"重合性樹脂組成物と、10重量超~25重量固形分の、親水性-親油性バランスが2~6である非イオン性非重合性界面活性剤と、を含む、コーティング組成物。前記コーティング組成物が、重合性界面活性剤、シリコーン基若しくはフッ素化基を含む添加剤、又はこれらの組み合わせを更に含む、請求項1に記載のコーティング組成物。重合性樹脂組成物と、非重合性非イオン性界面活性剤と、シリコーン基若しくはフッ素化基、及び6、7、若しくは8個を超える炭素原子を有するアルキル基又はアルキレン基を含む疎水基を含む添加剤と、を含む、コーティング組成物。前記非重合性非イオン性界面活性剤が、前記コーティング組成物中に、10重量~25重量固形分の範囲の量で存在する、請求項3に記載のコーティング組成物。前記非重合性非イオン性界面活性剤の親水性-親油性バランスが6以下である、請求項3又は4に記載のコーティング組成物。前記非重合性非イオン性界面活性剤の親水性-親油性バランスが少なくとも2である、請求項3~5のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記非重合性非イオン性界面活性剤が、室温で液体である、請求項1~6のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記非重合性非イオン性界面活性剤が、少なくとも12個の炭素原子を有するアルキル基又はアルケニル基を含む、請求項1~7のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記組成物が、重合性非イオン性界面活性剤を更に含む、請求項1~8のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記疎水基が、非イオン性界面活性剤化合物から誘導される、請求項3~9のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記添加剤の前記非イオン性界面活性剤の親水性-親油性バランスが1~19の範囲である、請求項10に記載のコーティング組成物。前記添加剤が、前記疎水基に結合している、エトキシレート繰り返し単位、プロポキシレート繰り返し単位、又はこれらの混合物を更に含む、請求項3~11のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記添加剤がフリーラジカル重合性添加剤である、請求項2~12のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記フリーラジカル重合性添加剤が、少なくとも1つのメタアクリレート基を含む、請求項13に記載のコーティング組成物。前記フリーラジカル重合性添加剤が、少なくとも2つのメタアクリレート基を含む、請求項13に記載のコーティング組成物。前記フリーラジカル重合性添加剤が、少なくとも2つのメタアクリレート基を有する末端基を含む、請求項15に記載のコーティング組成物。前記添加剤がフッ素化基を含む、請求項1~16のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記添加剤が、一価のペルフルオロポリエーテル部分を含む、請求項17に記載のコーティング組成物。前記ペルフルオロポリエーテル部分が、FCFCF3CF2OaCFCF3-であり、式中、aが4~15の範囲である、請求項18に記載のコーティング組成物。前記フッ素化基が、約30モル以下の量で添加剤中に存在する、請求項17~19のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記添加剤が、ウレタン結合又はポリメタアクリレート結合を含む、請求項2~20のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記添加剤が、ポリジメチルシロキサン主鎖と、メタアクリレート基末端の少なくとも1つのアルコキシ側鎖を含む、請求項2、13、又は14に記載のコーティング組成物。前記重合性樹脂組成物が、少なくとも1つのフリーラジカル重合性モノマー、オリゴマー、ポリマー、又はこれらの混合物を含む、請求項1~22のいずれか一項に記載のコーティング組成物。前記重合性樹脂が、少なくとも2つのフリーラジカル重合性基を含む少なくとも1つの非フッ素化結合剤前駆体を含む、請求項23に記載のコーティング組成物。前記コーティング組成物が、無機酸化物ナノ粒子を更に含む、請求項1~24のいずれか一項に記載のコーティング組成物。請求項1~25のいずれか一項に記載の前記硬化コーティング組成物を含む、物品。硬化コーティングを含む物品であって、前記硬化コーティングが、初期に可視のシミュレートされた指紋の視認性が1~20分で低下する特性を呈する、物品。前記硬化コーティングが、初期に可視のシミュレートされた指紋の視認性が20分以内に低下する特性を呈する、請求項27に記載の物品。前記硬化コーティングが、0.80、0.70、0.60、又は0.50未満の、初期のシミュレートされた指紋視認性と20分後のシミュレートされた指紋視認性の比を呈する、請求項27又は28に記載の物品。前記物品が、請求項1~25の前記コーティング組成物の反応生成物を含む、請求項27~29のいずれか一項に記載の物品。前記硬化コーティングが撥インク性を更に呈する、請求項27~30のいずれか一項に記載の物品。前記硬化コーティングが、ヘキサデカンとの後退接触角が40~60°の範囲を呈する、請求項27~31のいずれか一項に記載の物品。前記硬化コーティングが、2.5未満のヘイズを有する、請求項27~32のいずれか一項に記載の物品。前記物品が光学ディスプレイである、請求項27~33のいずれか一項に記載の物品。前記硬化コーティングが、光透過性ポリマーフィルム上に提供されている、請求項27~34のいずれか一項に記載の物品。前記硬化コーティングが、セルロース表面吸引力試験により、20、又は10、又は5未満のヘイズを呈する、請求項27~35のいずれか一項に記載の物品。基材上にコーティング組成物を供給する工程と、前記コートされた基材上にシミュレート指紋組成物を適用する工程と、前記コート基材上の前記シミュレート指紋組成物の光学的特性を測定する工程と、を含む、コーティング組成物の指紋視認性を測定する方法。前記コーティング組成物が重合性組成物であり、前記コーティング組成物が硬化されてからシミュレートされた指紋を適用する、請求項37に記載の方法。前記コーティング組成物が溶媒を含み、前記コーティング組成物が乾燥されてから前記シミュレートされた指紋を適用する、請求項37又は38に記載の方法。ヘイズが、初期及び経続時間後に測定される、請求項37~39のいずれか一項に記載の方法。前記シミュレート指紋組成物が、脂肪固形物と油性液体との混合物を含む、請求項37~40のいずれか一項に記載の方法。一般式:を有し、式中、Rfは、一価のペルフルオロポリエーテル基であり、Qは、少なくとも二価の連結基であり、Xは、O、S、又はNRここでRは、H、又は炭素原子1~4個の低級アルキルであるであり、R6は、水素、又は1~4個の炭素原子を有するアルキルであり、Rは疎水基であり、Raは独立して、アルキレン基CxH2xここでx=2~4であり、jは7~50の範囲であり、Aは、メタアクリル官能基、例えば-XCOCR2=CH2であり、式中、R2は、1~4個の炭素原子の低級アルキル又はH若しくはFであり、aは1~6の範囲であり、m及びnは、それぞれ独立して1~100の範囲であり、pは、1~50の範囲である、ポリアクリレート組成物。重合性樹脂組成物と、親水性-親油性バランスが2~6の範囲である非イオン性非重合性界面活性剤と、重合性界面活性剤とを含み、ここで前記界面活性剤が、10重量超~25重量固形分の濃度で存在する、コーティング組成物。前記コーティング組成物が、請求項1~8及び10~25のいずれか一項又は組み合わせによって更に特徴付けられる、請求項43に記載のコーティング組成物。複数の細孔を含み、前記細孔の一部が相互連結し親油性液体を含む、ポリマー有機材料を含む、コートされた表面。前記親油性液体が非イオン性界面活性剤である、請求項45に記載のコート表面。前記親油性液体が、少なくとも10重量固形物の量で存在する、請求項45又は46に記載のコート表面。前記コート表面が、少なくとも1、2、3、4、又は5重量の溶媒抽出可能親油性液体を含む、請求項45~47のいずれか一項に記載のコート表面。前記親油性液体を含む前記細孔の少なくとも10、20、30、40、50が、孤立した細孔、相互連結している細孔、又はそれらの組み合わせとして前記表面に露出している、請求項45~48のいずれか一項に記載のコート表面。前記細孔が、少なくとも0.01cc/g、又は0.02cc/gの細孔体積を有する、請求項45~49のいずれか一項に記載のコート表面。前記コート表面が、前記親油性液体の少なくとも大半を溶媒抽出した後、少なくとも5m2/gの表面積を有する、請求項45~50のいずれか一項に記載のコート表面。前記平均細孔寸法が200ナノメートル未満、又は100ナノメートル未満、又は50ナノメートル未満である、請求項45~51のいずれか一項に記載のコート表面。前記コート表面が、請求項1~25及び43~44の前記コーティング組成物の反応生成物を含む、請求項45~52のいずれか一項に記載のコート表面。前記コート表面が、請求項27~29のいずれか一項による、初期に可視のシミュレートされた指紋の視認性が低下する特性を呈する、請求項45~53のいずれか一項に記載のコート表面。前記コート表面が、請求項31~36のいずれか一項による1つ以上の特性を呈する、請求項45~53のいずれか一項に記載のコート表面。しかしながら、上記で生じる撥水性の高い表面は、必ずしも指紋の付着を抑制せず、付着した指紋がより明瞭に視認される。従来のハードコートフィルムは、指で入力操作を行った後にフィルム上に指紋が付着し、その付着した指紋が容易に拭き取れないという欠点を有する。いくつかの実施形態では、重合性樹脂組成物及び例えば非イオン性の界面活性剤を含むコーティング組成物が記述される。一実施形態において、非イオン性界面活性剤は、固形分10重量超~25重量の範囲の量で存在する。更に、非イオン性界面活性剤は、好ましくは、2~6の範囲の親水性-親油性バランスを有する。コーティング組成物は、所望により、シリコーン基又はフッ素化基を含む添加剤を含み得る。コーティング組成物は、所望により、重合性非イオン性界面活性剤を含み得る。別の一実施形態では、コーティング組成物は、重合性樹脂組成物、非イオン性界面活性剤、及びシリコーン基又はフッ素化基と疎水基例えば長鎖アルキル又はアルケニル基とを含む添加剤を含む。いくつかの実施形態において、添加剤の疎水基は、非イオン性界面活性剤から誘導される。硬化コーティングは、好ましくは撥インク性を呈し、これはそのような硬化コーティングから指紋を容易に拭き取れる性質に部分的に関連している。フッ素化基及び特定のシリコーン添加剤が、撥インク性を提供することができる。硬化コーティングは、指紋視認性に関する、これまでに記述されていないと考えられる別の特性を更に呈し、すなわち、初期に可視の指紋が、時間とともにその視認性が低下する特性を呈する。よって、他のいくつかの実施形態では、1~20分後に初期に可視の例えばシミュレートされた指紋の視認性が低下する特性を呈する硬化コーティングを含む物品が記述される。また、基材上にコーティング組成物を供給する工程と、コートされた基材上にシミュレート指紋組成物を適用する工程と、コート基材上のシミュレート指紋組成物のヘイズを測定する工程と、を含む、コーティング組成物の指紋視認性を測定する一方法も記述される。また、複数の細孔を含み、細孔の一部が相互連結し親油性液体を含む、ポリマー有機材料を含むコートされた表面も記述される。コートされた親油性液体は、好ましくは非イオン性界面活性剤である。親油性液体は、好ましくは少なくとも10重量固形分の量で存在する。細孔の相互連結により、親油性液体の大半は、コート表面から溶媒抽出することができる。本明細書に記述されるコーティング組成物は、例えば非イオン性界面活性剤などの親油性液体を含む。そのような例えば非イオン性界面活性剤は典型的には非重合性界面活性剤であり、これは、この界面活性剤がコーティング組成物の他の構成成分と反応しないか又は共重合しないことを意味する。よって、この例えば非イオン性界面活性剤は、硬化したコーティング組成物中で重合されていない。この例えば非イオン性界面活性剤は、遊離界面活性剤として特徴付けることもできる。いくつかの実施形態において、このコーティング組成物は、重合性界面活性剤と組み合わせた非重合性界面活性剤を更に含む。このコーティング組成物は、好ましくは、低表面エネルギー基例えばシリコーン基又はフッ素化基を含む添加剤を更に含む。この添加剤はまた疎水基も含む。この添加剤の疎水基は、非イオン性界面活性剤から誘導することができる。添加剤の合成中、非イオン性界面活性剤例えば脂肪族アルコールはシリコーン化合物又はフッ素化化合物と反応する。別に特記のない限り、非イオン性界面活性剤に関する以下の記述は、コーティング組成物の非重合性界面活性剤、及び添加剤の疎水基が誘導され得る界面活性剤の両方に当てはまる。非イオン性界面活性剤は、両親媒性の有機化合物であり、疎水基尾部及び親水基頭部を含む。典型的には、界面活性剤分子は表面に移動し、ここで疎水基はバルクコーティング相の外に広がり、水溶性の頭基はバルクコーティング相に留まり得る。表面における界面活性剤分子の整列及び凝集は、コーティングの表面特性を改変するよう作用する。界面活性剤は、その頭部における形式上の荷電基の存在により分類することができる。イオン性界面活性剤の頭部は、実効電荷を保有する。非イオン性界面活性剤は、その頭部に荷電基をもたない。界面活性剤は、様々な方法で特徴付けることができる。当該技術分野において既知であるように、一般的な特徴付けの方法の1つは、親水性-親油性バランスHLBである。化合物のHLB決定に関しては様々な方法が記述されているが、別に特記のない限り、本明細書で使用されるとき、HLBはグリフィン法GriffinWC:CalculationofHLBValuesofNon-IonicSurfactants,JournaloftheSocietyofCosmeticChemists51954:259を参照により得られた値を指す。この計算は、ソフトウェアプログラムMolecularModelingProPlusNorgwynMontgomerySoftware,Inc.、NorthWales,PAを利用して実施された。グリフィン法によれば、HLB=20Mh/Mであり、式中、Mhは分子の親水性部分の分子量、Mは全分子の分子量である。この計算は0~20の尺度で数値結果を提供し、0は親油性が非常に高いことを示す。単一分子のHLBを計算するのに、グリフィン法が通常使用される。しかしながら、様々な例えば市販の非イオン性界面活性剤は、分子の混合物を含む。界面活性剤が分子の混合物を含む場合、HLBは、個々の分子のHLBの合計に、各分子の重量分画を乗じることにより計算できる。広い範囲の非イオン性界面活性剤が、添加剤の合成の出発成分として使用できる。理論に束縛されるものではないが、添加剤は、硬化したコーティング組成物中で未重合である遊離界面活性剤の相溶剤として作用すると考えられる。添加剤の合成の出発成分として使用するための界面活性剤のHLBは、1~19の範囲であり得る。添加剤合成の出発成分として利用される非イオン性界面活性剤は、通常、フッ素原子及びケイ素silicone原子を含まない。コーティング組成物の非重合性例えば非イオン性の界面活性剤は、親水性であるよりも親油性であり、すなわちHLBが10未満である。好ましい実施形態において、HLBは、少なくとも2又は2.5であり、約6又は5.5以下である。いくつかの好ましい実施形態において、コーティング組成物は、HLBが少なくとも3、又は3.5、又は4.0である例えば非イオン性の界面活性剤を含む。理論に束縛されるものではないが、界面活性剤の親油基は、指紋の体油を物理的に吸収し得ることが推測される。そのような例えば非イオン性の界面活性剤は一般に、少なくとも12個、又は14個、又は16個、又は18個の炭素原子を有するアルキル又はアルケニル基を含む。そのような比較的長鎖のアルキル基又はアルキレン基は、一般に脂肪基と呼ばれる。炭素原子の数は、例えば非イオン性の界面活性剤が室温例えば25°Cで液体である限り、18個を超えてもよい。液体の例えば非イオン性の界面活性剤は、最高20重量の固形分画を更に含み得る。いくつかの実施形態では、アルキル又はアルケニル基は、24個以下の炭素原子を有する。いくつかの好ましい実施形態では、そのようなアルキル基は非分枝状である。アルキル又はアルケニル基は、所望により、例えば非イオン性の界面活性剤が十分に親油性である例えば前述のようなHLBを有する限り、置換基を含んでもよい。非重合性非イオン性界面活性剤はまた、典型的に、フッ素原子及びケイ素silicone原子を含まない。好ましいHLB範囲を有する界面活性剤例えば脂肪基を含めることによるは、一般に非イオン性界面活性剤である。しかしながら、界面活性剤が本明細書で記述されるように十分に親油性である限り、他の部類の界面活性剤も使用することができる。様々な部類の非イオン性界面活性剤が知られており、これには例えば脂肪族アルコール、脂肪酸、脂肪族アミン、脂肪アミド、及びこれらの誘導体が挙げられる。