"天然ゴム及び合成ジエン系ゴムから選ばれる少なくとも1種からなるゴム成分A、無機充填材Bを含む充填材、シランカップリング剤C、並びにグアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、ジチオカルバミン酸塩類、チオウレア類及びキサントゲン酸塩類から選ばれる少なくとも1種の加硫促進剤Dを含むゴム組成物の製造方法であって、該ゴム組成物を3段階以上の混練段階で混練し、混練の第一段階Xで該ゴム成分A、該無機充填材Bの全部又は一部、及び該シランカップリング剤Cの全部又は一部を混練し、混練の第二段階以降でかつ最終段階より前の段階Yで該加硫促進剤Dを加えて混練し、混練の最終段階Zで加硫剤を加えて混練することを特徴とするゴム組成物の製造方法。混練の前記段階Yにおけるゴム組成物の最高温度が120~190°Cである請求項1に記載のゴム組成物の製造方法。混練の前記第一段階Xにおけるゴム組成物の最高温度が140~190°Cである請求項1又は2に記載のゴム組成物の製造方法。前記シランカップリング剤Cが、下記一般式I~IVで表わされる化合物からなる群から1種以上選択される化合物である請求項1~3のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。式中、R1は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、炭素数2~8の直鎖もしくは分枝のアルコキシアルキル基又は水素原子であり、R2は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基であり、R3は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖もしくは分枝のアルキレン基である。aは平均値として2~6であり、p及びrは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として0~3である。但しp及びrの双方が3であることはない。{式中、R4は-Cl、-Br、R9O-、R9C=OO-、R9R10C=NO-、R9R10CNO-、R9R10N-、及び-OSiR9R10hOSiR9R10R11から選択される一価の基R9、R10及びR11は各々水素原子又は炭素数1~18の一価の炭化水素基であり、hは平均値として1~4である。であり、R5はR4、水素原子又は炭素数1~18の一価の炭化水素基であり、R6はR4、R5、水素原子又は-OR12Oj05-基R12は炭素数1~18のアルキレン基、jは1~4の整数である。であり、R7は炭素数1~18の二価の炭化水素基であり、R8は炭素数1~18の一価の炭化水素基である。x、y及びzは、xy2z=3、0≦x≦3、0≦y≦2、0≦z≦1の関係を満たす数である。}{式中、R13は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、炭素数2~8の直鎖もしくは分枝のアルコキシアルキル基又は水素原子であり、R14は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基であり、R15は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖もしくは分枝のアルキレン基である。R16は一般式-S-R17-S-、-R18-Sm1-R19-及び-R20-Sm2-R21-Sm3-R22-のいずれかの二価の基R17~R22は各々炭素数1~20の二価の炭化水素基、二価の芳香族基、又は硫黄及び酸素以外のヘテロ元素を含む二価の有機基であり、m1、m2及びm3は各々平均値として1以上4未満である。であり、複数あるkは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として1~6であり、s及びtは各々平均値として0~3である。但しs及びtの双方が3であることはない。}{式中、R23は炭素数1~20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、複数あるGは同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~9のアルカンジイル基又はアルケンジイル基であり、複数あるZaは同一でも異なっていてもよく、各々二つの珪素原子と結合することのできる基であり、且つ-0-05、-0-G-05及び-O-G-O-05から選ばれる官能基であり、複数あるZbは同一でも異なっていてもよく、各々二つの珪素原子と結合することのできる官能基であり、且つ-O-G-O-05で表される官能基であり、複数あるZcは同一でも異なっていてもよく、各々-Cl、-Br、-ORa、RaCO-、RaRbC=NO-、RaRbN-、Ra-及びHO-G-O-Gは上記表記と一致する。から選ばれる官能基であり、Ra及びRbは各々炭素数1~20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。m、n、u、v及びwは、1≦m≦20、0≦n≦20、0≦u≦3、0≦v≦2、0≦w≦1であり、且つu/2v2w=2又は3である。A部が複数である場合、複数のA部におけるZau、Zbv及びZcwそれぞれにおいて、同一でも異なっていてもよく、B部が複数である場合、複数のB部におけるZau、Zbv及びZcwそれぞれにおいて、同一でも異なってもよい。}前記シランカップリング剤Cが、上記一般式Iで表わされる化合物である請求項4に記載のゴム組成物の製造方法。前記無機充填材Bがシリカである請求項1~5のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。前記充填材中、前記無機充填材Bが30質量以上である請求項1~6のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。混練の前記段階Yにおけるゴム組成物中の前記加硫促進剤Dの分子数がシランカップリング剤Cの分子数の0.1~1.0倍である請求項1~7のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。前記グアニジン類が、13-ジフェニルグアニジン、13-ジ-o-トリルグアニジン及び1-o-トリルビグアニドから選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1~8のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。前記スルフェンアミド類が、N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド及びN-tert-ブチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミドから選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1~8のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。前記チアゾール類が、2-メルカプトベンゾチアゾール及びジ-2-ベンゾチアゾリルジスルフィドから選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1~8のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。前記チウラム類が、テトラキス2-エチルヘキシルチウラムジスルフィド及びテトラベンジルチウラムジスルフィドから選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1~8のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。前記チオウレア類が、N,N’-ジエチルチオ尿素、トリメチルチオ尿素、N,N’-ジフェニルチオ尿素及びN,N’-ジメチルチオ尿素から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1~8のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。