"表示基板と、少なくとも一つの表示電極と、対向電極と、対向基板と、前記表示電極に接して設けられた少なくとも一つのエレクトロクロミック層と、前記エレクトロクロミック層と前記対向電極との間に設けられた電解質層と、を有するエレクトロクロミック表示素子において、前記電解質層が、三次元架橋構造を形成したマトリックス樹脂と、液晶化合物及び電解質の混合物とを含み、前記液晶化合物及び電解質の混合物は、前記マトリックス樹脂中に連続相として分散していることを特徴とするエレクトロクロミック表示素子。表示基板と、各々を隔離して設けられた複数の表示電極と、前記複数の表示電極の各々に接して設けられた複数のエレクトロクロミック層と、対向基板と、対向電極と、対向電極の最も近くに位置する前記表示電極と前記対向電極とに挟まれるように設けられた電解質層と、を有するエレクトロクロミック表示素子において、前記電解質層が、三次元架橋構造を形成したマトリックス樹脂と、液晶化合物及び電解質の混合物とを含み、前記液晶化合物及び電解質の混合物は、前記マトリックス樹脂中に連続相として分散しており、一の前記表示電極と他の前記表示電極のいずれかとの間の電気抵抗は、前記一の前記表示電極の電気抵抗より大きいことを特徴とするエレクトロクロミック表示素子。マトリックス樹脂が、紫外線硬化型樹脂材料で形成された請求項1から2のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示素子。エレクトロクロミック層が、表面にエレクトロクロミック化合物を担持した、導電性微粒子又は半導体性微粒子を含む請求項1から3のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示素子。電解質層は、液晶化合物及び電解質の混合物とマトリックス樹脂の重合性モノマー又は重合性オリゴマーとに、対向基板又は表示基板を介して紫外線を照射し、前記重合性モノマー又は重合性オリゴマーを重合させることで形成される請求項1から4のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示素子。本発明は、従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、エレクトロクロミック化合物の発色又は消色の高速応答性と画像ボケの低減を両立させたエレクトロクロミック表示素子を提供することを目的とする。前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、<1>表示基板と、少なくとも一つの表示電極と、対向電極と、対向基板と、前記表示電極に接して設けられた少なくとも一つのエレクトロクロミック層と、前記エレクトロクロミック層と前記対向電極との間に設けられた電解質層と、を有するエレクトロクロミック表示素子において、前記電解質層が、三次元架橋構造を形成したマトリックス樹脂と、液晶化合物及び電解質の混合物とを含み、前記液晶化合物及び電解質の混合物は、前記マトリックス樹脂中に連続相として分散していることを特徴とするエレクトロクロミック表示素子である。<2>表示基板と、各々を隔離して設けられた複数の表示電極と、前記複数の表示電極の各々に接して設けられた複数のエレクトロクロミック層と、対向基板と、対向電極と、対向電極の最も近くに位置する前記表示電極と前記対向電極とに挟まれるように設けられた電解質層と、を有するエレクトロクロミック表示素子において、前記電解質層が、三次元架橋構造を形成したマトリックス樹脂と、液晶化合物及び電解質の混合物とを含み、前記液晶化合物及び電解質の混合物は、前記マトリックス樹脂中に連続相として分散しており、一の前記表示電極と他の前記表示電極のいずれかとの間の電気抵抗は、前記一の前記表示電極の電気抵抗より大きいことを特徴とするエレクトロクロミック表示素子である。<3>マトリックス樹脂が、紫外線硬化型樹脂材料で形成された前記<1>から<2>のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示素子である。<4>エレクトロクロミック層が、表面にエレクトロクロミック化合物を担持した、導電性微粒子又は半導体性微粒子を含む前記<1>から<3>のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示素子である。<5>電解質層は、液晶化合物及び電解質の混合物とマトリックス樹脂の重合性モノマー又は重合性オリゴマーとに、対向基板又は表示基板を介して紫外線を照射し、前記重合性モノマー又は重合性オリゴマーを重合させることで形成される前記<3>から<4>のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示素子である。本発明によれば、従来における問題を解決することができ、エレクトロクロミック化合物の発色又は消色の高速応答性と画像ボケの低減を両立させたエレクトロクロミック表示素子を提供することができる。エレクトロクロミック表示素子<第1実施形態>本発明のエレクトロクロミック表示素子は、表示基板と、表示電極と、エレクトロクロミック層と、電解質層と、対向電極と、対向基板とを有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。本発明の第1実施形態のエレクトロクロミック表示素子1は、図1に示すように、対向基板15、対向電極14、電解質層13、エレクトロクロミック層12、表示電極11、表示基板10の順で積層されている。<<表示基板、対向基板>>前記表示基板10は、前記表示電極11を支持するための基板である。前記対向基板15は、前記対向電極14を支持するための基板である。