"流体の流路となる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁を有するハニカム基材と、一方の端面における所定のセルの開口部及び他方の端面における残余のセルの開口部に配設された目封止部とを備え、前記隔壁がセラミックを主成分とするものであり、隔壁の片側の表面から反対側の表面まで繋がるとともに最小の細孔径が100μm以上である細孔を、少なくとも1つ有するセルが、100個以下であり、前記隔壁のパーミアビリティが0.5×10-12m2以上、10×10-12m2以下であるハニカム構造体。流体の流路となる複数のセルを区画形成する、セラミック原料が焼成されて形成された多孔質の隔壁と、一方の端面における所定のセルの開口部及び他方の端面における残余のセルの開口部に配設された目封止部とを備えたハニカム焼成体を作製するハニカム焼成体作製工程と、前記ハニカム焼成体の前記隔壁の細孔内に液体を浸入させる液体浸入工程と、前記ハニカム焼成体に、セラミック原料粉末が分散した気体を流通させて、前記セラミック原料粉末を前記隔壁の細孔内に堆積させるセラミック原料粉末堆積工程と、前記セラミック原料粉末が細孔内に堆積したハニカム焼成体を加熱して、前記セラミック原料粉末を細孔内に固着させてハニカム構造体を作製するセラミック原料粉末固着工程とを有し、前記液体浸入工程において、前記ハニカム焼成体の前記隔壁の細孔内に浸入させる前記液体の量が、細孔の全容積の30以上、100以下であり、前記セラミック原料粉末堆積工程において、前記気体がハニカム焼成体を流通するときの容積速度が、50/時間以上、5000/時間以下であるハニカム構造体の製造方法。前記液体が、沸点50°C以上、150°C以下の液体である請求項2に記載のハニカム構造体の製造方法。前記液体浸入工程において、前記ハニカム焼成体の前記隔壁の細孔内に前記液体を浸入させる方法が、前記ハニカム焼成体を前記液体に浸漬する方法である請求項2又は3に記載のハニカム構造体の製造方法。前記液体浸入工程において、前記ハニカム焼成体の前記隔壁の細孔内に前記液体を浸入させた後に、前記一方の端面からハニカム焼成体に気体を流す請求項2~4のいずれかに記載のハニカム構造体の製造方法。前記セラミック原料粉末堆積工程において、セラミック原料粉末の平均粒子径が5μm以上、30μm以下である請求項2~5のいずれかに記載のハニカム構造体の製造方法。前記セラミック原料粉末堆積工程において、前記セラミック原料粉末が分散した気体中の前記セラミック原料粉末の濃度が、1mg/m3以上、1g/m3以下である請求項2~6のいずれかに記載のハニカム構造体の製造方法。従来のDPFには、細孔径の大きな細孔が多数存在し、微粒子がこのような細孔径の大きな細孔から漏れ出すという問題があった。そのため、このような微粒子を十分に捕集することが可能なDPFが求められていた。本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものである。本発明は、排ガス中の微粒子を効率的に捕集することができるハニカム構造体、及びそのようなハニカム構造体を製造することができるハニカム構造体の製造方法を提供するものである。[1]流体の流路となる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁を有するハニカム基材と、一方の端面における所定のセルの開口部及び他方の端面における残余のセルの開口部に配設された目封止部とを備え、前記隔壁がセラミックを主成分とするものであり、隔壁の片側の表面から反対側の表面まで繋がるとともに最小の細孔径が100μm以上である細孔以下、粗大孔と称することがあるを少なくとも1つ有するセルが、100個以下であり、前記隔壁のパーミアビリティが0.5×10-12m2以上、10×10-12m2以下であるハニカム構造体。[2]流体の流路となる複数のセルを区画形成する、セラミック原料が焼成されて形成された多孔質の隔壁と、一方の端面における所定のセルの開口部及び他方の端面における残余のセルの開口部に配設された目封止部とを備えたハニカム焼成体を作製するハニカム焼成体作製工程と、前記ハニカム焼成体の前記隔壁の細孔内に液体を浸入させる液体浸入工程と、前記ハニカム焼成体に、セラミック原料粉末が分散した気体を流通させて、前記セラミック原料粉末を前記隔壁の細孔内に堆積させるセラミック原料粉末堆積工程と、前記セラミック原料粉末が細孔内に堆積したハニカム焼成体を加熱して、前記セラミック原料粉末を細孔内に固着させてハニカム構造体を作製するセラミック原料粉末固着工程とを有し、前記液体浸入工程において、前記ハニカム焼成体の前記隔壁の細孔内に浸入させる前記液体の量が、細孔の全容積の30以上、100以下であり、前記セラミック原料粉末堆積工程において、前記気体がハニカム焼成体を流通するときの容積速度が、50/時間以上、5000/時間以下であるハニカム構造体の製造方法。