"分子内に、下記の式i、ii及び/又はiii式中、Dは炭素数1~20のアルキレン基、炭素数6~20のアリーレン基、又はこれらの組み合せを表し、R1は炭化水素基を表し、R2は水素原子又は炭素数1~18のアルキル基を表し、R3は式ar1は、炭素数4~12の炭化水素基を表す。で表される基、及び、式b式中、r2、r3は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。また、r2、r3は一緒になって環を形成していてもよく、該環にはヘテロ原子を含んでいてもよい。で表される基を表し、式aで表される基と式bで表される基の存在割合は、モル比で、式aで表される基:式bで表される基=95:5~60:40である。R4は水素原子、炭素数1~6のアルキル基、総炭素数2~20のアルコキシカルボニル基、又は総炭素数2~20のアシル基を表し、k1、k2及びk3は、それぞれ独立して、任意の自然数を表す。で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体但し、前記式iで表される繰り返し単位のみからなるものを除く。。前記式bで表される基が、前記式b中、r2、r3が一緒になって、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成した、下記式b’で表される基であることを特徴とする請求項1に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。数平均分子量が50,000~500,000である請求項1又は2に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。前記式ii及びiii中、下記式で表される繰り返し単位が、下記式c-aR2、r1は、前記と同じ意味を表す。で表される繰り返し単位からなるブロックAと、下記式c-bR2、r2及びr3は、前記と同じ意味を表す。で表される繰り返し単位からなるブロックBとからなり、ブロックAとブロックBとが、式:-CHR4-D-で表される基のCH部分側から、-B-A又は、-A-B-Aとなるように配列されたブロック共重合体構造を有することを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。前記式ii及びiii中、下記式で表される繰り返し単位が、下記式c-aR2、r1は、前記と同じ意味を表す。で表される繰り返し単位と、下記式c-bR2、r2及びr3は、前記と同じ意味を表す。で表される繰り返し単位とからなるランダム共重合体構造を有することを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。分子内に、下記の式i、ii-a及び/又はiii-a式中、Dは、炭素数1~20のアルキレン基、炭素数6~20のアリーレン基、又はこれらの組み合せを表し、R1は炭化水素基を表し、R4は水素原子、炭素数1~6のアルキル基、総炭素数2~20のアルコキシカルボニル基、又は総炭素数2~20のアシル基を表し、Xは置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数6~20のアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよいアミノ基を表す。で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物但し、式i、iiで表される繰り返し単位のみからなるものを除く。と、式1a:CH2=CR2aR3a式中、R2aは水素原子又は炭素数1~18のアルキル基を表し、R3aは、式ar1は、炭素数4~12の炭化水素基を表す。で表される基を示す。で表される化合物1a、及び、式1b:CH2=CR2bR3b式中、R2bは水素原子又は炭素数1~18のアルキル基を表し、R3bは、式br2、r3は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数1~6の炭化水素基を表す。また、r2、r3は一緒になって環を形成していてもよく、該環にはヘテロ原子を含んでいてもよい。で表される基を示す。で表される化合物1bを、化合物1aと化合物1bのモル比が、化合物1a:化合物1b=95:5~60:40となる使用割合で用いて、ラジカル重合開始剤の存在下に、グラフト重合反応を行うことを特徴とする、分子内に、式i、ii及び/又はiii式中、D、R1、R2、及びR4は前記と同じ意味を表す。R3は、前記R3a又はR3bを表し、k1、k2及びk3は、それぞれ独立して、任意の自然数を表す。k1、k2又はk3が2以上のとき、式:-CH2-CR2R3-で表される基同士は同一であっても、相異なっていてもよい。で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体但し、前記式iで表される繰り返し単位のみからなるものを除く。の製造方法。前記ラジカル重合開始剤として、アゾビスイソブチロニトリルを用いる、請求項6に記載の製造方法。前記ポリシルセスキオキサン化合物に、ラジカル重合開始剤の存在下に、前記化合物1bをグラフト重合させた後、次いで、化合物1aをグラフト重合させることを特徴とする請求項6又は7に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法。前記ポリシルセスキオキサン化合物に、ラジカル重合開始剤の存在下に、前記化合物1aと化合物1bのモル比が、化合物1a:化合物1b=95:5~60:40の割合で含有する化合物1aと化合物1bとの混合物を、グラフト重合させることを特徴とする請求項6又は7に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法。前記式1bで表される化合物として、前記式中、R2bは水素原子又は炭素数1~18のアルキル基を表し、R3bは、前記式b中、r2、r3が一緒になって、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成した、下記式b’で表される基である化合物を用いることを特徴とする請求項6~9のいずれかに記載の製造方法。数平均分子量が50,000~500,000であるポリシルセスキオキサングラフト共重合体を製造するものである請求項6~10のいずれかに記載の製造方法。請求項1~5のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を含有することを特徴とする粘着剤。基材シート、及び、該基材シート上に形成された、請求項12に記載の粘着剤からなる粘着剤層を有することを特徴とする粘着シート。本発明は、このような従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、より優れた粘着性、耐熱性及び凝集性を兼ね備えた粘着剤となり得るポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体、並びに当該ポリシルセスキオキサングラフト共重合体を用いる粘着剤及び粘着シートを提供することを課題とする。本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究を行った。その結果、ポリシルセスキオキサン化合物の末端に、ジチオエステル基を導入し、これを反応開始点とし、MADIX法により、アクリルアミドとアクリル酸エステルを所定割合でグラフト重合させることにより、溶剤可溶の無色透明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得た。そして、得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体は、優れた粘着性、耐熱性及び凝集性をもつ粘着剤成分として有用であることを見出し、本発明を完成するに至った。かくして本発明によれば、下記1~5のポリシルセスキオキサングラフト共重合体、6~10のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法、11の粘着剤、及び12の粘着シートが提供される。1分子内に、下記の式i、ii及び/又はiii式中、Dは炭素数1~20のアルキレン基、炭素数6~20のアリーレン基、又はこれらの組み合せを表し、R1は炭化水素基を表し、R2は水素原子又は炭素数1~18のアルキル基を表し、R3は式ar1は、炭素数4~12の炭化水素基を表す。で表される基、及び式b式中、r2、r3は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。また、r2、r3は一緒になって環を形成していてもよく、該環にはヘテロ原子を含んでいてもよい。で表される基を表し、式aで表される基と式bで表される基の存在割合は、モル比で、式aで表される基:式bで表される基=95:5~60:40である。R4は水素原子、炭素数1~6のアルキル基、総炭素数2~20のアルコキシカルボニル基、又は総炭素数2~20のアシル基を表し、k1、k2及びk3は、それぞれ独立して、任意の自然数を表す。