"下記の2工程を含む一般式5で表されるピラゾール化合物の製造方法。第一工程:一般式2で表されるカルボン酸ハライドと一般式3で表されるジアルキルアミノアクリル酸エステルを有機塩基の存在下で反応させて一般式1で表される2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルを含む反応器内容物を得る工程。第二工程:第一工程で得られた反応器内容物、無機塩基および一般式4で表される置換ヒドラジンを混合して一般式5で表されるピラゾール化合物を合成する工程。式中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立にアルキル基を表し、R5はアルキル基またはアリール基を表し、Xはハロゲン原子を表す。第二工程が、第一工程で得られた反応器内容物および塩基を含む組成物と、置換ヒドラジンを含む組成物とを混合して一般式5で表されるピラゾール化合物を合成する工程である請求項1に記載のピラゾール化合物の製造方法。第一工程で用いる有機塩基が第三アミンであり、かつ、第二工程で用いる無機塩基が水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムである請求項1または2に記載のピラゾール化合物の製造方法。一般式2で表されるカルボン酸ハライドがジフルオロ酢酸フルオライドである請求項1~3の何れか1項に記載のピラゾール化合物の製造方法。ジアルキルアミノアクリル酸エステルを出発原料とするアシル化および環化の二段階の反応による1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルの製造方法であって、効率がよく、かつ異性体1,5-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルの生成量の少ない製造方法を提供する。アミノ基を脱離基とする1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステル目的生成物、1,3-異性体の製造方法にかかる反応は、ジアルキルアミノアクリル酸エステルを出発原料として次の二段階のスキームで示すことができる。ここで、第一工程アシル化工程のアシル化反応では、トリメシン酸エステルの生成を抑制するためにトリエチルアミン等の有機塩基が加えられることが多いが、トリエチルアミン等の塩基はアシル化反応で副生する酸との間で有機塩基ハロゲン化水素塩以下、塩ということがある。を形成する。本発明者らは、塩が環化反応に及ぼす影響について検討したところ、塩が存在した場合、1,5-異性体1,5-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルの生成が増大すること、および、アシル化工程で得られた反応液から塩を水洗浄、乾燥等の精製手段で除去することにより1,5-異性体の比率を減少させることができることを見出した。しかしながら、これらの精製手段は同時にアシル化反応生成物の収率を低下させ、その結果として目的生成物の収率も低下させることとなった。ところが、アシル化工程で得られた反応液から塩を除去することなく、その反応液に水酸化カリウムなどの無機塩基を添加して第二工程環化工程の環化反応を行うことで、収率がよく、かつ、1,5-異性体の含有量の少ない1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルが得られることを見出し、本発明に至った。本発明は、次の通りである。[発明1]下記の2工程を含む一般式5で表されるピラゾール化合物の製造方法。第一工程:一般式2で表されるカルボン酸ハライドと一般式3で表されるジアルキルアミノアクリル酸エステルを有機塩基の存在下で反応させて一般式1で表される2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルを含む反応器内容物を得る工程。第二工程:第一工程で得られた反応器内容物、無機塩基および一般式4で表される置換ヒドラジンを混合して一般式5で表されるピラゾール化合物を合成する工程。式中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立にアルキル基を表し、R5はアルキル基またはアリール基を表し、Xはハロゲン原子を表す。[発明2]第二工程が、第一工程で得られた反応器内容物および塩基を含む組成物と、置換ヒドラジンを含む組成物とを混合して一般式5で表されるピラゾール化合物を合成する工程である発明1のピラゾール化合物の製造方法。[発明3]第一工程で用いる有機塩基が第三アミンであり、かつ、第二工程で用いる無機塩基が水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムである発明1または2のピラゾール化合物の製造方法。[発明4]一般式2で表されるカルボン酸ハライドがジフルオロ酢酸フルオライドである1~3の何れかのピラゾール化合物の製造方法。本発明の製造方法は、ジアルキルアミノアクリル酸エステルを出発原料として、効率がよく、かつ1,5-異性体1,5-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルの含有量の少ない1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルを製造することができる。