"金属成分1を含むポリシランと、金属成分1を構成する金属aよりも、イオン化傾向において小さい金属bで構成されている金属成分2とを接触させて、ポリシランに含まれる金属成分1を除去して精製する方法により得られたポリシランであって、金属成分1を含むポリシランが、マグネシウム金属成分と、鉄ハロゲン化物および亜鉛ハロゲン化物から選択された少なくとも1種の金属ハロゲン化物との存在下、ハロシラン類を反応させることにより得られ、下記式1~3で表された構造単位のうち少なくとも1つの構造単位を有し、下記式2で表される構造単位および下記式3で表される構造単位から選択された少なくとも1つの分岐状構造単位を有する重量平均分子量200~100000の分岐状ポリシランであり、式中、R1~R3は、同一又は相異なって、水素原子、炭化水素基又はシリル基を示し、r、s及びtはそれぞれ0以上の整数を示し、r、s及びtの合計は2以上の整数である。金属aが鉄及び/又は亜鉛であり、かつ金属成分1の割合が、金属aの重量換算で、全体に対して100ppm以下であるポリシラン。金属成分1を含むポリシランが、金属aの重量換算で、全体に対して500ppm以上の金属成分1を含む請求項1記載のポリシラン。金属aが亜鉛であり、金属成分2が、鉄、コバルト、ニッケルおよび銅から選択された少なくとも1種の金属bで構成されている水溶性の金属化合物である請求項1記載のポリシラン。金属成分1の割合が、金属aの重量換算で、全体に対して50ppm以下である請求項1記載のポリシラン。金属成分1および金属成分2の割合が、金属aおよび金属bの重量換算で、全体に対して100ppm以下である請求項1記載のポリシラン。従って、本発明の目的は、ポリシランに予め含まれる金属成分を効率よく除去できる精製方法、およびこの方法により得られたポリシランを提供することにある。本発明の他の目的は、慣用の方法では、亜鉛などの金属成分の除去が困難なポリシランであっても、簡便にかつ効率よく金属成分を除去できる精製方法、およびこの方法により得られたポリシランを提供することにある。本発明のさらに他の目的は、ポリシランに含まれる金属成分の含有量を著しく低減できるポリシランの精製方法を提供することにある。本発明の別の目的は、金属成分の含有量が著しく低減された高純度のポリシランを提供することにある。本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、1金属や金属化合物を触媒として用いて得られるポリシランには、洗浄などを行っても、金属成分がポリシランに対して何らかの親和性を有しているためか、多量の金属成分が残留していること、2このような金属成分Aを含むポリシランと、前記金属成分に対して特定の指標において異なる金属成分Bとを接触させることにより、金属成分Aのポリシランに対する親和性が低下し、前記金属成分Aを構成する金属と金属成分Bを構成する金属とが置換されるためか、金属成分Aが容易に除去されること、3さらに接触させた金属成分B又はその構成金属はポリシランに対する親和性が比較的低いためか、溶出などによりポリシランから容易に除去でき、金属成分の含有量が著しく小さい高純度のポリシランが得られることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明の方法は、金属成分1を含むポリシランの精製方法であって、前記ポリシランと、前記金属成分1を構成する金属aよりも、イオン化傾向において小さい金属bで構成されている金属成分2とを接触させて、ポリシランに含まれる金属成分1を除去する。前記精製方法又は除去方法において、ポリシラン金属成分1を含むポリシランは、金属aの重量換算で、全体に対して500ppm以上の金属成分1を含んでいてもよい。金属触媒を用いて合成されたポリシランは、前記金属触媒に対応する金属成分1を含有している場合が多い。また、前記ポリシランは、直鎖状構造などに比べて、分岐状構造を有しているほど、金属成分1を取り込みやすいようである。本発明では、このようなポリシランであっても、効率よく金属成分1を除去できる。例えば、前記除去方法において、前記ポリシランは、マグネシウム金属成分及び金属ハロゲン化物の存在下、トリハロシラン類及びテトラハロシラン類から選択された少なくとも1種を重合した分岐状構造を有するポリシランであってもよい。前記除去方法において、金属aと金属bとの組み合わせは、金属aが鉄及び/又は亜鉛であってもよい。代表的には、金属aが亜鉛であり、金属成分2が、鉄、コバルト、ニッケルおよび銅から選択された少なくとも1種の金属bで構成されている水溶性の金属化合物例えば、金属ハロゲン化物、金属と無機酸との塩などであってもよい。前記精製方法除去方法は、通常、金属成分1を含むポリシランと金属成分2とを溶媒の存在下で接触させることにより行うことができる。例えば、前記除去方法は、金属成分1を含むポリシランと、このポリシランを溶解可能な溶媒aと、金属成分2と、この金属成分2を溶解可能であり、前記ポリシランを溶解せず、かつ溶媒aとの組み合わせにおいて層分離又は相分離可能な溶媒bとを混合する混合工程、およびこの混合工程を経て得られた混合系からポリシランを含む液層又は液相を分離する工程を含んでいてもよい。この除去方法は、ポリシランを含む液層分離工程を経て分離された液層を、さらに、ポリシランを溶解せず、かつ溶媒aとの組み合わせにおいて層分離可能な溶媒で洗浄する工程を含んでいてもよい。代表的な精製方法では、金属成分1を含むポリシランが少なくとも疎水性有機溶媒で構成された溶媒に溶解した溶液と、金属成分2が溶解した水溶液とを混合する工程と、この混合工程を経て得られた混合系からポリシランを含む液層有機層を分離する工程と、さらに前記ポリシランを含む液層を水で洗浄する工程とを含んでいてもよい。本発明の方法では、金属成分1の割合を著しく高いレベルで低減でき、例えば、金属成分1の割合が、金属aの重量換算で、全体に対して50ppm以下程度のポリシランを得ることができる。また、本発明の方法では、金属成分1のみならず、接触に使用する金属成分2のポリシランに対する残留も高いレベルで抑制でき、例えば、金属成分1および金属成分2の割合金属成分1および金属成分2の総量の割合が、金属aおよび金属bの重量換算で、全体に対して100ppm以下程度のポリシランを得ることもできる。本発明には、前記精製方法により得られたポリシラン前記精製方法により金属成分が除去されたポリシランも含まれ、このようなポリシランにおいて、金属成分の1および金属成分2の割合は、金属aおよび金属bの重量換算で、全体に対して100ppm以下であってもよい。本発明では、金属成分を含むポリシランと、前記金属成分とは特定の指標において異なる金属成分とを接触させることにより、ポリシランに予め含まれる金属成分を効率よく除去できる。また、本発明の方法によれば、慣用の方法例えば、溶媒による洗浄などでは、亜鉛などの金属成分の除去が困難なポリシランであっても、簡便にかつ効率よく金属成分を除去できる。さらに、本発明では、除去に使用される金属成分又は金属成分を構成する金属はポリシランに対する親和性が低いためか簡便に除去できるため、ポリシランに含まれる金属成分の含有量を著しく低減できる。