エレクトロウェッティング装置であって、極性流体層及び非極性流体層を間に有し、互いに対向する第一基板及び第二基板と、前記第一基板上に設置された第一電極と、前記第二基板上に設置された第二電極と、前記第一基板上に設置され、複数のカラーサブピクセルを規定する第一パーティション構造と、一組の原色サブピクセルからなり、各サブピクセルが、異なる色を有する非極性流体層の一つと対応し、各非極性流体層が互いに分離されている画素領域のアレイと、前記極性流体層と前記非極性流体層の一つにドープされる染料、及び/又は、顔料と、前記極性流体層と前記非極性流体層の一つにドープされる発光材料と、前記装置の底部に設置される発光モジュールと、を備えることを特徴とするエレクトロウェッティング装置。隣接する前記サブピクセル中、前記非極性流体層の色が異なることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記発光材料は、光、又は、その他の電磁放射により励起されることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記発光モジュールの主波長は、500nmより小さいことを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記第一パーティション構造は、前記発光材料を遮蔽することを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記非極性流体層の収縮領域の下方に設置される遮光層をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記染料、及び/又は、前記顔料と前記発光材料は、前記非極性流体層にドープされることを特徴とする請求項6に記載のエレクトロウェッティング装置。前記第一パーティション構造は、前記第二基板に接触することを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記染料、及び/又は、前記顔料と前記発光材料は、前記非極性流体層にドープされることを特徴とする請求項8に記載のエレクトロウェッティング装置。前記染料、及び/又は、前記顔料は、前記非極性流体層にドープされ、前記発光材料は、前記極性流体層にドープされ、且つ、前記非極性流体層中の前記染料、及び/又は、前記顔料の色、及び、前記極性流体層中の前記発光材料の色は、補色であることを特徴とする請求項8に記載のエレクトロウェッティング装置。前記染料、及び/又は、前記顔料の重量モル濃度は、前記発光材料の重量モル濃度より小さいことを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記非極性流体層は、各波長の光を反射する白色媒体を含むことを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記染料、及び/又は、前記顔料と前記発光材料は、前記極性流体層にドープされることを特徴とする請求項12に記載のエレクトロウェッティング装置。前記発光モジュールは、500nmより小さい波長の光を発光するアクティブ光源であることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記発光モジュールは、導波管モジュールを含み、光源は、前記導波管モジュールの側面から、光線を発光し、前記光線は、前記非極性流体層の前記収縮領域から反射され、かつ、前記極性流体層に伝送されることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記反対の第二基板は、誘電層により被覆される前記第二電極と、前記第二誘電層上に設置される第二非極性流体層と、前記第二基板上に設置され、前記複数のサブピクセルを規定し、前記複数のサブピクセルに対応する第二パーティション構造と、を備えることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。前記染料、及び/又は、前記顔料は、前記第一基板の前記非極性流体層にドープされ、且つ、前記発光材料は、前記第二基板の前記第二非極性流体層にドープされることを特徴とする請求項16に記載のエレクトロウェッティング装置。