本明細書において、1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステル等の1,3-位に置換基を有するピラゾール化合物をそれに対応する1,5-位に置換基を有するピラゾール化合物から区別するために1,3-異性体と称し、同様に、1,5-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステル等を1,5-異性体と称し、これらの表示は特定のピラゾール化合物を意味するものではない。本明細書において、アルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のアルキル基を包含するものとする。アルキル基またはアリール基というときは、それぞれは置換基を有してもよい。<アシル化工程2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルの製造>一般式1で表される2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルは、一般式2で表されるカルボン酸ハライドと一般式3で表されるジアルキルアミノアクリル酸エステルを反応させることで製造できる。一般式1~3におけるR1、R2、R3、R4は、それぞれ独立にアルキル基を表す。ここで、アルキル基としては、炭素数1~10のアルキル基が好ましく、炭素数1~4のアルキル基がより好ましい。各水素原子はハロゲン原子で置換していてもよい。ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、フッ素または塩素が好ましい。アルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、および、それらの任意の水素原子がハロゲン原子で置換したものが挙げられる。R1としては、炭素数1~4のハロゲン化アルキルが好ましく、炭素数1~4のフルオロアルキル基、クロロアルキル基またはクロロフルオロアルキル基がより好ましい。具体的には、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、モノフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、トリクロロメチル基、ジクロロメチル基、モノクロロメチル基、ペンタクロロエチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、2,2-ジクロロエチル基、1,1,2,2-テトラクロロエチル基、クロロジフルオロメチル基、ジクロロフルオロメチル基などを挙げることができる。これらのうち、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基などがさらに好ましい。R2、R3は、脱離基-NR2R3として機能するので、特に限定されることはなく、ハロゲン置換しないものでもよく、前記アルキル基のうち、メチル基またはエチル基が好ましく、R2、R3が共にメチル基であるものが特に好ましい。R4はピラゾール化合物を反応試剤として用いる反応の目的に応じて選択するべきであるが、生成したピラゾール化合物中のR4を脱保護してカルボン酸に誘導する場合は、脱離基として機能するので特に限定されず、前記アルキル基のうち、エチル基またはイソプロピル基などが好ましい。一般式2におけるXはハロゲン原子を表し、ハロゲンはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素である。カルボン酸ハライドの製法としては、公知の方法を採用すればよく、例えば、対応するカルボン酸を塩化チオニルなどの塩素化剤で塩素化する方法またはハロゲン化炭化水素を酸化してカルボン酸クロライドとする方法や、1-アルコキシ-1,1,2,2-テトラフルオロエタンを、触媒の存在下に熱分解してジフルオロ酢酸フルオライドを製造する方法特開平8-20560公報などが挙げられる。2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルの製造は非水溶性溶媒中で行われる。この溶媒としては、脂肪族または芳香族の炭化水素が挙げられる。例えば石油エーテル、n-ヘキサン、n-ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン、およびハロゲン化された炭化水素、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタンまたはトリクロロエタンなどが例示できる。トルエン、キシレン、クロロベンゼン、n-ヘキサンまたはシクロヘキサンの使用が好ましく、トルエンまたはキシレンがより好ましい。これらの溶媒は混合して使用することができる。2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルの製造は通常は塩基の存在下で行われる。塩基の添加で、発生するHF、HClなどのハロゲン化水素を捕捉してトリメシン酸エステルの副生を防ぐことができる。塩基は、第三アミン三級アミン、ピリジンまたはピリジン誘導体併せて、ピリジン類ということがある。などが挙げられる。ピリジンまたはピリジン誘導体などの塩基としては、ピリジン、2-、3-もしくは4-メチルピリジン、2-メチル-5-エチル-ピリジン、4-エチル-2-メチルピリジン、3-エチル-4-メチルピリジン、2,4,6-コリジン、2-もしくは4-n-プロピルピリジン、2,6-ジメチルピリジンルチジン、4-ジメチルアミノピリジン、キノリンまたはキナルジンなどが挙げられ、ピリジン、2-メチル-5-エチルピリジン、2,4,6-コリジン、キノリンまたはキナルジンなどが好ましい。