"磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体を、上記磁性部と上記凹部内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部とが露出して平坦な研磨面を形成するまで研磨するために用いられる研磨液であって、該研磨液は、水と極圧剤とを含有し、該極圧剤は、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル又はその塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩、アルキルベンゼンスルホン酸又はその塩、α-オレフィンスルホン酸又はその塩、及びアルキルアミン又はそのアルキレンオキシド付加物から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする研磨液。請求項1に記載の研磨液において、上記複合体の上記磁性材料には形状が異なる上記凹部が形成されていることを特徴とする研磨液。請求項1又は2に記載の研磨液において、上記複合体は、上記凹部が形成された上記磁性部と該磁性部の上記凹部を覆うように埋め込まれた上記非磁性材料とからなるユーザーデータ記録用のデータ領域、及び該データ領域とは形状が異なる上記凹部が形成された上記磁性部と該磁性部の上記凹部を覆うように埋め込まれた上記非磁性材料とからなる位置情報記録用のサーボ領域を有する磁気記録媒体であることを特徴とする研磨液。請求項1~3のいずれか一項に記載の研磨液において、上記非磁性材料は、Cr、Cu、Ru、Ti、Ta、Al、Si、又はこれらを含む合金からなることを特徴とする研磨液。請求項1~4のいずれか一項に記載の研磨液において、上記ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル又はその塩は、アルキル基の炭素数が6~15で、かつポリオキシアルキレンにおけるアルキレンがエチレン又はプロピレンであり、上記ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩は、アルキル基の炭素数が8~18で、かつポリオキシアルキレンにおけるアルキレンがエチレン又はプロピレンであり、上記アルキルベンゼンスルホン酸又はその塩は、アルキル基の炭素数が10~22であり、上記α-オレフィンスルホン酸又はその塩は、オレフィンの炭素数が8~18であり、上記アルキルアミン又はそのアルキレンオキシド付加物は、アルキル基の炭素数が炭素数8~18であることを特徴とする研磨液。請求項1~5のいずれか一項に記載の研磨液において、上記極圧剤の含有量は、0.01~30質量であることを特徴とする研磨液。請求項1~6のいずれか一項に記載の研磨液において、アルカリからなるエッチング剤をさらに含有することを特徴とする研磨液。請求項1~7のいずれか一項に記載の研磨液において、界面活性剤をさらに含有することを特徴とする研磨液。請求項1~8のいずれか一項に記載の研磨液において、酸化剤をさらに含有することを特徴とする研磨液。しかしながら、凹凸パターンを有する磁気記録媒体においては、気流の乱れによる磁気ヘッドの浮上安定性の低下等によって起こりうる磁気ヘッドと凹凸パターンの接触によって、磁気ヘッドや凹凸パターンの破損が懸念される。これを回避するために、凹凸パターンの凹部を非磁性材料で埋めてしまう手法が考えられる。具体的には、まず、例えばガラス等からなる基板10の表面に磁性材料を含む磁性部11磁性層を形成し、該磁性部11に溝凹部120を形成して凹凸パターン13を形成する図1a及びb参照。次いで、凹凸パターン13の凹部120を覆うように非磁性材料125を埋め込むことにより、磁性材料を含む磁性部11と、該磁性部11に形成された複数の凹部120を覆うように埋め込まれた非磁性材料125とからなる複合体15を作製する図1c参照。そして、磁性部11と凹部120内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部12とが露出して平坦な研磨面16を形成するまで研磨することにより、磁気記録媒体1を作製する図1d参照。上述の研磨にあたっては、砥粒等を分散させた研磨液を用いて行う湿式研磨が考えられる。しかし、上記磁性部と上記非磁性部とを露出させて平坦な研磨面を形成させる際に用いられる有効な研磨液は開発されておらず、均一な平面に研磨することは困難である。特に、例えばハードディスク用の磁気記録媒体においては、図4に示すごとく、データ領域18とサーボ領域19のように、形状、大きさ、幅等の異なる磁性部11及び非磁性部12を形成する場合がある。この場合には、図6a及びbに示すごとく、磁性部11に形状、大きさ、幅等の異なる凹部120を形成し、この凹部120内に非磁性材料125を埋め込む必要がある。このとき、磁性部11の表面及び凹部120内に非磁性材料125をたとえ均一な量で形成したとしても、凹部12内に埋め込まれる非磁性材料125の量が異なるため、凹部12を覆う非磁性材料125の高さ凹部の深さ方向の高さが形状の異なる凹部120同士で異なってしまう図6a及びb参照。そのため、複合体15を非磁性材料125側から均一に研磨したとしても、凹部12内に埋め込まれた非磁性材料125の高さが小さい領域においては、研磨終了時の厚みが小さくなってしまう図7a及びb参照。