"パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する、最終要素を有する投影システムと、前記投影システムと使用時の前記基板との間の空間を囲み、一部は前記最終要素とともに液体のリザーバを規定し、また、前記最終要素から離間されて、その間のギャップを規定するバリア部材と、前記最終要素の半径方向外側の表面と前記バリア部材の半径方向外側の表面との間にあって、気体がシールを越えて前記液体リザーバへ、又はそこから流れるのを実質的に防止する変形可能なシールと、を備えるリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが弾性及び/又は可撓性材料を含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが実質的に環形である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが、使用時に前記液体と接触する可撓性材料を含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが、前記液体より低い蒸気圧を有する第二液体を含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記第二液体が低い蒸気圧の油を含む、請求項5に記載のリソグラフィ装置。前記バリア部材が、前記第二液体を前記バリア部材に釘付けにする、液体をはじく外層を含む、請求項5に記載のリソグラフィ装置。前記第二液体が前記液体に接触している、請求項5に記載のリソグラフィ装置。前記バリア部材の上面が、前記変形可能なシールの少なくとも一部を受ける窪みを含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが、前記装置の通常の作動中に前記最終要素と接触していない、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが、前記最終要素に対して前記バリア部材が上方向に移動すると、前記バリア部材及び前記最終要素に対して圧縮される圧縮性部材を含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが、前記バリア部材の実質的に水平な表面と前記最終要素の実質的に水平な表面との間に配置される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが前記液体から離間され、不活性ガスの高い分圧及び酸素の低い分圧を有する気体が、前記変形可能なシールと前記液体との間に配置される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記不活性ガスが窒素を含む、請求項13に記載のリソグラフィ装置。パターン付き放射ビームを投影システムから液浸液を通して基板のターゲット部分に投影し、前記投影システムと前記基板の間の空間に、前記投影システムの最終要素及び前記空間を囲むバリア部材を使用して液浸液を閉じ込め、前記最終要素の半径方向外側の表面と前記バリア部材の半径方向外側の表面との間にある変形可能なシールを気体が越えて流れるのを実質的に防止することを含む、デバイス製造方法。前記変形可能なシールが、前記バリア部材が前記最終要素に向かって上方向に移動すると圧縮する可撓性材料を含む、請求項15に記載のデバイス製造方法。前記変形可能なシールが、前記液体より低い蒸気圧を有する第二液体を含む、請求項15に記載のデバイス製造方法。前記液浸液が前記第二液体と接触する、請求項17に記載のデバイス製造方法。前記液浸液が中実の可撓性材料に接触する、請求項15に記載のデバイス製造方法。前記変形可能なシールが前記液浸液から離間され、前記方法がさらに、不活性ガスの高い分圧及び酸素の低い分圧を有する気体を、前記変形可能なシールと前記液浸液との間に供給することを含む、請求項15に記載のデバイス製造方法。パターン付きビームを基板のターゲット部分に投影する、最終要素を有する投影システムと、前記投影システムと使用時の前記基板との間の空間を囲み、一部は前記最終要素とともに液体のリザーバを規定し、また、前記最終要素から離間されて、その間のギャップを規定するバリア部材と、前記最終要素の半径方向外側の表面と前記バリア部材の半径方向外側の表面との間にあって、気体が前記最終要素と前記バリア部材の間の前記ギャップに入るか、そこから出て、前記液体と接触することを実質的に防止する変形可能なシールと、を備えるリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが、弾性及び/又は可撓性の中実材料を含む、請求項21に記載のリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが、前記液体より低い蒸気圧を有する第二液体を含む、請求項21に記載のリソグラフィ装置。前記変形可能なシールが前記液体から離間され、不活性ガスの高い分圧及び酸素の低い分圧を有する気体が、前記変形可能なシールと前記液体との間に配置される、請求項21に記載のリソグラフィ装置。前記バリア部材の上面が、前記変形可能なシールの少なくとも一部を受ける窪みを含む、請求項21に記載のリソグラフィ装置。0012幾つかの液浸リソグラフィ装置には、液浸システムと投影システムの最終要素WELLEレンズと呼ぶこともあるとの間にギャップがある。ギャップに液浸液の自由メニスカスがあることもある。通常、気体は熱調整のためにシステムを通って流れる。気体流の一部は、液浸システム、つまり液体閉じ込めシステム上でギャップに流入する。液浸システム内の外部バリアを使用して、気体流がギャップに入るのを防止することができるが、装置によっては、外部ギャップを設けなくてよい。しかし、気体流によって液浸液が蒸発し、それによって液浸システム及び投影システムの最終要素に熱負荷を加えるので不都合なことがある。熱負荷は、投影システムの最終要素の下側で気体が動くことによっても生成されることがある。熱負荷は、投影システムの最終要素に熱例えば冷間スポットを引き起こすことがある。メニスカスの位置に応じて、熱スポットは、予想された収差測定とは異なる光学収差として検出できる、及び/又はオーバレイ/焦点の不規則性に寄与することがある。また、液浸液は、投影システムの最終要素と液浸システムの間にあるこのギャップを通過することができ、液浸液の一部がギャップを通して逃げることがある。0013露光中に、基板テーブルは液浸システム及び投影システムに対して移動する。これによって液浸システム内の液浸液が、例えば基板の移動方向などでギャップを上昇する。これで、基板がスキャン又はステップ運動を通して動くと、基板の移動方向が変化する。ギャップ内の液浸液が基板の移動とともに移動するので、この移動によりギャップ内の液浸液の局所的レベルが変化する。