これらのうちピリジンはより好ましい。第三アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリ-イソプロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン、トリ-イソブチルアミン、トリ-sec-ブチルアミン、トリ-tert-ブチルアミン、トリ-n-アミルアミン、トリ-イソアミルアミン、トリ-sec-アミルアミン、トリ-tert-アミルアミンなどの対称第三アミン、N-メチルジ-n-ブチルアミン、N-メチルジイソブチルアミン、N-メチルジ-tert-ブチルアミン、N,N-ジイソプロピルブチルアミン、N,N-ジメチル-n-オクチルアミン、N,N-ジメチルノニルアミン、N,N-ジメチルデシルアミン、N,N-ジメチルウンデシルアミン、N,N-ジメチルドデシルアミン、N-メチルジヘキシルアミンなどの非対称第三アミンなどが挙げられる。沸点、水溶性、入手性の点で対称アミンが好ましく、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリ-イソプロピルアミン、トリ-n-ブチルアミンがより好ましく、トリエチルアミンがさらに好ましい。この製造に使用する塩基としては、ピリジンまたはトリエチルアミンが特に好ましい。2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルの製造は、温度-20°C~50°Cで行い、好ましくは-10°C~45°Cで行い、さらに好ましくは0~40°Cで行う。反応圧力は反応に影響は及ぼさないので特に制限されないが、0.1~10MPa程度の加圧下で行ってもよく、通常、大気圧~1MPa程度で行えばよい。反応時間は反応温度や反応試剤の比率に依存するが、通常10分~10時間程度であり、反応を追跡しながら基質の減少または消失を目安に決定する。2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルの製造では、カルボン酸ハライド1モルに対してジアルキルアミノアクリル酸エステルを0.5モル~3モル、好ましくは0.5モル~1.5モル、より好ましくは0.9モル~1.1モルとする。塩基は通常、カルボン酸ハライド1モルに対し等モル量程度でよいが、0.5~5モルであり、0.8~2モルが好ましく、0.9~1.5モルがより好ましい。2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルの製造は、ジアルキルアミノアクリル酸エステルと塩基を溶媒に溶解して反応温度上限以下の温度に保持しながら、そこへカルボン酸ハライドを吹き込むことで行えるが、スクラバー形式とすることもできる。塩基は反応の経過に伴って連続的または逐次的に添加することもできる。このようにして得られた2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルを含む反応液は、トリメシン酸エステルの生成を抑制するために有機塩基を添加してある場合には有機塩基ハロゲン化水素塩が含まれているが、この塩を含む2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルを次工程の環化反応に用いた場合、好ましくない1,5-異性体の副生が促進される。そのため、水洗浄によりハロゲン化水素を除去して環化工程に供することもできる。しかしながら、2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルの水への溶解性が高いため、水洗浄は回収率が低く、望ましい手段ではない。本発明においては、この塩を除去することなく次工程に供することができる。<環化工程ピラゾール化合物の製造>第二工程は、一般式1で表される2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルと一般式4で表されるヒドラジン類を塩基の存在下で反応させて一般式5で表されるピラゾール化合物を製造する環化工程である。一般式1および一般式5におけるR1、R2、R3、R4は、前記の意味と同じであるので説明を繰り返さない。一般式4及び一般式5におけるR5は、アルキル基またはアリール基を表し、これらは置換基を有してもよい。好ましくは、R5は、炭素数1~10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはアルコキシアルキル基またはアリール基であって、アルキル基およびアルコキシ基の任意の数の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく、アルコキシ基の酸素原子は硫黄原子で置換されていてもよい。ハロゲンは、フッ素、塩素または臭素である。具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基が挙げられ、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n-プロピル基またはtert-ブチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。一般式4で表されるヒドラジン類は、具体的にはメチルヒドラジン、エチルヒドラジンなどが好ましい。ヒドラジン類は、無水のものでもよいが水溶液のものが入手が容易で取り扱いやすく好ましい。