"マスクを保持するマスクホルダと、下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板を支持するチャックと、前記マスクホルダと前記チャックとを相対的に移動するステージとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、マスク及び基板の下地パターンに設けられた複数のアライメントマークへ照明光を照射する照明装置と、前記照明装置からの照明光が照射されたマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得装置と、各画像取得装置の焦点位置を移動する焦点位置移動機構と、各画像取得装置が出力した画像信号を処理して画像認識を行い、認識したアライメントマークの位置を検出する画像処理装置と、前記焦点位置移動機構を制御して各画像取得装置の焦点をマスクの下面及び基板の表面にそれぞれ合わせ、前記画像処理装置が検出したマスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置に基づき、前記ステージにより前記マスクホルダと前記チャックとを相対的に移動して、マスクと基板との位置合わせを行う制御手段とを備え、前記照明装置は、前記画像処理装置が基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際、基板に塗布されたフォトレジストを透過する波長の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射し、前記画像処理装置がマスクのアライメントマークの画像を認識する際、基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際よりも基板に塗布されたフォトレジストを透過しにくい波長の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射することを特徴とするプロキシミティ露光装置。前記照明装置は、前記画像処理装置が赤色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際、赤色を帯びたフォトレジストを透過する赤色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射し、前記画像処理装置がマスクのアライメントマークの画像を認識する際、赤色を帯びたフォトレジストを透過しにくい緑色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射することを特徴とする請求項1に記載のプロキシミティ露光装。前記照明装置は、前記画像処理装置が緑色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際、緑色を帯びたフォトレジストを透過する緑色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射し、前記画像処理装置がマスクのアライメントマークの画像を認識する際、緑色を帯びたフォトレジストを透過しにくい赤色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のプロキシミティ露光装置。前記照明装置は、前記画像処理装置が青色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際、青色を帯びたフォトレジストを透過する青色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射し、前記画像処理装置がマスクのアライメントマークの画像を認識する際、青色を帯びたフォトレジストを透過しにくい黄色乃至橙色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置。マスクを保持するマスクホルダと、下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板を支持するチャックと、マスクホルダとチャックとを相対的に移動するステージとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置のアライメント方法であって、マスク及び基板の下地パターンに設けられた複数のアライメントマークへ照明光を照射する照明装置と、照明装置からの照明光が照射されたマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得装置と、各画像取得装置の焦点位置を移動する焦点位置移動機構と、各画像取得装置が出力した画像信号を処理して画像認識を行い、認識したアライメントマークの位置を検出する画像処理装置とを設け、照明装置から、基板に塗布されたフォトレジストを透過する波長の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際よりも基板に塗布されたフォトレジストを透過しにくい波長の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行い、画像処理装置が検出したマスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置に基づき、ステージによりマスクホルダとチャックとを相対的に移動して、マスクと基板との位置合わせを行うことを特徴とするプロキシミティ露光装置のアライメント方法。照明装置から、赤色を帯びたフォトレジストを透過する赤色の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、赤色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、赤色を帯びたフォトレジストを透過しにくい緑色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行うことを特徴とする請求項5に記載のプロキシミティ露光装置のアライメント方法。照明装置から、緑色を帯びたフォトレジストを透過する緑色の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、緑色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、緑色を帯びたフォトレジストを透過しにくい赤色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行うことを特徴とする請求項5又は請求項6に記載のプロキシミティ露光装置のアライメント方法。照明装置から、青色を帯びたフォトレジストを透過する青色の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、青色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、青色を帯びたフォトレジストを透過しにくい黄色乃至橙色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行うことを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置のアライメント方法。