"複数の微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を表面に有する型の検査方法であって、a前記ポーラスアルミナ層の厚さを表す第1パラメータと、前記ポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータとの関係に基づいて、許容範囲の凹凸構造を有するポーラスアルミナ層の前記第1パラメータの許容範囲を示す第1色情報を用意する工程と、b表面にポーラスアルミナ層を有する、検査対象の型を用意する工程と、c前記検査対象の型の前記ポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータを取得する工程と、d前記取得された色パラメータと前記第1色情報とに基づいて、前記検査対象の型の前記第1パラメータの適否を判定する工程とを包含する、型の検査方法。前記色パラメータは、三刺激値X、YおよびZの内のXまたはYを含む、請求項1に記載の型の検査方法。前記工程aは、前記第1パラメータとXまたはYとの関係を近似式で表す工程を含む、請求項2に記載の型の検査方法。前記工程cは、前記検査対象の型の前記ポーラスアルミナ層の分光反射率を測定する工程を包含する、請求項1から3のいずれかに記載の型の検査方法。前記工程cは、前記ポーラスアルミナ層の表面の互いに異なる複数の位置のそれぞれについて、前記色パラメータを取得する工程を含み、前記工程dは、前記複数の位置のそれぞれについて取得された前記色パラメータと、前記第1色情報とに基づいて、前記検査対象の型の前記第1パラメータの適否を判定する、請求項1から4のいずれかに記載の型の検査方法。e前記ポーラスアルミナ層の表面の位置と、前記第1パラメータとの関係に基づいて、前記検査対象の型の前記第1パラメータの適否を判定する工程をさらに包含する、請求項5に記載の型の検査方法。f前記ポーラスアルミナ層の前記複数の微細な凹部の占有率を示す第2パラメータと、前記ポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータとの関係に基づいて、許容範囲の凹凸構造を有するポーラスアルミナ層の第2パラメータの許容範囲を示す第2色情報を用意する工程と、g前記取得された色パラメータと前記第2色情報とに基づいて、前記検査対象の型の前記第2パラメータの良否を判定する工程とをさらに包含する、請求項1から6のいずれかに記載の型の検査方法。モスアイ用型の表面の凹凸構造は1μm未満の微細な構造なので、その大きさや形状をある程度定量的に評価するためには、例えばSEM走査型電子顕微鏡を用いる必要がある。表面のSEM像から、隣接凹部間の間隔Dintや凹部の二次元的な大きさDpが求められ、断面のSEM像から、凹部の深さDdepthやポーラスアルミナ層の厚さtpが求められる。しかしながら、SEM像を得るためには、モスアイ用型の一部を破壊する必要がある上、時間がかかるという問題がある。また、SEM像に基づいて型の良否を判定するためには、SEM像から上記のパラメータを数値化する必要がある。本発明は上記の問題を解決するためになされたものであり、その主な目的は、モスアイ用型の表面のようにDpが1μm未満の微細な凹凸構造を有する表面を形成する工程等において、表面の微細な凹凸構造が所定の範囲内にあるか否かを非破壊で簡便に検査する方法を提供することにある。本発明の型の検査方法は、複数の微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を表面に有する型の検査方法であって、a前記ポーラスアルミナ層の厚さを表す第1パラメータと、前記ポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータとの関係に基づいて、許容範囲の凹凸構造を有するポーラスアルミナ層の前記第1パラメータの許容範囲を示す第1色情報を用意する工程と、b表面にポーラスアルミナ層を有する、検査対象の型を用意する工程と、c前記検査対象の型の前記ポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータを取得する工程と、d前記取得された色パラメータと前記第1色情報とに基づいて、前記検査対象の型の前記第1パラメータの適否を判定する工程とを包含する。