第1透明基板と、前記第1透明基板に対して一定の間隔を有して互いに対向するように配置される第2透明基板と、前記第1透明基板及び第2透明基板の間に充填された電解質と、前記電解質及び第2透明基板の間の第2透明導電膜とを備えてなり、前記第1透明基板が、前記第1透明基板上に形成された線格子及びトレンチを有する凹凸パターンと、前記凹凸パターンの線格子及びトレンチ上に形成された第1透明導電膜と、前記線格子の壁面に沿って第1透明導電膜の上に形成され、電気の印加有無により可視光線を透過または吸収する電気変色物質を含有する電気変色層とを備えてなる、プライバシー保護フィルター。前記電気変色層が、凹凸パターンの線格子上部及びトレンチ下部の第1透明導電膜の上にさらに備えてなる、請求項1に記載のプライバシー保護フィルター。前記電気変色層が、プルシアンブルーまたは遷移金属酸化物を含む無機物である、請求項1に記載のプライバシー保護フィルター。前記電気変色層が、プルシアンブルーである、請求項3に記載のプライバシー保護フィルター。前記電気変色層が、WO3またはLiNiO2である遷移金属酸化物からなる、請求項3に記載のプライバシー保護フィルター。前記凹凸パターンが、線格子及びトレンチ幅が10μm以下であり、かつ、下記数式1で表されるトレンチ横縦比が最小2以上であるパターン構造を有する、請求項1に記載のプライバシー保護フィルター。[数式1]トレンチ横縦比トレンチ深さ/トレンチ幅前記凹凸パターンが、感光剤から形成された絶縁層である、請求項1に記載のプライバシー保護フィルター。前記電気変色層が、厚さが10nm乃至1μmである、請求項1に記載のプライバシー保護フィルター。前記第1透明導電膜が、凹凸パターンの線格子及びトレンチ内部における壁面厚さが20nm乃至200nmである、請求項1に記載のプライバシー保護フィルター。前記第1透明導電膜及び第2透明導電膜が、伝導性金属薄膜、ITO、FTO及びZnOからなる群より選択されるものである、請求項1に記載のプライバシー保護フィルター。前記第1透明基板及び第2透明基板が、透明ガラス、ポリマーフィルムまたは透明プラスチック基板である、請求項1に記載のプライバシー保護フィルター。前記保護フィルターが、第1透明基板と第2透明基板を固定するためのスペーサをさらに備えてなる、請求項1に記載のプライバシー保護フィルター。a第1透明基板上に線格子及びトレンチを有する凹凸パターンを形成する段階と、b前記凹凸パターン上に第1透明導電膜を形成する段階と、c前記凹凸パターンの第1透明導電膜の上に電気変色層を形成する段階と、及びd第2透明導電膜が形成された第2透明基板を利用して、前記c段階で形成された基板と第2透明基板との間にスペーサを位置させて、電解液を注入した後、両基板を合着及び密封する段階とを含んでなる、プライバシー保護フィルターの製造方法。前記c段階の第1透明導電膜に電気変色層を形成する段階以降に、前記線格子上部及びトレンチ下部の第1透明導電膜の上に形成された電気変色層をドライエッチングする段階をさらに含んでなる、請求項13に記載の製造方法。前記ドライエッチングが、誘導結合反応性イオンエッチングを使用する、請求項14に記載の製造方法。前記c電気変色層を形成する段階が30乃至60μA/cm2の電流密度条件下で、電気蒸着法を使用してプルシアンブルーまたは遷移金属含有化合物を形成する段階を含んでなる、請求項13に記載の製造方法。前記a凹凸パターンを形成する段階で、フォトリソグラフィ法、マスターモールド方法または物理的加工方法を使用して、第1透明基板に凹凸パターンを形成する段階を含んでなる、請求項13に記載の製造方法。前記凹凸パターンを形成する段階で、フォトリソグラフィ法は第1透明基板上に絶縁層形成用の物質をコーティングし、マスク露光して、パターンを形成する段階を含んでなる、請求項17に記載の製造方法。前記凹凸パターンを形成する段階で、マスターモールドを利用してフィルムを複製して凹凸パターンを形成する、請求項17に記載の製造方法。前記凹凸パターンを形成する段階で、物理的加工方法は第1透明基板をレーザーまたは機械的に加工して凹凸パターンを形成する、請求項17に記載の製造方法。前記電解質が、0.2M乃至2M濃度の、KCl水溶液、HCl水溶液、及びLiClO4-プロピレンカーボネート溶液からなる群より選択されるいずれか一つ以上を使用する、請求項13に記載のプライバシー保護フィルター。