マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系であって、ミラー配列200、720、730、920によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素200a、200b、200c、...、721、722、733、...、731、732、733、...を有する少なくとも1つのミラー配列200、720、730、920と、光学系の作動中にマニピュレータ300、720、910上に入射する光が入射場所に依存してその偏光状態及び/又は強度において異なって影響を受けるように光伝播方向に前記ミラー配列200、720、730、920の下流に配置され、かつマニピュレータ要素301、302、...、600、721、722、723、...のラスター配列を有する少なくとも1つのマニピュレータ300、720、910と、を含み、少なくとも2つの互いに異なる照明設定420、520が、前記ミラー配列200によって反射される光の角度分布の変動によって調節可能であり、該照明設定420、520は、照明系10の瞳平面の同一領域が異なる偏光状態の光で照明されるという意味で互いに異なっている、ことを特徴とする光学系。マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系であって、ミラー配列200、720、730、920によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素200a、200b、200c、...、721、722、733、...、731、732、733、...を有する少なくとも1つのミラー配列200、720、730、920と、光学系の作動中にマニピュレータ720上に入射する光が入射場所に依存してその偏光状態において異なって影響を受けるようにマニピュレータ要素721、722、723、...のラスター配列を有する少なくとも1つのマニピュレータ720、910と、を含み、前記マニピュレータ要素のうちの少なくとも1つが、Kerrセル又はPockelsセルである、ことを特徴とする光学系。マニピュレータ要素の前記ラスター配列は、それぞれの該マニピュレータ要素上に入射する光の前記偏光状態及び/又は前記強度に異なって影響を及ぼす領域の配列を提供し、該配列は、2つの互いに垂直な空間方向のうちの少なくとも一方において周期的に交替することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学系。問題の前記空間方向における前記周期的交替配列の前記周期の長さが、該空間方向の前記ミラー配列200、720、730、920の該周期長さ又は該周期長さの整数倍に対応することを特徴とする請求項3に記載の光学系。2つの互いに垂直な空間方向のうちの少なくとも一方における前記マニピュレータ要素の最大広がりが、該空間方向の前記マニピュレータの光学的使用可能区域の最大広がりの最大で10分の1、好ましくは最大で15分の1、より好ましくは最大で20分の1であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学系。前記マニピュレータ要素のうちの少なくとも1つ、特に全てのマニピュレータ要素の位置を変更するための位置マニピュレータが更に提供されることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の光学系。前記ミラー配列200及び前記マニピュレータ300は、近軸部分口径比が互いから最大で0.15、好ましくは最大で0.10だけ異なる位置に配置されることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。前記ミラー配列200及び/又は前記マニピュレータ300は、近軸部分口径比が0.8よりも大きく、好ましくは0.9よりも大きい位置に配置されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学系。前記ミラー配列200及び/又は前記マニピュレータ300は、近軸部分口径比が0.3よりも小さく、好ましくは0.2よりも小さい位置に配置されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学系。光学系が、2つのミラー配列720、730を有し、その各々が、それぞれの該ミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有し、前記ミラー配列の一方730は、前記光伝播方向に前記マニピュレータ720の上流に配置され、前記ミラー配列の他方720は、前記光伝播方向に前記マニピュレータ710の下流に配置される、ことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の光学系。マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系であって、光学系の作動時にマニピュレータ300、600、720、910上に入射する光が入射場所に依存してその偏光状態及び/又は強度において異なって影響を受けるような構成のものであるマニピュレータ300、720、910と、各ミラー配列が、それぞれのミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有し、ミラー配列の一方730が、光伝播方向に前記マニピュレータ720の上流に配置され、かつミラー配列の他方720が、該光伝播方向に該マニピュレータ710の下流に配置された2つのミラー配列720、730と、を含むことを特徴とする光学系。前記マニピュレータ300、710の互いに隣接するマニピュレータ要素が、光学系の作動時に該マニピュレータ上に入射する光に対して互いに直交する偏光状態を生成することを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の光学系。マニピュレータ要素の前記配列は、前記マニピュレータ300の前記光学的使用可能区域全体が照明される時に該マニピュレータ要素がそれらの前記偏光状態に対する影響において互いに相殺するようなものであることを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の光学系。少なくとも2つの互いに異なる照明設定420、520が、前記ミラー配列200によって反射される光の角度分布の変動によって調節可能であることを特徴とする請求項2から請求項13のいずれか1項に記載の光学系。