基板の両面に純水を供給しながらブラシを回転させて前記基板の両面をこすって洗浄するスクラブ洗浄ユニットと、該スクラブ洗浄処理ユニットで洗浄処理された基板の表面を純水で洗浄するリンスユニットと、該リンスユニットで洗浄処理された基板の表面を乾燥させる乾燥ユニットとを備えた洗浄装置であって、前記スクラブ洗浄ユニットは、前記基板の両面に供給する純水に超音波を印加する超音波印加手段を有し、該超音波印加手段で超音波を印加した純水を前記基板の両面に印加しながら前記ブラシを回転させて前記基板の両面をこすって洗浄することを特徴とする洗浄装置。前記スクラブ洗浄ユニットにおいて、前記回転するブラシの中心軸部とガイドローラとで前記基板を支持し、前記ガイドローラと前記回転するブラシの間に設けたパイプの多数の噴出口から前記超音波を印加した純水を前記基板の両面に供給することを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。前記スクラブ洗浄ユニットにおいて、前記回転するブラシの中心軸部とガイドローラとで複数の基板を支持し、前記ガイドローラと前記回転するブラシの間に設けたパイプの多数の噴出口から前記超音波を印加した純水を前記複数の基板のそれぞれの両面に供給することを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。外部から供給された基板を前記スクラブ洗浄ユニットへ供給するローダユニットと、前記乾燥ユニットで乾燥処理された基板を装置外へ取り出すアンローダユニットとを更に備えることを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。前記スクラブ洗浄処理ユニットで洗浄処理された基板の表面を純水で洗浄するリンスユニットは、リンス液槽と洗浄槽とを有して該洗浄槽内で前記リンス液槽に貯蔵したリンス液を前記基板に浴びせかけて前記基板の表面をリンスするクイックダンプリンス槽部と、該クイックダンプリンス槽部で処理された基板を純水で洗浄処理するリンス槽部とを備えていることを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。基板の両面に純水を供給しながらブラシを回転させて前記基板の両面をこすって洗浄し、該ブラシでこすって洗浄処理された基板の表面を純水でリンス洗浄し、該リンスユ洗浄処理された基板の表面を乾燥させる基板の洗浄方法であって、前記ブラシでこすって洗浄処理する工程において、超音波を印加した純水を前記基板の両面に印加しながら前記ブラシを回転させて前記基板の両面をこすって洗浄することを特徴とする洗浄方法。前記基板の両面をこすって洗浄する工程において、前記ブラシの中心軸部とガイドローラとで前記基板を支持し、前記ガイドローラと前記回転するブラシの間に設けたパイプの多数の噴出口から前記超音波を印加した純水を前記基板の両面に供給しながら前記ブラシを回転させて前記基板の両面をこすって洗浄することを特徴とする請求項6記載の洗浄方法。前記基板の両面をこすって洗浄する工程において、前記ブラシの中心軸部とガイドローラとで複数の基板を支持し、前記ガイドローラと前記回転するブラシの間に設けたパイプの多数の噴出口から前記超音波を印加した純水を前記複数の基板のそれぞれの両面に供給しながら前記ブラシを回転させて前記複数の基板の両面をこすって洗浄することを特徴とする請求項6記載の洗浄方法。前記基板の表面を純水でリンス洗浄する工程は、リンス液槽に貯蔵したリンス液を前記基板に浴びせかけて前記基板の表面をリンスするクイックダンプリンス処理と、該クイックダンプリンス処理された基板を純水で洗浄処理するリンス処理とを行うことを特徴とする請求項6記載の洗浄方法。特許文献1および特許文献2に記載されている洗浄装置においては、超音波洗浄と、ブラシ洗浄とをそれぞれ分離して行うために大量の純水を消費するとともに洗浄装置全体が大型化して装置の占める床面積フットプリントが大きくなってしまうという問題があった。特許文献3には超音波をかけた洗浄液中で搬送ローラに載せた基板を1枚ずつ搬送ローラに接する面と反対側の面をブラシ洗浄することが記載されているが、横置きにした基板を片面ずつ洗浄処理するので、基板の両面を洗浄するには洗浄のためのスペースが大きくなってしまうという問題がある。更に、基板を1枚ずつ処理するために、洗浄に使用する純水の使用量が多くなってしまうという問題があった。また、特許文献4には基板の一方の面にシャワーノズルから洗浄液を供給してブラシ洗浄し反対側の面を超音波洗浄することがそれぞれ記載されているが、基板の両面を洗浄するためには洗浄のためのスペースが大きくなってしまうという問題がある。更に、基板を1枚ずつ処理するために、洗浄に使用する純水の使用量が多くなってしまうという問題があった。更に、特許文献5には、シャワー洗浄槽と酸薬液超音波洗浄槽、アルカリ薬液超音波洗浄槽、純水洗浄槽、乾燥室とを並べてディスク洗浄システムにおいて、シャワー洗浄槽をブラシ洗浄槽に置き換えても良く、また、シャワー洗浄槽とブラシ洗浄槽とを両方用いても良いと記載されているが、シャワー洗浄槽またはブラシ洗浄槽で超音波洗浄を行うことについては記載されていない。