"光導波路を形成するための光導波路形成用フィルムの製造方法であって、活性放射線の照射により屈折率の変化を伴う化学反応を生じる反応媒体を含む第1の組成物と、前記第1の組成物より低屈折率の第2の組成物と、を用意する工程と、前記第1の組成物を層状に成形してなる第1の層状成形物が前記第2の組成物を層状に成形してなる2層の第2の層状成形物で挟まれるように、前記第1の組成物と前記第2の組成物とを多色成形する工程と、を有することを特徴とする光導波路形成用フィルムの製造方法。前記多色成形は、押出成形であり、前記第1の組成物を押し出して前記第1の層状成形物を成形するとともに、前記第2の組成物を押し出して前記第2の層状成形物を成形する際に、前記第1の層状成形物と前記第2の層状成形物との界面において、前記第1の組成物の一部と前記第2の組成物の一部とを混合しつつ押し出すものである請求項1に記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。前記混合は、前記界面において、前記第1の組成物と前記第2の組成物との混合比率が、厚さ方向に沿って連続的に変化するよう行われる請求項2に記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。前記第1の組成物は、ポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記モノマーである請求項1ないし3のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。前記第1の組成物は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基とを、有するポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基および前記モノマーである請求項1ないし3のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。前記第1の組成物および前記第2の組成物は、それぞれ、前記ポリマーと前記モノマーとを含むものであり、前記第1の組成物は、さらに、前記モノマーの重合反応を促進する重合開始剤を含み、前記第2の組成物は、前記重合開始剤を含んでいないものである請求項4または5に記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。前記第1の組成物は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基と、を有するポリマーを含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基である請求項1ないし3のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。前記ポリマーは、ノルボルネン系樹脂である請求項4ないし7のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。前記第1の組成物は前記反応媒体を含み、前記第2の組成物は前記反応媒体を含んでいない請求項1ないし8のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。請求項1ないし9のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法により製造された光導波路形成用フィルムに対して、部分的に照射量が異なるように、活性放射線を選択的に照射することを特徴とする光導波路の製造方法。前記活性放射線は、所定の幅で照射され、かつ、前記幅の中心部と縁部とで照射量が異なるよう照射される請求項10に記載の光導波路の製造方法。前記活性放射線の照射は、前記活性放射線のビームを前記光導波路形成用フィルムに対して相対的に走査することにより行われ、前記ビームの横断面形状は、前記走査の経路の中心線に対して線対称の形状である請求項11に記載の光導波路の製造方法。前記ビームの横断面形状は、前記走査の経路の中心線から離れるほど面積が連続的に小さくなる、または、大きくなる形状である請求項12に記載の光導波路の製造方法。前記活性放射線は、所定の幅を有し、前記幅の中心部と縁部とで前記活性放射線の透過率が異なるよう構成された開口部を有するマスクを介して照射される請求項10ないし13のいずれかに記載の光導波路の製造方法。前記活性放射線の照射は、前記マスクを前記光導波路形成用フィルムに対して相対的に走査することにより行われ、前記開口部の平面視形状は、前記走査の経路の中心線に対して線対称の形状である請求項14に記載の光導波路の製造方法。前記開口部の平面視形状は、前記走査の経路の中心線から離れるほど透過率が連続的に小さくなる、または、大きくなる形状である請求項15に記載の光導波路の製造方法。前記活性放射線の照射は、異なる開口部を有する複数のマスクを積層してなる積層マスクを介して行われる請求項10ないし13のいずれかに記載の光導波路の製造方法。前記活性放射線の照射は、異なる開口部を有する複数のマスクを個別に介して、前記光導波路形成用フィルムの同一の部分に対して順次行われる請求項10ないし13のいずれかに記載の光導波路の製造方法。請求項1ないし9のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする光導波路形成用フィルム。厚さ方向にステップインデックス型の屈折率分布を有する請求項19に記載の光導波路形成用フィルム。光導波路を形成するための光導波路形成用フィルムであって、活性放射線の照射により屈折率の変化を伴う化学反応を生じる反応媒体を含んでおり、かつ、厚さ方向の内側から両面側に向かって屈折率が連続的に低下する屈折率分布を一様に含んでいる層を有していることを特徴とする光導波路形成用フィルム。前記層は、厚さ方向の内側に位置し、屈折率が相対的に高い高屈折率層と、前記高屈折率層の両面側にそれぞれ位置し、前記高屈折率層より屈折率が低い低屈折率層と、前記高屈折率層と前記各低屈折率層との間にそれぞれ位置し、前記高屈折率層の構成材料と前記低屈折率層の構成材料との混合材料で構成された中間層と、の積層体で構成されており、前記中間層は、前記高屈折率層の構成材料と前記低屈折率層の構成材料との混合比率が、厚さ方向に沿って連続的に変化するよう構成されている請求項21に記載の光導波路形成用フィルム。前記高屈折率層の構成材料は、ポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記モノマーである請求項22に記載の光導波路形成用フィルム。前記高屈折率層の構成材料は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基と、を有するポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基および前記モノマーである請求項22に記載の光導波路形成用フィルム。前記高屈折率層の構成材料および前記低屈折率層の構成材料は、それぞれ、前記ポリマーと前記モノマーとを含むものであり、前記高屈折率層の構成材料は、さらに、前記モノマーの重合反応を促進する重合開始剤を含み、前記低屈折率層の構成材料は、前記重合開始剤を含んでいない請求項23または24に記載の光導波路形成用フィルム。前記高屈折率層の構成材料は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基と、を有するポリマーを含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基である請求項22に記載の光導波路形成用フィルム。前記ポリマーは、ノルボルネン系樹脂である請求項23ないし26のいずれかに記載の光導波路形成用フィルム。前記高屈折率層が前記反応媒体を含み、前記低屈折率層は前記反応媒体を含んでいない請求項22ないし27のいずれかに記載の光導波路形成用フィルム。前記屈折率分布は、最大値と最小値との屈折率差が、0.005~0.07である請求項22ないし28のいずれかに記載の光導波路形成用フィルム。当該光導波路形成用フィルムの厚さ方向の位置を横軸にとり、屈折率を縦軸にとったとき、前記屈折率分布は、前記高屈折率層の中心部において極大値を有する、上に凸の略U字状をなす部分を含んでいる請求項22ないし29のいずれかに記載の光導波路形成用フィルム。コア部とクラッド部とを備える光導波路であって、請求項21ないし30のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの面に対して、活性放射線を選択的に照射することにより、照射領域および未照射領域のいずれか一方を前記コア部とし、他方を前記クラッド部として得られたものであることを特徴とする光導波路。コア部と、該コア部の両側面に隣接する側面クラッド部と、を備えるコア層と、該コア層の両面にそれぞれ積層されたクラッド層と、を有する光導波路であって、当該光導波路の横断面において前記コア部の中心から放射状にかつ連続的に屈折率が低下する屈折率分布を有しており、前記屈折率分布のうち、前記コア層の層方向成分における分布と、前記コア層の厚さ方向成分における分布とで、これらの分布を形成するための屈折率変化の原理が異なっていることを特徴とする光導波路。前記コア部および前記側面クラッド部は、同種のポリマーを含んでいる請求項12に記載の光導波路。請求項31ないし33のいずれかに記載の光導波路を備えることを特徴とする電子機器。厚み方向に屈折率分布を有するドライフィルムを準備する工程と、前記ドライフィルムにエネルギー線を照射することにより、面内方向に離間した複数のコア部を形成する工程と、を有する光導波路フィルムの製造方法。複数のコア部を形成する前記工程において、前記エネルギー線の照射領域が、前記コア部よりも相対的に屈折率が低いクラッド部となる、請求項35に記載の光導波路フィルムの製造方法。ドライフィルムを準備する前記工程は、活性放射線の照射により屈折率の変化を伴う化学反応を生じる反応媒体を含む第1の組成物と、前記第1の組成物より低屈折率の第2の組成物と、を用意する工程と、前記第1の組成物を層状に成形してなる第1の層状成形物が前記第2の組成物を層状に成形してなる2層の第2の層状成形物で挟まれるように、前記第1の組成物と前記第2の組成物とを多色成形する工程と、を有する、請求項35または36に記載の光導波路フィルムの製造方法。多色成形する前記工程は、前記第1の組成物を押し出して前記第1の層状成形物を成形するとともに、前記第2の組成物を押し出して前記第2の層状成形物を成形する際に、前記第1の層状成形物と前記第2の層状成形物との界面において、前記第1の組成物の一部と前記第2の組成物の一部とを混合しつつ押し出す工程を有する、請求項35~37のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。前記押出成形法は、ダイコーターを用いる手法である、請求項35~38のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。前記押し出す前記工程は、前記界面において、前記第1の組成物と前記第2の組成物との混合比率が、厚さ方向に沿って連続的に変化させる工程を有する、請求項35~39のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。前記第1の組成物は、ポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記モノマーである、請求項35~40のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。前記第1の組成物は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基とを、有するポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基および前記モノマーである、請求項35~41のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。前記第1の組成物は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基と、を有するポリマーを含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基である、請求項35~42のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。光導波路フィルムの製造方法により製造された光導波路形成用フィルムに対して、部分的に照射量が異なるように、活性放射線を選択的に照射することを特徴とする、請求項35~43のいずれかに記載の光導波路の製造方法。本発明の目的は、グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路形成用フィルム、かかる光導波路形成用フィルムを効率よく製造することができる光導波路形成用フィルムの製造方法、および、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路を効率よく製造することができる光導波路の製造方法を提供することにある。また本発明の目的は、グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路形成用フィルム、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供することにある。このような目的は、下記1~44の本発明により達成される。1光導波路を形成するための光導波路形成用フィルムの製造方法であって、活性放射線の照射により屈折率の変化を伴う化学反応を生じる反応媒体を含む第1の組成物と、前記第1の組成物より低屈折率の第2の組成物と、を用意する工程と、前記第1の組成物を層状に成形してなる第1の層状成形物が前記第2の組成物を層状に成形してなる2層の第2の層状成形物で挟まれるように、前記第1の組成物と前記第2の組成物とを多色成形する工程と、を有することを特徴とする光導波路形成用フィルムの製造方法。2前記多色成形は、押出成形であり、前記第1の組成物を押し出して前記第1の層状成形物を成形するとともに、前記第2の組成物を押し出して前記第2の層状成形物を成形する際に、前記第1の層状成形物と前記第2の層状成形物との界面において、前記第1の組成物の一部と前記第2の組成物の一部とを混合しつつ押し出すものである上記1に記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。3前記混合は、前記界面において、前記第1の組成物と前記第2の組成物との混合比率が、厚さ方向に沿って連続的に変化するよう行われる上記2に記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。4前記第1の組成物は、ポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記モノマーである上記1ないし3のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。5前記第1の組成物は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基とを、有するポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基および前記モノマーである上記1ないし3のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。6前記第1の組成物および前記第2の組成物は、それぞれ、前記ポリマーと前記モノマーとを含むものであり、前記第1の組成物は、さらに、前記モノマーの重合反応を促進する重合開始剤を含み、前記第2の組成物は、前記重合開始剤を含んでいないものである上記4または5に記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。7前記第1の組成物は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基と、を有するポリマーを含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基である上記1ないし3のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。8前記ポリマーは、ノルボルネン系樹脂である上記4ないし7のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。9前記第1の組成物は前記反応媒体を含み、前記第2の組成物は前記反応媒体を含んでいない上記1ないし8のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法。10上記1ないし9のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法により製造された光導波路形成用フィルムに対して、部分的に照射量が異なるように、活性放射線を選択的に照射することを特徴とする光導波路の製造方法。11前記活性放射線は、所定の幅で照射され、かつ、前記幅の中心部と縁部とで照射量が異なるよう照射される上記10に記載の光導波路の製造方法。12前記活性放射線の照射は、前記活性放射線のビームを前記光導波路形成用フィルムに対して相対的に走査することにより行われ、前記ビームの横断面形状は、前記走査の経路の中心線に対して線対称の形状である上記11に記載の光導波路の製造方法。13前記ビームの横断面形状は、前記走査の経路の中心線から離れるほど面積が連続的に小さくなる、または、大きくなる形状である上記12に記載の光導波路の製造方法。14前記活性放射線は、所定の幅を有し、前記幅の中心部と縁部とで前記活性放射線の透過率が異なるよう構成された開口部を有するマスクを介して照射される上記10ないし13のいずれかに記載の光導波路の製造方法。15前記活性放射線の照射は、前記マスクを前記光導波路形成用フィルムに対して相対的に走査することにより行われ、前記開口部の平面視形状は、前記走査の経路の中心線に対して線対称の形状である上記14に記載の光導波路の製造方法。16前記開口部の平面視形状は、前記走査の経路の中心線から離れるほど透過率が連続的に小さくなる、または、大きくなる形状である上記15に記載の光導波路の製造方法。17前記活性放射線の照射は、異なる開口部を有する複数のマスクを積層してなる積層マスクを介して行われる上記10ないし13のいずれかに記載の光導波路の製造方法。18前記活性放射線の照射は、異なる開口部を有する複数のマスクを個別に介して、前記光導波路形成用フィルムの同一の部分に対して順次行われる上記10ないし13のいずれかに記載の光導波路の製造方法。19上記1ないし9のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする光導波路形成用フィルム。20厚さ方向にステップインデックス型の屈折率分布を有する上記19に記載の光導波路形成用フィルム。21光導波路を形成するための光導波路形成用フィルムであって、活性放射線の照射により屈折率の変化を伴う化学反応を生じる反応媒体を含んでおり、かつ、厚さ方向の内側から両面側に向かって屈折率が連続的に低下する屈折率分布を一様に含んでいる層を有していることを特徴とする光導波路形成用フィルム。22前記層は、厚さ方向の内側に位置し、屈折率が相対的に高い高屈折率層と、前記高屈折率層の両面側にそれぞれ位置し、前記高屈折率層より屈折率が低い低屈折率層と、前記高屈折率層と前記各低屈折率層との間にそれぞれ位置し、前記高屈折率層の構成材料と前記低屈折率層の構成材料との混合材料で構成された中間層と、の積層体で構成されており、前記中間層は、前記高屈折率層の構成材料と前記低屈折率層の構成材料との混合比率が、厚さ方向に沿って連続的に変化するよう構成されている上記21に記載の光導波路形成用フィルム。23前記高屈折率層の構成材料は、ポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記モノマーである上記22に記載の光導波路形成用フィルム。24前記高屈折率層の構成材料は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基と、を有するポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基および前記モノマーである上記22に記載の光導波路形成用フィルム。25前記高屈折率層の構成材料および前記低屈折率層の構成材料は、それぞれ、前記ポリマーと前記モノマーとを含むものであり、前記高屈折率層の構成材料は、さらに、前記モノマーの重合反応を促進する重合開始剤を含み、前記低屈折率層の構成材料は、前記重合開始剤を含んでいない上記23または24に記載の光導波路形成用フィルム。26前記高屈折率層の構成材料は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基と、を有するポリマーを含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基である上記22に記載の光導波路形成用フィルム。27前記ポリマーは、ノルボルネン系樹脂である上記23ないし26のいずれかに記載の光導波路形成用フィルム。28前記高屈折率層が前記反応媒体を含み、前記低屈折率層は前記反応媒体を含んでいない上記22ないし27のいずれかに記載の光導波路形成用フィルム。29前記屈折率分布は、最大値と最小値との屈折率差が、0.005~0.07である上記22ないし28のいずれかに記載の光導波路形成用フィルム。30当該光導波路形成用フィルムの厚さ方向の位置を横軸にとり、屈折率を縦軸にとったとき、前記屈折率分布は、前記高屈折率層の中心部において極大値を有する、上に凸の略U字状をなす部分を含んでいる上記22ないし29のいずれかに記載の光導波路形成用フィルム。31コア部とクラッド部とを備える光導波路であって、上記21ないし30のいずれかに記載の光導波路形成用フィルムの面に対して、活性放射線を選択的に照射することにより、照射領域および未照射領域のいずれか一方を前記コア部とし、他方を前記クラッド部として得られたものであることを特徴とする光導波路。32コア部と、該コア部の両側面に隣接する側面クラッド部と、を備えるコア層と、該コア層の両面にそれぞれ積層されたクラッド層と、を有する光導波路であって、当該光導波路の横断面において前記コア部の中心から放射状にかつ連続的に屈折率が低下する屈折率分布を有しており、前記屈折率分布のうち、前記コア層の層方向成分における分布と、前記コア層の厚さ方向成分における分布とで、これらの分布を形成するための屈折率変化の原理が異なっていることを特徴とする光導波路。33前記コア部および前記側面クラッド部は、同種のポリマーを含んでいる上記32に記載の光導波路。34上記31ないし33のいずれかに記載の光導波路を備えることを特徴とする電子機器。35厚み方向に屈折率分布を有するドライフィルムを準備する工程と、前記ドライフィルムにエネルギー線を照射することにより、面内方向に離間した複数のコア部を形成する工程と、を有する光導波路フィルムの製造方法。36複数のコア部を形成する前記工程において、前記エネルギー線の照射領域が、前記コア部よりも相対的に屈折率が低いクラッド部となる、35に記載の光導波路フィルムの製造方法。37ドライフィルムを準備する前記工程は、活性放射線の照射により屈折率の変化を伴う化学反応を生じる反応媒体を含む第1の組成物と、前記第1の組成物より低屈折率の第2の組成物と、を用意する工程と、前記第1の組成物を層状に成形してなる第1の層状成形物が前記第2の組成物を層状に成形してなる2層の第2の層状成形物で挟まれるように、前記第1の組成物と前記第2の組成物とを多色成形する工程と、を有する、35または36に記載の光導波路フィルムの製造方法。38多色成形する前記工程は、前記第1の組成物を押し出して前記第1の層状成形物を成形するとともに、前記第2の組成物を押し出して前記第2の層状成形物を成形する際に、前記第1の層状成形物と前記第2の層状成形物との界面において、前記第1の組成物の一部と前記第2の組成物の一部とを混合しつつ押し出す工程を有する、35~37のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。39前記押出成形法は、ダイコーターを用いる手法である、35~38のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。40前記押し出す前記工程は、前記界面において、前記第1の組成物と前記第2の組成物との混合比率が、厚さ方向に沿って連続的に変化させる工程を有する、35~39のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。41前記第1の組成物は、ポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記モノマーである、35~40のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。