このような方法で得られるポリシランは、金属成分の含有量が著しく低減された高純度のポリシランである。そのため、このような高純度のポリシランは、金属成分の低減が要求される用途、例えば、光電子材料用途などとして好適に利用できる。また、金属成分の含有量が著しく高いレベルで低減されているため、長期に亘って、ポリシランの変質を抑制できる。本発明の精製方法又は除去方法では、金属成分1を含むポリシラン以下、単に金属含有ポリシランということがあると、金属成分1を構成する金属aに対して、特定の指標において前記金属aとは異なる金属bで構成されている金属成分2とを接触させることによりポリシランに含まれる金属成分1を除去する。[金属成分1を含むポリシラン]ポリシラン金属成分1を含むポリシランにおいて、ポリシランとしては、Si-Si結合を有する直鎖状、環状、分岐状、又は網目状の化合物であれば特に限定されないが、通常、前記ポリシランは、下記式1~3で表された構造単位のうち少なくとも1つの構造単位を有するポリシランで構成されている場合が多い。式中、R1~R3は、同一又は相異なって、水素原子、有機基又はシリル基を示し、r、s及びtはそれぞれ0以上の整数を示し、r、s及びtの合計は2以上の整数である。前記式1及び2において、R1~R3で表される有機基としては、炭化水素基アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基など、これらの炭化水素基に対応するエーテル基アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基など、ヒドロキシル基、置換されていてもよいアミノ基[例えば、アミノ基-NH2、置換アミノ基前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基などで置換されたN-モノ又はN,N-ジ置換アミノ基などなど]などが挙げられる。なお、これらの置換基は、さらに1又は複数の他の置換基[例えば、アルキル基例えば、C1-10アルキル基、好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはC1-4アルキル基などの炭化水素基、アルコキシ基例えば、C1-10アルコキシ基、好ましくはC1-6アルコキシ基、さらに好ましくはC1-4アルコキシ基などの上記例示の置換基、アシル基例えば、アセチル基などのC1-10アルキル-カルボニル基、好ましくはC1-6アルキル-カルボニル基、さらに好ましくはC1-4アルキル-カルボニル基などなど]で置換されていてもよい。前記式1及び2のR1~R3において、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t-ブチル、ペンチル、ヘキシルなどのC1-14アルキル基好ましくはC1-10アルキル基、さらに好ましくはC1-6アルキル基が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、t-ブトキシ、ペンチルオキシなどのC1-14アルコキシ基好ましくはC1-10アルコキシ基、さらに好ましくはC1-6アルコキシ基が挙げられる。アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ペンテニルなどのC2-14アルケニル基好ましくはC2-10アルケニル基、さらに好ましくはC2-6アルケニル基が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシルなどのC5-14シクロアルキル基好ましくはC5-10シクロアルキル基、さらに好ましくはC5-8シクロアルキル基などが挙げられる。シクロアルキルオキシ基としては、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシなどのC5-14シクロアルキルオキシ基好ましくはC5-10シクロアルキルオキシ基、さらに好ましくはC5-8シクロアルキルオキシ基などが挙げられる。シクロアルケニル基としては、シクロペンテニル、シクロヘキセニルなどのC5-14シクロアルケニル基好ましくはC5-10シクロアルケニル基、さらに好ましくはC5-8シクロアルケニル基などが挙げられる。アリール基としては、フェニル、メチルフェニルトリル、ジメチルフェニルキシリル、ナフチルなどのC6-20アリール基好ましくはC6-15アリール基、さらに好ましくはC6-12アリール基などが挙げられる。アリールオキシ基としては、フェノキシ、ナフチルオキシなどのC6-20アリールオキシ基好ましくはC6-15アリールオキシ基、さらに好ましくはC6-12アリールオキシ基などが挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピルなどのC6-20アリール-C1-4アルキル基好ましくはC6-10アリール-C1-2アルキル基などが挙げられる。アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、フェニルプロピルオキシなどのC6-20アリール-C1-4アルキルオキシ基好ましくはC6-10アリール-C1-2アルキルオキシ基などが挙げられる。シリル基としては、シリル基、ジシラニル基、トリシラニル基などのSi1-10シラニル基好ましくはSi1-6シラニル基などが挙げられる。通常、基R1~R3は、炭化水素基置換基を有していてもよい炭化水素基又は炭化水素基に対応するエーテル基置換基を有していてもよい炭化水素基が結合又は置換したエーテル基であってもよい。好ましい基R1には、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基などの炭化水素基が含まれ、特にアルキル基例えば、メチル基などのC1-4アルキル基など又はアリール基例えば、フェニル基などのC6-10アリール基が好ましい。なお、置換基R1~R3は、r、s、又はtによって同一又は異なっていてもよい。ポリシランが非環状構造直鎖状、分岐鎖状、網目状の場合、末端基末端置換基は、通常、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子塩素原子など、アルキル基、アルコキシ基、シリル基などであってもよい。具体的なポリシランとしては、例えば、前記式1で表される構造単位を有する直鎖状又は環状ポリシラン、前記式2又は3で表される構造単位を有する分岐状ポリシラン又は網目状ポリシラン、前記式1~3で表される構造単位を組み合わせて有する分岐状ポリシランなどが挙げられる。また、ポリシランがコポリマーである場合、ブロックコポリマー、ランダムコポリマーのいずれであってもよい。さらに、前記ポリシランは、前記式1~3で表される構造単位のそれぞれを単独で又は2種以上組み合わせて有するポリシランであってもよい。なお、前記式2で表される構造単位および前記式3で表される構造単位から選択された少なくとも1つの分岐状構造単位を有する分岐状ポリシランは、前記式1で表される構造単位を有する直鎖状又は環状ポリシランなどに比べて、溶媒溶解性に優れるなどの特性を有しており、幅広い用途に適用するのに好適なポリシランであるものの、分岐状構造を有しているためか、金属成分を取り込みやすく、金属成分を除去することが困難である。