"金属原料が供給される反応容器と、前記反応容器内の金属原料との間でプラズマを生成し、前記金属原料を蒸発させて金属蒸気を生成するプラズマトーチと、前記金属蒸気を搬送するためのキャリアガスを前記反応容器内に供給するキャリアガス供給部と、前記キャリアガスにより前記反応容器から移送される前記金属蒸気を冷却して金属粉末を生成する冷却管を備える金属粉末製造用プラズマ装置であって、前記冷却管が、前記反応容器から前記キャリアガスによって移送される前記金属蒸気及び/又は金属粉末を間接的に冷却する間接冷却区画と、前記間接冷却区画に続き、前記金属蒸気及び/又は金属粉末を直接的に冷却する直接冷却区画とを備え、前記間接冷却区画が、内径の異なる2以上の区画で構成されていることを特徴とする金属粉末製造用プラズマ装置。前記間接冷却区画が、少なくとも、前記反応容器から前記金属蒸気が移送される第1の間接冷却区画と、当該第1の間接冷却区画と前記直接冷却区画との間に配置される第2の間接冷却区画とを備え、前記第1の間接冷却区画の内径が、前記第2の間接冷却区画の内径よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の金属粉末製造用プラズマ装置。前記間接冷却区画の少なくとも一部に、伝熱制御部材が設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の金属粉末製造用プラズマ装置。前記間接冷却区画が、冷却用流体で前記冷却管の周囲を冷却し、当該流体を前記金属蒸気及び/又は金属粉末に直接接触させることなく、前記金属蒸気及び/又は金属粉末を冷却する区画であり、前記直接冷却区画が、冷却用流体を前記金属蒸気及び/又は金属粉末に直接接触させて冷却する区画であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の金属粉末製造用プラズマ装置。図5は、特許文献2に記載されている冷却管の構成を示す図である。図5に示されるように、冷却管14は間接冷却区画34と直接冷却区画50とを備え、更に間接冷却区画34は、内管36と外管38の二重管で構成されている。そして、内管36の外壁と外管38の内壁との間の空間に冷却用流体を循環させることにより、反応容器からの金属蒸気、並びに凝結して生成した金属粉末に対する間接冷却を行っている。これに続く直接冷却区画50では、キャリアガスに冷却用流体を混合すると同時に、間接冷却区画34に比べて内径の大きい冷却管を採用することにより、間接冷却区画34を通ってきたキャリアガスを急激に膨張させ、冷却効率を高めている。ところで、上記間接冷却区画においては、高温のまま冷却管内に移送されたキャリアガス中の金属蒸気に対し、輻射冷却が行われるため、均一で安定的な核の生成、成長、結晶化が進行する。しかしながら、特許文献2に記載されている装置で金属粉末を製造する場合、本発明者等の研究によれば、従来のプラズマ装置に比べれば得られる金属粉末の粒度分布は改善されているものの、更にシャープな粒度分布を得ようとしても限界があった。本発明者等はその原因について研究を進めたところ、間接冷却区画において、冷却管の内壁に近い領域と中央軸に近い領域とでは、キャリアガスの流速や温度、金属蒸気の濃度等に差異が生じていることを見出した。従って、定かではないが、当該差異により冷却管内の内壁に近い領域と中央に近い領域とでは核の生成タイミングが異なり、早いタイミングで析出した核は粒成長、特に合一によって大きくなるのに対し、遅れて析出した核は合一する前に直接冷却区画に達して急冷され、粒度分布に影響を及ぼしている可能性が考えられる。しかも、上述した差異は冷却管の内径が小さければ小さいほど顕著になる。そこで本発明者等は、図5の間接冷却区画34の内管36の内径を、直接冷却区画50と同程度にまで広げてみたところ、生産効率が著しく低下した。これは間接冷却区画34でのキャリアガス中に含まれる金属蒸気の濃度密度が下がったため、核が十分に生成しなくなったためと考えられる。