"A水酸基及び/又はカルボキシル基を有するポリマー、Bウレタン結合を有するメタアクリレート、C多官能ブロックイソシアネート化合物、及びDラジカル重合開始剤を含む光導波路形成用樹脂組成物。前記A成分が、下記一般式1及び2で表される構造単位のうちの少なくとも1種を有し、かつ下記一般式3で表される構造単位を有するメタアクリルポリマーを含む請求項1に記載の光導波路形成用樹脂組成物。式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、X1は単結合又は炭素数1~20の2価の有機基を示す。式中、R2は水素原子又は炭素数1~20の1価の有機基を示し、R3は水素原子又はメチル基を示し、X2は単結合又は炭素数1~20の2価の有機基を示す。式中、R4は水素原子又はメチル基を示し、R5は炭素数1~20の1価の有機基を示す。前記A成分が、さらに下記一般式4で表される構造単位を有する請求項2に記載の光導波路形成用樹脂組成物。式中、R6は水素原子又は炭素数1~20の1価の有機基を示す。前記B成分が、カルボキシル基及びウレタン結合を有するメタアクリレートを含む請求項1~3のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。前記B成分が、その分子中に脂環構造、芳香環構造、及び複素環構造からなる群から選ばれた少なくとも1種を有する化合物を含む請求項1~4のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。前記C成分が、多官能イソシアネート化合物とブロック剤との反応生成物であり、前記多官能イソシアネート化合物が、その分子中に脂環構造及び脂肪族構造からなる群から選ばれた少なくとも1種を有する化合物を含む請求項1~5のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。前記D成分が、光ラジカル重合開始剤を含む請求項1~6のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。前記A成分の配合量がA~C成分の総量に対して10~85質量であり、前記B成分の配合量がA~C成分の総量に対して10~85質量であり、前記C成分の配合量がA~C成分の総量に対して1~40質量であり、前記D成分の配合量がA~C成分の総量100質量部に対して、0.01~10質量部である請求項1~7のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。さらにEウレタン結合を有さないメタアクリレートを含む請求項1~7のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。前記A成分の配合量がA~C及びE成分の総量に対して10~85質量であり、前記B成分の配合量がA~C及びE成分の総量に対して5~80質量であり、前記C成分の配合量がA~C及びE成分の総量に対して1~40質量であり、前記D成分の配合量がA~C及びE成分の総量100質量部に対して、0.01~10質量部であり、前記E成分の配合量がA~C及びE成分の総量に対して5~80質量である請求項9に記載の光導波路形成用樹脂組成物。請求項1~10のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成されてなる光導波路形成用樹脂フィルム。請求項1~10のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成されてなるコア部及び/又はクラッド層を有する光導波路。請求項11に記載の光導波路形成用樹脂フィルムを用いて形成されてなるコア部及び/又はクラッド層を有する光導波路。波長850nmの光源における光伝搬損失が、0.3dB/cm以下である請求項12又は13に記載の光導波路。本発明は、前記した問題に鑑み、透明性、耐熱性、環境信頼性、強靭性に優れる光導波路を生産性及び作業性良く形成できる光導波路用樹脂組成物、光導波路形成用樹脂フィルム及びこれらを用いた光導波路を提供することを目的とする。本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、水酸基及び/又はカルボキシル基を有するポリマー、ウレタン結合を有するメタアクリレート、多官能ブロックイソシアネート化合物、及びラジカル重合開始剤を含む光導波路形成用樹脂組成物を用いることにより、前記ポリマーの水酸基及び/又はカルボキシル基と、前記多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基とを反応させることによって、上記課題を解決することを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は、A水酸基及び/又はカルボキシル基を有するポリマー、Bウレタン結合を有するメタアクリレート、C多官能ブロックイソシアネート化合物、及びDラジカル重合開始剤を含む光導波路形成用樹脂組成物、該光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成されてなる光導波路形成用樹脂フィルム、及び下部クラッド層、コア部、上部クラッド層の少なくとも1つを該光導波路形成用樹脂組成物、又は該光導波路形成用樹脂フィルムを用いて形成されてなる、透明性、耐熱性、環境信頼性、及び強靭性に優れた光導波路を提供するものである。本発明によれば、透明性、耐熱性、強靭性に優れ、高精度な厚膜形成が可能であり、光導波路製造用として有効であって、光導波路を生産するに際して、生産性の高い光導波路形成用樹脂フィルムに有用な光導波路形成用樹脂組成物を提供することができる。また、該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルム、及び透明性、耐熱性、環境信頼性、強靭性に優れた光導波路を提供することができる。光導波路形成用樹脂組成物以下、本発明の光導波路形成用樹脂組成物について説明する。本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、A水酸基及び/又はカルボキシル基を有するポリマー、Bウレタン結合を有するメタアクリレート、C多官能ブロックイソシアネート化合物、及びDラジカル重合開始剤を含むものである。以下、A~D成分について説明する。A水酸基及び/又はカルボキシル基を有するポリマー本発明においては、A水酸基及び/又はカルボキシル基を有するポリマーを用いる。水酸基及び/又はカルボキシル基を有するポリマーを用いると、加熱により水酸基及び/又はカルボキシル基とC成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基を反応させることによって、新たな架橋構造を形成して、耐熱性及び環境信頼性を向上することができる。A水酸基及び/又はカルボキシル基を有するポリマーとしては、特に制限はなく、例えば、下記1~13で表されるポリマーなどが挙げられる。1分子中に水酸基とエチレン性不飽和基を有する化合物及び分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物のうち少なくとも1種とそれ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるポリマー。2分子中に水酸基とエチレン性不飽和基を有する化合物及び分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物のうち少なくとも1種とそれ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるポリマーの側鎖に、エチレン性不飽和基を部分的に導入して得られるポリマー。3分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるポリマーに、分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られるポリマー。4分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるポリマーに、分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ、生成した水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られるポリマー。5エチレン性不飽和基を有する酸無水物及びそれ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるポリマーに、分子中に水酸基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られるポリマー。62官能エポキシ樹脂及び2官能フェノール化合物を共重合して得られるポリマー。72官能エポキシ樹脂及び2官能フェノール化合物を共重合して得られるポリマーの水酸基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるポリマー。82官能エポキシ樹脂及び2官能カルボン酸化合物を共重合して得られるポリマー。92官能エポキシ樹脂及び2官能カルボン酸化合物を共重合して得られるポリマーの水酸基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるポリマー。102官能オキセタン化合物及び2官能フェノール化合物を共重合して得られるポリマー。112官能オキセタン化合物及び2官能フェノール化合物を共重合して得られるポリマーの水酸基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるポリマー。122官能オキセタン化合物及び2官能カルボン酸化合物を共重合して得られるポリマー。132官能オキセタン化合物及び2官能カルボン酸化合物を共重合して得られるポリマーの水酸基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるポリマー。これらの中でも、透明性の観点から、前記1~5で表される水酸基及び/又はカルボキシル基を有するポリマーが好ましく、下記一般式1及び2で表される構造単位のうちの少なくとも1種を有し、かつ下記一般式3で表される構造単位を有するメタアクリルポリマーがさらに好ましい。式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、X1は単結合又は炭素数1~20の2価の有機基を示す。X1が示す炭素数1~20の2価の有機基としては、特に制限はなく、例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ポリエーテル基、ポリシロキサン基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基などを含む2価の有機基が挙げられ、それらは、さらにハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、アミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。これらの中でも、透明性及び耐熱性の点から、アルキレン基、シクロアルキレン基、フェニレン基、及びビフェニレン基が好ましい。式中、R2は水素原子又は炭素数1~20の1価の有機基を示し、R3は水素原子又はメチル基を示す。なお、R2が示す炭素数1~20の1価の有機基としては、特に制限はなく、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基-CO-Rを意味する。ただしRは炭化水素基である、エステル基-CO-O-R又は-O-CO-Rを意味する。ただしRは炭化水素基である、アミド基-CO-NR2又は-NR-CO-Rを意味する。ただしRは水素原子又は炭化水素基であるなどの1価の有機基が挙げられ、それらは、さらに水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、アミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。これらの中でも、透明性、及び耐熱性の点から、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基が好ましい。また、式中、X2は単結合又は炭素数1~20の2価の有機基を示す。なお、炭素数1~20の2価の有機基としては、前述のX1の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。式中、R4は水素原子又はメチル基を示し、R5は炭素数1~20の1価の有機基を示す。なお、炭素数1~20の1価の有機基としては、前述のR2の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。前記メタアクリルポリマーとは、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、及びこれらの誘導体などのメタアクリロイル基を有する単量体を共重合して得られるポリマーをいう。ここで、メタアクリロイル基とはアクリロイル基及び/又はメタクリロイル基をいう。さらに、本発明の効果を阻害しない範囲で、前記のモノマーと、必要に応じてメタアクリロイル基以外のエチレン性不飽和基を有する前記以外のモノマーとを含む共重合体であってもよい。また、複数のメタアクリルポリマーの混合物であってもよい。前記メタアクリルポリマーにおいて、一般式1で表される構造単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレートなどの脂肪族メタアクリレート;2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-o-フェニルフェノキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-1-ナフトキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-2-ナフトキシプロピルメタアクリレートなどの芳香族メタアクリレートが挙げられる。これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレートなどの脂肪族メタアクリレート;2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-o-フェニルフェノキシプロピルメタアクリレートなどの芳香族メタアクリレートであることが好ましい。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。