"放物線状の屈折率分布を有するコア部の外側に、屈折率が純石英よりも低く、かつ前記コア部の半径を超えない厚さのトレンチ層を備える光ファイバ母材の製造方法であって、前記コア部となるガラス微粒子をVAD法で堆積させた後に脱水及び焼結して透明なコアガラス体を製造するコアガラス体製造工程と、前記コアガラス体を延伸してコアガラスロッドとする延伸工程と、前記コアガラスロッドの外側にフッ素を含むガスを用いてOVD法でガラス微粒子を堆積させた後に脱水及び焼結する、または、前記コアガラスロッドの外側にOVD法でガラス微粒子を堆積させた後にフッ素を含むガスで脱水及び焼結することにより、トレンチ層を含む透明ガラス体とするトレンチ層形成工程と、前記透明ガラス体の外周部にクラッド層を形成するクラッド層形成工程と、を含むことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。請求項1に記載の光ファイバ母材の製造方法であって、前記トレンチ層形成工程における前記ガラス微粒子の堆積時に前記コアガラスロッドの重量を測定し、前記測定された重量が所定重量となった際に前記ガラス微粒子の堆積を終了することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。請求項1または2に記載の光ファイバ母材の製造方法であって、前記トレンチ層形成工程における前記ガラス微粒子の堆積時に、前記コアガラスロッドの長手方向各位置での外径を常時測定し、その測定結果に基づいて、長手方向にわたってガラス微粒子が均一に堆積するように、ガラス微粒子を生成するバーナへのガラス原料ガス供給量を制御することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。請求項1から3の何れか一項に記載の光ファイバ母材の製造方法であって、前記コアガラス体製造工程で、放物線状の屈折率分布を有する部分の外周に、実効的に添加剤を含まない所定厚の純石英の薄層を形成しておくことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。請求項1から4の何れか一項に記載の光ファイバ母材の製造方法であって、前記トレンチ層形成工程における堆積させたガラス微粒子の嵩密度を0.2g/cm3以上0.5g/cm3以下とすることを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。上記のようなマルチモード光ファイバ用の光ファイバ母材を製造する方法としては、中心のグレーデッドコアからトレンチ層までをPCVD法またはMCVD法内付け法で合成する方法がある。この方法は、例えば、トレンチ層となる屈折率を有するガラス管の内側に、徐々に屈折率が高くなるように、ゲルマニウム等の添加量を増やしてガラスを内付けしていくことにより、ガラス管の内側に、屈折率分布が放物線形状となるグレーデッドインデックスGI形のコアとなる部分を形成する。この方法では、内付けしても最後には中心孔が残るので、外側から加熱して中心孔を収縮させることにより、中心孔を埋めて中実化コラプスする。ところが、このような内付け法による製造方法では、内付けするガラス管の径をあまり大きくできないため、光ファイバ母材のサイズを大きくすることができない。そのため、一つの光ファイバ母材を線引きして光ファイバを製造すると、通常の光ファイバ母材から線引きした場合よりも短い100km~200km程度の換算長の光ファイバしか製造できず、製造コストが嵩んでしまう。また、マルチモード光ファイバ用の光ファイバ母材の他の製造方法として、OVD法でグレーデッドインデックス形のコア部からトレンチ層までを合成する方法がある。この方法では、まず、バーナにガラス原料ガスとともにGeCl4を供給してガラス微粒子を堆積させ、グレーデッドインデックス形のコア部のガラス微粒子堆積体を作製し、その周囲にトレンチ部となるガラス微粒子を堆積させる。ところで、トレンチ層を形成するためには、高濃度でフッ素を添加する必要があるが、ガラス微粒子堆積時にトレンチ層に局所的にフッ素を添加することは極めて困難であった。また、コア部とトレンチ層のガラス微粒子を堆積した後、脱水焼結時にフッ素を含むガス雰囲気にしてフッ素を添加しようとすると、グレーデッドインデックス形としたコア部で、屈折率を上げるGeO2と屈折率を下げるフッ素の共添加となって互いに相殺し、レイリー散乱損失が上がって伝送損失が増加してしまうとともに、フッ素とゲルマニウムの拡散により、コア部とトレンチ層との界面の屈折率プロファイルがぼやけてしまい、意図した屈折率分布からずれてしまう。また、グレーデッドインデックス形のコア部からトレンチ層の全域にフッ素を添加しなければならず、製造コストが嵩んでしまう。