"マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、ミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有する少なくとも1つのミラー配列200と、第1のλ/2板310,810,910と少なくとも1つの第2のλ/2板320,920,930とを含む偏光影響光学配置300,800,900と、を含むことを特徴とする光学系。前記第1のλ/2板310と前記第2のλ/2板320は、光伝播方向に関して光学系内に連続して配置されることを特徴とする請求項1に記載の光学系。前記第1のλ/2板310と前記第2のλ/2320は、それらの相対位置において互いに対して変位可能であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学系。前記第1のλ/2板310及び前記第2のλ/2板320の互いに対するそれらの相対位置における変位機能が、該λ/2板の少なくとも一方の平行移動変位及び/又は該λ/2板の少なくとも一方の回転を含むことを特徴とする請求項3に記載の光学系。前記第1のλ/2板310及び前記第2のλ/2板320の互いに対するそれらの相対位置における前記変位機能は、互いに異なる空間方向、特に互いに垂直の空間方向に実行することができることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の光学系。前記第1のλ/2板310と前記第2のλ/2板320は、前記光伝播方向に可変である重ね合わせ度を伴って互いに対して変位可能であることを特徴とする請求項3から請求項5のいずれか1項に記載の光学系。前記第1のλ/2板310及び/又は前記第2のλ/2板320は、それぞれの該λ/2板が前記ミラー配列200の光学的有効領域の完全に外側にある第1の位置と、該それぞれのλ/2板が該ミラー配列200の該光学有効領域の完全に内側に配置される第2の位置との間で変位可能であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。前記第1のλ/2板310は、複屈折の第1の速軸fa-1を有し、前記第2のλ/2板320は、複屈折の第2の速軸fa-2を有し、前記第1の速軸fa-1の向きと前記第2の速軸fa-2の向きが、互いに異なっている、ことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学系。前記第1の速軸fa-1と前記第2の速軸fa-2は、互いに対して45°±5°の角度で配置されることを特徴とする請求項8に記載の光学系。前記第1の速軸fa-1は、前記配列300上に入射する光ビームの優先偏光方向に対して22.5°±2°の角度で延び、前記第2の速軸fa-2は、該配列300上に入射する光ビームの該優先偏光方向に対して-22.5°±2°の角度で延びることを特徴とする請求項8又は請求項9に記載の光学系。前記第1のλ/2板310のみを通過する第1の直線偏光光ビームの振動平面が、第1の回転角を通して回転され、前記第2のλ/2板320のみを通過する第2の直線偏光光ビームの該振動平面は、第2の回転角を通して回転され、該第1の回転角は、該第2の回転角とは異なることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の光学系。前記第1の回転角と前記第2の回転角は、量に関して同じであり、かつ反対の符号のものであることを特徴とする請求項11に記載の光学系。前記第1のλ/2板310と前記第2のλ/2板320は、互いに重なる領域内で90°回転子を形成することを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の光学系。前記偏光影響光学配置300は、厳密に2つのλ/2板310,320を有することを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の光学系。前記偏光影響光学配置800,900は、少なくとも3つ、特に少なくとも7つのλ/2板810,820,830;910~970を有することを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の光学系。