前記メタアクリルポリマーにおいて、一般式2で表される構造単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、メタアクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルスクシネート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルフタレート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルイソフタレート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルテレフタレート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタレート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタレート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロイソフタレート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロテレフタレート、ω-カルボキシ-ポリカプロラクトンモノメタアクリレート、3-ビニル安息香酸、4-ビニル安息香酸などが挙げられる。これらの中でも、透明性、耐熱性、及びアルカリ現像液への溶解性の観点からメタアクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルスクシネート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタレート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタレート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロイソフタレート、モノ2-メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロテレフタレートであることが好ましい。また、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸などのエチレン性不飽和基と酸無水物基を有する化合物を原料として用いて、共重合後にメタノール、エタノール、プロパノールなどの適当なアルコールによって開環し、一般式1で表される構造単位に変換してもよい。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。前記メタアクリルポリマーにおいて、一般式1及び2で表される構造単位の含有率の総量は、5~60モルであることが好ましい。5モル以上であると、A成分の水酸基及び/又はカルボキシル基とC成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好であり、60モル以下であると、強靭性が良好で脆くなることがない。以上の観点から、一般式1で表される構造単位の含有率の総量は、10~50モルであることがさらに好ましく、15~40モルであることが特に好ましい。前記メタアクリルポリマーにおいて、一般式3で表される構造単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ヘプチルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、ノニルメタアクリレート、デシルメタアクリレート、ウンデシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、テトラデシルメタアクリレート、ペンタデシルメタアクリレート、ヘキサデシルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、ベヘニルメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、エトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリプロピレングリコールメタアクリレート、エトキシポリプロピレングリコールメタアクリレートなどの脂肪族メタアクリレート;シクロペンチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、シクロペンチルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレートなどの脂環式メタアクリレート;フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、o-ビフェニルメタアクリレート、1-ナフチルメタアクリレート、2-ナフチルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、p-クミルフェノキシエチルメタアクリレート、o-フェニルフェノキシエチルメタアクリレート、1-ナフトキシエチルメタアクリレート、2-ナフトキシエチルメタアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシポリプロピレングリコールメタアクリレートなどの芳香族メタアクリレート;2-テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、N-メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、2-メタアクリロイルオキシエチル-N-カルバゾールなどの複素環式メタアクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレートなどの脂肪族メタアクリレート;前記脂環式メタアクリレート;前記芳香族メタアクリレート;前記複素環式メタアクリレートであることが好ましい。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。前記メタアクリルポリマーにおいて、一般式3で表される構造単位の含有率は、40~95モルであることが好ましい。40モル以上であると、強靭性が良好で脆くなることがなく、95モル以下であると、A成分の水酸基及び/又はカルボキシル基とC成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好となる。以上の観点から、一般式3で表される構造単位の含有率は、50~90モルがさらに好ましく、60~85モルであることが特に好ましい。前記メタアクリルポリマーは、耐熱性の観点から、必要に応じてさらに一般式4で表されるマレイミド骨格由来の構造単位を有していてもよい。式中、R6は水素原子又は炭素数1~20の1価の有機基を示す。なお、炭素数1~20の1価の有機基としては、前述のR2の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。前記メタアクリルポリマーにおいて、一般式4で表されるマレイミド骨格由来の構造単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、N-メチルマレイミド、N-エチルマレイミド、N-プロピルマレイミド、N-イソプロピルマレイミド、N-2,2-ジメチルプロピルマレイミド、N-ブチルマレイミド、N-イソブチルマレイミド、N-secブチルマレイミド、N-tert-ブチルマレイミド、N-2-メチル-2-ブチルマレイミド、N-ペンチルマレイミド、N-2-ペンチルマレイミド、N-3-ペンチルマレイミド、N-ヘキシルマレイミド、N-2-ヘキシルマレイミド、N-3-ヘキシルマレイミド、N-2-エチルヘキシルマレイミド、N-ヘプチルマレイミド、N-オクチルマレイミド、N-ノニルマレイミド、N-デシルマレイミド、N-ヒドロキシメチルマレイミド、N-2-ヒドロキシエチルマレイミド、N-2-ヒドロキシプロピルマレイミドなどのアルキルマレイミド;N-シクロペンチルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-シクロヘプチルマレイミド、N-シクロオクチルマレイミド、N-2-メチルシクロヘキシルマレイミド、N-2-エチルシクロヘキシルマレイミド、N-2-クロロシクロヘキシルマレイミドなどのシクロアルキルマレイミド;N-フェニルマレイミド、N-2-メチルフェニルマレイミド、N-2-エチルフェニルマレイミド、N-2-クロロフェニルマレイミド、N-ベンジルマレイミドなどのアリールマレイミドなどが挙げられる。これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、N-メチルマレイミド、N-エチルマレイミド、N-プロピルマレイミド、N-イソプロピルマレイミド、N-ブチルマレイミド、N-イソブチルマレイミド、N-secブチルマレイミド、N-tert-ブチルマレイミドなどのアルキルマレイミド;前記シクロアルキルマレイミド;前記アリールマレイミドを用いることが好ましく、N-イソプロピルマレイミド、N-シクロペンチルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-2-メチルシクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-ベンジルマレイミドであることがさらに好ましい。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。前記メタアクリルポリマーにおいて、一般式4で表されるマレイミド骨格由来の構造単位を有する場合、その含有率は、1~60モルであることが好ましい。その含有率が1モル以上であると、マレイミド骨格に由来する耐熱性が得られ、60モル以下であると、透明性が十分であり、かつ強靭性が良好で脆くなることがない。以上の観点から、一般式4で表されるマレイミド骨格由来の構造単位の含有率は、3~50モルがさらに好ましく、5~40モルであることが特に好ましい。前記メタアクリルポリマーは、必要に応じてさらに一般式1~4で表される構造単位以外の構造単位を有していてもよい。このような構造単位の原料となるエチレン性不飽和基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、β-メチルスチレン、3-メチルスチレン、4-メチルスチレン、α,2-ジメチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、2,5-ジメチルスチレン、メタアクリロニトリル、ビニルシクロヘキシルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルベンジルエーテル、酢酸ビニル、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどが挙げられる。これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点からスチレン、α-メチルスチレン、β-メチルスチレン、3-メチルスチレン、4-メチルスチレン、α,2-ジメチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、2,5-ジメチルスチレン、メタアクリロニトリル、酢酸ビニル、N-ビニルカルバゾールが好ましい。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。前記メタアクリルポリマーは、その合成方法に特に制限はなく、例えば、一般式1~3で表される構造単位の原料となる化合物、必要に応じてさらに一般式4で表されるマレイミド骨格由来の構造単位の原料となる化合物、及び一般式1~4で表される構造単位以外の構造単位の原料となる化合物と、適切な熱ラジカル重合開始剤を用いて、加熱しながら共重合させることにより得ることができる。このとき、必要に応じて有機溶剤及び/又は水を反応溶媒として用いることができる。また、必要に応じて適切な連鎖移動剤、分散剤、界面活性剤、乳化剤などと組み合わせて用いることもできる。熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシドなどのケトンパーオキシド;1,1-ビスt-ブチルパーオキシシクロヘキサン、1,1-ビスt-ブチルパーオキシ-2-メチルシクロヘキサン、1,1-ビスt-ブチルパーオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビスt-ヘキシルパーオキシシクロヘキサン、1,1-ビスt-ヘキシルパーオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンなどのパーオキシケタール;p-メンタンヒドロパーオキシドなどのヒドロパーオキシド;α、α’-ビスt-ブチルパーオキシジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、t-ブチルクミルパーオキシド、ジ-t-ブチルパーオキシドなどのジアルキルパーオキシド;オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシドなどのジアシルパーオキシド;ビス4-t-ブチルシクロヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ-2-エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ-2-エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ-3-メトキシブチルパーオキシカーボネートなどのパーオキシカーボネート;t-ブチルパーオキシピバレート、t-ヘキシルパーオキシピバレート、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、2,5-ジメチル-2,5-ビス2-エチルヘキサノイルパーオキシヘキサン、t-ヘキシルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-ブチルパーオキシイソブチレート、t-ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t-ブチルパーオキシ-3,5,5-トリメチルヘキサノエート、t-ブチルパーオキシラウリレート、t-ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキシルモノカーボネート、t-ブチルパーオキシベンゾエート、t-ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5-ジメチル-2,5-ビスベンゾイルパーオキシヘキサン、t-ブチルパーオキシアセテートなどのパーオキシエステル;2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2’-ジメチルバレロニトリルなどのアゾ化合物が挙げられる。