"固定ベース上に移動ステージが乗ったステージ機構において、前記移動ステージに接触する前記固定ベースの表面近傍に、前記固定ベース表面の熱変形突出用の第一層目のヒータをXY方向にアレイ状に複数配置し、更に前記固定ベース表面から深いところに、前記第一層目のヒータの前後左右を挟み込むように第二層目のヒータをXY方向にアレイ状に複数配置し、前記第二層目のヒータが、前記第一層目のヒータによる熱変形突出部をXY方向に移動し、前記熱変形突出部に接触する前記移動ステージをXYθ方向に駆動するよう構成されていることを特徴とするステージ機構。請求項1記載のステージ機構を駆動するためのステージ機構の駆動方法であって、前記第一層目のヒータのうち、離間し平行な少なくとも二列の第一群の第一層目のヒータを駆動し、その熱変形突出部で前記移動ステージを持ち上げ、次に、前記第一群の第一層目のヒータを挟み込む第一群の第二層目のヒータを駆動し、前記熱変形突出部をXまたはY方向に移動し、前記熱変形突出部に接触する前記移動ステージをXまたはY方向に移動する第一工程と、前記第一群の第一層目のヒータとは異なる、離間し平行な少なくとも二列の第二群の第一層目のヒータを駆動し、その熱変形突出部を前記移動ステージに接触させ、前記第一群の第一層目のヒータをOFFにし、次に、前記第二群の第一層目のヒータを挟み込む第二群の第二層目のヒータを駆動し、前記第二群の第一層目のヒータによる熱変形突出部をXまたはY方向に移動する第二工程とを有し、前記第一工程と前記第二工程とを繰り返し行うことを特徴とするステージ機構の駆動方法。請求項1記載のステージ機構を駆動するためのステージ機構の駆動方法であって、前記第一層目のヒータのうち、一直線上にない少なくとも3ヶ所以上の第一群の第一層目のヒータを駆動し、その熱変形突出部で前記移動ステージを持ち上げ、次に、前記第一群の第一層目のヒータを挟み込む第一群の第二層目のヒータを駆動し、前記熱変形突出部を前記移動ステージの中心軸周りの回転方向に移動する第一工程と、前記第一群の第一層目のヒータとは異なる、一直線上にない少なくとも3ヶ所以上の第二群の第一層目のヒータを駆動し、その熱変形突出部を前記移動ステージに接触させ、前記第一群の第一層目のヒータをOFFにし、次に、前記第二群の第一層目のヒータを挟み込む第二群の第二層目のヒータを駆動し、前記第二群の第一層目のヒータによる熱変形突出部を前記移動ステージの中心軸周りの回転方向に移動する第二工程とを有し、前記第一工程と前記第二工程とを繰り返し行うことを特徴とするステージ機構の駆動方法。従来のアクチュエータを用いたステージでは、通常、多自由度のステージ駆動を実現する場合、アクチュエータを複数組み合わせる必要がある。基本的に、空間内において剛体の有する運動自由度は、X/Y/Z軸方向の並進運動と、これらの軸まわりの回転運動ピッチ、ロール、ヨーとを合わせた6自由度である。精密ステージにおいてこの6自由度駆動を実現する場合、アクチュエータによっては多自由度駆動が可能なものも実在するが、一般にはアクチュエータを複数組み合わせることになるため、システムが大掛かりなものになる。その一方で、例えばディジタルカメラのズームレンズ駆動機構、各種顕微鏡の微動ステージ等においては、装置の空間的制約およびステージ搭載物の重量が小さいことを考慮すると、極力コンパクトな構成で多自由度かつ高精度な位置決めを実現するアクチュエータによる多自由度ステージ機構が望まれる。本発明は、このような課題に着目してなされたもので、ステージを搭載する固定ベース表面に組み込んだマイクロヒータアレイで構成されるコンパクトなアクチュエータシステムで、XY方向、ヨー回転方向の3自由度に関する長ストローク駆動、およびZ/ピッチ/ロール方向の微細駆動を実現することができるステージ機構およびその駆動方法を提供することを目的としている。