"A及びBの成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。A環状オリゴ糖B水A、B及びCの成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。A環状オリゴ糖B水CアルカノールアミンA、B、C及びDの成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。A環状オリゴ糖B水CアルカノールアミンD炭素数6~24の脂肪族カルボン酸環状オリゴ糖が、αシクロデキストリンである請求項1~3のいずれかに記載の潤滑組成物。アルカノールアミンが、一般式R2mN-R1-OHnR1は炭素数2~5の直鎖又は分岐のアルキレン基であり、R2は水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を示す。n、mは1以上の整数であり、nm=3である。で表わされるアミンである請求項2~3のいずれかに記載の潤滑組成物。Aを0.1~40重量、Cを1~90重量、Dを0.1~30重量、Bを残部、からなる請求項1~5のいずれかに記載の潤滑組成物。請求項1~6のいずれかに記載の研磨用潤滑組成物及び研磨砥粒を含む研磨スラリー。本発明の課題は、ガラス基板の加工において、特に研磨速度の向上、仕上げ面粗さの改善に有効で、更には表面残渣を低減できる研磨スラリー並びに該研磨スラリーを調製するための研磨用潤滑組成物を提供することにある。本発明者は、特定の研磨用潤滑組成物及び研磨砥粒を含む研磨スラリーが上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は、本発明は、下記の発明に係る。1.A及びBの成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。A環状オリゴ糖B水2.A、B及びCの成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。A環状オリゴ糖B水Cアルカノールアミン3.A、B、C及びDの成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。A環状オリゴ糖B水CアルカノールアミンD炭素数6~24の脂肪族カルボン酸4.環状オリゴ糖が、αシクロデキストリンである上記のいずれかに記載の潤滑組成物。5.Aを0.1~40重量、Cを1~90重量、Dを0.1~30重量、Bを残部、からなる上記のいずれかに記載の潤滑組成物。6.上記のいずれかに記載の研磨用潤滑組成物及び研磨砥粒を含む研磨スラリー。本発明の研磨スラリーは、ガラス基板の加工において、特に研磨速度の向上、仕上げ面粗さの改善に有効な加工特性を示す。更には表面残渣の低減が出来る。本発明のガラス基板研磨用潤滑組成物の各成分について以下に詳しく説明する。A環状オリゴ糖として、例えば、α-シクロデキストリンα-CD,6個のグルコース環状結合、β-シクロデキストリンβ-CD,7個のグルコース環状結合、γ-シクロデキストリンγ-CD,8個のグルコース環状結合等があげられる。これら環状オリゴ糖の中でも、αシクロデキストリンが好ましい。ただし、環状オリゴ糖の構成単位は特に限定せず、更には結合の仕方に関しても特に限定しない。また構造異性体、立体異性体も含む。B水としては、イオン交換水もしくは純水等の精製水が好ましい。Cアルカノールアミンとしては、特に限定されないが、例えば、一般式R2mN-R1-OHnR1は炭素数2~5の直鎖又は分岐のアルキレン基であり、R2は水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を示す。n、mは1以上の整数であり、nm=3である。で表わされるアミンを挙げることができる。具体的にはモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N,N-ジメチルエタノールアミン、N-メチルモノエタノールアミン、N-メチルジエタノールアミン、n-ブタノールアミン、イソブタノールアミン、tert-ブタノールアミン、2-アミノ-2-メチル-1-プロパノール、ジエチルエタノールアミン、エチルジエタノールアミン等が挙げられる。