所定水平面の所定円周における対称的な第1の位置と第2の位置を通過するように移動しながら下方へ放物線で送出する材料流れの幅を測定する方法であって、前記所定円周の円心を通過する鉛直線の第1の位置側且つ前記所定円周の外側から光波測距手段で該鉛直線に向かって所定の鉛直走査面に対して走査測定を行って複数の距離データを取得し、計算手段で、前記複数の距離データから、前記材料流れが前記第1の位置側の方で前記鉛直走査面を通過する時間内において、前記材料流れの前記光波測距手段に向かっている端縁における複数の点の座標データを第1の軌跡情報として取り出し、前記材料流れが前記第2の位置側の方で前記鉛直走査面を通過する時間内において、前記材料流れの前記光波測距手段に向かっている端縁における複数の点の座標データを第2の軌跡情報として取り出し、そして、前記第1の軌跡情報および前記第2の軌跡情報を用いて前記第1の軌跡情報に対応する第1の曲線および前記第2の軌跡情報に対応する第2の曲線を計算し、更に、前記第1の曲線および前記第2の曲線を用いて前記材料流れの幅を算出することを特徴とする、材料流れの幅を測定する方法。高炉の上端で前記所定円周に沿って回転する材料投入手段により送出される材料の流れを前記材料流れとすることを特徴とする請求項1に記載の材料流れの幅を測定する方法。前記第1の軌跡情報および前記第2の軌跡情報は、前記光波測距手段で取得した距離データを前記鉛直走査面における座標情報に変換してから、得られた座標情報から前記材料投入手段や前記高炉の内壁など前記材料流れに該当しない環境データの座標情報を取り除くことにより得られることを特徴とする請求項2に記載の材料流れの幅を測定する方法。前記計算手段で前記第1の軌跡情報および前記第2の軌跡情報から前記材料流れの幅を算出するには、前記第1の軌跡情報において前記第1の位置側の方に向いている端縁にある座標情報を利用し、曲線あてはめ計算法で前記第1の曲線の二次関数を算出し、前記第2の軌跡情報において第1の位置側の方に向いている端縁にある座標情報を利用し、曲線あてはめ計算法で前記第2の曲線の二次関数を算出してから、算出した前記第2の曲線の二次関数を用いて該第2の曲線の前記鉛直走査面の前記第1の位置側において該第2の曲線と対称している第3の曲線の二次関数を算出し、さらに、前記第1の曲線の二次関数および第3の曲線の二次関数を用いて、所定の高さでの前記第1の曲線と前記第3の曲線との間の距離を前記材料流れの幅として算出することを特徴とする請求項3に記載の材料流れの幅を測定する方法。前記光波測距手段での走査は、上下80度の範囲内で行うことを特徴とする請求項3に記載の材料流れの幅を測定する方法。高炉の上端で所定水平面における所定円周における対称的な第1の位置と第2の位置を通過し、且つ該所定円周に沿って回転する材料投入手段により放物線で送出される材料流れの幅を測定する方法であって、前記所定円周の円心を通過する鉛直線の第1の位置側から光波測距手段で該鉛直線に向かって所定の鉛直走査面に対して走査測定を行って複数の距離データを取得し、前記計算手段で、前記複数の距離データから前記光波測距手段で取得した距離データから前記材料投入手段や前記高炉の内壁など前記材料流れに該当しない環境データを取り除いてから、前記材料流れが前記第1の位置側の方で前記鉛直走査面を通過する時間内において、前記材料流れの前記光波測距手段に向かっている端縁における複数の点の距離データを前記鉛直走査面における座標情報に変換して第1の軌跡情報として取り出し、前記材料流れが前記第2の位置側の方で前記鉛直走査面を通過する時間内において、前記材料流れの前記光波測距手段に向かっている端縁における複数の点の距離データを前記鉛直走査面における座標情報に変換して第2の軌跡情報として取り出し、前記第1の軌跡情報において前記第1の位置側の方に向いている端縁にある座標情報を利用し、曲線あてはめ計算法で第1の曲線の二次関数を算出し、前記第2の軌跡情報において前記第1の位置側の方に向いている端縁にある座標情報を利用し、曲線あてはめ計算法で第2の曲線の二次関数を算出してから、算出した前記第2の曲線の二次関数を用いて該第2の曲線の前記鉛直走査面の前記第1の位置側において該第2の曲線と対称している第3の曲線の二次関数を算出し、さらに、前記第1の曲線の二次関数および第3の曲線の二次関数を用いて、所定の高さでの前記第1の曲線と前記第3の曲線との間の距離を前記材料流れの幅として算出することを特徴とする材料流れの幅を測定する方法。上記従来の監視装置では、材料流れの画像を、複数本のレーザー光からなる背景に照らしてその相対位置を判断することによってその大体の幅を決定する方法をとっている。したがって、該装置は高炉内に投入された材料流れの幅を直接的に測定することができず、正確性に欠ける。