本発明では、このような分岐状構造を有するポリシランであっても、効率よく含有する金属成分を除去できる。分岐状ポリシランにおいて、前記分岐状構造単位の割合は、ポリシランを構成するケイ素原子換算モル換算で、例えば、ポリシラン全体の1モル以上例えば、3~100モル、好ましくは5モル以上例えば、10~95モル程度、さらに好ましくは15モル以上例えば、20~90モル程度であってもよい。代表的なポリシランとしては、例えば、ポリジアルキルシラン[例えば、ポリジメチルシラン、ポリメチルプロピルシラン、ポリメチルブチルシラン、ポリメチルペンチルシラン、ポリジブチルシラン、ポリジヘキシルシラン、ジメチルシラン-メチルへキシルシラン共重合体などのポリジC1-6アルキルシラン、好ましくはポリジC1-4アルキルシラン]、ポリアルキルアリールシラン[例えば、ポリメチルフェニルシラン、メチルフェニルシラン-フェニルヘキシルシラン共重合体などのポリC1-6アルキルC6-15アリールシラン、好ましくはポリC1-4アルキルC6-10アリールシラン]、ポリジアリールシラン例えば、ポリジフェニルシランなどのポリジC6-15アリールシラン、好ましくはポリジC6-10アリールシラン、ジアルキルシラン-アルキルアリールシラン共重合体例えば、ジメチルシラン-メチルフェニルシラン共重合体、ジメチルシラン-フェニルヘキシルシラン共重合体、ジメチルシラン-メチルナフチルシラン共重合体などのジC1-6アルキルシラン-C1-6アルキルC6-15アリールシラン共重合体、好ましくはジC1-6アルキルシラン-C1-4アルキルC6-10アリールシラン共重合体などの前記式1で表される構造単位を有するポリシラン;ポリアリールシラン[例えば、ポリフェニルシランポリフェニルシリンなどのポリC6-15アリールシラン、好ましくはポリC6-10アリールシラン]などの前記式2で表される構造単位又は前記式3で表される構造単位を有する分岐状ポリシラン;ジアルキルシラン-アリールシラン共重合体例えば、ジメチルシラン-フェニルシラン共重合体などのジC1-6アルキルシラン-C6-15アリールシラン共重合体、好ましくはジC1-6アルキルシラン-C6-10アリールシラン共重合体、アルキルアリールシラン-アリールシラン共重合体例えば、メチルフェニルシラン-フェニルシラン共重合体などのC1-6アルキルC6-15アリールシラン-C6-15アリールシラン共重合体、好ましくはC1-6アルキルC6-15アリールシラン-C6-10アリールシラン共重合体などの前記式1で表される構造単位と前記式2で表される構造単位又は前記式3で表される構造単位を有する分岐状ポリシランなどが挙げられる。このようなポリシランの詳細は、例えば、R.D.Miller、J.Michl;ChemicalReview、第89巻、1359頁1989、N.Matsumoto;JapaneseJournalofPhysics、第37巻、5425頁1998などに例示されている。また、ポリシランは、ポリシラン原料ハロシラン類などとビニル化合物とのコポリマーであってもよい。このような共重合体の詳細は、例えば、特開2002-128897号公報に開示されている。これらのポリシランは単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。ポリシランの数平均重合度例えば、構造単位1~3におけるr、sおよびtの合計は、2以上であればよく、例えば、5~400、好ましくは10~350、さらに好ましくは20~300程度であってもよい。ポリシランの分子量は、重量平均分子量で200~100000、好ましくは300~50000、さらに好ましくは400~30000程度であってもよい。なお、ポリシランが環状である場合、環状ポリシランの環の員数は、通常、4~12程度であってもよく、好ましくは4~10、さらに好ましくは5~10特に5~8程度であってもよい。ポリシランは、市販品を用いてもよく、種々の公知の方法を用いて調製してもよい。ポリシランの代表的な合成方法としては、金属ナトリウムなどのアルカリ金属を用いてトルエン溶媒中のジアルキルジハロシランあるいはジハロテトラアルキルジシランを100°C以上の温度で強力に撹拌し、還元的にカップリングさせる方法[J.Am.Chem.Soc.,10319817352]が知られている。しかし、この方法は、空気中で発火するアルカリ金属を加熱し、強力に攪拌分散させる必要があるため、工業的規模での生産における安全性が懸念され、また、得られるポリシランの分子量分布が多峰性となり品質的にも十分でない場合が多い。ポリシランの製造方法として、他にもaビフェニルなどでマスクしたジシレンをアニオン重合させる方法特開平1-23063号公報、b環状シラン類を開環重合させる方法特開平5-170913号公報、cヒドロシラン類を遷移金属錯体触媒により脱水素縮重合させる方法特公平7-17753号公報、dジハロシラン類を室温以下の温度で電極還元してポリシランを製造する方法特開平7-309953号公報、eマグネシウムを還元剤としてハロシラン類を脱ハロゲン縮重合させる方法いわゆるマグネシウム還元法、例えば、WO98/29476号公報、特開2003-277507号公報、特開2005-36139号公報に記載の方法などが挙げられる。特に、マグネシウム還元法では、1汎用の化学合成装置により安定で安価な原料を用いて合成でき、安全性、コスト面で優位性がある、2ナトリウムや有機溶媒への不溶物等、光電子材料などの用途として不適当な不純物が混入しない、3分子量のばらつきが少なく、有機溶媒に対する溶解性や透明性の高いポリシランが得られる、4ポリシランが高収率で得られるなどの優れた特徴を有する。そのため、ポリシランは、マグネシウム還元法により得られるポリシランを好適に使用してもよい。このようなマグネシウム還元法では、少なくともマグネシウム金属成分の存在下で、ハロシラン類を重合させることによりポリシランを合成できる。特に、マグネシウム還元法では、より効率よく高性能のポリシランを得るため、触媒として、マグネシウム金属成分と他の金属成分[例えば、リチウム化合物、金属ハロゲン化物リチウム化合物リチウムハロゲン化物、ハロゲン化リチウムではない金属ハロゲン化物]とを併用する場合が多い。そして、このような種々の方法で得られるポリシラン特にマグネシウム還元法により得られるポリシランは、種々の金属成分を触媒として使用しており、このような触媒がポリシランに金属成分を含有させる要因となることが多い。以下に、マグネシウム還元法について詳述する。マグネシウム還元法では、少なくともマグネシウム金属成分の存在下、ハロシラン類ハロシラン化合物を反応させることによりポリシランを得る。ハロシラン類としては、ジハロシラン類、トリハロシラン類、テトラハロシラン類などが挙げられる。ポリシランが前記式1~3で表される構造単位のうち少なくとも1つの構造単位を有するポリシランである場合には、これらのジ乃至テトラハロシラン類は、それぞれ、下記式で表されるハロシランのうち少なくとも1つのハロシランジ乃至テトラハロシラン類で構成してもよい。式中、X1~X9はハロゲン原子、R1~R3、r、s及びtは前記と同じ。