帯状に形成された基板を長手方向に搬送し、前記基板の被処理面を処理する基板処理装置であって、前記基板の短手方向を水平方向に対して交差した状態で、前記基板を供給する基板供給部と、前記基板供給部から供給される前記基板を前記交差した状態で搬送する搬送部、及び、当該搬送部による前記基板の搬送経路に沿って配置され前記交差した状態の前記基板の被処理面に対して処理を行う複数の処理部、を有する基板処理部と、前記基板処理部で処理が行われた前記基板を前記交差した状態で回収する基板回収部とを備える基板処理装置。前記交差した状態は、前記基板の被処理面を水平面に対してほぼ垂直に配置した状態を含む請求項1に記載の基板処理装置。前記基板供給部及び前記基板回収部のうち少なくとも一方は、前記基板が前記交差した状態で巻かれる軸部材と、当該軸部材の周方向に回転可能に支持する支持部とを有する請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。前記基板処理部に対して、前記基板供給部の供給ポートと前記基板回収部の回収ポートとが並んで配置される請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記搬送部は、前記基板処理部を介して、前記基板供給部から前記基板回収部まで前記基板を案内する複数の案内ローラーを有する請求項4に記載の基板処理装置。前記基板処理部を収容するチャンバを更に備え、前記基板供給部及び前記基板回収部は、前記チャンバの外部に配置される請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記搬送部は、前記基板が前記交差した状態で掛けられる円筒状の処理ローラーを有し、複数の前記処理部のうち少なくとも一部は、前記処理ローラーの周囲に配置されている請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記処理ローラーの周囲には、前記基板に対して同一種類の処理を行う前記処理部が配置されている請求項7に記載の基板処理装置。前記処理ローラーは、複数設けられている請求項7又は請求項8に記載の基板処理装置。前記搬送部は、複数の前記処理部のうち第一処理を行う複数の第一処理部が周囲に配置された第一処理ローラーと、複数の前記処理部のうち前記第一処理とは異なる第二処理を行う複数の第二処理部が周囲に配置された第二処理ローラーと、を有する請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記第一処理ローラー及び前記第二処理ローラーは、前記基板処理部のうち前記基板供給部から前記基板が供給される供給位置及び前記基板回収部に前記基板が回収される回収位置を挟む位置に配置されている請求項10に記載の基板処理装置。前記第一処理は、表示素子を構成する発光層を前記基板に形成する処理であり、前記第二処理は、前記発光層を駆動するスイッチング素子又はトランジスタ素子を前記基板に形成する処理である請求項10又は請求項11に記載の基板処理装置。複数の前記処理部は、前記搬送経路のうち、前記供給位置と前記第一処理ローラーとの間、前記第一処理ローラーと前記第二処理ローラーとの間、前記第二処理ローラーと前記回収位置との間、の少なくとも1つに配置され、前記基板に前記第一処理及び前記第二処理とは異なる第三処理を行う第三処理部を有する請求項10から請求項12に記載の基板処理装置。前記第三処理は、前記基板の洗浄処理、前記基板の乾燥処理、前記第一処理又は前記第二処理の前処理、のうち少なくとも1つを含む請求項13に記載の基板処理装置。前記搬送部は、少なくとも1つの前記処理部の前記搬送経路の上流側に配置され前記基板の姿勢を調整する姿勢調整ローラーを有する請求項1から請求項14のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記基板回収部に回収される前記基板に貼り付ける保護基板を供給する保護基板供給部を更に備える請求項1から請求項15のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記保護基板供給部は、前記基板回収部と並んで配置されている請求項16に記載の基板処理装置。前記基板処理部は、前記基板に前記保護基板を貼り付ける貼付部を有し、前記搬送部は、前記基板及び前記保護基板を前記貼付部に案内する第二案内ローラーを有する請求項16又は請求項17に記載の基板処理装置。帯状に形成された基板を長手方向に搬送し、前記基板の被処理面を処理する基板処理装置であって、第一支持部及び第二支持部を備える支持機構と、前記第一支持部に前記基板を搬送する第一搬送機構と、前記基板の被処理面が前記第一支持部に搬送された後、前記基板の搬送方向を前記第二支持部に向けて搬送方向を変換する変換部と、前記基板のうち、前記第一支持部で支持された被処理面に第一処理を行う第一処理部と、前記基板のうち、前記第二支持部で支持された被処理面に第二処理を行う第二処理部とを備える基板処理装置。前記第一支持部は、前記第一処理部が前記基板の被処理面に第一処理する際に、前記基板の被処理面の短手方向が水平方向に対して交差した状態で前記基板の被処理面を支持し、前記第二支持部は、前記第二処理部が前記基板の被処理面に第二処理する際に、前記基板の被処理面の短手方向が前記水平方向に交差した状態で前記基板の被処理面を支持する請求項19に記載の基板処理装置。前記第一搬送機構は、前記基板の被処理面の短手方向が水平方向に交差した状態で、前記基板を前記第一支持部に搬送する請求項19又は請求項20に記載の基板処理装置。前記第二支持部は、前記第一支持部に対して前記水平方向と交差する方向の位置が異なる請求項19から請求項21のいずれか一項に記載の基板処理装置。前記第一支持部は、円筒面の一部を有し、前記第二支持部は、円筒面の一部を有する請求項19から請求項22のいずれか一項に記載の基板処理装置。前記第一支持部は、前記円筒面が形成された第一円筒部を有し、前記第二支持部は、前記円筒面が形成された第二円筒部を有する請求項23に記載の基板処理装置。前記第一円筒部及び前記第二円筒部は、等しい径を有するように形成されている請求項24に記載の基板処理装置。前記第一円筒部及び前記第二円筒部は、単一の円筒部材に形成されている請求項25に記載の基板処理装置。前記支持機構は、前記円筒部材を回転可能に支持する回転機構を備える請求項26に記載の基板処理装置。前記支持機構は、前記第一円筒部が形成された第一円筒部材と、前記第二円筒部が形成された第二円筒部材とを備える請求項24又は請求項25に記載の基板処理装置。前記支持機構は、前記第一円筒部及び前記第二円筒部のうち少なくとも一方を回転可能に支持する回転機構を備える請求項28に記載の基板処理装置。前記支持機構は、前記第一円筒部及び前記第二円筒部を、それぞれ独立して回転可能に支持する回転機構を備える請求項28に記載の基板処理装置。前記第一円筒部の中心軸と前記第二円筒部の中心軸とは、互いに平行である請求項28から請求項30のいずれか一項に記載の基板処理装置。前記第一円筒部材の端面と、前記第二円筒部材の端面とは、互いに対向する請求項28から請求項30のいずれか一項に記載の基板処理装置。前記変換部は、前記第一支持部への前記基板の搬送方向に対して、前記第二支持部への前記基板の搬送方向が同じ方向になるように、前記基板を案内する案内部材を有する請求項19から請求項32のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記基板のうち、前記案内部材の外周面の一部分に巻き付けられた被処理面に第三処理を行う第三処理部をさらに有する請求項19から請求項33のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記第一処理及び前記第二処理は、互いに関連する処理である請求項19から請求項34のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記第一処理は、前記第二処理の前処理である請求項35に記載の基板処理装置。前記第二処理は、前記第一処理の後処理である請求項35に記載の基板処理装置。前記第一処理及び前記第二処理は、同一種類の処理である請求項19から請求項34のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記第一処理及び前記第二処理は、前記基板に塗布膜を形成する塗布処理である請求項38に記載の基板処理装置。前記案内部材による前記基板の案内経路において前記第一支持部と前記第二支持部の間に配置され、前記塗布膜を乾燥する乾燥部、をさらに有する請求項39に記載の基板処理装置。前記第一処理部は、前記第一円筒部の周方向に複数設けられている請求項24から請求項32のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記第二処理部は、前記第二円筒部の周方向に複数設けられている請求項24から請求項32及び請求項41のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記基板の短手方向が水平方向に対して交差した状態で、前記基板を供給する基板供給部を有し、前記第一搬送機構は、前記基板を前記交差した状態で前記第一支持部に搬送し、前記第一支持部及び第二支持部は、前記交差した状態の前記基板が搬送されるように配置されている請求項19から請求項42のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。