母材の表面に物理蒸着法によって硬質皮膜が被覆された被覆部材であって、前記硬質皮膜は、ダイヤモンドライクカーボン皮膜と、該ダイヤモンドライクカーボン皮膜と母材との間にあって、母材側から前記ダイヤモンドライクカーボン皮膜に向かってチタンの含有量が減少していくチタンと炭素の混合傾斜皮膜とからなり、該混合傾斜皮膜中のチタン量と炭素量は、膜厚方向のグロー放電発光分光分析によるそれぞれの最大ピーク強度をITi、Icとした時に、1.2<Ic/ITi×10<2.0の関係を満たすことを特徴とする皮膜密着性に優れた被覆部材。混合傾斜皮膜中のチタン量と炭素量は、膜厚方向のグロー放電発光分光分析によるそれぞれの最大ピーク強度をITi、Icとした時に1.3<Ic/ITi×10<1.5の関係を満たすことを特徴とする請求項1に記載の皮膜密着性に優れた被覆部材。ダイヤモンドライクカーボン皮膜の硬度がHV1500~4500であることを特徴とする請求項1ないし2に記載の皮膜密着性に優れた被覆部材。母材の表面に物理蒸着法によって硬質皮膜を被覆した被覆部材の製造方法であって、チタンターゲットと炭素ターゲットとを用い、母材の温度を室温以上250°C以下に維持して母材側からチタンの含有量が減少していくチタンと炭素の混合傾斜皮膜を形成し、該混合傾斜皮膜の形成工程の後段では、チタンターゲットへの投入電力は減少させていく一方で、炭素ターゲットへの投入電力は増加させないか、もしくは、増加率を0.15kW/min以下とし、次いで炭素ターゲットによりダイヤモンドライクカーボン皮膜を形成することを特徴とする皮膜密着性に優れた被覆部材の製造方法。母材の温度を室温以上230°C以下に維持することを特徴とする請求項4に記載の皮膜密着性に優れた被覆部材の製造方法。上記する、混合傾斜皮膜の上にダイヤモンドライクカーボン皮膜を形成する硬質皮膜構造は、ダイヤモンドライクカーボン皮膜を単層で形成するよりも密着性が改善され、優れた摺動特性と耐摩耗特性を兼ね備える。しかし、本発明者の検討によると、クロム系窒化物膜やチタン系窒化物膜に比べてはその密着性は十分ではない場合もあり、密着性の改善に余地があった。そこで本発明は、上記の課題に鑑み、ダイヤモンドライクカーボン皮膜の密着性を大きく改善した被覆部材およびその製造方法を提供することを目的とする。本発明は、ダイヤモンドライクカーボン皮膜の密着性を改善するために詳細な検討を重ねた。その結果、ダイヤモンドライクカーボン皮膜と母材との間に、チタンと炭素の混合傾斜皮膜を形成するとともに、その混合傾斜皮膜中の被覆条件を見直すことで、チタンと炭素の存在形態が適正化され、密着性が飛躍的に改善できることを突きとめた。すなわち本発明は、母材の表面に物理蒸着法によって硬質皮膜が被覆された被覆部材であって、前記硬質皮膜は、ダイヤモンドライクカーボン皮膜と、該ダイヤモンドライクカーボン皮膜と母材との間にあって、母材側から前記ダイヤモンドライクカーボン皮膜に向かってチタンの含有量が減少していくチタンと炭素の混合傾斜皮膜からなり、該混合傾斜皮膜中のチタン量と炭素量は、膜厚方向のグロー放電発光分光分析によるそれぞれの最大ピーク強度をITi、Icとした時に、1.2<Ic/ITi×10<2.0の関係を満たす皮膜密着性に優れた摺動部材である。更には、1.3<Ic/ITi×10<1.5の関係を満たすことが好ましい。また、ダイヤモンドライクカーボン皮膜の硬度がHV1500~4500であることが好ましい。