上記式1A~3Aにおいて、X1~X9で表されるハロゲン原子は、前記と同様であり、塩素原子および臭素原子特に塩素原子が好ましく、同一又は異なるハロゲン原子であってもよい。また、上記式1A~3Aにおいて、r、s及びtは、それぞれ、前記と同様に1以上であればよく、単量体r=s=t=1であってもよく、多量体r、sおよびtが2以上であってもよい。例えば、式1Aで表されるジハロシランにおいて、rは、1~1000、好ましくは1~500、さらに好ましくは1~100例えば、1~10程度であってもよい。rが大きい多量体を用いると、ブロックコポリマーを得やすく、単量体又はrが小さい多量体を用いるとランダムコポリマーを得やすい。コポリマーの製造効率の点からは、単量体又はrが小さい多量体例えば、rが1~2程度のハロシランを好適に用いてもよい。なお、トリハロシラン類およびテトラハロシラン類は、通常、単量体s=t=1で使用する場合が多い。代表的なハロシランとしては、例えば、ジハロシラン類[例えば、ジアルキルジハロシラン例えば、ジメチルジクロロシランなどのジC1-4アルキルジハロシラン及びその多量体、アルキル-アリールジハロシラン例えば、メチルフェニルジクロロシランなどのC1-4アルキル-C6-10アリールジハロシラン及びその多量体、アルキル-シクロアルキルジハロシラン例えば、メチルシクロヘキシルジクロロシランなどのC1-4アルキル-C5-10シクロアルキルジハロシラン及びその多量体、ジアリールジハロシラン例えば、ジフェニルジハロシラン、ジトリルジハロシラン、ジキシリルジハロシラン、フェニルトリルジハロシラン、ジメトキシフェニルジハロシランなどのジC6-10アリールジハロシラン及びその多量体などなどの式1Aで表されるジハロシラン類など]、トリハロシラン類[例えば、アルキルトリハロシラン例えば、メチルトリクロロシランなどのC1-4アルキルトリハロシラン、シクロアルキルトリハロシラン例えば、シクロヘキシルトリクロロシランなどのC5-10シクロアルキルトリハロシラン及びその多量体、アリールトリハロシラン例えば、フェニルトリクロロシランなどのC6-10アリールトリハロシラン及びその多量体などの式2Aで表されるトリハロシラン類]、テトラハロシラン類例えば、テトラクロロシランなどのテトラハロシランなどの式3Aで表されるテトラハロシラン類などが例示できる。これらのハロシランは、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。なお、前記分岐状ポリシランは、トリハロシラン類又は前記式2Aで表されるトリハロシラン類及びテトラハロシラン類又は前記式3Aで表されるテトラハロシラン類から選択された少なくとも1種で構成されたハロシラン類を重合させることにより得られる。また、前記ハロシラン類は、ポリシランの末端を封鎖するため、必要に応じて、さらにモノハロシラン類[例えば、トリアルキルハロシラン例えば、トリメチルクロロシランなどのトリC1-4アルキルハロシラン、トリアリールハロシラン例えば、トリフェニルクロロシランなどのトリC6-10アリールハロシランなど]で構成してもよい。なお、ハロシラン類は、できるだけ高純度であるのが好ましい。例えば、液体のハロシラン類については、水素化カルシウムなどの乾燥剤を用いて乾燥し、蒸留して使用するのが好ましく、固体のハロシラン類については、再結晶法などにより、精製して使用するのが好ましい。なお、ハロシラン類の反応は、通常、反応に不活性な溶媒の存在下で行われる。溶媒としては、非プロトン性溶媒不活性溶媒が広く使用でき、例えば、エーテル類1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランなどの環状C4-6エーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、ビス2-メトキシエチルエーテルなどの鎖状C4-6エーテル、カーボネート類エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなど、ニトリル類アセトニトリル、ベンゾニトリルなど、アミド類ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど、スルホキシド類ジメチルスルホキシドなど、ハロゲン含有化合物塩化メチレン、クロロホルム、ブロモホルム、クロロベンゼン、ブロモベンゼンなどのハロゲン化炭化水素など、芳香族炭化水素類ベンゼン、トルエン、キシレンなど、脂肪族炭化水素類ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、シクロオクタンなどの鎖状又は環状炭化水素類などが挙げられ、これらの溶媒は混合溶媒として使用してもよい。溶媒としては、極性溶媒単独テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタンなど、2種以上の極性溶媒の混合物、極性溶媒と非極性溶媒との混合物などが好ましい。極性溶媒と非極性溶媒との混合物を使用する場合、両者の割合は、前者/後者重量比=1/0.01~1/20程度である。溶媒反応液中のハロシラン類の濃度は、通常、20モル/L以下例えば、0.05~20モル/L、好ましくは10モル/L以下例えば、0.2~10モル/L、特に5モル/L以下例えば、0.3~5モル/L程度である。マグネシウム金属成分前記ハロシラン類前記式1で表される構造単位に対応するジハロシランを少なくとも含むハロシラン類の反応は、マグネシウム金属成分の存在下で好適に行うことができ、マグネシウム金属成分を作用させることにより、ポリシランを効率よく生成できる。マグネシウム金属成分は、少なくともマグネシウムが含まれていればよく、マグネシウム金属単体又はマグネシウム系合金、あるいは前記マグネシウム金属又は合金を含む混合物などであってもよい。マグネシウム合金の種類は特に制限されず、慣用のマグネシウム合金、例えば、アルミニウム、亜鉛、希土類元素スカンジウム、イットリウムなどなどの成分を含むマグネシウム合金が例示できる。これらのマグネシウム金属成分は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。マグネシウム金属成分の形状は、ハロシラン化合物の反応を損なわない限り特に限定されないが、粉粒状粉体、粒状体など、リボン状体、切削片状体、塊状体、棒状体、板状体平板状などなどが例示され、特に表面積の大きい形状粉体、粒状体、リボン状体、切削片状体などであるのが好ましい。マグネシウム金属成分が粉粒状の場合、平均粒径は、1~10000μm、好ましくは10~5000μm、さらに好ましくは20~1000μm程度である。なお、マグネシウム金属成分の保存状況などによっては、金属表面に被膜酸化被膜などが形成されることがある。この被膜は反応に悪影響を及ぼすことがあるので、必要に応じて、切削や溶出塩酸洗浄などの酸洗などの適当な方法によって除去してもよい。マグネシウム金属成分の使用量は、通常、ハロシラン類のハロゲン原子に対して、マグネシウム換算で、1~20当量であり、好ましくは11~14当量、さらに好ましくは1.2~10当量例えば、1.2~5当量程度である。