"円柱状のスライドシャフトを下部に備え、被処理体を運ぶ搬送部材と、前記スライドシャフトと接して、前記搬送部材を誘導するU字状の溝部を備えた、複数のローラーからなる支持部材と、を備える被処理体の搬送機構であって、前記スライドシャフト及び前記ローラーのうちの一方の少なくとも接触部が、シリコン、アルミニウム、酸素、および窒素を含むバルク体から構成され、前記スライドシャフト及び前記ローラーのうちの他方の少なくとも接触部が、ステンレス鋼から構成されていることを特徴とする被処理体の搬送機構。前記バルク体は、さらに、イットリウム、カルシウム、マグネシウム、リチウム、ナトリウムのうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の被処理体の搬送機構。前記支持部材のU字状の溝部は、その曲率半径Rが15~40mmの範囲であることを特徴とする請求項1または2に記載の被処理体の搬送機構。前記支持部材により前記搬送部材を移動させる搬送速度は、1~3000mm/secの範囲であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の被処理体の搬送機構。前記支持部材により前記搬送部材を移動させる搬送加速度は、加速時に1200mm/sec2以下、減速時に-650mm/sec2以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の被処理体の搬送機構。前記搬送部材は、前記被処理体を縦型搬送することを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜装置。本発明は、このような従来の実情に鑑みて考案されたものであり、磨耗によるパーティクルの発生を抑制し、歩留まりを向上することが可能であり、装置の長寿命化を図ることが可能な被処理体の搬送機構を提供することを目的とする。本発明の第1態様に係る被処理体の搬送機構は、円柱状のスライドシャフトを下部に備え、被処理体を運ぶ搬送部材と、前記スライドシャフトと接して、前記搬送部材を誘導するU字状の溝部を備えた、複数のローラーからなる支持部材と、を備える被処理体の搬送機構であって、前記スライドシャフト及び前記ローラーのうちの一方の少なくとも接触部が、シリコン、アルミニウム、酸素、および窒素を含むバルク体から構成され、前記スライドシャフト及び前記ローラーのうちの他方の少なくとも接触部が、ステンレス鋼から構成されてもよい。本発明の第2態様に係る被処理体の搬送機構は、第1態様において、前記バルク体は、さらに、イットリウム、カルシウム、マグネシウム、リチウム、ナトリウムのうち少なくとも1つを含んでもよい。本発明の第3態様に係る被処理体の搬送機構は、第1または第2態様において、前記支持部材のU字状の溝部は、その曲率半径Rが15~40mmの範囲であってもよい。本発明の第4態様に係る被処理体の搬送機構は、第1乃至第3態様のいずれかにおいて、前記支持部材により前記搬送部材を移動させる搬送速度は、1~3000mm/secの範囲であってもよい。本発明の第5態様に係る被処理体の搬送機構は、第1乃至第4態様のいずれかにおいて、前記支持部材により前記搬送部材を移動させる搬送加速度は、加速時に1200mm/sec2以下、減速時に-650mm/sec2以下であってもよい。本発明の第6態様に係る成膜装置は、第1又は第2態様において、前記搬送部材は、被処理体を縦型搬送してもよい。本発明の態様に係る搬送機構は、減圧下又は大気圧下の使用環境に依存せず、磨耗によるパーティクルの発生を抑制することができる。本発明の態様に係る被処理体の搬送機構によれば、磨耗によるパーティクルの発生を抑制することができる。さらに、歩留まりを向上することが可能であり、さらに装置の長寿命化を図ることが可能な被処理体の搬送機構を提供することができる。以下、本発明の実施形態に係る被処理体の搬送機構について説明する。図1は、本発明の実施形態に係る被処理体の搬送機構を備えた成膜装置の一構成例を模式的に示す図である。