パターン状の活性化処理領域を有する透明基材の上に、前記活性化処理領域を覆うように設けられた、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、前記ホログラム形成層の前記ホログラムレリーフに追従するように設けられた反射性薄膜層、及び、前記反射性薄膜層の上に、前記反射性薄膜層と接する網点形状の空隙を含む粘着層が、この順序で設けられていることを特徴とするホログラムラベル。前記透明基材上の前記パターン状の活性化処理領域以外の領域が、不活性化処理領域であることを特徴とする請求項1に記載のホログラムラベル。前記パターンは、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とする請求項1または2に記載のホログラムラベル。前記微細なパターンが網点形状であって、前記微細なパターンの網点形状の網点の大きさ及び配置と、前記透明基材上の前記パターンに対応する位置にある前記空隙の網点形状の網点の大きさ及び配置が、同一であることを特徴とする請求項3に記載のホログラムラベル。本発明は、ラベルとしてホログラムラベルを被貼着体に貼付もしくは貼着ともいう。する際には、問題なく貼付可能であって、その被貼着体からホログラムラベルを不正に剥そうとすると、ラベル基材のみが剥がれ、その剥した痕跡として、被貼着体側に残ったものに、開封等の視認可能な明確なメッセージパターンが表示されるホログラムラベルを提供する。本発明は上記従来の問題点に鑑み為されたものであり、その目的とするところは、不正な剥離行為によるホログラムシールの貼り替えを確実に防止することが可能で、しかも、部分的に脆性破壊する層の存在部分的に破壊する仕組みを発見しにくいホログラム脆性シールを提供することにある。上記の課題を解決するために、本発明のホログラムラベルの第1の態様は、パターン状の活性化処理領域を有する透明基材の上に、前記活性化処理領域を覆うように設けられた、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、前記ホログラム形成層の前記ホログラムレリーフに追従するように設けられた反射性薄膜層、及び、前記反射性薄膜層の上に、前記反射性薄膜層と接する網点形状の空隙を含む粘着層が、この順序で設けられていることを特徴とするものである。上記第1の態様のホログラムラベルによれば、パターン状の活性化処理領域を有する透明基材の上に、前記活性化処理領域を覆うように設けられた、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、前記ホログラム形成層の前記ホログラムレリーフに追従するように設けられた反射性薄膜層、及び、前記反射性薄膜層の上に、前記反射性薄膜層と接する網点形状の空隙を含む粘着層が、この順序で設けられていることを特徴とするホログラムラベルを提供することができ、粘着層の中に、網点形状断面を有する円柱形の空隙部分が存在して、不正な剥離を行った際にホログラム形成層の破断が生じやすく、貼り替えを確実に防止することが可能で、しかも、剥離の際に表示されるパターンの存在を発見しにくい、ホログラムラベルを提供することができる。本発明のホログラムラベルの第2の態様は、前記透明基材上の前記パターン状の活性化処理領域以外の領域が、不活性化処理領域であることを特徴とするものである。上記第2の態様のホログラムラベルによれば、前記透明基材上の前記パターン状の活性化処理領域以外の領域が、不活性化処理領域であることを特徴とする第1の態様のホログラムラベルを提供することができ、不正な剥離を行った際のホログラム形成層の破断をより生じやすくすることが可能な、ホログラムラベルを提供することができる。本発明のホログラムラベルの第3の態様は、前記パターンは、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とするものである。上記第3の態様のホログラムラベルによれば、前記パターンは、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とする第1の態様または第2の態様のホログラムラベルを提供することができ、不正な剥離を行った際にホログラム形成層の破断がより生じやすく、且つ、剥離の際に表示されるパターンの存在をより発見しにくくすることが可能な、ホログラムラベルを提供することができる。本発明のホログラムラベルの第4の態様は、前記微細なパターンが網点形状であって、前記微細なパターンの網点形状の網点の大きさ及び配置と、前記透明基材上の前記パターンに対応する位置にある前記空隙の網点形状の網点の大きさ及び配置が、同一であることを特徴とするものである。上記第4の態様のホログラムラベルによれば、前記微細なパターンが網点形状であって、前記微細なパターンの網点形状の網点の大きさ及び配置と、前記透明基材上の前記パターンに対応する位置にある前記空隙の網点形状の網点の大きさ及び配置が、同一であることを特徴とする第3の態様のホログラムラベルを提供することができ、不正な剥離を行った際のホログラム形成層の破断をさらに生じやすくすることが可能な、ホログラムラベルを提供することができる。すなわち、ホログラムラベルは、透明基材の一方の面に、パターン状の活性化処理領域を有しさらには、不活性化処理領域をも有し、、そのパターン状の活性化処理領域を覆うように、その面上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、そして、反射性薄膜層、所定の断面形状の空隙をその反射性薄膜層側に含む粘着層が、この順序で形成され、上記したホログラムラベルの用途において、所望の被貼着体の一部や、封筒等の封緘部分等に貼着される。このホログラムラベルを、その被貼着体、もしくは、封緘部分から、貼着した痕跡を残さず、ホログラムラベルも完全な元の状態で剥して、不正に準備した別の被貼着体に貼り替えたり、封筒や箱を開封して内容物を取り替えた後、あたかも、その被貼着体や封筒や箱の内容物が本物であると主張したり、逆に、真正なホログラムラベルを剥したものは、本物でないとして、その価値を低下させるなどの不正を防止するためには、ホログラムラベルの透明基材やホログラム形成層が破断することが望ましいが、ホログラムラベルの基材及び、ホログラム形成層の破断強度は、非常に大きく、ラベルとしての粘着力JISZ0237で規定する180°剥離試験にて、0.1~1.0kg/25mm幅。では、それらの層を100破断させることは困難である。そのため、透明基材の一方の面を表面活性化処理して、その領域を覆うように形成するホログラム形成層の、その領域内における透明基材とホログラム形成層との接着性を向上させ、0.5kg/25mm幅以上、3.0kg/25mm幅以下の強度JISZ0237で規定する180°剥離試験にて。とし、且つ、粘着層が所定の断面形状の多数の空隙を含むことで、その空隙のある個所では、反射性薄膜層と粘着層は接着せず、空隙の無い個所のみで、反射性薄膜層と粘着層が接着している構成とし、ホログラムラベルを被貼着体から不正に剥がそうとして、透明基材を引き剥がしたときに、その空隙の円周反射性薄膜層と粘着層との界面において、粘着層がある個所と無い個所との境界線を意味する。をきっかけとして、ホログラム形成層の破断が容易に生じるようにする。