"主流粒子を含む気流に対して、その主流粒子の衝突で摩耗する物体面を保護するための摩耗抑制方法において、前記気流に対して前記物体面の上流側に導入粒子を導入する導入ノズルを設け、その導入ノズルから導入粒子を導入して前記主流粒子と衝突させ、前記物体面に衝突する主流粒子の衝突エネルギを減じ、前記物体面の摩耗を抑制することを特徴とする摩耗抑制方法。前記導入粒子は、前記気流の上流側に向けて導入される請求項1記載の摩耗制御方法。前記導入粒子は、球形である請求項1又は2記載の摩耗制御方法。前記導入粒子は、融点が前記主流粒子よりも高い請求項1~3いずれか記載の摩耗制御方法。主流粒子を含む気流に対して、その主流粒子の衝突で摩耗する物体面を保護するための摩耗抑制装置において、前記気流に対して前記物体面の上流側に導入粒子を導入する導入ノズルと、前記導入ノズルに前記導入粒子を含む気流を供給する導入流供給部と、を設け、前記導入ノズルから導入粒子を導入して前記主流粒子と衝突させ、前記物体面に衝突する主流粒子の衝突エネルギを減じ、前記物体面の摩耗を抑制するように構成したことを特徴とする摩耗抑制装置。しかしながら特許文献1の方法は、気化した冷却剤で構造材の表面に冷却ガス層を形成する方法であり、伝熱管などの高い熱伝達が求められる部材には適用することができない。また、固体粒子には大きな慣性力が生じるため、構造材表面を冷却ガス層で被覆しても、配管のコーナー部などにおいては固体粒子の速度を十分に低下させることができず、構造材表面の摩耗を十分には抑制できなかった。また、非特許文献1のセルフライニングの手法においても、粉体層は熱抵抗となるので、伝熱管などには適用することができない。特に、石炭燃焼灰などを扱う場合には、融点付近の高温環境になると灰粒子の溶融が起こって伝熱管などに付着堆積するため、更なる熱伝達の低下や閉塞トラブルに至ることもある。さらには、低温環境であっても、既存の粉体層に対して、湿った固体粒子が飛来する場合にはやはり付着成長が進行し、やがては閉塞に至る可能性がある。したがって、セルフライニングの適用条件は、非伝熱面であって、なおかつ、飛来粒子が乾燥していて、さらに粒子の融点より低い温度環境にて使用する場合に限られる。本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、セルフライニングを適用できない伝熱管などにも適用でき、気流中の固体粒子による物体面の摩耗を抑制できる摩耗抑制方法及び摩耗抑制装置を提供することを目的とする。上記目的を達成するために創案された本発明は、主流粒子を含む気流に対して、その主流粒子の衝突で摩耗する物体面を保護するための摩耗抑制方法において、前記気流に対して前記物体面の上流側に導入粒子を導入する導入ノズルを設け、その導入ノズルから導入粒子を導入して前記主流粒子と衝突させ、前記物体面に衝突する主流粒子の衝突エネルギを減じ、前記物体面の摩耗を抑制する摩耗抑制方法である。前記導入粒子は、前記気流の上流側に向けて導入されると良い。前記導入粒子は、球形であると良い。前記導入粒子は、融点が前記主流粒子よりも高いと良い。また本発明は、主流粒子を含む気流に対して、その主流粒子の衝突で摩耗する物体面を保護するための摩耗抑制装置において、前記気流に対して前記物体面の上流側に導入粒子を導入する導入ノズルと、前記導入ノズルに前記導入粒子を含む気流を供給する導入流供給部と、を設け、前記導入ノズルから導入粒子を導入して前記主流粒子と衝突させ、前記物体面に衝突する主流粒子の衝突エネルギを減じ、前記物体面の摩耗を抑制するように構成した摩耗抑制装置である。本発明によれば、セルフライニングを適用できない伝熱管などにも適用でき、気流中の固体粒子による物体面の摩耗を抑制できる。以下、本発明の一実施の形態について図面に基づき説明する。図1は、本実施の形態に係る摩耗抑制方法を実施するための摩耗制御装置の構成を示す図である。ここでは、一例として、主流粒子1を含む気流以下、主流ともいうを通す配管2のコーナー部の摩耗を抑制する場合を説明する。この場合、図1にハッチングで示される位置、すなわち配管2のコーナー部の外側に位置する内壁が、主流粒子1の衝突により摩耗される物体面3となる。図1に示すように、摩耗抑制装置100は、導入粒子4を配管2内に導入する導入ノズル5と、導入ノズル5に導入粒子4を含む気流以下、導入流ともいうを供給するための導入流供給部101と、を設けたものである。本実施の形態では、導入ノズル5は主流に対して物体面3の上流側に接続されると共に、主流の上流側に噴口を向けて接続され、導入粒子4が主流の上流側へ向けて導入されるようにする。摩耗抑制装置100の導入流供給部101は、導入粒子4を導入ノズル5側へ供給する粒子導入部6と、気流を導入ノズル5側へ供給する気流導入部7と、粒子導入部6および気流導入部7からの導入粒子4と気流とを混合して固気混相の導入流とし、導入流を導入ノズルへ送る混合部8と、を備える。