"1対の同軸状電極間に管状放電を形成してプラズマを軸方向に封じ込めるプラズマ光源の製造方法であって、各同軸状電極は、単一の軸線上に延びる棒状の中心電極と、中心電極を間隔を隔てて囲む管状のガイド電極と、中心電極とガイド電極の間に位置しその間を絶縁する絶縁体とからなり、前記絶縁体は、内側と外側の絶縁性緻密部分と、その間に挟持された導電性多孔部分とからなり、導電性多孔部分は、A導電性金属の微粒子を焼結して多孔体に成形し、B前記多孔体の形状を機械加工し、C多孔体における前記プラズマと対向する面及び反対面を、電解エッチングすることによって製造される、ことを特徴とするプラズマ光源の製造方法。前記導電性金属は、タングステン、チタン、銅のいずれかからなる、ことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ光源の製造方法。前記電解エッチングは、電解液の溶質として水酸化ナトリウムを使用し、かつ、正極に前記絶縁体、負極にチタン電極を用いる、ことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ光源の製造方法。特許文献1~3に開示されたプラズマ光源は、1対の対向する同軸状電極間でプラズマを封じ込める構造のものであり、2つ同軸状電極から進展する面状放電電流シートを、同軸状電極間の中央部で衝突させ、かつ電流路の繋ぎ変えにより、プラズマの封じ込めを行うものである。ここで、プラズマ媒体の供給は、同軸状電極を構成する中心電極とガイド電極の間を絶縁体である多孔質セラミックで構成し、多孔質セラミックを通して同軸状電極内にプラズマ媒体例えばリチウムを供給していた。そのために、多孔質セラミックについて、焼結後に機械加工することによって寸法精度を調整する必要があった。しかし、上記機械加工を行う際において、発生したバリが多孔部を覆ってしまうため、絶縁体の表面部に微細孔が現れない状態となってしまうことがあった。そのため、部品最表面部における液体リチウムの浸み出しの均一性が損なわれるという問題を有していた。本発明は、かかる問題点を解決するために創案したものである。すなわち、本発明の目的は、多孔体金属の表面において発光物質の浸み出しが均一化されたプラズマ光源製造方法を提供することにある。本発明によれば、1対の同軸状電極間に管状放電を形成してプラズマを軸方向に封じ込めるプラズマ光源の製造方法であって、各同軸状電極は、単一の軸線上に延びる棒状の中心電極と、中心電極を間隔を隔てて囲む管状のガイド電極と、中心電極とガイド電極の間に位置しその間を絶縁する絶縁体とからなり、前記絶縁体は、内側と外側の絶縁性緻密部分と、その間に挟持された導電性多孔部分とからなり、導電性多孔部分は、A導電性金属の微粒子を焼結して多孔体に成形し、B前記多孔体の形状を機械加工し、C多孔体における前記プラズマと対向する面及び反対面を、電解エッチングすることによって製造される、ことを特徴とするプラズマ光源の製造方法が提供される。また、本発明によれば、前記導電性金属は、タングステン、チタン、銅のいずれかからなる。また、本発明によれば、前記電解エッチングは、電解液の溶質として水酸化ナトリウムを使用し、かつ、正極に前記絶縁体、負極にチタン電極を用いる。上記本発明の方法によれば、電解エッチングすることによって、導電性多孔部分の表面に微細孔が現れている状態にすることで、導電性多孔部分の表面において発光物質の浸み出しが均一化される。以下、本発明の好ましい実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、各図において共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。図1は、本発明によるプラズマ光源の原理図である。この図において、本発明のプラズマ光源は、1対の同軸状電極10、放電環境保持装置20、及び電圧印加装置30を備える。1対の同軸状電極10は、対称面1を中心として対向配置されている。各同軸状電極10は、棒状の中心電極12、管状のガイド電極14及びリング状の絶縁体16からなる。棒状の中心電極12は、単一の軸線Z-Z上に延びる導電性の電極である。この例において、中心電極12の対称面1に対向する端面は円弧状になっている。