"イオン供給源10を出る粒子を加速するように構成された、少なくとも1つの空洞共振器31を有するRF粒子加速器のための加速器セグメントであって、-前記イオン供給源10と前記加速器セグメントの前記第1の空洞共振器31との間で、ポテンシャル井戸による静電的な前加速が行われ、-前記イオン供給源10および前記加速器セグメント、特に前記第1の空洞共振器31が同じ電位UOである加速器セグメント。前記加速器セグメントの前記第1の空洞共振器31に電極41が取り付けられ、その電極41が前記イオン供給源10に対してある電位U1であり、その結果、前記イオン供給源10を出る前記粒子に対して加速するポテンシャル井戸が生成されることを特徴とする請求項1に記載の加速器セグメント。前記電極41が、前記第1の空洞共振器31への入口xlにリング電極として構成され、特に、前記電極41が前記第1の空洞共振器31の入口開口部32を囲むように構成されることを特徴とする請求項2に記載の加速器セグメント。前記電極41が前記第1の空洞共振器31の残りの共振器構造体から、絶縁体42によって、好ましくは環状の絶縁セグメントによって分離されることを特徴とする請求項2または3に記載の加速器セグメント。並列に接続され、かつ前記第1の空洞共振器31の動作中、前記第1の空洞共振器31の前記残りの共振器構造体に対してかなり大きい前記電極41のAC電圧を抑えるように構成および配置されたコンデンサ43が設けられることを特徴とする請求項2から4の一項に記載の加速器構造体。前記電極41が、前記コンデンサ43を介して前記第1の空洞共振器31の前記残りの共振器構造体に接続されることを特徴とする請求項5に記載の加速器構造体。前記ポテンシャル井戸、および前記加速器構造体の動作中に前記第1の空洞共振器31に印加されるRF場が、前記ポテンシャル井戸により、粒子ビームの方向に見たときに前記第1の空洞共振器31の前記入口の下流で支配的である減速力が、前記粒子に作用する前記RF場の同時に存在する加速力によって補償され、前記加速力が前記減速力を上回るように互いに適合されることを特徴とする請求項1から6の一項に記載の加速器構造体。前記第1の空洞共振器31が、前記粒子ビームの方向に見たとき、前記ポテンシャル井戸が前記粒子に対する減速効果を有する領域x2、x3に位置付けられることを特徴とする請求項1から7の一項に記載の加速器構造体。前記ポテンシャル井戸の最低点が、前記粒子ビームの方向に見たとき、前記第1の空洞共振器31の前記入口x1に位置付けられることを特徴とする請求項1から8の一項に記載の加速器構造体。イオン供給源10を出る粒子を加速するように構成された、少なくとも1つの空洞共振器31を備えた加速器セグメントを有するRF粒子加速器を用いて、前記イオン供給源10を出る前記粒子を加速するための方法であって、前記粒子がポテンシャル井戸を用いて静電的に前加速され、また前記粒子に対する前記ポテンシャル井戸の引きつける作用によって、前記粒子が前記ポテンシャル井戸の最低点を通過した後、再び減速されることを特徴とする方法。前記粒子が、前記ポテンシャル井戸全体を通って移動することを特徴とする請求項10に記載の方法。前記ポテンシャル井戸が、第1の電位U1にされる電極41によって生成され、一方、少なくとも前記イオン供給源10および前記第1の空洞共振器31が、前記第1の電位U1と異なる第2の電位UOになることを特徴とする請求項10または11に記載の方法。本発明の目的は、RF粒子加速器のイオン供給源を出る粒子を、十分に高い速度でRF粒子加速器の加速器セグメントの第1の空洞共振器に注入するための1つの選択肢を明示することである。この目的は、独立請求項に示される発明によって実現される。有利な実施形態は、従属請求項から得ることができる。イオン供給源を出る粒子を加速するように構成された、少なくとも1つの空洞共振器を有するRF粒子加速器のための本発明による加速器セグメントでは、イオン供給源と加速器セグメントの第1の空洞共振器との間で、ポテンシャル井戸による静電的な前加速が行われる。ここで、イオン供給源および加速器セグメント、特に第1の空洞共振器は同じ電位である。加速器セグメントの第1の空洞共振器に電極が取り付けられ、その電極はイオン供給源に対してある電位であり、その結果、イオン供給源を出る粒子に対して加速するポテンシャル井戸が生成される。電極は、第1の空洞共振器への入口にリング電極として構成され、特に、電極が第1の空洞共振器の入口開口部を囲むように構成される。この場合のリング電極という表現は、必ずしも電極の断面が円形であることを意味する必要はない。