"透明導電層と、上記透明導電層上に設けられ、増感色素が担持された1または2以上の多孔質半導体層と、上記多孔質半導体層と対向して設けられた対極と、上記多孔質半導体層と上記対極との間に設けられた電解質層とを備え、上記多孔質半導体層は、該多孔質半導体層の面内方向に異なる緻密性を有し、上記多孔質半導体層は、上記緻密性の選択により、所定の色を呈し、かつ所定の模様を構成するように形成されている色素増感太陽電池。上記多孔質半導体層の呈する所定の色は、上記緻密性の高低により選択され、上記多孔質半導体層が構成する所定の模様は、上記緻密性の変化する境界位置により選択される請求項1記載の色素増感太陽電池。上記多孔質半導体層の緻密性が高くなるに従って、上記多孔質半導体層が呈する色の濃淡が淡くなるように階調が変化している請求項1記載の色素増感太陽電池。上記多孔質半導体層は、緻密性が異なる複数の領域を有し、上記複数の領域が呈する色が異なっている請求項1記載の色素増感太陽電池。上記複数の領域が呈する色の階調が異なっている請求項4記載の色素増感太陽電池。上記緻密性が異なる複数の領域では、上記多孔質半導体層の膜厚方向に対する上記増感色素の浸透性が異なり、上記多孔質半導体層の緻密性が高い領域ほど、上記多孔質半導体層の膜厚方向に対する上記増感色素の浸透性が低下する請求項4記載の色素増感太陽電池。上記緻密性が異なる複数の領域では、上記多孔質半導体層の増感色素の担持密度が異なり、上記多孔質半導体層の緻密性が高い領域ほど、上記増感色素の担持密度が低くなる請求項4記載の色素増感太陽電池。上記緻密性が異なる複数の領域では、上記多孔質半導体層の膜厚が異なり、上記多孔質半導体層の緻密性が高い領域ほど、上記多孔質半導体層の膜厚が薄くなる請求項4記載の色素増感太陽電池。上記緻密性が異なる複数の領域は、隣接して設けられ、隣接して設けられた上記複数の領域の緻密性は、上記複数の領域のうちの一端の領域から他端の領域に向けて段階的に高くなる請求項1記載の色素増感太陽電池。上記複数の領域の緻密性が段階的に高くなるに従って、上記多孔質半導体層が呈する色の濃淡が段階的に淡くなる請求項9記載の色素増感太陽電池。2以上の上記多孔質半導体層の緻密性が、異なっている請求項1記載の色素増感太陽電池。上記多孔質半導体層の緻密性が、上記多孔質半導体層の表面の緻密性である請求項1記載の色素増感太陽電池。上記多孔質半導体層は、半導体微粒子を主成分として含み、上記多孔質半導体層の緻密性は、上記半導体微粒子間に形成された空隙部の量により変化する請求項1記載の色素増感太陽電池。上記半導体微粒子は、チタン、亜鉛、スズおよびニオブの少なくとも1種を含む金属酸化物を含む請求項13記載の色素増感太陽電池。上記半導体微粒子の平均一次粒子径は、5nm以上500nm以下である請求項13記載の色素増感太陽電池。上記半導体微粒子は、アナターゼ型またはブリュッカイト型の結晶構造を有する酸化チタンを含む請求項13記載の色素増感太陽電池。1または2以上の多孔質半導体層を透明導電層上に形成する工程と、圧力分布を有する加圧処理を上記多孔質半導体層の表面に対して施すことにより、上記多孔質半導体層の面内方向に異なる緻密性を付与する工程と、上記多孔質半導体層に上記緻密性に応じて増感色素を担持させる工程と、上記増感色素が担持された上記多孔質半導体層に対向して対極を設ける工程と、上記多孔質半導体層と、上記対極との間に電解質層を設ける工程とを備える色素増感太陽電池の製造方法。上記圧力分布を有する加圧処理は、上記多孔質半導体層の面内方向に加圧手段を移動させながら上記多孔質半導体層を上記加圧手段により加圧するとともに、上記面内方向の移動に伴って上記加圧手段の圧力を変化させる加圧処理である請求項17記載の色素増感太陽電池の製造方法。上記圧力分布を有する加圧処理は、凹凸面を有する加圧手段により上記多孔質半導体層の表面を加圧する加圧処理である請求項17記載の色素増感太陽電池の製造方法。上述したように、特許文献2および特許文献3に記載された技術では、厚さ、積層構造、酸化チタン微粒子の粒径または粒径が異なる二種類以上の酸化チタン微粒子の配合率の選択により、色素担持多孔質酸化チタン層が、所定の色を呈し、かつ所定の模様を構成するように形成している。このため、色相を変える毎にインクの変更や厚みの変更が必要となり、複数の印刷版を必要とし、交換に時間がかかり、製造工程が非常に煩雑である。また、色相を変えることは可能であるが、階調を付けることが困難である。したがって、本発明の目的は、簡便な方法により製造することができると共に、意匠性に優れた色素増感太陽電池およびその製造方法を提供することにある。上述した課題を解決するために、第1の発明は、透明導電層と、透明導電層上に設けられ、増感色素が担持された1または2以上の多孔質半導体層と、多孔質半導体層と対向して設けられた対極と、多孔質半導体層と対極との間に設けられた電解質層とを備え、多孔質半導体層は、該多孔質半導体層の面内方向に異なる緻密性を有し、多孔質半導体層は、緻密性の選択により、所定の色を呈し、かつ所定の模様を構成するように形成されている色素増感太陽電池である。第2の発明は、1または2以上の多孔質半導体層を透明導電層上に形成する工程と、圧力分布を有する加圧処理を多孔質半導体層の表面に対して施すことにより、多孔質半導体層の面内方向に異なる緻密性を付与する工程と、多孔質半導体層に緻密性に応じて増感色素を担持させる工程と、増感色素が担持された多孔質半導体層に対向して対極を設ける工程と、多孔質半導体層と、対極との間に電解質層を設ける工程とを備える色素増感太陽電池の製造方法である。本発明では、多孔質半導体層のうち緻密性が低い部分では、緻密性が高い部分に比して増感色素の浸透が容易である。したがって、緻密性の選択により、多孔質半導体層の呈する色を制御することができる。本発明によれば、緻密性の選択により、多孔質半導体層が呈する色、および多孔質半導体層が構成する模様を制御することができる。