"複数の太陽電池セルと、隣接する前記太陽電池セルを電気的に接続する接続体と、前記太陽電池モジュールの受光面を覆ってアルカリ元素を含有する透光性部材と、前記透光性部材上に形成されてシリカおよびシロキサン並びに前記シリカの空隙からなる第1の反射防止膜と、前記第1の反射防止膜表面に形成されて前記シリカおよび前記シロキサンからなる第2の反射防止膜とを有し、前記シリカの粒子径が5~50nmであることを特徴とする太陽電池モジュール。前記シリカと前記シロキサンの含有量の比が、シリカ:シロキサン=80:20~95:5であることを特徴とする請求項1記載の太陽電池モジュール。前記第2の反射防止膜の膜厚が、前記第1の反射防止膜の膜厚と前記第2の反射防止膜の膜厚の合計の10以下であることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記載の太陽電池モジュール。前記第1の反射防止膜において、前記透光性部材との界面における空隙率が、前記第2の反射防止膜との界面における空隙率より大きいことを特徴とする請求項1~請求項3のいずれかに記載の太陽電池モジュール。前記第2の反射防止膜にも前記空隙を有し、前記第2の反射防止膜における空隙率が、前記第1の反射防止膜の前記第2の反射防止膜との界面における空隙率より小さいことを特徴とする請求項1~請求項4のいずれかに記載の太陽電池モジュール。n=前記第1の反射防止膜と前記第2の反射防止膜との平均屈折率、d=前記第1の反射防止膜の膜厚と前記第2の反射防止膜の膜厚との合計膜厚、λ=前記太陽電池セルへの入射光の平均波長とした場合、2nd=λ/2の関係を満たすことを特徴とする請求項1~請求項5のいずれかに記載の太陽電池モジュール。前記第1の反射防止膜の膜厚と前記第2の反射防止膜の膜厚との合計膜厚が100~200nmであることを特徴とする請求項1~請求項6のいずれかに記載の太陽電池モジュール。前記第2の反射防止膜の表面粗さが2.5nm以下であることを特徴とする請求項1~請求項7のいずれかに記載の太陽電池モジュール。前記第1の反射防止膜および前記第2の反射防止膜が、シロキサン結合を有することを特徴とする請求項1~請求項8のいずれかに記載の太陽電池モジュール。複数の太陽電池セルの受光面上にアルカリ元素を含有する透光性部材を形成する工程と、前記透光性部材上にポリシロキサンおよびシリカ粒子並びに有機溶剤の混合物を乾燥、焼結して反射防止膜前躯体を形成する工程と、前記反射防止膜前躯体を熱乾燥してシリカおよびシロキサン並びに前記シリカの空隙からなる第1の反射防止膜を形成する工程と、前記第1の反射防止膜表面を瞬間熱処理して前記シリカ粒子を溶融し、前記シリカおよび前記シロキサンを含有する第2の反射防止膜を形成する工程とを有し、前記シリカの粒子径が5~50nmであることを特徴とする太陽電池モジュールの製造方法。前記瞬間熱処理として、プラズマトーチ法、レーザーまたはフラッシュランプを用いる熱処理を行うことを特徴とする請求項10記載の太陽電池モジュールの製造方法。前記シリカと前記シロキサンの含有量の比が、シリカ:シロキサン=80:20~95:5であることを特徴とする請求項10または請求項11のいずれかに記載の太陽電池モジュールの製造方法。前記第2の反射防止膜の膜厚が、前記第1の反射防止膜の膜厚と前記第2の反射防止膜の膜厚の合計の10以下であることを特徴とする請求項10~請求項12のいずれかに記載の太陽電池モジュールの製造方法。前記第1の反射防止膜において、前記透光性部材との界面における空隙率が、前記第2の反射防止膜との界面における空隙率より大きいことを特徴とする請求項10~請求項13のいずれかに記載の太陽電池モジュールの製造方法。前記第2の反射防止膜にも前記空隙を形成し、前記第2の反射防止膜における空隙率が、前記第1の反射防止膜の前記第2の反射防止膜との界面における空隙率より小さいことを特徴とする請求項10~請求項14のいずれかに記載の太陽電池モジュールの製造方法。