"フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する感光性樹脂組成物の塗布膜をガラス基板上に形成する塗布膜形成工程と、前記塗布膜を選択的に露光する露光工程と、露光後の前記塗布膜を現像して樹脂パターンを形成する現像工程と、前記樹脂パターンをマスクとして前記ガラス基板をエッチングするエッチング工程と、前記樹脂パターンを剥離する剥離工程とを含むガラス加工方法。前記エッチング工程では、フッ酸及び硫酸を含む25~60°Cのエッチング液を用いて前記ガラス基板をエッチングする請求項1記載のガラス加工方法。前記エッチング工程の前に前記樹脂パターンを加熱する加熱工程をさらに含む請求項1又は2記載のガラス加工方法。前記感光性樹脂組成物が、可塑剤としてポリビニルアルキルエーテルをさらに含有する請求項1から3のいずれか1項記載のガラス加工方法。前記ポリビニルアルキルエーテルの質量平均分子量が10000~200000である請求項4記載のガラス加工方法。前記感光性樹脂組成物が、キノンジアジド基含有化合物をさらに含有する請求項1から5のいずれか1項記載のガラス加工方法。前記感光性樹脂組成物が、架橋剤と、酸発生剤とをさらに含有する請求項1から5のいずれか1項記載のガラス加工方法。ところで、最近ではこのようなガラス基板として強化ガラスが使用されることが多い。これに伴い、エッチング条件も過酷なものとなり、例えば15質量フッ酸及び15質量硫酸を含むエッチング液を25~60°Cに加温して用いることが検討されている。しかし、特許文献1,2に記載されているような従来の感光性樹脂組成物を用いた場合には、上記のような過酷なエッチング条件ではエッチング耐性が不足するという問題があった。また、本発明者らが検討したところ、感光性樹脂組成物に無機フィラーを添加することによりエッチング耐性自体は改善するものの、解像性及び剥離性が低下してしまうことが判明した。本発明は、このような従来の実情に鑑みてなされたものであり、エッチング耐性が高く、かつ、解像性及び剥離性に優れた感光性樹脂組成物を用いたガラス加工方法を提供することを目的とする。本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた。その結果、特定の感光性樹脂組成物を用いることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明に係るガラス加工方法は、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する感光性樹脂組成物の塗布膜をガラス基板上に形成する塗布膜形成工程と、前記塗布膜を選択的に露光する露光工程と、露光後の前記塗布膜を現像して樹脂パターンを形成する現像工程と、前記樹脂パターンをマスクとして前記ガラス基板をエッチングするエッチング工程と、前記樹脂パターンを剥離する剥離工程とを含むものである。本発明によれば、エッチング耐性が高く、かつ、解像性及び剥離性に優れた感光性樹脂組成物を用いたガラス加工方法を提供することができる。以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。本発明に係るガラス加工方法は、感光性樹脂組成物をパターニングして得られる樹脂パターンをマスクとしてガラス基板をエッチング加工するものである。以下ではまず、本発明で用いられる感光性樹脂組成物について説明し、次いで、本発明に係るガラス加工方法について説明する。≪感光性樹脂組成物≫本発明で用いられる感光性樹脂組成物は、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂を少なくとも含有する。この感光性樹脂組成物は、ポジ型、ネガ型のいずれであってもよい。以下、ポジ型感光性樹脂組成物及びネガ型感光性樹脂組成物に含有される各成分について詳細に説明する。<ポジ型感光性樹脂組成物>ポジ型感光性樹脂組成物は、Aフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、及びBキノンジアジド基含有化合物を少なくとも含有する。[Aフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂]フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂以下、A成分ともいう。としては、例えば、ポリヒドロキシスチレン系樹脂を用いることができる。ポリヒドロキシスチレン系樹脂は、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位を少なくとも有する。ここでヒドロキシスチレンとは、ヒドロキシスチレン、及びヒドロキシスチレンのα位に結合する水素原子がハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換されたもの、並びにそれらの誘導体のヒドロキシスチレン誘導体モノマーを含む概念とする。ヒドロキシスチレン誘導体は、少なくともベンゼン環とこれに結合する水酸基とが維持されており、例えば、ヒドロキシスチレンのα位に結合する水素原子が、ハロゲン原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換されたもの、並びにヒドロキシスチレンの水酸基が結合したベンゼン環に、さらに炭素数1~5のアルキル基が結合したものや、この水酸基が結合したベンゼン環に、さらに1~2個の水酸基が結合したものこのとき、水酸基の数の合計は2~3である。等を包含するものとする。ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。なお、ヒドロキシスチレンのα位とは、特に断りがない限り、ベンゼン環が結合している炭素原子のことをいう。このヒドロキシスチレンに由来する構成単位は、例えば下記式a-1で表される。上記式a-1中、Ra1は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、又はハロゲン化アルキル基を示し、Ra2は炭素数1~5のアルキル基を示し、pは1~3の整数を示し、qは0~2の整数を示す。Ra1のアルキル基は、好ましくは炭素数1~5である。また、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、工業的にはメチル基が好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。ハロゲン化アルキル基としては、上述した炭素数1~5のアルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換されたものである。この中でも、水素原子の全部がフッ素原子で置換されたものが好ましい。また、直鎖状又は分岐鎖状のフッ素化アルキル基が好ましく、トリフルオロメチル基、ヘキサフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等がより好ましく、トリフルオロメチル基-CF3が最も好ましい。Ra1としては、水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。Ra2の炭素数1~5のアルキル基としては、Ra1の場合と同様のものが挙げられる。qは0~2の整数である。これらの中でも0又は1であることが好ましく、工業上は特に0であることが好ましい。Ra2の置換位置は、qが1である場合にはオルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよく、さらに、qが2の場合には任意の置換位置を組み合わせることができる。pは1~3の整数であり、好ましくは1である。水酸基の置換位置は、pが1である場合にはオルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよいが、容易に入手可能で低価格であることからパラ位が好ましい。さらに、pが2又は3の場合には任意の置換位置を組み合わせることができる。上記式a-1で表される構成単位は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。