"スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを多孔質材料に添着させ、かつシロキサン類を吸着させた多孔質物質。スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルが、下記式1で表される官能基で修飾された修飾金属酸化物ゾルである請求項1に記載の多孔質物質。HOS=O2-R-SiCH3n-O-3-n1{式中、Rは炭素数1~10のアルキレン基本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良いであり、nは0又は1を表す。金属酸化物ゾルがシリカゾルである請求項1又は2に記載の多孔質物質。多孔質材料1gあたりの、スルホン酸基の添着量が0.01~0.8mmolである請求項1~3のいずれかに記載の多孔質物質。シロキサン類を吸着または吸収して除去する除去剤であって、請求項1~4のいずれかに記載の多孔質物質を含む、シロキサン除去剤。シロキサン類を含む被処理流体を、請求項1~4のいずれかに記載の多孔質物質と接触させ、シロキサン類を除去する方法。ガスセンサーの上流側に配設されるフィルターであって、請求項1~4のいずれかに記載の多孔質物質を含むフィルター。従って、本発明の目的は、シロキサン類を効率よく吸着して除去するのに有用な多孔質物質で構成されたシロキサン除去剤又は吸着剤、並びにシロキサン類を除去するのに有用なフィルター若しくはこのフィルターを備えたガスセンサーを提供することにある。本発明の他の目的は、VOC成分例えば、低揮発性有機化合物は吸着することなく、シロキサン類を選択的に長期間に亘り吸着する多孔質物質で構成されたシロキサン除去剤又は吸着剤、並びにシロキサン類を除去するのに有用なフィルター若しくはこのフィルターを備えたガスセンサーを提供することにある。本発明のさらに他の目的は、ガスセンサーにおいて、被検知成分に対する検知応答性を低下させることなく、被毒成分であるシロキサン類の通過又は透過を長期間に亘り抑制できる多孔質物質又はシロキサン除去剤又は吸着剤、並びにフィルターを提供することにある。本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを多孔質材料に添着させ、かつシロキサン類を吸着させた多孔質物質がシロキサン類に対する吸着能が大きいこと、被検知成分一酸化炭素、メタンなどを効率よく透過させつつ、シロキサン類を効率よく吸収又は吸着することを見いだし、本発明に至った。即ち、本発明は、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを多孔質材料に添着させ、かつシロキサン類を吸着させた多孔質物質である。また本発明は、シロキサン類を吸着または吸収して除去する除去剤であって、前記多孔質物質を含む、シロキサン除去剤である。また本発明は、シロキサン類を含む被処理流体を、前記多孔質物質と接触させ、シロキサン類を除去する方法である。また本発明は、ガスセンサーの上流側に配設されるフィルターであって、前記多孔質物質を含むフィルターである。本発明では、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを多孔質材料に添着させ、かつシロキサン類を吸着させた多孔質物質により、シロキサン類を効率よく吸着して被毒成分を除去できる。しかも、VOC成分例えば、低揮発性有機化合物は吸着することなく、シロキサン類を選択的に長期間に亘り吸着できる。さらに、ガスセンサーにおいては、被検知成分に対する検知応答性を低下させることなく、シロキサン類の通過又は透過を長期間に亘り抑制できる。そのため、本発明の多孔質物質はシロキサン除去剤又は吸着剤、シロキサン類を除去するためのフィルター若しくはこのフィルターを備えたガスセンサーとして有用である。本発明において、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルは金属酸化物ゾルをスルホン酸基で修飾されていればよいが、好ましくは下記式1で表される官能基で修飾されることが好ましい。HOS=O2-R-SiCH3n-O-3-n1{式中、Rは炭素数1~10のアルキレン基本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良いであり、nは0又は1を表す。上記式1において、Rの炭素数1~10のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられる。これらのうちコスト及び原料入手の点を考慮すると、好ましくはプロピレン基である。金属酸化物ゾルとしては、シリカゾル、アルミナゾル及びジルコニアゾルが挙げられる。これらのうち、シリカゾルが好ましく、オルガノシリカゾルが特に好ましい。