"成分A式a1で表される構成単位と、式a2で表される構成単位と、式a3で表される構成単位及び/又は式a4で表される構成単位とを有する共重合体、成分B発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤、並びに、成分C溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1~6のアルキル基を表し、R3は炭素数1~6のアルキル基又は炭素数4~7のシクロアルキル基を表し、R2とR3とは結合して環を形成してもよく、R4は水素原子又はメチル基を表し、R5は水素原子又はメチル基を表し、R6は水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合、炭素数1~4のアルキレン基又は炭素数2~4のアルキレンオキシ基を表し、Aは飽和の炭素5員環又は不飽和二重結合を1つ有する炭素5員環を表す。成分Aが、前記式a2で表される構成単位以外に、架橋性基を含む別の構成単位a5を更に有する、請求項1に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記構成単位a5が、下記式a5-1又はa5-2で表される構成単位である、請求項1又は2に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式中、R7は水素原子又はメチル基を表し、R8は水素原子又はメチル基を表す。成分Aが、下記式a6で表される構成単位を更に有する、請求項1~3のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式中、R9は水素原子又はメチル基を表す。前記R3が、エチル基又はシクロヘキシル基である、請求項1~4のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分Bが、下記式B-0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物である、請求項1~5のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式中、波線部分は他の構造との結合位置を表す。前記式B-0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物が、下記式B-1で表されるオキシムスルホネート化合物である、請求項6に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式中、RB4は水素原子又はメチル基を表し、RB5は炭素数1~8のアルキル基、p-トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。前記式B-0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物が、下記式B-2で表されるオキシムスルホネート化合物である、請求項6に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式中、RB1はアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、RB2はアルキル基又はアリール基を表す。光増感剤を更に含む、請求項1~8のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。1請求項1~9のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程、3溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、4露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、5現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法。前記現像工程後、前記ポストベーク工程前に、現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含む、請求項10に記載の硬化膜の形成方法。請求項10又は11に記載の方法により形成された硬化膜。層間絶縁膜である、請求項12に記載の硬化膜。請求項12又は13に記載の硬化膜を具備する有機EL表示装置。請求項12又は13に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。近年、TFT型液晶表示素子においては、大画面化、高輝度化、高精細化、高速応答化、薄型化等の動向にあり、それに用いられる層間絶縁膜形成用組成物としては、従来にも増して、優れた電気特性が求められている。本発明者が検討を行った結果、有機EL表示装置や液晶表示装置などの表示装置において、層間絶縁膜の体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が小さい場合には、電気的安定性が低く、表示装置の信頼性に悪影響を及ぼすことを見いだした。前述の特許文献1及び2に記載の層間絶縁膜用の感光性樹脂組成物においては、体積抵抗率と絶縁破壊電圧が低いため、表示装置の信頼性が満足できるものではなく、これらの電気特性の改善が必要であることがわかった。本発明の目的は、体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高く、電気的安定性の高い層間絶縁膜を形成可能なポジ型感光性樹脂組成物、更に、前記ポジ型感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機EL表示装置及び液晶表示装置を提供することである。本発明の上記課題は、以下の<1>、<10>、<12>、<14>又は<15>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>~<9>、<11>及び<13>と共に以下に記載する。<1>成分A式a1で表される構成単位と、式a2で表される構成単位と、式a3で表される構成単位及び/又は式a4で表される構成単位とを有する共重合体、成分B発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤、並びに、成分C溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1~6のアルキル基を表し、R3は炭素数1~6のアルキル基又は炭素数4~7のシクロアルキル基を表し、R2とR3とは結合して環を形成してもよく、R4は水素原子又はメチル基を表し、R5は水素原子又はメチル基を表し、R6は水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合、炭素数1~4のアルキレン基又は炭素数2~4のアルキレンオキシ基を表し、Aは飽和の炭素5員環又は不飽和二重結合を1つ有する炭素5員環を表す。<2>成分Aが、前記式a2で表される構成単位以外に、架橋性基を含む別の構成単位a5を更に有する、上記<1>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<3>前記構成単位a5が、下記式a5-1又はa5-2で表される構成単位である、上記<1>又は<2>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、式中、R7は水素原子又はメチル基を表し、R8は水素原子又はメチル基を表す。<4>成分Aが、下記式a6で表される構成単位を更に有する、上記<1>~<3>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、式中、R9は水素原子又はメチル基を表す。<5>前記R3が、エチル基又はシクロヘキシル基である、上記<1>~<4>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<6>成分Bが、下記式B-0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物である、上記<1>~<5>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、式中、波線部分は他の構造との結合位置を表す。<7>前記式B-0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物が、下記式B-1で表されるオキシムスルホネート化合物である、上記<6>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、式中、RB4は水素原子又はメチル基を表し、RB5は炭素数1~8のアルキル基、p-トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。<8>前記式B-0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物が、下記式B-2で表されるオキシムスルホネート化合物である、上記<6>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、式中、RB1はアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、RB2はアルキル基又はアリール基を表す。<9>光増感剤を更に含む、上記<1>~<8>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<10>1上記<1>~<9>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程、3溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、4露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、5現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法、<11>前記現像工程後、前記ポストベーク工程前に、現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含む、上記<10>に記載の硬化膜の形成方法、<12>上記<10>又は<11>に記載の方法により形成された硬化膜、<13>層間絶縁膜である、上記<12>に記載の硬化膜、<14>上記<12>又は<13>に記載の硬化膜を具備する有機EL表示装置、<15>上記<12>又は<13>に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。本発明によれば、体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高く、電気的安定性の高い層間絶縁膜を形成可能なポジ型感光性樹脂組成物、前記ポジ型感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機EL表示装置及び液晶表示装置を提供することができた。本発明のポジ型感光性樹脂組成物以下、感光性樹脂組成物、又は、単に樹脂組成物ともいう。は、成分A式a1で表される構成単位と、式a2で表される構成単位と、式a3で表される構成単位及び/又は式a4で表される構成単位とを有する共重合体、成分B発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤、並びに、成分C溶剤を含有することを特徴とする。本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、得られる硬化膜の体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高いため、電気的安定性の高い層間絶縁膜を形成可能である。式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1~6のアルキル基を表し、R3は炭素数1~6のアルキル基又は炭素数4~7のシクロアルキル基を表し、R2とR3とは結合して環を形成してもよく、R4は水素原子又はメチル基を表し、R5は水素原子又はメチル基を表し、R6は水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合、炭素数1~4のアルキレン基又は炭素数2~4のアルキレンオキシ基を表し、Aは飽和の炭素5員環又は不飽和二重結合を1つ有する炭素5員環を表す。本発明の感光性樹脂組成物は、ポジ型感光性樹脂組成物である。また、本発明の感光性樹脂組成物は、化学増幅型のポジ型感光性樹脂組成物化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、活性光線に感応する光酸発生剤として1,2-キノンジアジド化合物を含まない方が好ましい。発生酸のpKaが4を超える1,2-キノンジアジド化合物は、逐次型光化学反応によりカルボキシ基を生成するが、その量子収率は必ず1以下である。これに対して本発明で使用する成分B発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤は、活性光線に感応して生成する酸が保護された酸性基の脱保護に対して触媒として作用するので、1個の光量子の作用で生成した酸が、多数の脱保護反応に寄与し、量子収率は1を超え、例えば、10の数乗のような大きい値となり、いわゆる化学増幅の結果として、高感度が得られる。