露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワークを平坦な載置面上で保持する吸着ステージであって、前記載置面に対する前記対象ワークの姿勢を固定すべく該対象ワークを吸着可能な固定吸着機構と、前記載置面と面当接させるべく該対象ワークを吸着可能な平面吸着機構と、を備え、該平面吸着機構は、前記載置面を開口する複数の平面吸着孔を有し、前記載置面上における任意の一点から外縁へ向けて順に該各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする吸着ステージ。前記平面吸着機構は、前記載置面上において、それぞれが少なくとも1つ以上の前記平面吸着孔が位置する複数の吸着区画を有し、該各吸着区画単位で前記各平面吸着孔の吸着動作を開始することを特徴とする請求項1に記載の吸着ステージ。前記固定吸着機構は、前記載置面上において、上端面で前記対象ワークに吸着可能な少なくとも2つ以上の固定吸着部を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の吸着ステージ。前記各固定吸着部は、前記対象ワークを吸着保持した状態での前記上端面の前記載置面に沿う方向の変位が可能とされていることを特徴とする請求項3に記載の吸着ステージ。請求項3または請求項4に記載の吸着ステージであって、さらに、前記載置面に対して該載置面に直交する直交方向へと進退自在とされ、上端に吸着面を有するリフトピンを備え、前記各固定吸着部は、前記載置面から前記上端面を前記直交方向に突出した状態で前記対象ワークを吸着保持可能であるとともに、前記対象ワークを吸着保持した状態で前記上端面を前記載置面と面一とすることが可能であることを特徴とする吸着ステージ。前記平面吸着機構は、前記載置面上における中心位置から前記載置面の周縁部へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の吸着ステージ。前記平面吸着機構は、前記載置面上における縁部から前記載置面の中心位置を通る方向へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の吸着ステージ。前記平面吸着機構は、吸着動作を開始した前記平面吸着孔における吸着状態に応じて、次の前記平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の吸着ステージ。前記平面吸着機構は、前記固定吸着機構により保持された前記対象ワークでの撓みに応じて、前記各平面吸着孔における吸着動作開始の順序を設定することを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の吸着ステージ。前記対象ワークの基準平面に対する位置および姿勢を制御する載置ステージであって、請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の吸着ステージを用いることを特徴とする載置ステージ。請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の吸着ステージを用いることを特徴とする露光装置。ところで、露光装置では、露光光の結像によりマスクパターンを対象ワーク上に形成するものであることから、載置面に保持された対象ワークが結像面に対して平坦な状態であることが求められる。ところが、上記した従来の吸着ステージでは、単に面精度の高い基板クランプ台載置面に載置して吸着するものであることから、受取ピンにより支持された状態における対象ワークに生じている撓みうねりや反りとも言い全体的か部分的かは問わないを解消することは極めて困難である。そこで、載置面上の対象ワークを複数の爪で押さえつけることにより対象ワークを平坦な状態としてから、吸着パッドで吸着する構成とすることが考えられる。しかしながら、このような構成とすると、載置面に載置された対象ワーク上へと爪を出し入れする必要があることから、マスクパターンの形成に要する時間スループットの増大を招いてしまう。また、爪で対象ワークを押さえつけることにより当該対象ワークの表面にキズを付けてしまう虞があるとともに、爪の動作に起因して対象ワークに塵埃を付着させてしまう虞があり、製品精度の低下を招いてしまう虞がある。本発明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的は、作業時間の増大や製品制度の低下を招くことなく、平坦な状態で対象ワークを保持することのできる吸着ステージを提供することにある。請求項1に記載の発明は、露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワークを平坦な載置面上で保持する吸着ステージであって、前記載置面に対する前記対象ワークの姿勢を固定すべく該対象ワークを吸着可能な固定吸着機構と、前記載置面と面当接させるべく該対象ワークを吸着可能な平面吸着機構と、を備え、該平面吸着機構は、前記載置面を開口する複数の平面吸着孔を有し、前記載置面上における任意の一点から外縁へ向けて順に該各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする。請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の吸着ステージであって、前記平面吸着機構は、前記載置面上において、それぞれが少なくとも1つ以上の前記平面吸着孔が位置する複数の吸着区画を有し、該各吸着区画単位で前記各平面吸着孔の吸着動作を開始することを特徴とする。請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の吸着ステージであって、前記固定吸着機構は、前記載置面上において、上端面で前記対象ワークに吸着可能な少なくとも2つ以上の固定吸着部を有することを特徴とする。請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の吸着ステージであって、前記各固定吸着部は、前記対象ワークを吸着保持した状態での前記上端面の前記載置面に沿う方向の変位が可能とされていることを特徴とする。請求項5に記載の発明は、請求項3または請求項4に記載の吸着ステージであって、さらに、前記載置面に対して該載置面に直交する直交方向へと進退自在とされ、上端に吸着面を有するリフトピンを備え、前記各固定吸着部は、前記載置面から前記上端面を前記直交方向に突出した状態で前記対象ワークを吸着保持可能であるとともに、前記対象ワークを吸着保持した状態で前記上端面を前記載置面と面一とすることが可能であることを特徴とする。請求項6に記載の発明は、請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の吸着ステージであって、前記平面吸着機構は、前記載置面上における中心位置から前記載置面の周縁部へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする。請求項7に記載の発明は、請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の吸着ステージであって、前記平面吸着機構は、前記載置面上における縁部から前記載置面の中心位置を通る方向へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする。請求項8に記載の発明は、請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の吸着ステージであって、前記平面吸着機構は、吸着動作を開始した前記平面吸着孔における吸着状態に応じて、次の前記平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする。請求項9に記載の発明は、請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の吸着ステージであって、前記平面吸着機構は、前記固定吸着機構により保持された前記対象ワークでの撓みに応じて、前記各平面吸着孔における吸着動作開始の順序を設定することを特徴とする。請求項10に記載の発明は、前記対象ワークの基準平面に対する位置および姿勢を制御する載置ステージであって、請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の吸着ステージを用いることを特徴とする。請求項11に記載の露光装置は、請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の吸着ステージを用いることを特徴とする。本発明の吸着ステージによれば、平面吸着機構が、載置面における任意の一点から外縁へ向けて、順に吸着動作を開始することから、対象ワークに撓みが生じている場合であっても、その撓みによる余剰分を載置面の外側外縁へと逃がすことができるので、対象ワークを適切に平坦な載置面に吸着させることができる。これにより、対象ワークを平坦な状態として吸着保持することができる。また、吸着ステージでは、平面吸着機構が、載置面を開口する複数の平面吸着孔で吸引真空引きすることにより、対象ワークを平坦な状態とするものであることから、製品精度の低下を招いてしまうことを防止することができる。さらに、吸着ステージでは、平面吸着機構が、載置面を開口する複数の平面吸着孔で吸引真空引きすることにより、対象ワークを平坦な状態とするものであることから、対象ワークが載置面上に載置されると直ちに各平面吸着孔での吸引真空引きを開始することができるので、マスクパターンの形成に要する時間スループットの短縮を図ることができる。上記した構成に加えて、前記平面吸着機構は、前記載置面上において、それぞれが少なくとも1つ以上の前記平面吸着孔が位置する複数の吸着区画を有し、該各吸着区画単位で前記各平面吸着孔の吸着動作を開始することとすると、平面吸着機構における吸着動作の開始のための制御を吸着区画毎に行うこととすることができるので、簡易な制御で対象ワークを平坦な状態とすることができる。上記した構成に加えて、前記固定吸着機構は、前記載置面上において、上端面で前記対象ワークに吸着可能な少なくとも2つ以上の固定吸着部を有することとすると、簡易な構成で、固定吸着機構で吸着保持することにより、対象ワークの姿勢が変化することを防止することができる。上記した構成に加えて、前記各固定吸着部は、前記対象ワークを吸着保持した状態での前記上端面の前記載置面に沿う方向の変位が可能とされていることとすると、対象ワークの姿勢を維持しつつ、平面吸着機構による段階的な吸着動作により対象ワークにおいて撓みによる余剰分を外側へと逃がすことの妨げとなることを防止することができる。上記した構成に加えて、さらに、前記載置面に対して該載置面に直交する直交方向へと進退自在とされ、上端に吸着面を有するリフトピンを備え、前記各固定吸着部は、前記載置面から前記上端面を前記直交方向に突出した状態で前記対象ワークを吸着保持可能であるとともに、前記対象ワークを吸着保持した状態で前記上端面を前記載置面と面一とすることが可能であることとすると、リフトピンとの間での対象ワークの保持状態の移行の際の当該対象ワークへの負荷を抑制することができる。また、対象ワークの姿勢を維持しつつ当該対象ワークを静かに載置面上に載置することができる。上記した構成に加えて、前記平面吸着機構は、前記載置面上における中心位置から前記載置面の周縁部へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することとすると、対象ワークにおいて寄せられる余剰分に偏りが生じることをより抑制することができるので、固定吸着機構の各固定吸着部の吸着により決められた位置および姿勢をより確実に維持しつつ平坦化することができる。