"加熱される少なくとも2つのインゴット201;301がピット炉200;300の第1及び第2の向き合った内壁のそれぞれ1つに対してもたせかけられ、これにより、前記インゴット201;301が、第1及び第2の壁部に沿って見た場合に前記インゴットの間にV字形の断面を有する延在したスペース203;303を形成している、ピット炉200;300における温度均一性を高める方法であって、少なくとも85質量パーセントの酸素含有量を有する酸化剤用の少なくとも1つの別個のランス211,212,221,222;311,312,321,322と、燃料用の少なくとも1つの別個のランス210,220;310,320とは、前記ランスの開口が互いに間隔を置いて炉200;300内へ開口して配置されながら、前記酸化剤及び前記燃料がそれぞれ前記V字形のスペース203;303に供給可能でありかつ該スペースにおいて燃焼可能であるように、炉壁に配置されており、前記酸化剤用のランス211,212,221,222;311,312,321,322の開口は、前記燃料用のランス210,220;310,320の開口の上方に配置されており、かつ前記酸化剤が斜め下方に向かってかつ前記V字形のスペース203;303の長手方向に沿って流れるように方向づけられていることを特徴とする、ピット炉200;300における温度均一性を高める方法。前記酸化剤用のランス211,212,221,222;311,312,321,322の開口は、該酸化剤用のランス211,212,221,222;311,312,321,322の開口が配置されているのと同じ炉壁に配置された燃料用の全ての供給位置210,220;310,320の上方に配置されている、請求項1記載の方法。前記酸化剤を、少なくとも100m/sの速度で供給する、請求項1又は2記載の方法。前記酸化剤を、音速以上で供給する、請求項3記載の方法。前記酸化剤用のランス211,212,221,222;311,312,321,322、及び前記燃料用のランス210,220;310,320は、それぞれ、それぞれの流れが前記V字形のスペース203;303においてぶつかるよう方向付けられている、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。前記酸化剤用のランス211,212,221,222;311,312,321,322は、酸化剤が、水平面に対して0~20°の角度で炉チャンバ内へ流出するよう取り付けられている、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。前記酸化剤用のランス211,212,221,222;311,312,321,322は、酸化剤が、水平面に対して3~5°の角度で炉チャンバ内に流出するよう取り付けられている、請求項6記載の方法。前記酸化剤用のランス211,212,221,222;311,312,321,322は、作動条件に応じて水平面及び鉛直面の両方において酸化剤流のための角度を制御することができるように再方向付け可能になっている、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。前記酸化剤用の少なくとも2つのランス211,212,221,222;311,312,321,322は、前記ランスの開口が炉チャンバにおいて互いに上下に配置され、かつ前記ランス211,212,221,222;311,312,321,322のそれぞれの酸化剤が水平面及び/又は鉛直面において様々な角度で炉チャンバ内へ流出することができるように、取り付けられている、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。前記開口が比較的より高い位置に配置されている前記酸化剤用のランス212,222;312,322は、これらのランスからのそれぞれの酸化剤が、前記開口が比較的より低い高さに配置されているランス211,221;311,321からの酸化剤流と等しいか又はそれよりも比較的大きな、水平面に対する角度で、炉チャンバ内へ流出することができるように、配置されている、請求項9記載の方法。作動中の炉200;300における加熱能力は、第1に、前記酸化剤用の1つ又は複数のランス211,212,221,222;311,312,321,322がスイッチオン又はスイッチオフされることによって、第2に、供給される燃料の量が、酸化剤の供給によって全体で供給される酸素に化学量論的に対応するよう制御されることによって、制御される、請求項9又は10記載の方法。炉200;300における温度均一性は、酸化剤用の様々なランス211,212,221,222;311,312,321,322又は酸化剤用のランスの配列を通じて酸化剤を交互に供給することによって、作動中に付加的に高められる、請求項9から11までのいずれか1項記載の方法。例えば1つ又は複数のラムダセンサを用いて、炉200;300における酸素レベルを測定し、作動中に酸化剤用のランス211,212,221,222;311,312,321,322を通じて供給される酸素を、炉200;300における酸素濃度が実質的に一定に保たれるように、制御する、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。少なくとも85質量パーセントの酸素含有率を有する酸化剤用の少なくとも1つのランスによって構成されたランス210,211,212;310,311,312の第1のグループと、少なくとも1つの燃料用のランスとを、炉200;300の短い側に前記ランスの開口を備えるよう配置し、少なくとも85質量パーセントの酸素含有率を有する酸化剤用の少なくとも1つのランスによって構成されたランス220,221,222;320,321,322の付加的なグループと、少なくとも1つの燃料用のランスとを、炉200;300における反対側の短い側に前記ランスの開口が配置されるよう配置し、第1のグループにおける全てのランスを、第2のグループのランスの開口のうちの最も低い高さに配置されたランスの開口の炉の床からの高さよりも、0.9~1.5mだけ高い、炉の床の上方の高さに、第1のグループにおける全てのランスの開口が配置されるように配置する、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。"