本発明の目的は、低コストで高品質のマルチモード光ファイバ用の母材を製造することができる光ファイバ母材の製造方法を提供することにある。上記課題を解決することのできる本発明の光ファイバ母材の製造方法は、放物線状の屈折率分布を有するコア部の外側に、屈折率が純石英よりも低く、かつ前記コア部の半径を超えない厚さのトレンチ層を備える光ファイバ母材の製造方法であって、前記コア部となるガラス微粒子をVAD法で堆積させた後に脱水及び焼結して透明なコアガラス体を製造するコアガラス体製造工程と、前記コアガラス体を延伸してコアガラスロッドとする延伸工程と、前記コアガラスロッドの外側にフッ素を含むガスを用いてOVD法でガラス微粒子を堆積させた後に脱水及び焼結する、または、前記コアガラスロッドの外側にOVD法でガラス微粒子を堆積させた後にフッ素を含むガスで脱水及び焼結することにより、トレンチ層を含む透明ガラス体とするトレンチ層形成工程と、前記透明ガラス体の外周部にクラッド層を形成するクラッド層形成工程と、を含むことを特徴とする。本発明の光ファイバ母材の製造方法において、前記トレンチ層形成工程における前記ガラス微粒子の堆積時に前記コアガラスロッドの重量を測定し、前記測定された重量が所定重量となった際に前記ガラス微粒子の堆積を終了することが好ましい。本発明の光ファイバ母材の製造方法において、前記トレンチ層形成工程における前記ガラス微粒子の堆積時に、前記コアガラスロッドの長手方向各位置での外径を常時測定し、その測定結果に基づいて、長手方向にわたってガラス微粒子が均一に堆積するように、ガラス微粒子を生成するバーナへのガラス原料ガス供給量を制御することが好ましい。本発明の光ファイバ母材の製造方法において、前記コアガラス体製造工程で、放物線状の屈折率分布を有する部分の外周に、実効的に添加剤を含まない所定厚の純石英の薄層を形成しておくことが好ましい。本発明の光ファイバ母材の製造方法において、前記トレンチ層形成工程における堆積させたガラス微粒子の嵩密度を0.2g/cm3以上0.5g/cm3以下とすることが好ましい。本発明によれば、コア部となるガラス微粒子をVAD法で堆積した後に脱水及び焼結して、透明なコアガラス体を製造し、このコアガラス体を延伸させてコアガラスロッドとし、その後、OVD法によってトレンチ層を容易に形成することができる。つまり、本発明によれば、光ファイバとした際にレイリー散乱損失が上がって伝送損失が増加することなく、意図した屈折率分布となる高品質な光ファイバ母材を、製造コストを極力抑えつつ容易に製造することができる。以下、本発明に係る光ファイバ母材の製造方法の実施の形態の例を、図面を参照して説明する。通信用の光ファイバとして、複数のモードを伝搬させるマルチモード光ファイバMMFが用いられている。マルチモード光ファイバの主な屈折率分布の種別は、ステップインデックスSI形と、グレーデッドインデックスGI形との2種類がある。本実施形態の光ファイバ母材の製造方法では、上記のグレーデッドインデックスタイプのマルチモード光ファイバとなる光ファイバ母材を製造する。図1に示すように、光ファイバ母材Gは、コア部11を有している。このコア部11は、その中心部が最も高い屈折率を有し、半径方向の外側に向かって次第に低屈折率になるグレーデッドインデックス形放物線状の屈折率分布を持っており、伝送する光信号の広がりモード分散を抑える構造となっている。また、このコア部11には、その外周部分に薄層12が設けられている。この薄層12は、実効的に添加剤を含まない純石英からなるものであり、所定厚に形成されている。また、コア部11の外側には、屈折率が純石英よりも低く、かつコア部11の半径を超えない厚さのトレンチ層13を備えている。このトレンチ層13を設けることにより、光ファイバとした際に、コア部11から外部への光の漏れが防がれ、曲げによる伝送損失も抑えられる。このトレンチ層13の外周側は、純石英からなるクラッド層14とされている。上記の光ファイバ母材Gの一例を示すと、薄層12及びクラッド層14を構成する純石英の屈折率を基準とする比屈折率ΔNが、コア部11は0.97以上1.30以下であり、トレンチ層13は-0.60以上-0.25以下である。また、光ファイバ母材Gの直径をRとしたときに、コア部11の直径は0.40R以上0.64R以下、薄層12の厚さは0.008R以上0.024R以下、トレンチ層13の厚さは0.02R以上0.10R以下とされている。上記のトレンチ層13の厚さは、コア部11の半径の10から30程度の範囲に相当する。このトレンチ層13の厚さがコア部11の半径の10に満たないと、光の漏れ防止や曲げ時における伝送損失の抑制効果が十分に得られなくなり、また、トレンチ層13の厚さがコア部11の半径の40を超えると、開口数NAが大きくなりすぎてしまう。