請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。請求項5乃至請求項8のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置のアライメント方法を用いてマスクと基板との位置合わせを行って、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。プロキシミティ露光装置において、マスクと基板との位置合わせは、マスクと基板とのギャップ合わせ後、アライメントマークが設けられたマスクの下面と、下地パターンのアライメントマークが形成された基板の表面とが、プロキシミティギャップの分だけ数百μm程離れた状態で行われる。アライメントマークの画像を取得するCCDカメラ等の画像取得装置の焦点深度は数μm程度であり、マスクのアライメントマークの画像と、基板の下地パターンのアライメントマークの画像を、同時に鮮明に取得することはできない。そこで、従来は、ボールねじ及びモータ等の移動機構により画像取得装置を上下に移動し、画像取得装置の焦点をマスクの下面及び基板の表面に順番に合わせて、各アライメントマークの画像を取得していた。液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の製造において、基板上に形成された下地パターンの上に着色パターンを露光する際、下地パターンの上には、露光する着色パターンの色の顔料を含み着色パターンの色を帯びた半透明のフォトレジスト感光性樹脂が塗布されている。そのため、下地パターンのアライメントマークの画像を取得する際、フォトレジストを透過する光の強度が低下してコントラストが下がり、下地パターンのアライメントマークの画像が不鮮明になるという問題があった。また、取得したアライメントマークの画像からアライメントマークの位置を検出する際の画像認識では、取得したアライメントマークの画像と、予め登録したアライメントマークの画像とを比較し、所定の判定条件で画像認識を行う。その際、マスクのアライメントマークと基板の下地パターンのアライメントマークとが上から見て一部重なっていると、一方のアライメントマークの画像に、焦点の合っていない他方のアライメントマークの画像がぼやけて重なり、画像認識ができない場合があった。本発明の課題は、マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出することである。また、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を製造することである。本発明のプロキシミティ露光装置は、マスクを保持するマスクホルダと、下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板を支持するチャックと、マスクホルダとチャックとを相対的に移動するステージとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、マスク及び基板の下地パターンに設けられた複数のアライメントマークへ照明光を照射する照明装置と、照明装置からの照明光が照射されたマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得装置と、各画像取得装置の焦点位置を移動する焦点位置移動機構と、各画像取得装置が出力した画像信号を処理して画像認識を行い、認識したアライメントマークの位置を検出する画像処理装置と、焦点位置移動機構を制御して各画像取得装置の焦点をマスクの下面及び基板の表面にそれぞれ合わせ、画像処理装置が検出したマスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置に基づき、ステージによりマスクホルダとチャックとを相対的に移動して、マスクと基板との位置合わせを行う制御手段とを備え、照明装置が、画像処理装置が基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際、基板に塗布されたフォトレジストを透過する波長の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射し、画像処理装置がマスクのアライメントマークの画像を認識する際、基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際よりも基板に塗布されたフォトレジストを透過しにくい波長の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射するものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置のアライメント方法は、マスクを保持するマスクホルダと、下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板を支持するチャックと、マスクホルダとチャックとを相対的に移動するステージとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置のアライメント方法であって、マスク及び基板の下地パターンに設けられた複数のアライメントマークへ照明光を照射する照明装置と、照明装置からの照明光が照射されたマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得装置と、各画像取得装置の焦点位置を移動する焦点位置移動機構と、各画像取得装置が出力した画像信号を処理して画像認識を行い、認識したアライメントマークの位置を検出する画像処理装置とを設け、照明装置から、基板に塗布されたフォトレジストを透過する波長の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際よりも基板に塗布されたフォトレジストを透過しにくい波長の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行い、画像処理装置が検出したマスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置に基づき、ステージによりマスクホルダとチャックとを相対的に移動して、マスクと基板との位置合わせを行うものである。基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行う際は、照明装置から、基板に塗布されたフォトレジストを透過する波長の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射するので、基板の下地パターンのアライメントマークの画像が、各画像取得装置により、フォトレジストを通し高いコントラストで鮮明に取得される。