セラミック粒子と、その表面に被覆されている0.5~10massのWを含有し、かつ残部がNiであるNi-W合金の無電解めっき膜とからなるものであって、粒径:6~70μmの大きさであることを特徴とする高温用途材被覆用サーメット溶射粉末材料。セラミック粒子と、その表面に被覆されているNiおよび0.5~10massのWを必須成分として含み、その他PおよびBのいずれか少なくとも一方をそれぞれ7mass以下含有するNi-W―Pおよび/またはB合金の無電解めっき膜とからなるものであって、粒径:6~70μmの大きさであることを特徴とする高温用途材被覆用サーメット溶射粉末材料。前記セラミック粒子は、金属酸化物、窒化物、硼化物、珪化物および炭化物から選ばれるいずれか1種であることを特徴とする請求項1または2に記載の高温用途材被覆用サーメット溶射粉末材料。粒径が5~60μmのセラミック粒子を、NiおよびWを含む金属塩の他、ヒドラジンを還元剤として含むめっき液中に浸漬して無電解めっき処理を施すことにより、該セラミック粒子の表面に、NiおよびWを析出させてNi-W耐熱合金の無電解めっき膜を被覆形成し、粒径:6~70μmの大きさのサーメット粒子を得ることを特徴とする高温用途材被覆用サーメット溶射粉末材料の製造方法。粒径が5~60μmのセラミック粒子を、NiおよびWを含む金属塩の他、次亜リン酸ナトリウム、ジエチルアミンボラン化合物または水素化硼素化合物から選ばれるいずれか1種以上の還元剤を含むめっき液中に浸漬して無電解めっき処理を施すことにより、該セラミック粒子表面に、Ni-Wの析出とともにPおよび/またはBを共析させて、Ni-W-P合金および/またはNi-W-B合金の無電解めっき膜を被覆形成し、粒径:6~70μmの大きさのサーメット粒子を得ることを特徴とする高温用途材被覆用サーメット溶射粉末材料の製造方法。前記セラミック粒子は、金属酸化物、窒化物、硼化物、珪化物および炭化物から選ばれるいずれか1種であることを特徴とする請求項4または5に記載の高温用途材被覆用サーメット溶射粉末材料の製造方法。前記した従来技術のうち、例えば、金型表面に黒鉛粉末を含有する潤滑剤を塗布したり、各種の表面処理皮膜の場合、次のような問題があった。それは、黒鉛粉末を塗布した金型表面は、良好な潤滑性を有すると共に、溶融ガラスと接触しても疵がつかないという利点がある一方で、黒鉛の粉末が飛散しやすく、作業環境を汚染しやすい。しかも、塗布方法および塗布時期の判断などは、すべて熟練作業者の経験に頼っているため、作業の自動化、ロボット化などの無人化が難しいという問題がある。また、溶射法やCVD、PVDなどによる炭化物サーメット、酸化物、窒化物、耐熱合金などの従来の表面処理技術は、無処理の場合に比較すると、それなりの効果は認められるものの不十分であり、しばしば黒鉛粉末塗布技術との併用が必要になるという問題がある。ところで、溶融ガラス塊の成形用金型と搬送用部材とは、従来、これらに求められる条件や特性が異なるため、本来はそれぞれの要求特性に応じた表面処理を行う必要があるところ、実際には、これらについての十分な検討は行われておらず、未解決のままである。例えば、搬送用部材については、高温の溶融ガラス塊とその表面に形成されている表面処理皮膜との接触圧が小さくかつ接触時間も短いため、一般には皮膜の潤滑性能が重要な管理目標となる。これに対し、ガラス成形用金型の場合には、溶融ガラス塊との接触時間が長いため、耐熱性や耐高温摩耗性が求められると共に、表面処理皮膜表面の微小な粗さや僅かな疵などがガラス表面に転写され易いため、皮膜表面の研削、研磨などの加工が容易な皮膜や素材を用いることが求められる。