"本体を備え、前記本体に収容した触媒に気流を接触させることによって、触媒表面にある触媒表面体を触媒から除去する装置であって、前記気流が流れる方向における気流長さが55mm以上であり、かつ、前記気流の平均流速が、摂氏15°C、1気圧における線速として換算した場合に80m/s以上500m/s以下である、触媒表面体除去装置。前記本体内に前記気流の流通口を有し、前記流通口における気流の流速um/s、前記流通口を通過した前記気流が形成する体積Vm3、前記本体内の前記流通口数K、及び前記本体内に収容される前記触媒の質量Mkgから算出される触媒質量当たりのエネルギー換算値u2×V×K/Mが下記式114<u2×V×K/M<1001を満たす、請求項1記載の装置。請求項1又は2記載の装置であって、前記本体の上部に設けられた前記触媒の回収手段と、前記回収手段に接続された前記触媒の戻し手段と、を有し、前記戻し手段は、その下端が前記気流に接触するように設けられており、前記本体内で前記気流に接触した前記触媒の一部が前記回収手段によって回収され、前記戻し手段によって前記本体内に戻される装置。前記触媒から除去された触媒表面体が捕集される手段をさらに有する、請求項3記載の装置。前記回収手段は、遠心力によって前記触媒と前記触媒表面体とを分離する手段を含む、請求項1~4のいずれか1項記載の装置。前記気流が複数方向に噴出するように設計された、請求項1~5のいずれか1項記載の装置。触媒に気流を接触させることによって触媒表面体を触媒から除去する方法であって、前記触媒表面体を有する触媒に、気流が流れる方向における気流長さが55mm以上であり、かつ、平均流速が、摂氏15°C、1気圧における線速として換算した場合に80m/s以上500m/s以下である気流を接触させる工程を含む方法。前記触媒は前記気流の流通口を有する本体内に収容されており、前記流通口における気流の流速um/s、前記流通口を通過した前記気流が形成する体積Vm3、前記本体内の前記流通口数K、及び前記本体内に収容される前記触媒の質量Mkgから算出される触媒質量当たりのエネルギー換算値u2×V×K/Mが下記式114<u2×V×K/M<1001を満たす、請求項7記載の方法。請求項1~6のいずれか1項記載の装置を用いて前記触媒から前記触媒表面体を除去し、前記触媒表面体が除去された触媒を用いて、アルカン及び/又はアルケンを酸化反応又はアンモ酸化反応させることにより対応する不飽和酸又は不飽和ニトリルを製造する方法。特許文献1に記載されているように、触媒表面に滲出及び/又は付着した物がある場合には触媒の流動性が悪化するので、流動床反応に先立ってこれらを触媒表面から除去しておくことが望ましい。しかしながら、特許文献1に記載された方法によって触媒表面に滲出及び/又は付着した物を除去する場合、研究で使用するレベルの少量の触媒であれば問題なく処理しうるが、工業的に使用する量の触媒を処理するには非効率的である。上記事情に鑑み、本発明の目的は、触媒表面に滲出及び/又は付着した物触媒表面体を触媒から効率よく除去する装置を提供することである。本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、気流が流れる方向における気流長さ及び平均流速が特定範囲に調整された気流を触媒に接触させる装置を用いることで、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明は以下のとおりである。[1]本体を備え、前記本体に収容した触媒に気流を接触させることによって、触媒表面にある触媒表面体を触媒から除去する装置であって、前記気流が流れる方向における気流長さが55mm以上であり、かつ、前記気流の平均流速が、摂氏15°C、1気圧における線速として換算した場合に80m/s以上500m/s以下である、触媒表面体除去装置。[2]前記本体内に前記気流の流通口を有し、前記流通口における気流の流速um/s、前記流通口を通過した前記気流が形成する体積Vm3、前記本体内の前記流通口数K、及び前記本体内に収容される前記触媒の質量Mkgから算出される触媒質量当たりのエネルギー換算値u2×V×K/Mが下記式114<u2×V×K/M<1001を満たす、上記[1]記載の装置。[3]上記[1]又は[2]記載の装置であって、前記本体の上部に設けられた前記触媒の回収手段と、前記回収手段に接続された前記触媒の戻し手段と、を有し、前記戻し手段は、その下端が前記気流に接触するように設けられており、前記本体内で前記気流に接触した前記触媒の一部が前記回収手段によって回収され、前記戻し手段によって前記本体内に戻される装置。[4]前記触媒から除去された触媒表面体が捕集される手段をさらに有する、上記[3]記載の装置。[5]前記回収手段は、遠心力によって前記触媒と前記触媒表面体とを分離する手段を含む、上記[1]~[4]のいずれか記載の装置。[6]前記気流が複数方向に噴出するように設計された、上記[1]~[5]のいずれか記載の装置。[7]触媒に気流を接触させることによって触媒表面体を触媒から除去する方法であって、前記触媒表面体を有する触媒に、気流が流れる方向における気流長さが55mm以上であり、かつ、平均流速が、摂氏15°C、1気圧における線速として換算した場合に80m/s以上500m/s以下である気流を接触させる工程を含む方法。[8]前記触媒は前記気流の流通口を有する本体内に収容されており、前記流通口における気流の流速um/s、前記流通口を通過した前記気流が形成する体積Vm3、前記本体内の前記流通口数K、及び前記本体内に収容される前記触媒の質量Mkgから算出される触媒質量当たりのエネルギー換算値u2×V×K/Mが下記式114<u2×V×K/M<1001を満たす、上記[7]記載の方法。[9]上記[1]~[6]のいずれか記載の装置を用いて前記触媒から前記触媒表面体を除去し、前記触媒表面体が除去された触媒を用いて、アルカン及び/又はアルケンを酸化反応又はアンモ酸化反応させることにより対応する不飽和酸又は不飽和ニトリルを製造する方法。本発明によれば、触媒表面に滲出及び/又は付着した触媒表面体を効率的に触媒から除去できる。以下、本発明を実施するための形態以下、本実施形態という。について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。必要に応じて、図面を用いて本実施形態を説明するが、図面は模式的なものである。したがって、具体的な寸法等は以下の説明を照らし合わせて判断するべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。さらに、各図面において共通する部材の説明は省略する場合がある。