"側鎖に、分子の一部が切断されて離脱可能な脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂と、酸発生剤と、下記式1に記載の第1モノマーとを含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。前記脱離性基は、酸の作用、ラジカルの作用、又はイオンの作用により分子の一部が切断されるものである請求項1記載の感光性樹脂組成物。前記第1モノマーの含有量は、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂100重量部に対して1重量部以上、50重量部以下である請求項1、または2に記載の感光性樹脂組成物。さらに、前記第1モノマーと異なる第2モノマーを含むものである請求項1ないし3のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。前記第2モノマーと前記第1モノマーとの併用割合は、重量比前記第2モノマーの重量/前記第1モノマーの重量で、0.1~1.0である請求項4に記載の感光性樹脂組成物。前記第2モノマーは、エポキシ化合物および2官能のオキセタン化合物の少なくとも1種である請求項4に記載の感光性樹脂組成物。前記脱離性基は、-O-構造、および-Si-アリール構造のうちの少なくとも1つを有するものである請求項1ないし6のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。本発明の目的は、材料に起因する光損失を低減できる感光性樹脂組成物を提供することに有り、さらには光損失を低減できる光導波路用感光性樹脂組成物を提供することにある。また、前記光導波路用感光性樹脂組成物を用いた光導波路形成用フィルム、光導波路等を得ることを目的とする。このような目的は、下記1~17に記載の本発明により達成される。1側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂と、酸発生剤と、下記式1に記載の第1モノマーとを含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。2前記第1モノマーの含有量は、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂100重量部に対して1重量部以上、50重量部以下である上記1に記載の感光性樹脂組成物。3さらに、前記第1モノマーと異なる第2モノマーを含むものである上記1または2に記載の感光性樹脂組成物。4前記第2モノマーと前記第1モノマーとの併用割合は、重量比前記第2モノマーの重量/前記第1モノマーの重量で、0.1~1.0である上記3に記載の感光性樹脂組成物。5前記第2モノマーは、エポキシ化合物および2官能のオキセタン化合物の少なくとも1種である上記4に記載の感光性樹脂組成物。6前記脱離性基は、-O-構造、-Si-アリール構造および-O-Si-構造のうちの少なくとも1つを有するものである上記1ないし5のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。7前記環状オレフィン系樹脂は、ノルボルネン系樹脂である上記1ないし6のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。8前記ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネンの付加重合体である上記7に記載の感光性樹脂組成物。9前記ノルボルネンの付加重合体は、下記式2に記載の繰り返し単位を有するものである上記8に記載の感光性樹脂組成物。10前記ノルボルネンの付加重合体は、下記式3に記載の繰り返し単位を有しているものである上記8または9に記載の感光性樹脂組成物。11上記1ないし10のいずれかに記載の感光性樹脂組成物は、光導波路形成用の感光性樹脂組成物として用いられることを特徴とする光導波路形成用感光性樹脂組成物。12上記11に記載の光導波路形成用感光性樹脂組成物で構成されることを特徴とする光導波路形成用フィルム。13上記12に記載の光導波路形成用フィルムに、互いに屈折率の異なるコア部とクラッド部とを設けたことを特徴とする光導波路。14上記12に記載の光導波路形成用フィルムに、光を照射することによりクラッド部を形成したものである光導波路。15上記13または14に記載の光導波路を備えたことを特徴とする光配線。16電気配線と、上記15に記載の光配線とを、有することを特徴とする光電気混載基板。17上記13または14に記載の光導波路を備えたことを特徴とする電子機器。本発明によれば、材料に起因する光損失を低減できる感光性樹脂組成物を提供することができ、さらには光損失を低減できる光導波路用感光性樹脂組成物を提供することができる。また、前記光導波路用感光性樹脂組成物を用いた光導波路形成用フィルム、光導波路等を得ることができる。