"aガラス転移温度が35°C以上65°C未満、かつ重量平均分子量が20000~60000である熱可塑性樹脂、b少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する化合物、cエチレン性不飽和結合を1個有する化合物、およびd光重合開始剤を含有することを特徴とする光重合性樹脂組成物。前記a成分が芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を有する熱可塑性樹脂である、請求項1記載の光重合性樹脂組成物。支持体上に、請求項1または2に記載の光重合性樹脂組成物からなる感光層が形成されている感光性フィルム。本発明は、凹凸追従性に優れ、低温でラミネーションした場合にも良好な追従性が得られるとともに、解像度および密着性に優れた光重合性樹脂組成物、およびこれを用いた感光性フィルムを提供することを目的とする。前記課題を解決するために本発明の光重合性樹脂組成物は、aガラス転移温度が35°C以上65°C未満、かつ重量平均分子量が20000~60000である熱可塑性樹脂、b少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する化合物、cエチレン性不飽和結合を1個有する化合物、およびd光重合開始剤を含有することを特徴とする。前記a成分が芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を有する熱可塑性樹脂であることが好ましい。本発明は、支持体上に、本発明の光重合性樹脂組成物からなる感光層が形成されている感光性フィルムを提供する。本発明によれば、凹凸追従性に優れ、低温でラミネーションした場合にも良好な追従性が得られるとともに、解像度および密着性に優れた光重合性樹脂組成物、およびこれを用いた感光性フィルムが得られる。<a成分>a成分は、ガラス転移温度が35°C以上65°C未満、かつ重量平均分子量が20000~60000の熱可塑性樹脂である。a成分を含有させることにより、低温でラミネーションした場合の追従性、解像度、密着性を改善できる。本明細書におけるガラス転移温度の値は、a成分を構成モノマーの質量分率Wn、およびa成分を構成モノマーの単独重合体のガラス転移温度Tn文献値、文献名:中道敏彦、塗料の流動と塗膜形成p2501995技報堂出版に基づき、式1/Tg=ΣWn/Tnにより算出した。本明細書における重量平均分子量の値は、ポリスチレンを標準物質として、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCで測定される重量平均分子量Mwである。a成分のガラス転移温度は、35°C以上65°C未満の範囲である。ガラス転移温度が65°C未満であると低温でのラミネーション時に基材の凹凸への充分な追従性が得られやすい。好ましくは、60°C以下である。ガラス転移温度が35°C以上であると良好な密着性および解像度が得られやすい。好ましくは、50°C以上である。a成分の重量平均分子量は20000~60000の範囲である。重量平均分子量が20000以上であると、高分子化により基材への良好な密着性が得られやすい。好ましくは30000以上である。また重合平均分子量が60000以下であると、低温でのラミネーション時に基材の凹凸への充分な追従性が得られやすい。好ましくは50000以下である。a成分は、芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を有する熱可塑性樹脂であることが好ましい。a成分に芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基が存在すると、樹脂組成物の疎水性を高め、解像度の向上に寄与するため好ましい。芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基は側鎖に存在することが好ましい。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ベンジル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントリル基、2-アントリル基、9-アントリル基、1-フェナントリル基、2-フェナントリル基、3-フェナントリル基、4-フェナントリル基、9-フェナントリル基等が挙げられる。これらは置換基を有していてもよい。置換基の例としては炭素数1~10のアルキル基が挙げられる。脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、1-アダマンチル基、2-アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。a成分の主鎖は、エチレン性不飽和結合の重合反応により形成された炭素鎖であることが好ましい。a成分としての芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を有する熱可塑性樹脂は、a成分を構成するモノマーa成分である熱可塑性樹脂の合成に用いるモノマーとして、上記芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を有するモノマーを用いることで得られる。芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を有するモノマーとしては、エチレン性不飽和結合を有するものが好ましい。具体的には、スチレン、ビニルトルエン、α―メチルスチレン等のスチレン誘導体、上記脂環式炭化水素基を有するメタアクリレート、および上記芳香族炭化水素基を有するメタアクリレートからなる群から選ばれる1種以上が好ましい。これらの中でも、イソボルニル基またはシクロヘキシル基を有するメタアクリレート、およびスチレンからなる群から選ばれる1種以上が、高解像度の点でより好ましい。芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を含有するモノマーを用いる場合、a成分を構成する全モノマーの仕込み量100質量中における、芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を含有するモノマーの合計の含有割合単位:質量は、5~50質量であることが好ましい。この範囲内であるとより解像度向上効果が充分に得られやすい。a成分を構成するモノマーは、上記芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を有するモノマーを含むとともに、これらのモノマーと共重合可能な他のモノマーをさらに含んでもよい。上記他のモノマーは、芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基のいずれも有しない化合物であり、例えば、アルキル基が1~8個の炭素原子を有するアルキルメタアクリレート、およびヒドロキシアルキル基が2~8個の炭素原子を有するヒドロキシアルキルメタアクリレートかより成る群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。これらの中でも、炭素数1~4のアルキル基を有するアルキルメタアクリレートが、現像適性の点でより好ましい。さらに、本発明の光重合性樹脂組成物を、炭酸ナトリウム等のアルカリ水溶液からなる現像液で現像できるようにする場合には、他のモノマーとして、3~15個の炭素原子を有するα,β-不飽和カルボキシル基を有するモノマーの1種以上を用いることが好ましい。かかるモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ソルビン酸、イタコン酸、プロピオール酸、マレイン酸およびフマル酸等が挙げられる。またこれらの半エステル類あるいは無水物も使用可能である。これらの化合物のうち、ラジカル重合性が高い点で、アクリル酸またはメタクリル酸が最も好ましい。a成分としての熱可塑性樹脂は、a成分を構成するモノマーを溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法等の公知の重合法で重合させることにより得られる。特に、溶液重合法による重合体であることが好ましい。溶液重合法による重合の場合、有機溶剤および重合開始剤の存在下でモノマーを重合させる。有機溶剤としては、メチルエチルケトン、メタノール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、トルエン、キシレン等の通常用いられる有機溶剤を使用できる。重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル、クメンヒドロペルオキシド等の通常用いられる重合開始剤を使用できる。また、必要に応じて2-メルカプトエタノール、n-オクチルメルカプタン等の連鎖移動剤を使用することができる。a成分としての熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、例えば光重合開始剤の添加量により調整することができる。a成分としての熱可塑性樹脂のガラス転移温度は、a成分を構成するモノマーの組成によって調整することができる。例えばa成分を構成するモノマーの一部としてアルキル基が1~8個の炭素原子を有するアルキルメタアクリレート、好ましくはアルキル基が1~4個の炭素原子を有するアルキルメタアクリレートアクリル酸エステルを用い、これらの組成を変化させることによってa成分のガラス転移温度を調整することができる。具体的には、アルキルメタアクリレートのアルキル基の炭素数が少ないほどガラス転移温度の低下への寄与が大きく、アルキルメタクリレートよりもアルキルアクリレートの方がガラス転移温度の低下への寄与が大きい。本発明のa成分としての熱可塑性樹脂の好ましいモノマー組成として、以下の組成[i]が挙げられる。組成[i]:a成分を構成する全モノマー仕込み量の100質量が、芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を含有するモノマーの合計が5~25質量、アルキル基の炭素数が1~8個のアルキルメタクリレートの合計が30~60質量、アルキル基の炭素数が1~8個のアルキルアクリレートの合計が20~40質量、およびアクリル酸またはメタクリル酸の合計が5~25質量からなる。