他の断面、例えば長方形、楕円形なども可能である。原則として、電極の断面はビームラインの断面に適合させると考えるべきである。電極は第1の空洞共振器の残りの共振器構造体から、絶縁体によって、好ましくは環状の絶縁セグメントによって分離される。この場合の環状のという表現はやはり、必ずしも円形の断面を意味するものではない。理想的には、絶縁体の形状または断面は電極の形状に適合させる。別法としてまたは追加として、並列に接続され、かつ第1の空洞共振器の動作中、第1の空洞共振器の残りの共振器構造体に対してかなり大きい電極のAC電圧を抑えるように構成および配置されたコンデンサが設けられる。電極は、このコンデンサを介して第1の空洞共振器の残りの共振器構造体に接続される。ポテンシャル井戸、および加速器構造体の動作中に第1の空洞共振器に印加されるRF場は、ポテンシャル井戸により、粒子ビームの方向に見たときに第1の空洞共振器の入口の下流で支配的である減速力が、粒子に作用するRF場の同時に存在する加速力によって補償され、この加速力がこの減速力を上回るように互いに適合させる。第1の空洞共振器は、粒子ビームの方向に見たとき、実質的にポテンシャル井戸が粒子に対する減速効果を有する領域に位置付けられる。ポテンシャル井戸の最低点は、粒子ビームの方向に見たとき、第1の空洞共振器の入口に位置付けられる。イオン供給源を出る粒子を加速するように構成された、少なくとも1つの空洞共振器を備えた加速器セグメントを有するRF粒子加速器を用いて、イオン供給源を出る粒子を加速するための本発明による方法では、粒子はポテンシャル井戸を用いて静電的に前加速され、また粒子に対するポテンシャル井戸の引きつける作用によって、粒子がポテンシャル井戸の最低点を通過した後、再び減速される。粒子は、ポテンシャル井戸全体を通って、すなわち上下に移動する。ポテンシャル井戸は、第1の電位Ulにされる電極によって生成され、一方、少なくともイオン供給源および第1の空洞共振器は、第1の電位と異なる第2の電位U0になる。したがって、本発明は、ポテンシャル井戸を経由する、イオン供給源から加速器セグメントの第1の空洞共振器への静電的な前加速の使用を提案するものである。静電的な前加速をもたらすために、例えば空洞共振器への入口で追加の電極にDC電圧電位を印加することによって、イオン供給源と第1の空洞共振器の間にDC電圧を生じさせる。したがって、本発明による配置は、第1の空洞共振器の共振器の入口に電位の最低点を有するDC電圧のポテンシャル井戸を構成し、そのポテンシャル井戸が粒子をイオン供給源から離れるように加速し、粒子がある初速度で共振器に入ることを可能にする。有利には、この場合、イオン供給源と加速器構造体はどちらも同じ電位、好ましくは地電位である。共振器に典型的な加速器の動作に用いられるRF場が存在しない場合には、共振器の出口開口部が供給源と同じ電位を有し、かつ粒子がポテンシャル井戸全体を通過するため、共振器を通過すると、粒子の速度は再びイオン供給源を出るときの粒子の元の低い速度まで減速されることになる。要約すれば、これは有利には以下のことを意味する、すなわち、a静電ポテンシャル井戸は、粒子の全体的なエネルギーに寄与しない、b全体的な加速の効果は、RF共振器における電圧誘導によってもたらされる、cDC電圧源はビーム電流によって負荷を受けず、したがって、ビーム電流は正確に調節される必要も強力である必要もない。本発明により、有利には、イオン供給源および加速器構造体、特に第1の空洞共振器の共通の電位によって、完全に、すなわち上方および下方に通じたDC電圧のポテンシャル井戸が利用可能になる。さらに本発明に従って、RF共振器が減速場領域の領域内に位置付けられる。それに対して、イオン供給源と加速器構造体または共振器との間に異なる電圧が存在する典型的な注入器では、序文で言及したように、電位を下方向に通過させるだけである。便宜上、第1の空洞共振器に印加されるRF場は、加速段階の間、DC電圧場の減速力をRF場に同時に存在する加速力によって補償し、この加速力はこの減速力を上回るような十分な強さを有し、したがって、粒子はある特定の速度で第1の空洞共振器を出ることができる。本発明の他の利点、特徴および詳細は、以下に記載される例示的な実施形態から、また図面の参照によって得られる。図1は、イオン供給源10を有するRF粒子加速器、およびイオン供給源10から出る粒子ビーム20を示している。イオン供給源10の下流には、通常は複数の空洞共振器を有する加速器セグメント30が、加速方向に、すなわち図1の左から右へ配置される。