本発明のピラゾール化合物への環化反応は、塩基の存在下で行う。塩基としては、水溶性の無機塩基である。無機塩基としては、アルカリ土類金属またはアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩または炭酸水素塩がより好ましい。アルカリ金属の水酸化物が特に好ましい。塩基として具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムまたは炭酸水素ナトリウムなどが挙げられる。これらのうち、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたは水酸化リチウムが好ましく、水酸化カリウムは水性溶媒に対する溶解度が高く反応、精製等での操作性に優れるのでさらに好ましい。使用する塩基は、特に高純度品は要求されず、通常の工業用薬品、試薬等の汎用グレードのものが経済的で好ましい。環化反応での塩基の添加量は、2-アシル-3-アミノアクリル酸エステル1モルに対して、1.1~3モルであり、1.2~2モルが好ましく、1.3~1.5モルがより好ましい。1.1モルよりも添加量が少ない場合は、1,5-異性体の抑制効果が低く、3モルよりも多い場合は、原料または生成物が加水分解して目的生成物の収量が低下することがある。本発明のピラゾール化合物への環化反応は、溶媒の存在下に行うことが好ましい。具体的には、水、脂肪族、脂環式または芳香族の炭化水素、例えば石油エーテル、n-ヘキサン、n-ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリンなど、およびハロゲン化された炭化水素、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタンまたはトリクロロエタンなど、エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル、メチルtert-アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタンまたはアニソールなど、アルコール類、例えばメタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、i-ブタノール、s-ブタノール、t-ブタノール、シクロヘキサノールなど、ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、n-もしくはイソブチロニトリルまたはベンゾニトリルなど、ケトン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノンなど、アミド類、例えばN,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルホルムアニリド、N-メチルピロリドンまたはヘキサメチルホスホルアミドなど、スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシドなど、またはスルホン類、例えばスルホランなどが挙げられる。炭化水素およびハロゲン化炭化水素が好ましく、芳香族炭化水素がより好ましい。具体的には、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、n-ヘキサンまたはシクロヘキサンが好ましく、トルエンまたはキシレンがより好ましい。また、前段の2-アシル-3-アミノアクリル酸エステル反応と同じ溶媒を使用することが好ましい。前段の2-アシル-3-アミノアクリル酸エステル合成での反応生成物を分離または精製することなくピラゾール環化反応に供する場合には特に同じ溶媒を選択することが好ましい。溶媒は二種以上の併用することができる。ピラゾール化合物への環化反応は低温度で行うことが好ましいが、実用上、-78°C~30°Cで行い、-30°C~20°Cが好ましい。低温では選択率は高いが、-78°Cより低温では溶媒の凝固または粘度上昇による操作の困難、冷却コストの上昇、および反応速度の低下などの点から好ましくない。また、30°Cを超えると副反応が起こり選択率に低下が見られるので好ましくない。反応圧力は通常の圧力範囲では反応に影響を及ぼさないので任意であるが、加圧または減圧してもよく、一般的には意識的な加圧または減圧を行わない大気圧下で行えばよい。強い還元剤であるヒドラジン類と空気が接触することは安全上好ましくないので、窒素、アルゴン雰囲気下で行うことが好ましい。反応時間は、温度等の条件により異なるが10分~10時間である。ピラゾール化合物への環化反応は、第一工程アシル化工程で得られた反応器内容物、無機塩基および置換ヒドラジンを混合すればよく、反応に関与する基質および副資材を反応系に導入する順序は限定されない。塩基はヒドラジン類および溶媒を含む組成物として取り扱うのが容易であり、この組成物に対し2-アシル-3-アミノアクリル酸エステルを含む組成物とを接触させる手順が好ましいが、当然、この趣旨に沿う方法であれば本発明の目的を達することができる。具体的には、反応器に仕込まれたいずれか一方の組成物へ他方の組成物を徐々に、例えば、滴下またはメータリングポンプによる注入等の方法で導入するのが好ましい。添加は反応器内容物の温度の上昇や成分の変化等の経過を観察しながら前記した反応温度の上限を超えない範囲で徐々に行うのが好ましい。また、反応器内容物は攪拌するのが好ましい。反応器内容物に含まれるピラゾール化合物の精製は、一般的な精製方法に従って行える。