"ラジカル重合性結合剤、重合開始剤および充填剤をベースとするスリップであって、該スリップは、以下の成分:A1重量~30重量の、一般式Iの少なくとも1種の酸性モノマーであって、一般式Iにおいて、Xは、存在しないか、あるいはab価の、置換または非置換の、少なくとも2個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、少なくとも3個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の、6個~20個の炭素原子を有する二環式もしくは三環式または芳香族の残基、あるいはこれらの残基の組み合わせであり、該残基は、1つ以上のエーテル基を含み得;PGは、ラジカル重合性基であり;HGは、-COOH、-POOH2、-O-POOH2または-SO3Hであり;Yは、存在しないか、あるいは二価の、2個~40個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基、3個~40個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基、または5個~40個の炭素原子を有する脂環式基もしくは芳香族基であり、該基は、エーテル基、チオエーテル基、アミド基および/またはエステル基を含み得;Zは、存在しないか、あるいは二価の、2個~40個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基、または3個~40個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基であり、該基は、1つ以上のエーテル基、チオエーテル基、アミド基および/またはエステル基を含み得;aは、1~5の整数であり;そしてbは1または2である、酸性モノマー;A20重量~50重量の、少なくとも1種の非酸性ラジカル重合性モノマー;B0.001重量~2.0重量の光開始剤;ならびにC30重量~90重量のセラミック粒子および/またはガラスセラミック粒子;を含有し、各重量は、該スリップの総重量に対する重量である、スリップ。式Iの可変物が:Xは、存在しないか、あるいはab価の、置換または非置換の、3個~15個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、3個~15個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の、6個~15個の炭素原子を有する二環式もしくは三環式または芳香族の残基、あるいはこれらの残基の組み合わせであり、好ましくは、芳香族または脂環式のC6残基であり、そして特に、直鎖または分枝鎖のC3-C15脂肪族残基であり、特に好ましくはC3~C8脂肪族残基であり、ここで該残基は、1つ以上のエーテル基を含み得る;PGは、ビニル基CH2=CH-、アリル基CH2=CH-CH2-、アリルエーテル基CH2=CH-CH2-O-、スチリル基CH2=CH-フェニル-、メタアクリレート基CH2=C-H/-CH3-CO-O-またはメタアクリルアミド基CH2=C-H/-CH3-CO-NH-もしくはCH2=C-H/-CH3-CO-NR-であり、RはC1~C4アルキルであるであり、特に好ましくは、メタアクリレート基またはメタアクリルアミド基であり、そして非常に特に好ましくは、アクリレート基CH2=CH-CO-O-またはアクリルアミド基CH2=CH-CO-NH-である;HGは、-COOHである;Yは、存在しないか、あるいは2個~10個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、3個~12個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の二環式もしくは三環式、または芳香族の、6個~15個の炭素原子を有する残基あるいはこれらの残基の組み合わせである;Zは、存在しないか、あるいは2個~10個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、3個~12個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の二環式もしくは三環式、または芳香族の、6個~15個の炭素原子を有する残基、これらの残基の組み合わせ、あるいはオリゴエチレングリコール残基-CH2-CH2-On-、n=1~5またはオリゴプロピレングリコール残基-CHCH3-CH2-On-、n=1~5である;aは、1、2または3である;およびbは1である、ことを式I中で意味する、請求項1に記載のスリップ。式Iの可変物が:Xは、存在しないか、あるいはab価の、非置換の、分枝鎖または直鎖の、3個~15個、好ましくは3個~8個の炭素原子を有する脂肪族残基であり、該残基は、1個または2個のエーテル基を含み得る;PGは、アクリレート基またはアクリルアミド基である;HGは、-COOHである;Yは、二価の、2個~8個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基または3個~8個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基であり、該基は、1個のエステル基を含み得る;Zは、二価の、2個~10個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基または3個~10個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基であり、該基は、1個以上、好ましくは0~3個のエーテル基を含み得る;aは、1、2または3である;およびbは1である、ことを式I中で意味する、請求項2に記載のスリップ。D該スリップの総重量に対して0.001重量~1.0重量の抑制剤をさらに含有する、請求項1~3のいずれか1項に記載のスリップ。0重量~20重量の脱結合剤加速剤E、0重量~20重量の可塑剤、および0重量~70重量の溶媒をさらに含有し、各重量は、ラジカル重合性成分の総重量に対する重量である、請求項1~4のいずれか1項に記載のスリップ。F成分Cの質量に対して0.00001重量~2.0重量の着色成分をさらに含有する、請求項1~5のいずれか1項に記載のスリップ。成分Cとして、純粋なZrO2をベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子、純粋なAl2O3をベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子、純粋なZrO2-Al2O3をベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子、HfO2、CaO、Y2O3、CeO2および/もしくはMgOで安定化されたZrO2をベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子、HfO2、CaO、Y2O3、CeO2および/もしくはMgOで安定化されたZrO2-Al2O3をベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子、あるいは非酸化物セラミックをベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子を含有する、請求項1~6のいずれか1項に記載のスリップ。前記成分Cの粒子が、直鎖または分枝鎖のカルボン酸、特に、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、イソ酪酸、イソ吉草酸またはピバル酸;酸性リン酸エステル、特に、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジプロピル、リン酸ジブチル、リン酸ジペンチル、リン酸ジヘキシル、リン酸ジオクチルまたはリン酸ジ2-エチルヘキシル;ホスホン酸、特に、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸またはフェニルホスホン酸;あるいはシラン、特に、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルメトキシシランまたはヘキサメチルジシラザンで表面修飾されており、該表面修飾剤がラジカル重合性基を含まない、請求項1~7のいずれか1項に記載のスリップ。前記成分Cの粒子が、20nm~50μmの範囲の粒径を有する、請求項1~7のいずれか1項に記載のスリップ。