なお、オルガノゾルとは、ナノレベルで表面改質をしたコロイダルシリカを有機溶媒に安定的に分散させたコロイド溶液であり、アルコール、ケトン、エーテル、トルエン等の各種有機溶媒に分散可能である。具体的には日産化学社製のオルガノシリカゾルメタノールシリカゾル、IPA-ST、IPA-ST、IPA-ST-UP、IPA-ST-ZL、EG-ST、NPC-ST-30、DMAC-ST、MEK-ST、MIBK-ST、PMA-ST及びPGM-STや扶桑化学社製の高純度オルガノシリカゾルPL-1-IPA、PL-2L-PGME及びPL-2L-MEK等が挙げられる。これらは単独のみならず、複数で用いても良い。本発明のスルホン酸基修飾金属酸化物ゾルは以下の製造方法により得られる。すなわち、金属酸化物ゾルに、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有する下記式SC1またはSC2で表されるシランカップリング剤を添加して金属酸化物ゾル上のシラノールと上記シランカップリング剤を反応させた後、チオール基をスルホン酸基に変換する方法によって得られる。HS-R-SiCH3n-Y3-nSC1Y-3-nCH3Si-R-S-S-R-SiCH3n-Y3-nSC1式中Rは炭素数1~10のアルキレン基本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良いであり、Yは同一或いは異なってもよい炭素数1~4のアルコキシ基又は水酸基、nは0又は1を表す。式SC1またはSC2で表されるシランカップリング剤の具体例としては、以下のものが挙げられる。これらのうち、ウレタン結合やウレア結合を持つ化合物はイソシアネート基を有するシランカップリング剤に、2-メルカプトエタノール、2-メルカプトエチルアミン及び4-メルカプトアニリンを反応させることにより得ることが出来る。金属酸化物ゾルにシランカップリング剤を反応させる場合の溶媒としては、アルコール系溶媒:メチルアルコール、エチルアルコール、iso-プロピルアルコール、n-ブチルアルコール、t-ブチルアルコール、ペンチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール及び1,4-ブタンジオール等、エーテル系溶媒:ジエチルエーテル、テトラハイドロフラン及びジオキサン等、ケトン系溶媒:アセトン及びメチルエチルケトン等、非プロトン溶媒:ジメチルスルホキサイド、N,N-ジメチルホルムアミド等及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。これらのうち好ましいのは、アルコール系溶媒であり、これらの溶媒は1種又は2種以上で使用できる。溶媒に対する原料の金属酸化物ゾルの濃度は1~50重量であり、好ましくは1~30重量である。金属酸化物ゾルに対する化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤の量は金属酸化物ゾル1gに対して、好ましくは0.55~5.5mmolであり、特に好ましくは2.0~5.0mmolである。化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するカップリング剤を添加する際の温度は限定されないが、常温約20°Cから沸点が好ましい。反応温度も限定されないが、常温約20°Cから沸点が好ましい。反応時間も限定されないが、10分から48時間が好ましく、6時間から24時間が特に好ましい。過酸化物としては、有機過酸化物過酢酸、m-クロロ過安息香酸、過酸化ベンゾイル等、無機過酸化物オゾン、過酸化水素、過酸化カルシウム等が挙げられる。これらのうち、好ましいのは過酸化水素と過酢酸であり、特に好ましいのは過酸化水素である。過酸化物は前段階の製造工程金属酸化物ゾルに化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤を結合させる工程の中に一度に或は分割して投入することが出来る。用いる過酸化物の量は、スルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤に対して、200~5000モル、好ましくは300~5000モル、さらに好ましくは500~5000モルである。過酸化物を添加する際の温度は限定されないが、常温約20°Cが好ましい。反応温度も限定されないが、常温約20°Cから沸点が好ましい。反応時間も限定されないが、10分から48時間が好ましく、6時間から24時間が特に好ましい。本発明のスルホン酸基修飾金属酸化物ゾルは、作業性を向上させる為に希釈溶剤を含有させても良い。