"複数の画素領域と前記画素領域それぞれに隣接した撥液部とを有する基板に、機能材料を含むインク液滴をノズルから吐出することで、前記画素領域に機能膜を形成する方法であって、前記基板の第1の画素領域と前記第1の画素領域に隣接した第1の撥液部とに前記インク液滴を着弾させるステップと、前記第1の撥液部に着弾させた前記インク液滴の着弾位置と、設定されていたインク液滴の設定位置との差を求めるステップと、前記差に基づいて、ノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正して、前記基板の第2の画素領域にインク液滴を吐出するステップと、を含む塗布方法。前記第1の撥液部に着弾させたインク液滴と前記第1の画素領域とを含む画像を撮像するステップをさらに含み、前記撮像画像に基づいて前記差を求める、請求項1記載の塗布方法。前記第1の画素領域は、一つまたは複数の副画素を配置した領域である、請求項1に記載の塗布方法。前記第1の画素領域は、複数の副画素が配列したライン状領域であって、同一のインクが塗布され、前記第1の撥液部は、前記第1の画素領域の長手方向の端部に隣接している、請求項1に記載の製造方法。前記第1の画素領域は、複数の副画素が配列したライン状領域であって、同一のインクが塗布され、前記第1の撥液部は、前記第1の画素領域の長手方向の両端部に隣接しており、かつ前記第1の撥液部のうちの一方の撥液部に吐出されたインク液滴の着弾位置と、他方の撥液部に吐出されたインク液滴の着弾位置との差を求め、当該差に基づいてノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正するステップをさらに含む、請求項1に記載の塗布方法。前記第1の画素領域は、複数の副画素が配列したライン状領域であって、同一のインクが塗布され、かつ前記第1の撥液部は、前記第1の画素領域の短手方向の端部に隣接している、請求項1~3の何れか一項に記載の塗布方法。複数の画素領域と前記画素領域それぞれに隣接した撥液部とを有するディスプレイパネル基板に、機能材料を含むインク液滴をノズルから吐出することで、前記画素領域に有機機能膜を形成して有機ELディスプレイを製造する方法であって、前記基板の第1の画素領域と前記第1の画素領域とに隣接した撥液部とに前記インク液滴を着弾させるステップと、前記第1の撥液部に着弾させた前記インク液滴の着弾位置と、設定されていたインク液滴の設定位置との差を求めるステップと、前記差に基づいて、ノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正して、前記基板の第2の画素領域にインク液滴を吐出するステップと、を含む有機ELディスプレイの製造方法。インクジェット法によって塗布対象にインクを塗布するときに、所望の位置とは異なる位置にインク液滴が着弾する原因は、以下の二点が考えられる。1つ目は、塗布対象である塗布基板に由来する原因であり、ロット毎に寸法誤差を有していたり、熱膨張によって寸法誤差が生じたりするためである。特に、塗布対象である塗布基板の塗布面積が大きいほど、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差が大きくなる。2つ目は、インクジェット装置自体に由来する原因であり、基板やヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりするためである。上述の特許文献4および5の方法では、塗布対象物にインクを塗布する前に、検査領域に吐出テストパターンを作成したり、別個の検査シートに着弾位置ずれ調整用パターンを形成したりし;これらのパターンをもとに補正を加えてから、塗布対象物にインクを塗布本塗布する。つまり、本塗布の前に、補正を行う。したがって、特許文献4および5の方法では、本塗布を行っている間に生じる塗布ズレを補正することができない。同様に、特許文献6および7の方法のように、基板にアラインメントマークを設けておいても、塗布対象である基板毎のずれや、塗布装置のずれに基づく塗布ずれを補正することはできない。すなわち、基板の中心とアライメントマークとの位置関係が、基板の温度変化などにより変動したり、装置自体のずれが生じたりしてしまうと、塗布ずれを補正することができない。事実、370mm×470mmの基板をインクジェット塗布しようとすると、所定の塗布位置と実際の塗布位置とが、十数ミクロンずれることがある。今後の塗布基板の大面積化に伴い、さらに大きな誤差が発生すると予測される。そこで本発明は、上記従来の課題を解決すべく、塗布対象である基板のロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差に基づく塗布ずれや、インクジェット装置自体のずれに基づく塗布ずれをも補正することができるインクジェット塗布方法を提供することを目的とする。特に、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差が大きくなる大面積基板にも、高精度に塗布できる塗布方法を提供する。本発明に係る第1の観点の塗布方法[1]は、複数の画素領域と前記画素領域それぞれに隣接した撥液部とを有する基板に、機能材料を含むインク液滴をノズルから吐出することで、前記画素領域に機能膜を形成する方法であって、前記基板の第1の画素領域と前記第1の画素領域に隣接した第1の撥液部とに前記インク液滴を着弾させるステップと;前記第1の撥液部に着弾させた前記インク液滴の着弾位置と、設定されていたインク液滴の設定位置との差を求めるステップと;前記差に基づいて、ノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正して、前記基板の第2の画素領域にインク液滴を吐出するステップと、を含む塗布方法である。このように構成された第1の観点の塗布方法[1]によれば、精度よく画素領域にインクを塗布することができる。