"基材と、金属反射膜と、増反射透明膜と、透明導電層と、発光層と、透明電極層と、をこの順に備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、金属反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有し、かつ増反射透明膜が、透光性バインダーを含有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。基材と、金属反射膜と、増反射透明膜兼透明導電層と、発光層と、透明電極層と、をこの順に備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、金属反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有し、かつ増反射透明膜兼透明導電層が、透光性バインダーと透明導電性粒子とを含有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。金属反射膜と、増反射透明膜と、基材と、透明導電層と、発光層と、透明電極層と、をこの順に備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、金属反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有し、かつ増反射透明膜が、透光性バインダーを含有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。増反射透明膜が2層からなり、金属反射膜側の増反射透明膜の屈折率が、発光層側の増反射透明膜の屈折率より低い、請求項1~3のいずれか1項記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。基材上に、金属ナノ粒子と添加物を含有する金属反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより金属反射膜を形成する工程、金属反射膜上に、透光性バインダーを含有する増反射透明膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより増反射透明膜を形成する工程、増反射透明膜上に、透明導電層、発光層、および透明電極層を形成する工程、をこの順に含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。基材上に、金属ナノ粒子と添加物を含有する金属反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより金属反射膜を形成する工程、金属反射膜上に、透光性バインダーと透明導電性粒子とを含有する増反射透明膜兼透明導電層用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより増反射透明膜兼透明導電層を形成する工程、増反射透明膜兼透明導電層上に、発光層、および透明電極層を形成する工程、をこの順に含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。基材上に、透光性バインダーを含有する増反射透明膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより増反射透明膜を形成する工程、増反射透明膜上に、金属ナノ粒子と添加物を含有する金属反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより金属反射膜を形成する工程、基材の増反射透明膜の反対面に、透明導電層、発光層、透明電極層を形成する工程、を含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。しかしながら、上記のAgやAlを主成分金属とする陽極や、反射膜上に透明導電膜を形成する反射電極では、高い反射特性と、大きな仕事関数とを両立させることができない、すなわち、有機EL素子の輝度が低下する、という問題がある。また、上記分散液を塗布する方法で金属反射膜を形成すると、有機EL素子の発光時の熱と光により、金属反射膜が劣化して基材や発光層から剥離し、有機EL素子の発光強度が低下するという耐久性の問題がある。詳細に説明すると、金属反射膜は、金属粒子を含む金属反射膜用組成物を塗布した後、焼成して形成され、この焼成を低温で行うために、金属粒子として金属ナノ粒子を用いる。ここで、上記方法では、保存時における金属ナノ粒子間の焼結を避けるため、金属ナノ粒子を200°C近傍で蒸発または分解する一級アミンまたはその誘導体で被覆している。しかし、この一級アミン等を添加すると、焼結時に金属ナノ粒子が粒成長しすぎることで、多孔質になるため、金属反射膜の密着性が低下し、金属反射膜が基材や発光層から剥離したり、反射特性が下がったりする、という問題がある。また、金属ナノ粒子の粒成長を抑制するために、一級アミン等を過剰に添加すると、金属ナノ粒子の分散安定性が低下するかもしくは得られた膜の反射特性や導電性が悪くなる、という問題がある。本発明は、上記問題を解決することを課題とする。すなわち、金属反射膜の反射特性を高くすることにより、有機EL素子の輝度を高くし、かつ有機EL素子の発光時の熱と光による金属反射膜の劣化を抑えることにより、基材や発光層からの金属反射膜の剥離による発光強度の低下を抑制し、耐久性が向上する有機EL素子を得ることを目的とする。本発明は、以下に示す構成によって上記課題を解決した有機EL素子、およびその製造方法に関する。1基材と、金属反射膜と、増反射透明膜と、透明導電層と、発光層と、透明電極層と、をこの順に備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、金属反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有し、かつ増反射透明膜が、透光性バインダーを含有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。