反応器内容物の成分は、アシル化工程と環化工程の中間での精製の方法または環化工程での塩基や溶媒の使用の有無により異なるが、反応器内容物を有機層と水層に二層分離すると、有機層に、ピラゾール化合物が含まれ、そのほかにアシル化工程で用いた有機塩基および有機溶媒使用した場合に限るなどが含まれることがある。一方、水層には脱離したジメチルアミン等の第二アミンが含まれ、その他にフッ化カリウム等の無機フッ化物、無機水酸化物、ヒドラジン類等が含まれることがある。有機層をフラッシュ蒸留してピラゾール化合物を取得することができ、留去された第三アミン等の有機塩基を含む溶媒は再度アシル化工程に使用することができる。また、有機層を水で洗浄して有機塩基を除去してから溶媒を留去してピラゾール化合物を取得することもできる。これらの方法で精製されたピラゾール化合物は、さらに、加熱または減圧することで乾燥させることもできる。1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルに含まれる異性体1,5-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルは溶媒を用いた結晶化晶折により除去することができる。予め1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルとその異性体を加水分解して1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸とその異性体に変換してから再結晶化することもできる。また、吸着カラム等を用いてさらに精製することもできる。また、本発明の方法で合成した1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルは、無極性溶媒による洗浄が効果的であり、再結晶処理に代えてこの洗浄で、99.9以上の高純度とすることもできる。無極性溶媒としては、特に限定されないが、シクロヘキサン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素が挙げられる。洗浄の温度は、0~25°Cが好ましい。0°C未満では、不純物除去効率が低く、25°Cより高い温度では、1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルが洗浄液に溶出して回収率が低下することがある。洗浄方法は、攪拌洗浄、掛け洗浄、もしくはこれらの組み合わせが例示されるが、攪拌洗浄後に、濾過し、掛け洗浄することが好ましい。1,5-異性体を含む1,3-二置換ピラゾール-4-カルボン酸エステルは、有機溶媒に溶解して、塩酸と接触させることで極性物質または特定の不純物を除去することができる。有機溶媒としては水溶性の低い有機溶媒が好ましく、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジイソプロピルエーテル、塩化メチレン、クロロホルムが例示できる。トルエン、キシレンが好ましい。処理溶液の調製には、ピラゾール化合物とこれらの溶媒を混合すればよい。また、環化反応後の反応液に有機溶媒が含まれている場合は、そのまま、または水洗して第二アミン等を除去したものが好ましい。接触温度は、0~80°Cであるが、加熱または冷却などをしない常温で行えばよい。処理溶液/塩酸の容量比は特に限定されないが、9/1~1/1が好ましい、塩酸の量がこれらよりも多い場合、スペースイールドが低下し、これよりも小さい場合、処理に時間を要したり、十分な処理効率が得られないので好ましくない。処理時間は、極性物質等の含有量、塩酸濃度、処理溶液/塩酸の容量比、混合状態に依存するが、通常、30分から3時間である。接触方法は、通常の攪拌槽、スタティックミキサー、ポンプ循環等の任意の方法が適用可能であるが、攪拌槽で混合後、静定、分離する方法が簡便である。処理後の有機液は塩酸から分離後、溶媒留去すればピラゾールを回収できる。以下に実施例をもって、本発明を説明するが、本発明はこれらの実施態様に限られない。反応液中の有機物の分析はガスクロマトグラフFID検出器で行い、組成を面積で示した。反応液中のDFAAE含有量は水洗後トルエンを留去して得られた固体の質量から求めた。[合成例1]2-ジフルオロアセチル-3-ジメチルアミノアクリル酸エチルDFAAEの合成吹き込み管、温度計、ドライアイスコンデンサーを備え、窒素シールした2000ml三口フラスコに、3-N,Nジメチルアミノアクリル酸エチルDMAE143g、トルエン570g、トリエチルアミン以下、Et3N111gを仕込み、攪拌しながら水浴で20°Cに冷却した。そこへ、ジフルオロ酢酸フルオライド純度95111gを1g/分の速度で吹き込み管から反応器に導入した。導入後、反応液の温度を30°Cとして1時間攪拌を継続し、反応を終了した。反応後の内容物反応液は、927gであった。反応液をガスクロマトグラフ分析したところ、DFAAE:8.22面積、Et3NとEt3Nフッ化水素塩Et3NnHF塩の合計:10.48面積Et3NnHF塩のピークは約1面積でブロードであった。、DMAE:0.082面積、トルエン:80.62面積であった。[比較例1]3-ジフルオロメチル-1-メチル-1H-ピラゾール-4-カルボン酸エチルの合成滴下ロート、温度計を備え、窒素風船でシールした500ml三口フラスコに、水9.0g、トルエン100ml、モノメチルヒドラジン6.0g0.13モルを仕込み、攪拌しながら-15°Cの低温恒温槽で-10°C以下に冷却した。そこへ、合成例1で得た溶液反応液102gDFAAE:0.11モルを滴下ロートから内温が-10°Cを超えないように徐々に滴下した。