本発明に係る第2の観点の塗布方法[2]は、前記第1の撥液部に着弾させたインク液滴と前記第1の画素領域とを含む画像を撮像するステップをさらに含み、前記撮像画像に基づいて前記差を求める、[1]に記載の塗布方法である。本発明に係る第3の観点の塗布方法[3]は、前記第1の画素領域は、一つまたは複数の副画素を配置した領域である、[1]に記載の塗布方法である。本発明に係る第4の観点の塗布方法[4]は、前記第1の画素領域は、複数の副画素が配列したライン状領域であって、同一のインクが塗布され、前記第1の撥液部は、前記第1の画素領域の長手方向の端部に隣接している、[1]に記載の製造方法である。本発明に係る第5の観点の塗布方法[5]は、前記第1の画素領域は、複数の副画素が配列したライン状領域であって、同一のインクが塗布され、前記第1の撥液部は、前記第1の画素領域の長手方向の両端部に隣接しており、かつ前記第1の撥液部のうちの一方の撥液部に吐出されたインク液滴の着弾位置と、他方の撥液部に吐出されたインク液滴の着弾位置との差を求め、当該差に基づいてノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正するステップをさらに含む、[1]に記載の塗布方法である。本発明に係る第6の観点の塗布方法[6]は、前記第1の画素領域は、複数の副画素が配列したライン状領域であって、同一のインクが塗布され、かつ前記第1の撥液部は、前記第1の画素領域の短手方向の端部に隣接している、[1]に記載の塗布方法である。また、本発明は、複数の画素領域と前記画素領域それぞれに隣接した撥液部とを有するディスプレイパネル基板に、機能材料を含むインク液滴をノズルから吐出することで、前記画素領域に有機機能膜を形成して有機ELディスプレイを製造する方法であって、前記基板の第1の画素領域と前記第1の画素領域とに隣接した撥液部とに前記インク液滴を着弾させるステップと、前記第1の撥液部に着弾させた前記インク液滴の着弾位置と、設定されていたインク液滴の設定位置との差を求めるステップと、前記差に基づいて、ノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正して、前記基板の第2の画素領域にインク液滴を吐出するステップと、を含む有機ELディスプレイの製造方法である。以上のように、本発明の塗布方法によれば、第1の画素領域と、それに隣接する第1の撥液部とにインク液滴をインクジェット法で吐出し、第1の撥液部に塗布されたインク液滴の着弾位置と、設定された着弾位置との差に基づいて吐出タイミングを補正して、第2の画素領域にインク液滴をインクジェット法で塗布する。その結果、万が一、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差があったり、インクジェット装置の基板やヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く画素領域にインクを塗布することができる。その結果、混色のない高品質の有機ELディスプレイを提供することができる。本発明の機能膜の塗布方法は、複数の画素領域と前記画素領域それぞれに隣接した撥液部とを有する基板に、機能材料を含むインク液滴をノズルから吐出することで、前記画素領域に機能膜を形成する方法である。塗布対象である基板は、その表面に複数の画素領域と、前記画素領域のそれぞれに隣接した撥液部とを有する。画素領域は、バンクで区画された領域であることが好ましく、バンクの材質は絶縁性を有する材料であれば任意であり、樹脂またはガラスなどの無機物でありうる。バンクの材料である樹脂は、耐熱性、溶媒に対する耐性を有する絶縁性樹脂であることが好ましく、例えばポリイミド樹脂である。基板とは、典型的にはディスプレイパネル基板、好ましくは有機ELディスプレイパネル基板を意味する。ディスプレイパネル基板には、例えば各副画素に対応するTFT素子などが内蔵されていることもある。1の画素領域には、1つまたは複数の副画素が配置されている。1つの副画素が配置された画素領域を、ピクセル型の画素領域という。2以上の副画素が配列された画素領域をライン型の画素領域という。画素領域には、インクジェット法によってインクの液滴が吐出されて、インクで塗布される。画素領域の塗布面は親水性を示し、インクに対する接触角は5度以下であることが好ましい。塗布対象である基板は、画素領域とともに、それに隣接する撥液部を有する。撥液部とは、画素領域を区画するバンクの表面などであってもよい。後述するように、撥液部にもインク液滴が吐出されるが、撥液部に着弾したインクはぬれ広がらずに、着弾した状態を保つことが好ましい。インク液滴が着弾した状態を保つことができれば、撥液部に着弾したインクが画素領域に混入したりすることが抑制され、かつ撥液部へのインク液滴の着弾位置を正確に確認することができる。よって、撥液部のインク液滴に対する接触角は、30度以上であることが好ましく、例えば40度とする。撥液部は、画素領域に隣接していればよい。画素領域がピクセル型である場合には、ピクセル型の画素領域を区画するバンク上であって、画素領域のすぐ脇を撥液部とすればよい。画素領域がライン型である場合には、1画素領域の長手ライン方向の端部一方の端部または両端部に隣接したバンク上を撥液部としてもよいし、2画素領域の短手方向の端部に隣接したバンク上を撥液部としてもよい。基板の画素領域に塗布されるインクには、機能材料が含まれており、例えば有機機能材料が含まれている。本発明を有機ELディスプレイの製造に適用しようとする場合には、インクは有機発光材料または電荷移動材料などを含む溶液であり、本発明によって有機ELディスプレイの有機発光層や電荷移動層を形成することができる。インクに含まれうる有機発光材料は、低分子系材料であっても、高分子系発光材料であってもよい。一般的に、高分子系発光材料を含むインクは、インクジェット法によって精度よく塗布することが困難であるため、本発明の方法が効果的に奏される。