この問題点に鑑みて、本発明は高炉内に投入された材料流れの幅を直接的に乃至数字的に測定することができる、材料流れの幅を測定する方法の提供を目的とする。上記目的に達成すべく、本発明は、所定水平面の所定円周における対称的な第1の位置と第2の位置を通過するように移動しながら下方へ放物線で送出する材料流れの幅を測定する方法であって、前記所定円周の円心を通過する鉛直線の前記第1の位置側且つ前記所定円周の外側から光波測距手段で該鉛直線に向かって所定の鉛直走査面に対して走査測定を行って複数の距離データを取得し、計算手段で、前記複数の距離データから、前記材料流れが前記第1の位置側の方で前記鉛直走査面を通過する時間内において、前記材料流れの前記光波測距手段に向かっている端縁における複数の点の座標データを第1の軌跡情報として取り出し、前記材料流れが前記第2の位置側の方で前記鉛直走査面を通過する時間内において、前記材料流れの前記光波測距手段に向かっている端縁における複数の点の座標データを第2の軌跡情報として取り出し、そして、前記第1の軌跡情報および前記第2の軌跡情報を用いて前記第1の軌跡情報に対応する第1の曲線および前記第2の軌跡情報に対応する第2の曲線を計算し、更に、前記第1の曲線および前記第2の曲線を用いて前記材料流れの幅を算出することを特徴とする材料流れの幅を測定する方法を提供する。上記材料流れの幅を測定する方法において、高炉の上端で前記所定円周に沿って回転する材料投入手段により送出される材料の流れを前記材料流れとすることが好ましい。上記材料流れの幅を測定する方法において、前記第1の軌跡情報および前記第2の軌跡情報は、前記光波測距手段で取得した距離データを前記鉛直走査面における座標情報に変換してから、得られた座標情報から前記材料投入手段や前記高炉の内壁など前記材料流れに該当しない環境データの座標情報を取り除くことにより得られることが好ましい。上記材料流れの幅を測定する方法において、前記計算手段で前記第1の軌跡情報および前記第2の軌跡情報から前記材料流れの幅を算出するには、前記第1の軌跡情報を前記鉛直走査面における座標情報に変換してから、該座標情報において前記第1の位置側の方に向いている端縁にある座標情報を利用し、曲線あてはめ計算法で前記第1の曲線の二次関数を算出し、前記第2の軌跡情報を前記鉛直走査面における座標情報に変換してから、該座標情報において第1の位置側の方に向いている端縁にある座標情報を利用し、曲線あてはめ計算法で前記第2の曲線の二次関数を算出してから、算出した前記第2の曲線の二次関数を用いて該第2の曲線の前記鉛直走査面の前記第1の位置側において該第2の曲線と対称している第3の曲線の二次関数を算出し、さらに、前記第1の曲線の二次関数および第3の曲線の二次関数を用いて、所定の高さでの前記第1の曲線と前記第3の曲線との間の距離を前記材料流れの幅として算出することが好ましい。上記材料流れの幅を測定する方法において、前記光波測距手段での走査は、上下80度の範囲内で行うことが好ましい。また、本発明は、高炉の上端で所定水平面における所定円周における対称的な第1の位置と第2の位置を通過し、且つ該所定円周に沿って回転する材料投入手段により放物線で送出される材料流れの幅を測定する方法であって、前記所定円周の円心を通過する鉛直線の第1の位置側から光波測距手段で該鉛直線に向かって所定の鉛直走査面に対して走査測定を行って複数の距離データを取得し、前記計算手段で、前記複数の距離データから前記光波測距手段で取得した距離データから前記材料投入手段や前記高炉の内壁など前記材料流れに該当しない環境データを取り除いてから、前記材料流れが前記第1の位置側の方で前記鉛直走査面を通過する時間内において、前記材料流れの前記光波測距手段に向かっている端縁における複数の点の距離データを前記鉛直走査面における座標情報に変換して第1の軌跡情報として取り出し、前記材料流れが前記第2の位置側の方で前記鉛直走査面を通過する時間内において、前記材料流れの前記光波測距手段に向かっている端縁における複数の点の距離データを前記鉛直走査面における座標情報に変換して第2の軌跡情報として取り出し、前記第1の軌跡情報において前記第1の位置側の方に向いている端縁にある座標情報を利用し、曲線あてはめ計算法で第1の曲線の二次関数を算出し、前記第2の軌跡情報において前記第1の位置側の方に向いている端縁にある座標情報を利用し、曲線あてはめ計算法で第2の曲線の二次関数を算出してから、算出した前記第2の曲線の二次関数を用いて該第2の曲線の前記鉛直走査面の前記第1の位置側において該第2の曲線と対称している第3の曲線の二次関数を算出し、さらに、前記第1の曲線の二次関数および第3の曲線の二次関数を用いて、所定の高さでの前記第1の曲線と前記第3の曲線との間の距離を前記材料流れの幅として算出することを特徴とする材料流れの幅を測定する方法をも提供する。