タイヤ製造用の半加工要素の配置を制御する方法であって、加工対象のタイヤ1の少なくとも1つの構成要素上に第1の放射R1を送信するステップであって、前記構成要素3が、前記加工対象のタイヤ1の半径方向外層5を画定する複数の半加工要素4によって少なくとも部分的に形成される、ステップと、前記加工対象のタイヤ1の半径方向外面から、対応する第1の反射放射R1’を受信するステップと、少なくとも前記第1の反射放射R1’の関数として、前記半径方向外層5の厚さを表す1つまたは複数のパラメータPを決定するステップと、前記1つまたは複数のパラメータPを、対応する基準値REF1、REF2と比較するステップと、前記比較に応じてアラーム信号Sを発生するステップとを含む方法。前記第1の反射放射R1’が、前記加工対象のタイヤ1の半径方向外面と前記反射放射R1’の受信点との間の距離を表す請求項1に記載の方法。前記1つまたは複数のパラメータPが、前記半加工要素4の相互重畳を表す第1のパラメータPを含む請求項1または2に記載の方法。前記1つまたは複数のパラメータPを決定するステップが、前記半径方向外層5の厚さを表す複数の値V1を決定するステップと、前記値V1を第1のしきい値TH1と比較するステップと、前記値V1の何個が前記第1のしきい値TH1よりも高いかを決定するステップとを含む請求項3に記載の方法。前記第1のパラメータP1に関する第1の基準値REF1が、形成支持体2の円周方向延在に沿って測定した半加工要素4の長さの少なくとも1/3と等しい長さを表す請求項1または4に記載の方法。前記第1のパラメータP1に関する第1の基準値REF1が、前記形成支持体2の円周方向延在に沿って測定した半加工要素4の長さの少なくとも1/2と等しい長さを表す請求項5に記載の方法。前記1つまたは複数のパラメータPが、前記半加工要素4の相互重畳の不足を表す第2のパラメータP2を含む請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。前記1つまたは複数のパラメータPを決定するステップが、前記半径方向外層5の厚さを表す複数の値V2を決定するステップと、前記値V2を第2のしきい値TH2と比較するステップと、前記値V2の何個が前記第2のしきい値TH2よりも低いかを決定するステップとを含む請求項7に記載の方法。前記第2のパラメータP2に関する第2の基準値REF2が、前記形成支持体2の円周方向延在に沿って測定した半加工要素4の長さの少なくとも1/3と等しい長さを表す請求項1または8に記載の方法。前記第2のパラメータP2に関する第2の基準値REF2が、前記形成支持体2の円周方向延在に沿って測定した半加工要素4の長さの少なくとも1/2と等しい長さを表す請求項9に記載の方法。前記半径方向外層5の厚さを表す前記複数の値V1、V2を決定するステップが、前記加工対象のタイヤ1の複数の円周方向位置CPで、前記半径方向外層5の厚さを決定するステップを含む請求項4~6または8~10のいずれか一項に記載の方法。前記円周方向位置CPの少なくとも一部が、前記形成支持体2の軸方向中心線平面X1に属する請求項11に記載の方法。前記第1の放射R1が、前記加工対象のタイヤ1の前記円周方向位置CPに時間的に連続して向けられる少なくとも1つの放射ビームF1を含む請求項11または12に記載の方法。前記円周方向位置CPの一部が、前記軸方向中心線平面X1に実質的に平行な一対の補助平面X2、X3に属し、各前記補助平面X2、X3が、前記軸方向中心線平面X1と、前記形成支持体2の各軸方向端部2a、2bとの間にそれぞれ位置される請求項11~13のいずれか一項に記載の方法。前記補助平面X2、X3が、前記軸方向中心線平面X1に対して実質的に対称的な位置にある請求項14に記載の方法。前記第1の放射R1が、さらに、前記補助平面X2、X3に属する位置に時間的に連続して向けられる一対の補助放射ビームF2、F3を含む請求項15または16に記載の方法。前記第1の反射放射R1’の少なくとも6個の一次高調波成分を除去するように、前記第1の反射放射R1’をフィルタするステップを含む請求項1~16のいずれか一項に記載の方法。前記形成支持体2の外側形状を検出するステップを含み、前記半径方向外層5の厚さを表す前記1つまたは複数のパラメータPが、前記形成支持体2の前記形状の関数としても決定される請求項1~17のいずれか一項に記載の方法。前記外側形状の検出が、前記半加工要素4の配置の前に行われる請求項18に記載の方法。