"被検光学系による物体の結像面近傍に光軸方向に沿って評価面を複数個設け、各評価面において被検光学系の像特性に関わる測定値を求め、各測定値を基に被検光学系の光学特性を測定する光学特性測定装置において、前記複数個の評価面における被検光学系による光束の線広がり分布或いは点広がり分布の幅に関する測定値を補正する測定値補正手段を有し、前記測定値補正手段は、前記結像面を評価基準面として前記評価面が前記評価基準面より被検光学系に近づく場合は近づく量に応じて前記測定値を大きくする一方、前記評価面が前記評価基準面より被検光学系から離れる場合は離れる量に応じて前記測定値を小さくするような補正値を出力し、前記測定値に比べ対称性が向上した前記補正値を基に被検光学系の光学特性を測定することを特徴とする光学特性測定装置。被検光学系による物体の結像面近傍に光軸方向に沿って評価面を複数個設け、各評価面において被検光学系の像特性に関わる測定値を求め、各測定値を基に被検光学系の光学特性を測定する光学特性測定装置において、前記複数個の評価面における被検光学系による光束の線広がり分布或いは点広がり分布の光強度に関する測定値を補正する測定値補正手段を有し、前記測定値補正手段は、前記結像面を評価基準面として前記評価面が前記評価基準面より被検光学系に近づく場合は近づく量に応じて前記測定値を小さくする一方、前記評価面が前記評価基準面より被検光学系から離れる場合は離れる量に応じて前記測定値を大きくするような補正値を出力し、前記測定値に比べ対称性が向上した前記補正値を基に被検光学系の光学特性を測定することを特徴とする光学特性測定装置。前記測定値補正手段は、検査光学系の射出瞳と前記評価面との距離に応じて前記補正値を出力することを特徴とする請求項1または2に記載の光学特性測定装置。検査光学系は直交する2方向で異なる位置に射出瞳を備えるアナモフィックな光学系であり、前記測定値補正手段は第一の方向、第二の方向で異なる補正値を出力することを特徴とする請求項3に記載の光学特性測定装置。測定値をDo、検査光学系の射出瞳と結像面の距離をK、検査光学系の射出瞳と評価面の距離をL、補正後の補正値をDとするとき、D=K/L×Doであることを特徴とする請求項1に記載の光学特性測定装置。測定値をDo、検査光学系の射出瞳と結像面の距離をK、検査光学系の射出瞳と評価面の距離をL、補正後の補正値をDとするとき、D=L/K×Doであることを特徴とする請求項2に記載の光学特性測定装置。測定値をDo、検査光学系の射出瞳と結像面の距離をK、検査光学系の射出瞳と評価面の距離をL、補正後の補正値をDとするとき、D=L×L/K×Doであることを特徴とする請求項2に記載の光学特性測定装置。測定値をDo、第一の方向に於ける検査光学系の射出瞳と結像面の距離と、第二の方向に於ける検査光学系の射出瞳と結像面の距離との積をKyz、第一の方向に於ける検査光学系の射出瞳と評価面の距離をLy、第二の方向に於ける検査光学系の射出瞳と評価面の距離をLz、補正後の測定値をDとするとき、D=Ly×Lz/Kyz×Doであることを特徴とする請求項2に記載の光学特性測定装置。前記物体は光源であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光学特性測定装置。物体と被検光学系との距離、或いは被検光学系とスクリーンやカメラなどの評価装置との距離を変化させて被検光学系のデフォーカス特性を評価する場合に、以下の問題が生ずる。即ち、被検光学系の瞳から評価基準面までの距離に対してデフォーカス量が大きい場合に真の最良像面位置が判別できにくいという問題である。最良像面位置は一般に許容スポット径以下となる領域の中央を採用するが、許容スポット径の値が変わると最良像面の位置も変わってしまうこととなる。本発明の目的は、被検光学系の最良像面位置を簡便にかつ正しく求めることができる光学特性測定装置を提供することにある。