高分子系発光材料の例には、ポリフェニレンビニレンPolyPhenyleneVinylenePPV及びその誘導体、ポリアセチレンPolyAcetylene及びその誘導体、ポリフェニレンPolyphenylene及びその誘導体、ポリパラフェニレンエチレンPolyparaPhenyleneEthylene及びその誘導体、ポリ3-ヘキシルチオフェンPoly3HexylThiopheneP3HT及びその誘導体、ポリフルオレンPolyFluorinePF及びその誘導体等が含まれる。本発明の機能膜を形成するための塗布方法は、1前記基板の第1の画素領域と前記第1の画素領域とに隣接した第1の撥液部とに前記インク液滴を着弾させるステップと、2前記第1の撥液部に着弾した前記インク液滴の着弾位置と、設定されていたインク液滴の着弾位置との差を求めるステップと、3前記差に基づいて、ノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正して、前記基板の第2の画素領域にインク液滴を吐出するステップと、を含むことを特徴とする。本発明の塗布方法は、インクジェット装置のヘッドを走査しながら、走査方向に沿って、基板にある複数の画素領域を順番に塗布する。つまり、第1の画素領域にインクを塗布した後、ヘッドを走査方向に沿って移動させて、第2の画素領域にインクを塗布する。ステップ1では、第1の画素領域にインクを塗布するときに、第1の画素領域に隣接した第1の撥液部にもインク液滴を着弾させる。撥液部に着弾するインク液滴は、画素領域と20~150μmほど離間させることが好ましい。撥液部に着弾したインク液滴と画素領域との間隔が過剰に狭いと、撥液部に着弾したインク液滴が画素領域に混入する恐れがある。前記間隔は過剰に広いと、後述の補正が適切にできなくなる恐れがある。第1の撥液部に着弾させるインク液滴の滴数は、特に限定されず、1滴以上であればよく、2滴以上であってもよい。このように、基板の画素領域にインクを塗布するときに、それに隣接した撥液部にもインク液滴を着弾させるが、基板の全ての画素領域の撥液部にインク液滴を着弾させてもよいし、一部の画素領域の撥液部にインク液滴を着弾させてもよい。インクジェット法によるインク液滴の吐出は、インクジェット装置を用いて行えばよい。インクジェット装置のインクジェットヘッドのノズルからインクが吐出される吐出周波数は特に限定されず、製造される有機ELディスプレイの仕様などに応じて適宜設定されるが、例えば10kHzである。吐出されるインクの粘度は特に限定されないが、約5~20mPasの範囲内であることが好ましく、例えば10mPasである。また、インクのドット密度も特に制限されず;例えば走査方向のドット密度は、4800dpiとされうるが、製造される有機ELディスプレイの仕様等に応じて適宜設定される。インクジェットヘッドの各ノズルから塗布されるインクの液適量は同じであることが好ましい。各ノズルから吐出するインクの液適量は、特に限定されないが、1pl~15plの範囲内であることが好ましく、例えば5plピコリットルである。ステップ2では、第1の撥液部に着弾したインク液滴の着弾位置と、設定されていたインク液滴の着弾位置との差を求める。前記差を求めるには、例えば、第1の撥液部に着弾したインク液滴と第1の画素領域とを含む画像を撮像して、第1の画素領域を基準にしてインク液滴の着弾位置のずれを求めればよい。また、ライン型の画素領域である場合に、画素領域の長手ライン方向の両端部に隣接した撥液部撥液部XとYとするにインク液滴を着弾させた場合には、それぞれの撥液部について、着弾したインク液滴の着弾位置と、設定されていたインク液滴の着弾位置との差を求める。撥液部Xでの着弾位置のずれ量と、撥液部Yでの着弾位置のずれ量とが、相違している場合には、インクジェットヘッドのノズル列が、画素領域の配列とずれていることを意味する。そこで、インクジェットヘッドの取付けを調整することが好ましい。ステップ3では、インクジェットヘッドを第1の画素領域から第2の画素領域に移動させて、第2の画素領域にインク液滴を吐出してインクを塗布する。ここで、第1の撥液部に着弾したインク液滴の着弾位置が、設定した着弾位置と一致している場合には、吐出タイミングを補正することなく、第2の画素領域にインクを吐出すればよい。一方で、第1の画素領域に隣接した撥液部に着弾したインク液滴の着弾位置が、設定した通着弾位置とずれている場合には、第2の画素領域にインクを吐出するタイミングを補正する。例えば、第1の撥液部においてインク液滴の着弾位置が、設定した着弾位置よりも走査方向に関して上流側にある場合には、第2の画素領域を塗布するときに、インクの吐出タイミングを遅らせればよい。それにより、第2の画素領域に、精度よくインクを塗布することができる。さらに、第2の画素領域にインクを塗布するときにも、それに隣接する第2の撥液部にインク液滴を着弾させて、設定位置との差を求めてもよい。求めた差に基づいて、第3の画素領域にインクを吐出するタイミングを補正してもよい。この操作を繰り返すことで、基板の全ての画素領域に、精度よくインクを塗布することができる。以下において、図面を参照しつつ、本発明に係る好適な実施の形態の機能膜の塗布方法を説明する。具体的には、有機発光膜機能層を有する有機ELディスプレイの製造方法を例にして、本発明を説明する。実施の形態1前述の通り、本発明の塗布方法は、有機ELディスプレイパネルの製造に適用されうる。まず、典型的な有機ELディスプレイパネルにおける有機EL素子の積層構成の概略を図1に示す。図1に示す各層の相対的な膜厚及び形状は、実際の膜厚及び形状を示すものではなく、便宜上模式的に示している。図1に示す有機EL素子は、ベース基板にある平坦化膜40上に反射陽極45、正孔注入層24が形成されており、その正孔注入層24上に画素規制層10およびバンク3が形成されている。また、画素規制層10を成膜した後に、正孔注入層24を全面成膜し、その後にバンク3を形成してもよい。画素規制層10は、通常のフォトリソグラフィ技術により形成される。すなわち、画素規制層10は、レジスト塗布処理、マスク露光処理、現像処理、ドライエッチング処理、レジスト除去処理の手順で形成される。