本実施形態の触媒表面体除去装置は、本体を備え、前記本体に収容した触媒に気流を接触させることによって、触媒表面にある触媒表面体を触媒から除去する装置であって、気流が流れる方向における気流長さが55mm以上であり、かつ、気流の平均流速が、摂氏15°C、1気圧における線速に換算した場合に80m/s以上500m/s以下である。本実施形態における触媒表面体とは、触媒表面に滲出及び/又は付着した物を示し、触媒の表面から突出したり、付着したりした物をいう。酸化物からなる流動床触媒の場合、触媒表面体の多くは突出した酸化物の結晶やその他の不純物である。特に、複数の金属を含む酸化物触媒の場合、触媒の大部分を形成する結晶とは組成の異なる酸化物が、触媒本体部から滲出したような形状で形成されることがある。この場合、触媒表面体は、概略球体の流動床触媒例えば、直径30~150μmの表面に複数の突起のような形例えば、高さ0.1μm~20μmで形成されることが多い。流動床反応に用いる触媒が触媒表面体を有していたり、触媒から剥がれた触媒表面体と触媒とが混在したりしている場合、触媒の流動性が悪化し易い。触媒の流動性が悪化すると、それに伴って反応器内での触媒の偏在化が起き、その結果として除熱効率が低下し、蓄熱されて異常反応が発生する、若しくは反応によっては目的生成物の分解反応が促進される可能性もある。また触媒表面体は、反応器内での触媒同士の相互接触等で一部が剥離し、反応器内部から系外に排出された場合には、次の工程へ混入し、その工程の負荷が増加することが考えられる。従って、流動床反応器中には、触媒と触媒表面体とが混在していないことが好ましい。図1は本実施形態の触媒表面体除去装置の一例を概略的に示したものである。図1に示す装置は、本体1と本体1の側面を貫通する気体導入管2と、本体1の上面に設けられ、サイクロン4に接続された出口配管3とを有する。本体1は概略円柱状であって、下部は逆向きの円錐状になっている。本体1には触媒が収容されるが、収容される触媒の量は、触媒表面体を効率よく除去する観点から、静止した状態で本体1内の気体導入管2の垂直方向に最も高い位置に存在する気体導入口が浸かるまで入れることが好ましい。本体1に大量の触媒を収容してもよいが、その場合はサイクロン等の分離装置の分離能を考慮する必要がある。気体導入管2は本体1の半分程度の高さで水平に導入されており、図2に示すように、本体1の中央付近で分岐され、さらに下垂した分岐鎖21となっている。図1に示す例では、気体導入管2の複数の分岐鎖21は垂直方向下向きに設けられているが、分岐鎖21の方向はこれに限定されず、上向きでもよいし、上下両方の向きでもよいし、水平方向でもよい。図1の部分拡大図に示すように、それぞれの分岐鎖21は複数のノズル210を有しており、気体導入管2を通じて供給された気体は、各ノズル210から噴出する。なお分岐鎖21の構造はノズル210を有するものに限定されず、図3aに示すように、分岐鎖21に複数の開口部211を有していてもよいし、図3bに示すように分岐鎖21に垂直な再分岐部22が設けられており、再分岐部22が複数の開口部220を有していてもよい。円錐状の本体下部には、複数の下部気体導入ノズル6が嵌められている。図1に示す例では、気体導入ノズル6はL字型であって、本体に垂直に導入された後、斜め下方向に開口しているので、本体内に溜まった触媒は、ノズル6から導入された気体によって本体1の下に向かって流される。本体1の下端は開口しており、第二の気体導入管7に接続されているので、気体導入ノズル6から供給された気体によって下端に集められた触媒は、第二の気体導入管7から供給された気体によって本体1内で流動する。気体導入ノズル先端部61の形状はL字型に限定されず、I型であってもよいし、本体1の内面から突出したノズルがなく壁面が開口した状態であってもよい。またL字型ノズルの場合も、下向きに開口している必要は無く、他の第二の気体導入管7から供給される気体の向きとの相関や、本体1の形状等によって上向き横向き等、適宜設定することができる。出口配管3の一端は、本体1の上面中央部に取り付けられており、他端はサイクロン4に接続されている。サイクロン4は、触媒と、触媒から外れた触媒表面体とを遠心力によって分離する。比較的大きい触媒はサイクロンの下端から戻り配管5を通って本体1に戻り、一方、触媒表面体は軽いのでサイクロンの上面に開口した排出ライン8を通って除去される。排出ライン8の先にはフィルター図示されていないが設けられていて、排出された触媒表面体を捕捉するようになっていることが好ましい。図4に示す装置は、本体1の下端に触媒循環ライン71が設けられていること以外は図1に示す例と同じである。循環ライン71の他方の端部は本体1の側面で開口しているので、循環ライン71に流入した触媒はライン71にニューマー等を設けることによって気体搬送され本体1内部に戻される。図5に示す装置は、第一のサイクロン4の出口配管41に第二のサイクロン42が接続されていること以外は図1に示す装置と同じである。第一のサイクロン4、第二のサイクロン42の下端に設けられた戻り配管51,52は、それぞれ本体1の側面に接続され、回収された触媒が本体1に戻される。図6に示す装置は、本体1が外管11と内管12からなる二重構造であって、外管11と内管12の間に気体導入管2から気体が導入されるようになっていること以外は図1に示す装置とほぼ同じであるので、相違点のみ次に説明する。内管12は複数の開口部13を有しており、外管11と内管12の間に供給された気体は開口部13から本体1内に噴出される。内管12は出口配管3及び戻り配管5に開口しているが、外管11はこれらに接続されていないので、触媒は外管11と内管12の間には入らず、出口配管3を通ってサイクロン4に入り、戻り配管5から本体1に戻される。また第二の気体導入管7も内管12に対してのみ開口しており、触媒が本体1の底に溜まらないように、気体導入管7から適当量の気体を供給することができる。なお、図6に示す例には、複数の分岐鎖21を有する気体導入管2が設けられていないが、二重構造の本体1を有する場合も図1に示すような分岐鎖21を有する気体導入管2を設けてもよい。図7に示す装置は、出口配管3及び戻り配管5が二重構造を有していること以外図1に示す例とほぼ同じであるので相違点のみ説明する。出口配管3は外管31及び内管32とからなり、これらの間にノズル33から気体が供給され、戻り配管5は外管53及び内管54とからなり、これらの間にノズル55から気体が供給される。この図7に示す装置を図6に示す装置と組み合わせて用いてもよい。ガスと触媒表面体との接触効率を高める観点から、単位触媒当たりの気流流通口の数は多いほうが好ましい。