したがって、簡便な方法により製造することができると共に、意匠性に優れた色素増感太陽電池を実現できる。本発明の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。1第1の実施形態1つの多孔質半導体層を備える色素増感太陽電池の例2第2の実施形態2つ以上の多孔質半導体層を備える色素増感太陽電池の例<第1の実施形態>[色素増感太陽電池の構成]図1Aは、本発明の第1の実施形態に係る色素増感太陽電池の構成の一例を示す断面図である。図1Bは、図1Aに示したB-B線に沿った断面図である。図1Aおよび図1Bに示すように、この色素増感太陽電池は、透明導電性基材1と、透明導電性基材2と、色素が担持された多孔質半導体層3と、電解質層4と、対極5と、封止材6とを備える。透明導電性基材1と透明導電性基材2とが対向配置されている。透明導電性基材1は、透明導電性基材2と対向する一主面を有し、この一主面に多孔質半導体層3が形成されている。透明導電性基材2は、透明導電性基材1と対向する一主面を有し、この一主面に対極5が形成されている。対向する多孔質半導体層3と対極5との間に電解質層4が介在されている。透明導電性基材1は、多孔質半導体層3が形成された一主面とは反対側の他主面を有し、例えばこの他主面が太陽光などの光Lを受光する受光面となる。透明導電性基材1と透明導電性基材2との対向面の周縁部に封止材6が設けられている。多孔質半導体層3と対極5との間隔は、好ましくは1~100μm、より好ましくは1~40μmである。電解質層4は、多孔質半導体層3が形成された透明導電性基材1と、対極5が形成された透明導電性基材2と、封止材6とによって囲まれた空間に封入されている。封止材6の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、ガラスフリットなどを用いることができるが、これに限定されるものではない。透明導電性基材1、2は、例えば、互いに同一の正方形または長方形の平面形状を有する。図1Aおよび図1Bに示すように、この場合、これらの透明導電性基材1、2は、これらの透明導電性基材1、2の互いに直交する二辺に平行な方向にx軸およびy軸を取った場合、x軸方向にa、y軸方向にbだけ互いにずれている。例えば、透明導電性基材1、2が正方形の平面形状を有する場合、これらの透明導電性基材1、2は一つの対角線の方向に互いにずれており、このときa=bである。透明導電層12、22の周縁部のうちの一部が封止材6の外側に露出し、この露出した透明導電層12、22上に集電層7が形成されている。この集電層7は、外部リードとの接続や色素増感太陽電池同士を接続する場合に用いられる。図2Aは、透明導電性基材11の透明導電層12側の面を示す。図2Aに示すように、透明導電性基材1の互いに直交する二つの辺部から幅a1、b1の細長い領域の透明導電層12が除去されており、この部分では基板11が露出している。そして、封止材6のうちの透明導電性基材1のこれらの二つの辺に沿う部分は、この露出した部分の基板11上に接着されている図1B参照。図2Bは、透明導電性基材2の透明導電層22側の面を示す。図2Bに示すように、透明導電性基材2の互いに直交する二つの辺部から幅a2、b2の細長い領域の透明導電層22が除去されており、この部分では基板21が露出している。そして、封止材6のうちの透明導電性基材2のこれらの二つの辺に沿う部分は、この露出した部分の基板21上に接着されている図1B参照。図2Bにおいては図示を省略するが、対極5もこの透明導電層22と同一の平面形状を有する図1B参照。透明導電性基材2の一つの角部には、電解質層4の注入に用いられ、最終的には塞がれる注入口8が設けられている。以下、この色素増感型太陽電池を構成する透明導電性基材1、2、多孔質半導体層3、増感色素、対極5、および電解質層4について順次説明する。透明導電性基材透明導電性基材1は、基材11と、この基材11の一主面上に形成された透明導電層12とを備え、この透明導電層12上に多孔質半導体層3が形成される。透明導電性基材2は、基材21と、この基材21の一主面上に形成された透明導電層22とを備え、この透明導電層22上に対極5が形成される。基材11、21としては、透明性を有するものであればよく、種々の基材を用いることができる。透明性を有する基材としては、太陽光の可視から近赤外領域に対して光吸収が少ないものが好ましく、例えば、ガラス基材、樹脂基材などを用いることができるが、これに限定されるものではない。ガラス基材の材料としては、例えば、石英、青板、BK7、鉛ガラスなどを用いることができるが、これらに限定されるものではない。樹脂基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリイミドPI、ポリエステル、ポリエチレンPE、ポリカーボネートPC、ポリビニルブチラート、ポリプロピレンPP、テトラアセチルセルロース、シンジオクタチックポリスチレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルフォン、ポリエステルスルフォン、ポリエーテルイミド、環状ポリオレフィン、ブロム化フェノキシ、塩化ビニルなどを用いることができるが、これらに限定されるものではない。基材11、12としては、例えば、フィルム、シート、基板などを用いることができるが、これに限定されるものではない。透明導電層12、22は、太陽光の可視から近赤外領域に対して光吸収が少ないことが好ましい。透明導電層12、22の材料としては、例えば、導電性の良好な金属酸化物、炭素を用いることが好ましい。金属酸化物としては、例えば、インジウム-スズ複合酸化物ITO、フッ素ドープSnO2FTO、アンチモンドープSnO2ATO、酸化スズSnO2、酸化亜鉛ZnO、インジウム-亜鉛複合酸化物IZO、アルミニウム-亜鉛複合酸化物AZO、およびガリウム-亜鉛複合酸化物GZOからなる群より選択される1種以上を用いることができる。