本発明の光重合性樹脂組成物において、a成分、b成分およびc成分の含有量の合計を100質量とするとき、a成分の含有量の割合は50~70質量が好ましい。a成分の割合が50質量以上であると、a成分を配合することによる効果が充分に得られ、70質量以下であると基材への密着性に優れる。<b成分>b成分は、少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する化合物である。b成分の重量平均分子量は光反応性の点で10000以下が好ましく、5,000以下がより好ましい。b成分は2個以上のエチレン性不飽和結合を有し、露光によって分子鎖の橋かけ構造を形成するため、露光後のレジスト膜の強度、解像度、および基材との密着性に寄与する。b成分は、光重合開始剤の作用により付加重合反応を生じるモノマー、オリゴマー、または、プレポリマーであればよく、より高い反応性が得られる点で、アクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有するものが好ましい。例えば、ポリアクリレートもしくはポリメタクリレート、ポリエーテルアクリレートもしくはポリエーテルメタクリレート;ポリエステルアクリレートもしくはポリエステルメタクリレート;ポリオールアクリレートもしくはポリオールメタクリレート;エポキシアクリレートもしくはエポキシメタクリレート;ウレタンアクリレートもしくはウレタンメタクリレート等のモノマー、オリゴマーが挙げられる。これらは置換基を有していてもよい。具体例としては、ポリアルキレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、2-エチルヘキシルジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、2-ビス4-メタアクリロイルオキシジエトキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-メタアクリロイルオキシプロポキシフェニルプロパン等のポリオールメタアクリレート;1,2,6-ヘキサントリオール/プロピレンオキシド/メタアクリル酸から合成されたポリエーテルメタアクリレート、トリメチロールプロパン/エチレンオキシド/メタアクリル酸から合成されたポリエーテルメタアクリレート、ビルフェノールA/エチレンオキシド/メタアクリル酸から合成されたポリエーテルメタアクリレート;アジピン酸/1,6-ヘキサンジオール/メタアクリル酸から合成されたポリエステルメタアクリレート、コハク酸/トリメチロールエタン/メタアクリル酸等から合成されたポリエステルメタアクリレート、;ジグリシジルエーテル化ビスフェノールA/アクリル酸から合成されたエポキシメタアクリレート、ジグリシジルエーテル化ポリビスフェノールA/アクリル酸、トリグリシジルエーテル化グリセリン/アクリル酸等から合成されたエポキシメタアクリレート;γ-ブチロラクトン/N-メチルエタノールアミン/ビス4-イソシアナトシクロヘキシルメタン/2-ヒドロキシエチルアクリレートから合成されたアミドウレタンメタアクリレート、γ-ブチロラクトン/N-メチルエタノールアミン/2,6-トリレンジイソシアネート/テトラエチレングリコール/2-ヒドロキシエチルアクリレート等から合成されたアミドウレタンメタアクリレート;2,6-トリレンジイソシアネートジアクリレート、イソホロンジイソシアネートジアクリレート、ヘキサメチレンジイソシアネートジアクリレート等のウレタンアクリレート;等が挙げられる。これらのモノマーまたはオリゴマーは単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。追従性の点で、b成分がポリアルキレングリコールジメタアクリレートを含むことが好ましい。ポリアルキレングリコールジメタアクリレートとしては、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジメタアクリレート等が挙げられる。特にポリプロピレングリコールジメタアクリレートが好ましい。ポリアルキレングリコールジメタアクリレートにおけるアルキレングリコールの繰り返し数nは3~30が好ましく、5~15がより好ましい。光反応性、現像適性の点で、b成分が芳香族炭化水素基を有する化合物を含むことが好ましい。芳香族炭化水素基を有するb成分は、エチレン性不飽和結合を2個有するため、露光によって形成される重合体の主鎖に、芳香族炭化水素基を導入することができる。これにより露光後のレジスト膜の疎水性が高まるため、現像耐性が向上し、密着性が良好となる。例えば、芳香族炭化水素基を有するポリアルコールのメタアクリル酸エステル;フタル酸、トリメリット酸などの多塩基酸と、エチレングリコール、ブタンジオール等の多価アルコールと、メタアクリル酸化合物との反応で得られるポリエステルメタアクリレート;ビスフェノールA系エポキシ樹脂とメタアクリル酸化合物との反応で得られるエポキシメタアクリレート;芳香族炭化水素基を有するウレタンメタアクリレート等が挙げられる。