さらに、前記第1の放射R1が送信された円周方向位置ごとに、前記加工対象のタイヤ1上に向けて、前記第1の放射R1が送信される位置に対して円周方向で離隔された位置に第2の放射R2を送信するステップと、前記加工対象のタイヤ1の半径方向外面から、対応する第2の反射放射R2’を受信するステップとを含み、前記1つまたは複数のパラメータPが、前記第2の反射放射R2’の関数としても決定される請求項1~19のいずれか一項に記載の方法。前記放射R1、R2を送信するステップと、前記反射放射R1’、R2’を受信するステップとが、前記半加工要素の配置中に行われる請求項1~20のいずれか一項に記載の方法。前記半加工要素4がストリップ状要素である請求項1~21のいずれか一項に記載の方法。前記加工対象のタイヤ1の前記構成要素3が、前記タイヤの1つまたは複数のカーカスプライを含む請求項1~22のいずれか一項に記載の方法。前記加工対象のタイヤ1の前記構成要素3が、1つまたは複数のベルトストリップを含む請求項1~22のいずれか一項に記載の方法。タイヤ製造用の半加工要素の配置を制御するための装置であって、加工対象のタイヤ1の少なくとも1つの構成要素上に第1の放射R1を送信するための第1の放出構造110であって、前記構成要素3が、前記加工対象のタイヤ1の半径方向外層5を画定する複数の半加工要素4によって少なくとも部分的に形成される、第1の放出構造110と、前記加工対象のタイヤ1の半径方向外面から、対応する第1の反射放射R1’を受信するための第1の受信構造120と、処理ユニット130とを含み、前記処理ユニット130が、少なくとも前記第1の反射放射R1’の関数として、前記半径方向外層5の厚さを表す1つまたは複数のパラメータPを決定するように構成された演算モジュール131と、前記1つまたは複数のパラメータPを、対応する基準値REF1、REF2と比較するように構成された比較モジュール132と、前記比較に応じてアラーム信号Sを発生するように構成された伝送モジュール133とを備える、装置。前記演算モジュール131が、前記半径方向外層5の厚さを表す複数の値V1を決定し、前記値V1を第1のしきい値TH1と比較し、前記値V1の何個が前記第1のしきい値TH1よりも高いかを決定するように構成される請求項25に記載の装置。前記1つまたは複数のパラメータPが、前記半加工要素4の相互重畳の不足を表す第2のパラメータP2を含む請求項25または26に記載の装置。前記演算モジュール131が、前記半径方向外層5の厚さを表す複数の値V2を決定し、前記値V2を第2のしきい値TH2と比較し、前記値V2の何個が前記第2のしきい値TH2よりも低いかを決定するように構成される請求項27に記載の装置。前記演算モジュール131が、前記加工対象のタイヤ1の複数の円周方向位置CPで前記半径方向外層5の厚さを決定することによって、前記半径方向外層5の厚さを表す前記複数の値V1、V2を決定するように構成される請求項26または28に記載の装置。前記円周方向位置CPの少なくとも一部が、前記形成支持体2の軸方向中心線平面X1に属する請求項29に記載の装置。前記第1の放出構造110が、前記軸方向中心線平面X1内に位置決めされた少なくとも1つの主放出器11を含み、前記第1の受信構造が、前記軸方向中心線平面X1内に位置決めされた少なくとも1つの主センサ121を含む請求項30に記載の装置。前記第1の放出構造110が、一対の補助放出器112、113を含み、各前記補助放出器112、113が、それぞれ補助平面X2、X3内に位置決めされる請求項31に記載の装置。前記第1の受信構造120が、一対の補助センサ122、123を含み、各前記補助センサ122、123が、それぞれ補助平面X2、X3内に位置決めされる請求項25または32に記載の装置。前記処理ユニット130が、前記第1の反射放射R1’の少なくとも6個の一次高調波成分を除去するように前記第1の反射放射R1’をフィルタするためのフィルタリングモジュール134を含む請求項25~33のいずれか一項に記載の装置。前記演算モジュール131が、前記半径方向外層5の厚さを表す前記1つまたは複数のパラメータPを、前記形成支持体2の形状の関数としても決定するように構成される請求項25~34のいずれか一項に記載の装置。前記演算モジュール131が、前記第1の放出構造110および前記第1の受信構造120と協働して、前記形成支持体2の前記外側形状を検出するように構成される請求項35に記載の装置。前記演算モジュール131が、前記第1の放射R1が送信された円周方向位置ごとに、前記加工対象のタイヤ1の半径方向外面からの第2の反射放射R2’の関数としても前記1つまたは複数のパラメータPを決定するように構成され、前記第2の反射放射R2’が、前記加工対象のタイヤ1上に向けて、前記第1の放射R1が送信された位置に対して円周方向で離隔された位置に送信される第2の放射R2から得られる請求項25~36のいずれか一項に記載の装置。