そして、表面活性化処理するパターンを、視認可能な所望のパターン状文字、図形、記号等、視認可能な表示であればいずれも使用できる。代表的には、ホログラムラベルを剥離した証拠を示すという意味で、開封等の文字表示をするため、開封文字の画線部分を活性化処理する。に形成するこれが、パターン状の活性化処理領域となる。。このパターンの大きさは、その表示内容を目視にて視認可能な大きさとするため、開という文字であれば、その文字高さが、2mm~30mmとすることが好適である。このため、その画線幅は、平均的には、0.1mm~5mmとなる。このパターン状に、ホログラム形成層を確実に破断させるためにはこの破断は、例えば、開封の文字を目視にて、認識可能であればよく、文字の画線のとびやはねなどの先端まで精密に破断する必要がないことは、その目的から明らかである。、上記したきっかけが、このパターンの画線領域特に、その画線の境界部分。に多数存在することが必要であるため、空隙となる円柱形状の空間の網点形状の断面の大きさは、画線幅の1/2~1/10の大きさとする。その網点の直径が、画線幅の1/2より大きいと、ホログラム形成層の破断が生ずべき、パターンの画線の境界部分と、破断のきっかけである空隙の網点の周辺とが重なる部分画線の境界線と、網点の円周とがほぼ位置的に重なる部分という意味。が非常にすくなくなり、空隙を設けた効果が十分に発揮されない。その意味において、網点の直径は、小さい方が望ましいが、画線幅の1/10より小さくなると、例えば最少の画線幅0.1mmに対して、網点直径が0.01mmとなるため、空隙そのものを安定して形成することが困難となるだけでなく、空隙による反射性薄膜層と粘着層面との隔離が不十分となる。すなわち、画線領域の幅例えば、開封の文字の個々の線の幅の平均値を意味する。が、0.1mm~5mmとすると、その空隙の網点形状断面の直径は、0.01mm~2.5mmとする。好適には、0.05mm~0.5mmである。そして、円柱形状の空隙の高さは、反射性薄膜層と粘着層とが接していなければよく確実に隔離するという意味。、空隙の高さは、1.0μm~30μmとする。この高さが、1.0μm未満であると、空隙の中心部分において、反射性薄膜層と粘着層とが接してしまう部分の発生を招き、20μmを超えると、その空隙の存在が、透明基材側から視認できてしまう反射性薄膜層が透明性を兼ね備える場合には、直接目視にて視認しやすくなり、反射性薄膜層が全反射性透明でないということ。である場合には、反射性薄膜層の変形等により視認されることとなることを意味する。好適には、10μm~20μmである。不正な剥離を行ったときには、透明基材上に、このパターン状にホログラム形成層が破断して残り、開封の文字等を表すことで、その不正行為の存在を示すため、剥離した透明基材部分的にホログラム形成層や、反射性薄膜層が付着。、もしくは、被貼着体に残った部分開封の文字等が抜き取られた状態のホログラム形成層や、反射性薄膜層、及び粘着層からなる。を一瞥するだけで、容易に、不正判定を行うことができる。この表面活性化処理、すなわち、濡れ性を非常に高める処理や、表面に官能基を創り出す処理等には、レーザー照射、エキシマ光照射、酸素増感エキシマ光照射等の光処理、オープンプラズマ処理、コロナ処理、電子線照射処理等の物理的処理、酸化剤等薬品による表面処理、プライマー処理、シランカップリング処理等の化学的処理、アルゴンビームエッチング、エッチング液処理、さらにはサンドブラスト加工等の物理的な租面形成処理等を用いることができる。そして、その処理をパターン状に施すためには、直接描画方式レーザー照射等の処理ビームを走査する方式。や、マスキング方式パターン状の金属板での遮蔽や、パターン状のマスキング剤塗布等により、処理しない部分をマスキングして全面処処理する方式。を用いる。但し、従来技術において、透明基材に、遮蔽マスクを介して、直接パターン状にコロナ処理等の界面活性化処理をする方法があるが、この方法によると、遮蔽マスクと透明基材との隙間や、処理ガスの拡散等により、活性化部分と活性化されていない部分との界面が不鮮明ギザギザであったり、部分的に染み出すような形となったりして、すっきりした直線状とならない。となり、本発明の目的には好ましくない。このホログラムラベルを剥そうとして、透明基材を剥した際、活性化処理した部分、すなわち、例えば、開封の文字部分画線部分のみ、透明基材に、ホログラム形成層の表面が付着したまま剥離がなされることで、剥離後の被貼着体上では開封の文字が白抜き文字として見えるものである。また、この場合、ホログラム再生像は、開封の文字により遮られた状態として観察される。ホログラム再生像は非常に冗長性が高いため、この遮断活性化処理領域の幅、例えば開封の文字の線幅の遮断を意味する。が、そのホログラムレリーフの干渉縞の周期0.5μm~2μmの、200倍~2500倍、より好適には、500倍~1000倍とする。この遮断が、200倍未満であると、ホログラムの冗長性からホログラム再生像が強く再現されて遮断が弱まり、この遮断が2500倍を超えると、透明基材が剥離しにくくなったり、ホログラムラベル全体が剥離できてしまうこととなり、また、破断面が不要に拡大して的確な破断文字を得ることが難しくなる等の不具合が発生する。透明基材を剥離した際の破断文字等。の的確さは、500倍~1000倍が最も良好となる。さらに、透明基材上のパターン状の活性化処理領域以外の領域を、不活性化処理し不活性化処理領域となる。、活性化処理領域における、透明基材とホログラム形成層との間の剥離強度接着強度ともいう。と、不活性化処理領域における透明基材とホログラム形成層との間の剥離強度接着強度ともいう。との差を、大きくすることで、より確実にホログラム形成層を破断することが可能となる。透明基材上に、活性化処理領域と不活性化処理領域を並べて形成するには、透明基材上にそれぞれ別々に形成することもできるが、透明基材の全面を活性化処理した後、所定の部分のみを不活性化処理してもよく、若しくは、透明基材の全面を不活性化処理した後、所定の部分のみを活性化処理してもよい。その中でも、透明基材の全面を、一度、活性化処理した後、その上から、所望の部分を不活性化処理する方法が、パターンの形状形成精度に優れ、また、それぞれの処理の定着性に優れるため性能を確保しやすく、また、維持しやすいという意味。、好適である。透明基材上の不活性化処理面は、その剥離強度を、0.01kg/25mm幅以上0.1kg/25mm幅以下として、ホログラムラベルを剥そうとすると、どのように工夫しても、必ず、透明基材が剥がれるものとし、透明基材を剥離した後のホログラム形成層の最表面透明基材の不活性化処理面と接していた面を意味する。透明基材剥離後は、この面が露出し、最表面となる。がほぼ鏡面となって、その部分からは、その下にあるホログラム再生像を鮮明に視認することができるようにする。不活性化処理としては、所定の部分透明基材の面方向及び、厚さ方向に広がる領域を意味する。のみを精度よく不活性化する必要があり、透明基材の最表面のみを部分的に溶解する透明基材表面を直接処理する方法。、もしくは、活性化した官能基と反応して官能基の活性を解消する基材表面を一度活性化処理した後、その活性化処理面を不活性化処理する方法。