具体的には、例えば図6a及びbに示すごとく、サーボ領域19の凹部120がデータ領域18に比べて大きな幅で形成されている場合には、サーボ領域19の凹部12を覆う非磁性材料125の高さがデータ領域18の凹部12を覆う非磁性材料125の高さより低くなり、図7a及びbに示すごとく、研磨終了時には、サーボ領域19における磁性部11及び非磁性部12の厚みがデータ領域18における磁性部11及び非磁性部12の厚みに比べて小さくなってしまうおそれがある。したがって、データ領域18とサーボ領域19全体にわたって磁性部11と非磁性部12とが均一な厚みで形成された平坦な研磨面16を形成することが困難になるおそれがある。本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、磁性部とその凹部内に埋め込まれた非磁性部とを露出させて平坦な研磨面を形成させることができる研磨液を提供しようとするものである。本発明は、磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体を、上記磁性部と上記凹部内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部とが露出して平坦な研磨面を形成するまで研磨するために用いられる研磨液であって、該研磨液は、水と極圧剤とを含有し、該極圧剤は、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル又はその塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩、アルキルベンゼンスルホン酸又はその塩、α-オレフィンスルホン酸又はその塩、及びアルキルアミン又はそのアルキレンオキシド付加物から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする研磨液にある請求項1。上記研磨液においては、上記極圧剤として、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル又はその塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩、アルキルベンゼンスルホン酸又はその塩、α-オレフィンスルホン酸又はその塩、及びアルキルアミン又はそのアルキレンオキシド付加物から選ばれる少なくとも1種を含有する。そして、上記研磨液は、磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体を、上記磁性部と上記凹部内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部とが露出して平坦な研磨面を形成するまで研磨するために用いられる。上記特定の極圧剤を含有する研磨液を用いて上記複合体の研磨を行うと、上記磁性材料の研磨を抑制することができる。そのため、研磨時には上記凹部を覆う上記非磁性材料を優先的に研磨させることができ、上記磁性部と上記非磁性部とを平坦にすることができる。次に、本発明の好ましい実施形態について説明する。上記研磨液は、磁性材料を含む磁性部11と、該磁性部11に形成された複数の凹部120を覆うように埋め込まれた非磁性材料125とからなる複合体15を、上記磁性部11と上記凹部120内に埋め込まれた上記非磁性材料125からなる非磁性部12とが露出して平坦な研磨面16を形成するまで研磨するために用いられる図1c及びd参照。凹部120は、磁性材料で形成した磁性部11に対して例えばイオンミリングなどを行うことにより形成することができる。上記研磨液を用いた複合体の研磨は、例えば図2a及びbに示すような研磨加工機7を用いて行うことができる。即ち、例えば複合体15に研磨液Sを供給しながら、複合体15の表面に研磨加工機7の研磨テープ705を押し当てた状態で研磨テープ705と複合体15とを相対的に動かす図2参照。これにより、上記複合体15の上記磁性部11と上記凹部120内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部12とが露出して平坦な研磨面16を形成するまで研磨する図1c及びd参照。上記複合体の上記磁性部には形状が異なる上記凹部が形成されていることが好ましい請求項2。この場合には、平坦な研磨面を形成させることができるという上記研磨液による作用効果が顕著になる。即ち、図6a及びbに示すごとく、例えばハードディスク用の磁気記録媒体におけるデータ領域18とサーボ領域19のように、磁性部11に形状が異なる複数の凹部120が形成されている場合には、磁性部11の表面から非磁性材料125を均一な量で形成させたとしても凹部120内に埋め込まれる非磁性材料125の量が異なる。そのため、凹部120を覆う非磁性材料125の高さ凹部の深さ方向の高さが、形状の異なる凹部120同士で異なってしまう。この状態で、非磁性材料125の高さが大きな領域18における磁性部11と凹部120内に埋め込まれた非磁性部125とが露出するまで研磨を行うと、非磁性材料125の高さが小さい領域19においては研磨が進行しすぎて、磁性部11及び非磁性部12の厚みが小さくなる図7a及びb参照。