ある実施形態において、前記色パラメータは、三刺激値X、YおよびZの内のXまたはYを含む。ある実施形態において、前記工程aは、前記第1パラメータとXまたはYとの関係を近似式で表す工程を含む。ある実施形態において、前記工程cは、前記検査対象の型の前記ポーラスアルミナ層の分光反射率を測定する工程を包含する。ある実施形態において、前記工程cは、前記ポーラスアルミナ層の表面の互いに異なる複数の位置のそれぞれについて、前記色パラメータを取得する工程を含み、前記工程dは、前記複数の位置のそれぞれについて取得された前記色パラメータと、前記第1色情報とに基づいて、前記検査対象の型の前記第1パラメータの適否を判定する。ある実施形態の型の検査方法は、e前記ポーラスアルミナ層の表面の位置と、前記第1パラメータとの関係に基づいて、前記検査対象の型の前記第1パラメータの適否を判定する工程をさらに包含する。ある実施形態の型の検査方法は、f前記ポーラスアルミナ層の前記複数の微細な凹部の占有率を示す第2パラメータと、前記ポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータとの関係に基づいて、許容範囲の凹凸構造を有するポーラスアルミナ層の第2パラメータの許容範囲を示す第2色情報を用意する工程と、g前記取得された色パラメータと前記第2色情報とに基づいて、前記検査対象の型の前記第2パラメータの良否を判定する工程とをさらに包含する。前記工程aおよび前記工程dに代えて前記工程fおよび前記工程gを行ってもよい。このとき、前記工程fで用意する前記第2色情報は、三刺激値X、YおよびZの内のXまたはYを含み、前記工程cで取得する前記色パラメータは、三刺激値X、YおよびZの内の前記XまたはYを含む。また、前記工程fは、前記第2パラメータとXまたはYとの関係を近似式で表す工程を含む。本発明によると、モスアイ用型の表面のように二次元的な大きさが1μm未満の微細な凹凸構造が所定の範囲内にあるか否かを非破壊で簡便に検査する方法が提供される。以下、図面を参照して本発明による実施形態の型の検査方法を説明する。以下では、反射防止膜を製造するためのポーラスアルミナ層を備えるモスアイ用型の検査方法を例示するが、本発明はこれに限られず、表面の法線方向から見たときの二次元的な大きさDpが1μm未満の微細な凹凸構造を有するポーラスアルミナ層の表面の検査にも適用できる。まず、図1および図2を参照して、本発明による実施形態の検査方法の対象となるポーラスアルミナ層の構造を説明する。図1に、反射防止膜の製造に用いられるポーラスアルミナ層の断面SEM像を示す。また、このポーラスアルミナ層6の模式的な構造を図2aおよびbに示す。図1および図2に示すように、ポーラスアルミナ層6は多数の微細な凹部8を有している。ポーラスアルミナ層6は、後述するように、アルミニウム基材またはアルミニウム膜4の表面を陽極酸化およびエッチングすることによって得られる。反射防止膜の製造に用いられるポーラスアルミナ層の微細な凹部の断面形状は概ね円錐状である。微細な凹部8の二次元的な大きさ開口部径:Dpは10nm以上500nm未満で、深さDdepthは10nm以上1000nm1μm未満程度であることが好ましい。また、微細な凹部8の底部は尖っている最底部は点になっていることが好ましい。さらに、微細な凹部8は密に充填されていることが好ましく、図2に示すように、ポーラスアルミナ層6の法線方向から見たときの微細な凹部8の形状を円と仮定とすると、隣接する円は互いに重なり合い、隣接する微細な凹部8の間に鞍部が形成されることが好ましい。なお、略円錐状の微細な凹部8が鞍部を形成するように隣接しているときは、微細な凹部8の二次元的な大きさDpは平均隣接間距離Dintと等しいとする。