上記目的を達成するため、本出願に係る第1の発明は、被検光学系による物体の結像面近傍に光軸方向に沿って評価面を複数個設け、各評価面において被検光学系の像特性に関わる測定値を求め、各測定値を基に被検光学系の光学特性を測定する光学特性測定装置において、前記複数個の評価面における被検光学系による光束の線広がり分布或いは点広がり分布の幅に関する測定値を補正する測定値補正手段を有し、前記測定値補正手段は、前記結像面を評価基準面として前記評価面が前記評価基準面より被検光学系に近づく場合は近づく量に応じて前記測定値を大きくする一方、前記評価面が前記評価基準面より被検光学系から離れる場合は離れる量に応じて前記測定値を小さくするような補正値を出力し、前記測定値に比べ対称性が向上した前記補正値を基に被検光学系の光学特性を測定することを特徴とする。また本出願に係る第2の発明は、被検光学系による物体の結像面近傍に光軸方向に沿って評価面を複数個設け、各評価面において被検光学系の像特性に関わる測定値を求め、各測定値を基に被検光学系の光学特性を測定する光学特性測定装置において、前記複数個の評価面における被検光学系による光束の線広がり分布或いは点広がり分布の光強度に関する測定値を補正する測定値補正手段を有し、前記測定値補正手段は、前記結像面を評価基準面として前記評価面が前記評価基準面より被検光学系に近づく場合は近づく量に応じて前記測定値を小さくする一方、前記評価面が前記評価基準面より被検光学系から離れる場合は離れる量に応じて前記測定値を大きくするような補正値を出力し、前記測定値に比べ対称性が向上した前記補正値を基に被検光学系の光学特性を測定することを特徴とする。本発明によれば、従来の装置構成を基本的に変更することなく、測定値の算術処理だけで、被検光学系の最良像面位置を正しく求めることができる。これにより、型補正、レンズ修正、などの目標値が正確になり、その結果、開発効率及び、部品、ユニット、製品品質の向上、コスト削減につながる。以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。《第1の実施形態》装置全体構成図1は、レーザ走査光学系の光学特性測定装置に適用した実施形態を示したもので、同図においてX方向をデフォーカス方向、Y方向を像高方向と呼ぶものとする。又、被検光学系の特性を表現するにあたり、光束の中心線を主光線と呼び、この主光線を含み、紙面に平行な方向を主走査方向、紙面に垂直な方向を副走査方向と呼ぶものとする。図1において、1は被検光学系であるレーザ走査用レンズ、20は測定ユニットであり、レーザ走査用レンズ1を含み光学性能を測定するためのユニットである。測定ユニット20は、物体であるところの半導体レーザ光源21、及びレーザ光源21からの発散光束を主走査方向は略平行な光束に、また副走査方向には後述する回転多面鏡の反射面近傍に集光する光束に変換する光源光学系22を備える。光源光学系22からの光束は、所定の断面径にするための絞り23、絞り23からのレーザ光束を反射し所定の角度でレーザ走査用レンズ1に導く回転多面鏡24以下ポリゴンミラーを介し、光束25として測定ユニット20より射出される。100は後述する測定値補正手段である。レーザ光源21の発光を制御する電気回路、及び、ポリゴンミラー24を所定位置に回転駆動するモータ、及びその駆動回路なども構成に含まれるが、発明の主旨とは関係しない為説明は省略する。3は評価基準面被検光学系の結像面であり、4はカメラであって評価面5にピントを合わせ評価面を観察および検出するものであり、具体的には対物レンズ、イメージセンサ等で構成される。5は評価面であり、本実施形態に於いてはカメラ4のピント面である。評価面5は、被検光学系による物体の結像面近傍に光軸方向に沿って複数個設けられる。6、7は各々X方向、Y方向の駆動手段であるところのステージであり、図示しない制御部の指示に従い、カメラ4を像高方向位置Ym、及び評価面5をデフォーカス方向位置Xmに駆動する。測定ユニット20における絞り23と評価面5間の被検光学系1によって形成される絞り23の像を射出瞳と呼ぶ。被検光学系1が直交する2方向で異なる位置に射出瞳を備えるアナモフィックな特性を有するものである場合には主走査方向第一の方向、副走査方向第二の方向の断面にそれぞれの射出瞳が出現する。