液浸液の動きをスロッシングと呼ぶ。動きが十分に大きい場合、液浸液にかかる圧力は、液体が液体閉じ込めシステムの上面へと溢れるのに十分なことがある。圧力が低下すると、液体がギャップ内へと逆流し、場合によっては液体閉じ込めシステムの表面に存在する望ましくない汚染粒子を連れてくる。したがって、液体は不完全性と欠陥の発生源になることがある。液体は、液体閉じ込め部材の上面、及び最終要素の表面上にも残ることがある。残りの液体は、その後に周囲気体中へと蒸発し、したがって個々の表面に熱負荷を加えることがある。0014液体閉じ込めシステムの上面に液浸液が存在すると、液浸システムが投影システムに向かう方向に移動するにつれ、液体閉じ込めシステムと投影システムの間に制動を引き起こすことがある。このような制動をブリッジングと呼ぶこともあり、装置の性能を低下させることがあるので望ましくない。0015したがって、投影システム及び/又は液浸システムに加えられる熱負荷を減少させるか、最小限に抑える方法を有することによって、1つ又は複数の前述した問題又は1つ又は複数の他の問題を軽減することが望ましい。実施形態では、ギャップに流入する気体の量を制限し、液浸液の蒸発量を減少させることによって、これを実行することができる。0016本発明の態様によれば、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムを含むリソグラフィ装置が提供される。投影システムは最終要素を有する。装置は、投影装置と使用時の基板との間の空間を囲むバリア部材も含み、一部は最終要素とともに液体のリザーバを規定する。バリア部材は、最終要素から離間されて、その間のギャップを規定する。装置はさらに、最終要素の半径方向外側の表面とバリア部材の半径方向外側の表面との間に変形可能なシールを含む。変形可能なシールは、気体がシールを越えて液体リザーバへ、又はそこから流れるのを実質的に防止するように構成される。0017本発明の態様によれば、パターン付き放射ビームを投影システムから液浸液を通して基板のターゲット部分に投影し、投影システムの最終要素及び空間を囲むバリア部材を使用して、投影システムと基板の間の空間に液浸液を閉じ込めることを含む、デバイス製造方法が提供される。方法は、気体が、最終要素の半径方向外側の表面とバリア部材の半径方向外側の表面との間にある変形可能なシールを越えて流れるのを実質的に防止することも含む。0018本発明の態様によれば、パターン付きビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムを含むリソグラフィ装置が提供される。投影システムは最終要素を有する。装置は、投影システムと使用時の基板との間の空間を囲み、一部は最終要素とともに液体のリザーバを規定するバリア部材も含む。バリア部材は、最終要素から離間されて、その間のギャップを規定する。装置はさらに、最終要素の半径方向外側の表面とバリア部材の半径方向外側の表面との間に変形可能なシールを含む。変形可能なシールは、気体が、最終要素とバリア部材の間のギャップに入るか、又はそこから出て、液体と接触することを実質的に防止するように構成される。0019次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照しながら、ほんの一例として説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示している。0033図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、放射ビームB例えばUV放射又はDUV放射を調節するように構成された照明システムイルミネータILと、パターニング構造例えばマスクMAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニング構造を正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続された支持構造例えばマスクテーブルMTと、基板例えばレジストコートウェーハWを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル例えばウェーハテーブルWTと、パターニング構造MAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C例えば1つ又は複数のダイを含むに投影するように構成された投影システム例えば屈折投影レンズシステムPSとを含む。0034照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組み合わせなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。0035支持構造は、パターニング構造を支持、つまりその重量を支えている。該マスク支持構造は、パターニング構造の方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニング構造が真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニング構造を保持する。この支持構造は、パターニング構造を保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。支持構造は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。支持構造は、パターニング構造が例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書においてレチクル又はマスクという用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語であるパターニング構造と同義と見なすことができる。0036本明細書において使用するパターニング構造という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。0037パターニング構造は透過性又は反射性でよい。パターニング構造の例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルLCDパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。0038本明細書において使用する投影システムという用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において投影レンズという用語を使用した場合、これはさらに一般的な投影システムという用語と同義と見なされる。0039ここに示している本装置は透過タイプである例えば透過マスクを使用する。