しかしながら、図1は、部分的な図として、加速器セグメント30の第1の空洞共振器31のみを示している。他の空洞共振器の設計は、市販のRF加速器における空洞共振器の設計と異なるものではない。リング電極として構成され、第1の空洞共振器31の入口開口部32を囲む電極41が、ビームの方向に見たとき、第1の空洞共振器31の前面に取り付けられる。リング電極41は、第1の空洞共振器31の残りの共振器構造体から、理想的には同様に環状の構成である絶縁体42によって分離される。第1の空洞共振器31の残りの共振器構造体とは、電極41および絶縁体42を除く第1の空洞共振器31のすべての構成要素を意味する。前記絶縁リング42は、共振器31の動作中、第1の空洞共振器31の残りの共振器構造体に対してかなり大きいリング電極41のAC電圧を抑える。そうしたかなり大きいAC電圧は、例えば共振器におけるRF場への容量結合によって引き起こされる可能性がある。イオン供給源10および残りの加速器構造体、特に加速器セグメント30の空洞共振器は、同じ電位である。例として、こうした構成要素を接地することができる。同じ目的のために、この絶縁リング42に加えてまたはそれに換えて、並列に接続され、それを介して電極41を第1の空洞共振器31の残りの共振器構造体に接続するコンデンサ43を使用することができる。電極41を必要な電位まで上昇させるDC電圧源44も設けられる。電極41は、DC電圧源44によってある特定の電位U1図2参照にされ、配置の他の部分は電位U0になる。ここでU1およびU0は、イオン供給源10を出る粒子をリング電極41の方向に加速するように選択される。したがって、その配置は、共振器の入口に電位の最低点を有するDC電圧のポテンシャル井戸を構成する。イオン供給源10を出る粒子は、加速されて供給源10から離れ、ある初速度で共振器31に入る。これまでに説明したように、電極41を除き、イオン供給源10および加速器セグメント30は同じ電位U0である。これによって最終的には、通常の加速器の動作の間、RF共振器31および加速器セグメント30の残りの共振器図示せずに印加されるRF場が存在しない場合、共振器31の出口開口部がイオン供給源10と同じ電位を有するために、リング電極41による前加速によって得られた粒子の速度は共振器31を通過した後に低減され、粒子がイオン供給源10を出るときに有する初期の低い速度に戻る。したがって、イオン供給源10を出る粒子の前加速をもたらす静電ポテンシャル井戸は、粒子の全体的なエネルギーに寄与しない。図2はイオン供給源10を出る粒子に対する電位プロファイルを示し、破線の曲線は電極41によるポテンシャル井戸を表している。これまでに言及したように、イオン供給源および加速器構造体または加速器セグメント30は、共通の電位U0である。これは、粒子が位置x1でイオン供給源10を出る電位である。第1の空洞共振器31は、長手方向に見たとき、位置x2から位置x3まで延びる。リング電極41に存在する電位U1のために、イオン供給源10を出る粒子に対するポテンシャル井戸が生じ、そのポテンシャル井戸は粒子に対する加速作用を有し、また位置x2で最低点を有する。換言すれば、粒子は位置x1と位置x2の間で加速を受ける。電極41を除き、第1の空洞共振器31が電位U0であるため、リング電極41を通過する粒子は実質的に減速される。便宜上、第1の空洞共振器31に存在するRF場は、加速段階の間、すなわちRF共振器31に生じる電場の向きがビームの方向であるとき、x2とx3の間の領域でのポテンシャル井戸の減速力を同時に存在するRF場の加速力によって補償し、この減速力を上回るような十分な強さを有し、その結果、粒子はある特定の速度で第1の空洞共振器を出ることが可能になる。電位U0、U1およびRF場は、RF共振器の加速段階において、RF場によってもたらされる加速力がポテンシャル井戸によって生じる減速力より大きくなるように、互いに適合させる。したがって、第1の空洞共振器31の出口における粒子の速度は、最終的には空洞共振器に存在するRF場のみによって生じ、リング電極41およびリング電極41に存在する電位U1は影響を及ぼさない。図2は、加速段階におけるRF場の状態を示している。ここで、対応するRFのAC電圧URFは、振幅U2を有する。減速段階URF,decと加速段階URF,accの両方におけるRFのAC電圧URFの電位プロファイルが示されている。示される曲線Upartic1e,effは、粒子の運動エネルギーと同義である、加速段階で有効な加速される粒子の電位を示している。"