脱結合剤加速剤Eとして、連鎖移動剤、特に、メルカプタン、ジスルフィドまたは光イニファーター、好ましくは、ラウリルメルカプタン、ジチオウレタンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィドまたはイソプロピルキサントゲン酸ジスルフィド;および/あるいは1つ以上の熱不安定基、特に、1つ以上のペルオキシド基、アゾ基またはウレタン基を有するコモノマー;および/あるいは-10°C~150°Cの天井温度を有するコモノマー、特に、α-メチルスチレン、ポリテトラヒドロフランPTHF、またはラジカル重合性基を有するテレケリ、特に、PTHFジメタアクリレートテレケリ、を含有する、請求項5~9のいずれか1項に記載のスリップ。着色成分Fとして、遷移金属化合物、特に、鉄元素、セリウム元素、プラセオジム元素、テルビウム元素、ランタン元素、タングステン元素、オスミウム元素、テルビウム元素およびマンガン元素の、アセチルα-オキシイソ酪酸塩および/またはカルボン酸塩、特に、酢酸鉄IIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸鉄III、酢酸マンガンIIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸マンガンIII、酢酸プラセオジムIIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸プラセオジムIII、あるいは酢酸テルビウムIIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸テルビウムIIIを含有する、請求項6~10のいずれか1項に記載のスリップ。分散剤、消泡剤、および皮張り防止剤の群からの少なくとも1種のさらなる成分をさらに含有する、請求項1~11のいずれか1項に記載のスリップ。ラジカル重合性成分の総重量に対して多くとも40重量の多官能性モノマーを含有する、請求項1~12のいずれか1項に記載のスリップ。セラミックまたはガラスセラミックで成形された物品の調製のための、請求項1~13のいずれか1項に記載のスリップの使用。前記セラミックで成形された物品が、インレー、アンレー、前装、歯冠、ブリッジまたはフレーム枠などの歯科用修復物である、請求項14に記載の使用。セラミックまたはガラスセラミックで成形された物品の調製のためのプロセスであって、a放射エネルギーの局所導入により請求項1~10のいずれか1項に記載のスリップを硬化させることによって、未焼成体が調製され、該未焼成体の幾何学的形状が形成され、b次いで、焼成体を得る目的で、該未焼成体が熱処理に供されて、結合剤を除去され脱結合剤、そしてc該焼成体が焼結される、プロセス。公知のスリップは、上記要件を満足しない。従って、本発明の目的は、良好な立体リソグラフィ加工性を示し、充分に強く寸法安定な未焼成体をもたらし、そして脱結合剤および焼結後に、欠損のない高強度セラミックをもたらす、セラミック成形部品の立体リソグラフィ調製のための光硬化性セラミックスリップを提供することである。特に、剥離が防止されるはずである。上記課題を解決するために、本発明は、例えば、以下を提供する:項目1ラジカル重合性結合剤、重合開始剤および充填剤をベースとするスリップであって、該スリップは、以下の成分:A1重量~30重量の、一般式Iの少なくとも1種の酸性モノマーであって、一般式Iにおいて、Xは、存在しないか、あるいはab価の、置換または非置換の、少なくとも2個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、少なくとも3個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の、6個~20個の炭素原子を有する二環式もしくは三環式または芳香族の残基、あるいはこれらの残基の組み合わせであり、該残基は、1つ以上のエーテル基を含み得;PGは、ラジカル重合性基であり;HGは、-COOH、-POOH2、-O-POOH2または-SO3Hであり;Yは、存在しないか、あるいは二価の、2個~40個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基、3個~40個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基、または5個~40個の炭素原子を有する脂環式基もしくは芳香族基であり、該基は、エーテル基、チオエーテル基、アミド基および/またはエステル基を含み得;Zは、存在しないか、あるいは二価の、2個~40個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基、または3個~40個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基であり、該基は、1つ以上のエーテル基、チオエーテル基、アミド基および/またはエステル基を含み得;aは、1~5の整数であり;そしてbは1または2である、酸性モノマー;A20重量~50重量の、少なくとも1種の非酸性ラジカル重合性モノマー;B0.001重量~2.0重量の光開始剤;ならびにC30重量~90重量のセラミック粒子および/またはガラスセラミック粒子;を含有し、各重量は、該スリップの総重量に対する重量である、スリップ。項目2式Iの可変物が:Xは、存在しないか、あるいはab価の、置換または非置換の、3個~15個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、3個~15個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の、6個~15個の炭素原子を有する二環式もしくは三環式または芳香族の残基、あるいはこれらの残基の組み合わせであり、好ましくは、芳香族または脂環式のC6残基であり、そして特に、直鎖または分枝鎖のC3-C15脂肪族残基であり、特に好ましくはC3~C8脂肪族残基であり、ここで該残基は、1つ以上のエーテル基を含み得る;PGは、ビニル基CH2=CH-、アリル基CH2=CH-CH2-、アリルエーテル基CH2=CH-CH2-O-、スチリル基CH2=CH-フェニル-、メタアクリレート基CH2=C-H/-CH3-CO-O-またはメタアクリルアミド基CH2=C-H/-CH3-CO-NH-もしくはCH2=C-H/-CH3-CO-NR-であり、RはC1~C4アルキルであるであり、特に好ましくは、メタアクリレート基またはメタアクリルアミド基であり、そして非常に特に好ましくは、アクリレート基CH2=CH-CO-O-またはアクリルアミド基CH2=CH-CO-NH-である;HGは、-COOHである;Yは、存在しないか、あるいは2個~10個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、3個~12個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の二環式もしくは三環式、または芳香族の、6個~15個の炭素原子を有する残基あるいはこれらの残基の組み合わせである;Zは、存在しないか、あるいは2個~10個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、3個~12個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の二環式もしくは三環式、または芳香族の、6個~15個の炭素原子を有する残基、これらの残基の組み合わせ、あるいはオリゴエチレングリコール残基-CH2-CH2-On-、n=1~5またはオリゴプロピレングリコール残基-CHCH3-CH2-On-、n=1~5である;aは、1、2または3である;およびbは1である、ことを式I中で意味する、上記項目に記載のスリップ。