黒色染料、及び/又は、顔料は、前記第一基板の前記非極性流体層にドープされ、前記染料、及び/又は、前記顔料と発光材料は、前記第二基板の前記第二非極性流体層にドープされることを特徴とする請求項16に記載のエレクトロウェッティング装置。前記エレクトロウェッティング装置の透過、反射、及び、自発光ディスプレイモードを切り換える制御モジュールをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウェッティング装置。本発明は、環境光源の条件に基づき表示モードを切り替え、表示品質を向上させ、装置の製造が複雑化されることを避け、コストを抑制することができるエレクトロウェッティング装置を提供する。本発明は、エレクトロウェッティング装置を提供し、極性流体層及び非極性流体層を間に有し、互いに対向する第一基板及び第二基板と、第一基板上に設置された第一電極と、第二基板上に設置された第二電極と、第一基板上に設置され、複数のカラーサブピクセルを規定する第一パーティション構造と、一組の原色サブピクセルとを備え、各サブピクセルが、異なる色を有する非極性流体層の一つに対応し、各非極性流体層が互いに分離される画素領域のアレイと、極性流体層と非極性流体層の一つにドープされる染料、及び/又は、顔料と、極性流体層と非極性流体層の一つにドープされる発光材料と、装置の底部に設置される発光モジュール励起モジュールとしても知られると、を有する。カラーエレクトロウェッティング装置のカラーサブピクセルの新規の幾何領域と配置が提供されて、画質を改善し、カラーエレクトロウェッティング装置の製造の複雑さと製造コストを減少させることができる。本発明の実施形態では、エレクトロウェッティング装置に関し、各画素領域中の極性流体の表面特性を電気的に変化させることにより、ディスプレイが達成される。更に特に、カラーエレクトロウェッティング装置のカラーサブピクセルの新規の幾何領域と配置が提供されて、画質を改善し、カラーエレクトロウェッティング装置の製造の複雑化を防ぎ、と製造コストを減少させる。図4は、本実施形態に係るエレクトロウェッティング装置の断面図である。図4を参照すると、エレクトロウェッティング装置150は、第一基板152とその反対の第二基板178とを有し、第一基板152と第二基板178との間に、極性流体層174と非極性流体層170とを有する。第一、第二基板は、エレクトロウェッティング装置の周辺領域で、シーラー166によりしっかりと密封される。第一透明電極158は第一基板152上に設置される。誘電層160は、透明電極158上に設置される。疎水性層162は、誘電層160に設置される。第二電極176は第二基板178に設置される。第一パーティション構造164は、第一基板152に設置されて、複数のカラーサブピクセルを規定する。染料、及び/又は、顔料と発光材料は、非極性流体層170にドープされる。第一基板152の側面に位置する光源154を含む発光モジュール励起モジュールとしても知られるは、光線、又は、その他の電磁放射を与え、光線、又は、その他の電磁放射は、染料、及び/又は、顔料により吸収、又は、発光材料により放射される。あるいは、発光モジュールは、アクティブ光源、例えば、第一基板下方に設置されるOLEDである。発光モジュールの主な波長は、500nm、又は、450nmより小さいが、他の強度が弱い連続光源でもよい。この他、制御モジュール図示しないが提供されて、エレクトロウェッティング装置の、透過、反射、及び、自発光ディスプレイモードを切り換える。第一基板は導波管として作用し、光はマルチ反射で、特定領域156を通過し、発光材料が第二基板に伝送される。他の例では、遮光層172例えば、ブラックマトリクスBMが、非極性流体層の収縮領域の下方に設置される。本実施形態では、特定波長範囲の光を吸収する、又は、光源モジュールの光と異なる特定波長範囲の光を放射するカラーディスプレイ媒体が、極性流体層と非極性流体層の一つにドープされる。他の例では、特定波長範囲の光を吸収する染料、及び/又は、顔料と光源モジュールの光と異なる特定波長範囲の光を放射する発光材料が、極性流体層と非極性流体層の一つにドープされる。この場合、染料、及び/又は、顔料と発光材料の光学特性は、互いに適合して、発光材料により放射される光が、染料、及び/又は、顔料により吸収されるのを回避する必要がある。