"ガスバリア層を有する成形体であって、該ガスバリア層が、少なくとも、炭素原子、酸素原子及びケイ素原子を含む材料から構成されてなる表層部を有し、該表層部における、炭素原子、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の存在量全体に対する、炭素原子の存在割合が0超70以下、酸素原子の存在割合が10以上70以下、窒素原子の存在割合が0以上35以下、ケイ素原子の存在割合が20以上55以下であることを特徴とする成形体。前記ガスバリア層が、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層であり、40°C、相対湿度90雰囲気下での水蒸気透過率が、1g/m2/day以下のものであることを特徴とする請求項1に記載の成形体。アクリル系樹脂の含有量が、ポリシラザン化合物及びアクリル系樹脂の合計量に対して、0.1質量以上70質量以下である請求項2に記載の成形体。前記ガスバリア層がポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層にイオンが注入されて得られる層を有することを特徴とする請求項1に記載の成形体。前記イオンが、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトン、ケイ素化合物及び炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも一種のガスがイオン化されたものであることを特徴とする請求項4に記載の成形体。前記ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層に、プラズマイオン注入法によりイオンが注入されて得られる層を有することを特徴とする請求項4に記載の成形体。前記ポリシラザン化合物が、ペルヒドロポリシラザンであることを特徴とする請求項2に記載の成形体。請求項1~7のいずれかに記載の成形体を製造する方法であって、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層を表面部に有する成形物の、前記ポリシラザン系化合物とアクリル系樹脂とを含む層の表面部に、イオンを注入する工程を有する成形体の製造方法。ポリシラザン系化合物とアクリル系樹脂とを含む層を表面部に有する成形物の、前記ポリシラザン系化合物とアクリル系樹脂とを含む層の表面部に、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン、クリプトン、ケイ素化合物及び炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも一種のガスのイオンを注入する工程を有する請求項8に記載の成形体の製造方法前記イオンを注入する工程が、プラズマイオン注入法によりイオンを注入する工程であることを特徴とする請求項8に記載の成形体の製造方法。ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層を表面部に有する、長尺状の成形物を、一定方向に搬送しながら、前記ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層に、イオンを注入することを特徴とする請求項1~7のいずれかに記載の成形体の製造方法。請求項1~7のいずれかに記載の成形体からなる電子デバイス用部材。請求項12に記載の電子デバイス用部材を備える電子デバイス。本発明は、上記した従来技術に鑑みてなされたものであり、ガスバリア性、透明性及び耐折り曲げ性に優れる成形体、その製造方法、この成形体からなる電子デバイス用部材、及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイスを提供することを目的とする。本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ガスバリア層を有する成形体において、前記ガスバリア層が、少なくとも、炭素原子、酸素原子及びケイ素原子を含む材料から構成されてなる表層部を有し、該表層部における、炭素原子、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の存在量全体に対する、炭素原子の存在割合が0超70以下、酸素原子の存在割合が10以上70以下、窒素原子の存在割合が0以上35以下、ケイ素原子の存在割合が20以上55以下である成形体は、優れたガスバリア性、透明性及び耐折り曲げ性を有することを見出した。また、このような成形体は、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層を表面部に有する成形物の、前記ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層に、イオンを注入することにより、簡便かつ効率よく製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。かくして本発明の第1によれば、下記1~7の成形体が提供される。1ガスバリア層を有する成形体であって、該ガスバリア層が、少なくとも、炭素原子、酸素原子及びケイ素原子を含む材料から構成されてなる表層部を有し、該表層部における、炭素原子、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の存在量全体に対する、炭素原子の存在割合が0超70以下、酸素原子の存在割合が10以上70以下、窒素原子の存在割合が0以上35以下、ケイ素原子の存在割合が20以上55以下であることを特徴とする成形体。2前記ガスバリア層が、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層であり、40°C、相対湿度90雰囲気下での水蒸気透過率が、1g/m2/day以下のものであることを特徴とする1に記載の成形体。3アクリル系樹脂の含有量が、ポリシラザン化合物及びアクリル系樹脂の合計量に対して、0.1質量以上70質量以下である2に記載の成形体。4前記ガスバリア層がポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層にイオンが注入されて得られる層を有することを特徴とする1~3のいずれかに記載の成形体。5前記イオンが、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトン、ケイ素化合物及び炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも一種のガスがイオン化されたものであることを特徴とする4に記載の成形体。6前記ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層に、プラズマイオン注入法によりイオンが注入されて得られる層を有することを特徴とする4又は5に記載の成形体。7前記ポリシラザン化合物が、ペルヒドロポリシラザンであることを特徴とする2~6のいずれかに記載の成形体。本発明の第2によれば、下記8~11の成形体の製造方法が提供される。8前記2~7のいずれかに記載の成形体を製造する方法であって、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層を表面部に有する成形物の、前記ポリシラザン系化合物とアクリル系樹脂とを含む層の表面部に、イオンを注入する工程を有する成形体の製造方法。9ポリシラザン系化合物とアクリル系樹脂とを含む層を表面部に有する成形物の、前記ポリシラザン系化合物とアクリル系樹脂とを含む層の表面部に、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン、クリプトン、ケイ素化合物及び炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも一種のガスのイオンを注入する工程を有する8に記載の成形体の製造方法。10前記イオンを注入する工程が、プラズマイオン注入法によりイオンを注入する工程であることを特徴とする8又は9に記載の成形体の製造方法。11ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層を表面部に有する、長尺状の成形物を、一定方向に搬送しながら、前記ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層に、イオンを注入することを特徴とする2~7のいずれかに記載の成形体の製造方法。本発明の第3によれば、下記12の電子デバイス用部材が提供される。12前記1~7のいずれかに記載の成形体からなる電子デバイス用部材。本発明の第4によれば、下記13の電子デバイスが提供される。13前記12に記載の電子デバイス用部材を備える電子デバイス。本発明の成形体は優れたガスバリア性、透明性、及び耐折り曲げ性を有する。本発明の成形体は、フレキシブルなディスプレイや、太陽電池等の電子デバイス用部材例えば太陽電池バックシートとして好適に用いることができる。本発明の製造方法によれば、優れたガスバリア性、透明性、耐折り曲げ性を有する本発明の成形体を一工程で安全に簡便に製造することができる。また、無機膜成膜に比して低コストにて容易に大面積化を図ることができる。本発明の電子デバイス用部材は、優れたガスバリア性、透明性及び耐折り曲げ性を有するため、ディスプレイ、太陽電池等の電子デバイスに好適に用いることができる。以下、本発明を、1成形体、2成形体の製造方法、並びに、3電子デバイス用部材及び電子デバイスに項分けして詳細に説明する。