で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体但し、前記式iで表される繰り返し単位のみからなるものを除く。。2前記式bで表される基が、前記式b中、r2、r3が一緒になって、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成した、下記式b’で表される基であることを特徴とする1に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。3数平均分子量が50,000~500,000である1又は2に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。4前記式ii及びiii中、下記式で表される繰り返し単位が、下記式c-aR2、r1は、前記と同じ意味を表す。で表される繰り返し単位からなるブロックAと、下記式c-bR2、r2及びr3は、前記と同じ意味を表す。で表される繰り返し単位からなるブロックBとからなり、ブロックAとブロックBとが、式:-CHR4-D-で表される基のCH部分側から、-B-A又は、-A-B-Aとなるように配列されたブロック共重合体構造を有することを特徴とする1~3のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。5前記式ii及びiii中、下記式で表される繰り返し単位が、下記式c-aR2、r1は、前記と同じ意味を表す。で表される繰り返し単位と、下記式c-bR2、r2及びr3は、前記と同じ意味を表す。で表される繰り返し単位とからなるランダム共重合体構造を有することを特徴とする1~3のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。6分子内に、下記の式i、ii-a及び/又はiii-a式中、Dは、炭素数1~20のアルキレン基、炭素数6~20のアリーレン基、又はこれらの組み合せを表し、R1は炭化水素基を表し、R4は水素原子、炭素数1~6のアルキル基、総炭素数2~20のアルコキシカルボニル基、又は総炭素数2~20のアシル基を表し、Xは置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルコキシ基、又は、置換基を有していてもよい炭素数6~20のアリールオキシ基を表す。で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物但し、式iで表される繰り返し単位のみからなるものを除く。と、式1a:CH2=CR2aR3a式中、R2aは水素原子又は炭素数1~18のアルキル基を表し、R3aは、式ar1は、炭素数4~12の炭化水素基を表す。で表される基を示す。で表される化合物1a、及び、式1b:CH2=CR2bR3b式中、R2bは水素原子又は炭素数1~18のアルキル基を表し、R3bは、式br2、r3は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数1~6の炭化水素基を表す。また、r2、r3は一緒になって環を形成していてもよく、該環にはヘテロ原子を含んでいてもよい。で表される基を示す。で表される化合物1bを、化合物1aと化合物1bのモル比が、化合物1a:化合物1b=95:5~60:40となる使用割合で用いて、ラジカル重合開始剤の存在下に、グラフト重合反応を行うことを特徴とする、分子内に、式i、ii及び/又はiii式中、D、R1、R2、及びR4は前記と同じ意味を表す。R3は、前記R3a又はR3bを表し、k1、k2及びk3は、それぞれ独立して、任意の自然数を表す。k1、k2又はk3が2以上のとき、式:-CH2-CR2R3-で表される基同士は同一であっても、相異なっていてもよい。で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体但し、前記式iで表される繰り返し単位のみからなるものを除く。の製造方法。7前記ラジカル重合開始剤として、アゾビスイソブチロニトリルを用いる、6に記載の製造方法。8前記ポリシルセスキオキサン化合物に、ラジカル重合開始剤の存在下に、前記化合物1bをグラフト重合させた後、次いで、化合物1aをグラフト重合させることを特徴とする6又は7に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法。9前記ポリシルセスキオキサン化合物に、ラジカル重合開始剤の存在下に、前記化合物1aと化合物1bのモル比が、化合物1a:化合物1b=95:5~60:40の割合で含有する化合物1aと化合物1bとの混合物を、グラフト重合させることを特徴とする6又は7に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法。10前記式1bで表される化合物として、前記式1b中、R2bは水素原子又は炭素数1~18のアルキル基を表し、R3bは、前記式b中、r2、r3が一緒になって、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成した、下記式b’で表される基である化合物を用いることを特徴とする6~9のいずれかに記載の製造方法。11数平均分子量が50,000~500,000であるポリシルセスキオキサングラフト共重合体を製造するものである6~10のいずれかに記載の製造方法。121~5のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を含有することを特徴とする粘着剤。13基材シート、及び、該基材シート上に形成された、12に記載の粘着剤からなる粘着剤層を有することを特徴とする粘着シート。本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体は、優れた粘着性、耐熱性及び凝集性を有するため、特に、熱処理が施される工程を有する電気電子製品ライン等において、粘着剤成分として好適に用いることができる。本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法によれば、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を効率よく製造することができる。本発明の粘着剤、粘着シートは、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を用いるものであるため、優れた粘着性、耐熱性及び凝集性を有する。以下、本発明を、1ポリシルセスキオキサングラフト共重合体、2ポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法、3粘着剤、及び、4粘着シートに項分けして詳細に説明する。1ポリシルセスキオキサングラフト共重合体本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体は、分子内に、前記式i、ii及び/又はiiiで表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体である但し、前記式iで表される繰り返し単位のみからなるポリシルセスキオキサングラフト重合体は除かれる。。前記式ii、iii中、Dは、炭素数1~20のアルキレン基、アリーレン基、又はこれらの組み合せを表す。炭素数1~20のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。アリーレン基としては、o-フェニレン基、m-フェニレン基、p-フェニレン基、2,6-ナフチレン基、1,5-ナフチレン基、1,4’-ビフェニレン基等が挙げられる。前記アルキレン基、アリーレン基は、置換基を有していてもよい。アルキレン基の置換基としては、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基等の置換基を有していてもよいアミノ基;水酸基;メルカプト基;アミド基、N,N-ジメチルアミド基等の置換基を有していてもよいアミド基;カルボキシル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基等のアルキルチオ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;等が挙げられる。前記アリーレン基の置換基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基;シアノ基;ニトロ基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基等のアルキルチオ基;等が挙げられる。これらの置換基は、アルキレン基、アリーレン基の任意の位置に、同一若しくは相異なって複数個が結合していてもよい。アルキレン基とアリーレン基の組み合せとしては、前記置換基を有していてもよいアルキレン基の少なくとも1種と、前記置換基を有していてもよいアリーレン基の少なくとも1種とが直列に結合してなる基が挙げられる。