粒子導入部6は、導入粒子4を貯留する粒子タンク9と、粒子タンク9内の導入粒子4を混合部8へ定量供給するためのスクリューフィーダ10と、を備える。なお本発明では、スクリューフィーダ10の他にテーブルフィーダやロータリーバルブなどを使用することもできる。気流導入部7は、昇圧した空気を気流として混合部8へ送るためのものであり、本実施の形態ではブロア11からなる。なお本発明ではブロア11の他にコンプレッサを使用することもできる。また気流そのものは、主流を上流側で分岐させて昇圧したものを用いることもでき、この場合、主流を上流側から分岐させる配管と、分岐させた主流を昇圧する昇圧手段とを備える構成とすればよい。粒子導入部6および気流導入部7から供給される導入粒子4と気流は、混合部8において混合されて固気混相の導入流となり、導入ノズル5へ送られる。導入ノズル5と混合部8は、導入配管12によって接続され、粒子導入部6のスクリューフィーダ10と混合部8は粒子供給管13で開閉弁14を介して接続される。また、気流導入部7のブロア11と混合部8は気流配管15で流量調節弁16を介して接続され、その気流配管15の流量調節弁16よりもブロア11側には、バイパス弁18を有するバイパス配管17が接続される。さらに、気流配管15の途中には、気流配管15を流れる気流の流量または流速を計測するための図示しない流量計または流速計が設けられる。導入流中の導入粒子4の濃度は、主流と干渉後の粒子体積分率が少なくとも103以上になるようにすることが好ましいつまり、導入流を導入された主流中において、主流粒子1と導入粒子4の合計の体積分率が103以上となるように、導入粒子4の体積分率を調節することが好ましい。詳しくは非特許文献2に記載されているが、気流中の固体粒子の体積分率が103未満の範囲では、固体粒子同士は平均的には干渉直接衝突しない領域となるが、体積分率が103以上の範囲では、固体粒子同士が干渉する領域となり、主流粒子1の物体面3への衝突速度を効率的に低下させることができる。一般的に、物体の摩耗量は粒子速度の2~3乗、体積分率濃度の1乗に比例するとされており、固体粒子の体積分率を増やしても、物体に衝突する固体粒子の速度を落とすことで、摩耗を抑制することができる。本発明では、導入粒子4として主流粒子1と同じ固体粒子を用いたり、異なる固体粒子を用いたりすることができる。導入粒子4は下流側の配管2に化学的物理的な悪影響を及ぼさないような材質粒径形状とすればよい。好ましくは、導入粒子4として凹凸のない形状のものを用いるとよく、さらに好ましくは、球形の粒子を用いると良い。球形の粒子は物体面上を滑りやすいことから導入粒子4自体の摩耗への寄与を小さくすることができ、また物体表面を転がりやすいため付着堆積には至りにくく、熱抵抗にもなりにくいため、好適である。さらには、導入粒子4として主流粒子1よりも融点が高い材質のものを用いると、導入粒子4の溶融によるスラッギング等を低減できるため、好適である。次に、本実施の形態に係る摩耗抑制方法について説明する。主流中に含まれる主流粒子1による物体面3の摩耗が懸念されるとき、まず、流量調整弁16を全閉、バイパス弁18を全開にした状態でブロア11を起動する。ブロア11の起動が完了した後、混合部8と流量調整弁16を接続する配管15の途中の図示しない流量計または流速計の指示値が所定値に達するまで、バイパス弁18を絞りながら流量調整弁16を開ける。次に、スクリューフィーダ10を起動すると共に開閉弁14を開弁してタンク9から導入粒子4を混合部8に向けて定量供給し、混合部8で導入粒子4と気流とを混合して固気混相の導入流とする。このとき、配管2内の圧力、主流中の主流粒子1の体積分率を基にして、導入流を導入した後の主流粒子1と導入粒子4の合計の体積分率が103以上となるように、スクリューフィーダ10からの導入粒子4の供給速度を調節すると共に、流量調節弁16およびバイパス弁18の開度を調節してブロア11からの気流の流量を調節する。他の流量調節方法として、ブロア11をインバータ制御しても良い。なお、粒子供給量の調整にはスクリューフィーダ10をインバータ制御するなどの方法がある。配管2に接続された導入ノズル5へ混合部8から導入流を送り、その導入流を導入ノズル5から配管2内へ導入する。配管2に導入された導入流中の導入粒子4は、主流中の主流粒子1と衝突し、主流粒子1の物体面3への衝突速度を低下させ、物体面3への衝突エネルギを減じて物体面3の摩耗を抑制する。その後、導入粒子4は主流粒子1と共に気流に対して下流側に移動する。なお、主流粒子1の運動エネルギを殺ぐ役割を果たすのは導入流中の導入粒子4だけにとどまらない。導入粒子4とともに導入される気流も、好適には主流と対向して導入されるので主流粒子1の運動エネルギを減少させることができる。