ポリヒドロキシスチレン系樹脂中、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位の割合は、ポリヒドロキシスチレン系樹脂を構成する全構成単位に対して60~100モルであることが好ましく、70~100モルであることがより好ましく、80~100モルであることがさらに好ましい。上記の範囲内とすることにより、感光性樹脂組成物のアルカリ溶解性を適度なものとすることができる。ポリヒドロキシスチレン系樹脂は、スチレンに由来する構成単位をさらに有することが好ましい。ここでスチレンに由来する構成単位とは、スチレン及びスチレン誘導体但し、ヒドロキシスチレンは含まない。のエチレン性二重結合が開裂してなる構成単位を包含するものとする。スチレン誘導体は、スチレンのα位に結合する水素原子が、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換されたもの、並びにスチレンのフェニル基の水素原子が、炭素数1~5のアルキル基等の置換基に置換されているもの等を包含するものとする。ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。なお、スチレンのα位とは、特に断りがない限り、ベンゼン環が結合している炭素原子のことをいう。このスチレンに由来する構成単位は、例えば下記式a-2で表される。式中、Ra1、Ra2、qは上記式a-1と同義である。Ra1及びRa2としては、上記式a-1のRa1及びRa2とそれぞれ同様のものが挙げられる。qは0~2の整数である。これらの中でも0又は1であることが好ましく、工業上は特に0であることが好ましい。Ra2の置換位置は、qが1である場合にはオルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよく、さらに、qが2の場合には任意の置換位置を組み合わせることができる。上記式a-2で表される構成単位は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。ポリヒドロキシスチレン系樹脂中、スチレンに由来する構成単位の割合は、ポリヒドロキシスチレン系樹脂を構成する全構成単位に対して40モル以下であることが好ましく、30モル以下であることがより好ましく、20モル以下であることがさらに好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物のアルカリ溶解性を適度なものとすることができ、他の構成単位とのバランスも良好になる。なお、ポリヒドロキシスチレン系樹脂は、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位やスチレンに由来する構成単位以外の他の構成単位を有していてもよい。より好ましくは、上記ポリヒドロキシスチレン系樹脂は、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位のみからなる重合体、あるいはヒドロキシスチレンに由来する構成単位とスチレンに由来する構成単位とからなる共重合体である。ポリヒドロキシスチレン系樹脂の質量平均分子量は、特に限定されないが、1500~40000であることが好ましく、2000~8000であることがより好ましい。また、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂を用いることもできる。このノボラック樹脂は、フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下で付加縮合させることにより得ることができる。フェノール類としては、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール等のクレゾール類;2,3-キシレノール、2,4-キシレノール、2,5-キシレノール、2,6-キシレノール、3,4-キシレノール、3,5-キシレノール等のキシレノール類;o-エチルフェノール、m-エチルフェノール、p-エチルフェノール、2-イソプロピルフェノール、3-イソプロピルフェノール、4-イソプロピルフェノール、o-ブチルフェノール、m-ブチルフェノール、p-ブチルフェノール、p-tert-ブチルフェノール等のアルキルフェノール類;2,3,5-トリメチルフェノール、3,4,5-トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類;レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、フロログリシノール等の多価フェノール類;アルキルレゾルシン、アルキルカテコール、アルキルハイドロキノン等のアルキル多価フェノール類いずれのアルキル基も炭素数1~4である;α-ナフトール、β-ナフトール、ヒドロキシジフェニル、ビスフェノールA等が挙げられる。これらのフェノール類は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらのフェノール類の中でも、m-クレゾール、p-クレゾールが好ましく、m-クレゾールとp-クレゾールとを併用することがより好ましい。この場合、両者の配合割合を調整することにより、感度等の諸特性を調整することができる。アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、アセトアルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒド類は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。酸触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、亜リン酸等の無機酸類;蟻酸、シュウ酸、酢酸、ジエチル硫酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸類;酢酸亜鉛等の金属塩類等が挙げられる。これらの酸触媒は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。このようにして得られるノボラック樹脂としては、具体的には、フェノール/ホルムアルデヒド縮合ノボラック樹脂、クレゾール/ホルムアルデヒド縮合ノボラック樹脂、フェノール-ナフトール/ホルムアルデヒド縮合ノボラック樹脂等が挙げられる。ノボラック樹脂の質量平均分子量は、特に限定されないが、1000~30000であることが好ましく、3000~25000であることがより好ましい。また、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール-キシリレングリコール縮合樹脂、クレゾール-キシリレングリコール縮合樹脂、フェノール-ジシクロペンタジエン縮合樹脂等を用いることもできる。A成分の含有量は、ポジ型感光性樹脂組成物の固形分に対して50~95質量であることが好ましく、60~90質量であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性のバランスがとりやすい傾向がある。[Bキノンジアジド基含有化合物]キノンジアジド基含有化合物以下、B成分ともいう。としては、特に限定されないが、フェノール性水酸基を1つ以上有する化合物と、キノンジアジド基含有スルホン酸との完全エステル化物や部分エステル化物が好ましい。このようなキノンジアジド基含有化合物は、フェノール性水酸基を1つ以上有する化合物とキノンジアジド基含有スルホン酸とを、ジオキサン等の適当な溶剤中において、トリエタノールアミン、炭酸アルカリ、炭酸水素アルカリ等のアルカリの存在下で縮合させ、完全エステル化又は部分エステル化することにより得ることができる。