しかもキャリアガスの流速が低くなることから、析出したばかりの核が内管36の内壁に付着しやすくなるという新たな問題も生じることが分かった。本発明は、これらの問題を解決し、粒度分布の狭い金属粉末を得ることができ、より生産効率の良い金属粉末製造用プラズマ装置を提供することを目的とする。請求項1の発明によれば、金属原料が供給される反応容器と、前記反応容器内の金属原料との間でプラズマを生成し、前記金属原料を蒸発させて金属蒸気を生成するプラズマトーチと、前記金属蒸気を搬送するためのキャリアガスを前記反応容器内に供給するキャリアガス供給部と、前記キャリアガスにより前記反応容器から移送される前記金属蒸気を冷却して金属粉末を生成する冷却管を備える金属粉末製造用プラズマ装置であって、前記冷却管が、前記反応容器から前記キャリアガスによって移送される前記金属蒸気及び/又は金属粉末を間接的に冷却する間接冷却区画と、前記間接冷却区画に続き、前記金属蒸気及び/又は金属粉末を直接的に冷却する直接冷却区画とを備え、前記間接冷却区画が、内径の異なる2以上の区画で構成されていることを特徴とする金属粉末製造用プラズマ装置が提供される。請求項2の発明によれば、前記間接冷却区画が、少なくとも、前記反応容器から前記金属蒸気が移送される第1の間接冷却区画と、当該第1の間接冷却区画と前記直接冷却区画との間に配置される第2の間接冷却区画とを備え、前記第1の間接冷却区画の内径が、前記第2の間接冷却区画の内径よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の金属粉末製造用プラズマ装置が提供される。請求項3の発明によれば、前記間接冷却区画の少なくとも一部に、伝熱制御部材が設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の金属粉末製造用プラズマ装置が提供される。請求項4の発明によれば、前記間接冷却区画が、冷却用流体で前記冷却管の周囲を冷却し、当該流体を前記金属蒸気及び/又は金属粉末に直接接触させることなく、前記金属蒸気及び/又は金属粉末を冷却する区画であり、前記直接冷却区画が、冷却用流体を前記金属蒸気及び/又は金属粉末に直接接触させて冷却する区画であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の金属粉末製造用プラズマ装置が提供される。本発明の金属粉末製造用プラズマ装置によれば、金属蒸気の濃度が高い状態で間接冷却を行った後、金属蒸気の濃度を下げた状態で引き続き間接冷却を行い、その後において直接冷却を行えるようにしたため、核を十分に析出させた後、核の生成並びに合一による成長を制御することができるようになり、より均一な雰囲気中で金属粉末の成長、結晶化を行うことができるようになった。そのため、本発明により得られる金属粉末は、従来のものに比べ粒度分布が狭く、しかも生産効率も良好である。以下、具体的な実施形態に基づきながら本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。図1は、前記特許文献2と同様の移行型アークプラズマ装置に本発明を適用した金属粉末製造用プラズマ装置100以下、単にプラズマ装置と言うの一例を示しており、反応容器102の内部で金属原料を溶融蒸発させ、生成された金属蒸気を冷却管103内で冷却して凝結させることにより金属粒子を生成する。なお、本発明において金属原料としては、目的とする金属粉末の金属成分を含有する導電性の物質であれば特に制限はなく、純金属の他、2種以上の金属成分を含む合金や複合物、混合物、化合物等を使用することができる。金属成分の一例としては、銀、金、カドミウム、コバルト、銅、鉄、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、タンタル、チタン、タングステン、ジルコニウム、モリブデン、ニオブ等を挙げることができる。特に制限はないが、取扱い易さから、金属原料としては数mm~数十mm程度の大きさの粒状や塊状の金属材料又は合金材料を使用することが好ましい。