"基板を所定方向に搬送する基板搬送機構と、パターンを形成した複数のマスクをそれぞれ保持し、前記所定方向と交差する方向に配置される複数のマスク保持部と、前記各マスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、前記複数のマスク保持部の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備え、前記所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であって、前記基板搬送機構は、内面に半球形状の軌道面が形成された半球状凹部を備える本体と、一部が前記半球状凹部の開口部から突出した状態で前記半球状凹部に回動自在に収容される大径の主ボールと、前記軌道面と前記主ボールとの間に介在し、転動自在に配設された複数の転動ボールと、前記複数の転動ボールとともに、前記軌道面と前記主ボールとの間に介在し、前記転動ボールより小径の複数のスペーサボールと、をそれぞれ有する複数の転動装置を平面状に分散して配設することで構成されることを特徴とする近接スキャン露光装置。前記主ボールは、樹脂材料で形成されることを特徴とする請求項1に記載の近接スキャン露光装置。内面に半球形状の軌道面が形成された半球状凹部を備える本体と、一部が前記半球状凹部の開口部から突出した状態で前記半球状凹部に回動自在に収容される大径の主ボールと、前記軌道面と前記主ボールとの間に介在し、転動自在に配設された複数の転動ボールと、前記複数の転動ボールとともに、前記軌道面と前記主ボールとの間に介在し、前記転動ボールより小径の複数のスペーサボールと、を有することを特徴とする転動装置。しかしながら、特許文献1及び2に開示されているガイド軸受100は、図8に示すように、自転ボール102が回転すると、凹部104aの内面と、自転ボール102との間に狭持された複数の転動ボール103は、全て同じ方向に回転する。このため、転動ボール103同士が接触する接触面では、転動ボール103の周速の2倍で擦れ合い、接触面が摩耗して摩耗粉が発生する。このような摩耗粉発生の可能性を有するガイド軸受100を近接スキャン露光装置の基板搬送機構に用いると、搬送中に摩耗粉が基板に付着して露光ムラなどが生じ、露光精度に悪影響を及ぼす虞があった。また、特許文献3は、スペーサボールによってアンバランス荷重の支持を安定して行うものであるが、基板を搬送する機構とは全く異なる発明である。本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、摩耗粉の発生が抑制され、清浄な状態で基板を搬送することができる転動装置及びそれを備えた近接スキャン露光装置を提供することにある。本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。1基板を所定方向に搬送する基板搬送機構と、パターンを形成した複数のマスクをそれぞれ保持し、前記所定方向と交差する方向に配置される複数のマスク保持部と、前記各マスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、前記複数のマスク保持部の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備え、前記所定方向に搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射し、前記基板に前記複数のマスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置であって、前記基板搬送機構は、内面に半球形状の軌道面が形成された半球状凹部を備える本体と、一部が前記半球状凹部の開口部から突出した状態で前記半球状凹部に回動自在に収容される大径の主ボールと、前記軌道面と前記主ボールとの間に介在し、転動自在に配設された複数の転動ボールと、前記複数の転動ボールとともに、前記軌道面と前記主ボールとの間に介在し、前記転動ボールより小径の複数のスペーサボールと、をそれぞれ有する複数の転動装置を平面状に分散して配設することで構成されることを特徴とする近接スキャン露光装置。2前記主ボールは、樹脂材料で形成されることを特徴とする上記1に記載の近接スキャン露光装置。