"透明電極を有する第1の基板と、前記第1の基板に対向し、画素電極を有する第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙を平面的に複数のセルに区画する隔壁と、前記複数のセルに充填され、電気泳動粒子を含む分散媒と、前記第1の基板と前記隔壁との間に設けられた金属膜と、を備えていることを特徴とする電気泳動表示装置。前記金属膜は、平面的に前記隔壁と重なる部分に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の電気泳動表示装置。前記金属膜は、平面的に前記隔壁から前記セルの内側にはみ出して設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の電気泳動表示装置。前記金属膜と前記透明電極とは、電気的に接続されていることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。前記第1の基板上に前記透明電極と、前記金属膜と、前記隔壁とが、この順に設けられていることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。前記第1の基板と前記金属膜との間に、反射防止膜が設けられていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。前記金属膜は、前記複数のセルを含む表示領域の外側にも設けられていることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。請求項1~7のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。透明電極を有する第1の基板と、前記第1の基板に対向し画素電極を有する第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙を平面的に複数のセルに区画する隔壁と、前記セルに充填され電気泳動粒子を含む分散媒と、前記第1の基板と前記隔壁との間に設けられた金属膜と、を有する電気泳動表示装置の製造方法であって、前記透明電極および前記金属膜を前記第1の基板上に形成する工程と、前記透明電極および前記金属膜をレジスト膜で被覆する工程と、前記第1の基板側から光を照射し、前記金属膜をマスクにしたフォトリソ加工によって、前記第1の基板上に前記隔壁を形成する工程と、を含むことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。透明電極を有する第1の基板と、前記第1の基板に対向し画素電極を有する第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙を平面的に複数のセルに区画する隔壁と、前記セルに充填され電気泳動粒子を含む分散媒と、前記第1の基板と前記隔壁との間に設けられた金属膜と、を有する電気泳動表示装置の製造方法であって、前記第2の基板上に前記隔壁を形成する工程と、前記隔壁上に前記金属膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。透明電極を有する第1の基板と、前記第1の基板に対向し画素電極を有する第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙を平面的に複数のセルに区画する隔壁と、前記セルに充填され電気泳動粒子を含む分散媒と、前記第1の基板と前記隔壁との間に設けられた金属膜と、を有する電気泳動表示装置の製造方法であって、前記第1の基板に対向する第2の基板側の面に樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層を加工し、前記隔壁で区画された前記セルを形成する工程と、前記隔壁を含む前記セルを金属で覆い、前記隔壁の頂上に前記金属膜、および前記セルの底部に前記画素電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。透光性の基板と、前記基板上に形成された透明電極と、前記透明電極上の領域を、平面的に複数のセルに区画する隔壁と、前記複数のセルに充填され、電気泳動粒子を含む分散媒と、前記複数のセルの開口部を覆い、前記分散媒を前記複数のセルに封じ込める封止膜と、前記基板と前記隔壁との間に設けられた金属膜と、を備えることを特徴とする電気泳動表示シート。しかしながら、特許文献1に記載の電気泳動表示装置では、透明電極はITOIndiumTinOxideなどで構成されている。ITOは総じて比抵抗が高く、表示に必要な導電性を確保するためには厚く形成する必要があるという課題があった。さらに、ITOは、光に対して完全に透明ではないために、これにより表示品質が低下してしまうという課題があった。また、ITOは総じて可撓性に劣り、色々な形状に屈曲させた場合にマイクロクラックが発生してしまう等の影響により、抵抗が高くなり、導電性が劣化するために、長期信頼性に乏しいという課題もあった。本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。[適用例1]本適用例に係る電気泳動表示装置は、透明電極を有する第1の基板と、第1の基板に対向し、画素電極を有する第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間隙を平面的に複数のセルに区画する隔壁と、複数のセルに充填され、電気泳動粒子を含む分散媒と、第1の基板と隔壁との間に設けられた金属膜と、を備えていることを特徴とする。本適用例によれば、比抵抗が小さく、柔軟な金属膜を透明電極であるITOに付加し、金属膜を介しても透明電極に信号が供給される。よって、従来のITO膜よりも膜厚を薄くすることができるため、透明電極の透過率が向上し、表示品質を向上させることができる。また、色々な形状に屈曲させるなどで機械的ストレスを与えても、柔軟な金属膜によって、マイクロクラック、剥れなどによる透明電極の導電性劣化が進行しにくくなる。さらに、ITO膜を薄くすることによっても、透明電極の可撓性を向上することができる。よって、長期信頼性を高めることができる。従って、より表示品質と長期信頼性に優れた電気泳動表示装置を提供することができる。[適用例2]上記適用例に記載の電気泳動表示装置は、金属膜が平面的に隔壁と重なる部分に設けられていることが好ましい。本適用例によれば、平面的に隔壁と重なる部分は、電気泳動粒子が存在しない非表示領域であり、当該領域に金属膜を形成しても表示に悪影響がなく、金属膜の優れた特徴を透明電極に付与することが可能になるという効果を得ることができる。[適用例3]上記適用例に記載の電気泳動表示装置は、金属膜が平面的に隔壁からセルの内側にはみ出して設けられていることが好ましい。本適用例によれば、隔壁からセルの内側にはみ出した金属膜領域では、第1の基板側の電極が、第2の基板側の電極画素電極に近接し、両電極間の電界が強くなるので、当該領域が電気泳動のトリガーとなり、セル内の電気泳動が促進されるという効果を得ることができる。