"互いに交差する第1軸、第2軸及び第3軸に沿って物体を移動させるステージ装置であって、第1部材と、前記第1軸に沿って前記第1部材を移動させる第1移動装置と、前記物体を保持する第2部材と、前記第1軸、前記第2軸及び前記第3軸に沿って、前記第1部材に対して前記第2部材を移動させる第2移動装置と、前記第1部材に設けられて、前記第2部材を、該第2部材が前記第1部材に対して前記第1軸及び前記第2軸に沿った方向に移動可能に支持するベアリング部材と、を有し、前記第2移動装置は、コイル部材と該コイル部材と協働して前記第2部材を前記第1部材に対して前記第3軸に沿って移動させる駆動力を発生させる磁性部材とを有し、前記コイル部材と前記磁性部材とが前記第1部材に設けられていることを特徴とするステージ装置。前記第2移動装置は、少なくとも4自由度に前記第2部材を移動させる請求項1に記載のステージ装置。前記第2移動装置は、少なくとも6自由度に前記第2部材を移動させる請求項1に記載のステージ装置。前記第2移動装置は、前記第3軸に沿った方向に前記第1部材と相対的に前記第2部材を移動させるZ駆動機を有し、前記ベアリング部材は、前記Z駆動機に対して前記第2部材を支持する請求項1から3のうちのいずれか一項に記載のステージ装置。前記Z駆動機は、Zハウジングと、Z移動体と、前記Zハウジングに対してZ移動体が傾くのを許容する接続部とを有し、前記ベアリング部材は、前記Z移動体に対して前記第2部材を支持する請求項4に記載のステージ装置。前記第2移動装置は、前記第3軸に沿った方向、前記第1軸周りの方向、及び前記第2軸周りの方向に、前記第1部材と相対的に前記第2部材を移動させる3つの離間したZ駆動機を有し、前記ベアリング部材は、前記Z駆動機に対して前記第2部材を支持する請求項1から3のうちのいずれか一項に記載のステージ装置。前記各Z駆動機は、Zハウジングと、Z移動体と、前記第1軸周りの方向及び前記第2軸周りの方向に前記Zハウジングと相対的に前記Z移動体が移動するのを許容する接続部とを有し、前記ベアリング部材は、前記Z移動体に対して前記第2部材を支持する請求項6に記載のステージ装置。前記第2移動装置は、前記第1軸に沿った方向に前記第2部材を移動させる第1駆動機と、前記第2軸に沿った方向に前記第2部材を移動させる第2駆動機とを有し、前記第1駆動機および前記第2駆動機は、第1駆動用部品と、前記第1駆動用部品と相互作用して動きを起こす第2駆動用部品とを有し、前記第1及び第2駆動機の前記第1駆動用部品が前記第1部材に連結され、前記第1及び第2駆動機の前記第2駆動用部品が前記第2部材に連結されている請求項1から7のうちのいずれか一項に記載のステージ装置。前記第1及び第2駆動機の前記第2駆動用部品が選択的に前記第2部材に連結されている請求項8に記載のステージ装置。請求項1から9のうちのいずれか一項に記載のステージ装置を有する露光装置。基板を用意する工程と、請求項10に記載の露光装置を用いて前記基板上に像を形成する工程とを有するデバイス製造方法。ステージ構造において、地表あるいは周辺からの振動及び外乱が粗動ステージに伝わり、その後、精密ステージに伝わることがある。これは、精密ステージの位置決めエラーを引き起こす可能性がある。レチクルからウエハに転写される像の大きさや像形状は、微小である。こうしたことから、ウエハ及びレチクルの精密な位置決めは、高密度の半導体ウエハの製造にとって極めて重要である。本発明は、互いに交差する第1軸、第2軸及び第3軸に沿って物体を移動させるステージ装置に関する。ステージ装置は、第1部材と、前記第1軸に沿って前記第1部材を移動させる第1移動装置と、前記物体を保持する第2部材と、前記第1軸、前記第2軸及び前記第3軸に沿って、前記第1部材に対して前記第2部材を移動させる第2移動装置と、前記第1部材に設けられて、前記第2部材を、該第2部材が前記第1部材に対して前記第1軸及び前記第2軸に沿った方向に移動可能に支持するベアリング部材と、を有する。前記第2移動装置は、コイル部材と該コイル部材と協働して前記第2部材を前記第1部材に対して前記第3軸に沿って移動させる駆動力を発生させる磁性部材とを有し、前記コイル部材と前記磁性部材とが前記第1部材に設けられている。また、本発明に係る露光装置は、先に記載のステージ装置を有するものである。また、本発明に係るデバイス製造方法は、基板を用意する工程と、先に記載の露光装置を用いて前記基板上に像を形成する工程とを有するものである。本発明の特徴は、発明内容はもちろん、その構成及び動作のいずれも、同種の特徴が同種の部分として言及された、添付の図面及び以下の説明から最良に理解される。図1は精密機器、すなわち本発明の特徴を有する露光装置10の概略図である。露光装置10は、装置フレーム12、照明系照射装置14、光学機器16、レチクルステージ装置18、ウエハステージ装置20、測定システム22、及び制御システム24を備える。露光装置10の構成のデザインは、露光装置10の設計要求に応じて様々に変更可能である。複数の図において、X軸、X軸に直交するY軸、及び、X軸及びY軸に直交するZ軸が設定された座標系を採用している。なお、これらの軸は、第1、第2、及び第3軸としても参照される。露光装置10は、集積回路のパターン不図示を、レチクル26から半導体ウエハ200図2B参照上に転写するリソグラフィ装置として特に好ましく用いられる。露光装置10は、地面、土台、床、あるいは他の支持構造物などの、搭載ベース30に搭載されている。リソグラフィ装置としては、様々なタイプがある。例えば、露光装置10は、レチクル26とウエハ200とを同期移動させながら、レチクル26からウエハ200にパターン露光する、スキャニング型のフォトリソグラフィシステムとして用いられる。スキャニング型のリソグラフィ装置においては、レチクルステージ装置18によって光学機器16の光軸に対して垂直にレチクル26が移動され、また、ウエハステージ装置20によって光学機器16の光軸に対して垂直にウエハ200が移動される。レチクル26とウエハ200との同期移動の間に、レチクル26とウエハ200の走査が行われる。また、露光装置10は、レチクル26とウエハ200とが静止した状態で、レチクル26を露光する、ステップアンドリピート型のフォトグラフィシステムとして用いることもできる。ステップアンドリピートの工程では、1つのフィールドの露光中において、レチクル26及び光学機器16に対して一定位置にウエハ200がある。その後、連続した複数の露光ステップの間に、光学機器16の光軸に対して垂直に、ウエハステージ装置20とともに一定速度でウエハが動かされ、ウエハ200における次のフィールドが光学機器16及びレチクル26に対する露光位置に配置される。このプロセスの後、レチクル26上の像がウエハ200の前記フィールドに順次的に露光され、その後、ウエハ200の次のフィールドが光学機器16及びレチクル26に対して位置決めされる。なお、ここで提供される露光装置10の用途は、半導体製造用のフォトリソグラフィシステムに限定されない。例えば、露光装置10は、液晶ディスプレイデバイスのパターンを矩形のガラスプレートに露光するLCDフォトリソグラフィシステム、あるいは、薄膜磁気ヘッド製造用のフォトリソグラフィシステムとしても使用可能である。さらに、本発明は、レンズ機器を介することなく、マスクを基板に近づけてマスクパターンをマスクから基板に露光するプロキシミティ方式のフォトリソグラフィシステムにも適用可能である。装置フレーム12は、剛体であり、露光装置10の構成部品を支持する。図1に示す装置フレーム12は、搭載ベース30上で、レチクルステージ装置18、光学機器16、及び照明系14を支持する。照明系14は、光源32、及び照明光学機器34含む。光源32は、光エネルギーのビーム光束を発する。照明光学機器34は、光エネルギーのビームを、光源32から光学機器16に導く。ビームは、レチクル26の異なる複数の部分を選択的に照射し、ウエハ200を露光する。図1では、光源32がレチクルステージ装置18の上方に支持されているように描かれている。しかしながら、通常は、装置フレーム12の側部の1つに光源32が固定され、光源32からのエネルギービームが照明光学機器34によって上方のレチクルステージ装置18に導かれる。光源32は、g線源436nm、i線源365nm、KrFエキシマレーザ248nm、ArFエキシマレーザ193nm、あるいは、F2レーザ157nmでもよい。あるいは、光源32は、X線や電子線などの荷電粒子ビームを発してもよい。例えば、電子線を用いる場合には、電子銃の陰極カソードとして、熱電子放射型のランタンヘキサボライトLaB6、あるいは、タンタルTaを用いることができる。また、電子線を用いる場合には、マスクを用いる構成、マスクを用いずに直接ウエハ上にパターンを形成する構成、のいずれでもよい。光学機器16は、レチクル26を通過してウエハ200に向かう光を、投影及び/又は集束させる。露光装置10の設計に応じて、光学機器16は、レチクル26上の照明された像を、拡大または縮小することができる。光学機器16は、縮小システムに限定される必要はない。1倍あるいは拡大システムに対しても同様である。エキシマレーザのような遠紫外線を使用する場合には、遠紫外線を透過する石英や蛍石などのガラス材を光学機器16に用いることができる。F2タイプのレーザやX線を使用する場合には、光学機器16として反射屈折系または屈折系の光学系レチクルも反射タイプであるのが望ましいを採用することができ、また、電子線を使用する場合には、光学機器16として、電子レンズ及び偏向器からなる電子光学系を採用することができる。電子線が通過する光路は真空である必要がある。波長が200nmまたはそれ以下の真空紫外光VUVを使用する露光装置においても、反射屈折系を採用することができる。光学システムの反射屈折型の例は、日本国特開平8-171054号公報及びそれに対応する米国特許第5,668,672号明細書や、日本国特開平10-20195号公報及びそれに対応する米国特許第5,835,275号明細書に開示されている。ここで、反射光学素子としては、ビームスプリッタと凹面鏡とを有する反射屈折系を採用することができる。日本国特開平8-334695号及びそれに対応する米国特許第5,689,377号明細書、日本国特開平10-3039号公報及びこれに対応する米国特許第873,605号明細書出願日:1997年6月12日においても、ビームスプリッタを用いずに凹面鏡を有する光学系からなる反射屈折型を採用しており、本発明に適用可能である。許容される範囲内で、上記の米国特許及び日本国特許出願公開公報の開示を援用して本文の記載の一部とする。レチクルステージ装置18は、レチクル26を保持しかつ光学機器16及びウエハ200に対してレチクル26を位置決めする。ほぼ同様に、ウエハステージ装置20は、ウエハ200を保持しかつレチクル26における照明部分の投影像に対してウエハ200を位置決めする。