さらに、前記加工対象のタイヤ1上に少なくとも前記第2の放射R2を送信するための第2の放出構造140と、前記加工対象のタイヤ1の半径方向外面から少なくとも前記第2の反射放射R2’を受信するための第2の受信構造150とを含む請求項37に記載の装置。図面を参照すると、加工対象のタイヤが、全体を参照番号1で表されている。添付図面では、参照番号2が、加工対象のタイヤの形成支持体を表し、参照番号3が、加工対象のタイヤの構成要素を表す。形成支持体2は、好ましくは、形成ドラムである。形成支持体2は、タイヤを製造するために使用される技術に応じて、実質的に円筒形または円環形を有することがある。構成要素3の少なくとも一部分が、形成支持体2に載置され、それにより、前述の定義による加工対象のタイヤ1を形成する。好ましい一実施形態によれば、構成要素3は、例えば、タイヤの1つまたは複数のカーカスプライ、あるいは前記タイヤの1つまたは複数のベルトストリップを含む。タイヤの構成要素3は、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5を画定する複数の半加工要素4によって少なくとも部分的に形成される。好ましくは、半加工要素4は、約5mm~約50mmの間に含まれる断面サイズ、および約0.5mm~約3mmの間に含まれる厚さを有するストリップ状要素である。本発明による方法は、始めに、加工対象のタイヤ1に第1の放射R1を送信するステップを含む。好ましくは、送信されるこの第1の放射R1は、レーザ放射である。有利には、このレーザ放射の波長は、約460nm~約3100nmの間に含まれることがあり、例えば約650nmであることがある。次いで、加工対象のタイヤ1の半径方向外面からまさしく反射された第1の反射放射R1’が受信される。加工対象のタイヤ1の半径方向外面は、送信される第1の放射R1が、少なくとも1つの半加工要素が既に載置されている形成支持体の点に当たる場合には、前記半加工要素4によって形成された半径方向外層5からなり、送信される第1の放射R1が、半加工要素が載置されていない形成支持体の点に当たる場合には、形成支持体2の外面からなることがあることに留意されたい。第1の反射放射R1’に応じて、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さを表す1つまたは複数のパラメータPが決定される。有利には、反射放射R1’は、加工対象のタイヤ1の半径方向外面と、反射放射R1’自体の受信点との間の距離を表す。実際には、使用される放出器および受信機の位置に関係付けられるすべてのパラメータ、ならびに送信される第1の放射R1と第1の反射放射R1’の伝播速度に関係付けられるパラメータが先験的に知られていると、放射が反射された加工対象のタイヤ1の半径方向外面の点と、反射放射R1が受信される点との間の距離を決定することができる。この操作を複数回行うことによって、以下でより明瞭になるように、加工対象のタイヤ1の外側形状を決定することができる。反射放射R1’を検出した後、好ましくは、形成支持体2の形状の起こり得る一様性の欠如の影響がなくされる、または少なくとも減少される。実際、形成支持体2の形状は、同一の長手方向軸の周りにその長手方向軸と平行に配設された複数例えば8個または24個の実質的に矩形のセクションに近付けることによって得ることができる。この構造は、明らかに、正確に円筒形のプロファイルを画定せず、したがってパラメータPの計算を不正確にする可能性がある。この欠点を克服するために、有利には、反射放射R1’に対するフィルタリングが行われる。特に、まず、放射自体の高調波成分への分割が行われ例えばFFT高速フーリエ変換による、次いで、少なくとも6個の一次高調波成分が除去される。好ましくは、9個の一次高調波成分が除去され、特に、12個の一次高調波成分を除去することができる。追加または代替として、この問題を解決するために、形成支持体2の外側形状の起こり得る非理想性を直接考慮することができるように形成支持体2の外側形状の検出を行うことができる。好ましくは、この検出は、半加工要素4の配置を開始する前に行われる。有利には、形成支持体2の外側形状の検出は、第1の放射R1を送信するため、ならびに第1の反射放射R1’を受信および処理するためのデバイスと同じデバイスを使用して行うことができる。これらのデバイスについては、以下でより詳細に説明する。