"一般式A:[式中、2個のEは同じか又は異なり、それぞれS又はO;W1及びW2は片方がNで他方がS;W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;RA1~RA4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。]で示されるπ共役有機化合物。一般式A1:[式中、2個のE及びRA1~RA4は前記に同じである。]で示される、請求項1に記載のπ共役有機化合物。2個のEが同じか又は異なり、それぞれS又はO;RA1及びRA2が同じか又は異なり、それぞれ置換基を有していてもよいアリール基;RA3及びRA4が同じか又は異なり、それぞれ水素原子又は置換基を有していてもよいアリール基である、請求項1又は2に記載のπ共役有機化合物。一般式A:[式中、2個のEは同じか又は異なり、それぞれS又はO;W1及びW2は片方がNで他方がS;W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;RA1~RA4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。]で示されるπ共役有機化合物の製造方法であって、I一般式B:[式中、W1及びW2は片方がNで他方がS;W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;RB1~RB4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。]で示される化合物を用いて分子内二重5-exo環化反応を施す工程を備える、製造方法。前記工程Iが、一般式B1:[式中、RB1~RB4は前記に同じである。]で示される化合物を用いて、分子内二重5-exo環化反応を施すことにより、一般式A1:[式中、2個のE及びRA1~RA4は前記に同じである。]で示される化合物を製造する工程である、請求項4に記載の製造方法。前記一般式Bにおいて、RB1及びRB2が同じか又は異なり、それぞれ置換基を有していてもよいアリール基;RB3及びRB4が同じか又は異なり、それぞれ-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基又は置換基を有していてもよいアリール基であり、且つ、前記一般式Aにおいて、2個のEが同じか又は異なり、S又はO;RA1及びRA2が同じか又は異なり、それぞれ置換基を有していてもよいアリール基;RA3及びRA4が同じか又は異なり、それぞれ水素原子又は置換基を有していてもよいアリール基である、請求項4又は5に記載の製造方法。前記工程Iが、一般式Bで示される化合物と、一般式D:[式中、2個のR3は同じか又は異なり、それぞれアルキルチオ基、アリールチオ基又は置換基を有していてもよいアリール基である。]で示される化合物を用いて分子内二重5-exo環化反応を施す工程である、請求項4~6のいずれかに記載の製造方法。前記工程Iが、光照射して分子内二重5-exo環化反応を施す工程を備える、請求項4~6のいずれかに記載の製造方法。一般式E:[式中、W1及びW2は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’は同じか又は異なり、それぞれ-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子で示される基又は置換基を有していてもよいアリール基;R4はハロゲン原子、一般式E1:RB1aは置換基を有していてもよいアリール基で示される基、又は一般式E2:RB1aは前記に同じで示される基;R5はハロゲン原子、エチニル基、トリメチルシリルエチニル基、一般式E3:W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’は前記に同じ;Xはハロゲン原子で示される基、一般式E4:W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’は前記に同じ;RB2aは置換基を有していてもよいアリール基で示される基、又は一般式E5:W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’及びRB2aは前記に同じで示される基;R4とR5は同一でも異なっていてもよい。]で示される化合物。一般式C:[式中、2個のEは同じか又は異なり、それぞれS又はO;W1及びW2は片方がNで他方がS;W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;RC1及びRC2は同じか又は異なり、それぞれ置換基を有していてもよいアリーレン基;RC3及びRC4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。]で示される単位を繰り返し単位として有する、π共役有機化合物の共重合体。上記のように、ベンゾヘテロール誘導体は、化学的安定性に欠けるものであるが、縮環部位を、チエノチオフェン非特許文献2~3等のように、ベンゼンより芳香属性の低いヘテロ芳香環に置き換えれば、縮環キノイド構造の寄与が減少するものと考えられ、ベンゾヘテロールと比較して、より化学的安定性の向上が期待される。この観点から、本発明は、高い平面性と高い化学的安定性をあわせもち、且つ、電子供与性の高い化合物を合成することを目的とする。上記の課題に鑑み鋭意研究を重ねた結果、本発明者らは、チアゾール縮環ビヘテロアリール構造を有する化合物が、オルト位にアリールカルボニル基を有するジチアゾリルアセチレンの分子内二重5-exo環化反応により合成できることを見出した。また、当該チアゾール縮環ビヘテロアリール構造を有する化合物は、高い平面性と高い化学的安定性をあわせもち、且つ、電子供与性の高いことを見出した。本発明は、このような知見に基づき、さらに研究を重ねた結果、完成されたものである。すなわち、本発明は、以下の項1~10に係る発明を包含する。項1.一般式A:[式中、2個のEは同じか又は異なり、それぞれS又はO;W1及びW2は片方がNで他方がS;W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;RA1~RA4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子、又はボリル基である。]で示されるπ共役有機化合物。項2.一般式A1:[式中、2個のE及びRA1~RA4は前記に同じである。]で示される、項1に記載のπ共役有機化合物。項3.2個のEが同じか又は異なり、それぞれS又はO;RA1及びRA2が同じか又は異なり、それぞれ置換基を有していてもよいアリール基;RA3及びRA4が同じか又は異なり、それぞれ水素原子又は置換基を有していてもよいアリール基である、項1又は2に記載のπ共役有機化合物。項4.一般式A:[式中、2個のEは同じか又は異なり、それぞれS又はO;W1及びW2は片方がNで他方がS;W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;RA1~RA4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。]で示されるπ共役有機化合物の製造方法であって、I一般式B:[式中、W1及びW2は片方がNで他方がS;W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;RB1~RB4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。]で示される化合物を用いて分子内二重5-exo環化反応を施す工程を備える、製造方法。項5.前記工程Iが、一般式B1:[式中、RB1~RB4は前記に同じである。]で示される化合物を用いて、分子内二重5-exo環化反応を施すことにより、一般式A1:[式中、2個のE及びRA1~RA4は前記に同じである。]で示される化合物を製造する工程である、項4に記載の製造方法。項6.前記一般式Bにおいて、RB1及びRB2が同じか又は異なり、それぞれ置換基を有していてもよいアリール基;RB3及びRB4が同じか又は異なり、それぞれ-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基又は置換基を有していてもよいアリール基であり、且つ、前記一般式Aにおいて、2個のEが同じか又は異なり、S又はO;RA1及びRA2が同じか又は異なり、それぞれ置換基を有していてもよいアリール基;RA3及びRA4が同じか又は異なり、それぞれ水素原子又は置換基を有していてもよいアリール基である、項4又は5に記載の製造方法。項7.前記工程Iが、一般式Bで示される化合物と、一般式D:[式中、2個のR3は同じか又は異なり、それぞれアルキルチオ基、アリールチオ基又は置換基を有していてもよいアリール基である。]で示される化合物を用いて分子内二重5-exo環化反応を施す工程である、項4~6のいずれかに記載の製造方法。項8.前記工程Iが、光照射して分子内二重5-exo環化反応を施す工程を備える、項4~6のいずれかに記載の製造方法。項9.一般式E:[式中、W1及びW2は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’は同じか又は異なり、それぞれ-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子で示される基又は置換基を有していてもよいアリール基;R4はハロゲン原子、一般式E1:RB1aは置換基を有していてもよいアリール基で示される基、又は一般式E2:RB1aは前記に同じで示される基;R5はハロゲン原子、エチニル基、トリメチルシリルエチニル基、一般式E3:W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’は前記に同じ;Xはハロゲン原子で示される基、一般式E4:W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’は前記に同じ;RB2aは置換基を有していてもよいアリール基で示される基、又は一般式E5:W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’及びRB2aは前記に同じで示される基;R4とR5は同一でも異なっていてもよい。]で示される化合物。項10.一般式C:[式中、2個のEは同じか又は異なり、それぞれS又はO;W1及びW2は片方がNで他方がS;W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;RC1及びRC2は同じか又は異なり、それぞれ置換基を有していてもよいアリーレン基;RC3及びRC4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。]で示される単位を繰り返し単位として有する、π共役有機化合物の共重合体。本発明によれば高い平面性と高い化学的安定性をあわせもち、且つ、電子供与性の高い化合物を得ることができる。1.π共役有機化合物本発明のπ共役有機化合物は、一般式A:[式中、2個のEは同じか又は異なり、それぞれS又はO;W1及びW2は片方がNで他方がS;W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;RA1~RA4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。]で示される化合物Aである。式Aにおいて、2個のEは同じか又は異なり、それぞれS又はOである。特に、2個のEがともにSである場合には、特に化学的に安定な化合物が得られる。さらに、EがともにSである場合には、大気中での安定性に顕著に優れている。式Aにおいて、RA1~RA4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。アリール基としては、炭素数が6~50、好ましくは6~20のものであれば特に制限はなく、例えば、フェニル基、オリゴアリール基ナフチル基、アントリル基等、ビフェニル基、ターフェニル基、ピレニル基、フェナンスレニル基、フルオレニル基等が挙げられる。また、アリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子等、炭素数が1~100のアルキル基及び置換アルキル基、炭素数が2~50のアルケニル基及び置換アルケニル基、炭素数が6~50のアリール基、炭素数が1~100のアルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルチオ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、及びボリル基等が挙げられる。この置換基を有する場合、置換基の数は1~5個が好ましい。なお、これらの置換基がさらに置換基を有する場合、そのような置換基は、例えば、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子等等である。このようなアリール基としては、具体的には、4-メチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、3,4,5-トリメトキシフェニル基、4-フルオロフェニル基、2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニル基、4-ジメチルアミノフェニル基、4-ジエチルアミノフェニル基、4-トリフルオロメチルフェニル基、3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基等が挙げられ、このうち特に4-メチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、3,4,5-トリメトキシフェニル基等が好ましい。