上記フェノール性水酸基を1つ以上有する化合物としては、例えば、2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン等のポリヒドロキシベンゾフェノン類;トリス4-ヒドロシキフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル-3-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-2,5-ジメチルフェニル-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-2,5-ジメチルフェニル-3-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-2,5-ジメチルフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル-3,4-ジヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-2,5-ジメチルフェニル-3,4-ジヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシ-2,5-ジメチルフェニル-2,4-ジヒドロキシフェニルメタン、ビス4-ヒドロキシフェニル-3-メトキシ-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス5-シクロヘキシル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニル-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス5-シクロヘキシル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニル-3-ヒドロキシフェニルメタン、ビス5-シクロヘキシル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス5-シクロヘキシル-4-ヒドロキシ-2-メチルフェニル-3,4-ジヒドロキシフェニルメタン等のトリスフェノール型化合物;2,4-ビス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシベンジル-5-ヒドロキシフェノール、2,6-ビス2,5-ジメチル-4-ヒドロキシベンジル-4-メチルフェノール等のリニア型3核体フェノール化合物;1,1-ビス3-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-ヒドロキシ-5-シクロヘキシルフェニルイソプロパン、ビス[2,5-ジメチル-3-4-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-ヒドロキシフェニル]メタン、ビス[2,5-ジメチル-3-4-ヒドロキシベンジル-4-ヒドロキシフェニル]メタン、ビス[3-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシベンジル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル]メタン、ビス[3-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシベンジル-4-ヒドロキシ-5-エチルフェニル]メタン、ビス[3-3,5-ジエチル-4-ヒドロキシベンジル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル]メタン、ビス[3-3,5-ジエチル-4-ヒドロキシベンジル-4-ヒドロキシ-5-エチルフェニル]メタン、ビス[2-ヒドロキシ-3-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシベンジル-5-メチルフェニル]メタン、ビス[2-ヒドロキシ-3-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-5-メチルフェニル]メタン、ビス[4-ヒドロキシ-3-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-5-メチルフェニル]メタン、ビス[2,5-ジメチル-3-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-ヒドロキシフェニル]メタン等のリニア型4核体フェノール化合物;2,4-ビス[2-ヒドロキシ-3-4-ヒドロキシベンジル-5-メチルベンジル]-6-シクロヘキシルフェノール、2,4-ビス[4-ヒドロキシ-3-4-ヒドロキシベンジル-5-メチルベンジル]-6-シクロヘキシルフェノール、2,6-ビス[2,5-ジメチル-3-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-ヒドロキシベンジル]-4-メチルフェノール等のリニア型5核体フェノール化合物;ビス2,3,-トリヒドロキシフェニルメタン、ビス2,4-ジヒドロキシフェニルメタン、2,3,4-トリヒドロキシフェニル-4’-ヒドロキシフェニルメタン、2-2,3,4-トリヒドロキシフェニル-2-2’,3’,4’-トリヒドロキシフェニルプロパン、2-2,4-ジヒドロキシフェニル-2-2’,4’-ジヒドロキシフェニルプロパン、2-4-ヒドロキシフェニル-2-4’-ヒドロキシフェニルプロパン、2-3-フルオロ-4-ヒドロキシフェニル-2-3’-フルオロ-4’-ヒドロキシフェニルプロパン、2-2,4-ジヒドロキシフェニル-2-4’-ヒドロキシフェニルプロパン、2-2,3,4-トリヒドロキシフェニル-2-4’-ヒドロキシフェニルプロパン、2-2,3,4-トリヒドロキシフェニル-2-4’-ヒドロキシ-3’,5’-ジメチルフェニルプロパン、4,4’-[1-[4-[1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール等のビスフェノール型化合物;1-[1-4-ヒドロキシフェニルイソプロピル]-4-[1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルエチル]ベンゼン、1-[1-3-メチル-4-ヒドロキシフェニルイソプロピル]-4-[1,1-ビス3-メチル-4-ヒドロキシフェニルエチル]ベンゼン等の多核枝分かれ型化合物;1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン等の縮合型フェノール化合物;等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記キノンジアジド基含有スルホン酸としては、ナフトキノン-1,2-ジアジド-5-スルホン酸、ナフトキノン-1,2-ジアジド-4-スルホン酸、オルトアントラキノンジアジドスルホン酸等が挙げられる。B成分の含有量は、A成分100質量部に対し5~50質量部であることが好ましく、5~25質量部であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、ポジ型感光性樹脂組成物の感度を良好なものとすることができる。[Cポリビニルアルキルエーテル]ポジ型感光性樹脂組成物は、可塑剤としてポリビニルアルキルエーテル以下、C成分ともいう。を含有していてもよい。可塑剤としてポリビニルアルキルエーテルを含有することにより、ポジ型感光性樹脂組成物のエッチング耐性を向上させることができる。ポリビニルアルキルエーテルのアルキル部分としては、炭素数1~5であることが好ましく、炭素数1又は2であることがより好ましい。すなわち、ポリビニルアルキルエーテルは、ポリビニルメチルエーテル又はポリビニルエチルエーテルであることがより好ましい。ポリビニルアルキルエーテルの質量平均分子量は、特に限定されないが、10000~200000であることが好ましく、50000~100000であることがより好ましい。C成分の含有量は、A成分100質量部に対し1~100質量部であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、ポジ型感光性樹脂組成物のエッチング耐性を適度に調整することができる。[S有機溶剤]ポジ型感光性樹脂組成物は、希釈のための有機溶剤以下、S成分ともいう。を含有することが好ましい。有機溶剤としては、特に限定されず、本分野で汎用されている有機溶剤を用いることができる。