しかも、製壜のための成形用金型の入口は、一般に狭く、ここを通過する溶融ガラス塊の潤滑性および成形後のガラス製品の離型性も重要な特性因子となるが、これらの諸特性を備えた好適な表面処理皮膜、特に溶射皮膜およびそのための溶射粉末材料は未だに開発されていないのが実状である。なお、近年では、作業環境およびガラス成形品に対する安全意識が向上していることから、有害物質の発生についての対策、検討も必要である。この点、従来の溶射粉末材料は、クロム炭化物Cr3C2やNi-Cr合金粉末、自溶合金などの含Cr化合物やCr含有合金粉末がよく使われているが、これらは高温環境下では酸化され、その一部が有害な6価クロムの化合物を生成する倶れがあるところ、これらの課題についてもまた未解決のままである。本発明の目的は、従来技術が抱えている上述した問題点を解決すること、特に、高温用途材の表面に耐熱性や耐高温摩耗性に優れる溶射皮膜を形成するときに有効な、サーメットからなる溶射粉末材料およびそれの製造方法を提案することにある。従来技術が抱えている上述した課題を解決し、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、発明者らは、セラミック粒子と、その表面に被覆されている0.5~10massのWを含有し、かつ残部がNiであるNi-W合金の無電解めっき膜とからなるものであって、粒径:6~70μmの大きさであることを特徴とする高温用途材被覆用のサーメット溶射粉末材料が有効であることを突き止め、本発明に想到した。また、本発明は、セラミック粒子と、その表面に被覆されているNiおよび0.5~10massのWを必須成分として含み、その他PおよびBのいずれか少なくとも一方をそれぞれ7mass以下含有するNi-W―Pおよび/またはB合金の無電解めっき膜とからなるものであって、粒径:6~70μmの大きさであることを特徴とする高温用途材被覆用サーメット溶射粉末材料を提案する。前記セラミック粒子は、金属酸化物、窒化物、硼化物、珪化物および炭化物から選ばれるいずれか1種である。上記のサーメット溶射粉末材料は、下記の方法によって製造する。1粒径が5~60μmのセラミック粒子を、NiおよびWを含む金属塩の他、ヒドラジンを還元剤として含むめっき液中に浸漬して無電解めっき処理を施すことにより、該セラミック粒子の表面に、NiおよびWを析出させてNi-W耐熱合金の無電解めっき膜を被覆形成し、粒径:6~70μmの大きさのサーメット粒子を得る方法。2粒径が5~60μmのセラミック粒子を、NiおよびWを含む金属塩の他、少なくとも次亜リン酸ナトリウム、ジエチルアミンボラン化合物または水素化硼素化合物から選ばれるいずれか1種以上の還元剤を含むめっき液中に浸漬して無電解めっき処理を施すことにより、該セラミック粒子表面に、Ni-Wの析出とともにPおよび/またはBを共析させて、Ni-W-P合金および/またはNi-W-B合金の無電解めっき膜を被覆形成し、粒径:6~70μmの大きさのサーメット粒子を得る方法。前記のような構成を有する本発明に係るサーメット溶射粉末材料によれば、高温用途材の表面に、緻密で耐高温性に優れる溶射皮膜を形成することができる。従って、このようなサーメット溶射粉末材料によって被覆形成された高温用途材、例えば、ガラス壜成形用金型は、耐熱性や耐摩耗性が向上すると共に、ガラスとの剥離性に優れたものとなり、初期の金型寸法精度を長期間にわたって維持できるだけでなく、ガラス成形製品の品質向上に大きく貢献することができる。本発明に係るサーメット溶射粉末材料は、セラミック粒子と金属粒子を物理的に混合させてなる従来のサーメット溶射粉末材料と比較すると、これらを溶射した場合に、セラミック粒子と金属粒子の比重差および粒径差などによって、溶射ガンへの供給ホース中や溶射ガンから高速噴射される環境下で両者が分離するようなことがない。