"内輪と、外輪と、前記内輪及び前記外輪の間に転動自在に配された複数の転動体と、前記内輪及び前記外輪のいずれか一方の軌道輪に取り付けられ他方の軌道輪に滑り接触するシールと、前記内輪及び前記外輪の間に形成された空隙部内に配され前記シールによって密封された潤滑剤と、を備える密封型転がり軸受であって、前記シールは、前記他方の軌道輪に滑り接触する摺接面を有するリップ部を備えていて、前記摺接面には、プラズマ照射によりディンプルが形成されているとともに、前記摺接面を覆う炭素被膜が形成されていることを特徴とする密封型転がり軸受。前記ディンプルは矩形状凹部であることを特徴とする請求項1に記載の密封型転がり軸受。しかしながら、転がり軸受の使用条件は益々厳しくなってきていることから、シールの摩耗やトルクの増大を抑制する技術については、さらなる改良が望まれていた。そこで、本発明は、上記のような従来技術が有する問題点を解決し、シールの摩耗やトルクの増大が長期間にわたって生じにくい密封型転がり軸受を提供することを課題とする。前記課題を解決するため、本発明は次のような構成からなる。すなわち、本発明に係る密封型転がり軸受は、内輪と、外輪と、前記内輪及び前記外輪の間に転動自在に配された複数の転動体と、前記内輪及び前記外輪のいずれか一方の軌道輪に取り付けられ他方の軌道輪に滑り接触するシールと、前記内輪及び前記外輪の間に形成された空隙部内に配され前記シールによって密封された潤滑剤と、を備える密封型転がり軸受であって、前記シールは、前記他方の軌道輪に滑り接触する摺接面を有するリップ部を備えていて、前記摺接面には、プラズマ照射によりディンプルが形成されているとともに、前記摺接面を覆う炭素被膜が形成されていることを特徴とする。このような本発明に係る密封型転がり軸受においては、前記ディンプルは矩形状凹部であることが好ましい。本発明の密封型転がり軸受は、シールのリップ部の摺接面にディンプルが形成されているとともに、前記摺接面を覆う炭素被膜が形成されているので、シールの摩耗やトルクの増大が長期間にわたって生じにくい。本発明に係る密封型転がり軸受の実施の形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。図1は、本発明に係る密封型転がり軸受の一実施形態である深溝玉軸受の構造を示す部分縦断面図であり、図2は、図1に示す深溝玉軸受に取り付けられた接触形シールの構造を示す拡大図である。また、図3は、図2に示す接触形シールのリップ部の部分断面図である。図1の深溝玉軸受は、外周面に軌道面1aを有する内輪1と、内輪1の軌道面1aに対向する軌道面2aを内周面に有する外輪2と、両軌道面1a,2a間に転動自在に配された複数の転動体玉3と、内輪1及び外輪2の間に転動体3を保持する保持器4と、外輪2の内周面に取り付けられ内輪1の外周面に滑り接触するシール5,5と、を備えている。そして、内輪1,外輪2,及びシール5,5に囲まれた空隙部軸受内部空間内には、両軌道面1a,2a及び転動体3の転動面の潤滑を行う潤滑剤G例えば潤滑油やグリースが配されていて、シール5,5によって密封されている。なお、図1においては、シール5,5は、外輪2の内周面に取り付けられ内輪1の外周面に滑り接触しているが、これとは逆に、内輪1の外周面に取り付けられ外輪2の内周面に滑り接触していてもよい。また、保持器4は備えていなくてもよい。シール5,5は、芯金11及びシール部材12で構成され、外輪2の内周面に設けられた溝部に圧入又は接着によって固定されている。芯金11は、低炭素鋼板等の金属板をプレス加工等の加工手段を用いて打抜き加工し、さらに塑性加工することによって製造された、ドーナツ板状の曲折部材である。なお、ドーナツ板状の曲折部材の代わりに、中央に穴を有する環状部材を用いてもよい。また、シール部材12は、ニトリルゴム、アクリルゴム、フッ素ゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム等のゴム材料や合成樹脂ポリアミド46,ポリアミド66等のポリアミドが好ましいのような弾性を有する樹脂で構成されている。そして、芯金11をインサートとするインサート成形によって、シール部材12と芯金11とを金型内で一体的に成形して固着する。すなわち、金型内に芯金11と樹脂とを装填し、加硫成形等を行うことにより、芯金11とシール部材12とを一体的に成形して、シール5を製造する。