cBN焼結体の基材とその表面に被覆された被覆層とからなり、cBN焼結体は、cBN:73~84体積と、Ti、W、Co、Alの金属、これら金属の炭化物、炭窒化物、窒化物、硼窒化物、硼化物、酸化物およびこれらの相互固溶体の中から選ばれた少なくとも1種からなる結合相および不可避的不純物:16~27体積とからなり、cBNの平均粒径は1.5~4.0μmであり、結合相は、結合相の厚さの平均値が0.05~0.5μmであり、結合相の厚さの標準偏差が0.5μm以下であり、被覆層は上部層と中間層と下部層と最下層とからなり、1上部層を、平均層厚0.3~2.0μmの組成式TiCxN但し、xはCとNの合計に対するCの原子比を示し、0≦x≦0.7を満足する、で表される化合物で構成し、2中間層を、平均層厚10~100nmの成分Ti、Al、CrおよびSiの中から選択される少なくとも1種の金属で構成し、3下部層を、平均層厚30~200nmの組成式TiSiyN但し、yはTiとSiの合計に対するSiの原子比を示し、0.01≦y≦0.3を満足する、で表される化合物からなる第1薄層と、平均層厚30~200nmの組成式AlCrzN但し、zはAlとCrの合計に対するCrの原子比を示し、0.2≦z≦0.5を満足する、で表される化合物からなる第2薄層とを交互に積層した交互積層全体の平均層厚が0.12~1.6μmである交互積層で構成し、4最下層を、平均層厚20~200nmの組成式AlCraN但し、aはAlとCrの合計に対するCrの原子比を示し、0.2≦a≦0.5を満足する、で表される化合物で構成することを特徴とする被覆cBN焼結体工具。cBN焼結体が、cBN:75~80体積と、結合相および不可避的不純物:20~25体積とからなり、cBNの平均粒径は2.0~3.0μmであり、結合相は、結合相の厚さの平均値が0.1~0.4μmであり、結合相の厚さの標準偏差が0.05~0.4μmである請求項1に記載の被覆cBN焼結体工具。cBN焼結体の熱伝導率が70W/mK以上である請求項1または2に記載の被覆cBN焼結体工具。cBN焼結体の熱伝導率が80~160W/mKである請求項1~3のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。cBN焼結体に含まれるタングステン元素量がcBN焼結体全体に対して3質量以下である請求項1~4のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。cBN焼結体に含まれるタングステン元素量がcBN焼結体全体に対して0.2~2質量である請求項1~5のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。cBN焼結体の結合相が、Ti、W、Co、Alの金属、これら金属の炭化物、炭窒化物、窒化物、硼窒化物、硼化物、酸化物およびこれらの相互固溶体の中から選ばれた少なくとも1種からなる請求項1~6のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。cBN焼結体の結合相が、TiN、TiCN、TiC、TiB2、TiBN、TiAlN、Ti2AlN、AlN、AlB2、Al2O3、WC、WB、W2B、CoWB、W2Co21B6、Co3W3C、W、CoおよびTiから選ばれた少なくとも1種からなる請求項1~7のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。cBN焼結体の結合相が、TiN、TiCN、TiC、AlN、AlB2、Al2O3、TiB2、CoWB、W2Co21B6およびWCの中の少なくとも1種からなる請求項1~8のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。cBN焼結体の結合相が、TiN、TiCN、TiC、AlN、AlB2、Al2O3およびTiB2の中の少なくとも1種からなる請求項1~9のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。結合相の厚さの平均値が0.1~0.4μmである請求項1~10のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。中間層を、平均層厚10~100nmの組成式TiまたはAlCrで表される金属で構成した請求項1~11のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。中間層を、平均層厚10~100nmの組成式Tiで表される金属で構成した請求項1~12のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。上部層を、平均層厚0.3~2.0μmの組成式TiCxN但し、xはCとNの合計に対するCの原子比を示し、0≦x≦0.7を満足する、で表される化合物で構成し、CとNの合計に対するCの原子比が基材側から表面側に向かって増加する傾斜組成層で構成した請求項1~13のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。上部層が、平均層厚0.5~1.5μmの組成式TiCxN但し、xはCとNの合計に対するCの原子比を示し、0.4≦x≦0.6を満足する、で表される化合物で構成されたものである請求項1~14のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。下部層の第1薄層が、平均層厚70~150nmの組成式TiSiyN但し、yはTiとSiの合計に対するSiの原子比を示し、0.05≦y≦0.2を満足する、で表される化合物で構成されたものである請求項1~15のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。