項目3式Iの可変物が:Xは、存在しないか、あるいはab価の、非置換の、分枝鎖または直鎖の、3個~15個、好ましくは3個~8個の炭素原子を有する脂肪族残基であり、該残基は、1個または2個のエーテル基を含み得る;PGは、アクリレート基またはアクリルアミド基である;HGは、-COOHである;Yは、二価の、2個~8個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基または3個~8個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基であり、該基は、1個のエステル基を含み得る;Zは、二価の、2個~10個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基または3個~10個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基であり、該基は、1個以上、好ましくは0~3個のエーテル基を含み得る;aは、1、2または3である;およびbは1である、ことを式I中で意味する、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目4D該スリップの総重量に対して0.001重量~1.0重量の抑制剤をさらに含有する、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目50重量~20重量の脱結合剤加速剤E、0重量~20重量の可塑剤、および0重量~70重量の溶媒をさらに含有し、各重量は、ラジカル重合性成分の総重量に対する重量である、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目6F成分Cの質量に対して0.00001重量~2.0重量の着色成分をさらに含有する、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目7成分Cとして、純粋なZrO2をベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子、純粋なAl2O3をベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子、純粋なZrO2-Al2O3をベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子、HfO2、CaO、Y2O3、CeO2および/もしくはMgOで安定化されたZrO2をベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子、HfO2、CaO、Y2O3、CeO2および/もしくはMgOで安定化されたZrO2-Al2O3をベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子、あるいは非酸化物セラミックをベースとするガラスセラミック粒子またはセラミック粒子を含有する、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目8上記成分Cの粒子が、直鎖または分枝鎖のカルボン酸、特に、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、イソ酪酸、イソ吉草酸またはピバル酸;酸性リン酸エステル、特に、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジプロピル、リン酸ジブチル、リン酸ジペンチル、リン酸ジヘキシル、リン酸ジオクチルまたはリン酸ジ2-エチルヘキシル;ホスホン酸、特に、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸またはフェニルホスホン酸;あるいはシラン、特に、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルメトキシシランまたはヘキサメチルジシラザンで表面修飾されており、該表面修飾剤がラジカル重合性基を含まない、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目9上記成分Cの粒子が、20nm~50μmの範囲の粒径を有する、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目10脱結合剤加速剤Eとして、連鎖移動剤、特に、メルカプタン、ジスルフィドまたは光イニファーター、好ましくは、ラウリルメルカプタン、ジチオウレタンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィドまたはイソプロピルキサントゲン酸ジスルフィド;および/あるいは1つ以上の熱不安定基、特に、1つ以上のペルオキシド基、アゾ基またはウレタン基を有するコモノマー;および/あるいは-10°C~150°Cの天井温度を有するコモノマー、特に、α-メチルスチレン、ポリテトラヒドロフランPTHF、またはラジカル重合性基を有するテレケリ、特に、PTHFジメタアクリレートテレケリ、を含有する、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目11着色成分Fとして、遷移金属化合物、特に、鉄元素、セリウム元素、プラセオジム元素、テルビウム元素、ランタン元素、タングステン元素、オスミウム元素、テルビウム元素およびマンガン元素の、アセチルα-オキシイソ酪酸塩および/またはカルボン酸塩、特に、酢酸鉄IIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸鉄III、酢酸マンガンIIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸マンガンIII、酢酸プラセオジムIIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸プラセオジムIII、あるいは酢酸テルビウムIIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸テルビウムIIIを含有する、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目12分散剤、消泡剤、および皮張り防止剤の群からの少なくとも1種のさらなる成分をさらに含有する、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目13ラジカル重合性成分の総重量に対して多くとも40重量の多官能性モノマーを含有する、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップ。項目14セラミックまたはガラスセラミックで成形された物品の調製のための、上記項目のうちのいずれかに記載のスリップの使用。項目15上記セラミックで成形された物品が、インレー、アンレー、前装、歯冠、ブリッジまたはフレーム枠などの歯科用修復物である、上記項目に記載の使用。項目16セラミックまたはガラスセラミックで成形された物品の調製のためのプロセスであって、a放射エネルギーの局所導入により上記項目のうちのいずれかに記載のスリップを硬化させることによって、未焼成体が調製され、該未焼成体の幾何学的形状が形成され、b次いで、焼成体を得る目的で、該未焼成体が熱処理に供されて、結合剤を除去され脱結合剤、そしてc該焼成体が焼結される、プロセス。摘要ラジカル重合性結合剤、重合開始剤および充填剤をベースとするスリップであって、このスリップは、A一般式Iの少なくとも1種の酸性モノマー、B光開始剤、ならびにCセラミック粒子および/またはガラスセラミック粒子を含有する。本発明のスリップは、公知のスリップが満足しない要件を満足する。従って、本発明は、良好な立体リソグラフィ加工性を示し、充分に強く寸法安定な未焼成体をもたらし、そして脱結合剤および焼結後に、欠損のない高強度セラミックをもたらす、セラミック成形部品の立体リソグラフィ調製のための光硬化性セラミックスリップを提供する。特に、剥離が防止される。本発明の目的は、ラジカル重合性結合剤、重合開始剤および充填剤をベースとするスリップによって、本発明により達成される。