1成形体本発明の成形体は、ガスバリア層を有する成形体であって、該ガスバリア層が、少なくとも、炭素原子、酸素原子及びケイ素原子を含む材料から構成されてなる表層部表面からの深さ方向に0nm~10nmの領域を有し、該表層部における、炭素原子、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の存在量全体に対する、炭素原子の存在割合が0超70以下、酸素原子の存在割合が10以上70以下、窒素原子の存在割合が0以上35以下、ケイ素原子の存在割合が20以上55以下であることを特徴とする。本発明の成形体においては、前記ガスバリア層が、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層であることが好ましい。本発明の成形体のガスバリア層がポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層である場合、前記ガスバリア層内部の炭素原子、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の存在割合は、アクリル系樹脂及びポリシラザン化合物を所定割合で混合したときの組成割合に類似した状態となっている。すなわち、本発明の成形体は、極表層部においては、ポリシラザン化合物が転化によりガスバリア性を発現し、内部がアクリル系樹脂により柔軟性を持った構造体となっている。一般的には、前記ガスバリア層内部表面からの深さ方向に20nm~150nmの領域の、炭素原子、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の存在割合は、好ましくは、炭素原子が35以上60以下、窒素原子が0以上10以下、酸素原子が15以上70以下、より好ましくは15以上30以下、ケイ素原子が15以上30以下である。本発明の成形体のガスバリア層がポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層である場合、前記ガスバリア層の炭素原子、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の存在割合は、より詳細には、次の通りである。αガスバリア層におけるアクリル系樹脂の含有量が、前記ガスバリア層中のポリシラザン化合物とアクリル系樹脂の合計量を100質量として、0.1質量以上10質量以下である場合には、前記ガスバリア層内部表面からの深さ方向に20nm~150nmの領域においては、炭素原子、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の存在量全体に対する、炭素原子の存在割合が0以上5以下、酸素原子の存在割合が50以上75以下、窒素原子の存在割合が0以上5以下、ケイ素原子の存在割合が20以上40以下であり、ガスバリア層表層部表面からの深さ方向に0nm~10nmの領域においては、炭素原子の存在割合が0超70以下、酸素原子の存在割合が10以上70以下、窒素原子の存在割合が0以上35以下、ケイ素原子の存在割合が20以上55以下である。βガスバリア層におけるアクリル系樹脂の含有量が、前記ガスバリア層中のポリシラザン化合物とアクリル系樹脂の合計量を100質量として、10質量超40質量以下である場合には、前記ガスバリア層内部表面からの深さ方向に20nm~150nmの領域においては、炭素原子、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の存在量全体に対する、炭素原子の存在割合が0以上40以下、酸素原子の存在割合が20以上70以下、窒素原子の存在割合が0以上10以下、ケイ素原子の存在割合が20以上40以下であり、ガスバリア層表層部表面からの深さ方向に0nm~10nmの領域においては、炭素原子の存在割合が0超70以下、酸素原子の存在割合が10以上70以下、窒素原子の存在割合が0以上35以下、ケイ素原子の存在割合が20以上55以下である。γまた、ガスバリア層におけるアクリル系樹脂の含有量が、前記ガスバリア層中のポリシラザン化合物とアクリル系樹脂の合計量を100質量として、40質量超70質量以下である場合には、前記ガスバリア層内部表面からの深さ方向に20nm~150nmの領域においては、炭素原子、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の存在量全体に対する、炭素原子の存在割合が30以上70以下、酸素原子の存在割合が10以上50以下、窒素原子の存在割合が0以上10以下、ケイ素原子の存在割合が10以上40以下であり、ガスバリア層表層部表面からの深さ方向に0nm~10nmの領域においては、炭素原子の存在割合が0超70以下、酸素原子の存在割合が10以上70以下、窒素原子の存在割合が0以上35以下、ケイ素原子の存在割合が20以上55以下である。ポリシラザン化合物本発明に用いるポリシラザン化合物は、分子内に-Si-N-結合シラザン結合を含む繰り返し単位を有する高分子化合物である。具体的には、式1で表される繰り返し単位を有する化合物が好ましい。また、用いるポリシラザン化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、100~50,000であるのが好ましい。式1中、nは任意の自然数を表す。Rx、Ry、Rzは、それぞれ独立して、水素原子、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基又はアルキルシリル基等の非加水分解性基を表す。前記無置換若しくは置換基を有するアルキル基のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-へキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基等の炭素数1~10のアルキル基が挙げられる。無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基のシクロアルキル基としては、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロへプチル基等の炭素数3~10のシクロアルキル基が挙げられる。無置換若しくは置換基を有するアルケニル基のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基等の炭素数2~10のアルケニル基が挙げられる。前記アルキル基、シクロアルキル基及びアルケニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;ヒドロキシル基;チオール基;エポキシ基;グリシドキシ基;メタアクリロイルオキシ基;フェニル基、4-メチルフェニル基、4-クロロフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するアリール基;等が挙げられる。無置換又は置換基を有するアリール基のアリール基としては、例えば、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等の炭素数6~10のアリール基が挙げられる。前記アリール基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基等の炭素数1~6のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1~6のアルコキシ基;ニトロ基;シアノ基;ヒドロキシル基;チオール基;エポキシ基;グリシドキシ基;メタアクリロイルオキシ基;フェニル基、4-メチルフェニル基、4-クロロフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するアリール基;等が挙げられる。アルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリtブチルシリル基、メチルジエチルシリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、メチルシリル基、エチルシリル基等が挙げられる。これらの中でも、Rx、Ry、Rzとしては、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又はフェニル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。前記式1で表される繰り返し単位を有するポリシラザン化合物としては、Rx、Ry、Rzが全て水素原子である無機ポリシラザン、Rx、Ry、Rzの少なくとも1つが水素原子ではない有機ポリシラザンのいずれであってもよい。無機ポリシラザンとしては、下記式中、aは任意の自然数を表す。で表される繰り返し単位を有する直鎖状構造を有し、690~2000の分子量を持ち、一分子中に3~10個のSiH3基を有するペルヒドロポリシラザン特公昭63-16325号公報、式A式中、b、cは任意の自然数を表し、Y1は、水素原子又は式B式中、dは任意の自然数を表し、は結合位置を表し、Y2は水素原子、又は前記Bで表される基を表す。で表される基を表す。で表される繰り返し単位を有する、直鎖状構造と分岐構造を有するペルヒドロポリシラザン、式Cで表されるペルヒドロポリシラザン構造を有する、分子内に、直鎖状構造、分岐構造及び環状構造を有するペルヒドロポリシラザン等が挙げられる。有機ポリシラザンとしては、i-Rx’SiHNH-Rx’は、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基、又はアルキルシリル基を表す。以下のRx’も同様である。