"機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させて窒素および炭化水素を含む還元性中間体を生成させるための排気浄化触媒を配置し、該排気浄化触媒の排気ガス流通表面上には貴金属触媒が担持されていると共に該貴金属触媒周りには塩基性の排気ガス流通表面部分が形成されており、該排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると該還元性中間体を生成して生成された還元性中間体の還元作用により排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、該炭化水素濃度の振動周期を該予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒において還元するために機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を上記予め定められた範囲内の振幅および上記予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、排気浄化触媒から吸蔵されたSOXを放出すべきときには排気浄化触媒に流入する排気ガスの空燃比を、目標とするリッチ空燃比まで低下させて排気浄化触媒上に堆積している還元性中間体をアンモニアの形で脱離させ、脱離したアンモニアによって排気浄化触媒から吸蔵されたSOXを放出させるようにした内燃機関の排気浄化装置。上記脱離したアンモニアにより排気浄化触媒の上流側端部から吸蔵されたSOXを放出させる第1のSOX放出制御と、排気浄化触媒全体から吸蔵されたSOXを放出させる第2のSOX放出制御とが行われ、第2のSOX放出制御の行われる時間は第1のSOX放出制御の行われる時間よりも長くされる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記第2のNOX放出制御の行われる周期は上記第1のNOX放出制御の行われる周期よりも長い請求項2に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記目標とするリッチ空燃比は第2のSOX放出制御時の方が第1のSOX放出制御時に比べて低くされる請求項2に記載の内燃機関の排気浄化装置。排気浄化触媒下流の機関排気通路内にパティキュレートフィルタが配置されており、パティキュレートフィルタの再生時においてパティキュレートフィルタを昇温すべく排気浄化触媒が昇温せしめられたときに上記第1のSOX放出制御を行うようにした請求項2に記載の内燃機関の排気浄化装置。機関高負荷高速運転時に上記第1のSOX放出制御を行うようにした請求項2に記載の内燃機関の排気浄化装置。吸入空気量を制御するためのスロットル弁を具備しており、上記第1のSOX放出制御を行うために排気浄化触媒を昇温すべきときには該スロットル弁が閉弁せしめられる減速運転時に燃焼室内又は排気浄化触媒上流の機関排気通路内に炭化水素が供給される請求項2に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間である請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記貴金属触媒は白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少くとも一方とにより構成される請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記排気浄化触媒の排気ガス流通表面上にアルカリ金属又はアルカリ土類金属又は希土類又はNOXに電子を供与しうる金属を含む塩基性層が形成されており、該塩基性層の表面が上記塩基性の排気ガス流通表面部分を形成している請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。しかしながらNOX吸蔵触媒は高温になるとNOX浄化率が低下するという問題がある。本発明の目的は、排気浄化触媒の温度が高温になっても高いNOX浄化率を得ることのできる内燃機関の排気浄化装置を提供することにある。本発明によれば、機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させて窒素および炭化水素を含む還元性中間体を生成させるための排気浄化触媒を配置し、排気浄化触媒の排気ガス流通表面上には貴金属触媒が担持されていると共に貴金属触媒周りには塩基性の排気ガス流通表面部分が形成されており、排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると還元性中間体を生成して生成された還元性中間体の還元作用により排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期をこの予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒において還元するために機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を上述の予め定められた範囲内の振幅および上述の予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、排気浄化触媒から吸蔵されたSOXを放出すべきときには排気浄化触媒に流入する排気ガスの空燃比を、目標とするリッチ空燃比まで低下させて排気浄化触媒上に堆積している還元性中間体をアンモニアの形で脱離させ、脱離したアンモニアによって排気浄化触媒から吸蔵されたSOXを放出させるようにした内燃機関の排気浄化装置が提供される。排気浄化触媒の温度が高温になっても高いNOX浄化率を得ることができる。図1に圧縮着火式内燃機関の全体図を示す。図1を参照すると、1は機関本体、2は各気筒の燃焼室、3は各燃焼室2内に夫々燃料を噴射するための電子制御式燃料噴射弁、4は吸気マニホルド、5は排気マニホルドを夫々示す。吸気マニホルド4は吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に連結され、コンプレッサ7aの入口は吸入空気量検出器8を介してエアクリーナ9に連結される。吸気ダクト6内にはステップモータにより駆動されるスロットル弁10が配置され、更に吸気ダクト6周りには吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置11内に導かれ、機関冷却水によって吸入空気が冷却される。一方、排気マニホルド5は排気ターボチャージャ7の排気タービン7bの入口に連結される。排気タービン7bの出口は排気管12を介して排気浄化触媒13の入口に連結され、排気浄化触媒13の出口は排気ガス中に含まれる微粒子を捕集するためのパティキュレートフィルタ14に連結される。