"アジポニトリルの製造方法であって、a1番目の反応ゾーン内で1,3-ブタジエンBDとシアン化水素HCNを含有して成る混合物の反応をゼロ価Niと1番目の燐含有配位子を含有して成る1番目の触媒の存在下で起こさせることで3-ペンテンニトリル3PNと2-メチル-3-ブテンニトリル2M3BNを含有して成る反応生成物を生じさせ、b段階aの2M3BNの少なくとも一部に異性化を2番目の反応ゾーン内でゼロ価Niと2番目の燐含有配位子を含有して成る2番目の触媒の存在下で受けさせることで3PNを含有して成る反応生成物を生じさせ、そしてc3番目の反応ゾーン内で段階bで得た3PNとシアン化水素HCNを含有して成る混合物の反応をゼロ価Niと3番目の燐含有配位子を含有して成る3番目の触媒の存在下およびルイス酸助触媒の存在下で起こさせることでアジポニトリルを含有して成る反応生成物を生じさせる、段階を含んで成り、かつ触媒を前記1番目、2番目および3番目の反応ゾーンの中に反応体および生成物と一緒に流し、C9モノニトリルが前記1番目の反応ゾーン内で副生成物として生じ、前記1番目の反応ゾーンから流れ出る1番目の触媒を1つ以上の蒸留段階で濃縮しそして少なくとも1つの触媒再循環流れとして前記1番目の反応ゾーンに再循環させ、前記1番目の反応ゾーンに再循環させる前記触媒再循環流れの一部と抽出用溶媒の接触を液体/液体抽出段階で起こさせることで溶媒相とラフィネート相を生じさせ、前記溶媒相に触媒が入っておりかつ前記ラフィネート相にC9モノニトリルが入っており、前記溶媒相に入っている触媒に対するC9モノニトリルの重量比の方が前記液体/液体抽出段階に導入した前記触媒再循環流れに入っている触媒に対するC9モノニトリルの重量比より低く、そして前記液体/液体抽出段階で得た前記溶媒相に由来する触媒を前記1番目の反応ゾーンまたは前記2番目の反応ゾーンまたは前記1番目と2番目両方の反応ゾーンに再循環させる、ことを含んで成る方法。前記触媒再循環流れを液体/液体抽出段階に導入する前の前記流れにゼロ価ニッケルを添加しない請求項1記載の方法。前記液体/液体抽出段階が前記触媒再循環流れの一部、抽出用溶媒およびジニトリルを液体/液体抽出ゾーンに導入しそして前記液体/液体抽出ゾーン内の液体を分離させて触媒を含有して成る溶媒相とジニトリルおよびC9モノニトリルを含有して成るラフィネート相を生じさせることを含んで成る請求項1記載の方法。前記液体/液体抽出ゾーンから出て来た前記溶媒相に蒸留を受けさせることで抽出用溶媒を除去しかつ抽出を受けた触媒流れを得て、それを前記1番目の反応ゾーンに再循環させる請求項3記載の方法。ゼロ価ニッケルを前記抽出を受けた触媒流れに添加しそしてその抽出を受けた触媒流れを前記1番目の反応ゾーンに再循環させる請求項4記載の方法。前記ラフィネート相に抽出用溶媒、ペンテンニトリル、ジニトリル、触媒分解生成物およびC9モノニトリルが入っており、ジニトリルを抽出用溶媒、ペンテンニトリル、触媒分解生成物およびC9モノニトリルから分離し、そしてその分離したジニトリルを前記液体/液体抽出段階に再循環させる、請求項3記載の方法。更に前記2番目の反応ゾーンZ2からC9モノニトリルの含有量が5000ppm未満、好適にはC9モノニトリルの含有量が2000ppm未満、最も好適にはC9モノニトリルの含有量が1000ppm未満の3PN含有流出物流れを回収することも含んで成る請求項1から6のいずれか記載の方法。前記3番目の反応ゾーンから得た反応生成物に入っている化学式C8H14C≡N2で表されるジニトリルの量が5000ppm未満、好適には2000ppm未満、最も好適には1000ppm未満である請求項7記載の方法。前記1番目の反応ゾーンの中に流す前記触媒の前記1番目の燐含有配位子が単座燐含有配位子であり、そして前記2番目の燐含有配位子が前記1番目の燐含有配位子と同じである、請求項1記載の方法。前記3番目の燐含有配位子が二座燐含有配位子である請求項9記載の方法。段階aの1番目の反応ゾーンから出て来た流出物に蒸留を受けさせることで少なくとも3つの流れを生じさせ、前記3つの流れの中の1つに3-ペンテンニトリルが豊富に存在し、前記3つの流れの中の1つにC9モノニトリルが豊富に存在し、前記3つの流れの中の1つに触媒が豊富に存在し、そしてC9モノニトリルが豊富に存在する前記流れに処理を受けさせることでC9モノニトリルを除去する、請求項1記載の方法。前記C9モノニトリルが豊富に存在する流れを液体/液体抽出段階に送り込んで溶媒相とラフィネート相を生じさせることで前記流れにC9モノニトリルを除去するための処理を受けさせ、そして前記C9モノニトリルの少なくとも一部が前記ラフィネート相の中に入り込む、請求項11記載の方法。前記ラフィネート相に入っているC9モノニトリルの少なくとも一部を蒸留で除去する請求項12記載の方法。段階aの1番目の反応ゾーンから出て来た流出物に蒸留を受けさせることで2M3BNが豊富に存在する流れと3-ペンテンニトリルおよびC9モノニトリルが豊富に存在する流れを包含する流れを生じさせ、そして3-ペンテンニトリルおよびC9モノニトリルが豊富に存在する前記流れに蒸留を受けさせることで前記3-ペンテンニトリルを前記C9モノニトリルから分離する、請求項11記載の方法。段階aの1番目の反応ゾーンから出て来た流出物に蒸留を受けさせることで2M3BNが豊富に存在する流れ、3-ペンテンニトリルが豊富に存在する流れおよびC9モノニトリルが豊富に存在する流れを包含する流れを生じさせ、2M3BNが豊富に存在する前記流れ、3-ペンテンニトリルが豊富に存在する前記流れおよびC9モノニトリルが豊富に存在する前記流れを単一の蒸留カラムから取り出し、そして2M3BNが豊富に存在する前記流れを上部流れとして取り出し、3-ペンテンニトリルが豊富に存在する前記流れを側流れとして取り出しそしてC9モノニトリルが豊富に存在する前記流れを下部流れとして取り出す、請求項14記載の方法。"