上記した構成に加えて、前記平面吸着機構は、前記載置面上における縁部から前記載置面の中心位置を通る方向へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することとすると、対象ワークの撓みによる余剰分を他方の縁部へと逃がすことができるので、対象ワークを適切に平坦な載置面に吸着させることができ、対象ワークを平坦な状態として吸着保持することができる。上記した構成に加えて、前記平面吸着機構は、吸着動作を開始した前記平面吸着孔における吸着状態に応じて、次の前記平面吸着孔による吸着動作を開始することとすると、先に吸着動作が開始された箇所平面吸着孔において、対象ワークが載置面に適切に吸着されてから、次の平面吸着孔での吸着動作を開始することができるので、より適切に対象ワークを平坦な状態とすることができる。上記した構成に加えて、前記平面吸着機構は、前記固定吸着機構により保持された前記対象ワークでの撓みに応じて、前記各平面吸着孔における吸着動作開始の順序を設定することとすると、対象ワークの撓みに応じた順に、各平面吸着孔における吸着動作が開始されるので、より適切に対象ワークを平坦な状態とすることができる。上記した吸着ステージを用いた載置ステージでは、吸着ステージにおいて対象ワークが極めて高い精度で平坦な状態とされていることから、露光装置の投影光学系に対して、対象ワークにおける露光を行う箇所を適切な状態で位置させることができる。上記した吸着ステージを用いた露光装置では、吸着ステージにおいて対象ワークが極めて高い精度で平坦な状態とされていることから、対象ワークにマスクパターン像を適切に露光することができる。以下に、本願発明に係る載置ステージ30の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。先ず、本願発明に係る載置ステージ30を用いた露光装置10の概略的な構成について説明する。図1は、本願発明に係る露光装置の一例としての露光装置10の構成を模式的に示す説明図である。露光装置10は、図1に示すように、光軸方向に沿って出射側から順に、光源11と、コールドミラー12と、露光シャッタ13と、紫外線バンドパスフィルタ14と、インテグレータレンズ15と、コリメータレンズ16と、平面鏡17と、マスクステージ18と、マスクブラインド19と、投影レンズ20と、倍率補正部21と、載置ステージ30投影露光ステージと、を有する。この露光装置10は、露光光として紫外線を用いている。光源11は、露光に用いる露光光としての紫外線の照射のために設けられており、本実施例では、水銀ランプ11aが楕円反射鏡楕円鏡11bの第1焦点位置に配置されて構成されている。この光源11では、水銀ランプ11aから出射された出射光を、楕円反射鏡11bで反射してコールドミラー12へと進行させる。コールドミラー12は、入射した光のうち、赤外領域の熱線を透過させるとともに他の波長帯域の光を反射するものであり、入射した光から赤外領域の熱線を分離することができる。このため、光源11からの出射光は、コールドミラー12により赤外領域の熱線が分離されて、露光シャッタ13もしくは紫外線バンドパスフィルタ14へと進行する。その露光シャッタ13は、コールドミラー12により反射された出射光の透過および遮断の切り替えを可能とすべく、コールドミラー12から紫外線バンドパスフィルタ14へと向かう光路後述する照射光路上に出し入れ自在とされている。この露光シャッタ13は、光路上から退避されると後述するように対象ワーク22の露光を可能とし、光路上に位置されると対象ワーク22の露光を停止させる。紫外線バンドパスフィルタ14は、入射した光のうち紫外線のみの透過を許すものであり、本実施例では、波長365nmの水銀のスペクトル線であるi線の透過を許すi線バンドパスフィルタにより構成されている。このため、コールドミラー12により反射された出射光は、紫外線バンドパスフィルタ14により紫外線i線の波長帯域のみの光実際には、i線の波長帯域の近傍の強度が高い光とされて、インテグレータレンズ15へと進行する。インテグレータレンズ15は、入射した光の照度ムラを打ち消して照射面において周辺部まで均一で明るい照度分布とする。このため、紫外線バンドパスフィルタ14を経て紫外線i線の波長帯域のみの光とされた入射光は、インテグレータレンズ15により均一な照度分布とされてコリメータレンズ16へと進行する。コリメータレンズ16は、入射した光を平行光光束として出射する。このため、インテグレータレンズ15を経て均一な照度分布とされた出射光は、コリメータレンズ16により平行光とされて平面鏡17へと進行し、その平面鏡17により反射されてマスクステージ18へと進行する。マスクステージ18は、パターンが形成されたマスク18aを、平面鏡17により反射された出射光の光路上に位置させつつ当該光路の光軸に直交する方向に移動可能に保持する。また、マスクステージ18は、図示は略すが、マスク18aの取り外しが可能とされており、マスク18aとは異なるパターンが形成されたマスクへの交換が可能とされている。このため、平面鏡17により反射された出射光は、マスク18aを透過することにより、マスク18aに形成されたパターンの形状に応じたものとされて投影レンズ20へと進行する。このことから、露光装置10では、光源11から、コールドミラー12、露光シャッタ13、紫外線バンドパスフィルタ14、インテグレータレンズ15、コリメータレンズ16および平面鏡17を経る光路が、マスク18aを露光光としての紫外線i線で照射するための照射光学系として機能する。このマスクステージ18と投影レンズ20との間に、マスクブラインド19が設けられている。マスクブラインド19は、マスク18aを経た出射光の光路上に進退自在に設けられており、マスク18aのマスクパターンのうち所望の領域のみのマスクパターン像を、載置ステージ30に載置された後述する対象ワーク22上に適切に形成すべく、マスク18aのマスクパターンに応じて適宜光路上に進出される。投影レンズ20は、載置ステージ30上の後述する対象ワーク22に、マスク18aに形成されたパターンを適切に露光するためのものであり、マスクステージ18に保持されたマスク18aのパターンの像以下、マスクパターン像ともいうを、適宜変倍して載置ステージ30に載置された後述する対象ワーク22の表面に形成する。すなわち、投影レンズ20は、載置ステージ30に載置された状態の対象ワーク22の表面を結像面として、当該結像面とマスク18aとを光学的に共役な位置関係としている。露光装置10では、上述したように、露光光として紫外線i線を用いることから、投影レンズ20は、露光光である紫外線i線に対して高精度に収差補正されて設定されている。このため、投影レンズ20は、マスク18aを透過した出射光が入射されると、マスク18aのマスクパターン像を載置ステージ30上の結像面後述する対象ワーク22上に適切に形成する。この投影レンズ20と載置ステージ30との間に、倍率補正部21が設けられている。倍率補正部21は、載置ステージ30上に載置される後述する対象ワーク22における歪みに応じて、載置ステージ30上の結像面に形成するマスクパターン像を変形させるものである。この倍率補正部21は、光路に直交する面で見て、任意の方向での倍率を適宜変化させることにより、結像面でのマスクパターン像を変形させる。倍率補正部21は、例えば、光路方向に複数枚のガラス板を並列し、各ガラス板を適宜湾曲させたり回転させたりする構成とすることで、実現することができる。このように、露光装置10では、マスクブラインド19、投影レンズ20および倍率補正部21が、所定のパターンが形成されたマスク18aを透過した露光光としての紫外線を、載置ステージ30上の結像面後述する対象ワーク22上にマスクパターン像として結像させる投影光学系として機能する。載置ステージ30では、マスクパターンの露光のために対象ワーク22が載置される。この載置ステージ30は、載置される対象ワーク22の表面を投影レンズ20の結像面に一致させて対象ワーク22を保持することができるとともに、保持した対象ワーク22を投影光路に直交する面に沿って移動させることが可能とされている。この載置ステージ30における対象ワーク22の移動は、本実施例では、載置ステージ30の内方に設けられた駆動制御部43図14参照の制御下で行われる。この載置ステージ30の構成については、後に詳細に説明する。なお、載置ステージ30における対象ワーク22の移動は、手動により行うものであってもよい。その対象ワーク22は、本実施例では、シリコンウエハやガラス基板やプリント基板等に、紫外線i線に対して光反応するフォトレジスト等の感光材料が塗布または張り付けられて形成されている。このため、対象ワーク22は、紫外線i線の照射により露光可能とされている。この露光装置10では、照射光学系において、光源11から出射された出射光が、コールドミラー12、紫外線バンドパスフィルタ14、インテグレータレンズ15、コリメータレンズ16および平面鏡17を経て、マスクステージ18へと到達することにより、マスクステージ18に保持されたマスク18aを紫外線i線で一様に照射する。すると、露光装置10では、投影光学系すなわちマスクブラインド19、投影レンズ20および倍率補正部21の機能により、載置ステージ30上の結像面に、紫外線i線によるマスクパターン像が適切に形成される。このことから、露光装置10では、対象ワーク22を結像面に沿う適切な位置姿勢とすることにより、対象ワーク22にマスクパターン像を適切に露光することができる。このマスクパターン像に対する対象ワーク22の位置、すなわち光学的に投影光学系主に、投影レンズ20を経たマスク18aに対する対象ワーク22の位置は、載置ステージ30が保持する対象ワーク22を結像面上で適宜移動させることにより、調整するアライメントすることができる。本発明に係る露光装置10で用いる載置ステージ30は、図2および図3に示すように、ベース部材31と、2つのY軸駆動機構32と、Y軸スライダ33と、2つのX軸駆動機構34と、2つのX軸スライダ35と、XY調整板36と、3つのZ軸駆動機構37と、Z軸調整板38と、リフト機構39と、チャックプレート40と、を有する。ベース部材31は、上述した投影光学系に対する対象ワーク22図1参照の位置関係を設定する際の基準となる基準平面に沿って延在する板状部材であり、当該投影光学系に対して固定的に設けられている。この基準平面は、上述した投影光学系によりマスクパターン像が結像される位置、すなわち投影レンズ20によりマスク18aと光学的に共役な位置関係とされた結像面である。基準平面は、本実施例では、当該投影光学系の光軸方向をZ軸方向として、そのZ軸に直交する平面であるX-Y平面に平行な平面とする。このZ軸方向の正の側は、載置ステージ30から上述した投影光学系へと向かう側図2を正面視して上側とし、本明細書では、載置ステージ30における上側とも言う。このため、ベース部材31は、X-Y平面に沿って延在している。このベース部材31の上面に、2つのY軸駆動機構32が設けられている。2つのY軸駆動機構32は、図2ないし図4に示すように、ベース部材31の上面において、X軸方向で見た両端位置に設けられている。この両Y軸駆動機構32は、ベース部材31に対するY軸方向への駆動力をY軸スライダ33へと付与するものである。そのY軸スライダ33は、中央に貫通孔33aを有する板状を呈し、基準平面に沿って設けられている。各Y軸駆動機構32は、後述するX軸駆動機構34と基本的に同様の構成であり、Y軸固定子32aと、一対のベース側Y軸ガイド部材32bと、図示は略すが、Y軸可動子と、一対のスライダ側Y軸ガイド部材と、を有する。Y軸固定子32aは、ベース部材31の上面において、異なる磁極が隣り合うように複数の永久磁石がY軸方向に整列されて形成されており、所謂マグネットトラックを構成している。両ベース側Y軸ガイド部材32bは、ベース部材31の上面において、Y軸固定子32aを挟むように対を為して設けられており、Y軸方向に延在している。この両ベース側Y軸ガイド部材32bは、Y軸スライダ33の下面裏面に設けられた一対のスライダ側Y軸ガイド部材図示せずと、延在方向Y軸方向への摺動自在な嵌合が可能とされている。