"塗布領域と非塗布領域を有し、シート状に形成された基材の両面の前記塗布領域に塗液を塗布する両面塗工装置において、前記基材を送出方向に搬送する搬送機構と、前記基材の一方の面側に配置され、前記塗液を前記送出方向に交差する向きに塗布領域と非塗布領域とを交互に形成して前記塗液を塗布する第1塗布ヘッドと、前記基材の他方の面側に配置され、前記塗液を前記送出方向に交差する向きに塗布領域と非塗布領域とを交互に形成して前記塗液を塗布する第2塗布ヘッドと、前記基材の一方の面側で且つ前記第2塗布ヘッドの前記基材を挟んだ対向する位置近傍に配置され、軸方向に沿った両端部に第1ローラ、これら第1ローラの間に設けられた第2ローラ、これら第1ローラ及び第2ローラを回転させると共に、前記第1ローラの周速は前記第2ローラの周速よりも大とさせる回転機構を有する塗工ロールとを備えていることを特徴とする両面塗工装置。前記塗工ロールは、前記第1ローラは大径の円柱、前記第2ローラは小径の円柱に形成され、前記回転機構は前記第1ローラと前記第2ローラを一体、かつ、同軸で連結する軸体であることを特徴とする請求項1に記載の両面塗工装置。前記塗工ロールは、前記第1ローラは大径、前記第2ローラは小径に形成され、前記回転機構は前記第1ローラと前記第2ローラを同一回転数で回転させることを特徴とする請求項1に記載の両面塗工装置。前記塗工ロールは、前記第1ローラと前記第2ローラとは同径に形成され、前記回転機構は前記第1ローラの回転数を前記第2ローラの回転数よりも大とすることを特徴とする請求項1に記載の両面塗工装置。前記塗工ロールは、前記第1ローラは大径の円錐台、前記第2ローラは小径の円錐台に形成され、前記回転機構は前記第1ローラと前記第2ローラを同一回転数で回転させることを特徴とする請求項1に記載の両面塗工装置。上述した両面塗工装置では、次のような問題があった。すなわち、基材の左右端をローラで把持する場合、塗布ヘッドが塗布する位置と把持する位置が離れているため、脈動を減少させる効果が十分ではなかった。また、基材を鉛直方向に真直ぐに維持するためには、両面を同時にバランス良く塗工できる塗布ヘッドが必要となり、装置コストが高くなる虞があった。そこで、基材の左右方向の脈動を抑え、良好な両面同時塗布を行うことができる両面塗布装置を提供することを目的としている。塗布領域と非塗布領域を有し、シート状に形成された基材の両面の前記塗布領域に塗液を塗布する両面塗工装置において、前記基材を送出方向に搬送する搬送機構と、前記基材の一方の面側に配置され、前記塗液を前記送出方向に交差する向きに塗布領域と非塗布領域とを交互に形成して前記塗液を塗布する第1塗布ヘッドと、前記基材の他方の面側に配置され、前記塗液を前記送出方向に交差する向きに塗布領域と非塗布領域とを交互に形成して前記塗液を塗布する第2塗布ヘッドと、前記基材の一方の面側で且つ前記第2塗布ヘッドの前記基材を挟んだ対向する位置近傍に配置され、軸方向に沿った両端部に第1ローラ、これら第1ローラの間に設けられた第2ローラ、これら第1ローラ及び第2ローラを回転させると共に、前記第1ローラの周速は前記第2ローラの周速よりも大とさせる回転機構を有する塗工ロールとを備えた。図1は第1の実施形態に係る両面塗工装置10を模式的に示す説明図、図2は両面塗工装置10に組み込まれた塗工ロール50を模式的に示す斜視図である。なお、図中Sは、アルミニウム箔等のシート状の基材、Dは電解液等の塗液を示している。なお、基材Sには、塗液Dが塗布される塗布領域Saと、塗液Dが塗布されない非塗布領域Sbが設けられており、塗布領域Saと非塗布領域Sbは基材Sの幅方向W送出方向Fに直交する向きに交互に設定されている。両面塗工装置10は、基材Sを所定の送出方向Fに送り出す送出機構搬送機構20と、この送出機構20の下流側に順次設けられた第1の塗布部30、第2の塗布部40、乾燥装置100とを備えている。