前記照明設定420、520は、前記照明系10の瞳平面の同一領域が異なる偏光状態の光で照明されるという意味で互いから異なることを特徴とする請求項14に記載の光学系。前記照明設定は、前記照明系10の瞳平面の同一領域が異なる強度の光で照明されるという意味で互いから異なることを特徴とする請求項14又は請求項15に記載の光学系。前記照明設定のうちの少なくとも1つが、二重極照明設定、四重極照明設定、輪帯照明設定、及び従来照明設定を有する群から選択されることを特徴とする請求項14から請求項16のいずれか1項に記載の光学系。前記群の全ての照明設定が、調節可能であることを特徴とする請求項17に記載の光学系。前記ミラー配列200のミラー要素200a、200b、200c、...の変位の作動のための作動ユニット105が更に提供されることを特徴とする請求項1から請求項18のいずれか1項に記載の光学系。少なくとも2つの異なる二重極照明設定420、520が、互いに直交する偏光状態を用いて調節可能であることを特徴とする請求項1から請求項19のいずれか1項に記載の光学系。少なくとも1つの照明設定420、520が、少なくとも近似的にタンジェンシャルな偏光分布又は少なくとも近似的にラジアルな偏光分布を用いて調節可能であることを特徴とする請求項1から請求項20のいずれか1項に記載の光学系。前記マニピュレータ要素は、灰色フィルタとして作用することを特徴とする請求項1から請求項21のいずれか1項に記載の光学系。前記マニピュレータ要素は、光ビーム断面にわたる場所に依存して変化する反射性又は透過特性を有することを特徴とする請求項1から請求項22のいずれか1項に記載の光学系。照明系10と投影対物系20とを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、照明系10が、請求項1から請求項23のいずれか1項に記載の光学系を有する、ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。照明系10の光源によって生成された光が、投影対物系20の物体平面を照明するための投影露光装置に給送され、かつ該物体平面が、該投影対物系20によって該投影対物系20の像平面内に結像されるマイクロリソグラフィ露光方法であって、マニピュレータ要素のラスター配列を有するマニピュレータ300が、照明系において使用され、少なくとも2つの互いに異なる照明設定が、前記マニピュレータ300の異なる部分領域の照明によって調節される、ことを特徴とするマイクロリソグラフィ露光方法。前記光の少なくとも2つのビーム部分が、前記マニピュレータ300を通過した後では互いに異なる偏光状態のものであることを特徴とする請求項25に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。前記2つのビーム部分は、ミラー配列200のミラー要素200a、200b、200c、...によって異なる方向に偏向されることを特徴とする請求項26に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ生産のための処理であって、感光材料の層が少なくとも部分的に付加された基板40を準備する段階と、結像される構造を有するマスク30を準備する段階と、請求項1から請求項23のいずれか1項に記載の光学系を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置を準備する段階と、前記投影露光装置を用いて前記マスクの少なくとも一部を前記層の領域の上に投影する段階と、を含むことを特徴とする処理。本発明の目的は、投影露光装置において設定することができる強度分布及び/又は偏光分布に関して高度な柔軟性を可能にするマイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系を提供することである。マイクロリソグラフィ投影露光装置のための本発明による光学系は、ミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有する少なくとも1つのミラー配列と、光学系の作動中にマニピュレータ上に入射する光が入射場所に依存してその偏光状態及び/又は強度において異なって影響を受けるように光伝播方向に上述のミラー配列の下流に配置され、マニピュレータ要素のラスター配列を有する少なくとも1つのマニピュレータとを含み、ミラー配列によって反射される光の角度分布の変動により、少なくとも2つの互いに異なる照明設定が調節可能であり、これらの照明設定は、照明系の瞳平面の同一領域が異なる偏光状態の光で照明されるという意味で互いに異なっている。本発明により、マニピュレータ要素のうちの少なくとも2つが、配列の平面内で2つの互いに垂直な空間方向の各々において互いに隣接する関係でそれぞれ配置される少なくとも4つのマニピュレータ要素で構成された配列を表す上でマニピュレータ要素のラスター配列という表現を使用する。この点に関して、本発明によるラスター配列は、周期的配列又は等距離配列に限定されず、すなわち、2つの空間方向例えば、x方向及びy方向の各々に互いに続くマニピュレータ要素は、原理的にマニピュレータ要素の最大広がりに関してあらゆる望ましい構成すなわち、同じく非周期的のものとすることができる。更に、個別のマニピュレータ要素は、正方形、矩形、又はその光学的有効使用面に関して他の適切な幾何学形状のものとすることができる。一方、マニピュレータ要素は、互いに垂直な空間方向のうちの少なくとも1つにおける広がりに関して周期的に配置することができる部分的又は全体的に。更に、ミラー配列のマニピュレータ要素は、各々等しい寸法又は等しい断面を含むことができる本発明をそれに限定することなく。上記ではラスター配列内の最少で4個のマニピュレータ要素を指定したが、本発明がこれに限定されることはなく、一般的に、ラスター配列は、実質的により多くのマニピュレータ要素を有する。特に、本発明の実施形態では、マニピュレータのマニピュレータ要素の数は、少なくとも10個、更に具体的には少なくとも30個、更に具体的には少なくとも100個とすることができる。マニピュレータが光伝播方向にミラー配列の下流に配置されることは、ミラー要素を具体的にターゲット方式でマニピュレータの個別領域又は偏光子要素上に向けることができることを意味する。以下においてより詳細に説明するが、本発明の実施形態におけるラスター配列のマニピュレータ要素は、その位置において変位可能であるように、及び/又は偏光に影響を及ぼすその効果において切換可能であるように適応させることができる。