工具鋼からなる金型基材の一部に、酸化物、炭化物、窒化物及び炭窒化物のうちの少なくとも1つ以上の化合物を含む表面処理層の付与されたキャビティ部を有するアルミニウム合金ダイカスト用金型であって、前記表面処理層の表面には0.5μm~5.0μmの算術平均表面粗さRaで微細凹凸を与えるとともに、前記微細凹凸の局部山頂の平均間隔Sを0.5μm~50μm、且つ、S/Ra比を10未満としたことを特徴とするダイカスト用金型。前記表面処理層の下部には、IVa族元素Ti、Zr、Hf、Va族元素V、Nb、Ta、VIa族元素Cr、Mo、W、Al及びSiの単体、これらの合金、これらを含む化合物からなる中間層を与えたことを特徴とする請求項1記載のダイカスト用金型。前記表面処理層及び前記中間層の厚さの合計が1~30μmであることを特徴とする請求項1又は2に記載のダイカスト用金型。前記金型基材の表面に窒化処理を与えたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1つに記載のダイカスト用金型。特許文献2では、このキャビティ表面の表面処理層の平滑化が耐焼付性を向上させ得ると述べている。一方、特許文献1では、ショットピーニング処理などの粗面を与える傾向にある表面加工をキャビティ表面の表面処理層に施しながらも、キャビティ表面の平滑化が好ましいと述べ、結果として、ダイカスト製品の金型への焼き付きを抑制することになる。このような表面処理層の平滑化による耐焼付性の改善方法において、平滑化のための加工精度を過度に要求することは、加工コストを上昇させ、また一定の耐焼付性を維持するための耐久性の確保が困難となってしまう。本発明は、上記したような状況に鑑みてなされたものであって、本発明の目的とするところは、ダイカスト製品の金型への焼き付きを抑制し生産効率を高めるとともに耐久性に優れるダイカスト用金型を提供することである。本発明者は、金型のキャビティ表面に同じ表面粗さの平滑面を機械加工してもアルミニウム合金ダイカスト製品の金型への焼き付きの発生率に差があることに着目した。鋭意研究を重ねた結果、同じ表面粗さの平滑面であっても、微細な凹凸部の形状が焼き付きに影響を与えることを見いだし、本発明に至った。そこで、本発明によるダイカスト用金型は、工具鋼からなる金型基材の一部に、酸化物、炭化物、窒化物及び炭窒化物のうちの少なくとも1つ以上の化合物を含む表面処理層の付与されたキャビティ部を有するアルミニウム合金ダイカスト用金型であって、前記表面処理層の表面には0.5μm~5.0μmの算術平均表面粗さRaで微細凹凸を与えるとともに、前記微細凹凸の局部山頂の平均間隔Sを0.5μm~50μm、且つ、S/Ra比を10未満としたことを特徴とする。かかる発明によれば、微細凹凸の形状によりアルミニウム合金からなる合金溶湯との接触を制御し、アルミニウム合金ダイカスト製品の金型への焼付を抑制し生産効率を高めるとともに、金型の耐久性を向上させるのである。上記した発明において、前記表面処理層の下部には、IVa族元素Ti、Zr、Hf、Va族元素V、Nb、Ta、VIa族元素Cr、Mo、W、Al及びSiの単体、これらの合金、これらを含む化合物からなる中間層を与えたことを特徴としてもよい。かかる発明によれば、表面処理層に近い熱膨張係数とより高い靱性を有する中間層を表面処理層の下部に与えて同部分を起点とする表面処理層の破壊を抑制し、金型の耐久性を向上させ得るのである。上記した発明において、前記表面処理層及び前記中間層の厚さの合計が1~30μmであることを特徴としてもよい。かかる発明によれば、表面処理層の破壊を抑制しつつ、溶損による表面処理層の減失を抑制できて、金型の耐久性を向上させ得るのである。上記した発明において、前記金型基材の表面に窒化処理を与えたことを特徴としてもよい。かかる発明によれば、高い密着性を有する表面処理層を金型表面に付与し得て、金型の耐久性を向上させ得る。本発明による1つの実施例であるダイカスト用金型について、図1乃至図3を用いてその詳細を説明する。