前記表示基板10及び前記対向基板15の材料としては、前記表示基板10及び前記対向基板15の少なくともいずれかが透明な材料であれば特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラス基板、プラスチックフィルムなどが挙げられる。<<表示電極、対向電極>>前記表示電極11は、前記対向電極14の電位を制御し、前記エレクトロクロミック層12を発色させるための電極であり、前記表示基板10と接している。前記対向電極14は、前記表示電極11の電位を制御し、前記エレクトロクロミック層12を発色させるための電極であり、前記対向基板15と接している。前記表示電極11及び前記対向電極14の材料としては、導電性を有する材料であれば特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記表示電極11及び前記対向電極14の少なくともいずれかは光の透過性を確保する必要があるため、透明且つ導電性に優れた透明導電性材料が好ましい。また、安定した発色又は消色を可能とするために、エレクトロクロミック層12の起こす酸化還元反応と逆の反応、即ち、エレクトロクロミック層12が酸化により発色する場合は還元反応を起こし、エレクトロクロミック層12が還元により発色する場合は、酸化反応を起こす透明導電性材料が好ましい。ここで、透明とは、可視光領域において10~100の光透過率を有することを意味する。前記透明導電性材料としては、例えば、スズをドープした酸化インジウムITO、フッ素をドープした酸化スズFTO、アンチモンをドープした酸化スズATO;真空成膜により形成されたインジウム酸化物In酸化物、スズ酸化物Sn酸化物、亜鉛酸化物Zn酸化物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、容易に成膜が可能な材料であると共に、良好な透明性と電気伝導度が得られるという点で、In酸化物、Sn酸化物、Zn酸化物のいずれかを含むことが好ましい。前記In酸化物としては、例えば、InSnO、In2O3などが挙げられる。前記Sn酸化物としては、例えば、SnOなどが挙げられる。前記Zn酸化物としては、例えば、GaZnO、ZnOなどが挙げられる。前記対向電極14としては、前記対向基板15に前記透明導電性材料をコーティングするようにしてもよい。<<エレクトロクロミック層>>前記エレクトロクロミック層12としては、酸化還元により色の変化を起こすエレクトロクロミック化合物121を含み、前記エレクトロクロミック化合物121が配されて形成された層である。前記エレクトロクロミック化合物121としては、例えば、無機エレクトロクロミック化合物、有機エレクトロクロミック化合物などが挙げられる。前記有機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、ビオロゲン系化合物、希土類フタロシアニン系化合物、ポリピロール系化合物、アゾベンゼン系化合物、アントラキノン系化合物、ジアリールエテン系化合物、ジヒドロプレン系化合物、スチリル系化合物、スチリルスピロピラン系化合物、スピロオキサジン系化合物、スピロチオピラン系化合物、スピロピラン系化合物、チオインジゴ系化合物、テトラチアフルバレン系化合物、テレフタル酸系化合物、トリフェニルメタン系化合物、トリフェニルアミン系化合物、ナフトピラン系化合物、ピラゾリン系化合物、フェナジン系化合物、フェニレンジアミン系化合物、フェノキサジン系化合物、フェノチアジン系化合物、フタロシアニン系化合物、フルオラン系化合物、フルギド系化合物、ベンゾピラン系化合物、メタロセン系化合物、ピリジン系化合物などが挙げられる。これらの中でも、発色又は消色の電位が低く、複数の表示電極構成においても良好な色値を示すことから、ビオロゲン系化合物、テレフタル酸系化合物、ピリジン系化合物が好ましい。前記ビオロゲン系化合物としては、下記構造式1で表される化合物が好ましい。構造式1中、R1、R2、R3は、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数1~4のアルキル基、又はアリール基を表し、R1及びR2の少なくとも一方は、COOH、POOH2、SiOCkH2k13から選択される。X-は、1価のアニオンを表す。nは、0、1又は2を表す。mは、0、1、2、3又は4を表す。kは、0、1又は2を表す。前記テレフタル酸系化合物としては、下記構造式2で表される化合物が好ましい。構造式2中、R4、R5、R6は、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数1から4のアルキル基、炭素数1から4のアルコキシ基、又はアリール基を表し、R4及びR5の少なくとも一方は、COOH、POOH2、SiOCkH2k13から選択される。qは、1又は2を表す。pは、0、1、2、3又は4を表す。kは、0、1又は2を表す。前記ピリジン系化合物としては、下記構造式3で表される化合物が好ましい。構造式3において、R1、R2、R3は、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数1から4のアルキル基、又はアリール基を表し、R1及びR2の少なくとも一方にはCOOH、POOH2、SiOCkH2k13から選択される。X-は、1価のアニオンを表す。nは、0、1又は2を表す。mは、0、1又は2を表す。kは、0、1又は2を表す。Aは、複素環式化合物誘導体を表す。前記構造式1~3で表される具体的な化合物としては、例えば下記のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。前記無機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化イリジウム、酸化ニッケル、酸化モリブデン、プルシアンブルーなどが挙げられる。