"放射線源に対向配置された複数の格子と、前記複数の格子のうちいずれかを所定の走査ピッチで移動させ、複数の走査位置に順に設定する走査機構と、前記各走査位置で、前記放射線源から放射され前記複数の格子を通過した放射線を検出して画像データを生成する放射線画像検出器と、前記各画像データの各画素値が異常画素値であるか否かを所定の判定基準に基づいて判定する異常画素値判定部と、前記各画像データから前記異常画素値を除去する異常画素値除去部と、前記異常画素値が除去された前記各画像データに基づいて位相微分画像を生成する位相微分画像生成部と、を備えることを特徴とする放射線撮影装置。前記異常画素値以外の正常画素値の数を、前記各画像データにおいて対応する画素毎にカウントする正常画素値計数部を備えることを特徴とする請求項1に記載の放射線撮影装置。前記異常画素値判定部は、前記走査機構により設定される全ての前記複数の走査位置で前記放射線画像検出器により前記画像データが生成された後、前記判定を行うことを特徴とする請求項2に記載の放射線撮影装置。前記正常画素値の数が基準値より少ない画素が所定数以上存在する場合にエラー報知を行うエラー報知部を備えることを特徴とする請求項3に記載の放射線撮影装置。前記異常画素値判定部は、前記走査機構により設定される前記各走査位置で前記放射線画像検出器により前記画像データが生成されるたびに前記判定を行い、前記正常画素値計数部は、前記異常画素値判定部により前記判定が行われるたびに前記正常画素値の数をカウントすることを特徴とする請求項2に記載の放射線撮影装置。前記走査機構は、前記正常画素値の数が基準値より少ない画素が所定数より少なくなるまで、前記複数の格子のうちいずれかを移動させて新たな走査位置を設定し、前記放射線画像検出器は、前記走査機構により設定された新たな走査位置で前記画像データを生成することを請求項5に記載の放射線撮影装置。前記正常画素値の数が基準値より少ない画素が所定数以上とならないまま、前記画像データの生成回数が規定回数に達した場合に、エラー報知を行うエラー報知部を備えることを特徴とする請求項6に記載の放射線撮影装置。前記画像データ中の前記異常画素値の数に基づき、前記画像データが正常であるか否かを判定する画像データ判定部を備え、前記走査機構は、所定枚の正常な画像データが得られるまで、前記複数の格子のうちいずれかを移動させて新たな走査位置を設定し、前記放射線画像検出器は、前記走査機構により設定された新たな走査位置で前記画像データを生成することを請求項1に記載の放射線撮影装置。所定枚の正常な画像データが得られないまま、前記画像データの生成回数が規定回数に達した場合に、エラー報知を行うエラー報知部を備えることを特徴とする請求項8に記載の放射線撮影装置。前記判定基準は、前記正常画素値が取り得る下限及び上限により規定されていることを特徴とする請求項1から9いずれか1項に記載の放射線撮影装置。前記放射線源から放射される放射線の放射線量を計測する放射線量計測部と、前記放射線量検出部により検出された放射線量に基づいて前記判定基準を決定する判定基準決定部と、を備えることを特徴とする請求項10に記載の放射線撮影装置。前記放射線量計測部は、前記放射線源から放射される放射線の放射線量を、前記複数の格子を介さずに検出する放射線量センサであることを特徴とする請求項11に記載の放射線撮影装置。前記放射線量計測部は、前記放射線源の管電流を検出するとともに、検出した管電流を時間積算することにより放射線量を計測する管電流時間積算部であることを特徴とする請求項11に記載の放射線撮影装置。前記位相微分画像を積分処理して位相コントラスト画像を生成する位相コントラスト画像生成部を備えることを特徴とする請求項1から13いずれか1項に記載の放射線撮影装置。前記異常画素値判定部により判定された異常画素値が補正可能であるか否かを判定する補正可否判定部と、前記補正可否判定部により補正可能と判定された異常画素値を、その周辺の正常画素値に基づいて補正する補正処理部と、を備えることを特徴とする請求項1から14いずれか1項に記載の放射線撮影装置。前記複数の格子は、放射線源から放射された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽して第2の周期パターン像を生成する第2の格子とからなり、前記走査機構は、前記第1の格子または前記第2の格子を移動させることを特徴とする請求項1から15いずれか1項に記載の放射線撮影装置。前記複数の格子は、前記放射線源から放射された放射線を部分的に遮蔽して焦点を分散化する線源格子と、前記線源格子から射出される放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽して第2の周期パターン像を生成する第2の格子とからなり、前記走査機構は、前記線源格子、前記第1の格子、前記第2の格子のうちいずれかを移動させることを特徴とする請求項1から15いずれか1項に記載の放射線撮影装置。前記第1の格子は、吸収型格子であり、入射した放射線を幾何光学的に投影することにより前記第1の周期パターン像を生成することを特徴とする請求項1から17いずれか1項に記載の放射線撮影装置。前記第1の格子は、吸収型格子または位相型格子であり、入射した放射線にタルボ効果を生じさせて前記第1の周期パターン像を生成することを特徴とする請求項1から17いずれか1項に記載の放射線撮影装置。放射線源に対向配置された複数の格子のうちいずれかを所定の走査ピッチで移動させ、複数の走査位置に順に設定するステップと、前記各走査位置で、前記放射線源から放射され前記複数の格子を通過した放射線を放射線画像検出器により検出して画像データを生成するステップと、前記各画像データの各画素値が異常画素値であるか否かを所定の判定基準に基づいて判定するステップと、前記各画像データから前記異常画素値を除去するステップと、前記異常画素値が除去された前記各画像データに基づいて位相微分画像を生成するステップと、を備えることを特徴とする放射線撮影方法。