"プラズマを使用することにより、高温且つ活性粒子に富む水蒸気を調製する方法であって、1水蒸気を準備し、1または幾つかの非酸化ガスを作用ガスとして選択し、プラズマ発生器を使用することにより、前記作用ガスを高温プラズマ作用媒体にイオン化する工程と、2前記高温プラズマ作用媒体を高温水蒸気発生器に注入して、高温イオン化環境を形成しつつ、前記水蒸気を回転案内羽根を介して高温水蒸気発生器に高速で導入して、水蒸気が加熱および活性化され、活性粒子に富む水蒸気を形成するように、前記水蒸気を前記高温プラズマ作用媒体と接触させることにより、工程とを含む方法。前記工程1の作用ガスは、前記プラズマ発生器により、2727~11727°C3000~12000Kの温度を有する高温プラズマにイオン化される、請求項1の方法。前記作用ガスは窒素である、請求項1または2の方法。前記工程2の高温プラズマ作用媒体は、30~100m/sの速度で前記高温水蒸気発生器に注入され前記水蒸気は、5~30m/sの速度で前記高温水蒸気発生器に注入され、前記高温プラズマ作用媒体と前記高温水蒸気発生器への前記水蒸気の質量流量比は、前記高温水蒸気発生器の排出口での前記水蒸気が、727~3727°C1000~4000Kの温度を有するように調節される請求項1または2の方法。1から4個の環状間隙が前記高温水蒸気発生器のハウジング上に所定の間隔をあけて配置されており、前記水蒸気の一部は、圧力コンベアにより前記環状間隙を通り前記高温水蒸気発生器へ案内され、保護を目的として、前記高温水蒸気発生器の壁部上に低温水膜を形成する請求項1または2の方法。前記高温水蒸気発生器に供給される前記水蒸気は飽和水蒸気である、請求項1または2の方法。プラズマを使用することにより、高温且つ活性粒子に富む水蒸気を調製する装置であって、プラズマ発生器1と、高温水蒸気発生器2とを含み、高温プラズマ供給口4は前記高温水蒸気発生器2の一端中心部に配置されると共に、前記プラズマ発生器1の排出口1bと連通しており、前記プラズマ発生器1には非酸化ガス供給口1aが設けられており、環状水蒸気供給口3dは、前記高温プラズマ供給口4を包囲するように設けられ、回転案内羽根7は前記環状水蒸気供給口3dの内部に載置される装置。前記高温水蒸気発生器2は、徐々に拡大する段構造のハウジングを含み、前記ハウジングは1から4個の段を含み、環状間隙は前記ハウジングの隣り合う2個の段全ての間に配置されて、前記水蒸気を前記高温水蒸気発生器に流入させ、前記環状間隙は圧力コンベアと接続される請求項7の装置。前記高温水蒸気発生器ハウジングの徐々に拡大する段は、各々300~800mmの長さを有する、請求項8の装置。前記環状間隙は3から15mmの径方向幅を有する、請求項8の装置。上述の問題に鑑み、本発明の目的の一つは、プラズマを用いることにより、高温且つ活性粒子に富む水蒸気を調製する方法および装置を提供することである。本方法は、水蒸気を加熱する高温のプラズマを生成して、高温且つ活性粒子に富む水蒸気を産出するために、非酸化ガスを作用ガスとして採用することにより、水蒸気と電極の接触を回避すると共に、電極の耐用年数を長期化させる。本発明の技術的構成は以下のとおりである。プラズマを使用することにより、高温且つ活性粒子に富む水蒸気を調製する方法は、以下の工程を含む。1水蒸気を準備し、1または幾つかの非酸化ガスを作用ガスとして選択し、プラズマ発生器を使用することにより、作用ガスを高温プラズマ作用媒体にイオン化する工程。2高温プラズマ作用媒体を高温水蒸気発生器に注入して、高温イオン化環境を形成しつつ、水蒸気を回転案内羽根を介して高温水蒸気発生器に高速で導入することにより、水蒸気が加熱活性化されて活性粒子に富む水蒸気を形成するように、水蒸気を高温プラズマ作用媒体と接触させる工程。工程1の作用ガスはプラズマ発生器によって、2727~11727°C3000~12000Kの温度を有する高温プラズマにイオン化される。好適には、作用ガスは窒素である。工程2の高温プラズマ作用媒体は、30~100m/sの速度で、高温水蒸気発生器に注入される。水蒸気は、5~30m/sの速度で、高温水蒸気発生器に注入される。高温水蒸気発生器における高温プラズマ作用媒体と水蒸気の質量流量比は、高温水蒸気発生器排出口の水蒸気温度が727~3727°C1000~4000Kとなるように調節される。1から4個の環状間隙が、高温水蒸気発生器のハウジング上に所定の間隔をあけて配置される。