排気浄化触媒13上流の排気管12内には圧縮着火式内燃機関の燃料として用いられる軽油その他の燃料からなる炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15が配置される。図1に示される実施例では炭化水素供給弁15から供給される炭化水素として軽油が用いられている。なお、本発明はリーン空燃比のもとで燃焼の行われる火花点火式内燃機関にも適用することができる。この場合、炭化水素供給弁15からは火花点火式内燃機関の燃料として用いられるガソリンその他の燃料からなる炭化水素が供給される。一方、排気マニホルド5と吸気マニホルド4とは排気ガス再循環以下、EGRと称す通路16を介して互いに連結され、EGR通路16内には電子制御式EGR制御弁17が配置される。また、EGR通路16周りにはEGR通路16内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置18が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置18内に導かれ、機関冷却水によってEGRガスが冷却される。一方、各燃料噴射弁3は燃料供給管19を介してコモンレール20に連結され、このコモンレール20は電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ21を介して燃料タンク22に連結される。燃料タンク22内に貯蔵されている燃料は燃料ポンプ21によってコモンレール20内に供給され、コモンレール20内に供給された燃料は各燃料供給管19を介して燃料噴射弁3に供給される。電子制御ユニット30はデジタルコンピュータからなり、双方向性バス31によって互いに接続されたROMリードオンリメモリ32、RAMランダムアクセスメモリ33、CPUマイクロプロセッサ34、入力ポート35および出力ポート36を具備する。排気浄化触媒13の下流には排気ガス温を検出するための温度センサ23が取付けられており、パティキュレートフィルタ14にはパティキュレートフィルタ14の前後の差圧を検出するための差圧センサ24が取付けられている。これら温度センサ23、差圧センサ24および吸入空気量検出器8の出力信号は夫々対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル40にはアクセルペダル40の踏込み量Lに比例した出力電圧を発生する負荷センサ41が接続され、負荷センサ41の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。更に入力ポート35にはクランクシャフトが例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ42が接続される。一方、出力ポート36は対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁3、スロットル弁10の駆動用ステップモータ、炭化水素供給弁15、EGR制御弁17および燃料ポンプ21に接続される。図2は排気浄化触媒13の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。この排気浄化触媒13では図2に示されるように例えばアルミナからなる触媒担体50上には貴金属触媒51,52が担持されており、更にこの触媒担体50上にはカリウムK、ナトリウムNa、セシウムCsのようなアルカリ金属、バリウムBa、カルシウムCaのようなアルカリ土類金属、ランタノイドのような希土類および銀Ag、銅Cu、鉄Fe、イリジウムIrのようなNOXに電子を供与しうる金属から選ばれた少くとも一つを含む塩基性層53が形成されている。排気ガスは触媒担体50上に沿って流れるので貴金属触媒51,52は排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上に担持されていると言える。また、塩基性層53の表面は塩基性を呈するので塩基性層53の表面は塩基性の排気ガス流通表面部分54と称される。一方、図2において貴金属触媒51は白金Ptからなり、貴金属触媒52はロジウムRhからなる。即ち、触媒担体50に担持されている貴金属触媒51,52は白金PtおよびロジウムRhから構成されている。なお、排気浄化触媒13の触媒担体50上には白金PtおよびロジウムRhに加えて更にパラジウムPdを担持させることができるし、或いはロジウムRhに代えてパラジウムPdを担持させることができる。即ち、触媒担体50に担持されている貴金属触媒51,52は白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される。炭化水素供給弁15から排気ガス中に炭化水素が噴射されるとこの炭化水素は排気浄化触媒13の上流側端部において改質される。本発明ではこのとき改質された炭化水素を用いて排気浄化触媒13においてNOXを浄化するようにしている。図3はこのとき排気浄化触媒13の上流側端部において行われる改質作用を図解的に示している。図3に示されるように炭化水素供給弁15から噴射された炭化水素HCは触媒51によって炭素数の少ないラジカル状の炭化水素HCとなる。なお、燃料噴射弁3から燃焼室2内に燃料、即ち炭化水素を膨張行程の後半或いは排気行程中に噴射してもこの炭化水素は燃焼室2内又は排気浄化触媒13において改質され、排気ガス中に含まれるNOXはこの改質された炭化水素によって排気浄化触媒13で浄化される。従って本発明では炭化水素供給弁15から機関排気通路内に炭化水素を供給する代りに、膨張行程の後半或いは排気行程中に燃焼室2内に炭化水素を供給することもできる。このように本発明では炭化水素を燃焼室2内に供給することもできるが、以下炭化水素を炭化水素供給弁15から機関排気通路内に噴射するようにした場合を例にとって本発明を説明する。図4は炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給タイミングと排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化とを示している。なお、この空燃比A/Finの変化は排気浄化触媒13に流入する排気ガス中の炭化水素の濃度変化に依存しているので図4に示される空燃比A/Finの変化は炭化水素の濃度変化を表しているとも言える。ただし、炭化水素濃度が高くなると空燃比A/Finは小さくなるので図4においては空燃比A/Finがリッチ側となるほど炭化水素濃度が高くなっている。図5は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させることによって図4に示されるように排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finを変化させたときの排気浄化触媒13によるNOX浄化率を排気浄化触媒13の各触媒温度TCに対して示している。