反射陽極45は、副画素図3にける副画素R,GまたはB毎に分離して作製されており、副画素はディスプレイの発光単位となる。バンク3により区画される領域にインターレイヤーIL25および有機発光層26が形成されている。そして、電子輸送層27、陰極28、封止層29および樹脂層30が、有機発光層26およびバンク3を覆うように配置されている。そして、樹脂層30の上部にはガラス基板31及び偏光板32などが設けられて、有機ELディスプレイが構成されている。図1に示される有機ELディスプレイは、図2のプロセスフローチャートに示すフローで製造されうる。即ち、平坦化膜形成、反射陽極形成、正孔注入層形成、画素規制層形成、バンク形成、IL層形成、有機発光層形成、電子輸送層形成、陰極形成、封止層形成、樹脂層形成の順に製造される。本発明の塗布方法は、図2に示すインターレイヤーILや、有機発光層を形成するためのインク塗布に用いられることが好ましい。図3は、実施の形態1の有機ELディスプレイの製造方法における、有機発光材料を含むインクを塗布すべき基板1塗布対象となる有機ELディスプレイパネル基板を上方から見た平面図である。図4ABは、図3に示した基板1の拡大断面図である。図4Aは、図3に示した基板1のA-A線による断面図であり;図4Bは、図3に示した基板1のB-B線による断面図である。基板1の副画素R,G,Bは、画素電極反射陽極や、正孔注入層などの有機ELディスプレイとして必要な要素を含むが図1参照、図4AおよびBにおいて省略されている。図3及び図4ABに示すように、基板1は、ベース基板と、ベース基板に配置された画素領域4Rと画素領域4Gと画素領域4Bと、それらを区画するためのバンク3を含む。図3に示すように、バンク3は、直線的に延設図1の左右方向に延設された複数のライン状バンク3Aを有しており、これらのライン状バンク3Aは互いに平行である。ライン状バンク3A同士で挟まれたライン状領域が、画素領域4となる。画素領域4は、画素領域4Rレッド,画素領域4Gグリーン,画素領域4Bブルーとで構成される。画素領域4Rと、画素領域4Gと、画素領域4Bとが、基板1において繰り返して配置されている。実施の形態1における複数の隣り合うライン状バンク3A間の間隔は、60μmである。画素領域4Rには、レッドの光を発する副画素Rが複数配列されており;画素領域4Gには、グリーンの光を発する副画素Gが複数配列されており;画素領域4Bには、ブルーの副画素Bが複数配列されている。画素領域4Rと、画素領域4Gと、画素領域4Bを、総称して画素領域4という。図3に示されるように、画素領域4の領域内において、副画素R同士、副画素G同士、副画素B同士の間には、画素規制層10が配置されている。平坦化膜40からの画素規制層10の高さは、バンク3の高さよりも低く設定されている。特に限定されないが、平坦化膜40からのバンク3の高さは、例えば約1μmであり;画素規制層10の高さは、例えば約100nmである。したがって、バンク3で区画された画素領域4に吐出された液状のインク9図4A参照は、画素規制層10に規制されることなく、画素領域4の内部を移動することができる。つまり、画素領域4には、画素規制層10の層厚を超える量のインク9が供給され、画素領域4内で液状のインク9が移動できる。画素規制層10は、ライン状バンク3Aと直交する方向にライン状に延設形成されている。図3に示されるように、複数のライン状バンク3Aと複数のライン状の画素規制層10とで格子を形成している。画素規制層10は無機材料で形成されており、無機材料とは、例えばSiONである。画素規制層10の上にもインクが塗布され、機能膜が形成される。バンク3の断面形状は、図4ABに示すように順テーパ型であっても良く、裾が狭くなった逆テーパ型であってもよい。バンク3は、フォトリソグラフィ技術などを用いてパターニング形成される。例えば、バンク3は、バンク材料を塗布した後、ベーク処理、マスク露光処理、現像処理等の手順で所望の形状に形成される。図4Aに示すように、バンク3により区画される画素領域4には、インク9が吐出されインク塗布される。バンク3の表面のうち、塗布されたインク9と接触する表面は撥水性を有する。バンク3の表面を撥水性とするには、当該表面に酸素系ガスプラズマを照射したり、フッ素系ガスプラズマを照射するなどしてフッ素化処理したりすればよい。バンク3が撥水性を有するため、図4Aに示されるように、画素領域4を満たすインク9はバンク3で確実に保持されて、画素領域4に収納される。図5は、図3に示す基板1に、インクジェット装置でインクを塗布する様子を示す図である。図5に示される3つのインクジェットヘッド5R,5Gおよび5Bこれらを総称してインクジェットヘッド5と称するは、基板1に隣接して配置される。また、インクジェットヘッド5は、基板1のライン状バンク3Aのライン方向の側部に隣接して配置される。インクジェットヘッド5のノズルから吐出されたインク液滴が、バンク3で区画された画素領域4に着弾するように、インクジェットヘッド5を配置する。インクジェットヘッド5R,5Gおよび5Bには、それぞれRインク,Gインク,Bインクが収容されている。各インクジェットヘッドには、インク液滴を吐出するための複数のノズル6図6参照が設けられている。図5に示すように、3つのインクジェットヘッド5R,5G,5Bを別個に配置してもよいし;Rインク,GインクおよびBインクのいずれをも収容する1つのインクジェットヘッドを配置してもよい。図5に示される3つのインクジェットヘッド5R,5Gおよび5Bは、それぞれ同じ構成である。図6は、インクジェットヘッド55R,5G,5Bの基板対向面を示す図であり、複数のノズル6が形成されている。インクジェットヘッド5における複数のノズル6は、互いに平行な複数の列に沿って配置されている。複数のノズル6の配置列を、基板1に対する走査方向図5における矢印X方向に対して、傾けて配置する。このように、インクジェットヘッド5における複数のノズル6の配置列を、走査方向に対して傾けて配置することで、走査方向に直交する方向のノズル6のピッチを短くすることができる。