気流流通口は、触媒を収容し、気流と接触させるための本体の壁面に直接穴を開けることによって設けてもよいし、本体内部に配管、パイプ等を通してその配管、パイプ等に穴を開けることで流通口を設けても構わない。しかし、気流同士が接触する場合には触媒同士も接触し、触媒が割れたり欠けたりする可能性があることから気流同士が交差しないように設計することが好ましい。触媒が割れたり、配管や本体が磨耗したりすることを防止する観点から、気流が直接パイプや本体の壁等に接触しないことが好ましい。ここで、気流流通口とは、気流が流れる方向における気流長さが55mm以上であり、かつ、気流の平均流速が、摂氏15°C、1気圧における線速として80.0m/s以上500m/s以下の状態で、気流が本体内部に入る穴のことを示し、例えば、図1中の210、図3中の211、220、図6中の13、図7中の32、54等のことを言う。気流の長さと線速にはある程度相関があるが、気流長さが主に触媒に速度を与える領域の広さに影響するのに対し、線速はその領域内で気流が触媒表面体をせん断できるか否かに影響する。本発明者らの検討によると、触媒表面体の除去には、触媒を流動させて触媒同士を接触させることによって触媒表面体を除去する作用のほか、触媒に接触した気流によって触媒表面体を切除する作用が関与する。従って、この観点からは、触媒に速度を与えて流動させることは触媒表面体の除去工程において必須とは言えないが、気流流通口が本体内に固定された状態である場合、触媒を流動させることにより気流流通口の近傍に位置する触媒が移動し、気流に接触する触媒が入れ替わることによって、気流流通口の近傍における触媒表面体の切除が効果的に行われることになり、気流流通口の付近に局在している触媒のみならず、本体内に収容された触媒全体について効率的に触媒表面体を除去することが可能になる。本実施形態においては、気流長さを55mm以上にすることによって、気流から速度を付与されて流動する触媒の数を確保し、触媒の除去が効率的に進むようにする。また、線速を80m/s以上にすることによって、触媒の流動化による触媒同士の接触による触媒表面体の除去に加えて、気流と触媒の接触による触媒表面体のせん断を起こり易くし、除去効率を高くする。一方、線速の上限が500m/sを超えないようにすることで、触媒に付与する速度を適切な範囲にし、触媒の本体壁への接触、触媒同士の接触による触媒の割れ等を防ぐ。気流流通口のサイズは直径が0.04mm~20cm程度であることが好ましく、より好ましくは0.04mm~5cm程度であるが、その流通口の形状はどのようなものでも構わない。また、気流の穴径は均一でなくても構わない。さらに、気流流通口の個数は多いほうが好ましいが、先にも述べたように気流同士が接触する距離に穴を設けた場合には触媒同士が接触して触媒が割れること等が考えられる。従って、以下の堀尾ら1、YATESら2の式によって算出される気流径、気流長さ、気流容積等を考慮して、触媒同士が接触しないように、流通口同士の間隔を開けることが望ましい。この時の気流が流れる方向における気流長さは接触効率及び触媒の流動性の観点から、本体壁やパイプ等、装置に接触しない限り10mm以上であることが望ましい。なお、本実施形態において、気流長さはYATESらの式を用いて算出し、気流径は堀尾らの式を用いて計算することができる。本実施の形態において、気流長さは、hj:気流長さm、dor:オリフィス径m、dp:触媒の粒子径m、uor:オリフィス流速ms、μ:気体の粘度kgmsec、ρg:気体の密度kgm3、ρp:触媒粒子密度kgm3、g:重力加速度ms2とした時に、hjdor212005×ρgρp068dpdor024からなる式で示される。一方、気流径は、dj:気流径m、fj:002定数、Frjρguor21εmfρpdpg、k1sinφr1sinφr、φr:触媒の安息角ここでは30°と近似した、lor:ピッチmとした時に、djdor156fjFrjk05tanφr03dorlor02からなる式で示される式中、は累乗を示す。ここで、式中の気体の粘度や気体の密度は、空気の組成を基準として実施時の温度や圧力等から算出することとする。触媒の平均粒子径は、JISR1629-1997ファインセラミックス原料のレーザー回折散乱法による粒子径分布測定方法に準拠して粒子径分布を測定し、体積基準で平均して求めることができる。より詳細には、乾燥粉体の一部を空気中400°Cで1時間焼成し、得られた粒子を対象として、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置BECKMANCOULTER製LS230を用いて測定される。また、触媒の安息角は、注入法で測定する。注入法とは、容器に触媒を入れ、自然落下させて水平面に堆積させたときに粉末の作る角度を測定する方法を示す。この時、触媒表面に触媒表面体が付着しているか或いはしていないか、でその値は大きく変化する。ここでは、その角度を30°と近似して計算することとする。1Horio,M.,T.Yamada,andI.Muchi:Preprintsofthe14thFallMeetingofSoc.ofChem.Engrs.,Japan,p.76019802Yates,J.G.,P.N.RoweandD.J.Cheesman:AIChEJ.,30,8901984.気流の流速は、気流流通口の面積とガスの流量によって計算されるが、触媒表面体を触媒から効率よく剥離させるためには、各流通口から出る気流の平均流速が、摂氏15°C、1気圧における線速として換算した場合に80m/s以上500m/s以下であり、好ましくは200m/s以上341m/s以下である。ここで、噴き出し流量Ym3/hと気流の流速um/sは、ノズル配管の内圧をakg/cm2G、ノズル部圧力をbkg/cm2G、その時の気体の温度をk°C、圧力pkPa、気体流通口の面積をSm2とした時、以下の計算式に従って求めることができる。求めた線速を平均することで気流の平均流速を求めることができる。ガスの線速を触媒に接触させている時間は、10時間以上100時間以下であることが好ましい。接触時間が10時間未満である場合には、触媒表面体が触媒表面に残存する傾向にあり、100時間を超える場合には、触媒表面が削られて、触媒の生産効率が低下する傾向にある。ガスと触媒との接触時間は、好ましくは15時間以上60時間以下である。触媒の循環を高め、より効率的に触媒表面体を除去するためにニューマー等で搬送循環して気流に接触させるような機構を設けてもよいし、本体内にプロペラ状の回転体や回転する棒状のものを導入し、回転させて攪拌させることで気流との接触効率を高めてもよい。