下部層の第2薄層が、平均層厚70~150nmの組成式AlCrzN但し、zはAlとCrの合計に対するCrの原子比を示し、0.25≦z≦0.35を満足する、で表される化合物で構成されたものである請求項1~16のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。下部層が、交互に積層した交互積層全体の平均層厚が0.3~0.8μmである交互積層で構成されたものである請求項1~17のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。最下層が、平均層厚70~150nmの組成式AlCraN但し、aはAlとCrの合計に対するCrの原子比を示し、0.25≦a≦0.35を満足する。で表される化合物で構成されたものである請求項1~18のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。被覆層全体の総層厚が平均膜厚で0.4~6.8μmである請求項1~19のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。上部層の表面に、平均層厚0.05~3.0μmの組成式TiNで表される化合物で構成された最外層を被覆した請求項1~20のいずれか1項に記載の被覆cBN焼結体工具。請求項1~21のいずれか1項記載の被覆cBN焼結体工具は高硬度材の加工に用いられる高硬度材用被覆cBN焼結体工具。高硬度材はHRC40以上の硬度を有する高硬度材である請求項22に記載の高硬度材用被覆cBN焼結体工具。近年、被削材の難削化が進み工具寿命は低下する傾向がある一方で、複雑な形状の切削加工が増え、少量多品種生産が多くなってきた。そのため、切削工具には、工具寿命の延長として優れた耐摩耗性と優れた耐欠損性の両立が求められるようになってきた。そこで、本発明は、耐摩耗性と耐欠損性とを同時に向上させて、従来よりも工具寿命を長くできる被覆cBN焼結体工具の提供を目的とする。本発明者らは、切削加工に用いられる被覆cBN焼結体の寿命向上について研究してきたところ、cBN立方晶窒化硼素の含有量を高くし、結合相の厚さのバラツキを小さくしたcBN焼結体の基材表面に、耐摩耗性に優れたTiCNの上部層と、被覆層の各層間の密着性と被覆層の圧縮応力を緩和させるTiの中間層と、硬さが高くヤング率の低い平均層厚30~200nmのTiSiNの第1薄層と硬さが低くヤング率が高い平均層厚30~200nmのAlCrNの第2薄層とを交互に積層した下部層と、cBN焼結体との密着性が優れるAlCrNの最下層とからなる被覆層を被覆した被覆cBN焼結体工具は、耐摩耗性と耐欠損性に優れ、工具寿命を延長できることが分かった。本発明は、cBN焼結体の基材とその表面に被覆された被覆層とからなり、cBN焼結体は、cBN:73~84体積と、Ti、W、Co、Alの金属、炭化物、窒化物、硼化物、酸化物およびこれらの相互固溶体の中から選ばれた少なくとも1種からなる結合相および不可避的不純物:16~27体積とからなり、cBNの平均粒径は1.5~4.0μmであり、結合相は、結合相の厚さの平均値が0.05~0.5μmであり、結合相の厚さの標準偏差が0.5μm以下であり、被覆層は上部層と中間層と下部層と最下層とからなり、1上部層を、平均層厚0.3~2.0μmの組成式TiCxN但し、xはCとNの合計に対するCの原子比を示し、0≦x≦0.7を満足する。で表される化合物で構成し、2中間層を、平均層厚10~100nmの成分Ti、Al、CrおよびSiの中から選択される1種以上の金属で構成し、3下部層を、平均層厚30~200nmの組成式TiSiyN但し、yはTiとSiの合計に対するSiの原子比を示し、0.01≦y≦0.3を満足する。で表される化合物からなる第1薄層と、平均層厚30~200nmの組成式AlCrzN但し、zはAlとCrの合計に対するCrの原子比を示し、0.2≦z≦0.5を満足する。で表される化合物からなる第2薄層とを交互に積層した交互積層全体の平均層厚が0.12~1.6μmである交互積層で構成し、4最下層を、平均層厚20~200nmの組成式AlCraN但し、aはAlとCrの合計に対するCrの原子比を示し、0.2≦a≦0.5を満足する。で表される化合物で構成されることを特徴とする被覆cBN焼結体工具である。本発明の被覆cBN焼結体工具は、耐摩耗性および耐欠損性に優れる。そのため、本発明の被覆cBN焼結体工具は工具寿命が長いという効果が得られる。特に高硬度材の加工において、その効果が高い。本発明のcBN焼結体において、cBNが84体積を超えて多くなり、結合相および不可避的不純物が16体積未満になると、基材と被覆層との密着性が悪くなり被覆層の剥離を伴う異常摩耗が発生し耐摩耗性が低下する。逆にcBNが73体積未満になり、結合相および不可避的不純物が27体積を超えて多くなると、相対的に強度の低い結合相の割合が増えるため耐欠損性が低下する。そのため、cBN:73~84体積、結合相および不可避的不純物:16~27体積とした。その中でも、cBN:75~80体積、結合相および不可避的不純物:20~25体積であるとさらに好ましい。cBNの含有量と、結合相および不可避的不純物の含有量は、cBN焼結体の断面組織をSEM走査型電子顕微鏡で観察し、1000~5000倍で撮影された断面組織写真を画像解析することで求めることができる。本発明のcBN焼結体に含まれるcBNの平均粒径は、1.5μm未満であるとcBN焼結体の熱伝導率が低下する。cBN焼結体の熱伝導率が低下すると切削加工時に刃先が高温になり、被覆層の強度が低下し、被覆層の熱分解による異常摩耗が発生し、被覆cBN焼結体工具の耐摩耗性が低下する傾向が見られる。cBNの平均粒径は、4.0μmを超えて大きくなると、被覆層との化学的親和性の低いcBNとの接触面積が広くなり、被覆層とcBN焼結体との密着性が悪くなり、被覆層の剥離を伴う異常摩耗が発生し耐摩耗性が低下する傾向が見られる。そのため、cBNの平均粒径は1.5~4.0μmとした。その中でも、cBNの平均粒径は2.0~3.0μmであるとさらに好ましい。