形成支持体2の形状の一様性の欠如による関与がなくされたまたは減少された後、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さを表す前記パラメータPが決定される。好ましくは、前記1つまたは複数のパラメータPは、前記半加工要素4の相互重畳を表す少なくとも1つの第1のパラメータP1を含む。図3aは、適正に重畳した状態での2つの半加工要素4’および4’’を模式的に示す。対照的に、図3bは、半加工要素4’と4’’が過剰に重畳した状態を模式的に示す。好ましくは、第1のパラメータP1は、以下のように決定される。まず、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さを表す複数の値V1が決定される。次いで、これらの値V1がそれぞれ第1のしきい値TH1と比較され、これらの値V1の何個が第1のしきい値TH1よりも大きいかが決定される。実際には、第1のしきい値TH1は、2つの半加工要素の半径方向での重畳によって成される厚さに対応する、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の所定の厚さを表すことができる。第1のパラメータP1は、前記第1のしきい値TH1よりも高い連続した値V1の個数N1として計算することができる。好ましくは、前記1つまたは複数のパラメータPは、半加工要素4の相互重畳の不足を表す第2のパラメータP2を含む。図3cは、2つの半加工要素4’と4’’が重畳していない状態を模式的に示す。好ましくは、第2のパラメータP2は、以下のように決定される。まず、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さを表す複数の値V2が決定される。値V2は、第1のパラメータP1を参照して計算される値V1とは無関係に決定することができることに留意されたい。あるいは、値V2は、事前に計算された値V1自体からなっていてもよい。言い換えると、第2の仮定では、第1のパラメータP1の計算と第2のパラメータP2の計算のどちらにも同じ値V1が使用される。次いで、これらの値V2が第2のしきい値TH2と比較され、これらの値V2の何個が第2のしきい値TH2よりも小さいかが決定される。実際には、第2のしきい値TH2は、半加工要素が載置されていない加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の最小厚さを表すことができる。次いで、第2のパラメータP2を、第2のしきい値TH2よりも小さい連続した値V2の個数N2として計算することができる。上述したように、第1のパラメータP1の計算と第2のパラメータP2の計算のどちらでも、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さを表す複数の値V1、V2が決定される。これらの値は、好ましくは、加工対象のタイヤ1の複数の円周方向位置CPで半径方向外層5の厚さを計算することによって決定される。値V1、V2が、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さを直接的に示すことができることを指摘することができ、この厚さは、形成支持体2の位置、場合によってはさらに形状、ならびに加工対象のタイヤ1の半径方向外面と反射放射R1’の受信点との間の距離が先験的に知られていることを考慮して、差によって計算される。いずれにせよ、値V1、V2は、直接的には加工対象のタイヤ1の半径方向外面と反射放射R1’の受信点との間の距離を示す場合でさえ、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さを表すことができる。実際、この距離は、実質的に一定のパラメータ、またはいかなる場合にも先験的に知られているパラメータによって、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さに関連付けられる。好ましくは、第1のパラメータP1および/または第2のパラメータP2を計算する際、連続した値V1、V2は、図2および図2aに模式的に示される円周方向位置CP1、CP2、およびCP3など、連続または隣接する円周方向位置CVで決定される加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さの値である。前記1つまたは複数のパラメータPが計算された後、それらは対応するしきい値と比較され、この比較の結果によってはアラーム信号Sを発生することができる。