一方でマニピュレータ要素の配列、及び他方で複数の互いに独立して調節可能なミラー要素を含むミラー配列の本発明による組合せの結果として、一方で照明光の個別ビーム部分にその偏光状態又は強度においてそれぞれ異なる変化を与える可能性と、同時に、光がミラー配列によってそれぞれ適切な方向、又はそれぞれ望ましい照明設定任意的に偏光されたを生成するのに適する方向に典型的にその後の瞳平面の所定の領域内に偏向されるように偏光状態及び/又は強度のその変化に適合するミラー要素の調節を実施する可能性とがもたらされる。特に、例えば、投影露光装置の照明系における使用時に、マニピュレータの異なる部分領域の照明によって異なる照明設定を調節する可能性が存在する。更に別の態様により、マイクロリソグラフィ投影露光装置のための本発明による光学系は、ミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有する少なくとも1つのミラー配列と、光学系の作動中にマニピュレータ上に入射する光が入射場所に依存してその偏光状態及び/又は強度において異なって影響を受けるように光伝播方向に上述のミラー配列の下流に配置され、マニピュレータ要素のラスター配列を有する少なくとも1つのマニピュレータとを含む。本発明の実施形態では、マニピュレータ要素のうちの少なくとも1つは、Kerrセル又はPockelsセルである。この点に関して、本発明は、光伝播方向にミラー配列の下流のマニピュレータの配列に限定されない。むしろ代替として、マニピュレータは、光伝播方向にミラー配列の上流に配置することができ、又は1つのマニピュレータをビーム経路内でミラー配列の上流に設けることができ、更に別のマニピュレータをミラー配列の下流に設けることができる。すなわち、更に別の態様では、本発明はまた、ミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有する少なくとも1つのミラー配列と、光学系の作動中にマニピュレータ上に入射する光が入射場所に依存してその偏光状態において異なって影響を受けるようにマニピュレータ要素のラスター配列を有する少なくとも1つのマニピュレータとを含み、マニピュレータ要素のうちの少なくとも1つが、Kerrセル又はPockelsセルであるマイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系に関する。ミラー要素の変位機能及び同じく恐らくはマニピュレータの変位機能の結果として、本発明の実施形態では、異なる照明設定の間で迅速な切り換えを実施することは、この目的で光学系内に偏光又は強度に影響を及ぼす要素を必要とすることなく同じく可能である。本発明による概念の可能な用途は、所定の照明設定をミラー配列を用いて調節し、マニピュレータ偏光マニピュレータの形態にあるを用いてミラー配列のミラー要素の部分における望ましくない偏光効果を補償するという用途であり、従って、この場合、マニピュレータは、マニピュレータとミラー配列との組合せの部分に対して全体的な偏光-非偏光作用を得る目的で補正板として使用される。本発明による概念の更に別の用途は、所定の偏光分布及び/又は強度分布の具体的にターゲットを定めた実施すなわち、偏光分布及び/又は強度分布に関してほぼゼロと言える程小さくはない寄与を得ることに関わっている。このようにして、一方で、システム内のいずれか他の場所に存在する問題を補償することができる。更に、具体的にターゲットを定めた偏光分布によって結像コントラストに寄与する有用光の比率を最適化することにより、所定の露光段階に関して処理ウィンドウを更に拡大することができる。所定のターゲット状態への近似を得るために、視野又は瞳平面内で以前に実施された偏光分布及び/又は強度分布の測定に基づいて偏光子要素の照明又はミラー要素の作動を達成することができる。本発明の概念の更に別の用途は、例えば、2つのシステム間の交換時に照明系とレチクルと投影対物系との組合せがウェーハ平面上で理想的な場合に同じ結像結果を与えるように2つの異なる投影露光装置のうちの少なくとも一方を修正する手順により、異なるシステムの結像特性を互いに適応させる段階に関わっている適合化と呼ぶ。本発明の好ましい実施形態では、ミラー配列及びマニピュレータは、近軸部分口径比が互いから最大で0.15、好ましくは最大で0.10だけ異なる位置に配置される。この場合、近軸部分口径比Sは、以下のように定義される。ここで、rは、近軸周辺光線高さを表し、hは、近軸主光線高さを表している。いわゆる符号関数をsgnxで表し、この場合、定義により、sgn0=1と設定することができる。近軸周辺光線及び近軸主光線の定義は、MichaelJKidger著基礎光学設計FundamentalOpticalDesign、SPIEPRESS、米国ワシントン州ベリングハムに見出される。瞳平面内で光軸と交わり、物体平面内で光軸に対して最も大きい間隔の位置にある物体点からの光線を表す上で主光線という表現を使用する。開口絞りの周囲部を最大開口で通過する物体平面と光軸の交点からの光線を表す上で周辺光線という表現を使用する。変形物体視野の場合には、周辺光線は、像空間内での物体の結像に寄与しない概念上の光線を含む。近軸部分口径比Sは、光学系内の平面の視野近接性又は瞳近接性に関する基準である符号付きパラメータを表している。この点に関して、定義により、部分口径比は、-1と1の間の値に正規化され、ゼロの近軸部分口径比は、各視野平面に対応し、-1から1又は1から-1への近軸部分口径比の急変を有する不連続な場所は、各瞳平面に対応する。従って、少なくとも0.8の近軸部分口径比を有する平面は、瞳に近い平面を表し、それに対して最大で0.2の近軸部分口径比を有する平面は、視野に近い平面を表している。この点に関して、近軸部分口径比の符号は、基準平面の前又は後ろの平面配列を指定する。例えば、定義目的で、問題の平面内のコマ光線の貫通点の符号を使用することができる。本発明の実施形態では、ミラー配列及び/又はマニピュレータは、近軸部分口径比が、0.8よりも大きく、好ましくは0.9よりも大きい位置、すなわち、瞳に近い位置に配置される。本発明の更に別の実施形態では、ミラー配列及び/又はマニピュレータは、近軸部分口径比が、0.3よりも小さく、好ましくは0.2よりも小さい位置、すなわち、視野に近い位置に配置される。本発明の実施形態では、光学系は、2つのミラー配列を有し、ミラー配列の各々は、そのミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立してそれぞれ変位可能である複数のミラー要素を有する。この点に関して、特に、好ましくは、これらのミラー配列の一方は、光伝播方向に関してマニピュレータの前に配置され、ミラー配列のうちの他方は、光伝播方向に関してマニピュレータの下流に配置される。