従って、反射防止膜を形成するためのモスアイ用型のポーラスアルミナ層6は、Dp=Dintが10nm以上500nm未満で、Ddepthが10nm以上1000nm1μm未満程度の微細な凹部8が密に不規則に配列した構造を有していることが好ましい。微細な凹部8の開口部の形状は厳密には円ではないので、Dpは表面のSEM像から求めることが好ましい。ポーラスアルミナ層6の厚さtpは概ね1μm以下である。図1の断面SEM像を示すポーラスアルミナ層は上記の条件を満足しており、Dint=Dp=180nm、Ddepth=300nm、tp=400nmである。また、バリア層の厚さtbは約100nmである。このポーラスアルミナ層は、以下のようにして形成した。まず、ガラス基板上に堆積したアルミニウム膜厚さ約1μmを電解液として0.1Mの蓚酸水溶液18°Cを用いて、化成電圧80Vで60秒間陽極酸化した後、エッチング液としての2質量燐酸水溶液30°Cに90分間浸漬することによって、先の陽極酸化工程によって形成された陽極酸化層を除去した。最初に形成されるポーラスアルミナ層の微細な凹凸構造は一定しないことが多いので、再現性を高めるために、最初に形成されたポーラスアルミナ層を除去した後、改めてポーラスアルミナ層を形成することが好ましい。その後、上記の電解液温度も同じおよびエッチング液温度も同じを用いて、陽極酸化工程5回とエッチング工程4回とを交互に繰り返した。すなわち、陽極酸化工程で終わった。1回の陽極酸化工程の時間は25秒、1回のエッチング工程の時間は19分とした下記のサンプルCと同じ条件。陽極酸化時間を長くすると、微細な凹部の深さが増し、エッチング時間を長くすると、微細な凹部の開口径が大きくなる。陽極酸化とエッチングとを交互にそれぞれ適切な時間だけ行うことによって、微細な凹部の構造を制御することができる。ここで、主に、陽極酸化工程の時間およびエッチング工程の時間が変動することによって、ポーラスアルミナ層の表面の微細な凹凸構造が変化し、不良品が形成されることがある。この外、電解液の温度やエッチング液の温度の変動も微細な凹凸構造に影響を与える。いずれにしても、微細な凹凸構造は、陽極酸化の程度およびエッチングの程度が変動することによってもたらされる。そこで、陽極酸化時間を異ならせることによって下記の表1に示す7種類のサンプルA~Gを作製した。表1には、ポーラスアルミナ層の作製条件と、得られたポーラスアルミナ層の厚さtpおよび目視による色評価の結果を併せて示す。なお、表1に記載の陽極酸化AOおよびエッチングEt工程の前に、上記と同様に、一旦ポーラスアルミナ層を形成しそれを除去した。化成電圧、電解液およびエッチング液の種類および温度は、上記と同じにした。また、ポーラスアルミナ層の厚さtpは、図1に示したような断面SEM像から求めた。目視によるポーラスアルミナ層の色評価については後述する。表1に示したように、陽極酸化時間が長くなると、ポーラスアルミナ層の厚さtpは大きくなる。ここでは、ポーラスアルミナ層の厚さtpしか示していないが、微細な凹部の深さDdepthはポーラスアルミナ層の厚さtpの増大に伴って増大する。従って、ポーラスアルミナ層の厚さtpは微細な凹部の深さDdepthを表すパラメータとみなすことができる。特に、ここで例示したように、ポーラスアルミナ層の形成プロセスを陽極酸化工程で終わると、エッチング工程で終わる場合に比べて、tpとDdepthとの相関が高い。サンプルA~Gは、陽極酸化工程の時間は異なるが、エッチング工程の時間は同じなので、微細な凹部の断面形状はほぼ相似であり、ポーラスアルミナ層の厚さtpおよび微細な凹部の深さDdepthだけが異なるとみなすことができる。もちろん、サンプルA~GのDintはほぼ同じである。これらのことは断面SEM像から確認した。次に、上記サンプルCと同じ条件でポーラスアルミナ層を形成した後、さらに追加のエッチングを行い、エッチング時間を異ならせることによって下記の表2に示す4種類のサンプルJ~Mを作製した。表2に示したように、エッチング時間が長くなると、微細の凹部は太くなる。