前記ジチオカルバミン酸塩類が、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、N-エチル-N-フェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛及びジメチルジチオカルバミン酸銅から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1~8のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。前記キサントゲン酸塩類が、イソプロピルキサントゲン酸亜鉛である請求項1~8のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。混練の前記段階Yにおけるゴム組成物中に含まれる有機酸化合物の分子数が、該段階Yで加えられる前記加硫促進剤Dの分子数以下である請求項1~15のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。混練の前記第一段階X、混練の第二段階である前記段階Y及び混練の第三段階である前記最終段階Zからなる請求項1~16のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。本発明は、このような状況下で、シランカップリング剤のカップリング機能の活性をさらに高めて、好適に低発熱となるゴム組成物を得ることが可能なゴム組成物の製造方法を提供することを課題とするものである。本発明者らは、上記課題を解決するために、混練工程の第一段階において、ゴム成分と、無機充填材の全部又は一部と、シランカップリング剤の全部又は一部とを混練するゴム組成物の製造方法において、グアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、ジチオカルバミン酸塩類、チオウレア類及びキサントゲン酸塩類から選ばれる少なくとも1種の加硫促進剤を加える方法を種々検討した結果、カップリング機能の活性を高めるためには、グアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、ジチオカルバミン酸塩類、チオウレア類及びキサントゲン酸塩類から選ばれる少なくとも1種の加硫促進剤を加える混練の段階を適正にすればよいことを実験的に知見して、本発明を完成させるに至った。即ち、本発明は、天然ゴム及び合成ジエン系ゴムから選ばれる少なくとも1種からなるゴム成分A、無機充填材Bを含む充填材、シランカップリング剤C並びにグアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、ジチオカルバミン酸塩類、チオウレア類及びキサントゲン酸塩類から選ばれる少なくとも1種の加硫促進剤Dを含むゴム組成物の製造方法であって、該ゴム組成物を3段階以上の混練段階で混練し、混練の第一段階Xで該ゴム成分A、該無機充填材Bの全部又は一部、及び該シランカップリング剤Cの全部又は一部を混練し、混練の第二段階以降でかつ最終段階より前の段階Yで該加硫促進剤Dを加えて混練し、混練の最終段階Zで加硫剤を加えて混練することを特徴とするゴム組成物の製造方法である。本発明によれば、シランカップリング剤のカップリング機能の活性をさらに高めて、低発熱性に優れたゴム組成物を得ることが可能であるゴム組成物の製造方法を提供することができる。以下に、本発明を詳細に説明する。本発明のゴム組成物の製造方法は、天然ゴム及び合成ジエン系ゴムから選ばれる少なくとも1種からなるゴム成分A、無機充填材Bを含む充填材、シランカップリング剤C並びにグアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、ジチオカルバミン酸塩類、チオウレア類及びキサントゲン酸塩類から選ばれる少なくとも1種の加硫促進剤Dを含むゴム組成物の製造方法であって、3段階以上の混練段階で混練し、混練の第一段階Xで該ゴム成分A、該無機充填材Bの全部又は一部、及び該シランカップリング剤Cの全部又は一部を混練し、混練の第二段階以降でかつ最終段階より前の段階Yで該加硫促進剤Dを加えて混練し、混練の最終段階Zで加硫剤を加えて混練することを特徴とする。本発明において、3段階以上の混練段階で混練するのは、ゴム成分Aが長時間での高温の混練により分子量が低下するのを抑制するためである。即ち、混練の段階数を減らすため一段階での混練時間を長くすると、ゴム成分Aを高温で長時間さらすこととなり、ゴム成分Aの分子量低下を招くので、これを避けることは重要である。また、混練の第一段階Xで該ゴム成分A、該無機充填材Bの全部又は一部、及び該シランカップリング剤Cの全部又は一部を混練するのは、無機充填材Bとシランカップリング剤Cとの反応を十分に進行させるためである。本発明において、混練の第二段階以降でかつ最終段階より前の段階Yで加硫促進剤Dを加えて混練するのは、無機充填材Bとシランカップリング剤Cとの反応が十分に進行した後に、加硫促進剤Dによりシランカップリング剤Cのカップリング機能の活性を高めて、シランカップリング剤Cとゴム成分Aとの反応をより好適に進行させることができるからである。上記のシランカップリング剤Cのカップリング機能の活性をより好適に高めて、シランカップリング剤Cとゴム成分Aとの反応を更に好適に進行させるためには、混練の段階Yにおけるゴム組成物の最高温度が120~190°Cであることが好ましく、130~175°Cであることが更に好ましい。また、無機充填材Bとシランカップリング剤Cとの反応を十分に進行させるためには、混練の第一段階Xにおけるゴム組成物の最高温度が140~190°Cであることが好ましく、150~180°Cであることが更に好ましい。混練の第一段階X、混練の第二段階Yの混練時間は10秒から20分であることが好ましく、10秒から10分であることがより好ましく、30秒から5分であることがさらに好ましい。また、混練の最終段階Zにおけるゴム組成物の最高温度は60~140°Cであることが好ましく、80~120°Cであることがより好ましく、100~120°Cであることがさらに好ましい。混練時間は10秒から20分であることが好ましく、10秒から10分であることがより好ましく、20秒から5分であることがさらに好ましい。なお、次の段階へ進む際には、ゴム組成物の温度を前段階の混練終了後の温度より10°C以上低下させてから次の段階へ進むことが好ましい。本発明におけるゴム組成物の混練工程は、少なくとも混練の第一段階X、混練の第二段階以降でかつ最終段階より前の段階Y及び混練の最終段階Zを含むものであり、必要に応じ、他の混練の中間段階を含んでもよい。なお、本発明における混練の第一段階とは、ゴム成分Aと無機充填材Bとシランカップリング剤Cとを混練する最初の段階をいい、最初の段階でゴム成分Aと無機充填材B以外の充填材とを混練する場合やゴム成分Aのみを予備練りする場合の段階は含まれない。本発明の製造方法における混練段階は、3段階以上であればよく、特に上限はないが、生産性を考慮すれば、8段階以下が好ましく、6段階以下がより好ましく、4段階以下が更に好ましい。本発明の製造方法は、シランカップリング剤とシリカの反応とシランカップリング剤とポリマーとの反応をそれぞれ確実に反応させるという理由で、混練の前記第一段階X、混練の第二段階である前記段階Y及び混練の第三段階である前記最終段階Zからなる方法であってもよい。なお、混練の第二段階や中間段階でゴム成分や充填剤等を配合し、混練してもよい。[シランカップリング剤C]本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるシランカップリング剤Cは、下記一般式I~IVで表わされる化合物からなる群から1種以上選択される化合物であることが好ましい。本発明方法に係るゴム組成物は、このようなシランカップリング剤Cを用いることにより、ゴム加工時の作業性に更に優れると共に、より耐摩耗性の良好な空気入りタイヤを与えることができる。以下、下記一般式I~IVを順に説明する。