n=前記第1の反射防止膜と前記第2の反射防止膜との平均屈折率、d=前記第1の反射防止膜の膜厚と前記第2の反射防止膜の膜厚との合計膜厚、λ=前記太陽電池セルへの入射光の平均波長とした場合、2nd=λ/2の関係を満たすことを特徴とする請求項10~請求項15のいずれかに記載の太陽電池モジュールの製造方法。前記第1の反射防止膜の膜厚と前記第2の反射防止膜の膜厚との合計膜厚が100~200nmであることを特徴とする請求項10~請求項16のいずれかに記載の太陽電池モジュールの製造方法。前記第2の反射防止膜の表面粗さが2.5nm以下であることを特徴とする請求項10~請求項17のいずれかに記載の太陽電池モジュールの製造方法。前記第1の反射防止膜および前記第2の反射防止膜が、シロキサン結合を有することを特徴とする請求項10~請求項18のいずれかに記載の太陽電池モジュールの製造方法。一般的に、この太陽電池モジュールの透光性部材上に形成された反射防止膜は、屋外に長期間放置され、また一度取り付けられると取替えや交換が困難であることから、高い物理化学的耐久性や防汚性が求められている。しかしながら、ゾルゲル法を用いて形成した反射防止膜付き透光性部材では、充分な物理化学的耐久性や防汚性が得られず、長期間放置すると透過率が低下するといった問題が生じていた。例えば、太陽電池の透光性部材としてアルカリ元素を含有するガラス基板を用いた場合、大気中に暴露した際に、湿度によりガラス表面が劣化することが知られている例えば、非特許文献1参照。これは、まず、ガラス中のNaイオンがガラス表面に拡散し、Naイオンがガラス表面に吸着している大気中のH2Oと大きな4水和物を形成してガラス中に戻れなくなり、チャージバランスとして、Hイオンがガラス内部へ入る。次に、Na水和物と大気中のCO2が反応して炭酸塩を生成し、ガラス表面に炭酸塩の核が生成される。その後、生成した炭酸塩は潮解性を持つため大気中のH2Oを凝集して大きくなり、かつ大気中のCO2で中和されることによって結晶化/粒子成長し、ガラス表面を被覆する。さらには、これらの反応過程において、初期に形成されるNaOHやNa2CO3は潮解性がある為、pHが12以上の溶液を生成してガラス自体を溶融し、凹凸を形成する。以上のように、ゾルゲル法を用いて形成した反射防止膜では、シリカ粒子とシリカ粒子を保持するマトリクスを有した多孔質体であるがために、大気中のH2OやCO2が反射防止膜の空隙を透過して透光性部材表面に到達して透光性部材表面のNaイオンと反応し、透光性部材表面上において結晶物の生成や透光性部材表面の溶解、もしくはそれらに起因して透光性部材と反射防止膜の界面における剥離や反射防止層のクラックが発生し、長期保管後の透過率が低下していた。さらには、ゾルゲル法により形成した反射防止層はシリカ粒子とシリカ粒子を保持するマトリクスを有した多孔質体であるがために、特に雨天時に、空隙中に水埃が浸透し、屈折率が高くなり、長期保管後の透過率が低下していた。そこで、本発明では、上記課題に鑑み、太陽電池セルに入射される光量を確保すると共に、反射防止膜の反射率の劣化を抑制して耐久性を確保することを目的とする。上記目的を達成するために、本発明の太陽電池モジュールは、複数の太陽電池セルと、隣接する前記太陽電池セルを電気的に接続する接続体と、前記太陽電池モジュールの受光面を覆ってアルカリ元素を含有する透光性部材と、前記透光性部材上に形成されてシリカおよびシロキサン並びに前記シリカの空隙からなる第1の反射防止膜と、前記第1の反射防止膜表面に形成されて前記シリカおよび前記シロキサンからなる第2の反射防止膜とを有し、前記シリカの粒子径が5~50nmであることを特徴とする。さらに、本発明の太陽電池モジュールの製造方法は、複数の太陽電池セルの受光面上にアルカリ元素を含有する透光性部材を形成する工程と、前記透光性部材上にポリシロキサンおよびシリカ粒子並びに有機溶剤の混合物を乾燥、焼結して反射防止膜前躯体を形成する工程と、前記反射防止膜前躯体を熱乾燥してシリカおよびシロキサン並びに前記シリカの空隙からなる第1の反射防止膜を形成する工程と、前記第1の反射防止膜表面を瞬間熱処理して前記シリカ粒子を溶融し、前記シリカおよび前記シロキサンを含有する第2の反射防止膜を形成する工程とを有し、前記シリカの粒子径が5~50nmであることを特徴とする。