希釈溶媒としては、本発明のスルホン酸基修飾金属酸化物ゾルと反応せず、これらを溶解及び/又は分散させるものであれば制限がなく、例えば、エーテル系溶剤テトラハイドロフラン、ジオキサン等、アルコール系溶剤メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロピルアルコール、iso-プロピルアルコール、n-ブチルアルコール等、ケトン系溶剤アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等及び非プロトン性溶媒N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等及び水等が挙げられる。希釈溶媒を含有する場合、希釈溶媒の含有量は、例えば、全溶媒に対する、本発明のスルホン酸基修飾金属酸化物ゾルの重量が、0,01~15重量好ましくは0.05~10重量、特に好ましくは0.1~7.5重量となる量である。本発明の多孔質物質は、上記スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを多孔質材料に添着させ、かつシロキサン類を吸着させた多孔質物質である。原料として用いられる多孔質材料は、多数の微細な空孔を備えるものであれば特に限定されるものではないが、好適な例としては、活性炭、アルミナ、シリカ、ゼオライトが挙げられる。活性炭としては、種々の活性炭、例えば、黒鉛、鉱物系材料褐炭、れき青炭などの石炭、石油又は石炭ピッチなど、植物系材料木材、果実殻やし殻などなど、動物系材料動物の骨、皮など、高分子材料ポリアクリロニトリルPAN、フェノール系樹脂、セルロース、再生セルロースなどなどを原料とする活性炭などが挙げられる。活性炭は、これらの原料を必要に応じて炭化又は不融化した後、賦活処理することにより得ることができる。なお、炭化方法、不融化方法、賦活方法は、特には限定されず、慣用の方法が利用できる。例えば、賦活は、炭素原料又はその炭化物若しくは不融化物を賦活ガス水蒸気、二酸化炭素など中、500~1000°C程度で熱処理するガス賦活法、炭素原料又はその炭化物若しくは不融化物を賦活剤リン酸、塩化亜鉛、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどと混合し、300~800°C程度で熱処理する化学的賦活法などにより行うことができる。活性炭のうち、やし殻活性炭などの植物系活性炭、石炭などを原料とする鉱物系活性炭、PAN系活性炭セルロース系活性炭などの高分子系活性炭などが好ましい。活性炭は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。多孔質材料の形状は、特に制限されず、粒状粉粒状、繊維状などであってもよい。なお、多孔質材料の平均粒子径は、例えば、1~1000μm、好ましくは10~750μm、さらに好ましくは100~500μm程度であってもよい。また、繊維状多孔質材料の平均繊維径は、特に制限されず、1~200μm、好ましくは5~100μm、さらに好ましくは10~70μm程度であってもよい。多孔質材料の比表面積は、例えば、350~2500m2/g、好ましくは700~2500m2/g、さらに好ましくは1000~1800m2/g程度である。多孔質材料は、単独で用いてもよく、多孔質材料とバインダー成分又は賦形成分とで構成された成形体として用いてもよい。バインダー成分としては、多孔質材料を適当な形状例えば、粒状、シート状、ハニカム状などに賦形又は成形できればよく、例えば、セピオライト、ゼオライト、アタパルジャイト、タルク、モンモリロナイトなどの無機粘土鉱物、フェノール系樹脂、ピッチ系樹脂などの結合剤に限らず、繊維成分なども含まれる。これらのバインダー成分は、単独で又は二種以上組み合わせて使用でき、必要により、結合剤と繊維成分とを組み合わせて用いてもよい。前記バインダー成分のうち、繊維成分としては、合成繊維ポリエステル繊維ポリエチレンテレフタレート繊維など、ポリアミド繊維、ポリカーボネート繊維、ポリイミド繊維、ポリエーテルエーテルケトン繊維、ポリエーテルスルホン繊維、ポリフェニレンスルフィド繊維、ポリアセタール繊維、フェノール樹脂繊維、ポリアリレート繊維、液晶ポリマー繊維など、半合成繊維セルロースアセテートなどのセルロースエステル繊維など、天然繊維例えば、セルロース繊維、綿、麻、岩綿、羊毛繊維など、無機繊維炭素繊維、炭化ケイ素繊維、ガラス繊維、シリカ-アルミナ繊維などなどが挙げられる。これらの繊維成分は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。上記繊維成分のうち、セルロース繊維、セルロースエステル繊維、又はこれらのセルロース系繊維を含有する混合繊維、パルプなどが好ましい。繊維成分は、必要により、叩解してもよい。多孔質材料とともにバインダー成分を用いた成形体には、通常、多孔質材料と結合剤と、必要により繊維成分とを用いて、繊維状、シート状、ハニカム状などに成形したり、ペレット化した成形体、及び多孔質材料と、繊維成分と、必要により結合剤とを用いて、抄紙などの手段でシート状に成形した成形体などが含まれる。