即ち、従来溶射粉末材料の場合、溶射皮膜中においてセラミックスと金属成分の割合が一定とならないという問題がある。この点、本発明に係るサーメット溶射粉末材料は、セラミック粒子の外周面に耐熱合金膜が被覆されているため、両成分が分離するようなことがなく、溶射皮膜の品質の高い材料を提供することができる。なお、セラミック粒子の表面に無電解めっき法によって耐熱合金を被覆形成する場合、主成分のNiとWは、ともに物理化学的に溶融ガラスとの密着性に弱いため、剥離性に優れた溶射皮膜を形成するのに適している。また、本発明のサーメット溶射粉末材料の場合、これを用いて被成した溶射皮膜からは6価クロム化合物が発生するようなことのない安全性の高い高温用途材、とくにガラス成形用金型や溶融ガラス塊の搬送部材、高温用ガラス板などを提供できるようになると共に、これらの部材に対する定期的な黒鉛粉末塗布作業を省略もしくはその塗布頻度を著しく削減することができ、作業環境の改善にも寄与できる。以下、本発明に係るサーメット溶射粉末材料を用いて溶射する方法、即ち、ガラス壜成形用金型の表面に溶射被覆する例について、特に、その金型内表面に、セラミック粒子とその表面にNiとWを必須成分として含むNi-W-P耐熱合金もしくはNi-W-B耐熱合金を無電解めっき被覆してなるサーメット溶射粉末材料を溶射する例について述べる、本発明はもちろんこのような部材のみに適用されるものではない。以下、具体的に説明する。1サーメット溶射粉末材料本発明のサーメット溶射粉末材料は、下記のセラミック粒子と、その表面に被覆形成されたNiとWなどの化学成分を必須成分とする無電解めっき膜とで構成されている。イ.セラミック粒子材料;a酸化物セラミック:A12O3、TiO2、Y2O3、ZrO2、Y2O3、NiO、MgO、Cr2O3、CoO、SiO2、Al2O3-TiO2、A12O3-MgO、A12O3-Y2O3、BaTiO3、LaCrO3、2MgOSiO2などb非酸化物セラミック:TiN、TaN、AIN、BN、Si3N4、NbN、MoSi2、ZrB、TaB2、MoB2、WC、VC、TiC、SiC、HfCなどc酸化物-非酸化物系セラミックの混合物及び化合物:例えば、SiO2A12O3-AINなどロ.無電解めっき膜;a.Ni-W合金膜b.Ni-W-P合金膜c.Ni-W-B合金膜d.Ni-W-P―B合金膜ただし、W≦10mass、P/B≦各7.0mass2サーメット溶射粉末材料の製造方法本発明に係るサーメット溶射粉末材料は、粒径が5μm~60μmの上記イのセラミックの粒子表面に、後で詳述する方法によって、上記a~dのいずれか1の合金成分からなる無電解めっき膜を被覆形成することにより、粒径が6~70μmの大きさの粉末粒子とすることによって製造される。3セラミック粒子表面に上記合金の無電解めっき膜を被覆する方法前記セラミック粒子の外周面に対して、下記のような無電解めっき処理を施すことによって、NiとWを必須成分として含む上記合金の無電解めっき膜を被覆形成して、サーメット溶射粉末材料を製造する。例えば、無電解めっき液中に、セラミック粒子を投入して浸漬させた後、所定の温度60°C~95°Cに保持してよく攪拌しつつ放置すると、セラミック粒子の外周面に、少なくともNiとWを主成分として含む上記合金の無電解めっき膜が付着し、時間の経過に伴ってめっき膜は次第に成長し肥厚化する通常、1時間当たり0.3~3μm程度。かかる無電解めっき処理においては、めっき液中にNiやWなどのイオンを金属として粒子の表面に析出させるため、無電解めっき液中には、NiおよびWを含む金属塩の他、還元剤として、例えば、次亜リン酸ナトリウムNaH2PO2を添加する。