例えば、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;ブチルカルビトール等のカルビトール類;乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n-プロピル、乳酸イソプロピル等の乳酸エステル類;酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、酢酸n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸n-ブチル、プロピオン酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類;3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、4-ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;N-ジメチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;γ-ブチロラクン等のラクトン類;等が挙げられる。これらの有機溶剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。S成分の含有量は、特に限定されないが、一般にはポジ型感光性樹脂組成物の固形分濃度が10~60質量となる量が好ましく、20~50質量となる量がより好ましい。[その他の成分]ポジ型感光性樹脂組成物は、所望により、付加的樹脂、安定剤、着色剤、界面活性剤、無機フィラー、シランカップリング剤等を含有していてもよい。無機フィラーとしては、特に限定されないが、硫酸バリウム等が好適に用いられる。無機フィラーを含有することによりエッチング耐性、物理的応力耐性、熱的応力耐性を良好なものとすることができる。シランカップリング剤としては、従来公知のシランカップリング剤を用いることができるが、含有しないことが好ましい。シランカップリング剤を含有しないことにより、経時安定性を良好なものとすることができる。<ネガ型感光性樹脂組成物>ネガ型感光性樹脂組成物は、Aフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、D架橋剤、及びE酸発生剤を少なくとも含有する。[Aフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂]フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂以下、A成分ともいう。としては、ポジ型感光性樹脂組成物において例示したものを用いることができる。A成分の含有量は、ネガ型感光性樹脂組成物の固形分に対して50~99質量であることが好ましく、60~95質量であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性のバランスがとりやすい傾向がある。[D架橋剤]架橋剤以下、D成分ともいう。としては、特に限定されないが、アミノ化合物、例えばメラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、グリコールウリル-ホルムアルデヒド樹脂、スクシニルアミド-ホルムアルデヒド樹脂、エチレン尿素-ホルムアルデヒド樹脂等を用いることができる。これらの中でも、アルコキシメチル化メラミン樹脂やアルコキシメチル化尿素樹脂等のアルコキシメチル化アミノ樹脂が好ましい。アルコキシメチル化アミノ樹脂は、例えば、沸騰水溶液中でメラミン又は尿素をホルマリンと反応させて得た縮合物を、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール類でエーテル化させ、次いで反応液を冷却して析出させることで製造できる。アルコキシメチル化アミノ樹脂としては、メトキシメチル化メラミン樹脂、エトキシメチル化メラミン樹脂、プロポキシメチル化メラミン樹脂、ブトキシメチル化メラミン樹脂、メトキシメチル化尿素樹脂、エトキシメチル化尿素樹脂、プロポキシメチル化尿素樹脂、ブトキシメチル化尿素樹脂等が挙げられる。これらの架橋剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。D成分の含有量は、A成分100質量部に対して5~50質量部であることが好ましく、10~30質量部であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、ネガ型感光性樹脂組成物の硬化性、パターニング特性が良好になる。[E酸発生剤]酸発生剤以下、E成分ともいう。としては、特に限定されず、従来公知の酸発生剤を用いることができる。酸発生剤として具体的には、ヨードニウム塩やスルホニウム塩等のオニウム塩系酸発生剤、オキシムスルホネート系酸発生剤、ハロゲン含有トリアジン化合物、ジアゾメタン系酸発生剤、ニトロベンジルスルホネート系酸発生剤ニトロベンジル誘導体、イミノスルホネート系酸発生剤、ジスルホン系酸発生剤等が挙げられる。好ましいスルホニウム塩系酸発生剤としては、例えば下記式e-1で表される化合物が挙げられる。上記式e-1中、Re1及びRe2はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、酸素原子若しくはハロゲン原子を有していてもよい炭化水素基、又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を示し、Re3はハロゲン原子又はアルキル基を有していてもよいp-フェニレン基を示し、Re4は水素原子、酸素原子若しくはハロゲン原子を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよいベンゾイル基、又は置換基を有していてもよいポリフェニル基を示し、A-はオニウムイオンの対イオンを示す。A-として具体的には、SbF6-、PF6-、AsF6-、BF4-、SbCl6-、ClO4-、CF3SO3-、CH3SO3-、FSO3-、F2PO2-、p-トルエンスルホネート、ノナフロロブタンスルホネート、アダマンタンカルボキシレート、テトラアリールボレート、下記式e-2で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオン等が挙げられる。上記式e-2中、Rfは水素原子の80以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を示す。nはその個数であり1~5の整数を示す。n個のRfはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。上記式e-1で表される酸発生剤としては、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-メチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-β-ヒドロキシエトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-メチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-3-メチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-フルオロ4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-メチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2,3,5,6-テトラメチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2,6-ジクロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2,6-ジメチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2,3-ジメチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-メチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