サンプルJ~Mの断面SEM像を図3a~dに示す。図3a~dからわかるように、サンプルJ~Mは、微細な凹部の形状だけが異なり、ポーラスアルミナ層の厚さtpおよび深さDdepthはほぼ同じtp=Ddepthとみなすことができる。もちろん、厳密には、ポーラスアルミナ層の厚さtpは深さDdepthよりもバリア層の厚さtb分だけ大きい。サンプルJ~MのDintはほぼ同じである。表1のサンプルA~Gおよび表2に示したサンプルJ~Mのポーラスアルミナ層は、異なる色に見える。すなわち、反射光が着色して見える。反射光の色は、図4に示すように、ポーラスアルミナ層を表面に有するサンプル1を検査台20の上にほぼ水平に配置し、白色光源例えば蛍光灯22から出射された光を拡散反射板24で反射させて、ポーラスアルミナ層の表面に入射させ、反射角θが90°に近い反射光を観察者32が目視で評価した。その結果を表1および2に示した。表1、2に示したように、厚さtp深さDdepthおよび凹部の形状太さによって、反射光の色が敏感に変化する。上記同様の手法で、種々のサンプルを作製し、厚さtpおよび凹部の形状太さと反射光の色との関係をマッピングした例を図5に示す。ここで、凹部の形状太さを定量的に表すパラメータとして、凹部占有率を考える。図3に示した断面SEM像から理解されるように、エッチング量が変動すると、凹部の太さが変化する。すなわち、凹部の体積が変化する。Dintは化成電圧に比例して決まるので、Dintはエッチング量に依存しない。従って、ポーラスアルミナ層の微細な凹凸構造は、三次元的には直径がDp=Dintの円柱状の単位構造の集合体として近似的に表すことができ、この円柱の断面直径を含むは、図5に示した長方形である。すなわち、長方形の幅はDp=Dintであり、長方形の高さはDdepthである。凹部が太くなると、長方形の断面に占める凹部の面積比率が増大する。図5には、長方形の面積に対する凹部の面積比率を凹部の占有率として表している。なお、凹部の占有率は、凹部の面積比率に代えて、円柱に占める凹部の体積比率で表してもよい。上記の例からも分かるように、1回の陽極酸化工程の時間が数十秒であるのに対して、1回のエッチング工程の時間は数分から20分程度と長いので、エッチング工程による凹部の形状太さのばらつきは小さく、凹部占有率を面積比率で近似しても問題ないと考えられる。図5は、厚さtpが400nmで、凹部占有率が50の構造を有するポーラスアルミナ層を中心とする、厚さtp、凹部占有率と反射光の色との関係を示す。厚さtpおよび凹部占有率は断面SEM像から求め、反射光の色は、図4を参照して説明した方法で評価した。図5に示すように、中心厚さtp:400nm、凹部占有率:50のポーラスアルミナ層はピンク色に見え、厚さtpが大きくなると橙色、黄色へと変化し、厚さtpが小さくなると薄紫、紫へと変化する。また、凹部占有率が大きくなると橙色、黄色へと変化し、凹部占有率が小さくなると薄紫、紫へと変化する。従って、色だけでは、厚さtpが変化しているのか、あるいは凹部占有率が変化しているのかは分からない。例えば、厚さtpが375nm、400nmおよび425nmのとき、凹部占有率がそれぞれ45、50および55のとき、ピンク色を呈する。同様に、厚さtpと凹部占有率との値が、図5中に破線で囲んだ領域内にあるとき、同じ色を呈する。厚さtpが400nmで、凹部占有率が50の構造を有するポーラスアルミナ層を形成する場合、厚さtpが400nm±40nm図5中の太い破線で示した境界線で、凹部占有率ここでは面積比率が45以上55以下であれば、良品とすることができる。この基準は、ポーラスアルミナ層を備えるモスアイ用型を用いて、反射防止膜を形成し、反射防止膜の反射防止特性から決定した。なお、良品を判定するこの基準は一例であり、厚さtpおよび凹部占有率の基準値しきい値は適宜設定され得る。次に、ポーラスアルミナ層の表面の微細な凹凸構造が所定の範囲内、すなわち上記の例では、厚さtpが400nm±40nmで、凹部占有率ここでは面積比率が45以上55以下の範囲内にあるか否かを非破壊で簡便に検査する方法を検討した。