板状物品を乾燥させるための方法であって、水系リンス液で前記板状物品をリンスする工程と、水系リンス液での前記リンス工程の開始後に、20質量未満の含水率を有する有機溶媒で板状物品をさらにリンスする工程と、を備え、前記有機溶媒は、液体形態であり、60°Cよりも高く前記有機溶媒の沸点よりも低い温度に維持される、方法。請求項1に記載の方法であって、前記有機溶媒は、ケトン、エーテル、および、アルコールからなる群より選択される、方法。請求項1に記載の方法であって、前記有機溶媒はアルコールである、方法。請求項1に記載の方法であって、前記有機溶媒はイソプロピルアルコールである、方法。請求項1に記載の方法であって、前記有機溶媒は、残部が水である溶液に対して少なくとも10質量から50質量の範囲の溶媒濃度で、水と共に溶液を形成する、方法。請求項1に記載の方法であって、前記有機溶媒は、10質量未満の含水率を有する、方法。請求項1に記載の方法であって、前記板状物品は、前記有機溶媒でのリンス工程中に回転される、方法。請求項1に記載の方法であって、前記有機溶媒は、20ml/分から400ml/分の範囲の体積流量で供給される、方法。請求項1に記載の方法であって、前記有機溶媒の温度は、60°Cより高く80°Cより低い温度に維持される、方法。請求項1に記載の方法であって、さらに、前記有機溶媒の蒸発を促すために、前記板状物品の表面に、加熱ガス例えば、窒素を供給する工程を備える、方法。請求項1に記載の方法であって、さらに、前記有機溶媒が供給されるのと反対側の前記板状物品の面の少なくとも周辺領域に、加熱された脱イオン水を供給する工程を備える、方法。板状物品を乾燥させるための装置であって、水系リンス液供給源と連通して、水系リンス液で前記板状物品をリンスするためのリンスノズルと、有機溶媒供給源と連通する有機溶媒供給管であって、前記供給管を通して供給される有機溶媒を、60°Cよりも高く前記有機溶媒の沸点よりも低い温度まで加熱するよう適合された加熱装置を備える、有機溶媒供給管と、前記板状物品の表面に液体形態の前記有機溶媒を供給するよう構成された有機溶媒供給ノズルと、を備える、装置。請求項12に記載の装置であって、さらに、加熱ガスおよび加熱水の一方の供給源と、加熱ガスまたは加熱水を前記板状物品の表面に方向付けるための供給ノズルと、を備える、装置。請求項12に記載の装置であって、さらに、前記板状物品を受け入れて処理するための閉じた処理モジュールを備え、前記装置は、半導体ウエハの枚葉式ウエハウェット処理のためのステーションである、装置。請求項12に記載の装置であって、前記加熱装置は、前記有機溶媒の沸点を超える温度まで過熱させることなく、60°Cよりも高く前記有機溶媒の沸点よりも低い温度に前記有機溶媒を加熱するよう構成された2つのインラインヒータを含む、装置。ここで、本発明の好ましい実施形態について、添付の図面を参照しつつ、さらに詳細に説明する。本発明の方法は、板状または円板状の物品を水系リンス液でリンスした後にIPA液体形態でリンスする工程を備えており、IPAは、20質量以下の含水率を有することが好ましく、60°Cより高く82°Cより低い温度で供給される。水溶液は、脱イオン水DIが好ましいが、オゾン、フッ化水素酸、塩酸、炭酸、または、アンモニアの希釈溶液であってもよい。後続のリンスとは、IPAでのリンスの開始が、水溶液でのリンスの開始後であることを意味する。つまり、IPAでのリンスは水溶液でのリンスの直後に実行されてもよいし、2つのリンス工程の間に時間間隔があってもよいし、IPAでのリンスは水溶液でのリンスの終了前に開始されてもよい。IPAの最初の含水率が10質量未満であると有利である。そうすれば、溶媒残留物が蒸発した時、基本的に表面に水が残らない。この効果は、5質量未満またはさらに低い2質量未満の含水率の時、さらに高まる。IPAおよび水の共沸混合物は、87.9重量のイソプロピルアルコールおよび12.1重量の水を含むので、これは、IPAが共沸蒸留によって準備されることを意味する。脱イオン水の供給が終了すると、円板の表面から流れ出たIPAが、回収および再利用されてよい。IPAは吸湿性であるため、この再利用の際に新たなIPAが補充されない限りは、IPA中の含水率が次第に増加する。板状物品は、IPAによるリンス中に回転されることが好ましいが、直線的に移動されてもよい。IPAは、20ml/分から400ml/分の範囲の体積流量で供給されるのが好ましい。IPAの流量は、200ml/分以下であることがより好ましい。実際、本発明に従って用いられるIPAの温度では、有機溶媒の流量は、ウォーターマークを生じさせることなく、100ml/分未満にすることができる。