3内面に半球形状の軌道面が形成された半球状凹部を備える本体と、一部が前記半球状凹部の開口部から突出した状態で前記半球状凹部に回動自在に収容される大径の主ボールと、前記軌道面と前記主ボールとの間に介在し、転動自在に配設された複数の転動ボールと、前記複数の転動ボールとともに、前記軌道面と前記主ボールとの間に介在し、前記転動ボールより小径の複数のスペーサボールと、を有することを特徴とする転動装置。本発明の近接スキャン露光装置によれば、基板搬送機構は、内面に半球形状の軌道面が形成された半球状凹部を備える本体と、半球状凹部に回動自在に収容されて一部が開口部から突出する大径の主ボールと、軌道面と主ボールとの間に転動自在に介在する複数の転動ボールと、複数の転動ボールとともに軌道面と主ボールとの間に介在し、転動ボールより小径の複数のスペーサボールと、を備える複数の転動装置が、平面状に分散して配設されることで構成されるので、基板搬送による転動装置からの摩耗粉発生が防止され、摩耗粉が基板に付着することなく、清浄な状態で主ボール上に載置した基板を滑らかに搬送することができる。これにより、基板に付着する摩耗粉による露光精度の影響を防止できる。また、本発明の転動装置によれば、内面に半球形状の軌道面が形成された半球状凹部を備える本体と、半球状凹部に回動自在に収容されて一部が開口部から突出する大径の主ボールと、軌道面と主ボールとの間に転動自在に介在する複数の転動ボールと、複数の転動ボールとともに軌道面と主ボールとの間に介在し、転動ボールより小径の複数のスペーサボールと、を備えるので、基板の移動による転動装置からの摩耗粉発生が防止され、摩耗粉が基板に付着することなく、清浄な状態で主ボール上に載置した基板を支持することができる。先ず、本実施形態の近接スキャン露光装置1の構成について概略説明する。図1及び図2に示すように、本実施形態のスキャン露光装置1は、基板カラーフィルタ基板Wを支持して所定方向図1のX方向に搬送する基板搬送機構10と、複数のマスクMをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向図1のY方向に沿って千鳥状に二列配置された複数図1に示す実施形態において、左右それぞれ6個のマスク保持部11と、マスク保持部11を駆動するマスク駆動部12と、複数のマスク保持部11の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部14と、スキャン露光装置1の各作動部分の動きを制御する制御部15と、を主に備える。基板搬送機構10は、基板WをX方向に搬送する領域、即ち、複数のマスク保持部11の下方領域に配設された浮上ユニット13と、及びその下方領域からX方向両側に亘る領域に設けられた複数の転動装置20と、を有する搬送テーブル16と、基板WのY方向一側図1において上辺を保持してX方向に搬送する基板駆動ユニット17とを備える。浮上ユニット13は、フレーム19上に設けられた複数の排気エアパッド29及び吸排気エアパッド30を備え、ポンプ図示せずやソレノイドバルブ図示せずを介して排気エアパッド29や吸排気エアパッド30からエアを排気或いは、吸排気して、基板Wを浮上させて支持する。また、図3にも示すように、複数の転動装置20は、X方向に沿って延びるようにフレーム19に設けられた複数の支持部材21にそれぞれ締結固定され、X方向及びY方向に適切な間隔で平面状に分散して配設されている。また、基板駆動ユニット17は、転動装置20及び浮上ユニット13によって支持された基板Wの一端を保持する吸着パッド22を備え、モータ23、ボールねじ24、及びナット図示せずからなるボールねじ機構25によって、ガイドレール26に沿って基板WをX方向に搬送する。なお、図2に示すように、複数のフレーム19は、地面にレベルブロック18を介して設置された装置ベース27上に他のレベルブロック28を介して配置されている。また、基板Wは、ボールねじ機構25の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。マスク駆動部12は、フレーム図示せずに取り付けられ、マスク保持部11をX方向に沿って駆動するX方向駆動部31と、X方向駆動部31の先端に取り付けられ、マスク保持部11をY方向に沿って駆動するY方向駆動部32と、Y方向駆動部32の先端に取り付けられ、マスク保持部11をθ方向X,Y方向からなる水平面の法線回りに回転駆動するθ方向駆動部33と、θ方向駆動部33の先端に取り付けられ、マスク保持部11をZ方向X,Y方向からなる水平面の鉛直方向に駆動するZ方向駆動部34と、を有する。