また、マスクのアライメントマークの画像認識を行う際は、照明装置から、基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際よりも基板に塗布されたフォトレジストを透過しにくい波長の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射するので、基板の下地パターンのアライメントマークは、フォトレジストに遮られてほとんど見えない。そのため、マスクのアライメントマークと基板の下地パターンのアライメントマークとが上から見て一部重なっていても、マスクのアライメントマークの画像が、各画像取得装置により鮮明に取得される。従って、マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像がそれぞれ鮮明に取得されて画像認識が行われ、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置が精度良く検出される。さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、照明装置が、画像処理装置が赤色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際、赤色を帯びたフォトレジストを透過する赤色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射し、画像処理装置がマスクのアライメントマークの画像を認識する際、赤色を帯びたフォトレジストを透過しにくい緑色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射するものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置のアライメント方法は、照明装置から、赤色を帯びたフォトレジストを透過する赤色の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、赤色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、赤色を帯びたフォトレジストを透過しにくい緑色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行うものである。液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の製造において、基板上に形成された下地パターンの上にRRedの着色パターンを露光する際、マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像がそれぞれ鮮明に取得されて画像認識が行われ、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置が精度良く検出される。さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、照明装置が、画像処理装置が緑色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際、緑色を帯びたフォトレジストを透過する緑色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射し、画像処理装置がマスクのアライメントマークの画像を認識する際、緑色を帯びたフォトレジストを透過しにくい赤色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射するものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置のアライメント方法は、照明装置から、緑色を帯びたフォトレジストを透過する緑色の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、緑色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、緑色を帯びたフォトレジストを透過しにくい赤色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行うものである。液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の製造において、基板上に形成された下地パターンの上にGGreenの着色パターンを露光する際、マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像がそれぞれ鮮明に取得されて画像認識が行われ、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置が精度良く検出される。さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、照明装置が、画像処理装置が青色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際、青色を帯びたフォトレジストを透過する青色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射し、画像処理装置がマスクのアライメントマークの画像を認識する際、青色を帯びたフォトレジストを透過しにくい黄色乃至橙色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射するものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置のアライメント方法は、照明装置から、青色を帯びたフォトレジストを透過する青色の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、青色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、青色を帯びたフォトレジストを透過しにくい黄色乃至橙色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行うものである。液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の製造において、基板上に形成された下地パターンの上にBBlueの着色パターンを露光する際、マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像がそれぞれ鮮明に取得されて画像認識が行われ、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置が精度良く検出される。本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置のアライメント方法を用いてマスクと基板との位置合わせを行って、基板の露光を行うものである。マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置が精度良く検出され、マスクと基板との位置合わせが精度良く行われるので、新たなパターンが下地パターンに合わせて精度良く露光され、高品質な表示用パネル基板が製造される。