これらの中でも、本発明においては、簡便に目的とするグラフト共重合体が得られることから、Dとしては、炭素数1~6のアルキレン基又はアリーレン基が好ましく、アリーレン基がより好ましく、p-フェニレン基が特に好ましい。前記式i、iii中、R1は炭化水素基を表す。R1の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等の炭素数1~20のアルキル基;ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、イソプロペニル基、3-ブテニル基、4-ペンテニル基、5-ヘキセニル基等の炭素数2~20のアルケニル基;エチニル基、プロパルギル基、ブチニル基等の炭素数2~10のアルキニル基;フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等の炭素数6~20のアリール基;等が挙げられる。R1の炭化水素基は置換基を有していてもよい。R1の炭化水素基がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基であるとき、その置換基としては、前記Dのアルキレン基の置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。R1の炭化水素基がアリール基であるとき、その置換基としては、前記Dのアリーレン基の置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの置換基は、炭化水素基の任意の位置に結合していてもよく、同一又は相異なる複数の置換基が結合していてもよい。これらの中でも、本発明においては、簡便に目的とするグラフト共重合体が得られることから、R1としては、炭素数1~20のアルキル基又は炭素数6~20のアリール基が好ましく、炭素数6~20のアリール基がより好ましく、フェニル基が特に好ましい。R2は、水素原子;又は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等の炭素数1~18のアルキル基を表す。なかでも、水素原子、炭素数1~6のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましい。R4は、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、総炭素数2~20のアルコキシカルボニル基、又は総炭素数2~20又はアシル基を表す。炭素数1~6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。総炭素数2~20のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等が挙げられる。アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。これらの中でも、本発明においては、簡便に目的とするグラフト共重合体が得られることから、R4としては、水素原子、炭素数1~6のアルキル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。k1、k2及びk3は、それぞれ独立して、任意の自然数を表す。k1、k2又はk3が2以上のとき、式:-CH2-CR2R3-で表される基同士は同一であっても、相異なっていてもよい。R3は、下記式a又は式bで表される基を表し、式aで表される基と式bで表される基の存在割合は、モル比で、式aで表される基:式bで表される基=95:5~60:40である。式a中、r1は、炭素数4~12の炭化水素基を表す。炭素数4~12の炭化水素基としては、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等の炭素数4~12のアルキル基;フェニル基、4-メチルフェニル基、2,3-ジメチルフェニル基、ビフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等の炭素数6~12のアリール基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数3~12のシクロアルキル基;ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7~12のアラルキル基;等が挙げられる。式b中、r2、r3は、それぞれ独立して、水素原子、又は、炭素数1~10の炭化水素基を表す。炭素数1~10の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等の炭素数1~10のアルキル基;フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等のアリール基;を表す。r2、r3は一緒になって、前記式b’で表されるように環を形成していてもよい。また、該環は、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を含んでいてもよく、環は、5員環であっても、6員環であってもよい。さらに、r2、r3は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基等の置換基を有していてもよい。r2、r3が一緒になって形成していてもよい環の一例を下記に示す。式中、-は結合手を表す。式中、Zは、CH2、NCH3、O、Sを示す。これらの中でも、r2、r3は、より好適な目的化合物が得られることから、で表されるものが好ましく、で表されるものがより好ましく、上記式中、Zが酸素原子Oである、モルホリン環を形成しているものが特に好ましい。また、前記式ii、iiiで表される繰り返し単位において、下記式cで表される枝重合部位を示す繰り返し単位は、下記式c-aR2、r1は、前記と同じ意味を表す。で表される繰り返し単位からなるブロックAと、下記式c-bR2、r2及びr3は、前記と同じ意味を表す。で表される繰り返し単位からなるブロックBとからなり、ブロックAとブロックBとが、前記式ii及びiii中、式:-CHR4-D-で表される基のCH部分側から、-B-A又は、-A-B-Aとなるように配列されたブロック共重合体構造を有するものであっても、前記式c-aで表される繰り返し単位と式c-bで表される繰り返し単位からなるランダム共重合体構造を有するものであってもよい。これらの中でも、種々の材料に対して優れた粘着力と凝集力を有する粘着剤成分が得られることから、本発明においては、前者のブロック共重合体構造を有するのがより好ましく、ブロックAとブロックBとが、式:-CHR4-D-で表される基のCH部分側から、-B-A又は、-A-B-Aとなるように配列されたブロック共重合体構造を有するものがより好ましい。本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の数平均分子量は、通常、50,000~500,000、好ましくは、70,000~200,000である。分子量分布Mw/Mnは、通常1.1~5.0、好ましくは1.5~3.0の範囲である。前記式ii、iii中のk1、k2及びk3は、それぞれ独立して任意の自然数であれば特に限定されないが、前記の数平均分子量を満たす範囲で設定することが好ましい。本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法としては、特に制約はないが、後述する本発明の製造方法により効率よく製造することができる。2ポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法は、分子内に、前記式i、ii-a及び/又はiii-aで表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物と、式1a:CH2=CR2aR3aで表される化合物1a、及び、式1b:CH2=CR2bR3bで表される化合物1bとを、化合物1aと化合物1bのモル比で、化合物1a:化合物1b=95:5~60:40となる使用割合で用いて、ラジカル重合開始剤の存在下、グラフト重合反応を行うことを特徴とする、分子内に、前記式i、ii及び/又はiiiで表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法である。ポリシルセスキオキサン化合物P本発明の製造方法においては、分子内に、前記式i、ii-a及び/又はiii-aで表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物以下、ポリシルセスキオキサン化合物Pということがある。を出発原料として用いる。前記式ii-a、iii-a中、D、R1、R4は前記の項1で例示したのと同じ意味を表す。前記式中、Xは、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよいアミノ基を表す。