-3-メチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-フルオロ4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-メチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2,3,5,6-テトラメチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2,6-ジクロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2,6-ジメチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2,3-ジメチル-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-アセチルフェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-4-メチルベンゾイルフェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-4-フルオロベンゾイルフェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-4-メトキシベンゾイルフェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-ドデカノイルフェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-アセチルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-4-メチルベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-4-フルオロベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-4-メトキシベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-ドデカノイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-アセチルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-4-メチルベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-4-フルオロベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-4-メトキシベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-ドデカノイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムパークロレート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムパークロレート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムp-トルエンスルホネート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムカンファースルホネート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-フルオロフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホネート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムパークロレート、4-2-クロロ-4-ベンゾイルフェニルチオフェニルビス4-クロロフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル[4-フェニルチオフェニル]スルホニウムトリフルオロトリスペンタフルオロエチルホスファート、ジフェニル[4-p-ターフェニルチオフェニル]スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル[4-p-ターフェニルチオフェニル]スルホニウムトリフルオロトリスペンタフルオロエチルホスファート等が挙げられる。その他のオニウム塩系酸発生剤としては、上記式e-1のカチオン部を、例えば、トリフェニルスルホニウム、4-tert-ブトキシフェニルジフェニルスルホニウム、ビス4-tert-ブトキシフェニルフェニルスルホニウム、トリス4-tert-ブトキシフェニルスルホニウム、3-tert-ブトキシフェニルジフェニルスルホニウム、ビス3-tert-ブトキシフェニルフェニルスルホニウム、トリス3-tert-ブトキシフェニルスルホニウム、3,4-ジtert-ブトキシフェニルジフェニルスルホニウム、ビス3,4-ジtert-ブトキシフェニルフェニルスルホニウム、トリス3,4-ジtert-ブトキシフェニルスルホニウム、ジフェニル4-チオフェノキシフェニルスルホニウム、4-tert-ブトキシカルボニルメチルオキシフェニルジフェニルスルホニウム、トリス4-tert-ブトキシカルボニルメチルオキシフェニルスルホニウム、4-tert-ブトキシフェニルビス4-ジメチルアミノフェニルスルホニウム、トリス4-ジメチルアミノフェニルスルホニウム、2-ナフチルジフェニルスルホニウム、ジメチル-2-ナフチルスルホニウム、4-ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム、4-メトキシフェニルジメチルスルホニウム、トリメチルスルホニウム、2-オキソシクロヘキシルシクロヘキシルメチルスルホニウム、トリナフチルスルホニウム、トリベンジルスルホニウム等のスルホニウムカチオンや、ジフェニルヨードニウム、ビス4-tert-ブチルフェニルヨードニウム、4-tert-ブトキシフェニルフェニルヨードニウム、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウム等のアリールヨードニウムカチオン等のヨードニウムカチオンに置き換えたものが挙げられる。オキシムスルホネート系酸発生剤としては、[2-プロピルスルホニルオキシイミノ-2,3-ジヒドロチオフェン-3-イリデン]o-トリルアセトニトリル、α-p-トルエンスルホニルオキシイミノ-フェニルアセトニトリル、α-ベンゼンスルホニルオキシイミノ-2,4-ジクロロフェニルアセトニトリル、α-ベンゼンスルホニルオキシイミノ-2,6-ジクロロフェニルアセトニトリル、α-2-クロロベンゼンスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリル、α-エチルスルホニルオキシイミノ-1-シクロペンテニルアセトニトリル等が挙げられる。また、上記以外にも、下記式e-3で表される化合物が挙げられる。上記式e-3中、Re5は1価、2価、又は3価の有機基を示し、Re6は置換又は未置換の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、又は芳香族性化合物基を示し、rは1~6の整数を示す。Re5としては芳香族性化合物基であることが特に好ましく、このような芳香族性化合物基としては、フェニル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基や、フリル基、チエニル基等の複素環基等が挙げられる。これらは環上に適当な置換基、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基等を1個以上有していてもよい。また、Re6としては炭素数1~6のアルキル基が特に好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。また、rは1~3の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。