"Aカルボキシル基を有するモノマーおよび/またはフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位a1と、下記一般式Iおよび/または一般式IIで表される繰り返し単位a2と、を有する共重合体とB感放射線酸発生化合物を含む、ポジ型感光性樹脂組成物。一般式I中、R1は水素原子、メチル基、-CH2OH、または-CH2CH2OHを表す。Aは2価の連結基を表す。Raは水素原子またはメチル基を表す。一般式II中、R2は水素原子、水酸基、-CH2OH、-CH2CH2OH、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を表す。R3およびR4は、一方が、水素原子、水酸基、-CH2OH、-CH2CH2OH、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を表し、他方は水素原子である。R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、-CH2OH、-CH2CH2OH、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を表し、前記R5およびR6のうち少なくとも一方は水素原子である。Aは2価の連結基を表す。Raは水素原子またはメチル基を表す。前記A共重合体が、更に酸分解性基で保護されたカルボキシル基を有するモノマー由来の繰り返し単位および/または酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-1を有する、請求項1に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記A共重合体に含まれるモノマー由来の繰り返し単位a2の少なくとも1種が、前記一般式Iで表される繰り返し単位か、下記一般式IVで表される繰り返し単位である、請求項1または2に記載のポジ型感光性樹脂組成物。一般式IV中、R12は水素原子、水酸基、-CH2OH、メチル基、エチル基、またはフェニル基を表す。R13およびR14は、一方が、水素原子、水酸基、-CH2OH、メチル基、エチル基、またはフェニル基を表し、他方は水素原子である。R15およびR16は、一方が、水素原子、水酸基、-CH2OH、メチル基、エチル基、またはフェニル基を表し、他方は水素原子である。Aはアルキレン基を表す。Raは水素原子またはメチル基を表す。前記B感放射線酸発生化合物として、オキシムスルホネート化合物またはキノンジアジド化合物を含む、請求項1~3のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。前記B感放射線酸発生化合物として、下記式4で表されるオキシムスルホネート残基を有する化合物を含む、請求項1~3のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式4中、R5は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。前記A共重合体が、さらに、芳香環構造を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-2、および/または、脂環構造を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-3を有する、請求項1~5のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。1請求項1~6のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に適用する工程、2塗布されたポジ型感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程、3活性放射線で露光する工程、4水性現像液で現像する工程、および、5ポストベークする工程、を含むことを特徴とする硬化膜の形成方法。前記現像後、ポストベーク前に、全面露光する工程を含む、請求項7に記載の硬化膜の形成方法。請求項7または8に記載の形成方法により形成された硬化膜。層間絶縁膜である、請求項9に記載の硬化膜。請求項9または10に記載の硬化膜を含む、有機EL表示装置または液晶表示装置。下記構造で表される化合物、または、下記構造で表される化合物を重合してなる重合体。しかし本願発明者が特許文献1および特許文献2を検討したところ、得られるポジ型感光性樹脂組成物は耐薬品性や比誘電率が劣ることが分かった。本願発明はかかる問題点を解決することを目的としたものであって、開環反応に際して立体障害の少ないオキセタン構造を有する共重合体を用いることで耐薬品性と比誘電率の両立が可能な硬化膜を得ることができるポジ型感光性樹脂組成物、並びに前記ポジ型感光性樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜およびその形成方法、並びに、前記硬化膜を含む有機EL表示装置及び液晶表示装置が得られ、これらを提供することを目的とする。かかる状況のもと、本願発明者が鋭意検討を行った結果、樹脂成分として特定の構成単位を有する共重合体を用いることにより、各種性能に優れたポジ型感光性組成物を提供可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、以下の<1>、<7>、<9>、<11>および<12>の手段により、本発明の課題は解決された。好ましい実施態様である<2>~<6>、<8>及び<10>とともに以下に記載する。<1>Aカルボキシル基を有するモノマーおよび/またはフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位a1と、下記一般式Iおよび/または一般式IIで表される繰り返し単位a2と、を有する共重合体とB感放射線酸発生化合物を含む、ポジ型感光性樹脂組成物。一般式I中、R1は水素原子、メチル基、-CH2OH、または-CH2CH2OHを表す。Aは2価の連結基を表す。Raは水素原子またはメチル基を表す。一般式II中、R2は水素原子、水酸基、-CH2OH、-CH2CH2OH、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を表す。R3およびR4は、一方が、水素原子、水酸基、-CH2OH、-CH2CH2OH、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を表し、他方は水素原子である。R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、-CH2OH、-CH2CH2OH、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を表し、前記R5およびR6のうち少なくとも一方は水素原子である。Aは2価の連結基を表す。Raは水素原子またはメチル基を表す。<2>前記A共重合体が、更に酸分解性基で保護されたカルボキシル基を有するモノマー由来の繰り返し単位および/または酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-1を有する、<1>に記載のポジ型感光性樹脂組成物。<3>前記A共重合体に含まれるモノマー由来の繰り返し単位a2の少なくとも1種が、前記一般式Iで表される繰り返し単位か、下記一般式IVで表される繰り返し単位である、<1>または<2>に記載のポジ型感光性樹脂組成物。一般式IV中、R12は水素原子、水酸基、-CH2OH、メチル基、エチル基、またはフェニル基を表す。R13およびR14は、一方が、水素原子、水酸基、-CH2OH、メチル基、エチル基、またはフェニル基を表し、他方は水素原子である。R15およびR16は、一方が、水素原子、水酸基、-CH2OH、メチル基、エチル基、またはフェニル基を表し、他方は水素原子である。Aはアルキレン基を表す。Raは水素原子またはメチル基を表す。<4>前記B感放射線酸発生化合物として、オキシムスルホネート化合物またはキノンジアジド化合物を含む、<1>~<3>のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。<5>前記B感放射線酸発生化合物として、下記式4で表されるオキシムスルホネート残基を有する化合物を含む、<1>~<3>のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式4中、R5は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。<6>前記A共重合体が、さらに、芳香環構造を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-2、および/または、脂環構造を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-3を有する、<1>~<5>のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。<7>1<1>~<6>のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に適用する工程、2塗布されたポジ型感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程、3活性放射線で露光する工程、4水性現像液で現像する工程、および、5ポストベークする工程、を含むことを特徴とする硬化膜の形成方法。<8>前記現像後、ポストベーク前に、全面露光する工程を含む、<7>に記載の硬化膜の形成方法。<9><7>または<8>に記載の形成方法により形成された硬化膜。<10>層間絶縁膜である、<9>に記載の硬化膜。<11><9>または<10>に記載の硬化膜を含む、有機EL表示装置または液晶表示装置。<12>下記構造で表される化合物、または、下記構造で表される化合物を重合してなる重合体。本発明によれば、得られる硬化膜の耐薬品性と比誘電率に優れたポジ型感光性樹脂組成物、並びに前記ポジ型感光性樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜およびその形成方法、並びに、前記硬化膜を含む有機EL表示装置及び液晶表示装置を提供することができる。以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本願明細書において~とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。なお、本明細書における基原子団の表記において、置換および無置換を記していない表記は置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えばアルキル基とは、置換基を有さないアルキル基無置換アルキル基のみならず、置換基を有するアルキル基置換アルキル基をも包含するものである。A共重合体本発明の感光性樹脂組成物が含有する共重合体Aは、カルボキシル基を有するモノマー由来の繰り返し単位および/またはフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位a1成分ともいうと、一般式Iおよび/または一般式IIで表される繰り返し単位a2成分ともいうと、を有することを特徴としているが、さらに、それ以外の繰り返し単位を含有しても良い。<a2成分>A共重合体は、下記一般式Iおよび/または一般式IIで表されるオキセタニル残基を有するモノマー由来の繰り返し単位a2を有する。共重合体中に下記一般式Iおよび/または一般式IIで表されるオキセタニル残基を有するモノマー由来の繰り返し単位を有することにより、耐薬品性と比誘電率に優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。一般式I中、R1は水素原子、メチル基、-CH2OH、又は-CH2CH2OHを表す。Aは2価の連結基を表す。Raは水素原子またはメチル基を表す。一般式II中、R2は水素原子、水酸基、-CH2OH、-CH2CH2OH、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を表す。R3およびR4は、一方が、水素原子、水酸基、-CH2OH、-CH2CH2OH、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を表し、他方は水素原子である。R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、-CH2OH、-CH2CH2OH、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を表し、前記R5およびR6のうち少なくとも一方は水素原子である。Aは2価の連結基を表す。Raは水素原子またはメチル基を表す。R1としては水素原子、メチル基、または-CH2OHが好ましく、メチル基、または-CH2OHであることがより好ましい。R2のアルキル基としては、それぞれ、置換基を有していてもよい炭素原子数が1~10の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を挙げることができ、該アルキル基としては炭素原子数1~10の直鎖状、分岐状、または、環状のアルキル基が好ましく、炭素数1~6の直鎖状、分岐状、または、環状のアルキル基がより好ましく、炭素数1~3の直鎖状のアルキル基がより好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基、1-イソボルニル基を挙げることができる。R2のアリール基としては、それぞれ、置換基を有していてもよい炭素原子数が6~10のアリール基を挙げることができ、該アリール基としては炭素数6~8のアリール基がより好ましい。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、ナフチル基を挙げることができ、フェニル基が好ましい。R2としては水素原子、メチル基、フェニル基または-CH2OHが好ましく、水素原子または-CH2OHがより好ましい。R3またはR4のアルキル基としては、それぞれ、置換基を有していてもよい炭素原子数が1~10の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を挙げることができ、該アルキル基としては炭素原子数1~10の直鎖状、分岐状、または、環状のアルキル基が好ましく、炭素数1~6の直鎖状、分岐状、または、環状のアルキル基がより好ましく、炭素数1~3の直鎖状のアルキル基がさらに好ましい。アルキル基の具体例としては前記R2のアルキル基として例示されたものと同様である。R3またはR4のアリール基としては、それぞれ、置換基を有していてもよい炭素原子数が6~10のアリール基を挙げることができ、該アリール基としては炭素数6~8のアリール基がより好ましい。アリール基の具体例としては前記R2のアリール基として例示されたものと同様である。R3またはR4としては水素原子、メチル基、フェニル基、またはCH2OHが好ましく、水素原子、メチル基、またはCH2OHがより好ましい。R5またはR6のアルキル基としては、それぞれ、置換基を有していてもよい炭素原子数が1~10の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を挙げることができ、該アルキル基としては炭素原子数1~6の直鎖状、分岐状、または、環状のアルキル基が好ましく、炭素数1~10の直鎖状、分岐状、または、環状のアルキル基がより好ましく、炭素数1~3の直鎖状のアルキル基がさらに好ましい。アルキル基の具体例としては前記R2のアルキル基として例示されたものと同様である。R5またはR6のアリール基としては、それぞれ、置換基を有していてもよい炭素原子数が6~10のアリール基を挙げることができ、該アリール基としては炭素数6~10のアリール基がより好ましく、炭素数6~8のアリール基がより好ましい。アリール基の具体例としては前記R2のアリール基として例示されたものと同様である。R5またはR6としては水素原子、メチル基、フェニル基、または-CH2OHが好ましく、水素原子、または-CH2OHがより好ましい。R2~R6のうち、4つは水素原子であることが好ましい。さらに、R2~R6がいずれも水素原子であるか、R3以外の基がいずれも水素原子であることがより好ましい。Aは2価の連結基を表し、アルキレン基が好ましく例示できる。該アルキレン基は直鎖状または分岐状のいずれでもよく、炭素数1~8のアルキレン基であることが好ましく、炭素数1~4の直鎖のアルキレン基がより好ましく、炭素数1~3の直鎖のアルキレン基がさらに好ましい。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、n-ブチレン基、tert-ブチレン基、ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基等が挙げられ、メチレン基、エチレン基またはプロピレン基が好ましい。Raは水素原子またはメチル基を表し、メチル基が好ましい。本発明において、A共重合体に含まれるモノマー由来の繰り返し単位a2の少なくとも1種が、下記一般式IIIまたは下記一般式IVで表されるオキセタニル残基を有するモノマー由来の繰り返し単位であることが好ましい。一般式III中、R11はメチル基またはCH2OHを表す。Aは2価の連結基を表す。Raは水素原子またはメチル基を表す。一般式IV中、R12は水素原子、水酸基、-CH2OH、メチル基、エチル基またはフェニル基を表す。R13およびR14は、一方が、水素原子、水酸基、-CH2OH、メチル基、エチル基、またはフェニル基を表し、他方は水素原子である。R15およびR16は、一方が、水素原子、水酸基、-CH2OH、メチル基、エチル基、またはフェニル基を表し、他方は水素原子である。Aはアルキレン基を表す。Raは水素原子またはメチル基を表す。R12は、水素原子、-CH2OH、またはメチル基であることが好ましい。R13およびR14は、一方が水酸基、-CH2OH、メチル基、またはエチル基であり、他方が水素原子であることが好ましく、一方が水酸基、-CH2OH、またはメチル基であり、他方が水素原子であることがより好ましい。R15およびR16は、一方が水酸基、-CH2OH、メチル基、またはエチル基であり、他方が水素原子であることが好ましく、一方が水酸基、-CH2OH、またはメチル基であり、他方が水素原子であることがより好ましく、いずれも水素原子であることが特に好ましい。