また、前記瞬間熱処理として、プラズマトーチ法、レーザーまたはフラッシュランプを用いる熱処理を行っても良い。また、前記シリカと前記シロキサンの含有量の比が、シリカ:シロキサン=80:20~95:5であることが好ましい。また、前記第2の反射防止膜の膜厚が、前記第1の反射防止膜の膜厚と前記第2の反射防止膜の膜厚の合計の10以下であることが好ましい。また、前記第1の反射防止膜において、前記透光性部材との界面における空隙率が、前記第2の反射防止膜との界面における空隙率より大きいことが好ましい。また、前記第2の反射防止膜にも前記空隙を形成し、前記第2の反射防止膜における空隙率が、前記第1の反射防止膜の前記第2の反射防止膜との界面における空隙率より小さいことが好ましい。また、n=前記第1の反射防止膜と前記第2の反射防止膜との平均屈折率、d=前記第1の反射防止膜の膜厚と前記第2の反射防止膜の膜厚との合計膜厚、λ=前記太陽電池セルへの入射光の平均波長とした場合、2nd=λ/2の関係を満たすことが好ましい。また、前記第1の反射防止膜の膜厚と前記第2の反射防止膜の膜厚との合計膜厚が100~200nmであることが好ましい。また、前記第2の反射防止膜の表面粗さが2.5nm以下であることが好ましい。また、前記第1の反射防止膜および前記第2の反射防止膜が、シロキサン結合を有しても良い。以上により、太陽電池セルに入射される光量を確保すると共に、反射防止膜の反射率の劣化を抑制して耐久性を確保することができる。以下に、実施の形態について、図を参照しながら説明する。まず、図1~図3を用いて太陽電池セルおよび本発明の太陽電池モジュールの構成について説明する。図1は本発明の太陽電池セルの構造を示す断面図、図2は本発明の太陽電池モジュールの構造を示す断面図、図3は本発明の反射防止膜の構造を説明する模式図である。図1に示す太陽電池セルにおいて、11は結晶系シリコン基板であり、結晶系シリコン基板11の受光面側にはn型層12、反射防止膜13が順次積層されている。また、図中14はn型層12上に焼成された受光面電極であり、その表面は反射防止膜13から露出している。さらに、結晶系シリコン基板上11の裏面側にはp型の不純物が高濃度にドープされた高ドープのp型層15及び裏面電極16が積層されている。図2,図3において、1は複数個の太陽電池セルであり、それぞれが図1に示す太陽電池セルである。これらの太陽電池セル1は、隣接する一方の太陽電池セル1の受光面電極図示せずと、他方の太陽電池セル1の裏面電極図示せずとが接続体2により電気的に接続されることで、互いに電気的に直列に接続されている。また、これら複数個の太陽電池セル1の受光面側にはEVA等の透過性封止剤3を介してガラス、プラスチック等からなる透光性部材5が配置され、裏面側には同じくEVA等の透光性封止剤3を介してアルミニウム箔上にテドラー等の樹脂が積層されてなる裏面部材6が配される。そしてアルミニウムからなる枠部材7により、太陽電池セル1および透光性部材5ならびに透過性封止材3が一体化されている。また、透光性部材5の太陽電池セル1と対向する面の裏面側には反射防止膜4が形成されており、反射防止膜4は第1の反射防止膜4aと第1の反射防止膜4a上に形成される第2の反射防止膜4bとからなる。なお、透過性封止材3を設けず、直接太陽電池セル1の受光面上に透光性部材5を形成しても良い。太陽電池モジュールの反射防止膜4、特に第1の反射防止膜4aでは内部に空隙8が形成される。第1の反射防止膜4aは光の反射を抑制して太陽電池セル1に入力する光量を確保するために用いる物である。空気の屈折率は1.0、ガラス等の透光性部材5の屈折率は概ね1.5程度であり、空隙8は空気の層と考えることができるので空隙8の屈折率は1.0となる。また、第1の反射防止膜4aの屈折率は空隙8の量によって定まる。