また、マグネシウム金属成分の使用量は、通常、ハロシラン化合物に対してモル数でマグネシウムとして1~20倍であり、好ましくは1.1~14倍であり、より好ましくは1.2~10倍例えば、1.2~5倍程度である。マグネシウム金属成分は、前記ハロシラン類を還元して、ポリシランを形成させるとともに、マグネシウム自身は酸化されてハロゲン化物を形成する。反応は、少なくとも前記マグネシウム金属成分の存在下で行えばよいが、ハロシランの重合を促進するため、リチウム化合物及び金属ハロゲン化物から選択された少なくとも一種促進剤又は触媒の共存下、特に、マグネシウム金属成分及び金属ハロゲン化物の存存下で行うのが有利である。そして、これらの触媒成分としてのマグネシウム金属成分、リチウム化合物および金属ハロゲン化物は、重合して得られたポリシランに取り込まれる。リチウム化合物リチウム化合物としては、ハロゲン化リチウム塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウムなど、無機酸塩硝酸リチウム、炭酸リチウム、炭酸水素リチウム、塩酸リチウム、硫酸リチウム、過塩素酸リチウム、リン酸リチウムなどなどが使用できる。これらのリチウム化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて使用できる。好ましいリチウム化合物は、ハロゲン化リチウム特に塩化リチウムである。溶媒反応液中のリチウム化合物の濃度は、通常、0.05~5モル/L、好ましくは0.1~4モル/L、特に0.15~3モル/L程度である。リチウム化合物の割合は、ハロシラン類の総量100重量部に対して、0.1~200重量部、好ましくは1~150重量部、さらに好ましくは5~100重量部例えば、5~75重量部程度であり、通常、10~80重量部程度である。金属ハロゲン化物金属ハロゲン化物リチウムハロゲン化物を除く金属ハロゲン化物としては、多価金属ハロゲン化物、例えば、遷移金属例えば、サマリウムなどの周期表3A族元素、チタンなどの周期表4A族元素、バナジウムなどの周期表5A族元素、鉄、ニッケル、コバルト、パラジウムなどの周期表8族元素、銅などの周期表1B族元素、亜鉛などの周期表2B族元素など、周期表3B族金属アルミニウムなど、周期表4B族金属スズなどなどの金属のハロゲン化物塩化物、臭化物又はヨウ化物などが挙げられる。金属ハロゲン化物を構成する前記金属の価数は、特に制限されないが、好ましくは2~4価、特に2又は3価である。これらの金属ハロゲン化物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。金属ハロゲン化物としては、鉄、アルミニウム、亜鉛、銅、スズ、ニッケル、コバルト、バナジウム、チタン、パラジウム、サマリウムなどから選択された少なくとも一種の金属の塩化物又は臭化物が好ましい。このような金属ハロゲン化物としては、例えば、塩化物FeCl2、FeCl3などの塩化鉄;AlCl3、ZnCl2、SnCl2、CoCl2、VCl2、TiCl4、PdCl2、SmCl2など、臭化物FeBr2、FeBr3などの臭化鉄など、ヨウ化物SmI2などなどが例示できる。これらの金属ハロゲン化物のうち、塩化物例えば、塩化鉄II、塩化鉄などの塩化鉄、塩化亜鉛など及び臭化物が好ましい。通常、塩化鉄及び/又は塩化亜鉛、特に塩化亜鉛などが使用される。なお、このような金属ハロゲン化物は、触媒活性を向上できるものの、ポリシラン中に残留しやすい。溶媒中の金属ハロゲン化物の濃度は、通常、0.001~6モル/L程度であり、好ましくは0.005~4モル/L程度であり、より好ましくは0.01~3モル/L程度である。金属ハロゲン化物の割合は、前記ハロシラン類の総量100重量部に対して、0.1~50重量部、好ましくは1~30重量部、さらに好ましくは2~20重量部程度であってもよい。金属成分1金属成分1を含むポリシランにおいて、金属成分1は、金属aで構成されていればよい。金属aとしては、特に限定されず、種々の金属原子又は金属イオン、例えば、アルカリ又はアルカリ土類金属例えば、ナトリウム、マグネシウムなど、遷移金属例えば、サマリウムなどの周期表第3A族元素、チタンなどの周期表第4A族元素、バナジウムなどの周期表第5A族元素、鉄、ニッケル、コバルト、パラジウムなどの周期表第8族元素、銅などの周期表第1B族元素、など、周期表第2B族元素例えば、亜鉛など、周期表第3B族金属例えば、アルミニウムなど、周期表第4B族金属例えば、スズなどなどが挙げられる。金属aは、単独の金属であってもよく、異種の金属で構成されていてもよい。これらの金属aのうち、特に、周期表第8属元素特に鉄、周期表第2B族元素亜鉛などなどの金属は、ハロシラン類の重合触媒を構成する金属などとして有効である一方で、ポリシランに取り込まれやすく、慣用の精製方法例えば、有機溶媒、水などによる洗浄などのみならず、酸、アルカリ、イオン交換体陽イオン交換樹脂などなどによる洗浄によっても、ポリシランから除去することは困難である。本発明の方法では、このような極めて除去が困難な金属特に、亜鉛であっても、高いレベルでポリシランから除去可能である。金属成分1の含有形態は、特に限定されず、例えば、ポリシランのポリマー構造に金属化合物などの形態で取り込まれていてもよく、ポリシランの構成原子例えば、ケイ素原子などに対する配位などによりポリシランに結合していてもよい。なお、金属成分1は、いかなる経緯でポリシランに含有されていてもよいが、通常、ポリシランを合成する過程においてポリシランに取り込まれるようである。このような金属成分1としては、例えば、i金属触媒例えば、前記マグネシウム成分および金属ハロゲン化物の存在下で、ポリシラン類の原料例えば、ハロシラン類を重合させることによりポリシランに取り込まれる金属触媒由来の金属成分、iiポリシラン類ハロシラン類などの原料に含まれる金属成分などが挙げられる。通常、ポリシランに含まれる金属成分1の大部分が、金属触媒由来の金属成分である場合が多い。金属含有ポリシランにおいて、金属成分1の割合は、金属aの重量換算で、全体に対して、200ppm以上の範囲から選択でき、例えば、500ppm以上例えば、500~100000ppm程度、好ましくは1000ppm以上例えば、2000~80000ppm程度、さらに好ましくは3000ppm以上例えば、4000~50000ppm程度、特に5000ppm以上例えば、7000~40000ppm程度、通常8000ppm以上例えば、10000~30000ppm程度であってもよい。本発明では、このような多量の金属成分1を予め含むポリシランであっても、効率よく除去可能である。なお、金属a又は金属成分1がポリシランに取り込まれる理由は定かではないが、金属aがポリシランに対して何らかの親和性を有しているものと思われる。しかも、ポリシランの合成において用いられる触媒としての金属成分特に、鉄成分、亜鉛成分などは、重合に関与するためか、ポリシランに対する親和性又は残留性が高く、ポリシランに一旦取り込まれて残留すると、洗浄溶媒による洗浄、酸、アルカリによる洗浄などの方法では、わずかに除去することができても、高いレベルで除去するのが困難である。