一般式およびIVにおけるAは、メチレン基、エチレン基またはプロピレン基が好ましい。一般式およびIVにおけるRaは、それぞれ、一般式IまたはIIにおけるRaと同義であり、好ましい範囲も同義である。a2成分の好ましい具体例としては、下記a2-1~a2-25で表される構成単位が例示できる。本発明がこれらの限定されるものではないことは言うまでもない。A共重合体を構成する全繰り返し単位中、a2成分を形成するモノマー由来の繰り返し単位の含有率は、10~80モルが好ましく、15~70モルが更に好ましく、20~65モルが特に好ましい。上記a2成分を上記の割合で有することにより、硬化膜の耐薬品性がより良好となる。<a1成分>A共重合体は、カルボキシル基を有するモノマー由来の繰り返し単位またはフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位a1を有する。A共重合体が有する、a1成分としては、カルボキシル基またはフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位であれば何でもよい。カルボキシル基を有するモノマー由来の繰り返し単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸を好ましいものとして挙げることができる。フェノール性水酸基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、p-ヒドロキシスチレン、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物等を好ましいものとして挙げることができる。これらの中でも、A共重合体にa1成分を導入するためのラジカル重合性単量体としては、メタクリル酸、アクリル酸、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物が更に好ましく、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物が特に好ましい。これらのラジカル重合性単量体は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。a1成分の好ましい具体例としては、下記a1-1~a1-11で表される構成単位が例示できる。A共重合体がa1成分を有する場合、A共重合体を構成する全モノマー中、a1成分を形成するモノマー由来の繰り返し単位の含有率は、1~25モルが好ましく、2~25モルが更に好ましく、3~20モルが特に好ましい。a1成分を上記の割合で有することにより、高感度がとなり、また現像性も良好となる。<その他の成分>本発明のA共重合体は、本発明の効果を妨げない範囲でa1とa2以外のモノマー由来の繰り返し単位を有していてもよく、該繰り返し単位としては、酸分解性基で保護されたカルボキシル基を有するモノマー由来の繰り返し単位および/または酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-1成分ともいう、芳香環構造を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-2成分ともいう、脂環構造を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-3成分ともいうが挙げられる。また前記a3-1成分、a3-2成分、及びa3-3成分以外の繰り返し単位を有していてもよい。<a3-1成分>本発明のA共重合体は、酸分解性基で保護されたカルボキシル基を有するモノマー由来の繰り返し単位および/または酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-1を含むことが好ましい。a3-1成分の好適な態様の1つは、下記式Iaで表される部分構造及び下記式Ibで表される部分構造から選択された少なくとも1つを有する構成単位である。下記式Iaで表される部分構造は、カルボキシ基が酸分解性基により保護された構造であり、酸により脱保護されてカルボキシ基を生成する。また、下記式Ibで表される部分構造は、フェノール性水酸基が酸分解性基により保護された部分構造であり、酸により脱保護されてフェノール性水酸基を生成する。式Ia及び式Ib中、波線部分は他の構造との結合箇所を表す。式Ia及び式Ib中、R1は、それぞれ独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。R1で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐状であってもよい。R1で表されるアルキル基の好ましい炭素原子数としては、1~20であることが好ましく、1~10であることがより好ましく、1~7であることが更に好ましい。R1で表されるシクロアルキル基の好ましい炭素原子数としては、3~20であることが好ましく、3~10であることがより好ましく、5~7であることが更に好ましい。なお、これら炭素原子数は、R1が、置換基を更に有する場合、該置換基の炭素原子数も含まれる。R1で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基等を挙げることができる。R1で表されるシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。また、R1で表されるアルキル基及びシクロアルキル基は、置換基を有していてもよい。R1で表されるアルキル基又はシクロアルキル基に導入しうる置換基としては、炭素原子数1~10のアルキル基メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、炭素原子数3~10のシクロアルキル基、炭素原子数6~10のアリール基、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素原子数1~10のアルコキシ基等が例示でき、これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。また、R1としては、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数が3~10のシクロアルキル基、又は、炭素原子数が7~11のアラルキル基が好ましく、炭素原子数が1~6のアルキル基、炭素原子数が3~6のシクロアルキル基、又は、ベンジル基がより好ましく、エチル基又はシクロヘキシル基であることが更に好ましく、エチル基であることが特に好ましい。式Ia及び式Ib中、R2はアルキル基を表す。R2で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐状であってもよい。R2で表されるアルキル基の好ましい炭素原子数としては、1~20であることが好ましく、1~10であることがより好ましく、1~7であることが更に好ましい。なお、これら炭素原子数は、R2が、置換基を更に有する場合、該置換基の炭素原子数も含まれる。R2で表されるアルキル基としては、炭素原子数1~6のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。式Ib中、Ar1は、二価の芳香族基を表し、芳香環上に-OCHOR1R2を有している。Ar1で表される二価の芳香族基としては、特に制限はなく、フェニレン基、置換フェニレン基、ナフチレン基、及び、置換ナフチレン基等が例示でき、フェニレン基、又は、置換フェニレン基であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましく、1,4-フェニレン基であることが更に好ましい。また、Ar1で表される二価の芳香族基は、芳香環上に更に置換基を有していてもよく、該置換基としては、炭素原子数1~10のアルキル基メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、炭素原子数3~10のシクロアルキル基、炭素原子数6~10のアリール基、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素原子数1~10のアルコキシ基等が例示でき、これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。式Iaで表される部分構造を有する構成単位は、該構成単位を形成することができるカルボキシ基含有モノマーを用いて、成分Aに導入することができる。式Iaで表される部分構造を有する構成単位を形成しうるカルボキシ基含有モノマーとしては、該モノマーが有するカルボキシ基が保護されることにより構成単位1となり得るものであれば用いることができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α-メチル-p-カルボキシスチレン等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸を挙げることができる。また、モノマー単位a3-1としては、これらのカルボキシ基含有モノマーに由来する構成単位であって、該モノマーが有するカルボキシ基が保護された構成単位を好ましいものとして挙げることができる。式Ibで表される部分構造を有する構成単位は、該構成単位を形成することができるフェノール性水酸基含有モノマーを用いて、A共重合体に導入することができる。式Ibで表される部分構造を有する構成単位を形成しうるフェノール性水酸基含有モノマーとしては、該モノマーが有するフェノール性水酸基が保護されることにより構成単位1となり得るものであれば用いることができ、例えば、p-ヒドロキシスチレン、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物等を好ましいものとして挙げることができる。これらの中でも、フェノール性水酸基含有モノマーとしては、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物がより好ましい。上述した式Ibで表される部分構造又は式Ibで表される部分構造を有する構成単位の中でも、構成単位1として特に好ましいものは、下記式Icで表される構成単位である。式Ic中、R5はアルキル基又はシクロアルキル基を表す。R5の好ましい態様は、式Ia及び式IbにおけるR1の好ましい態様と同様である。また、式Ic中、R6は水素原子又はメチル基を表す。式Icで表される構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の好ましい具体例としては、例えば、1-エトキシエチルメタクリレート、1-エトキシエチルアクリレート、1-メトキシエチルメタクリレート、1-メトキシエチルアクリレート、1-n-ブトキシエチルメタクリレート、1-n-ブトキシエチルアクリレート、1-イソブトキシエチルメタクリレート、1-イソブトキシエチルアクリレート、1-2-エチルヘキシルオキシエチルメタクリレート、1-2-エチルヘキシルオキシエチルアクリレート、1-n-プロポキシエチルメタクリレート、1-n-プロポキシエチルアクリレート、1-シクロヘキシルオキシエチルメタクリレート、1-シクロヘキシルオキシエチルアクリレート、1-2-シクロヘキシルエトキシエチルメタクリレート、1-2-シクロヘキシルエトキシエチルアクリレート、1-ベンジルオキシエチルメタクリレート、1-ベンジルオキシエチルアクリレートなどを挙げることができる。中でも、1-エトキシエチルメタクリレート及び1-エトキシエチルアクリレートが特に好ましい。これらのラジカル重合性単量体は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。式Iaで表される部分構造及び式Ibで表される部分構造を含む構成単位1を形成するために用いられるラジカル重合性単量体は、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いることもできる。例えば、下記式Aで表される単量体であれば、下記反応式に示すようにメタアクリル酸を酸触媒の存在下でビニルエーテル化合物と反応させることにより合成することができる。上記反応式中、R5及びR6は、式IcにおけるR5及びR6と同義である。また、式Iaで表される部分構造又は式Ibで表される部分構造を含む構成単位1は、保護されるカルボキシ基又はフェノール性水酸基含有モノマーを後述する構成単位2及び構成単位3やその前駆体と重合した後に、カルボキシ基又はフェノール性水酸基をビニルエーテル化合物と反応させることによっても形成することができる。なお、このようにして形成される好ましい構成単位の具体例は、上記ラジカル重合性単量体の好ましい具体例由来の構成単位と同様である。モノマー単位a3-1の他の好適な態様は、下記式IIaで表される部分構造及び下記式IIbで表される部分構造から選択された少なくとも一つを有する構成単位である。式IIa及び式IIb中、R3は第三級アルキル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-テトラヒドロフラニル基を表し、R4は第三級アルキル基、tert-ブトキシカルボニル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-テトラヒドロフラニル基を表し、Ar2は二価の芳香族基を表し、波線部分は他の構造との結合箇所を表す。R3及びR4における第三級アルキル基としては、炭素数が4~20のものが好ましく、炭素数が4~14のものがより好ましく、炭素数が4~8のものが更に好ましい。R3における第三級アルキル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-テトラヒドロフラニル基、R4における第三級アルキル基、tert-ブトキシカルボニル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-テトラヒドロフラニル基、Ar2における二価の芳香族基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、炭素数1~10のアルキル基メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、炭素数3~10のシクロアルキル基、炭素数6~10のアリール基、ハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数1~10のアルコキシ基等が例示できる。これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。また、R3及びR4における第三級アルキル基としては、以下に示す式aで表される基よりなる群から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましい。-CR9R10R11a式a中、R9、R10及びR11は、それぞれ独立に、炭素数1~12のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、炭素数6~12のアリール基又は炭素数7~12のアラルキル基を表し、また、R9、R10及びR11のいずれか2つが互いに結合してそれらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。式aにおいてR9、R10又はR11で表される炭素数1~12のアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、テキシル基2,3-ジメチル-2-ブチル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基等を挙げることができる。R9、R10又はR11で表される炭素数3~12のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。R9、R10又はR11で表される炭素数6~12のアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、1-ナフチル基等を挙げることができる。R9、R10又はR11で表される炭素数7~12のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、α-メチルベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等を挙げることができる。また、R9、R10及びR11は互いに結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成することができる。R9とR10、R9とR11、又は、R10とR11が結合した場合の環構造としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、テトラヒドロフラニル基、アダマンチル基、及び、テトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。また、式IIaにおけるR3は、炭素数4~12の第三級アルキル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-テトラヒドロフラニル基であることが好ましく、炭素数4~8の第三級アルキル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-テトラヒドロフラニル基であることがより好ましく、t-ブチル基又は2-テトラヒドロフラニル基であることが更に好ましく、2-テトラヒドロフラニル基が特に好ましい。また、式IIbにおけるR4は、炭素数4~12の第三級アルキル基、tert-ブトキシカルボニル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-テトラヒドロフラニル基であることが好ましく、炭素数4~8の第三級アルキル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-テトラヒドロフラニル基であることがより好ましく、t-ブチル基又は2-テトラヒドロフラニル基であることが更に好ましく、2-テトラヒドロフラニル基が特に好ましい。式IIb中、Ar2は、二価の芳香族基を表し、芳香環上にOCHOR1R2を有している。式IIbにおけるAr2の好ましい態様は、前記式IbにおけるAr1の好ましい態様と同様である。