ここでは、400nmを中心値としたが、これに限られない。例えば、200nmを中心としても±40nmの範囲内で色が変化し、この範囲内に同じ色が現れる例えば、40nmと-40nmとに同じ色が現れることはないので、ここで例示する方法をそのまま適用することができる。まず、ポーラスアルミナ層の厚さtpが所定の範囲内例えば400nm±40nm内にあることを非破壊で簡便に測定する方法を検討した。上述したように、ポーラスアルミナ層を形成するプロセスにおいて、1回の陽極酸化工程の時間が数十秒であるのに対して、1回のエッチング工程の時間は数分から20分程度と長いので、エッチング工程による凹部の形状太さのばらつきは小さく、量産プロセスにおいて実際に問題となるのは、ポーラスアルミナ層の厚さtp微細な凹部の深さに対応付けられるの管理である。本発明による実施形態の型の検査方法は、aポーラスアルミナ層の厚さを表す第1パラメータと、ポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータとの関係に基づいて、許容範囲の凹凸構造を有するポーラスアルミナ層の第1パラメータの許容範囲を示す第1色情報を用意する工程と、b表面にポーラスアルミナ層を有する、検査対象の型を用意する工程と、c検査対象の型のポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータを取得する工程と、d取得された色パラメータと第1色情報とに基づいて、検査対象の型の第1パラメータの適否を判定する工程とを包含する。工程aは、断面SEM像等から正確に求められるポーラスアルミナ層の厚さtpまたは厚さtpと直接的に関連付けられる凹部の深さDdepthなどの第1パラメータと、ポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータとの関係を予め求めておき、この関係に基づいて、許容範囲の凹凸構造を有するポーラスアルミナ層の第1パラメータの許容範囲を示す第1色情報を用意する。色パラメータは例えば三刺激値X、YおよびZである。ここで、許容範囲の凹凸構造を有するポーラスアルミナ層とは、第1パラメータ以外のパラメータここでは凹部占有率で表される凹部の形状太さが許容範囲にあるポーラスアルミナ層を意味しており、例えば、図5中の凹部占有率50の縦のラインに沿って配置されている5つの四角で示されているポーラスアルミナ層である。これらのポーラスアルミナ層の第1パラメータの許容範囲を示す第1色情報とは、図5に示した例では、厚さtpが375nm以上425nm以下にあることを示す色情報である。上述したように、目視で検査する場合には、反射光の色が橙色、ピンク色、薄紫色の何れかの色またはこれらの間の色であるという情報が、この第1色情報に対応することになる。第1色情報は、コンピュータで処理可能な情報であり、上記色パラメータに基づいて決められ、例えば、三刺激値X、YおよびZで表された下限値および上限値しきい値又は境界値ということもあるである。次に、工程bで用意された検査対象の型のポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータを工程cで取得する。この色パラメータは、第1色情報と比較されるべきものであり、工程aの色パラメータと同じであり、例えば、三刺激値である。最後に、工程dにおいて、工程cで取得された色パラメータと、色パラメータで表された第1色情報と比較することによって、検査対象の型の第1パラメータが許容範囲内にあるか否かが判定される。色パラメータを用いて、厚さtpを表す第1パラメータが所望の範囲にあるか否かを決めることができるということは、色パラメータを用いて、間接的にポーラスアルミナ層の厚さtpを測定できることを意味している。色パラメータを用いて厚さtpを求めると、以下に説明するような種々の利点が得られる。一般に、薄膜の厚さを測定する方法として、エリプソメータを用いる方法が知られている。