式中、R1は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、炭素数2~8の直鎖もしくは分枝のアルコキシアルキル基又は水素原子であり、R2は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基であり、R3は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖もしくは分枝のアルキレン基である。aは平均値として2~6であり、p及びrは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として0~3である。但しp及びrの双方が3であることはない。上記一般式Iで表わされるシランカップリング剤Cの具体例として、ビス3-トリエトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス3-トリメトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス3-メチルジメトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス2-トリエトキシシリルエチルテトラスルフィド、ビス3-トリエトキシシリルプロピルジスルフィド、ビス3-トリメトキシシリルプロピルジスルフィド、ビス3-メチルジメトキシシリルプロピルジスルフィド、ビス2-トリエトキシシリルエチルジスルフィド、ビス3-トリエトキシシリルプロピルトリスルフィド、ビス3-トリメトキシシリルプロピルトリスルフィド、ビス3-メチルジメトキシシリルプロピルトリスルフィド、ビス2-トリエトキシシリルエチルトリスルフィド、ビス3-モノエトキシジメチルシリルプロピルテトラスルフィド、ビス3-モノエトキシジメチルシリルプロピルトリスルフィド、ビス3-モノエトキシジメチルシリルプロピルジスルフィド、ビス3-モノメトキシジメチルシリルプロピルテトラスルフィド、ビス3-モノメトキシジメチルシリルプロピルトリスルフィド、ビス3-モノメトキシジメチルシリルプロピルジスルフィド、ビス2-モノエトキシジメチルシリルエチルテトラスルフィド、ビス2-モノエトキシジメチルシリルエチルトリスルフィド、ビス2-モノエトキシジメチルシリルエチルジスルフィド等が挙げられる。式中、R4は-Cl、-Br、R9O-、R9C=OO-、R9R10C=NO-、R9R10CNO-、R9R10N-、及び-OSiR9R10hOSiR9R10R11から選択される一価の基R9、R10及びR11は各々水素原子又は炭素数1~18の一価の炭化水素基であり、hは平均値として1~4である。であり、R5はR4、水素原子又は炭素数1~18の一価の炭化水素基であり、R6はR4、R5、水素原子又は-OR12Oj05-基R12は炭素数1~18のアルキレン基、jは1~4の整数である。であり、R7は炭素数1~18の二価の炭化水素基であり、R8は炭素数1~18の一価の炭化水素基である。x、y及びzは、xy2z=3、0≦x≦3、0≦y≦2、0≦z≦1の関係を満たす数である。上記一般式IIにおいて、R8、R9、R10及びR11は同一でも異なっていてもよく、好ましくは各々炭素数1~18の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、アルケニル基、アリール基及びアラルキル基からなる群から選択される基であることが好ましい。また、R5が炭素数1~18の一価の炭化水素基である場合は、直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、アルケニル基、アリール基及びアラルキル基からなる群から選択される基であることが好ましい。R12は直鎖、環状又は分枝のアルキレン基であることが好ましく、特に直鎖状のものが好ましい。R7は例えば炭素数1~18のアルキレン基、炭素数2~18のアルケニレン基、炭素数5~18のシクロアルキレン基、炭素数6~18のシクロアルキルアルキレン基、炭素数6~18のアリーレン基、炭素数7~18のアラルキレン基を挙げることができる。前記アルキレン基及びアルケニレン基は、直鎖状、枝分かれ状のいずれであってもよく、前記シクロアルキレン基、シクロアルキルアルキレン基、アリーレン基及びアラルキレン基は、環上に低級アルキル基等の置換基を有していてもよい。このR7としては、炭素数1~6のアルキレン基が好ましく、特に直鎖状アルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基を好ましく挙げることができる。上記一般式IIにおけるR5、R8、R9、R10及びR11の炭素数1~18の一価の炭化水素基の具体例としては、メチル基,エチル基,n-プロピル基,イソプロピル基,n-ブチル基,イソブチル基,sec-ブチル基,tert-ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,オクチル基,デシル基,ドデシル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基,ビニル基,プロぺニル基,アリル基,ヘキセニル基,オクテニル基,シクロペンテニル基,シクロヘキセニル基,フェニル基,トリル基,キシリル基,ナフチル基,ベンジル基,フェネチル基,ナフチルメチル基等が挙げられる。上記一般式IIにおけるR12の例としては、メチレン基,エチレン基,トリメチレン基,テトラメチレン基,ペンタメチレン基,ヘキサメチレン基,オクタメチレン基,デカメチレン基,ドデカメチレン基等が挙げられる。前記一般式IIで表されるシランカップリング剤Cの具体例としては、3-ヘキサノイルチオプロピルトリエトキシシラン、3-オクタノイルチオプロピルトリエトキシシラン、3-デカノイルチオプロピルトリエトキシシラン、3-ラウロイルチオプロピルトリエトキシシラン、2-ヘキサノイルチオエチルトリエトキシシラン、2-オクタノイルチオエチルトリエトキシシラン、2-デカノイルチオエチルトリエトキシシラン、2-ラウロイルチオエチルトリエトキシシラン、3-ヘキサノイルチオプロピルトリメトキシシラン、3-オクタノイルチオプロピルトリメトキシシラン、3-デカノイルチオプロピルトリメトキシシラン、3-ラウロイルチオプロピルトリメトキシシラン、2-ヘキサノイルチオエチルトリメトキシシラン、2-オクタノイルチオエチルトリメトキシシラン、2-デカノイルチオエチルトリメトキシシラン、2-ラウロイルチオエチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの内、3-オクタノイルチオプロピルトリエトキシシランGeneralElectricSilicones社製、商標:NXTシランが特に好ましい。式中、R13は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、炭素数2~8の直鎖もしくは分枝のアルコキシアルキル基又は水素原子であり、R14は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基であり、R15は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖もしくは分枝のアルキレン基である。R16は一般式-S-R17-S-、-R18-Sm1-R19-及び-R20-Sm2-R21-Sm3-R22-のいずれかの二価の基R17~R22は各々炭素数1~20の二価の炭化水素基、二価の芳香族基、又は硫黄及び酸素以外のヘテロ元素を含む二価の有機基であり、m1、m2及びm3は各々平均値として1以上4未満である。であり、複数あるkは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として1~6であり、s及びtは各々平均値として0~3である。但しs及びtの双方が3であることはない。