"水蒸気透過度が40°C90R.H.の条件下で0.03g/m2day以下のガスバリアフィルムを少なくとも2枚以上、接着剤層を介して貼り合わせた積層体の一方の面に、封止用のシール層を有するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムであって、前記ガスバリアフィルムは、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、且つ、前記透明バリア性薄膜層と前記バリア性塗布膜層とは、前記積層体のシール層側となる前記基材フィルムの一方の面に形成されていることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。ここで、水蒸気透過度は、JIS-K7129に準じた測定で得られる値である。前記基材フィルムは、厚みが6μm以上100μm以下のポリエステル基材であることを特徴とする請求項1に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。前記バリア性薄膜層は、真空成膜で形成された金属酸化物の薄膜からなることを特徴とする請求項1または2に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。前記バリア性塗布膜層は、湿式塗布加工方式で形成された薄膜からなることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。前記接着剤層は、1液または2液反応型のポリウレタン樹脂と3官能イソシアネートとを重合硬化させたものからなることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。前記シール層は、使用時剥離する剥離フィルムに粘着剤を湿式塗布加工方式で塗布して形成され、前記積層体の前記バリア性塗布膜層または前記透明バリア性薄膜層に転写されていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。前記シール層は、80°C以上で活性化して接着性を発揮する樹脂層で、接着剤を介して、または接着剤を介さずに直接、前記積層体の前記バリア性塗布膜層または前記透明バリア性薄膜層と貼り合せられていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。しかしながら、上記特許文献1の構成ではフィルムそのものの水蒸気バリア性は非常に高いが、この積層構成ではフィルムが硬く弾力性に欠け、貼り合わせ時の応力やプラスチック基材の膨張収縮などによりバリア層である無機物層に割れが生じてしまい、封止した後、水分がその割れた部分から浸入してしまう問題がある。また、特許文献2の構成はフレキシブル性は申し分ないが、吸湿性樹脂フィルムの表面に更に第2のガスバリア性樹脂フィルムを積層したとしてもまだ水蒸気バリア性が不十分である。本発明は上記した課題を解決するためになされたものであり、簡便な工程で作製することができ、水分の透過が少なく、封止も容易にできるEL素子封止用フィルムを提供することを課題としている。本発明の請求項1に係る発明は、水蒸気透過度が40°C90R.H.の条件下で0.03g/m2day以下のガスバリアフィルムを少なくとも2枚以上、接着剤層を介して貼り合わせた積層体の一方の面に、封止用のシール層を有するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムであって、前記ガスバリアフィルムは、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、且つ、前記バリア性薄膜層と前記バリア性塗布膜層とは、前記積層体のシール層側となる前記基材フィルムの一方の面に形成されていることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。ここで、水蒸気透過度は、JIS-K7129に準じた測定で得られる値である。また、本発明の請求項2に係る発明は、前記基材フィルムは、厚みが6μm以上100μm以下のポリエステル基材であることを特徴とする請求項1に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。また、本発明の請求項3に係る発明は、前記バリア性薄膜層は、真空成膜で形成された金属酸化物の薄膜からなることを特徴とする請求項1または2に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。また、本発明の請求項4に係る発明は、前記バリア性塗布膜層は、湿式塗布加工方式で形成された薄膜からなることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。また、本発明の請求項5に係る発明は、前記接着剤層は、1液または2液反応型のポリウレタン樹脂と3官能イソシアネートとを重合硬化させたものからなることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。また、本発明の請求項6に係る発明は、前記シール層は、使用時剥離する剥離フィルムに粘着剤を湿式塗布加工方式で塗布して形成され、前記積層体の前記バリア性塗布膜層または前記透明バリア性薄膜層に転写されていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。