透明導電層22と多孔質半導体層3との間に、結着の促進、電子伝達の改善、または逆電子過程の防止などを目的とした層をさらに設けるようにしてもよい。多孔質半導体層多孔質半導体層3は、金属酸化物半導体微粒子を含む多孔質層であることが好ましい。金属酸化物半導体微粒子は、チタン、亜鉛、スズおよびニオブの少なくとも1種を含む金属酸化物を含むことが好ましい。このような金属酸化物を含むことで、吸着させる色素と金属酸化物間にて適切なエネルギーバンドを形成し、その後、光照射により色素にて発生した電子が金属酸化物に円滑に伝達し、その後のヨウ素の酸化還元による発電に寄与することができるからである。具体的には、金属酸化物半導体微粒子の材料としては、酸化チタン、酸化スズ、酸化タングステン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化ストロンチウム、酸化タンタル、酸化アンチモン、酸化ランタノイド、酸化イットリウム、および酸化バナジウムなどなる群より選ばれる1種以上を用いることができるが、これらの限定されるものではない。多孔質半導体層表面が増感色素によって増感されるためには、多孔質半導体層3の電導帯が増感色素の光励起順位から電子を受け取りやすい位置に存在することが好ましい。この観点からすると、上述した金属酸化物半導体微粒子の材料の中でも、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、および酸化ニオブからなる群より選ばれる1種以上が特に好ましい。さらに、価格や環境衛生性などの観点から、酸化チタンが最も好ましい。金属酸化物半導体微粒子は、アナターゼ型またはブリュッカイト型の結晶構造を有する酸化チタンを含むことが特に好ましい。このような酸化チタンを含むことで、吸着させる色素と金属酸化物間にて適切なエネルギーバンドを形成し、その後、光照射により色素にて発生した電子が金属酸化物に円滑に伝達し、その後のヨウ素の酸化還元による発電に寄与することができるからである。金属酸化物半導体微粒子の平均一次粒子径は、5nm以上500nm以下であることが好ましい。5nm未満であると、結晶性が極端に劣化し、アナターゼ構造を維持できなくアモルファス構造となる傾向がある。一方、500nmを超えると、比表面積が著しく低下し、多孔質半導体層3に吸着させる発電に寄与する色素の総量が減少する傾向がある。ここで、平均一次粒子径は、一次粒子が分散できる溶媒系を用いて、所望な分散剤を添加して一次粒子まで分散処理した希薄溶液を用いて、光散乱法により測定する方法より求めたものである。多孔質半導体層3は、該多孔質半導体層3の面内方向に異なる緻密性を有し、この緻密性の選択により、所定の色を呈し、かつ所定の模様を構成するように形成されている。例えば、多孔質半導体層3の呈する所定の色は、緻密性の高低により選択される。具体的には、多孔質半導体層3の緻密性が高くなるに従って、多孔質半導体層3が呈する色の濃淡が淡くなるように階調が変化する。また、多孔質半導体層3が構成する所定の模様は、緻密性の変化する境界位置により選択される。多孔質半導体層3の緻密性は、例えば、金属酸化物半導体微粒子間に形成された空隙部の量により変化し、空隙部の量が少ないほど緻密性が高くなるようになっている。ここで、多孔質半導体層3の緻密性は、例えば多孔質半導体層全体の緻密性、多孔質半導体層内部の緻密性、または多孔質半導体層表面の緻密性であり、階調の付与および緻密性の制御の容易さの観点からすると、多孔質半導体層表面の緻密性であることが好ましい。より具体的には、図1Aおよび図1Bに示すように、多孔質半導体層3は、緻密性の異なる複数の領域Rを有し、これらの複数の領域Rが呈する色、具体的には色の階調色の濃淡が異なっている。領域Rの形状および配置は、この色素増感太陽電池の受光面に表示する模様に応じて選択される。領域Rの形状は、例えば、定形および不定形のいずれであってもよく、所望とする模様に応じて選択される。図1Aおよび図1Bに示されている領域Rの形状および配置は一例を模式的に示したものにすぎず、特にこれに限定されるものではない。領域Rにおける多孔質半導体層3の緻密性は、例えば、この色素増感太陽電池の受光面の領域Rが呈する色の階調に応じて選択される。領域Rにおける多孔質半導体層3の緻密性をn段階で変化させた場合には、領域Rが呈する色をn階調で変化させることができる。具体的には、領域Rにおける多孔質半導体層3の緻密性が段階的に高くなるに従って、領域Rにおける多孔質半導体層3が呈する色の濃淡が淡くなるように階調が段階的に変化する。このように多孔質半導体層3の緻密性の変化に応じて領域Rが呈する色の階調が変化するのは、多孔質半導体層3の緻密性に応じて、増感色素の担持密度が変化するからである。多孔質半導体層3の緻密性が低い領域Rでは、その緻密性が高い領域Rに比して、後述する増感色素の担持工程において増感色素が多孔質半導体層表面からその内部に対する浸透がより容易となる傾向がある。したがって、多孔質半導体層3の緻密性が高い領域Rでは、その緻密性が低い領域Rに比して、多孔質半導体層3の増感色素の担持密度が低くなり、淡い色となる。これに対して、多孔質半導体層3の緻密性が低い領域Rでは、その緻密性が高い領域Rに比して、多孔質半導体層3の増感色素の担持密度が高くなり、濃い色となる。緻密性が異なる複数の領域Rでは、例えば、多孔質半導体層3の膜厚方向に対する増感色素の浸透性が異なり、多孔質半導体層3の緻密性が高い領域Rほど、多孔質半導体層3の膜厚方向に対する増感色素の浸透性が低下する傾向がある。したがって、多孔質半導体層3の緻密性が高い領域Rでは、その緻密性が低い領域Rに比して、孔質半導体層3の膜厚方向に対する増感色素の浸透性の低下が大きく、淡い色となる。