前記交差した状態は、前記基板の短手方向を水平面に対してほぼ垂直に配置した状態を含む請求項43に記載の基板処理装置。前記基板を供給する供給部と、前記第二処理部からの前記基板を回収する回収部と、を備え前記供給部の供給ポートと前記回収部の回収ポートとが並んで配置される、請求項19から請求項44のいずれか一項に記載の基板処理装置。前記第一処理部及び前記第二処理部を収容するチャンバをさらに備え、前記供給部及び前記回収部は、前記チャンバの外に配置される請求項45に記載の基板処理装置。前記第一搬送機構は、前記基板の姿勢を調整する姿勢調整ローラをさらに有する、請求項19から請求項46のいずれか一項に記載の基板処理装置。前記基板に対して保護材を供給する保護材供給部をさらに備える、請求項19から請求項47のいずれか一項に記載の基板処理装置。前記基板に前記保護材を貼り付ける貼付部をさらに有し、前記第一搬送機構は、前記保護材供給部からの前記保護材を前記貼付部に案内するローラを有する、請求項48に記載の基板処理装置。しかしながら、上記の手法では、基板の搬送経路に沿って処理装置を配置する必要があるため、例えば基板の搬送形態によっては装置全体が大型化してしまう。本発明に係る態様は、省スペース化が可能な基板処理装置を提供することを目的とする。一態様による基板処理装置は、帯状に形成された基板を長手方向に搬送し、前記基板の被処理面を処理する基板処理装置であって、前記基板の短手方向を水平方向に対して交差した状態で、前記基板を供給する基板供給部と、前記基板供給部から供給される前記基板を前記交差した状態で搬送する搬送部、及び、当該搬送部による前記基板の搬送経路に沿って配置され前記交差した状態の前記基板の被処理面に対して処理を行う複数の処理部、を有する基板処理部と、前記基板処理部で処理が行われた前記基板を前記交差した状態で回収する基板回収部とを備える。一態様による基板処理装置は、帯状に形成された基板を長手方向に搬送し、前記基板の被処理面を処理する基板処理装置であって、第一支持部及び第二支持部を備える支持機構と、前記第一支持部に前記基板を搬送する第一搬送機構と、前記基板の被処理面が前記第一支持部に搬送された後、前記基板の搬送方向を前記第二支持部に向けて搬送方向を変換する変換部と、前記基板のうち、前記第一支持部で支持された被処理面に第一処理を行う第一処理部と、前記基板のうち、前記第二支持部で支持された被処理面に第二処理を行う第二処理部とを備える。本発明に係る態様によれば、省スペース化が可能な基板処理装置を提供することができる。[第一実施形態]次に、第一実施形態に係る基板処理装置を説明する。図1は、本実施形態の基板処理装置FPA4の構成を示す斜視図である。図2は、基板処理装置FPA4の構成を示す平面図である。図1及び図2に示すように、基板処理装置FPAは、シート基板例えば、帯状のフィルム部材FBを供給する基板供給部SU、シート基板FBの表面被処理面Fpに対して処理を行う基板処理部PR、当該基板処理部PRを収容するチャンバCB図1においては図示省略、シート基板FBを回収する基板回収部CL、及び、これらの各部を制御する制御部CONTを有している。基板処理装置FPAは、例えば工場などに設置される。本実施形態では、シート基板FBは、立てた状態で供給され、処理され、回収されるようになっている。本実施形態において、当該立てた状態は、シート基板FBの被処理面Fpを水平面XY平面に対して所定角度で交差した状態、例えば、傾斜した状態、あるいはほぼ垂直に配置した状態を含む。言い換えれば、このシート基板FBの基板処理面Fpを立てた状態は、基板FBの短尺方向短手方向が非水平姿勢の状態も含む。以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。具体的には、水平面上の所定方向をX軸方向、当該水平面上においてX軸方向に直交する方向をY軸方向、鉛直方向をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸まわりの回転傾斜方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。また、実施形態において、シート基板FBの基板処理面Fpを水平面に対してほぼ垂直にした状態を例に説明する。基板処理装置FPAは、基板供給部SUからロール状に巻かれたシート基板FBが送り出されてから、基板回収部CLでシート基板FBをロール状に回収するまでの間に、シート基板FBの表面に各種処理を実行するロールトゥロール方式以下、単にロール方式と表記するの装置である。基板処理装置FPAは、シート基板FB上に例えば有機EL素子、液晶表示素子等の表示素子電子デバイスを形成する場合に用いることができる。勿論、これらの素子以外の素子を形成する場合において基板処理装置FPAを用いても構わない。基板処理装置FPAにおいて処理対象となるシート基板FBとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔フォイルを用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。シート基板FBの短尺方向短手方向の寸法は例えば50cm~2m程度に形成されており、長尺方向長手方向の寸法は例えば10m以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えばシート基板FBの短尺方向の寸法が50cm以下であっても構わないし、2m以上であっても構わない。また、シート基板FBの長尺方向の寸法が10m以下であっても構わない。シート基板FBは、例えば1mm以下の厚みを有し、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、例えば基板に少なくとも自重程度の所定の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、例えば上記所定の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、シート基板FBとしては、1枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。シート基板FBは、例えば200°C程度の熱を受けても実質的に寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。基板供給部SUは、供給ポート10図1においては図示省略と、当該供給ポート10内に配置された軸部材11及び支持部12とを有している。軸部材11は、例えば円柱状に形成され、中心軸が例えばZ方向にほぼ平行になるように配置されている。このため、軸部材11には、シート基板FBを立てた状態で巻かれるようになっている。軸部材11は、例えば支持部12に対して着脱可能に設けられている。支持部12は、当該軸部材11を周方向例えばθZ方向に回転可能に支持する。基板供給部SUは、例えばロール状に巻かれたシート基板FBを、当該シート基板FBの短尺方向を立てた状態、即ち、Z方向と揃った状態言い換えれば、当該シート基板FBが非水平姿勢で基板処理部PRへ送り出して供給する。供給ポート10内には、シート基板FBの被処理面Fpを保護する保護基板PBが巻かれた軸部材13が設けられている。なお、供給ポート10内に設けられた軸部材13を保護基板供給部と称してもよい。保護基板PBは、基板処理部PRにおける処理が完了した後、基板回収部CLによって回収される前にシート基板FBに貼り付けられる基板である。保護基板PBは、シート基板FBと同様、例えば帯状に形成され、可撓性を有する構成である。軸部材13は、例えば円筒状に形成されており、中心軸が例えばZ方向にほぼ平行になるように配置されている。このため、軸部材13には、保護基板PBが立てた状態で巻かれるようになっている。軸部材13は、支持部14によって周方向例えばθZ方向に回転可能に支持されている。軸部材13は、例えば支持部14に対して着脱可能に設けられている。基板供給部SUは、保護基板PBを立てた状態で基板処理部PRへ送り出して供給する。基板回収部CLは、保護基板PBが貼り付けられた状態で基板処理部PRから搬送されるシート基板FBを、当該シート基板FB及び保護基板PBの短尺方向を立てた状態で巻きとって回収する。基板回収部CLの回収ポート20図1においては図示省略には、基板供給部SUと同様に、シート基板FB及び保護基板PBを巻きつけるための軸部材21と、当該軸部材21を回転可能に支持する支持部22とが設けられている。軸部材21は、例えば支持部22に対して着脱可能に設けられている。基板供給部SUの供給ポート10と、基板回収部CLの回収ポート20とは、例えば基板処理部PRを収容するチャンバCBの外部に配置されている。供給ポート10及び回収ポート20は、チャンバCBの例えば-Y側の面に配置されており、基板処理部PRに対して例えばX方向に並んで配置されている。