一方、上記特定の極圧剤を含有する上記研磨液を用いると、磁性部11の過剰な研磨を抑制することができるため、凹部120の形状にかかわらず、図5a及びbに示すごとく、均一な厚みの磁性部11及び非磁性部12を形成させ、平坦な研磨面16を形成することができる。上記複合体は、上記凹部が形成された上記磁性部と該磁性部の上記凹部を覆うように埋め込まれた上記非磁性材料とからなるユーザーデータ記録用のデータ領域、及び該データ領域とは形状が異なる上記凹部が形成された上記磁性部と該磁性部の上記凹部を覆うように埋め込まれた上記非磁性材料とからなる位置情報記録用のサーボ領域を有する磁気記録媒体であることが好ましい請求項3。この場合には、ハードディスク用の磁気記録媒体の作製時における上述の研磨において上記研磨液をより好適に用いることができる。特に、上記データ領域及びサーボ領域においては、互いに形状の異なる上記凹部が形成されるため、上述のように、均一な厚みの磁性部及び非磁性部を形成させることができるという上記研磨液を用いることによる作用効果が顕著になる。上記磁性部は、面内磁気記録媒体用の水平磁性部でも、垂直磁気記録媒体用の垂直磁性部でもよい。より高い記録密度を実現できるという観点からは垂直磁性部が好ましい。上記磁性部は、磁性材料を含有する。上記磁性材料としては、Coを主成分とするCo系合金を用いることが好ましい。この場合には、上記複合体の研磨後に、特にハードディスク用に好適な磁気記録媒体を作製することが可能になる。また、この場合には、上記研磨液によって上記磁性部が化学的な溶解作用をより受けにくくなる。そのため、より平坦な研磨面を形成し易くなる。具体的には、例えば、CoCrPt系、CoCrPtB系、CoCrPtTa系の磁性材料や、これらにSiO2、Cr2O3等の酸化物を加えたグラニュラ構造の磁性材料などを用いることができる。グラニュラ構造の磁性材料としては、例えば少なくとも磁性粒子としてCoとCrとを含み、磁性粒子の粒界部に、少なくともSi酸化物、Cr酸化物、Ti酸化物、W酸化物、Co酸化物、Ta酸化物、Ru酸化物から選ばれる少なくとも1種を含むものを用いることができる。具体的には、例えばCoCrPt-Si酸化物、CoCrPt-Cr酸化物、CoCrPt-W酸化物、CoCrPt-Co酸化物、CoCrPt-Cr酸化物-W酸化物、CoCrPt-Cr酸化物-Ru酸化物、CoRuPt-Cr酸化物-Si酸化物、CoCrPtRu-Cr酸化物-Si酸化物等が挙げられる。また、上記磁性部は、複数の磁性材料からなる積層構造により形成されていてもよい。例えば垂直磁気記録媒体の場合には、図1に示すごとく、磁性部11を例えば軟磁性のFeCo合金FeCoB、FeCoSiB、FeCoZr、FeCoZrB、FeCoZrBCu等、FeTa合金FeTaN、FeTaC等、Co合金CoTaZr、CoZrNB、CoB等等からなる軟磁性層111と、Ru等からなる中間層112と、60Co-15Cr-15Pt合金や70Co-5Cr-15Pt-10SiO2合金からなる記録磁性層113とを積層して構成することができる。また、軟磁性層111と中間層112との間にPt、Pd、NiCr、NiFeCr等からなる配向制御膜図示略を積層することもできる。なお、上記磁性部11は、ガラスなどの非磁性材料からなる基板10上に形成することができる。また、面内磁気記録媒体の場合には、上記磁性部として、非磁性のCrMo下地層と強磁性のCoCrPtTa磁性層とを積層したものを利用することができる。上記磁性部は、スパッタ法等により薄膜として形成することができる。上記磁性部においては、上記記録磁性層やCoCrPtTa磁性層は、例えば厚み3~20nmで形成することができる。好ましくは5~15nmがよい。また、上記磁性部は、上記磁性材料の表面に、例えばダイヤモンドライクカーボンDLC及びカーボン等からなるバリア膜が形成されていてもよい。この場合には、上記磁性部が研磨による影響をより一層受けにくくなる。そのため、平坦な研磨面をより一層形成し易くなる。次に、上記非磁性材料としては、例えば、非磁性の合金を用いることができる。好ましくは、上記非磁性材料は、Cr、Cu、Ru、Ti、Ta、Al、Si、又はこれらを含む合金からなることがよい請求項4。即ち、上記研磨液は、Cr、Cu、Ru、Ti、Ta、Al、Si、又はこれらを含む合金からなる非磁性材料を有する上記複合体に対して適用することが好ましい。この場合には、上記非磁性材料が上記研磨液により化学的により溶解されやすくなり、平坦な研磨面を形成できるという上述の作用効果がより顕著になる。合金からなる非磁性材料としては、具体的には、例えばTi-Al合金、Cr-Ti合金、Mn-Al合金、Cr-Al合金、Cr-Mo合金、Al-Si合金、Cr-Cu合金、Ti-B合金、Ti-Al-Cr合金、Cr-Ru合金、及びCr-Ta合金等がある。上記研磨液は、少なくとも水と極圧剤とを含有する。上記研磨液は、使用時に適宜希釈して用いることができる。また、上記研磨液には、必要に応じて砥粒等を添加して用いることができる。上記研磨液において上記極圧剤は、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル又はその塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩、アルキルベンゼンスルホン酸又はその塩、α-オレフィンスルホン酸又はその塩、及びアルキルアミン又はそのアルキレンオキシド付加物から選ばれる少なくとも1種からなる。