8は副走査方向の射出瞳であり、9は主走査方向の射出瞳であり、それぞれ評価基準面3からTs,Tmの距離に存在している。この時、Ts,Tmは光線進行方向を正にとる。図1においては、射出瞳8,9は評価基準面3からは光線進行方向とは逆側に位置しているため、Ts,Tmはそれぞれ負の数値となっている。図2はレーザ光源21から評価基準面3までの光路を展開した状態をZ軸方向図1に於ける紙面垂直方向から観察したものである。この断面を主走査断面と呼ぶこととする。図2において、24aはポリゴンミラー24の反射面の位置を示しており、その他の部品は図1と同一であるため、同一の番号をつけている。図2において被検光学系1のレーザ走査用レンズは入射するほぼ平行な光束を評価基準面3近傍に集光するパワーを有している。この時、レーザ走査用レンズによって形成される絞り23の像、即ち主走査断面の射出瞳は9の位置に形成されている。図3は、レーザー光源21から評価基準面3までの光路を展開した状態をXY面と平行な方向から観察したものである。この断面を副走査方向断面と呼ぶこととする。図3において、被検光学系1のレーザ走査用レンズはポリゴンミラー面24a近傍に集光した光束を再び評価基準面3近傍に集光するパワーを有している。そして、この時レーザ走査用レンズによって形成される絞り23の像、即ち副走査断面の射出瞳は8の位置に形成されている。本実施形態では、上記構成に於いて、光学特性測定装置の動作シーケンスを示す図として図8に示すように、以下の動作を行うものである。即ち、本実施形態では被検光学系であるところのレーザ走査用レンズ1の検査にあたって、所定の像高において基準評価面3の前後10mmでデフォーカス特性を1mmピッチで取得するものとする。先ず、カメラ4のピント面を所望の像高Yo、且つ基準評価面3からのデフォーカス量XmとしてXm=0の位置にステージ6,7を用いて配置する。次にレーザ光源21を点灯させ、評価面5に光束25が照射するよう、ポリゴンミラー24を回転させる。ステージを用いてカメラ4を移動させ、評価面5を光束25に沿い、且つXm=-10mmとなる位置に設置した後、光学特性を測定する。測定値の検出光学特性の測定に関して、図4を用いて説明する。図4aは光学特性測定装置で認識される光束25の結像状態であり、評価面5上のY,Z面上の結像スポットの強度分布、ポイントスプレッドファンクション=点像強度関数、以後PSFと略記が示される。図4bは、副走査方向の結像状態を示すグラフであり、軸Iz方向の各点の値は図4aに於ける同一Z座標の各点の強度を加算したものである。このグラフを副走査方向のラインスプレッドファンクション=線像強度関数、以後LSFと略記と称する。このような処理をすることにより、図4bのLSFは直交するY方向の結像特性に影響を受けず、Z方向の結像性能を正しく表現することができる。図4bでPzは副走査方向LSFの最大値であり、DzはIzの値が所定量となるグラフの幅を示すもので、所定量がPzの半値である場合Dzは半値幅と呼ばれ、1/E^2である場合E二乗分の1幅と称される。PSFは、ピンホールを用いた点入力により得られる点広がり分布に相当する一方、LSFは、スリットを用いた線入力により得られる線広がり分布に相当する。図4cは、図4aの結像状態のうち主走査方向の結像状態を示すグラフであり、軸Iy方向の各点の値は図4aに於ける同一Y座標の各点の強度を加算したものである。このグラフを主走査方向のLSFと称する。本実地形態では先の光学特性の測定には主走査、副走査それぞれの方向のE二乗分の1幅をDy、Dzととして測定するものとする。測定値の補正本実施形態では、測定値を以下のように補正する測定値補正手段を備える。即ち、Dy,Dzを測定した後に、本実施形態においては評価面から射出瞳までの距離に応じて測定値を補正する。主走査方向、副走査方向の射出瞳と評価基準面3とのX軸に沿った距離を夫々Tm、Tsとする。Tm、Tsは実測しても良いが、被検光学系のばらつきによって大きく動くことが無ければ、設計値を用いても良い。