さらに、フォトリソグラフィシステムにおいて、ウエハステージやマスクステージにリニアモータUSP5623853またはUSP5528118参照を用いる場合は、リニアモータとして、エアベアリングを用いたエア浮上型、又はローレンツ力又はリアクタンス力を用いた磁気浮上型のいずれを用いてもよい。許容される範囲内で、上記の米国特許第5,623,853号及び第5,528,118号の開示を援用して本文の記載の一部とする。また、二次元に磁石を配置した磁石ユニットと、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとが対向した平面モータによって、ステージの1つを駆動することができる。この種の駆動システムでは、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方がステージに接続され、他方のユニットがステージの移動面上に搭載される。上記のようなステージの動きは、フォトグラフィシステムの性能に影響を及ぼす反力を発生させる可能性がある。ウエハ基板ステージの移動により発生する反力は、米国特許第5,528,110号及び日本国特開平8-136475号公報に記載されているような、フレーム部材を用いて機械的に床大地に逃がすことが可能である。また、レチクルマスクステージの移動により発生する反力は、米国特許第5,874,820号及び日本国特開平8-330224号公報に記載されているような、フレーム部材を用いて機械的に大地に逃がすことが可能である。許容される範囲内において、上記の米国特許第5,528,110号、第5,874,820号、及び日本国特開平8-330224号公報の開示を援用して本文の記載の一部とする。測定システム22は、光学機器16あるいは他の基準に対するレチクル26及びウエハ200の移動をモニターする。この情報によって、制御システム24は、レチクルステージ装置18を制御してレチクル26を精確に位置決めすることができ、また、及びウエハステージ装置20を制御してウエハ200を精確に位置決めすることができる。例えば、測定システム22は、複数のレーザ干渉計、エンコーダ、及び/又は他の測定装置を利用することができる。制御システム24は、レチクルステージ装置18、ウエハステージ装置20、及び測定システム22に接続されている。制御システム24は、測定システム22から情報を受け取り、ステージ移動装置18,20を制御してレチクル26及びウエハ200を精確に位置決めする。制御システム24は、少なくとも1つのプロセッサ及び回路を含む構成にできる。ここに記載される実施形態に係るフォトリソグラフィシステム露光装置は、添付の特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造することができる。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、すべての光学系について、光学的精度を達成するための調整が行われる。同様に、すべての機械系及び電気系について、機械的精度及び電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムからフォトリソグラフィシステムへの組み立て工程は、各サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、及び気圧回路の配管接続等を含む。この各種サブシステムからフォトリソグラフィシステムへの組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムを用いてフォトリソグラフィシステムが組み立てられると、フォトリソグラフィシステム全体としての各種精度を確保するための、総合調整が行われる。なお、露光システムの製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルーム内で行うことが望ましい。図2Aは、制御システム224の模式図であり、ワークピース200図2B参照の位置決めに用いるステージ装置220の一実施形態の側面図である。例えば、ステージ装置220は、図1の露光装置10におけるウエハステージ装置20として使用することができる。本実施形態において、ステージ装置220は、半導体ウエハ200の製造中に、ウエハ200図2B参照を位置決めするものとする。なお、ステージ装置220は、製造及び/又は検査中の他のワークピース200の移動や、電子顕微鏡におけるデバイスの移動不図示、あるいは、精密な測定作業中のデバイスの移動不図示にも使用することができる。例えば、ステージ装置220は、レチクルステージ装置18として機能するように設計されてもよい。本実施形態において、ステージ装置220は、ステージベース236と、第1ステージ238と、第2ステージ240と、第1移動装置242と、第2移動装置244とを有する。これらの要素のサイズ、形状、及びデザインはそれぞれ、様々に変更可能である。制御システム224は、ワークピース200を精確に位置決めするために、移動装置242,244を精密に制御する。図2Aにおいて、ステージベース236は、ステージ装置220のいくつかの構成要素を支持し、X軸に沿って、Y軸に沿って、及びZ軸周りに、第1ステージ238の移動を案内する。本実施形態において、ステージベース236は、概ね矩形形状である。第1ステージ238は、第2ステージ240の比較的大きな移動を促す、いわゆる粗動ステージである。一実施形態において、第1ステージ238は、第2ステージ240及び第2移動装置244を支持する。一実施形態において、第1ステージ238は、下方支持体251A、下方支持体251Aに固定された上方支持体251B、及び下方支持体251Aを支持するステージフレーム251Cを有する。図2Aにおいては、ステージベース236の上方でベアリング不図示が第1ステージ238を支持しかつ、ステージベース236に対して相対的に、X軸に沿って、Y軸に沿って、及びZ軸周りに、第1ステージ238が移動するのを許容する。ベアリングとして、例えば、真空予圧型の流体ベアリング、磁気型のベアリング、あるいはローラ型の機器が適用可能である。第2ステージ240は、ワークピース200を保持する、いわゆる精密ステージである。第2ステージ240については、後で詳述する。第1移動装置242は、ステージベース236と相対的に、第1ステージ238と、第2移動装置244の一部とを移動させる。図2Aに示す実施形態では、第1移動装置242は、3つの移動軸に対して、すなわち、X軸に沿って、Y軸に沿って、及びZ軸周りに、第1ステージ238を移動させる。また、例えば、第1移動装置242は、3未満の移動軸に対して、あるいは3を超える移動軸に対して、第1ステージ238を移動させる構成とすることもできる。第1移動装置242は、1以上の駆動機を有してもよい。図2Aにおいて、第1移動装置242は、左X粗動機246Lと、右X粗動機246Rと、Y粗動機246Y想像線で示されると、ガイドバー248とを有する。X粗動機246L,246Rは、ガイドバー248を移動させて、X軸に沿って、Z軸周りに限定された範囲内で、ガイドバー248及び第1ステージ238を移動させ、また、Y粗動機246Yは、Y軸に沿って、ガイドバー248に対して相対的に、第1ステージ238を移動させる。Z軸周りの動きは、左X粗動機246A及び右X粗動機246Rによって発生する力の量の差を制御することによって達成される。各粗動機246L,246R,246Yのデザインは、第1移動装置242の動作要求に適するように様々に変更可能である。図2Aに示す本実施形態では、各粗動機246L,246R,246Yは、第1粗動用部品250Aと、第1粗動用部品250Aと相互に作用する第2粗動用部品250Bとを有する。本実施形態において、各粗動機246L,246R,246Yは、リニアモータであり、粗動用部品250A,250Bのうちの1つが1以上の磁石を含む磁石アレイを有し、粗動用部品250B,250Aのうちの1つが1以上のコイルを含む導体アレイを有する。図2Aにおいて、各X粗動機246L,246Rの第1粗動用部品250Aが、ステージベース236に固定され、各X粗動機246L,246Rの第2粗動用部品250Bが、ガイドバー248に固定される。また、Y粗動機246Yの第1粗動用部品250Aが、ガイドバー248に固定され、Y粗動機246Yの第2粗動用部品250Bが、第1ステージ238に固定される。なお、粗動機246L,246R,246Yのうちの1以上のものが、ロータリモータ、ボイスコイルモータ、電磁駆動機、平面モータ、あるいは他の力を用いた駆動機のような、別タイプのモータであってもよい。ガイドバー248は、Y軸に沿って、第1ステージ238の移動を案内する。ガイドバー248と第1ステージ238との間に、流体ベアリングのようなベアリング不図示又は磁気タイプのベアリングが配置されてもよい。別のベアリング不図示が、Z軸に沿ってステージベース236に対して離間したガイドバー248を支持するとともに、X軸に沿って、及びZ軸周りに、ステージベース236に対するガイドバー248の移動を可能にする。こうしたベアリングとしては、例えば、真空予圧型の流体ベアリング、磁気型のベアリング、あるいはローラ型の機器が適用可能である。第2移動装置244は、第2ステージ240及びワークピース200を移動させかつ位置決めする。図2Aにおいて、第2移動装置244は、6つの移動軸に対して、すなわち、X,Y,及びZ軸に沿って、また、X,Y,及びZ軸周りに、第1ステージ238に対して相対的に第2ステージ240を移動させる。また、例えば、第2移動装置244は、6未満の移動軸に対して、第2ステージ240を移動させる構成とすることもできる。第2移動装置244は、1以上の駆動機を有してもよい。図2Bは、図2Aのステージ装置220の部分的な斜視図である。より具体的には、図2Bは、第2ステージ240と、第2移動装置244と、第1ステージ238の一部、すなわち下方支持体251A及び上方支持体251Bとを示す。図2Bはさらに、第2移動装置244の一実施形態の詳細を示す。具体的には、この実施形態では、第2移動装置244は、第1X駆動機252Fと、第2X駆動機252Sと、第1Y駆動機254Fと、第2Y駆動機254S図3Aに示すと、離間した3つのZ駆動機255図2Bでは2つのみが示されている。とを有する。X駆動機252F,252Sは、X軸に沿って第2ステージ240を移動させ、Y駆動機254F,254Sは、Y軸に沿って第2ステージ240を移動させ、Z駆動機255は、Z軸に沿って、またX及びY軸周りに、第2ステージ240を移動させる。X駆動機252F,252SとY駆動機254F,254Sとのいずれかは、Z軸周りの第2ステージ240の移動に用いることができる。各駆動機252F,252S,254F,254S,255のデザインは、第2移動装置244の動作要求に適するように様々に変更可能である。図2Bに示す本実施形態において、各駆動機252F,252S,254F,254Sは、第1駆動用部品256Aと、この第1駆動用部品256Aと相互に作用する第2駆動用部品256Bとを有する。