シール部材12は弾性変形可能なリップ部12aを備えていて、このリップ部12aが、内輪1の外周面に滑り接触する摺接面12bを有している。そして、この摺接面12b及びその周辺部分には、ディンプルが形成されているとともに、前記摺接面12b及び周辺部分は炭素被膜13例えばダイヤモンドライクカーボン被膜で覆われている。このディンプルは、微細な矩形状凹部23である。その結果、矩形状凹部23の周りの摺接面12bは格子状凸部22をなすこととなる。図4を参照。ただし、前記ディンプルは、微細なピット状凹部24であってもよいし図5を参照、また、微細な線状凹部25であってもよい。線状凹部25の場合は、摺接面12bが線状凸部26をなすこととなり、線状凹部25と線状凸部26が交互に繰り返し縞状に形成されることとなる図6及び7を参照。前記空隙部内に配された潤滑剤Gが、リップ部12aの摺接面12bと内輪1の外周面との間に僅かににじみ出し、摺動する摺接面12bと内輪1の外周面とが潤滑されるが、リップ部12aの摺接面12bに形成されたディンプルの作用により、リップ部12aの摺接面12bに潤滑剤Gが保持され常に良好な潤滑状態が維持される。よって、長期間にわたってリップ部12aの摺接面12bの摩耗が抑制されるので、シール5の密封性が長期間にわたって維持される。また、リップ部12aの摺接面12bと内輪1の外周面との摩擦が抑制されるので、軸受のトルクの増大や、リップ部12aのスティックスリップによるシール音が抑制される。さらに、リップ部12aの摺接面12bにディンプルが形成されているので、摺接面12bと内輪1の外周面との接触面積が小さくなる。さらに、ディンプルのような微細な凹凸が形成されていると、摺接面12bの耐摩耗性が良好となる。さらに、摺接面12bが炭素被膜13で覆われているので、金属からなる相手面内輪1の外周面との凝着力が小さくなり、摺接面12bのディンプルが長期間にわたって維持される。なお、内輪1の外周面のうち摺接面12bと摺接する部分にも上記と同様のディンプルを形成しておけば、上記効果がさらに向上する。このようなディンプルは、成型後のシールにプラズマ照射し、リップ部12aの表面をエッチング効果によりわずかに削ることによって形成される。また、プラズマ照射する際にマスキングをして、格子状の周期的な規則性をもった形状になるようにディンプルを形成することもできる。マスクの材料としては、ステンレス鋼等の金属の他に、ポリエステルなどの樹脂材料やグラスファイバー等を用いることができる。プラズマ照射は真空中で行うことができるが、酸素が存在する大気中の方がより効率よく照射を行うことができる。プラズマを照射しディンプルを形成することにより、ディンプルが形成されている部分及びその近傍部分の極表面のみが高温となるため、ディンプルの形成と同時に、ディンプルが形成されている部分及びその近傍部分の硬さが高くなり、ディンプルの微小な変形が抑制される。よって、ヒステリシスロスが低減されるとともに、摺接面12bと相手面との接触面積の増加が抑制される。その結果、深溝玉軸受を低トルクとすることができる。また、ディンプルが形成されている部分及びその近傍部分のみの硬さが高くなっているので、高負荷時においてもディンプルの微小な変形が抑制され、摺接面12bと相手面との接触面積の増加が抑制される。さらに、プラズマ照射によれば、簡単,確実,且つ低コストで微細加工を施すことができる。ただし、前記ディンプルは、金型の表面に形成された凹凸を、シール5の製造時にリップ部12aに転写することによって形成することもできる。すなわち、金型表面のうちリップ部12aの摺接面12b及びその周辺部分を成形する部分に凹凸が形成された金型を用意し、この金型内に芯金11と樹脂とを装填して成形を行うと、芯金11とシール部材12とが一体的に成形される際に、成形時の圧力によって金型表面の凹凸が転写され、金型表面の凹凸に対応する形状のディンプルが、リップ部12aの摺接面12b及びその周辺部分に形成される。なお、金型を用いてシール5を製造する際には、前述のようにインサート成形によってシール部材12と芯金11とを金型内で一体的に成形する方法を採用してもよいが、リップ部12aの摺接面12bにディンプルが形成されたシール部材12のみを金型で製造し、別途製造した芯金11と金型外で固着する方法を採用してもよい。