本発明は、ディスクなどの基板の両面を洗浄する装置における上記した従来技術の課題を解決して、洗浄に要する純水の量をより少なくすることができ、且つ、装置を小型化して装置全体の床面積を小さくし、消費電力を低減することが可能な洗浄装置及び洗浄方法を提供するものである。上記目的を達成するために、本発明では、基板の両面を洗浄装置のスクラブ洗浄ユニットにおいて、従来の純水ノズルを超音波スポットノズルに置き換えることにより、スクラブ洗浄と同時に超音波洗浄を行うことを可能にして超音波洗浄槽の数を削減した。即ち、上記目的を達成するために、本発明では、基板の両面に純水を供給しながらブラシを回転させて基板の両面をこすって洗浄するスクラブ洗浄ユニットと、スクラブ洗浄処理ユニットで洗浄処理された基板の表面を純水で洗浄するリンスユニットと、リンスユニットで洗浄処理された基板の表面を乾燥させる乾燥ユニットとを備えた洗浄装置において、スクラブ洗浄ユニットは、基板の両面に供給する純水に超音波を印加する超音波印加手段を有し、この超音波印加手段で超音波を印加した純水を基板の両面に供給しながらブラシを回転させて基板の両面をこすって洗浄するようにした。また、上記目的を達成するために、本発明では、基板の両面に純水を供給しながらブラシを回転させて前記基板の両面をこすって洗浄し、ブラシでこすって洗浄処理された基板の表面を純水でリンス洗浄し、リンス洗浄処理された基板の表面を乾燥させる基板の洗浄方法において、ブラシでこすって洗浄処理する工程で、超音波を印加した純水を基板の両面に印加しながらブラシを回転させて基板の両面をこすって洗浄するようにした。本発明によれば、超音波洗浄槽とブラシ洗浄槽とを統合することで設備を小型化してフットプリントを小さくするとともに、純水の使用量と消費電力を削減できて設備のランニングコストを低減できるようになった。更に、洗浄のスループットを向上させることができるようになった。以下に、本発明を磁気ディスクを洗浄するディスク洗浄装置に適用した実施の形態を、図面を用いて説明する。本発明の実施例に係るディスク洗浄装置1の構成を図1Aに示す。ディスク洗浄装置1は、ローダユニット2、スクラブ洗浄ユニット3、クイックダンプリンスQDRユニット4、リンスユニット5、乾燥ユニット6、アンローダユニット7及び複数枚の基板を装着したディスクカセット11を各ユニット間でレール8に沿って移動して搬送する搬送ユニット9で構成されている。また、スクラブ洗浄ユニット3では、搬送ユニット9で搬送されてきた基板をディスクカセット11から1枚ずつ取り出してガイドローラ310に装着し、洗浄後の基板をガイドローラから1枚ずつ取り出してディスクカセットに戻すハンドリングユニット10を備えている。搬送ユニット9は、レール8に沿って基板ローダユニット2から、スクラブ洗浄ユニット3、クイックダンプリンスQDRユニット4、リンスユニット5、乾燥ユニット6、アンローダユニット7までの間を移動する。搬送ユニット9としては、上記に説明した各ユニット間をレール8に沿って移動する方式のものに替えて、各ユニットに対応して固定された複数の固定式ロボット例えば、スカラー型のロボットで構成してもよい。図1Bに搬送ユニット9がローダユニット2に位置している時のとのローダユニットの断面図である。搬送ユニット9はレール8にガイドされて、図示していない駆動装置で駆動されてレール8に沿って図面に垂直な方向に移動する。搬送ユニット9のアーム部91は図示していない駆動機構により搬送ユニット9に沿って上下方向に移動可能になっている。また、搬送アーム91には開平動作が可能な一対のチャック92と93とが備えられており、チャック92と93とを開閉させることによりカセット11を挟持したり開放したりする。ローダユニット2のテーブル21上に基板が装着されたカセット11が外部から供給され設置されている状態で、搬送ユニット9のアーム部91がチャック92と93とを開いた状態で図示していない駆動手段で駆動されて下降し、下降端でチャック92と93とを閉じてこのカセット11を挟み込む。次に、チャック92と93とでカセット11を挟み込んだ状態でアーム部91が図示していない駆動手段で駆動されて所定の高さまで上昇する。図1Bは、アーム部91が所定の高さまで上昇した状態を示している。図1Aに示した洗浄装置を用いた基板洗浄の処理の流れを図2を用いて説明する。まず、ローダユニット2に複数の基板を収納したディスクカセット11を外部から供給するS201。この供給されたディスクカセット11を搬送ユニット9でレール8に沿って移動させてスクラブ洗浄ユニット3に搬送するS202。スクラブ洗浄ユニット3ではハンドリングユニット10でディスクカセット11から基板38を取り出してスクラブ洗浄ユニット3のガイドローラ310に装着するS203。このとき、ガイドローラ310に対向してブラシ37が配置されており、図5に示すように、基板38はブラシ37に挟まれた状態でブラシ37の中心軸39とガイドローラ310とで支持される。このようにしてガイドローラ310に装着されてブラシ37の中心軸39とガイドローラ310とで支持された状態の複数枚の基板38に超音波を印加した純水を供給しながら基板38の両面をブラシ37でこすって複数枚の基板38のそれぞれの両面を同時にスクラブ洗浄処理するS204。