この場合、前記セラミック粒子表面には、NiおよびWの析出とともに、1~13mass程度のPが共析してNi-W-P合金のめっき膜が形成される。また、ジメチルアミンボラン化合物CH3NHBH4または、水素化硼素化合物NaHB4を添加すると、前記セラミック粒子表面には、Bが1~8massの範囲でNi、Wとともに共析して、Ni-W-B合金の無電解めっき膜が形成される。さらに、還元剤としてヒドラジンNH2NH2を添加すると、前記セラミック粒子表面には、NiおよびWのみが析出し、PやBは共析しないので、Ni-W合金の無電解めっき膜が形成される。発明者らの知見によると、PもしくはBの含有量は1~7massの範囲であれば、本発明の目的とする溶射皮膜を形成するためのサーメット溶射粉末材料として問題がなかったので、NH2NH2還元剤の場合を含め、それぞれの許容含有量として7massを適合範囲とした。また、PとBの含有量は、めっき液中へ添加するそれぞれの還元剤を調節することによって制御することができる。また、本発明のサーメット溶射粉末材料は、Wの含有量を0.5~10massとする。本発明において、Wを含有させる理由は、この材料を溶射して溶射皮膜にした場合においても、溶融ガラスなどの高温材料との剥離性に優れるほか、硬質であるため、耐摩耗性に優れるものが得られる。このWの含有量は、0.5mass未満では含有効果が不足し、一方、10mass超では皮膜が硬化した場合に割れやすくなる。なお、Ni-W-P合金無電解めっき処理して、これを被覆した後、引続きNi-W-B系の合金めっき処理すれば、PとBを含む合金層、所謂、Ni-W-P-B合金無電解めっき膜が得られる。図1は、A12O3粒子の外周面に、無電解めっき処理して、Ni-W-P合金めっき膜を被覆形成した粒子の外観と、その断面状況を観察した電子顕微鏡写真である。この写真に示すように、Ni-W-P耐熱合金で被覆されたサーメット溶射粉末材料は、セラミック粒子の表面に合金膜が緻密かつ均等に被覆形成されている状況が見られる。セラミック粒子表面に、NiとWを必須成分として含む耐熱合金の無電解めっき膜を被覆形成してなる本発明に係るサーメット溶射粉末材料は、粒径が6~70μm範囲の大きさにすることが好適である。その理由は、6μm未満の粒径では、溶射ガンへの連続的な供給が困難な場合があり、一方、粒径が70μm超の粉末材料では、溶射熱源において融点の高いセラミック粒子の溶融軟化現象が困難となる。かかるサーメット溶射粉末材料、即ち、セラミック粒子とその外周面に被覆形成されたNi-Wを必須成分とする耐熱合金の無電解めっき膜との割合は、容積比でセラミック粒子95~50/無電解めっき膜5~50とすることが望ましい。その理由は、セラミック粒子が5mass未満では、セラミック粒子の耐熱性、耐食性、耐変形性が有効利用できず、一方、50mass超を含むものサーメット皮膜では、無電解めっき膜の溶融ガラスとの剥離性に影響を与える可能性が大きくなるからである。めっき膜の厚さからの管理としては、0.5~5μmの範囲が好適である。3本発明のサーメット溶射粉末材料を用いて溶射皮膜を形成する方法セラミック粒子表面にNiとWを必須成分とする耐熱合金の無電解めっき膜を被覆形成して得られるサーメット溶射粉末材料を用いて成膜するには、溶射法を適用することが最も実用的である。例えば、大気プラズマ溶射法、減圧プラズマ溶射法、高速フレーム溶射法、爆発溶射法などがよく、また、溶射雰囲気ガスの温度600°C~1800°Cを低く抑制したワームスプレー、コールドスプレーによっても成膜することはできる。このような溶射法によるサーメット溶射皮膜の形成は、ガラス成形用金型などの高温用途材の基材表面に対して、直接被成することができる。