前記偏光影響光学配置300,800,900は、それが、該光学系の作動時に前記ミラー配列200との組合せで、該配置上に入射する光ビームの光ビーム断面にわたって一定である優先偏光方向を有する直線偏光分布を近似的にタンジェンシャルな偏光分布に変換する方法で調節可能であることを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の光学系。光学活性材料から生成され、かつ変化する厚みプロフィールを有する偏光影響光学要素400を更に有することを特徴とする請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の光学系。マイクロリソグラフィ投影露光装置であって、照明系と、投影対物系と、を含み、前記照明系110及び/又は前記投影対物系130は、請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の光学系を有する、ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。照明系10の光源を用いて生成された光が、投影対物系20の物体平面を照明するための投影露光装置に給送され、かつ該物体平面が、該投影対物系20を用いて該投影対物系20の像平面内に結像されるマイクロリソグラフィ露光方法であって、照明系において、ミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有する少なくとも1つのミラー配列200と、第1のλ/2板310,810,910と少なくとも1つの第2のλ/2板320,920,930とを含む偏光影響光学配置300,800,900と、が使用される、ことを特徴とする方法。少なくとも2つの互いに異なる照明設定が、前記第1のλ/2板310,810,910と前記第2のλ/2板320,920,930との相対位置を変更することによって調節されることを特徴とする請求項19に記載の方法。前記照明設定のうちの少なくとも1つを調節する時に、前記第1のλ/2板310,810,910と前記第2のλ/2板320,920,930は、それらが前記光伝播方向に部分的に互いに重なって少なくとも1つの重複領域及び少なくとも1つの非重複領域を形成するように配置されることを特徴とする請求項20に記載の方法。前記照明設定のうちの前記少なくとも1つを調節するために、前記重複領域及び同じく前記非重複領域の両方が、少なくとも部分的に照明されることを特徴とする請求項21に記載の方法。前記ミラー配列200の異なるミラー要素によって反射され、かつ前記偏光影響配列300の作用の結果として異なる偏光方向を有する少なくとも2つのビーム部分が、相互に重ね合わされることを特徴とする請求項19から請求項22のいずれか1項に記載の方法。微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ生産のための処理であって、感光材料の層が少なくとも部分的に付加された基板40を準備する段階と、結像される構造を有するマスク30を準備する段階と、請求項18に記載の光学系を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置を準備する段階と、前記投影露光装置を用いて前記マスク30の少なくとも一部を前記層の領域の上に投影する段階と、を含むことを特徴とする処理。本発明の目的は、望ましい偏光分布を与える上で高い柔軟性を可能にするマイクロリソグラフィ投影露光装置の偏光影響光学配置及び光学系を提供することである。この目的は、独立請求項1の特徴に従う光学系によって遂げられる。マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系は、ミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有する少なくとも1つのミラー配列と、第1のλ/2板及び少なくとも1つの第2のλ/2板を含む偏光影響光学配置とを含む。本発明は、特に、少なくとも2つのλ/2板をミラー配列との組合せに使用することにより、光の通過時にミラー配列との関連で光がλ/2板のうちの1つだけを通過するか、両方のλ/2板を通過するか、又はλ/2板のうちのいずれも通過しないかに依存して異なる初期偏光分布を生成する少なくとも2つの領域を設けるという概念に基づいている。