"シール材によって固着された第1の基板及び第2の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、遮光体を用いて前記シール材及び前記液晶層の一部を覆い、前記遮光体をマスクとして、前記液晶層に対して第1の光照射処理を行うことで、前記重合性モノマーを重合させて第1の領域を形成し、前記遮光体を除去した後、前記液晶層に対して第2の光照射処理を行うことで、前記第1の領域よりも前記重合性モノマーの重合度が低い第2の領域を形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。シール材によって固着された第1の基板及び第2の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、遮光体を用いて前記シール材及び前記液晶層の一部を覆い、前記遮光体をマスクとして、前記液晶層に対して第1の光照射処理を行うことで、前記重合性モノマーを重合させて第1の領域を形成し、前記遮光体を除去した後、前記シール材及び前記液晶層に対して第2の光照射処理を行うことで、前記第1の領域よりも前記重合性モノマーの重合度が低い第2の領域を形成するとともに、前記シール材を硬化させることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。シール材によって固着された第1の基板及び第2の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、第1の遮光体を用いて前記シール材及び前記液晶層の一部を覆い、前記第1の遮光体をマスクとして、前記液晶層に対して第1の光照射処理を行うことで、前記重合性モノマーを重合させて第1の領域を形成し、前記第1の遮光体を除去した後、第2の遮光体を用いて前記第1の領域を覆い、前記第2の遮光体をマスクとして、前記液晶層に対して第2の光照射処理を行うことで、前記第1の領域よりも前記重合性モノマーの重合度が低い第2の領域を形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。第1の基板又は第2の基板の周縁部に遮光体を形成し、シール材によって固着された前記第1の基板及び前記第2の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、前記液晶層に対して、前記遮光体が形成された前記第1の基板又は前記第2の基板側から第1の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第1の領域を形成し、前記シール材及び前記液晶層に対して前記遮光体が形成されていない前記第1の基板又は前記第2の基板側から第2の光照射処理を行うことで、前記第1の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第2の領域を形成する液晶表示装置の作製方法。請求項1乃至請求項4のいずれか一において、前記シール材は、紫外線硬化樹脂、又は光及び熱併用硬化型樹脂を有する樹脂を用いることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。請求項5において、前記紫外線硬化樹脂、又は光及び熱併用硬化型樹脂として、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミン樹脂のいずれか一又は複数を用いることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。請求項1乃至請求項6のいずれか一において、前記第1の領域に表示領域を形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。高分子安定化処理は、ブルー相を示す液晶組成物に重合性モノマーを添加した液晶層に、光や熱を与えることによって重合性モノマーを重合させブルー相を安定化させる処理である。しかし、大型化が進む基板面内で均一に重合性モノマーを重合することは困難である。また、重合性モノマーの重合の際、硬化収縮に伴う歪みにより内部応力が生じる。重合性モノマーの重合が不均一に行われることにより、また、液晶層に内部応力が生じることによって、液晶組成物の配向状態も不均一となり、安定したブルー相を形成できなくなってしまう。これにより、液晶表示装置の表示品位及び信頼性が低下するという問題が生じる。従って、より安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置、及びその作製方法を提供することを目的の一とする。本発明の一態様は、シール材によって固着された第1の基板及び第2の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、遮光体を用いてシール材及び液晶層の一部を覆い、遮光体をマスクとして、液晶層に対して第1の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第1の領域を形成し、遮光体を除去した後、液晶層に対して第2の光照射処理を行うことで、第1の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第2の領域を形成する液晶表示装置の作製方法である。なお、ブルー相を示す液晶組成物は、ブルー相を示す液晶材料と、カイラル剤とを含む。また、本発明の一態様は、シール材によって固着された第1の基板及び第2の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、遮光体を用いてシール材及び液晶層の一部を覆い、遮光体をマスクとして、液晶層に対して第1の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第1の領域を形成し、遮光体を除去した後、シール材及び液晶層に対して第2の光照射処理を行うことで、第1の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第2の領域を形成するとともに、シール材を硬化させる液晶表示装置の作製方法である。また、本発明の一態様は、シール材によって固着された第1の基板及び第2の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、第1の遮光体を用いてシール材及び液晶層の一部を覆い、第1の遮光体をマスクとして、液晶層に対して第1の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第1の領域を形成し、第1の遮光体を除去した後、第2の遮光体を用いて第1の領域を覆い、第2の遮光体をマスクとして、液晶層に対して第2の光照射処理を行うことで、第1の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第2の領域を形成する液晶表示装置の作製方法である。また、本発明の一態様は、第1の基板又は第2の基板の周縁部に遮光体を形成し、シール材によって固着された第1の基板及び第2の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、液晶層に対して遮光体が形成された第1の基板又は第2の基板側から第1の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第1の領域を形成し、シール材及び液晶層に対して遮光体が形成されていない第1の基板又は第2の基板側から第2の光照射処理を行うことで、第1の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第2の領域を形成する液晶表示装置の作製方法である。なお、第1の基板又は第2の基板の周縁部とは、シール材及び液晶層の一部シール材近傍の領域である。また、上記構成において、シール材は、紫外線硬化樹脂、又は光及び熱併用硬化型樹脂を用いることができる。紫外線硬化樹脂、又は光及び熱併用硬化型樹脂を用いることにより、第2の光照射処理を行うことで、第1の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第2の領域を形成するとともに、シール材を硬化させることができる。また、紫外線硬化性を有する樹脂からなるシール材として、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミン樹脂を用いることができ、光及び熱併用硬化型樹脂からなるシール材として、アクリル系樹脂とエポキシ系樹脂を混合した樹脂を用いることができる。なお、可視光硬化性又は熱硬化性の樹脂を用いてもよい。また、上記構成において、液晶層の第1の領域に液晶表示装置の表示領域を形成することが好ましい。なお、第1、第2として付される序数詞は便宜上用いるものであり、工程順又は積層順を示すものではない。また、本明細書において発明を特定するための事項として固有の名称を示すものではない。