これに対して、多孔質半導体層3の緻密性が低い領域Rでは、その緻密性が高い領域Rに比して、孔質半導体層3の膜厚方向に対する増感色素の浸透性の低下が小さく、濃い色となる。緻密性が異なる複数の領域では、例えば、多孔質半導体層3の増感色素の担持密度が異なり、多孔質半導体層3の緻密性が高い領域Rほど、増感色素の担持密度が低くなる傾向がある。したがって、多孔質半導体層3の緻密性が高い領域Rでは、その緻密性が低い領域Rに比して、増感色素の担持密度が低くなり、淡い色となるのに対して、多孔質半導体層3の緻密性が低い領域Rでは、その緻密性が高い領域Rに比して、増感色素の担持密度が低くなり、濃い色となる。緻密性が異なる複数の領域Rでは、多孔質半導体層3の膜厚が異なり、多孔質半導体層3の緻密性が高い領域ほど、多孔質半導体層3の膜厚が薄くなっていることが好ましい。このような構成を有する多孔質半導体層3は、圧力分布を有する加圧処理を、均一厚さの多孔質半導体層3に対して施すことで容易に形成することができる。なお、圧力分布を有する加圧処理の詳細については後述する。図1Bに示すように、多孔質半導体層3の所定区画Dには、例えば、緻密性が異なる複数の領域Rが隣接して設けられ、隣接して設けられた複数の領域Rの緻密性は、複数の領域のうちの一端の領域から他端の領域に向けて段階的に高くなっている。このように隣接する複数の領域Rの緻密性が段階的に高くなるに従って、領域Rが呈する色の濃淡が段階的に淡くなる。したがって、上述のように緻密性を制御することで、色素増感太陽電池の受光面に表示する模様にグラデーションを付すことができる。上述のように複数の領域Rの緻密性を段階的に高くするためには、図1Bに示した所定区画Dのように、複数の領域Rの多孔質半導体層3の膜厚を、隣接する複数の領域Rのうちの一端の領域Rから他端の領域Rに向けて段階的に薄くすることが好ましい。このような膜厚構成を有する多孔質半導体層3は、圧力分布を有する加圧処理を、均一厚さの多孔質半導体層3に対して施すことで容易に形成することができる。増感色素光電変換用の増感色素としては、増感作用を示すものであれば特に限定はないが、通常、可視光領域付近の光を吸収できる物質、例えば、ビピリジン錯体、テルピリジン錯体、メロシアニン色素、ポルフィリン、およびフタロシアニンなどが用いられる。単独で用いる増感色素としては、例えば、ビピリジン錯体の1種であるシス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N719が、増感色素としての性能に優れており、一般的に用いられている。その他、ビピリジン錯体の1種であるシス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII通称:N3や、テルピリジン錯体の1種であるトリスイソチオシアナト2,2’6’,2-テルピリジル-4,4’,4-トリカルボン酸ルテニウムII三テトラブチルアンモニウム錯体通称ブラックダイが一般的に用いられる。特にN3やブラックダイを用いる場合には、共吸着剤もよく用いられる。共吸着剤は多孔質半導体層3上で色素分子が会合するのを防止するために添加される分子であり、代表的な共吸着剤としては、例えば、ケノデオキシコール酸、タウロデオキシコール酸塩、および1-デクリルホスホン酸などが挙げられる。これらの分子の構造的特徴としては、多孔質半導体層3を構成する酸化チタンに吸着されやすい官能基として、カルボキシル基やホスホノ基などをもつこと、および、色素分子間に介在して色素分子間の干渉を防止するために、σ結合で形成されていることなどが挙げられる。その他の増感色素としては、例えば、アゾ系色素、キナクリドン系色素、ジケトピロロピロール系色素、スクワリリウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、ポルフィン系色素、クロロフィル系色素、ルテニウム錯体系色素、インジゴ系色素、ペリレン系色素、オキサジン系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素など、およびその誘導体が挙げられるが光を吸収し多孔質半導体層3の伝導帯に励起電子を注入できる増感色素であればこれらに限定されない。これらの増感色素はその構造中に連結基を1個以上有する場合は、多孔質半導体層表面に連結することができ、光励起された増感色素の励起電子を多孔質半導体層3の電導帯に迅速に伝えることができるので望ましい。多孔質半導体層3の膜厚は、0.5μm以上200μm以下であることが好ましい。膜厚が0.5μm未満であると、有効な変換効率が得られなくなる傾向がある。一方、膜厚が200μmを超えると、成膜時に割れや剥がれが生じるなど作製が困難になる傾向がある。また、多孔質半導体層3の電解質層側の表面と、透明導電層12の多孔質半導体層側の表面との距離が増えるために、発生電荷が透明導電層12に有効に伝えられなくなるので、良好な変換効率が得られにくくなる傾向がある。対極対極5は、色素増感太陽電池光電変換セルの正極として機能するものである。対極5に用いる導電性の材料としては、例えば、金属、金属酸化物、または炭素などが挙げられるが、これに限定されるものではない。金属としては、例えば、白金、金、銀、銅、アルミニウム、ロジウム、インジウムなどを用いることができるが、これに限定されるものではない。金属酸化物としては、例えば、ITOインジウム-スズ酸化物、酸化スズフッ素などがドープされた物を含む、酸化亜鉛などを用いることができるが、これに限定されるものではない。対極5の膜厚は、特に制限はないが、5nm以上100μm以下であることが好ましい。電解質層電解質層4は、電解質、媒体、および添加物から構成されることが好ましい。