本発明のcBNの平均粒径は、cBN焼結体の断面組織をSEMで1000~5000倍に拡大して撮影した写真から、フルマンの式式1を用いて求めることができる。式1dm=4/π×NL/NS式1中、dmは平均粒径、πは円周率、NLは断面組織上の任意の直線によってヒットされる単位長さあたりのcBN数、NSは任意の単位面積内に含まれるcBNの数である。。本発明のcBN焼結体の結合相は、Ti、W、Co、Alの金属、これら金属の炭化物、炭窒化物、窒化物、硼窒化物、硼化物、酸化物およびこれらの相互固溶体の中から選ばれた少なくとも1種からなる。具体的には、TiN、TiCN、TiC、TiB2、TiBN、TiAlN、Ti2AlN、AlN、AlB2、Al2O3、WC、WB、W2B、CoWB、W2Co21B6、Co3W3C、W、Co、Tiなどを挙げることができる。その中でも焼入鋼の切削加工においては、TiN、TiCN、TiC、AlN、AlB2、Al2O3、TiB2、CoWB、W2Co21B6、WCの中の少なくとも1種であると、工具寿命が向上するので、さらに好ましく、その中でもTiN、TiCN、TiC、AlN、AlB2、Al2O3、TiB2の中の少なくとも1種であると、高硬度材の切削加工における工具寿命が向上するので、さらに好ましい。本発明のcBN焼結体の結合相の厚さの平均値が0.05μm未満になると、基材と被覆層との密着性が悪くなり被覆層の剥離を伴う異常摩耗が発生し耐摩耗性が低下し、結合相の厚さの平均値が0.5μmを超えて大きくなると加工時の応力が結合相に集中し耐欠損性が低下してしまうことから、結合相の厚さの平均値は0.05~0.5μmとした。その中でも結合相の厚さの平均値が0.1~0.4μmであるとさらに好ましい。本発明のcBN焼結体における結合相の厚さの標準偏差は次の式2を用いて求められる。式2式2中、σは結合相の厚さの標準偏差、Diは結合相の厚さの測定値、Dは結合相の厚さの平均値、nは測定数である。。結合相の厚さの標準偏差は0.5μmを超えて大きくなると相対的に結合相が多くなる部位に加工時の応力が集中し破壊の起点になり耐欠損性が低下する。また、相対的に結合相が少なくなる部位においてcBN焼結体と被覆層との密着性が悪くなり被覆層の剥離を伴う異常摩耗が発生し耐摩耗性が低下するので、0.5μm以下とした。さらに好ましい結合相の厚さの標準偏差は0.4μm以下である。なお、結合相の厚さの標準偏差を0.05μm未満にすることは製造上難しいので、現実的には、結合相の厚さの標準偏差は0.05~0.5μmの範囲が好ましく、0.05~0.4μmの範囲がさらに好ましい。結合相の厚さの平均値と標準偏差は、cBN焼結体の断面組織をSEMで1000~5000倍に拡大して写真撮影し、得られた1000~5000倍の断面組織写真に任意に直線を引き、その直線上にある結合相について、結合相と交差する直線の長さを結合相の厚さとして測定して、その平均値と標準偏差を計算する。このとき、画像解析により、この方法に従って、結合相の厚さを測定しても好ましい。また、結合相の厚さの測定数は多いほど平均値と標準偏差の信頼性が増すので好ましく、具体的には、例えば、1断面あたり200以上の測定数で少なくとも3断面を測定した600以上の測定数であると好ましい。本発明のcBN焼結体の製造方法において、本発明で規定される結合相の厚さの平均値と標準偏差を実現するために、原料粉末を混合する工程ではWC基超硬合金ボールを使用した湿式ボールミル混合を行うと好ましい。しかしながら、WC基超硬合金ボールを使用するとタングステン元素がcBN焼結体に混入する。cBN焼結体に混入したタングステン元素はWC、WB、W2B、CoWB、W2Co21B6、Co3W3C、Wなどの形で存在する。これらのWの金属およびタングステン化合物は切削時の欠損や亀裂の起点となりやすいので、本発明のcBN焼結体全体に含まれるタングステン元素量は3質量以下が好ましく、その中でも2質量以下がさらに好ましい。しかしながら、本発明のcBN焼結体の製造工程において、結合相形成用粉末を熱処理して得られた脆性のある相を粉砕工程ではWC基超硬合金ボールを使用した湿式ボールミル混合を使用すると粉砕効率が高い。その際、cBN焼結体にタングステン元素が0.2質量以上混入する。そのため、実際にはcBN焼結体全体に含まれるタングステン元素量は0.2~3質量が好ましく、その中でも0.2~2質量がさらに好ましい。なお、本発明のcBN焼結体全体に含まれるタングステン元素量はEDSエネルギー分散型X線分析装置またはICP-AES誘導結合プラズマ発光分光分析装置などを用いて測定することができる。本発明のcBN焼結体の不可避的不純物としては、cBN焼結体の製造工程から混入されるFeを挙げることができる。不可避的不純物の合計はcBN焼結体全体に対して1.0質量以下であり、通常はcBN焼結体全体に対して0.5質量以下に抑えることができるので、本発明の特性値に影響を及ぼすことはない。なお、本発明においては、本発明のcBN焼結体の特性を損わない範囲で、cBNと結合相と不可避的不純物に他に、不可避的不純物とはいえない他の成分を少量含有してもよい。本発明のcBN焼結体の熱伝導率が70W/mK未満になると反応摩耗が促進され耐摩耗性が低下する。また、被覆層の高温強度が低下し被覆層の熱分解により異常摩耗が発生し耐摩耗性が低下する傾向を示すので、cBN焼結体の熱伝導率は70W/mK以上が好ましく、80W/mK以上であるとさらに好ましい。なお、cBN焼結体の熱伝導率は高いほど好ましいが、本発明のcBN焼結体の熱伝導率が160W/mKを超えて高くなることはないので、熱伝導率は70~160W/mKの範囲が好ましく、その中でも、80~160W/mKの範囲がさらに好ましい。本発明のcBN焼結体の熱伝導率はレーザーフラッシュ法などにより測定することができる。本発明の被覆層は、基材側の最下層と下部層と中間層と表面側の上部層とからなる。なお、本発明の被覆層は、最下層、下部層、中間層および上部層以外にも、上部層の表面に被覆された最外層を含むことができる。