上記一般式IIIで表わされるシランカップリング剤Cの具体例として、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S2-CH26-S2-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S2-CH210-S2-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S3-CH26-S3-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S4-CH26-S4-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-S2-CH26-S-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-S25-CH26-S-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-S3-CH26-S-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-S4-CH26-S-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH210-S2-CH210-S-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S4-CH26-S4-CH26-S4-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S2-CH26-S2-CH26-S2-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-S2-CH26-S2-CH26-S-CH23-SiOCH2CH33等で表される化合物が好適に挙げられる式中、R23は炭素数1~20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、複数あるGは同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~9のアルカンジイル基又はアルケンジイル基であり、複数あるZaは同一でも異なっていてもよく、各々二つの珪素原子と結合することのできる官能基であり、且つ-0-05、-0-G-05及び-O-G-O-05から選ばれる官能基であり、複数あるZbは同一でも異なっていてもよく、各々二つの珪素原子と結合することのできる官能基であり、且つ-O-G-O-05で表される官能基であり、複数あるZcは同一でも異なっていてもよく、各々-Cl、-Br、-ORa、RaCO-、RaRbC=NO-、RaRbN-、Ra-及びHO-G-O-Gは上記表記と一致する。から選ばれる官能基であり、Ra及びRbは各々炭素数1~20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。m、n、u、v及びwは、1≦m≦20、0≦n≦20、0≦u≦3、0≦v≦2、0≦w≦1であり、且つu/2v2w=2又は3である。A部が複数である場合、複数のA部におけるZau、Zbv及びZcwそれぞれにおいて、同一でも異なっていてもよく、B部が複数である場合、複数のB部におけるZau、Zbv及びZcwそれぞれにおいて、同一でも異なってもよい。上記一般式IVで表わされるシランカップリング剤Cの具体例として、化学式V、化学式VI及び化学式VIIが挙げられる。式中、Lはそれぞれ独立して炭素数1~9のアルカンジイル基又はアルケンジイル基であり、x=m、y=nである。化学式Vで表されるシランカップリング剤としては、MomentivePerformanceMaterials社製、商標NXTLow-VSilane、が市販品として入手できる。また、化学式VIで表されるシランカップリング剤としては、MomentivePerformanceMaterials社製、商標NXTUltraLow-VSilane、が同様に市販品として入手することができる。更に、化学式VIIで表されるシランカップリング剤としては、MomentivePerformanceMaterials社製、商標、NXT-Zとして挙げることができる。上記一般式II、化学式V及び化学式VIで得られるシランカップリング剤は、保護されたメルカプト基を有するので、加硫工程以前の工程での加工中に初期加硫スコーチの発生を防止することができるため、加工性が良好となる。また、化学式V、VI及びVIIで得られるシランカップリング剤はアルコキシシラン炭素数が多いため、揮発性化合物VOC特にアルコールの発生が少なく、作業環境上好ましい。また、化学式VIIのシランカップリング剤はタイヤ性能として低発熱性を得ることから更に好ましい。本発明に係るシランカップリング剤Cは、上記一般式I~IVで表わされる化合物の内、上記一般式Iで表わされる化合物が特に好ましい。加硫促進剤Dはゴム成分Aと反応するポリスルフィド結合部位の活性化を起こし易いからである。本発明においては、シランカップリング剤Cは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明に係るゴム組成物のシランカップリング剤Cの配合量は、質量比{シランカップリング剤C/無機充填材B}が1/100~20/100であることが好ましい。1/100以上であれば、ゴム組成物の低発熱性向上の効果をより好適に発揮することとなり、20/100以下であれば、ゴム組成物のコストが低減し、経済性が向上するからである。更には質量比3/100~20/100であることがより好ましく、質量比4/100~10/100であることが特に好ましい。[加硫促進剤D]本発明のゴム組成物の製造方法に用いられる加硫促進剤Dとして挙げられるグアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、ジチオカルバミン酸塩類、チオウレア類及びキサントゲン酸塩類について詳述する。本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるグアニジン類としては、13-ジフェニルグアニジン、13-ジ-o-トリルグアニジン、1-o-トリルビグアニド、ジカテコールボレートのジ-o-トリルグアニジン塩、13-ジ-o-クメニルグアニジン、13-ジ-o-ビフェニルグアニジン、1,3-ジ-o-クメニル-2-プロピオニルグアニジン等が挙げられ、13-ジフェニルグアニジン、13-ジ-o-トリルグアニジン及び1-o-トリルビグアニドは反応性が高いので好ましい。本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるスルフェンアミド類としては、N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジシクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-tert-ブチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-オキシジエチレン-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-メチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-エチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-プロピル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-ブチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-ペンチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-ヘキシル2ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-ペンチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-オクチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-2-エチルヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-デシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-ドデシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