"無機層と、該無機層の表面に設けられた有機層を有し、前記有機層は、多官能メタアクリレート、一般式Iで表される化合物、ならびに、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物の少なくとも1種を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、バリア性積層体。一般式I一般式I中、R1~R6は、それぞれ、アルキル基またはアリール基である。該アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。但し、R1~R6のうち少なくとも1つは、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基である。一般式II-a一般式II-a中、R11は、水素原子またはメチル基を表す。R12は、-CR2-、-O-、-CO-、-CR=CR-、アリーレン基、もしくは、ヘテロアリーレン基、またはこれらの2以上が連結した2価の連結基を表す。Aは-O-または-NR-を表す。Rは、それぞれ、水素原子または置換基であり、可能な場合は互いに結合して環を形成していてもよい。一般式II-b一般式II-b中、R21は、水素原子およびメチル基を表す。R22は、単結合、または、アルキレン基、アリーレン基、もしくは、これらから選択される2以上がアミド結合またはエステル結合により連結されてなる構造を有し、その原子数が2~82であり、かつ、脂肪族環状構造を有さない連結基を表す。該アルキレン基およびアリール基は置換基を有していてもよい。n2は1~5の整数を表す。一般式Iにおける、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基が、メタアクリロイルオキシ基である、請求項1に記載のバリア性積層体。前記有機層の表面に、さらに、第2の無機層を有する、請求項1または2に記載のバリア性積層体。多官能メタアクリレート、一般式Iで表される化合物、ならびに、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物の少なくとも1種が、芳香族基を有する、請求項1~3のいずれか1項に記載のバリア性積層体。前記重合性組成物に含まれるメタアクリレートが、芳香族メタアクリレートである、請求項1~4のいずれか1項に記載のバリア性積層体。前記有機層が、芳香族メタアクリレートを含む重合性組成物を無機層の表面に適用して硬化させてなるものである、請求項1~4のいずれか1項に記載のバリア性積層体。前記第2の無機層の表面に、さらに、第2の有機層を有する、請求項3~6のいずれか1項に記載のバリア性積層体。前記無機層および/または第2の無機層が、SiもしくはAlの、酸化物、窒化物、もしくは、炭化物、または、その混合物を含む、請求項1~7のいずれか1項に記載のバリア積層体。少なくとも、第1の無機層、第1の有機層、第2の無機層、第2の有機層、第3の無機層が、該順に互いに隣接して積層しており、第1の有機層および第2の有機層が前記重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、請求項1~8のいずれか1項に記載のバリア性積層体。一般式II-aで表される化合物または一般式II-bで表される化合物におけるカルボキシ基の数が1つである、請求項1~9のいずれか1項に記載のバリア性積層体。支持体上に、請求項1~10のいずれか1項に記載のバリア性積層体を設けたガスバリアフィルム。請求項11において、さらに、支持体とバリア性積層体の間に有機層を有する、ガスバリアフィルム。請求項11または12に記載のガスバリアフィルムを基板に用いたデバイス。請求項1~10のいずれか1項に記載のバリア性積層体または請求項11または12に記載のガスバリアフィルムを用いて封止したデバイス。前記デバイスが、有機EL素子または太陽電池素子である、請求項13または14に記載のデバイス。請求項1~10のいずれか1項に記載のバリア性積層体または請求項11または12に記載のガスバリアフィルムを用いた封止用袋。支持体上に、無機層と、該無機層の表面に設けられた有機層を有し、前記有機層は、多官能メタアクリレート、一般式Iで表される化合物、ならびに、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物の少なくとも1種を含む重合性組成物を適用し、25°C以上の温度で加熱した後に、光線、電子線硬化、または熱線にて硬化させることを含む、請求項11または12に記載のガスバリアフィルムの製造方法。しかしながら、産業上の利用性を考慮すると、特許文献1に記載されるように有機層と無機層を多層積層することは生産性を低下させることになるため、ガスバリアフィルムを大量に供給する上で大きな問題となる。ガスバリアフィルムを低コストで大量に製造するには、できるだけ少ない積層数であっても高いバリア性を発現することが求められる。これらの背景から、有機層、無機層の組が1組で0.005g/m2/day以下、特に0.001g/m2/day未満の水蒸気透過率を達成できる有機無機積層型のバリア性積層体、該バリア性積層体を有するガスバリアフィルム、および前記ガスバリアフィルムを用いた有機EL素子の開発が望まれている。有機EL素子のようなデバイス用の基板として用いられるガスバリアフィルムは、プロセス温度に対して高い耐性を有する必要がある。このため、有機層は基材、あるいは無機層との強固な密着が求められ、さらに有機層からのガス発生量は少なく抑える必要がある。ここで、有機層と無機層の密着性を向上させる手段として、有機層にシランカップリング剤を数添加する方法が知られている。しかしながら、本願発明者が検討を行ったところ、従来公知のシランカップリング剤は高温で熱分解し、メタノールなどの脱ガスを生じてしまうことが分かった。図1は、その状態を示したものであって、1は無機層を、2’は無機層の表面に設けられたシランカップリング剤を用いて形成した有機層を、3は有機層の表面にさらに設けられた無機層を示している。従来の有機層2’には、カップリング剤由来のアルコール4が残存しており、この状態で加熱や脱気が起こると、かかるアルコールガスが放出し、ガスバリア性を低下させてしまう。さらに、図1のような、有機層2’を無機層で挟んだ構成では、アルコール4由来のガスが隣接する無機層3を破壊してしまうこともあった。すなわち、かかるバリア性積層体を組み込んだデバイスを、高温プロセスに曝された際に、副生成物の残存による影響が顕著に現れる。本発明は、上記課題を解決することを目的としたものであって、耐熱温度を向上できる高いバリア性を有するガスバリア性積層体を提供することを目的とする。上記課題のもと、発明者が鋭意検討を行った結果、以下のようなバリア性積層体を採用することにより、高温下においても破壊されることなく、高いバリア性を維持でき、上記課題を解決することを見出した。具体的には、下記<1>により達成された。さらに好ましくは、下記<2>~<17>により達成された。<1>無機層と、該無機層の表面に設けられた有機層を有し、前記有機層は、多官能メタアクリレート、一般式Iで表される化合物、ならびに、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物の少なくとも1種を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、バリア性積層体。一般式I一般式I中、R1~R6は、それぞれ、アルキル基またはアリール基である。該アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。但し、R1~R6のうち少なくとも1つは、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基である。