図1に示すように、金型1は、一対で組み合わされて形成される空間であるキャビティ部100内に湯口101からアルミニウム又はアルミニウム合金以下、単にAl合金と称する。溶湯を圧入し、これを凝固させて取り出してダイカスト製品を製造するためのダイカスト製品用金型である。なお、図1では、一対の金型の一方のみを図示している。金型1は、キャビティ部100の表面にAl合金溶湯との反応性の低い化合物などからなる表面層3を与えられた一般的な表面処理金型であるが、表面層3の表面に所定の形状を与えられている。すなわち、表面層3の表面形状以外は、公知の金型である。金型1の本体である金型基材2は、熱間工具鋼からなり、典型的には、SKD61であるが、SKD4、SKD5、SKD6、SKD7、SKD8、SKD62などの公知の金型用の素材であってもよい。図2のキャビティ部100の断面を併せて参照すると、機械加工によってダイカスト製品相似の所定の形状を与えられたキャビティ部100の表面には、金型基材2と比較してより高い硬さを有し、且つ、Al合金溶湯と化学的に反応しにくい化合物を含む表面層3が付与されている。図2の実施形態では、表面処理層は、表面層3、中間層4及び窒化処理層2bから構成されている。表面層3に含まれる化合物は、典型的にはTiAlNであって、金型基材2にTiAlNを1~95volの範囲で含む。後述するように、表面層3の表面には、本実施例の特徴である凹凸面3aが形成されるが、かかる凹凸面3aの形成とその保持のためには、化合物の量を多く含むことが好ましい。例えば、70vol以上、好ましくは80vol以上、典型的には、85vol程度含むことが好ましい。なお、表面処理層は、表面層3のみから構成されていてもよいし、表面層3及び窒化処理層2bから構成されていてもよい。また、表面層3及び中間層4から構成されていてもよい。表面層3のTiAlNは、上記したような高い硬さを有し、且つAl合金溶湯と化学的に反応しにくい特性を有する他の化合物、例えば、FeO、Fe2O3、Fe3O4、CrO、NiO、CoOなどの酸化物、TiC、TaC、VC、Mo2C、CrC、WCなどの炭化物、TiN、CrN、FeN、Ni3N、CoN、ZrN、HfN、NbN、TaN、TiAlN、CrAlNなどの窒化物、TiCN、CrCN、TiAlCN、CrAlCNなどの炭窒化物であってもよい。典型的には、これらの化合物を金型基材2の素材に1~95volの範囲で含み、上記同様、凹凸面3aの形成とその保持のためには、70vol以上、好ましくは80vol以上、典型的には、85vol程度含むことが好ましい。表面層3と金型基材2との間には中間層4を与えてもよい。中間層4は、表面層3よりも高い靱性を有するとともに、表面層3と金型基材2との間の硬さを有する。かかる中間層4は、表面層3と金型基材2との間における靱性や硬さなどの不連続性を緩和するように与えられる。また、他の物理的及び機械的性質の不連続性の緩和、特に熱膨張率差の緩和を与えることが好ましい。例えば、中間層4は、CrNからなる若しくは金型基材2にこれを含む第1中間層4aと、その上のTiAlNからなる若しくは金型基材2にこれを含む第2中間層4bとの2層で構成される。更に、金型基材2のうち、中間層4と接する面の近傍に窒素を拡散させて、窒素の拡散を与えていない非処理層2aに対して硬さを高めた窒化処理層2bを与えてもよい。中間層4のCrN及びTiAlNは、IVa族元素Ti、Zr、Hf、Va族元素V、Nb、Ta、VIa元素族Cr、Mo、W、Al及びSiの単体、これらの合金、これらを含む化合物などで適宜、置換され得る。すなわち、CrAl、TiAlなどの合金や、CrC、TiC、CrAlC、TiAlC、VC、Mo2C、WC、TaC、TiN、ZrN、HfN、NbN、TaN、CrN、CrAlN、TiAlN、TiAlSiN、TiCN、CrCN、TiAlCN及びCrAlCNなどの化合物において適宜、置換され得る。更に、中間層4は、単層又は3層であってもよい。つまり、中間層4は単層構造又は3層以下の多層構造を有する。