他の例では、光吸収材料と発光材料は、それぞれ、異なる流体層にドープされる。また、選択的に、光吸収材料と発光材料は、異なる非極性流体層にドープされる。位置合わせ後、ユーザーは、位置合わせした異なるカラー非極性流体層の同じ画素を観察することができる。注意すべきことは、一流体層が光吸収材料と発光材料両方を含む場合、光吸収材料と発光材料の両方の濃度は、特定範囲で制御されて、電子が、光吸収材料と発光材料との間で移行し、発光効果の低下を回避する必要があることである。例えば、染料、及び/又は、顔料の重量モル濃度は、発光材料の重量モル濃度より低い。他の実施形態では、励起光源層は、エレクトロウェッティング装置底部に設置される。励起光源層は発光層で、光の不可視の波長帯を放射する。励起光源は、エレクトロウェッティング装置の側面に設置することができる。導波管を用いることにより、励起光が効果的に、ディスプレイ領域に伝送される。非極性流体が収縮する時、励起光源は、励起光の発光を持続する。遮光層は、非極性流体層の収縮領域下方に設置される。UVカットフィルム、又は、適当な屈折率の他の材料が用いられて、ユーザーの目が短波長光によりダメージを受けるのを回避する。図5Aは、本発明の他の実施形態に係るエレクトロウェッティング装置の断面図である。図5Aを参照すると、単層カラーエレクトロウェッティング装置200aは、互いに反対の第一基板下基板210と第二基板上基板230を有する。第一基板210は、各サブピクセル領域に対応するパターン化画素電極212を有する。画素電極212は、好ましくは、厚さが0.1μm~1μmであるインジウムスズ酸化物ITO、又は、インジウム亜鉛酸化物IZOにより形成される。画素電極212の幾何構造は、長方形、方形、三角形、円形、台形、又は、楕円形幾何構造である。本発明の他の例によると、反射層は、選択的に第二基板230に設置されるか、又は、透明画素電極212と第一基板210の間に挿入される。反射層は、アルミニウム、二酸化チタン、又は、二酸化ジルコニウムからなる。誘電層214は、パターン化画素電極212上に設置される。本発明の実施形態によると、誘電層は、パリレンPARYLENE、SIOX、SINX、ポリフッ化ビニリデンPOLYVINYLDIENEFLUORIDE、TIO2、又は、ZRO2により形成され、厚さは、好ましくは、0.1μm~1μmである。更に、疎水性層216が、誘電層214上に設置されて、疎水性表面を形成する。疎水性層216は、フッ素含有疎水性ポリマー、又は、炭化物含有疎水性ポリマーからなり、厚さは、好ましくは、0.1μm~1μmである。パーティション構造222が疎水性層216上に設置されて、複数のサブピクセルのアレイを規定する。パーティション構造222はフォトレジストにより形成され、厚さが、好ましくは、5μm~10μmである。異なる色に対応する複数の非極性流体層225C、225Y、225M、及び、225Kは、各サブピクセル領域の疎水性層216上に設置される。非極性流体層は、デカン、ドデカン、又は、テトラデカンからなり、厚さが、好ましくは、1μm~10μmである。又、非極性流体層225C、225Y、225M、及び、225Kは、原色例えば、RGBK、又は、CYMKの染料、又は、顔料を含む。透明極性流体226が、第一基板210と第二基板230間に充填される。透明極性流体層226は、水、塩化ナトリウム溶液、又は、塩化カリウム溶液により形成され、厚さが、好ましくは、30μm~250μmである。シール構造240は、ディスプレイ装置の周辺領域に形成され、第一基板210と第二基板230を密封する。コモン電極232は第二流体226に接触する。コモン電極232は、インジウムスズ酸化物ITO、又は、インジウム亜鉛酸化物IZOにより形成され、厚さが、好ましくは、0.1μm~1μmである。各サブピクセル領域中のコモン電極232と電極212間で電界が生じるため、透明極性流体226の表面は疎水性層216に接近する。非極性流体は、画素電極212から遠ざかり、凝集して、ディスプレイイメージをレンダリングする。特に、各サブピクセル中のカラー非極性流体の収縮、又は、伸張を制御して、エレクトロウェッティング装置を通過する周辺光が、反射又は、吸収される。異なるカラーサブピクセルが、それぞれ、別々に駆動されて、各画素中の所望の色を表示して、フルカラーディスプレイ効果を達成する。