本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置のアライメント方法によれば、照明装置から、基板に塗布されたフォトレジストを透過する波長の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、基板の下地パターンのアライメントマークの画像を認識する際よりも基板に塗布されたフォトレジストを透過しにくい波長の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行うことにより、マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出することができる。さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置のアライメント方法によれば、照明装置から、赤色を帯びたフォトレジストを透過する赤色の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、赤色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、赤色を帯びたフォトレジストを透過しにくい緑色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行うことにより、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の製造において、基板上に形成された下地パターンの上にRRedの着色パターンを露光する際、マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出することができる。さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置のアライメント方法によれば、照明装置から、緑色を帯びたフォトレジストを透過する緑色の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、緑色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、緑色を帯びたフォトレジストを透過しにくい赤色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行うことにより、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の製造において、基板上に形成された下地パターンの上にGGreenの着色パターンを露光する際、マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出することができる。さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置のアライメント方法によれば、照明装置から、青色を帯びたフォトレジストを透過する青色の照明光を、マスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点を基板の表面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、青色を帯びたフォトレジストが塗布された基板の下地パターンのアライメントマークの画像認識を行い、照明装置から、青色を帯びたフォトレジストを透過しにくい黄色乃至橙色の照明光をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点をマスクの下面に合わせ、画像処理装置により各画像取得装置が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの画像認識を行うことにより、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の製造において、基板上に形成された下地パターンの上にBBlueの着色パターンを露光する際、マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出することができる。本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出して、マスクと基板との位置合わせを精度良く行うことができるので、新たなパターンを下地パターンに合わせて精度良く露光して、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。図1は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。また、図2は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の上面図である。プロキシミティ露光装置は、ベース3、Xガイド4、Xステージ5、Yガイド6、Yステージ7、θステージ8、チャック支持台9、チャック10、マスクホルダ20、画像処理装置50、カメラユニット51、カメラユニット移動機構、焦点位置移動機構、ステージ駆動回路60、照明装置61、及び主制御装置70を含んで構成されている。なお、図1では、カメラユニット移動機構、及び焦点位置移動機構が省略されている。また、図2では、画像処理装置50、カメラユニット移動機構、焦点位置移動機構、ステージ駆動回路60、照明装置61、及び主制御装置70が省略されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板1をチャック10へ搬入し、また基板1をチャック10から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。なお、以下に説明する実施の形態におけるXY方向は例示であって、X方向とY方向とを入れ替えてもよい。図1及び図2において、チャック10は、基板1のロード及びアンロードを行うロード/アンロード位置にある。ロード/アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板1がチャック10へ搬入され、また基板1がチャック10から搬出される。チャック10への基板1のロード及びチャック10からの基板1のアンロードは、チャック10に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック10の内部に収納されており、チャック10の内部から上昇して、基板1をチャック10にロードする際、基板搬送ロボットから基板1を受け取り、基板1をチャック10からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板1を受け渡す。チャック10は、基板1の裏面を真空吸着して支持する。基板1の表面には下地パターンが形成され、下地パターンの上には、露光する着色パターンの色の顔料を含み着色パターンの色を帯びた半透明のフォトレジストが塗布されている。図3は、チャックを露光位置へ移動した状態を示す側面図である。なお、図3では、画像処理装置50、カメラユニット移動機構、焦点位置移動機構、ステージ駆動回路60、照明装置61、及び主制御装置70が省略されている。