本発明の一態様により、安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置を作製することができる。実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、以下の説明に限定されず、趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する構成において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。実施の形態1本発明の一態様に係る液晶表示装置について、図1乃至図3を参照して説明する。図1Aは液晶表示装置の平面図であり、図1Bは、図1Aにおける線Y-Zの断面図である。本発明の一態様に係る液晶表示装置は、第1の基板100と第2の基板101図1Aにおいては図示せずは、シール材103で固着接着され、第1の基板100と第2の基板101の間には液晶層110が配置されている。また、シール材103は液晶層110を囲むように形成されている。液晶層110には、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物が含まれている。また、液晶層110は、第1の領域108及び第2の領域109を有する。次に、本発明の一態様に係る液晶表示装置の作製方法について、図2及び図3を参照して説明する。図2A2、B2、及びC2、並びに図3A2及びB2は液晶表示装置の平面図であり、図2A1、B1、及びC1並びに図3A1及びB1は、図2A2、B2、及びC2、並びに図3A2及びB2における線Y-Zの断面図である。第1の基板100と第2の基板101とがシール材103によって固着され、第1の基板100と第2の基板101との間に液晶層110が配置されている図2A1及びA2参照。シール材103は液晶層110を囲むように形成されている。液晶層110には、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物が含まれている。ブルー相を示す液晶組成物は、高速応答が可能であるため、液晶表示装置の高性能化が可能になる。第1の基板100、第2の基板101には、バリウムホウケイ酸ガラスやアルミノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板、石英基板、並びにプラスチック基板などの可撓性基板を用いることができる。シール材103としては、代表的には可視光硬化性、紫外線硬化性、熱硬化性の樹脂、または光及び熱併用硬化型樹脂を用いるのが好ましい。可視光硬化性、紫外線硬化性、熱硬化性の樹脂として、代表的には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アミン樹脂などを用いることができる。光及び熱併用硬化樹脂としては、アクリル系樹脂とエポキシ系樹脂を混合した樹脂を用いることができる。また、シール材103は、スクリーン印刷法、ディスペンサ法滴下法またはインクジェット法を用いて第1の基板100または第2の基板101上に塗布する。なお、シール材103に、第1の基板100及び第2の基板101の間隔を保つためのフィラー直径1μm~24μmや、光代表的には紫外線重合開始剤、熱硬化剤、カップリング剤等を含んでもよい。液晶層110は、ディスペンサ法滴下法や、第1の基板100と第2の基板101とを貼り合わせてから毛細管注入法や真空注入法を用いて注入する注入法を用いて形成することができる。ブルー相を示す液晶組成物は、ブルー相を示す液晶材料及びカイラル剤を含む。ブルー相を示す液晶材料として、サーモトロピック液晶、低分子液晶、高分子液晶、強誘電液晶、反強誘電液晶等を用いることができる。カイラル剤は、ブルー相を示す液晶分子の捩れを誘起し、ブルー相を示す液晶分子を螺旋構造に配向させブルー相を発現させるために用いる。例えば、液晶層110に含まれるブルー相を示す液晶材料に対して数重量以上のカイラル剤を混合させて液晶層110に用いればよい。また、カイラル剤は、不斉中心を有する化合物であり、ブルー相を示す液晶材料に対する相溶性が良く、かつ捩れ力の強い化合物を用いる。また、カイラル剤は光学活性体であり、光学純度が高いほど好ましく99以上が最も好ましい。ブルー相は捩れ力の強い液晶材料で発現し、二重ねじれ構造を有する。該液晶材料は、条件により、コレステリック相、コレステリックブルー相、等方相等を示す。ブルー相であるコレステリックブルー相は、低温側からブルー相I、ブルー相II、ブルー相IIIと3種類の構造を示す。ブルー相であるコレステリックブルー相は光学的に等方性であるが、ブルー相Iは体心立方、ブルー相IIは単純立方、ブルー相IIIは等方性の対称性を有する。ブルー相I及びブルー相IIは、紫外~可視光領域にブラッグ回折を示す。ブルー相は、二重ねじれ構造を持つ三次元の分子配列と、その内部に共存する線欠陥から形成される。ブルー相を示す液晶組成物は光学的変調作用を有し、電圧無印加時には光学的に等方性であるが、電圧印加によって液晶組成物の配向秩序が変化して光学的に異方性となる。ブルー相は電圧無印加時には光学的に等方であるため視野角依存性がなく、配向膜を形成しなくとも良いため、表示画像の質の向上及びコスト削減が可能である。ブルー相は、二重ねじれ構造を持つ三次元の分子配列の内部に存在する線欠陥により、相の熱力学的安定性が低下するため、ブルー相の発現温度範囲は極めて狭く、1°C程度である。このような温度範囲を改善するために、ブルー相を示す液晶材料に重合性モノマーを添加し、高分子安定化処理を行う。重合性モノマーとしては、熱により重合が進行する熱重合性熱硬化性モノマー、光により重合が進行する光重合性光硬化性モノマー、又は熱及び光により重合が進行する重合性モノマーを用いることができる。また、ブルー相を示す液晶材料に重合開始剤を添加してもよい。重合性モノマーは、アクリレート、メタクリレートなどの単官能モノマーでもよく、ジアクリレート、トリアクリレート、ジメタクリレート、トリメタクリレートなどの多官能モノマーでもよく、これらを混合させたものでもよい。また、液晶性のものでも非液晶性のものでもよく、両者を混合させてもよい。重合開始剤は、光照射によってラジカルを発生させるラジカル重合開始剤でもよく、酸を発生させる酸発生剤でもよく、塩基を発生させる塩基発生剤でもよい。なお、高分子安定化処理により重合が進行した重合性モノマーは、液晶層にポリマーとして含まれる。例えば、上記ブルー相を示す液晶組成物に、重合性モノマー、及び光重合開始剤を添加し、重合性モノマー、及び光重合開始剤が反応する波長の光を照射することで、高分子安定化処理を行うことができる。重合性モノマーとして、代表的には紫外線重合性モノマーを用いることができる。重合性モノマーとして紫外線重合性モノマーを用いる場合、液晶組成物に紫外線を照射すればよい。高分子安定化処理は、等方相を示す温度で液晶層に光照射して行ってもよいし、温度制御してブルー相を発現した液晶層に光照射して行ってもよい。高分子安定化処理の一例としては、液晶層110を等方相まで加熱した後、徐々に降温させてブルー相に相転移させ、ブルー相が発現する温度を保持した状態で光を照射することにより行う。また、他の一例としては、液晶層110を加熱して等方相に相転移させた後、ブルー相と等方相間の相転移温度から10°C以内、好ましくは5°C以内状態等方相を発現した状態で光を照射することにより行う。なお、ブルー相を発現させなくとも、ブルー相と等方相間の相転移温度から10°C以内、好ましくは5°C以内状態等方相を発現した状態で光を照射して高分子安定化処理を行ってもよい。なお、ブルー相と等方相間の相転移温度とは、昇温時にブルー相から等方相に転移する温度又は降温時に等方相からブルー相に相転移する温度をいう。ブルー相が発現する温度またはブルー相を発現させる温度を保持した状態で液晶層110に光を照射すると、重合性モノマーが重合することにより、ブルー相を示す液晶組成物の配向状態が維持される。これにより、ブルー相の状態が安定化され、ブルー相として液晶層110に用いることができる温度範囲を大幅に改善例えば、温度範囲が40°C以上することができる。ここで、液晶層のうちの第1の領域106が液晶表示装置の表示領域となるため、重合性モノマーの重合は、第1の領域106において均一に行われることが好ましい。重合性モノマーの重合が不均一であると、ブルー相を示す液晶組成物の配向状態も不均一となり、安定したブルー相を形成できなくなってしまう。また、液晶層110に含まれる重合性モノマーは、重合の際に硬化収縮するため、液晶層110には歪みに伴う内部応力が生じる。このような内部応力は、重合性モノマーの重合度が高まるとより顕著となる。また、重合の度合いによっても内部応力の大きさは変化する。このような内部応力が液晶層110に生じることによって、ブルー相を示す液晶組成物の配向状態は不均一となり、安定したブルー相を形成できなくなってしまう。また、シール材103近傍においては、歪みによる内部応力の影響を受けやすいため、ブルー相を示す液晶組成物の配向状態は不均一となりやすい。これにより、表示領域の表示品位が低下し、液晶表示装置の信頼性が低下するという問題が生じる。