一般式II-a一般式II-a中、R11は、水素原子またはメチル基を表す。R12は、-CR2-、-O-、-CO-、-CR=CR-、アリーレン基、もしくは、ヘテロアリーレン基、またはこれらの2以上が連結した2価の連結基を表す。Aは-O-または-NR-を表す。Rは、それぞれ、水素原子または置換基であり、可能な場合は互いに結合して環を形成していてもよい。一般式II-b一般式II-b中、R21は、水素原子およびメチル基を表す。R22は、単結合、または、アルキレン基、アリーレン基、もしくは、これらから選択される2以上がアミド結合またはエステル結合により連結されてなる構造を有し、その原子数が2~82であり、かつ、脂肪族環状構造を有さない連結基を表す。該アルキレン基およびアリール基は置換基を有していてもよい。n2は1~5の整数を表す。<2>一般式Iにおける、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基が、メタアクリロイルオキシ基である、<1>に記載のバリア性積層体。<3>前記有機層の表面に、さらに、第2の無機層を有する、<1>または<2>に記載のバリア性積層体。<4>多官能メタアクリレート、一般式Iで表される化合物、ならびに、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物の少なくとも1種が、芳香族基を有する、<1>~<3>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<5>前記重合性組成物に含まれるメタアクリレートが、芳香族メタアクリレートである、<1>~<4>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<6>前記有機層が、芳香族メタアクリレートを含む重合性組成物を無機層の表面に適用して硬化させてなるものである、<1>~<4>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<7>前記第2の無機層の表面に、さらに、第2の有機層を有する、<3>~<6>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<8>前記無機層および/または第2の無機層が、SiもしくはAlの、酸化物、窒化物、もしくは、炭化物、または、その混合物を含む、<1>~<7>のいずれか1項に記載のバリア積層体。<9>少なくとも、第1の無機層、第1の有機層、第2の無機層、第2の有機層、第3の無機層が、該順に互いに隣接して積層しており、第1の有機層および第2の有機層が前記重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、<1>~<8>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<10>一般式II-aで表される化合物または一般式II-bで表される化合物におけるカルボキシ基の数が1つである、<1>~<9>のいずれか1項に記載のバリア性積層体。<11>支持体上に、<1>~<10>のいずれか1項に記載のバリア性積層体を設けたガスバリアフィルム。<12><11>において、さらに、支持体とバリア性積層体の間に有機層を有する、ガスバリアフィルム。<13><11>または<12>に記載のガスバリアフィルムを基板に用いたデバイス。<14><1>~<10>のいずれか1項に記載のバリア性積層体または<11>または<12>に記載のガスバリアフィルムを用いて封止したデバイス。<15>前記デバイスが、有機EL素子または太陽電池素子である、<13>または<14>に記載のデバイス。<16><1>~<10>のいずれか1項に記載のバリア性積層体または<11>または<12>に記載のガスバリアフィルムを用いた封止用袋。<17>支持体上に、無機層と、該無機層の表面に設けられた有機層を有し、前記有機層は、多官能メタアクリレート、一般式Iで表される化合物、ならびに、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物の少なくとも1種を含む重合性組成物を適用し、25°C以上の温度で加熱した後に、光線、電子線硬化、または熱線にて硬化させることを含む、<11>または<12>に記載のガスバリアフィルムの製造方法。本発明における有機層を採用することにより、出ガスの発生が少なく、無機層と有機層の密着性を向上させることが可能になった。さらに、耐熱性能が向上したバリア性積層体を提供することが可能になった。以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において~とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。また、本発明における有機EL素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。本明細書において、メタアクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートの両方を含む意味で使用される。<バリア性積層体>本発明のバリア性積層体は、無機層と、該無機層の表面に設けられた有機層を有し、前記有機層は、多官能メタアクリレート、一般式Iで表される化合物、ならびに、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物の少なくとも1種を含む重合性組成物以下、本発明における重合性組成物ということがあるを重合させてなるポリマーを含むことを特徴とする。このような有機層を有するバリア性積層体とすることにより、有機層と無機層の密着性を向上させ、耐熱性能を向上することができる。一般式I一般式I中、R1~R6は、それぞれ、アルキル基またはアリール基である。該アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。但し、R1~R6のうち少なくとも1つは、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基である。一般式II-a一般式II-a中、R11は、水素原子またはメチル基を表す。R12は、-CR2-、-O-、-CO-、-CR=CR-、アリーレン基、もしくは、ヘテロアリーレン基、またはこれらの2以上が連結した2価の連結基を表す。Aは-O-または-NR-を表す。Rは、それぞれ、水素原子または置換基であり、可能な場合は互いに結合して環を形成していてもよい。一般式II-b一般式II-b中、R21は、水素原子およびメチル基を表す。R22は、単結合、または、アルキレン基、アリーレン基、もしくは、これらから選択される2以上がアミド結合またはエステル結合により連結されてなる構造を有し、その原子数が2~82であり、かつ、脂肪族環状構造を有さない連結基を表す。該アルキレン基およびアリール基は置換基を有していてもよい。n2は1~5の整数を表す。本発明のバリア性積層体は、好ましくは、前記有機層の表面に、さらに、第2の無機層を有するバリア性積層体であり、さらに好ましくは、前記第2の無機層の表面に、さらに、第2の有機層を有するバリア性積層体である。図2は、本発明のバリア性積層体の一例を示す断面概略図であって、1は第1の無機層を、2は有機層を、3は第2の無機層を、10はバリア性積層体をそれぞれ示している。有機層を形成する際、重合性組成物とシランカップリング剤を含む組成物を無機層の上に塗布して硬化させることが一般的に行われている。ここで、例えば、特開2001-125079号公報に記載のようなシランカップリング剤を使用した場合、加水分解の副生成物であるアルコールメタノール、エタノールが有機層に残存してしまう。そして、この残存するアルコールが、その後のプロセス、例えば、デバイスに組み込む段階になって、大量の出ガスを放出することが分かった。