同時に、この導入流気流と導入粒子4は主流中の気流速度も減少させるので、主流中の気流速度の減少に伴って、気流に同伴する主流粒子1も気流の粘性によって速度が低下する。その結果、速度が落ちた主流粒子1が物体面3に到達しても、物体面3への衝突エネルギは低下しているので、物体面3の摩耗は抑制されることになる。つまり本発明は、主流粒子1と導入粒子4の干渉だけでなく、主流粒子1と導入流中の気流の干渉、導入粒子4と主流中の気流の干渉、主流および導入流中の気流同士の干渉を利用して、物体面3の摩耗を抑制することに特徴を有する摩耗抑制方法である。なお、導入粒子4として凹凸の少ない球形のものを用いると、主流粒子1と衝突した後に物体面3へ到達しても、物体面3上を滑りやすいので、導入粒子4自体の摩耗への寄与を小さくできると共に、物体面3への付着堆積を抑制できる。また、主流粒子1よりも融点の高いものより望ましくは、気流あるいは物体面3の表面温度よりも融点の高いものを用いると、導入粒子4自体の溶融や、主流粒子1の溶融によるスラッギングを防止できる。主流粒子1の融点よりも温度の低い導入流を導入する場合には、主流粒子1が物体面3に衝突するまでに、導入流との対流熱伝達によって、主流粒子1の温度が融点以下に低下するので、主流粒子1が溶融状態のまま物体面3上に到達することを防止でき、スラッギング等の障害も抑制できる。また、低温環境下で、湿った粒子が飛来する場合でも、導入流中の気流との対流熱伝達によって、主流粒子1の脱水乾燥が進行するので、物体面3への付着成長を抑制することができる。主流中の主流粒子1の体積分率濃度が低くなるなどして、物体面3の摩耗の懸念が低下したときには、バイパス弁18を開弁しながら開閉弁14および流量調節弁16を閉弁して導入ノズル5側への導入流の供給を停止し、しかる後にブロア11を停止して、摩耗抑制装置100の運転を終了する。以上要するに、本発明の摩耗抑制方法では、主流中の主流粒子の衝突により摩耗する物体面3の摩耗を抑制すべく、主流に対して上流側に導入粒子4を導入する導入ノズル5を設け、導入ノズル5から導入された導入粒子4を主流粒子1に衝突させて主流粒子1の物体面3への衝突エネルギを減じ、物体面3の摩耗を抑制している。本発明によれば、固体粒子である導入粒子を衝突させて主流粒子の物体面への衝突速度を低下させるので、従来用いられてきた気流ガスのみによる主流の流速を低減させる方法に比して、主流粒子の減速効果クッション効果が大きく、物体面の摩耗をより抑制することができる。また、主流粒子や導入粒子を物体面に付着堆積させることがないので、熱伝達の抵抗になりにくく、セルフライニングを適用できない伝熱管にも適用できる。なお、上記実施の形態では固体粒子を含む気流が流れる配管2のコーナー部に摩耗抑制装置100を設けて物体面3の摩耗を抑制する方法について説明したが、本発明は固気混相の気流が流れる流路全般に対して適用可能である。例えば図2aに示すような、横置きした多数の伝熱管21を有するダクト20においては、主流粒子1による伝熱管21表面の摩耗を抑制するために、主流に対して伝熱管21の上流側のダクト20に導入ノズル5を接続し、導入粒子4を主流粒子1に衝突させるような構成とすることができる。ここでは、主流に対して上流側に位置する伝熱管21の表面部分が、主流粒子1の衝突により摩耗する物体面3となる。図2aでは、配管内で広範囲に配置されている多数の伝熱管21を主流粒子1による摩耗から保護するために、2つの導入ノズルがダクト20の両側に対称に設けられている。このように、本発明では複数の導入ノズル5を設けることで、広範囲で主流粒子1による摩耗を抑制することができる。また、図2bに示すような、固気混相の主流を主流粒子1とガスとに分離するためのサイクロン22においても、導入ノズル5を設けて導入粒子4を主流粒子1に衝突させるように構成することができる。これら図2a,bに示すような構成においても、本発明に係る摩耗抑制方法は主流粒子1の衝突による摩耗を効果的に抑制することができる。本発明は上記実施の形態に限られるものではなく、種々の変更が可能である。例えば、主流粒子1によって摩耗される部位が配管2の中央に位置するような場合には、導入ノズル5の噴口を配管2の中央に配置するなど、摩耗する部位の位置に合わせて導入ノズル5の配置を適宜変更することなどが可能である。また、導入ノズル5を主流の下流側に向けて傾斜して接続し、主流の下流側に向けて導入粒子4を導入するようにしてもよい。主流粒子1の減速効果の観点からは、導入粒子4の導入方向を主流の上流側に向けることが好ましいが、下流側に向けて導入粒子4を導入しても、導入粒子4の速度を主流粒子1より遅くすれば、導入粒子4が主流粒子1に衝突する際に、主流粒子1の速度を減少させるので、物体面の摩耗を抑制することができる。さらに、導入流による主流の温度低下が問題となるような場合には、導入流を昇温するためのヒータや熱交換機構を設けてもよい。"