請求項1に記載のプライバシー保護フィルターを備えた、ディスプレイ素子。本発明は、第1透明基板と、前記第1透明基板に対して一定の間隔を有して互いに対向するように配置される第2透明基板と、前記第1透明基板及び第2透明基板の間に充填された電解質と、前記電解質及び第2透明基板の間の第2透明導電膜とを含み、前記第1透明基板は、前記第1透明基板上に形成された線格子及びトレンチを有する凹凸パターンと、前記凹凸パターンの線格子及びトレンチ上に形成された第1透明導電膜と、前記線格子の壁面に沿って第1透明導電膜の上に形成され、電気の印加有無により可視光線を透過または吸収する電気変色物質を含有する電気変色層と、を含むプライバシー保護フィルターを提供する。この時、前記電気変色層は、凹凸パターンの線格子上部及びトレンチ下部の第1透明導電膜の上にさらに含むことができる。また、前記電気変色層はプルシアンブルーまたは遷移金属酸化物を含む無機物であるのが好ましい。また、本発明は、a第1透明基板上に線格子及びトレンチを有する凹凸パターンを形成する段階;b前記凹凸パターン上に第1透明導電膜を形成する段階;c前記凹凸パターンの第1透明導電膜の上に電気変色層を形成する段階;及びd第2透明導電膜が形成された第2透明基板を利用して、前記c段階で形成された基板と第2透明基板との間にスペーサを位置させて、電解液を注入した後、両基板を合着及び密封する段階、を含むプライバシー保護フィルターの製造方法を提供する。また、前記本発明の方法は、前記c段階の第1透明導電膜に電気変色層を形成する段階以降に、前記線格子上部及びトレンチ下部の第1透明導電膜の上に形成された電気変色層をドライエッチングする段階をさらに含むことができる。また、前記電気変色層を形成する段階は、約30乃至60μA/cm2の電流密度条件下で、電着メッキelectro-depositionplatingを使用してプルシアンブルーまたは遷移金属含有化合物を形成する段階を含むことができる。以下、本発明について詳細に説明する。本発明は、ディスプレイに用いることができる転換可能なプライバシーフィルターswitchableprivacyfilterに関する。構造上、一般的なプライバシーフィルムの光遮断層が単純な線格子構造gratingであることとは異なり、本発明は高段差の凹凸形態の線格子構造及びトレンチの上にコンフォーマルconformalに、あるいは線格子構造の壁面sidewall部分だけに、薄く光遮断層を形成したプライバシーフィルター構造を提供することを特徴とする。また、本発明は、光遮断層の電気変色物質として無機物質を使用し、これを既存のスパッタリング方法でない電着electro-depositionのような電気メッキ法を利用する。したがって、本発明によれば、電気的信号印加後、短い時間内に広視野角モードとプライバシーモード狭視野角モードの転換が可能であり、プライバシーモードで正面透過率の低下が殆どなくて、光の側面透過を遮断することができる。以下、図面を参照して、本発明の好ましいプライバシーフィルター及びその製造方法について説明する。図1は、本発明の一実施例によるプライバシー保護フィルターの構造を簡略に示す模式図である。図2は、本発明の他の実施例によるプライバシー保護フィルターの構造を簡略に示す模式図である。図1及び2に示すように、本発明のプライバシー保護フィルターは、基本的に第1透明基板10と;前記第1透明基板に対して一定の間隔を有して離隔して対向するように配置される第2透明基板12と;前記両基板の間を充填した電解質50と;前記電解質及び第2透明基板の間の第2透明導電膜32とを含む。また、前記プライバシー保護フィルターは、第1透明基板10と第2透明基板12を固定するための前記両基板の両側周縁に位置するスペーサ60を含む。この時、前記第1透明基板は、線格子及びトレンチを有する高段差の凹凸パターン20を含み、前記凹凸パターンの線格子及びトレンチ上に形成された第1透明導電膜30と、電気の印加有無により可視光線を透過または吸収する電気変色物質を含有する電気変色層40とを含むことを特徴とする。また、前記凹凸パターン20は、第1透明基板10の上に高い縦横比を有するように、一定の間隔を有して線格子及びトレンチtrenchが形成されるのが好ましい。