装置によって触媒から剥離した触媒表面体は、球状の触媒より遥かに小さいので、流通させているガスと共に流出するためフィルター等で捕集することも可能である。しかし、同時に微小な触媒粒もフィルターに捕集されてしまう可能性があるために、サイクロンのような分離装置を用いて分離効率を高めることが好ましい。サイクロン等の分離装置は複数個備えてもよいし、異なった分離装置を組み合わせて用いても構わない。微小な粒径の触媒と触媒表面体の混合物等がサイクロンから本体内に戻ってきてしまう場合を考慮して、サイクロン下部に、例えば三方弁等を設置し、系外へ別回収できるような機構を設けてもよい。分離された触媒成分は、再び本体の内部に搬送されるが、その際に再び気流に触媒が接触する位置に戻すことが好ましい。例えば、全体的な気体の流れが最終的に上に行く場合には、触媒もこの気体の流れに沿って上昇すると考えられるため、気流口よりも下に分離された触媒の戻り口を設けることが好ましい。触媒表面体の安息角が大きい場合や粘性を有する場合には、本体内部の壁面に付着する可能性のみならず、配管へ付着し、配管を閉塞させる可能性があるため、適宜、ノッカー、パージエアー等を系内に導入することが好ましい。さらに、配管に付着した触媒表面体を除去するために、水、アルコール等の液体を用いて洗浄するような機構を備えてもよい。本実施形態における触媒表面体除去装置のより好ましい態様は、前記本体の上部に設けられた前記触媒の回収手段と、前記回収手段に接続された前記触媒の戻し手段と、を有し、前記戻し手段は、下端が前記気流に接触するように設けられており、前記本体内で前記気流に接触した前記触媒の一部が前記回収手段によって回収され、前記戻し手段によって前記本体内に戻される装置である。ここで、上記触媒の回収手段とは図1中の出口配管3及びサイクロン4、触媒の戻し手段とは図1中の戻り配管5に相当する。また、上記回収手段は、遠心力によって触媒と触媒表面体を分離する手段であることが好ましい。ここで、上記遠心力によって触媒を分離する手段は、上述したサイクロン4に相当する。さらに、本実施形態における触媒表面体除去装置は、前記触媒から除去された触媒表面体が捕集される手段をさらに有することが好ましい。ここで、上記触媒表面体が捕集される手段は、上述したフィルターに相当する。本実施形態においては、例えば、以下の4つの工程を経て触媒を製造することができる。I原料を調合して原料調合液を得る工程II工程Iで得られた原料調合液を乾燥し、触媒前駆体を得る工程III工程IIで得られた触媒前駆体を焼成して触媒を得る工程IV工程IIIで得られた触媒から触媒表面体を除去する工程以下、各工程について説明する。工程I:原料調合工程本工程における調合とは、水性溶媒に触媒構成元素の原料を溶解又は分散させることである。本実施形態の触媒を製造するにあたり、金属の原料は特に限定されない。連続的に原料調合液を調合する場合には、撹拌槽等の調合槽、乾燥工程へ送液する配管等に原料調合液の固体成分が付着する場合がある。これは、連続的に触媒を製造する場合には配管の閉塞等の支障を起こすおそれがあるため、原料調合液と接する配管内部、槽内壁等を随時洗浄することが好ましい。工程II:乾燥工程工程IIにおいては、上記工程Iで得られた原料調合液を噴霧乾燥法等によって乾燥し、触媒前駆体を得る。噴霧乾燥法における噴霧方法としては遠心方式、二流体ノズル方式又は高圧ノズル方式を用いることができるが、中でも遠心方式が好ましい。遠心方式は、例えば、数cmの分散皿を数千rpmで高速回転させて、その上に原料調合液を落とすことで噴霧することができる。この時の、分散皿への原料調合液の供給は1個所でもよいが、数カ所に分かれていることが好ましい。乾燥熱源としては、スチーム、電気ヒーター等によって加熱された空気を用いることができる。熱風の乾燥機入口の温度は150~250°Cが好ましい。さらに、熱風の乾燥機出口の温度は90°C以上が好ましく、90~150°Cがより好ましい。触媒を連続生産する場合においては、乾燥機本体、送液配管、噴霧化装置、触媒前駆体排出配管等の汚れを適宜取り除きながら運転する必要がある。工程III:焼成工程本工程においては、乾燥工程で得られた触媒前駆体を焼成することによって触媒が得られる。焼成は、トンネル炉、管状炉、回転炉、流動焼成炉等を用いて行うことができる。焼成は反復することができる。乾燥工程で得られた触媒前駆体をニューマー等で焼成装置に移送させるが、この時、酸素非共存下で焼成する場合には、窒素等の不活性ガスを用いる。ニューマー等で気流搬送する場合は、焼成装置にサイクロン等の気固分離装置を設ける。触媒前駆体を静置して焼成した場合、均一に焼成されず性能が悪化するとともに、焼成炉内での粉体の固着等が生じる原因となるので、工業触媒としての生産性を考慮すると、ロータリーキルン等で実施することが好ましい。キルンの回転数は通常数rpm~数十rpmで行われ、無回転でなければ、1rpm以下でもよい。触媒前駆体を連続焼成する場合には、ロータリーキルンに供給する前駆体の供給量を安定に保つ観点から、スクリューフィーダー等を用いることができる。スクリューフィーダー等の装置とニューマーを組み合わせても、スクリューフィーダー等の装置から排出された触媒前駆体を垂直配管内で落下させて供給してもよい。焼成中に存在する粉体が焼成管内壁に付着すると、付着した粉体は過度に焼成され、また、付着せずに通過する粉体は伝熱が悪化して、いずれも触媒性能が下がるため、ノッカーやハンマー等でキルン本体に衝撃を与えることが好ましい。人的又は機械的のいずれの手段により衝撃を与えても問題ないが、連続的に行うことが好ましい。ノッカーやハンマーの先端焼成管との接触部分は金属製のものが使用できる。焼成工程は、良好な性能を得るため、前段焼成、本焼成、後段焼成等の多段階に分けて焼成することが好ましい。本焼成とは、焼成過程の中で最も高い温度で保持される焼成段階をいい、前段焼成とはそれ以前の焼成段階をいう。前段焼成が更に数段に分かれていてもよい。さらに、後段焼成とは、本焼成の後の焼成段階をいう。この後段焼成がさらに数段に別れていてもよい。本焼成は500~800°Cで行うことが好ましい。前段焼成と本焼成、さらに後段焼成をそれぞれ異なるキルンで実施する場合は、中間にホッパー等の貯蔵器を設け、ニューマー等で搬送することができる。焼成の雰囲気は空気下でも可能であるが、性能を維持するために実質的に酸素非共存下の場合、窒素等の不活性ガスを焼成装置に供給して実施することが好ましい。この場合、ガスの排出経路にサイクロン等の気固分離装置を設けて同伴する焼成中の粉体を回収する。回収粉体はそのまま焼成装置に戻してもよいし、別途回収してもよい。