反応溶媒として用いる有機溶剤としては、前記メタアクリルポリマーを溶解し得るものであれば、特に制限はないが、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、p-シメンなどの芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル;テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサンなどの環状エーテル;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンなどのケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ-ブチロラクトンなどのエステル;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸エステル;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどの2官能アルコールアルキルエーテル;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの2官能アルコールアルキルエーテルアセテート;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンなどのアミドなどが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。前記A成分の重量平均分子量は、1.0×103~1.0×106であることが好ましい。1.0×103以上であると、分子量が大きいため強靭性が良好で脆くなることがなく、1.0×106以下であると、現像液に対する溶解性やBウレタン結合を有するメタアクリレート、C多官能ブロックイソシアネート化合物との相溶性が良好である。以上の観点から、前記A成分の重量平均分子量は、3.0×103~5.0×105であることがさらに好ましく、5.0×103~3.0×105であることが特に好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーGPCで測定し、標準ポリスチレン換算した値である。前記A成分は、後述のアルカリ現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、アルカリ現像液としてアルカリ水溶液からなる水系アルカリ現像液を用いる場合、酸価が30~250mgKOH/gであることが好ましい。30mgKOH/g以上であると、アルカリ現像液への溶解性が良好であり、250mgKOH/g以下であると、耐現像液性現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質が良好である。以上の観点から、A成分の酸価は、35~200mgKOH/gであることがさらに好ましく、40~170mgKOH/gであることが特に好ましい。また、アルカリ現像液としてアルカリ水溶液と1種以上の有機溶剤からなる準水系アルカリ現像液を用いる場合、酸価が20~200mgKOH/gであることが好ましい。酸価が20mgKOH/g以上であると、アルカリ現像液への溶解性が良好であり、200mgKOH/g以下であると、耐現像液性が良好である。以上の観点から、A成分の酸価は、25~170mgKOH/gであることがさらに好ましく、30~150mgKOH/gであることが特に好ましい。前記A成分の配合量は、E成分を含まない場合、A~C成分の総量に対して10~85質量であることが好ましい。また、必要に応じてE成分を含む場合、前記A成分の配合量は、A~C及びE成分の総量に対して10~85質量であることが好ましい。A成分の配合量が、10質量以上であると、A成分の水酸基及び/又はカルボキシル基とC成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好であり、85質量以下であると、強靭性が良好で脆くなることがない。以上の観点から、A成分の配合量は、15~80質量であることがさらに好ましく、20~75質量であることが特に好ましい。Bウレタン結合を有するメタアクリレート本発明においては、Bウレタン結合を有するメタアクリレートを用いる。ウレタン結合を有するメタアクリレートを用いると、強靭性を向上することができる。Bウレタン結合を有するメタアクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、下記1~4で表されるウレタンメタアクリレートなどが挙げられる。12官能アルコール化合物、2官能イソシアネート化合物、及び水酸基を有するメタアクリレートを反応して得られるウレタンメタアクリレート。22官能アルコール化合物、2官能イソシアネート化合物、及びイソシアネート基を有するメタアクリレートを反応して得られるウレタンメタアクリレート。3多官能イソシアネート化合物及び水酸基を有するメタアクリレートを反応して得られるウレタンメタアクリレート。4多官能アルコール化合物及びイソシアネート基を有するメタアクリレートを反応して得られるウレタンメタアクリレート。これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、その分子中に脂環構造、芳香環構造、及び複素環構造からなる群から選ばれた少なくとも1種を有するウレタンメタアクリレートが好ましい。2官能アルコール化合物、すなわちジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物、ポリカプロラクトンジオール化合物、前記以外のその他のジオール化合物などが挙げられる。ポリエーテルジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、イソブテンオキシド、ブチルグリシジルエーテル、ブテン-1-オキシド、33-ビスクロロメチルオキセタン、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、3-メチルテトラヒドロフラン、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、フェニルグリシジルエーテル、安息香酸グリシジルエステルなどの環状エーテル化合物から選ばれる少なくとも1種を開環共重合することにより得られるポリエーテルジオール化合物;シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールFなどの脂環式ジオール化合物に上記環状エーテル化合物から選ばれる少なくとも1種を開環付加することにより得られるポリエーテルジオール化合物;ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAF、ビフェノール、フルオレンビスフェノールなどの2官能フェノール化合物に上記環状エーテル化合物から選ばれる少なくとも1種を開環付加することにより得られるポリエーテルジオール化合物などが挙げられる。ポリエステルジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などの2官能カルボン酸化合物とエチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、ジブタンジオール、ポリブタンジオール、ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノールなどのジオール化合物を共重合して得られるポリエステルポリオール化合物などが挙げられる。ポリカーボネートジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、ホスゲン、トリホスゲン、ジアルキルカーボネート、ジアリールカーボネートなどとエチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、ジブタンジオール、ポリブタンジオール、ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールFなどのジオール化合物を共重合して得られるポリカーボネートジオール化合物などが挙げられる。ポリカプロラクトンジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、ε-カプロラクトンと、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、ジブタンジオール、ポリブタンジオール、ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノールなどのジオール化合物と、を共重合して得られるポリカプロラクトンジオール化合物などが挙げられる。その他のジオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブタンジオール、ジブタンジオール、ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオールなどの脂肪族ジオール化合物;シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールFなどの脂環式ジオール化合物;ポリブタジエン変性ジオール化合物、水添ポリブタジエン変性ジオール化合物、ジリコーン変性ジオール化合物などの変性ジオール化合物などが挙げられる。以上のジオール化合物は、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。2官能イソシアネート化合物としては特に制限はなく、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイシシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネートなどの脂肪族2官能イソシアネート化合物;1,3-ビスイソシアナトメチルシクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、25-ビスイソシアナトメチルノルボルネン、ビス4-イソシアナトシクロヘキシルメタン、1,2-ビス4-イソシアナトシクロヘキシルエタン、2,2-ビス4-イソシアナトシクロヘキシルプロパン、2,2-ビス4-イソシアナトシクロヘキシルヘキサフルオロプロパン、ビシクロヘプタントリイソシアネートなどの脂環式2官能イソシアネート化合物;2,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、ナフタレン-1,5-ジイソシアネート、o-キシリレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネートなどの芳香族2官能イソシアネート化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。水酸基を有するメタアクリレートとしては特に制限はなく、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-o-フェニルフェノキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-1-ナフトキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-2-ナフトキシプロピルメタアクリレートなどの単官能メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;ビス2-メタアクリロイロキシエチル2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどの2官能メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;シクロヘキサンジメタノール型エポキシジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノール型エポキシジメタアクリレート、水添ビスフェノールA型エポキシジメタアクリレート、水添ビスフェノールF型エポキシジメタアクリレート、ヒドロキノン型エポキシジメタアクリレート、レゾルシノール型エポキシジメタアクリレート、カテコール型エポキシジメタアクリレート、ビスフェノールA型エポキシジメタアクリレート、ビスフェノールF型エポキシジメタアクリレート、ビスフェノールAF型エポキシジメタアクリレート、ビフェノール型エポキシジメタアクリレート、フルオレンビスフェノール型エポキシジメタアクリレート、イソシアヌル酸モノアリル型エポキシジアクリレートを合成する際に、カルボキシル基含有ジオール化合物を前記ジオール化合物と併用して、又は前記ジオール化合物の代わりに用いて得られるウレタンメタアクリレートなどが挙げられる。カルボキシル基含有ジオール化合物としては、特に制限はなく、例えば、2,2-ジメチロールブタン酸、2,2-ジメチロールプロピオン酸、2,2-ジメチロール酪酸、2,2-ジメチロールペンタン酸などが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。前記カルボキシル基及びウレタン結合を有するメタアクリレートは、後述のアルカリ現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。酸価は5~200mgKOH/gであることが好ましい。5mgKOH/g以上であると、アルカリ現像液への溶解性が良好であり、200mgKOH/g以下であると、耐現像液性が良好である。以上の観点から、カルボキシル基及びウレタン結合を有するメタアクリレートの酸価は、10~170mgKOH/gであることがさらに好ましく、15~150mgKOH/gであることが特に好ましい。前記B成分の配合量は、E成分を含まない場合、A~C成分の総量に対して10~85質量であることが好ましい。このB成分の配合量が、10質量以上であると、強靭性が良好で脆くなることがなく、85質量以下であると、A成分の水酸基及び/又はカルボキシル基とC成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、、耐熱性が良好である。以上の観点から、このB成分の配合量は、15~80質量であることがさらに好ましく、20~75質量であることが特に好ましい。また、必要に応じてE成分を含む場合、前記B成分の配合量は、A~C及びE成分の総量に対して5~80質量であることが好ましい。このB成分の配合量が、5質量以上であると、強靭性が良好で脆くなることがなく、80質量以下であると、A成分の水酸基及び/又はカルボキシル基とC成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好である。以上の観点から、このB成分の配合量は、10~75質量であることがさらに好ましく、15~70質量であることが特に好ましい。C多官能ブロックイソシアネート化合物多官能ブロックイソシアネート化合物は、多官能イソシアネート化合物とブロック剤との反応により生成する化合物である。