このように供給ポート10と回収ポート20とが一箇所にまとめて配置されているため、当該供給ポート10及び回収ポート20に対して効率的にアクセスすることができるようになっている。基板処理部PRは、基板供給部SUから供給されるシート基板FBを立てた状態で基板回収部CLへ搬送すると共に、搬送の過程で立てた状態のシート基板FBの被処理面Fpに対して処理を行う。基板処理部PRは、例えば搬送機構等の搬送装置30、処理装置40及びアライメント装置不図示などを有している。基板処理部PRは、空調管理されたクリーンチャンバCB内に収容され、環境温度や環境湿度が一定になるように管理されると共に、塵埃等から上記各装置が保護されるようになっている。図1及び図2に示すように、搬送装置30は、複数例えば6つの案内ローラーR101~R106と、2つの処理ローラー31及び32とを有している。案内ローラーR101~R104は、基板供給部SUから基板回収部CLまでシート基板FBを案内する。案内ローラーR105及びR106は、基板供給部SUから基板回収部CLまで、シート基板FBとは異なる経路で保護基板PBを案内する。案内ローラーR101~R106は、例えば回転軸がZ軸方向にほぼ平行になるように配置されている。このため、案内ローラーR101~R104においては、シート基板FBが立てた状態前述したように、基板FBの短尺方向が実質的に非水平の姿勢で掛けられるようになっている。また、案内ローラーR105及びR106においては、保護基板PBが立てた状態で掛けられるようになっている。案内ローラーR101~R106は、例えば駆動機構が設けられた構成であっても構わない。案内ローラーR101~R104は、シート基板FBの被処理面Fpが巻かれることになるため、例えば各案内ローラーR101~R104の円筒面に気体層を形成する不図示の気体層形成装置が設けられた構成としても構わない。このような構成により、シート基板FBは少なくとも案内ローラーR101~R104の間を所定のテンションを保って送られる。処理ローラー31及び32は、例えば案内ローラーR101~R104によるシート基板FBの案内経路に配置されている。処理ローラー31及び32は、チャンバCB内において例えばY方向上の位置が等しくなるように配置されている。本実施形態では、例えば処理ローラー31及び32が、共にチャンバCB内においてY方向のほぼ中央部に配置されている。処理ローラー31及び32は、それぞれ円筒状一例として、直径1~数m程度のドラム状に形成されている。処理ローラー31及び32は、例えば中心軸がZ方向にほぼ平行になるように配置されており、シート基板FBが立てた状態で掛けられるようになっている。処理ローラー31及び32は、例えば案内ローラーR101~R104よりも大きな径となるように形成されている。処理ローラー31及び32は、基板供給部SUに接続される供給口SUaと、基板回収部CLに接続される回収口CLaとを挟む位置にそれぞれ設けられている。より具体的には、処理ローラー31が供給口SUaの-X側に配置されており、処理ローラー32が回収口CLaのX側に配置されている。基板処理部PR内におけるシート基板FBの搬送方向としては、まず、例えば供給口SUaからY方向に搬送され、案内ローラーR101によって-X方向但し-Y側に45°傾いた方向に搬送方向が変換される。案内ローラーR101を経たシート基板FBは、処理ローラー31によって折り返され、搬送方向がX方向に変換される。処理ローラー31からX方向に折り返されたシート基板FBは、案内ローラーR102によってY方向に搬送方向が変換され、処理装置40の一部予備加工装置44によって搬送方向が-Y方向に変換される。予備加工装置44を経たシート基板FBは、案内ローラーR103によってX方向に搬送方向が変換され、処理ローラー32によって折り返されて-X方向但しY側に45°傾いた方向に搬送方向が変換される。処理ローラー32を経たシート基板FBは、案内ローラーR104によって-Y方向に搬送方向が変換され、回収口CLaに搬送される。このように、搬送装置30は、チャンバCB内でX方向及びY方向に搬送方向を頻繁に切り替えながらシート基板FBを搬送する。処理装置40は、シート基板FBの被処理面Fpに対して例えば有機EL素子を形成するための装置である。本実施形態では、例えば処理装置40として、例えば洗浄装置41、TFT層形成装置42、乾燥装置乾燥部43、予備加工装置44、発光層形成装置45、ラミネート装置46などが用いられている。このほか、例えば被処理面Fp上に隔壁を形成するための隔壁形成装置不図示など、他の装置が設けられていても構わない。このような処理装置40の種類としては、例えば液滴塗布装置例えばインクジェット型塗布装置、スクリーン印刷型塗布装置など、蒸着装置、スパッタリング装置などの成膜装置や、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置など、各種の装置が用いられる。これらの各装置は、例えばシート基板FBの搬送経路上に適宜設けられている。洗浄装置41は、シート基板FBを洗浄する第一洗浄装置41Aと、保護基板PBを洗浄する第二洗浄装置41Bとを有している。第一洗浄装置41Aは、シート基板FBの搬送経路において例えば供給口SUa図2参照と処理ローラー31との間に設けられている。また、第二洗浄装置41Bは、保護基板PBの搬送経路において例えば供給口SUbとラミネート装置46との間に設けられている。洗浄装置41は、チャンバCBの外部から内部へと供給されたシート基板FBや保護基板PBを清浄化する。TFT層形成装置42は、有機EL素子を駆動するためのTFT素子や電極を形成する装置である。TFT層形成装置42は、例えば第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cを有している。第一形成装置42Aは、処理ローラー31の-Y側に配置されている。第二形成装置42Bは、処理ローラー31の-X側に配置されている。第三形成装置42Cは、処理ローラー31のY側に配置されている。処理ローラー31のX側は、空いた状態になっており、例えば案内ローラーR101が配置されている。これら第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cは、例えば処理ローラー31の周囲に設けられている。TFT素子及び電極を形成する一連の工程は、例えば第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cによって分担して行われるようになっている。第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cは、それぞれ処理ローラー31に向けられており、立てた状態で処理ローラー31に巻かれたシート基板FBに対して処理が可能になっている。処理ローラー31は、TFT層形成装置42による処理が行われる際に、シート基板FBを支持する支持部となる。乾燥装置43は、シート基板FBを例えば加熱することにより、当該シート基板FBに形成されたTFT素子や電極などを安定化させる装置である。乾燥装置43は、シート基板FBの搬送経路において、処理ローラー31と処理ローラー32との間に配置されている。乾燥装置43は、例えばY方向に見て、処理ローラー31及び処理ローラー32と一部重なるように配置されている。図1及び図2に示すように、予備加工装置44は、シート基板FBに発光層を形成する際の予備工程例えば、絶縁層形成工程などを行う装置である。予備加工装置44は、シート基板FBの搬送経路において、乾燥装置43と共に、例えば処理ローラー31と処理ローラー32との間に配置されている。予備加工装置44は、例えば第一加工装置44A、第二加工装置44B及び第三加工装置44Cを有しており、一連の予備加工工程が分担して行われるようになっている。発光層形成装置45は、有機EL素子を構成する発光層を形成する装置である。発光層形成装置45は、例えば第一形成装置45A、第二形成装置45B及び第三形成装置45Cを有している。当該第一形成装置45A、第二形成装置45B及び第三形成装置45Cは、例えば処理ローラー32の周囲に設けられている。発光層を形成する一連の工程は、例えば第一形成装置45A、第二形成装置45B及び第三形成装置45Cによって分担して行われるようになっている。第一形成装置45Aは、処理ローラー32のY側に配置されている。第二形成装置45Bは、処理ローラー32のX側に配置されている。第三形成装置45Cは、処理ローラー32の-Y側に配置されている。処理ローラー32の-X側は、空いた状態になっており、例えば案内ローラーR104が配置されている。ラミネート装置46は、シート基板FBと保護基板保護材PBとを貼り合わせる装置である。ラミネート装置46は、シート基板FBの搬送経路において、例えば処理ローラー32と回収口CLaとの間に配置されている。ラミネート装置46は、例えばシート基板FBの被処理面Fp側に保護基板PBを対向配置させ、シート基板FBと保護基板PBとの間で位置合わせを行い、その後、シート基板FBと保護基板PBとを貼り合わせる構成になっている。上記の処理装置40のうち、例えばTFT層形成装置42の第一形成装置42Aと、第一洗浄装置41Aと、第二洗浄装置41Bと、発光層形成装置45の第三形成装置45CとがX方向に見て重なるように配置されている。