エリプソメータを用いると、複素屈折率が既知の単層膜の厚さを正確に求めることができる。ポーラスアルミナ層は、微細な凹部で構成されている層とバリア層とを有している。また、ポーラス層の複素屈折率は一定でなく、アルミナ部分と空隙部分との存在割合に応じて、厚さ方向に変化している。さらに、バリア層の底は平坦でないので、アルミナとアルミ層とが混在した層が存在することになる。このように複雑な層構造を有するポーラスアルミナ層の厚さをエリプソメータを用いて求めるためには、上記の複雑な層構造を適切にモデル化する必要があり、モデルの精度によって得られる厚さが異なることになり、十分な精度が得られない。また、エリプソメータを用いた測定のためには、光照射側の光軸および光検出側の光軸の2つの光軸を調整する必要があり、測定が難しい。特に、量産のラインにおいて、大面積のポーラスアルミナ層の凹凸構造を複数箇所について評価することは難しく、装置も高価になり、現実的でない。一方、色パラメータは、例えば、分光反射率から求めることができ、分光反射率反射スペクトルの測定は、受光側の光軸だけを設定すればよく、且つ、光軸の設定の精度は高くなくてよい。例えば、株式会社ニレコの分光測色システムCOMES登録商標を用いれば、分光反射率から三刺激値X、YおよびZが得られる。色パラメータとしては、三刺激値に限られず、例えばL、a、bを得ることもできる。本発明による実施形態の型の検査方法は、図6に示す検査システム100を用いて行うことができる。図6に示す検査システム100は、白色光源12と、分光器14と、これらを制御するとともに、分光器14から取得されたデータを処理するコンピュータ16とを備えている。コンピュータ16は、演算処理装置とともにメモリ装置を内蔵しており、分光器14から取得したデータおよび第1色情報などのデータとともに、各種演算処理のためのソフトウェアを記憶している。検査システム100は以下のようにして、ポーラスアルミナ層の反射光の色を定量的に求める。図6に示すように、検査システム100の白色光源12および分光器14は、検査対象の型1に対して所定の位置に配置される。検査対象の型1は、例えば、支持体2と、支持体2の上に堆積されたアルミニウム膜8と、アルミニウム膜の表面を陽極酸化することによって形成されたポーラスアルミナ層6とを有している。型1のポーラスアルミナ層6の表面に向けて、検査システム100の白色光源例えば白色LED、キセノンランプ12から光が出射される。ポーラスアルミナ層6に入射した光の内、反射された光が分光器14に入射し、各波長について反射率が求められる。測定波長域は例えば400nm~700nmで、波長分解能は1.5nmである。測定時間は一点につき155msecである。例えば、図7に示すような分光反射率特性反射スペクトルが得られる。ここでは、垂直反射率Rvを測定した。ここで例示した反射スペクトルは、先のサンプルFと同様に、ポーラスアルミナ層の厚さtpが520nmとなるように、円筒状直径150mm、長さ600mmのアルミ基材の表面に形成したポーラスアルミナ層についての測定結果である。図7中のt=593nm50mm-270°の50mm-270°は、円筒の表面に形成されたポーラスアルミナ層の測定位置を示すもので、50mmは円筒の上端例えば、陽極酸化およびエッチング時に処理液に浸漬した時の円筒の上端からの長さ、270°は円筒の周上の座標を特定する角度で、測定点と円筒の中心とを結ぶ線が、基準線基準点と円筒の中心とを結ぶ線と成す角を示している。基準点はどこでもよく、装置のセッティングに応じて適宜設定すればいよい。分光反射率特性は、測定位置の情報とともにコンピュータ16に記憶される。なお、t=593nmで示される波長は、反射率が極値極大値または極小値をとる波長であり、極値からピークバレイ法PV法によって、膜厚を推定することもできる。但し、極値をとる波長を求めるためには反射率を補正する必要があり、図7中に記載の波長は補正後の反射率が極値をとる波長である。PV法でポーラスアルミナ層の膜厚を求めるためには、エリプソメータを用いる場合と同様、ポーラスアルミナ層の屈折率を適正なモデルに基づいて設定する必要がある。