上記ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル又はその塩は、アルキル基の炭素数が6~15で、かつポリオキシアルキレンにおけるアルキレンがエチレン又はプロピレンであり、上記ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩は、アルキル基の炭素数が8~18で、かつポリオキシアルキレンにおけるアルキレンがエチレン又はプロピレンであり、上記アルキルベンゼンスルホン酸又はその塩は、アルキル基の炭素数が10~22であり、上記α-オレフィンスルホン酸又はその塩は、オレフィンの炭素数が8~18であり、上記アルキルアミン又はそのアルキレンオキシド付加物は、アルキル基の炭素数が炭素数8~18であることが好ましい請求項5。この場合には、上記磁性材料の研磨を抑制する効果がより顕著になる。そのため、上記研磨液を用いた研磨時に上記凹部を覆う上記非磁性材料を優先的に研磨させ、上記磁性部と上記非磁性部とをより一層平坦にし易くなる。上述の各極圧剤において、上記アルキル基は直鎖でも分岐を有していてもよい。具体的には、上記ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステルとしては、例えばポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル、ポリオキシプロピレントリデシルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル、ポリオキシプロピレンラウリルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンデシルエーテルリン酸エステル、ポリオキシプロピレンデシルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレン-2-エチルヘキシルエーテルリン酸エステル、ポリオキシプロピレン-2-エチルヘキシルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンオクチルエーテルリン酸エステル、及びポリオキシプロピレンオクチルエーテルリン酸エステルなどを好適に用いることができる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステルの塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アルカノールアミン塩等の各種無機塩又は有機塩等がある。上記ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステルとしては、例えばポリオキシエチレンペンタデシルエーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレンテトラデシルエーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル硫酸エステル、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸エステルなどを好適に用いることができる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステルの塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アルカノールアミン塩等の各種無機塩又は有機塩等がある。また、上記アルキルベンゼンスルホン酸としては、例えばドデシルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸などを好適に用いることができる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記アルキルベンゼンスルホン酸の塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アルカノールアミン塩等の各種無機塩又は有機塩等がある。また、上記α-オレフィンスルホン酸としては、例えばテトラデセンスルホン酸等を用いることができる。また、上記α-オレフィンスルホン酸の塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アルカノールアミン塩等の各種無機塩又は有機塩等がある。また、上記アルキルアミン又はそのアルキレンオキシド付加物としては、例えばビス2-ヒドロキシエチルラウリルアミン、ビス2-ヒドロキシエチルミリスチルアミン、ビス2-ヒドロキシエチルパルミチルアミン、ビス2-ヒドロキシエチルステアリルアミン、ビス2-ヒドロキシエチルオレイルアミン、ビス2-ヒドロキシエチルアルキルC8~C18混合アミンただし、C8~C18は、炭素数8~18のアルキルを意味する、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ポリオキシエチレンミリスチルアミン、ポリオキシエチレンパルミチルアミン、ポリオキシエチレンステアリルアミン、ポリオキシエチレンオレイルアミン、及びポリオキシエチレンアルキルC8~C18混合アミンただし、C8~C18は、炭素数8~18のアルキルを意味するなどを好適に用いることができる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記極圧剤の含有量は、0.01~30質量であることが好ましい請求項6。