また、TFT層形成装置42の第二形成装置42Bと、処理ローラー31と、処理ローラー32と、発光層形成装置45の第二形成装置45BとがX方向に見て重なるように配置されている。更に、TFT層形成装置42の第三形成装置42Cと、乾燥装置43と、発光層形成装置45の第一形成装置45AとがX方向に見て重なるように配置されている。また、例えばTFT層形成装置42の第一形成装置42Aと、処理ローラー31と、第三形成装置42CとがY方向に見て重なるように配置されている。また、例えば洗浄装置41A及び41Bと乾燥装置43とがY方向に見て重なるように配置されている。また、予備加工装置44とラミネート装置46とがY方向に見て重なるように配置されている。更に、発光層形成装置45の第一形成装置45Aと、処理ローラー32と、第三形成装置45CとがY方向に見て重なるように配置されている。このように、搬送装置30及び処理装置40は、X方向及びY方向に見たときに重なる部分が多くなるように密集して配置されている。上記のように構成された基板処理装置FPAは、制御部CONTの制御により、ロール方式によって有機EL素子、液晶表示素子などの表示素子電子デバイスを製造する。以下、上記構成の基板処理装置FPAを用いて表示素子を製造する工程を説明する。まず、軸部材11にロール状に巻き付けられた帯状のシート基板FBを基板供給部SUの供給ポート10内の支持部12に取り付ける。また、軸部材13に巻きつけられた帯状の保護基板PBを基板供給部SUの供給ポート10内の支持部14に取り付ける。更に、回収用の軸部材21を基板回収部CLの回収ポート20内の支持部22に取り付ける。制御部CONTは、この状態から支持部12を介して軸部材11を回転させ、基板供給部SUから当該シート基板FBが送り出すようにする。基板供給部SUから送り出されたシート基板FBは、基板処理部PRの供給口SUaからチャンバCB内に供給される。制御部CONTは、チャンバCB内に供給されたシート基板FBを搬送装置30に搬送させつつ、各処理装置40によって当該シート基板FBに対して処理を行わせる。本実施態様では、加工用ローラー31、32、及び各ローラーR101~R106に適宜設けられた回転駆動用のモータにより、シート基板FBに所定のテンションが与えられるように、制御部CONTが各モータを逐次制御する。この動作により、基板処理部PRに供給されたシート基板FBは、第一洗浄装置41Aによって洗浄され、案内ローラーR101によって処理ローラー31に案内される。シート基板FBは、被処理面FpがTFT層形成装置42の第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cにそれぞれ向けられるように、処理ローラー31に立てた状態で巻き掛けられる。処理ローラー31に巻き掛けられたシート基板FBの被処理面Fpには、当該TFT層形成装置42によってTFT素子や配線などが形成される。処理ローラー31を経たシート基板FBは、乾燥装置43に供給され、例えば加熱処理などの乾燥処理が施される。乾燥処理後のシート基板FBは、例えば案内ローラーR102を介して予備加工装置44に供給される。予備加工装置44では、例えば第一加工装置44A~第三加工装置44Cにおいて、シート基板FBに絶縁膜や正孔注入層又は電子注入層などが形成される。予備加工後のシート基板FBは、例えば案内ローラーR103を介して処理ローラー32に案内される。シート基板FBは、被処理面Fpが発光層形成装置45の第一形成装置45A、第二形成装置45B及び第三形成装置45Cにそれぞれ向けられるように、処理ローラー32に立てた状態で巻き掛けられる。処理ローラー32に巻き掛けられたシート基板FBの被処理面Fpには、当該発光層形成装置45によって発光層などが形成される。処理ローラー32を経たシート基板FBは、ラミネート装置46に供給され、被処理面Fpに保護基板PBが貼り付けられる。保護基板保護材PBが貼り付けられた後のシート基板FBは、例えば回収口CLaから基板回収部CLに回収される。基板回収部CLに回収されたシート基板FBは、回収ポート20内の軸部材21にロール状に巻かれていく。軸部材21に所定量のシート基板FBが巻かれたら、シート基板FBを例えば切断し、シート基板FBの巻かれた軸部材21を支持部22から取り外す。当該支持部22には、例えばシート基板FBが巻かれていない新たな軸部材21を取り付ける。制御部CONTは、このような処理を行わせることにより、シート基板FBの被処理面Fpに対して素子を形成していく。以上のように、本実施形態によれば、帯状に形成されたシート基板FBの短手方向を立てた状態で当該シート基板FBを供給する基板供給部SUと、当該基板供給部SUから供給されるシート基板FBを立てた状態で搬送する搬送装置30、及び、当該搬送装置30によるシート基板FBの搬送経路に沿って配置され立てた状態のシート基板FBの被処理面Fpに対して処理を行う複数の処理装置40、を有する基板処理部PRと、当該基板処理部PRで処理が行われたシート基板FBを立てた状態で回収する基板回収部CLとを備えるので、シート基板FBの搬送方向を水平方向X方向及びY方向に変換しやすい構成となる。このため、処理装置40のX方向及びY方向におけるレイアウトの選択の幅を広げることができ、例えば基板処理装置FPA4の装置面積が極力小さくなるように処理装置40を配置させるレイアウトを選択することもできる。これにより、基板処理装置FPA4の省スペース化を図ることができる。[第二実施形態]次に、本発明の第二実施形態に係る基板処理装置を説明する。図3は、基板処理装置FPA2の構成を示す平面図である。基板処理装置FPA2では、基板処理部PRの構成が第一実施形態とは異なっている。他の構成については、例えば第一実施形態と同一構成とすることができる。本実施形態では、当該相違点を中心に説明する。図3に示すように、基板処理装置FPA2は、基板供給部SU、基板処理部PR、基板回収部CL、チャンバCB及び制御部CONTを有している。基板処理部PRは、チャンバCB内に収容されている。基板供給部SUは、円筒状に形成され中心軸がZ方向に平行になるように配置された軸部材111と、当該軸部材111を回転可能に支持する支持部112とを有している。軸部材111には、シート基板FBが立てた状態で巻かれている。なお、説明の簡略化のため、図3には、基板供給部SUにおいて保護基板を供給する構成を省略して示している。基板回収部CLは、円筒状に形成され中心軸がZ方向に平行になるように配置された軸部材121と、当該軸部材21を回転可能に支持する支持部122とを有している。基板処理部PRの搬送装置130は、チャンバCB内の平面視で中央部に処理搬送ローラー131を有している。処理搬送ローラー131は、例えば円筒状に形成されており、中心軸がZ方向に平行になるように配置されている。処理搬送ローラー131は、例えばθZ方向に回転可能に設けられている。シート基板FBは、当該処理搬送ローラー131に立てた状態で掛けられるようになっている。このように、基板処理部PRでは、シート基板FBが立てた状態で搬送されることになる。処理搬送ローラー131は、例えば不図示の回転駆動機構を有している。当該回転駆動機構は、例えば制御部CONTによって制御されるようになっている。供給口SUaから供給されたシート基板FBは、当該処理搬送ローラー131に掛けられて回収口CLaに搬送されるようになっている。処理搬送ローラー131には、例えば被処理面Fpが外側を向くようにシート基板FBが掛けられる。基板処理部PRは、処理搬送ローラー131の周囲に、当該処理搬送ローラー131の円筒面に沿うように、複数の処理装置140が配置されている。当該処理装置140としては、例えば第一実施形態で説明した各種の処理装置が用いられる。図3に示す例では、複数の処理装置140として、TFT層形成工程を行う各処理装置、発光層形成工程の前処理予備工程各処理装置、発光層形成工程を行う各処理装置を、処理搬送ローラー131の周方向に沿って一列に並べられている。複数の処理装置140は、それぞれ処理搬送ローラー131に向けられている。上記の基板処理装置FPA2においては、基板供給部SUから基板処理部PRに対して立てた状態でシート基板FBが供給される。シート基板FBは、基板処理部PRにおいて処理搬送ローラー131に立てた状態で掛けられて基板回収部CLへと搬送される。また、複数の処理装置140により、例えば処理搬送ローラー131に立てた状態で掛けられたシート基板FBに対して順に処理が行われる。このように、本実施形態によれば、処理搬送ローラー131が、立てた状態で巻かれるシート基板FBを支持する機能と、当該シート基板FBを立てた状態で搬送する機能とを兼ね備えることとなる。これにより、基板処理装置FPA2の省スペース化を図ることができる。また、全工程を1つの処理搬送ローラー131の周りで行うこととしたので、基板処理部PR内の装置のレイアウトを単純化することができる。[第三実施形態]次に、本発明の第三実施形態に係る基板処理装置を説明する。図4は、基板処理装置FPA3の構成を示す平面図である。基板処理装置FPA3では、基板処理部PRの構成が第一実施形態とは異なっている。他の構成については、例えば第一実施形態と同一構成とすることができる。本実施形態では、当該相違点を中心に説明する。