いくつかの実施形態では、例えば添加剤の合成の出発化合物として使用するために、この非イオン性界面活性剤は、脂肪族アルコールである。脂肪族アルコールは典型的に、次の一般式を有する。R-OH式中、Rは例えば直鎖又は分枝鎖アルキル又はアルケニル基であり、前述のように、所望により対応できる位置でN、O、又はS原子により置換される。様々な脂肪族アルコールが知られており、これにはドデシルアルコール、セチルアルコールCH3CH215OH、ステアリルアルコール別名オクタデシルアルコール又は1-オクタデカノール、及びオレイルアルコールが挙げられる。いくつかの実施形態において、非イオン性界面活性剤は、脂肪族アルコールの誘導体である。1つの好ましい誘導体は、脂肪族アルコール、エステル又はその誘導体で、エチレンオキシド繰り返し単位及び/又はプロピレンオキシドの繰り返し単位を含むものである。そのような誘導体はまた、ポリエトキシル化及び/又はポリプロポキシル化脂肪族アルコール、エステル、又はこれらの誘導体とも称され得る。そのような誘導体は、コーティング組成物の好ましい非重合性非イオン性界面活性剤であり、添加剤の合成における出発化合物としても使用することができる。このタイプの代表的な市販界面活性剤の1つは、Crodaから販売されているBrijO2であり、これはHLBが4.9であると報告されている。そのようなポリエトキシル化アルコールは、次の一般式を有する分子の混合物を含む。C18H35OCH2CH2nOHnが1の場合、この構造はHLB計算値が3.9である。更にnが2の場合、この構造はHLB計算値が5.6である。nが0の場合、そのような構造すなわちオレイルアルコールはHLB計算値が1.1である。HLBが4.9であると供給元により報告されているため、これはこれらの混合物であると考えられる。他の実施形態では、非イオン性界面活性剤は脂肪酸の誘導体である。脂肪酸は、典型的に次の式を有する。RCOOH式中、Rは前述のように例えば直鎖アルキル又はアルケニル基である。脂肪酸誘導体の1つの部類は、脂肪酸を短鎖アルキルグリコールモノアルキルエーテルと反応させることによって調製することができる。このタイプの代表的な非イオン性界面活性剤を、次の表に示す。前述のように、HLBが6以下であるこのような誘導体も、コーティング組成物の好ましい非重合性非イオン性界面活性剤であり、添加剤の合成の出発化合物として利用することもできる。HLBが6以上の誘導体は、添加剤の合成に利用することができる。この例えば遊離界面活性剤の分子量は、典型的には少なくとも150g/モルであり、一般には600g/モル以下である。いくつかの実施形態において、この界面活性剤の分子量は、少なくとも200g/モル、250g/モル、又は300g/モルである。いくつかの実施形態において、コーティング組成物は添加剤を含まない。この実施形態では、非イオン性界面活性剤は、コーティング組成物の10重量超の量の固形物で存在する。いくつかの実施形態では、非イオン性界面活性剤の濃度は、少なくとも11重量又は12重量である。そのような濃度で、時間に対する指紋の視認性は、1又は2分間で約10低下し得る。いくつかの実施形態では、非イオン性界面活性剤の濃度は、少なくとも13重量又は14重量である。添加剤を含まない場合、そのようなコーティング組成物は、指紋の視認性が1又は2分間で約20低下し得る。更に別の実施形態では、非イオン性界面活性剤の濃度は、15重量、16重量、又は17重量である。非イオン性界面活性剤の濃度は、典型的には25重量以下であり、好ましい実施形態においては20重量以下である。いくつかの実施形態において、コーティング組成物は、非重合の界面活性剤と組み合わせて、例えばフリーラジカル重合性の非イオン性界面活性剤を更に含む。この実施形態において、重合性及び非重合性の非イオン性界面活性剤の濃度は、コーティング組成物の10重量を超える固形物であり、典型的には30重量、又は25重量、20重量以下である。例えばフリーラジカル重合性界面活性剤を含めることは、遊離界面活性剤の相溶化に影響する。これを含めることにより、より高い濃度の遊離界面活性剤を、より低いヘイズで提供することができる重合性界面活性剤なしの同じ濃度の遊離界面活性剤の場合と比較。この例えばフリーラジカル重合性非イオン性界面活性剤は、コーティング組成物中に、少なくとも1重量、又は2重量、又は3重量の濃度で存在し得る。この例えばフリーラジカル重合性非イオン性界面活性剤の濃度は、典型的には遊離界面活性剤の濃度以下である。いくつかの実施形態において、遊離界面活性剤と重合性界面活性剤との重量比は、少なくとも1.5:1又は2:1である。重合性界面活性剤は、当該技術分野において説明されている。メタアクリレート基を含む非イオン性界面活性剤は、前述の脂肪族アルコール及びその誘導体のヒドロキシル基とメタアクリル酸若しくはメタアクリロイルハロゲン化物、又は官能性メタアクリレート化合物例えばイソシアナト官能性メタアクリレート化合物とを反応させることによって形成することができる。好ましい実施形態において、コーティング組成物は、疎水基及び低表面エネルギー基例えばシリコーン基又はフッ素化基を含む添加剤を含む。この添加剤は、コーティング組成物に対して、少なくとも0.01、0.05、又は0.10重量、最高約10重量の量の固形物として存在し得る。いくつかの実施形態では、添加剤の濃度は、コーティング組成物の約5重量、4重量、又は3重量以下の固形物である。いくつかの実施形態では、添加剤を含めることによって、同じ界面活性剤濃度で、時間に対してより低い指紋視認性がもたらされる。この実施形態において、添加物を更に含むコーティング組成物は、前述と同じ非イオン性界面活性剤濃度を有し得る。この添加剤は更に、より低いヘイズで、より高い濃度の非イオン性界面活性剤濃度にすることが可能になる。他のいくつかの実施形態では、時間に対するより低い指紋視認性は、添加剤を含めることにより低濃度の界面活性剤で達成することができる。この実施形態において、界面活性剤の濃度は10重量未満であり得る。例えば、非イオン性界面活性剤の最低濃度は、5重量、又は6重量、又は7重量、又は8重量、又は9重量であり得る。しかしながら、好ましい実施形態においては、コーティング組成物は、疎水基及び低表面エネルギー基例えばシリコーン基又はフッ素化基を有する添加剤と組み合わせて、10重量超の非イオン性界面活性剤を含む。シリコーン基又はフッ素化基は一般に、コーティング組成物の表面エネルギーを低減させるため、低表面エネルギー基として特徴付けることができる。シリコーン基は通常、オルガノシロキサンから誘導される。好ましいケイ素含有樹脂は、オルガノポリシロキサンである。オルガノポリシロキサンは当該技術分野において既知であり、例えば米国特許第3,159,662号Ashby、同第3,220,972号Lamoreauz、同第3,410,886号Joy、同第4,609,574号Keryk、同第5,145,886号Oxman,et.al、同第4,916,169号Boardmanら、及び同第7,192,795号Boardmanらに記述されている。好適なポリオルガノシロキサンには、式R1b[R2aSiO4-a/2c]3-bSi-Xの直鎖、環状、又は分枝状オルガノシロキサンが挙げられ、式中、R1は、一価の直鎖、分枝状又は環状の、非置換又は置換された、1~18個の炭素原子を含有する炭化水素基、R2は、2~10個の炭素原子を含む一価の炭化水素基、Xは-CH2d-Yであり、式中、Yは-OH、-NH2、又は-NHR3であり、式中、d=0~10、及びR3は、1~6個の炭素原子の低級アルキル又はシクロアルキルであり、各aは、独立して、0、1、2又は3であり、bは0、1又は2であり、cは5~300である。R1は典型的に、アルキル基、例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペンチル、シクロペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシル、n-オクチル、2,2,4-トリメチルペンチル、n-デシル、n-ドデシル、及びn-オクタデシル;芳香族基、例えばフェニル又はナフチル;アルカリル基、例えば4-トリル;アラルキル基、例えばベンジル、1-フェニルエチル、及び2-フェニルエチル;並びに置換アルキル基、例えば3,3,3-トリフルオロ-n-プロピル、1,1,2,2-テトラヒドロペルフルオロ-n-ヘキシル、及び3-クロロ-n-プロピルである。シリコーン含有の低表面エネルギー基添加剤を界面活性剤と組み合わせることにより、時間に対する指紋視認性低減の特性をもたらすことができるが、フッ素化基、特にペルフルオロポリエーテル基が、同時に撥インク性を提供するため、好ましい可能性がある。国際公開特許第WO2009/029438号に記述されているように、特定のシリコーン添加剤が、低いリント吸引力と合わせて撥インク性を提供することが見出されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。そのようなシリコーンメタアクリレート添加剤は、一般に、ポリジメチルシロキサンPDMS主鎖、及びメタアクリレート基を末端に有する少なくとも1つのアルコキシ側鎖を含む。アルコキシ側鎖は、所望により、少なくとも1つのヒドロキシル置換基を含んでもよい。そのようなシリコーンメタアクリレート添加剤は、様々な供給元から市販されており、例えばTegoChemieからの商標名TEGORad2300、TEGORad2250、TEGORad2300、TEGORad2500、及びTEGORad2700がある。これらのうち、TEGORad2100が最も低いリント吸引力を提供した。NMR分析に基づき、TEGORad2100及びTEGORad2500は、以下の化学構造を有すると考えられる。式中、nは10~20の範囲であり、mは0.5~5の範囲である。いくつかの実施形態において、nは14~16の範囲であり、nは0.9~3の範囲である。分子量は典型的には、約1000g/モル~2500g/モルの範囲である。熱重量分析実施例に記述されている試験方法によるを基に、12重量未満の残留物を有するシリコーンメタアクリレートは、セルロース表面吸引力試験CelluloseSurfaceAttractionTestにより、最低のヘイズ値をもたらした。表面層例えばそのようなシリコーンメタアクリレート添加剤を含むは、セルロース表面吸引力試験において、好ましくは20未満、より好ましくは10未満、更により好ましくは5未満のヘイズを有する。硬化表面層及びコーティング済み物品は、ペン商標名Sharpieとして市販からのインクが玉状化して分離性の液滴になり、KimberlyClarkCorporationRoswell,GAからSURPASSFACIALTISSUEという商標名で入手可能なティッシュなどの、ティッシュ又は紙タオルで露出面を拭くことにより容易に除去することができるとき、撥インク性を呈する。本明細書で記述される硬化コーティングを含む表面は、好ましくは、少なくとも70度の、水に対する高い前進接触角を呈する。より好ましくは、水に対する前進接触角は、少なくとも80度、より好ましくは少なくとも90度である。フッ素化添加物及びシリコーン添加物を含む硬化コーティング組成物例えばTEGO登録商標Rad2100は通常、水に対して大きな前進接触角を呈する。本明細書で記述される硬化コーティングを含む表面は、好ましくは、ヘキサデカンに対する後退接触角が少なくとも40度、45度、又は50度であり、典型的には60度以下である。本明細書で記述されるコーティング組成物は、例えばコーティング組成物を表面例えば基材又は物品の表面に適用し、コーティング組成物の重合性構成成分を硬化させることによって、例えば硬化した表面層、コートされた物品、又はコートされた表面を形成するのに用いることができる。コーティング組成物中に存在する重合性構成成分が硬化すると、好適な溶媒いくつかの実施形態におけるヘキサンなどを使用して、親油性液体例えば非重合性界面活性剤をこのコートされた表面又は硬化したコーティング組成物から抽出することができる。図4は、溶媒抽出後の、代表的な硬化コーティングの走査電子顕微鏡画像である。コート表面は、複数の細孔を含むポリマー有機材料を含む。硬化コーティング組成物すなわち表面層はナノサイズの細孔例えば200、又は100、又は50ナノメートル未満を含み得るが、この硬化コーティングは通常、1マイクロメートル以上の細孔を有さない。いくつかの実施形態において、細孔の平均直径は、少なくとも10、15、又は20ナノメートルである。図4を参照すると、色の濃い領域で明らかなように、細孔の一部分は相互に連結して、網状組織例えばトンネルの網状組織を形成する。親油性液体例えば非重合性界面活性剤は、このポリマー有機材料の細孔の中に存在する。理論に束縛されるものではないが、抽出可能な親油性液体例えば非重合性界面活性剤の重量は、細孔の相互連結性の度合に関連し、またコート表面のコーティング中に存在する親油性液体例えば非重合性界面活性剤の濃度に関連することが推測される。コーティング組成物が少量の非重合性界面活性剤例えば約3重量を含んでいる場合、コーティング組成物の総重量に対する親油性抽出可能材料の量は、0.02重量未満であることがわかった。遊離親油性液体すなわちポリマー有機材料に共有結合していないが比較的低濃度であるとき、親油性液体は、コート表面全体に均一に分布していると推測される。少量の親油性液体が最も外側の表面に露出しているが、親油性液体の大半は露出表面の下にある硬化コーティング内にあり、これにより、親油性液体の総量のうちごく一部分だけが抽出可能である0.02/3=0.0067。しかしながら、コーティング組成物が大量の親油性液体例えば非重合性界面活性剤を含んでいる場合、硬化したコーティング組成物は、少なくとも0.5、1、2、3、4、又は5重量の溶媒抽出可能な親油性材料を含む。コート表面から溶媒抽出され得る材料の濃度は、典型的に15重量以下であり、好ましい実施形態においては10重量以下である。親油性液体例えば非重合性界面活性剤の濃度が増大すると、細孔の数及び/又はサイズも増加し、これにより相互連結した細孔の網状構造が形成される。これは、ポリマー樹脂から親油性液体例えば非重合性界面活性剤がナノスケールで相分離することにより生じ得る。もし全ての親油性液体例えば非重合性界面活性剤が抽出のためにアクセス可能であるならば、全ての親油性液体は、孤立した細孔、相互連結している細孔、又はそれらの組み合わせとして表面に露出している細孔の中にあるはずである。よって、総細孔の100が、孤立した細孔、相互連結している細孔、又はそれらの組み合わせとして存在する。典型的には、親油性液体例えば非重合性界面活性剤の全てよりも少ない量が、コート表面から溶媒抽出できる。例えば、いくつかの実施形態では、典型的には全親油性液体例えば非重合性界面活性剤のうち90重量又は95重量以下が、硬化コーティングから溶媒抽出できる。よって、親油性液体を含む細孔の5又は10が、表面に露出していない埋入細孔として存在する。いくつかの実施形態では、親油性液体を含む細孔の少なくとも10、15、20、25、30、35、40、45、又は50が、孤立した細孔、相互連結している細孔、又はそれらの組み合わせとして表面に露出している。更に、孤立した細孔、相互連結している細孔、又はそれらの組み合わせとして表面に露出している、親油性液体を含む細孔は、最高75、80、85、又は90までの範囲であり得る。例えば硬化したコーティング又はコーティングされた例えばフィルム表面の細孔体積は、当該技術分野の様々な技法を用いて測定することができる。Brunauer、Emmett及びTellerによって開発された一技法S.Brunauer,PhysicalAdsorptionPrincetonUniversityPress,Princeton,N.J.,1945を参照は、一般にBETガス吸着と呼ばれる。いくつかの実施形態において、本明細書に記述されるコート表面は、少なくとも0.01cc/g、又は0.02cc/gの細孔体積を有する複数の細孔を含む。いくつかの実施形態では、細孔体積は0.15cc/g以下、又は0.10cc/g以下、又は0.09cc/g以下、又は0.08cc/g以下、又は0.07cc/g以下である。BETガス吸着は、表面の表面積を測定するのにも使用できる。いくつかの実施形態において、本明細書に記述されるコート表面の表面積は、少なくとも1m2/g、又は5m2/g、又は10m2/gである。表面積は典型的には、50m2/g以下、又は45m2/g以下、又は40m2/g以下、又は35m2/g以下、又は30m2/g以下である。いくつかの実施形態において、コート表面のガス吸着等温線は、IUPAC出版物ReportingPhysisorptionDataforGas/SolidSystemswithSpecialReferencetotheDeterminationofSurfaceAreaandPorosity,PureAppliedChemistry,Volume57,No.4,pp.603~619,1985に記述されているように、タイプH2のヒステリシスループを有する。タイプH2ヒステリシスループは、相互連結細孔の網状構造において、何らかの細孔閉鎖すなわち、細孔の間にくびれ又は小直径の通路があり、相互接続されている細孔間の流れにいくらかの抵抗をもたらしているを伴う、障害のある細孔システムすなわち細孔の無作為な空間的配置の特徴である。