カルボキシ基が保護されることにより、式IIaで表される構造を有する構成単位1を形成することができるカルボン酸モノマーとしては、該モノマーが有するカルボキシ基が保護されることにより式IIaで表される構造が形成され得るものであれば用いることができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α-メチル-p-カルボキシスチレン等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸を挙げることができる。また、モノマー単位a3-1としては、これらカルボキシ基が保護されたカルボン酸由来のモノマー単位を好ましいものとして挙げることができる。フェノール性水酸基が保護されることにより前記式IIbで表される構造を有する構成単位1を形成することができるフェノール性水酸基を有するモノマーとしては、該モノマーが有するフェノール性水酸基が保護されることにより、式IIbで表される構造が形成され得るものであれば用いることができ、例えば、p-ヒドロキシスチレン、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物等を好ましいものとして挙げることができる。これらの中でも、α-メチル-p-ヒドロキシスチレン、特開2008-40183号公報の段落0011~0016に記載の化合物、特許第2888454号公報の段落0007~0010に記載の4-ヒドロキシ安息香酸誘導体類、4-ヒドロキシ安息香酸とメタクリル酸グリシジルとの付加反応物、4-ヒドロキシ安息香酸とアクリル酸グリシジルとの付加反応物がより好ましい。上述した式IIaで表される部分構造又は式IIbで表される部分構造を有する構成単位の中でも、モノマー単位a3-1として特に好ましいものは、下記式IIcで表される構成単位である。式IIc中、R7は第三級アルキル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-テトラヒドロフラニル基を表し、R8は水素原子又はメチル基を表す。なお、式IIc中、R7の好ましい態様は、式IIaにおけるR3の好ましい態様と同様である。式IIcで表されるモノマー単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の好ましい具体例としては、例えば、メタクリル酸tert-ブチル、アクリル酸tert-ブチル、メタクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル、アクリル酸テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル、メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、アクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、メタクリル酸2-メチル-2-アダマンチル、アクリル酸2-メチル-2-アダマンチル、メタクリル酸1-メチルシクロヘキシル、アクリル酸1-メチルシクロヘキシル等を挙げることができる。これらの中でも、メタクリル酸tert-ブチル、アクリル酸tert-ブチル、メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イル、アクリル酸テトラヒドロフラン-2-イルが特に好ましい。これらのラジカル重合性単量体は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。a3-1成分の好ましい具体例としては、下記a3-1-1~a3-1-10に示す構成単位が例示できる。本発明のA共重合体を構成する全繰り返し単位中、a3-1成分を形成するモノマー由来の繰り返し単位の含有率は、10~80モルが好ましく、15~70モルがより好ましく、20~60モルがさらに好ましく、20~40モルが特に好ましい。<a3-2成分>本発明のA共重合体は、芳香環構造を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-2を含むことが好ましい。該芳香環構造を有するモノマー由来の繰り返し単位としては、電気特性向上の観点でスチレン由来の繰り返し単位であることが好ましい。本発明のA共重合体を構成する全繰り返し単位中、a3-2成分を形成するモノマー由来の繰り返し単位の含有率は、0~50モルが好ましく、0~40モルがより好ましく、5~30モルがさらに好ましく、10~25モルが特に好ましい。<a3-3成分>本発明のA共重合体は、脂環構造を有するモノマー由来の繰り返し単位a3-3を有することが好ましい。該脂環構造を有するモノマー由来の繰り返し単位としては、電気特性向上の観点でメタアクリル酸ジシクロペンタニル、メタアクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘキシルのような脂環構造含有のメタアクリル酸エステル類由来の繰り返し単位であることが好ましい。本発明のA共重合体を構成する全繰り返し単位中、a3-3成分を形成するモノマー由来の繰り返し単位の含有率は、0~50モルが好ましく、0~40モルが更に好ましく、0~30モルが特に好ましい。<その他の構成単位>本発明のA共重合体は、本発明の効果を妨げない範囲で前記モノマー単位a1、a2、a3-1、a3-2及びa3-3以外のモノマー由来の繰り返し単位a3-4成分ともいうを含有してもよい。しかしながら、A共重合体の構成成分は、前記モノマー単位a1、a2、a3-1、a3-2及びa3-3の合計で70モル以上を占めることが好ましく、80モル以上を占めることがより好ましい。その他のa3-4成分を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、特開2004-264623号公報の段落0021~0024に記載の化合物を挙げることができるただし、モノマー単位a1、a2、a3-1、a3-2及びa3-3を形成する単量体を除く。これらの中でも、a3-4成分を得るためのラジカル重合性単量体としては、透明性の観点でメタアクリル酸メチルが好ましい。また感度の観点ではメタアクリル酸2-ヒドロキシエチルが好ましい。a3-4成分は、1種単独又は2種類以上を組み合わせることができる。本発明のA共重合体の重量平均分子量Mwは、1,000~100,000であることが好ましく、2,000~80,000であることがより好ましく、6,000~60,000であることがさらに好ましく、9,000~50,000であることがよりさらに好ましく、10,000~30,000であることが特に好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCによるポリスチレン換算重量平均分子量である。A共重合体が有する各構成単位を導入する方法としては、重合法でもよく、高分子反応法でもよく、これらの2方法を併用してもよい。重合法を用いる場合であれば、所定の官能基を含有するモノマーを予め合成した後に、これらのモノマーを共重合する。すなわち、a1、a2、a3-1、a3-2、a3-3及びa3-4を形成するために用いられるラジカル重合性単量体を含むラジカル重合性単量体混合物を、有機溶剤中、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。高分子反応法を用いる場合であれば、所定の種類のモノマーを用いて重合反応を行った後に、得られた共重合体の構成単位に含まれる反応性基を利用して、必要な官能基を構成単位中に導入する。ここで、導入される官能基としては、フェノール性水酸基又はカルボキシ基を保護すると同時に強酸の存在下で分解しこれらを遊離するための保護基、エポキシ基又はオキセタニル基などの架橋性基、フェノール性水酸基やカルボキシ基のようなアルカリ可溶性基酸性基等が例示できる。本発明の感光性樹脂組成物は、A共重合体を1種単独又は2種類以上を組み合わせて含有することができる。本発明の感光性樹脂組成物中におけるA共重合体の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、20~99重量であることが好ましく、40~97重量であることがより好ましく、60~95重量であることが更に好ましい。A共重合体の含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となる。なお、感光性樹脂組成物の固形分量とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量を表す。なお、本発明の感光性樹脂組成物は、本発明の効果を妨げない範囲で、A共重合体以外の樹脂を併用してもよい。ただし、A共重合体以外の樹脂の含有量は、現像性の観点からA共重合体の含有量より少ない方が好ましい。A共重合体以外の樹脂としては、側鎖にカルボキシル基を有する樹脂が好ましい。例えば、特開昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特開昭59-53836号、特開昭59-71048号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等が挙げられ、更に側鎖にメタアクリロイル基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。前記以外に、特開平7-140654号公報に記載の、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体などが挙げられる。その他にも、特開平7-207211号公報、特開平8-259876号公報、特開平10-300922号公報、特開平11-140144号公報、特開平11-174224号公報、特開2000-56118号公報、特開2003-233179号公報、特開2009-52020号公報等に記載の公知の高分子化合物を使用することができる。前記A共重合体以外の樹脂の具体例として、SMA1000P、SMA2000P、SMA3000P、SMA1440F、SMA17352P、SMA2625P、SMA3840F以上、サートマー社製、ARUFONUC-3900、ARUFONUC-3910、ARUFONUC-3920、ARUFONUC-3080以上、東亞合成株製等が挙げられる。B感放射線酸発生化合物本発明の感光性樹脂組成物は、B感放射線酸発生化合物を含有する。以下、B感放射線酸発生化合物を、光酸発生剤と呼称する場合もある。本発明で使用される光酸発生剤としては、波長300nm以上、好ましくは波長300~450nmの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に制限されるものではない。また、波長300nm以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長300nm以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。本発明で使用される光酸発生剤としては、pKaが4以下の酸を発生する光酸発生剤が好ましく、pKaが3以下の酸を発生する光酸発生剤がより好ましい。光酸発生剤の例として、トリクロロメチル-s-トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、キノンジアジド化合物、及びオキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、絶縁性の観点から、オキシムスルホネート化合物またはキノンジアジド化合物を用いることが好ましく、オキシムスルホネート化合物がさらに好ましい。これら光酸発生剤は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。これらの具体例としては、以下が例示できる。トリクロロメチル-s-トリアジン類として、2-3-クロロフェニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシフェニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メチルチオフェニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシ-β-スチリルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-ピペロニルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-フラン-2-イルエテニル]ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-5-メチルフラン-2-イルエテニル]ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニルエテニル]ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、又は、2-4-メトキシナフチルビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン等;ジアリールヨードニウム塩類として、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、フェニル-4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、又は、フェニル-4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムp-トルエンスルホナート等;トリアリールスルホニウム塩類として、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、又は、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート等;第四級アンモニウム塩類として、テトラメチルアンモニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリスp-クロロフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス3-トリフルオロメチルフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリスp-クロロフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス3-トリフルオロメチルフェニルボレート等;ジアゾメタン誘導体として、ビスシクロヘキシルスルホニルジアゾメタン、ビスt-ブチルスルホニルジアゾメタン、ビスp-トルエンスルホニルジアゾメタン等;イミドスルホネート誘導体として、トリフルオロメチルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エンジカルボキシイミド、スクシンイミドトリフルオロメチルスルホネート、フタルイミドトリフルオロメチルスルホネート、N-ヒドロキシナフタルイミドメタンスルホネート、N-ヒドロキシ-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボキシイミドプロパンスルホネート等;上記他、特開2010-282228号公報の段落番号0031~0052に記載の化合物も採用できる。キノンジアジド化合物としては、o-キノンジアジド化合物1,2-キノンジアジド化合物やp-キノンジアジド化合物1,4-キノンジアジド化合物が挙げられる。中でも、感度や現像性の観点から、1,2-キノンジアジド化合物が好ましく、1,2-ナフトキノンジアジド化合物が特に好ましい。1,2-キノンジアジド化合物は、例えば、1,2-キノンジアジドスルホニルクロリド類と、ヒドロキシ化合物、アミノ化合物などと、を脱塩酸剤の存在下で縮合反応させることで得られる。1,2-キノンジアジド化合物としては、例えば、1,2-ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2-ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド等を挙げることができる。具体的には、JKosar著LightSensitiveSystems、pp.339~3521965、JohnWileySons社NewYorkやWSDeForest著Photoresist501975、McGrawHillInc,に記載されている1,2-キノンジアジド化合物、特開2004-170566号公報、特開2002-40653号公報、特開2002-351068号公報、特開2004-4233号公報、特開2004-271975号公報等に記載されている1,2-キノンジアジド化合物を挙げることができる。特開2008-224970号公報の段落0066~0081に記載されているものも好ましい。1,2-ナフトキノンジアジド基を有する化合物の中でも、以下の構造を有する化合物が特に高感度であることから好ましく使用することができる。さらに、最も好ましい1,2-ナフトキノンジアジド基を有する化合物としては、下記化合物である。DにおけるHと1,2-ナフトキノンジアジド基の割合モル比としては、感度と透明性の観点から50:50~1:99であることが好ましい。オキシムスルホネート化合物、すなわち、オキシムスルホネート残基を有する化合物としては、式4で表されるオキシムスルホネート残基を含有する化合物が好ましく例示できる。式4中、R5は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。いずれの基も置換されてもよく、R5におけるアルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でも環状でもよい。許容される置換基は、以下に説明する。R5のアルキル基としては、炭素数1~10の、直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が好ましい。R5のアルキル基は、炭素数6~11のアリール基、炭素数1~10のアルコキシ基、又は、シクロアルキル基7,7-ジメチル-2-オキソノルボルニル基などの有橋式脂環基を含む、好ましくはビシクロアルキル基等で置換されてもよい。R5のアリール基としては、炭素数6~11のアリール基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましい。R5のアリール基は、低級アルキル基、アルコキシ基あるいはハロゲン原子で置換されてもよい。式4で表されるオキシムスルホネート残基を含有する上記化合物は、下記式5で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。