本発明の一例によると、カラーエレクトロウェッティング装置200aは、複数の画素のアレイからなる。各画素は、複数例えば、4色の原色サブピクセルからなる。サブピクセルの形状は、長方形、六角形、方形、円形、三角形、台形、楕円形を含む。本発明の一実施形態において、原色サブピクセルは、黒サブピクセル、赤サブピクセル、緑サブピクセル、及び、青サブピクセルにより形成される。本発明の他の実施形態では、原色サブピクセルは、黒サブピクセル、黄色サブピクセル、マゼンタサブピクセル、及び、シアンサブピクセルにより形成される。異なる色の非極性流体層に対応する各サブピクセル、及び、各異なる色の非極性流体層は互いに分離される。相隣するサブピクセルは、異なる色の非極性流体層を有する。カラーエレクトロウェッティング装置の構造例では、極性流体と異なる色の非極性インクオイルが、上下基板間に充填され、異なる色の非極性インクオイルは、パーティション構造により分離される。隣接するサブピクセルの異なる色の非極性インクオイルは、サブピクセルのアレイから構成される。カラー非極性インクオイルの収縮、又は、伸張により、エレクトロウェッティング装置を通過する入射光の特定のスペクトルの反射、又は、吸収が制御され、異なる色の光を表示することができる。図5Bは、本発明の他の実施形態に係るエレクトロウェッティング装置200bの断面図である。図5Bを参照すると、単層カラーエレクトロウェッティング装置200bは、互いに対向する第一基板下基板210と第二基板上基板230を有する。第一基板210は、励起モジュール、及び、各サブピクセル領域に対応するパターン化画素電極212を有する。第一誘電層214はパターン化画素電極212に設置される。更に、疎水性層216は、誘電層214に設置されて、疎水性表面を形成する。疎水性層216は、フッ素含有疎水性ポリマー、又は、炭化物含有疎水性ポリマーにより形成され、厚さが、好ましくは、0.1μm~1μmである。パーティション構造222は疎水性層216上に設置されて、複数のサブピクセルのアレイを規定する。パーティション構造222は、親水性フォトレジストにより形成され、厚さが、好ましくは、5μm~10μmである。異なる色に対応する複数の非極性流体層225bは、各サブピクセル領域の疎水性層216に設置される。非極性流体層は、デカン、ドデカン、又は、テトラデカンにより形成され、厚さが、好ましくは、1μm~10μmである。又、非極性流体層225bは、原色例えば、RGBK、又は、CYMKの染料、及び/又は、顔料により形成される。発光材料は、非極性流体層225b中にドープされる。遮光層234例えば、ブラックマトリクス層は、非極性流体層の収縮領域の下方に設置される。透明極性流体226は、第一基板210と第二基板230間に充填される。透明極性流体層226は、水、塩化ナトリウム溶液、又は、塩化カリウム溶液により形成され、厚さが、好ましくは、30μm~250μmである。シール構造240は、ディスプレイ装置の周辺領域上に形成され、第一基板210と第二基板230を密封する。コモン電極232は、第二流体226に接触する。各サブピクセル領域中のコモン電極232と電極212間に電界が生じるため、透明極性流体226の表面は、疎水性層216に接近する。非極性流体は画素電極212から遠ざかり、凝集して、ディスプレイイメージをレンダリングする。特に、各サブピクセル中のカラー非極性流体の収縮、又は、伸張を制御して、ディスプレイ装置を通過する周辺光が、反射、又は、吸収される。異なる色のサブピクセルが、別々に駆動されて、各画素中の所望の色を表示して、フルカラーディスプレイ効果を達成する。図5Cは、本発明の他の実施形態に係るエレクトロウェッティング装置200cの断面図である。エレクトロウェッティング装置200cは、図5Bのエレクトロウェッティング装置200bとほぼ同じで、簡単にするため、詳細は省略する。エレクトロウェッティング装置200cとエレクトロウェッティング装置200bの差異は、パーティション構造222が、広範囲に渡って、第二基板構造240と接触することである。図5Dは、本発明の別の具体例によるエレクトロウェッティング装置200dの断面図である。エレクトロウェッティング装置200dは、図5Cのエレクトロウェッティング装置200cとほぼ同じで、簡単にするため、詳細は省略する。