2つのミラー配列を有するこの配列は、上流のミラー配列を用いて各個別光ビームをそれぞれ選択されたマニピュレータ要素上に具体的にターゲット方式で誘導し、それによって最初に光ビームに対してその偏光状態及び/又は強度に関してマニピュレータ要素の作用に従って影響を及ぼす可能性が生じる。次に、望ましい偏光状態及び/又は望ましい強度が既に印加された問題の光線を第2のミラー配列を用いて望ましい方向に偏向することができる。従って、各個別光線に対して、偏光又は強度と、更にこの光線によって瞳平面内で照明される場所との両方を互いに独立して事前に判断することができ、それによって投影露光装置内で調節可能な強度又は偏光分布に関して柔軟性が更に高められる。この点に関して、本発明は、マニピュレータのラスター構成上記に定義した意味のに限定されない。代わりに、上述の構造にある2つのミラー配列を有する本発明の実施形態では、マニピュレータ上に入射する光がその偏光状態及び/又は強度において入射場所に依存して異なって影響を受けるような異なる手法でマニピュレータを設計することができる。例えば、偏光状態が、光が通過するそれぞれの場所又は材料内で網羅すべき距離に依存して異なって更に影響を受けるように、マニピュレータは、光伝播方向に変化する連続的又は非連続的に厚み分布を有することができ、複屈折材料又は更に光学活性材料例えば、結晶石英から製造することができる。この点に関して、そのような変化する厚み分布によってもたらされる光線変位を補償するために、自らはもはや偏光状態を変化させないかつ、例えばアモルファス石英ガラスから製造される更に別の光学要素相応に補完的な幾何学形状、従って、楔形形状の場合には対応する対応的な楔形のを使用することができる。すなわち、更に別の態様では、本発明はまた、光学系の作動時にマニピュレータ上に入射する光が入射場所に依存してその偏光状態及び/又は強度において異なって影響を受けるような構成のものであるマニピュレータと、ミラー配列の各々が、それぞれのミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有し、これらのミラー配列の一方が、光伝播方向にマニピュレータの上流に配置され、これらのミラー配列のうちの他方が、光伝播方向にマニピュレータの下流に配置される2つのミラー配列とを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系に関する。更に別の実施形態では、マニピュレータ要素のうちの少なくとも1つ、特に、全てのマニピュレータ要素の位置を変更するための少なくとも1つの位置マニピュレータが提供される。特に、位置マニピュレータは、1つ、複数、又は全てのマニピュレータ要素を変位及び/又は交換するように適応させることができる。この設計構成は、それぞれの用途に依存して異なるマニピュレータ要素分布を実施することができ、従って、更に、位置マニピュレータを用いて異なる偏光分布及び/又は強度分布を事前に設定することができるという利点を有する。実施形態では、2つの互いに垂直な空間方向のうちの少なくとも一方におけるマニピュレータ要素の最大広がりは、マニピュレータの光学的使用可能区域のこの空間方向の最大広がりの最大で10分の1、好ましくは最大で15分の1、より好ましくは最大で20分の1である。これは、理想的に個々のミラー要素の各々をその位置からの光伝播方向に続くマニピュレータの配列に対する大幅な偏向なしに異なる偏光操作及び/又は強度操作の効果によってマニピュレータ要素上に選択的に向けることができ、従って、それぞれのミラー要素に最適なミラー位置の直近で言わば到達することができるようにラスター配列にわたる異なるマニピュレータ要素の可能な限り均一な分布という点に関して有利である。これは、ミラー要素の角度変位に伴ってミラー要素の部分に対する恐らくは望ましくない偏光作用が伴う限り同じく有利である。実施形態では、マニピュレータ要素配列は、マニピュレータの全ての光学的使用可能区域が照明される時に、マニピュレータ要素が偏光状態に対するマニピュレータ要素の影響において互いに相殺するようなものである。そのような構成は、時に互いに異なる偏光分布を有する異なる照明極例えば、二重極照明設定又は四重極照明設定にわたって照明設定を調節するのに一般的に望ましい均一な強度分布に関して有利である。実施形態では、ミラー配列によって反射される光の角度分布の変動により、少なくとも2つの互いに異なる照明設定を調節することができる。この場合、瞳平面の同一領域が異なる偏光状態を含む光又は異なる光強度を含む光で照明される照明設定と、異なる偏光状態の光が瞳平面の互いに異なる領域内に偏向される照明設定との両方は、その偏光状態において互いから異なるものと考えられる。実施形態では、ミラー配列のミラー要素の変位の作動のための作動ユニットが提供される。実施形態では、マニピュレータ要素は、灰色フィルタとして作用する。このようにして、偏光マニピュレータの形態にあるマニピュレータの代替又は追加として、特定の強度構成又は複数の異なる強度構成を設定することができる。原理的には、そのような効果は、本発明により使用されるミラー配列の使用によって達成することができるが1つ又はそれよりも多くのミラー要素を瞳平面内の所定の場所の上に向けることにより、ミラー配列と灰色フィルタ配列の間でのような組合せは、例えば、異なる調節可能な強度分布の望ましい範囲をミラー配列の変位機能単独ではもはや網羅することができない場合に意味がある。マニピュレータ要素は、特に、光ビーム断面例えば、楔形又は直線であるにわたる場所に依存して変化する反射特性又は透過特性を有することができる。本発明は、更に、照明系の光源によって生成された光が投影対物系の物体平面を照明するための投影露光装置に供給され、物体平面が投影対物系によって投影対物系の像平面に結像され、照明系内でマニピュレータ要素のラスター配列を有するマニピュレータが使用され、マニピュレータの異なる部分領域の照明によって少なくとも2つの互いに異なる照明設定を調節することができるマイクロリソグラフィ投影露光装置及びマイクロリソグラフィ露光方法に関する。本発明の更に別の構成は、本明細書及び添付の特許請求の範囲に見出されるものとする。以下では、本発明を一例として添付図面に図示の実施形態を用いてより詳細に説明する。最初に、本発明による光学系を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置の原理に対する構造を図1を参照して以下に説明する。投影露光装置は、照明系10と投影対物系20を有する。照明系10は、例えば、193nmの作動波長のためのArFエキシマレーザと、平行光ビームを生成するビーム成形光学配置とを含む光源ユニット1からの光で構造付帯マスクレチクル30を照明するように機能する。