図2Bにおいて、X及びY駆動機252F,252S,254F,254Sのそれぞれの第1駆動用部品256Aが、第1ステージ238の上方支持体251Bに固定され、X及びY駆動機252F,252S,254F,254Sのそれぞれの第2駆動用部品256Bが、第2ステージ240に固定される。本実施形態において、各駆動機252F,252S,254F,254Sに対して、駆動用部品256A,256Bの1つが、1以上の磁石を含む磁石アレイを有し、駆動用部品256B,256Aの1つが、1以上のコイルを含む導体アレイを有する。図2Bにおいて、各駆動機252F,252S,254F,254Sに対する第1駆動用部品256Aがコイルアレイを有し、各駆動機252F,252S,254F,254Sに対する第2駆動用部品256Bが磁石アレイを有する。この構成において、第2移動装置244に電力を供給する電気配線が、第2ステージ240に接続される必要はない。しかしながら、本発明は、この構成に限定されない。また、第1駆動用部品256Aがコイルアレイを有してもよく、第2駆動用部品256Bが磁石アレイを有してもよい。図2Bにおいて、各X駆動機252F,252Sは、リニアモータであり、Z駆動機255及びY駆動機254F,254Sのそれぞれは、ボイスコイルモータである。なお、駆動機252F,252S,254F,254S,255のうちの1以上のものが、ロータリモータ、電磁駆動機、平面モータ、あるいは他の力を用いた駆動機のような、別タイプのモータであってもよい。例えば、X駆動機252F,252Sのそれぞれがボイスコイルモータでもよい。図2Cは、図2Bにおける第1ステージ238の上方支持体251Bが取り外されたステージ装置220の斜視図であり、図2Dは、その側面図である。これらの図は、第1ステージ238の下方支持体251Aに連結されたZ駆動機255を示す。より具体的には、第1駆動用部品256Aが、下方支持体251Aに連結されている。同様に、第2駆動用部品256Bが、Zレバー408図4Dに示す及びZ緩衝装置410図4Dに示すを介して下方支持体251Aに連結されている。ここで、この実施形態では、図2Dに示すように、Z軸に沿って及びX及びY軸周りに関して第1ステージ238に対して相対的な、Z駆動機255を有する第2ステージ240の移動範囲にわたり、駆動用部品256A,256B同士が互いに接しないように、X及びY駆動機252F,252S,254F,254Sにおける第1駆動用部品256Aと第2駆動用部品256Bとの間に十分な隙間258がある。この実施形態では、ステージベアリング装置257矢印で示すが、第1ステージ238に対して第2ステージ240を支持する。一実施形態において、ステージベアリング装置257は、Z駆動機255に対して第2ステージ240を支持するとともに、概ねX及びY軸に沿ってかつZ軸周りに、Z駆動機255及び第1ステージ238に対して相対的な第2ステージ240の移動を可能にする。一実施形態において、ステージベアリング装置257は、流体タイプのベアリング、真空予圧型の流体ベアリング、あるいは磁気型のベアリングのような、1以上の非接触型のベアリングを有する。非接触型のベアリングを用いることにより、X及びY軸に沿った伝播性が極めて低い。換言すると、非接触型ベアリングは、第1ステージ238からの振動がX及びY軸に沿って第2ステージ240に伝わるのを抑制する。さらに、非接触ベアリングによって、第2ステージ240は、X及びY軸に沿ってかつZ軸周りに、抵抗が全く無いかそれに近い状態で移動することができる。一実施形態において、ステージベアリング装置257は、キネマティック式に第2ステージ240を支持するために、互いに離間した3つの非接触型ベアリングを有する。図3Aは、第2ステージ240と、図1の測定システム22に使用されるXミラー360X及びYミラー360Yと、第2移動装置244の一部と、ワークピース200とを上方から見た斜視図である。この実施形態において、第2ステージ240は、テーブル362と、テーブル362に固定されかつワークピース200を保持するチャック364とを有する。テーブル362は概ね矩形形状であり、テーブル362の右サイドには、突き出たネック状領域366Aが形成され、その領域366Aには、第1取付面366Bが形成されている。図3Aにおいて、各ミラー360X,360Yは、セラミック材料から作られるとともに概ねT字型の断面形状を有し、また、ミラー面と、互いに離れた3つの比較的薄い結合領域360Aとを有する。1以上の締め具360Fによって、結合領域360Aがテーブル362に取り付けられている。一実施形態において、各結合領域360Aは、ミラー面と各結合領域360Aとの間に配置された、1以上の細長いスロット360Sを有し、そのスロット360Sは、結合領域360Aに接した締め具360Fに起因する力と変形によって、それぞれのミラー360X,360Yの残りの部分が変形するのを抑制する。図3Bはミラーの1つであるXミラー360Xの斜視図であり、図3Cはその平面図、図3Dはその部分的な平面図である。これらの図は、Xミラー360Xの残りの部分から結合領域360Aを分離する1以上のスロット360Sを示す。また、これらの図は、締め具360F図3Aに示すが挿入される締め孔361Aと、締め孔361Aとスロット360Sとの間で延びる結合スロット361Bとを有する、少なくとも1つの結合領域360Aを示す。一実施形態において、結合スロット361Bは、結合領域360Aに接した締め具360Fに起因する力と変形によって、Xミラー360Xの残りの部分が変形するのを抑制する。図3Aに戻り、第1X駆動機252F及びY駆動機254F,254Sにおける第2駆動用部品256Bは、テーブル362の右サイドに固定されており、第2X駆動機252Sの第2駆動用部品256Bは、テーブル362の左サイドに固定されている。また、第1X駆動機252Fの第2駆動用部品256Bは、Y駆動機254F,254Sの第2駆動用部品256B同士の間に配置されている。この実施形態において、各第2駆動用部品256Bは、U字形状の駆動ハウジング368Aと、ハウジング368Aに固定されかつ互いに離れた一対の磁石アレイ368Bとを有する。一実施形態において、取付ブラケット368Cによって、第1X駆動機252F及びY駆動機254F,254Sの駆動ハウジング368Aがテーブル362に固定されている。一実施形態において、取付ブラケット368Cは、概ね梁形状である。図3Eは、第2ステージ240、及び第2移動装置244の一部を下から見た斜視図である。図3Eは、1つ以上のバランスウェイト370Aとテーブル362に取り付けられた1以上のストップ体370Bとを有する第2ステージ240を示している。バランスウェイト370Aは、第2ステージ240の重心不図示を調整するのに用いられる。したがって、バランスウェイト370Aの数、配置位置は、所望の重心が達成されるように様々に変更可能である。一実施形態において、1以上の締め具不図示が各バランスウェイト370A及びストップ体370Bをテーブル362に固定するために選択的に用いられる。ストップ体370Bは、第2ステージ240における安全な接触領域を形成する。この構成により、Z駆動機255図3Eでは不図示が停止したとき、第2ステージ240を支持するために、ストップ体370Bが第1ステージ238図3Eでは不図示と係合することが可能である。ストップ体370Bのデザインや数は様々に変更可能である。図3Eにおいて、第2ステージ240は、概ね矩形状の互いに離間した3つのストップ体370Bを有する。図3Eにおいて、テーブル362の左サイドには、突き出た第2のネック状領域372Aが形成され、その領域372Aには、第1取付面366Bとほぼ反対側である第2取付面372Bが形成されている。第1取付面366Bは、第1表面長さ366Cと第1表面領域とを有している。同様に、第2取付面372Bは、第2表面長さ372Cと第2表面領域とを有している。特定の構成において、表面長さ366C,372C及び表面領域は、比較的小さい。非排他的実施形態において、各表面長さ366C,372Cは、約10、20、30、40、50、あるいは100mmよりも短い。また、非排他的実施形態において、各表面領域は、約5、10、20、30、40、あるいは50cm2よりも小さい。各X駆動機252F,252Sの駆動ハウジング368Aにおける駆動側取付面368Dは、ハウジング長さ368Eと取付側面領域とを有する。非排他的実施形態において、各ハウジング長さ368Eは、約30、50、70、100、125、150、175、あるいは200mmよりも長い。また、非排他的実施形態において、各取付側面領域は、約10、20、40、50、75、あるいは100cm2よりも大きい。特定の実施形態において、第2X駆動機252Sのハウジング長さ368Eは、第2表面長さ372Cよりも長く、ハウジング側面領域は、第2取付面372Bにおける表面領域よりも大きい。非排他的実施形態において、各第2X駆動機252Sのハウジング長さ368Eは、第2表面長さ372Cに比べて、少なくとも約20、40、60、80、100、150、200、250、300、350、400、450、あるいは500長い。また、非排他的実施形態において、第2X駆動機252Sのハウジング側面領域は、第2取付面372Bの表面領域に比べて、少なくとも約20、40、60、80、100、200、300、400、500、600、700、800、900、あるいは1000大きい。この構成により、第2X駆動機252Sの第2駆動用部品256Bは、テーブル362の第2ネック状領域372Aから突き出ている。ここで、第2X駆動機252Sにおける第2駆動用部品256Bの温度変化は、第2駆動用部品256Bの長さ又は撓みの変化などの、変形を招く可能性がある。こうした温度変化は、第2X駆動機252Sのコイルからの熱、及び熱放射に起因する。第2表面長さ372Cが比較的短く、また、第2駆動用部品256Bとテーブル362の第2ネック状領域372Aとの間に間隙が形成されていることから、第2駆動用部品256Bの変形の影響が低減される。概ね同様に、取付ブラケット368Cの駆動側取付面368Fは、ブラケット長さ368Gとブラケット表面領域とを有する。非排他的実施形態において、ブラケット長さ368Gは、約50、100、150、200、250、あるいは300mmよりも長い。また、非排他的実施形態において、ブラケット表面領域は、約10、20、40、60、80、100、120、あるいは150cm2よりも大きい。特定の実施形態において、ブラケット長さ368Gは、第1取付面366Bの表面長さ366Cよりも長く、ブラケット表面領域は、第1取付面366Bの表面領域よりも大きい。非排他的実施形態において、ブラケット長さ368Gは、第1取付面366Bの表面長さ366Cに比べて、少なくとも約20、40、60、80、100、150、200、250、300、350、400、450、あるいは500長い。