以下、本発明の感光性樹脂組成物、光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路形成用フィルム、光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器について説明する。本発明の感光性樹脂組成物は、側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂と、酸発生剤と、下記式1に記載の第1モノマーとを含むことを特徴とする。また、本発明の光導波路形成用感光性樹脂組成物は、上記に記載の感光性樹脂組成物を光導波路形成用の感光性樹脂組成物として用いることを特徴とする。また、本発明の光導波路形成用フィルムは、上記に記載の光導波路形成用感光性樹脂組成物で構成されることを特徴とする。また、本発明の光導波路は、上記に記載の光導波路形成用フィルムに、互いに屈折率の異なるコア部とクラッド部とを設けたことを特徴とする。また、本発明の光配線は、上記に記載の光導波路を備えたことを特徴とする。また、本発明の光電気混載基板は、電気配線と、上記に記載の光配線とを、有することを特徴とする。また、本発明の電子機器は、上記に記載の光導波路を備えたことを特徴とする。まず、感光性樹脂組成物および光導波路形成用の光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路形成用フィルムについて説明する。前記感光性樹脂組成物は、側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂を含む。前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂を構成する環状オレフィン系樹脂としては、例えばシクロヘキセン、シクロオクテン等の単環体モノマーの重合体、ノルボルネン、ノルボルナジエン、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、トリシクロペンタジエン、ジヒドロトリシクロペンタジエン、テトラシクロペンタジエン、ジヒドロテトラシクロペンタジエン等の多環体モノマーの重合体等が挙げられる。これらの中でも多環体モノマーの重合体の中から選ばれる1種以上の環状オレフィン系樹脂が好ましい。これにより、樹脂の耐熱性を向上することができる。なお、重合形態としては、ランダム重合、ブロック重合等の公知の形態を適用することができる。例えばノルボルネン型モノマーの重合の具体例としては、ノルボルネン型モノマ-の共重合体、ノルボルネン型モノマ-とα-オレフィン類などの共重合可能な他のモノマ-との共重合体、およびこれらの共重合体の水素添加物などが具体例に該当する。これら環状オレフィン樹脂は、公知の重合法により製造することが可能であり、その重合方法には付加重合法と開環重合法とがあり、前述の中でも付加重合法で得られる環状オレフィン系樹脂特にノルボルネン系樹脂が好ましいすなわち、ノルボルネン系化合物の付加重合体。これにより、透明性、耐熱性および可撓性に優れる。前記脱離性基としては、例えば酸の作用、ラジカルの作用ラジカル解離、イオンの作用イオン解離等により分子の一部が切断されて離脱するものである。具体的には、分子構造中側鎖に、-O-構造、-Si-アリール構造および-O-Si-構造のうちの少なくとも1つを有するものが好ましい。上述したような離脱性基は、カチオンの作用により比較的容易に離脱する。上述した脱離性基の中でも離脱により樹脂の屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、-Si-ジフェニル構造および-O-Si-ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。前記脱離性基の含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂中の10~80重量が好ましく、特に20~60重量が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に可撓性と屈折率変調機能屈折率差を大きくする効果の両立に優れる。このような側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂としては、下記式2および/または下記式3で示される繰り返し単位を有するものが好ましい。これにより、樹脂の屈折率を高くすることができる。前記感光性樹脂組成物は、下記式1に記載の第1モノマーを含む。これにより、さらに左右のコア/クラッド間の屈折率差を拡大することができる。第1モノマーの含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂100重量部に対して1重量部以上、50重量部以下であることが好ましく、特に2重量部以上、20重量部以下であることが好ましい。