第1の塗布部30は、基材Sの表面S1側に設けられた第1塗布ヘッド31と、この第1塗布ヘッド31に対し基材Sを挟んで裏面S2側に設けられたバックアップロール32とを備えている。バックアップロール32は円筒形状に形成されている。第1塗布ヘッド31及び後述する第2塗布ヘッド41はいずれも片面塗工に用いられている一般的な塗布ヘッドである。第2の塗布部40は、基材Sの裏面S2側に設けられた第2塗布ヘッド41と、この第2塗布ヘッド41に対し基材Sを挟んで表面S1側に設けられた塗工ロール50とを備えている。塗工ロール50は、円柱状の軸体回転機構51を有し、その軸方向基材Sの幅方向両端側に大径の円柱状に形成された第1ローラ52、中間部分に小径の円柱状に形成された第2ローラ53が一体に設けられている。第1ローラ52及び第2ローラ53は同一の回転軸上に形成されているため、基材Sに対して第1ローラ52に比べて第2ローラ53が凹んでおり、塗工ロール50の基材Sとの接触面を補間すると鼓状となる。第1ローラ52及び第2ローラ53は、塗液Dが塗布されない非塗布領域Sbに対応して設けられている。軸体51は、第1ローラ52と第2ローラ53を同一回転数で回転させる。すなわち、第1ローラ52の周速は第2ローラ53の周速よりも大となる。このように構成された両面塗工装置10では、次のようにして両面塗工が行われる。すなわち、送出機構20により、未塗工の基材Sを所定の送出方向Fに送り出す。次に、第1の塗布部30において第1塗布ヘッド31により、基材Sの表面S1側に塗液Dを塗工する。このとき、バックアップロール32により基材Sは幅方向に均一に押圧されており、塗液Dは均一幅方向にプロファイルに脈動が生じないに塗布されることとなる。次に、第2の塗布部40において第2塗布ヘッド41により、基材Sの裏面S2側に塗液Dを塗工する。このとき、塗工ロール50により基材Sは第2塗布ヘッド41側に押圧される。これにより、第2塗布ヘッド41と基材Sとの距離が高精度に制御される。塗工ロール50は、第1ローラ52及び第2ローラ53を有しており、これらが軸体51により一体に回転している。すなわち、第1ローラ52の周速は第2ローラ53の周速よりも大となっている。このため、基材Sは、周速の小さい第2ローラ53側より周速の大きい第1ローラ52側、すなわち、幅方向中央側から幅方向両端側にかけて引張力を受ける。このため、基材Sの表面Saの幅方向全体にローラが当接していない場合であっても、基材Sに皺が生じることがなく、塗液Dは均一幅方向にプロファイルに脈動が生じないに塗布されることとなる。このようにして、表面Sa及び裏面Sbに塗液Dが塗布された基材Sは、乾燥装置100内に送られ、乾燥処理が行われ、塗布工程が完了する。上述したように、本実施形態に係る両面塗工装置10においては、第2塗布ヘッド41と基材Sとの距離が高精度に制御されるとともに、基材Sの幅方向両端側に引張力を受ける。このため、基材Sに皺が生じることがなく、塗液Dは表面Sa及び裏面Sb共に均一幅方向にプロファイルに脈動が生じないに塗布されることとなる。図3は両面塗工装置10に組み込まれた塗工ロール60を模式的に示す斜視図である。塗工ロール60は、等速ジョイント回転機構61を有し、その軸方向基材Sの幅方向両端側に大径の円柱状に形成された第1ローラ62、中間部分に小径の円柱状に形成された第2ローラ63を接続している。第1ローラ62の回転軸と第2ローラ63の回転軸とは偏心しており、基材S側の外周面が同一平面上に位置している。等速ジョイント61は、第1ローラ62と第2ローラ63を同一回転数で回転させる。すなわち、第1ローラ52の周速は第2ローラ53の周速よりも大となる。