芳香族炭化水素基を有する化合物の具体例としては、フタル酸ジメタアクリレート、ビスフェノールAジメタアクリレート、およびこれらのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド付加物が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。これらの中でも、密着性の向上効果が大きい点で、ビスフェノールAジメタアクリレートのエチレンオキサイド付加物が特に好ましい。b成分として、ポリアルキレングリコールジメタアクリレート、および/または、芳香族炭化水素基を有する化合物を用いることが好ましい。本発明の光重合性樹脂組成物において、a成分、b成分およびc成分の含有量の合計を100質量とするとき、b成分の含有量の割合は30~50質量が好ましい。b成分の割合が30質量以上であると、b成分を配合することによる効果が充分に得られ、50質量以下であると解像度の点で好ましい。<c成分>c成分は、エチレン性不飽和結合を1個有する化合物である。c成分の重量平均分子量は光反応性、レジスト膜強度の点で6,000以下が好ましく、3,000以下がより好ましい。c成分は、1個のエチレン性不飽和結合以外には、光重合開始剤の作用により付加重合反応を生じる反応性基を有しないことが好ましい。c成分は、粘度が低いため、追従性の向上に寄与する。c成分は、光重合開始剤の作用により付加重合反応を生じるモノマー、オリゴマー、または、プレポリマーであればよい。c成分のエチレン性不飽和結合の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられる。高い反応性が得られる点で、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。c成分としては、1個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であれば特に限定されるものではなく、例えば、脂肪族、脂環族または芳香族のモノアルコールのモノメタアクリレートや、フタル酸、アジピン酸などの多塩基酸とエチレングリコール、ブタンジオール等の多価アルコールとメタアクリル酸化合物との反応で得られるポリエステルモノメタアクリレート、エポキシ樹脂とメタアクリル酸化合物との反応で得られるエポキシモノメタアクリレート、脂肪族、脂環族または芳香族のウレタンモノメタアクリレート、ポリシロキサンとメタアクリル酸化合物との反応によって得られるポリシロキサンモノメタアクリレート、ポリアミドとメタアクリル酸化合物との反応によって得られるポリアミドモノメタアクリレート等が挙げられる。密着性の点で、c成分が、芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を有する化合物を含むことが好ましい。c成分はエチレン性不飽和結合を1個有するため、露光によって形成される重合体の側鎖、または主鎖末端に、芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を導入することができる。これにより露光後のレジスト膜の疎水性が高まるため、現像耐性が向上し、密着性が良好となる。かかるc成分の具体例としては、シクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、フタル酸メタアクリレート、ヘキサヒドロフタル酸メタアクリレート、ビスフェノールAメタアクリレート、ノニルフェニルメタアクリレート、ノニルフェノキシメタアクリレート、およびこれらのエチレンオキサイドおよび/またはプロピレンオキサイド付加物が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。これらの中でも、密着性の向上効果が大きい点で、ノニルフェニルアクリレートのプロピレンオキサイド付加物が特に好ましい。追従性の点で、c成分がポリアルキレングリコールモノメタアクリレートを含むことが好ましい。ポリアルキレングリコールモノメタアクリレートとしては、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート等が挙げられる。特にポリプロピレングリコールモノメタアクリレートが好ましい。ポリアルキレングリコールモノメタアクリレートにおけるアルキレングリコールの繰り返し数nは、3~20が好ましく、5~15がより好ましい。c成分として、ポリアルキレングリコールモノメタアクリレート、および/または、芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を有する化合物を用いることが好ましい。本発明の光重合性樹脂組成物において、a成分、b成分およびc成分の含有量の合計を100質量とするとき、c成分の含有量の割合は1~20質量が好ましい。c成分の割合が1質量以上であると、c成分を配合することによる追従性効果が得られる。またc成分は、エチレン性不飽和結合を1個しか有しないため、c成分の含有量が多すぎると露光後に未反応のc成分が残留しやすく、未反応成分の残留は密着性を低下させる。<d成分>d成分は光重合開始剤である。