従って、本発明は、例えば、2つのλ/2板を使用する場合に自由に選択可能な光比率又は強度比率を有する4つの異なる偏光状態を生成する可能性を与える。2つのλ/2板の部分重ね合わせによって設定することができる4つの偏光状態を有する結像特性に関して、偏光特性の影響を極めて大きい程度で考慮することが予め可能であることが研究によって示されている。同時に、この場合、例えば、2つのλ/2板の相対変位例えば、x方向及びy方向に変位可能にすることができるにより、全体の強度に関する相対比率すなわち、例えば、80のx偏光光及び20のy偏光光等も変更可能である。投影露光装置において本発明により可能にすることができる異なる偏光分布又は照明設定の柔軟な設定は、特に、付加的な光学構成要素を必要とすることなく行うことができ、構造的な複雑さ及び支出、並びに例えばリソグラフィ処理における経費が低減される。更に、付加的な光学構成要素の使用に関連付けられた透過損失も回避される。実施形態では、λ/2板は、光学系内で光伝播方向に関して連続して配置される。実施形態では、λ/2板は、その相対位置において互いに対して変位可能である。特に、λ/2板は、光伝播方向の重ね合わせの可変の程度を有することができる。従って、少なくとも2つのλ/2板の重ね合わせ度の変化をミラー配列と関連して使用することにより、本発明は、偏光影響光学配置を上述の照明設定の間で変更するために交換する必要なく、互いに異なる偏光照明設定を柔軟に設定することを可能にする。λ/2板の相対位置における互いに対する変位機能は、λ/2板のうちの少なくとも1つの平行移動変位及び/又はλ/2板のうちの少なくとも1つの回転を含む。上述の場合に、それぞれの速軸の相対位置のみが変更される可能性があり、本発明により、これは、λ/2板の互いに対する相対変位とも解釈される。実施形態では、第1のλ/2板及び/又は第2のλ/2板は、それぞれのλ/2板がミラー配列の光学的有効領域の完全に外側に存在する第1の位置と、それぞれのλ/2板がミラー配列の光学有効領域の完全に内側に配置される第2の位置との間で変位可能である。このようにして、それぞれのλ/2板は、従って、望ましい偏光分布に基づいてミラー配列の光学的有効領域の完全に外側に移動することができ、それによって望ましい偏光分布を与える上でシステム全体の柔軟性が更に高められる。この点に関して、光学系の作動時にλ/2板を通過する全ての光線がミラー配列によって更に反射される配列を表す上で、それぞれのλ/2板をミラー配列の光学的有効領域の内側に配置する基準を使用する。従って、ミラー配列の光学的有効領域の外側へのそれぞれのλ/2板の配列は、ミラー配列によって反射される光線がそれぞれのλ/2板を通過しないことを意味する。本発明は、互いに対して変位可能であるλ/2板に限定されない。従って、以下に同じくより詳細に説明するように、ミラー配列のミラー要素の変位機能を利用して、λ/2板の静的実施により、異なって偏光された照明設定を予め設定することができる。本発明による配列は、特に、第1のλ/2板のみが第1の非重複領域に配置され、それに対して第2のλ/2板のみが第2の非重複領域に配置されるように設定することができる。実施形態では、第1のλ/2板は、複屈折の第1の速軸を有し、第2のλ/2板は、複屈折の第2の速軸を有し、第1の速軸の向きと第2の速軸の向きは互いに異なる。実施形態では、第1の速軸と第2の速軸は、互いに対して45°±5°の角度で配置される。実施形態では、第1の速軸は、配列上に入射する光ビームの優先偏光方向に対して22.5°±2°の角度で延び、第2の速軸は、配列上に入射する光ビームの優先偏光方向に対して-22.5°±2°の角度で延びている。実施形態では、第1のλ/2板のみを通過する第1の直線偏光光ビームの振動平面は、第1の回転角だけ回転され、第2のλ/2板のみを通過する第2の直線偏光光ビームの振動平面は、第2の回転角だけ回転され、第1の回転角は、第2の回転角とは異なる。実施形態では、第1の回転角と第2の回転角は、量に関して同じであり、反対の符号のものである。実施形態では、第1のλ/2板と第2のλ/2板は、互いの重複領域内で90°の回転子を形成する。実施形態では、偏光影響光学配置は、厳密に2つのλ/2板を有する。