"磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、磁石から構成され、前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部と、本体との間に中間部を設け、前記先端部は、先端先細り状のテーパ面を有し、前記中間部は、研磨バイトの回転軸との開き角度であるテーパ角度が、前記先端部のテーパ面のテーパ角度よりも大きい部位を有することを特徴とする研磨バイト。前記中間部は、軸方向で前記テーパ角度が異なる部位を備えたことを特徴とする請求項1に記載の研磨バイト。前記異なるテーパ角度は、前記先端部側を大きくしたことを特徴とする請求項2に記載の研磨バイト。磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、磁石から構成され、前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部と、本体との間に中間部を設け、前記先端部は、先端先細り状に形成され、前記中間部は、半球或いは楕円半球の一部を含む形状からなることを特徴とする研磨バイト。前記中間部と前記先端部の境界に段差を設けていることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の研磨バイト。磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、磁石から構成され、前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部の形状が、研磨バイトの回転軸との開き角度であるテーパ角度を22度以上とした先端先細り状に形成したことを特徴とする研磨バイト。この種の磁気研磨装置は、研磨バイト2永久磁石2aと研磨対象1の表面との間には、一定の空間ギャップを設け、当該空間ギャップ内に介在させた磁気研磨液を用いて表面処理をする。この空間ギャップが広がりすぎると、磁束密度が低下し磁気研磨ができなくなる。一方、研磨対象が精密機械部品や金型や樹脂製品などの複雑な凹凸形状を有する複雑形状体の場合、表面の各所に小さい窪みや突起がある。従って、仮に研磨バイト2の研磨対象に対向する先端面の寸法形状が大きいと、当該先端面が窪み内に入り込んだり、突起の立ち上がり部分に接近させたりすることができない。そのため、空間ギャップが広くなり十分な磁気研磨ができなくなる。また、空間ギャップをある程度の距離以内に抑えるため、研磨バイト2が窪み内に入り込むことができるように、研磨バイト2の寸法形状を小さくすることが考えられる。しかし、磁気研磨バイト2に使用する磁石主にネオジウムの表面磁束は、磁石表面の外形円柱形の場合直径が小さく、また軸方向の長さが短くなるにつれて磁束密度が低下する。更に、空間ギャップが増すことに伴う磁束密度の低下は、小径のものほど著しい傾向にある。そして経験値より、磁束密度が300mT以下になると磁気研磨処理の効果が期待できないことが分かっている。従って、磁気研磨バイト2を小径化するのも限界がある。小さい凹凸のある表面であっても研磨等の表面処理ができるようにしたいという課題がある。上述した課題を解決するため、本発明の研磨バイトは、1磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、磁石から構成され、前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部と、本体との間に中間部を設け、前記先端部は、先端先細り状のテーパ面を有し、前記中間部は、研磨バイトの回転軸との開き角度であるテーパ角度が、前記先端部のテーパ面のテーパ角度よりも大きい部位を有するようにした。先端部を先端先細り状にすることで、先端面を小さくすることができる。よって、研磨等の表面処理の対称面の形状が小さい凹凸があったとしても、奥まで入り込むことができ先端面と処理対象の表面との空間ギャップを一定の距離以内に抑えることができる。そして、中間部にテーパ角度の大きい部位を備えることで、磁石の量も確保でき、研磨バイトの磁束密度も十分確保でき、適切な表面処理が行える。なお、中間部のテーパ角度の大きい部位であるが、実施形態では中間部の全長に渡り大きくしたが、一部を小さくしても良い。2前記中間部は、軸方向で前記テーパ角度が異なる部位を備えるとよい。