より好ましくは、前記凹凸パターンは線格子及びトレンチ幅が約10μm以下であり、下記数式1で表されるトレンチ横縦比aspect-ratioが最小約2以上であるパターン構造を有するのが良い。[数式1]トレンチ横縦比aspect-ratioトレンチ深さ/トレンチ幅前記凹凸パターンにおいて、線格子パターンが目に見えないようにするためには、線格子及びトレンチ幅は約10μm以下が好ましく、より好ましくは約1μmでなければならない。つまり、前記トレンチ幅が10μmを超えれば、パターンが目に見えてディスプレイ画面を散乱させて、プライバシーフィルターとして用いるのが困難であるため、前記範囲を満たした方が良い。また、前記数式1で表されるトレンチ横縦比が2以下であれば、狭視野角モードでも側面輝度が十分に落ちないため、プライバシーフィルターの役割を果たすことができない問題を招く。この時、前記凹凸パターンは感光剤から形成された絶縁層とすることができる。前記第1透明導電膜30は、凹凸パターン20の線格子及びトレンチ上にコンフォーマルに形成されて、凹凸パターン構造を示すことができる。また、前記電気変色層40は、線格子の壁面sidewallに沿って第1透明導電膜30の上に形成されるのが好ましい。選択的に、本発明で前記電気変色層40は、必要に応じて凹凸パターンの線格子上部及びトレンチ下部の第1透明導電膜の上にさらに含まれることができる。したがって、本発明の好ましい一実施例によるプライバシー保護フィルターは、図1に示すように、第1透明基板10と、前記第1透明基板10に対して一定の間隔を有して離隔して対向するように配置される第2透明基板12と、前記第1透明基板10及び第2透明基板12の間に充填された電解質50と、前記電解質50及び第2透明基板12の間の第2透明導電膜32とを含む。また、前記第1透明基板10は、その上に形成された線格子及びトレンチを有する凹凸パターン20と、前記凹凸パターンの線格子及びトレンチ上に形成された第1透明導電膜30と、前記線格子の壁面に沿って第1透明導電膜30の上に形成され、電気の印加有無により可視光線を透過または吸収する電気変色物質を含有する電気変色層40とを含むことができる。また、前記両基板の間にはスペーサ60を含む。したがって、前記構造の場合、凹凸パターンの第1透明導電膜の線格子上部a及びトレンチ下部の第1透明導電膜の上bには電気変色層40が形成されておらず、線格子及びトレンチ内部の第1透明導電膜の両壁面だけに電気変色層が形成された構造を有する。また、本発明の他の実施例によるプライバシー保護フィルターは、図2に示すように、第1透明基板10と、前記第1透明基板10に対して一定の間隔を有して離隔して対向するように配置される第2透明基板12と、前記第1透明基板10及び第2透明基板12の間に充填された電解質50と、前記電解質50及び第2透明基板12の間の第2透明導電膜32とを含む。また、前記第1透明基板10は、その上に形成された線格子及びトレンチを有する凹凸パターン20と、前記凹凸パターンの線格子及びトレンチ上に形成された第1透明導電膜30と、前記凹凸パターンの線格子及びトレンチ上に形成された第1透明導電膜30の上に形成され、電気の印加有無により可視光線を透過または吸収する電気変色物質を含有する電気変色層40とを含むことができる。また、前記両基板の間にはスペーサ60を含む。したがって、前記構造の場合、凹凸パターンの線格子上部a及びトレンチ下部の第1透明導電膜の上bに電気変色層40が全て形成された構造を有する。前記構造の中で、図1の構造が最も好ましく、このような構造を形成することによって、本発明は、プライバシーモード時に正面透過率が低下することなく、光の側面透過を効果的に遮断することができる。図3は、本発明のプライバシー保護フィルターに対して電流印加時の広視野角モード及び狭視野角モードの原理を表すための模式図である。図3に示すように、転換可能なプライバシーフィルターに対して、凹凸パターンを含む第1透明基板に-を接続し、第2透明基板に極を接続して電流を流した時に、光が伝達されると、電気変色層が脱色して光視野角モードに変換され、反対方向に電流を印加時に、電気変色層が着色して狭視野角モードプライバシーモードで動作するようになる。