この成膜装置1は、2つのL/UL室Load/Unload:仕込/取出10A,10B、順番に配されたトレー貯蔵室60、加熱室20、第1成膜室30、及び第2成膜室40を備える。また、L/UL室10A,10Bの前には、基板着脱室50が配されている。各室間はドアバルブ図示略を介して連通されている。また、これらL/UL室10A,10B、前記加熱室20、第1成膜室30には、それらの内部をそれぞれ真空排気するための真空排気装置12,22,32が、それぞれ独立して設けられている。基板着脱室50は、外部から運ばれてきた基板2被処理体をトレー70に取付ける。トレー70は、基板2を略直立させて固定保持し、その後、回転機構図示略によりL/UL室10A,10Bの方向に方向転換され、L/UL室10A,10Bに平行に搬入される。また、後述するように、基板着脱室50では、真空処理された基板2を載置したトレー70が、L/UL室10A,10Bから搬送されて来るので、この基板2をトレー70から取り外す。基板2が取り外されたトレー70は、次の基板2の搬送に利用される。L/UL室10A,10Bは、大気圧に開放された状態で、基板着脱室50とトレー70の仕込みと取り出しを行う。L/UL室10A,10Bには、その内部を真空排気するための真空排気装置12A,12Bがそれぞれ設けられている。一般に、L/UL室10A,10Bでは、トレー70の搬入搬出の他に、真空排気と大気圧開放が行われる。L/UL室10A,10Bにおける前記作業時間が、各真空処理室加熱室20及び成膜室30,40における真空処理加熱、成膜に要する加工時間よりも大幅に長い場合、L/UL室10A,10Bが単数である場合、トレー70の真空処理室への仕込みに手間取り、各真空処理室では真空処理が行えないブランクタイムが生じ、生産効率が低下するという問題が生じる。そこで、この成膜装置では、複数図示のものは2つのL/UL室10A、10Bと、加熱室20、成膜室30,40に送られるトレー70、及び、L/UL室10A、10Bに送り出されるトレー70を一時的に貯蔵しておくトレー貯蔵室60を設置している。これにより、生産効率の向上を図ることができる。加熱室20には加熱装置23が設けられており、基板2の成膜に適した温度まで昇温する。加熱室20には、その内部を真空排気するための真空排気装置22が設けられている。成膜室30,40では、成膜装置33,43により、基板2は成膜処理される。成膜装置33,43としては、特に限定されるものではないが、例えば、スパッタ用のカソードや、CVD用の平行平板型の電極が挙げられる。このような成膜装置1において、被処理体である基板2は、搬送部材により搬送されながら、加熱や成膜などの処理が施される。基板2を搬送する搬送部材は、基板2を保持するトレー70キャリアと、基板2が保持されたトレー70を搬送する線路80とを備える。また、搬送部材は、基板2を縦型搬送する。ここで、基板2が縦置きにされるのは、主として、大型の液晶ディスプレイやプラズマディスプレイが普及するに伴い、基板自体が大型化、薄型化しており、横置きの場合は成膜装置自体の平面積がそれに伴って大型化するので、縦型とすることで省スペース化を図る趣旨である。また、横置きの場合は、基板2の自重による撓みが生じ、平坦性を保持することが難しく、均一な成膜が困難となるためである。そして、この成膜装置1では、前記第1成膜室30には各々往路と復路からなる線路80があり、この線路80は全て、前記L/UL室10A,10B、前記加熱室20、及び成膜室30,40を貫通して配置されている。線路80は、第一線路81と、第二線路82とを備える。また、成膜装置1は、トレー70を第一線路81から第二線路82復路に、線路に対して横方向に移動させて移載する移動装置図示せずを備えている。この移動装置は、第一線路81上のトレー70を一旦持ち上げ、第二線路82に移載する機構を有している。図2は、トレー70の概略構成を示す斜視図である。図2に示すように、トレー70は、アルミニウムなどからなる枠状のフレーム71と、フレーム71の上辺に沿うように設けられたマグネット72と、フレーム71の下辺に沿うように設けられた円柱状のスライダシャフト73と、基板2の荷重を受け、かつ基板2の水平度を保持するための基板受け74と、基板2をトレー70に保持させるためのクランプ75と、基板2の周縁の非成膜領域を覆うためのマスク76とを備えている。