を繰り返し単位として、主として重合度が3~5の環状構造を有するもの、ii-Rx’SiHNRz’-Rz’は、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基、又はアルキルシリル基を表す。を繰り返し単位として、主として重合度が3~5の環状構造を有するもの、iii-Rx’Ry’SiNH-Ry’は、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基、又はアルキルシリル基を表す。を繰り返し単位として、主として重合度が3~5の環状構造を有するもの、iv下記式で表される構造を分子内に有するポリオルガノヒドロシラザン、v下記式Rx’、Ry’は前記と同じ意味を表し、e、fは任意の自然数を表し、Y3は、水素原子又は式E式中、gは任意の自然数を表し、は結合位置を表し、Y4は水素原子、又は前記Eで表される基を表す。で表される基を表す。で表される繰り返し構造を有するポリシラザン等が挙げられる。上記有機ポリシラザンは、公知の方法により製造することができる。例えば、下記式2で表される無置換若しくは置換基を有するハロゲノシラン化合物と2級アミンとの反応生成物に、アンモニア又は1級アミンを反応させることにより得ることができる。式2中、mは2又は3を表し、Xはハロゲン原子を表し、R1は、前述した、Rx、Ry、Rz、Rx’、Ry’、Rz’のいずれかの置換基を表す。用いる2級アミン、アンモニア及び1級アミンは、目的とするポリシラザン化合物の構造に応じて、適宜選択すればよい。また、本発明においては、ポリシラザン化合物として、ポリシラザン変性物を用いることもできる。ポリシラザン変性物としては、例えば、金属原子該金属原子は架橋をなしていてもよい。を含むポリメタロシラザン、繰り返し単位がSiH2gNHh及びSiH2iO式中、g、h、iはそれぞれ独立して、1、2又は3である。で表されるポリシロキサザン特開昭62-195024号公報、ポリシラザンにボロン化合物を反応させて製造するポリボロシラザン特開平2-84437号公報、ポリシラザンとメタルアルコキシドとを反応させて製造するポリメタロシラザン特開昭63-81122号公報等、無機シラザン高重合体や改質ポリシラザン特開平1-138108号公報等、ポリシラザンに有機成分を導入した共重合シラザン特開平2-175726号公報等、ポリシラザンにセラミックス化を促進するための触媒的化合物を付加又は添加した低温セラミックス化ポリシラザン特開平5-238827号公報等、ケイ素アルコキシド付加ポリシラザン特開平5-238827号公報、グリシドール付加ポリシラザン特開平6-122852号公報、アセチルアセトナト錯体付加ポリシラザン特開平6-306329号公報、金属カルボン酸塩付加ポリシラザン特開平6-299118号公報等、上記ポリシラザン又はその変性物に、アミン類及び/又は酸類を添加してなるポリシラザン組成物特開平9-31333号公報、ペルヒドロポリシラザンにメタノール等のアルコールあるいはヘキサメチルジシラザンを末端N原子に付加して得られる変性ポリシラザン特開平5-345826号公報、特開平4-63833号公報等が挙げられる。これらの中でも、ポリシラザン化合物としては、入手容易性、及び優れたガスバリア性を有するイオン注入層を形成できる観点から、Rx、Ry、Rzが全て水素原子であるペルヒドロポリシラザンが好ましい。また、ポリシラザン化合物としては、ガラスコーティング材等として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。アクリル系樹脂本発明の成形体のガスバリア層は、ポリシラザン化合物に加えて、アクリル系樹脂の少なくとも一種を含有する。アクリル系樹脂を配合することにより、耐折曲げ性に優れ、透明性が良好なガスバリア性成形体を得ることができる。本発明に用いるアクリル系樹脂は、分子内に、メタアクリル酸系化合物由来の繰り返し単位を少なくとも含む共重合体である。ここで、共重合体は、単独重合体又は共重合体の意である以下、同様。また、メタアクリル酸は、アクリル酸又はメタクリル酸の意である以下同様。。アクリル系樹脂としては、iメタアクリル酸系化合物の単独重合体、iiメタアクリル酸系化合物の2種以上から得られる共重合体、及びiiiメタアクリル酸系化合物と他の官能性単量体から得られる共重合体が挙げられる。アクリル系樹脂がiiiの共重合体である場合、メタアクリル酸系化合物由来の繰り返し単位が、全繰り返し単位に対し50モル以上含まれているものが好ましい。本発明においては、アクリル系樹脂として、これらの共重合体を1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。前記メタアクリル酸系化合物としては、メタアクリル酸エステル、メタアクリル酸のフッ素化エステル、メタアクリル酸のヒドロキシアルキルエステル、メタアクリル酸アミド、メタアクリル酸アミノアルキルエステル、メタアクリル酸のグリシジルエステル、メタアクリル酸等が挙げられる。これらの中でも、メタアクリル酸エステルが好ましく、メタクリル酸エステルがより好ましい。メタアクリル酸エステルとしては、アルキル基の炭素数が1~20のメタアクリルアルキルエステル化合物が好ましく、アルキル基の炭素数が1~10のメタアクリルアルキルエステル化合物がより好ましい。メタアクリル酸エステルの具体例としては、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸t-ブチル、メタアクリル酸n-プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸n-ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸t-ブチル、メタアクリル酸n-ペンチル、メタアクリル酸n-ヘキシル、メタアクリル酸n-ヘプチル、メタアクリル酸n-オクチル、メタアクリル酸n-デシル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸フェニルエチル等が挙げられる。メタアクリル酸のフッ素化エステルとしては、メタアクリル酸パーフルオロ-t-ブチル、パーフルオロイソプロピルメタアクリレート、メタアクリル酸ヘキサフルオロ-2-プロピル、メタアクリル酸トリフルオロエチル等が挙げられる。メタアクリル酸のヒドロキシアルキルエステルとしては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート等が挙げられる。メタアクリル酸アミドとしては、メタアクリルアミド、N-メチルメタアクリルアミド、N-メチロールメタアクリルアミド、N,N-ジメチロールメタアクリルアミド、N-メトキシメチルメタアクリルアミド、N-フェニルメタアクリルアミド等が挙げられる。メタアクリル酸アミノアルキルエステルとしては、N,N-ジエチルアミノエチルメタアクリレート等が挙げられる。メタアクリル酸のグリシジルエステルとしては、グリシジルメタアクリレート等が挙げられる。他の官能性単量体としては、メタアクリル酸系化合物と共重合可能なものであれば特に限定されない。例えば、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有単量体;スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、及びそれらの塩例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等等の如きスルホン酸基又はその塩を含有する単量体;クロトン酸、イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール酸、及びそれらの塩例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等等のカルボキシル基又はその塩を含有する単量体;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の無水物を含有する単量体;ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、メタアクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル;等が挙げられる。これらの単量体は一種単独で、あるいは二種以上を適宜に組み合わせて用いることができる。前記iの単独重合体は、メタアクリル酸系化合物の一種を重合することにより、iiの共重合体は、メタアクリル酸系化合物の2種以上からなるモノマー混合物を共重合することにより、また、iiiの共重合体は、メタアクリル酸系化合物と他の官能性単量体を含有するモノマー混合物を共重合することにより得ることができる。共重合する方法は、特に限定されず、溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法等の公知の重合方法が採用できる。また、本発明においては、アクリル系樹脂として、メタアクリル酸エステル共重合体を架橋剤と混合して、少なくとも一部に架橋体を形成したものを用いることもできる。用いる架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアナート等、あるいはそれらのアダクト体等のイソシアネート系架橋剤;エチレングリコールグリシジルエーテル等のエポキシ系架橋剤;ヘキサ1-2-メチル-アジリジニルトリフオスファトリアジン等のアジリジン系架橋剤;アルミニウムキレート等のキレート系架橋剤;等が挙げられる。架橋剤の使用量は、メタアクリル酸エステル共重合体の固形分100質量部に対して通常0.01~10質量部、好ましくは0.05~5質量部である。