ペルフルオロアルキル基及びペルフルオロポリエーテル基を含む様々なフッ素化低表面エネルギー基が知られている。いくつかの実施形態において、重合して添加剤を形成する構成成分の反応性基は、メタアクリレート基であり、これによってポリアクリレート主鎖を含む添加剤が形成される。メタアクリレート基を含む非イオン性界面活性剤は、前述の脂肪族アルコール及びその誘導体のヒドロキシル基とメタアクリル酸若しくはメタアクリロイルハロゲン化物、又は官能性メタアクリレート化合物例えばイソシアナト官能性メタアクリレート化合物とを反応させることによって形成することができる。そのようなメタアクリレート官能性界面活性剤は、次に、フッ素化メタアクリレート化合物と共重合することができる。いくつかの実施形態では、添加剤はペルフルオロアルキル基を含む。用語ペルフルオロアルキル基は、全てのC-H結合がC-Fに置換されたアルキル基、並びに1つの水素が末端フッ素原子を置換している基を含む。ペルフルオロアルキル基のいくつかの実施形態において、少なくとも1つの水素が存在する場合、ペルフルオロアルキル基は、少なくとも1つのジフルオロメチル基を含む。好適なペルフルオロアルキル基は、3~12個すなわち3、4、5、6、7、8、9、10、11、又は12個の炭素原子を含む。いくつかの実施形態において、ポリアクリレート添加剤組成物は、次の式で表わされる単位を含む。式中、RF1はペルフルオロアルキル基であり、X1は1つの結合又は二価連結基例えば-SO2NR-であり、式1のRは水素、又は1~4個の炭素原子を有するアルキル例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、又はsec-ブチルであり、pは、独立して、2~11の値を有する整数すなわち2、3、4、5、6、7、8、9、10、又は11である。いくつかの実施形態では、各Rf1は、独立して、3~6個を有するペルフルオロアルキル基例えば、ペルフルオロ-n-ヘキシル、ペルフルオロ-n-ペンチル、ペルフルオロイソペンチル、ペルフルオロ-n-ブチル、ペルフルオロイソブチル、ペルフルオロ-sec-ブチル、ペルフルオロ-tert-ブチル、ペルフルオロ-n-プロピル又はペルフルオロイソプロピルである。いくつかの実施形態では、Rf1はペルフルオロブチル例えば、ペルフルオロ-n-ブチルである。いくつかの実施形態では、Rf1はペルフルオロプロピル例えば、ペルフルオロ-n-プロピルである。一実施形態において、ポリアクリレート添加剤組成物は、次の式で表わされる単位を含む。式中、Rf1は、独立して、式1に関して前述したペルフルオロアルキル基である。R4及びR5は、それぞれ独立して、水素、又は1~4個の炭素原子を有するアルキル例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル又はsec-ブチルである。いくつかの実施形態では、R4はメチル及びエチルからなる群から選択される。いくつかの実施形態では、R5は水素及びメチルからなる群から選択される。pは、独立して、2~11の値を有する整数であるすなわち、2、3、4、5、6、7、8、9、10、又は11。一実施形態において、ポリアクリレート添加剤組成物は、次の式を有するペルフルオロアルキル単位を含む。式中、R’’及びR’’’は、それぞれ独立して、水素、又は1~4個の炭素原子を有するアルキルである。いくつかの実施形態では、各R’’は、独立して、水素又はメチルである。いくつかの実施形態では、R’’’は、メチル又はエチルである。ペルフルオロアルキル基を含むフッ素化フリーラジカル重合性アクリレートモノマー、及びそれらの調製方法は、当該技術分野において既知である例えば、米国特許第2,803,615号Albrechtら及び米国特許第6,664,354号Savuらを参照。これらのフリーラジカル重合性モノマー及びそれらの調製方法に関する開示は、本明細書に参照により組み込まれる。ノナフルオロブタンスルホンアミド基含有構造体の製造方法を用いて、例えば、その開示が参照により本明細書に組み込まれる米国特許第2,732,398号Briceらの実施例2及び3に記載されている方法によって製造することができる、ヘプタフルオロプロパンスルホニルフルオライドを出発物質として、ヘプタフルオロプロパンスルホンアミド基を製造することができる。他のペルフルオロアルキル化合物の製造方法が既知である例えば、欧州特許第1311637B1号2006年4月5日公開を参照。2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル-2-メチルアクリレートの調製についての開示が本明細書に参照により組み込まれる。ペルフルオロアルキル化合物はまた、市販品例えば、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシルアクリレートダイキン化成品販売DaikinChemicalSales日本、大阪及び3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシル2-メチルアクリレートIndofineChemicalCo.Hillsborough,NJから入手可能である。好ましい実施形態において、添加剤はペルフルオロポリエーテル基を含む。ペルフルオロポリエーテル基Rfは、直鎖、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせであることができ、飽和されていても飽和されていなくてもよい。ペルフルオロポリエーテルは、少なくとも2個の鎖状に連結した酸素ヘテロ原子を有する。例示的なペルフルオロポリエーテルには、-CpF2p-、-CpF2pO-、-CFZ-、-CFZO-、-CFZCpF2pO-、-CpF2pCFZO-、-CF2CFZO-、又はそれらの組み合わせからなる群から選択されるペルフルオロ化された繰り返し単位を有するものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの繰り返し単位において、pは、典型的には1~10の整数である。いくつかの実施形態では、pは、1~8、1~6、1~4、又は1~3の整数である。基Zは、ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロエーテル基、ペルフルオロポリエーテル基又はペルフルオロアルコキシ基であり、それらの全ては、直鎖、分枝状、環状であることができる。Z基は、典型的には12個以下の炭素原子、10個以下の炭素原子、9個以下の炭素原子、4個以下の炭素原子、3個以下の炭素原子、2個以下の炭素原子、又は1個以下の炭素原子を有する。いくつかの実施形態では、Z基は、4個以下、3個以下、2個以下、1個以下、又は0の酸素原子を有し得る。これらのペルフルオロポリエーテル構造において、異なる繰り返し単位は、鎖に沿って無秩序に分布してよい。Rfは、一価又は二価であり得る。Rfが一価であるいくつかの実施形態では、末端基はCpF2p1-、CpF2p1O-、X’CpF2pO-、又はX’CpF2p1-であり得、式中、X’は水素、塩素、又は臭素であり、pは1~10の整数である。一価Rf基のいくつかの実施形態では、末端基はペルフルオロ化されており、pは1~10、1~8、1~6、1~4、又は1~3の整数である。代表的な一価Rf基には、CF3OC2F4OnCF2-、C3F7OCF2CF2CF2OnCF2CF2-、及びC3F7OCFCF3CF2OnCFCF3-が挙げられ、式中、nは、0~50、1~50、3~30、3~15、又は3~10の平均値を有する。二価Rf基の好適な構造には、次のものが挙げられるが、これらに制限されない。-CF2OCF2OqC2F4OnCF2-、-CF23OC4F8OnCF23-、-CF2OC2F4OnCF2-、-CF2CF2OCF2CF2CF2OnCF2CF2-、及び-CFCF3OCF2CFCF3sOCtF2tOCFCF3CF2OnCFCF3-、式中、qは、0~50、1~50、3~30、3~15、又は3~10の平均値を有し、nは、0~50、3~30、3~15、又は3~10の平均値を有し、sは、0~50、1~50、3~30、3~15、又は3~10の平均値を有し、nsの合計は、0~50又は4~40の平均値を有し、qnの合計は0超であり、tは、2~6の整数である。Rfが二価であり、2つの例えば末端反応性基がRfに結合している場合例えばジオールの場合、そのような二価モノマーの濃度は、ゲル形成をもたらし得る過剰な架橋を避けるよう、十分に低い。いくつかの実施形態では、ポリアクリレート添加剤組成物は、次の式4で表わされる単位を含む。式中、Rfは一価のペルフルオロポリエーテル基であり、Qは少なくとも二価の連結基であり、XはO、S、又はNRここでRは、H、又は炭素原子1~4個の低級アルキルであるであり、R6は、水素、又は1~4個の炭素原子を有するアルキル基例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、又はsec-ブチルである。Qは、直鎖、分枝鎖、又は環を含有する連結基を含むことができる。Qは、アルキレン、アリーレン、アラルキレン、アルカリーレンを含むことができる。Qは所望により、O、N、及びSなどのヘテロ原子、並びにこれらの組み合わせを含むことができる。Qは所望により、カルボニル又はスルホニルなどのヘテロ原子含有官能基、及びこれらの組み合わせを含むこともできる。ポリアクリレート添加剤は、次の式5で表わされる単位を更に含む。式中、Rは、前述のように、例えば6、7、又は8個を超える炭素原子を有するアルキル又はアルケニル基などの疎水基であり、Raは、独立して、アルキレン基CxH2xであり、式中、x=2~4であり、ここでCxH2xは、直鎖若しくは分枝鎖、又はこれらの混合であってよく、jは、アルキレンオキシド繰り返し単位の数で0~50の範囲であり、R6は、式4に関して前述したものと同じである。好ましい実施形態において、jは7~50の範囲である。いくつかの実施形態において、ポリアクリレート添加剤がメタアクリレート重合性基を更に含む場合、この添加剤は次の式6で表わされる単位を更に含む。式中、Aは、メタアクリル官能基、例えば-XCOCR2=CH2であり、式中、R2は、1~4個の炭素原子の低級アルキル又はH若しくはFであり、aは、1~6の範囲であり、Q及びXは、式4に関して前述したものと同じである。ポリアクリレート添加剤のそれぞれの単位の数は、変えることができる。例えば、m及びnは、それぞれ独立して、1~100の範囲であってよく、pは1~50の範囲であってよい。いくつかの実施形態において、m及びnは少なくとも1、2、3、4、5、6、7、8、9又は10であり、典型的には50以下である。更に、繰り返し単位の数mと繰り返し単位の数nとの比は、約0.10:1~約1:0.10、好ましくは約0.25:1~約1:0.25であり得る。ポリアクリレート組成物は、以下の一般式7を有し得る。式中、記号はそれぞれ、式4~6に関して前述したものと同じである。好ましいポリアクリレート添加剤の一例を、以下に示す。式中、単位m、n、o、pが寄与するポリマーの重量パーセントは、それぞれ33.8、31.6、25.3、及び6.44である。C18H35は、オレイルアルコールの炭化水素残基である。HFPO-は、メチルエステルFCFCF3CF2OaCFCF3COOCH3の末端基FCFCF3CF2OaCFCF3-を指し、式中、aは平均2~15である。ペルフルオロポリエーテル基を含むフリーラジカル重合性アクリレートモノマー及びその調製方法は、当該技術分野において既知である。ペルフルオロポリエーテルメタアクリレート化合物は、例えば米国特許第3,553,179号及び同第3,544,537号、並びに米国特許公開第US2004/0077775号2004年4月22日公開FluorochemicalCompositionComprisingaFluorinatedPolymerandTreatmentofaFibrousSubstrateTherewithに記述されているような既知の技法によって合成することができる。好適なペルフルオロポリエーテルメタアクリレート化合物には、例えばHFPO-CONHCH2CH2OCOCH=CH2、HFPO-CONHCH2CH2OCH2CH2OCH2CH2OCOCH=CH2、HFPO-CONH-CH26OCOCH=CH2、及び米国特許公開第US2005/0250921号及び同第US2005/0249940号に記述されているような様々な他のペルフルオロポリエーテル化合物が挙げられ、これらは参照により組み込まれる。ペルフルオロポリエーテル部分を含むメタアクリレートコポリマー及びその調製は当該技術分野において既知である。PCT国際公開特許第WO2009/076389号Qiuらを参照のこと。これらの調製は、チオールなどの連鎖移動剤、並びに過酸化物及びアゾ化合物などの熱開始剤を採用することができる。他のいくつかの実施形態において、重合して添加剤を形成する構成成分の反応性基は、ポリイソシアネート化合物及びイソシアネート反応性化合物の組み合わせを含み、これによりウレタン結合を含む添加剤を形成する。1つの代表的な例えばフリーラジカル重合性添加剤は、ペルフルオロポリエーテルウレタン材料であり、これは、i少なくとも1つのポリイソシアネートと、ii少なくとも1つのイソシアネート反応性ペルフルオロポリエーテル化合物と、iii疎水基を含む少なくとも1つのイソシアネート反応性化合物と、iv2つ以上のフリーラジカル重合性基を含む少なくとも1つのイソシアネート反応性例えば、非フッ素化炭化水素架橋剤と、の反応生成物の混合物を含む。ペルフルオロポリエーテル化合物すなわちii、及び疎水基を含むイソシアネート反応性化合物すなわちiiiは、好ましくは、少なくとも1つの例えば末端アルコール、チオール、又はアミン基を含む。典型的には、ペルフルオロポリエーテル化合物すなわちii及び疎水基を含むイソシアネート反応性化合物すなわちiiiの両方とも、例えば末端反応性アルコール基を含む。ペルフルオロアルキル基又はシリコーン基を含む添加剤は、少なくとも1つのイソシアネート反応性ペルフルオロポリエーテル化合物すなわちiiの代わりに、イソシアネート反応性ペルフルオロアルキル化合物又はイソシアネート反応性シリコーン化合物を置換することによって、同様の方法で調製することができる。1つ以上のポリイソシアネート材料が、ペルフルオロポリエーテルウレタンの調製に使用される。様々なポリイソシアネートが、ペルフルオロポリエーテルウレタンポリマー材料の調製に構成成分iとして利用され得る。ポリイソシアネートとは、単一分子内にジイソシアネート、トリイソシアネート、テトライソシアネートなどの2つ以上の反応性イソシアネート-NCO基を有する任意の有機化合物及びこれらの混合物を意味する。環式及び/又は直鎖ポリイソシアネート分子は、有用に使用され得る。風化を改善し、黄変を低減するため、イソシアネート構成成分のポリイソシアネートは典型的には脂肪族である。ペルフルオロポリエーテル化合物、エチレンオキシド反復単位含有化合物、及び炭化水素架橋剤が一官能性イソシアネート反応性を有する実施形態に関しては、使用されるイソシアネートは、典型的には少なくとも三官能性である。しかしながら、1つ以上のイソシアネート反応性化合物が少なくとも二官能性イソシアネート反応性を有するとき、二官能性イソシアネートを使用することができる。有用な脂肪族ポリイソシアネートには、例えば、BayerCorp.Pittsburgh,PAからDesmodurWという商標名で販売されているビス4-イソシアナトシクロヘキシルメタンH12MDI、HuelsAmericaPiscataway,NJから市販されているイソホロンジイソシアネートIPDI、AldrichChemicalCo.Milwaukee,WIから市販されているヘキサメチレンジイソシアネートHDI、Degussa,Corp.Dusseldorf,GermanyからVestanateTMDIという商標名で販売されているトリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、及びAldrichChemicalCo.Milwaukee,WIから市販されているm-テトラメチルキシレンジイソシアネートTMXDIが挙げられる。典型的にはあまり好ましくないが、BayerCorp.Pittsburgh,PAから商標名MondurMとして市販されているジフェニルメタンジイソシアネートMDIなどの芳香族イソシアネート、AldrichChemicalCo.Milwaukee,WIから市販されているトルエン2,4-ジイソシアネートTDI、及び1,4-フェニレンジイソシアネートもまた有用である。好ましいポリイソシアネートには、上記のモノマーポリイソシアネートの誘導体も挙げられる。これらの誘導体には、BayerCorp.から商標名DesmodurN-100として販売されているヘキサメチレンジイソシアネートHDIのビウレット付加物などのビウレット基を含有するポリイソシアネート、BayerCorp.から商標名DesmodurN-3300として販売されているなイソシアネート基を含有するHDIをベースとするポリイソシアネート、並びにウレタン基、ウレトジオン基、カルボジイミド基、アロフォネートallophonate基及びこれらに類するものを含有するポリイソシアネートが挙げられるが、これらに限定されない。