上述した本発明の被覆部材の製造方法には、物理蒸着法によって、チタンターゲットと炭素ターゲットとを用い、母材の温度を室温以上250°C以下に維持して母材側からチタンの含有量が減少していくチタンと炭素の混合傾斜皮膜を形成し、該混合傾斜皮膜の形成工程の後段では、チタンターゲットへの投入電力は減少させていく一方で、炭素ターゲットへの投入電力は増加させないか、もしくは、増加率を0.15kW/min以下とし、次いで炭素ターゲットによりダイヤモンドライクカーボン皮膜を形成することが好ましい。更には、母材の温度を室温以上230°C以下に維持することが好ましい。本発明によれば、従来よりもダイヤモンドライクカーボン皮膜の密着性に優れた被覆部材を提供できるため、ダイヤモンドライクカーボン皮膜の本来有する優れた摺動特性や耐摩耗特性を有効に利用することができ、被覆部材として利用される自動車部品や金型の特性改善に有効な技術となる。本発明の最大の特徴は、母材上に被覆されたダイヤモンドライクカーボン以下、DLCと記述する皮膜と、母材との間には、該DLC皮膜側に向かってチタンの含有量が減少していくチタンと炭素の混合傾斜皮膜を被覆した上では、その混合傾斜皮膜の被覆条件を見直すことで、その混合傾斜皮膜中のチタンと炭素の濃度比率および炭素の結合状態を改善し、皮膜密着性を飛躍的に向上させた点にある。DLC皮膜は、炭素または炭素と水素から成る皮膜組成であるため、混合傾斜皮膜を適用しない場合、母材との親和性が低く、密着性が乏しくなる。そのため、母材側からDLC皮膜に向かって、チタン成分含有量を減少していくチタンと炭素の混合傾斜皮膜を設けることで密着性の改善が図られる。そして、この混合傾斜皮膜とその上に被覆される金属元素等を含有しない単層からなるDLC皮膜との密着性を向上するためには、DLC皮膜と混合傾斜皮膜中の炭素が同じDLC構造を取るのが好ましい。しかし、実質炭素からなるDLC構造にその炭素以外の、例えばDLCを形成しない余剰な炭素が含まれると、そのDLC結合状態は不安定となる。そこで、DLC皮膜と混合傾斜皮膜との密着性を改善するには、母材側から前記ダイヤモンドライクカーボン皮膜に向かってチタンを斬減させていることに加えて、混合傾斜皮膜内においてDLCを形成しない余剰な炭素こそを低減する必要がある。なお、上記の混合傾斜皮膜において母材との密着性を確保する上では、母材側のチタン濃度が十分に高いことが好ましい。そのため、母材直上には母材密着性に優れた炭素を含まないチタンのみの成分組成からなる皮膜を被覆することがより好ましいものとなる。本発明者は検討により、密着性に優れた具体的な皮膜形態が、膜厚方向のグロー放電発光分光分析以下、GD-OESと記述するによるチタンと炭素のピーク強度で特定できることを突きとめた。つまり、母材からDLC皮膜に向かってチタン含有量を減少させた混合傾斜皮膜において、その前段でのチタン濃度と、その後段での炭素濃度およびDLC結合状態とがGD-OESの結果に反映されるため、この値を制御することで皮膜密着性に優れた硬質皮膜を得ることができたのである。以下、詳しく説明する。GD-OESは、グロー放電領域のカソードスパッタリングを用いて、硬質皮膜を表面から順次スパッタリングし、スパッタされた皮膜構成原子のArプラズマ中における発光を分光測定する手法であり、膜厚に対する該含有元素の同定が可能である。また、皮膜表面をスパッタリングして行うため、皮膜組成の結合状態により発光強度が左右される。そして、混合傾斜皮膜中の炭素のうち、その結合構造がDLCではない炭化物やフリーカーボンであるものは結合状態が不安定であるため、スパッタリングされやすく、炭素の発光強度が大きくなる。よって、GD-OESによる混合傾斜皮膜中の発光強度の内、その前段に現れるチタンの最大発光強度ピークと、その後段に現れる炭素の最大発光強度ピークを調節することで、混合傾斜皮膜のチタンと炭素の濃度分布および結合状態を制御することができる。