しかしながら、特許文献2に記載のX線撮影システムでは、縞走査法における一連の撮影動作中に振動が検出されるたびに、X線放射が停止されて再撮影が促されるため、再撮影を行う手間が生じるだけでなく、再撮影により被検体患者が余計に被曝するという問題がある。また、複数の画像データの一部が異常となる原因として、第1及び第2の格子の振動の他に、被検体の振動や、X線源によるX線放射のばらつき、X線画像検出器への静電気放電によるノイズ等も考えられる。本発明は、縞走査法で取得される複数の画像データの一部に異常が生じた場合でも精度よく位相微分画像を生成可能とする放射線撮影装置及び放射線撮影方法を提供することを目的とする。上記目的を達成するために、本発明の放射線撮影装置は、放射線源に対向配置された複数の格子と、前記複数の格子のうちいずれかを所定の走査ピッチで移動させ、複数の走査位置に順に設定する走査機構と、前記各走査位置で、前記放射線源から放射され前記複数の格子を通過した放射線を検出して画像データを生成する放射線画像検出器と、前記各画像データの各画素値が異常画素値であるか否かを所定の判定基準に基づいて判定する異常画素値判定部と、前記各画像データから前記異常画素値を除去する異常画素値除去部と、前記異常画素値が除去された前記各画像データに基づいて位相微分画像を生成する位相微分画像生成部と、を備えるものである。前記異常画素値以外の正常画素値の数を、前記各画像データにおいて対応する画素毎にカウントする正常画素値計数部を備えることが好ましい。前記異常画素値判定部は、前記走査機構により設定される全ての前記複数の走査位置で前記放射線画像検出器により前記画像データが生成された後、前記判定を行うことが好ましい。前記正常画素値の数が基準値より少ない画素が所定数以上存在する場合にエラー報知を行うエラー報知部をさらに備えることが好ましい。前記異常画素値判定部は、前記走査機構により設定される前記各走査位置で前記放射線画像検出器により前記画像データが生成されるたびに前記判定を行い、前記正常画素値計数部は、前記異常画素値判定部により前記判定が行われるたびに前記正常画素値の数をカウントしてもよい。この場合、前記走査機構は、前記正常画素値の数が基準値より少ない画素が所定数より少なくなるまで、前記複数の格子のうちいずれかを移動させて新たな走査位置を設定し、前記放射線画像検出器は、前記走査機構により設定された新たな走査位置で前記画像データを生成することが好ましい。また、前記正常画素値の数が基準値より少ない画素が所定数以上とならないまま、前記画像データの生成回数が規定回数に達した場合に、エラー報知を行うエラー報知部をさらに備えることが好ましい。前記画像データ中の前記異常画素値の数に基づき、前記画像データが正常であるか否かを判定する画像データ判定部をさらに備え、前記走査機構は、所定枚の正常な画像データが得られるまで、前記複数の格子のうちいずれかを移動させて新たな走査位置を設定し、前記放射線画像検出器は、前記走査機構により設定された新たな走査位置で前記画像データを生成してもよい。この場合には、所定枚の正常な画像データが得られないまま、前記画像データの生成回数が規定回数に達した場合に、エラー報知を行うエラー報知部を備えることが好ましい。前記判定基準は、前記正常画素値が取り得る下限及び上限により規定される。前記放射線源から放射される放射線の放射線量を計測する放射線量計測部と、前記放射線量検出部により検出された放射線量に基づいて前記判定基準を決定する判定基準決定部と、をさらに備えることが好ましい。前記放射線量計測部は、前記放射線源から放射される放射線の放射線量を、前記複数の格子を介さずに検出する放射線量センサであることが好ましい。前記放射線量計測部は、前記放射線源の管電流を検出するとともに、検出した管電流を時間積算することにより放射線量を計測する管電流時間積算部であってもよい。前記位相微分画像を積分処理して位相コントラスト画像を生成する位相コントラスト画像生成部を備えることが好ましい。前記異常画素値判定部により判定された異常画素値が補正可能であるか否かを判定する補正可否判定部と、前記補正可否判定部により補正可能と判定された異常画素値を、その周辺の正常画素値に基づいて補正する補正処理部と、を備えてもよい。前記複数の格子は、放射線源から放射された放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽して第2の周期パターン像を生成する第2の格子とからなり、前記走査機構は、前記第1の格子または前記第2の格子を移動させることが好ましい。前記複数の格子は、前記放射線源から放射された放射線を部分的に遮蔽して焦点を分散化する線源格子と、前記線源格子から射出される放射線を通過させて第1の周期パターン像を生成する第1の格子と、前記第1の周期パターン像を部分的に遮蔽して第2の周期パターン像を生成する第2の格子とからなり、前記走査機構は、前記線源格子、前記第1の格子、前記第2の格子のうちいずれかを移動させることが好ましい。前記第1の格子は、吸収型格子であり、入射した放射線を幾何光学的に投影することにより前記第1の周期パターン像を生成することが好ましい。前記第1の格子は、吸収型格子または位相型格子であり、入射した放射線にタルボ効果を生じさせて前記第1の周期パターン像を生成するものであってもよい。本発明の放射線撮影方法は、放射線源に対向配置された複数の格子のうちいずれかを所定の走査ピッチで移動させ、複数の走査位置に順に設定するステップと、前記各走査位置で、前記放射線源から放射され前記複数の格子を通過した放射線を放射線画像検出器により検出して画像データを生成するステップと、前記各画像データの各画素値が異常画素値であるか否かを所定の判定基準に基づいて判定するステップと、前記各画像データから前記異常画素値を除去するステップと、前記異常画素値が除去された前記各画像データに基づいて位相微分画像を生成するステップと、を備える。