"少なくともホウ素を含有するガラス体を得る工程と、前記ガラス体を相分離させる工程と、前記相分離されたガラス体を、ホウ素濃度が5乃至140ppmであるホウ素含有溶液に接触させる工程と、を有することを特徴とする多孔質ガラスの製造方法。前記ホウ素含有溶液が、pH4.0乃至10.0の範囲のpHを有する溶液であることを特徴とする請求項1に記載の多孔質ガラスの製造方法。前記ホウ素含有溶液が、pH5.0乃至7.0の範囲のpHを有する溶液であることであることを特徴とする請求項2に記載の多孔質ガラスの製造方法。前記相分離されたガラス体を、エッチング液に接触させた後、前記ホウ素含有溶液に接触させる工程を行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の多孔質ガラスの製造方法。上述のようにガラスに相分離を施すことで形成するナノサイズの三次元網目構造を有する可溶相を、よりガラス内部に至るまで選択的に取り除くエッチング技術が強く求められている。本発明は、このような背景技術に鑑みてなされたものであり、よりガラス内部にまでナノサイズの孔径で高い多孔度を有する多孔質ガラスの製造方法を提供するものである。上記の課題を解決する多孔質ガラスの製造方法は、少なくともホウ素を含有するガラス体を得る工程と、前記ガラス体を相分離させる工程と、前記相分離されたガラス体を、ホウ素濃度が5乃至140ppmであるホウ素含有溶液に接触させる工程と、を有することを特徴とする。本発明によれば、ガラス内部にまでナノサイズの孔径で高い多孔度を有する多孔質ガラスの製造方法を提供することができる。本発明に係る多孔質ガラスの製造方法は、少なくともホウ素を含有するガラス体を得る工程と、前記ガラス体を加熱して相分離する工程と、前記相分離されたガラス体を、ホウ素濃度が5乃至140ppmであるホウ素含有溶液に接触させる工程とを有することを特徴とする。本発明は、相分離を施したガラス相の選択エッチングに適応でき、エッチングがよりガラス内部にまで進行することで、ガラス内部にまでナノサイズでの高い多孔度を有する多孔質ガラスの製造方法を提供することができる。以下、本発明の実施形態について、一般的な相分離ガラスを用いた多孔質ガラスの製造方法を例示しながら詳細に説明する。本発明における多孔質ガラスの母体となる相分離可能なガラス体以降、分相性ガラスとも記す場合があると、分相性ガラスを加熱して相分離されたガラス体以降、相分離ガラスとも記すは、ホウ素成分を含有することが必須である。相分離とは、たとえば分相性ガラスに酸化ケイ素-酸化ホウ素-アルカリ金属酸化物の硼珪酸系ガラスを用いた場合、ガラス内部でアルカリ金属酸化物-酸化ホウ素を相分離前組成より多く含有する相と、アルカリ金属酸化物-酸化ホウ素を少なく含有する相に、数nmスケールの構造で分離を起こさせることを意味する。本発明の分相性ガラスの材質としては、特に限定されるものではないが、例えば、酸化ケイ素系分相性ガラスI母体ガラス組成:酸化ケイ素-酸化ホウ素-アルカリ金属酸化物、酸化ケイ素系分相性ガラスII母体ガラス組成:酸化ケイ素-酸化ホウ素-アルカリ金属酸化物-アルカリ土類金属酸化物,酸化亜鉛,酸化アルミニウム,酸化ジルコニウム、酸化チタン系分相性ガラス母体ガラス組成:酸化ケイ素-酸化ホウ素-酸化カルシウム-酸化マグネシウム-酸化アルミニウム-酸化チタンなどが挙げられる。なかでも、酸化ケイ素-酸化ホウ素-アルカリ金属酸化物のホウケイ酸系ガラスを分相性ガラスに用いることが好ましい。さらには、ホウケイ酸系ガラスにおいて、酸化ケイ素の含有割合は55重量以上、特に60重量以上の組成のガラスが好ましい。60重量以上であると、多孔質ガラスの骨格強度が高くなる傾向にあり、強度が必要とされる場合に有用である。分相性ガラスの製造方法は、上記組成となるように原料を調製するほかは、公知の方法を用いて製造することができる。具体的には、少なくともホウ素を含有するガラス原料を混合溶融して得ることができる。例えば、各成分の供給源を含む原料を加熱溶融し、必要に応じて所望の形態に成形することにより製造することができる。加熱溶融する場合の加熱温度は、原料組成等により適宜設定すれば良いが、通常は1350から1450°C、特に1380から1430°Cの範囲とすることが好ましい。