これにより、コア/クラッド間の屈折率変調を可能にし、可撓性と耐熱性との両立が図れる。このように、上述した第1モノマーを側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂と併用することにより、コア/クラッド間の屈折率変調と、可撓性とのバランスに優れる理由は、以下の通りと考えられる。本発明の感光性樹脂組成物を用いた場合に、コア/クラッド間の屈折率変調に優れるのは、光照射等によって発生した酸により、第1モノマーが重合反応を開始するが、第1モノマーはその反応性に優れている。そのため、第1モノマーの硬化性が高くなり、第1モノマーの濃度勾配によって生じる第1モノマーの拡散性が向上する。それによって、光照射領域と、未照射領域との屈折率差を大きくすることができる。また、第1モノマーは一官能であるために、重合反応が進行して感光性樹脂組成物としての架橋密度はそれほど高くはならない。そのため、可撓性にも優れている。前記感光性樹脂組成物は、特に限定されないが、前記第1モノマーと異なる第2モノマーを含んでも良い。なお、前記第1モノマーと異なる第2モノマーとは、構造が異なっていても良いし、分子量が異なっていても良い。前記第2モノマーとしては、例えばエポキシ化合物、2官能オキセタン化合物、3官能オキセタン化合物等の式1で示されるものと異なる他のオキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。これらの中でもエポキシ化合物特に脂環式エポキシ化合物および2官能のオキセタン化合物の少なくとも1種が好ましい。これにより、前記第1モノマーと前記環状オレフィン系樹脂との反応性を向上させることができ、それによって透明性を保持しつつ、導波路の耐熱性を向上させることができる。前記第2モノマーの含有量は、特に限定されないが、前記環状オレフィン系樹脂100重量部に対して1重量部以上、50重量部以下であることが好ましく、特に2重量部以上、20重量部以下であることが好ましい。これにより、前記第1モノマーとの反応性を向上させることができる。また、前記第2モノマーと前記第1モノマーとの併用割合も特に限定されないが、重量比前記第2モノマーの重量/前記第1モノマーの重量で、0.1~1が好ましく、特に0.1~0.6が好ましい。併用割合が前記範囲内であると、反応性の速さと導波路の耐熱性とのバランスに優れる。前記感光性樹脂組成物は、酸発生剤を含む。これにより、光照射等により酸を発生させて第1モノマーの重合を促進させることができる。前記酸発生剤としては、光により酸を発生する光酸発生剤、熱により酸を発生する熱酸発生剤等が挙げられる。これらの中でも光照射によりパターニングする光導波路用の感光性樹脂組成物には、光酸発生剤が好ましい。前記光酸発生剤としては、光のエネルギーを吸収してブレンステッド酸あるいはルイス酸を生成するものであれば良く、例えば、トリフェニルスルフォニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス4-t-ブチルフェニルスルホニウム-トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホニウム塩類、p-ニトロフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリキュミルヨードニウム-テトラキスペンタフルオロフェニルボレートなどのヨードニウム塩類、キノンジアジド類、ビスフェニルスルホニルジアゾメタンなどのジアゾメタン類、1-フェニル-1-4-メチルフェニルスルホニルオキシ-1-ベンゾイルメタン、N-ヒドロキシナフタルイミド-トリフルオロメタンサルホネートなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、トリス2,4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-3,4-メチレンジオキシフェニル-4,6-ビス-トリクロロメチル-s-トリアジンなどのトリアジン類などの化合物を挙げることができる。これらの光酸発生剤は、単独、または複数を組み合わせて使用することができる。光酸発生剤の含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂100重量部に対して0.01重量部以上、0.3重量部以下であることが好ましく、特に0.02重量部以上、0.2重量部以下が好ましい。含有量が下限値未満であると反応性が低下する場合があり、前記上限値を超えると導波路フィルムに着色が生じて光損失が低下する場合がある。前記感光性樹脂組成物は、上述した環状オレフィン系樹脂、酸発生剤、第1モノマー、第2モノマー以外に、硬化触媒、酸化防止剤等を含んでいても良い。