本発明の上部層は、平均層厚0.3~2.0μmの組成式TiCxN但し、XはCとNの合計に対するCの原子比を示し、0≦x≦0.7を満足する。で表される化合物で構成されると、高温での強度が高くなるので耐摩耗性と耐熱性を向上させることができる。また上部層の層厚が0.5μm未満であると上部層が薄すぎて耐摩耗性と耐熱性を向上させる効果が得られない。逆に上部層の層厚が2.0μmを超えて厚くなると加工初期におけるチッピングを引き起こしやすくなる。そのため上部層の平均層厚を0.5~2.0μmとした。その中でも上部層の平均層厚は0.5~1.5μmであるとさらに好ましい。ここで、上層部の平均層厚は、SEM観察により上部層の断面を5000~30000倍に拡大して、測定した。なお、本発明において、特に断らない限り、各層の平均層厚とは、SEM又はTEM透過型電子顕微鏡により各層の断面を観察し、5箇所以上の層厚を測定して得られた層厚の平均値を意味する。上部層のCとNの合計に対するCの原子比が0.7を超えると、上部層の粒径が微細化し粒子脱落による摩耗が進行し耐摩耗性が低下する。そのため上部層のCとNの合計に対するCの原子比を0≦x≦0.7とした。その中でも上部層のCとNの合計に対するCの原子比は0.4≦x≦0.6であるとさらに好ましい。また、上部層のCとNの合計に対するCの原子比が基材側から最表面側に向かって増加する傾斜組成層で構成されると、上部層内での応力集中が発生せず被覆層の破壊が発生しにくくなるため好ましい。本発明の中間層は、平均層厚10~100nmのTi、Al、CrおよびSiの中から選択される少なくとも1種の成分からなる金属層であり、下部層と上部層との密着性を向上させ、下部層と上部層の剥離を防止する。中間層の平均層厚は、10nm未満であると、下部層と上部層との密着性を向上させる効果が得られず、また、被覆層の圧縮応力を緩和する効果が得られず、100nmを超えて厚くなると加工時に中間層中で滑りが発生し上部層が剥離して耐摩耗性が低下することから、中間層の平均層厚は10~100nmとした。その中でも、中間層の平均層厚は20~70nmであると好ましい。ここで、中間層の平均層厚は、SEM観察において、下部層の断面を30000~100000倍に拡大して測定した。なお、SEM観察以外にもTEM観察を行って平均層厚を測定してもよい。中間層の成分はTi、AlCrおよびTiSiの中の少なくとも1種であると上部層、下部層との化学的親和性が高く、上部層と下部層との密着性を向上させる効果が高いため好ましい。その中でも、TiおよびAlCrの少なくとも1種であるとさらに好ましい。より好ましくは、Tiである。本発明の下部層は、硬さが高くヤング率が低いTiSiNの第1薄層と、硬さが低くヤング率が高いAlCrNの第2薄層との交互積層からなり、優れた切削性能を示す。第1薄層は、平均層厚30~200nmの組成式TiSiyN但し、yはTiとSiの合計に対するSiの原子比を示し、0.01≦y≦0.3を満足する。で表される化合物からなる。第1薄層は硬さが高くヤング率が低い。yが0.01未満では十分な硬さが得られず、yが0.3を超えると第1薄層中に偏析したアモルファスのSi3N4が増加し硬さが低下するので、0.01≦y≦0.3とした。その中でも、0.05≦y≦0.2であると第1薄層の硬さが高くなるのでさらに好ましい。本発明の第2薄層は、平均層厚30~200nmの組成式AlCrzN但し、zはAlとCrの合計に対するCrの原子比を示し、0.2≦z≦0.5を満足する。で表される化合物からなる。第2薄層は硬さが低くヤング率が高い。zが0.2未満になるとAlNの特性に近づくため硬さが低下し、zが0.5を超えて多くなると硬さが低下するので、0.2≦z≦0.5とした。その中でも、0.25≦z≦0.35であるとさらに好ましい。本発明の下部層における第1薄層と第2薄層の平均層厚は、30nm未満であると被覆時における核発生頻度が増加して第1薄層と第2薄層の粒径が微細になり過ぎて切削時に薄層の粒子の脱落による摩耗が進行しやすくなり、200nmを超えて厚くなるとクラックの伝播を妨げる効果が減少し、耐欠損性が低下することから、本発明の下部層における第1薄層の平均層厚と第2薄層の平均層厚をそれぞれ30~200nmとした。その中でも、下部層における第1薄層の平均層厚と第2薄層の平均層厚はそれぞれ70~150nmであるとさらに好ましい。ここで、下層部の第1薄層の平均層厚および第2薄層の平均層厚は、SEM観察において、下部層の断面を30000~100000倍に拡大して測定した。なお、SEM観察以外にもTEM観察を行って平均層厚を測定してもよい。交互積層である本発明の下部層全体の平均層厚は、0.12μm未満であると加工衝撃によるクラックの伝播を妨げる効果が減少し、1.6μmを超えて厚くなるとチッピングを引き起こしやすくなることから、0.12~1.6μmとした。その中でも、本発明の下部層全体の平均層厚は、0.3~0.8μmであるとさらに好ましい。本発明のcBN焼結体基材と下部層の間に、組成式AlCraN但し、aはAlとCrの合計に対するCrの原子比を示し、0.2≦a≦0.5を満足する。で表される化合物で構成した最下層があると、cBN焼結体との化学的親和性が高いため密着性が向上する。最下層の平均層厚は、20nm未満であると十分な密着性が得られず、200nmを超えて厚くなると加工衝撃によるクラックの伝播を妨げる効果が減少し、耐欠損性や耐チッピング性が低下することから、最下層の平均層厚を20~200nmとした。その中でも、最下層の平均層厚は70~150nmであるとさらに好ましい。最下層のAlとCrの合計に対するCrの原子比が0.2未満であると最下層の結晶型が六方晶になりcBN焼結体からのエピタキシャル成長を妨げるため密着性が低下し、0.5を超えて多くなるとcBN焼結体の結合相との化学的親和性が高いAl量が減少するため基材との密着性が低下することから、0.2≦a≦0.5とした。その中でも、0.25≦a≦0.35であるとさらに好ましい。