このようにすると、各部のテーパ角度を適切に設定することで、先端面の寸法を小さくしつつ磁束密度を大きくすることができる。3前記異なるテーパ角度は、前記先端部側を大きくすると良い。このようにすると、中間部の容積を大きくすることができ、磁束密度を大きくすることができる。4磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、磁石から構成され、前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部と、本体との間に中間部を設け、前記先端部は、先端先細り状に形成され、前記中間部は、半球或いは楕円半球の一部を含む形状から構成しても良い。この発明は第4実施形態で実現されている。5前記中間部と前記先端部の境界に段差を設けてもよい。実施形態では、テーパ角度が90度としたものに対応する。また、上記の4で記載する半球楕円半球の先端側に平坦面を形成し、その中央等に先端部を設けるものも良い。6磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、磁石から構成され、前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部の形状が、研磨バイトの回転軸との開き角度であるテーパ角度を22度以上とした先端先細り状に形成するとよい。この発明は、第1実施形態により実現される。この発明では、簡単な構成で先端面の寸法を小さくしつつ例えば直径4mmさらには2mm以下、その先端の磁束密度を大きくすることができる。上記の各発明は、いずれも磁石からなる研磨バイトの先端面を小さくしつつ、先端の磁束密度が研磨処理等の可能な大きさ例えば300mT以上が得られ、小さい凹凸のある表面であっても研磨等の表面処理ができるという共通の課題を解決することができる。[第1実施形態]図2は本発明に係る研磨バイト10の第1実施形態を示す図である。実際の磁気研磨装置に適用する場合、図1に示す研磨バイト2と差し替えて使用することができる。すなわち、研磨バイトの構成以外は、基本的に従来からある磁気研磨装置を用いて、表面処理を行うことができる。図2に示すように、研磨バイト10は、その全体を磁石で形成する。使用する磁石は、ネオジウム磁石とした。ここで用いるネオジウム磁石は、残留磁束密度Br:1300mT,保磁力HCB:979kA/m,保磁力HCJ>1671kA/m,最大エネルギー積BHmax326kj/m^3の特性のものとした。もちろんこれ以外のものでも良い。そして、研磨バイト10の本体10aは円柱形であり、研磨対象に対向する先端側10bを先細り状のテーパ面にしている。これにより、本体10aの直径に比べて、先端面10dの直径は十分小さくできる。従って、図3に示すように、研磨対象20の表面に凹部20aがある場合でも、研磨バイト10の先端部10bは凹部20a内に入り込むことができ、先端面10dと凹部20aの処理面との空間ギャップを適切の範囲内に抑えることができる。さらに、先端部10bの上方部位は徐々に大きくなり、さらにその上に径の大きい本体10aを設けたので研磨バイト10の全体のボリュームは確保でき、磁束密度も十分なものとなる。そして、先端部10bのテーパ角度回転軸Pとの開き角度Tであるが、検証結果より22度以上とした。これは、22度未満となると、先端部10bが細くなり、研磨バイト10の長さを同じにした場合、本体10aの直径も短くなるため、研磨バイト10全体のボリュームが少なくなり、十分な磁束密度を確保できなくなるためである。[検証結果]本発明の効果を実証するため以下の解析を行った。図4に示すように、上方の円柱部分の本体10aの直径をA、先端面10dの直径をB、本体10aの長さをC、研磨バイト10の全長をLとし、磁化方向を回転軸に沿った方向とし、Lを固定でA,B,Cをパラメータとして振り、解析を行った。具体的な解析条件は、図5に示す通りである。また、研磨バイトを構成する磁石は、上述した条件のネオジウム磁石とした。解析パターン1は、外径がφ2の棒状の磁石であり、解析パターン2は最大外径φ14から最小外径φ2へ序々に細くなるもの、解析パターン3は最大外径φ14から最小外径φ1へ序々に細くなるものである。図6~図8は、解析パターン1~3のそれぞれの空間磁束密度のみをカラー表示したものである。図中右端に、空間磁束の大きさに対する色見本をインジケータとして示している。図では、0から0.4T400mTまでを表現している。