架橋剤は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらのアクリル系樹脂の中でも、後述するアクリル系樹脂等含有層の形成に用いる層形成用溶液が、塗膜形成前にゲル化しにくくなり、容易に塗膜を形成することができる点と、ポリシラザン化合物との相溶性に優れる点から、上記iメタアクリル酸系化合物の単独重合体、及び、iiメタアクリル酸系化合物の2種以上から得られる共重合体が好ましく、メタアクリル酸エステルの単独重合体、及び、メタアクリル酸エステルの2種以上から得られる共重合体がより好ましい。本発明に用いるアクリル系樹脂の重量平均分子量は1,000~1,000,000であるのが好ましく、100,000~1,000,000であるのがより好ましい。前記ガスバリア層中の、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂の合計含有量は、優れたガスバリア性等を有するイオン注入層を形成できる観点から、50質量以上であるのが好ましく、70質量以上であるのがより好ましい。前記ガスバリア層中のアクリル系樹脂の含有量は、可撓性や透明性を重視する場合には、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂の合計量を100質量として、0.1質量以上70質量以下であるのが好ましく、30質量~70質量であるのがより好ましく、40質量~60質量であるのがさらに好ましい。また、ガスバリア性を重視する場合には、アクリル系樹脂の含有量は、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂の合計量を100質量として、50質量以下であるのが好ましく、10質量以下であるのがより好ましい。また、前記ガスバリア層は、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂の他に、本発明の目的を阻害しない範囲で他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、他の高分子、硬化剤、老化防止剤、光安定剤、難燃剤、充填剤、顔料、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、pH調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥促進剤、流れ止め剤等が挙げられる。本発明の成形体は、40°C、相対湿度90雰囲気下での水蒸気透過率が、1g/m2/day以下、好ましくは0.5g/m2/day以下、より好ましくは0.1g/m2/day以下であり、本発明の成形体はガスバリア性に優れる。なお、成形体の水蒸気等の透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。本発明の成形体は、ガスバリア層を有する成形体であって、前記ガスバリア層がポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含む層以下、アクリル系樹脂等含有層ということがある。に、イオンが注入されて得られる層以下、イオン注入層ということがある。を有するものであってもよい。本発明の成形体は、ガスバリア層を有する成形体であって、前記ガスバリア層が、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂とを含み、40°C、相対湿度90雰囲気下での水蒸気透過率が1g/m2/day以下のものであり、かつ、このものが前記イオン注入層を有するものであることが特に好ましい。アクリル系樹脂等含有層を形成する方法としては、特に制約はなく、例えば、ポリシラザン化合物の少なくとも一種、アクリル系樹脂の少なくとも一種、所望により他の成分、及び溶剤等を含有する層形成用溶液を、適当な基材層の上に塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法が挙げられる。アクリル系樹脂等含有層の形成に用いるポリシラザン化合物及びアクリル系樹脂としては、上述したものと同様のものが挙げられる。前記層形成用溶液に用いる溶剤としては、ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂の両方を安定的に溶解するものが好ましい。例えば、キシレン、トルエン、ブチルカルビトールアセテート、酢酸n-ブチル、酢酸エチル等のエステル類;セロソルブ、セロソルブアセテート等のグリコールエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;等が挙げられる。溶剤を使用する場合、前記アクリル系樹脂添加ポリシラザンの溶解度や溶剤の蒸発速度を調節するために、2種類以上の溶剤を混合してもよい。溶剤の使用量割合は、コーティング方法、用いるポリシラザン化合物等の種類等にもよるが、通常、層形成用溶液の5~99質量、好ましくは5~60質量である。前記層形成用溶液の塗布に用いる塗工装置としては、スピンコーター、ナイフコーター、グラビアコーター等の公知の装置を使用することができる。得られた塗膜の乾燥及び成形体のガスバリア性向上のため、塗膜を加熱することが好ましい。加熱は80~150°Cで、数十秒から数十分行う。このような加熱によって、ポリシラザン化合物は架橋、縮合、場合によっては酸化、加水分解して硬化し、セラミックス相を形成し、アクリル系樹脂は熱軟化する。そして、Si-N結合あるいはSi-O結合を主体とするセラミックス相と、アクリル系相からなる有機質部分とが微細な構造レベルで無機フィラー等を添加する複合材と比べて複合化した緻密な膜を得ることができる。形成されるアクリル系樹脂等含有層の厚みは、特に制限されないが、通常20nm~100μm、好ましくは30~500nm、より好ましくは40~200nmである。本発明においては、アクリル系樹脂等含有層の厚みがナノオーダーであっても、充分なガスバリア性能を有する成形体を得ることができる。本発明の成形体において、イオン注入層は、アクリル系樹脂等含有層中にイオンが注入されてなるものであれば、特に制約はない。注入されるイオンとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス、フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄、ケイ素化合物、炭化水素等のイオン;金、銀、銅、白金、ニッケル、パラジウム、クロム、チタン、モリブデン、ニオブ、タンタル、タングステン、アルミニウム等の導電性の金属のイオン;が挙げられる。なかでも、より簡便に注入することができ、特に優れたガスバリア性と透明性を有するイオン注入層が得られることから、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトン、ケイ素化合物、及び炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも一種のイオンが好ましい。ケイ素化合物としては、シランSiH4又は有機ケイ素化合物が挙げられる。有機ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラn-プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn-ブトキシシラン、テトラt-ブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン;ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等の無置換若しくは置換基を有するアルキルアルコキシシラン;ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアリールアルコキシシラン;ヘキサメチルジシロキサンHMDSO等のジシロキサン;ビスジメチルアミノジメチルシラン、ビスジメチルアミノメチルビニルシラン、ビスエチルアミノジメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、テトラキスジメチルアミノシラン、トリスジメチルアミノシラン等のアミノシラン;ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラメチルジシラザン等のシラザン;テトライソシアナートシラン等のシアナートシラン;トリエトキシフルオロシラン等のハロゲノシラン;ジアリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン等のアルケニルシラン;ジ-t-ブチルシラン、1,3-ジシラブタン、ビストリメチルシリルメタン、テトラメチルシラン、トリストリメチルシリルメタン、トリストリメチルシリルシラン、ベンジルトリメチルシラン等の無置換若しくは置換基を有するアルキルシラン;ビストリメチルシリルアセチレン、トリメチルシリルアセチレン、1-トリメチルシリル-1-プロピン等のシリルアルキン;1,4-ビストリメチルシリル-1,3-ブタジエン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン等のシリルアルケン;フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン等のアリールアルキルシラン;プロパルギルトリメチルシラン等のアルキニルアルキルシラン;ビニルトリメチルシラン等のアルケニルアルキルシラン;ヘキサメチルジシラン等のジシラン;オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン等のシロキサン;N,O-ビストリメチルシリルアセトアミド;ビストリメチルシリルカルボジイミド;等が挙げられる。