ロータリーキルンの場合は粉体供給側に戻すことも可能である。工程IV:触媒表面体の除去工程上記のようにして製造された触媒は、その表面近傍に触媒表面体を含んでいるので、これらを除去することが必要となる。本実施形態の触媒表面体の除去方法は、触媒に気流を接触させることによって触媒表面体を触媒から除去する方法であって、触媒表面体を有する触媒に、気流が流れる方向における気流長さが55mm以上であり、かつ、平均流速が、摂氏15°C、1気圧における線速として換算した場合に80m/s以上500m/s以下である気流を接触させる工程を含む。本実施形態の触媒表面体の除去方法は、高速気体気流を流通させ、その気流と触媒とを接触させ、触媒を流動化させると同時に気流せん断によって触媒表面の触媒表面体を除去し、同時に運動する触媒粒子の相互接触によっても除去する、という方法を組み合わせることが好ましい。このときのガスの種類は問わないが、乾燥させた空気、若しくは窒素等の不活性ガスが好ましい。ここで、本発明者らは、気流容積Vと気流口の穴数Kを乗じた値が、気流が触媒に速度を与えることのできる全体積を反映すると考え、これに気流速度uの2乗を乗じたものが触媒表面体を除去するのに使われる全エネルギーに類するものであるとした仮定した。そして、各変数を独立に変化させながら、触媒量Mの触媒中に触媒表面体が残存している量を時間を追って測定し、u2×V×Kを触媒量Mで除した値と、十分な量の触媒表面体が触媒表面から除去されるのに要する時間との相関を調べた。その結果、u2×V×K/Mは処理に要する時間に対してほぼ反比例の関係にあったことから、エネルギーの指標として適切であることが示唆された以下、u2×V×K/Mをエネルギー換算値とも呼ぶ。工業的な規模で触媒を製造する場合、作業のし易さ等に鑑みて各工程が一定の時間に収まるように設計するのが好ましいといえるが、表面体の除去工程についても、例えば1日以内に終わるように処理時間を設定すると運転し易い。上述のように、エネルギー換算値は除去処理に要する時間とほぼ反比例の関係にあることから、エネルギー換算値をある程度大きくすることによって、これとほぼ反比例の関係にある処理時間を好ましい時間以内にすることができる。表面体の除去工程の時間を1日以内にする観点から、好ましいエネルギー換算値を本発明者らが実験的に調べたところ、気流の流速um/s、流通口を通過した気流が形成する体積Vm3、本体内の流通口数K、及び本体内に収容される触媒の質量Mkgを用いて表される触媒表面体除去のエネルギー換算値u2×V×K/Mm5/s2/kgが、14<u2×V×K/Mを満たすようにu2、V、K及びMを設定するのが好ましいことが分かった。一方で、触媒同士及び/又は触媒と本体との接触に伴って触媒の割れを防ぐ観点から、エネルギー換算値が、u2×V×K/M<100を満たすように設定するのが好ましいことが分かった。即ち、下記式114<u2×V×K/M<1001を満たすことで、除去工程の処理時間を一定の範囲内に抑え、かつ触媒の破壊を防ぐことができるので触媒表面体が触媒表面からより効率的に除去され得ることを見出した。なお、エネルギー換算値の好適値は除去装置の因子にも依存し、装置の形状、大きさ、ノズルの向き、壁との接触などにより変化するが、工業的に使用する規模の装置の場合、20<u2×V×K/M<90を満たすのがより好ましく、30<u2×V×K/M<80を満たすのが更に好ましい。工業的な規模の触媒製造に関し、処理対象の触媒量について更に検討を加えると、例えば触媒の質量Mが1kg以上の場合、気流の平均流速を500m/s以下とした状態で14<u2×V×K/Mを満たすためには、流通口数Kを2以上にするのが現実的である。つまり、式1を満たすように一定量以上の触媒を処理する場合、流通口が複数になるのが一般的であるので、各流通口から供給される気流の相互作用が発生する。上述のように、触媒が割れたり欠けたりするのを防止する観点で、気流同士が交差したり接触したりしないように流通口を設けるのは好ましい態様であるが、その場合でも、流通口から気流長さ以上に離れた位置にも気流の影響はあり、気体の流れは存在する。つまり、隣り合った流通口が気流長さ以上に離れて設けられていても、各流通口から供給された気流は相互に作用し合って触媒の流動に影響する。このような複数の流通口から供給された気流の相互作用による触媒の流動は、気流の長さや気流の平均速度には反映されない指標であり、単数の流通口で処理する場合には得られない効果である。従って、14<u2×V×K/M<100を満たし、K≧2の場合、複数の流通口から供給される気流の相互作用による触媒の流動により、一層効率的に触媒表面体を除去し得る。流通口が複数の場合、流通口間の距離は、触媒の割れを防ぐ観点で気流径の1倍以上とするのが好ましく、気流によって生じた気体の流れの相互作用によって触媒の流動性を大きくする観点で気流径の倍以内とするのが好ましい。装置運転中に、触媒を随時、サンプリングを行い、触媒表面体の量を見積もることが好ましい。サンプリングは、装置本体に設けられている触媒回収ラインから行うことができる。もしくは、それ以外の部位にサンプリングラインを作製してもよい。一般的に、エネルギー換算値が大きい場合には、触媒表面からの触媒表面体の除去速度は速くなるが、触媒の割れも多くなる傾向にあり、エネルギー換算値が小さい場合には触媒の割れは少ないが、除去速度は遅くなる。ここで、流通口を通過した気流が形成する体積Vm3は、触媒表面体除去装置の本体を近似的に円柱と考え、以下の計算式により算出することができる。体積V=気流径×気流径×π×気流長さ本実施形態の不飽和酸又は不飽和ニトリルの製造方法は、上述した装置を用いて前記触媒から前記触媒表面体を除去し、前記触媒表面体が除去された触媒を用いて、アルカン及び/又はアルケンを酸化反応又はアンモ酸化反応させることにより対応する不飽和酸又は不飽和ニトリルを製造する方法である。酸化反応又はアンモ酸化反応の方法としては、一般的に知られている気相接触酸化反応又は気相接触アンモ酸化反応等を採用することができる。以下に、本実施形態の触媒表面体の除去装置及び除去方法を、触媒の調製実施例及びプロパンの気相接触アンモ酸化反応によるアクリロニトリルの製造実施例を用いて説明するが、本実施形態はその要旨を越えない限りこれら実施例に限定されるものではない。プロパンのアンモ酸化反応の成績は反応ガスを分析した結果を基に、次式で定義されるアクリロニトリル収率AN収率を指標として評価した。アクリロニトリルの収率=生成したアクリロニトリルのモル数/供給したプロパンのモル数×100反応ガスの分析は以下のとおりに行った。