なお、表面層3はこれに付加される衝撃力などで脱離しないよう、一方で、表面層3の溶損による滅失を防止するよう、表面層3と中間層4の厚さの合計は1~30μm、好ましくは3~15μmとされる。ところで、表面層3の表面には、凹凸面3aが形成され、この凹凸面3aの表面粗さは、算術平均粗さRaで0.5μm~5.0μm、局部山頂の平均間隔Sで0.5μm~50μm、S/Ra比で10未満である。ここで、図3に示すように、凹凸面3a近傍の断面において、凹凸を平均化して直線で構成された単純な形状からなる仮想断面の形状を鎖線で示す。ここにおいて、算術平均粗さRaは表面に沿った所定の長さの検定線を横切る凸部5a及び凹部5bの最大高低差の平均である。つまり、仮想断面においては凸部頂点5a’と凹部頂点5b’との高低差と同義である。また、局部山頂の平均間隔Sは検定線を横切る隣り合う凸部5aの頂部の間隔である。つまり、仮想断面においては隣り合う凸部頂点5a’同士の間隔となる。なお、S/Ra比は、結果として、凸部頂点5a’及び凹部頂点5b’を結ぶ直線の傾斜度を表す指数となる。この算術平均粗さRa及び局部山頂の平均間隔Sの定義によれば、上記した表面層3の凹凸面3aは、S/Ra比を10未満としているので、凸部頂点5a’及び凹部頂点5b’を結ぶ直線の傾斜が所定値よりもより急な傾斜であることを意味している。つまり、凹凸面3aの凸部5aの側面は、急峻であるといえる。上記したような所定の形状の凹凸面3aを少なくともキャビティ部100の表面層3に与えることにより、金型1へのダイカスト製品の焼き付きを抑制できる。これにより、ダイカスト製品の生産効率を高めつつ、結果として、金型1の溶損を防ぐことができて耐久性を向上させ得るのである。なお、中間層4は、上記したように表面層3に近い熱膨張係数を有することで金型基材2と表面層3の熱膨張係数の差によって生じる歪みを吸収できるとともに、表面層3よりも高い靱性を有することで表面層3の下部にかかる応力を低減できる。かかる中間層4を2層又は3層の複層とすることで、金型基材2と表面層3の間の物理的及び機械的性質の不連続を段階的に吸収し、表面層3と金型基材2との接合を良好に出来得る。これにより、表面層3の下部を起点とする表面層3の破壊を抑制し、ダイカスト用の金型1の耐久性を向上させ得る。また、表面層3と中間層4の厚さの合計を所定の範囲内とすることで表面層3の破壊を抑制しつつ、溶損による表面層3の滅失を抑制できて、ダイカスト用の金型1の耐久性を向上させ得る。<第1の製造方法>次に、上記した凹凸面3aをキャビティ部100の表面層3に与えた金型100の第1の製造方法について図4に沿って説明する。図4に示すように、窒化処理ステップS1では、熱処理によりその硬さを調整された金型基材2に機械加工したキャビティ部100の表面に窒化処理層2bを与える。例えば、ガス窒化法、液体窒化法、イオン窒化法、プラズマ窒化法などの公知の窒化処理方法によって窒素を表面から拡散させる。また、浸炭処理や炭窒化処理などを金型基材2に施してもよい。また、圧縮残留応力を与えるためのショットピーニングなどを適宜、行ってもよい。中間層形成ステップS2では、窒化処理層2bの上から公知のPVDPhysicalVaporDeposition法やCVDChemicalVaporDeposition法を用いて、上記した中間層4、つまり第1中間層4a及び第2中間層4bを順次、与える。例えば、イオンプレーティング装置内に第1中間層4aに含まれる化合物を形成するために必要な元素を含むターゲットを配置し、反応ガス分圧を1~10Paの範囲で制御しつつメタン及び窒素を供給し、イオンプレーティングを施す。続いて、ターゲットを第2中間層4bに含まれる化合物を形成するために必要な元素を含むものに変更し、同様の処理を施す。中間層4の厚さについては、イオンプレーティングの実施時間により調節され得る。次に、表面層形成ステップS3では、中間層4の上から公知のPVD法やCVD法を用いて表面層3を与える。かかるステップも、中間層形成ステップS2と同様のイオンプレーティングによって行われ得る。