前記エレクトロクロミック層12としては、エレクトロクロミック化合物121を表面に担持する導電性微粒子又は半導体性微粒子122以下、導電性微粒子又は半導体性微粒子をまとめて導電性微粒子ともいう。を有することが好ましい。エレクトロクロミック化合物121を導電性微粒子122の表面に担持させることで、導電性微粒子122の大きな表面積を利用して、効率よくエレクトロクロミック化合物121に電子が注入されるため、従来のエレクトロクロミック表示素子と比較して高速応答が可能となる。さらに、導電性微粒子122を用いることで透明な膜を形成することができるため、高い白反射率を得ることができる。前記導電性微粒子122としては、金属酸化物であれば特に限定されず、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸素ホウ素、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、フェライト、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、アルミノケイ酸、リン酸カルシウム、アルミノシリケートなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。前記導電性微粒子122の形状としては、特に限定されるものではないが、エレクトロクロミック化合物121を効率よく担持するために、単位体積当たりの表面積以下、比表面積という。が大きい形状が好ましい。例えば、前記導電性微粒子122が、ナノ粒子の集合体であるときは、大きな比表面積を有するため、より効率的にエレクトロクロミック化合物121が担持され、発色又は消色の表示コントラスト比に優れた多色表示が可能となる。なお、平均粒径が異なる前記導電性微粒子122を2種以上を併用してもよい。異なる平均粒径の導電性微粒子122が存在することでエレクトロクロミック層12内に隙間ができ、電解質の浸透性を向上させることができる点で有利である。また、塗布形成などで生じるエレクトロクロミック層12のひずみに対しても強度が増し、エレクトロクロミック素子1の製造時の歩留まりを向上できる点でも有利である。前記導電性微粒子122表面へのエレクトロクロミック化合物121の担持方法としては、具体的には、電極表面に平均粒径5nm~50nm程度の導電性微粒子122を焼結し、その導電性微粒子122の表面にホスホン酸やカルボキシル基、シラノール基等の極性基を有するエレクトロクロミック化合物121を吸着させる方法などが挙げられる。なお、エレクトロクロミック化合物が吸着基を介して金属酸化物に結合されるようにしてもよい。<<電解質層>>前記電解質層13は、マトリックス樹脂132と液晶化合物及び電解質の混合物以下、液晶化合物及び電解質の混合物を液晶性電解質131ともいう。とを含み、必要に応じて、その他の成分を含んでなる。図1に一例を示すように、前記電解質層13は、PNLCPolymerNetworkLiquidCrystal方式で形成され、液晶性電解質131は、三次元架橋構造を形成するマトリックス樹脂132中に連続相として分散している。電界無印加の状態では前記液晶化合物の分子配向が均一でないために、マトリックス樹脂132の屈折率と不整合とすることで入射光が散乱され、その後方散乱光により白色状態として観測される。電界を印可すると前記液晶化合物の分子が電界方向に配列し図1では、基板間に平行に配列する。、この状態で液晶化合物の屈折率とマトリックス樹脂132の屈折率が同等になるために光透過状態とすることができる。-電解質-前記電解質としては、塩を溶媒に溶解させたものが用いられる。なお、塩が液晶に溶解する場合は、必要に応じて溶媒に溶解させなくてもよい。前記塩としては、例えば、無機イオン塩、4級アンモニウム塩、酸類、アルカリ類塩、イオン性液体などが挙げられる。前記無機イオン塩としては、例えば、LiClO4、LiBF4、LiAsF6、LiPF6、LiCF3SO3、LiCF3COO、KCl、NaClO3、NaCl、NaBF4、NaSCN、KBF4、MgClO42、MgBF42などが挙げられる。前記イオン性液体のカチオン成分としては、例えば、イミダゾール誘導体、芳香族系の塩、脂肪族4級アンモニウム系の塩などが挙げられる。前記イオン性液体のアニオン成分としては、例えば、BF4-、CF3SO3-、PF4-、CF3SO22N-などが挙げられる。これらのカチオン成分とアニオン成分の組合わせにより処方した前記イオン性液体を用いることができる。前記イミダゾール誘導体としては、例えば、N、N-ジメチルイミダゾール塩、N、N-メチルエチルイミダゾール塩、N、N-メチルプロピルイミダゾール塩などが挙げられる。前記芳香族系の塩としては、例えば、N、N-ジメチルピリジニウム塩、N、N-メチルプロピルピリジニウム塩などが挙げられる。前記脂肪族4級アンモニウム系の塩としては、例えば、トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩などが挙げられる。前記溶媒としては、通電性を示す極性溶媒が好ましく、例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ-ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、1、2-ジメトキシエタン、1、2-エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、炭酸プロピレン、アルコール類などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。なお、前記電解質としては、前記塩を前記溶媒に溶解させた液体状の電解質に特に限定されるものではなく、ゲル状の電解質や、ポリマー電解質等の固体電解質であってもよい。