を算出する。計測干渉信号IM1tから算出される位相から、参照干渉信号IR1tから算出される位相を減算することで、参照面RSと被検面TSとの間の距離光路長に対応する位相を求めることができる。但し、実際には、干渉計1を構成する光学系の不完全性に起因する不要光が含まれるため、計測干渉信号IM1tは、以下の式4で表されるように、周期誤差CE1を含む。周期誤差CE1は、主干渉信号のドップラーシフト量に対して係数m倍の干渉信号の和として表される。かかる信号において、周波数ωRωD1に対する位相を算出すると、周期誤差CE1を含む測定値となる。次に、第2の干渉信号ISIG2の取得第2の処理PR2について説明する。この際、処理部21は、第2の光源11からの光の波長を連続的に変更走査させながら、かかる光を偏光ビームスプリッタ14を含む光路を介して参照面RS及び被検面TSに入射させ、第2の干渉信号ISIG2を検出するように各検出部を制御する。このように、本実施形態では、第1の干渉信号ISIG1とは干渉位相の変化率が異なる第2の干渉信号ISIG2を取得するために、第2の光源11からの光の波長を連続的に変更する。例えば、図3に示すように、第2の光源11からの光の波数が波数k2=2π/λ2から波数k3=2π/λ3まで時間τKの周期で連続的線形的に変更走査される場合を考える。この場合、計測干渉信号IM2t及び参照干渉信号IR2tのそれぞれは、以下の式5で表される。なお、式5において、AR2及びAM2は振幅、φ20tは初期位相である。ある時刻tにおける第2の光源11からの光の波数をkjとすると、被検面TSの移動に伴うドップラーシフト量ωD2は、以下の式6で表される。また、周波数シフト量ωKtは、波数の変更走査によって発生する周波数シフト量であって、以下の式7で表される。また、参照面RSと被検面TSとの間の距離光路差に相当する位相φ2は、以下の式8で表される。なお、n2は、対応する波長間の計測光路における平均屈折率である。但し、干渉計1を構成する光学系の不完全性に起因する不要光が含まれるため、計測干渉信号IM2tは、以下の式9で表されるように即ち、計測干渉信号IM1tと同様に、周期誤差CE2を含む。次に、第2の干渉信号ISIG2の周波数解析及び第2の干渉信号ISIG2に含まれる周期誤差の特定第3の処理PR3について説明する。ここでは、計測干渉信号IM2tにおいて、各周波数での周期誤差の振幅振幅項AM2及び位相位相項φ2mを求めるために、フーリエ解析法を用いるものとする。計測干渉信号IM2tを高速フーリエ変換FFTすると、干渉信号の周波数ωRωD2ωKtと周期誤差の信号周波数ωRmωD2ωKtが検出される。従って、周波数シフト量はωD2とωKとの和として表されるため、被検面TSが静止状態であり、ωD2がゼロである場合であっても、周波数を分離することが可能となる。このようにして検出された各周波数に対して離散フーリエ変換DFTなどのフーリエ解析法を適用して振幅及び位相を求め、各周波数成分の周期誤差CE2を算出する。なお、フーリエ解析法は、当業界で周知の技術であるため、ここでの詳細な説明は省略する。次に、参照面RSと被検面TSとの間の光路長に対応する位相の算出第4の処理PR4について説明する。参照面RSと被検面TSとの間の光路長に対応する位相を算出するためには、第1の干渉信号に含まれる周期誤差CE1と第2の干渉信号に含まれる周期誤差CE2との対応関係を表すテーブルを予め準備取得する必要がある。例えば、被検面TSを既知の速度で移動させながら、第1の光源10及び第2の光源11のそれぞれからの光を用いて測長値を取得する。そして、各光源の波長において、既知の速度におけるドップラー周波数に対する周期誤差項を分離し、周期誤差項を係数によって表現し、かかる対応関係をテーブルとして処理部21のメモリなどに記憶する。このようなテーブルを用いて、第2の干渉信号に含まれる周期誤差CE2に対応する第1の干渉信号に含まれる周期誤差CE1を特定する。具体的には、計測干渉信号IM2tに含まれる周期誤差の振幅AM2及び位相φ2m、ドップラーシフト量ωD2から、計測干渉信号IM1tに含まれる周期誤差の位相A1m及び位相φ1m、ドップラーシフト量ωD1を特定する。そして、計測干渉信号IM1tから特定した周期誤差CE1を減算し、その結果から参照面RSと被検面TSとの間の光路長に対応する位相を算出する。本実施形態では、被検面TSが低速度又は静止状態である場合にも、計測干渉信号IM1tに含まれる周期誤差CE1を除去低減することができる。従って、参照面RSと被検面TSとの間の光路長に対応する位相、即ち、参照面RSと被検面TSとの間の距離を高精度に求めることができる。また、処理部21は、図4に示すように、参照面RSと被検面TSとの間の絶対距離を求める処理を行うことも可能である。