複素環基としては、環員数が5~50、好ましくは5~20のものであれば特に制限はなく、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、シラシクロペンタジエニル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、アクリジニル基、キノリル基、キノキサロイル基、フェナンスロリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾチアゾリル基、インドリル基、カルバゾリル基、ピリジル基、ピロリル基、ベンゾオキサゾリル基、ピリミジル基、イミダゾリル基等が挙げられる。また、複素環基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子等、炭素数が1~50のアルキル基及び置換アルキル基、炭素数が2~50のアルケニル基および置換アルケニル基、炭素数が6~50のアリール基、炭素数が1~50のアルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルチオ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、及びボリル基等が挙げられる。この置換基を有する場合、置換基の数は1~4個が好ましい。アルキル基としては、炭素数が1~100、好ましくは1~20のものであれば特に制限はなく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、2-エチルヘキシル基等が挙げられる。アルキル基としては、環状アルキル基シクロアルキル基であってもよく、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、2-メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。また、アルキル基が有していてもよい置換基としては、炭素数が2~50のアルケニル基;エチニル基、プロパギル基、フェニルアセチニル基などのアルキニル基;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基などのアルコキシ基;ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など、ビニルオキシ基やアリルオキシ基などのアルケニルオキシ基、アリールオキシ基;トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基などのパーフルオロ基及びさらに長鎖のパーフルオロ基、アミノ基、ボリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、スルフィニル基、シリル基、アリール基、ヘテロ環基などが挙げられる。そのほかに、ニトロ基、ホルミル基、ニトロソ基、ホルミルオキシ基、イソシアノ基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネート基、イソチオシアネート基、シアノ基等が挙げられる。-SiR23で示される基としては、特に制限はなく、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基TBDMS、フェニルジメチルシリル基等が挙げられる。なかでも、R2が全てアルキル基であるトリアルキルシリル基が好ましく、TBDMSがより好ましい。なお、-SiR23で示される基のうち、R2がボリル基の場合、ボリル基としては、特に制限はなく、ジメシチルボリル基、ビスペンタフルオロフェニルボリル基、ジヒドロキシボリル基、4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イル基、5,5-ジメチル-1,3,2-ジオキサボリナン-2-イル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。また、ボリル基としては、上述した、-SiR23で示される基のうち、R2がボリル基の場合に使用できるボリル基等が挙げられる。上記のなかでも、RA1~RA4としては、水素原子又は置換基を有していてもよいアリール基が好ましい。特に、RA1及びRA2が置換基を有していてもよいアリール基であり、且つ、RA3及びRA4が水素原子又は置換基を有していてもよいアリール基であることが好ましい。特に、RA1及びRA2が置換基を有していてもよいアリール基であり、且つ、RA3及びRA4がともに水素原子であることがより好ましい。このような化合物Aとしては、具体的には、一般式A1:[式中、E及びRA1~RA4は前記に同じである。]で示される化合物A1、一般式A2:[式中、E及びRA1~RA4は前記に同じである。]で示される化合物A2、及び一般式A3:[式中、E及びRA1~RA4は前記に同じである。]で示される化合物A3が挙げられる。これら化合物A1~A3のなかでも、合成の容易さの点から、一般式A1で示される化合物A1が好ましい。以上のような観点から、本発明のπ共役有機化合物としては、[式中、2個のE’は同じか又は異なり、それぞれS又はO;RA1a~RA4aは同じか又は異なり、RA1及びRA2が置換基を有していてもよいアリール基であり、RA3及びRA4が水素原子又は置換基を有していてもよいアリール基である。]で示される化合物A1aが好ましい。このうち特に、式A1a中、2個のE’がともにSである化合物は、大気中での安定性にさらに優れる点で好ましい。これらのπ共役有機化合物は、文献未記載の新規化合物であるが、高い平面性と高い化学的安定性をあわせもち、且つ、電子供与性の高い化合物であるため、有機EL、有機薄膜トランジスタ、太陽電池等に使用される有機半導体として有用である。2.π共役有機化合物の製造方法本発明のπ共役有機化合物は、以下の式:[式中、E、W1~W4及びRA1~RA4は前記に同じ;RB1~RB4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基;RB1はRA1と同じ;RB2はRA2と同じ;RB3はRA3と同じでも異なっていてもよい;RB4はRA4と同じでも異なっていてもよい。]で示される分子内二重5-exo環化反応により得られる。上記の一般式A及びBにおいて、E、W1~W4及びRA1~RA4は、上述したものと同様である。上記の一般式Bにおいて、RB1~RB4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR23で示される基、ハロゲン原子及びボリル基の具体例は、上述のRA1~RA4におけるものと同様である。これらのなかでも、RB1~RB4としては、水素原子、置換基を有していてもよいアリール基又は-SiR23で示される基が好ましい。特に、RB1及びRB2が置換基を有していてもよいアリール基であり、且つ、RB3及びRB4が水素原子、置換基を有していてもよいアリール基又は-SiR23で示される基であることが好ましい。特に、RB1及びRB2が置換基を有していてもよいアリール基であり、且つ、RB3及びRB4が置換基を有していてもよいアリール基又は-SiR23で示される基であることがより好ましい。この反応は、具体的には、以下の式:[式中、E、RA1~RA4及びRB1~RB4は前記に同じ;RB1はRA1と同じ;RB2はRA2と同じ;RB3はRA3と同じでも異なっていてもよい;RB4はRA4と同じでも異なっていてもよい。][式中、E、RA1~RA4及びRB1~RB4は前記に同じ;RB1はRA1と同じ;RB2はRA2と同じ;RB3はRA3と同じでも異なっていてもよい;RB4はRA4と同じでも異なっていてもよい。][式中、E、RA1~RA4及びRB1~RB4は前記に同じ;RB1はRA1と同じ;RB2はRA2と同じ;RB3はRA3と同じでも異なっていてもよい;RB4はRA4と同じでも異なっていてもよい。]等が挙げられる。上記の3つの反応式のなかでも、以下の式:[式中、E、RA1~RA4及びRB1~RB4は前記に同じ;RB1はRA1と同じ;RB2はRA2と同じ;RB3はRA3と同じでも異なっていてもよい;RB4はRA4と同じでも異なっていてもよい。]で示される反応式を経ることが好ましい。以下、当該反応工程について、目的物ごとに詳細に説明する。<目的物が、チアゾロ[2,3-c]チオフェン骨格を有する場合>一般式Aにおいて、EがいずれもSである場合の製造方法を説明する。具体的には、一般式Bで示される化合物Bと、一般式D:[式中、2個のR3は同じか又は異なり、それぞれアルキルチオ基、アリールチオ基又は置換基を有していてもよいアリール基である。]で示される化合物を反応させて、分子内二重5-exo環化反応を起こさせればよい。一般式Dで示される化合物は、ローソン試薬Lawesson試薬又はその類縁体として知られる化合物を包含するものである。この一般式D中、2個のR3は通常は同一の基であるが、異なっていてもよい。具体的には、アルキルチオ基、アリールチオ基又は置換基を有していてもよいアリール基である。アルキルチオ基としては、炭素数が1~100、好ましくは1~20のアルキル基と硫黄原子が結合したものが例示される。例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、i-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、i-ブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、t-ブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ネオペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、チオヘプチル基、オクチルチオ基、ノニルチオ基、2-エチルヘキシルチオ基等が挙げられる。アリールチオ基としては、炭素数が6~50、好ましくは6~20のアリール基と硫黄原子が結合したものが例示される。例えば、フェニルチオ基、オリゴアリールチオ基ナフチルチオ基等等が挙げられる。置換基を有していてもよいアリール基としては、上述したものが例示される。このような条件を満たす一般式Dで示される化合物としては、具体的には、2個のR3がメトキシフェニル基:ローソン試薬Lawesson試薬2個のR3がフェノキシフェニル基:ベレオー試薬2個のR3がアルキルチオ基:デービー試薬アルキル基:メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、ブチル基2個のR3がフェニルチオ基:ジャパニーズ試薬等が挙げられる。当該反応工程は、通常溶媒中で行う。溶媒の種類には特に限定はなく、極性溶媒でも非極性溶媒でもよい。極性溶媒としては、プロトン性極性溶媒でも非プロトン性極性溶媒でもよい。極性溶媒としては、具体的には、テトラヒドロフランTHF、アニソール、1,4-ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、アルコールメタノール、エタノール、アリルアルコール等、エステル化合物酢酸エチル等、ハロゲン化炭化水素ジクロロメタン、クロロホルムが挙げられる。非プロトン性極性溶媒としては、具体的には、ジメチルスルホキシドDMSO、アミド系溶媒N,N-ジメチルホルムアミドDMF、ジメチルアセトアミドDMA、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンDMI、N-メチルピロリドンNMP等、ウレア系溶媒、リン酸アミド系溶媒、ニトリル系溶媒、ニトロアルカン系溶媒等が挙げられる。非極性溶媒としては、脂肪族有機溶媒でもよく、芳香族有機溶媒でもよい。脂肪族有機溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンが挙げられる。芳香族有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等が挙げられる。これらの溶媒は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組合せて用いてもよい。当該反応工程において、一般式Bで示される化合物と、一般式Dで示される化合物との量及び割合には特に限定はない。これらは、必要に応じて適宜調整することができる。当該反応工程の反応条件には特に限定はない。反応時間は1~72時間、好ましくは2~15時間とすることができる。反応温度は、通常還流下にて行われ、溶媒によって異なるが、例えば、20~200°C、好ましくは40~150°Cとすることができる。反応雰囲気も特に限定はないが、乾燥ガス雰囲気下で行うことが好ましい。反応雰囲気として具体的には、例えば、乾燥空気雰囲気、不活性ガス雰囲気等が挙げられる。本発明では、π共役有機化合物を得ることができる限り、反応系に他の物質を添加してもよい。本発明の製造方法は、必要に応じて他の工程を含んでいてもよい。例えば、一般式Bにおいて、RB3及びRB4が水素原子以外である場合には、上記の分子内二重5-exo環化反応とともに、これらの脱離反応が起こる。この脱離反応が不完全な場合には、この後、公知の方法により、完全に脱離させてもよい。例えば、RB3及びRB4が-SiR23で示される基である場合、例えば、フッ化テトラ-n-ブチルアンモニウムTBAF、フッ化カリウムKF、フッ化セシウムCsF等を用いて、必要に応じてテトラヒドロフランTHF、1,4-ジオキサン等の1種又は2種以上の溶媒中で脱離させればよい。また、反応終了後、公知の方法、例えば、蒸留、吸着、抽出、及び再結晶等の方法又はこれらの方法を組み合わせて、π共役有機化合物の回収及び精製を行ってもよい。この方法の反応機構は、明確ではないが、以下のとおりと考えられる。なお、以下の図では、一般式B1で示される化合物を用いて一般式A1で示される化合物を製造する場合について示しているが、一般式B2又はB3で示される化合物を用いて一般式A2又はA3で示される化合物を製造する場合も同様である。[式中、W1~W4及びRB1~RB4は前記に同じ;この工程により、RA1~RA4がRB1~RB4であるπ共役有機化合物が得られる。]具体的には、iカルボニル基のローソン試薬Lawesson試薬によるチオカルボニル基への変換、iiチオカルボニル基のアセチレンに対する求核的5-exo環化、及びiii生じたチオラートのアレンに対する求核的環化の三段階からなると考えられる。<目的物が、チアゾロ[2,3-c]フラン骨格を有する場合>一般式Aにおいて、EがいずれもOである場合の製造方法を説明する。