リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法であって、少なくとも、リソグラフィー用レジスト組成物をフィルターでろ過する工程を含み、該ろ過工程において、コロイダルゾルを前記フィルター上流から通過させてフィルターにコロイド粒子を吸着させた後、該フィルターに前記リソグラフィー用レジスト組成物を通過させることにより、該リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子を除去することを特徴とするリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。前記コロイダルゾルとして、テトラアルコキシシランを含むシランからなるコロイダルシリカを用いることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。前記リソグラフィー用レジスト組成物として、レジスト保護膜形成用組成物、フォトレジスト組成物、EUV用レジスト組成物、EB用レジスト組成物、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、及び有機レジスト下層膜形成用組成物のいずれかを用いることを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。しかし、市販の微細孔径フィルターでは捕集できない微小粒子が存在し、これがレジスト塗布膜形成時に異物欠陥となっていることがわかった。本発明は上記問題点に鑑みなされたもので、塗布欠陥及びパターン欠陥等の欠陥の発生を減少させることのできるリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するため、本発明は、リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法であって、少なくとも、リソグラフィー用レジスト組成物をフィルターでろ過する工程を含み、該ろ過工程において、コロイダルゾルを前記フィルター上流から通過させてフィルターにコロイド粒子を吸着させた後、該フィルターに前記リソグラフィー用レジスト組成物を通過させることにより、該リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子を除去することを特徴とするリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法を提供する。このような製造方法によれば、リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子を、簡便に除去することができる。そのため、本発明の製造方法により製造された組成物を用いて塗布膜やパターン等を形成すれば、塗布欠陥やパターン欠陥等の欠陥の発生を減少させることができる。また、前記コロイダルゾルとして、テトラアルコキシシランを含むシランからなるコロイダルシリカを用いることが好ましい。このようなコロイダルゾルを用いれば、リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子の除去効果が、より一層向上する。また、前記リソグラフィー用レジスト組成物として、レジスト保護膜形成用組成物、フォトレジスト組成物、EUV用レジスト組成物、EB用レジスト組成物、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、及び有機レジスト下層膜形成用組成物のいずれかを用いることができる。このように、本発明は、種々公知のレジスト組成物を製造する際に適用することができ、有用である。以上説明したように、本発明のリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法によれば、リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子を簡便な方法でより確実に捕集することが可能であり、この製造方法で得られる組成物を塗布して形成された塗布膜は、微小粒子由来の欠陥の発生を抑制することが可能である。そのため、製造プロセスの歩留まりも向上する。また、このような方法によれば、他の高価な装置や特別な部品を用意する必要もなく、製造コストを抑えることもできる。以下に本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。上述のように、リソグラフィープロセスに使用されるレジスト組成物の薄膜化、多層化が進むにつれ、プロセスの歩留まりに対して欠陥が与える影響も次第に大きくなっている。本発明者らがこのような欠陥について検討を行ったところ、市販の微細孔径フィルターでは捕集出来ない微小粒子が存在し、これがレジスト塗布膜形成時に異物欠陥となり、製造プロセスの歩留まり低下を発生させていることが判明した。そこで本発明者らは、フィルターを改質することで上記問題点を解決すべく、更に鋭意研究を行った結果、リソグラフィー用レジスト組成物の微小粒子を除去するために、フィルターの上流からコロイダルゾルを通過させ、フィルターにコロイド粒子を吸着させることにより、これによってろ過させたレジスト組成物中の微小粒子がより少ない塗布膜を得る方法を提供できることを見出し、本発明を完成するに至った。以下に、本発明について更に詳しく説明する。