また、シール5を金型で成形する方法を採用すれば、リップ部12aの摺接面12bにディンプルが形成されたシール5を製造することができるので、シール5の製造を通常のシールと同様の製造工程で製造することができるとともに、低コストでシール5を製造することができる。さらに、上記のように、金型内でシール部材12を成形しつつリップ部12aの摺接面12bにディンプルを形成する方法を採用することもできるが、シール部材12を成形した後にディンプルのみをプラズマ照射で後加工する方法を用いれば、ディンプルが形成されている部分及びその近傍部分の硬さが高くなるので、プラズマ照射を用いる方が深溝玉軸受をより低トルクとすることができる。摺接面12bに形成されたディンプルの深さは、0.01μm以上0.2μm以下であることが好ましい。また、摺接面12bの中心線平均粗さRaは、0.01μm以上0.2μm以下であることが好ましい。摺接面12bに形成されたディンプルの深さが0.01μm未満であると、潤滑剤Gの保持性能が不十分となるおそれがある。一方、0.2μm超過であると、シール5による潤滑剤Gの密封性が不十分となるおそれがある。摺接面12bの中心線平均粗さRaについても同様であり、摺接面12bの中心線平均粗さRaが0.01μm未満であると、潤滑剤Gの保持性能が不十分となるおそれがあり、0.2μm超過であると、シール5による潤滑剤Gの密封性が不十分となるおそれがある。金型の表面の凹凸は、金型の表面に例えばレーザーを照射して微細加工を施すことにより形成することができる。微細加工に使用するレーザーとしては、パルス幅1ps以上5ps以下の短パルスレーザーが好ましい。例えば、レーザー波長700nm以上900nm以下、パルス幅1ps以上5ps以下、フルーエンス28J/cm2以下の照射条件で、短パルスレーザーを金型の表面に照射する。これにより、照射された部分がアブレーションされて、加工跡である凹部が形成される。この凹部は非熱的過程で形成されているので、アブレーションによる熱影響が小さく高精度である。なお、短パルスレーザーの照射によれば、通常の機械的な表面加工処理では困難な微細加工を施すことができる。例えば、形成位置をナノメートルオーダーで制御しつつ微小な凹部を形成することができる。また、短パルスレーザーとは、フェムト秒レーザーのようなパルス幅が非常に小さいレーザーの総称であり、このようなレーザーを用いれば、レーザー波長と略同じかそれよりも短いピッチで周期的に凹部を形成するなどの微細加工を施すことができる。以下に、リップ部12aの摺接面12b及びその周辺部分に形成するディンプルについて、図2の摺接面12bを拡大して示した拡大図である図4~7を参照しながら、さらに詳細に説明する。ディンプルは、微細な矩形状凹部23及びその周りに形成される格子状凸部22が凹凸を形成してなり、図4に示すように、複数の矩形状凹部23が所定の間隔を空けつつ摺接面12bに均一に配されている。また、矩形状凹部23の形状は、図4に示すような正方形状に限定されるものではなく、長方形状でもよい。矩形状凹部23及びその周りに形成される格子状凸部22が摺動方向に対して周期的な規則性をもって形成されていると、荷重を安定して受けることができる。このため、より一層、軸受のトルクを低減することができるとともに内輪1の外周面との表面接触の発生を抑制することができる。また、摺接面12bの弾性変形が抑制され、ヒステリシスロスが低減される。ただし矩形状凹部23及び格子状凸部22が摺動方向に対して角度を有する方向に延びて形成されている場合等、平行以外の角度であっても一定の効果が得られる。隣り合う矩形状凹部23はナノメートルオーダーの間隔を空けて平行に並んでおり、隣り合う2つの矩形状凹部23の間の距離の平均値格子状凸部22の幅は、10μm以上200μm以下であることが好ましい。この距離が小さすぎたり大きすぎたりすると、潤滑剤Gの保持が不十分となるおそれがある。また、この距離は、プラズマ照射の条件等により適宜調整することができる。また、図5に示すように、前記ディンプルは、円形状の微細なピット状凹部24であってもよい。図5においては、複数のピット状凹部24が所定の間隔を空けつつ摺接面12bに均一に配されている。なお、ピット状凹部24の形状は、図5に示すような円形状に限定されるものではなく、楕円形状でもよい。