-液晶化合物-前記液晶化合物としては、特に制限はなく、ネマチック液晶化合物、スメクチック液晶化合物、コレステリック液晶化合物などが挙げられる。前記ネマチック液晶化合物としては、例えば、アゾメチン化合物、シアノビフェニル化合物、シアノフェニルエステル、フッ素置換フェニルエステル、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル、フッ素置換シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル、シアノフェニルシクロヘキサン、フッ素置換フェニルシクロヘキサン、シアノ置換フェニルピリミジン、フッ素置換フェニルピリミジン、アルコキシ置換フェニルピリミジン、フッ素置換アルコキシ置換フェニルピリミジン、フェニルジオキサン、トラン系化合物、フッ素置換トラン系化合物、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリルなどが挙げられる。また、液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第142委員会編、日刊工業新聞社、1989年の第154~192頁及び第715~722頁に記載の液晶化合物を用いることができる。例えば、Merck社の液晶ZLI-4692、MLC-6267、6284、6287、6288、6406、6422、6423、6425、6435、6437、7700、7800、9000、9100、9200、9300、10000等、チッソ社の液晶LIXON5036xx、5037xx、5039xx、5040xx、5041xx等などが挙げられる。前記コレステリック液晶化合物は、例えば、層状の構造を持たずに平行配列しているネマチック液晶化合物に、液晶分子にねじれを付与するカイラル剤を添加することで旋光性を持たせることで得られる。前記カイラル剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマニード化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。前記スメクチック液晶化合物としては、例えば、p-デシロキシベンジリデン-p’-アミノ-2-メチルブチルシンナメート、p-ヘキシルオキシベンジリデン-p’-アミノ-2-クロロプロピルシンナメート、4-o-2-メチルブチルレゾルシリデン-4’-オクチルアニリンなどが挙げられる。-マトリックス樹脂-前記マトリックス樹脂132としては、三次元架橋構造を形成したマトリックス樹脂132中に液晶性電解質131を連続相として分散させるために、紫外線硬化型樹脂で形成されることが好ましい。三次元架橋構造とは、3本以上の主鎖が分岐する共有結合が多数存在し、ランダムな形状を形成している状態をいう。前記マトリックス樹脂132としては、電解質層13中の液晶性電解質131及び紫外線などで重合し得る重合性モノマー又は重合性オリゴマーに、前記対向基板14又は前記表示基板10を介して紫外線などを照射し、前記重合性モノマー又は重合性オリゴマーを重合させることで得られ、併せて液晶性電解質131が、マトリックス樹脂132中に連続相として分散する。前記重合性モノマーとしては、例えば、スチレン、クロロスチレン、α-メチルスチレン、ジビニルベンゼン、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、酢酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル、アクリロニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン、シクロヘキセン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、2-ビニルピリジン、3-ビニルピリジン、4-ビニルピリジン、アクリルアミド、メタクリルアミド、N-ヒドロキシメチルアクリルアミド、N-ヒドロキシエチルメタクリルアミド、アルキルエーテル化合物、ネオペンチルグリコール1モルに2モル以上のエチレンオキサイドを付加して得たジオールのジメタアクリレート、ネオペンチルグリコール1モルに2モル以上のプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジメタアクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのジメタアクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリメタアクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリメタアクリレート、ビスフェノールA1モルに2モル以上のエチレンオキサイドを付加して得たジオールのジメタアクリレート、ビスフェノールA1モルに2モル以上のプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート1モルとフェニルイソシアネート1モルとの反応生成物、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート1モルとn-ブチルイソシアネート1モルとの反応生成物、ジペンタエリスリトールのポリメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールアクリレート、2モル以下のモル比のカプロラクトンで変性したヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。