42前記第1の組成物は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基とを、有するポリマーと、該ポリマーと相溶し、かつ該ポリマーと異なる屈折率を有し、活性放射線の照射により重合反応し得るモノマーと、を含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基および前記モノマーである、35~41のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。43前記第1の組成物は、主鎖と、該主鎖から分岐し、活性放射線の照射により離脱し得る離脱性基と、を有するポリマーを含むものであり、前記反応媒体は、前記離脱性基である、35~42のいずれかに記載の光導波路フィルムの製造方法。44光導波路フィルムの製造方法により製造された光導波路形成用フィルムに対して、部分的に照射量が異なるように、活性放射線を選択的に照射することを特徴とする、35~43のいずれかに記載の光導波路の製造方法。本発明によれば、光を照射して反応媒体を反応させることで、所望の領域に対して選択的にチャンネルコア部を形成し、これによりグレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布の光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路形成用フィルムを提供するとともに、かかる光導波路形成用フィルムを効率よく製造することができる。また、本発明の光導波路形成用フィルムから製造された光導波路は、その幅方向における屈折率分布Wがモノマーの拡散移動に伴って形成され、かつ、厚さ方向における屈折率分布Tが多色押出成形により形成されているため、従来の方法で製造された光導波路に比べて光導波路内に異物や気泡、構造欠陥等の散乱要因が介在し難く、散乱の発生が抑制される。したがって、本発明によれば、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路を効率よく製造することができる。以下、本発明の光導波路形成用フィルムの製造方法、光導波路の製造方法および光導波路形成用フィルムについて添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。光導波路形成用フィルムは、活性放射線の照射により屈折率の変化を伴う化学反応を生じる反応媒体を含んでおり、かつ、厚さ方向の内側から両面側に向かって屈折率が連続的に低下する屈折率分布を一様に含んだ層を有している。このため、光導波路形成用フィルムは、その厚さ方向において、いわゆるグレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布の形成を可能にし、一方、幅方向面方向には、活性放射線の照射の有無を適宜選択することで、屈折率差を容易に形成することのできる屈折率調整能を潜在的に有するものとなる。したがって、本発明の光導波路形成用フィルムは、単に活性放射線を選択的に照射するのみで、厚さ方向に優れた光閉じ込め性を有し、幅方向にも同様に優れた光閉じ込め性を有する光導波路を容易に製造し得るという優れた特徴を有するものとなる。本発明の光導波路形成用フィルムの製造方法は、かかる光導波路形成用フィルムを効率よく製造することができる。<光導波路>まず、本発明の光導波路形成用フィルムから製造される光導波路について説明する。<第1の形態>図1は、本発明の光導波路の製造方法により製造される光導波路の第1の形態を示す一部切り欠いて、および透過して示す斜視図、図2は、図1に示すX-X線断面図について、横軸に屈折率をとり、縦軸にX-X線断面図のコア部の厚さ方向の位置をとったときの屈折率分布の一例を模式的に示す図、図3は、図1に示すX-X線断面図について、横軸にコア層の幅方向の位置を表し、縦軸に屈折率を表したときの屈折率分布の一例を模式的に示す図である。なお、以下の説明では、図1中の上側を上、下側を下という。また、図1は、層の厚さ方向各図の上下方向が誇張して描かれている。図1に示す光導波路1は、一方の端部から他方の端部に光信号を伝送する光配線として機能する。以下、光導波路1の各部について詳述する。光導波路1は、図1中の下側からクラッド層11、コア層13およびクラッド層12をこの順で積層してなるものである。また、コア層13には、長尺状の2つのコア部14と、これらのコア部14の各両側面に隣接する3つの側面クラッド部15とが形成されている。このような光導波路1には、厚さ方向において屈折率分布Tが形成されている。この屈折率分布Tは、相対的に屈折率の高い領域と低い領域とを有しており、これにより入射された光を屈折率の高い領域に閉じ込めて伝搬することができる。図2aは、図1に示すX-X線断面図のコア部を中心とする一部を切り出した図であり、図2bは、X-X線断面図のコア部の幅方向の中心を通過する中心線C2上の屈折率分布Tの一例を模式的に示す図である。なお、図2bは、横軸に屈折率をとり、縦軸に中心線C2上の位置をとったときの屈折率分布Tの一例を示す図である。ここで、屈折率分布Tは、光導波路1の厚さ方向のほぼ中心に位置し、屈折率がほぼ一定である高屈折率領域THと、高屈折率領域THの厚さ方向の両側に位置し、厚さ方向の両側に向かうにつれ屈折率が連続的に低下している中屈折率領域TMと、各中屈折率領域TMの厚さ方向の両側に位置し、屈折率がほぼ一定である低屈折率領域TLと、を有している。すなわち、屈折率分布Tのうち、高屈折率領域THにおける屈折率は相対的に高く、低屈折率領域TLにおける屈折率は高屈折率領域THより相対的に低く、中屈折率領域TMでは、高屈折率領域THの屈折率と低屈折率領域TLの屈折率とをつなぐように屈折率が連続的に変化している。このような屈折率分布Tは、いわゆるグレーテッドインデックス型の分布である。このような屈折率分布Tのうち、高屈折率領域THおよび中屈折率領域TMに対応するのがコア部14コア層13であり、低屈折率領域TLに対応するのが各クラッド層11、12である。換言すれば、コア層13は、高屈折率領域THに対応する高屈折率層と、中屈折率領域TMに対応する中間層により構成されており、各クラッド層11、12は、それぞれ、低屈折率領域TLに対応する低屈折率層により構成されている。屈折率分布Tを有する光導波路1では、中屈折率領域TMにおいて、コア部14に入射された光が、その光路を徐々にコア部14の中心軸側に変更しつつ伝搬される、という挙動を示す。このため、入射光は、コア部14の中心軸に沿って伝搬し、各クラッド層11、12側には漏出し難くなる。その結果、このような屈折率分布Tを有する光導波路1では、伝送損失が抑えられることとなる。ここで、図2に示す屈折率分布Tでは、高屈折率領域THが、コア部14の厚さ方向の中心部に位置している。これにより、コア部14を伝搬する光は、コア部14の厚さ方向の中心部に集まる確率が高くなり、相対的に各クラッド層11、12に漏れ出る確率がより低くなる。その結果、コア部14の伝送損失をより低減することができる。このような屈折率分布Tは、例えば、上述した光導波路1を複数枚積層してなる光導波路において、その層間光導波路同士の間におけるクロストークの発生を確実に防止する作用をもたらす。すなわち、1層目のコア層13中のコア部14に光を入射したとき、その光が2層目のコア層13中のコア部14に侵入して混信を招くことが確実に防止される。したがって、光導波路1は、厚さ方向の多チャンネル化、高密度化を容易にするものである。なお、コア部14に対応する領域の中心部とは、コア部14の厚さ方向の中点から両側に、コア部14の厚さの30の距離内の領域である。また、高屈折率領域THの位置は、必ずしもコア部14に対応する領域の中心部でなくてもよく、コア部14の縁部近傍各クラッド層11、12との界面近傍以外に位置していれば、特性の著しい低下は免れる。これにより、コア部14の伝送損失をある程度抑えることができる。なお、コア部14の縁部近傍とは、前述した縁部から内側に、コア部14の厚さの5の距離内の領域である。また、屈折率分布Tのうち、高屈折率領域THにおける屈折率nHと、低屈折率領域TLクラッド層11およびクラッド層12における屈折率nLとの屈折率差の割合屈折率nLに対する割合は、できるだけ大きいほどよいが、好ましくは0.5以上とされ、より好ましくは0.8以上とされる。なお、上限値は、特に設定されなくてもよいが、好ましくは5.5程度とされる。屈折率の差が前記下限値未満であると光を伝送する効果が低下する場合があり、一方、前記上限値を超えても、光の伝送効率のそれ以上の増大は期待できない。なお、屈折率nHと屈折率nLとの前記屈折率差の割合は、次式で表わされる。屈折率差の割合=|nH/nL-1|×100また、高屈折率領域THや低屈折率領域TLでは、屈折率がほぼ一定であるが、具体的には、各領域における平均屈折率からのずれ量が、平均屈折率の10以下であるのが好ましく、5以下であるのがより好ましい。また、光導波路1は、細長い帯状をなしており、上記のような屈折率分布Tは、光導波路1の長手方向全体においてほぼ同じ分布が維持されている。以上のような屈折率分布Tに基づいて、光導波路1は、クラッド層11、コア層13およびクラッド層12の3層に分けられている。なお、本明細書では、説明の便宜上、光導波路1を上記3層に分けて説明しているが、上述したように屈折率分布Tの変化は連続的であり、それとともに3層の界面ではその組成も連続的に変化しているため、各層の境界は明瞭ではなく、視覚上で境界を識別することができない場合もある。次いで、光導波路1の各部について詳述する。コア層図1に示すコア層13には、前述したように、長尺状の2つのコア部14と、これらのコア部14の各両側面に隣接する3つの側面クラッド部15とが形成されている。具体的には、コア層13には、横断面の幅方向において屈折率分布Wが形成されており、この屈折率分布Wに基づいて、コア層13が、コア部14と側面クラッド部15とに分けられている。屈折率分布Wの形状は、例えば、ステップインデックス型SI型、グレーテッドインデックス型GI型等、高屈折率の領域と低屈折率との領域が形成されている形状であれば、いかなる形状であってもよい。このうち、屈折率分布Wは、屈折率の極大値と極小値が交互に並び、かつ極大値については相対的に屈折率が大きい第1の極大値と相対的に屈折率が小さい第2の極大値が交互に並ぶ領域を有している形状であるのが好ましい。このような形状の屈折率分布Wを有する光導波路1では、幅方向における伝送損失を確実に抑制することができる。すなわち、前述した屈折率分布Tにより厚さ方向における伝送損失を確実に抑制し、この屈折率分布Wにより幅方向における伝送損失を確実に抑制し得る光導波路1が得られる。以下、上述した屈折率分布Wを有するコア層13について説明する。図3aは、図1のX-X線断面図であり、図3bは、X-X線断面図のコア層13の厚さ方向の中心を通過する中心線C1上の屈折率分布の一例を模式的に示す図である。コア層13は、その幅方向において、図3bに示すような、4つの極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と、5つの極大値Wm1、Wm2、Wm3、Wm4、Wm5と、を含む屈折率分布Wを有している。また、5つの極大値には、相対的に屈折率の大きい極大値第1の極大値と、相対的に屈折率の小さい極大値第2の極大値とが存在している。このうち、極小値Ws1と極小値Ws2との間および極小値Ws3と極小値Ws4との間には、それぞれ相対的に屈折率の大きい極大値Wm2およびWm4が存在しており、それ以外の極大値Wm1、Wm3およびWm5は、それぞれ相対的に屈折率の小さい極大値である。光導波路1では、図3に示すように、極小値Ws1と極小値Ws2との間が、相対的に屈折率の大きい極大値Wm2を含んでいることからコア部14となり、同様に、極小値Ws3と極小値Ws4との間も極大値Wm4を含んでいることからコア部14となる。なお、より詳しくは、極小値Ws1と極小値Ws2との間をコア部141とし、極小値Ws3と極小値Ws4との間をコア部142とする。また、極小値Ws1の左側の領域、極小値Ws2と極小値Ws3との間、および極小値Ws4の右側の領域は、それぞれコア部14の両側面に隣接する領域であることから側面クラッド部15となる。なお、より詳しくは、極小値Ws1の左側の領域を側面クラッド部151とし、極小値Ws2と極小値Ws3との間を側面クラッド部152とし、極小値Ws4の右側の領域を側面クラッド部153とする。すなわち、屈折率分布Wは、少なくとも、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値がこの順で並ぶ領域を有していればよい。なお、この領域は、コア部の数に応じて繰り返し設けられる。本実施形態のようにコア部14が2つである場合、屈折率分布Wは、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値のように、極大値と極小値が交互に並び、かつ極大値については第1の極大値と第2の極大値が交互に並ぶ領域を有していればよい。また、これら複数の極小値、複数の第1の極大値、および複数の第2の極大値は、それぞれ互いにほぼ同じ値であることが好ましいが、極小値は第1の極大値や第2の極大値より小さく、第2の極大値は第1の極大値より小さいという関係が保持されれば、互いの値が多少ずれていても差し支えない。その場合、ずれ量は、複数の極小値の平均値の10以内に抑えられているのが好ましい。また、光導波路1は、細長い帯状をなしており、上記のような屈折率分布Wは、光導波路1の長手方向全体においてほぼ同じ分布が維持されている。以上のような屈折率分布Wに伴い、コア層13は、長尺状の2つのコア部14と、これらのコア部14の各両側面に隣接する3つの側面クラッド部15とに分けられることとなる。より詳しくは、図1に示す光導波路1には、並列する2つのコア部141、142と、並列する3つの側面クラッド部151、152、153とが交互に設けられている。これにより、各コア部141、142は、それぞれ、各側面クラッド部151、152、153および各クラッド層11、12で囲まれた状態となる。ここで、これら2つのコア部141、142の平均屈折率は、当然、3つの側面クラッド部151、152、153の平均屈折率より高くなっているので、各コア部141、142と各側面クラッド部151、152、153との界面において光の反射を生じさせることができる。なお、図1に示す各コア部14には密なドットを付し、各側面クラッド部15には疎なドットを付している。光導波路1では、コア部14の一方の端部に入射された光を、コア部14とクラッド部各クラッド層11、12および各側面クラッド部15との界面で反射させ、他方に伝搬させることにより、コア部14の他方の端部から取り出すことができる。また、図1に示すコア部14は、その横断面形状が正方形または長方形のような四角形矩形をなしているが、この形状は特に限定されず、例えば、真円、楕円形、長円形等の円形、三角形、五角形、六角形等の多角形であってもよい。コア部14の幅および高さコア層13の厚さは、特に限定されないが、それぞれ、1~200μm程度であるのが好ましく、5~100μm程度であるのがより好ましく、20~70μm程度であるのがさらに好ましい。ここで、4つの極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4は、それぞれ、側面クラッド部15における平均屈折率WA未満である。これにより、各コア部14と各側面クラッド部15との間に、側面クラッド部15よりもさらに屈折率の小さい領域が存在することとなる。その結果、各極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の近傍では、より急峻な屈折率の勾配が形成され、これにより、各コア部14からの光の漏れが抑制されるため、伝送損失の小さい光導波路1が得られる。また、屈折率分布Wは、全体で屈折率が連続的に変化している。これにより、ステップインデックス型の屈折率分布を有する光導波路に比べ、コア部14に光を閉じ込める作用がより増強されるため、伝送損失のさらなる低減が図られる。さらに、上述したような各極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4を有するとともに、屈折率が連続的に変化している屈折率分布Wによれば、コア部14のより中心部に近い領域を伝送光が集中的に伝搬するため、光路ごとの伝搬時間に差が生じ難くなる。このため、伝送光にパルス信号が含まれている場合でも、パルス信号の鈍りパルス信号の広がりを抑制することができる。その結果、光通信の品質をより高め得る光導波路1が得られる。なお、屈折率分布Wにおいて屈折率が連続的に変化しているとは、屈折率分布Wの曲線が各部で丸みを帯びており、この曲線が微分可能なものであるという状態である。また、コア層13中にコア部14と側面クラッド部15とを作り込む場合、一般的には、屈折率差を形成する原理に伴う制約上、コア部14と側面クラッド部15との平均の屈折率差を十分に大きくすることができないが、上述したような屈折率分布Wであれば、平均の屈折率差が小さくても、コア部14に光を確実に閉じ込めることができる。また、屈折率分布Wのうち、極大値Wm2、Wm4は、図3に示すようにコア部141、142に位置しているが、コア部141、142の中でもその幅の中心部に位置している。これにより、各コア部141、142では、伝送光がコア部141、142の幅の中心部に集まる確率が高くなり、相対的に側面クラッド部151、152、153に漏れ出る確率が低くなる。その結果、コア部141、142の伝送損失をより低減することができる。なお、例えばコア部141の幅の中心部とは、極小値Ws1と極小値Ws2の中点から両側に、コア部141の幅の30の距離内の領域とする。また、極大値Wm2、Wm4の位置は、できればコア部141、142の幅の中心部に位置していることが望まれるが、必ずしも中心部でなくても、コア部141、142の縁部近傍各側面クラッド部151、152、153との界面近傍以外に位置していれば、特性の著しい低下は免れる。すなわち、コア部141、142の伝送損失をある程度抑えることができる。なお、例えばコア部141の縁部近傍とは、前述した縁部から内側に、コア部141の幅の5の距離内の領域とする。一方、屈折率分布Wのうち、極大値Wm1、Wm3、Wm5は、図3bに示すように側面クラッド部151、152、153中に位置しているが、特に側面クラッド部151、152、153の縁部近傍コア部141、142との界面近傍以外に位置しているのが好ましい。これにより、コア部141、142中の極大値Wm2、Wm4と、側面クラッド部151、152、153中の極大値Wm1、Wm3、Wm5とが、互いに十分に離間したものとなるため、コア部141、142中の伝送光が、側面クラッド部151、152、153中に漏れ出る確率を十分に低くすることができる。その結果、コア部141、142の伝送損失を低減することができる。なお、例えば側面クラッド部151、152、153の縁部近傍とは、前述した縁部から内側に、側面クラッド部151、152、153の幅の5の距離の領域とする。また、好ましくは、極大値Wm1、Wm3、Wm5は、側面クラッド部151、152、153の幅の中央部に位置しており、しかも、極大値Wm1、Wm3、Wm5から隣接する極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4に向かうにつれ屈折率が連続的に低下しているのが好ましい。これにより、コア部141、142中の極大値Wm2、Wm4と、側面クラッド部151、152、153中の極大値Wm1、Wm3、Wm5との離間距離は、最大限確保され、しかも極大値Wm1、Wm3、Wm5近傍に光を確実に閉じ込めることができることになるため、前述したコア部141、142からの伝送光の漏出をより確実に抑制することができる。さらに、極大値Wm1、Wm3、Wm5は、前述したコア部141、142に位置する極大値Wm2、Wm4よりも屈折率の小さいものであるので、コア部141、142のような高い光伝送性は有しないものの、周囲よりも屈折率が高くなっているため、わずかな光伝送性を有することとなる。その結果、側面クラッド部151、152、153は、コア部141、142から漏出した伝送光を閉じ込めることで、他のコア部への波及を防止する作用を有するものとなる。すなわち、極大値Wm1、Wm3、Wm5が存在することで、クロストークを抑制することができる。なお、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4は、前述したように、側面クラッド部15の平均屈折率WA未満であるが、その差は、所定の範囲内であることが望まれる。具体的には、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と側面クラッド部15の平均屈折率WAとの差は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4とコア部141、142中の極大値Wm2、Wm4との差の3~80程度であるのが好ましく、5~50程度であるのがより好ましく、7~30程度であるのがさらに好ましい。これにより、側面クラッド部15は、クロストークを抑制するのに必要かつ十分な光伝送性を有するものとなる。なお、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と側面クラッド部15の平均屈折率WAとの差が前記下限値を下回る場合は、側面クラッド部15における光伝送性が小さ過ぎて、クロストークを十分に抑制することができないおそれがあり、前記上限値を上回る場合には、側面クラッド部15における光伝送性が大き過ぎて、コア部141、142の光伝送性に悪影響を及ぼすおそれがある。また、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4とコア部141、142中の極大値Wm2、Wm4との屈折率差は、できるだけ大きい方がよいが、0.005~0.07程度であるのが好ましく、0.007~0.05程度であるのがより好ましく、0.01~0.05程度であるのがさらに好ましい。これにより、上述した屈折率差が、コア部141、142中に光を閉じ込めるのに必要かつ十分なものとなる。また、コア部141、142における屈折率分布Wは、図3bに示すように、横軸にコア層13の横断面の位置をとり、縦軸に屈折率をとったとき、極大値Wm2近傍および極大値Wm4近傍において、屈折率が連続的に変化している形状であれば上に凸の略V字状極大値以外はほぼ直線状をなしていてもよいが、好ましくは上に凸の略U字状極大値近傍全体が丸みを帯びているとされる。屈折率分布Wがこのような形状をなしていると、コア部141、142における光の閉じ込め作用がより顕著なものとなる。また、屈折率分布Wは、図3bに示すように、極小値Ws1近傍、極小値Ws2近傍、極小値Ws3近傍および極小値Ws4近傍において、屈折率が連続的に変化している形状であれば下に凸の略V字状極大値以外はほぼ直線状をなしていてもよいが、好ましくは下に凸の略U字状極大値近傍全体が丸みを帯びているとされる。また、光導波路1の複数のコア部141、142のうち、所望の1つの一方の端部に光を入射し、他方の端部における出射光の強度分布を取得したとき、その強度分布は、光導波路1のクロストークを抑制するにあたって極めて有用な分布になるという利点がある。図4は、光導波路1のコア部141に光を入射したときの出射光の強度分布を示す図である。コア部141に光を入射すると、出射光の強度は、コア部141の出射端の中心部において最も大きくなる。そして、コア部141の中心部から離れるにつれて出射光の強度は小さくなるが、光導波路1によれば、コア部141に隣り合うコア部142において極小値をとるような強度分布が得られる。このようにコア部142の位置に出射光の強度分布の極小値が一致することで、コア部142におけるクロストークは極めて小さく抑えられることとなるため、多チャンネル化および高密度化によっても混信の発生を確実に防止することができる。なお、従来の光導波路では、光を入射するコア部に隣り合うコア部において出射光の強度分布が極小値をとることはなく、むしろ極大値をとっていたので、クロストークの問題が発生していた。これに対し、上述したような光導波路1における出射光の強度分布の振る舞いは、クロストークを抑制する上で極めて有用なものである。光導波路1においてこのような強度分布が得られる詳細な理由は明らかでないものの、理由の1つとしては、屈折率分布Wが極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4を有し、かつ、屈折率分布W全体で屈折率が連続的に変化している、という特徴的な屈折率分布Wが、従来であればコア部142において極大値を有していた出射光の強度分布を、コア部142に隣接する側面クラッド部153等にシフトさせていることが挙げられる。すなわち、このシフトにより、クロストークが確実に抑制されているのである。なお、出射光の強度分布が側面クラッド部15にシフトしたとしても、受光素子等はコア部14の位置に合わせて配置されているため、混信を招くおそれはほとんどなく、光通信の品質を劣化させることはない。