[3]前記液体が、沸点50°C以上、150°C以下の液体である[2]に記載のハニカム構造体の製造方法。[4]前記液体浸入工程において、前記ハニカム焼成体の前記隔壁の細孔内に前記液体を浸入させる方法が、前記ハニカム焼成体を前記液体に浸漬する方法である[2]又は[3]に記載のハニカム構造体の製造方法。[5]前記液体浸入工程において、前記ハニカム焼成体の前記隔壁の細孔内に前記液体を浸入させた後に、前記一方の端面からハニカム焼成体に気体を流す[2]~[4]のいずれかに記載のハニカム構造体の製造方法。[6]前記セラミック原料粉末堆積工程において、セラミック原料粉末の平均粒子径が5μm以上、30μm以下である[2]~[5]のいずれかに記載のハニカム構造体の製造方法。[7]前記セラミック原料粉末堆積工程において、前記セラミック原料粉末が分散した気体中の前記セラミック原料粉末の濃度が、1mg/m3以上、1g/m3以下である[2]~[6]のいずれかに記載のハニカム構造体の製造方法。本発明のハニカム構造体によれば、粗大孔が少ないか、又は存在しないため、排ガス中の微粒子を効率的に捕集することが可能である。本発明のハニカム構造体の製造方法によれば、上記のような本発明のハニカム構造体を効率的に製造することができる。以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら具体的に説明する。本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、以下の実施の形態に対し適宜変更、改良等が加えられたものも本発明の範囲に入ることが理解されるべきである。1ハニカム構造体:図1、図2に示すように、本発明のハニカム構造体の一実施形態ハニカム構造体100は、流体の流路となる複数のセル2を区画形成する多孔質の隔壁1を有するハニカム基材4を備える。更に、ハニカム構造体100は、一方の端面第1の端面11における所定のセル2の開口部及び他方の端面第2の端面12における残余のセル2の開口部に配設された目封止部5を備える。更に、ハニカム構造体100においては、隔壁1がセラミックを主成分とするものである。更に、ハニカム構造体100は、隔壁の片側の表面から反対側の表面まで繋がるとともに、最小の細孔径が100μm以上である細孔粗大孔を少なくとも1つ有するセルが、100個以下である。更に、ハニカム構造体100は、隔壁のパーミアビリティが0.5×10-12m2以上、10×10-12m2以下である。ここで、最小の細孔径が100μm以上の細孔は、隔壁の片側の表面から反対側の表面までの間で、最も細孔径が小さくなる部分、における当該細孔径が、100μm以上である細孔のことである。また、粗大孔を少なくとも1つ有するセルについて、以下に説明する。すなわち、各セルの外周は、隔壁によって取り囲まれた状態になっている。そして、一のセルの外周を取り囲む隔壁に粗大孔が少なくとも一つ形成されている場合に、当該隔壁によって取り囲まれたセルが、粗大孔を少なくとも1つ有するセルである。図1は、本発明のハニカム構造体の一実施形態を模式的に示す斜視図である。図2は、本発明のハニカム構造体の一実施形態の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。本発明のハニカム構造体は、上記のように、粗大孔が少ないか、又は存在しないため、排ガス中の微粒子粒子径が100μmより小さい粒子状物質を効率的に捕集することが可能である。本実施形態のハニカム構造体100においては、上記のように、最小の細孔径が100μm以上である粗大孔を少なくとも1つ有するセルが100個以下である。粗大孔を少なくとも1つ有するセルが、50個以下であることが好ましく、10個以下であることが更に好ましく、5個以下であることが特に好ましく、0個であることが最も好ましい。粗大孔を少なくとも1つ有するセルが、100個を超えると、排ガス中の微粒子を十分に捕集することができないため好ましくない。粗大孔の数は、ハニカム構造体に基準微粒子を導入し、基準微粒子が透過した箇所を数える方法レーザースモークによる測定方法で測定した値である例えば、特開2002-357562号公報に記載の方法を挙げることができる。。基準微粒子が透過した箇所の数が、粗大孔の数になる。基準微粒子は、細孔径100μm以上の細孔を通過し易く、細孔径100μm未満の細孔を通過し難い粒子径に調整された微粒子である。また、基準微粒子が透過した箇所を数える際には、ハニカム構造体にレーザー光等を照射することにより透過箇所を可視化して、基準微粒子が透過した箇所を検出することが好ましい。隔壁の片側の表面から反対側の表面まで繋がる細孔は、換言すると、隔壁の、一方の面から他方の面まで、繋がる細孔ということもできる。