水蒸気の一部は、圧力コンベアにより、環状間隙を通り、高温水蒸気発生器まで案内されると共に、保護を目的として、高温水蒸気発生器の壁部上で低温水膜を形成する。好適には、高温水蒸気発生器に投入される水蒸気は、飽和水蒸気である。プラズマを使用することにより、高温且つ活性粒子に富む水蒸気を調製する装置は、プラズマ発生器と、高温水蒸気発生器を含む。高温プラズマ供給口は、高温水蒸気発生器の一端中央部に配置されると共に、プラズマ発生器の排出口と連通する。プラズマ発生器には非酸化ガス供給口が設けられる。環状水蒸気供給口は、高温プラズマ供給口を包囲するように設けられる。回転案内羽根は環状水蒸気供給口内部に載置される。高温水蒸気発生器は、徐々に拡大する段構造のハウジングを含む。ハウジングは、1から4段を含む。環状間隙は、ハウジングの隣接する2段全ての間に配置されており、水蒸気を高温水蒸気発生器に流入させる。環状間隙は圧力コンベアと連結される。高温水蒸気発生器のハウジングにある徐々に拡大する段は各々、300~800mmの長さを有する。環状間隙は、3~15mmの径方向幅を有する。本発明の効果は以下のとおりである。本方法は、非酸化ガスを作用ガスとして採用しており、プラズマ発生器に腐食が生じない。加えて、水蒸気は個々の供給口から導入され、水蒸気は電極と接触しないので、電極の耐用寿命が長くなる。水蒸気は、環状水蒸気供給口内部に載置される回転案内羽根を介して、高温水蒸気発生器の高温イオン化環境に高速で導入されるので、水蒸気は高温プラズマと瞬時に混合されて接触し、且つ加熱および活性化されて、活性粒子に富む水蒸気が形成される。高温プラズマ作用媒体と高温水蒸気発生器の水蒸気の質量流量比は、高温水蒸気発生器の排出口における水蒸気の温度が、727~3727°C1000~4000Kとなるように調節されることにより、ガス化要件を満たす。水蒸気の一部は環状間隙を通り高温水蒸気発生器に案内され、保護を目的として、高温水蒸気発生器の壁部上に低温水膜を形成する。図1~3に示すように、プラズマを使用することにより、高温且つ活性粒子に富む水蒸気を調製する装置は、プラズマ発生器1と、高温水蒸気発生器2を含む。高温プラズマ供給口4は、高温水蒸気発生器2の一端中心部に配置されており、プラズマ発生器1の排出口1bと連通する。プラズマ発生器1には非酸化ガス供給口1aが設けられる。環状水蒸気供給口3dは、高温プラズマ供給口4を包囲するように設けられる。回転案内羽根7は環状水蒸気供給口3d内部に載置される。環状水蒸気供給口3dは、環状空隙およびノズル3d1を介して、圧力コンベア3と連通する。6は、環状水蒸気供給口3dの穿孔板を表わす。5は、高温且つ活性粒子に富む水蒸気を排出する高温水蒸気発生器2の排出口を表わす。高温水蒸気発生器2は、徐々に拡大する段構造のハウジングを含む。ハウジングは1から4個の段を含む。一例として、高温水蒸気発生器2の3段ハウジングを挙げると、高温水蒸気発生器2のハウジングは、区分2a、2b,2cを含む。環状間隙3a,3b,3cは、ハウジングの隣接する2つの段全ての間に配置されており、水蒸気を高温水蒸気発生器に流入させる。環状間隙3a,3b,3cは、環状空隙が設けられたノズル3a1,3b1,3c1を介して、圧力コンベア3と連結される。高温水蒸気発生器のハウジングの徐々に拡大する段は各々、300~800mmの長さを有する。ハウジングは耐火材料から作られる。環状間隙は、3から15mmの径方向幅を有する。プラズマを使用することにより高温且つ活性粒子に富む水蒸気を調製する方法は、以下の工程を含む。1水蒸気を準備し、作用ガスとして1または幾つかの非酸化ガスを選択し、プラズマ発生器を使用することにより、作用ガスを高温プラズマ作用媒体にイオン化する工程。2高温プラズマ作用媒体を高温水蒸気発生器に注入して、高温イオン化環境を形成しつつ、水蒸気の一部を、回転案内羽根を介して高温水蒸気発生器に高速で導入して、水蒸気が加熱および活性化されて活性粒子に富む水蒸気を形成するように、水蒸気を高温プラズマ作用媒体と接触させる工程。工程1の作用ガスは、プラズマ発生器により、2727~11727°C3000~12000Kの温度を有する高温プラズマにイオン化される。水蒸気には、不飽和水蒸気、飽和水蒸気、過熱水蒸気、水蒸気と空気および/または酸素の混合物が含まれる。好適には、水蒸気は飽和水蒸気である。