特に、単純な構造の実施において、この実施形態は、2つのλ/2板のみを用い、上述のようにこれらの2つのλ/2板によって調節することができる4つの偏光状態の結果として、結像特性に関して偏光特性の影響を極めて高い程度で考慮することが予め可能であるということを利用する。実施形態では、偏光影響光学配置は、少なくとも3つ、好ましくは少なくとも7つのλ/2板を有する。少なくとも3つのλ/2板を有する配列は、λ/2板の互いに異なる特に、互いに垂直の方向、例えば、x方向とy方向への変位機能又は調節機能を省くことができ、異なる偏光分布を設定することに関してλ/2板の共通の方向例えば、x方向に沿った変位機能を用いて高レベルの柔軟性を得ることが予め可能であるという利点を有する。実施形態では、偏光影響光学配置は、光学系の作動時にミラー配列との組合せを用いて、偏光影響光学配置上に入射する光ビームの光ビーム断面にわたって一定の優先偏光方向を有する直線偏光分布を近似的にタンジェンシャルな偏光分布に変換するように調節可能である。更に別の態様では、本発明は、照明系の光源を用いて生成された光が、投影対物系の物体平面を照明するための投影露光装置に供給され、物体平面が、投影対物系を用いて投影対物系の像平面に結像されるマイクロリソグラフィ露光方法に関し、照明系において、ミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有する少なくとも1つのミラー配列と、第1のλ/2板と少なくとも1つの第2のλ/2板とを含む偏光影響光学配置とが使用される。実施形態では、少なくとも2つの互いに異なる照明設定は、第1のλ/2板と第2のλ/2板との相対位置を変更することによって調節される。実施形態では、上述の照明設定のうちの少なくとも1つを調節する場合に、第1のλ/2板と第2のλ/2板は、光伝播方向に部分的に互いに重なるように配置され、少なくとも1つの重複領域と少なくとも1つの非重複領域とを形成する。実施形態では、上述の照明設定のうちの少なくとも1つを調節するために、重複領域と非重複領域の両方は、少なくとも部分的に照明される。実施形態では、ミラー配列が有する異なるミラー要素によって反射され、かつ偏光影響配列の作用結果として異なる偏光方向を有する少なくとも2つのビーム部分が、互いに重ね合わされる。本発明は、更に、微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ生産のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置及び処理に関する。本発明の更に別の構成は、本明細書及び添付の特許請求の範囲に見出されるものとする。本発明を添付図面に例示する実施形態を用いて以下でより詳細に説明する。最初に、本発明による光学系を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置の原理的構造を図1を参照して以下に説明する。投影露光装置は、照明系10と投影対物系20を有する。照明系10は、例えば、193nmの作動波長のためのArFエキシマレーザと、平行光ビームを生成するビーム成形光学配置とを含む光源ユニット1からの光で構造付帯マスクレチクル30を照明する働きをする。一般的に、照明系10及び投影対物系20は、好ましくは、400nmよりも短い作動波長、特に、250nmよりも短く、更に具体的には200nmよりも短い作動波長に向けて設計される。本発明により、照明系10の部分構成要素は、図2を参照して以下でより詳細に説明するように、特に、ミラー配列200である。光伝播方向にミラー配列200の上流には、図3及びそれ以降を参照してより詳細に説明する偏光影響光学配置300が配置される。図1に示すように、適切なアクチュエータを用いて配列300の変位を作動させるための作動ユニット305も設けられる。配列300の変位のためのアクチュエータは、いずれかの方式、例えば、ベルトドライバ、固体ヒンジ要素、圧電アクチュエータ、直線ドライバ、透過配列を有するか又は伴わないdcモータ、主軸ドライバ、歯付きベルトドライバ、ギアドライバ、又はこれらの公知の構成要素の組合せの形態で設計することができる。照明系10は、取りわけ、図示の例では偏向ミラー12を含む光学ユニット11を有する。