上記極圧剤の含有量が0.01質量未満の場合には、上記磁性材料に対する研磨抑制効果が小さくなるおそれがある。一方、30質量を超える場合には、上記非磁性材料の研磨速度が低下するおそれがある。より好ましくは上記極圧剤の含有量は、研磨時の濃度で、0.1~5質量がよく、さらに好ましくは0.3~1.5質量がよい。また、上記研磨液は、アルカリからなるエッチング剤をさらに含有することが好ましい請求項7。この場合には、上記研磨液における上記非磁性材料に対する化学的な溶解性を向上させることができる。また、上記研磨液がアルカリからなるエッチング剤を含有する場合には、上記研磨液の温度25°CにおけるpHは9以上であることが好ましい。この場合には、上記研磨液による上記非磁性材料の溶解特性をより向上させることができる。pHはより好ましくは10以上がよく、さらに好ましくは11以上がよい。アルカリからなるエッチング剤としては、アルカノールアミン、水酸化アルカリ、下記の一般式1で表される水酸化四級アンモニウム、及びアンモニアから選ばれる少なくとも1種を用いることが好ましい。より好ましくは、アルカリからなるエッチング剤として、水酸化アルカリ、下記の一般式1で表される水酸化四級アンモニウム、及びアンモニアから選ばれる少なくとも1種と、アルカノールアミンとを用いることがよい。この場合には、上記研磨液の上記非磁性材料に対する化学的な溶解性をより向上させることができる。式1中、R1~R4は、独立して、ベンジル基、又は炭素数1~6のアルキル基であり、アルキル基の一部が水酸基で置換していてもよい上記一般式1におけるアルキル基の炭素数が6を超える場合には、水を含有する研磨液への溶解性が悪化し、析出又は分離してしまうおそれがある。アルカノールアミンとしては、炭素数1~6のアルカノールを有するものを用いることが好ましい。アルカノールの炭素数が6を超える場合には、水を含有する研磨液への溶解性が悪化し、析出又は分離してしまうおそれがある。アルカノールアミンとしては、例えば炭素数1~6のモノアルカノールアミン、炭素数1~6のジアルカノールアミン、炭素数1~6のトリアルカノールアミンを用いることができる。これらのアルカノールアミンのNに結合する水素の一部は、炭素数1~6のアルキル基で置換されていてもよい。具体的には、アルカノールアミンとしては、例えばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N-メチルジエタノールアミン、N,N-ジメチルモノエタノールアミンなどを好適に用いることができる。これらのアルカノールアミンは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、水酸化アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウムNaOH、水酸化カリウムKOH、水酸化リチウムLiOH、水酸化ルビジウムRbOH、水酸化セシウムCsOH、及び水酸化フランシウムFrOH等がある。好ましくは、水酸化アルカリはNaOH、KOH、及びLiOHから選ばれる少なくとも1種であることがよい。また、好ましくは、上記水酸化四級アンモニウムは、水酸化ベンジルトリエチルアンモニウム、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、水酸化ジメチルジエチルアンモニウム、水酸化2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム、水酸化メチルトリエチルアンモニウム、水酸化メチルトリブチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化トリス2-ヒドロキシエチルメチルアンモニウム、及び水酸化ジメチルビス2-ヒドロキシエチルアンモニウムから選ばれる少なくとも1種であることがよい。これらの場合には、上記研磨液の上記非磁性材料に対する化学的な溶解性をより向上させることができる。上記研磨液において、アルカリからなるエッチング剤の含有量は0.01~30質量にすることができる。より好ましくは、0.1~20質量がよい。また、上記研磨液は、酸からなるエッチング剤を含有することもできる。この場合にも、アルカリからなるエッチング剤と同様に、上記研磨液における上記非磁性材料に対する化学的な溶解性を向上させることができる。また、上記研磨液が酸からなるエッチング剤を含有する場合には、上記研磨液の温度25°CにおけるpHは5以下であることが好ましい。この場合には、上記研磨液による上記非磁性材料の溶解特性をより向上させることができる。pHはより好ましくは4以下がよく、さらに好ましくは3以下がよい。