一般式Bで記載される化合物において、RB3及びRB4の少なくとも1つが水素原子ではない場合、まず、公知の方法により、これらを脱離する。例えば、RB3及びRB4が-SiR23で示される基である場合、例えば、フッ化テトラ-n-ブチルアンモニウムTBAF、フッ化カリウムKF、フッ化セシウムCsF等を用いて、必要に応じて<目的物が、チアゾロ[2,3-c]チオフェン骨格を有する場合>にて上記した1種又は2種以上の反応溶媒中で脱離させればよい。これにより、以下の式:[式中、W1~W4及びRB1~RB4は前記に同じである。]で示される経路、具体的には、[式中、RB1~RB4は前記に同じである。][式中、RB1~RB4は前記に同じである。][式中、RB1~RB4は前記に同じである。]で示される経路により、脱離反応が進行する。次に、光を照射させることで、分子内二重5-exo環化反応を進行させれば、本発明のπ共役有機化合物が得られる。この際、光照射の方法としては、特に制限されないが、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ等を用い、波長250~370nm程度の紫外光を照射すればよい。当該反応は、通常溶媒中で行われる。この際使用できる溶媒は、特に制限されないが、例えば、<目的物が、チアゾロ[2,3-c]チオフェン骨格を有する場合>にて上記した1種又は2種以上の反応溶媒等が挙げられる。当該反応工程の反応条件には特に限定はない。反応時間は1~1000分、好ましくは5~60分とすることができる。反応温度は-100~100°C、好ましくは0~30°Cとすることができる。反応雰囲気には、生成物の分解を抑制するため、不活性ガス雰囲気を用いることが好ましい。本発明では、π共役有機化合物を得ることができる限り、反応系に他の物質を添加してもよい。3.中間体本発明は、一般式E:[式中、W1及びW2は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’は同じか又は異なり、それぞれ-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子で示される基又は置換基を有していてもよいアリール基;R4はハロゲン原子、一般式E1:RB1aは置換基を有していてもよいアリール基で示される基、又は一般式E2:RB1aは前記に同じで示される基;R5はハロゲン原子、エチニル基、トリメチルシリルエチニル基、一般式E3:W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’は前記に同じ;Xはハロゲン原子で示される基、一般式E4:W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’は前記に同じ;RB2aは置換基を有していてもよいアリール基で示される基、又は一般式E5:W3及びW4は片方がNで他方がS;実線と破線からなる二重線は単結合又は二重結合;R’及びRB2aは前記に同じで示される基;R4とR5は同一でも異なっていてもよい。]で示される化合物にも関する。一般式Eにおいて、-SiR23については、その具体例等は上述したものと同様である。一般式Eにおいて、R4は、ハロゲン原子、一般式E1で示される基、又は一般式E2で示される基である。ハロゲン原子としては、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。一般式E1及びE2において、RB1aは、置換基を有していてもよいアリール基であるが、その具体例は、式BにおけるRB1~RB4におけるものと同様である。このようなR4としては、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、4-メチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、3,4,5-トリメトキシフェニル基等が挙げられる。一般式Eにおいて、R5は、ハロゲン原子、エチニル基、トリメチルシリルエチニル基、一般式E3で示される基、一般式E4で示される基、又は一般式E5で示される基である。一般式E3~E5において、-SiR23については、その具体例等は上述したものと同様である。一般式E3において、Xはハロゲン原子であり、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。一般式E4及びE5において、RB2aは、置換基を有していてもよいアリール基であるが、その具体例は、式BにおけるRB1~RB4におけるものと同様である。このようなR5としては、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、エチニル基、トリメチルシリルエチニル基、等が挙げられる。このような条件を満たす、一般式Eで示される化合物としては、一般式E-1:[式中、R2は前記に同じ;2個のX’は同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子である。]で示される化合物、一般式E-2:[式中、R2及びX’は前記に同じである。]で示される化合物、一般式E-3:[式中、R2及びX’は前記に同じである。]で示される化合物、一般式E-4:[式中、R2及びX’は前記に同じである。]で示される化合物、一般式E-5:[式中、R2、RB1a及びRB2aは前記に同じである。]で示される化合物、一般式E-6:[式中、R2、RB1a及びRB2aは前記に同じである。]等が挙げられる。これらの化合物群は、上述した本発明のπ共役有機化合物の合成中間体として使用できる点で有用な化合物群であり、文献未記載の新規化合物である。特に、一般式E-6で示される化合物は、一般式B1で示される化合物に含まれるものであり、本発明のπ共役有機化合物の原料として直接本発明の製造方法を適用することができる。この一般式E-6で示される化合物は、特にこれに制限されるわけではないが、一般式E-1~E-5で示される化合物を経由して合成することができる。具体的には、以下の反応式:[式中、R2、X’、RB1a及びRB2aは前記に同じである。]で示される経路を経ることにより得られる。以下、各ステップについて説明する。<ステップ1>[式中、R2は前記に同じである。]ステップ1では、まず、有機リチウム化合物を用いて、ハロゲン-金属交換反応を行う非特許文献4参照。この際使用できる有機リチウム化合物としては、例えば、エチルリチウム、n-プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、ペンチルリチウム、ヘキシルリチウム、シクロヘキシルリチウム、フェニルリチウム等が挙げられる。これらのうち、n-ブチルリチウム等が好ましい。上記有機リチウム化合物の使用量は、原料のチアゾール化合物1モルに対して、1~2モルが好ましく、1~1.1モルがより好ましい。この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、特に制限されるわけではないが、通常エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒等が用いられる。例えばテトラヒドロフランTHF、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。反応時間は5~600分程度、反応温度は-110~100°C程度とすればよい。なお、反応温度は、溶媒によって異なり、系中で発生させる有機リチウム化合物が溶媒と反応しない温度とすることがより好ましい。具体的には、THFを使用する場合は-80°C程度以下とすることが好ましいが、炭化水素系溶媒を使用する場合には100°C程度までの加熱が可能である。反応雰囲気には、乾燥ガスを用いることが好ましい。乾燥空気雰囲気、不活性ガス雰囲気等が挙げられる。次に、SiR23X1R2は前記に同じ;X1はハロゲン原子で示されるシラン化合物を用いて反応させることで、ステップ1が終了する。この際使用できるシラン化合物としては、種々挙げられるが、後述のステップ5の容易さを考慮すると、t-ブチルジメチルシリルクロリド、トリイソプロピルシリルクロリド等が好ましい。上記シラン化合物の使用量は、原料のチアゾール化合物1モルに対して、1~10モルが好ましく、1~1.1モルがより好ましい。この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、特に制限はなく、<目的物が、チアゾロ[2,3-c]チオフェン骨格を有する場合>にて上記した1種又は2種以上の反応溶媒等が挙げられる。この際の反応条件には特に限定はない。通常反応時間は1分以上とすればよい。反応時間が長くても特に不利益はないが、時間がかかるため、通常5000分以下である。反応温度は-110~30°Cとすればよい。反応雰囲気には、乾燥ガスを用いることが好ましい。<ステップ2>[式中、R2及びX’は前記に同じである。]ステップ2では、チアゾール環の5位をハロゲン化する。ここでは、まず、有機リチウム化合物を用いて5位をリチオ化する。使用できる有機リチウム化合物は、上記のステップ1と同様の化合物に加えて、LDAリチウムジイソプロピルアミド、LiTMPリチウムテトラメチルピペリジド等のリチウムアミドも使用できる。上記有機リチウム化合物の使用量は、シリル化されたチアゾール化合物1モルに対して、1~2モルが好ましく、1~1.1モルがより好ましい。この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、特に制限されるわけではないが、通常エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒等が用いられる。例えばテトラヒドロフランTHF、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。この際の反応条件には特に限定はない。反応時間は1~600分、反応温度は-110~100°C程度とすればよい。なお、反応温度は、溶媒によって異なり、系中で発生させる有機リチウム化合物が溶媒と反応しない温度とすることがより好ましい。具体的には、THFを使用する場合は-80°C程度以下とすることが好ましいが、炭化水素系溶媒を使用する場合には100°C程度までの加熱が可能である。反応雰囲気には、乾燥ガスを用いることが好ましい。次に、ハロゲン化炭化水素を用いてハロゲン化すればよい。使用できるハロゲン化炭化水素としては、例えば、ジブロモエタン、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン、1,2-ジヨードエタン等が挙げられる。これらのうち、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン等が好ましい。また、上記ハロゲン化炭化水素の使用量は、シリル化されたチアゾール化合物1モルに対して、1~50モルが好ましく、1~2モルがより好ましい。この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、特に制限されるわけではないが、通常エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒等が用いられる。例えばテトラヒドロフランTHF、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。この際の反応条件には特に限定はない。反応時間は1~1000分、反応温度は-110~100°C程度とすればよい。なお、反応温度は、溶媒によって異なり、系中で発生させる有機リチウム化合物が溶媒と反応しない温度とすることがより好ましい。具体的には、THFを使用する場合は-80°C程度以下とすることが好ましいが、炭化水素系溶媒を使用する場合には100°C程度までの加熱が可能である。反応雰囲気には、乾燥ガスを用いることが好ましい。<ステップ3>[式中、R2及びX’は前記に同じである。]ステップ3において、原料の化合物において5位に置換しているハロゲンと、一般式E-1で示される化合物において5位に置換しているハロゲンが同一の場合には、単にハロゲンを導入すればよい。しかし、得ようとしている一般式E-1で示される化合物において5位に置換しているハロゲン例えばヨウ素原子が、原料の化合物において5位に置換しているハロゲン例えば臭素原子と異なる場合には、ハロゲン転位反応により例えば臭素を4位に転位した後に、ハロゲン例えばヨウ素原子を導入する必要がある。ハロゲン転位反応を行う場合には、例えば、リチウムN,N-ジイソプロピルアミドLDA、リチウムテトラメチルピペリジドLiTMP等のリチウムアミド等を用いればよい。この化合物の使用量は、原料の化合物1モルに対して、1~2モルが好ましく、1~1.2モルがより好ましい。この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、特に制限されるわけではないが、通常エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒等が用いられる。例えばテトラヒドロフランTHF、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。この際の反応条件には特に限定はない。反応時間は1~1000分、反応温度は-110~100°C程度とすればよい。なお、反応温度は、溶媒によって異なり、系中で発生させるリチウムアミドが溶媒と反応しない温度とすることがより好ましい。具体的には、THFを使用する場合は-80°C程度以下とすることが好ましいが、炭化水素系溶媒を使用する場合には100°C程度までの加熱が可能である。反応雰囲気には、乾燥ガスを用いることが好ましい。ハロゲン転位反応を行った場合は5位、ハロゲン転位反応を行わない場合は4位に、ハロゲンを導入すればよい。この際、ハロゲン、1,2-ジヨードエタン,N-ハロゲン化スクシンイミド等を使用すればよい。これらハロゲン等の使用量は、原料の化合物1モルに対して、1~10モルが好ましく、1~1.1モルがより好ましい。