本発明者は長い期間に亘ってNOX浄化に関する研究を重ねており、その研究課程において、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、図5に示されるように400°C以上の高温領域においても極めて高いNOX浄化率が得られることが判明したのである。更にこのときには窒素および炭化水素を含む多量の還元性中間体が排気浄化触媒13の上流側端部の塩基性層53の表面上において、即ち排気浄化触媒13の上流側端部の塩基性排気ガス流通表面部分54上において生成され、この還元性中間体が高NOX浄化率を得る上で中心的役割を果していることが判明したのである。次にこのことについて図6A,6Bおよび6Cを参照しつつ説明する。なお、図6Aおよび6Bは排気浄化触媒13の上流側端部の触媒担体50の表面部分を図解的に示しており、図6Cはこの上流側端部よりも下流側における触媒担体50の表面部分を図解的に示している。これら図6A,6Bおよび6Cには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動せしめたときに生ずると推測される反応が示されている。図6Aは排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低いときを示しており、図6Bは炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されて排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が高くなっているときを示している。さて、図4からわかるように排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比は一瞬を除いてリーンに維持されているので排気浄化触媒13に流入する排気ガスは通常酸素過剰の状態にある。従って排気ガス中に含まれるNOは図6Aに示されるように白金51上において酸化されてNO2となり、次いでこのNO2は更に酸化されてNO3となる。また、NO2の一部はNO2-となる。この場合、NO3の生成量の方がNO2-の生成量よりもはるかに多い。従って白金Pt51上には多量のNO3と少量のNO2-が生成されることになる。これらNO3およびNO2-は活性が強く、以下これらNO3およびNO2-を活性NOXと称する。一方、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されると図3に示されるようにこの炭化水素は排気浄化触媒13の上流側端部内において改質され、ラジカルとなる。その結果、図6Bに示されるように活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなる。ところで活性NOXが生成された後、活性NOX周りの酸素濃度が高い状態が一定時間以上継続すると活性NOXは酸化され、硝酸イオンNO3-の形で塩基性層53内に吸収される。しかしながらこの一定時間が経過する前に活性NOX周りの炭化水素濃度が高くされると図6Bに示されるように活性NOXは白金51上においてラジカル状の炭化水素HCと反応し、それにより還元性中間体が生成される。この還元性中間体は塩基性層53の表面上に付着又は吸着されつつ下流側に移動していく。なお、このとき最初に生成される還元性中間体はニトロ化合物R-NO2であると考えられる。このニトロ化合物R-NO2は生成されるとニトリル化合物R-CNとなるがこのニトリル化合物R-CNはその状態では瞬時しか存続し得ないのでただちにイソシアネート化合物R-NCOとなる。このイソシアネート化合物R-NCOは加水分解するとアミン化合物R-NH2となる。ただしこの場合、加水分解されるのはイソシアネート化合物R-NCOの一部であると考えられる。従って図6Bに示されるように塩基性層53の表面上に保持又は吸着されている還元性中間体の大部分はイソシアネート化合物R-NCOおよびアミン化合物R-NH2であると考えられる。一方、排気浄化触媒13の上流側端部において生成された活性NO3の一部は下流側に送り込まれて塩基性層53の表面上に付着又は吸着される。従って上流側端部よりも下流側の排気浄化触媒13内には多量のNOXが保持されていることになる。一方、前述したように排気浄化触媒13内では上流側端部から下流側に向けて還元性中間体が移動する。これらの還元性中間体R-NCOやR-NH2は図6Cに示されるように下流側の排気浄化触媒13内に保持されている活性NOXと反応してN2,CO2,H2Oとなり、斯くしてNOXが浄化されることになる。このように排気浄化触媒13では、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を一時的に高くして還元性中間体を生成することにより活性NOXが還元性中間体と反応し、NOXが浄化される。即ち、排気浄化触媒13によりNOXを浄化するには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させる必要がある。無論、この場合、還元性中間体を生成するのに十分高い濃度まで炭化水素の濃度を高める必要がある。即ち、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅で振動させる必要がある。なお、この場合、生成された還元性中間体が活性NOXと反応するまで、十分な量の還元性中間体R-NCOやR-NH2を塩基性層53上に、即ち塩基性排気ガス流通表面部分24上保持しておかなければならず、そのために塩基性の排気ガス流通表面部分24が設けられている。一方、炭化水素の供給周期を長くすると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給されるまでの間において酸素濃度が高くなる期間が長くなり、従って活性NOXは還元性中間体を生成することなく硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されることになる。これを回避するためには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の周期でもって振動させることが必要となる。そこで本発明による実施例では、排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させて窒素および炭化水素を含む還元性中間体R-NCOやR-NH2を生成するために排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上には貴金属触媒51,52が担持されており、生成された還元性中間体R-NCOやR-NH2を排気浄化触媒13内に保持しておくために貴金属触媒51,52周りには塩基性の排気ガス流通表面部分54が形成されており、塩基性の排気ガス流通表面部分54上に保持された還元性中間体R-NCOやR-NH2の還元作用によりNOXが還元され、炭化水素濃度の振動周期は還元性中間体R-NCOやR-NH2を生成し続けるのに必要な振動周期とされる。因みに図4に示される例では噴射間隔が3秒とされている。炭化水素濃度の振動周期、即ち炭化水素HCの供給周期を上述の予め定められた範囲内の周期よりも長くすると塩基性層53の表面上から還元性中間体R-NCOやR-NH2が消滅し、このとき白金Pt53上において生成された活性NOXは図7Aに示されるように硝酸イオンNO3-の形で塩基性層53内に拡散し、硝酸塩となる。即ち、このときには排気ガス中のNOXは硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されることになる。一方、図7BはこのようにNOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されているときに排気浄化触媒13内に流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比又はリッチにされた場合を示している。この場合には排気ガス中の酸素濃度が低下するために反応が逆方向NO3-→NO2に進み、斯くして塩基性層53内に吸収されている硝酸塩は順次硝酸イオンNO3-となって図7Bに示されるようにNO2の形で塩基性層53から放出される。次いで放出されたNO2は排気ガス中に含まれる炭化水素HCおよびCOによって還元される。図8は塩基性層53のNOX吸収能力が飽和する少し前に排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finを一時的にリッチにするようにした場合を示している。なお、図8に示す例ではこのリッチ制御の時間間隔は1分以上である。この場合には排気ガスの空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層53内に吸収されたNOXは、排気ガスの空燃比A/Finが一時的にリッチにされたときに塩基性層53から一気に放出されて還元される。従ってこの場合には塩基性層53はNOXを一時的に吸収するための吸収剤の役目を果している。なお、このとき塩基性層53がNOXを一時的に吸着する場合もあり、従って吸収および吸着の双方を含む用語として吸蔵という用語を用いるとこのとき塩基性層53はNOXを一時的に吸蔵するためのNOX吸蔵剤の役目を果していることになる。即ち、この場合には、機関吸気通路、燃焼室2および排気浄化触媒13上流の排気通路内に供給された空気および燃料炭化水素の比を排気ガスの空燃比と称すると、排気浄化触媒13は、排気ガスの空燃比がリーンのときにはNOXを吸蔵し、排気ガス中の酸素濃度が低下すると吸蔵したNOXを放出するNOX吸蔵触媒として機能している。図9は、排気浄化触媒13をこのようにNOX吸蔵触媒として機能させたときのNOX浄化率を示している。なお、図9の横軸は排気浄化触媒13の触媒温度TCを示している。排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合には図9に示されるように触媒温度TCが300°Cから400°Cのときには極めて高いNOX浄化率が得られるが触媒温度TCが400°C以上の高温になるとNOX浄化率が低下する。このように触媒温度TCが400°C以上になるとNOX浄化率が低下するのは、触媒温度TCが400°C以上になると硝酸塩が熱分解してNO2の形で排気浄化触媒13から放出されるからである。即ち、NOXを硝酸塩の形で吸蔵している限り、触媒温度TCが高いときに高いNOX浄化率を得るのは困難である。しかしながら図4から図6A,6Bに示される新たなNOX浄化方法では図6A,6Bからわかるように硝酸塩は生成されず或いは生成されても極く微量であり、斯くして図5に示されるように触媒温度TCが高いときでも高いNOX浄化率が得られることになる。そこで本発明では、機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させて窒素および炭化水素を含む還元性中間体を生成させるための排気浄化触媒13を配置し、排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上には貴金属触媒51,52が担持されていると共に貴金属触媒51,52周りには塩基性の排気ガス流通表面部分54が形成されており、排気浄化触媒13は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると還元性中間体を生成して生成された還元性中間体の還元作用により排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期をこの予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、それにより排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒13において還元するようにしている。即ち、図4から図6A,6Bに示されるNOX浄化方法は、貴金属触媒を担持しかつNOXを吸収しうる塩基性層を形成した排気浄化触媒を用いた場合において、ほとんど硝酸塩を形成することなくNOXを浄化するようにした新たなNOX浄化方法であると言うことができる。実際、この新たなNOX浄化方法を用いた場合には排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合に比べて、塩基性層53から検出される硝酸塩は極く微量である。なお、この新たなNOX浄化方法を以下、第1のNOX浄化方法と称する。次に図10から図15を参照しつつこの第1のNOX浄化方法についてもう少し詳細に説明する。図10は図4に示される空燃比A/Finの変化を拡大して示している。なお、前述したようにこの排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化は同時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化を示している。なお、図10においてΔHは排気浄化触媒13に流入する炭化水素HCの濃度変化の振幅を示しており、ΔTは排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期を示している。更に図10においてA/Fbは機関出力を発生するための燃焼ガスの空燃比を示すベース空燃比を表している。