そこで、本実施の形態では、液晶層110に対する光照射処理を2段階にすることにより高分子安定化処理を行う。第1の光照射処理は、遮光体111を用いてシール材103及び液晶層110の一部シール材103近傍を覆い、遮光体111をマスクとして、シール材103及び液晶層110の一部シール材103近傍を遮光して、液晶層110に対して選択的に光を照射する。第1の光照射処理の際、液晶層110において、遮光体111によって覆われていない領域を第1の領域106とし、遮光体111によって覆われた領域を第2の領域107とする。遮光体111は、光104を反射もしくは吸収し、液晶層110第2の領域へ光104が照射されるのを遮断する。遮光体111は、シール材103及び液晶層110のシール材103近傍を覆うように設けることが好ましい。図2B1及びB2では、遮光体111は、第2の基板101上に設ける場合を示す。遮光体111は、遮光性を有する材料例えば、金属材料を用いた遮光部材を用いて覆ってもよいし、遮光性を有する材料例えば、金属材料やレジストマスクなどを用いて第2の基板101上に成膜してもよい。また、遮光体111は、第1の基板100とシール材103との間、または第2の基板101とシール材103との間に設けることもできる。その場合は、第1の基板100又は第2の基板101の周縁部に、遮光性を有する材料を用いて遮光体111を形成した後に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持して第1の基板100と第2の基板101とをシール材によって固着すればよい。なお、第1の基板又は第2の基板の周縁部とは、シール材及び液晶層の一部シール材近傍の領域である。第1の光照射処理は、液晶層110の第1の領域106に対して、全面に光を照射して行ってもよいし、線状に加工された光を一方向に走査させながら照射して行ってもよい。図2B1及びB2では、液晶層110に線状に加工された光104を矢印105の方向に走査させながら照射することで、光が照射された第1の領域106から、重合性モノマーの重合が進行する様子を示している。また、第1の光照射処理は、シール材103及び液晶層110の一部が遮光され、液晶層110に選択的に光が照射されるため、遮光体111によって覆われた第2の領域107は、重合性モノマーの重合が開始されない。なお、第1の光照射処理の際、第1の領域106は、重合性モノマーの重合が終了していてもよいし、終了していなくてもよい。第1の領域106の重合性モノマーが重合し、遮光体111が除去された状態を、図2C1及びC2に示す。遮光体111によって覆われていない液晶層110の第1の領域106は、重合性モノマーの重合が進行すると、硬化収縮に伴う歪みにより内部応力が生じる。これに対し、遮光体111で覆われた液晶層110の第2の領域107は、重合性モノマーの重合が開始されないため、流動性を有する液状のままである。これにより、第1の領域106において、硬化収縮に伴う歪みにより内部応力が生じたとしても、流動性を有する第2の領域により、速やかに緩和させることができる。第1の光照射処理の際、遮光体111によって覆われた液晶層110の第2の領域107は、光が照射されていないため重合が開始されておらず流動性を有している。このため、流動性を有する液晶層110の第2の領域107が、重合性モノマーが重合された液晶層110の第1の領域106に浸食することで、液晶層110の第1の領域106に含まれるブルー相を示す液晶組成物の配向を乱すおそれがある。したがって、液晶層110全面に対して第2の光照射処理を行うことが好ましい。第2の光照射処理は、第1の光照射処理の後、遮光体111を除去した後に、液晶層110全面に対して行えばよい。第2の光照射処理は、液晶層110に対して、全面に光を照射して行ってもよいし、線状に加工された光を一方向に走査させながら照射してもよい。図3A1及びA2では、液晶層110に線状に加工された光104を矢印105の方向に走査させながら照射することで、光が照射された第2の領域109及び第1の領域108から、重合性モノマーの重合が進行する様子を示している。第2の光照射処理が行われることにより、第1の領域106は、重合性モノマーの重合度がさらに高められた第1の領域108となり、第2の領域107は、重合性モノマーの重合が行われた第2の領域109となる。これにより、第1の光照射処理の際、遮光体111に覆われ光が照射されなかった第2の領域107に対しても重合性モノマーの重合が進行させることができる。第2の光照射処理により、第1の領域106において、重合性モノマーの重合が終了することが好ましい。なお、第2の領域107は、重合性モノマーの重合が終了していてもよいし、終了していなくてもよい。なお、第1の基板100とシール材103との間、又は第2の基板101とシール材103との間に、遮光性を有する材料を用いて遮光体111が形成されている場合は、遮光体111が形成されている基板側から第1の光照射処理を行い、第2の光照射処理は遮光体111が形成されていない基板側から行うことが好ましい。第2の光照射処理が終了し、液晶層110の高分子安定化処理が終了した状態を、図3B1及びB2に示す。以上説明したように、第1の光照射処理の際、第1の領域106において、重合性モノマーの硬化収縮に伴う歪みにより内部応力が生じたとしても、第1の領域106の周囲に流動性を有する第2の領域107が存在することで、第1の領域106に生じた内部応力を速やかに緩和させることができる。また、第2の光照射処理の際、第2の領域107の重合性モノマーを重合させることで、第2の光照射処理後の第2の領域109の液晶材料が第1の領域108の液晶材料に浸食することを抑制することができる。これにより、第2の光照射処理後の第1の領域108におけるブルー相を示す液晶組成物の配向乱れを抑制することができる。以上により、第1の領域108において、ブルー相を示す液晶組成物の配向が均一化された安定なブルー相を形成することができる。また、光照射処理手段及び液晶層を相対的に走査させながら光照射処理を行うことにより、大型基板の処理に対応することができ、ブルー相を示す液晶組成物の配向が均一化された安定なブルー相を形成することができる。安定なブルー相が形成された第1の領域108に、表示領域画素領域を形成し、第2の領域109に、表示に寄与しない駆動回路領域や、筐体による遮蔽領域とすることにより、表示領域の表示品位が向上し、信頼性が向上した液晶表示装置を作製することができる。なお、本実施の形態では、第2の光照射処理の際、液晶層110全面に対して光を照射する場合について説明したが、本発明の一態様はこれに限定されない。例えば、第2の光照射処理において、第1の領域106に対して遮光性を有する遮光体で覆い、該遮光体をマスクとして、第2の領域107に光を照射してもよい。これによっても、第1の領域108の重合性モノマーの重合度よりも低い重合度の第2の領域109を形成することができる。また、光照射処理の条件を適宜変更することで、第1の領域108と第2の領域109の重合性モノマーの重合度を同程度とすることも可能である。なお、第1の領域106に対して遮光性を有する遮光体で覆う場合には、第1の光照射処理の際、第1の領域106の高分子安定化処理が終了していることが好ましい。すなわち、第1の領域106がブルー相として液晶層110に用いることができる温度範囲が拡大される程度まで重合性モノマーの重合が進行していることが好ましい。また、遮光体は、第2の光照射処理の終了後、除去すればよい。ブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層110には、例えば、ブルー相を示す液晶材料として、JC-1041XXチッソ株式会社製と4-シアノ-4’-ペンチルビフェニルの混合物を用いることができ、カイラル剤としては、ZLI-4572メルク株式会社製を用いることができ、重合性モノマーは、2-エチルヘキシルアクリレート、RM257メルク株式会社製、トリメチロールプロパントリアクリレートを用いることができ、光重合開始剤としては2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノンを用いることができる。第1の光照射処理及び第2の光照射処理に用いる光照射手段として、UVランプ等を用いることができる。さらに、シール材103として、紫外線硬化樹脂又は光及び熱併用硬化型樹脂を用いることにより、第2の光照射処理の際、第2の領域107の重合性モノマーを重合させるとともに、シール材103を硬化させることができる。以下、図4を参照して説明する。第1の光照射処理が終了し、遮光体111を除去した液晶層110の上面図及び断面図を、図4A1及びA2に示す。図4A1及び図4A2に示すように、液晶層110には、第1の領域106及び第2の領域107が形成されている。次に、第2の光照射処理を行うことにより、第1の領域106及び第2の領域107は、重合性モノマーの重合が行われるとともに、シール材103は硬化され、シール材123となる図4B1及びB2参照。なお、図4B1及びB2においては、第2の光照射処理を線状に加工された光を一方向に走査させながら照射して行う場合について示すが、本発明の一態様はこれに限定されない。