D脂肪族カルボン酸としては、炭素数6~24の脂肪族カルボン酸が好ましく、炭化水素鎖が直鎖でも分岐でも環状でも良く、不飽和結合や水酸基を有していても良い、更にはそれらの重縮合物や二塩基酸であってもよい。例えば、カプロン酸、ヘプチリック酸、カプリル酸、ペラゴニン酸、カプリン酸、ウンデシリン酸、ヘンデカン酸、ラウリン酸、トリデシリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシリン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ノナデシリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸等の飽和脂肪酸、ソルビン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エルカ酸等の不飽和脂肪酸、イソヘプタン酸、イソノナン酸、イソミリスチン酸、イソパルミチン酸、イソステアリン酸、イソアラキン酸等の分岐鎖脂肪酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸等の二塩基脂肪酸、12ヒドロキシステアリン酸ダイマー、12ヒドロキシステアリン酸トライマー、12ヒドロキシステアリン酸テトラマー等の重縮合脂肪酸、リシノレイン酸、ラクトビオン酸、パントイン酸、メバロン酸、2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸、2,2-ビスヒドロキシメチル酪酸、デオキシコール酸、アロイリット酸、ガラクツロン酸、グルコン酸、キナ酸、シキミ酸、コール酸、ラクトン酸等のヒドロキシ脂肪酸などが挙げられる。ここで炭素数はカルボニル炭素を含む炭素数である。これら脂肪族カルボン酸のなかでも炭素数8~22、更には炭素数12~18の脂肪族カルボン酸が好ましい。更に、これら組成物に加え、多価アルコール類を適宜用いても良い。多価アルコール類としては多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルを例示でき、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ブチルカルビトール、ヘキシレングリコール、ブタンジオール、ブチルジグリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ソルビトール、スクロース等が挙げられる。潤滑組成物における成分A~Dの含有量は特に限定されないが、環状オリゴ糖Aの含有量としては0.1~40重量が好ましく、0.5~30重量がより好ましく、1~15重量が最も好ましい。成分Aの含有量が上記範囲であれば、加工時に十分な研磨速度の向上と仕上げ面粗さの改善効果が得られる。更には、表面残渣も低減する。アルカノールアミンCの含有量としては1~90重量が好ましく、5~85重量がより好ましく、10~80重量が最も好ましい。脂肪族カルボン酸Dの含有量としては0.1~30重量が好ましく、1~15重量がより好ましい。成分Dの含有量を上記範囲とすれば、ハードディスクガラス基板表面に十分に吸着する量であり、加工時に十分な潤滑性が得られる。また潤滑組成物の安定性も良好となる。水Bの含有量は、残部である。本発明の潤滑組成物に研磨砥粒を分散させることにより本発明の研磨スラリーを得ることができる。研磨砥粒としては、例えば、ダイヤモンド、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化ケイ素、酸化セリウム、酸化タンタルなどの種々公知の研磨砥粒に適用できる。研磨砥粒の大きさとしては、一般に平均粒子径0.001~30μm、好ましくは0.003~20μm、より好ましくは0.005~10μm程度が良い。なかでも研磨砥粒としてはダイヤモンド砥粒が好ましく、その大きさとしては、平均粒子径0.01~1μm程度が好ましい。研磨スラリー中のダイヤモンド砥粒の含有量は特に限定されないが、通常1重量以下、好ましくは0.001~0.5重量が良い。本発明のガラス基板研磨用潤滑組成物及び研磨スラリーによって研磨されるガラス基板はとくに限定しないが、例えば珪酸、アルミナ、酸化ナトリウム、酸化カリウム等を主な組成物としたガラス基板が挙げられる。例えば、ハードディスクガラス基板、光学レンズ用ガラス基板、光学レンズ、薄膜トランジスタTFT型LCDなどの液晶用ガラス基板、液晶TV用カラーフィルター、LSIフォトマスク用ガラス基板などを例示することができる。