露光位置の上空には、マスク2を保持するマスクホルダ20が設置されている。図2において、マスクホルダ20には、露光光が通過する開口20aが設けられており、マスクホルダ20は、開口20aの周囲に設けられた図示しない吸着溝により、マスク2の周辺部を真空吸着して保持している。マスクホルダ20に保持されたマスク2の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。露光時、照射光学系からの露光光がマスク2を透過して基板1へ照射されることにより、マスク2のパターンが基板1の表面に塗布されたフォトレジストに転写され、基板1上にパターンが露光される。図1及び図3において、チャック10は、チャック支持台9を介してθステージ8に搭載されており、θステージ8の下にはYステージ7及びXステージ5が設けられている。Xステージ5は、ベース3に設けられたXガイド4に搭載され、Xガイド4に沿ってX方向図1及び図3の図面横方向へ移動する。Yステージ7は、Xステージ5に設けられたYガイド6に搭載され、Yガイド6に沿ってY方向図1及び図3の図面奥行き方向へ移動する。θステージ8は、Yステージ7に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台9は、θステージ8に搭載され、チャック10の裏面を複数個所で支持する。Xステージ5、Yステージ7、及びθステージ8には、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない駆動機構が設けられており、各駆動機構は、図1のステージ駆動回路60により駆動される。Xステージ5のX方向への移動及びYステージ7のY方向への移動により、チャック10は、ロード/アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード/アンロード位置において、Xステージ5のX方向への移動、Yステージ7のY方向への移動、及びθステージ8のθ方向への回転により、チャック10に搭載された基板1のプリアライメントが行われる。露光位置において、Xステージ5のX方向への移動及びYステージ7のY方向への移動により、チャック10に搭載された基板1のXY方向へのステップ移動が行われる。また、図示しないZ-チルト機構によりマスクホルダ20をZ方向図3の図面上下方向へ移動及びチルトすることにより、マスク2と基板1とのギャップ合わせが行われる。そして、Xステージ5のX方向への移動、Yステージ7のY方向への移動、及びθステージ8のθ方向への回転により、マスク2と基板1との位置合わせが行われる。図1において、主制御装置70は、ステージ駆動回路60を制御して、Xステージ5のX方向への移動、Yステージ7のY方向への移動、及びθステージ8のθ方向へ回転を行う。なお、本実施の形態では、マスクホルダ20をZ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク2と基板1とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台9にZ-チルト機構を設けて、チャック10をZ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク2と基板1とのギャップ合わせを行ってもよい。また、本実施の形態では、Xステージ5及びYステージ7によりチャック10をXY方向へ移動することにより、マスク2と基板1との位置合わせを行っているが、マスクホルダ20をXY方向へ移動するステージを設けて、マスクホルダ20をXY方向へ移動することにより、マスク2と基板1との位置合わせを行ってもよい。図4は、マスクのアライメントマークを示す図である。マスク2の基板1と向かい合う面下面には、アライメントマーク2aが4箇所に設けられている。図5は、基板の下地パターンのアライメントマークを示す図である。図5は、基板1の一面を破線で区分けした4つの露光領域に分けて露光する例を示している。基板1の表面の各露光領域には、下地パターンが形成されている。下地パターンには、マスク2のアライメントマーク2aの位置に対応する位置に、アライメントマーク1aがそれぞれ設けられている。マスク2のアライメントマーク2aと基板1の下地パターンのアライメントマーク1aとは、両者の中心が一致したときに互いに重なり合わない形状となっている。アライメントマーク1a,2aの位置は、基板1の露光領域の大きさによって異なる。図2において、マスク2の上空には、4つのカメラユニット51が設置されている。各カメラユニット51は、アライメントマーク1a,2aの位置に応じて、図示しないカメラユニット移動機構により、アライメントマーク1a,2aの真上の所定の位置へそれぞれ移動される。基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの位置は、下地パターンを形成したときの露光条件によりばらつきが発生するので、各カメラユニット51の位置は、マスク2のアライメントマーク2aの位置を基準に決定される。図6aはカメラユニット移動機構及び焦点位置移動機構の上面図、図6bは同側面図である。カメラユニット移動機構は、Yガイド54、Yステージ55、Xガイド56、Xステージ57、リブ58,59、モータ81,86、軸継手82,87、軸受83,88、ボールねじ84a,89a、ナット84b,89b、及びZベース90を含んで構成されている。また、焦点位置移動機構は、Zガイド91、Zステージ92、リブ93、取り付けベース94、モータ台95、モータ96、軸継手97、軸受98、ボールねじ99a、及びナット99bを含んで構成されている。露光位置の上空には、カメラユニット移動機構が設置されるトップフレーム53が設けられており、トップフレーム53には、開口53aが形成されている。トップフレーム53の上面には、Yガイド54が設けられており、Yガイド54には、Yステージ55が搭載されている。また、トップフレーム53の上面には、モータ81が設置されており、モータ81は、図1の主制御装置70により駆動される。モータ81の回転軸は、軸継手82によりボールねじ84aに接続されており、ボールねじ84aは、軸受83により回転可能に支持されている。Yステージ55の下面には、ボールねじ84aにより移動されるナット84bが取り付けられており、Yステージ55は、モータ81の回転により、Yガイド54に沿ってY方向へ移動される。Yステージ55の上面には、Xガイド56が設けられており、Xガイド56には、Xステージ57が搭載されている。また、Yステージ55の上面には、モータ86が設置されており、モータ86は、図1の主制御装置70により駆動される。モータ86の回転軸は、軸継手87によりボールねじ89aに接続されており、ボールねじ89aは、軸受88により回転可能に支持されている。Xステージ57の下面には、ボールねじ89aにより移動されるナット89bが取り付けられており、Xステージ57は、モータ86の回転により、Xガイド56に沿ってX方向へ移動される。Xステージ57の側面には、リブ58,59により、Zベース90が取り付けられており、Zベース90は、トップフレーム53の開口53a内に挿入されている。