"六方晶系窒化ホウ素を非酸化性ガス雰囲気中又は真空中において焼結する窒化ホウ素焼結体の製造方法であって、原料となる六方晶系窒化ホウ素粉体の各粒子には表面のみならず内部にも酸素が含まれており、焼結温度は600°C以上1100°C未満であることを特徴とする六方晶系窒化ホウ素焼結体の製造方法。前記六方晶系窒化ホウ素からなる粉体の粒子は、オージェ電子分光分析におけるイオンミリング法を用いた深さ方向の測定において、SiO2換算で少なくとも300nmの深さまでは酸素の存在が確認されることを特徴とする請求項1記載の六方晶系窒化ホウ素焼結体の製造方法。前記六方晶系窒化ホウ素の酸素含有量は10重量以上であることを特徴とする請求項1又は2記載の六方晶系窒化ホウ素焼結体の製造方法。粒子の表面のみならず内部にも酸素が含まれている六方晶系窒化ホウ素粉末を圧力成形してプレ成形体とするプレ成形工程と、該プレ成形体を非酸化性ガス雰囲気中又は真空中において600°C以上1100°C未満で焼結する焼結工程と、を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の六方晶系窒化ホウ素焼結体の製造方法。前記焼結工程は、圧力をかけることなく焼結を行なうことを特徴とする請求項3又は4に記載の六方晶系窒化ホウ素焼結体の製造方法。請求項1乃至5のいずれか1項記載の製造方法で製造されており、相対密度が60以上であることを特徴とする六方晶系窒化ホウ素焼結体。請求項1乃至6のいずれか1項記載の製造方法で製造されており、焼結体中の六方晶系窒化ホウ素の結晶が非板状の形態をなすことを特徴とする六方晶系窒化ホウ素焼結体。しかし、上記特許文献1~6の六方晶系窒化ホウ素の焼成方法では、焼成温度が1,200~2,100°Cと極めて高い温度であった。このため、エネルギーの消費量が多くなり、ランニングコストが高価となり、生産効率も良くなく、製品の価格が高価となり、且つ環境負荷の低減も実現できなかった。本発明は、上記従来の実情に鑑みてなされたものであり、常圧下での焼成が可能であって、低温で焼結することが可能な六方晶系窒化ホウ素焼結体及びその製造方法を提供することを目的とするものである。本発明者らは、上記従来の課題を解決するため、六方晶系窒化ホウ素の焼結助剤として酸化ホウ素を添加することを考えた。これは、酸化ホウ素が長石等他の焼結助剤よりも融点が低く、焼結温度を低くすることが予想されたからである。ところが、予想に反し、六方晶系窒化ホウ素と酸化ホウ素とを混合してプレ成形し、これを非酸化雰囲気中で焼結しようとしても焼結は困難であった。発明者らはこの焼結失敗について検討を重ねた結果、次の理由により十分な結果が得られなかったのではないかと考えた。すなわち、六方晶系窒化ホウ素と酸化ホウ素とを混合しても、酸化ホウ素は均質に分散されず、あるいは、六方晶系窒化ホウ素の粒子が混合時に破砕されて破断面が現れた場合において、その破断面には酸化ホウ素が存在しないことから濡れ性が悪く、これが焼結を困難としている理由であると推定した。そして、さらに研究を重ねた結果、焼結に用いる六方晶系窒化ホウ素からなる粉体の各粒子の表面のみならず内部にも酸素が含まれている場合すなわち、1粒の六方晶系窒化ホウ素の結晶粒子に、酸化ホウ素が内部まで分散して存在している場合には、特に焼結助剤を用いなくても、焼結が低温で可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の六方晶系窒化ホウ素焼結体の製造方法は、六方晶系窒化ホウ素を非酸化性ガス雰囲気中又は真空中において焼結する窒化ホウ素焼結体の製造方法であって、原料となる六方晶系窒化ホウ素粉体の各粒子には表面のみならず内部にも酸素が含まれており、焼結温度は600°C以上1100°C未満であることを特徴とする。