この場合において、溶射法によって被成するサーメット溶射皮膜の厚さは、50~1000μm程度の範囲がよく、特に100~300μmの範囲とすることが好ましい。それはサーメット溶射粉末材料粒子が6~70μmの場合、皮膜厚さが50μm未満では、基材表面に均等な厚みで成膜することができず、一方、1000μm超の厚さでは、気孔が多くなって部材品質に悪影響が出るおそれがあるからである。こうしたサーメット溶射皮膜は、成膜状態のままでも、また、表面研摩したのちに、実用に供することができるが、熱処理を行ってもよい。それは皮膜の特性、例えば、硬さを向上させることができるので有利である。本発明のサーメット溶射粉末材料を使って前記サーメット溶射皮膜を形成する場合、被処理対象となる基材としては、鋳鉄、鋳鋼、炭素鋼、工具鋼、低合金鋼などの鋼鉄製のものが好適である。その他、Al及びその合金、Ti及びその合金、Mg合金などの非鉄金属をはじめ、セラミック焼結体、焼結炭素などへの施工も可能である。実施例1この実施例では、各種のセラミック粉末に対する無電解めっき膜の析出被覆状況とめっき液に使用する還元剤の種類によるめっき膜の化学成分の変化ならびにセラミック粉末へのめっき膜の付着状況を調査した。1供試セラミック粉末:供試セラミック粉末として、粒径10~50μmのAl2O3、AlN、MoB2、WC、MoSi2を用いた。2無電解めっき液:表1記載の無電解めっき液を用いたが、ヒドラジンを還元剤とするめっき液は、表1のNi-W-P液の次亜リン酸ナトリウムに代えて、ヒドラジンを5~10ml/L添加した。めっき液の温度は60°C~95°Cであり、時間は最高10時間とした。この間、金属の析出反応が低下するときには、還元剤のみを適宜追加した。3調査項目:被処理セラミック粉末へのめっき膜の付着状況と、そのめっき膜の主要成分の確認4試験結果:試験結果を表2に要約した。この結果から明らかなように、供試セラミック粉末の表面には、緻密なめっき膜が均等な状態で付着した。一方、めっき膜の化学成分は、ヒドラジンを還元剤とする場合には、NiとW、次亜リン酸ナトリウムの場合は、Ni、WとP、ボロン化合物の場合には、Ni、W、Bがそれぞれ含まれ、その内訳はW含有量は0.5~10mass、Pは1~13mass、Bは1~8massの範囲に変化した。これらのW、P、Bの含有量は、めっき液中の各成分濃度を変化させ、すなわち、Wはタングステン酸ナトリウム、PとBはそれぞれの還元剤の添加濃度を変えることによって、本発明の範囲に制御できることが確認できた。実施例2この実施例では、実施例1で製造した本発明に適合するA12O3粒子の表面にNiとWを必須成分とする耐熱合金を無電解めっき被覆してなるサーメット溶射粉末材料を用いて、一般に広く採用されている3種類の溶射法によって成膜した後、皮膜の表面仕上げに大きな影響を与える溶射皮膜の気孔率を調査した。1供試基材:供試基材として、FC200寸法:幅30mm×長さ50mm×厚さ7mmを用いた。2供試材料:無電解めっき法ただし、ヒドラジン、次亜リン酸ナトリウム、ジメチルアミンボランなどを還元材として使用によって得た本発明に適合するサーメット溶射粉末材料として、A12O3粒子の表面にNi:74.5~90mass、W:0.5~20mass、P:2~7mass、B:4~7massの無電解めっき膜を被覆したもの、また、比較例の溶射粉末材料として、市販のNi80-Cr20mass、Ni50-Cr50massの耐熱合金粒子を用いた。3溶射法と膜厚:溶射法として、大気プラズマ溶射法APS、減圧プラズマ溶射法LPS、高速フレーム溶射法HVOFを用い、それぞれの方法で厚さ150μmの皮膜を形成させた。4調査項目:供試皮膜の断面を切断研摩した後、光学顕微鏡で観察するとともに、画像解析装置によって5カ所の気孔率を測定した。