本発明のリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法は、少なくとも、リソグラフィー用レジスト組成物をフィルターでろ過する工程を含み、該ろ過工程において、コロイダルゾルを前記フィルター上流から通過させてフィルターにコロイド粒子を吸着させた後、該フィルターに前記リソグラフィー用レジスト組成物を通過させることにより、該リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子を除去することを特徴とする。従来、欠陥を減らすため組成物中の微小粒子を除去するためにフィルターの孔径の微細化も進められてはいるが、nm単位での精密な加工が求められるため、容易ではない。また、孔径をあまり小さくしすぎると、ろ過時間が長くなり生産性が低下するといった問題が新たに発生してしまう。一方、本発明の製造方法によれば、このような精密な加工を要することなく、簡便かつ確実に、微小粒子が除去されたリソグラフィー用レジスト組成物を製造することができる。本発明の製造方法は、公知のいずれのレジスト組成物を製造する際にも適用することができ、このときのリソグラフィー用レジスト組成物としては、液浸露光プロセスで用いられるレジスト保護膜形成用組成物、UV光やエキシマレーザー、X線、電子ビーム等で露光を行う場合に使用される高エネルギー線感応型のレジスト膜形成用組成物フォトレジスト組成物、EUV用レジスト組成物、EB用レジスト組成物等、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、有機レジスト下層膜形成用組成物等を例示することができる。このとき使用されるフィルターは、コロイダルゾルコロイド溶液中のコロイド粒子が捕集されるものであれば何れを用いてもよいが、公称細孔径が1nmから1000nmのものを使うことでコロイダルゾルを効率よく捕集できる。具体的には、リソグラフィー用レジスト組成物の精密ろ過に用いられる、公称細孔径が1nmから100nmのフィルターである。特に、ポリエチレン、ポリプロピレン、フッ素樹脂、ポリアミド系樹脂等の材質のものが好ましく、プリーツタイプや中空糸タイプ、ヤーンタイプ、デプスタイプ、メンブレンタイプ等が例示される。本発明に供される、フィルターの上流から通過させるコロイダルゾルは、既知の手段を用いて調製されたものであれば、何れを用いることも可能であるが、具体的には、金属アルコキサイド又は金属水酸化物を水中で重合させて得ることができる水系コロイダルゾル、例えばシリカ、チタニア、ジルコニア、セリア、アルミナ、五酸化アンチモン、炭酸カルシウム、あるいは有機樹脂であるポリ塩化ビニル、ポリアクリル等から成るゾルが挙げられる。中でも、リソグラフィー用レジスト組成物の有機溶剤に不溶である無機系ゾルが好ましく、リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子の除去効果を向上させることができ、その製造も容易であることから、テトラアルコキシシランを含むシランからなるコロイダルシリカが特に好ましい。コロイダルゾル中のコロイド粒子の粒径は、0.1~1000nmの粒子範囲であればよく、好ましくは、リソグラフィー用レジスト組成物の精密ろ過に用いられる公称細孔径が1nmから100nmのフィルターに捕集される、100nm以上の粒径である。コロイダルゾルは、調製した状態そのままのものを用いてもよいが、フィルターに均一に吸着させる等の目的で、液体を用いて希釈調製してもよい。このような希釈に用いる液体としては、無機系ゾルの分散性が良好である水が好ましい。次に、本発明の形態を、図面を用いて説明する。図1は、本発明の製造方法に用いられる装置の一例である。この装置は、タンク1リソグラフィー用レジスト組成物用、タンク6コロイダルゾル用、タンク7洗浄溶剤用、送液ポンプ2リソグラフィー用レジスト組成物用、送液ポンプ4コロイダルゾル及び洗浄溶剤用、フィルター容器3、ドレイン8、及びこれに付属する配管図示されていない配管を含む、バルブ弁図示されていないバルブを含む等から構成されている。ろ過工程の前準備として、フィルター容器3内に、レジスト組成物のろ過に使用されるフィルターをセットした後、フィルター容器3と送液ポンプ2、充填容器5との間の配管を、バルブを閉めて遮断しておく。まず、送液ポンプ4を使って、タンク6内のコロイダルゾルをフィルター容器3に送液してフィルター上流から通過させ、フィルターにコロイド粒子を吸着させる。この操作は、フィルター容器3下流に位置する、ドレイン8に通ずる配管のバルブを開いたままいわゆる垂れ流しの状態で行ってももちろんよいが、フィルター容器3内がコロイダルゾルの送液で満たされた状態としてから前記バルブを開け、コロイダルゾル以下、ドレイン8へ排出される溶液を、便宜上ろ液とするをドレイン8へと排出すれば、より効率的にコロイド粒子をフィルターに吸着させることができる。また、ろ液はドレイン8からタンク6に戻るようにして循環ろ過を行えば、経済的にも好ましい。このとき、コロイダルゾルは、例えばフィルター面積1m2あたり100~1000g/分の流速で送液することが好ましい。次に、送液ポンプ4を使ってタンク7内の洗浄溶剤をフィルターの上流から通し、フィルターに吸着させたコロイド粒子を洗浄すると共に、フィルターに吸着されないコロイド粒子を洗い流し、フィルター容器3の排出弁9からドレイン8へ排出する操作を行うことが好ましい。この場合にも、上記同様、循環ろ過としてもよい。洗浄溶剤としては、純水が好ましく用いられる。また、後にろ過するリソグラフィー用レジスト組成物の主溶剤を用いた循環ろ過を行ってもよい。次に、タンク1内のリソグラフィー用レジスト組成物をフィルター容器3に通過させる。これにより、リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子は、フィルターに吸着しているコロイド粒子に吸着され、微小粒子を除去することができる。