Dya、Dzaを主走査方向、副走査方向のLSF幅に係わる補正値とすると、測定値に比べ対称性が向上した夫々の補正値は、以下の算出式で算出される。Dya=Tm/Tm-Xm×Dy式1Dza=Ts/Ts-Xm×Dz式2ここで、主走査方向及び副走査方向の評価基準面から射出瞳までの距離をK、射出瞳と評価面までの距離をL、補正前の測定値をDo、補正後の補正値をDとした場合、式1式2は、共に以下の形で表現される。D=K/L×Doこれは、測定値補正手段が、評価面5が射出瞳に近づくときは補正値は測定値に対して大きくなる一方、射出瞳から遠ざかるときは補正値は測定値に対して小さくなるように出力することを示している。補正に係わる算出原理ここで補正に係わる算出原理について図5で説明を行う。図5は射出瞳と評価面並びに評価基準面を示す図である。同図において500は射出瞳、501は評価基準面、502は評価面であり、Aは射出瞳の直径、Tは評価基準面から射出瞳までを光路に沿った距離、Defは評価面の評価基準面からのデフォーカス量である。評価基準面から射出瞳を見た場合のFナンバーをFoとすると、Fo=|T|/Aであり、Defだけデフォーカスした評価面から射出瞳を見た場合のFナンバーをFdとするとFd=|T-Def|/Aとなる。例えば、夫々の面において回折限界の結像スポット径、或いはライン幅はFナンバーに比例するから評価面502に於けるそれらは評価基準面に置けるそれに比してFd/Fo=T-Def/T式3だけ変化する。即ち、評価面502で測定を行ったライン幅は、その位置に於ける回折限界の値が評価基準面501における値と式3だけ変化していることを考慮して評価しなくてはならない。そこで測定値を式3で除した値をもって評価を行えば良い。図5においてT,DEFは光路に沿って測った距離を用いているが、これらは別の方向に沿って測ってもその比は変わらないため、式1、式2を用いれば正しく測定を行うことができる。以上の如く測定および補正を行った後、カメラ4を光束25に沿い、X方向に1mm移動させて同様の測定補正を行い、これを所定回数例えばXm=10mmまで10回繰り返す。或いは補正後の主走査方向、副走査方向のLSF幅であるDya、Dzaが所定量を超えるまで繰り返す。副走査方向における測定値の補正この様にして得られる副走査方向のライン幅のデフォーカス特性を図6に示す。図6において、黒丸で示された点が補正後の補正値であり、△の点が補正前の測定値である。このとき、副走査方向の射出瞳位置Tsは-50.3mm結像面より上流側の位置に存在している。図6より定性的に認識できるところであるが、補正前の測定値がデフォーカス方向の正負で非対称な特性を示しているのに対し、補正後の補正値は良い対称性を見せている。これを定量的に見ると、図6の横軸に関しては、対称性の良くない補正前の測定値からはピント位置が3~4mmの位置にあると推察されるが、対称性の良い補正後の補正値からは6~7mmの位置に最良ピント面が存在していることが確認できる。本実施形態では、最良ピント面が6~7mmの位置にあって0mmの位置に無いことが確認できるが、最良ピント面を確認した後に最良ピント面を0mmへ変更するために型の補正などを行えば良い。また図6の縦軸に関しては、以下に述べるように本実施形態では許容値が80μmとなる。即ち、本実施形態ではレーザ波長が80nm、評価基準面に於ける副走査方向の射出F値が63であることから、矩形開口のLSFとしてその副走査方向のe二乗分の1幅は約80μとなる。このような許容値80μmに対し、補正前の測定値では許容値以下の深度が存在しない結果となっているが、補正後の補正値では、当初の許容値80μmの1割増の88μmまでを許容としている。被検光学系の最良ピント位置を見積もる為には、最小のライン幅、或いはスポット径の1~2割増しの幅を閾値として、これ以下となるデフォーカス範囲の中心位置を評価することが一般的である。本実施形態においては、補正後の補正値に基づき、最良ライン幅はほぼ設計値通りと測定でき、また許容のライン幅となる深度幅も確保される。