また、本発明の光導波路形成用感光性樹脂組成物は、上述したような感光性樹脂組成物を光導波路形成用として用いるものである。そして、この光導波路形成用感光性樹脂組成物を、トルエン、キシレン、メシチレン等の溶媒に溶解して樹脂ワニスを得て、この樹脂ワニスを基板上に塗布乾燥して光導波路形成用フィルムを得ることができる。次に、光導波路について説明する。図1は、光導波路の一例を示す断面図である。図1に示すように、光導波路10は、第1クラッド層1と、第1クラッド層よりも屈折率の高いコア層2と、コア層2よりも屈折率の低い第2クラッド層3とが積層されている。コア層2は、コア部21と、コア部21よりも屈折率が低いクラッド部22とで構成されている。なお、コア部21の屈折率は、第1クラッド層1および第2クラッド層3よりも高くなっている。このような構成を有することにより、コア部21の一端側に入射された光信号は、コア部21と第1クラッド層1、第2クラッド層3およびクラッド部22との界面で全反射し、他端側に伝達され、光通信が可能となる。本発明の光導波路形成用フィルムは、上述した光導波路10のコア層2に好適に用いることができるものである。例えば、図2に示すような上述の光導波路形成用フィルム2aに、マスク4を用いて光5を照射する。これにより、光導波路形成用フィルム2aに選択的に光5を照射する部分と、未照射部分とを形成することができる。光5が照射された部分21aでは、光導波路形成用フィルムを構成している感光性樹脂組成物中の酸発生剤が光照射により酸を発生し、これにより第1モノマーが開環してカチオン重合を開始する。これにより、マトリクス中の未反応モノマーの濃度勾配を解消する力が働き、未照射領域から第一モノマーが一部照射領域へ拡散して重合するために、光が照射された部分21aの屈折率が相対的に未照射領域よりも低くなる。また、光照射により酸発生剤から発生した酸が、側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂の脱離性基の脱離を促進する。これにより、高屈折率部分が脱離するために光が照射された部分21aの屈折率がさらに低くなる。したがって、光が照射された部分21aがクラッド部になり、未照射部がコア部となる。このようにしてコア部21とクラッド部22とが形成されたコア層2に、第1クラッド層1、第2クラッド層3をラミネートすることで光導波路10を得ることができる。また、第1クラッド層1に光導波路形成用の感光性樹脂組成物の樹脂ワニスを塗布乾燥して光導波路用フィルムを形成した後、光を選択的に照射してコア部21、クラッド部22とを有するコア層2を形成し、第2クラッド層3を配置して光導波路10を得ることもできる。このようにして得られた光導波路10は、コア部21と、第1クラッド層1、第2クラッド層3およびクラッド部22との屈折率差を大きくすることができるので光損失を低減することができるものであり、それによって性能に優れる光導波路10を得ることができる。本発明で得られた光導波路10は、特に半田耐リフロー性に優れる。さらに、光導波路10を曲げた場合であっても光損失を少なくすることができる。次に、光配線、光電気混載基板について簡単に説明する。本発明の光配線は、上述したような光導波路10を有している。これにより、導波路製造プロセスにおいて現像やRIEリアクティブイオンエッチングなどを経る必要がないために加工の自由度を向上することができる。また、本発明の光電気混載基板は、電気配線と、上述したような光導波路10を有する光配線とを有している。これにより、従来の電気配線で問題となっていたEMI電磁波障害の改善が可能となり、従来よりも信号伝達速度を大幅に向上することができる。また、本発明の電子機器は、上述したような光導波路10を有している。これにより、省スペース化を図ることができる。このような電子機器としては、具体的にはコンピューター、サーバー、携帯電話、ゲーム機器、メモリーテスター、外観検査ロボット等を挙げることができる。以下、本発明を実施例および比較例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。実施例11脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成水分および酸素濃度がいずれも1ppm以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネンHxNB7.2g40.1mmol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン12.9g40.1mmolを500mLバイアル瓶に計量し、脱水トルエン60gと酢酸エチル11gを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。次に、100mLバイアルビン中に下記式4で表わされるNi触媒1.56g3.2mmolと脱水トルエン10mLを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。