また、上記のような出射光の強度分布は、光導波路1において観測される確率は高いものの、必ず観測されるわけではなく、入射光のNAnumericalapertureやコア部141の横断面積、コア部141、142のピッチ等によっては、明瞭な極小値が観測されなかったり、極小値の位置がコア部142から外れたりする場合もあるが、このような場合でもクロストークは十分に抑制される。また、図3bに示す屈折率分布Wにおいて、側面クラッド部15における平均屈折率をWAとしたとき、極大値Wm2、Wm4近傍における屈折率が連続して平均屈折率WA以上である部分の幅をa[μm]とし、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4近傍における屈折率が連続して平均屈折率WA未満である部分の幅をb[μm]とする。このとき、bは、0.01a~1.2a程度であるのが好ましく、0.03a~1a程度であるのがより好ましく、0.1a~0.8a程度であるのがさらに好ましい。これにより、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の実質的な幅が、上述した作用効果を奏するのに必要かつ十分なものとなる。すなわち、bが前記下限値を下回っている場合は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の実質的な幅が狭過ぎるため、コア部141、142に光を閉じ込める作用が低下するおそれがある。一方、bが前記上限値を上回っている場合は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の実質的な幅が広過ぎて、その分、コア部141、142の幅やピッチが制限され、伝送効率が低下したり多チャンネル化および高密度化が妨げられるおそれがある。なお、側面クラッド部15における平均屈折率WAは、例えば、極大値Wm1と極小値Ws1との中点で近似することができる。また、上記では、コア層13が2つのコア部14を有する場合について説明したが、コア部14の数は特に限定されず、1つであっても、3つ以上であってもよい。なお、例えばコア部14が1つである場合には、光導波路1の横断面の屈折率分布Wが、2つの極小値を有し、その極小値が前述したように平均屈折率WA未満であり、かつ屈折率分布W全体で屈折率が連続的に変化していればよく、コア部14が3、4、5と増える場合には、それに応じて、屈折率分布Wが有する極小値の数は、6、8、10と増えることとなる。上述したようなコア層13の構成材料主材料は、上記の屈折率差が生じる材料であれば特に限定されないが、具体的には、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料の他、石英ガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス材料等を用いることができる。なお、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよい。また、これらの中でも特にノルボルネン系樹脂が好ましい。ノルボルネン系ポリマーは、例えば、開環メタセシス重合ROMP、ROMPと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。クラッド層クラッド層11および12は、それぞれ、コア層13の下部および上部に位置するクラッド部を構成するものである。クラッド層11、12の平均厚さは、コア層13の平均厚さ各コア部14の平均高さの0.1~1.5倍程度であるのが好ましく、0.2~1.25倍程度であるのがより好ましく、具体的には、クラッド層11、12の平均厚さは、特に限定されないが、それぞれ、通常、1~200μm程度であるのが好ましく、5~100μm程度であるのがより好ましく、10~60μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路1が必要以上に大型化厚膜化するのを防止しつつ、クラッド部としての機能が好適に発揮される。また、クラッド層11および12の構成材料としては、例えば、前述したコア層13の構成材料と同様の材料を用いることができるが、特にノルボルネン系ポリマーが好ましい。また、コア層13の構成材料およびクラッド層11、12の構成材料を選択する場合、両者の間の屈折率差を考慮して材料を選択すればよい。具体的には、コア部14とクラッド層11、12との境界において光路を確実に変更するため、コア部14の構成材料の屈折率が十分に大きくなるように材料を選択すればよい。これにより、光導波路1の厚さ方向において十分な屈折率差が得られ、各コア部14からクラッド層11、12に光が漏れ出るのを抑制することができる。なお、光の減衰を抑制する観点からは、コア層13の構成材料とクラッド層11、12の構成材料との密着性親和性が高いことも重要である。支持フィルム光導波路1の下面には、必要に応じて、図1に示すような支持フィルム2を積層するようにしてもよい。支持フィルム2は、光導波路1の下面を支持して、保護補強する。これにより、光導波路1の信頼性および機械的特性を高めることができる。このような支持フィルム2の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料の他、銅、アルミニウム、銀等の金属材料が挙げられる。なお、金属材料の場合は、支持フィルム2として金属箔が好ましく用いられる。また、支持フィルム2の平均厚さは、特に限定されないが、5~200μm程度であるのが好ましく、10~100μm程度であるのがより好ましい。これにより、支持フィルム2は、適度な剛性を有するものとなるため、光導波路1を確実に支持するとともに、光導波路1の柔軟性を阻害し難くなる。なお、支持フィルム2と光導波路1との間は接着または接合されているが、その方法としては、熱圧着、接着剤または粘着剤による接着等が挙げられる。このうち、接着層としては、例えば、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤の他、各種ホットメルト接着剤ポリエステル系、変性オレフィン系等が挙げられる。また、特に耐熱性の高いものとして、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリイミドアミドエーテル、ポリエステルイミド、ポリイミドエーテル等の熱可塑性ポリイミド接着剤が好ましく用いられる。このような材料で構成された接着層は、比較的柔軟性に富んでいるため、光導波路1の形状が変化したとしても、その変化に自在に追従することができる。その結果、形状変化に伴う剥離を確実に防止し得るものとなる。このような接着層の平均厚さは、特に限定されないが、1~100μm程度であるのが好ましく、5~60μm程度であるのがより好ましい。カバーフィルム一方、光導波路1の上面には、必要に応じて、図1に示すようなカバーフィルム3を積層するようにしてもよい。カバーフィルム3は、光導波路1を保護するとともに、光導波路1を上方から支持するものである。これにより、汚れや傷などから光導波路1が保護され、光導波路1の信頼性および機械的特性を高めることができる。このようなカバーフィルム3の構成材料としては、支持フィルム2の構成材料と同様であり、例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料の他、銅、アルミニウム、銀等の金属材料が挙げられる。なお、金属材料の場合は、カバーフィルム3として金属箔が好ましく用いられる。また、光導波路1の途中にミラーを形成した場合には、カバーフィルム3を光が透過することになるので、カバーフィルム3の構成材料は実質的に透明であるのが好ましい。また、カバーフィルム3の平均厚さは、特に限定されないが、3~50μm程度であるのが好ましく、5~30μm程度であるのがより好ましい。カバーフィルム3の厚さを前記範囲内とすることにより、カバーフィルム3は光通信において十分な光透過率を有するとともに、光導波路1を確実に保護するために十分な剛性を有するものとなる。なお、カバーフィルム3と光導波路1との間は接着または接合されているが、その方法としては、熱圧着、接着剤または粘着剤による接着等が挙げられる。このうち、接着剤としては前述したようなものを用いることができる。<第2の形態>次に、光導波路1の第2の形態について説明する。図5aは、光導波路の第2の形態の横断面のコア部を中心とする一部を切り出した図であり、図5bは、横断面のコア部の幅方向の中心を通過する中心線C3上の屈折率分布Tの一例を模式的に示す図である。なお、図5bは、横軸に屈折率をとり、縦軸に横断面のコア部の厚さ方向の位置をとったときの屈折率分布の一例を模式的に示す図である。以下、光導波路の第2の形態について説明するが、第1の形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。なお、図5において、第1の形態と同様の構成部分については、先に説明したのと同様の符号を付し、その詳細な説明を省略する。第2の形態に係る光導波路1も、第1の形態と同様、クラッド層11、コア層13およびクラッド層12に分かれているが、本形態の屈折率分布Tは、その中心部に位置する極大値Tmと、極大値Tmの両側にそれぞれ位置する極小値Ts1、Ts2を有している。なお、極大値Tmの下側に位置する極小値をTs1とし、上側に位置する極大値をTs2とする。光導波路1では、図5に示すように、極小値Ts1と極小値Ts2との間の領域に極大値Tmを含んでおり、かつ、この領域がコア部14となる。一方、極小値Ts1の下側の領域がクラッド層11となり、極小値Ts2の上側の領域がクラッド層12となる。すなわち、屈折率分布Tは、極小値、極大値、極小値がこの順で並ぶ領域を有している。なお、この領域は、コア層13が積層される数に応じて繰り返し設けられ、例えばコア層13を2層設けた場合、屈折率分布Tでは、極小値と極大値が交互に並ぶこととなる。この場合、極大値については、相対的に大きい第1の極大値と、相対的に小さい第2の極大値が、交互に並んでいるのが好ましい。すなわち、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値、極小値、第1の極大値のように並んでいればよい。また、これらの複数の極小値、複数の第1の極大値、および複数の第2の極大値は、それぞれ互いにほぼ同じ値であることが好ましいが、極小値は第1の極大値や第2の極大値より小さく、第2の極大値は第1の極大値より小さいという関係が保持されれば、互いの値が多少ずれていても差し支えない。その場合、ズレ量は、複数の極小値の平均値の10以内に抑えられているのが好ましい。また、光導波路1は、細長い帯状をなしており、上記のような屈折率分布Tは、光導波路1の長手方向全体においてほぼ同じ分布が維持されている。ここで、極小値Ts1は、クラッド層11における平均屈折率TA未満であり、極小値Ts2は、クラッド層12における平均屈折率TA未満である。これにより、コア部14と各クラッド層11、12との間に、各クラッド層11、12よりもさらに屈折率の小さい領域が存在することとなる。その結果、各極小値Ts1、Ts2の近傍では、より急峻な屈折率の勾配が形成され、これにより、各コア部14から各クラッド層11、12への光の漏れが抑制されるため、伝送損失の小さい光導波路1が得られる。また、屈折率分布Tは、全体で屈折率が連続的に変化している。これにより、ステップインデックス型の屈折率分布を有する光導波路に比べ、コア部14に光を閉じ込める作用がより増強されるため、伝送損失のさらなる低減が図られる。さらに、上述したような各極小値Ts1、Ts2を有するとともに、屈折率が連続的に変化している屈折率分布Tによれば、コア部14のより中心部に近い領域を伝送光が集中的に伝搬するため、光路ごとの伝搬時間に差が生じ難くなる。このため、伝送光にパルス信号が含まれている場合でも、パルス信号の鈍りパルス信号の広がりを抑制することができる。その結果、光通信の品質をより高め得る光導波路1が得られる。なお、屈折率分布Tにおいて屈折率が連続的に変化しているとは、屈折率分布Tの曲線が各部で丸みを帯びており、この曲線が微分可能であるという状態である。また、屈折率分布Tのうち、極大値Tmは、図5に示すようにコア部14に位置しているが、コア部14の中でもその厚さの中心部に位置している。これにより、コア部14では、伝送光がコア部14の厚さの中心部に集まる確率が高くなり、相対的に各クラッド層11、12に漏れ出る確率が低くなる。その結果、コア部141、142の伝送損失をより低減することができる。なお、例えばコア部14の厚さの中心部とは、極小値Ts1と極小値Ts2の中点から両側に、コア部14の厚さの30の距離内の領域とする。また、極大値Tmの位置は、できればコア部14の厚さの中心部に位置していることが望まれるが、必ずしも中心部でなくても、コア部14の縁部近傍各クラッド層11、12との界面近傍以外に位置していれば、特性の著しい低下は免れる。すなわち、コア部14の伝送損失をある程度抑えることができる。なお、例えばコア部14の縁部近傍とは、前述した縁部から内側に、コア部14の厚さの5の距離内の領域とする。一方、屈折率分布Tでは、各クラッド層11、12において、コア部14との界面近傍以外で最も高く、コア部14との界面近傍で最も低くなるよう屈折率が変化している。これにより、コア部14中の極大値Tmと、各クラッド層11、12中における屈折率の高い領域とが、互いに十分に離間したものとなるため、コア部14中の伝送光が、各クラッド層11、12中に漏れ出る確率を十分に低くすることができる。その結果、コア部14の伝送損失を低減することができる。なお、例えば各クラッド層11、12におけるコア部14との界面近傍とは、この界面から内側に、各クラッド層11、12の厚さの5の距離内の領域とする。また、各クラッド層11、12における平均屈折率TAは、例えば、極小値Ts1、Ts2と各クラッド層11、12における最大値との中点で近似することができる。また、前述したように複数のコア層13を積層する場合には、相対的に大きい第1の極大値がコア部中に位置し、相対的に小さい第2の極大値はクラッド層中に位置することとなる。この場合、好ましくは、第2の極大値は、クラッド層の厚さの中央部に位置しているのが好ましい。これにより、コア部中に位置する第1の極大値と、クラッド層中に位置する第2の極大値との離間距離が、最大限確保され、しかもコア部から漏れ出た光が、他のコア部に侵入しないよう、クラッド層中に閉じ込めることができるようになる。これにより、複数のコア層13を積層した場合でも、層間におけるクロストークを確実に抑制することができる。なお、極小値Ts1、Ts2は、前述したように、各クラッド層11、12の平均屈折率TA未満であるが、両者の差は、所定の範囲内であることが望まれる。具体的には、極小値Ts1、Ts2とクラッド層11、12の平均屈折率TAとの差は、極小値Ts1、Ts2とコア部14中の極大値Tmとの差の3~80程度であるのが好ましく、5~50程度であるのがより好ましく、7~30程度であるのがさらに好ましい。これにより、各クラッド層11、12は、クロストークを抑制するのに必要かつ十分な光伝送性を有するものとなる。なお、極小値Ts1、Ts2と各クラッド層11、12の平均屈折率TAとの差が前記下限値を下回る場合は、各クラッド層11、12における光伝送性が小さ過ぎて、クロストークを十分に抑制することができないおそれがあり、前記上限値を上回る場合には、各クラッド層11、12における光伝送性が大き過ぎて、コア部14の光伝送性に悪影響を及ぼすおそれがある。また、極小値Ts1、Ts2とコア部14中の極大値Tmとの屈折率差は、できるだけ大きい方がよいが、0.005~0.07程度であるのが好ましく、0.007~0.05程度であるのがより好ましく、0.01~0.05程度であるのがさらに好ましい。これにより、上述した屈折率差が、コア部14中に光を閉じ込めるのに必要かつ十分なものとなる。また、コア部14における屈折率分布Tは、横軸にコア部14の横断面の位置をとり、縦軸に屈折率をとったとき、極大値Tm近傍において、屈折率が連続的に変化している形状であれば上に凸の略V字状極大値以外はほぼ直線状をなしていてもよいが、好ましくは上に凸の略U字状極大値近傍全体が丸みを帯びているとされる。屈折率分布Tがこのような形状をなしていると、コア部14における光の閉じ込め作用がより顕著なものとなる。また、屈折率分布Tは、極小値Ts1近傍および極小値Ts2近傍において、屈折率が連続的に変化している形状であれば下に凸の略V字状極大値以外はほぼ直線状をなしていてもよいが、好ましくは下に凸の略U字状極大値近傍全体が丸みを帯びているとされる。<第3の形態>次に、光導波路1の第3の形態について説明する。図6は、光導波路の第3の形態を示す一部切り欠いて、および透過して示す斜視図、図7aは、光導波路の第3の形態の横断面の一部を切り出した図であり、図7bは、横断面のコア部の幅方向の中心を通過する中心線C4上の屈折率分布Tの一例を模式的に示す図である。なお、図7bは、横軸に屈折率をとり、縦軸に横断面のコア部の厚さ方向の位置をとったときの屈折率分布の一例を模式的に示す図である。以下、光導波路の第3の形態について説明するが、第1の形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。なお、図6において、第1の形態と同様の構成部分については、先に説明したのと同様の符号を付し、その詳細な説明を省略する。第3の形態は、積層された2層のコア層13を有している以外、第1の形態と同様である。すなわち、第3の形態に係る光導波路1では、その厚さ方向における屈折率分布Tが、図7中の下方から順に、低屈折率領域TL、中屈折率領域TM、高屈折率領域TH、中屈折率領域TM、低屈折率領域TL、中屈折率領域TM、高屈折率領域TH、中屈折率領域TM、低屈折率領域TLの各領域に分かれており、それに基づいて、光導波路1は、クラッド層11、コア層13、クラッド層12、コア層13、クラッド層12の5層に分かれている。ここで、図7中の下方のコア層13をコア層131とし、上方のコア層13をコア層132とすると、コア層131とコア層132には、それぞれ第1実施形態と同様に2つのコア部14が形成されている。ここでは、コア層131に形成されている2つのコア部14のそれぞれを図6中の左側から順にコア部141、142とし、コア層132に形成されている2つのコア部14のそれぞれをコア部143、144とする。前述したような屈折率分布Tを有する光導波路1では、コア部14に入射された光が、コア部14の中心軸に沿って伝搬するため、各クラッド層11、12側に漏出し難くなる。例えば、コア部141に入射した光は、コア部143やコア部144に混信することが防止されるため、コア層131とコア層132の層間におけるクロストークの発生が抑制される。したがって、光導波路1によれば、クロストークの発生を抑えつつ、コア層13を複数積層して、多チャンネル化、高密度化を容易に図ることができる。なお、上記各実施形態では、屈折率分布Tが、連続的に屈折率が変化した領域を有している場合について説明したが、屈折率分布Tはこれに限定されず、階段状に屈折率が変化した、いわゆるステップインデックス型の分布であってもよい。ステップインデックス型の屈折率分布Tは、図7に示す屈折率分布Tの各領域から中屈折率領域TMを除外した分布である。このように屈折率分布Tがステップインデックス型になっている光導波路形成用フィルムであっても、活性放射線の照射によりグレーテッドインデックス型またはそれに類似した形状の屈折率分布Wを形成することができるため、上記課題を解決し得るものとなる。それに加え、本発明の光導波路形成用フィルムは、後述する多色成形法により形成されるため、低屈折率領域TLと高屈折率領域THとの界面の密着性が高い。このため、低屈折率領域TLと高屈折率領域THとを個別に成膜する場合に比べ、各領域の界面が、伝送効率やクロストークの発生に悪影響を及ぼすおそれが少なくなり、信頼性の高い光導波路を形成可能な光導波路形成用フィルムが得られる。<光導波路の製造方法>次に、上述した光導波路1の製造方法本発明の光導波路の製造方法の一例、および光導波路1を製造するために用いられる光導波路形成用フィルムの製造方法本発明の光導波路形成用フィルムの製造方法について説明する。<第1の製造方法>まず、光導波路1の第1の製造方法光導波路形成用フィルムの第1の製造方法を含む。について説明する。図11~13は、それぞれ図1に示す光導波路1の第1の製造方法を説明するための図である。なお、以下の説明では、図11~13中の上側を上、下側を下、右側を右、左側を左という。光導波路1の第1の製造方法は、[1]支持基板951上に2種類の光導波路形成用組成物901、902第1の組成物および第2の組成物を層状に押出成形して層910本発明の光導波路形成用フィルムを得る。[2]次いで、層910の一部に活性放射線を照射することで屈折率差を生じさせ、光導波路1を得る。以下、各工程について順次説明する。[1]まず、光導波路形成用組成物901、902を用意する。光導波路形成用組成物901、902は、それぞれ、ポリマー915と、添加剤920本実施形態では、少なくともモノマーを含む。と、を含有するものであるが、その組成はやや異なっている。2種類の組成物のうち、光導波路形成用組成物901は、主にコア層13を形成するための材料であり、活性放射線の照射により、ポリマー915中において少なくともモノマーの活発な反応が生じ、それに伴って屈折率分布に変化を生じさせる材料である。すなわち、光導波路形成用組成物901は、ポリマー915とモノマーの存在比率の偏りによって屈折率分布に変化が生じ、その結果、コア層13中にコア部14と側面クラッド部15とを形成することのできる材料である。一方、光導波路形成用組成物902は、主にクラッド層11、12を形成するための材料であり、光導波路形成用組成物901より低屈折率の材料で構成されている。光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との屈折率差は、それぞれに含まれるポリマー915の組成、モノマーの組成、ポリマー915とモノマーとの存在比率等を設定することにより、適宜調整することができる。例えば、モノマーの屈折率がポリマー915より低い場合、組成物中のモノマーの含有率は、光導波路形成用組成物901より光導波路形成用組成物902の方が高くなっている。一方、モノマーの屈折率がポリマー915より高い場合、組成物中のモノマーの含有率は、光導波路形成用組成物902より光導波路形成用組成物901の方が高くなっている。換言すれば、ポリマー915やモノマーの各屈折率に応じて、各光導波路形成用組成物901、902中のポリマー915および添加剤920の組成が適宜選択されている。また、光導波路形成用組成物901および光導波路形成用組成物902では、モノマーの含有率が互いにほぼ等しくなるよう、組成が設定されているのが好ましい。このように設定すれば、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との間で、モノマーの含有率の差が小さくなるため、これをきっかけにしたモノマーの拡散移動が抑制される。モノマーの拡散移動は、前述したように屈折率差の形成において有用であるが、望ましくない方向に移動することが避けられない場合もある。本発明では、後述する多色押出成形法により、層910の厚さ方向の屈折率分布を形成することが可能であるため、少なくとも厚さ方向においてはモノマーの拡散移動が抑制されていても差し支えなく、むしろ厚さ方向における意図しないモノマーの拡散移動は抑制される方が好ましい。意図しないモノマーの拡散移動を抑制することにより、最終的に目的とする形状の屈折率分布Tを有する光導波路1を確実に製造することができる。なお、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との間で、モノマーの含有率をほぼ等しくした場合には、ポリマー915またはモノマーの条件を異ならせればよい。具体的には、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とで、用いるポリマー915の組成を異ならせるほか、同じ組成であっても分子量や重合度を異ならせるようにすればよい。また、用いるモノマーの組成、すなわち屈折率を異ならせるようにしてもよい。このようにすれば、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とでモノマーの含有率をほぼ等しくし、モノマーの拡散移動を抑制しながら、両者の間に屈折率差を形成することができる。次いで、支持基板951上に光導波路形成用組成物901、902を多色押出成形法により層状に成形する。多色押出成形法では、光導波路形成用組成物901を1層で押し出すと同時に、この層の両面側にそれぞれ光導波路形成用組成物902を押し出すことで、3層を積層してなる多色成形体914を一括形成する。具体的には、多色成形体914では、光導波路形成用組成物902、光導波路形成用組成物901、および光導波路形成用組成物902が、この順でそれぞれ押し出されるため、組成物同士の境界においては、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とがわずかに混濁している。したがって、組成物同士の境界近傍では、光導波路形成用組成物901の一部と光導波路形成用組成物902の一部とが混合し、厚さ方向に沿って混合比率が連続的に変化している領域が形成される。