走査方向に直交する方向に関するノズル6のピッチは、10μm~50μmの範囲内であることが好ましく、例えば、約20μm例えば、21.16666μmであるが、特に限定されない。このようにして、走査方向に直交する方向のノズル6のピッチを短くすることで、各ノズル6から吐出されたインク液滴が、親水性である画素領域4の塗布面に着弾したときに、互いに連結することができる。このようにして、バンク3で区画された画素領域4内にインクを均一に塗布することができる。図5に示されるように、基板1にインクを塗布するために、基板1に対してインクジェットヘッド5を相対的に走査する。具体的にインクジェットヘッド5は、基板1のライン状バンクのライン方向と直交する方向符号Xの矢印で示す方向に走査される。実施の形態1のインクジェット装置によれは、一回の走査動作で、基板1の全面にインクを塗布することができる。実施の形態1のインクジェット装置は、走査方向のドット密度が4800dpiドットパーインチであるため、走査方向に最小塗布ピッチ5.291667μmで塗布することができる。インクR,インクG,インクBは順番に基板1に塗布されるが、その塗布順序は特に限定されない。例えばR,G,Bの順に塗布する。画素領域4に塗布形成される乾燥後の有機発光層の厚みは、約50~100nm例えば70nmであることが好ましい。図7は、図3に示される基板1に、インクジェットヘッド5インクジェットヘッド5R,5G,5Bを含むを走査して、インクを塗布した状態を示す図である。インクは、画素領域4画素領域4R、4G,4Bを含むとともに、画素領域4の長手方向の端部に隣接したバンク3撥液部にも吐出されている。図7におけるインク液滴11は、撥液部に着弾した液滴である。図7に示されるように、1つの画素領域4にインクを塗布するときに、当該1の画素領域4に隣接したバンク3撥液部にもインク液滴を着弾させる。図8は、図7のインク液滴11の付近を示す図である。点線13は、撥液部であるバンク3に着弾したインク液滴11の走査方向の位置を示している。一方、点線12は、インク液滴が本来着弾すべき走査方向の位置設定位置を示している。点線12と点線13とは、一致していない、つまり塗布ズレが生じていることがわかる。以下において、基板1に、インクジェットヘッド5の各ノズル6からインク液滴を吐出して、画素領域4に機能層を形成するときに、この塗布ズレを抑制するフローを説明する。基板1の画素領域4にインクをインクジェット塗布するために、インクジェットヘッド5を基板1に対して走査しながら、ノズル6からインク液滴を吐出する。このときの走査方向は、図5の矢印Xで示されるように、基板1のライン状バンク3Aのライン方向に直交する。画素領域44R,4G,4Bに、インクジェットヘッド55R,5G,5Bのノズル6から、所定のインク9が吐出されるように、インクジェットヘッド5を基板1に対して走査する。図7および図8に示すように、各画素領域4にインクを塗布するときに、それに隣接するバンク領域である撥液部にも、インク液滴11を吐出させて着弾させる。2つのインキ液滴が、画素領域4に隣接するバンク領域に着弾している。バンク3上に2滴以上のインク液滴を塗布すると、走査方向の塗布位置をより把握しやすい。バンク3は、インク9に対して撥液性であるため、着弾したインク液滴11は、濡れ広がらずに、着弾した位置にとどまることができる。そのため、画素領域4に隣接するバンク領域に存在するインク液滴11の位置は、そのインク液滴が着弾した位置である。ある1の画素領域4にインクを塗布し、かつそれに隣接する領域撥液部にインク液滴11を着弾させたら、その様子図8参照を観察する。観察は、顕微鏡により行えばよく、顕微鏡写真を撮像してもよい。当該観察により、インク液滴の着弾位置13が、設定されていた設定位置12にあるかどうかを確認する。より具体的には、例えば、着弾位置13と設定位置12とで、走査方向Xに関してずれている量ずれ量を測定する。着弾位置13と設定位置12とがずれていることが確認されたら、次に塗布すべき画素領域4にインクを塗布するときに、インクジェットヘッドのノズルからインクを吐出するタイミングを補正する。それにより、全ての画素領域4に、精度よくインクを塗布することができる。図7および図8に示すように、画素領域4の長手方向の両端部に隣接するバンク3に、インク液滴11をそれぞれ着弾させている。このように、画素領域4の長手方向の両端部にインク液滴を着弾させた場合には、一方に着弾させたインク液滴11の着弾位置と設定位置とのずれαと、他方に着弾させたインク液滴11の着弾位置と設定位置とのずれβとの両方を測定し;ずれαとずれβとの違いを確認してもよい。ずれαとずれβとに差がある場合には、ヘッドのノズル列がライン方向に平行に配置されていないことを意味するので、ヘッドのノズル列の角度を調整するように補正をすることが可能となる。以上のように、実施の形態1のインクジェット塗布方法においては、画素領域4にインクを塗布し、かつそれに隣接する領域にもインク液滴11を着弾させて;インク液滴11の着弾位置と、設定位置とのずれ量を測定する。特に、走査方向に関して、実際の着弾位置と設定されていた着弾位置との差を把握することができる。そして、測定されたずれ量に基づいて、次に塗布する画素領域4にインクを吐出するタイミングを補正する。この作業を繰り返すことで、基板に配置された全ての画素領域4に、精度よくインクを塗布することができる。このような方法によれば、塗布対象である基板1が、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差を有していたり、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く基板の画素領域にインクを塗布することができる。また、実施の形態1の有機ELディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜の位置ずれがないため、混色のない高品質の有機ELディスプレイを提供することができる。