この下記式4で表わされるNi触媒溶液1mLをシリンジで正確に計量し、上記2種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で1時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフランTHF60gを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。100mLビーカーに無水酢酸9.5g、過酸化水素水18g濃度30、イオン交換水30gを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて12時間撹拌してNiの還元処理を行った。次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの30水溶液を100mL加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で3回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、60°Cに設定した真空乾燥機中で12時間加熱乾燥を行うことにより、側鎖に脱離性基を有するノルボルネン系樹脂A式5を得た。ノルボルネン系樹脂Aの分子量は、GPC測定によりMw=10万、Mn=4万、ノルボルネン系樹脂A中の各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、ヘキシルルボルネン構造単位が50mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が50molであった。また屈折率はメトリコンにより1.55測定波長;633nmであった。2感光性樹脂組成物の調製精製したノルボルネン系樹脂A10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076チバガイギー社製0.01g、シクロヘキシルオキセタンモノマー前記式1で示した第1モノマー、東亜合成製CHOX、CAS483303-25-9、分子量186、沸点125°C/1.33kPa2g、光酸発生剤RhodorsilPhotoinitiator2074Rhodia社製、CAS178233-72-21.36E-2g、酢酸エチル0.1mL中を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層用の感光性樹脂組成物ワニスV1を調製した。3光導波路の製造下層クラッドの作製シリコンウエハ上に感光性ノルボルネン樹脂組成物プロメラス社製Avatrel2000Pワニスをドクターブレードにより均一に塗布した後、45°Cの乾燥機に15分間投入した。溶剤を完全に除去した後、塗布された全面に紫外線を100mJ照射し、乾燥機中120°Cで1時間加熱して、塗膜を硬化させて、下層クラッドを形成させた。形成された下層クラッドは、厚みが20μmであり、無色透明であり、屈折率は1.52測定波長;633nmであった。コア領域、クラッド領域の作製上記下層クラッド上に、調製して得られた上述の感光性樹脂組成物ワニスV1をドクターブレードによって均一に塗布した後、45°Cの乾燥機に15分間投入した。溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を500mJ/cm2で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中45°Cで30分間、85°Cで30分間、150°Cで1時間と三段階で加熱を行った。加熱後、非常に鮮明な導波路パターンが現れたコア層が確認された。上層クラッドの作製ポリエーテルスルホンPESフィルム上に、予め乾燥厚み20μmになるように感光性ノルボルネン樹脂組成物プロメラス社製Avatrel2000Pワニスを積層して上層クラッド用フィルムを得た。光導波路の作製下層クラッド層上に形成したコア層と、上述の上層クラッド用フィルムとを、貼り合わせて、140°Cに設定された真空ラミネーターに投入して熱圧着を行った後、紫外線を100mJ全面照射し乾燥機中120°Cで1時間加熱して、Avatrel2000Pを硬化させて、上層クラッドを形成させ、光導波路を得た。このとき、上層クラッドは、無色透明であり、屈折率は1.52であった。4評価光導波路の損失評価850nmVCSEL面発光レーザーより発せられた光を50μmφの光ファイバーを経由して、得られた光導波路に導入し、200μmφの光ファイバーで受光を行って光の強度を測定した。尚、測定にはカットバック法を採用した。導波路長を横軸にとり、挿入損失を縦軸にプロットしていったところ、測定値はきれいに直線上に並び、その傾きから伝搬損失は0.03dB/cmと算出することができた。