[適用例4]上記適用例に記載の電気泳動表示装置は、金属膜と透明電極とが、電気的に接続されていることが好ましい。本適用例によれば、比抵抗が小さく、柔軟な金属膜を、透明電極に電気的に接続させることで、透明電極の抵抗を下げ、透明電極の可撓性を向上させるという効果を得ることができる。[適用例5]上記適用例に記載の電気泳動表示装置は、第1の基板の上に透明電極と、金属膜と、隔壁とが、この順に設けられていることが好ましい。本適用例によれば、透明電極と隔壁との間に密着性が良い金属膜を介在させることで、色々な形状に屈曲させるなどで機械的ストレスを与えても、透明電極及び隔壁が剥れにくくなるという効果を得ることができる。[適用例6]上記適用例に記載の電気泳動表示装置は、第1の基板と金属膜との間に、反射防止膜が設けられていることが好ましい。本適用例によれば、表示面である第1の基板側から入射する外部光の金属膜による金属反射が、反射防止膜によって抑制されるので、当該反射光による表示のぎらつきを軽減することができるという効果を得ることができる。[適用例7]上記適用例に記載の電気泳動表示装置は、金属膜が複数のセルを含む表示領域の外側にも設けられていることが好ましい。本適用例によれば、表示領域の外側にも比抵抗が小さく、柔軟な金属膜を設け、表示領域の外側を低抵抗化し、可撓性を向上することによって、透明電極に供給される信号の劣化を軽減することができる。さらに、表示領域の外側に設けている、当該信号を供給するための第2の基板と第1の基板との電気的接続箇所を減らすことができるという効果を得ることができる。[適用例8]本適用例の電子機器は、上記適用例に記載の電気泳動表示装置を備えていることを特徴とする。本適用例によれば、上記適用例に記載の電気泳動表示装置を備えているので、高信頼性で高品位な表示を有する、例えば、腕時計、電子ペーパー、電子ノート、電子書籍、携帯電話、携帯用オーディオ機器などの各種電子機器を実現することができる。[適用例9]本適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法は、透明電極を有する第1の基板と、第1の基板に対向し、画素電極を有する第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間隙を平面的に複数のセルに区画する隔壁と、セルに充填され電気泳動粒子を含む分散媒と、第1の基板と隔壁との間に設けられた金属膜とを有する電気泳動表示装置の製造方法であって、透明電極と金属膜とを第1の基板上に形成する工程と、透明電極および金属膜をレジスト膜で被覆する工程と、第1の基板側から光を照射し、金属膜をマスクにしたフォトリソ加工によって、第1の基板上に隔壁を形成する工程とを備えていることを特徴とする。本適用例によれば、金属膜をマスクとした自己整合プロセスで隔壁を形成するので、金属膜上に高精度に位置合わせされた隔壁を、容易に形成することができる。従って、低コストで、より表示品質と長期信頼性に優れた電気泳動表示装置を提供することができる。[適用例10]本適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法は、透明電極を有する第1の基板と、第1の基板に対向し画素電極を有する第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間隙を平面的に複数のセルに区画する隔壁と、セルに充填され電気泳動粒子を含む分散媒と、第1の基板と隔壁との間に設けられた金属膜とを有する電気泳動表示装置の製造方法であって、第2の基板上に隔壁を形成する工程と、隔壁上に金属膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。本適用例によれば、第2の基板に形成されている画素電極の周囲に、比抵抗が小さく、柔軟な金属膜を形成し、第1の基板側の透明電極と電気的に接触させることによって、透明電極の抵抗を下げ、透明電極の可撓性を向上させるという効果を得ることができる。従って、より表示品質と長期信頼性に優れた電気泳動表示装置を提供することができる。[適用例11]本適用例に係る電気泳動表示装置の製造方法は、透明電極を有する第1の基板と、第1の基板に対向し画素電極を有する第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間隙を平面的に複数のセルに区画する隔壁と、セルに充填され電気泳動粒子を含む分散媒と、第1の基板と隔壁との間に設けられた金属膜とを有する電気泳動表示装置の製造方法であって、第1の基板に対向する第2の基板側の面に樹脂層を形成する工程と、樹脂層を加工し、隔壁で区画されたセルを形成する工程と、隔壁を含むセルを金属で覆い、隔壁の頂上に金属膜、およびセルの底部に前記画素電極を形成する工程とを含むことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。本適用例によれば、第2の基板側の隔壁頂上に比抵抗が小さく、柔軟な金属膜を形成し、第1の基板側の透明電極と金属膜とを接触させることによって、透明電極の抵抗を下げ、透明電極の可撓性を向上させることができる。さらに、金属膜によって第2の基板側のセルの底部に画素電極を形成し、画素電極と電気泳動粒子を含む分散媒とを直接接触させることによって、画素電極から電圧ロス無く、電気泳動粒子を泳動させる電圧を印加することができる。従って、より表示品質と長期信頼性に優れた電気泳動表示装置を提供することができる。[適用例12]本適用例に係る電気泳動表示シートは、透光性の基板と、基板上に形成された透明電極と、透明電極上の領域を平面的に複数のセルに区画する隔壁と、複数のセルに充填され、電気泳動粒子を含む分散媒と、複数のセルの開口部を覆い、分散媒を複数のセルに封じ込める封止膜と、基板と隔壁との間に設けられた金属膜と、を備えることを特徴とする。本適用例の電気泳動表示シートは、比抵抗が小さく、柔軟な金属膜によって、透明電極が低抵抗化され、透明電極の可撓性が向上しているので、当該電気泳動表示シートを使用して電気泳動表示装置を作成することによって、より表示品質と長期信頼性に優れた電気泳動表示装置を提供することができる。以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部位を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部位の尺度を実際とは異ならせしめてある。実施形態1表示装置の概要図1は、本実施形態に係る電気泳動表示装置200の一態様を示す斜視図である。まず、本発明の実施形態1に係る電気泳動表示装置200の概要について説明する。電気泳動表示装置200は、表示パネル100と、当該パネルの一端に接続されたフレキシブル基板110などから構成されている。