"基材フィルムの両面上に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする光学フィルム。前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さRaが、2~180nmの範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さRaが、10~130nmの範囲内にあることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学フィルム。前記活性線硬化型樹脂の粘度が、25°Cにおいて、20~2000mPasの範囲内にあることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の光学フィルム。前記機能性層における前記活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は粒子の含有量が、機能性層の固形分に対し0.01質量以下であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の光学フィルム。温度23°C相対湿度55RHの環境下、光波長590nmで、前記基材フィルムのリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Roが0~10nmの範囲内にあり、厚さ方向のリターデーション値Rthが-10~10nmの範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の光学フィルム。前記基材フィルムが、セルロースエステルを含有する樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載の光学フィルム。請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を、少なくとも塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成し、かつ前記乾燥工程における減率乾燥区間の温度を85~140°Cの範囲内に維持した条件下で処理することを特徴とする光学フィルムの製造方法。請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、具備されていることを特徴とする画像表示装置。請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、タッチパネルの構成部材として、具備されていることを特徴とする画像表示装置。本発明は、上記問題状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に優れ、更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する光学フィルムを提供することである。また、当該光学フィルムが具備され、文字ボケやムラが無く視認性に優れた画像表示装置を提供することである。本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、基材フィルムの両面上に相容性樹脂の連続相からなる不規則な形状の突起を有する機能層を設けることにより上記課題を解決することができることを見出し本発明に至った。すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。1.基材フィルムの両面上に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする光学フィルム。2.前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さRaが、2~180nmの範囲内にあることを特徴とする第1項に記載の光学フィルム。3.前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さRaが、10~130nmの範囲内にあることを特徴とする第1項又は第2項に記載の光学フィルム。4.前記活性線硬化型樹脂の粘度が、25°Cにおいて、20~2000mPasの範囲内にあることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。5.前記機能性層における前記活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は粒子の含有量が、機能性層の固形分に対し0.01質量以下であることを特徴とする第1項から第4項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。6.温度23°C相対湿度55RHの環境下、光波長590nmで、前記基材フィルムのリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Roが0~10nmの範囲内にあり、厚さ方向のリターデーション値Rthが-10~10nmの範囲内であることを特徴とする第1項から第5項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。7.前記基材フィルムが、セルロースエステルを含有する樹脂フィルムであることを特徴とする第1項から第6項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。8.第1項から第7項までのいずれか一項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を、少なくとも塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成し、かつ前記乾燥工程における減率乾燥区間の温度を85~140°Cの範囲内に維持した条件下で処理することを特徴とする光学フィルムの製造方法。9.第1項から第7項までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、具備されていることを特徴とする画像表示装置。10.第1項か第7項までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、タッチパネルの構成部材として、具備されていることを特徴とする画像表示装置。本発明の上記手段により、厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に優れ、更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する光学フィルムを提供することができる。また、当該光学フィルムが具備され、文字ボケやムラが無く視認性に優れた画像表示装置を提供することができる。本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。すなわち、本発明に係る機能性層の突起形状は、長さ方向に周期を持たない不規則な状態を有している。このため、フィルム同士が重なり合った場合でも、応力が分散しやすく、フィルムをロール状で長尺に巻いてもブロッキング防止の効果が良好に得られる。さらに、耐久試験後も膜強度の劣化が無いため、タッチパネルでの使用環境を想定した評価である耐ペン摺動性に優れ、更にはロール搬送での擦り傷耐性にも優れた光学フィルムを提供できる。本発明の光学フィルムは、基材フィルムの両面上表裏二面上に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項10までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。本発明の実施態様としては、本発明の効果発現、特に耐久性、密着性等の観点から、前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さRaが、2~180nmの範囲内にあることが好ましい。更には、算術平均粗さRaが、10~130nmの範囲内にあることが好ましい。また、前記活性線硬化型樹脂の粘度が、25°Cにおいて、20~2000mPasの範囲内にあることが、突起形状が得られやすいことから、好ましい。さらに、本発明においては、前記機能性層における前記活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は粒子の含有量が、機能性層の固形分に対し0.01質量以下であることが好ましい。さらに、本発明においては、温度23°C相対湿度55RHの環境下、光波長590nmで、前記基材フィルムのリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Roが0~10nmの範囲内にあり、厚さ方向のリターデーション値Rthが-10~10nmの範囲内であることが好ましい。これにより、厳しい耐久試験において、本発明の目的が得られやすい点や後述するインナータッチパネルなどに用いた際の視認性に優れる点から好ましい。また、前記基材フィルムが、セルロースエステルを含有する樹脂フィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法としては、25°Cにおける粘度が20~2000mPasの範囲内にある活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を、少なくとも塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成し、かつ前記乾燥工程における減率乾燥区間の温度を90~140°Cの範囲内に維持した条件下で処理する態様の製造方法であることが、所定の突起形状が得られやすいという観点から、好ましい。本発明の光学フィルムは、画像表示装置に好適に具備され得る。特に、本発明の光学フィルムは、タッチパネルの構成部材として、画像表示装置に好適に具備され得る。以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態態様について詳細な説明をする。なお、本願において、~は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。本発明の光学フィルムの特徴本発明の光学フィルムは、基材フィルムの両面上表裏二面上に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする。一例として、図10に示すように、機能性層1の表面に現れる、幅も高さも異なる突起2が、不規則な形状の突起として挙げられる。なお、長手方向とは、光学フィルムの製造時、その組成物塗布液が流延された製膜方向をいう。従来、相互に非相溶性の複数例えば二種の樹脂成分を混合した場合、混合物の高次構造としては、一方の樹脂がマトリクスとなり、他方が分散相となることで海島構造を形成する、すなわち、樹脂成分の片方が連続する相の中に、もう一方が粒子状島状に分散している構造を形成することがよく知られている。この海島構造に対し、本発明に係る機能性層は、活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は微粒子を実質的に含有せず、複数成分のそれぞれが互いに混じりあって連続した相を形成している構造になっている。このため、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする。本願において、機能性層が活性線硬化型樹脂に対して非相溶性である樹脂や粒子を実質的に含有しないという場合、当該非相溶性である樹脂や粒子の含有量が、機能性層の固形分に対して、0.01質量以下であることを意味するものとする。ただし、機能性層と基材との界面においては、機能性層を形成する際に基材表面付近の構成成分が機能性層側に抽出される場合があるが、基材から抽出された成分が機能性層と基材との界面付近に局在する場合は、この部分を除くものとする。本願において、非相溶性とは、二種類以上の樹脂の溶融混合物の融解温度Tm又はガラス転移点Tgを測定観察したときに、当該溶融混合物を構成する樹脂それぞれ単独のピークが観察されるものをいう。また、透過型電子顕微鏡観察においてそれぞれの相が実質的に観察されるものをいう。一方、相溶性とは、同種又は二種類以上の樹脂の溶融混合物の融解温度Tm又はガラス転移点Tgを測定観察したときに、当該溶融混合物のピークが1個以下観察されるものをいう。本発明に係る活性線硬化型樹脂詳細は後述する。に対し非相溶性である樹脂としては、不飽和二重結合などの官能基重合性基を有さない化合物であり、具体的にはメタアクリル系やアクリル系の単量体を重合又は共重合して得られる樹脂やポリエステル樹脂、基材フィルムで後述するアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂などが挙げられる。微粒子としては、無機微粒子や有機微粒子といった微粒子が挙げられ、具体的には無機微粒子としては、酸化珪素、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、などを挙げることができる。また、有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、又はメラミン系樹脂粉末等を挙げることができる。本発明に係る機能性層は、上述のように、活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は微粒子を実質的に含有せず、相溶性の高い樹脂成分だけで構成されているため、耐久試験においても劣化等が生じ難く、耐ペン摺動性に優れた光学フィルムを提供できる。また、機能性層の表面凹凸を形成する突起形状は、微粒子を含有させたり、型付けなどによって形成されたものではないため、不規則な状態を有しており、機能性層同士が、重なり有った場合でも、応力が分散しやすく、優れたブロッキング防止の効果が得られるものである。また、本発明に係る機能性層は微粒子を含有しないため、ロール搬送時に微粒子の脱落などが生じず、更に相溶性の高い樹脂成分だけで構成されているため膜強度に優れ、ロール搬送での擦り傷耐性に優れた光学フィルムを提供することができる。