これにより、Z方向駆動部34の先端に取り付けられたマスク保持部11は、マスク駆動部12によってX,Y,Z,θ方向に駆動可能である。なお、X,Y,θ,Z方向駆動部31,32,33,34の配置の順序は、適宜変更可能である。また、マスク駆動部12は、Z方向のチルト機構をさらに有してもよい。また、図1に示すように、千鳥状に二列配置された搬入側及び搬出側マスク保持部11a,11b間には、各マスク保持部11a,11bのマスクMを同時に交換可能なマスクチェンジャ2が配設されている。マスクチェンジャ2により搬送される使用済み或いは未使用のマスクMは、マスクストッカ3,4との間でローダー5により受け渡しが行われる。なお、マスクストッカ3,4とマスクチェンジャ2とで受け渡しが行われる間にマスクプリアライメント機構図示せずによってマスクMのプリアライメントが行われる。図2に示すように、マスク保持部11の上部に配置される照射部14は、光源6、ミラー7、オプチカルインテグレータ図示せず、シャッター図示せず等を備える。光源6としては、紫外線を含んだ露光用光ELを放射する、例えば超高圧水銀ランプ、キセノンランプ又は紫外線発光レーザが使用される。このような近接スキャン露光装置1は、複数の転動装置20に載置される基板Wの一端を、基板駆動ユニット17の吸着パッド22で吸着し、基板駆動ユニット17のボールねじ機構25を駆動することで、基板WをX方向に搬送する。そして、エアパッド29,30上でマスク保持部11の下方に位置する基板Wに対して、照射部14からの露光用光ELがマスクMを介して照射され、マスクMのパターンを基板Wに塗布されたカラーレジストに転写する。ここで、本実施形態の基板搬送機構10を構成する各転動装置20は、図4及び図5に示すように、本体41と、蓋体42と、大径の主ボール43と、複数の転動ボール44と、複数のスペーサボール45と、を有する。本体41は、上方に開口する半球状凹部46が形成され、半球状凹部46の開口端側には、開口部46aが形成されている。半球状凹部46の内面には、開口部46aより下方部分に半球形状の軌道面47が形成されている。軌道面47の曲率半径は、主ボール43の半径と転動ボール44の直径との和と略同じ大きさに設定されている。また、図4に示すように、本体41の下部には、支持部材21に締結するための雄ねじ部49が設けられている。蓋体42は、中央に貫通孔48が設けられて、半球状凹部46の開口側に固定されている。主ボール43は、その一部が蓋体42の貫通孔48から上方から突出した状態で半球状凹部46に回動自在に収容され、蓋体42により半球状凹部46からの抜け出しが防止されている。複数の転動ボール44は、本体41の軌道面47と、主ボール43との間に介在して転動自在に配設され、蓋体42によって半球状凹部46からの脱落が阻止されている。転動ボール44は、主ボール43と軌道面47とに同時に接触しており、主ボール43の動きに応じて軌道面47に案内されて任意方向に転動可能である。複数のスペーサボール45は、転動ボール44より僅かに小径に形成されて、転動ボール44と共に本体41の軌道面47と主ボール43との間に転動自在に介在する。複数のスペーサボール45は、複数の転動ボール44同士ができるだけ接触しないように、転動ボール44間に介在する。スペーサボール45の直径は、転動ボール44の直径より、例えば、0.01~0.1mm程度小さく形成されている。スペーサボール45と転動ボール44との直径差が0.01mmより小さいと、スペーサボール45が主ボール43と接触し、転動ボール44同士の接触を防止するスペーサボール45としての効果が十分に発揮できない。また、スペーサボール45と転動ボール44との直径差が0.1mmより大きいと、接触しながら転動する転動ボール44との周速差が大きくなり、スペーサボール45と転動ボール44との接触部で滑りが発生する虞がある。主ボール43は、基板Wの損傷を防止するため、樹脂材料で形成されている。適用可能な樹脂材料としては、HDPE、UHMWPE、ポリアミド6、ポリアミド66、ポリアミド11、PTFE、PBT、POM、PES、PSf、ポリアリレート、PPS、PEEK、ポリメタフェニレンイソフタルアミド、ポリプロメリトイミド、PAI、ポリエーテルイミド、ポリアミノビスマレイミ、などが例示される。また、主ボール43及び蓋体42の色は特に限定されないが、反射光による露光への影響を抑制するため、光を吸収可能な黒色とするのが好ましい。