炭化水素としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン等のアルカン;エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン等のアルケン;ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン;アセチレン、メチルアセチレン等のアルキン;ベンゼン、トルエン、キシレン、インデン、ナフタレン、フェナントレン等の芳香族炭化水素;シクロプロパン、シクロヘキサン等のシクロアルカン;シクロペンテン、シクロヘキセン等のシクロアルケン;等が挙げられる。これらのイオンは、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。イオンの注入量は、形成する成形体の使用目的必要なガスバリア性、透明性等等に合わせて適宜決定すればよい。イオンを注入する方法は特に限定されず、例えば、アクリル系樹脂等含有層以下、イオンが注入される層ということがある。を形成した後、この層にイオンを注入する方法が挙げられる。イオンを注入する方法としては、電界により加速されたイオンイオンビームを照射する方法、プラズマ中のイオンを注入する方法プラズマイオン注入法等が挙げられる。なかでも、本発明においては、簡便に優れたガスバリア性等を有する成形体が得られることから、後者のプラズマイオンを注入する方法が好ましい。プラズマイオン注入法は、例えば、プラズマ生成ガスを含む雰囲気下でプラズマを発生させ、イオンが注入される層に負の高電圧パルスを印加することにより、該プラズマ中のイオン陽イオンを、イオンが注入される層の表面部に注入して行うことができる。イオン注入層が形成される部分の厚みは、イオンの種類や印加電圧、処理時間等の注入条件により制御することができ、イオンが注入される層の厚み、成形体の使用目的等に応じて決定すればよいが、通常、10~1000nmである。イオンが注入されたことは、X線光電子分光分析XPSを用いて、表面から10nm付近の元素分析測定を行うことによって確認することができる。以上のようにして得られるイオン注入層は、水蒸気透過率等のガスの透過率が、イオンが注入されていないものに比して格段に小さく、ガスバリア性に優れる。例えば、水蒸気透過率は、40°C、相対湿度90雰囲気下で、通常1g/m2/day以下、好ましくは0.5g/m2/day以下、より好ましくは0.1g/m2/day以下である。本発明の成形体の形状は、特に制限されず、例えば、フィルム状、シート状、直方体状、多角柱状、筒状等が挙げられる。後述するごとき電子デバイス用部材として用いる場合には、フィルム状、シート状であることが好ましい。該フィルムの厚みは、目的とする電子デバイスの用途によって適宜決定することができる。本発明の成形体は、イオン注入層のみからなるものであってもよいし、さらに他の層を含むものであってもよい。また、他の層は単層であっても、同種又は異種の2層以上であってもよい。他の層としては、基材層、無機化合物層、衝撃吸収層、導電体層、プライマー層等が挙げられる。本発明の成形体が他の層を含む積層体である場合、各層の積層順はどのようなものであってもよい。また、イオン注入層の配置位置は特に限定されないが、効率よく製造できること等の理由から、イオン注入層を表面に有するのが好ましい。さらに、イオン注入層は、他の層の片面のみに形成されていても、他の層の両面に形成されていてもよい。また、本発明の成形体が積層体である場合、積層体の厚みは、特に制限されず、目的とする電子デバイスの用途によって適宜決定することができる。基材層基材層の素材は、成形体の目的に合致するものであれば特に制限されず、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等が挙げられる。これらの中でも、透明性に優れ、汎用性があることから、ポリエステル、ポリアミド又はシクロオレフィン系ポリマーが好ましく、ポリエステル又はシクロオレフィン系ポリマーがより好ましい。ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート等が挙げられる。ポリアミドとしては、全芳香族ポリアミド、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン共重合体等が挙げられる。シクロオレフィン系ポリマーとしては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物が挙げられる。その具体例としては、アペル三井化学社製のエチレン-シクロオレフィン共重合体、アートンJSR社製のノルボルネン系重合体、ゼオノア日本ゼオン社製のノルボルネン系重合体等が挙げられる。無機化合物層無機化合物層は、無機化合物の一種又は二種以上からなる層である。無機化合物層を構成する無機化合物としては、一般的に真空成膜可能で、ガスバリア性を有するもの、例えば無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物、無機硫化物、これらの複合体である無機酸化窒化物、無機酸化炭化物、無機窒化炭化物、無機酸化窒化炭化物等が挙げられる。本発明においては、これらの中でも、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物が好ましい。無機酸化物としては、一般式MOxで表される金属酸化物が挙げられる。式中、Mは金属元素を表す。xはMによってそれぞれ範囲が異なり、例えば、Mがケイ素Siであれば0.1~2.0、アルミニウムAlであれば0.1~1.5、マグネシウムMgであれば0.1~1.0、カルシウムCaであれば0.1~1.0、カリウムKであれば0.1~0.5、スズSnであれば0.1~2.0、ナトリウムNaであれば0.1~0.5、ホウ素Bであれば0.1~1.5、チタンTiであれば0.1~2.0、鉛Pbであれば0.1~1.0、ジルコニウムZrであれば0.1~2.0、イットリウムYであれば、0.1~1.5の範囲の値である。これらの中でも、透明性等に優れることから、Mがケイ素であるケイ素酸化物、アルミニウムであるアルミニウム酸化物、チタンであるチタン酸化物が好ましく、ケイ素酸化物がより好ましい。なお、xの値としては、Mがケイ素であれば1.0~2.0が、アルミニウムであれば0.5~1.5が、チタンであれば1.3~2.0の範囲のものが好ましい。無機窒化物としては、一般式MNyで表される金属窒化物が挙げられる。式中、Mは金属元素を表す。yはMによってそれぞれ範囲が異なり、Mがケイ素Siであればy=0.1~1.3、アルミニウムAlであればy=0.1~1.1、チタンTiであればy=0.1~1.3、すずSnであればy=0.1~1.3の範囲の値である。これらの中でも、透明性等に優れることから、Mがケイ素であるケイ素窒化物、アルミニウムであるアルミニウム窒化物、チタンであるチタン窒化物、スズであるスズ窒化物が好ましく、ケイ素窒化物SiNがより好ましい。なお、yの値としては、Mがケイ素であればy=0.5~1.3、アルミニウムであればy=0.3~1.0、チタンであればy=0.5~1.3、スズであればy=0.5~1.3の範囲のものが好ましい。無機酸化窒化物としては、一般式MOxNyで表される金属酸化窒化物が挙げられる。式中、Mは金属元素を表す。x及びyの値は、Mによってそれぞれ範囲が異なる。すなわち、x、yは、例えば、Mがケイ素Siであればx=1.0~2.0、y=0.1~1.3、アルミニウムAlであればx=0.5~1.0、y=0.1~1.0、マグネシウムMgであればx=0.1~1.0、y=0.1~0.6、カルシウムCaであればx=0.1~1.0、y=0.1~0.5、カリウムKであればx=0.1~0.5、y=0.1~0.2、スズSnであればx=0.1~2.0、y=0.1~1.3、ナトリウムNaであればx=0.1~0.5、y=0.1~0.2、ホウ素Bであればx=0.1~1.0、y=0.1~0.5、チタンTiであればx=0.1~2.0、y=0.1~1.3、鉛Pbであればx=0.1~1.0、y=0.1~0.5、ジルコニウムZrであればx=0.1~2.0、y=0.1~1.0、イットリウムYであればx=0.1~1.5、y=0.1~1.0の範囲の値である。これらの中でも、透明性等に優れることから、Mがケイ素であるケイ素酸化窒化物、アルミニウムであるアルミニウム酸化窒化物、チタンであるチタン酸化窒化物が好ましく、ケイ素酸化窒化物がより好ましい。なお、x及びyの値としては、Mがケイ素であればx=1.0~2.0、y=0.1~1.3、アルミニウムであればx=0.5~1.0、y=0.1~1.0、チタンであればx=1.0~2.0、y=0.1~1.3の範囲のものが好ましい。なお、金属酸化物、金属窒化物及び金属酸化窒化物には、2種類以上の金属が含まれていても良い。無機化合物層の形成方法としては特に制限はなく、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱CVD法、プラズマCVD法、ダイナミックイオンミキシング法等が挙げられる。なかでも、本発明においては、簡便にガスバリア性に優れた積層体が得られることから、マグネトロンスパッタリング法が好ましい。無機化合物層の厚さは、特に限定されないが、ガスバリア性が得られる観点から、10~1000nmであることが好ましく、20~500nmであることがより好ましく、50~200nmであることが特に好ましい。