Zベース90には、Zガイド91が設けられており、Zガイド91には、Zステージ92が搭載されている。また、Zベース90に取り付けたモータ台95には、モータ96が設置されており、モータ96は、図1の主制御装置70により駆動される。モータ96の回転軸は、軸継手97によりボールねじ99aに接続されており、ボールねじ99aは軸受98により回転可能に支持されている。Zステージ92には、ボールねじ99aにより移動されるナット99bが取り付けられており、Zステージ92は、モータ96の回転により、Zガイド91に沿ってZ方向へ移動される。また、Zステージ92には、リブ93により、取り付けベース94が取り付けられており、取り付けベース94には、カメラユニット51が取り付けられている。カメラユニット51は、CCDカメラ51aと、レンズ51bと、照明光導入筒51cとを含んで構成されている。Xステージ57のX方向への移動及びYステージ55のY方向への移動により、カメラユニット51はXY方向へ移動される。図1の主制御装置70は、マスク2のアライメントマーク2aの位置に応じ、モータ81,86を制御して、各カメラユニット51を所定の位置へそれぞれ移動する。また、Zステージ92のZ方向への移動により、カメラユニット51はZ方向へ移動される。主制御装置70は、モータ96を制御して、各カメラユニット51の焦点がマスク2の下面及び基板1の表面に合う様に、各カメラユニット51をZ方向へそれぞれ移動する。図7aはカメラユニットの焦点をマスクの下面に合わせた状態を示す図、図7bはカメラユニットの焦点を基板の表面に合わせた状態を示す図である。各カメラユニット51のCCDカメラ51aは、マスク2のアライメントマーク2aの画像及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像をそれぞれ取得し、画像信号を図1の画像処理装置50へ出力する。図8は、照明装置の構成を示す図である。照明装置61は、白色光源62a,62b,62c,62d、帯域通過フィルタ63a,63b,63c,63d、集光レンズ64a,64b,64c,64d、光ファイバー65a,65b,65c,65d、及び切り替え装置66を含んで構成されている。白色光源62a,62b,62c,62dは、白色光を発生する。帯域通過フィルタ63aは、白色光源62aから発生した白色光の内、一例として、波長605nm~750nmの帯域の赤色の光を透過させる。帯域通過フィルタ63bは、白色光源62bから発生した白色光の内、一例として、波長500nm~560nmの帯域の緑色の光を透過させる。帯域通過フィルタ63cは、白色光源62cから発生した白色光の内、一例として、波長435nm~480nmの帯域の青色の光を透過させる。帯域通過フィルタ63dは、白色光源62cから発生した白色光の内、一例として、波長580nm~605nmの帯域の黄色乃至橙色の光を透過させる。なお、本実施の形態では、各帯域通過フィルタ63a,63b,63c,63dに対応して、各白色光源62a,62b,62c,62dが設けられているが、1つの白色光源から発生した光を、ハーフミラーやビームスプリッター等で分岐して、複数の帯域通過フィルタへ供給してもよい。また、発光ダイオードやレーザーダイオード等の半導体発光素子を用いて、赤色、緑色、青色、及び黄色乃至橙色の波長帯域の光を発生させてもよい。帯域通過フィルタ63aを透過した赤色の光は、集光レンズ64aで集光されて、光ファイバー65aへ入射する。帯域通過フィルタ63bを透過した緑色の光は、集光レンズ64bで集光されて、光ファイバー65bへ入射する。帯域通過フィルタ63cを透過した青色の光は、集光レンズ64cで集光されて、光ファイバー65cへ入射する。帯域通過フィルタ63dを透過した黄色乃至橙色の光は、集光レンズ64dで集光されて、光ファイバー65dへ入射する。光ファイバー65a,65b,65c,65dの他端は、切り替え装置66に接続されている。切り替え装置66は、主制御装置70の制御により、光ファイバー65a,65b,65c,65dから射出される光の内の1つを選択して、各カメラユニット51の照明光導入筒51cへ入射させる。照明光導入筒51cへ入射した光は、照明光導入筒51c内に設けられた集光レンズ51dにより集光され、各カメラユニット51のレンズ51b内に設けられたハーフミラー51eで反射して、マスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射される。図9は、画像処理装置及び主制御装置のブロック図である。画像処理装置50は、制御部50a、演算処理部50b、画像メモリ50c、及び演算メモリ50dを含んで構成されている。演算メモリ50dには、画像認識の際の基準となるアライメントマーク1a,2aの画像が予め登録されている。画像メモリ50cは、各カメラユニット51のCCDカメラ51aが出力した画像信号を記憶する。演算処理部50bは、画像メモリ50cに記憶された画像信号を処理し、各カメラユニット51のCCDカメラ51aにより取得されたアライメントマーク1a,2aの画像と、演算メモリ50dに登録されたアライメントマーク1a,2aの画像とを比較して画像認識を行い、認識したアライメントマーク1a,2aの位置を検出する。制御部50aは、演算処理部50bが画像認識を行う際の判定条件を設定する。この判定条件には、画像認識の対象となる画像と予め登録された画像とが一致する度合いを判定する許容しきい値と、画像認識の対象となる画像のコントラストを判定するコントラストしきい値とがあり、両者を用いて画像認識の成否が判定される。図9において、主制御装置70は、画像処理装置50を制御する画像処理制御部70aと、カメラユニット移動機構及び焦点位置移動機構を制御するカメラユニット制御部70bと、ステージ駆動回路60を制御するステージ制御部70cとを含んで構成されている。なお、図9では、1つのカメラユニット移動機構のモータ81,86と、1つの焦点位置移動機構のモータ96とが示されており、他の3つのカメラユニット移動機構のモータ81,86と、他の3つの焦点位置移動機構のモータ96がそれぞれ省略されている。以下、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置のアライメント方法について説明する。図10は、本発明の一実施の形態によるアライメント方法を示すフローチャートである。マスク2のアライメントマーク2aの画像認識を行う場合、まず、主制御装置70は、照明装置61の切り替え装置66を制御して、マスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射される照明光を切り替えるステップ301。ここで、基板1に赤色を帯びたフォトレジストが塗布されている場合、切り替え装置66は、主制御装置70の制御により、光ファイバー65bから射出される、赤色を帯びたフォトレジストを透過しにくい緑色の照明光を選択して、各カメラユニット51の照明光導入筒51cへ入射させる。