図4に示すように、基板処理装置FPA3は、基板処理部PRにおいて、第二実施形態で説明した処理搬送ローラーが複数設けられた構成になっている。本実施形態では、基板処理部PRの搬送装置230は、案内ローラーR111~R114と、処理搬送ローラー231~233とを有している。案内ローラーR111~R114及び処理搬送ローラー231~233は、それぞれ円筒状に形成されており、中心軸がそれぞれZ方向に平行になるように配置されている。処理搬送ローラー231~233は、案内ローラーR111~R114よりも径が大きくなるように形成されている。シート基板FBは、当該処理搬送ローラー231~233及び案内ローラーR111~R114に立てた状態で掛けられるようになっている。このように、基板処理部PRでは、シート基板FBが立てた状態で搬送されることになる。搬送装置230の配置としては、例えば案内ローラーR111~R114は、チャンバCBのほぼ中央部に縦横に2列ずつ並んだ状態で配置されている。また、処理搬送ローラー231~233は、当該4つの案内ローラーR111~R114を3方向-X方向、Y方向及び-X方向から囲うように配置されている。基板処理部PRは、処理搬送ローラー231~233の周囲に、当該処理搬送ローラー231~233の円筒面に沿うように、それぞれ複数の処理装置241~243が配置されている。当該処理装置241~243としては、例えば第一実施形態で説明した各種の処理装置が用いられる。例えば、処理装置241としてTFT層形成工程を行う各処理装置を用い、処理装置242として発光層形成工程の前処理予備工程を行う各処理装置を用い、処理装置243として発光層形成工程を行う各処理装置を用いるようにしても構わない。各処理装置241~243は、例えば処理搬送ローラー231~233に向けられている。基板処理部PRは、複数の処理搬送ローラー231~233は、例えば円筒状に形成されており、中心軸がZ方向に平行になるように配置されている。処理搬送ローラー131は、例えばθZ方向に回転可能に設けられている。処理搬送ローラー231~233は、例えば不図示の回転駆動機構を有している。当該回転駆動機構は、例えば制御部CONTによって制御されるようになっている。供給口SUaから供給されたシート基板FBは、当該処理搬送ローラー231~233に掛けられて回収口CLaに搬送されるようになっている。処理搬送ローラー231~233には、例えば被処理面Fpが外側を向くようにシート基板FBが掛けられる。一方、案内ローラーR111~R114には、被処理面Fpが内側を向くようにシート基板FBが掛けられる。上記の基板処理装置FPA3においては、基板供給部SUから基板処理部PRに対して立てた状態でシート基板FBが供給される。シート基板FBは、基板処理部PRにおいて処理搬送ローラー231~233に立てた状態で掛けられて基板回収部CLへと搬送される。また、複数の処理装置241~243により、例えば処理搬送ローラー231~233に立てた状態で掛けられたシート基板FBに対して、それぞれ順に処理が行われる。このように、本実施形態によれば、複数の処理搬送ローラー231~233を用いることにより、例えば複数の領域において、それぞれ連続した処理を分担させて行わせることができる。これにより、レイアウトの選択の幅が広がることになる。また、本実施形態によれば、案内ローラーR111~R114を例えばチャンバCBの中央部に集めた構成としたので、例えば当該チャンバCBの中央部に乾燥装置などの処理装置244を配置させることで、各処理搬送ローラー231~233において処理されたシート基板FBの乾燥処理などの処理を共通化することができる。これにより、省スペース化を図ることができる。[第四実施形態]以下、図面を参照して、本発明の第四実施形態を説明する。以下、上記実施形態と同符号が付された構成品に関する説明は適宜省略する。図5は、基板処理装置FPAの構成を示す斜視図である。図6は、基板処理装置FPAの構成を示す平面図である。第四実施形態において、搬送装置30は、複数例えば10個の案内ローラーR1~R10と、ドラム機構DRMと、処理ローラー32とを有している。案内ローラーR1~R8は、基板供給部SUから基板回収部CLまでシート基板FBを案内する。案内ローラーR9及びR10は、基板供給部SUから基板回収部CLまで、シート基板FBとは異なる経路で保護基板PBを案内する。なお、ドラム機構DRMを第一ドラム機構、処理ローラー32を第二ドラム機構としてもよい。案内ローラーR1~R3、R6~R10は、例えば回転軸がZ軸方向にほぼ平行になるように配置されている。このため、案内ローラーR1~R3、R6~R8においては、シート基板FBが立てた状態で掛けられるようになっている。また、案内ローラーR9及びR10においては、保護基板PBが立てた状態で掛けられるようになっている。案内ローラーR1~R10は、例えば駆動機構が設けられた構成であっても構わない。例えばシート基板FBの被処理面Fpが巻かれる案内ローラーR1、R4、R7、R8については、円筒面に気体層エアベアリングを形成する不図示の気体層形成装置が設けられた構成としても構わない。いずれにしても、本実施形態の場合、シート基板FBは少なくとも案内ローラーR1~R9の間を所定のテンションを保って送られる。図7は、基板処理部PRのうちドラム機構DRMの近傍の構成を示す斜視図である。図7に示すように、ドラム機構DRMは、回転中心軸がZ方向とほぼ平行になるように配置された円筒部材CYLと、当該円筒部材CYLを円周方向に回転可能に支持する回転駆動機構駆動部ACTとを有している。円筒部材CYLは、第一円筒部第1ローラCY1と、第二円筒部第2ローラCY2と、ガイド部Gとを有している。第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、それぞれ当該円筒部材CYLの円筒面の一部分である。第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、共に1つの円筒部材CYLの一部分であるため、円筒部材CYLが回転すると第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2が一体的に回転するようになっている。第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、例えばガイド部GによってZ方向に分割されている。言い換えれば、第二円筒部CY2は、第一円筒部CY1に対してZ方向の位置、すなわち水平方向に対して交差する方向の位置が異なる。第一円筒部CY1はガイド部GのZ側上方に配置されており、第二円筒部CY2はガイド部Gの-Z側下方に配置されている。第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、例えば互いに等しい径を有するように形成されている。第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、例えば案内ローラーR1~R10よりも大きな径例えば直径1m以上となるように形成されている。ガイド部Gは、シート基板FBのうち第一円筒部CY1に巻かれた部分及び第二円筒部CY2に巻かれた部分がXY平面に平行な面に沿って搬送されるように案内する。シート基板FBの搬送経路において、第一円筒部CY1と第二円筒部CY2との間には、案内ローラーR2~R5が配置されている。案内ローラーR2は、第一円筒部CY1により半周程でU字状に折り返されてX方向に搬送されるシート基板FBを-Y方向に折り返す。案内ローラーR3は、-Y方向に折り返されたシート基板FBを-X方向に折り返す。案内ローラーR4及びR5は、例えばZ側の端部がX側に傾いた状態で配置されている。案内ローラーR4は、案内ローラーR3を介して-X方向に案内されてきたシート基板FBを、斜め下方向X方向であって-Z側に傾いた方向に折り返す。案内ローラーR5は、案内ローラーR4の斜め下方向X方向であって-Z側に傾いた方向上に配置されている。案内ローラーR5は、案内ローラーR4から斜め下方向に搬送されるシート基板FBを-X方向に折り返して、第二円筒部CY2に向かわせる。案内ローラーR4及びR5は、図7の構成の場合はその回転軸線が互いにほぼ平行を保つと共にXZ平面内で所定量だけ傾くように設定されている。また案内ローラーR4及びR5には、例えば回転軸の傾き傾き量や傾き方向を調整可能とする為のアクチュエータが設けられている。案内ローラーR4及びR5の少なくなくとも一方の当該回転軸の傾き状態を調整することにより、案内ローラーR5から-X方向に送り出されるシート基板FBの搬送方向を水平X軸と平行にしつつ、シート基板のZ方向の位置をほぼ一定に維持することができる。案内ローラーR4及びR5の少なくとも一方の回転軸の傾き状態の調整は、例えば、案内ローラーR5から-X方向に送り出されるシート基板FBの姿勢や位置の変化を精密にモニターするセンサーからの計測信号を受けた制御部CONTが、傾き調整用のアクチュエータを駆動することによって制御可能になっている。このように、案内ローラーR2~R5は、第一円筒部CY1の外周面に巻きつけられた後のシート基板FBの搬送方向が第二円筒部CY2に向かう方向となるように、シート基板FBの搬送方向を変換する。