実施の形態2次に、本発明に係る実施の形態2の有機ELディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。実施の形態2の有機ELディスプレイの製造方法では、図9に示すように、インクジェット装置に認識カメラ14を設けて、基板1に着弾したインク液滴11の着弾位置を検査する。その他の点は、実施の形態1の有機ELディスプレイの製造方法と同一である。そこで、実施の形態1において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付して、その説明は実施の形態1の説明を援用することで、実施の形態2においては省略する。図9は、インクジェット装置を上方から見た概略平面図である。認識カメラ14は、スライダー部16で保持されており、かつスライダー部16に沿って移動可能である。認識カメラ14は、駆動系図示せずで駆動される。ステージ15は、インク塗布される基板1を移動させる。架台17は、インクジェットヘッド55R,5G,5Bや、認識カメラ14を保持する。架台18は、インクジェット装置全体を支える。実施の形態2では、インクジェットヘッド55R,5G,5Bからインク9を基板1上に塗布するときに、基板1が載置しているステージ15が相対移動する機構になっている。図9における矢印は、ステージ15に対するインクジェットヘッド5の相対的な移動走査方向である。実施の形態2における塗布対象である基板1の構成は、実施の形態1と同じである。また、基板1とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド55R,5G,5Bとの位置関係、およびインクジェットヘッド5の走査方向も実施の形態1と同様である。さらに、インクジェットヘッド5のノズル6の配置態様も実施の形態1と同様である。実施の形態2の有機ELディスプレイの製造方法においても、実施の形態1と同様に、基板1の画素領域4にインクを塗布するとともに、それに隣接する領域にインク液滴11を着弾させる図7および図8を参照。そして、実施の形態2では、着弾したインク液滴11の着弾位置13を認識カメラ14図9参照で認識する。認識カメラ14で認識した着弾位置13と、本来着弾すべき位置設定位置12との差を求める。具体的には、例えば、着弾位置13と設定位置12との、走査方向に沿ったずれ量を求める。インク液滴の着弾位置13と設定位置12との差に基づいて、次にインク塗布するべき画素領域4をインク塗布するためのインクの吐出タイミングを補正する。この動作を繰り返すことで、基板1の全ての画素領域4に、精度よくインクを塗布することができる。その結果、塗布対象である基板1が、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差を有していたり、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く基板の画素領域にインクを塗布することができる。さらに、認識カメラ14でズレ量を測定したことで、迅速かつ正確に吐出タイミングを補正することができる。実施の形態3および4以下、本発明に係る実施の形態3および4の有機ELディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。実施の形態3および4の有機ELディスプレイの製造方法においては、図10Aおよび図10Bに示すように、液滴11を、基板1の画素領域4を規定するライン状バンク3Aの短手方向の端部に隣接するバンク3に塗布する。その他の点は、実施の形態1の有機ELディスプレイの製造方法と同一である。そこで、実施の形態1および2において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付して、その説明は実施の形態1及び2の説明を援用することで、実施の形態3および4においては省略する。具体的に、実施の形態3では、画素領域4R,画素領域4G,画素領域4Bを一つのグループとしたときに、各グループ間にあるバンク領域バンクと同じ材料からなるバンク領域20である撥液部に、インク液滴21を着弾させる図10A。一方、実施の形態4では、画素領域4と画素領域4同士の間にあるバンク領域である撥液部に、インク液滴21を着弾させる図10B。図10Aおよび図10Bに示されるように、基板1の画素領域4同士の間には、バンク材料からなるバンク領域20がある。バンク領域20には、インク液滴21が、着弾位置23に沿って着弾している。インク液滴21は、Rインク、GインクまたはBインクの液滴のいずれでもよい。一方、図10Aおよび図10Bには、インク液滴21が着弾すべき位置である設定位置22も示されている。図10Aおよび図10Bにおいて、着弾位置23と設定位置22とは、走査方向についてずれていることがわかる。実施の形態3および4における塗布対象である基板1の構成は、実施の形態1と同じである。また、基板1とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド55R,5G,5Bとの位置関係およびインクジェットヘッド5走査方向も、実施の形態1と同様である。さらに、インクジェットヘッド5のノズル6配置態様も、実施の形態1と同様である。インクジェット装置は、実施の形態2と同様に、認識カメラ14を有する図9。実施の形態3および4の有機ELディスプレイの製造方法において、画素領域44R,4G,4Bに、インクR,G,Bを、インクジェットヘッド5の走査方向に沿って順に塗布する。第1の画素領域4にインクを塗布した後、第2の画素領域4を塗布する前に、図10Aまたは図10Bに示すように、インク液滴21を1ラインに沿ってバンク領域20に着弾させる。1ラインに沿って着弾したインク液滴21を、図9に示すような認識カメラ14で撮像し、インク液滴21の着弾位置23を認識する。そして、着弾位置23と、インク液滴が着弾すべき位置設定位置22との差を求める。