この時、本発明の構造は、プライバシーモードの場合、650nm波長で正面透過率は少なくとも約60以上となりえ、側面45°での透過率は約10以下となるように調節することができる。より好ましくは、本発明によれば、650nm波長で正面透過率は約80以上であり、側面45°での透過率は約5以下となるように調節することができる。以下、図面に基づいて、本発明の好ましいプライバシー保護フィルターの製造方法についてより具体的に説明する。図4乃至7は、本発明の一実施例によるプライバシー保護フィルターの製造過程を示す模式図である。最初に、本発明のプライバシー保護フィルターの製造方法は、a第1透明基板上に線格子及びトレンチを有する凹凸パターンを形成する段階;b前記凹凸パターン上に第1透明導電膜を形成する段階;c前記凹凸パターンの第1透明導電膜の上に電気変色層を形成する段階;及びd第2透明導電膜が形成された第2透明基板を利用して、前記c段階で形成された基板と第2透明基板の間にスペーサを位置させて、電解液を注入した後、両基板を合着及び密封sealingして、転換可能なプライバシーフィルターを完成する段階で構成される。前記a工程は、高段差トレンチパターンhighaspect-ratiotrenchpatternを透明基板上に形成するか、または高段差トレンチパターンを有する透明基板を製作する段階によって行える。しかし、本発明で高段差の凹凸パターンを形成する方法が前記方法に限定されることではなく、通常の方法がいずれも使用可能である。この時、前記高段差トレンチパターンを透明基板上に形成する段階は、絶縁層形成用の物質を利用するフォトリソグラフィ法を使用することができる。また、前記高段差トレンチパターンを有する透明基板を製作する段階は、マスターモールド方法または物理的加工方法を使用することができる。好ましくは、前記a凹凸パターンを形成する段階は、フォトリソグラフィ法、マスターモールド方法または物理的加工方法を使用して、第1透明基板に凹凸パターンを形成する段階を含むことができる。前記フォトリソグラフィ法は、第1透明基板上に感光剤または高透過フォトレジストをコーティングし、マスク露光して、パターンを形成する段階を含むことができる。前記絶縁層形成用の物質は、感光剤またはSU-8のような一般的な高透過の厚いフォトレジストthickphoto-resistを使用することができ、その種類は特に限られない。高段差パターンを形成する方法もフォトリソグラフィ方法以外に、高段差マスターモールドを制作した後、熱硬化及びUV硬化高分子樹脂を利用して高分子フィルムを複製する方法、第1透明基板を高段差を有するように、レーザーまたは機械的に直接加工して凹凸パターンを形成する方法などを使用することができる。以下、前記a工程について、高段差の凹凸パターンを透明基板上に形成する方法を例に挙げて説明する。図4は、本発明の一実施例によるプライバシー保護フィルターの製造過程において、第1透明基板上に凹凸パターンを形成する方法を示す模式図である。図4を参照すれば、本発明は第1透明基板10の上に、感光剤を利用して絶縁層形成用の物質をコーティングし、マスク露光して、フォトリソグラフィ法で高段差の線格子とトレンチを有する凹凸パターン20を形成することができる。この時、本発明は線格子及びトレンチを有する高段差の凹凸パターンを形成するために、線格子パターンの幅Aと格子パターンのピッチを調節するのが好ましい。また、前記第1透明基板10の上に形成された凹凸パターン構造において、線格子幅A及びトレンチ幅Bは、目に見えない範囲の約10μm以下、より好ましくは約1μmとなるように調節するのが好ましい。また、前記高段差の凹凸パターンは、トレンチ段差が高いほど側面の光を遮断するのに有利なので、トレンチ幅Bによる下記数式1で表されるトレンチ横縦比が最小約2以上、より好ましくは3乃至4のパターン構造を有するように製造するのが好ましい。[数式1]トレンチ横縦比トレンチ深さC/トレンチ幅B前記第1透明基板は、透明ガラス、ポリマーフィルムまたは透明プラスチック基板などを使用することができ、その種類が特に限定されることではない。前記b段階の工程は、図5に示すように、高段差の凹凸パターン20の線格子及びトレンチ上に第1透明導電膜30を形成する段階を行う。