ガラス基板の片面にマスクパターンが形成され、前記マスクパターンの遮光部に該当する任意の位置に前記ガラス基板を貫通する通気孔が単数または複数個形成された露光マスクと、前記露光マスクにより露光される被露光基板との間隙を調整する前後いずれかにて、前記通気孔から前記間隙の気体を真空手段により排出する、露光方法。しかしながら、露光用フォトマスクが大型化するにつれ露光用フォトマスクの剛性低下によりプロキシミティ露光時に被露光基板と露光用フォトマスクとの間隙に滞留している空気を排気し、設定ギャップに到達するまでに時間がかかるという問題がある。本発明は、このような従来の課題を解決するもので、大型のフォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う際に設定ギャップに到達するまでの時間を短縮することができるフォトマスクを提供することを目的としている。上記の課題を解決するために、本発明の露光方法は、ガラス基板の片面にマスクパターンが形成され、前記マスクパターンの遮光部に該当する任意の位置に前記ガラス基板を貫通する通気孔が単数または複数個形成された露光マスクと、前記露光マスクにより露光される被露光基板との間隙を調整する前後いずれかにて、前記通気孔から前記間隙の気体を真空手段により排出する。このような構成により、プロキシミティ露光を行う際に設定ギャップに到達するまでの時間を短縮することができる。以上のように、本発明によれば、プロキシミティ露光を行う際に設定ギャップに到達するまでの時間を短縮できる大型の露光用フォトマスクを提供することができる。以下に露光装置について説明する。図5はフラットパネルディスプレイの製造などに用いられる露光装置の概略構成を示す図である。露光ステージ15に、ガラス基板などに感光性材料層16を表面に形成した被露光基板17が真空吸着によって垂直に貼り付けられている。露光ステージ15に対向して、露光マスク18がその四辺周縁部をマスクホルダ19で垂直に保持された状態で設置されている。露光マスクは装置内部のマスクライブラリ20に複数台収納されたマスクケース21から、取り出されて、マスク搬送用溝付きローラ22に導かれてマスクホルダ19まで運ばれ、マスクホルダに取り付けられる。一方、露光マスク18の露光ステージ15と反対の方向に位置する光源部23から紫外光24が露光マスク全面に照射されるように配置されている。ただし、通常は紫外光はシャッターによって遮断されており、被露光基板17に対して露光処理を行うときだけ、シャッターが開き、照射されるようになっている。一方、被露光基板17は基板搬送手段25、および搬送レール26によって、露光装置外部から露光装置開口27aを通って運ばれ、露光ステージ15に取り付けられる。露光処理の終わった被露光基板17は再び基板搬送手段25および搬送レール26によって露光装置開口27bを通って、露光装置外部へ搬出される。さらに詳しく被露光基板を露光処理する際の動作を図6の概略図を用いて説明する。前述したように、露光ステージ15に所定の感光性材料を塗布乾燥して材料層16を形成した被露光基板17を設置し、その基板に近接して、所定の微細開口パターンがクロム膜によって形成されたガラス製の露光マスク18が対向している。アライメントカメラおよびギャップスコープユニット28は露光マスク四隅に位置しており、露光マスク18と被露光基板17との間のギャップ、およびアライメントマークの相対位置を、ステージ15側を微動することによって合わせている。ギャップ、およびマークアライメントが終了すると、アライメントカメラおよびギャップスコープユニット28を紫外線照射の領域外に退避させた後退避状態は図示せず、露光マスクの背後から特定の波長分布を有した紫外光24を照射する。その結果、被露光基板17上の材料層16は露光マスク18の開口パターンに対応した部分で紫外光を受光し、感光する。通常プラズマディスプレイの製造では、紫外光に感光して硬化するネガレジスト型が用いられるため、感光した部分は硬化し、次工程の現像装置で現像液によって未硬化部分が溶解除去され、硬化部分のみ残留して、露光マスクパターンに相似したパターンが形成される。しかし、このような露光方法においては、すでに説明したように、被露光基板を次々と入れ替えて露光処理するため、露光マスクから離れた場所でステージが被露光基板を受け渡す構成になっている。図7に従来技術における露光マスクと被露光基板との位置決め構成について示す。なお同じ部位を示す番号は上記説明と同様に示す。露光ステージ15に被露光基板17を受け取って露光処理を行う場合には、露光ステージ15をステージ移動機構29によって露光マスク180に接近させる図7a。その際、被露光基板17と露光マスク180との間に介在していた空気が抜けずに空気溜り30ができ、露光マスク180が露光ステージ15と反対方向に膨れ、被露光基板17と露光マスク180との間隙が中央部で広くなり、均一でなくなる図7b。そのままの状態で露光を行うと、マスク中央部に対応した部分でマスク開口部を通過した紫外光が広がるため、ネガタイプの感光性ペーストの場合はその部分の形成距離が設計距離より長くなってしまい、不良品になる。したがって、露光ステージ15を露光マスク180に接近させて、すぐ露光することはせず、しばらく放置し、徐々に空気が抜けるのを待つこととなる図7c。