曲率を有する液晶パネル用の基板を載置する載置部と、前記基板の上に形成された配向膜をラビングするラビング布が表面に取り付けられた円筒形のラビングローラと、前記ラビング布と前記配向膜とが接触した状態で、前記基板と前記ラビングローラとを前記曲率を有する方向と交差する方向に相対移動させる主搬送部と、前記ラビング布と前記配向膜とが離間した状態で、前記基板と前記ラビングローラとを前記曲率を有する方向に相対移動させる副搬送部と、を備え、前記ラビング布の幅が前記基板の前記曲率を有する方向における幅よりも狭く構成されている液晶パネルの配向膜のラビング装置。前記基板の曲率半径をR、前記ラビングローラの幅をLとしたとき、当該ラビングローラの幅がR-R2-L/2212≦0.4mmを満たすように構成されている請求項1記載の液晶パネルの配向膜のラビング装置。前記副搬送部は、前記曲率を有する方向への前記相対移動の量を前記ラビングローラの幅と同量とする請求項1または2記載の液晶パネルの配向膜のラビング装置。曲率を有する液晶パネル用の基板と、当該基板の当該曲率を有する方向の幅よりも狭い幅を有し、当該基板の上に形成された配向膜をラビングするラビング布が表面に取り付けられた円筒形のラビングローラとを、当該ラビング布と当該配向膜とが接触した状態で、前記曲率を有する方向と交差する方向である主方向に相対移動させるステップと、前記主方向への相対移動が終了した後に、前記ラビング布と前記配向膜とが離間した状態で、前記基板と前記ラビングローラとを前記曲率を有する方向に相対移動させるステップと、を備えた液晶パネルの配向膜のラビング方法。しかしながら、特許文献1の技術では、ラビングロールの形状が配向膜形成面の形状によって規制されるため、ラビングロールに汎用性がない。そのため、様々な配向膜形状形成面を有する液晶パネルを製造する際には、それらに適合した形状を有する様々なラビングロールを使用しなければならない。これは製造時のコストや工数の増大につながり、好ましくない。また、特許文献1の技術を用いて配向むらをなくすためには、ラビングルールと配向膜形成面との相対位置を正確に設定する必要があるが、これは困難であり、特に、ラビングロールが回転しても相対位置がずれないようにすることはかなり困難である。さらに、配向むらをなくすためには、ラビングロールに取り付けられたラビング布が平坦である必要があるが、曲面形状のラビングロールにラビング布を平坦に取り付けることは極めて困難である。本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、簡易な構成で曲面形状の液晶パネルの配向膜に対して均一なラビング処理を施すラビング技術を提供することである。前記課題を解決するために、本発明の液晶パネルの配向膜のラビング装置は、曲率を有する液晶パネル用の基板を載置する載置部と、前記基板の上に形成された配向膜をラビングするラビング布が表面に取り付けられた円筒形のラビングローラと、前記ラビング布と前記配向膜とが接触した状態で、前記基板と前記ラビングローラとを前記曲率を有する方向と交差する方向に相対移動させる主搬送部と、前記ラビング布と前記配向膜とが離間した状態で、前記基板と前記ラビングローラとを前記曲率を有する方向に相対移動させる副搬送部と、を備え、前記ラビング布の幅が前記基板の前記曲率を有する方向における幅よりも狭く構成されている。この構成では、ラビングローラの幅が、基板の曲率を有する方向における幅よりも狭く構成されており、配向膜とラビング布とが接触した状態での基板とラビングローラとの相対移動、すなわち、ラビング処理が、基板の曲率を有する方向とは交差する方向に対して行われる。そのため、ラビングローラの幅方向におけるラビング布と配向膜との接触量の差を小さくすることができる。これにより、配向むらを低減することができる。また、ラビングローラの形状は通常の円筒形とすることができるため、位置決めやラビング布の取り付けの困難性は、特殊形状のラビングローラを用いることに比べると高くない。なお、ラビング処理は、基板の曲率を有する方向と直交する方向が好ましい。上述のように構成したラビング装置であっても、基板が曲率を有する曲面であり、ラビングローラが円筒形であるため、ラビングローララビング布と基板配向膜との接触量を完全に均一にすることは困難である。しかしながら、この接触量の非均一性は配向むらにつながるため、低減することが望まれる。そのため、本発明の液晶パネルの配向膜のラビング装置の好適な実施形態の一つでは、前記基板の曲率半径をR、前記ラビングローラの幅をLとしたとき、当該ラビングローラの幅がR-R2-L/2212≦0.4mmを満たすように構成されている。この構成では、基板の曲率半径Rとラビングローラの幅Lとの関係を上式のように規定することにより、ラビングローララビング布と基板配向膜との接触量のばらつきを0.4mm以内に抑えることができる。したがって、配向むらを低減することができる。このように、本発明の液晶パネルの配向膜のラビング装置では、1枚の基板の配向膜に対して複数回のラビング処理が行われる。そのため、各回のラビング処理の領域が重複したり、領域間に隙間が生じたりしないようにしなければならない。そのため、本発明の液晶パネルの配向膜のラビング装置の好適な実施形態の一つでは、前記副搬送部は、前記曲率を有する方向への前記相対移動の量を前記ラビングローラの幅と同量としている。この構成のように相対移動量を設定すれば、各回のラビング処理の領域が重複したり、領域間に隙間が生じたりすることがない。