次に、ショットブラストステップS4により上記した表面層3の表面に凹凸面3a、すなわち、算術平均粗さRaで0.5μm~5.0μm、局部山頂の平均間隔Sで0.5μm~50μm、S/Ra比で10未満の表面粗さの面を与える。ここで、ショットブラストで投射するメディアは、アルミナAl2O3粒子などであって、その粒度は投射ガス圧力などに依存して適宜調整し得るが、典型的には、粒度60平均粒径250μm程度、及び、投射ガス圧力約4気圧である。また、投射密度総面積に対する打痕総面積の割合は、90以上であることが好ましい。以上により、キャビティ部100の表面にAl合金溶湯との反応性の低い化合物などからなる表面層3を与えられた表面処理金型であって、表面層3の表面に所定の凹凸面3aを与えた金型1を得ることが出来る。<第2の製造方法>図5に示すように、第2の製造方法は、上記した第1の製造方法とは異なり、窒化処理ステップS1と中間層形成ステップS2との間に、ショットブラストステップS4’を与える。窒化処理ステップS1は第1の製造方法と同様である。かかる窒化処理面にショットブラストにより上記した凹凸面3aの形状と相似形状の表面を与えるショットブラストステップS4’。ショットブラストの条件は、第1の製造方法のショットブラストステップS4と同様である。次に、中間層形成ステップS2では、ショットブラストステップS4’で形成された微細な凹凸を失わない程度に薄い第1中間層4a及び第2中間層4bを与える。かかるステップは、第1の製造方法と同様に、PVD法により与え得る。更に、表面層形成ステップS3では、中間層4の上から、微細な凹凸を失わないように薄く表面層3を与える。かかるステップについても、第1の製造方法と同様に、PVD法により与え得る。以上により、表面層3に上記した凹凸面3a、すなわち、算術平均粗さRaで0.5μm~5.0μm、局部山頂の平均間隔Sで0.5μm~50μm、S/Ra比で10未満の表面粗さの面を与え得る。すなわち、キャビティ部100の表面にAl合金溶湯との反応性の低い化合物などからなる表面層3を与えられた表面処理金型であって、表面層3の表面に所定の凹凸面3aを与えた金型1を得ることが出来る。<第3の製造方法>図6に示すように、第3の製造方法は、第1の製造方法と異なり、ショットブラストステップS4を実施せずに、表面層形成ステップS3’において上記した凹凸面3aを与える。中間層形成ステップS2までは第1の製造方法と同様である。表面層形成ステップS3’では、イオンプレーティング方法により、中間層4の上に表面層3を与える。詳細には、イオンプレーティング装置を用い、表面層3に含まれる化合物を形成するために必要な元素を含むターゲットを使用し、メタン供給量の窒素供給量に対する比を0.6以上、反応ガス分圧を1~10Paの範囲で設定して、イオンプレーティングを5~30分間施す。ここで、多数の微細なドロップレットターゲットから蒸発し液滴となって金型表面に付着し凝固してできた粒子状突起物を中間層4の上に形成させて、上記した所定の形状の凹凸面3aを与えることができる。なお、酸化物を含む表面層3を形成させる場合にあっては、イオンプレーティングにより、所定の酸化物を形成するために必要な元素、例えば、Fe、Cr等を使用して所定の形状の凹凸面3aを与えた層を形成させた後に、これを酸化させる。かかる酸化処理は、例えば、大気炉、ホモ処理炉又は塩浴処理炉により、400~600°Cで加熱するなどの公知の方法で与えられ得る。以上により、表面層3に上記した凹凸面3a、すなわち、算術平均粗さRaで0.5μm~5.0μm、局部山頂の平均間隔Sで0.5μm~50μm、S/Ra比で10未満の表面粗さの面を与え得る。すなわち、キャビティ部100の表面にAl合金溶湯との反応性の低い化合物などからなる表面層3を与えられた表面処理金型であって、表面層3の表面に所定の凹凸面3aを与えた金型1を得ることが出来る。<評価試験>上記した第2の製造方法又は第3の製造方法において図7に示す複数の条件でキャビティ部100を模した試験片を製造し、その耐焼付性の評価を行った。