なお、AlCraNの最下層に接する下部層は、TiSiyNの第1薄層、AlCrzNの第2薄層のいずれでもよい。下部層の第2薄層が最下層の表面に被覆されたときは、見かけ上、平均層厚50~400nmのAlCrN層が被覆されることになる。本発明の最外層に平均層厚0.05~3.0μmの組成式TiNで表される化合物で構成した層があると加工時に使用コーナーが識別しやすくなるので好ましい。最外層の平均層厚が0.05μm未満であると外観色が均一にならないため識別がし難く、最外層の平均層厚が3.0μmを超えて厚くなると加工中に被覆層がチッピングする傾向が高くなることから、最外層の平均層厚を0.05~3.0μmであると好ましく、その中でも、平均層厚0.1~1.0μmであるとさらに好ましい。また、本発明の被覆層全体の総層厚は、平均層厚で0.4μm未満になると耐摩耗性が低下する傾向を示し、6.8μmを超えて厚くなると耐欠損性が低下する傾向を示すことから、本発明の被覆層全体の総層厚は、平均層厚で0.4~6.8μmであると好ましい。本発明の被覆cBN焼結体工具は、少なくとも刃先が本発明の被覆cBN焼結体からなる。刃先以外は、本発明の被覆cBN焼結体でもよく、本発明の被覆cBN焼結体と異なる材料、例えば超硬合金、でもよい。具体的には、切削工具形状に加工した超硬合金の刃先部分に本発明のcBN焼結体をろう付けし、その後、本発明のcBN焼結体の表面に本発明の被覆層を被覆してもよい。本発明の被覆cBN焼結体工具は、基材のcBN焼結体が優れた耐欠損性と高い熱伝導率を有する。cBN焼結体と被覆層との密着性を向上させることで、被覆層の剥離などの異常摩耗を抑制する。また、cBN焼結体の熱伝導率が高いことから加工時の発熱による温度上昇が抑えられ、温度上昇による被覆層の強度低下を防いでいる。このような理由により、本発明の被覆cBN焼結体工具は、優れた耐摩耗性および優れた耐欠損性を示す。本発明の被覆cBN焼結体工具は、耐摩耗性、耐欠損性および基材と被覆層との密着性に優れる。本発明の被覆cBN焼結体工具は、切削工具として優れた性能を示し、工具寿命を延長することができる。その中でも、焼入れ鋼やプリハードン鋼などの高硬度材の切削用として本発明の被覆cBN焼結体工具を用いると工具寿命を延長する効果が高く、その中でも、HRC40以上の硬度を有する高硬度材の切削用として用いるとさらに好ましい。本発明の被覆cBN焼結体は、例えば、以下の方法で製造することができる。[工程1]平均粒径2.0μm超7.0μm以下の粗粒cBN粉末と、平均粒径0.5μm以上2.0μm以下の微粒cBN粉末と、Ti、W、Co、Alの金属、これら金属の炭化物、窒化物、硼化物、酸化物およびこれらの相互固溶体の中から選ばれた少なくとも1種からなる結合相形成用粉末を用意し、粗粒cBN粉末と微粒cBN粉末の割合は体積比で粗粒cBN粉末:微粒cBN粉末=9.5~8:0.5~2但し、粗粒cBN粉末と微粒cBN粉末の合計は10とする。の範囲内で、粗粒cBN粉末と微粒cBN粉末の合計は75~85体積、結合相形成用粉末は15~25体積、これらの合計は100体積となるように粗粒cBN粉末と微粒cBN粉末と結合相形成用粉末を秤量する。上記のように平均粒径2.0μm超7.0μm以下の粗粒cBN粉末と平均粒径0.5μm以上2.0μm以下の微粒cBN粉末を、体積比で粗粒cBN粉末:微粒cBN粉末=9.5~8:0.5~2但し、粗粒cBN粉末と微粒cBN粉末の合計は10とする。の範囲内にすることにより、cBNの平均粒径を1.5~4.0μmの範囲内にするとともに、cBN焼結体の結合相の厚さを薄くし、cBN焼結体の熱伝導率を高くすることができる。[工程2]cBN粉末以外の結合相形成用粉末を、WC基超硬合金ボールと有機溶媒とポットとからなる湿式ボールミルを用いて混合し、有機溶媒を蒸発させ、混合粉末を得る。[工程3]混合粉末を700°C以上1000°C以下の温度で熱処理して反応させて脆性のある相にする。[工程4]脆性のある相をWC基超硬合金ボールと有機溶媒とポットとからなる湿式ボールミルを用いて混合し、細かく粉砕する。[工程5]工程4で得られた脆性のある相の粉末と平均粒径0.5μm以上2.0μm以下の微粒cBN粉末とを混合し、細かく粉砕した脆性のある相と微粒cBN粉末とをほぐして、これらを均一に分散させる。混合し均一に分散する方法としては、混合時間1~24時間の湿式ボールミル、混合時間1~30分間の超音波混合などを挙げることができる。[工程6]工程5で得られた混合粉末に、平均粒径2.0μm超7.0μm以下の粗粒cBN粉末を加えて混合し、これらを均一に分散させる。混合し均一に分散する方法としては、混合時間2~6時間の湿式ボールミル、混合時間1~30分間の超音波混合などを挙げることができる。[工程7]工程6で得られた混合粉末をTa、Nb、Mo、Zrなどの金属カプセルに入れ、金属カプセルを超高圧高温発生装置に装填し、圧力6~8GPa、温度1200~1600°Cの条件下で焼結すると本発明のcBN焼結体が得られる。[工程8]得られた本発明のcBN焼結体は所定の工具形状に加工する。このとき、本発明のcBN焼結体全体を工具形状に加工してもよく、あるいは、工具形状に加工した他の材料例えば、超硬合金の刃先に本発明のcBN焼結体をろう付けしてもよい。本発明の被覆層をcBN焼結体の表面に被覆する方法としては、アークイオンプレーティング法やマグネトロンスッパタリング法などが挙げられるが、アークイオンプレーティング法は金属元素のイオン化率が高いことや被覆層を被覆する前にcBN焼結体の表面に対してエッチング処理が可能であり、被覆層とcBN焼結体との密着性に優れるので、さらに好ましい。以下にアークイオンプレーティング法による被覆方法を示す。なお、各層の層厚はアーク放電時間で調節できるが、金属ターゲットの種類にも影響を受けるので、金属ターゲットの種類に合わせてアーク放電時間を適宜調整するとよい。[工程9]工程8により得られた本発明のcBN焼結体工具の表面を有機溶剤や水などで洗浄し、これを基材とする。