ここで、第1の反射防止膜4aにて反射防止効果を奏するためには、第1の反射防止膜4aにおいて、透光性部材5との界面から空気との界面に向かって屈折率を徐々に小さくすることが好ましい。したがって、第1の反射防止膜4aでは透光性部材5の界面から空気との界面に向かって空隙8の量が徐々に多くなるように形成し、光の反射率を低減させて太陽電池セル1への光の入射量を向上させる。また、反射防止膜4はゾルゲル法により形成され、シロキサンと結合したシリカ粒子9とこれらの形成領域の間隙である空隙8とからなる。そして、シリカ粒子9の粒子径rを5nm以上50nm以下とすることにより、透光性と耐久性を維持することができる。特に、太陽電池モジュールの反射防止膜4の場合は、光の透過率を高めることが重要であり、シリカ粒子9の粒子径rをできるだけ小さくすることが望まれるが、必要最低限の耐久性を確保するために5nm程度の粒子径rは必要となる。また、反射防止膜4の膜厚は、100~200nmであることが好ましい。このような反射防止膜4において、透光性部材5と接する面に対する裏面の表面に薄い第2の反射防止膜4bを、反射防止膜4を瞬間熱処理することにより形成する。第2の反射防止膜4bは、熱処理により反射防止膜4の空隙8をなくす、あるいは減少させて形成される。空隙8が大きいことによりH2OやCO2が反射防止膜4を通過して透光性部材5のアルカリ元素と反応して透光性部材5を劣化させている。本発明では、第2の反射防止膜4bの空隙を減少させることにより、H2OやCO2が反射防止膜4を通過することを抑制して透光性部材5の劣化を防止し、透光性部材5と反射防止膜4の界面における剥離や反射防止膜4のクラックの発生や、長期保管後の透過率の低下を抑制することができる。特に、PDPのパネル等に用いるガラス基板では、電圧耐性のためにアルカリ含有量が抑制されるが、太陽電池の透光性部材5に用いるガラス基板では製造の容易化のためにアルカリ含有量を多くしており、第2の反射防止膜4bによるガス等の透過性抑制による、長期保管後の透過率の低下を抑制する効果が顕著となる。第2の反射防止膜4bの膜厚は、反射防止膜としての光学特性への影響を考慮して、反射防止膜4の膜厚の10以下とすることが好ましい。すなわち、第2の反射防止膜4bの膜厚を、光の波長/屈折率の1/10以下とする。ここで、太陽光の波長範囲は300nm以上であり、第2の反射防止膜4bの屈折率は約1.33である。そのため、第2の反射防止膜4bの膜厚を300/1.33×10=22.5nm以下とする。そして、反射防止膜4の膜厚は上述のように100~200nmであることが好ましいので、第2の反射防止膜4bの膜厚は反射防止膜4の膜厚のおよそ10以下とすることが好ましくなる。また、本発明の第2の反射防止膜4bは空隙8を減少させ、かつ、シリカ粒子9の粒子径rを5nm以上50nm以下と微細な径としているのでガス等の浸透を抑制することができる。ゾルゲル法により形成された反射防止膜4は、シリカ粒子9と、シリカ粒子9間を連繋するシロキサン図示せずとから構成される。本発明においては、反射防止膜4の含有量の割合として、シリカ:シロキサンの割合を、80:20~95:5とすることが好ましい。ゾルゲル法で形成した通常のシリカ膜では、アルキル基を側鎖に持つシロキサンの量が増えると、焼成後に残存するアルキル基により多量のCH3が発生し、周囲の形成物の劣化を促すことがあるため、シロキサンの含有量を抑制し、シリカの比率を高くしている。しかしながら、本発明の反射防止膜4では、光の透過がシリカ粒子9で妨げられることを防ぐため、シリカの比率を通常より低く設定することが好ましい。一般的に、反射防止膜4では、反射防止膜4と透光性部材5との界面での反射光と、反射防止膜4表面での反射光との位相差を入射光の波長の1/2とすることにより、これらの反射光が打ち消されて反射光を低減させている。屈折率をn、膜厚をd、入射光の平均的な値として想定した波長をλとした場合、2nd=λ/2と表すことができる。これに応じて、本発明の反射防止膜4では、空隙8の量により調整された反射防止膜4全体の平均屈折率をnとし、上記式に当てはまるように反射防止膜4の膜厚を調整することが好ましい。