この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、特に制限はなく、<目的物が、チアゾロ[2,3-c]チオフェン骨格を有する場合>にて上記した1種又は2種以上の反応溶媒等が挙げられる。この際の反応条件には特に限定はない。反応時間は1分以上とすればよい。反応時間が長くても特に不利益はないが、時間がかかるため、通常5000分以下である。反応温度は-110~100°C程度とすればよい。なお、反応温度は、溶媒によって異なり、系中で発生させる有機リチウム化合物が溶媒と反応しない温度とすることがより好ましい。具体的には、THFを使用する場合は-80°C程度以下とすることが好ましいが、炭化水素系溶媒を使用する場合には100°C程度までの加熱が可能である。反応雰囲気には、乾燥ガスを用いることが好ましい。<ステップ4>[式中、R2及びX’は前記に同じである。]ステップ4では、薗頭-萩原カップリングにより、-C≡C-SiR23で示される基を導入する。このカップリングは、通常、パラジウム化合物及び銅化合物の存在下で行われる。パラジウム化合物としては、金属パラジウムをはじめ、有機化合物高分子化合物を含む等の合成用触媒として公知のパラジウム化合物等が挙げられる。具体的には、PdPPh34Phはフェニル基、PdCl2PPh32Phはフェニル基、PdOAc2Acはアセチル基、トリスジベンジリデンアセトン二パラジウム0Pd2dba3、トリスジベンジリデンアセトン二パラジウム0クロロホルム錯体、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム0、ビストリt-ブチルホスフィノパラジウム0等が挙げられる。本工程では、PdCl2PPh32等が好ましい。銅化合物としては、ハロゲン化銅が好ましく、ヨウ化銅がより好ましい。パラジウム化合物の使用量は、一般式E-1で示される化合物1モルに対して、通常、0.01~0.2モル、好ましくは0.01~0.05モル程度とすればよい。また、銅化合物の使用量は、一般式E-1で示される化合物1モルに対して、通常、0.01~0.2モル、好ましくは0.01~0.05モル程度とすればよい。このカップリングでは、他に、アミン化合物及びH-C≡C-SiR23で示される化合物を使用する。アミン化合物としては、具体的には、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン等が使用され、これらは溶媒としての役割も有する。H-C≡C-SiR23で示される化合物としては、R2が上記したものである限り特に制限はないが、例えば、トリメチルシリルアセチレン等が使用される。アミン化合物の使用量は、一般式E-1で示される化合物1モルに対して、通常、1モル以上である。なお、使用量は、多ければ多いほどよく、上限値は特にないが、50モル程度とすればよい。また、H-C≡C-SiR23で示される化合物の使用量は、一般式E-1で示される化合物1モルに対して、通常、1~2モル、好ましくは1~1.1モル程度とすればよい。上記したように、アミン化合物が溶媒でもあるが、さらに別途溶媒を使用してもよい。溶媒を使用する場合、使用できる溶媒としては、特に制限されるわけではないが、通常エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒等が用いられる。例えばテトラヒドロフランTHF、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。この際の反応条件には特に限定はない。反応時間は1~5000分、反応温度は-78~200°Cとすればよい。反応雰囲気には、酸素を除いた不活性ガス雰囲気等を用いることが好ましい。<ステップ5>[式中、R2及びX’は前記に同じである。]ステップ5では、アセチレン末端の-SiR23で示される基のみを脱保護する。この場合、2位の保護基は、塩基に対して耐性のあるt-ブチルジメチルシリル基であることが好ましい。具体的には、塩基を使用してアセチレン末端の-SiR23で示される基を脱保護する。具体的には、塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等が使用できる。好ましくは,炭酸カリウムを用いればよい。酸化剤の使用量は、一般式E-2で示される化合物1モルに対して、通常、0.01~1モル、好ましくは0.1~0.2モル程度とすればよい。この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、特に制限はなく、<目的物が、チアゾロ[2,3-c]チオフェン骨格を有する場合>にて上記した1種又は2種以上の反応溶媒等が挙げられるが、THF/エタノールの混合溶媒を用いることが好ましい。この際の反応条件には特に限定はない。反応時間は1~5000分、反応温度は-78~30°Cとすればよい。反応雰囲気も特に限定はなく、空気雰囲気、不活性ガス雰囲気等が挙げられる。<ステップ6>[式中、R2及びX’は前記に同じである。]ステップ6では、一般式E-3で示される化合物と一般式E-1で示される化合物を用いて、薗頭-萩原カップリングを行う。このカップリングで使用する化合物は、ステップ4と同様である。つまり、H-C≡C-SiR23で示される化合物の代わりに、一般式E-1で示される化合物を使用する。パラジウム化合物の使用量は、一般式E-3で示される化合物1モルに対して、通常、0.01~0.2モル、好ましくは0.01~0.05モル程度とすればよい。また、銅化合物の使用量は、一般式E-3で示される化合物1モルに対して、通常、0.01~.0.2モル、好ましくは0.01~0.05モル程度とすればよい。アミン化合物の使用量は、一般式E-3で示される化合物1モルに対して、通常、1モル以上である。なお、使用量は、多ければ多いほどよく、上限値は特にないが、50モル程度とすればよい。また、一般式E-1で示される化合物の使用量は、一般式E-3で示される化合物1モルに対して、通常、0.5~2モル、好ましくは1~1.2モル程度とすればよい。この工程でも、アミン化合物が溶媒でもあるが、さらに別途溶媒を使用してもよい。溶媒を使用する場合、使用できる溶媒としては、特に制限されるわけではないが、通常エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒等が用いられる。例えばテトラヒドロフランTHF、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。この際の反応条件には特に限定はない。反応時間は1~5000分、反応温度は-78~200°Cとすればよい。反応雰囲気には、酸素を除いた不活性ガス雰囲気等を用いることが好ましい。<ステップ7>[式中、R2、X’、RB1a及びRB2aは前記に同じである。]ステップ7では、ステップ1と同様に、まず、有機リチウム化合物を用いて、ハロゲン-金属交換反応を行う。この際使用できる有機リチウム化合物は、ステップ1と同様である。上記有機リチウム化合物の使用量は、一般式E-4で示される化合物1モルに対して、2~5モルが好ましく、2~4モルがより好ましい。この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、特に制限されるわけではないが、通常エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒等が用いられる。例えばテトラヒドロフランTHF、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。この際の反応条件には特に限定はない。反応時間は1分以上とすればよい。反応時間が長くても特に不利益はないが、時間がかかるため、通常5000分以下である。反応温度は-110~100°C程度とすればよい。なお、反応温度は、溶媒によって異なり、系中で発生させる有機リチウム化合物が溶媒と反応しない温度とすることがより好ましい。具体的には、THFを使用する場合は-80°C程度以下とすることが好ましいが、炭化水素系溶媒を使用する場合には100°C程度までの加熱が可能である。反応雰囲気には、乾燥ガスを用いることが好ましい。次に、所望のアリール基を有するアリールアルデヒドを用いて反応させることで、ステップ7が終了する。この際使用できるアリールアルデヒドとしては、例えば、等が挙げられる。上記アリールアルデヒドの使用量は、一般式E-4で示される化合物1モルに対して、2~20モルが好ましく、2~3モルがより好ましい。この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、特に制限はなく、特に制限されるわけではないが、通常エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒等が用いられる。例えばテトラヒドロフランTHF、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。この際の反応条件には特に限定はない。反応時間は1分以上とすればよい。反応時間が長くても特に不利益はないが、時間がかかるため、通常1000分以下である。反応温度は-110~100°C程度とすればよい。なお、反応温度は、溶媒によって異なり、系中で発生させる有機リチウム化合物が溶媒と反応しない温度とすることがより好ましい。具体的には、THFを使用する場合は-80°C程度以下とすることが好ましいが、炭化水素系溶媒を使用する場合には100°C程度までの加熱が可能である。反応雰囲気には、乾燥ガスを用いることが好ましい。<ステップ8>[式中、R2、RB1a及びRB2aは前記に同じである。]ステップ8では、一般式E-5で示される化合物を酸化させればよい。この際使用できる酸化剤は、例えば、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノンDDQ、二酸化マンガン、ジョーンズ試薬、クロロクロム酸ピリジニウム、二クロム酸ピリジニウム等が挙げられる。上記酸化剤の使用量は、一般式E-5で示される化合物1モルに対して、2~20モルが好ましく、2~3モルがより好ましい。この反応は、溶媒中で行ってもよい。溶媒としては、特に制限はなく、<目的物が、チアゾロ[2,3-c]チオフェン骨格を有する場合>にて上記した1種又は2種以上の反応溶媒等が挙げられる。この際の反応条件には特に限定はない。反応時間は1~1000分、反応温度は0~100°Cとすればよい。反応雰囲気も特に限定はなく、空気雰囲気、不活性ガス雰囲気等が挙げられる。以上のステップ1~8により、一般式B1で示される化合物に包含される概念である、一般式E-6で示される化合物を得ることができる。同様の方法により、一般式B1で示される化合物に包含される他の化合物も合成可能である。なお、チアゾール環の2位に置換する基はシリル系の基のみならず、アリール基のものも合成することができる。具体的には、以下の反応式:[式中、X’、RB1a及びRB2aは前記に同じ;Arは同じか又は異なり、それぞれ置換基を有していてもよいアリール基である。]で示される経路を経ることにより得られる。式中、Arは置換基を有していてもよいアリール基である。このような置換基を有していてもよいアリール基としては、前述したようなものが使用できる。<ステップ1a>[式中、X’及びArは前記に同じである。]ステップ1aでは、2位にハロゲンを有するチアゾールと任意のアリール金属化合物とのクロスカップリング反応により、2位にアリール基を有するチアゾールを合成する。例えば、これに限定されるわけではないが、2位にハロゲンを有するチアゾールと任意のアリールボロン酸化合物とを出発原料とし、パラジウム化合物及び塩基を用いた鈴木-宮浦カップリング反応により、2位に任意のアリール基を導入すればよい。この際使用できるアリールボロン酸化合物としては、特に制限されない。例えば、フェニルボロン酸、4-メチルフェニルボロン酸、4-メトキシフェニルボロン酸、4-フルオロフェニルボロン酸、4-tert-ブチルフェニルボロン酸、3-フルオロ-4-メトキシフェニルボロン酸、3,4,5-トリメトキシフェニルボロン酸等が挙げられる。パラジウム化合物の種類及び配位子の添加の有無については特に限定はない。パラジウム化合物としては、例えば、酢酸パラジウム、Pd4、Pd23、PdCl22、Pd2等が好ましい。配位子を使用する場合には、酢酸パラジウムに配位子としてS-Phos2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,6’-ジメトキシビフェニルを添加するのが特に好ましい。パラジウム化合物の使用量は、原料1モルに対して、通常0.01~0.2モル、好ましくは0.01~0.05モル程度とすればよい。添加物としてホスフィン化合物等の配位子を添加する場合には、原料1モルに対して、通常0.01~0.5モル、好ましくは0.01~0.10モル程度とすればよい。塩基の種類には特に限定はないが、使用できる塩基としては、リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。リン酸カリウムを使用するのが特に好ましい。溶媒の種類には特に限定はないが、トルエン又はトルエンを水と任意の割合で混合させたものが特に好ましい。この際の反応雰囲気には特に限定はない。反応時間は1~100時間、酸素を除いた不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。<ステップ2a~8a>ステップ2a~8aについては、前述のステップ2~8と同様の反応である。したがって、使用する薬品や反応条件等も同様である。また、一般式B1で示される化合物のみならず、同様の反応により、一般式B2及びB3で示される化合物を合成することも可能である。一般式B2で示される化合物を合成する場合、例えば、以下の反応式:[式中、X’、RB1a及びRB2aは前記に同じ;R’は同じか又は異なり、それぞれ-SiR23で示される基又は置換基を有していてもよいアリール基である。]により合成できる。ステップ1b及び2bは、ステップ1~2、1a~2aと同様である。その後、リチウム塩基リチウムジイソプロピルアミド等を作用させてチアゾール環4位の水素原子を引き抜き、ハロゲン転位反応を行った後、ハロゲンで捕捉する代わりに水で処理することで、2位にトリアルキルシリル基又はアリール基、4位にハロゲンを有するチアゾールを合成するステップ3b。