つまり、空間磁束密度が0の青色から始まり、空間密度が高くなるにつれて、緑色→黄色と徐々に色相が変化し、空間密度が最上位の0.4Tでは赤色となる。このインジケータの1メモリは、0.04Tである。赤から黄色の範囲300mT以上は、研磨に有効な磁場が得られている領域を意味する。また、図9は、各解析パターン1~3について、磁石先端細い方の空間磁束密度と空間ギャップの関係を示している。これらの解析結果から、磁気研磨効果が期待できる300mT以上得られる空間ギャップは、比較例である解析パターン1は0.5mm、本発明品の1つである解析パターン2は約1.4mm1.42mmとなり、空間磁束密度において約2.8倍の差が生じることが確認できた。更に、解析パターン3における300mT以上が得られる空間ギャップは約1mm0.94mmとなる。解析パターン3は、解析パターン1よりも先端部の外形が半分にしているにもかかわらず、空間ギャップは約2倍高くなることが確認できた。このように先端を細くすることで、さらに微小な凹凸の表面を持つ研磨対象にも表面処理できる。次に、回転軸Pを基準とし磁石のテーパ角度Tを変化させた場合について評価を行った。図10に示すように、上述した解析パターン3を基本とし、円柱部分の長さCをパラメータとして振ることでテーパ角度を変えた。つまり、上面の直径A,先端面の直径B,全長Lは固定としている。基準とした解析パターン3の角度Tは23.5度である。これに対し、解析パターン4の角度Tは18度、解析パターン5の角度Tは29度である。図11,図12は、解析パターン4,5のそれぞれの空間磁束密度のみをカラー表示したものである。解析パターン3については、図8に示している。この空間磁束密度のカラー表示において、研磨に有効な磁場300mT以上が得られている赤から黄色の範囲は、図11では上面側には比較的広い範囲に現れているが、肝心の研磨対象に対向する先端側は狭い範囲となる。このことは、図10に示す各解析パターン3~5について、磁石先端細い方の空間磁束密度と空間ギャップの関係を見ても明らかである。すなわち、角度Tが最も狭い解析パターン4は、研磨可能となる300mT以上が得られる空間ギャップは約0.6mmと狭く、比較例とした解析パターン1ともあまり変わらない。これに対し、角度Tが最も広い解析パターン5では、研磨可能となる300mT以上が得られる空間ギャップは約1.5mmとなる。このように、磁石が小径であっても、角度Tを適宜設定することで高い磁束密度が得られ、研磨可能となる。本実施形態では、磁石の先端外径がφ4以下の小径であっても有効な磁束密度が得られる小径の研磨バイトを提供することができる。上記の構成の研磨バイトを実際に磁気研磨装置に装着し、サンプルとなる研磨対象物に対して研磨処理をし、その効果を確認した。図14は、研磨対象物の外形状を示している。図示するように、この研磨対象物は、平面が正方形20mm×20mmで厚さが5mmの平板で、その上面に、直径が6mm,テーパ角度が30度,穴深さが2mmで底面とテーパ間がR0.5のフィレットなる寸法の穴部を形成した。この平板の材質は銅材である。この研磨対象物の穴部の底面に対し、下記の研磨条件で内側から外へスパイラルしながら行い5分間研磨した。回転数2000rpm移動スピード100mm/min研磨ギャップ0.5mm磁気研磨ペースト1.5gFDK製磁気研磨ペーストMPLAL3LBOD使用する研磨バイトの種類条件A~Eを変え、同種のサンプルに対して上記の研磨を行い、研磨前初期の粗さと研磨後の粗さを測定し、研磨が行えているかを評価した。係る表面の粗さ測定は、測定器としてカラー3Dレーザ顕微鏡VK8700キーエンス社製を用い、測定項目としてRa算術平均粗さ,Ry最大高さ,Rz十点平均粗さを求めた。また、線粗さはJIS1994規格に従い、水平距離1418901μmでカットオフなしで測定した。図15は、研磨試験を行う研磨バイトの条件A~Eを示している。図において、A,B,C,L,Tは、図4中の各符号に対応する部位の寸法である。すなわち、条件AからEは、磁石の特性を評価した際の解析パターン1~5にそれぞれ対応する。各条件で特定される研磨バイトを用い、上述した研磨条件に従ってサンプルの穴部を研磨した。研磨前の初期状態並びに各条件による研磨後の表面粗さの測定項目Ra,Ry,Rzは、図16に示すようになった。また、研磨前の初期状態並びにそれぞれの条件における表面粗さの測定結果は、図17~図22に示す通りである。図から明らかなように、研磨前の初期粗さは、Ra=1.018,Ry=14.660,Rz=11.301となる。