このスリップは、以下の成分を含有する:A1重量~30重量の、一般式Iの少なくとも1種の酸性モノマーであって、一般式Iにおいて、Xは、存在しないか、あるいはab価の、置換または非置換の、少なくとも2個、好ましくは3個~15個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、少なくとも3個、好ましくは3個~15個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の二環式もしくは三環式、または芳香族の、6個~20個、好ましくは6個~15個の炭素原子を有する残基、あるいはこれらの残基の組み合わせであり、好ましくは、芳香族または脂環式のC6残基であり、特に、直鎖または分枝鎖のC3~C15脂肪族残基、特に好ましくはC3~C8脂肪族残基であり、ここでこれらの基は、1個以上のエーテル基を含み得;PGは、ラジカル重合性基であり、好ましくは、ビニル基CH2=CH-、アリル基CH2=CH-CH2-、アリルエーテル基CH2=CH-CH2-O-、スチリル基CH2=CH-フェニル-、メタアクリレート基CH2=C-H/-CH3-CO-O-またはメタアクリルアミド基CH2=C-H/-CH3-CO-NH-もしくはCH2=C-H/-CH3-CO-NR-であり、ここでRはC1~C4アルキルであるであり、特に好ましくは、メタアクリレート基またはメタアクリルアミド基であり、そして非常に特に好ましくは、アクリレート基CH2=CH-CO-O-またはアクリルアミド基CH2=CH-CO-NH-であり;HGは、-COOH、-POOH2、-O-POOH2または-SO3Hであり、好ましくは-COOHであり;Yは、存在しないか、あるいは二価の、2個~40個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基、3個~40個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基、または5個~40個の炭素原子を有する脂環式基もしくは芳香族基であり、ここでYは、1つ以上のエーテル基、チオエーテル基、アミド基および/またはエステル基を含み得、好ましくは、2個~10個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、3個~12個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の二環式もしくは三環式、または芳香族の、6個~15個の炭素原子を有する残基、あるいはこれらの残基の組み合わせであり;Zは、存在しないか、あるいは二価の、2個~40個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基または3個~40個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基であり、ここでZは、1つ以上のエーテル基、チオエーテル基、アミド基および/またはエステル基を含み得、好ましくは、2個~10個の炭素原子を有する直鎖脂肪族残基、3個~12個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族残基、脂環式の二環式もしくは三環式、または芳香族の、6個~15個の炭素原子を有する残基、これらの残基の組み合わせ、あるいはオリゴエチレングリコール残基-CH2-CH2-On-、n=1~5もしくはオリゴプロピレングリコール残基-CHCH3-CH2-On-、n=1~5であり;aは、1~5の整数であり、好ましくは、1、2または3であり;そしてbは、1または2であり、好ましくは1である;酸性モノマー;A20重量~50重量の、少なくとも1種の非酸性ラジカル重合性モノマー;B0.001重量~2.0重量の光開始剤;ならびにC30重量~90重量のセラミック粒子および/またはガラスセラミック粒子;各重量は、該スリップの総重量に対する重量である。Yおよび/またはZに必要に応じて存在するエステル基は、好ましくは、1個~4個の炭素原子を有する。メタアクリルアミド基のアミド窒素は、アルキルにより、好ましくはC1~C3アルキルにより、置換され得る。本発明によるスリップは、ラジカル重合性結合剤として、一般式Iによる少なくとも1種の酸性モノマー成分A、好ましくは、少なくとも1種の酸性モノマーと少なくとも1種の非酸性モノマー成分A2との混合物を含有する。以下において、この酸性モノマーは、接着性モノマーとも称され、そしてこの非酸性モノマーは、コモノマーとも称される。驚くべきことに、本発明によるスリップは、低い重合収縮のみを有し、従って、良好な寸法安定性および低い変形応力を有する、寸法的に安定な可撓性の未焼成体の調製を可能にすることが見出された。これらのスリップは、欠損のない未焼成体をもたらし、これらの未焼成体は、立体リソグラフィにより製造された個々の層間の優れた接着により特徴付けられる。これらの未焼成体の脱結合剤および焼結後に、高強度のセラミックまたはガラスセラミックで成形された部品が得られ、これらの部品は、歯科目的のために特に適切である。さらに、非常に驚くべきことに、式Iの単官能性接着性モノマーはまた、例外的に高いラジカル光重合活性を有することが示された。単官能性モノマーとは、1つのラジカル重合性基を有するモノマーを意味し、そして多官能性モノマーとは、2つ以上のラジカル重合性基を有するモノマーを意味する。2つ以上のラジカル重合性基を有するモノマーは、架橋を起こすので、架橋モノマーとも呼ばれる。COOH基を含むモノマーは、例えば、ヒドロキシアルキルメタアクリレートまたはN-ヒドロキシアルキルメタアクリルアミドを、脂肪族、脂環式、二環式もしくは三環式、または芳香族の、ジカルボン酸無水物、トリカルボン酸無水物またはテトラカルボン酸無水物に、化学量論的に付加することによって、得られ得る。ジカルボン酸の無水物が好ましい。これに適したヒドロキシアルキルメタアクリレートまたはN-ヒドロキシアルキルメタアクリルアミドは、例えば、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸4-ヒドロキシブチル、メタアクリル酸10-ヒドロキシデシル、OH末端を有するポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、α-ヒドロキシメチルアクリル酸エチルエステル、N-2-ヒドロキシエチルメタアクリルアミド、N-メチル-N-2-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-5-ヒドロキシペンチルメタアクリルアミドまたはN-10-ヒドロキシデシルメタアクリルアミドである。好ましいジカルボン酸無水物は、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸またはグルタル酸無水物、シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸無水物、1,2-シクロプロパンジカルボン酸無水物、ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物、あるいは無水マレイン酸と1,3-シクロペンタジエンまたは無水フタル酸とのディールス-アルダー付加体である。さらに、COOH含有モノマーは、二官能性またはより多官能性のカルボン酸例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、ピメリン酸、スベリン酸、リンゴ酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、シクロヘキサン二カルボン酸、没食子酸、酒石酸、またはクエン酸の、例えば、メタアクリル酸グリシジルまたは4-ビニル-1-シクロヘキセン1,2-エポキシドへの開環付加により合成され得るか、あるいは上記ヒドロキシアルキルメタアクリレートまたはN-ヒドロキシアルキルメタアクリルアミドの、列挙されたジカルボン酸とのエステル化によって、半エステルとして得られ得る。適切な酸性重合性リン酸エステルHG=-O-POOH2の例は、リン酸二水素2-メタクリロイルオキシプロピル、リン酸二水素2-メタクリロイルオキシエチル、リン酸二水素10-メタクリロイルオキシデシル、リン酸二水素6-メタクリルアミドヘキシルおよびリン酸二水素1,3-ビス-N-アクリロイル-N-プロピル-アミノ-プロパン-2-イルである。適切なホスホン酸モノマーHG=-POOH2の例は、ビニルホスホン酸、4-ビニルフェニルホスホン酸、4-ビニルベンジルホスホン酸、2-メタクリロイルオキシエチルホスホン酸、2-メタクリルアミドエチルホスホン酸、4-メタクリルアミド-4-メチル-ペンチル-ホスホン酸または2-[4-ジヒドロキシホスホリル-2-オキサ-ブチル]-アクリル酸である。適切な重合性スルホン酸HG=-SO3Hの例は、ビニルスルホン酸、4-ビニルフェニルスルホン酸または3-メタクリルアミドプロピルスルホン酸である。好ましいものは、COOH基を含むモノマーHG=COOHであり、そしてとりわけ、ヒドロキシアルキルアクリレート例えば、アクリル酸ヒドロキシエチルまたはアクリル酸ヒドロキシプロピルと、脂肪族、脂環式または芳香族のカルボン酸無水物特に、コハク酸、グルタル酸、シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸または無水フタル酸との反応生成物である。