d成分は露光に使用される光源の波長露光波長に感度を有し、露光波長の光を吸収してラジカルを発生するものが用いられる。公知の光重合開始剤から適宜のものを選択して用いることができる。1種単独でもよく2種以上を併用してもよい。特に、紫外線領域において良好な感度が得られるようにするには、d成分として、ビスイミダゾール誘導体を用いることが好ましい。ビスイミダゾール誘導体の例としては、オルト-クロロHABIo-Cl-HABIとして知られる、2,2’-ビスo-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2-ビイミダゾール;TCDM-HABIと略称される、2,2’,5-トリス-o-クロロフェニル-4-3,4-ジメトキシフェニル-4’,5’-ジフェニル-ビイミダゾール;TCTM-HABIと略称される、2,2’,4,4’-テトラ-o-クロロフェニル-5,5’-ビス-3,4-ジメトキシフェニル-ビイミダゾール;CDM-HABIと略称される2,2’-ビス-o-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラ-m-メトキシフェニル-1,2-ビイミダゾール;OE-HABIと略称される、2,2’-ビス2-エトキシフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,1’-ビイミダゾールが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。高解像度、高密着性を目的とした場合、o-Cl-HABIが好適である。d成分として、ビスイミダゾール誘導体と、他の光重合開始剤とを併用してもよい。他の光重合開始剤を併用すると、他の光重合開始剤が光を吸収し、励起状態を形成したのち電子移動を経て、ラジカルが発生し、それらのラジカルがa~c成分と反応して付加重合を開始するため、感光性を向上させることができる。他の光重合開始剤の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、アントラキノン類、チオキサントン類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルケタール類、トリアジン類、アシルホスフィンオキサイド類等が挙げられる。これらは露光波長に対して感度を有する1種又は2種以上を選択して用いることができる。本発明の光重合性樹脂組成物において、a成分、b成分およびc成分の含有量の合計100質量部に対して、d成分の合計の配合量は0.1~6質量部が好ましく、1.0~3.0質量部がより好ましい。0.1質量部以上であると充分な感度が得られやすい。一方、d成分が多すぎると、感光層の表面で照射光が著しく吸収されて、露光光が感光層の底部まで届きにくくなり、その結果、基材との密着性が低下するおそれがある。d成分の配合量が6質量部以下であると、密着性の低下を良好に防止できる。<その他の成分>本発明の光重合性樹脂組成物には、水素供与体、増感剤、光酸発生剤、染料など、光重合性樹脂組成物において公知の添加剤を適宜含有させることができる。水素供与体の例としては、2-メルカプトペンデチアゾール、2-メルカプトペンゾオキサゾールおよび2-メルカプトペンゾイミダゾールなどの有機チオール、第三アミン化合物、N-フェニルグリシン、トリブロモメチルフェニルスルホン、1,1-ジメチル-3,5-ジケトシクロヘキサン、エーテル類、エステル類、アルコール類、アリル水素またはベンジル水素を含有する化合物、アセトール類、アルデヒド類、およびアミド類が挙げられる。これらの材料は、例えば米国特許第3,390,996号に記載されている。染料の例としては、マラカイトグリーン、ロイコクリスタルバイオレット等が挙げられる。さらに必要に応じて熱重合禁止剤、着色剤、密着促進剤、充填剤、可塑剤等の種々の添加剤を配合できる。<感光性フィルム>本発明の感光性フィルムは、支持体上に、本発明の光重合性樹脂組成物からなる感光層が形成された積層体である。さらに感光層上に保護フィルムが積層されていてもよい。支持体は露光波長において透明であることが好ましい。支持体または保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン等からなるプラスチックフィルムが好適に用いられる。特に支持体としてはポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、保護フィルムとしてはポリエチレンフィルムが好ましい。感光層の厚さは、特に制限されないが、10~100μm程度が好ましく、20~50μmがより好ましい。本発明の感光性フィルムは解像度に優れるとともに、基材との密着性に優れており、微細なパターン形状を良好に得ることができ、さらに剥離特性も極めて良好である。<感光性フィルムの製造方法>本発明の感光性フィルムの製造は、光重合性樹脂組成物を含む塗布液を支持体上に塗布した後、乾燥し、その上に保護フィルムを被覆して積層体とする方法で行うことができる。すなわち、まず光重合性樹脂組成物のa~d成分、および必要に応じて配合される成分を有機溶剤に溶解して塗布液を調製する。