また、基板1に緑色を帯びたフォトレジストが塗布されている場合、切り替え装置66は、主制御装置70の制御により、光ファイバー65aから射出される、緑色を帯びたフォトレジストを透過しにくい赤色の照明光を選択して、各カメラユニット51の照明光導入筒51cへ入射させる。また、基板1に青色を帯びたフォトレジストが塗布されている場合、切り替え装置66は、主制御装置70の制御により、光ファイバー65dから射出される、青色を帯びたフォトレジストを透過しにくい黄色乃至橙色の照明光を選択して、各カメラユニット51の照明光導入筒51cへ入射させる。マスク2と基板1とのギャップ合わせを行った後、主制御装置70のカメラユニット制御部70bは、カメラユニット移動機構のモータ81,86を制御して、各カメラユニット51を、マスク2のアライメントマーク2aの真上の所定の位置へそれぞれ移動する。そして、カメラユニット制御部70bは、焦点位置移動機構のモータ96を駆動して、各カメラユニット51の焦点をマスク2の下面に合わせるステップ302。各カメラユニット51は、マスク2のアライメントマーク2aの画像をそれぞれ取得し、画像処理装置50の演算処理部50bは、マスク2のアライメントマーク2aの画像認識、及びマスク2のアライメントマーク2aの位置検出を行うステップ303。図11aはマスクのアライメントマークの画像の一例を示す図である。マスク2のアライメントマーク2aの画像認識を行う際、照明装置61から、基板1に塗布されたフォトレジストを透過しにくい波長の照明光をマスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射するので、基板1の下地パターンのアライメントマーク1aは、フォトレジストに遮られてほとんど見えない。そのため、図11aに示す様にマスク2のアライメントマーク2aと基板1の下地パターンのアライメントマーク1aとが上から見て一部重なっていても、マスク2のアライメントマーク2aの画像が、各カメラユニット51により鮮明に取得される。図10において、次に、主制御装置70は、基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像認識を行うために、照明装置61の切り替え装置66を制御して、マスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射される照明光を切り替えるステップ304。ここで、基板1に赤色を帯びたフォトレジストが塗布されている場合、切り替え装置66は、主制御装置70の制御により、光ファイバー65aから射出される、赤色を帯びたフォトレジストを透過する赤色の照明光を選択して、各カメラユニット51の照明光導入筒51cへ入射させる。また、基板1に緑色を帯びたフォトレジストが塗布されている場合、切り替え装置66は、主制御装置70の制御により、光ファイバー65bから射出される、緑色を帯びたフォトレジストを透過する緑色の照明光を選択して、各カメラユニット51の照明光導入筒51cへ入射させる。また、基板1に青色を帯びたフォトレジストが塗布されている場合、切り替え装置66は、主制御装置70の制御により、光ファイバー65cから射出される、青色を帯びたフォトレジストを透過する青色の照明光を選択して、各カメラユニット51の照明光導入筒51cへ入射させる。主制御装置70のカメラユニット制御部70bは、焦点位置移動機構のモータ96を駆動して、各カメラユニット51の焦点を基板1の表面に合わせるステップ305。各カメラユニット51は、基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像をそれぞれ取得し、画像処理装置50の演算処理部50bは、基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像認識、及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの位置検出を行うステップ306。図11bは基板の下地パターンのアライメントマークの画像の一例を示す図である。基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像認識を行う際、照明装置61から、基板1に塗布されたフォトレジストを透過する波長の照明光を、マスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射するので、基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像が、各カメラユニット51により、フォトレジストを通し高いコントラストで鮮明に取得される。図10において、主制御装置70の画像処理制御部70aは、画像処理装置50の演算処理部50bが検出したマスク2の複数のアライメントマーク2aの位置及び基板1の複数のアライメントマーク1aの位置から、マスク2と基板1との位置ずれ量を検出しステップ307、両者の位置ずれ量が所定値以下であるか否かを判断するステップ308。マスク2と基板1との位置ずれ量が所定値以下でない場合、主制御装置70のステージ制御部70cは、画像処理制御部70aが検出したマスク2と基板1との位置ずれ量に基づき、Xステージ5及びYステージ7の移動量、並びにθステージ8の回転量を算出するステップ309。そして、ステージ制御部70cは、ステージ駆動回路60を制御して、Xステージ5及びYステージ7を算出した移動量だけ移動させ、またθステージ8を算出した回転量だけ回転させてステップ310、ステップ306へ戻る。ステップ308において、マスク2と基板1との位置ずれ量が所定値以下である場合、主制御装置70は、基板1のアライメントを終了する。なお、以上説明した実施の形態では、マスク2のアライメントマーク2aの画像を取得した後、基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像を取得しているが、基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像を取得した後、マスク2のアライメントマーク2aの画像を取得してもよい。以上説明した実施の形態によれば、照明装置61から、基板1に塗布されたフォトレジストを透過する波長の照明光を、マスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射しながら、焦点位置移動機構により各カメラユニット51の焦点を基板1の表面に合わせ、画像処理装置50により各カメラユニット51が出力した画像信号を処理して、基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像認識を行い、照明装置61から、基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像を認識する際よりも基板1に塗布されたフォトレジストを透過しにくい波長の照明光をマスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射しながら、焦点位置移動機構により各カメラユニット51の焦点をマスク2の下面に合わせ、画像処理装置50により各カメラユニット51が出力した画像信号を処理して、マスク2のアライメントマーク2aの画像認識を行うことにより、マスク2のアライメントマーク2aの画像及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスク2のアライメントマーク2aの位置及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの位置を精度良く検出することができる。