表示パネル100は、共通電極層21が形成された第1の基板としての対向基板2と、複数のアクティブ画素が形成された第2の基板としての素子基板1との間に電気泳動層31を挟持した構成となっている。素子基板1と対向基板2とは、電気泳動層31に電界を印加する一対の電極基板である。素子基板1は、複数の走査線3、複数の信号線4、及び走査線3と信号線4との交点に形成された画素10などを備えている。画素10は、薄膜トランジスター70以下、TFTと略す、保持容量80、画素電極12などを含み、素子基板1上でマトリックス状に配置され、表示領域Vを構成する。対向基板2は、共通電極層21などを備えている。電気泳動層31には、帯電した電気泳動粒子33、34を分散させた分散媒32が充填されている。フレキシブル基板110には、表示パネル100を駆動制御するための走査線駆動回路、信号線駆動回路、及びコントローラーなどの回路素子がICIntegratedCircuit120として実装されている。走査線駆動回路は、TFT70のオン、オフを制御する走査信号を、素子基板1に供給する回路である。信号線駆動回路は、電気泳動層31の泳動状態を制御する画像信号を、素子基板1に供給する回路である。コントローラーは、走査線駆動回路と信号線駆動回路とを制御する信号、及び共通電極層21の電位以下共通電位Vcomと称すを供給する回路である。また、図1に示すように、フレキシブル基板110の一端は、表示パネル100において素子基板1の一辺が対向基板2から張り出した領域に接続されている。対向基板2と素子基板1とは周縁部額縁部で電気的に接続しており、共通電位Vcomが、フレキシブル基板110から素子基板1を介して対向基板2に供給されている。なお、フレキシブル基板110を備えた構成に限定するものではなく、素子基板1の周縁部に走査線駆動回路、信号線駆動回路などの回路素子が形成された構成であっても良い。表示パネルの詳細な構成図2は、図1のf-f線における断面図であり、表示領域Vの断面構造を模式的に示している。以下、本実施形態に係る表示パネル100の詳細な構成について説明する。表示パネル100は、素子基板1、素子層11、電気泳動層31、封止膜51、共通電極層21、対向基板2などから構成されている。素子基板1は、ガラス、樹脂、または金属などから構成され、好適例として無アルカリガラス基板を用いている。素子基板1は、透明性が要求されないために、シリコン基板を用いても良い。素子基板1には、素子層11が形成されている。なお、説明の都合上、素子層11が形成された状態の素子基板1のことも、素子基板1と表現する場合がある。素子層11は、TFT70図1、保持容量80図1、画素電極12などから構成され、画素10をアクティブ駆動する。電気泳動層31は、隔壁41で平面的に区画されたセル40、電気泳動粒子33、34を分散させた分散媒32、封止膜51などから構成されている。分散媒32は、電気泳動粒子33、34を分散させる溶媒であり、正帯電した黒色の電気泳動粒子33と負帯電した白色の電気泳動粒子34とが、分散されている。隔壁41は、分散媒32に不溶な樹脂からなり、表示領域Vにおける素子基板1と対向基板2との間隙を、複数のセル40に区画する。隔壁41で区画されたセル40には、電気泳動粒子33、34を分散させた分散媒32が充填されている。封止膜51は、分散媒32に不溶な樹脂からなり、セル40の開口部の頂上を覆うように形成され、分散媒32をセル40内に密封する。共通電極層21は、透明電極22、金属膜23などから構成されている。共通電極層21と画素電極12との間で、電気泳動粒子33、34を泳動させる電界電位差を発生させる。透明電極22は、好適例としてITOが使用され、対向基板2の略全面に形成されている。金属膜23は、透明電極22と隔壁41との間であって、電気泳動粒子33、34が存在しない非表示領域に形成され、平面的に隔壁41と略同じ形状となっている。金属膜23は、透明電極22よりも比抵抗が小さく、柔軟な金属であれば良く、好適例としてCuを用いている。対向基板2は、ガラス、樹脂などの透明な絶縁基板から構成され、電気泳動表示装置200の表示面となる。対向基板2には、好適例として樹脂基板を用いており、前述の共通電極層21が形成されている。なお、説明の都合上、共通電極層21が形成された状態の対向基板2のことも、対向基板2と表現する場合がある。図3は、共通電極層21の平面図である。金属膜23は、表示領域Vと表示領域Vの外側とに形成されている。表示領域Vにおいては、金属膜23が格子形状に形成されている。表示領域Vの外側においては、金属膜23が略全面に形成されている。対向基板2の周縁部額縁部の一辺には、共通電位Vcomを供給するための素子基板1との電気的接続箇所25が、2箇所形成されている。なお、金属膜23が形成されていない従来条件では、対向基板2の周縁部が低抵抗化されていないために、素子基板1との電気的接続箇所25は、対向基板2の周縁部の4隅に形成されていた。表示パネルの駆動方法図1に戻って、表示パネル100の駆動方法を説明する。表示領域Vの画素10は、TFT70、保持容量80、画素電極12、電気泳動層31、共通電極層21などで構成されている。TFT70を介して保持容量80に蓄積された電荷によって、画素電極12と共通電極層21との間に電界電位差が発生する。当該電界によって電気泳動層31中の電気泳動粒子が所望の位置に泳動し、偏在することで、画素10は所望の色に表示される。最初に、IC120の走査線駆動回路から、TFT70をオンする走査信号が素子基板1に供給される。当該走査信号に同期して、IC120の信号線駆動回路から、電気泳動状態を制御する画像信号がTFT70を介して画素電極12と保持容量80とに供給され、当該画像信号に基づく電荷が保持容量80に蓄積される。TFT70がオフした後も、保持容量80に蓄積された電荷は保持され、画素電極12と共通電極層21との間に所望の電圧が印加される。例えば、保持容量80に蓄積された電荷によって、画素電極12に正の電圧と共通電極層21に負の電圧とが印加されると、両電極間に生じた電位差により、正帯電した黒色の電気泳動粒子33が共通電極層21に向かって泳動し、負帯電の白色の電気泳動粒子34は画素電極12に向かって泳動する。その結果、共通電極層21の近傍には黒色の電気泳動粒子33が偏在し、画素電極12の近傍には白色の電気泳動粒子34が偏在する。対向基板2が表示面となるので、当該画素10は黒色となる。逆極性の電圧が、共通電極層21と画素電極12との間に印加されると、共通電極層21の近傍には白色の電気泳動粒子34が偏在し、当該画素10は白色となる。共通電極層21に印加される共通電位Vcomは一定でなく、共通電位Vcomを変化させる、いわゆるVcom振り駆動を採用している。共通電位Vcomを変化させることで、駆動電圧を低くすることができるので、消費電力とTFT70への電気的ストレスとが低減する。表示装置の製造方法図4及び図5は、本実施形態に係る電気泳動表示装置200の表示パネル100の製造方法に関する、主要な工程の模式断面図である。