また、本発明の請求項7に係る発明は、前記シール層は、80°C以上で活性化して接着性を発揮する樹脂層で、接着剤を介して、または接着剤を介さずに直接、前記積層体の前記バリア性塗布膜層または前記透明バリア性薄膜層と貼り合せられていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。本発明のEL素子封止用フィルムは、水蒸気透過度が40°C90R.H.の条件下で0.03g/m2day以下のガスバリアフィルムを少なくとも2枚以上、接着剤層を介して貼り合わした積層体の一方の面に、封止用のシール層を有する構成であって、簡便な工程で作製することができる。また、本発明に係るガスバリアフィルムは、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、それ自身水分の透過が少ない。さらに、1枚のガスバリア性フィルムでは貼り合わせ時の応力やプラスチック基材の膨張収縮などに耐えらず、微小な水分を通す部分が発生してしまうが、その点をもう1枚のガスバリア性フィルムを貼りあわせることで保護することができる。且つ、この透明バリア性薄膜層とバリア性塗布膜層とが、積層体のシール層側となる基材フィルムの一方の面に形成されていることで、水分の透過が少なく、封止も容易にできるEL素子封止用フィルムを提供することができる。本発明のEL素子封止用フィルムを、一実施形態に基づいて以下に詳細に説明する。図1は、本発明のEL素子封止用フィルムの一実施形態例を断面で示した模式図である。図1に示すように、本発明のEL素子封止用フィルムは、水蒸気透過度が40°C90の条件下で0.03g/m2day以下で厚み6μm以上100μm以下のガスバリアフィルム10、20を2枚以上、接着剤層30を介して貼り合わせた積層体40の一方の面に、封止用のシール層50を有する構成である。図2及びbに示すように、ガスバリアフィルム10,20はそれぞれ、基材フィルム11、21の一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層12,22とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層13,23とを備え、且つ、図1に示すように、バリア性薄膜層12,22と前記バリア性塗布膜層13,23とは、積層体40のシール層50側となる基材フィルム11,21の一方の面に形成されている。水蒸気透過度が40°C90の条件下で0.03g/m2day以下のガスバリアフィルムは、一枚でも高いバリア性を有するが、前述したように、貼り合わせ時の応力や封止時の圧力などでバリア性薄膜層に多少の割れが発生する場合がある。本発明では、2枚以上の高いバリア性を有するフィルムを接着剤層で貼り合わせてあり、また、バリア性薄膜層は、その表面にポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、且つ、積層体のシール層側となる基材フィルムの一方の面に形成されていることで、バリア性薄膜層は柔軟性のある接着剤層又はシール層と近接する状態であり、バリア性薄膜層には割れは生じにくい、また、一枚目のガスバリアフィルムのバリア性薄膜層に割れが生じた場合でも二枚目のガスバリアフィルムがカバーすることで貼り合わせた後でも低い水蒸気透過度を保つことができる。前述したように、本発明に係るガスバリアフィルムは、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、且つ、バリア性薄膜層とバリア性塗布膜層とは、積層体のシール層側となる基材フィルムの一方の面に形成されている。基材フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリブチレンテレフタレートPBT,ポリシクロヘキサンジメタノール-テレフタレートPCTなどのポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテンなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、ナイロン6、ナイロン12などのポリアミド系樹脂フィルム、ポリビニルアルコールやエチレン-ビニルアルコール共重合体などのビニルアルコール系樹脂フィルム、パーフルオロアルコキシ樹脂PFA、4フッ化エチレン-6フッ化プロピレン共重合体FEP、パーフルオロエチレン-パーフルオロプロピレン-パーフルオロビニルエーテル三元共重合体EPE、エチレン-4フッ化エチレン共重合体ETFE、塩化-3フッ化エチレン樹脂PCTFE、ポリフッ化ビニリデンPVDF、ポリフッ化ビニルPVF等のフッ素樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、トリアセチルセルロースフィルム、シクロオレフィンフィルム、あるいはポリアクリルニトリル、アクリル系樹脂、メタクリル樹脂、ポリグリコール酸樹脂、ポリ乳酸樹脂から選択される樹脂フィルムが挙げられる。また、これらに限定されず、ポリサルホン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂など、耐熱性、強度物性、電気絶縁性等を考慮して適宜選択することが可能である。また基材フィルムは、上記した2種類以上の樹脂の混合物からなるフィルムや積層フィルムも用いられる。