この後、ステップ4と同様の園頭-荻原カップリング反応を行いステップ4b、その後、ステップ5と同様にアセチレン末端のシリル基を、塩基を用いて脱保護するステップ5b。さらに、ステップ6と同様に、ステップ5bで得られた化合物とステップ3bで得られた化合物間の園頭-荻原カップリング反応を行いステップ6b、さらにステップ3と同様に、低温でリチウム塩基を作用させた後にハロゲン化剤で捕捉するステップ7b。その後は、ステップ7及び8と同様の方法ステップ8b及び9bで、環化前駆体となる一般式B2で示される化合物が合成できる。このように、一般式B1で示される化合物の合成方法を参考に、一般式B2で示される化合物を合成できる。一般式B3で示される化合物を合成する場合、例えば、以下の反応式:[式中、X’、R2、RB1a及びRB2aは前記に同じ;R’は同じか又は異なり、それぞれ-SiR23で示される基又は置換基を有していてもよいアリール基である。]により合成できる。ステップ1c~5cは、ステップ1b~5bと同じである。ステップ6と同様に、ステップ5cで得られた化合物とステップ3で得られた化合物間の園頭-荻原カップリング反応を行いステップ6c、さらにステップ3と同様に、低温でリチウム塩基を作用させた後にハロゲン化剤で捕捉するステップ7c。その後は、ステップ7及び8と同様の方法ステップ8c及び9cで、環化前駆体となる一般式B3で示される化合物が合成できる。このように、一般式B1で示される化合物の合成方法を参考に、一般式B3で示される化合物を合成できる。4.π共役有機化合物の共重合体本発明のπ共役有機化合物の共重合体は、一般式C:[式中、E、W1~W4は前記に同じ;RC1及びRC2は同じか又は異なり、それぞれ置換基を有していてもよいアリーレン基;RC3及びRC4は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアルキル基、-SiR233個のR2は同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、シアノ基、シリル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ボリル基又はハロゲン原子であるで示される基、ハロゲン原子又はボリル基である。]で示される単位を繰り返し単位として有するものである。式Cにおいて、RC3及びRC4はそれぞれRA3及びRA4と同じ、RC1及びRC2はそれぞれRA1及びRA2由来の基である。このような本発明のπ共役有機化合物の共重合体としては、具体的には、一般式C1:[式中、E、RC1~RC4は前記に同じである。]で示される単位、一般式C2:[式中、E及びRC1~RC4は前記に同じである。]で示される単位、及び一般式C3:[式中、E及びRC1~RC4は前記に同じである。]で示される単位等が挙げられる。この本発明のπ共役有機化合物の共重合体は、特に制限されないが、本発明のπ共役有機化合物をモノマーとして用い、必要に応じて本発明のπ共役有機化合物と共重合可能なモノマーを用いて重合させることで得られる。重合の方法及び条件は特に制限はなく、公知のものを採用すればよい。具体的には、以下の方法等により合成可能である。なお、この合成方法にしたがえば、一般式C2及びC3で示される単位を有する共重合体も合成可能である。<重合前駆体>1RA1及びRA2がベンゼン環を有する場合[式中、E及びRA3~RA4は前記に同じ;RC5~RC6は同じか又は異なり、それぞれオルト配向基;Xは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子である。]ベンゼン環上にオルト配向基例えばアルコキシ基、ハロゲン等をもつ化合物に対して、塩基を作用させることで、選択的に隣接する炭素上の水素を引き抜いた後、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン、臭素、NBS等で処理することで、対応するブロモ化体が得られる。また、ヨウ素、1,2-ジヨードエタン等を用いることで、ヨウ素化された化合物も得ることができる。用いる塩基の種類に特に限定はなく、LDAリチウムジイソプロピルアミド,LiTMPリチウムテトラメチルピペリジド、アルキルリチウム例えばn-ブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム等のリチウム塩基の他、カリウムアルコキシド例えばt-BuOK、有機亜鉛試薬例えばTMPtBu2ZnLi等が挙げられる非特許文献7。2RA1及びRA2が複素環を有する場合[式中、E及びRA3~RA4は前記に同じ;Xは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子;W5及びW6は同じか又は異なり、それぞれN又はCHである。]塩基で水素を引き抜いた後、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン、臭素、NBS等で処理することで、対応するブロモ化体が得られる。また、ヨウ素、1,2-ジヨードエタン等を用いることで、臭素のかわりにヨウ素化された化合物も得ることができる。用いる塩基の種類に特に限定はなく、LDAリチウムジイソプロピルアミド、LiTMPリチウムテトラメチルピペリジド、アルキルリチウム例えばn-ブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム等のリチウム塩基の他、カリウムアルコキシド例えばt-BuOK、有機亜鉛試薬例えばTMPtBu2ZnLi等が挙げられる非特許文献7。<ポリマー>[式中、E、X及びRC1~RC4は前記に同じ;nは2以上の整数である。]上記のように重合前駆体を得た後、当該重合前駆体を出発原料として用い、Nicod2等のニッケル錯体を用いたホモカップリング型重合を行うことで合成できる非特許文献8~11。<コポリマー>共重合体の合成は、上記で得られる重合前駆体と、種々の有機金属試薬有機スズ化合物、有機ホウ素化合物、有機マグネシウム化合物、有機ケイ素化合物等との遷移金属触媒パラジウム錯体、ニッケル錯体等を用いたクロスカップリング反応等によって可能である。典型例として、有機金属試薬として有機スズ化合物を用いた場合は、以下のスキーム:[式中、E、X及びRC1~RC4は前記に同じ;nは2以上の整数;Rは置換基を有していてもよいアルキル基;Ar’は置換基を有していてもよいアリール基又はヘテロアリール基を有する基である。]により合成可能である非特許文献12。また、以下のスキーム:[式中、E、X及びRC1~RC4は前記に同じ;nは2以上の整数;Rは置換基を有していてもよいアルキル基;Ar’は置換基を有していてもよいアリール基又はヘテロアリール基を有する基である。]に示すように、トリアルキルスタンニル基SnR3等の金属が置換した有機金属化合物と、ハロゲン化アリールとのクロスカップリング反応によっても同様に合成可能である。この際、原料となる有機金属化合物は、例えば、上記で得られる重合前駆体から塩基で水素を引き抜いた後、金属交換反応を行うことで、対応する有機金属化合物が得られる。用いる塩基の種類に特に限定はなく、LDAリチウムジイソプロピルアミド、LiTMPリチウムテトラメチルピペリジド、アルキルリチウム例えばn-ブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム等のリチウム塩基の他、有機マグネシウム試薬例えばRMgX、カリウムアルコキシド例えばt-BuOK、有機亜鉛試薬例えばtBu2ZnLi等が挙げられる。また、金属交換反応の際に用いる試薬の種類にも特に限定はなく、R3SnY1Y1=Cl、Br又はOTfを用いれば有機スズ試薬が、R3SiY2Y2=F、Cl、Br、又はOTfを用いれば有機ケイ素試薬が、BOR3を用いれば有機ホウ素試薬が、MgY32Y3=Cl又はBrを用いれば有機マグネシウム試薬が調製可能である。また、本発明のπ共役有機化合物の共重合体は、本発明のπ共役有機化合物と同じ骨格を有することから、本発明のπ共役有機化合物と同様に、高い平面性と高い化学的安定性をあわせもち、且つ、電子供与性の高いものである。以下、本発明について、実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。融点mpは、Yanako微量融点測定装置MPS3を用いて測定した。1HNMR及び13CNMRスペクトルは、核磁気共鳴装置AL400を用いて測定した共鳴周波数1H400MHz13C100MHz。化学シフト値はppmで表記し、溶媒には重クロロホルムを用いた。内部標準には溶媒の残存プロトン由来のシグナルを用い、1HNMR測定時はδ726ppm13CNMR測定時はδ771ppmとした。高分解能質量分析スペクトル測定は、BrukerMicrOTOFFocusを用いて測定した。薄層クロマトグラフィーはMercksilicagel60F254を用いた。カラムクロマトグラフィーは、富士シリシア化学silicagelPSQ100Bを用いた。分取リサイクル型ゲル浸透クロマトグラフィーにはポリスチレンゲルカラムを備えた日本分析工業LC918を用いた。光反応の光源には、高圧UVランプUM452を用いた。紫外可視吸収スペクトルは、島津UV350を用いて測定した。蛍光スペクトルは、紫外可視近赤外分光光度計UV3150で測定した。絶対量子収率は,マルチチャンネル分光器PMA10又はPMA12を備えた絶対PL量子収率測定装置C992002を用いて測定した。サイクリックボルタンメトリー測定は、ALSCHI617Aを用い、作用電極にグラッシーカーボン電極、カウンター電極に白金電極及びAgAgNO3の参照電極を用いた。測定試料には、アルゴン雰囲気下01mMのヘキサフルオロリン酸フッ化テトラブチルアンモニウムを支持電解質に含むCH2Cl2溶液中に、試料を05mMで溶かした溶液を用いた。電位はフェロセンを基準電位として計算した。脱水溶媒は特に記述の無い限り、市販のものを用いた。反応は特に記述のない限り,アルゴン雰囲気下でおこなった。[合成例1:2-t-ブチルジメチルシリルチアゾール]500mLの二口丸底フラスコにnブチルリチウムヘキサン溶液656mLを入れ、脱水THF150mLを加えた。78°Cに冷却し、2ブロモチアゾール901mLを40分かけて滴下した。滴下後1時間撹拌し、別途調製したtertブチルジメチルシリルクロリド1507gの脱水THF溶液40mLを1時間で滴下した。室温まで昇温し、2時間撹拌したのち、減圧下で溶媒を留去した。クロロホルムと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて分液し、水層をクロロホルム30mLで3回抽出したのち、有機層をあわせて飽和食塩水30mLで3回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗成生物を減圧蒸留により精製し、2-t-ブチルジメチルシリルチアゾールを139gの無色液体として得た。沸点:1031035°C1HNMRδ04009775481513C1HNMRδ52417052641121511458317229HRMSCalcdforC9H18NSSi2000924Obsd2000916[合成例2:5-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾール]1Lの3口丸底フラスコに合成例1で得た2-t-ブチルジメチルシリルチアゾール1396gを入れ、脱水THF400mLを加えた。78°Cに冷却し、nブチルリチウムヘキサン溶液475mLを1時間かけて滴下した。反応混合物を30分撹拌したのち、12ジブロモ1122テトラフルオロエタン885mLを20分かけて滴下した。室温まで昇温し、3時間撹拌したのち、減圧下で溶媒を留去した。クロロホルムと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて分液し、水層をクロロホルム20mLで3回抽出したのち、有機層をあわせて飽和食塩水15mLで3回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに2トリエチルアミン添加Rf063で精製することで、182gの5-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾールを茶色の液体として得た。1HNMRδ03609679513C1HNMRδ54717052633112081472117589HRMSCalcdforC9H17BrNSSi2780034Obsd2780040[実施例1:4-ブロモ-5-ヨード-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾール]1Lの3口丸底フラスコにNNジイソプロピルアミン106mLを入れ、脱水THF250mLを加えた。78°Cに冷却し、nブチルリチウムヘキサン溶液470mLを1時間かけて滴下した。滴下後30分撹拌したのち、0°Cに昇温することで、リチウムNNジイソプロピルアミドのTHF溶液を調製した。1時間後再び78°Cに冷却し、合成例2で得た5-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾールの脱水THF溶液を1時間30分かけて滴下した後、反応溶液を同じ温度で45分撹拌し、ヨウ素182gの脱水THF溶液40mLを1時間かけて滴下した。1時間撹拌したのち室温まで昇温し、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を20mL加えた後分液し、水層をクロロホルム50mLで3回抽出し、有機層をあわせて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mLで3回、続いて飽和食塩水で15mLで3回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィートリエチルアミン添加、Rf065で精製することで256gの4-ブロモ-5-ヨード-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾールを茶色の固体として得た。