なお、薄層12の厚さは0.008R以上0.024R以下とされているが、これは、光ファイバ母材Gを線引きして光ファイバとしたときに、厚さが1μm以上3μm以下となるように設定されている。次に、上記構成の光ファイバ母材Gを製造する場合について説明する。コアガラス体製造工程まず、コアガラス体となるガラス微粒子堆積体G1をVAD法で形成する。具体的には、図2に示すように、支持装置21に支持されて軸回りに回転する出発材22に対して、反応容器23内で斜め下方からバーナ24の火炎を吹き付ける。このバーナ24には、ガラス原料ガスSiCl4,GeCl4、燃焼ガスH2及び助燃ガスO2が供給される。そして、このバーナ24から酸水素火炎による加水分解反応によって合成されるガラス微粒子を出発材22に吹き付けながら軸方向へ移動させる。これにより、出発材22に、ガラス微粒子を堆積させ、ガラス微粒子堆積体G1を製造する。このとき、バーナ24の中心部の温度を高くすることにより、GeO2の濃度分布を制御し、グレーデッドインデックス形の屈折率分布とする。また、このガラス微粒子堆積体G1におけるグレーデッドインデックス形の屈折率分布を有する部分の外周に、薄層12となる実効的にゲルマニウムやフッ素等の添加剤を含まない所定厚の純石英の層を形成しておく。なお、この薄層12となる純石英層は、VAD法またはOVD法によって形成する。その後、このガラス微粒子堆積体G1を、約16時間程度の時間をかけて脱水及び焼結して透明化し、直径50mm~60mm程度のコアガラス体G2とする。延伸工程コアガラス体G2を加熱して軟化させながら張力をかけることで軸方向に延伸し、直径20mm~40mm程度のコアガラスロッドG3とする。トレンチ層形成工程コアガラスロッドG3の外側にOVD法でトレンチ層13を形成し、このコアガラスロッドG3を、トレンチ層13を有する透明ガラス体G4とする。具体的には、図3に示すように、上下の支持装置31に支持されて軸回りに回転するコアガラスロッドG3に対して、反応容器33内で複数のバーナ34の火炎を吹き付ける。これらのバーナ34には、ガラス原料ガスSiCl4、燃焼ガスH2及び助燃ガスO2が供給される。そして、これらのバーナ34から加水分解反応によって合成されるガラス微粒子をコアガラスロッドG3に吹き付けながら、バーナ34に対してコアガラスロッドG3を軸方向へ相対的に往復移動させる。これにより、コアガラスロッドG3の周囲に、ガラス微粒子を層状に堆積させる。そして、ガラス微粒子の堆積後、脱水及び焼結して透明化させ、コアガラスロッドG3の外周にトレンチ層13が形成された透明ガラス体G4とする。なお、このトレンチ層形成工程において、ガラス微粒子を堆積する時、または脱水及び焼結する時に、トレンチ層13にフッ素を添加する。ガラス微粒子を堆積する時にフッ素を添加するには、バーナ34へ供給するガラス原料ガスに四フッ化炭素CF4ガスなどを添加する。なお、フッ素を添加してガラス微粒子を堆積することは可能であるが、トレンチの機能を実現する程度に低屈折率とされたトレンチ層13を得るには、高濃度でフッ素を添加する必要があり、高濃度でフッ素を添加するのは一般的に難しい。したがって、このトレンチ層13を形成する方法として、コアガラスロッドG3の外側にOVD法により純石英からなるガラス微粒子を堆積させた後に、フッ素を含むガスで脱水及び焼結して形成する方法を用いる方が好ましい。この場合、反応容器33内に四フッ化ケイ素SiF4、六フッ化硫黄SF6あるいは四フッ化炭素CF4うち何れかのガスを導入する。例えば、添加するガスが四フッ化ケイ素SiF4ガスである場合、反応容器33内の雰囲気を5~15程度のSiF4ガス濃度とするのが好ましい。このトレンチ層13を形成して透明ガラス体G4を製造する工程では、コアガラスロッドG3に堆積させたガラス微粒子の嵩密度が0.2g/cm3以上0.5g/cm3以下となるように、ガラス微粒子を堆積させる。バーナ34に供給する燃焼ガス等の流量を調整することで火炎の温度等を調整し、ガラス微粒子が堆積した部分の嵩密度を調整することが可能である。堆積したガラス微粒子の嵩密度を0.2g/cm3以上0.5g/cm3以下とすれば、嵩密度が低すぎることによる割れ等の発生を抑制して取り扱い性を向上させることができ、また、嵩密度が高すぎることによってフッ素の添加量が不足するような不具合をなくすことができる。また、このトレンチ層13を形成して透明ガラス体G4を製造する工程では、ガラス微粒子の堆積時に重量を測定し、トレンチ層13の重量がロット間で同じになるように制御する。トレンチ層13を形成する前のコアガラスロッドG3の重量や長さや直径と、ガラス微粒子の堆積時に増加した分の重量から、トレンチ層13となるガラス微粒子の堆積量を推定できる。