また、非排他的実施形態において、ブラケット表面領域は、第1取付面366Bの表面領域に比べて、少なくとも約20、40、60、80、100、200、300、400、500、600、700、800、900、あるいは1000大きい。この構成により、駆動機252F,254F,254Sの第2駆動用部品256Bを有する取付ブラケット368Cは、テーブル362の第1ネック状領域366Aから突き出ている。ここで、第1X駆動機252F及びY駆動機254F,254Sにおける第2駆動用部品256Bの温度変化は、取付ブラケット368Cの撓みなどの、変形を招く可能性がある。第1表面長さ366Cが比較的小さいことから、取付ブラケット368Cの変形の影響が低減される。一実施形態において、第2ステージ240はさらに、i取付ブラケット368Cを第1X駆動機252F及びY駆動機254F,254Sの第2駆動用部品256Bとともに第1取付面366Bに選択的に固定するための第1締結器373Aと、ii第2X駆動機252Sの駆動ハウジング368Aを第2取付面372Bに選択的に固定するための第2締結器373B想像線で示されるとを有する。図3Bにおいて、各締結器373A,373Bは、4つの締め具373Cを有し、それらは、取付面366B,372Bのそれぞれにおいて、テーブル362に選択的に螺入される。なお、各締結器373A,373Bは、4を超えるあるいは4つ未満の締め具373Cを含んでもよい。この構成により、X駆動機252F,252S及びY駆動機254F,254Sの第2駆動用部品256Bは、容易に交換可能である。これは、ステージ装置上の駆動機を異なるタイプに容易に交換可能なモジュラー型の構成を可能にする。換言すると、この構成により、第2移動装置224の駆動機の再構成が容易である。ここで、一実施形態において、第1X駆動機252Fの第2駆動用部品256Aは、第2ステージ240の重心高さより上方に配置され、第2X駆動機252Sの第2駆動用部品256Aは、第2ステージ240の重心高さより下方に配置される。また、X駆動機252F,252Sは、正味の力が第2ステージ240の重心を通るように配置される。図3Eにも示すように、テーブル362は、ステージベアリング装置257図2Dに示すと相互に作用する1以上のテーブルパッド374Aを有する。テーブルパッド374Aの数、位置、大きさや形状は、様々に変更可能である。この実施形態において、テーブル362は、互いに離間した3つのテーブルパッド374Aを有する。また、各テーブルパッド374Aは、概ね中空円盤形状であり、概ねZ駆動機255に面する平らな支持面374Bを有する。図3Fは、テーブル362の一部、及び第2移動装置244の第2駆動用部品256Bの一部を示す模式図である。この図において、テーブル362の多くの表面形状が省略されている。具体的には、この図は、テーブル362のネック状領域366A及びネック状領域372Aを強調している。また、図3Fに示すように、第1X駆動機252F及びY駆動機254F,254Sの第2駆動用部品256Bがテーブル362の右サイドに固定され、第2X駆動機252Sの第2駆動用部品256Bがテーブル362の左サイドに固定されている。取付ブラケット368Cは、第1X駆動機252F及びY駆動機254F,254Sの駆動ハウジング368Aをテーブル362に固定している。図3Fはまた、i第1取付面366Bの第1表面長さ366Cと取付ブラケット368Cのブラケット長さ368Gとの関係、及び、ii第2取付面372Bの第2表面長さ372Cと駆動側取付面368Dのハウジング長さ368Eとの関係、を強調している。図3Gは、駆動ハウジング368A及び離間した複数の磁石アレイ368Bを有する1つのX駆動機252F,252Sにおける、第2駆動用部品256Bの斜視図である。この実施形態において、各磁石アレイ368Bは、断面三角形状の複数の磁石376Bを有する。なお、駆動ハウジング368Aは、セラミック材料から構成されてもよい。図3H及び3Iはそれぞれ、テーブル362の一実施形態の分解斜視図である。この実施形態において、テーブル362は、上方第1テーブルセクション378Aと、第1テーブルセクション378Aの底に固定される中間第2テーブルセクション378Bと、第2テーブルセクション378Bの底に固定される下方第3テーブルセクション378Cとを有する。なお、テーブル362は、3未満あるいは3以上のテーブルセクションによって構成することも可能である。この構成により、テーブル362のそれらのセクションは、テーブル362の所望の特性を達成するように設計可能である。各テーブルセクション378A,378B,378Cの構成は、様々に変更可能である。図3H及び3Iにおいて、第1テーブルセクション378Aは、概ね平板状の上板380Aを有する。第2テーブルセクション378Bは、概ね平板状の中間板380Bと、横方向に延び且つ中間板380Bから上方に突き出た複数の中間壁380Cとを有する。ほぼ同様に、第3テーブルセクション378Cは、平板状の下板380Dと、横方向に延び且つ下板380Dから上方に突き出た複数の下壁380Eとを有する。壁380C,380Eの形状、配置位置や数は、テーブル362における所望の剛性、重量、振動特性が達成されるように様々に変更可能である。この実施形態において、中間壁380Cは、矩形の外形を有する周壁382Aと、同軸の筒状からなる2つの壁382Bと、内側のリングから外周に向かって放射状に延びた複数のラジアル壁382Cと、離間した3つの交差梁状の壁382Dとを有する。ほぼ同様に、この実施形態において、下壁380Eは、矩形の外形を有する周壁384Aと、同軸の筒状からなる2つの壁384Bと、内側のリングから外周に向かって放射状に延びた複数のラジアル壁384Cと、離間した3つの交差梁状の壁384Dとを有する。非排他的実施形態において、1つ以上の壁が、約1、2、5、7、10、15あるいは20mmの厚みを有する。テーブルセクション378A,378B,378Cは、接着材、締め具、溶接、ろう付け、あるいは他の適切な方法によって互いに固定される。一実施形態において、少なくとも1つのテーブルセクション378A,378B,378Cが、セラミック材料からなる。セクション378A,378B,378Cが互いに固定されることによって、テーブル362に、離間した複数の空洞が形成される。ここで、図3H及び3Iに示されたテーブル362は、非常に堅くかつ軽量のテーブル362となるように配置された複数の壁を有する箱型構造である。さらに、このテーブル362は、ワークピースの交換を促進させる開口386を有する。一実施形態において、テーブル362は、約350mm×450mm、厚さ40mmである。また、非排他的実施形態である選択肢として、テーブル362は、7、6.5、6、5.8、5.5、あるいは5kg以下の質量を有する。さらに、非排他的実施形態において、テーブル362は、少なくとも、500、600、700、800、あるいは1000Hzの一次振動数を有する。図3Jは、さらに別の実施形態のテーブル362Jを示す分解斜視図である。この実施形態において、テーブル362Jは、上方第1テーブルセクション378AJと、第1テーブルセクション378AJの底に固定される中間第2テーブルセクション378BJと、第2テーブルセクション378BJの底に固定される下方第3テーブルセクション378CJとを有する。なお、テーブル362Jは、3未満あるいは3を超えるテーブルセクションによって構成することも可能である。図3Jにおいて、第1テーブルセクション378AJは、概ね平板状の上板380AJを有する。第2テーブルセクション378BJは、概ね平板状の中間板380BJと、横方向に延び且つ中間板380BJから上方に突き出た複数の中間壁380CJとを有する。ほぼ同様に、第3テーブルセクション378CJは、平板状の下板380DJと、横方向に延び且つ下板380DJから上方に突き出た複数の下壁380EJとを有する。この実施形態において、中間壁380CJは、外周壁382AJと、筒状の内壁382BJとを有する。ほぼ同様に、この実施形態において、下壁380EJは、外周壁384AJと、筒状の内壁384BJとを有する。一実施形態において、テーブルセクション378AJ,378BJ,378CJのうちの少なくとも1つが、ハニカム型構造371J及び/又は成形材373Jを有する。図3Jにおいて、中間第2テーブルセクション378BJが、中間壁380CJの間に配置されたハニカム型構造371Jを有し、下方第3テーブルセクション378CJが、下壁380EJの間に配置された成形材373Jを有する。例えば、ハニカム型構造371Jは、アルミニウム、ダンボール、繊維強化プラスティックのような、様々な材料から構成可能な非常に複数の薄い壁を有する。例えば、成形材373Jは、ポリマー発泡体を有する。図4Aは、本発明に好ましく用いられるZ駆動機255の一実施形態の斜視図である。この実施形態において、Z駆動機255は、Z出力部400と、Zフレーム402と、Zベアリング404矢印で示すと、Z測定器406と、第1駆動用部品256Aと、第2駆動用部品256B図4Bに示すとを有する。これらの各構成要素のデザインは、Z駆動機255の設計要求に応じて様々に変更可能である。Z出力部400は、Z軸に沿って、Zフレーム402に対して相対的に移動される。一実施形態において、Z出力部400は、Zレバー408と、Z減衰器410と、Zハウジング412と、1以上のハウジング支持体414と、Z移動体416と、接続部418とを有する。図4Aにおいて、Zレバー408は、剛体であり、Zフレーム402の一部を貫通して延びている。また、Zレバー408は、第2駆動用部品256Bの一部を支持する。Z減衰器410は、Zレバー408の底に固定され、Zレバー408の底をZフレーム402に対して安定させる。一実施形態において、Z減衰器410は、Zレバー408の重量を支持し、Zレバー408がZフレーム402に対して移動するのを許容し、第1ステージ図4Aでは不図示からの振動Z軸に沿ったものを含むがZレバー408及び第2ステージ図4Aでは不図示に伝わるのを抑制する。その結果、Z駆動機255の振動伝播性が比較的低い。換言すると、Z減衰器410は、第1ステージから第2ステージに伝わるはずの振動レベルの抑制が可能である。また、非排他的実施形態である選択肢として、Z減衰器410は、第2ステージに伝わるはずの振動レベルを、少なくとも約1、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90、99、あるいは100近く抑制する。Zハウジング412は、第2駆動用部品256Bの一部を支持する。図4Aにおいて、Zハウジング412は、平らな頂部420と、筒状の円筒部422とを有する。一実施形態において、Zハウジング412は、駆動用部品256A,256Bを囲む。1以上のハウジング支持体414が、Zハウジング412をZレバー408に接続するとともに、第1駆動用部品256Aの一部がZハウジング412の下方に伸びて、Zフレーム402の上端に固定されることを可能にしている。