以下、本実施形態に係る表示パネル100の製造方法を、図4と図5とを参照しながら詳細に説明する。図4aに示すように、対向基板2として透明な絶縁基板を準備する。対向基板2には、好適例として樹脂基板を用いている。樹脂基板は、軽量で可撓性に優れ、電子ペーパーのような可撓性が要求される表示体材料として有用である。この例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体EVA等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ-4-メチルベンテン-1、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル-スチレン共重合体AS樹脂、ブタジエン-スチレン共重合体、ポリオ共重合体EVOH、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、プリシクロヘキサンテレフタレートPCT等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオキシド、変形ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル液晶ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコン樹脂、ポリウレタンなど、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイなどが挙げられ、これらのうち1種、または2種以上を積層した積層体を用いることができる。なお、対向基板2は樹脂基板に限定するのもではなく、透光性を有していればガラス基板や石英基板であっても良い。図4bに示す工程では、対向基板2に共通電極層21としての透明電極22を形成する。透明電極22としては、ITOが好適である。このような透明電極22としては、例えば、金属及び金属酸化物、金属硫化物、導電性炭化物、導電性高分子導電性ポリマー、並びにそれらの組み合わせまたは合金などからなる材料が挙げられる。金属及び金属酸化物及び金属硫化物の例としては、リチウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、アンチモン、錫、銀、金、銅、ニッケル、パラジウム、白金、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、及びこれらの酸化物、複合酸化物、並びにそれらの組み合わせまたは合金などが挙げられ、インジウム-錫酸化物ITO、酸化亜鉛ZnO、銀などが透明電極22として好ましい。導電性炭化物の例としては、シングルウォールカーボンナノチューブSWCNT、ダブルウォールカーボンナノチューブDWCNT、あるいはマルチウォールカーボンナノチューブMWCNT、カーボンナノシートグラフェンシートなどが挙げられる。導電性高分子の例としては、ポリエチレン-3,4-ジオキシチオフェン:PEDOT、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体などが挙げられる。これらの透明電極22の製造方法としては真空蒸着法、スパッタリング法や電解メッキ法、無電解メッキ法、または必要に応じ適切なバインダーに上述した電極材料を溶解あるいは分散させたインキを塗布する方法などの公知の方法が用いられる。対向基板2が表示面となるので、透明電極22はできるだけ薄いほうが好ましく、10nm以上200nm以下の膜厚であることが好ましい。図4cに示す工程では、透明電極22上に金属膜23を、平面的に隔壁41と重なる部分に形成する平面形状は、図3参照。金属膜23は、透明電極22と電気的に接続している。共通電極層21を低抵抗化し、共通電極層21の可撓性を向上させるために、金属膜23は、透明電極22よりも比抵抗が小さく、柔軟な金属材料が適している。金属膜23としては、Cuが好適である。または、Al、Cr、Ta、Mo、Nb、Zn、Ag、Au、Pt、Pd、In、Ni、Ndなどの金属、及び、Cu、Alを含む各種金属を用いた合金などを用いても良い。金属膜23の他に、InO2、SnO2、ITOなどの導電性の酸化物、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアセチレンなどの導電性高分子及びそれに塩酸、硫酸、スルホン酸等の酸、PF6、AsF5、FeCl3などのルイス酸、ヨウ素等のハロゲン原子、ナトリウムカリウムなどの金属原子などのドーパントを添加したもの、カーボンブラックや金属粒子を分散した導電性の複合材料などの、導電性を有する材料などを用いても良い。更に、上述した導電材料を積層した複合膜であっても良い。複合膜にすることによって、より優れた性能を付与することが可能になる。この金属膜23のパターニング方法としては、例えば通常のフォトエッチングを用いることができる。もしくは、所定の形状に穴のあいたメタルスルーマスクを通して基板上に金属膜23の蒸着処理を行う事により、エッチングを行う事なく、金属膜23のパターンを形成することも可能である。または、金属微粒子およびグラファイトのような導電性粒子を含むポリマー混合物を電極層材料に用いても良い。このような溶液から電極を形成する場合は、インクジェット法のような溶液パターニングを行う事により、より簡易に低コストで電極形成を行う事が可能である。なお、本実施形態では対向基板2に透明電極22を形成した後に金属膜23を形成しているが、対向基板2に金属膜23を形成した後に透明電極22を形成しても良い。金属膜23は単層膜であっても、複数の金属で構成される多層膜であってもよく、透明電極22を金属膜23で挟持する構成としてもよい。図4dに示す工程では、共通電極層21の上に、分散媒32に不溶な樹脂からなる隔壁41を形成する。隔壁41により、表示領域Vの共通電極層21を複数のセル40に区画する。この隔壁41の形成方法としては金型転写法、スクリーン印刷法、フォトリソ法、アディティブ法、マイクロエンボス加工法などを用いることができる。隔壁41を構成する樹脂としては特に限定されないが、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリ尿素-ポリウレタン、尿素-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン-ホルムアルデヒド樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリスルホンアミド、ポリカーボネート、ポリスルフィネート、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ゼラチンなどの樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ノボラック樹脂、ポリスチレンなどをベースとした樹脂材料が挙げられる。