以下、これら成分A等で示される各成分をそれぞれ、成分A等ともいう。以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書における基原子団の表記において、置換及び無置換を記していない表記は置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えばアルキル基とは、置換基を有さないアルキル基無置換アルキル基のみならず、置換基を有するアルキル基置換アルキル基をも包含するものである。ここで、許容される置換基は、不活性であって、その特定の基を含む化合物本来の化学的機能を変化させないものであり、許容される置換基として、ハロゲン原子、アルコキシ基、水酸基が例示される。また、本発明において、メタアクリル酸エステルは、アクリル酸エステル及び/又はメタクリル酸エステルを意味する。メタアクリル酸等についても同様である。さらに、本発明において、数値範囲を表す下限~上限の記載は、特に断りのない限り、下限以上、上限以下を表す。すなわち、端点である下限及び上限を含む数値範囲を意味する。成分A式a1で表される構成単位と、式a2で表される構成単位と、式a3で表される構成単位及び/又は式a4で表される構成単位とを有する共重合体本発明の感光性樹脂組成物は、成分A式a1で表される構成単位と、式a2で表される構成単位と、式a3で表される構成単位及び/又は式a4で表される構成単位とを有する共重合体を含有する。成分Aは、式a3で表される構成単位若しくは式a4で表される構成単位のいずれか一方、又は、式a3で表される構成単位及び式a4で表される構成単位の両方を有する。中でも、成分Aは、式a3で表される構成単位及び式a4で表される構成単位の両方を有することが好ましい。成分Aは、式a1で表される構成単位を、1種単独で有していても、2種以上を有していてもよい。式a2~式a4で表される構成単位についても、同様である。また、成分Aは、式a1~式a4で表される構成単位以外の構成単位を有していてもよい。なお、式a1で表される構成単位等を構成単位a1等ともいう。成分Aは、アルカリ不溶性又は難溶性であり、かつ、分子内に有する構成単位a1における-COOCHR2OR3等が分解したときにアルカリ可溶性となる樹脂であることが好ましい。成分Aは、その全体がアルカリ不溶性に保たれる限り、酸性基の導入が排除されるものではない。成分Aに酸性基が導入される場合の例としては、例えば、後述する構成単位a7-5等を有する場合が挙げられる。<式a1で表される構成単位>成分Aは、式a1で表される構成単位を少なくとも有する。式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1~6のアルキル基を表し、R3は炭素数1~6のアルキル基又は炭素数4~7のシクロアルキル基を表し、R2とR3とは結合して環を形成してもよい。前記式a1で表される構成単位における-COOCHR2OR3の部分構造は、酸により分解、例えば、活性光線の露光によって成分Bから生じた酸により分解し、-COOHカルボキシ基を生じる。新たにカルボキシ基が生じることにより、アルカリ可溶性が増大し、露光部分が可溶になり、現像を行うことができる。また、未露光部においても、後述するポストベーク工程における熱処理により、前記部分構造が分解し、カルボキシ基を生じる。生じたカルボキシ基は、式a2で表される構成単位のエポキシ基等と反応することにより架橋を形成することができる。前記式a1におけるR1は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。また、前記式a1におけるR2とR3とは、結合して環を形成しても、環を形成していなくともよい。以下、R2とR3とが環を形成しない場合と、環を形成する場合とに分けて説明する。-R2とR3とが環を形成しない場合-R2におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐状であってもよい。R2の炭素数としては、1~4であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。R3におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐状であってもよい。R3におけるアルキル基の炭素数としては、1~4であることが好ましく、1~3であることがより好ましく、1又は2であることが更に好ましい。R3におけるシクロアルキル基の炭素数としては、3~20であることが好ましく、3~10であることがより好ましく、5~7であることが更に好ましい。なお、これら炭素数は、置換基を有する場合、置換基の炭素数も含まれる。R3におけるアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基等を挙げることができる。R3におけるシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。R2におけるアルキル基、及び、R3におけるアルキル基及びシクロアルキル基は、置換基を有していてもよい。前記アルキル基及びシクロアルキル基における置換基としては、炭素数1~10のアルキル基メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、炭素数3~10のシクロアルキル基、炭素数6~10のアリール基、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数1~10のアルコキシ基等が例示でき、これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。また、R3におけるアルキル基又はシクロアルキル基としては、炭素数1~10のアルキル基、炭素数が3~10のシクロアルキル基、又は、炭素数が7~11のアラルキル基が好ましく、炭素数が1~6のアルキル基、炭素数が3~6のシクロアルキル基、又は、ベンジル基がより好ましく、エチル基又はシクロヘキシル基であることが更に好ましく、エチル基であることが特に好ましい。これらの構造の中で、酸分解性基を有する構成単位として特に好ましいものは、式a1-1で表される構成単位である。式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R3は炭素数1~6のアルキル基又は炭素数4~7のシクロアルキル基を表す。式a1-1におけるR1及びR3は、式a1におけるとR1及びR3それぞれ同義であり、好ましい態様もそれぞれ同様である。式a1-1で表される構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の好ましい具体例としては、例えば、1-エトキシエチルメタクリレート、1-エトキシエチルアクリレート、1-メトキシエチルメタクリレート、1-メトキシエチルアクリレート、1-n-ブトキシエチルメタクリレート、1-n-ブトキシエチルアクリレート、1-イソブトキシエチルメタクリレート、1-イソブトキシエチルアクリレート、1-2-エチルヘキシルオキシエチルメタクリレート、1-2-エチルヘキシルオキシエチルアクリレート、1-n-プロポキシエチルメタクリレート、1-n-プロポキシエチルアクリレート、1-シクロヘキシルオキシエチルメタクリレート、1-シクロヘキシルオキシエチルアクリレート、1-2-シクロヘキシルエトキシエチルメタクリレート、1-2-シクロヘキシルエトキシエチルアクリレート、1-ベンジルオキシエチルメタクリレート、1-ベンジルオキシエチルアクリレートなどを挙げることができ、特に好ましいものとしては、1-エトキシエチルメタクリレート及び1-エトキシエチルアクリレートである。これらの構成単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて有することができる。-R2とR3とが環を形成する場合-R2とR3とは環を形成してもよい。R2とR3と環を形成した基の例として、2-テトラヒドロピラニル基、2-テトラヒドロフラニル基が好ましい。すなわち、R2とR3とが結合して炭素数3又は4のアルキレン基を形成することが好ましく、炭素数3のアルキレン基を形成することが特に好ましい。これらの構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の好ましい具体例としては、例えば、メタクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル、アクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル、メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、アクリル酸テトラヒドロフラン-2-イルなどを挙げることができる。式a1で表される構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体は、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いることもできる。例えば、下記に示すようにメタアクリル酸を酸触媒の存在下でビニルエーテル化合物と反応させることにより合成することができる。式中、R1及びR3はそれぞれ、式a1-1におけるR1及びR3に対応する。また、式a1で表される構成単位は、例えば、上記のような対応する酸分解性基で保護されたメタアクリレート化合物を後述する他のモノマーと共重合して形成することができる。また、メタアクリル酸を後述する他のモノマーやその前駆体と重合した後に、カルボキシ基をビニルエーテル化合物と反応させることによっても形成することができる。なお、このようにして形成される好ましいモノマー単位の具体例は、上記ラジカル重合性単量体の好ましい具体例由来のモノマー単位と同様である。成分Aを構成する全モノマー単位中、式a1で表される構成単位を形成するモノマー単位の含有量は、5~60モルが好ましく、10~55モルがより好ましく、15~50モルが特に好ましい。上記の割合で含有させることにより、高感度であり、かつ体積抵抗率が高い硬化膜を得ることができる。<式a2で表される構成単位>成分Aは、式a2で表される構成単位を少なくとも有する。式a2で表される構成単位を有することにより、体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高い硬化膜を得ることができる。式a2で表される構成単位のエポキシ基は、後述するポストベーク工程における熱処理により、系中のカルボキシ基と反応して、又は、エポキシ基同士で反応して架橋を形成することができる。式中、R4は水素原子又はメチル基を表す。前記式a2におけるR4は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、水素原子が好ましい。前記式a2において、ベンゼン環上におけるグリシジルオキシメチル基の結合位置は、特に制限はなく、R4が結合した炭素原子が結合しているベンゼン環に対し、o位であっても、m位であっても、p位であってもよいが、体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高い硬化膜を得る観点から、p位であることが好ましい。前記式a2で表される構成単位としては、下記式a2-1で表される構成単位が好ましく例示できる。式中、R4は水素原子又はメチル基を表す。式a2-1におけるR4は、式a2におけるとR4と同義であり、好ましい態様も同様である。前記式a2で表される構成単位を形成するモノマーとしては、下記式a2’で表される化合物が好ましく例示できる。式中、R4は水素原子又はメチル基を表す。式a2’におけるR4は、式a2におけるとR4と同義であり、好ましい態様も同様である。式a2で表される構成単位は、例えば、前記式a2’で表される化合物を重合して形成しても、ヒドロキシメチルスチレン化合物を重合した後、高分子反応によりグリシジル基を導入してもよいが、前記式a2’で表される化合物を重合して形成することが好ましい。前記式a2’で表される化合物を重合して形成した場合、成分Aにおいて式a2で表される構成単位は、式a2で表されるモノマー単位でもある。成分Aを構成する全モノマー単位中、式a2で表される構成単位を形成するモノマー単位の含有量は、1~60モルが好ましく、2~50モルがより好ましく、5~40モルが更に好ましく、10~20モルが特に好ましい。上記の割合で含有させることにより、体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高い硬化膜を得ることができる。<式a3で表される構成単位>成分Aは、式a3で表される構成単位及び/又は式a4で表される構成単位を有する。式中、R5は水素原子又はメチル基を表す。前記式a3におけるR5は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、水素原子であることが好ましい。前記式a3で表される構成単位を形成するモノマーとしては、下記式a3’で表される化合物が好ましく例示できる。式a3’におけるR5は、前記式a3におけるR5と同義であり、好ましい態様も同様である。式a3で表される構成単位は、前記式a3’で表される化合物を重合して形成することが好ましい。前記式a3’で表される化合物を重合して形成した場合、成分Aにおいて式a3で表される構成単位は、式a3で表されるモノマー単位でもある。