特に、図2に示す本実施形態のように、有機層が2つの無機層で挟まれている構成の場合には、シランカップリング剤由来のガスが無機層を破壊してしまっていた。これに対し、本願発明では、シランカップリング剤が加水分解しても、該シランカップリング剤がアンモニア以外の気体成分は実質的に産出しないことから、上記のような問題が起こらない。すなわち、本発明のバリア性積層体は、高いガスバリア性を高温や真空プロセス化でも維持でき、なおかつ、有機層と無機層の密着性を確保できる。図2では、有機層2は1層のみであるが、さらに、第2の有機層を有していてもよい。2層以上の有機層を有する場合、そのうちの無機層に隣接する1層が少なくとも上記有機層であればよい。すなわち、本願発明では、少なくとも2層の有機層と少なくとも2層の無機層が交互に積層している構成が好ましい。さらに、バリア性積層体を構成する層数に関しては特に制限はないが、典型的には2層~30層が好ましく、3層~20層がさらに好ましい。有機層本発明における有機層のうち少なくとも1層は、本発明における重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む。本発明では、多官能メタアクリレート、一般式Iで表される化合物、ならびに、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物の少なくとも1種が、芳香族基を有することが好ましく、芳香族複素環基であってもよいが、芳香族炭化水素基を有することがより好ましい。本発明では、多官能メタアクリレートが耐熱性の三次元網目構造を形成し、一般式Iで表される化合物が、一般式II-aで表される化合物または一般式II-bで表される化合物カルボン酸の触媒効果によって無機層表面と共有結合することに起因することによって、本発明の効果を達成するものと推定される。このとき、一般式Iで表される化合物、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物の少なくとも1種がともにエチレン製の重合性基を有するため、これらが三次元網目構造に取り込まれることも、本発明の効果を発現する一因となっている。一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物一般式II-a一般式II-a中、R11は、水素原子またはメチル基を表す。R12は、-CR2-、-O-、-CO-、-CR=CR-、アリーレン基、もしくは、ヘテロアリーレン基、またはこれらの2以上が連結した2価の連結基を表す。Aは-O-または-NR-を表す。Rは、それぞれ、水素原子または置換基であり、可能な場合は互いに結合して環を形成していてもよい。R11は、水素が好ましい。R12は、-CR2-、-O-、-CO-、アリーレン基、および、ヘテロアリーレン基の2以上が連結した2価の連結基であることが好ましく、-CR2-、-O-および-CO-の2以上が連結した2価の連結基であるか、これらの連結基とアリーレン基またはヘテロアリーレン基の組み合わせからなる2価の連結基がより好ましく、-CR2-、-O-および-CO-の2以上と、アリーレン基の組み合わせからなる2価の連結基がより好ましい。アリーレン基およびヘテロアリーレン基は、6員環が好ましい。Rが置換基の場合、後述の置換基Rが例示され、アルキル基例えば、メチル基または-R12-COOHで表される基であることが好ましい。この場合のR12は上記R12と同義であり好ましい範囲も同義である。R12は、連結基の主骨格を構成する原子数AとCOOHを連結する鎖部分を構成する原子の数が5~10のものが好ましい。また、構造的には、R12は、鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものが好ましい。一般式II-b一般式II-b中、R21は、水素原子およびメチル基を表す。R22は、単結合、または、アルキレン基、アリーレン基、もしくは、これらから選択される2以上がアミド結合またはエステル結合により連結されてなる構造を有し、その原子数が2~82であり、かつ、脂肪族環状構造を有さない連結基を表す。該アルキレン基およびアリール基は置換基を有していてもよい。n2は1~5の整数を表す。R21は、水素原子が好ましい。一般式II-b中、R22は、単結合、アルキレン基、もしくは、アリーレン基、または、これらから選択される2以上がアミド結合またはエステル結合により連結されてなる構造を有し、その原子数が2~82であり、かつ、脂肪族環状構造を有さない連結基を表す。該アルキレン基およびアリール基は置換基を有していてもよい。連結基は、n価の連結基であって、nは2以上の整数であり、2~5価の連結基であることが好ましく、2価の連結基であることがより好ましい。R22は、連結基の主骨格を構成する原子数ベンゼン環とCOOHを連結する最も長い鎖の鎖部分を構成する原子の数が5~10のものが好ましい。また、構造的には、R22は、単結合または鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものが好ましい。R22は、単結合または、-CR2-、-O-、-CO-、-CR=CR-、アリーレン基、もしくは、ヘテロアリーレン基、またはこれらの2以上が連結した2価の連結基であることが好ましく、単結合または、-CR2-、-O-、-CO-、-CR=CR-、またはこれらの2以上が連結した2価の連結基であることがより好ましく、単結合または-CH2-および/または-O-と、エステル結合の組み合わせからなる2価の連結基がさらに好ましい。ここで、Rは水素原子または置換基であり、置換基としては、下記置換基Rが例示される。Rは水素原子が好ましい。R22の連結基の例として、アルキレン基例えば、1,3-プロピレン基、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン基、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロピレン基、1,6-ヘキシレン基、1,9-ノニレン基、1,12-ドデシレン基、1,16-ヘキサデシレン基等、アリーレン基例えば、フェニレン基、ナフチレン基、エーテル基、イミノ基、カルボニル基、およびこれらの2価基が複数個直列に結合した2価残基を挙げることができる。これらの基は置換基を有してもよく、置換することのできる置換基の例としては、後述の置換基Rが挙げられる。置換基R置換基Rとしては、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等、アルケニル基例えば、ビニル基、アリル基、2-ブテニル基、3-ペンテニル基等、アリール基例えば、フェニル基、p-メチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基等、ハロゲン原子例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アシル基例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等、アルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等、アリールオキシカルボニル基例えば、フェニルオキシカルボニル基等等が挙げられる。これらの置換基はさらに置換されていてもよい。これらの置換基は可能であるならば、置換基同士、または、置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよく、置換基はさらに置換されていてもよい。n2は、1~5の整数を表し、好ましくは1である。