融点:642650oC1HNMRδ03609613C1HNMRδ5511712263475551383518025HRMSCalcdforC9H16BrINSSi4038995Obsd4038983[実施例2:4-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリル-5-[2-トリメチルシリルエチニル]チアゾール]500mLの2口丸底フラスコにジクロロビスパラジウム5615mg、ヨウ化銅762mg、実施例1で得た4-ブロモ-5-ヨード-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾール808gを入れ、脱水THF200mL、トリエチルアミン835mLを加えた。0°Cに冷却し、トリメチルシリルアセチレン304mLを15分かけて滴下した。室温まで昇温し、終夜で撹拌したのち溶媒を留去した。クロロホルム飽和NaHCO3水溶液を加えて分液し、水層をクロロホルム30mLで3回抽出したのち、有機層をあわせて飽和食塩水15mLで3回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をクーゲルロール蒸留により精製し、4-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリル-5-[2-トリメチルシリルエチニル]チアゾールを512gの黄色液体として得た。1HNMRδ02703609513C1HNMRδ585049126019311Obsd3740416[実施例3:4-ブロモ-5-エチニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾール]200mLの2口丸底フラスコに実施例2で得た4-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリル-5-[2-トリメチルシリルエチニル]チアゾール301gを入れ、脱水THF70mLを加えた。0°Cに冷却し、炭酸カリウム225mg、エタノール10mLを加えた。その後室温に昇温し、6時間撹拌した。溶媒を留去した後、クロロホルムと飽和NaHCO3水溶液を加えて分液し、水層をクロロホルム30mLで3回抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水15mLで3回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去することで、4-ブロモ-5-エチニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾールを243gの赤色固体として得た。融点:781°C1HNMRδ03709737113C1HNMRδ5513170926338823118021342117533HRMSCalcdforC11H17BrNSSi3020029Obsd3020019[実施例4:ビス5-[4-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン]100mLの2口丸底フラスコにテトラキスパラジウム139mg、ヨウ化銅460mg、実施例3で得た4-ブロモ-5-エチニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾール324gを入れ、脱水THF50mL、トリエチルアミン340mLを加えた。0°Cに冷却し、実施例1で得た4-ブロモ-5-ヨード-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾール242gのTHF溶液5mLを15分かけて滴下した。室温まで昇温し、終夜で撹拌したのち、溶媒を留去した。クロロホルムと飽和NaHCO3水溶液を加えて分液し、水層をクロロホルム30mLで3回抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水15mLで3回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、1トリエチルアミン添加、Rf015030で精製することで、325gのビス5-[4-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレンを黄色の固体として得た。融点:781790oC1HNMRδ03909813C1HNMRδ5809168326038873117961339717570HRMSCalcdforC20H31Br2N2S2Si25769828Obsd5769804[実施例5:ビス5-[4-4-メチルフェニルヒドロキシメチル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン]20mLのシュレンク管に実施例4で得たビス5-[4-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン200mgを入れ、脱水THF3mLを加えた。78°Cに冷却し、tブチルリチウムペンタン溶液087mLを5分かけて滴下した。滴下後30分撹拌したのち、pトルアルデヒド98μLを1分かけて滴下した。3時間撹拌したのち室温まで昇温し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液2mLを加えて分液し、水層をクロロホルム15mLで3回抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水15mLで3回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、2トリエチルアミン添加、Rf040で精製したのち、分取リサイクルGPCにより精製することで、ビス5-[4-4-メチルフェニルヒドロキシメチル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレンを184mgの茶色液体として得た。1HNMRδ0376097622923037938658959370871072372913C1HNMRδ5653561216822098260771137125886011514115241264512652128941372213723139291393816352165551742317427HRMSCalcdforC36H49N2O2S2Si26612768Obsd6612771[実施例6:ビス5-[4-4-メトキシフェニルヒドロキシメチル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン]20mLのシュレンク管に実施例4で得たビス5-[4-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン500mgを入れ、脱水THF8mLを加えた。78°Cに冷却し、tブチルリチウムペンタン溶液216mLを5分かけて滴下した。反応溶液を30分撹拌したのち、アニスアルデヒド0231mLを1分かけて滴下した。2時間撹拌したのち室温まで昇温し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液3mLを加えて分液し、水層をクロロホルム30mLで3回抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水15mLで3回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィートリエチルアミン添加、Rf038で精製したのち、分取リサイクルGPCで精製することで、ビス5-[4-4-メトキシフェニルヒドロキシメチル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレンを496mgの橙色液体として得た。1HNMRδ0378097537537838458859268068272673213C1HNMRδ50149917472670556671637164892289251142611575115851284712855135121352215964164251642817488HRMSCalcdforC36H49N2O4S2Si26932667Obsd6932684[実施例7:ビス5-[4-3,4,5-トリメトキシフェニルヒドロキシメチル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン]20mLのシュレンク管に実施例4で得たビス5-[4-ブロモ-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレンを入れ、脱水THF6mLを加えた。78°Cに冷却し、tブチルリチウムペンタン溶液216mLを5分かけて滴下した。滴下後30分撹拌したのち、345トリメトキシフェニルカルボアルデヒド407mgの脱水THF溶液を5分かけて滴下した。2時間撹拌したのち室温まで昇温し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液3mLを加えて分液した。水層をクロロホルム15mLで3回抽出したのち、有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、1トリエチルアミン添加、Rf030で精製したのち、分取リサイクルGPCで精製することにより、ビス5-[4-3,4,5-トリメトキシフェニルヒドロキシメチル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレンを586mgの橙色固体として得た。融点:591620oC1HNMRδ0386097373637723761379459159766667013C1HNMRδ5041746266856406123721572208934894810403104171156811576138491385815368164061642117542HRMSCalcdforC40H57N2O8S2Si28133089Obsd8133128[実施例8:ビス5-[4-4-メチルフェニルカルボニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン]50mLの2口丸底フラスコに実施例5で得たビス5-[4-4-メチルフェニルヒドロキシメチル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン300mgを入れ、14ジオキサン10mLを加えた。DDQ238mgの14ジオキサン溶液5mLを30分かけて滴下した。室温で24時間撹拌したのち、14ジオキサン及びクロロホルムを加えて不溶性の固体を濾過した。減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物を塩基性アルミナカラムクロマトグラフィー、Rf082で精製することにより、ビス5-[4-4-メチルフェニルカルボニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレンを260mgの黄色固体として得た。融点:21652173°C1HNMRδ039710024272472680813C1HNMRδ53217182189263891701269912887131231348414382158111738218680HRMSCalcdforC36H45N2O2S2Si26572455Obsd6572436[実施例9:ビス5-[4-4-メトキシフェニルカルボニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン]20mLのシュレンク管に実施例6で得たビス5-[4-4-メトキシフェニルヒドロキシメチル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン497mgを入れ、14ジオキサン10mLを加えた。DDQ374mgの14ジオキサン溶液5mLを30分かけて滴下した。室温で17時間撹拌した後、14ジオキサン及びクロロホルムで不溶性の固体を濾過した。減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物を塩基性アルミナカラムクロマトグラフィー、Rf070で精製することで、ビス5-[4-4-メトキシフェニルカルボニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレンを458mgの橙色固体として得た。融点:159°C1HNMRδ04010138869382213C1HNMRδ50017492671559191931137512708130621338515860163961740318598HRMSCalcdforC36H45N2O4S2Si26892354Obsd6892342[実施例10:ビス5-[4-3,4,5-トリメトキシフェニルカルボニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン]20mLのシュレンク管に実施例7で得たビス5-[4-3,4,5-トリメトキシフェニルヒドロキシメチル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン455mgを入れ、14ジオキサン10mLを加えた。DDQ291mgの14ジオキサン溶液5mLを30分かけて滴下した。室温で18時間撹拌した後、14ジオキサン及びクロロホルムで不溶性の固体を濾過した。減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物を塩基性アルミナカラムクロマトグラフィー、Rf068で精製することで、ビス5-[4-3,4,5-トリメトキシフェニルカルボニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレンを384mgの橙色固体として得た。