あるいは、装置は反射タイプでもよい例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する。0040リソグラフィ装置は2つデュアルステージ又はそれ以上の基板テーブル及び/又は2つ以上のマスクテーブルを有するタイプでよい。このようなマルチステージ機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、1つ又は複数の他のテーブルを露光に使用している間に1つ又は複数のテーブルで予備工程を実行することができる。0041図1を参照すると、イルミネータILは放射源SOから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、それぞれ別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び/又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムBDの助けにより、放射源SOからイルミネータILへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源SO及びイルミネータILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDとともに放射システムと呼ぶことができる。0042イルミネータILは、放射ビームの角度強度分布を調節するアジャスタADを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側及び/又は内側半径範囲一般にそれぞれ、σouter及びσinnerと呼ばれるを調節することができる。また、イルミネータILは、インテグレータIN及びコンデンサCOなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。また、イルミネータを用いて放射ビームを調整し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。0043放射ビームBは、支持構造例えばマスクテーブルMT上に保持されたパターニング構造例えばマスクMAに入射し、パターニング構造によってパターンが与えられる。放射ビームBはパターニング構造MAを通り抜けて、基板Wのターゲット部分C上にビームを集束する投影システムPSを通過する。第二ポジショナPW及び位置センサIF例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサの助けにより、基板テーブルWTを、例えば放射ビームBの経路において様々なターゲット部分Cに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一ポジショナPM及び別の位置センサ図1には明示されていないを使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、又はスキャン中に、放射ビームBの経路に対してパターニング構造MAを正確に位置決めすることができる。一般的に、支持構造MTの移動は、第一ポジショナPMの部分を形成するロングストロークモジュール粗動位置決め及びショートストロークモジュール微動位置決めを用いて実現できる。同様に、基板テーブルWTの移動は、第二ポジショナPWの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールの助けにより実現できる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、支持構造MTをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。パターニング構造MA及び基板Wは、パターニング構造アラインメントマークM1、M2及び基板アラインメントマークP1、P2を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用のターゲット位置を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよいスクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる。同様に、パターニング構造MA上に複数のダイを設ける状況では、パターニング構造アラインメントマークをダイ間に配置してもよい。0044図示のリソグラフィ装置は以下のモードのうち少なくとも1つにて使用可能である。00451.ステップモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影されるすなわち1回の静止露光。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。00462.スキャンモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影するつまり1回の動的露光。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大縮小及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の動的露光におけるターゲット部分の非スキャン方向における幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分のスキャン方向における高さが決まる。00473.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニング構造を保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニング構造を必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニング構造を使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。0048上述した使用モードの組合せ及び/又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。0049図6は、投影システムPLと基板Wの間の空間を少なくとも部分的に、又は完全に囲み、投影システムPL及び基板W及び/又は基板テーブルWTとともに液体のリザーバ11を規定するバリア部材10を含む液体供給システムを断面図で示す。この方法で、液体をその空間に提供することができ、したがって投影システムPLを通して基板Wに投影されるパターン付き放射ビームが、液体11を通過する。0050バリア部材10は全体的に、投影システムPLとバリア部材10の間に一定のギャップが存在するように、投影システムPLの外径と一致するように成形することができる。