なお、実施例1乃至15及び比較例1乃至7のうち、実施例13~15以外は、窒化処理ステップS1を省略し、実施例11、12以外は、中間層形成ステップS2を省略している。試験片は、SKD61からなる金型素材をロックウェル硬度44HRCとなるように熱処理をし、直径10mm、高さ60mmの円柱体に機械加工した。かかる円柱体の外周面に対して、図7に示す表面処理を施した。表面処理により得られた試験片の表面については、上記した算術平均粗さRaと局部山頂の平均間隔Sを測定した。算術平均粗さRaについては表面粗さ測定器を用いて測定した。局部山頂の平均間隔Sについては、走査型電子顕微鏡を使用し、試験片の表面に対して50度傾斜させた方向から凹凸面3aを撮影して測定した。検定線は500μmとして、これを横切る凸部の個数から凸部間の平均間隔Sが算出できる。また、表面層に含まれる化合物について、X線回折装置を使用して定量分析を行い、含有率を算出した。耐焼き付き性の評価試験については、750°Cに加熱し溶融させた鋳造用Al合金JISADC12の溶湯中に試験片を30秒間浸漬し、溶湯から引き上げた後、室温で試験片表面へのAl合金の付着の度合いを確認して行った。更に、凝固片の付着していた試験片については、凝固片をウエス布で摩擦して除去を試みた。この評価において、凝固片の付着の無かった試験片については◎、凝固片の付着の有った試験片のうち、ウエスで凝固片を除去できた試験片については○、凝固片を完全に除去できず一部に残存した試験片については△、ほぼ全面に凝固片の残存した試験片については×と評価した。すなわち、◎○であれば耐焼付性は高いと判断し、△×であれば耐焼付性は低いと判断される。以上の評価試験の結果、図7に示すように、実施例1、2、4、6乃至15の耐焼付性は◎、実施例3及び5の耐焼付性は○の評価を得ている。つまり、実施例1乃至15の耐焼付性は高いと判断される。これに対し、比較例3、5及び6の耐焼付性は△、比較例1、2、4及び7の耐焼付性は×の評価を得ている。つまり、比較例1乃至7の耐焼付性は低いと判断される。これについて詳細を以下に説明する。ここで実施例1乃至5の表面粗さは、算術平均粗さRaで0.5~4.3μm、局部山頂の平均間隔Sで0.5~35μm、S/Ra比で1.0~9.6であった。すなわち、算術平均粗さRaで示されるような凹凸部の最大高低差を一定の範囲にしつつ、局部山頂の平均間隔Sで示されるような凸部間隔を小さくし且つS/Ra比で示されるような急峻な凸部側面を与えることで、圧入されてくるAl合金溶湯との接触を制御し、焼き付きを抑制できるのである。図8に実施例4の試験片の表面の走査型電子顕微鏡写真を示す。試験片の表面にはイオンプレーティングによって形成された微細な粒子状突起物であるドロップレットが多数存在し、かかる表面が上記したような凹凸面3aを与えている。一方、比較例1乃至7は、上記したショットブラストステップS4’における製造条件又は表面層形成ステップS3’における製造条件と異なる条件で凹凸面3aを与えたため、以下に述べるように良好な結果が得られなかった。まず、比較例1の表面粗さは、算術平均粗さRaで0.03μmである。局部山頂は不明瞭であって平均間隔Sは測定不能であった。すなわち、凹凸部の最大高低差が小さく、凹凸部がはっきりしない。かかる場合、圧入されてくるAl合金溶湯に対して、凹凸部により接触を制御して、焼き付きを抑制することが困難となるのである。比較例2の表面粗さは、算術平均粗さRaで0.1μm、局部山頂の平均間隔Sで16μm、S/Ra比で160である。すなわち、凹凸部の最大高低差が非常に小さく、且つ、凸部側面の傾斜は緩やかである。比較例1よりも凹凸部は明瞭であるものの、全体として平坦な凹凸である。図9には、比較例2における試験片の表面の走査型電子顕微鏡写真を示した。実施例4の試験片と比較して、ほとんど凹凸部の無い平坦な面である。かかる場合、圧入されてくるAl合金溶湯に対して、凹凸部により接触を制御して、焼き付きを抑制することが困難となるのである。