また、隔壁41を形成した領域は電気泳動粒子33、34が存在しない非表示領域となるので、隔壁41の幅は強度を維持できる範囲でなるべく小さいことが好ましく、具体的には5μm以上、50μm以下であることが好ましい。隔壁41の高さは20μm以上、200μm以下であることが好ましい。図5eに示す工程では、隔壁41で区画されたセル40に、正帯電した黒色の電気泳動粒子33と負帯電した白色の電気泳動粒子34とが分散された分散媒32を充填する。分散媒32としては、水や、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール、メチルセルソルブなどのアルコール系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの各種エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、ペンタン、ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエンや、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘブチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デキシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼンなどの長鎖アルキル基を有するベンゼン類などの芳香族炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1、2-ジクロロエタンなどのハロゲン化水素、カルボン酸塩やその他の油脂を単独で、又は混合して用いることができる。電気泳動粒子33、34は、その帯電極性、帯電量に従って共通電極層21および画素電極12間に形成される電界によって移動する性質をもった粒子である。電気泳動粒子33、34は有機、または無機、またはこれらの混合した材料より形成される粒子であり、各種の顔料、染料のいずれをも用いることができる。黒色の電気泳動粒子33としては、カーボンブラック、酸化銅、二酸化マンガン、アニリンブラックなどの黒色顔料からなる粒子であり、正に帯電されている。白色の電気泳動粒子34としては、亜鉛華、酸化チタン、アンチモン白、硫化亜鉛などの白色顔料からなる粒子であり、負に帯電されている。電気泳動粒子の表面電荷量の制御並びに分散性の向上のため、界面活性剤、保護コロイド剤等をさらに添加してもよい。このような界面活性剤としては、分散媒32に可溶であれば、特に限定されないが、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられ、二種以上併用してもよい。なお、電気泳動粒子33、34を黒、白に限定するものではなく、赤、青、黄などの他の色調であっても良い。電気泳動粒子の種類も2種類に限定するものではなく、1種類でも、3種類でも良い。図5fに示す工程では、複数のセル40の開口部の頂上を覆うように、分散媒32に不溶な樹脂で封止膜51を形成する。これによって、電気泳動粒子33、34が分散された分散媒32をセル40内に密封する。封止膜51は、スリットコーターなどの塗布装置を用いて、分散媒32に不溶な樹脂を塗布することにより、形成される。このとき、分散媒32との表面張力を小さくするため、分散媒32に不溶な樹脂に界面活性剤を添加してもよい。封止膜51を形成する樹脂としては、特に限定されないが、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリ尿素-ポリウレタン、尿素-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン-ホルムアルデヒド樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリスルホンアミド、ポリカーボネート、ポリスルフィネート、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ゼラチンなどが挙げられる。図5gに示す工程では、封止膜51までが形成された対向基板2に、別工程で準備された素子基板1を貼り合せる。素子基板1は、対向基板2の進捗にあわせて別工程で製造され、無アルカリガラスに、既知の技術によってTFT70図1、保持容量80図1、及び画素電極12などが形成された素子層11を備えている。これによって、表示パネル100が完成する。以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置200によれば、以下の効果を得ることができる。低抵抗の金属膜23を、電気泳動粒子33、34が存在しない非表示領域の透明電極22上に形成することで、表示に悪影響することなく、透明電極22を薄くすることができる。透明電極22が薄くなると、透明電極22の透明性がよくなるので、画素10の表示色がより明瞭となる。さらに、透明電極22が薄くなると、透明電極22の可撓性が向上し、屈曲などの機械的ストレスが加わっても導電性が劣化しにくくなる。従って、優れた表示品質と長期信頼性の電気泳動表示装置200を提供することができる。柔軟で、展延性の高い金属膜23を共通電極層21に形成することで、共通電極層21の可撓性を向上させることができる。共通電極層21の可撓性が向上すると、折り曲げなどの機械的ストレスが加わっても、クラック、剥離などが発生しにくくなり、共通電極層21の導電性の劣化が抑制される。従って、優れた長期信頼性の電気泳動表示装置200を提供することができる。透明電極22よりも金属膜23のほうが、表面自由エネルギーが大きく、隔壁41との濡れ性、親和性が良くなり、密着性が向上する。この為に、透明電極22と隔壁41との間に金属膜23を介在させることで、対向基板2と隔壁41との密着性が向上し、機械的ストレスに対する耐性が向上する。従って、優れた長期信頼性の電気泳動表示装置200を提供することができる。表示領域Vの外側にも金属膜23を設け、表示領域Vの周縁部を低抵抗化することで、周縁部において共通電位Vcom信号を劣化させることなく、表示領域Vに供給することができる。更に、共通電位Vcomを供給するために周縁部に設けている、素子基板1と対向基板2との電気的接続箇所25を削減することもできる。従って、周縁部の実装工程を簡素化しながら、表示品質を高めることができる。Vcom振り駆動での共通電位Vcom変化点において、共通電位Vcomの信号波形になまりが生じる。Vcom信号波形のなまりは、共通電極層21の抵抗と容量に依存し、例えば、表示領域Vが大型化、高精細化するほど大きくなる。Vcom信号波形のなまりが大きくなると、共通電極層21と画素電極12との間で所望の電圧が印加されず、電気泳動粒子33、34が所望の位置に泳動されないという不具合が発生する。金属膜23によって共通電極層21を低抵抗化することで、共通電位Vcomの信号波形のなまりが小さくなるので、上述した電気泳動粒子33、34が所望の位置に泳動されないという不具合を抑制できる。