式5中、R5は、式4におけるR5と同義であり、Xは、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、mは、0~3の整数を表し、mが2又は3であるとき、複数のXは同一でも異なっていてもよい。Xで表されるアルキル基としては、炭素原子数1~4の、直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。Xで表されるアルコキシ基としては、炭素原子数1~4の、直鎖状又は分岐状アルコキシ基が好ましい。Xで表されるハロゲン原子としては、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。mは、0又は1が好ましい。式5中、mが1であり、Xがメチル基であり、Xの置換位置がオルト位であり、R5が炭素数1~10の直鎖状アルキル基、7,7-ジメチル-2-オキソノルボルニルメチル基、又は、p-トリル基である化合物が特に好ましい。オキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記化合物i、化合物ii、化合物iii、化合物iv等が挙げられ、1種単独で使用したり、又は、2種類以上を併用することができる。また、他の種類のB感放射線性酸発生化合物と組み合わせて使用することもできる。式4で表されるオキシムスルホネート残基を含有する上記化合物としては、式IIで表される光酸発生剤であることも好ましい。式II中、R4Aは、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表し、Lは0~5の整数を表す。R3Aは、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基、炭素原子数1~5のハロゲン化アルキル基、炭素原子数1~5のハロゲン化アルコキシ基、Wで置換されていてもよいフェニル基、Wで置換されていてもよいナフチル基又はWで置換されていてもよいアントラニル基を表し、Wは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基、炭素原子数1~5のハロゲン化アルキル基又は炭素原子数1~5のハロゲン化アルコキシ基を表すものである。式IIにおけるR3Aとしては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-オクチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ-n-プロピル基、パーフルオロ-n-ブチル基、p-トリル基、4-クロロフェニル基又はペンタフルオロフェニル基が好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基又はp-トリル基であることが特に好ましい。R4Aで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好ましい。R4Aで表される炭素原子数1~4のアルキル基としては、メチル基又はエチル基が好ましい。R4Aで表される炭素原子数1~4のアルコキシ基としては、メトキシ基又はエトキシ基が好ましい。Lとしては、0~2の整数が好ましく、0又は1が特に好ましい。式IIで表される光酸発生剤に包含される化合物の好ましい態様としては、R3Aが、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基又は4-トリル基を表し、R4Aが水素原子又はメトキシ基を表し、Lが0又は1の態様である。以下、式IIで表される光酸発生剤に包含される化合物の特に好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。α-メチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR3A=メチル基、R4A=水素原子α-エチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR3A=エチル基、R4A=水素原子α-n-プロピルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR3A=n-プロピル基、R4A=水素原子α-n-ブチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR3A=n-ブチル基、R4A=水素原子α-4-トルエンスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR3A=4-トリル基、R4A=水素原子α-メチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR3A=メチル基、R4A=メトキシ基α-エチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR3A=エチル基、R4A=メトキシ基α-n-プロピルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR3A=n-プロピル基、R4A=メトキシ基α-n-ブチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR3A=n-ブチル基、R4A=メトキシ基α-4-トルエンスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR3A=4-トリル基、R4A=メトキシ基前記式4で表されるオキシムスルホネート残基を含有する化合物としては、式OS-1で表される化合物であることも好ましい。前記式OS-1中、R1は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表す。R2は、アルキル基、又は、アリール基を表す。Xは-O-、-S-、-NH-、-NR5-、-CH2-、-CR6H-、又は、-CR6R7-を表し、R5~R7はアルキル基、又は、アリール基を表す。R21~R24は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。R21~R24のうち2つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。R21~R24としては、水素原子、ハロゲン原子、及び、アルキル基が好ましく、また、R21~R24のうち少なくとも2つが互いに結合してアリール基を形成する態様もまた、好ましく挙げられる。中でも、R21~R24がいずれも水素原子である態様が感度の観点から好ましい。既述の官能基は、いずれも、更に置換基を有していてもよい。前記式OS-1で表される化合物は、下記式OS-2で表される化合物であることがより好ましい。前記式OS-2中、R1、R2、R21~R24は、それぞれ式OS-1におけるのと同義であり、好ましい例もまた同様である。これらの中でも、式OS-1及び式OS-2におけるR1がシアノ基、又は、アリール基である態様がより好ましく、式OS-2で表され、R1がシアノ基、フェニル基又はナフチル基である態様が最も好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムやベンゾチアゾール環の立体構造E,Z等のついてはそれぞれ、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。以下に、本発明に好適に用いうる式OS-1で表される化合物の具体例例示化合物b-1~b-34を示すが、本発明はこれに限定されない。なお、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Bnはベンジル基を表し、Phはフェニル基を表す。上記化合物の中でも、感度と安定性との両立の観点から、b-9、b-16、b-31、b-33が好ましい。前記式4で表されるオキシムスルホネート残基を含有する化合物としては、式OS-3、式OS-4又は式OS-5で表されるオキシムスルホネート化合物であることが特に好ましい。式OS-3~式OS-5中、R1はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、R6はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。前記式OS-3~OS-5中、R1におけるアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。前記式OS-3~OS-5中、R1におけるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。R1におけるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。R1におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基が好ましい。また、前記式OS-3~OS-5中、R1におけるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数6~30のアリール基が好ましい。R1におけるアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。R1におけるアリール基としては、フェニル基、p-メチルフェニル基、p-クロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基が好ましい。また、前記式OS-3~OS-5中、R1におけるヘテロアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数4~30のヘテロアリール基が好ましい。R1におけるヘテロアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、アルコキシスルホニル基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R1におけるヘテロアリール基は、少なくとも1つの環が複素芳香環であればよく、例えば、複素芳香環とベンゼン環とが縮環していてもよい。R1におけるヘテロアリール基としては、置換基を有していてもよい、チオフェン環、ピロール環、チアゾール環、イミダゾール環、フラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾチアゾール環、及び、ベンゾイミダゾール環よりなる群から選ばれた環から1つの水素原子を除いた基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R2は、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましい。前記式OS-3~OS-5中、化合物中に2以上存在するR2のうち、1つ又は2つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることが好ましく、1つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることがより好ましく、1つがアルキル基であり、かつ残りが水素原子であることが特に好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R2におけるアルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよい。R2におけるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基としては、前記R1におけるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基と同様の基が例示できる。R2におけるアルキル基としては、置換基を有してもよい総炭素数1~12のアルキル基であることが好ましく、置換基を有してもよい総炭素数1~6のアルキル基であることがより好ましい。R2におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、n-ヘキシル基、アリル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、メトキシメチル基、ベンジル基が好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、n-ヘキシル基がより好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。R2におけるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数6~30のアリール基であることが好ましい。R2におけるアリール基としては、フェニル基、p-メチルフェニル基、o-クロロフェニル基、p-クロロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基が好ましい。R2におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中でも、塩素原子、臭素原子が好ましい。前記式OS-3~OS-5中、XはO又はSを表し、Oであることが好ましい。式OS-3~OS-5において、Xを環員として含む環は、5員環又は6員環である。前記式OS-3~OS-5中、nは1又は2を表し、XがOである場合、nは1であることが好ましく、また、XがSである場合、nは2であることが好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R6におけるアルキル基及びアルキルオキシ基は、置換基を有していてもよい。前記式OS-3~OS-5中、R6におけるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。R6におけるアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。R6におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロヘキシル基、ベンジル基が好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R6におけるアルキルオキシ基としては、置換基を有してもよい総炭素数1~30のアルキルオキシ基であることが好ましい。R6におけるアルキルオキシ基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。R6におけるアルキルオキシ基としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、フェノキシエチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、又は、エトキシエチルオキシ基が好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R6におけるアミノスルホニル基としては、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、メチルフェニルアミノスルホニル基、アミノスルホニル基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R6におけるアルコキシスルホニル基としては、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、プロピルオキシスルホニル基、ブチルオキシスルホニル基が挙げられる。また、前記式OS-3~OS-5中、mは0~6の整数を表し、0~2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることが特に好ましい。また、前記式4で表されるオキシムスルホネート残基を含有する化合物は、下記式OS-6~OS-11のいずれかで表されるオキシムスルホネート化合物であることが特に好ましい。式OS-6~OS-11中、R1はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R7は、水素原子又は臭素原子を表し、R8は水素原子、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、R9は水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、R10は水素原子又はメチル基を表す。式OS-6~OS-11におけるR1は、前記式OS-3~OS-5におけるR1と同義であり、好ましい態様も同様である。式OS-6におけるR7は、水素原子又は臭素原子を表し、水素原子であることが好ましい。式OS-6~OS-11におけるR8は、水素原子、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~6のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。式OS-8及び式OS-9におけるR9は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、水素原子であることが好ましい。式OS-8~OS-11におけるR10は、水素原子又はメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムの立体構造E,Zについては、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。前記式OS-3~式OS-5で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記例示化合物が挙げられるが、本発明は、これらに限定されるものではない。B感放射線酸発生化合物は、1種単独で使用しても、2種類以上を併用してもよい。本発明の感光性樹脂組成物において、B感放射線酸発生化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~10重量であることが好ましく、0.5~10重量であることがより好ましい。