酸からなるエッチング剤としては、例えば、上記エッチング剤は、リン酸、硫酸、p-トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、アミド硫酸、ポリリン酸、ホスホン酸、グリコール酸、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、マロン酸、フマル酸、イタコン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、乳酸、ホスホノヒドロキシ酢酸、1-ヒドロキシエチリデン-1,1-ジホスホン酸、ホスホノブタントリカルボン酸、及びエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸などを用いることができる。これらは、1種又は複数を併用することができる。上記研磨液において、酸からなるエッチング剤の含有量は0.01~30質量にすることができる。より好ましくは、0.1~20質量がよい。上記研磨液において、エッチング剤としては、上述の酸またはアルカリのいずれか一方を用いることができる。また、上記研磨液は、界面活性剤をさらに含有することが好ましい請求項8。該界面活性剤としてはノニオン系界面活性剤が好ましい。この場合には、研磨ムラの抑制効果が向上すると共に、研磨くずを排出させ易くなる。上記界面活性剤としては、例えばポリオキシアルキレンデシルエーテル、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル、ポリオキシアルキレンミリスチルエーテル、ポリオキシアルキレンオレイルエーテル、ポリオキシアルキレンステアリルエーテル等を用いることができる。なお、ポリオキシアルキレンは、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドの単体又は混合物の重合物が好ましい。また、上記界面活性剤の含有量は、0.01~20質量であることが好ましい。上記界面活性剤の含有量が0.01質量未満の場合には、界面活性剤の添加による上述の作用効果を十分に得ることができなくなるおそれがある。一方、20質量を超える場合には、研磨液の粘度が上昇し、研磨ムラが発生したり、取り扱い性が低下したりするおそれがある。より好ましくは上記界面活性剤の含有量は、0.5~10質量がよく、さらに好ましくは1~5質量がよい。次に、上記研磨液は、酸化剤をさらに含有することが好ましい請求項9。この場合には、上記非磁性材料に対するエッチングレートを向上させることができる。上記酸化剤としては、例えば過酸化水素、過マンガン酸カリウム、過塩素酸過酢酸等を用いることができる。また、上記酸化剤の含有量は、0.01~5質量であることが好ましい。上記酸化剤の含有量が0.01質量未満の場合には、酸化剤の添加による上述の作用効果を十分に得ることができなくなるおそれがある。一方、5質量を超える場合には、凹部に埋め込まれた上記非磁性材料が過剰に溶解し、上記磁性部と上記非磁性部で高低差が発生し易くなるおそれがある。より好ましくは上記酸化剤の含有量は、0.05~3質量がよく、さらに好ましくは0.5~2質量がよい。また、上記研磨液は、その他の成分として、グリコール類を含有することができる。グリコール類は、研磨時のキズの発生を抑制したり、研磨ムラを少なくしたりする効果を発揮することができる。また、上記研磨液は、上記の必須成分である極圧剤の他に、例えばp-トルエンスルホン酸塩、キュメンスルホン酸塩等の極圧剤としての効果を有する成分を含有することができる。これらは、例えばアルカリのエッチング剤を用いる場合に併用することができる。実施例本例においては、実施例及び比較例にかかる複数の研磨液試料E1~試料E23及び試料C1~試料C6を作製し、これらの研磨液を用いて磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体を研磨する。まず、各種極圧剤、エッチング剤、界面活性剤、酸化剤、及び水を後述の表1~5に示す配合割合で配合して29種類の研磨液試料E1~試料E23及び試料C1~試料C6を作製した。なお、表中において、極圧剤のポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステルとしては、具体的には第一工業製薬株のプライサーフA215Cを用いた。また、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステルとしては、具体的には第一工業製薬株のプライサーフA208Bを用いた。また、ポリオキシエチレンデシルエーテルリン酸エステルとしては、具体的には第一工業製薬株のプライサーフA-210Dを用いた。また、ポリオキシエチレン-2-エチルヘキシルエーテルリン酸エステルとしては、具体的には第一工業製薬株のプライサーフA208Fを用いた。また、α-オレフィンスルホン酸ナトリウムとしては、具体的にはライオン株のリポミンLAを用いた。ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸エステルトリエタノールアミン塩としては、具体的には花王株のエマール20Tを用いた。また、ビス2-ヒドロキシエチルアルキルアミンとしては、具体的にはライオン株のエソミンC/12を用いた。また、エッチング剤のアルカノールアミンとしては、具体的にはトリエタノールアミンを用いた。