上ダイベースに固定される中子上型と下ダイベースに固定される中子下型とを備え、中子上型と中子下型との間に形成したキャビティに中子砂を吹き込み充填して中子を造型する中子造型用金型において、前記中子下型を固定する下ダイベースに、中子砂を排出させる貫通孔を形成したことを特徴とする中子造型用金型。上ダイベースに固定される一対の中子上型と下ダイベースに固定される一対の中子下型とを備え、対となる中子上型と中子下型との間に形成した各キャビティに中子砂を吹き込み充填して中子を造型する中子造型用金型において、一対の中子下型を所定のクリアランスを有するように配置した下ダイベースに、両中子下型の間に位置するように中子砂を排出させる貫通孔を形成したことを特徴とする中子造型用金型。しかし、上記のような中子造型用装置50によって中子を造型すると、一定の吹きこぼれが発生する。この吹きこぼれについて図3を参照しながら説明する。図3のaは、中子上型6、8と中子下型7、9とを型閉じした状態で、左右のブローノズル16、17からRCSを左側のキャビティ12、13と右側のキャビティ14、15に吹き込んで、RCSを左右のキャビティ12、13及び14、15に充填する態様を示している。RCSの吹き込み、充填が始まると、中子上型6、8と中子下型7、9が完全に型閉じができてないと、一部に形成される隙間からRCSの吹きこぼれが発生する。すると、この吹きこぼれたRCSの一部が落下して、中子下型7、9の間のクリアランス20に堆積していく。ところで、中子を造型するにはRCS中のレジン分を熱硬化させる必要がある。それは、中子上型6、8と中子下型7、9を加熱することで行われるが、この加熱温度の分布の偏りや中子上下型6~9に熱容量の差がある等の理由により、中子上型6、8と中子下型7、9と、これらが固定されているダイベース4、5の間に熱膨張差が生じる。この熱膨張差により各部材、装置に寸法変化が生じうるが、それによって発生し得る不具合を許容、緩和すべく、常法により、中子上型6、8及び中子下型7、9と、上下ダイベース4、5との間に、上述したフローティング機構不図示を配置するようにしている。このフローティング機構によって、熱膨張差による寸法変化に応じて、余計な拘束力、不可抗力等による負荷が、中子上下型6~9、上下ダイベース4、5にかからないようにして、中子上型6、8及び中子下型7、9と、上下ダイベース4、5との位置関係を好適にずらすようにしている。しかし、フローティング機構にこのような利点がある一方、図3のaに示すように、中子下型7、9が、フローティング機構の作用によって移動している状態で、クリアランス20に吹きこぼれたRCSが堆積することがある。そして、図3のbの白抜き矢印の指す方向に向けて、中子下型7、9が徐々に末広がり状に押し広げられ、併せて、次のロットの中子上型6、8と中子下型7、9の型閉じ動作によって、中子下型7、9の間のクリアランス20に堆積したRCSが押し固められていく。かかる現象が、ロットのたびに連続して生じると、図3のbに示されるように、中子下型7、9の間のクリアランス20の上部に向かうにつれてRCSの砂密度が高まり、中子下型7、9に、中子下型7、9の外周部下側端部24、25を支点として、型反り方向にモーメントが働く結果、中子下型7、9に反りが生じ、やがて、図3のcに示されるように、中子上型6、8と中子下型7、9が十分に型閉じされなくなって型合わせが不完全になる。加えて、クリアランス20近辺の中子の一部に無用なバリが発生し易くなりこのバリ取りのための後工程が増え、金型の分解、取り外しのための交換作業、固着砂及び固着樹脂の除去作業、再アセンブリ等の工程が増えることで、装置の稼働率の低下、コスト高を招来する。上記の不具合を解決するには、別途エアーブローによる清掃によってRCSが堆積硬化される前にRCSを除去すればよいとも考えられるが、一般の中子造型用金型10、11にはクリアランス20に堆積されるRCSの逃げ場、排出先がないことから、RCSを完全に清掃することが難しい。また、クリアランス20に堆積したRCSは、中子上型6、8及び中子下型7、9からの熱で高温になるため、一定時間、クリアランス20に滞留したRCSは、クリアランス20の内壁に接着固着され、単なるエアーブローによる清掃ではその除去は困難である。本発明は、中子造型用金型のうち特に隣り合う中子下型のクリアランスにRCSが堆積固着されずに複数個の中子を造型できる中子造型用金型を提供することを目的とする。発明の態様以下に、本願において特許請求が可能と認識されている発明以下、請求可能発明と称するの態様を例示し、例示された各態様について説明する。ここでは、各態様を、特許請求の範囲と同様に、項に区分すると共に各項に番号を付し、必要に応じて他の項の記載を引用する形式で記載する。