例えば、上記原料として炭酸ナトリウム、ホウ酸及び二酸化珪素を均一に混合し、1350から1450°Cに加熱溶融すれば良い。この場合、原料は、前記のアルカリ金属酸化物、酸化ホウ素及び酸化ケイ素の成分を含むものであればどのような原料を用いても良い。また、多孔質ガラスを所定の形状にする場合は、分相性ガラスを合成した後、概ね1000から1200°Cの温度下で管状、板状、球状等の各種の形状に成形すれば良い。例えば、上記原料を溶融して分相性ガラスを合成した後、溶融温度から温度を降下させて1000から1200°Cに維持した状態で成形する方法を好適に採用することができる。相分離ガラスは、一般的には、分相性ガラスを加熱処理することで相分離させることで得られる。相分離する加熱処理温度は400から800°Cとし、加熱処理時間は通常10から100時間の範囲内において、得られる多孔質ガラスの細孔径等に応じて適宜設定することができる。多孔質ガラスは、加熱処理工程より得られる相分離ガラスから細孔となる部分を除去することで得ることができる。相分離ガラスから細孔となる部分を除去する方法は、水溶液に接触させることで可溶相を溶出することが一般的である。水溶液をガラスに接触させる方法としては、水溶液中にガラスを浸漬させる方法が一般的であるが、ガラスに水溶液をかけるなど、ガラスと水溶液が接触する方法であれば何ら限定されない。この水溶液としては、水、酸溶液、アルカリ溶液など、可溶相を溶出可能な既存の如何なるエッチング溶液を使用することも可能である。また、用途に応じてこれらの水溶液に接触させる工程を複数種類選択してもよい。一般的な相分離ガラスのエッチングでは、非可溶相部分への負荷の小ささと選択エッチングの度合いの観点から酸処理が好適に用いられる。酸溶液と接触させることによって、酸可溶成分であるアルカリ金属酸化物-酸化ホウ素リッチ相が溶出除去される一方で、非可溶相の侵食は比較的小さく、高い選択エッチング性を達成可能である。酸溶液としては、例えば塩酸、硝酸等の無機酸等を好ましく用いることができ、酸溶液は通常は水を溶媒とした水溶液の形態で好適に使用することができる。酸溶液の濃度は、通常は0.1mol/lから2.0mol/l0.1から2規定の範囲内で適宜設定すれば良い。この酸処理工程では、その溶液の温度を室温から100°Cの範囲とし、処理時間は1から100時間程度とすれば良い。なお、相分離ガラスのエッチングに使用されるエッチング溶液は、上述したように、酸溶液でなくても水、アルカリ溶液であってもよい。本発明は、相分離されたガラス体のエッチング工程において、相分離されたガラス体を、ホウ素濃度が5乃至140ppmであるホウ素含有溶液に接触させる工程を有している。本発明者らは、相分離されたガラス体を上記のホウ素濃度が制御されたホウ素含有溶液に接触させることによって、従来までは達成できなかった水準でのエッチング進行が達成可能であることを見出した。通常であれば、可溶相構成成分であるホウ素を含有する溶液に接触させることは、ホウ素成分を含有する可溶相のエッチング抑制につながると考えられている。例えば、特開平08-175847号公報特許文献3ではエッチング溶液中に非可溶相構成成分であるホウ素を添加することで、非可溶相のエッチングを抑制させることで、選択エッチングを狙っている。実際に、本発明者らが検討した結果、特許文献3で開示されているようにホウ素濃度が高い領域では逆にエッチングが進行しない結果が確認された。本発明は、相分離したガラス体を、ホウ素濃度が5乃至140ppmであるホウ素含有溶液に接触させる為、従来技術からは全く発想が不可能であった効果を発現することができると考えられる。本発明のホウ素含有溶液に接触させる効果が発現する具体的なメカニズムは明らかではないが、以下のように推測される。相分離後の可溶相はホウ素とケイ素がネットワーク状につながった状態を形成していると考えられる。すなわち、エッチング工程において、可溶相はホウ素成分がエッチングされる際に、周囲に結合しているシリカ成分を巻き込んでエッチングされていると推測される。しかしながら、溶液中へのホウ素の溶出拡散速度が速いと、周囲のシリカを巻き込まずにエッチング液中にホウ素が溶出するため、ガラス体からホウ素成分だけが抜け、残存したケイ素成分が非特許文献2に記載されているようなゲル状シリカを形成していると考えている。