<式a4で表される構成単位>成分Aは、式a3で表される構成単位及び/又は式a4で表される構成単位を有する。式中、R6は水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合、炭素数1~4のアルキレン基又は炭素数2~4のアルキレンオキシ基を表し、Aは飽和の炭素5員環又は不飽和二重結合を1つ有する炭素5員環を表す。前記式a4におけるR6は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。前記式a4におけるXは、単結合、メチレン基、プロピレンオキシ基又はエチレンオキシ基であることが好ましく、単結合、メチレン基又はエチレンオキシ基であることがより好ましい。前記式a4において、環構造Aは有していてもいなくてもよく、有していることが好ましい。前記式a4におけるノルボルナン環及び環構造Aから構成される脂環構造の基としては、トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イル基であることが特に好ましい。式a4で表される構成単位を形成するモノマーとしては、脂環構造を有するメタアクリレート化合物が好ましく例示でき、下記式a4’で表される化合物がより好ましく例示できる。式中、R6は水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合、炭素数1~4のアルキレン基又は炭素数2~4のアルキレンオキシ基を表し、Aは飽和の炭素5員環又は不飽和二重結合を1つ有する炭素5員環を表す。式a4’におけるR6、X及びAは、前記式a4におけるR6、X及びAと同義であり、好ましい態様も同様である。式a4’で表される化合物の具体例としては、トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルメタアクリレート、トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルオキシエチルメタアクリレート等が挙げられる。中でも、トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルメタアクリレートが最も好ましい。成分Aを構成する全モノマー単位中、式a3で表される構成単位及び式a4で表される構成単位を形成するモノマー単位の総含有量は、1~70モルが好ましく、5~60モルがより好ましく、5~50モルが更に好ましく、15~35モルが特に好ましい。上記の割合で含有させることにより、体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高い硬化膜を得ることができる。成分Aが式a3で表される構成単位を有する場合、成分Aを構成する全モノマー単位中、式a3で表される構成単位を形成するモノマー単位の含有量は、1~60モルが好ましく、2~55モルがより好ましく、10~50モルが更に好ましく、15~25モルが特に好ましい。また、成分Aが式a4で表される構成単位を有する場合、成分Aを構成する全モノマー単位中、式a4で表される構成単位を形成するモノマー単位の含有量は、1~50モルが好ましく、2~40モルがより好ましく、5~25モルが更に好ましく、10~15モルが特に好ましい。<架橋性基を有する構成単位構成単位a5>成分Aは、硬化膜の物性の観点から、前記式a2で表される構成単位とは異なる、他の架橋性基を有する構成単位構成単位a5ともいう。を更に有することが好ましい。架橋性基としては、カルボキシ基と反応して共有結合を形成し得る官能基であることが好ましい。具体的には、エポキシ基、オキセタニル基、酸無水物基、酸ハライド基、イソシアネート基が好ましく挙げられ、このような官能基を含有するラジカル重合性モノマーを使用して成分Aを合成することが好ましい。架橋性基の中で、エポキシ基、及び/又は、オキセタニル基が好ましい。前記エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位としては、脂環エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位であることが好ましく、オキセタニル基を有する構成単位であることがより好ましい。脂環エポキシ基は、脂肪族環とエポキシ環とが縮合環を形成している基であり、具体的には例えば、3,4-エポキシシクロヘキシル基、2,3-エポキシシクロヘキシル基、2,3-エポキシシクロペンチル基等が好ましく挙げられる。オキセタニル基を有する基としては、オキセタン環を有していれば、特に制限はないが、3-エチルオキセタン-3-イルメチル基が好ましく例示できる。エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位は、1つの構成単位中にエポキシ基又はオキセタニル基を少なくとも1つ有していればよく、1つ以上のエポキシ基及び1つ以上オキセタニル基、2つ以上のエポキシ基、又は、2つ以上のオキセタニル基を有していてもよく、特に限定されないが、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を合計1~3つ有することが好ましく、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を合計1又は2つ有することがより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基を1つ有することが更に好ましい。エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、特許第4168443号公報の段落0031~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられる。オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、例えば、特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルなどを挙げることができる。エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。これらのモノマーの中で、更に好ましいものとしては、特許第4168443号公報の段落0034~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物及び特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルであり、特に好ましいものとしては特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルである。これらの中でも、アクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルが好ましく、アクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルが最も好ましい。これらのモノマーは、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。架橋性基を有する構成単位としては、下記式a5-1又は式a5-2で表される構成単位が好ましく例示できる。式中、R7は水素原子又はメチル基を表し、R8は水素原子又はメチル基を表す。前記式a5-1におけるR7、及び、前記式a5-2におけるR8は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。成分Aが架橋性基を有する構成単位を有する場合、成分Aを構成する全モノマー単位中、架橋性基を有する構成単位を形成するモノマー単位の含有率は、0.5~50モルが好ましく、1~40モルがより好ましく、5~30モルが特に好ましい。上記の割合で含有させることにより、硬化膜の物性が良好となる。<式a6で表される構成単位>成分Aは、現像性の観点から、下記式a6で表される構成単位を更に有することが好ましい。式中、R9は水素原子又はメチル基を表す。前記式a6におけるR9は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。成分Aが式a6で表される構成単位を有する場合、成分Aを構成する全モノマー単位中、式a6で表される構成単位を形成するモノマー単位の含有率は、0.5~40モルが好ましく、1~20モルがより好ましく、5~10モルが特に好ましい。上記の割合で含有させることにより、硬化膜の物性が良好となる。<その他の構成単位a7>成分Aは、本発明の効果を妨げない範囲で、前記構成単位a1~a6以外の構成単位以下、適宜構成単位a7ともいう。を含有してもよい。構造単位a7を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、特に限定されないが、例えば、特開2004-264623号公報の段落0021~0024に記載の化合物を挙げることができるただし、前述の構成単位a1~a6を除く。。好ましい構成単位a7、及び、構成単位a7を形成するために用いられるラジカル重合性単量体として好ましい態様を具体的に説明する。カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位a7-1成分Aは、透明性の観点から、カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位a7-1を有することが好ましい。カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位a7-1としては、下記式a7-1で表される構成単位であることが好ましい。式中、R10は水素原子又はメチル基を表し、R11は炭素数1~12のアルキル基を表す。前記式a7-1におけるR10は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。前記式a7-1におけるR11は、炭素数1~8のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~4のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。また、前記R11におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。また、R11としては、メチル基又は2-エチルヘキシル基であることが好ましい。前記カルボン酸アルキルエステル残基を有する構成単位a7-1を形成するモノマーとしては、アルキルメタアクリレート化合物が好ましく例示でき、下記式a7’-1で表される化合物がより好ましく例示できる。式a7’-1におけるR10及びR11は、前記式a7-1におけるR10及びR11とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。マレイミド残基を有する構成単位a7-2成分Aは、熱硬化性の観点から、マレイミド残基を有する構成単位a7-2を有することが好ましい。マレイミド残基を有する構成単位a7-2としては、下記式a7-2で表される構成単位であることが好ましい。式中、R12は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は下記式Sで表される基を表す。式中、xは2~10の整数を表し、波線部分は式a7-2における窒素原子との結合位置を表す。前記式a7-2におけるR12は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数5~12のシクロアルキル基、炭素数6~12のアリール基又は前記式Sで表される基であることが好ましく、ベンジル基、シクロヘキシル基、フェニル基又は前記式Sで表される基であることがより好ましい。前記式Sにおけるxは、2~8であることが好ましく、2~7であることがより好ましい。前記マレイミド残基を有する構成単位a7-2を形成するモノマーとしては、下記式a7’-2で表される化合物が好ましく例示できる。式a7’-2におけるR12は、前記式a7-2におけるR12と同義であり、好ましい態様も同様である。式a7’-2で表される化合物の具体例としては、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミド、N-スクシンイミジル-3-マレイミドベンゾエート、N-スクシンイミジル-4-マレイミドブチレート、N-スクシンイミジル-6-マレイミドカプロエート、N-スクシンイミジル-3-マレイミドプロピオネート、N-9-アクリジニルマレイミド等が挙げられる。中でも、N-シクロヘキシルマレイミドやN-フェニルマレイミドが特に好ましい。ヒドロキシ基を有する構成単位a7-3成分Aは、現像性の観点から、ヒドロキシ基を有する構成単位a7-3を有することが好ましい。ヒドロキシ基を有する構成単位a7-3としては、下記式a7-3で表される構成単位であることが好ましい。式中、R13は水素原子又はメチル基を表し、yは2~11の整数を表す。前記式a7-3におけるR13は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。前記式a7-3におけるyは、2~8の整数であることが好ましく、2~4の整数であることがより好ましく、2であることが特に好ましい。前記ヒドロキシ基を有する構成単位a7-3を形成するモノマーとしては、下記式a7’-3で表される化合物がより好ましく例示できる。