線路80は、トレー70の荷重を支持しながらトレー70を搬送可能に構成された下部支持機構84と、トレー70の上部を非接触で支持可能に構成された上部支持機構88とを備えている。トレー70は、下部支持機構84および上部支持機構88により略垂直に保持された状態で移動可能に構成されている。図3及び図4は、下部支持機構84の構成を示す斜視図である。図3に示すように、下部支持機構84は、モータ85と、ローラー86とを備えている。図4に示すように、ローラー86は、トレー70を誘導するU字状の溝部86aを備えている。モータ85が駆動することで、ローラー86が回転し、ローラー86上をトレー70が水平移動するように構成されている。具体的には、トレー70の下部に設けられたスライダシャフト73がローラー86の溝部86aに係合し、トレー70が水平移動可能に構成されている。本発明の実施形態では、搬送機構を、スライダシャフト73とローラー86とで構成している。シャフト及びローラー方式を採用することで、ラック及びピニオン方式の搬送機構に比べて、大幅に磨耗量を削減することができる。また、本発明の実施形態では、ローラー86の溝部86aをU字形状とすることで、滑らかな搬送ができるとともに、スライドシャフト73とローラー86の磨耗を大幅に抑えることができ、磨耗によるダストの発生を低減できる。また、図5は、上部支持機構88の構成を示す説明図である。図5に示すように、上部支持機構88は複数のマグネット89が設けられている。そして、トレー70の上辺にもマグネット72が取り付けられており、マグネット89とマグネット72が垂直方向に対向するように、かつ互いのマグネット89,72が吸着しあうように配置される。このように構成することで、マグネット89,72同士が吸着しあい、トレー70を垂直状態に保持することが可能となる。つまり、基板2を垂直保持することにより、基板2の大型化に伴う成膜装置1の設置面積の増大を抑えることができるとともに、大型基板2のたわみによる影響を回避することができる。そして、本発明の実施形態に係る被処理体の搬送機構は、キャリア70のスライドシャフト73又は下部支持機構84のローラー86の一方の少なくとも接触部が、シリコンSi、アルミニウムAl、酸素Oおよび窒素Nを含むバルク体から構成され、スライドシャフト73又はローラー86の他方の少なくとも接触部が、ステンレス鋼SUSから構成されている。スライドシャフト73又はローラー86の接触部を上記のような材料により構成することで、スライドシャフト73とローラー86の磨耗を抑えることができ、磨耗によるダストの発生を低減できる。これにより歩留まりを向上できるとともに、装置の長寿命化を図ることができる。このようなシリコンSi、アルミニウムAl、酸素Oおよび窒素Nを含むバルク体としては、特に限定されるものではないが、例えばサイアロンSiAlONが、高温環境下での機械的強度、耐熱衝撃性、耐摩耗性に優れ、好ましい。本発明の実施形態に係る被処理体の搬送機構において、前記バルク体が、さらに、イットリウム、カルシウム、マグネシウム、リチウム、ナトリウムのうち少なくとも1つを含むことが好ましい。さらに、上記のような元素を含む材料を用いることにより、スライドシャフト73とローラー86の磨耗を大幅に抑えることができ、磨耗によるダストの発生を低減できる。ローラー86が有するU字状の溝部は、その曲率半径Rが20~34mmの範囲であることが好ましい。後掲する図16に示されるように、溝部の曲率半径Rが小さくなるほど、滑り係数は大きくなるのに対して、内部せん断応力は小さくなる傾向がある。摺動による磨耗を少なくするためには、曲率半径Rが大きい溝部が浅い方がよい。一方、転がり疲れによる削れを防止するためには、曲率半径Rが小さい溝部が深い方がよい。これらの滑り係数と内部せん断応力とを考慮し、溝部の曲率半径を所定範囲とすることで、転がり疲れによる削れと摺動による磨耗の双方を抑えることができる。