"式I:式中、Rは、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ハロ低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキル、ハロ低級アルコキシ低級アルキル、アシルオキシ低級アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、場合により置換されたアルケニル、場合により置換されたアルキニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、場合により置換されたアルケニルオキシ、場合により置換されたアルキニルオキシ、シクロアルコキシ、ハロ低級アルコキシ、シクロアルキル低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、ヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリル低級アルコキシ、場合により置換されたフェニルオキシ、場合により置換されたフェニル低級アルコキシ、場合により置換されたヘテロアリールオキシ、場合により置換されたヘテロアリール低級アルコキシ、スルファモイルオキシ、カルバモイルオキシ、低級アルキルカルボニルオキシ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アミノカルボニルアミノここで、2個のアミノ基のそれぞれは、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアルコキシ低級アルキルによって場合により置換されている、ヘテロシクリルカルボニルアミノここで、ヘテロシクリルは、窒素原子を介して結合している、アミノスルホニルアミノここで、2個のアミノ基のそれぞれは、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアルコキシ低級アルキルによって場合により置換されている、ヘテロシクリルスルホニルアミノここで、ヘテロシクリルは、窒素原子を介して結合している、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニルアミノここで、アルキルは、場合により置換されたフェニル、グアニジル、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、場合により置換されたフェノキシ、アルキルメルカプト、および場合により置換されたアミノから選択される置換基1または2個によって場合により置換されている;低級アルケニルカルボニルアミノここで、アルケニルは、低級アルキル、ハロ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、および場合により置換されたアミノから選択される置換基1または2個によって場合により置換されている;アミノ低級アルキルもしくはアミノ低級アルキルアミノここで、窒素原子は、非置換かまたは低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、および低級アルキルカルボニルから選択される置換基1もしくは2個によって置換されているか、あるいは窒素上の2個の置換基は、窒素と一緒になってヘテロシクリルを形成している;低級アルキルカルボニル、ホルミル、シクロアルキルカルボニル、場合により置換されたフェニルカルボニル、場合により置換されたヘテロアリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル、場合により置換されたフェニル低級アルコキシカルボニル、シアノ、低級アルキルメルカプト、場合により置換されたフェニルメルカプト、低級アルキルスルフィニル、ハロ低級アルキルスルフィニル、場合により置換されたフェニルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、ハロ低級アルキルスルホニル、場合により置換されたフェニルスルホニル、アラルキルスルホニル、ハロゲン、およびニトロから独立して選択される最大4個の置換基によって場合により置換された、アリールまたはヘテロアリールここで2個の隣接する置換基は、アリールまたはヘテロアリールの原子と一緒になって、5または6員の炭素環または複素環を形成していてもよいを表し;Xは、酸素、基:C=Y式中、Yは、酸素、またはヒドロキシもしくはアルコキシによって置換された窒素を表す、または基:-CO-CH=CH-式中、C=C結合は、Rに結合しているを表し;R1およびR2は、互いに独立して、水素、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、場合により置換されたアリールアルキル、場合により置換されたヘテロアリールアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルコキシアルキル、アルコキシアルコキシアルキル、シアノアルキル、場合により置換されたアルケニル、場合により置換されたアルキニル、または低級アルキルカルボニルここで、低級アルキルは、アリール、場合により置換されたアミノ、アルコキシ、およびアリールオキシから選択される置換基1または2個によって場合により置換されているを表し;R3、R4、R5およびR6は、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロ低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキル、ハロ低級アルコキシ低級アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、場合により置換されたアルケニル、場合により置換されたアルキニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、シクロアルコキシ、シクロアルキル低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、ヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリル低級アルコキシ、場合により置換されたフェニルオキシ、場合により置換されたフェニル低級アルコキシ、場合により置換されたヘテロアリールオキシ、場合により置換されたヘテロアリール低級アルコキシ、アミノ、カルバモイル、スルファモイル;アミノ低級アルキルもしくはアミノ低級アルキルアミノここで、それぞれの場合の窒素原子は、非置換かまたは低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、および低級アルキルカルボニルから選択される置換基1もしくは2個によって置換されているか、あるいは窒素上の2個の置換基は、窒素と一緒になってヘテロシクリルを形成している;低級アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、場合により置換されたフェニルカルボニル、場合により置換されたヘテロアリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル、場合により置換されたフェニル低級アルコキシカルボニル、シアノ、低級アルキルメルカプト、場合により置換されたフェニルメルカプト、低級アルキルスルフィニル、ハロ低級アルキルスルフィニル、場合により置換されたフェニルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、ハロ低級アルキルスルホニル、場合により置換されたフェニルスルホニル、アラルキルスルホニル、ハロゲン、またはニトロを表すか;またはR3およびR4、R4およびR5、またはR5およびR6は、フェニル環の原子と一緒になって、5または6員の炭素環または複素環を形成しているで示される化合物、およびその塩。