溶剤類、例えば、ケトン類メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等。、アルコール類メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等、さらにはその水溶液。、芳香族類ベンゼン、トルエン、キシレン等。、エステル類、エーテル類テトラヒドロフラン等。等、または、これらの透明基材とはそもそも接着し難い、界面張力の小さい樹脂、例えば、シリコーン樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂や、これらのフッ化炭化水素基、有機珪素基を含む樹脂等の内、透明性の高いものを、活版印刷や、インクジェット印刷等により、上記した所望のパターン状に部分形成する手法透明基材表面を直接処理する方法。を用い、高い精度でパターン状に不活性化処理する。この際、それらの部分的な処理によって、透明基材上に光学的な変化を与えないことが望ましく光学的変化とは、透明基材表面を白濁させたり、不要に粗く粗面化することを意味する。光学的変化は、ホログラム再生像を不鮮明にする要因となり、所望のパターンを不要に認識させる要因ともなる。、溶剤等は揮発することで、また、樹脂等はあくまで表面改質の目的であって乾燥後の処理領域の厚さが光の波長の1/5~1/50程度となることが望ましい。もちろん、これらを併用することも好適である。本発明の不活性化処理は、上記した印刷手法を用いるため、非常に鮮明なパターンを形成可能であり、且つ、不活性化処理面と活性化処理面との接着強度差を非常に大きくすることができるため、破壊領域をより明確なものとすることができる。もちろん、これらの活性化処理及び不活性化処理を用いたパターン状処理は、光学的に透明であって、ホログラムラベルを観察した際、そのパターン境界を視認することができず、レーザー等で照明しても、不要な散乱や回折が生じず、その透明性その連続性。を維持している必要がある。表面活性化処理の中でも、レーザー照射等の光処理、または、プラズマ処理等の物理的処理は、透明基材の処理面に凹凸が発生せず、鏡面を維持し、且つ、光学的透明性に優れて、そして、不活性化処理による不活性化効果が大きいことから、特に望ましい。さらに、上記したパターン内を均一に活性化処理したり、不活性化処理する以下、活性化処理等ともいう。ことに替えて、そのパターンを、よりサイズの小さい微細なパターンの集まりで表し例えば、網点形状、市松模様状、ランダムパターン等の微細なパターンの集合体とし、その微細なパターンの部分のみ、活性化処理等することで例えば、市松模様状に活性化処理等することにより、パターン内をその升目で一様に区切り、一つ飛ばしの升目の部分のみ、活性化処理等の面として残る。、透明基材とホログラム形成層の剥離強度に市松模様状の強弱を付与することで、ホログラム形成層を破断するきっかけを増し、その破断をより生じやすくすることができ、また、そのパターンの存在を隠ぺいしやすくし、不正剥離の際に初めて表示されるパターンの存在を、事前には、より発見し難くすることができる。この微細なパターンの個々の大きさは、パターンの画線幅の1/4~1/20の大きさとする。パターンを開という文字とした場合には、その文字高さが、2mm~30mmとなり、その画線幅は、平均的には、0.1mm~5mmとなるため、微細なパターンの個々の大きさ市松模様であれば、その一つのマスの大きさを意味する。は、5μm~1.25mmとなる。微細なパターンの個々の大きさが、パターンの画線幅の1/4の大きさより大きいと、パターンそのものを認識し難くなり、パターンの画線幅の1/20の大きさより小さいと、活性化処理や、不活性化処理の処理の精度が低下する。好適には、30μm~300μmである。ホログラム形成層としては、下記するように、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができるが、本発明の手法は、ホログラム形成層の膜としての強度が非常に強く、膜そのものを破断することが非常に難しい、紫外線硬化もしくは電子線硬化等の電離放射線硬化性樹脂を用いた場合に、特にその効果を発揮する。ホログラム形成層に適宜なホログラムレリーフを形成した後、反射性薄膜を形成し、さらにその上に、反射性薄膜層と接する網点形状の空隙を含む粘着層を形成して、本発明のホログラムラベルを作製することができる。ここで、反射性薄膜層と接する網点形状の空隙とは、空隙が、反射性薄膜層と接しており、その形状が、その断面が網点形状である円柱形状であることを意味する。そして、この空隙を覆うように、粘着剤が塗布され、その空隙を含む粘着層が形成される。この反射性薄膜層と接する網点形状の空隙を含む粘着層を形成する方法としては、反射性薄膜層上に、ステンレススクリーン印刷法等の微細な印刷が可能な印刷方法を用いて、網点形状の余白を残したパターン網点形状の白抜きを有するベタ印刷を意味する。で粘着層に用いる粘着剤を塗布し、これとは別に、同一の粘着剤を用いて剥離紙上にベタ状に粘着剤を塗布したものを貼り合わせ、粘着層を形成後、剥離紙を剥離する方法や、剥離紙上に所定の厚さの粘着剤をベタ状に塗布後、網点形状の空隙に相当する凸部を有する樹脂凸版をその粘着剤に押し付け、空隙に相当する凹部を形成し、この凹部形成側の凹んでいない面を反射性薄膜層に接着させて、粘着層を形成した後、剥離紙を剥離する方法等を用いることができる。網点形状の余白を残したパターンを用いる方法の場合には、この網点形状の余白を残したパターンに形成した粘着剤の層以下、パターン粘着剤の層、もしくは、粘着層の上側部分という。に、ベタ状に粘着剤を形成したもの以下、ベタ状粘着剤の層、もしくは、粘着層の下側部分という、を貼り合わせる際、それぞれ同一の粘着剤組成物を用いるが、そのパターン粘着剤の層を十分乾燥させるか、硬化剤を付与して硬化させ、その形状が崩れることを防止することが好適である。もちろん、粘着層の上側部分と、粘着層の下側部分の組成を異なるものとすることにより、ホログラム形成層の破断を促進することも好適である。また、ベタ状粘着剤の層については、パターン粘着剤の層との接着性を確保するため、剥離紙上での乾燥を抑え、溶剤成分を一部残存させ組成物中の溶剤の5~10を残存させる。、貼り合わせ後に、再度乾燥させる方法が好適である。パターン粘着剤の層の厚さは、この厚さが、空隙の高さとなるため、上記した様に1.0μm~30μmとする。そして、この上に貼り合わせるベタ状粘着剤の層の厚さは、被貼着体との接着性を確保するとともに、ホログラムラベルを剥がす際に、ホログラム形成層の破断を促す作用を十分に発揮しつつ、空隙の存在を不要に判別し難くするため、10μm~30μmとする。10μm未満では、上記した破断を促す作用を十分に発揮できず、30μmを超えるとホログラムラベル全体の厚さが厚くなりすぎ、被貼着体上に貼着した際に、意匠性に劣るとともに、被貼着体の取扱い適性に劣るものとなる。樹脂凸版をその粘着層に押し付ける方法の場合には、剥離紙上にあらかじめ10μm~60μmの粘着剤の層を設け、その後に、その粘着剤との離形離型性に優れる樹脂凸版所望の空隙形状を凸形状としてその表面に有する樹脂版。もちろん金属製凸版でもよい。を押し当て、線圧0.1~10kg/cmの圧力で加圧して50~100度に加熱してもよい。、その粘着剤の層の表面に所望の空隙を設ける。