そして、磁石形状が円柱タイプの条件Aでは、Ra=0.967,Ry=15.124,Rz=11.280となり、5分程度の研磨では、研磨ができないことが確認できる。このことは、図9に示すグラフより、空間ギャップ研磨ギャップに相当0.5mm時の条件Aに相当する磁束密度が296mTであり、300mTを若干下回っている。解析結果からも研磨効果は期待できない事が裏づけできる。これに対し、条件Bは条件Aの研磨バイトと先端径が同じであるが、テーパ角度回転軸との開き角度を22度と広くした。その結果、先端径が同一の場合、テーパで絞った条件Bの方が条件Aと比較し十分な研磨効果があることが確認できる。また条件C、条件D及び条件Eは、先端径を更にφ2からφ1へ細くし、テーパ角度を18度条件D,23.5度条件C,29度条件Eと変えて比較したものである。テーパ角度を広げた条件C、条件Eに於いては、先端径が更に小径になったとしても条件Bと同等の研磨効果が得られた。得に条件Eは、Ry最大差高さRz十点平均粗さ値から最も平滑に仕上がったことが分かる。条件Eは、研磨対象物の底面にアプローチするため、研磨対象物のテーパ角度30度にあわせ29度に設定したものである。従って、係る研磨対象物による干渉による形状制限がない場合、それ以上のテーパ角度に設定することが可能であり、その場合はさらに十分な磁束密度が得られ良好な研磨効果が期待できる。これに対し、テーパ角度が18度と狭い条件Dは、Ra=0.921,Ry=16.400,Rz=11.348となり、条件Aと同様に研磨できないことが確認できた。よって、いずれの条件も、空間磁束密度の解析結果と同じ傾向となり、テーパ角度が22度以上にすることで、研磨バイトの先端面10dの直径を小さくしても研磨が可能なことが確認できた。[第2実施形態]図23は、本発明の第2実施形態を示している。本実施形態の研磨バイト11は、円柱状の本体11aの先端に連続して形成する先細り状の先端の形状を2段階にテーパ角度を変化されている。つまり、研磨対象物に対向する先端面11dを有する先端部11bと、その先端部11bと本体11aとの間に位置する中間部11fを備える。先端部11bのテーパ角度T1と、中間部11fのテーパ角度T2は、T1<T2としている。つまり、先端に行くほどとがった形状となる。第1実施形態のように先端部10bのテーパ角度Tが1つの場合、良好な研磨効果を発揮するためにはその角度は22度以上にする必要があったが、本実施形態のように2段階にテーパ角度を変化させた場合、先端部11bのテーパ角度T1は、22度未満に狭くしても良い。その結果、より狭い小さい凹凸の表面形状備えたものでも、先端部11bが入り込んで先端面11dが研磨対象の表面と所望のギャップ以内に近づけることができ、研磨が可能となる。[検証結果]本発明の効果を実証するため以下の解析を行った。図24に示すように、上方の円柱部分の本体11aの直径をA、先端面11dの直径をB、本体11aの長さをC、中間部11fの長さをD、研磨バイト11の全長をLとし、磁化方向を回転軸に沿った方向とし、A,B,L,T1を固定でC,Dをパラメータとして振り、解析を行った。C,Dを振ることで、T2の角度を変えるようにした。研磨バイトを構成する磁石は、上述した条件のネオジウム磁石とした。具体的な解析条件は、図24に示す通りである。解析パターン5をベースとし、先端部11bのテーパ角度T1を14度に統一し、解析パターン6はT2=37度、解析パターン7はT2=63.5度、解析パターン8はT2=90度となるように徐々にT2を広角へ変化させた。図25~図27は、解析パターン6~8のそれぞれの空間磁束密度のみをカラー表示したものである。また、図28は、磁石先端の空間磁束密度と空間ギャップの関係を示すグラフである。図25~図27を見ると明らかなように、先端面はもちろん先端部の周囲にも比較的広い範囲で、300mTを超える領域が形成される。このことは、図28を見ても明らかであり、空間ギャップが0.5mmではいずれも400mTを超えており、1.0mm程度までは300mT以上となっている。これにより、T2角度が広角にシフトするほど、先端の磁束密度が上がる傾向を示す。よって、研磨対象物の穴深さが浅く干渉がないものは、T2テーパ角度がより鈍角になる63.5度解析パターン7や90度解析パターン8など極端ものを用いると良い。なお、T2=90度は、中間部11fの先端側が180度平面となり、その平面の中央に突起状の先端部11bが配置された形態となる。