本発明の六方晶系窒化ホウ素焼結体の製造方法では、焼結が非酸化性ガス雰囲気中又は真空中において行われるため、六方晶系窒化ホウ素の酸化を防止することができる。ここで、非酸化性ガスとは、焼結時に窒化ホウ素と反応しないガスをいい、アルゴンガスやヘリウムガス等の希ガスの他、窒素ガスも含む。また、原料となる六方晶系窒化ホウ素粉体の各粒子には表面のみならず内部にも酸素が含まれているためすなわち、六方晶系窒化ホウ素粉体を構成する各粒子において、酸化ホウ素が内部まで分散して存在しているため、焼結助剤を用いなくても、六方晶系窒化ホウ素粉体の各粒子には表面のみならず内部にも存在する酸化ホウ素が焼結材の役割を果たし、六方晶系窒化ホウ素の一粒の粒子内部においても焼結効果が得られ、その結果、ホットプレスを用いなくても、焼結前にプレ成形しておくだけで焼結が可能となる。また、酸化ホウ素の融点は480°Cと低いため、600°C以上1100°C未満という低温での六方晶系窒化ホウ素の焼結が可能となる。六方晶系窒化ホウ素の内部に酸素が含まれているか否かを調べる方法としては、オージェ電子分光分析におけるイオンミリング法を用いた深さ方向の測定によって、確認することができる。発明者らは、この方法により、SiO2換算で300nmの深さにおいて酸素の存在が確認された六方晶系窒化ホウ素を用いて焼結体を製造することにより、焼結体の相対密度が高くなり、機械的強度も優れたものとなることを確認している。さらに好ましいのは600nmの深さにおいて酸素の存在が確認される六方晶系窒化ホウ素であり、最も好ましいのは900nmの深さにおいて酸素の存在が確認される六方晶系窒化ホウ素である。また、六方晶系窒化ホウ素の酸素含有量は10重量以上であることが好ましい。本発明の六方晶系窒化ホウ素焼結体の製造方法では、まずプレ成形工程として、粒子の表面のみならず内部にも酸素が含まれている六方晶系窒化ホウ素粉末を圧力成形してプレ成形体とし、さらに焼結工程として、非酸化性ガス雰囲気中又は真空中において600°C以上1100°C未満で焼結する。原料となる六方晶系窒化ホウ素の平均粒径は10μm以下とされていることが好ましい。平均粒径を10μm以下まで細かくすれば、焼結体が緻密となり、機械的強度の高い焼結体をより低い温度で得ることができるからである。本発明において、焼結工程では、特に圧力をかけなくても、焼結を行うことができる。このため、ホットプレス装置等の複雑な装置を用意しなくてもよく、製造装置の設備費が低廉化し、ひいては製造コストを低廉化することができる。発明者らは、本発明の六方晶系窒化ホウ素焼結体の製造方法により、相対密度が60以上の焼結体が得られることを確認している。また、得られた焼結体の走査型電子顕微鏡による観察から、焼結体中の六方晶系窒化ホウ素の結晶は、非板状の形態をなすことを確認している。以上のように、本発明によれば、相対密度が高く、機械的強度の優れた六方晶系窒化ホウ素焼結体を600°C以上1000°C以下という低い温度で製造することができる。製造コスト及び環境負荷を低く抑えることができる。また、ホットプレスのような加圧焼成を必要としないので、低コストでしかも大型形状品や複雑形状品を容易、且つ生産効率良く製造することができる。本発明に使用する六方晶系窒化ホウ素は、六方晶系窒化ホウ素粒子の表面のみならず内部にも分布してなるすなわち、六方晶系窒化ホウ素の結晶粒子の内部にまで酸化ホウ素が分散して存在している六方晶系窒化ホウ素であれば、特に制限はない。