C溶剤本発明の感光性樹脂組成物は、C溶剤を含有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分であるA共重合体とB感放射線性酸発生化合物、並びに、後述の各種添加剤などの任意成分を、C溶剤に溶解した溶液として調製されることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、例えば、1エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;2エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類;3エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;4プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;5プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類;6プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;7ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類;8ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;9ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;10ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルメチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類;11ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;12乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n-プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸n-ブチル、乳酸イソブチル、乳酸n-アミル、乳酸イソアミル等の乳酸エステル類;13酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、酢酸n-アミル、酢酸イソアミル、酢酸n-ヘキシル、酢酸2-エチルヘキシル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n-プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸n-ブチル、プロピオン酸イソブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸エチル、酪酸n-プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n-ブチル、酪酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類;14ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチル酪酸エチル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3-メトキシプロピオンメチル、3-メトキシプロピオンエチル、3-エトキシプロピオンメチル、3-エトキシプロピオンエチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、3-メチル-3-メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類;15メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル-n-ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、4-ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;16N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;17γ-ブチロラクトン等のラクトン類等を挙げることができる。また、これらの溶剤に更に必要に応じて、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オクタノール、1-ノナール、ベンジルアルコール、アニソール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の溶剤を添加することもできる。上記した溶剤のうち、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましい。溶剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物における溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全成分中3~70重量であることが好ましく、5~50重量であることがより好ましく、8~40重量であることが更に好ましい。-その他の成分-本発明の感光性樹脂組成物には、前記成分A~Cの他に、必要に応じて、任意成分として、以下に述べる、D増感剤、E酸化防止剤、F架橋剤、G密着改良剤、H塩基性化合物、I界面活性剤、J可塑剤、K熱ラジカル発生剤、L熱酸発生剤、M酸増殖剤、及び、N現像促進剤などの公知の添加剤を加えることができる。D増感剤本発明の感光性樹脂組成物は、B感放射線性酸発生化合物との組み合わせにおいて、その分解を促進させるために、必要に応じて増感剤を用いることも好ましい。増感剤は、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、光酸発生剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより光酸発生剤は化学変化を起こして分解し、酸を生成する。好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ350nmから450nm域に吸収波長を有する化合物を挙げることができる。多核芳香族類例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン、9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ジブトキシ-3,7-ジメトキシアントラセン、9,10-ジプロピルオキシアントラセン、キサンテン類例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル、キサントン類例えば、キサントン、チオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、シアニン類例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン、メロシアニン類例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン、ローダシアニン類、オキソノール類、チアジン類例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー、アクリジン類例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン、アクリドン類例えば、アクリドン、10-ブチル-2-クロロアクリドン、アントラキノン類例えば、アントラキノン、スクアリウム類例えば、スクアリウム、スチリル類、ベーススチリル類例えば、2-{2-[4-ジメチルアミノフェニル]エテニル}ベンゾオキサゾール、クマリン類例えば、7-ジエチルアミノ4-メチルクマリン、7-ヒドロキシ4-メチルクマリン、2,3,6,7-テトラヒドロ-9-メチル-1H,5H,11H[l]ベンゾピラノ[6,7,8-ij]キノリジン-11-ノン。これら増感剤の中でも、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となり、光酸発生剤への電子移動作用を有する増感剤が好ましく、多環芳香族類、アクリドン類、スチリル類、ベーススチリル類、クマリン類が特に好ましい。上述した増感剤の中でも、より好適な増感剤としては、下記式III、式IV、式V、又は、式VIで表される化合物に包含される増感剤が挙げられる。式III中、R1及びR2は、炭素数1~4のアルキル基を表し、かつR1及びR2は同一であり、R3及びR4はそれぞれ独立に、一価の置換基を表し、m及びnはそれそれ独立に、0~4の整数を表す。R1又はR2で表される炭素数1~4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、又は、n-ブチル基が好ましい。R3又はR4で表される一価の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、又はニトロ基が挙げられ、メチル基、エチル基、n-プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、又はn-プロピルオキシ基が好ましい。mとしては、0~2の整数が好ましく、0~1がより好ましい。nとしては、0~2の整数が好ましく、0~1がより好ましい。式IV中、R5は、炭素数1~6のアルキル基又は置換されていてもよいフェニル基を表し、R6及びR7はそれぞれ独立に、一価の置換基を表し、o及びpはそれぞれ独立に、0~4の整数を表す。R5で表される炭素数1~6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、又はn-ブチル基が好ましい。置換されていてもよいフェニル基は無置換のものが好ましい。R6又はR7で表される一価の置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、又はニトロ基が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、又はn-プロピルオキシ基が好ましい。oとしては、0~2の整数が好ましく、0又は1がより好ましい。pとしては、0~2の整数が好ましく、0又は1がより好ましい。式V中、R8、R9及びR10はそれぞれ独立に、一価の置換基を表し、q、r及びsはそれぞれ独立に、0~2の整数を表し、R8、R9及びR10は、その2以上が互いに連結して5員環又は6員環を形成していてもよい。R8、R9又はR10で表される一価の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、炭素数1~4のアシル基、炭素数1~4のカルボン酸エステル基、炭素数1~4のアルキルアミノ基、炭素数1~4のジアルキルアミノ基、2-ベンゾイミダゾリル基、2-ベンゾチアゾリル基又は2-ベンゾオキサゾリル基が挙げられ、シアノ基、ヒドロキシ基、メチル基、エチル基、n-プロピル基、メトキシ基、アセチル基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、2-ベンゾイミダゾリル基又は2-ベンゾチアゾリル基が好ましい。また、R8、R9及びR10により形成される5員環又は6員環としては、任意の置換基を有してもよいベンゼン環、2,3,6,7-テトラヒドロキノリジン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環が挙げられる。qとしては、0~3の整数が好ましく、0~2の整数がより好ましい。rとしては、0~2の整数が好ましく、0又は1がより好ましい。sとしては、0~3の整数が好ましく、0~2の整数がより好ましい。式VI中、R11及びR12はそれぞれ独立に、置換若しくは非置換の炭素原子数1~4のアルキル基、又は、置換若しくは非置換のフェニル基を表し、R13及びR14はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~20の脂肪族基、複素環基、芳香族基又は環状脂肪族基を表し、R13及びR14は互いに連結して5員環又は6員環を形成していてもよい。R11又はR12で表される炭素数1~4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基が好ましい。また、R11又はR12で表されるアルキル基又はフェニル基に導入可能な置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基又は水酸基が挙げられる。R13又はR14で表される炭素数1~20の脂肪族基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-アミル基、i-アミル基、s-アミル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、n-アミルオキシ基、n-オクチルオキシ基、n-デシルオキシ基等が好ましい。R13又はR14で表される複素環基としては、任意の置換基を有してもよい2-キノリン基、2-イミダゾリル基、2-チアゾリル基、2-オキサゾリル基が好ましい。R13又はR14で表される芳香族基としては、任意の置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基、アントラニル基が好ましい。R13又はR14で表される環状脂肪族基としては、任意の置換基を有してもよいスチリル基、2-ビニルフラニル基、2-ビニルテトラヒドロフラニル基、2-ビニルピラニル基、2-ビニルテトラヒドロピラニル基が好ましい。R13及びR14が互いに連結して形成する5員環又は6員環としては、任意の置換基を有してもよい2-キノリン基、2-イミダゾリル基、2-チアゾリル基、2-オキサゾリル基が好ましい。式III、式IV、式V又は式VIで表される化合物に包含される増感剤の中でも、感度、透明性の観点から、9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ジプロピルオキシアントラセン、10-ブチル-2-クロロアクリドン、2-{2-[4-ジメチルアミノフェニル]エテニル}ベンゾオキサゾール、2,3,6,7-テトラヒドロ-9-メチル-1H,5H,11H[l]ベンゾピラノ[6,7,8-ij]キノリジン-11-ノンが好ましく、9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ジプロピルオキシアントラセン、10-ブチル-2-クロロアクリドンがより好ましい。増感剤は、市販のものを用いてもよいし、公知の合成方法により合成してもよい。また、増感剤は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。増感剤は、感度、透明性の両立の観点から、B感放射線性酸発生化合物100重量部に対して、20~300重量部が好ましく、30~200重量部が特に好ましい。E酸化防止剤本発明の感光性樹脂組成物は、透明性の観点で必要に応じて、酸化防止剤を含有することが好ましい。酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減できるという利点もある。このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤が好ましい。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブAO-60株ADEKA製、アデカスタブAO-80株ADEKA製、イルガノックス1098BASF株製が挙げられる。酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~6重量であることが好ましく、0.2~5重量であることがより好ましく、0.5~4重量であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時の感度も良好となる。また、酸化防止剤以外の添加剤として、高分子添加剤の新展開株日刊工業新聞社に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。F架橋剤本発明の感光性樹脂組成物は、硬化膜の強度の観点から、必要に応じ、架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤としては、例えば、以下に述べる分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、アルコキシメチル基含有架橋剤、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を添加することができる。架橋剤を添加することにより、本発明の感光性樹脂組成物による得られる硬化膜をより強固な膜とすることができる。<分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物>分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。これらの架橋剤は市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010以上、三菱化学株製、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055以上、DIC株製等が、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010以上、三菱化学株製、EPICLON830、EPICLON835以上、DIC株製、LCE-21、RE-602S以上、日本化薬株製、等が、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、JER152、JER154、JER157S70、JER157S65以上、ジャパンエポキシレジン株製、EPICLONN-740、EPICLONN-740、EPICLONN-770、EPICLONN-775以上、DIC株製等が、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、EPICLONN-660、EPICLONN-665、EPICLONN-670、EPICLONN-673、EPICLONN-680、EPICLONN-690、EPICLONN-695以上、DIC株製、EOCN-1020以上、日本化薬株製等が、脂肪族エポキシ樹脂としては、ADEKARESINEP-4080S、同EP-4085S、同EP-4088S以上、株ADEKA製、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、EHPE3150、EPOLEADPB3600、同PB4700以上、ダイセル化学工業株製等が挙げられる。