機能性層の表面形状本発明に係る機能性層の表面の突起形状は、長さ方向に周期を持たない不規則な形状の突起をしている。本発明の長さ方向に周期を持たない不規則な形状の突起とは、表面凹凸がフィルムの幅手方向にも形や大きさが定まらない不規則な形状であり、表面転写ロールにより形成された表面凹凸のようなフィルムの長さ方向に周期を持たない形状の突起をさす。これらに限定はされないが、例えば、幅も高さも異なる突起が、不規則に配置される。また、不規則な配置とは、突起が等間隔に配置されているのではなく、ランダムな間隔で配置され、等方的であっても、異方的であってもよい。なお、突起は、基材フィルムと接していない機能性層の表面上に現れる。長さ方向に周期を持たない不規則な突起形状を有することで、ロール状にフィルムを巻き取り、フィルム同士が重なり有った場合でも突起形状が重なり合うことなく、ブロッキング防止の効果が得られると推定している。このため、例えば表面転写ロールを押し当てて表面に突起を形成させる方法では、幅方向には、不規則な突起形状を形成できるが、長さ方向は一定の周期を有する突起形状しか得られないため、本発明の目的効果は得られない。機能性層の表面の算術平均粗さRaJISB0601:1994は、180nm以下が好ましく、より好ましくは、2~180nm、特に好ましくは2~130nmである。前記範囲の算術平均粗さRaとすることで、より過酷な耐久試験において、本発明の目的効果が好適に得られるばかりか、密着性にも優れる点で好ましい。この算術平均粗さRaとするための突起形状の高さは、2nm~4μm、が好ましい。また突起形状の幅は50nm~300μm、好ましくは、50nm~100μmである。上記突起形状の高さ、及び幅は断面観察から求めることができる。よりわかりやすくするために、図1のaとbに突起の説明図を示した。図1のaとbに示されているように、断面観察の画像に中心線aを引き、山の麓を形成する線b、cと中心線aとの2つの交点の距離を、突起サイズの幅tとした。また、山頂と中心線aまでの距離を突起サイズの高さhとして求められる。機能性層の10点平均粗さRzは、中心線平均粗さRaの10倍以下、平均山谷距離Smは5~150μmが好ましく、より好ましくは20~100μm、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差は0.5μm以下、中心線を基準とした平均山谷距離Smの標準偏差が20μm以下、傾斜角0~5度の面は10以上が好ましい。前記した算術平均粗さRa、Sm、Rzは、JISB0601:1994に準じて光学干渉式表面粗さ計例えば、RST/PLUS、WYKO社製で測定した値である。また、機能性層の尖度Rkuは3以下が好ましい。尖度Rkuとは、凹凸形状の凸状部分の形状を規定するパラメータであり、この尖度Rkuの値が大きい程、凹凸形状の凸状部分の形状は、針のように尖った形状であることとなる。尖度Rku3を超えるものは、白ボケが発生しやすい。機能性層の尖度Rkuは、更に好ましくは1.5~2.8である。また、表面の歪度Rskの絶対値は1以下であることが好ましい。前記歪度Rskは、凹凸形状の平均面に対する凸状部分と凹状部分との割合を示すパラメータであり、凹凸形状が、平均面に対して凸状部分が多いとプラスに大きな値となり、平均面に対して凹状部分が多いとマイナスに大きな値となる。歪度Rskの絶対値が1を超えるものは、白ボケが発生しやすい。歪度Rskの絶対値は、好ましくは0.01~0.5である。なお、尖度Rku及び歪度Rskは、上記光学干渉式表面粗さ計を用いて計測できる。なお、上述したような特徴を有する機能性層の詳細については後述するが、上記突起形状表面凹凸は、例えば、機能性層塗布組成物の乾燥工程における減率乾燥区間の処理温度を高温制御し、樹脂の塗膜対流を発生させ、機能性層表面に不均一な状態を作り、この不均一な表面状態で硬化し、塗膜を形成する方法などによって得ることができる。このような方法で塗膜を形成することで、機能性層の膜強度が向上する。また、機能性層塗布組成物の乾燥工程における減率乾燥区間の処理温度を高温条件に制御する方法は、生産性にも優れる点で好ましい。機能性層本発明に係る機能性層は、活性線硬化樹脂を含有する。すなわち、紫外線や電子線のような活性線活性エネルギー線ともいう。照射により、架橋反応を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層である。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が機械的膜強度耐擦傷性、鉛筆硬度に優れる点から好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレートペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体等が好ましく挙げられる。活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に1個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、同一分子内に3個以上のエチレン性不飽和基及び1個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。これらの市販品としては、アデカオプトマーNシリーズ、サンラッドH-601、RC-750、RC-700、RC-600、RC-500、RC-611、RC-612三洋化成工業株製、アロニックスM-6100、M-8030、M-8060、アロニックスM-215、アロニックスM-315、アロニックスM-313、アロニックスM-327東亞合成株製、NK-エステルA-TMM-3L、NK-エステルAD-TMP、NK-エステルATM-35E、NKエステルA-DOG、NKエステルA-IBD-2E、A-9300、A-9300-1CL新中村化学工業株、PE-3A共栄社化学などが挙げられる。また、上記活性線硬化樹脂を単独又は二種以上混合しても良い。また、活性線硬化型樹脂の25°Cにおける粘度は、好ましくは20mPas以上、2000mPas以下である。このような低粘度の樹脂を用いることで、突起形状が得られやすく、更に前述した特に好ましい算術平均粗さRaの範囲に制御しやく、この結果、本発明の目的効果を好適に得られる。また、樹脂の粘度が30mPas以上の粘度であれば高官能数のモノマーを用いることができて、十分高い硬化性が得られ、2000mPas以下の粘度であれば、乾燥工程において樹脂組成物活性線硬化型樹脂と溶剤以外の添加剤からなる組成物の十分な流動性が得られやすい。活性線硬化型樹脂の粘度は、樹脂をディスパーにて撹拌混合し25°Cの条件にてB型粘度計を用いて粘度測定を行うことができる。なお、上記粘度は、B型粘度計を用いて25°Cの条件にて測定した値である。また、単官能アクリレートを用いても良い。単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。このような単官能アクリレートは、日本化成工業株式会社、新中村化学工業株式会社、大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。単官能アクリレートを用いる場合には、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比で、多官能アクリレート:単官能アクリレート=80:20~99:2で含有することが好ましい。また、機能性層には活性線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤:活性線硬化樹脂=20:100~0.01:100で含有することが好ましい。光重合開始剤としては、具体的には、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α-アミロキシムエステル、チオキサントン等及び、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。このような光重合開始剤は市販品を用いてもよく、例えば、例えば、BASFジャパン株製のイルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア651などが好ましい例示として挙げられる。機能性層には、帯電防止性を付与するために導電剤が含まれていても良い。好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子又はπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。機能性層には、塗布性の観点から、アクリル系界面活性剤アクリル共重合物、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素-シロキサングラフト化合物を含有させても良い。また機能性層はHLB値が3~18の化合物を含有しても良い。HLB値が3~18の化合物について説明する。HLB値とは、Hydrophile-Lipophile-Balance、親水性-親油性-バランスのことであり、化合物の親水性又は親油性の大きさを示す値である。HLB値が小さいほど親油性が高く、値が大きいほど親水性が高くなる。また、HLB値は以下のような計算式によって求めることができる。HLB=711.7LogMw/Mo式中、Mwは親水基の分子量、Moは親油基の分子量を表し、MwMo=M化合物の分子量である。あるいはグリフィン法によれば、HLB値=20×親水部の式量の総和/分子量J.Soc.CosmeticChem.,51954,294等が挙げられる。HLB値が3~18の化合物の具体的化合物を下記に挙げるが、本発明はこれに限定されるものでない。内はHLB値を示す。花王株式会社製:エマルゲン102KG6.3、エマルゲン1038.1、エマルゲン104P9.6、エマルゲン1059.7、エマルゲン10610.5、エマルゲン10812.1、エマルゲン109P13.6、エマルゲン12015.3、エマルゲン123P16.9、エマルゲン14716.3、エマルゲン210P10.7、エマルゲン22014.2、エマルゲン306P9.4、エマルゲン320P13.9、エマルゲン4048.8、エマルゲン40810.0、エマルゲン409PV12.0、エマルゲン42013.6、エマルゲン43016.2、エマルゲン70510.5、エマルゲン70712.1、エマルゲン70913.3、エマルゲン110813.5、エマルゲン1118S-7016.4、エマルゲン1135S-7017.9、エマルゲン2020G-HA13.0、エマルゲン2025G15.7、エマルゲンLS-10612.5、エマルゲンLS-11013.4、エマルゲンLS-11414.0、日信化学工業株式会社製:サーフィノール104E4、サーフィノール104H4、サーフィノール104A4、サーフィノール104BC4、サーフィノール104DPM4、サーフィノール104PA4、サーフィノール104PG-504、サーフィノール104S4、サーフィノール4204、サーフィノール4408、サーフィノール46513、サーフィノール48517、サーフィノールSE6、信越化学工業株式会社製:X-22-42727、X-22-62668、KF-35112、KF-3527、KF-35310、KF-354L16、KF-355A12、KF-615A10、KF-9454、KF-61811、KF-601112、KF-60154、KF-60045。シリコーン系界面活性剤としては、ポリエーテル変性シリコーンなどを挙げることができ、上記信越化学工業社製のKFシリーズなどを挙げることができる。アクリル共重合物としては、ビックケミージャパン社製のBYK-350、BYK-352などの市販品化合物を挙げることができる。フッ素系界面活性剤としては、DIC株式会社製のメガファックRSシリーズ、メガファックF-444メガファックF-556などを挙げることができる。フッ素-シロキサングラフト化合物とは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び/又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び/又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物をいう。このようなフッ素-シロキサングラフト化合物は、後述の実施例に記載されているような方法で調製することができる。あるいは、市販品としては、富士化成工業株式会社製のZX-022H、ZX-007C、ZX-049、ZX-047-D等を挙げることができる。またこれら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.005質量以上、5質量以下の範囲で添加することが好ましい。また、機能性層は、後述する基材フィルムで説明する紫外線吸収剤をさらに含有しても良い。紫外線吸収剤を含有する場合のフィルムの構成としては、機能性層が二層以上で構成され、かつ基材フィルムと接する機能性層に紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤の含有量としては質量比で、紫外線吸収剤:活性線硬化樹脂=0.01:100~10:100で含有することが好ましい。二層以上設ける場合、基材フィルムと接する機能性層の膜厚は、0.05~2μmの範囲であることが好ましい。二層以上の積層は同時重層で形成しても良よいし、遂次重層で形成しても良い。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材フィルム上に二層以上の機能性層をwetonwet湿式塗布方式で塗布して、機能性層を形成することである。第1機能性層の上に乾燥工程を経ずに、第2機能性層をwetonwetで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。