エレクトロウェッティング装置200dとエレクトロウェッティング装置200cの差異は、白色顔料は、非極性流体層225dにドープされ、染料、及び/又は、顔料と発光材料は、極性流体層226dにドープされることである。注意すべきことは、白色媒体を含む非極性流体層は、均一に、各波長の光を反射することである。図5Eは、本発明の別の具体例によるエレクトロウェッティング装置200eの断面図である。図5Eを参照すると、単層カラーエレクトロウェッティング装置200eは、互いに対向する第一基板下基板210と第二基板上基板230を有する。第一基板210は、各サブピクセル領域に対応する第一画素電極212を有する。第一誘電層214は、第一画素電極212上に設置される。更に、第一疎水性層216は、第一誘電層214に設置されて、疎水性表面を形成する。第一疎水性層216は、フッ素含有疎水性ポリマー、又は、炭化物含有疎水性ポリマーからなり、厚さが、好ましくは、0.1μm~1μmである。第二基板230は、各サブピクセル領域に対応する第二画素電極236を有する。第二誘電層238は、第二画素電極236上に設置される。更に、第二疎水性層242は、第二誘電層238上に設置されて、疎水性表面を形成する。第二パーティション構造244は、第二疎水性層242上に設置されて、複数のサブピクセルのアレイを規定する。第一パーティション構造222は、第一疎水性層216上に設置されて、複数のサブピクセルのアレイを規定する。第一パーティション構造222は、親水性フォトレジストにより形成され、厚さが、好ましくは、5μm~10μmである。異なる色に対応する複数の第一非極性流体層225eは、各サブピクセル領域の第一疎水性層216に設置される。異なる色に対応する複数の第二非極性流体層246は、各サブピクセル領域の第二疎水性層242に設置される。非極性流体層は、デカン、ドデカン、又は、テトラデカンにより形成され、厚さが、好ましくは、1μm~10μmである。又、第一非極性流体層225eは、原色例えば、RGBK、又は、CYMKの染料、及び/又は、顔料を含み、第二非極性流体層246は、原色の発光材料を含む。発光材料も、第一非極性流体層225eにドープされ、染料、及び/又は、顔料材料は、第二非極性流体層246にドープされる。遮光層234例えば、ブラックマトリクス層は、非極性流体層の収縮領域の下方に設置される。透明極性流体226は、第一基板230と第二基板210との間に充填される。透明極性流体層226は、水、塩化ナトリウム溶液、又は、塩化カリウム溶液により形成され、厚さが、好ましくは、30μm~250μmである。シール構造240は、ディスプレイ装置の周辺領域上に形成され、第一基板210と第二基板230を密封する。コモン電極248はシール構造240に挿入され、第二流体226と接触する。各サブピクセル領域中のコモン電極248と第一、第二電極212、236の間で電界が生成されるため、透明極性流体226の表面が、第一、第二疎水性層216、242に接近する。非極性流体は、画素電極212、236から遠ざかり、凝集して、ディスプレイイメージをレンダーリングする。特に、各サブピクセル中のカラー非極性流体の収縮、又は、伸張により、ディスプレイ装置を通過する周辺光の透過、反射、吸収が制御され、それぞれ、異なる色のサブピクセルが駆動されて、各画素中の所望の色を表示して、フルカラーディスプレイ効果を達成する。図5Fは、本発明の別の具体例によるエレクトロウェッティング装置200fの断面図である。エレクトロウェッティング装置200fは、図5Eのエレクトロウェッティング装置200eとほぼ同じであり、簡単にするため、詳細は省略する。エレクトロウェッティング装置200fとエレクトロウェッティング装置200eの差異は、黒色顔料、及び/又は、染料が、第一非極性流体層225fにドープされ、カラー染料、及び/又は、顔料と発光材料が、第二非極性流体層246にドープされることである。図5Gは、本発明の別の具体例によるエレクトロウェッティング装置200gの断面図である。エレクトロウェッティング装置200gは、図5Cのエレクトロウェッティング装置200cとほぼ同じで、簡単にするため、詳細は省略する。エレクトロウェッティング装置200gとエレクトロウェッティング装置200cの差異は、染料、及び/又は、顔料材料が、非極性流体層225gにドープされ、発光材料が極性流体層226Gにドープされることである。