バインダー成分を含む前記成形体において、バインダー成分の割合は、多孔質材料100重量部に対して、例えば、0.1~500重量部、好ましくは1~400重量部、さらに好ましくは5~300重量部程度であってもよい。例えば、多孔質材料を繊維成分とともに抄紙した抄紙構造を有する多孔質材料などでは、バインダー成分繊維成分の割合は、多孔質材料100重量部に対して、例えば、10~500重量部、好ましくは50~450重量部、さらに好ましくは100~350重量部程度であってもよい。このような多孔質材料含有成形体の形状は、特に制限されず、粒状粉粒状又はペレット状、繊維状、シート状、ハニカム状であってもよい。多孔質材料1gあたりの、スルホン酸基の添着量は0.01~0.8mmolが好ましい。シロキサン類の吸着量は、多孔質材料1gあたり、1~200mgが好ましい。スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルの多孔質材料への添着は、慣用の方法、例えば、多孔質材料をアルコール類エタノールなどに懸濁し、該懸濁液をスルホン酸基修飾金属酸化物ゾル分散液エタノール中に加え、攪拌することにより行うことができる。シロキサン類の多孔質材料への吸着は、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを多孔質材料へ添着させた後に行われる。吸着は、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを添着させた多孔質材料を炭化水素類に懸濁し、該懸濁液にシロキサン溶液を加え攪拌することにより行うことができる。また、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを添着させた多孔質材料を容器に入れ、同じ容器にシロキサンを満たした小さい容器を同伴し、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを添着させた多孔質材料に気化したシロキサンを吸着させることもできる。シロキサンは別容器で気化させた後、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを添着させた多孔質材料の容器に供給しシロキサンを吸着することもできる。本発明の多孔質物質は、シロキサン類を効率よく吸着又は吸収するため、シロキサン除去剤又は吸着剤として有用である。前記シロキサン類環状シロキサン類としては、シロキサンの環状2量体又は4員環シロキサン[CH32SiO]2D2、環状3量体又は6員環シロキサン[CH32SiO]3D3、環状4量体又は8員環シロキサン[CH32SiO]4D4、環状5量体又は10員環シロキサン[CH32SiO]5D5、環状6量体D6などが例示される。本発明の凝集体又は吸着剤は、これらのシロキサン類のうち単独のシロキサン又は複数のシロキサン類を吸着又は吸収できる。なお、環境中例えば、大気中のシロキサン類のうち主たる成分は、環状3量体D3、環状4量体D4及び環状5量体D5、特に環状3量体D3及び環状4量体D4である。シロキサン除去剤又は吸着剤は、前記本発明の多孔質物質第一の吸着剤を含んでいればよく、本発明の多孔質物質第一の吸着剤単独で構成してもよく、第一の吸着剤と他の吸着剤例えば、活性炭、ゼオライト、シリカ、アルミナなどとを併用してもよい。他の吸着剤は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。シロキサン類は、シロキサン類を含む被処理流体を、前記多孔質物質又は多孔質物質を含む除去剤と接触させることにより除去できる。被処理流体は、液体水溶液、有機溶媒溶液などであってもよいが、通常、気体ガスである。被処理流体中のシロキサン類の濃度は、例えば、1ppb~20ppm、好ましくは1ppb~1ppm、さらに好ましくは1ppb~100ppb程度である。なお、被処理流体特に被処理ガスは、水分、一酸化炭素、二酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、炭化水素メタン、エタン、プロパン、ブタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素など、ハロゲン化炭化水素類トリクロロエチレンなど、エーテル類ジメチルエーテル、ジエチルエーテルなどなどを含んでいてもよい。さらに、被処理ガスは、シロキサン類を含む空気であってもよい。被処理流体又は被処理ガスは、バッチ式、セミバッチ式又は連続式で前記多孔質物質又は多孔質物質を含む除去剤と接触させることができる。連続式に被処理流体又は被処理ガスを処理する場合、被処理流体又は被処理ガスの流量は、前記多孔質物質又は多孔質物質を含む除去剤100gに対して、常温常圧温度20~25°C、圧力1気圧で、100mL~200L/分、好ましくは1~100L/分、さらに好ましくは1~60L/分例えば、5~50L/分程度であってもよい。