電解質は、I2とヨウ化物例としてLiI、NaI、KI、CsI、MgI2、CaI2、CuI、テトラアルキルアンモニウムヨーダイド、ピリジニウムヨーダイド、イミダゾリウムヨーダイドなどの混合物、Br2と臭化物例としてLiBrなどの混合物、この中でもI2とヨウ化物の組み合わせとしてLiI、ピリジニウムヨーダイド、イミダゾリウムヨーダイドなどを混合した電解質が好ましいがこの組み合わせに限定されるものではない。媒体に対する電解質の濃度は、0.05~10Mが好ましく、0.05~5Mがより好ましく、0.2~3Mがさらに好ましい。I2やBr2の濃度は0.0005~1Mが好ましく、0.001~0.5Mがより好ましく、0.001~0.3Mがさらに好ましい。また、色素増感太陽電池の開放電圧を向上させる目的で、4-tert-ブチルピリジンやベンズイミダゾリウム類などの各種添加剤を加えることもできる。電解質層4に用いられる媒体は、良好なイオン電導性を発現できる化合物であることが好ましい。溶液状の媒体としては、例えば、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル化合物、エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールジアルキルエーテルなどの鎖状エーテル類、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテルなどのアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリンなどの多価アルコール類、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル化合物、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネート化合物、3-メチル-2-オキサゾリジノンなどの複素環化合物、ジメチルスルホキシド、スルホランなど非プロトン極性物質などを用いることができる。また、固体状ゲル状を含むの媒体を用いる目的で、ポリマーを含ませることもできる。この場合、ポリアクリロニトリル、ポリフッ化ビニリデンなどのポリマーを前記溶液状媒体中に添加することで、エチレン性不飽和基を有した多官能性モノマーを前記溶液状媒体中で重合させて媒体を固体状にする。電解質層4としてはこの他、CuI、CuSCN媒体を必要としない電解質および、2,2’,7,7’-テトラキスN,N-ジ-p-メトキシフェニルアミン9,9’-スピロビフルオレンのような正孔輸送材料を用いることができる。[色素増感太陽電池の製造方法]次に、本発明の第1の実施形態に係る色素増感太陽電池の製造方法の一例について説明する。透明導電性基材の形成まず、図3Aに示すように、板状やフィルム状の基材12を成形する。成形方法としては、例えば溶融押出法、射出成形法などを用いることができるが、これに限定されるものではない。次に、図3Bに示すように、スパッタリング法などの薄膜作製技術により、透明導電層13を基材12上に形成する。これにより、透明導電性基材11が得られる。多孔質半導体層の形成次に、図3Dに示すように、透明導電性基材11の透明導電層13上に多孔質半導体層3を形成する。以下、多孔質半導体層3の形成工程の詳細について説明する。まず、金属酸化物半導体微粒子を溶剤中に分散させて、多孔質半導体層形成用組成物であるペーストを調製する。必要に応じて、結着剤バインダーを溶媒中さらに分散させるようにしもよい。ペースト作製の際には、必要に応じて、水熱合成から得られた単分散コロイド粒子を利用してもよい。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、sec-ブタノール、t-ブタノールなどの炭素数が4以下の低級アルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール1,3-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオールなどの脂肪族グリコール、メチルエチルケトンなどのケトン類、ジメチルエチルアミンなどのアミン類などが単独または2種以上混合して用いることができるが、特にこれに限定されるものではない。分散方法としては、例えば、公知の方法を用いることができ、具体的には例えば、攪拌処理、超音波分散処理、ビーズ分散処理、混錬処理、ホモジナイザー処理などを用いることができるが、特にこれに限定されるものではない。次に、調製された分散液を透明導電層13上に塗布または印刷した後、乾燥させることにより、溶媒を揮発させる。これにより、多孔質半導体層3が透明導電層13上に形成される。乾燥条件は特に限定されるものではなく、自然乾燥であっても、乾燥温度や乾燥時間などを調整する人工的乾燥であってもよい。人工的に乾燥させる場合には、乾燥温度や乾燥時間は、基材11の耐熱性を配慮し、基材11を変質させない範囲で設定することが好ましい。塗布または印刷の方法としては、簡便で量産性に適した方法を用いることが好ましい。塗布方法としては、例えば、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、ディップ法、スプレーコート法、リバースロールコート法、カーテンコート法、コンマコート法、ナイフコート法、スピンコート法などを用いることができるが、特にこれに限定されるものではない。また、印刷方法としては、例えば、凸版印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法、凹版印刷法、ゴム版印刷法、スクリーン印刷法などを用いることができるが、特にこれに限定されるものではない。焼成次に、上述のようにして作製した多孔質半導体層3を焼成し、多孔質半導体層3における金属酸化物半導体微粒子間の電子的な接続を向上させる。焼成温度は、好ましくは40~1000°Cであり、より好ましくは40~600°C程度であるのが、特にこの温度範囲に限定されるものではない。