しかし、最大発光強度ピークは、形状や測定条件等の影響を受け易いため、同一の試料であってもその値が変動する場合があり、各々の最大発光強度ピークの値で皮膜特性を定量的に管理することは困難である。しかし、個々のピーク強度の値は変動するにしても、相対強度は実質変化しない。そこで、本発明者は、GD-OESにおいて、測定条件等の影響は受けない相対強度、つまり、混合傾斜皮膜での炭素の最大発光強度ピークと、チタンの最大発光強度ピークの比で管理することで、測定条件等の影響を受けずに皮膜特性を定量的に把握できることを見出した。そして、その値を所定の範囲に制御することにより、混合傾斜皮膜と母材およびDLC皮膜との密着性を改善できることを見出し、密着性の優れた表面被覆部品を発明するに至った。具体的には、本発明においては、混合傾斜皮膜中のチタン量と炭素量は、膜厚方向のグロー放電発光分光分析によるそれぞれの最大ピーク強度をITi、Icとした時に、1.2<Ic/ITi×10<2.0の関係を満たすようにする。より好ましくは、1.3<Ic/ITi×10<1.5とする。ここで、チタンは発光強度が低い元素種である。そのために便宜上チタンの最大強度を10倍した値を用いた。Ic/ITi×10の値が2.0以上の場合には、DLCを構成していない炭素含有量が多すぎるため、混合傾斜皮膜中の後段で安定なDLC構造が少なく、すなわち、DLC皮膜との密着性が低下する。あるいは、前段のチタン含有量が少なくなるか、前段に余剰な炭素が多くなるかして母材との密着性が低下する。Ic/ITi×10の値が1.2以下の場合には、混合傾斜皮膜の前段でチタン量を富化したとしても炭素を含まないチタン領域を形成したとしても、皮膜中のDLCを構成する炭素量自体が不足するため、密着性が低くなる。本発明のチタンと炭素の最適な混合傾斜皮膜を形成することにより、DLC皮膜の密着性は飛躍的に向上し、その最表層に皮膜硬さHV4000にも達するDLC皮膜を被覆した場合にも、十分な密着性が確保できる。摺動部材として本発明の被覆部材を適用した場合、高面圧の条件にて摺動する環境である場合には、コーティング被覆する仕事面に摩耗が進行し易い。よって、DLC皮膜が有する優れた摺動特性と、高面圧の使用環境にて耐摩耗性を向上させるために、摺動部材に被覆するDLC皮膜の硬度がHV1500~4500であることが好ましい。より好ましくはHV2000~4000である。本発明の硬質皮膜はスパッタリング法やアークイオンプレーティング法による物理蒸着法PVDにより被覆できる。そして、そのうち、混合傾斜皮膜の被覆工程においては、チタンターゲットと炭素ターゲットとを用い、母材側からチタンの含有量が減少していくチタンと炭素の混合傾斜皮膜を形成する。この時、母材の温度を250°C以下に保持することが必要である。なお、母材は室温未満に冷却する必要はない。母材の温度が高いと、他の条件を変えても、本発明で規定するピーク強度比は得られず、密着性は改善されない。この原因は母材の温度を250°C以下に保持するのは、それよりも高温だとDLC構造が崩れ密着性が低下するためと考えられる。より好ましくは230°C以下に保持する。母材の温度は、ターゲットへの投入電力等で調整することができる。一定の成膜レートを確保するために、210°C以上で成膜することが好ましい。更に、本発明では、母材の温度を250°C以下に保持した上では、混合傾斜皮膜の被覆工程の後段における炭素ターゲットへの電力の投入方法が極めて重要となる。つまり、混合傾斜皮膜の後段では、炭素ターゲットへの投入電力を増加させずに一定に保持する。チタンターゲットへの投入電力を減少させていく一方で炭素ターゲットへの投入電力を増加させないのは、余剰な炭素が含有されることを抑制して、後段での混合傾斜皮膜とDLC皮膜の炭素結合状態を安定にし、皮膜の密着性を改善するためである。