置換基を有していてもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、t-ブトキシ基等の炭素数1~10のアルキル基;メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、1-メトキシエトキシ基、2-メトキシエトキシ基等の炭素数2~10のアルコキシアルコキシ基;等が挙げられる。置換基を有していてもよいアリールオキシ基としては、フェノキシ基、2-クロロフェノキシ基、4-クロロフェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ基等が挙げられる。置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基;メチルエチルアミノ基、フェニルアミノ基、アセチルアミノ基等のモノ置換アミノ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、アセチルメチルアミノ基等のジ置換アミノ基;が挙げられる。これらの中でも、Xとしては、反応性の観点から、アルコキシ基が好ましい。ポリシルセスキオキサン化合物Pは、分子内に、少なくともii-a又はiii-aの繰り返し単位を有するものであって、前記式iで表される繰り返し単位のみからなるものは含まない。ポリシルセスキオキサン化合物Pは、通常、ii-a及びiii-a、i及びiii-a、ii-a及びiii-a、又はi、ii-a及びiii-aの繰り返し単位を有する共重合体である。この共重合体は、ランダム共重合体、部分ブロック共重合体、完全ブロック共重合体等、どのような共重縮合物であってもよい。ポリシルセスキオキサン化合物Pは、従来公知の方法、例えば、特許文献4に記載の方法により製造することができる。具体的には、次のようにして製造することができる。上記式においては、便宜上、前記式i、ii-aで表される繰り返し単位に相当する繰り返し単位の記載を省略し、前記iii-aで表される繰り返し単位からなるものを記載しているが、これに限定されるものではない。式中、qは、任意の自然数を表す。すなわち、式4:Hal-CHR4DSiOR53で表されるアルコキシシラン化合物4、及び、該アルコキシシラン化合物41質量部に対し、0~100倍量の、式5:R1SiOR63で表されるアルコキシシラン化合物5を、酸触媒又は塩基触媒の存在下に縮合させて共重縮合物P’を得る。前記式中、R1、D、X及びR4は前記と同じ意味を表す。Halはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子を表す。R5、R6は、それぞれ独立して、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-へキシル基等の炭素数1~6のアルキル基を表す。Mは、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属原子;マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属原子;または鉄、マンガン、亜鉛、銅等の遷移金属原子;を表し、アルカリ金属原子が好ましい。nはMの原子価を表す。アルコキシシラン化合物4の具体例としては、p-クロロメチルフェニルトリメトキシシラン、p-クロロメチルフェニルトリエトキシシラン、p-2-クロロエチルフェニルトリメトキシシラン、p-2-クロロエチルフェニルトリエトキシシラン、p-3-クロロプロピルフェニルトリメトキシシラン、p-3-クロロプロピルフェニルトリエトキシシラン、p-ブロモメチルフェニルトリメトキシシラン、p-ブロモメチルフェニルトリエトキシシラン、p-2-ブロモエチルフェニルトリメトキシシラン、p-2-ブロモエチルフェニルトリエトキシシラン、p-3-ブロモプロピルフェニルトリメトキシシラン、p-3-ブロモプロピルフェニルトリエトキシシラン、p-クロロメチルフェニルメチルトリメトキシシラン、p-クロロメチルフェニルメチルトリエトキシシラン、p-2-クロロエチルフェニルメチルトリメトキシシラン、p-2-クロロエチルフェニルメチルトリエトキシシラン、p-3-クロロプロピルフェニルメチルトリメトキシシラン、p-3-クロロプロピルフェニルメチルトリエトキシシラン、p-ブロモメチルフェニルメチルトリメトキシシラン、p-ブロモメチルフェニルメチルトリエトキシシラン、p-2-ブロモエチルフェニルメチルトリメトキシシラン、p-2-ブロモエチルフェニルメチルトリエトキシシラン、p-3-ブロモプロピルフェニルメチルトリメトキシシラン、p-3-ブロモプロピルフェニルメチルトリエトキシシラン、2-p-クロロメチルフェニルエチルトリメトキシシラン、2-p-クロロメチルフェニルエチルトリエトキシシラン、2-p-クロロメチルフェニルエチルトリプロポキシシラン、2-p-クロロメチルフェニルエチルトリブトキシシラン、2-p-ブロモメチルフェニルエチルトリメトキシシラン、2-p-ブロモメチルフェニルエチルトリエトキシシラン、2-p-ブロモメチルフェニルエチルトリプロポキシシラン、2-m-クロロメチルフェニルエチルトリメトキシシラン、2-m-クロロメチルフェニルエチルトリエトキシシラン、2-m-クロロメチルフェニルエチルトリプロポキシシラン、2-m-クロロメチルフェニルエチルトリブトキシシラン、2-m-ブロモメチルフェニルエチルトリメトキシシラン、2-m-ブロモメチルフェニルエチルトリエトキシシラン、2-m-ブロモメチルフェニルエチルトリプロポキシシラン、3-p-クロロメチルフェニルプロピルトリメトキシシラン、3-p-クロロメチルフェニルプロピルトリエトキシシラン、3-p-クロロメチルフェニルプロピルトリプロポキシシラン、3-p-クロロメチルフェニルプロピルトリブトキシシラン、3-p-ブロモメチルフェニルプロピルトリメトキシシラン、3-p-ブロモメチルフェニルプロピルトリエトキシシラン、3-m-ブロモメチルフェニルプロピルトリプロポキシシラン、3-m-クロロメチルフェニルプロピルトリメトキシシラン、3-m-クロロメチルフェニルプロピルトリエトキシシラン、3-m-クロロメチルフェニルプロピルトリプロポキシシラン、3-m-クロロメチルフェニルプロピルトリブトキシシラン、3-m-ブロモメチルフェニルプロピルトリメトキシシラン、3-m-ブロモメチルフェニルプロピルトリエトキシシラン、3-m-ブロモメチルフェニルプロピルトリプロポキシシラン、4-p-クロロメチルフェニルブチルトリメトキシシラン、4-p-クロロメチルフェニルブチルトリエトキシシラン、4-p-クロロメチルフェニルブチルトリプロポキシシラン、4-p-クロロメチルフェニルブチルトリブトキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルブチルトリメトキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルブチルトリエトキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルブチルトリプロポキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルフェニルトリメトキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルフェニルトリエトキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルフェニルトリメトキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルフェニルトリエトキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルフェニルメチルトリメトキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルフェニルメチルトリエトキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルフェニルトリメトキシシラン、4-p-ブロモメチルフェニルフェニルメチルトリエトキシシラン、2-4’-p-ブロモメチルフェニルフェニルエチルトリメトキシシラン、2-4’-p-ブロモメチルフェニルフェニルエチルトリエトキシシラン、2-4’-p-ブロモメチルフェニルフェニルエチルトリメトキシシラン、2-4’-p-ブロモメチルフェニルフェニルエチルトリエトキシシラン、及びこれらの2種以上の組合せ等が挙げられる。アルコキシシラン化合物5の具体例としては、フェニルトリメトキシシラン、4-クロロフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、2-メトキシフェニルトリエトキシシラン等の置換フェニルトリアルコキシシラン類;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン類;シアノメチルトリメトキシシラン、シアノメチルトリエトキシシラン、2-シアノエチルトリメトキシシラン、2-シアノエチルトリエトキシシラン、3-シアノプロピルトリメトキシシラン、3-シアノプロピルトリエトキシシラン、4-シアノブチルトリメトキシシラン、4-シアノブチルトリエトキシシラン等のシアノアルキルトリアルコキシシラン類;アセトキシメチルトリメトキシシラン、アセトキシメチルトリエトキシシラン、3-アセトキシプロピルトリメトキシシラン、3-アセトキシプロピルトリエトキシシラン等のアセトキシ基を有するシラン類;及びこれら2種以上の組合せ等が挙げられる。