例えば、溝部の曲率半径Rを、20mm≦R≦34mmとすることが好ましい。また、本発明の実施形態に係る被処理体の搬送機構において、前記トレー70搬送部材を移動させる搬送速度[mm/sec]は、減圧あるいは大気圧の何れの条件下においても、1~3000の範囲であることが好ましい。また、前記トレー70搬送部材を移動させるときの搬送加速度[mm/sec2]は、前記トレー70が加速する際には1200を越えると搬送ズレを起こすことがあり好ましくない。一方、前記トレー70が減速する際には650を越えると搬送ズレを起こすことがあり好ましくない。ただし、これらの数値は、前記トレー70の重量を240kgとした場合の実測データに基づくものである。そして、本発明の実施形態に係る被処理体の搬送機構を備えた成膜装置1は、第一線路81往路に沿って移動するトレー70搬送部材により、基板2被処理体は、前記L/UL室10A,10Bから前記トレー貯蔵室60、加熱室20を通して、成膜室30、40に運ばれ、成膜室30、40にて成膜した後、前記基板2を載置する搬送部材は、成膜室30、40の内部において、移動部材により第一線路81往路から第二線路81復路に移され、第二線路82に沿って成膜室30、40の内部から、前記加熱室20、トレー貯蔵室60を通して前記L/UL室10A,10Bへ運ばれる。このとき、本発明の実施形態に係る搬送機構では、スライドシャフトとローラーの接触部の材料を規定することで、スライドシャフトとローラー間の摩擦を小さくすることができる。これにより磨耗によるパーティクルの発生を抑制することができる。その結果、本発明の実施形態に係る被処理体の搬送機構では、歩留まりを向上できるとともに、装置の長寿命化を図ることができる。実験例以下、本発明の実施形態の効果を確認するために行った実験例に付いて説明する。搬送方式についての評価まず、大気中を走行する搬送経路において、シャフト及びローラー式の搬送経路実験例1とラック及びピニオン形式の搬送経路実験例2,3で、その磨耗量の違いについて測定、評価した。ラック及びピニオン、シャフト及びローラーは、いずれもSUS440Cから構成したものを用いた。また、ローラーが有する溝部の形状は、U字形状とした。260kgの負荷を加重させたトレーを、0.65m/秒の速さで、長さ12mの搬送経路を往復走行させ、ローラー1個当たりの磨耗粉量を測定した。なお、ラック及びピニオン形式の搬送経路においては、ラックとピニオンの動きを完全に同期させた場合実験例2と、完全に非同期させた場合実験例3とで行った。実験例1~実験例3について、搬送経路の往復回数と、ローラー1個当たりの磨耗粉量との関係を図6に示す。なお、磨耗粉量は、ローラー下に受け皿を配置し、電子天秤で測定した。図6から明らかなように、シャフト及びローラー搬送した実験例1では、ラック及びピニオン搬送した実験例2,3に比べて大幅に磨耗量を削減することができることがわかった。ローラー材料及び溝部形状についての評価以下の実験では、シャフト及びローラー形式の搬送経路について、ローラーの材質及び溝部の形状を各種変えて大気中で走行実験を行い、その磨耗量の違いについて測定、評価した。なお、シャフトの材質は全てSUS440Cで統一した。260kgの負荷を加重させたトレーを、0.65m/秒の速さで、長さ12mの搬送経路を往復走行させ、ローラー2個当たりの全磨耗粉量を測定した。実験例4ローラーの材質をAl2O3とした。実験例5ローラーの材質をSUS440C表面粗さRa:1.6μmとした。実験例6ローラーの材質をSUS440C表面粗さRa<0.4μmとした。実験例7ローラーの材質を、セラミック系材を使用したUSR-1とした。ここで、USR-1とは、シリコンSi、アルミニウムAl、酸素Oおよび窒素Nを含むバルク体に、さらに、元素Mイットリウム、カルシウム、マグネシウム、リチウム、ナトリウムのうち少なくとも1つを含有してなるセラミック系材の略称である。このセラミック系材における好適な組成[mol]の範囲は、0<Al<33、0<O<33、25<N<60、0<元素M<7、残部Siである。