これらがポリマーであるとき、これらの誘導体は好ましく、非常に低い蒸気圧を呈し、イソシアネートモノマーを実質的に含まない。使用できる他のポリイソシアネートが、BayerPolymersLLCPittsburgh,PAからDesmodurTPLS2294及びDesmodurN3600という商品名で入手可能である。1つ以上のイソシアネート反応性ペルフルオロポリエーテル材料が、ペルフルオロポリエーテルウレタンの調製に使用される。様々なイソシアネート反応性ペルフルオロポリエーテル材料を、構成成分iiとして使用することができる。OH、SH又はNHR式中、RはHであるか又は1~4個の炭素原子のアルキル基であるなどの例えば、末端イソシアネート反応性基を有する様々なペルフルオロポリエーテル材料の合成が知られている。例えば、アルコールの調製のためのメチルエステル材料例えば、平均分子量1,211g/モルが、米国特許第3,250,808号Mooreらに報告されている方法に従って調製することができ、分別蒸留により精製される。ペルフルオロポリエーテルアルコール材料は、米国特許公開第2004/0077775号2002年5月24日出願に記載されているものと同様の手順により作製することができる。SH基を有するペルフルオロポリエーテルアルコール材料は、アミノエタノールよりもむしろアミノエタンチオールの使用により、この同一のプロセスを使用して作製することができる。ペルフルオロポリエーテルアミン材料は、米国特許第2005/0250921号に記載されているように合成することができる。イソシアネート反応性ペルフルオロポリエーテル材料には、以下の式8の1つ以上の化合物が含まれる。Rf1-[QXHy]z,式中、Rf1は、一価zが1又は二価zが2のペルフルオロポリエーテルであり、Qは、少なくとも二価の連結基であり、Xは、O、S、又はNRここでRは、H、又は炭素原子1~4個の低級アルキルであるであり、yは1又は2であり、zは1又は2である。Qは、直鎖、分枝鎖、又は環を含有する連結基を含むことができる。Qは、アルキレン、アリーレン、アラルキレン、アルカリーレンを含むことができる。Qは、所望により、O、N、及びSなどのヘテロ原子並びにこれらの組み合わせを含むことができる。Qは、所望により、カルボニル又はスルホニルなどのヘテロ原子含有官能基、並びにこれらの組み合わせを含むこともできる。ペルフルオロポリエーテルウレタン材料は、好ましくはイソシアネート反応性HFPO-材料から調製される。特に別途記載のない限り、HFPO-は、メチルエステルFCFCF3CF2OaCFCF3COOCH3の末端基FCFCF3CF2OaCFCF3-を指し、式中、aの平均値は2~15である。いくつかの実施形態では、aの平均値は3~10であるか又はaの平均値は5~8である。このような種は、一般的にaの値の範囲を有するオリゴマーの分散物又は混合物として存在し、その結果aの平均値は非整数となることがある。例えば、1つの実施形態では、aの平均値は6.2である。HFPO-ペルフルオロポリエーテル材料の分子量は、繰り返し単位の数aに依存して、約940g/モル~約1600g/モルで変化し、典型的には1100g/モル~1400g/モルが好ましい。疎水基を含む様々なイソシアネート反応性化合物を、添加剤の合成に使用できる。典型的に、このイソシアネート反応性化合物は非イオン性界面活性剤である。前述のように、幅広い非イオン性界面活性剤が、添加剤合成の出発成分として使用するのに好適である。いくつかの実施形態において、添加剤の構成成分として利用される非イオン性界面活性剤は、親水性であるよりも親油性であり、HLBは約1例えばオレイルアルコール~約10例えばエトキシル化オレイルアルコールからの範囲である。いくつかの実施形態において、HLBは4~8の範囲である。他の好ましい実施形態では、添加剤の構成成分として利用される非イオン性界面活性剤は、親油性であるよりも親水性であり、10を超えるHLBを有する。いくつかの実施形態では、HLBは12~16の範囲である。しかしながら、添加剤の親水性が高すぎると、撥インク性が低下する。いくつかの実施形態において、疎水基を含むイソシアネート反応性化合物は、以下の式9によって表わすことができる。HXbC2HOjR式中、Xは、O、S、又はNR’NRここでR’は、H、又は炭素原子1~4個の低級アルキルであるであり、Rは、前述のように、例えば6、7、又は8個を超える炭素原子を有するアルキル又はアルケニル基などの疎水基所望により置換疎水基であり、bは典型的に1又は2であり、jは0~50の範囲である。Rは所望により、ヘテロ原子、ヘテロ原子官能基例えば-OH-SH、及び-NH2、又は所望によりメタアクリル官能基、あるいは-COCR2=CH2で置換することができ、式中、R2は、1~4個の炭素原子の低級アルキル又はH若しくはFである。好ましい実施形態では、XはOであり、イソシアネート反応性非イオン性界面活性剤は脂肪族アルコールすなわちj=0であり、これは所望によりエトキシル化及び/又はプロポキシル化されるすなわちjは少なくとも1である。Rは、典型的には22又は24以下である。しかしながら、非イオン性界面活性剤が添加剤の疎水基を提供するのに利用される場合、アルキル又はアルケニル基は、より多数の炭素原子を有し得る。そのように炭素原子が多数になると、室温例えば25°Cで構成成分又は添加剤が固形になることがある。更に、好ましい実施形態においてbは好ましくは1である。いくつかの実施形態では、イソシアネート反応性非イオン性界面活性剤は、6を超えるエチレンオキシド繰り返し単位を含むすなわちj=6。エチレンオキシド繰り返し単位の数は、少なくとも7、8、又は9の繰り返し単位であり得る。いくつかの実施形態では、イソシアネート反応性エチレンオキシド含有化合物は、少なくとも10のエチレンオキシド繰り返し単位を有する。例えば、繰り返し単位の数は、11、12、13、14、15、16、17、18、19、又は20であってよい。一般的には、エチレンオキシド繰り返し単位の数は、約50を超えず、例えば、25、30、又は35までの繰り返し単位であり得る。エチレンオキシド繰り返し単位の代替物が式9に示されているように、このような化合物は他の例えばC3~C4アルキレンオキシド繰り返し単位を含んでよく、例えばプロピレンオキシド繰り返し単位、又はエチレンオキシド繰り返し単位とプロピレンオキシド繰り返し単位との混合物を含んでよい。様々なイソシアネート反応性例えば非フッ素化炭化水素架橋剤を、ペルフルオロポリエーテルウレタンポリマー添加剤の合成に使用することができる。このような架橋剤は、少なくとも2つ、好ましくは3つのフリーラジカル重合性基を含む。フリーラジカル重合性基は、好ましくはメタアクリル基、より好ましくはメタアクリレート基である。好適なイソシアネート反応性非フッ素化炭化水素架橋剤は、以下の式10で記述することができる。HObQAp、式中、Qは、少なくとも二価の連結基であり、Aは、例えば-XCOCR2=CH2などのメタアクリル官能基であり、式中、Xは、O、S又はNRここでRは、H、又は炭素原子1~4個の低級アルキルであるであり、R2は、1~4個の炭素原子の低級アルキル又はH若しくはFであり、bは、1~4の範囲であり、好ましくは1又は2であり、pは、2~6の範囲である。Qは、前述したように、直鎖、分枝鎖、又は環を含有する連結基を含むことができる。代表的なイソシアネート反応性架橋剤には、例えば、EchoResinInc.Versailles,Missouriから販売されている1,3-グリセロールジメタクリレート、及びSartomerExton,PAから商標名SR444Cとして販売されているペンタエリスリトールトリアクリレートが挙げられる。更なる有用なイソシアネート反応性メタアクリレート架橋剤には、例えば、米国特許第4,262,072号Wendlingらに記載されるようなヒダントイン部分含有ポリメタアクリレートが挙げられる。炭化水素架橋剤すなわち、ivは典型的には、メタアクリレート基などのメタアクリル基を含む。ペルフルオロポリエーテルウレタンポリマー材料並びに反応混合物のその他の反応生成物が、例えば、放射線例えば、UV硬化によって続けて硬化することができる未反応のフリーラジカル重合性基を含むように、実質的に過剰な炭化水素架橋剤すなわちivが典型的に使用される。これらの反応順序は、一般的には、有機スズ化合物などの触媒の存在下でヒドロキシル基を含有しない溶媒例えばMEKで実施される。イソシアネート基のモル分率が1.0の値で与えられるならば、ペルフルオロポリエーテルウレタン材料を作製するのに使用されるイソシアネート反応性基の総モル分率は1.0以上である。本明細書に記載されている重合性組成物は少なくとも0.2モル分率の架橋剤を含むが、イソシアネート反応性炭化水素架橋剤の濃度を最大化して耐久性及びハードコートの結合剤との相溶性を改善することが通常は好ましい。したがって、架橋剤の総量は、イソシアネート反応物質の合計の少なくとも0.5モル分率を構成してよく、少なくとも0.6モル分率、少なくとも0.7モル分率、少なくとも0.8モル分率、又は少なくとも0.9モル分率であり得る。ペルフルオロポリエーテル反応物質のモル分率は典型的には少なくとも0.05かつ0.5以下である。反応物質を含む疎水性基例えばイソシアネート反応性界面活性剤のモル分率も、典型的には少なくとも0.05又は0.10であり、かつ0.7、0.6、又は0.5以下である。反応生成物は、一般的には、様々な反応生成物の分布を含む。3つの反応物質ii、iii、及びiv全てを有するポリイソシアネートの反応生成物に加えて、3つのうちの2つを有するポリイソシアネートの反応生成物、並びに個々の反応物質を有するポリイソシアネートの反応生成物もまた存在する。好ましい一実施形態において、ペルフルオロポリエーテルウレタン組成物は、以下の式11で示すものである。Ri-NHCOXQRf,-NHCOOQAp,-NHCOXC2H4OjR,式中、Riはマルチイソシアネートの残基であり、Xは、それぞれ独立して、O、S又はNR’ここでR’は、H、又は炭素原子1~4個の低級アルキルであるであり、Qは、独立して、少なくとも二価の連結基であり、Rfは、式FRfcOxCdF2d-を含む基からなる一価のペルフルオロポリエーテル部分であり、式中、各Rfcは、独立して、1~6個の炭素原子を有するフッ素化アルキレン基を示し、各xは、独立して、2以上の整数を示し、dは1~6の整数であり、Aは、メタアクリル官能基、例えば-XCOCR2=CH2であり、式中、R2は、1~4個の炭素原子の低級アルキル又はH若しくはFであり、Rは、前述のように、少なくとも6、7、又は8個の炭素原子を有するアルキル又はアルケニル基などの疎水基であり、pは2~6であり、jは、好ましくは7~50の範囲である。しかしながら、他の実施形態ではjは0であり、よってこの添加剤は、隣接するエチレンオキシド基又はエチレンオキシド繰り返し単位のない疎水基を含む。エチレンオキシド繰り返し単位の数すなわちjは、1、2、3、4、5、又は6であってもよい。エチレンオキシド繰り返し単位の代替物が式11に示されているように、このような化合物は他の例えばC3~C4アルキレンオキシド繰り返し単位を含んでよく、例えばプロピレンオキシド繰り返し単位、又はエチレンオキシド繰り返し単位とプロピレンオキシド繰り返し単位との混合物を含んでよい。採用される個々の材料の数並びに反応物質の官能基に応じて、この式の単位それぞれの少なくとも1つを有する様々なペルフルオロポリエーテルウレタン材料を調製することができる。Rf基に伴うQは、前述のように、直鎖、分枝鎖、又は環を含有する連結基である。いくつかの実施形態では、XがOであるとき、Qは典型的にはメチレンではなく、したがって2つ以上の炭素原子を含有する。他の実施形態では、XはS又はNRである。いくつかの実施形態では、Qは少なくとも2つの炭素原子を有するアルキレンである。他の実施形態では、Qはアリーレン、アラルキレン、及びアルカリーレンから選択される直鎖、分枝鎖、又は環を含有する連結基である。更に他の実施形態では、Qは、O、N、及びSなどのヘテロ原子並びに/又はカルボニル及びスルホニルなどのヘテロ原子含有官能基を含有する。他の実施形態では、Qは、O、N、Sから選択されるヘテロ原子並びに/又はカルボニル及びスルホニルなどのヘテロ原子含有官能基を所望により含有する分枝鎖又は環を含有するアルキレン基である。いくつかの実施形態において、Qは例えば-CONHCH2CH2-、-CONHCH26-、及び-CONHCH2CH2O2CH2CH2-などのアミド基などの窒素含有基を含む。式11の代表的な一構造は、HDIのビウレットと一当量のHFPOオリゴマーアミドールHFPO-CONHCH2CH2OHとの反応生成物によって形成され、ここでaは平均2~15であり、更に一当量のペンタエリスリトールトリアクリレートと一当量のHOCH2CH2O20C18H37ステアリルアルコール20エトキシレートとの反応生成物を以下に示す。様々なその他の反応物質を、PCT国際公開特許第2006/102383号に記載されているようなペルフルオロポリエーテルウレタンの調製に含めることができる。一実施形態では、一官能性ペルフルオロポリエーテル化合物及び一官能性疎水基含有化合物が、ポリイソシアネートとともに反応物質として使用される。別の実施形態では、多官能性ペルフルオロポリエーテル化合物及び一官能性疎水基含有化合物が、使用される。少なくとも2つの多官能性イソシアネート反応性化合物が合成に使用されるとき、反応生成物は、典型的にはペルフルオロポリエーテルポリマー材料の大部分を含む。典型的には、ペルフルオロポリエーテルウレタン組成物は、まずアルコール、チオール、又はアミン基を含有するペルフルオロポリエーテル化合物とポリイソシアネートとを反応させ、続いてアルコール、チオール、又はアミン基を含有する1つ以上の疎水基含有化合物と反応させることにより製造される。次に、ペルフルオロポリエーテルウレタン添加物が、例えば、非フッ素化イソシアネート反応性の多官能性フリーラジカル重合性例えば、メタアクリレート架橋剤と組み合わされる。あるいは、これらのペルフルオロポリエーテルウレタン添加物は、まずポリイソシアネートを架橋剤と反応させ、続いて疎水基含有化合物を添加するといった、他の反応順序により形成することができる。更に、ペルフルオロポリエーテルウレタン添加物は、4つの構成成分全てを同時に反応させることにより製造することができる。添加剤が6個を超えるエチレンオキシド繰り返し単位を含む場合、そのような添加剤は、ヒドロキシル基含有溶媒一般にアルコールとして知られるとの相溶性が改善されている可能性がある。アルコール系コーティング組成物は、ケトン例えば、MEK、芳香族溶媒例えば、トルエン、及びエステル例えば、アセテート溶媒などの有機溶媒によって膨潤、亀裂、又はひび割れを生じやすいポリカーボネート、アクリル、セルロースアセテート、及びセルローストリアセテートなどの光透過性基材のコーティングに特に有用である。非イオン性界面活性剤及び添加剤存在する場合は、通常、溶媒例えばアルコール系溶媒と組み合わされてハードコート組成物内に分散され、表面又は基材例えば光学基材に適用され、光硬化される。ハードコートは、光学基材及び下に位置するディスプレイスクリーンを引っかき傷、磨耗及び溶媒などの要因からの損傷から保護する強靭な耐磨耗性層である。典型的には、ハードコートは、基材上に硬化性液体セラマー組成物をコーティングし、その場でこの組成物を硬化させて硬化したフィルムを形成することにより形成される。本明細書に記述されるコーティング組成物は、1層ハードコート組成物として採用することができる。高い耐久性が望まれる実施形態に関しては、ハードコート組成物は典型的には例えば、表面修飾されているシリカなどの無機粒子を更に含む。ハードコート表面層の厚さは、典型的には少なくとも0.5マイクロメートル、好ましくは少なくとも5マイクロメートル、より好ましくは少なくとも10マイクロメートルである。ハードコート層の厚さは、一般的に、25マイクロメートル以下である。好ましくは、厚さは、5マイクロメートル~20マイクロメートルの範囲である。あるいは、コーティング組成物は、耐久性が要求されない用途には、無機酸化物粒子を含まなくてもよい。更に他の実施形態では、無機粒子を有さない表面層が、基材と表面層の間に配置される無機粒子含有ハードコート層と組み合わせて提供されてよい。これは2層ハードコートと呼ばれる。これらの実施形態では、表面層は、好ましくは約1~10マイクロメートルの範囲の厚さを有する。本明細書に記述されるコーティング組成物は、硬化コーティングが、PCT国際公開特許WO2009/076389号に記述されているスチールウール磨耗耐性試験方法により、後述の実施例で、重量300g、10回拭き取りを用いて試験を行ったとき、引っかき傷の証拠を示さないか、あるいは数本例えば1~3本の引っかき傷だけを呈する程度に、十分に耐久性である。1層ハードコート及び2層ハードコートの実施形態において、添加剤は単独で、又は他のフッ素化化合物と組み合わせて、ハードコート組成物の全固形分の0.01~10、より好ましくは0.1~5の範囲である。架橋されたポリマーマトリックスを硬化時に形成する様々な結合剤前駆体をハードコートに使用することができる。前述されたイソシアネート反応性非フッ素化架橋材料は、好適な結合剤前駆体である。