Rが、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ハロ低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキル、ハロ低級アルコキシ低級アルキル、アシルオキシ低級アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、場合により置換されたアルケニル、場合により置換されたアルキニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、場合により置換されたアルケニルオキシ、場合により置換されたアルキニルオキシ、シクロアルコキシ、ハロ低級アルコキシ、シクロアルキル低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、ヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリル低級アルコキシ、場合により置換されたフェニルオキシ、場合により置換されたフェニル低級アルコキシ、場合により置換されたヘテロアリールオキシ、場合により置換されたヘテロアリール低級アルコキシ、スルファモイルオキシ、カルバモイルオキシ、低級アルキルカルボニルオキシ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アミノカルボニルアミノここで、2個のアミノ基のそれぞれは、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアルコキシ低級アルキルによって場合により置換されている、ヘテロシクリルカルボニルアミノここで、ヘテロシクリルは、窒素原子を介して結合している、アミノスルホニルアミノここで、2個のアミノ基のそれぞれは、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアルコキシ低級アルキルによって場合により置換されている、ヘテロシクリルスルホニルアミノここで、ヘテロシクリルは、窒素原子を介して結合している、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニルアミノここで、アルキルは、場合により置換されたフェニル、グアニジル、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、場合により置換されたフェノキシ、アルキルメルカプト、および場合により置換されたアミノから選択される置換基1または2個によって場合により置換されている;低級アルケニルカルボニルアミノここで、アルケニルは、低級アルキル、ハロ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、および場合により置換されたアミノから選択される置換基1または2個によって場合により置換されている;アミノ低級アルキルもしくはアミノ低級アルキルアミノここで、窒素原子は、非置換かまたは低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、および低級アルキルカルボニルから選択される置換基1もしくは2個によって置換されているか、あるいは窒素上の2個の置換基は、窒素と一緒になってヘテロシクリルを形成している;低級アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、場合により置換されたフェニルカルボニル、場合により置換されたヘテロアリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル、場合により置換されたフェニル低級アルコキシカルボニル、シアノ、低級アルキルメルカプト、場合により置換されたフェニルメルカプト、低級アルキルスルフィニル、ハロ低級アルキルスルフィニル、場合により置換されたフェニルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、ハロ低級アルキルスルホニル、場合により置換されたフェニルスルホニル、アラルキルスルホニル、ハロゲン、およびニトロから独立して選択される最大4個の置換基によって場合により置換された、アリールまたはヘテロアリールここで2個の隣接する置換基は、アリールまたはヘテロアリールの原子と一緒になって、5または6員の炭素環または複素環を形成していてもよいを表し;Xが、酸素または基:C=Y式中、Yは、酸素、またはヒドロキシもしくはアルコキシによって置換された窒素を表すを表し;R1およびR2が、互いに独立して、水素、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、場合により置換されたアリールアルキル、場合により置換されたヘテロアリールアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルコキシアルキル、アルコキシアルコキシアルキル、シアノアルキル、場合により置換されたアルケニル、場合により置換されたアルキニル、または低級アルキルカルボニルここで、低級アルキルは、アリール、場合により置換されたアミノ、アルコキシ、およびアリールオキシから選択される置換基1もしくは2個によって場合により置換されているを表し;R3、R4、R5およびR6が、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロ低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキル、ハロ低級アルコキシ低級アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、場合により置換されたアルケニル、場合により置換されたアルキニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、シクロアルコキシ、シクロアルキル低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、ヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリル低級アルコキシ、場合により置換されたフェニルオキシ、場合により置換されたフェニル低級アルコキシ、場合により置換されたヘテロアリールオキシ、場合により置換されたヘテロアリール低級アルコキシ、アミノ、カルバモイル、スルファモイル;アミノ低級アルキルもしくはアミノ低級アルキルアミノここで、それぞれの場合の窒素原子は、非置換かまたは低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、および低級アルキルカルボニルから選択される置換基1もしくは2個によって置換されているか、あるいは窒素上の2個の置換基は、窒素と一緒になってヘテロシクリルを形成している;低級アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、場合により置換されたフェニルカルボニル、場合により置換されたヘテロアリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル、場合により置換されたフェニル低級アルコキシカルボニル、シアノ、低級アルキルメルカプト、場合により置換されたフェニルメルカプト、低級アルキルスルフィニル、ハロ低級アルキルスルフィニル、場合により置換されたフェニルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、ハロ低級アルキルスルホニル、場合により置換されたフェニルスルホニル、アラルキルスルホニル、ハロゲン、またはニトロを表すか;またはR3およびR4、R4およびR5、またはR5およびR6が、フェニル環の原子と一緒になって、5または6員の炭素環または複素環を形成している、請求項1記載の式Iで示される化合物、およびその塩。