有機溶剤は、光重合性樹脂組成物を溶解できる溶剤であればよく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系溶剤;メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール系溶剤などが用いられる。これらの溶剤は1種又は2種以上を併用できる。有機溶剤の使用量は特に限定されず、塗布に適した固形分濃度となるように設定される。次いで、支持体上に塗布液を均一に塗布した後、加熱により溶剤を除去し、乾燥させて感光層を形成する。塗布方法は特に限定されない。例えばコンマコーター、ダイコーター、グラビアコーター、ナイフコーター等、公知の塗布法を用いることができる。その後、必要に応じて保護フィルムで被覆して感光性フィルムを得る。<感光性フィルムの使用方法>本発明の感光性フィルムを用いてプリント配線板の回路形成を行うには、例えば、まず、基板上に、銅などの金属層が積層された金属積層板を用意する。感光性フィルムの保護フィルムを剥がして、金属積層板上に、感光層と金属層とが密着するように積層し、加熱圧着ラミネーションさせる。加熱圧着ラミネーションさせる際の温度の上限値は、基材に対して熱による悪影響が生じない範囲であればよい。本発明の感光性フィルムは、特に感光層を構成する光重合性樹脂組成物の凹凸追従性に優れ、低温でラミネーションした場合にも良好な追従性が得られる。例えば加熱圧着時に感光性フィルムに接触させる加圧手段の表面温度ロール温度が60°C以下、好ましくは50°C以下の低温ラミネーションを好適に行うことができる。該ロール温度の下限値は、特に限定されず、加熱圧着できる温度以上であればよい。次に感光性フィルムの支持体を介して、感光層の回路パターンに対応する領域に対して露光を行う。露光は、通常、紫外線照射により行い、その際の光源としては、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ等が用いられ、超高圧水銀灯を光源とする露光機が主流である。また、露光エネルギー量は一般に20~200mJ/cm2程度である。露光後、感光層上の支持体を剥がし、現像液を用いて感光層を現像する。現像は、スプレー法、ディッピング法等の公知方法により行うことができる。現像液としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ水溶液が好適に用いられる。アルカリ水溶液の濃度は0.5~3質量が好ましい。現像により感光層の未露光部が溶解するため、これを洗浄除去する。現像液としてのアルカリ水溶液には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤などを添加してもよい。これによって、感光層がパターニングされた感光層パターンが得られる。次いで、エッチングを行い、金属層の、感光層の未露光部を除去する。例えば、塩化第二銅と塩酸の混合水溶液や塩化第二鉄と塩酸の混合水溶液などの酸性エッチング液を用いて、未露光部の銅箔を溶解する。この後、感光層パターンを剥離することによって、金属例えば銅箔からなる回路パターンが得られる。感光層パターンの剥離は、例えば、1~5質量程度の濃度の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等の水溶液からなるアルカリ剥離液を用いて行うことができる。以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において、部およびは特に断りのない限り、質量基準による。[合成例1~5:熱可塑性樹脂a-1~a-5の合成]撹伴器、温度制御装置、コンデンサーを備えた容器に、メチルエチルケトン90とメタノール10からなる混合溶媒を53.3部仕込んだ。撹件しながら温度を85°Cに上昇させ、下記表1に示す組成単位:のモノマー混合物100部に対して、アゾビスイソブチロニトリル0.4~0.8部を添加した溶液を、前記混合溶媒中に3時間で滴下した。滴下終了後の反応液に、アゾビスイソブチロニトリル0.1部を30分間隔で4回添加した。更に、85°Cで2時間、加熱撹伴し反応率を上昇させた後、メチルエチルケトン90とメタノール10からなる混合溶媒を13.3部添加して反応を終了させた。得られた熱可塑性樹脂溶液中の熱可塑性樹脂のガラス転移温度°Cおよび重量平均分子量を表1に示す。表1に記載のモノマーは以下の通りである。スチレンは芳香族炭化水素基を含有するモノマーに該当し、メタクリル酸イソボルニルは脂環式炭化水素基を含有するモノマーに該当する。MMA:メタクリル酸メチルBMA:メタクリル酸ブチルBA:n-アクリル酸ブチルEA:アクリル酸エチルSt:スチレンIBXMA:メタクリル酸イソボルニルMAA:メタクリル酸[比較合成例1~4:比較の熱可塑性樹脂z-1~z-4の合成]モノマー混合物の組成を下記表2に示す通りに変更したほかは、合成例1と同様にして比較の熱可塑性樹脂を合成した。得られた熱可塑性樹脂のガラス転移温度°Cおよび重量平均分子量を表2に示す。比較合成例1は、ガラス転移温度が35°C未満である例、比較合成例2はガラス転移温度が65°C以上である例、比較合成例3は重量平均分子量が20,000を下回る例、比較例合成4は重量平均分子量が60,000を超える例である。