Z移動体416は、概ね平らな円盤状であり、また、概ね平らで且つテーブル図4Aでは不図示に面する支持面424を有する。接続部418は、Z移動体416の底をZハウジング412の上端に、機械的かつフレキシブルに接続する。その結果、Z軸に沿ったZハウジング412の動きが、Z移動体416の動きとなる。接続部418のデザインは、ここで示される内容に従って様々に変更可能である。一実施形態において、接続部418は、Z移動体416とZハウジング412との間で伸びた屈曲部を有する。ここで、屈曲部は、いくつかの方向に対して比較的高い剛性を有し、他の方向に対して比較的低い剛性を有する部分を意味する。図4Aにおいて、屈曲部は、iX、Y及びZ軸、及びZ軸周りに比較的高い剛性を有し、また、iiX及びY軸周りに関して比較的柔軟である。比較的高い剛性と比較的低い剛性との比は、少なくとも約100/1であり、少なくとも約1000/1でもよい。この構成により、Z軸に沿ったZハウジング412の動きがZ軸に沿ったZ移動体416の動きとなる。一方で、接続部418は、Zハウジング412に対して相対的に、Z移動体416が傾いたり、X軸周り及びY軸周りに旋回したりすることを可能にする。なお、接続部418について、他の構成を採用することも可能である。Zフレーム402は、Z出力部400を支持して、第1駆動用部品256Aを支持する。Zフレーム402の大きさ、形状、及びデザインは、様々に変更可能である。図4Aにおいて、Zフレーム402は、概ねE字状であり、上方バーセクション426Aと、下方バーセクション426Bと、上方バーセクション426Aと下方バーセクション426Bとの間に配置される中間バーセクション426Cと、上方、中間、及び下方バーセクション426A,426B,426Cを互いに接続する後方バーセクション426Dと、を有する。図4Aにおいて、上方バーセクション426A及び中間バーセクション426Cは、Zレバー408を受け入れるための開口426Eを有し、下方バーセクション426Bは、Zレバー408の一部を受け入れるためのスロット426Fを有する。さらに、上方バーセクション426A及び中間バーセクション426Cはそれぞれ、Zフレーム402内へのZレバー408の配置のための、選択的に着脱自在な着脱部428を有する。下方バーセクション426Bは、第1ステージ238の上端に固定される。また、第1駆動用部品256Aは、上方バーセクション426Aに固定される。Zベアリング404は、Zフレーム402に対するZレバー408の相対的な動きを案内する。一実施形態において、Zベアリング404は、Z軸に沿ったZレバー408の動き純粋な垂直動作を許容するとともに、X及びY軸に沿った、またX及びY軸周りに関する、Zフレーム402及び第1ステージに対する相対的なZレバー408の動きを抑制する。一実施形態において、Zベアリング404は、流体タイプのベアリング、あるいは磁気型のベアリングのような、非接触型のベアリングであり、中間バーセクション426CとZレバー408との間に配置される。非接触型のベアリングによって、Zレバー408は、Z軸に沿って、抵抗が全く無いかそれに近い状態で移動することができる。Z測定器406は、Zフレーム402に対するZレバー408の相対的な動きを測定する。Z測定器406は、Z方向に関して、Zフレーム402第1ステージ238に対するZレバー408の相対位置を検出する。一実施形態において、この情報は、エアベローズのような、Z減衰器410のZ軸に沿った動き伸縮に実質的に相当する。図4Aに示す実施形態において、Z測定器406は、リニアエンコーダである。Zレバー408の動きに関する情報は、制御システム24がZ駆動機255を制御できるように、制御システム24図1に示すに送られてもよい。また、例えば、Z測定器406は、静電容量型のゲージ、あるいは他のタイプのセンサーでもよい。また、後で詳しく説明する実施形態に示すように、Z測定器406からの情報は、第1ステージから第2ステージに伝わる振動レベルを低減するのに用いることができる。さらに、特定の実施形態において、Z測定器406からの情報は、計測システムの初期化に用いることともできる。図4Bは、Z出力部400及び第2駆動用部品256Bの断面斜視図であり、図4Cは、断面平面図である。この実施形態において、Zレバー408は、概ね筒形状である。図4B及び4Cにおいて、Z減衰器410は、流体ベローズであり、iZレバー408の底に固定された頂部と、iiZフレーム402図4Aに示すに取り付けられる底部とを有する。この構成により、Z減衰器410は、Z軸周りのZ出力部400の回転を抑制する。流体ベローズ内の流体の圧力は、Z減衰器410に対する要求に適するように調整される。一実施形態において、流体圧力は、流体ベローズ内にセットされた状態のまま変更されない。あるいは、例えば、流体圧力が流体源不図示とともに調整及び制御されてもよい。さらに別の実施形態において、Z減衰器410は、スプリングあるいは別の減衰デバイスであってもよい。また、図4B及び4Cは、第2駆動用部品256Bの詳細も示している。この実施形態において、第2駆動用部品256Bは、Zハウジング412の内側に固定された筒状の外側マグネット430Aと、それに離間しかつ同軸な筒状の内側マグネット430Bとを有する。内側マグネット430Bの底は、Zレバー408の上端に固定され、内側マグネット430Bの上端は、Zハウジング412の頂部420の底に固定されている。また、図4B及び4Cは、Zレバー408の上端とZハウジング412の底との間で伸びたハウジング支持体414を示している。図4Dは、Z出力部400、第1駆動用部品256A、及び第2駆動用部品256Bの部分的な拡大断面図である。この実施形態において、第1駆動用部品256Aは、マグネット430A,430Bと同軸配置される筒状のコイル432Aと、離間した複数の脚部432Bとを有し、複数の脚部432Bは、離間した複数のハウジング支持体414の間において、コイル432Aから下方に伸びている。脚部432Bは、コイル432AをZフレーム図4Dでは不図示に固定するために用いられる。この構成により、コイル432Aを電流が流れると、マグネット430A,430B及びZ出力部400がZ軸に沿って移動する。矢印433は、マグネットの磁化方向を示す。また、図4Dは、屈曲部418の詳細を示す。より具体的には、この実施形態において、屈曲部418は、iZ移動体416の底に固定される上方円盤状領域434Aと、iiZハウジング412の上端に固定される下方円盤状領域434Bと、iii領域434A,434Bを互いに接続する、フレキシブルな接続片434Cとを有する。図5は、第2ステージ240の傾きに伴う、第2ステージ240、3つのZ駆動機255の一部、及びステージベアリング装置257矢印で示すの関係を示す模式図である。具体的には、図5に示すように、i各テーブルパッド376Aが1つのZ駆動機255の移動体416に位置決めされ、iiステージベアリング装置257によって移動体416からテーブルパッド376Aが離間した状態が維持され、iii残りのZ駆動機255に対する各移動体416の傾きを接続部418が許容している。その結果、第2ステージ240が傾いている間、テーブルパッド376Aの支持面374Bが移動体416の支持面424とほぼ平行になるように、移動体416が傾く。ここで、Z軸に沿ったZ駆動機255からの純粋なZ運動は、第2ステージ240を傾けるのに用いることができる。図6Aは、別の実施形態である第2移動装置644を有する第2ステージ640の上からの斜視図であり、図6Bは、下からの斜視図である。第2移動装置644は、第1X駆動機652Fと、第2X駆動機652Sと、第1Y駆動機654Fと、第2Y駆動機654Sとを有する。この実施形態において、第2ステージ640は、上記の第2ステージ240と同様である。一方で、この実施形態において、第2移動装置644のX及びY駆動機652F,652S,654F,654Sが異なる。この実施形態において、X及びY駆動機652F,652S,654F,654Sのそれぞれは、EIコアアクチュエータのような、吸引タイプのアクチュエータである。EIコアアクチュエータの一例が米国特許第6,069,471号明細書に記載されており、そのすべてを援用して本文の記載の一部とする。この実施形態において、第1駆動用部品656Aは、第1ステージ図6A及び6Bでは不図示に固定された一対のEコア及び筒状導体を有し、第2駆動用部品656Bは、第2ステージ640に固定されたIコアである。ここで、X及びY駆動機652F,652S,654F,654Sは、上記のX及びY駆動機252F,252S,254F,254Sが第2ステージ240に固定された方法と同様の方法で第2ステージ640に固定されている。これによって、ステージ装置において、異なるタイプの駆動機に容易に再構成するのが可能になる。図7Aは、別の実施形態である第2移動装置744を有する第2ステージ740を上から見た斜視図であり、図7Bは、横から見た斜視図である。この実施形態において、第2ステージ740は、上記の第2ステージ240と同様である。一方で、この実施形態において、第2移動装置744は、X駆動機752Fの第1ペア1つのみ図示と、X駆動機753Fの第2ペア1つのみ図示と、第1Y駆動機754Fと、Y駆動機755F,755Sの第2ペアとを有する。この実施形態において、i第1ペアの各X駆動機752Fは、EIコアアクチュエータであり、ii第2ペアの各X駆動機753Fは、ボイスコイルモータであり、iiiY駆動機754Fは、EIコアアクチュエータであり、第2ペアの各Y駆動機755F,755Sは、ボイスコイルモータである。この構成により、例えば、iX駆動機752Fの第1ペアをX軸に沿った第2ステージ740の素早い粗動に用いることができ、iiX駆動機753Fの第2ペアをX軸に沿った第2ステージ740の精密移動に用いることができ、iiiY駆動機754FをY軸に沿った第2ステージ740の素早い粗動に用いることができ、Y駆動機755F,755Sの第2ペアを、Y軸に沿った、また、Z軸周りに関する第2ステージ740の精密な移動に用いることができる。ここで、X及びY駆動機752F,753F,754F,755F,755Sは、上記のX及びY駆動機252F,252S,254F,254Sが第2ステージ240に固定された方法と同様の方法で第2ステージ740に固定されている。これによって、ステージ装置において、異なるタイプの駆動機に容易に再構成するのが可能になる。図8は、模式図であり、iワークピース800、iiテーブル862、チャック864、及び3つのテーブルパッド874Aを有する第2ステージ840、iii3つのZ駆動機855のZ移動体816、及びステージベアリング装置857を示す。より具体的には、図8は、低圧あるいは真空などの大気圧とは異なる圧力の流体が流体源811からチャック864に送られる状態の一実施形態を示す。この実施形態において、ステージベアリング装置857は、真空予圧型の流体ベアリングである。また、2つのテーブルパッド874Aは、ステージ通路815,818想像線で示すを介してチャック864と流体的につながる入口ポート813を有する。