滴下終了後-12°Cで1時間攪拌を継続した後、0°Cに昇温し水100mlを添加した。分液ロートで有機層を回収し、水100mlで水洗してから、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過、溶媒留去後粗ピラゾールを21.0g粗収率93.6得た。アセトンに溶解してガスクロマトグラフ分析したところ全ピラゾール3-ジフルオロメチル-1-メチル-1H-ピラゾール-4-カルボン酸エチルと5-ジフルオロメチル-1-メチル-1H-ピラゾール-4-カルボン酸エチルを併せたピラゾール化合物をいう。純度99.1面積であり、1,3-異性体30.4に対して1,5-異性体が69.6の比率で存在していた。DMAEからのピラゾール合成について、全ピラゾール収率は、92.7、1,3-異性体収率は28.2であった。[実施例1]水9.0gの代わりに、水酸化カリウムKOH8.6gDFAAEに対して1.4当量を9.0gの水に溶かした水溶液を仕込んだこと以外、比較例1と同様の実験を行った。粗ピラゾール20.5g粗収率91.4を得た。アセトンに溶解してガスクロマトグラフ分析したところ全ピラゾール純度が99.3面積で、1,3-異性体98.5に対して1,5-異性体が1.5の比率で存在していた。DMAEからのピラゾール合成について、全ピラゾール収率は、90.7、1,3-異性体収率は89.4であった。[実施例2]水9.0gの代わりに、水酸化ナトリウムNaOH6.2gDFAAEに対して1.4当量を9.0gの水に溶かした水溶液を仕込んだこと以外、比較例1と同様の実験を行った。粗ピラゾール21.5g粗収率95.8を得た。アセトンに溶解してガスクロマトグラフ分析したところ全ピラゾール純度が72.6面積で、1,3-異性体92.7に対して1,5-異性体が7.3の比率で存在していた。DMAEからのピラゾール合成について、全ピラゾール収率は、69.6、1,3-異性体収率は64.5であった。[参考例1]水9.0gの代わりに、Et3N11gと水9.0gの溶液を仕込んだこと以外、比較例1と同様の実験を行った。粗ピラゾール20.6g粗収率91.8を得た。アセトンに溶解してガスクロマトグラフ分析したところ全ピラゾール純度が96.3面積で、1,3-異性体59.6に対して1,5-異性体が40.4の比率で存在していた。DMAEからのピラゾール合成について、全ピラゾール収率は、88.4、1,3-異性体収率は52.7であった。[参考例2]合成例1で得られた反応液463gを水250gで二回洗浄したところ、DFAAEトルエン溶液384gが得られた。この溶液の10gを溶媒留去して2.45gのDFAAEを得た。このとき、合成例1の反応でのDFAAE理論収率に基づいて、水洗浄での回収率は90であった。[参考例3]参考例2で得られたDFAAEトルエン溶液113gDFAAE:0.12モルを用いて他の基質等の量は変えずに比較例1と同様の実験を行い、粗ピラゾール21.3g粗収率87.0を得た。アセトンに溶解してガスクロマトグラフ分析したところ全ピラゾール純度が99.5面積で、1,3-異性体92.5に対して1,5-異性体が7.5の比率で存在していた。DMAEからのピラゾール合成について、全ピラゾール収率は、86.6、1,3-異性体収率は80.1であった。[参考例6]吹き込み管、温度計、ドライアイスコンデンサーを備え、窒素シールした1000ml三口フラスコに、3-N,Nジメチルアミノアクリル酸エチルDMAE72g、トルエン285g、トリエチルアミン以下、Et3N56gを仕込み、攪拌しながら水浴で20°Cに冷却した。そこへ、ジフルオロ酢酸フルオライド純度9556gを0.5g/分の速度で吹き込み管から反応器に導入した。導入後、反応液の温度を30°Cとして1時間攪拌を継続し、反応を終了した。反応後の内容物反応液は、463gであった。反応液を水250gで二回洗浄してEt3NnHF塩を除去し、25.9質量DFAAEトルエン溶液382gを得た。滴下ロート、温度計を備え、窒素風船でシールした2000ml三口フラスコに、水36.0g、水酸化ナトリウム6.4g、トルエン400ml、モノメチルヒドラジン24.0g0.52モルを仕込み、攪拌しながら-15°Cの低温恒温槽で-10°C以下に冷却した。そこへ、水で洗浄したDFAAEトルエン溶液375gDFAAE:0.11モルを滴下ロートから内温が-10°Cを超えないように徐々に滴下した。滴下終了後-12°Cで1時間攪拌を継続した後、0°Cに昇温し水400mlを添加した。分液ロートで有機層を回収し、水400mlで水洗して9.7質量のピラゾールトルエン溶液702gを得た。[塩酸洗浄例1~4]温度計と還流管を備えた三口フラスコに、参考例6で合成したピラゾールトルエン溶液150g、表1に示す各濃度35質量、25質量、17質量、10質量、の塩酸50gを添加し、室温25°Cで1時間攪拌した。分液した有機層を濃縮後、粗ピラゾールを次に示す分析法および試料調製法で高速液体クロマトグラフィHPLC分析した。結果を表1に示す。<HPLC分析法>分析機器:agilentHP-1100LCsystem流量1ml/min.6mMメタンスルホン酸:ACN=6:430分間で3:7へグラジェントUVdetectorλ=210nmカラムCadenzaCD-C184.6φ×250mm3μm温度35°C<試料調製法>試料を採取し、窒素パージにより溶媒を除去した後、重量を測定して2mg/mlの濃度6mMメタンスルホン酸:ACN=6:4となるように移動相を加え均一溶解し、分析に供した。"