一般的な非酸化ガスには、Ar、N2、H2、CO2およびCH4が含まれる。好適には、非酸化ガスは窒素である。工程2の高温プラズマ作用媒体は、30~100m/sの速度で、高温水蒸気発生器に注入される。水蒸気は、5~30m/sの速度で、高温水蒸気発生器に注入される。高温プラズマ作用媒体と高温水蒸気発生器中の水蒸気の質量流量比は、高温水蒸気発生器排出口での水蒸気の温度が727~3727°C1000~4000Kであるように調節される。1~4個の環状間隙が高温水蒸気発生器のハウジング上に所定間隔をあけて配置される。水蒸気の一部は、圧力コンベアにより、環状間隙を通り高温水蒸気発生器まで案内されると共に、保護を目的として、高温水蒸気発生器の壁部上に低温水膜を形成する。高温水蒸気発生器ハウジングの徐々に拡大する段は各々、300~800mmの長さを有する。環状間隙は、3~15mmの径方向幅を有する。作用ガスN2は、プラズマ発生器1により2727°C3000Kの温度の高温プラズマにイオン化されると共に、30m/sの速度で高温水蒸気発生器2に注入されることにより、2727°C3000Kの高温イオン化環境が形成される。飽和水蒸気の一部は、回転案内羽根が設けられた環状水蒸気供給口3dを通り高温水蒸気発生器2まで、回転流の形態をなして10m/sの速度で導入され、且つ、水蒸気は高温プラズマと接触する。残りの水蒸気は、環状間隙3a、3b、3cを介して高温水蒸気発生器2まで、5m/sの速度で案内されるとともに、保護を目的として、高温水蒸気発生器2の壁部上に低温水膜を形成する。高温プラズマにはイオン化活性粒子が豊富に含まれているので、飽和蒸気が高温プラズマと混合されて接触した時に、水蒸気は加熱されて、活性粒子活性H2O、活性H、活性OおよびHO-,H-,O2に富む高温水蒸気にイオン化される。水蒸気は反応後に、高温水蒸気発生器2の排出口5において、温度が1227°C1500Kとなり、ガス化のためにガス化装置に直接搬送される。作用ガスCO2は、プラズマ発生器1により4727°C5000Kの温度を有する高温プラズマにイオン化され、70m/sの速度で高温水蒸気発生器2に注入されることにより、4727°C5000Kの高温イオン化環境が形成される。飽和水蒸気の一部は、回転案内羽根が設けられた環状水蒸気供給口3dを通り高温水蒸気発生器2まで、回転流の形態をなして15m/sの速度で導入され、且つ、水蒸気は高温プラズマと接触する。残りの水蒸気は、7m/sの速度で環状間隙3a、3b、3cを通り、高温水蒸気発生器2まで案内され、保護を目的として、高温水蒸気発生器2の壁部上に低温水膜を形成する。高温プラズマにはイオン化活性粒子が豊富に含まれているので、飽和蒸気が高温プラズマと混合されて接触した時に、水蒸気は加熱されて、活性粒子活性H2O、活性H、活性OおよびHO-,H-,O2に富む高温水蒸気にイオン化される。水蒸気は反応後に、高温水蒸気発生器2の排出口5において、温度が2127°C2400Kとなり、ガス化のためにガス化装置に直接搬送される。作用ガスArは、プラズマ発生器1により11727°C12000Kの温度を有する高温プラズマにイオン化され、100m/sの速度で高温水蒸気発生器2に注入されることにより、9727°C10000Kの高温イオン化環境が形成される。飽和水蒸気の一部は、回転案内羽根が設けられた環状水蒸気供給口3dを通り高温水蒸気発生器2まで、回転流の形態をなして30m/sの速度で導入され、且つ、水蒸気は高温プラズマと接触する。残りの水蒸気は、10m/sの速度で、10mmの幅を有する環状間隙3a、3b、3cを通り、高温水蒸気発生器2まで案内され、保護を目的として、高温水蒸気発生器2の壁部上に低温水膜を形成する。高温プラズマにはイオン化活性粒子が豊富に含まれているので、飽和蒸気が高温プラズマと混合されて接触した時に、水蒸気は加熱されて、活性粒子活性H2O、活性H、活性OおよびHO-,H-,O2に富む高温水蒸気にイオン化される。水蒸気は反応後に、高温水蒸気発生器2の排出口5において、温度が2727°C3000Kとなり、ガス化のためにガス化装置に直接搬送される。本発明の高温水蒸気発生器の水蒸気供給口は、水蒸気が電極と接触しないように独立して構成される。従って、非酸素ガスをイオン化媒体として採用すると共に、水蒸気を高温水蒸気発生器に流入させるために独立した供給口を導入した上記の技術的構成が、本発明の保護範囲に含まれる。"