共重縮合物P’を構成するアルコキシシラン化合物4とアルコキシシラン化合物5との割合は任意に設定することができるが、通常、質量部比で、アルコキシシラン化合物4:アルコキシシラン化合物5=100:0~1:99の範囲である。用いる酸触媒としては、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸;p-トルエンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸1水和物、スルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、酢酸、蟻酸等の有機酸が挙げられる。また塩基触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムなどの金属水酸化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムt-ブトキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド;メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン等の1級アミン;ジエチルアミン、ジブチルアミン等の2級アミン;トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の3級アミン;ピリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ-7-エンDBUなどの含窒素複素環化合物;等が挙げられる。酸触媒又は塩基触媒の使用量は、アルコキシシラン化合物4に対して、通常、0.001重量~10重量、好ましくは0.01重量~5重量の範囲である。アルコキシシラン化合物4とアルコキシシラン化合物5との反応に用いる有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec-ブチルアルコール、t-ブチルアルコール等のアルコール類;水;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を混合して用いることができる。反応温度は、通常0°Cから用いられる溶媒の沸点までの温度範囲、好ましくは40°C~130°Cの範囲である。反応温度があまりに低いと縮合反応の進行が不十分となる場合がある一方で、反応温度が高くなりすぎるとゲル化抑制が困難となる。反応は、通常数分から数時間で完結する。次いで、得られた共重縮合物P’に、式6:MSC=SXnで表される化合物6を反応させることにより、ポリシルセスキオキサン化合物Pを得ることができる。すなわち、得られた共重縮合物P’に、化合物6を反応させることにより、前記アルコキシシラン化合物4由来のハロゲン部分が、式:-SC=S-Xで表される基で置換されたポリシルセスキオキサン化合物Pが得られる。化合物6の具体例としては、エチルキサントゲン酸カリウム、エチルキサントゲン酸ナトリウム等のXがアルコキシ基である化合物;フェノキシキサントゲン酸カリウム、フェノキシキサントゲン酸ナトリウム等のXがアリールオキシ基である化合物;これらの中でも、反応性が高く、また得られるポリシルセスキオキサン化合物が、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体の合成を効率よく行うことができることから、式6中、Xがアルコキシ基である化合物が好ましく、エチルキサントゲン酸塩がより好ましく、エチルキサントゲン酸カリウムが特に好ましい。前記共重縮合物P’と化合物6との反応は、通常、不活性溶媒中で行うことができる。用いる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン等の脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、フェニルエチルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル類;クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセタミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を混合して用いることができる。溶媒の使用量は、特に制約はないが、用いる共重縮合物P’1gに対して、通常1~1000ml、好ましくは5~100mlである。反応温度は、特に制約はないが、通常0°Cから用いる溶媒の沸点までの温度範囲、好ましくは15~60°C、より好ましくは室温である。反応時間は、通常数分から数十時間、好ましくは1~20時間である。反応終了後、通常の後処理操作を行うことにより、本発明に用いるポリシルセスキオキサン化合物Pを得ることができる。ポリシルセスキオキサン化合物Pは、ラダー構造を有することがあるが、ラダー型構造を有しているか否かは、例えば、反応生成物の赤外線吸収スペクトルやX線回折測定を行うことによって確認することができる。ポリシルセスキオキサン化合物Pの数平均分子量は、通常1,000~30,000、好ましくは1,500~20,000の範囲である。また、ポリシルセスキオキサン化合物Pの分子量分布Mw/Mnは、特に制限されないが、通常1.0~3.0、好ましくは1.1~2.0の範囲である。数平均分子量及び分子量分布は、例えば、SECサイズエクスクルージョンクロマトグラフィーにより測定し、ポリスチレン換算により求めることができる。次いで、得られたポリシルセスキオキサン化合物Pに、式1a:CH2=CR2aR3aで表される化合物1a、及び、式1b:CH2=CR2bR3bで表される化合物1bとを、化合物1aと化合物1bのモル比で、化合物1a:化合物1b=95:5~60:40となる使用割合で用いて、ラジカル重合開始剤の存在下、グラフト重合反応すなわち、MADIX法による反応を行うことで、目的とするポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得ることができる。化合物1a本発明に用いる化合物1aは、式1a:CH2=CR2aR3aで表される化合物である。式1a中、R2aは前記R2と同じ意味を表し、水素原子、炭素数1~6のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましい。R3aは、前記式aで表される基を示し、式中、r1は前記と同じ意味を表す。化合物1aとしては、例えば、以下の化合物等が挙げられる。n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、n-ペンチルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、ノニルメタアクリレート、デシルメタアクリレート、ウンデシルメタアクレート、ドデシルメタアクリレート等のメタアクリル酸の炭素4~12のアルキルエステル;シクロペンチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート等のメタアクリル酸の炭素5~12のシクロアルキルエステル;ベンジルメタアクリレート、フェナシルメタアクリレート、1-ナフチルメチルメタアクリレート等のメタアクリル酸の炭素7~12のアラルキルエステル;;フェニルメタアクリレート、ナフチルメタアクリレート等のメタアクリル酸の炭素6~12のアリールエステル;ここで、メタアクリレートは、アクリレート又はメタクリレートであり、メタアクリル酸は、アクリル酸又はメタクリル酸であることを意味する以下にて同じ。。化合物1aは、1種単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、化合物1aとしては、目的とするポリシルセスキオキサン化合物をより簡便に得られる観点から、n-ブチルメタアクリレート等の炭素数4~12のアルキルメタアクリレートが好ましい。化合物1b本発明に用いる化合物1bは、式1b:CH2=CR2bR3bで表される化合物である。式1b中、R2bは、前記R2と同じ意味を表し、水素原子、炭素数1~6のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましい。R3bは、前記式bで表される基を示し、式中、r2、r3は、前記と同じ意味を表す。化合物1bとしては、例えば、N,N-ジメチルメタアクリルアミド、N,N-ジエチルメタアクリルアミド、N-イソプロピルメタアクリルアミド、N-ヒドロキシエチルメタアクリルアミド、N-メタアクリロイルモルホリン、N-メタアクリロイルチオモルホリン、N-メタアクリロイルピペリジン、N-メタアクリロイルピロリジン等が挙げられる。