本発明では、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物のうち、一般式II-aで表される化合物の方がより好ましく、一般式II-aで表される化合物であって、芳香族基さらには、芳香族炭化水素基を有する化合物がより好ましい。以下に、一般式II-aで表される化合物または一般式II-bで表される化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。上記化合物は、特許第4466821号等に記載の方法によって合成できる。本発明で用いられる一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物は、重合性組成物中に、これらの合計で、1~50質量の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは5~30質量であり、さらに好ましくは5~15質量である。このような範囲とすることにより、本発明の効果がより効果的に発揮される傾向にある。一般式Iで表される化合物一般式I一般式I中、R1~R6は、それぞれ、アルキル基またはアリール基である。該アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。但し、R1~R6のうち少なくとも1つは、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基である。R1~R6は、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。R1~R6は、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数1~6のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。R1~R6は、メチル基が特に好ましい。R1~R6のうち少なくとも1つは、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基を有し、R1~R6の2つがラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基であることが好ましい。さらに、R1~R3のなかでラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が1であって、R4~R6のなかでラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が1であることが特に好ましい。一般式Iで表されるシランカップリング剤が2つ以上のラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基は、-X-Yで表されることが好ましい。ここで、Xは、単結合、炭素数1~6のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Yは、ラジカル重合性の炭素-炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、メタアクリロイルオキシ基がより好ましい。また、R1~R6はラジカル重合性の炭素-炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を有しても良い。置換基の例としては、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tertブチル基、nオクチル基、nデシル基、nヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等、アリール基例えば、フェニル基、ナフチル基等、ハロゲン原子例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アシル基例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等、アシルオキシ基例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等、アルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等、アリールオキシカルボニル基例えば、フェニルオキシカルボニル基等、スルホニル基例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等、等が挙げられる。以下に、一般式Iで表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。本発明で用いられるシランカップリング剤は、重合性組成物中に、1~30質量の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは3~30質量であり、さらに好ましくは5~25質量である。このような範囲とすることにより、本発明の効果がより効果的に発揮される傾向にある。また、本発明で用いる重合性組成物は、一般式Iで表されるシランカップリング剤以外のシランカップリング剤を実質的に含まないことが好ましい。実質的に含まないとは、例えば、重合性組成物の全成分の0.1質量以下であることをいう。多官能メタアクリレート本発明における重合性組成物は、多官能メタアクリレートを含む。官能基の数は、3~6が好ましい。また、芳香族基を含有するメタアクリレートがより好ましく、芳香族炭化水素基を有するメタアクリレートがさらに好ましい。もちろん、多官能メタアクリレートに加えて単官能メタアクリレートを含んでいることを排除するものではない。以下に、メタアクリレート系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。さらに、本発明では、一般式3で表されるメタアクリレート系化合物が好ましく採用できる。一般式3一般式3中、R1は、置換基を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。nは、0~5の整数を示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。但し、R1の少なくとも1つは重合性基を含む。R1の置換基としては、-CR22-R2は水素原子または置換基、-CO-、-O-、フェニレン基、-S-、-C≡C-、-NR3-R3は水素原子または置換基、-CR4=CR5-R4、R5は、ぞれぞれ、水素原子または置換基の1つ以上と、重合性基との組み合わせからなる基が挙げられ、-CR22-R2は水素原子または置換基、-CO-、-O-およびフェニレン基の1つ以上と、重合性基との組み合わせからなる基が好ましい。R2は、水素原子または置換基であるが、好ましくは、水素原子またはヒドロキシ基である。R1の少なくとも1つが、ヒドロキシ基を含むことが好ましい。ヒドロキシ基を含むことにより、機層の硬化率が向上する。R1の少なくとも1つの分子量が10~250であることが好ましく、70~150であることがより好ましい。R1が結合している位置としては、少なくともパラ位に結合していることが好ましい。nは、0~5の整数を示し、0~2の整数であることが好ましく、0または1であることがより好ましく、いずれも1であることがさらに好ましい。一般式3で表される化合物は、R1の少なくとも2つが同じ構造であることが好ましい。さらに、nは、いずれも1であり、4つのR1の少なくとも2つずつがそれぞれ同じ構造であることがより好ましく、nは、いずれも1であり、4つのR1が同じ構造であることがさらに好ましい。一般式3が有する重合性基は、メタアクリロイル基またはエポキシ基であることが好ましく、メタアクリロイル基であることがより好ましい。一般式3が有する重合性基の数は、2つ以上であることが好ましく、3つ以上であることがより好ましい。