融点:149°C1HNMRδ04210139039476713C1HNMRδ499174226715664614392121091012815132571430215307158391740618552HRMSCalcdforC40H53N2O8S2Si28092776Obsd8092779[実施例11:6,6’-ビス4-メチルフェニル-2,2’-ビチアゾロ[2,3-c]チオフェン]褐色のヤングコックシュレンク管に実施例8で得たビス5-[4-4-メチルフェニルカルボニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン、ローソン試薬Lawesson試薬603mg、脱水トルエン3mLを加えた。還流下13時間撹拌したのち室温まで冷却し、減圧下で溶媒を留去した。脱水THF3mL、フッ化テトラnブチルアンモニウムの1MTHF溶液041mLを加え、室温で1時間撹拌した。不溶性の固体を濾過し、THFとトルエンで洗浄することで、6,6’-ビス4-メチルフェニル-2,2’-ビチアゾロ[2,3-c]チオフェンを33mgの赤橙色固体として得た。融点300°C1HNMRδ205729801902HRMSCalcdforC24H17N2S44610269Obsd4610270[実施例12:6,6’-ビス4-メトキシフェニル-2,2’-ビチアゾロ[2,3-c]チオフェン]褐色のヤングコックシュレンク管に実施例9で得たビス5-[4-4-メトキシフェニルカルボニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン80mg、ローソン試薬Lawesson試薬516mg、脱水トルエン3mLを加えた。還流下2時間撹拌したのち室温まで冷却し、減圧下で溶媒を留去した。脱水THF3mL、フッ化テトラnブチルアンモニウムの1MTHF溶液035mLを加え、室温で1時間撹拌した。蒸留水10mLを加えた後分液し、水層をクロロホルム40mLで3回抽出し、飽和食塩水15mLで3回洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、6,6’-ビス4-メトキシフェニル-2,2’-ビチアゾロ[2,3-c]チオフェンを44mgの濃赤色固体として得た。融点300°C1HNMRδ388701805899HRMSCalcdforC24H17N2O2S44930167Obsd4930159[実施例13:6,6’-ビス3,4,5-トリメトキシフェニル-2,2’-ビチアゾロ[2,3-c]チオフェン]褐色のヤングコックシュレンク管に実施例10で得たビス5-[4-3,4,5-トリメトキシフェニルカルボニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン89mgローソン試薬Lawesson試薬49mg、脱水トルエン3mLを加えた。還流下11時間撹拌したのち室温まで冷却し、減圧下で溶媒を留去した。脱水THF3mL、フッ化テトラnブチルアンモニウムの1MTHF溶液033mLを加え、室温で1時間撹拌した。蒸留水10mLを加えた後分液し、水層をクロロホルム30mLで3回抽出し、飽和食塩水15mLで3回洗浄したのち,無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、Rf045で精製することで、6,6’-ビス3,4,5-トリメトキシフェニル-2,2’-ビチアゾロ[2,3-c]チオフェンを46mgの濃赤色固体として得た。Mp300°C1HNMRδ39240073990113C1HNMRδ56526120104591265712807128751294312986153771558516024HRMSCalcdforC28H25N2O6S46130590Obsd6130535[実施例14:ビス5-[4-4-メトキシフェニルカルボニルチアゾリル]アセチレン]50mLの2口丸底フラスコに実施例9で得たビス5-[4-4-メトキシフェニルカルボニル-2-t-ブチルジメチルシリルチアゾリル]アセチレン63mgを入れ、脱水THF3mLを加えた。その後、フッ化テトラnブチルアンモニウムの1MTHF溶液019mLを滴下し、室温で1時間撹拌した。蒸留水10mLを加えた後分液し、水層をクロロホルム20mLで3回抽出し、飽和食塩水15mLで3回洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、Rf068で精製することで、ビス5-[4-4-メトキシフェニルカルボニルチアゾリル]アセチレンを418mgの黒色固体として得た。融点:21412150oC1HNMRδ38769681287913C1HNMRδ556790471137212377129881332115263156391638918545HRMSCalcdforC24H17N2O4S24610624Obsd4610620[実施例15:6,6’-ビス4-メトキシフェニル-2,2’-ビチアゾロ[2,3-c]フラン]50mLのシュレンク管に実施例14で得たビス5-[4-4-メトキシフェニルカルボニルチアゾリル]アセチレン10mgを入れ、脱水THF25mLを加えた。反応溶液を20°Cとし、紫外線を20分照射した。減圧下で溶媒を留去したのち、脱水THF1mlを加えて0°Cで撹拌した。析出した不溶性の固体をアルゴン下で濾過することで、6,6’-ビス4-メトキシフェニル-2,2’-ビチアゾロ[2,3-c]フランを70mgの黄色固体として得た。融点:28482855oC1HNMRδ389704807870HRMSCalcdforC24H17N2O4S24610624Obsd4610640[合成例3:2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール]還流管、ラバーセプタム及び三方コックを備えた500mLの二口ナス型フラスコに、アルゴン雰囲気下で3,4,5-トリメトキシフェニルボロン酸101g、472mmol、酢酸パラジウム160mg、071mmol、S-Phos583mg、142mmol、及びリン酸カリウム30g、142mmolを入れ、トルエン200mL及び水30mLに溶解させたのち、2-ブロモチアゾール774g、472mmolを加え、撹拌しながら100°Cで18時間加熱した。反応混合物を室温まで冷ました後二層に分離し、水層をクロロホルム50mLで3回抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過し、減圧下で溶媒を留去することで粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム酢酸エチル、Rf040で精製することで、79gの2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾールを得た314mmol、収率67。1HNMRδ390396720732785[合成例4:5-ブロモ-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール]三方コック、滴下漏斗を備えた300Lの2口丸底フラスコに、アルゴン雰囲気下でN,N-ジイソプロピルアミン411mL293mmolを入れ、脱水THF100mLを加えた。78°Cに冷却し、n-ブチルリチウムヘキサン溶液183mL160M、293mmolを50分かけて滴下した。滴下後1時間撹拌したのち、0°Cに昇温することで、リチウムN,N-ジイソプロピルアミドのTHF溶液を調製した。1時間後、95°Cに冷却し、上記の合成例3で得た2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール700g、279mmolの脱水THF40mL溶液を50分かけて滴下した後、反応溶液を同じ温度で50分撹拌し、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン368mL307mmolを10分かけて滴下した。1時間撹拌したのち室温まで昇温し、THFを留去したのち水及びクロロホルムを加えて分液し、水層をクロロホルムで3回抽出し、有機層をあわせて飽和食塩水で3回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム、Rf033で精製することで870gの5-ブロモ-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾールを得た263mmol、収率94。1HNMRδ390394709771[実施例16:4-ブロモ-5-ヨード-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール]三方コック、滴下漏斗を備えた300mLの2口丸底フラスコにN,N-ジイソプロピルアミン358mL255mmolを入れ、脱水THF100mLを加えた。78°Cに冷却し、n-ブチルリチウムヘキサン溶液159mL160M、255mmolを50分かけて滴下した。滴下後30分撹拌したのち、0°Cに昇温することで、リチウムN,N-ジイソプロピルアミドのTHF溶液を調製した。1時間後再び78°Cに冷却し、上記の合成例4で得た5-ブロモ-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール760g、230mmolの脱水THF40mL溶液を1時間10分かけて滴下した後、反応溶液を同じ温度で50分撹拌し、ヨウ素700g276mmolの脱水THF溶液20mLを1時間かけて滴下したのちゆっくりと室温まで昇温し、一晩撹拌した。飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた後分液し、水層をクロロホルム50mLで3回抽出し、有機層をあわせて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で3回、続いて飽和食塩水で3回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をヘキサンで洗浄することで975gの4-ブロモ-5-ヨード-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾールを得た214mmol、収率93。1HNMRδ390393708[実施例17:4-ブロモ-5-トリメチルシリルエチニル-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール]滴下漏斗とジムロート冷却管及び三方コックを備えた100mLの2口丸底フラスコにジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム270mg0385mmol、ヨウ化銅300mg0158mmol、上記実施例16で得た4-ブロモ-5-ヨード-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール350g769mmolを入れ、脱水THF50mL、トリエチルアミン535mL385mmolを加えた。0°Cに冷却し、トリメチルシリルアセチレン112mL808mmolを15分かけて滴下した。室温まで昇温し、一晩撹拌したのち溶媒を留去した。クロロホルム及び水を加えて分液し、水層をクロロホルム20mLで3回抽出したのち、有機層をあわせて飽和食塩水20mLで3回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサンクロロホルムにより精製し、4-ブロモ-5-トリメチルシリルエチニル-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾールを227gの黄色固体として得た641mmol、収率83。1HNMRδ029390393711[実施例18:4-ブロモ-5-エチニル-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール]100mLの2口丸底フラスコに、炭酸カリウム45mg032mmol、メタノール8mL、THF8mLを入れ、上記の実施例17で得た4-ブロモ-5-トリメチルシリルエチニル-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール136g319mmolをTHF12mLに分散させた懸濁液を30分かけて加えた。反応混合物を1時間撹拌したのち溶媒を留去し、クロロホルムと飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて分液し、水層をクロロホルム20mLで3回抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で3回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去することで、4-ブロモ-5-エチニル-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾールを110gの淡黄色固体として得た311mmol、収率97。1HNMRδ373390394712[実施例19:ビス{4-ブロモ-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾリル}アセチレン]滴下漏斗とジムロート冷却管及び三方コックを備えた100mLの2口丸底フラスコにジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム67mg0094mmol、ヨウ化銅90mg0047mmol、上記の実施例16で得た4-ブロモ-5-ヨード-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール142g313mmolを入れ、脱水THF30mL、トリエチルアミン220mL156mmolを加えた。0°Cに冷却し、上記の実施例18で得た4-ブロモ-5-エチニル-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾール111g313mmolのTHF溶液10mLを30分かけて滴下した。室温まで昇温して一晩撹拌したのち、生じた沈殿を濾過した。得られた固体をクロロホルムで洗浄することで、838mgの4-ブロモ-5-ヨード-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾールを得た。