特に好ましいものは、重合性基PGとして、ビニル基、アリル基、アリルエーテル基、スチリル基、メタアクリレート基またはメタアクリルアミド基特に、メタアクリレート残基またはメタアクリルアミド残基を有する、COOH基を有するモノマーHG=COOHであり、アクリレート残基またはアクリルアミド残基が、非常に特に好ましい。特に好ましいものは、可変物が互いに独立して、Xは、存在しないか、あるいはab価の、非置換の、分枝鎖または直鎖の、3個~15個、好ましくは3個~8個の炭素原子を有する脂肪族残基であり、この残基は、1個または2個のエーテル基を含み得る;PGは、アクリレート基またはアクリルアミド基である、HGは、-COOHである、Yは、二価の、2個~8個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基または3個~8個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基であり、これらの基は、1個のエステル基を含み得る、およびZは、二価の、2個~10個の炭素原子を有する直鎖脂肪族基または3個~10個の炭素原子を有する分枝鎖脂肪族基であり、これらの基は、1個以上、好ましくは0~3個のエーテル基を含み得る、aは、1、2または3である、およびbは1である、ことを式I中で意味する、式Iによるモノマーである。本発明によれば、全ての可変物が、好ましい意味または特に好ましい意味のうちの1つを有する、式Iのモノマーが、特に好ましい。このラジカル重合性結合剤は、好ましくは、少なくとも1つの非酸性モノマーA2を含有する。ラジカル重合性樹脂において、単官能性または多官能性のメタアクリレート、メタアクリルアミド、ビニルモノマー、またはこれらの混合物が、非酸性コモノマーとして特に使用され得る。メタアクリレートの例は、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸ヒドロキシエチル、メタアクリル酸ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸テトラヒドロフルフリルもしくはメタアクリル酸イソボルニル、ビスフェノール-A-ジメタアクリレート、ビス-GMAメタクリル酸とビスフェノール-A-ジグリシジルエーテルとの付加生成物、2-ヒドロキシアルキルメタアクリレートとジイソシアネート例えば、ジイソシアン酸ヘキサメチレン、ジイソシアン酸2,2,4-トリメチルヘキサメチレンとの付加生成物、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、メタアクリレート末端を有するポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコール、トリメタアクリル酸トリメチロールプロパン、テトラメタアクリル酸ペンタエリトリトール、ならびにジメタアクリル酸グリセロールおよびトリメタアクリル酸グリセロール、ジメタアクリル酸1,4-ブタンジオール、ジメタアクリル酸1,10-デカンジオールまたはジメタアクリル酸1,12-ドデカンジオールである。メタアクリルアミドの好ましい例は、N-エチルアクリルアミド、N,N-ジメタクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-メチル-N-2-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-エチルメタクリルアミドまたはN-2-ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N,N’-ジエチル-1,3-ビスアクリルアミドプロパン、1,3-ビスメタクリルアミドプロパン、1,4-ビスアクリルアミド-ブタンまたは1,4-ビスアクリロイルピペラジンである。適切なビニルモノマーは、N-ビニルピロリドンまたは酢酸ビニルである。本発明によるスリップは、ラジカル重合性成分の総重量に対して、好ましくは、40重量未満、そして特に好ましくは20重量未満の、架橋モノマーを含有する。本発明によるセラミックスリップまたはガラスセラミックスリップは、成分Bとして、可視領域のための公知のラジカル光開始剤J.P.Fouassier,J.F.Rabek編,RadiationCuringinPolymerScienceandTechnology,第II巻,ElsevierAppliedScience,LondonandNewYork1993を参照のこと例えば、アシルホスフィンオキシドまたはビスアシルホスフィンオキシド、チタノセン光開始剤例えば、ビスη5-シクロペンタジエニルビス[2,6-ジフルオロ-3-1H-ピラ-1-イルフェニルチタンbisη5-cyclopentadienylbis[2,6-difluoro-3-1H-pyrr-1-ylphenyltitaniumまたはビスη5-メチルシクロペンタジエニルビス2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニル-チタンであるが、とりわけ、α-ジケトン例えば、9,10-フェナントレンキノンまたはジアセチル、フリル、もしくは4,4’-ジアルコキシベンジルおよびショウノウキノンを含有し得る。さらに、可視領域に適切な光開始剤は、光還元性色素例えば、アクリジン、キサンテン、アジンまたはポリメチン色素と、促進剤例えば、ホスフィン、スルフィネート、エノレートまたは適切なボレートとの組み合わせであるJ.V.Crivello,K.Dietliker,PhotoinitiatorsforFreeRadical,CationicAnionicPhotopolymerization,第2版:SurfaceCoatingTechnology,編者:G.Bradley,第III巻,WileySons,Chichesteretc.1998,239以降を参照のこと。特に適切なものは、アミンを含まないNorrishI型光開始剤であり、この光開始剤は、400nmより長い波長を吸収し、とりわけ、モノアシルトリアルキルゲルマニウム化合物またはジアシルジアルキルゲルマニウム化合物例えば、ベンゾイルトリメチルゲルマニウム、ジベンゾイルジエチルゲルマニウムまたはビス4-メトキシベンゾイルジエチルゲルマニウム、ならびにビスアシルホスフィンオキシドであり、これらは全て、アミン促進剤なしでさえも高い重合率をもたらす。異なる光開始剤の混合物例えば、ビスアシルホスフィンオキシドと組み合わせたジベンゾイルジエチルゲルマニウムの混合物もまた使用され得る。還元剤例えば、4-ジメチルアミノ-安息香酸エステル、N,N-ジメチルアミノエチルメタクリレート、N,N-ジメチル-sym-キシリジンまたはトリエタノールアミンが、α-ジケトンのための促進剤として使用され得る。さらなる促進剤は、アスコルビン酸、バルビツレートまたはスルフィン酸であり、これらはとりわけ、適切な過酸化物との組み合わせにおいて、有利である。さらに、公知の陽イオン性光開始剤例えば、ジアリールヨードニウム塩またはトリアリールスルホニウム塩もまた、促進剤として使用され得る。光開始剤は、好ましくは、0.001重量~2.0重量、特に好ましくは0.01重量~1重量の量で使用され、そして促進剤は、0重量~2.0重量、特に好ましくは0.01重量~1重量の量で使用される。本発明によるスリップは、成分Cとして、セラミック粒子および/またはガラスセラミック粒子を含有する。セラミックとは、結晶構造を有し、そして対応する粉末から通常調製される、無機材料を意味する。セラミックの調製は、好ましくは、焼結により行われる焼結セラミック。酸化物セラミックは、好ましくは、ZrO2またはAl2O3などの金属酸化物粉末を焼結することにより得られる。さらに、酸化物セラミックはまた、1つ以上のガラス相を含み得る。ガラスセラミックとは、非晶質ガラス特に、シリケートガラスから、制御された結晶化により通常調製され、ガラス相および1つ以上の結晶相が固体中に同時に存在する材料である。焼結可能なガラスセラミックの場合、ガラス粉末とガラスセラミック粉末との両方が、出発物質として使用され得る。好ましいものは、白榴石もしくはジケイ酸リチウムで強化されたガラスをベースとする焼結可能なガラスセラミック粒子、ならびに/またはZrO2もしくはAl2O3好ましくは、純粋なZrO2もしくは純粋なAl2O3をベースとするセラミック粒子、HfO2、CaO、Y2O3、CeO2および/もしくはMgOで安定化されたZrO2をベースとする粒子、他の金属酸化物をベースとする粒子、ならびにまた、数種の酸化物から調製され、従って、種々の結晶性酸化物相好ましくは、ZrO2-Al2O3、特に、純粋なZrO2-Al2O3またはHfO2、CaO、Y2O3、CeO2および/もしくはMgOで安定化されたZrO2-Al2O3から構築されるセラミック複合材料である。