5試験結果:試験結果を表3に要約した。この結果から明らかなように、本発明に適合するサーメット溶射粉末材料を用いた溶射皮膜の気孔率No.1~5は、APS:3~8、LPS:0.3~1.2、HVOF:1~4の範囲内にあり、LPSの気孔率が最も少なく、次いでHVOF、APS皮膜の順であることが判明した。一方、比較例の溶射粉末材料を用いて溶射した皮膜No.6、7の気孔率も同様な傾向と気孔率を示していることから、本発明のサーメット溶射粉末材料を用いた溶射皮膜は、Ni-Cr合金皮膜と同様な方法によって、皮膜表面の仕上げ加工が可能であることが認められた。実施例3この実施例では、本発明に適合するサーメット溶射粉末材料によって形成された溶射皮膜の耐熱衝撃性を調査した。1供試基材:供試基材として、SUS410鋼寸法:幅50mm×長さ50mm×厚さ3.2mmの試験片を用いた。2成膜用材料:セラミック粒子として、A12O3、A12O3-Y2O3複酸化物YAG、Y2O3、MoB2、SiC、AINを用い、これらのセラミック粒子の表面に無電解めっき法ただし、還元剤として実施例1と同じものを使用によって、Ni:85~97mass、W:3~10mass、P:0~4mass、B:0~4massの耐熱合金を被覆形成した成膜用材料を準備し、これを大気プラズマ溶射法により、基材の片面に直接150μmの厚さの皮膜を形成させた。一方、比較例として、前記セラミック粒子のみの皮膜を大気プラズマ溶射法により、膜厚150μmの厚さの皮膜を形成した。3試験方法:上記溶射皮膜試験片を電気炉中で650°C×15分間加熱した後、これを炉外に取り出し、送風機の空気を流しながら、80°C以下の温度に冷却させる操作を1サイクルとし、計10サイクルの試験を繰り返した。なお1サイクルの試験ごとに溶射皮膜の表面を拡大鏡×8によって観察し、ひび割れや局部的な剥離の有無などを調査した。4試験結果:試験結果を表4に要約した。この結果から明らかなように、比較例のセラミック粒子のみの溶射皮膜No.7~12は、熱衝撃サイクル4~8回の繰り返しによって、皮膜表面に局部的な割れや剥離が発生した。これに対して、本発明に適合するサーメット溶射粉末材料を溶射して形成したサーメット溶射皮膜はNo.1~6は、10サイクルの熱衝撃試験によっても、割れや剥離は認められず、無電解めっき膜厚の存在によって、溶射粒子の相互結合力の向上が明らかに認められる。実施例4この実施例では、セラミック粉末の外周面に無電解めっき法ただし、還元剤として実施例1と同じものを使用によって、Ni-W合金膜を被覆形成した本発明に適合するサーメット溶射粉末材料によるプラズマ溶射皮膜に対する溶融ガラス塊の剥離性と耐熱衝撃性を定性的に調査した。1供試基材:供試基材として、FC200寸法:幅50mm×長さ70nn×厚さ7mmの試験片を用いた。2供試皮膜:供試皮膜として、下記性状の無電解Niめっき膜を被覆したセラミック粒子を用い、大気プラズマ溶射法によって、150μmの厚さの皮膜を形成した。a.セラミック粒子:Si3N4、A12O3、YAG、MoB2b.無電解めっき膜:Ni:89~94mass、W:0.5~10mass、P:0~5mass、B:0~4massなお、セラミック粒子とめっき膜金属の容積比は、95~37/5~63である。また、比較例の溶射皮膜として、A12O3粒子にCr粒子をはじめ、Ni-40~75Cr合金粒子をそれぞれ重量比で50添加混合したサーメットをはじめ、自溶合金JISH8303規定のSFNi4、現在汎用されている黒鉛塗布膜を用い同条件で試験した。3溶融ガラスとの密着性試験方法:供試皮膜の表面に1200°Cの溶融ガラス塊を圧着した後、室温25°Cまで放冷し、皮膜表面に固着したガラス塊を木製ハンマーを用いて叩き落とすことによって、ガラス塊の密着性離形性を定性的に調査した。