被処理流体又は被処理ガスの空間速度SVは、例えば、100~50000h-1、好ましくは1000~30000h-1、さらに好ましくは5000~20000h-1程度であってもよい。被処理流体又は被処理ガスは、加圧して前記多孔質物質又は除去剤、吸着剤と接触させてもよいが、通常、被処理流体又は被処理ガスの処理は常圧で行われる。吸着処理は、例えば、温度0~100°C好ましくは10~50°C、さらに好ましくは15~35°C程度で行うことができる。本発明の多孔質物質は、センサーの被毒成分又は鋭敏化成分であるシロキサン類を選択的に吸着する。そのため、多孔質物質又は多孔質物質を含む除去剤は、センサー例えば、工業用又は家庭用ガス警報器のセンサーの上流側に配設されるフィルター材料として適している。より詳細には、所定の検知成分を検知するためのセンサガスセンサーなどは、通常、流入口と排出口とを備えた中空筒体と、この筒体の上流側流入口側の筒体内に配設され、夾雑成分センサの被毒成分などを除去するためのフィルターと、このフィルターの下流側の筒体に配設されたセンサーとを備えている。センサーからの検出値は基準値と比較され、検出値が基準値を越えると、警報により有毒成分又は可燃成分の濃度が高くなったことを報知している。このようなセンサーによる検知成分は、センサーの用途に応じて選択できるが、前記多孔質物質又は除去剤は、検知成分[一酸化炭素、VOC成分例えば、メタンなどの低揮発性有機化合物など]を吸着することなく、シロキサン類を選択的に効率よく吸着する。そのため、センサーのフィルターを前記多孔質物質又は除去剤で構成すると、シロキサン類の通過又は透過を長期間に亘り抑制でき、被検知成分に対する検知応答性を低下させることなく、誤警報の発生を防止できる。なお、センサーとしては、被検知成分の種類に応じて選択でき、一酸化炭素では、慣用のセンサー例えば、接触燃焼式、半導体式、電気化学式センサー、メタンなどの可燃性成分では、慣用のセンサー例えば、接触燃焼式、半導体式センサーなどが利用できる。以下に実施例を示し、本発明を具体的に説明する。実施例は、本発明を説明するものであり、制限を加えるものではない。実施例13-トリメトキシシリルプロパン-1-チオールチッソ製S8106g30.6mmol、エタノール204g、水29g、オルガノシリカゾル日産化学製、30メタノール溶液21gシリカゾル6.3g相当、を混合し、バス温90°Cで一晩加熱還流した。30過酸化水素水21g185mmolを加えさらに一晩加熱還流した。得られたスルホン酸修飾シリカゾル分散液の重量は223gであった。粒状活性炭A-BACMP9.0gをエタノール9mLに懸濁し、上記の修飾シリカゾル分散液84.2gを加え室温で一晩攪拌した。スルホン酸基修飾シリカゾルの添着量は0.8mmol/gであった。ガラス容器底部に、小さいシャーレに入れたシロキサンD4を置き、網製架台の上にアルミカップに入れた上記スルホン酸基修飾シリカゾル添着活性炭を置き、50°Cで1時間吸着した。その後常圧100°Cで48時間乾燥した。実施例2吸着時間を2時間とした以外は実施例1と同じ方法でスルホン酸基修飾シリカゾル添着活性炭にシロキサンD4を吸着させた。比較例1粒状活性炭A-BACMPをそのまま使用した。[評価試験]シロキサン吸着評価装置ガステック株式会社定濃度ガス発生装置PD-230、水蒸気発生装置、シロキサン吸着評価容器を順に接続したガス流路を設置した図1。シロキサン吸着評価容器は、ガス主流路から分岐したところに内径5mmの吸着試料管を設け、その先に両端に開閉バルブを設けたガス採取容器容量0.5mLを接続した図2。こうすることでガス主流路から試料管を透過して自然拡散してくるガスを採取することができる。PD-230の流速、ディフュージョンチューブの形状および槽内温度を調節しシロキサン濃度を調節することができる。シロキサン評価容器を恒温槽内に設置し温度の調節をすることができる。水蒸気発生装置およびバイパスの流速を調整し湿度を調節することができる。ガス流通条件13日間シロキサンD4濃度100ppm、温度30°C、湿度50RH22日間シロキサンD4濃度0.2ppm、温度30°C、湿度50RH31日間シロキサンD4濃度0.2ppm、温度50°C、湿度85RH上記6日間を1サイクルとし、6サイクル繰り返した。評価方法吸着試料管に実施例1、2および比較例1の試料を試料厚5mmに詰め、経時的にガス採取管のシロキサンD4濃度をガスクロマトグラフィで測定し、2の流通条件のときのシロキサンD4濃度ppm、および、3の流通条件のときのシロキサンD4濃度ppmを測定した。結果を表1に示す。表1から明らかなように、比較例に比べ、実施例ではシロキサン類を長時間に亘り効率よく吸着し、かつ保持する。"