本発明によれば、各画像データの各画素値が異常画素値であるか否かを所定の判定基準に基づいて判定し、各画像データから異常画素値を除去し、異常画素値が除去された各画像データに基づいて位相微分画像を生成するので、複数の画像データの一部に異常が生じた場合でも精度よく位相微分画像を生成ことができる。第1実施形態図1において、X線撮影装置10は、X線源11、格子部12、X線画像検出器13、メモリ14、画像処理部15、画像記録部16、撮影制御部17、コンソール18、及びシステム制御部19を備える。X線源11は、周知のように、回転陽極型のX線管図示せずと、X線の照射野を制限するコリメータ図示せずとを有し、撮影制御部17の制御に基づき、被検体Hに向けてX線を放射する。格子部12は、第1の格子21、第2の格子22、及び走査機構23を備える。第1及び第2の格子21,22は、X線照射方向であるZ方向に関してX線源11に対向配置されている。X線源11と第1の格子21との間には、被検体Hが配置可能な間隔が設けられている。X線画像検出器13は、例えば、半導体回路を用いたフラットパネル検出器であり、第2の格子22の背後に、検出面13aがZ方向に直交するように配置されている。第1の格子21は、Z方向に直交する格子面内の一方向であるY方向に延伸された複数のX線吸収部21a及びX線透過部21bを備えた吸収型格子である。X線吸収部21a及びX線透過部21bは、Z方向及びY方向に直交するX方向に交互に配列されており、縞状のパターンを形成している。第2の格子22は、第1の格子21と同様にY方向に延伸され、かつX方向に交互に配列された複数のX線吸収部22a及びX線透過部22bを備えた吸収型格子である。X線吸収部21a,22aは、金Au、白金Pt等のX線吸収性を有する材料により形成されている。X線透過部21b,22bは、シリコンSiや樹脂等のX線透過性を有する材料や空隙により形成されている。第1の格子21は、X線源11から放射されたX線を部分的に通過させて第1の周期パターン像以下、G1像というを生成する。第2の格子22は、第1の格子21により生成されたG1像を部分的に透過させて第2の周期パターン像以下、G2像というを生成する。被検体Hが配置されていない場合において、G1像は、第2の格子22の格子パターンとほぼ一致する。X線画像検出器13は、G2像を検出して画像データを生成する。メモリ14は、X線画像検出器13から読み出された画像データを一時的に記憶する。画像処理部15は、メモリ14に記憶された複数の画像データに基づいて位相微分画像を生成し、この位相微分画像に基づいて位相コントラスト画像を生成する。画像記録部16は、位相微分画像及び位相コントラスト画像を記録する。走査機構23は、第2の格子22をX方向に間欠的に移動させ、第1の格子21に対する第2の格子22の位置走査位置を順に変更する。走査機構23は、圧電アクチュエータや静電アクチュエータを有し、撮影制御部17の制御に基づいて駆動される。メモリ14には、走査機構23により変更される第1の格子21に対する第2の格子22の各走査位置でX線画像検出器13により生成された画像データが一括して記憶される。コンソール18は、操作部18a及びモニタ18bを有する。操作部18aは、キーボードやマウス等により構成され、X線源11の管電圧、管電流、照射時間等の撮影条件の設定や、撮影実行指示等の操作入力を可能とする。モニタ18bは、撮影条件等の撮影情報や、画像記録部16に記録された位相微分画像及び位相コントラスト画像の表示を行う。システム制御部19は、操作部18aから入力される信号に応じて各部を統括的に制御する。図2において、X線画像検出器13は、周知のように、入射X線により半導体膜図示せずに生じた電荷を収集する画素電極31と、画素電極31によって収集された電荷を読み出すためのTFTThinFilmTransistor32とを備えた画素部30が2次元状に多数配列されたものである。半導体膜は、例えば、アモルファスセレンにより形成されている。X線画像検出器13は、ゲート走査線33、走査回路34、信号線35、及び読み出し回路36を有する。ゲート走査線33は、画素部30の行ごとに設けられている。走査回路34は、TFT32をオン/オフするための走査信号を各ゲート走査線33に付与する。信号線35は、画素部30の列ごとに設けられている。読み出し回路36は、各信号線35を介して画素部30から電荷を読み出し、画像データに変換して出力する。各画素部30の詳細な層構成については、例えば、特開2002-26300号公報に記載された層構成と同様である。読み出し回路36は、積分アンプ、A/D変換器、補正回路いずれも図示せず等を有する。積分アンプは、各画素部30から信号線35を介して出力された電荷を積分して画像信号を生成する。A/D変換器は、積分アンプにより生成された画像信号を、デジタル形式の画像データに変換する。補正回路は、画像データに対して、欠陥画素補正、暗電流補正、ゲイン補正、リニアリティ補正等を行う。このうち、欠陥画素補正は、前もって得られている欠陥画素情報に基づいて行う。この補正後の画像データがメモリ14に記憶される。この画像データの画素値は、QL値という濃度値で表される。X線画像検出器13は、入射X線を半導体膜で直接電荷に変換する直接変換型に限られず、ヨウ化セシウムCsIやガドリウムオキシサルファイドGOS等のシンチレータで入射X線を可視光に変換し、可視光をフォトダイオードで電荷に変換する間接変換型であってもよい。さらに、X線画像検出器13として、シンチレータと、CMOSセンサやCCDセンサ等の固体撮像素子とを組み合わせたものを用いてもよい。図3において、X線源11から照射されるX線は、X線焦点11aを発光点としたコーンビーム状である。第1の格子21は、タルボ効果が生じず、X線透過部21bを通過したX線をほぼ幾何光学的に投影するように構成されている。具体的には、X方向へのX線透過部21bの幅を、X線源11から照射されるX線の実効波長より十分大きな値とし、X線透過部21bを通過するX線の大部分がX線透過部21bで回折しないようにすることで実現される。X線源11の回転陽極としてタングステンを用い、管電圧を50kVとした場合には、X線の実効波長は約0.4Åである。