分光反射率特性から、三刺激値を求める演算はコンピュータ16によって実行され、結果はメモリ装置に記憶されるとともに、必要に応じて、ディスプレイやプリンタ等に出力される。分光特性から三刺激値等の色パラメータを求める演算や色パラメータ間の変換を行うための演算はよく知られているので説明を省略する。良品の判定基準となる第1色情報は、例えば以下のようにして求められる。ここでは、膜厚tpを管理対象とする例を説明する。SEM像から求めた膜厚tpに基づいて、膜厚tpが許容範囲にある良品サンプルと、膜厚tpが許容範囲の下限を丁度下回った膜厚下限サンプルと、膜厚tpが許容範囲の上限を丁度上回った膜厚上限サンプルとを用意し、上述した方法で、それぞれのX、YおよびZを求める。ここで用いるサンプルはいずれも微細な凹部の形状凹部占有率は許容範囲にあるものを用いる。膜厚tpとX,YおよびZのそれぞれとの間の相関関数を求める。例えば、図8に示すような、曲線または直線で近似される関係が求められる。図8に示すように、膜厚tpとX,YおよびZのそれぞれとの間の相関関数は、典型的には二次多項式で近似できる。各サンプルのX、YおよびZと、それぞれについての二次多項式がコンピュータ16のメモリ装置に記憶される。第1色情報は、膜厚下限サンプルのXa、Ya、Zaの値、膜厚上限サンプルのXb、Yb、Zbの値を含む。なお、図8からわかるように、XとYは膜厚tpに対してほぼ比例関係にあるので、Zを用いるよりも高い精度で膜厚tpと関係付けられる。従って、色パラメータとしては、Xおよび/またはYを用いることが好ましく、X、YおよびZの全てについて膜厚tpとの関係を求める必要はない。検査対象の型のポーラスアルミナ層について、上記の方法で、X、YおよびZを求め、第1色情報と比較する。すなわち、得られたX、YおよびZを、Xa、Ya、Za、Xb、Yb、Zbと比較し、これらの値の間にあるか否かを判定する。これらの値の範囲内にあれば適切と判定し、範囲外にあれば不適と判定する。また、上記二次多項式にそれぞれ対応するX、YまたはZを代入することによって厚さtpを求めることができる。もちろん、tpに基づいて適否を判定するようにしてもよい。また、大面積のポーラスアルミナ層を検査するときは、ポーラスアルミナ層の表面の互いに異なる複数の位置のそれぞれについてX、Y、Zを取得し、複数の位置のそれぞれについて取得されたX、Y、Zを、Xa、Ya、Za、Xb、Yb、Zbと比較し、これらの値の間にあるか否かを判定する。このとき、図6に両矢印で示すように、白色光源12および分光器14に対して型1を相対的に移動すればよい。また、型1に代えて、例えば円筒状のアルミニウム基材の表面にポーラスアルミナ層が形成されているロール型を用いる場合、ロール型をその中心軸の回りに回転させながら、複数の位置のそれぞれについてX、Y、Zを取得することが好ましい。このように、ポーラスアルミナ層の複数の位置について色パラメータを取得するときには、各測定位置と関連付けて色パラメータを記憶することが好ましい。大面積のポーラスアルミナ層の凹凸構造には一般にむらができる。典型的には、型のエッジに近いほど凹部が深くなる厚さtpが大きくなる。これは陽極酸化がエッジに近いほど進行し易くなるためである。このような予め求められたポーラスアルミナ層の表面の位置と第1パラメータとの関係に基づいて、第1パラメータの適否を判定してもよい。例えば、異なる2つの位置についての測定結果を比較し、それが上記の関係を満足していれば適切と判定し、満足していないときに不適と判定する。大面積のポーラスアルミナ層について多数の測定点がある場合、X、YまたはZの値の大きさの分布の全体的な傾向を数値化して、適否を判定してもよい。また、測定結果が、予め求められたポーラスアルミナ層の表面の位置と第1パラメータとの関係と整合しない場合、微細な凹部の形状凹部占有率が許容範囲から外れている可能性がある。この場合には、膜厚第1パラメータの適否を判定するための上記の方法と同様に、凹部の占有率第2パラメータの適否を判定すればよい。