また、ブロック剤由来の基により一時的に不活性化されている化合物であり、所定温度に加熱するとブロック剤由来の基が解離し、イソシアネート基を生成する。多官能ブロックイソシアネート化合物を用いると、加熱により多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基とA成分の水酸基及び/又はカルボキシル基を反応させることによって、新たな架橋構造を形成して、耐熱性及び環境信頼性を向上することができる。ブロック剤と反応し得る多官能イソシアネート化合物としては、特に制限はないが、例えば、2,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、ナフタレン-1,5-ジイソシアネート、o-キシリレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネートなどの芳香族多官能イソシアネート化合物;1,3-ビスイソシアナトメチルシクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、25-ビスイソシアナトメチルノルボルネン、ビス4-イソシアナトシクロヘキシルメタン、1,2-ビス4-イソシアナトシクロヘキシルエタン、2,2-ビス4-イソシアナトシクロヘキシルプロパン、2,2-ビス4-イソシアナトシクロヘキシルヘキサフルオロプロパン、ビシクロヘプタントリイソシアネートなどの脂環式多官能イソシアネート化合物;テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイシシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネートなどの脂肪族多官能イソシアネート化合物などが挙げられる。多官能イソシアネート化合物としては、透明性及び耐熱性の観点から、その分子中に脂環構造及び脂肪族構造から選ばれる少なくとも1種を含む化合物が好ましく、中でも上記脂環式多官能イソシアネート化合物;上記脂肪族多官能イソシアネート化合物が好ましい。なお、上記多官能イソシアネート化合物はウレトジオン型二量体、イソシアヌレート型三量体、又はビウレット型三量体などの多量体となっていてもよく、これらを構成する2つ又は3つの多官能イソシアネート化合物は、同一でも異なっていてもよい。また、異なる場合、例えば、脂環式多官能イソシアネート化合物と脂肪族多官能イソシアネート化合物の組合せのように、異なる種類の多官能イソシアネート化合物の組合せでもよい。以上の多官能イソシアネート化合物は、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。ブロック剤としては、活性水素を有しているものが好ましく、例えば、マロン酸ジエステル、アセト酢酸エステル、マロン酸ジニトリル、アセチルアセトン、メチレンジスルホン、ジベンゾイルメタン、ジピバリルメタン、アセトンジカルボン酸ジエステルなどの活性メチレン化合物;アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、ジエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどのオキシム化合物;フェノール、アルキルフェノール、アルキルナフトールなどのフェノール化合物;γブチロラクタム、δバレロラクタム、ε-カプロラクタムなどのラクタム化合物などが挙げられる。これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記活性メチレン化合物;上記オキシム化合物;上記ラクタム化合物が好ましい。以上のブロック剤は、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。前記C成分の配合量は、E成分を含まない場合、A~C成分の総量に対して、1~40質量であることが好ましい。また、必要に応じてE成分を含む場合、前記C成分の配合量は、A~C及びE成分の総量に対して1~40質量であることが好ましい。C成分の配合量が、1質量以上であると、A成分の水酸基及び/又はカルボキシル基とC成分の多官能ブロックイソシアネート化合物から生成するイソシアネート基が反応して十分な架橋構造を形成するため、、耐熱性が良好であり、40質量以下であると、強靭性が良好で脆くなることがない。以上の観点から、C成分の配合量は、3~35質量であることがさらに好ましく、5~30質量であることが特に好ましい。Dラジカル重合開始剤本発明においては、Dラジカル重合開始剤を用いる。Dラジカル重合開始剤を用いると、加熱又は紫外線、可視光線などの活性光線の照射により、B成分のラジカル重合が開始し硬化する。Dラジカル重合開始剤としては、加熱又は紫外線、可視光線などの活性光線の照射によってラジカル重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば、熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、前記メタアクリルポリマーを合成する際に用いられる熱ラジカル重合開始剤と同様のものを好適に挙げることができる。それらの中でも、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、ジアシルパーオキシド、パーオキシエステル、及びアゾ化合物であることが好ましい。光ラジカル重合開始剤としては、紫外線、可視光線などの活性光線の照射によってラジカル重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンなどのベンゾインケタール;1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-[4-2-ヒドロキシエトキシフェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-1-{4[4-2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオニルベンジル]フェニル}-2-メチルプロパン-1-オンなどのα-ヒドロキシケトン;フェニルグリオキシル酸メチル、フェニルグリオキシル酸エチル、オキシフェニル酢酸2-2-ヒドロキシエトキシエチル、オキシフェニル酢酸2-2-オキソ-2-フェニルアセトキシエトキシエチルなどのグリオキシエステル;2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリン-4-イルフェニル-ブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イルフェニル-ブタン-1-オン、1,2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-4-モルフォリン-2-イルプロパン-1-オンなどのα-アミノケトン;1,2-オクタンジオン,1-[4-フェニルチオ,2-O-ベンゾイルオキシム]、エタノン,1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル],1-O-アセチルオキシムなどのオキシムエステル;ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどのホスフィンオキシド;2-o-クロロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体、2-o-クロロフェニル-4,5-ジメトキシフェニルイミダゾール二量体、2-o-フルオロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体、2-o-メトキシフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体、2-p-メトキシフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール二量体などの2,4,5-トリアリールイミダゾール二量体;ベンゾフェノン、N,N’-テトラメチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、N,N’-テトラエチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン化合物;2-エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、2-tert-ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン、2,3-ベンズアントラキノン、2-フェニルアントラキノン、2,3-ジフェニルアントラキノン、1-クロロアントラキノン、2-メチルアントラキノン、1,4-ナフトキノン、9,10-フェナントラキノン、2-メチル-1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルアントラキノンなどのキノン化合物;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル;ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン化合物;ベンジルジメチルケタールなどのベンジル化合物;9-フェニルアクリジン、1,7-ビス9、9’-アクリジニルヘプタンなどのアクリジン化合物:N-フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。また、前記2,4,5-トリアリールイミダゾール二量体において、2つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。これらの中でも、硬化性及び透明性の観点から、前記α-ヒドロキシケトン;前記グリオキシエステル;前記オキシムエステル;前記ホスフィンオキシドが好ましい。以上のラジカル重合開始剤熱ラジカル重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤などは、単独で又は2種類以上組み合わせて用いることができ、さらに適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。前記D成分の配合量は、E成分を含まない場合、A~C成分の総量100質量部に対して、0.01~10質量部であることが好ましい。また、必要に応じてE成分を含む場合、A~C及びE成分の総量100質量部に対して0.01~10質量部であることが好ましい。D成分の配合量が、0.01質量部以上であると、硬化が十分となり、10質量部以下であると、透明性が良好である。以上の観点から、D成分の配合量は、0.05~7質量部であることがさらに好ましく、0.1~5質量部であることが特に好ましい。Eウレタン結合を有さないメタアクリレート本発明においては、必要に応じてさらにEウレタン結合を有さないメタアクリレートを本発明の効果に悪影響を与えない割合で用いてもよい。Eウレタン結合を有さないメタアクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、単官能のもの、2官能のもの又は3官能以上のもののいずれも用いることができる。単官能メタアクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ヘプチルメタアクリレート、オクチルヘプチルメタアクリレート、ノニルメタアクリレート、デシルメタアクリレート、ウンデシルメタアクリレート、ドデシルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、テトラデシルメタアクリレート、ペンタデシルメタアクリレート、ヘキサデシルメタアクリレート、オクタデシルメタアクリレート、ベヘニルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、エトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリプロピレングリコールメタアクリレート、エトキシポリプロピレングリコールメタアクリレート、モノ2メタアクリロイルオキシエチルスクシネートなどの脂肪族メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;シクロペンチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、モノ2メタアクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタレート、モノ2メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタレートなどの脂環式メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、o-ビフェニルメタアクリレート、1-ナフチルメタアクリレート、2-ナフチルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、p-クミルフェノキシエチルメタアクリレート、o-フェニルフェノキシエチルメタアクリレート、1-ナフトキシエチルメタアクリレート、2-ナフトキシエチルメタアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシポリプロピレングリコールメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-o-フェニルフェノキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-1-ナフトキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-2-ナフトキシプロピルメタアクリレートなどの芳香族メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;2-テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、N-メタアクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド、N-メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、イソシアヌル酸モノメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-N-カルバゾールなどの複素環式メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、その分子中に脂環構造、芳香環構造、及び複素環構造からなる群から選ばれた少なくとも1種を有する化合物が好ましく、具体的にはシクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレートなどの脂環式メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、p-クミルフェノキシエチルメタアクリレート、o-フェニルフェノキシエチルメタアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシポリプロピレングリコールメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-o-フェニルフェノキシプロピルメタアクリレートなどの芳香族メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;N-メタアクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド、N-メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、イソシアヌル酸モノメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-N-カルバゾールなどの複素環式メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体が好ましい。