ここで、メタアクリロイルは、アクリロイル又はメタクリロイルを意味する以下にて同じ。。化合物1bは、1種単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、化合物1bとしては、目的とするポリシルセスキオキサン化合物をより簡便に得られる観点から、N-メタアクリロイルモルホリン等の、r2、r3が一緒になって環を形成した化合物が好ましく、下記式で示すメタアクリロイルモルホリンがより好ましく、アクリロイルモルホリンが特に好ましい。MADIX法による反応本発明においては、前記ポリシルセスキオキサン化合物Pと、化合物1a及び化合物1bとを、ラジカル重合開始剤の存在下、グラフト重合反応を行うことにより、目的とするポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得ることができる。より詳細には、前記ポリシルセスキオキサン化合物Pと、化合物1a及び化合物1bとを、MADIX法により、目的とするポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得ることができる。ここで、MADIX法は、移行活性キサンテートを用いる、可逆的付加-フラグメンテーション連鎖移行重合法MacromolecularDesignviaInterchangeofXanthateのことである。すなわち、キサンテートをドーマント種ラジカル反応において休眠種とも呼ばれる安定な化学種として用い、これとラジカル種との可逆的な付加開裂反応によりラジカル種を発生させる方法である。本発明においては、MADIX法を用いることにより、化合物1bをも効率よくグラフト重合させることができるため、簡便に目的物を得ることができる。具体的には、ポリシルセスキオキサン化合物Pと、化合物1a及び化合物1bとを、溶媒中で、ラジカル重合開始剤の存在下で撹拌することにより反応を行う。反応は、窒素雰囲気等の不活性雰囲気下で行うのが好ましい。本発明においては、前記化合物1aと化合物1bを、化合物1aと化合物1bのモル比で、化合物1a:化合物1b=95:5~60:40となる割合で用いる。このような割合で用いることで、結果として、粘着性、耐熱性及び凝集性に優れた粘着剤成分として有用なポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得ることができる。また、ポリシルセスキオキサン化合物Pと、化合物化合物1aと化合物1bとの合計との使用割合は、ポリシルセスキオキサン化合物Pと化合物のモル比で、通常、ポリシルセスキオキサン化合物P:化合物=1:20~1:100、好ましくは1:40~1:80である。用いるラジカル重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリルAIBN、2,2’-アゾビス2-アミノジプロパン二塩酸塩、4,4’-アゾビス4-シアノ吉草酸等のアゾ系開始剤;ベンゾイルペルオキシド等の過酸化物系ラジカル重合開始剤;等が挙げられる。これらの中でも、効率よく目的物を得ることができること等から、AIBNが好ましい。ラジカル重合開始剤の使用量は、ポリシルセスキオキサン化合物P1当量に対して、通常、0.01~0.3当量である。用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制限されない。例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランTHF、ジオキサン、アニソール、フェニルエチルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン等の脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素類;クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセタミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。溶媒の使用量は、ポリシルセスキオキサン化合物P1gあたり、通常、0.1~1,000ml、好ましくは1~100mlである。反応温度は、通常20°Cから用いる溶媒の沸点までの温度範囲、好ましくは40~100°Cである。反応時間は、反応規模等にもよるが、通常数分から数十時間、好ましくは1~10時間である。本反応においては、化合物1aと化合物1bの混合物を、ポリシルセスキオキサン化合物Pと反応させて、グラフト鎖が、化合物1aと化合物1bのランダム共重合体となるように反応を行ってもよいし、化合物1aと化合物1bとを段階的に添加することにより、グラフト鎖が、化合物1aと化合物1bのブロック共重合体となるように反応を行ってもよい。化合物1aと化合物1bとを段階的に添加する場合においては、化合物1bを反応させた後に、化合物1aを反応させるのが好ましい。このように反応させて、グラフト鎖の末端を、化合物1a由来の繰り返し単位からなるブロックAとすることで、種々の材料に対して粘着性の優れたポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得ることができる。なお、グラフト鎖のブロック共重合体は、ジブロック体に限らず、トリブロック体、マルチブロック体であってもよい。これらの場合であっても、上記と同じ理由から、グラフト鎖の末端のブロックは、化合物1a由来の繰り返し単位からなるブロックAであるのが好ましい。段階的に反応させる場合において、反応温度及び反応時間は、前記に記載の反応温度及び反応時間の範囲内で選択すればよい。反応終了後は、周知の方法に従って、残存モノマー及び/又は溶媒を留去し、適当な溶媒中で再沈殿させ、沈殿した重合体を従来公知の方法で回収して目的とする重合体を単離することができる。再沈殿に使用する溶媒としては、水;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、シクロヘキサン等の炭素数5~8の炭化水素類又は脂環式炭化水素類;メタノール、エタノール、イソプロパノール等の炭素数1~6のアルコール類;ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類;等が挙げられる。これらの中では、n-ヘキサン、メタノール、水、ジエチルエーテル、又はこれらの混合溶媒が好適である。以上のようにして、前記式i、ii及び/又はiiiで表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体前記式iで表される繰り返し単位のみからなるものを除く。を得ることができる。前記式i、ii、iii中、D、R1、R2、R3、R4、k1、k2及びk3は前記と同じ意味を表す。得られるポリシルセスキオキサングラフト共重合体の数平均分子量は、50,000~500,000、好ましくは、70,000~200,000である。前記式ii、iii中のk1、k2及びk3は、それぞれ独立して任意の自然数であれば特に限定されないが、前記の数平均分子量を満たす範囲で設定することが好ましい。このものは、粘着性、耐熱性及び凝集性に優れるため、粘着剤として好適に用いることができる。3粘着剤本発明の粘着剤は、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を含有することを特徴とする。本発明の粘着剤は、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の1種又は2種以上を適当な溶剤に溶解することにより製造してもよい。用いる溶剤としては、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を溶解するものであれば特に制限されない。例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセタミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン等の脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。溶剤の使用量は任意であるが、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体100質量部に対して、通常、1~10,000質量部、好ましくは10~1,000質量部である。本発明の粘着剤は、主成分として本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を含み、さらに所望により、他の粘着剤、粘着付与剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、軟化剤、充填剤等を添加することができる。本発明の粘着剤は、主成分として本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を含むものであるため、粘着性、耐熱性に優れ、かつ、凝集性を有している。