ここで、生成したアクリロニトリルのモル数は、株島津製作所製熱伝導度検出器TCD型ガスクロマトグラフィーGC2014ATにより測定した。ニオブ混合液の調製以下の方法でニオブ混合液を調製した。水255.2kgにNb2O5として80質量を含有するニオブ酸35.2kgとシュウ酸二水和物H2C2O42H2O134.4kgを混合した。仕込みのシュウ酸/ニオブのモル比は5.03、仕込みのニオブ濃度は0.50mol-Nb/kg-液であった。この液を95°Cで1時間加熱撹拌することによって、ニオブが溶解した混合液を得た。この混合液を静置、氷冷後、固体を吸引濾過によって濾別し、均一なニオブ混合液を得た。この操作を数回繰り返し、液を集めて混合した。このニオブ混合液のシュウ酸/ニオブのモル比は下記の分析により2.52であった。るつぼにこのニオブ混合液10gを精秤し、95°Cで一夜乾燥後、600°Cで1時間熱処理し、Nb2O50.8228gを得た。この結果から、ニオブ濃度は0.618mol-Nb/kg-液であった。300mLのガラスビーカーにこのニオブ混合液3gを精秤し、約80°Cの熱水200mLを加え、続いて1:1硫酸10mLを加えた。得られた混合液をホットスターラー上で液温70°Cに保ちながら、攪拌下、1/4規定KMnO4を用いて滴定した。KMnO4によるかすかな淡桃色が約30秒以上続く点を終点とした。シュウ酸の濃度は、滴定量から次式に従って計算した結果、1.558mol-シュウ酸/kgであった。2KMnO43H2SO45H2C2O4→K2SO42MnSO410CO28H2O得られたニオブ混合液は、下記の触媒調製のニオブ混合液B0として用いた。触媒の調製仕込み組成式がMo1V0.21Nb0.09Sb0.25Ce0.005On/45.0wt-SiO2で示される酸化物触媒を次のようにして製造した。水38.0kgにヘプタモリブデン酸アンモニウムNH46Mo7O244H2Oを9.2kg、メタバナジン酸アンモニウムNH4VO3を12.7kg、三酸化二アンチモンSb2O3を19.0kg、及び硝酸セリウム6水和物[CeNO336H2O]を1.15kg加え、攪拌しながら90°Cで2時間30分に加熱して混合液Aを得た。ニオブ混合液B075.5kgに、H2O2として30wtを含有する過酸化水素水を10.6kg添加し、室温で10分間攪拌混合して、混合液Bを調製した。得られた混合液Aを70°Cに冷却した後にSiO2として29.3wtを含有するシリカゾル18.4kgを添加し、更に、H2O2として30wt含有する過酸化水素水2.2kgを添加し、50°Cで1時間撹拌を続けた。次に混合液Bを添加した。更に平均一次粒子径が12nmのフュームドシリカ3.6kgを50.4kgの水に分散させた液を添加して、原料調合液を得た。得られた原料調合液を、遠心式噴霧乾燥器に供給して乾燥し、微小球状の乾燥粉体を得た。乾燥機の入口温度は210°C、出口温度は120°Cであった。上記操作を繰り返して、乾燥粉体を集め、約3tの触媒表面体が付着した触媒前駆体を得た。得られた触媒前駆体を、内径500mm、長さ3500mm、肉厚20mmのSUS製円筒状焼成管で高さ150mmの7枚の堰板を加熱炉部分の長さを8等分するように設置したものに、20kg/hrの速度で流通し、600Nリットル/minの窒素ガス流通下、焼成管を5rpmで回転させながら、360°Cまで約4時間かけて昇温し、360°Cで3時間保持する温度プロファイルとなるように加熱炉温度を調整し、前段焼成することにより前段焼成粉を得た。別の内径500mm、長さ3500mm、肉厚20mmのSUS製焼成管で高さ150mmの7枚の堰板を加熱炉部分の長さを8等分するように設置したものに、焼成管を5rpmで回転させながら、前段焼成粉を15kg/hrの速度で流通した。その際、焼成管の粉導入側部分加熱炉に覆われていない部分を、打撃部先端がSUS製の質量14kgのハンマーを設置したハンマリング装置で、回転軸に垂直な方向で焼成管上部250mmの高さから5秒に1回打撃を加えながら、500Nリットル/minの窒素ガス流通下645°Cまで2°C/minで昇温し、645°Cで2時間焼成し、1°C/minで降温する温度プロファイルとなるように加熱炉温度を調整し、本焼成することにより酸化物触媒を得た。この触媒は、表面に触媒表面体が付着していた。本焼成中、焼成温度の低下は起こらず安定した速度で酸化物触媒を得ることができた。以下に、上記で得られた触媒に付着した触媒表面体の除去工程の実施例について図を用いて説明する。以下の実施例における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgは、流通口における気流の流速um/s、流通口を通過した前記気流が形成する体積Vm3、本体内の前記流通口数K、及び本体内に収容される前記触媒の質量Mkgを用いて下記式2により算出した。u2×V×K/M2ここで、流通口における気流の流速um/s及び流通口を通過した前記気流が形成する体積Vm3については上述のとおりに測定した。なお、諸計算を行うにあたり、触媒粒子密度kg/m3は、触媒一つの質量を触媒一つの体積で除した値であり、本実施例、比較例では特に記述がない場合には2500g/m3として計算した。また、触媒中に残存している触媒表面体の割合は、次式によって算出した。WR=[W0~20/W0]×100ここで、WR:触媒中に残存している触媒表面体の割合質量W0:所期投入量=50gW0~20:0から20時間の間に触媒から除去されてペーパーフィルターに捕捉された触媒表面体の質量gここで、触媒から除去されてペーパーフィルターに捕捉された触媒表面体の質量は、以下のように測定した。触媒を50g精秤し、直径0.40mm1/64インチの3つの孔のある穴あき円盤で下端を覆われ、ペーパーフィルターで上端に蓋がされた内径41.6mm、長さ70cmの垂直チューブに入れ、下部から空気を380L/hで20時間流通させた。触媒から剥離した触媒表面体を、ペーパーフィルターに捕捉し、フィルター上に捕捉された触媒表面体の質量を測定した。単位時間当たりの触媒処理量は、単位時間当たりの触媒処理量は、触媒表面体の割合が触媒全体の質量に対して0.8質量以下に到達するまでの、1時間当たりに除去される触媒の質量を示す。[実施例1]図1に示すような装置の中に、触媒表面に触媒表面体が付着した触媒を2500kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが25になるように調整し、20時間運転を行った。この時の気流が流れる方向における気流長さは309mm、気流の平均線速は332msであり、気体流通口の穴の数Kは350個であった。