この場合には、X線透過部21bの幅を1~10μm程度とすればよい。これにより、G1像は、第1の格子21からZ方向下流への距離に依らず、常に第1の格子21の自己像となる。G1像は、X線焦点11aからZ方向下流への距離に比例して拡大される。第2の格子22の格子ピッチp2は、前述のように、第2の格子22の格子パターンが第2の格子22の位置におけるG1像に一致するように設定されている。具体的には、第2の格子22の格子ピッチp2は、第1の格子21の格子ピッチp1、X線焦点11aと第1の格子21との間の距離L1、第1の格子21と第2の格子22との間の距離L2と、下式1をほぼ満たすように設定されている。G1像は、X線が被検体Hで位相変化して屈折することにより変調される。この変調量には、被検体HにおけるX線のX方向への屈折角φxが反映される。同図には、被検体HにおけるX線の位相変化を表す位相シフト分布Φxに応じて屈折するX線の経路が例示されている。符号X1は、被検体Hが存在しない場合にX線が直進する経路を示し、符号X2は、被検体Hにより屈折したX線の経路を示している。位相シフト分布Φxは、X線の波長をλ、被検体Hの屈折率分布をnx,zとして、下式2で表される。屈折角φxは、位相シフト分布Φxと、下式3の関係にある。第2の格子22の位置において、X線は、屈折角φxに応じた量だけX方向に変位する。この変位量Δxは、X線の屈折角φxが微小であることに基づいて、近似的に下式4で表される。このように、変位量Δxは、位相シフト分布Φxの微分値に比例する。したがって、変位量Δxを、縞走査法を用いて検出することにより、位相シフト分布Φxの微分値が得られ、位相微分画像が生成される。縞走査法は、格子ピッチp2をM個に分割した値p2/Mを走査ピッチとし、走査機構23により、この走査ピッチで第2の格子22を間欠移動させ、その停止中にX線源11からX線を放射してG2像をX線画像検出器13により撮影することにより行われる。Mは、例えば5とする。上式1を僅かに満たさない場合や、第1の格子21と第2の格子22との間にZ方向周りの回転や、XY平面に対する傾斜が僅かに生じている場合には、G2像にモアレ縞が生じる。このモアレ縞は、第2の格子22の並進移動に伴って移動し、X方向への移動距離が格子ピッチp2に達すると元のパターンに一致する。このモアレ縞の移動を確認することで、第2の格子22の移動量を確認することができる。上記縞走査により、X線画像検出器13の各画素部30について、M個の画素値が得られる。図4に示すように、座標x,yに位置するM個の画素値Ikx,yは、第1の格子21に対する第2の格子22の走査位置kに応じて周期的に変化する。走査位置kは、第2の格子22を一周期分移動させた場合の走査ピッチp2/Mごとの各位置である。走査位置kに対する画素値Ikx,yの変化を表す信号を強度変調信号という。同図中の破線は、被検体Hを配置しない状態で得られる強度変調信号を示している。実線は、被検体Hを配置した状態で、被検体Hにより位相ズレ量ψx,yが生じた強度変調信号を示している。この位相ズレ量ψx,yは、変位量Δxと下式5の関係にある。したがって、各画素部30について、縞走査で得られるM個の画素値Ikx,yに基づき、強度変調信号の位相ズレ量ψx,yを求めることにより、位相微分画像が得られる。次に、位相ズレ量ψx,yの算出方法について説明する。走査位置kに対する画素値Ikx,yの変化を表す強度変調信号は、一般に下式6で表される。ここで、A0は入射X線の強度に対応し、Anは強度変調信号の振幅に対応する値である。nは正の整数、iは虚数単位である。また、δkは、下式7で表される参照位相である。上式6において、n≧2以上の高次の項を無視することにより、強度変調信号は、図4に示した正弦波を示す下式8で表される。上式8を満たす画素値Ikx,yは理論値である。一方、X線画像検出器20により実際に得られる画素値Ikx,yは誤差を含んでいる。X線画像検出器20により得られる画素値Ikx,yから位相ズレ量ψx,yを算出するために、まず、上式8を下式9のように変形する。ここで、パラメータa0,a1,a2は、それぞれ下式10~12で表される。そして、最小二乗法等を用いて、画素値Ikx,yの理論値と実測値との差を最小にするパラメータa0,a1,a2の値を求めれば、下式13を用いて、位相ズレ量ψx,yが算出される。この最小二乗法を用いた位相ズレ量の方法は、応用光学光計測入門谷田貝豊彦著第二版平成17年2月15日発行丸善株式会社第196頁~第198頁により知られている。この最小二乗法により導かれる下記の連立方程式14~16を解くことにより、パラメータa0,a1,a2を決定することができる。なお、上記説明では、上式6からn≧2以上の高次の項を無視して上式9に変形しているが、n≧2以上の項は、線形結合として付加される項であるため、n≧2以上の項を含めた場合においても同様に上式13~16が成立する。図5において、画像処理部15は、異常画素値判定部40、異常画素値除去部41、位相微分画像生成部42、位相コントラスト画像生成部43、及び正常画素値計数部44を有する。異常画素値判定部40は、メモリ14に記憶されたM枚の画像データDkの各画素について、各画素値が正常画素値であるか異常画素値であるかを判定する。異常画素値除去部41は、異常画素値判定部40により判定された異常画素値を除去する。位相微分画像生成部42は、M枚の画像データDkから、異常画素値判定部40により除去された異常画素値以外の正常画素値を用いて位相微分画像を生成する。位相コントラスト画像生成部43は、位相微分画像生成部42により生成された位相微分画像を、X方向に沿って積分処理することにより、位相コントラスト画像を生成する。具体的には、異常画素値判定部40は、図6に示すように、正常な強度変調信号が取り得る所定範囲下限IMIN~上限IMAXに含まれる画素値Ikx,yを正常画素値と判定し、それ以外の画素値を異常画素値と判定する。同図の場合には、画素値I2x,yは所定範囲外であるため、異常画素値判定部40により異常画素値と判定され、異常画素除去部41により除去される。