言い換えるとこのベース空燃比A/Fbは炭化水素の供給を停止したときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比を表している。一方、図10においてXは、生成された活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸蔵されることなく還元性中間体の生成のために使用される空燃比A/Finの上限を表しており、活性NOXと改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるには空燃比A/Finをこの空燃比の上限Xよりも低くすることが必要となる。別の言い方をすると図10のXは活性NOXと改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるのに必要な炭化水素の濃度の下限を表しており、還元性中間体を生成するためには炭化水素の濃度をこの下限Xよりも高くする必要がある。この場合、還元性中間体が生成されるか否かは活性NOX周りの酸素濃度と炭化水素濃度との比率、即ち空燃比A/Finで決まり、還元性中間体を生成するのに必要な上述の空燃比の上限Xを以下、要求最小空燃比と称する。図10に示される例では要求最小空燃比Xがリッチとなっており、従ってこの場合には還元性中間体を生成するために空燃比A/Finが瞬時的に要求最小空燃比X以下に、即ちリッチにされる。これに対し、図11に示される例では要求最小空燃比Xがリーンとなっている。この場合には空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させることによって還元性中間体が生成される。この場合、要求最小空燃比Xがリッチになるかリーンになるかは排気浄化触媒13の酸化力による。この場合、排気浄化触媒13は例えば貴金属51の担持量を増大させれば酸化力が強まり、酸性を強めれば酸化力が強まる。従って排気浄化触媒13の酸化力は貴金属51の担持量や酸性の強さによって変化することになる。さて、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、空燃比A/Finが低下せしめられたときに炭化水素が完全に酸化されてしまい、その結果還元性中間体を生成することができなくなる。これに対し、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると空燃比A/Finがリッチにされたときに炭化水素は完全に酸化されることなく部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして還元性中間体が生成されることになる。従って酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリッチにする必要がある。一方、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、炭化水素は完全に酸化されずに部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして還元性中間体が生成される。これに対し、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると多量の炭化水素は酸化されることなく単に排気浄化触媒13から排出されることになり、斯くして無駄に消費される炭化水素量が増大することになる。従って酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリーンにする必要がある。即ち、要求最小空燃比Xは図12に示されるように排気浄化触媒13の酸化力が強くなるほど低下させる必要があることがわかる。このように要求最小空燃比Xは排気浄化触媒13の酸化力によってリーンになったり、或いはリッチになったりするが、以下要求最小空燃比Xがリッチである場合を例にとって、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅や排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期について説明する。さて、ベース空燃比A/Fbが大きくなると、即ち炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高くなると空燃比A/Finを要求最小空燃比X以下とするのに必要な炭化水素の供給量が増大する。従って炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅を大きくする必要がある。図13は同一のNOX浄化率が得られるときの、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度と炭化水素濃度の振幅ΔHとの関係を示している。図13から同一のNOX浄化率を得るためには炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させる必要があることがわかる。即ち、同一のNOX浄化率を得るにはベース空燃比A/Fbが高くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを増大させることが必要となる。別の言い方をすると、NOXを良好に浄化するためにはベース空燃比A/Fbが低くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを減少させることができる。ところでベース空燃比A/Fbが最も低くなるのは加速運転時であり、このとき炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm程度あればNOXを良好に浄化することができる。ベース空燃比A/Fbは通常、加速運転時よりも大きく、従って図14に示されるように炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm以上であれば良好なNOX浄化率を得ることができることになる。一方、ベース空燃比A/Fbが最も高いときには炭化水素濃度の振幅ΔHを10000ppm程度にすれば良好なNOX浄化率が得られることがわかっている。従って本発明では炭化水素濃度の振幅の予め定められた範囲が200ppmから10000ppmとされている。また、炭化水素濃度の振動周期ΔTが長くなると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給される間、活性NOX周りの酸素濃度が高くなる。