また、公知の添加剤、滑剤、可塑剤、安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤を添加することが可能であり、また、基材フィルムは延伸、未延伸のどちらでも良いが、連続的なバリア性薄膜の成膜加工への適性、他のガスバリアフィルムとの積層やシール層との積層等の後加工適性等を考慮すると、機械的強度や寸法安定性を有するものが良く、二軸方向に任意に延伸されたフィルムが好ましい。本発明においては、基材フィルムとしてより薄肉化できる点や強度、耐熱性、透明性ならびに安価なことから、厚みが6μm以上100μm以下のポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムが望ましい。上記基材フィルムには、必要に応じてコロナ放電処理等の易接着処理、プラズマ処理やイオンエッチング、フレーム処理などを施しても差し支えない。また、別途フィルム基材上に密着性のあるアンカーコート層やハードコート層などのコーティング処理を施すこともできる。この場合工程は増えることになるが、耐久性を上げるために必要な場合もある。具体的にはアクリル樹脂やウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられ、硬化方式は熱硬化、紫外線硬化、EB硬化などが挙げられる。続いて上記基材フィルムに形成する無機化合物からなるバリア性薄膜層について説明する。無機化合物からなるバリア性薄膜層は、水蒸気や酸素等のガスの透過を防ぐものである。バリア性薄膜層を形成する材料は特に限定されるものではなく、珪素、アルミニウム、クロム、マグネシウム等の金属の酸化物、窒化物、フッ化物や、錫含有酸化インジウムITOなどの複合酸化物、窒化物等、透明で且つ酸素、水蒸気等のガスバリア性を有するものが使用できる。なかでも、金属酸化物は好ましく用いることが出来、酸化アルミニウムAl2O3、酸化珪素SiOx、インジウムとスズの複合酸化物ITOが望ましく、その中でも、SiOxやITOは透明性、防湿性とも他の金属酸化物より優れているためより好ましい。また若干窒素が入ったSiOxNyでもよい。また混合された材料でもよい。金属酸化物等からなるバリア性薄膜層を基材フィルム上に形成する方法としては種々在り、抵抗加熱式真空蒸着法、EBElectronBeam加熱式真空蒸着法、誘導加熱式真空蒸着法等の真空蒸着法により形成することができる。また、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ化学気相堆積法PECVD法などを用いることも可能である。但し、生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかの方式を用いることが好ましい。また蒸着薄膜層と基材の密着性及び蒸着薄膜層の緻密性を更に向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。また、蒸着膜の透明性を上げるために蒸着の際、酸素等の各種ガスなど吹き込む反応蒸着を用いても一向に構わない。ガスバリア性薄膜層の厚さは、用いられる無機化合物の種類構成により最適条件が異なるが、一般的には1.0nm~300nmの範囲内が望ましく、5nm以上100nm以下であることが好ましく、さらには、10nm以上80nm以下であることが特に好ましい。ただし膜厚が5nm未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また膜厚が100nmを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、折り曲げ、引っ張り、あるいは温度変化による伸縮などの外的要因により、薄膜に亀裂クラックを生じるおそれがあるので問題がある。さらに、材料使用量の増加、膜形成時間の長時間化等に起因してコストが増加し、経済的観点からも好ましくない。次に、バリア性薄膜層上に形成するポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層について説明する。ポリビニルアルコールとしては一般的なポリ酢酸ビニルを鹸化して得られる市販のものを使用することができる。ポリビニルアルコールの具体例としては、株式会社クラレ製PVA110ケン化度=98~99、重合度=1100、PVA117ケン化度=98~99、重合度=1700、PVA124ケン化度=98~99、重合度=2400、PVA135Hケン化度=997以上、重合度=3500、同社製のRSポリマーRS-110ケン化度=99、重合度=1000、同社製のクラレポバールLM-20SOケン化度=40、重合度=2000、日本合成化学工業株式会社製のゴーセノールNM-14ケン化度=99、重合度=1400及びゴーセノールNH-18ケン化度=98~99、重合度=1700等を使用することができる。これらを適度な温度の水にて溶解させた後、コーティング剤として使用することが可能である。また、ポリビニルアルコールだけでは金属酸化物膜との密着が不十分な場合、R1M-OR2ただしR1、R2は炭素数1~8の有機基、Mは金属原子で表されるような金属アルコキシドを原料とする有機無機ハイブリッド材料を混合して使用しても差し支えない。MはSi、Al、Tiなどが望ましく、特にSiが望ましい。このポリビニルアルコールを金属酸化物層上に積層することで、貼り合わせ加工時に傷等が入りにくくなり、望ましい。以上説明したようにして、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備えた本発明に係るガスバリアフィルムが得られる。