位相微分画像生成部42は、画像データDkから異常画素除去部41を介して正常画素値のみを受け取り、正常画素値のみを用いて強度変調信号を構成し、この強度変調信号の位相ズレ量ψx,yを算出することにより位相微分画像を生成する。具体的には、連立方程式14~16において、各左辺の和から異常画素値に対応する走査位置kの項を除外して演算を行う。ここで、異常画素値に対応する走査位置kの項が除外されることにより、参照位相δkは非等間隔となる。図6の場合には、k=2の項が連立方程式14~16の各左辺の和から除外され、非等間隔の参照位相δ0,δ1,δ3,δ4に対応する正常画素値I0x,y,I1x,y,I3x,y,I4x,yを用いて演算が行われる。これは、同図に示すように、正常画素値I0x,y,I1x,y,I3x,y,I4x,yのみを正弦波でフィッティングし、このフィッティング波形の位相ズレ量ψx,yを算出することに相当する。正常画素値計数部44は、異常画素値判定部40により判定された正常画素値の数を対応する画素ごとにカウントする。システム制御部19は、正常画素値のカウント数Cが所定の基準値S例えば3より少ない画素が所定数以上例えば、1以上存在するか否かを判定する。カウント数Cが基準値Sより少ない画素が所定数以上存在する場合には、該画素部30に対応する強度変調信号の位相ズレ量ψx,yが精度よく算出されないため、システム制御部19は、モニタ18bを制御して、異常が生じている旨のエラーメッセージの表示エラー報知を行う。ここで、システム制御部19及びモニタ18bがエラー報知部を構成する。なお、このエラー報知を、音声やランプの点灯等により行ってもよい。なお、位相ズレ量ψx,yの算出は、上式14~16でパラメータがa0,a1,a2の3個であることから分かるように、強度変調信号を構成する正常画素値の数は、最低3個必要である。このため、基準値Sを3とすることが好ましい。また、いわゆるサンプリング定理を満たすためには、強度変調信号を構成する正常画素値の数は、最低4個必要であるため、より厳しく、基準値Sを4とすることも好ましい。次に、図7に示すフローチャートに沿ってX線撮影装置10の作用を説明する。被検体Hが配置され、操作部18aにより撮影指示がなされるとステップS10でYES、走査機構23により第2の格子22が所定の走査ピッチずつ間欠移動されながら、各走査位置kにおいて、X線源11によるX線照射と、X線画像検出器13によるG2像の検出が行われるステップS11。この縞走査の結果、M枚の画像データDkが生成され、メモリ14に格納される。このM枚の画像データDkに基づき、異常画素値判定部40により、各画像データDkの各画素値Ikx,yが正常画素値であるか異常画素値であるかが判定されるステップS12。この判定が終了すると、正常画素値計数部44により、正常画素値の数が対応する画素ごとにカウントされるステップS13。システム制御部19により、正常画素値のカウント数Cが所定の基準値Sより少ない画素が所定数以上存在するか否かが判定されステップS14、カウント数Cが基準値Sより少ない画素が所定数以上存在する場合にはステップS14でYES、モニタ18にエラーメッセージの表示が行われステップS15、位相微分画像及び位相コントラスト画像の生成が行われずに動作が終了する。一方、カウント数Cが基準値Sより少ない画素が所定数以上存在しない場合にはステップS14でNO、異常画素除去部41により異常画素値が除去されるステップS16。この後、位相微分画像生成部42により、正常画素値のみを用いて強度変調信号が構成され、この位相ズレ量ψx,yを算出することにより位相微分画像が生成されるステップS17。そして、位相コントラスト画像生成部43により、位相微分画像に対して積分処理が行われ、位相コントラスト画像が生成されステップS18、モニタ18bに、位相微分画像及び位相コントラスト画像が画像表示されるステップS19。異常画素値が生じる原因としては、X線撮影装置10や被検体Hに生じる振動、X線源11によるX線放射のばらつき、X線画像検出器13への静電気放電によるノイズ等がある。振動が生じた場合には、画像データDkに全体的に異常画素が生じやすい。一方、X線放射のばらつきや静電気放電が生じた場合には、画像データDkに部分的に異常画素が生じやすい。本実施形態では、いずれの場合においても異常画素値の除去が行われるため、位相微分画像が精度よく生成される。なお、X線画像検出器13の画素部30の欠陥により、欠陥画素画素値が固定的な欠陥が生じる可能性があるが、この欠陥画素は、前述のように読み出し回路36内で補正が行われるため、異常画素値判定部40では異常画素値と判定されない。上記実施形態では、異常画素値判定部40は、正常な強度変調信号が取り得る所定範囲に含まれる画素値Ikx,yが含まれるか否かに基づいて異常画素値を判定しているが、図8に示すように、判定対象の画素値Ijx,yが、その前後の画素値Ij-1x,y,Ij1x,yから推定される範囲Wに含まれるか否かに基づいて異常画素値を判定してもよい。同図の場合には、画素値Ijx,yは、範囲Wに含まれないため、異常画素値と判定される。なお、強度変調信号の端部に位置する画素値I0x,yの判定を行う場合には、その前後の画素値として、画素値I1x,yと画素値IM-1x,yとを用いる。同様に、強度変調信号の端部に位置する画素値IM-1x,yの判定を行う場合には、その前後の画素値として、画素値IM-2x,yと画素値I0x,yとを用いる。また、上記実施形態では、カウント数Cが基準値Sより少ない画素が所定数以上存在する場合に、位相微分画像及び位相コントラスト画像の生成が行わずに動作を終了しているが、この終了動作を行わずに位相微分画像及び位相コントラスト画像の生成を行い、これらを画像表示するとともにエラー報知を行ってもよい。なお、カウント数Cが基準値Sより少ない画素が少なくとも1つ以上存在する場合に位相微分画像の生成を行うには、異常画素値を補正することが好ましい。