具体的には、コアガラスロッドG3を支持する支持装置31にロードセル等の重量計を設けておき、この重量計の測定結果が、予め定めた所定重量となった際に、ガラス微粒子の堆積を終了する。このように、コアガラスロッドG3の重量を監視してガラス微粒子の堆積の終了タイミングを決定することにより、ロット間でのガラス微粒子堆積量の安定性を図ることができる。また、このトレンチ層13を形成して透明ガラス体G4を製造する工程では、長手方向にわたってガラス微粒子が均一に堆積するように制御する。具体的には、コアガラスロッドG3の外径を測定する外径測定装置を長手方向の複数箇所に設けておき、これらの外径測定装置の測定結果に基づいて、各バーナ34へガスを供給する流量調整装置MFC35を制御し、バーナ34へのガラス原料ガスの供給量を制御する。このように、コアガラスロッドG3の長手方向の各位置での外径を監視してバーナ34への原料ガスの流量をフィードバック制御することにより、コアガラスロッドG3の長手方向におけるトレンチ層13となるガラス微粒子の堆積量を均一化させて品質を高めることができる。クラッド層形成工程透明ガラス体G4の外側にクラッド層14を形成し、光ファイバ母材Gとする。具体的には、透明ガラス体G4の外周に、OVD法によって実質的に添加剤を含まない純石英のガラス微粒子を堆積させ、その後、脱水及び焼結して透明化させて光ファイバ母材Gとする。また、クラッド層14を形成する工程においても、予め重量の目標値を設定しておき、支持装置31の重量計の測定結果が所定重量となった際に、ガラス微粒子の堆積を終了する。これにより、長手方向にわたるクラッド層14の厚さを制御し、ロット間でのガラス微粒子堆積量の安定性を図ることができる。また、このクラッド層14を形成する工程においても、各外径測定装置の測定結果に基づいて、バーナ34へのガラス原料ガスの供給量を制御する。これにより、コアガラスロッドG3の長手方向におけるクラッド層14となるガラス微粒子の堆積量を均一化させて品質を高めることができる。なお、クラッド層14の形成は、OVD法に限らず、VAD法で行っても良い。そして、このようにして製造した光ファイバ母材Gを線引きすれば、コア部11において半径方向の外側に向かって次第に低屈折率になるグレーデッドインデックス形の屈折率分布を持ち、伝送する光信号の広がりモード分散が抑えられ、しかも、トレンチ層13部分でコア部11から外部への光の漏れが防がれ、曲げによる伝送損失も抑えられる光ファイバを製造することができる。本実施形態に係る光ファイバ母材の製造方法によれば、コア部11となるガラス微粒子をVAD法で堆積した後に脱水及び焼結して、透明なコアガラス体G2を製造し、このコアガラス体G2を延伸してコアガラスロッドG3とし、その後、OVD法によってトレンチ層13を容易に形成することができる。つまり、本実施形態によれば、光ファイバとした際にレイリー散乱損失が上がって伝送損失が増加することなく、意図した屈折率分布となる高品質な光ファイバ母材Gを、製造コストを極力抑えつつ容易に製造することができる。しかも、VAD法でコア部11を作製するので、ガラス管に内付けするMCVD法などに比べて大型の光ファイバ母材Gを低コストで製造でき、また、トレンチ層13の屈折率等の構造を正確に制御することができる。しかも、中心孔を塞ぐ中実化コラプスを不要とすることができ、作業の簡略化とともに、中実化コラプスによるディップ屈折率分布の乱れを抑えて高帯域の伝送特性に優れた光ファイバを製造することができる。また、トレンチ層となるガラス管を用いる製造方法では、ガラス管を作るときの透明ガラスへの孔あけ工程や、ガラス管に内付けするときの内付け工程におけるバーナの酸水素火炎での加熱時に、OH基がガラス管に混入してしまうことがある。このようなトレンチ層となるガラス管を用いる方法と比較して、本実施形態では、VAD法で作製したコア部11を有するコアガラスロッドG3にOVD法でトレンチ層13を形成するので、トレンチ層13等へのOH混入を抑制することができる。また、コアガラス体製造工程で、グレーデッドインデックス形の屈折率分布を有するコア部11の外周に、実効的に添加剤を含まない所定厚の純石英の薄層12を形成しておくので、その後の工程でコア部11へ影響を与えることなくトレンチ層13を形成することができる。つまり、コアガラス体G2の外周部分を火炎によってエッチングなどを行って削ったとしても、グレーデッドインデックス形の屈折率分布を有するコア部11への影響を極力抑えることができる。これにより、コア部11における光の高帯域側の伝送周波数帯域が損なわれるような不具合をなくし、良好な伝送特性を得ることができる。"