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は、本発明のエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムを構成するために、水蒸気透過度が40°C90R.H.の条件下で0.03g/m2day以下のガスバリアフィルムとして作製される。尚、水蒸気透過度は、JIS-K7129に準じた測定で得られた値である。次に、このガスバリアフィルムを少なくとも2枚以上、接着剤層を介して貼り合わせ積層体とする。この時、2枚以上のガスバリアフィルムのそれぞれのバリア性薄膜層とバリア性塗布膜層とが、積層体の後述する封止用のシール層側となるように積層する。接着剤層としては、一般的にはゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる方式が用いられる。中でも、1液または2液反応型のポリウレタン樹脂と3官能イソシアネートとを重合硬化させたものが好ましい。加工はドライラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等である。そのコーティング量としては、01~10g/m2乾燥状態程度が望ましい。貼り合わせた後は40~60°Cでエージングすることが望ましい。封止用のシール層は、接着剤によるドライラミネート法でのシール層の積層や、シール層の樹脂自体の押し出し成型による加工、もしくはコーティング法により形成することができる。ドライラミネート法や押し出し成型で適用されるシール層としては、80°C以上で活性化して接着性を発揮する樹脂層で、具体的には低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレ、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-アクリル酸エチル共重合体、エチレン-アクリル酸共重合体、エチレン-メタクリル酸共重合体、エチレン-プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、酸変性ポリオレフィンなどが挙げられる。これらのフィルムを接着剤によって上記した積層体に貼り合わせる、もしくは押し出し成型により直接積層体に加工することにより形成することができる。EL素子の封止時は、ロールラミネーター、加熱バーあるいは超音波シーラー等を用いて上記したシール層の樹脂層を80°C以上で活性化して使用する。コーティング法では粘着剤を加工することでシール層を形成することができる。この場合溶剤系、水系等は問わない。シール層としての粘着剤層は、積層体に直接形成することも出来るが、使用時剥離するシリコーン系等の剥離フィルムに粘着剤を湿式塗布加工方式で塗布して形成され、積層体のバリア性塗布膜層またはバリア性薄膜層側に転写される形で形成されるのが一般的である。粘着剤はアクリル系の粘着剤が光学的に望ましい。アクリル重合体は、過酸化物系重合開始剤を用いてアクリル単量体が重合されものである。アクリル単量体としては、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、イソノニルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート等のメタアクリル酸アルキルエステル単量体、メタアクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、無水フマル酸等のカルボキシル基含有単量体、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、ポリエチレングリコールメタアクリレート等の水酸基含有単量体などが挙げられる。なお、メタアクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートの総称である。過酸化物系重合開始剤は、単独で開裂して遊離ラジカルを生成するものである。生成したラジカルは不飽和二重結合への付加反応および水素引き抜き反応をすることで重合反応を起こす。過酸化物系重合開始剤は化学構造よりケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネートに分類され、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1-ジt-ヘキシルパーオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ジt-ヘキシルパーオキシシクロヘキサン、1,1-ジt-ブチルパーオキシ-2-メチルシクロヘキサン、1,1-ジt-ブチルパーオキシシクロヘキサン、2,2-ジt-ブチルパーオキシブタン、n-ブチル4,4-ジ-t-ブチルパーオキシバレレート、2,2-ジ4,4-ジ-t-ブチルパーオキシシクロヘキシルプロパン、p-メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3-テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド、ジ2-t-ブチルパーオキシイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジt-ブチルパーオキシヘキサン、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジ-t-ヘキシルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