一般的に、照明系10及び投影対物系20は、好ましくは400nmよりも短く、特に、250nmよりも短く、更に具体的には200nmよりも短い作動波長に向けて設計される。本発明により、照明系10の部分構成要素は、図2を参照して以下でより詳細に説明するように、特に、ミラー配列200である。光伝播方向にミラー配列200の下流には、図3から図6を参照して以下でより詳細に説明するマニピュレータ300が配置され、マニピュレータ300は、図1に示すように、瞳平面内、又は少なくとも瞳平面の直近に配置される。従って、マニピュレータ300は、上記に定義した近軸部分口径比が0.8よりも大きく、好ましくは、0.9よりも大きい位置に配置される。図1は、マニピュレータ300の代わりに用いることができ、図7及びそれ以降を参照して以下でより詳細に説明するマニピュレータ910の位置も略示している。照明系10は、取りわけ、図示の例では偏向ミラー12を含む光学ユニット11を有する。光伝播方向に光学ユニット11の下流には、例えば、光混合を提供するのに適するマイクロ光学要素の配列、並びにレンズ群14をそれ自体公知の方式で有することができる光混合デバイス図示せずがビーム経路に配置され、その下流には、レチクルマスクシステムREMAを有する視野平面が配置され、このレチクルマスクシステムは、光伝播方向に下流に配置されたREMA対物系15を通じて更に別の視野平面に配置された構造付帯マスクレチクル30上に結像され、それによってレチクル上の照明領域の境界が定められる。構造付帯マスク30は、投影対物系20により、感光層が設けられた基板40又はウェーハ上に結像される。投影対物系20は、特に、液浸作動モードに向けて設計することができる。更に、投影対物系20は、0.85、特に、1.1よりも大きい開口数NAを有することができる。図2に略示する構造では、ミラー配列200は、複数のミラー要素200a、200b、200c、...を有する。ミラー要素200a、200b、200cは、ミラー配列200によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位させることができ、図1に示すように、そのような変位を実施する例えば、適切なアクチュエータを用いてための作動ユニット105を存在させることができる。図2は、照明系10において本発明により使用されるミラー配列200の構造及び機能を示すために、レーザビーム210のビーム経路に順番に偏向ミラー211、屈折光学要素ROE212、レンズ213例としてのみ示す、マイクロレンズ配列214、本発明によるミラー配列200、拡散器215、レンズ216、及び瞳平面PPを含む照明系10の部分領域の構造を例示的に示している。ミラー配列200は、複数のマイクロミラー200a、200b、200cを含み、マイクロレンズ配列214は、これらのミラー上にターゲットを定めた集束を行って不使用区域の照明を低減又は回避するための複数のマイクロレンズを有する。マイクロミラー200a、200b、200cは、それぞれ、例えば、-2°と2°の間、特に、-5°と5°の間、更に具体的には-10°と10°の間の角度範囲で個々に傾斜させることができる。予め均一化されて平行にされたレーザ光が、マイクロミラー200a、200b、200c...によって望ましい照明設定に依存してそれぞれ望ましい方向に偏向される限り、瞳平面PP内には、ミラー配列200内のマイクロミラー200a、200b、200c...の適切な傾斜配列により、望ましい光分布、例えば、輪帯照明設定又は二重極設定又は四重極設定を生成することができる。図3を参照すると、偏光マニピュレータ300は、個別マニピュレータ要素を含むラスター又は領域分割されたか、又はファセット形の配列を有する。この配列は、隣接するマニピュレータ要素例えば、マニピュレータ要素301、302が、それぞれのマニピュレータ要素上に入射する光の偏光状態に異なって影響を及ぼすようなものである。偏光マニピュレータ300の構成は、例えば、ラスターが複屈折材料を含む半波板で形成されるUS6191880B1に説明されている概念に沿ったものとすることができる。従って、この場合、マニピュレータ要素の各々は、使用される作動波長例えば、193nmにおいて十分な透過特性を有する複屈折材料で作成される。適切な複屈折材料は、例えば、フッ化マグネシウムMgF2である。この点に関して、図3の実施形態における双方向矢印は、偏光方向を表している。この点に関して、一般的に幅が、例えば、10mmと20mmの間にある単一のマニピュレータ要素の区域にわたる偏光方向の変化は一定である。この点に関して、得られる偏光回転量は、基本的にマニピュレータ要素の方位角の向きに依存し、この点に関して、同じく各マニピュレータ要素を入射光の偏光方向に対して45°に向けられた2つのλ/2板で構成することができるいわゆる90°回転子を生成するために。更に、偏光マニピュレータ300の構成は、光結晶軸の向きが光伝播方向又は光学系軸と平行関係に定められた光学活性材料、特に、結晶石英で各々が作成されたマニピュレータ要素による光学活性を利用する場合に実施することができる。この場合、光学活性材料は、光学活性材料内でそれぞれ網羅すべき距離に比例する偏光方向の回転量を生成し、従って、それぞれのマニピュレータ要素の厚みが偏光回転量を決める。上述の実施形態直線複屈折を利用するとは異なり、光学活性すなわち、円形複屈折を利用する場合には、マニピュレータ要素の方位角の向きは、それぞれ得られる偏光回転量には関連しない。偏光マニピュレータ300の構成は、光学系軸と平行な結晶軸を有する複屈折材料の板の上に例えば直線回折格子の形態にある回折構造の形態、フレネル面方式の屈折構造の形態、又はホログラムの性質を有する偏向構造の形態で形成することができる少なくとも1つの偏向構造が提供されるUS2002/0176166A1に説明されている概念に沿ったものとすることができる。更に、偏光マニピュレータ300の構成は、異なるリターデーション効果を有する複数のリターデーション区画を有する反射リターデーション配列が使用されるUS2004/0184019A1に説明されている概念に沿ったものとすることができる。一般的に、マニピュレータ要素内の複屈折は、MgF2以外の別の光学単軸結晶材料、例えば、光伝播方向と平行ではない結晶軸を有するフッ化ランタンLaF3、サファイアAl2O3、又は結晶石英SiO2を用いて、圧縮応力又は引張応力下に置かれた立方結晶材料例えば、CaF2、BaF2、LiBaF3、Lu3Al5O12、Y3Al5O12、又はMgAl204を使用することにより、又は圧縮応力又は引張応力の下に置かれたアモルファス材料例えば、石英ガラスSiO2を使用することによって実施することができる。