本実施形態のハニカム構造体100においては、隔壁のパーミアビリティが0.5×10-12m2以上、10×10-12m2以下である。隔壁のパーミアビリティは、1×10-12m2以上、8×10-12m2以下であることが好ましく、2×10-12m2以上、6×10-12m2以下であることが更に好ましい。隔壁のパーミアビリティが0.5×10-12m2未満であると、圧力損失が大きくなるため好ましくない。隔壁のパーミアビリティが10×10-12m2を超えると、排ガス中の微粒子を捕集し難くなるため好ましくない。本実施形態のハニカム構造体100において、ハニカム基材隔壁及び外周壁の材質は、炭化珪素、珪素-炭化珪素複合材、アルミニウムチタネート、コージェライト及びムライトからなる群から選択される少なくとも1種を主成分とすることが好ましい。また、ハニカム基材の材質は、炭化珪素、珪素-炭化珪素複合材、アルミニウムチタネート、コージェライト又はムライトを主成分とすることが更に好ましい。また、ハニカム基材の材質は、炭化珪素、珪素-炭化珪素複合材、アルミニウムチタネート、コージェライト又はムライトであることが特に好ましい。ここで、主成分は、全体の中の50質量を超える成分を意味する。本実施形態のハニカム構造体100において、隔壁1の平均細孔径は、5~40μmが好ましく、6~40μmが更に好ましく、8~35μmが特に好ましい。平均細孔径が5μmより小さいと、圧力損失が大きくなることがある。平均細孔径が40μmより大きいと、ハニカム構造体の強度が低くなることがある。平均細孔径は、水銀ポロシメータによって測定した値である。本実施形態のハニカム構造体100において、隔壁1の気孔率は、35~70が好ましく、38~70が更に好ましく、40~65が特に好ましい。気孔率が35より小さいと、圧力損失が大きくなることがある。気孔率が70より大きいと、ハニカム構造体の強度が低くなることがある。気孔率は、水銀ポロシメータによって測定した値である。隔壁1の厚さは、50~400μmであることが好ましく、76~310μmであることが更に好ましく、100~300μmであることが特に好ましい。50μmより薄いと、ハニカム構造体の強度が低くなることがある。400μmより厚いと、圧力損失が高くなることがある。本実施形態のハニカム構造体100において、ハニカム基材4の形状は、特に限定されない。ハニカム基材4の形状としては、円筒形状、端面が楕円形の筒形状、端面が正方形、長方形、三角形、五角形、六角形、八角形等の多角形の筒形状、等が好ましい。図1、図2に示すハニカム構造体100においては、ハニカム基材4の形状は円筒形状である。また、図1、図2に示すハニカム構造体100は、外周壁3を有しているが、外周壁3を有さなくてもよい。外周壁3は、ハニカム構造体を作製する過程において、ハニカム成形体を押出成形する際に、隔壁とともに形成されることが好ましい。また、外周壁3は、セラミック材料をハニカム構造体の外周に塗工して形成したものであってもよい。本実施形態のハニカム構造体100において、ハニカム基材4のセル形状セルが延びる方向に直交する断面におけるセル形状としては、特に制限はない。セル形状としては、三角形、四角形、六角形、八角形、円形、あるいはこれらの組合せを挙げることができる。四角形のなかでも、正方形、長方形が好ましい。本実施形態のハニカム構造体100において、ハニカム基材4のセル密度については、特に制限はない。ハニカム基材4のセル密度は、7~93セル/cm2であることが好ましく、15~78セル/cm2であることが更に好ましい。セル密度が、7セル/cm2より小さいと、粒子状物質を捕集する隔壁の面積が小さくなり、排ガスを流通させたときに、短時間で圧力損失が大きくなることがある。セル密度が、93セル/cm2より大きいと、セルの断面積セルの延びる方向に直交する断面の面積が小さくなるため、圧力損失が大きくなることがある。2ハニカム構造体の製造方法:本発明のハニカム構造体の製造方法の一実施形態は、ハニカム焼成体作製工程と、液体浸入工程と、セラミック原料粉末堆積工程と、セラミック原料粉末固着工程とを有するものである。ハニカム焼成体作製工程は、セラミック原料が焼成されて形成された多孔質の隔壁と、目封止部とを備えたハニカム焼成体を作製する工程である。多孔質の隔壁は、流体の流路となる複数のセルを区画形成するものである。また、目封止部は、一方の端面における所定のセルの開口部及び他方の端面における残余のセルの開口部に配設されたものである。液体浸入工程は、ハニカム焼成体の隔壁の細孔内に液体を浸入させる工程である。また、液体浸入工程において、ハニカム焼成体の隔壁の細孔内に浸入させる液体の量は、細孔の全容積の30以上、100以下である。