また、上限は特に定めるものではないが、8つ以下であることが好ましく、6つ以下であることがより好ましい。一般式3で表される化合物の分子量は、600~1400が好ましく、800~1200がより好ましい。本発明では、一般式3で表される化合物を1種類のみ含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含んでいる場合、例えば、同じ構造のR1を含み、かつ、該R1の数が異なる化合物およびそれらの異性体を含んでいる組成物が例示される。以下に、一般式3で表される化合物の具体例を示すが、これによって本発明が限定されることはない。また、下記化合物では、一般式3の4つのnがいずれも1の場合を例示しているが、一般式3の4つのnのうち、1つまたは2つまたは3つが0のもの例えば、2官能や3官能化合物等や、一般式3の4つのnのうち、1つまたは2つまたは3つ以上が2つ以上のものR1が1つの環に、2つ以上結合しているもの、例えば、5官能や6官能化合物等も本発明の好ましい化合物として例示される。一般式3で表される化合物は、市販品として入手することができる。また、上記化合物は、公知の方法によって合成することもできる。例えば、エポキシアクリレートは、エポキシ化合物とアクリル酸との反応で得ることができる。これらの化合物は、通常、反応の際、2官能、3官能、5官能やその異性体なども生成する。これらの異性体を分離したい場合は、カラムクロマトグラフィによって分離できるが、本発明では、混合物として用いることも可能である。本発明における重合性組成物における、多官能メタアクリレートの配合量は、溶媒を除く固形分に対し、50~99質量であることが好ましく、85~95質量であることがより好ましい。本発明における重合性組成物は、全固形分の90質量以上が、多官能メタアクリレート、一般式Iで表される化合物、一般式II-aで表される化合物および一般式II-bで表される化合物で構成されることが好ましい。重合開始剤本発明における有機層は、通常、重合性組成物を塗布硬化させて得られる。本発明では、前記重合性組成物に熱または各種のエネルギー線を照射して重合、架橋させることにより高分子を主成分とする有機層を形成する。エネルギー線の例としては紫外線、可視光線、赤外線、電子線、エックス線、ガンマ線等が挙げられる。このとき、熱で重合させる場合は熱重合開始剤を、紫外線で重合させる場合は光重合開始剤を、可視光線で重合させる場合は光重合開始剤と増感剤を用いる。以上の中では、光重合開始剤を含有する重合性化合物を紫外線で重合、架橋することが好ましい。光重合開始剤を用いる場合、その含量は、重合性化合物の合計量の0.1モル以上であることが好ましく、0.5~2モルであることがより好ましい。このような組成とすることにより、活性成分生成反応を経由する重合反応を適切に制御することができる。光重合開始剤の例としてはチバスペシャルティーケミカルズ社から市販されているイルガキュアIrgacureシリーズ例えば、イルガキュア651、イルガキュア754、イルガキュア184、イルガキュア2959、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819など、ダロキュアDarocureシリーズ例えば、ダロキュアTPO、ダロキュア1173など、クオンタキュアQuantacurePDO、ランベルティ社から市販されているエザキュアEsacureシリーズ例えば、エザキュアTZM、エザキュアTZTなど等が挙げられる。有機層の形成方法重合性組成物を層状にする方法としては、通常、基材フィルムまたは無機層等の支持体の上に、重合性組成物を適用して形成する。適用方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、或いは、米国特許第2681294号明細書に記載のホッパ-を使用するエクストル-ジョンコート法が例示され、この中でも塗布による方法が好ましく採用できる。照射する光は、通常、高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯による紫外線である。照射エネルギーは0.1J/cm2以上が好ましく、0.5J/cm2以上がより好ましい。重合性化合物として、メタアクリレート系化合物を採用する場合、空気中の酸素によって重合阻害を受けるため、重合時の酸素濃度もしくは酸素分圧を低くすることが好ましい。窒素置換法によって重合時の酸素濃度を低下させる場合、酸素濃度は2以下が好ましく、0.5以下がより好ましい。減圧法により重合時の酸素分圧を低下させる場合、全圧が1000Pa以下であることが好ましく、100Pa以下であることがより好ましい。また、100Pa以下の減圧条件下で0.5J/cm2以上のエネルギーを照射して紫外線重合を行うのが特に好ましい。本発明における有機層は、平滑で、膜硬度が高いことが好ましい。有機層の平滑性は1μm角の平均粗さRa値として1nm未満であることが好ましく、0.5nm未満であることがより好ましい。モノマーの重合率は85以上であることが好ましく、88以上であることがより好ましく、90以上であることがさらに好ましく、92以上であることが特に好ましい。ここでいう重合率とはモノマー混合物中の全ての重合性基例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基のうち、反応した重合性基の比率を意味する。重合率は赤外線吸収法によって定量することができる。有機層の膜厚については特に限定はないが、薄すぎると膜厚の均一性を得ることが困難になるし、厚すぎると外力によりクラックを発生してバリア性が低下する。かかる観点から、有機層の厚みは50nm~2000nmが好ましく、200nm~1500nmがより好ましい。有機層の表面にはパーティクル等の異物、突起が無いことが要求される。このため、有機層の成膜はクリーンルーム内で行われることが好ましい。クリーン度はクラス10000以下が好ましく、クラス1000以下がより好ましい。有機層の硬度は高いほうが好ましい。有機層の硬度が高いと、無機層が平滑に成膜されその結果としてバリア能が向上することがわかっている。有機層の硬度はナノインデンテーション法に基づく微小硬度として表すことができる。有機層の微小硬度は100N/mm以上であることが好ましく、150N/mm以上であることがより好ましい。無機層無機層は、通常、金属化合物からなる薄膜の層である。無機層の形成方法は、目的の薄膜を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相成長法PVD、種々の化学的気相成長法CVD、めっきやゾルゲル法等の液相成長法がある。本発明では、スパッタリング法で作成した場合であっても、高いバリア性を維持することができる。無機層に含まれる成分は、上記性能を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物または金属炭化物であり、Si、Al、In、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce、またはTa等から選ばれる1種以上の金属を含む酸化物、窒化物、炭化物もしくは酸化窒化物、酸化窒化炭化物などを好ましく用いることができる。これらの中でも、Si、Al、In、Sn、Zn、Tiから選ばれる金属の酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましく、特にSiまたはAlの金属酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。本発明では、無機層の材料として、金属酸化物を用い、プラズマプロセスにより成膜した場合であっても、高いバリア性を有するバリア性積層体が得られる点で、極めて有意である。本発明では特に、窒化珪素、酸化ケイ素もしくは窒素化珪素、酸化ケイ素、炭化珪素の混合酸化物が好ましい。