例えば、走査方向についての差を求め、これをズレ量とする。次に、前述のズレ量があると確認された場合には、次に塗布すべき第2の画素領域4にインクを塗布するときに、そのズレ量に基づいてインクの吐出タイミングを補正する。このように、塗布対象である基板1にインクを塗布しながら吐出タイミングを補正する。そのため、基板1のロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差があったり、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く画素領域4にインクを塗布することができる。その結果、混色のない所定の機能膜を形成することができる。また、実施の形態3および4では、塗布ズレ量を求めるためのインク液滴21を、画素領域4同士の間のバンク領域20に着弾させるため、実施の形態1および2と異なり、基板面積を有効に使うことができる。特に、有機ELディスプレイにおいて、画素領域4R,画素領域4G,画素領域4Bを一つのグループとしたときに、各グループ間にあるバンク領域を一般的に広く設計することがある。実施の形態3図10Aによれば、その広く設計されたバンク領域20にインク液滴21を着弾させればよいので、基板面積をより有効に使うことができる。実施の形態5実施の形態5では、1つの基板から、複数の有機ELディスプレイを製造する。1つの基板から複数のディスプレイを得る手法を多面どりと称することがある。図11には、1つの基板1に2つの有機ELディスプレイαとβを製造する様子を示す。図11における基板1の左半分と右半分とで、それぞれ有機ELディスプレイを製造する。図11には、各ディスプレイの画素領域4にインクを塗布した状態を示す。各ディスプレイの画素領域44R,4G,4Bは、ライン状の画素領域である。各画素領域4R,4Gまたは4Bには、同一色R,GまたはBを発光する複数の副画素が配列している。一方の有機ELディスプレイαの画素領域4R,4Gまたは4Bの長手方向と、他方の有機ELディスプレイβの画素領域4R,4Gまたは4Bの長手方向とは一致している。図11に示された基板は、インクジェットヘッド5を、矢印の方向に走査しながら、インクを基板1の各画素領域4に順に塗布して得る。このとき、一方の有機ELディスプレイαの画素領域4の長手方向の片端部に隣接するバンクにインク液滴11αを着弾させ、他方の有機ELディスプレイβの画素領域4の長手方向の片端部に隣接するバンクにインク液滴11βを着弾させた。このように、各有機ELディスプレイの画素領域の長手方向の両端部に隣接するバンクにインク液滴11を着弾させる必要はない。実施の形態6実施の形態6の有機ELディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。実施の形態1~5における画素領域4は、ライン状バンク3Aによって規定されたライン状領域であって、その内部に複数の副画素R,GまたはBを含んでいるが;実施の形態5における画素領域44R,4G,4Bは、バンク3によって区切られている領域ピクセル状領域であって、その内部に1つの副画素を含む図12。図12に示されるように、実施の形態6における画素領域4は、副画素R,G,Bごとにバンク20によって区画されている。図12に示される基板1には、R発光する副画素Rを有する画素領域4Rが配列する画素ラインLRと、G発光する副画素Gを有する画素領域4Gが配列する画素ラインLGと、B発光する副画素Bを有する画素領域4Bが配列する画素ラインLBとがある。実施の形態6では、インクジェットヘッド5を、矢印Xの方向に走査しながら、各画素領域4に順にインクを塗布する。そして、ある画素ラインLLR,LG,LBに沿って配置された画素領域4にインクを塗布するときに、各画素領域4に隣接したバンク領域にもインク液滴11を着弾させる。そして、インク液滴11の着弾位置と、着弾すべき位置である設定位置との差を求める。そして、次の画素ラインLに沿って配置された画素領域4にインクを塗布するときに、前記差に基づいて、インクを吐出するタイミングを補正する。それにより、画素領域4に精度よくインクを塗布することができる。この操作を繰り返すことで、基板1のロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差があったり、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く画素領域4にインクを塗布することができる。その結果、混色のない所定の機能膜を形成することができる。実施の形態7実施の形態7の有機ELディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。実施の形態7の有機ELディスプレイの製造方法においては、図13に示すように、塗布対照である基板に、発光領域19Bと、非発光領域19Aとを設ける。その他の点は、前述の実施の形態1および2の有機ELディスプレイの製造方法と同一である。そこで、実施の形態1および2において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付して、その説明は実施の形態1及び2の説明を援用することで、実施の形態7においては省略する。図13は、複数の画素領域44R,4G,4Bを含む発光領域19Bと、ダミー画素領域44R,4G,4Bを含む非発光領域19Aとを有する基板1の平面図である。非発光領域19Aは、発光領域19Bよりも基板1の外周側にある。より具体的には、非発光領域19Aは、発光領域19Bよりもインクジェットヘッドの走査方向Xの上流側にある。基板1に含まれる有機EL素子の構成は、実施の形態1における基板1の有機EL素子の構成と同様である。インクジェット装置の構成は、前述の実施の形態1および2と同じである。また、基板1とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド55R,5G,5Bとの位置関係およびインクジェットヘッド5走査方向も、実施の形態1と同様である。