光伝播方向に光学ユニット11の下流には、例えば、光混合を提供するのに適切なマイクロ光学要素の配列、並びにレンズ群14をそれ自体公知の方式で有することができる光混合デバイス図示せずがビーム経路に配置され、その下流には、レチクルマスクシステムREMAを有する視野平面が配置され、このレチクルマスクシステムは、光伝播方向に下流に配置されたREMA対物系15を通じて、更に別の視野平面に配置された構造付帯マスクレチクル30上に結像され、それによってレチクル上の照明領域の境界が定められる。構造付帯マスク30は、投影対物系20により、感光層が設けられた基板40又はウェーハ上に結像される。投影対物系20は、特に、液浸作動モードに向けて設計することができる。更に、投影対物系20は、0.85、特に、1.1よりも大きい開口数NAを有することができる。好ましくは、λ/2板310、320の寸法は、これらのλ/2板310、320の各々がそれぞれミラー配列200を隠蔽することができ、すなわち、ミラー配列200によって反射された全ての光線がλ/2板310、320を同じく通過するように選択される。更に、λ/2板310、320とミラー配列200は、好ましくは、配列300によるミラー配列200のいずれの遮光も存在せず、従って、最適な透過が得られるように併せて設計される。図2に略示する構造では、ミラー配列200は、複数のミラー要素200a、200b、200c、...を有する。ミラー要素200a、200b、200cは、ミラー配列200によって反射された光の角度分布を変更するために互いに独立して変位させることができ、図1に示すように、そのような変位を実施する例えば、適切なアクチュエータを用いてための作動ユニット205を存在させることができる。図2は、照明系10において本発明により使用されるミラー配列200の構造及び機能を示すために、レーザビーム210のビーム経路に順番に偏向ミラー211、屈折光学要素ROE212、レンズ213例としてのみ示す、マイクロレンズ配列214、本発明によるミラー配列200、拡散器215、レンズ216、及び瞳平面PPを含む照明系10の部分領域の構造を例示的に示している。ミラー配列200は、複数のマイクロミラー200a、200b、200c...を含み、マイクロレンズ配列214は、これらのミラー上にターゲットを定めた集束を行って不使用区域の照明を低減又は回避するための複数のマイクロレンズを有する。マイクロミラー200a、200b、200cは、それぞれ、例えば、-2°と2°の間、特に-5°と5°の間、更に具体的には-10°と10°の間の角度範囲で個々に傾斜させることができる。予め均一化されて平行にされたレーザ光が、マイクロミラー200a、200b、200c...によって望ましい照明設定に依存してそれぞれ望ましい方向に偏向される限り、瞳平面PP内には、ミラー配列200内のマイクロミラー200a、200b、200c...の適切な傾斜配列により、望ましい光分布、例えば、輪帯照明設定又は二重極設定又は四重極設定を生成することができる。図3aは、本発明の実施形態による偏光影響光学配置300を示す概略図である。この実施形態では、偏光影響光学配置300は、望ましい作動波長において十分な透過性を有する適切な複屈折材料、例えば、フッ化マグネシウムMgF2、サファイアAl2O3、結晶石英SiO2から各々が作成された互いに部分的に重なるλ/2板310、320を含む。更に、λ/2板310、320の各々は、ミラー配列200の幾何学形状への適合のために矩形の幾何学形状のものであえる本発明がこれに限定されることなく。図3aは、y方向に延びる一定の優先偏光方向を有する直線偏光光の入射放射線を含む状況において、光が偏光影響光学配置300を通過した後にそれぞれ発生する優先偏光方向も示している。この点に関して、それぞれ、第1の非重複領域B-1すなわち、第1のλ/2板310だけによって隠蔽される領域において得られる優先偏光方向をP’で表し、第2の非重複領域B-2すなわち、第2のλ/2板320だけによって隠蔽される領域において得られる優先偏光方向をP’’で表し、重複領域Aすなわち、第1のλ/2板310と第2のλ/2板320の両方によって隠蔽される領域において得られる優先偏光方向をP’’’で表している。上述の領域内でのそれぞれの優先偏光方向の発生を図3b~図3eに略示しており、複屈折速軸高屈折率の方向に延びるのそれぞれの位置を第1のλ/2板310に対して破線fa-1に示し、それに対して第2のλ/2板320に対して破線fa-2に示している。