これらの無機物を採用することにより、有機層と無機層の密着性がより向上する。さらに好ましくは、窒化珪素であることにより、緻密な膜が得られ高いバリア性を有するバリア積層体が得られる点で望ましい。本発明により形成される無機層の平滑性は、1μm角の平均粗さRa値として1nm未満であることが好ましく、0.5nm以下がより好ましい。このため、無機層の成膜はクリーンルーム内で行われることが好ましい。クリーン度はクラス10000以下が好ましく、クラス1000以下がより好ましい。無機層の厚みに関しては特に限定されないが、1層に付き、通常、5~500nmの範囲内であり、好ましくは20~200nmである。無機層は2層以上積層してもよい。本発明では、無機層を2層以上設ける態様において、層間の密着性が向上し、かつ、電子デバイスに用いたときの故障率を低減することができる。また、2層以上設ける場合、各層が同じ組成であっても異なる組成であってもよい。また、2層以上積層する場合は、各々の無機層が上記の好ましい範囲内にあるように設計することが望ましい。また、上述したとおり、米国公開特許2004-46497号明細書に開示してあるように有機層との界面が明確で無く、組成が膜厚方向で連続的に変化する層を含んでいてもよい。有機層と無機層の積層有機層と無機層の積層は、所望の層構成に応じて有機層と無機層を順次繰り返し成膜することにより行うことができる。無機層を、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法などの真空成膜法で形成する場合、有機層も前記フラッシュ蒸着法のような真空成膜法で形成することが好ましい。特に、本発明は、少なくとも2層の有機層と少なくとも2層の無機層を交互に積層した場合に、高いバリア性を発揮することができる。さらに、2層の無機層に挟まれた有機層が2層以上含まれる構成、例えば、無機層、有機層、無機層、有機層、無機層が該順に互いに隣接している構成では、さらに高いバリア性を発揮することができる。特に、本発明では、重合性芳香族シランカップリング剤由来の有機層の表面に無機層を設けることにより、該有機層と該無機層の密着性が向上し、より好ましい。機能層本発明のデバイスにおいては、バリア性積層体上、もしくはその他の位置に、機能層を有していても良い。機能層については、特開2006-289627号公報の段落番号0036~0038に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。バリア性積層体の用途本発明のバリア性積層体は、通常、支持体の上に設けるが、この支持体を選択することによって、様々な用途に用いることができる。支持体には、基材フィルムのほか、各種のデバイス、光学部材等が含まれる。具体的には、本発明のバリア性積層体はガスバリアフィルムのバリア層として用いることができる。また、本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、バリア性を要求するデバイスの封止に用いることができる。本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、光学部材にも適用することができる。以下、これらについて詳細に説明する。<ガスバリアフィルム>ガスバリアフィルムは、基材フィルムと、該基材フィルム上に形成されたバリア性積層体とを有する。図3は、本発明のガスバリアフィルムの構成の一例を示したものであって、基材フィルム5の上に、有機層と無機層が交互に設けられた構成を示している。具体的には、基材フィルム5の側から順に、有機層6、無機層1、有機層2、無機層3の順に、それぞれの面が互いに隣接するように設けられている。有機層6は、アンダーコート層とも呼ばれ、基材フィルム5と無機層13の密着性を向上させている。有機層6は、本発明における重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む有機層であってもよいし、他の有機層であってもよい。本発明では、基材フィルム5に隣接する有機層に、本発明における重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む有機層を採用することによって、基材フィルム5と有機層の密着性を向上させることができる。特に、基材フィルムがPET、PENの場合に効果的である。ガスバリアフィルムにおいて、本発明のバリア性積層体は、基材フィルムの片面にのみ設けられていてもよいし、両面に設けられていてもよい。本発明のバリア性積層体は、基材フィルム側から無機層、有機層の順に積層していてもよいし、有機層、無機層の順に積層していてもよい。本発明のバリア性積層体の最上層は無機層でも有機層でもよい。ガスバリアフィルムはバリア性積層体、基材フィルム以外の構成成分例えば、易接着層等の機能性層を有しても良い。機能性層はバリア性積層体の上、バリア性積層体と基材フィルムの間、基材フィルム上のバリア性積層体が設置されていない側裏面のいずれに設置してもよい。プラスチックフィルム本発明におけるガスバリアフィルムは、通常、基材フィルムとして、プラスチックフィルムを用いる。用いられるプラスチックフィルムは、有機層、無機層等の積層体を保持できるフィルムであれば材質、厚み等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。前記プラスチックフィルムとしては、具体的には、金属支持体アルミニウム、銅、ステンレス等ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸-マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。本発明のガスバリアフィルムを後述する有機EL素子等のデバイスの基板として使用する場合は、プラスチックフィルムは耐熱性を有する素材からなることが好ましい。具体的には、ガラス転移温度Tgが100°C以上および/または線熱膨張係数が40ppm/°C以下で耐熱性の高い透明な素材からなることが好ましい。Tgや線膨張係数は、添加剤などによって調整することができる。このような熱可塑性樹脂として、例えば、ポリエチレンナフタレートPEN:120°C、ポリカーボネートPC:140°C、脂環式ポリオレフィン例えば日本ゼオン製ゼオノア1600:160°C、ポリアリレートPAr:210°C、ポリエーテルスルホンPES:220°C、ポリスルホンPSF:190°C、シクロオレフィンコポリマーCOC:特開2001-150584号公報の化合物:162°C、ポリイミド例えば三菱ガス化学株ネオプリム:260°C、フルオレン環変性ポリカーボネートBCF-PC:特開2000-227603号公報の化合物:225°C、脂環変性ポリカーボネートIP-PC:特開2000-227603号公報の化合物:205°C、アクリロイル化合物特開2002-80616号公報の化合物:300°C以上が挙げられる括弧内はTgを示す。特に、透明性を求める場合には脂環式ポレオレフィン等を使用するのが好ましい。本発明のガスバリアフィルムを偏光板と組み合わせて使用する場合、ガスバリアフィルムのバリア性積層体がセルの内側に向くようにし、最も内側に素子に隣接して配置することが好ましい。このとき偏光板よりセルの内側にガスバリアフィルムが配置されることになるため、ガスバリアフィルムのレターデーション値が重要になる。このような態様でのガスバリアフィルムの使用形態は、レターデーション値が10nm以下の基材フィルムを用いたガスバリアフィルムと円偏光板1/4波長板1/2波長板直線偏光板を積層して使用するか、あるいは1/4波長板として使用可能な、レターデーション値が100nm~180nmの基材フィルムを用いたガスバリアフィルムに直線偏光板を組み合わせて用いるのが好ましい。