この場合にも、その粘着剤の層に正確な空隙を設けるため、上記と同様に、剥離紙上での乾燥を抑え、溶剤成分を一部残存させ、貼り合わせ後に、再度乾燥する方法が好適である。この方法は、網点形状の余白を残したパターンを用いる方法より、空隙の大きさや深さを精度よく形成することができる。また、透明基材上の微細なパターン状の活性化処理領域で形成されるパターンの領域微細なパターンの集合体として表される領域となる。と、透明基材上のそのパターンの領域に対応する位置にある空隙空隙は、ホログラムラベル全域に渡って形成されているが、その中で、透明基材上に設けられたパターン状の活性化処理領域の直下となる領域内にある空隙群を意味する。との関係において、その微細なパターンを網点の集合体として表して、且つ、微細なパターンの網点の大きさ直径など。と、空隙の網点の大きさ直径など。とを同一とし、併せて、微細なパターンの網点の配置ホログラムラベル内の水平方向の位置や、水平方向の相互の間隔など。と、空隙の網点の配置ホログラムラベル内の水平方向の位置や、水平方向の相互の間隔など。とを同一とすることで、不正な剥離を行った際のホログラム形成層の破断をさらに生じやすくすることが可能となる。すなわち、透明基材を剥離しようとしたとき、活性化処理され、透明基材及びホログラム形成層と強固に接着している微細なパターンの網点部分において、ホログラム形成層に破断が生じ、透明基材側に付着して持ち上げられることになるが、このとき、その破断されたホログラム形成層には、やはり同様に破断された反射性薄膜層が積層されているものの、その下は、丁度、空隙にあたり、粘着剤が接していいない部分となるため、粘着剤による、透明基材による引っ張りに対抗する力が働かず、容易に、透明基材側に取られることとなる。特に、透明基材上のパターンの境界線画線の端部。においては、その内側は、パターンを構成する微細なパターンの網点群が整然と並び、その外側は、その網点が全く存在しない領域となるため、この境界線で、上記した破断が、確実に、且つ、安定して発生することとなる。これは、その境界線のすぐ内側の一つ目の空隙のある部分において、破断が発生しなくても、その内側にある二つの目の空隙のある部分、さらには、その内側の空隙のある部分において、破断が発生することを意味する。このホログラムラベルを所望の被貼着体上の適宜な位置に貼着した後、このホログラムラベルを剥そうとすると、透明基材が容易に剥がれ、透明基材側に破断したホログラム形成層、破断した反射性薄膜層が付着し開封の文字等のパターンを示す。、被貼着体側には、残りのホログラム形成層と残りの反射性薄膜層、及び、凹んだ粘着層が残り、開封の文字等の白抜きパターンを示し、且つ、ホログラムレリーフによるホログラム再生像を遮断するように、そのパターンを浮き上がらせる。、不正なホログラムラベルの剥し行為が行われたことを明示する。本発明によれば、透明基材に、パターン状の活性化処理を施し、さらには、それ以外の領域の不活性化処理を行い、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、網点形状の空隙を有する粘着層が設けられていることを特徴とするホログラムラベルを提供することができ、このホログラムラベルを、所望の被貼着体に貼着後、本来剥すことのないそのホログラムラベルを不正な目的のために剥そうとすると、その透明基材とホログラム形成層との界面で優先して剥離が発生し、その剥離した後には、不正行為であるという鮮明なメッセージを表出することができ、不正が行われたことを、目視にて、確実、且つ、容易に判定することを可能とする。透明基材本発明のホログラムラベルAで使用される透明基材1は、厚みを薄くすることが可能であって、機械的強度や、ホログラムラベルAを製造する際の処理や加工に適した耐溶剤性および耐熱性を有するものが好ましい。使用目的にもよるので、限定されるものではないが、フィルム状もしくはシート状のプラスチックが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアリレート、トリアセチルセルロースTAC、ジアセチルセルロース、ポリエチレン/ビニルアルコール等の各種のプラスチックフィルムを例示することができる。そして、透明基材1の一方の面をパターン状に表面活性化処理し活性化処理領域2となる。、または、透明基材1上のパターン状の活性化処理領域2以外の領域を、不活性化処理し図示せず。、さらには、透明基材1の全面を、一度、活性化処理した後図示せず。、その上から、所望の部分パターン以外の領域。を不活性化処理する図示せず。方法を用いることにより、活性化処理領域2における、透明基材1とホログラム形成層3との間の剥離強度と、それ以外の領域もしくは不活性化処理領域における透明基材1とホログラム形成層3との間の剥離強度との差を、大きくすることができ、より確実にホログラム形成層を破断させることができる。図1参照。透明基材1の厚さは、通常5~250μmであるが、ラベルとしての取り扱い適正から25~100μmとすることが望ましい。また、透明基材の一方の面に、透明な樹脂をコーティングして、この透明な樹脂に上記処理を行い、上記した効果を持たせても良い。この透明な樹脂には、上記した樹脂群に加え、下記するホログラム形成層に用いられる樹脂を使用することができる。さらに、活性化処理面と不活性化処理面との剥離強度の差を拡大する目的で、ホログラム形成層3上に保護層として形成され、透明基材1との剥離性を有する透明な樹脂を設けてもよい。この場合も、透明な樹脂としては、上記した樹脂群に加え、下記するホログラム形成層3に用いられる樹脂を、適宜、使用することができる。もちろん、環境影響を配慮して、透明な生分解性を有するプラスチックフィルム又はシートを使用することもでき、化学合成系として、ラクトン系樹脂:εーカプロラクトン、4-メチルカプロラクトン、355-トリメチルカプロラクトン、335-トリメチルカプロラクトン、βープロピオラクトン、γーブチロラクトン、δーバレロラクトン、エナントラクトンの単独重合体またはこれら2種以上のモノマーの共重合体、これらの混合物、ポリカプロラクトン、もしくは、ポリブチレンサクシネート系樹脂:ポリブチレンサクシネートアジペート、ポリブチレンサクシネートとポリカプロラクトンとの混合物、ポリブチレンサクシネートとポリブチレンサクシネートアジペートとの混合物、ポリブチレンサクシネートアジペートとポリ乳酸との混合物、もしくは、ポリ乳酸、ポリ乳酸とD-乳酸との混合物など、もしくは、低分子量脂肪族ジカルボン酸と低分子量脂肪族ジオールより合成したポリエステル樹脂、例えばコハク酸とブタンジオール、エチレングリコールとの組み合わせや、シュウ酸とネオペンチルグリコール、ブタンジオール、エチレングリコールとの組み合わせなど、変性ポリビニルアルコールと脂肪族ポリエステル樹脂と澱粉の混合物、低分子量脂肪族ポリエステルに脂肪族イソシアネートを添加して重合させたものが好適である。また、天然物系として、ゼラチンなどの動物性天然物質、セルロースなどの植物性天然物質:澱粉脂肪酸エステル、澱粉キトナンセルロース等、微生物生産系として、ポリヒドロキシブチレートや、ポリエステル系:炭素源として3-ヒドロキシプロピオン酸、4-ヒドロキシ酪酸、γ―ブチロラクトンをベースとするP3HB-CO―4HB、炭素源としてプロピオン酸、吉草酸をベースとしたP3HB-CO―3HV等、が好適である。