本発明では、ホウ素がある程度溶液中に存在するホウ素含有溶液エッチング液を使用することによって、ホウ素の溶出速度が制御され、結果的にシリカの溶出を促進することでゲル状シリカの堆積が抑制されていると推測される。また、本発明者らの検討の結果、ホウ素濃度はガラス体を接触させる初期の濃度が非常に重要であることが明らかになった。このことはガラス体内部と溶液中とのホウ素濃度差が大きい際に、最もホウ素の溶出速度が大きくなるため、その時点での溶出速度を抑制することによってより高い効果を達成することが可能であると考えられる。本発明の製造方法において、相分離したガラス体を、ホウ素濃度が5乃至140ppm、好ましくは5乃至115ppm、より好ましくは15乃至115ppmであるホウ素含有溶液に接触させるのが望ましい。ホウ素濃度が5ppmよりも小さい場合、ホウ素の添加効果を充分に得ることができない。また、ホウ素濃度が140ppmよりも大きい場合、ホウ素成分のエッチング抑制の効果が大きくなり、逆にエッチングが進行しない傾向にある。使用できるホウ素源としては、例えば、ホウ酸類、ホウ酸エステル、ホウ酸塩、水素化ホウ素類等が挙げられる。本発明で使用されるガラス体としては、ホウ素を含有しているガラス体を分相した相分離ガラスが存在する構造体であればいかなるものも使用可能である。例えば、全体が相分離ガラスである構造体や、構造体の一部に相分離ガラスが存在する構造体などで、本発明の効果を好適に得ることが可能である。構造体の一部に相分離ガラスが存在する場合、相分離ガラスが形成された部分がホウ素含有溶液に接触されることで、本発明の効果を奏することができる。本発明の範囲に入るようなホウ素濃度範囲を達成する水溶液であれば、既存の如何なる手法を用いて調整された水溶液を使用することが可能である。その中でも、ホウ素濃度の制御しやすさの観点から水溶液中にホウ素源を溶解することでホウ素含有水溶液を調整することが好適に用いられる。本発明のホウ素含有水溶液としてはアルカリ性溶液から酸性溶液まで、何ら限定することなく使用することが可能である。好ましくは、ホウ素含有水溶液のpHが4.0乃至10.0である。最適には、pHが5.0乃至7.0である。上記のpHの範囲を有するホウ素含有溶液では、溶液へのホウ素成分溶出速度が小さく、ホウ素源を添加することによるホウ素成分の溶解速度の制御が容易になるため、本発明の効果をより得やすくなる傾向にある。pHが4.0よりも小さいと、酸によるホウ素成分溶出速度が大きく、ホウ酸を添加することによるホウ素成分の溶解速度の制御が困難になると推測している。また、pHが10.0よりも大きいと、アルカリよるホウ素成分溶出速度が大きく、ホウ酸を添加することによるホウ素成分の溶解速度の制御が困難になると推測している。一般に、酸溶液やアルカリ溶液などのエッチング溶液でエッチング処理エッチング工程1をした後に水処理エッチング工程2をすることが好ましい。水処理を施すことで、多孔質ガラス骨格への残存成分の付着物を抑制することができ、より多孔度の高い多孔質ガラスが得られる傾向にある。水処理工程における温度は、一般的には室温から100°Cの範囲内とすれば良い。水処理工程の時間は、対象となるガラスの組成、大きさ等に応じて適宜定めることができるが、通常は1から50時間程度とすれば良い。なお、エッチング処理で使用するエッチング液がホウ素を含有していてもよいし、水処理で使用される水がホウ素を含有していてもよい。本発明は、相分離したガラス体を、エッチング液に接触させた後、ホウ素含有溶液に接触させることでより大きな効果を出すことが可能である。具体的には、前記水処理工程時の水に含有されるホウ素濃度を制御してやればよい。この理由については定かではないが、本発明者らは以下のように推測している。すなわち、水処理工程時には、エッチング工程1の効果により、ガラス中のホウ素濃度がある程度小さくなっており、水溶液中にホウ素が存在することによる溶出速度の制御が容易にできるためであると考えられる。特に水処理で使用されるホウ素含有水溶液としては、pHが4.0乃至10.0であるものが好適に使用され、さらには、pHが5.0乃至7.0であるものがより好ましい。また、水処理で使用されるホウ素含有水溶液のホウ素濃度は、5乃至115ppmが好ましく、さらには、15乃至115ppmがより好ましい。