図示を略すY軸可動子は、Y軸スライダ33の下面裏面において、一対のスライダ側Y軸ガイド部材図示せずの間に設けられており、Z軸方向上下方向でY軸固定子32aと対向可能とされている。このY軸可動子図示せずには、電流の印加が可能とされたコイルが収容されている。各Y軸駆動機構32では、Y軸可動子図示せずとY軸固定子32aとの間での磁力による吸引反発力を適宜作用させることにより、当該Y軸可動子が固定されたY軸スライダ33をベース部材31に対してY軸方向に適宜移動させることができる。このため、本実施例では、Y軸方向が基準平面に沿う第1方向として機能し、両Y軸駆動機構32が第1駆動機構として機能し、Y軸スライダ33が第1スライダとして機能する。このベース部材31上におけるY軸スライダ33の位置を検出するために、図示は略すが位置検出素子が設けられている。なお、両Y軸駆動機構32は、単一のY軸スライダ33を移動させるものであることから、双方が同期されて制御される。載置ステージ30では、その内方に設けられた駆動制御部43図14参照により、両Y軸可動子図示せずへの印加電流を同期的に制御して、当該両Y軸可動子と両Y軸固定子32aとの間での磁力による吸引反発力を適宜作用させることにより、当該両Y軸可動子が固定されたY軸スライダ33をベース部材31に対して適宜移動させる。このとき、駆動制御部43では、この移動が磁力による吸引反発力を利用するものであることから、設定した移動目標位置へと適切に移動するように、位置検出素子図示せずからの位置情報に基づいてサーボ制御を行う。このY軸スライダ33に、2つのX軸駆動機構34が設けられている。2つのX軸駆動機構34は、Y軸スライダ33の上面において、Y軸方向で見た両端位置に設けられている。この各X軸駆動機構34は、Y軸スライダ33に対するX軸方向への駆動力を、対応するX軸スライダ3535A、35Bへと付与するものである。その両X軸スライダ35は、X軸方向で見て略等しい長さ寸法とされた板状を呈し、Z軸方向で見て等しい高さ位置上下位置で基準平面に沿って設けられている。各X軸駆動機構34は、X軸固定子34aと、一対のベース側X軸ガイド部材34bと、X軸可動子34cと、一対のスライダ側X軸ガイド部材34dと、を有する。X軸固定子34aは、Y軸スライダ33の上面において、異なる磁極が隣り合うように複数の永久磁石がY軸方向に整列されて形成されており、所謂マグネットトラックを構成している。両ベース側X軸ガイド部材34bは、Y軸スライダ33の上面において、X軸固定子34aを挟むように対を為して設けられており、X軸方向に延在している。この両ベース側X軸ガイド部材34bは、対応するスライダ側X軸ガイド部材34dの延在方向への摺動自在な嵌合が可能とされている。X軸可動子34cは、X軸スライダ35の下面裏面に設けられており、Z軸方向上下方向でX軸固定子34aと対向可能とされている図3参照。このX軸可動子34cには、電流の印加が可能とされたコイルが収容されている。X軸可動子34cの両側に、一対のスライダ側X軸ガイド部材34dが設けられている。この2つのX軸駆動機構34は、一方個別に述べるときは34AとするがX軸スライダ35Aに対応されて設けられており、他方が個別に述べるときは34BとするがX軸スライダ35Bに対応されて設けられている。すなわち、X軸駆動機構34Aは、一方のX軸スライダ35AをX軸方向に移動させるべく設けられており、そのX軸可動子34cがX軸スライダ35Aの下面に設けられている。また、X軸駆動機構34Bは、他方のX軸スライダ35BをX軸方向に移動させるべく設けられており、そのX軸可動子34cがX軸スライダ35Bの下面に設けられている。各X軸駆動機構34では、X軸可動子34cとX軸固定子34aとの間での磁力による吸引反発力を適宜作用させることにより、対応するX軸スライダ3535Aもしくは35BをY軸スライダ33に対してX軸方向に適宜移動させることができる。このため、本実施例では、X軸方向が基準平面に沿いかつ第1方向に対して傾斜する第2方向として機能し、各X軸駆動機構34が第2駆動機構として機能し、各X軸スライダ35が第2スライダとして機能する。このY軸スライダ33上における各X軸スライダ35A、35Bの位置を検出するために、図示は略すが位置検出素子が設けられている。なお、本実施例では、X軸スライダ35AとX軸スライダ35BとがX軸方向での移動可能な範囲の中央位置にある状態、すなわちX軸スライダ35AとX軸スライダ35BとがY軸スライダ33の上面においてX軸方向での中央位置でY軸方向に整列している状態図4等参照を、両X軸駆動機構34による駆動制御X軸方向への移動の基準位置としている。載置ステージ30では、その内方に設けられた駆動制御部43図14参照により、各X軸可動子34cへの印加電流が個別に制御されて、X軸可動子34cとX軸固定子34aとの間での磁力による吸引反発力を適宜作用させることにより、X軸可動子34cが固定されたX軸スライダ3535Aもしくは35BがY軸スライダ33に対して適宜個別にもしくは一体的に移動される。このとき、駆動制御部43では、この移動が磁力による吸引反発力を利用するものであることから、設定した移動目標位置へと適切に移動するように、位置検出素子図示せずからの位置情報に基づいてサーボ制御を行う。この2つのX軸スライダ35を架け渡すように、XY調整板36が設けられている図5参照。XY調整板36は、対象ワーク22図1参照のX-Y方向での位置およびX-Y平面に沿う回転姿勢の設定調整のために設けられている。このXY調整板36は、図5に示すように、板状を呈し、両X軸スライダ35の上方で、当該X軸スライダ35AとX軸スライダ35Bとを基準平面に沿って架け渡すように、延在されている。XY調整板36は、基本的には、第1連結部51でX軸スライダ35Aに連結されるとともに、第2連結部52でX軸スライダ35Bに連結されている。本実施例では、その第1連結部51および第2連結部52に加えて、第3連結部53でX軸スライダ35Aに連結されるとともに、第4連結部54でX軸スライダ35Bに連結されている。この各連結部51、52、53、54は、Z軸方向に延在されており、上側の一端でXY調整板36に接続するとともに、下側の他端でX軸スライダ3535A、35Bに接続している。ここで、図6に示すように、XY調整板36において、第1連結部51が接続された箇所を板側第1支持点Sb1とし、第2連結部52が接続された箇所を板側第2支持点Sb2とし、第3連結部53が接続された箇所を板側第3支持点Sb3とし、第4連結部54が接続された箇所を板側第4支持点Sb4とする。また、X軸スライダ35Aにおいて、第1連結部51が接続された箇所をスライダ側第1支持点Ss1とし、第3連結部53が接続された箇所をスライダ側第3支持点Ss3とする。さらに、X軸スライダ35Bにおいて、第2連結部52が接続された箇所をスライダ側第2支持点Ss2とし、第4連結部54が接続された箇所をスライダ側第4支持点Ss4とする。本実施例では、XY調整板36における各支持点Sb1、Sb2、Sb3、Sb4は、Z軸方向からみると、正方形を描くように配置されている。その第1連結部51は、板側第1支持点Sb1とスライダ側第1支持点Ss1とをZ軸方向で見て同一直線上に位置させつつ相対的な位置関係を固定した状態で、両支持点Sb1、Ss1を含む基準軸線Ba回りにX軸スライダ35AとXY調整板36とが相対的に回転することを許容するように、X軸スライダ35AとXY調整板36とを連結する。本実施例では、第1連結部51は、図7に示すように、X軸スライダ35Aに固定されZ軸方向に延出された連結基部分51aと、その延出端部分51bに対して回転可能に設けられた回転部分51cと、を有する。この連結基部分51aは、全体に円筒状を呈し、その中心軸線BaがZ軸方向に沿うものとされている。この回転部分51cは、連結基部分51aの延出端部分51bを取り囲む環状を呈し、延出端部分51bに対して連結基部分51aの中心軸線Ba回りに回転自在とされている。第1連結部51では、回転部分51cがXY調整板36に固定的に取り付けられている。この第1連結部51では、連結基部分51aの中心軸線Ba回りに、連結基部分51aと回転部分51cとの相対的な回転が可能であることから、連結基部分51aが設けられたX軸スライダ35Aと、回転部分51cが設けられたXY調整板36と、の上記中心軸線Ba回りの相対的な回転を許容しつつ、X軸スライダ35AとXY調整板36とを連結している。このため、第1連結部51では、連結基部分51aの中心軸線が基準軸線Baとなり、連結基部分51aの中心位置がスライダ側第1支持点Ss1となり、回転部分51cの中心位置が板側第1支持点Sb1となる。第2連結部52は、板側第2支持点Sb2とスライダ側第2支持点Ss2とをX-Y平面に沿う第3方向への相対的な位置の変化を許容し、かつZ軸方向回りにX軸スライダ35BとXY調整板36とが相対的に回転することを許容するように、X軸スライダ35BとXY調整板36とを連結する図6等参照。この第2連結部52は、本実施例では、図8に示すように、X軸スライダ35Bに固定されZ軸方向に延出された連結基部分52aと、その連結基部分52aに対して回転可能とされた連結回転部分52bと、その上端面に固定されたレール保持部分52cと、そのレール保持部分52cに摺動可能に保持されるレール52dと、そのレール52dに固定された取付部分52eと、を有する。この連結基部分52aは、全体に円筒状を呈し、その中心軸線がZ軸方向に沿うものとされている。連結回転部分52bは、連結基部分52aよりも小さな径寸法の円柱状を呈し、その連結基部分52a上の同心位置に設けられている。この連結回転部分52bは、連結基部分52aに対して当該連結基部分52aの中心軸線回りに回転自在とされている。レール保持部分52cは、X-Y平面に沿う方向であって、X軸方向第2方向およびY軸方向第1方向に対して傾斜する第3方向へと摺動可能にレール52dを保持することが可能とされている。レール52dは、第3方向に延在された棒状を呈し、取付部分52eに固定されている。取付部分52eは、全体に円柱状を呈し、XY調整板36に固定的に取り付けられている。このため、レール52dは、取付部分52eを介してXY調整板36に固定されていることとなる。このレール52dの延在方向すなわち第3方向は、本実施例では、XY調整板36上において板側第2支持点Sb2と板側第1支持点Sb1とを結ぶ線分の延在方向に一致するものとされており、各支持点Sb1、Sb2、Sb3、Sb4が描く正方形の対角線と一致されている。このため、第3方向は、両X軸駆動機構34が駆動制御の基準位置とされると、X軸方向第2方向およびY軸方向第1方向に対して45度の傾斜を有するものとなる。なお、第3方向は、本実施例では、XY調整板36に対して固定されているが、X軸スライダ35Bに対して固定されているものであってもよい。この第2連結部52では、レール52dとレール保持部分52cとの第3方向への相対的な移動が可能であるとともに、そのレール保持部分52cが設けられた連結回転部分52bの中心軸線回りに、連結回転部分52bと連結基部分52aとの相対的な回転が可能である。このため、第2連結部52は、連結基部分52aが設けられたX軸スライダ35Bと、レール52d取付部分52eが設けられたXY調整板36と、の第3方向への相対的な変位を許容し、かつ連結基部分52a連結回転部分52bの中心軸線回りのX軸スライダ35BとXY調整板36との相対的な回転を許容しつつ、X軸スライダ35BとXY調整板36とを連結している。このため、第2連結部52では、連結基部分52aの中心位置がスライダ側第2支持点Ss2となり、レール52d取付部分52eの中心位置が板側第2支持点Sb2となる。この第2連結部52は、X軸スライダ35AとX軸スライダ35Bとが駆動制御の基準位置とされた際、板側第2支持点Sb2とスライダ側第2支持点Ss2とをZ軸方向で見て同一直線上に位置させるレール52dの中心位置取付部分52eの中心軸線と連結基部分52aの中心軸線とが一致する基準位置となるように位置設定されて、X軸スライダ35BとXY調整板36とにそれぞれ設けられている。