以下においては理解容易のため、金属粉末としてニッケル粉末を製造し、金属原料として金属ニッケルを用いる例で説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。金属ニッケルは、予め、装置の稼働を開始する前に、反応容器102内に所定量を準備しておき、装置の稼働開始後は、金属蒸気となって反応容器102内から減少した量に応じて、随時、フィードポート109から反応容器102内に補充される。そのため本発明のプラズマ装置は、長時間連続して金属粉末を製造することが可能である。反応容器102の上方にはプラズマトーチ104が配置され、図示しない供給管を介してプラズマトーチ104にプラズマ生成ガスが供給される。プラズマトーチ104は、カソード106を陰極、プラズマトーチ104の内部に設けられた図示しないアノードを陽極としてプラズマ107を発生させた後、陽極をアノード105に移行することにより、カソード106とアノード105との間でプラズマ107を生成し、当該プラズマ107の熱により反応容器102内の金属ニッケルの少なくとも一部を溶融させ、ニッケルの溶湯108を生成する。さらにプラズマトーチ104は、プラズマ107の熱により、溶湯108の一部を蒸発させ、ニッケル蒸気本発明の金属蒸気に相当するを発生させる。キャリアガス供給部110は、ニッケル蒸気を搬送するためのキャリアガスを反応容器102内に供給する。キャリアガスとしては、製造する金属粉末が貴金属の場合は特に制限はなく、空気、酸素、水蒸気等の酸化性ガスや、窒素、アルゴン等の不活性ガス、これらの混合ガス等を使用することができ、酸化しやすいニッケル、銅等の卑金属を製造する場合は不活性ガスを用いることが好ましい。特に断らない限り、以下の説明においては、キャリアガスとして窒素ガスを使用する。なお、キャリアガスには、必要に応じて水素、一酸化炭素、メタン、アンモニアガスなどの還元性ガスや、アルコール類、カルボン酸類などの有機化合物を混合してもよく、その他、金属粉末の性状や特性を改善調整するために、酸素や、その他、リンや硫黄等の成分を含有させても良い。なお、プラズマの生成に使用されたプラズマ生成ガスも、キャリアガスの一部として機能する。反応容器102内で発生したニッケル蒸気を含むキャリアガスは、冷却管103に移送される。冷却管103は、キャリアガスに含まれるニッケル蒸気及び/又はニッケル粉末を間接的に冷却する間接冷却区画ICと、キャリアガスに含まれるニッケル蒸気及び/又はニッケル粉末を直接的に冷却する直接冷却区画DCを備える。間接冷却区画ICでは、冷却用流体や外部ヒータ等を用いて、冷却管内管103の周囲を冷却又は加熱し、間接冷却区画ICの温度を制御することによって冷却を行う。冷却用流体としては、前述したキャリアガスやその他の気体を用いることができ、また水、温水、メタノール、エタノール或いはこれらの混合物等の液体を用いることもできる。但し、冷却効率やコスト的な観点からは、冷却用流体には水又は温水を用い、これを冷却管103の周囲を循環させて冷却管103を冷却することが望ましい。間接冷却区画ICにおいては、高温のまま冷却管103内に移送されるキャリアガス中のニッケル蒸気は輻射により比較的緩やかに冷却され、安定的且つ均一的に温度制御された雰囲気中で核の生成、成長、結晶化が進行することで、キャリアガス中に粒径の揃ったニッケル粉末が生成される。直接冷却区画DCでは、間接冷却区画ICから移送されてきたニッケル蒸気及び/又はニッケル粉末に対し、図示しない冷却流体供給部から供給される冷却用流体を噴出又は混合して、直接冷却を行う。なお、直接冷却区画DCで使用する冷却用流体は、間接冷却区画ICで使用した冷却用流体と同じものでも異なるものでも良いが、取扱いのし易さやコスト的な観点から、前記キャリアガスと同じ気体以下の実施形態においては窒素ガスを使用することが好ましい。気体を使用する場合、前述したキャリアガスと同様に、必要に応じて還元性ガスや有機化合物、酸素、リン、硫黄等の成分を混合して用いても良い。また、冷却用流体が液体を含む場合は、当該液体は噴霧された状態で冷却管103内へ導入される。