セラミック原料粉末堆積工程は、ハニカム焼成体に、セラミック原料粉末が分散した気体を流通させて、セラミック原料粉末を隔壁の細孔内に堆積させる工程である。また、セラミック原料粉末堆積工程において、気体がハニカム焼成体を流通するときの容積速度は、50/時間以上、5000/時間以下である。セラミック原料粉末固着工程は、セラミック原料粉末が細孔内に堆積したハニカム焼成体を加熱して、セラミック原料粉末を細孔内に固着させてハニカム構造体を作製する工程である。本実施形態のハニカム構造体の製造方法によれば、ハニカム焼成体の隔壁の細孔内に液体を浸入させるため、細孔内に気体が流通し難くなる。そして、その状態で、ハニカム焼成体にセラミック原料粉末が分散した気体を流通させるため、細孔径の大きな細孔を当該気体が通過する。液体が充填された細孔に気体を流そうとすると、気体は、まず細孔径の大きな細孔を、液体を押しのけながら流れる。そして、その後は、気体は、気体の流路が形成された細孔径の大きな細孔を流れ続ける。それにより、細孔径の大きな細孔に気体に分散されたセラミック原料粉末が堆積する。そして、細孔内に堆積したセラミック原料粉末を加熱により固着させることにより、細孔径の大きな細孔の壁面に新たにセラミック層が形成されることになる。これにより、細孔径が大きかった細孔の当該細孔径が小さくなり、粗大孔の数が減少し、本発明のハニカム構造体を得ることができる。以下、本実施形態のハニカム構造体の製造方法について、工程毎に説明する。2-1ハニカム焼成体作製工程;ハニカム焼成体作製工程は、セラミック原料が焼成されて形成された多孔質の隔壁と、目封止部とを備えたハニカム焼成体を作製する工程である。ハニカム焼成体を作製する方法は、特に限定されない。以下、ハニカム焼成体作製工程を、段階的に工程に分けて説明する。2-1-1成形工程まず、成形工程において、セラミック原料を含有するセラミック成形原料を成形して、図3,4に示されるような、流体の流路となる複数のセル22を区画形成する隔壁未焼成21を備えるハニカム成形体20を形成することが好ましい。ハニカム成形体は、ハニカム構造の成形体である。図3,4に示されるハニカム成形体20には、外周壁23が隔壁21の外周を取り囲むように配設されている。ハニカム成形体20は、外周壁23を備えることが好ましいが、外周壁23を備えなくてもよい。図3は、本発明のハニカム構造体の製造方法の一実施形態において、ハニカム焼成体を作製する過程で作製されるハニカム成形体20を模式的に示す斜視図である。図4は、本発明のハニカム構造体の製造方法の一実施形態において、ハニカム焼成体を作製する過程で作製されるハニカム成形体20の、セル22の延びる方向に平行な断面を示す模式図である。セラミック成形原料に含有されるセラミック原料としては、コージェライト化原料、コージェライト、炭化珪素、珪素-炭化珪素系複合材料、ムライト、チタン酸アルミニウム、からなる群から選択される少なくとも1種が好ましい。尚、コージェライト化原料とは、シリカが42~56質量、アルミナが30~45質量、マグネシアが12~16質量の範囲に入る化学組成となるように配合されたセラミック原料であって、焼成されてコージェライトになるものである。また、セラミック成形原料は、上記セラミック原料に、分散媒、有機バインダ、無機バインダ、造孔材、界面活性剤等を混合して調製することが好ましい。各原料の組成比は、特に限定されず、作製しようとするハニカム構造体の構造、材質等に合わせた組成比とすることが好ましい。作製されるハニカム構造体の隔壁のパーミアビリティ、平均細孔径及び気孔率を調整するために、セラミック成形原料中のセラミック原料の平均粒子径、及び造孔材の平均粒子径を以下のように調整することが更に好ましい。すなわち、セラミック原料の平均粒子径を、0.5μm以上、30μm以下とすることが好ましい。更に、造孔材の平均粒子径を、3μm以上、50μm以下とすることが好ましい。セラミック成形原料を成形する際には、まずセラミック成形原料を混練して坏土とし、得られた坏土をハニカム形状に成形することが好ましい。セラミック成形原料を混練して坏土を形成する方法としては特に制限はなく、例えば、ニーダー、真空土練機等を用いる方法を挙げることができる。坏土を成形してハニカム成形体を形成する方法としては特に制限はなく、押出成形、射出成形等の公知の成形方法を用いることができる。例えば、所望のセル形状、隔壁厚さ、セル密度を有する口金を用いて押出成形してハニカム成形体を形成する方法等を好適例として挙げることができる。口金の材質としては、摩耗し難い超硬合金が好ましい。ハニカム成形体の形状は、特に限定されず、円筒形状、端面が楕円形の筒形状、端面が正方形、長方形、三角形、五角形、六角形、八角形等の多角形の筒形状、等が好ましい。また、上記成形後に、得られたハニカム成形体を乾燥してもよい。