ギャップは、投影システムPLとバリア部材10との独立した相対運動が可能であるために存在する。0051実施形態では、リザーバの容積の変動、及びリザーバからの液体供給/抽出の変動に対処するために、措置を講じることができる。通常の状態では、液体11の上面が、投影システム及びバリア部材10に対して実質的に静止したメニスカスを有する。バリア部材10の上面90は水平表面である。例えば基板の動作などにより液浸液のレベルが変化し、メニスカスが上面90にある場合は、バリア部材10が溢れる危険がある。これを防止するために、バリア部材の最も内側の縁部でバリア部材10の上面90に突起100を設けることができる。突起100は、バリア部材10の周囲を延在してよく、したがってリング又は他の閉鎖形状を形成することができる。突起100は、バリア部材10の突起100を囲む部分より、投影システムPLの表面に、特に投影システムPLの水平表面200に近くてよい。0052実施形態では、突起100と投影システムPLの間からバリア部材10と投影システムPLの間までの距離には、段階的変化があってよい。この段階的変化は、図6の突起100の左手側に見ることができる。実施形態では、この段階的変化は、突起100の半径方向外側にあるが、追加的又は任意選択で、図6の場合のように突起100の半径方向内側に存在してもよい。この幾何学的形状は、液体11の頂部のメニスカスが突起100を通過するために、図6の110で示すように、メニスカスの長さが増加する必要があり、それには大量のエネルギを必要とすることがあることを意味する。実施形態では、突起の領域にある突起100と投影システムPLの両方の表面は、液体の外側から見た場合にメニスカス110の形状が凸状であるように、疎液性材料で形成することができる例えば液体がこれらの表面との間に概ね90°より大きいが、180°未満、例えば100°、110°、120°などの接触角を形成する。実施形態では、突起の領域の突起100及び投影システムPLの一方又は両方の表面を、撥液性材料で形成してよい。0053したがって、投影システムPLの表面とバリア部材10の間の距離を半径方向外側の方向に段階的に増加させると、バリア部材10の使用時に溢れる可能性を大幅に低下させることができる。0054突起100は、バリア部材10上にあるように図示されている。しかし、そうである必要はなく、同じ機能つまり克服して、突起を越えて移動するためにメニスカスにエネルギバリアを提供するを満足する限り、投影システムに突起を設けてもよい。0055図6にも、投影システムPLに面するバリア部材の内面が意図的に歪められ、したがってこれも意図的に歪めることができる投影システムPLの外面により密接に類似するシステムの実施形態が図示されている。この方法で、液体11が基板から突起100に向かって上方向に流れるためのラビリンスが生成され、これは流れの制限を増加させ、それによって溢れの危険を低下させる。したがって、バリア10を越えて溢れるために液体がとる必要がある経路は蛇行し、少なくとも3回の方向転換を必要とする。図示の実施形態では、これは、投影システムPLの側壁に窪み220を設けることによって達成することができる。突起120を、バリア表面内のバリア部材10の内側壁に設け、1つ又は複数の要素で形成することができる。液体が、投影システムPLと基板Wの間の位置からバリア部材10の頂部まで辿るための経路の蛇行性を増加させるために、他の措置も執ることができる。突起100がある又はない状態で、及び以下でさらに詳細に検討する疎液性コーティングがある又はない状態で、窪み220及び/又は突起を使用することができる。0056図7は、液浸液を投影システムと基板の間の所望の容積に実質的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込めシステム700の実施形態を示す。液体閉じ込めシステムは、上述した液体供給システムの部分でよい。液浸液は、純水の屈折率と実質的/近似的に/おおよそに等しい、又はそれより大きい屈折率を有する液体であることが望ましい。液体閉じ込めシステム700は、半径方向外側の表面、つまり図1に関して上述したように、投影システムPSが投影する投影ビームの投影軸PAから半径方向外側に配置された表面を有するバリア部材710を含む。バリア部材710の半径方向外側の表面は、実質的に水平な上面714、及び水平上面714及び投影軸PAに対して傾斜した傾斜上面716を含む。バリア部材710は、間にギャップ730を規定するように、投影システムの最終要素720から離間される。最終要素720は、投影システム全体の最終要素でよいか、最終要素は、液体と接触している中間投影システムの最終要素でよい。最終要素720は、バリア部材710の実質的に水平な上面714に対向する実質的に水平な表面724、及びバリア部材710の傾斜表面716に対向する傾斜表面726を含む半径方向外側の表面つまり投影軸PAから半径方向外側に位置する表面を含む。最終要素720の下面とバリア部材710の上面とは、相互に協働するように成形することができる。0057図7に示す実施形態では、以上で検討した突起100の代わりに、又はそれに加えて、コーティングの形態でよい撥液性の例えば疎液性又は液浸液が水の場合は疎水性の外層740を、液浸システム例えば液体閉じ込めシステム700のバリア部材710の上面に塗布することができる。実施形態では、バリア部材710は、撥液性表面を提供する疎液性材料から作成することができる。本明細書で使用する層という用語は、部材の一体部分である表面、さらにコーティングの形態で設けられ、したがって必ずしも部材の一体部分ではない表面を含むように広義に解釈されたい。0058図7の両方向の矢印で表されるスロッシング中に、この外層740は、液浸液がバリア部材710の実質的に水平な上面714にアクセスすることを防止するのに役立つことができ、これはリザーバ内の液浸液に見られる汚染粒子の量を減少させることができる。液浸液のメニスカス760の一方端は、縁部742における表面特性の段階関数の変化により、外層740の縁部742に釘付けすることができる。つまり、液浸液と外層740の間の接触角が90°より大きく例えば100°、110°、120°など、最大180°、外層740を含まないバリア部材710の表面間の接触角が約90°より小さく例えば80°、70°、60°など、最小0°、それによって段階関数の変化を生じるので、メニスカス760が縁部742より上に上昇する可能性は低い。本明細書で使用する縁部という用語は、投影システムと基板の間に含まれる液浸液リザーバに最も近い外層740の端部を述べるものであり、いかなる特定の物理的構造又は形状も示さない。0059液浸液に作用する力学的力が、例えば基板テーブルの動作中に十分に大きい場合、液体が釘付け状態から離れ、外層740上に逃げることができる。