また、このセラミック系材における好適な物性値としては、3点曲げ強度[MPa]:>850、破壊靭性値[MPam1/2]:>5、ヤング率[GPa]:>290、嵩密度[gcm-3]:>3.2、等が挙げられる。実験例8ローラーの材質をSUS440Cとした。ただし、溝部の形状をV字形状とした。実験例4~実験例8について、搬送経路の往復回数と、ローラー2個当たりの全磨耗粉量との関係を図7に示す。図7から明らかなように、Al2O3からなる実験例4のローラーに比べて、SUS系材料からなる実験例5,6のローラーでは、磨耗量が抑えられていることがわかった。また、表面粗さRaの小さい実験例6では、表面粗さRaの大きい実験例5に比べて磨耗量が小さかった。さらに、USR-1からなる実験例7のローラーでは、SUS系材料からなるローラーよりも、磨耗量をさらに大幅に削減できることがわかった。また、ローラーが有する溝部の形状について、V字形状とした実験例8では、U字形状とした実験例5,6に比べて磨耗が大きい。これは、V字形状の溝部の左右で周速差が発生してしまったためと考えられる。これにより、溝部をU字形状とすることにより、滑らかな搬送が可能となることがわかった。サイアロンについての評価以下の実験では、シャフトローラー形式の搬送経路について、サイアロンSiAlONからなるローラーについて各種条件で走行実験を行い、その磨耗量の違いについて測定、評価した。260kgの負荷を加重させたトレーを、0.65m/秒の速さで、長さ12mの搬送経路を往復走行させ、ローラー2個当たりの全磨耗粉量を測定した。実験例9真空中で走行実験を行った。実験例10大気中で走行実験を行った。実験例11真空中、120°Cに加熱して走行実験を行った。実験例12真空中、2m/秒の速さで、高速走行させて走行実験を行った。実験例13SUS系材料からなるローラーを用いて、真空中で走行実験を行った。実験例9~実験例13について、往復回数と、ローラー2個当たりの全磨耗粉量との関係を図8~図12にそれぞれ示す。図8は真空中で走行実験を行った場合、図9は大気中で走行実験を行った場合、図10は加熱真空中で走行実験を行った場合、図11は真空中で高速走行実験を行った場合、図12は真空中で走行実験を行った場合、をそれぞれ表している。図8と図12とを比較して明らかなように、ローラの材質としてサイアロンを用いた実験例9では、SUS系材料からなるローラーを用いた実験例13に比べて、真空搬送においても磨耗量を大幅に削減できることがわかった。また、図9~図11から明らかなように、ローラの材質としてサイアロンを用いることで、大気搬送、真空加熱搬送、真空高速搬送のいずれにおいても磨耗量を大幅に削減できることがわかった。すなわち、ローラの材質としてサイアロンを用いることにより、使用される空間が減圧下、大気圧下すなわち、減圧雰囲気又は大気圧雰囲気の何れであっても、スライドシャフトとローラー間の摩擦を低く抑えられることが確認された。真空搬送と真空加熱搬送の組み合わせ走行についての評価以下の実験では、シャフトとローラーの材質の組み合わせを変えるとともに、真空中及び大気中で走行実験を行い、その磨耗量の違いについて測定、評価した。260kgの負荷を加重させたトレーを、0.65m/秒の速さで、長さ12mの搬送経路を往復走行させた。このとき、1.4×10-2Paにおける真空搬送を60万サイクルと、120°Cでの真空加熱搬送を20万サイクルと、を順に行い、ローラー2個当たりの全磨耗粉量を測定した。実験例14シャフト材質をSUSとし、ローラーの材質をサイアロンとした。実験例15シャフト材質をSUSとし、ローラーの材質をSUSとした。搬送経路の往復回数と、ローラー2個当たりの全磨耗粉量との関係を図13に示す。図13から明らかなように、ローラーの材質をSUSとした実験例15に比べて、ローラーの材質をサイアロンとした実験例14のローラーでは、真空搬送、真空加熱搬送の組み合わせ搬送においても磨耗量を大幅に削減できることがわかった。シャフト材料とローラー材料についての評価以下の実験では、シャフトとローラーの材質の組み合わせを各種変えて大気中で走行実験を行い、その磨耗量の違いについて測定、評価した。