Rが、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ハロ低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキル、ハロ低級アルコキシ低級アルキル、アシルオキシ低級アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、場合により置換されたアルケニル、場合により置換されたアルキニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、場合により置換されたアルケニルオキシ、場合により置換されたアルキニルオキシ、シクロアルコキシ、ハロ低級アルコキシ、シクロアルキル低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、ヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリル低級アルコキシ、場合により置換されたフェニルオキシ、場合により置換されたフェニル低級アルコキシ、場合により置換されたヘテロアリールオキシ、場合により置換されたヘテロアリール低級アルコキシ、スルファモイルオキシ、カルバモイルオキシ、低級アルキルカルボニルオキシ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アミノカルボニルアミノここで、2個のアミノ基のそれぞれは、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアルコキシ低級アルキルによって場合により置換されている、ヘテロシクリルカルボニルアミノここで、ヘテロシクリルは、窒素原子を介して結合している、アミノスルホニルアミノここで、2個のアミノ基のそれぞれは、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアルコキシ低級アルキルによって場合により置換されている、ヘテロシクリルスルホニルアミノここで、ヘテロシクリルは、窒素原子を介して結合している、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニルアミノここで、アルキルは、場合により置換されたフェニル、グアニジル、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、場合により置換されたフェノキシ、アルキルメルカプト、および場合により置換されたアミノから選択される置換基1または2個によって場合により置換されている;低級アルケニルカルボニルアミノここで、アルケニルは、低級アルキル、ハロ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、および場合により置換されたアミノから選択される置換基1または2個によって場合により置換されている;アミノ低級アルキルもしくはアミノ低級アルキルアミノここで、窒素原子は、非置換かまたは低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、および低級アルキルカルボニルから選択される置換基1もしくは2個によって置換されているか、あるいは窒素上の2個の置換基は、窒素と一緒になってヘテロシクリルを形成している;低級アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、場合により置換されたフェニルカルボニル、場合により置換されたヘテロアリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル、場合により置換されたフェニル低級アルコキシカルボニル、シアノ、低級アルキルメルカプト、場合により置換されたフェニルメルカプト、低級アルキルスルフィニル、ハロ低級アルキルスルフィニル、場合により置換されたフェニルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、ハロ低級アルキルスルホニル、場合により置換されたフェニルスルホニル、アラルキルスルホニル、ハロゲン、およびニトロから独立して選択される最大4個の置換基によって場合により置換された、フェニル、ナフチル、チエニル、フリル、チアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、インドリル、ベンゾイソオキサゾリルここで2個の隣接する置換基は、アリールまたはヘテロアリールの原子と一緒になって、5または6員の炭素環または複素環を形成していてもよいを表し;Xが、酸素または基:C=Y式中、Yは、酸素、またはヒドロキシもしくはアルコキシによって置換された窒素を表すを表し;R1およびR2が、互いに独立して、水素、低級アルキルカルボニル、または場合により置換されたフェニルカルボニルを表し;R3、R4、R5およびR6が、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロ低級アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、アミノ、カルバモイル、スルファモイル;アミノ低級アルキルもしくはアミノ低級アルキルアミノここで、それぞれの場合の窒素原子は、非置換かまたは低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、および低級アルキルアミノカルボニルから選択される置換基1もしくは2個によって置換されているか、あるいは窒素上の2個の置換基は、窒素と一緒になってヘテロシクリルを形成している;カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル、場合により置換されたフェニル低級アルコキシカルボニル、シアノ、低級アルキルメルカプト、場合により置換されたフェニルメルカプト、低級アルキルスルフィニル、ハロ低級アルキルスルフィニル、場合により置換されたフェニルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、ハロ低級アルキルスルホニル、場合により置換されたフェニルスルホニル、アラルキルスルホニル、ハロゲン、またはニトロを表すか;またはR3およびR4、R4およびR5、またはR5およびR6が、一緒になってメチレンジオキシを表す、請求項2記載の式Iで示される化合物、およびその塩。