なお、エッチング工程1で使用されるエッチング液とエッチング工程2でそれぞれ使用される水の両方がホウ素を含有していることがより望ましい。また、本発明は1回または複数回のエッチング工程を有していても問題がなく、溶液中のホウ素濃度が本発明の範囲内であれば効果を得ることが可能である。本発明により得られる多孔質ガラスの平均細孔径は、特に限定的でないが、1nmから900nmの範囲、特に2nmから500nmの範囲、さらには10nmから100nmであることが望ましい。多孔質ガラスの空孔率は、通常は10から90、特に20から80であることが望ましい。なお、平均細孔径が小さいほどエッチングが困難になる傾向にある。多孔質ガラスの形状は、特に制限されず、例えば管状、板状、膜状、基材上の層構造等の成形体が挙げられる。これらの形状は、多孔質ガラスの用途等に応じて適宜選択することができる。本発明により得られる多孔質ガラスは、多孔質構造を幅広く制御可能なため撮像、観察、投射および走査光学系の光学レンズやディスプレイ装置に用いる偏光板などの光学部材として用途が期待される。以下に実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例によって制限されるものではない。<ホウ素濃度測定方法>溶液中のホウ素の測定は以下のようにして行った。測定したい溶液を超純水にて100倍に希釈した。希釈したサンプルをICP発光光度分析装置商品名:CIROSCCD、製造元:SPECTRO社の誘導結合プラズマ中に噴霧し、波長249.773nmホウ素での発光強度を測定した。得られた結果を、濃度既知の検量線液の発光強度と比較することで、溶液中のホウ素濃度ppmを測定した。<pH測定方法>溶液のpH測定は以下のようにして行った。50mlガラス瓶に入れ、50mlに調整した溶液を、24°C及びエッチング時温度にてpH測定を行った。pH測定装置としてD-51堀場製作所製を用いた。なお、酸水溶液を測定するとpHが0.0よりも小さい場合測定範囲外も存在した。その場合は便宜的にpHを0.0とした。<ガラス体の作製例>仕込み組成とし、SiO264重量、B2O327重量、Na2O6重量、Al2O33重量になるように、石英粉末、酸化ホウ素、炭酸ナトリウム、及びアルミナの混合粉末を白金るつぼを用いて、1500°C、24時間溶融した。その後、ガラスを1300°Cに下げてから、グラファイトの型に流し込んだ。空気中で、約20分間放冷した後、500°Cの徐冷炉に5時間保持した。最後は、24時間かけて、冷却させた。得られたホウケイ酸塩ガラスのブロックを30mm×30mm×1.1mmのサイズに切断加工し、鏡面まで両面研磨を行った。空気中の環境下で2週間静置したものをマッフル炉を用いて560°Cで25時間かけて、相分離させた。次いで、相分離させたガラス板を、5mm×5mm×1.1mmのサイズに切断加工し、両面研磨してガラス体Aを得た。<溶液1-1の作製例>硝酸水溶液を1.0mol/l1.0規定となるように調整した溶液を溶液1-1とした。なお、本溶液のpHは24°Cでは0.0であり、80°Cでは0.0であった。また、本溶液中のホウ素濃度は0ppmであった。<溶液1-2の作製例>1.0mol/l1.0規定となるように調整した硝酸水溶液50g中にホウ酸を0.010g添加し、溶液1-2を得た。なお、本溶液のpHは24°Cでは0.0であり、80°Cでは0.0であった。また、本溶液中のホウ素濃度は35ppmであった。<溶液1-3の作製例>1.0mol/l1.0規定となるように調整した硝酸水溶液50g中にホウ酸を0.030g添加し、溶液1-3を得た。なお、本溶液のpHは24°Cでは0.0であり、80°Cでは0.0であった。また、本溶液中のホウ素濃度は107ppmであった。<溶液1-4の作製例>1.0mol/l1.0規定となるように調整した硝酸水溶液50g中にホウ酸を0.005g添加し、溶液1-4を得た。なお、本溶液のpHは24°Cでは0.0であり、80°Cでは0.0であった。また、本溶液中のホウ素濃度は14ppmであった。<溶液1-5の作製例>1.0mol/l1.0規定となるように調整した硝酸水溶液50g中にホウ酸を0.035g添加し、溶液1-5を得た。なお、本溶液のpHは24°Cでは0.0であり、80°Cでは0.0であった。また、本溶液中のホウ素濃度は131ppmであった。