-ステアリル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジメチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジエチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジプロピル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジブチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジペンチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジペンチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジオクチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジ-2-エチルヘキシルベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N-デシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジドデシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N-ジステアリル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド等が挙げられる。これらの内、N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド及びN-tert-ブチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミドは、反応性が高いので好ましい。本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるチアゾール類としては、2-メルカプトベンゾチアゾール、ジ-2-ベンゾチアゾリルジスルフィド、2-メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、2-メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩、2-N,N-ジエチルチオカルバモイルチオベンゾチアゾール、2-4’-モルホリノジチオベンゾチアゾール、4-メチル-2-メルカプトベンゾチアゾール、ジ-4-メチル-2-ベンゾチアゾリルジスルフィド、5-クロロ-2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾチアゾールナトリウム、2-メルカプト-6-ニトロベンゾチアゾール、2-メルカプトナフト1,2-dチアゾール、2-メルカプト-5-メトキシベンゾチアゾール、6-アミノ-2-メルカプトベンゾチアゾール等が挙げられる。これらの内、2-メルカプトベンゾチアゾール及びジ-2-ベンゾチアゾリルジスルフィドは、反応性が高く好ましい。本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるチウラム類としては、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラプロピルチウラムジスルフィド、テトライソプロピルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、テトラペンチルチウラムジスルフィド、テトラヘキシルチウラムジスルフィド、テトラヘプチルチウラムジスルフィド、テトラオクチルチウラムジスルフィド、テトラノニルチウラムジスルフィド、テトラデシルチウラムジスルフィド、テトラドデシルチウラムジスルフィド、テトラステアリルチウラムジスルフィド、テトラベンジルチウラムジスルフィド、テトラキス2-エチルヘキシルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラエチルチウラムモノスルフィド、テトラプロピルチウラムモノスルフィド、テトライソプロピルチウラムモノスルフィド、テトラブチルチウラムモノスルフィド、テトラペンチルチウラムモノスルフィド、テトラヘキシルチウラムモノスルフィド、テトラヘプチルチウラムモノスルフィド、テトラオクチルチウラムモノスルフィド、テトラノニルチウラムモノスルフィド、テトラデシルチウラムモノスルフィド、テトラドデシルチウラムモノスルフィド、テトラステアリルチウラムモノスルフィド、テトラベンジルチウラムモノスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等が挙げられる。これらの内、テトラキス2-エチルヘキシルチウラムジスルフィド及びテトラベンジルチウラムジスルフィドは、反応性が高いので好ましい。本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるチオウレア類としては、N,N’-ジフェニルチオ尿素、トリメチルチオ尿素、N,N’-ジエチルチオ尿素、N,N’-ジメチルチオ尿素、N,N’-ジブチルチオ尿素、エチレンチオ尿素、N,N’-ジイソプロピルチオ尿素、N,N’-ジシクロヘキシルチオ尿素、1,3-ジo-トリルチオ尿素、1,3-ジp-トリルチオ尿素、1,1-ジフェニル-2-チオ尿素、2,5-ジチオビ尿素、グアニルチオ尿素、1-1-ナフチル-2-チオ尿素、1-フェニル-2-チオ尿素、p-トリルチオ尿素、o-トリルチオ尿素等が挙げられる。これらの内、N,N’-ジエチルチオ尿素、トリメチルチオ尿素、N,N’-ジフェニルチオ尿素及びN,N’-ジメチルチオ尿素は、反応性が高いので好ましい。本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるジチオカルバミン酸塩類としては、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジプロピルジチオカルバミン酸亜鉛、ジイソプロピルジチオカルバミン酸亜鉛、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジペンチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジヘキシルジチオカルバミン酸亜鉛、ジヘプチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジ2-エチルヘキシルジチオカルバミン酸亜鉛、ジデシルジチオカルバミン酸亜鉛、ジドデシルジチオカルバミン酸亜鉛、N-ペンタメチレンジチオカルバミン酸亜鉛、N-エチル-N-フェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジプロピルジチオカルバミン酸銅、ジイソプロピルジチオカルバミン酸銅、ジブチルジチオカルバミン酸銅、ジペンチルジチオカルバミン酸銅、ジヘキシルジチオカルバミン酸銅、ジヘプチルジチオカルバミン酸銅、ジオクチルジチオカルバミン酸銅、ジ2-エチルヘキシルジチオカルバミン酸銅、ジデシルジチオカルバミン酸銅、ジドデシルジチオカルバミン酸銅、N-ペンタメチレンジチオカルバミン酸銅、ジベンジルジチオカルバミン酸銅、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジプロピルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジイソプロピルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジペンチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジヘキシルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジヘプチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジオクチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジ2-エチルヘキシルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジデシルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジドデシルジチオカルバミン酸ナトリウム、N-ペンタメチレンジチオカルバミン酸ナトリウム、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジメチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジエチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジプロピルジチオカルバミン酸第二鉄、ジイソプロピルジチオカルバミン酸第二鉄、ジブチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジペンチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジヘキシルジチオカルバミン酸第二鉄、ジヘプチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジオクチルジチオカルバミン酸第二鉄、ジ2-エチルヘキシルジチオカルバミン酸第二鉄、ジデシルジチオカルバミン酸第二鉄、ジドデシルジチオカルバミン酸第二鉄、N-ペンタメチレンジチオカルバミン酸第二鉄、ジベンジルジチオカルバミン酸第二鉄等が挙げられる。これらの内、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、N-エチル-N-フェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛及びジメチルジチオカルバミン酸銅は、反応性が高いため望ましい。本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるキサントゲン酸塩類としては、メチルキサントゲン酸亜鉛、エチルキサントゲン酸亜鉛、プロピルキサントゲン酸亜鉛、イソプロピルキサントゲン酸亜鉛、ブチルキサントゲン酸亜鉛、ペンチルキサントゲン酸亜鉛、ヘキシルキサントゲン酸亜鉛、ヘプチルキサントゲン酸亜鉛、オクチルキサントゲン酸亜鉛、2エチルヘキシルキサントゲン酸亜鉛、デシルキサントゲン酸亜鉛、ドデシルキサントゲン酸亜鉛、メチルキサントゲン酸カリウム、エチルキサントゲン酸カリウム、プロピルキサントゲン酸カリウム、イソプロピルキサントゲン酸カリウム、ブチルキサントゲン酸カリウム、ペンチルキサントゲン酸カリウム、ヘキシルキサントゲン酸カリウム、ヘプチルキサントゲン酸カリウム、オクチルキサントゲン酸カリウム、2-エチルヘキシルキサントゲン酸カリウム、デシルキサントゲン酸カリウム、ドデシルキサントゲン酸カリウム、メチルキサントゲン酸ナトリウム、エチルキサントゲン酸ナトリウム、プロピルキサントゲン酸ナトリウム、イソプロピルキサントゲン酸ナトリウム、ブチルキサントゲン酸ナトリウム、ペンチルキサントゲン酸ナトリウム、ヘキシルキサントゲン酸ナトリウム、ヘプチルキサントゲン酸ナトリウム、オクチルキサントゲン酸ナトリウム、2-エチルヘキシルキサントゲン酸ナトリウム、デシルキサントゲン酸ナトリウム、ドデシルキサントゲン酸ナトリウム等が挙げられる。これらの内、イソプロピルキサントゲン酸亜鉛は、反応性が高いので好ましい。本発明に係る混練の段階Yにおけるゴム組成物中の加硫促進剤Dの分子数モル数がシランカップリング剤Cの分子数モル数の0.1~1.0倍であることが好ましい。0.1倍以上であればシランカップリング剤Cの活性化が十分に起こり、1.0倍以下であれば加硫速度に大きな影響は与えないからである。更に好ましくは、加硫促進剤Dの分子数モル数はシランカップリング剤Cの分子数モル数の0.2~0.6倍である。なお、加硫促進剤Dは、硫黄加硫の促進剤としても用いられるので、混練の最終段階においても所望により適量を配合してもよい。混練の最終段階で加硫促進剤を配合する際には、本発明に係る加硫促進剤Dに限定されず、公知の加硫促進剤を配合することもできる。[ゴム成分A]本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるゴム成分Aの合成ジエン系ゴムとしては、スチレンブタジエン共重合体ゴムSBR、ポリブタジエンゴムBR、ポリイソプレンゴムIR、ブチルゴムIIR、エチレンプロピレン-ジエン三元共重合体ゴムEPDM等を用いることができ、天然ゴム及び合成ジエン系ゴムは、1種単独でも、2種以上のブレンドとして用いてもよい。本発明のゴム組成物の製造方法に用いられる無機充填材Bは、シリカ及び下記一般式VIIIで表される無機化合物を用いることができる。dM1xSiOyzH2OVIIIここで、一般式VIII中、M1は、アルミニウム、マグネシウム、チタン、カルシウム、及びジルコニウムからなる群から選ばれる金属、これらの金属の酸化物又は水酸化物、及びそれらの水和物、又はこれらの金属の炭酸塩から選ばれる少なくとも一種であり、d、x、y及びzは、それぞれ1~5の整数、0~10の整数、2~5の整数、及び0~10の整数である。尚、一般式VIIIにおいて、x、zがともに0である場合には、該無機化合物はアルミニウム、マグネシウム、チタン、カルシウム及びジルコニウムから選ばれる少なくとも1つの金属、金属酸化物又は金属水酸化物となる。本発明においては、上述の無機充填材Bの内、低転がり性と耐摩耗性の両立の観点からシリカが好ましい。シリカとしては市販のあらゆるものが使用でき、なかでも湿式シリカ、乾式シリカ、コロイダルシリカを用いるのが好ましく、湿式シリカを用いるのが特に好ましい。シリカのBET比表面積ISO5794/1に準拠して測定するは40~350m2/gであるのが好ましい。BET比表面積がこの範囲であるシリカは、ゴム補強性とゴム成分中への分散性とを両立できるという利点がある。この観点から、BET比表面積が80~350m2/gの範囲にあるシリカがより好ましく、BET比表面積が130m2/gを超え、350m2/g以下であるシリカが更に好ましく、BET比表面積が135~350m2/gの範囲にあるシリカが特に好ましい。このようなシリカとしては東ソーシリカ株式会社製、商品名ニップシールAQBET比表面積=205m2/g、ニップシールKQBET比表面積=240m2/g、デグッサ社製商品名ウルトラジルVN3BET比表面積=175m2/g等の市販品を用いることができる。前記一般式VIIIで表わされる無機化合物としては、γ-アルミナ、α-アルミナ等のアルミナAl2O3、ベーマイト、ダイアスポア等のアルミナ一水和物Al2O3H2O、ギブサイト、バイヤライト等の水酸化アルミニウム[AlOH3]、炭酸アルミニウム[Al2CO32]、水酸化マグネシウム[MgOH2]、酸化マグネシウムMgO、炭酸マグネシウムMgCO3、タルク3MgO4SiO2H2O、アタパルジャイト5MgO8SiO29H2O、チタン白TiO2、チタン黒TiO2n1、酸化カルシウムCaO、水酸化カルシウム[CaOH2]、酸化アルミニウムマグネシウムMgOAl2O3、クレーAl2O32SiO2、カオリンAl2O32SiO22H2O、パイロフィライトAl2O34SiO2H2O、ベントナイトAl2O34SiO22H2O、ケイ酸アルミニウムAl2SiO5、Al43SiO45H2O等、ケイ酸マグネシウムMg2SiO4、MgSiO3等、ケイ酸カルシウムCa2SiO4等、ケイ酸アルミニウムカルシウムAl2O3CaO2SiO2等、ケイ酸マグネシウムカルシウムCaMgSiO4、炭酸カルシウムCaCO3、酸化ジルコニウムZrO2、水酸化ジルコニウム[ZrOOH2nH2O]、炭酸ジルコニウム[ZrCO32]、各種ゼオライトのように電荷を補正する水素、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む結晶性アルミノケイ酸塩等が使用できる。また、前記一般式5中のM3がアルミニウム金属、アルミニウムの酸化物又は水酸化物、及びそれらの水和物、又はアルミニウムの炭酸塩から選ばれる少なくとも一つである場合が好ましく、水酸化アルミニウムが特に好ましい。