その結果、多色成形体914は、図11aの下方から、光導波路形成用組成物902からなる第1成形層914a第2の層状成形物、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物からなる第2成形層914b、光導波路形成用組成物901からなる第3成形層914c第1の層状成形物、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物からなる第4成形層914d、および光導波路形成用組成物902からなる第5成形層914e第2の層状成形物が、この順で積層されたものとなる。そして、得られた多色成形体914中の溶媒を蒸発脱溶媒させ、層910を得る図11b参照。得られた層910本発明の光導波路形成用フィルムは、図11bの下方から、第1成形層914aから形成されるクラッド層11と、第2成形層914b、第3成形層914cおよび第4成形層914dから形成されるコア層13と、第5成形層914eから形成されるクラッド層12との積層体となる。得られた層910中では、ポリマーマトリックス915が実質的に一様かつランダムに存在し、添加剤920は、ポリマー915中に実質的に一様かつランダムに分散している。これにより、層910中には、添加剤920が実質的に一様かつランダムに分散している。層910の平均厚さは、形成すべき光導波路1の厚さに応じて適宜設定され、特に限定されないが、10~500μm程度であるのが好ましく、20~300μm程度であるのがより好ましい。なお、支持基板951には、例えば、シリコン基板、二酸化ケイ素基板、ガラス基板、ポリエチレンテレフタレートPETフィルム等が用いられる。ところで、このような層910を得るための多色成形体914は、以下のようなダイコーター多色押出成形装置800を用いて製造される。図8は、多色成形体914を得るダイコーターを示す斜視図、図9は、ダイコーターの一部を拡大して示す縦断面図である。ダイコーター800は、図8に示すように、上リップ部811と、その下方に設けられた下リップ部812とを備えるダイヘッド810を有している。上リップ部811および下リップ部812は、それぞれ長尺のブロック体で構成され、互いに重ね合わされている。合わせ面には空洞のマニホールド820が形成されている。マニホールド820の幅はダイヘッド810の右側ほど広くなるよう連続的に拡張している。一方、マニホールド820の厚さはダイヘッド810の右側ほど小さくなるよう連続的に縮小している。そして、マニホールド820の右端では、空洞の幅が最大でかつ厚さが最小になっており、スリット821を形成している。このダイヘッド810は、マニホールド820の左側から供給された光導波路形成用組成物901、902をスリット821から右側に成形しつつ押し出すことができる。すなわち、スリット821の形状に応じて、多色成形体914の幅および厚さが決定される。ダイヘッド810の左側には、ミキシングユニット830が設けられている。ミキシングユニット830は、光導波路形成用組成物901、902をそれぞれダイヘッド810に供給するための2系統の配管を組み合わせて構成されており、光導波路形成用組成物901をダイヘッド810に供給する第1の供給管831と、光導波路形成用組成物902をダイヘッド810に供給する第2の供給管832とを有している。また、第1の供給管831および第2の供給管832から供給された光導波路形成用組成物901、902は、ダイヘッド810との接続を担う接続部835において合流し、ダイヘッド810のマニホールド820へと供給される。なお、第2の供給管832は、途中で上下2つに分岐し、接続部835の上層部および下層部にそれぞれ接続されている。一方、第1の供給管831は、接続部835の中層部に接続されている。すなわち、接続部835では、光導波路形成用組成物901で構成される1層の流れを、光導波路形成用組成物902で構成される上下2層の流れで挟み込むようにして合流している。また、ミキシングユニット830は、第1の供給管831と第2の供給管832との合流地点に設けられた、複数のピン836を有している。これらのピン836は、長尺の円柱状をなしており、その軸と、第1の供給管831および第2の供給管832の延伸方向とがほぼ直交するよう配置されている。また、図9では、これらのピン836が、接続部835の上層部と中層部との間、および、下層部と中層部との間にそれぞれ3本ずつ設けられている。なお、ピン836の本数は特に限定されないが、好ましくは2本以上とされ、より好ましくは3~10本程度とされる。また、ピン836は、光導波路形成用組成物901、902間に乱流を生じさせ得るものであれば、他の構造物例えば、メッシュ、パンチングメタル等で代替することもできる。ダイヘッド810の右側には、多色押出成形された多色成形体914を搬送する搬送部840が設けられている。搬送部840は、ローラー841と、ローラー841に沿って移動する搬送フィルム842とを有している。搬送フィルム842はローラー841の回転により、図8の下方から右側へと搬送されるが、その際に、ローラー841上にて多色成形体914を積層する。これにより、多色成形体914の形状を保持しつつ、右側へと搬送することができる。次いで、ダイコーター800の動作について説明する。ミキシングユニット830に光導波路形成用組成物901、902が同時に供給されると、接続部835において3層の層流が形成される。接続部835において光導波路形成用組成物901、902が合流する際、合流部に設けられた複数のピン836の作用により、光導波路形成用組成物901、902の流れに乱れが生じる。この乱れは、層流間の境界を不明瞭とし、境界では光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とが混在した領域が形成される。このようにして形成された層流は、ダイヘッド810のマニホールド820において、幅方向に拡張されるとともに厚さ方向には圧縮される。その結果、前述したような、第1成形層914a、第2成形層914b、第3成形層914c、第4成形層914d、および第5成形層914eが、下方からこの順で積層されてなる多色成形体914が形成される。そしてこのような多色成形体914を用いることにより、最終的に前述した厚さ方向の屈折率分布Tを有する光導波路1が得られる。なお、多色成形体914は、搬送フィルム842上に形成されるが、この搬送フィルム842をそのまま前述した支持基板951として利用することもできる。また、図8に示すダイコーター800は、コア層13を1層含む層910を形成可能であるが、コア層13を複数層設ける場合には、それに応じて、ミキシングユニット830の構造を変更すればよい。具体的には、コア層13の層数に応じて第1の供給管831を分岐し、さらに、各第1の供給管831から押し出された光導波路形成用組成物901の各層を挟むように、第2の供給管832の分岐数を増やすようにすればよい。このようにすれば、前述した光導波路の第2の形態あるいは第3の形態を製造することができる。図10は、ミキシングユニット830の他の構成例を示す断面図である。なお、図10では、複雑になるのを避けるため、第1の供給管831および第2の供給管832の管軸を線で模式的に示しており、各供給管831、832に各組成物を注入する始点を●印で示している。また、光導波路形成用組成物901の流れを実線の矢印で、光導波路形成用組成物902の流れを破線の矢印で、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物の流れを一点鎖線の矢印で、それぞれ示している。図10に示す第1の供給管831は、始点831aから3つに分岐しており、このうち、中央の分岐管8311は、真っ直ぐにダイヘッド810方向に延伸している。一方、中央の分岐管8311の上方には、始点831aから分岐した分岐管8312が斜めに延伸しており、中央の分岐管8311の下方には、始点831aから分岐した分岐管8313が斜めに延伸している。中央の分岐管8311からやや上方に離れた位置には、第2の供給管832の第1の始点832aが設けられており、この第1の始点832aからは分岐した分岐管8321が上方に延伸しており、また、分岐した分岐管8322が下方に延伸している。このうち、下方に延伸した分岐管8322は、合流点J1で中央の分岐管8311に合流している。また、上方に延伸した分岐管8321は、上述した分岐管8312と混合点M1で合流するよう構成されている。混合点M1より先では、分岐管8321と分岐管8312とが集合管8331に集約されており、この集合管8331は、分岐管8322よりもダイヘッド810側先端側に位置する合流点J2で中央の分岐管8311に合流している。一方、中央の分岐管8311からやや下方に離れた位置には、第2の供給管832の第2の始点832bが設けられており、この第2の始点832bからは分岐した分岐管8323が上方に延伸しており、また、分岐した分岐管8324が下方に延伸している。このうち、上方に延伸した分岐管8323は、合流点J1で中央の分岐管8311に合流している。また、下方に延伸した分岐管8324は、上述した分岐管8313と混合点M2で合流するよう構成されている。混合点M2より先では、分岐管8324と分岐管8313とが集合管8332に集約されており、この集合管8332は、分岐管8323よりもダイヘッド810側先端側に位置する合流点J2で中央の分岐管8311に合流している。また、各混合点M1、M2および各合流点J1、J2には、前述したピン836が設けられている図示せず。なお、各混合点M1、M2では、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とが完全に混合されるよう、ピン836の配置および本数が設定されている。一方、各合流点J1、J2では、光導波路形成用組成物901と前記混合物とが部分的に混合されるよう、ピン836の配置および本数が設定されている。ここで、第1の供給管831の始点831aには、光導波路形成用組成物901が注入される一方、第2の供給管832の第1の始点832aおよび第2の始点832bには、光導波路形成用組成物902が注入される。光導波路形成用組成物901は、中央の分岐管8311を介して、多色成形体914の中央の層を構成することとなる。一方、光導波路形成用組成物902は、分岐管8322と分岐管8323とを介して、中央の層を挟むように合流する。さらに、各混合点M1、M2で混合された光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との混合物は、それぞれ集合管8331、集合管8332を介して、上記の光導波路形成用組成物902で構成された層を挟むように合流する。以上のようにして多色成形体914が成形される。このようなミキシングユニット830を用いることにより、例えば、光導波路形成用組成物901の屈折率が光導波路形成用組成物902の屈折率より大きい場合、前述した光導波路の第2の形態を製造可能な多色成形体914を成形することができる。また、光導波路形成用組成物901の屈折率が光導波路形成用組成物902の屈折率より小さい場合、前述した光導波路の第3の形態を製造可能な多色成形体914を成形することができる。なお、ピン836は必要に応じて設けるようにすればよく、例えば、屈折率分布Tをステップインデックス型にする場合には、省略するようにしてもよい。この場合、各組成物の流れには乱れが生じないので、層流間の境界が比較的明瞭となり、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とが混在した領域はほとんど形成されない。このようにして得られた層910を用いれば、厚さ方向の屈折率が階段状に変化した屈折率分布Tを有するステップインデックス型の光導波路1も製造することができる。また、第1の供給管831からの光導波路形成用組成物901の供給条件として、例えば、第1の供給管831の内径、第2の供給管832に対する第1の供給管831の合流角度、単位時間当たりの供給量、供給圧力、粘度、温度等と、第2の供給管832からの光導波路形成用組成物902の供給条件として、例えば、第2の供給管832の内径、第1の供給管831に対する第2の供給管832の合流角度、単位時間当たりの供給量、供給圧力、粘度、温度等と、を適宜設定することができる。これにより、多色成形体914中の各組成物の占有率が変化することから、最終的に光導波路1の屈折率分布Tの形状を自在に変更することができる。なお、上記多色押出成形法およびダイコーターは、多色成形体914を製造する方法および装置の一例であり、層間での組成物の混濁を生じ得る方法および装置であれば、例えば射出成形法装置、塗布法装置、印刷法装置等の各種方法装置を用いることもできる。以上のようにして得られた層910では、厚さ方向において組成が連続的に変化し、これにより厚さ方向において屈折率が連続的に変化した屈折率分布T’が形成されている。特に、層910は、前述した第1成形層914aから第5成形層914eまでが形成されたものであるため、層910が有する屈折率分布T’は、厚さ方向の中心部において屈折率が最も高く、そこから層910の両面側に向かうにつれ屈折率が連続的に低下する分布になっている。このような層910の屈折率分布T’において、最大値と最小値との屈折率差は、できるだけ大きい方がよいが、0.005~0.07程度であるのが好ましく、0.007~0.05程度であるのがより好ましく、0.01~0.05程度であるのがさらに好ましい。これにより、最終的に、コア部14中に光を閉じ込めるのに必要かつ十分な屈折率差が形成された光導波路1が得られる。また、屈折率分布T’は、横軸に層910の横断面の位置をとり、縦軸に屈折率をとったとき、屈折率の極大値近傍において、屈折率が連続的に変化している形状であれば上に凸の略V字状極大値以外はほぼ直線状をなしていてもよいが、好ましくは上に凸の略U字状極大値近傍全体が丸みを帯びているとされる。屈折率分布Tがこのような形状をなしていると、コア部14における光の閉じ込め作用がより顕著なものとなる。すなわち、層910は、厚さ方向の屈折率分布がいわゆるグレーテッドインデックス型あるいはそれに類似した形状になっており、伝送損失の小さい光導波路1を製造可能なものとなる。次に、各光導波路形成用組成物901、902に含まれるポリマー915および添加剤920について説明する。ポリマーポリマー915は、光導波路1のベースポリマーとなるものである。ポリマー915には、透明性が十分に高く無色透明であり、かつ、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応重合反応や架橋反応可能であり、モノマーが重合した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。ここで、相溶性を有するとは、光導波路形成用組成物901、902中や層910中において、モノマーが少なくとも混和してポリマー915と相分離を起こさないことをいう。このようなポリマー915としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やベンゾシクロブテン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせてポリマーアロイ、ポリマーブレンド混合物、共重合体など用いることができる。これらの中でも、特に、環状オレフィン系樹脂を主とするものが好ましい。ポリマー915として環状オレフィン系樹脂を用いることにより、優れた光伝送性能や耐熱性を有する光導波路1を得ることができる。環状オレフィン系樹脂は、無置換のものであってもよいし、水素が他の基により置換されたものであってもよい。環状オレフィン系樹脂としては、例えばノルボルネン系樹脂、ベンゾシクロブテン系樹脂等が挙げられる。中でも、耐熱性、透明性等の観点からノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。また、ノルボルネン系樹脂は、高い疎水性を有するため、吸水による寸法変化等を生じ難い光導波路1を得ることができる。ノルボルネン系樹脂としては、単独の繰り返し単位を有するものホモポリマー、2つ以上のノルボルネン系繰り返し単位を有するものコポリマーのいずれであってもよい。このようなノルボルネン系樹脂としては、例えば、1ノルボルネン型モノマーを付加共重合して得られるノルボルネン型モノマーの付加共重合体、2ノルボルネン型モノマーとエチレンやα-オレフィン類との付加共重合体、3ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、および必要に応じて他のモノマーとの付加共重合体のような付加重合体、4ノルボルネン型モノマーの開環共重合体、および必要に応じて該共重合体を水素添加した樹脂、5ノルボルネン型モノマーとエチレンやα-オレフィン類との開環共重合体、および必要に応じて該共重合体を水素添加した樹脂、6ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、または他のモノマーとの開環共重合体、および必要に応じて該共重合体を水素添加したポリマーのような開環重合体が挙げられる。これらの重合体としては、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体等が挙げられる。これらのノルボルネン系樹脂は、例えば、開環メタセシス重合ROMP、ROMPと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。これらの中でも、ノルボルネン系樹脂としては、下記化1構造式Bで表される少なくとも1個の繰り返し単位を有するもの、すなわち、付加共重合体が好ましい。付加共重合体は、透明性、耐熱性および可撓性に富むことから、例えば光導波路1を形成した後、これに電気部品等を半田を介して実装することがあるが、このような場合においても光導波路1に、高い耐熱性、すなわち、耐リフロー性を付与することができるためである。かかるノルボルネン系ポリマーは、例えば、後述するノルボルネン系モノマー後述する構造式Cで表されるノルボルネン系モノマーや、架橋性ノルボルネン系モノマーを用いることにより好適に合成される。また、光導波路1を各種製品に組み込んだ際には、例えば、80°C程度の環境下で製品が使用される場合がある。このような場合においても、耐熱性を確保するという観点から、付加共重合体が好ましい。中でも、ノルボルネン系樹脂は、重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位や、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位としては、エポキシ基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、メタアクリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、および、アルコキシシリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位のうちの少なくとも1種が好適である。これらの重合性基は、各種重合性基の中でも、反応性が高いことから好ましい。また、このような重合性基を含むノルボルネンの繰り返し単位を、2種以上含むノルボルネン系樹脂を用いれば、可撓性と耐熱性の両立を図ることができる。一方、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系樹脂により、アリール基に由来する極めて高い疎水性によって、吸水による寸法変化等をより確実に防止することができる。さらに、ノルボルネン系樹脂は、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。なお、アルキル基は、直鎖状または分岐状のいずれであってもよい。アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、ノルボルネン系樹脂は、柔軟性が高くなるため、高いフレキシビリティ可撓性を付与することができる。また、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系樹脂は、特定の波長領域特に、850nm付近の波長領域の光に対する透過率が優れることからも好ましい。上記のようなノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系樹脂の具体例としては、ヘキシルノルボルネンのホモポリマー、フェニルエチルノルボルネンのホモポリマー、ベンジルノルボルネンのホモポリマー、ヘキシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとベンジルノルボルネンとのコポリマー等が挙げられる。このようなことから、ノルボルネン系樹脂としては、以下の式1~4、8~10で表されるものが好適である。式1中、R1は、炭素数1~10のアルキル基を表し、aは、0~3の整数を表し、bは、1~3の整数を表し、p1/q1が20以下である。式1のノルボルネン系樹脂は、以下のようにして製造することができる。R1を有するノルボルネンと、側鎖にエポキシ基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ni化合物Aを触媒として用いて溶液重合させることで1を得る。なお、側鎖にエポキシ基を有するノルボルネンの製造方法は、たとえば、iiiの通りである。iノルボルネンメタノールNB-CH2-OHの合成DCPDジシクロペンタジエンのクラッキングにより生成したCPDシクロペンタジエンとαオレフィンCH2=CH-CH2-OHを高温高圧下で反応させる。iiエポキシノルボルネンの合成ノルボルネンメタノールとエピクロルヒドリンとの反応により生成する。なお、式1において、bが2または3の場合には、エピクロルヒドリンのメチレン基がエチレン基、プロピレン基等になったものを使用する。式1で表されるノルボルネン系樹脂の中でも、可撓性と耐熱性の両立を図ることが可能との観点から、特に、R1が炭素数4~10のアルキル基であり、aおよびbがそれぞれ1である化合物、例えば、ブチルノルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとメチルグリシジルエーテルノルボルネンとのコポリマー等が好ましい。式2中、R2は、炭素数1~10のアルキル基を表し、R3は、水素原子またはメチル基を表し、cは、0~3の整数を表し、p2/q2が20以下である。式2のノルボルネン系樹脂は、R2を有するノルボルネンと、側鎖にアクリルおよびメタクリル基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、上述したNi化合物Aを触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。なお、式2で表されるノルボルネン系樹脂の中でも、可撓性と耐熱性との両立の観点から、特に、R2が炭素数4~10のアルキル基であり、cが1である化合物、例えば、ブチルノルボルネンとアクリル酸5-ノルボルネニルメチルとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとアクリル酸5-ノルボルネニルメチルとのコポリマー、デシルノルボルネンとアクリル酸5-ノルボルネニルメチルとのコポリマー等が好ましい。式3中、R4は、炭素数1~10のアルキル基を表し、各X3は、それぞれ独立して、炭素数1~3のアルキル基を表し、dは、0~3の整数を表し、p3/q3が20以下である。式3の樹脂は、R4を有するノルボルネンと、側鎖にアルコキシシリル基を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、上述したNi化合物Aを触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。なお、式3で表されるノルボルネン系ポリマーの中でも、特に、R4が炭素数4~10のアルキル基であり、dが0~2、X3がメチル基またはエチル基である化合物が好ましい。例えば、ブチルノルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、デシルノルボルネンとノルボルネニルエチルトリメトキシシランとのコポリマー、ブチルノルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとトリエトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ブチルノルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとトリメトキシシリルノルボルネンとのコポリマー等が好ましい。式4中、R5は、炭素数1~10のアルキル基を表し、A1およびA2は、それぞれ独立して、下記式5~7で表されるいずれか1つの置換基を表すが、同時に同一の置換基であることはない。また、p4/q4rが20以下である。式4の樹脂は、R5を有するノルボルネンと、側鎖にA1を有するノルボルネンと、側鎖にA2を有するノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ni化合物Aを触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。