この異常画素値の補正方法として、2つの補正方法がある。第1の補正方法は、画像データDkにおいて異常画素値を、その周囲の正常画素値を用いて補正する方法である。第2の補正方法は、画像データDkの状態で補正を行わずに、位相微分画像を生成した後、画像データDk上での異常画素値に対応する画素値異常位相微分値を、その周囲の正常画素値に対応する画素値正常位相微分値を用いて補正する方法である。第2実施形態上記第1実施形態では、縞走査によりM枚の画像データDkが生成された後に正常画素値及び異常画素値の判定を行っているが、本実施形態では、1枚の画像データDkが生成されるたびに正常画素値及び異常画素値の判定を行う。本実施形態は、システム制御部19による各部の制御方法が異なること以外は、第1実施形態と同一であるため、各部の説明は省略する。図9において、被検体Hが配置され、操作部18aにより撮影指示がなされるとステップS20でYES、まず、第2の格子22がk=0の初期位置に配置された状態で、X線源11によりX線照射が行われるステップS21。X線画像検出器13により画像データD0が生成されるステップS22と、異常画素値判定部40により、画像データD0の各画素値I0x,yが正常画素値であるか異常画素値であるかが判定されるステップS23。そして、正常画素値計数部44により、正常画素値の数が画素ごとにカウントされるステップS24。次いで、システム制御部19により、正常画素値のカウント数Cが所定の基準値S例えば4より少ない画素が所定数以上存在するか否かが判定されるステップS25。ここでは、カウント数Cは、高々1であるため、カウント数Cが所定の基準値Sより少ない画素が所定数以上存在すると判定されるステップS25でYES。そして、システム制御部19により、撮影指示がなされてからのX線照射回数すなわち、画像データの生成回数が照射制限回数例えば7回に達したか否かが判定されるステップS26。ここでは、まだ1回しかX線照射が行われていないため、照射制限回数に達していないと判定されるステップS26でNO。この後、走査機構23により第2の格子22が1走査ピッチだけ移動されステップS27、同様に、ステップS21~S27が繰り返し実行される。ステップS25において、カウント数Cが所定の基準値Sより少ない画素が所定数以上存在しないと判定されるとステップS25でNO、第1実施形態と同様に、異常画素除去部41により異常画素値が除去されたうえでステップS28、位相微分画像生成部42により位相微分画像が生成されステップS29、位相コントラスト画像生成部43により位相コントラスト画像が生成されるステップS30。そして、モニタ18bに、位相微分画像及び位相コントラスト画像が画像表示されるステップS31。ステップS26において、X線照射回数が照射制限回数に達したと判定された場合にはステップS26でYES、モニタ18にエラーメッセージの表示エラー報知が行われステップS32、位相微分画像及び位相コントラスト画像の生成が行われずに動作が終了する。なお、本実施形態では、照射制限回数をMより大きな値に設定した場合には、正常画素値が強度変調信号の1周期分を超える数だけ得られる可能性がある。この場合には、上式14~16のMを、その1周期分を超える数に置き換えることにより、同様に位相ズレ量ψx,yを算出することができる。本実施形態では、照射制限回数を上限として、正常画素値のカウント数Cが所定の基準値Sに達するまでX線照射及び画像データDkの生成が行われるため、カウント数Cが基準値Sに達せず異常終了する確率が減る。また、照射制限回数を規定しているので、被検体Hが所定量以上被曝することはない。なお、本実施形態では、X線照射回数が照射制限回数に達した場合に、位相微分画像および位相コントラスト画像の生成が行わずに動作を終了しているが、この終了動作を行わずに位相微分画像及び位相コントラスト画像の生成を行い、これらを画像表示するとともにエラー報知を行ってもよい。この場合、異常画素値の補正を行うことが好ましい。この異常画素値の補正方法として、2つの補正方法がある。第1の補正方法は、画像データDkにおいて異常画素値を、その周囲の正常画素値を用いて補正する方法である。第2の補正方法は、画像データDkの状態で補正を行わずに、位相微分画像を生成した後、画像データDk上での異常画素値に対応する画素値異常位相微分値を、その周囲の正常画素値に対応する画素値正常位相微分値を用いて補正する方法である。第3実施形態上記第2実施形態では、画素部30ごとに正常画素値の数をカウントし、正常画素値のカウント数Cが所定の基準値Sに達するまでX線照射及び画像データDkの生成を行っているが、画像データDkが得られるたびに画像データDkが正常であるか否かを判定し、所定枚の正常な画像データDkが得られるまでX線照射及び画像データDkの生成を行うようにしてもよい。本実施形態では、図10に示すように、第2実施形態と同様に、撮影指示がなされステップS40でYES、第2の格子22がk=0の初期位置に配置された状態でX線照射が行われステップS41、画像データD0が生成されるとステップS42、異常画素値判定部40により、画像データD0の各画素値I0x,yが異常画素値であるか否かが判定されるステップS43。そして、システム制御部19により、画像データD0が正常であるか否かが判定されるステップS44。この判定は、画像データD0中の異常画素値の数が所定数未満であるか否かに基づいて行われる。なお、システム制御部19が画像データ判定部を構成する。次いで、画像データD0が正常であると判定された場合にはステップS44でYES、システム制御部19により、所定枚例えば、4枚の正常な画像データDkが得られたか否かが判定されるステップS45。ここでは、画像データD0の1枚しか得られていないため、所定枚の正常な画像データDkは得られていないと判定されるステップS45でNO。そして、システム制御部19により、撮影指示がなされてからのX線照射回数画像データの生成回数が照射制限回数に達したか否かが判定されるステップS46。