この場合、炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなると活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収され始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなるとNOX浄化率が低下することになる。従って炭化水素濃度の振動周期ΔTは5秒以下とする必要がある。一方、炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になると供給された炭化水素が排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上に堆積し始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になるとNOX浄化率が低下する。そこで本発明では炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間とされている。さて、本発明では炭化水素供給弁15からの炭化水素供給量および噴射時期を変化させることによって炭化水素濃度の振幅ΔHおよび振動周期ΔTが機関の運転状態に応じた最適値となるように制御される。この場合、本発明による実施例ではこの最適な炭化水素濃度の振幅ΔHを得ることのできる炭化水素供給量Wが燃料噴射弁3からの噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図16に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。また、最適な炭化水素濃度の振動振幅ΔT、即ち炭化水素の噴射周期ΔTも同様に噴射量Qおよび機関回転数Nの関数としてマップの形で予めROM32内に記憶されている。次に図17から図20を参照しつつ排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法について具体的に説明する。このように排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法を以下、第2のNOX浄化方法と称する。この第2のNOX浄化方法では図17に示されるように塩基性層53に吸蔵された吸蔵NOX量ΣNOXが予め定められた許容量MAXを越えたときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finが一時的にリッチにされる。排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされると排気ガスの空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層53内に吸蔵されたNOXが塩基性層53から一気に放出されて還元される。それによってNOXが浄化される。吸蔵NOX量ΣNOXは例えば機関から排出されるNOX量から算出される。本発明による実施例では機関から単位時間当り排出される排出NOX量NOXAが噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図18に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されており、この排出NOX量NOXAから吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。この場合、前述したように排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされる周期は通常1分以上である。この第2のNOX浄化方法では図19に示されるように燃焼室2内に燃料噴射弁3から燃焼用燃料Qに加え、追加の燃料WRを噴射することによって排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされる。なお、図19の横軸はクランク角を示している。この追加の燃料WRは燃焼はするが機関出力となって現われない時期に、即ち圧縮上死点後ATDC90°の少し手前で噴射される。この燃料量WRは噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図20に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。無論、この場合炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量を増大させることによって排気ガスの空燃比A/Finをリッチにすることもできる。ところで排気ガス中にはSOX、即ちSO2が含まれており、このSO2が排気浄化触媒13に流入すると第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われているときでも、第2のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われているときでもこのSO2は図21Aに示されるように白金Pt51において酸化されてSO3となる。次いでこのSO3は塩基性層53内に吸収されて硫酸イオンSO42-の形で塩基性層53内に拡散し、安定した硫酸塩を生成する。しかしながら硫酸塩は安定していて分解しづらく、排気ガスの空燃比を単にリッチにしただけでは硫酸塩は分解されずにそのまま残る。従って塩基性層53内には時間が経過するにつれて次第に多くのSOXが吸蔵されることになる。即ち、排気浄化触媒13が硫黄被毒を生ずることになる。塩基性層53内に吸蔵されているSOX量が増大すると塩基性層53の塩基性が弱まり、その結果、NO2がNO3となる反応、即ち活性NOXの生成反応が進まなくなる。このように活性NOXの生成反応が進まなくなると排気浄化触媒13の上流側端部における還元性中間体の生成作用が弱まり、斯くして第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われているときのNOX浄化率が低下することになる。従ってこのときには排気浄化触媒13の上流側端部に吸蔵しているSOXを上流側端部から放出させる必要がある。一方、塩基性層53内に吸蔵されているSOX量が増大しても排気浄化触媒13の下流側における還元性中間体と活性NOXとの反応、即ちNOXの浄化方法にはあまり影響が出ない。しかしながら排気浄化触媒13全体においてSOXの吸蔵量が増大すると排気浄化触媒13が吸蔵しうるNOX量が低下し、終いにはNOXを吸蔵しえなくなる。排気浄化触媒13がNOXを吸蔵しえなくなるともはや第2のNOX浄化方法を用いてNOXを浄化しえなくなる。従ってこの場合には排気浄化触媒13全体に吸蔵されているSOXを排気浄化触媒13全体から放出させる必要がある。