2基材と、金属反射膜と、増反射透明膜兼透明導電層と、発光層と、透明電極層と、をこの順に備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、金属反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有し、かつ増反射透明膜兼透明導電層が、透光性バインダーと透明導電性粒子とを含有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。3金属反射膜と、増反射透明膜と、基材と、透明導電層と、発光層と、透明電極層と、をこの順に備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、金属反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有し、かつ増反射透明膜が、透光性バインダーを含有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。4増反射透明膜が2層からなり、金属反射膜側の増反射透明膜の屈折率が、発光層側の増反射透明膜の屈折率より低い、上記1~3のいずれか記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。5基材上に、金属ナノ粒子と添加物を含有する金属反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより金属反射膜を形成する工程、金属反射膜上に、透光性バインダーを含有する増反射透明膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより増反射透明膜を形成する工程、増反射透明膜上に、透明導電層、発光層、および透明電極層を形成する工程、をこの順に含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。6基材上に、金属ナノ粒子と添加物を含む金属反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより金属反射膜を形成する工程、金属反射膜上に、透光性バインダーと透明導電性粒子とを含有する増反射透明膜兼透明導電層用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより増反射透明膜兼透明導電層を形成する工程、増反射透明膜兼透明導電層上に、発光層、および透明電極層を形成する工程、をこの順に含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。7基材上に、透光性バインダーを含有する増反射透明膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより増反射透明膜を形成する工程、増反射透明膜上に、金属ナノ粒子と添加物を含有する金属反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより金属反射膜を形成する工程、基材の増反射透明膜の反対面に、透明導電層、発光層、透明電極層を形成する工程、を含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。本発明1によれば、金属反射膜に含有される添加物が、焼結時の金属ナノ粒子の粒成長を抑制するため、金属反射膜の反射特性が向上し、さらに、増反射透明膜により金属反射膜の反射特性が高くなり、有機EL素子の輝度を高くすることができ、かつ金属反射膜に含有される添加物と増反射透明膜とが、有機EL素子の発光時の熱と光による金属反射膜の劣化を抑え、金属反射膜に含有される添加物が金属反射膜の密着性を向上させるため、基材や発光層からの金属反射膜の剥離による発光強度の低下を抑制し、耐久性が向上した有機EL素子を得ることが可能となる。また、増反射透明膜上に、陽極として使用する場合には仕事関数の高い透明導電層を、陰極として使用する場合には仕事関数の低い透明導電層を形成することができ、有機EL素子の輝度を高くすることができる。本発明2によれば、金属反射膜に含有される添加物が、焼結時の金属ナノ粒子の粒成長を抑制するため、金属反射膜の反射特性が向上し、さらに、増反射透明膜兼透明導電層により、透明導電層のみを形成する工程を省いても、金属反射膜の反射特性が高くなり、有機EL素子の輝度を高くすることができ、かつ金属反射膜に含有される添加物と増反射透明膜兼透明導電層とが、有機EL素子の発光時の熱と光による金属反射膜の劣化を抑え、金属反射膜に含有される添加物が金属反射膜の密着性を向上させるため、基材や発光層からの金属反射膜の剥離による発光強度の低下を抑制し、耐久性が向上した有機EL素子を得ることが可能となる。また、増反射透明膜兼透明導電層に、陽極として使用する場合には仕事関数の高い透明導電性粒子を、陰極として使用する場合には仕事関数の低い透明導電性粒子を含有させ、有機EL素子の輝度を高くすることができる。本発明3によれば、金属反射膜に含有される添加物が、焼結時の金属ナノ粒子の粒成長を抑制するため、金属反射膜の反射特性が向上し、さらに、増反射透明膜により金属反射膜の反射特性が高くなり、有機EL素子の輝度を高くすることができ、かつ金属反射膜に含有される添加物と増反射透明膜とが、有機EL素子の発光時の熱と光による金属反射膜の劣化を抑え、金属反射膜に含有される添加物が金属反射膜の密着性を向上させるため、基材からの金属反射膜の剥離による発光強度の低下を抑制し、非常に耐久性が向上した有機EL素子を得ることが可能となる。また、陽極として使用する場合には仕事関数の高い透明導電層を、陰極として使用する場合には仕事関数の低い透明導電層を使用することにより、有機EL素子の輝度を高くすることが可能とできる。本発明4によれば、金属反射膜の反射特性を向上させ、有機EL素子の輝度を高くすることができる。本発明5によれば、本発明1の有機EL素子を簡便に製造することができ、本発明6によれば、本発明2の有機EL素子を簡便に製造することができる。