第3連結部53は、板側第3支持点Sb3とスライダ側第3支持点Ss3とをX-Y平面に沿う方向への相対的な位置の変化を許容し、かつZ軸方向回りにX軸スライダ35AとXY調整板36とが相対的に回転することを許容するように、X軸スライダ35AとXY調整板36とを連結する図6等参照。本実施例では、第3連結部53は、図9に示すように、X軸スライダ35Aに固定された第1レール53aと、その第1レール53aを摺動可能に保持する第1レール保持部分53bと、その第1レール保持部分53bに固定された固定板部分53cと、その固定板部分53cに固定された第2レール保持部分53dと、その第2レール保持部分53dに摺動可能に保持される第2レール53eと、その第2レール53eに固定された回転軸部分53fと、その回転軸部分53fに対して回転可能に設けられた回転部分53gと、を有する。この第1レール53aは、Y軸方向に延在された棒状を呈する。第1レール保持部分53bは、第1レール53aの延在方向へと摺動可能に第1レール53aを保持することが可能とされている。固定板部分53cは、板状を呈し、下面側に第1レール保持部分53bが設けられるとともに、上面側に第2レール保持部分53dが設けられており、第1レール保持部分53bと第2レール保持部分53dとの位置関係を固定している。第2レール保持部分53dは、X軸方向へと摺動可能に第2レール53eを保持することが可能とされている。第2レール53eは、X軸方向に延在された棒状を呈し、その延在方向に移動自在に第2レール保持部分53dに保持されている。回転軸部分53fは、全体に円柱状を呈し、中心軸線がZ軸方向に沿うように第2レール53eに固定されている。回転部分53gは、回転軸部分53fを取り囲む環状を呈し、その回転軸部分53fに対して当該回転軸部分53fの中心軸線回りに回転自在とされている。第3連結部53では、回転部分53gがXY調整板36に固定的に取り付けられている。この第3連結部53では、第1レール53aと第1レール保持部分53bそれが固定板部分53cを介して固定された第2レール保持部分53dとのY軸方向への相対的な移動が可能であり、かつ第2レール保持部分53dと第2レール53eとのX軸方向への相対的な移動が可能であり、しかもその第2レール53eに設けられた回転軸部分53fの中心軸線回りに、回転軸部分53fと回転部分53gとの相対的な回転が可能である。このため、第3連結部53は、第1レール53aが設けられたX軸スライダ35Aと、回転部分53gが設けられたXY調整板36と、のX-Y平面に沿う方向への相対的な変位を許容し、かつ回転軸部分53fの中心軸線回りの相対的な回転を許容しつつ、X軸スライダ35AとXY調整板36とを連結している。このため、第3連結部53では、第1レール53aの中心位置がスライダ側第3支持点Ss3となり、回転部分53gの中心位置が板側第3支持点Sb3となる。この第3連結部53は、X軸スライダ35AとX軸スライダ35Bとが駆動制御の基準位置とされた際、板側第3支持点Sb3とスライダ側第3支持点Ss3とをZ軸方向で見て同一直線上に位置させる回転軸部分53fの中心軸線と第1レール53aの中心位置を含むZ軸方向に沿う直線とが一致する基準位置となるように位置設定されて、X軸スライダ35AとXY調整板36とにそれぞれ設けられている。すなわち、第3連結部53は、板側第3支持点Sb3とスライダ側第3支持点Ss3とのZ軸方向で見た間隔を変動させることなく当該間隔を所定の大きさ寸法に維持しつつ、板側第3支持点Sb3とスライダ側第3支持点Ss3とのX-Y平面に沿う方向への相対的な位置の変動を可能とするものである。第4連結部54は、板側第4支持点Sb4とスライダ側第4支持点Ss4とをX-Y平面に沿う方向への相対的な位置の変化を許容し、かつZ軸方向回りにX軸スライダ35BとXY調整板36とが相対的に回転することを許容するように、X軸スライダ35BとXY調整板36とを連結する図6等参照。本実施例では、第4連結部54は、図10に示すように、X軸スライダ35Bに固定された第1レール54aと、その第1レール54aを摺動可能に保持する第1レール保持部分54bと、その第1レール保持部分54bに固定された固定板部分54cと、その固定板部分54cに固定された第2レール保持部分54dと、その第2レール保持部分54dに摺動可能に保持される第2レール54eと、その第2レール54eに固定された回転軸部分54fと、その回転軸部分54fに対して回転可能に設けられた回転部分54gと、を有する。この第1レール54aは、X軸方向に延在された棒状を呈する。第1レール保持部分54bは、第1レール54aの延在方向へと摺動可能に第1レール54aを保持することが可能とされている。固定板部分54cは、板状を呈し、下面側に第1レール保持部分54bが設けられるとともに、上面側に第2レール保持部分54dが設けられており、第1レール保持部分54bと第2レール保持部分54dとの位置関係を固定している。第2レール保持部分54dは、Y軸方向へと摺動可能に第2レール54eを保持することが可能とされている。第2レール54eは、Y軸方向に延在された棒状を呈し、その延在方向に移動自在に第2レール保持部分54dに保持されている。回転軸部分54fは、全体に円柱状を呈し、中心軸線がZ軸方向に沿うように第2レール54eに固定されている。回転部分54gは、回転軸部分54fを取り囲む環状を呈し、その回転軸部分54fに対して当該回転軸部分54fの中心軸線回りに回転自在とされている。第4連結部54では、回転部分54gがXY調整板36に固定的に取り付けられている。この第4連結部54では、第1レール54aと第1レール保持部分54bそれが固定板部分54cを介して固定された第2レール保持部分54dとのX軸方向への相対的な移動が可能であり、かつ第2レール保持部分54dと第2レール54eとのY軸方向への相対的な移動が可能であり、しかもその第2レール54eに設けられた回転軸部分54fの中心軸線回りに、回転軸部分54fと回転部分54gとの相対的な回転が可能である。このため、第4連結部54は、第1レール54aが設けられたX軸スライダ35Bと、回転部分54gが設けられたXY調整板36と、のX-Y平面に沿う方向への相対的な変位を許容し、かつ回転軸部分54fの中心軸線回りの相対的な回転を許容しつつ、X軸スライダ35BとXY調整板36とを連結している。このため、第4連結部54では、第1レール54aの中心位置がスライダ側第4支持点Ss4となり、回転部分54gの中心位置が板側第4支持点Sb4となる。この第4連結部54は、X軸スライダ35AとX軸スライダ35Bとが駆動制御の基準位置とされた際、板側第4支持点Sb4とスライダ側第4支持点Ss4とをZ軸方向で見て同一直線上に位置させる回転軸部分54fの中心軸線と第1レール54aの中心位置を含むZ軸方向に沿う直線とが一致する基準位置となるように位置設定されて、X軸スライダ35BとXY調整板36とにそれぞれ設けられている。すなわち、第4連結部54は、板側第4支持点Sb4とスライダ側第4支持点Ss4とのZ軸方向で見た間隔を変動させることなく当該間隔を所定の大きさ寸法に維持しつつ、板側第4支持点Sb4とスライダ側第4支持点Ss4とのX-Y平面に沿う方向への相対的な位置の変動を可能とするものである。このため、XY調整板36は、ベース部材31上において、Y軸スライダ33をY軸方向に適宜移動させることによりY軸方向の位置の調整が可能であるとともに、両X軸スライダ3535A、35Bを一体的にX軸方向に適宜移動させることによりX軸方向の位置の調整が可能であり、X-Y平面に沿う移動が自在とされている。また、XY調整板36は、図6に示すように、ベース部材31上において、X軸スライダ35AとX軸スライダ35Bとを個別にX軸方向に適宜移動させることX軸方向で見た相対的な位置関係により、基準軸線Baを回転中心としてZ軸方向回りで見た回転姿勢を適宜調整することが可能とされている矢印A1参照。このとき、XY調整板36では、基準軸線Baを基点とする回転に起因する板側第2支持点Sb2およびスライダ側第2支持点Ss2と、板側第3支持点Sb3およびスライダ側第3支持点Ss3と、板側第4支持点Sb4およびスライダ側第4支持点Ss4と、のX-Y平面に沿う方向での変動分が、第2連結部52における第3方向への変位と、第3連結部53および第4連結部54におけるX-Y平面に沿う方向への変位と、で、吸収されることにより、両X軸スライダ3535A、35Bによる支持が可能とされている。また、XY調整板36では、第2連結部52が第3方向への変位のみを許容する構成とされていることから、X軸スライダ35Aに対するX軸スライダ35Bの位置関係とXY調整板36の基準軸線Ba回りの回転姿勢とを一対一で対応させることができる。このため、本実施例では、XY調整板36が平面調整板として機能し、両X軸駆動機構34と両X軸スライダ35とが回転駆動機構としての機能も有する。このXY調整板36には、中心位置を取り囲むように設けられた3つの支持部挿通孔36a、36b、36cと、その中央に設けられた中央貫通孔36dと、が設けられている。3つの支持部挿通孔36a、36b、36cは、3つのZ軸駆動機構37に対応して設けられている。中央貫通孔36dは、Z軸方向から見てY軸スライダ33の貫通孔33aよりも小さな大きさ寸法とされており、X軸スライダ35AとX軸スライダ35Bとが駆動制御の基準位置とされた際、当該貫通孔33aの中心に位置するものとされている。その3つのZ軸駆動機構37は、XY調整板36の下側裏面側に設けられている図11および図12参照。各Z軸駆動機構37は、対象ワーク22図1参照のZ軸方向での位置およびZ軸方向に対する傾斜の設定調整のために設けられている。この3つのZ軸駆動機構37は、本実施例では、図11に示すように、1つ個別に述べるときは37AとするがX軸スライダ35Aの上方に位置されており、残りの2つ個別に述べるときは37B、37CとするがX軸スライダ35Bの上方に位置されている。この各Z軸駆動機構37は、基本的な構成は等しいものであることから、Z軸駆動機構37Aの概略的な構成を説明し、他については省略する。Z軸駆動機構37Aは、図12に示すように、駆動モータ37aと、変換部37bと、伝達軸37cと、スライド軸受部37dと、第1移動部37eと、第1ガイド部37fと、第2ガイド部37gと、第2ガイド保持部37hと、第2移動部37iと、第3ガイド部37jと、第3ガイド保持部37kと、ボールジョイント軸37lと、球面軸受部37mと、Z軸移動部37nと、を有する。駆動モータ37aは、載置ステージ30の内方に設けられた駆動制御部43図14参照により、印加電流が適宜制御されて、回転制御される。この駆動モータ37aは、本実施例では、ステッピングモータが用いられている。この駆動モータ37aの出力軸は、変換部37bに接続されている。この変換部37bには、伝達軸37cも接続されており、駆動モータ37aその出力軸の回転運動を、伝達軸37cのY軸方向への進退運動に変換する。その伝達軸37cは、Y軸方向に延在された棒状を呈し、スライド軸受部37dにY軸方向への進退自在に保持されている。そのスライド軸受部37dは、XY調整板36の裏面下側の面に固定されており、駆動モータ37aから駆動力が付与された伝達軸37cが、Y軸方向に進退移動することを補助する。その伝達軸37cに、第1移動部37eが固定されている。この第1移動部37eは、上面がX-Y平面に沿いかつ下面がX-Y平面に対して傾斜する所謂くさび形状を呈し、上面部で第1ガイド部37fを摺動自在に保持している。その第1ガイド部37fは、Y軸方向に延在された棒状を呈し、XY調整板36の裏面下側の面に固定されている。このため、第1移動部37eは、伝達軸37cのY軸方向への進退移動に伴って、Y軸方向への進退移動することが可能とされている。この第1移動部37eの下面に沿うように、第2ガイド部37gが固定されている。この第2ガイド部37gは、棒状を呈し、Y-Z平面に沿いかつY軸に傾斜する方向に延在している。この第2ガイド部37gは、第2ガイド保持部37hに保持される。その第2ガイド保持部37hは、第2ガイド部37gを延在方向に摺動自在に保持可能とされており、第2移動部37iに固定されている。