しかし、層740の特性により、層740は液体をはじくことができ、望ましくは層740の縁部742を越えて戻す。外層740上には実質的に液浸液が留まることができず、それによって蒸発及び装置に加えられる熱負荷が減少する。0060図7に示すように、最終要素720の半径方向外側の表面の実質的に水平な表面724は、液体をはじくように構成された疎液性外層750も含んでよい。図示の実施形態では、外層750は、最終要素720の実質的に水平な表面724と傾斜表面726との交点に、又はその付近に位置する縁部752を有する。バリア部材710の外層740の縁部742に対する最終要素720の外層750の縁部752の位置によって、液浸液のメニスカス760も縁部752に釘付けすることができる。0061外層740、750は、任意の適切な疎液性材料を含むことができる。例えば実施形態では、外層740、750はポリテトラフルオロエチレン、例えばテフロン登録商標を含んでよい。外層740、750は、コーティングの形態で個々の表面に塗布するか、このようなコーティングを含むステッカ又は積層材料に塗布することができる。0062図8は、バリア部材710の実質的に水平な表面714、さらに傾斜上面716の一部を覆うことができる疎液性外層840を含む液体閉じ込めシステム800の実施形態を示す。液浸液のメニスカス860の一方端を、傾斜表面716上に位置する外層840の縁部842に釘付けにすることができる。0063図8に示すように、最終要素720の半径方向外側の表面の実質的に水平な表面724、さらに傾斜表面726は、液体をはじくように構成された疎液性外層850も含んでよい。図示のように、外層850は、最終要素720の傾斜した半径方向外側の表面726と実質的に水平な下面728との交点につまり傾斜表面726の底部に位置する縁部852を有する。リザーバ内の液浸液のレベルが十分に低い場合、液浸液のメニスカス860の一方端を、傾斜表面726の底部に位置する外層850の縁部852に釘付けにすることができる。さもなければ、メニスカス860の一方端が傾斜表面726を上昇することができるが、接触角は、表面726に液浸液の薄膜が形成できないような角度であり、これは蒸発できる液浸液の量を減少させ、それによって最終要素上の低温スポットを減少させることができる。0064図8に示すように、最終要素720は、最終要素720自体の表面と外層850の間に設けられた紫外線UV吸収性層870も含んでよい。UV吸収性層870は、コーティングとして設けることが望ましい。UV吸収性層870は、外層850を塗布する前に最終要素720の表面に塗布することができ、したがってUV吸収性層870が最終要素720と外層850の間にある。UV吸収性層は、望ましくない放射が最終要素720の各外層850、540及びバリア層710のそれぞれに到達するのを防止することができ、特に外層840、850がUV感受性である場合、外層840、850を保護し、その寿命を延長することができる。UV吸収性層870は、疎液性でなくてよい、又は最終要素720に設けた外層850の表面と同じ程度まで疎液性でなくてよい。実施形態では、UV吸収性層は、親液性の表面特性を有してよい。言うまでもなく、上述したようにUV吸収性層を使用することなく、UV放射から悪影響を受けない疎液性材料を、最終要素に直接塗布することができる。0065図8に示す実施形態では、UV吸収性層870が、最終要素720の表面の少なくとも外層850と同じ区域を覆う。UV吸収性層870は、外層840、850を保護するために、リソグラフィ装置の他の部分に配置してもよい。UV放射が、投影システム及び液浸システム内で反射して屈折し、液浸液を通して迷放射として散乱するので、投影された放射の望ましくない反射及び屈折を防止するために、露光ビームの経路を不明瞭にすることなく、UV吸収性層870が最終要素720の最大可能表面を覆うことが有利なことがある。さもなければ、迷放射が外層840、850と相互作用し、外層840、850の寿命を短縮することがある。UV吸収性層770を最終要素720の実質的に水平な半径方向外側の表面724、及び最終要素720の傾斜した半径方向外側の表面726にも設ければ、UV吸収性層770の効果を最大限にすることができる。0066図9は、半径方向外側の表面、つまり放射ビームの投影軸PAから半径方向外側に位置する表面を有するバリア部材910を含む液体閉じ込めシステム900の実施形態を示す。バリア部材910の半径方向外側の表面は、実質的に水平な上面914、及び水平な上面914及び投影軸PAに対して傾斜した傾斜上面916を含む。バリア部材910は、間にギャップ930を規定するように、投影システムの最終要素920から離間される。最終要素920は、投影システム全体の最終要素でよいか、最終要素は、液体と接触している中間投影システムの最終要素でよい。最終要素920は、バリア部材910の実質的に水平な上面914に対向する実質的に水平な表面924、及びバリア部材910の傾斜表面916に対向する傾斜表面926を含む半径方向外側の表面つまり投影軸PAから半径方向外側に位置する表面を含む。最終要素920の下面とバリア部材910の上面とは、相互に協働するように成形することができる。0067図9に示すように、リソグラフィ装置は、バリア部材910と最終要素920の間にある変形可能なシール940も含む。特に、変形可能なシール940は、バリア部材910の水平な上面914と最終要素920の水平表面924との間にある。変形可能なシール940は、両方の水平表面914、924と接触した状態で図示されているが、このように両方の表面914、924と接触する必要はない。例えば、変形可能なシール940が、バリア部材の水平表面914に支持され、変形可能なシール940と最終要素920の間に小さいギャップが存在し、それによって漏れシールを形成することができる。バリア部材910が最終要素920に向かって移動した場合、バリア部材910と最終要素920の間の距離が変形可能なシール940の厚さより小さくなると、変形可能なシール940が最終要素920と接触して、変形つまり圧縮することができる。このような構成は、バリア部材910、最終要素920、さらに変形可能なシール940への損傷を防止することができる。実施形態では、変形可能なシール940は、液体のレベルが溢れレベルまで上昇すると、液体11がギャップ930を出られるように構築し、構成することができる。つまり、変形可能なシール940は、液体が変形可能なシール940の周囲を流れることができるように変形することもできる。0068変形可能なシール940は、ゴム、エラストマ及び/又はポリマ材料を含むが、それに制限されない弾性及び/又は可撓性材料から作成することができ、任意の適切な形状でよい。例えば、変形可能なシール940は、最終要素920を囲むリングの形状のように環状形でよく、図示のように実質的に円形の断面形状を有してよい。