液晶層110全面に対して光を照射して行ってもよい。なお、シール材103として、光及び熱併用硬化型樹脂を用いた場合には、第2の光照射処理の後、熱処理を行うことが好ましい。第2の領域107の重合性モノマーを重合させるとともに、シール材103を硬化させることができるため、液晶表示装置の作製工程の簡略化を図ることができる図4C1及びC2参照。また、第1の光照射処理及び第2の光照射処理において、光を線状に加工して照射する場合、線状の光照射領域は、複数の光源を線状に配列させて形成してもよいし、光源より照射された光を光学系で加工して形成してもよい。また、液晶層に照射する光照射領域の形状は、線状の他、矩形、円形、楕円形などを用いてもよい。また、光はランプ光源からのランプ光、レーザ光源からのレーザ光などを用いることができる。重合性モノマーの重合反応が生じる波長の光及びエネルギーを適宜選択すればよい。例えば、重合性モノマーとして紫外線光硬化樹脂UV硬化樹脂を用いる場合、光照射処理として紫外線光を照射すればよい。光照射処理手段及び液晶層を相対的に走査させながら光照射処理を行うことにより、大型基板の処理にも対応でき、均一で安定なブルー相を形成できる。また、図1乃至図4では図示しないが、偏光板、位相差板、反射防止膜などの光学フィルムなどは適宜設ける。例えば、偏光板及び位相差板による円偏光を用いてもよい。また、光源としてバックライト、サイドライトなどを用いてもよい。本明細書等において、液晶表示装置は光源の光を透過することによって表示を行う透過型の液晶表示装置又は半透過型の液晶表示装置の場合、少なくとも画素領域において光を透過させる必要がある。よって光が透過する画素領域に存在する第1の基板、第2の基板、他絶縁膜、導電膜などの薄膜はすべて可視光の波長領域の光に対して透光性とする。以上のように、安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置を作製することができる。実施の形態2本実施の形態では、実施の形態1において、大型の基板に複数の液晶表示装置を作製する例所謂多面取り、について図5及び図6を参照して説明する。従って、他は実施の形態1と同様に行うことができ、実施の形態1と同一部分又は同様な機能を有する部分、及び工程の繰り返しの説明は省略する。大型基板を用いて複数の液晶表示装置を作製する場合、その分断工程は、高分子安定化処理の前か、偏光板を設ける前に行うことができる。分断工程による液晶層への影響分断工程時にかかる力などによる液晶組成物の配向乱れなどを考慮すると、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせた後、高分子安定化処理の前が好ましい。図5に、複数の液晶層に対して、第1の光照射処理が行われている様子を示す。図5Aは液晶表示装置の平面図であり、図5Bは、図5Aにおける線V1-X1の断面図、図5Cは、図5Aにおける線V2-X2の断面図である。図5Aにおいて、固着接着された第1の基板200と第2の基板201との間には、4つの液晶層210a、210b、210c、210dが挟持され、それぞれシール材203a、203b、203c、203dで周囲を囲まれて配置されている。液晶層210a、210b、210c、210dは、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層である。図5Aは遮光体211を用い、かつ光204を矢印205の方向に走査して複数の液晶層210a、210b、210c、210dに選択的に重合性モノマーの重合を行う様子を示している。これにより、重合性モノマーの重合が行われた第1の領域206a、206b、206c、206dと、重合性モノマーの重合が行われていない第2の領域207a、207b、207c、207dを形成することができる。図5Bは、光204の走査方向である矢印205と平行な面における断面図である。液晶層210a、210cにおいて、遮光体211によって遮光されず、光204に照射された領域は重合反応が進み、第1の領域206a、206cが形成されている。一方、遮光体211に覆われ、光204が遮光される、又は光204が走査されていない領域は、光照射処理されず、第2の領域207a、207cが形成されている。液晶層210cにおいて、第1の領域206cとシール材203cとの間に第2の領域207cが形成され、同様に液晶層210aにおいて、第1の領域206aとシール材203aとの間に第2の領域207aが形成されている。図5Cは、光204の走査方向である矢印205と垂直な面における断面図である。液晶層210a、210bにおいて、遮光体211に遮光されず、光204が照射された領域は重合反応が進み、第1の領域206a、206bが形成されている。一方、遮光体211に覆われ、光204が遮光される領域は、光照射処理されず、第2の領域207a、207bが形成されている。液晶層210aにおいて、第1の領域206aとシール材203aとの間に第2の領域207aが形成され、同様に液晶層210bにおいて、第1の領域206bとシール材203bとの間に第2の領域207bが形成されている。このように、基板の辺方向に長く形成した線状の光204と遮光体211を組み合わせることで、一度に複数の液晶層を高分子安定化処理できるため、生産性を向上させることができる。また、大型基板であっても光照射手段と基板を相対的に走査して光照射処理を行うので、大型な露光装置などを用いないでよい。本実施の形態では、図5Cに示すように液晶層210a、210bにおいて第2の領域207a、207bを、遮光体211を用いて形成する例を示すが、光204の照射領域が第2の領域207a、207bまで及ばないように形状を制御して、第2の領域207a、207bを形成してもよい。図6に、複数の液晶層に対して、第2の光照射処理が行われている様子を示す。図6Aは液晶表示装置の平面図であり、図6Bは、図6Aにおける線V1-X1の断面図、図6Cは、図6Aにおける線V2-X2の断面図である。図6Bは、光204の走査方向である矢印205と平行な面における断面図である。液晶層210a、210cにおいて、光204が照射された領域は重合反応が進み、第2の領域209a、209c、及び第1の領域208a、208cが形成されている。第1の領域208a、208cは、第2の光照射処理によって、重合性モノマーの重合がより高められた領域であり、第2の領域209a、209cは、第2の光照射処理によって、重合が開始された領域である。また、図6Cは、光204の走査方向である矢印205と垂直な面における断面図である。液晶層210a、210bにおいて、光204が照射された領域は、重合反応が進み、第1の領域208a、208b、及び第2の領域209a、209bが形成される。第1の光照射処理及び第2の光照射処理において、線状に加工された光を一方向に走査させながら照射することにより、大型基板であっても均一に重合性モノマーを重合させることができる。これにより、複数の液晶表示装置を作製することができるため、生産性が向上する。なお、大型基板の場合、基板がたわんで反ってしまう場合がある。この場合、基板を縦置きとして、光を走査させれば均一な光照射処理を行うことができる。光照射処理手段及び液晶層を相対的に走査させながら光照射処理を行うため、大型基板の処理にも対応でき、均一で安定なブルー相を形成できる。以上のように、安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置を作製することができる。また、作製時の歩留まりも向上する。実施の形態3本実施の形態では、実施の形態1又は2において適用することのできる光照射方法の他の例を図7に示す。従って、他は実施の形態1又は2と同様に行うことができ、実施の形態1又は2と同一部分又は同様な機能を有する部分、及び工程の繰り返しの説明は省略する。なお、図7において遮光体を図示しないが、第1の光照射処理を行う場合には、遮光体を用いて行えばよい。図7A乃至Cに液晶層110に選択的に光照射処理を行う例を示す。図7Aで示すように、光照射処理は、照射手段を複数設けて、液晶層の片面のみでなく、両面第1の基板側からも第2の基板側からもから液晶層に照射してもよい。液晶層110は、第2の基板101側から照射される光104aと、第1の基板100側から照射される光104bによって光照射処理される。図7Aは光104a及び光104bは液晶層110において同領域を照射する例を示すが、異なる領域を照射してもよい。また、異なるエネルギーを与える複数の光を用い、複数の光のうち液晶層に与えるエネルギーが小さい光から先に液晶層に照射してもよい。図7Bにおいて、光104cと光104dとは与えるエネルギーが異なる光であり、光104dの方が光104cよりもエネルギーが小さい。光104dによって照射された領域112に対して光104cを照射し、第1の領域106を形成する。重合させる重合性モノマーを複数種用いる場合、このように照射する光のエネルギーやタイミングを制御すると重合の速度も制御することができ、より均一に安定化処理を行うことが可能となる。