2.5-ジt-ブチルパーオキシヘキシン-3、ジイソブチリルパーオキサイド、ジ3,5,5-トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ジアウロイルパーオキサイド、ジコハク酸パーオキサイド、ジ-3-メチルベンゾイルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ4-メチルゼンゾイルパーオキサイド、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ4-t-ブチルシクロヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ2-エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ-sec-ブチルパーオキシジカーボネートなどが挙げられる。これら重合開始剤は1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。アクリル単量体を重合する際には、例えば、溶液重合法を適用することができる。その際に使用される溶媒としては、例えば、酢酸エチル、トルエン、ヘキサン、アセトン、メチルエチルケトンMEKなどが挙げられる。また、溶液重合法以外の方法、具体的には、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法で重合しても構わない。また、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、これらのポリオールとジイソシアネートとの反応物であるポリウレタンポリオール、多価アルコールのポリエーテル付加物等を共に重合させても差し支えない。また架橋剤としてイソシアネートを使用しても差し支えない。イソシアネートでも特にヘキサメチレンジイソシアネートのプレポリマーであるアダクト体、ビゥレット体、ヌレート体が望ましい。粘着剤層の塗工方式としては公知の方法を用いることができる。具体的にはグラビアコーター、コンマコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等である。粘着剤の加工は、前述したように、一般には使用時剥離するシリコーン系等の剥離フィルムに粘着剤を湿式塗布加工方式で塗布して形成し、積層体のバリア性塗布膜層またはバリア性薄膜層側に転写される形で形成される。EL素子の封止時は、上記した剥離フィルムを除いて、粘着剤面を出して使用する。以下に、本発明の具体的実施例について説明する。<実施例1>EL素子としては、有機EL素子を作製して評価を行った。真空成膜法によりガラス基板上に透明電極を成膜し、その上に正孔輸送層、発光層である有機EL層、背面電極を順次形成して有機EL素子を作製した。以下に、ガスバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、16μmPETフィルムE5107に真空蒸着法によりSiOx層を50nm形成した。その上層にポリビニルアルコールを含む膜を0.3μm加工し、ガスバリア性フィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は0.03g/m2dayだった。このガスバリアフィルム2枚を、乾燥膜厚6μmのポリエステル系接着剤で貼り合わせ、40°Cで1週間エージングを行った。その後、真空蒸着にて加工した面にアクリル系粘着剤を乾燥膜厚10μmの厚さでグラビアコーティングにて加工した。グローブボックス内でこのアクリル系粘着剤の面を有機EL素子の有機EL層に60°Cに加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより80°Cでプレスし、封止した。このようにして得られた有機EL素子を、60°C90R.H.の条件にて放置し、EL発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの直径が0.03mm未満のものを○、それ以上のもの×とした。評価結果を表1に記す。<実施例2>EL素子は、実施例1と同様に作製した。以下にバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、16μmPETフィルムE5107に真空蒸着法によりSiOx層を50nm形成した。その上層にテトラエトキシシランの加水分解物とポリビニルアルコールを含む膜を0.3μm加工し、ガスバリアフィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は0.02g/m2dayだった。このガスバリアフィルム2枚を乾燥膜厚6μmのポリエステル系接着剤で貼り合わせ、40°Cで1週間エージングを行った。その後、真空蒸着にて加工した面にアクリル系粘着シート20μmをロールラミネートした。グローブボックス内でそのアクリル系粘着シート面を有機EL層に60°Cに加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより80°Cでプレスし、封止した。このようにして得られた有機EL素子を、60°C90R.H.の条件にて放置し、EL発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの評価は実施例1と同様である。結果を表1に記す。<実施例3>EL素子は、実施例1と同様に作製した。