これは環境的に望ましいだけでなく、乾燥コストを低くする助けにもなる。別の実施形態では、フッ素含有溶液例えば、フッ化水素、フッ化アンモニウムを含む溶液が、乾燥の実行前に円板状物品上に供給される。かかるフッ素含有溶液は、フッ化水素の分析濃度が1g/l未満の水溶液である希釈フッ化水素であることが好ましい。ここで、添付の図面を参照すると、符号1は、チャンバC内のスピンチャックを示しており、チャンバCは、半導体ウエハの枚葉式ウエハウェット処理のための処理モジュールであることが好ましい。チャンバCは、高温のIPAなど、用いられる化学物質を閉じ込めるために、閉じたモジュールであることが好ましい。300mm半導体ウエハWが、スピンチャック1上に載置され、グリップピン図示せずによって把持されている。ウェット処理が実行され、異なる液体がノズルアセンブリ2を通してウエハ上に供給される。供給ノズルアセンブリは、液体を供給する時に、中心から縁部に向かい、そして、中心に戻るように、選択された速度でウエハにわたって移動されうる。この動きは、それぞれの液体が供給されている限り繰り返されうる。洗浄液の供給中のスピン速度は、300rpmから2000rpmの範囲に設定されることが好ましい。最初に、0.01g/lのHF濃度を有する希釈フッ化水素酸が供給され;第2に、リンス液例えば、脱イオン水が供給され;第3に、リンス液が止められると同時にIPAの供給が開始され;第4に、有機溶媒および窒素ガスが同時に供給され;第5に、スピンオフ工程が実行される。このプロセスに用いられる媒体アーム3は、複数のノズルを備えたノズルヘッド2を備える。希釈フッ化水素または脱イオン水を供給するためのノズル24、高温のIPAを供給するためのノズル22、乾燥工程中にウエハ上にガス窒素ガスが好ましいを吹き付けるためのノズル20、および、所望の雰囲気を維持するためにチャンバCの内部にガスを供給するための一対のカーテンノズル18が設けられている。乾燥方法の手順は、以下の順で実行される:工程A:最後の化学物質供給工程として、ウエハが500~1200rpmの範囲例えば、800rpmのスピン速度で回転している間に、希釈フッ化水素1g/lから100g/lの間の濃度が、1.7~2l/分の流量で30秒から200秒間、ウエハ中央に供給される。媒体の温度は22°Cである。工程B:ウエハが500~1200rpmの範囲例えば、800rpmで回転している間に、さらにリンス液脱イオン水が、1.7~2l/分の流量でDI供給源6からウエハの中央に20秒間供給される。媒体の温度は22°Cである。工程C:乾燥工程:ノズルヘッドが、平均速度10mm/秒で中心から縁部まで一回ウエハを走査する。この時、走査速度は、中心では20mm/秒であり、縁部に向かって移動しつつ5mm/秒まで減速される。走査の間、IPAがウエハの中心から縁部まで供給される。IPAが供給されるのと同時に、窒素が吹き付けられる。IPAは、ウエハの縁部で停止される。この例において、IPAの温度は75°Cである。ヒータを通した安定したIPA流と、高温での出力とを達成するために、加熱温度範囲を良好に規定して、IPAの沸騰および可能性のある安全上の不具合を避けることが望ましい。この実施形態によると、IPAは、リザーバ8から供給され、2つのインラインヒータ15および17、供給ライン7、マニホルド11を通過して、ノズルヘッド2に到達する。2つのIPAヒータを直列に接続することによって、全体の加熱が安定するため、ヒータの設定値を高くして、流出口でより高いIPA温度を実現することが可能になる。一方、単一のヒータを利用した場合、IPAの温度設定値を超過することを避けるために、加熱設定値を低くする必要がある。ウエハ上でより高いIPA温度を達成するために、高温のIPAが供給時に冷却されないように、供給ライン7内のIPAの温度を維持することも望ましい。特に、ライン7は、ラインへの任意の熱伝導を最小化できるように、ノズル端2に対して熱的に安定に維持されることが好ましい。この実施形態において、ラインは、IPA供給時の温度降下を避けるために加熱ジャケット12で覆われている。加熱ジャケットの加熱温度は、ウエハ乾燥中に重大な粒子欠陥を引き起こしうるIPAの気泡がウエハ上へ供給されることを防ぐために、供給ライン内のIPA温度が沸点未満の温度になるように、良好に制御されることが好ましい。ウエハがスピンチャック上で処理されると、ウエハの周辺部での回転運動量がウエハの中央領域よりも高いために、ウエハ縁部でのIPAの温度が大幅に下がる可能性がある。同様に、パターン崩壊は、加熱されたIPAを用いた場合でも、縁部でより深刻になる傾向がある。