注意すべきことは、非極性流体層225g中の染料、及び/又は、顔料の色、及び、極性流体層226g中の発光材料の色は、補色例えば、赤色とシアン、緑色とマゼンタ、青色と黄色であることである。図6A~6Cは、本例によるエレクトロウェッティング装置の各画素の色の変化を示す図である。図6Aを参照すると、ディスプレイ画素320a~320dは、正方配列で配列され、それぞれ、シアンサブピクセル325C、黄色サブピクセル325Y、マゼンタサブピクセル325M、黒色サブピクセル325Kに対応する。暗DARK状態で、各カラーサブピクセル中の全カラー非極性インクオイルが広がる。明BRIGHT状態が示される時、各カラーサブピクセル中のカラー非極性インクオイルは、各サブピクセルの同じコーナーに向かって、コヒーレントに収縮し、図6Bで示されるように、底部誘電層、又は、反射板326を露出する。他の例では、明状態が示される時、各カラーサブピクセル中のカラー非極性インクオイルは、隣接するサブピクセル間の共同コーナーに向かって、コヒーレントに収縮し、図6Cで示されるように、底部誘電層、又は、反射板を露出する。図7A~7Cは、別の具体例によるエレクトロウェッティング装置の各画素の色の変化を示す図である。図7Aを参照すると、画素420a~420dは、六角最密配列で配列され、それぞれ、シアンサブピクセル425C、黄色サブピクセル425Y、マゼンタサブピクセル425M、黒色サブピクセル425Kに対応する。暗状態で、各カラーサブピクセル中の全カラー非極性インクオイルが広がる。明状態が示される時、各カラーサブピクセル中のカラー非極性インクオイルは、各サブピクセルの同じコーナーに向かって、コヒーレントに収縮し、図7Bで示されるように、底部誘電層、又は、反射板426を露出する。他の例では、明状態が示される時、各カラーサブピクセル中のカラー非極性インクオイルは、隣接するサブピクセル間の共同のコーナーに向かって、コヒーレントに収縮し、図7Cで示されるように、底部誘電層、又は、反射板を露出する。図8A~8Cは、別の具体例によるエレクトロウェッティング装置の各サブピクセルの色の変化を示す図である。図8Aを参照すると、暗状態で、各カラーサブピクセル525C、525Y、525M、525K中の全カラー非極性インクオイルが広がる。図8Bを参照すると、ダークレッド画素の表示が必要な時、シアンサブピクセル525Cが駆動され、シアン非極性インクオイルの分布を変化させ、全ての画素520がダークレッドを示す。図8Cを参照すると、鮮赤色画素の表示が必要な時、シアンサブピクセル525Cと黒色サブピクセル525Kが駆動され、シアンと黒色の非極性インクオイルの分布を変化させ、よって、画素520は鮮赤色である。表Iは、ディスプレイ画素で示されるCYMKサブピクセルと所望の色間の関係を示す。各カラーサブピクセル中の非極性インクオイルの分布は、表示が必要な画素カラーに従って分布する。図9A~9Cは、別の具体例本発明の他の実施形態に係るエレクトロウェッティング装置の各サブピクセルの色の変化を示す図である。図9Aを参照すると、暗状態で、画素620中の各カラーサブピクセル625R、625G、625B、及び、625K中の全カラー非極性インクオイルが広がる。図9Bを参照すると、ダークイエロー画素の表示が必要な時、青色サブピクセル625Bが駆動され、青色非極性インクオイルの分布を変化させ、全ての画素620がダークイエローを示す。図9Cを参照すると、明るい黄色画素の表示が必要な時、青色サブピクセル625Bと黒色サブピクセル625Kが駆動され、青色と黒色の非極性インクオイルの分布を変化させ、全ての画素620が明るい黄色を示す。表IIは、ディスプレイ画素で示されるRGBKサブピクセルと所望の色間の関係を示す。各カラーサブピクセル中の非極性インクオイルの分布は、表示が必要な画素カラーに従って分布する。本発明では好ましい実施例を前述の通り開示したが、これらは決して本発明に限定するものではなく、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精神と領域を脱しない範囲内で各種の変形や変更を加えることができ、従って本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。