乾燥方法は、特に限定されるものではないが、例えば、熱風乾燥、マイクロ波乾燥、誘電乾燥、減圧乾燥、真空乾燥、凍結乾燥等を挙げることができ、なかでも、誘電乾燥、マイクロ波乾燥又は熱風乾燥を単独で又は組合せて行うことが好ましい。2-1-2目封止工程成形工程の後に、目封止工程において、ハニカム成形体の、一方の端面における所定のセルの開口部に、目封止部を配設する。尚、目封止部は、ハニカム成形体を焼成した後に、焼成後のハニカム成形体に配設してもよい。まず、ハニカム成形体の一方の端面のセル開口部に目封止材料を充填する。一方の端面のセル開口部に目封止材料を充填する方法としては、マスキング工程と圧入工程とを有する方法が好ましい。マスキング工程は、ハニカム成形体の一方の端面にシートを貼り付け、シートにおける、目封止部を形成しようとするセルと重なる位置に孔を開ける工程である。圧入工程は、ハニカム成形体の、シートが貼り付けられた側の端部を目封止材料が貯留された容器内に圧入して、目封止材料をハニカム成形体のセル内に圧入する工程である。目封止材料をハニカム成形体のセル内に圧入する際には、目封止材料は、シートに形成された孔を通過し、シートに形成された孔と連通するセルのみに充填される。目封止材料は、上記セラミック成形原料の構成要素として挙げた原料を適宜混合して作製することができる。目封止材料に含有されるセラミック原料としては、隔壁の原料として用いるセラミック原料と同じであることが好ましい。次に、ハニカム成形体に充填された目封止材料を乾燥させることが好ましい。ハニカム成形体の一方端面において、目封止部が形成されたセルと目封止部が形成されていないセルとが交互に並ぶことが好ましい。この場合、目封止部が形成された一方の端面において、目封止部とセルの開口部とにより市松模様が形成されることになる。次に、ハニカム成形体の、他方の端面における残余のセルの開口部に、一方の端面の場合と同様にして、目封止部を配設することが好ましい。これにより、目封止ハニカム成形体が得られる。尚、目封止材料の乾燥は、ハニカム成形体の両端面において、目封止材料を充填した後に、行ってもよい。2-1-3焼成工程次に、目封止ハニカム成形体を焼成してハニカム焼成体を作製する焼成工程。目封止ハニカム成形体を焼成本焼成する前に、目封止ハニカム成形体を仮焼することが好ましい。仮焼は、脱脂のために行うものであり、その方法は、特に限定されるものではなく、有機物有機バインダ、界面活性剤、造孔材等を除去することができればよい。一般に、有機バインダの燃焼温度は100~300°C程度、造孔材の燃焼温度は200~800°C程度である。そのため、仮焼の条件としては、酸化雰囲気において、200~1000°C程度で、3~100時間程度加熱することが好ましい。目封止ハニカム成形体の焼成本焼成は、仮焼した目封止ハニカム成形体を構成する成形原料を焼結させて緻密化し、所定の強度を確保するために行われる。焼成条件温度、時間、雰囲気等は、成形原料の種類により異なるため、その種類に応じて適当な条件を選択すればよい。例えば、コージェライト化原料を使用している場合には、焼成温度は、1410~1440°Cが好ましい。また、焼成時間は、最高温度でのキープ時間として、4~8時間が好ましい。仮焼、本焼成を行う装置は、特に限定されないが、電気炉、ガス炉等を用いることができる。2-2液体浸入工程;液体浸入工程は、ハニカム焼成体の隔壁の細孔内に液体を浸入させる工程である。ハニカム焼成体の隔壁の細孔内に液体を浸入させる方法は、特に限定されない。例えば、ハニカム焼成体を、容器に貯められた液体に浸漬する方法が好ましい。また、ハニカム焼成体全体を、容器に貯められた液体内に浸漬し、0.1~10分後に取り出すことが更に好ましい。ハニカム焼成体を液体に浸漬すると、毛細管現象によって隔壁の細孔に液体が浸入する。このとき、細孔径の小さな細孔小細孔は液体で満たされ易く、粗大孔は、液体で満たされ難い。粗大孔が、液体で満たされていない状態であると、セラミック原料粉末が分散した気体を、粗大孔に、より流通させ易くなる。そのため、液体浸入工程において、ハニカム焼成体の隔壁の細孔内に液体を浸入させた後に、一方の端面からハニカム焼成体に気体を流すことが好ましい。これにより、粗大孔に充填された液体が優先的に除去される。そのため、セラミック原料粉末が分散した気体を、優先的に、粗大孔に流通させることができる。尚、粗大孔は、液体で満たされていない状態であることが好ましいが、液体で満たされていてもよい。粗大孔が液体で満たされていても、気体は、小さい細孔径の細孔よりも粗大孔のほうが流れ易い。そのため、粗大孔が液体で満たされていても、セラミック原料粉末が分散した気体を、ハニカム焼成体に流す際には、当該気体は、粗大孔を流れることになる。本実施形態のハニカム構造体の製造方法においては、上記液体が、沸点50°C以上、150°C以下の液体であることが好ましい。