また、本発明7によれば、本発明3の有機EL素子を簡便に製造することができる。以下、本発明を実施形態に基づいて具体的に説明する。なお、は特に示さない限り、また数値固有の場合を除いて質量である。以下に説明する本発明の有機EL素子1~3は、いずれも金属反射膜と発光層の間に増反射透明膜を備える。ここで、増反射透明膜は、金属反射膜より屈折率が高いため、金属反射膜の反射特性を向上させる。有機EL素子1本発明の有機EL素子は、基材と、金属反射膜と、増反射透明膜と、透明導電層と、発光層と、透明電極層と、をこの順に備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、金属反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有し、かつ増反射透明膜が、透光性バインダーを含有することを特徴とする。図2に、この有機EL素子の断面構造の一例を示す。図2に示す有機EL素子100は、基材101と、金属反射膜102と、増反射透明膜103と、透明導電層104と、発光層105と、透明電極層106と、をこの順に備え、通常、透明電極層106上に封止剤107が形成される。金属反射膜は、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有する。この金属反射膜は、発光層からの光を反射するために形成される。金属ナノ粒子焼結体に使用される金属ナノ粒子としては、銀、金、白金、銅、パラジウム、ルテニウム、マグネシウム、ニッケル、スズ、インジウム、ガリウムおよび銅からなる群より選ばれる1種、または2種以上の混合組成又は合金組成が挙げられ、銀が、反射性、導電性の観点から好ましく、さらにマグネシウム、スズを併用すると、より好ましい。金属ナノ粒子の平均粒径は、10~50nmであると好ましい。ここで、平均粒径は、堀場製作所製LB-550による動的光散乱法を用いて測定する。金属ナノ粒子の形状は、球状、板状であると、分散性、反射性の観点から好ましい。添加物は、焼結後にも金属反射膜に存在し、金属ナノ粒子間に添加物が存在することにより、焼結時の金属ナノ粒子の粒成長を抑制することができ、また、金属ナノ粒子焼結体の空孔に添加物が存在することにより、金属反射膜の反射特性が向上し、有機EL素子の輝度が高くなり、金属反射膜の耐熱性、耐光性や耐食性も向上させる。さらに、添加剤により、金属反射膜の密着性が向上する。したがって、有機EL素子の耐久性が高くなる。添加物としては、有機高分子、金属酸化物、金属水酸化物、有機金属化合物、およびシリコーンオイルが挙げられ、有機高分子が好ましく、有機高分子と、有機金属化合物とを併用すると、より好ましい。添加物として使用する有機高分子としては、ポリビニルピロリドンPVP、ポリビニルピロリドンの共重合体、および水溶性セルロースからなる群より選ばれる少なくとも1種であると、金属反射膜の反射性および導電性の観点から好ましい。ポリビニルピロリドンの共重合体としては、PVP-メタクリレート共重合体、PVP-スチレン共重合体、PVP-酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また水溶性セルロースとしては、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース等のセルロースエーテルが挙げられる。PVP、メチルセルロースが、金属反射膜の反射特性、導電性および密着性の点から、より好ましい。添加物として使用する金属酸化物としては、錫、インジウム、亜鉛、およびアンチモンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む酸化物または複合酸化物が挙げられ、スズドープ酸化インジウムや酸化亜鉛が好ましい。添加物として使用する金属水酸化物としては、マグネシウム、リチウム、アルミニウム、鉄、コバルト、ニッケル等の水酸化物が挙げられ、水酸化リチウムが好ましい。添加物として使用する有機金属化合物としては、シリコン、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫等の金属石鹸、金属錯体、金属アルコキシドまたは金属アルコキシドの加水分解物が挙げられる。例えば、金属石鹸としては、酢酸亜鉛、シュウ酸亜鉛、酢酸錫、酢酸ニッケル、ギ酸コバルト等が挙げられ、金属錯体としては、アセチルアセトン亜鉛錯体等が挙げられ、金属アルコキシドとしては、チタニウムイソプロポキシド、メチルシリケート等が挙げられる。金属反射膜の密着性の観点から、酢酸亜鉛、酢酸錫、酢酸ニッケル、ギ酸コバルト、チタニウムイソプロポキシドが好ましい。添加物として使用するシリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルや変性シリコーンオイルが挙げられ、変性シリコーンオイルが好ましい。金属反射膜の厚さは、反射性、導電性の観点から、0.1~3.0μmであると好ましい。また、金属反射膜の発光層側の面に存在する気孔が、平均直径が100nm以下で、平均深さが100nm以下で、数密度が30個/μm2であると、波長:380~780nmの範囲において、理論反射率の80以上の高い拡散反射率を達成でき、好ましい。次に、増反射透明膜は、金属反射膜より屈折率が高いため、金属反射膜の反射特性を向上させる。また、同時に増反射透明膜が金属反射膜の保護膜の役割も果たすことで、金属反射膜と基材との密着性が向上し、有機EL素子の耐久性が高くなる。この増反射透明膜に含有される透光性バインダーとしては、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル等のポリマー型バインダーや、金属石鹸、金属錯体、金属アルコキシド、金属アルコキシドの加水分解物等のノンポリマー型バインダーが挙げられ、ケイ素のアルコキシドの加水分解物が好ましい。また、増反射透明膜は、屈折率制御の観点から、透明粒子を含むと好ましく、透明粒子としては、SiO2、TiO2、ZrO2、ダイヤモンド、インジウム錫酸化物ITO、アンチモンドープ酸化物ATOや、Al、In、Ga等をドープした酸化亜鉛等の粒子が挙げられ、陽極として使用する場合には仕事関数が高いITO粒子が含まれると好ましく、陰極として使用する場合には仕事関数が低いTiO2粒子が含まれると好ましい。