次に、図1~図4を用いて、本発明の太陽電池モジュールの製造方法について説明しながら、実施例について説明する。図4は本発明の反射防止膜の形成方法の工程を説明する断面図である。まず、太陽電池セルの製造工程例を説明する。最初に、抵抗率が1Ωcmで厚さが約350μmのp型単結晶シリコン基板11の表面にアルカリ溶液を用いて光反射を低減させるテクスチャー構造を形成する。尚、p型単結晶シリコン基板11としては単結晶シリコン基板以外に多結晶シリコン基板といった結晶系シリコン基板を用いることができ、多結晶シリコン基板の場合は酸溶液を用いてテクスチャー構造を形成する。次に、単結晶シリコン基板11の受光面の深さ約1μm迄の領域に、POCl3ガスを用いて約900°Cの温度でPリンを熱拡散してn型層12を形成する。POCl3ガスの代わりに、リンガラスPSGを用いる場合もある。次に、その上にSiNxからなる反射防止膜13をプラズマCVD法により形成する。その後、p型単結晶シリコン基板11の裏面にAlペーストを用いて裏面電極16をスクリーン印刷により形成し、約700度の温度で短時間処理を行い、Alがp型単結晶シリコン基板11に熱拡散することで、Alがハイドープされたp型層15も合わせて形成される。さらに、受光面電極14は、SiNxからなる反射防止膜13上にフィンガー状にAg電極を印刷し、熱処理を行い、Agを反射防止膜13であるSiNx中に貫通させる、ファイアースルー貫通焼成と呼ばれる処理でn型層12の表面にAgを接触させて形成される。以上により、太陽電池セルが完成する。そして、以上の工程で製造された太陽電池セルは、アルミニウム箔上にテドラー樹脂が積層されてなる裏面部材6と反射防止膜4が形成された透過性部材5によりEVAに代表される透過性封止剤3を介して挟持されるとともに、アルミニウムからなる枠部材7にて一体化される。以上の工程によって、図2に示した太陽電池モジュールが完成する。なお、太陽電池セルの製造方法は上記方法に限らず、太陽電池モジュールに用いられる太陽電池セルは任意の方法で製造できる。ここで、透光性部材5に反射防止膜4を形成する方法について図4を用いて詳細に説明する。まず、図4aに示すように、透光性部材5上にシリコンアルコキシドである反射防止膜前駆体24を形成する。反射防止膜前駆体24の原料は、シロキサン結合-Si-O-を有するポリシロキサン、シリカ粒子、有機溶剤とからなる。シロキサン結合は前駆体となるシリコンアルコキシドを別の有機溶剤に混和し、常温または加温条件下において、攪拌しながら、水と触媒を少量ずつ添加し、加水分解、および縮重合させることで作製する。シリコンアルコキシドが混和される有機溶剤は、シリコンアルコキシドを良く溶かすものであれば特に制限はなく、例えば、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、ヘキサノール、シクロヘキサノールを含むアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコールを含むグリコール類、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトンを含むケトン類、α-テルピネオール、β-テルピネオール、γ-テルピネオールを含むテルペン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、モノアルキルセロソルブ類などから1種または複数種が選ばれる。複数種の溶剤を選択することで、乾燥速度を緩やかにし、反射防止膜の表面へのクレータ形成を抑制することができる。生成物である反射防止膜前駆体24はシロキサン結合を有するポリシロキサンのゾル状物である。生成されるポリシロキサンの分子量には特に制限はないが、高分子である方が収縮量をより小さくでき、耐クラック性が向上する。また構造内にアルキル基を含む方が反応による収縮を分断し、耐クラック性が向上する点で好ましい。