環状形シールの他の実施形態は、全体的形状、さらにその断面の両方について、正方形又は任意の他の多辺形の形状を有してよい。実施形態では、変形可能なシール940は、バリア部材910と最終要素920の間のギャップを実質的に密封して、空気などの気体図9の水平の矢印で表すがギャップ930に入るのを実質的に防止するように構成された円板ばね又は任意の他のタイプの可撓性構造を含んでよい。この実施形態の適切な変形可能なシールの例は、Oリング、Cリング、Zリング、及び蛇腹状リング断面を含むが、それに制限されない。0069気体がギャップ930に入るのを実質的に防止することにより、変形可能なシール940と液体11との間にある気体931は、液体からの蒸気で飽和することがあり、したがって気体931が液体11と熱平衡状態になる。これは、液体11のメニスカス932が不飽和気体に曝されることによって蒸発する液体の量を大幅に減少させることができる。変形可能なシール940によって生成されたシールは気密性である必要はなく、シールは、少量の気体がギャップ内に漏れる、及び/又は飽和気体931がギャップ930から漏れ出すように、漏れシールでよい。実施形態では、気体931は、希ガス又は窒素などの不活性ガスの高い分圧、及び酸素の低い分圧を有する気体を含んでよい。酸素の低い分圧を有する気体をギャップに設けると、酸素が液体11に溶解し、投影システムが投影した放射ビームによって吸収されるのを防止することができる。このような気体は、バリア部材910の1つ又は複数の適切な導管図示せずを介してギャップに提供することができる。0070図10は、図9の液体閉じ込めシステムと同様であるが、1つ又は複数の追加的及び/又は代替的フィーチャを含む液体閉じ込めシステム1000の実施形態を示す。図10に示すように、変形可能なシール1040が、バリア部材910と投影システムの最終要素920の間に設けられる。変形可能なシール1040は、変形可能なシール940に関して上述したものと同じタイプのシールでよい、つまり中実の可撓性材料から作成する、又は液体を含んでよい。特に、変形可能なシール1040は、液体を形成して液体のリングにし、蒸発に対して多少の抵抗を有するつまり低い蒸気圧を有することができる適切な特性を有する例えば高い表面張力を有する液体などの液体を含むことができる。例えば、変形可能なシール1040は、真空ポンプに使用される油などの油を含むことができる。適切な油の一例は、Fomblinなどのフルオロエーテル系油である。特性に関して変形可能なシール1040に適切な液体の別の例は、水銀である。実施形態では、変形可能なシール1040に使用される液体は、重大な蒸発熱負荷自体を与えないように、液浸液より低い蒸気圧など、低い蒸気圧を有してよい。実施形態では、変形可能なシール1040は、リザーバ内の液体11に使用される液体と同じタイプの液体を含んでよい。液体は、それより低い蒸気圧を有する液体より蒸発しやすいが、例えば低温スポットなどのシールの液体の蒸発による悪影響は、シールがない場合に生成されるような低温スポットよりも投影軸PAから離れた位置になり、したがって低温スポットの影響が低下する。0071図10に示すように、変形可能なシール1040は、バリア部材910上に位置する窪み又は溝などのエネルギバリア1042によって、バリア部材910に釘付けすることができる。実施形態では、最終要素920は追加的又は代替的に、変形可能なシール1040を最終要素920に釘付けするように、バリア部材910のエネルギバリア1042としての変形可能なシール1040に対向して配置されたエネルギバリア図示せずを含むことができる。実施形態では、エネルギバリア1042は、窪みを有するのではなく、上述した突起100のような少なくとも1つの突起を含んでよい。エネルギバリアは、変形可能なシール1040がバリア部材910の水平表面914に沿って半径方向外側の方向に移動するのを防止するのに適切な任意の形状又は構成を有してよい。実施形態では、エネルギバリアを生成するように、バリア部材910の表面914を粗くすることができる。0072バリア部材910が最終要素920に向かって移動すると、変形可能なシール1040が、シールの全体的構成を破壊することなく、変形、つまり形状を変化させるように構成することができる。上述した実施形態と同様に、変形可能なシール1040は、外側の気体矢印で図示が変形可能なシール1040と液体11の間の気体931を一新するのを防止することができる。これによって、気体931及び液体11が熱平衡を維持し、それによって以上で検討したようにギャップ930に流入する気体による液体11の蒸発を最小限に抑えるのに役立つことができる。0073図11に示す液体閉じ込めシステムでは、変形可能なシール1140を、コーティングの形態でよい撥液性例えば疎液性外層1150でバリア部材910に釘付けにすることができる。図示のように、バリア部材910の実質的に水平な上面914に外層1150を塗布することができる。外層1150は、変形可能なシール1140をバリア部材910に対して外れた位置へと移動させるエネルギの増加を吸収するので、エネルギバリアと見なすこともできる。これは、図7及び図8に関して上述したようなメニスカス932を図示の位置でバリア部材910の位置に釘付けにする表面の段階関数と組み合わせることができる。0074図12は、図11の変形可能なシール1140のさらに詳細な図を示す。図示のように、外層1150は、間にギャップ1151がある第一部分1150a及び第二部分1150bを含んでよい。実施形態では、外層1150は、部分1150a又は1150bの一方しか含まない。ギャップ1151は、変形可能なシール1140がバリア部材910と接触し、外層1150の部分1150a、1150bの対向する縁部に釘付けにされ、それによって変形可能なシール1140を投影軸PAに対して所望の位置に配置できるようなサイズにすることができる。ギャップ1151内のバリア部材910の表面は、親液性特性を有してよい。つまり、変形可能なシール1150とギャップ1151との接触角は、90°未満であるが、0°より大きくてよい例えば80°、70°、60°など。実施形態では、変形可能なシール1140とギャップ1151との接触角は、60°未満であるが、0°より大きい。変形可能なシール1140の各側は、ギャップ1151にてバリア部材910に対して部分1150a、1150bの縁部の表面特性が段階関数を変化させたので、外層1150の部分1150a、1150bの縁部に釘付けにすることができる。つまり、変形可能なシール1140と外層1150との間の接触角が90°より大きく、外層1150を含まない、つまりギャップ1151でのバリア部材910の表面の接触角が90°より小さいので、表面特性の段階関数の変化が生じ、変形可能なシール1140が個々の部分1150a、1150bの縁部を越えて移動する可能性は低い。