式5中、eは、0~3の整数を表し、fは、1~3の整数を表す。式6中、R6は、水素原子またはメチル基を表し、gは、0~3の整数を表す。式7中、X4は、それぞれ独立して、炭素数1~3のアルキル基を表し、hは、0~3の整数を表す。なお、式4で表されるノルボルネン系樹脂としては、例えば、ブチルノルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、アクリル酸5-ノルボルネニルメチルと、ノルボルネニルエチルトリメトキシシラン、トリエトキシシリルノルボルネンまたはトリメトキシシリルノルボルネンのいずれかとのターポリマー、ブチルノルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、アクリル酸5-ノルボルネニルメチルと、メチルグリシジルエーテルノルボルネンとのターポリマー、ブチルノルボルネン、ヘキシルノルボルネンまたはデシルノルボルネンのいずれかと、メチルグリシジルエーテルノルボルネンと、ノルボルネニルエチルトリメトキシシラン、トリエトキシシリルノルボルネンまたはトリメトキシシリルノルボルネンのいずれかとのターポリマー等が挙げられる。式8中、R7は、炭素数1~10のアルキル基を表し、R8は、水素原子、メチル基またはエチル基を表し、Arは、アリール基を表し、X1は、酸素原子またはメチレン基を表し、X2は、炭素原子またはシリコン原子を表し、iは、0~3の整数を表し、jは、1~3の整数を表し、p5/q5が20以下である。式8の樹脂は、R7を有するノルボルネンと、側鎖に-CH2-X1-X2R83-jArjを含むノルボルネンとをトルエンに溶かし、Ni化合物を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。なお、式8で表されるノルボルネン系樹脂の中でも、X1が酸素原子、X2がシリコン原子、Arがフェニル基であるものが好ましい。さらには、可撓性、耐熱性および屈折率制御の観点から特に、R7が炭素数4~10のアルキル基であり、X1が酸素原子、X2がシリコン原子、Arがフェニル基、R8がメチル基、iが1、jが2である化合物、例えば、ブチルノルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー、デシルノルボルネンとジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランとのコポリマー等が好ましい。具体的には、以下のようなノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。式9におけるR7、p5、q5、iは、式8と同じである。また、可撓性と耐熱性および屈折率制御の観点から、式8において、R7が炭素数4~10のアルキル基であり、X1がメチレン基、X2が炭素原子、Arがフェニル基、R8が水素原子、iが0、jが1である化合物、例えば、ブチルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、デシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー等であってもよい。さらに、ノルボルネン系樹脂として、次のようなものを使用してもよい。式10において、R10は、炭素数1~10のアルキル基を表し、R11は、アリール基を示し、kは0以上、4以下である。p6/q6は20以下である。また、p1/q1~p3/q3、p5/q5、p6/q6またはp4/q4rは、20以下であればよいが、15以下であるのが好ましく、0.1~10程度がより好ましい。これにより、複数種のノルボルネンの繰り返し単位を含む効果が如何なく発揮される。一方、ポリマー915は、前述したようにアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等であってもよい。このうち、アクリル系樹脂およびメタクリル系樹脂としては、例えば、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエポキシアクリレート、ポリエポキシメタクリレート、ポリアミノアクリレート、ポリアミノメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリイソシアナートアクリレート、ポリイソシアナートメタクリレート、ポリシアナートアクリレート、ポリシアナートメタクリレート、ポリチオエポキシアクリレート、ポリチオエポキシメタクリレート、ポリアリルアクリレート、ポリアリルメタクリレート、アクリレートエポキシアクリレート共重合体メチルメタクリレートとグリシジルメタクリレートの共重合体、スチレンエポキシアクリレート共重合体等が挙げられ、これらの1種または2種以上の複合材料が用いられる。また、エポキシ系樹脂としては、例えば、脂環式エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル骨格を有するビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン環含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格を有するジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂およびトリグリシジルイソシアヌレート等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上の複合材料が用いられる。また、ポリイミドとしては、ポリイミド樹脂前駆体であるポリアミド酸を閉環し、硬化イミド化させることにより得られる樹脂であれば、特に限定されない。ポリアミド酸としては、例えば、N,N-ジメチルアセトアミド中、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを等モル比にて反応させることにより、溶液として得ることができる。このうち、テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス2,3-ジカルボキシフェニル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2-ビス3,4-ジカルボキシフェニル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス3,4-ジカルボキシフェニルエーテル二無水物、ビス3,4-ジカルボキシフェニルスルホン酸二無水物等が挙げられる。一方、ジアミンとしては、例えば、m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、2,2-ビス4-アミノフェノキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-アミノフェノキシフェニルヘキサフルオロプロパン、1,3-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、1,4-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、2,4-ジアミノトルエン、2,6-ジアミノトルエン、ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-2,2-ジメチルビフェニル、2,2-ビストリフルオロメチル-4,4’-ジアミノビフェニル等が挙げられる。また、シリコーン系樹脂としては、例えば、シリコーンゴム、シリコーンエラストマー等が挙げられる。これらのシリコーン系樹脂は、シリコーンゴムモノマーまたはオリゴマーと硬化剤とを反応させることにより得られるものである。シリコーンゴムモノマーまたはオリゴマーとしては、例えば、メチルシロキサン基、エチルシロキサン基、フェニルシロキサン基を含むものが挙げられる。また、シリコーンゴムモノマーまたはオリゴマーとしては、光反応性を付与するため、例えば、エポキシ基、ビニルエーテル基、アクリル基等の官能基を導入してなるものが好ましく用いられる。また、フッ素系樹脂としては、例えば、含フッ素脂肪族環構造を有するモノマーから得られる重合体、2つ以上の重合性不飽和結合を有する含フッ素モノマーを環化重合して得られる重合体、含フッ素系モノマーとラジカル重合性単量体とを共重合して得られる重合体等が挙げられる。含フッ素脂肪族環構造としては、例えば、ペルフルオロ2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール、ペルフルオロ4-メチル-1,3-ジオキソール、ペルフルオロ4-メトキシ-1,3-ジオキソール等が挙げられる。また、含フッ素モノマーとしては、例えば、ペルフルオロアリルビニルエーテル、ペルフルオロブテニルビニルエーテル等が挙げられる。また、ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ペルフルオロメチルビニルエーテル等が挙げられる。なお、比較的高い屈折率を有するポリマー915を得るためには、芳香族環芳香族基、窒素原子、臭素原子や塩素原子を分子構造中に有するモノマーを一般的に選択して、ポリマー915が合成重合される。一方、比較的低い屈折率を有するポリマー915を得るためには、アルキル基、フッ素原子やエーテル構造エーテル基を分子構造中に有するモノマーを一般的に選択して、ポリマー915が合成重合される。比較的高い屈折率を有するノルボルネン系樹脂としては、アラルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。かかるノルボルネン系樹脂は、特に高い屈折率を有する。アラルキルノルボルネンの繰り返し単位が有するアラルキル基アリールアルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、ナフチルエチル基、ナフチルプロピル基、フルオレニルエチル基、フルオレニルプロピル基等が挙げられるが、ベンジル基やフェニルエチル基が特に好ましい。かかる繰り返し単位を有するノルボルネン系樹脂は、極めて高い屈折率を有するものであることから好ましい。また、以上のようなポリマー915は、主鎖から分岐し、活性放射線の照射により、その分子構造の少なくとも一部が主鎖から離脱し得る離脱性基離脱性ペンダントグループを有している。離脱性基反応媒体の離脱によりポリマー915の屈折率が低下するため、ポリマー915は、活性放射線の照射の有無によって屈折率差を形成することができる。このような離脱性基を有するポリマー915としては、例えば、分子構造中に、-O-構造、-Si-アリール構造および-O-Si-構造のうちの少なくとも1つを有するものが挙げられる。かかる離脱性基は、カチオンの作用により比較的容易に離脱する。このうち、離脱により樹脂の屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、-Si-ジフェニル構造および-O-Si-ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。ここで、側鎖に離脱性基を有するポリマー915としては、例えばシクロヘキセン、シクロオクテン等の単環体モノマーの重合体、ノルボルネン、ノルボルナジエン、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、トリシクロペンタジエン、ジヒドロトリシクロペンタジエン、テトラシクロペンタジエン、ジヒドロテトラシクロペンタジエン等の多環体モノマーの重合体等の環状オレフィン系樹脂が挙げられる。これらの中でも多環体モノマーの重合体の中から選ばれる1種以上の環状オレフィン系樹脂が好ましく用いられる。これにより、樹脂の耐熱性を向上することができる。なお、重合形態としては、ランダム重合、ブロック重合等の公知の形態を適用することができる。例えばノルボルネン型モノマーの重合の具体例としては、ノルボルネン型モノマーの共重合体、ノルボルネン型モノマーとα-オレフィン類などの共重合可能な他のモノマーとの共重合体、およびこれらの共重合体の水素添加物などが具体例に該当する。これら環状オレフィン系樹脂は、公知の重合法により製造することが可能であり、その重合方法には付加重合法と開環重合法とがあり、前述の中でも付加重合法で得られる環状オレフィン系樹脂特にノルボルネン系樹脂が好ましいすなわち、ノルボルネン系化合物の付加重合体。これにより、透明性、耐熱性および可撓性に優れる。さらに、側鎖に離脱性基を有するノルボルネン系樹脂としては、例えば、式8で表されるノルボルネン系樹脂の中で、X1が酸素原子、X2がシリコン原子、Arがフェニル基であるものが挙げられる。また、式3においては、アルコキシシリル基のSi-O-X3の部分で脱離する場合がある。また、例えば、式9のノルボルネン系樹脂を使用した場合、光酸発生剤PAGと表記から発生した酸により、以下のように反応が進むと推測される。なお、ここでは、離脱性基の部分のみを示し、また、i=1の場合で説明している。さらに、式9の構造に加えて、側鎖にエポキシ基を有するものであってもよい。このようなものを使用することで基材に対して密着性に優れた光導波路1が形成可能という効果がある。具体例として以下のようなものが挙げられる。式31において、p7/q7r2は、20以下である。式31で示される化合物は、たとえば、ヘキシルノルボルネンと、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン側鎖に-CH2-O-SiCH3Ph2を含むノルボルネンおよびエポキシノルボルネンをトルエンに溶かし、Ni化合物を触媒に用いて溶液重合させることで得ることができる。一方、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、フリーラジカルの作用により比較的容易に離脱する。前記離脱性基の含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に脱離性基を有するポリマー915中の10~80重量であるのが好ましく、特に20~60重量であるのがより好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に可撓性と屈折率変調機能屈折率差を変化させる効果との両立に優れる。例えば、離脱性基の含有量を多くすることにより、屈折率を変化させる幅を拡張することができる。また、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との間で、含まれるポリマー915は同じ組成のものでも、異なる組成のものでもよい。なお、同じ組成のものを用いることで、互いの相溶性が高くなるため、組成物同士が混合し易くなる。これにより、屈折率分布Tの連続性を高めることができる。また、異なる組成のものを用いる場合、ポリマー915の基本組成は同じであるものの、離脱性基反応媒体の有無を変えるようにしてもよい。例えば、光導波路形成用組成物901が含有するポリマー915は離脱性基を含む一方、光導波路形成用組成物902が含有するポリマー915は離脱性基を含まないのが好ましい。これにより、コア層13においてのみ、離脱性基の離脱が生じ、層内で屈折率差が形成するとともに、クラッド層11、12では、離脱性基の離脱が生じないので、層内で屈折率が変化せず、クラッド層11、12の屈折率を比較的均一にすることができる。なお、この場合、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の双方において添加剤920モノマー、重合開始剤等の添加を省略することができる。一方、少なくとも光導波路形成用組成物901中の後述する添加剤920がモノマーを含んでいる場合には、各光導波路形成用組成物901、902が含有するポリマー915は、必ずしも離脱性基を含んでいなくてもよい。添加剤本実施形態では、光導波路形成用組成物901および光導波路形成用組成物902の双方において、添加剤920がモノマー反応媒体を含んでいる。また、本実施形態では、光導波路形成用組成物901中の添加剤920が、さらに重合開始剤を含んでいる一方、光導波路形成用組成物902中の添加剤920は、重合開始剤を含んでいない。モノマーモノマーは、後述する活性放射線の照射により、活性放射線の照射領域において反応して反応物を形成し、それとともにモノマーが拡散移動することで、層910において照射領域と未照射領域との間に屈折率差を生じさせ得るような化合物である。すなわち、モノマーは、活性放射線の照射により屈折率の変化を伴う化学反応を生じる反応媒体として機能する。モノマーの反応物としては、モノマーがポリマー915中で重合して形成されたポリマー重合体、モノマーがポリマー915同士を架橋してなる架橋構造、および、モノマーがポリマー915に重合してポリマー915から分岐した分岐構造のうちの少なくとも1つが挙げられる。ところで、照射領域と未照射領域との間に生じる屈折率差は、ポリマー915の屈折率とモノマーの屈折率との差に基づいて生じることから、添加剤920中に含まれるモノマーは、ポリマー915の屈折率との大小関係を考慮して選択される。具体的には、層910において、照射領域の屈折率が高くなることが望まれる場合には、比較的低い屈折率を有するポリマー915と、このポリマー915に対して高い屈折率を有するモノマーとを組み合わせて使用される。一方、照射領域の屈折率が低くなることが望まれる場合には、比較的高い屈折率を有するポリマー915と、このポリマー915に対して低い屈折率を有するモノマーとを組み合わせて使用される。なお、屈折率が高いまたは低いとは、屈折率の絶対値を意味するものではなく、ある材料同士の相対的な関係を意味するものである。そして、モノマーの反応反応物の生成により、層910において照射領域の屈折率が低下する場合、当該部分が屈折率分布Wの極小値を形成し、照射領域の屈折率が上昇する場合、当該部分が屈折率分布の極大値を構成する。なお、モノマーとしては、ポリマー915との相溶性を有し、ポリマー915との屈折率差が0.01以上であるものが好ましく用いられる。このようなモノマーとしては、重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、ノルボルネン系モノマー、アクリル酸メタクリル酸系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、モノマーとしては、オキセタニル基またはエポキシ基等の環状エーテル基を有するモノマーまたはオリゴマー、あるいはノルボルネン系モノマーを用いるのが好ましい。環状エーテル基を有するモノマーまたはオリゴマーは、環状エーテル基の開環が起こり易いため、速やかに反応し得る。また、ノルボルネン系モノマーを用いることにより、光伝送性能に優れ、かつ、耐熱性および柔軟性に優れる光導波路1が得られる。このうち、環状エーテル基を有するモノマーの分子量重量平均分子量またはオリゴマーの分子量重量平均分子量は、それぞれ100以上400以下であるのが好ましい。オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーとしては、下記式11~20の群から選ばれるものが好ましい。これらを使用することで波長850nm近傍での透明性に優れ、可撓性と耐熱性の両立が可能という利点がある。また、これらを単独でも混合して用いても差し支えない。式18においてnは0以上、3以下である。以上のようなモノマーおよびオリゴマーの中でも、ポリマー915との屈折率差を確保する観点から式13、15、16、17、20で表される化合物を使用することが好ましい。さらには、ポリマー915の樹脂との屈折率差がある点、分子量が小さく、モノマーの運動性が高い点、モノマーが容易に揮発しない点を考慮すると、式20、式15で表される化合物を使用することが特に好ましい。また、オキセタニル基を有する化合物としては、以下の式32、式33で表される化合物を使用することができる。式32で表される化合物としては、東亞合成製の商品名TESOX等、式33で表される化合物としては、東亞合成製の商品名OX-SQ等を使用することができる。式33において、nは1または2であるまた、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、例えば、以下のようなものが挙げられる。このエポキシ基を有するモノマー、オリゴマーは、酸の存在下において開環により重合するものである。エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、以下の式34~39で表されるものを使用することができる。中でも、エポキシ環のひずみエネルギーが大きく反応性に優れるという観点から式36~39で表される脂環式エポキシモノマーを使用することが好ましい。なお、式34で表される化合物は、エポキシノルボルネンであり、このような化合物としては、例えば、プロメラス社製EpNBを使用することができる。式35で表される化合物は、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランであり、この化合物としては、例えば、東レダウコーニングシリコーン社製Z-6040を使用することができる。また、式36で表される化合物は、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランであり、この化合物としては、例えば、東京化成製E0327を使用することができる。さらに、式37で表される化合物は、3、4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3’、4’-エポキシシクロヘキセンカルボキシレートであり、この化合物としては、例えば、ダイセル化学社製セロキサイド2021Pを使用することができる。また、式38で表される化合物は、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサンであり、この化合物としては、例えば、ダイセル化学社製セロキサイド2000を使用することができる。さらに、式39で表される化合物は、1,2:8,9ジエポキシリモネンであり、この化合物としては、例えば、ダイセル化学社製セロキサイド3000を使用することができる。さらに、モノマーとしては、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーと、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとが併用されていてもよい。オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーは重合を開始する開始反応が遅いが、生長反応が速い。これに対し、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーは、重合を開始する開始反応が速いが、生長反応が遅い。そのため、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーと、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとを併用することで、光を照射した際に、光照射部分と、未照射部分との屈折率差を確実に生じさせることができる。具体的には、式20で表わされるモノマーを第1モノマーとし、上記成分Bを含むモノマーを第2モノマーとすると、第1モノマーと第2モノマーとを併用するのが好ましく、その併用割合を第2モノマーの重量/第1モノマーの重量で規定するとき、0.1~1程度であるのが好ましく、0.1~0.6程度であるのがより好ましい。併用割合が前記範囲内であると、モノマーの反応性の速さと光導波路1の耐熱性とのバランスが向上する。なお、第2モノマーに相当するモノマーには、式20で表わされるモノマーと異なるオキセタニル基を有するモノマーやビニルエーテル基を有するモノマーが挙げられる。これらの中でも、エポキシ化合物特に脂環式エポキシ化合物および2官能のオキセタン化合物オキセタニル基を2つ有するモノマーの少なくとも1種が好ましく用いられる。これらの第2モノマーを用いることにより、第1モノマーとポリマー915との反応性を向上させることができ、それによって透明性を保持しつつ、導波路の耐熱性を向上させることができる。このような第2モノマーの具体例としては、上記式15の化合物、上記式12の化合物、上記式11の化合物、上記式18の化合物、上記式19の化合物、上記式34~39の化合物が挙げられる。また、ノルボルネン系モノマーとは、下記構造式Aで示されるノルボルネン骨格を少なくとも1つ含むモノマーを総称し、例えば、下記構造式Cで表される化合物が挙げられる。[式中、aは、単結合または二重結合を表し、R12~R15は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換の炭化水素基、または官能置換基を表し、mは、0~5の整数を表す。ただし、aが二重結合の場合、R12およびR13のいずれか一方、R14およびR15のいずれか一方は存在しない。]