前記アクリル酸、メタクリル酸及びフマル酸の置換基としては、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、n-ブチル、アミル、2-エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、アリル、メタリル、グリシジル、2-ヒドロキシエチル、2-ヒドロキシプロピル、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3-ブチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトールなどが挙げられる。前記重合性オリゴマーとしては、例えば、2モルを超えるモル比のカプロラクトンで変性したヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。前記マトリックス樹脂132としては、紫外線硬化型樹脂材料である重合性モノマー又は重合性オリゴマーに紫外線を照射することで重合させるので、流動性はない。-その他の成分-前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、重合開始剤、白色顔料粒子、電解質層の厚みを調整するための真球状樹脂ビーズ、連鎖移動剤、光増感剤、染料、架橋剤などが挙げられる。--重合開始剤--前記重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オンメルク社製ダロキュア1173、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンチバガイギー社製イルガキュア184、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オンメルク社製ダロキュア1116、ベンジルジメチルケタールチバガイギー社製イルガキュア651、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルホリノプロパノン-1チバガイギー社製イルガキュア907、2,4-ジエチルチオキサントン日本化薬社製カヤキュアDETXとp-ジメチルアミノ安息香酸エチル日本化薬社製カヤキュアEPAとの混合物、イソプロピルチオキサントンワードブレキンソップ社製カンタキュア-ITXとp-ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物などが挙げられる。--白色顔料粒子--前記白色顔料粒子を前記電解質層に含有させることで、反射コントラストが向上できる。また白色反射層が視認性向上に効果的である。前記白色顔料粒子の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、シリカ、酸化セシウム、酸化イットリウムなどが挙げられる。また、前記白色顔料粒子に蓄光性をもつ粒子を混合することで、外光からエネルギーにより反射層の輝度を向上させることができ、より明るい表示を行うことができる。本発明のエレクトロクロミック表示素子1としては、必要に応じて、セル16を設けてもよい。前記セル16は、表示基板10と、対向基板15とが、スペーサを介して貼り合わされた構造を有する。前記セル16の内部には、液晶性電解質131が充填される。また、前記セル16中に白色顔料粒子を含有させてもよい。<第2実施形態>本発明の第2実施形態のエレクトロクロミック表示素子2は、図2に一例を示すように、表示電極10及びエレクトロクロミック層12が少なくとも2つ有すること以外は第1実施形態と同一である。第1実施形態と説明が重複する箇所は、適宜説明を省略する。図2に一例を示すように、本発明のエレクトロクロミック表示素子1は、対向基板15、対向電極14、電解質層13、第2のエレクトロクロミック層12B、第2の表示電極11B、絶縁層17、第1のエレクトロクロミック層12A、第1の表示電極11A、表示基板10の順で積層されており、必要に応じて、その他の層を有する。また、表示基板10と対向基板15とがスペーサを介して貼り合わされたセル16を有していてもよい。<<第1の表示電極、第2の表示電極>>前記第1の表示電極11Aは、対向電極14に対する電位を制御し、第1のエレクトロクロミック層12Aを発色させるための電極であり、表示基板10と接している。前記第2の表示電極11Bは、対向電極14に対する電位を制御し、第2のエレクトロクロミック層12Bを発色させるための電極であり、表示基板10と接している。前記第1の表示電極11A及び第2の表示電極11Bの材料としては、第1実施形態で上述した通りである。前記第1の表示電極11A及び第2の表示電極11Bの材料は、同一材料であってもよく、異なっていてもよい。前記第1の表示電極11Aと前記第2の表示電極11Bとの間の電極間抵抗は、対向電極14に対する一方の表示電極11の電位を、対向電極14に対する他方の表示電極11の電位と独立に制御することができる程度に大きな抵抗でなくてはならないが、少なくとも第1の表示電極11A及び第2の表示電極11Bの何れかの表示電極のシート抵抗よりも大きくなるように形成される必要がある。前記第1の表示電極11Aと第2の表示電極11Bとの間の電極間抵抗が、第1の表示電極11A及び第2の表示電極11Bの何れかの表示電極のシート抵抗よりも小さい場合、第1の表示電極11A及び第2の表示電極11Bの何れかの表示電極に電圧印加をすると、同程度の電圧が他方の表示電極にも印加されてしまい、各表示電極に対応するエレクトロクロミック層12が独立に発色又は消色されないことがある。各表示電極11の間の電極間抵抗は、夫々の表示電極のシート抵抗の500倍以上が好ましい。なお、各表示電極間の電極間抵抗は、第1の表示電極11Aと第2の表示電極11Bとの間の電気抵抗に相当する。