被覆層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したアークイオンプレーティング装置内に、基材を装着して、装置内を排気し、ヒーターで室温から400~650°Cの範囲にある所定の温度まで加熱しながら、装置内の圧力が1.0×105~1.0×103Paになるまで真空引きを行う。[工程10]次にアルゴンガスを導入して装置内の圧力を0.5~3.0Paに調整し、-100~-1000Vの基材直流バイアス電圧を基材に印加して、基材表面をアルゴンイオンによってエッチング処理する。エッチング処理した後、装置内からアルゴンガスを排気する。[工程11]装置内に窒素ガスを導入して装置内の圧力を2.0~4.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-30~-50Vに調整し、最下層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に100~180Aのアーク電流を供給して最下層を被覆する。最下層を被覆した後、アーク放電を停止する。[工程12]装置内に窒素ガスを導入して装置内の圧力を2.0~4.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-20~-50Vに調整し、下部層の第1薄層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に100~180Aのアーク電流を供給して下部層の第1薄層を被覆した。第1薄層を被覆した後、アーク放電を停止し、下部層の第2薄層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に100~180Aのアーク電流を供給して下部層の第2薄層を被覆する。第2薄層を被覆した後、アーク放電を停止する。このプロセスを繰り返すことにより、第1薄層と第2薄層とを交互に積層した交互積層の下層部を被覆する。下層部を被覆した後、アーク放電を停止して反応ガスである窒素ガスを排気する。なお、下部層は最下層側に第2薄膜を被覆した後に第1薄層を被覆し、それらを交互に被覆してもよい。[工程13]装置内にアルゴンガスを導入して装置内の圧力を2.0~4.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-20~-50Vに調整し、中間層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に80~120Aのアーク電流を供給して中間層を被覆する。中間層を被覆した後、アーク放電を停止してアルゴンガスを排気する。[工程14]装置内に窒素ガスとアセチレンガスを導入して装置内の圧力2.0~4.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-30~-120Vに調整し、Tiターゲットを配したカソード電極に100~180Aのアーク電流を供給して上部層を被覆する。このとき、上部層のコーティング初期に窒素ガスの流量比を多くし、コーティング中に徐々にアセチレンガスの流量比を増加させても好ましい。上部層を被覆した後、アーク放電を停止して窒素ガスとアセチレンガスを排気する。上述の工程で本発明の被覆cBN焼結体工具を製造することができる。さらに最外層を被覆する場合は、引き続き、以下の工程を行うとよい。[工程15]上部層を被覆した後、装置内に窒素ガスを導入して装置内の圧力を2.0~4.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-20~-50Vに調整し、最外層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に100~180Aのアーク電流を供給して最外層を被覆する。最外層を被覆した後、アーク放電を停止し反応ガスである窒素ガスを排気する。[実施例1]基材の作製原料粉末として、レーザー回折法で測定して得られた平均粒径がそれぞれ、平均粒径5.5μmの粗粒cBN粉末、平均粒径3.2μmの粗粒cBN粉末、平均粒径0.3μmの微粒cBN粉末、平均粒径1.0μmの微粒cBN粉末、平均粒径1.5μmのTiN粉末、平均粒径3.1μmのAl粉末を用意し、表1に示す配合組成になるように秤量した。cBN粉末以外の結合相形成用粉末をWC基超硬合金ボールと有機溶媒とポットとからなる湿式ボールミルを用いて混合した。得られた混合粉末を850°Cの温度で熱処理して反応させ脆性のある相にした。得られた脆性のある相をWC基超硬合金ボールと有機溶媒とポットとからなる湿式ボールミルを用いて細かく粉砕した。基材番号1~3、5、6については、細かく粉砕した脆性のある相の粉末に平均粒径1.0μmの微粒cBN粉末を加えて、WC基超硬合金ボールと有機溶媒とポットとからなる湿式ボールミルを用いて表2に示す混合方法で混合した。得られた混合物にさらに平均粒径3.2~5.5μmの粗粒cBN粉末を加えて、WC基超硬合金ボールと有機溶媒とポットとからなる湿式ボールミルを用いて表2に示す混合方法で混合して混合粉末を得た。基材番号4については、細かく粉砕した脆性のある相の粉末に平均粒径1.0μmの微粒cBN粉末を加えて、表2に示す超音波混合を行った。得られた混合物にさらに平均粒径3.2μmの粗粒cBN粉末を加えて、表2に示す超音波混合を行って混合粉末を得た。基材番号7については、細かく粉砕した脆性のある相の粉末に平均粒径0.3μmの微粒cBN粉末を加えて、WC基超硬合金ボールと有機溶媒とポットとからなる湿式ボールミルを用いて10時間混合して混合粉末を得た。基材番号8については、細かく粉砕した脆性のある相の粉末に平均粒径5.5μmの粗粒cBN粉末を加えて、WC基超硬合金ボールと有機溶媒とポットとからなる湿式ボールミルを用いて2時間混合して混合粉末を得た。