この操作は、リソグラフィー用レジスト組成物が仕込まれているタンク1の下部の弁を開放し、配管を適切な方法により組成物で満たした後、送液ポンプ2を起動して送液し、フィルター容器3内が送液で満たされた状態としてからフィルター容器3の二次側弁10を開き、送液がタンク1へ戻るようにした循環ろ過等により行うことができる。最終的に液中パーティクルカウンター図示せずで、送液リソグラフィー用レジスト組成物中の微粒子数が一定数量以下微粒子数の変化がほぼ一定になったところで、弁を切り替えて製品容器5に充填すればよい。なお、図1では、コロイダルゾルの循環経路を、リソグラフィー用レジスト組成物のろ過経路とは別経路として示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、タンク6及びタンク7の代わりにタンク1を用い、タンク1、送液ポンプ2、フィルター容器3、ドレイン8のみを用いてろ過工程を行ってもよい。この場合、最初にタンク1にコロイダルゾルを充填することになる。以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。[製造例]3L温度調整ジャケット付の直径10cm円筒形セパラブルフラスコに、攪拌機と攪拌翼を装着した。これに29アンモニア水26g、イオン交換水21g、メタノール326gを仕込み、攪拌しながらジャケットに温水を循環させ、内温を35°Cに保った。ここに5.4アンモニア水218gとテトラメトキシシラン608gを、それぞれポンプを使って二方より10時間かけて滴下した。滴下終了後、攪拌と温水循環を停止しシリカゾルコロイダルシリカ溶液1063gを得た。得られた溶液中の固形分は205gであり、遠心沈降法による粒度分布測定の結果、粒度分布は100から150nmであった。[実施例]図1に示される装置を使用した。まず、フィルター容器3に、ポリエチレン製公称細孔径5nm、ろ過面積1.1平方メートルカートリッジフィルターをセットした後、フィルター容器3と送液ポンプ2、充填容器5との間の配管を、バルブを閉めて遮断した。ここへ、タンク6内に仕込んだ上記製造例のコロイダルシリカ溶液68gを純水10kg希釈調製した溶液を、送液ポンプ4を使い400g/分の流速で送液してフィルター容器3内が送液で満たされた状態としてから、フィルター容器3の下流に位置する、ドレイン8に通ずる配管のバルブを開き、ろ液はドレイン8からタンク6に戻るようにして循環ろ過を行った。この時点でのろ液中の液中パーティクルカウンターによる0.15μm以上のパーティクル数は3個/10mLであった。フィルター容器3内の液を排出後、送液ポンプ4を使ってタンク7内に仕込んだ純水10kgを送液し、フィルター容器3内が送液で満たされた状態としてから、フィルター容器3の排出弁9を開き、ろ液はドレイン8からタンク7に戻るようにして循環ろ過を行った後、フィルター容器3内の液及び、タンク7内の純水を排出した。次に、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物の主溶剤10Lをタンク7内に仕込み、送液ポンプ4を使ってフィルター容器3内が送液で満たされた状態としてから、排出弁9を開き、ろ液はドレイン8からタンク7に戻るようにして循環ろ過を行った。続いて、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物が仕込まれているタンク1の下部の弁を開放し、配管を組成物で満たした後、送液ポンプ2を起動して送液し、フィルター容器3内が送液で満たされた状態としてからフィルター容器3の二次側弁10を開き、タンク1へ戻るようにして循環ろ過を行い液中パーティクルカウンターで液中の微粒子数が一定数量以下微粒子数の変化がほぼ一定になったところで、弁を切り替えて製品容器5に充填した。この製品容器を東京エレクトロン社製クリーントラックACT12に接続し、直径300mmのシリコン基板上に塗布膜を形成した。この塗布膜をKLA-Tencor社製欠陥検査装置で検査し、塗布欠陥数を計測した。その結果、0.12μm以上の大きさの欠陥数は25個で、ほぼ問題ないといえる程度であった。[比較例]コロイダルシリカ溶液を用いた循環ろ過フィルターにコロイダルシリカを吸着させる操作純水での洗浄を行う手順を省いた他は、全て実施例と同様の手順で、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物を製品容器5に充填した。この製品容器を東京エレクトロン社製クリーントラックACT12に接続し、直径300mmのシリコン基板上に塗布膜を形成した。この塗布膜をKLA-Tencor社製欠陥検査装置で検査し、塗布欠陥数を計測した。その結果、0.12μm以上の大きさの欠陥数は、290個であった。上記実施例、比較例の結果から、本発明のリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法で得られる組成物を塗布して形成された塗布膜は、微小粒子由来の欠陥を抑制することが可能であることが確認された。これにより、本発明のリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法によれば、リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子を簡便な方法でより確実に捕集することが可能であることが実証されたといえる。なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。