細孔内に浸入させる液体の沸点がこのような範囲であることにより、当該液体が常温で蒸発し易くなる。そして、これにより、セラミック原料粉末堆積工程後の乾燥が容易になる。上記液体の沸点は、50°C以上、130°C以下が更に好ましく、60°C以上、110°C以下が特に好ましい。液体の沸点が50°Cより低いと、自然蒸発により、小細孔に充填されていた液体も蒸発してしまう恐れがある。これにより、粗大孔のみにセラミック原料粉末が分散した気体を流すということを、達成し難くなることがある。液体の沸点が150°Cより高いと、セラミック原料粉末堆積工程の後に、乾燥工程を追加することが必要になることがある。上記液体としては、例えば、水、エタノール、メタノール、これらの混合液等を挙げることができる。本実施形態のハニカム構造体の製造方法においては、液体浸入工程において、ハニカム焼成体の隔壁の細孔内に浸入させる液体の量は、細孔の全容積の30以上、100以下である。隔壁の細孔内に浸入させる液体の量は、細孔の全容積の50以上、80以下であることが好ましく、細孔の全容積の60以上、70以下であることが更に好ましい。ハニカム焼成体の隔壁の細孔内に浸入させる液体の量が、細孔の全容積の30未満であると、得られるハニカム構造体の粗大孔の数が多くなるため好ましくない。隔壁の細孔の全容積は、水銀圧入法で測定した値である。隔壁の細孔に浸入した液体の量は、隔壁の細孔に液体を浸入させた後のハニカム焼成体の質量から、隔壁の細孔に液体を浸入させる前のハニカム焼成体の質量を差し引いた値である。2-3セラミック原料粉末堆積工程;セラミック原料粉末堆積工程は、ハニカム焼成体に、セラミック原料粉末が分散した気体を流通させて、セラミック原料粉末を隔壁の細孔内に堆積させる工程である。ハニカム焼成体に、セラミック原料粉末が分散した気体を流通させると、粗大孔に優先的に気体が流通する。これにより、セラミック原料粉末が粗大孔に優先的に堆積する。そのため、得られたハニカム構造体は、粗大孔が少ないものとなる。本実施形態のハニカム構造体の製造方法においては、セラミック原料粉末の平均粒子径が5μm以上、30μm以下であることが好ましい。セラミック原料粉末の平均粒子径をこのような範囲にすることにより、セラミック原料粉末が粗大孔に優先的に堆積し易くなる。5μmより小さいと、セラミック原料粉末が小さな細孔径の細孔に堆積し易くなることがある。30μmより大きいと、隔壁の細孔を通過し難くなることがある。本実施形態のハニカム構造体の製造方法において、セラミック原料粉末が分散した気体がハニカム焼成体を流通するときの容積速度は、50/時間以上、5000/時間以下である。上記気体がハニカム焼成体を流通するときの容積速度は、100/時間以上、1000/時間以下が好ましく、200/時間以上、800/時間以下が更に好ましい。上記気体が、ハニカム焼成体を流通するときの容積速度がこのような範囲であるため、細孔径100μm以上の細孔に、セラミック原料粉末を堆積させることができる。セラミック原料粉末が分散した気体をハニカム焼成体に流通させる時間が長いほど、より小さい細孔径の細孔に充填された液体まで飛散させることになる。そのため、セラミック原料粉末が分散した気体を流通させる時間によって、セラミック原料粉末が堆積する細孔の細孔径をコントロールすることができる。上記容積速度が、50/時間未満であると、セラミック原料粉末堆積工程の時間が長くなり、ハニカム構造体の生産性が低下するため好ましくない。更に、上記容積速度が、50/時間未満であると、セラミック原料粉末が、細孔径の小さな細孔に堆積し易くなり、隔壁のパーミアビリティが低下するため好ましくない。上記容積速度が、5000/時間超であると、セラミック原料粉末が、細孔径の小さな細孔に堆積し易くなり、隔壁のパーミアビリティが低下するため好ましくない。尚、容積速度の単位/時間は、1/時間と記すこともできる。本実施形態のハニカム構造体の製造方法においては、セラミック原料粉末が分散した気体中の当該セラミック原料粉末の濃度が、1mg/m3以上、1g/m3以下であることが好ましい。セラミック原料粉末が分散した気体中の当該セラミック原料粉末の濃度は、10mg/m3以上、0.5g/m3以下であることが更に好ましく、20mg/m3以上、0.3g/m3以下であることが特に好ましい。セラミック原料粉末が分散した気体中の当該セラミック原料粉末の濃度が、1mg/m3未満であると、セラミック原料粉末堆積工程の時間が長くなり、ハニカム構造体の生産性が低下することがある。セラミック原料粉末が分散した気体中の当該セラミック原料粉末の濃度が、1g/m3超であると、セラミック原料粉末が細孔を塞ぎ易くなることがある。2-4セラミック原料粉末固着工程;セラミック原料粉末固着工程は、セラミック原料粉末が細孔内に堆積したハニカム焼成体を加熱して、セラミック原料粉末を細孔内に固着させてハニカム構造体を作製する工程である。