衝撃吸収層衝撃吸収層は、成形体に衝撃が加わった時に、割れを防止するためのものである。衝撃吸収層を形成する素材としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、オレフィン系樹脂、ゴム系材料等を用いることができる。これらの中でも、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系材料が好ましい。アクリル系樹脂としては、前記イオン注入層の形成に用いるアクリル系樹脂として例示したのと同様のものが挙げられる。シリコーン系樹脂としては、ジメチルシロキサンを主成分とするものが挙げられる。ゴム系材料としては、イソプレンゴム、スチレン-ブタジエンゴム、ポリイソブチレンゴム、スチレン-ブタジエン-スチレンゴム等を主成分とするものが挙げられる。衝撃吸収層には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、紫外線吸収剤、着色剤、帯電防止剤等の他の成分を含んでいてもよい。衝撃吸収層を形成する素材は、粘着剤、コート剤、封止剤等として市販されているものを使用することもでき、特に、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤等の粘着剤が好ましい。衝撃吸収層の形成方法としては特に制限はなく、例えば、前記ポリオルガノシロキサン系化合物を含む層の形成方法と同様に、前記衝撃吸収層を形成する素材粘着剤等、及び、所望により、溶剤等の他の成分を含む衝撃吸収層形成溶液を、積層すべき層上に塗布し、得られた塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等して形成する方法が挙げられる。また、別途、剥離基材上に衝撃吸収層を成膜し、得られた膜を、積層すべき層上に転写して積層してもよい。衝撃吸収層の厚みは、通常1~100μm、好ましくは5~50μmである。導電体層導電体層を構成する材料としては、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物等が挙げられる。具体的には、アンチモンをドープした酸化スズATO;フッ素をドープした酸化スズFTO;酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズITO、酸化亜鉛インジウムIZO等の導電性金属酸化物;金、銀、クロム、ニッケル等の金属;これら金属と導電性金属酸化物との混合物;ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性物質;ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール等の有機導電性材料;等が挙げられる。導電体層は、これらの材料からなる層が複数積層されてなる積層体であってもよい。これらの中でも、透明性の点から、導電性金属酸化物が好ましく、ITOが特に好ましい。導電体層の形成方法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱CVD法、プラズマCVD法等が挙げられる。これらの中でも、簡便に導電体層が形成できることから、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法は、真空槽内に放電ガスアルゴン等を導入し、ターゲットと基板との間に高周波電圧あるいは直流電圧を加えて放電ガスをプラズマ化し、該プラズマをターゲットに衝突させることでターゲット材料を飛ばし、基板に付着させて薄膜を得る方法である。ターゲットとしては、前記導電体層を形成する材料からなるものが使用される。導電体層の厚さはその用途等に応じて適宜選択すればよい。通常10nm~50μm、好ましくは20nm~20μmである。得られる導電体層の表面抵抗率は、通常1000Ω/□以下である。形成された導電体層には、必要に応じてパターニングを行ってもよい。パターニングする方法としては、フォトリソグラフィー等による化学的エッチング、レーザ等を用いた物理的エッチング等、マスクを用いた真空蒸着法やスパッタリング法、リフトオフ法、印刷法等が挙げられる。プライマー層プライマー層は、層間密着性を高める役割を果たす。プライマー層を設けることにより、層間密着性及び表面平滑性に極めて優れる成形体を得ることができる。プライマー層を構成する材料としては、特に限定されず、公知のものが使用できる。例えば、ケイ素含有化合物;光重合性モノマー及び/又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光重合性組成物;ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂特にポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等とイソシアネート化合物との2液硬化型樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、ニトロセルロース系樹脂等の樹脂類;アルキルチタネート;エチレンイミン;等が挙げられる。これらの材料は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。プライマー層は、プライマー層を構成する材料を適当な溶剤に溶解又は分散してなるプライマー層形成用溶液を、プライマー層と隣接する層の片面又は両面に塗付し、得られた塗膜を乾燥させ、所望により加熱することより形成することができる。プライマー層形成用溶液をプライマー層と隣接する層の片面又は両面に塗付する方法としては、通常の湿式コーティング方法を用いることができる。例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、エアナイフコート、ロールナイフコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。プライマー層形成用溶液の塗膜を乾燥する方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法が採用できる。プライマー層の厚みは、通常、10~1000nmである。また、得られたプライマー層に、後述する、イオン注入層にイオンを注入する方法と同様な方法によりイオン注入を行ってもよい。プライマー層にもイオン注入を行うことにより、より優れたガスバリア性フィルムを得ることができる。本発明の成形体は、優れたガスバリア性、透明性を有し、また、その形状がフィルム状又はシート状以下、フィルム状という。の場合、耐折り曲げ性に優れ、かつ折り曲げ等を行ってもガスバリア性を維持するものが好ましい。本発明の成形体が優れた透明性を有していることは、本発明の成形体の可視光透過率が高いことから確認することができる。可視光透過率は波長550nmにおける透過率であり、80以上が好ましい。成形体の可視光透過率は、公知の可視光透過率測定装置を使用して測定することができる。本発明の成形体が耐折り曲げ性に優れ、折り曲げ等を行ってもガスバリア性を維持できることは、フィルム状の成形体をふたつに折り曲げて圧力をかけ、再び開いたときに折り曲げた部分が劣化しておらず、水蒸気透過率もほとんど低下しないことから確認することができる。本発明のフィルム状の成形体は、同じ厚みの無機膜に比較して、折り曲げ後もガスバリア性を維持することに優れている。2成形体の製造方法本発明の成形体の製造方法は、アクリル系樹脂等含有層を表面部に有する成形物の、前記アクリル系樹脂等含有層に、イオンを注入する工程を有することを特徴とする。本発明の成形体の製造方法においては、アクリル系樹脂等含有層を表面部に有する長尺状の成形物を一定方向に搬送しながら、アクリル系樹脂等含有層にイオンを注入させて成形体を製造するのが好ましい。この製造方法によれば、例えば、長尺状の成形物を巻き出しロールから巻き出し、それを一定方向に搬送しながらイオンを注入し、巻き取りロールで巻き取ることができるので、イオンが注入された成形体を連続的に製造することができる。長尺状の成形物の形状はフィルム状であり、アクリル系樹脂等含有層のみからなるものでもよいし、アクリル系樹脂等含有層を表面部に有する、他の層を含む積層体であってもよい。成形物の厚さは、巻き出し、巻き取り及び搬送の操作性の観点から、0.1μm~500μmが好ましく、5μm~300μmがより好ましい。アクリル系樹脂等含有層に、イオンを注入する方法は、特に限定されない。なかでも、プラズマイオン注入法により前記層の表面部にイオン注入層を形成する方法が好ましい。プラズマイオン注入法は、プラズマ中に曝した、アクリル系樹脂等含有層を表面に有する成形物に、負の高電圧パルスを印加することにより、プラズマ中のイオンを前記層の表面部に注入してイオン注入層を形成する方法である。プラズマイオン注入法としては、A外部電界を用いて発生させたプラズマ中に存在するイオンを、前記層の表面部に注入する方法、又はB外部電界を用いることなく、前記層に印加する負の高電圧パルスによる電界のみで発生させたプラズマ中に存在するイオンを、前記層の表面部に注入する方法が好ましい。前記Aの方法においては、イオンを注入する際の圧力プラズマイオン注入時の圧力を0.01~1Paとすることが好ましい。プラズマイオン注入時の圧力がこのような範囲にあるときに、簡便にかつ効率よく、ガスバリア性等に優れた均一なイオン注入層を形成することができる。前記Bの方法は、減圧度を高くする必要がなく、処理操作が簡便であり、処理時間も大幅に短縮することができる。また、前記層全体にわたって均一に処理することができ、負の高電圧パルス印加時にプラズマ中のイオンを高エネルギーで層の表面部に連続的に注入することができる。