あるいは、混合傾斜皮膜の後段で炭素ターゲットへの投入電力を上げる場合でも、余剰な炭素を含有させないために、炭素ターゲットへの投入電力を急激に上昇させないことが必要である。後段での炭素ターゲットへの電力の増加量が急激になると、混合傾斜皮膜の後段で余剰な炭素が含有され過ぎて、DLC皮膜との密着性が低下する。そのため、混合傾斜皮膜の形成の後段では、チタンターゲットへの投入電力は減少させていく一方で、炭素ターゲットへの投入電力の増加量を0.15kW/min以下とする。また、混合傾斜皮膜の前段でも、余剰な炭素が含有されて母材との密着性が低下しないように、炭素ターゲットへの投入電力を急激に上昇させないことが好ましい。そのため、チタンターゲットへの投入電力を減少させていく一方で、炭素ターゲットへの投入電力の増加量を0.25kW/min以下とすることが好ましい。本発明においては、炭素ターゲットによりダイヤモンドライクカーボン皮膜を形成することができる。また、混合傾斜皮膜の形成工程の前段においては、その開始時において炭素ターゲットを作動させずにチタン金属のみからなる領域を被覆することが好ましい。本発明においては、混合傾斜皮膜の形成工程の前段とは、炭素ターゲットへの電力投入開始時から混合傾斜皮膜の被覆完了までに要する総時間の半分より前の被覆工程を示す。混合傾斜皮膜の形成工程の後段とは、その半分よりも後の被覆工程を示す。本発明に供する母材は、その材質について特段に定めるものではないが、例えば冷間ダイス鋼、熱間ダイス鋼、高速度鋼および超硬合金等が使用できる。特には工具鋼が好ましい。これについては、JIS等による規格金属種鋼種を含め、従来摺動部品への使用が可能な鋼種として提案されてきた改良鋼種も適用できる。[試料作製]表面処理を行う母材として、硬さ64HRCに調整したJIS高速度工具鋼SKH51の円盤状試験片直径20mm×厚み5mmを準備した。これらの試験片平面を鏡面機械研磨した後、アルカリ超音波洗浄を行った。上記のように作製した母材を、チャンバ容積が1.4m3処理品の挿入空間は0.3m3のスパッタリング装置内に設置して、温度300°C、圧力1×10-3Paの真空中で加熱脱ガスを十分行った後、300°Cの温度において、母材へ印加するBias電圧を-300Vにして、2.0Paの圧力でアルゴンガスプラズマによるボンバード処理を10分間行った。そして、母材を同チャンバ内に維持した状態のままで、チタンターゲットと炭素ターゲットを用いた非平衡マグネトロンスパッタリング法により、試料No.1~12の硬質皮膜のコーティングを行った。混合傾斜皮膜の被覆工程では、最初にチタンターゲットのみに2分間の電力印加をして、チタン金属のみでなる領域を形成した。なお、その際にはチタンターゲットへ投入する電力は試料No.8では10kWとした以外では、5kWとした。そしてチタンターゲットへの投入電力は漸減させる一方で、炭素ターゲットを稼動させ、その投入電力を漸増させて、チタンと炭素の混合傾斜皮膜を被覆した。なお、チタンターゲットへの投入電力は、炭素ターゲットに電力投入を開始すると同時に漸減させていき、混合傾斜皮膜の被覆終了時に投入電力が0になるようにした。続いて、炭素ターゲットへの投入電力について説明する。図1には混合傾斜皮膜の被覆工程における、炭素ターゲットへの投入電力チャートを示す。試料No.1、4、5、10、11は、混合傾斜皮膜の被覆開始から45分間で、炭素ターゲットへの投入電力を3kWから5kWに増加させ、その後、炭素の投入電力を5kWと一定に保持して45分間被覆した。