そこで、本発明では、金属含有ポリシランと、特定の指標において金属aとは異なる金属bで構成されている金属成分2とを接触させることにより、前記金属含有ポリシランから効率よく金属成分1を除去する。[金属成分1の除去方法]金属成分2は、金属aとは後述する特定の指標において異なる金属bで構成されていればよい。金属bとしては、金属a金属aが複数の金属である場合には全ての金属とは異なる種々の金属原子又は金属イオン、例えば、遷移金属例えば、スカンジウムなどの周期表第3A族元素、チタン、ジルコニウム、ハフニウムなどの周期表第4A族元素、バナジウム、ニオブなどの周期表第5A族元素、モリブデン、タングステンなどの周期表第6A族元素、マンガンなどの周期表第7A族元素、鉄、ニッケル、コバルト、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金などの周期表第8族元素、銅、銀、金などの周期表第1B族元素など、周期表第2B族元素例えば、亜鉛、カドミウム、水銀など、周期表第3B族元素例えば、アルミニウム、ガリウム、インジウムなど、周期表第4B族元素例えば、ゲルマニウム、スズ、鉛など、周期表第5B族元素例えば、アンチモン、ビスマスなどなどが挙げられる。金属bは、金属aと異なる限り、単独の金属であってもよく、異種の金属で構成されていてもよい。金属成分2を構成する金属bは、前記金属aよりも、イオン化傾向において小さい金属であればよい。このような条件を充足する金属成分2を使用することにより、金属成分1を高レベルで除去できる理由は定かではないが、ポリシランに何らかの形態で取り込まれた金属a又は金属成分1が、上記条件を充足する金属b又は金属成分2との接触により、ポリシランに対する親和性が低下し、ポリシランから除去されるようである。そして、金属成分1の除去に使用する金属成分2又は金属bは、金属a又は金属成分1よりもポリシランに対する親和性が低いためか、溶出などにより簡便にかつ効率よくポリシランから除去できる。イオン化傾向が小さい金属前記イオン化傾向が小さい金属bにおいて、イオン化傾向とは、金属が液体と接触して陽イオンになろうとする傾向を意味し、定量的には、その液体中における金属M/金属陽イオンMZ系の標準電極電位EMZ/Mの大きさでその序列が決まる化学辞典第1版、東京化学同人株、1994年10月1日発行より抜粋。すなわち、金属bのイオン化傾向が金属aのイオン化傾向よりも小さい又は低いことは、定量的には金属bの標準電極電位通常、水溶液中での標準電極電位が金属aの標準電極電位よりも大きいことを意味し、代表的な金属金属元素、金属原子のイオン化傾向を下記に示す不等号においてより大きいほどイオン化傾向が大きい高い。Li>K>Ca>Na>Mg>Ti>Al>Mn>Zn>Cr>Ga>Fe>Cd>In>TaI>Co>Ni>Sn>Pb>Fe>CuII>CuI>Hg>Ag>Pd>Pt>Au。このような指標によれば、容易に前記ポリシランと接触させて金属成分1を除去するための金属成分2を選択でき、例えば、金属aが亜鉛Znである場合、イオン化傾向の観点から、Cr、Ga、FeFe、Fe、Cd、Co、Ni、Sn、Pb、CuCuII、CuI、Ag、Pd、Pt、Auなどの金属又は金属イオンで構成されている金属成分を金属成分2として使用できる。なお、金属成分2は、金属bで構成されていればよく、例えば、金属単体、金属イオン、金属化合物前記金属成分1の項で例示の金属化合物、例えば、金属ハロゲン化物などなどのいずれであってもよい。なお、後述するように、前記ポリシランと金属成分2とを効率よく接触させるためには、金属成分2は、溶媒に可能な金属成分、例えば、金属化合物例えば、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩などの金属と無機酸との塩などであるのが好ましい。特に、前記ポリシランが通常有機溶媒特に疎水性有機溶媒に可溶であり、金属成分1及び接触後の金属成分2を除去しやすくするため、前記金属成分2は、水溶性の金属化合物水溶性金属化合物、例えば、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩などの金属と無機酸との塩などであるのが好ましい。特に、銅化合物は、前記ポリシランとの接触後において、除去しやすく、好適に用いることができる。接触方法前記ポリシランと金属成分2とを接触させる方法は、特に制限されないが、通常、前記ポリシランと金属成分2とを溶媒の存在下で又は溶媒を介して、又は溶媒系で接触させる場合が多い。溶媒としては、ポリシラン及び金属成分2を分散可能な溶媒であってもよいが、通常、少なくともいずれか一方の成分を溶解可能な溶媒、例えば、iポリシラン及び金属成分2を溶解可能な溶媒、iiポリシランを溶解可能な溶媒、iiiポリシランを溶解可能な溶媒a又はポリシランに対する良溶媒aと、ポリシランを溶解しない溶媒又はポリシランに対する貧溶媒、ポリシランに対して難溶性の溶媒であって、金属成分2を溶解可能な溶媒b又は金属成分2に対する良溶媒との混合溶媒などが挙げられる。好ましい溶媒には、金属成分2を接触させるとともに最終的にポリシランから除去するという観点から、上記溶媒iiiが挙げられる。特に、溶媒bは、溶媒aとの組み合わせにおいて、層分離可能な溶媒又は非混和性の溶媒であってもよい。このような混合溶媒を用いると、前記ポリシランに金属成分2を接触させて効率よく金属成分1を除去できるとともに、ポリシランを溶解しない層例えば、水層に金属成分金属成分1及び金属成分2を移行させやすくなり、ポリシランと金属成分とを分離しやすい。溶媒aとしては、ポリシランを溶解可能な溶媒又はポリシランに対して易溶性の溶媒であればよく、幅広い非プロトン性溶媒、例えば、エーテル類例えば、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、ビス2-メトキシエチルエーテルなどの環状又は鎖状エーテル例えば、C4-6エーテルなど、カーボネート類プロピレンカーボネートなど、ニトリル類例えば、アセトニトリル、ベンゾニトリルなど、アミド類ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど、スルホキシド類ジメチルスルホキシドなど、ハロゲン含有溶媒例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ブロモホルム、クロロベンゼン、ブロモベンゼンなどのハロゲン化炭化水素など、芳香族炭化水素類ベンゼン、トルエン、キシレンなど、脂肪族炭化水素類例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、シクロオクタンなど鎖状又は環状脂肪族炭化水素類などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。これらの溶媒の中でも、芳香族炭化水素類例えば、トルエン、キシレンなど、ハロゲン含有溶媒例えば、クロロホルムなどなどの疎水性溶媒は、ポリシランを溶解しやすく、しかも、溶媒bとしての水に対して混和しにくく、分液しやすいため、好適に用いることができる。特に、ポリシランと相互作用を起こさないという観点から、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が好ましい。