その第2移動部37iは、全体に柱状を呈し、Y軸方向に延出する腕部分37oを有する。腕部分37oの上面は、第1移動部37eの下面と平行とされている。この腕部分37oの上面に、第2ガイド保持部37hが固定されている。第2移動部37iには、Y軸方向で見て腕部分37oが延出された側とは反対側に、第3ガイド部37jが固定されている。この第3ガイド部37jは、棒状を呈し、Z軸方向に延在している。第3ガイド部37jは、第3ガイド保持部37kに保持される。この第3ガイド保持部37kは、第3ガイド部37jを延在方向に摺動自在に保持可能とされており、XY調整板36の延出壁36eに固定されている。この延出壁36eは、XY調整板36の裏面下側の面から、Z軸方向に沿って下側へと延出されている。このため、第2移動部37iは、第1移動部37eがY軸方向へと進退移動されると、その第1移動部37eに第2ガイド部37gおよび第2ガイド保持部37hを介して接続されていることにより、第3ガイド保持部37kと第3ガイド部37jとの案内方向であるZ軸方向へと進退移動される。すなわち、第2移動部37iは、伝達軸37cが最も進出する第1移動部37eが駆動モータ37aから離間すると、Z軸方向で下側へと移動し、伝達軸37cが最も後退する第1移動部37eが駆動モータ37aに接近すると、Z軸方向で上側へと移動する。このことから、各Z軸駆動機構37は、所謂クサビ機構とされている。このZ軸方向に進退移動される第2移動部37iおよび第3ガイド部37jと、XY調整板36に固定されてZ軸方向の高さ位置が一定とされた延出壁36eおよび第3ガイド保持部37kと、は、下部がX軸スライダ35AとX軸スライダ35Bとの間の空間に位置されている。この第2移動部37iの上部にボールジョイント軸37lが設けられている。このボールジョイント軸37lは、Z軸方向に延出されて設けられており、その延出端が球状37pとされている。ボールジョイント軸37lの球状部37pは、球面軸受部37mにより保持されている。この球面軸受部37mは、ボールジョイント軸37lの球状部37pを、その球面形状に沿って摺動自在に保持している。球面軸受部37mの上方にZ軸移動部37nが設けられている。このZ軸移動部37nは、柱状を呈している。Z軸移動部37nは、第2移動部37iに対して、ボールジョイント軸37lの球状部37pの中心位置回りに、揺動自在とされている。このため、Z軸駆動機構37Aでは、駆動モータ37aが適宜回転駆動されることにより第1移動部37eがY軸方向へと進退移動し、この第1移動部37eのY軸方向への進退移動に伴って第2移動部37iがZ軸方向へと進退移動し、その第2移動部37iにボールジョイント軸37lおよび球面軸受部37mを介して取り付けられたZ軸移動部37nが、スライド軸受部37d、第1移動部37eおよび第3ガイド保持部37kを介して取り付けられたXY調整板36に対してZ軸方向で進退移動する。各Z軸駆動機構37は、上述したように、XY調整板36の各支持部挿通孔36a、36b、36cに個別に対応して設けられている。具体的には、図11に示すように、Z軸駆動機構37AのZ軸移動部37nは、支持部挿通孔36aに挿通されており、Z軸駆動機構37BのZ軸移動部37nは、支持部挿通孔36bに挿通されており、Z軸駆動機構37CのZ軸移動部37nは、支持部挿通孔36cに挿通されている。各Z軸駆動機構37では、Z軸移動部37nの上方に、Z軸調整板38の支持のための調整板支持部37q、37r、37sが設けられている。このため、本実施例では、Z軸方向が基準平面に直交する第4方向となり、Z軸調整板38が第4方向調整板として機能し、各Z軸駆動機構37が第4方向駆動機構として機能する。また、各Z軸駆動機構37では、駆動モータ37a、変換部37b、伝達軸37c、スライド軸受部37d、第1移動部37e、第1ガイド部37f、第2ガイド部37g、第2ガイド保持部37h、第2移動部37i、第3ガイド部37j、第3ガイド保持部37k、ボールジョイント軸37l、球面軸受部37mおよびZ軸移動部37nが駆動本体部として機能する。Z軸駆動機構37AのZ軸移動部37n上に設けられる調整板支持部37qは、全体に円柱状を呈し、Z軸調整板38の裏面下側の面に対して所定の位置で固定される。すなわち、調整板支持部37qは、ボールジョイント軸37lと球面軸受部37mとにより揺動自在とされたZ軸移動部37n上に設けられていることから、Z軸調整板38のX-Y平面に対する傾斜の変化を許容支持角度を変更自在にしつつZ軸調整板38の所定の位置を固定的に支持している。このため、調整板支持部37qは、第4方向駆動機構における第1支持部として機能する。Z軸駆動機構37BのZ軸移動部37n上に設けられる調整板支持部37rは、長尺なガイドレールを有し、図示は略すがZ軸調整板38の裏面に設けられたガイドレール保持部により摺動可能に当該ガイドレールが保持されることにより、Z軸調整板38の裏面に接続される。このガイドレールは、延在方向の延長線上にZ軸駆動機構37Aの調整板支持部37qZ軸移動部37nの軸線が位置するように、換言すると、当該軸線へ向けて延在するように、位置設定されている。この調整板支持部37rは、ボールジョイント軸37lと球面軸受部37mとにより揺動自在とされたZ軸移動部37n上に設けられていることから、Z軸調整板38のX-Y平面に対する傾斜の変化を許容支持角度を変更自在にしつつZ軸調整板38の裏面をガイドレールの延在方向へと変位自在に支持している。このため、調整板支持部37rは、第4方向駆動機構における第2支持部として機能する。Z軸駆動機構37CのZ軸移動部37n上に設けられる調整板支持部37sは、全体に円柱状を呈し、Z軸調整板38の裏面に摺動自在に当接される。すなわち、調整板支持部37sは、ボールジョイント軸37lと球面軸受部37mとにより揺動自在とされたZ軸移動部37n上に設けられていることから、Z軸調整板38のX-Y平面に対する傾斜の変化を許容支持角度を変更自在にしつつZ軸調整板38を移動自在に支持している。このため、調整板支持部37sは、第4方向駆動機構における第3支持部として機能する。そのZ軸調整板38は、図2に示すように、対象ワーク22図1参照を吸着保持するチャックプレート40の固定的な載置を可能とする板状部材である。Z軸調整板38は、各Z軸駆動機構37を同期させて駆動することにより、Z軸方向で見た高さ位置が調整される。また、Z軸調整板38は、各Z軸駆動機構37を適宜個別に駆動することにより、X-Y平面に対する傾斜が調整される。このとき、Z軸調整板38では、Z軸駆動機構37Aの調整板支持部37qが固定された箇所が基点となり、その調整板支持部37q、Z軸駆動機構37Bの調整板支持部37rおよびZ軸駆動機構37Cの調整板支持部37sの高さ位置の差異に起因するそれぞれの間隔の変動分が、調整板支持部37rにおけるガイドレールの延在方向への変位と、調整板支持部37sにおける変位と、で、吸収されることにより、各Z軸駆動機構37による支持が可能とされている。また、Z軸調整板38では、Z軸駆動機構37Bの調整板支持部37rがガイドレールの延在方向への変位のみを許容する構成とされていることから、Z軸駆動機構37Aの調整板支持部37qが固定された箇所を基点として、Z軸方向回りに回動することが防止されている。このZ軸調整板38には、図3に示すように、工具顕微鏡41と超音波センサ42とが設けられている。この工具顕微鏡41と超音波センサ42とは、図示は略すが中央挿通孔38aの内周縁部に固定されている。その工具顕微鏡41は、中央挿通孔38aから下方へと、XY調整板36の中央貫通孔36dおよびX軸スライダ35AとX軸スライダ35Bとの間の空間に延在されている。工具顕微鏡41は、露光装置10の投影光学系に対するZ軸調整板38XY調整板36の基準位置の調整に用いる顕微鏡であり、光軸方向が中央挿通孔38aを介して固定されたZ軸調整板38が基準姿勢とされた状態においてZ軸方向に等しいものとされている。このZ軸調整板38の基準姿勢は、各Z軸駆動機構37調整板支持部37q、37r、37sによる支持の高さ位置が等しいものとされた状態、すなわちベース部材31を基準としてX-Y平面に沿う状態をいう。この工具顕微鏡41は、光軸を露光装置10の投影光学系の投影光軸と一致させることにより、露光装置10の投影光学系に対するX-Y平面に沿う方向で見たZ軸調整板38XY調整板36の位置を基準位置とするように配置されている。また、工具顕微鏡41は、チャックプレート40上に対象ワーク22が吸着保持された際、当該対象ワーク22を基準平面に沿うものとすべく、チャックプレート40が取り付けられるZ軸調整板38のZ軸方向で見た位置高さ位置の調整のためにも用いることが可能とされている。超音波センサ42は、Z軸調整板38の中央挿通孔38aから下方へと、XY調整板36の中央貫通孔36dおよびX軸スライダ35AとX軸スライダ35Bとの間の空間に延在されている。この超音波センサ42は、チャックプレート40上に対象ワーク22が吸着保持載置されているか否かの判別のために設けられている。超音波センサ42は、検出方向が、Z軸調整板38が基準姿勢とされた状態においてZ軸方向に等しいものとされている。図2および図3に示すように、Z軸調整板38の下方に、リフト機構39図2および図3参照が設けられている。このリフト機構39は、チャックプレート40上で、対象ワーク22図1参照をZ軸方向正確には、Z軸調整板38すなわち後述する載置面40bに直交する方向であり、Z軸を含む高さ方向に移動させるものである。リフト機構39は、図13に示すように、リフトベース39aと、複数のリフトピン39bと、上下駆動部39cと、リフトピン第1吸引部39d図14参照と、リフトピン第2吸引部39e図14参照と、を有する。リフトベース39aは、上下駆動部39cによりZ軸方向へと変位自在に保持された枠部材である。この上下駆動部39cは、図示は略すが上端面がZ軸調整板38の裏面下側の面に固定されて当該Z軸調整板38に取り付けられている。このため、リフトベース39aは、Z軸調整板38のX-Y平面に対する傾斜に拘らず、上下駆動部39cにより、Z軸調整板38とXY調整板36との間で、Z軸調整板38の板面に直交する方向で見た当該Z軸調整板38に対する位置Z軸を含む高さ方向の位置が変位自在とされている。このリフトベース39aに各リフトピン39bが設けられている。各リフトピン39bは、リフトベース39aからZ軸方向の上側に突起された筒状部材であり、上端にリフトピン吸着面39fが設けられている。このリフトピン吸着面39fは、可撓性を有する材料から形成されており、上方を開口するボウル形状お碗形状を呈する図15A等参照。各リフトピン39bには、図示は略すが、リフトピン第1吸引部39dまたはリフトピン第2吸引部39e図14参照が接続されている。このリフトピン第1吸引部39dまたはリフトピン第2吸引部39eは、対応する各リフトピン39bの基端部からその内方の空間に連通し、当該空間の真空引きおよびその解除が可能とされている。この各リフトピン39bでは、対象ワーク22図1参照がリフトピン吸着面39fに載置された状態で内方の空間がリフトピン第1吸引部39dまたはリフトピン第2吸引部39eで真空引きされることにより、その対象ワーク22図1参照の吸着保持が可能とされている。本実施例では、リフトピン39bは、リフトベース39a上において、内方に2つリフトピン39b1とも言う配置されるとともに、外方に4つリフトピン39b2とも言う配置されており、2つのリフトピン39b1にはリフトピン第1吸引部39dが接続され、4つのリフトピン39b2にはリフトピン第2吸引部39e図14参照が接続されている。このため、リフト機構39では、2つのリフトピン39b1と4つのリフトピン39b2とを別々に真空引きすることが可能とされている。この各リフトピン39bは、Z軸調整板38に設けられたピン挿通孔38b図3等参照およびチャックプレート40に設けられたピン挿通孔40a図3および図15A等参照を経て、チャックプレート40その後述する載置面40bの上方へと突出可能とされている。