ところでこの場合、排気浄化触媒13の温度を排気浄化触媒13により定まるSOX放出温度まで上昇させた状態で還元剤、即ち炭化水素を供給し、それにより排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比をリッチにすると、還元剤による還元作用によって排気浄化触媒13からSOXを放出させることができる。しかしながら、炭化水素HC自体の還元力はさほど強くなく、従って排気浄化触媒13からSOXを放出させる際に炭化水素HCの還元作用によりSOXを還元させる場合には多量の炭化水素HCが必要となる。これに対し、アンモニアNH3は炭化水素HCよりもはるかに還元性が強く、従って排気浄化触媒13からSOXを放出させる際にアンモニアNH3を生成することができればSOXを容易に還元できることになる。この点に関し研究を重ねた結果、排気浄化触媒13内に還元性中間体が堆積しているときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比がリッチにされると還元性中間体がアンモニアの形で排気浄化触媒13から脱離し、この脱離したアンモニアによって排気浄化触媒13に吸蔵されているSOXが還元されて放出されることが判明したのである。そこで本発明では、排気浄化触媒13から吸蔵されたSOXを放出すべきときには排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比を、目標とするリッチ空燃比まで低下させて排気浄化触媒13上に堆積している還元性中間体をアンモニアの形で脱離させ、脱離したアンモニアによって排気浄化触媒から吸蔵されたSOXを放出させるようにしている。即ち、このとき図21Bに示されるように部分酸化された炭化水素と還元性中間体とが反応して還元性中間体がアンモニアNH3の形で脱離せしめられ、吸蔵されている硫酸塩がこの脱離したアンモニアNH3により還元されて塩基性層53からSO2の形で放出される。ところで本発明では、排気浄化触媒13からSOXを放出させるためのSOX放出制御として、脱離したアンモニアにより排気浄化触媒13の上流側端部から吸蔵されたSOXを放出させる第1のSOX放出制御と、排気浄化触媒13全体から吸蔵されたSOXを放出させる第2のSOX放出制御との二つのSOX放出制御が行われる。図22Aおよび図23Aはこの第1のSOX放出制御を示しており、図22Bおよび図23Bはこの第2のSOX放出制御を示している。まず初めに図22Aおよび図22Bを参照しつつ第1のSOX放出制御について説明する。前述したようにこの第1のSOX放出制御は排気浄化触媒13の上流側端部13aのSOX吸蔵量が、例えば予め定められた量を越えたときに行われる。即ち、図23Aのt1において上流側端部13aからSOXを放出すべきであると判断されたとすると図23Aの期間txの間、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用を行いつつ炭化水素供給弁15からの単位時間当りの炭化水素供給量が増大されて排気浄化触媒13の昇温制御が行われる。次いで排気浄化触媒13の温度がSOX放出温度に達すると排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/FinがRAで示されるように一定時間、例えば5秒間、目標とするリッチ空燃比までリッチにされる。なお、図23Aに示される例では時間間隔を隔てて二回、排気ガスの空燃比A/Finが一定時間、リッチにされる。この場合、排気ガスの空燃比A/Finは図19のWRで示されるように燃焼室2内に追加の燃料を噴射することによって、或いは炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量を増大することによってリッチにされる。排気ガスの空燃比がリッチにされると上流側端部13aに堆積している還元性中間体がアンモニアの形で脱離せしめられ、この脱離したアンモニアによって吸蔵されているSOXが上流側端部13aからSO2の形で放出される。この放出されたSO2は図22Aに示されるように下流側に移動して上流側端部13aよりも下流側の下流側触媒部分13b内に再び吸蔵される。この場合、上流側端部13aから放出されたSOXが下流側触媒部分13bに吸蔵されないようにするには下流側触媒部分13b内全体の雰囲気を長時間に亘ってリッチにしなければならず、そのためには排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finを長時間に亘ってかなりリッチにしなければならない。しかしながら上流側端部13aから単にSOXを放出させるだけなら、即ち放出されたSO2が下流側触媒部分13b内に吸蔵してもよいなら、排気ガスの空燃比A/Finはそれほどリッチにする必要がなく、また排気ガスの空燃比A/Finは短時間だけリッチにすれば十分である。従って第1のSOX放出制御時には図23AにおいてRAで示されるように目標とする空燃比A/Finはそれほどリッチとはされていない。なお、このように目標とする空燃比A/Finがそれほどリッチとはされていないと言っても空燃比A/Finがリッチにされたときには空燃比A/Finはリッチにされる前に比べて低下せしめられる。従って本発明では排気浄化触媒13から吸蔵されたSOXを放出すべきときには排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finが目標とするリッチ空燃比まで低下せしめられることになる。空燃比A/Finをこの目標とするリッチ空燃比とするのに必要な追加の燃料量又は炭化水素量は予め記憶されている。なお、図23AではRAで示されるリッチ期間中は空燃比A/Finが継続してリッチにされているように描かれているが実際には空燃比A/Finは昇温制御tx時よりもはるかに短かい間隔で振動している。一方、第2のSOX放出制御は排気浄化触媒13全体に吸蔵されているSOX量ΣSOXが予め定められた許容値SXを越えたときに行われる。なお、本発明による実施例では単位時間当り機関から排出される排出SOX量SOXAが噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図22Cに示されるようなマップの形で予めROM32内に記憶されており、この排出SOX量SOXAを積算することによって吸蔵SOX量ΣSOXが算出される。即ち、図23Bのt1においてSOX量ΣSOXが許容値SXを越えたとすると図23Bの期間TXの間、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用を行いつつ炭化水素供給弁15からの単位時間当りの炭化水素供給量が増大されて排気浄化触媒13の昇温制御が行われる。次いで排気浄化触媒13の温度がSOX放出温度に達すると排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/FinがRAで示されるように一定時間、例えば5秒間、目標とするリッチ空燃比までリッチにされる。