式a7’-3におけるR13及びyは、前記式a7-3におけるR13及びyとそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。ポリエーテル構造を有する構成単位a7-4成分Aは、現像性の観点から、ポリエーテル構造を有する構成単位a7-4を有することが好ましい。ポリエーテル構造を有する構成単位a7-4としては、下記式a7-4-1又は式a7-4-2で表される構成単位であることが好ましい。式中、R14は水素原子又はメチル基を表し、R15は水素原子、炭素数1~12のアルキル基又はフェニル基を表し、Xは単結合又は二価の連結基を表し、m及びnはそれぞれ独立に、0~50の整数を表す。ただし、mとnとが共に0となることはない。前記式a7-4-1及び前記式a7-4-2におけるR14は、重合時における各モノマーの重合速度の均一性の観点から、メチル基が好ましい。前記式a7-4-1及び前記式a7-4-2におけるR15は、炭素数1~8のアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、炭素数1~4のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが更に好ましい。また、前記R15におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。前記式a7-4-1及び前記式a7-4-2におけるXは、単結合又は炭素数1~50の二価の連結基であることが好ましく、単結合又は炭素数1~20のアルキレン基であることがより好ましく、単結合であることが更に好ましい。前記式a7-4-1及び前記式a7-4-2におけるm及びnはそれぞれ独立に、0~40の整数であることが好ましく、0~20の整数であることがより好ましい。また、前記式a7-4-1及び前記式a7-4-2における-C3H6O-は、-CHCH3CH2O-又は-CH2CHCH3O-であることが好ましい。前記ポリエーテル構造を有する構成単位a7-4を形成するモノマーとしては、下記式a7’-4-1又は式a7’-4-2で表される化合物がより好ましく例示できる。式a7’-4-1及び式a7’-4-2におけるR14、R15、X、m及びnは、前記式a7’-4-1及び式a7’-4-2におけるR14、R15、X、m及びnとそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。カルボキシ基を有する構成単位a7-5成分Aは、カルボキシ基を有する構成単位a7-5を有することが好ましい。前記カルボキシ基を有する構成単位a7-5を形成するモノマーとしては、例えば、メタアクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等が挙げられる。これらの中でも、メタアクリル酸が好ましく、メタクリル酸が特に好ましい。また、カルボキシ基を有する構成単位a7-5としては、下記式a7-5-1又は式a7-5-2で表される構成単位であることが好ましく、下記式a7-5-1で表される構成単位であることが特に好ましい。これら構成単位a7は、成分A中に、1種単独で有していても、2種以上を有していてもよい。成分Aを構成する全モノマー単位中、構成単位a7を形成するモノマー単位の含有率は、0~50モルが好ましく、0~20モルがより好ましく、0~10モルが更に好ましい。また、成分AのゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCで測定したポリスチレン換算重量平均分子量Mwは、2,000~100,000であることが好ましく、3,000~50,000がより好ましく、4,000~30,000が特に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、成分Aを1種単独又は2種類以上を組み合わせて含有することができる。本発明の感光性樹脂組成物中における成分Aの含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、20~99重量であることが好ましく、40~97重量であることがより好ましく、60~95重量であることが更に好ましい。成分Aの含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となる。なお、感光性樹脂組成物の固形分量とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量を表す。なお、本発明の感光性樹脂組成物は、本発明の効果を妨げない範囲で、成分A以外の樹脂を併用してもよい。ただし、成分A以外の樹脂の含有量は、現像性の観点から成分Aの含有量より少ない方が好ましい。成分B発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分B発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤単に光酸発生剤ともいう。を含有する。本発明で使用される光酸発生剤としては、波長300nm以上、好ましくは波長300~450nmの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に制限されるものではない。また、波長300nm以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長300nm以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。本発明で使用される発生酸の酸解離定数pKaが4以下である光酸発生剤としては、発生酸のpKaが3以下である光酸発生剤が好ましい。なお、pKaについては、公知の測定方法、公知の算出方法、及び/又は、文献値等により値を求めることができる。発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤の例として、トリクロロメチル-s-トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、絶縁性の観点から、オキシムスルホネート化合物を用いることが好ましい。これら光酸発生剤は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。これらの具体例としては、以下が例示できる。トリクロロメチル-s-トリアジン類として、2-3-クロロフェニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシフェニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メチルチオフェニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシ-β-スチリルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-ピペロニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-フラン-2-イルエテニル]ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-5-メチルフラン-2-イルエテニル]ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニルエテニル]ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、又は、2-4-メトキシナフチルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン等;ジアリールヨードニウム塩類として、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、フェニル-4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、又は、フェニル-4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムp-トルエンスルホナート等;トリアリールスルホニウム塩類として、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、又は、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート等;第四級アンモニウム塩類として、テトラメチルアンモニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリスp-クロロフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス3-トリフルオロメチルフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリスp-クロロフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス3-トリフルオロメチルフェニルボレート等;ジアゾメタン誘導体として、ビスシクロヘキシルスルホニルジアゾメタン、ビスtブチルスルホニルジアゾメタン、ビスp-トルエンスルホニルジアゾメタン等;イミドスルホネート誘導体として、トリフルオロメチルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]-ヘプト-5-エン-ジカルボキシイミド、スクシンイミドトリフルオロメチルスルホネート、フタルイミドトリフルオロメチルスルホネート、N-ヒドロキシナフタルイミドメタンスルホネート、N-ヒドロキシ-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボキシイミドプロパンスルホネート等;オキシムスルホネート化合物として、以下に示す化合物。本発明の感光性樹脂組成物は、成分B光酸発生剤として、下記式B-0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物を含むことが好ましい。なお、波線部分は、他の化学構造との結合位置を表す。式中、波線部分は他の構造との結合位置を表す。前記式B-0で表されるオキシムスルホネート化合物としては、下記式B-1で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。式中、RB4は水素原子又はメチル基を表し、RB5は炭素数1~8のアルキル基、p-トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。前記式B-1におけるRB4は、メチル基であることが好ましい。前記式B-1のRB5における炭素数1~8のアルキル基、及び、ノナフルオロブチル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。また、前記RB5におけるアルキル基の炭素数は、1~4であることが好ましく、1~3であることがより好ましい。また、前記RB5におけるカンホリルcamphoryl基と硫黄原子との結合位置は、特に制限はないが、10位であることが好ましい。すなわち、前記カンホリル基は、10-カンホリル基であることが好ましい。前記式B-1におけるRB5は、メチル基、n-プロピル基、n-オクチル基、p-トルイル基又はカンホリル基が好ましく、n-プロピル基、n-オクチル基、p-トルイル基又はカンホリル基であることがより好ましく、n-プロピル基又はp-トルイル基であることが更に好ましい。また、前記式B-0で表されるオキシムスルホネート化合物としては、下記式B-2で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。式中、RB1は水素原子、メチル基又はメトキシ基を表し、RB2は炭素数1~8のアルキル基、p-トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。前記式B-2におけるRB1は、水素原子であることが好ましい。前記式B-2におけるRB2は、メチル基、n-プロピル基、n-オクチル基又はp-トルイル基、カンホリル基又はフェニル基であることが好ましく、メチル基、n-プロピル基、n-オクチル基、p-トルイル基又はカンホリル基であることがより好ましい。前記RB2におけるノナフルオロブチル基、炭素数1~8のアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。また、前記RB2におけるカンホリルcamphoryl基の硫黄原子との結合位置は、特に制限はないが、10位であることが好ましい。すなわち、前記カンホリル基は、10-カンホリル基であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物における成分B光酸発生剤の含有量は、成分A100重量部に対して、0.1~10重量部であることが好ましく、0.2~10重量部であることがより好ましく、0.5~7重量部であることが更に好ましい。成分C溶剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分C溶剤を含有する。