なお、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体とは、前記と同様の意味である。2官能メタアクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、2-メチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、1,10-デカンジオールジメタアクリレート、グリセリンジメタアクリレートなどの脂肪族メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;エチレングリコール型エポキシジメタアクリレート、ジエチレングリコール型エポキシジメタアクリレート、ポリエチレングリコール型エポキシジメタアクリレート、プロピレングリコール型エポキシジメタアクリレート、ジプロピレングリコール型エポキシジメタアクリレート、ポリプロピレングリコール型エポキシジメタアクリレート、1,3-プロパンジオール型エポキシジメタアクリレート、2-メチル-1,3-プロパンジオール型エポキシジメタアクリレート、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール型エポキシジメタアクリレート、1,4-ブタンジオール型エポキシジメタアクリレート、ネオペンチルグリコール型エポキシジメタアクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジオール型エポキシジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオール型エポキシジメタアクリレート、1,9-ノナンジオール型エポキシジメタアクリレート、1,10-デカンジオール型エポキシジメタアクリレートなどの脂肪族エポキシメタアクリレート;シクロヘキサンジメタノールジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタアクリレート、水添ビスフェノールAジメタアクリレート、水添ビスフェノールFジメタアクリレートなどの脂環式メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;シクロヘキサンジメタノール型エポキシジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノール型エポキシジメタアクリレート、水添ビスフェノールA型エポキシジメタアクリレート、水添ビスフェノールF型エポキシジメタアクリレートなどの脂環式エポキシメタアクリレート;ヒドロキノンジメタアクリレート、レゾルシノールジメタアクリレート、カテコールジメタアクリレート、ビスフェノールAジメタアクリレート、ビスフェノールFジメタアクリレート、ビスフェノールAFジメタアクリレート、ビフェノールジメタアクリレート、フルオレンビスフェノールジメタアクリレートなどの芳香族メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;ヒドロキノン型エポキシジメタアクリレート、レゾルシノール型エポキシジメタアクリレート、カテコール型エポキシジメタアクリレート、ビスフェノールA型エポキシジメタアクリレート、ビスフェノールF型エポキシジメタアクリレート、ビスフェノールAF型エポキシジメタアクリレート、ビフェノール型エポキシジメタアクリレート、フルオレンビスフェノール型エポキシジメタアクリレートなどの芳香族エポキシメタアクリレート;ビス2-メタアクリロイロキシエチル2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどの複素環式メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;イソシアヌル酸モノアリル型エポキシジメタアクリレートなどの複素環式メタアクリレートなどが挙げられる。なお、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体とは、前記と同様の意味である。これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、その分子中に脂環構造、芳香環構造、及び複素環構造からなる群から選ばれた少なくとも1種を有する化合物が好ましく、具体的には前記脂環式メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;前記脂環式エポキシメタアクリレート;ビスフェノールAジメタアクリレート、ビスフェノールFジメタアクリレート、ビスフェノールAFジメタアクリレート、ビフェノールジメタアクリレート、フルオレンビスフェノールジメタアクリレートなどの芳香族メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;ビスフェノールA型エポキシジメタアクリレート、ビスフェノールF型エポキシジメタアクリレート、ビスフェノールAF型エポキシジメタアクリレート、ビフェノール型エポキシジメタアクリレート、フルオレンビスフェノール型エポキシジメタアクリレートなどの芳香族エポキシメタアクリレート;前記複素環式メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体が好ましい。3官能以上のメタアクリレートとして、例えばトリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどの脂肪族メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;フェノールノボラック型エポキシメタアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシポリメタアクリレートなどの芳香族エポキシメタアクリレート;トリス2-メタアクリロイロキシエチルイソシアヌレートなどの複素環式メタアクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体;イソシアヌル酸型エポキシトリメタアクリレートなどの複素環式メタエポキシアクリレートなどが挙げられる。なお、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体とは、前記と同様の意味である。これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、その分子中に脂環構造、芳香環構造、及び複素環構造からなる群から選ばれた少なくとも1種を有する化合物が好ましく、具体的には前記芳香族エポキシメタアクリレート;前記複素環式メタアクリレート;前記イソシアヌル酸型エポキシメタアクリレートが好ましい。以上のウレタン結合を有さないメタアクリレートは、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて用いることもできる。前記E成分の配合量は、A~C及びE成分の総量に対して、5~80質量であることが好ましい。E成分の配合量が、5質量以上であると、B成分と反応して十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好であり、80質量以下であると、強靭性が良好で脆くなることがない。以上の観点から、E成分の配合量は、10~60質量であることがさらに好ましく、15~40質量であることが特に好ましい。その他成分さらに、本発明の光導波路形成用樹脂組成物中に、必要に応じてさらに酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割合で添加してもよい。有機溶剤本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈し、光導波路形成用樹脂ワニスとして使用してもよい。ここで用いる有機溶剤として、該樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に制限はなく、前記メタアクリルポリマーを溶解し得る反応溶媒として用いる有機溶剤と同様のものを好適に挙げることができる。これらの有機溶剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。また、樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常10~80質量であることが好ましい。光導波路形成用樹脂組成物の調合光導波路形成用樹脂組成物を調合する際は、撹拌により混合することが好ましい。撹拌方法には特に制限はないが、撹拌効率の観点からプロペラを用いた撹拌が好ましい。撹拌する際のプロペラの回転速度には特に制限はないが、10~1,000rpmであることが好ましい。プロペラの回転速度が10rpm以上であると、各成分が十分に混合され、1,000rpm以下であると、プロペラの回転による気泡の巻き込みが少なくなる。以上の観点から、プロペラの回転速度は50~800rpmであることがさらに好ましく、100~500rpmであることが特に好ましい。また、撹拌時間には特に制限はないが、1~24時間であることが好ましい。撹拌時間が1時間以上であると、各成分が十分に混合され、24時間以下であると、調合時間を短縮することができ、生産性が向上する。調合した光導波路形成用樹脂組成物は、孔径50μm以下のフィルタを用いて濾過するのが好ましい。孔径50μm以下のフィルタを用いることで、大きな異物などが除去されて塗布時にはじきなどを生じることがなく、また、光の散乱が抑制されて透明性が損なわれることがない。以上の観点から、孔径30μm以下のフィルタを用いて濾過するのがさらに好ましく、孔径10μm以下のフィルタを用いて濾過するのが特に好ましい。また、調合した光導波路形成用樹脂組成物又は樹脂ワニスは、減圧下で脱泡することが好ましい。脱泡方法には特に制限はないが、例えば、真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置を用いる方法が挙げられる。減圧時の圧力には特に制限はないが、樹脂組成物に含まれる低沸点成分が沸騰しない圧力が好ましい。減圧脱泡時間には特に制限はないが、3~60分であることが好ましい。減圧脱泡時間が3分以上であれば、樹脂組成物内に溶解した気泡を取り除くことができ、60分以下であれば、樹脂組成物に含まれる有機溶剤が揮発することがなく、かつ脱泡時間を短縮することができ、生産性を向上させることができる。光導波路形成用樹脂フィルム以下、本発明の光導波路形成用樹脂フィルムについて説明する。本発明の光導波路形成用樹脂フィルムは、前記光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成され、前記A~D成分、さらに必要に応じて用いるE成分を含有する光導波路形成用樹脂組成物を好適な支持フィルムに塗布することにより容易に製造することができる。また、前記光導波路形成用樹脂組成物が前記有機溶剤で希釈された光導波路形成用樹脂ワニスである場合、樹脂ワニスを支持フィルムに塗布し、有機溶剤を除去することにより製造することができる。支持フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン;ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。これらの中でも柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。支持フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、3~250μmであることが好ましい。支持フィルムの厚みが3μm以上であると、フィルム強度が十分であり、250μm以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、支持フィルムの厚みは、5~200μmであることがさらに好ましく、7~150μmであることが特に好ましい。支持フィルム上に光導波路形成用樹脂組成物を塗布して製造した光導波路形成用樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂層、及び保護フィルムからなる3層構造としてもよい。保護フィルムとしては、特に制限はないが、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンなどが好ましい。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、10~250μmであることが好ましい。保護フィルムの厚みが10μm以上であると、フィルム強度が十分であり、250μm以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、保護フィルムの厚みは15~200μmであることがさらに好ましく、20~150μmであることが特に好ましい。本発明の光導波路形成用樹脂フィルムの樹脂層の厚みも、特に制限はないが、乾燥後の厚みで、通常は5~500μmであることが好ましい。該樹脂層の厚み5μm以上であると、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は樹脂フィルムの硬化物の強度が十分であり、一方、500μm以下であると、乾燥が十分に行えるため樹脂フィルム中の残留溶剤量が増えることなく、樹脂フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがない。このようにして得られた光導波路形成用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。また、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。以下、本発明の光導波路形成用樹脂フィルムの適用例について説明する。本発明の光導波路形成用樹脂フィルムからなるコア部形成用樹脂フィルムの製造過程で用いる支持フィルムとしては、コアパターン形成に用いる露光用活性光線が透過するものであれば特に制限はなく、例えば、前述の光導波路形成用樹脂フィルムの支持フィルムの具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。それらの中でも、露光用活性光線の透過率、柔軟性、及び強靭性の観点から、ポリエステル;ポリオレフィンであることが好ましい。さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプな支持フィルムとして、市販のものでは、例えば、東洋紡績株製コスモシャインA1517、コスモシャインA4100、東レ株製ルミラーFB50などが挙げられる。コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムの厚みは、5~50μmであることが好ましい。支持フィルムの厚みが5μm以上であると、支持体としての強度が十分であり、50μm以下であると、コアパターン形成時にフォトマスクとコア部形成用樹脂層のギャップが大きくならず、パターン解像度が良好である。以上の観点から、支持フィルムの厚みは10~40μmであることがさらに好ましく、15~30μmであることが特に好ましい。本発明の光導波路形成用樹脂フィルムからなるクラッド層形成用樹脂フィルム上部クラッド層形成用樹脂フィルム,下部クラッド層形成用樹脂フィルムの製造過程で用いる支持フィルムとしては、クラッド形成に用いる露光用活性光線が透過するものであれば特に制限はなく、例えば、前述の光導波路形成用樹脂フィルムの支持フィルムの具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。それらの中でも、露光用活性光線の透過率、柔軟性、及び強靭性の観点から、ポリエステル;ポリオレフィンであることが好ましい。さらに、露光用活性光線の透過率向上及びクラッドパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプな支持フィルムとして、市販のものでは、例えば、東洋紡績株製コスモシャインA1517、コスモシャインA4100、東レ株製ルミラーFB50などが挙げられる。クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの厚みは、5~50μmであることが好ましい。支持フィルムの厚みが5μm以上であると、支持体としての強度が十分であり、50μm以下であると、クラッドパターン形成時にフォトマスクとクラッド層形成用樹脂層のギャップが大きくならず、パターン解像度が良好である。以上の観点から、支持フィルムの厚みは10~40μmであることがさらに好ましく、15~30μmであることが特に好ましい。光導波路以下、本発明の光導波路について説明する。図1のaに光導波路の断面図を示す。光導波路1は基材5上に形成され、高屈折率であるコア部形成用樹脂組成物からなるコア部2、並びに低屈折率であるクラッド層形成用樹脂組成物からなる下部クラッド層4及び上部クラッド層3で構成されている。本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び光導波路形成用樹脂フィルムは、光導波路1の下部クラッド層4、コア部2、及び上部クラッド層3のうち、少なくとも1つに用いることが好ましい。光導波路形成用樹脂フィルムを用いることによって、各層の平坦性、クラッドとコアの層間密着性、及び光導波路コアパターン形成時の解像度細線又は狭線間対応性をより向上させることができ、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンの形成が可能となる。光導波路1において、基材5の材質としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。光導波路1は、基材5として柔軟性及び強靭性のある基材、例えば、前記光導波路形成用樹脂フィルムの支持フィルムを基材として用いることで、フレキシブル光導波路としてもよく、このとき基材5を光導波路1の保護フィルムとして機能させてもよい。保護フィルムを配置することにより、保護フィルムの柔軟性及び強靭性を光導波路1に付与することが可能となる。さらに、光導波路1が汚れや傷を受けなくなるため、取り扱いやすさが向上する。以上の観点から、図1のbのように上部クラッド層3の外側に保護フィルムとして基材5が配置されていたり、図1のcのように下部クラッド層4及び上部クラッド層3の両方の外側に保護フィルムとして基材5が配置されていたりしてもよい。なお、光導波路1に柔軟性や強靭性が十分に備わっているならば、図1のdのように、保護フィルム5が配置されていなくてもよい。下部クラッド層4の厚みは、特に制限はないが、2~200μmであることが好ましい。2μm以上であると、伝搬光をコア内部に閉じ込めるのが容易となり、200μm以下であると、光導波路1全体の厚みが大きすぎることがない。なお、下部クラッド層4の厚みとは、コア部2と下部クラッド層4との境界から下部クラッド層4の下面までの値である。下部クラッド層形成用樹脂フィルムの厚みについては、特に制限はなく、硬化後の下部クラッド層4の厚みが上記の範囲となるように厚みが調整される。コア部2の高さは、特に制限はないが、10~150μmであることが好ましい。コア部の高さが10μm以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが小さくなることがなく、150μm以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が小さくなることがない。以上の観点から、コア部の高さは、15~130μmであることがさらに好ましく、20~120μmであることが特に好ましい。なお、コア部形成用樹脂フィルムの厚みについては、特に制限はなく、硬化後のコア部の高さが上記の範囲となるように厚みが調整される。上部クラッド層3の厚みは、コア部2を埋め込むことができる範囲であれば特に制限はないが、乾燥後の厚みで12~500μmであることが好ましい。上部クラッド層3の厚みとして、最初に形成される下部クラッド層4の厚みと同一であっても異なってもよいが、コア部2を埋め込むという観点から、下部クラッド層4の厚みよりも厚くすることが好ましい。なお、上部クラッド層3の厚みとは、コア部2と下部クラッド層4との境界から上部クラッド層3の上面までの値である。本発明の光導波路において、波長850nmの光源における光伝搬損失は0.3dB/cm以下であることが好ましい。0.3dB/cm以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、光伝搬損失は0.2dB/cm以下であることがさらに好ましく、0.1dB/cm以下であることが特に好ましい。本発明の光導波路において、温度85°C、湿度85の高温高湿放置試験を1000時間実施後の波長850nmの光源における光伝搬損失は、0.3dB/cm以下であることが好ましい。0.3dB/cm以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、光伝搬損失は0.2dB/cm以下であることがさらに好ましく、0.1dB/cm以下であることが特に好ましい。なお、温度85°C、湿度85の高温高湿放置試験とはJPCA規格JPCA-PE02-05-01Sに準じた条件で実施する高温高湿放置試験のことを意味する。本発明の光導波路において、温度-55°Cと125°Cの間の温度サイクル試験を1000サイクル実施後の波長850nmの光源における光伝搬損失は、0.3dB/cm以下であることが好ましい。0.3dB/cm以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、光伝搬損失は0.2dB/cm以下であることがさらに好ましく、0.1dB/cm以下であることが特に好ましい。なお、温度-55°Cと125°Cの間の温度サイクル試験とはJPCA規格JPCA-PE02-05-01Sに準じた条件で実施する温度サイクル試験のことを意味する。本発明の光導波路において、最高温度265°Cのリフロー試験を3回実施後の波長850nmの光源における光伝搬損失は、0.3dB/cm以下であることが好ましい。0.3dB/cm以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分であれば同時に、リフロープロセスによる部品実装が行えるために、適用範囲が広くなる。以上の観点から、光伝搬損失は0.2dB/cm以下であることがさらに好ましく、0.1dB/cm以下であることが特に好ましい。なお、最高温度265°Cのリフロー試験とはJEDEC規格JEDECJESD22A113Eに準じた条件で実施する鉛フリーはんだリフロー試験のことを意味する。本発明の光導波路は、透明性、環境信頼性、及び耐熱性に優れており、光モジュールの光伝送路として用いてもよい。光モジュールの形態として、例えば、光導波路の両端に光ファイバを接続した光ファイバ付き光導波路、光導波路の両端にコネクタを接続したコネクタ付き光導波路、光導波路とプリント配線板と複合化した光電気複合基板、光導波路と光信号と電気信号を相互に変換する光/電気変換素子を組み合わせた光電気変換モジュール、光導波路と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分波器などが挙げられる。なお、光電気複合基板において、複合化するプリント配線板としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ基板、セラミック基板などのリジッド基板;ポリイミド基板、ポリエチレンテレフタレート基板などのフレキシブル基板などが挙げられる。光導波路の製造方法以下、本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び/又は光導波路形成用樹脂フィルムを用いて光導波路1を形成するための製造方法について説明する。本発明の光導波路1を製造する方法としては、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物及び/又は光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、基材上に光導波路形成用樹脂層を形成して製造する方法などが挙げられる。本発明に用いられる基材としては、光導波路1における基材5の具体例として記載されたものと同様のものを挙げることができる。光導波路形成用樹脂層を形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物を用いて、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビアコート法、スクリーンコート法、インクジェットコート法などにより塗布する方法などが挙げられる。光導波路形成用樹脂組成物が、前記有機溶剤で希釈されて光導波路形成用樹脂ワニスとなっている場合、必要に応じて樹脂層を形成後に、乾燥する工程を入れてもよい。乾燥方法としては、特に制限はなく、例えば、加熱乾燥、減圧乾燥などが挙げられる。また、必要に応じてこれらを併用してもよい。光導波路形成用樹脂層を形成するその他の方法としては、光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、積層法により形成する方法が挙げられる。これらの中で、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンを有する光導波路が形成可能という観点から、光導波路形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。以下、光導波路形成用樹脂フィルムを下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層に用いて光導波路1を形成するための製造方法について説明するが、本発明はこれに何ら制限されるものではない。まず、第1の工程として、下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材5上に積層する。第1の工程における積層方法としては、特に制限はなく、例えば、ロールラミネータ又は平板型ラミネータを用いて加熱しながら圧着することにより積層する方法などが挙げられる。なお、本発明における平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式ラミネータを好適に用いることができる。ラミネート温度は、特に制限はないが、20~130°Cであることが好ましく、ラミネート圧力は、特に制限はないが、0.1~1.0MPaであることが好ましい。下部クラッド層形成用樹脂フィルムに保護フィルムが存在する場合、保護フィルムを除去した後に積層する。真空加圧式ラミネータを用いて積層する場合、ロールラミネータを用いて、あらかじめ下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材5上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性及び追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行っても良い。ラミネート温度は、20~150°Cであることが好ましい。20°C以上であれば下部クラッド層形成用樹脂フィルムと基材5との密着性が向上し、150°C以下であれば樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎることがなく、必要とする膜厚が得られる。以上の観点から、40~130°Cであることがさらに好ましい。ラミネート圧力は、特に制限はないが、0.2~0.9MPaであることが好ましく、ラミネート速度は、特に制限はないが、0.1~3m/minであることが好ましい。基材5上に積層された下部クラッド層形成用樹脂層を光及び/又は熱により硬化し、下部クラッド層4を形成する。なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去は、硬化前及び硬化後のどちらで行ってもよい。下部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、特に制限はないが、0.1~5J/cm2とすることが好ましい。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、加熱をしながら活性光線を照射してもよい。