さらに、radiofrequency高周波、以下、RFと略す。や、マイクロ波等の高周波電力源等の特別の他の手段を要することなく、層に負の高電圧パルスを印加するだけで、層の表面部に良質のイオン注入層を均一に形成することができる。前記A及びBのいずれの方法においても、負の高電圧パルスを印加するとき、すなわちイオンを注入するときのパルス幅は、1~15μsecであるのが好ましい。パルス幅がこのような範囲にあるときに、透明で均一なイオン注入層をより簡便にかつ効率よく形成することができる。また、プラズマを発生させるときの印加電圧は、好ましくは-1kV~-50kV、より好ましくは-1kV~-30kV、特に好ましくは-5kV~-20kVである。印加電圧が-1kVより大きい値でイオン注入を行うと、イオン注入量ドーズ量が不十分となり、所望の性能が得られない。一方、-50kVより小さい値でイオン注入を行うと、イオン注入時に成形体が帯電し、また成形体への着色等の不具合が生じ、好ましくない。プラズマイオンを生成する原料ガスとしては、前記1成形体の項で例示したのと同様のものが挙げられる。層の表面部にプラズマ中のイオンを注入する際には、プラズマイオン注入装置を用いる。プラズマイオン注入装置としては、具体的には、αイオンが注入される層に負の高電圧パルスを印加するフィードスルーに高周波電力を重畳して、イオンが注入される層の周囲を均等にプラズマで囲み、プラズマ中のイオンを誘引、注入、衝突、堆積させる装置特開200126887号公報、βチャンバー内にアンテナを設け、高周波電力を与えてプラズマを発生させてイオンが注入される層周囲にプラズマが到達後、イオンが注入される層に正と負のパルスを交互に印加することで、正のパルスでプラズマ中の電子を誘引衝突させてイオンが注入される層を加熱し、パルス定数を制御して温度制御を行いつつ、負のパルスを印加してプラズマ中のイオンを誘引、注入させる装置特開2001-156013号公報、γマイクロ波等の高周波電力源等の外部電界を用いてプラズマを発生させ、高電圧パルスを印加してプラズマ中のイオンを誘引、注入させるプラズマイオン注入装置、δ外部電界を用いることなく高電圧パルスの印加により発生する電界のみで発生するプラズマ中のイオンを注入するプラズマイオン注入装置等が挙げられる。これらの中でも、処理操作が簡便であり、処理時間も大幅に短縮でき、連続使用に適していることから、γ又はδのプラズマイオン注入装置を用いるのが好ましい。以下、前記γ及びδのプラズマイオン注入装置を用いる方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。図1は、前記γのプラズマイオン注入装置を備える連続的プラズマイオン注入装置の概要を示す図である。図1aにおいて、1aはアクリル系樹脂等含有層を表面部に有する長尺フィルム状の成形物以下、フィルムという。、11aはチャンバー、20aはターボ分子ポンプ、3aはイオン注入される前のフィルム1aを送り出す巻き出しロール、5aはイオン注入されたフィルム成形体1aをロール状に巻き取る巻取りロール、2aは高電圧印加回転キャン、6aはフィルムの送り出しロール、10aはガス導入口、7aは高電圧パルス電源、4aはプラズマ放電用電極外部電界である。図1bは、前記高電圧印加回転キャン2aの斜視図であり、15は高電圧導入端子フィードスルーである。用いるイオンが注入される層を表面部に有する長尺状のフィルム1aは、基材層上に、アクリル系樹脂等含有層を形成したフィルムである。図1に示す連続的プラズマイオン注入装置においては、フィルム1aは、チャンバー11a内において、巻き出しロール3aから図1中矢印X方向に搬送され、高電圧印加回転キャン2aを通過して、巻き取りロール5aに巻き取られる。フィルム1aの巻取りの方法や、フィルム1aを搬送する方法等は特に制約はないが、本実施形態においては、高電圧印加回転キャン2aを一定速度で回転させることにより、フィルム1aの搬送を行っている。また、高電圧印加回転キャン2aの回転は、高電圧導入端子15の中心軸13をモーターにより回転させることにより行われる。高電圧導入端子15、及びフィルム1aが接触する複数の送り出し用ロール6a等は絶縁体からなり、例えば、アルミナの表面をポリテトラフルオロエチレン等の樹脂で被覆して形成されている。また、高電圧印加回転キャン2aは導体からなり、例えば、ステンレスで形成することができる。フィルム1aの搬送速度は適宜設定できる。フィルム1aが巻き出しロール3aから搬送され、巻き取りロール5aに巻き取られるまでの間にフィルム1aの表面部アクリル系樹脂等含有層にイオン注入され、所望のイオン注入層が形成されるだけの時間が確保される速度であれば、特に制約されない。フィルムの巻取り速度搬送速度は、印加電圧、装置規模等にもよるが、通常0.1~3m/min、好ましくは0.2~2.5m/minである。まず、チャンバー11a内をロータリーポンプに接続されたターボ分子ポンプ20aにより排気して減圧とする。減圧度は、通常1×10-4Pa~1Pa、好ましくは1×10-3Pa~1×10-2Paである。次に、ガス導入口10aよりチャンバー11a内に、イオン注入用のガス以下、イオン注入用ガスということがある。を導入して、チャンバー11a内を減圧イオン注入用ガス雰囲気とする。なお、イオン注入用ガスはプラズマ生成ガスでもある。次いで、プラズマ放電用電極4外部電界によりプラズマを発生させる。プラズマを発生させる方法としては、マイクロ波やRF等の高周波電力源等による公知の方法が挙げられる。一方、高電圧導入端子15を介して高電圧印加回転キャン2aに接続されている高電圧パルス電源7aにより、負の高電圧パルス9aが印加される。高電圧印加回転キャン2aに負の高電圧パルスが印加されると、プラズマ中のイオンが誘因され、高電圧印加回転キャン2aの周囲のフィルムの表面に注入され図1a中、矢印Y、フィルム状の成形体1bが得られる。前述のように、イオンを注入する際の圧力チャンバー11a内のプラズマガスの圧力は、0.01~1Paであるのが好ましく、イオンを注入するときのパルス幅は、1~15μsecであるのが好ましく、高電圧印加回転キャン2aに負の高電圧を印加する際の印加電圧は、-1kV~-50kVであるのが好ましい。次に、図2に示す連続的プラズマイオン注入装置を使用して、アクリル系樹脂等含有層を表面部に有するフィルムの、前記アクリル系樹脂等含有層にイオンを注入する方法を説明する。図2に示す装置は、前記δのプラズマイオン注入装置を備える。このプラズマイオン注入装置は、外部電界すなわち、図1におけるプラズマ放電用電極4を用いることなく印加する高電圧パルスによる電界のみでプラズマを発生させるものである。図2に示す連続的プラズマイオン注入装置においては、フィルムフィルム状の成形物1cは、前記図1の装置と同様に高電圧印加回転キャン2bを回転させることによって巻き出しロール3bから図2中矢印X方向に搬送され、巻き取りロール5bに巻き取られる。図2に示す連続的プラズマイオン注入装置では、前記フィルムのアクリル系樹脂等含有層の表面部へのイオン注入は次のように行われる。まず、図1に示すプラズマイオン注入装置と同様にしてチャンバー11b内にフィルム1cを設置し、チャンバー11b内をロータリーポンプに接続されているターボ分子ポンプ20bにより排気して減圧とする。そこへ、ガス導入口10bよりチャンバー11b内に、イオン注入用ガスを導入して、チャンバー11b内を減圧イオン注入用ガス雰囲気とする。イオンを注入する際の圧力チャンバー11b内のプラズマガスの圧力は、10Pa以下、好ましくは0.01~5Pa、より好ましくは0.01~1Paである。次に、フィルム1cを、図2中Xの方向に搬送させながら、高電圧導入端子図示せずを介して高電圧印加回転キャン2bに接続されている高電圧パルス電源7bから高電圧パルス9bを印加する。高電圧印加回転キャン2bに負の高電圧が印加されると、高電圧印加回転キャン2bの周囲のフィルム1cに沿ってプラズマが発生し、そのプラズマ中のイオンが誘因され、高電圧印加回転キャン2bの周囲の成形体フィルム1cの表面に注入される図2中、矢印Y。フィルム1cのアクリル系樹脂等含有層の表面部にイオンが注入されると、フィルム表面部にイオン注入層が形成され、フィルム状の成形体1dが得られる。高電圧印加回転キャン2bに負の高電圧を印加する際の印加電圧、パルス幅及びイオンを注入する際の圧力は、図1に示す連続的プラズマイオン注入装置の場合と同様である。図2に示すプラズマイオン注入装置では、プラズマを発生させるプラズマ発生手段を高電圧パルス電源によって兼用しているため、RFやマイクロ波等の高周波電力源等の特別の他の手段を要することなく、負の高電圧パルスを印加するだけで、プラズマを発生させ、フィルムのアクリル系樹脂等含有層の表面部にプラズマ中のイオンを注入し、イオン注入層を連続的に形成し、フィルムの表面部にイオン注入層が形成された成形体を量産することができる。3電子デバイス用部材及び電子デバイス本発明の電子デバイス用部材は、本発明の成形体からなることを特徴とする。従って、本発明の電子デバイス用部材は、優れたガスバリア性を有しているので、水蒸気等のガスによる素子の劣化を防ぐことができる。また、光の透過性が高いので、液晶ディスプレイ、ELディスプレイ等のディスプレイ部材;太陽電池用バックシート;等として好適である。本発明の電子デバイスは、本発明の電子デバイス用部材を備える。具体例としては、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー、太陽電池等が挙げられる。本発明の電子デバイスは、本発明の成形体からなる電子デバイス用部材を備えているので、優れたガスバリア性と透明性を有する。