試料No.3は、混合傾斜皮膜の被覆開始から15分間で、炭素ターゲットへの投入電力を3kWから5kWに増加させ、その後、炭素の投入電力を5kWと一定に保持して15分間被覆した。試料No.6は、混合傾斜皮膜の被覆開始から30分間で、炭素ターゲットへの投入電力を3kWから5kWに増加させ、その後、炭素の投入電力を5kWと一定に保持して30分間被覆した。試料No.9は、混合傾斜皮膜の被覆開始から45分間で、炭素ターゲットへの投入電力を3kWから15kWに増加させ、その後、炭素の投入電力を15kWと一定に保持して45分間被覆した。試料No.2、7、8、12は、その後段においても炭素ターゲットへの投入電力を増加させて被覆した。また、表1にはその一連の混合傾斜皮膜被覆時の母材に印加したBias電圧と母材の温度を示す。そして、混合傾斜皮膜の被覆後は、炭素ターゲットのみ稼動させ、各試料の最表層に皮膜硬さ約HV3000を有するDLC皮膜を被覆し、総皮膜厚さが2.0μmになるように調節した。1GD-OES試料No.1~12の皮膜表面から母材にかけてGD-OESによる構造分析を行った。分析には、スパッタリング用ガスとしてArを用いて、圧力600Pa、出力35W、モジュール6V、フェーズ4V、アノード径4mmにて行った。そして、その分析結果から、チタン量が検出される領域で定義される混合傾斜皮膜において、それぞれの最大ピーク強度をITi、Icとし、Ic/ITi×10の比率を算出した。試料No.1、2、7のGD-OES分析結果を図2~4に示す。2スクラッチ皮膜密着性評価試料No.1~12の皮膜表面DLC皮膜に対し、スクラッチ試験機CSM製RSTでCスケールのダイヤモンド圧子を用いて、測定荷重99.25N/min、10mm/minの条件で120Nまでの試験を行った。そして、スクラッチ痕から発生するクラックを確認し、クラック発生初期の臨界荷重値を評価した。図5、6にその測定加重が40N及び60Nの時の試料No.1、7のスクラッチ痕形成後の顕微鏡写真を示す。3皮膜密着性の評価試料No.1~12の皮膜表面DLC皮膜に対し、ロックウェル硬さ試験機ミツトヨ製AR-10でCスケールのダイヤモンド圧子を用いて圧痕を付けた。そして、その圧痕部位を光学顕微鏡にて観察することで皮膜の密着性を評価した。圧痕の周辺に発生する剥離状況は図9に示す基準で評価し、皮膜密着性の優劣優:A←→劣:Fを調査した。図7、8に試料No.1、10のロックウェル圧痕周辺の顕微鏡写真を示す。表2にGD-OESの分析結果とスクラッチ皮膜密着性およびロックウェル圧痕による密着性の評価結果を示す。本発明の部材である試料No.1~6は、ロックウェル圧痕試験での剥離はほとんど無く、皮膜への負荷が大きいスクラッチ試験では、40Nよりも高い良好な密着性を示し、混合傾斜皮膜層のIc/ITi×10の値が1.36~1.91であった。中でも、母材の温度を230°C以下とし、混合傾斜皮膜の形成工程の後段において、チタンターゲットへの投入電力は減少させていく一方で、炭素ターゲットへの投入電力は増加させずに一定に保持して作製した試料No.1、3、6は、ロックウェル圧痕による剥離は全く無く、かつスクラッチ密着性も60N以上と、密着性が極めて優れた。従来例である試料No.7、12は、その混合傾斜皮膜の形成工程の前段においては、母材との密着性に優れるチタン領域を形成しているにもかかわらず、その直後には炭素ターゲットの投入電力を急激に増加しているため図4においてチタン最大ピークが低いのはこのためである、負荷が大きいスクラッチ密着性の臨界荷重値は本発明の部材より低く、Ic/ITi×10の値が本発明よりも高くなった。比較例である試料No.8~11は、本発明の部材より密着性が低下しており、1.2<Ic/ITi×10<2.0の範囲を外れていた。