比較例3の表面粗さは、算術平均粗さRaで5.8μm、局部山頂の平均間隔Sで43μm、S/Ra比で7.4であり、ほぼ実施例3と同様の値であった。図10には、比較例3における試験片の表面の走査型電子顕微鏡写真を示した。算術平均粗さRaが大きく、全体として凹凸部の最大高低差が大きく観察される。すなわち、実施例3とは、算術平均粗さRaが異なることでその表面性状を大きく異にするのである。かかる場合にあっても、圧入されてくるAl合金溶湯に対して、凹凸部により接触を制御して、焼き付きを抑制することが困難となるのである。比較例4の表面粗さは、算術平均粗さRaで0.2μm、局部山頂の平均間隔Sで0.3μm、S/Ra比で1.5である。すなわち、凹凸部の最大高低差と凸部の間隔が共に小さく、凹凸部は極めて微小である。かかる場合にあっても、圧入されてくるAl合金溶湯に対して、凹凸部により接触を制御して、焼き付きを抑制することが困難となるのである。比較例5の表面粗さは、算術平均粗さRaで8.0μm、局部山頂の平均間隔Sで52μm、S/Ra比で6.5であり、算術平均粗さRa及び局部山頂の平均間隔Sが共に大きく、凹凸部が全体として粗大であると推測される。かかる場合にあっても、圧入されてくるAl合金溶湯に対して、凹凸部により接触を制御して、焼き付きを抑制することが困難となるのである。比較例6の表面粗さは、算術平均粗さRaで4.3μm、局部山頂の平均間隔Sで55μm、S/Ra比で12.8であり、比較例3や5よりも局部山頂の平均間隔Sが更に大きく、凸部側面の傾斜は緩やかであり、凹凸部が全体として少ない平坦面であると推測される。かかる場合にあっても、圧入されてくるAl合金溶湯に対して、凹凸部により接触を制御して、焼き付きを抑制することが困難となるのである。比較例7の表面粗さは、算術平均粗さRaで0.7μm、局部山頂の平均間隔Sで15μm、S/Ra比で21.4であり、凸部側面の傾斜は非常に緩やかであり、全体として平坦面であると推測される。かかる場合にあっても、圧入されてくるAl合金溶湯に対して、凹凸部により接触を制御して、焼き付きを抑制することが困難となるのである。以上のことから、凹凸面3aの表面粗さを、所定の範囲、すなわち、算術平均粗さRaで0.5μm以上5.0μm未満、局部山頂の平均間隔Sで0.5μm以上50μm未満、S/Ra比で10未満とすることで、試験片の耐焼付性を良好にすることができる。なお、算術平均粗さRaのより好ましい範囲は0.5μm以上1.0μm未満、局部山頂の平均間隔Sのより好ましい範囲は0.5μm以上7.0μm未満である。また、実施例13のように表面層の下部に窒化層を与えても、所定の凹凸面3aを与えることで高い耐焼付性を付与できるのである。実施例6乃至10、14及び15は、実施例1乃至5に対し、表面層をCrNからTiN、TiAlN、CrAlN、TiAlCN、TiCNにそれぞれ変更した例である。いずれの試験片の耐焼付性の評価も◎であった。つまり、CrNに限らず、TiN、TiAlN、CrAlN、TiAlCN、TiCNを含む表面層であっても、所定の凹凸面3aを与えることで高い耐焼付性を付与できるのである。実施例11は、表面層をTiAlNに変更するとともに、CrNからなる中間層を表面層の下部に与えた。また、実施例12は、表面層をTiAlNに変更するとともに、CrNとTiAlNの2層からなる中間層を表面層の下部に与えた。この場合であっても、所定の凹凸面3aを与えることで高い耐焼付性を付与できるのである。また、実施例14及び15のように、実施例6及び7に対して表面層の下部に窒化層を与えても、所定の凹凸面3aを与えることで、高い耐焼付性を付与できるのである。以上、本発明による実施例を説明したが、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、当業者であれば、本発明の主旨又は添付した特許請求の範囲を逸脱することなく、様々な代替実施例及び改変例を見出すことができるであろう。