レターデーションが10nm以下の基材フィルムとしてはセルローストリアセテート富士フイルム株:富士タック、ポリカーボネート帝人化成株:ピュアエース、株カネカ:エルメック、シクロオレフィンポリマーJSR株:アートン、日本ゼオン株:ゼオノア、シクロオレフィンコポリマー三井化学株:アペルペレット、ポリプラスチック株:トパスペレットポリアリレートユニチカ株:U100ペレット、透明ポリイミド三菱ガス化学株:ネオプリム等を挙げることができる。また1/4波長板としては、上記のフィルムを適宜延伸することで所望のレターデーション値に調整したフィルムを用いることができる。本発明のガスバリアフィルムは有機EL素子等のデバイスとして利用されることから、プラスチックフィルムは透明であること、すなわち、光線透過率が通常80以上、好ましくは85以上、さらに好ましくは90以上である。光線透過率は、JIS-K7105に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。本発明のガスバリアフィルムをディスプレイ用途に用いる場合であっても、観察側に設置しない場合などは必ずしも透明性が要求されない。したがって、このような場合は、プラスチックフィルムとして不透明な材料を用いることもできる。不透明な材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアクリロニトリル、公知の液晶ポリマーなどが挙げられる。本発明のガスバリアフィルムに用いられるプラスチックフィルムの厚みは、用途によって適宜選択されるので特に制限がないが、典型的には1~800μmであり、好ましくは10~200μmである。これらのプラスチックフィルムは、透明導電層、プライマー層等の機能層を有していても良い。機能層については、特開2006-289627号公報の段落番号0036~0038に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。<デバイス>本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは空気中の化学成分酸素、水、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等によって性能が劣化するデバイスに好ましく用いることができる。前記デバイスの例としては、例えば、有機EL素子、液晶表示素子、薄膜トランジスタ、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池等等の電子デバイスを挙げることができ有機EL素子に好ましく用いられる。本発明のバリア性積層体は、また、デバイスの膜封止に用いることができる。すなわち、デバイス自体を支持体として、その表面に本発明のバリア性積層体を設ける方法である。バリア性積層体を設ける前にデバイスを保護層で覆ってもよい。本発明のガスバリアフィルムは、デバイスの基板や固体封止法による封止のためのフィルムとしても用いることができる。固体封止法とはデバイスの上に保護層を形成した後、接着剤層、ガスバリアフィルムを重ねて硬化する方法である。接着剤は特に制限はないが、熱硬化性エポキシ樹脂、光硬化性アクリレート樹脂等が例示される。従来のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、これらをデバイスに組み込み、その状態で、80°C以上の温度で加熱したとき、シランカップリング剤由来のアルコールガスを放出し、デバイスにダメージを与えてしまっていた。しかしながら、本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、80°C以上の温度例えば、80~200°Cで加熱してもアルコールガスを大量に放出しないため、デバイスにダメージを与えることを効果的に抑制できる。有機EL素子ガスバリアフィルム用いた有機EL素子の例は、特開2007-30387号公報に詳しく記載されている。有機EL素子の製造工程には、ITOのエッチング工程後の乾燥工程や湿度の高い条件下での工程があるため、本発明のガスバリアフィルムを用いることは極めて優位である。液晶表示素子反射型液晶表示装置は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ/4板、そして偏光膜からなる構成を有する。本発明におけるガスバリアフィルムは、前記透明電極基板および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。透過型液晶表示装置は、下から順に、バックライト、偏光板、λ/4板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ/4板および偏光膜からなる構成を有する。このうち本発明の基板は、前記上透明電極および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。液晶セルの種類は特に限定されないが、より好ましくはTN型TwistedNematic、STN型SuperTwistedNematicまたはHAN型HybridAlignedNematic、VA型、ECB型ElectricallyControlledBirefringence、OCB型OpticallyCompensatedBend、CPA型、IPS型InPlaneSwitchingであることが好ましい。太陽電池本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、太陽電池素子の封止フィルムとしても用いることができる。ここで、本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、接着層が太陽電池素子に近い側となるように封止することが好ましい。太陽電池は、ある程度の熱と湿度に耐えることが要求されるが、本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは好適である。本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムが好ましく用いられる太陽電池素子としては、特に制限はないが、例えば、単結晶シリコン系太陽電池素子、多結晶シリコン系太陽電池素子、シングル接合型、またはタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池素子、ガリウムヒ素GaAsやインジウム燐InP等のIII-V族化合物半導体太陽電池素子、カドミウムテルルCdTe等のII-VI族化合物半導体太陽電池素子、銅インジウムセレン系いわゆる、CIS系、銅インジウムガリウムセレン系いわゆる、CIGS系、銅インジウムガリウムセレン硫黄系いわゆる、CIGSS系等のI-III-VI族化合物半導体太陽電池素子、色素増感型太陽電池素子、有機太陽電池素子等が挙げられる。中でも、本発明においては、上記太陽電池素子が、銅インジウムセレン系いわゆる、CIS系、銅インジウムガリウムセレン系いわゆる、CIGS系、銅インジウムガリウムセレン硫黄系いわゆる、CIGSS系等のI-III-VI族化合物半導体太陽電池素子であることが好ましい。その他その他の適用例としては、特表平10-512104号公報に記載の薄膜トランジスタ、特開平5-127822号公報、特開2002-48913号公報等に記載のタッチパネル、特開2000-98326号公報に記載の電子ペーパー、特開平9-18042号公報に記載の太陽電池等が挙げられる。また、ポリエチレンフィルムやポリプロピレンフィルム等の樹脂フィルムと、本発明のバリア性積層体またはガスバリアフィルムを積層して封止用袋として用いることができる。これらの詳細については、特開2005-247409号公報、特開2005-335134号公報等の記載を参酌できる。<光学部材>本発明のガスバリアフィルムを用いる光学部材の例としては円偏光板等が挙げられる。