なお、図23Bに示される場合には排気ガスの空燃比A/Finは繰返し一定時間、リッチにされる。この場合にも排気ガスの空燃比A/Finは図19のWRで示されるように燃焼室2内に追加の燃料を噴射することによって、或いは炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量を増大することによってリッチにされる。排気ガスの空燃比がリッチにされると排気浄化触媒13上に堆積している還元性中間体がアンモニアの形で脱離せしめられ、この脱離したアンモニアによって吸蔵されているSOXが排気浄化触媒13全体からSO2の形で放出される。この放出されたSO2は図22Bに示されるように排気浄化触媒13から排出される。このように第2のSOX放出制御時には放出されたSOXを排気浄化触媒13から排出させるために排気ガスの空燃比A/Finはかなりリッチとされ、しかも長時間に亘って排気ガスの空燃比A/Finが繰返しリッチにされる。図23Aと図23Bとを比較するとわかるように本発明による実施例では、第2のSOX放出制御の行われる時間は第1のSOX放出制御の行われる時間よりも長くされる。また、目標とするリッチ空燃比は第2のSOX放出制御時の方が第1のSOX放出制御時に比べて低くされる。なお、図1に示される内燃機関では減速運転時にスロットル弁10が閉弁せしめられる。スロットル弁10が閉弁せしめられると排気ガスの流速が遅くなり、従ってこのとき燃焼室2内又は排気通路内に炭化水素を供給して昇温作用を行うと排気浄化触媒13の上流側端部13aに集中的に熱が加わるために上流側端部13aの温度を効率よく昇温させることができる。従って本発明による別の実施例では第1のSOX放出制御を行うために排気浄化触媒13を昇温すべきときにはスロットル弁10が閉弁せしめられる減速運転時に燃焼室2内又は排気浄化触媒13上流の機関排気通路内に炭化水素が供給される。また、機関高負荷高速運転時には排気浄化触媒13の温度はSOX放出温度となっており、従ってこのとき第1のSOX放出制御を行うと排気浄化触媒13の昇温制御が必要なくなる。従って本発明による更に別の実施例では機関高負荷高速運転時に第1のSOX放出制御が行われる。また、本発明による更に別の実施例ではパティキュレートフィルタ14の再生時においてパティキュレートフィルタ14を昇温すべく排気浄化触媒13が昇温せしめられたときに第1のSOX放出制御が行われる。このようにするとSOX放出制御のためだけに排気浄化装置13の昇温制御を行う必要がなくなる。図24はこのようにパティキュレートフィルタ14の再生時に第1のSOX放出制御を行うようにした場合のタイムチャートを示しており、図25はこの場合の排気浄化制御ルーチンを示している。図24においてΔPは差圧センサ24により検出されたパティキュレートフィルタ14の前後の差圧を示している。図24に示されるようにパティキュレートフィルタ14の前後差圧ΔPが許容値PXを越えると例えば炭化水素供給弁15から炭化水素が供給され、パティキュレートフィルタ14の昇温制御が行われる。この昇温制御は供給された炭化水素の排気浄化触媒13上における酸化反応熱によって排気ガス温を上昇させ、それによってパティキュレートフィルタ14の温度が上昇せしめられる。パティキュレートフィルタ14の温度が上昇せしめられるとパティキュレートフィルタ14上に捕集されたパティキュレートが燃焼し、斯くして前後差圧ΔPは次第に減少していく。一方、パティキュレートフィルタ14の昇温制御時には図24に示されるように排気浄化触媒13の温度TCも上昇する。従ってこのときに第1のSOX放出制御が行われる。一方、吸蔵SOX量ΣSOXが許容値SXを越えると図23Bに示されるように昇温制御が行われ、次いで第2のSOX放出制御が行われる。図23Bに示されるようにこの第2のSOX放出制御はリッチ空燃比とリーン空燃比が繰返され、それによって排気浄化触媒13はSOX放出温度に維持される。パティキュレートフィルタ14の再生処理は車両の走行距離が100kmから500kmの間に達する毎に行われ、従って第1のSOX放出制御は車両の走行距離が100kmから500kmの間に達する毎に行われる。この第1のSOX放出制御において空燃比がリッチとされる合計時間は最大で30秒である。これに対し、第2のSOX放出制御は車両の走行距離が1000kmから5000kmに達する毎に行われ、この第2のSOX放出制御において空燃比がリッチとされる合計時間は5分から10分である。このように第2のNOX放出制御の行われる周期は第1のNOX放出制御の行われる周期よりも長くされている。次に図25に示される排気浄化制御ルーチンについて説明する。このルーチンは一定時間毎の割込みによって実行される。図25を参照すると、まず初めにステップ60において図22Cに示されるマップから排出SOX量SOXAが算出され、次いでステップ61ではΣSOXに排出SOX量SOXAを加算することによって吸蔵SOX量ΣSOXが算出される。次いでステップ62では温度センサ23の出力信号から排気浄化触媒13の温度TCが活性化温度TXを越えているか否かが判別される。TC≧TXのとき、即ち排気浄化触媒13が活性化しているときにはステップ63に進んで差圧センサ24の出力信号からパティキュレートフィルタ14の前後差圧ΔPが許容値PXを越えたか否かが判別される。ΔP≦PXのときにはステップ66にジャンプする。これに対し、ΔP>PXのときにはステップ64に進んでパティキュレートフィルタ14の昇温制御が行われ、次いでステップ65では第1のSOX放出制御が行われる。次いでステップ66に進む。ステップ66では吸蔵SOX量ΣSOXが許容値SXを越えたか否かが判別される。ΣSOX>SXになるとステップ67に進んで排気浄化触媒13の昇温制御が行われる。次いでステップ68において第2のSOX放出制御が行われ、ΣSOXがクリアされる。一方、ステップ62においてTC≦TC0であると判断されたときには第2のNOX浄化方法を用いるべきであると判断され、ステップ69に進む。ステップ69では図18に示すマップから単位時間当りの排出NOX量NOXAが算出される。次いでステップ70ではΣNOXに排出NOX量NOXAを加算することによって吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。次いでステップ71では吸蔵NOX量ΣNOXが許容値NXを越えたか否かが判別される。ΣNOX>NXになるとステップ72に進んで図20に示すマップから追加の燃料量WRが算出され、追加の燃料の噴射作用が行われる。次いでステップ73ではΣNOXがクリアされる。なお、別の実施例として排気浄化触媒13上流の機関排気通路内に炭化水素を改質させるための酸化触媒を配置することもできる。"