この場合、中間部11fの部分は円柱形であり、本体11aと同一径となる。このように、中間部11fの先端の外周囲と、先端部11bの外周囲は不連続となり、段差を生じているものでもよい。[第3実施形態他]図28は、本発明の第3実施形態を示している。本実施形態の研磨バイト12は、円柱状の本体12aの先端に連続して形成する先細り状の先端の形状を3段階にテーパ角度を変化されている。つまり、先端側は、研磨対象物に対向する先端面12dを有する先端部12bと、その先端部12bと本体12aとの間に位置する第1中間部12f1,第2中間部12f2を備える。先端部12bのテーパ角度T1と、第1中間部12f1のテーパ角度T2と、第2中間部12f2のテーパ角度T3の関係であるが、T1は、先端部12bが研磨対象物に対向してその先端面12dと研磨対象物との間の空間ギャップを短く設定することから小さく設定して、先端部12bの形状を細い突起とする。一方、T2とT3関係はその大小関係は任意である。つまり、T1<T2<T3として徐々に細くなるようにしてもよいし、T2>T3として先端側を膨らませるような形状としても良い。特に、T2>T3とすると、中間部の長さが同じでT2,T3の一方を同じにした場合、中間部における磁石の存在量が大きくなるので、磁束密度も大きくなるので好ましい。このように3段階にテーパ角度T1/T2/T3を変化させることで、干渉の影響を受けにくい研磨バイトが可能となる。また、T1<T2,T2>T3の条件を満たすT2の角度範囲は任意であり、T2を90度にすることもできる。この場合、第1中間部12f1の先端側が180度平面となり、その平面の中央に突起状の先端部12bが配置された形態となり、第1中間部12f1の長さは実質的に0となる。このように、中間部の先端の外周囲と、先端部12bの外周囲は不連続先端部12bの上端の直径b<中間部の先端の直径となり、段差を生じているものでもよい。また、本実施形態では、3段階としたが4段階以上にさらに細かく分けても良い。そして、多段階に拡張して段数を無数にすると、先端部12bと本体12aの間の中間部の側面は、連続した曲面となる。つまり、半球,半楕円球或いはその一部となり、係る構成を採っても良い。この連続した曲面を備えるものが第4実施形態となる。この第4実施形態は、第2実施形態の中間部11fの形状を円錐台から半球,半楕円球或いはその一部に変えたものととらえても良い。[検証結果]本発明の効果を実証するため以下の解析を行った。図29に示すように、上方の円柱部分の本体12aの直径をA、先端面12dの直径をB、本体12aの長さをC、中間部第1中間部12f1,第2中間部12f2の合計の長さをD、研磨バイト10の全長をLとし、磁化方向を回転軸に沿った方向とし、各パラメータを適宜の値に設定した。研磨バイトを構成する磁石は、上述した条件のネオジウム磁石とした。具体的な解析条件は、図30に示す通りである。ここでは、A,B,L,T1を固定にした。解析パターン9は、第3実施形態の典型的な一例であり、T2>T3とし、本体12a,中間部第1中間部12f1,第2中間部12f2,先端部12bの外周面が連続している。解析パターン10は、T2=90度として、中間部の先端を平坦面にし、先端部12bとの接続部分で段差を形成したものである。解析パターン11は、第4実施形態の典型的な一例であり、中間部を半球状R7フィレットφ14の半球にしたものである。図31~図33は、解析パターン9~11のそれぞれの空間磁束密度のみをカラー表示したものである。また、図34は、磁石先端の空間磁束密度と空間ギャップの関係を示すグラフである。図から明らかなように、いずれの解析パターンも、先端面はもちろん先端部の周囲にも比較的広い範囲で、300mTを超える領域が形成される。このことは、図34を見ても明らかであり、空間ギャップが0.5mmではいずれも500mTを超えており、1.25mm程度までは300mT以上となっている。[産業上の利用可能性]本発明は、複雑形状物の磨き研磨用途として磁気研磨が使用される場合の専用磁気研磨バイトに好ましく利用できる。具体的な用途としては、金型製作時の最終表面仕上げでの磨き用途や意匠デザイン製品の外観を良くするための磨き分野として有効である。特に、平面に数ミリの凹状の段差がある底面を効率よく磨き処理が可能な研磨バイト研磨ツールを入れることが可能となり複雑な形状の磨き手段としても有効である。研磨には、通常の研磨はもちろん、鏡面仕上げや研削などの各種の表面処理を含む。"