従って、電気泳動表示装置200を大型化、高精細化する場合においても、優れた表示品質を提供することができる。実施形態2図6は、本実施形態に係る電気泳動表示装置の表示パネルの製造方法に関する、主要な工程毎の模式断面図である。本実施形態では、実施形態1における図4a~図4cまでの工程は同じであり、図6ではその部分の工程を省略している。換言すれば、図6には、対向基板2に金属膜23を形成した以降の工程を示している。本実施形態の製法は、隔壁41の形成方法が実施形態1と異なっている。詳しくは、金属膜23をマスクとして用いることにより、隔壁41を形成する。以下、本実施形態の詳細について、図6を参照しながら説明する。なお、実施形態1と同一の構成部位については、同一の番号を使用し、重複する説明は省略する。図6aに示す工程では、対向基板2に形成した透明電極22と金属膜23とを、ポジ型レジスト61で被覆し、図6aの矢印側、即ち対向基板2側からポジ型レジスト61を感光する光を照射する。対向基板2側から照射された光によって、透明電極22上のポジ型レジスト61が、選択的に感光される。ポジ型レジスト61を被覆する際に、必要に応じてポジ型レジスト61の密着性を向上させるための前処理を行っても良い。このような処理の例としては、ヘキサメチルジシラザン、シクロヘキセン、オクタデシルトリクロロシラン等の表面改質剤を用いる表面処理、アセトンやイソプロピルアルコールなどを用いる有機洗浄処理、塩酸や硫酸、酢酸などを用いる酸処理、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、アンモニアなどを用いるアルカリ処理、UVオゾン処理、フッ素化処理、酸素やアルゴンなどのプラズマ処理、ラングミュアブロジェット膜の形成処理などが挙げられ、これらのうち1種、または2種以上の処理を用いることができる。ポジ型レジスト61としては、一般的な感光性材料を用いることが可能であるが、例えば、ポリアクリレート、ポリビニル化合物、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ化合物、ポリアミド、ポリイミド、ノボラック系樹脂、フルオレン系樹脂などのバインダー樹脂、多官能アクリレート、多官能メタクリレートなどのラジカル重合性化合物、光重合開始剤などからなる樹脂組成物及びこれらの混合物を用いることができる。図6bに示す工程では、ポジ型レジスト61を現像し、透明電極22上のポジ型レジスト61を除去し、金属膜23上にポジ型レジスト61を残存させる。次に、ポジ型レジスト61を、光、熱などで硬化し、金属膜23上に隔壁41を形成する。隔壁41によって、表示領域Vは複数のセル40に区画される。なお、上記では透明電極22と金属膜23とを順次形成した対向基板2を用いたが、金属膜23と透明電極22とを順次形成した対向基板2であっても、対向基板2側から入射する光による同様のフォトリソプロセスで隔壁41を形成することができる。対向基板2側から照射された光は、回折により金属膜23の内側に回り込むので、照射時間が長くなると、金属膜23の端面より内側のポジ型レジスト61が露光される。即ち、照射時間を長くすることで、隔壁41からセル40の内側に金属膜23がはみ出した領域以下、領域Wと称すを作成することができる。また、領域Wの面積はポジ型レジスト61に照射される光エネルギーに依存し、光エネルギーが大きくなるほど領域Wが広くなる。図6cに示す工程では、隔壁41で区画された各セル40に、電気泳動粒子33、34を分散させた分散媒32を充填し、電気泳動層31を形成する。ここで、透明電極22上のポジ型レジスト61は除去されているので、透明電極22は電気泳動層31と直接接触している。図6d~eに示す工程では、複数のセル40の開口部の頂上を封止膜51で覆い、素子基板1を貼り合せ、表示パネルが完成する。以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法によれば、実施形態1での効果に加えて、以下の効果を得ることができる。通常のフォトリソ法で隔壁41を形成する場合と比較して、金属膜23をマスクとして用いるためにフォトマスクが不要となり、フォトプロセスが簡素化される。更に、金属膜23をマスクとした自己整合プロセスなのでアライメント誤差が発生しない。従って、通常のフォトリソ法と比べて、高精度に位置合わせされた隔膜41を、低コストで、容易に形成することができる。透明電極22と電気泳動層31とは直接接触しているので、電気的に透明電極22から、電圧ロス無く、電気泳動層31を泳動させる電圧を印加することができる。従って、透明電極22からの実効電圧不足によって、電気泳動粒子33、34が所望の位置に泳動されないという不具合が抑制されるので、優れた表示品質の電気泳動表示装置を提供することができる。対向基板2側から照射する光の照射時間を長くすることによって、金属膜23が平面的に隔壁41からセル40の内側にはみ出した領域を、容易に作成することができる。当該領域においては、金属膜23によって、共通電極層21が対向する画素電極12に近接しているので、他領域よりも共通電極層21と画素電極12との間の電界が強くなる。よって、当該領域においては、電気泳動粒子33、34を泳動させる電界が強くなり、ここから電気泳動が進行する。当該領域の電気泳動がトリガーとなり、他領域の電気泳動が促進される。よって、金属膜23を隔壁41からセル40内にはみ出させ、セル40内の電界を部分的に強くすることで、セル40内に均一に電界が形成されている場合よりもセル40内の電気泳動がより早く進行する。従って、より表示速度の早い電気泳動表示装置を提供することができる。実施形態3図7及び図8は、本実施形態に係る電気泳動表示装置の表示パネルの製造方法に関する、主要な工程の模式断面図である。本実施形態の製法では、素子基板1側に隔壁41と金属膜23とを形成することが、実施形態1と異なる。以下、本実施形態の詳細について、図7と図8とを参照しながら説明する。なお、実施形態1と同一の構成部位については、同一の番号を使用し、重複する説明は省略する。図7a~bに示す工程では、既知の技術により形成した素子層11を有する素子基板1上に、隔壁41を形成する。隔壁41の形成方法としては、微細加工が容易なフォトリソ法が好適である。図7cに示す工程では、隔壁41の頂上部に金属膜23を形成する。隔壁41と金属膜23とは、平面的に略同形状である。画素電極12の周囲は金属膜23によって遮光されている。金属膜23と透明電極22とは、後工程で電気的に接続され、共通電極層21となる。金属膜23には、好適例としてCuを用いている。金属膜23の形成方法としては、導電性インクを印刷する手法が挙げられる。導電性インクの例としてはグラファイト、白金、金、銀、アルミニウム、ニッケル、銅に代表される金属の微粒子や、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェンPEDOTに、ポリ4-スチレンスルホン酸PSSをドープしたPEDOT/PSSに代表される導電性高分子、またはそれらの混合物を含有するインクが挙げられる。