4粘着シート本発明の粘着シートは、基材シートと、該基材シート上に形成された、本発明の粘着剤からなる粘着剤層を有することを特徴とする。用いる基材シートとしては、グラシン紙、コート紙、キャスト紙等の紙基材;ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルム;ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム;ポリ塩化ビニルフィルム;ポリウレタンフィルム;ポリイミド;ポリエーテルイミドフィルム;合成紙、セルロース系シートやフィルム、種々の材料からなる不織布、織布、編布;金属箔;等が挙げられる。また、これらの基材シートは、所望により表面に適当な文字や図柄等の印刷を施しておくこともできる。基材シート上に粘着剤層を形成する方法としては、i基材シート上に、本発明の粘着剤を所定の厚みとなるように塗工し、40~150°Cで乾燥する方法、ii剥離シート又は工程紙上に、本発明の粘着剤を所定の厚みとなるように塗工し、該塗工面に基材シートを貼合わせて40~150°Cで乾燥した後、剥離シートを剥離する方法、等により製造することができる。iiの方法による場合、剥離シートは、所望により剥離することなくそのまま付着させておいて、粘着シートの使用時に剥離するようにしてもよい。用いる剥離シートとしては、グラシン紙、コート紙、キャスト紙等の紙基材;ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルム;ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム;等が挙げられる。これらの剥離シートは、粘着剤層に面する側の表面にシリコーン樹脂、フッ素樹脂、長鎖アルキル基含有カルバメート樹脂、アルキド樹脂等の剥離剤を塗布したものであってもよい。粘着剤を基材シート又は剥離シート上に塗工する方法は特に限定されず、公知の塗工方法を採用できる。塗工方法としては、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、リバースグラビア法、キスコート法、ナイフコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法などが挙げられる。得られる粘着剤層の厚みは、通常5~100μm、好ましくは10~60μmである。本発明の粘着シートは、粘着性、耐熱性及び凝集性に優れる本発明の粘着剤から形成されてなる粘着剤層を有するため、優れた粘着力と凝集力を有し、高温環境下で使用しても、凝集力保持力が低下することがない。本発明の粘着シートは、SUS等の金属板;ポリメタクリレートPMMA等の樹脂板;ソーダライムガラス等のガラス板;等の種々の被着体のみならず、ポリエチレン等の接着性の低い被着体に対しても優れた粘着力及び凝集力を発揮する。以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は、実施例等によって何ら限定されるものではない。なお、重合体の数平均分子量Mn及び分子量分布Mw/Mnは、テトラヒドロフランTHFを展開溶媒とするサイズエクスクルージョンクロマトグラフィーSECにより測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。製造例1ポリシルセスキオキサン化合物Pの合成上記式においては、便宜上、前記式iで表される繰り返し単位に相当する繰り返し単位の記載を省略し、式ii-aと式iii-aで表される繰り返し単位に相当するものが式中の上下交互に結合した状態を記載する。式中、nは、任意の自然数を表す。共重縮合物P’の合成200mLのナスフラスコに、トルエン/水混合溶液体積比=2/115mL、p-クロロメチルフェニルトリメトキシシランアヅマックス社製4.94g0.02モル、フェニルトリメトキシシラン東京化成工業社製3.97g0.02モル、及びメタンスルホン酸東京化成工業社製0.19gを仕込み、室温25°Cで16時間撹拌した。反応終了後、反応液から有機層を分取し、溶媒を減圧留去し、得られた残留物を大量のn-ヘキサンに滴下した。沈殿した固体を濾別し、乾燥し、前駆体となる共重縮合物P’であるp-クロロメチルフェニルトリメトキシシランとフェニルトリメトキシシランの共重縮合物以下、BzClPSQと略することがある。を得た収率:83。得られたBzClPSQの数平均分子量Mnは2,300、分子量分布Mw/Mnは1.52であった。得られたBzClPSQのIRスペクトルデータを以下に示す。Si-Ph:698cm-1,737cm-1,Si-O-Si:1129cm-1ポリシルセスキオキサン化合物P-1の合成200mLのナスフラスコに、アセトン50mLと、得られたBzClPSQ5.58gを仕込み、0°Cに保ちながらエチルキサントゲン酸カリウム東京化成工業社製3.53g22molのアセトン30mL溶液を30分かけて滴下した。その後、室温25°Cで16時間撹拌した。反応終了後、反応液の沈殿物を吸引濾過により濾別し、濾液を大量のメタノール/水混合溶液体積比=3/1に滴下した。沈殿した固体を濾取し、乾燥し、目的とするポリシルセスキオキサン化合物Pであるキサントゲン酸エステル化合物以下、XaPSQと略することがある。を得た収率:95。得られたXaPSQの数平均分子量Mnは2,800、分子量分布Mw/Mnは1.66であった。得られたXaPSQのIRスペクトルデータを以下に示す。Si-Ph:699cm-1,734cm-1,Si-O-Si:1130cm-1,C-S:1221cm-1実施例1ポリシルセスキオキサングラフト共重合体1の合成100mLの2口ナスフラスコに、窒素雰囲気下、製造例1で得たXaPSQ、AIBN、ブチルアクリレートBA及びアクリロイルモルホリンACMOを表1に示すモル比で添加した表1中のXaPSQのモル比は、ジチオエステル基基準である。以下にて同じ。。さらにアニソールを1.7mol/Lの濃度になる量を加え、全容を表1に示す反応温度で、所定時間撹拌した。反応終了後、反応液を大量のn-ヘキサンまたはメタノールに滴下し、沈殿物を回収し、乾燥し、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体1を得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体1の収率、数平均分子量Mn及び分子量分布Mw/Mnを表1に示す。なお、表1中、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体、ポリシルセスキオキサングラフト重合体、及び共重合体を総称して、重合体と記載する。得られたポリシルセスキオキサングラフト重合体のIRスペクトルデータを以下に示す。Si-O-Si、C-O-C:1163cm-1,C=Oアミド結合:1645cm-1,C=Oエステル結合:1732cm-1,-CH2-:2874cm-1,2960cm-1実施例2ポリシルセスキオキサングラフト共重合体2の合成100mLの2口ナスフラスコに、窒素雰囲気下、製造例1で得たXaPSQ、AIBN及びBAを下記表1に示すモル比で添加した。さらにアニソールを1.7mol/Lの濃度になる量を加え、全容を表1に示す反応温度で、所定時間撹拌した。次に、ACMOを表1に示すモル比で添加し、全容を表1に示す反応温度で、所定時間撹拌した。反応終了後、反応液を大量のメタノールに滴下し、沈殿物を回収乾燥し、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体2を得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体2の反応収率、数平均分子量Mn及び分子量分布Mw/Mnを下記表1に示す。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体2のIRスペクトルデータを以下に示す。Si-O-Si、C-O-C:1163cm-1,C=Oアミド結合:1644cm-1,C=Oエステル結合:1733cm-1,-CH2-:2874cm-1,2960cm-1実施例3~5ポリシルセスキオキサングラフト共重合体3~5の合成100mLの2口ナスフラスコに、窒素雰囲気下、製造例1で得たXaPSQ、AIBN及びACMOを下記表1に示すモル比で添加した。さらにアニソールを1.7mol/Lの濃度になる量を加え、全容を表1に示す反応温度で、所定時間撹拌した。次に、BAを表1に示すモル比で添加し、全容を表1に示す反応温度で、所定時間撹拌した。反応終了後、反応液を大量のメタノールに滴下し、沈殿物を回収乾燥し、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体3~5を得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体3~5の反応収率、数平均分子量Mn及び分子量分布Mw/Mnを表1に示す。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体3のIRスペクトルデータを以下に示す。