アラーム信号Sは、例えば、タイヤ製造中の問題の発生に操作者の注意を向けることを目的とした、音響および/または視覚タイプの信号伝達を発生することができる。追加または代替として、アラーム信号Sは、加工対象のタイヤ1の製造プロセスを中断させることができ、前記加工対象のタイヤ1の取外し、または発生した問題の解決を可能にする。より詳細には、アラーム信号Sは、第1のパラメータP1が第1の基準値REF1よりも大きい場合に発生させることができる。好ましくは、第1のパラメータP1に関する第1の基準値REF1は、形成支持体2の円周方向延在に沿って測定した半加工要素4の長さの少なくとも1/3、特に少なくとも1/2の長さを表す。好ましくは、第1の基準値REF1は、サンプルの最大許容数、すなわち、値V1が計算される加工対象のタイヤ1の同一軸方向平面に属する円周方向位置CPの数の最大許容数を示すことができ、値V1は、2つの半加工要素4の重畳領域において最大に検出することができる。例として、図3aに、半加工要素4’と4’’の重畳領域Z1が示される。実際には、円周方向位置CPが等間隔で離隔されているとき、第1のパラメータP1は、重畳領域で検出されるサンプルの数として識別可能な測定単位で表現して、2つの半加工要素4の重畳領域の円周方向延在を示す。それに対応して、第1の基準値REF1は、重畳領域自体で検出されるサンプルの最大許容数に関して表現して、重畳領域の最大の円周方向延在を示す。数値で表現すると、第1の基準値REF1は、形成支持体2の円周方向延在に沿って測定した半加工要素4の長さの少なくとも1/3、特に少なくとも1/2に等しい重畳領域内で検出することができるサンプルの数に等しい。このように第1の基準値REF1を選択することによって、検出された放射の強度の短い予期しないピークなどの擾乱が、実施する処理操作に干渉して処理操作の結果を変えるおそれがあるような状況を避けることができる。単に一表記として、以下の数値の例を考えることができる。言及する値は、必ずしも本発明の実際の実施によって確認されているわけではないことを念頭に置かれたい。ただ1つの半加工要素4の円周方向に沿って、12回の検出操作を、1箇所につき1回、12箇所の円周方向位置CPで行うことができるすなわち、12個の値V1を決定することができると仮定することができる。図2aには、3つの円周方向位置CP1、CP2、CP3のみが模式的に示されている。RF1値は、半加工要素の幅の1/3に対応する場合には、4である。そうではなく、RF1値は、半加工要素の幅の1/2に対応する場合には、6である。REF1が6に固定されると仮定する。しきい値TH1よりも高い、連続した値V1の数が6より多い場合すなわち、それらが、対象の半加工要素と隣接する半加工要素との重畳を表す場合、2つの半加工要素の重畳領域の円周方向での広がりが過剰であるので、アラーム信号Sが発生される。逆に、TH1よりも高い値V1の数が6以下である場合、アラーム信号は発生されない。2つの状況をより良く見るために、図3bおよび図3aを参照することができる。図3bでは、TH1よりも高い値V1が約9または10存在しアラーム信号Sが発生される状況、一方、図3aでは、TH1よりも高い値V1が約3または4存在するアラーム信号Sが発生されない状況。また、アラーム信号Sは、第2のパラメータP2が第2の基準値REF2よりも大きいときに発生させることもできる。好ましくは、第2のパラメータP2に関する第2の基準値REF2は、形成支持体2の円周方向延在に沿って測定した半加工要素4の長さの少なくとも1/3、特に少なくとも1/2に等しい長さを表す。好ましくは、第2の基準値REF2は、サンプルの最大許容数、すなわち、値V2が計算される加工対象のタイヤ1の同一軸方向平面に属する円周方向位置CPの数の最大許容数を示すことができ、値V2は、半加工要素4が載置されていない領域Z2において最大に検出することができる。例として、図3cでは、半加工要素4’と4’’の間に空いた領域Z2が示されている。実際には、円周方向位置CPが実質的に等間隔で離隔されているとき、第2のパラメータP2は、空いた領域で検出されるサンプルの数として識別可能な測定単位で表現して、2つの半加工要素4の間の空いた領域の円周方向延在を示す。それに対応して、第2の基準値REF2は、空いた領域自体で検出されるサンプルの最大許容数に関して表現して、空いた領域の最大の円周方向延在を示す。数値で表現すると、第2の基準値REF2は、形成支持体2の円周方向延在に沿って測定した半加工要素4の長さの少なくとも1/3、特に少なくとも1/2に等しい空いた領域内で検出することができるサンプルの数に等しい。