一実施形態において、各移動体816は、流体源811と流体的につながり且つステージベアリング装置857に真空を供給する出口ポート817を有する。この構成により、第2ステージ840の一部である入口ポート813は、第2ステージ840とともに移動し、出口ポート817は第1ステージとともに移動する。その結果、入口ポート813は、出口ポート817に対して相対的に6自由度に移動することができる。さらに、この構成により、流体源811によって作られた、真空予圧型の流体ベアリング857を構成するための真空の一部を、テーブル862に流用することが可能である。ステージ通路815を経由して供給された真空はチャック864に送られ、ワークピース800をチャック864に保持するためにチャック864に使用される真空が形成される。また、ステージ通路818を経由して供給された真空は、テーブル862を通過してチャック864に送られ、チャック864を第2ステージ840に保持するための真空が形成される。また、この構成により、流体真空源811からチャック864まで伸びるホースを設けることなく、真空源811をチャックに接続することが可能である。ここで、入口ポート813と出口ポート817との間には、その間に伸びるホースあるいはチューブのような流体用の導管はない。図9Aは、図2Aから4Dに示された、ステージ装置220の一部の模式図であり、ステージ装置220は、第1ステージ238と、第2ステージ240と、Z駆動機255とを有する。図9Aには、Z出力部400、Zフレーム402、Z測定器406、第1駆動用部品256A、及びZ駆動機255の第2駆動用部品256Bが示されている。また、図9Aには、Zレバー408、Z減衰器410、各Z出力部400のZ移動体416が示されている。上述したように、Z減衰器410は、Zレバー408の底に固定されており、Zレバー408の底を第1ステージ238に連結している。一実施形態において、Z減衰器410は、Zレバー408の重量及び第2ステージ240の重量を支持し、第1ステージ238に対して相対的にZレバー408が移動するのを可能にし、また、第1ステージ238からZレバー408及び第2ステージ240に伝わる振動レベルを低減する。ここで、Z減衰器410はそれぞれ、ある程度の剛性を有している。非排他的な実施形態において、例えば、各Z減衰器410におけるZ軸に沿った剛性Kは、約0.1、0.5、1、2、5、10、15、あるいは20N/mmである。減衰器410の剛性によって、地表あるいは周辺から第1ステージ238に伝わる外乱の少なくとも一部が、減衰器410を介して第2ステージ240に伝わる。各Z駆動機255に対して、Z測定器406は、第1ステージ238あるいは他の参照に対して相対的な、Zレバー408及びZ減衰器410の一部例えば頂部の動き及び/又は位置を測定する。後述するように、制御システム24によるZ減衰器410の剛性及びダンピングを補償するZ駆動機255の制御が可能となるように、Zレバー408の動きに関する情報が、制御システム24図1に示すに送られる。特定の実施形態において、第1ステージ238に伝わる外乱地表あるいは周辺などからのは、X,Y及びZ軸に沿った、また、X,Y及びZ軸周りに関する、第1ステージ238の動作乱れを引き起こす。図9Aに示す減衰器410によって、iX,Yに沿った、また、Z軸周りに関する、第1ステージ238の動作乱れが第2ステージ240に伝わらない、iiZ軸に沿った、また、X及びY軸周りに関する、第1ステージ238の動作乱れが、減衰器410の一部及びZレバー408におけるZ軸に沿った小さな変位を生じさせる。Z測定器406は、この変位の測定に用いることができる。また、この情報によって、その変位の速度を算出可能である。後述するように、変位及び速度情報を用いることにより、制御システム24は、Z駆動機255を制御し、減衰器410を通して伝わった乱れを補償することができる。一実施形態において、vの速度上昇でのdの変位上昇を伴うZレバー408の移動を招いた第1ステージ238の動きを、Z測定器406が検出すると、制御システムは、Zレバー408の好ましくない変位上昇分を、解消、修正及び/又は減少させるために、Zレバー408に下向きの力が働くように、第1駆動用部品256Aに対して適切な値の出力を行う。同様に、-vの速度降下での-dの変位降下を伴うZレバー408の移動を招いた第1ステージ238の動きを、Z測定器406が検出すると、制御システムは、Zレバー408の好ましくない変位降下分を、解消、修正及び/又は減少させるために、Zレバー408に上向きの力が働くように、第1駆動用部品256Aに対して適切な値の出力を行う。好ましくない変位が全て解消されると、第2ステージ240は、第1ステージ238の動作乱れから分離される。図9Bは、模式的なブロック図であり、Z軸に沿って及び、X及びY軸周りに、第2ステージ240を精密に位置決めするための、第2移動装置244によるZ駆動機255の制御を示す。この実施形態において、第2ステージ240の目標位置は、システムに入力されるインプット921である。目標位置は、測定システム22によって生成された、第2ステージ240のセンサー信号ベクトルSと比較される。インプット921とセンサー信号ベクトルSとの比較によって、相違ベクトルが割り出される。制御システム922制御システム22は、第2ステージ240をZ軸に沿って正確に位置決めする指示のための、Z駆動機255に対する出力を割り出す。一実施形態において、制御システム922は、i第2ステージ240の位置決めに必要なZ駆動機255に対する出力値を算出する位置決めシステム923と、iiZ減衰器410の剛性及びダンピングの少なくとも一部の補償、及び/又は、Z減衰器410を介して第1ステージ238から第2ステージ240に伝わる振動レベルの少なくとも一部の低減、に必要なZ駆動機255に対する出力値を算出する補償システム925とを有する。制御システム922は、例えば、PID制御器や、比例ゲインコントローラ、リードラグフィルタ、あるいは制御技術に関する他の一般的に知られたものを有してもよい。Z駆動機255に対する出力によって、第2ステージ240をターゲットとした総駆動力FMが作られる。一実施形態において、総駆動力は、サーボ力成分FSと、補償力成分FCとを有する。サーボ力成分FSは、第2ステージ240の位置決めのために、第2ステージ240に送られる。補償力成分FCは、Z減衰器410の剛性の少なくとも一部のオフセット及び/又は補償、及び/又はZ減衰器410を介して第1ステージ238から第2ステージ240に伝わる振動レベルの少なくとも一部の低減のために、第2ステージ240に送られる。換言すると、補償力成分FCは、Z減衰器410を通過する第1ステージ238からの乱れの力FD不図示を解消するために、負の剛性項及び負のダンピング項を含む。補償力成分FCと乱れの力FDとがほぼ同等の逆関係である場合に、乱れが解消されかつ補償される。なお、非排他的実施形態において、補償力成分FCの絶対値は、乱れの力FDの絶対値の、少なくとも約10、20、40、50、70、80、90、99、100、あるいは110である。特定の実施形態において、Z駆動機255の性能は相対的に良好であり、Z駆動機255は、補償力成分FCによって打ち消すことが可能な、安定性、再現性、線形剛性を有する。なお、非排他的な実施形態において、補償力成分FCは、Z減衰器410を介して第1ステージ238から第2ステージ240に伝わるはずの乱れ及び/又は振動のレベルを、少なくとも約1、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90、99、あるいは100、低減することができる。1自由度のシステムにおいて、第1ステージ238に対する相対的な第2ステージ240の動力学は、下式で表すことができる。MaCvKd=F...式1ここで、Mは第2ステージ240の質量であり、CはZ減衰器410のダンピングを表し、KはZ減衰器の剛性を表し、Fは1軸例えば、Z軸に沿って第2ステージ240に働く力、aは加速度、vは速度、dは変位である。変位及び速度の情報が有効である場合に、Z減衰器410の剛性K及びダンピングCの補償にZ駆動機255を使用することができる。Zレバー408の変位及び速度に関する情報は、Z測定器406によって測定することができる。IfF=CvKdu...式2ここで、uはサーボ力成分FS目標の力である。式1と式2との組み合わせにより、以下の式が成り立つ。Ma=u...式3一実施形態において、変位dをトラジェクトリーコマンドrとするのが望ましく、このときuはMaとなる。Ma-Ma=0...式4そこで、dをrとする。一般的な6自由度システムにおいて、1自由度システムに用いたのと同じ手法を利用することが可能である。6自由度システム力学は、行列形式で表すことができる。[M]qa-[C]qv[K]qd=F...式5システムにおける剛性マトリクス[K]及びダンピングマトリクス[C]が算出されると、それらの補償に必要な駆動力を算出することができる。F=[C]qv[K]qdu...式6式5及び6は、式1及び2と同じ形式である。したがって、より一般化されたベクトル及びマトリクスを用いることによって、6自由度システムにおいて同様の目標を達成することができる。シミュレートテストの結果は、第1ステージ及び第2ステージを有するステージ装置上で実行されたものである。図9Cから9Eは、グラフ図であり、Z軸に沿った、X軸に沿った、及びY軸に沿った、伝播性のシミュレートテストの結果をそれぞれ示す。伝播性は、異なる周波数にわたる、第1ステージと第2ステージとの間の変位の割合として明示している。シミュレート結果は、剛性及びダンピングの補償によって伝播性が大幅に低減したことを示している。図9Cから9Eは、6自由度シミュレーションによって生成された第1ステージと第2ステージとの間の伝播性のボード線図を示す。振動の100が第1ステージから第2ステージに伝わるとすると、伝播性の大きさは、1.0、あるいは、0dB各図9C~9Eの頂部の線図である。第2ステージの位置決め正確性の向上のために、第1ステージからの乱れが第2ステージに伝わるのが抑制される。換言すれば、伝播性が、可能な限り小さくなる図9C~9Eでは、規模最大の負の数値がプロットされている。。図9Cから9Eは、2つのケースの間の伝播性を比較している。ベンチマークケース破線は、剛性及びダンピング補償が使用されなかったときの成績である。補償が動作すると補償ケースは実線で示される、特に低周波数域において、伝播性の規模が減少する。図9Cから9Eにおいて、X軸は、1、2、5、10、20、50、あるいは100dBの値を有する。一実施形態において、各Z駆動機の剛性は、第2ステージをゆっくりと上下に移動させるようにZ駆動機を制御することによって実験的に測定することができる。測定された剛性は、適切な補償力FCを直ちに算出するために、制御システムによって使用される。