また、焼成時間は、好ましくは30秒間~10時間程度であるが、特にこの時間範囲に制限されるものではない。加圧次に、図3Dに示すように、圧力分布を有する加圧処理を多孔質半導体層3の表面に対して施す。これにより、図3Eに示すように、膜厚が異なる複数の領域Rを有する多孔質半導体層3が透明導電性基材1上に形成される。また、加えられた圧力の大きさに応じた緻密性が多孔質半導体層表面に付与され、例えば緻密性が異なる複数の領域Rが形成される。圧力分布を有する加圧処理の方法としては、例えば、凸形状の先端部を有する圧子加圧手段を面内方向に移動させながら多孔質半導体層表面を圧子により加圧するとともに、多孔質半導体層3の面内方向の移動に伴って圧子の圧力を変化させる加圧処理の方法、凹凸面を有する圧子加圧手段により多孔質半導体層3の表面を加圧する加圧処理の方法などが挙げられる。凸形状の先端部を有する圧子としては、例えば、錐体状、頂部に曲率Rが付された錐体状のものを用いることができるが、これに限定されるものではない。凹凸面を有する圧子を用いた場合には、凹凸面の凸部では圧子の圧力が高いため、多孔質半導体層3の緻密性が高くなり、増感色素の浸透が抑制されるのに対して、凹凸面の凹部では圧子の圧力が低いため多孔質半導体層3の緻密性が低くなり、増感色素の浸透が容易である。図3Aは、多孔質半導体層に加えられた圧力Pと、色素担持密度σおよび光電変換効率ηとの関係を模式的に示すグラフである。図3Bは、色素担持密度σの定義を説明するための略線図である。図3Aにおいて、横軸は、多孔質半導体層に加えられた圧力Pを示し、縦軸は、色素担持密度σまたは光電変換効率ηを示す。色素担持密度σは、以下の式1により定義される。色度担持密度σ=多孔質半導体層3の微少区画ΔVに含まれる増感色素量/微少区画ΔVの多孔質半導体層3の全比表面積ここで、微小区画ΔVは、微小領域ΔSの周縁に沿って多孔質半導体層3を切り取ることにより得られる微小区画である。図3Aの実線に示すように、圧力PがPa未満であると、圧力Pを増加させても色素担持密度σは殆ど変化せず、ほぼ一定となる傾向があるのに対して、圧力PがPa以上であると、圧力Pの増加に伴い色素担持密度σが減少する傾向がある。これは、圧力Pa以上となると、多孔質半導体層3の緻密性が高くなりすぎ、多孔質半導体層表面からの増感色素の浸透性が低下するためと考えられる。したがって、Pa未満の圧力により多孔質半導体層3を加圧処理した場合には、圧力Pによらず、色素担持後の多孔質半導体層3が呈する色の階調は殆ど変化せず、ほぼ一定となる傾向がある。これに対して、Pa以上の圧力により多孔質半導体層3を加圧処理した場合には、圧力Pによって、多孔質半導体層3が呈する色の階調が変化する傾向がある。図3Aの鎖線に示すように、圧力PがPa未満であると、圧力Pの増加に伴い光電変換効率ηが増加する傾向があるのに対して、圧力PがPa以上であると、光電変換効率ηが減少する傾向がある。これは、上述したように、圧力Pa以上となると、多孔質半導体層3の緻密性が高くなりすぎ、多孔質半導体層表面からの増感色素の浸透性が低下するためと考えられる。加圧Pの増加に伴い色素担持密度σが低下し始める境界値となる色素担持密度σをσiとした場合、色素担持後の多孔質半導体層3が呈する色の階調を変化させる観点からすると、色素担持密度σをσi以上とすることが好ましい。また、色素担持密度σiが得られる圧力PをPiとした場合、色素担持後の多孔質半導体層3が呈する色に階調を付与する観点からすると、圧力Pを圧力Pi以上とすることが好ましい。加圧Pによる色素担持密度σの変化が殆どなくなる色素増感密度σをσjとした場合、加圧工程における圧力制御によって、色素担持後の多孔質半導体層3が呈する色に階調を付与する観点からすると、色素増感密度σをσj以下とすることが好ましい。また、色素増感密度σjが得られる圧力PをPjとした場合、色素担持後の多孔質半導体層3が呈する色に階調を付与する観点からすると、圧力PをPj以下とすることが好ましい。したがって、色素増感密度σは、σi以上σj以下とすることが好ましい。また、圧力Pは、Pi以上Pj以下とすることが好ましい。色素担持次に、増感色素を溶媒に溶解させて、溶液を調製する。増感色素を溶解させるために必要に応じて、加熱、溶解助剤の添加および不溶分のろ過を行ってもよい。溶媒としては、増感色素を溶解可能であり、かつ、多孔質半導体層3に色素吸着の仲立ちを行えるものであることが好ましく、例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶剤、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、炭酸ジエチル、炭酸プロピレンなどの炭酸エステル系溶剤、ヘキサン、オクタン、トルエン、キシレンなどの炭水化物系位溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3-ジメチルイミダゾリノン、Nメチルピロリドン、水などを単独または2種以上混合して用いることができるが、これに限定されるものではない。次に、例えば、多孔質半導体層3を、増感色素を含む溶液中に浸すことにより、金属酸化物微粒子に増感色素を担持させる。このとき、多孔質半導体層表面の緻密性の違い応じて、多孔質半導体層3に対する増感色素の浸透性に差が生じ、多孔質半導体層3の面内方向に異なる色素担持密度σが付与される。これにより、増感色素の色素担持密度σの差に対応した階調が多孔質半導体層3に付与される。また、緻密性の変化する境界位置に対応した模様が多孔質半導体層3に付与される。具体的には、多孔質半導体層表面のうち緻密性が低い領域Rほど、増感色素の浸透が容易であり、増感色素の担持密度が高くなる。これに対して、多孔質半導体層表面のうち緻密性が高い領域Rほど、増感色素の浸透が抑制され、増感色素の担持密度が低くなる。