なお、光硬化前後の処理として、必要に応じて50~200°Cの加熱処理を行ってもよい。下部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、特に制限はないが、50~200°Cとすることが好ましい。下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムを、光導波路1の保護フィルム5として機能させる場合、下部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層することなく、光及び/又は熱により前記と同様な条件で硬化し、下部クラッド層4を形成してもよい。なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの保護フィルムは、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。第2の工程として、第1の工程と同様な方法で、下部クラッド層4上にコア部形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、コア部形成用樹脂層は下部クラッド層形成用樹脂層より高屈折率であるように設計され、活性光線によりコア部2コアパターンを形成し得る感光性樹脂組成物からなることが好ましい。第3の工程として、コア部2を露光する。コア部2を露光する方法としては、特に制限はなく、例えば、アートワークと呼ばれるネガ型フォトマスクを通して活性光線を画像状に照射する方法、レーザ直接描画を用いてネガ型フォトマスクを通さずに直接活性光線を画像上に照射する方法などが挙げられる。活性光線の光源としては、特に制限はなく、例えば、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、水銀蒸気アークランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプなどの紫外線を有効に放射する光源;写真用フラッド電球、太陽ランプなどの可視光線を有効に放射する光源などが挙げられる。コア部2を露光する際の活性光線の照射量は、0.01~10J/cm2であることが好ましい。0.01J/cm2以上であると、硬化反応が十分に進行し、現像によりコア部2が流失することがない。一方、10J/cm2以下であると、露光量過多によりコア部2が太ることがなく、微細なパターンが形成でき好適である。以上の観点から、活性光線の照射量は、0.03~5J/cm2であることがさらに好ましく、0.05~3J/cm2であることが特に好ましい。コア部2の露光は、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して行っても、支持フィルムを除去してから行ってもよい。また、露光後に、コア部2の解像度及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間は、10分以内であることが好ましいが、この条件には特に制限はない。露光後加熱温度は40~160°Cであることが好ましく、時間は30秒~10分であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。第4の工程として、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して露光した場合、これを除去し、現像液を用いて現像する。現像方法としては、特に制限はなく、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの現像方法を併用してもよい。現像液としては、特に制限はなく、例えば、有機溶剤、有機溶剤と水からなる準水系現像液、アルカリ水溶液からなる水系アルカリ現像液、アルカリ水溶液と有機溶剤からなる準水系アルカリ現像液などが挙げられる。また、現像温度は、コア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。有機溶剤としては、特に制限はなく、例えば、前記光導波路形成用樹脂組成物の希釈に用いる有機溶剤と同様のものを好適に挙げることができる。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。また、有機溶剤中には、表面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。準水系現像液としては、1種類以上の有機溶剤と水からなるものであれば特に制限はない。有機溶剤の濃度は、5~90質量であることが好ましい。また、準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。アルカリ水溶液の塩基としては、特に制限はなく、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩;リン酸カリウム、リン酸ナトリウムなどのアルカリ金属リン酸塩;ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウムなどのアルカリ金属ピロリン酸塩;四ホウ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどのナトリウム塩;炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウムなどのアンモニウム塩;水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、2-アミノ-2-ヒドロキシメチル-1,3-プロパンジオール、1,3-ジアミノプロパノール-2-モルホリンなどの有機塩基などが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。水系アルカリ現像液のpHは9~14であることが好ましい。また、水系アルカリ現像液には、界面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。準水系アルカリ現像液としては、アルカリ水溶液と1種類以上の前記有機溶剤からなるものであれば特に制限はない。なお、有機溶剤としては、特に制限はなく、例えば、前記光導波路形成用樹脂組成物の希釈に用いる有機溶剤と同様のものを好適に挙げることができる。準水系アルカリ現像液のpHは、現像が十分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、pH8~13であることが好ましく、pH9~12であることがさらに好ましい。有機溶剤の濃度は、通常、5~90質量であることが好ましい。また、準水系アルカリ現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。現像後の処理として、必要に応じて前記有機溶剤、前記準水系洗浄液、又は水を用いて洗浄してもよい。洗浄方法として、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの洗浄方法を併用してもよい。前記有機溶剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。準水系洗浄液において、有機溶剤の濃度は通常、5~90質量とすることが好ましい。また、洗浄温度はコア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。現像又は洗浄後の処理として、コア部2の硬化性及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光及び/又は加熱を行ってもよい。加熱温度は、特に制限はないが、40~200°Cであることが好ましく、活性光線の照射量は、特に制限はないが、0.01~10J/cm2であることが好ましい。第5の工程として、第1及び第2の工程と同様の方法で、下部クラッド層4及びコア部2上に上部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、上部クラッド層形成用樹脂層は、コア部形成用樹脂層よりも低屈折率になるように設計されている。また、上部クラッド形成用樹脂層の厚みは、コア部2の高さより大きくすることが好ましい。次いで、第1の工程と同様な方法で上部クラッド層形成用樹脂層を光及び/又は熱により硬化し、上部クラッド層3を形成する。上部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、特に制限はないが、0.1~30J/cm2とすることが好ましい。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、必要に応じて加熱をしながら活性光線を照射してもよく、光硬化前後の処理として加熱処理を行ってもよい。活性光線照射中及び/又は照射後の加熱温度は、特に制限はないが、50~200°Cであることが好ましい。上部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、特に制限はないが、50~200°Cであることが好ましい。なお、上部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去が必要な場合、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。以上の工程で、光導波路1を作製することができる。以下の本発明の実施例をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例になんら限定されるものではない。合成例1[メタアクリルポリマーA-1の作製]撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部及び乳酸メチル23質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65°Cに上昇させ、N-シクロヘキシルマレイミド16質量部、ベンジルメタクリレート65質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート29質量部、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル2質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部、及び乳酸メチル23質量部の混合物を3時間かけて滴下後、65°Cで3時間撹拌し、さらに95°Cで1時間撹拌を続けて、メタアクリルポリマーA-1溶液固形分45質量を得た。[重量平均分子量の測定]A-1の重量平均分子量標準ポリスチレン換算をGPC東ソー株製SD-8022、DP-8020、及びRI-8020を用いて測定した結果、3.8×104であった。なお、カラムは日立化成工業株製GelpackGL-A150-S及びGelpackGL-A160-Sを使用した。合成例2[メタアクリルポリマーA-2の作製]撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部及び乳酸メチル23質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65°Cに上昇させ、メチルメタクリレート47質量部、ブチルアクリレート33質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート16質量部、メタクリル酸14質量部、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル3質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部、及び乳酸メチル23質量部の混合物を3時間かけて滴下後、65°Cで3時間撹拌し、さらに95°Cで1時間撹拌を続けて、メタアクリルポリマーA-2溶液固形分45質量を得た。合成例1と同様な方法で、A-2の重量平均分子量を測定した結果、3.9×104であった。[酸価の測定]A-2の酸価を測定した結果、79mgKOH/gであった。なお、酸価はA-2溶液を中和するのに要した0.1mol/L水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。合成例3[メタアクリルポリマーA-3の作製]撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部及び乳酸メチル23質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65°Cに上昇させ、N-シクロヘキシルマレイミド16質量部、ベンジルメタクリレート55質量部、メチルメタクリレート19質量部、メタクリル酸21質量部、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル2質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部、及び乳酸メチル23質量部の混合物を3時間かけて滴下後、65°Cで3時間撹拌し、さらに95°Cで1時間撹拌を続けて、メタアクリルポリマーA-3溶液固形分45質量を得た。合成例1及び2と同様な方法で、A-3の重量平均分子量及び酸価を測定した結果、それぞれ3.5×104、120mgKOH/gであった。実施例1[コア部形成用樹脂ワニスCOV-1の調合]A成分として、前記A-1溶液固形分45質量89質量部固形分40質量部、B成分として、ポリエステル骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製U-108A25質量部、E成分として、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート日立化成工業株製ファンクリルFA-321A20質量部、C成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液固形分75質量住化バイエルウレタン株製スミジュールBL317520質量部固形分15質量部、D成分として、1-[4-2-ヒドロキシエトキシフェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オンBASFジャパン株製イルガキュア29591質量部、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシドBASFジャパン株製イルガキュア8191質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート19質量部を攪拌しながら混合した。孔径2μmのポリフロンフィルタアドバンテック東洋株製PF020を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、コア部形成用樹脂ワニスCOV-1を得た。