このように第2の基準値REF2を選択することによって、検出された放射の強度の短い予期しないピークなどの擾乱が、実施する処理操作に干渉して処理操作の結果を変えるおそれがあるような状況を避けることができる。上述したように、値V1、V2は、好ましくは、加工対象のタイヤ1の複数の円周方向位置CPで前記加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さを計算することによって決定される。好ましくは、円周方向位置CPの少なくとも一部が、形成支持体の軸方向中心線平面X1に属する図1および図2。好ましくは、送信される第1の放射R1は、加工対象のタイヤ1の前述の円周方向位置CPに時間的に連続して向けられる少なくとも1つの主放射ビームF1を含む。第1の反射放射R1’は、好ましくは、少なくとも1つの対応するビームF1’を含む。好ましい実施形態では、円周方向位置CPの一部は、前述の軸方向中心線平面X1に実質的に平行な一対の補助平面X2、X3に属する。特に、各補助平面X2、X3は、形成支持体2の軸方向中心線平面X1と各軸方向端部2a、2bとの間にそれぞれ含まれる。好ましくは、補助平面X2とX3は、軸方向中心線平面X1に対して実質的に対称的な位置にある。有利には、送信される第1の放射R1は、さらに、前記補助平面X2、X3に属する位置に時間的に連続して向けられる一対の補助放射ビームF2、F3を含む。したがって、第1の反射放射R1’は、図2に模式的に示される対応する補助ビームF2’、F3’を含む。好ましい一実施形態では、送信される第1の放射R1に加えて、第2の放射R2が、加工対象のタイヤ1に向けて放出される図5。特に、第1の放射R1が送信された円周方向位置CPごとに、第1の放射R1が送信された位置CPに対して円周方向で離隔された位置に第2の放射R2が送信される。次いで、加工対象のタイヤ1の半径方向外面から反射される対応する第2の反射放射R2’が受信される。このようにして、パラメータPは、第2の反射放射R2’の関数としても決定することができる。より詳細には、第2の放射R2および第2の反射放射R2’は、それぞれ第1の放射R1および第1の反射放射R1’と同様の構造を有することができる。第2の放射R2は、軸方向中心線平面X1に属する加工対象のタイヤ1の円周方向位置CP’に向けられる少なくとも1つの主ビームB1を含むことができる。第2の反射放射R2’は、対応するビームB1’を含む。有利には、ビームB1、B1’は、軸方向中心線平面X1内に位置することができる。第2の放射R2は、さらに、前記補助平面X2、X3に属する円周方向位置に向けられる一対の補助ビームB2、B3を含むことがある。したがって、第2の反射放射R2’は、対応するビームB2’、B3’を含む。有利には、ビームB2、B2’は平面X2に属し、ビームB3、B3’は平面X3に属する。好ましい一実施形態では、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の半径方向厚さを表すパラメータを検出した後、統計例えば平均および分散パラメータを計算するステップが実施され、これらのパラメータは、アラーム信号Sの発生を決定するために考慮することができる。特に、計算された平均および分散に鑑みて、加工対象のタイヤ1を表すパラメータが、事前設定された設計データから離れすぎているときに、アラーム信号Sを発生することができる。好ましい一実施形態では、アラーム信号Sはまた、アラーム信号S自体の発生を引き起こしている異常半加工要素の間の過剰な重畳または過剰な距離が検出されている角度位置を識別するデータを組み込むこともできる。これらのデータは、例えば、反射放射において過剰な数の正のピークが検出されたTH1よりも高い値V1が多すぎる角度位置を識別するパラメータ、または過剰な数の負のピークが検出されたTH2よりも小さい値V2が多すぎる角度位置を識別するパラメータを含むことがある。上述したように、本発明は、タイヤ製造のための半加工要素の配置を制御するための装置にも言及する。参照番号100で示されるこの装置は、図1に模式的に示され、図4にブロック図によって示される。装置100は、まず、加工対象のタイヤ1に第1の放射R1を送信するための第1の放出構造110を含む。好ましくは、第1の放出構造110は、前記軸方向中心線平面X1上に位置決めされた少なくとも1つの主放出器111を含む。主放出器111は、有利には、軸方向中心線平面X1内に位置する円周方向位置CPに向けられる主放射ビームF1を発生する。