具体的には、例えば市販品としては、六方晶系窒化ホウ素有限会社オクトム製、商品名:SFM、BNとしての純度40重量、B2O3を57重量含有が挙げられる。六方晶系窒化ホウ素粉末粒子表面の酸素の存在の有無についてはオージェ電子分光測定によって確認できる。またその内部の酸素の存在については、その窒化ホウ素粒子の観察面をイオンエッチング装置によりエッチングを行うことにより粉体粒子内部の測定を行うことができる。また、本発明に使用する六方晶系窒化ホウ素は、表面のみならず各粒子の内部まで酸素が存在するため、解砕粉砕して生じる新生面にも酸素が分布している。このため、酸化処理を特に施さなくても、濡れ性が良好であることが特徴である。解砕粉砕処理を行なう場合の方法については、得に制限は無いが、湿式が好ましい。ただし、湿式における媒体として水を用いると、窒化ホウ素に含まれている酸化ホウ素B2O3が水に溶出するため、水を含む媒体は避けるべきである。好ましくは、エタノールやイソプロピルアルコール等の有機溶媒中で行う。また解砕粉砕処理に用いるボールミルは、5mm以下のアルミナ製ボールを用いた遊星ボールミルによる処理が好適であるがこれに制限するものではない。以下に、本発明の実施例について詳細に説明する。実施例1実施例1では、原料として、六方晶系窒化ホウ素粉末有限会社オクトム製、商品名:SFM、BNとしての純度40重量、B2O3を57重量含有を用いた。この窒化ホウ素粉末は、蛍光X線による定量分析では、酸素含有量は25重量であった。また、オージェ電子分光測定により、この六方晶系窒化ホウ素の深さ方向の元素分析を行った。その結果を図1に示す。図1において200eV、410eV及び540eV付近にあるピークがそれぞれホウ素B、窒素N及び酸素Oのピークに相当する。また、イオンエッチングする前の測定結果すなわちB、N及びOの各プロファイルにおいて、最も手前側のプロファイルが粒子表面での分析結果である。さらに、イオンエッチング装置によりSiO2換算で30nm/1分となるような条件イオンガンの加速電圧は3kV、イオン生成用のエミッション電流は20mAで10分間ずつ粉末粒子を表面からエッチングを行って削り取り、粉末内部の分析も行った。その結果、少なくともSiO2換算で900nmまでは、相当量の酸素原子が存在していることが分かった。<プレ成形工程>次に、直径約16mm、厚さ約7mmの円筒形の金型に上記六方晶系窒化ホウ素粉末を充填し、CIPColdIsostaticPressを用いて200MPaでプレ成形体を作製した。<焼成工程>このプレ成形体を窒素雰囲気中、昇温速度5°C/分で昇温し,1000°Cで1時間保持して焼成した。その後、炉冷して六方晶系窒化ホウ素焼結体を得た。実施例2実施例2では、焼成工程における焼成温度を800°Cとした。その他については実施例1と同じであり、説明を省略する。-評価-外観観察及び走査電子顕微鏡による観察こうして得られた実施例1及び実施例2の六方晶系窒化ホウ素焼成体の外観写真を図2に示す。また、それらの破断面の走査型電子顕微鏡写真を図3に示す。図2及び図3から、実施例1及び実施例2の六方晶系窒化ホウ素焼結体は、均質な窒化ホウ素焼結体が得られていることが分かる。なお、図3に示す破断面には、通常の六方晶系窒化ホウ素において観察される板状結晶が認められなかった。これは、実施例1及び実施例2において用いた六方晶系窒化ホウ素は、酸化ホウ素が粒子内部にまで存在することに起因するものと推定される。そして、粒子内部にまで存在する酸化ホウ素が焼結助剤の役割を示して、800°C、1000°Cといった低い温度での焼結を可能としているものと考えられる。