なお、この構成は必須ではなく、端面に凹穴を設け、後述する面状放電2と管状放電4を安定化させるようにしてもよく、或いは平面でもよい。ガイド電極14は、中心電極12の対向する先端部を一定の間隔を隔てて囲み、その間にプラズマ媒体を保有するようになっている。ガイド電極14は、この例では、対称面1側に位置する小径中空円筒部分14aと、その反対側に位置し小径中空円筒部分14aより大径の大径中空部分14bとからなる。また、ガイド電極14の対称面1に対向する小径中空円筒部分14aの端面は、この例では円弧状であるが平面でもよい。プラズマ媒体は、この例ではSn,Li等の常温で固体のプラズマ媒体であるのがよい。リング状の絶縁体16は、中心電極12とガイド電極14の間に位置する中空円筒形状の電気的絶縁体であり、中心電極12とガイド電極14の間を電気的に絶縁する。絶縁体16は、この例では、小径中空円筒部分14aの内側に嵌合する小径部分と、大径中空部分14bの内側に嵌合する大径部分とからなる。なお、絶縁体16の形状はこの例に限定されず、中心電極12とガイド電極14の間を電気的に絶縁する限りで、その他の形状であってもよい。上述した1対の同軸状電極10は、各中心電極12が同一の軸線Z-Z上に位置し、かつ互いに一定の間隔を隔てて対称に位置する。放電環境保持装置20は、同軸状電極10内にプラズマ媒体を供給し、かつプラズマ発生に適した温度及び圧力に同軸状電極10を保持する。プラズマ発生に適した温度は、例えば0~300°Cであり、プラズマ発生に適した圧力は、例えば1~10×10-6torrの真空度である。放電環境保持装置20は、例えば、真空チャンバー22、排気装置24、ガス供給系、温度調節器、及びプラズマ媒体供給装置により構成することができる。なお、真空チャンバー22と排気装置24は必須であるが、ガス供給系、温度調節器、及びプラズマ媒体供給装置は必須ではない。電圧印加装置30は、各同軸状電極10に極性を反転させた放電電圧を印加する。電圧印加装置30は、この例では、正電圧源32、負電圧源34及びトリガスイッチ36からなる。正電圧源32は、一方この例では左側の同軸状電極10の中心電極12にそのガイド電極14より高い正の放電電圧を印加する。負電圧源34は、他方この例では右側の同軸状電極10の中心電極12にそのガイド電極14より低い負の放電電圧を印加する。トリガスイッチ36は、正電圧源32と負電圧源34を同時に作動させて、それぞれの同軸状電極10に同時に正負の放電電圧を印加する。この構成により、本発明のプラズマ光源は、1対の同軸状電極10間に管状放電後述するを形成してプラズマを軸方向に封じ込めるようになっている。図2Aは、図1の同軸状電極の拡大図である。この図において、絶縁体16は、液化したプラズマ媒体が連続して浸透できない絶縁性緻密部分16aセラミックス等と、液化したプラズマ媒体が連続して浸透する導電性多孔部分16bとを一体成型した部品である。絶縁性緻密部分16aはアルミナ等の絶縁性セラミックスであり、導電性多孔部分16bを構成する導電性金属は、タングステン、チタン、銅等の導電性金属であることが好ましい。また絶縁性緻密部分16aの粒径及び焼成温度は、液化したプラズマ媒体が連続して浸透できないように設定する。さらに導電性多孔部分16bの粒径及び焼成温度は、液化したプラズマ媒体が連続して浸透するように設定する。絶縁性緻密部分16aは、プラズマ媒体を内部に保有するリザーバー18を有してもよい。この場合において、リザーバー18は、絶縁性緻密部分16aの内部に設けられ、軸線Z-Zを中心とする中空円筒形の空洞である。また、リザーバー18は、閉鎖板15で閉じられ、この閉鎖板15は、中心電極12の背面側に設けられたネジ軸12aと螺合するナット13により、着脱可能に固定されている構成であることが望ましい。この構成により、閉鎖板15の着脱により、リザーバー18にプラズマ媒体を適宜補給することができるようになるなお、閉鎖板15は液化したプラズマ媒体の温度に耐える耐熱金属板又は耐熱セラミックであるのがよい。この構成により、閉鎖板15の着脱により、リザーバー18にプラズマ媒体を適宜補給することができる。上述したプラズマ光源を用い、絶縁体16をプラズマ媒体6Sn,Li等が溶融して導電性多孔部分16bを拡散、浸みだしできる温度に維持し、同軸状電極間の絶縁体表面部にプラズマ媒体の薄膜を形成する。