上記セラミック原料粉末堆積工程において、ハニカム焼成体の隔壁の粗大孔内に、セラミック原料粉末が堆積した状態になっている。そのため、この状態のハニカム焼成体を加熱すると、セラミック原料粉末を粗大孔内で固着させることができる。これにより、大細孔径であった細孔の細孔径が小さくなり、粗大孔の数を減少させることができる。セラミック原料粉末が細孔内に堆積したハニカム焼成体を加熱する際の加熱条件は、特に限定されない。例えば、加熱条件を、1380~1450°Cで、0.5~2時間とすることが好ましい。以下、本発明のハニカム構造体及びその製造方法を、実施例により更に具体的に説明する。本発明は、これらの実施例によって何ら限定されるものではない。実施例1セラミック原料として、炭化珪素SiC粉末と金属珪素Si粉末とを80:20の質量割合で混合したものを用いた。そして、これに、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロース、造孔材として吸水性樹脂を添加すると共に、水を添加して成形原料を作製した。そして、成形原料を真空土練機により混練し、円柱状の坏土を作製した。バインダの含有量は炭化珪素SiC粉末と金属珪素Si粉末の合計を100質量部としたときに7質量部であった。造孔材の含有量は炭化珪素SiC粉末と金属珪素Si粉末の合計を100質量部としたときに3質量部であった。水の含有量は炭化珪素SiC粉末と金属珪素Si粉末の合計を100質量部としたときに42質量部であった。炭化珪素粉末の平均粒子径は20μmであり、金属珪素粉末の平均粒子径は6μmであった。また、造孔材の平均粒子径は、20μmであった。炭化珪素、金属珪素及び造孔材の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。得られた円柱状の坏土を押出成形機を用いて成形し、ハニカム成形体を得た。得られたハニカム成形体を高周波誘電加熱乾燥した後、熱風乾燥機を用いて120°Cで2時間乾燥した。乾燥後のハニカム成形体に、目封止部を形成した。まず、ハニカム成形体の一方の端面第1の端面における複数のセル開口部の中の一部に、マスクを施した。このとき、マスクを施したセルとマスクを施さないセルとが交互に並ぶようにした。そして、ハニカム成形体のマスクを施した側の端部を、コージェライト化原料を含有する目封止スラリーに浸漬して、マスクが施されていないセルの開口部に目封止スラリーを充填した。そして、乾燥後のハニカム成形体の他方の端面第2の端面における残りのセル一方の端面において目封止部を形成していないセルについても、同様にして、目封止部を形成した。そして、目封止部を形成したハニカム成形体を脱脂し、焼成してハニカム焼成体を得た。脱脂の条件は、550°Cで3時間とした。焼成の条件は、アルゴン雰囲気下で、1450°C、2時間とした。次に、ハニカム焼成体の隔壁の細孔内に液体を浸入させた。液体としては、水を用いた。具体的には、水が貯められた容器にハニカム焼成体全体を0.1分間浸漬した後に、ハニカム焼成体を容器から取り出し、余分な外周の水分をエアーブローで払い落とし。ハニカム焼成体の細孔内に浸入した液体水は、細孔の全容積の75であった。隔壁の細孔の全容積は、水銀圧入法で測定した。隔壁の細孔に浸入した液体の量は、隔壁の細孔に液体を浸入させた後のハニカム焼成体の質量から、隔壁の細孔に液体を浸入させる前のハニカム焼成体の質量を差し引いて求めた。ハニカム焼成体の細孔内に浸入した水の体積の、細孔の全容積に対する比率を、吸水量として、表1に示す。隔壁に液体を浸入させたハニカム焼成体に、セラミック原料粉末が分散した気体を流通させることによって、セラミック原料粉末を隔壁の細孔内に堆積させた。セラミック原料粉末としては、SiC粉末を用いた。また、気体としては、空気を用いた。具体的には、SiC粉末が分散した空気を、隔壁に液体を浸入させたハニカム焼成体の片方の端面からセル内に、10秒間流入させた。セル内に流入した空気は、隔壁を透過して、隔壁に液体を浸入させたハニカム焼成体の反対側の端面から流出した。SiC粉末が分散した空気は、2000/時間の容積速度SVで、隔壁に液体を浸入させたハニカム焼成体に流した。これにより、隔壁に液体を浸入させたハニカム焼成体に、セラミック原料粉末が分散した気体を流通させた。そして、気体空気中に分散したSiC粉末を、隔壁の細孔内に堆積させた。セラミック原料粉末の平均細孔径は、10μmであった。セラミック原料粉末の平均粒子径を、原料粉末粒子径μmとして、表1に示す。セラミック原料粉末の平均粒子径は、沈殿法により測定した値である。気体に分散するセラミック原料粉末の濃度気体中の濃度は、2000mg/m3であった。次に、セラミック原料粉末が細孔内に堆積したハニカム焼成体を加熱して、セラミック原料粉末を細孔内に固着させてハニカム構造体を作製した。