活性化処理透明基材1の一方の面に対する表面活性化処理には、炭酸ガスレーザー照射、遠赤外線炭酸ガスレーザー照射、172nm真空紫外線VUV、エキシマ光照射、酸素増感エキシマ光照射、プラズマ処理、オープンプラズマ処理、コロナ処理、電子線照射処理等の透明基材最表面の化学結合エネルギーよりも大きいフォトンエネルギー7.2eV、放電エネルギー、電子線エネルギー等により、透明基材最表面の化学結合を切断し、または、172nmの真空紫外線等のように、大気中の酸素に吸収されてオゾンまたは直接励起酸素を発生し、この接触により官能基を生成する等の物理的処理や、過マンガン酸塩、過酸化物等の酸化剤を塗布することによる透明基材表面の酸化処理、プライマーコーティング処理、ビニル、エポキシ、メタクリキシ、アミノ、メルカプト、アクリロキシ、イソシアネート、またはスチリル、アルコキシオリゴマータイプシランカップリング剤を用いた処理等の化学的処理、真空処理であるアルゴンビームエッチング処理、透明基材を部分的に溶解するエッチング液処理、さらには機械的に透明基材表面を削り取るサンドブラスト加工等の物理的な処理等を用いて、活性化処理領域2を形成する。この透明基材1の表面化活性化処理によって、透明基材1との接着性の弱い、すなわち、剥離強度の小さい樹脂に対しても、大きな剥離強度を得ることができる。以上の表面活性化処理を用いて、透明基材1の界面張力もしくは表面エネルギーを増大させる。ホログラム形成層3に用いる樹脂や、その形成方法によってその剥離強度は決まるため、界面張力値を一義的には指定できないが、その目安としては、60~80mN/mが好適である。ポリエチレンテレフタレート樹脂では、36mN/mが、60mN/mに増大し、ホログラム形成層としてのメラミン樹脂との剥離強度が0.4kg/25mm幅から2.1kg/25mm幅へと大きくなる。そのため、透明基材1の一方の面を表面活性化して、その上に形成するホログラム形成層3との接着性を向上させ、0.5kg/25mm幅以上、3.0kg/25mm幅以下の強度JISZ0237で規定する180°剥離試験にて。とし、その表面活性化処理面を視認可能な所望のパターン状文字、図形、記号等、視認可能な表示であればいずれも使用できる。代表的には、ラベルを剥離した証拠を示すという意味で、開封等の文字表示をするため、開封文字部分を活性化する。とする。これが、活性化処理領域2となる。図1参照。表面活性化処理の中でも、レーザー照射等の光処理、またはプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材1の処理面に凹凸が発生せず、鏡面を維持していること、活性化処理面上への不活性化処理による不活性化効果が大きいこと、及び、光学的透明性にも優れることから、特に望ましい。さらに、上記したパターン内を均一に活性化処理することに替えて、そのパターン内をよりサイズの小さい微細なパターン、例えば、網点形状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみを活性化することで例えば、網点形状に活性化することにより、パターン内の網点以外の部分は、未処理面として残る。、透明基材1を剥離した際の破断するきっかけを増し、その破断性を向上することができる。好適には、30μm~300μmの大きさの一様な網点網点率は、30~70が好適。その網点内のみ活性化処理する。や、その大きさの升目を有する市松模様正方形や、長方形、その他形状。一つ飛ばしに活性化処理する。、さらには、規則的な処理による不要な回折現象を発生させることを回避するため、網点や市松模様の升目の大きさを30μm~300μmの間で、ランダムに変化させたものを用いる。もちろん、その変化を全く無秩序なものとせず、所定の法則に従った、不連続な変化としてもよい。不活性化処理透明基材1の一方の面の活性化処理領域2以外の部分を選択的に不活性化処理したり、透明基材1の一方の面を全面表面活性化処理後に、パターン以外の部分を表面不活性化処理するなどの処理をするためには、透明基材1の最表面のみを部分的に溶解する、もしくは、活性化した官能基と反応して官能基の活性を解消する、溶剤類、例えば、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、イソホロン、ジイソブチルケトン、等。、アルコール類メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-プロピルアルコール、イソブチルアルコール、n-ブチルアルコール等、さらにはその水溶液。、芳香族類ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベッソNo.100、ソルベッソNo.150、カクタスP-180等。、環状炭化水素類シクロヘキサン等、エステル類酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セルソルブ、エチルー3-エトキシプロピオネート等。、エーテル類テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、t-ブチルセロソルブ等。等をパターン以外の領域に対して、活版印刷方式やインクジェット方式を用いて、表面活性化処理面への接触を避けてパターン形成し、透明基材1の活性化された最表面の部分のみと反応して、その部分のみを不活性化させる。このとき、溶剤が瞬時に揮発せず、所定時間、透明基材表面に留まる必要があるため、その沸点は、60度以上200度以下、好適には、100度以上160度に調整する。この方法は、透明基材1の表面粗さ鏡面性に悪影響をほとんど与えず、その性質のみを変化させるという意味で、特に好適である。または、透明基材1とはそもそも接着し難い、界面張力の小さい樹脂、例えば、シリコーン樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂や、これらのフッ化炭化水素基、有機珪素基を含む樹脂や、不揮発油リンシードオイル、ポピーオイル、ウォルナッツオイル等の乾性油、オリーブオイルや落花生油等の不乾性油、ゴマ油、ナタネ油等の半乾性油等を、活版印刷や、インクジェット印刷等により、上記したパターン以外の領域図示せず。に部分形成することで、高い精度で不活性化処理することができる。この際、部分形成後に透明基材1上に光学的な変化を与えないことが望ましく、溶剤等は揮発することで、また、樹脂等はあくまで表面改質の目的であって乾燥後の形成厚さが光の波長の1/5~1/50程度となることが望ましい。もちろん、これらを併用することも好適である。もちろんそのパターンを微細なパターンの集合で構成した場合も同様である。この不活性化処理により、その不活性化処理面は、透明基材1とホログラム形成層3との剥離強度を、0.01kg/25mm幅以上0.1kg/25mm幅以下とすることができ、ホログラムラベルAを剥そうとすると、どのように工夫しても、必ず、透明基材1とホログラム形成層3間にすきまが発生し、透明基材のみが剥離し始めることとなる。そして、透明基材1を剥離した部分、すなわち、不活性化処理面にあたるホログラム形成層3の最表面がほぼ鏡面となって、その部分からは、その下にあるホログラム再生像を鮮明に視認することができる。