このような良好な絶縁性を確保するためには、各表示電極の間の電極間抵抗は、第1のエレクトロクロミック層12Aの平均厚みを変えて制御することもできるが、第1のエレクトロクロミック層12Aに接して設けられる絶縁層17の平均厚みを変えて制御することもできる。<<第1のエレクトロクロミック層、第2のエレクトロクロミック層>>前記第1のエレクトロクロミック層12A及び第2のエレクトロクロミック層12Bとしては、エレクトロクロミック化合物121を含み、前記エレクトロクロミック化合物121の酸化還元反応によって発色する。また、第1のエレクトロクロミック層12A及び第2のエレクトロクロミック層12Bとしては、エレクトロクロミック化合物121と、エレクトロクロミック化合物121を担持する導電性微粒子122とを含むことで、発色又は消色を高速で行うことができる。前記第1のエレクトロクロミック層12A及び第2のエレクトロクロミック層12Bの材料としては、第1実施形態で上述した通りである。前記第1のエレクトロクロミック層12A及び第2のエレクトロクロミック層12Bの材料は、同一材料であってもよく、異なっていてもよい。<<絶縁層>>前記絶縁層17は、第1の表示電極11Aと、第2の表示電極11Bとが絶縁するために設けられる。なお、第1の表示電極11Aと第2の表示電極11Bとの間の電極間抵抗を大きくすることができれば、絶縁層17は必要に応じて省略することができる。前記絶縁層17の材料としては、絶縁性、耐久性及び成膜性に優れたZnSを少なくとも含む材料が好ましい。前記ZnSは、スパッタ法によって、エレクトロクロミック層にダメージを与えることなく高速に成膜できるという特徴を有する。前記ZnSを含む材料としては、例えば、ZnS-Ge、ZnS-SiO2ZnS/SiO2=8/2、ZnS-SiO2ZnS/SiO2=7/3、ZnS、ZnS-ZnO-In2O3-Ga2O3ZnS/ZnO/In2O3/Ga2O3=60/23/10/7などが挙げられる。前記ZnSの含有率としては、絶縁層17を形成した際の結晶性を良好に保つために、50mol~90molが好ましい。前記含有率が、50mol未満であると、多層化による膜強度低下すなわち膜のはがれを防止することができないことがあり、90molを超えると、薄膜で良好な絶縁効果が得られないことがある。前記絶縁層17としては、電解質が絶縁層17を透過しやすくするという点で多孔質膜にすることが好ましい。前記絶縁層17を多孔質膜にすることは、絶縁層17を粒子膜として形成することによって行うことができる。特にZnS等をスパッタで形成する場合、予め下引き層として粒子膜を形成することによって、ZnS等の多孔質膜を形成することができる。この場合、導電性微粒子122を粒子膜として形成することもできるが、絶縁層17の一部としてシリカ、アルミナ等を含む多孔質粒子膜を形成することもできる。このような手法を用いて絶縁層17を多孔質膜にすることにより、電解質が絶縁層17を透過することが可能となるため、酸化還元反応に伴う電解質中のイオンとしての電荷の移動が容易となり、発色又は消色の応答速度に優れた多色表示が可能である。前記絶縁層17の平均厚みとしては、20nm~500nmが好ましく、50nm~150nmがより好ましい。前記平均厚みが、20nm未満であると、絶縁性を得にくくなることがあり、500nmを超えると、製造コストが増大すると共に、着色によって視認性が低下することがある。<<その他の層>>前記その他の層としては、例えば、白色反射層が挙げられる。-白色反射層-前記白色反射層18は、白色の反射率を向上させる。前記白色反射層18は、液晶性電解質131と白色顔料粒子とを含んでなり、白色顔料粒子が液晶性電解質131中に分散している。前記液晶性電解質131としては、電解質層13で使用する液晶性電解質131と同一であってもよく、異なっていてもよい。本発明の第2実施形態のエレクトロクロミック素子2は、第1の表示電極11Aと、第2の表示電極11Bとが、絶縁層17を介して隔離して設けられているため、対向電極14に対する第1の表示電極11Aの電位と、対向電極14に対する第2の表示電極11Bの電位とを独立して制御することができる。その結果、第1の表示電極11Aに接して設けられた第1のエレクトロクロミック層12Aと、第2の表示電極11Bに接して設けられた第2のエレクトロクロミック層12Bとを独立して発色又は消色させることができる。また、完全に絶縁されていなくても、各表示電極間の電気抵抗が表示電極の電気抵抗よりも大きく設定することで、第1のエレクトロクロミック層12Aと第2のエレクトロクロミック層12Bとの酸化還元電位差を利用したり、発色させる表示電極以外には発色又は消色させない電圧を印加することで、独立制御が可能である。前記第1のエレクトロクロミック層12Aと、第2のエレクトロクロミック層12Bとは、表示基板側に積層して設けられているため、第1のエレクトロクロミック層12A、第2のエレクトロクロミック層12Bの発色又は消色のパターンにより、第1のエレクトロクロミック層12Aのみの発色、第2のエレクトロクロミック層12Bのみの発色、第1のエレクトロクロミック層12A及び第2のエレクトロクロミック層12Bの両方の発色、の3段階の色に変化させることができ、多色表示が可能である。また、セル16中に白色反射層18を設けることで白色の反射率が高く、積層された第1のエレクトロクロミック層12A及び第2のエレクトロクロミック層12Bに起因する反射率の低下を補うことができ、視認性に優れた多色表示が可能となる。エレクトロクロミック表示素子の製造方法本発明のエレクトロクロミック表示素子1の製造方法としては、まず、表示基板10上に表示電極11第2実施形態では第1の表示電極11Aを形成する。