また、転動ボール44及びスペーサボール45の材料としては、金属、セラミック、樹脂が使用可能である。金属としては、例えば、JIS規格SUJ2浸炭窒化処理を施したもの、SUS440C、SCr420、SNCM420、SNCM815、SPCC、S25C、などがある。また、セラミックとしては、窒化ケイ素、炭化ケイ素、アルミナ、部分安定化ジルコニア、などであり、樹脂としては、主ボール43と同じ材料が使用可能である。本体41の材料としては、転動ボール44及びスペーサボール45と同じ金属、セラミック、樹脂材料が使用可能であり、軌道面47には、摩耗防止のため、クロムメッキDFO、金メッキ、アルミニウムの陽極酸化被膜タフラム、ニッケルメッキ、ニッケルクロームメッキなどを施すことが望ましい。なお、蓋体42も、本体41の材料と同じ材料メッキを施す点を除いてを使用することができ、基板Wの損傷を防止するためには、樹脂材料を使用することが好ましい。これにより、図4に示すように、転動装置20の半球状凹部46に回動自在に収容される主ボール43は、基板Wの搬送に伴って回動する。このとき、本体41の軌道面47と、主ボール43との間に転動自在に介在する転動ボール44は、接触する主ボール43の動きに応じて軌道面47に案内されて任意方向に転動移動する。そして、転動ボール44が開口部46aにまで移動すると、主ボール43との接触がなくなるので、図5bの波線矢印で示すように、半球状凹部46の底部側に戻る。図6に示すように、主ボール43が反時計方向に回転すると、軌道面47と主ボール43との間に介在する転動ボール44は、全ての転動ボール44が時計方向に回動する。一方、隣接する転動ボール44間に接触して介在するスペーサボール45は、小径であるため主ボール43と軌道面47との両方に接触しておらず、接触する転動ボール44の回転に伴って反時計方向に回転する。このように、転動ボール44と、これに接触するスペーサボール45とが、互いに反対方向に回転することで、転動ボール44及びスペーサボール45間に滑りが生じることはない。従って、転動ボール44より僅かに小径のスペーサボール45を、転動ボール44と共に軌道面47と主ボール43との間に介在させることにより、転動ボール44同士が接触する転動ボール44の数を従来より少なくして、転動ボール44同士の滑りによる摩耗粉の発生を防止することができ、これにより、転動装置20の耐久性が向上する。従って、このような転動装置20を、近接スキャン露光装置1の基板搬送機構10に適用すれば、摩耗粉が基板Wに付着することによる露光精度への悪影響が排除される。以上説明したように、本実施形態の近接スキャン露光装置1によれば、基板搬送機構10は、内面に半球形状の軌道面47が形成された半球状凹部46を備える本体41と、半球状凹部46に回動自在に収容されて一部が開口部46aから突出する大径の主ボール43と、軌道面47と主ボール43との間に転動自在に介在する複数の転動ボール44と、複数の転動ボール44とともに軌道面47と主ボール43との間に介在し、転動ボール44より小径の複数のスペーサボール45と、をそれぞれ有する複数の転動装置20を平面状に分散して配設することで構成されるので、基板搬送による転動装置20からの摩耗粉発生が防止され、摩耗粉が基板Wに付着することのない清浄な状態で主ボール43上に載置した基板Wを滑らかに搬送することができる。また、これにより、基板Wに付着する摩耗粉による露光精度への影響を防止できる。尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良等が可能である。本実施形態では、複数のマスクMは、Y方向に沿って千鳥状に二列配置されているが、これに限定されず、複数のマスクMは、Y方向に沿って一列配置とし、マスクMまたは基板WをY方向に移動させて、基板をX方向に往復させて露光するようにしてもよい。例えば、上記実施形態では、近接スキャン露光装置の基板搬送機構に適用された例について説明したが、これに限定されず、例えば、各種半導体製造装置の搬送機構など、摩耗粉の付着が問題になる搬送機構にも使用することができ、塵埃発生が少なく、耐摩耗性に優れた搬送機構を構築することができる。また、本発明の転動装置は、露光装置に限定されるものでなく、下面が平面状の部材を支持する支持部材としても適用可能であり、例えば、工作機械のワークを支持する支持部材としても適用可能である。"