その他にも、ADEKARESINEP-4000S、同EP-4003S、同EP-4010S、同EP-4011S以上、株ADEKA製、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502以上、株ADEKA製等が挙げられる。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中で好ましいものとしては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。特にビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。分子内に2個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンOXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX以上、東亞合成株製を用いることができる。また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することができる。分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物の感光性樹脂組成物への添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~40重量であることが好ましく、0.5~35重量であることがより好ましく、1~40重量であることが特に好ましい。<アルコキシメチル基含有架橋剤>アルコキシメチル基含有架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル及びアルコキシメチル化尿素等が好ましい。これらは、それぞれメチロール化メラミン、メチロール化ベンゾグアナミン、メチロール化グリコールウリル、又は、メチロール化尿素のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等を挙げることができるが、アウトガスの発生量の観点から、特にメトキシメチル基が好ましい。これらの架橋性化合物のうち、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリルが好ましい架橋性化合物として挙げられ、透明性の観点から、アルコキシメチル化グリコールウリルが特に好ましい。これらアルコキシメチル基含有架橋剤は、市販品として入手可能であり、例えば、サイメル300、301、303、370、325、327、701、266、267、238、1141、272、202、1156、1158、1123、1170、1174、UFR65、300以上、三井サイアナミッド株製、ニカラックMX-750、-032、-706、-708、-40、-31、-270、-280、-290、ニカラックMS-11、ニカラックMW-30HM、-100LM、-390、以上、株三和ケミカル製などを好ましく使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物にアルコキシメチル基含有架橋剤を用いる場合のアルコキシメチル基含有架橋剤の添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.01~15重量であることが好ましく、0.05~10重量であることがより好ましい。アルコキシメチル基含有架橋剤を、この範囲で添加することにより、現像時の好ましいアルカリ溶解性と、硬化後の膜の優れた耐薬品性が得られる。<少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物>少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、単官能メタアクリレート、2官能メタアクリレート、3官能以上のメタアクリレートなどのメタアクリレート化合物を好適に用いることができる。単官能メタアクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、カルビトールメタアクリレート、イソボロニルメタアクリレート、3-メトキシブチルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。2官能メタアクリレートとしては、例えば、エチレングリコールメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。3官能以上のメタアクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメタアクリロイロキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどが挙げられる。これらの少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。本発明の感光性樹脂組成物における少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用割合は、A共重合体100重量部に対して、50重量部以下であることが好ましく、30重量部以下であることがより好ましい。このような割合で少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有させることにより、本発明の感光性樹脂組成物から得られる硬化膜の耐熱性及び表面硬度等を向上させることができる。少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を加える場合には、後述するK熱ラジカル発生剤を添加することが好ましい。G密着改良剤本発明の感光性樹脂組成物は、密着改良剤を含有してもよい。本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる密着改良剤は、基材となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物である。具体的には、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。本発明で使用される密着改良剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリアコキシシラン、γ-グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。これらのうち、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシランやγ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが更に好ましい。これらの密着改良剤は、1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。密着改良剤の添加は、基板上に本発明の感光性樹脂組成物により硬化膜を形成した場合において、基板と硬化膜との密着性の向上に有効であるとともに、硬化膜をパターン状に形成する場合には、基板とパターン状の硬化膜とのテーパー角の調整にも有効である。本発明の感光性樹脂組成物における密着改良剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.01~15重量であることが好ましく、0.05~10重量であることがより好ましい。H塩基性化合物本発明の感光性樹脂組成物は、塩基性化合物を含有してもよい。塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、及びカルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。脂肪族アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、トリ-n-プロピルアミン、ジ-n-ペンチルアミン、トリ-n-ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミンなどが挙げられる。芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、ベンジルアミン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。複素環式アミンとしては、例えば、ピリジン、2-メチルピリジン、4-メチルピリジン、2-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2-フェニルピリジン、4-フェニルピリジン、N-メチル-4-フェニルピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、4-メチルイミダゾール、2-フェニルベンズイミダゾール、2,4,5-トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、8-オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、4-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン、1,8-ジアザビシクロ[5.3.0]-7-ウンデセンなどが挙げられる。第四級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ヘキシルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。カルボン酸の第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ-n-ブチルアンモニウムアセテート、テトラ-n-ブチルアンモニウムベンゾエートなどが挙げられる。本発明に用いることができる塩基性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。本発明の感光性樹脂組成物における塩基性化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.001~1重量であることが好ましく、0.005~0.5重量であることがより好ましい。I界面活性剤本発明の感光性樹脂組成物は、界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコーン系、フッ素系界面活性剤を挙げることができる。また、以下商品名で、KP信越化学工業株製、ポリフロー共栄社化学株製、エフトップJEMCO社製、メガファックDIC株製、フロラード住友スリーエム株製、アサヒガード、サーフロン旭硝子株製PolyFoxOMNOVA社製等の各シリーズを挙げることができる。また、界面活性剤としては、下記に示す構成単位Aと構成単位Bとを含む共重合体1を好ましい例として挙げることができる。共重合体1の重量平均分子量Mwは、1,000以上10,000以下であることが好ましく、1,500以上5,000以下であることがより好ましい。重量平均分子量は、GPCで測定されるポリスチレン換算の値である。共重合体1中、R1及びR3はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R4は水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは重合比を表す重量百分率であり、pは10重量以上80重量以下の数値を表し、qは20重量以上90重量以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、nは1以上10以下の整数を表す。前記Lは、下記式2で表される分岐アルキレン基であることが好ましい。式2におけるR5は、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数1以上3以下のアルキル基が好ましく、炭素数2又は3のアルキル基がより好ましい。pとqとの和pqは、pq=100、すなわち、100重量であることが好ましい。前記共重合体1の重量平均分子量Mwは、1,500以上5,000以下がより好ましい。これらの界面活性剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物における界面活性剤の添加量は、感光性樹脂組成物の全成分に対して、0.001~0.5重量であることが好ましく、0.005~0.1重量であることがより好ましい。J可塑剤本発明の感光性樹脂組成物は、可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリン、ジメチルグリセリンフタレート、酒石酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリアセチルグリセリンなどが挙げられる。本発明の感光性樹脂組成物における可塑剤の添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、1~30重量であることが好ましく、3~25重量であることがより好ましい。K熱ラジカル発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、熱ラジカル発生剤を含んでいてもよい。前述の少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物のようなエチレン性不飽和化合物を含有する場合には、熱ラジカル発生剤を含有することが好ましい。本発明における熱ラジカル発生剤としては、公知の熱ラジカル発生剤を用いることができる。熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、重合性化合物の重合反応を開始又は促進させる化合物である。そのため、一部の光ラジカル発生剤も熱ラジカル発生剤として用いることができる。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する場合がある。好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物等が挙げられる。前記熱ラジカル発生剤の具体例としては、イルガキュアー184、イルガキュアー369、イルガキュアー379、イルガキュアー651、イルガキュアー907、イルガキュアー819以上、BASF社製、ダロキュアー4265、ダロキュアーTPO以上、メルク社製、パーヘキサH、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーブチルH、パークミルD、パーブチルP、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーヘキサ25B、パーヘキシン25B、パーロイルL、ナイパーBW、ナイパーBMTK40、ナイパーBMT-M、パーブチルPV、パーヘキサ25O、パーオクO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ以上、日本油脂株製等が挙げられる。熱ラジカル発生剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における熱ラジカル発生剤の添加量は、膜物性向上の観点から、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.05~15重量であることが好ましく、0.1~10重量であることがより好ましい。L熱酸発生剤本発明では、低温硬化での膜物性等を改良するために、熱酸発生剤を使用してもよい。本発明において熱酸発生剤とは、熱により酸が発生する化合物であり、熱分解点が好ましくは130°C~250°C、より好ましくは150°C~220°Cの範囲の化合物であり、例えば、加熱によりスルホン酸、カルボン酸、ジスルホニルイミドなどの低求核性の酸を発生する化合物である。前記熱酸発生剤により発生する酸としてはpKaが2以下と強い、スルホン酸や電子求引基の置換したアルキル又はアリールカルボン酸、同じく電子求引基の置換したジスルホニルイミドなどが好ましい。電子求引基としては、フッ素原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。また、本発明においては露光光の照射によって実質的に酸を発生せず、熱によって酸を発生するスルホン酸エステルを使用することも好ましい。露光光の照射によって実質的に酸を発生していないことは、化合物の露光前後でのIRスペクトル、NMRスペクトル測定により、スペクトルに変化がないことで判定することができる。スルホン酸エステルの分子量は、230~1,000が好ましく、230~800がより好ましい。本発明で使用可能なスルホン酸エステルは、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いてもよい。スルホン酸エステルは、例えば、塩基性条件下、スルホニルクロリド乃至はスルホン酸無水物を対応する多価アルコールと反応させることにより合成することができる。本発明の感光性樹脂組成物における熱酸発生剤の添加量は、膜物性向上の観点から、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.05~15重量であることが好ましく、0.1~10重量であることがより好ましい。M酸増殖剤本発明の感光性樹脂組成物は、感度向上を目的に、酸増殖剤を用いることができる。本発明において用いる酸増殖剤は、酸触媒反応によって更に酸を発生して反応系内の酸濃度を上昇させることができる化合物であり、酸が存在しない状態では安定に存在する化合物である。このような化合物は、1回の反応で1つ以上の酸が増えるため、反応の進行に伴って加速的に反応が進むが、発生した酸自体が自己分解を誘起するため、ここで発生する酸の強度は、酸解離定数、pKaとして3以下であるのが好ましく、特に2以下であるのが好ましい。酸増殖剤の具体例としては、特開平10-1508号公報の段落0203~0223、特開平10-282642号公報の段落0016~0055、及び、特表平9-512498号公報第39頁12行目~第47頁2行目に記載の化合物を挙げることができる。本発明で用いることができる酸増殖剤としては、酸発生剤から発生した酸によって分解し、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、フェニルホスホン酸などのpKaが3以下の酸を発生させる化合物を挙げることができる。