主走査方向における測定値の補正主走査方向の射出瞳位置Tmは-300mmであり、この値を用いて主走査方向において副走査方向と同様の補正を行う。但し、10mm程度の許容デフォーカス範囲では式1は5以下10/300の補正となる為、主走査方向の補正は行わずに副走査方向の補正のみで評価を行っても良い。《第2の実施形態》第1の実施形態では、測定値が主走査方向、副走査方向のLSFライン幅であったが、本実施形態では測定値が図4に於けるLSFの強度最大値Py,Pzである。第1の実施形態では結像面である基準面の前後に評価面を設けて光束の幅を測定するとき、像倍率を考慮した補正を行ったが、光束の光強度を測定するときは、光束の幅に関する補正係数とは逆数となる補正係数で補正する。これは、どのデフォーカス状態にあっても光強度の積分値即ちエネルギーは一定であって、光束の幅と光束の光強度の積が一定に保たれることに起因する。Pya、Pzaを補正後の主走査方向、副走査方向のLSF幅とすると、夫々は以下の式で補正される。Pya=Tm-Xm/Tm×Py式4Pza=Ts-Xm/Ts×Pz式5ここで、主走査方向及び副走査方向の評価基準面から射出瞳までの距離をK、射出瞳と評価面までの距離をL、測定値をDo、変換後の測定値をDとした場合、式4式5は共に以下の形で表現される。D=L/K×Do図7に副走査LSFの強度最大値Pyの測定結果を示す。測定ユニット20、及び被検光学系1は第1の実施形態と同じものを用いている。図7において、黒丸で示された点が補正を行ったLSF最大強度Pyのデフォーカス特性に関する補正値であり、△の点が補正前のデフォーカス特性に関する測定値である。《第3の実施形態》第2の実施形態では、測定値がLSFの最大強度であったが、本実施形態ではPSFの最大強度を測定値とする。本実施形態では、第1の実施形態における主走査方向、副走査方向夫々の光束径の補正と反比例する光束の光強度補正を主走査方向、副走査方向に同時に行えば良い。即ち、Ioを補正前の測定値PSFの最大強度、Iaを補正後の補正値とすると、Ia=Tm-Xm/Tm×Ts-Xm/Ts×Io式6となる。ここで、主走査方向の評価基準面から射出瞳までの距離Tmと副走査方向の評価基準面から射出瞳までの距離Tsとの積をKyz、主走査方向の射出瞳と評価面までの距離をLy、副走査方向の射出瞳と評価面までの距離をLzとする。また、測定値をDo、変換後の測定値をDとする。すると、式6は以下の形で表現される。D=Ly×Lz/Kyz×Do式7検査光学系がアナモフィックな特性を有していない場合は、L=Ly=LzT=Tm=TzKyz=Tm×TsK=T×Tとして式7は以下のように簡単に表現できる。D=L×L/K×Do式7変形例第1の実施形態ではLSFの幅を測定値とし、第2の実施形態ではLSFの最大強度を測定値とし、第3の実施形態ではPSFの最大強度を測定値としたが、この他にPSFの幅を測定値とすることもできる。PSFの幅を測定値とする場合は、測定値の補正に関し、第1の実施形態と同様に式1式2を用いれば良い。なお、第2の実施形態、第3の実施形態では、光強度として最大強度を測定値としたが、平均強度等を測定値としても良い。また第1乃至第3の実施形態では、被検光学系の射出瞳と評価面との距離に応じて補正を行ったが、被検光学系の射出瞳位置以外、例えば被検光学系の後方側端部と評価面との距離に応じて補正を行っても良い。また第1の実施形態では、定量的に式1式2を用いた補正を示したが、本発明はこれに限定されない。即ち、定性的に結像面を基準面として評価面が被検光学系に近づく場合は近づく量に応じて測定値を大きくする一方、評価面が被検光学系から離れる場合は離れる量に応じて測定値を小さくするような補正であれば、如何なる補正でも良い。同様に、第2の実施形態、第3の実施形態で、定量的に式4式5或いは式6式7を用いた補正を示したが、本発明はこれに限定されない。即ち、定性的に結像面を基準面として評価面が被検光学系に近づく場合は近づく量に応じて測定値を小さくする一方、評価面が被検光学系から離れる場合は離れる量に応じて測定値を大きくするような補正であれば、如何なる補正でも良い。"