ジメタアクリル結合剤前駆体には、例えば1,3-ブチレングリコールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールモノアクリレートモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、アルコキシル化脂肪族ジアクリレート、アルコキシル化シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、アルコキシル化ヘキサンジオールジアクリレート、アルコキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン修飾ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートジアクリレート、カプロラクトン修飾ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、ヒドロキシピバルアルデヒド修飾トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、プロポキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールアクリレートが挙げられる。トリメタアクリル結合剤前駆体には、例えばグリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート例えば3~20個のエトキシレート繰り返し、プロポキシル化グリセラルトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリアクリレートが挙げられる。高官能性メタアクリル含有化合物には、例えばジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン修飾ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが挙げられる。ペンタエリスリトールトリアクリレートPET3Aの1つの市販の形態はSR444Cであり、ペンタエリスリトールテトラアクリレートPET4Aの1つの市販の形態はSR295であり、それぞれSartomerCompanyExton,Pennsylvaniaから入手可能である。ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートなどのオリゴマーのメタアクリル及びこれらのポリアクリルアミド類縁体も、結合剤として使用することができる。一実施形態において、結合剤は、Bilkadietal.によって記述されているように、1つ以上のN,N-二置換アクリルアミド及び/又はN-置換-N-ビニルアミドモノマーを含み得る。ハードコートは、セラマー組成物中の固形分の総重量に基づいて、約20~約80のエチレン性不飽和モノマー及び約5~約40のN,N-二置換アクリルアミドモノマー又はN-置換-N-ビニル-アミドモノマーを含有するセラマー組成物に由来し得る。硬化を促進するために、本明細書に記載されている重合性組成物は、少なくとも1つのラジカル熱反応開始剤及び/又は光開始剤を更に含んでよい。このような開始剤及び/又は光開始剤は、重合性組成物の総重量に基づいて、典型的には、重合性組成物の約10重量未満、より典型的には、約5重量未満の量で存在する。フリーラジカル硬化技術は当該分野で周知であり、例えば熱による硬化法並びに電子ビーム又は紫外放射線などの放射線による硬化法が挙げられる。フリーラジカル熱及び光重合技術に関する更なる詳細は、例えば、米国特許第4,654,233号Grantら、同第4,855,184号Klunら、及び同第6,224,949号Wrightらに見出すことができる。有用なフリーラジカル熱開始剤には、例えば、アゾ、ペルオキシド、ペルスルフェート及びレドックス開始剤、並びにこれらの混合物が挙げられる。有用なラジカル光開始剤には、例えば、国際公開特許第2006/102383号に記載されているようなアクリレートポリマーのUV硬化において有用であると知られるものが挙げられる。表面層又は下に位置するハードコート層として使用するための重合性組成物は、好ましくは、得られるコーティングに機械的な強度及び耐久性を加える、表面修飾されている無機粒子を含有する。様々な無機酸化物粒子を、ハードコートに使用することができる。無機酸化物粒子は、例えばシリカのような単一の酸化物から本質的になっているか、又はなることができ、あるいは例えばシリカ及び酸化アルミニウムのような酸化物の組み合わせを含んでよく、あるいは1つのタイプの酸化物のコア又は金属酸化物以外の材料のコアに他のタイプの酸化物を析出させたものであることができる。シリカは、一般的な無機粒子である。無機酸化物粒子は、液状媒体の中に無機酸化物粒子のコロイド状分散体を含有するゾルの形態で提供されることが多い。例えば、米国特許第5,648,407号Goetzら、同第5,677,050号Bilkadiら及び同第6,299,799号Craigらに記載されているように、ゾルは、様々な技術を使用し、水性ゾル水が液体媒体として作用する、有機ゾル有機液体がそのように作用する、及び混合ゾル液体媒体が水及び有機液体の両方を含有するなどの様々な形態に調製できる。例えば、非晶質シリカの水性ゾルを使用することができる。ゾルには一般に、ゾルの総重量を基準にして、少なくとも2重量、少なくとも10重量、少なくとも15重量、少なくとも25重量、及び多くの場合少なくとも35重量のコロイド状無機酸化物粒子を含有する。コロイド状の無機酸化物粒子の量は、典型的には50重量以下である例えば、45重量。無機粒子の表面は、Bilkadiらに記載されるようにアクリレート官能化することができる。ゾルは、結合剤のpHに合わせることもでき、また対イオン又は水溶性化合物例えばアルミン酸ナトリウムを含有することもできるこれらは全てKangらの‘798に記述されている。例えばジルコニアZrO2、チタニアTiO2、酸化アンチモン、アルミナ、酸化スズなどの様々な高屈折率無機酸化物粒子を、単独で又は組み合わせて使用することができる。混合金属酸化物が使用されてもよい。高屈折率層で用いられるジルコニアは、NalcoChemicalCo.からNalcoOOSSOO8という商品名で、及びBuhlerAGUzwil,SwitzerlandからBuhlerジルコニアZ-WOゾルという商品名で販売されている。ジルコニアナノ粒子は、米国特許第7,241,437号及び同第6,376,590号に記載されているようにして調製することもできる。無機ナノ粒子は、好ましくは表面処理剤で処理される。ナノサイズの粒子を表面処理することで、ポリマー樹脂中での安定した分散をもたらすことができる。好ましくは、表面処理がナノ粒子を安定化させ、その結果、粒子が重合性樹脂中に良好に分散され、実質的に均質な組成物を生じる。更に、安定化した粒子が硬化中に重合性樹脂と共重合又は反応できるように、ナノ粒子の表面の少なくとも一部分を表面処理剤により修飾することができる。表面修飾無機粒子の導入は、フリーラジカル重合性有機成分への粒子の共有結合をしやすくして、より丈夫でより均質なポリマー/粒子ネットワークを提供する。一般に、表面処理剤は、粒子表面に結合共有結合、イオン結合、又は強力な物理吸着による結合することになる第1の末端部、並びに粒子に樹脂との相溶性をもたらす及び/又は硬化中に樹脂と反応する、第2の末端部を有する。表面処理剤の例としては、アルコール、アミン、カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、シラン、及びチタネートが挙げられる。好ましいタイプの処理剤は、金属酸化物表面の化学的性質によりある程度決定される。シリカに対してはシランが好ましく、ケイ酸質充填剤に対しては他のものが好ましい。ジルコニアのような金属酸化物に対しては、シラン及びカルボン酸が好ましい。表面変性は、モノマーとの混合に続いて又は混合後のいずれかで行うことができる。シランの場合、樹脂へ組み込む前にシランを粒子又はナノ粒子の表面と反応させるのが好ましい。表面修飾剤の必要量は、粒子サイズ、粒子タイプ、修飾剤の分子量、及び修飾剤のタイプのようないくつかの要素に依存する。一般的には、概ね単層の修飾剤を粒子の表面に結合させることが好ましい。必要とされる付着手順又は反応条件もまた、使用する表面修飾剤に依存する。シランの場合、酸性又は塩基性の条件の下、高温で約1~24時間表面処理することが好ましい。カルボン酸のような表面処理剤は、高温又は長時間を必要としない場合がある。本組成物に好適な表面処理剤の代表的な実施形態には、例えば、イソオクチルトリメトキシシラン、N-3-トリエトキシシリルプロピルメトキシエトキシエトキシエチルカルバメート、N-3-トリエトキシシリルプロピルメトキシエトキシエトキシエチルカルバメート、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリ-t-ブトキシシラン、ビニルトリス-イソブトキシシラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン、ビニルトリス2-メトキシエトキシシラン、スチリルエチルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸、ステアリン酸、ドデカン酸、2-[2-2-メトキシエトキシエトキシ]酢酸MEEAA、β-カルボキシエチルアクリレートBCEA、2-2-メトキシエトキシ酢酸、メトキシフェニル酢酸、及びこれらの混合物のような化合物が挙げられる。コロイド状分散物における粒子の表面修飾は、米国特許第7,241,437号及び同第6,376,590号に記載されているものなどの様々な既知の方法で達成することができる。表面修飾剤の混合物が有用であり得、その場合、表面修飾剤の少なくとも1つは、硬化性樹脂及び共重合性官能基を有する。表面修飾剤の組み合わせによって、より低い粘度を得ることができる。例えば、重合化基は、エチレン性不飽和であるか、又は開環重合を受ける環式官能基であることができる。エチレン性不飽和重合化基は、例えば、アクリレート基若しくはメタクリレート基、又はビニル基であることができる。開環重合を受ける環式官能基は、一般的に、酸素、イオウ、又は窒素のようなヘテロ原子を含有し、好ましくは、エポキシドのように酸素を含有する3員環である。表面修飾剤の好ましい組み合わせは、重合性樹脂の有機成分と共重合可能である官能基を有する少なくとも1つの表面修飾剤と、分散剤として作用し得るポリエーテルシランのような第2の両親媒性修飾剤とを含む。第2の修飾剤は、好ましくは重合性組成物の有機成分と所望により共重合性である修飾剤を含有するポリアルキレンオキシドである。表面修飾コロイド状ナノ粒子は、実質的に完全に凝縮させることができる。非シリカ含有完全凝縮ナノ粒子の結晶化度単離した金属酸化物粒子として測定した場合は、典型的には55超、好ましくは60超、より好ましくは70超である。例えば、結晶化度は、約86まで又はそれ以上の範囲にすることができる。結晶化度は、X線回折法によって割り出すことができる。凝縮結晶性例えばジルコニアのナノ粒子は屈折率が高いが、非晶質ナノ粒子は典型的には屈折率がより低い。無機粒子には、実質的に単分散の粒径分布、又は実質的に単分散の分布の2つ以上を混ぜ合わせることによって得られる多分散分布を持たせるのが好ましい。あるいは、粒子を所望のサイズ範囲に粉砕することによって得られた粒度の範囲を有する無機粒子を導入することができる。無機酸化物粒子は典型的に、非凝集体実質的に分離体であり、凝集によって、無機酸化物粒子の光学散乱ヘイズ若しくは沈殿又はゲル化が生じ得る。無機酸化物粒子は典型的にサイズがコロイド状であり、5ナノメートル~100ナノメートルの平均粒子直径を有する。高屈折率無機粒子の粒径は、十分に透明な高屈折率コーティングを提供するために好ましくは約50nm未満である。無機酸化物粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡を用いて、所定の直径の無機酸化物粒子の数を数えることによって測定することができる。本明細書に記述されている硬化コーティングの表面層を有する光学フィルムは、光沢表面を有してもつや消し表面を有してもよい。つや消しフィルムは通常、典型的な光沢フィルムよりも透過率が低く、ヘイズ値が高い。光沢表面が、60°においてASTMD2457-03に従って測定した場合、典型的には少なくとも130の光沢を有するのに対して、つや消し表面は120未満の光沢を有する。いくつかの実施形態において、ヘイズは、ASTMD1003に従って測定した場合、意図される最終用途によって、5未満、又は2.5未満、又は1未満である。PCT国際公開特許WO2008/067262号に記述されているように、表面層に反射防止性を付与するために、粒子状つや消し剤を重合性組成物に組み入れることができる。粒子状つや消し剤は、結合しているハードコート層による干渉によって引き起こされる不均一な着色を防止することができる。3.5マイクロメートルの平均粒子サイズを有する1つの市販のシリカ粒子状つや消し剤は、W.R.GraceandCo.Columbia,MDからSyloidC803という商品名で市販されている。コーティング組成物は、所望により、PCT国際公開特許WO2008/067262号に記述されているように、帯電防止剤を含み得る。様々な帯電防止粒子が水系及び溶媒系として市販されている。非イオン性界面活性剤、添加剤存在する場合、及びハードコート組成物は、溶媒中に分散させて、希釈コーティング組成物を形成することができる。コーティング組成物中の固形分の量は、典型的には少なくとも20重量であり、通常約75重量以下である。ポリカーボネート、アクリル、酢酸セルロース、及び三酢酸セルロースなどのいくつかの光学的基材については、アルコール系溶媒例えばメタノール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、プロパノール等、並びにグリコールエーテル例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル又はエチレングリコールモノメチルエーテル等を採用することが好ましい。そのような光学的基材については、コーティング組成物は主にアルコール溶媒を含み得る。しかしながら、他の使用に関しては、アルコール系溶媒は、他のすなわち非アルコール溶媒と組み合わせてよい。薄いコーティング層は、ディップコーティング、フォワード及びリバースロールコーティング、巻線ロッドコーティング、並びにダイコーティングなどの様々な技術を使用して、光学基材に適用することができる。ダイコーティング機としては、ナイフコーティング機、スロットコーティング機、スライドコーティング機、フルイドベアリングコーティング機、スライドカーテンコーティング機、ドロップダイカーテンコーティング機、及び、押出コーティング機が挙げられる。EdwardCohen及びEdgarGutoffのModernCoatingandDryingTechnologyVCHPublishers,NY1992,ISBN3-527-28246-7、並びにGutoff及びCohenのCoatingandDryingDefects:TroubleshootingOperatingProblemsWileyInterscience,NYISBN0-471-59810-0などの文献に、多くのタイプのダイコーティング機が記載されている。ダイコーティング機とは一般的に、第1のダイブロック及び第2のダイブロックを利用してマニホールドキャビティ及びダイスロットを形成する装置を指す。コーティング流体は、圧力下でマニホールドキャビティを通過し、コーティングスロットから流出して、コーティング材料のリボンを形成する。コーティングは、単層として又は2つ以上の積層として適用することができる。通常、基材は連続ウェブの形状であるのが好都合だが、基材は不連続シートの連続であってもよい。日常的に接触するいかなる表面も、本明細書で記述されるコーティング組成物によって利益がもたらされ得る。例としては、光学ディスプレイ例えば、テレビ画面、コンピューター画面、携帯電話画面、自動車のコンソールディスプレイ、光学フィルム例えば画面プロテクター、プライバシーフィルム、自動車の窓、消費者向け電化製品例えば料理用レンジ、冷蔵庫の外面などが挙げられる。用語光学ディスプレイ又はディスプレイパネルとは、これらに限定されないが、液晶ディスプレイLCD、プラズマディスプレイ、フロント及びリアプロジェクションディスプレイ、カソード線管CRT及び標識等のマルチキャラクターマルチラインディスプレイ、並びに発光ダイオードLED、信号ランプ及びスイッチ等のシングルキャラクター又はバイナリディスプレイを含むいずれかの従来の光学ディスプレイを意味し得る。そのようなディスプレイパネルの露出表面は、レンズと呼ばれることがある。本発明は、特にインクペン、マーカー及びその他のマーキング道具、布巾、紙用品並びにその類により触れられやすい又は接触されやすい表示表面を有する表示装置に有用である。本発明のコーティングは、携帯型及び非携帯型の様々な情報ディスプレイ物品に採用することができる。