特に案内ローラーR4、R5の対によって、シート基板FBの送り方向-X方向は変えずに、Z方向の高さ位置を所定量本実施形態ではシート基板のZ方向の幅尺分以上だけシフトさせることができる。尚、本実施形態のようにシート基板を折り返してZ方向に平行シフトさせる場合、案内ローラーR4とR5の間ではシート基板FBがXZ面内で傾斜して送られるが、この傾斜量はシート基板の幅尺、案内ローラーR4、R5のX方向の間隔、ローラーR4、R5の回転中心軸の傾き角度や傾き方向等により幾何学的に決まる。従って本実施形態の場合、案内ローラーR4、R5を、各回転中心軸がXZ面内で共に45度だけ傾くように、Z方向の上下に並置すると、案内ローラーR4とR5の間を進むシート基板を垂直傾斜量90度にすることもができる。また、案内ローラーR2~R5により、シート基板FBは、例えば案内ローラーR1の位置で案内されるシート基板FBの-Z側下側の空間に案内されることになる。このように、本実施形態では第一円筒部CY1へのシート基板FBの巻き付け方向に対して第二円筒部CY2へのシート基板FBの巻き付け方向が同じ方向になり、シート基板FBの表裏が反転しないように、案内ローラーR2~R5によってシート基板FBが案内される。図5及び図6に示すように、処理ローラー32は、例えば案内ローラーR1~R4によるシート基板FBの案内経路に配置されている。処理ローラー32は、例えば円筒状に形成されている。処理ローラー32は、例えば中心軸がZ方向にほぼ平行になるように配置されており、シート基板FBが立てた状態で掛けられるようになっている。処理ローラー32は、例えば案内ローラーR1~R10よりも大きな径となるように形成されている。当該処理ローラー32の径が上記の第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2とほぼ等しい径となるように構成しても構わない。洗浄装置41は、チャンバCBの外部から内部へ供給されたシート基板FBや保護基板PBを清浄化する為に設けられ、シート基板FBを洗浄する第一洗浄装置41Aと、保護基板PBを洗浄する第二洗浄装置41Bとを有している。第一洗浄装置41Aは、シート基板FBの搬送経路において例えば供給口SUa図6参照と円筒部材CYLとの間に設けられている。また、第二洗浄装置41Bは、保護基板PBの搬送経路において、例えば供給口SUbとラミネート装置46との間に設けられている。ドラム機構DRMの周囲に配置されたTFT層形成装置42は、有機EL素子を駆動するためのTFT素子や電極、配線層等を形成する装置である。TFT層形成装置42は、例えば第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cを有している。第一形成装置42Aは、円筒部材CYLの-Y側に配置されている。第二形成装置42Bは、円筒部材CYLの-X側に配置されている。第三形成装置42Cは、円筒部材CYLのY側に配置されている。このように第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cが、円筒部材CYLの周囲に設けられ、TFT素子及び電極、配線層等を形成する一連の工程は、例えば第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cによって分担して行われるようになっている。図8は、第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cと、ドラム機構DRMの円筒部材CYLとの関係を示す図である。図8に示すように、第一形成装置42A、第二形成装置42B、第三形成装置42Cは、それぞれ2つの処理部42A1及び42A2、処理部42B1及び42B2、処理部42C1及び42C2を有している。処理部42A1、42B1、42C1は、それぞれ第一円筒部CY1に対向して設けられており、当該第一円筒部CY1に掛けられたシート基板FBに対して処理可能となっている。処理部42A2、42B2、42C2は、それぞれ第二円筒部CY2に対向して設けられており、当該第二円筒部CY2に掛けられたシート基板FBに対して処理可能となっている。このように、第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cは、立てた状態で巻かれたシート基板FBに対して処理が可能になっている。なお、第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、TFT層形成装置42による処理が行われる際に、シート基板FBを支持する支持部となる。また、第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2がシート基板FBを支持する支持部となった場合、ドラム機構を支持機構に言い換えることができる。図5~図7に示すように、乾燥装置43は、シート基板FBを例えば加熱することにより、当該シート基板FBに形成されたTFT素子や電極などを安定化させる装置である。乾燥装置43の-X側の面には、図7に示すように2つの挿入口43a及び43bが設けられている。挿入口43aは、Z側に配置されており、第一円筒部CY1を経たシート基板FBが挿入される。挿入口43bは、-Z側に配置されており、第二円筒部CY2を経たシート基板FBが挿入される。乾燥装置43のX側の面には、2つの排出口43c及び43dが設けられている。排出口43cは、Z側に配置されており、挿入口43aから挿入され乾燥処理が行われたシート基板FBが排出される。排出口43dは、-Z側に配置されており、挿入口43bから挿入され乾燥処理が行われたシート基板FBが排出される。図5及び図6に示すように、予備加工装置44は、シート基板FBに発光層を形成する際の予備工程例えば、絶縁層形成工程などを行う装置である。予備加工装置44は、シート基板FBの搬送経路において、乾燥装置43と共に、例えばドラム機構DRMの円筒部材CYLと処理ローラー32との間に配置されている。予備加工装置44は、例えば第一加工装置44A、第二加工装置44B及び第三加工装置44Cを有しており、一連の予備加工工程が分担して行われるようになっている。上記の処理装置40のうち、例えばTFT層形成装置42の第一形成装置42Aと、第一洗浄装置41Aと、第二洗浄装置41Bと、発光層形成装置45の第三形成装置45Cとが第1方向本実施形態では第1方向としてX方向に沿って配置されている。また、TFT層形成装置42の第二形成装置42Bと、円筒部材CYLと、処理ローラー32と、発光層形成装置45の第二形成装置45BとがX方向に沿って配置されている。更に、TFT層形成装置42の第三形成装置42Cと、乾燥装置43と、発光層形成装置45の第一形成装置45AとがX方向に沿って配置されている。また、例えばTFT層形成装置42の第一形成装置42Aと、円筒部材CYLと、第三形成装置42Cとが第2方向本実施形態ではX方向と交差するY方向に沿って配置されている。また、例えば洗浄装置41A及び41Bと乾燥装置43とがY方向に沿って配置されている。また、予備加工装置44とラミネート装置46とがY方向に沿って配置されている。更に、発光層形成装置45の第一形成装置45Aと、処理ローラー32と、第三形成装置45CとがY方向に沿って配置されている。このように、搬送装置30及び処理装置40は、X方向及びY方向に沿って配置されているため、X方向及びY方向から見たときに各装置が互いに重なる部分が多くなるように密集して配置されている。上記のように構成された基板処理装置FPAは、制御部CONTの制御により、ロール方式によって有機EL素子、液晶表示素子などの表示素子電子デバイスを製造する。以下、上記構成の基板処理装置FPAを用いて表示素子を製造する工程を説明する。まず、軸部材11にロール状に巻き付けられた帯状のシート基板FBを基板供給部SUの供給ポート10内の支持部12に取り付ける。また、軸部材13に巻きつけられた帯状の保護基板PBを基板供給部SUの供給ポート10内の支持部14に取り付ける。更に、回収用の軸部材21を基板回収部CLの回収ポート20内の支持部22に取り付ける。制御部CONTは、この状態から支持部12を介して軸部材11を回転させ、基板供給部SUから当該シート基板FBが送り出すようにする。基板供給部SUから送り出されたシート基板FBは、基板処理部PRの供給口SUaからチャンバCB内に供給される。制御部CONTは、チャンバCB内に供給されたシート基板FBを搬送装置30に搬送させつつ、各処理装置40によって当該シート基板FBに対して処理を行わせる。尚、軸部材11にロール状に巻き付けられたシート基板FBの先端部及び終端部には、処理装置FPAへのシート基板の自動ローディングを容易による為のリーダシートを貼り付けておいても良い。この動作により、基板処理部PRに供給されたシート基板FBは、第一洗浄装置41Aによって洗浄され、案内ローラーR1によってドラム機構DRMの第一円筒部CY1に案内される。シート基板FBは、被処理面FpがTFT層形成装置42の第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cにそれぞれ向けられるように、第一円筒部CY1に立てた状態で巻き掛けられる。第一円筒部CY1に巻き掛けられたシート基板FBの被処理面Fpには、当該TFT層形成装置42例えば、処理部A1、B1及びC1によってTFT素子や配線などが形成される。