一実施形態において、例えば、第2ステージは、約0.5秒の間に約2mmの範囲で上下に移動される。図9Fは、グラフ図であり、Z駆動機による第2ステージの低速移動の間に、Z駆動機によって働く総駆動力のテスト結果を、第2ステージの位置に対して示している。図9Fにおいて、ライン931は、線形剛性を表しており、ここでは3つのZ駆動機における3つの剛性の合計である。この実施形態において、剛性は約9N/mmである。図9Gは、Z駆動機を制御する剛性補償の効果を示すグラフ図である。図9Gにおいて、ライン933は、第2ステージの重心に働く総剛性を表している。この実施形態において、第2ステージに働く総剛性は、約50N/mに縮小した。図10Aは、本発明の特徴を備えるステージ装置1020Aを上から見た模式的な斜視図である。例えば、ステージ装置1020Aは、図1の露光装置10における、ウエハステージ装置20として、あるいはレチクルステージ装置18として用いることができる。また、ステージ装置1020Aは、他のタイプのデバイスを移動させるのに用いることができる。図10Aに示されるステージ装置1020Aの構成要素は、第1ステージ1038Aと、第2ステージ1040Aと、測定システム1022Aと、初期化システム1081A想像線で示すとを有する。ステージ1038A,1040Aは、対応する上述したデザインと同様のデザインにすることができる。ステージ装置1020Aの第1移動装置及び第2移動装置は、図10Aでは不図示である。移動装置は、図2Aから4Dに示した、上述した構成要素と同様の構成にすることができる。例えば、第1移動装置は、X及びY軸に沿って、及び、Z軸周りに、第1ステージ1038Aを駆動するのに用いられ、第2移動装置は、X、Y、及びZ軸に沿って、及び、X、Y、およびZ軸周りに、第2ステージ1040Aを駆動するのに用いられる。また、例えば、第1移動装置は、3を超える又は3未満の自由度で第1ステージ1038Aを駆動する構成とすることもでき、及び/又は、第2移動装置は、6未満の自由度で第2ステージ1040Aを駆動するのに用いることもできる。測定システム1022Aは、第2ステージ1040Aの位置を常にモニターする。この情報により、第2移動装置は、第2ステージ1040Aを正確に位置決めするように制御される。測定システム1022Aの構成は、第2ステージ1040Aの自由度に応じて様々に変更可能である。例えば、測定システム1022Aは、少なくとも1軸に沿って及び/又は少なくとも1軸周りに関し、第2ステージ1040Aの位置を測定することができ、また、複数のレーザ干渉計、エンコーダ、及び/又は、他の測定デバイスを利用することもできる。一実施形態において、図10Aに示すように、測定システム1022Aは、3軸及び3軸周りに関して、協調して第2ステージ1040Aの位置をモニターする6つの干渉計システム1023A-1023Cを有する。より具体的には、この実施形態において、測定システム1022Aは、iZ軸に沿って及びX軸及びY軸周りに関して、第2ステージ1040Aの位置を協調して測定する、離間した3つのZ干渉計システム1023Aと、iiX軸に沿って及びZ軸周りに関して、第2ステージ1040Aの位置を協調して測定する2つのX干渉計システム1023Bと、iiiY軸に沿って第2ステージ1040Aの位置を測定するY干渉計システム1023Cと、を有する。この実施形態において、各干渉計システム1023A-1023Cは、第2ステージ1040Aから離れて配置された第1干渉計部品1025Aと、第2ステージ1040Aに固定され第2ステージ1040Aとともに移動する第2干渉計部品1025Bとを有する。干渉計部品1025A,1025Bの正確な位置は、ステージ装置1020Aの所望の性能を達成するために様々に変更可能である。図10Aに示す実施形態において、i各第1干渉計部品1025Aは、第2干渉計部品1025Bにレーザビーム1027を照射しかつその第2干渉計部品で反射したビームを受ける干渉計ブロックであり、ii各第2干渉計部品1025Bは、ミラーなどの反射体である。また、第1干渉計部品が反射体を有しかつ第2干渉計部品が干渉計ブロックを有する構成とすることもできる。適切なレーザ干渉計は、カルフォルニア、サンタクララのアジレントで販売されている。特定の実施形態において、X、Y、及びZ軸周りに関する、第2ステージ1040Aの機械的動作範囲は、1以上の干渉計システム1023A-1023Cの作動範囲よりも広い。換言すると、1以上の干渉計システム1023A-1023Cは、作動回転範囲に制限がある。例えば、各干渉計システム1023A-1023Cが適切に機能するために、干渉計ブロックからのビーム1027は、反射体第2干渉計部品で反射されてその干渉計ブロックに戻る必要がある。反射体の角度が作動回転範囲内にない場合、干渉計ブロックにビームが戻らない可能性がある。一実施形態において、各Z干渉計システム1023Aは、FA作動範囲を有し、各X干渉計システム1023Bは、SA作動範囲を有し、Y干渉計システム1023Cは、TA作動範囲を有する。制限された各作動回転範囲の大きさは、干渉計システム1023A-1023Cのタイプに応じて様々に変更可能である。例えば、1つのタイプの干渉計システム1023A-1023Cにおいて、適切に機能するためには、反射体がビーム1027に対して90°±0.06°である必要がある。この構成において、作動範囲は、約0.12°である。また、非排他的な実施形態において、作動範囲は、約0.01、0.05、0.1、あるいは0.5°である。ステージ装置1020Aに最初に出力が加えられたとき、第2ステージ1040Aは、通常、未知の方位にあり、また、第2ステージ1040Aが作動範囲外に回転していて1以上の干渉計システム1023A-1023Cが稼動しない可能性がある。例えば、FA作動範囲を超えて、第2ステージ1040AがX軸又はY軸周りに回転している場合、Z干渉計システム1023Aが機能しない可能性がある。ほぼ同様に、SA作動範囲及びTA作動範囲を超えて第2ステージ1040AがZ軸周りに回転している場合、X及びY干渉計システム1023B,1023Cが機能しない可能性がある。この構成において、初期化システム1081Aは、干渉計システム1023A-1023Cが未稼動の際に、第2ステージ1040Aが正確な方位に調整されるようにする。一実施形態において、初期化システム1081Aは、第2ステージ1040Aが作動範囲を超えて回転しているときの、第2ステージ1040Aの位置をモニターする。この実施形態において、初期化システム1081Aは、第2ステージ1040Aが作動範囲外にある及び/又は第2ステージ1040Aの機械的最大動作範囲を超えているときの、第2ステージ1040Aの位置を測定可能な1以上のセンサーを有する。図10Aに示す実施形態において、初期化システム1081Aは、6つの初期センサー1083A-1083C想像線で示されるを有し、それらはすなわち、iZ軸に沿って及びX軸周り及びY軸周りに関して、第1ステージ1038Aに対する第2ステージ1040Aの位置を協調して測定する離間した3つのZセンサー1083Aと、iiX軸に沿って及びY軸周りに関して、第1ステージ1038Aに対する第2ステージ1040Aの位置を協調して測定する離間した2つのXセンサー1083Bと、iiiY軸に沿って、第1ステージ1038Aに対する第2ステージ1040Aの位置を測定するYセンサー1083Cと、を有する。なお、例えば、初期化システム1081Aは、6未満あるいは6を超えるセンサー、及び/又は、第1ステージ1038A以外の他の構造物に対して移動体を参照可能な1以上のセンサーを有してもよい。一実施形態において、1以上の初期センサー1083A-1083Cは、固定されたゼロ位置を有するアブソリュート型とすることができる。そうしたタイプのセンサーの1つとして、静電容量ゲージがある。他のアブソリュート型のセンサーとして、ポテンショメータ、LVDTS、及び多くの光学センサーがある。アブソリュート型のセンサー1083A-1083Cにより、X,Y,及び/又はZ軸周りに関する第2ステージ1040Aの所望の方位を、特定の検出値に関連付けることができる。アブソリュート型のセンサー1083A-1083Cに対する正確な目標値は、制御システム24図1に示すの初期化ソフトウェアプログラムに保存することができる。アブソリュート型のセンサーの使用により、干渉計システム1023A-1023Cの比較的高速での初期化が可能となる。別の実施形態において、1以上の初期センサー1083A-1083Cは、第1ステージ1038Aに対する第2ステージ1040Aのインクリメンタルな動きを測定するインクリメンタル型のセンサーとすることもできる。そうしたタイプのセンサーの1つとして、エンコーダがある。図10Aに示す実施形態では、ステージ装置1020Aが始動すると、初期化プロセスが開始し、制御システムが、初期センサー1083A-1083Cからの位置情報を用いて第2移動装置を制御する。この制御は、初期の比較的低いバンドウィドスにおいて、オプション的に生じる。この構成により、その初期位置から目標位置に向けて第2ステージ1040Aが徐々に移動するように、第2移動装置が制御される。第2ステージ1040Aが正確な方位で一旦安定すると、干渉計システム1023A-1023Cが初期化される。その後、干渉計システム1023A-1023Cからの位置情報を用いて制御システムが第2移動装置を制御する。任意的に、バンドウィドスが変化して高くなる。図10Bは、本発明の特徴を有するステージ装置1020Bの別の実施形態の一部の、模式的な上からの斜視図である。例えば、ステージ装置1020Bは、図1の露光装置10における、ウエハステージ装置20として、あるいはレチクルステージ装置18として用いることができる。また、ステージ装置1020Bは、他のタイプのデバイスを移動させるのに用いることができる。図10Bに示されるステージ装置1020Bの構成要素は、第1ステージ1038Bと、第2ステージ1040Bと、測定システム1022Bと、初期化システム1081Bとを有する。ステージ1038B,1040B、及び測定システム1022Bは、対応する上述したデザインと同様のデザインにすることができる。図10Bにおいて、測定システム1022Bはまた、3軸に沿って及び3軸周りに関して、協調して第2ステージ1040Aの位置をモニターする6つの干渉計システム1023A-1023Cを有する。図10Bにおいて、初期化システム1081Bはまた、干渉計システム1023A-1023Cが未稼動の際に、第2ステージ1040Aが正確な方位に調整されるようにする。この実施形態において、初期化システム1081Aは、1以上のアライナー1085A-1085Cを有し、それらは、第2ステージ1040Aのさらなる動きを抑制するものであり、第2ステージ1040Bが各稼動範囲内で回転されるように、位置決めされている。図10Bに示す実施形態において、初期化システム1081Bは、3つのアライナー1085A-1085C、すなわち、Zアライナー1085A、Xアライナー1085B、及びYアライナー1085Cを有する。