ホログラム形成層本発明のホログラム形成層3を構成するための透明な樹脂材料としては、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。熱可塑性樹脂としてはアクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、もしくはポリスチレン樹脂等が、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、もしくはフェノール樹脂等が挙げられる。図1参照。これらの熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂は、1種もしくは2種以上を使用することができる。これらの樹脂の1種もしくは2種以上は、各種イソシアネート樹脂を用いて架橋させてもよいし、あるいは、各種の硬化触媒、例えば、ナフテン酸コバルト、もしくはナフテン酸亜鉛等の金属石鹸を配合するか、または、熱もしくは紫外線で重合を開始させるためのベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、もしくは、ジフェニルスルフィド等を配合しても良い。また、電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリル変性ポリエステル等を挙げることができ、このような電離放射線硬化性樹脂に架橋構造を導入するか、もしくは粘度を調整する目的で、単官能モノマーもしくは多官能モノマー、またはオリゴマー等を配合して用いてもよい。上記の樹脂材料を用いてホログラム形成層3を形成するには、感光性樹脂材料にホログラムの干渉露光を行なって現像することによって直接的に形成することもできるが、予め作成したレリーフホログラムもしくはその複製物、またはそれらのメッキ型等を複製用型として用い、その型面を上記の樹脂材料の層に押し付けることにより、賦型を行なうのがよい。熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、型面に未硬化の樹脂を密着させたまま、加熱もしくは電離放射線照射により、硬化を行わせ、硬化後に剥離することによって、硬化した透明な樹脂材料からなる層の片面にレリーフホログラムの微細凹凸を形成することができる。なお、同様な方法によりパターン状に形成して模様状とした回折格子を有する回折格子形成層も光回折構造として使用できる。レリーフホログラムは、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラムなどのレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラムなどの白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラムCGH、ホログラフィック回折格子などがある。また、マシンリーダブルホログラムのように、その再生光を受光部でデータに変換し所定の情報として伝達したり、真偽判定を行うものであってもよい。微細な凹凸を精密に作成するため、光学的な方法だけでなく、電子線描画装置を用いて、精密に設計されたレリーフ構造を作り出し、より精密で複雑な再生光を作り出すものであってもよい。このレリーフ形状は、ホログラムを再現もしくは再生する光もしくは光源の波長域と、再現もしくは再生する方向、及び強度によってその凹凸のピッチや、深さ、もしくは特定の周期的形状が設計される。凹凸のピッチ周期は再現もしくは再生角度に依存するが、通常0.1μm~数μmであり、凹凸の深さは、再現もしくは再生強度に大きな影響を与える要素であるが、通常0.1μm~1μmである。単一回折格子のように、全く同一形状の凹凸の繰り返しであるものは、隣り合う凹凸が同じ形状であればある程、反射する光の干渉度合いが増しその強度が強くなり、最大値へと収束する。回折方向のぶれも最小となる。立体像のように、画像の個々の点が焦点に収束するものは、その焦点への収束精度が向上し、再現もしくは再生画像が鮮明となる。さらに、反射性薄膜層4が透明金属化合物等からなる透明反射性薄膜の場合は、その薄膜の上下の面が、同一レリーフ形状であり、且つ、その面と面の距離すなわち膜厚さが均一であればあるほど、再現もしくは再生強度が大きくなる。また、レリーフ面にホログラム画像の凹凸とは異なる周期、形状の凹凸が存在すると、それはホログラムもしくは回折格子の再現もしくは再生時のノイズとなり、画像を不鮮明にする要因となる。レリーフ形状を賦形複製ともいうする方法は、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型スタンパというとして用い、上記ホログラム形成層3上に、もしくは、下記する反射性薄膜層4上に、前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。形成するホログラムパターンは単独でも、複数でもよい。上記の極微細な形状を精密に再現するため、また、複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小とするため、原版は金属を使用し、低温高圧下で複製を行う。原版は、Niなどの硬度の高い金属を用いる。光学的撮影もしくは、電子線描画などにより形成したガラスマスターなどの表面にCr、Ni薄膜を真空蒸着法、スパッタリングなどにより5~50nm形成後、Niなどを電着法電気めっき、無電解めっき、さらには複合めっきなどにより50~1000μm形成した後、金属を剥離することで作ることができる。高圧回転式の複製に用いるためには、このNi層の厚み精度を高くする必要があり、通常±10μm、好ましくは、±1μmとする。このため、裏面の研磨や、平坦化方法を用いてもよい。複製方式は、高圧とするため、平板式でなく、回転式を用い、線圧0.1トン/m~10トン/m、好ましくは、5トン/m以上とする。複製用シリンダーは、その直径が小さいとレリーフの再現性が低下するため、複製シリンダー直径は大きい方が好ましく、通常、直径0.1m~2.0m、好ましくは、1.0m以上の弧を使用する。透明基材1上のホログラム形成層3をこの複製用シリンダーに沿って押し当て、裏面より金属製シリンダーにより上記圧力にて複製を実施する。複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小限とするためには、透明な基材1全体を加熱するのではなく、ホログラム形成層3面側の一部のみを加熱する方法が望ましい。通常60°C~110°Cに加熱する。さらには、裏面の金属製シリンダーを常温に保つ、もしくは冷却することで、さらにその精度を向上させることができる。反射性薄膜層本発明のホログラムラベルAでは、ホログラム形成層3の上に形成されているホログラムレリーフに接して、且つ、追従するように反射性薄膜層4を形成する。この反射性薄膜層4は、入射した光を反射する必要があるため、透明基材1よりも高い屈折率を有する薄膜であれば、特に限定されない。図1参照。反射性薄膜層4としては、真空薄膜法などにより形成される金属薄膜などの金属光沢反射層、又は透明反射層のいずれでもよいが、金属光沢反射層を部分的に設けたり、透明反射層を設けた場合は、ラベル貼着後にそのラベルに覆われた被貼着体上の画像などがホログラムを通して観察できるので好ましい。