図4は、処理部21で行われる参照面RSと被検面TSとの間の絶対距離を求める処理を説明するためのフローチャートである。S101では、第2の光源11から射出される光の波長を第2の基準波長λ2に設定する即ち、第2の基準波長λ2における波長安定化制御を開始する。S102では、第2の基準波長λ2における位相φ2を検出する。位相の検出とは、計測干渉信号と参照干渉信号との位相差を検出することである。従って、処理部21において、計測干渉信号の位相と参照干渉信号の位相とを算出し、それらの差分を求めることで第2の基準波長λ2における位相φ2を検出することができる。S102で検出される第2の基準波長λ2における位相φ2は、以下の式10で表される。ここで、modu,wは、第1引数uの第2引数wに対する余剰を表すものとする。また、nλは、波長λにおける被検光の光路の屈折率であり、Dは、参照面RSと被検面TSとの間の絶対距離参照面RSと被検面TSとの間の光路長差である。S103では、第2の光源11から射出される光の波長を第2の基準波長λ2波数k2=2π/λ2から第3の基準波長λ3波数k3=2π/λ3に連続的に変更走査しながら位相φを検出する。S104では、S103で検出された位相φから周期誤差を算出する。なお、周期誤差の算出については、上述した通りであるため、ここでの詳細な説明は省略する。S105では、第2の光源11から射出される光の波長を第2の基準波長λ2から第3の基準波長λ3に連続的に変更することで発生する位相飛び数M23を検出する。処理部21で検出可能な位相の範囲は±πであるため、±πを超えると位相飛びが発生する。S106では、第2の光源11から射出される光の波長を第3の基準波長λ3に設定する即ち、第3の基準波長λ3における波長安定化制御を開始する。S107では、第3の基準波長λ3における位相φ3を検出する。S107で検出される第3の基準波長λ3における位相φ3は、以下の式11で表される。ここで、式10及び式11を参照するに、S105で検出される位相飛び数M23は、以下の式12で表される。なお、Λ23は、λ2λ3/|λ3-λ2|で表される第2の基準波長λ2と第3の基準波長λ3との合成波長である。また、ngλ2、λ3は、第2の基準波長λ2及び第3の基準波長λ3に対する群屈折率を表す。S108では、第1の光源10から射出される光の波長、即ち、第1の基準波長λ1における位相φ1を検出する。S108で検出される第1の基準波長λ1における位相φ1は、以下の式13で表される。S109では、第1の基準波長λ1における干渉次数位相飛び数N1を算出する。λ1λ2/|λ1-λ2|で表される第1の基準波長λ1と第2の基準波長λ2との合成波長をΛ12とする。この場合、参照面RSと被検面TSとの間の絶対距離Dと、第1の基準波長λ1と、合成波長Λ12との関係は、以下の式14及び式15で表される。また、参照面RSと被検面TSとの間の絶対距離Dと、第3の基準波長λ3と、合成波長Λ23との関係は、以下の式16で表される。第1の基準波長λ1と、合成波長Λ12と、合成波長Λ23との間には、λ1<Λ12<<Λ23の関係があるため、干渉次数N1及びM12は、以下の式17で表される。S110では、被検面TSの近傍に配置された環境検出部不図示を用いて、被検面TSの近傍、即ち、参照面RSと被検面TSとの間の空間の環境を検出する。環境検出部は、例えば、参照面RSと被検面TSとの間の空間の気体の温度を検出する温度計や参照面RSと被検面TSとの間の空間の気圧を検出する気圧計を含み、参照面RSと被検面TSとの間の空間即ち、大気の群屈折率を検出する。S111では、S108で検出された第1の基準波長λ1における位相φ1から周期誤差を減算する。上述したように、第1の干渉信号に含まれる周期誤差と第2の干渉信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、S104で算出した周期誤差に対応する位相φ1に含まれる周期誤差を特定する。そして、位相φ1から特定した周期誤差を減算する。S112では、参照面RSと被検面TSとの間の絶対距離Dを算出する。具体的には、S110での検出結果から参照面RSと被検面TSとの間の空間の屈折率を算出し、以下の式14に従って絶対距離Dを求める。但し、干渉次数が算出されている場合には、以下の式18に従って絶対距離Dを求めることができる。このように、本実施形態では、第1の基準波長λ1における位相φ1に含まれる周期誤差を除去低減することができるため、参照面RSと被検面TSとの間の絶対距離を高精度に求めることができる。なお、本実施形態では、干渉計1は2つの光源第1の光源10及び第2の光源11を有しているが、干渉計1が2つ以上の光源を有していてもよい。