そのため、前記溶媒aは、溶媒bが水である場合、少なくとも疎水性溶媒で構成してもよく、疎水性溶媒単独例えば、前記芳香族炭化水素類などの1種又は2種以上の疎水性溶媒、疎水性溶媒と親水性溶媒例えば、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類、アセトンなどのケトン類などとの混合溶媒などであってもよい。疎水性溶媒と親水性溶媒との混合溶媒を使用する場合、両者の割合は、例えば、前者/後者重量比=1/0.01~1/20、好ましくは1/0.1~1/10、さらに好ましくは1/0.3~1/5例えば、1/0.5~1/3程度であってもよい。ポリシランと溶媒aとの割合は、例えば、前者/後者重量比=1/99~50/50、好ましくは5/95~40/60、さらに好ましくは10/90~30/70程度であってもよい。溶媒a中のポリシランの濃度が低すぎると、金属成分1の分離効率や釜効率が悪くなる虞がある。また、後に、溶媒を留去する場合には、多大な時間とエネルギーを要する場合がある。逆に、ポリシランの濃度が高すぎると、分液効率が悪くなる虞があり、例えば、中間層が形成されると、ポリシランの回収効率も小さくなる場合がある。また、金属成分2を溶解可能な溶媒bとしては、金属成分2の種類に応じて適宜選択でき、例えば、水、前記例示の溶媒と同様の溶媒[例えば、アルコール類例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルカノール類など、エーテル類例えば、ジエチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフランなどの鎖状又は環状エーテル類、ハロゲン系溶媒例えば、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類など、ケトン類例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど、炭化水素類例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族又は脂環族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類などなど]などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。なお、溶媒bは、酸性溶媒、アルカリ性溶媒などであってもよい。好ましい溶媒bには、水、低級アルコール類例えば、メタノール、エタノールなどなどの親水性溶媒が挙げられ、特に水が好ましい。このような親水性溶媒特に水は、ポリシランを溶解しない又はポリシランに対して難溶性である場合が多いため、ポリシランから分離しやすく、特に、少なくとも疎水性有機溶媒例えば、前記芳香族炭化水素などで構成された溶媒aとの組み合わせにおいて、ポリシランと金属成分金属成分1及び2とを分離しやすいため好適に使用できる。金属成分2と溶媒bとの割合は、例えば、前者/後者重量比=1/99~50/50、好ましくは3/97~30/70、さらに好ましくは5/95~20/80程度であってもよい。なお、金属成分2の割合が低すぎると、金属成分1の除去が十分に行えない虞がある。また、金属成分2の割合が高すぎるとポリシランの種類によっては変質につながる虞があり、また、製造設備中に残留もしくはポリシランの溶液中に混入する量が多くなる虞がある。前記溶媒iiiを用いる接触方法では、ポリシラン金属成分1を含むポリシラン、溶媒a、金属成分2、および溶媒bを接触できればよく、例えば、本発明の除去方法は、前記ポリシランと、溶媒aと、金属成分2と、溶媒b特に、溶媒aとの組み合わせにおいて溶解しない溶媒bとを混合する工程混合工程を含んでいてもよい。混合方法は、特に限定されず、各成分を一度に又は適当な順序で混合してもよい。特に、ポリシランを溶解した液層の分離効率の観点から、前記ポリシランが溶媒aに溶解した溶液A例えば、前記ポリシランが少なくとも疎水性有機溶媒で構成された溶媒に溶解した溶液と、金属成分2が溶媒bに溶解した溶液B例えば、水溶液とを混合してもよい。接触又は混合において、金属成分2の割合又はポリシランに接触させる金属成分2の総量は、ポリシランに含まれる金属成分1の含有割合にもよるが、ポリシラン金属成分1を含むポリシラン100重量部に対して、例えば、1~300重量部、好ましくは5~200重量部、さらに好ましくは10~100重量部、特に20~80重量部程度であってもよい。また、前記溶液Aと、前記溶液Bとの割合は、前者/後者重量比=1/100~1/0.1、好ましくは1/5~1/0.2、さらに好ましくは1/3~1/0.3程度であってもよい。ポリシランと金属成分2との接触又は混合は、有機合成などにおいて慣用の混合方法と同様に行うことができ、慣用の混合機や分散機を用いて行ってもよく、攪拌下で行ってもよい。ポリシランと金属成分2との接触時間混合時間は、長い方が好ましいが、製造効率の面から、5~180分、好ましくは10~120分程度であってもよい。接触後又は混合工程後において、前記混合工程を経て得られた混合系混合物からのポリシラン又はポリシランを含む溶液の分離は、用いた溶媒の種類などに応じて、慣用の方法、例えば、抽出、分液、濾過などを用いて行うことができる。例えば、前記溶媒aと溶媒bが互いに層分離可能な溶媒である場合、前記混合系から、前記ポリシラン金属成分1が除去されたポリシランを含む液層を、慣用の分液操作などを利用して分離する工程分離工程を経て、ポリシラン又はポリシランを含む液層を分離してもよい。なお、ポリシランと金属成分2との接触及びポリシランの分離は、一回の接触操作であっても、効率よく高いレベルでポリシランから金属成分1を除去できるが、要求される金属濃度に応じて、繰り返し行ってもよい。混合系から分離されたポリシラン又はポリシランを含む溶液は、ポリシラン中の金属成分1が除去されているため、用途に応じてそのまま固体又は溶液状で使用することもでき、より一層金属成分の含有量を低減するため、さらに洗浄してもよい。すなわち、金属成分2と接触後において混合系から分離されたポリシラン又はポリシランを含む溶液には、除去された金属成分1や金属成分2などが依然として残留している場合がある。そのため、前記除去方法は、前記混合工程と、分離工程とを経て得られたポリシラン又はポリシランを含む液層を、さらにポリシランを溶解しない溶媒又はポリシランに対する貧溶媒又は非溶媒、ポリシランに対して難溶性の溶媒で洗浄する工程洗浄工程を含んでいてもよい。洗浄工程において使用する溶媒洗浄溶媒としては、ポリシランを溶解しない溶媒であればよいが、分離の観点からは、通常、ポリシランを溶解せず、かつ溶媒aとの組み合わせにおいて層分離可能な溶媒であってもよい。また、洗浄溶媒は、金属成分を除去するという観点から、金属成分2及び金属成分1を溶解可能な溶媒例えば、水などの前記例示の溶媒bが好ましい。特に、洗浄溶媒は、ポリシランから金属成分を除去するという観点から、金属成分を極力含まない溶媒であるのが好ましい。