機能性層は、上記した機能性層を形成する成分を溶剤で希釈して機能性層組成物として、以下の方法でフィルム基材上に塗布、乾燥、硬化して機能性層を設けることが好ましい。溶剤としては、ケトン類メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなど、エステル類酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなど、アルコール類エタノール、メタノール、ブタノ―ル、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコールなど、炭化水素類トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン、グリコールエーテル類プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテルなどなどを好ましく用いることができる。また、これら溶剤の中でもケトン類、エステル類、グリコールエーテルが好ましい。これら好ましい溶剤の少なくとも一種を活性線硬化樹脂100質量部に対して、20~200質量部の範囲で用いることで、機能性層組成物を基材フィルムに塗布後、機能性層組成物の溶剤が蒸発しながら、機能性層を形成していく過程で、樹脂の対流が生じやすく、その結果、長手方向に不規則で、かつ基材フィルム上にも不規則な突起形状を有する表面粗れが発現しやすく、算術平均粗さRaも制御しやすいため好ましい。機能性層の塗布量はウェット膜厚として0.1~40μmが適当で、好ましくは、0.5~30μmである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚0.05~20μm、好ましくは1~10μmである。機能性層の塗布方法は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。これら塗布方法を用いて機能性層を形成する機能性層組成物を塗布し、塗布後、乾燥し、活性線を照射UV硬化処理とも言うし、更に必要に応じて、UV硬化後に加熱処理することで形成できる。UV硬化後の加熱処理温度としては80°C以上が好ましく、更に好ましくは100°C以上であり、特に好ましくは120°C以上である。このような高温でUV硬化後の加熱処理を行うことで、膜強度に優れた機能性層を得ることができる。乾燥は、減率乾燥区間の温度を85°C以上の高温処理で行うことが好ましい。更に好ましくは、減率乾燥区間の温度は85°C以上、140°C以下である。減率乾燥区間の温度を高温処理とすることで、機能性層の形成時に塗膜樹脂中で対流が生じるため、その結果、機能性層表面に不規則な表面粗れが発現しやすく、この結果、前記した算術平均粗さRaに制御しやすいため好ましい。一般に乾燥プロセスは、乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少する状態へと変化していくことが知られており、乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。恒率乾燥区間においては流入する熱量はすべて塗膜表面の溶媒蒸発に費やされており、塗膜表面の溶媒が少なくなると蒸発面が表面から内部に移動して減率乾燥区間に入る。これ以降は塗膜表面の温度が上昇し熱風温度に近づいていくため、活性線硬化型樹脂組成物の温度が上昇し、樹脂粘度が低下して流動性が増すと考えられる。UV硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常50~1000mJ/cm2、好ましくは50~300mJ/cm2である。活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30~300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、又は2軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。<光学フィルムの物性>ヘイズ光学フィルムの内部散乱に起因するヘイズ以後、内部ヘイズとも記載するは、0~1であることが好ましい。内部散乱を良好に抑性することで、本発明に係る光学フィルムを画像表示装置に用いた場合、優れた視認性が得られる。内部ヘイズは以下の手順で測定することができる。光学フィルムの表面及び裏面にシリコーンオイルを数滴滴下し、厚さ1mmのガラス板ミクロスライドガラス品番S9111、MATSUNAMI製2枚で、裏表より挟む。表裏をガラスで挟み込んだ光学フィルムを、完全に2枚のガラス板と光学的に密着させ、この状態でヘイズHaをJIS-K7105及びJISK7136に準じて測定する。次に、ガラス板2枚の間にシリコーンオイルのみ数滴滴下して挟み込んでガラスヘイズHbを測定する。そして、光学フィルムをガラスで挟み込んだヘイズHaから、ガラスヘイズHbを引くことで、内部ヘイズHiは算出できる。また、光学フィルムのヘイズは0.2~20であることが好ましい。硬度本発明での光学フィルムは、硬度の指標で有る鉛筆硬度がH以上、より好ましくは3H以上である。3H以上であれば、大型の表示装置や、デジタルサイネージ用表示装置にし、用いた際も優れた機械物性を示す。鉛筆硬度は、作製した光学性フィルムを温度23°C、相対湿度55の条件で2時間以上調湿した後、加重500g条件でJISS6006が規定する試験用鉛筆を用いて、機能性層をJISK5400が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。次いで、基材フィルムについて説明する。<基材フィルム>基材フィルムは製造が容易であること、機能性層と接着し易いこと、光学的に等方性であることが好ましい。上記性質を有した基材フィルムであればいずれでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホンポリエーテルスルホンも含む系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を使用することができる。これらの内、セルロースエステルフィルム例えば、コニカミノルタタックKC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC4UE、KC4CZ、KC4UA、KC6UA、及びKC12UR以上、コニカミノルタオプト株製、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、本発明においては、セルロースエステルフィルムが機能性層で上記した突形状が得られやすいこと、製造性、コスト面から好ましい。基材フィルムの屈折率は、1.30~1.70であることが好ましく、1.40~1.65であることがより好ましい。屈折率は、屈折率は、アタゴ社製アッペ屈折率計2Tを用いてJISK7142の方法で測定する。セルロースエステルフィルム次に基材フィルムとして好ましいセルロースエステルフィルムについて、より詳細に説明する。セルロースエステルフィルムは、上記特性を有するものであれば特に限定はされないが、セルロースエステル樹脂以下、セルロースエステルともいう。は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独あるいは混合して用いることができる。セルロースジアセテートは、平均酢化度結合酢酸量51.0~56.0が好ましく用いられる。また、市販品としては、ダイセル社L20、L30、L40、L50、イーストマンケミカル社のCa398-3、Ca398-6、Ca398-10、Ca398-30、Ca394-60Sが挙げられる。セルローストリアセテートは、平均酢化度結合酢酸量54.0~62.5のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が58.0~62.5のセルローストリアセテートである。セルローストリアセテートとしては、アセチル基置換度が、2.80~2.95であって数平均分子量Mnが125000以上、155000未満、重量平均分子量Mwは、265000以上310000未満、Mw/Mnが1.9~2.1であるセルローストリアセテートA、アセチル基置換度が2.75~2.90であって数平均分子量Mnが155000以上、180000未満、Mwは290000以上360000未満、Mw/Mnは、1.8~2.0であるセルローストリアセテートBを含有することが好ましい。セルロースアセテートプロピオネートは、炭素原子数2~4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をYとした時、下記式I及びIIを同時に満たすものが好ましい。式I:2.6≦XY≦3.0式II:0≦X≦2.5中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。セルロースエステルの数平均分子量Mn及び分子量分布Mwは、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。測定条件は以下の通りである。溶媒:メチレンクロライドカラム:ShodexK806、K805、K803G昭和電工株製を3本接続して使用したカラム温度:25°C試料濃度:0.1質量検出器:RIModel504GLサイエンス社製ポンプ:L6000日立製作所株製流量:1.0ml/min校正曲線:標準ポリスチレンSTKstandardポリスチレン東ソー株製Mw=1000000~500までの13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。セルロースエステル樹脂アクリル樹脂含有フィルム基材フィルムは、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを含有し、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比が、アクリル樹脂:セルロースエステル樹脂=95:5~50:50であるフィルムを用いても良い。アクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位50~99質量、及びこれと共重合可能な他の単量体単位1~50質量からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が2~18のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が1~18のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα,β-不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α-メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα,β-不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、N-置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは二種以上の単量体を併用して用いることができる。これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n-プロピルアクリレート、n-ブチルアクリレート、s-ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやn-ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。また、重量平均分子量Mwは80000~500000であることが好ましく、更に好ましくは、110000~500000の範囲内である。アクリル樹脂の重量平均分子量は、測定条件含めて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁又は乳化重合では30~100°C、塊状又は溶液重合では80~160°Cで実施しうる。得られた共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。また、市販品も使用することができる。例えば、デルペット60N、80N旭化成ケミカルズ株製、ダイヤナールBR52、BR80、BR83、BR85、BR88三菱レイヨン株製、KT75電気化学工業株製等が挙げられる。アクリル樹脂は二種以上を併用することもできる。また、アクリル樹脂には、メタアクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体にメタアクリル系樹脂がグラフトされたグラフト共重合体を用いてもよい。前記グラフト共重合体は、メタアクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体がコアcoreを構成し、その周辺に前記メタアクリル系樹脂がシェルshellを構成するコア-シェルタイプのグラフト共重合体であることが好ましい。基材フィルムにおけるアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、基材フィルムの55質量以上であることが好ましく、更に好ましくは60質量以上であり、特に好ましくは、70質量以上である。基材フィルムは、熱可塑性アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂以外の樹脂や添加剤を含有して構成されていても良い。アクリル粒子基材フィルムは、脆性の改善に優れる点から、アクリル粒子を含有しても良い。アクリル粒子とは、前記熱可塑性アクリル樹脂及びセルロースエステル樹脂を相溶状態で含有する基材フィルム中に粒子の状態非相溶状態ともいうで存在するアクリル成分を表す。アクリル粒子は、特に限定されるものではないが、多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体の市販品の例としては、例えば、三菱レイヨン社製メタブレン、カネカ社製カネエース、呉羽化学工業社製パラロイド、ロームアンドハース社製アクリロイド、ガンツ化成工業社製スタフィロイド及びクラレ社製パラペットSAなどが挙げられ、これらは、単独ないし二種以上を用いることができる。