本発明に係るステージ機構は、固定ベース上に移動ステージが乗ったステージ機構において、前記移動ステージに接触する前記固定ベースの表面近傍に、前記固定ベース表面の熱変形突出用の第一層目のヒータをXY方向にアレイ状に複数配置し、更に前記固定ベース表面から深いところに、前記第一層目のヒータの前後左右を挟み込むように第二層目のヒータをXY方向にアレイ状に複数配置し、前記第二層目のヒータが、前記第一層目のヒータによる熱変形突出部をXY方向に移動し、前記熱変形突出部に接触する前記移動ステージをXYθ方向に駆動するよう構成されていることを特徴とする。また、本発明に係るステージ機構の駆動方法は、本発明に係るステージ機構を駆動するためのステージ機構の駆動方法であって、前記第一層目のヒータのうち、離間し平行な少なくとも二列の第一群の第一層目のヒータを駆動し、その熱変形突出部で前記移動ステージを持ち上げ、次に、前記第一群の第一層目のヒータを挟み込む第一群の第二層目のヒータを駆動し、前記熱変形突出部をXまたはY方向に移動し、前記熱変形突出部に接触する前記移動ステージをXまたはY方向に移動する第一工程と、前記第一群の第一層目のヒータとは異なる、離間し平行な少なくとも二列の第二群の第一層目のヒータを駆動し、その熱変形突出部を前記移動ステージに接触させ、前記第一群の第一層目のヒータをOFFにし、次に、前記第二群の第一層目のヒータを挟み込む第二群の第二層目のヒータを駆動し、前記第二群の第一層目のヒータによる熱変形突出部をXまたはY方向に移動する第二工程とを有し、前記第一工程と前記第二工程とを繰り返し行うことを特徴とする。本発明に係るステージ機構の駆動方法は、本発明に係るステージ機構を駆動するためのステージ機構の駆動方法であって、前記第一層目のヒータのうち、一直線上にない少なくとも3ヶ所以上の第一群の第一層目のヒータを駆動し、その熱変形突出部で前記移動ステージを持ち上げ、次に、前記第一群の第一層目のヒータを挟み込む第一群の第二層目のヒータを駆動し、前記熱変形突出部を前記移動ステージの中心軸周りの回転方向に移動する第一工程と、前記第一群の第一層目のヒータとは異なる、一直線上にない少なくとも3ヶ所以上の第二群の第一層目のヒータを駆動し、その熱変形突出部を前記移動ステージに接触させ、前記第一群の第一層目のヒータをOFFにし、次に、前記第二群の第一層目のヒータを挟み込む第二群の第二層目のヒータを駆動し、前記第二群の第一層目のヒータによる熱変形突出部を前記移動ステージの中心軸周りの回転方向に移動する第二工程とを有し、前記第一工程と前記第二工程とを繰り返し行ってもよい。本発明によれば、アレイ状に配置したヒータ群を強調制御することで、ヨー方向の長ストローク回転制御も可能となる。更には、熱突出によって高さ方向に微動調整が可能なので、Z/ピッチ/ロール方向の微動位置決めも可能である。すなわち、マイクロヒータアレイ1式で、6自由度ステージ駆動が可能となる。ステージのベース表面近傍にベース表面の熱変形突出用の第一層目ヒータを配置し、更に深いところに、第一層目ヒータの上下左右を挟み込むように第二層目のヒータを配置し、これを一つのヒータ群とする。第二層目のヒータは第一層目のヒータによる熱変形突出のXY方向駆動用である。このヒータ群をベース表面のXY方向にアレイ状に配置する。ステージ駆動開始時、まず第一層目のヒータで熱変形突出を発生し、ステージに接触させる。この状態で、第二層目のヒータを加熱し、突出を平面方向に動かす。第二層目ヒータは、駆動方向によって加熱するヒータを選択する。ステージは突出と一緒の方向に駆動される。ストロークが限界に達したら、ヒータの加熱を止めて突出を引っ込める。このサイクルを繰り返すことで、XY方向への長ストローク駆動を実現する。このように、本発明によれば、ステージを搭載する固定ベース表面に組み込んだマイクロヒータアレイで構成されるコンパクトなアクチュエータシステムで、XY方向、ヨー回転方向の3自由度に関する長ストローク駆動、およびZ/ピッチ/ロール方向の微細駆動を実現することができるステージ機構およびその駆動方法を提供することができる。