光照射処理は液晶層表面に対して斜めに照射してもよい。図7Cにおいて、液晶層110に照射される光104eは、液晶層110表面に対して斜めに入射しているため、照射領域に与えるエネルギーに差を有している。よって図7Bと同様に重合性モノマーの重合の速度を制御することができる。以上のように、光照射条件照射のタイミング、光のエネルギー、照射時間などを制御することで、より均一に液晶層に高分子安定化を行うことができる。第1の光照射処理及び第2の光照射処理は、図7A乃至Cに示す方法を適宜組み合わせて行うことができる。以上のように、第1の光照射処理及び第2の光照射処理を行うことによって、安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置を作製することができる。また、作製時の歩留まりも向上する。本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。実施の形態4本明細書に開示する発明は、パッシブマトリクス型の液晶表示装置でもアクティブマトリクス型の液晶表示装置にも適用することができる。薄膜トランジスタを作製し、該薄膜トランジスタを画素部、さらには駆動回路に用いて表示機能を有する液晶表示装置を作製することができる。また、薄膜トランジスタを含む駆動回路の一部または全体を、画素部と同じ基板上に一体形成し、システムオンパネルを形成することができる。液晶表示装置は表示素子として液晶素子液晶表示素子ともいうを含む。また、液晶表示装置は、表示素子が封止された状態にあるパネルと、該パネルにコントローラを含むIC等を実装した状態にあるモジュールとを含む。さらに、該液晶表示装置を作製する過程における、表示素子が完成する前の一形態に相当する素子基板に関し、該素子基板は、電流を表示素子に供給するための手段を複数の各画素に備える。素子基板は、具体的には、表示素子の画素電極のみが形成された状態であっても良いし、画素電極となる導電膜を成膜した後であって、エッチングして画素電極を形成する前の状態であっても良いし、あらゆる形態があてはまる。なお、本明細書中における液晶表示装置とは、画像表示デバイス、表示デバイス、もしくは光源照明装置含むを指す。また、コネクター、例えばFPCFlexibleprintedcircuitもしくはTABTapeAutomatedBondingテープもしくはTCPTapeCarrierPackageが取り付けられたモジュール、TABテープやTCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または表示素子にCOGChipOnGlass方式によりIC集積回路が直接実装されたモジュールも全て液晶表示装置に含むものとする。液晶表示装置の一形態に相当する液晶表示パネルの外観及び断面について、図8を用いて説明する。図8A1A2は、第1の基板4001上に形成された薄膜トランジスタ4010、4011、及び液晶素子4013を、第2の基板4006との間にシール材4005によって封止した、パネルの上面図であり、図8Bは、図8A1A2のM-Nにおける断面図に相当する。第1の基板4001上に設けられた画素部4002と、走査線駆動回路4004とを囲むようにして、シール材4005が設けられている。また画素部4002と、走査線駆動回路4004の上に第2の基板4006が設けられている。よって画素部4002と、走査線駆動回路4004とは、第1の基板4001とシール材4005と第2の基板4006とによって、液晶層4007と共に封止されている。また、図8A1は第1の基板4001上のシール材4005によって囲まれている領域とは異なる領域に、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜で形成された信号線駆動回路4003が実装されている。なお、図8A2は信号線駆動回路の一部を第1の基板4001上に設けられた薄膜トランジスタで形成する例であり、第1の基板4001上に信号線駆動回路4003bが形成され、かつ別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜で形成された信号線駆動回路4003aが実装されている。液晶層4007において、画素部4002は、高分子安定化処理として光照射処理を行うことにより、重合性モノマーの重合が行われた第1の領域4008図1に示す第1の領域108に相当であり、走査線駆動回路4004、信号線駆動回路4003bは、第2の領域4009図1に示す第2の領域109である。安定なブルー相が形成された第1の領域4008を表示領域とすることにより、表示品位が向上した液晶表示装置を提供することができる。また、シール材4005近傍の表示に寄与しない駆動回路上に形成される領域を第2の領域4009とするので、シール材近傍においてブルー相を示す液晶組成物の配向が乱れたとしても表示領域には影響しないため、好ましい。なお、別途形成した駆動回路の接続方法は、特に限定されるものではなく、COG方法、ワイヤボンディング方法、或いはTAB方法などを用いることができる。図8A1は、COG方法により信号線駆動回路4003を実装する例であり、図8A2は、TAB方法により信号線駆動回路4003aを実装する例である。また第1の基板4001上に設けられた画素部4002と、走査線駆動回路4004は、薄膜トランジスタを複数有しており、図8Bでは、画素部4002に含まれる薄膜トランジスタ4010と、走査線駆動回路4004に含まれる薄膜トランジスタ4011とを例示している。薄膜トランジスタ4010、4011上には絶縁層4020、層間膜4021が設けられている。薄膜トランジスタ4010、4011は、特に限定されず様々な薄膜トランジスタを適用することができる。本実施の形態では、薄膜トランジスタ4010、4011はnチャネル型薄膜トランジスタである。また、第1の基板4001側に画素電極層4030及び共通電極層4031が設けられ、画素電極層4030は、薄膜トランジスタ4010と電気的に接続されている。液晶素子4013は、画素電極層4030、共通電極層4031、及び液晶層4007を含む。なお、第1の基板4001、第2の基板4006の外側にはそれぞれ偏光板4032、4033が設けられている。ブルー相を示す液晶層を有する液晶表示装置において、基板に概略平行すなわち水平な方向な電界を生じさせて、基板と平行な面内でブルー相を示す液晶分子を動かして、階調を制御する方式を用いることができる。このような方式として、本実施の形態では、図8に示すようなIPSモードで用いる電極構成を適用する例である。なお、第1の基板4001、第2の基板4006としては、透光性を有するガラス、プラスチックなどを用いることができる。プラスチックとしては、FRPFiberglass-ReinforcedPlastics板、PVFポリビニルフルオライドフィルム、ポリエステルフィルムまたはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをPVFフィルムやポリエステルフィルムで挟んだ構造のシートを用いることもできる。また、4035は絶縁膜を選択的にエッチングすることで得られる柱状のスペーサであり、液晶層4007の膜厚セルギャップを制御するために設けられている。なお球状のスペーサを用いていても良い。なお、液晶層4007を用いる液晶表示装置は、液晶層4007の膜厚セルギャップを4μm以上20μm程度とすることが好ましい。なお図8は透過型液晶表示装置の例であるが、半透過型液晶表示装置でも適用できる。また、図8の液晶表示装置では、基板の外側視認側に偏光板を設ける例を示すが、偏光板は基板の内側に設けてもよい。偏光板の材料や作製工程条件によって適宜設定すればよい。また、ブラックマトリクスとして機能する遮光層を設けてもよい。層間膜4021は、有彩色の透光性樹脂層であり、カラーフィルタ層として機能する。また、層間膜4021の一部を遮光層としてもよい。図8においては、薄膜トランジスタ4010、4011上方を覆うように遮光層4034が第2の基板4006側に設けられている。遮光層4034は、高分子安定化処理である光照射処理において、第2の領域4009の遮光体として機能する他、さらに液晶表示装置のコントラスト向上や薄膜トランジスタの安定化の効果を高めることができる。第2の基板4006に遮光層4034を設ける場合、第1の光照射処理は第2の基板4006側から光を照射し、第2の光照射処理は第1の基板4001側から光を照射すればよい。薄膜トランジスタの保護膜として機能する絶縁層4020で覆う構成としてもよいが、特に限定されない。なお、保護膜は、大気中に浮遊する有機物や金属物、水蒸気などの汚染不純物の侵入を防ぐためのものであり、緻密な膜が好ましい。保護膜は、スパッタ法を用いて、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸化窒化アルミニウム膜、又は窒化酸化アルミニウム膜の単層、又は積層で形成すればよい。また、保護膜を形成した後に、半導体層に熱処理300°C~400°Cを行ってもよい。