上記構成により、本発明は光波測距手段で測定したデータから下方へ放物線で送出する材料流れの幅を算出することができるので、画像から推算するより正確性を有する材料流れの幅を測定する方法を提供することができる。以下は各図面に参照しながら本発明の各好ましい実施形態について詳しく説明する。図1は本発明の材料流れの幅を測定する方法のフローチャートである。図示されているように、本発明の材料流れの幅を測定する方法は、走査ステップ201と、座標変換ステップ202と、データ処理ステップ203と、曲線算出ステップ204と、材料流れの幅算出ステップ205とからなる。本発明は、所定水平面の所定円周Mにおける対称的な第1の位置図3参照と第2の位置図4参照を通過するように移動しながら下方へ放物線で送出する材料流れの幅を測定する方法であり、特に、例えば図2に示されているように、高炉302の上端で所定円周Mにおける対称的な第1の位置と第2の位置を通過し、且つ該所定円周に沿って回転する材料投入手段303により放物線で送出される材料流れの幅を測定する方法として使用されることができる。走査ステップ201では、図2に示されているように、円周Mの円心を通過する鉛直線Iの第1の位置側且つ所定円周Mの外側から光波測距手段301で該鉛直線Iに向かって所定の鉛直走査面Lに対して走査測定を行って複数の距離データを取得する。材料投入手段303により送出される材料流れは、図3に示されている第1の位置と、図4に示されている第2の位置とで鉛直走査面Lを通過することができ、また、光波測距手段301は、材料流れが第1の位置と第2の位置とを通過する時間内において、光波測距手段301に向かっている端縁における複数の点の距離データを測定することができる。次に、光波測距手段301として、例えばレーザー測距装置を使用することができる。この実施形態においては、図2に示されているように、上下80度の範囲内で鉛直走査面Lに対して01秒で一往復する往復走査式のレーザー測距装置を使用している。もっと詳しく説明すると、光波測距手段301は性質上、材料流れに透過することができないため、材料流れの光波測距手段301に向かっている端縁にしか光を当てることができず、該端縁と光波測距手段301との間の距離しか測定することができない。一方、本発明では光波測距手段301として鉛直走査面Lに対して高速往復する往復走査式のレーザー測距装置を使用するので、材料流れが鉛直走査面Lを通過する時間内において、複数回の走査測定結果が取られるようになり、各走査測定結果は、材料流れの前記端縁が異なる時点で鉛直走査面Lと交わる高さが異なる点と光波測距手段301との間の距離データとなる。また、本実施形態においては、更に、光波測距手段301から信号を入力することができる入力ユニットと、少なくとも情報を一時記録することができるメモリーと、メモリーに記録されている情報を計算処理することができる中央処理ユニットと、中央処理ユニットの処理結果を出力することができる出力ユニットとを備えているコンピュータなど、データを処理する計算手段図示せずで、座標変換ステップ202と、データ処理ステップ203と、曲線算出ステップ204と、材料流れの幅算出ステップ205とを実行する。計算手段が実行する部分を簡潔に説明すると、以下の通りである。光波測距手段301により測定した複数の距離データから、材料流れが第1の位置側図3における左側の方で鉛直走査面Lを通過する時間内において、材料流れの光波測距手段301に向かっている端縁における複数の点の距離データを鉛直走査面Lにおける座標情報に変換して第1の軌跡情報として取り出し、そして材料流れが第2の位置側図4における右側の方で鉛直走査面Lを通過する時間内において、材料流れの光波測距手段301に向かっている端縁における複数の点の距離データを鉛直走査面Lにおける座標情報に変換して第2の軌跡情報として取り出してから、第1の軌跡情報および第2の軌跡情報を用いて、第1の軌跡情報に対応する第1の曲線L1図5参照および第2の軌跡情報に対応する第2の曲線L2図4参照を計算して、更に、第1の曲線L1および第2の曲線L2を用いて材料流れの幅を算出する。続いて、座標変換ステップ202と、データ処理ステップ203と、曲線算出ステップ204と、材料流れの幅算出ステップ205とを各ステップに分けて詳しく説明する。本発明では、座標変換ステップ202と、データ処理ステップ203とを用いて、光波測距手段301により測定した複数の距離データから、前記第1の軌跡情報および前記第2の軌跡情報を取り出す。座標変換ステップ202では、光波測距手段301により測定したすべての距離データと、各距離データを測定する時の光波射出角度データとを利用して、図3に示されているように、光波測距手段301を原点とする座標系に対応する座標を算出してから、算出した光波測距手段301を原点とする座標系に対応する座標を、鉛直走査面Lにおいて高炉302の中心点Oを原点とする座標系に対応する座標に換算する。