本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分である成分A及び成分B、並びに、更に後述の任意成分を、成分C溶剤に溶解した溶液として調製されることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。更に、本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、例えば、特開2009-258722号公報の段落0074に記載の溶剤が挙げられる。これら溶剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明に用いることができる溶剤は、1種単独又は2種を併用することが好ましく、2種を併用することがより好ましく、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類とジエチレングリコールジアルキルエーテル類とを併用することが更に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物における成分Cの含有量は、成分A100重量部に対し、50~3,000重量部であることが好ましく、100~2,000重量部であることがより好ましく、150~1,500重量部であることが更に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、上記の成分A~成分Cを必須成分として、その他、任意成分を含有していてもよい。任意の成分としては、成分D増感剤、成分E塩基性化合物、成分F架橋剤、成分G密着改良剤、成分H界面活性剤、成分I現像促進剤、成分J酸化防止剤、成分K可塑剤、成分L熱ラジカル発生剤、成分M熱酸発生剤、成分N酸増殖剤等が挙げられる。本発明で使用できる添加剤はこれらに限定されるものではなく、当該分野で公知の種々の添加剤を用いることができる。成分D増感剤本発明の感光性樹脂組成物は、前述の成分Bとの組み合わせにおいて、その分解を促進し、感度を向上させるために、成分D増感剤を含有することが好ましい。増感剤としては、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となる光増感剤を好ましく例示できる。電子励起状態となった増感剤は、成分B等の光酸発生剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより光酸発生剤は化学変化を起こして分解し、酸を生成する。好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ350nmから450nm域に吸収波長を有する化合物を挙げることができる。多核芳香族類例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン、キサンテン類例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル、キサントン類例えば、キサントン、チオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、シアニン類例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン、メロシアニン類例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン、ローダシアニン類、オキソノール類、チアジン類例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー、アクリジン類例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン、アクリドン類例えば、アクリドン、10-ブチル-2-クロロアクリドン、アントラキノン類例えば、アントラキノン、スクアリウム類例えば、スクアリウム、スチリル類、ベーススチリル類、クマリン類例えば、7-ジエチルアミノ4-メチルクマリン。これら増感剤の中でも、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となり、光酸発生剤への電子移動作用を有する増感剤が好ましく、特に多核芳香族類、アクリドン類、クマリン類、ベーススチリル類が好ましく、アントラセン類が最も好ましい。増感剤は、市販のものを用いてもよいし、公知の合成方法により合成してもよい。増感剤の添加量は、感度、透明性の両立の観点から、成分B100重量部に対して、20~300重量部が好ましく、30~200重量部が特に好ましい。成分E塩基性化合物本発明の感光性樹脂組成物は、成分E塩基性化合物を含有することが好ましい。成分E塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、及び、カルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。脂肪族アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、トリ-n-プロピルアミン、ジ-n-ペンチルアミン、トリ-n-ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミンなどが挙げられる。芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、ベンジルアミン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。複素環式アミンとしては、例えば、ピリジン、2-メチルピリジン、4-メチルピリジン、2-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2-フェニルピリジン、4-フェニルピリジン、N-メチル-4-フェニルピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、4-メチルイミダゾール、2-フェニルベンズイミダゾール、2,4,5-トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、8-オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、4-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン、1,8-ジアザビシクロ[5.3.0]-7-ウンデセンなどが挙げられる。第四級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ヘキシルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。カルボン酸の第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ-n-ブチルアンモニウムアセテート、テトラ-n-ブチルアンモニウムベンゾエートなどが挙げられる。本発明に用いることができる塩基性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。本発明の感光性樹脂組成物における成分E塩基性化合物の含有量は、PED特性と感度との両立の観点から、成分A100重量部に対して、0.001~1重量部であることが好ましく、0.002~0.2重量部であることがより好ましい。成分F架橋剤本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じ、成分F架橋剤を含有することが好ましい。成分F架橋剤を添加することにより、硬化膜をより強固な膜とすることができる。成分F架橋剤としては、例えば、以下に述べる分子内に2個以上のエポキシ基若しくはオキセタニル基を有する化合物、アルコキシメチル基含有架橋剤、又は、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を添加することができる。これらの架橋剤の中で、特に好ましいものは、分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物である。<分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物>分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。これらは市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010以上、ジャパンエポキシレジン株製、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055以上、DIC株製等であり、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010以上、ジャパンエポキシレジン株製、EPICLON830、EPICLON835以上、DIC株製、LCE-21、RE-602S以上、日本化薬株製等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、JER152、JER154、JER157S70、JER157S65以上、ジャパンエポキシレジン株製、EPICLONN-740、EPICLONN-740、EPICLONN-770、EPICLONN-775以上、DIC株製等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、EPICLONN-660、EPICLONN-665、EPICLONN-670、EPICLONN-673、EPICLONN-680、EPICLONN-690、EPICLONN-695以上、DIC株製、EOCN-1020以上、日本化薬株製等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ADEKARESINEP-4080S、同EP-4085S、同EP-4088S以上、株ADEKA製、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、EHPE3150、EPOLEADPB3600、同PB4700以上、ダイセル化学工業株製等である。その他にも、ADEKARESINEP-4000S、同EP-4003S、同EP-4010S、同EP-4011S以上、株ADEKA製、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502以上、株ADEKA製等が挙げられる。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中で好ましいものとしては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、及び、フェノールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。特にビスフェノールA型エポキシ樹脂が好ましい。分子内に2個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンOXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX以上、東亞合成株製を用いることができる。また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することができる。分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物の感光性樹脂組成物への添加量は、成分A100重量部に対し、0.1~50重量部が好ましく、0.5~30重量部がより好ましく、1~10重量部が更に好ましい。<アルコキシメチル基含有架橋剤>アルコキシメチル基含有架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル及びアルコキシメチル化尿素等が好ましい。これらは、それぞれメチロール化メラミン、メチロール化ベンゾグアナミン、メチロール化グリコールウリル、又は、メチロール化尿素のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等を挙げることができるが、アウトガスの発生量の観点から、特にメトキシメチル基が好ましい。これらのアルコキシメチル基含有架橋剤のうち、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリルが好ましい架橋剤として挙げられ、透明性の観点から、アルコキシメチル化グリコールウリルが特に好ましい。これらアルコキシメチル基含有架橋剤は、市販品として入手可能であり、例えば、サイメル300、301、303、370、325、327、701、266、267、238、1141、272、202、1156、1158、1123、1170、1174、UFR65、300以上、三井サイアナミッド株製、ニカラックMX-750、-032、-706、-708、-40、-31、-270、-280、-290、ニカラックMS-11、ニカラックMW-30HM、-100LM、-390、以上、株三和ケミカル製などを好ましく使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物にアルコキシメチル基含有架橋剤を用いる場合のアルコキシメチル基含有架橋剤の添加量は、成分A100重量部に対して、0.05~50重量部であることが好ましく、0.5~10重量部であることがより好ましい。