Rが、アルキル、ハロ低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキル、ハロ低級アルコキシ低級アルキル、アシルオキシ低級アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、場合により置換されたアルケニル、場合により置換されたアルキニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、場合により置換されたアルケニルオキシ、場合により置換されたアルキニルオキシ、シクロアルコキシ、ハロ低級アルコキシ、シクロアルキル低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、ヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリル低級アルコキシ、場合により置換されたフェニルオキシ、場合により置換されたフェニル低級アルコキシ、場合により置換されたヘテロアリールオキシ、場合により置換されたヘテロアリール低級アルコキシ、スルファモイルオキシ、カルバモイルオキシ、低級アルキルカルボニルオキシ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アミノカルボニルアミノここで、2個のアミノ基のそれぞれは、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアルコキシ低級アルキルによって場合により置換されている、ヘテロシクリルカルボニルアミノここで、ヘテロシクリルは、窒素原子を介して結合している、アミノスルホニルアミノここで、2個のアミノ基のそれぞれは、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアルコキシ低級アルキルによって場合により置換されている、ヘテロシクリルスルホニルアミノここで、ヘテロシクリルは、窒素原子を介して結合している、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニルアミノここで、アルキルは、場合により置換されたフェニル、グアニジル、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、場合により置換されたフェノキシ、アルキルメルカプト、および場合により置換されたアミノから選択される置換基1または2個によって場合により置換されている;低級アルケニルカルボニルアミノここで、アルケニルは、低級アルキル、ハロ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、および場合により置換されたアミノから選択される置換基1または2個によって場合により置換されている;アミノ低級アルキルもしくはアミノ低級アルキルアミノここで、窒素原子は、非置換かまたは低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、および低級アルキルカルボニルから選択される置換基1もしくは2個によって置換されているか、あるいは窒素上の2個の置換基は、窒素と一緒になってヘテロシクリルを形成している;低級アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、場合により置換されたフェニルカルボニル、場合により置換されたヘテロアリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル、場合により置換されたフェニル低級アルコキシカルボニル、シアノ、低級アルキルメルカプト、場合により置換されたフェニルメルカプト、低級アルキルスルフィニル、ハロ低級アルキルスルフィニル、場合により置換されたフェニルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、ハロ低級アルキルスルホニル、場合により置換されたフェニルスルホニル、アラルキルスルホニル、ハロゲン、およびニトロから独立して選択される最大4個の置換基によって場合により置換された、フェニル、ナフチル、チエニル、フリル、チアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、インドリル、ベンゾイソオキサゾリルここで2個の隣接する置換基は、アリールまたはヘテロアリールの原子と一緒になって、5または6員の炭素環または複素環を形成していてもよいを表し;Xが、基:C=Y式中、Yは、酸素、またはヒドロキシもしくはアルコキシによって置換された窒素を表すを表し;R1およびR2が、互いに独立して、水素または低級アルキルカルボニルを表し;R3、R4、R5およびR6が、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロ低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアノ、ハロゲン、またはニトロを表す、請求項2記載の式Iで示される化合物、およびその塩。4-1-フェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル-フラザン-3-イルアミン;4-1-フェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル-フラザン-3-イルアミンオキシム;4-1-フェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル-フラザン-3-イルアミンオキシムメチルエーテル;4-[1-4-ブロモフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミン;4-[1-4-ブロモフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミンオキシム;4-[1-4-ブロモフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミンオキシムメチルエーテル;4-[1-4-クロロフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミン;4-[1-4-クロロフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミンオキシム;4-[1-4-クロロフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミンオキシムメチルエーテル;4-[1-4-メトキシフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミン;4-[1-4-メトキシフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミンオキシム;4-[1-3-メトキシフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミン;4-[1-3-メトキシフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミンオキシム;4-[1-3-メトキシフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミンオキシムメチルエーテル;4-[1-4-フェニルフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミン;4-[1-4-フェニルフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミンオキシム;4-[1-4-フェニルフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミンオキシムメチルエーテル;及び4-[1-2,4-ジクロロフェナシル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]-フラザン-3-イルアミン;からなる群から選択される、請求項2記載の化合物、または薬学的に許容され得るその塩。