本明細書で使用する縁部という用語は、ギャップ1151に面する外層1150の部分1150a、1150bの縁部を述べるものであり、いかなる特定の物理的構造又は形状も示さない。0075バリア部材910の外層1150に加えて、又はそれに代わって、最終要素920は、図11及び図12に示すように半径方向外側で実質的に水平な表面924上に疎液性外層1160を有してよい。疎液性外層1160は、コーティングの形態でよい。バリア部材910の外層1150と同様に、最終要素920の疎液性外層1160は、ギャップ1161の対向する側に配置された部分1160a、1160bを含んでよく、したがって変形可能なシール1140が最終要素920に接触している場合に、部分1160a、1160bの縁部を使用して、変形可能なシール1140を最終要素920に釘付けにすることができる。実施形態では、外層1150、1160は、バリア部材910及び最終要素920の個々の傾斜表面916、926の少なくとも部分を覆うことができる。0076外層1150、1160は、以上で検討した任意の適切な疎液性材料を含んでよく、コーティングの形態で個々の表面に塗布するか、このようなコーティングを含むステッカ又は積層材料で塗布することができる。実施形態では、外層1150、1160の縁部は明瞭でよく、接触角に突然の不連続部を提供することが望ましい。以上で検討したように、縁部は、個々の表面の疎液性特性、つまり接触角の段階関数と見なすことができる。0077実施形態では、縁部とは、疎液性ではないつまり親液性の領域と一定の疎液性接触角を有する領域との接触角の漸進的変化と定義することができる。例えば、縁部領域は、個々のギャップ1151、1161から離れる距離とともに増加し、漸進的に変化する接触角を有することができる。接触角は、疎液性ではない表面の接触角からその表面上に設けられた接触角へと変化することが望ましい。接触角が漸進的に変化する表面の領域は、明確な縁部を有することができる。明確な縁部があることにより、変形可能なシール1140の釘付けをさらに良好に制御することができる。縁部の明確な境界は、以上で検討したように光軸から変位した表面の疎液性特性の変化率における段階関数と見なすことができる。0078実施形態では、UV吸収性層1170を、最終要素920と外層1160の間で最終要素920に設けることができる。外層のUV保護を最大限にするのに役立ち、蒸発を通してシステムに与えられる熱負荷を最小限にするのに役立てるために、UV吸収性層は、外層1160よりも大きい最終要素の区域を覆うことができる。実施形態では、投影システムを通して光軸に沿って投影される放射が、外層1150、1160に反射しないように、UV吸収性層1170を、最終要素の実質的に水平な表面924に、さらに傾斜表面926に設けることができる。言うまでもなく、上述した外層1150、1160とエネルギバリア例えば突起及び/又は窪みとの組合せを使用して、変形可能なシール1140をバリア部材910及び/又は最終要素920に釘付けにすることができる。実施形態では、外層1150、1160は、環状方向で不連続になるようにパターンを与えることができる。0079図13は、気体が液体11と接触するのを防止し、それによって液体11の蒸発量を減少させるように構成された変形可能なシール1340を含む液体閉じ込めシステム1300の実施形態を示す。この実施形態では、変形可能なシール1340は、ギャップ930内にあるリザーバからの液体11と直接接触している液体を含む。変形可能なシール1340用の液体は、リザーバの液体11と混合しない、つまり液体が不混和性であり、液体11のメニスカス932の頂部に留まるように選択することができる。例えば、液体11が水の場合、変形可能なシール1340は、油などの水よりも低い密度を有する液体を含んでよい。これによって、変形可能なシール1340が、液体11と混合せずに、液体11の頂部に浮かぶことができる。また、変形可能なシール1340は、低い蒸気圧を有してよく、低い蒸気圧の油を含んでよい。変形可能なシール1340の形状は、ギャップ930内の液体11のレベルが変化し、バリア部材910と最終要素920の間でギャップ930のサイズが変化するにつれて変化することがあるので、変形可能なシール1340を変形可能と見なすことができる。変形可能なシール1340の体積は、ギャップ930内の液体のレベル、さらに変形可能なシール1340のメニスカス1342の所望の位置に基づいて選択することができる。図示の実施形態では、変形可能なシール1340のメニスカス1342は、バリア部材910の傾斜表面916と最終要素920の傾斜表面926との間のギャップ930に位置する。0080実施形態では、メニスカスが外層1350と接触した場合に、メニスカス1342の一方端をバリア部材910に釘付けにすることができるように、疎液性外層1350をバリア部材910上に設けることができる。追加的又は代替的に、メニスカス1342の他方端を最終要素920に釘付けにすることができるように、疎液性外層1360を最終要素920上に設けることができる。図13に示す外層1350、1360は、バリア部材910及び最終要素920それぞれの実質的に水平な表面914、924にのみ設けられ、これで、ギャップ内の液体11のレベルが上昇した場合、及び/又はバリア部材910が最終要素920に向かって移動した場合に、メニスカス1342がバリア部材910の実質的に水平な表面914上に移動するのを防止することができる。言うまでもなく、外層1350、1360は傾斜表面916、926の少なくとも一部も覆うように設けることができる。外層1350、1360は、以上で検討したタイプでよい。液体11中の圧力が十分に高くなる、及び/又はバリア部材910と最終要素920の間のギャップ930が十分に小さくなると、変形可能なシール1340に作用する圧力は、メニスカス1342が外層1350、1360の縁部から外れるような圧力になることがある。実施形態では、外層1350、1360を全く使用しなくてもよい。0081図14は、液体11のメニスカス932にも直接接触している変形可能なシール1440を含む液体閉じ込めシステム1400の実施形態を示す。変形可能なシール1440は、液体11の頂部に浮くように構成された薄い箔を含むことができる。変形可能なシール1440は、液体11のレベルがギャップ930内で上下するにつれてメニスカス932の形状が変化しても、メニスカス932の形状をとるように構成することができる。実施形態では、変形可能なシール1440とメニスカス932の間に小さいギャップが存在してよい。このような実施形態では、小さいギャップ内の気体が、液体11からの蒸気で飽和することがある。