また、TiO2は屈折率が高いという点からも好ましい。ここで、増反射透明膜が2層からなり、金属反射膜側の増反射透明膜以下、低屈折増反射透明膜というの屈折率が、発光層側の増反射透明膜以下、高屈折率増反射透明膜というの屈折率より低いと、金属反射膜の反射特性が向上し、有機EL素子の輝度が高くなるので、好ましい。図3に、増反射透明膜が2層からなる有機EL素子の断面構造の一例を示す。図3に示す有機EL素子110は、基材111と、金属反射膜112と、低屈折増反射透明膜113aと高屈折率増反射透明膜113bとからなる増反射透明膜113と、透明導電層114と、発光層115と、透明電極層116と、をこの順に備え、通常、透明電極層116上に封止剤117が形成される。なお、増反射透明膜113を、金属反射膜112側から、低屈折増反射透明膜、高屈折率増反射透明膜、低屈折増反射透明膜、高屈折率増反射透明膜、の順で、多層化することにより、金属反射膜112による反射光を、より増加させることができる。低屈折増反射透明膜は、上記透光性バインダーを使用してもよいが、透光性バインダーに加えて、低屈折率の透明粒子を含むと好ましい。低屈折率の透明粒子としては、シルセスキオキサン屈折率:1.15~1.45、およびフッ化マグネシウム粒子屈折率:1.18~1.38の粒子が挙げられる。高屈折率増反射透明膜は、透光性バインダーに加えて、高屈折率の透明粒子を含む。高屈折率の透明粒子としては、上記透明粒子中のSiO2屈折率:1.54、TiO2屈折率:2.7、ZrO2屈折率:2、およびダイヤモンド屈折率:2.4の粒子が挙げられる。透明導電層は、陽極としては仕事関数の高いITOが、陰極としては仕事関数の低いAlLiが好ましい。有機EL素子を構成する基材、発光層、および透明電極層は、当業者に公知のものでよく、特に限定されない。例えば、基材としてはガラス基板が、発光層としては、ルブレン5重量をドープしたトリス8-キノリノラトアルミニウムが挙げられ、透明電極層は、透明導電層と同様である。有機EL素子1の製造方法本発明の有機EL素子の製造方法は、基材上に、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有する金属反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより金属反射膜を形成する工程、金属反射膜上に、透光性バインダーを含有する増反射透明膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより増反射透明膜を形成する工程、増反射透明膜上に、透明導電層、発光層、および透明電極層を形成する工程、をこの順に含むことを特徴とする。《金属反射膜用組成物》金属反射膜用組成物に含有される金属ナノ粒子および添加物は、上述のとおりである。また、金属反射膜用組成物は、分散媒を含み、分散媒は、全ての分散媒100質量に対して、1質量以上の水と、2質量以上の水と相溶する溶剤、例えば、アルコール類とを含有することが好適である。例えば、分散媒が水およびアルコール類のみからなる場合、水を2質量含有するときはアルコール類を98質量含有し、アルコール類を2質量含有するときは水を98質量含有する。水の含有量が1質量未満、またはアルコール類の含有量が2質量未満では、金属反射膜用組成物を湿式塗工法により塗工して得られた膜を低温で焼結し難くなり、また、焼成後の金属反射膜の導電性と反射率が低下してしまうからである。アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセロール、エリトリトール等が挙げられ、これらを混合して用いてもよい。さらに、分散媒は、金属ナノ粒子表面を化学修飾する水酸基-OH又はカルボニル基-C=Oのいずれか一方又は双方を含有する保護剤を含むと、金属反射膜用組成物の分散安定性に優れ、塗膜の低温焼結にも効果的な作用があるため、好適である。保護剤としては、クエン酸ナトリウム、リンゴ酸ナトリウム等が挙げられる。金属反射膜用組成物は、本発明の本発明の目的を損なわない範囲で、さらに必要に応じ、低抵抗化剤、水溶性セルロース誘導体、酸化防止剤、レベリング剤、揺変剤、フィラー、応力緩和剤、その他の添加剤等を配合することができる。金属ナノ粒子は、分散媒を除く金属反射膜用組成物:100質量部に対して、75質量部以上であると、反射性、導電性の観点から好ましい。また、99.9質量部以下であると、金属反射膜の密着性の観点から好ましい。添加物の含有割合は、分散媒を除く金属反射膜用組成物:100質量部に対して、0.1~25質量部であると好ましい。0.1質量部以上であれば、基材と接着力が良好であり、25質量部以下であると成膜時の膜ムラが生じにくい。分散媒は、金属反射膜用組成物:100質量部に対して、50~99質量部であると、塗工性の観点から好ましい。金属反射膜用組成物は、所望の成分を、常法により、ペイントシェーカー、ボールミル、サンドミル、セントリミル、三本ロール等によって混合し、透光性バインダー、場合により透明導電性粒子等を分散させ、作製することができる。無論、通常の攪拌操作によって作製することもできる。なお、金属ナノ粒子を除く成分を混合した後、別途予め分散させた金属ナノ粒子を含む分散媒と混合すると、均質な金属反射膜用組成物を得やすい観点から好ましい。《金属反射膜の形成》まず、基材上に、金属反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布する。ここでの塗布は、反射性の観点から、焼成後の金属反射膜の厚さが、好ましくは0.1~3.0μmとなるようにする。続いて、この導電性反射塗膜を、好ましくは、120~350°Cの温度で、5~60分間、乾燥する。このようにして塗膜を形成する。湿式塗工法は、スプレーコーティング法、ディスペンサーコーティング法、スピンコーティング法、ナイフコーティング法、スリットコーティング法、インクジェットコーティング法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、またはダイコーティング法のいずれかであることが好ましいが、これに限られるものではなく、あらゆる方法を利用できる。