図5は、本発明の一実施例によるプライバシー保護フィルターの製造過程において、前記図4で形成された前記凹凸パターン上に第1透明導電膜を形成する方法を示す模式図である。本発明は、高段差凹凸パターンの上に一定の厚さで、できるだけコンフォーマルconformalに第1透明導電膜を蒸着する。この時、凹凸パターンの線格子及びトレンチの壁面部分の第1透明導電膜の蒸着厚さと透明度は、転換可能なプライバシーフィルターの透過度及び広視野角モードとプライバシーモードの変換速度に影響を与えるので、厚さを調節するのが好ましい。つまり、線格子及びトレンチ内部の壁面部分の第1透明導電膜の厚さが過度に厚ければ、電気変色物質と無関係に側面透過度が落ちるので、前記線格子及びトレンチ内部の壁面部分の第1透明導電膜の蒸着厚さは、約20nm~200nmであるのが好ましい。前記第1透明伝導膜の種類は特に限定されず、通常の素子製造時に使用されるものであればいずれも使用可能であり、例えば、伝導性金属薄膜、ITO、FTOSnO2:F、ZnOなどが使用でき、好ましくはITOが使用できる。前記c段階の工程は、図6aに示すように、前記b工程で形成された凹凸パターンの第1透明導電膜30の上に電気変色層40を形成する工程である。図6aは、本発明の一実施例によるプライバシー保護フィルターの製造過程において、前記図5で形成された第1透明導電膜の上に電気変色層を形成する方法を示す模式図である。図6aを参照すれば、電気変色層、プルシアンブルーを電着する過程は、本K3[FeCN6、FeCl36H2O]、HCl混合溶液に、白金Ptあるいは黒鉛電極に極を接続し、前記で形成された第1透明導電膜を有する基板に-極を接続して、電気変色層のプルシアンブルーを電着する。電着は約30~60μA/cm2の電流密度で蒸着することができる。前記電着によって、第1透明基板10に形成された凹凸パターンの第1透明導電膜30上に全体的に電気変色層40が一定の厚さに形成される。好ましくは、前記電気変色層は、厚さが約10nm乃至1μm、より好ましくは100乃至500nmでありうる。特に、本発明の構造において、電気変色物質がプルシアンブルーと限定されることではないが、電気変色物質の値段的な面で、WO3、LixNiyO2のような遷移金属酸化物や、viologenのような有機電気変色物質より、プルシアンブルーが安価である。また、工程面でも高費用工程であるスパッタリング工程なしで、電着方法によって電気変色層をパターン上にコンフォーマルに形成することができるので、電気変色物質としてはプルシアンブルーが最も適合する。つまり、本発明によれば、高段差凹凸パターンを利用するため、プルシアンブルーだけでなく、前記WO3、LixNiyO2のような遷移金属酸化物も使用可能であるが、値段や工程面でプルシアンブルーが好ましい。この時、前記高段差の凹凸パターンの第1透明導電膜の上に全体的に電着された電気変色層は、着色時つまり、プライバシーモードに正面透過度を落とす役割を果たす。したがって、本発明は必要に応じて、正面透過度を損失することなく、側面透過度だけを落とすために、図6bに示すように、図6aで形成された構造で電気変色層の一部をドライエッチングする工程を行うのがより好ましい。即ち、図6bを参照すれば、前記凹凸パターンの電気変色層でトレンチ内部の壁面部分だけに電気変色層が残っているように、前記方法は前記c段階の第1透明導電膜に電気変色層を形成する段階以降に、前記線格子上部及びトレンチ下部の第1透明導電膜30の上に形成された電気変色層40をドライエッチングする段階をさらに含むことができる。これによって、凹凸パターンの第1透明伝導膜30の線格子上部aとトレンチ下部の第1透明導電膜の上bには電気変色層が除去され、凹凸パターンの線格子及びトレンチ内部の壁面だけに電気変色層40が存在するようになる。前記ドライエッチングは、ICPRIEinductivecoupledplasmareactiveionetching、誘導結合反応性イオンエッチング方法を使用することができ、エッチング時に使用するガスは、通常のアルゴンガスなどであるが、その種類は特に限られない。このように、ドライエッチング段階を行う場合、その構造は図1に示した構造を形成することができる。また、ドライエッチング段階を行わなければ、図2の構造を形成することができる。