これは、請求可能発明の理解を容易にするためであり、請求可能発明を構成する構成要素の組み合わせを、以下の各項に記載されたものに限定する趣旨ではない。つまり、請求可能発明は、各項に付随する記載、実施形態の記載等を参酌して解釈されるべきであり、その解釈に従う限りにおいて、各項の態様にさらに他の構成要素を付加した態様も、また、各項の態様から構成要素を削除した態様も、請求可能発明の一態様となり得る。以下の各項において、1、2項の各々が、請求項1、2の各々に相当する。1上ダイベースに固定される中子上型と下ダイベースに固定される中子下型とを備え、中子上型と中子下型との間に形成したキャビティに中子砂を吹き込み充填して中子を造型する中子造型用金型において、前記中子下型を固定する下ダイベースに、中子砂を排出させる貫通孔を形成したことを特徴とする中子造型用金型。1項の態様によれば、中子砂、代表的にはRCSを吹き付けて中子を造型中に吹きこぼれたRCSが落下してくる。この落下してくるRCSを、中子下型が固定されている下ダイベースに形成されている貫通孔を通じて常時排出することができる。その結果、従来必要とされていたRCSの清掃作業を大幅に省くことができる。なお、この1項の態様では、下ダイベース中の貫通孔の位置を特定していない。よって、造型されるべき中子が1個でも複数個でも適用可能であり、クリアランスが隣り合う中子下型間にない場合にも適用できる態様である。2上ダイベースに固定される一対の中子上型と下ダイベースに固定される一対の中子下型とを備え、対となる中子上型と中子下型との間に形成した各キャビティに中子砂を吹き込み充填して中子を造型する中子造型用金型において、一対の中子下型を所定のクリアランスを有するように配置した下ダイベースに、両中子下型の間に位置するように中子砂を排出させる貫通孔を形成したことを特徴とする中子造型用金型。2項の態様によれば、1項の態様の効果のみならず、隣り合う中子下型間のクリアランスに落下してくる中子砂を貫通孔を介して排出することができるため、中子砂がクリアランスに堆積固着することがなくなる。その結果、中子上型と中子下型が常に安定した型閉じがなされる。また、クリアランス近辺の中子から無用なバリが発生せず、バリ取りの作業の工数を減らすことができる。そして、金型の分解、取り外し及び交換、固着砂及び固着樹脂の除去、再アセンブリ等の従来必要であった工程を減らすことができる。3前記貫通孔は細長貫通孔に形成され、該細長貫通孔を幅方向に連絡するブリッジ部が、前記下ダイベースと一体形成されて設けられていることを特徴とする1又は2項のいずれかに記載の中子造型用金型。上記の下ダイベースに形成される貫通孔は、中子下型間のクリアランスの水平方向の形状に対応させることが好ましいが、例えばこの形状が極端に細長い場合、下ダイベースの強度が低下するおそれがある。そこで、3項の態様により、例えば、細長貫通孔の幅方向の中央を連絡する補強部となるブリッジ部を下ダイベースと一体に形成し、下ダイベースの強度を補強することができる。4前記貫通孔と連通するように配置された中子砂回収用のキャニスタが設けられていることを特徴とする1~3項のいずれかに記載の中子造型用金型。4項の態様によれば、さらなる貫通孔不図示を下基部に形成し、さらに中子砂回収用の空間として、例えばドラム缶のようなキャニスタを下ダイベースに形成された貫通孔の下に配置するようにし、多量の中子砂を回収可能とすることができる。5上ダイベースに固定される一対の中子上型と下ダイベースに固定される一対の中子下型とを備え、対となる中子上型と中子下型との間に形成した各キャビティに中子砂を吹き込んで充填して中子を造型する中子造型方法において、一対の中子下型を所定のクリアランスを有するように配置した下ダイベースに、両中子下型の間に位置するように中子砂を排出させる貫通孔を形成し、前記中子上型と前記中子下型との間の各キャビティに中子砂を吹き込んで中子を造形する際に吹きこぼれた中子砂を、前記クリアランスから前記貫通孔を介して前記下ダイベースの下方の空間に排出することを特徴とする中子造型方法。5項は、1から4項のいずれかの態様の中子造型用金型を、中子を造型する中子砂であるRCSをブローするためのブローノズルとを組み合わせた、中子造型方法を例示するものである。この5項の中子造型方法によれば、下ダイベースに固定されている隣り合う中子下型間に形成される一定寸法のクリアランスにRCSが堆積固着しないため、複数の中子を安定して造型することができる。本発明によれば、中子を造型できる中子上型、中子下型を含む中子造型用金型において、中子造型中、隣り合う中子下型間のクリアランスにRCSが堆積したり固着することがない中子造型用金型を提供することができ、中子を安定して連続量産できるようになる。