図示の実施形態では、第1のλ/2板310の複屈折の速軸fa-1は、配列300上に入射する光ビームの優先偏光方向Pに対してすなわち、y方向に対して22.5°±2°の角度で延び、第2のλ/2板320の複屈折の速軸fa-2は、配列300上に入射する光ビームの優先偏光方向Pに対して-22.5°±2°の角度で延びている。光が第1のλ/2板310を通過した後に発生する優先偏光方向P’は、速軸fa-1における元の入射優先偏光方向Pの鏡像に対応し図3bを参照されたい、光が第2のλ/2板320を通過した後に発生する優先偏光方向P’’は、速軸fa-2における元の入射優先偏光方向Pの鏡像に対応する図3cを参照されたい。その結果、光が非重複領域B-1及びB-2を通過した後にそれぞれ発生する優先偏光方向P’及びP’’は、配列300上に入射する光ビームの優先偏光方向Pに対して±45°の角度で延びている。重複領域A内で配列300上に入射する光ビームに対して、第1のλ/2板310から射出する光ビームの優先偏光方向P’図3dを参照されたいは、第2のλ/2板320上に入射する光ビームの入射偏光分布に対応し、従って、重複領域Aから射出する光ビームの図3aにP’’’で識別される優先偏光方向は、配列300上に入射する光ビームの優先偏光方向Pに対して90°の角度で延びている。本発明は、互いに対して変位可能なλ/2板に限定されない。従って、ミラー配列のミラー要素の変位機能を利用することにより、異なって偏光された照明設定をλ/2板の静的実施によって予め設定することができる。例えば、配列300によって90°だけ偏光方向が回転された光成分を瞳平面に12:00時及び6:00時に、又は3:00時及び9:00時にそのいずれかにもたらされるように偏向することにより、例えば、疑似タンジェンシャル偏光分布と疑似ラジアル偏光分布の間で切り換えを行うことができる。図示の実施形態では、両方のλ/2板310、320は、光伝播方向に関してミラー配列200の上流に配置されるが、本発明は、これに限定されない。従って、更に別の実施形態では、λ/2板310、320の一方を光伝播方向に関してミラー配列の上流に配置し、他方をミラー配列200の下流に配置することができ、又は両方のλ/2板210、320をミラー配列200の下流に配置することができる。上述の構成は、配列300によって設定される射出偏光分布が、この場合ミラー配列200において反射によって変更されないという点に関して利点を有する。ミラー配列200に対するλ/2板310、320の配置及びこれらのλ/2板の間隔も、ミラー配列200のミラーのそれぞれの1つにおいて反射される光が、1つの明確な偏光状態による作用を受け、例えば、2つ又はそれよりも多くの互いに異なる偏光状態に基づいて作用を受けないような方法でミラー配列200の個々のミラー上に入射する光成分が偏光状態に関して定義されるようにそれぞれ選択されることになる。図3aの配列によって設定することができる偏光分布の例を図3fに示している。図3fに従って生成される偏光分布は、円のセグメントの形状にある8つの領域を有する疑似タンジェンシャル偏光分布350であり、この偏光分布では、偏光方向は、各場合に一定して少なくとも近似的にタンジェンシャルに、すなわち、光軸z方向に延びるを中心とする半径と垂直に延びている。円のセグメントの形状にあるそれぞれの領域内の偏光分布は、偏光方向が、上述のように配列300上に入射する光の偏光方向に対してそれぞれ0°、45°、-45°、及び90°だけ回転されることによって与えられる。偏光分布350は、例えば、OPC処理OPC=光学近接度補正=光学近視野補正を用いて疑似タンジェンシャル照明設定に最適化された製造処理を更に作動させることを可能にするが、この点に関して、例えば、45°だけ回転された照明極内に疑似タンジェンシャル偏光分布を有する照明設定を使用することも更に可能である。配列300の可能な更に別の例を図4a~図4bを参照して説明する。この場合、図1の構造では、配列300に加えて、瞳平面に更に別の偏光マニピュレータ400が配置される図4aの図は、偏光マニピュレータ400が、光伝播方向に配列300の下流に配置される概略図しか示していない。