前記表示電極11の形成方法としては、例えば、例えば、コート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法、CVD、プラズマCVD法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。前記表示電極11を形成後、前記表示電極11上に、エレクトロクロミック層12第2実施形態では第1のエレクトロクロミック層12Aを形成させる。前記エレクトロクロミック層12の形成方法としては、例えば、エレクトロクロミック化合物121を溶媒中に分散又は溶解した液状の塗布インクを準備し、その塗布インクを前記表示電極11上にコート法により塗布することでエレクトロクロミック層12を形成させる。なお、エレクトロクロミック化合物121に導電性微粒子122が担持されている場合も同様の方法でエレクトロクロミック層12を形成させることができる。前記溶媒としては、例えば、水、アルコール類、セルソルブ、ハロゲン化炭素類、ケトン、エーテル類などが挙げられる。前記コート法としては、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法などが挙げられる。前記エレクトロクロミック層12を形成後、エレクトロクロミック層12上に電解質層13を形成させる。前記電解質層13の形成方法としては、紫外線硬化樹脂の重合性モノマー又は重合性オリゴマー、及び液晶性電解質131を混合させた溶液をエレクトロクロミック層12上に塗布する。予め、対向基板15上に形成させた対向電極14を紫外線硬化樹脂の重合性モノマー又は重合性オリゴマー、及び液晶性電解質131を混合させた溶液を塗布した上面に貼り合わせる。対向電極14を貼り合わせた後、紫外線を照射することで、その重合反応過程において紫外線硬化樹脂と液晶化合物の相分離をさせながら三次元架橋構造のマトリックス樹脂132を形成し、そのマトリックス樹脂132中に液晶性電解質131を連続相として分散させる。なお、前記対向電極14の形成方法としては、前記表示電極11と同様の方法で形成することができる。前記液晶性電解質131は、モノマー状態で封入した後、紫外線で硬化させるため、電解質を素子内全体に浸透させ、かつポリマー化により固体状にすることができる。これにより、全ての層に電解質を浸透させることができ、発色又は消色の応答速度を向上させることができる。前記紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧放電ランプ、ショートアーク放電ランプなどが挙げられる。前記低圧水銀ランプとしては、例えば、殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライトなどが挙げられる。前記高圧放電ランプとしては、例えば、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。前記ショートアーク放電ランプとしては、例えば、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプなどが挙げられる。紫外線硬化樹脂の重合性モノマー又は重合性オリゴマー、及び液晶性電解質131を混合させた溶液をエレクトロクロミック層12上に塗布した後、白色反射層18を形成し、白色反射層18上に対向電極14を貼り合わせ紫外線照射するようにしてもよい。白色反射層18の形成方法としては、液晶性電解質131及び白色顔料粒子を溶媒中に分散又は溶解した液状の塗布インクを準備し、その塗布インクを前記電解質層13上にコート法により塗布することで白色反射層18を形成させる。前記溶媒としては、例えば、水、アルコール類、セルソルブ、ハロゲン化炭素類、ケトン、エーテル類などが挙げられる。前記コート法としては、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法などが挙げられる。第2実施形態のエレクトロクロミック表示素子は、第1の表示電極11A、第1のエレクトロクロミック層12Aを形成後、必要に応じて絶縁層17を形成する。前記絶縁層17の形成方法としては、例えば、CVD、プラズマCVD法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。絶縁層を形成後、さらに第2の表示電極11Bを第1の表示電極11Aと同様の方法により形成し、第2の表示電極11Bを形成後、第2のエレクトロクロミック層12Bを第1のエレクトロクロミック層12Aと同様の方法により形成する。以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。合成例1-電解質層前駆体材料の調製-電解質として、過塩素酸テトラブチルアンモニウムの炭酸プロピレン溶液濃度2mol/lと、PNLC用の液晶化合物、重合性モノマー、及び重合開始剤の混合物PNM-170大日本インキ化学工業社製とを混合した。過塩素酸テトラブチルアンモニウムの炭酸プロピレン溶液の濃度を約0.04mol/lになるように調製し、電解質層の平均厚みを規定するために0.2質量の真球状樹脂ビーズ重量平均粒径10μmを分散させることで電解質層前駆体材料を調製した。合成例2-電解質層前駆体材料の調製-電解質として、イオン性液体である1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタネスルフォニルイミドEMI-TFSIと、PNLC用の液晶化合物、重合性モノマー、及び重合開始剤の混合物PNM-170大日本インキ化学工業社製とを混合した。EMI-TFSIの濃度を約0.1mol/lになるように調製し、電解質層の平均厚みを規定するために0.2質量の真球状樹脂ビーズ平均粒径10μmを分散させることで電解質層前駆体材料を調製した。