ここでは、まだ1回しかX線照射が行われていないため、照射制限回数に達していないと判定されるステップS46でNO。この後、走査機構23により第2の格子22が1走査ピッチだけ移動されステップS47、同様に、ステップS41~S47が繰り返し実行される。なお、ステップS44において、画像データDkが正常でないと判定された場ステップS44でNO合には、ステップS46に移行する。ステップS45において、所定枚の正常な画像データDkが得られたと判定されるとステップS45でNO、第2実施形態と同様に、異常画素除去部41により異常画素値が除去されたうえでステップS48、位相微分画像が生成されステップS49、位相コントラスト画像が生成されるステップS50。そして、モニタ18bに、位相微分画像及び位相コントラスト画像が画像表示されるステップS51。なお、本実施形態では、X線照射回数が照射制限回数に達した場合に、位相微分画像および位相コントラスト画像の生成が行わずに動作を終了しているが、この終了動作を行わずに位相微分画像及び位相コントラスト画像の生成を行い、これらを画像表示するとともにエラー報知を行ってもよい。第4実施形態上記第1実施形態では、異常画素値判定部40は、所定範囲下限IMIN~上限IMAXに基づいて正常画素値及び異常画素値を判定しているが、本実施形態では、この判定基準をX線源11から放射されるX線量を計測することにより決定する。本実施形態では、第1実施形態と同一構成については同一の符号を付し、説明は省略する。図11において、本実施形態のX線撮影装置50は、第1実施形態の構成に加えて、X線量センサ51と判定基準決定部52とを備える。X線量センサ51は、X線画像検出器13の検出面13aにおいて、X線源11からX線が第1及び第2の格子21,22を介さずに照射される領域13b上に配置されている。判定基準決定部52は、X線の非照射時と照射時においてX線量センサ51により検出されるX線量に基づいて、下限IMINと上限IMAXとを決定する。異常画素値判定部40は、判定基準決定部52により決定された下限IMIN及び上限IMAXに基づいて正常画素値及び異常画素値の判定を行う。なお、判定基準決定部52による下限IMIN及び上限IMAXの決定は、X線源11からX線照射が行われるたびに行ってもよいが、第1回目のX線照射時にのみ行い、第2回目のX線照射時以降において、第1回目のX線照射時に決定された下限IMIN及び上限IMAXを用いてもよい。また、X線量センサ51を、X線画像検出器13の一部の画素部30を用いて構成してもよい。また、本実施形態の変形例として、図12に示すように、X線量センサ51に代えて、X線源11の管電流を計測する管電流時間積算部54を設けてもよい。管電流時間積算部54は、X線源11による各X線照射時に管電流を検出するとともに、検出した管電流を時間積算することによりX線量を計測する。判定基準決定部52は、管電流時間積算部54により得られるX線量に基づいて、下限IMINと上限IMAXとを決定する。なお、X線量センサ51に加えて管電流時間積算部54を設け、X線量センサ51と管電流時間積算部54との2つのX線量の検出値を考慮して下限IMINと上限IMAXとを決定してもよい。X線量センサ51または管電流時間積算部54が放射線量計測部を構成する。この放射線量モニタ部及び判定基準決定部を、上記第2及び第3実施形態に適用してもよいことは言うまでもない。第5実施形態上記各実施形態では、X線画像検出器13により生成された画像データDkから異常画素値判定部40により異常画素値を検出しているが、静電気放電が起因の場合には、異常画素値は、1枚の画像データDk中に孤立して生じる場合があり、異常画素値の周囲の正常画素値で補正が可能な場合がある。そこで、本実施形態では、図13に示すように、X線画像検出器13により1枚の画像データDkが生成されたステップS60後、異常画素値判定部40により画像データDk中の異常画素値を判定するステップS61。画像データDk中の隣接画素同士の画素値の差は本来あまり大きくないが、静電気放電等により異常画素値が生じた場合には、異常画素値は、それに隣接する画素値との差が大きくなるため、隣接する画素値との比較により容易に検出可能である。次いで、ステップS61で判定された複数の異常画素値のうちから1つの異常画素値を選択しステップS62、その周囲の正常画素値から補正可能であるか否かを判定するステップS63。該異常画素値が孤立しており補正が可能な場合にはステップS63でYES、該異常画素値をその周囲の正常画素値で補正するステップS64。一方、複数の正常画素値が塊状に生じており、周囲の正常画素値で補正が行えない場合にはステップS63でNO、補正処理は行わない。この後、選択中の異常画素値が最終の異常画素値であるか否かを判定しステップS65、最終の異常画素値に達するまでの間、別の異常画素値を選択しステップS66、ステップS63~S65を繰り返し実行する。最終の異常画素値に達した場合にはステップS65でYES、画像データDk中の異常画素値を確定するステップS67。この後、確定された異常画素値が異常画素値除去部41により除去される。また、確定された正常画素値が正常画素値計数部44によりカウントされる。本実施形態のその他の構成及び作用は、上記各実施形態と同一である。その他の実施形態上記各実施形態では、被検体Hを配置した状態でのみ撮影を行なっているが、被検体Hを配置せずに同様に撮影を行うことにより、位相微分画像を生成して、これをオフセット画像として記憶しておき、被検体Hを配置して撮影が行われた場合に生成された位相微分画像からオフセット画像を減算してもよい。このように被検体Hを配置せずに行う撮影についても本発明を適用可能である。また、上記各実施形態では、被検体HをX線源11と第1の格子21との間に配置しているが、被検体Hを第1の格子21と第2の格子22との間に配置してもよい。また、上記各実施形態では、縞走査時に第2の格子22を格子線に直交する方向X方向に移動させているが、本出願人により特願2011-097090号として出願されているように、第2の格子22を格子線に対して傾斜する方向XY平面内でX方向及びY方向に直交しない方向に移動させてもよい。