上記式e-3で表される酸発生剤としては、r=1のときに、Re5がフェニル基、メチルフェニル基、及びメトキシフェニル基のうちのいずれかであり、かつRe6がメチル基である化合物が挙げられる。より詳細には、上記式e-3で表される酸発生剤としては、α-メチルスルホニルオキシイミノ-1-フェニルアセトニトリル、α-メチルスルホニルオキシイミノ-1-p-メチルフェニルアセトニトリル、及びα-メチルスルホニルオキシイミノ-1-p-メトキシフェニルアセトニトリルが挙げられる。上記一般式e-3で表される酸発生剤としては、r=2のときに、下記式で表される酸発生剤が挙げられる。ハロゲン含有トリアジン化合物としては、2,4-ビストリクロロメチル-6-ピペロニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-[2-2-フリルエテニル]-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-[2-5-メチル-2-フリルエテニル]-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-[2-5-エチル-2-フリルエテニル]-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-[2-5-プロピル-2-フリルエテニル]-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-[2-3,5-ジメトキシフェニルエテニル]-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-[2-3,5-ジエトキシフェニルエテニル]-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-[2-3,5-ジプロポキシフェニルエテニル]-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-[2-3-メトキシ-5-エトキシフェニルエテニル]-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-[2-3-メトキシ-5-プロポキシフェニルエテニル]-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-[2-3,4-メチレンジオキシフェニルエテニル]-s-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-3,4-メチレンジオキシフェニル-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-3-ブロモ-4-メトキシフェニル-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-2-ブロモ-4-メトキシフェニル-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-2-ブロモ-4-メトキシスチリルフェニル-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-3-ブロモ-4-メトキシスチリルフェニル-s-トリアジン、2-4-メトキシフェニル-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-4-メトキシナフチル-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-[2-2-フリルエテニル]-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-[2-5-メチル-2-フリルエテニル]-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-[2-3,5-ジメトキシフェニルエテニル]-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-[2-3,4-ジメトキシフェニルエテニル]-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、2-3,4-メチレンジオキシフェニル-4,6-ビストリクロロメチル-1,3,5-トリアジン、トリス1,3-ジブロモプロピル-1,3,5-トリアジン、トリス2,3-ジブロモプロピル-1,3,5-トリアジン等のハロゲン含有トリアジン化合物、並びにトリス2,3-ジブロモプロピルイソシアヌレ-ト等の下記式e-4で表されるハロゲン含有トリアジン化合物が挙げられる。上記式e-4中、Re7、Re8、Re9はそれぞれ独立に炭素数1~6のハロゲン化アルキル基を示す。また、その他の酸発生剤としては、ビスp-トルエンスルホニルジアゾメタン、メチルスルホニル-p-トルエンスルホニルジアゾメタン、1-シクロヘキシルスルホニル-1-1,1-ジメチルエチルスルホニルジアゾメタン、ビス1,1-ジメチルエチルスルホニルジアゾメタン、ビス1-メチルエチルスルホニルジアゾメタン、ビスシクロヘキシルスルホニルジアゾメタン、ビス2,4-ジメチルフェニルスルホニルジアゾメタン、ビス4-エチルフェニルスルホニルジアゾメタン、ビス3-メチルフェニルスルホニルジアゾメタン、ビス4-メトキシフェニルスルホニルジアゾメタン、ビス4-フルオロフェニルスルホニルジアゾメタン、ビス4-クロロフェニルスルホニルジアゾメタン、ビス4-tert-ブチルフェニルスルホニルジアゾメタン等のビススルホニルジアゾメタン類;2-メチル-2-p-トルエンスルホニルプロピオフェノン、2-シクロヘキシルカルボニル-2-p-トルエンスルホニルプロパン、2-メタンスルホニル-2-メチル-p-メチルチオプロピオフェノン、2,4-ジメチル-2-p-トルエンスルホニルペンタン-3-オン等のスルホニルカルボニルアルカン類;1-p-トルエンスルホニル-1-シクロヘキシルカルボニルジアゾメタン、1-ジアゾ-1-メチルスルホニル-4-フェニル-2-ブタノン、1-シクロヘキシルスルホニル-1-シクロヘキシルカルボニルジアゾメタン、1-ジアゾ-1-シクロヘキシルスルホニル-3,3-ジメチル-2-ブタノン、1-ジアゾ-1-1,1-ジメチルエチルスルホニル-3,3-ジメチル-2-ブタノン、1-アセチル-1-1-メチルエチルスルホニルジアゾメタン、1-ジアゾ-1-p-トルエンスルホニル-3,3-ジメチル-2-ブタノン、1-ジアゾ-1-ベンゼンスルホニル-3,3-ジメチル-2-ブタノン、1-ジアゾ-1-p-トルエンスルホニル-3-メチル-2-ブタノン、2-ジアゾ-2-p-トルエンスルホニル酢酸シクロヘキシル、2-ジアゾ-2-ベンゼンスルホニル酢酸-tert-ブチル、2-ジアゾ-2-メタンスルホニル酢酸イソプロピル、2-ジアゾ-2-ベンゼンスルホニル酢酸シクロヘキシル、2-ジアゾ-2-p-トルエンスルホニル酢酸-tert-ブチル等のスルホニルカルボニルジアゾメタン類;p-トルエンスルホン酸-2-ニトロベンジル、p-トルエンスルホン酸-2,6-ジニトロベンジル、p-トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸-2,4-ジニトロベンジル等のニトロベンジル誘導体;ピロガロールのメタンスルホン酸エステル、ピロガロールのベンゼンスルホン酸エステル、ピロガロールのp-トルエンスルホン酸エステル、ピロガロールのp-メトキシベンゼンスルホン酸エステル、ピロガロールのメシチレンスルホン酸エステル、ピロガロールのベンジルスルホン酸エステル、没食子酸アルキルのメタンスルホン酸エステル、没食子酸アルキルのベンゼンスルホン酸エステル、没食子酸アルキルのp-トルエンスルホン酸エステル、没食子酸アルキルアルキル基の炭素数は1~15であるのp-メトキシベンゼンスルホン酸エステル、没食子酸アルキルのメシチレンスルホン酸エステル、没食子酸アルキルのベンジルスルホン酸エステル等のポリヒドロキシ化合物と脂肪族又は芳香族スルホン酸とのエステル類;等が挙げられる。これらの酸発生剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。