触媒表面体の除去装置外に回収された物の質量は200kgであった8質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は0.4質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、250kg/hであった。また、装置運転開始から5時間、10時間、15時間後に触媒をサンプリングし、触媒中に残存している触媒表面体の量はそれぞれ、50、22、6.0であった。プロパンのアンモ酸化反応内径25mmのバイコールガラス流動床型反応管に実施例1で調製した触媒を40g充填し、反応温度440°C、反応圧力常圧下にプロパン:アンモニア:酸素:ヘリウム=1:1:3:18のモル比の混合ガスを接触時間2.8secg/ccで供給した。その結果、AN収率は54.0であった。[実施例2]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を2000kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが15になるように調整し、40時間運転を行った。この時の気流が流れる方向における気流長さは267mm、気流の平均線速は276msであり、気体流通口の穴の数Kは350個であった。その結果、触媒表面体の除去装置外に回収された物の質量は190kgであった9.5質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は0.2質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、100kg/hであった。[実施例3]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を1400kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが40になるように調整し、15時間運転を行った。この時の気流が流れる方向における気流長さは302mm、気流の平均線速は323msであり、気体流通口の穴の数Kは350個であった。その結果、触媒表面体の除去装置外に、回収された物の質量は125kgであった8.9質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は0.2質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、93kg/hであった。[実施例4]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を1800kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが90になるように調整し、5時間運転を行った。この時の気流が流れる方向における気流長さは390mm、気流の平均線速は341msであり、気体流通口の穴の数Kは350個であった。その結果、触媒表面体の除去装置外に、回収された物の質量は140kgであった7.8質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は0.6質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、360kg/hであった。[実施例5]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を1800kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが25になるように調整し、20時間運転を行った。この時の気流が流れる方向における気流長さは206mm、気流の平均線速は196msであり、気体流通口の穴の数Kは2000個であった。その結果、触媒表面体の除去装置外に回収された物の質量は160kgであった8.9質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は0.3質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、90kg/hであった。[実施例6]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を1800kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが25になるように調整し、20時間運転を行った。この時の気流が流れる方向における気流長さは390mm、気流の平均線速は335msであり、気体流通口の穴の数Kは100個であった。その結果、触媒表面体の除去装置外に回収された物の質量は130kgであった7.2質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は0.8質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、90kg/hであった。実施例7図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を100kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが27になるように調整し、20時間運転を行った。この時の気流が流れる方向における気流長さは166mm、気流の平均線速は230msであり、気体流通口の穴の数Kは250個であった。その結果、触媒表面体の除去装置外に回収された物の質量は8kgであった80質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は0.4質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、20kg/hであった。[実施例8]底部に直径0.40mmの3つの孔のある穴あき円盤を備え、上端にはペーパーフィルターで塞がれた垂直チューブ41.6mm、長さ70cmに、触媒を50.0g精秤し、孔から出てきた空気で形成される気流が流れる方向における気流長さが55mm、気流の平均線速が327m/s、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが25になるように調整し、12時間経過した後、触媒を回収した。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は、0.5質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、4.2g/hであった。