変形可能なシール1440は、空気などの新鮮な気体が小さいギャップに到達するのを防止し、したがって新鮮な気体との接触による液体11の蒸発の量を最小限にするのに役立つことができる。変形可能なシール1440は気密シールを形成することができるが、シールは気密性である必要はなく、それでも外部の気体が液体と接触して、液体の蒸発を引き起こすことを実質的に防止するように機能する。0082以上で検討した実施形態のいずれにおいても、バリア部材910及び/又は最終要素920は、図7及び図8に図示した実施形態に関して以上で検討したタイプ、さらに2007年8月2日出願で参照により本明細書に全体が組み込まれる米国特許出願第60/935,247号に記載されているような疎液性外層を含んでよい。液体のメニスカスをギャップ内の所望の位置に釘付けにすることにより、液体11の蒸発をさらに減少させることができる。0083上述したような変形可能なシールの実施形態は、例えばメニスカスでの液体の蒸発を防止することが望ましい位置など、リソグラフィ装置の他の位置で使用することもできる。例えば、以上の実施形態は変形可能なシールをバリア部材の水平表面の頂部に配置されているものと説明しているが、変形可能なシールはバリア部材より低い位置で使用できることも想定される。実施形態では、変形可能なシールは、バリア部材と基板テーブル及び/又は基板の間で、例えば図5に示したガスシール16の半径方向外側の位置に配置することができる。図示の実施形態は、いかなる意味でも制限的ではないものとする。0084本文ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることは言うまでもない。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどである。こうした代替的な用途に照らして、本明細書でウェーハ又はダイという用語を使用している場合、それぞれ、基板又はターゲット部分という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことは、当業者に明らかである。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール、メトロロジーツール及び/又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ICを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。0085以上では光学リソグラフィとの関連で本発明の実施形態の使用に特に言及しているが、本発明は、インプリントリソグラフィなどの他の用途においても使用可能であり、状況が許せば、光学リソグラフィに限定されないことが理解される。インプリントリソグラフィでは、パターニング構造の微細構成によって、基板上に生成されるパターンが画定される。パターニング構造の微細構成を基板に供給されたレジストの層に押しつけ、その後に電磁放射、熱、圧力又はその組合せにより、レジストを硬化する。パターニング構造をレジストから離し、レジストを硬化した後にパターンを残す。0086本明細書で使用する放射及びビームという用語は、イオンビームあるいは電子ビームといったような粒子ビームのみならず、紫外線UV放射例えば、365nm、248nm、193nm、157nm又は126nmの、あるいはその辺りの波長を有する及び極端紫外線光EUV放射例えば、5nm~20nmの範囲の波長を有するを含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。レンズという用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電気光学部品を含む様々なタイプの光学部品のいずれか、又はその組合せを指す。0087以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の1つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はそのこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスクの形態をとることができる。さらに、機械読み取り式命令は、2つ以上のコンピュータプログラムで実現することができる。2つ以上のコンピュータプログラムは、1つ又は複数の異なるメモリ及び/又はデータ記憶媒体に記憶することができる。1つ又は複数の制御装置を設けて、装置を制御することができる。制御装置は、本発明を実現する1つ又は複数のコンピュータプログラムに従って装置を操作することができる。0088本発明の1つ又は複数の実施形態は、任意の液浸リソグラフィ装置に、特に排他的ではないが以上で言及したタイプに、液浸液を槽の形態で設けるか、基板の局所的な表面区域にのみに設けるか、閉じ込められないかにかかわらず適用することができる。閉じ込められない構成では、液浸液は、実質的に基板テーブル及び/又は基板の覆われていない表面全体が濡れるように、基板及び/又は基板テーブルの表面上を流れることができる。このような閉じ込められない液浸システムでは、液体供給システムが液浸液を閉じ込めないか、ある割合の液浸液閉じ込めを提供することができるが、実質的に液浸液の閉じ込めを完成しない。0089本明細書で想定するような液体供給システムは、広義に解釈されたい。特定の実施形態では、これは、投影システムと基板及び/又は基板テーブルの間の空間に液体を提供する機構又は構造の組合せでよい。これは、1つ又は複数の構造、1つ又は複数の液体入口、1つ又は複数の気体入口、1つ又は複数の気体出口、及び/又は液体を空間に提供する1つ又は複数の液体出口の組合せを備えてよい。実施形態では、空間の表面は、基板及び/又は基板テーブルの一部でよい、又は空間の表面が基板及び/又は基板テーブルの表面を完全に覆うことができる、又は空間が基板及び/又は基板テーブルを囲むことができる。液体供給システムは任意選択で、液体の位置、性質、量、形状、流量又は任意の他の特徴を制御する1つ又は複数の要素をさらに含んでよい。この1つ又は複数の制御要素を設けて、装置を制御することができる。制御装置は、1つ又は複数のコンピュータプログラムを実行するように作動できる処理装置を有してよい。0090装置に使用される液浸液は、使用される露光放射の所望の特性及び波長に従って様々な組成を有することができる。193nmという露光波長では、超純水又は水性組成を使用することができ、この理由から、液浸液を水と呼ぶことがあり、親水性、疎水性、湿度などの水に関連する用語を使用することができるが、より包括的であると見なされたい。このような用語は、フッ素を含む炭化水素など、使用可能な他の屈折率が高い液体にも拡張されるものとする。0091上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。"