このように構成された塗工ローラ60を用いた場合においても、上述した塗工ローラ50と同様にして塗工が行われる。すなわち、第2の塗布部40において第2塗布ヘッド41により、基材Sの裏面S2側に塗液Dを塗工する。すなわち、塗工ロール60により基材Sは第2塗布ヘッド41側に押圧される。塗工ロール60は、第1ローラ62及び第2ローラ63を有しており、これらが等速ジョイント61により一体に回転している。すなわち、第1ローラ62の周速は第2ローラ63の周速よりも大となっている。このため、基材Sは、周速の小さい第2ローラ63側より周速の大きい第1ローラ62側、すなわち、幅方向中央側から幅方向両端側にかけて引張力を受ける。このため、基材Sの表面Saの幅方向全体にローラが当接していない場合であっても、第2塗布ヘッド41と基材Sとの距離が高精度に制御されるとともに、基材Sに皺が生じることがなく、塗液Dは均一幅方向にプロファイルに脈動が生じないに塗布されることとなる。上述したように、塗工ロール60を用いた場合であっても、塗工ロール50を用いた場合と同様の効果を得ることができる。図4は両面塗工装置10に組み込まれた塗工ロール70を模式的に示す斜視図である。塗工ロール70は、歯車機構回転機構71を有し、その軸方向基材Sの幅方向両端側に円柱状に形成された第1ローラ72、中間部分に第1ローラ72と同径の円柱状に形成された第2ローラ73を接続している。第1ローラ72及び第2ローラ73の基材S側の外周面が同一平面上に位置している。歯車機構71は、第1ローラ72を第2ローラ73よりも大きい回転数で回転させる。すなわち、第1ローラ72の周速は第2ローラ73の周速よりも大となる。このように構成された塗工ローラ70を用いた場合においても、上述した塗工ローラ50と同様にして塗工が行われる。すなわち、第2の塗布部40において第2塗布ヘッド41により、基材Sの裏面S2側に塗液Dを塗工する。すなわち、塗工ロール70により基材Sは第2塗布ヘッド41側に押圧される。塗工ロール70は、第1ローラ72及び第2ローラ73を有しており、これらが歯車機構71により回転数差をもって回転している。すなわち、第1ローラ62の周速は第2ローラ63の周速よりも大となっている。このため、基材Sは、周速の小さい第2ローラ73側より周速の大きい第1ローラ72側、すなわち、幅方向中央側から幅方向両端側にかけて引張力を受ける。このため、基材Sの表面Saの幅方向全体にローラが当接していない場合であっても、第2塗布ヘッド41と基材Sとの距離が高精度に制御されるとともに、基材Sに皺が生じることがなく、塗液Dは均一幅方向にプロファイルに脈動が生じないに塗布されることとなる。上述したように、塗工ロール70を用いた場合であっても、塗工ロール50を用いた場合と同様の効果を得ることができる。図5は両面塗工装置10に組み込まれた塗工ロール80を模式的に示す斜視図である。塗工ロール80は、回転機構81を有している。回転機構81は軸体81a及び等速ジョイント81bを備えている。回転機構81が、その軸方向基材Sの幅方向両端側に大径の円錐台状に形成された第1ローラ82、中間部分に小径の円錐台に形成された第2ローラ83が一対設けられている。それぞれの第1ローラ82及び第2ローラ83は軸体81aにより結合されている。各第2ローラ83は等速ジョイント81bで結合されている。第1ローラ82及び第2ローラ83は、塗液Dが塗布されない非塗布領域Sbに対応して設けられている。軸体81a及び等速ジョイント81bは、全ての第1ローラ82と第2ローラ83を同一回転数で回転させる。すなわち、第1ローラ82の周速は第2ローラ83の周速よりも大となる。すなわち、第1ローラ72の周速は第2ローラ73の周速よりも大となる。このように構成された塗工ロール80を用いた場合においても、上述した塗工ローラ50と同様にして塗工が行われる。