この場合、2つ以上の波長を連続的に変更走査して複数の結果を平均化することで、より高精度に干渉信号に含まれる周期誤差を求めることができる。<第2の実施形態>第2の実施形態では、光の波長を連続的に変更するのではなく、光の位相を変調させることで第1の干渉信号ISIG1とは干渉位相の変化率が異なる第2の干渉信号ISIG2を取得する。換言すれば、第2の実施形態は、第1の実施形態と比較して、第2の干渉信号ISIG2を取得する第2の処理PR2が異なる。そこで、以下では、第2の処理PR2のみについて説明し、第1の処理PR1、第3の処理PR3及び第4の処理PR4についての説明は省略する。図5は、第2の実施形態における干渉計1Aの構成を示す概略図である。干渉計1Aは、基本的には、干渉計1と同様な構成を有するが、第2の光源11の代わりに第3の光源固定波長光源24を有し、光変調部25を更に有する。第3の光源24は、第1の光源10と同様に、射出する光の波長が1つの基準波長に安定するように制御される。第3の光源24から射出される光は、直交する偏光の周波数が互いにωRだけ異なっている。光変調部25は、例えば、電気光学変調素子EOMを含み、第3の光源24から射出される光の位相を変調する。第2の干渉信号ISIG2の取得第2の処理PR2について説明する。この際、処理部21は、光変調部25を用いて第3の光源24からの光の位相を変調させながら、かかる光を偏光ビームスプリッタ14を含む光路を介して参照面RS及び被検面TSに入射させ、第2の干渉信号ISIG2を検出するように各検出部を制御する。例えば、第3の光源24からの光の位相の変調量をβ、第3の光源24からの光の位相の変調周期をτPとすると、計測干渉信号IM2t及び計測干渉信号IM2tに含まれる周期誤差CE2pは、以下の式19で表される。ここで、ωP=2n2k2β/τPは、位相を変調することによって発生する周波数シフト量である。従って、周波数シフト量はωD2とωPとの和として表されるため、被検面TSが静止状態であり、ωD2がゼロである場合であっても、周波数を分離することが可能となる。<第3の実施形態>第3の実施形態では、光の波長を連続的に変更させたり、光の位相を変調させたりするのではなく、参照面を高速に微小移動させることで第1の干渉信号ISIG1とは干渉位相の変化率が異なる第2の干渉信号ISIG2を取得する。換言すれば、第2の実施形態は、第1の実施形態や第2の実施形態と比較して、第2の干渉信号ISIG2を取得する第2の処理PR2が異なる。そこで、以下では、第2の処理PR2のみについて説明し、第1の処理PR1、第3の処理PR3及び第4の処理PR4についての説明は省略する。図6は、第3の実施形態における干渉信号1Bの構成を示す概略図である。干渉計1Bの基本的な構成は、平面干渉計の構成であるが、第1の参照面RSa及び第2の参照面RSbの複数の参照面を有し、ステージ28を更に有する。また、干渉計1Bは、ダブルパスの構成を有しているため、参照面から被検面に至る通路の数pは4となる。第1の参照面RSaは、第1の光源10からの光に対する参照面であって、ダイクロイックミラーなどの分光素子で構成される。第1の参照面RSaは、第1の光源10からの光を反射し、第3の光源24からの光を透過させる。第2の参照面RSbは、第2の参照面RSbを移動させるためのステージ28に配置され、第3の光源24からの光を反射する。第2の干渉信号ISIG2の取得第2の処理PR2について説明する。この際、処理部21は、ステージ28を用いて第2の参照面RSbを移動させながら、第3の光源24からの光を偏光ビームスプリッタ14を含む光路を介して第2の参照面RSb及び被検面TSに入射させる。そして、処理部21は、第2の干渉信号ISIG2を検出するように各検出部を制御する。例えば、第2の参照面RSbを移動させる距離をΔLref=λ2/4、第2の参照面RSbを移動させる周期をτLとすると、計測干渉信号IM2t及び計測干渉信号IM2tに含まれる周期誤差CE2Lは、以下の式20で表される。ここで、ωD2=4vnkは被検面TSの移動に伴うドップラーシフトを含む周波数であり、ωL=4nk2ΔLref/τLは、第2の参照面RSbを移動させることによって発生する周波数シフト量である。従って、周波数シフト量はωD2とωLとの和として表されるため、被検面TSが静止状態であり、ωD2がゼロである場合であっても、周波数を分離することが可能となる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、第2の実施形態や第3の実施形態で説明した干渉計についても、第1の実施形態で説明した干渉計と同様に、参照面と被検面との間の絶対距離を求めることができる。"