さらに、照明装置61から、赤色を帯びたフォトレジストを透過する赤色の照明光を、マスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射しながら、焦点位置移動機構によりカメラユニット51の焦点を基板1の表面に合わせ、画像処理装置50により各カメラユニット51が出力した画像信号を処理して、赤色を帯びたフォトレジストが塗布された基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像認識を行い、照明装置61から、赤色を帯びたフォトレジストを透過しにくい緑色の照明光をマスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射しながら、焦点位置移動機構により各カメラユニット51の焦点をマスク2の下面に合わせ、画像処理装置50により各カメラユニット51が出力した画像信号を処理して、マスク2のアライメントマーク2aの画像認識を行うことにより、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の製造において、基板1上に形成された下地パターンの上にRRedの着色パターンを露光する際、マスク2のアライメントマーク2aの画像及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスク2のアライメントマーク2aの位置及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの位置を精度良く検出することができる。さらに、照明装置61から、緑色を帯びたフォトレジストを透過する緑色の照明光を、マスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射しながら、焦点位置移動機構により各カメラユニット51の焦点を基板1の表面に合わせ、画像処理装置50により各カメラユニット51が出力した画像信号を処理して、緑色を帯びたフォトレジストが塗布された基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像認識を行い、照明装置61から、緑色を帯びたフォトレジストを透過しにくい赤色の照明光をマスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射しながら、焦点位置移動機構により各カメラユニット51の焦点をマスク2の下面に合わせ、画像処理装置50により各カメラユニット51が出力した画像信号を処理して、マスク2のアライメントマーク2aの画像認識を行うことにより、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の製造において、基板1上に形成された下地パターンの上にGGreenの着色パターンを露光する際、マスク2のアライメントマーク2aの画像及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスク2のアライメントマーク2aの位置及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの位置を精度良く検出することができる。さらに、照明装置61から、青色を帯びたフォトレジストを透過する青色の照明光を、マスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射しながら、焦点位置移動機構により各カメラユニット51の焦点を基板1の表面に合わせ、画像処理装置50により各カメラユニット51が出力した画像信号を処理して、青色を帯びたフォトレジストが塗布された基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像認識を行い、照明装置61から、青色を帯びたフォトレジストを透過しにくい黄色乃至橙色の照明光をマスク2のアライメントマーク2a及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aへ照射しながら、焦点位置移動機構により各カメラユニット51の焦点をマスク2の下面に合わせ、画像処理装置50により各カメラユニット51が出力した画像信号を処理して、マスク2のアライメントマーク2aの画像認識を行うことにより、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の製造において、基板1上に形成された下地パターンの上にBBlueの着色パターンを露光する際、マスク2のアライメントマーク2aの画像及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスク2のアライメントマーク2aの位置及び基板1の下地パターンのアライメントマーク1aの位置を精度良く検出することができる。本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置のアライメント方法を用いてマスクと基板との位置合わせを行って、基板の露光を行うことにより、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出して、マスクと基板との位置合わせを精度良く行うことができるので、新たなパターンを下地パターンに合わせて精度良く露光して、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。例えば、図12は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程ステップ201では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程ステップ202では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、R、G、Bの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程ステップ203では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程ステップ204では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄/乾燥工程が実施される。図12に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、着色パターン形成工程ステップ202の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又は本発明のプロキシミティ露光装置のアライメント方法を適用することができる。"