基材フィルムにアクリル粒子を添加する場合は、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂との混合物の屈折率とアクリル粒子の屈折率が近いことが、透明性が高いフィルムを得る点では好ましい。具体的には、アクリル粒子とアクリル樹脂の屈折率差が0.05以下であることが好ましく、より好ましくは0.02以下、とりわけ0.01以下であることが好ましい。アクリル微粒子は、該フィルムを構成するアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量に対して、含有質量比でアクリル微粒子:アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂総質量=0.5:100~30:100の範囲で含有させることで、目的効果がより良く発揮される点から好ましく、更に好ましくは、アクリル微粒子:アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量=1.0:100~15:100の範囲である。微粒子本実施形態に係る基材フィルムには、取扱い性を向上させるため、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましく用いられる。微粒子の1次平均粒子径としては、20nm以下が好ましく、更に好ましくは、5~16nmであり、特に好ましくは、5~12nmである。その他の添加剤基材フィルムには、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を併用することもできる。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、糖エステル系、アクリル系ポリマー等が挙げられる。この中では、ポリエステル系、糖エステル系及びアクリル系ポリマーの可塑剤が好ましく用いられる。ポリエステル系可塑剤は、フタル酸ジオクチルなどのフタル酸エステル系の可塑剤に比べて非移行性や耐抽出性に優れる。用途に応じてこれらの可塑剤を選択、あるいは併用することによって、広範囲の用途に適用できる。アクリル系ポリマーとしては、アクリル酸又はメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はコポリマーが好ましい。アクリル酸エステルのモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピルi-、n-、アクリル酸ブチルn-、i-、s-、t-、アクリル酸ペンチルn-、i-、s-、アクリル酸ヘキシルn-、i-、アクリル酸ヘプチルn-、i-、アクリル酸オクチルn-、i-、アクリル酸ノニルn-、i-、アクリル酸ミリスチルn-、i-、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸ε-カプロラクトン、アクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、アクリル酸4-ヒドロキシブチル、アクリル酸2-ヒドロキシブチル、アクリル酸2-メトキシエチル、アクリル酸2-エトキシエチル等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。アクリル系ポリマーは上記モノマーのホモポリマー又はコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が30質量以上を有していることが好ましく、またメタクリル酸メチルエステルモノマー単位が40質量以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチル又はメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。ポリエステル系可塑剤は、一価ないし四価のカルボン酸と一価ないし六価のアルコールとの反応物であるが、主に二価カルボン酸とグリコールとを反応させて得られたものが用いられる。代表的な二価カルボン酸としては、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、フタル酸、アゼライン酸、セバシン酸などが挙げられる。またポリエステル系可塑剤の好ましくは、芳香族末端エステル系可塑剤である。芳香族末端エステル系可塑剤としては、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸及び少なくとも一種の炭素数2~12のアルキレングリコールとを反応させた構造を有するエステル化合物が好ましく、最終的な化合物の構造としてアジピン酸残基及びフタル酸残基を有していればよく、エステル化合物を製造する際には、ジカルボン酸の酸無水物又はエステル化物として反応させてもよい。ベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、安息香酸であることが最も好ましい。また、これらはそれぞれ一種又は二種以上の混合物として使用することができる。炭素数2~12のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,2-プロパンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオールネオペンチルグリコール、2,2-ジエチル-1,3-プロパンジオール3,3-ジメチロールペンタン、2-n-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール3,3-ジメチロールヘプタン、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2-エチル1,3-ヘキサンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール、1,12-オクタデカンジオール等が挙げられる。これらの中では特に1,2-プロピレングリコールが好ましい。これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用してもよい。芳香族末端エステル系可塑剤は、オリゴエステル、ポリエステルの型のいずれでもよく、分子量は100~10000の範囲が良いが、好ましくは350~3000の範囲である。また酸価は、1.5mgKOH/g以下、ヒドロキシ水酸基価は25mgKOH/g以下、より好ましくは酸価0.5mgKOH/g以下、ヒドロキシ水酸基価は15mgKOH/g以下のものである。具体的には以下に示す化合物などが挙げられるがこれらに限定されない。糖エステル系化合物としては、下記単糖、二糖、三糖又はオリゴ糖などの糖のOH基のすべて若しくは一部をエステル化した化合物であり、より具体的な例示としては、一般式1で表される化合物などを挙げることができる。式中、R1~R8は、置換又は無置換の炭素数2~22のアルキルカルボニル基、あるいは、置換又は無置換の炭素数2~22のアリールカルボニル基を表し、R1~R8は、同じであっても、異なっていてもよい。以下に一般式1で示される化合物をより具体的化合物1-1~化合物1-23に示すが、これらに限定はされない。これら可塑剤は、基材フィルム100質量部に対して、0.5~30質量部を添加するのが好ましい。基材フィルムは、紫外線吸収剤を含有することも好ましく、用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、2-ヒドロキシベンゾフェノン系又はサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、2-5-メチル-2-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-[2-ヒドロキシ-3,5-ビスα,α-ジメチルベンジルフェニル]-2H-ベンゾトリアゾール、2-3,5-ジ-t-ブチル-2-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクトキシベンゾフェノン、2,2′-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。なお、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が400以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。分子量が400以上の紫外線吸収剤としては、2-[2-ヒドロキシ-3,5-ビスα,α-ジメチルベンジルフェニル]-2-ベンゾトリアゾール、2,2-メチレンビス[4-1,1,3,3-テトラブチル-6-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェノール]等のベンゾトリアゾール系、ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルセバケート等のヒンダードアミン系、さらには2-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル-2-n-ブチルマロン酸ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル、1-[2-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ]エチル]-4-[3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ]-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは二種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、2-[2-ヒドロキシ-3,5-ビスα,α-ジメチルベンジルフェニル]-2-ベンゾトリアゾールや2,2-メチレンビス[4-1,1,3,3-テトラブチル-6-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェノール]が特に好ましい。これらは、市販品を用いてもよく、例えば、BASFジャパン社製のチヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328、チヌビン928等のチヌビン類を好ましく使用できる。さらに、基材フィルムには、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、基材フィルムに帯電防止性能を与えることも可能である。基材フィルムには、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いても良い。ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる一種、あるいは二種以上の混合物を挙げることができる。具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナンスレン-10-オキシド、フェニルホスホン酸、トリスβ-クロロエチルホスフェート、トリスジクロロプロピルホスフェート、トリストリブロモネオペンチルホスフェート等が挙げられる。近年、液晶表示装置に代表される画像表示装置が大型化され、バックライト光源の輝度が益々高くなっていることに加え、デジタルサイネージ等の屋外用途への利用により、基材フィルムはより高温の環境下での使用に耐えられることが求められており、基材フィルムは張力軟化点が、105°C~145°Cであれば、十分な耐熱性を示すものと判断でき好ましく、特に110°C~130°Cに制御することが好ましい。張力軟化点の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機ORIENTEC社製、RTC-1225Aを用いて、光学フィルムを120mm縦×10mm幅で切り出し、10Nの張力で引っ張りながら30°C/minの昇温速度で昇温を続け、9Nになった時点での温度を3回測定し、その平均値により求めることができる。ガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器PerkinElmer社製DSC-7型を用いて、昇温速度20°C/分で測定し、JISK71211987に従い求めた中間点ガラス転移温度Tmgである。基材フィルムは、直径5μm以上の欠点が1個/10cm四方以下であることが好ましい。更に好ましくは0.5個/10cm四方以下、一層好ましくは0.1個/10cm四方以下である。ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径外接円の直径とする。欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認できる。欠点の個数が1個/10cm四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が5μm以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。また、目視で確認できない場合でも、機能性層を形成したときに、塗膜が均一に形成できず欠点塗布抜けとなる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞発泡欠点や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物異物欠点を言う。また、基材フィルムは、JIS-K7127-1999に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、10以上であることが好ましく、より好ましくは20以上である。