Si-O-Si、C-O-C:1164cm-1,C=Oアミド結合:1641cm-1,C=Oエステル結合:1737cm-1,-CH2-:2874cm-1,2960cm-1得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体4のIRスペクトルデータを以下に示す。Si-O-Si、C-O-C:1164cm-1,C=Oアミド結合:1640cm-1,C=Oエステル結合:1737cm-1,-CH2-:2874cm-1,2960cm-1得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体5のIRスペクトルデータを以下に示す。Si-O-Si、C-O-C:1163cm-1,C=Oアミド結合:1640cm-1,C=Oエステル結合:1734cm-1,-CH2-:2875cm-1,2960cm-1比較例1ポリシルセスキオキサングラフト重合体1rの合成実施例1において、ACMOを使用せず、BAを表1に示すモル比で使用した他は、実施例1と同様にして、ポリシルセスキオキサングラフト重合体1rを得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト重合体1rの収率、数平均分子量Mn及び分子量分布Mw/Mnを表1に示す。得られたポリシルセスキオキサングラフト重合体1rのIRスペクトルデータを以下に示す。Si-O-Si、C-O-C:1163cm-1,C=Oエステル結合:1733cm-1,-CH2-:2874cm-1,2960cm-1比較例2フリーラジカル重合によるBAとACMOの共重合体2rの製造1000mLのセパラブルフラスコに、AIBN0.2g、BA83.3g、ACMO16.7g、及び、酢酸エチル230g、トルエン20gを仕込み、窒素雰囲気下、60°Cで16時間撹拌した。反応終了後、反応液を大量のメタノールに滴下し、沈殿物を回収し、乾燥して共重合体2rを得た。得られた共重合体2rの反応収率、数平均分子量Mn及び分子量分布Mw/Mnを表1に示す。得られた共重合体2rのIRスペクトルデータを以下に示す。C-O-C:1164cm-1,C=Oアミド結合:1646cm-1,C=Oエステル結合:1733cm-1,-CH2-:2874cm-1,2960cm-1比較例3ポリシルセスキオキサングラフト共重合体3rの合成実施例3において、ACMOとBAを下記表1に示すモル比で使用した他は、実施例3と同様にして、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体3rを得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト重合体3rの反応収率、数平均分子量Mn及び分子量分布Mw/Mnを表1に示す。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体3rのIRスペクトルデータを以下に示す。Si-O-Si、C-O-C:1164cm-1,C=Oアミド結合:1646cm-1,C=Oエステル結合:1734cm-1,-CH2-:2875cm-1,2960cm-1比較例4ポリシルセスキオキサングラフト共重合体4rの合成実施例2において、ACMOの代わりに、メタクリル酸メチルMMAを使用し、表1に示すモル比、反応温度、反応時間で反応を行った他は、実施例2と同様にして、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体4rを得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体4rの収率、数平均分子量Mn及び分子量分布Mw/Mnを表1に示す。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体4rのIRスペクトルデータを以下に示す。Si-O-Si、C-O-C:1163cm-1,C=Oエステル結合:1733cm-1,-CH2-:2875cm-1,2959cm-1実施例6~10、比較例5~8粘着剤1~5、1r~4rの調製実施例1~5及び比較例1~4で得た重合体1~5、1r~4rに対して、濃度30となるよう酢酸エチルを加えて十分に混合することにより粘着剤1~5、1r~4rをそれぞれ調製した。実施例11~15、比較例9~12粘着シート1~5、1r~4rの作製実施例6~10及び比較例5~8で得た粘着剤1~5、1r~4rを基材として、厚さ50μmの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムPETフィルムの片面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように塗布し、100°Cで1分間加熱して粘着剤層を形成した。次いで、粘着剤層の表面に剥離シートリンテック社製、製品名SP-PET381031、厚み38μm、PETフィルムにシリコーン系剥離剤で表面処理したものを貼り付けることにより、粘着シート1~5、1r~4rをそれぞれ作製した。粘着力試験得られた粘着シート1~5、1r~4rを25mm×300mmの大きさに裁断し、23°C、50RH相対湿度の環境下で、剥離シートを剥がし、下記被着体に貼付した。貼付に際しては、重さ2kgのローラーを用い、1往復させて、被着体に圧着した。その後、23°C、50RHの環境下で、貼付後24時間放置した後、同環境下で、引張試験機オリエンテック社製、製品名テンシロンを用いて、剥離速度300mm/分、剥離角度180°の条件で測定した値N/25mmを粘着力とした。粘着力の測定に用いた被着体は以下のとおりであるは表2の略称を示す。ステンレス板SUS304:SUS304鋼板、360番研磨、150mm×70mm×0.7mm。ポリメタクリレート板PMMA板:ユーコウ商会社製、製品名アクリライトLオパール432、150mm×70mm×2mm。フロートガラス板ガラス:ユーコウ商会社製、製品名フロートガラス板R3202糸面加工、150mm×70mm×2mm。ポリエチレン板PE板:ユーコウ商会社製、製品名PEコウベポリシートEL-N-AN、150mm×70mm×2mm。結果を下記表2に示す。なお、表中、ATは、粘着剤と基材との間に界面破壊が発生したことを表し、Cfは凝集破壊が発生したことを表し、Zipは、ジッピング滑らかに剥離せず剥がした後に横の線が入ったような状態になることが発生したことを表す。保持力試験得られた粘着シート1~5、1r~4rを25mm×100mmの大きさに裁断し、23°C、50RH相対湿度の環境下にて、貼付面積25mm×25mmとなるようにステンレス板SUS304鋼板、360番研磨に貼付した。貼付に際しては、重さ2kgのローラーを用い、5往復させて、被着体に圧着した。貼付後20分間放置した後、温度40°Cならびに80°Cのオーブン内に移し、1kgの重しを粘着シートに垂直方向に荷重がかかるよう取り付けて、オーブン内に放置し、粘着シートがずれ落ちて被着体から完全に剥がれ落ちるまでの経過時間秒を測定した。ただし、70000秒経過してもずれ落ちなかった場合は、ずれ落ちた長さズレ量mmを測定した。剥がれ落ちるまでの経過時間が長いほど、及び、ずれ落ちた長さが短いほど保持力が優れている。なお、表中、NCはズレがないことを意味する。プローブタック試験得られた粘着シート1~5、1r~4rを25mm×25mmの大きさに裁断し、23°C、50RH相対湿度の環境下で、プローブタック測定装置RHESCA社製、製品名PROBETACKTESTERmodelRPT100を用い、JISZ0237:1991参考5に準拠して測定した。具体的には、測定用サンプルの剥離シートを剥離し、表出した粘着剤面に直径5mmのステンレス製プローブを1秒間、接触荷重0.98N/cm2で接触させた後、プローブを600mm/分の速度で測定用サンプルから離し、その際に剥がれる力Nを測定した。表2より、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を用いて作製された粘着シート1~5は、種々の被着体に対して、架橋剤を使用せずとも優れた粘着力及び高温下での保持力を有することがわかる。ACMOの後にBAを反応させて得られるポリシルセスキオキサングラフト共重合を用いて作製された粘着シート実施例3~5は、BAの後にACMOを反応させて得られる共重合体を用いて作製された粘着シート実施例2よりも、PE板に対して優れた粘着力を示す。一方、ACMOを使用せずに得られたポリシルセスキオキサングラフト重合体を用いた粘着シート1r比較例9は、粘着力、保持力に劣っていた。BAとACMOの共重合体を用いた粘着シート2r比較例10は、保持力に劣っていた。ACMOを、BAと同量用いて得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体を用いた粘着シート3r比較例11は、粘着力を発揮しなかった。ACMOの代わりにMMAを用いた粘着シート4r比較例12は、粘着力、高温下での保持力に劣っていた。"