この範囲で添加することにより、現像時の好ましいアルカリ溶解性と、硬化後の膜の優れた耐溶剤性が得られる。<少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物>少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、単官能メタアクリレート、2官能メタアクリレート、3官能以上のメタアクリレートなどのメタアクリレート化合物を好適に用いることができる。単官能メタアクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、カルビトールメタアクリレート、イソボロニルメタアクリレート、3-メトキシブチルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。2官能メタアクリレートとしては、例えば、エチレングリコールメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。3官能以上のメタアクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメタアクリロイロキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどが挙げられる。これらの少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。本発明の感光性樹脂組成物における少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用割合は、成分A100重量部に対して、50重量部以下であることが好ましく、30重量部以下であることがより好ましい。このような割合で少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有させることにより、本発明の感光性樹脂組成物から得られる硬化膜の耐熱性及び表面硬度等を向上させることができる。少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を加える場合には、後述の熱ラジカル発生剤を添加することが好ましい。成分G密着改良剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分G密着改良剤を含有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる成分G密着改良剤は、基板となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物である。具体的には、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。本発明で使用される成分G密着改良剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリアコキシシラン、γ-グリシドキシプロピルジアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルジアルコキシシラン、γ-クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。これらのうち、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、及び、γ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランが更に好ましい。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらは基板との密着性の向上に有効であるとともに、基板とのテーパ角の調整にも有効である。本発明の感光性樹脂組成物における成分G密着改良剤の含有量は、成分A100重量部に対して、0.1~20重量部が好ましく、0.5~10重量部がより好ましい。成分H界面活性剤フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤など本発明の感光性樹脂組成物は、成分H界面活性剤フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などを含有することが好ましい。界面活性剤としては、下記に示す構成単位Aと構成単位Bとを含む共重合体3を好ましい例として挙げることができる。該共重合体の重量平均分子量Mwは、1,000以上10,000以下であることが好ましく、1,500以上5,000以下であることがより好ましい。重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCで測定されるポリスチレン換算の値である。共重合体3中、R21及びR23はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R22は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R24は水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは重合比を表す重量百分率であり、pは10重量以上80重量以下の数値を表し、qは20重量以上90重量以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、nは1以上10以下の整数を表す。構成単位B中におけるLは、下記式4で表されるアルキレン基であることが好ましい。式4中、R25は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数1以上3以下のアルキル基が好ましく、炭素数2又は3のアルキル基がより好ましい。また、pとqとの和pqは、pq=100、すなわち、100重量であることが好ましい。フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤の例として具体的には、特開昭62-36663号、特開昭61-226746号、特開昭61-226745号、特開昭62-170950号、特開昭63-34540号、特開平7-230165号、特開平8-62834号、特開平9-54432号、特開平9-5988号、特開2001-330953号等の各公報記載の界面活性剤を挙げることができ、市販の界面活性剤を用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えば、エフトップEF301、EF303、以上、三菱マテリアル電子化成株製、フロラードFC430、431以上、住友スリーエム株製、メガファックF171、F173、F176、F189、R08以上、DIC株製、サーフロンS-382、SC101、102、103、104、105、106以上、旭硝子株製、PolyFoxシリーズOMNOVA社製、KF-6012信越化学工業株製等のフッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤を挙げることができる。また、ポリシロキサンポリマーKP-341信越化学工業株製もシリコーン系界面活性剤として用いることができる。これら界面活性剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。また、フッ素系界面活性剤とシリコーン系界面活性剤とを併用してもよい。本発明の感光性樹脂組成物における成分H界面活性剤フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの添加量は、成分A100重量部に対して、10重量部以下であることが好ましく、0.01~10重量部であることがより好ましく、0.01~1重量部であることが更に好ましい。成分I現像促進剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分I現像促進剤を含有することが好ましい。成分I現像促進剤としては、現像促進効果のある任意の化合物を使用できるが、カルボキシ基、フェノール性水酸基、及び、アルキレンオキシ基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構造を有する化合物であることが好ましく、カルボキシ基又はフェノール性水酸基を有する化合物がより好ましく、フェノール性水酸基を有する化合物が特に好ましい。また、成分I現像促進剤の分子量は、100~2,000が好ましく、150~1,500が更に好ましく、150~1,000が特に好ましい。現像促進剤の例として、アルキレンオキシ基を有するものとしては、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールのモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールのジメチルエーテル、ポリエチレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールジグリセリルエステル、ポリブチレングリコール、ポリエチレングリコール-ビスフェノールAエーテル、ポリプロピレングリコール-ビスフェノールAエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエステル、及び、特開平9-222724号公報に記載の化合物等を挙げることができる。カルボキシ基を有するものとしては、特開2000-66406号公報、特開平9-6001号公報、特開平10-20501号公報、特開平11-338150号公報等に記載の化合物を挙げることができる。フェノール性水酸基を有するものとしては、特開2005-346024号公報、特開平10-133366号公報、特開平9-194415号公報、特開平9-222724号公報、特開平11-171810号公報、特開2007-121766号公報、特開平9-297396号公報、特開2003-43679号公報等に記載の化合物を挙げることができる。これらの中でも、ベンゼン環数が2~10個のフェノール化合物が好適であり、ベンゼン環数が2~5個のフェノール化合物が更に好適である。特に好ましいものとしては、特開平10-133366号公報に溶解促進剤として開示されているフェノール性化合物を挙げることができる。成分I現像促進剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における成分I現像促進剤の添加量は、感度と残膜率の観点から、成分A100重量部に対し、0.1~30重量部が好ましく、0.2~20重量部がより好ましく、0.5~10重量部であることが特に好ましい。成分J酸化防止剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分J酸化防止剤を含有してもよい。成分J酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。成分J酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤が好ましい。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブAO-60、アデカスタブAO-80以上、株ADEKA製、イルガノックス1098チバジャパン株製が挙げられる。成分J酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~6重量であることが好ましく、0.2~5重量であることがより好ましく、0.5~4重量であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、かつ、パターン形成時の感度も良好となる。また、酸化防止剤以外の添加剤として、高分子添加剤の新展開株日刊工業新聞社に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。成分K可塑剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分K可塑剤を含有してもよい。成分K可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリン、ジメチルグリセリンフタレート、酒石酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリアセチルグリセリンなどが挙げられる。本発明の感光性樹脂組成物における成分K可塑剤の含有量は、成分A100重量部に対して、0.1~30重量部であることが好ましく、1~10重量部であることがより好ましい。成分L熱ラジカル発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分L熱ラジカル発生剤を含んでいてもよく、前述の少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物のようなエチレン性不飽和化合物を含有する場合、成分L熱ラジカル発生剤を含有することが好ましい。本発明における熱ラジカル発生剤としては、公知の熱ラジカル発生剤を用いることができる。熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、重合性化合物の重合反応を開始又は促進させる化合物である。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する場合がある。