なお、本明細書の図面において、間接冷却区画IC及び直接冷却区画DCの具体的な冷却機構は省略されているが、本発明の作用効果を妨げない限り、公知のものを使用することができ、例えば前記特許文献2に記載されたものも適宜使用することもできる。間接冷却区画IC内のキャリアガス中には、ニッケル蒸気とニッケル粉末が混在しているが、その上流側に比べ、下流側のニッケル蒸気の比率は低くなる。また、装置によっては、直接冷却区画DC内のキャリアガス中においても、ニッケル蒸気とニッケル粉末は混在し得る。但し、上述したように、核の生成、成長、結晶化は間接冷却区画IC内で進行し、完了していることが好ましく、よって直接冷却区画DC内のキャリアガス中にはニッケル蒸気が含まれないことが好ましい。金属粉末を含むキャリアガスは、冷却管103から更に下流に向けて搬送され、図示しない捕集器において金属粉末とキャリアガスとに分離され、金属粉末が回収される。なお、捕集器で分離されたキャリアガスは、キャリアガス供給部110で再利用するように構成しても良い。また、プラズマ装置100の稼働中、冷却管103内においてキャリアガス中のニッケル粉末の一部やニッケル上記からの析出物が徐々に冷却管103の内壁に付着し、場合によっては酸化物やその他の化合物となって堆積することがある。それ故、冷却管103内に付着した付着物を除去するため、冷却管103内に、手動若しくは機械的により往復動並びに軸周りに方向に回動されるスクレーパー101を配置することが好ましい。スクレーパー101により、付着物に対して物理的な力が加わることにより、付着物を効果的に書き落とすことができる。冷却管103は、図2に示したように、間接冷却区画ICが第1の間接冷却区画130と第2の間接冷却区画140の2区画に分かれている。第1の間接冷却区画130及び直接冷却区画DCは、それぞれ図5に示した従来の間接冷却区画34、直接冷却区画50と同様に、第1の間接冷却区画130の内管120の内径が、直接冷却区画DCの内管160の内径よりも小さい。本発明は、第1の間接冷却区画130と直接冷却区画DCとの間に、第2の間接冷却区画140を備えることを特徴とする。第2の間接冷却区画140の内管121の内径は、第1の間接冷却区画130の内管120の内径よりも大きい。また、第2の間接冷却区画140の内管121の内径は、直接冷却区画DCの内管160の内径と略等しくなっている。第1の間接冷却区画の内管と第2の間接冷却区画の内管の内径の比が、0.05:1~0.95:1であることが好ましい。本発明は上記の特徴を備えることにより、生産効率がよく、粒度分布の狭い金属粉末が得られたものである。当該特徴により、そのような優れた作用効果が得られる理由は定かではないが、次のようなことではないかと考えられる。本発明において、キャリアガス中の金属蒸気は、第1の間接冷却区画130に誘導された時点では濃度も高く、温度も数千K例えば3000Kであるが、間接冷却輻射冷却されることにより、当該温度は金属の沸点近くまで降下し、ほぼ同時に多くの核が析出し始め、粒成長が始まる。粒成長には、大きく分けて、核の周りにある金属蒸気が核の表面上に析出しながら進行していく粒成長と、隣り合う複数の核が合一しながら進行していく粒成長があるが、粒度分布の広狭に対する影響としては後者が支配的と考えられる。本発明においては、第1の間接冷却区画130に比べて内径の大きい第2の間接冷却区画140を備えているため、核の生成が十分に終わった段階で、核を含む金属蒸気は第2の間接冷却区画140で引き続き間接冷却輻射冷却が行われる。第2の間接冷却区画140においてはキャリアガス中の金属濃度金属蒸気と核を含む濃度が下がり、合一による粒成長が抑制され、一方キャリアガスの流速も下がることから、より緩やかで安定した均一的な雰囲気中で粒成長が進行することになる。以上のような理由から、本発明においては仮に異なるタイミングで析出する核があっても、その径に大きな差が生じにくくなっており、それ故、狭い粒度分布の金属粉末が得られているのではないかと推測される。