印刷方法としてはスピンコート法、キャスティング法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、ディスペンス法などが挙げられる。または、電子ビームEB蒸着法、真空蒸着法、MOCVD法、HVPE法ハイドライドベーパーフェーズエピタキシー法、PLD法パルスレーザーディポジション法などの既知の成膜方法を用いても良い。図7d、図8e、図8fに示す工程では、各セル40に電気泳動粒子33、34を分散させた分散媒32を充填し、封止膜51で覆い、別工程で準備した対向基板2を貼り合せ、表示パネル100が完成する。ここで、金属膜23と透明電極22とを電気的に接続させるために、図8eの工程において、金属膜23上の封止膜51を研磨、除去する。または、封止膜51を形成する樹脂が未硬化状態で、素子基板1と対向基板2とを加圧貼り合せすることによって、金属膜23と透明電極22とを電気的に接続させても良い。以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法によれば、実施形態1での効果に加えて、以下の効果を得ることができる。金属膜23が対向基板2に形成されている場合と比較して、金属膜23が、画素電極12の周囲により緻密に形成されているので、表示領域Vの共通電極層21をより低抵抗化することができる。特に、表示領域Vをより大型化、高精細化する場合において、表示領域Vの共通電極層21をより低抵抗化することで、より画質に優れた表示を得ることができるという効果を得ることができる。隔壁41と金属膜23とを素子基板1に形成することで、対向基板2として、外販されている透明導電性フィルムを使用することができる。従って、電気泳動表示装置における表示パネルの生産をよりフレキシブルに、より低コストにすることができるという効果を得ることができる。実施形態4図9は、本実施形態に係る電気泳動表示装置の表示パネルの製造方法に関する、主要な工程の模式断面図である。本実施形態では、実施形態3における図7a~図7bまでの工程は同じであり、図9にはその部分の工程を省略している。換言すれば、図9には、素子基板1に隔壁41を形成した以降の工程を示している。本実施形態の製法では、画素電極の形成方法が、実施形態1および実施形態3と異なる。以下、本実施形態の詳細について、図9を参照しながら説明する。なお、実施形態1および実施形態3と同一の構成部位については、同一の番号を使用し、重複する説明は省略する。図9aに示す工程では、既知の技術を用いて、画素電極12上に残存している樹脂薄膜42隔壁材にコンタクトホール43を形成する。例えば、通常のフォトリソ法で樹脂薄膜42上にエッチング用レジストマスクを形成し、当該レジストマスクを用いてドライエッチングすることで、コンタクトホール43を形成する。隔壁41の形成方法としては、微細加工が容易なフォトリソ法が好適である。フォトリソ法によって隔壁41とコンタクトホール43とを形成することも可能である。図9bに示す工程では、表示領域Vの全面に金属膜23を堆積する。隔壁41の形状を、頂上部側で広く、底面部側で狭くなっている逆テーパー形状とすることで、隔壁41頂上部に堆積する金属膜と、隔壁41の底面部に堆積する金属膜とを、隔壁41の段差部で段切れさせ、電気的に切り離すことが可能になる。よって、金属膜23を堆積することで、隔壁41の頂上部の金属膜23と、第2画素電極13とが、同時に形成される。金属膜23と透明電極22とは、後工程で電気的に接続され、共通電極層21となる。第2画素電極13は、コンタクトホール43を介して画素電極12に電気的に接続している。金属膜23を形成する手法としては、スパッタ法、電子ビームEB蒸着法、真空蒸着法などがあげられ、メタルマスクなどで金属膜23が不必要な領域に堆積しないようにする。または、金属微粒子およびグラファイトのような導電性粒子を含むポリマー混合物を電極層材料に用いて、インクジェット法のような溶液パターニングを行う方法で必要な領域に塗布し、金属膜23と第2画素電極13とを同時に形成しても良い。第2画素電極13が、電気泳動層31に電界を印加する本来の画素電極となる。画素電極12は、TFTのドレイン電極図示せずから第2画素電極13に画像信号を供給するための中継電極となる。例えば、TFTのドレイン電極と第2画素電極13とをコンタクトホール43を介して電気的に直接接続させることで、画素電極12を省略することも可能である。図9c~図9eに示す工程では、各セル40に電気泳動粒子33、34を分散させた分散媒32を充填し、封止膜51で覆い、別工程で準備した対向基板2を貼り合せ、表示パネル100が完成する。金属膜23と透明電極22とを電気的に接続させるために、図9dの工程において、金属膜23上の封止膜51を研磨、除去する。以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法によれば、実施形態1及び実施形態3での効果に加えて、以下の効果を得ることができる。第2画素電極13上には樹脂薄膜42がなく、第2画素電極13と電気泳動層31とは直接接触しているので、第2画素電極13から、電圧ロス無く、電気泳動層31を泳動させる電圧を印加することができる。従って、第2画素電極13からの実効電圧不足によって、電気泳動粒子33、34が所望の位置に泳動されないという不具合が抑制されるので、優れた表示品質の電気泳動表示装置を提供することができる。実施形態5図10は、本実施形態に係る表示パネルの側断面図であり、実施形態1における図2に対応している。本実施形態では、対向基板2と金属膜23と間に、さらに反射防止膜24を形成することが、実施形態1と異なる。以下、本実施形態の詳細について、図10を参照しながら説明する。なお、実施形態1と同一の構成部位については、同一の番号を使用し、重複する説明は省略する。対向基板2は、透明電極22と金属膜23とで構成される共通電極層21、及び反射防止膜24などを備えている。反射防止膜24は、対向基板2と透明電極22との間に、平面的に金属膜23と略同じ位置に、略同じ形状で形成されている。反射防止膜24の形成方法としては、カーボンブラック、アニリンブラック、チタンブラックなどの黒色顔料を含有するインクを用いて、インクジェットプリント、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷などの方法で形成する。なお、本実施形態では反射防止膜24を形成した後に透明電極22と金属膜23とを順次形成しているが、反射防止膜24を形成した後に金属膜23と透明電極22とを順次形成してもよい。また、対向基板2と金属膜23との間に、金属酸化物、金属窒化物などからなる透明な誘電膜を反射防止膜24として介在させ、金属膜23の反射光と当該誘電膜の反射光との干渉により、金属膜23の反射光を減衰させ、弱めても良い。