圧縮応力又は引張応力の変化自体を偏光操作において少なくとも部分的に使用することができる例えば、マニピュレータ要素を互いに対して適合させるために。マニピュレータ要素は、図3に示すラスター配列内で固定であるように、かつその位置で個々に可変であるように例えば、図示していないアクチュエータを用いていずれにも適応させることができる。個々に可変である場合には、マニピュレータ要素は、特に、光軸に対して垂直な方向の変位、光軸に沿った変位、光軸と一致するか又は光軸と異なるかそのいずれでもよい光軸と平行な軸の回りの回転、及び光軸と平行ではなく、かつ要素の中心が識別される場合にこの中心を通って延びることができるしかし、そうでなくてもよい軸の回りの回転傾斜移動という自由度に関して可変であるように適応させることができる。本発明の更に別の実施形態は、特に、図8及びそれ以降を参照して以下に説明するKerrセル又はPockelsセルを用いたマニピュレータの切換可能構成に関する。ここで、一般性を制限することなく、以下では、偏光マニピュレータ300上に入射するレーザ光は、最初にy方向に直線偏光されており、偏光マニピュレータ300の領域301内では偏光方向が変更されないままに留まり、それに対して領域302内では90°だけ回転されるλ/2板としての領域の部分における作用に対応すると仮定する。従って、ミラー配列200のミラーのうちの1つの上にビーム部分が入射する場合には、偏光マニピュレータ300は、ビーム部分の偏光方向を変更されないままに残すか、90°の角度だけ回転させるかのいずれかである。図4aを参照すると、ミラー配列200のミラー要素200a、200b、200c...は、特に、照明光全体が偏光マニピュレータ300のマニピュレータ要素340上に偏向されるように設定することができる。網点なしの領域は、瞳平面内の照明されないが依然として照明領域網点付きに示す以外に照明することができる領域に対応する。偏光マニピュレータ300のマニピュレータ要素340上に偏向されるビーム部分は、偏光マニピュレータ300から射出する時に依然としてy方向の偏光方向を有する。このようにして設定される照明設定420は、図4bに示すような性質のものであるので、瞳平面PP内では、照明座標系のx方向にすなわち、水平に互いに反対関係にあり、かつ照明極と呼ぶことができる領域421及び422だけが照明され、これらの領域内では、光はy方向に偏光される。この照明設定420を疑似タンジェンシャル偏光H二重極照明設定とも呼ぶ。更に、図5aに示すように、ミラー配列のミラー要素200a、200b、200c...は、全ての照明光が偏光マニピュレータ300のマニピュレータ要素350の上に偏向されるように設定することができる。ここでもまた、網点なしの領域は、瞳平面内の照明されないが依然として照明領域網点付きに示す以外に照明することができる領域に対応する。偏光マニピュレータ300のマニピュレータ要素350の上に偏向されるビーム部分は、偏光マニピュレータ300から射出する時にx方向の偏光方向を有する。このようにして設定される照明設定520は、図5bに示すような性質のものであり、従って、瞳平面PP内では、同じく照明座標系のx方向にすなわち、水平に互いに反対関係にある領域521及び522のみが照明されるが、図4bとは異なり、これらの領域内の光はx方向に偏光される。この照明設定520を同じく疑似ラジアル偏光H二重極照明設定と呼ぶことができる。この点に関して、電界強度ベクトルの振動方向が光学系軸を中心とする半径と垂直に延びる偏光分布を表す上でタンジェンシャル偏光分布という表現を一般的に使用する。従って、上述の条件が近似的に満たされる場合、又は図4aの例における領域421及び422のような問題の平面例えば、瞳平面内の個別領域において満たされる場合に疑似タンジェンシャル偏光分布と記す。従って、電界強度ベクトルの振動方向が光学系軸を中心とする半径と平行に延びる偏光分布を一般的に表す上でラジアル偏光分布という表現を使用する。従って、上述の条件が近似的に満たされる場合、又は図5aの例における領域521及び522のような問題の平面例えば、瞳平面内の個別領域において満たされる場合に疑似タンジェンシャル偏光分布と記す。この場合、特に、作動ユニット105を用いたミラー要素200a、200b、200c...の適切な変位によって照明設定420と520の間で柔軟で迅速な切り換えを提供することができ、そのような変位は、偏光マニピュレータ300のマニピュレータ要素のラスター配列に適合される。図4及び図5の例と同じく、これらの例に加えて、ミラー配列200のミラー要素200a、200b、200c...は、疑似タンジェンシャル又は疑似ラジアルの偏光V二重極照明設定を設定してこれらのミラー要素が全ての光を瞳平面PP内でy方向に互いに反対関係にある領域上にのみ偏向するように調節することができ、この場合、ミラー配列200のミラー要素200a、200b、200c...の対応する変位によってこれらの照明設定の間の切り換えを提供することも可能である。ミラー配列200の作動は、個々に調節可能なミラー位置におけるシステムの効果が、使用されるそれぞれのマニピュレータに対して計算により又は較正方法を用いて見出されるように、かつ感度情報が、ミラーの制御アルゴリズムに対する入力として、この場合にシステムの測定からもたらすことができ、又は一方で現在の使用概要に関する情報項目から導出される1つ又はそれよりも多くのターゲット設定と併せて使用されるようにすることができる。使用されるアルゴリズムは、従来技術で十分に公知のいずれかの最適化処理例えば、傾斜処理、冷却シミュレーション、遺伝的アルゴリズム、又はこれらの組合せとすることができる。任意的に、ミラー要素の作動は、1つ又はそれよりも多くのマニピュレータ要素の位置の操作のためのいずれかの位置マニピュレータ存在する場合に結合することができる。更に別の実施形態により、ミラー配列200は、他の公知の照明設定、例えば、四重極照明設定が生成されるように偏光マニピュレータ300と協調することができる。図6は、本発明の更に別の実施形態に従って図1に示す構造においてマニピュレータとして使用することができる強度マニピュレータ600の概略図を示している。強度マニピュレータ600は、この実施形態により、各々が楔形又は直線の透過特性を有するマニピュレータ要素のラスター配列を有する。この目的のために、マニピュレータ要素を透過機能又は反射機能が横方向に変化する層で被覆することができる。更に別の実施形態では、マニピュレータ要素を変化する密度を有する吸収剤粒子例えば、クロム斑点で被覆することができる。マニピュレータ600が可変灰色フィルタを形成するように、ミラー配列200のミラー要素200a、200b、200c...