本発明の研磨スラリーは、ガラス基板加工用の研磨スラリーであって、NiP合金基板加工用の研磨スラリーや、通常の鉄やアルミ材料の水溶性切削加工、水溶性研削加工、水溶性研磨加工液とは、区別されるものである。上記通常の加工においては、循環使用が一般的であり、防腐、消泡、防錆などの二次性能等において要求性能が大きく異なる。以下に示す実施例、及び、比較例においては、以下に示す研磨評価を行った。ただし、本発明は実施例に限定されるものではない。研磨特性評価ウレタンパッドニッタハース製IC1000を研磨装置ナノファクター製NF-300に設置し、プラテン回転数230回転/分、ヘッド回転数170回転/分、研磨圧力7.2PSIの条件で研磨スラリーを20ml/分の速度で供給しつつ、直径2.5インチのハードディスクガラス基板ケイ酸、アルミナ、酸化ナトリウム、酸化カリウム等含むガラスを研磨時間15分研磨速度評価、及び、1分表面粗さ評価で研磨評価を行った。研磨時の研磨速度、及び、研磨後の表面粗さを評価することによって研磨評価を行った。なお、研磨速度、及び、表面粗さの測定方法は以下の方法で測定した。研磨速度研磨前後のガラス基板の重量変化を電子天秤ザルトリウス社製LE225Dにより測定して研磨量を求め研磨速度を求めた。表面粗さ研磨後の表面粗さは走査プローブ顕微鏡エスアイアイナノテクノロジー製SPA-400を用いて、AFMモードにより測定した。表面残渣研磨後の表面残渣は光学表面分析装置Candela製OSA-5100により測定した。実施例1~8及び比較例1~8下記表1~4に示す成分数値は重量を配合してハードディスクガラス基板用潤滑液を調製した。水は精製水を用いた。比較例2のリシノレイン酸は特開2004-306248号公報特許文献2で用いられる炭素数16~40のカルボン酸、比較例5のオレイン酸は特表2004-515609号公報特許文献1で用いられる炭素数10~22の脂肪酸である。なお、シクロデキストリン以外の糖として、比較例1でグルコース1,1グリコシド結合二糖を使用した。ハードディスクガラス基板用研磨スラリーは、潤滑組成物17.5gを純水321.5gで希釈後、ダイヤモンド濃度:1.5重量及び平均粒子径:30nm動的光散乱法大塚電子株式会社製DLS-6000HLで測定のダイヤモンドスラリーを10.9g添加することによりダイヤモンド砥粒の含有量が0.05重量の研磨スラリーを調製した。この研磨スラリーを使用し、ハードディスクガラス基板の研磨評価を行った。結果を表1~3に示す。表4に研磨後のガラス基板上に残る表面残渣を示す。表1の実施例1は研磨速度は低いが、優れた表面粗さの改善を示し、最終段階での研磨工程に使用することができる。実施例2~3及び比較例1~2より環状オリゴ糖は十分な研磨速度と表面粗さの改善の両立が可能である事が確認できる。更には、実施例1~2のαシクロデキストリンが最も好適である。表2より比較例3~5は研磨速度と表面粗さの両立が困難であるのに対し、実施例4は十分な研磨速度と表面粗さの改善の両立が可能である事が確認できる。表3の、比較例6~7の従来技術であるプロピレングリコールでは、研磨速度と表面粗さの両立が困難であるのに対し、実施例4~7では十分な研磨速度と表面粗さの改善の両立が可能である。更に脂肪族カルボン酸を変えても、その効果は発揮され、十分な研磨速度と表面粗さの両立が可能である事が確認できる。表4より、本発明を用いる事によって研磨後のガラス基板上に残る物理残渣及び有機残渣の低減が可能である事が確認できる。実施例9~12及び比較例9~16下記表5~6に示す成分数値は重量を配合してガラス基板用潤滑液を調製した以外は実施例1と同様にして研磨スラリーを調製した。この研磨スラリーを用いて、含有成分の違う各種ガラス基板を用いた研磨評価を行い、その結果を表5~6に示す。ガラス基板A:ケイ酸SiO2を主成分とし、酸化ナトリウム、アルミナ、酸化カリウムを副成分として含有するガラス基板。ガラス基板B:ケイ酸SiO2を主成分とし、酸化ナトリウム、アルミナ、酸化カリウム、P2O5を副成分として含有するガラス基板。ガラス基板C:ケイ酸SiO2を主成分とし、アルミナ、酸化カリウムを副成分として含有するガラス基板。ガラス基板D:ケイ酸SiO2を主成分とし、アルミナを副成分として含有するガラス基板。"