また、反射防止膜24を、例えば、素子基板1の画素電極12の周囲を隠すブラックマトリックスとして、金属膜23よりも広く形成してもよい。以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置によれば、実施形態1の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。表示面である対向基板2側から入射した外部光が、反射防止膜24によって遮光されるので、金属膜23による外部光の金属反射を低減することができる。従って、金属膜23の反射光による表示のぎらつきが抑制され、より優れた表示品質の電気泳動表示装置を提供することができる。反射防止膜24を、素子基板1の画素電極12の周囲を隠すブラックマトリックスとすることで、画素電極12の表示をより鮮明にすることができる。従って、優れた表示品質の電気泳動表示装置を提供することができる。実施形態6図11は、本実施形態に係る表示パネルの側断面図であり、実施形態1における図2に対応している。本実施形態では、金属膜23が平面的に隔壁41からセル40の内側にはみ出していることが、実施形態1と異なる。以下、本実施形態の詳細について、図11を参照しながら説明する。なお、実施形態1と同一の構成部位については、同一の番号を使用し、重複する説明は省略する。対向基板2は、透明電極22と金属膜23とで構成される共通電極層21などを備えている。金属膜23は、透明電極22と隔壁41とで挟持され、平面的に隔壁41からセル40の内側にはみ出している。平面的に隔壁41の下に位置する金属膜23は、電気泳動粒子が存在しない非表示領域となる。平面的に隔壁41からセル40の内側にはみ出した金属膜23は、電気泳動粒子33、34が存在する表示領域の一部となり、この部分を領域Wと称す。領域Wの電気泳動粒子33、34は金属膜23により隠されるので、表示には関係せず、領域Wは広すぎないほうが好ましい。この為に、隔壁41からセル40の内側にはみ出した金属膜23のはみ出し量は、2~15μmが好ましい。以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置によれば、実施形態1での効果に加えて、以下の効果を得ることができる。隔壁41からセル40の内側にはみ出した金属膜23の領域では、金属膜23によって共通電極層21が対向する画素電極12に近接し、共通電極層21と画素電極12との間の電界が強くなっているので、当該領域から電気泳動が進行する。当該領域の電気泳動がトリガーとなって、セル40全体の電気泳動が促進され、より早く進行する。従って、より表示速度の早い電気泳動表示装置を提供することができる。金属膜23以外の他の膜によっても、共通電極層21と画素電極12との間の電界を、セル40内で部分的に強くすることができる。例えば、実施形態5の図10における反射防止膜24を金属膜23よりも広くし、平面的に隔壁41からセル40の内側にはみ出させ、反射防止膜24上方の透明電極22を盛り上げ、画素電極12に近接させることによっても、セル40内の電界を部分的に強くすることができる。また、新たな絶縁膜を付加し、透明電極22に凹凸形成することによっても、セル40内の電界を部分的に強くすることができる。また、下地の対向基板2に凹凸を形成することによっても、セル40内の電界を部分的に強くすることができる。要は、対向基板2の共通電極層21、又は素子基板1の画素電極12に、部分的な凹凸を形成することによって、セル40内で共通電極層21と画素電極12との間の電界を、部分的に強くすることができる。共通電極層21と画素電極12との間の電界を、セル40内で部分的に強くすることによって、セル40内の電気泳動が早く進行するという効果を得ることができる。電子機器図12は、上述した電気泳動表示装置200を備えた、電子機器としての電子書籍400の斜視図である。当該電子書籍400は、電気泳動表示装置200、電子書籍400を操作するためのインターフェイスである操作部300などを備えている。本実施形態に係る電子書籍400によれば、以下の効果を得ることができる。本実施形態の電子書籍400は、上述した電気泳動表示装置200を備えているので、高信頼性で高品位な表示が可能になり、当該電子書籍400の他に、例えば、腕時計、電子ペーパー、電子ノート、携帯電話、携帯用オーディオ機器などの各種電子機器を提供することができる。なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。変形例1本変形例を、図4と図5とを参照しながら説明する。実施形態1では、素子層11を備えている素子基板1があるものとして説明したが、素子基板1を貼り合せる前の工程、又は素子層11を備えていない素子基板1を貼り合わせることで工程を終了させても良い。本変形例では、実施形態1に係る製造工程を図5fで終了させ、対向基板2、透明電極22、金属膜23、隔壁41、電気泳動層31、封止膜51などで構成される電気泳動表示シートを作成する。または、実施形態1の図5gの工程において、素子層11を備えていない素子基板1絶縁基板を貼り合せることで、電気泳動表示シートを作成する。更に、対向基板2と素子層11を備えていない素子基板1とを、樹脂フィルムとすることによって、屈曲可能なフレキシブル電気泳動表示シートを作成することも可能である。このようにして作成した電気泳動表示シートでは、金属膜23によって共通電極層21が低抵抗化され、共通電極層21の可撓性が向上しているので、当該電気泳動表示シートを使用した電気泳動表示装置は、より表示品質と長期信頼性に優れた表示を提供することができるという効果を得ることができる。変形例2本変形例を、図6を参照しながら説明する。実施形態2では、素子層11を備えている素子基板1があるものとして説明したが、素子基板1を貼り合せる前の工程、又は素子層11を備えていない素子基板1を貼り合わせることで工程を終了させても良い。本変形例は、実施形態2に係る製造工程を図6dで終了させ、対向基板2、22、金属膜23、隔壁41、電気泳動層31、封止膜51などで構成される電気泳動表示シートを作成する。又は、実施形態2に係る製造工程の図6eの工程において、素子層11を形成していない素子基板1絶縁基板を貼り合せることで、電気泳動表示シートを作成する。更に、対向基板2と素子層11を備えていない素子基板1とを、樹脂フィルムとすることによって、屈曲可能なフレキシブル電気泳動表示シートを作成することも可能である。このようにして作成した電気泳動表示シートでは、金属膜23によって共通電極層21が低抵抗化され、共通電極層21の可撓性が向上している。更に、セル40においては、22が直接電気泳動層31と接し、金属膜23によって部分的に電界強度が強くなっているので、より早く電気泳動が進行する。従って、当該電気泳動表示シートを使用した電気泳動表示装置は、表示品質と長期信頼性に優れ、より表示速度の早い表示を提供することができるという効果を得ることができる。"