したがって、多孔質半導体層3の緻密性に対向した階調が領域Rに付与される。また、領域Rの形状に応じた模様が多孔質半導体層表面に付与される。電解質の充填次に、透明導電性基材2の透明導電層22の周縁部に、封止剤6としての紫外線硬化型接着剤をスクリーン印刷により形成した後、この紫外線硬化型接着剤を介して、透明導電性基材1を貼り合わせる。この際、多孔質半導体層3および対極5が、所定間隔、例えば1~100μm、好ましくは1~50μmの間隔を置いて対向配置し、かつ互いにx軸方向およびy軸方向にそれぞれa、bだけずれた状態に配置する。これにより、透明導電性基材1と透明導電性基材2と封止剤6とにより、電解質層4が充填される空間が形成される。次に、この空間に例えば透明導電性基材2に予め形成された注入口8から電解質を注入し、空間内に電解質層4を充填する。その後、この注入口8を塞ぐ。これにより、目的とする色素増感太陽電池が製造される。[色素増感太陽電池の動作]次に、本発明の第1の実施形態に係る色素増感太陽電池の動作について説明する。色素増感太陽電池は、透明導電性基材11の受光面に光Lが入射すると、対極5を正極、透明導電層12を負極とする電池として動作する。その原理は次の通りである。基材11および透明導電層12を透過してきた光子を増感色素が吸収すると、増感色素中の電子が基底状態HOMOから励起状態LUMOへ励起される。励起状態の電子は、増感色素と多孔質半導体層3との間の電気的結合を介して、多孔質半導体層3の伝導帯に引き出され、多孔質半導体層3を通って透明導電層12に到達する。一方、電子を失った増感色素は、電解質層4中の還元剤、例えばIから下記の反応によって電子を受け取り、電解質層4中に酸化剤、例えばI3I2とIとの結合体を生成させる。2I→I22eI2I→I3生成した酸化剤、例えばI3は拡散によって対極5に到達し、例えば下記の反応上記の反応の逆反応によって対極6から電子を受け取り、もとの還元剤、例えばIに還元される。I3→I2II22e→2I透明導電層12から外部回路へ送り出された電子は、外部回路で電気的仕事をした後、対極5に戻る。このようにして、増感色素にも電解質層4にも何の変化も残さず、光エネルギーが電気エネルギーに変換される。本発明の第1の実施形態によれば、緻密性が異なる複数の領域Rを多孔質半導体層3に形成するとともに、これらの領域Rの緻密性の高低を選択することにより、多孔質半導体層3が呈する色の階調を制御することができる。また、領域Rの形状および配置を選択することにより、多孔質半導体層3が構成する模様を選ぶことができる。したがって、簡便な方法により製造することができると共に、意匠性に優れた色素増感太陽電池を実現できる。また、多孔質半導体層表面に対して、圧力分布を有する加圧処理を行うことで、多孔質半導体層表面の緻密性を制御することができる。増感色素の浸透は多孔質半導体層3の緻密性に依存し、緻密性が高い領域Rほど増感色素の浸透を抑制することが可能である。<第2の実施形態>[色素増感太陽電池の構成]図5Aは、本発明の第2の実施形態に係る色素増感太陽電池の構成の一例を示す断面図である。図5Bは、図5Aに示したB-B線に沿った断面図である。図5Aおよび図5Bに示すように、第2の実施形態に係る色素増感太陽電池は、複数の多孔質半導体層3を備え、これらの多孔質半導体層3の緻密性が異なっている点において、第1の実施形態とは異なっている。第2の実施形態において、第1の実施形態と同一または対応する箇所には同一の符号を付す。多孔質半導体層3は、所定のパターン形状を有している。多孔質半導体層3の数、形状および配置は、この色素増感太陽電池の受光面に表示する模様に応じて決められる。ここでは、一例として多孔質半導体層3が4つの多孔質半導体層3から形成されているものとする。図5Aおよび図5Bに示されている多孔質半導体層3の形状および配置は一例を模式的に示したものにすぎず、特に限定されるものではない。複数の多孔質半導体層3は、緻密性、厚さ、積層構造、酸化チタン微粒子の粒径または酸化チタン微粒子が互いに粒径が異なる二種類以上の酸化チタン微粒子からなる場合におけるそれらの配合率の選択により、所定の色を呈し、かつ所定の模様を構成するように形成される。ここで、所定の模様は、多孔質半導体層3のパターンの形状および透明導電性基材1上の配置により決められる。これに対し、多孔質半導体層3が呈する色は、上述のパラ-メータの選択により決められる。これは、多孔質半導体層3に入射する太陽光のうちこの多孔質半導体層3に吸収される光およびこの多孔質半導体層3により散乱される光の波長、吸収強度または散乱強度が、厚さ、積層構造、酸化チタン微粒子の粒径または酸化チタン微粒子が互いに粒径が異なる二種類以上の酸化チタン微粒子からなる場合におけるそれらの配合率の選択によって変わるためである。また、多孔質半導体層3に担持される増感色素の量が、多孔質半導体層3の緻密性、特にその表面の緻密性によって変わるためである。また、図5Aおよび図5Bに示すように、一つの多孔質半導体層3が、緻密性の異なる複数の領域Rを有し、これらの複数の領域Rが呈する色の階調、すなわち色の濃淡が異なっているようにしてもよい。第2の実施形態では、緻密性、厚さ、積層構造、酸化チタン微粒子の粒径または酸化チタン微粒子が互いに粒径が異なる二種類以上の酸化チタン微粒子からなる場合におけるそれらの配合率を選択して複数の多孔質半導体層3を形成している。したがって、多孔質半導体層3が呈する種々の色に対して、種々の階調を容易に付すことができる。以下、実施例によりこの発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。<実施例1>以下、図6A~図6Dを参照しながら、実施例1の色素増感太陽電池の製造工程について説明する。まず、図6Aに示すように、ソーダライムガラス基板111上に、透明導電層112として、厚さ100nmのITO膜をスパッタリング法により形成し、透明導電性基板101を得た。