例えば、洗浄溶媒として水を用いる場合、水の導電率は、25°Cにおいて、例えば、10μS/cm以下[例えば、25°Cにおける純水の電解伝導率μS/cm~9μS/cm程度]、好ましくは8μS/cm以下[例えば、25°Cにおける純水の電解伝導率μS/cm~7.5μS/cm程度]、さらに好ましくは7μS/cm以下[例えば、25°Cにおける純水の電解伝導率μS/cm~6.5μS/cm程度]であってもよい。このような低導電率の水としては、純水、イオン交換水などが挙げられる。洗浄工程において、洗浄は、ポリシラン又はポリシランを含む溶媒層と洗浄溶媒とを混合し、分液操作などを利用して、洗浄溶媒を除去することにより行うことができる。なお、洗浄工程は、一回であってもよく、複数回例えば、2~10回、好ましくは2~5回程度行ってもよい。また、洗浄工程において使用する洗浄溶媒の割合洗浄一回あたりの洗浄溶媒の使用量は、ポリシラン液層に含まれるポリシラン100重量部に対して、例えば、30~1000重量部、好ましくは50~800重量部、さらに好ましくは100~500重量部程度であってもよい。なお、洗浄工程後のポリシランを含む溶液は、用途によっては溶液のまま使用してもよく、通常、蒸留減圧蒸留などなどにより溶媒を除去又は留去して使用してもよい。いずれの場合であっても、前記溶液は、脱水剤又は乾燥剤、例えば、硫酸マグネシウムなどを用いて脱水してもよい。なお、脱水剤は、濾過などにより除去できる。本発明の方法により得られたポリシランでは、金属成分1の含有量が極めて高いレベルで低減されており、例えば、金属成分1の割合は、金属aの重量換算で、全体に対して100ppm以下例えば、0~80ppm程度、好ましくは70ppm以下例えば、0.5~50ppm程度、さらに好ましくは40ppm以下例えば、1~35ppm程度、特に20ppm以下例えば、1.5~10ppm程度であってもよい。また、本発明の方法により得られたポリシランでは、洗浄工程などを経ることにより金属成分2を含む残留金属成分の含有量も低減でき、例えば、金属成分1および金属成分2の割合が、金属aおよび金属bの重量換算で、全体に対して150ppm以下例えば、0~120ppm程度、好ましくは100ppm以下例えば、1~90ppm程度、さらに好ましくは80ppm以下例えば、1.5~75ppm程度、特に30ppm以下例えば、2~20ppm程度であってもよい。以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、実施例において金属成分の含有量は、ICP及びWDX蛍光X線分析により測定した。実施例1三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状粒径20~1000μmのマグネシウム25.0g、無水塩化亜鉛ZnCl216.2gを仕込み、50°Cで1mmHg=133kPaに加熱減圧して、反応混合物を乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム-ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン500mlを加え、室温で約30分間撹拌した。この反応混合物に、予め蒸留により精製したフェニルトリクロロシラン105.8gを加え、20°Cで約18時間撹拌した。反応終了後、トルエン300mlを加えた後、減圧濾過により反応によって生成した塩化マグネシウム、余剰のマグネシウムを除去した。ろ液を純水200mlで10回洗浄し、トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエン、テトラヒドロフランを留去することにより、亜鉛を約15000ppm以上含有したポリフェニルシリン50gを得た。得られたポリフェニルシリンをトルエン150gとテトラヒドロフラン150gとの混合溶液に溶解し、さらに塩化銅IICuCl2を10重量の割合で含む塩化銅水溶液200gを混合して60分間攪拌したのち、ポリフェニルシリンを含む有機層と塩化銅を含む水層とを分離した。そして、ポリフェニルシリンを含む有機層を、純水200mlで3回洗浄した後、溶媒成分を留去し、亜鉛を2.0ppmおよび銅を4.0ppm含むポリフェニルシリン48gを得た。実施例2実施例1で得られたポリフェニルシリンを、実施例1において、塩化銅IICuCl2を10重量の割合で含む塩化銅水溶液200gに代えて、塩化鉄IIIFeCl3を10重量の割合で含む塩化鉄水溶液200gを混合する以外は実施例1と同様にして攪拌、洗浄および留去を行い、亜鉛を30ppmおよび鉄を40ppm含むポリフェニルシリン49gを得た。実施例3実施例1で得られたポリフェニルシリンを、実施例1において、塩化銅IICuCl2を10重量の割合で含む塩化銅水溶液200gに代えて、硫酸銅IICuSO4を15重量の割合で含む硫酸銅水溶液200gを混合する以外は実施例1と同様にして攪拌、洗浄および留去を行い、亜鉛を15ppmおよび銅を3.0ppm含むポリフェニルシリン49gを得た。比較例1実施例1で得られたポリフェニルシリンを、実施例1において、塩化銅IICuCl2を10重量の割合で含む塩化銅水溶液200gに代えて、純水200gを混合する以外は実施例1と同様にして攪拌、洗浄および留去を行い、亜鉛を約15000ppm含むポリフェニルシリン49gを得た。比較例2実施例1で得られたポリフェニルシリンを、実施例1において、塩化銅IICuCl2を10重量の割合で含む塩化銅水溶液200gに代えて、塩化水素HClを10重量の割合で含む塩酸200gを混合する以外は実施例1と同様にして攪拌、洗浄および留去を行い、亜鉛を約12000ppm含むポリフェニルシリン49gを得た。比較例3実施例1で得られたポリフェニルシリンを、実施例1において、塩化銅IICuCl2を10重量の割合で含む塩化銅水溶液200gに代えて、水酸化ナトリウムNaOHを10重量の割合で含む水酸化ナトリウム水溶液200gを混合する以外は実施例1と同様にして攪拌、洗浄および留去を行い、亜鉛を約8000ppm含むポリフェニルシリン45gを得た。比較例4実施例1で得られたポリフェニルシリンをトルエン150gとテトラヒドロフラン150gとの混合溶液に溶解し、純水200mlで10回洗浄した後、溶媒水を留去し、亜鉛を約13000ppm含むポリフェニルシリン45gを得た。比較例5実施例1で得られたポリフェニルシリンをトルエン150gとテトラヒドロフラン150gとの混合溶液に溶解し、さらに活性炭日本エンバイロケミカルズ株製、商品名しらさぎを混合して60分攪拌した。攪拌後の混合液を濾過することにより、ポリフェニルシリンを含む有機層と活性炭とを分離した。そして、得られたポリフェニルシリンを含む有機層を、純水200mlで3回洗浄した後、溶媒成分を留去し、亜鉛を約14000ppm含むポリフェニルシリン49.5gを得た。結果をまとめて表1に示す。実施例、比較例および表1から明らかなように、ポリシラン中に含まれる亜鉛は、比較例の洗浄ではほとんど除去できないが、イオン化傾向の低い金属鉄又は銅で1回洗浄することにより、きわめて効率よく除去することができた。また、実施例では、洗浄に用いた金属がポリシラン中にほとんど残留することなく、金属成分の含有量が著しく少ない高純度のポリシランが得られた。"