加熱条件は、1300°C、1時間とした。得られたハニカム構造体の底面は直径14.4cmの円形であり、ハニカム構造体のセルの延びる方向における長さは15.2cmであった。また、隔壁の厚さは305μmであり、セル密度は46.5セル/cm2であった。得られたハニカム構造体について、以下に示す方法で、粗大孔を少なくとも1つ有するセルの個数を測定し、隔壁のパーミアビリティm2を測定した。結果を表1に示す。また、得られたハニカム構造体について、以下に示す方法で、圧力損失kPa及びPN粒子状物質の数個/kmを測定した。結果を表1に示す。尚、PNとは、PMNumber粒子状物質の数の略称である。圧力損失は、2.0kPa以下を合格Aとし、2.0kPa超を不合格Bとした。PNは、1.0個/km以下を合格Aとし、1.0個/km超を不合格Bとした。表1において、液体浸入工程の欄は、隔壁の細孔に液体を浸入させる操作工程を行ったか否かを示す。有りは、隔壁の細孔に液体を浸入させる操作を行ったことを示す。無しは、隔壁の細孔に液体を浸入させる操作を行っていないことを示す。尚、液体浸入工程を行わない場合は、それ以降の工程も行わず、ハニカム焼成体をそのままハニカム構造体とした。圧損及びPNの評価結果が両方とも合格Aの場合、総合評価が合格Aであるとする。圧損及びPNの評価結果のなかの、いずれか一方が不合格Bの場合、総合評価が不合格Bであるとする。圧力損失フローベンチエアフローベンチを用いて、ハニカム構造体に、空気を10Nm3/分流す。空気及びハニカム構造体の温度は、室温25°Cとする。そして、ハニカム構造体に空気を流した際の、ハニカム構造体に流入する直前の空気の圧力と、ハニカム構造体から流出した直後の空気の圧力を測定する。そして、ハニカム構造体に流入する直前の空気の圧力から、ハニカム構造体から流出した直後の空気の圧力を差し引いた値を圧力損失とする。PN排気量2リットルのディーゼルエンジン搭載乗用車の排気系の床下位置に、ハニカム構造体を設置する。そして、欧州規制に準拠した運転モードであるNEDCモードで、シャシダイナモ上での車両運転を実施する。そして、欧州規制に従った測定方法で排気微粒子粒子状物質の個数測定を実施する。粗大孔を少なくとも1つ有するセルの個数粗大孔を少なくとも1つ有するセルの個数は、レーザースモークによる測定方法を用いて測定する。レーザースモークによる測定方法は、以下の通りである。基準微粒子をハニカム構造体の一方の端面より導入し、他方の端面排出端面から排出するようにする。排出端面は、鉛直方向上方に向けた。そして、平面状に広がるレーザー光を、排出端面に平行に照射する。平面状に広がるレーザー光と排出端面との距離は、4mm程度とする。ここで、粗大孔からは、基準微粒子が漏れ出すため、粗大孔がある場合には、漏れ出した基準微粒子がレーザー光に照射されて乱反射し、可視化される。そのため、可視化された微粒子排出位置セルの数を数えることにより、粗大孔を少なくとも1つ有するセルの個数を確認することができる。尚、基準微粒子は、線香煙を用いる方法で発生させたものである。実施例2~18、比較例1~6表1に示すように条件を変更した以外は、実施例1と同様にしてハニカム構造体を作製した。得られたハニカム構造体について、上記方法で、隔壁の片側の表面から反対側の表面まで繋がるとともに最小の細孔径が100μm以上である細孔粗大孔の個数を測定した。また、得られたハニカム構造体について、上記方法で、隔壁のパーミアビリティm2を測定した。結果を表1に示す。また、得られたハニカム構造体について、以下に示す方法で、圧力損失kPa及びPN個/kmを測定した。結果を表1に示す。表1より、粗大孔を少なくとも1つ有するセルが100個以下であり、隔壁のパーミアビリティが0.5×10-12m2以上、10×10-12m2以下であるハニカム構造体実施例1~18は、圧力損失も小さく、PN粒子状物質の数も少ないことがわかる。また、液体浸入工程を有さない方法でハニカム構造体を製造すると、粗大孔を少なくとも1つ有するセルが100個を超えることが分かる比較例5,6。そして、液体浸入工程を有さない方法でハニカム構造体を製造すると、得られたハニカム構造体のPN粒子状物質の数が多くなっていることがわかる比較例5,6。また、液体浸入工程において、ハニカム焼成体の隔壁の細孔内に浸入させる液体の量が、細孔の全容積の30未満であると、得られるハニカム構造体の粗大孔を少なくとも1つ有するセルの個数が多くなることがわかる比較例3,4。また、セラミック原料粉末堆積工程において、容積速度が、50/時間未満であると、隔壁のパーミアビリティが低下することがわかる比較例1。また、セラミック原料粉末堆積工程において、容積速度が、5000/時間超であると、隔壁のパーミアビリティが低下することがわかる比較例2。"