破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には250程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。光学特性基材フィルムは、その全光線透過率が90以上であることが好ましく、より好ましくは93以上である。また、現実的な上限としては、99程度である。ヘイズ値は2以下が好ましく、より好ましくは1.5以下である。全光線透過率、ヘイズ値はJISK7361及びJISK7136に準じて測定することができる。かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。また、製膜時のフィルム接触部冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ロールなどの表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、アクリル樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。また、基材フィルムの波長590nmにおける、面内リターデーションRoが0~10nm、厚さ方向のリターデーションRthが-10~10nmの範囲である基材フィルムが好ましい。更にRoは0~5nm、Rthは-5~5nmの範囲であることがより好ましい。Ro及びRthは下記式Ia及びIIaで定義された値である。式Ia:Ro=nx-ny×d式IIa:Rth={nxny/2-nz}×d式中、nxは基材フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyは基材フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、nzは基材フィルムの厚さ方向の屈折率、dは基材フィルムの厚さnmをそれぞれ表す。上記リターデーションは、例えばKOBRA-21ADH王子計測機器株を用いて、23°C、55RHの環境下で、波長が590nmで求めることができる。前記リターデーションに制御した基材フィルムを用いることで、より厳しい耐久試験において、本発明の目的が得られやすい点や後述するインナータッチパネルなどに用いた際の視認性に優れる点から好ましい。リターデーションは、前述した可塑剤の種類や添加量、及び基材フィルムの膜厚や延伸条件などで、調整できる。基材フィルムの製膜次に、基材フィルムの製膜方法の例を説明するが、これに限定されるものではない。基材フィルムの製膜方法としては、インフレーション法、T-ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。セルロースエステル樹脂やアクリル樹脂を溶解に用いた溶媒の残留抑制の点からは溶融流延製膜法で作製する方法が好ましい。溶融流延によって形成される方法は、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるフィルムが得られる、溶融押出し法が好ましい。また、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点からは流延法による溶液製膜が好ましい。また、フィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後、ドラム上又はエンドレスベルト上に押出し製膜する方法も溶融流延製膜法として含まれる。有機溶媒基材フィルムを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂などの樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3-ジオキソラン、1,4-ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2-トリフルオロエタノール、2,2,3,3-ヘキサフルオロ-1-プロパノール、1,3-ジフルオロ-2-プロパノール、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-メチル-2-プロパノール、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノール、2,2,3,3,3-ペンタフルオロ-1-プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。ドープには、上記有機溶媒の他に、1~40質量の炭素原子数1~4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。炭素原子数1~4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、sec-ブタノール、tert-ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。溶液流延法基材フィルムは、溶液流延法によって製造することができる。溶液流延法では、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。ドープ中の樹脂の濃度は、10~35質量が好ましく、更に好ましくは、15~25質量である。流延キャスト工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1~4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は-50°C~溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0~100°Cで適宜決定され、5~30°Cが更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。基材フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10~150質量が好ましく、更に好ましくは20~40質量又は60~130質量であり、特に好ましくは、20~30質量又は70~120質量である。残留溶媒量は下記式で定義される。残留溶媒量質量={M-N/N}×100なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115°Cで1時間の加熱後の質量である。また、セルロースエステルフィルムあるいはセルロースエステル樹脂アクリル樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量以下であり、特に好ましくは0~0.01質量以下である。フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。延伸工程延伸工程では、フィルムの長手方向MD方向、及び幅手方向TD方向に対して、逐次又は同時に延伸することができる。互いに直交する2軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはMD方向に1.0~2.0倍、TD方向に1.05~2.0倍の範囲とすることが好ましく、MD方向に1.0~1.5倍、TD方向に1.05~2.0倍の範囲で行うことが好ましい。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してMD方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてMD方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてTD方向に延伸する方法、あるいはMD/TD方向同時に広げてMD/TD両方向に延伸する方法などが挙げられる。製膜工程のこれらの幅保持あるいは幅手方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。テンター内などの製膜工程でのフィルム搬送張力は温度にもよるが、120N/m~200N/mが好ましく、140N/m~200N/mがさらに好ましい。140N/m~160N/mが最も好ましい。延伸する際は、基材フィルムのガラス転移温度をTgとするとTg-30~Tg100°C、より好ましくはTg-20~Tg80°C、さらに好ましくTg-5~Tg20°Cである。基材フィルムのTgは、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。本発明の用途においてはフィルムの乾燥時のTgは110°C以上が好ましく、さらに120°C以上が好ましい。特に好ましくは150°C以上である。したがってガラス転移温度は190°C以下、より好ましくは170°C以下であることが好ましい。このとき、フィルムのTgはJISK7121に記載の方法などによって求めることができる。延伸する際の温度は150°C以上、延伸倍率は1.15倍以上にすると、表面が適度に粗れるため好ましい。フィルム表面を粗らすことは、滑り性を向上させるのみでなく、表面加工性、特に防眩層の密着性が向上するため好ましい。溶融製膜法基材フィルムは、溶融製膜法によって製膜しても良い。溶融製膜法は、樹脂及び可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの成形法の中では、機械的強度及び表面精度などの点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し1軸や2軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化分子量低下、着色、ゲル生成等しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、2軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。上記ペレットを1軸や2軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を200~300°C程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Tダイからフィルム状に流延し、冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップされ、冷却ロール上で固化させる。供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのTg以上Tg110°C以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。弾性タッチロールは挟圧回転体ともいう。弾性タッチロールとしては、市販されているものを用いることもできる。冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のTg~Tg60°Cの温度範囲で行われることが好ましい。巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工エンボッシング加工を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。基材フィルムの物性本実施形態における基材フィルムの膜厚は、特に限定はされないが10~250μmが用いられる。特に膜厚は10~100μmであることが特に好ましい。更に好ましくは20~60μmである。前記範囲とすることで、基材フィルムの取り扱い性に優れる。本発明に係る基材フィルムは、幅1~4mのものが用いられる。特に幅1.4~4mのものが好ましく用いられ、特に好ましくは1.6~3mである。4mを超えると搬送が困難となる。また、基材フィルムの長さは、1000~10000mが好ましく、より好ましくは3000m~8000mである。前記長さの範囲とすることで、機能性層等の塗布における加工適正や基材フィルム自体のハンドリング性に優れる。また、基材フィルムの算術平均粗さRaは、好ましくは2.0nm~4.0nm、より好ましくは2.5nm~3.5nmである。算術平均粗さRaは、JISB0601:1994に準じて測定できる。<その他の層>本発明の光学フィルムには、機能性層上にクリアハードコート層、反射防止層や透明導電性薄層等、その他の層を設けることができる。クリアハードコート層クリアハードコート層を形成する成分としては、機能性層の説明で記載した成分を用いることができる。また、膜厚も機能性層で前述した範囲が好ましい。クリアハードコート層は機能性層上に塗布、乾燥、硬化、更に必要に応じて熱処理する方法で、形成することができる。クリアハードコート層は算術平均粗さRaが、10nm未満が好ましい。Raが2nmであれば、クリア性に優れる。反射防止層本発明に係る光学フィルムは、機能性上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体である保護フィルムよりも屈折率の低い低屈折率層、若しくは支持体である保護フィルムよりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、3層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる3層を、中屈折率層支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。又は、二層以上の高屈折率層と二層以上の低屈折率層とを交互に積層した4層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。反射防止フィルムの層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。