第一円筒部CY1を経たシート基板FBは、乾燥装置43のZ側の挿入口43aから乾燥装置43の内部に供給され、例えば加熱処理などの乾燥処理が施される。乾燥処理後のシート基板FBは、乾燥装置43のZ側の排出口43cから搬出される。搬出されたシート基板FBは、例えば案内ローラーR2によって-Y方向に案内され、案内ローラーR3によって-X方向に案内される。案内ローラーR3を介したシート基板FBは、案内ローラーR4によって斜め下方向X方向であって-Z側に傾いた方向に案内され、案内ローラーR5によって-X方向に案内される。案内ローラーR5を介したシート基板FBは、ドラム機構DRMの第二円筒部CY2に立てた状態で巻き掛けられる。第二円筒部CY2に巻き掛けられたシート基板FBの被処理面Fpには、当該TFT層形成装置42例えば、処理部A2、B2及びC2によってTFT素子や配線などに必要な層が重ねて形成される。第二円筒部CY2を経たシート基板FBは、乾燥装置43の-Z側の挿入口43bから乾燥装置43の内部に供給され、例えば加熱処理などの乾燥処理が再度施される。乾燥処理後のシート基板FBは、乾燥装置43の-Z側の排出口43dから搬出される。搬出されたシート基板FBは、例えば案内ローラーR6を介して予備加工装置44に供給される。予備加工装置44では、例えば第一加工装置44A~第三加工装置44Cにおいて、シート基板FBに絶縁膜や正孔注入層又は電子注入層などが形成される。予備加工後のシート基板FBは、例えば案内ローラーR7を介して処理ローラー32に案内される。シート基板FBは、被処理面Fpが発光層形成装置45の第一形成装置45A、第二形成装置45B及び第三形成装置45Cにそれぞれ向けられるように、処理ローラー32に立てた状態で巻き掛けられる。処理ローラー32に巻き掛けられたシート基板FBの被処理面Fpには、当該発光層形成装置45によって発光層などが形成される。処理ローラー32を経たシート基板FBは、ラミネート装置46に供給され、被処理面Fpに保護基板PBが貼り付けられる。保護基板PBが貼り付けられた後のシート基板FBは、例えば回収口CLaから基板回収部CLに回収される。基板回収部CLに回収されたシート基板FBは、回収ポート20内の軸部材21にロール状に巻かれていく。軸部材21に所定量のシート基板FBが巻かれたら、シート基板FBを例えば切断し、シート基板FBの巻かれた軸部材21を支持部22から取り外す。当該支持部22には、例えばシート基板FBが巻かれていない新たな軸部材21を取り付ける。制御部CONTは、このような処理を行わせることにより、シート基板FBの被処理面Fpに対して素子を形成していく。以上のように、本実施形態によれば、シート基板FBがドラム機構DRMの第一円筒部CY1の外周面の一部分に巻き付けられた後、当該シート基板FBの搬送方向が第二円筒部CY2に向けて変換され、当該シート基板FBが第二円筒部CY2に巻きつけられる構成とし、第一円筒部CY1の一部分に巻き付けられた被処理面Fpに第一処理を行うと共に、第二円筒部の一部分に巻き付けられた被処理面Fpに第二処理を行うこととしたので、シート基板FBに対して高密度に処理を行うことができる。これにより、基板処理装置FPAの省スペース化を図ることが可能となる。なお、図5及び図6に示した基板処理装置FPAでは、処理ローラー32において、シート基板FBが一回しか巻き付けられていないが、ドラム機構DRMの円筒部材CYLと同様、第1円筒部及び第2円筒部を備える2段の円筒部で構成し、各円筒部にシート基板FBを巻き付けるようにしてもよい。さらに、この構成において、発光層形成装置45を第1円筒部及び第2円筒部に配置するようにしてもよい。なお、処理ローラー32を2段の円筒部で構成した場合、図7に示した案内ローラーR4、R5のように、各回転中心軸が傾いた2本の案内ローラーを使って、シート基板FBを折り返すことができる。[第五実施形態]次に、本発明の第五実施形態を説明する。本実施形態では、ドラム機構の構成が第四実施形態とは異なっているため、ドラム機構の構成を中心に説明する。図9は、本実施形態に係るドラム機構DRM2の構成を示す斜視図である。前述の実施形態においては、第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2が単一の円筒部材CYLに形成されている構成を例に挙げて説明したが、第五実施形態では、図9のように、第一円筒部CY1と第二円筒部CY2とを異なる円筒部材例えば、第一円筒部材C1及び第二円筒部材C2に形成する構成が示されている。図9に示すように、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2とがZ方向に離れた状態で配置されている。第一円筒部材C1のZ側の端面C1aと、第二円筒部材C2の-Z側の端面C2aとは、互いに対向している。回転軸SFの中心線は、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2との間で共通XY面内で同じ位置となるように設けられている。図9に示す構成では、例えば第一円筒部材C1と第二円筒部材C2との間で、径が異なっている。具体的には、第一円筒部材C1の径D1は、第二円筒部材C2の径D2よりも大きくなっている。このように、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2とが異なる径を有することにより、搬送経路の経路長を調整することができる。回転駆動機構ACT2は、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2とをそれぞれ独立して回転可能な構成であっても構わない。また、回転駆動機構ACT2が第一円筒部材C1及び第二円筒部材C2のうち一方のみを回転可能な構成であっても構わない。図9に示す構成によれば、例えば案内ローラーR21を介したシート基板FBが第一円筒部CY1に巻き掛けられ、案内ローラー変換部R22及びR23を介して第二円筒部CY2に案内される。第二円筒部CY2に巻き掛けられた後のシート基板FBは、案内ローラーR24を介して案内される。第一円筒部材C1と第二円筒部材C2の直径の違いは、各円筒部材C1、C2の周囲に配置される各種の処理装置の加工態様や加工条件、加工部加工ヘッド部等の設置サイズ等に依存して生じ得る。本実施形態では、第一円筒部材C1から第二円筒部材C2に渡って、連続したシート基板FBが送られることから、各円筒部材C1、C2の直径が異なる場合は、その直径の差分に対応して回転速度rpmにも差を持たせる必要がある。また、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2の各々、或いは何れか一方の円筒部材に、回転駆動用のモータを設ける場合は、シート基板FBの第一円筒部材C1と接触する部分から第二円筒部材C2と接触する部分までの間に、所定のテンションを与えることが可能である。なお、図9に示す構成において、第一円筒部材C1が-Z側に配置され、第二円筒部材C2がZ側に配置された構成となっているが、これに限られることは無く、第一円筒部材C1がZ側、第二円筒部材C2が-Z側に配置されていても構わない。[第六実施形態]次に、本発明の第六実施形態を説明する。本実施形態では、ドラム機構の構成が上記実施形態とは異なっているため、ドラム機構の構成を中心に説明する。図10は、本実施形態に係るドラム機構DRM3の構成を示す斜視図である。図10に示すように、本実施形態に係るドラム機構DRM3は、第一円筒部加工用基準面CY1に対して分離された複数の第二円筒部加工用基準面を配置した構成となっている。具体的には、ドラム機構DRM3は、第一円筒部CY1に対して2つの第二円筒部CY21及びCY22を配置した構成となっている。本実施形態においては、第一円筒部CY1と第二円筒部CY21、CY22とが異なる円筒部材例えば、第一円筒部材C1及び第二円筒部材C21、C22に形成されている。ドラム機構DRM3は、第一円筒部材C1のZ側に2つの第二円筒部材C21及びC22が配置された構成になっている。2つの第二円筒部材C21及びC22は、例えば同一の径D4及びD5となるように形成されている。第一円筒部材C1の径D3は、これらの径D4及びD5よりも大きくなるように形成されている。図10に示すように、第一円筒部材C1と第二円筒部材C21及びC22とは、Z方向に離れた状態で配置されている。第一円筒部材C1のZ側の端面C1aと、第二円筒部材C21及びC22の-Z側の端面C21a及びC22aとは、互いに対向している。第一円筒部材C1及び第二円筒部材C21、C22は、それぞれ別個の回転軸SF1及びSF21、SF22を有している。回転軸SF1、回転軸SF21及び回転軸SF22は互いに平行となるように配置されている。回転駆動機構ACT3は、第一円筒部材C1、第二円筒部材C21及びC22を、それぞれ独立して回転制御可能である。図10に示す構成によれば、例えば案内ローラーR31を介したシート基板FBが第一円筒部CY1に巻き掛けられ、変換部としての案内ローラーR32及びR33必要なら追加の案内ローラーを設けるを介して、Z方向の上段の第二円筒部CY2に案内される。