以下、本発明の実施の形態を、添付図面を参照しながら説明するが、以下に記載され図示された中子造型用金型、この中子造型用金型を含む装置は、本発明の実施形態の一例であり、これに限られるものではない。また、図中、同一の符号を付した部分は同一物、同一部材を表し、装置や部材の各寸法、各比率は実際のものを反映したものではなく、概略的に示したものである。図1及び図2を参照して、本発明の実施形態を以下説明する。図1のaは下ダイベース5の上面図、図1のbは、同図aのb-b線に沿った下ダイベース5の断面図、図1のcは、同図aのc-c線に沿った下ダイベース5の断面図である。図1を参照して下ダイベース5を説明すると、下ダイベース5は、図1aの一点鎖線で囲まれる矩形領域上に、図2に示されている中子下型7、中子下型9が固定される板材であり、厚さ方向に沿って上面から下面まで貫通するように形成された長尺状の貫通孔51を備えている。貫通孔51には、下ダイベース5の強度を補完するために、貫通孔51の幅方向であって略中央に下ダイベース5と一体化した補強バーブリッジ部54が形成されている。ただし、補強バー54は幅が広くなりすぎると、RCSがその上に堆積するおそれがあるため一定以内の幅で形成することが望ましい。なお、例えば、下ダイベース5自体の強度が十分である場合やクリアランス20が狭く強度的な問題が生じ得ない場合は、特に補強バー54を設けなくてもよい。また、図1のa、bから分かるように、下ダイベース5の1対の対向辺の端部52、53は略Z字状に形成されており、下ダイベース5を下基部3の上面に載置した際に、下ダイベース5と下基部3との間に空間を形成するように固定可能とされている。さらに、図1b、cから分かるように、貫通孔51は、中子下型7、9の間に形成されているクリアランス20の下方、好ましくはその真下に位置決めされる。貫通孔51の短尺方向の長さは少なくともクリアランス20の幅と同等又はそれ以上の幅とし、貫通孔51の長尺方向の長さは少なくとも造型されるべき中子の長さと同等又はそれ以上の長さとすることが好ましい。さらに、下ダイベース5の下方に配置されている下基部3にも、図1cの下ダイベース5の貫通孔51の下方に、貫通孔51と同等の位置に同等の寸法の貫通孔55を重ね合わせるように設けてもよい図2参照。そして、この場合、貫通孔51及び貫通孔55を通過して落下してくるRCSを受け取ることができるドラム缶のようなキャニスタ不図示を下基部3の下面に配置することが好ましい。以上、本実施形態によれば、図2を参照して、中子造型用装置1は、二個の別個の中子を造型するための中子造型用金型10、11で、隣り合う中子下型7、9間のクリアランス20の略真下に、クリアランス20の水平断面形状と略等しい貫通孔51を備えた下ダイベース5を設けている。その結果、ブローノズル16、17からRCSがブローされている最中、クリアランス20の位置に示す図2の矢印のように、クリアランス20に侵入したRCSを貫通孔51を介して下ダイベース5の下方空間に排出させることができ、従来の不具合点であったRCSのクリアランス20における堆積及びそれに付随する不具合を効果的に防止することができる。さらに下ダイベース5の下基部3に、下ダイベース5の貫通孔51と同等の位置に貫通孔55を設けことにより、クリアランス20に侵入したRCSをさらに良好に排出することができる。以下、本発明に係る中子造型用金型の実施例と、従来の中子造型用金型の比較例について言及する。実施例実施例では、図2に示すように、エンジン用インポート、エキスポートを製造するための、貫通孔51付きの中子下型用の下ダイベース5と貫通孔55付きの下基部3とを含む中子造型用金型10、11が組み込まれた中子造型装置1を用いた。5000ショット回数で中子を造型した後、中子下型7、9の間のクリアランス20の箇所を観察した。その結果、クリアランス20にRCSは堆積していなかった。またクリアランス20をマイクロメータで測定すると、中子下型7、9のクリアランス20の対向面は平行のままでクリアランスは当初のままであることが分かった。比較例比較例では、図3に示すように、従来のような貫通孔のない状態の下ダイベース5を使用した中子造型用金型10、11が組み込まれた中子造型用装置50を用いた。実施例と同じショット回数で中子を造型した後、中子下型7、9の間のクリアランス20の箇所を観察した。その結果、クリアランス20にRCSが堆積固着しており、中子下型7、9のクリアランス20の対向面が非平行となり明らかに末広がり状に広がっていることが分かった。これはマイクロメータでクリアランス20を測定すると、中子下型7、9の間のクリアランスが鉛直上方に向かうにつれて広がっていることが判明した。総合評価以上の実施例と比較例から、隣り合う中子下型間のクリアランスの下方にRCS排出用の貫通孔51、55を形成すると、中子造型中に、RCSがクリアランスに堆積固着することがなくなることが分かった。