最終的に、基板と露光マスクとの間の膨らみ部の空気が抜けて間隙が均一になるまで100秒程度放置してから露光処理を行っており、生産性が悪かった図7d。図8は従来技術において、露光ステージを露光マスクに接近させたときの、被露光基板と露光マスクの間の間隙以降ギャップと称するの時間変化を示した図である。露光マスクの中央部および四隅とで比較をしている。この図で示すように、露光マスク中央部のギャップの変化は、露光マスク四隅のギャップの変化よりも緩やかで遅く、設定完了変化が飽和するまでには100sec以上要することがわかる。本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、フラットパネルディスプレイの製造などに用いる露光方法において、ステージを接近させたときの露光マスクの膨らみを高速で平坦化させることを目的とするものである。図1は、本実施の形態の露光方法に用いられる露光マスクをフラットパネルディスプレイの電極などを製造する場合を例に挙げて示した正面図aならびに断面図bである。図1において、露光マスク18は、フラットパネルディスプレイ8面を同時に露光処理できるように、一枚のマスクを8の領域に分割し、それぞれの領域に概略同じ開口パターンのCr膜が形成されている。これはネガ型の感光性被露光材料の場合を示す。実際にフラットパネルディスプレイの画面表示領域となるのは、8の領域それぞれの表示パターン部31であり、それ以外の周辺部32は前面板と背面板とを貼り合わせるための接合部となり、一部アライメントマークなどのパターン開口は存在するが、主としてCr膜の遮光部のみが存在する。周辺部32には露光マスクを貫通する穴33a、33b、33c、33d、33eが合計5個開けられている。穴径は概略1~3mmの範囲である。穴の位置は図1では左右上下対称の位置に形成しているが、表示パターン部31の形状によっては、露光マスク18中心に対して点対称の位置に形成する場合もある。ここで、穴数は5個に限定されるものではなく、いくつでもよい。穴配列も露光マスク中心からの対称配列に限定されるものでもない。図2は、本実施の形態における露光マスク18と被露光基板17を接近させて露光処理する際の動作を表示している。図2で用いている露光マスク18は上記図1にて説明したものである。動作開始時には露光マスク18に対して露光ステージ15は近接しておらず、基板搬送手段によって露光ステージ15に被露光基板17を載置した直後の状態となる図2a。次に、露光ステージ15が露光マスク18へ接近するタイミングで、露光マスク18の穴33に真空手段34の先端部分に取り付けられたゴムパッド35を接触させ、真空吸引源36によって露光マスクの穴を通して露光マスク18と露光ステージ15との間の空間の空気を吸引する。真空手段34のゴムパッド35は紙面に垂直な方向に2個並んでおり、それぞれ露光マスク18の中央の貫通する穴33cを挟んだ両側の二つの穴33bおよび穴33dに接合している。このとき同時に、マスクの四隅部分では、アライメントカメラ及びギャップスコープユニット28が出て、四隅部分のギャップの計測が可能な位置で待機している。これによって、露光マスク18は膨らむことなく露光マスク全領域で均等なギャップが短時間のうちに発現する図2b。次に、露光マスク18中央部ギャップが露光マスク18四隅のギャップと同等になるタイミングで、真空吸引手段34を露光マスク18から取り外し、照射範囲外に退避させる。このタイミングは、主として図2bの露光ステージ15を露光マスク18に接近させた時点からの経過時間によって決められている図2c。露光マスク18の四隅のギャップ設定が完了した後、アライメントカメラ及びギャップスコープユニット28によって、露光マスク18四隅に設けられたアライメントマークと被露光基板17の四隅に設けられたアライメントマークとを同時に観測しながら、ステージ15側を微動させて、露光マスク18と被露光基板17の相対位置をアライメントさせる。アライメント動作が終了すると、アライメントカメラ及びギャップスコープユニット28も照射範囲外に退避させ、紫外光24を露光マスク18および被露光基板17に照射する図2d。そして、所定の光量を照射した後、ステージ15から被露光基板17を取り外し、基板搬送手段25によって次の処理を行うために、他の被露光基板17を搬送する。本実施の形態における露光方法は以上の工程によって行われる。図3は、本実施の形態において、露光ステージを露光マスクに接近させたときの、被露光基板と露光マスクの間の間隙以降ギャップと称するの時間変化を示した図である。この図に示すように、図8の従来技術と比較すると、露光マスク18の中央部ギャップおよび露光マスク18の四隅のギャップは急激に減少し、いずれも5sec未満にて所定の値で安定し、設定完了となる。また、図4は真空手段34の先端部の断面図である。先端部のゴムパッド35は弾性を有するゴムでできており、露光マスクへの密着性に優れた蛇腹構造をなしている。ゴムパッド35の材料がもつ弾力性と蛇腹構造による伸縮機能によって、露光マスクと真空吸引手段との密着性が得られ、真空の漏れが防止できる。なお、先端部は蛇腹構造に限定されるものではなく、ゴム製のOリングなどを先端に取り付けて、バネなどの伸縮機構を内蔵させてもよい。以上のように、本発明の露光方法によれば、本発明によれば、プロキシミティ露光を行う際に設定ギャップに到達するまでの時間を短縮できる大型の露光用フォトマスクを提供することができる。