基板テーブル上に基板をロードした後に、前記基板の参照フレームにおいて前記基板テーブルが重力による加速度の少なくとも10である加速度によって下方向に加速するように前記基板テーブルを移動することを含む方法であって、それによって前記基板の変形が前記基板から少なくとも部分的に拡散され得るように前記基板と前記基板テーブルとの間の摩擦を低下させる、方法。前記加速度は重力による前記加速度の少なくとも50である、請求項1に記載の方法。前記加速度は重力による前記加速度と同等またはより大きい、請求項2に記載の方法。前記加速度は重力による前記加速度の二倍またはそれ以上である、請求項3に記載の方法。前記基板テーブルの下方向への移動の間に前記基板は前記基板テーブルにクランプされない、請求項1~4のうちのいずれかに記載の方法。前記基板テーブルの下方向への移動の間に前記基板の一部が前記基板テーブルにクランプされる、請求項1~4のうちのいずれかに記載の方法。前記基板テーブルの一部をより遅い加速度をもって下方向に移動させることによって前記基板テーブルの下方向への移動の間に前記基板の一部が前記基板テーブルに固定される、請求項1~4のうちのいずれかに記載の方法。前記方法はその後前記基板を前記基板テーブルにクランプすることをさらに含む、請求項1~7のうちのいずれかに記載の方法。前記方法はリソグラフィ装置において実施される、請求項1~8のうちのいずれかに記載の方法。前記方法は前記リソグラフィ装置の投影システムを使用して前記基板上にパターンを投影することをさらに含む、請求項9に記載の方法。基板テーブルおよびポジショナを含む装置であって、前記基板テーブルは基板を支持するように構成され、前記ポジショナは、前記基板の参照フレームにおいて前記基板テーブルが重力による加速度の少なくとも10である加速度によって下方向に加速するように、前記基板テーブルを移動させるように構成され、それによって前記基板の変形が前記基板から少なくとも部分的に拡散され得るように前記基板と前記基板テーブルとの間の摩擦を低下させる、装置。前記ポジショナは、重力による前記加速度の少なくとも50である加速度をもって前記基板テーブルを下方向に移動させるよう構成される、請求項11に記載の装置。前記ポジショナは、重力による前記加速度と同等またはより大きい加速度をもって前記基板テーブルを下方向に移動させるよう構成される、請求項12に記載の装置。前記ポジショナは、重力による前記加速度の二倍またはそれ以上である加速度をもって前記基板テーブルを下方向に移動させるよう構成される、請求項13に記載の装置。前記装置はリソグラフィ装置の一部を形成する、請求項11~14のうちのいずれかに記載の装置。リソグラフィ装置は、放射ビームを調節する照明システムと、パターン付与された放射ビームを形成するように放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、前記基板テーブルと、前記基板のターゲット部分上に前記パターン付与された放射ビームを投影する投影システムとを含む、請求項15に記載の装置。