透明反射層としては、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム形成層3のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できることから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム形成層3よりも光屈折率の高い薄膜には、例として、ZnS、TiO2、Al2O3、Sb2S3、SiO、SnO2、ITOなどがある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Be、Mg、Ca、Cr、Mn、Cu、Ag、Al、Sn、In、Te、Ti、Fe、Co、Zn、Ge、Pb、Cd、Bi、Se、Ga、Rb、Sb、Pb、Ni、Sr、Ba、La、Ce、Auなどの酸化物又は窒化物他はそれらを2種以上を混合したものなど透明金属化合物が例示できる。またアルミニウムなどの一般的な光反射性可視光波長のほぼ全域にわたる反射、すなわち、全反射に近い性質を有する。の金属薄膜も、厚みが20nm以下になると、透明性が出て使用できる。透明反射層透明金属化合物層の形成は、金属の薄膜と同様、10~2000nm程度、好ましくは20~1000nmの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVD化学蒸着法などの真空薄膜法などにより設ければよい。特にCVD法はホログラム形成層3への熱的ダメージが少ない。また、他の薄膜形成法を用いても、形成する薄膜層を薄くしておくと、その熱的ダメージを少なくすることができる。例えば、アルミニウム蒸着層であれば、形成条件によるが、厚さにして、ほぼ20nmのものあたりが、透明性が無くなり全反射性を出現する臨界点である。この厚さは薄膜材料、形成方法、金属加熱温度真空度等の形成条件により異なる。粘着層粘着層6としては、従来公知の溶剤系及び水系のいずれの粘着剤、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル-アクリル共重合体、酢酸ビニル-塩化ビニル共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂や、天然ゴム、クロロプレンゴムなどのゴム系樹脂などが挙げられる。自然にやさしい材料構成とするために、特に、天然ゴムを主成分とするラテックス、それを変性したもの、特に天然ゴムにスチレン特にメタクリルさんメチルとをグラフト重合させて得た天然ゴムラテックス等の天然素材から作製されたものを用いても良い。粘着層6については、まず、反射性薄膜層4上に、ステンレススクリーン印刷法等の微細な印刷が可能な印刷方法を用いて、網点形状の余白を残したパターン網点形状の白抜きを有するベタ印刷を意味する。で粘着層6に用いられる粘着剤を用いて、粘着層6の上側部分を形成し図示せず。、これとは別に、同一の粘着剤を用いて剥離紙図示せず。上にベタ状に粘着剤を形成したもの粘着層6の下側部分図示せず。を形成し、これらを貼り合わせ、剥離紙を剥離して、粘着層6を反射性薄膜層4上に形成する。図1参照。若しくは、剥離紙上に所定の厚さの粘着層6に用いられる粘着剤をベタ状に形成後、網点形状の空隙5に相当する凸部を有する樹脂凸版図示せず。をその粘着剤に押し付け、空隙5に相当する凹部を形成し、この凹部形成側の面を反射性薄膜層4に接着させた後、剥離紙を剥離する方法等を用いることができる。図1参照。粘着層6に用いられる溶剤としては、溶剤類、例えば、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、イソホロン、ジイソブチルケトン、等。、アルコール類メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-プロピルアルコール、イソブチルアルコール、n-ブチルアルコール等、さらにはその水溶液。、芳香族類ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベッソNo.100、ソルベッソNo.150、カクタスP-180等。、環状炭化水素類シクロヘキサン等、エステル類酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セルソルブ、エチルー3-エトキシプロピオネート等。、エーテル類テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、t-ブチルセロソルブ等。等を用いることができる。粘着層6の形成厚さは、10μm~60μmとする。粘着層6の上側部分の形成方法としては、精密な印刷を要するため、ステンレススクリーン印刷方法や、活版印刷方式、オフセット印刷方式、フォトレジスト処理方式等を用いることができる。また、粘着層6の下側部分の形成方法としては、グラビアコート、ロールコート、コンマコートなどの方法で、塗布し乾燥して形成することができる。粘着層6の粘着力は、反射性薄膜層4と粘着層6との界面の剥離強度として、JISZ0237準拠の180°による剥離方法において、0.1~1kg程度の範囲にすることが望ましい。もちろん、それ以上の剥離強度を有していても、本発明の目的には適合している。以上の如き粘着剤の種類や、形成厚さは、透明基材1、ホログラム形成層3及び反射性薄膜層4上に空隙を有する粘着層6を形成する際に、その剥離強度が前記範囲になるように、選択して使用することが好ましい。以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。なお、溶媒を除き、各層の各組成物は固形分換算の質量部である。実施例1透明基材1として、38μmのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その一方の面を、タテヨコ20mm×20mmサイズの開と封の文字画線の幅は、2mm。を縦横繰り返す文字パターン状に、エキシマ社製エキシマUV03改質装置を用いて、波長172nmのエキシマ光を走査しながら照射して表面活性化処理した。この処理領域が、パターン状の活性化処理領域2となる。図1参照。その上に、メラミン樹脂からなるホログラム形成層3を形成した後透明基材1と、ホログラム形成層3との剥離強度:活性化処理面1.2kg/25mm幅に相当。、レーザ光学系を用いて撮影した意匠性の高いホログラムを備えたNi原版を用意し、上記したホログラム形成層3に、そのNi原版のレリーフ面を合わせて、回転式レリーフホログラム形成装置原版シリンダー径1.0m原版面温度100°C、加圧シリンダー径0.3m水冷式、圧力2トン/m、複製速度10m/分にてホログラムレリーフをホログラム形成層3上に形成した。次に、アルバック社製真空蒸着機にて、そのホログラムレリーフ面に接して、且つ、追従するように200nm厚さのアルミニウム薄膜からなる反射性薄膜層4を形成した。図1参照。この反射性薄膜層4上に、下記粘着層6の上側部分用粘着剤組成物をステンレススクリーン印刷方式を用いて、直径200μm、網点率50の網点形状の白抜きを含むベタ印刷を、厚さ20μmとなるように形成し、粘着層6の上側部分とした。