前駆体となる材料はシロキサン結合を有することの他特に制限はなく、例えば、メチルシリケートやエチルシリケートなどのアルキル基を含まない完全無機のポリシロキサンや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリイソプロポキシシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、ジフルオロジメトキシシラン、ジフルオロジエトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、炭化ケイ素SiC、他のアルコキシド系有機シリコン化合物SiOR4、例えば、テトラターシャリーブトキシシランt-SiOC4H94、テトラセコンダリーブトキシシランsec-SiOC4H94およびテトラターシャリーアミロキシシランSi[OCCH32C2H5]4のようなアルキル基を含むポリアルキルシロキサンなどから成る群から選択される少なくとも1種類以上の前駆体材料であって良い。これらを常温または加温条件下で攪拌しながら、水と触媒を添加することで上記前駆体の加水分解が促進されてシリコン水酸化物となり、さらに縮重合させることで、低分子または高分子のシロキサン結合が形成される。このとき、添加するシリカ粒子9を、粒子径rが5nm以上50nm以下とする。粒子径rを5nm以上にすることにより、シリカ粒子9同士の凝集を抑制することができるとともに、比表面積が下がることにより粒子表面に均一かつ十分な量のポリシロキサンを介在させることができる為、シリカ粒子9間の結合が強固となり、クラックの発生を抑制し、膜の硬度を保持することが可能である。また、粒子径rを50nm以下にすることにより、反射防止層4の膜厚の面内バラツキを低減することができ、安定した光の透過性を確保することができる。また、シリカ粒子9は結晶性であっても非晶質アモルファス性であっても良い。さらに、シリカ粒子9は乾燥粉末状のものであっても、予め水や有機溶剤に分散されたゾル状のものであっても良いが、予め分散されているものを用いるほうが、ガラスペーストを容易に作製できるため良い。乾燥粉末状のシリカ粒子9を用いる場合は、一度溶剤中に分散させる工程が必要となる。シリカ粒子9の製造方法には特に制限はなく、溶融法や、燃焼法により乾燥粉末状にしても良く、水ガラスの重合や、ゾルゲル法により製造されていても良い。またシリカ粒子9の表面状態にも特に制限されない。ポリシロキシンサンにシリカ粒子9を添加して反射防止膜前躯体24の原材料となるペースト材料を作製する工程において、シリカ粒子9はシロキサン結合を含有するゾル状物を作製する前に添加しても、作製した後に添加しても良い。ただし、良く分散されていることが必要である。添加するシリカ粒子9の量は最終的に反射防止膜4中に残存するシロキサン結合との比率で定義され、反射防止膜4の重量に対するシリカ粒子9の比率は10重量~99重量であれば良く、好適には50重量~99重量であることが望ましい。このような材料を用いることにより、上述のシリカ:シロキサン=80:20~95:5となる反射防止膜4を形成することができる。これら材料を組み合わせたペースト材料は、100[1/s]における粘度が1mPas~10mPas程度であることが容易な製造のために望ましい。そのために、固形分濃度ペースト材料重量に対するシロキサン結合を有するポリシロキサンとシリカ粒子とを合わせた重量の比率は1重量~10重量であり、好適には3重量~8重量であることが望ましい。具体的には、まず、上記組み合わせによる反射防止膜原料を、透光性部材5上に塗布乾燥焼成し、反射防止膜前駆体24を形成する図4a。反射防止膜原料の塗布はスリットコータ法、バーコーター法を用いることが望ましい。スリットコータ法とは、巾広のノズルからペースト材料を圧送吐出して所定の面にペースト材料を塗布する方法である。また、バーコーター法とは、ペースト材料を吐出後にワイヤーバーで引き伸ばして所定の面にペースト材料を塗布する方法である。なお、別法として、必要エリア外にもインクが飛散するので材料利用効率が悪くなるという懸念事項はあるもののスプレー法を用いても良い。