上記のようにして得られた基材番号1~8の混合粉末をTaカプセルに入れ、混合粉末の入ったTaカプセルを超高圧高温発生装置に装填し、表3に示す焼結温度と焼結圧力で焼結して基材番号1~8のcBN焼結体を得た。得られたcBN焼結体についてX線回折測定を行って、cBN焼結体の組成を定性分析した。次にcBN焼結体の断面組織をSEMで3000~5000倍に拡大して撮影した。得られた断面組織写真を画像解析することでcBNと結合相の含有量体積を求めた。また、断面組織写真に任意に直線を引き、その直線上にある結合相について、結合相と交差する直線の長さを結合相の厚さとして測定して、その平均値と標準偏差を求めた。このとき結合相の厚さの測定数は1試料当たり600箇所であった。さらに断面組織をSEMで1000~5000倍に拡大して撮影した写真からフルマンの式を用いることでcBNの平均粒径を求めた。これらの結果は表4に示した。EDSを用いてcBN焼結体に含まれるタングステン元素量を測定した。また、cBN焼結体の熱伝導率をレーザーフラッシュ法により測定した。それらの結果は表5に示した。発明品1~8と比較品1~8の被覆cBN焼結体工具は、表6に示した基材に、表6に示す組成及び層厚を有する最下層、下部層、中間層、上部層、最外層発明品6、7および比較品6、7は除くを、以下の条件で順次形成した。1基材の準備発明品1~8と比較品1~8のそれぞれの試料について、ISO規格CNGA120408形状の超硬合金を台金とし、この超硬合金台金の刃先となるコーナー部に、表6に示したcBN焼結体をろう付けした。これらを上下面、外周面を270メッシュのダイヤモンド砥石で研削加工し、続いて切刃稜線に400メッシュのダイヤモンド砥石により角度-25°×幅0.15mmのチャンファホーニングを施した。さらに逃げ面とチャンファホーニング面との稜線に回転ブラシを押し当てて丸ホーニング加工を行った。加工時間を調整しながらコントレーサーで測定し、所望の曲率半径の丸ホーニングを施した。加工後に得られたcBN焼結体工具を基材とした。エタノールおよびアセトンで基材を洗浄し、その後に真空乾燥処理を行った。それぞれの試料について、基材をアークイオンプレーティング装置内の回転テーブル上に装着し、カソード電極蒸発源としてそれぞれ表6に示される被覆層の金属元素に対応した金属ターゲットを配した。まず、装置内を排気し、ヒーターで500°Cに加熱しながら、装置内の圧力が1.0×104Paになるまで真空引きを行った。次にアルゴンガスを導入し装置内の圧力を0.7Paに保持し、テーブルを回転した状態で-200Vの基材直流バイアス電圧を基材に印加し、基材表面をアルゴンイオンによってエッチングし、その後、装置内からアルゴンガスを排気した。2最下層の形成それぞれの試料について、テーブルを回転した状態で、反応ガスとして窒素ガスを装置内に導入し、窒素ガスの流量を調整して装置内の圧力を3.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-40Vに調整し、表6に示される最下層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に150Aのアーク電流を供給し、形成する層厚に依存して放電時間を5~15分の範囲で変化させて最下層を被覆した後、アーク放電を停止した。3下部層の形成続いて、それぞれの試料について、テーブルを回転した状態で、反応ガスとして窒素ガスを装置内に導入し、窒素ガスの流量を調整して装置内の圧力を3.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-40Vに保持したまま、表6に示される下部層の第1薄層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に150Aのアーク電流を供給し、形成する層厚に依存して放電時間を5~20分の範囲で変化させて下部層の第1薄層を被覆した。第1薄層を被覆した後、アーク放電を停止し、表6に示される下部層の第2薄層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に150Aのアーク電流を供給し、形成する層厚に依存して放電時間を8~25分の範囲で変化させて下部層の第2薄層を被覆した。第2薄層を被覆した後、アーク放電を停止した。このプロセスを繰り返すことにより、発明品1~8と比較品1~4については、第1薄層が基材側に第2薄層が表面側になるように第1薄層から、表6に示す平均層厚の第1薄層を2~4層、表6に示す平均層厚の第2薄層を2~4層、合計で4~8層になるように第1薄層と第2薄層とを交互に積層した交互積層の下層部を被覆した後、比較品5~8については、第1薄層が基材側に第2薄層が表面側になるように第1薄層から、表6に示す平均層厚の第1薄層を1~20層、表6に示す平均層厚の第2薄層を1~20層、合計で2~40層になるように第1薄層と第2薄層とを交互に積層した交互積層の下層部を被覆した後、アーク放電を停止して反応ガスである窒素ガスを排気した。4中間層の形成交互積層の下部層を被覆した後、それぞれの試料について、アルゴンガスを導入し、装置内の圧力を3.0Paに保持し、-40Vの基材直流バイアス電圧を基材に印加した状態で、表6に示される中間層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に100Aのアーク電流を供給し、形成する層厚に依存して発明品1~8と比較品1~4については、放電時間を4~15分の範囲で変化させて、比較品5~8については、放電時間を8~15分の範囲で変化させて、それぞれ、中間層を被覆した後、アーク放電を停止しアルゴンガスを排気した。5-1上部層の形成それぞれの試料発明品1~5と比較品1~4、5、8について、中間層を被覆した後、反応ガスとして窒素ガスを装置内に導入し、窒素ガスの流量を調整して装置内の圧力を3.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-100Vに調整し、Tiターゲットを配したカソード電極に150Aのアーク電流を供給した。