また、平坦化絶縁膜として透光性の絶縁層をさらに形成する場合、ポリイミド、アクリル、ベンゾシクロブテン、ポリアミド、エポキシ等の、耐熱性を有する有機材料を用いることができる。また上記有機材料の他に、低誘電率材料low-k材料、シロキサン系樹脂、PSGリンガラス、BPSGリンボロンガラス等を用いることができる。なお、これらの材料で形成される絶縁膜を複数積層させることで、絶縁層を形成してもよい。積層する絶縁層の形成法は、特に限定されず、その材料に応じて、スパッタ法、SOG法、スピンコート、ディップ、スプレー塗布、液滴吐出法インクジェット法、スクリーン印刷、オフセット印刷等、ドクターナイフ、ロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター等を用いることができる。絶縁層を材料液を用いて形成する場合、ベークする工程で同時に、半導体層に熱処理200°C~400°Cを行ってもよい。絶縁層の焼成工程と半導体層の熱処理を兼ねることで効率よく液晶表示装置を作製することが可能となる。液晶層4007に、電圧を印加する電極層画素電極層4030、共通電極層4031などにおいては、透光性を有する導電材料が好ましいが、電極層のパターンによっては、金属膜などの非透光性材料を用いてもよい。透光性を有する導電材料として、インジウム錫酸化物、酸化インジウムに酸化亜鉛ZnOを混合した導電材料、酸化インジウムに酸化珪素SiO2を混合した導電材料、有機インジウム、有機スズ、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物などが挙げられる。また、その他の導電材料として、タングステンW、モリブデンMo、ジルコニウムZr、ハフニウムHf、バナジウムV、ニオブNb、タンタルTa、クロムCr、コバルトCo、ニッケルNi、チタンTi、白金Pt、アルミニウムAl、銅Cu、銀Ag等の金属、又はその合金、若しくはその金属窒化物から一つ、又は複数種を用いることができる。また、電極層として、導電性高分子導電性ポリマーともいうを含む導電性組成物を用いて形成することができる。導電性組成物を用いて形成した画素電極は、シート抵抗が10000Ω/□以下、波長550nmにおける透光率が70以上であることが好ましい。また、導電性組成物に含まれる導電性高分子の抵抗率が0.1Ωcm以下であることが好ましい。導電性高分子としては、いわゆるπ電子共役系導電性高分子を用いることができる。例えば、ポリアニリンまたはその誘導体、ポリピロールまたはその誘導体、ポリチオフェンまたはその誘導体、若しくはこれらの2種以上の共重合体などがあげられる。また別途形成された信号線駆動回路4003と、走査線駆動回路4004または画素部4002に与えられる各種信号及び電位は、FPC4018から供給されている。また、薄膜トランジスタは静電気などにより破壊されやすいため、ゲート線またはソース線に対して、駆動回路保護用の保護回路を同一基板上に設けることが好ましい。保護回路は、非線形素子を用いて構成することが好ましい。図8では、接続端子電極4015が、画素電極層4030と同じ導電膜から形成され、端子電極4016は、薄膜トランジスタ4010、4011のソース電極層及びドレイン電極層と同じ導電膜で形成されている。接続端子電極4015は、FPC4018が有する端子と、異方性導電膜4019を介して電気的に接続されている。また、図8A1においては、信号線駆動回路4003を別途形成し、基板4001に実装している例を示し、また、図8A2においては、信号線駆動回路4003aを別途形成し、FPC4018に実装している例を示しているが、この構成に限定されない。走査線駆動回路を別途形成して実装しても良いし、信号線駆動回路の一部または走査線駆動回路の一部のみを別途形成して実装しても良い。図9は、本明細書に開示する液晶表示装置として液晶表示モジュールを構成する一例を示している。図9は液晶表示モジュールの一例であり、素子基板2600と対向基板2601がシール材2602により固着され、その間にTFT等を含む素子層2603、液晶層を含む表示素子2604、カラーフィルタとして機能する着色層2605、偏光板2606が設けられ表示領域に形成している有彩色の透光性樹脂層である着色層2605はカラー表示を行う場合に必要であり、RGB方式の場合は、赤、緑、青の各色に対応した着色層が各画素に対応して設けられている。素子基板2600と対向基板2601の外側には偏光板2606、偏光板2607、拡散板2613が配設されている。光源は冷陰極管2610と反射板2611により構成され、回路基板2612は、フレキシブル配線基板2609により素子基板2600の配線回路部2608と接続され、コントロール回路や電源回路などの外部回路が組みこまれている。また、光源として、白色のダイオードを用いてもよい。また偏光板と、液晶層との間に位相差板を有した状態で積層してもよい。以上の工程により、液晶表示装置として信頼性の高い液晶表示パネルを作製することができる。本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。実施の形態5本明細書で開示する液晶表示装置が有する薄膜トランジスタの半導体層に用いられる半導体材料は特に限定されない。薄膜トランジスタの半導体層に用いることのできる材料の例を説明する。半導体素子が有する半導体層を形成する材料は、シランやゲルマンに代表される半導体材料ガスを用いて気相成長法やスパッタリング法で作製される非晶質アモルファス、以下ASともいう。半導体、該非晶質半導体を光エネルギーや熱エネルギーを利用して結晶化させた多結晶半導体、或いは微結晶セミアモルファス若しくはマイクロクリスタルとも呼ばれる。以下SASともいう。半導体などを用いることができる。半導体層はスパッタ法、LPCVD法、またはプラズマCVD法等により成膜することができる。微結晶半導体膜は、ギブスの自由エネルギーを考慮すれば非晶質と単結晶の中間的な準安定状態に属するものである。すなわち、自由エネルギー的に安定な第3の状態を有する半導体であって、短距離秩序を持ち格子歪みを有する。柱状または針状結晶が基板表面に対して法線方向に成長している。微結晶半導体の代表例である微結晶シリコンは、そのラマンスペクトルが単結晶シリコンを示す520cm-1よりも低波数側に、シフトしている。即ち、単結晶シリコンを示す520cm-1とアモルファスシリコンを示す480cm-1の間に微結晶シリコンのラマンスペクトルのピークがある。また、未結合手ダングリングボンドを終端するため水素またはハロゲンを少なくとも1原子またはそれ以上含ませている。さらに、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンなどの希ガス元素を含ませて格子歪みをさらに助長させることで、安定性が増し良好な微結晶半導体膜が得られる。この微結晶半導体膜は、周波数が数十MHz~数百MHzの高周波プラズマCVD法、または周波数が1GHz以上のマイクロ波プラズマCVD装置により形成することができる。代表的には、SiH4、Si2H6、SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4、SiF4などの水素化珪素を水素で希釈して形成することができる。また、水素化珪素及び水素に加え、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンから選ばれた一種または複数種の希ガス元素で希釈して微結晶半導体膜を形成することができる。これらのときの水素化珪素に対して水素の流量比を5倍以上200倍以下、好ましくは50倍以上150倍以下、更に好ましくは100倍とする。アモルファス半導体としては、代表的には水素化アモルファスシリコン、結晶性半導体としては代表的にはポリシリコンなどがあげられる。ポリシリコン多結晶シリコンには、800°C以上のプロセス温度を経て形成されるポリシリコンを主材料として用いた所謂高温ポリシリコンや、600°C以下のプロセス温度で形成されるポリシリコンを主材料として用いた所謂低温ポリシリコン、また結晶化を促進する元素などを用いて、非晶質シリコンを結晶化させたポリシリコンなどを含んでいる。もちろん、前述したように、微結晶半導体又は半導体層の一部に結晶相を含む半導体を用いることもできる。また、半導体の材料としてはシリコンSi、ゲルマニウムGeなどの単体のほかGaAs、InP、SiC、ZnSe、GaN、SiGeなどのような化合物半導体も用いることができる。半導体層に、結晶性半導体膜を用いる場合、その結晶性半導体膜の作製方法は、種々の方法レーザ結晶化法、熱結晶化法、またはニッケルなどの結晶化を助長する元素を用いた熱結晶化法等を用いれば良い。また、SASである微結晶半導体をレーザ照射して結晶化し、結晶性を高めることもできる。結晶化を助長する元素を導入しない場合は、非晶質珪素膜にレーザ光を照射する前に、窒素雰囲気下500°Cで1時間加熱することによって非晶質珪素膜の含有水素濃度を1×1020atoms/cm3以下にまで放出させる。これは水素を多く含んだ非晶質珪素膜にレーザ光を照射すると非晶質珪素膜が破壊されてしまうからである。