さらに、図6及び7に示すように、前記ディンプルは、微細な線状凹部25及び線状凸部26が交互に繰り返し縞状に形成されていてもよい。図6に示すように、ほぼ等間隔で並んでいる微細な線状凹部25及び線状凸部26が、リップ部12aの摺接面12bと内輪1の外周面との摺動方向に平行な方向に延びていてもよいし、図7に示すように、微細な線状凹部25及び線状凸部26が前記摺動方向に直交する方向に延びていてもよい。線状凹部25及び線状凸部26が摺動方向に対して平行な方向に延びていると、荷重を安定して受けることができ、且つ、摺動方向に対して強く潤滑剤を保持することができる。このため、より一層、軸受のトルクを低減することができるとともに内輪1の外周面との表面接触の発生を抑制することができる。また、摺接面12bの弾性変形が抑制され、ヒステリシスロスが低減される。ただし、線状凹部25及び線状凸部26が摺動方向に対して角度を有する方向に延びて形成されている場合等、平行以外の角度であっても一定の効果が得られる。なお、本実施形態は本発明の一例を示したものであって、本発明は本実施形態に限定されるものではない。例えば、本実施形態においては、密封型転がり軸受の例として深溝玉軸受をあげて説明したが、本発明は深溝玉軸受に限らず、他種の転がり軸受にも適用可能である。例えば、アンギュラ玉軸受,自動調心玉軸受,円筒ころ軸受,円すいころ軸受,針状ころ軸受,自動調心ころ軸受等のラジアル形の転がり軸受や、スラスト玉軸受,スラストころ軸受等のスラスト形の転がり軸受である。実施例以下に、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明する。図1の深溝玉軸受とほぼ同様の構成の深溝玉軸受内径17mm、外径40mm、幅12mmを用意して、グリース1.0gを封入した。そして、回転速度1500rpm、ラジアル荷重98N、アキシアル荷重196N、外輪温度180°Cという条件で10時間回転させ、回転時のトルクを測定した。実施例1は、マスキングせずプラズマ照射し、周期的な規則性をもたないディンプルを摺接面に形成し、且つ、摺接面に炭素被膜を形成したシールを用いたものである。また、実施例2は、格子状のマスクを用いてマスキングし、部分的にプラズマ照射し、周期的な規則性をもつディンプルを摺接面に形成し、且つ、摺接面に炭素被膜を形成したシールを用いたものである。一方、比較例1は、摺接面にディンプル及び炭素被膜が形成されていないシールを用いたものである。比較例2は、格子状のマスクを用いてマスキングし、部分的にプラズマ照射し、周期的な規則性をもつディンプルを摺接面に形成し、摺接面に炭素被膜を形成しないシールを用いたものである。さらに、比較例3は、ディンプルを形成せず摺接面に炭素被膜のみを形成したシールを用いたものである。また、参考例1は、金型内に芯金と樹脂とを装填してシールを成形する際に、金型の表面に形成された凹凸をリップ部の摺接面に転写することによってディンプルを形成し、且つ、摺接面に炭素被膜を形成したシールを用いたものである。実施例1,2及び比較例2のシールは、大気圧下の大気中において高周波電力周波数30kH,電圧400Vを印加することで発生させたプラズマを、シールの摺動面に15分間吹き付けることによりプラズマ照射を行った。また、格子状マスクは、メッシュ数1インチあたりの目の数が200、開口率メッシュ開口部の面積比率が約50の市販のステンレスメッシュを用いた。実施例1,2、比較例3及び参考例1のシールは、プラズマCVD法によりその表面に炭素被膜を形成した。詳述すると、シールの表面を拭き取りにより脱脂した後、プラズマCVD法により、炭素及び水素で構成される膜厚2μmの炭素被膜をリップ部の摺接面に形成した。なお、炭素被膜の形成方法はプラズマCVD法に限定されるものではなく、プラズマイオン注入法やスパッタリング法を採用することも可能である。各軸受のトルクの測定結果を表1に示す。なお、表1に示したトルクの数値は、比較例1の軸受のトルクを1とした場合の相対値で示してある。表1から分かるように、実施例1及び2は、ディンプル及び炭素被膜が形成されていない比較例1と比べて、低トルクであった。特に、実施例2は、より低トルクであった。これは、プラズマ照射によりディンプルを形成したことにより、ディンプルが形成されている部分及びその近傍部分の硬さが高くなり、微小な変形が生じにくくなっているためと考えられる。"