260kgの負荷を加重させたトレーを、0.65m/秒の速さで、長さ12mの搬送経路を往復走行させ、ローラー2個当たりの全磨耗粉量を測定した。実験例16シャフト材質をSUS440Cとし、ローラーの材質をSUS440C表面粗さRa:1.6μmとした。実験例17シャフト材質をSUS440Cとし、ローラーの材質をSUS440C表面粗さRa:0.2μmとした。実験例18シャフト材質をSUS440Cとし、ローラーの材質をUSR-1とした。実験例19シャフト材質をSUS304とし、ローラーの材質をUSR-1とした。実験例16~実験例19について、搬送経路の往復回数と、ローラー2個当たりの全磨耗粉量との関係を図14に示す。図14から明らかなように、シャフト、ローラーの双方ともSUS系材料からなる実験例16,17に比べて、一方をここではローラーUSR-1とした実験例18,19のローラーでは、磨耗量を大幅に削減できることがわかった。また、ローラーをSUS系材料とし、シャフトをUSR-1とした場合でも、同様の効果が得られると考えられる。真空搬送と大気搬送の組み合わせ走行についての評価以下の実験では、シャフトとローラーの材質の組み合わせを変えるとともに、真空中及び大気中で走行実験を行い、その磨耗量の違いについて測定、評価した。260kgの負荷を加重させたトレーを、0.65m/秒の速さで、長さ12mの搬送経路を往復走行させた。このとき、1.4×10-2Paにおける真空搬送を60万サイクルと、120°Cでの真空加熱搬送を10万サイクルと、大気搬送を20万サイクルと、真空高速搬送を20万サイクルと、を順に行い、ローラー21個当たりチャンバ2つ分に相当の全磨耗粉量を測定した。実験例20シャフト材質をSUS440Cとし、ローラーの材質をSUS440Cとした。実験例21シャフト材質をSUS440Cとし、ローラーの材質をUSR-1とした。実験例20~実験例21について、搬送経路の往復回数と、ローラー2個当たりの全磨耗粉量との関係を図15に示す。図15から明らかなように、シャフト、ローラーの双方ともSUS系材料からなる実験例20に比べて、一方をここではローラーUSR-1とした実験例21のローラーでは、真空搬送、真空加熱搬送、大気搬送、真空高速搬送の組み合わせ搬送においても磨耗量を大幅に削減できることがわかった。ローラーの溝部形状についての評価ローラーの溝部の曲率半径と、滑り係数及び内部せん断応力との関係について評価した。実験例22曲率半径R=∞平面、R=34mm、R=28mm、R=20mmの溝部を有するローラーについて、滑り量及び内部せん断応力をそれぞれ測定した。溝部の曲率半径Rと滑り係数及び内部せん断応力との関係を図16に示す。図16から明らかなように、溝部の曲率半径Rが小さくなるほど、滑り係数は大きくなり、一方、溝部の曲率半径Rが小さくなるほど、内部せん断応力は小さくなっている。摺動による磨耗を少なくするためには、曲率半径Rが大きい溝部が浅いほうがよい。一方、転がり疲れによる削れを防止するためには、曲率半径Rが小さい溝部が深いほうがよい。これらの滑り係数と内部せん断応力とを考慮し、溝部の曲率半径を所定範囲とすることで、転がり疲れによる削れと摺動による磨耗の双方を抑えることができる。例えば、曲率半径Rを20mm≦R≦34mmとすることが好ましい。本発明の実施形態では、搬送機構を、円柱状のスライドシャフトを下部に備え、前記被処理体を運ぶ搬送部材トレーと、前記スライドシャフトと接して、前記搬送部材を誘導するU字状の溝部を備えた、複数のローラーからなる支持部材と、から構成するとともに、前記スライドシャフトと前記ローラーの接触部の材料を規定することにより、使用される空間が減圧下、大気圧下すなわち、減圧雰囲気又は大気圧雰囲気の何れであっても、スライドシャフトとローラー間の摩擦を低くすることができる。これにより、本発明の実施形態に係る搬送機構は、減圧下又は大気圧下の使用環境に依存せず、磨耗によるパーティクルの発生を抑制することができる。以上、本発明の実施形態に係る被処理体の搬送機構について説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜変更が可能である。"