実際には、主放出器111は、ビームF1を適切に向けるために、軸方向中心線平面X1内に実質的に位置決めすることができる。ビームF1は、有利には、軸方向中心線平面X1内に位置する。好ましい一実施形態では、第1の放出構造110は、さらに、一対の補助放出器112、113を含み、各補助放出器112、113が、それぞれ前記補助平面X2、X3に位置決めされる。有利には、補助放出器112、113は、それぞれ補助ビームF2’、F3’を発生する。装置100は、さらに、第1の反射放射R1’を受信するための第1の受信構造120を含む。好ましくは、第1の受信構造120は、少なくとも1つの主センサ121を含む。特に、主センサ121は、放射ビームF1’を受信するために、軸方向中心線平面X1内に位置決めすることができる。有利には、ビームF1’は、軸方向中心線平面X1内に位置する。好ましい一実施形態では、第1の受信構造120は、さらに、一対の補助センサ122、123を含み、各補助センサ122、123が、それぞれ前記補助平面X2、X3に位置決めされる。このようにすると、補助センサ122、123は、それぞれ補助ビームF2、F3を受信することができる。装置100は、さらに処理ユニット130を含み、処理ユニット130は、受信された放射に応じて、前記アラーム信号Sの発生を行う。特に、処理ユニット130は、反射放射の関数として前記パラメータPを決定するように構成された演算モジュール131を含む。特に、演算モジュール131は、第1のパラメータP1および/または第2のパラメータP2を計算するために提供されることができる。第1のパラメータP1を決定するために、演算モジュール131は、反射放射R1’の関数として値V1を決定し、これらの値V1を第1のしきい値TH1と比較して、値V1の何個がTH1よりも高いかを決定し、したがって第1のパラメータP1を定義する。次いで、比較モジュール132が、第1のパラメータP1を第1の基準値REF1と比較する。第1のパラメータP1が第1の基準値REF1よりも大きいとき、伝送モジュール133が作動され、前記アラーム信号Sを発生する。上記のことに鑑みて、伝送モジュール133は、2つの半加工要素4の間で過剰に重畳した状態が生じる第1のパラメータP2が第1の基準値REF1よりも高いときに、アラーム信号Sを発生することができる。有利には、演算モジュール131は、第2のパラメータP2を決定するように構成することもできる。この目的で、演算モジュール131は、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さを表す複数の値V2を計算する。上述したように、値V2は、既に計算された値V1と同一でよく、または少なくとも反射放射R1から別個に決定することができる。演算モジュール133は、値V2を第2のしきい値TH2と比較し、これらの値V2の何個が第2のしきい値TH2よりも小さいかが決定される。このようにして、第2のパラメータP2が決定される。次いで、比較モジュール132が、第2のパラメータP2を第2の基準値REF2と比較する。第2のパラメータP2が第2の基準値REF2よりも大きいとき、伝送モジュール133が作動され、前記アラーム信号Sが発生される。上記のことに鑑みて、伝送モジュール133は、2つの半加工要素4の間で過剰な相互間隔が生じる第2のパラメータP2が第2の基準値REF2よりも大きいときにアラーム信号Sを発生することができる。有利には、演算モジュール131は、加工対象のタイヤ1の上述した円周方向位置CPで、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の厚さを決定することによって、値V1、V2を決定するように構成される。好ましい実施形態では、処理ユニット130は、さらに、前記第1の反射放射R1’の少なくとも6個の一次高調波成分を除去するように第1の反射放射R1’をフィルタするためのフィルタリングモジュール134を含む。特に、フィルタリングモジュール134は、第1の反射放射R1’の9個の一次高調波成分を除去することができ、より特定的には、第1の反射放射R1’の12個の一次高調波成分を除去することができる。上述したように、このフィルタリング操作は、形成支持体2の形状による非理想性の関与をなくす、または少なくとも減少させることを可能にする。フィルタリング操作に加えて、またはその代替として、演算モジュール131は、形成支持体2の形状の関数としてもパラメータV1、V2を決定するように構成される。