次に、金属反射塗膜を有する基材を、大気中または窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気中で、好ましくは、130~250°Cの温度で、5~60分間保持して焼成する。塗膜を有する基材の焼成温度を130~250°Cの範囲が好ましいのは、130°C未満では、金属反射膜において、硬化不足の不具合が生じるからである。また、250°Cを越えると、低温プロセスという生産上のメリットを生かせない、すなわち、製造コストが増大し、生産性が低下してしまう。さらに、樹脂フィルムのようなフレキシブル基板を用いる場合は、200°C未満の焼成温度が好ましい。すなわち、湿式塗工後の焼成温度が低ければ、有機EL素子の基材として、ガラス基板以外にも樹脂フィルムのようなフレキシブル基板も用いることが可能となるため、応用範囲が広がる。塗膜を有する基材の焼成時間を5~60分間の範囲が好ましいのは、焼成時間が5分未満では、金属反射膜において、焼成が十分でない不具合が生じるからである。焼成時間が60分を越えると、必要以上に製造コストが増大して生産性が低下してしまう不具合を生じるためである。《増反射透明膜用組成物》増反射透明膜用組成物は、透光性バインダーを含有し、透明粒子を含むと好ましい。透光性バインダー、透明粒子については、上述のとおりである。また、増反射透明膜用組成物は、分散媒を含有し、分散媒は、金属反射膜用組成物の場合と同様である。低屈折率増反射透明膜用組成物は、更に上述の低屈折率の透明粒子を含有すると好ましく、高屈折率増反射透明膜用組成物は、更に上述の高屈折率の透明粒子を含有する。透光性バインダーは、分散媒を除く増反射透明膜用組成物:100質量部に対して、10~90質量部であると、好ましい。10質量部以上であれば、金属反射膜や透明導電層との接着力が良好であり、90質量部以下であると、成膜時の膜ムラが生じにくい。透明粒子は、分散媒を除く増反射透明膜用組成物:100質量部に対して、10~90質量部であると、好ましい。10質量部以上であると、増反射透明膜の屈折率を高くし易く、90質量部以下であると、増反射透明膜自体の強度、および金属反射膜や透明導電層との密着力を維持する。低屈折率の透明粒子、高屈折率の透明粒子の場合の含有量も同様である。分散媒は、増反射透明膜用組成物:100質量部に対して、50~99質量部であると、塗工性の観点から好ましい。増反射透明膜用組成物は、本発明の本発明の目的を損なわない範囲で、さらに必要に応じ、酸化防止剤、レベリング剤、揺変剤、フィラー、応力緩和剤、その他の添加剤等を配合することができる。《増反射透明膜の形成》金属反射膜上に、透光性バインダーを含有する増反射透明膜用組成物を、湿式塗工法により塗布する方法、焼成する方法は、金属反射膜の形成の場合と同様である。ここで、増反射透明膜の厚さは、0.01~0.5μmであると、密着性の観点から好ましい。また、増反射透明膜の厚さの範囲が、上記を外れると、増反射効果が十分に得られないからである。また、低屈折増反射透明膜、高屈折率増反射透明膜を形成する場合には、金属反射膜上に、低屈折増反射透明膜用組成物、高屈折率増反射透明膜用組成物の順に、湿式塗工法により塗布すればよい。《透明導電層、発光層および透明電極層の形成》形成した金属反射膜上に、透明導電層、発光層および透明電極層を形成する方法は、特に限定されず、真空成膜法等の当業者に公知の方法でよいが、透明導電層と透明電極層は、例えば、透光性バインダーと透明導電材料を含む組成物を用いて、湿式塗工法により成膜を行う方が好ましい。以上により、本発明の有機EL素子1の製造方法は、湿式塗工法を使用することにより、スパッタや真空蒸着等の真空成膜法を可能な限り排除できるため、より安価に金属反射膜および増反射透明膜を形成することができ、本発明の有機EL素子1を、簡便に低コストで製造することができる。有機EL素子2次の本発明の有機EL素子は、基材と、金属反射膜と、増反射透明膜兼透明導電層と、発光層と、透明電極層と、をこの順に備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、金属反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有し、かつ増反射透明膜兼透明導電層が、透光性バインダーと透明導電性粒子とを含有することを特徴とする。増反射透明膜に導電性を付与することにより、透明導電層を兼ねることができる。図4に、この有機EL素子の断面構造の一例を示す。図4に示す有機EL素子200は、基材201と、金属反射膜202と、増反射透明膜兼透明導電層203と、発光層205と、透明電極層206と、をこの順に備え、通常、透明電極層206上に封止剤207が形成される。図4では、増反射透明膜兼透明導電層203は、金属反射膜202側から順に、低屈折率増反射透明膜兼透明導電層203a、高屈折率増反射透明膜兼透明導電層203bからなる。基材、金属反射膜、発光層、透明電極層は、上述のとおりである。増反射透明膜兼透明導電層に含有される透光性バインダーは、上述のとおりであり、透明導電粒子としては、上記透明粒子中のインジウム錫酸化物ITO、アンチモンドープ酸化物ATOや、Al、In、Ga等をドープした酸化亜鉛等の粒子が挙げられる。有機EL素子2の製造方法本発明の有機EL素子の製造方法は、基材上に、金属ナノ粒子と添加物を含有する金属反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより金属反射膜を形成する工程、金属反射膜上に、透光性バインダーと透明導電性粒子とを含有する増反射透明膜兼透明導電層用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより増反射透明膜兼透明導電層を形成する工程、増反射透明膜兼透明導電層上に、発光層、および透明電極層を形成する工程、をこの順に含むことを特徴とする。