無置換の炭化水素基ハイドロカルビル基としては、例えば、直鎖状または分岐状の炭素数1~10C1~C10のアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数2~10C2~C10のアルケニル基、直鎖状または分岐状の炭素数2~10C2~C10のアルキニル基、炭素数4~12C4~C12のシクロアルキル基、炭素数4~12C4~C12のシクロアルケニル基、炭素数6~12C6~C12のアリール基、炭素数7~24C7~C24のアラルキル基アリールアルキル基等が挙げられ、その他、R12およびR13、R14およびR15が、それぞれ炭素数1~10C1~C10のアルキリデニル基であってもよい。なお、上記以外のモノマー、例えばアクリル酸メタクリル酸系モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、アクリロニトリル等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。具体的には、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸2-ブトキシエチル等が挙げられる。また、ビニルエーテル系モノマーとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n-プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、tert-ブチルビニルエーテル、n-ペンチルビニルエーテル、n-ヘキシルビニルエーテル、n-オクチルビニルエーテル、n-ドデシルビニルエーテル、2-エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類またはシクロアルキルビニルエーテル類が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、スチレン系モノマーとしては、例えば、スチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられ、これらのうちの1種または2種を組み合わせて用いることができる。なお、これらのモノマーと前述したポリマー915との組み合わせは、特に限定されず、いかなる組み合わせであってもよい。また、モノマーは、その少なくとも一部が上述したようにオリゴマー化していてもよい。これらのモノマーの添加量は、ポリマー100重量部に対し、1重量部以上50重量部以下であることが好ましく、2重量部以上20重量部以下であることがより好ましい。これにより、コア/クラッド間の屈折率変調を可能にし、可撓性と耐熱性との両立が図れるという効果がある。なお、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との間で、含まれるモノマーは同じ組成のものでも、異なる組成のものでもよい。なお、同じ組成のものを用いることで、相互のモノマーの拡散移動が確実に生じるため、上述した屈折率分布Tをより明確化することができる。その結果、特性に優れた光導波路1が得られる。また、光導波路形成用組成物901がモノマーを含む一方、光導波路形成用組成物902がモノマーを含まないようにしてもよい。この場合、各クラッド層11、12では、層内でのモノマーの拡散移動が生じないので、各クラッド層11、12の層内の屈折率を均一にすることができる。重合開始剤重合開始剤は、活性放射線の照射に伴ってモノマーに作用し、モノマーの反応を促すものである。用いる重合開始剤としては、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。例えば、アクリル酸メタクリル酸系モノマー、スチレン系モノマーには専らラジカル重合開始剤が、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマーには専らカチオン重合開始剤が好ましく用いられる。ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。一方、カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型のもの、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型のもの等が挙げられる。特に、モノマーとして環状エーテル基を有するモノマーを用いる場合には、以下のようなカチオン重合開始剤光酸発生剤が好ましく用いられる。例えば、トリフェニルスルフォニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス4-t-ブチルフェニルスルホニウム-トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホニウム塩類、p-ニトロフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリキュミルヨードニウム-テトラキスペンタフルオロフェニルボレートなどのヨードニウム塩類、キノンジアジド類、ビスフェニルスルホニルジアゾメタンなどのジアゾメタン類、1-フェニル-1-4-メチルフェニルスルホニルオキシ-1-ベンゾイルメタン、N-ヒドロキシナフタルイミド-トリフルオロメタンサルホネートなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、トリス2,4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-3.4-メチレンジオキシフェニル-4,6-ビス-トリクロロメチル-s-トリアジンなどのトリアジン類等の化合物が、光酸発生剤として用いられる。なお、これらの光酸発生剤は、単独または複数を組み合わせて用いられる。重合開始剤の含有量は、ポリマー100重量部に対し0.01重量部以上0.3重量部以下であることが好ましく、0.02重量部以上0.2重量部以下であることがより好ましい。これにより、反応性の向上という効果がある。なお、本実施形態では、上述したように、光導波路形成用組成物901中の添加剤920が重合開始剤を含んでいる一方、光導波路形成用組成物902中の添加剤920は重合開始剤を含んでいないため、コア層13においてのみ、層内でモノマーの重合反応が促進され、クラッド層11、12では、モノマーの重合反応が促進されない。したがって、クラッド層11、12では屈折率の変化が抑えられ、層内での屈折率を比較的均一にすることができる。ただし、重合開始剤の添加については、上記の場合に限定されず、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の双方が重合開始剤を含んでいてもよい。この場合、クラッド層11、12ではできるだけモノマーの重合反応を抑えることが好ましいので、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とで含まれる重合開始剤の種類や添加量を異ならせるようにすればよい。具体的には、例えば、光導波路形成用組成物901に含まれる重合開始剤として後述する活性放射線930の波長に対して反応性の高いものを用い、光導波路形成用組成物902に含まれる重合開始剤として後述する活性放射線930の波長に対して反応性の低いものを用いればよい。また、同じ種類の重合開始剤を用いる場合には、光導波路形成用組成物901に比べて光導波路形成用組成物902への重合開始剤の添加量を少なくすればよい。さらに、光導波路形成用組成物901に含まれる重合開始剤として光酸発生剤を用い、光導波路形成用組成物902に含まれる重合開始剤として熱酸発生剤を用いるようにしてもよい。これにより、活性放射線930の照射に伴って主にコア層13の層内でのみモノマーの重合反応が促進され、屈折率分布Wが形成される一方、クラッド層11、12ではモノマーの重合反応が促進されない。屈折率分布Wが形成された後、層910に熱を加えることにより、今度はクラッド層11、12においてモノマーの重合反応が促進される。その結果、層910では、厚さ方向の屈折率分布T’が固定される。熱酸発生剤としては、例えば、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルフォン酸、トリフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルフォン酸のようなスルホニウム塩型化合物、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルフォン酸、ジフェニルヨードニウムノナフルオロブタンスルフォン酸のようなヨードニウム塩型化合物、ペンタフェニルホスニウムトリフルオロメタンスルフォン酸、ペンタフェニルホスニウムノナフルオロブタンスルフォン酸のようなホスニウム塩型化合物等が挙げられる。また、添加剤920は、モノマーや重合開始剤に加え、増感剤等を含んでいてもよい。このうち、増感剤は、光に対する重合開始剤の感度を増大して、重合開始剤の活性化反応または分解に要する時間やエネルギーを減少させる機能や、重合開始剤の活性化に適する波長に光の波長を変化させる機能を有するものである。このような増感剤としては、重合開始剤の感度や増感剤の吸収のピーク波長に応じて適宜選択され、特に限定されないが、たとえば、9,10-ジブトキシアントラセンCAS番号第76275-14-4番のようなアントラセン類、キサントン類、アントラキノン類、フェナントレン類、クリセン類、ベンツピレン類、フルオラセン類fluoranthenes、ルブレン類、ピレン類、インダンスリーン類、チオキサンテン-9-オン類thioxanthen9ones等が挙げられ、これらを単独または混合物として用いることができる。増感剤の具体例としては、例えば、2-イソプロピル-9H-チオキサンテン-9-オン、4-イソプロピル-9H-チオキサンテン-9-オン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、フェノチアジンphenothiazineまたはこれらの混合物が挙げられる。増感剤の含有量は、光導波路形成用組成物901、902中で、0.01重量以上であるのが好ましく、0.5重量以上であるのがより好ましく、1重量以上であるのがさらに好ましい。なお、上限値は、5重量以下であるのが好ましい。なお、添加剤920はこの他に、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を含んでいてもよい。以上のようなポリマー915と添加剤920とを含有する層910は、ポリマー915中に一様に分散する添加剤920の作用により、所定の屈折率を有している。このような層910本発明の光導波路形成用フィルムは、上述したような活性放射線に反応するモノマー等を含んでいるため、厚さ方向には前述した屈折率分布T’を有する一方、幅方向には、活性放射線の照射の有無により、屈折率差を形成することのできる屈折率調整能を潜在的に有するものとなる。したがって、層910は、単に活性放射線を選択的に照射するのみで、厚さ方向に光信号の伝送効率に優れた屈折率分布T’を有し、幅方向にも光信号の伝送効率に優れた屈折率分布Wを有する光導波路1を容易に製造し得るという優れた特徴を有するものとなる。なお、多数の層910を製造、保管しておき、その後、必要数に対して活性放射線を照射すれば、簡単に光導波路1を製造することができ、製造効率の観点から有用である。[2]次に、開口窓9351が形成されたマスクマスキング935を用意し、このマスク935を介して、層910に対して活性放射線930を照射する図12参照。以下では、モノマーとして、ポリマー915より低い屈折率を有するものを用いる場合を一例に説明する。また、これに対応して、層910を形成するために用いた光導波路形成用組成物901、902において、ポリマー915の組成が、光導波路形成用組成物901の屈折率>光導波路形成用組成物902の屈折率の関係を満足するよう設定されている。これにより、層910では、厚さ方向の中央部が最も屈折率が高く、両面側に向かうにつれ屈折率が連続的に低下する屈折率分布T’が形成されている。また、ここで示す例では、活性放射線930の照射領域925が主に側面クラッド部15となる。したがって、ここで示す例では、マスク935には、主に、形成すべき側面クラッド部15のパターンと等価な開口窓9351が形成される。この開口9351は、照射する活性放射線930が透過する透過部を形成するものである。なお、コア部14や側面クラッド部15のパターンは、活性放射線930の照射に応じて形成される屈折率分布Wに基づいて決まるため、開口9351のパターンと側面クラッド部15のパターンとは完全に一致するものではなく、前記両パターンには多少のずれが生じる場合もある。マスク935は、予め形成別途形成されたもの例えばプレート状のものでも、層910上に例えば気相成膜法や塗布法により形成されたものでもよい。マスク935として好ましいものの例としては、石英ガラスやPET基材等で作製されたフォトマスク、ステンシルマスク、気相成膜法蒸着、スパッタリング等により形成された金属薄膜等が挙げられるが、これらの中でもフォトマスクやステンシルマスクを用いるのが特に好ましい。微細なパターンを精度良く形成することができるとともに、ハンドリングがし易く、生産性の向上に有利であるからである。また、図12においては、マスク935の開口窓9351は、活性放射線930の照射領域925のパターンに沿ってマスクを部分的に除去したものを示したが、前記石英ガラスやPET基材等で作製されたフォトマスクを用いる場合、例えばクロム等の金属による遮蔽材で構成された活性放射線930の遮蔽部を該フォトマスク上に設けたものを用いることもできる。このマスクでは、遮蔽部以外の部分が前記窓透過部となる。用いる活性放射線930は、重合開始剤に対して光化学的な反応変化を生じさせ得るもの、および、ポリマー915に含まれる離脱性基を離脱させ得るものであればよく、例えば、可視光、紫外光、赤外光、レーザー光の他、電子線やX線等を用いることもできる。これらの中でも、活性放射線930は、重合開始剤や離脱性基の種類、増感剤を含有する場合には、増感剤の種類等によって適宜選択され、特に限定されないが、波長200~450nmの範囲にピーク波長を有するものであるのが好ましい。これにより、重合開始剤を比較的容易に活性化させるとともに、離脱性基を比較的容易に離脱させることができる。また、活性放射線930の照射量は、0.1~9J/cm2程度であるのが好ましく、0.2~6J/cm2程度であるのがより好ましく、0.2~3J/cm2程度であるのがさらに好ましい。マスク935を介して層910に活性放射線930を照射すると、照射領域925のうち、コア層13における照射領域9253において重合開始剤が活性化される。これにより、照射領域9253においてモノマーが重合する。モノマーが重合すると、照射領域9253におけるモノマーの量が減少するため、それに応じて未照射領域940のうち、コア層13における未照射領域9403中のモノマーが照射領域9253に拡散移動する。前述したように、ポリマー915とモノマーは、互いに屈折率差が生じるように適宜選択されるため、モノマーの拡散移動に伴ってコア層13の照射領域9253と未照射領域9403との間に屈折率差が生じる。一方、クラッド層11、12における照射領域9251、9252では、重合開始剤が含まれていないので、モノマーの重合反応が抑えられる。図14は、コア層13の照射領域9253と未照射領域9403との間で屈折率差が生じる様子を説明するための図であり、層910の横断面の幅方向の位置を横軸にとり、横断面の屈折率を縦軸にとったときの屈折率分布を示す図である。本実施形態では、モノマーとしてポリマー915より屈折率が小さいものを用いているため、モノマーの拡散移動に伴い、未照射領域9403の屈折率が高くなるとともに、照射領域9253の屈折率は低くなる図14a参照。モノマーの拡散移動は、照射領域9253においてモノマーが消費され、それに応じて形成されたモノマーの濃度勾配がきっかけとなって起こると考えられる。このため、未照射領域9403全体のモノマーが一斉に照射領域9253に向かうのではなく、照射領域9253に近い部分から徐々にモノマーの移動が始まり、これを補うように未照射領域9403の中央部から外側へのモノマーの移動も生起される。その結果、図14aに示すように、照射領域9253と未照射領域9403との境界を挟んで、未照射領域9403側に高屈折率部WH、照射領域9253側に低屈折率部WLが形成される。これら高屈折率部WHおよび低屈折率部WLは、それぞれ上述したようなモノマーの拡散移動に伴って形成されるため、必然的に滑らかな曲線で構成されることとなる。具体的には、高屈折率部WHは、例えば上に凸の略U字状となり、低屈折率部WLは、例えば下に凸の略U字状となる。なお、上述したようなモノマーが重合してなるポリマーの屈折率は、重合前のモノマーの屈折率とほぼ同じ屈折率差が0~0.001程度であるため、照射領域9253では、モノマーの重合が進むにつれ、モノマーの量およびモノマー由来の物質の量の総量の増加に応じて屈折率の低下が進むこととなる。一方、未照射領域9403では、重合開始剤が活性化されないため、モノマーは重合しない。また、照射領域9253ではモノマーの重合が進むにつれてモノマーの拡散移動の容易性が徐々に低下する。これにより、照射領域9253では、未照射領域9403に近いほど自ずとモノマーの濃度が高くなり、屈折率の低下量が大きくなる。その結果、照射領域9253に形成される低屈折率部WLの分布形状は、左右非対称になり易く、未照射領域9403側の勾配はより急峻なものとなる。また、ポリマー915は前述したように離脱性基を有している。この離脱性基は活性放射線930の照射に伴って離脱し、ポリマー915の屈折率を低下させる。したがって、照射領域9253に活性放射線930が照射されると、前述したモノマーの拡散移動が開始されるとともに、ポリマー915から離脱性基が離脱し、照射領域9253の屈折率は照射前から低下することとなる図14b参照。この屈折率の低下は、照射領域9253全体で一律に生じるため、前述した高屈折率部WHと低屈折率部WLの屈折率差は、より拡大される。その結果、図14bに示す屈折率分布Wが得られる。なお、図14aにおけるモノマーの移動による屈折率の変化と、図14bにおける離脱性基の離脱による屈折率の変化は、ほぼ同時に起こり、屈折率分布Wが形成されることとなる。図14aでは、屈折率分布を誇張して表現しているが、実際のモノマーの拡散移動に伴う高屈折率部WHと低屈折率部WLとの屈折率差は比較的小さい。図14bにおける屈折率変化によってこの屈折率差は十分に拡大し、屈折率分布Wが形成される。なお、活性放射線930の照射量を調整することにより、形成される屈折率差を制御することができ、例えば、照射量を多くすることで、屈折率差を拡大することができる。また、照射領域9253では、コア層13中の未照射領域9403からのモノマーの拡散移動のみならず、照射領域925のうち、クラッド層11における照射領域9251およびクラッド層12における照射領域9252からのモノマーの拡散移動も生じる。これにより、照射領域9253では、さらに屈折率の低下が生じることとなる。一方、照射領域9251および照射領域9252では、モノマーの拡散移動に伴って屈折率の上昇が生じるが、この領域ではそもそも屈折率が低くなるようポリマー915の組成等が設定されているので、屈折率の上昇が生じても光導波路1の機能を損なうことはない。また、クラッド層11における照射領域9251およびクラッド層12における照射領域9252では、コア層13における照射領域9253と同様、離脱性基の離脱が生じ、ポリマー915の屈折率が低下する。その結果、照射領域9251および照射領域9252においても、さらなる屈折率の低下が生じる。以上のような原理で、屈折率分布Wを有する光導波路1が得られる図13参照。すなわち、本実施形態では、コア層13においてモノマーと離脱性基の双方が、活性放射線930の照射により屈折率の変化を伴う化学反応を生じる反応媒体となり、添加剤920がモノマーを含まない場合やポリマー915が離脱性基を含まない場合に比べて、屈折率分布Wにおいて特に大きな屈折率差が形成される。なお、屈折率分布Wにおいては、低屈折率部WLが転化した極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4が存在しており図3b参照、これらの極小値の位置がコア部14と側面クラッド部15との界面に相当する。また、モノマーとしてポリマー915より高い屈折率を有するものを用いる場合には、上記と反対に、モノマーの拡散移動に伴って移動先の屈折率が高くなるため、それに応じて、照射領域925および未照射領域940を設定するようにすればよい。一方、活性放射線930を照射する前の層910には、図15aに示すように、その厚さ方向において、いわゆるグレーテッドインデックス型の屈折率分布T’が形成されている。この厚さ方向における屈折率分布T’は、前述したように、互いに屈折率の異なる光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とを用い、多色成形法によって層910を得たことにより形成されたものである。ここで、マスク935を介して層910に活性放射線930を照射すると、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とでモノマーの含有率に差がある場合、未照射領域9403中のモノマーが照射領域9253に拡散移動する。このため、コア部14の厚さ方向における屈折率分布T’においても、コア部14に対応する領域の屈折率が高くなる。一方、コア部14の上下に位置するクラッド層11、12では、屈折率が変化しないため、結果的に、コア部14とその上下のクラッド層11、12との間で屈折率差が拡大することとなる。以上のような原理で、屈折率差の大きいグレーテッドインデックス型の屈折率分布Tを有する光導波路1が得られる図15b参照。なお、屈折率分布T’において、すでに十分な効果が認められるような屈折率分布の形状が実現されている場合には、上述した屈折率分布T’から屈折率分布Tへの変化は省略されてもよい。また、屈折率分布Wは、コア層13中のモノマー由来の構造体濃度に一定の相関関係を有している。したがって、このモノマー由来の構造体の濃度を測定することにより、光導波路1が有する屈折率分布Wを間接的に特定することが可能である。同様に、屈折率分布Tは、光導波路1中のモノマー由来の構造体濃度に一定の相関関係を有している。したがって、このモノマー由来の構造体の濃度を測定することにより、光導波路1が有する屈折率分布Tを間接的に特定することが可能である。なお、モノマー由来の構造体とは、モノマー、モノマーが反応してなるオリゴマー、およびモノマーが反応してなるポリマー等、モノマーの未反応物か反応に伴って形成される構造体のことである。構造体の濃度の測定は、例えば、FT-IR、TOF-SIMSの線分析、面分析等を用いて行うことができる。さらには、光導波路1の出射光の強度分布が、屈折率分布Wあるいは屈折率分布Tと一定の相関関係を有していることを利用しても、屈折率分布Wおよび屈折率分布Tを間接的に特定することができる。また、例えば、1干渉顕微鏡dual-beaminterferencemicroscopeを用いて屈折率依存の干渉縞を観測し、その干渉縞から屈折率分布を算出するという方法、2屈折ニアフィールド法RefractedNearFieldmethod;RNF、により直接測定することが可能である。このうち、屈折ニアフィールド法は、例えば特開平5-332880号公報に記載の測定条件を採用することができる。一方、干渉顕微鏡は、屈折率分布の測定を簡便に行い得る点で好ましく用いられる。以下、干渉顕微鏡を使用した屈折率分布の測定手順の一例について説明する。まず、断面方向幅方向に光導波路をスライスして、光導波路断片を得る。例えば、光導波路の長さが200~300μmとなるようにスライスする。次いで、2つのスライドガラスで囲まれた空間に、屈折率1.536のオイルで充填したチャンバーを作製する。そして、チャンバー内の空間に、光導波路断片を挟み込んで測定サンプル部と、光導波路断片を入れていないブランクサンプル部とを作製する。次いで、干渉顕微鏡を使用し、2つに分けた光をそれぞれ測定サンプル部とブランクサンプル部に照射した後、透過光を統合することによって干渉縞写真を得る。干渉縞は光導波路断片の屈折率分布位相分布に伴って発生するものであるので、得られた干渉縞写真を画像解析することにより、光導波路の幅方向の屈折率分布Wを得ることができる。なお、屈折率分布Wを取得する際には、複数の干渉縞写真を画像解析することで屈折率分布Wの精度を高めることができる。複数の干渉縞写真を得るときには、干渉顕微鏡内のプリズムを移動させることにより、光路長を変化させ、干渉縞の間隔や干渉縞のできる箇所を互いに異ならせた写真を得るようにすればよい。また、干渉縞写真を画像解析する際には、例えば2.5μmの間隔で解析点を設定すればよい。また、活性放射線930として、レーザー光のように指向性の高い光を用いる場合には、マスク935の使用を省略してもよい。次に、必要に応じて、層910に加熱処理を施す。この加熱処理において、光を照射したコア層13の照射領域9253中のモノマーがさらに重合する。この加熱処理における加熱温度は、特に限定されないが、30~180°C程度であるのが好ましく、40~160°C程度であるのがより好ましい。