用語純粋とは、化学的に純粋であることを意味すると理解されるべきである。すなわち、ZrO2セラミックまたはAl2O3セラミックが、それぞれ、ZrO2のみから、またはAl2O3のみから構築される。ZrO2またはAl2O3などの主成分である酸化物に加えて、安定化されたセラミックは、安定剤を含有し、この安定剤は、好ましくは、HfO2、CaO、Y2O3、CeO2、MgOおよびこれらの混合物から選択される。安定剤は、好ましくは、安定化されたセラミックの質量に対して、3重量~5重量の量で使用される。高強度ZrO2セラミックは、好ましくは、3重量~5重量のY2O3酸化イットリウムを含有して、その正方晶系の結晶構造を安定化させる。このZrO2セラミックは、Y-TZPイットリウムで安定化された正方晶系二酸化ジルコニウム多結晶体と称される。主成分である酸化物および安定剤のみを含有するセラミック粒子が、特に好ましい。上記セラミック粒子およびガラスセラミック粒子は、歯科用途に対して特に適切である。さらに、非酸化物セラミックの粒子もまた、特に非歯科目的で使用され得る。好ましい非酸化物セラミックは、炭化物とりわけ、炭化ケイ素または炭化ホウ素、窒化物特に、窒化ケイ素、窒化アルミニウムまたは窒化ホウ素、ホウ化物および/あるいはケイ化物である。成分Cの粒径は、好ましくは、20nm~50μmの範囲である。これは、使用されるセラミックに依存する。Al2O3の場合、成分Cとして使用される粒子のサイズは、好ましくは20nm~5000nm、特に好ましくは75nm~200nmの範囲であり、ガラスセラミックの場合、100nm~50μm、非常に好ましくは0.1μm~10μmの範囲であり、Y-TZP二酸化ジルコニウムの場合、20nm~5000nm、非常に好ましくは50nm~3500nmの範囲である。粒径は、好ましくは、沈降安定なスリップが得られるように選択される。これらの粒径は、絶対的な上限および下限である。さらに、10nm~200nmの範囲の粒径を有するセラミック粒子またはガラスセラミック粒子はまた、ナノゾルまたはオルガノゾルとして、すなわち、溶媒、成分Aの適切なモノマーまたはその混合物中の、ナノ粒子の分散物として使用され得る。本発明の好ましい実施形態において、粒子は、適切な物質で表面修飾される。セラミック粒子またはガラスセラミック粒子の表面に化学的にすなわち、イオン結合または共有結合により結合する化合物が、好ましくは、表面修飾のために使用される。酸基好ましくは、カルボン酸基、ホスホン酸基、リン酸水素基もしくは酸性リン酸エステル基、またはシリル基好ましくは、アルコキシシリル基のいずれかを含有する化合物が好ましい。粒子の表面は、部分的にか、または好ましくは完全に、修飾剤で覆われ得る。本発明により使用される修飾剤は、モノマー化合物である。いわゆる接着促進剤とも結合試薬とも異なり、粒子表面と反応する基のみを含み、ポリ反応性基例えば、ラジカル重合性基例えば、メタアクリル基、メタアクリルアミド基、ビニル基、ビニルエーテル基またはエポキシド基であり、樹脂マトリックスAと共有結合を形成するを含まない化合物が、本発明により特に適切である。このような化合物は、本明細書中で、非重合性表面修飾剤と称される。これらの化合物は、硬化した未焼成体において、セラミック粒子表面とポリマーマトリックスとの間に安定な結合が形成されないという利点を有し、このことは、脱結合剤プロセスにおいて、ポリマー部分の完全な除去を簡単にする。直鎖または分枝鎖のカルボン酸例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、イソ酪酸、イソ吉草酸、ピバル酸、酸性リン酸エステル例えば、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジプロピル、リン酸ジブチル、リン酸ジペンチル、リン酸ジヘキシル、リン酸ジオクチルまたはリン酸ジ2-エチルヘキシル、あるいはホスホン酸例えば、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸またはフェニルホスホン酸は、非重合性表面修飾剤として特に適切である。非重合性表面修飾剤として適切なシランは、例えば、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルメトキシシランまたはヘキサメチルジシラザンである。好ましい実施形態によれば、本発明によるスリップは、成分Dとして、自発的ポリ反応を防止するための安定剤としての抑制剤を含有する。抑制剤または安定剤は、スリップの貯蔵安定性を改善し、そしてまた、立体リソグラフィタンク内での制御されないポリ反応を防止する。これらの抑制剤は、好ましくは、スリップが約2年間~3年間にわたって貯蔵安定であるような量で添加される。これらの抑制剤は、好ましくは、0.001重量~1.0重量、特に好ましくは0.001重量~0.50重量の量で使用され、各重量は、スリップの総重量に対する重量である。酸素の存在下のみで実際に有効であり、通常、200ppm~2000ppmの範囲の濃度で使用されるフェノール例えば、ヒドロキノンモノメチルエーテルMEHQまたは2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチル-フェノールBHTが、ラジカル反応樹脂のためのいわゆる好気性抑制剤として使用される。他方で、嫌気性抑制剤例えば、フェノチアジン、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシルラジカルTEMPO、よう素、ヨウ化銅Iは、最低濃度10ppm~50ppmで、酸素の非存在下でさえも有効である。重合は、通常、これらの添加剤が消費される場合にのみ起こる。好気性抑制剤と嫌気性抑制剤との混合物を使用することもまた、しばしば有利である。好気性抑制剤は、好ましくは、0.01重量~0.50重量の量で使用され、そして嫌気性抑制剤は、0.001重量~0.02重量の量で使用される。各々が、スリップの総重量に対してである。好ましい混合物は、0.02重量~0.2重量、特に0.01重量~0.10重量の好気性抑制剤、および/または0.001重量~0.01重量の嫌気性抑制剤を含有する。これらもまた、スリップの総重量に対してである。さらに、散乱効果を回避するため、または硬化深さを調節するために、適切な色素が添加され得、これらの色素は、とりわけ、使用される光開始剤または増感剤の波長範囲を吸収するとりわけ、アゾ染料およびアクリジン染料。これらの具体的な例は、2,4-ジヒドロキシ-4-ニトロアゾベンゼン、SudanYellow146、SudanOrange220、SudanMRed380、SudanYellow177液である。最後に、有機白色顔料またはつや消し剤例えば、PE蝋、ポリアミド12またはポリメチル尿素樹脂をベースとするものもまた、散乱効果を回避するため、または硬化深さを調節するために使用され得る。スリップの吸収は、記載された色素によって、制御された様式で影響を受け得減少し得、これによって、散乱効果により引き起こされる過剰放射またはスリップの少なすぎる吸収は、最小にされ得る。散乱および過剰放射は、立体リソグラフィにより調製される成分の形状忠実度に対する不利な影響を有し得る。本発明のさらに好ましい実施形態によれば、これらのスリップは、いわゆる脱結合剤加速剤を成分Eとして含有する。この脱結合剤は、好ましくは、0重量~20重量、特に好ましくは0.01重量~10重量の量で使用され、各重量は、スリップの総重量に対する重量である。脱結合剤加速剤とは、脱結合剤プロセス中に結合剤の除去を容易にする物質を意味する。未焼成コンパクトの脱結合剤は、ポリ反応樹脂内の適切な物質、すなわち、ポリ反応性効果的な物質によって、標的化された様式で促進され得るかまたは影響を受け得る。他方で、これらは網目構造形成に影響を与える添加剤であり、例えば、特に、連鎖移動活性物質いわゆる連鎖移動剤であり、これらの添加剤は、ポリマー網目構造密度の低下をもたらし、従って、より良好な熱分解性をもたらす。例えばラジカル重合について、公知の連鎖移動剤は特に、メルカプタン例えば、ラウリルメルカプタンおよびジスルフィドである。ジスルフィド特に、テトラメチルチウラムジスルフィドまたはイソプロピルキサントゲン酸ジスルフィドなどのジチオウレタンジスルフィドは、ラジカル光重合において、いわゆる光イニファーターとして働く。