酸増殖剤の感光性樹脂組成物への添加量は、B感放射線性酸発生化合物100重量部に対して、10~1,000重量部とすることが、露光部と未露光部の溶解コントラストの観点から好ましく、20~500重量部とするのが更に好ましい。N現像促進剤本発明の感光性樹脂組成物は、現像促進剤を含有してもよい。現像促進剤としては、現像促進効果のある任意の化合物を使用できるが、カルボキシ基、フェノール性水酸基及びアルキレンオキシ基から選ばれる少なくとも一種の構造を有する化合物であることが好ましく、カルボキシ基又はフェノール性水酸基から選ばれる少なくとも一種の構造を有する化合物がより好ましく、フェノール性水酸基を有する化合物が最も好ましい。また、現像促進剤の分子量としては、100~3,000が好ましく、100~2,000が更に好ましく、150~1,000が特に好ましい。現像促進剤の例として、アルキレンオキシ基を有するものとしては、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールのモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールのジメチルエーテル、ポリエチレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールジグリセリルエステル、ポリブチレングリコール、ポリエチレングリコール-ビスフェノールAエーテル、ポリプロピレングリコール-ビスフェノールAエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエステル、特開平9-222724号公報に記載の化合物等を挙げることができる。現像促進剤の例として、カルボキシ基を有するものとしては、特開2000-66406号公報、特開平9-6001号公報、特開平10-20501号公報、特開平11-338150号公報等に記載の化合物を挙げることができる。現像促進剤の例として、フェノール性水酸基を有するものとしては、特開2005-346024号公報、特開平10-133366号公報、特開平9-194415号公報、特開平9-222724号公報、特開平11-171810号公報、特開2007-121766号公報、特開平9-297396号公報、特開2003-43679号公報等に記載の化合物を挙げることができる。これらの中でも、ベンゼン環数が2~10個のフェノール化合物が好適であり、ベンゼン環数が2~5個のフェノール化合物が更に好適である。特に好ましいものとしては、特開平10-133366号公報に溶解促進剤として開示されているフェノール性化合物を挙げることができる。現像促進剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における現像促進剤の添加量は、感度及び残膜率の観点から、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~30重量であることが好ましく、0.5~20重量であることがより好ましい。硬化膜の形成方法次に、本発明の硬化膜の形成方法を説明する。本発明の硬化膜の形成方法は、以下の1~5の各工程を含むことを特徴とする。1本発明の感光性樹脂組成物を基板上に適用する工程2塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程3溶剤を除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する工程4露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する工程5現像された感光性樹脂組成物を熱硬化する工程以下に各工程を順に説明する。1工程では、本発明の感光性樹脂組成物を基板上に適用して溶剤を含む湿潤膜を形成する。2工程では、塗布された湿潤膜から、減圧バキューム及び/又は加熱により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させる。3工程では、得られた乾燥塗膜に、波長300nm以上450nm以下の活性光線を照射する。また必要に応じて、露光後加熱処理:PostExposureBake以下、PEBともいう。を行うことができる。PEBにより、特にA共重合体にモノマー由来の繰り返し単位a3-1を含む場合、酸分解性基からのカルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基の生成を促進させることができる。PEBを行う場合、架橋反応を起こすことなく、酸分解性基の加水分解を促進させるという観点では、PEB温度は、30°C以上130°C以下であることが好ましく、40°C以上110°C以下がより好ましく、50°C以上80°C以下が特に好ましい。4工程では、遊離したカルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する重合体を、アルカリ性現像液を用いて現像する。アルカリ性現像液に溶解しやすいカルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する樹脂組成物を含む露光部領域を除去することにより、ポジ画像が形成する。5工程においては、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基と、モノマー単位a2由来のオキセタニル残基とを架橋させることにより、硬化膜を形成することができる。この加熱は、150°C以上の高温に加熱することが好ましく、180~250°Cに加熱することがより好ましく、200~250°Cに加熱することが特に好ましい。加熱時間は、加熱温度などにより適宜設定できるが、10~90分の範囲内とすることが好ましい。5工程の前に活性光線好ましくは紫外線を、ポジ画像の全面照射する工程を加えると、活性光線照射により発生する酸により架橋反応を促進することができる。次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法を具体的に説明する。<感光性樹脂組成物の調製>A共重合体、B感放射線酸発生化合物の必須成分を、C溶剤中に、所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解して感光性樹脂組成物を調製する。例えば、A共重合体、B感放射線酸発生化合物を、それぞれ予めC溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して樹脂組成物を調製することもできる。以上のように調製した組成物溶液は、孔径0.2μmのフィルター等を用いてろ過した後に、使用に供することもできる。<基板上に適用する工程及び溶剤を除去する工程>感光性樹樹脂組成物を、所定の基板に適用布し、減圧及び/又は加熱プリベークにより溶剤を除去することにより、所望の乾燥塗膜を形成することができる。感光性樹樹脂組成物の基板への適用方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法等の方法を用いることができる。中でもスリットコート法が大型基板に適するという観点で好ましい。ここで大型基板とは、各辺が1m以上の大きさの基板をいう。また、溶剤を除去する工程で加熱を行う場合の加熱条件は、未露光部におけるA共重合体中の構成単位a3-1が有する酸分解性基が分解して、A共重合体をアルカリ現像液に可溶性としない範囲であり、各成分の種類や配合比によっても異なるが、好ましくは80~130°Cで30~120秒間程度である。また、感光性樹樹脂組成物を基板へ適用する前に基板の洗浄を行うことが好ましく、更に基板洗浄後にヘキサメチルジシラザンで基板表面を処理することがより好ましい。この処理を行うことにより、感光性樹脂組成物の基板への密着性が向上する。また、ヘキサメチルジシラザンで基板表面を処理する方法としては、特に限定されないが、例えば、ヘキサメチルジシラザン蒸気に中に基板を晒しておく方法等が挙げられる。<露光する工程>露光する工程では、乾燥塗膜を設けた基板に所定のパターンの活性光線を照射する。活性光線を照射は、マスクを介してもよいし、直接描画してもよい。活性光線としては、波長300nm以上450nm以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。露光する工程の後、必要に応じて加熱処理PEBを行う。活性光線による露光には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、レーザ発生装置などを用いることができる。水銀灯を用いる場合には、g線436nm、i線365nm、h線405nmなどの波長を有する活性光線が好ましく使用できる。水銀灯はレーザに比べると、大面積の露光に適するという点で好ましい。レーザを用いる場合には、固体YAGレーザでは343nm、355nmが用いられ、エキシマレーザでは351nmXeFが用いられ、更に、半導体レーザでは375nm、405nmが用いられる。この中でも安定性、コスト等の点から355nm、405nmがより好ましい。レーザは1回あるいは複数回に分けて、塗膜に照射することができる。レーザの1パルス当たりのエネルギー密度は0.1mJ/cm2以上10,000mJ/cm2以下であることが好ましい。塗膜を十分に硬化させるには、0.3mJ/cm2以上がより好ましく、0.5mJ/cm2以上が最も好ましく、アブレーション現象により塗膜を分解させないようにするには、1,000mJ/cm2以下がより好ましく、100mJ/cm2以下が最も好ましい。また、パルス幅は、0.1nsec以上30,000nsec以下であることが好ましい。アブレーション現象により色塗膜を分解させないようにするには、0.5nsec以上がより好ましく、1nsec以上が最も好ましく、スキャン露光の際に合わせ精度を向上させるには、1,000nsec以下がより好ましく、50nsec以下が最も好ましい。更に、レーザの周波数は、1Hz以上50,000Hz以下が好ましく、10Hz以上1,000Hz以下がより好ましい。更に、レーザの周波数は、露光処理時間を短くするには、10Hz以上がより好ましく、100Hz以上が最も好ましく、スキャン露光の際に合わせ精度を向上させるには、10,000Hz以下がより好ましく、1,000Hz以下が最も好ましい。レーザは水銀灯と比べると、焦点を絞ることが容易であり、露光工程でのパターン形成のマスクが不要でコストダウンできるという点で好ましい。本発明に使用可能な露光装置としては、特に制限はないが、市販されているものとしては、Callisto株ブイテクノロジー製やAEGIS株ブイテクノロジー製やDF2200G大日本スクリーン製造株製などが使用可能である。また上記以外の装置も好適に用いられる。また、露光工程では、必要に応じて、長波長カットフィルター、短波長カットフィルター、バンドパスフィルターのような分光フィルターを通して照射光を調整することもできる。<現像する工程>現像する工程では、塩基性現像液を用いて露光部領域を除去して画像パターンを形成する。塩基性現像液に含有される塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類;ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記塩基性化合物を含有する水溶液に、メタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。現像液のpHは、好ましくは10.0~14.0である。現像時間は、好ましくは30秒~180秒間であり、また、現像の手法は液盛り法、ディップ法等のいずれでもよい。現像後は、流水洗浄を30秒~90秒間行い、所望のパターンを形成させることができる。<熱硬化する工程架橋工程>現像により得られた未露光領域に対応するパターンについて、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温度、例えば、180~250°Cで所定の時間、例えばホットプレート上なら5~60分間、オーブンならば30~90分間、加熱処理をすることにより、耐熱性、硬度等に優れた保護膜や層間絶縁膜等の硬化膜を形成することができる。また、加熱処理を行う際は、窒素雰囲気下で行うことにより、硬化膜の透明性を向上させることもできる。なお、加熱処理に先立ち、硬化膜がパターン状に形成した基板に活性光線により再露光した後、加熱することが好ましい。すなわち、本発明の硬化膜の形成方法は、現像する工程と熱硬化する工程の間に、活性光線により再露光する工程を含むことが好ましい。再露光する工程における露光は、前記露光する工程と同様の手段により行えばよいが、前記再露光する工程では、基板の本発明の感光性樹脂組成物により膜が形成された側に対し、全面露光を行うことが好ましい。再露光する工程の好ましい露光量としては、100~1,000mJ/cm2である。本発明の硬化膜は、本発明の感光性樹脂組成物に、光及び熱の少なくとも一方を付与して形成された硬化膜である。本発明の感光性樹脂組成物により、絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する硬化膜が得られ、該硬化膜は層間絶縁膜として有用である。本発明の感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜は、高い透明性を有し、硬化膜物性に優れるため、有機EL表示装置や液晶表示装置の用途に有用である。また、本発明の感光性樹脂組成物及び本発明の硬化膜は、前記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜、保護層、層間絶縁膜以外にも、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルター上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。本発明の有機EL表示装置及び液晶表示装置としては、本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜を平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機EL表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。図1は、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜を絶縁膜、平坦化膜として適用した有機EL表示装置の一例の構成を示す模式的断面図である。図1に示す有機EL表示装置は、ボトムエミッション型の有機EL表示装置である。図1中、ガラス基板6上には、ボトムゲート型のTFT1が形成され、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3が形成されている。絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmが絶縁膜3上に形成されている。配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。更に、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上に平坦化膜4が形成されている。平坦化膜4上には、ボトムエミッション型の有機EL素子が形成されている。即ち、平坦化膜4上に、酸化インジウムスズITOからなる第一電極5が、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成されている。また、第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8が形成されており、この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。更に、図1には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られる。図2は、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜を適用した液晶表示装置の一例を示す構成を示す模式的断面図である。図2に示す液晶表示装置は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置である。図2中、液晶表示装置10は、背面にバックライトユニット12を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた2枚のガラス基板14、15の間に配置されたすべての画素に対応するTFT16の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜17中に形成されたコンタクトホール18を通して、画素電極を形成するITO透明電極19が配線されている。ITO透明電極19の上には、液晶20の層とブラックマトリックスを配置したRGBカラーフィルター22が設けられている。次に、実施例により本発明を更に具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部、は質量基準である。以下の合成例、表1及び組成物の調製において、以下の符号はそれぞれ以下の化合物を表す。V-65:2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルGMA:グリシジルメタクリレートMAA:メタクリル酸AA:アクリル酸MAEVE:メタクリル酸1-エトキシエチルOXE-30:メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル大阪有機化学工業株製HEMA:メタクリル酸2-ヒドロキシエチルMMA:メタクリル酸メチルCHMA:メタクリル酸シクロヘキシルDCPM:メタクリル酸トリシクロ521026デカン8イルFA-513M:日立化成工業株製St:スチレンp-HS:p-ヒドロキシスチレンMATHF:メタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イルPGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートMEDG:ジエチレングリコールメチルエチルエーテル<MATHFの合成>メタクリル酸86g、1molを15°Cに冷却しておき、カンファースルホン酸4.6g,0.02molを添加した。その溶液に、2-ジヒドロフラン71g、1mol、1.0当量を滴下した。