これらの物品としては、PDA、携帯電話PDA/携帯電話の組み合わせを含む、LCDテレビダイレクトライト及びエッジライト、タッチスクリーン、腕時計、カーナビゲーションシステム、GPS、深度探知機、計算機、電子ブック、CD及びDVDプレイヤー、投影型テレビスクリーン、コンピューターモニター、ノートパソコンディスプレイ、機器計器、機器パネルカバー、標識、例えばグラフィックディスプレイ等が挙げられる。表示面は、任意の従来の大きさ及び形状を有することができ、平面又は非平面であることができるが、フラットパネルディスプレイが好ましい。コーティング組成物又はコーティングされたフィルムを、例えばカメラレンズ、眼鏡レンズ、双眼鏡レンズ、鏡、再帰反射シート材、自動車窓ガラス、建築物窓ガラス、電車窓ガラス、ボート窓ガラス、航空機窓ガラス、車両ヘッドライト及びテールライト、ディスプレイケース、道路舗装マーカー例えば隆起及び舗装マーキングテープ、オーバーヘッドプロジェクター、ステレオキャビネットドア、ステレオカバー、ウォッチカバー、並びに光学及び光磁気録音ディスク等の様々な他の物品上で同様に使用することが可能である。様々な基材が、本発明の物品に利用できる。好適な基材材料には、ガラス、並びにポリカーボネート、ポリメタアクリレート例えば、ポリメチルメタクリレート又はPMMA、ポリオレフィン例えば、ポリプロピレン又はPP、ポリウレタン、ポリエステル例えば、ポリエチレンテレフタレート又はPET、ポリアミド、ポリイミド、フェノール樹脂、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポリスチレン、スチレン-アクリロニトリルコポリマー、及びエポキシなどのような熱硬化性又は熱可塑性ポリマーが挙げられる。そのような基材は典型的に、水性溶液及び油の両方に対して非吸収性である。典型的には、基材はある程度、意図された用途に望ましい光学特性及び機械特性に基づいて選択される。かかる機械特性としては、典型的には、屈曲性、寸法安定性及び衝撃耐性が挙げられる。基材の厚さも、通常、意図された用途次第である。大部分の用途に関しては、約0.5mm未満の基材の厚さが好ましく、より好ましくは約0.02~約0.2mmである。自立性ポリマーフィルムが好ましい。PETなどのポリエステル、又はPPポリプロピレン、PEポリエチレン及びPVCポリ塩化ビニルなどのポリオレフィンから作製されるフィルムが特に好ましい。押出及び押出フィルムの任意の一軸又は二軸配向によるなどの従来のフィルム製造技術を使用して、ポリマー材料をフィルムへと成形することができる。基材とハードコート層との間での接着を改善するために、例えば化学処置、コロナ処置、例えば空気若しくは窒素コロナ、プラズマ、火炎、又は化学放射線によって基材を処理することができる。所望であれば、中間層接着を増大させるため、任意の結合層又はプライマーを基材及び/又はハードコート層に適用することができる。種々の光透過性光学フィルムが既知であり、多層光学フィルム、再帰反射性シーティング及び輝度増強フィルムなどのミクロ構造化フィルム、例えば、反射又は吸収偏光フィルム、拡散フィルム並びに米国特許出願公開第2004/0184150号に記載されているような例えば、2軸位相差板フィルム及び補償器フィルムが挙げられるが、これらに限定されない。米国特許出願公開第2003/0217806号に記載されているように、多層光学フィルムは、ある程度は、異なる屈折率のミクロ層を配置させることによって、望ましい透過及び/又は反射特性をもたらす。隣接するミクロ層の境界面で一部の光が反射されるように、これらのミクロ層は異なる屈折率特性を有する。フィルム体に所望の反射又は透過特性を付与するために、複数の境界面で反射する光が、強め合う又は弱め合う干渉を受けるように、ミクロ層は十分に薄い。光を紫外線波長、可視光波長、又は近赤外線波長で反射するように設計された光学フィルムの場合、各ミクロ層は、一般に、約1μm未満の光学厚さ即ち、物理的厚さ×屈折率を有する。しかしながら、フィルム外面の表面薄層、又はミクロ層のパケットを分離させるフィルム内に配置されている保護境界層などのより厚い層を含めることもできる。またラミネート中で多層光学フィルムの2枚以上のシートを結合するように、多層光学フィルム体に1つ以上の厚い接着剤層を含めることもできる。多層光学フィルム及びその関連構造の更なる詳細については、米国特許第5,882,774号Jonzaら、並びにPCT公開WO95/17303号Ouderkirkら及びPCT公開WO99/39224号Ouderkirkらで見ることができる。ポリマー多層光学フィルム及びフィルム体には、それらの光学的特性、機械的特性、及び/又は化学的特性に関して選択した追加的な層及びコーティングを含めることができる。米国特許第6,368,699号Gilbertらを参照されたい。またポリマーフィルム及びフィルム体には、無機層、例えば金属又は金属酸化物コーティング又は層を含めることもできる。様々な永久的な及び取り外し可能なグレードの接着剤組成物が、基材の反対側すなわち、ハードコートにコーティングされてよく、物品をディスプレイ表面に容易に実装させることができる。好適な接着剤組成物としては、KratonPolymersWesthollow,Texasから商品名KratonG-1657として市販されているような例えば、水素添加ブロックコポリマー、並びに他の例えば、類似の熱可塑性ゴムが挙げられる。他の代表的な接着剤としては、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、及びエポキシ系接着剤が挙げられる。光学ディスプレイの表示品質を低下させるように経時的に又は天候曝露時に接着剤が黄色化しないように、好ましい接着剤は十分な光学的品質及び光安定性を有するものである。トランスファーコーティング、ナイフコーティング、スピンコーティング、ダイコーティング等の様々な既知のコーティング技術を使用して接着剤を塗布することができる。代表的な接着剤は、米国特許出願公開第2003/0012936号に記載されている。このような接着剤のいくつかは、3MCompanySt.Paul,MNから商品名8141、8142及び8161として市販されている。初期の指紋視認性又は時間に応じた指紋視認性は、様々な方法で測定することができる。しかしながら、好ましくは、そのような評価は、再現可能な標準化方法を用いて行われる。コーティング組成物の指紋視認性を測定する一方法は、基材上にコーティング組成物を供給する工程と、コートされた基材上にシミュレート指紋組成物を適用する工程と、コート基材上のシミュレート指紋組成物の光学的特性を測定する工程と、を含む。測定される光学的特性が例えば透過率又はヘイズの場合、コーティング組成物が適用される基材は、光透過性の例えば透明な基材である。しかしながら、光学的特性が例えば光沢の場合、基材は代替的に不透明な基材であり得る。シミュレート指紋組成物は一般に、親油性の高い物質である。シミュレート指紋組成物は典型的には、室温25°Cで主に固体の脂性物質と、室温25°Cで主に液体の油性物質との混合物である。植物性ショートニングが好適な固体であり、一方、脂肪族アルキルオキシドアルキル基が少なくとも24個の炭素原子を有するもの、例えばSigmaから商品名Trioleinとして販売されているものが、好適な液体である。シミュレートされた指紋は、すなわち硬化したコーティングに対し、様々な技法を用いて適用することができる。油性物質は、粘性を低減し、薄いコーティング例えば厚さ1.2マイクロメートルを均一に適用するために、例えば例えばアルコール溶媒で希釈することができる。ゴム製ストッパーを便利に使用して、連続的なコーティングを提供することができる。しかしながら、他のゴム製スタンプ設計、又はサンドペーパーで粗くしたゴム製ストッパー若しくは表面を使用して、不連続なコーティングを提供することもできる。コーティング組成物が重合性組成物である実施形態については、コーティング組成物を硬化してから、シミュレートされた指紋が適用される。コーティング組成物が溶媒を含む実施形態については、コーティング組成物を乾燥させてから、シミュレートされた指紋が適用される。光学的特性例えばヘイズは、初期及び継続時間後に測定され得る。継続時間は1、2、3、4、若しくは5分又はそれ以上の継続時間、例えば20分であってよい。指紋視認性を測定するための好適な一方法は、後述の実施例において詳細に記述される。初期例えばシミュレートされた指紋の視認性を、継続時間後例えば20分後の視認性と比較することによって、継続時間後の視認性を初期視認性で割り、比を計算することができる。比が1の場合、例えばシミュレートされた指紋の視認性は、時間によって変化がない。比が小さいほど、視認性の変化は大きい。いくつかの実施形態において、本明細書に記述される硬化コーティングは、初期のシミュレートされた指紋の視認性の例えば20分後のシミュレートされた指紋の視認性に対する比が、0.80未満、又は0.70未満、又は0.60未満、又は0.50未満である。初期又は時間に対しての、実際又はシミュレートされた指紋の視認性は、視覚的検査を使用することによっても測定できる。例えば、図1A及び図1Bを参照すると、指紋視認性は、デジタルカメラを装着した顕微鏡を様々な倍率で使用することによって撮影できる。図1Aを参照すると、指紋は初期に、例えば12Xの倍率ではっきりと視認される。しかしながら、図1Bを参照すると、この同じ指紋は、継続時間後例えば5分後に視認性が実質的に低くなっている。図2Aを参照すると、例えば500Xの高い倍率でも、初期では指紋の油滴が硬化コーティング表面上で明らかである。しかしながら、図2Bを参照すると、この油滴は継続時間後例えば4分後に不明瞭となっており、硬化コーティング組成物によって吸収されたと推測される。本明細書に記述されている好ましい実施形態において、硬化コーティングは、その特性、特に低減した指紋視認性を呈する特性を、80°Cで500時間のエージング後にも維持する。いくつかの実施形態では、この比は高くなることがある。しかしながら、この比は依然として0.80未満、又は0.70未満、又は0.60未満、又は0.50未満である。用語以下の定義された用語に関して、別の定義が特許請求の範囲又は本明細書の他の箇所において示されない限り、これらの定義が適用される。フリーラジカル重合性とは、好適なフリーラジカル源への曝露時に架橋反応におけるモノマー、オリゴマー、ポリマー又はこれらに類するものの能力を指す。メタアクリルとは、アクリレート、メタクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、α-フルオロアクリレート、チオアクリレート及びチオメタクリレートを含む官能基を指す。好ましいメタアクリル基はアクリレートである。一価のペルフルオロポリエーテル部分とは、ペルフルオロアルキル基により終端する1つの末端を有するペルフルオロポリエーテル鎖を指す。特に別途記載のない限り、HFPO-とは、メチルエステルFCFCF3CF2OaCFCF3COOCH3の末端基FCFCF3CF2OaCFCF3-を指し、式中、aの平均値は2~15である。いくつかの実施形態において、aは平均して3~10、又はaは平均して5~8である。このような種は、一般にaについての値の範囲を有するオリゴマーの分散物又は混合物として存在し、その結果aの平均値は非整数となることがある。1つの実施形態では、aの平均値は6.2である。このメチルエステルは、1,211g/モルの平均分子量を有し、米国特許第3,250,808号Mooreらに報告されている方法に従って調製することができ、分別蒸留により精製される。端点によって表される数値の範囲は、その範囲内に含まれる全ての数値を含む例えば1~10の範囲には、1、1.5、3.33、及び10が含まれる。本発明の目的及び利点は、以下の実施例によって更に例示されるが、これらの実施例において列挙された特定の材料及びその量は、他の諸条件及び詳細と同様に、本発明を過度に制限するものと解釈されるべきではない。実施例における全ての部、百分率、比等は、特に明記しない限り、重量基準である。用いた溶媒及びその他の試薬は、特に別途指定のない限り、Sigma-AldrichChemicalCompanyMilwaukee,WIから入手した。材料非イオン性界面活性剤成分BrijO2-主要成分C18H35OCH2CH22OH2つのエチレンオキシ基を有するオレイルアルコール、CrodaInc.Edison,NJから入手。BrijO3-主要成分C18H35OCH2CH23OH3つのエチレンオキシ基を有するオレイルアルコール、同供給元より、HLBが6.6であると報告されている。非イオン性界面活性剤2~7の合成オーバーヘッド機械的撹拌機、温度プローブ、及び凝縮器付きDean-Starkトラップを備えた250mLの丸底フラスコに、50グラム0.177モルの90オレイン酸工業グレード、0.168モル0.95当量の下記表に指定のアルコール、100グラムのシクロヘキサン、及び1.5グラムのパラトルエンスルホン酸を加えた。このバッチを穏やかに撹拌しながら加熱して還流させ、エステル化合成から水を共沸させ、この水をdean-Starkトラップに回収した。4時間還流させた後、合計3グラムの水が回収され、それ以上の水は生じなかった。液体クロマトグラフィーにより、少量の残留オレイン酸が示された。反応物を室温に冷ました。このフラスコに、60グラムの水と6グラムの炭酸ナトリウムとの混合物を加え、4.5グラムのイソプロピルアルコールを加えた。フラスコの内容物をよく混合し、次いで分液漏斗内で相分離させた。下の水性層を除去した。次に、70グラムの塩化ナトリウム飽和水溶液混合物を加え、フラスコを振り、内容物を分離させた。下の水性層を除去した。残ったシクロヘキサン溶媒を、ロータリーエバポレーターを用いてエステル生成物から除去した。薄黄色の生成物の収量は、典型的に約86であった。液体クロマトグラフィーでは、残留オレイン酸は示されなかった。計算された親水性-親油性バランスHLBを含む界面活性剤の特性が、以下の表にまとめられている。重合性界面活性剤例えばBrijO2アクリレートの合成電磁撹拌棒、及びヒートテープを巻き付けた凝縮器付きDean-Starkトラップを備えた1Lの丸底フラスコに、200g0.561モルのBrijO2、41.22g0.572モルのアクリル酸、0.05gのBHT固形物で約500ppm、0.05gフェノチアジン、及び300gヘプタンを加えた。反応物を油浴中で加熱した。内部温度が80°Cのとき、2.96g0.0308モルのメタンスルホン酸を反応物に加えた。油浴を120°Cに上げ、加熱テープをオンにした。還流を4時間行った後、10.0mLの水を回収し、反応物を80°Cに冷まし、4.69g0.0314モルのトリエタノールアミンを反応物に撹拌しながら加えた。5分後、120gの脱イオン水を反応物に加え、これを1分間撹拌し、分液漏斗に移し、振ってから一晩静置させた。3層が形成された:透明な水性層84.2g、茶色の粘着性混合物の中間層48.7g、及び薄茶色の上層であった。上層を分離し、フラスコ中で120gの2炭酸ナトリウム水溶液と共に80°Cに加熱した。この混合物Tmixtureを分液漏斗内で、75°Cに加熱して静置させた。層を分離し、水性層を50gヘプタンで再抽出した。合わせたヘプタン層に無水硫酸マグネシウムを入れて乾燥させ、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮して、209.7g収率91.1の薄茶色の油を得た。これを1HNMRで特徴付けた。HLB=5.6計算値添加剤合成に使用される、疎水基を含む構成成分例えば非イオン性界面活性剤ALFONIC810-10-OH-CH2CH2O10C8H17とOHCH2CH2O10C10H21との50:50ブレンド、SasolNorthAmericaHuston,TXから入手。HLB=16.2計算値BrijS20-主要成分C18H37OCH2CH220OH、CrodaInc.Edison,NJから入手。メーカー報告によるHLB=15.3。BrijO2-主要成分C18H35OCH2CH22OH2つのエチレンオキシ基を有するオレイルアルコール、CrodaInc.Edison,NJから入手。HLB=5.4計算値BrijO3-主要成分C18H35OCH2CH23OH3つのエチレンオキシ基を有するオレイルアルコール、CrodaInc.Edison,NJから入手。HLB=7.0計算値EmulsogenM-A-5つのエチレンオキシド単位を有するオレイルアルコール、ClariantCorp.Charlotte,NCから入手。HLB=9.3計算値Mw=489g/モルISOFOLC16-10-10個のエチレンオキシド単位を有する2-ヘキシルデカノール、SasolNorthAmericaHuston,TXから入手。HLB=13.3計算値ISOFOLC16-20-20個のエチレンオキシド単位を有する2-ヘキシルデカノール。HLB=16.4計算値Polyoxyl50ステアレート-50個のエチレンオキシド単位を有するステアリルオクタデカノールアルコール、SpectrumChemicalManufacturingCorp.Gardena,CAから入手。HLB=18.8計算値EmalexHC-20は、20個のエチレンオキシド単位を有するヒマシ油、IkedaCorporationofAmericaIslandPark,NYから入手。メーカー報告によるHLB=9。