E成分の含有量は、A成分100質量部に対し0.05~30質量部であることが好ましく、0.1~10質量部であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、ネガ型感光性樹脂組成物の硬化性が良好になる。[Cポリビニルアルキルエーテル]ネガ型感光性樹脂組成物は、可塑剤としてポリビニルアルキルエーテル以下、C成分ともいう。を含有していてもよい。可塑剤としてポリビニルアルキルエーテルを含有することにより、ネガ型感光性樹脂組成物のエッチング耐性を向上させることができる。このポリビニルアルキルエーテルとしては、ポジ型感光性樹脂組成物において例示したものを用いることができる。C成分の含有量は、A成分100質量部に対し1~100質量部であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、ネガ型感光性樹脂組成物のエッチング耐性を適度に調整することができる。[S有機溶剤]ネガ型感光性樹脂組成物は、希釈のための有機溶剤以下、S成分ともいう。を含有することが好ましい。この有機溶剤としては、ポジ型感光性樹脂組成物において例示したものを用いることができる。S成分の含有量は、特に限定されないが、一般にはネガ型感光性樹脂組成物の固形分濃度が10~60質量となる量が好ましく、20~50質量となる量がより好ましい。[その他の成分]ネガ型感光性樹脂組成物は、所望により、付加的樹脂、安定剤、着色剤、界面活性剤、無機フィラー、シランカップリング剤等を含有していてもよい。無機フィラーとしては、特に限定されないが、硫酸バリウム等が好適に用いられる。無機フィラーを含有することによりエッチング耐性、物理的応力耐性、熱的応力耐性を良好なものとすることができる。シランカップリング剤としては、従来公知のシランカップリング剤を用いることができるが、含有しないことが好ましい。シランカップリング剤を含有しないことにより、経時安定性を良好なものとすることができる。≪ガラス加工方法≫本発明に係るガラス加工方法は、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する感光性樹脂組成物の塗布膜をガラス基板上に形成する塗布膜形成工程と、上記塗布膜を選択的に露光する露光工程と、露光後の上記塗布膜を現像して樹脂パターンを形成する現像工程と、上記樹脂パターンをマスクとして前記ガラス基板をエッチングするエッチング工程と、上記樹脂パターンを剥離する剥離工程とを含むものである。まず、塗布膜形成工程では、例えば、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて、ガラス基板上に上述した感光性樹脂組成物を塗布し、加熱プレベークすることにより、塗布膜を形成する。塗布膜の膜厚は、特に限定されないが、例えば20~200μm程度である。加熱条件は、特に限定されないが、例えば70~150°Cで2~60分間程度である。なお、感光性樹脂組成物の塗布及びプレベークは、所望の膜厚が得られるように、複数回繰り返してもよい。また、塗布膜形成工程では、上述した感光性樹脂組成物を離型フィルム上に塗布した後、乾燥させ、常法によりドライフィルムを形成した後、ガラス基板に貼り付けることにより塗布膜を形成することもできる。次いで、露光工程では、遮光パターンを介して紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより、塗布膜を選択的に露光する。露光には、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯等の紫外線を発する光源を用いることができる。照射するエネルギー線量は、感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば30~3000mJ/cm2程度が好ましい。なお、本発明に係るガラス加工方法は、露光工程の後に加熱PEB工程を含んでいてもよい。加熱条件は、特に限定されないが、例えば80~150°Cで3~20分間程度である。次いで、現像工程では、露光後の上記塗布膜を現像して樹脂パターンを形成する。現像方法は、特に限定されず、浸漬法、スプレー法、シャワー法、パドル法等を用いることができる。現像液としては、例えば0.25~3質量の水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、有機アミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリエタノールアミン、N―メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。現像時間は、特に限定されないが、例えば1~120分間程度である。なお、現像液は、25~40°C程度に加温してもよい。なお、本発明に係るガラス加工方法は、現像工程の後に加熱ポストベーク工程を含んでいてもよい。加熱条件は、特に限定されないが、例えば70~300°Cで2~120分間程度である。また、感光性樹脂組成物がポジ型である場合には、現像工程の後に、紫外線等の活性エネルギー線を照射しながら加熱するアフターキュア工程を含んでいてもよい。このアフターキュア工程では、活性エネルギー線により、感光性樹脂組成物に含まれるキノンジアジド基含有化合物が中間体インデンケテンを形成し、これがフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂やキノンジアジド基含有化合物と結合して高分子化する。次いで、エッチング工程では、上記樹脂パターンをマスクとしてガラス基板をエッチングする。エッチング方法としては、一般的に行われている、エッチング液に浸漬するウェットエッチングが挙げられる。エッチング液としては、フッ酸単独、フッ酸とフッ化アンモニウム、フッ酸と他の酸塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等との混酸等が挙げられる。エッチング処理時間は、特に限定されないが、例えば10~60分間程度である。なお、エッチング液は、25~60°C程度に加温してもよい。本発明に係るガラス加工方法は、このようなエッチング条件の中でも、特にフッ酸及び硫酸を含む25~60°Cのエッチング液、より具体的には5~30質量のフッ酸及び5~30質量の硫酸を含む25~60°Cのエッチング液を用いてエッチング処理を行う場合に特に有効である。本発明で用いられる感光性樹脂組成物は、このような過酷なエッチング条件においても、高いエッチング耐性を示す。次いで、剥離工程では、上記樹脂パターンを剥離する。剥離方法は、特に限定されず、浸漬法、スプレー法、シャワー法、パドル法等を用いることができる。剥離液としては、例えば3~15質量の水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、有機アミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリエタノールアミン、N―メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。剥離処理時間は、特に限定されないが、例えば1~120分間程度である。なお、剥離液は、25~60°C程度に加温してもよい。このようにして、ガラス基板を加工することができる。以下、本発明の実施例を説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。<実施例1~8、比較例1~6>表1に記載の処方単位は質量部に従って、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基含有化合物、ポリビニルアルキルエーテル、及び有機溶剤を混合して、実施例1~4のポジ型感光性樹脂組成物を調製した。また、表2に記載の処方単位は質量部に従って、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、架橋剤、酸発生剤、ポリビニルアルキルエーテル、及び有機溶剤を混合して、実施例5~8のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。