また、加熱時間は、照射領域925のモノマーの重合反応がほぼ完了するように設定するのが好ましく、具体的には、0.1~2時間程度であるのが好ましく、0.1~1時間程度であるのがより好ましい。なお、この加熱処理は必要に応じて行えばよく、省略してもよい。以上により、光導波路1が得られる。その後、必要に応じて、支持基板951から光導波路1を剥離するとともに、光導波路1の下面に支持フィルム2を積層し、上面にカバーフィルム3を積層する。なお、コア層13は、支持基板951上ではなく、クラッド層11上に成膜するようにしてもよい。さらに、クラッド層12は、コア層13上に張り合わせるのではなく、コア層13上に材料を塗布して形成するようにしてもよい。また、支持フィルム2およびカバーフィルム3は、活性放射線930を照射する前の層910に対してあらかじめ積層されていてもよい。この場合、層910、支持フィルム2第2の層およびカバーフィルム3第2の層の積層体を、本発明の光導波路形成用フィルムとすることもできる。なお、この場合、支持フィルム2およびカバーフィルム3に、各クラッド層11、12の外側に位置する別のクラッド層の役割を持たせる場合には、支持フィルム2およびカバーフィルム3の各屈折率は、層910の表面の屈折率より小さいことが好ましい。以上のようにして得られた光導波路1は、その幅方向における屈折率分布Wと、厚さ方向における屈折率分布Tとを有するものとなる。これらの屈折率分布は、いずれも、極小値、極大値、極小値が順に並ぶ形状を含んでおり、かつ屈折率の変化が連続的であるため、コア部14の横断面では、コア部14の中心から放射状にかつ連続的に屈折率が低下するという2次元の屈折率分布が形成されている。このような光導波路1は、特に伝送損失の小さいものとなる。なお、この屈折率分布Wと屈折率分布Tは、分布を形成するための屈折率変化の原理が異なっている。具体的には、屈折率分布Wは、モノマーの拡散移動に伴って形成されており、一方、屈折率分布Tは、多色押出成形により形成されている。このように原理が異なっていると、一方の屈折率分布を形成しようとしたときに、他方の屈折率分布がその影響を受けてしまい、目的とする分布を形成することができないという不具合が生じるのを防止することができる。具体的には、上述したように屈折率変化の原理が異なれば、例えば、屈折率分布Wの形成には活性放射線の照射を伴う一方、屈折率分布Tの形成には必ずしも活性放射線の照射を必要としない、ということが挙げられる。この場合、光導波路形成用組成物902第2の組成物には、反応媒体例えばモノマー、離脱性基等を含む必要がないため、屈折率等の光学的特性やその他の化学的特性等を最優先に、各組成の選択を自由に行うことができる。これにより、屈折率分布T内における屈折率差を十分に拡大することができ、光を閉じ込める作用がさらに増強される。その結果、とりわけ伝送損失の小さい光導波路1が得られる。さらには、光導波路1は、その幅方向における屈折率分布Wがモノマーの拡散移動に伴って形成され、厚さ方向における屈折率分布Tが多色押出成形により形成されているため、コア層13とクラッド層11、12との層間、あるいは、コア部14と側面クラッド部15との界面には、従来の方法で製造された光導波路に比べて異物や気泡、構造欠陥等の散乱要因が介在し難い。このような散乱要因の介在が確実に防止されることで、光導波路1は、より低損失なものとなる。加えて、上記散乱要因は、界面の光学的な密着を妨げるものであるため、かかる界面の密着性が高くなるという観点からも、光導波路1の伝送効率を高めることが可能になる。<第2の製造方法>次に、光導波路1の第2の製造方法光導波路形成用フィルムの第2の製造方法を含む。について説明する。以下、第2の製造方法について説明するが、前記第1の製造方法との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。第2の製造方法では、光導波路形成用組成物901の組成が異なる以外は、第1の製造方法と同様である。光導波路1の第2の製造方法は、[1]支持基板951上に2種類の光導波路形成用組成物901、902第1の組成物および第2の組成物を層状に押出成形して層910を得る。[2]次いで、層910の一部に活性放射線を照射した後、層910に加熱処理を施すことで屈折率差を生じさせ、コア部14と側面クラッド部15とを形成したコア層13を得るとともに光導波路1を得る。以下、各工程について順次説明する。[1]まず、光導波路形成用組成物901を用意する。第2の製造方法で用いられる光導波路形成用組成物901は、重合開始剤に代えて、触媒前駆体および助触媒を含有している。触媒前駆体は、モノマー反応媒体の反応重合反応、架橋反応等を開始させ得る物質であり、活性放射線の照射により活性化した助触媒の作用により、活性化温度が変化する物質である。この活性化温度の変化により、活性放射線の照射領域9253と未照射領域9403との間で、モノマーの反応を開始させる温度に差が生じ、その結果、照射領域9253のみにおいてモノマーを反応させることができる。触媒前駆体プロカタリスト:procatalystとしては、活性放射線の照射に伴って活性化温度が変化上昇または低下するものであれば、いかなる化合物を用いてもよいが、特に、活性放射線の照射に伴って活性化温度が低下するものが好ましい。これにより、比較的低温による加熱処理でコア層13光導波路1を形成することができ、他の層に不要な熱が加わって、光導波路1の特性光伝送性能が低下するのを防止することができる。このような触媒前駆体としては、下記式IaおよびIbで表わされる化合物の少なくとも一方を含む主とするものが好適に用いられる。[式Ia、Ib中、それぞれ、ER3は、第15族の中性電子ドナー配位子を表し、Eは、周期律表の第15族から選択される元素を表し、Rは、水素原子またはその同位体の1つまたは炭化水素基を含む部位を表し、Qは、カルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子を表す。また、式Ib中、LBは、ルイス塩基を表し、WCAは、弱配位アニオンを表し、aは、1~3の整数を表し、bは、0~2の整数を表し、aとbとの合計は、1~3であり、pおよびrは、パラジウムカチオンと弱配位アニオンとの電荷のバランスをとる数を表す。]式Iaに従う典型的な触媒前駆体としては、PdOAc2Pi-Pr32、PdOAc2PCy32、PdO2CCMe32PCy32、PdOAc2PCp32、PdO2CCF32PCy32、PdO2CC6H53PCy32が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。ここで、Acは、アセチル基を表し、i-Prは、イソプロピル基を表し、Meは、メチル基を表し、Cpは、シクロペンチルcyclopentyl基を表し、Cyは、シクロヘキシル基を表す。また、式Ibで表される触媒前駆体としては、pおよびrが、それぞれ1および2の整数から選択される化合物が好ましい。このような式Ibに従う典型的な触媒前駆体としては、PdOAc2PCy32が挙げられる。ここで、Cyは、シクロヘキシル基を表し、Acは、アセチル基を表す。これらの触媒前駆体は、モノマーを効率よく反応ノルボルネン系モノマーの場合、付加重合反応によって効率よく重合反応や架橋反応等することができる。また、触媒前駆体としては、活性化温度が低下した状態活性潜在状態において、その活性化温度が本来の活性化温度よりも10~80°C程度好ましくは、10~50°C程度低くなるものが好ましい。これにより、コア部14と側面クラッド部15との間の屈折率差を確実に生じさせることができる。かかる触媒前駆体としては、PdOAc2Pi-Pr32およびPdOAc2PCy32のうちの少なくとも一方を含む主とするものが好適である。助触媒は、活性放射線の照射によって活性化して、前記の触媒前駆体プロカタリストの活性化温度モノマーに反応を生じさせる温度を変化させ得る物質である。この助触媒コカタリスト:cocatalystとしては、活性放射線の照射により、その分子構造が変化反応または分解して活性化する化合物であれば、いかなるものでも用いることができるが、特定波長の活性放射線の照射によって分解し、プロトンや他の陽イオン等のカチオンと、触媒前駆体の離脱性基に置換し得る弱配位アニオンWCAとを発生する化合物光開始剤を含む主とするものが好適に用いられる。弱配位アニオンとしては、例えば、テトラキスペンタフルオロフェニルホウ酸イオンFABA-、ヘキサフルオロアンチモン酸イオンSbF6-等が挙げられる。この助触媒光酸発生剤または光塩基発生剤としては、例えば、下記式で表されるテトラキスペンタフルオロフェニルホウ酸塩やヘキサフルオロアンチモン酸塩の他、テトラキスペンタフルオロフェニルガリウム酸塩、アルミン酸塩類、アンチモン酸塩類、他のホウ酸塩類、ガリウム酸塩類、カルボラン類、ハロカルボラン類等が挙げられる。このような助触媒の市販品としては、例えば、ニュージャージ州クランベリーのRhodiaUSA社から入手可能なRHODORSIL登録商標、以下同様である。PHOTOINITIATOR2074CAS番号第178233-72-2番、日本国東京の東洋インキ製造株式会社から入手可能なTAG-372Rジメチル2-2-ナフチル-2-オキソエチルスルフォニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート:CAS番号第193957-54-9番、日本国東京のみどり化学株式会社から入手可能なMPI-103CAS番号第87709-41-9番、日本国東京の東洋インキ製造株式会社から入手可能なTAG-371CAS番号第193957-53-8番、日本国東京の東洋合成工業株式会社から入手可能なTTBPS-TPFPBトリス4-tert-ブチルフェニルスルフォニウムテトラキスペンタペンタフルオロフェニルボレート、日本国東京のみどり化学工業株式会社より入手可能なNAI-105CAS番号第85342-62-7番等が挙げられる。なお、助触媒として、RHODORSILPHOTOINITIATOR2074を用いる場合、後述する活性放射線化学線としては、紫外線UV光が好適に用いられ、紫外線の照射手段としては、水銀灯高圧水銀ランプが好適に用いられる。これにより、層910に対して、300nm未満の十分なエネルギーの紫外線活性放射線を供給することができ、RHODORSILPHOTOINITIATOR2074を効率よく分解して、上記のカチオンおよびWCAを発生させることができる。[2][2-1]次に、第1の製造方法と同様に、マスク935を介して層910に活性放射線930を照射する。照射領域9253では、助触媒が活性放射線930の作用により反応結合または分解して、カチオンプロトンまたは他の陽イオンと、弱配位アニオンWCAとを遊離発生する。そして、これらのカチオンや弱配位アニオンは、照射領域9253内に存在する触媒前駆体の分子構造に変化分解を生じさせ、これを活性潜在状態潜在的活性状態に変化させる。ここで、活性潜在状態または潜在的活性状態の触媒前駆体とは、本来の活性化温度より活性化温度が低下しているが、温度上昇がないと、すなわち、室温程度では、照射領域9253内においてモノマーの反応を生じさせることができない状態にある触媒前駆体のことをいう。したがって、活性放射線930照射後においても、例えば-40°C程度で、層910を保管すれば、モノマーの反応を生じさせることなく、その状態を維持することができる。このため、活性放射線930照射後の層910を複数用意しておき、これらに一括して後述する加熱処理を施すことにより、光導波路1を得ることができ、利便性が高い。また、上記のような触媒前駆体の分子構造の変化に加え、第1の製造方法と同様、ポリマー915から離脱性基が離脱する。これにより、層910の照射領域9253と未照射領域9403との間に屈折率差が生じる。[2-2]次に、層910に対して加熱処理第1の加熱処理を施す。これにより、照射領域9253内では、活性潜在状態の触媒前駆体が活性化して活性状態となって、モノマーの反応重合反応や架橋反応が生じる。そして、モノマーの反応が進行すると、照射領域9253内におけるモノマー濃度が徐々に低下する。これにより、照射領域9253と未照射領域9403との間には、モノマー濃度に差が生じ、これを解消すべく、未照射領域9403からモノマーが拡散移動して照射領域9253に集まってくる。その結果、層910には、第1の製造方法と同様の屈折率分布が形成される。この加熱処理における加熱温度は、特に限定されないが、30~80°C程度であるのが好ましく、40~60°C程度であるのがより好ましい。また、加熱時間は、照射領域9253内におけるモノマーの反応がほぼ完了するように設定するのが好ましく、具体的には、0.1~2時間程度であるのが好ましく、0.1~1時間程度であるのがより好ましい。次に、層910に対して第2の加熱処理を施す。これにより、未照射領域9403および/または照射領域9253に残存する触媒前駆体を、直接または助触媒の活性化を伴って、活性化させる活性状態とすることにより、各領域9253、9403に残存するモノマーを反応させる。このように、各領域9253、9403に残存するモノマーを反応させることにより、得られるコア部14および側面クラッド部15の安定化を図ることができる。この第2の加熱処理における加熱温度は、触媒前駆体または助触媒を活性化し得る温度であればよく、特に限定されないが、70~100°C程度であるのが好ましく、80~90°C程度であるのがより好ましい。また、加熱時間は、0.5~2時間程度であるのが好ましく、0.5~1時間程度であるのがより好ましい。次に、層910に対して第3の加熱処理を施す。これにより、得られるコア層13に生じる内部応力の低減や、コア部14および側面クラッド部15の更なる安定化を図ることができる。この第3の加熱処理における加熱温度は、第2の加熱処理における加熱温度より20°C以上高く設定するのが好ましく、具体的には、90~180°C程度であるのが好ましく、120~160°C程度であるのがより好ましい。また、加熱時間は、0.5~2時間程度であるのが好ましく、0.5~1時間程度であるのがより好ましい。以上の工程を経て、光導波路1が得られる。なお、例えば、第2の加熱処理や第3の加熱処理を施す前の状態で、コア部14と側面クラッド部15との間に十分な屈折率差が得られている場合等には、第2の加熱処理以降または第3の加熱処理を省略してもよい。<第3の製造方法>次に、光導波路1の第3の製造方法光導波路形成用フィルムの第3の製造方法を含む。について説明する。図16、17は、図1に示す光導波路1の第3の製造方法を説明するための図である。なお、以下の説明では、図16中の上側を上、下側を下という。以下、第3の製造方法について説明するが、前記第1の製造方法との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。第3の製造方法では、光導波路形成用組成物901の組成が異なるとともに、活性放射線930の照射方法が異なる以外は、第1の製造方法と同様である。光導波路1の第3の製造方法は、[1]支持基板951上に2種類の光導波路形成用組成物901、902第1の組成物および第2の組成物を層状に押出成形して層910本発明の光導波路形成用フィルムを得る。[2]次いで、層910の一部に、照射量に勾配を設けつつ活性放射線を照射することで屈折率差を生じさせ、光導波路1を得る。以下、各工程について順次説明する。[1]まず、光導波路形成用組成物901を用意する。第3の製造方法で用いられる光導波路形成用組成物901は、モノマーの添加が省略されている以外、第1の製造方法で用いられる光導波路形成用組成物901と同様である。すなわち、光導波路形成用組成物901では、ポリマー915が含む離脱性基が反応媒体として作用する。離脱性基を含むポリマー915は、前述したようなものが挙げられるが、この他に、例えば、下記に示すようなポリシラン化合物等が挙げられる。上記式中、nは5~500程度である。このようなポリシラン化合物では、活性放射線930の照射に伴ってSi-Si結合が切断され、Si-O結合に変化する。この際、屈折率の低下を伴うため、これにより、層910の活性放射線930の照射領域では屈折率を下げることができる。さらに、離脱性基を含むポリマー915は、光異性化反応または光二量化反応を生じるポリマー915で代替することもできる。光異性化反応を生じるポリマー915としては、例えば、アゾベンゼン構造等の反応媒体を有する化合物等が挙げられる。このような化合物は、活性放射線930の照射を行うと、照射領域と未照射領域との間でアゾベンゼン構造のトランス体とシス体との存在比が変化する光異性化。トランス体とシス体は屈折率が異なるため、この光異性化により屈折率差を形成することができる。一方、光二量化反応を生じるポリマー915としては、例えば、シンナモイル基、ジメチルマレイミド基、クマリン基等の反応媒体を有する化合物等が挙げられる。これらは、活性放射線930のエネルギーを吸収して励起され、二量化して分子間に架橋が生じる。これにより、屈折率が変化するため、照射領域と未照射領域との間で屈折率差を形成することができる。なお、光異性化反応および光二量化反応では、反応媒体の種類に応じて反応前後で屈折率が上昇または低下する。したがって、反応媒体の種類により、活性放射線930の照射領域を適宜設定すればよい。一方、光導波路形成用組成物902に含まれるポリマー915には、例えば、上記ポリシラン化合物より屈折率の小さいシリコーン樹脂等を用いられる。このシリコーン樹脂には、離脱性基を含まないため、活性放射線930の照射により屈折率の変化が生じない。以上のような光導波路形成用組成物901、902を用いて層910が形成される。[2]次に、開口窓9351が形成されたマスクマスキング935を用意し、このマスク935を介して、層910に対して活性放射線930を照射する図16参照。ここで、本製造方法では、マスク935として所定の透過率分布を有するマスクを用いる。このようなマスクは、一般にグレースケールマスクと呼ばれている。グレースケールマスクは、開口における透過率が勾配を有しており、それに応じて透過放射線の透過量、すなわち層910に対する照射量に所定の分布を形成することのできるマスクである。このようなマスクを用いることで、層910には所定の照射量分布が形成され、その照射量分布に応じてポリマー915における離脱性基の離脱量や、光異性化反応および光二量化反応の反応量を制御し、ひいては屈折率の変化量を制御することができる。したがって、層910のうち、屈折率を大きく変化させたい大きく低下または上昇させたい領域については、多くの活性放射線930が照射されるよう、開口9351における透過率が設定されたマスク935を用いるようにすればよい。また、このようなマスク935は、開口9351における透過率が連続的に変化し、それに応じて屈折率の変化量も連続的に変化するよう構成されている。これにより、上述したような屈折率分布Wを有する光導波路1を容易に製造することができる。換言すれば、層910を用いることにより、所定の透過率分布を有するマスク935を介して活性放射線930を照射しさえすれば、屈折率分布Wを有する光導波路1を極めて容易に製造することができる。このようなグレースケールマスクとしては、例えば、開口9351が微小な開口の集合体で構成され、かつ、集合体中における微小な開口の密度に分布が形成されているものや、透過性基板上に不透過性被膜が形成されたものであって、不透過性被膜の厚さに分布が形成されているもの、等が挙げられる。このうち、前者のグレースケールマスクの一例では、ドット状あるいはライン状の微小な開口が多数形成されており、その配設密度には勾配が設けられている。なお、配設密度とは、グレースケールマスクの単位面積において微小な開口が占める割合で規定され、ドット状のものではその径と間隔を調整することで勾配を設けることができ、一方、ライン状のものではそのラインアンドスペースを調整することで勾配を設けることができる。また、後者のグレースケールマスクの一例では、透過性基板ガラス基板等の表面に被膜が形成され、この被膜の厚さには勾配が設けられている。被膜としては、例えば、Al、Cr、Ni、Au、Ag、Cu等の各種金属系被膜、グラファイトのような各種炭素系被膜、Si等の各種シリコン系被膜等が挙げられる。なお、これらの被膜は、いかなる方法で成膜されたものでもよいが、成膜法としては、例えば、真空蒸着、スパッタリング等の物理的蒸着法、CVD等の化学的蒸着法、電界めっき、無電解めっき等の各種めっき法等が挙げられる。また、被膜の厚さに勾配を形成するためには、例えば、透過性基板上に一様に被膜を形成した後、フォトリソグラフィー法とエッチング法とを用いて部分的に被膜を除去したり、成膜時に透過性基板上にマスクを配置し、部分的に成膜量を小さくするなどすればよい。また、1枚のグレースケールマスクに代えて、一律の透過率分布を有する複数枚のマスクを積層した積層マスクを用いるようにしてもよい。複数枚のマスクでは、開口9351の透過率、開口9351の形状等の条件が異なっている。そして、これらのマスクを積層することで、各マスクの開口9351の条件が合成され、所望の透過率分布を形成することができる。したがって、積層されるマスクの枚数は、多ければ多いほど複雑な透過率分布にも対応可能であるが、一般的には3枚以上であるのが好ましく、5枚以上であるのがより好ましい。さらに、これらの複数枚のマスクは、積層するのではなく、各マスクを順次個別に用いるようにしてもよい。各マスクに順次、活性放射線930を照射することで、層910の同一の部分における積算の照射量は、マスクを積層した場合と同様になる。その結果、積層マスクを用いなくても、所望の複雑な透過率分布を形成することができる。また、マスク935が光導波路1の長手方向全部を覆うような大きさを有している場合、層910とマスク935とを固定した状態で活性放射線930を一度照射すれば本工程が完了するものの、それより小さい場合には、形成しようとするコア部14または側面クラッド部15の形状に応じて、層910に対してマスク935を相対的に走査しつつ活性放射線930を照射すればよい。この場合、マスク935は、層910に形成しようとするコア部14の平面視中心線または側面クラッド部15の平面視中心線に沿って走査すれば、前記各形態における屈折率分布Wを形成することができる。なお、この場合には、前述したようなグレースケールマスクではなく、透過率が一律な開口9351を有するマスクを用いることができる。そして、マスク935の開口9351の形状は、平面視中心線図17では、マスク935を走査する線SLに一致している。に対して線対称の形状であるのが好ましい。これにより、層910に対して照射される活性放射線930の積算の照射量分布が平面視中心線に対して線対称の分布になる。そして、層910に形成される屈折率分布Wも平面視中心線に対して線対称の分布になる。その結果、コア部14の中心に光を確実に閉じ込めることのできる光導波路1が得られる。なお、この場合には、開口9351の平面視形状は、前記平面視中心線から離れるほど透過率開口率が連続的に小さくなるまたは大きくなるよう構成されている。これにより、層910に対して照射される活性放射線930の積算の照射量分布が平面視中心線から離れるほど連続的に小さくなるまたは大きくなる。その結果、屈折率分布Wも屈折率が連続的に変化したものとなり、前述したような光導波路1を容易に製造することができる。このような条件を満たす開口9351の平面視形状としては、例えば、真円、楕円、長円のような円形、正三角形、二等辺三角形のような三角形、菱形図17a参照、正方形のような四角形、正多角形等が挙げられる。これらの形状は、いずれも線対称の形状であり、かつ、線対称の中心線から離れるほどその面積が連続的に小さくなる形状である。一方、線対称の形状であり、かつ、線対称の中心線から離れるほどその面積が連続的に大きくなる形状としては、例えば、図17bに示すような形状が挙げられる。なお、活性放射線930がレーザーや電子線のように指向性が高いものである場合、マスク935の使用を省略することができる。この場合、層910に対して走査しつつ活性放射線930を照射すればよいが、活性放射線930のビームの横断面形状についても、前述したマスク935の開口9351の平面視形状と同様、線対称の形状であり、かつ、線対称の中心線から離れるほどその面積が連続的に小さくなるまたは大きくなる形状であるのが好ましい。これにより、活性放射線930を単に走査しさえすれば、前述したような光導波路1を容易に製造することができる。<電子機器>上述したような本発明の光導波路の製造方法により製造された光導波路1は、光伝送効率および長期信頼性に優れたものである。このため、光導波路1を備えることにより、2点間で高品質の光通信を行い得る信頼性の高い電子機器が得られる。このような電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、WDM装置、パソコン、テレビ、ホームサーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が期待できる。さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。また、光導波路1は、伝送損失およびパルス信号の鈍りが小さく、多チャンネル化および高密度化しても混信が生じ難い。このため、高密度かつ小面積でも信頼性の高い光導波路が得られ、この光導波路を搭載することで、電子機器の信頼性向上および小型化が図られる。