オレイルアルコール-SuperRefined商標NovolNF、CrodaInc.Edison,NJから入手。HLB=1.1計算値ヘキシルアルコールHLB=4.9計算値ステアリルアルコールHLB=1.0計算値ドデシルアルコールHLB=2.1計算値MPEG750-分子量750のメトキシ末端エチレンオキシドアルコール、DowChemicalMidland,MIから入手。低表面エネルギーシリコーン基を含む構成成分MCR-C12-分子量1000のモノカルビノール末端ポリジメチルシロキサン、GelestMorrisville,PAから入手。MCR-C18-分子量5000のモノカルビノール末端ポリジメチルシロキサン、GelestMorrisville,PAから入手。低表面エネルギーペルフルオロアルキル基を含む構成成分MeFBSEA-C4F9SO2NCH3CH2CH2OCOCH=CH2は、米国特許第2,803,613号に記述されている一般的手順によって調製できる。低表面エネルギーペルフルオロプリエーテル基を含む構成成分分子量1344のHFPO-CONHCH2CH2OHHFPOアミドールは、米国特許第7094829号Audenaertらこの開示は参照により本明細書に組み込まれるにおいて、HFPOオリゴマーアルコールの合成に関して記述されている手順に類似の手順によって製造されたが、HFPOメチルエステルFCFCF3CF2OaCFCF3COCH3式中a=6.2の代わりに、FCFCF3CF2OaCFCF3COOCH3式中、a=6.85を用いた。HFPOメチルエステルは、米国特許第3,250,808号Mooreらこの開示は参照により本明細書に組み込まれるに報告されている方法に従って調製され、分別蒸留により精製された。その他の構成要素イソシアナトエチルアクリレートIEAは、CBCAmericaCorpCommack,NYから入手された。Nalco2327-20nmシリカナノ粒子の水性分散液水中固形分41、アンモニアで安定化、NalcoChem.Co.Naperville,ILから入手。PROSTAB5198-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシ一般に4-ヒドロキシ-TEMPOと称される、CIBASpecialtyChemicalsTarrytown,NYから入手。SartomerSR444C-ペンタエリスリトールトリアクリレートPET3A、SartomerCompanyExton,PAから入手。SartomerSR444-ペンタエリスリトールトリアクリレートPET3/4、SartomerCompanyExton,PAから入手。Beamset575CB-ウレタンフォトオリゴマー、ArakawaChemicalUSAChicago,ILから入手。BHT-2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、SigmaAldrichMilwaukee,WIから入手。Esacure1-2-ヒドロキシ-1-{1-[4-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル-フェニル]-1,3,3-トリメチル-インダン-5-イル}-2-メチル-プロパン-1-オン、LambertiSPAGallarate,Italyから入手。VAZO52VAZO67-重合開始剤、E.I.duPontdeNemoursandCompanyWilmington,DEから入手。DesN100-ポリイソシアネートDesmodur商標DesN100、BayerPolymersLLCPittsburgh,PAから入手。DBTDL-ジブチル錫ジラウレート、SigmaAldrichMilwaukee,WIから入手。DuPontTeijinPET:ポリエチレンテレフタレートフィルム618-500、DuPontTeijinFilmsU.S.LimitedPartnershipHopewell,VAから入手。フェノチアジン、ステアリルアルコール、ドデシルアルコール、酢酸エチル、エタノール、イソプロピルアルコール、トリエタノールアミン、チオエタノール及びヘキシルアルコールは、Sigma-AldrichMilwaukee,WIから入手した。表面修飾ナノシリカ分散液305グラムのNalco2327を1リットルの反応フラスコに入れた。486グラムの1-メトキシ-2-プロパノールを、撹拌しながら反応器に加えた。19.38gの3-メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランを、撹拌しながらこの反応器にゆっくり加えた。0.15グラムの5PROSTAB5198水溶液を撹拌しながら反応器に加えた。この混合物を90°Cで18時間撹拌した。反応混合物を減圧下で加熱し、1-メトキシ-2-プロパノール/水の共沸混合物を蒸発させ、必要に応じて1-メトキシ-2-プロパノールを加えて、実質的に全ての水を除去した。表面修飾反応物として、1-メトキシ-2-プロパノール中に、表面修飾シリカ平均粒径20nm40重量を含む混合物が得られた。添加剤例えばペルフルオロポリエーテルウレタンマルチアクリレートの合成DesN100/0.25HFPO/0.25C18H37OCH2CH220OH/0.55PET3Aの溶液を次のように調製した。電磁撹拌棒を備えた200mLの丸底フラスコに、6.25g0.03272当量、191EWのDesN100、29.8gのメチルエチルケトンMEKを充填した。反応物を渦流させて反応物を溶解させ、フラスコを55°Cの油浴に入れ、乾燥空気下で凝縮器を取り付けた。10ジブチル錫ジラウレートDBTDLのMEK溶液22μLを反応物に加えた総固形分で50ppm。約20分かけて、10.99g0.008184当量、DesN100に対して0.25当量分率、1344EWのFCFCF3CF2O6.85CFCF3CONHCH2CH2OHを、添加漏斗を介して反応物に加えた。添加完了から2時間後、8.66g0.008184当量、DesN100に対して0.25当量分率、1058.5EWのC18H37OCH2CH220OHBrijS20を20分かけて加え、次いで5.0gのMEKで添加漏斗をすすいだ。一晩反応させた後、次の日の午後に、0.013gのBHT、次いで8.90g0.018当量、DesN100に対して0.55当量分率、494.3EWのSartomerSR444CPET3Aを反応物に一度に加え、一晩継続させた。SR444Cの実際のOH当量重量は421.8であったが、494.3がSR444Cの全ロットに関する計算に使用され、その結果、作製される所与の材料に関してSR444Cの重量百分率は一定に維持された。反応をFTIRで監視し、初めに2273cm-1でイソシアネート基吸収を示した。この吸収は一晩反応させた後になくなった。1.41gのMEKを加えて、反応中に失われたMEKを補填して、最終固形分を50固形分に調整した。この添加剤は、表Aにおいて添加剤5として識別されている。他のペルフルオロポリエーテルウレタンマルチアクリレートが同様に調製された。材料はMEK中50固形物別記のない限りで使用され、50~500ppmのDBTDLによって触媒された。使用されたDESN100の相対的モル分率は1.0であり、アルコールの相対的モル分率は、表Aに示すように、処方の構成成分の冒頭にある数字によって示されている。例えば、添加剤5はDesN100/0.25HFPO-CONH-CH2CH2OH/0.25BrijS20/0.55PET3Aであり、これは、DESN100の1モル当たり、添加剤が0.25モルのHFPO-CONH-CH2CH2OH、0.25モルのBrijS20、及び0.55モルのPETA3Aを含有していたことを意味する。添加剤15~16-シリコーン基を含む添加剤の合成モノカルビノールmonocarbinal末端ポリジメチルシロキサン化合物を、添加剤1~14と同様に添加剤を作製するのにそれぞれ利用した。これら添加剤の相対的モル分率は以下の通りである。添加剤17-MeFBSEA4SCH2CH2OHオリゴマーFCオリゴマーの合成:4モル部のMeFBSEA及び1モル部のチオエタノールメチルイソブチルケトン中50固形分を窒素で約5分間パージし、次いで約0.5重量のVAZO67を入れ、次いで65°Cで約15時間加熱した。次いで、このFCオリゴマーを使用して、添加剤1~14と同様に添加剤を作製した。表Aの添加剤の合成に使用される構成成分の固形物重量gは以下の通りである。添加剤18~20の準備材料HFPO-IEAウレタン付加物の調製電磁撹拌棒を装着した200mLの丸底フラスコに、100.00g0.0744モルのHFPOアミドール分子量1344、10.5g0.0744モルのイソシアナトエチルアクリレートIEA、0.0553gのジブチル錫ジラウレートDBTDL、メチルエチルケトン中10固形分溶液650マイクロリットル、110.50gの酢酸エチル、及び0.0553g、500ppmのBHTを充填した。60°Cの乾燥空気下で一晩反応させた後、FTIR分析により残留イソシアネートピークが示されなかった。反応物を酢酸エチルで50固形分に調節した。ドデカノール-IEAウレタン付加物の調製HFPO-IEAウレタン付加物の調製と同様にして、186.33g0.26834モルのドデカノール、37.87g0.26834モルのイソシアナトエチルアクリレート、0.0439gのジブチル錫ジラウレートDBTDL、メチルエチルケトン中10固形分溶液517マイクロリットル、87.87gの酢酸エチル、及び0.0439g、500ppmのBHTを合わせ、反応させて、酢酸エチル中50固形分のドデカノール-IEAウレタン付加物を得た。BrijS20-IEAウレタン付加物の調製HFPO-IEAウレタン付加物の調製と同様にして、100.00g0.094473モルのBrijS20、13.33g0.094473モルのイソシアナトエチルアクリレート、0.0567gのジブチル錫ジラウレートDBTDL、メチルエチルケトン中10固形分溶液666マイクロリットル、113.33gの酢酸エチル、及び0.0567g、500ppmのBHTを合わせ、反応させて、酢酸エチル中50固形分のBrijS20-IEAウレタン付加物を得た。添加剤18~20-アクリレートコポリマー添加剤の合成250mLの瓶に、HFPO-IEA、ドデカノール-IEA、及びBrijS20-IEAのウレタン付加物の酢酸エチル中50固形分溶液を、以下の表に示すグラムで充填した。示されている実施例について、ヒドロキシエチルアクリレートの50固形分溶液も加えた。次に、100固形分のVazo67及びドデカンチオールを、示されているグラム量で瓶に入れた。反応物を1分間窒素ガスでパージした後、65°Cの水浴でLaunder-Ometerに24時間入れた。ヒドロキシエチルアクリレート含有添加剤19及び20については、10gの酢酸エチルを、撹拌棒と共にそれぞれに加え、酢酸エチル中50固形分のイソシアナトエチルアクリレートを示されているグラム量ヒドロキシエチルアクリレートに対するモル等量加えた。瓶をそれぞれ60°Cの油浴に入れ、その温度で3.5時間撹拌して反応させ、次いで油浴を室温まで冷ましながら更に52時間反応させた。添加剤19及び20の反応物のFTIRは、2265cm-1でイソシアネートのピークを示さなかった。次いで、添加剤19及び20は、それぞれ5.13g及び6.1gの酢酸エチルを用いて、45固形分に調節した。コーティング組成物実施例1~5及び比較実施例A~DSartomerSR444と、表面修飾ナノシリカ分散液に記載される表面修飾ナノシリカの1-メトキシ-2-プロパノール分散液とを、以下の表に示す重量比で混合することにより、SartomerSR444中の表面修飾ナノシリカを調製した。次に、1-メトキシ-2-プロパノールを、ロータリーエバポレーターを用いて蒸発させた。コーティング溶液は、材料をエタノール中に70固形分で溶解させることにより作製され、添加剤5及び指示された濃度のBrijO2をphr樹脂の百分率基準で加えた。これらの溶液を、プライム済みの5mil0.13mmのDuPontTejinPETフィルム上にコーティングした。コーティングは、24ワイヤ丸ロッドを用いて約10マイクロメートルの乾燥厚さにコーティングした。このコーティングを、105°Cの空気循環炉で2分間乾燥させた。次いで、このコーティングを、窒素パージしたFusionLightHammer6で、500ワットのFusionHバルブFusionUVSystems、Inc.Gaithersburg、Marylandを用いてUV硬化させ、30ft/分0.15m/sのコンベアに置いた。サンプルを試験するために、BYK-GardnerColumbia,MDから販売されているHaze-Gardplusを用いてバックグラウンドヘイズを測定し、次に3つのヒト指紋をコーティングに適用してから、再びHaze-Gardplusを用いてヘイズを測定した。この測定を1分後及び2分後に繰り返し、3つの指紋全ての結果を平均した。指紋視認性FP視認性は、指紋付きで測定されたヘイズと、指紋を適用する前のバックグラウンドヘイズとの間の差として計算された。指紋視認性は、初期値に対するパーセンテージとして以下の表に報告されている。このように、この試験により、1分及び2分後に指紋視認性が100のままである場合、コーティングは指紋視認性に対して効果がない。これに対して、1分又は2分後に指紋視認性が低いほど、コーティングの指紋視認性に対する効果は高い。結果は、本明細書に記述されている添加剤が存在しない場合、この界面活性剤の濃度は、指紋視認性を低減するために14重量を超えていなければならないことが示されている。実施例1~4を比較実施例B~Dと比較すると、添加剤を含めることにより、より低い濃度の界面活性剤で、より低い指紋視認性が達成できることが明らかである。実施例1を実施例5と比較することにより、添加剤を含めることにより、同じ界面活性剤濃度で、実質的により低い指紋視認性がもたらされることが明らかである。実施例6~34及び比較例F~Kコーティング溶液は、以下の表に記載されている材料を、70固形分でエタノールに溶解させることによって調製された。これらの溶液を、プライム済みの5mil0.13mmのDuPontTejinPETフィルム上にコーティングした。コーティングは、16ワイヤ丸ロッドを用いて約15マイクロメートルの乾燥厚さにコーティングした。このコーティングを、105°Cの空気循環炉で2分間乾燥させた。次いで、このコーティングを、窒素パージしたFusionLightHammer登録商標6で、500ワットFusionHバルブFusionUVSystems、Inc.Gaithersburg、Marylandを用いてUV硬化させ、40ft/分0.20m/sのコンベアに置いた。比較実施例H及びIは、米国特許第7,153,563号の実施例1に従って調製され、1.5部のEmalexHC-20を用いて比較実施例Hとし、10部のEmalexHC-20を用いて比較実施例Iとした。サンプルを試験するには、BYK-GardnerColumbia,MDから販売されているHaze-Gardplusを用いてバックグラウンドヘイズを測定し、次にシミュレートされた指紋をコーティングに適用し、再びHaze-Gardplusを用いてヘイズを測定した。シミュレートされた指紋は次のように適用された。0.35部のCriscoショートニングJ.M.SmuckerCompanyOrrville,Ohioを0.35部のC57H104O6SigmaChemicalCo.St.Louis,MOから商品名Trioleinとして販売及び8.0部のイソプロピルアルコールと混合することによって、溶液を調製した。10ワイヤ巻きロッドを用いて、これをフィルム上で高速にて動かすことにより、この溶液をDuPontTeijinPETフィルム上にコーティングした。サンプルを30分間乾燥させた。底面外径が約2.3cmの5ストッパーVWRScientificをプランジャ2.5ポンド1.13kgプランジャ、SummerOpticalFortWashington,PAに取り付けた。ストッパーを付けたプランジャを、コーティングされたPETに押し付けたストッパーのインク付け。次に、プランジャを、試験するサンプルに押し付けた。適用されたシミュレートされた指紋のヘイズをすぐに測定し、20分後に再び測定した。バックグラウンドヘイズ、シミュレートされた指紋を適用した後の初期ヘイズ、及び指紋適用から20分後のヘイズが、以下の表に示されている。20分後のヘイズの初期ヘイズに対する比も示されている。サンプル表面にSharpieマーカーを適用し、インクの玉状化の度合を視覚的に観察した。顕著なインク玉状化が観察されたサンプルは、撥インク性として記載された。結果は以下のようにまとめられている。結果は、好ましい非イオン性界面活性剤のHLBが6.2未満及び2.0超であったことを示している。追加のコーティング組成物の実施例は、表Aに記載されている様々な添加剤を使用して調製された。シミュレートされた指紋の視認性は上記のように試験され、その結果を以下に示す。実施例30~32を除き、全ての例示的添加剤は、ペルフルオロポリエーテル基を含んでいた。実施例30~31は、添加剤がフッ素化基の代わりにシリコーン基を含み得ることを示している。実施例32は、添加剤がペルフルオロアルキル基を含み得ることを示している。