一般式VIIIで表されるこれらの無機化合物は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。これらの無機化合物の平均粒径は、混練作業性、耐摩耗性及びウェットグリップ性能のバランス等の観点から、0.01~10μmの範囲が好ましく、0.05~5μmの範囲がより好ましい。本発明における無機充填材Bは、シリカ単独で使用してもよいし、シリカと一般式VIIIで表される無機化合物の1種以上とを併用してもよい。本発明に係るゴム組成物の充填材は、所望により、上述の無機充填材Bに加えてカーボンブラックを含有してもよい。カーボンブラックを含有することにより、電気抵抗を下げて帯電を抑止する効果を享受できる。このカーボンブラックとしては、特に制限はなく、例えば高、中又は低ストラクチャーのSAF、ISAF、IISAF、N339、HAF、FEF、GPF、SRFグレードのカーボンブラック、特にSAF、ISAF、IISAF、N339、HAF、FEFグレードのカーボンブラックを用いるのが好ましい。窒素吸着比表面積N2SA、JISK6217-2:2001に準拠して測定するが30~250m2/gであることが好ましい。このカーボンブラックは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明において、カーボンブラックは無機充填材Bに含まれない。本発明に係るゴム組成物の無機充填材Bは、ゴム成分A100質量部に対して、20~120質量部使用することが好ましい。20質量部以上であれば、ウエット性能を確保する観点から好ましく、120質量部以下であれば、転がり抵抗低減の観点から好ましい。更には、30~100質量部使用することがより好ましい。また、本発明に係るゴム組成物の充填材は、ゴム成分A100質量部に対して、20~150質量部使用することが好ましい。20質量部以上であれば、ゴム組成物の補強性向上の観点から好ましく、150質量部以下であれば、転がり抵抗低減の観点から好ましい。前記充填材中、無機充填材Bが30質量以上であることがウェット性能と転がり抵抗の両立の観点から好ましく、40質量以上であることがより好ましく、70質量以上であることがさらに好ましい。なお、無機充填材Bとしてシリカを使用する場合は、前記充填材中、シリカが30質量以上であることが好ましく、35質量以上であることが更に好ましい。[有機酸化合物]本発明の製造方法においては、混練の段階Yにおけるゴム組成物中に含まれる有機酸化合物の分子数モル数が、該段階Yで加えられる加硫促進剤Dの分子数モル数以下であることが好ましい。加硫促進剤Dを配合することによるカップリング機能の活性向上効果を更に高めるためである。即ち、有機酸化合物の分子数モル数が加硫促進剤Dの分子数モル数より多いと活性向上効果が低減するので、それを好適に抑制するためである。本発明に係るゴム組成物に配合される有機酸化合物としては、ステアリン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸、ラウリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、カプリン酸、ペラルゴン酸、カプリル酸、エナント酸、カプロン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ネルボン酸等の飽和脂肪酸及び不飽和脂肪酸並びにロジン酸や変性ロジン酸等の樹脂酸等の有機酸、前記飽和脂肪酸及び前記不飽和脂肪酸並びに樹脂酸のエステル等が挙げられる。本発明においては、加硫促進助剤としての機能を十分に発揮する必要があることから有機酸化合物中の50モル以上がステアリン酸であることが好ましい。また、ゴム成分Aの一部又は全部として乳化重合スチレン-ブタジエン共重合体を用いる場合は、有機酸化合物中の50モル以上が乳化重合スチレン-ブタジエン共重合体に含まれるロジン酸変性ロジン酸も包含される。及び/又は脂肪酸であることが、乳化重合スチレン-ブタジエン共重合体を重合するのに必要な乳化剤の観点から好ましい。本発明のゴム組成物の製造方法において、通常、ゴム組成物に配合される亜鉛華等の加硫活性剤、老化防止剤等の各種配合剤は、必要に応じ、混練の第一段階又は最終段階、あるいは第一段階と最終段階の中間段階において混練りされる。本発明の製造方法における混練装置として、バンバリーミキサー、ロール、インテンシブミキサー、ニーダー、二軸押出機等が用いられる。以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。なお、低発熱性tanδ指数を下記の方法により評価した。低発熱性tanδ指数粘弾性測定装置レオメトリックス社製を使用し、温度60°C、動歪み5、周波数15Hzでtanδを測定した。比較例1、10、17、44、47,50又は53のtanδの逆数を100として下記式にて指数表示した。指数値が大きい程、低発熱性であり、ヒステリシスロスが小さいことを示す。低発熱性指数={比較例1、10、17、44、47,50又は53の加硫ゴム組成物のtanδ/供試加硫ゴム組成物のtanδ}×100製造例1平均組成式3Si3S6S256S3Si3で表されるシランカップリング剤の製造窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー及び滴下ロートを備えた2リットルのセパラブルフラスコに、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン119g0.5モルを仕込み、攪拌下、有効成分20質量のナトリウムエトキシドのエタノール溶液151.2g0.45モルを加えた。その後、80°Cに昇温し、3時間攪拌を続けた。その後冷却し、滴下ロートに移した。次いで、上記と同様のセパラブルフラスコに、1,6-ジクロロヘキサンを69.75g0.45モル仕込み、80°Cに昇温した後、上記の3-メルカプトプロピルトリエトキシシランとナトリウムエトキシドの反応物をゆっくり滴下した。滴下終了後、80°Cで5時間攪拌を続けた。その後冷却し、得られた溶液中から塩を濾別し、さらにエタノール及び過剰の1,6-ジクロロヘキサンを減圧留去した。得られた溶液を減圧蒸留し、沸点148~150°C/0.005torr0.67Paの無色透明の液体137.7gを得た。IR分析、1H-NMR分析及びマススペクトル分析MS分析を行った結果、CH3CH2O3Si-CH23S-CH26-Clで表される化合物であった。また、ガスクロマトグラフ分析GC分析による純度は97.5であった。次いで、上記と同様の0.5リットルのセパラブルフラスコに、エタノール80g、無水硫化ソーダ5.46g0.07モル、硫黄3.36g0.105モルを仕込み、80°Cに昇温した。この溶液を攪拌しながら、上記CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-Clを49.91g0.14モルゆっくり滴下した。滴下終了後、80°Cにて10時間攪拌を続けた。攪拌終了後、冷却し、生成した塩を濾別した後、溶媒のエタノールを減圧蒸留した。得られた赤褐色透明の溶液をIR分析、1H-NMR分析及び超臨界クロマトグラフィー分析を行った結果、平均組成式3Si3S6S256S3Si3で表される化合物であることを確認した。このもののGPC分析における純度は85.2であった。実施例1~6及び比較例1~6第1表に示す配合処方及び混練方法により、混練の第一段階Xにおいて、ゴム成分、シリカ及びシランカップリング剤を混練し、ゴム組成物の最高温度を第1表に示すように調整し、混練の第二段階である段階Yにおいて、1,3-ジフェニルグアニジンを加えて混練し、ゴム組成物の最高温度を第1表に示すように調整し、混練の最終段階Zで加硫剤等を加えて混練して実施例1~6のゴム組成物を調製した。また、第1表に示すように段階Yを設けず、あるいは段階Yにおいて1,3-ジフェニルグアニジンを加えて混練することなく、比較例1~6のゴム組成物を調製した。混練の各段階はいずれもバンバリーミキサーを用いて混練した。得られた12種類のゴム組成物の低発熱性tanδ指数を上記の方法により評価した。結果を第1表に示す。