機能性層/基材フィルム/機能性層/クリアハードコート層/低屈折率層機能性層/基材フィルム/機能性層/クリアハードコート層/高屈折率層/低屈折率層機能性層/基材フィルム/機能性層/クリアハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層機能性層/基材フィルム/機能性層/低屈折率層機能性層/基材フィルム/機能性層/高屈折率層/低屈折率層機能性層/基材フィルム/機能性層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層低屈折率層/機能性層/基材フィルム/機能性層/低屈折率層<低屈折率層>低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、23°C、波長550nm測定で、1.30~1.45の範囲であることが好ましい。低屈折率層の膜厚は、5nm~0.5μmであることが好ましく、10nm~0.3μmであることが更に好ましく、30nm~0.2μmであることが最も好ましい。低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質又は空洞の粒子を少なくとも一種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質又は空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式OSi-1で表される有機珪素化合物若しくはその加水分解物、あるいはその重縮合物を併せて含有させても良い。一般式OSi-1:SiOR4前記一般式で表される有機珪素化合物は、式中、Rは炭素数1~4のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。またフッ素原子を35~80質量の範囲で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性及び/又は光硬化性を有する化合物を含有しても良い。具体的には含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物例えばヘプタデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロデシルトリエトキシシランの加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。<高屈折率層>高屈折率層の屈折率は、23°C、波長550nm測定で、屈折率を1.4~2.2の範囲に調整することが好ましい。また、高屈折率層の厚さは5nm~1μmが好ましく、10nm~0.2μmであることが更に好ましく、30nm~0.1μmであることが最も好ましい。屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。金属酸化また、用いる金属酸化物微粒子の屈折率は1.80~2.60であるものが好ましく、1.85~2.50であるものが更に好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Taなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム-スズITO、アンチモンドープ酸化スズATO、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は10nm~200nmの範囲であり、10~150nmであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡SEM等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状あるいは不定形状であることが好ましい。金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して0.1質量~5質量、より好ましくは0.5質量~3質量である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。また高屈折率層は、π共役系導電性ポリマーを含有しても良い。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性が得られるが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。また、イオン性化合物を含有しても良い。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンとBF4-、PF6-等の無機イオン系、CF3SO2-、CF3SO22N-、CF3CO2-等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。該ポリマーとバインダーの比率はポリマー100質量部に対して、バインダーが10~400質量部が好ましく、特に好ましくは、ポリマー100質量部に対して、バインダーが100~200質量部である。<導電性膜>本発明の光学フィルムには、機能性層の少なくとも一方の面に酸化錫又は酸化インジウム錫等の金属酸化物を主成分とした導電性膜が設けられて使用されることに適している。設けられる導電性膜は、一般的に広く知られた透明導電性材料を用いることができる。具体的には、前記した金属酸化物以外では、金、銀、パラジウム等の化合物を導電性物質として用いることができる。これら導電性物質を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、溶液塗布法等により、機能性膜上に薄膜として形成する。また、前記π共役系導電性ポリマーである有機導電性材料を用いて、導電性薄膜を形成することも可能である。特に、透明性、導電性に優れ、比較的低コストのため、前記導電性物質の中でも酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫のいずれかを主成分とした導電性材料が好適に使用される。導電性薄膜の厚さは、適用する材料によっても異なるため一概には言えないが、表面抵抗率で1000Ω以下、好ましくは500Ω以下になるような厚さであって、経済性をも考慮すると、10nm以上、好ましくは20nm以上、80nm以下、好ましくは70nm以下の範囲が好適である。このような薄膜においては導電性膜の厚さムラに起因する可視光の干渉縞は発生しにくい。導電性薄膜は、非晶質であっても結晶質であっても良いが、導電性膜に電極パターンを設ける場合には、非晶質の方が加工適性の点から好ましい。<導電性層形成>図6に導電性膜を形成する蒸着装置の一例を示す。蒸着装置の真空槽11sには、光学フィルム巻出部12sと光学フィルム巻取部51sの他に金属酸化物の膜を成膜するロール14sから成る巻取部、成膜ロール14s上を光学フィルム基材1sが搬送する成膜室と呼ばれる薄膜形成部がある。それらを真空環境下に真空ポンプ10sが設けられている。薄膜形成部には、蒸発材料金属酸化物18sとるつぼ17sから成る蒸発源があり、電子ビーム19sによって蒸発材料金属酸化物を加熱蒸発し、薄膜を形成することができる。電子ビーム19sは、電子銃16sで生成し、電子銃16sは、熱電子放出型などの一般的な電子銃を用いることができる。また、図6に図示した装置により薄膜の導電性膜を形成する場合は、蒸発材料18sをるつぼ17sに収め、真空室が適度な圧力になるまで真空ポンプ10sで真空排気する。更に、電子ビーム19sが照射できる圧力になった時点で、電子銃16sを動作させ、蒸発材料18sを蒸発するまで加熱する。次いで、成膜ロール14s上に光学フィルム1sを搬送させながら蒸発材料金属酸化物18sを蒸着させることで、薄膜導電性膜を形成することができる。前記した導電性膜を形成する蒸着装置は、スペースや異物低減から設置されるスペースがコンパクト化されている。このため、光学フィルムを搬送するゾーンは、図7のように搬送ロールに対して、光学フィルムの抱かれる角度が大きくなる。このため、光学フィルムと搬送ロールとの接触面積が大きく、搬送時の摩擦も大きいため、導電性膜形成時の搬送時は、光学フィルムに傷が付きやすい。本発明の光学フィルムは、膜強度に優れるため、図7のような搬送時でも搬送傷が付かず、優れた特性を有する。搬送時に使用される搬送ローラの材料としては、通常知られている各種材料が使用できる。具体的には、ステンレス、クロムメッキ、チタンなど金属ローラなどが挙げられる。また、搬送ロールの表面をエンボス加工処理凹凸模様を施して、搬送ロールと光学フィルムとの接触面積を低減する方法も知られているが、ロール表面にエンボス加工処理を施すことは、高コストであり、また凹凸高さが異なると、搬送時のフィルム摩擦も変化し、その影響で搬送時にフィルムに傷が付くため、エンボス加工処理は精度が求められ、量産性にも問題がある。<画像表示装置>本発明の光学フィルムは、画像表示装置に使用することもできる。画像表示装置としては、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置又は、TN型、STN型、OCB型、VA型、IPS型、ECB型等の各種駆動方式の液晶表示装置、有機EL表示装置やプラズマディスプレイ等が挙がられる。これら画像表示装置の中でもタッチパネルを含む画像表示装置のタッチパネル用部材に本発明の光学フィルムを用いた場合、高い視認性、及びペン入力に対する耐久性摺動による傷等に優れる点で好ましい。次に、タッチパネル付き画像表示装置に本発明の光学フィルムを用いた場合の一例を図2に示す。本発明の光学フィルムT11上に導電性膜T12を形成し、これを透明導電性薄膜15が形成されたガラス基板T13と、導電性薄膜同士が向き合うように一定の間隔をあけて対向させることにより、抵抗膜方式のタッチパネルT10を構成することができる。光学フィルム11及びガラス基板T13の端部には不図示の電極が配置されている。ユーザが、導電性薄膜12付きの光学フィルム11を指やペン等で押下することにより、導電性薄膜T12が、ガラス基板T13上の導電性薄膜T15と接触する。この接触を端部の電極を介して電気的に検出することにより、押下された位置が検出される構成である。ガラス基板T13の導電性薄膜15上には、必要に応じてドット状のスペーサT14が配置される。また、図3に示したように、図2のタッチパネルT10をカラー液晶表示パネルT16の上に搭載することにより、タッチパネル付き画像表示装置T20を構成することができる。また、本発明の光学フィルムは、例えば液晶表示装置上面側偏光板/液晶セル/下面側偏光板構成の上面側偏光板の下にタッチパネル部材を用いるインナータッチパネルや静電容量方式のタッチパネル等にも使用することができる。静電容量方式のタッチパネルでは、導電性膜T12は、所定ピッチで配置された格子形状などの電極パターンを有することが好ましい。導電性膜の電極パターンは、導電性膜を形成後、導電性膜を電極パターンでマスキングし、アルカリエッチング処理により電極パターンを形成する方法や光学フィルムに所定のレーザー照射を行い、導電膜を連続的にパターニングすることで設けることができる。以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例1<基材フィルム1の作製>二酸化珪素分散液の調製アエロジルR812日本アエロジル株製、一次粒子の平均径7nm10質量部エタノール90質量部以上をディゾルバーで30分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に88質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。微粒子分散希釈液濾過器アドバンテック東洋株:ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターTCW-PPS-1Nで濾過した。ドープ組成物1セルローストリアセテート90質量部リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度2.88、Mn=140000ポリエステル系可塑剤AP-1510質量部チヌビン928BASFジャパン株製2.5質量部二酸化珪素分散希釈液4質量部メチレンクロライド432質量部エタノール38質量部以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙株製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ液を調製した。次に、ベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が100になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。セルロースエステルフィルムのウェブを35°Cで溶剤を蒸発させ、1.65m幅にスリットし、テンターでTD方向フィルムの幅手方向に1.15倍、MD方向の延伸倍率は1.01倍で延伸しながら、160°Cの乾燥温度で乾燥させた。乾燥を始めたときの残留溶剤量は20であった。その後、120°Cの乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら15分間乾燥させた後、1.33m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm、高さ10μmのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、基材フィルム1を得た。基材フィルムの残留溶剤量は0.2であり、膜厚は40μm、巻数は6000mであった。<光学フィルム1の作製>上記作製した基材フィルム1セルローストリアセテートフィルムのA面流延ベルトに接していない面上に、下記の機能性層組成物1を孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、図8に概略図を示した装置を用いて、減圧押出しコーターで基材フィルム1上に塗布し、恒率乾燥区間温度100°C、減率乾燥区間温度100°Cで乾燥の後、酸素濃度が1.0体積以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を0.3J/cm2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚6.5μmの機能性層1Aを形成した。