第二円筒部CY2に巻き掛けられた後のシート基板FBは、案内ローラーR34を介して第二円筒部CY22に巻き掛けられ、その後は案内ローラーR35を介して案内される。図10に示す構成において、第一円筒部材C1が-Z側に配置され、第二円筒部材C21及びC22がZ側に配置された構成となっているが、これに限られることは無く、第一円筒部材C1がZ側、第二円筒部材C21及びC22が-Z側に配置されていても構わない。[第七実施形態]次に、本発明の第七実施形態を説明する。本実施形態では、ドラム機構の構成が上記実施形態とは異なっているため、ドラム機構の構成を中心に説明する。図11は、本実施形態に係るドラム機構DRM4の構成を示す斜視図である。図11に示すように、本実施形態に係るドラム機構DRM4は、第一円筒部材C1、第二円筒部材C2及び第三円筒部材C3が設けられている。これら第一円筒部材C1、第二円筒部材C2及び第三円筒部材C3は、Z方向に3段に配置された構成になっている。本実施形態においては、第一円筒部材C1の外周面である第一円筒部CY1、第二円筒部材C2の外周面である第二円筒部CY2、及び第三円筒部材C3の外周面である第三円筒部CY3の各々にシート基板が掛け渡され、一連の加工と処理が施される。第一円筒部材C1、第二円筒部材C2、第三円筒部材C3は、Z方向に離れた状態で配置されている。第一円筒部材C1、第二円筒部材C2、第三円筒部材C3の隣接する端面同士は互いに対向している。回転軸SFは、第一円筒部材C1、第二円筒部材C2、第三円筒部材C3の間で共軸XY面内での位置が同じとなるように設けられている。第一円筒部材C1、第二円筒部材C2、第三円筒部材C3は、例えば径が等しくなるように形成されている。ドラム機構DRM4は、回転駆動機構ACT4を有している。回転駆動機構ACT4は、例えば3つの円筒部材C1、C2、C3を一体的に回転させる構成、或いは全て個別に回転駆動させる構成であっても構わないし、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2とをそれぞれ独立して回転可能な構成であっても構わない。また、回転駆動機構ACT4が3つの円筒部材C1、C2、C3のうちの何れか1つのみをモータ等で強制回転させる構成としても構わない。図11に示す構成によれば、例えば案内ローラーR41を介したシート基板FBが第一円筒部CY1に巻き掛けられ、案内ローラー変換部R42~R45を介して第二円筒部CY2に案内される。第二円筒部CY2に巻き掛けられた後のシート基板FBは、案内ローラー変換部R46~R49を介して第三円筒部CY3に案内される。第三円筒部CY3に巻き掛けられた後のシート基板FBは、案内ローラーR50を介して案内される。このように、本実施形態では、第一円筒部CY1と第二円筒部CY2の間でのシート基板の引き回し構成を、第二円筒部CY2と第三円筒部CY3との間でも同様に繰り返す構成であるため、ドラム機構DRM4を使った処理工程をさらに高密度化処理装置の設置床面積の削減することができる。本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。例えば、上記実施形態においては、3つの円筒部CY1、CY2、CY3の各々の位置でシート基板に対する処理加工を行なうことを想定したが、例えば、第一円筒部CY1から第二円筒部CY2までの間でシート基板FBに対して処理を行なわない構成としても構わない。また、方向変換部としての機能を有する案内ローラーのところで、シート基板に対する処理を行う構成とすることもできる。図12に示すように、案内ローラーR51によってドラム機構DRM5に案内されたシート基板FBは、第一円筒部CY1に巻き掛けられ、案内ローラーR52を介して案内された後、第二円筒部CY2に至るまでの経路において、例えば回転軸が水平XY平面と平行となるように配置された案内ローラーR53に巻き掛けられる。ここで、例えば案内ローラーR53に、当該シート基板FBを加熱する加熱装置加熱乾燥用のドラムを設ける構成とすることができる。すなわち、案内ローラーR53を加熱ドラムとして構成することができる。この場合、シート基板FBのうち案内ローラーR53に巻き掛けられた部分が加熱されることになる。図12のように、案内ローラーR53は、案内ローラーR52から立った状態で送られてくるシート基板FBを、案内ローラーR54に立った状態で送り込む為に、ねじれを与える配置になっている。例えば、ドラム機構DRM5における処理装置40として塗布装置などを用いる場合において、塗布処理された後のシート基板FBに対して乾燥処理などを行うことが好ましいが、そのような場合に、案内ローラー加熱処理用の回転ドラムR53に塗布工程直後のシート基板を巻き掛けて乾燥工程に利用することができる。乾燥処理後のシート基板FBは、例えば案内ローラーR54を介して第二円筒部CY2に案内され、第二円筒部CY2に巻かれた後、案内ローラーR55によって案内される。また、上記各説明においては、例えばシート基板FBを立てた状態で搬送する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、ドラム機構DRM及び処理ローラー32の少なくとも一方においては、シート基板FBの被処理面Fpを水平面に対して垂直又は傾けた状態で搬送し、ドラム機構DRM及び処理ローラー32の少なくとも一方に搬送する搬送経路においては、シート基板FBの被処理面Fpを水平面に対して実質的に平行に配置する構成であっても構わない。また、シート基板FBの搬送経路において、シート基板FBを立てた状態と横にした状態とを組み合わせる構成としても構わない。なお、シート基板FBを非水平姿勢、例えば、シート基板FBの被処理面Fpを水平面XY平面に対して所定角度で傾けた状態で搬送又は処理する場合には、ドラム機構DRMの円筒部材CYL、処理ローラー32、案内ローラーR1、R2、R6、R7、R8等の回転中心軸をZ方向に対して傾斜させればよい。本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。例えば、上記実施形態の構成に加えて、図1、2、5、6に示した搬送装置30が、案内ローラーR101~R106、処理ローラー31及び32の他に、シート基板FBの姿勢を調整する姿勢調整ローラーを有する構成としても構わない。この姿勢調整ローラーは、例えばシート基板FBの搬送経路において処理装置40の上流側に配置することができる。また、例えば処理装置40の直前に姿勢調整ローラーを配置した構成としても構わない。姿勢調整ローラーは、例えば中心軸がZ方向に平行になるように配置されており、X方向、Y方向及びZ方向に移動可能に設けられている。また、姿勢調整ローラーは、例えば中心軸がZ軸方向に対して傾くように配置されている。この場合、例えば姿勢調整ローラーの傾きや位置を変化させることで、シート基板FBの姿勢を調整することができる。また、上記の案内ローラーや処理ローラー、処理搬送ローラーが姿勢調整ローラーを兼ねる構成であっても構わない。また、上述した実施形態において、処理ローラー31、処理ローラー32が円筒状に形成されている例について説明したが、円筒状に限られるものではない。例えば、処理ローラー31の形状を楕円又は多角柱にしたり、処理ローラー31の表面の一部に曲率面を形成する構成であってもよい。この場合、処理ローラー31、処理ローラー32を固定し、処理ローラー31、32の表面をシート基板FBが接触又は非接触で滑る構成にすることが望ましい。また、ドラム機構DRMの円筒部材CYLも同様に、円筒部材に限られるものではない。例えば、円筒部材CYLの代わりに、各処置装置40がシート基板の被処理面を処理する際に、被処理面を曲率面で案内できるような案内面が形成された案内部材や、被処理面を平坦に案内できるような案内面が形成された案内部材を用いてもよい。なお、案内部材を用いる場合には、シート基板FBが接触又は非接触で滑る構成にすることが望ましい。また、基板供給部SUに設置されるロール状のシート基板FBの先端には、シート基板FBと同程度の厚みを有し、シート基板よりも剛性が高めのリーダシートを所定の長さで貼り付けても良い。そのようにしておくと、新しいシート基板FBのロールを基板供給部SUに取り付けた際に、シート基板を処理装置FPA4内に自動装填することも可能となる。また、上記各説明においては、例えばシート基板FBを立てた状態で搬送する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、処理ローラー31及び処理ローラー32の少なくとも一方においては、シート基板FBの被処理面Fpを水平面に対して垂直又は傾けた状態で搬送し、処理ローラー31及び処理ローラー32の少なくとも一方に搬送する搬送経路においては、シート基板FBの被処理面Fpを水平面に対して実質的に平行に配置する構成であっても構わない。また、シート基板FBの搬送経路において、シート基板FBを立てた状態と横にした状態とを組み合わせる構成としても構わない。なお、シート基板FBを非水平姿勢、例えば、シート基板FBの被処理面Fpを水平面XY平面に対して所定角度で傾けた状態で搬送又は処理する場合には、処理ローラー31、処理ローラー32、案内ローラーR101、R102、R103、R104、R8等の回転中心軸をZ方向に対して傾斜させればよい。