Rが、アルキル、ハロ低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキル、ハロ低級アルコキシ低級アルキル、アシルオキシ低級アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、場合により置換されたアルケニル、場合により置換されたアルキニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、場合により置換されたアルケニルオキシ、場合により置換されたアルキニルオキシ、シクロアルコキシ、ハロ低級アルコキシ、シクロアルキル低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、ヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリル低級アルコキシ、場合により置換されたフェニルオキシ、場合により置換されたフェニル低級アルコキシ、場合により置換されたヘテロアリールオキシ、場合により置換されたヘテロアリール低級アルコキシ、スルファモイルオキシ、カルバモイルオキシ、低級アルキルカルボニルオキシ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アミノカルボニルアミノここで、2個のアミノ基のそれぞれは、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアルコキシ低級アルキルによって場合により置換されている、ヘテロシクリルカルボニルアミノここで、ヘテロシクリルは、窒素原子を介して結合している、アミノスルホニルアミノここで、2個のアミノ基のそれぞれは、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアルコキシ低級アルキルによって場合により置換されている、ヘテロシクリルスルホニルアミノここで、ヘテロシクリルは、窒素原子を介して結合している、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニルアミノここで、アルキルは、場合により置換されたフェニル、グアニジル、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、場合により置換されたフェノキシ、アルキルメルカプト、および場合により置換されたアミノから選択される置換基1または2個によって場合により置換されている;低級アルケニルカルボニルアミノここで、アルケニルは、低級アルキル、ハロ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、ハロゲン、シアノ、アルコキシ、および場合により置換されたアミノから選択される置換基1または2個によって場合により置換されている;アミノ低級アルキルもしくはアミノ低級アルキルアミノここで、窒素原子は、非置換かまたは低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたフェニル低級アルキル、場合により置換されたヘテロアリール、場合により置換されたヘテロアリール低級アルキル、および低級アルキルカルボニルから選択される置換基1もしくは2個によって置換されているか、あるいは窒素上の2個の置換基は、窒素と一緒になってヘテロシクリルを形成している;低級アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、場合により置換されたフェニルカルボニル、場合により置換されたヘテロアリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル、場合により置換されたフェニル低級アルコキシカルボニル、シアノ、低級アルキルメルカプト、場合により置換されたフェニルメルカプト、低級アルキルスルフィニル、ハロ低級アルキルスルフィニル、場合により置換されたフェニルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、ハロ低級アルキルスルホニル、場合により置換されたフェニルスルホニル、アラルキルスルホニル、ハロゲン、およびニトロから独立して選択される最大4個の置換基によって場合により置換された、フェニル、ナフチル、チエニル、フリル、チアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、インドリル、ベンゾイソオキサゾリルここで2個の隣接する置換基は、アリールまたはヘテロアリールの原子と一緒になって、5または6員の炭素環または複素環を形成していてもよいを表し;Xが、基:C=Y式中、Yは、酸素、またはヒドロキシもしくはアルコキシによって置換された窒素を表すを表し;R1が、シアノアルキルを表し;R2が、水素を表し;R3、R4、R5およびR6が、互いに独立して、水素、低級アルキル、ハロ低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアノ、ハロゲン、またはニトロを表す、請求項1記載の式Iで示される化合物、およびその塩。R、XおよびR2~R6が、請求項6に定義したとおりであり、R1が、ヒドロキシアルキルを表す、請求項1記載の式Iで示される化合物、およびその塩。Rが、アルキル、ハロ低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、アシルオキシ低級アルキル、フェニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、フェニル低級アルコキシ、低級アルキルカルボニルオキシ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニルアミノ、置換アミノここで、窒素上の2個の置換基は、窒素と一緒になってヘテロシクリルを形成している、低級アルキルカルボニル、ホルミル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアノ、ハロゲン、およびニトロから独立して選択される置換基1または2個によって場合により置換された、フェニル、チエニル、ピリジニル、またはピリダジニルここで、2個の隣接する置換基はメチレンジオキシであるを表し;Xが、酸素、基:C=Y式中、Yは、酸素、またはヒドロキシまたはアルコキシによって置換された窒素を表す、または基:-CO-CH=CH-式中、C=C結合は、Rに結合しているを表し;R1が、水素、低級アルキルカルボニル、ヒドロキシ低級アルキル、またはシアノ低級アルキルを表し;R2、R3およびR6が、水素を表し;R4およびR5が、互いに独立して、水素、低級アルキル、もしくは低級アルコキシを表すか、またはR4およびR5が一緒になってメチレンジオキシを表す、請求項1記載の式Iで示される化合物、お"