反射防止膜原料を塗布した後、反射防止膜原料を乾燥させて有機溶媒を除去する。有機溶媒を除去する為の乾燥は、空隙8の確保と製造時間の短縮のため、50~300°Cでの熱乾燥が好ましい。なお、別法として、真空度を溶剤の飽和蒸気圧以下に維持することで溶剤の蒸発を促進する真空乾燥法などを用いても良い。次に図4bに示すように、上記乾燥工程を経て形成される第1の反射防止膜4aは、厚みが100nm以上200nm以下であることが望ましい。厚みを100nm以上にすることにより、熱乾燥による加熱で透光性部材5が加熱されることを抑制し、透光性部材5中のアルカリイオンが透光性部材の表層に拡散することを抑制することができる。また、厚みを200nm以下にすることにより、光の透過量を確保でき所望の光学特性を得ることができるとともに、膜厚の面内バラツキに起因する透過率の面内バラツキを低減することができる。なお、本発明の反射防止膜におけるシリカ粒子9の粒子径は5~50nm程度であるため、100nmの膜厚に制御することが可能となる。次に、図4cに示すように、第1の反射防止膜4aの表層部のシリカ粒子9を熱源17を用いて瞬間的に溶融させ、反射防止膜4aの表層部にシリカ粒子溶融させて空隙8を減少させた第2の反射防止膜4bを形成することにより、H2OやCO2の透過を防ぎ、透光性部材5表面に存在する拡散Naイオンや拡散Ca2イオンが大気中のH2OやCO2と反応するのを防ぐことができ、長期保管後の透過率が低下するのを抑制することができる。第1の反射防止膜4aの瞬間熱処理は、PTA=プラズマトーチアニール法等により行う。PTA法とは、アノードとカソード間に直流アーク放電により10000°Cを超える高温高速のプラズマジェットを発生させ、場合によってはこの中にセラミックス、サーメットなどの粉末を投入し、溶融の加速を行い成膜する方法である。このPTA法は、スキャン速度、膜と熱源間のギャップ、スキャン回数、熱源のパワー等の条件を調整することにより、膜表面のシリカ粒子9に付与する熱容量を変化させ、第2の反射防止膜4bの厚み、第2の反射防止膜4b表面の算術平均粗さRaを制御することができる。さらに、シリカ粒子9を溶融させた第2の反射防止膜4bの膜厚の面内均一性を向上させるとともに、処理時間を短時間化し、処理時の継ぎ目を無くす為に、プラズマ照射口が長尺状のもので瞬間熱処理を行うことが望ましい。前記乾燥後の第1の反射防止膜4a表面のシリカ粒子9を溶融して形成した第2の反射防止膜4bは、厚みが反射防止膜厚全体の10以上になると、反射防止の効果が小さくなる。つまり、太陽光は300nm以上の波長範囲の光を含んでいるため、シリカが溶融し空隙がなく屈折率の高いシリカ粒子溶融固化層の厚みを少なくするとともに波長/屈折率の10分の1以下、つまり反射防止膜の膜厚全体の10以下にしなければ反射防止膜表面での反射が増加し、反射防止効果が充分に得られない。また、前記焼成後の第1の反射防止膜4a表面のシリカ粒子9を溶融して形成した第2の反射防止膜4bの膜表面は、算術平均粗さRaが2.5nm以下になることが望ましい。算術平均粗さRaが2.5nm以上であると、第2の反射防止膜4bの表層のシリカ粒子9間に空隙8が残っている可能性が高くなる、つまり、拡散Naイオンや拡散Ca2イオンが大気中のH2OやCO2と反応するのを防ぐことができない。そのため、反射防止膜4bの膜表面の算術平均粗さRaを2.5nm以下とし、空隙8を十分減少させ、拡散Naイオンや拡散Ca2イオンが大気中のH2OやCO2と反応するのを防ぎ、長期保管後の透過率が低下することを抑制する。その結果、長期信頼性の高い太陽電池モジュールを形成することができる。なお、瞬間熱処理を行う際の熱源は、熱応答性が高く、瞬間的な照射で第1の反射防止膜4aの表層のシリカ粒子9を溶融することが可能であり、かつ透過性部材5の表面まで熱伝導が起こり難い、つまりガラス基板表面の加熱によるガラス基板中のNaイオンやCa2イオンが拡散するのを抑制することが可能な、フラッシュランプ、レーザー等を用いても同様の結果となる。"