スクラブ洗浄処理された基板38は、再びディスクカセット11に戻され、搬送ユニット9でレール8に沿ってクイックダンプリンスユニット4に搬送されるS206。クイックダンプリンスユニット4では、図示していないリンス液槽に貯蔵したリンス液を基板38にディスクカセット11に装着した状態で浴びせかけて基板38の表面をリンスするS207。クイックダンプリンスユニット4で洗浄された基板38を収納したディスクカセット11は、搬送ユニット9によりレール8に沿って移動してリンスユニット5に搬送されるS208。リンスユニット5において、クイックダンプリンスユニット4で洗浄処理された基板をディスクカセット11に装着した状態でディスクカセット11ごと純水が入っている槽内に入れて純水に浸漬してリンス処理を行うS209。リンスユニット5でリンス処理された基板を収納したディスクカセット11は、搬送ユニット8により乾燥ユニット6に搬送されS210、基板表面に付着した純水を蒸発させて基板を乾燥させるS211。乾燥処理された基板が入ったカセット11は、搬送ユニット8により乾燥ユニット6から取り出されてアンローダユニット7に搬送されS212、アンローダユニット7から洗浄装置1の外部に取り出されるS213。上記した一連の処理工程のうち、スクラブ洗浄ユニット3で行うスクラブ洗浄処理について、図3乃至5を用いて詳しく説明する。図3はスクラブ洗浄ユニット3の斜視図、図4はスクラブ洗浄ユニット3において複数の基板38がブラシ37にはさまれた状態でブラシ中心軸39とガイドローラ310とに支持されている状態を示すブラシの正面図、図5は図4の構成を横から見た側面図である。である。スクラブ洗浄ユニット3では、ディスクカセット11に収納されて供給された複数の基板38がハンドリングユニット9で順次ディスクカセット11から取り出され、ガイドローラ310の溝部311とブラシ37の中心軸39とで支持される位置にブラシ37に一枚ずつ挟まれた状態でセットされる。この状態で中心軸39を図示していないモータなどの駆動源により回転させるとブラシ37が基板38の両面をこするようにして回転し、基板38もブラシ37よりも遅い回転速度で回転する。一方、給水管321の端部付近に設けた給水口312から純水を供給し、給水管321に取付けたバー313に設けた多数の噴出口315から純水を噴出させる。このとき、超音波発信機320から発振された超音波を給水管321の端部に設けた超音波導入口314から給水管321の内部に導入し、給水口312から給水管321の内部に供給された純水に超音波を印加する。この超音波を印加された純水は、給水管321に取付けたバー313に設けた多数の噴出口315から噴出して両面がブラシ37でこすられている基板38の両側の面にかけられる。この状態で、基板38の両側の面の超音波が印加された純水が供給された部分とブラシ37との間の一部に、1~2mm程度の厚さの純水層が形成される。この基板38とブラシ37との間に形成された純水層により、基板38の両側の面は超音波純水洗浄が施される。一方、噴出口315から離れた部分では純水に印加された超音波の効果が弱まり、基板38とブラシ37との間には純水層が形成されず基板38の両面に回転するブラシ37が接触してブラシ洗浄処理が行われる。このように、超音波を印加した純水を供給しながら一定の時間ブラシ洗浄処理を行うことにより、基板38の両側の面全面に対して超音波純水洗浄処理と超音波洗浄処理とが施される。即ち、超音波を印加した純水をかけながら複数のブラシ37を回転させて複数の基板38の両面を同時にこすって基板38の表面に付着したごみを除去することにより、従来、別々の装置を用いて処理していたブラシ洗浄処理と超音波洗浄処理とを一つの装置で処理できるようになり、従来の超音波純水洗浄工程を省略することが可能になった。その結果、洗浄装置全体が占める床面積フットプリントを縮小することができるようになった。また、この超音波ブラシ洗浄処理工程において使用する純水の量は、従来のブラシ洗浄工程で使用する純水の量と同じでよく、従来の超音波純水洗浄工程で使用する純水の量だけ使用量を削減することができた。更に、従来のブラシ洗浄処理と超音波洗浄処理とを同時に実施することにより、消費する電力量も低減することができるようになった。なお、上記実施例においては、スクラブ洗浄ユニット3でスクラブ洗浄処理した後にクイックダンプリンスユニット4でクイックダンプリンス処理を行う構成で説明したが、スクラブ洗浄ユニット3とクイックダンプリンスユニット4との間に特許文献4に記載されているような基板38の表面を酸又はアルカリの薬液を用いて超音波洗浄処理を行う薬液洗浄処理層を挿入しても良い。上記に説明した実施例は本発明の一実施の形態を説明するものであって、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、上記実施例で説明した構成の一部をそれと等価な機能を有する手段で置き換えたものも、または、実質的でない機能の一部を省略したものも本発明に含まれる。