次いで、ターンバーにより、フィルムを反転させ、機能性層1Aが設けられた逆面流延ベルトに接していない面に機能性層組成物1を、減圧押出しコーターを用いて基材フィルム1上に塗布し、恒率乾燥区間温度110°C、減率乾燥区間温度110°Cで乾燥後、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を0.15J/cm2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚5μmの機能性層1Bを形成した。次いで、ロール状に巻き取り、光学フィルム1を作製した。光学フィルム1の機能性層1A及び1Bの表面を光学干渉式表面粗さ計Zygo社製NewView5030で観察した結果、不規則な突起形状が不規則に長さ方向及び幅方向に配列していることが分かった。図9には、機能性層1A及び1Bの観察結果を示した。[機能性層組成物1]下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物1とした。活性線硬化型樹脂ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレートNKエステルA-TMM-3L、新中村化学工業株製80質量部光重合開始剤イルガキュア184BASFジャパン株製5質量部レベリング剤ポリエーテル変性シリコーン信越化学社製、商品名:KF-3521.5質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部酢酸メチル35質量部メチルエチルケトン35質量部なお、表1の記載において、多官能アクリレートであるペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレートはPETAと示した。<光学フィルム2の作製>光学フィルム1の作製において、機能性組成物1を下記機能性組成物2に変更し、減率乾燥区間温度を100°Cに変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム2を作製した。[機能性層組成物2]下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物2とした。活性線硬化型樹脂トリメチロールプロパントリアクリレートA-TMPT、新中村化学工業株製60質量部4-ヒドロキシブチルアクリレート4-HBA、大阪有機化学工業株製20質量部光重合開始剤イルガキュア184BASFジャパン株製5質量部レベリング剤ポリエーテル変性シリコーン信越化学社製、商品名:KF-3521.5質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部酢酸メチル35質量部メチルエチルケトン35質量部<光学フィルム3の作製>光学フィルム1の作製において、機能性層組成物1を下記機能性層組成物3に変更し、減率乾燥区間温度を100°Cに変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム3を作製した。[機能性層組成物3]下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物3とした。活性線硬化型樹脂エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレートNKエステルATM-4E、新中村化学工業株製80質量部光重合開始剤イルガキュア184BASFジャパン株製5質量部レベリング剤ポリエーテル変性シリコーン信越化学社製、商品名:KF-3521.5質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部酢酸メチル35質量部メチルエチルケトン35質量部<光学フィルム4の作製>光学フィルム1の作製において、機能性層組成物1を下記機能性層組成物4に変更し、減率乾燥区間温度を135°Cに変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム4を作製した。[機能性層組成物4]下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物4とした。活性線硬化型樹脂ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレートNKエステルA-DPH、新中村化学工業株製80質量部光重合開始剤イルガキュア184BASFジャパン株製5質量部レベリング剤ポリエーテル変性シリコーン信越化学社製、商品名:KF-3521.5質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部酢酸メチル35質量部メチルエチルケトン35質量部なお、表1の記載において、多官能アクリレートであるジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレートはDPHAと示した。<光学フィルム5の作製>光学フィルム1の作製において、機能性層組成物1を下記機能性層組成物5に変更し、減率乾燥区間温度を120°Cに変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム5を作製した。[機能性層組成物5]下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物5とした。活性線硬化型樹脂ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレートDPHANKエステルA-DPH、新中村化学工業株製30質量部ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレートPETANKエステルA-TMM-3L、新中村化学工業株製50質量部光重合開始剤イルガキュア184BASFジャパン株製5質量部レベリング剤ポリエーテル変性シリコーン信越化学社製、商品名:KF-3521.5質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部酢酸メチル35質量部メチルエチルケトン35質量部<光学フィルム6の作製>光学フィルム1の作製において、機能性層組成物1を下記機能性層組成物6に変更し、減率乾燥区間温度を95°Cに変更した以外は、同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム6を作製した。[機能性層組成物6]下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物6とした。活性線硬化型樹脂エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレートNKエステルATM-4E、新中村化学工業株製40質量部4-ヒドロキシブチルアクリレート4-HBA、大阪有機化学工業株製40質量部光重合開始剤イルガキュア184BASFジャパン株製5質量部レベリング剤ポリエーテル変性シリコーン信越化学社製、商品名:KF-3521.5質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部酢酸メチル35質量部メチルエチルケトン35質量部<光学フィルム7の作製>光学フィルム1の作製において、機能性層組成物1を下記機能性層組成物7に変更し、減率乾燥区間温度を135°Cに変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム7を作製した。[機能性層組成物7]下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物7とした。活性線硬化型樹脂ウレタンプレポリマーとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物UA-306H、共栄社化学株製80質量部光重合開始剤イルガキュア184BASFジャパン株製5質量部レベリング剤ポリエーテル変性シリコーン信越化学社製、商品名:KF-3521.5質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部酢酸メチル35質量部メチルエチルケトン35質量部<光学フィルム8の作製>光学フィルム1の作製において、機能性層組成物1を特開2008-225195号公報の実施例1を参考にして調整した機能性層組成物8に変更し、更に乾燥温度を特開2008-225195号公報の実施例1と同じ70°Cとした以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学性フィルム8を作製した。[機能性層組成物8]下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物8とした。活性線硬化型樹脂サイクロマーPACAZ320不飽和基含有アクリル樹脂混合物、ダイセル化学工業株製5.7質量部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA、ダイセルサイテック株製6.3質量部添加剤:非相溶性樹脂ポリメタクリル酸メチル重量平均分子量480000;三菱レイヨン株製、BR880.9質量部光重合開始剤イルガキュア184BASFジャパン株製0.5質量部溶剤メチルエチルケトンMEK0.1質量部1-ブタノール5.4質量部1-メトキシ-2-プロパノール1.89質量部なお、表1の記載において、サイクロマーPACAZ320をACA、ポリメタクリル酸メチルをMMAと示した。<光学フィルム9の作製>光学フィルム1の作製において、機能性層組成物1を特開2007-58204号公報の実施例3を参考にして調整した機能性層組成物9に変更し、更に乾燥温度を特開2007-58204号公報の実施例3と同じ80°Cに変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム9を作製した。[機能性層組成物9]下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物9とした。活性線硬化型樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA、ダイセルサイテック株製92質量部添加剤:非相溶性樹脂メタアクリレート共重合ポリマーサフトマーST3600,三菱化学株式会社15質量部光重合開始剤イルガキュア184BASFジャパン株製4質量部溶剤エタノール45質量部トルエン15質量部なお、表1の記載において、メタアクリレート共重合ポリマーをACPと示した。<光学フィルム10の作製>光学フィルム1の作製において、機能性層組成物1を特開2007-182519号公報の実施例5を参考にして調製した機能性層組成物10に変更し、更に乾燥温度を特開2007-182519号公報の実施例5と同じ80°Cに変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム10を作製した。[機能性層組成物10]不飽和二重結合含有アクリル共重合体の調製イソボロニルメタクリレート187.2g、メチルメタクリレート2.8g、メタクリル酸10.0gからなる混合物を混合した。この混合物を、攪拌羽根、窒素導入管、冷却管及び滴下漏斗を備えた1000ml反応容器中の、窒素雰囲気下で110°Cに加温したプロピレングリコールモノメチルエーテル360gにターシャリーブチルペルオキシ-2-エチルヘキサエート2.0gを含むプロピレングリコールモノメチルエーテルの80.0g溶液と同時に3時間かけて等速滴下し、その後、1時間、110°Cで反応させた。その後、ターシャリーブチルペルオキシ-2-エチルヘキサエート0.2gを含むプロピレングリコールモノメチルエーテル17g溶液を滴下して、110°Cで30分反応させた。その反応溶液にテトラブチルアンモニウムブロマイド1.5gとハイドロキノン0.1gを含む6gのプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を加え、空気バブリングしながら、更に4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル24.4gとプロピレングリコールモノメチルエーテル5.0gの溶液を1時間かけて滴下し、その後5時間かけて更に反応させ、数平均分子量5500、重量平均分子量18000の不飽和結合含有アクリル共重合体を得た。下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物11とした。活性線硬化型樹脂ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレートSP値:12.798.5質量部不飽和結合含有アクリル共重合体SP値:9.7、Mw=180001.5質量部添加剤:粒子オルガノシリカゾルMIBK-ST:シリカ粒子径20nm、シリカ濃度30、日産化学工業株式会社製10質量部光重合開始剤イルガキュア907BASFジャパン株製7質量部溶剤メチルイソブチルケトン114質量部なお、表1の記載において、不飽和結合含有アクリル共重合体はACOPと示した。<光学フィルム11の作製>特開2006-53371号公報の実施例1を参考にして凹凸付きロールを作製した。この凹凸つきロールを図8における乾燥ゾーン5と、活性光線照射ランプユニット6との間で、機能性層表面に押し当てる工程を設けた以外は、図8と同様の装置を用いた。具体的には、基材フィルム1上に機能性層組成物11を塗布後、恒率乾燥区間温度60°C、減率乾燥区間温度60°Cで乾燥後、特開2006-53371号公報の実施例1を参考にして、機能性層表面にロールの凹凸を押し当て、機能性層とロールを密着させた。この密着した状態で、酸素濃度が1.0体積以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を0.3J/cm2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚6.5μmの機能性層11Aを形成した。