この場合には、第2の格子22の移動のX方向成分に基づいて、走査位置kを設定すればよい。第2の格子22を格子線に対して傾斜する方向に移動させることにより、縞走査の一周期分の走査に要するストローク移動距離が長くなるため、移動精度が向上するといった利点がある。また、上記各実施形態では、縞走査時に第2の格子22を移動させているが、第2の格子22に代えて、第1の格子21を格子線に直交する方向または傾斜する方向に移動させてもよい。また、上記各第実施形態では、X線源11から射出されるコーンビーム状のX線を射出するX線源11を用いているが、平行ビーム状のX線を射出するX線源を用いることも可能である。この場合には、上式1に代えて、p2=p1をほぼ満たすように第1及び第2の格子21,22を構成すればよい。また、上記各実施形態では、X線源11から射出されたX線を第1の格子21に入射させており、X線源11は単一焦点であるが、X線源11の射出側直後に、WO2006/131235号公報等に記されたマルチスリット線源格子を設けることにより、X焦点を分散化してもよい。マルチスリットの格子線はY方向に平行である。これより、高出力のX線源を用いることが可能となり、X線量が向上するため、位相微分画像の画質が向上する。この場合、マルチスリットのピッチp0は、下式17を満たす必要がある。ここで、距離L0は、マルチスリットから第1の格子21までのZ方向への距離を表す。その他の構成や作用については、上記各実施形態と同一である。本実施形態では、マルチスリットの位置がX線焦点の位置となるため、上記各実施形態において、距離L1を、距離L0に置き換えればよい。また、上記各実施形態では、縞走査において第1の格子21または第2の格子22を移動させているが、マルチスリットを設けた場合には、第1及び第2の格子21,22を固定したまま、マルチスリットを移動させることにより縞走査を行うことが可能である。この場合、マルチスリットのピッチp0を前述のMで割った値p0/Mを走査ピッチとして、マルチスリットをX方向に間欠移動させればよい。これにより、第1及び第2の格子21,22に対するマルチスリット60の相対位置kは、k=0,1,2,,M-1と順に変更される。その他の構成及び作用は、上記各実施形態と同一である。また、上記各実施形態では、第1の格子21が入射X線を幾何光学的に投影するように構成しているが、WO2004/058070号公報等で知られているように、第1の格子21をタルボ効果が生じる構成としてもよい。第1の格子21でタルボ効果を生じさせるためには、X線の空間干渉性を高めるように、小焦点のX線光源を用いるか、上記マルチスリットを用いて小焦点化すればよい。第1の格子21でタルボ効果が生じる場合には、第1の格子21の自己像G1像が、第1の格子21からZ方向下流にタルボ距離Zmだけ離れた位置に生じるため、第1の格子21から第2の格子22までの距離L2をタルボ距離Zmとする必要がある。この場合には、第1の格子21を位相型格子としてもよい。タルボ距離Zmは、第1の格子21の構成とX線のビーム形状とに依存する。第1の格子21が吸収型格子であり、X線源11から射出されるX線がコーンビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式18で表される。ここで、mは正の整数である。この場合には、格子ピッチp1,p2は、上式1をほぼ満たすように設定されるただし、マルチスリットを用いる場合には、距離L1は距離L0に置き換えられる。また、第1の格子21がX線にπ/2の位相変調を与える位相型格子であり、X線源11から射出されるX線がコーンビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式19で表される。ここで、mは0または正の整数である。この場合には、格子ピッチp1,p2は、上式1をほぼ満たすように設定されるただし、マルチスリットを用いる場合には、距離L1は距離L0に置き換えられる。また、第1の格子21がX線にπの位相変調を与える位相型格子であり、X線源11から射出されるX線がコーンビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式20で表される。ここで、mは0または正の整数である。この場合には、G1像のパターン周期が第1の格子21の格子周期の1/2倍となるため、格子ピッチp1,p2は、次式21をほぼ満たすように設定されるただし、マルチスリットを用いる場合には、距離L1は距離L0に置き換えられる。また、第1の格子21が吸収型格子であり、X線源11から射出されるX線が平行ビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式22で表される。ここで、mは正の整数である。この場合には、格子ピッチp1,p2は、p2=p1の関係をほぼ満たすように設定される。また、第1の格子21がX線にπ/2の位相変調を与える位相型格子であり、X線源11から射出されるX線が平行ビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式22で表される。ここで、mは0または正の整数である。この場合には、格子ピッチp1,p2は、p2=p1の関係をほぼ満たすように設定される。そして、第1の格子21がX線にπの位相変調を与える位相型格子であり、X線源11から射出されるX線が平行ビーム状である場合には、タルボ距離Zmは、下式23で表される。ここで、mは0または正の整数である。この場合には、G1像のパターン周期が第1の格子21の格子周期の1/2倍となるため、格子ピッチp1,p2は、p2=p1/2の関係をほぼ満たすように設定される。上記各実施形態は、矛盾しない範囲で相互に組み合わせてもよい。本発明は、医療診断用の放射線撮影装置の他に、工業用の放射線撮影装置等に適用することが可能である。また、放射線は、X線以外に、ガンマ線等を用いることも可能である。"