ここで、高炉302の中心点とは、前記鉛直走査面Lにおいて、高炉302の高さの中央位置にある水平線をX軸とし、そして鉛直線IをY軸とするときにおいて、X軸とY軸との交差点である。データ処理ステップ203では、座標変換ステップ202において得られた座標情報から、材料流れに該当しない環境データ、例えば材料流れが鉛直走査面Lを通過しないときにおいて取得した高炉302の内壁の距離データや、材料投入手段303の距離データなどを取り除く処理を行う。実際では高炉302の内壁の座標や、材料投入手段303の回転経路の座標を予め記録することにより、座標変換ステップ202において得られた座標情報において、高炉302の内壁の座標や材料投入手段303の回転経路の座標に該当する座標を削除してから、残った座標を鉛直走査面LにおけるY軸鉛直線Iにより、第1の位置側にある座標をまとめて第1の軌跡情報とし、第2の位置側にある座標をまとめて前記第2の軌跡情報とする。曲線算出ステップ204では、座標変換ステップ202と、データ処理ステップ203にて取り出した第1の軌跡情報および第2の軌跡情報を利用して、図3に示されているように、第1の軌跡情報において前記第1の位置側の方に向いている端縁にある座標情報すなわち、図示されているように鉛直走査面Lにおける第1の軌跡情報の中で、第1の位置側/図中の左側/光波測距手段301に向かっている側の端縁にある座標情報、言い換えれば、測定しようとする材料流れの異なる時点で鉛直走査面Lと交わる複数の端縁の中で光波測距手段301に最も接近している端縁にある座標情報を利用し、曲線あてはめ計算法で第1の曲線L1の二次関数を算出して、この第1の曲線L1を測定しようとする材料流れが図3/図5に示されている第1の位置にあって、光波測距手段301に向かって最も接近している端縁を表す曲線とする。また、図4に示されているように、第2の軌跡情報において第1の位置側の方に向いている端縁にある座標情報すなわち、図示されているように鉛直走査面Lにおける第2の軌跡情報の中で、第1の位置側/図中の左側/光波測距手段301に向かっている側の端縁にある座標情報、言い換えれば、測定しようとする材料流れの異なる時点で鉛直走査面Lと交わる複数の端縁の中で光波測距手段301に最も接近している端縁にある座標情報を利用し、曲線あてはめ計算法で前記第2の曲線L2の二次関数を算出してから、図5に示されているように、算出した第2の曲線の二次関数L2を用いて、鉛直線Iを対称軸として該第2の曲線L2の鉛直走査面Lにおける第1の位置側において該第2の曲線L2と対称している第3の曲線L3の二次関数を算出して、この第3の曲線L3を測定しようとする材料流れが図3/図5に示されている第1の位置にあって、光波測距手段301に向かずに光波測距手段301から最も遠い端縁を表す曲線とする。材料流れの幅算出ステップ205では、算出した第1の曲線L1の二次関数および第3の曲線L3の二次関数を用いて、所定の高さでの第1の曲線L1と第3の曲線L3との間の距離、即ち、第1の位置にある材料流れの光波測距手段301に向かって最も接近している端縁と、光波測距手段301から最も遠い端縁との間の距離を目的である材料流れの幅Hとして算出すると共に、第1の曲線L1と第3の曲線L3との間に位置している材料流れ中央曲線L4の二次関数を算出する。中央曲線L4は、材料流れの投下位置を判断する根拠になることができる。ちなみに、使用している光波測距手段の性能に応じて、座標変換ステップ202における距離データを、光波測距手段301を原点とする座標系に対応する座標に換算する手順を、光波測距手段内蔵の計算手段で実行させることができる。また、上記では座標変換ステップ202と、データ処理ステップ203とを用いて、光波測距手段301により測定した複数の距離データを鉛直走査面Lにおける座標情報に変換してから材料流れに該当しない環境データを取り除いて第1の軌跡情報または第2の軌跡情報を取り出す手順を取っているが、測定した複数の距離データを鉛直走査面Lにおける座標情報に変換する前に、距離データとしての材料流れに該当しない環境データを先に取り除く手順を取ることもできる。更に、上記曲線算出ステップ204では、第2の位置側にある第2の曲線L2の二次関数を算出してから、第1の位置側において第2の曲線L2に対称している第3の曲線L3の二次関数を算出する手順を取っているが、第2の位置側にある第2の軌跡情報の座標を第1の位置側において第2の軌跡情報に対称する座標に換算してから、得られた第1の位置側にある座標で第3の曲線L3の二次関数を直接に算出する手順を取ることも可能である。