の設定に基づいて、上述のラスター配列内で照明されるある一定の位置を具体的にターゲット方式で選択することができる。上述の実施形態と同じく、マニピュレータ600は、特に、均一性を改善するのに有利な瞳の近く、及び同じく特にアポディゼーション特性を最適化するのに有利である視野の近くの両方に配置することができる。更に、本発明による概念は、図6の種類の強度マニピュレータが図3の種類の位置マニピュレータと組み合わされるように拡張することができる。図7aは、それぞれ複数の互いに独立して調節可能なミラー要素721、722、723...及び731、732、733...を各々が有する2つのミラー配列720及び730が設けられた更に別の実施形態を示す概略図を示している。更に、マニピュレータ要素711、712、713の配列を有する上述の実施形態と類似の構造のマニピュレータ710が存在し、ミラー配列720は、光伝播方向z方向に延びるに関してマニピュレータ710の下流に配置され、ミラー配列730は、光伝播方向に関してマニピュレータ710の上流に配置される。ミラー配列730のミラー要素731、732...の機能は、問題のマニピュレータ要素のそれぞれの構成に基づいて望ましい偏光状態又は望ましい強度が個別の光線に対して印加されるように、これらの光線を選択されたマニピュレータ要素711、712...の上に具体的にターゲットを定めて偏向することである。次に、第2のミラー配列720は、瞳平面内で同じく自由に選択され、それによって瞳平面に光分布を実施することができる位置にそれぞれ望ましい偏光状態及び/又は望ましい強度を有する問題の光線を偏向する機能を実施する。従って、この構成では、偏光状態又は強度、かつ瞳平面内で照明される場所の両方を光線の各々に対して互いに独立して自由に選択することができ、それによって望ましい照明設定を設定することに関して高い程度の柔軟性が得られる。例として、他の実施形態に関連して上述の説明は、マニピュレータ要素711、712の構成に関して相応に適用される。特に、マニピュレータ要素は、それぞれ入射する光の偏光状態及び/又は強度に異なって影響を及ぼす領域の周期的に交替する配列を与えるように組み立てることができる。フィルタリングを行うことにより例えば、ブリュースタープリズムを用いて、又は偏光状態を変更又は回転するリターデーション要素又は光学活性を用いて偏光に影響を及ぼす効果を得ることができる。図7bを参照すると、マニピュレータ要素711、712、713...の配列を有するマニピュレータ710と第2のミラー配列720との間には、第1のミラー配列730のミラー要素を第2のミラー配列720のミラー要素上に結像する光学結像配列又は中継光学配置710が配置される。それによって第1のミラー配列のミラー要素の数Nを第2のミラー配列720のミラー要素の数Mよりも小さいものとして選択することができ、時に実質的に小さいものとして選択することができるすなわち、N≦M、時に、更にN≪M。この場合、第1のミラー配列730のミラー要素の数Nは、照明瞳内に何個の異なる偏光状態を同時に生成することができるかを決める。本発明により、Mと比較して大きいNの値もあり得ないことではない。照明設定毎に異なる偏光状態の動的設定では、マニピュレータ要素711、712、713...偏光光学ファセット要素の形態にあるの配列を有するマニピュレータ710は、図8及びそれ以降を参照して以下でより詳細に説明するように切換可能であるように適応させることができる。そのような動的構成のまだ説明していない利点以外に、図7a~図7bの配列は、実質的に同等の柔軟性を得るのにマニピュレータにおける切換不能設計構成の場合よりも少数のミラー要素しか必要とされないという更に別の利点を享受する。上述のマニピュレータに対する切換不能設計構成の場合には、第1のミラー配列730のミラー要素の数Nは、照明系の瞳平面又は照明瞳内に全体的に発生させることができる全ての偏光状態の数を決める。光学結像配列又は中継光学配置710は、第1のミラー配列730のそれぞれのミラー要素の像を第2のミラー配列720のm個の関係するミラー要素上に生成し、この場合、好ましくは、mN=Mという関係が満たされるこの場合mは、自然数又はゼロよりも大きい整数である。この関係は、第1のミラー配列730のミラーの像が、第2のミラー配列720のある数整数のミラー上に有利な態様においては正確に収まるという考えに基づいている。この点に関してより好ましくは、第1のミラー配列730によってもたらされる第1のミラー配列730の2つのミラーの像の間の移行部又は縁部は、第2のミラー配列720のミラー上に位置するようになってはならない。これは、第2のミラー配列720の各ミラー上に明確な偏光状態が作用し、例えば、2つ又はそれよりも多くの互いに異なる偏光状態が作用しないことを提供する。図7bを参照すると、第1のミラー配列730の1つの同じミラー要素がマニピュレータ710のどのチャンネルが係わるかに基づいて、光学像配列710によって第2のミラー配列720の同じ1つ又は複数のミラー要素上に常に結像される図7bでは、これを一方でビーム経路A及びCにおいて、他方でビーム経路B及びDにおいて見ることができる。言い換えれば、第1のミラー配列730のミラー要素と第2のミラー配列720のミラー要素との間の関係は、光学結像配列710によって固定的に予め判断される。光学結像配列710自体は、投影対物系2点間結像の実施を可能にするを表し、簡略化のためにそのうちの1つのレンズだけを略示しており、この投影対物系は、基本的にいずれかの結像スケールを有し、この場合、この結像スケールは、第1及び第2のミラー配列又はそこに配置されたミラー要素の場合によって異なるサイズに適切に適合されるすなわち、一般的に、結像スケールは、マグニチュードにおいて第1及び第2のミラー配列730、720のサイズの比に対応するように選択される。第1のミラー配列730におけるそれぞれの傾斜角の設定は、マニピュレータ710のどのチャンネルすなわち、ファセット偏光光学要素が係わるかを設定する働きをする。この場合、偏光は、第2のミラー配列720内のそれぞれの傾斜角の設定により、照明瞳内の対応する座標に望ましい強度分布と適合して偏向される。この点に関して、図7bにビーム経路A、Bを用いて示すように第1のミラー配列730の異なる領域は、図7bにビーム経路A及びBへの参照によって例示するように、同じマニピュレータ要素711、712、713...に関連付けることができすなわち、これらの領域は、同じチャンネルを使用する、この点に関して、特に、第1のミラー配列730の全ての個々のミラーは、同じチャンネルを使用することができる。