このリフト機構39は、載置ステージ30の内方に設けられた駆動制御部43図14参照により制御される。この駆動制御部43は、図14に示すように、両Y軸駆動機構32、両X軸駆動機構34、各Z軸駆動機構37、リフト機構39、後述する固定吸着機構60および平面吸着機構70を制御することが可能とされており、後述する姿勢取得機構44からの検出信号を取得可能とされている。リフト機構39は、各リフトピン39bをチャックプレート40の上方へと突出させた状態図15参照で、当該各リフトピン39bの上端面に載置された対象ワーク22図1参照を吸着保持し、その後リフトベース39aを下降させて各リフトピン39bをチャックプレート40側へと引き込む図16参照ことにより、吸着保持した対象ワーク22をチャックプレート40後述する載置面40b上に載置させることができる。そのチャックプレート40は、図15および図16に示すように、全体に矩形の板状を呈し、高い精度で平坦とされた上面で対象ワーク22図1参照の載置のための載置面40bを形成する。チャックプレート40は、Z軸調整板38が基準姿勢とされた状態において、載置面40bが基準平面X-Y平面に沿うものとなるように設定されている。そのチャックプレート40には、固定吸着機構60と平面吸着機構70とが設けられている。固定吸着機構60は、基本的に、リフト機構39その各リフトピン39bにより吸着保持された対象ワーク22図1参照を、チャックプレート40の載置面40b上への載置のために、姿勢変化を招くことなく載置面40bに対する位置を固定して保持するものである。この固定吸着機構60は、固定吸着部としての複数のリップ吸着部61を有する。この各リップ吸着部61は、図15Aに示すように、載置面40bを凹ますようにチャックプレート40に設けられた各吸着凹所40cに個別に設けられている。各リップ吸着部61は、全体に筒状を呈し、上端がリップ吸着面61aとされており、後述するリップ吸引部62~65図14参照の作用により、リップ吸着面61aでの対象ワーク22図1参照の吸着保持が可能とされている。この各リップ吸着部61は、対象ワーク22を吸着保持した状態でのリップ吸着面61a保持位置の載置面40bに沿う方向での変位を可能とし、かつリップ吸着面61a保持位置を載置面40bからその直交方向Z軸を含む高さ方向に突出した状態での対象ワーク22の吸着保持が可能であるとともに、対象ワーク22を吸着保持した状態でリップ吸着面61a保持位置を載置面40bと面一とすることが可能とされている。各リップ吸着部61は、本実施例では、可撓性を有する樹脂材料から形成され、載置面40bの直交方向Z軸を含む高さ方向に延在する蛇腹状の筒部材とされている。このリップ吸着部61は、図15および図16に示すように、本実施例では、載置面40bの各辺に沿うように3つずつすなわち合計12個設けられており、それぞれの辺毎の4つのグループに分けられている。以下では、グループ毎にリップ吸着部61を述べるときは、図17に示すように、便宜上第n群リップ吸着部61A、61B、61C、61Dnは、1~4の整数と言う。すなわち、第1群リップ吸着部61A、第2群リップ吸着部61B、第3群リップ吸着部61C、第4群リップ吸着部61Dは、それぞれ3つのリップ吸着部61を有している。各リップ吸着部61には、図示は略すが、リップ吸引部62~65図14参照が接続されている。このリップ吸引部62~65は、対応する各リップ吸着部61の基端部からその内方の空間に連通し、当該空間の真空引きおよびその解除が可能とされている。この各リップ吸着部61では、対象ワーク22図1参照がリップ吸着面61aに載置された状態で内方の空間がリップ吸引部62~65で真空引きされることにより、その対象ワーク22図1参照の吸着保持が可能とされている。このとき、各リップ吸着部61では、可撓性を有する蛇腹状の筒部材とされていることから、リップ吸着面61a保持位置の載置面40bに沿う方向での変位が可能であるとともに、リップ吸引部62~65による吸引により軸線方向に折り畳むように縮むことが可能とされている。本実施例では、各リップ吸着部61は、上述したように、折り畳むように縮むことにより、リップ吸着面61a保持位置を載置面40bと面一とすることが可能とされている。本実施例では、図14に示すように、第1群リップ吸着部61Aには、リップ第1吸引部62が接続され、第2群リップ吸着部61Bには、リップ第2吸引部63が接続され、第3群リップ吸着部61Cには、リップ第3吸引部64が接続され、第4群リップ吸着部61Dにはリップ第4吸引部65が接続されている。このため、固定吸着機構60では、各第n群リップ吸着部61A、61B、61C、61Dnは、1~4の整数を別々に真空引きすることが可能とされている。固定吸着機構60では、図15および図16に示すように、複数のリップ吸着部61少なくとも2つで対象ワーク22を吸着保持することにより、対象ワーク22の姿勢が変化することを防止することができる。ここで対象ワーク22の姿勢とは、基準平面に対する対象ワーク22のX、Y、Z軸方向への傾斜を言う。なお、各リップ吸着部61におけるリップ吸着面61a保持位置の載置面40bに沿う方向での変位は、吸着保持した対象ワーク22自体に載置面40bに沿う方向の力が作用しない限り移動方向が揃うことはなくかつ弾性的なものであることから、吸着保持した対象ワーク22をX-Y平面に沿う方向へと移動させるものではない。これにより、固定吸着機構60は、対象ワーク22を吸着保持した各リップ吸着部61における保持箇所の載置面40bに沿う方向での変位を許容しつつ、載置面40bに直交する方向で載置面40b側に移動させることができる。このため、固定吸着機構60は、載置面40bから離間させて吸着保持した対象ワーク22を載置面40b上に載置させることができる。平面吸着機構70は、載置面40b上に載置された対象ワーク22を平坦な状態として、載置面40b上で吸着保持するものである。この平面吸着機構70は、複数の平面吸着孔71を有する。この各平面吸着孔71は、高さ方向にチャックプレート40を貫通する貫通孔であり図3参照、載置面40bの全領域に渡って設けられている。本実施例では、各平面吸着孔71は、載置面40bに設けられた複数の環状溝72上に設けられており、同一の環状溝72上に位置するもの同士が連通されている図15A等参照。この各環状溝72は、載置面40bの中心位置を中心とする矩形状を呈し、載置面40bにおける中央近傍位置から各辺近傍位置にかけて段階的に内方の面積を拡大させるように設けられている。各環状溝72を個別に言う場合には、内側から順に環状溝72A~環状溝72Gとする。各平面吸着孔71には、図示は略すが、平面孔吸引部73~75図14参照が接続されている。この平面孔吸引部73~75図14参照は、チャックプレート40の裏面側で、対応する各平面吸着孔71に連通し、その内方の空間の真空引きおよびその解除が可能とされている。この各平面吸着孔71では、対象ワーク22図1参照が載置面40bに載置された状態で内方の空間が平面孔吸引部73~75図14参照で真空引きされることにより、その対象ワーク22図1参照の載置面40b上での吸着保持が可能とされている。本実施例では、各平面吸着孔71が環状溝72A~環状溝72G上に設けられていることから、各環状溝72A~環状溝72Gは、各平面吸着孔71が平面孔吸引部73~75図14参照で真空引きされることにより、対象ワーク22図1参照を載置面40bに吸着保持させることができる。このため、チャックプレート40は、固定吸着機構60および平面吸着機構70により、対象ワーク22図1参照を載置面40b上で吸着により保持することができる吸着ステージとして機能する。各環状溝72は、本実施例では、図18に示すように、内側の環状溝72A~環状溝72Cと、中間の環状溝72D~環状溝72Fと、外側の環状溝72Gと、の3つのグループ符号77、78、79参照に分けられている。このため、本実施例では、各グループに対応して3つの平面孔吸引部73、74、75図14参照が設けられており、内側の環状溝72A~環状溝72Cには、平面第1孔吸引部73が接続され、中間の環状溝72D~環状溝72Fには、平面第2孔吸引部74が接続され、外側の環状溝72Gには、平面第3孔吸引部75が接続されている。この接続のために、チャックプレート40の裏面側に複数の吸引室76図19参照が形成されている。各吸引室76は、図19に示すように、チャックプレート40の裏面が凹状とされつつリブ部で区画された凹所が、図示を略す封止部材で閉鎖されることにより形成されている。この各吸引室76は、本実施例では、内側の吸引室76Aと、それを取り巻く吸引室76Bと、その各辺を取り巻く4つの吸引室76Cと、を有する。図示は略すが、吸引室76Aは、環状溝72A~環状溝72C上の各平面吸着孔71図18等参照に連通し、吸引室76Bは、環状溝72D~環状溝72F上の各平面吸着孔71図18等参照に連通し、4つの吸引室76Cは、環状溝72G上の各平面吸着孔71図18等参照に連通している。また、図示は略すが、吸引室76Aには、平面第1孔吸引部73が接続され、吸引室76Bには、平面第2孔吸引部74が接続され、吸引室76Cには、平面第3孔吸引部75が接続されている図14参照。このため、平面吸着機構70では、図18に示すように、平面第1孔吸引部73図14参照で真空引きすることにより、吸引室76A図19参照およびそこに連通する各平面吸着孔71を介して環状溝72A~環状溝72C内を真空引きすることができる。このとき、環状溝72A~環状溝72Cが、載置面40b上において互いに隣接しつつ中心位置を取り囲んでいることから、載置面40bの中心位置から環状溝72Cの周辺位置までの所定の領域第1吸着区画77とするで、載置面40bとそこに載置された対象ワーク22との間が真空引きされることとなる。これにより、平面吸着機構70では、平面第1孔吸引部73で真空引きすることにより、載置面40bの中心位置から環状溝72Cの周辺位置までの第1吸着区画77において、載置面40bとの協働により対象ワーク22を吸着保持することができる。同様に、平面吸着機構70では、平面第2孔吸引部74で真空引きすることにより、吸引室76Bおよびそこに連通する各平面吸着孔71を介して環状溝72D~環状溝72F内を真空引きし、第1吸着区画77の外方から環状溝72Fの周辺位置までの第2吸着区画78において、載置面40bとの協働により対象ワーク22を吸着保持することができる。また、同様に、平面吸着機構70では、平面第3孔吸引部75で真空引きすることにより、4つの吸引室76Cおよびそこに連通する各平面吸着孔71を介して環状溝72G内を真空引きし、第2吸着区画78の外方から環状溝72Gの周辺位置までの第3吸着区画79において、載置面40bとの協働により対象ワーク22を吸着保持することができる。なお、本実施例では、リフト機構39、固定吸着機構60および平面吸着機構70における各吸引部39d、39e、62~65、73~75は、図示は略すが、単一の真空ポンプとそこに接続された複数の配管と各配管に設けられた弁機構とにより構成されており、当該弁機構を適宜開閉動作させることにより各吸引部における個別の真空引きおよびその解除が行われる。この平面吸着機構70の動作は、リフト機構39および固定吸着機構60の動作とともに、載置ステージ30の内方に設けられた駆動制御部43の制御下で行われる図14参照。この制御については、後に詳細に説明する。この載置ステージ30では、チャックプレート40の上方へと突出させた各リフトピン39bの上端面に載置された対象ワーク22図1参照を吸着保持し、その対象ワーク22を、リフト機構39の動作により、チャックプレート40による吸着保持へと移行する。その後、載置ステージ30では、チャックプレート40で吸着保持した対象ワーク22の姿勢に応じて、当該対象ワーク22を露光装置10の投影光学系の結像面基準平面に沿う適切な姿勢としつつ当該投影光学系に対する適切な位置とする。具体的には、ベース部材31上において、両Y軸スライダ33をY軸方向に、かつ両X軸スライダ3535A、35BをX軸方向に適宜移動させることにより、チャックプレート40、Z軸調整板38および各Z軸駆動機構37を介してXY調整板36に設けられた対象ワーク22のX-Y平面に沿う位置および回転姿勢を調整する。