[コア部形成用樹脂フィルムCOF-1の作製]コア部形成用樹脂ワニスCOV-1を、PETフィルム東洋紡績株製コスモシャインA1517、厚み16μmの非処理面上に、塗工機株ヒラノテクシード製マルチコーターTM-MCを用いて塗布し、80°Cで10分、100°Cで10分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理PETフィルム帝人デュポンフィルム株製ピューレックスA31、厚み25μmを貼付け、コア部形成用樹脂フィルムCOF-1を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、コア部形成用樹脂フィルムでは50μmとなるように調節した。[強靭性評価]前記コア部形成用樹脂フィルムCOF-1に紫外線露光機大日本スクリーン株式会社製MAP-1200-Lを用い、紫外線波長365nmを2000mJ/cm2照射した。支持フィルムA1517及び保護フィルムA31を除去して、160°Cで1時間硬化させた後、厚み50μmの硬化フィルムを得た。得られた硬化フィルムを幅10mm、長さ70mmに切出し、引張り試験機株式会社オリエンテック製RTM-100を用いて、引張り試験つかみ具間距離50mmを温度25°C、引張り速度5mm/minの条件で、JISK7127に準拠して行い、以下の基準で評価した。その結果を表1に示す。◎:引張り破断伸び率が20以上○:引張り破断伸び率が10以上、20未満△:引張り破断伸び率が5以上、10未満×:引張り破断伸び率が5未満なお、引張り破断伸び率は、以下に示す式により算出した。引張り破断伸び率=破断時のつかみ具間距離mm-初期のつかみ具間距離mm÷初期のつかみ具間距離mm×100実施例2[クラッド層形成用樹脂ワニスCLV-1の調合]A成分として、前記A-2溶液固形分45質量84質量部固形分38質量部、B成分として、ポリエステル骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製U-200AX33質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製UA-420015質量部、C成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液固形分75質量住化バイエルウレタン株製スミジュールBL317520質量部固形分15質量部、D成分として、1-[4-2-ヒドロキシエトキシフェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オンBASFジャパン株製イルガキュア29591質量部、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシドBASFジャパン株製イルガキュア8191質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート23質量部を攪拌しながら混合した。孔径2μmのポリフロンフィルタアドバンテック東洋株製PF020を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスCLV-1を得た。[クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-1の作製]クラッド層形成用樹脂組成物CLV-1を、PETフィルム東洋紡績株製コスモシャインA4100、厚み50μmの非処理面上に、前記塗工機を用いて塗布し、100°Cで20分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理PETフィルム帝人デュポンフィルム株製ピューレックスA31、厚み25μmを貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-1を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、下部クラッド層形成用樹脂フィルムでは20μm、及び上部クラッド層形成用樹脂フィルムでは60μmとなるように調節した。続いて、上部クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-1を用いて、実施例1と同様な方法で、硬化フィルムの強靭性を評価した。その結果を表1に示す。実施例3~6及び比較例1~4表1に示す配合比に従って、コア部形成用樹脂ワニスCOV-2~6及びクラッド層形成用樹脂ワニスCLV-2~4を調合し、実施例1と同様な方法で、コア部形成用樹脂フィルムCOF-2~6及びクラッド層形成用樹脂フィルムCLF-2~4を作製した。続いて、これらのコア部形成用樹脂フィルムCOF-2~6及びクラッド層形成用樹脂フィルムCLF-2~4を用いて、実施例1と同様な方法で、硬化フィルムの強靭性を評価した。その結果を表1に示す。1:合成例1で作製したメタアクリルポリマーA-1のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/乳酸メチル溶液固形分45質量2:合成例2で作製したメタアクリルポリマーA-2のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/乳酸メチル溶液固形分45質量3:合成例3で作製したメタアクリルポリマーA-3のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/乳酸メチル溶液固形分45質量4:ポリエステル骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製NKオリゴU-108A5:ポリエステル骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製U-200AX6:ポリプロピレングリコール骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製UA-42007:カルボキシル基及びポリエーテル骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製UA-62008:エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート日立化成工業株製ファンクリルFA-321A9:ポリプロピレングリコールジアクリレート日立化成工業株製ファンクリルFA-P240A10:ビスフェノールA型エポキシジアクリレート新中村化学工業株製NKオリゴEA-102011:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート共栄社化学株製ライトアクリレートDPE-6A12:ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液固形分75質量住化バイエルウレタン株製スミジュールBL317513:イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液固形分65質量住化バイエルウレタン株製デスモジュールBL426514:1-[4-2-ヒドロキシエトキシフェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オンBASFジャパン株製イルガキュア295915:ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシドBASFジャパン株製イルガキュア81916:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート17:◎...引張り破断伸び率が20以上,○...引張り破断伸び率が10以上、20未満,△...引張り破断伸び率が5以上、10未満,×...引張り破断伸び率が5未満実施例7[フレキシブル光導波路の作製]ロールラミネータ日立化成テクノプラント株製HLM-1500を用い、保護フィルムA31を除去した前記下部クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-1を、表面離型処理PETフィルム帝人デュポンフィルム株製ピューレックスA53、厚み50μm上に、圧力0.5MPa、温度80°C、速度0.2m/minの条件で積層した。さらに、真空加圧式ラミネータ株名機製作所製MVLP-500/600を用い、圧力0.4MPa、温度80°C及び加圧時間30秒の条件で圧着した。次に、紫外線露光機大日本スクリーン株製MAP-1200-Lを用い、紫外線波長365nmを2000mJ/cm2照射後、支持フィルムA4100を除去した。その後、160°Cで1時間加熱硬化することによって、下部クラッド層4を形成した。続いて、前記ロールラミネータを用い、保護フィルムA31を除去した前記コア部形成用樹脂フィルムCOF-1を、下部クラッド層4上に、圧力0.5MPa、温度80°C、速度0.2m/minの条件で積層した。さらに、上記真空加圧式ラミネータを用い、圧力0.4MPa、温度80°C及び加圧時間30秒の条件で圧着した。次いで、幅50μmのネガ型フォトマスクを介し、前記紫外線露光機で紫外線波長365nmを1000mJ/cm2照射して、コア部2コアパターンを露光した。80°Cで5分間露光後加熱を行った後、支持フィルムA1517を除去し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/N,N-ジメチルアセトアミド70/30質量比を用いて現像した。続いて、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いて洗浄後、さらに2-プロパノールを用いて洗浄した。その後、80°Cで30分、続いて100°Cで1時間加熱乾燥し、さらに160°Cで1時間加熱硬化した。次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、保護フィルムA31を除去した前記上部クラッド層形成用樹脂フィルムCLF-1を、コア部2及び下部クラッド層4上に、圧力0.4MPa、温度100°C及び加圧時間30秒の条件で積層した。紫外線波長365nmを2000mJ/cm2照射し、支持フィルムA4100を除去した後、160°Cで1時間加熱硬化することによって、上部クラッド層3を形成した。その後、前記表面離型処理PETフィルムA53を除去し、図1dに示す光導波路1を得た。その後、ダイシングソー株ディスコ製DAD-522を用いて長さ10cmのフレキシブル光導波路を切り出した。得られたフレキシブル光導波路について、以下の評価を行った。その結果を表4に示す。[光伝搬損失測定]得られたフレキシブル光導波路の光伝搬損失を、光源に波長850nmの光を中心波長とするVCSELEXFO社製FLS-300-01-VCL、受光センサ株アドバンテスト製Q82214、入射ファイバGI-50/125マルチモードファイバ、NA=0.20、及び出射ファイバSI-114/125、NA=0.22を用いて測定した。光伝搬損失は、光損失測定値dBを光導波路長10cmで割ることにより算出し、以下の基準で評価した。◎:0.1dBcm以下○:0.1dBcmより大きく、0.2dBcm以下△:0.2dBcmより大きく、0.3dBcm以下×:0.3dBcmより大きい[高温高湿放置試験]得られたフレキシブル光導波路を、高温高湿試験機エスペック株製PL-2KTを用いて、JPCA規格JPCA-PE02-05-01Sに準じた条件で温度85°C、湿度85の高温高湿放置試験を1000時間実施した。高温高湿放置試験実施後の光導波路の光伝搬損失を、前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ、及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。◎:0.1dBcm以下○:0.1dBcmより大きく、0.2dBcm以下△:0.2dBcmより大きく、0.3dBcm以下×:0.3dBcmより大きい[温度サイクル試験]得られたフレキシブル光導波路を、温度サイクル試験機楠本化成株製ETACWINTECHNT1010を用いて、JPCA規格JPCA-PE02-05-01Sに準じた条件で温度-55°Cと125°Cの間の温度サイクル試験を1000サイクル実施した。詳細な温度サイクル試験条件を表2に示す。温度サイクル試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。◎:0.1dBcm以下○:0.1dBcmより大きく、0.2dBcm以下△:0.2dBcmより大きく、0.3dBcm以下×:0.3dBcmより大きい[リフロー試験]得られたフレキシブル光導波路を、リフロー試験機古河電気工業株製サラマンダXNA-645PCを用いて、IPC/JEDECJ-STD-020Bに準じた条件で最高温度265°Cのリフロー試験を窒素雰囲気下で3回実施した。詳細なリフロー条件を表3、リフロー炉内の温度プロファイルを図2に示す。リフロー試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。◎:0.1dBcm以下○:0.1dBcmより大きく、0.2dBcm以下△:0.2dBcmより大きく、0.3dBcm以下×:0.3dBcmより大きい[強靭性評価]フレキシブル光導波路の強靭性を、フレキシブル光導波路を半径1mmの棒に巻きつけることによって、以下の基準で評価した。○:変化なし×:クラック発生又は破断実施例8~10及び比較例5及び6コア部形成用樹脂フィルムCOF-2~4、並びにクラッド層形成用樹脂フィルムCLF-1~4を用いて、実施例7と同様な方法で、フレキシブル光導波路を作製した。続いて、得られたフレキシブル光導波路長さ10cmの光伝搬損失測定、高温高湿放置試験、温度サイクル試験、及びリフロー試験を実施例7と同様な条件で実施した。以上の結果を表4に示す。なお、表4中の現像条件については、表5に示す。1:表5参照2:◎:0.1dBcm以下,○:0.1dBcmより大きく、0.2dBcm以下,△:0.2dBcmより大きく、0.3dBcm以下,×:0.3dBcmより大きい3:○:変化なし,×:クラック発生又は破断表1及び表4から、本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、透明性、耐熱性、及び強靭性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、耐熱性、環境信頼性、及び強靭性に優れていることがわかる。一方、比較例1及び2に示した本発明に属さない光導波路形成用樹脂組成物、並びに比較例5に示したこれらを用いて製造した光導波路は、透明性、耐熱性、環境信頼性に優れているものの、強靭性に劣っていることがわかる。また、比較例3及び4に示した本発明に属さない光導波路形成用樹脂組成物、並びに比較例6に示したこれらを用いて製造した光導波路は、透明性、強靭性に優れているものの、耐熱性、環境信頼性に劣っていることがわかる。"