非晶質半導体層への金属元素の導入の仕方としては、当該金属元素を非晶質半導体膜の表面又はその内部に存在させ得る手法であれば特に限定はなく、例えばスパッタ法、CVD法、プラズマ処理法プラズマCVD法も含む、吸着法、金属塩の溶液を塗布する方法を使用することができる。このうち溶液を用いる方法は簡便であり、金属元素の濃度調整が容易であるという点で有用である。また、このとき非晶質半導体膜の表面の濡れ性を改善し、非晶質半導体膜の表面全体に水溶液を行き渡らせるため、酸素雰囲気中でのUV光の照射、熱酸化法、ヒドロキシラジカルを含むオゾン水又は過酸化水素による処理等により、酸化膜を成膜することが望ましい。また、非晶質半導体膜を結晶化し、結晶性半導体膜を形成する結晶化工程で、非晶質半導体膜に結晶化を促進する元素触媒元素、金属元素とも示すを添加し、熱処理550°C~750°Cで3分~24時間により結晶化を行ってもよい。結晶化を助長促進する元素としては、鉄Fe、ニッケルNi、コバルトCo、ルテニウムRu、ロジウムRh、パラジウムPd、オスミウムOs、イリジウムIr、白金Pt、銅Cu及び金Auから選ばれた一種又は複数種類を用いることができる。結晶化を助長する元素を結晶性半導体膜から除去、又は軽減するため、結晶性半導体膜に接して、不純物元素を含む半導体膜を形成し、ゲッタリングシンクとして機能させる。不純物元素としては、n型を付与する不純物元素、p型を付与する不純物元素や希ガス元素などを用いることができ、例えばリンP、窒素N、ヒ素As、アンチモンSb、ビスマスBi、ボロンB、ヘリウムHe、ネオンNe、アルゴンAr、クリプトンKr、キセノンXeから選ばれた一種または複数種を用いることができる。結晶化を促進する元素を含む結晶性半導体膜に、希ガス元素を含む半導体膜を形成し、熱処理550°C~750°Cで3分~24時間を行う。結晶性半導体膜中に含まれる結晶化を促進する元素は、希ガス元素を含む半導体膜中に移動し、結晶性半導体膜中の結晶化を促進する元素は除去、又は軽減される。その後、ゲッタリングシンクとなった希ガス元素を含む半導体膜を除去する。非晶質半導体膜の結晶化は、熱処理とレーザ光照射による結晶化を組み合わせてもよく、熱処理やレーザ光照射を単独で、複数回行っても良い。また、結晶性半導体膜を、直接基板にプラズマ法により形成しても良い。また、プラズマ法を用いて、結晶性半導体膜を選択的に基板に形成してもよい。また半導体層に、酸化物半導体を用いてもよい。例えば、酸化亜鉛ZnO、酸化スズSnO2なども用いることができる。ZnOを半導体層に用いる場合、ゲート絶縁層をY2O3、Al2O3、TiO2、それらの積層などを用い、ゲート電極層、ソース電極層、ドレイン電極層としては、ITO、Au、Tiなどを用いることができる。また、ZnOにInやGaなどを添加することもできる。酸化物半導体としてInMO3ZnOmm>0で表記される薄膜を用いることができる。なお、Mは、ガリウムGa、鉄Fe、ニッケルNi、マンガンMn及びコバルトCoから選ばれた一の金属元素又は複数の金属元素を示す。例えばMとして、Gaの場合があることの他、GaとNi又はGaとFeなど、Ga以外の上記金属元素が含まれる場合がある。また、上記酸化物半導体において、Mとして含まれる金属元素の他に、不純物元素としてFe、Niその他の遷移金属元素、又は該遷移金属の酸化物が含まれているものがある。例えば、酸化物半導体層としてIn-Ga-Zn-O系非単結晶膜を用いることができる。酸化物半導体層InMO3ZnOmm>0膜としてIn-Ga-Zn-O系非単結晶膜のかわりに、Mを他の金属元素とするInMO3ZnOmm>0膜を用いてもよい。本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。実施の形態6本明細書に開示する液晶表示装置は、さまざまな電子機器遊技機も含むに適用することができる。電子機器としては、例えば、テレビジョン装置テレビ、またはテレビジョン受信機ともいう、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機携帯電話、携帯電話装置ともいう、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。図10Aは電子書籍E-bookともいうであり、筐体9630、表示部9631、操作キー9632、太陽電池9633、充放電制御回路9634を有することができる。図10Aに示した電子書籍は、様々な情報静止画、動画、テキスト画像などを表示する機能、カレンダー、日付又は時刻などを表示部に表示する機能、表示部に表示した情報を操作又は編集する機能、様々なソフトウェアプログラムによって処理を制御する機能、等を有することができる。なお。図10Aでは充放電制御回路9634の一例としてバッテリー9635、DCDCコンバータ以下、コンバータと略記9636を有する構成について示している。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部9631に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高い電子書籍とすることができる。図10Aに示す構成とすることにより、表示部9631として半透過型、又は反射型の液晶表示装置を用いる場合、比較的明るい状況下での使用も予想され、太陽電池9633による発電、及びバッテリー9635での充電を効率よく行うことができ、好適である。なお太陽電池9633は、筐体9630の空きスペース表面や裏面に適宜設けることができるため、効率的なバッテリー9635の充電を行う構成とすることができるため好適である。なおバッテリー9635としては、リチウムイオン電池を用いると、小型化を図れる等の利点がある。また図10Aに示す充放電制御回路9634の構成、及び動作について図10Bにブロック図を示し説明する。図10Bには、太陽電池9633、バッテリー9635、コンバータ9636、コンバータ9637、スイッチSW1乃至SW3、表示部9631について示しており、バッテリー9635、コンバータ9636、コンバータ9637、スイッチSW1乃至SW3が充放電制御回路9634に対応する箇所となる。まず外光により太陽電池9633により発電がされる場合の動作の例について説明する。太陽電池で発電した電力は、バッテリー9635を充電するための電圧となるようコンバータ9636で昇圧または降圧がなされる。そして、表示部9631の動作に太陽電池9633からの電力が用いられる際にはスイッチSW1をオンにし、コンバータ9637で表示部9631に必要な電圧に昇圧または降圧をすることとなる。また、表示部9631での表示を行わない際には、SW1をオフにし、SW2をオンにしてバッテリー9635の充電を行う構成とすればよい。次いで外光により太陽電池9633により発電がされない場合の動作の例について説明する。バッテリー9635に蓄電された電力は、スイッチSW3をオンにすることでコンバータ9637により昇圧または降圧がなされる。そして、表示部9631の動作にバッテリー9635からの電力が用いられることとなる。なお太陽電池9633については、充電手段の一例として示したが、他の手段によるバッテリー9635の充電を行う構成であってもよい。また他の充電手段を組み合わせて行う構成としてもよい。図11Aは、ノート型のパーソナルコンピュータであり、本体3001、筐体3002、表示部3003、キーボード3004などによって構成されている。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部3003に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高いノート型のパーソナルコンピュータとすることができる。図11Bは、携帯情報端末PDAであり、本体3021には表示部3023と、外部インターフェイス3025と、操作ボタン3024等が設けられている。また操作用の付属品としてスタイラス3022がある。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部3023に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高い携帯情報端末PDAとすることができる。図11Cは、電子書籍であり、筐体2701および筐体2703の2つの筐体で構成されている。筐体2701および筐体2703は、軸部2711により一体とされており、該軸部2711を軸として開閉動作を行うことができる。このような構成により、紙の書籍のような動作を行うことが可能となる。筐体2701には表示部2705が組み込まれ、筐体2703には表示部2707が組み込まれている。表示部2705および表示部2707は、続き画面を表示する構成としてもよいし、異なる画面を表示する構成としてもよい。異なる画面を表示する構成とすることで、例えば右側の表示部図11Cでは表示部2705に文章を表示し、左側の表示部図11Cでは表示部2707に画像を表示することができる。