すなわち、第2の塗布部40において第2塗布ヘッド41により、基材Sの裏面S2側に塗液Dを塗工する。すなわち、塗工ロール80により基材Sは第2塗布ヘッド41側に押圧される。塗工ロール80は、第1ローラ82及び第2ローラ83を有しており、これらが回転機構81により同一回転数で回転している。すなわち、第1ローラ82の周速は第2ローラ83の周速よりも大となっている。このため、基材Sは、周速の小さい第2ローラ83側より周速の大きい第1ローラ82側、すなわち、幅方向中央側から幅方向両端側にかけて引張力を受ける。このため、基材Sの表面Saの幅方向全体にローラが当接していない場合であっても、第2塗布ヘッド41と基材Sとの距離が高精度に制御されるとともに、基材Sに皺が生じることがなく、塗液Dは均一幅方向にプロファイルに脈動が生じないに塗布されることとなる。上述したように、塗工ロール80を用いた場合であっても、塗工ロール50を用いた場合と同様の効果を得ることができる。図6は第2の実施形態に係る両面塗工装置10Aを模式的に示す説明図である。なお、図6において図1と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。両面塗工装置10Aにおいては、上述した塗工ロール60,70,80を第2塗布ヘッド41の対向位置ではなく、基材Sの進行方向に沿って前後位置に配置している。このように配置しても、塗工ロール60,70,80は、基材Sのバックアップとして機能するとともに、基材Sに幅方向中央側から幅方向両端側にかけて引張力を発生させることができる。したがって、基材Sの表面Saの幅方向全体にローラが当接していない場合であっても、第2塗布ヘッド41と基材Sとの距離が高精度に制御されるとともに、基材Sに皺が生じることがなく、塗液Dは均一幅方向にプロファイルに脈動が生じないに塗布されることとなる。図7は第3の実施形態に係る両面塗工装置10Bを模式的に示す説明図である。なお、図7において図1と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。両面塗工装置10Bにおいては、上述した塗工ロール60,70,80を第2塗布ヘッド41の対向位置ではなく、基材Sの進行方向に沿って後方位置に配置している。このように配置しても、塗工ロール60,70,80は、基材Sのバックアップとして機能するとともに、基材Sに幅方向中央側から幅方向両端側にかけて引張力を発生させることができる。したがって、基材Sの表面Saの幅方向全体にローラが当接していない場合であっても、第2塗布ヘッド41と基材Sとの距離が高精度に制御されるとともに、基材Sに皺が生じることがなく、塗液Dは均一幅方向にプロファイルに脈動が生じないに塗布されることとなる。図8は第4の実施形態に係る両面塗工装置10Cを模式的に示す説明図である。なお、図8において図1と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。両面塗工装置10Cにおいては、上述した塗工ロール60,70,80を第2塗布ヘッド41の対向位置ではなく、基材Sの進行方向に沿って前方位置に配置している。このように配置しても、塗工ロール60,70,80は、基材Sのバックアップとして機能するとともに、基材Sに幅方向中央側から幅方向両端側にかけて引張力を発生させることができる。したがって、基材Sの表面Saの幅方向全体にローラが当接していない場合であっても、第2塗布ヘッド41と基材Sとの距離が高精度に制御されるとともに、基材Sに皺が生じることがなく、塗液Dは均一幅方向にプロファイルに脈動が生じないに塗布されることとなる。本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。"