また、界面活性剤ノニオン界面活性剤のポリオキシアルキレンアルキルエーテルとしては、具体的には第一工業製薬株製のノイゲンLF-80Xを用いた。次いで、各試料試料E1~試料E23及び試料C1~試料C6の研磨液について、温度25°CにおけるpHを株堀場製作所製のPHメーターF54を用いて測定した。pHの測定にあたっては、各試料の原液を水で30質量に希釈した希釈液についてpHを測定した。その結果を後述の表1~5に示す。なお、試料E4及び試料E9については、測定機器の測定限界以下であったという理由からpHを測定することができなかった。次に、本例においては、上述の各試料の研磨液を用いて磁気記録媒体を作製する。即ち、図1に示すごとく、磁性材料を含む磁性部11と、該磁性部11に形成された複数の凹部120を覆うように埋め込まれた非磁性材料125とからなる複合体15を作製し、各試料の研磨液を用いてこの複合体15を研磨する。そして、磁性部11と上記凹部120内に埋め込まれた上記非磁性材料からなる非磁性部12とが露出して平坦な研磨面16を形成させることにより、磁気記録媒体1を作製する。図3に示すごとく、本例の磁気記録媒体1は、筐体30に内蔵されて磁気記録再生装置3HDDとして用いられる。例えば図3に示すごとく、磁気記録再生装置3は、磁気記録媒体1と、磁気記録媒体1を回転駆動する回転駆動部31と、磁気記録媒体1に対する記録動作と再生動作とを行う磁気ヘッド300と、磁気ヘッド300を磁気記録媒体1の径方向に移動させるヘッド駆動部301と、磁気ヘッド300への信号入力と磁気ヘッド300から出力信号の再生とを行うための記録再生信号処理系34と、これらを内蔵する筐体30とを備える。磁気記録再生装置1においては、本例において作製するディスクリートトラック型の磁気記録媒体1を採用することにより、磁気記録媒体1に磁気記録を行う際の書きにじみをなくし、高い面記録密度を得ることが可能となる。即ち、本例の磁気記録媒体1を用いることにより、記録密度の高い磁気記録再生装置3を構成することが可能となる。本例において作製する磁気記録媒体1の上面図を図4に示す。同図に示すごとく、本例の磁気記録媒体1は、中心に孔を備えた円盤状であり、ユーザーデータを記録するためのデータ領域18と、位置情報を記録するためのサーボ領域19とを有する。データ領域18における磁気記録媒体1の厚み方向における部分断面図を図5a、サーボ領域19における磁気記録媒体1の厚み方向における部分断面図を図5bに示す。図4、図5a及びbに示すごとく、磁気記録媒体1において、データ領域18及びサーボ領域19は、いずれも基板10上に形成された磁性材料からなる磁性部11と非磁性材料からなる非磁性部12とからなる。本例において、磁性部11は、基板10側から順次積層された軟磁性層111と中間層112と記録磁性層113とからなる。軟磁性層111は、厚み60nmのFeCoB膜からなり、中間層112は、厚み10nmのRu膜からなり、記録磁性層113は、厚み15nmの70Co-5Cr-15Pt-10SiO2合金膜からなる。また、記録磁性層113上には、膜厚3nmの80Co-5Cr-15Pt合金膜図示略が形成されている。非磁性部12は、CrTi合金Cr:50質量、Ti:50質量又はAlTi合金Al:50質量、Ti:50質量合金からなる。非磁性部12は、磁性部11における記録磁性層113に形成された凹部に埋設されている。図4に示すごとく、データ領域18においては、磁性部11と非磁性部12とがそれぞれ円周方向に沿って伸びるように形成されており、径方向に磁性部11と非磁性部12とが交互に配置されている。また、サーボ領域19においては、磁性部11と非磁性部12とは、略径方向に伸びるように形成されており、径方向と略垂直な方向円周方向に交互に配置されている。また、サーボ領域19においては、円盤状の磁気記録媒体1の中心から径方向末端側に向けて幅が徐々に幅が大きくなるように磁性部11と非磁性部12とが形成されている。また、図5a及びbに示すごとく、データ領域18における磁性部11及び非磁性部12は、サーボ領域19における磁性部11及び非磁性部12と比較して断面形状が異なる。サーボ領域19における非磁性部12はデータ領域18における非磁性部12に比べて大きな幅で形成されている。なお、図4、図5a及びbに示すデータ領域18及びサーボ領域19における磁性部11と非磁性部12の形成パターンは一例であり、本発明の実施例にかかる研磨液は、その他様々なパターンで形成されたデータ領域及びサーボ領域を形成するために用いることができる。以下、各試料の研磨液を用いた磁気記録媒体の製造方法について詳細に説明する。本例においては、上述のごとく、非磁性部12を構成する非磁性材料がそれぞれCrTi合金Cr:50質量、Ti:50質量及びAlTi合金Al:50質量、Ti:50質量合金からなる2種類の磁気記録媒体を作製する。具体的には、まず、付着物が除去され表面が平坦なガラス基板を準備した。ガラス基板としては、Li2Si2O5、Al2O3K2O、Al2O3-K2O、MgO-P2O5、Sb2O3-ZnOを構成成分とする結晶化ガラスを材質とし、外径65mm、内径20mm、厚み0.8mm、平均表面粗さRa2Åのドーナツ型の基板を用いた。