4熱衝撃試験方法:実施例3と同じ方法を採用した。5試験結果:試験結果を表5に要約した。この結果から明らかなように、サーメット溶射皮膜であっても、単にセラミック粒子と金属粒子を物理的に混合した状態のものを溶射した溶射皮膜No.5~7では、良好な耐熱衝撃性を示すものの、溶融ガラス塊との剥離性が悪いことが判明した。また、自溶合金皮膜No.8も良好な耐熱衝撃性を示すが、溶融ガラス塊との剥離性には若干のバラツキが認められた。具体的には、ガラス塊が容易に剥離する場合と、やや困難な場合が混在し、信頼性に乏しい結果が得られた。一方、黒鉛粉末の塗布膜は、溶融ガラス塊との剥離性は、極めて良好であったが、試験中においても、黒鉛粉末が周囲に飛散して、実験室の環境を甚しく汚染した。これに対し、本発明に係るサーメット溶射粉末材料を用いて形成した溶射皮膜No.1~4は、溶融ガラス塊との剥離性がよく、耐熱衝撃性試験においても、皮膜に割れや剥離などの欠陥が認められず、優れた性能を発揮した。実施例5この実施例では、ガラス壜成形用金型の表面に、セラミック粒子の外周面にNiとWを必須成分として含む無電解めっき膜ただし、還元剤として、実施例1と同じものを使用を被覆した本発明に適合するサーメット溶射粉末材料を用いて、溶射皮膜を形成させた後、実際の作業条件下における性能を調査した。1供試金型:FC200製の二つ割り状の金型の表面に、次に示す溶射皮膜を形成した。2供試皮膜:本発明に係る皮膜として、下記のセラミック粒子の外周面に無電解めっき膜を被覆したサーメット溶射粉末材料を用い、大気プラズマ溶射法によって、膜厚150μmに形成した。a.セラミック粒子:MoSi2、Si3N4、A12O3、YAG、MgO-A12O3、MoB2b.無電解めっき膜:Ni:89~95mass、W:2~10mass、P:0~5mass、B:0~4massなお、セラミック粒子とめっき膜金属の比は、容積比で90~40/10~60である。また、比較例の皮膜として、MoB2、A12O3、Si3N4、Cr3C2のセラミック粒子にNi-Cr合金を配合したサーメット溶射粉末材料によって、MoB2、A12O3、Si3N4は、大気プラズマ溶射法により膜厚150μm、Cr3C2サーメットは高速フレーム溶射法によって120μmの膜厚に形成した。以上のすべての供試皮膜の表面は、機械的研摩法によって、表面粗さRa:0.2μm以下、Rz:4μm以下の平滑な面に仕上げた。3試験項目:実際の製壜プラントにおける供試皮膜の試験項目は、溶融ガラス塊の金型内部への供給状況の観察主として潤滑性と試験後の皮膜表面の観察ひび割れ、剥離の有無である。4試験結果:試験結果を表6に要約した。この結果から明らかなように、比較例のセラミック粒子とNi-Cr合金を単に物理的に混合したサーメット溶射皮膜No.7~9は、耐熱性を有するものの、ガラス塊の金属内部への供給時に、入口付近で一時的ながら、とどまる現象が認められ、ガラス塊との摩擦抵抗が大きいことが判明し、また試験後の皮膜表面に、少量ながら、6価クロム化合物の生成が認められたことから、作業環境を汚染する可能性がうかがえる。なお、炭化物サーメット皮膜No.10は、溶融ガラスとの接触抵抗は少ないものの、この皮膜の表面からも、6価クロム化合物の生成が認められた。この皮膜表面の6価クロム化合物は、Cr3C2成分の酸化による可能性が大きい。以上の結果に対して、本発明に適合するサーメット溶射粉末材料を用いて成膜した溶射皮膜No.1~6では、ガラス塊との抵抗が少ないうえ、耐熱性にも優れているため、150時間以上の連続操業を可能とし、生産性の向上に大きく寄与した。