さらに、インクジェットヘッド5のノズル6配置態様も、実施の形態1と同様である。インクジェット装置は、実施の形態2と同様に、認識カメラ14を有する図9。実施の形態7における塗布のプロセスでは、まず基板1の非発光領域19Aにあるダミー画素領域44R,4G,4Bにインクを塗布し;次に、発光領域19Bにある画素領域44R,4G,4Bにインクを塗布する。ダミー画素領域4にインクを塗布するときに、ダミー画素領域4’の両端部に隣接するバンク3にインク液滴11を着弾させる図8参照。ダミー画素領域4’の領域外に着弾したインク液滴11を、図9に示すような認識カメラ14で撮像し、インク液滴11の着弾位置13を認識する。そして、着弾位置13と、インク液滴11が着弾すべき設定位置12との差を求める図8参照。例えば、走査方向についての差を求め、これをズレ量とする。次に、前述のズレ量があると確認された場合には、発光領域19Bの画素領域4を塗布するときに、そのズレ量に基づいて、インクの吐出タイミングを補正する。このように、塗布対象である基板1にインクを塗布しながら吐出タイミングを補正する。そのため、基板1のロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差があったり、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く画素領域4にインクを塗布することができる。そして、実施の形態7の有機ELディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層などの膜の位置ずれがないため、混色のない高品質の有機ELディスプレイを提供することができる。また、実施の形態7の有機ELディスプレイの製造方法においては、まず非発光領域19Aのダミー画素領域4’にインクを塗布し、そのときにダミー画素領域4’に隣接する領域にインク液滴11を着弾させる。その着弾位置に基づいて、インクの吐出タイミングを補正しながら発光領域19Bの画素領域4にインクを塗布するので、他の実施形態と比較して、画素領域4へのインク塗布がより精度よく実現されうる。実施の態様8実施の形態8では、インク塗布操作が完了した基板を検査して、インク液滴の着弾位置と設定位置とのズレ量を求めた後;そのズレ量に基づいて、他の基板をインク塗布操作するときのインク吐出タイミングを補正することを特徴とする。図14Aには、インクジェットヘッド5を具備するインクジェット装置で基板1-2を塗布する様子が示され;図15Bには、認識カメラ14を有する検査装置で、塗布操作が完了した基板1-1のインク塗布状態を観察している様子が示される。まず、実施の形態1と同様にして、インクジェット装置を用いて基板1-1の画素領域4にインクを塗布し、画素領域4に隣接するバンク領域にインク液滴11を着弾させる。そして、塗布操作が完了したら、図14Bに示されるように、インクジェット装置とは別個の検査装置認識カメラ14を具備するを用いて、塗布操作が完了した基板1-1におけるインク液滴11の着弾位置13と、設定位置12とのずれ量を求める図8参照。認識カメラ14は、インク液滴11を撮像する。図14Bに示す検査装置によって求めたズレ量を、塗布操作が完了していない基板1-2の画素領域4にインクを塗布するインクジェット装置図14A参照にフィードバックする。基板1-2は、基板1-1と同一形態の基板とする。図14Aに示されるインクジェット装置は、フィードバックされた情報に基づいて、インクジェットヘッド5からインクを吐出するタイミングを補正して、基板1-2の画素領域4にインクを塗布する。それにより、基板1-2の画素領域4に、精度よくインクを塗布することができる。実施の形態8の方法で、基板1-1と基板1-2とのロットごとの差に基づく塗布ズレは解消されにくいが、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、インクジェットヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く基板の画素領域にインクを塗布することができる。また、インクジェット装置でインク塗布された複数の基板のうち、一部の基板をサンプリングして、検査装置で検査してもよい。全ての基板を検査するよりも、多数の基板を迅速に精度よく塗布することができる。本発明に係る好適な実施の形態について説明したが、本発明は上記の実施の形態の構成や製造工程を示す内容に限定されるものではなく、同様の技術的思想に基づく様々な変更が可能である。例えば、各実施の形態において、基板1の全ての画素領域4に隣接する領域にインク液滴を着弾させたが、一部の画素領域4に隣接する領域にインク液滴を着弾させてもよい。例えば、インクジェットヘッドの走査方向の上流側にある画素領域4についてのみ、それに隣接する領域にインク液滴を着弾させてもよい。または、インクジェットヘッドの走査方向の上流にある画素領域4と、中流にある画素領域4と、下流にある画素領域4とを選択して、選択された画素領域についてのみ、それに隣接する領域にインク液滴を着弾させてもよい。例えば、実施の形態1などでは、ライン状の画素領域4の長手方向の両端部に隣接する領域にインク液滴11を着弾させているが;ライン状の画素領域4の長手方向の片端部に隣接する領域にのみ、インク液滴11を着弾させてもよい。特に、インクジェットヘッド5のノズル配置列と、基板1のライン状バンク3Aのラインの平行度が精度よく調整できている場合には、片端部に隣接する領域にのみ、インク液滴11を着弾させればよく、それにより十分な効果が得られる。また、実施の形態においては、インクジェットヘッド5の一回の走査動作によって、基板1の全ての画素領域4にインクを塗布できるように説明したが、インクジェットヘッド5R,5G,5Bの長手方向の寸法が基板1より小さい場合には、基板1をインクジェットヘッド5の走査を複数回繰り返して、基板1の全ての画素領域4にインクを塗布してもよい。"