ただし、正面透過度の損失がプライバシーフィルターの目的と大きな関係がなければ、ドライエッチング工程は省略可能である。また、前記d段階の工程で使用される伝導性透明基板は、一般的なITOガラス及びITOフィルムを用いることができ、その種類が特に限定されることではない。図7は、前記図6bで形成された構造と第2透明基板を利用してプライバシー保護フィルターを製造するために、前記で製造された凹凸パターン20の上に形成された第1透明導電膜30と電気変色層40を含む第1透明基板10と、第2透明導電膜32が形成された第2透明基板12とを、一定の間隔を有して互いに対向するように配置し、スペーサフィルム60を位置させた後、電解液50を注入して、電解液が漏出しないように両基板を合着し密封して完成されたプライバシー保護フィルターの断面図である。前記電解質は、約0.2M乃至2M濃度、より好ましくは0.5乃至1.5M濃度のKCl水溶液、HCl水溶液、及びLiClO4-プロピレンカーボネート溶液からなる群より選択されたいずれか一つ以上を使用することができる。また、前記スペーサは、上下板が直接接触することを防止し、電解液が注入される空間を作る役割を果たすが、その種類は限定されず、例えば、高分子フィルムや薄いプラスチック、ガラスなどを使用することができる。本発明は、凹凸パターンの透明導電膜部分または透明導電膜の壁面部分だけに電着法によって無機物からなる電気変色層を形成して、プライバシーモード状態で正面透過度を損失することなく、光の側面透過を効果的に遮断させることができ、広視野角モードと狭視野角モードの変換を迅速に行い、継続的なモード変換にもフィルター性能と駆動安定性を確保することができる効果がある。以下、発明の具体的な実施例を通して、発明の作用及び効果についてさらに詳細に説明する。但し、このような実施例は発明の例示として提示されたものに過ぎず、これによって発明の権利範囲が定められることではない。0.63tガラス基板にAZ4620感光剤を厚さ8μmにスピンコーティングし、マスク露光して、図4の構造を有する高段差の凹凸パターンを作った。このように形成された高段差の凹凸パターンは、線格子パターン幅が2μm、格子パターンのピッチが4μmであり、線格子パターン及びトレンチの横縦比は4である。以降、AZ4620高段差の凹凸パターンの上に、厚さ150nmで凹凸構造の上部及びトレンチ内部の壁面部分にITOが均等に蒸着されるようにした図5。次に、0.05MK3[FeCN6]、FeCl36H2O、及びHCl溶液を2:2:1の体積比率で混合した混合溶液を製造した。その後、白金Pt電極に極を接続し、前記ITOが蒸着されたパターンを有する基板に-極を接続した後、前記混合溶液を利用してプルシアンブルー電気変色層を電気メッキした図6a。この時、50μA/cm2電流密度でプルシアンブルーが厚さ100nmに電着されるようにした。その後、図6bに示すように、壁面部分だけにプルシアンブルーが残っているように、前記で電着されたプルシアンブルーをArガスでドライエッチングICPRIE:inductivecoupledplasmareactiveionetchingした。これによって、前記ITO凹凸パターンの線格子の上部aとトレンチ内部の下部bにはプルシアンブルーが残っておらず、トレンチ内部の壁面部分だけにプルシアンブルーが形成されている凹凸構造を有する第1透明基板の製造を完成した。第2透明基板は、厚さ150nmでITOが蒸着されたガラスを使用して、第1基板と第2基板の間に厚さ30μmのスペーサフィルムを位置させた後、両基板の間に電解液1MKCl水溶液を注入して、電解液が漏出しないように両基板を合着して密封することで、プライバシー保護フィルターを製造した図8。このように製造されたプライバシー保護フィルターに対して、前記凹凸構造の第1透明基板に-極を接続し、第2透明基板に極を接続して、電流を印加した。その結果、プルシアンブルーが脱色して広視野角モードで動作した。また、前記と反対方向に電流を印加時に、プルシアンブルーが着色して狭視野角モードプライバシーモードで動作した。また、プライバシーモードの場合、600nm波長で正面透過率が50であり、側面45°での透過率が15となる、転換の可能なプライバシーフィルターを製作した。