本発明にかかる第一の実施形態を、図1から図7を用いて説明する。図1は、本発明にかかる第一の実施形態で用いるステージ機構の概略図である。図1aは、ステージ機構の俯瞰図であり、ステージ機構はベース固定ベース2とステージ移動ステージ1とから構成される。図1bは、ベース2およびその内部を、ステージ1の搭載面から見た模式図である。第一層目のヒータ3をアレイ状に配置し、各々の第一層目のヒータ3を四方から挟み込むように、第二層目のヒータ4をこちらもアレイ状に配置する。なお、第一層目のヒータ3および第二層目のヒータ4はいずれも、ベース2の表層近傍に組み込むものとし、第一層目のヒータ3が第二層目のヒータ4よりもベース2の表層に近くなるよう配置する。図1cは、ステージ機構を横から見たときのステージ1、ベース2および各ヒータ3、4の位置関係を示す模式図である。ステージ1の表面およびベース2の表面には、その表面状態によっては固着を防ぐためにバンプ5を設けても良い。図2は、図1のステージ機構を駆動するステージシステムの概略を示す。本発明においては、アレイ状に配置した各ヒータ3、4を独立に制御することで、ベース2の上に搭載したステージ1を移動する。そのため、各々のヒータ3、4について駆動用アンプAmplifier8、9を配置する。コントローラController6からのディジタル信号をD/AコンバータD/Aconverter7でアナログ信号に変換し、第一層目のヒータ用アンプ8および第二層目のヒータ用アンプ9を通してベース2内の各ヒータ3、4に電力を供給する。また、ステージ1のX、Y、Z方向の3軸位置、およびピッチ、ロール、ヨーの姿勢位置をステージ位置姿勢検出用センサPositionsensorforX,Y,Z-axis、Pitch,Roll,Yawmotionsensor10で検知し、この信号をフィードバックして制御に用いても構わない。図3は、図1のステージ機構によりステージ1をX軸方向に移動するときの、第一層目のヒータ3と第二層目のヒータ4との動作を表わした模式図である。以下、第一層目のヒータ3を表面突出用ヒータ3と呼び、第二層目のヒータ4を突出移動用ヒータ4と呼ぶことになる。なお、ここでは第一層目のヒータ3を第二層目のヒータ4で囲んだものをヒータ群1組とし、このヒータ群を4組ベース内に配置しているが、ヒータ群内におけるヒータ配置はこれに限るものでもなく、また、ヒータ群の配置および数もこれに限るものではない。ここでは、ステージ1をX軸正の方向に移動する場合を考える。まず、図3に示すように、突出移動用ヒータのうち、表面突出用ヒータ3の右側に配置した突出移動用ヒータ4に電力を与え、その熱膨張により表面突出用ヒータ3をX軸負の方向に移動するステップA。次に、突出移動用ヒータ4に電力を与えた状態で表面突出用ヒータ3に電力を与えて、第一層目のヒータ3による熱変形突出11を形成してベース2の表面を突出させ、ステージ1をベース2の表面から持ち上げるステップB。この状態で、表面突出用ヒータ3の右側に配置した突出移動用ヒータ4への電力供給を停止し、表面突出用ヒータ3の左側に配置した突出移動用ヒータ4への電力供給を開始するステップC。その後、表面突出用ヒータ3の左側に配置した突出移動用ヒータ4へ電力を与えた状態で、表面突出用ヒータ3への電力供給を停止するステップD。以上、ステップAからステップDまでの一連の動作を1ストロークとして、ベース2の上に搭載したステージ1は、ステージ移動量12ΔdだけX軸正の方向に移動することができる。Δdよりも大きくステージ1を移動させたい場合には、この動作を繰り返せばよい。また、1ストローク内での微細位置決めを行いたい場合には、ステップB~Cの状態で、突出移動用ヒータ4への電力供給を調節すると位置決めが可能となる。