増反射透明膜兼透明導電層を形成する工程以外の工程は、上記有機EL素子1の製造方法における工程と同様である。《増反射透明膜兼透明導電層用組成物》増反射透明膜兼透明導電層用組成物に含有される透光性バインダーおよび透明導電性粒子は、上述のとおりである。また、増反射透明膜兼透明導電層用組成物は、分散媒を含有し、分散媒は、金属反射膜用組成物の場合と同様である。透光性バインダーは、分散媒を除く増反射透明膜兼透明導電層用組成物:100質量部に対して、10~90質量部であると、好ましい。10質量部以上であれば、金属反射膜や透明導電層との接着力が良好であり、90質量部以下であると、成膜時の膜ムラが生じにくい。透明導電性粒子は、分散媒を除く増反射透明膜兼透明導電層用組成物:100質量部に対して、10~90質量部であると、好ましい。10質量部以上であると、増反射透明膜の屈折率および導電性を高くし易く、90質量部以下であると、増反射透明膜自体の強度、および金属反射膜や透明導電層との密着力を維持する。分散媒は、増反射透明膜兼透明導電層用組成物:100質量部に対して、50~99質量部であると、塗工性の観点から好ましい。増反射透明膜兼透明導電層用組成物は、本発明の本発明の目的を損なわない範囲で、さらに必要に応じ、酸化防止剤、レベリング剤、揺変剤、フィラー、応力緩和剤、その他の添加剤等を配合することができる。《増反射透明膜兼透明導電層の形成》金属反射膜上に、透光性バインダーを含有する増反射透明膜用組成物を、湿式塗工法により塗布する方法、焼成する方法は、金属反射膜の形成の場合と同様である。ここで、増反射透明膜兼透明導電層の厚さは、0.01~0.5μmであると、密着性および導電性の観点から好ましい。また、増反射透明膜の厚さの範囲が、上記を外れると、増反射効果および導電性が十分に得られないからである。以上により、本発明の有機EL素子2の製造方法は、透明導電層のみを形成する工程を省くことができ、かつ湿式塗工法を使用することにより、スパッタや真空蒸着等の真空成膜法を可能な限り排除できるため、より安価に金属反射膜および増反射透明膜兼透明導電層を形成することができ、本発明の有機EL素子2を、簡便に低コストで製造することができる。有機EL素子3次の本発明の有機EL素子は、金属反射膜と、増反射透明膜と、基材と、透明導電層と、発光層と、透明電極層と、をこの順に備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、金属反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物を含有し、かつ増反射透明膜が、透光性バインダーを含有することを特徴とする。この有機EL素子は、基材を挟んで、金属反射膜および増反射透明膜と、透明導電層および発光層が形成される。この場合、透明導電層、発光層、および透明電極層は、金属反射膜および増反射透明膜の凹凸の影響を受けずに平坦に形成することができるため、耐久性に優れ、また、層間リークによる不良を減らすことができる。図5に、この有機EL素子の断面構造の一例を示す。図5に示す有機EL素子300は、金属反射膜302と、増反射透明膜303と、基材301と、透明導電層304と、発光層305と、透明電極層306と、をこの順に備え、通常、透明電極層306上に封止剤307が形成される。図5では、増反射透明膜兼透明導電層303は、金属反射膜302側から順に、低屈折率増反射透明膜兼透明導電層303a、高屈折率増反射透明膜兼透明導電層303bからなる。金属反射膜、増反射透明膜、基材、透明導電層、発光層、透明電極層は、上述のとおりである。有機EL素子3の製造方法本発明の有機EL素子の製造方法は、基材上に、透光性バインダーを含有する増反射透明膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより増反射透明膜を形成する工程、増反射透明膜上に、金属ナノ粒子と添加物を含有する金属反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより金属反射膜を形成する工程、基材の増反射透明膜の反対面に、透明導電層、発光層、透明電極層を形成する工程、を含むことを特徴とする。各工程は、上記有機EL素子1の製造方法における工程と同様である。ここで、基材の増反射透明膜の反対面に、透明導電層、発光層、透明電極層を形成する工程の順番は、限定されないが、発光層の熱履歴による劣化を減らすため、金属反射膜を形成する工程の後に行う方が好ましい。以上により、本発明の有機EL素子3の製造方法は、湿式塗工法を使用することにより、スパッタや真空蒸着等の真空成膜法を可能な限り排除できるため、より安価に金属反射膜および増反射透明膜兼透明導電層を形成することができ、本発明の有機EL素子3を、簡便に低コストで製造することができる。以下に、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。金属反射膜用組成物の作製硝酸銀を脱イオン水に溶解して、金属塩水溶液を調製した。また、クエン酸ナトリウムを脱イオン水に溶解して、濃度が26質量のクエン酸ナトリウム水溶液を調製した。このクエン酸ナトリウム水溶液に、35°Cに保持された窒素ガス気流中で、粒状の硫酸第1鉄を直接加えて溶解させ、クエン酸イオンと第1鉄イオンを3:2のモル比で含有する還元剤水溶液を調製した。次に、上記窒素ガス気流を35°Cに保持しながら、還元剤水溶液中に、マグネチックスターラーの攪拌子を入れ、攪拌子の回転速度:100rpmで攪拌しながら、この還元剤水溶液に、上記金属塩水溶液を滴下して、混合した。ここで、還元剤水溶液への金属塩水溶液の添加量は、還元剤水溶液の量の1/10以下になるように、各溶液の濃度を調整して、室温の金属塩水溶液を滴下しても反応温度が40°Cに保持されるようにした。また、還元剤水溶液と金属塩水溶液との混合比は、金属塩水溶液中の金属イオンの総原子価数に対する、還元剤水溶液のクエン酸イオンと第1鉄イオンとのモル比が、いずれも3倍モルとなるようにした。還元剤水溶液への金属塩水溶液の滴下が終了した後、さらに、混合液の攪拌を15分間続けることにより、混合液内部に銀ナノ粒子を生じさせ、銀ナノ粒子が分散した銀ナノ粒子分散液を得た。