次に、図1aに示すごとく、DCスパッタリング法により、基板10上に厚み60nmのFeCoB膜からなる軟磁性層111、厚み10nmのRu膜からなる中間層112、及び厚み15nmの70Co-5Cr-15Pt-10SiO2合金膜からなる記録磁性層113を形成した。また、記録磁性層113上には、膜厚3nmの80Co-5Cr-15Pt合金膜図示略を形成した。このようにして、基板10上に、軟磁性層111と中間層112と記録磁性層113との積層体を備える磁性部11を形成した。次に、所望のパターンで磁性部11と非磁性部12とが形成されるように図4参照、図1bに示すごとく、磁性層11の記録磁性層113を中間層112が露出するまで部分的に削り取り、非磁性部を形成しようとする部分に凹部120を形成した。凹部120は、イオンミリングにより形成した。このようにして、所望のパターンの磁性部と非磁性部とが形成されるように、図1bに示すごとく、磁性部11記録磁性層113と凹部120とからなる凹凸パターン13を形成した。次いで、DCスパッタリング法により、図1cに示すごとく、磁性部11に形成した複数の凹部120を覆うように、CrTi合金Cr:50質量、Ti:50質量合金又はAlTi合金Al:50質量、Ti:50質量合金からなる非磁性材料125を形成し、複合体15を得た。次に、上述のようにして作製した各試料の研磨液を供給しながら研磨機を用いて複合体を研磨した。研磨にあたっては、各試料の研磨液を水で30質量に希釈し、ダイヤモンド砥粒を濃度1質量で分散させた液を用いた。研磨は、図2に示すような研磨加工機7を用いて次のようにして行った。研磨加工機7は、例えば図2a及びbに示すごとく、円盤状の複合体15を回転駆動するスピンドル701と、複合体15の表面に研磨液Sを供給するノズル702と、供給ロール703と巻き取りロール704との間で走行する研磨テープ705と、研磨テープ705を複合体15の表面に押しつける押圧ローラ706とを備えている。研磨加工機7を用いた研磨においては、スピンドル701に固定された複合体15を周方向に回転させながら、複合体15の表面にノズル702を通じて各試料の研磨液Sを供給し、供給ロール703と巻取りロール104との間で走行する研磨テープ705を複合体15の表面に押圧ローラ706を介して押しつけることによって、複合体15の表面を湿式研磨した。複合体15の回転数は600rpmとし、研磨テープ705の押し付け力を2.0kgf19.6Nとした。このようにして、図1c及びdに示すごとく、凹部120を覆う非磁性材料125を研磨し、磁性部11と凹部120内に埋め込まれた非磁性材料からなる非磁性部12とを露出させ平坦な研磨面16を形成した。このようにして、表面が研磨され平坦な研磨面16を有する磁気記録媒体1を得た。本例においては、CrTi合金又はAlTi合金からなる非磁性材料をそれぞれ用いた複合体に対して、各試料の研磨液を用いた研磨を行った。具体的には、試料E1~試料E14及び試料C1~試料C5については、CrTi合金からなる非磁性材料を用いた複合体の研磨に適用し、試料E4、試料E15~試料E23、及び試料C6については、Al-Ti合金からなる非磁性材料を用いた複合体の研磨に適用した。試料E4については、CrTi合金からなる非磁性材料を用いた複合体、及びAl-Ti合金からなる非磁性材料を用いた複合体の両方に適用した。このようにして得られた磁気記録媒体について次の評価行った。サーボ領域とデータ領域との段差ケーエルエーテンコールKLA-Tencor社製のP-10触針式粗さ測定器を用いて、その触針を磁気記録媒体の表面におけるデータ領域とサーボ領域の境界部分で0.5mm移動させたときの触針のうねりを計測することにより測定した。サーボ領域とデータ領域との段差は、データ領域に対するサーボ領域の凹み量Åを、マイナス記号を付けて表した。その結果を表1~5に示す。非磁性部の研磨ムラ非磁性部における色むらを目視により確認した。色むらが目視で確認されたかった場合を○とし、色むらが目視で明確に確認された場合を×として評価した。その結果を表1~5に示す。表1~5より知られるごとく、試料E1~試料E23の研磨液を用いることにより、形状が異なる凹部が形成された複合体に対して研磨を行っても平坦な研磨面を形成できることがわかる。これに対し、試料C1~試料C6の研磨液を用いると、段差が大きくなり、平坦な研磨面を形成することができなかった。また、試料E1~試料E23は、研磨ムラの発生も抑制することができた。試料E1~試料E23を用いると、複合体15における磁性材料11の研磨を抑制しつつ、非磁性材料125を優先して研磨することができる。そのため、上述のように、磁性部11とその凹部120内に埋め込まれた非磁性部12とを露出させて平坦な研磨面16を形成させることができる図1c及びd参照。したがって、試料E1~試料E23は、大きさや形状の異なる凹部を形成する必要のあるデータ領域18とサーボ領域19とを備える磁気記録媒体の作製に好適である図4、図5a及びb参照。なお、本例においては、試料E1~試料E23の研磨液を用いて、ディスクリートトラックメディアDTMの磁気記録媒体を製造する例を示したが、本例の研磨液は、ビットパターンドメディアBPM等の磁気記録媒体の製造にも適用することができる。すなわち、本例の研磨液は、磁性材料を含む磁性部と、該磁性部に形成された複数の凹部を覆うように埋め込まれた非磁性材料とからなる複合体の研磨に適用することができる。"