すなわち、ポーラスアルミナ層の複数の微細な凹部の占有率を示す第2パラメータと、ポーラスアルミナ層の反射光の色を表す色パラメータとの関係に基づいて、許容範囲の凹凸構造を有するポーラスアルミナ層の第2パラメータの許容範囲を示す第2色情報を用意する工程と、取得された色パラメータと第2色情報とに基づいて、検査対象の型の第2パラメータの良否を判定する工程とをさらに行う。第2色情報を用意する工程は、上述の方法と同様に、凹部占有率が許容範囲にある良品サンプルと、凹部占有率が許容範囲の下限を丁度下回った凹部占有率下限サンプルと、凹部占有率が許容範囲の上限を丁度上回った凹部占有率上限サンプルとを用意し、上述した方法で、それぞれのX、YおよびZを求める。ここで用いるサンプルはいずれも膜厚tpは許容範囲にあるものを用いる。凹部占有率とX、YおよびZのそれぞれとの間の相関関数を求める。相関関係は、上記同様に、近似式で表されえる。ここで例示したポーラスアルミナ層の凹凸構造は、凹部の形状凹部占有率よりも、凹部の深さ厚さtpが変動しやすいので、厚さtpを示す第1パラメータをまず判定し、凹部の形状を示す第2パラメータの判定をオプションとする検査方法を例示したが、これに限られず、逆にしてもよい。図9に、上述したように、分光反射率に基づいて表1に示したサンプルA~Gの膜厚tpを間接的に測定した結果を示す図9中に分光測定と記載。ここでは、サンプルA、B、FおよびGを基準サンプルとし、これらのサンプルのSEM像から求められた膜厚tpと、X、Yとの値から、二次多項式を求め、サンプルC、DおよびEについては、X、Yの値を上記二次多項式に代入することによって、膜厚tpを求めた結果を示している。また、図9には、それぞれ、SEM像から求めた膜厚およびエリプソメータを用いて求めた膜厚を併せて示している。エリプソメータとしてはJ.A.Woollanm社製の分光エリプソメトリM-200、回転補償子型を用いた。また、解析モデルとしては、ポーラス層のアルミナ部分と空隙部分との体積比を50:50とし、バリア層とアルミニウム層との境界領域は厚さが30nmの層とした。図9から明らかなように、分光法で求めたC、DおよびEの厚さは、SEM像から求めた厚さと非常に良く一致している。なお、これらが完全に一致しないのは、SEM像からは局所的な厚さしか求められないのに対し、分光法ではある程度の広さの領域内の平均値を示しているからである。一方、エリプソメータを用いて求めた膜厚にはばらつきが大きく、SEM像から求めた厚さより大きいものも小さいものも存在し、測定精度が悪い。このように、本発明による実施形態の検査方法を用いると、ポーラスアルミナ層の表面の微細な凹凸構造が所定の範囲内にあるか否かを非破壊で簡便に検査することができる。本発明による実施形態の検査方法を用いると、反射防止膜を製造するためのポーラスアルミナ層を備えるモスアイ用型を安定に量産することができる。例えば、以下のように反射防止膜を形成することができる。上述のようにして得られた型のポーラスアルミナ層の表面に離型処理を施す。一方、反射防止膜を形成する基材として、高分子フィルム例えばTACフィルムを用意し、高分子フィルム上に光硬化性樹脂典型的にはアクリル系紫外線硬化性樹脂を付与する。離型処理を施したポーラスアルミナ層の凹凸表面を真空中で光硬化性樹脂に押圧する。ポーラスアルミナ層の凹凸構造中に充填された光硬化性樹脂に紫外線を照射し、光硬化性樹脂を硬化する。高分子フィルムからモスアイ用型を分離することによって、モスアイ用型の凹凸構造が転写された光硬化性樹脂の硬化物層反射防止膜が高分子フィルムの表面に形成される。上述したように、円筒状のモスアイ用型を用いると、ロール状に巻かれた高分子フィルムの表面に、ロールトゥロール法を用いて、連続的に反射防止膜を形成することができる。このようにして得られる反射防止膜の反射率は、例えば、550nmにおいて0.2以下である。もちろん、可視光の全波長領域λ=380nm~780nmにおいて、反射率が0.2以下の反射防止膜を得ることもできる。"