銀ナノ粒子分散液のpHは5.5であり、分散液中の銀ナノ粒子の化学量論的生成量は5g/リットルであった。得られた銀ナノ粒子分散液を、室温で放置することにより、分散液中の銀ナノ粒子を沈降させ、沈降した銀ナノ粒子の凝集物をデカンテーションにより分離した。分離した銀ナノ粒子凝集物に、脱イオン水を加えて分散体とし、限外濾過により脱塩処理した後、さらにメタノールで置換洗浄して、金属銀の含有量を50質量にした。その後、遠心分離機を用い、この遠心分離機の遠心力を調整して、粒径が100nmを越える比較的大きな銀粒子を分離し、銀ナノ粒子分散液を得た。銀ナノ粒子の平均粒径を、堀場製作所製LB-550による動的光散乱法を用いて測定した結果、平均粒径は、35nmであった。得られた銀ナノ粒子は、クエン酸ナトリウムの保護剤が化学修飾されていた。次に、得られた金属ナノ粒子:10質量部を水、エタノール及びメタノールを含む混合溶液90質量部に添加混合することにより分散させ、この分散液に、ポリビニルピロリドンPVP、分子量:360,000、を金属ナノ粒子:96質量部、PVP:4質量部の割合となるように加えて、金属反射膜用組成物を作製した。SiO2結合剤の作製500cm3のガラス製の4つ口フラスコを用い、140gのテトラエトキシシランと、140gのエチルアルコールを加え、攪拌しながら、1.7gの60硝酸を120gの純水に溶解した溶液を一度に加え、その後50°Cで3時間反応させることにより、SiO2結合剤を製造した。低屈折率増反射透明膜用組成物の作製500cm3のガラス製の4つ口フラスコを用い、140gのトリメチルメトキシシランと、140gのメチルアルコールを加え、攪拌しながら、1.7gの60硝酸を120gの純水に溶解した溶液を、一度に加え、その後50°Cで3時間反応させることにより、平均粒径:10nmのシルセスキオキサン球状粒子を製造した。シルセスキオキサン球状粒子:5gと、SiO2結合剤:10gと、エタノール:85gを、200cm3のガラス瓶中に入れ、直径:0.3mmのジルコニアビーズミクロハイカ、昭和シェル石油製:100gを用いて、ペイントシェーカーで6時間分散することにより、SiO2結合剤とシルセスキオキサンを含有する低屈折率増反射透明膜用組成物表1に、SiO2結合剤シルセスキオキサンと記載を作製した。高屈折率増反射透明膜用組成物の作製SiO2結合剤:10gと、平均粒径:25nmのTiO2粒子:3gと、エタノール:87gを、200cm3のガラス瓶中に入れ、直径:0.3mmのジルコニアビーズミクロハイカ、昭和シェル石油製:100gを用いて、ペイントシェーカーで6時間分散することにより、SiO2結合剤とTiO2粒子を含有する高屈折率増反射透明膜用組成物表1に、SiO2結合剤TiO2粒子と記載を作製した。実施例1図2の構造をもつ有機EL素子を作製した。ガラス基板に、金属反射膜用組成物を、スピンコーティングで、1000rpm×60秒の条件で成膜を行い、その後、200°Cで30分焼成を行うことで、膜厚が約100nmの金属反射膜を形成した。その上に、高屈折率増反射透明膜用組成物をスピンコーティングで塗布し、170°Cで30分焼成を行うことにより、厚さ25nmの増反射透明膜を得た。その上に、スパッタによりITO透明導電層陽極、厚さ:150nmを形成し、その後、正孔輸送層N,N’-ジフェニルーN,N’-ジm-トリルベンジジン、厚さ:30nm、発光層ルブレン5重量をドープしたトリス8-キノリノラトアルミニウム、厚さ:30nm、電子輸送層トリス8-キノリノラトアルミニウム、厚さ:30nmを順次形成した。さらにその上に、透明電極層陰極としてAlLiを真空蒸着法により5nm成膜し、有機EL素子を得た。ここで、膜厚の測定は、日立ハイテクノロジーズ製走査型電子顕微鏡SEM、装置名:S-4300、SU-8000による断面観察により測定した。他の実施例、比較例においても、膜厚を同様に測定した。得られた有機EL素子の輝度、密着性、耐久性について評価を行った。輝度は、輝度計トプコン社製、型番:BM-9により、密着性は、テープ剥離試験JISK-5600-5-6に準ずる方法により行い、剥がれがない場合を○、剥がれがある場合を×にした。耐久性は、輝度が500cd/cm2以下になるまでの時間を測定した。表1に、結果を示す。実施例2図3の構造をもつ有機EL素子を作製した。ガラス基板に、金属反射膜用組成物を、スピンコーティングで、1000rpm×60秒の条件で成膜を行い、その後、200°Cで30分焼成を行うことで、膜厚が約100nmの金属反射膜を形成した。その上に、低屈折率増反射透明膜用組成物をスピンコーティングで塗布し、170°Cで30分焼成を行うことにより、厚さ25nmの低屈折率増反射透明膜を得た。その上に、高屈折率増反射透明膜用組成物を用いたこと以外は、低屈折率増反射透明膜と同様にして、高屈折率増反射透明膜:25nmを形成した。その上に、スパッタによりITO透明導電層陽極、厚さ:150nmを形成し、その後、正孔輸送層N,N’-ジフェニルーN,N’-ジm-トリルベンジジン、厚さ:30nm、発光層ルブレン5重量をドープしたトリス8-キノリノラトアルミニウム、厚さ:30nm、電子輸送層トリス8-キノリノラトアルミニウム、厚さ:30nmを順次形成した。さらにその上に、透明電極層陰極としてAlLiを真空蒸着法により5nm成膜し、有機EL素子を得た。得られた有機EL素子の輝度、密着性、耐久性を、実施例1と同様に評価した。表1に、結果を示す。実施例3~8表1に記載した組成で金属反射膜および増反射透明膜を形成したこと以外は、実施例2と同様にして作製し、評価を行った。ここで、ZrO2粒子の平均粒径は、30nm、ZnO粒子の平均粒径は、20nm、ITO粒子の平均粒径は、25nmであった。表1に、結果を示す。比較例1表1に示すように、添加物を添加しない銀ナノ粒子分散液を用いて金属反射膜を形成し、増反射透明膜を形成しないこと以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子を作製し、評価を行った。表1に、結果を示す。