[注]1:JSR株式会社製、乳化重合スチレン-ブタジエン共重合体ゴムSBR、商品名15002:N220ISAF、旭カーボン株式会社製、商品名803:東ソーシリカ株式会社製、商品名ニップシールAQ、BET比表面積205m2/g4:ビス3Si3S6S256S3Si318:N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクセラーCZ実施例35及び36並びに比較例22~24第6表に示す配合処方及び混練方法により、混練の第一段階Xにおいて、ゴム成分、シリカ及びシランカップリング剤を混練し、ゴム組成物の最高温度を第6表に示すように調整し、混練の第二段階である段階Yにおいて、グアニジン類を加えて混練し、ゴム組成物の最高温度を第6表に示すように調整し、混練の最終段階Zで加硫剤等を加えて混練して、実施例35及び36のゴム組成物を調製した。また、第6表に示すように段階Yを設けず、比較例22~24のゴム組成物を調製した。混練の各段階はいずれもバンバリーミキサーを用いて混練した。得られた5種類のゴム組成物の低発熱性tanδ指数を上記の方法により評価した。なお、比較のため、実施例29及び比較例19を再掲した。結果を第6表に示す。[注]2~8のいずれも第1表と同じである。13、14及び18は、第5表と同じである。19:大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクセラーDT20:大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクセラーBG実施例37~284及び比較例25~55第7表~第45表に示す配合処方及び混練方法により、混練の第一段階Xにおいて、ゴム成分、シリカ及びシランカップリング剤を混練し、ゴム組成物の最高温度を第7表~第45表に示すように調整し、混練の第二段階である段階Yにおいて、加硫促進剤Dを加えて混練し、ゴム組成物の最高温度を第7表~第45表に示すように調整し、混練の最終段階Zで加硫剤等を加えて混練して実施例37~284のゴム組成物を調製した。また、第7表~第45表に示すように段階Yを設けず、あるいは段階Yにおいて加硫促進剤Dを加えて混練することなく、比較例25~55のゴム組成物を調製した。混練の各段階はいずれもバンバリーミキサーを用いて混練した。得られた279種類のゴム組成物の低発熱性tanδ指数を上記の方法により評価した。結果を第7表~第45表に示す。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。21:大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクセラーM-P[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、21は第10表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、21は第10表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、21は第10表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、21は第10表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、21は第10表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。22:大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクセラーTOT-N[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、22は第19表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、22は第19表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、22は第19表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、22は第19表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、22は第19表と同じである。23:三新化学工業株式会社製、商品名サンセラーTBZTD[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。24:大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクセラーEUR[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、24は第25表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、24は第25表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、24は第25表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、24は第25表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、24は第25表と同じである。25:三新化学工業株式会社製、商品名サンセラーTMU26:大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクセラーC[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。27:大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクセラーZTC[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、27は第31表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、27は第31表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、27は第31表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、27は第31表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、27は第31表と同じである。28:三新化学工業株式会社製、商品名サンセラーPX29:三新化学工業株式会社製、商品名サンセラーPZ30:三新化学工業株式会社製、商品名サンセラーTT-CU[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じである。31:大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクセラーZIX-O[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、31は第37表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、31は第37表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、31は第37表と同じである。[注]1~18のいずれも第1表~第5表と同じであり、31は第37表と同じである。[注]1~9のいずれも第1表と同じである。32:東ソーシリカ株式会社製、商品名ニップシールKQ、BET比表面積240m2/g[注]1~9のいずれも第1表と同じである。33:東ソーシリカ株式会社製、商品名ニップシールNS、BET比表面積160m2/g[注]1~9のいずれも第1表と同じである。34:東ソーシリカ株式会社製、商品名ニップシールNA、BET比表面積135m2/g[注]1~9のいずれも第1表と同じである。35東ソーシリカ株式会社製、商品名ニップシールER、BET比表面積95m2/g第1~45表より明らかなように、実施例1~284のゴム組成物は、比較例1~55中の対比すべきゴム組成物と比較して、いずれも低発熱性tanδ指数が良好であった。"