なお、ステージ1をX軸負の方向に駆動する場合、又はY軸方向に駆動したい場合も同様に、突出移動用ヒータ4への電力供給を実施することで、ステージ移動および微細位置決めが可能となる。本発明では、第一層目のヒータ3によりベース2の表面を突出させてステージ駆動を実施する。そのため、ベース2の表面の突出には少なくとも、ベース2の面およびステージ1の面の表面粗さよりも大きな突出高さが必要となる。そこで、図4に示すような配置で第一層目のヒータ3とベース2とをモデル化した有限要素モデルを用い、伝熱シミュレーションにより第一層目のヒータ3に与える電力量と突出高さの関係を評価した。簡易シミュレーションによって得られた、第一層目のヒータ3によるベース2の表面の突出形状シミュレーション結果の3次元形状、およびその突出部の断面形状を、図5に示す。このシミュレーションでは、ベース2の表面から第一層目のヒータ3までの距離dを10μmに設定した。突出高さは第一層目のヒータ3に与える電力により変化し、より大きな電力によってより高い突出形状を得ることが可能であることが分かる。例えば、50mW程度の電力を与えた場合、100nm以上の突出高さが得られることが分かる。従って、ベース2の表面およびステージ1の表面の粗さを、例えばRa=0.01μm程度に設定することで、ステージ1をベース2の表面から持ち上げることは充分可能であると考えられる。次に、Z軸方向へのステージ位置決めを実施する場合を考える。図6は、図1のステージ機構によりステージ1をZ軸方向に微動位置決めするときの、第一層目のヒータ3の動作を表わした模式図である。表面突出用ヒータ3に与える電力量を調整して突出の高さを変更することで、ステージ1のZ軸方向微動位置決めが可能となる。このとき、各表面突出用ヒータ3に与える電力量に差を与えることで、ステージ1のピッチ姿勢およびロール姿勢の微動位置決めが可能となる。図7は、図1のステージ機構によりステージ1のピッチロール制御を実施するときの、第一層目のヒータ3の動作を表わした模式図である。X方向に並べて配置したヒータ群において、表面突出用ヒータ3に与える電力量に差をつけることで、Y軸まわりの姿勢ロール姿勢を微調整することが可能となる。同様に、Y方向に並べて配置したヒータ群において、表面突出用ヒータ3に与える電力量に差をつけることで、X軸まわりの姿勢ピッチ姿勢についても微調整が可能である。次に、Z軸回転方向ヨー姿勢へのステージ回転を実施する場合を考える。図8は、図1のステージ機構によりステージ1のヨー制御を実施するときの、第一層目のヒータ3および第二層目のヒータ4の動作を表わした模式図である。XY方向にアレイ状に配置したヒータ群をX軸方向移動と同様に協調制御することで、Z軸まわりに1ステップあたりΔθの微動回転を実現できる。以上のように、ベース2の表層にアレイ状に配置したヒータ群を協調制御することで、XYθ方向θ:Z軸まわり回転へのステージ移動回転、Z軸方向への微動位置決め、ピッチロール方向への微動回転位置決めが実現できる。本発明にかかる第二の実施形態を、図9を用いて説明する。図9は、本発明にかかる第二の実施形態で用いるステージ機構の概略図である。第二の実施形態のステージ機構は、基本的な構成は第一の実施形態で示したステージ機構と同様であるが、第一層目のヒータ3を配置した箇所のベース2の上に接触パッド13を形成することが特徴である。なお、この接触パッド13の高さは別途ベース上に設けたバンプ5よりも低く設定する。第一層目のヒータ3による表面突出がステージ1に触れた際、ベース2の表面から第一層目のヒータ3までの位置dが小さい場合、第一層目のヒータ3での発生熱がステージ1の表面に逃げてしまい、突出形状が保てなくなる恐れがある。この接触パッド13を第一層目のヒータ3の上に配置することで、ヒータ発生熱がステージ1の表面に逃げるのを防ぐとともに、接触パッド13の表面粗さを最適化することでステージ1の駆動力バラつきを抑制し、1ストロークあたりのステージ1の移動量12Δdを一定にする効果が望める。"