一方、図7bにビーム経路C及Dへの参照によって示すように、第1のミラー配列730の異なる領域は、異なるマニピュレータ要素711、712、713...に関連付けることができるすなわち、これらの領域は異なるチャンネルを使用する。本発明の更に別の実施形態を図8~図10を参照して以下に説明する。この実施形態では、図9から分るように、複数のミラー要素を有するミラー配列920に加えて、偏光の柔軟な動的切り換えを可能にし、図示の実施形態ではKerrセルの形態にあるセルのラスター型又は行列型の配列を有するマニピュレータ910が存在することにより、チャンネル別の偏光調節が可能になる。図9では、マニピュレータ910は、光伝播方向にミラー配列920の下流に配置され、特に、光伝播方向にミラー配列920の次に続く光学要素を表している。マニピュレータ910内のKerrセルの各々は、外部から印加される電界の変化を使用するそれ自体公知の方式で通過する光の偏光の制御可能な変調を可能にする。更に別の実施形態では、セルは、作動波長において十分な透過率を有する適切な結晶材料例えば、KDP=リン酸二水素カリウム、KH2PO4から製造され、外部から印加される電界に対する結晶材料内の複屈折の直線比例性に基づいて偏光操作を可能にするPockelsセルの形態にあるとすることができる。複数のKerrセル又はPockelsセルを有するマニピュレータ910の構成は、周期的又は非周期的な配列とすることができ、特に、マニピュレータ910内の個別のPockelsセルの寸法は、マニピュレータ910の光学的使用領域にわたって変化することができる。更に、個別のPockelsセルは、その有効な光学的使用区域に関して正方形、矩形、又は他の適切な幾何学形状のものとすることができる。好ましくは、マニピュレータ910及びミラー配列920で形成される光学アセンブリによって遮光効果が最小にされるか又は最適な透過率が得られるように、マニピュレータ910内のKerrセルの幾何学配列は、ミラー配列920に適合される。原理的には、ミラー配列920の各個別のミラー要素は、それに関連付けられたマニピュレータ910内に関係する独自のKerrセル又はPockelsセルを有することができるが、本発明の実施形態は、1つの同じクラスタのミラー要素によって反射される光に同じ偏光の光がそれぞれ作用するように、複数のミラー要素がマニピュレータ910内の同じKerrセル又はPockelsセルとクラスタ別に関連付けられることを可能にすることができる。単なる例として、基本的な出発点がミラー配列内の合計で4000個のミラー要素である場合には、例えば、本発明がこの例に限定されることなく50個程度のミラー要素を有するそれぞれのクラスタは、同じKerrセル又はPockelsセルに関連付けることができ、それによってこれらのミラー要素における反射の後に、光に対して同じ偏光状態が作用し、個別のKerrセル又はPockelsセルのそれぞれの作動に基づいて、隣接するクラスタ内のミラー要素に異なる偏光状態を作用させることができる。図8及び図9に図示の実施形態の実質的な利点は、Kerrセル又はPockelsセルの可変作動に起因して可能である偏光状態の動的切り換えに関して、得ることができる切り換え時間が非常に短く特に、1秒未満とすることができる、従って、ミラー配列920によって実施することができる強度分布又は照明設定における変更同じく一般的に1秒未満しかかからないとすることができるに適応させることができることである。従って、本発明により、一方でマニピュレータ910と他方でミラー配列920との互いに適合した作動又は協働した作動により、強度分布及び/又は偏光分布において互いから異なっている異なる照明設定の間で迅速に連続して動的に切り換えを行う可能性が存在する。図8は、上述の点に関して、一例として可能であり、光がマニピュレータ910を通過した直後に達成され、かつそれを用いてミラー配列920の個々のミラー要素又はミラー要素のクラスタにおける反射の後に作用させることができる偏光分布を示す単なる概略図を示している。一方でマニピュレータ910と他方でミラー配列920との適切な互いに適合した作動により、例えば、上述の切り換え時間で図10に示すように異なる照明設定930、940、950...の間で切り換えを行うことができる。上述の実施形態の用途の更に別の例は、一方でマニピュレータ910内のKerrセル又はPockelsセルと他方でミラー配列920との適切な作動により、少なくとも瞳平面の個別領域内で様々な偏光状態の非コヒーレントな重ね合わせを得ることができ、その結果、これらの領域内で非偏光光がもたらされることを提供する。この目的のために、この場合、レーザ光源によって生成され、異なる干渉セルに関連付けられ、従って、互いに対してもはやコヒーレントではない個別の光束領域又は光束セルが、ミラー配列920によって瞳平面内の同じ領域の上に偏向され、マニピュレータ910の適切な作動により、これらの領域又はセルに異なる偏光状態が作用し、非コヒーレントな重ね合わせが生成される。同時に、マニピュレータ910内の他のKerrセル又はPockelsセル及びミラー配列920内のミラー要素を用いて、瞳平面の他の領域又は照明極内に明確な優先的偏光方向を更に生成することができ、このようにして偏光/非偏光混合照明設定を生成することができる。この例は、照明設定970が、疑似ラジアル偏光分布を有する二重極設定x方向に互いに反対関係にある照明極971及び973内のと、非偏光照明設定瞳平面の中心に円形領域又は照明極972を有し、非偏光光で照明される低シグマ設定とも呼ぶとの組合せを含む図11aに示している。本発明は、特に、少なくとも領域別に非偏光である照明設定の設定恐らくは同じく動的に切換可能であるをこの目的のために個別の偏光解消子を必要とすることなく可能にする。本発明による調節可能照明設定の更に別の例は、照明設定980が、y方向に互いに反対関係で配置された2つの照明極981、982を有する二重極設定の形態で生成され、優先的偏光方向が、個別の照明極981、982にわたってそれぞれ変化する図示の実施形態では、電界強度ベクトルの振動方向は、1つの同じ照明極内でx方向に領域別に、かつy方向に領域別に延び、すなわち、1つの同じ照明極内に互いに垂直な優先的偏光方向が生成される図11bに示している。本発明を具体的な実施形態を用いて説明したが、当業者には、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び/又は交換によって多くの変形及び代替的な実施形態が明らかであろう。従って、当業者は、そのような変形及び代替的な実施形態が本発明によって同じく包含され、本発明の範囲が添付の特許請求の範囲及びその均等物の意味においてのみ限定されることを認めるであろう。