また、各Z軸駆動機構37による支持位置を適宜変更することにより、チャックプレート40およびZ軸調整板38を介してXY調整板36に設けられた対象ワーク22のZ軸方向での位置高さ位置およびX-Y平面に対する傾斜を調整する。これにより、露光装置10では、対象ワーク22にマスクパターン像を適切に露光することができる。次に、リフト機構39、固定吸着機構60および平面吸着機構70により、対象ワーク22を平坦な状態としてチャックプレート40その載置面40bで吸着保持する工程について、図1ないし図19を参照しつつ説明する。なお、この工程は、上述したように、載置ステージ30の内方に設けられた駆動制御部43図14参照の制御下で行われる。また、図2、図3および、図15ないし図18では、構成および動作の理解容易のために対象ワーク22の図示は省略している。載置ステージ30に載置される対象ワーク22図1参照は、図示は略すが、搬送ハンド搬送アームにより保持された状態で、チャックプレート40上に搬送される。この搬送ハンドは、公知の構成とされており、対象ワーク22を下方から支持するように吸着保持することが可能とされ、その保持状態を維持しつつ移動可能とされている。対象ワーク22が、搬送ハンド搬送アームによりチャックプレート40上に搬送されたことは、超音波センサ42図3参照により検出することができる。その対象ワーク22がチャックプレート40上に搬送されると、載置ステージ30では、図15に示すように、リフト機構39が、各リフトピン39bをチャックプレート40載置面40bの上方へと突出させて、各リフトピン吸着面39fを対象ワーク22の裏面に当接させる。その後、リフト機構39では、リフトピン第1吸引部39d図14参照での真空引きにより2つのリフトピン39b1で対象ワーク22の中央近傍を吸着保持し、続いてリフトピン第2吸引部39e図14参照での真空引きにより4つのリフトピン39b2で対象ワーク22の4つの隅部近傍を吸着保持する。これにより、リフト機構39では、搬送ハンド図示せずに吸着保持されている対象ワーク22の姿勢を維持したまま、各リフトピン39bそのリフトピン吸着面39fで吸着保持することができる。なお、本実施例の露光装置10では、対象ワーク22が搬送ハンド図示せずに吸着保持されている状態において、その対象ワーク22の姿勢を姿勢取得機構44図14参照で取得する。その後、リフト機構39は、図16に示すように、各リフトピン39bをチャックプレート40側へと引き込んで、吸着保持した対象ワーク22の裏面に各リップ吸着部61のリップ吸着面61aを当接させる。すると、載置ステージ30では、図16および図17に示すように、固定吸着機構60が、各リップ吸引部62~65図14参照での真空引きを行って、各リップ吸着部61そのリップ吸着面61aで対象ワーク22を吸着保持する。その後、リフト機構39は、各リフトピン39bによる吸着保持を解除して、各リフトピン39bをチャックプレート40内へと引き込む。固定吸着機構60は、各リップ吸引部62~65での真空引きを継続し、対象ワーク22を吸着保持した状態でリップ吸着面61a保持位置を載置面40bと面一となる高さ位置まで、各リップ吸着部61を収縮させる折り畳ませる。これにより、固定吸着機構60では、リフト機構39に吸着保持されていた対象ワーク22の姿勢を維持したまま、各リップ吸着部61で吸着保持しつつ対象ワーク22を載置面40b上に載置することができる。なお、固定吸着機構60では、第n群リップ吸着部61A、61B、61C、61Dnは、1~4の整数にグループ分けされた構成とされていたが、本実施例では、総ての吸着動作を一斉に行うものとしている。その後、載置ステージ30では、平面吸着機構70による段階的な吸着動作を開始する。平面吸着機構70では、本実施例では、図18に示すように、先ず、平面第1孔吸引部73図14参照での真空引きにより、載置面40bの第1吸着区画77での対象ワーク22の吸着保持を行う。これにより、平面吸着機構70では、固定吸着機構60に吸着保持されている対象ワーク22の姿勢を維持したまま、当該対象ワーク22を載置面40bの第1吸着区画77に吸着させることができる。次に、平面吸着機構70では、平面第2孔吸引部74図14参照での真空引きにより、載置面40bの第2吸着区画78での対象ワーク22の吸着保持を行う。次に、平面吸着機構70では、平面第3孔吸引部75図14参照での真空引きにより、載置面40bの第3吸着区画79での対象ワーク22の吸着保持を行う。この平面吸着機構70による段階的な吸着動作により、対象ワーク22が、固定吸着機構60に吸着保持されていた姿勢を維持しつつ平坦な状態とされて載置面40bチャックプレート40に吸着される。これについて以下で説明する。対象ワーク22では、リフト機構39その各リフトピン39bに保持されている状態において撓みが生じている場合がある。この撓みとは、全体的か部分的かは問わず平板状の対象ワーク22自体が湾曲していることを言い、うねりや反りとも言うことができる。この撓みは、露光装置10の投影光学系によるマスクパターン像の適切な露光の妨げとなってしまうことから、解消した状態とすること、すなわち対象ワーク22を平坦な状態として載置面40bチャックプレート40で保持することが望まれている。平面吸着機構70では、上述したように、最初に、対象ワーク22を平坦な載置面40bの第1吸着区画77に吸着させる。これは、対象ワーク22は、固定吸着機構60に吸着保持されている状態において、自身の重さにより中央が垂れ下がるように湾曲している撓みが生じていることが考えられることによる。これにより、対象ワーク22は、固定吸着機構60に吸着保持されている姿勢が維持されて、中央近傍が載置面40bに吸着されて平坦とされる。その後、平面吸着機構70では、第1吸着区画77での吸着を維持したまま、対象ワーク22を載置面40bの第2吸着区画78に吸着させる。すると、対象ワーク22では、先に吸着された中央近傍から放射方向外側が、載置面40bに吸着されることとなるので、中央近傍を中心として撓みによる余剰分を放射方向外側へと逃がすように、中央近傍を取り囲む箇所第2吸着区画78に相当する領域が載置面40bに吸着されて平坦とされる。このとき、対象ワーク22は、固定吸着機構60の各リップ吸着部61により吸着保持されているが、その各リップ吸着部61が可撓性を有する蛇腹状の筒部材とされてリップ吸着面61a保持位置の載置面40bに沿う方向での変位を許容していることから、各リップ吸着部61による吸着保持が問題となることはない。その後、平面吸着機構70では、第1吸着区画77および第2吸着区画78での吸着を維持したまま対象ワーク22を載置面40bの第3吸着区画79に吸着させる。すると、対象ワーク22では、先に吸着された中央近傍およびその外方から放射方向外側が、載置面40bに吸着されることとなるので、吸着された箇所を中心として撓みによる余剰分を放射方向外側へと逃がすように、中央近傍を取り囲む箇所第3吸着区画79に相当する領域が載置面40bに吸着されて平坦とされる。すなわち、本実施例では、載置面40bにおける中心位置から放射方向外側の外周縁部へ向けて、順に吸着動作を開始していることとなる。これにより、チャックプレート40では、搬送ハンド図示せずにより吸着保持されている対象ワーク22の姿勢を変化させることなく、当該対象ワーク22を平坦な状態として、載置面40bに吸着させる吸着保持することができる。本実施例の載置ステージ30では、上述したように、搬送ハンド図示せずにより吸着保持されている状態での対象ワーク22の姿勢を姿勢取得機構44図14参照で取得している。その取得した対象ワーク22の姿勢は、上述したように、リフト機構39および固定吸着機構60を経て平面吸着機構70により平坦な状態とされても変化することはない。このため、載置ステージ30では、対象ワーク22をチャックプレート40で吸着保持した後、姿勢取得機構44図14参照で取得した当該対象ワーク22の姿勢に基づいて、ベース部材31上において、両Y軸スライダ33をY軸方向にかつ両X軸スライダ3535A、35BをX軸方向に適宜移動させつつ、各Z軸駆動機構37による支持位置を適宜変更することにより、対象ワーク22において露光装置10の投影光学系により露光を行う箇所を、その結像面となる基準平面上に適切な状態で位置させることができる。これにより、露光装置10では、対象ワーク22にマスクパターン像を適切に露光することができる。このように、本発明に係る吸着ステージとしてのチャックプレート40では、平面吸着機構70が、載置面40bにおいて、中心位置を含む第1吸着区画77から、第2吸着区画78を経て第3吸着区画79へと外周縁部へ向けて、順に吸着動作を開始することから、対象ワーク22に撓みが生じている場合であっても、その撓みによる余剰分を放射方向外側へと逃がすことができるので、対象ワーク22を適切に平坦な載置面40bに吸着させることができる。これにより、対象ワーク22を平坦な状態として吸着保持することができる。また、チャックプレート40では、平面吸着機構70が、載置面40bを開口する複数の平面吸着孔71で吸引真空引きすることにより、対象ワーク22を平坦な状態とするものであることから、製品精度の低下を招いてしまうことを防止することができる。これは、例えば、載置面40b上で対象ワーク22を爪で押さえつけることにより平坦な状態とする構成とした場合、当該爪で対象ワーク22の表面にキズを付けてしまったり、当該爪の動作に起因して対象ワーク22に塵埃を付着させてしまったりして、製品精度の低下を招いてしまう虞があることによる。さらに、チャックプレート40では、平面吸着機構70が、載置面40bを開口する複数の平面吸着孔71で吸引真空引きすることにより、対象ワーク22を平坦な状態とするものであることから、対象ワーク22が載置面40b上に載置されると直ちに各平面吸着孔71での吸引真空引きを開始することができるので、マスクパターンの形成に要する時間スループットの短縮を図ることができる。これは、例えば、載置面40b上で対象ワーク22を爪で押さえつけることにより平坦な状態とする構成とした場合、載置面40bに載置された対象ワーク22上へと当該爪を出し入れする必要があることから、マスクパターンの形成に要する時間を増大させる要因となってしまうことによる。チャックプレート40では、平面吸着機構70が、対象ワーク22における撓みによる余剰分を矩形状の第3吸着区画79の外方へと逃がすものであることから、寄せられる余剰分を分散することができるので、固定吸着機構60の各リップ吸着部61の吸着により決められた位置および姿勢を維持しつつ平坦化することができる。特に、本実施例では、当該余剰分を、載置面40bの中心位置から放射方向外側へと逃がすものであることから、寄せられる余剰分に偏りが生じることをより抑制することができるので、固定吸着機構60の各リップ吸着部61の吸着により決められた位置および姿勢をより確実に維持しつつ平坦化することができる。チャックプレート40では、平面吸着機構70において、複数の吸着区画上記した実施例では77~79を設けることにより、吸着動作の開始のための制御を吸着区画毎に行うこととすることができるので、簡易な制御で対象ワーク22を平坦な状態とすることができる。チャックプレート40では、平面吸着機構70としての各平面吸着孔71が、載置面40bの全領域に渡って設けられていることから、対象ワーク22をより適切に平坦な状態としつつ吸着保持することができる。チャックプレート40では、平面吸着機構70において、載置面40bを開口する複数の平面吸着孔71が環状溝72により連通されていることから、各平面孔吸引部73~75図14参照での負担の増加を招くことなく、載置面40b上において広範な領域で対象ワーク22を吸着することができる。チャックプレート40では、平面吸着機構70において、複数の環状溝72上記した実施例では72A~72Gが設けられていることから、簡易な構成で、載置面40b上において少なくとも1つの平面吸着孔71を有する複数の吸着区画上記した実施例では77~79を形成することができる。