実施例2脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成において、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン12.9g40.1mmolに代えて、フェニルジメチルノルボルネンメトキシシラン10.4g40.1mmolを用いた以外は実施例1と同様にした。得られた側鎖に脱離性基を有するノルボルネン系樹脂B式6の分子量は、GPC測定によりMw=11万、Mn=5万であり、各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、ヘキシルルボルネン構造単位が51mol、フェニルジメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が49molであった。また屈折率はメトリコンにより1.53測定波長;633nmであった。なお、得られた光導波路の伝搬損失は0.03dB/cmであった。実施例3感光性樹脂組成物として以下のものを用いた以外は、実施例1と同様にした。実施例1で得られたノルボルネン系樹脂A10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076チバガイギー社製0.01g、シクロヘキシルオキセタンモノマー式1で示した第1モノマー、東亜合成製CHOX、CAS483303-25-9、分子量186、沸点125°C/1.33kPa1g、2官能オキセタンモノマー式7で示した第2モノマー、東亜合成製、DOX、CAS18934-00-4、分子量214、沸点119°C/0.67kPa1g、光酸発生剤RhodorsilPhotoinitiator2074Rhodia社製、CAS178233-72-21.36E-2g、酢酸エチル0.1mL中を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層用の感光性樹脂組成物ワニスV4を調製した。得られた光導波路の伝搬損失は0.04dB/cmであった。実施例4環状オレフィンとして以下のものを用いた以外は、実施例1と同様にした。1ノルボルネン系樹脂Cの合成公知の手法例えば特開2003-252963号公報を用いてフェニルエチルノルボルネンPENBモノマーの開環メタセシス重合を行い、下記式8で表されるノルボルネン系樹脂Cを得た。なお、得られた光導波路の伝搬損失は0.05dB/cmであった。実施例5第1モノマーの配合量を0.5gにした以外は、実施例1と同様にした、なお、得られた光導波路の伝搬損失は、0.1dB/cmであった。実施例6第1モノマーの配合量を4.0gに以外は、実施例1と同様にした。なお、得られた光導波路の伝搬損失は、0.1dB/cmであった。比較例1第1モノマーを用いなかった以外は、実施例1と同様にした。なお、得られた光導波路の伝搬損失は、0.90dB/cmであった。比較例2第1モノマーの代わりに、フェニルオキセタンモノマー式9で示したもの、東亜合成製POX、CAS3897-65-2、分子量192、沸点130°C/5mmHgを用いた以外は、実施例1と同様にした。なお、得られた光導波路の伝搬損失は、1.1dB/cmであった。各実施例および比較例で得られた光導波路について、以下の評価を行った。評価項目を内容と共に示す。得られた結果を表1に示す。1.光損失850nmVCSEL面発光レーザーより発せられた光を50μmφの光ファイバーを経由して上記光導波路に導入し、200μmφの光ファイバーで受光を行って光の強度を測定した。尚、測定にはカットバック法を採用し、導波路長を横軸、挿入損失を縦軸にプロットしていったところ、測定値はきれいに直線上に並び、その傾きから伝搬損失を算出した。2.耐熱性上記光導波路を高温高湿槽85°C、85RHに投入し、湿熱処理500時間後の伝搬損失を評価した。また、リフロー処理N2雰囲気下、最大温度260°C/60秒による伝搬損失の劣化の有無も並行して確認した。3.光導波路の曲げ損失図3に示すような、10mmの曲率半径を有する光導波路の光強度の曲げ損失を評価した。850nmVCSEL面発光レーザーより発せられた光を50μmφの光ファイバーを経由して上記光導波路の端面に導入し、200μmφの光ファイバーで他端から受光を行って光の強度を測定した下記式参照。図3に示すように、長さの等しい光導波路を曲げたときに生じる損失の増分を曲げ損失と定義し、それを曲線部の挿入損失と直線部の挿入損失の差で表した。挿入損失[dB]=-10log曲げ損失=曲線での挿入損失-直線での挿入損失表1から明らかなように実施例1~6は、光損失が低く、光導波路の性能が優れていることが示された。また、実施例1~6は、高温高湿処理後およびリフロー処理後の光損失も小さく、耐熱性にも優れていることが示された。また、特に実施例1~4は、曲げ損失も小さく、光導波路を屈曲させて用いても十分な性能を発揮することが示唆された。"