[実施例1~5および比較例1~6]上記合成例および比較合成例で得られた熱可塑性樹脂a-1~a-5およびz-1~z-4を用い、表3に示す組成単位:部からなる光重合性樹脂組成物を有機溶剤に完全に溶解し、塗布液を調合した。得られた塗布液を、ナイフコーターにより、20μm厚のポリエステルフィルム上に塗布した。次いで、30分放置した後、60°Cの乾燥機中で30分乾燥して厚さ30μmの感光層を形成し、感光性フィルムを得た。その後、ポリエステルフィルムが外側となるように、銅張積層板上に加熱ラミネーションし、試験板とした。ラミネーション条件は、ロール温度50°C、速度1m/minとした。ラミネーション後、1時間放置した後に、超高圧水銀灯を光源とした平行露光機により、試験板の感光性フィルムに所定形状のパターンマスクを密着させて露光した。露光エネルギー量は100mJ/cm2とした。露光装置は、オーク製作所製、製品名:EXM1201を使用した。露光後1時間放置した後、ポリエステルフィルムを剥離し、濃度1質量の炭酸ナトリウム水溶液現像液を用いて現像することによって、未露光部分を溶解除去し、光重合性樹脂組成物の硬化物からなる露光パターンを得た。現像は、現像液をスプレーする方法を用い、現像スプレー圧力0.15MPa、現像液温度30°Cの条件で行った。表3に記載した各成分は以下のとおりである。化合物b-1:エチレンオキサイドを10モル付加した、ビスフェノールAジメタクリレート新中村化学社製、製品名:NKエステルBPE500、分子量808。化合物b-2:ポリプロピレングリコールnは7ジメタクリレート新中村化学社製、製品名:NKエステル9PG、分子量676。化合物c-1:プロピレンオキサイドを5モル付加した、ノニルフェニルアクリレート新中村化学社製、製品名:NKエステルNPA5P、分子量564。化合物c-2:ポリプロピレングリコールnは6モノアクリレート日本油脂株式会社製、製品名:ライトエステルADP400、分子量480。化合物d-1:2,2’,5-トリス-o-クロロフェニル-4-3,4-ジメトキシフェニル-4’,5’-ジフェニル-ビイミダゾールTCDM-HABIと略記されることもある。化合物d-2:エチルミヒラーズケトン。染料:マラカイトグリーン/ロイコクリスタルバイオレット=10/1質量比の混合物。有機溶剤:メチルエチルケトン/メタノール=8/2質量比の混合物。[評価]以下の方法で追従性、解像度および密着性を評価した。<評価方法>追従性追従性の評価は、前記銅張積層板として溝付き銅張積層基材を用い、レジストパターンが無い部分の銅をエッチングして得られた導体パターンの断線率により判定した。溝付き銅張積層基材は、銅張積層基材の一面に、深さ5μmの線状の溝を、線幅最小60μmから最大210μmまで10μm間隔で計16本形成したものを用いた。この溝付き銅張積層基材上に、前述の条件にて感光性フィルムをラミネーション、露光、現像してレジストパターンを形成した。パターンマスクの形状は、線幅ライン幅75μmのラインパターンとし、溝の長さ方向と、ラインパターンの長さ方向とが直交するように配置した。レジストパターンを形成した後、液温50°Cの塩化第二銅溶液を70秒間スプレーし、レジストパターンが無い部分の銅をエッチングして除いた後、レジストパターンを剥離して、導体パターンを得た。得られた導体パターンと溝との交差部を観察し、溝上で導体パターンが断線していない数xと断線している数yを数え、次の計算式により断線率を算出した。この値が低いほど追従性が高いことを示す。下記の評価基準に基づいて追従性を評価した。これらの結果を表3に示す。断線率=100y/xy追従性の評価:○:断線率が10未満△:断線率が10以上40未満×:断線率が40以上解像度溝が形成されていない銅張積層基材上に、前述の条件にて感光性フィルムをラミネーション、露光、現像してレジストパターンを形成した。パターンマスクの形状は、10~100μm5μm間隔のラインアンドスペースパターンとした。現像後のレジストパターンを観察し、解像できた最少の線幅を記録した。この値が小さいほど解像度が高いことを示す。下記の評価基準に基づいて解像度を評価した。結果を表3に示す。○:良好:30μm未満△:やや不良:30μm以上、50μm未満×:不良:50μm以上密着性溝が形成されていない銅張積層基材上に、前述の条件にて感光性フィルムをラミネーション、露光、現像してレジストパターンを形成した。パターンマスクの形状は、線幅ライン幅が10~100μm5μm間隔で間隔スペースが100μmのパターンとした。現像後のレジストパターンを観察し、銅張積層板と密着している最も細いパターンの線幅を記録した。この値が小さいほど密着性が高いことを示す。下記の評価基準に基づいて密着性を評価した。結果を表3に示す。○:良好:30μm未満△:やや不良:30μm以上、50μm未満×:不良:50μm以上表3の結果より、ロール温度50°Cの低温条件でラミネーションしたとき、本発明にかかる実施例1~5の感光性フィルムは、良好な追従性、解像度、および密着性を示した。これに対して、比較例1~6では、良好な追従性、解像度、密着性を同時に達成することはできなかった。"