さらに、表3に記載の処方単位は質量部に従って、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、ラジカル重合開始剤、シランカップリング剤、無機フィラー、及び有機溶剤を混合して、比較例1~6のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。表1~3における各成分の詳細は下記のとおりである。フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂A:m-クレゾールとp-クレゾールとをm-クレゾール/p-クレゾール=60/40質量比で混合し、ホルマリンを加えて常法により付加縮合して得たクレゾールノボラック樹脂質量平均分子量15000フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂B:ポリヒドロキシスチレン質量平均分子量6000キノンジアジド基含有化合物A:4,4’-[1-[4-[1-[4-ヒドロキシフェニル]-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール1モルと、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド2モルとの縮合物4,4’-[1-[4-[1-[4-ヒドロキシフェニル]-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル架橋剤A:2,4,6-トリス[ビスメトキシメチルアミノ]-1,3,5-トリアジン三和ケミカル社製、Mw-100LM酸発生剤A:2,4-ビストリクロロメチル-6-ピペロニル-1,3,5-トリアジンポリビニルアルキルエーテルA:ポリビニルメチルエーテル質量平均分子量100000BASF社製、ルトナール有機溶剤A:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートアルカリ可溶性樹脂A:ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=80/20モル比の共重合体質量平均分子量60000アルカリ可溶性樹脂B:ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=80/20モル比の共重合体質量平均分子量90000アルカリ可溶性樹脂C:メタアクリル酸及びメタアクリル酸エステルの共重合体のカルボキシル基に、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートのエポキシ基を反応させた樹脂質量平均分子量16000、酸価110mgKOH/mgダイセルサイテック社製、サイクロマーACAZ250重合性モノマーA:トリメチロールプロパントリアクリレート東亜合成社製、アロニックスM309重合性モノマーB:トリシクロデカンメタノールジアクリレート共栄社化学社製、TCP-A重合性モノマーC:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬社製重合性モノマーD:多官能ポリエステルアクリレート東亜合成社製、アロニックスM9050ラジカル重合開始剤A:2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1BASF社製、イルガキュア369シランカップリング剤A:3-アミノプロピルトリメトキシシラン信越シリコーン社製、KBM903無機フィラーA:沈降性硫酸バリウム堺化学社製、B-30<現像性の評価>実施例1~4のポジ型感光性樹脂組成物を、ガラス基板コーニング社製、Eagle-XG上にスピンコーターで塗布し、90°Cで5分間加熱プレベークした。同様の塗布加熱を再度繰り返した後、110°Cで40分間加熱プレベークし、膜厚45~50μmの塗布膜を得た。次いで、この塗布膜に対して、線幅200μmのラインパターンが形成されたマスクを介して3000mJ/cm2の照射量で紫外線を照射した。次いで、30°Cに加温した1質量水酸化ナトリウム水溶液中にガラス基板を5分間浸漬することにより、露光部分を溶解除去し、ラインアンドスペースパターンを形成した。そして、露光部分が完全に除去されるまでの時間ブレークポイントを測定することにより、現像性を評価した。結果を表4に示す。また、実施例5~8のネガ型感光性樹脂組成物を、ガラス基板コーニング社製、Eagle-XG上にスピンコーターで塗布し、90°Cで5分間、110°Cで20分間加熱プレベークし、膜厚60μmの塗布膜を得た。次いで、この塗布膜に対して、線幅200μmのラインパターンが形成されたマスクを介して150mJ/cm2の照射量で紫外線線を照射した後、110°Cで6分間加熱PEBした。次いで、30°Cに加温した1質量水酸化ナトリウム水溶液中にガラス基板を5分間浸漬することにより、未露光部分を溶解除去し、ラインアンドスペースパターンを形成した。そして、未露光部分が完全に除去されるまでの時間ブレークポイントを測定することにより、現像性を評価した。結果を表4に示す。さらに、比較例1~6のネガ型感光性樹脂組成物を用いたほかは上記実施例5~8と同様にして現像を行った。しかし、30°Cに加温した1質量水酸化ナトリウム水溶液では現像できなかったため、30°Cに加温した1質量炭酸ナトリウム水溶液を用いて、1kg/cm2の条件でスプレー現像を行い、ラインアンドスペースパターンを形成した。そして、未露光部分が完全に除去されるまでの時間ブレークポイントを測定することにより、現像性を評価した。結果を表5に示す。<解像性の評価>線幅40~200μmのラインパターンが形成されたマスクを用いたほかは上記<現像性の評価>と同様にして、塗布膜の露光現像を行い、ラインアンドスペースパターンを形成した。そして、解像可能な最小のマスク寸法を基準に、解像性を評価した。結果を表4,5に示す。<エッチング耐性の評価>線幅200μmのラインパターンが形成されたマスクを用いたほかは上記<解像性の評価>と同様にして、塗布膜の露光現像を行い、ラインアンドスペースパターンを形成した。比較例1~6のネガ型感光性樹脂組成物を用いて得られたラインアンドスペースパターンについては、さらに200°Cで20分間加熱ポストベークした。次いで、このラインアンドスペースパターンをマスクとして、ガラス基板のエッチングを行った。エッチング処理は、フッ酸/硫酸/水=15/15/70質量比のエッチング液を55°Cに加温し、このエッチング液中でガラス基板を揺動することにより行った。そして、ラインアンドスペースパターンが剥離するまでの時間及びその時点までのエッチング量を測定することにより、エッチング耐性を評価した。結果を表4,5に示す。<剥離性の評価>上記<エッチング耐性の評価>と同様にしてラインアンドスペースパターンを形成した。次いで、55°Cに加温した10質量水酸化ナトリウム水溶液中にガラス基板を浸漬することにより、ラインアンドスペースパターンを剥離除去した。そして、ラインアンドスペースパターンが完全に剥離するまでの時間を測定することにより、剥離性を評価した。結果を表4,5に示す。表4から分かるように、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する実施例1~4のポジ型感光性樹脂組成物及び実施例5~8のネガ型感光性樹脂組成物は、1質量水酸化ナトリウム水溶液で現像することができ、解像性も40μm以下と優れていた。また、15質量のフッ酸及び15質量の硫酸を含む50°Cのエッチング液を用いた過酷なエッチング条件においても、優れたエッチング耐性を示し、しかも剥離性も良好であった。一方、表5から分かるように、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂を含有しない比較例1~6のネガ型感光性樹脂組成物は、1質量炭酸ナトリウム水溶液で現像することができたが、解像性は実施例1~8よりも劣っていた。また、エッチング耐性も実施例1~8よりも劣っており、エッチング耐性が向上するのに反比例し、剥離性は悪化した。なお、比較例6のように無機フィラーを含有させた場合には、エッチング耐性は実施例1~8と同等程度に向上したが、現像性、解像性が著しく悪化した。"