これとは別に、50μmの剥離紙上に、下記粘着層6の下側部分用粘着剤組成物をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が10μmになるように、塗工し70°Cで乾燥させて、粘着層6の下側部分を形成した後、この粘着層6の下側部分と、上記の粘着層6の上側部分が接するようにして、線圧0.5kg/cmの圧力でラミネート処理し、粘着層6の上側部分と、粘着層6の下側部分を一体化させ、最大厚さ30μmの粘着層6直径200μm、深さ20μmの円柱形の空隙5を含む。とし、20mm×40mmのサイズにカットし、剥離紙を剥離して、実施例1のホログラムラベルAを得た。<粘着層6の上側部分用粘着剤組成物>酢酸ビニル-アクリル共重合体30質量部イソホロンジイソシアネート0.1質量部トルエン10質量部イソプロピルアルコール20質量部酢酸ビニル30質量部エチルセルソルブ10質量部<粘着層6の下側部分用粘着剤組成物>酢酸ビニル-アクリル共重合体30質量部トルエン40質量部酢酸ビニル40質量部このホログラムラベルAを、重要書類を入れた封筒の封緘用に所定の圧力をかけて貼着し、24時間放置した後、目視にて観察したところ、表面活性化処理領域2とその他領域に光学的な差は認識できず、パターン状の文字があることは確認できなかった。そのホログラムラベルAを剥そうとしたところ、透明基材1のみが容易に剥離し始め、透明基材1の開と封の文字にあたる部分活性化処理領域2のみに、破断したホログラム形成層3及び、反射性薄膜層4が付着して、剥がれた。そして、その封筒の封緘部分には、開と封の文字にあたる部分が白抜きとなった、透明基材1の無いホログラムラベルAの残部が、残っており、開と封の文字にあたる部分が遮断された、鮮明なホログラム再生像を視認することができた。このことから、ホログラムラベルAは、高い意匠性と、高い開封防止効果を有するものと思われた。実施例2透明基材1として、38μmのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その一方の面を、エキシマ社製エキシマUV03改質装置を用いて、波長172nmのエキシマ光を照射して表面活性化処理した。その活性化処理面上に、下記不活性化処理用溶剤組成物を用いて、活版方式にて、タテヨコ20mm×20mmサイズの開と封の文字画線の幅は、2mm。を縦横繰り返す文字が白抜きとなるパターン状となるように、乾燥前塗布厚さ5μmで形成した開と封の文字の画線部分のみが、活性化処理領域として残り、それ以外の部分が不活性化処理領域となる。。これを乾燥温度80度にて乾燥し、開と封の文字を縦横繰り返すパターン状の活性化処理領域2図1参照。と、その周辺の不活性化処理領域図示せず。を形成した。不活性化処理用溶剤組成物メチルエチルケトン沸点80度15部トルエン沸点100度25部メチルイソブチルケトン沸点115度30部シクロヘキサノン沸点156度30部その上に、メラミン樹脂からなるホログラム形成層3を形成したこと透明基材1と、ホログラム形成層3との剥離強度:不活性化処理部分80g/25mm幅、活性化処理面1.2kg/25mm幅に相当。以外は、実施例1と同様にして、実施例2のホログラムラベルAを得た。実施例1と同様に評価したところ、透明基材1の剥離を行った際に、透明基材1の初期剥離が非常にスムースであったこと、及び、ホログラム形成層3の破断がより生じやすくなったこと以外は、実施例1と同様の良好な結果を得た。実施例3アルバック社製電子線加熱方式真空蒸着機を用いて、TiOx薄膜層40nmを形成すること、及び、封緘する封筒にデザインが印刷されていること以外は全て実施例1と同様とし、実施例3のホログラムラベルA透明なホログラムラベルAを得た。実施例1と同様に評価したところ、透明なホログラムラベルAの中のパターン状の文字部分と、それ以外の部分において、光学的な差はなく、透明なホログラムラベルAを通して、封筒のデザインが鮮明に確認できたこと、及び、透明性を有する反射性薄膜層4の下に、網点状の模様空隙の網点が透けて見える。を見ることができたが、その模様がホログラムラベル全面に一様にあるため、これがホログラム形成層の破断を促進するものであるとは読み取れなかったことに加えて、実施例1と同様の良好な効果が得られた。実施例4透明基材1として、38μmのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その一方の面を、ナビタス社製ポリダイン低周波コロナ処理システムによってコロナ処理方式にて表面活性化処理し、下記組成の不活性化処理用溶剤組成物をインクジェト方式にて、厚さ1μmで形成した以外は、実施例2と同様にして、実施例4のホログラムラベルAを得た。不活性化処理用溶剤組成物メチルエチルケトン沸点80度40部トルエン沸点100度30部メチルイソブチルケトン沸点115度29部リンシードオイル1部実施例2と同様に評価したところ、透明基材1が非常に容易に剥がれたこと以外は、実施例2と同様の効果が得られた。実施例5透明な基材1として、生分解プラスチック東セロ製パルシール厚さ40μmを使用する以外は、全て実施例1と同一とし、実施例5のホログラムラベルAを得た。実施例1と同様に評価したところ、実施例1と同様の効果が得られ、廃棄時には、環境にやさしいものになると推定された。実施例6パターン状の活性化処理領域2のパターンを、微細なパターンである、50μm×100μmの長方形とし、この基本形を市松模様として長方形の微細なパターンの隣が、長方形の空白となる模様。、パターン状の活性化処理領域2のパターン内を、一つ飛ばしに表面不活性化処理し長方形の空白のみを処理。、且つ、パターン以外の領域開と封の画線以外の領域。をベタ状に表面不活性化処理し、微細なパターンの集合から構成される、上記した開と封のパターン状の活性化処理領域2を形成した長方形の微細なパターンのみが活性化処理されている。こと以外は、実施例2と同様にして、実施例6のホログラムラベルAを得た。実施例2と同様に評価したところ、剥離の際に表示される開封の文字が剥離前にはより発見しにくく、ホログラム形成層3の破断がより生じやすくなったこと以外は、実施例2と同様の良好な結果を得た。実施例7パターン状の活性化処理領域2のパターンを、微細なパターン、すなわち、直径200μm、網点率50の網点形状とし、そのパターンに対応する領域にある空隙群について、その網点の大きさと位置を同一とした直径200μmの空隙5を形成したこと、及び、そのパターン以外の領域についても、同一の大きさの空隙5を同一の間隔で形成したこと以外は、実施例6と同様にして、実施例7のホログラムラベルAを得た。実施例6と同様に評価したところ、ホログラム形成層3の破断がより生じやすくなったこと以外は、実施例2と同様の良好な結果を得た。比較例1表面活性化処理を行わないこと、及び、粘着層を30μm厚さの一様な層としたこと以外は、実施例1と同様にし、比較例1のホログラムラベルを得た。このホログラムラベルを実施例1と同様に評価したところ、透明基材1が容易には剥がれず、粘着層6から剥離し、剥離の途中から透明基材1とホログラム形成層3との間に僅かなすきまが発生したに留まった。従って、このホログラムを丁寧に剥がせば、不正に剥すことも可能であると思われた。