しかしながら、撥インク性については、実施例30~32は、ペルフルオロポリエーテル基を含む添加剤に比べて劣っている。実施例17及び26は最大の比を示しており、すなわち時間に対する指紋視認性の低減が最も低い。実施例17は添加剤2を含有し、疎水基を欠いていた。一方実施例26は添加剤12を含有し、疎水基としてヘキシル基を有していた。よって、6個を超える炭素原子を有する疎水基が好ましい可能性がある。実施例18~19及び21~22は、撥インク性を併せ持ち、0.70未満の比を呈している。これらの実施例は、疎水基が高HLBを有するポリエトキシル化アルコールから誘導された添加剤を利用していた。実施例33及び34は、この組成物が重合性非イオン性界面活性剤を更に含み得ることを示している。実施例33及び34も、低い比、すなわち指紋視認性における高い低減度が、疎水基が低HLBを有するポリエトキシル化アルコールから誘導された添加剤であっても達成できることを示している。他の実施例は、添加剤が、例えば所望によりエチレンオキシド繰り返し単位などの親水基と組み合わせて、様々な疎水基を含み得ることを示している。追加の実施例が、以下に示されている界面活性剤の混合物を含んで調製された。先に報告されたヒト指紋試験結果に加え、シミュレートされた指紋を用いて試験された。いくつかの実施例において、ヘキサデカン後退接触角が測定された。平均値を以下に報告する。スチールウール耐久性試験及び結果硬化したフィルムの磨耗耐性は、スタイラスに固定されているスチールウールシートを、フィルム表面を横断するように振動させることができる機械装置を用いることによって、コーティング方向に対してクロスウェブに試験した。スタイラスは、210mm/秒3.5ワイプ/秒の速度で60mmの掃引幅にわたって振動したここでワイプは、1回の60mmの移動として定義される。スタイラスは、直径3.2cmの平らな円筒形ベース部の形状を有していた。このスタイラスは、フィルムの表面に対するスチールウールによる垂直な摩擦力を増大させるために、おもりの取り付けができる設計になっていた。0000スチールウールシートは、HutProductsFulton,MOから入手可能なMagicSand-SandingSheetsであった。0000は、600~1200グリットのサンドペーパーに相当する指定グリットを有する。3.2cmのスチールウールディスクを、サンディングシートからダイカットし、3MBrandScotchPermanentAdhesive転写テープで3.2cmのスタイラスベース部分に接着した。各実施例について1つのサンプルを試験し、300gのおもりで、前後に10回往復させた。続いて、サンプルの引っかき傷について目視検査した。実施例33~34及び37~39が全てスチールウール磨耗試験で試験され、全て、ごくわずかな引っかき傷があるのみで合格した。サンプル処方34は、以下の方法を用いてスロットダイコーティングされた:液体コーティング組成物を125マイクロメートルゲージ5mil0.13mmのポリエステルフィルムに、スロット供給ダイコーターを用いて、湿潤コーティング厚さ約23マイクロメートル、ウェブ速度約9m/分30フィート/分0.15m/秒でコーティングして、15マイクロメートルの乾燥厚さを得た。コーティングされたウェブを、約60°Cに設定したギャップドライヤー米国特許第5,581,905号、同第5,694,701号、及び同第6,134,808号に記載を通して乾燥させたギャップドライヤー内の滞留時間は約20秒であった。次に、このウェブを更に、100°Cに設定した従来型乾燥炉に通して乾燥させたギャップドライヤー内の滞留時間は約40秒であった。このコーティングを、インラインで、600ワットHバルブを備えたFusionProcessor両方ともFusionUVSystemsGainsburg,Md.から入手可能を用いてポリエステルウェブ上に硬化させた。エージング試験及び結果シミュレートされた指紋の視認性が測定されて、初期結果0.56を得た。次に、コーティングフィルムを80°C乾燥熱、周囲湿度で500時間エージングさせた。シミュレートされた指紋の視認性が測定され、0.64であることがわかった。顕微鏡画像ヒト指紋を、上記のエージング試験用に調製した同じサンプルすなわちサンプル処方34の硬化表面に適用した。これをすぐに、12X対物1.2X、倍率器10Xに設定したOlympusMX50顕微鏡のステージに載せ、OlympusU-TVo.5XC-3カメラを用いて画像を撮影し、これを図1Aに示す。2枚目の画像を5分後に撮影し、これを図1Bに示す。2つめのヒト指紋を同じサンプルに適用し、ただし顕微鏡を500Xで使用し、これを図2Aに示す。また4分後に2枚目の写真を撮影し、これを図2Bに示す。写真は、時間と共に指紋が消失していることを示している。実施例40~45及び比較例LMTEGO登録商標Rad2100EvonikTegoChemieGmbHEssen,Germanyから入手可能、HLB=7.03計算値を以下のように添加剤として用いて、更なるサンプルが調製された。コーティング組成物はワイヤー丸ロッドコーティング手作業され、前述のようにPET基材上に硬化させた。ヘイズ、シミュレートされた指紋の視認性、及び撥インク性を、前述のように測定した。これらのサンプルは、以下の試験を用いてリント吸引力に関しても試験された。セルロース表面吸引力試験-コーティング及び硬化済みフィルムを調製した後、周囲温度及び50±10の相対湿度で24時間調整し、帯電させた。次に、0.35gのα-セルロースC-8002SigmaChemicalCompanySt.Louis,MOから入手をコーティング上、直径7cmの領域に適用した。コーティングされたフィルムを前後に複数回傾斜させて、セルロースが直径7cmの試験領域を均一にコーティングするようにした。次に、余分なセルロースを振り落とし、コーティング及び残留セルロースのヘイズ値を、ASTMD1003に従って測定した。実施例34並びに比較実施例L及びMの、ワイヤー丸ロッドコーティングされ硬化されたコーティングのサンプルが、硬化コーティングの形態の特徴付けのために更に試験された。比較実施例L及びMは以下の通りであった。比較実施例L及びMのヘイズ及びシミュレートされた指紋の視認性は、上述の通り試験され、その結果を以下に示す。硬化コーティングの溶媒抽出ワイヤー丸ロッドでコーティングされた実施例34並びに比較実施例L及びMのサンプルが、それぞれ約4~20グラムの小片にフィルムを切断して調製された。このサンプルを、Soxhlet抽出機でヘキサン中にて一晩抽出した。次にこのフィルムを乾燥させ、抽出された残留物を分析した。抽出された残留物のそれぞれを、重水素置換したクロロホルムに溶かし、NMR管に入れた。Bruker500MHzNMRスペクトロメーターBrukerBioSpinCorporationBillerica,MAから入手可能を使用して、プロトンNMRスペクトルを取得した。残留物プロテオproteoクロロホルムピークに対して正規化された抽出物のNMRスペクトルにより、比較実施例L及びMよりも、実施例34からの方が、有意により大量の物質が抽出されたことが確認された。3つのスペクトルの垂直スケールを再調整して、定性分析目的で、ピーク形状と信号周波数とを比較した。実施例34の残留物のプロトンNMRスペクトルは、抽出された物質の大半ほぼ100が界面活性剤2であることを示した。比較実施例Lの抽出物のプロトンNMRスペクトルは、抽出された物質が約10.6の界面活性剤2を含有していることを示唆した。比較実施例Mの抽出物のプロトンNMRスペクトルは、比較実施例Mからの抽出物中に界面活性剤2が全く存在していないことを示した。抽出前のサンプル中における非重合界面活性剤すなわち界面活性剤2の重量パーセントに対する、抽出された非重合界面活性剤すなわち界面活性剤2の重量パーセントが、以下の表に従って計算された。1これは抽出前の硬化コーティング及びPET基材の合計サンプル重量であった。2これは抽出物から溶媒を蒸発させた後の残留物の質量であった。3これは、第2列の値を第1列の値で割り、100を掛けて計算された。4これは、列の値を合計コーティングフィルム重量に対するコーティング重量の重量比で割って計算された。この比は、次のように計算された:実施例34については、コーティング及びPET基材の重量が正確に測定された。このデータから、コーティング重量のコーティングフィルム合計重量に対する比が、0.101であることが決定された。比較実施例L及びMについては、コーティング厚さは実施例34とほぼ同じであったが、これらの処方はより高い質量分率でシリカを有しているため、コーティングの密度は異なっていた。比較実施例L及びMのコーティング密度の、実施例34のコーティング密度に対する比は、コーティングの有機成分の比重を1.2と概算し、シリカの比重2.65を用いることによって推定した。これにより、比較実施例Lのコーティングの推定密度は、実施例34のコーティングよりも約3.2高く0.1010.032×0.101、比較実施例Mのコーティングの推定密度は、実施例34のコーティングよりも約4.1高くなった0.1010.041×0.101。5これは、前述のNMRによって測定された。6これは、実施例34については20.8×0.631=13.1、比較実施例Lについては4.5×0.631=2.84、及び比較実施例Mについては0と先に報告された、界面活性剤2の重量であった。7これは、4と5を掛け、6で割ることによって計算された。実施例34のスロットダイコーティングサンプルの、他の3つのサンプルが、硬化され、試験された。抽出可能な非重合性界面活性剤の重量は、78~80の範囲であった。実施例34のサンプル中の非重合性界面活性剤の大半しかし全てではないが抽出可能であったという結果は、界面活性剤が、コーティング中で相互連結された細孔と、孤立した細孔又はポケットとの混成中に広く分布し、界面活性剤の大半が相互連結された細孔中にあることを示している。相互連結された細孔の網状組織はフィルム表面に露出しており、界面活性剤の抽出を可能にしている。よって、抽出可能な界面活性剤の重量も、相互連結した細孔中に存在する界面活性剤の量に近い。この結論は、以下のガス吸着測定及び撮像データによって確認される。ガス吸着測定実施例34のコーティングが、BETガス吸着を用いて分析された。コーティングは、以下のように分離された。ポリビニルアルコールPVAの10溶液を、5mil0.13mmのDuPontTejinPETフィルム上に手作業で広げ、次いでこれを80°Cの炉で12時間乾燥させた。次に、実施例34のコーティング溶液を、PVAコーティングされたPETの上にコーティングした。次に、実施例34のコーティング処方を、実施例34について前述したように適用し、硬化させた。次に、このサンプルを水と共にペトリ皿に入れて一晩置いて、PVAを溶解させ、硬化したコーティングを水の表面に浮かせた。次に、分離したコーティングをヘキサンと共にビーカーに入れ、電磁撹拌棒を使って室温で24時間撹拌した。分離したコーティングをビーカーから取り出し、室温で乾燥させた。この抽出したコーティングに、QuantachromeAutosorb1AnalyzerQuantachromeInstrumentsBoyntonBeach,FLから入手可能を用いてガス吸着分析を行った。サンプルは、ヘリウム中窒素の混合物を分圧0.01~0.99で用いて実施した。様々な熱力学モデル及び非局在化密度汎関数法に基づく分子統計モデルを用いて表面積及び細孔体積を測定する、Autosorb1バージョン1.53ソフトウェアを使用して、データ分析を実施した。使用された熱力学的モデルには、Kelvinモデル、Brunauer-Emmitt-TellerBETモデル、Barrett-Joyner-Halendaモデル、及びDollimore-Healyモデルが含まれた。熱力学的モデル及び非局在化密度汎関数法は全て、同様の結果を生じた。結果として得られた細孔体積の範囲は0.04~0.05cc/g、フィルム表面積は約23~24m2/gであった。ガス吸着等温線は、QuantachromeAutosorb1Analyzerを用いて測定され、IUPAC出版物ReportingPhysisorptionDataforGas/SolidSystemswithSpecialReferencetotheDeterminationofSurfaceAreaandPorosity,PureAppliedChemistry,Volume57,No.4,pp.603~619,1985に記述されているように、タイプH2のヒステリシスループを有することが見出された。タイプH2ヒステリシスループは、相互連結細孔の網状構造において、何らかの細孔閉鎖すなわち、細孔の間にくびれ又は小直径の通路があり、これは相互接続されている細孔間の流れにいくらかの抵抗をもたらしているを伴う、障害のある細孔システムすなわち細孔の無作為な空間的配置に特徴的である。撮像実施例34並びに比較実施例L及びMのサンプルが、ヘキサン中で抽出された。このサンプルを、ヘキサンの入ったビーカーに入れ、電磁撹拌棒を用いて室温で24時間撹拌した。このサンプルをビーカーから取り出し、室温で乾燥させた。実施例34並びに比較実施例L及びMのサンプルを、液体窒素下でかみそり刃を用いてフィルムを切断することにより、走査電子顕微鏡SEMの準備を行った。断面をSEMスタブに取り付け、AuPdの薄層を蒸着させて、サンプルを導電性にした。HitachiS-4700電界放出走査電子顕微鏡HitachiHighTechnologiesAmerica,Inc.Schaumburg,ILから入手可能を用いて撮像が行われた。撮像条件は、3.0kV、6mmWD、UHR-A、冷凍画像撮影速度、並びに倍率80,000Xが使用され、ヘキサンでの抽出サンプル及び非抽出サンプルが撮像された。フィルムの断面のうち、上面近く、中央近く、底面近くPET基材に最も近い面の3つの位置で撮像が行われた。抽出サンプル及び非抽出サンプルについて、SEM画像が取得された。実施例34の抽出サンプルのSEM画像では、抽出された細孔が見えた。実施例34の抽出フィルムのSEM画像で観察された形態は、抽出された細孔とシリカナノ粒子との明確な違いを示している。抽出された細孔は、フィルム内で非球形の空隙を呈しており、フィルム内での低トポグラフィーのため通常は濃い色をしている。シリカナノ粒子は球形として示され、断面内での高い電子密度及び高トポグラフィーのため、空隙よりもずっと明るく見える。実施例34の非抽出サンプルは、断面が切断された粗い表面を呈しているが、細孔は明らかではない。比較実施例L及びMの抽出前の画像は、断面が切断されたある程度粗い表面を呈しているが、実施例34の非抽出サンプルに見られたものよりは明らかに粗さが少なかった。比較実施例L及びMの抽出後の画像は、抽出前のフィルム画像と非常に似通っており、これらの画像には細孔は明らかではなかった。これらの結果から、実施例34には、比較実施例L及びMには存在しない、非重合性界面活性剤の相互連結網状構造が存在することを示している。実施例34の抽出された細孔のサイズは、ImageJ分析ソフトウェアNationalInstitutesofHealthから入手可能なパブリックドメインのJava画像処理プログラムの較正された画像を用いて測定された。フィルム断面の上面、中央、底面でサンプルされた2枚の画像で、少なくとも40箇所の測定がそれぞれについて行われ、孔径の差を調べた。各測定値は、Minitab登録商標15ソフトウェアMinitab,Inc.StateCollege,PAから入手可能を用いてヒストグラムにまとめ、正規分布にフィットさせた。集積データの平均は、フィルム断面の3つの異なる場所において孔径に有意な差を示さなかった。全ての集積データの平均が、他のものとの1つの標準偏差内に包含された。全ての孔径測定値を1つのヒストグラムに集積して、平均直径24nm、標準偏差8nmを得た。実施例34の抽出サンプルの断面のSEM画像は、ImageJソフトウェアを用いてバイナリーすなわち白黒画像に変換された。これにより、75以上のグレースケール値を有するピクセルは全て白に、グレースケール値75未満のピクセルは全て黒に変換された。このバイナリー画像を図5に示す。図5の黒い領域は細孔、白い領域はコーティングの固形部分である。ヘキサンで抽出した実施例34のサンプルを、Scotchcast商標ElectricalResin53MCompanyStPaul,MNから入手可能に埋め込み、室温で厚さ約90nmにミクロトームで切断して、透過電子顕微鏡TEMのために調製した。切片は水の上で採取し、3mmCuTEMグリッドの上の孔の開いた炭素支持フィルムに移した。JEOL2100F電界放出透過電子顕微鏡JEOLLtd.Toyko,Japanから入手可能を使用して、撮像が実施された。倍率20kX、互いに1.5度の傾きで撮影された一連の80枚の明視野TEM像から得られた、断層写真のコンピューター再構築立体から、画像が生成された。この画像は、SerialEMソフトウェアを用いてコンピューター制御下で取得し、eTomoソフトウェアで再構築が行われた。これらは両方とも、コロラド大学のBoulderLaboratoryfor3-DElectronMicroscopyofCellsから入手できる。この結果はSEM画像と一致しており、平均約20nmの小孔が見え、粗さ範囲は10~50nmであった。"