実施例1<エレクトロクロミック表示素子の作製>-表示電極の形成-40mm×40mmのガラス基板表示基板上の全面にスパッタ法により平均厚みが100nmのITO膜を形成することで表示電極を形成した。この電極端部間の抵抗は、約200Ωであった。-エレクトロクロミック層の形成-表示電極上に、酸化チタンナノ粒子分散液昭和タイタニウム社製、SP210をスピンコートし、その後、120°Cで15分間のアニール処理により、酸化チタン粒子膜を表示電極上に形成した。酸化チタン粒子膜上に下記構造式で表されるビオロゲン化合物Aの2,2,3,3-テトラフロロプロパノールの5質量溶液をスピンコートし、120°Cで10分間のアニール処理により、酸化チタンナノ粒子とエレクトロクロミック化合物からなるエレクトロクロミック層を形成した。-対向電極の形成-40mm×40mmのガラス基板対向基板の上面の10mm×30mmの領域にスパッタ法により平均厚みが100nmのITO膜を形成することで対向電極を形成した。この電極端部間の抵抗は、約200Ωであった。-電解質層の形成-エレクトロクロミック層上に合成例1で調製した電解質層前駆体材料を塗布した。塗布後、対向電極を重ね合わせ、高圧水銀ランプにより波長ピークが365nmの紫外線照射光強度50mW/cm2を対向電極側から2分間照射し、光重合相分離させることで電解質層を介するエレクトロクロミック表示素子を作製した。電解質層は散乱による白色を呈し、所望の構造であることが確認された。実施例2<エレクトロクロミック表示素子の作製>実施例1において、合成例1で調製した電解質層前駆体材料を合成例2で調製した電解質層前駆体材料に代えた以外は、実施例1と同様にして、エレクトロクロミック表示素子を作製した。実施例3<エレクトロクロミック表示素子の作製>実施例1において、以下のようにエレクトロクロミック表示素子を作製した以外は、実施例1と同様にしてエレクトロクロミック表示素子を作製した。-第1の表示電極の形成-40mm×40mmのガラス基板表示基板の上面の30mm×25mmの領域にスパッタ法により平均厚みが100nmのITO膜を形成することで第1の表示電極を形成した。この電極端部間の抵抗は、約200Ωであった。-第1のエレクトロクロミック層の形成-第1の表示電極上に、酸化チタンナノ粒子分散液昭和タイタニウム社製、SP210をスピンコートし、その後、120°Cで15分間のアニール処理により、酸化チタン粒子膜を表示電極上に形成した。酸化チタン粒子膜上に上記構造式で表されるビオロゲン化合物Aの2,2,3,3-テトラフロロプロパノールの1質量溶液をスピンコートし、120°Cで10分間のアニール処理により、酸化チタンナノ粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第1のエレクトロクロミック層を形成した。-保護層の形成-第1のエレクトロクロミック層上にポリNビニルアミド0.1質量エタノール溶液、ポリビニルアルコール0.5質量水溶液をスピンコートすることにより保護層を形成した。-絶縁層の形成-保護層上にZnS-SIO2ZnS/SIO2=8/2を用い、スパッタ法により厚みが25nm~150nmの絶縁層を形成した。-第2の表示電極の形成-絶縁層上に、先に形成したITO膜第1の表示電極と重ならないように25mm×25mmの領域にスパッタ法により平均厚みが100nmのITO膜を形成することで第2の表示電極を形成した。この電極端部間の抵抗は、約200Ωであった。-第2のエレクトロクロミック層の形成-第2の表示電極上に、酸化チタンナノ粒子分散液昭和タイタニウム社製、SP210をスピンコートし、その後、120°Cで15分間のアニール処理により、酸化チタン粒子膜を表示電極上に形成した。酸化チタン粒子膜上に上記構造式で表されるビオロゲン化合物Aの2,2,3,3-テトラフロロプロパノールの1質量溶液をスピンコートし、120°Cで10分間のアニール処理により、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第2のエレクトロクロミック層を形成した。評価作製した各エレクトロクロミック表示素子の発色又は消色の高速応答性、画像ボケの観察、白反射率、及び多色表示の観察を行った。結果を表1に示す。<高速応答性>各エレクトロクロミック表示素子の表示電極側に負極をつなぎ、対向電極側に正極をつなぎ、6Vの電圧を印加した。印加後から発色するまでの時間を測定し、発色は目視で確認した。同様に、-6V印加したときの印加後から発色するまでの時間を測定した。<画像ボケの観察>各エレクトロクロミック表示素子の表示電極側に負極をつなぎ、対向電極側に正極をつなぎ、6Vの電圧を印加した。この状態を30分間放置し、発色している部分と発色していない部分対向電極のITO対向電極がない部分との境界を目視で観察し、以下の評価基準で評価した。[評価基準]◎:発色直後と変化がなく、時間経過による画像ボケが見られない。○:発色直後と多少の変化があるが、時間経過による画像ボケが見られない。△:発色直後と変化がないが、時間経過による画像ボケが見られた。×:発色直後と変化があり、時間経過による画像ボケも見られた。表1から、実施例1~実施例3は、画像ボケが見られなかった。これは、三次元架橋構造にすることで電解質の粘性が増大し、電解質層への電荷の拡散が抑制されたためと考えられる。実施例1~実施例3の高速応答性は、良好であった。高速応答性を起こすために素子内に電界を印加すると、液晶性電解質は電界方向に異方性をもって配向する。この作用により電界方向、すなわち表示電極と対向電極の間に電荷が流れやすくなり、良好な応答特性が得られたと考えられる。発色反応を起こした後、電界印加をしない状態においては、再び液晶性電解質はランダムに分散するため、上述のように電荷の拡散が抑制され、発色部分の拡散が起こらなかったと考えられる。"