ウエハ上のIPA温度の降下を避けるために、高温のDI供給源9からウエハの裏側に高温のDIを供給して、ウエハ上のIPA温度を均一に保つ。本発明者が行った実験により、処理中に高温のDIが裏面に供給されない通常条件と比べて、縁部においてより高いウエハ温度を達成できることが示された。ウエハ乾燥にIPAが用いられる場合、回転中のウエハ上の残留IPAを除去および/または蒸発させるために、通例は窒素ガスが用いられる。通常のN2流は処理中にIPA温度を下げうるため、高温N2供給源4からの高温のN2を用いれば、温度の降下を最小化してIPAによる乾燥を円滑にすることができる。IPA流は、50ml/分から160ml/分の間に設定されることが好ましい。ノズル開口部の断面積は、8mm2である1/8インチ管に由来する。したがって、流速は、0.1m/秒から0.33m/秒の範囲である。高温のIPAは、ウエハ温度を上昇させ、それにより、ウォーターマークの数を劇的に減少させる。これは、ウエハ表面の温度を周囲空気の露点より高く維持できることから凝結の減少によって実現されると考えられる。窒素流量は、中心から縁部までのノズルヘッドの移動中に増大されてよい最大窒素流量の50から100まで。最大で縁部付近、窒素流量は、約30l/分である。チャックの速度は、有機溶媒供給ノズルが円板状物品の中心から縁部まで移動する間に、1100rpmから450rpmまで線形的に減少される。60°Cを超えるIPAの温度を用いれば、IPAの流量は、ウォーターマークを生じさせることなく、100ml/分未満に選択可能であり、それにより、IPAの消費を大幅に低減することができる。高温のIPAのウエハWへの供給は、DIリンス工程の完了後ではなく、DIリンス工程中に始まることが好ましい。具体的には、DIリンス工程中に、加熱されたIPA最高82°C、典型的な処理では60~80°Cをウエハに供給することで、DI流が遮断された時にもウエハを湿った状態に保つ。IPAヒータ15、17の加熱設定値は、可能な限り高く保たれることが好ましいが、過熱を避けるために安定していることが好ましい。加熱ジャケット12もオンにされ、制御されることが好ましい。加熱ジャケット12の加熱設定値にも、安全上の懸念を避けるために特定の設定値が必要である。乾燥アーム3がウエハの縁部に向かって移動する時に、窒素ガスがウエハに供給されて、ウエハを乾燥させる。窒素ガスの流量は、乾燥アームが外側に移動するのに伴って変更されてよい。乾燥アームがウエハの外側へ移動すると、ウエハは、ウエハ乾燥を実現するために特定の時間回転する。高温のDIは、加熱されたIPAがウエハの上面に供給される間に、温度を維持するためにウエハの背面に供給される。高温のDIの流量は、処理中にチャンバ壁からの跳ね返りを避けるために、可能な限り低く保たれることが好ましい。また、ウエハ縁部への熱伝導を確実にするために、或る程度の流量が必要である。乾燥アームがウエハ上の特定の位置を通過している間、高温のDIは、上述のように、跳ね返りを避けるために止められることが好ましい。乾燥アームがウエハの縁部に向かって移動する時に、加熱された窒素ガスがウエハに放出されて、ウエハを乾燥させる。窒素ガスの温度は、処理中にウエハ乾燥を円滑にするように選択される。加熱されたN2の流量は、乾燥アームが外側に移動するのに伴って変更されることが好ましい。乾燥アームがウエハ上の特定の位置を通過している間、高温のDIは、上述のように、跳ね返りを避けるために止められることが好ましい。ウエハWの表面から流れ出た高温のIPAは、リザーバ8に戻される前に、高温IPA収集領域14で収集され、高温IPA回収領域16で回収されてよい。上述のように、IPAの吸湿性により、特に回収が行われる時に、含水率が次第に増大する。この含水率の上昇に対処するために、新たなIPAが、未使用IPA供給源13からリザーバ8へ供給されてよい。含水率が上がりすぎて使用できなくなったIPAは、燃料として利用されてもよいし、塩水溶液中へのIPAの比較的低い溶解性に基づいてIPAおよび水を分離できる塩析など、周知の技術によって再精製されてもよい。工程D:最後の工程は、1500rpmのスピン速度で10秒間、全く化学物質を供給せずに回転を行う工程である。この工程は必須ではないが、ウエハ背面上および/またはウエハを回転させるチャック上に付着しうる液滴の任意の跳ね返りを避ける。本発明は様々な実施形態に関連して説明されているが、それらの実施形態は、添付の特許請求の範囲の真の範囲および精神によって与えられる保護範囲を限定するための根拠として用いるべきではないことを理解されたい。