円偏光板本発明におけるガスバリアフィルムを基板としλ/4板と偏光板とを積層し、円偏光板を作製することができる。この場合、λ/4板の遅相軸と偏光板の吸収軸とが45°になるように積層する。このような偏光板は、長手方向MDに対し45°の方向に延伸されているものを用いることが好ましく、例えば、特開2002-865554号公報に記載のものを好適に用いることができる。以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。実施例1有機層塗布溶液の調整下記メタアクリレート、下記シランカップリング剤、および、下記一般式II-aまたはII-bに相当する化合物、および、重合開始剤Lamberti社、EsacureKTO46からなる組成物の40メチルエチルケトンMEK溶液を調整した。下記メタアクリレート、下記シランカップリング剤、および、下記一般式II-aまたはII-bに相当する化合物の配合量は、表1に示す割合重量比で配合し、これらの合計100重量部に対し、重合開始剤2重量を配合した。ガスバリアフィルムの作製ポリエチレンナフタレートフィルム帝人デュポン社製、テオネックスQ65FA、厚さ100μm上に、上記で調整した有機層塗布溶液を乾燥膜厚が1000nmとなるようにメチルエチルケトンで調整して成膜し、窒素100ppm雰囲気下で紫外線照射量0.5J/cm2で照射して硬化させ、有機層を作製した。その有機層表面に、膜厚が40nmとなるようにSiNをプラズマCVD法で成膜した。さらに、同様の有機層、無機層、有機層を積層し、バリアフィルムを作製した。得られたガスバリアフィルムについて、下記手法により水蒸気透過率および密着性を測定した。メタアクリレートシランカップリング剤上記式中、RはCH2CHCOOCH2を表す。上記シランカップリング剤は、特開2009-67778号公報に記載の方法を参酌して合成した。一般式II-aまたはII-bに相当する化合物II-1連結基の主骨格の構成する原子の数:8II-2連結基の主骨格の構成する原子の数:6II-3II-4II-5[バリア性能]GNISATO、PCPBOUTEN、PJSLIKKERVEERらSIDConferenceRecordoftheInternationalDisplayResearchConference14351438頁に記載の方法を用いて水蒸気透過率g/m2/dayを測定した。このときの温度は40°C、相対湿度は90とした。結果を下記表に示した。[密着性の試験]ガスバリアフィルムの密着性を評価する目的で、JISK5400に準拠した碁盤目試験を行なった。上記層構成を有するガスバリアフィルムの表面にそれぞれカッターナイフで膜面に対して90°の切込みを1mm間隔で入れ、1mm間隔の碁盤目を100個作製した。この上に2cm幅のマイラーテープ[日東電工製、ポリエステルテープNo.31B]を貼り付け、テープ剥離試験機を使用して貼り付けたテープをはがした。積層フィルム上の100個の碁盤目のうち剥離せずに残存したマスの数nをカウントした。結果は、で示した。上記試料No.1~4において、無機層を、スパッタ法によりAlOを50nm成膜したものに変え、他は同様に行った。上記結果から明らかなとおり、無機層の材料を変えても、同様の効果を奏することが分かった。上記試料No.1~4において、有機層のアクリレートを同量の下記の化合物に変え、他は同様に行った。メタアクリレート上記結果から明らかなとおり、有機層の材料を変えても、同様の効果を奏することが分かった。上記試料No.3において、一般式II-aまたはII-bに相当する化合物を、同量のリン酸モノマーKAYAMERPM-21、日本化薬製に変え、他は同様に行ってガスバリアフィルムを作成した。85°C、85の雰囲気下に1000時間置き、密着性の評価を実施した。リン酸モノマーを用いたサンプルは、湿熱後に密着性が劣化する結果となり、本発明においては、湿熱後の密着性が改善されていた。実施例2有機層塗布液の調整実施例1と同様にして、但し、下記表に従って有機層塗布液を調整した。比較例で用いたシランカップリング剤KBMは、信越化学製、KBM5103である。ガスバリアフィルムの作製ポリエチレンナフタレートフィルム帝人デュポン社製、テオネックスQ65FA、厚さ100μm上に、膜厚が40nmとなるようにSiNをプラズマCVD法で成膜し、無機層を形成した。無機層の上に、上記で調整した有機層塗布溶液を乾燥膜厚が1000nmとなるようにメチルエチルケトンで調整して成膜し、窒素100ppm雰囲気下で紫外線照射量0.5J/cm2で照射して硬化させ、有機層を作製した。その有機層表面に、膜厚が40nmとなるようにSiNをプラズマCVD法で成膜して無機層を形成した。得られたガスバリアフィルムは、無機層と無機層の間に有機層が挟まれた構成となる。[耐熱性試験]ガスバリアフィルムの耐熱性を評価する目的で、200°Cの恒温槽に上記ガスバリアフィルムを入れて、1時間保持した。10cm□を観察し、無機層と無機層に挟まれた有機層中でのガス発生による膨れ部の有無を評価した。膨れ部なしのものは、○で表し、膨れ部ありのものは×で表した。揮発ガスを多く含むシランカップリング剤KBM-5103信越化学を用いた場合を比較例とした。[密着性の試験]実施例1と同様にして、密着性を評価した。上記結果から明らかなとおり、本発明の化合物は、バリア性および密着性に優れていることが分かった。有機EL発光素子での評価上記で得られたガスバリアフィルムを用いて、有機EL素子を作成した。まず、ITO膜抵抗:30Ωを上記ガスバリアフィルムに上にスパッタで形成した。この基板陽極上に真空蒸着法にて以下の化合物層を順次蒸着した。第1正孔輸送層銅フタロシアニン:膜厚10nm第2正孔輸送層N,N’-ジフェニル-N,N’-ジナフチルベンジジン:膜厚40nm発光層兼電子輸送層トリス8-ヒドロキシキノリナトアルミニウム:膜厚60nm電子注入層フッ化リチウム:膜厚1nmこの上に、金属アルミニウムを100nm蒸着して陰極とし、その上に厚さ3μm窒化珪素膜を平行平板CVD法によって付け、有機EL素子を作成した。次に、熱硬化型接着剤エポテック310、ダイゾーニチモリ株を用いて、作成した有機EL素子上と、上記で作製したガスバリアフィルムを、バリア性積層体が有機EL素子の側となるように貼り合せ、65°Cで3時間加熱して接着剤を硬化させた。このようにして封止された有機EL素子を計10素子作製した。この結果、比較例のガスバリアフィルムを用いた場合、ITO膜基板として用いたガスバリアフィルムがダメージを受けてしまい、良好な素子が得られなかった。一方、本発明のガスバリアフィルムを用いた場合、ITO膜基板として用いたガスバリアフィルムがダメージを受けずに、良好な有機EL素子が得られた。太陽電池の作成上記で作成したガスバリアフィルムを用いて、太陽電池モジュールを作成した。具体的には、太陽電池モジュールよう充填剤として、スタンダードキュアタイプのエチレン-酢酸ビニル共重合体を用いた。10cm角の強化ガラス上に厚さ450μmのエチレン-酢酸ビニル共重合体でアモルファス系のシリコン太陽電池セルを挟み込み充填し、さらにその上のガスバリアフィルムを設置することで太陽電池モジュールを作成した。設置条件は、150°Cにて真空引き3分行ったあと、9分間圧着を行った。本方法で作成した太陽電池モジュールは、良好に作動し、85°C、85相対湿度の環境下でも良好な電気出力特性を示した。封止用袋の作成上記で作成したガスバリアフィルムを用いて、封止用袋を作成した。ガスバリアフィルムの基材フィルム側と、樹脂フィルムからなるバックポリエチレン製のバッグをヒートシール法によって融着し、封止用袋を作成した。得られた封止用袋に、薬剤として、セファゾリンナトリウム大塚製薬工場製を封入し、40°C相対湿度75の条件で6ヶ月保存して色調の変化を評価したところ、色調に変化はほとんど見られなかった。"