次に、図6Bに示すように、透明導電性基板101上に、増感色素を保持した多孔質半導体層103を以下のようにして形成した。まず、以下の材料をビーズ分散機を用いて16時間分散処理を行うことで、酸化チタン分散溶液を調製した。酸化チタン微粒子:日本アエロゾル社製P255g溶媒:エタノール45g散剤:3,5-ジメチル-1-ヘキシン-3-オール0.5g次に、調製した酸化チタン分散溶液を透明導電層113上にスプレー塗布し、塗膜を形成した後、オープン中、500°Cの温度環境下、1時間焼成することにより、多孔質半導体層103を形成した。次に、直径1mmのドット形状の圧子を用いて多孔質半導体層103の表面を加圧することで、図6Cに示す緻密性が異なる領域を多孔質半導体層203の表面に形成した。圧力は、図6Cに示す領域図に対応して、26MPaから2610Mpaまで変化させることで、多孔質半導体層103の表面の緻密性を制御した。次に、多孔質半導体層103を以下の組成の色素溶液に浸漬して増感色素を吸着させた。その後、余剰の増感色素をエタノールにて洗浄して乾燥させ、光増感色素を保持した多孔質半導体層103を形成した。増感色素:シス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N71925mg溶媒:エタノール50ml次に、図6Dに示すように、多孔質半導体層103を形成した透明導電性基板101と、対極105を形成した透明導電性基板102とを対向配置させて樹脂フィルム製スペーサーおよびアクリル系紫外線硬化樹脂を用いて封止した。樹脂フィルム製スペーサーとしては、厚さ25μmのフィルム三井デュポンポリケミカル社製、商品名:ハイミランを用いた。次に、注液口から送液ポンプを用いて以下の組成の電解液を注入し、電解質層104を形成した。以上により、目的とする色素増感太陽電池を得た。メトキシプロピオニトリル1.5gヨウ化ナトリウム0.02g1-プロピル-2,3-ジメチルイミダソリウムヨーダイド0.8gヨウ素0.1g4-tert-ブチルピリジンTBP0.05g次に、上述のようにして得られた色素増感太陽電池について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率5の良好な変換効率を有し、かつ、意匠性に優れた色素増感太陽電池が得られた。<実施例2>以下、図7A~図7Dを参照しながら、実施例2の色素増感太陽電池の製造工程について説明する。まず、図7Aに示すように、ソーダライムガラス基板211上に、透明導電層212として、厚さ100nmのITO膜をスパッタリング法により形成し、透明導電性基板201を得た。次に、図7Bに示すように、透明導電性基板201上に、増感色素を保持する多孔質半導体層203を以下のようにして形成した。まず、以下の材料をビーズ分散機を用いて16時間分散処理を行うことで、酸化チタン分散溶液を調製した。酸化チタン微粒子:日本アエロゾル社製P255g溶媒:エタノール45g分散剤:3,5-ジメチル-3-アミノ-1-ヘキシン0.5g次に、調製した酸化チタン分散溶液を透明導電層212上にスプレー塗布し、塗膜を形成した後、超高真空中で以下の熱処理条件で焼結することにより、多孔質半導体層203を形成した。圧力:3.0×107torr温度:150°C時間:60分次に、凹凸面を有する圧子を用いて多孔質半導体層203の表面を加圧することで、図7Cに示す緻密性が異なる領域を多孔質半導体層203の表面に形成した。次に、多孔質半導体層203を以下の組成の色素溶液に浸漬して増感色素を吸着させた。その後、余剰の増感色素をエタノールにて洗浄して乾燥させ、光増感色素を保持した多孔質半導体層203を形成した。増感色素:シス-ビスイソチオシアナトビス2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸ルテニウムII二テトラブチルアンモニウム錯体通称N71925mg溶媒:エタノール50ml次に、図7Dに示すように、多孔質半導体層203を形成した透明導電性基板201と、対極205を形成した透明導電性基板202とを対向配置させて樹脂フィルム製スペーサーおよびアクリル系紫外線硬化樹脂を用いて封止した。樹脂フィルム製スペーサーとしては、厚さ25μmのフィルム三井デュポンポリケミカル社製、商品名:ハイミランを用いた。次に、注液口から送液ポンプを用いて以下の組成の電解液を注入し、電解質層204を形成した。以上により、目的とする色素増感太陽電池を得た。メトキシプロピオニトリル1.5gヨウ化ナトリウム0.02g1-プロピル-2,3-ジメチルイミダソリウムヨーダイド0.8gヨウ素0.1g4-tert-ブチルピリジンTBP0.05g次に、上述のようにして得られた色素増感太陽電池について、疑似太陽光AM1.5、100mw/cm2照射時における電流-電圧曲線における短絡電流、開放電圧、フィルファクタ、および光電変換効率を測定した。その結果、光電変換効率4の良好な変換効率を有し、かつ、意匠性に優れた色素増感太陽電池が得られた。本発明は、上述した本発明の実施形態に限定されるものでは無く、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。例えば、上述の実施形態および実施例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。また、上述の実施形態の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。また、上述の実施形態に係る色素増感太陽電池セルを複数組み合わせてモジュールを形成するようにしてもよい。複数の色素増感太陽電池は、電気的に直列および/または並列に接続され、例えば直列に組み合わせた場合には高い起電圧を得ることができる。"