この実施形態において、Zアライナー1085Aは、Z軸に沿った第2ステージ1040Bの動きを協調して抑制しかつ、X及びY軸周りに第2ステージ1040Bを方向付ける、離間した3つの硬質なZストップ体1087A想像線で示されるを有する。Xアライナー1085Bは、X軸に沿って第2ステージ1040Bの動きを協調して抑制しかつ、Z軸周りに第2ステージ1040Bを方向付ける、離間した2つの硬質なXストップ体1087Bを有する。Yアライナー1085Bは、Y軸に沿って第2ステージ1040Bの動きを抑制する硬質なYストップ体1087Cを有する。また、例えば、初期化システム1081Bは、3未満あるいは3を超えるアライナーを有することもできる。例えば、X、Y、及びZ軸周りに関して、他のアライナー1085A,1085Bによって第2ステージ1040Bを適切に方向付けることが可能であるから、Yアライナー1085Cは、必ずしも必要でない。一実施形態において、1以上の硬質なストップ体1087A-1087Cは、アライメントの進行を妨げる摩擦を抑制するために、低摩擦材料又は回転要素カムフォロアなどから構成される接触領域1089を有する。また、例えば、1以上の硬質なストップ体を、1以上のリミットスイッチ又は光学センサに置き換えることもできる。図10Bにおいて、各ストップ体1087A-1087Cは、第1ステージ1038Bに取り付けられ、接触領域1089が第2ステージ1040Bに係わっている。また、例えば、1以上のストップ体1087A-1087Cは、他の構造体に取り付けられてもよい。例えば、1以上のストップ体1087A-1087Cが第2ステージ1040Bに固定され、接触領域1089が第1ステージ1038Bに係わってもよい。この構成において、ステージ装置1020Bが始動すると、初期化プロセスが開始し、制御システムが、位置情報なしでオープンループ方式で第2移動装置を制御する。この構成により、その初期位置から1軸に沿って例えば、Z軸に沿って、第2ステージ1040Aが個別のストップ体1087A-1087CZストップ体1087Aなどに係わるまで、第2ステージ1040Aが徐々に移動するように、第2移動装置が制御される。次に、第2ステージ1040Aが次の軸に沿って例えば、X軸に沿って、第2ステージ1040Aが個別のストップ体1087A-1087CXストップ体1087Bなどに係わるまで、第2ステージ1040Aが徐々に移動するように、第2移動装置が制御される。最後に、第2ステージが残りの軸に沿って例えば、Y軸に沿って、第2ステージ1040が個別のストップ体1087A-1087CYストップ体1087Cなどに係わるまで、第2ステージ1040Aが徐々に移動するように、第2移動装置が制御される。第2ステージ1040Aがストップ体1087-1087Cに寄せられて一旦位置決めされると、干渉計システム1023A-1023Cが初期化される。その後、干渉計システム1023A-1023Cからの位置情報を用いて制御システムが第2移動装置を制御する。ここで、第2ステージ1040BがZストップ体1087Aに係わると、X及びY干渉計システム1023B,1023Cが初期化され、第2ステージ1040BがXストップ体1087Bに係わると、Z干渉計システム1023Aが初期される。特定の構成において、第2移動装置における駆動機の起動は、第2ステージ1040Bの繰り返し可能なアライメントを作り出すシーケンスによって生じる。図10Cは、本発明の特徴を有するステージ装置1020Cのさらに別の実施形態一部を、上から見た模式的な斜視図である。例えば、ステージ装置1020Cは、図1の露光装置10における、ウエハステージ装置20として、あるいはレチクルステージ装置18として用いることができる。また、ステージ装置1020Aは、他のタイプのデバイスを移動させるのに用いることができる。図10Cに示すステージ装置1020Cの構成要素は、第1ステージ1038Cと、第2ステージ1040Cと、測定システム1022Cと、初期化システム1081Cとを有する。ステージ1038C,1040C、及び測定システム1022Cは、対応する上述したデザインと同様のデザインにすることができる。図10Cにおいて、測定システム1022Cはまた、3軸に沿って及び3軸周りに関して、協調して第2ステージ1040Cの位置をモニターする6つの干渉計システム1023A-1023Cを有する。図10Cにおいて、初期化システム1081Cは、1以上の初期センサー1083A-1083C、及び1以上のアライナー1085Aの組み合わせを有する。図10Cに示す実施形態において、初期化システム1081Cは、6つの初期センサー1083A-1083C想像線で示されるを有し、それらはすなわち、iZ軸に沿って及びX軸周り及びY軸周りに関して、第2ステージ1040Aの位置を協調して測定する離間した3つのZセンサー1083Aと、iiX軸に沿って及びZ軸周りに関して、第2ステージ1040Aの位置を協調して測定する離間した2つのXセンサー1083Bと、iiiY軸に沿って、第1ステージ1038Aに対する第2ステージ1040Aの位置を測定するYセンサー1083Cと、Z軸に沿った第2ステージ1040Bの動きを協調して抑制しかつ、X及びY軸周りに第2ステージ1040Bを方向付ける、Zストップ体1087Aを有するZアライナー1085A想像線で示すと、を有する。この実施形態において、各Zセンサー1083Aは、インクリメンタル型のセンサーであり、X及びYセンサー1083B,1083Cは、アブソリュート型のセンサーである。この実施形態において、1以上のZ測定器406図4A及び9Aに示すをZセンサー1083Aとして用いることもできる。この実施形態において、ステージ装置1020Bが始動すると、初期化プロセスが開始し、制御システムが、初期センサー1083A-1083Cからの位置情報を用いて第2移動装置を制御する。この構成により、その初期位置から1軸に沿って例えば、Z軸に沿って、第2ステージ1040Aが個別のストップ体1087A-1087CZストップ体1087Aなどに係わるまで、第2ステージ1040Aが徐々に移動するように、第2移動装置が制御される。また、X及びY軸に沿って及びZ軸周りに、その初期位置から目標位置に向けて第2ステージ1040Aが徐々に移動するように、X及びYセンサー1083B,1083Cからの位置情報を用いて、第2移動装置が制御される。第2ステージ1040Aが正確な方位で一旦安定すると、干渉計システム1023A-1023Cが初期化される。その後、制御システムは、干渉計システム1023A-1023Cからの位置情報用いて第2移動装置を制御する。上述したように、Z減衰器410の剛性補償のためのZ測定器406図4A及び9Aに示すは、アブソリュート型のセンサー又はインクリメンタル型のセンサーとすることができる。1以上のZ測定器406がアブソリュート型のセンサーである場合、Z測定器406は、初期化システム1081A及び1081Cの初期センサーにおけるZセンサー1083Aとして用いることができる。半導体デバイスは、図11Aに概略的に示すプロセスによって、上記のシステムを用いて製造される。ステップ1101において、デバイスの機能及び特性の設計が行われる。次に、ステップ1102において、前記設計ステップに従ったパターンを有するマスクレチクルが設計され、平行したステップ1103において、シリコン材料からウエハが製造される。ステップ1104において、本発明に係る上記のフォトリソグラフィシステムによって、ステップ1102で設計されたマスクパターンが、ステップ1103からのウエハ上に露光される。ステップ1105において、半導体デバイスが組み立てられダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程を含む、最後に、ステップ1106においてデバイスが検査される。図11Bは、半導体デバイスの製造の場合における上記のステップ1104の詳細なフローの一例を示す。図11Bにおいて、ステップ1111酸化ステップにおいて、ウエハ表面が酸化する。ステップ111CVDステップにおいて、ウエハ表面に絶縁膜が形成される。ステップ1113電極形成ステップにおいて、蒸着によってウエハ上に電極が形成される。ステップ1114イオン打込みステップにおいて、ウエハにイオンが打ち込まれる。以上のステップ1111-1114は、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択される。ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。後処理工程では、まず、ステップ1115レジスト形成ステップにおいて、ウエハに感光剤が塗布される。次に、ステップ1116露光ステップにおいて、上記の露光装置を用いて、マスクレチクルの回路パターンがウエハに転写される。続くステップ1117現像ステップにおいて、露光されたウエハが現像され、ステップ1118エッチングステップにおいて、レジストが残存している部分以外の部分露光された材料表面がエッチングにより取り除かれる。ステップ1119フォトレジスト除去ステップにおいて、エッチング後の不要な残りのレジストが取り除かれる。こうした前処理工程と後処理工程との繰り返しによって、多数の回路パターンが形成される。本発明は、液体に適した測定器を用いることによって、液浸タイプの露光装置に適用可能である。例えば、国際公開第99/49504号は、露光プロセスにおいて基板ウエハと投影レンズ系との隙間に液体を供給する露光装置を開示している。許容される範囲内で、国際公開第99/49504号の開示を援用して本文の記載の一部とする。また、本発明は、2以上の基板及び/又はレチクルステージを有する露光装置にも適用可能である。こうした装置では、露光のために他のステージが用いられている間に、平行して又は予備ステップに追加のステージが用いられる。こうしたマルチステージ露光装置は、例えば、特開平10-163099号公報、特開平10-214783号公報、及びこれらに対応する米国特許第6,341,007号、米国特許6,400,441号、米国特許6,549,269号、及び米国特許6,590、634号に記載されている。さらに、特表2000-505958号公報及びこれに対応する米国特許5,969,441号、また、米国特許第6,208,407号にも開示されている。許容される範囲内で、上記の米国特許及び日本国特許出願の開示を援用して本文の記載の一部とする。本発明は、特表11-135400号に記載されているように、露光のための基板ウエハを保持して移動可能なステージと、各種のセンサや測定ツールを有する計測ステージとを備えた露光装置にも適用可能である。許容される範囲内で、上記の日本国特許出願の開示を援用して本文の記載の一部とする。なお、上述した詳細な説明において開示した内容は、本発明の好ましい実施形態の一例であって、本発明は、ここで示した構成やデザインの詳細に限定されることはなく、添付のクレームの記載によってのみ限定される。"