また、濾液はあわせて水を加えたのち分液し、水層をクロロホルムで3回抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で3回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過し、減圧下で溶媒を留去した。得られた固体をクロロホルムで再結晶することで、さらに744mgのビス{4-ブロモ-2-3,4,5-トリメトキシフェニルチアゾリル}アセチレンを得た合計158g、232mmol、収率74。1HNMRδ392395715この後、実施例5~13と同様の手法により、本発明のπ共役有機化合物が合成可能である。[試験例1:反応時間と収率]実施例11~13を比較すると、最も電子供与性の高いpアニシル基を有する実施例12においては、2時間と短い時間で反応が完結した。結果を表1に示す。また、ベンゾ[c]チオフェン、ビチエノ[2,3-c]チオフェン誘導体等が大気下溶液状態で徐々に分解するのとは対照的に、得られた化合物はいずれも、同条件下で高い化学的安定性を示すことが確認され、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いた精製操作によって化合物を単離することができた。[試験例2:ビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体のX線結晶構造解析]実施例11で得た66’ビス22’ビのX線結晶構造解析は、以下のようにして行った。単結晶は、クロロベンゼンを用いた再結晶により得た。強度データはRigakuSingleCrysytalCCDX線解析装置を用いて123Kで得た。初期構造はSIR97により求め、fullmatrixleastsquareonF2により最適化した。結晶データC24H16N2S4FW46063、結晶サイズ015×008×002mm3、monoclinic、P21n、a11611Å、b66484Å、c13561Å、β107184°、V10001Å3、Z2、Dcalcd1530gcm3、μ0491mm1、R100316、wR200741、GOF1089実施例12で得た66’ビス22’ビのX線結晶構造解析は、以下のようにして行った。単結晶は、トルエンを用いた再結晶により得た。強度データはRigakuSingleCrysytalCCDX線解析装置graphitemonochromatorを用いて123Kで得た。初期構造はSIR97により求め、fullmatrixleastsquareonF2により最適化した。結晶データC24H16N2O2S4;FW49263、結晶サイズ020×004×002mm3、monoclinic、P21c、a51805Å、b19578Å、c10206Å、β95689°、V10301Å3、Z2、Dcalcd1588gcm3、μ0489mm1、R100391、wR200842、GOF1119結果を図1~2に示す。いずれの化合物においても、チアゾロチオフェン骨格間の二面角が約180°、チアゾロチオフェンとアリール基の二面角C3-C4-C6-C7は実施例11で16.5°、実施例12で12.2°であり、分子骨格全体として高い平面性をもつことが明らかになった。これらの結果から、本発明のビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体は、両端の基にまで十分な共役が広がる構造であるといえる。また、実施例11及び12のいずれで得られた化合物についても、二つの硫黄原子間の距離はいずれも3.36Åであり、硫黄原子のファンデルワールス半径の和3.70Åよりも顕著に短いことがわかった。硫黄原子間に非結合性相互作用が存在することが示唆される。次に、これらの化合物のパッキング構造を図3~4に示す。いずれの誘導体も平面性の高い分子構造に由来して密なパッキング構造をとっていることが明らかになった。特に、実施例11で得た化合物はヘリングボーン型のパッキング構造を形成しており、面間距離は359Åであった。一方実施例12で得た化合物は、ずれたスタッキング構造をとっており、面間距離は343Åと短く、より密なパッキング構造を形成していた。[試験例3:ビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体の光物性]実施例11~13で得たビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体の光物性を明らかにするために、ジクロロメタン溶液での紫外可視吸収及び蛍光スペクトルを測定した。その結果を表2及び図5~6に示す。なお、図5~6において、29aは実施例11、29bは実施例12、29cは実施例13で得た化合物を示す。実施例11で得た化合物は460nm付近に強い吸収帯を示し、ピークフィッティングにより457nm及び486nmに吸収極大をもつと見積もられた。また、実施例11で得た化合物は弱い黄色の蛍光を示し、その蛍光極大波長は511nm、蛍光量子収率は005であった。参照化合物である下記式:で示される55’ジ22’ビチオフェンが376nmに吸収極大をもつのに対し、チアゾール縮環部位を導入することで吸収が110nm長波長シフトすることが分かった。この結果より、チアゾールの縮環部位が母骨格の電子構造に大きな摂動を与えていることが明らかになった。また、実施例12~13で得た化合物はそれぞれ495nm及び499nmに最長波長吸収を、また522nm及び526nmに蛍光極大を示した。これらの結果について理解するために、上記の参照化合物55’ジ22’ビチオフェン及び実施例11~13で得た化合物についてTDDFT計算を行ったレベルによる計算。その方法は、以下のようにして行った。実施例11~13で得た化合物の初期構造は、X線結晶構造解析で求めた構造を用い、Gaussian09プログラム34を用いて構造最適化を行った。上記の参照化合物55’ジ22’ビチオフェンについては、初期構造をSpartan’04プログラム35を用いて作成し、PM3レベルで構造最適化を行った後、Gaussian03プログラム36を用いて構造最適化を行った。構造最適化及びTDDFT計算には、B3LYP631Gレベルを採用した。結果を図7に示す。なお、図7において、39は参照化合物55’ジ22’ビチオフェン、29a~29cはそれぞれ実施例11~13で得た化合物を示す。TDDFT計算の結果、実施例11~13で得た化合物及び参照化合物の最長波長吸収はいずれも、HOMOからLUMOへの遷移に対応すると帰属された。一連のビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体のHOMOは、アリール基を含む主鎖方向全体に非局在化したπ軌道であり、さらに、縮環チアゾール部位の硫黄原子のn軌道の顕著な寄与がみられた。そのため、実施例11で得た化合物のHOMO準位は参照化合物と比較して大きく上昇していると考えられる。一方、化合物のLUMOに着目すると、電子受容性のチアゾールを縮環部位に導入した実施例11~13で得た化合物は、参照化合物に比べてエネルギー準位が大幅に低下していることがわかった。これらの結果を反映して、一連のビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体のHOMO-LUMOギャップはおよそ27eVと、参照化合物の376eVと比べて約10eVも狭くなっていることがわかった。以上の結果から、電子受容性のチアゾールを縮環させることで、母骨格の電子構造に大きな摂動を与えていることがわかった。次に、試験例2で述べた結晶状態でのパッキング構造の違いが光物性にもたらす影響について調べるために、結晶状態における光物性について検討したところ、実施例11~13で得た化合物は溶液状態でいずれも黄色を呈するのに対し、結晶状態において実施例11で得た化合物は濃橙色、実施例12及び実施例13で得た化合物では濃赤色を呈し、溶液状態と比べて著しく長波長シフトした吸収をもつことが示唆された。結果を図8に示す。このことから、結晶状態においては,密なパッキング構造に由来して基底状態での強い分子間相互作用が存在すると考えられる。また、3つの化合物の結晶状態での色調は異なり、特に実施例11と比較して実施例12及び実施例13で得た化合物の吸収は顕著に長波長シフトしていることが示唆された。また、実施例12及び実施例13で得た化合物がほとんど蛍光を示さないのに対し、実施例11で得た化合物は比較的強い橙色蛍光を示し、その蛍光量子収率を、積分球を用いて測定したところΦF003であった。[試験例4:ビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体の電気化学特性]次に、得られたビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体の電気化学特性を明らかにするために、サイクリックボルタンメトリーを測定した。結果を表3及び図9に示す。なお、測定は、試料05mM、支持電解質としてnBu4NPF6をCH2Cl2に溶解させた試料を用いて行った。電位はフェロセンフェロセニウムイオン対を基準に求めた。pトリル基を有する実施例11で得た化合物は、酸化側に可逆な二段階の酸化還元波を示し、その第一及び第二酸化電位はそれぞれE12043V及びE12089Vであった。これは、対応するビチエノ[2,3-c]チオフェン誘導体:の第一及び第二酸化電位E12023V及びE12086Vと比較して顕著に正側にシフトした値であった。電子受容性のチアゾール環の導入により、HOMOのエネルギー準位が十分に低下した結果であるといえる。一方、チアゾールが縮環していない参照化合物:の第一酸化電位は041Vであることが報告されており非特許文献5、第一酸化電位を比較すると、実施例11で得た化合物の方が007V負側にシフトしていることが分かった。このことから、ビチアゾロ[2,3-c]チオフェンが高い電子供与性を保っていることが明らかになった。さらに、電子供与性がより高いpアニシル基及び345トリメトキシフェニル基を有する化合物実施例12~13で得た化合物も同様にして電気化学特性を評価した。その結果、実施例13で得た化合物は、Epa030Vに不可逆な第一酸化波を示し、電子供与性は実施例11で得た化合物と比べて高くなっているものの、電気化学的安定性は実施例11で得た化合物のほうが高いことが示唆された。一方で実施例12で得た化合物は、E12034Vに可逆な第一酸化還元波を、E12073Vに可逆な第二酸化還元波を示すことがわかり、高い電気化学的安定性を示すことがわかった。以上の結果は、p型半導体の基本骨格としての潜在性が期待される。[試験例5:ビチアゾロ[2,3-c]フランの安定性]実施例15で得た化合物は溶解性に乏しいため、溶媒を減圧下で留去する途中で黄色固体が析出し、単純な濾過操作により純粋な目的物を単離することができた。得られた化合物は、溶液状態で大気に暴露すると徐々に分解するものの、固体状態では空気中で十分な安定性をもつことがわかった。[試験例6:ビチアゾロ[2,3-c]フランの光物性]実施例15で得られたビチアゾロ[2,3-c]フランについて、ジクロロメタン中での紫外可視吸収及び蛍光スペクトルを測定した。その結果を表4及び図10~11に示す。実施例15で得た化合物は445nm及び472nmに吸収極大を示した。また、実施例15で得た化合物は弱い黄色の蛍光を示し、その蛍光極大波長は497nm、蛍光量子収率は006であった。吸収波長を対応するビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体実施例12で得た化合物と比較すると、最長波長吸収が短波長側にシフトしていることが明らかになり、より広いHOMO-LUMOギャップを有することが考えられる。これらの結果について理解するために、実施例15で得たビチアゾロ[2,3-c]フランについて、実施例12で得た化合物とともにTD-DFT計算を行ったレベルによる計算。その方法は、以下のようにして行った。初期構造は、X線結晶構造解析で求めた構造を用い、Gaussian09プログラム34を用いて構造最適化を行った。構造最適化及びTDDFT計算には、B3LYP631Gレベルを採用した。結果を図12に示す。なお、図12において、29bは実施例12で得た化合物、44は実施例15で得た化合物である。TDDFT計算の結果、実施例15で得た化合物の最長波長吸収は、HOMOからLUMOへの遷移であると帰属された。実施例15で得たビチアゾロ[2,3-c]フランのHOMOは、対応するビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体実施例12で得た化合物と同様に、アリール基を含む主鎖方向全体に非局在化するとともに、フランのn軌道の顕著な寄与をもつことがわかった。また、実施例15で得た化合物のHOMO準位は-454eVと、実施例12で得た化合物と比較して014eV高くなっており、実施例15で得たビチアゾロ[2,3-c]フランが、実施例12で得たビチアゾロ[2,3-c]チオフェンと比較して電子供与性の高い骨格であることが明らかになった。一方、実施例15で得た化合物のLUMO準位は、実施例12で得た化合物と比べて032eV高くなっていることがわかった。これらの結果を反映して、実施例15で得た化合物のHOMO-LUMOギャップは287eVと、実施例12で得た化合物と比べて広がっており、その結果としてより短波長側の吸収を示したと考えられる。[試験例7:ビチアゾロ[2,3-c]フランの電気化学特性]次に、実施例15で得たビチアゾロ[2,3-c]フランの電気化学特性について評価した。なお、得られた化合物の溶解性の低さを考慮し、微分パルスボルタンメトリー非特許文献6を用いて酸化電位を見積もった。結果を図13~14に示す。測定の結果、実施例15で得たビチアゾロ[2,3-c]フランは014Vに第一酸化波を、055Vに第二酸化波を示した。一方、対応するビチアゾロ[2,3-c]チオフェン誘導体実施例12で得た化合物は033Vに第一酸化波を、071Vに第二酸化波を示した。実施例15で得た化合物の第一酸化波は実施例12で得た化合物と比べて019V負側にシフトしており、ビチアゾロ[2,3-c]フランがビチアゾロ[2,3-c]チオフェンと比較してより電子供与性の高い骨格であることがわかった。"