この目的で、演算モジュール131は、第1の放出構造110および第1の受信構造120と協働して、半加工要素4の配置前に形成支持体2の外側形状を検出するように構成することができる。このようにすると、値V1、V2を決定する際、形成支持体2の形状を直接考慮することができ、値V1、V2は、加工対象のタイヤ1の半径方向外層5の半径方向での厚さを高信頼性で表すことができる。好ましい一実施形態では、演算モジュール131は、加工対象のタイヤ1の半径方向外面から反射される第2の放射R2’の関数としてもパラメータPを決定するように構成される。第2の反射放射R2’は、加工対象のタイヤ1上に向けて、第1の放射R1が送信された位置から離隔された円周方向位置に送信された第2の放射R2から得られる。有利には、この操作は、第1の放射R1が送信された円周方向位置CPごとに行われる。この目的で、装置100は、加工対象のタイヤ1上に少なくとも第2の放射2を送信するための第2の放出構造140と、少なくとも第2の反射放射R2’を受信するための第2の受信構造150とを含む。実際には、図5に模式的に示されるように、第1の放出構造110が円周方向位置CPに第1の放射R1を送信する一方で、第2の放出構造140によって第2の放射R2を円周方向位置CP’に送信することができる。このようにして、処理ユニット130は、第1の反射放射R1’および第2の反射放射R2’の関数として、加工対象のタイヤの外側形状を決定することができる。有利には、第2の放出構造140は、好ましくは軸方向中心線平面X1に位置決めされた主放出器141を含むことができる。主放出器141は、第2の放射R2に属する主ビームB1を発生することができる。好ましくは、主ビームB1は、軸方向中心線平面X1内に位置する加工対象のタイヤ1の円周方向位置CP’に向けられる。それに対応して、第2の受信構造150は、好ましくは軸方向中心線平面X1に位置決めされた主センサ151を含むことができる。主センサ151は、第2の反射放射R2’、特に、加工対象のタイヤ1の半径方向外面上でのビームB1の反射によって生成された放射ビームB1’を受信するために提供される。好ましくは、第2の放出構造140は、さらに、第2の放射R2に属するそれぞれの放射ビームB2、B3を発生するように適合された一対の補助放出器142、143を含む。放射ビームB2、B3は、前記補助平面X2、X3上に位置する加工対象のタイヤ1の半径方向外面の円周方向位置CP’に当たる。それに対応して、第2の受信構造150は、加工対象のタイヤ1の半径方向外面上でのビームB2、B3の反射によって生成される放射ビームB2’、B3’を受信するように適合された一対の補助センサ152、153を含むことができる。処理ユニット130は、第2の受信構造150から受信される反射放射R2’の関数としても、パラメータP、特に第1および第2のパラメータP1、P2を決定するために使用される値V1、V2を計算することができる。図1に模式的に示されるように、装置100は、有利には、タイヤ製造用の半加工要素の配置のために、ワークステーション200内で使用することができる。ワークステーション200図6は、前記加工対象のタイヤ1を形成するために、形成支持体2と、形成支持体2上に半加工要素4を載置するための1つまたは複数の部材190とを含む。この趣旨で、装置100は、半加工要素4の配置を制御するため、特に、隣接し合う半加工要素の間の起こり得る過剰な重畳および/または起こり得る過剰な離隔を検出するために使用される。一実施形態では、加工対象のタイヤ1への放射または放射ビームの送信、対応する反射放射の受信、および配置の制御のための反射放射の処理を、半加工要素4の配置中に行うことができ、それにより実質的にリアルタイムで制御技法を行う。別の一実施形態では、加工対象のタイヤ1への放射の送信、対応する反射放射の受信、および配置制御のための反射放射の処理は、半加工要素4の配置の最後に行うことができ、その後、加工対象のタイヤ1に構築プロセスの後続の操作を施す。タイヤの製造中、形成支持体2は、それ自体の長手方向回転軸Aの周りで回転することができることに留意すべきである。また、有利には、この運動は、パラメータPの決定および場合によっては後続のアラーム信号Sの発生のために採用される放射R1、R1’、R2、R2’を放出および受信するための操作の実施中に使用することもできる。実際には、放出構造110、140および受信構造120、150が実質的に静止しているすなわち床と実質的に一体であるとき、加工対象のタイヤ1の異なる円周方向位置への放射ビームの送信は、有利には、長手方向回転軸Aの周りでの加工対象のタイヤ1の前記回転によって実現される。