チャックプレート40では、平面吸着機構70において、同心状に複数の環状溝72上記した実施例では72A~72Gが設けられていることから、簡易な構成で、載置面40bにおける中心位置から放射方向外側へ向けて順に吸着動作を開始させることができる。チャックプレート40では、固定吸着機構60の各リップ吸着部61が、対象ワーク22を吸着保持した状態においてリップ吸着面61a保持位置の載置面40bに沿う方向での変位を許容していることから、対象ワーク22の姿勢を維持しつつ、平面吸着機構70による段階的な吸着動作により対象ワーク22において撓みによる余剰分を放射方向外側へと逃がすことの妨げとなることを防止することができる。チャックプレート40では、固定吸着機構60の各リップ吸着部61が、リップ吸着面61a保持位置を載置面40bからその直交方向Z軸を含む高さ方向に突出した状態での対象ワーク22の吸着保持が可能であることから、リフト機構39との間での対象ワーク22の吸着保持状態の移行の際の当該対象ワーク22への負荷を抑制することができる。チャックプレート40では、固定吸着機構60の各リップ吸着部61が、リップ吸着面61a保持位置を載置面40bからその直交方向Z軸を含む高さ方向に突出した状態での対象ワーク22の吸着保持が可能であるとともに、対象ワーク22を吸着保持した状態でリップ吸着面61a保持位置を載置面40bと面一とすることが可能とされていることから、対象ワーク22の姿勢を維持しつつ当該対象ワーク22を静かに載置面40b上に載置することができる。チャックプレート40では、固定吸着機構60において、複数のリップ吸着部61で対象ワーク22を吸着保持することから、対象ワーク22の姿勢が変化することを防止することができる。チャックプレート40では、固定吸着機構60が、リフト機構39の各リフトピン39bにより吸着保持された状態の対象ワーク22を、複数のリップ吸着部61で吸着保持することから、リフト機構39により吸着保持された対象ワーク22の姿勢を維持したまま当該対象ワーク22を吸着保持することができる。チャックプレート40では、平面吸着機構70が、固定吸着機構60の各リップ吸着部61により吸着保持された状態の対象ワーク22を、複数の平面吸着孔71で吸着保持することから、固定吸着機構60により吸着保持された対象ワーク22の姿勢すなわちリフト機構39により吸着保持された対象ワーク22の姿勢を維持したまま当該対象ワーク22を吸着保持することができる。チャックプレート40では、リフト機構39が、搬送ハンド図示せずにより吸着保持された状態の対象ワーク22を、複数のリフトピン39bで吸着保持することから、搬送ハンド図示せずにより吸着保持された対象ワーク22の姿勢を維持したまま当該対象ワーク22を吸着保持することができる。チャックプレート40では、固定吸着機構60の各リップ吸着部61が、可撓性を有する樹脂材料から形成され、載置面40bの直交方向に延在する蛇腹状の筒部材とされていることから、簡易な構成で、対象ワーク22を吸着保持した状態でのリップ吸着面61a保持位置の載置面40bに沿う方向での変位を可能とし、かつリップ吸着面61a保持位置を載置面40bからその直交方向Z軸を含む高さ方向に突出した状態での対象ワーク22の吸着保持が可能であるとともに、対象ワーク22を吸着保持した状態でリップ吸着面61a保持位置を載置面40bと面一とすることを可能とすることができる。チャックプレート40では、上方に対象ワーク22が搬送されたか否かの判別のために、超音波センサ42を用いていることから、チャックプレート40上での高さ位置Z軸方向で見た位置に拘らず対象ワーク22の有無を検出することができる。露光装置10では、チャックプレート40において、対象ワーク22が極めて高い精度で平坦な状態とされていることから、対象ワーク22にマスクパターン像を適切に露光することができる。露光装置10では、搬送ハンド図示せずにより吸着保持されている状態での対象ワーク22の姿勢を姿勢取得機構44図14参照で取得し、当該対象ワーク22をチャックプレート40で吸着保持した後、姿勢取得機構44で取得した当該対象ワーク22の姿勢に基づいて、ベース部材31上において、両Y軸スライダ33をY軸方向にかつ両X軸スライダ3535A、35BをX軸方向に適宜移動させつつ、各Z軸駆動機構37による支持位置を適宜変更することにより、対象ワーク22において露光装置10の投影光学系により露光を行う箇所を、その結像面となる基準平面上に適切な状態で位置させることができるので、マスクパターンの形成に要する時間スループットの短縮を図ることができる。したがって、本発明に係るチャックプレート40吸着ステージでは、作業時間の増大や製品制度の低下を招くことなく、平坦な状態で対象ワーク22を保持することができる。なお、上記した実施例では、本発明に係る吸着ステージの一例としてのチャックプレート40について説明したが、露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワークを平坦な載置面上で保持する吸着ステージであって、前記載置面に対する前記対象ワークの姿勢を固定すべく該対象ワークを吸着可能な固定吸着機構と、前記載置面と面当接させるべく該対象ワークを吸着可能な平面吸着機構と、を備え、該平面吸着機構は、前記載置面を開口する複数の平面吸着孔を有し、前記載置面上における任意の一点から外縁へ向けて順に該各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする吸着ステージであればよく、上記した実施例に限定されるものではない。また、上記した実施例では、平面吸着機構70が載置面40b上を3つの吸着区画77~79に分けて順に吸着動作を開始する構成とされていたが、載置面40b上において任意の1点から外縁へ向けて順に各平面吸着孔71による吸着動作を開始するものであれば、撓みによる余剰分を外側へと逃がすことができるので、吸着区画を設けなくてもよく、上記した実施例に限定されるものではない。載置面40b上において任意の1点から外縁へ向けるとは、例えば、上記した実施例のように載置面40bが矩形状であるものとして、任意の1点が載置面40bの中心位置であれば、当該中心位置からの間隔が小さいものから大きいものへと向かう中心位置からの放射方向ことを言い、任意の1点が載置面40bの隅部近傍であれば、図20に矢印A2で示すように、全体として対角線方向へ向かうことを言い、任意の1点が載置面40bの辺部近傍であれば、図20に矢印A3で示すように、全体としてそこに対向する辺部へ向かうことを言う。さらに、上記した実施例では、平面吸着機構70が、載置面40b上を3つの吸着区画77~79に分けるとともに、第1吸着区画77、第2吸着区画78、第3吸着区画79の順に吸着動作を開始する構成とされていたが、載置面40b上において任意の1点から外縁へ向けて順に吸着動作を開始するものであれば、吸着区画但し、少なくとも1つの平面吸着孔71を有するの数および吸着動作の移行の方向は適宜設定例えば、対象ワーク22に生じる撓みの傾向に応じて設定する等すればよく、上記した実施例に限定されるものではない。上記した実施例では、平面吸着機構70において、各平面吸着孔71が複数の環状溝7272A~72Gにより連通されていたが、この各環状溝72は設けなくてもよく、上記した実施例に限定されるものではない。上記した実施例では、平面吸着機構70において、同心状に複数の環状溝72上記した実施例では72A~72Gが設けられていたが、この環状溝は吸着区画を形成すべく複数の平面吸着孔71を連通させるものであれば、形状および本数は適宜設定すればよく、上記した実施例に限定されるものではない。上記した実施例では、平面吸着機構70において、単に、第1吸着区画77、第2吸着区画78、第3吸着区画79の順に吸着動作を開始する構成とされていたが、吸着動作を開始した吸着区画における吸着状態に応じて、次の吸着区画の吸着動作を開始する構成としてもよい。これは、例えば、図14に二点鎖線で示すように、各吸着区画における吸着状態を取得可能な吸着状態取得機構45を設け、その吸着状態取得機構45からの出力信号すなわち適切に吸着しているか否かに応じて、駆動制御部43図14参照が各平面孔吸引部73、74、75図14参照を駆動制御することにより、実現することができる。この吸着状態取得機構45は、例えば、各平面吸着孔71、各平面孔吸引部73、74、75もしくは各吸引室76における圧力変動を検出することにより、簡易な構成で実現することができる。このような構成とした場合、先に吸着動作が開始された吸着区画において、対象ワーク22が載置面40bに適切に吸着されてから、次の吸着区画での吸着動作を開始することができるので、より適切に対象ワーク22を平坦な状態とすることができる。上記した実施例では、平面吸着機構70において、載置面40bを同心状の3つの吸着区画77~79に分けて、第1吸着区画77、第2吸着区画78、第3吸着区画79の順に吸着動作を開始する構成とされていたが、載置面40b上において任意の1点から外縁へ向けて順に吸着動作を開始することを前提として、載置面40bを任意の吸着区画に分けるとともに、搬送ハンド図示せず、リフト機構39もしくは固定吸着機構60に吸着保持されている対象ワーク22の撓みに応じて、各吸着区画における吸着動作を開始する順番を適宜設定する構成としてもよい。この場合、少なくとも2つ以上の吸着区画が載置面40bの外縁を含むように載置面40bを区画するか、載置面40bの中心位置からの間隔が同一であってもX軸方向および/またはY軸方向での位置が異なる少なくとも2つ以上の吸着区画に分ければよい。また、対象ワーク22の撓みは、姿勢取得機構44図14参照や照射光学系でのピント調整のための光学系図示せずを用いて検出すればよい。このような構成の場合、対象ワーク22における撓みの位置や方向性に応じて、駆動制御部43図14参照が各吸着区画に対応する平面孔吸引部を適宜駆動制御することにより、実現することができる。このような構成とした場合、対象ワーク22の撓みに応じた順に、各吸着区画における吸着動作が開始されるので、より適切に対象ワーク22を平坦な状態とすることができる。このことは、吸着区画を設けることなく複数の平面吸着孔71による吸着動作を順に開始する場合であっても同様である。上記した実施例では、固定吸着機構60において、6つのリップ吸着部61が設けられていたが、対象ワーク22の姿勢を維持する観点から少なくとも2つのリップ吸着部61を有するものであればよく、上記した実施例に限定されるものではない。上記した実施例では、固定吸着機構60において、4つの第n群リップ吸着部61A、61B、61C、61Dnは、1~4の整数での吸着動作を一斉に行うものとしていたが、現実の対象ワーク22の撓みや対象ワーク22における撓みの傾向に応じて、順に吸着動作を行うものとしてもよく、上記した実施例に限定されるものではない。上記した実施例では、固定吸着機構60の各リップ吸着部61が、可撓性を有する樹脂材料から形成され、載置面40bの直交方向に延在する蛇腹状の筒部材とされていたが、対象ワーク22を吸着保持した状態でのリップ吸着面61a保持位置の載置面40bに沿う方向での変位を可能とし、かつリップ吸着面61a保持位置を載置面40bからその直交方向Z軸を含む高さ方向に突出した状態での対象ワーク22の吸着保持が可能であるとともに、対象ワーク22を吸着保持した状態でリップ吸着面61a保持位置を載置面40bと面一とすることを可能とするものであれば、例えば、弾性変形可能な中空の球体にリップ吸着面としての吸着孔と真空引きのための引き孔とを設けて構成してもよく、上記した実施例に限定されるものではない。以上、本発明の吸着ステージ、それを用いた載置ステージおよびそれを用いた露光装置を実施例に基づき説明してきたが、具体的な構成については、この実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り、設計の変更や追加等は許容される。