好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物等が挙げられる。成分L熱ラジカル発生剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における成分L熱ラジカル発生剤の含有量は、膜物性向上の観点から、成分A100重量部に対し、0.01~50重量部が好ましく、0.1~20重量部がより好ましく、0.5~10重量部であることが最も好ましい。成分M熱酸発生剤本発明では、低温硬化での膜物性等を改良するために、成分M熱酸発生剤を使用してもよい。熱酸発生剤とは、熱により酸が発生する化合物であり、通常、熱分解点が130°C~250°C、好ましくは150°C~220°Cの範囲の化合物であり、例えば、加熱によりスルホン酸、カルボン酸、ジスルホニルイミドなどの低求核性の酸を発生する化合物である。発生酸としてはpKaが2以下と強い、スルホン酸や電子求引基の置換したアルキルカルボン酸又はアリールカルボン酸、同じく電子求引基の置換したジスルホニルイミドなどが好ましい。電子求引基としてはフッ素原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。また、本発明においては露光光の照射によって実質的に酸を発生せず、熱によって酸を発生するスルホン酸エステルを使用することも好ましい。露光光の照射によって実質的に酸を発生していないことは、化合物の露光前後でのIRスペクトル、NMRスペクトル測定により、スペクトルに変化がないことで判定することができる。熱酸発生剤の分子量は、230~1,000であることが好ましく、230~800であることがより好ましい。本発明で使用可能なスルホン酸エステルは、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いてもよい。スルホン酸エステルは、例えば、塩基性条件下、スルホニルクロリド乃至はスルホン酸無水物を対応する多価アルコールと反応させることにより合成することができる。熱酸発生剤の感光性樹脂組成物への含有量は、成分A100重量部に対し、0.5~20重量部が好ましく、1~15重量部がより好ましい。成分N酸増殖剤本発明の感光性樹脂組成物は、感度向上を目的に、成分N酸増殖剤を用いることができる。本発明において用いる酸増殖剤は、酸触媒反応によって更に酸を発生して反応系内の酸濃度を上昇させることができる化合物であり、酸が存在しない状態では安定に存在する化合物である。このような化合物は、1回の反応で1つ以上の酸が増えるため、反応の進行に伴って加速的に反応が進むが、発生した酸自体が自己分解を誘起するため、ここで発生する酸の強度は、酸解離定数、pKaとして3以下であることが好ましく、2以下であることが特に好ましい。酸増殖剤の具体例としては、特開平10-1508号公報の段落0203~0223、特開平10-282642号公報の段落0016~0055、及び、特表平9-512498号公報第39頁12行目~第47頁2行目に記載の化合物を挙げることができる。本発明で用いることができる酸増殖剤としては、酸発生剤から発生した酸によって分解し、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、フェニルホスホン酸などのpKaが3以下の酸を発生させる化合物を挙げることができる。酸増殖剤の感光性樹脂組成物への含有量は、成分B100重量部に対して、露光部と未露光部の溶解コントラストの観点から、10~1,000重量部とすることが好ましく、20~500重量部とすることがより好ましい。硬化膜の形成方法次に、本発明における硬化膜の形成方法を説明する。本発明における硬化膜の形成方法は、本発明の感光性樹脂組成物を用いて膜を作製し、光及び熱の少なくとも一方を付与して硬化膜を形成する方法であれば、特に制限はないが、以下の1~5の工程を含むことが好ましい。1本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程2塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程3溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程4露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程5現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程以下に各工程を順に説明する。1の塗布工程では、本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とする。2の溶剤除去工程では、塗布された上記の膜から、減圧バキューム及び/又は加熱により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させる。3の露光工程では、得られた塗膜に波長300nm以上450nm以下の活性光線を照射する。この工程では、成分Bが分解し酸が発生する。発生した酸の触媒作用により、成分A中に含まれる構成単位a1中の酸分解性基が分解されて、カルボキシ基が生成する。酸触媒の生成した領域において、上記の分解反応を加速させるために、必要に応じて、PEB露光後加熱処理を行うことができる。PEBにより、酸分解性基からのカルボキシ基生成を促進させることができる。PEBを行う場合の温度は、30°C以上130°C以下であることが好ましく、40°C以上110°C以下がより好ましく、50°C以上90°C以下が特に好ましい。4の現像工程では、遊離したカルボキシ基を有する成分Aを、アルカリ性現像液を用いて現像する。アルカリ性現像液に溶解しやすいカルボキシ基を有する樹脂組成物を含む露光部領域を除去することにより、ポジ画像が形成される。5のポストベーク工程において、得られたポジ画像を加熱することにより、構成単位a1中の酸分解性基を熱分解しカルボキシ基を生成させ、エポキシ基及び/又はオキセタニル基と架橋させることにより、硬化膜を形成することができる。この加熱は、150°C以上の高温に加熱することが好ましく、180~250°Cに加熱することがより好ましく、200~250°Cに加熱することが特に好ましい。加熱時間は、加熱温度などにより適宜設定できるが、10~90分の範囲内とすることが好ましい。ポストベーク工程の前に活性光線、好ましくは紫外線を、現像パターンに全面照射する工程を加えると、活性光線照射により発生する酸により架橋反応を促進することができる。次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法を具体的に説明する。<感光性樹脂組成物の調製方法>成分A、成分B、及び、成分C溶剤の必須成分、並びに、必要に応じて成分D~成分N等の任意成分を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解して感光性樹脂組成物を調製する。このように調製した感光性樹脂組成物は、孔径0.1μm程度のフィルタ等を用いてろ過した後に、使用に供することもできる。<塗布工程及び溶剤除去工程>感光性樹脂組成物を、所定の基板に塗布し、減圧及び/又は加熱プリベークにより溶剤を除去することにより、所望の乾燥塗膜を形成することができる。前記の基板としては、例えば液晶表示装置の製造においては、偏光板、更に必要に応じて、ブラックマトリックス層、カラーフィルタ層を設け、更に透明導電回路層を設けたガラス板などが例示できる。基板への塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法等の方法を用いることができる。中でもスリットコート法が大型基板に適するという観点で好ましい。ここで大型基板とは、各辺が1m以上の大きさの基板をいう。また、2溶剤除去工程の加熱条件は、未露光部における成分A中の構成単位a1において酸分解性基が分解して、かつ、成分Aをアルカリ現像液に可溶性としない範囲であり、各成分の種類や配合比によっても異なるが、70~120°Cで30~300秒間程度であることが好ましい。<露光工程>3露光工程では、乾燥塗膜を設けた基板に所定のパターンの活性光線を照射する。露光はマスクを介して行ってもよいし、所定のパターンを直接描画してもよい。波長300nm以上450nm以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。露光工程の後、必要に応じてPEBを行う。活性光線による露光には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、LED光源、ケミカルランプ、レーザ発生装置などを用いることができる。水銀灯を用いる場合にはg線436nm、i線365nm、h線405nmなどの波長を有する活性光線が好ましく使用できる。水銀灯はレーザに比べると、大面積の露光に適するという点で好ましい。レーザを用いる場合には固体YAGレーザでは343nm、355nmが用いられ、エキシマレーザでは351nmXeFが用いられ、更に半導体レーザでは375nm、405nmが用いられる。この中でも安定性、コスト等の点から355nm、405nmがより好ましい。レーザは1回又は複数回に分けて、塗膜に照射することができる。レーザの1パルス当たりのエネルギー密度は0.1mJ/cm2以上10,000mJ/cm2以下であることが好ましい。塗膜を十分に硬化させるには、0.3mJ/cm2以上がより好ましく、0.5mJ/cm2以上が最も好ましく、アブレーション現象により塗膜を分解させないようにするには、1,000mJ/cm2以下がより好ましく、100mJ/cm2以下が最も好ましい。また、パルス幅は、0.1nsec以上30,000nsec以下であることが好ましい。アブレーション現象により色塗膜を分解させないようにするには、0.5nsec以上がより好ましく、1nsec以上が最も好ましく、スキャン露光の際に合わせ精度を向上させるには、1,000nsec以下がより好ましく、50nsec以下が最も好ましい。更に、レーザの周波数は1Hz以上50,000Hz以下であることが好ましい。露光処理時間を短くするには、10Hz以上がより好ましく、100Hz以上が最も好ましく、スキャン露光の際に合わせ精度を向上させるには、10,000Hz以下がより好ましく、1,000Hz以下が最も好ましい。レーザは水銀灯と比べると、焦点を絞ることが容易であり、露光工程でのパターン形成のマスクが不要でコストダウンできるという点で好ましい。本発明に使用可能な露光装置としては、特に制限はないが、市販されているものとしては、Callisto株ブイテクノロジー製やAEGIS株ブイテクノロジー製やDF2200G大日本スクリーン製造株製などが使用可能である。また、上記以外の装置も好適に用いられる。また、必要に応じて長波長カットフィルタ、短波長カットフィルタ、バンドパスフィルタのような分光フィルタを通して照射光を調整することもできる。<現像工程>4現像工程では、塩基性現像液を用いて露光部領域を除去して画像パターンを形成する。塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類;ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。現像液のpHは、10.0~14.0であることが好ましい。現像時間は、30~180秒間であることが好ましく、また、現像の手法は液盛り法、ディップ法、シャワー法等のいずれでもよい。現像後は、流水洗浄を10~90秒間行い、所望のパターンを形成させることができる。<ポストベーク工程架橋工程>現像により得られた未露光領域に対応するパターンについて、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温度、例えば、180~250°Cで所定の時間、例えばホットプレート上なら5~60分間、オーブンならば30~90分間、加熱処理をすることにより、成分A中の酸分解性基を分解して、カルボキシ基を発生させ、成分A中のエポキシ基及び/又はオキセタニル基である架橋性基と反応して、架橋させることにより、耐熱性、硬度等に優れた保護膜や層間絶縁膜を形成することができる。また、加熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより透明性を向上させることもできる。なお、加熱処理に先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により再露光した後、ポストベークすること再露光/ポストベークにより未露光部分に存在する成分Bから酸を発生させ、架橋を促進する触媒として機能させることが好ましい。すなわち、本発明の硬化膜の形成方法は、現像工程とポストベーク工程との間に、活性光線により再露光する再露光工程を含むことが好ましい。再露光工程における露光は、前記露光工程と同様の手段により行えばよいが、前記再露光工程では、基板の本発明の感光性樹脂組成物により膜が形成された側に対し、全面露光を行うことが好ましい。再露光工程の露光量としては、100~1,000mJ/cm2であることが好ましい。本発明の有機ELエレクトロルミネッセンス表示装置や液晶表示装置としては、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機EL表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。