続いて、すぐにアセチレンガスを導入した。その後、アセチレンガスの流量を徐々に増加させ、目標の層厚が形成される最終段階で窒素ガス:アセチレンガスの流量比体積比が5~3:1の割合の混合ガスになるように調整し、さらに混合ガスの流量を調整して装置内の圧力が3.0Paになるように調整した。なお、発明品1~5と比較品1~4については、放電時間は形成する層厚に依存して15~90分の範囲で調整した。比較品5、8については、放電時間50分で上部層を被覆した。このようにして上部層を被覆した後、アーク放電を停止し窒素ガスおよびアセチレンガスを排気した。5-2上部層の形成発明品6~8については、中間層を被覆した後、反応ガスとして窒素ガスとアセチレンガスを装置内に導入した。このとき窒素ガス:アセチレンガスの流量比体積比が8~5:1の割合の混合ガスになるように調整し、さらに混合ガスの流量を調整して装置内の圧力を3.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-100Vに調整し、Tiターゲットを配したカソード電極に150Aのアーク電流を供給し、形成する層厚に依存して放電時間を20~50分の範囲で変化させて上部層を被覆した後、アーク放電を停止し窒素ガスとアセチレンガスを排気した。5-3上部層の形成比較品6、7については、反応ガスとして窒素ガスを装置内に導入し、窒素ガスの流量を調整して装置内の圧力を3.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-40Vに調整し、表6に示される上部層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に150Aのアーク電流を供給し、形成する層厚に依存して放電時間を50~60分の範囲で変化させて上部層を被覆した後、アーク放電を停止し反応ガスである窒素ガスを排気した。このようにして比較品6、7の被覆cBN焼結体工具を作製した。6最外層の形成続いて、発明品1~5、8と比較品1~4については、反応ガスとして窒素ガスを装置内に導入し、窒素ガスの流量を調整して装置内の圧力を3.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-40Vに調整し、表6に示される最外層の金属元素に対応した金属ターゲットを配したカソード電極に150Aのアーク電流を供給し、形成する層厚に依存して放電時間を15~45分の範囲で変化させて上部層を被覆した後、アーク放電を停止し反応ガスである窒素ガスを排気した。また、比較品5、8については、反応ガスとして窒素ガスを装置内に導入し、窒素ガスの流量を調整して装置内の圧力を3.0Paに調整し、基材直流バイアス電圧を-40Vに調整し、Tiターゲットを配したカソード電極に150Aのアーク電流を供給し、形成する層厚に依存して放電時間を15分で上部層を被覆した後、アーク放電を停止し、窒素ガスを排気した。このようにして比較品5、8の被覆cBN焼結体工具を作製した。このようにして発明品1~8と比較品1~8の被覆cBN焼結体工具をそれぞれ作製した。得られた発明品および比較品について、SEM観察、SEM付属のEDS測定、TEM観察、TEM付属のEDS測定を行って、各層の層厚と組成を測定した。それらの結果を表6に示した。さらに、得られた発明品および比較品について下記の切削試験1、2、3を行った。切削試験1:連続切削加工形態:外径連続旋削加工、DRY被削材:SCM415H浸炭焼入れ鋼、HRC58~62、円柱状外径63mm、長さ200mm切削速度:150m/min送り:0.10mm/rev切込み:0.15mm工具寿命:逃げ面摩耗量が0.15mmになるまでの加工時間もしくは刃先欠損が発生するまでの加工時間切削試験2:深切込み旋削加工形態:表面と内部で硬さの異なる浸炭焼入れ鋼の旋削加工AHRC62~58の硬質部分について1パス当たり加工幅10mmの旋削加工を3パス行う。→BHRC57~40の軟質部分について1パス当たり加工幅10mmの旋削加工を3パス行う。以降、A→B→A→Bの加工を工具寿命になるまで繰り返す。、DRY被削材:SCM415H浸炭焼入れ鋼、表面から深さ0.9mmまでの硬質部分の硬さはHRC62~58、硬質部分より内部の軟質部分の硬さはHRC57~40、円柱状外径63mm、長さ200mm切削速度:100m/min送り:0.10mm/rev切込み:0.30mm1パス当たり加工幅:10mm工具寿命:逃げ面摩耗量が0.15mmになるまでの加工時間もしくは刃先欠損が発生するまでの加工時間切削試験3:断続切削加工形態:外径断続旋削加工、DRY被削材:SCM435H浸炭焼入れ鋼、HRC58~60、V溝2本付き円柱状外径48mm、長さ200mm切削速度:150m/min送り:0.10mm/rev切込み:0.15mm工具寿命:逃げ面摩耗量が0.15mmになるまでの加工時間もしくは刃先欠損が発生するまでの加工時間表7には、切削試験1、2、3における工具寿命分を記載した。また、切削試験1、2、3の工具寿命と損傷形態から、発明品と比較品の切削性能について総合評価を行った。切削試験1、2、3における工具寿命について、切削試験1では、100分以上を1点、90~99分を2点、80~89分を3点、70~79分を4点、69分以下を5点とした点数付けを行った。切削試験2では、20分以上を1点、17~19分を2点、14~16分を3点、11~13分を4点、10分以下を5点とした点数付けを行った。切削試験3では、40分以上を1点、33~39分を2点、26~32分を3点、19~25分を4点、18分以下を5点とした点数付けを行った。次に、切削試験1、2、3における点数を合計し、3~5点を◎、6~8点を○、9~12点を▲、13~15点を×とした総合評価良い◎>○>▲>×悪いを行った。総合評価の結果は表7に併記した。表7から、発明品は比較品と比較して、いずれの加工条件においても工具寿命が長く、総合評価が良好であることが分かる。