<溶液1-6の作製例>1.0mol/l1.0規定となるように調整した硝酸水溶液50g中にホウ酸を0.050g添加し、溶液1-6を得た。なお、本溶液のpHは24°Cでは0.0であり、80°Cでは0.0であった。また、本溶液中のホウ素濃度は179ppmであった。<溶液2-1の作製例>イオン交換水を溶液2-1とした。なお、本溶液のpHは24°Cでは6.7であり、80°Cでは6.5であった。また、本溶液中のホウ素濃度は0ppmであった。<溶液2-2の作製例>イオン交換水50g中にホウ酸を0.010g添加し、溶液2-2を得た。なお、本溶液のpHは24°Cでは6.6であり、80°Cでは6.2であった。また、本溶液中のホウ素濃度は28ppmであった。<溶液2-3の作製例>イオン交換水50g中にホウ酸を0.030g添加し、溶液2-3を得た。なお、本溶液のpHは24°Cでは6.1であり、80°Cでは6.0であった。また、本溶液中のホウ素濃度は102ppmであった。<溶液2-4の作製例>イオン交換水50g中にホウ酸を0.005g添加し、溶液2-4を得た。なお、本溶液のpHは24°Cでは6.7であり、80°Cでは6.5であった。また、本溶液中のホウ素濃度は11ppmであった。<溶液2-5の作製例>イオン交換水50g中にホウ酸を0.035g添加し、溶液2-5を得た。なお、本溶液のpHは24°Cでは6.1であり、80°Cでは5.9であった。また、本溶液中のホウ素濃度は128ppmであった。<溶液2-6の作製例>イオン交換水50g中にホウ酸を0.040g添加し、溶液2-6を得た。なお、本溶液のpHは24°Cでは6.1であり、80°Cでは5.7であった。また、本溶液中のホウ素濃度は143ppmであった。<実施例1>ガラス体Aを、80°Cに加熱した溶液1-150g中に浸漬し、80°Cにて24時間静置したエッチング工程1。次いで、80°Cに加熱した溶液2-250g中に浸漬し、80°Cにて24時間静置したエッチング工程2。溶液からガラス体を取り出し、室温にて12時間乾燥することでガラス体1を得た。得られたガラス体1のエッチングの進行度合いを評価した。<エッチング進行度の測定>得られたガラス体1の破断面をSEMを用いて表面観察し、表面方向からのエッチングの進行度を評価した。装置は株日立ハイテクノロジー社製電界放出形走査電子顕微鏡S-4800商品名を使用し、加速電圧:5.0kV、倍率:150000倍で観察を行った。図1は、本発明の実施例1で得られたガラス体1多孔質ガラスの断面の電子顕微鏡写真である。ガラス体Aを断面方向からエッチングを行った結果、シリカ骨格のサイズ30nm程度であり、骨格間が30nm程度の連続細孔を有していた。エッチング後のガラス体1の破断面の観察をすることで、ガラスエッチングの進行度合いの評価が可能である。具体的には、ガラス表面から徐々にガラス内部に向かって観察を行う。骨格間が5nm以上である連続細孔を有している部分までをエッチング進行部分とした。ランクA:エッチング進行が表面から50μm以上である。ランクB:エッチング進行が表面から41μm以上49μm以下である。ランクC:エッチング進行が表面から31μm以上40μm以下である。ランクD:エッチング進行が表面から30μm以下である。30nmといったナノオーダーの細孔を有する多孔質ガラスであっても、ガラス体1では、表面から70μmまでエッチングが進行していた。本実施例1の結果を表1に示す。<実施例2乃至8>エッチング工程1において、溶液1-1の代わりに、表1に記載の溶液を使用し、エッチング工程2において溶液2-2の代わりに、表1に記載の溶液を使用する以外は実施例1と同様にして、ガラス体2乃至8を得た。得られたガラス体を実施例1に記載の評価を行った。その結果を表1に示す。ガラス体2ではエッチング進行度が52μmである。実施例2乃至8のいずれのサンプルも良好なエッチング進行度を示した。<比較例1乃至3>エッチング工程1において、溶液1-1の代わりに、表1に記載の溶液を使用し、エッチング工程2において溶液2-2の代わりに、表1に記載の溶液を使用する以外は実施例1と同様にして、ガラス体9乃至11を得た。得られたガラス体の評価を行った。その結果を表1に記す。比較例1乃至3のいずれのサンプルもエッチング進行度が30μm以下であり、実施例のサンプルと比較して、充分なエッチング進行が確認されなかった。"