比較例2表1に示すように、増反射透明膜を形成しないこと以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子を作製し、評価を行った。表1に、結果を示す。比較例3表1に示すように、スパッタにより陰極として銀反射膜を形成し、増反射透明膜を形成しないこと以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子を作製し、評価を行った。表1に、結果を示す。表1から明らかなように、実施例1~8は、金属反射膜をスパッタ成膜した比較例3と同様に、金属反射膜の反射特性が高いため、有機EL素子の輝度が高く、金属反射膜の密着性も良好で、かつ有機EL素子の耐久性については比較例3と同等または上回るものであった。特に、より低い屈折率が低いシルセスキオキサンを低屈折率材料を用い、かつ添加剤として密着性が良好な金属アルコキシドまたは酢酸Znを用い、さらに高屈折増反射透明膜にZnOまたはTiO2を含有させた実施例4と8は、有機EL素子の輝度および耐久性が高かった。これに対して、添加物なしの金属ナノ粒子分散液を塗布した比較例1は、有機EL素子の初期の輝度が低く、金属反射膜の密着性が悪く、また有機EL素子の耐久性も非常に低いという結果であった。また、増反射透明膜を形成しない比較例2は、実施例1より有機EL素子の輝度が低く、耐久性も低かった。実施例9図4の構造をもつ有機EL素子を作製した。ただし、低屈折率増反射透明膜兼透明導電層は、形成しなかった。ITO透明導電層を形成せず、表2に記載した組成で増反射透明膜兼透明導電層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして、有機EL素子を作製し、評価を行った。表2に、結果を示す。実施例10~12図4の構造をもつ有機EL素子を作製した。ITO透明導電層を形成せず、表2に記載した組成で増反射透明膜兼透明導電層を形成したこと以外は、実施例2と同様にして、有機EL素子を作製し、評価を行った。ここで、ATO粒子の平均粒径は、30nm、であった。表2に、結果を示す。比較例4増反射透明膜兼透明導電層を形成しなかったこと以外は、実施例9と同様にして、有機EL素子を作製し、評価を行った。表2に、結果を示す。表2から明らかなように、増反射透明膜兼透明導電層を形成した実施例9~12は、透明導電層を備えなくても、金属反射膜の反射特性が高いため、有機EL素子の輝度が高く、金属反射膜の密着性が良好であり、かつ有機EL素子の耐久性が高かった。なお、実施例9は、実施例1より若干有機EL素子の初期の輝度が落ちる傾向であった。一方、増反射透明膜兼透明導電層を形成しない比較例4は、透明導電層がないため、ほぼ発光しなかった。実施例13図5の構造をもつ有機EL素子を作製した。ただし、低屈折率増反射透明膜は、形成しなかった。ガラス基板に、高屈折率増反射透明膜用組成物をスピンコーティングで塗布し、170°Cで30分焼成を行うことにより、厚さ25nmの高屈折率増反射透明膜を得た。その上に、金属反射膜用組成物を、スピンコーティングで、1000rpm×60秒の条件で成膜を行い、その後、200°Cで30分焼成を行うことで、膜厚が約100nmの金属反射膜を形成した。次に、図5に示すように、ガラス基板の増反射透明膜の反対面に、実施例1と同様にして、ITO透明導電層陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、透明電極層陰極を順次形成し、有機EL素子を得た。得られた有機EL素子の輝度、密着性、耐久性について評価を行った。表3に、結果を示す。実施例14~16図5の構造をもつ有機EL素子を作製した。ガラス基板に、SiO2結合剤およびTiO2粒子含有高屈折率増反射透明膜用組成物をスピンコーティングで塗布し、170°Cで30分焼成を行うことにより、厚さ25nmの高屈折率増反射透明膜を得た。その上に、シルセスキオキサン含有低屈折率増反射透明膜用組成物を用いたこと以外は高屈折率増反射透明膜と同様にして、低屈折率増反射透明膜:25nmを形成した。その上に、金属反射膜用組成物を、スピンコーティングで、1000rpm×60秒の条件で成膜を行い、その後、200°Cで30分焼成を行うことで、膜厚が約100nmの金属反射膜を形成した。次に、図5に示すように、ガラス基板の増反射透明膜の反対面に、実施例1と同様にして、ITO透明導電層陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層を順次形成し、さらにその上に、透明電極層陰極としてAlLiを真空蒸着法により5nm成膜し、有機EL素子を得た。得られた有機EL素子の輝度、密着性、耐久性について評価を行った。表3に、結果を示す。比較例5増反射透明膜を形成しなかったこと以外は、実施例13と同様にして、有機EL素子を得た。得られた有機EL素子の輝度、密着性、耐久性について評価を行った。表3に、結果を示す。表3から明らかなように、増反射透明膜および金属反射膜と、発光層を、ガラス基板をはさんで別の表面に備える実施例13~16は、金属反射膜の反射特性が高いため、有機EL素子の輝度が高く、金属反射膜の密着性が良好であり、有機EL素子の耐久性は非常に高かった。特に、より低い屈折率が低いシルセスキオキサンを低屈折率材料に用い、添加剤として密着性が良好な金属アルコキシドを用い、さらに高屈折増反射透明膜にTiO2を含有させた実施例16は、有機EL素子の輝度および耐久性が高かった。なお、実施例13~16は、実施例1~7と比較して、若干有機EL素子の輝度が落ちるものの、有機EL素子の耐久性は非常に高かった。一方、増反射透明膜を形成しない比較例5は、有機EL素子の輝度も耐久性も実施例13~16より低かった。本発明の有機EL素子は、金属ナノ粒子と添加物を含む金属反射膜により、耐久性を高くすることができ、増反射透明膜を備えることにより、スパッタと同等以上の輝度を達成することができる。したがって、有機EL素子から発生する熱や環境による金属反射膜の劣化が抑制することができ、非常に有用である。この金属反射膜および増反射透明膜は、湿式塗工法で作製可能であるので、製造工程を簡便にし、低コストにすることができる。"