これらは、光開始剤光イニとして働き、かつ移動反応ファーおよび停止反応ターに関与する、化合物であるT.Otsu,M.Yoshida,Makromol.Chem.,Rapid.Commun.31982127-132:RoleofInitiator-TransferAgent-TerminatorIniferterinRadicalPolymerizations:PolymerDesignbyOrganicDisulfidesasInifertersを参照のこと。連鎖移動活性物質すなわち、連鎖移動剤または光イニファーターの添加は、ポリ反応網目構造の網目構造密度の低下をもたらし、このポリ反応樹脂混合物の反応性は、事実上変化しない。連鎖移動剤および光イニファーターは、好ましくは、成分Aに対して0.005重量~2重量ずつ、そして特に好ましくは0.01重量~1.0重量の量で使用される。本発明によれば、ポリマー網目構造の熱安定性の低下をもたらすコモノマーは、有利なことに、脱結合剤加速剤としてもまた使用され得る。立体リソグラフィプロセス中にポリマー網目構造に組み込まれ、次いで熱脱結合剤プロセスにおいてこのポリマー網目構造の分解を促進する、熱不安定基例えば、過酸化物基、アゾ基またはウレタン基を含むコモノマーが、これに対して適切である。重合性過酸化物の好ましい例は、4,4’-ジビニルベンゾイルペルオキシドであり、これは、4-ビニルベンゾイルクロリドと過酸化ナトリウムとの反応により得られ得る。重合性アゾ化合物の好ましい例は、メタクリル酸2-ヒドロキシエチルおよび4,4’-アゾビス-4-シアノ吉草酸から得られるエステルである。好ましい熱不安定性ウレタンは、ジイソシアネートから、例えば、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートTMDIまたはトルイレンジイソシアネートTDIと、アクリル酸ヒドロキシプロピルHPAまたはアクリル酸2-ヒドロキシエチルHEAとの反応により得られ得る。熱不安定性モノマー構築ブロックのさらなる例は、α,α,α’,α’-テトラメチル-1,4-ベンゼン-ジメチルアクリレートであり、これを例えば、ジアクリレートとジアセトアセテートとのマイケル付加による網目構造に、触媒量の酸の存在下で組み込むことにより、このポリマー網目構造の分解が促進される。さらに、ポリ反応生成物が容易に熱分解するコモノマーは、脱結合剤加速剤として適切である。α-メチルスチレンのように、低い天井温度Tcを有するコモノマーは、ラジカル重合樹脂にとって好ましい。天井温度とは、重合が解重合と平衡になる限界温度であり、重合エンタルピーと重合エントロピーとの商から計算され得るH.-G.Elias,Makromolekuele,第1巻,第6版,Wiley-VCH,Weinheimetc.1999,193以降を参照のこと。例えば、α-メチルスチレンについてのTcは61°Cである。ポリテトラヒドロフランPTHFの天井温度Tcは80°Cである。従って、ポリメタアクリレート網目構造の分解性は、例えば、ラジカル重合性基を有するテレケリTelechel特に、PTHFジメタアクリレートテレケリをコモノマーとして使用することによって、促進され得る。本発明によれば、-10°C~150°C、好ましくは10°C~150°C、そして特に好ましくは20°C~130°Cの天井温度を有するコモノマーが、特に適切である。これらのコモノマーは、好ましくは、成分Aに対して0.1重量~30重量、そして特に好ましくは0.5重量~20重量の量で使用される。本発明によるスリップは、好ましくは、着色成分を成分Fとして含有する。この着色成分は、好ましくは、成分Cの重量に対して0.00001重量~2.0重量、特に好ましくは0.001重量~1.0重量、そして非常に特に好ましくは0.01重量~0.5重量の量で使用される。従来の色素または顔料は、本発明による着色成分として適切ではない。なぜなら、従来の色素または顔料は、脱結合剤プロセスまたは焼結プロセスで残るほどに充分に安定ではないからである。本発明によれば、反応性遷移金属化合物が、成分Fとして使用され、これらの化合物は、一方では結合剤Aに可溶性であって光硬化の経過に有害な影響を与えず、そして他方では、立体リソグラフィにより調製されたセラミック未焼成コンパクトの脱結合剤中、またはこれから得られたセラミック焼成体の焼結中に、着色遷移金属イオンを形成する。着色成分として好ましい遷移金属化合物は、特に、鉄元素、セリウム元素、プラセオジム元素、テルビウム元素、ランタン元素、タングステン元素、オスミウム元素、テルビウム元素およびマンガン元素の、アセチルα-オキシイソ酪酸塩またはカルボン酸塩である。カルボン酸である酢酸、プロピオン酸、酪酸、2-エチルヘキシルカルボン酸、ステアリン酸およびパルミチン酸の塩が好ましい。とりわけ、対応するFe化合物、Pr化合物、Mn化合物およびTb化合物例えば、酢酸鉄IIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸鉄III、酢酸マンガンIIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸マンガンIII、酢酸プラセオジムIIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸プラセオジムIII、あるいは酢酸テルビウムIIIまたはアセチルα-オキシイソ酪酸テルビウムIII、ならびに対応するカルボン酸塩が、特に好ましい。これらの着色成分は、好ましくは、脱結合剤および焼結の後に、歯の色のセラミック成形部品が得られるように選択される。成分Fとして使用される遷移金属化合物は、構造体に着色成分として通常はイオンとして組み込まれ、そして焼結プロセス後に、焼結体の色に影響を与える。これに対して、先に記載された有機色素は、スリップの硬化深さを調節するために働く。これらの有機色素は、脱結合剤および焼結の間に完全に分解する。本発明によれば、成分A、BおよびCに加えて、抑制剤D、脱結合剤加速剤Eおよび/または着色成分Fを含有するスリップが好ましい。特に好ましいものは、成分A、B、CおよびDを含有するスリップ;成分A、B、CおよびEを含有するスリップ;成分A、B、CおよびFを含有するスリップであり、非常に特に好ましいものは、成分A、B、C、DおよびEを含有するスリップ;成分A、B、C、DおよびFを含有するスリップ;成分A、B、C、EおよびFを含有するスリップであり、そして特に、成分A、B、C、D、EおよびFを含有するスリップである。各場合において、上に規定された成分および好ましい成分を、好ましくは上に記載された量で使用することが好ましい。成分A~Fに加えて、本発明によるスリップは、さらなる成分を添加剤として含有し得る。例えば、本発明によるスリップは、1種以上の分散剤を含有し得、これらの分散剤は、凝集物の形成およびセラミック粒子の堆積を防止する。セラミックスリップに対して適切な分散剤は、とりわけ、ポリマー例えば、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸塩または非イオン性ポリマー例えば、ポリエチレングリコールもしくはカルボキシメチルセルロースである。分散剤として特に適切なものは、ポリ反応樹脂に可溶性であるポリマーである。例えば、光硬化性メタアクリレート樹脂に可溶性であるポリメタアクリレートであり、ここで達成可能な固形分は、通常、スリップ中のこれらのポリマーの分子量および含有量が増加するにつれて、減少する。さらに、成分Cの粒子は、スリップの調製前に分散剤で前処理さえされ得る。分散剤は、好ましくは、スリップの総重量に対して0重量~5重量、そして特に好ましくは0.5重量~3.0重量の量で使用される。本発明によるセラミックスリップは、さらなる成分として、1種以上の可塑剤を含有し得、この可塑剤は、セラミック未焼成コンパクトが、光化学硬化および可能な乾燥の後に、もろくなることを防止する。さらに、可塑剤は、充分な可撓性を確実にする。代表的な可塑剤は、フタレート例えば、フタル酸ジブチルまたはフタル酸ジヘキシル、非酸性ホスフェート例えば、リン酸トリブチルまたはリン酸トリクレシル、n-オクタノール、グリセロール、ポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコール、あるいは対応するエステル誘導体またはエーテル誘導体である。可塑剤は、好ましくは、ラジカル重合性成分の総重量に対して0重量~20重量、そして特に好ましくは0重量~10重量の量で使用される。さらに、本発明によるスリップはまた、有利なことに、溶媒を含有し得る。例えば、可塑剤として上に記載された化合物は、溶媒として適切である。