次いで、ターンバーにより機能性層11Aを形成したフィルムを反転させ、機能性層11Aが設けられた逆面に、機能性層組成物1を孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、減圧押出しコーターを用いて塗布後、恒率乾燥区間温度60°C、減率乾燥区間温度60°Cで乾燥後、更に機能性層表面にロールの凹凸を押し当て、機能性層とロールを密着させた。この密着した状態で、酸素濃度が1.0体積以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を0.3J/cm2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚5μmの機能性層11Bを形成した。次いで、ロール状に巻き取り、光学フィルム11を作製した。光学フィルム11の機能性層11Aの表面を光学干渉式表面粗さ計Zygo社製NewView5030で観察した結果、長さ方向に周期を有する突起形状が配列されていた。両面に機能性層が設けられた。<光学フィルム12の作製>特開2010-241937号公報の製造例1を参考にフッ素処理したシリカ微粒子分散液を調整した。前記調整したシリカ微粒子分散液と反応性基含有樹脂とを撹拌して混合し、機能性層組成物12を調整した。次に、機能性層組成物12を用いて、乾燥温度を特開2010-241937号公報の実施例3と同じ70°Cに変更した以外は光学フィルム1の作製と同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム12を得た。[機能性層組成物12]フッ素処理したシリカ微粒子分散液の調製シリカ微粒子SP-03F扶桑化学株製、粒径0.2~0.3μm3.00gにKBM7103信越化学株製、フルオロアルキルアルコキシシラン0.15g、MIBK26.85gを混合した。この混合成分と粒径0.1mmのジルコニアビーズとを混ぜて、3時間分散したのち、ジルコニアビーズを取り除き、更に分散液を50°Cで1時間加熱処理することで、フッ素処理したシリカ微粒子分散液を得た。下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物12とした。活性線硬化型樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートNKエステルA-DPH、新中村化学工業株製30質量部光重合開始剤イルガキュア1840.02質量部添加剤:粒子アクリロイル基を有するシリカ微粒子シリカ微粒子30質量部、MIBK分散液、粒径40nm66質量部フッ素処理したシリカ微粒子分散液シリカ微粒子濃度10.95.5質量部溶剤メチルイソブチルケトン5質量部《評価》上記作製した機能性層組成物、及び光学フィルム1~12について下記の評価を行った。また、得られた評価結果については表1に示した。1.樹脂粘度測定機能性層組成物1~12について、各組成物の樹脂だけをディスパーにて撹拌混合して、25°Cの条件にてB型粘度計を用いて粘度測定を行った。2.光学フィルムの評価a.算術平均粗さRaの測定上記作製した光学フィルム1~12の各機能性層について、光学干渉式表面粗さ計RST/PLUS、WYKO社製を用いて10回測定し、その測定結果の平均から各機能性層の算術平均粗さRaを求めた。b.耐ブロッキング性上記作製したロール状光学フィルム1~12を、アルミ防湿シートに包み、長期輸送を想定して80°C相対湿度80の恒温槽で25日保存した。25日間保存後、アルミ防湿シートを剥がしてブロッキング性を表面からの目視観察にて、以下の基準で評価した。◎:くっつき面積0、ブロッキングは認められない○:くっつき面積が2未満、僅かにブロッキングが発生している△:くっつき面積が2以上~10未満、ブロッキングが発生しているものの、実用上問題ないレベル×:くっつき面積が10以上~40未満、ブロッキングが発生、実用上極めて問題となるc.耐ペン摺動性評価上記作製した光学フィルム1~12を、各10cm×10cmサイズで切り出し、屋外での使用を想定してサイクルサーモ-40°C30分放置、次いで85°C30分放置を交互に500サイクル投入後、85°C相対湿度90の恒温槽で500時間保存し、更に耐光試験機アイスーパーUVテスター、岩崎電気株式会社製にて、168時間光照射した。次いで、耐久性試験後の各光学フィルム1~13を23°C55RHの雰囲気下で12時間調湿後、光学フィルムの機能性層を先端部が0.08mmφのポリアセタール製のペンを使用し、荷重250g、ペン摺動速度100mm/秒で直線40mmを15万回往復し、往復後の機能性層の傷つき及び剥れを目視により以下の基準で評価した。◎:傷つき及び剥がれ無し○:傷の本数が1~2本/cm幅で、かつ剥がれ無し△:傷の本数が2本/cm幅以上で、かつ剥がれ無し実用上問題の有るレベル×:傷が2本/cm幅以上つき、剥がれも有りd.搬送傷耐性評価上記作製した光学フィルム1~12について、図8に示す装置でライン搬送だけを実施し、ライン搬送後の光学フィルムの状態を、反射型CCDを用いて観察して搬送傷を評価した。搬送傷の長さ5mm以上のものが10m2につき7本以下を○、1本以下が◎、8本以上を×とした。8本以上あると実用上問題となる。表1の結果から判るようにフィルム基材上の両面に機能性層を有する光学フィルムにおいて、機能性層が長さ方向に不規則な周期を持たない突起形状を有し、かつ微粒子又は活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂を実質的に含有しないことで、耐ブロッキング性、耐ペン摺動性、及び搬送傷耐性に優れた光学フィルムを得ることができる。本発明の中でも機能性層が粘度20~2000mPasの活性線硬化型樹脂を含有し、かつ機能性層を塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成す、更に前記乾燥工程の減率乾燥区間の温度を90~140°Cの範囲とすることで、耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に対して特に優れた光学フィルムを得ることができる。実施例2実施例1の光学フィルム1の作製において、機能性層1A及び1Bの減率乾燥区間温度を表2に記載したように変更した以外は同様にして、光学フィルム13~17を作製した。次に、実施例1で作製した光学フィルム1、及び光学フィルム13~17について、耐ブロッキング性評価の保存期間を30日に変更し、ペン摺動の往復回数を20万に変更し、更に密着評価を行った以外は、実施例1と同様にして評価をした。得られた結果を表に示した。耐久試験後の密着評価耐候性試験光学フィルム1、及び光学フィルム13~17を、各10cm×10cmサイズで切り出し、屋外での使用を想定してオゾン10ppm、30°C、60RHの環境下に100時間保管後、サイクルサーモ-40°C45分放置、次いで110°C45分放置を交互で500サイクル投入し、更に耐光試験機アイスーパーUVテスター、岩崎電気株式会社製にて、200時間光照射した。上記耐候試験を実施した光学フィルムの機能性層表面に、片刃のカミソリの刃を面に対して90°の角度で切り込みを1mm間隔で縦横に11本入れ、1mm角の碁盤目を100個作製した。この上に市販のセロハン製テープを貼り付け、その一端を手で持って垂直に力強く引っ張って剥がし、切り込み線からの貼られたテープ面積に対する薄膜が剥がされた面積の割合を目視で観察し、下記の基準で評価した。◎:全く剥離されなかった○:剥離された面積割合が5未満であった△:剥離された面積割合が10未満であった。実用上問題無いレベルである×:剥離された面積割合が10以上であった。実用上問題となるレベルである表2の結果から判るように本発明の光学フィルムにおいて、機能性層の突起形状の算術平均粗さRaを10~130nmとすることで、より厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に対して、特に優れた光学フィルムを得ることができる。更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する。実施例3実施例1の基材フィルム1のドープ組成物1の調整において、ポリエステル系可塑剤AP-15の添加量を5質量部に変更し、更に以下に合成したアクリル系ポリマー1を13質量部添加した以外は同様にしてドープ組成物2を調整した。次いで、基材フィルム1の作製において、テンターによるTD方向の延伸条件を表3に記載したように変更した以外は、同様にして基材フィルム2~5を作製した。次に、前記作製した基材フィルム2~5に実施例2の光学フィルム16の作製と同様にして両面に機能性層を設け、光学フィルム18~21を作製した。前記作製した基材フィルムの面内リターデーションRo及び厚さ方向リターデーションRthを以下の方法で測定した。また、前記作製した光学フィルム18~21及び光学フィルム16について実施例2と同様にして評価を行った。得られた結果を表3に示す。アクリル系ポリマー1の合成メチルアクリレート10質量部2-ヒドロキシエチルアクリレート1質量部アゾビスイソブチロニトリルAIBN1質量部トルエン30質量部上記組成物を四つ口フラスコ投入口、温度計、環流冷却管、窒素導入口、攪拌機を装着に投入し、徐々に80°Cまで昇温し、攪拌しながら5時間重合を行い、重合終了後ポリマー溶液を多量のメタノールに投入して沈殿させ、更にメタノールで洗浄し、精製して乾燥し重量平均分子量5,000GPCにて測定のアクリル系ポリマー1を得た。面内リターデーションRo及び厚さ方向リターデーションRth測定自動複屈折計KOBRA-21ADH王子計測機器株製を用いて、23°C、55RHの環境下で、波長590nmにおいて、3次元屈折率測定を行い、縦、横、厚さの各方向の屈折率nx、ny、nzを求め、下記式よりRo及びRthを求めた。Ro=nx-ny×dRth=nxny/2-nz×dである。式中、nxは基材フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyは基材フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、nzは基材フィルムの厚さ方向の屈折率、dは基材フィルムの厚さnmをそれぞれ表す。また、前記作製した光学フィルム18~21及び光学フィルム16について、以下の方法導電性薄膜を形成し、導電性光学フィルム1~5を作製した。光学フィルム1~5の機能性層1A及び1Bの両面に表面抵抗率が約400Ωである酸化インジウム錫ITOの導電性薄膜を、スパッタリング法を用いて設け、図4に示した構成の導電性光学フィルム1~5を作製した。次いで、上記作製した導電性光学フィルム1~5を各二枚ずつ用いて、インナータッチパネルを作製した図5。二枚のうちの片方の導電性光学フィルムの導電層膜1Aに予めドットスペーサを形成してから、二枚の導電層膜を対向させてインナータッチパネルを作製した。得られたインナータッチパネルを、上面側偏光板/液晶セル/下面側偏光板の構成を有する液晶表示装置の上面側偏光板の下に組み込んで液晶表示装置を作製し、暗室にて、インナータッチパネルを黒表示画面で正面方向や視野方向を変えて見て、視認性を以下の基準で評価した。得られた結果を表3に示した。視認性評価○:タッチパネルの色味変化が無いΔ:タッチパネルの色味変化が多少観察される×:タッチパネルの色味変化が大きい本発明に係る光学フィルムにおいて、面内リターデーションRoを0~5nm、厚さ方向のリターデーションを-10~10nmの範囲に調整した基材フィルムを用いることで、より厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に対して、特に優れた光学フィルムを得ることができる。更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する。また、面内リターデーションRoを0~10nm、厚さ方向のリターデーションを-10~10nmの範囲に調整した基材フィルムからなる本発明の光学フィルムを用いた導電性光学フィルムをインナータッチパネルに用いることで、特に優れた視認性が得られる点で好ましいことが判る。実施例4<導電性光学フィルム6~17の作製>光学フィルム1~12の機能性層1Aの片面のみに表面抵抗率が約400Ωである酸化インジウム錫ITOの透明導電性薄膜を、スパッタリング法を用いて設け、導電性光学フィルム6~17を作製した。<抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置1~12の作製>市販の抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置型名:LCD-USB10XB-T、I-ODATA社製の導電性フィルムを剥がし、上記作製した各導電性光学フィルム6~17を図5のように機能性層1Bが視認側となるように貼合して、抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置1~12を作製し、以下項目について評価を行い、表4に結果を示した。《評価》視認性評価文字ボケムラ文字ボケ天井部に、昼色光直管蛍光灯FLR40SD/M-Xパナソニック株製40W×2本を1セットとして、1.5m間隔で10セット配置した室内で、抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置を様々な角度から観察し、文字ボケを以下の基準で評価した。○:蛍光灯の写り込みが気にならず、フォントの大きさ8以下の文字もはっきりと読める×:蛍光灯の写り込みが気にならないが、フォントの大きさ8以下の文字がボケ、読むのが困難であるムラ評価上記作製した各抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置を、60°C、90RHの条件で1000時間放置した後、23°C、55RHに戻した。様々な角度から観察し、以下の基準でムラを評価した。○:ムラが全く認められない△:細かなムラが認められる実害性有り×:ムラが認められる評価の結果、本発明の光学フィルムを使用した抵抗膜方式タッチパネル画像表示装置は視認性文字ボケ、ムラも良好であった。"