また、電極導体中心電極12とガイド電極14をプラズマ媒体6の蒸気が凝集しない高温に維持する。なお、絶縁性緻密部分16aと導電性多孔部分16bの形状はこの例に限定されず、中心電極12とガイド電極14の間を電気的に絶縁する限りで、その他の形状であってもよい。図2Bは、導電性多孔部分16bの部分拡大図である。この図において、導電性多孔部分16bは、プラズマ側表面部16cと閉鎖板側表面部16dを有している。導電性多孔部分16bは、導電性金属の微粒子例えば、タングステン微粒子を焼結したものを機械加工した際に発生するバリを取り除くために、プラズマ側表面部16c及び閉鎖板側表面部16dまたはいずれか一方に対して電解エッチングを行っている。これによって、部品表面の多孔部を覆っていたバリを除去することができるため、発光物質例えば、液体リチウムの浸み出しの均一化を維持することができるという効果がある。なお、この例においては、電解エッチングは、水酸化ナトリウムを電解液として用い、正極に対象物品導電性多孔部分16b、負極にチタン電極を用い、さらに、電解電圧は10V程度の条件で実施している。図3は、本発明によるプラズマ光源の作動説明図である。この図において、Aは面状放電の発生時、Bは面状放電の移動中、Cはプラズマの形成時、Dはプラズマ封込み磁場の形成時を示している。以下、この図を参照して、本発明のプラズマ光源の製造方法を説明する。本発明のプラズマ光源の製造方法では、上述した1対の同軸状電極10を対向配置し、放電環境保持装置20により同軸状電極10内をプラズマ発生に適した温度及び圧力に保持し、電圧印加装置30により各同軸状電極10に極性を反転させた放電電圧を印加する。図3Aに示すように、この電圧印加により、1対の同軸状電極10に絶縁体16の表面でそれぞれ面状の放電電流以下、面状放電2と呼ぶが発生する。面状放電2は、2次元的に広がる面状の放電電流である。なおこの際、左側の同軸状電極10の中心電極12は正電圧、ガイド電極14は負電圧-に印加され、右側の同軸状電極10の中心電極12は負電圧-、そのガイド電極14は正電圧に印加されている。なお、両方のガイド電極14を接地させて0Vに保持し、一方の中心電極12を正電圧に印加し、他方の中心電極12を負電圧-に印加してもよい。また本発明において、絶縁体16は、プラズマ媒体を主成分とする常温で固体の絶縁化合物で構成されているので、面状放電2により、絶縁化合物の表面が気化してプラズマ媒体6として同軸状電極間に供給される。図3Bに示すように、面状放電2は、自己磁場によって電極から排出される方向図で中心に向かう方向に移動する。図3Cに示すように、面状放電2が1対の同軸状電極10の先端に達すると、1対の面状放電2の間に挟まれたプラズマ媒体6が高密度、高温となり、各同軸状電極10の対向する中間位置中心電極12の対称面1に単一のプラズマ3が形成される。さらに、この状態において、対向する1対の中心電極12は、正電圧と負電圧-であり、同様に対向する1対のガイド電極14も、正電圧と負電圧-であるので、図3Dに示すように、面状放電2は対向する1対の中心電極12同士、及び対向する1対のガイド電極14の間で放電する管状放電4に繋ぎ換えられる。ここで、管状放電4とは、軸線Z-Zを囲む中空円筒状の放電電流を意味する。この管状放電4が形成されると、図に符号5で示すプラズマ封込み磁場磁気ビンが形成され、プラズマ3を半径方向及び軸方向に封じ込むことができる。すなわち、磁気ビン5はプラズマ3の圧力により中央部は大きくその両側が小さくなり、プラズマ3に向かう軸方向の磁気圧勾配が形成され、この磁気圧勾配によりプラズマ3は中間位置に拘束される。さらにプラズマ電流の自己磁場によって中心方向にプラズマ3は圧縮Zピンチされ、半径方向にも自己磁場による拘束が働く。この状態において、プラズマ3の発光エネルギーに相当するエネルギーを電圧印加装置30から供給し続ければ、高いエネルギー変換効率で、プラズマ光8EUVを長時間安定して発生させることができる。上述した本発明の方法によれば、電解エッチングすることによって、導電性多孔部分16bの表面に微細孔が現れている状態にすることで、導電性多孔部分16bの表面において発光物質の浸み出しが均一化される。なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。"