以下にバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、16μmPETフィルムE5107に真空蒸着法によりSiOx層を50nm形成した。その上層にテトラエトキシシランの加水分解物とポリビニルアルコールを含む膜を0.3μm加工し、さらにその上層に真空蒸着法によりSiOx層を50nm形成し、ガスバリア性フィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は0.01g/m2dayだった。このガスバリアフィルム2枚を乾燥膜厚6μmのポリエステル系接着剤で貼り合わせ、40°Cで1週間エージングを行った。そして真空蒸着にて加工した面にアクリル系粘着シート20μmをロールラミネートした。グローブボックス内でそのアクリル系粘着シート面を有機EL層に60°Cに加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより80°Cでプレスし、封止した。このようにして得られた有機EL素子を、60°C90R.H.の条件にて放置し、EL発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの評価は実施例1と同様である。結果を表1に記す。<比較例1>EL素子は、実施例1と同様に作製した。以下にバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、16μmPETフィルムE5107に真空蒸着法によりSiOx層を50nm形成した。その上層ポリビニルアルコールを含む膜を0.3μm加工し、ガスバリア性フィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は0.02g/m2dayだった。そのガスバリア性フィルム1枚のみを用いて、真空蒸着にて加工した面にアクリル系粘着シート20μmをロールラミネートした。グローブボックス内でそのアクリル系粘着シート面を有機EL層に60°Cに加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより80°Cでプレスし、封止した。このようにして得られた有機EL素子を、60°C90R.H.の条件にて放置し、EL発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの評価は実施例1と同様である。結果を表1に記す。<比較例2>EL素子は、実施例1と同様に作製した。以下にバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、16μmPETフィルムE5107に真空蒸着法によりSiOx層を50nm形成し、ガスバリア性フィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は0.30g/m2dayだった。そのガスバリア性フィルム2枚を乾燥膜厚6μmのポリエステル系接着剤で貼り合わせ、40°Cで1週間エージングを行った。真空蒸着にて加工した面にアクリル系粘着シート20μmをロールラミネートした。グローブボックス内でそのアクリル系粘着シート面を有機EL層に60°Cに加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより80°Cでプレスし、封止した。このようにして得られた有機EL素子を、60°C90R.H.の条件にて放置し、EL発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの評価は実施例1と同様である。結果を表1に記す。<比較例3>EL素子は、実施例1と同様に作製した。以下にバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、16μmPETフィルムE5107にポリビニルアルコールを1μm形成し、ガスバリア性フィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は45g/m2day以上だった。そのガスバリア性フィルム2枚を乾燥膜厚6μmのポリエステル系接着剤で貼り合わせ、40°Cで1週間エージングを行った。ポリビニルアルコールにて加工した面にアクリル系粘着シート20μmをロールラミネートした。グローブボックス内でそのアクリル系粘着シート面を有機EL層に60°Cに加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより80°Cでプレスし、封止した。このようにして得られた有機EL素子を、60°C90R.H.の条件にて放置し、EL発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの評価は実施例1と同様である。結果を表1に記す。<評価結果>表1に示した結果から、比較例1のように、それ自身が水蒸気透過度が40°C90R.H.の条件下で0.03g/m2day以下の高性能ガスバリアフィルムを1枚使用した場合ではダークスポット発生を抑止できなかったが、実施例1~3のように、水蒸気透過度が40°C90R.H.の条件下で0.03g/m2day以下の高性能ガスバリアフィルムを2枚使用することにより、高温高湿の雰囲気下でダークスポットの発生を大幅に低減することができた。実施例1,2,3の比較からは、2枚以上のガスバリアフィルムを使用する場合でも、それを構成する1枚のガスバリア性が高いものを使用したほうがより効果が大きいことがわかる。"