以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。なお、以下において、PMMAはメタアクリル酸メチルの単独重合体であるポリメチルメタクリレートのことである。用いたプラズマイオン注入装置、水蒸気透過率測定装置と測定条件、可視光透過率測定装置、及び折り曲げ試験の方法及びXPSによるガスバリア層の表層部の元素分析の測定装置は以下の通りである。なお、用いたプラズマイオン注入装置は外部電界を用いてイオンを注入する装置である。XPSによる元素分析ガスバリア層表層部における原子の存在割合の測定は、X線光電子分光分析装置XPS:X-rayPhotoelectronSpectroscopyを使用して下記に示す測定条件で行った。測定装置:PHIQuanteraSXMアルバックファイ社製X線源:AlKαX線ビーム径:100μm電力値:25W電圧:15kV取り出し角度:45°真空度:5.0×10-8Paプラズマイオン注入装置RF電源:日本電子社製、型番号RF56000高電圧パルス電源:栗田製作所社製、PV-3-HSHV-0835水蒸気透過率の測定ガス透過率測定装置:水蒸気透過率が0.01g/m2/day以上のとき、LYSSY社製、L89-500を用い、水蒸気透過率が0.01g/m2/day未満のとき、TECHNOLOX社製、deltapermを用いた。測定条件:相対湿度90、40°C可視光線透過率、ヘイズの測定可視光透過率測定装置:島津製作所社製、UV-3101PC測定波長:550nm折り曲げ試験得られた成形体のイオン注入面比較例1はペルヒドロポリシラザンを含む層側、比較例4は窒化ケイ素膜側を外側にし、中央部分で半分に折り曲げてラミネーターフジプラ社製、LAMIPACKERLPC1502の2本のロール間を、ラミネート速度5m/min、温度23°Cの条件で通した後、折り曲げた部分を顕微鏡で観察100倍してクラック発生の有無を観察した。クラックの発生が認められなかった場合をなし、クラックの発生が認められた場合をありと評価した。また、折り曲げ試験前後の水蒸気透過率を測定した。塗工液安定性の確認ペルヒドロポリシラザンと樹脂を含む混合液につき、混合後6時間以内にゲル化して製膜不可能な場合を安定性不良、ゲル化せず製膜可能な場合を安定性良好と評価した。実施例1基材層としてのポリエチレンテレフタレートフィルム三菱樹脂社製、PET38T-100、厚さ38μm、以下、PETフィルムという。に、ポリシラザン化合物としてのペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング剤クラリアントジャパン社製、アクアミカNL110-20と、アクリル系樹脂としてのPMMAAldrich社製、Mw=120,000のジオキサン溶液との混合液を塗布し、120°Cで2分間加熱してPETフィルム上にペルヒドロポリシラザンとPMMAを含む厚さ150nm膜厚の層を形成して成形物を得た。PMMAの添加量は全固形分ポリシラザン化合物とアクリル系樹脂の合計量を100質量として、0.1質量PMMA:ペルヒドロポリシラザン=0.1:99.9質量比とした。次に、前記成形物のペルヒドロポリシラザンとPMMAを含む層の表面に、図1に示すプラズマイオン注入装置を用いて、アルゴンArを以下に示す条件にてプラズマイオン注入して成形体1を作製した。プラズマイオン注入の条件プラズマ生成ガス:アルゴンガス流量:100sccmDuty比:0.5繰り返し周波数:1000Hz印加電圧:-10kVRF電源:周波数13.56MHz、印加電力1000Wチャンバー内圧:0.2Paパルス幅:5μsec処理時間イオン注入時間:5分間搬送速度:0.2m/分実施例2実施例1において、PMMAの添加量を、全固形分の0.1質量ではなく1質量PMMA:ペルヒドロポリシラザン=1:99質量比とした以外は、実施例1と同様にして成形体2を作製した。実施例3実施例1において、PMMAの添加量を、全固形分の0.1質量ではなく10質量PMMA:ペルヒドロポリシラザン=10:90質量比とした以外は、実施例1と同様にして成形体3を作製した。実施例4実施例1において、PMMAの添加量を、全固形分の0.1質量ではなく30質量PMMA:ペルヒドロポリシラザン=30:70質量比とした以外は、実施例1と同様にして成形体4を作製した。実施例5実施例1において、PMMAの添加量を、全固形分の0.1質量ではなく40質量PMMA:ペルヒドロポリシラザン=40:60質量比とした以外は、実施例1と同様にして成形体5を作製した。実施例6実施例1において、PMMAの添加量を、全固形分の0.1質量ではなく50質量PMMA:ペルヒドロポリシラザン=50:50質量比とした以外は、実施例1と同様にして成形体6を作製した。実施例7実施例1において、PMMAの添加量を、全固形分の0.1質量ではなく60質量PMMA:ペルヒドロポリシラザン=60:40質量比とした以外は、実施例1と同様にして成形体7を作製した。実施例8実施例1において、PMMAの添加量を、全固形分の0.1質量ではなく70質量PMMA:ペルヒドロポリシラザン=70:30質量比とした以外は、実施例1と同様にして成形体8を作製した。実施例9実施例6において、PMMAの替わりにポリメタクリル酸イソブチルAldrich社製、Mw=130,000を使用する以外は、実施例6と同様にして成形体17を作製した。実施例10実施例6において、PMMAの替わりにポリメタクリル酸シクロヘキシルAldrich社製、Mw=65,000を使用する以外は、実施例6と同様にして成形体18を作製した。比較例1イオン注入を行わない以外は、実施例6と同様にして成形体を作製した。すなわち、PETフィルム上にペルヒドロポリシラザンとPMMAを含む層を形成し、このものを成形体9とした。比較例2実施例1において、ペルヒドロポリシラザンを使用しない以外は、実施例1と同様にして成形体を作製した。すなわち、PMMAの添加量を、全固形分の0.1質量ではなく100質量PMMA:ペルヒドロポリシラザン=100:0質量比とした以外は、実施例1と同様にして成形体10を作製した。比較例3PETフィルム上に、ペルヒドロポリシラザンとPMMAとを含む層を形成しない以外は、実施例1と同様にして成形体を作製した。すなわち、PETフィルムの表面にアルゴンArを実施例1と同様の条件にてプラズマイオン注入して成形体11を作製した。比較例4PETフィルムに、スパッタリング法により、厚さ60nmの窒化ケイ素SiNの膜を形成して、成形体12を作製した。比較例5実施例6において、PMMAの替わりにポリウレタン樹脂A:DIC社製、パンデックスT5265Mを使用する以外は、実施例6と同様にして成形体13を作製した。比較例6実施例6において、PMMAの替わりにポリエチレン樹脂B:日本ポリエチレン社製、カーネルKJ640Tを使用する以外は、実施例6と同様にして成形体14を作製した。比較例7実施例6において、PMMAの替わりにポリカーボネート樹脂C:Aldrich社製を使用する以外は、実施例6と同様にして成形体15を作製した。参考例1実施例1において、PMMAを使用しない以外は、実施例1と同様にして成形体を作製した。すなわち、PMMAの添加量を、全固形分の0.1質量ではなく0質量PMMA:ペルヒドロポリシラザン=0:100質量比とした以外は、実施例1と同様にして成形体16を作製した。実施例1~10、比較例1~7及び参考例1で得られた成形体1~18について、アクリル系樹脂の添加量質量、第1表中、と表記、注入したイオン種第1表中、イオン注入と表記、PET上に形成した層の膜厚nmを第1表にまとめた。なお、第1表中、比較例4の注1は、PETフィルムに、スパッタリング法により、厚さ60nmの窒化ケイ素SiNの膜を形成して、成形体12を作製したことを示す。また、実施例1~10、比較例2、3及び参考例1で得られた成形体1~8、10、11、16、17、18について、X線光電子分光分析装置アルバックファイ社製を用いて、表面から10nm付近の元素分析測定を行うことにより、それぞれのイオンが注入されたことを確認した。測定結果を下記第1表に示した。第1表中、ガスバリア層表層部における、炭素原子、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子の存在割合は、炭素原子、窒素原子、酸素原子及びケイ素原子の合計を100としたときの、各原子の存在割合である。塗工液安定性試験次に、実施例1~10、比較例1、2、5~7及び参考例1につき、ペルヒドロポリシラザンと樹脂を含む混合液の塗工液安定性試験を実施した。結果を下記第2表に示す。全光線透過率ヘイズの測定実施例1~10、比較例1~4、6及び参考例1で得られた成形体1~12、14、16、17、18につき、全光線透過率ヘイズを測定した。結果を下記第2表に示す。折り曲げ試験また、成形体1~12、14、16、17、18について、折り曲げ試験を行い、クラックの発生の有無を確認した。結果を第2表に示す。水蒸気透過率さらに、折り曲げ試験前後における成形体1~12、14、16、17、18について、水蒸気透過率g/m2/dayを測定した。結果を第2表に示す。第2表から、実施例1~10においては、ペルヒドロポリシラザンと樹脂を含む混合液の塗工液安定性に優れており、得られる成形体1~8、17、18は、比較例1~3、6の成形体9~11、14に比して、水蒸気透過率が小さく、高いガスバリア性を有していた。また、可視光線透過率も高く、ヘイズ値も小さく、透明性に優れていた。比較例5及び7は、塗工液安定性が悪く、成形体が得られなかった。また、実施例1~10の成形体1~8、17、18は、折り曲げ試験後においてクラックの発生がみられず、水蒸気透過率も小さいままであり、耐折り曲げ性に優れていることがわかる。"