この更に別の偏光マニピュレータ400は、WO2005/069081A2から公知であり、図4bに略示している。偏光マニピュレータ400は、光学活性材料特に、光伝播方向に沿って延びる結晶軸を有する結晶石英から作成され、光伝播方向に変化する厚みプロフィールを有する。偏光マニピュレータ400は、中心領域内に孔405を有し、WO2005/069081A2に説明されているように、厚みプロフィール及び円形複屈折によって孔405の外側の領域内にタンジェンシャル偏光分布を生成する。図4aの例では、互いに重ね合わせ関係にある配列300の2つのλ/2板310及び320は、ミラー配列200の比較的小さい部分しか隠蔽しないすなわち、ミラー配列200において反射される合計の光の同じく小さい部分しかλ/2板310及び320を通過しない。上記に図3aを参照して説明した原理により、同時に偏光マニピュレータ400の孔405も通過する光成分において疑似タンジェンシャル偏光が含まれる。λ/2板310、320のいずれも、光が配列400を通過した後に発生する偏光分布の領域412及び422に配置されず、従って、そこでは優先偏光方向が元の優先偏光方向すなわち、y方向に対応するので、上述の偏光は、一方でλ/2板310、320によって覆われない領域及び偏光マニピュレータ400の孔405を通過する光に対してy偏光を有する領域から形成される。更に、x偏光を有する領域が、2つのλ/2板310、320の作用によって生成され、すなわち、2つのλ/2板310、320によって覆われた領域、並びに偏光マニピュレータ400の孔を通過する光に対して生成される。タンジェンシャル偏光分布は、瞳平面の外側の領域内に設定されるそれに対してミラー配列200が配列300によって覆われず、偏光マニピュレータ400を孔405の外側で通過する光のためのもの。図5a~図5cは、本発明により設定することができる偏光分布の更に別の例を示している。λ/2板310、320のそれぞれの設定に基づいて、上述の照明設定の間の変更に含め偏光影響光学配置300を交換する必要なく、上記及び他の偏光分布を柔軟に設定することができる。上述の点に関して、図5a及び図5bに示すように、偏光分布の各々は、瞳平面の中心領域内に、又は偏光マニピュレータ400の孔405内の領域を通過する光に対して一定して直線的な偏光方向を有し、図5a、図5bの偏光方向は、ミラー配列200と偏光影響配列300との組合せを用いて異なって設定されたものである。図5cに示す例では、互いに垂直に偏光した光成分x偏光とy偏光を有するは、互いに重ね合わせ関係にあるとすることができ、この重ね合わせにより、中心領域内、又は偏光マニピュレータの孔405内の領域を通過する光に対して非偏光光が生成される。図6は、更に別の実施形態として2つの回転可能λ/2板610及び620の配列を示している。λ/2板610及び620の回転のためのアクチュエータは、例えば、ベルトドライバ、固体ヒンジ要素、圧電アクチュエータ、又はこれらの公知の構成要素の組合せの形態にあるいずれかの望ましい構成のものとすることができる。この場合、いずれかの望ましい優先偏光方向を有する2つの偏光状態を2つの回転可能λ/2板610及び620を用いて設定することができるという利点がある。λ/2板610及び620の重複領域には、図3と同じく2つのλ/2板610と620の組合せ作用からもたらされる更に別の第3の偏光状態が存在する。更に別の実施形態により、ミラーによって反射され、かつ偏光影響配列300の作用結果として異なる偏光方向を含む光成分は、互いに重ね合わせ関係にあるとすることができる。図7に略示するそのような実施形態は、例えば、得られる22.5°の偏光方向が、ベクトル加算に従って偏光方向0°と45°各場合に示す座標系におけるx軸に対してとの重ね合わせ図7の右下部分に示すによって与えられるという考察に基づいている。最終的に生成される照明設定が、隣接する偏光方向の間で連続的な遷移を有するように、対応する重ね合わせを連続的にもたらすか、又は異なる偏光方向を含む光の連続的に変化する強度成分を伴ってもたらすことができる。言い換えれば、ミラー配列を用いて、個別の偏光状態を重なることによって疑似連続偏光設定が提供される。上述の重ね合わせに関して、直交する偏光光成分を互いに加算することに基づく非偏光寄与が存在し、それによって達成することができるIPS値の低下がもたらされることに注意されたい。