相対密度及び曲げ強度実施例1及び実施例2の窒化ホウ素焼結体の密度を焼結体の寸法及び重量から算出した。なお、理論密度は2.27g/cm3とした。さらに、3点曲げ強度も測定した。結果を表1に示す。表1に示すように、実施例1及び実施例2ともに相対密度は60を超えており、また、曲げ強度も実施例1で13.5MPa、実施例2で19.0MPaという高い値を示した。このような高強度の窒化ホウ素焼結体が得られた理由は、原料として使用した窒化ホウ素に含まれている酸化ホウ素が、焼結助剤として機能したものと考えられる。ただし、酸化ホウ素の粉末と高純度の窒化ホウ素の粉末との混合物を焼結させても、このような高強度の焼結体は得られなかった。このことから、焼結には、表面のみならず各粒子の内部にも酸素が含まれている六方晶系窒化ホウ素粉体を用いなければならないことが分かった。XRD測定実施例1及び実施例2の六方晶系窒化ホウ素焼結体のXRDを測定した。その結果図4に示すように、どちらの焼結体も、六方晶系窒化ホウ素の回折ピークが明瞭に認められた。比較例1比較例1では、純度99の六方晶系窒化ホウ素粉末昭和電工製UHPを用いた。その他の条件については実施例1と同様にして1000°Cで焼結を行った。比較例1で用いた純度99重量の六方晶系窒化ホウ素粉末のオージェ電子分光測定を行い、深さ方向の元素分析を行った。その結果を図8に示す。図8において184eV及び405eV付近にあるピークがそれぞれホウ素B及び窒素Nのピークに相当する。また、酸素は存在していれば540eV付近に出現するはずであるが、認められなかった。イオンエッチングする前の測定結果すなわちB、N及びOの各プロファイルにおいて、最も手前側のプロファイルが粒子表面での分析結果である。さらに、イオンエッチング装置によりSiO2換算で30nm/1分となるような条件イオンガンの加速電圧は3kV、イオン生成用のエミッション電流は20mAで10分間ずつ粉末粒子を表面からエッチングを行って削り取り、粉末内部の分析も行った。その結果、表面から少なくともSiO2換算で900nmまでは、酸素原子がほとんど検出されなかった。比較例2比較例2では、純度99の六方晶系窒化ホウ素粉末昭和電工製UHPを用いた。その他の条件については実施例2と同様にして800°Cで焼結を行った。-評価-外観観察及び走査電子顕微鏡による観察こうして得られた比較例1及び比較例2の焼結体の外観写真を図9に示す。また、それらの破断面の走査型電子顕微鏡写真を図10に示す。これらの図から、比較例3及び比較例4の六方晶系窒化ホウ素焼結体は、一応、均質な窒化ホウ素焼結体が得られていることが分かる。また、図10の破断面から、通常の六方晶系窒化ホウ素において観察される、板状結晶が認められた。相対密度及び曲げ強度比較例1及び比較例2の窒化ホウ素焼結体の密度を焼結体の寸法及び重量から算出するとともに、3点曲げによる試験を行った。理論密度は2.27g/cm3とした。結果を表2に示す。表2より、窒化ホウ素の融点より低い温度で相対密度60以上の焼結体を調製することができるものの、曲げ強度は実施例1~実施例4と比較して低いことが分かった。これは、原料としての高純度六方晶系窒化ホウ素には、焼結助剤として機能する酸化ホウ素がほとんど存在しなかったためと考えられる。XRD測定また、比較例1及び比較例2の六方晶系窒化ホウ素焼結体のXRDを測定した。その結果図11に示すように、どちらの焼結体も、六方晶系窒化ホウ素の回折ピークが明瞭に認められた。この発明は、上記発明の実施例の説明に何ら限定されるものではない。特許請求の範囲の記載を逸脱せず、当業者が容易に想到できる範囲で種々の変形態様もこの発明に含まれる。"