以上、本発明の光導波路形成用フィルムの製造方法、光導波路の製造方法および光導波路形成用フィルムについて説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、例えば光導波路には、任意の構成物が付加されていてもよい。また本願のフィルムは、ドライフィルムであってもよい。また、本発明の光導波路を製造する方法は、上記の方法に限定されず、例えば、活性放射線の照射により分子結合を切断し、屈折率を変化させる方法フォトブリーチ法、コア層を形成する組成物に光異性化または光二量化可能な不飽和結合を有する光架橋性ポリマーを含有させ、これに活性放射線を照射して分子構造を変化させるとともに屈折率を変化させる方法光異性化法光二量化法等の方法を用いることもできる。これらの方法では、活性放射線の照射量に応じて屈折率の変化量を調整することができるので、目的とする屈折率分布Wの形状に応じて層の各部に照射する活性放射線の照射量を異ならせることにより、屈折率分布Wを有するコア層を形成することができる。次に、本発明の実施例について説明する。1.光導波路の製造実施例11離脱性基を有するノルボルネン系樹脂の合成水分および酸素濃度がいずれも1ppm以下に制御され、乾燥窒素で満たされたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネンHxNB7.2g40.1mmol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン12.9g40.1mmolを500mLバイアル瓶に計量し、脱水トルエン60gと酢酸エチル11gを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。次に、100mLバイアルビン中に下記化学式Aで表わされるNi触媒1.56g3.2mmolと脱水トルエン10mLを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。この下記化学式Aで表わされるNi触媒溶液1mLをシリンジで正確に計量し、上記2種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で1時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフランTHF60gを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。100mLビーカーに無水酢酸9.5g、過酸化水素水18g濃度30、イオン交換水30gを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて12時間撹拌してNiの還元処理を行った。次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの30水溶液を100mL加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で3回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、60°Cに設定した真空乾燥機中で12時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー1を得た。ポリマー1の分子量分布は、GPC測定により、Mw=10万、Mn=4万であった。また、ポリマー1中の各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、ヘキシルノルボルネン構造単位が50mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が50molであった。2光導波路形成用組成物第1の組成物の製造精製した上記ポリマー110gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076チバガイギー社製0.01g、シクロヘキシルオキセタンモノマー式20で示したモノマー、東亜合成製CHOX、CAS483303-25-9、分子量186、沸点125°C/1.33kPa2g、重合開始剤光酸発生剤RhodorsilPhotoinitiator2074Rhodia社製、CAS178233-72-225E2g、酢酸エチル0.1mL中を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄な光導波路形成用組成物を得た。3光導波路形成用組成物第2の組成物の製造精製した上記ポリマー1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位80mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位20molにそれぞれ変更したものを、前記ポリマー1に代えて用いるようにした以外は第1の組成物と同様にして光導波路形成用組成物を得た。4光導波路の製造まず、図9に示すダイコーターの構造を変更し、第1の供給管および第2の供給管の各分岐数を増やしたダイコーターを用意した。そして、このダイコーターにより、製造した光導波路形成用組成物を用いて、ポリエーテルスルホンPESフィルム上に多色押出成形を行った。これにより、第1の組成物を第1層、第3層および第5層とし、第2の組成物を第2層および第4層とする多色成形体を得た。これを45°Cの乾燥器に15分間投入し、溶剤を完全に除去して、図5に示すような屈折率分布Tを有する光導波路形成用フィルムを得た。次いで、光導波路形成用フィルムにフォトマスクを圧着して紫外線を1000mJ/cm2で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中で150°C、1.5時間の加熱を行った。加熱後、鮮明な導波路パターンが現れており、コア部および側面クラッド部が形成されているのが確認された。その後、得られた光導波路から、長さ10cm分を切り出した。なお、形成された光導波路は、コア部が8本並列に形成されたものである。また、コア部の幅を50μm、側面クラッド部の幅を80μm、光導波路の厚さを100μmとした。屈折率分布の評価そして、得られた光導波路のコア層の横断面について、その厚さ方向の中心線に沿って干渉顕微鏡により幅方向の屈折率分布Wを取得した。その結果、屈折率分布Wは、複数の極小値および極大値を有し、屈折率が連続的に変化したものであった。一方、光導波路の横断面について、そのコア部の幅の中心を上下方向に通過する中心線に沿って干渉顕微鏡により厚さ方向の屈折率分布Tを取得した。その結果、屈折率分布Tは、その中央部に屈折率が連続的に変化している領域と、その両側に、前記領域より屈折率が低く、かつほぼ一定の値の領域を有していた。すなわち、得られた光導波路の厚さ方向の屈折率分布Tは、いわゆるグレーデッドインデックス型になっていた。実施例2紫外線の照射量を1500mJ/cm2に高めた以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。実施例3紫外線の照射量を2000mJ/cm2に高めるとともに、ポリマーとして、ポリマー1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位が40mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が60molに変更したものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。実施例4紫外線の照射量を500mJ/cm2に減らすとともに、ポリマーとして、ポリマー1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位が45mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が55molに変更したものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。実施例5ポリマーとして、ポリマー1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位が30mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が70molに変更したものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。実施例6紫外線の照射量を300mJ/cm2に減らすとともに、ポリマーとして、ポリマー1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位が40mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が60molに変更したものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。実施例7紫外線の照射量を500mJ/cm2に減らすとともに、ポリマーとして、ポリマー1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位が30mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が70molに変更したものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。実施例8紫外線の照射量を100mJ/cm2に減らすとともに、ポリマーとして、ポリマー1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位が60mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が40molに変更したものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。実施例9紫外線の照射量を1500mJ/cm2に高めるとともに、ポリマーとして、ポリマー1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位が10mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が90molに変更したものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。実施例10紫外線の照射量を3000mJ/cm2に高めるとともに、ポリマーとして、ポリマー1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位が5mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が95molに変更したものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。実施例11光導波路形成用組成物第1の組成物として、以下に示す方法で製造されたものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。精製した上記ポリマー110gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076チバガイギー社製0.01g、2官能オキセタンモノマー式15で示したもの、東亜合成製、DOX、CAS18934-00-4、分子量214、沸点119°C/0.67kPa2g、光酸発生剤RhodorsilPhotoinitiator2074Rhodia社製、CAS178233-72-225E2g、酢酸エチル0.1mL中を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄な光導波路形成用組成物を得た。実施例12光導波路形成用組成物第1の組成物として、以下に示す方法で製造されたものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。精製した上記ポリマー110gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076チバガイギー社製0.01g、脂環式エポキシモノマー式37で示したもの、ダイセル化学製、セロキサイド2021P、CAS2386-87-0、分子量252、沸点188°C/4hPa2g、光酸発生剤RhodorsilPhotoinitiator2074Rhodia社製、CAS178233-72-225E2g、酢酸エチル0.1mL中を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄な光導波路形成用組成物を得た。実施例13光導波路形成用組成物第1の組成物として、以下に示す方法で製造されたものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。精製した上記ポリマー110gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076チバガイギー社製0.01g、シクロヘキシルオキセタンモノマー式20で示したもの、東亜合成製CHOX1g、脂環式エポキシモノマーダイセル化学製、セロキサイド2021P1g、光酸発生剤RhodorsilPhotoinitiator2074Rhodia社製、CAS178233-72-225E2g、酢酸エチル0.1mL中を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄な光導波路形成用組成物を得た。実施例14ポリマーとして、以下に示す方法で合成されたものを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。まず、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン12.9g40.1mmolに代えて、フェニルジメチルノルボルネンメトキシシラン10.4g40.1mmolを用いた以外は実施例1と同様にしてポリマーを合成した。得られたポリマーの構造単位を下記式103に示す。このポリマーの分子量は、GPC測定により、Mw=11万、Mn=5万であった。また、各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、ヘキシルノルボルネン構造単位が50mol、フェニルジメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が50molであった。実施例15光導波路形成用組成物第2の組成物に代えて、以下に示す方法で合成した光導波路形成用組成物第3の組成物を用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。1オキセタン系樹脂の合成シクロヘキシルオキセタンモノマー前記式20で示したモノマー、東亜合成製CHOX、CAS483303-25-9、分子量186、沸点125°C/1.33kPa50gを300mLセパラブルフラスコ瓶に計量し、メシチレン50gを入れ密栓した。次に、水分および酸素濃度がいずれも1ppm以下に制御され、乾燥窒素で満たされたグローブボックス中において、100mLバイアルビン中に下記化学式Dで表わされる触媒0.40g0.5mmolと酢酸エチル20mLとを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。この下記化学式Dで表わされる触媒溶液12.5mLをシリンジで正確に計量し、上記オキセタンモノマーを溶解させたフラスコ中に定量的に注入し60°Cで1時間半撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認され、反応溶液を得た。上記反応溶液とイオン交換樹脂オルガノ社製、EG-290-HG50gを加えて30分撹拌し、濾過を行うことで触媒の除去を行い、ポリマー溶液を得た。2光導波路形成用組成物第3の組成物の製造次いで、得られたポリマー溶液を3g加える以外は、第1の組成物と同様にして光導波路形成用組成物第3の組成物を得た。実施例16紫外線の照射量を500mJ/cm2に減らした以外は、実施例15と同様にして光導波路を得た。実施例17シクロヘキシルオキセタンモノマーを省略してなる光導波路形成用組成物第1の組成物を用いるとともに、光導波路形成用組成物第2の組成物に代えてプロメラス社製Avatrel2000Pワニスを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。なお、得られた光導波路では、コア部の屈折率がほぼ一定であり、側面クラッド部の屈折率もほぼ一定であった。すなわち、得られた光導波路のコア層の幅方向の屈折率分布Wは、いわゆるステップインデックスSI型になっていた。実施例18露光の際に、露光量が連続的に変化するよう、透過率が連続的に変化したフォトマスクを用いて露光するようにした以外は、実施例17と同様にして光導波路を得た。なお、得られた光導波路では、側面クラッド部の屈折率がほぼ一定である一方、コア部の屈折率は中央部から周辺に向かって連続的に低下していた。すなわち、得られた光導波路のコア層の屈折率分布Wは、いわゆるグレーデッドインデックスGI型になっていた。実施例19露光の際に、露光量が連続的に変化するよう、透過率が連続的に変化したフォトマスクを用いて露光するようにした以外は、実施例17と同様にして光導波路を得た。なお、得られた光導波路では、屈折率分布Wが複数の極小値および極大値を有し、コア部の屈折率は中央部から周辺に向かって連続的に低下し、極小値に至っており、一方、側面クラッド部では極小値から離れるにつれて屈折率が連続的に増加していた。なお、極小値では、屈折率分布Wの形状が略V字状をなしており、その近傍における屈折率の変化は不連続的であった。実施例20ダイコーターとして図9に示すダイコーターを用いるようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路形成用フィルムを得るとともに光導波路を得た。なお、得られた光導波路では、屈折率分布Tが、いわゆるグレーテッドインデックス型になっていた。比較例1比較例1では、以下のように組成の異なる材料を多数回積層し、光導波路形成用フィルムを形成するようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。ポリエーテルスルホンPESフィルム上に、光導波路形成用組成物第1の組成物と光導波路形成用組成物第2の組成物とを、重量比で25:75となるようにして混合し、これをドクターブレードによって均一に塗布した後、45°Cの乾燥機に15分間投入した。溶剤を完全に除去した後、塗布された全面に紫外線を100mJ照射し、乾燥機中120°Cで1時間加熱して、塗膜を硬化させた。これにより、平均厚さ5μmの第1層を形成した。次に、光導波路形成用組成物第2の組成物のみを第1層上に塗布し、その後硬化させた。これにより、平均厚さ10μmの第2層を形成した。次に、光導波路形成用組成物第1の組成物と光導波路形成用組成物第2の組成物との混合比を25:75に変更して第3層平均厚さ5μmを形成した。その後、混合比を、50:50、75:25に変更して、第4層平均厚さ5μm、第5層平均厚さ5μmを形成した。次いで、光導波路形成用組成物第1の組成物のみを第5層上に塗布し、その後硬化させた。これにより、平均厚さ5μmの第6層を形成した。次に、混合比を75:25、50:50、25:75に変更して、第7層平均厚さ5μm、第8層平均厚さ5μm、第9層平均厚さ5μmを形成した。次に、光導波路形成用組成物第2の組成物のみを第9層上に塗布し、その後硬化させた。これにより、平均厚さ10μmの第10層を形成した。次に、混合比を25:75に変更して、平均厚さ5μmの第11層を形成した。以上のようにして光導波路形成用フィルムを得た。2.評価2.1光導波路形成用フィルムおよび光導波路の屈折率分布得られた光導波路のコア層の横断面について、その厚さ方向の中心線に沿って屈折ニアフィールド法により屈折率分布を測定し、コア層の横断面の幅方向の屈折率分布を得た。なお、得られた屈折率分布は、コア部ごとに同様の屈折率分布パターンが繰り返されているので、得られた屈折率分布から一部を切り出し、これを屈折率分布Wとした。屈折率分布Wの形状は、図3に示すような、4つの極小値と5つの極大値とが交互に並んだ形状であった。そして、得られた屈折率分布Wから、各極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4および各極大値Wm1、Wm2、Wm3、Wm4、Wm5を求めるとともに、クラッド部における平均屈折率WAを求めた。また、屈折率分布Wにおいて、コア部に形成された極大値Wm2、Wm4近傍における屈折率が、平均屈折率WA以上の値を有している部分の幅a[μm]、および、各極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4近傍における屈折率が、平均屈折率WA未満の値を有している部分の幅b[μm]をそれぞれ測定した。また、得られた光導波路の横断面について、そのコア部の幅の中心を上下方向に通過する中心線に沿って干渉顕微鏡により屈折率分布を測定し、光導波路の横断面の厚さ方向の屈折率分布Tを得た。さらに、光導波路の形成に用いた光導波路形成用フィルムについても、その横断面の厚さ方向に沿って干渉顕微鏡より屈折率分布を測定し、光導波路形成用フィルムの厚さ方向の屈折率分布を得た。以上の結果を表1、2に示す。その結果、各実施例で得られた光導波路の屈折率分布Wは、それぞれ、その全体において屈折率の変化が連続的であった。一方、各実施例で得られた光導波路の屈折率分布Tは、それぞれ、図5に示すような、2つの極小値とその間に位置する1つの極大値とを有し、屈折率が連続的に変化したものであった。また、実施例17で得られた光導波路の屈折率分布Wは、上述したように、ステップインデックス型であり、一方、屈折率分布Tは、図5に示すような、2つの極小値とその間に位置する1つの極大値とを有し、屈折率が連続的に変化したものであった。また、実施例18で得られた光導波路の屈折率分布Wは、上述したように、グレーテッドインデックス型であり、一方、屈折率分布Tは、図5に示すような、2つの極小値とその間に位置する1つの極大値とを有し、屈折率が連続的に変化したものであった。さらに、実施例19で得られた光導波路の屈折率分布Wは、複数の極小値および極大値を有し、かつ、コア部と側面クラッド部との間で屈折率が不連続的に変化しており、一方、屈折率分布Tは、図5に示すような、2つの極小値とその間に位置する1つの極大値とを有し、屈折率が連続的に変化したものであった。また、実施例20で得られた光導波路の屈折率分布Wは、各実施例で得られた光導波路の屈折率分布Wと同等の形状であり、一方、屈折率分布Tの形状は、図2に示すような、いわゆるグレーテッドインデックス型の形状であった。これに対し、比較例1で得られた光導波路の屈折率分布Wは、各実施例で得られた光導波路の屈折率分布Wと同等の形状であり、一方、屈折率分布Tの形状は、大まかには、図5に示すような、2つの極小値の間に1つの極大値が並んだ形状であったが、屈折率の変化が連続的ではなく、不連続的に変化していた。また、上記の各実施例では、フォトマスクを固定した状態で紫外線の照射を行ったが、実施例17~20について光導波路形成用フィルムの長さより小さいフォトマスクを走査しつつ紫外線の照射を行った場合、あるいは、フォトマスクの使用を省略し、指向性の高い紫外線レーザーを走査することで照射を行った場合についても、上述した実施例17~20と同様の結果となった。なお、このとき、フォトマスクの窓部の形状および紫外線レーザーのビーム横断面形状は、それぞれ、走査の経路の中心線に対して線対称の形状であり、かつ、その形状の面積は対称線から離れるほど連続的に大きくなるよう設定した。さらに、実施例18~20については、1枚のフォトマスクに代えて、同様の透過特性を有する3枚の積層フォトマスクを用いたが、それぞれ実施例18~20と同様の結果が得られた。2.2光導波路の伝送損失850nmVCSEL面発光レーザーより発せられた光を50μmφの光ファイバーを経由して得られた光導波路に導入し、200μmφの光ファイバーで受光を行って光の強度を測定した。なお、測定にはカットバック法を採用した。光導波路の長手方向を横軸にとり、挿入損失を縦軸にとって測定値をプロットしたところ、測定値は直線上に並んだ。そこで、その直線の傾きから伝送損失を算出した。2.3パルス信号の波形の保持性得られた光導波路に対して、レーザーパルス光源からパルス幅1nsのパルス信号を入射し、出射光のパルス幅を測定した。そして、測定した出射光のパルス幅について、比較例1で得られた光導波路ステップインデックス型の光導波路の測定値を1としたときの相対値を算出し、これを以下の評価基準にしたがって評価した。<パルス幅の評価基準>◎:パルス幅の相対値が0.5未満である○:パルス幅の相対値が0.5以上0.8未満である△:パルス幅の相対値が0.8以上1未満である×:パルス幅の相対値が1以上である以上、2.2および2.3の評価結果を表3に示す。一方、比較例1で得られた光導波路については、層内におけるクロストークの発生を実施例1の場合と同程度に抑えられるのに対し、層間においてはクロストークの発生が認められた。"