少なくとも約120°Cの沸点および比較的高い蒸発エンタルピーを有する化合物が、好ましくは溶媒として使用され、その結果、スリップの立体リソグラフィー加工中に尚早な蒸発が起こらない。特に好ましいものは、150°C~250°Cの沸点、非常に特に好ましくは180°C~230°Cの沸点を有する溶媒である。特に適切なものは、1-オクタノール、1-ノナノール、2-ノナノール、ジエチレングリコールジエチルエーテル、2,5-ジメトキシテトラヒドロフラン、シュウ酸ジブチルエステル、シクロヘキサノール、ポリプロピレングリコールジアセテート、シクロヘキサノン、アセト酢酸エチルエステル、およびこれらの混合物である。溶媒は、好ましくは、ラジカル重合性成分の総重量に対して、0重量~70重量、特に好ましくは10重量~50重量の量で使用される。150°C~250°Cの範囲の温度で次第に蒸発し得る化合物の混合物は、可塑剤および/または溶媒として特に適切である。次第に蒸発するとは、本明細書で、異なる沸点を有する1種以上の可塑剤および/または1種以上の溶媒の混合物が使用され、その結果、これらの成分が順番に、好ましくは150°C~250°Cの範囲の温度で蒸発し得、従って、成形部品をより注意深く処理する様式で除去され得ることを意味する。溶媒の蒸発は、ポリマー部分の脱結合剤を高温で起こしやすくし得る。上記溶媒の蒸発は、未焼成コンパクト中への微細孔の形成をもたらし、これらの微細孔は、焼結の際に再度閉じるが、脱結合剤工程中に気体が逃れることを可能にし、従って、応力および亀裂の形成を防止することが見出された。さらに、立体リソグラフィにより製造された層が分離する危険性が低下し、そして有機成分の完全な除去がより容易にされる。あるいは、未焼成体の多孔性はまた、熱処理の前に、溶出可能な部分を抽出により除去することによって達成され得る。適切な抽出可能成分は、水溶性ポリマー例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンおよびポリエチレングリコールである。さらに、ガソリンに可溶性である物質例えば、パラフィンまたは蝋、および長鎖脂肪酸エステルが使用され得る。樹脂マトリックス中の抽出可能成分の好ましい量は、成分Aに対して0重量~40重量、特に好ましくは0.1重量~30重量である。さらに、本発明によるスリップは、消泡剤および/または皮張り防止剤を含有し得、これらは、スリップの調製中の発泡を防止するか、またはスリップの加工中の被膜の形成を防止する。消泡剤および/または皮張り防止剤は、好ましくは、各場合において、成分Aの質量に対して0重量~5重量、そして特に好ましくは0.1重量~2重量の量で、有機マトリックス中で使用される。上記成分を以下の量で含有するスリップが、本発明によれば特に好ましい:成分A:1重量~30重量、好ましくは5重量~20重量成分A2:0重量~20重量、好ましくは0重量~10重量成分B:0.001重量~2重量、好ましくは0.01重量~1.0重量成分C:30重量~90重量、特に好ましくは35重量~85重量、そして非常に特に好ましくは40重量~85重量溶媒および/または可塑剤0重量~30重量、好ましくは0重量~15重量。本発明によるスリップのレオロジー特性は、好ましくは、それらの粘度が0.02Pas~20000Pas、特に好ましくは0.05Pas~5000Pasの範囲内であるように、調整される。可能であれば、降伏点が存在しないことが有利である。粘度および降伏点は、23°Cで、プレート-プレート粘度計を用いて決定される。本発明によるスリップは、セラミックまたはガラスセラミックで成形された物品の調製、特に、歯科用修復物例えば、インレー、アンレー、前装、歯冠、ブリッジまたはフレーム枠の調製に、特に適切である。本発明の主題はまた、セラミックまたはガラスセラミックで成形された物品の調製のためのプロセスであり、このプロセスにおいて、a放射エネルギーの局所導入によって本発明によるスリップを硬化させることにより、未焼成体が調製されて、この未焼成体の幾何学的形状が形成され、b次いで、焼成体を得る目的で、この未焼成体が熱処理に供されて、結合剤を除去され脱結合剤、そしてc次いで、この焼成体が焼結される。未焼成体の調製は、工程aにおいて、迅速原型作製により、好ましくは立体リソグラフィにより、行われる。工程bにおいて脱結合剤されるセラミック未焼成体は、自由に流動するセラミックスリップの、1層ずつの放射線硬化により調製される。使用される結合剤は、この未焼成体を、好ましくは90°C~600°Cの温度で加熱することにより除去され、そしていわゆる焼成体が得られる。この焼成体は、工程cにおいて焼結されて、濃密なセラミックの成形された物品を形成する。この焼成体の焼結は、焼結炉内で、ガラスセラミックについては好ましくは650°C~1100°C、好ましくは700°C~900°Cの温度で、二酸化ジルコニウムについては1100°C~1600°C、好ましくは1400°C~1500°Cの温度で、そして酸化アルミニウムについては1400°C~1800°C、好ましくは1600°C~1700°Cの温度で、行われる。本発明によるプロセスによって調製された、セラミックで成形された物品は、高い強度、および細部の高い精密さにより特徴付けられる。ISO6872による結合強度は、ガラスセラミックから作製された成形物品については、好ましくは、100MPaより高く、特に、150MPa~500MPaの範囲である。Al2O3から作製された成形物品は、好ましくは300MPaより高く、特に、500MPa~700MPaの結合強度を有し、そしてZrO2から作製された成形物品は、500MPaを超える、特に、800MPa~1100MPaの結合強度を有する。本発明は、図面および実施例によって、以下により詳細に説明される。図1は、本発明によるプロセスを実施するためのデバイスの概略図を示す。図1が示すように、このデバイスは、本発明によるスリップ7のための容器1を備える。容器1はまた、重合タンクまたはタンクとも称される。示される実施形態において、タンク1は、透明窓2を有し、この透明窓を通して、スリップが下から選択的に照射されて硬化する。タンク1の下方に、コンピュータで制御される可動鏡3いわゆるマイクロミラーアレイが配置され、この鏡は、放射線源4で照射される。鏡3の画像が、光学デバイス5によって透明窓2に投影される。タンク1の上方に、Z方向に移動可能な基材キャリア6が配置され、この基材キャリアは、複数の層で構築された物体8を運ぶ。基材キャリア6は、キャリアプレート図示せずを有し得る。基材キャリア6は、キャリア6またはそれに取り付けられた物体8と、タンク1の内側表面との間の距離が、製造されるべき層の厚さに一致するまで、スリップに浸漬させられる。次いで、キャリア6とタンクの内側表面との間のスリップ層が、鏡3の補助を受けながら、透明窓2を通して選択的に照射されて硬化させられる。硬化した領域が形成され、これがキャリア6に接着する。次いで、キャリア6はZ方向に上昇させられ、その結果、所望の厚さを有するスリップ層が再度、接着層とタンクの内側表面との間に形成される。この層もまた、照射により選択的に硬化させられ、所望の成形物品好ましくは、歯科用修復物が、このプロセスを繰り返すことにより、複数の層として構築される。実施例1光硬化性セラミックスリップおよび立体リソグラフィにより製造された成形物品セラミックスリップを調製するために、以下の表に列挙されるモノマーPS-m-HEA=1molの無水フタル酸と1molのアクリル酸2-ヒドロキシエチルとの反応生成物;NK-エステルCBX-1N=ペンタエリトリトールトリアクリレートモノフタレート70、溶媒それぞれ、PEG-400およびPPG-400ならびに分散剤を導入して、均質に混合した。次いで、光開始剤であるK-69ビス4-メトキシベンゾイルジエチルゲルマニウム,IvoclarVivadentAGまたはIrgacure819ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシド,CibaSCを添加し、そして単に撹拌することにより、この混合物中に溶解させた。最後に、酸化ジルコニウム粉末TZ-3YS-ETosohを少しずつ添加し、そして分散させた。充填剤レベルが約37体積である、自由に流動する均質な安定なスリップが形成された。二軸試験片を、スリップAおよびスリップBを用いて、SLデバイスを使用して生産的に製造した。これらの試験片を洗浄し、次いで焼結した。これらの焼結した二軸プレートを調製し、そしてISO6872:2008に従って測定した。スリップAおよびスリップBについて、それぞれ1043MPaおよび1055MPaの二軸強度を有するセラミック成形物品が得られた。"