また、本発明の感光性樹脂組成物及び本発明の硬化膜は、前記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜や層間絶縁膜以外にも、カラーフィルタの保護膜や、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルタ上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。図1は、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜を絶縁膜、平坦化膜として適用した有機EL表示装置の一例の構成を示す模式的断面図である。図1に示す有機EL表示装置は、ボトムエミッション型の有機EL表示装置である。図1中、ガラス基板6上には、ボトムゲート型のTFT1を形成され、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3が形成されている。絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmが絶縁膜3上に形成されている。配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。更に、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上に平坦化膜4が形成されている。平坦化膜4上には、ボトムエミッション型の有機EL素子が形成されている。すなわち、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5が、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成されている。第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8が形成されており、この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。更に、図1には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られる。図2は、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜を適用した液晶表示装置の一例を示す構成を示す模式的断面図である。図2に示す液晶表示装置は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置である。図2中、液晶表示装置10は、背面にバックライトユニット12を有する液晶パネルであって、前記液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた2枚のガラス基板14,15の間に配置されたすべての画素に対応するTFT16の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜17中に形成されたコンタクトホール18を通して、画素電極を形成するITO透明電極19が配線されている。ITO透明電極19の上には、液晶20の層とブラックマトリックスを配置したRGBカラーフィルタ22が設けられている。次に、実施例により本発明を更に具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部、は重量基準である。<合成例1>冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル200重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸1-エトキシエチル61.5重量部、スチレン20.1重量部、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル27.6重量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イル32.1重量部、及び、α-メチルスチレンダイマー3重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体A-1を含む重合体溶液を得た。共重合体A-1のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは、12,000であった。合成された共重合体の組成比モルを表1に示す。<合成例2~34>使用したモノマー及びその量を変更した以外は、合成例1と同様にして、表1に示す共重合体A-2~A-28及びa-1~a-6をそれぞれ合成した。合成された各共重合体の組成比モル及びMwは、表1に示した通りである。表1中の略号は以下の通りである。MAEVE:メタクリル酸1-エトキシエチルMACHOE:1-シクロヘキシルオキシエチルメタクリレートMATHF:テトラヒドロフラン-2-イルメタクリレートMATHP:テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イルメタクリレートp-VBGE:p-ビニルベンジルグリシジルエーテルSt:スチレンα-MeSt:α-メチルスチレンDCPM:メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルGMA:グリシジルメタクリレートOXE-30:メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル大阪有機化学工業株製THFFMA:テトラヒドロフルフリルメタクリレートHEMA:2-エチルヘキシルメタクリレートHEA:2-エチルヘキシルアクリレートHBMA:2-ヒドロキシ-2-メチルプロピルメタクリレートHBA:2-ヒドロキシ-2-メチルプロピルアクリレートMAA:メタクリル酸MMA:メチルメタクリレートBzMA:ベンジルメタクリレートn-HMA:n-ヘキシルメタクリレート実施例1~36及び比較例1~9表2に記載した量固形分を、固形分濃度が20重量となるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテル:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート=1:1重量比の混合溶剤に溶解させた後、孔径0.2μmのメンブランフィルタでろ過して、実施例1~36及び比較例1~9の感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。なお、表2における各成分の量の単位は、重量部である。上記表2中、各種添加剤の略号は下記の通りである。なお、B-1~B-4の発生酸のpKaは4以下である。B-1:CGI-1397BASF社製B-2:下記構造の化合物特表2002-528451号公報の段落0108に記載の方法に従って合成した。B-3:PAI-1001みどり化学株製B-4:4,7-ジ-n-ブトキシ-1-ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネートb-1:4,4’-{1-{4-[1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル]フェニル}エチリデン}ビスフェノール1.0モル当量と1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド2.0モル当量との縮合物発生酸のpKa=4.5D-1:DBA9,10-ジブトキシアントラセン、川崎化成工業株製E-1:1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-5-ノネン東京化成工業株製F-1:JER150S65三菱化学株製G-1:3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランKBM-403、信越化学工業株製H-1:下記構造の化合物<体積抵抗率の評価>アルミニウム基板上に感光性樹脂組成物溶液を塗布した後、90°Cにて2分間ホットプレート上でプリベークして膜厚6.0μmの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物を、キャノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプで積算照射量が300mJ/cm2照度:20mW/cm2となるように露光し、この基板をオーブンにて220°Cで1時間加熱することにより、硬化膜を得た。得られた硬化膜をULTRAHIGHRESISTANCEMETERR8252株エーディーシー製にて、体積抵抗率を測定した。測定温度は室温25°C、印加電圧は100Vに設定した。体積抵抗率の値を表3に示す。体積抵抗率の値が高いほど絶縁膜の電気的安定性が高く、良好であり、A及びBが実用上問題のないレベルである。A:2.0×1016Ωcm以上B:1.0×1016Ωcm以上2.0×1016Ωcm未満C:1.0×1016Ωcm未満<絶縁破壊電圧の評価>ベアウエハN型低抵抗SUMCO社製上に、感光性樹脂組成物溶液をスリット塗布した後、90°Cにて2分間ホットプレート上でプリベークして膜厚3.0μmの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物を、キヤノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプで積算照射量が300mJ/cm2照度:20mW/cm2となるように露光し、この基板をオーブンにて220°Cで1時間加熱することにより、硬化膜を得た。この硬化膜について、CVmap92AFourDimensionsInc.社製を用い、絶縁破壊電圧を測定した。絶縁破壊電圧の値を表3に示す。絶縁破壊電圧の値が高いほど絶縁膜の電気的安定性が高く、良好であり、A及びBが実用上問題のないレベルである。A:300V/μm以上B:100V/μm以上300V/μm未満C:100V/μm未満表3に示したように、本発明のポジ型感光性樹脂組成物によれば、体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高く、電気的安定性が高い硬化膜を得ることができることがわかった。<有機EL表示装置の作製>薄膜トランジスタTFTを用いた有機EL表示装置を以下の方法で作製した図1参照。ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3を形成した。次に、この絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmを絶縁膜3上に形成した。この配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。さらに、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上へ平坦化層4を形成した。絶縁膜3上への平坦化膜4の形成は、実施例1の感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク90°C×2分した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてi線365nmを30mJ/cm2照度20mW/cm2照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、230°Cで60分間の加熱処理を行った。該感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。さらに、配線2の平均段差は500nm、作製した平坦化膜4の膜厚は2,000nmであった。次に、得られた平坦化膜4上に、ボトムエミッション型の有機EL素子を形成した。まず、平坦化膜4上にITOからなる第一電極5を、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ITOエッチャントを用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液モノエタノールアミンとジメチルスルホキシドDMSOとの混合液を用いて該レジストパターンを剥離した。こうして得られた第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。次に、第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8を形成した。絶縁膜8には、実施例7の感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で形成した。この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。さらに、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成した。得られた上記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。以上のようにして、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続してなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し信頼性の高い有機EL表示装置であることが分かった。"