[実施例9]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を60kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが9になるように調整し、27時間運転を行った。この時の気流が流れる方向における気流長さは63mm、気流の平均線速は104msであり、気体流通口の穴の数Kは4000個であった。その結果、触媒表面体の除去装置外に回収された物の質量は4.8kgであった80質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は0.5質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、2.2kg/hであった。[実施例10]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を500kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが18になるように調整し、22時間運転を行った。この時の気流が流れる方向における気流長さは189mm、気流の平均線速は340msであり、気体流通口の穴の数Kは350個であった。その結果、触媒表面体の除去装置外に回収された物の質量は38kgであった76質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は0.5質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、23kg/hであった。[実施例11]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を1000kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが26になるように調整し、22時間運転を行った。この時の気流が流れる方向における気流長さは300mm、気流の平均線速は130msであり、気体流通口の穴の数Kは350個であった。その結果、触媒表面体の除去装置外に回収された物の質量は80kgであった8.0質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は0.4質量であった。単位時間当たりの触媒処理量は、45kg/hであった。[比較例1]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を1800kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが0.05になるように調整し、20時間運転を行った。この時の気体流通口の穴の数Kは250個であり、また、気流が流れる方向における気流長さは84mm、気流の平均線速度は70m/sであった。その結果、除去回収された触媒表面体は45kgであった2.5質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は5.3質量であった。[比較例2]底部に直径0.20mmの3つの孔のある穴あき円盤を備え、上端にはペーパーフィルターで塞がれた垂直チューブ41.6mm、長さ70cmに、触媒を50.0g精秤し、孔から出てきた空気で形成される気流が流れる方向における気流長さが33mm、気流の平均線速が340m/s、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが3になるように調整し、40時間経過した後、触媒を回収した。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は、2.5質量であった。[比較例3]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を300kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが16になるように調整し、20時間運転を行った。この時の気体流通口の穴の数Kは100個であり、また、気流が流れる方向における気流の長さは285mm、気流の平均線速度は73m/sであった。触媒表面体の除去装置外に回収された物の質量は17kgであった5.8質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は2.1質量であった。[比較例4]底部に直径0.40mmの3つの孔のある穴あき円盤を備え、上端にはペーパーフィルターで塞がれた垂直チューブ41.6mm、長さ70cmに、触媒を50.0g精秤し、孔から出てきた空気で形成される気流が流れる方向における気流長さが49mm、気流の平均線速が280m/s、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが13になるように調整し、12時間経過した後、触媒を回収した。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は、1.5質量であった。[比較例5]底部に直径0.76mmの7個の孔のある穴あき円盤を備え、上端にはペーパーフィルターで塞がれた垂直チューブ41.6mm、長さ70cmに、触媒を50.0g精秤し、孔から出てきた空気で形成される気流が流れる方向における気流長さが37mm、気流の平均線速が102m/s、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが6になるように調整し、12時間経過した後、触媒を回収した。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は、4.0質量であった。[比較例6]図1に示すような装置の中に触媒表面体付きの触媒を1000kg入れ、摂氏15°C、1気圧における触媒質量当たりのエネルギー換算値m5/s2/kgが0.2になるように調整し、40時間運転を行った。この時の気体流通口の穴の数Kは2000個であり、また、気流が流れる方向における気流の長さは45mm、気流の平均線速度は300m/sであった。触媒表面体の除去装置外に回収された物の質量は30kgであった3.0質量。得られた触媒中に残存している触媒表面体の量は5.0質量であった。本出願は、2010年4月30日に日本国特許庁へ出願された日本特許出願特願2010-105511に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。"