この点に関して、所定の場所における望ましい偏光状態の実施度を表す上でIPS値という用語を使用する。この点に関して、IPSは、好ましい状態における強度intensityinpreferredstateの略語であり、IPS値は、全体の強度に対する基準方向の光強度例えば、理想的な偏光子を用いて測定することができ、その透過方向が基準方向に設定されるのエネルギ関係を与える。定量的な言い方をすると、図7から始めて、すなわち、偏光影響光学配置とミラー配列との組合せを用いた合計で8つの偏光状態の生成では、偏光方向0°と22.5°との重ね合わせの場合に約96のIPS値が存在する。比較目的で、図3から始めて、すなわち、偏光影響光学配置とミラー配列との組合せを用いて合計で4つの偏光状態を生成する場合には、偏光方向0°と45°との重ね合わせの場合に約85のIPS値が存在する。図8及び図9を参照して以下に説明する更に別の実施形態により、光学系は、2つよりも多いλ/2板を有することができる。一般的に、本発明は、いずれかの向きの複屈折速軸を有するいずれかの数≧2のλ/2板を有する配列を含む。図8を参照すると、3つのλ/2板810、820、830の使用は、それぞれ生成される射出偏光方向に関してそれぞれ45°だけ段階的に異なる4つの偏光状態を設定することを可能にする。図8の右手部分から分るように、それぞれ異なる関連付けられた偏光状態を伴って2つのミラーによってそれぞれ反射される光成分の間の強度比が、方位角を通じて連続的に変更され、従って、偏光方向が回転される時に、上述の重ね合わせによって前と同じく連続的な偏光分布を得ることができる。図8の実施形態において設定されるλ/2板の向き、及びそれぞれ生成される偏光方向を表1に示している。表1図9を参照すると、7つのλ/2板910、920、930、...を使用することにより、それぞれ生成される射出偏光方向に関して各々22.5°だけ段階的に異なる8つの偏光状態、又はそれぞれのλ/2板から射出する光ビームの偏光方向が22.5°の整数倍である角度で延びる8つの偏光状態を設定することが可能になる。具体的には、第1のλ/2板910では、速軸は、配列900上に入射する光ビームの優先偏光方向Pに対して11.25°の角度で延び、それに対して第2のλ/2板920では、速軸は、配列900上に入射する光ビームの優先偏光方向Pに対して11.25°22.5°の角度で延び、更に第nのλ/2板では、速軸は、配列900上に入射する光ビームの優先偏光方向Pに対して11.25°n-122.5°の角度で延びる。言い換えれば、λ/2板910、920、930、...の各々において、複屈折速軸は、それぞれ、問題とするλ/2板上にそれぞれ入射する光ビームの優先偏光方向Pに対して11.25°の角度で延び、従って、それぞれの速軸における鏡像の結果として更に別の22.5°の各回転角が与えられる。図9の実施形態において設定されるλ/2板の向き、並びにそれぞれ得られる偏光方向を表2に見ることができる。表2この場合にも、結果として、上述の重ね合わせによって前と同じく連続的な偏光分布を得ることができ、例えば、図7の配列と比較して、直交する偏光状態の重ね合わせの得られる偏光解消の比率を低減することができるので、比較的高いIPS値この例では、96のIPS値を得ることができる。一般的には、n個のλ/2板の場合、各λ/2板の回転角は、360°/n1/2として選択され、速軸は各々異なって向けられ、第mのλ/2板の速軸の向きは、m-1360°/n1/2360°/n1/4として与えられる。m番目のλ/2板の下流の偏光回転は、次に、m360°/n1/2である。図8及び図9を参照して説明した実施形態におけるλ/2板は、上述の実施形態と同じく、その相対位置において互いに対して変位可能に配置することができる。この点に関しては、図3及びそれ以降に関して上述した説明を参照されたい。本発明を具体的な実施形態を用いて説明したが、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び/又は置換により、当業者には多くの変形及び別の実施形態が明らかであろう。従って、当業者は、そのような変形及び別の実施形態が本発明によって同じく包含され、本発明の範囲が添付の特許請求の範囲及びその均等物の意味においてのみ限定されることを認めるであろう。"