本発明の冷却管103としては、図3のような構成でも良い。なお、図中、図2の例と同様の部位には同じ符号を付し、説明を割愛する。図3においては、間接冷却区画ICがそれぞれ径の異なる第1の間接冷却区画230、第2の間接冷却区画240、第3の間接冷却区画250からなる。内管220、内管221、内管223の順番に内径が大きくなっている。内管220,221,223,160の内径を適宜に組み合わせることにより、キャリアガスの流速や金属濃度を多様に制御することができ、所望する種類の金属、平均粒径、粒度分布に応じることができる。このように、径の異なる間接冷却区画を増やすことにより、図2の例に比べて隣接する間接冷却区画との内径の差を小さくすることができるため、冷却管103内におけるキャリアガスの気流を、より安定化させることができる。また、本発明の冷却管103としては、図4のような構成でも良く、この例では、第2の間接冷却区画340における内管321の内径が、下流側に向けて徐々に大きくなる形状になっている。このような形状とすることによって、冷却管103内におけるキャリアガスの気流の乱れを抑制し、より安定化させることができる。また第1の間接冷却区画330の内管320及び第2の間接冷却区画340の内管321の外周を、耐熱性の繊維素材や無機接着剤等の伝熱制御部材360で被覆充填することが好ましい。当該伝熱制御部材360の充填量を変えることにより冷却効率を制御することが出来る。実施例1図1に記載のプラズマ装置1で、ニッケル粉末の製造を行った。冷却管103としては、内径8cmの内管120第1の間接冷却区画と、内径18cmの内管121第2の間接冷却区画と、内径18cmの内管160直接冷却区画とを組合せたものを用いた。なお、内管120の長さを35cm、内管121の長さを80cm、内管160の長さを60cmとした。また、冷却管を通過するキャリアガスは毎分300Lとし、金属濃度が2.1~14.5g/m3の範囲となるよう制御した。得られたニッケル粉末について、レーザ式粒度分布測定装置を用いて測定した粒度分布の重量基準の積算分率10値、50値、90値以下、それぞれD10D50D90というから、粒度分布の指標としてSD=D90-D10/で表されるSD値を求めた。実施例1で得られたニッケル粉末は、D50=0.46μm、SD=1.27という、粒度分布の狭いものであった。比較例1内管121第2の間接冷却区画を備えることなく、内径8cm、長さ115cmの内管120第1の冷却区画に、内管160直接冷却区画を接続した従来例と同様の冷却管を用いた以外は、実施例1と同様の装置、同様の条件でニッケル粉末を製造した。比較例1で得られたニッケル粉末は、D50=0.47μm、SD=1.36であった。実施例2内管120第1の間接冷却区画の内径を10cmに変更した以外は実施例1と同様にしてニッケル粉末を製造した。実施例2で得られたニッケル粉末は、D50=0.43μm、SD=1.15という、粒度分布の狭いものであった。実施例3内管120第1の間接冷却区画の長さを42cm、内管121第2の間接冷却区画の長さを73cmにした以外は、実施例2と同様にしてニッケル粉末を製造した。実施例3で得られたニッケル粉末は、D50=0.42μm、SD=1.09という、粒度分布の狭いものであった。比較例2内管121第2の間接冷却区画を備えず、内径10cm、長さ115cmの内管120第1の冷却区画に内管160直接冷却区画を接続した従来例と同様の冷却管を用いた以外は、実施例3と同様の装置、同様の条件でニッケル粉末を製造した。比較例2で得られたニッケル粉末は、D50=0.45μm、SD=1.30であった。以上の結果より、実施例1~3で得られたニッケル粉末は、比較例1~2で得られたニッケル粉末に比べて、粒度分布の狭いものであった。なお、本発明において、間接冷却区画や直接冷却区画における内管の内径や長さは、目的とする金属の種類や金属蒸気の濃度、キャリアガスの流量、金属蒸気やキャリアガスの温度、管内の温度分布等々に応じて適宜変更、設定されるべきものであり、上述した例に限定されるものではない。"