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部2705、表示部2707に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高い電子書籍とすることができる。また、図11Cでは、筐体2701に操作部などを備えた例を示している。例えば、筐体2701において、電源2721、操作キー2723、スピーカー2725などを備えている。操作キー2723により、頁を送ることができる。なお、筐体の表示部と同一面にキーボードやポインティングデバイスなどを備える構成としてもよい。また、筐体の裏面や側面に、外部接続用端子イヤホン端子、USB端子など、記録媒体挿入部などを備える構成としてもよい。さらに、電子書籍は、電子辞書としての機能を持たせた構成としてもよい。また、電子書籍は、無線で情報を送受信できる構成としてもよい。無線により、電子書籍サーバから、所望の書籍データなどを購入し、ダウンロードする構成とすることも可能である。図11Dは、携帯電話であり、筐体2800及び筐体2801の二つの筐体で構成されている。筐体2801には、表示パネル2802、スピーカー2803、マイクロフォン2804、ポインティングデバイス2806、カメラ用レンズ2807、外部接続端子2808などを備えている。また、筐体2800には、携帯型情報端末の充電を行う太陽電池セル2810、外部メモリスロット2811などを備えている。また、アンテナは筐体2801内部に内蔵されている。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示パネル2802に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高い携帯電話とすることができる。また、表示パネル2802はタッチパネルを備えており、図11Dには映像表示されている複数の操作キー2805を点線で示している。なお、太陽電池セル2810で出力される電圧を各回路に必要な電圧に昇圧するための昇圧回路も実装している。表示パネル2802は、使用形態に応じて表示の方向が適宜変化する。また、表示パネル2802と同一面上にカメラ用レンズ2807を備えているため、テレビ電話が可能である。スピーカー2803及びマイクロフォン2804は音声通話に限らず、テレビ電話、録音、再生などが可能である。さらに、筐体2800と筐体2801は、スライドし、図11Dのように展開している状態から重なり合った状態とすることができ、携帯に適した小型化が可能である。外部接続端子2808はACアダプタ及びUSBケーブルなどの各種ケーブルと接続可能であり、充電及びパーソナルコンピュータなどとのデータ通信が可能である。また、外部メモリスロット2811に記録媒体を挿入し、より大量のデータ保存及び移動に対応できる。また、上記機能に加えて、赤外線通信機能、テレビ受信機能などを備えたものであってもよい。図11Eは、デジタルビデオカメラであり、本体3051、表示部A3057、接眼部3053、操作スイッチ3054、表示部B3055、バッテリー3056などによって構成されている。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部A3057、表示部B3055に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高いデジタルビデオカメラとすることができる。図11Fは、テレビジョン装置であり、筐体9601に表示部9603などによって構成されている。表示部9603により、映像を表示することが可能である。また、ここでは、スタンド9605により筐体9601を支持した構成を示している。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部9603に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高いテレビジョン装置とすることができる。テレビジョン装置の操作は、筐体9601が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機により行うことができる。また、リモコン操作機に、当該リモコン操作機から出力する情報を表示する表示部を設ける構成としてもよい。なお、テレビジョン装置は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線または無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向送信者から受信者または双方向送信者と受信者間、あるいは受信者間同士などの情報通信を行うことも可能である。本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。本実施例では、本発明の一態様に係る液晶表示装置の作製方法によって、液晶表示装置を作製した場合について説明する。まず、本実施例試料1の作製方法について説明する。まず、5インチのガラス基板500コーニング社製:EAGLEXG上に、直径4μmのスペーサを散布した後、光及び熱併用硬化型のシール材503を形成した図12A参照。光及び熱併用硬化型のシール材503は、縦4cm×横3cmの長方形状に形成した。光及び熱併用硬化型のシール材503としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、紫外線重合開始剤、熱硬化剤及びカップリング剤を有し、粘度が300Pasec25°Cの樹脂を用いて形成した。次に、ガラス基板500上のシール材503の内側に液晶材料512を滴下した図12B参照。液晶材料512として、ブルー相を示す液晶材料を84.9wt、カイラル剤を6.9wt、重合性モノマーとしてメタクリル酸ドデシルDMeAc略称東京化成工業株式会社製を4.0wt、及びRM257メルク株式会社製を4.0wt、重合開始剤としてDMPAP略称東京化成工業株式会社製を0.2wt用いた。この際、液晶材料512の温度を等方相である70°Cとし、シール材503の内側に約14mgの量の液晶材料を滴下した。次に、ガラス基板500にガラス基板501コーニング社製:EAGLEXGを貼り合わせた。ここでは、ガラス基板501をチャンバー内の上側に静電チャックで固定し、液晶材料512が滴下されたガラス基板500をチャンバー内の下側に設置した後、チャンバー内を100Paまで減圧してガラス基板500とガラス基板501を貼り合わせた。その後、チャンバーを大気開放した。この時点で、ガラス基板500とガラス基板501の間隔は4μm程度であり、液晶材料512がシール材503内の9割程度まで広がり、液晶層510が形成された図12C参照。次に、シール材503及びシール材503近傍の液晶層510を覆うように、遮光性を有する遮光体511を設けた図12D参照。次に、液晶層510を70°Cまで加熱し、液晶層510をシール材503内全面に広げた後、50°Cから-1°C/minで降温させ、等方相からブルー相へ相転移して、ブルー相が全面に広がった36°Cで温度を保持して、第1の光照射処理として、365nmを主波長とする紫外線1.5mW/cm2を30分照射した。図12E参照。また、第1の光照射処理によって、液晶層510において、重合性モノマーが重合した領域として第1の領域506が形成され、遮光体511によって覆われていた第2の領域507が形成された。次に、遮光体511を除去し、シール材503及び液晶層510全域に、第2の光照射処理として、365nmを主波長とする紫外線1.5mW/cm2を30分照射した。第2の光照射処理によって、第1の領域506は重合性が高められた第1の領域508となり、第2の領域507は、重合性モノマーが重合した第2の領域509となった。また、シール材503は、光が照射されたことによって硬化した。次に、熱処理を行うことにより、光及び熱併用硬化型のシール材503の本硬化を行った。その結果、本硬化したシール材523が得られた。その後、ガラス基板500とガラス基板501を分断し、分断したパネルにFPC等を設けることにより液晶表示装置実施例試料1を作製した。次に、比較例試料1の作製方法について説明する。比較例試料1は、図12Dにおいて、遮光体511を用いず、シール材503及び液晶層510全域に、光照射処理として、365nmを主波長とする紫外線1.5mW/cm2を30分照射し、2回目の光照射処理を行わなかったこと以外は、実施例試料1と同様に作製した。図13は、FPC貼り付け直後の外観写真である。図13Aは実施例試料1の外観写真であり、図13Bは比較例試料1の外観写真である。図13Bに示すように、シール材503及び液晶層510全域に一度だけ光照射処理を行った比較例試料1は、液晶層全体に液晶組成物の配向乱れに起因する表示欠陥が確認された。これに対し、図13Aに示すように、2段階の光照射処理を行った実施例試料1は、液晶組成物の配向乱れに起因する表示欠陥は確認されなかった。以上により、本発明の一態様に係る作製方法を用いることで、表示品位が向上し、信頼性の向上した液晶表示装置が作製できることが示された。"