1時間撹拌した後に、飽和炭酸水素ナトリウム500mLを加え、酢酸エチル500mLで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、不溶物を濾過後40°C以下で減圧濃縮し、残渣の黄色油状物を減圧蒸留して沸点bp.54~56°C/3.5mmHg留分のメタクリル酸テトラヒドロフラン-2-イルMATHF125gを無色油状物として得た収率80。A共重合体<2a-2の合成>本願で使用するモノマー2a-2を以下のように合成した。2,2-ビスブロモメチル-1,3-プロパンジオール157部をエタノール500部に溶かし、水酸化カリウム33.6部、1モル当量を加え、4時間還流させた。生成した塩をろ過で除いた後に、蒸留することで1-ブロモ-2-オキセタニルプロパノール67部を得た。メタクリル酸28.5部、1-ブロモ-2-オキセタニルプロパノール60部、1モル当量、水酸化カリウム13.2部、1モル当量、をテトラヒドロフランに溶解させ、2時間還流させた。酢酸エチル、水を加え、有機層を抽出し、ブラインで洗浄後、濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供することにより、目的物36部、収率64を得た。H1-NMR400MHz,TMSδ1.89s,3H,3.34s,2H,3.61d,2H,4.26s,2H,4.41s,4H,5.02t,1H,5.71s,1H,6.09s,1H<共重合体A-1の合成>本願のA共重合体にあたる共重合体A-1を以下のように合成した。エチルビニルエーテル144.2部2モル当量にフェノチアジン0.5部を添加し、反応系中を10°C以下に冷却しながらメタクリル酸86.1部1モル当量を滴下後、室温25°Cで4時間撹拌した。p-トルエンスルホン酸ピリジニウム5.0部を添加後、室温で2時間撹拌し、一夜室温放置した。反応液に炭酸水素ナトリウム5部及び硫酸ナトリウム5部を添加し、室温で1時間撹拌し、不溶物を濾過後40°C以下で減圧濃縮し、残渣の黄色油状物を減圧蒸留して沸点bp.43~45°C/7mmHg留分のメタクリル酸1-エトキシエチルMAEVE134.0部を無色油状物として得た。得られたメタクリル酸1-エトキシエチル0.3モル当量、a2-1を形成するモノマー0.4モル当量、MAA0.1モル当量、St0.2モル当量及びPGMEAの混合溶液を窒素気流下、70°Cに加熱した。この混合溶液を撹拌しながら、ラジカル重合開始剤V-65和光純薬工業株製、4部及びPGMEA100.0部の混合溶液を2.5時間かけて滴下した。滴下が終了してから、70°Cで4時間反応させることにより、重合体A-1のPGMEA溶液固形分濃度:40に調整を得た。得られた重合体A-1のゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにより測定した重量平均分子量は、13,000であった。<重合体A-2~A-30の合成>使用した各モノマー及びその使用量を、下記表1に記載のものに変更した以外は、重合体A-1の合成と同様にして、本願のA共重合体にあたる共重合体A-2~A-30をそれぞれ合成した。実施例及び比較例に用いた各化合物を示す略号の詳細は、以下の通りである。B-1:4,7-ジ-n-ブトキシ-1-ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネートB-2:イルガキュアーPAG-103CGI-1397下記構造の化合物、BASF社製B-3:PAI-1001下記構造の化合物、みどり化学株製B-4:PAI-101下記構造の化合物、みどり化学株製B-5:下記構造の化合物B-6:下記構造の化合物B-7:44′-[1-[4-1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチルフェニル]エチリデン]ジフェノールの12-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル平均エステル化率667モルB-8:トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート<光酸発生剤B-5の合成>1-1.合成中間体B-5Aの合成2-アミノベンゼンチオール:31.3g東京化成工業株製をトルエン:100mL和光純薬工業株製に室温25°C下溶解させた。次に、フェニルアセチルクロリド:40.6g東京化成工業株製を滴下し、室温下1時間、次いで100°Cで2時間撹拌し反応させた。得られた反応液に水500mLを入れ析出した塩を溶解させ、トルエン油分を抽出、抽出液をロータリエバポレーターで濃縮させ、合成中間体B-5Aを得た。1-2.B-5の合成前記のようにして得られた合成中間体B-5A2.25gをテトラヒドロフラン:10mL和光純薬工業株製に混合させた後、氷浴につけ反応液を5°C以下に冷却した。次に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド:4.37g25重量メタノール溶液、AlfaAcer社製を滴下し、氷浴下0.5時間撹拌し反応させた。更に、亜硝酸イソペンチル:7.03gを内温20°C以下に保ちながら滴下し、滴下終了後に反応液を室温まで昇温後、一時間撹拌した。ついで、反応液を5°C以下に冷却し後、p-トルエンスルホニルクロリド1.9g東京化成工業株製を投入し、10°C以下を保ちながら1時間撹拌した。その後水80mLを投入し、0°Cで1時間撹拌した。得られた析出物を濾過した後、イソプロピルアルコールIPA60mLを投入し、50°Cに加熱して1時間撹拌し、熱時濾過、乾燥させることで、B-5:前記構造1.8gを得た。得られたB-5の1H-NMRスペクトル300MHz、重DMSOD3C2S=Oは、δ=8.2~8.17m,1H,8.03~8.00m,1H,7.95~7.9m,2H,7.6~7.45m,9H,2.45s,3Hであった。上記の1H-NMR測定結果より、得られたB-5は、1種単独の幾何異性体であることが推定された。<光酸発生剤B-6の合成>2-ナフトール10g、クロロベンゼン30mLの懸濁溶液に塩化アルミニウム10.6g、2-クロロプロピオニルクロリド10.1gを添加し、混合液を40°Cに加熱して2時間反応させた。氷冷下、反応液に4NHCl水溶液60mLを滴下し、酢酸エチル50mLを添加して分液した。有機層に炭酸カリウム19.2gを加え、40°Cで1時間反応させた後、2NHCl水溶液60mLを添加して分液し、有機層を濃縮後、結晶をジイソプロピルエーテル10mLでリスラリーし、ろ過、乾燥してケトン化合物6.5gを得た。得られたケトン化合物3.0g、メタノール30mLの懸濁溶液に酢酸7.3g、50重量ヒドロキシルアミン水溶液8.0gを添加し、加熱還流した。放冷後、水50mLを加え、析出した結晶をろ過、冷メタノール洗浄後、乾燥してオキシム化合物2.4gを得た。得られたオキシム化合物1.8gをアセトン20mLに溶解させ、氷冷下トリエチルアミン1.5g、p-トルエンスルホニルクロリド2.4gを添加し、室温に昇温して1時間反応させた。反応液に水50mLを添加し、析出した結晶をろ過後、メタノール20mLでリスラリーし、ろ過、乾燥してB-62.3gを得た。なお、B-6の1H-NMRスペクトル300MHz、CDCl3は、δ=8.3d,1H,8.0d,2H,7.9d,1H,7.8d,1H,7.6dd,1H,7.4dd,1H7.3d,2H,7.1d.1H,5.6q,1H,2.4s,3H,1.7d,3Hであった。D-1:DBA9,10-ジブトキシアントラセン、川崎化成工業株製F-1:JER157S70フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン株製G-1:KBM-4033-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株製H-1:2,4,5トリフェニルイミダゾールH-2:1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネンI-1:メガファックF-554フッ素系界面活性剤、DIC株製実施例1下記組成1となるように各成分を混合し、口径0.2μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで濾過して、実施例1の感光性樹脂組成物を得た。<組成1>A共重合体:共重合体A-1のPGMEA溶液固形分濃度:4064.0部B感放射線酸発生化合物:上記に示すB-60.6部PGMEA33.0部架橋剤成分F:上記に示すF-11.1部密着改良剤成分G:上記に示すG-10.9部塩基性化合物成分H:上記に示すH-10.01部塩基性化合物成分H:上記に示すH-20.01部界面活性剤成分I:上記に示すI-10.03部実施例2~32実施例2~32で用いた組成物は、上記組成1の配合比で表2に記載の化合物をそれぞれ用いて、実施例1と同様に調製した。実施例33下記組成2となるように各成分を混合し、口径0.2μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで濾過して、実施例33の感光性樹脂組成物を得た。<組成2>A共重合体:共重合体A-5のPGMEA溶液固形分濃度:4063.0部B感放射線酸発生化合物:上記に示すB-30.4部PGMEA33.0部増感剤成分D:上記に示すD-10.4部架橋剤成分F:上記に示すF-11.1部密着改良剤成分G:上記に示すG-10.9部塩基性化合物成分H:上記に示すH-10.01部塩基性化合物成分H:上記に示すH-20.01部界面活性剤成分I:上記に示すI-10.03部実施例34、35及び37実施例34、35及び37で用いた組成物は、上記組成2の配合比で表2に記載の化合物をそれぞれ用いて、実施例33と同様に調製した。実施例36下記組成3となるように各成分を混合し、口径0.2μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで濾過して、実施例36の感光性樹脂組成物を得た。<組成3>A共重合体:共重合体A-1のPGMEA溶液固形分濃度:4052.0部B感放射線酸発生化合物:上記に示すB-75.7部PGMEA40.0部架橋剤成分F:上記に示すF-11.1部密着改良剤成分G:上記に示すG-10.9部界面活性剤成分I:上記に示すI-10.03部比較例1及び比較例2比較例1及び比較例2の感光性樹脂組成物としては、実施例1の組成1に含まれる共重合体A-1をそれぞれA-31及びA-32に置き換えた以外は、実施例1と同様に組成物をそれぞれ調製した。比較例3及び比較例5比較例3及び比較例5の感光性樹脂組成物としては、実施例36の組成3に含まれる共重合体A-5をそれぞれA-31及びA-32に置き換えた以外は、実施例36と同様に組成物をそれぞれ調製した。比較例4及び比較例6比較例4及び比較例6の感光性樹脂組成物としては、実施例37の組成2に含まれる共重合体A-5をそれぞれA-31及びA-32に置き換えた以外は、実施例37と同様に組成物をそれぞれ調製した。以上により得られた実施例及び比較例の感光性樹脂組成物について、以下に示す各評価を行った。<比誘電率の評価>シリコンウエハ基板上に、各感光性樹脂組成物をスピン塗布した後、90°C/120秒の条件でホットプレート上でプリベークして溶剤を揮発させ、膜厚3.0μmの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層が形成された基板を、キヤノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプで積算照射量が300mJ/cm2照度:20mW/cm2、i線となるように露光し、その後、この基板をオーブンにて230°Cで1時間加熱して硬化膜を得た。この硬化膜を水銀プローバFOURDIMENSIONS社製CVmap92Aを用いて測定周波数1MHzでの比誘電率を測定した。測定された比誘電率の評価を表2に示す。なお、評価基準は下記の通りである。1及び2が実用上問題のないレベルである。1:比誘電率が3.5未満2:比誘電率が3.5以上4.0未満3:比誘電率が4.0以上4.5未満4:比誘電率が4.5以上<耐薬品性の評価>ガラス基板コーニング1737、0.7mm厚コーニング社製上に、各感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、90°C/120秒の条件でホットプレート上で加熱して溶剤を除去し、膜厚3.0μmの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層が形成された基板を、キヤノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプで積算照射量が300mJ/cm2照度:20mW/cm2、i線となるように露光し、その後、この基板をオーブンにて230°Cで1時間加熱して硬化膜を得た。この硬化膜をNMP80°Cに10分浸漬させ、その前後の膜厚の変化率を測定した。浸漬前の膜厚をt0、浸漬後の膜厚をt1としたときの変化率をt1/t0とした。結果を表2に示す。なお、評価基準は下記の通りである。1及び2が実用上問題のないレベルである。1:変化率が103未満2:変化率が103以上107未満3:変化率が107以上111未満4:変化率が111以上<保存安定性の評価>感光性樹脂組成物溶液の23°Cにおける粘度を、東機産業株式会社製E型粘度計を使用して測定した。該組成物を23°Cの恒温層に1ヶ月間保存した後の粘度を測定した。調製後の粘度v0に対して、室温1ヶ月間保存後の粘度v1の変化率v1/v0として示した。結果を表2に示す。なお、評価基準は下記の通りである。1及び2が実用上問題のないレベルである。1:粘度の変化率が103未満2:粘度の変化率が103以上107未満3:粘度の変化率が107以上111未満4:粘度の変化率が111以上表2に示されるように、各実施例の感光性樹脂組成物は、比誘電率、耐薬品性、及び、保存安定性の全てにおいて実用上問題なく優れた性能を示すことがわかった。一方、各比較例の感光性樹脂組成物は、比誘電率、及び耐薬品性の少なくともいずれかが劣り、保存安定性も不十分である結果となった。実施例38薄膜トランジスターTFTを用いた有機EL表示装置を以下の方法で作製した図1参照。ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3を形成した。次に、この絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmを絶縁膜3上に形成した。この配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。更に、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上へ平坦化膜4を形成した。絶縁膜3上への平坦化膜4の形成は、実施例5の感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク90°C×2分した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてi線365nmを45mJ/cm2照度20mW/cm2照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、230°Cで60分間の加熱処理を行った。感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。更に、配線2の平均段差は500nm、作製した平坦化膜4の膜厚は2,000nmであった。次に、得られた平坦化膜4上に、ボトムエミッション型の有機EL素子を形成した。まず、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5を、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ITOエッチャント用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液リムーバ100、AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用いて該レジストパターンを50°Cで剥離した。こうして得られた第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。次に、第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8を形成した。絶縁膜8には、実施例5の感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で形成した。この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。更に、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成した。得られた上記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。以上のようにして、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続してなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機EL表示装置であることが分かった。実施例39特許第3321003号公報の図1に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、層間絶縁膜として硬化膜17を以下のようにして形成し、実施例39の液晶表示装置を得た。すなわち、実施例5の感光性樹脂組成物を用い、上記実施例38における有機EL表示装置の平坦化膜4の形成方法と同様の方法で、層間絶縁膜として硬化膜17を形成した。得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることが分かった。実施例40特開2008-146004号公報の図2に記載の液晶表示装置において、保護膜141を実施例5の組成物を用いて形成し、実施例39の液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることがわかった。実施例41特開2000-267073号公報の図1に記載の液晶表示装置において、オーバーコート15を実施例5の組成物を用いて形成し、実施例41の液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることがわかった。"