また、上記課題を解決するために、本発明の液晶パネルの配向膜のラビング方法は、曲率を有する液晶パネル用の基板と、当該基板の当該曲率を有する方向の幅よりも狭い幅を有し、当該基板の上に形成された配向膜をラビングするラビング布が表面に取り付けられた円筒形のラビングローラとを、当該ラビング布と当該配向膜とが接触した状態で、前記曲率を有する方向と交差する方向である主方向に相対移動させるステップと、前記主方向への相対移動が終了した後に、前記ラビング布と前記配向膜とが離間した状態で、前記基板と前記ラビングローラとを前記曲率を有する方向に相対移動させるステップと、を備えている。当然ながら、このような液晶パネルの配向膜のラビング方法は上述の液晶パネルの配向膜のラビング装置と同様の作用効果を奏する。また、このような液晶パネルの配向膜のラビング方法に対しても、上述の液晶パネルの配向膜のラビング装置の付加的な特徴構成を適用することも可能である。図1は本発明の液晶パネルの配向膜のラビング装置以下、ラビング装置と称するの基本構成を表す模式図である。本発明のラビング装置は、液晶パネルの基板1上に形成された配向膜2に対してラビング処理を施し、配向膜2に配向性を与えるために用いられる。配向膜2はポリイミド等の高分子材料により薄膜状に形成されている。本発明のラビング装置は、図に示すように、軸芯を中心に回転可能に支持された円柱状のラビングローラ10と液晶パネルの基板1を載置するステージ20本発明の載置部の例とを備えている。ラビングローラ10はモータ図示せずの駆動力により図中r方向に回転する。ラビングローラ10の表面円柱の側面には配向膜2をラビング処理するためのラビング布11が取り付けられている。ラビング布11の素材として、レーヨン、コットン等を用いることができる。本実施形態では、ラビング布11はラビングローラ10の表面全体を覆うように取り付けられている。すなわち、ラビングローラ10の軸芯方向において、ラビング布11の長さとラビングローラ10の長さとが同じになるように構成されている。このように構成されたラビングローラ10を基板1側に移動させ、ラビング布11と配向膜2とが接触した状態で、ラビングローラ10を回転させながら、ラビングローラ10と基板1とをラビングローラ10の回転方向に対向する方向に相対移動させると、ラビング布11の表面の起毛が配向膜2をラビングローラ10の回転方向に沿う方向に擦る。これにより、配向膜2にはラビングローラ10の回転方向に沿う方向に配向性が与えられる。図に示すように、本発明のラビング装置が対象とする基板1は一方向に曲率を有した曲面形状を有している。すなわち、基板1は円筒の側面の一部を切り取った形状を有している。そのため、ステージ20の載置面は基板1の形状に応じた曲面形状を有している。なお、以下の説明では、基板1の曲率を有する方向に直交する方向図中のx軸に沿う方向を主搬送方向、基板1の曲率を有する方向図中のy軸に沿う方向を副搬送方向と称する。また、図中の主搬送方向および副搬送方向を示す矢印の方向を正方向、矢印と逆方向を負方向と称する。本実施形態におけるラビング装置は、基板1の曲率を有する方向と直交する方向、すなわち、主搬送方向にラビング処理を行う。そのため、ラビングローラ10は軸芯が副搬送方向に沿うように配置されている。このように、主搬送方向視では、本発明が対象とする基板1は円弧であり、本発明のラビングローラ10は矩形である。したがって、ラビングローラ10を基板1側に押し付けた際には、ラビング布11と配向膜2とは図2のように接触する。なお、図2は、ラビング布11の両端部が配向膜2に接触した状態を主搬送方向から見た断面図であり、ラビング布11のうち、配向膜2に接触する側のみを表している。図に示すように、基板1配向膜2の主搬送方向視における断面、すなわち、副搬送方向に沿う断面は、中心をOとする半径Rの円弧形状を有している。すなわち、基板1はOを曲率中心とする、曲率半径Rを有する曲面形状を有している。この図から明らかなように、ラビング布11の両端部のみが配向膜2に接触した状態では、ラビング布11の副搬送方向における中間部分は配向膜2とは接触していない。特に、ラビング布2の副搬送方向における中央部分では、ラビング布11と配向膜2との距離が最大以下、最大距離dと称するになっている。実際にラビング処理を行う際にはラビング布11全体が配向膜2と接触するようにラビングローラ10が基板1側に押し込まれる。そのため、ラビング布11の端部と接触する配向膜2とラビング布11の副搬送方向における中央部と接触する配向膜2とでは、接触するラビング布11の起毛の長さに差異が生じる。この接触する起毛の長さの差異の最大値は、上述の最大距離dと等しくなる。この配向膜2と接触する起毛の長さの差異は、配向むらにつながるため低減することが望ましい。すなわち、上述の最大距離dを小さくすることが望ましい。図2を参照すると、曲率中心Oからラビング布11の副搬送方向の中央部までの距離は、ラビングローラ10ラビング布11の幅以下、ローラ幅と称するをLとすると、三平方の定理により、となる。したがって、最大距離dはにより求められる。したがって、この最大距離dを小さくすれば配向むらを低減することができる。本発明の発明者らの研究によれば、d≦0.4mm、より好ましくは、d≦0.2mmとすれば配向むらを低減できることが判明している。以下に、図3のフローチャートを用いて本発明のラビング装置の処理の流れを説明する。なお、以下の処理は汎用コンピュータ等によって構成された制御装置図示せずによって制御が行われる。まず、基板1がステージ20の載置面に載置されると、ラビングローラ10およびステージ20が初期位置に設定される01。なお、本実施形態では、ラビングローラ10とステージ20との主搬送方向および副搬送方向における相対移動は、ステージ20を主搬送方向および副搬送方向に移動させることにより行う。一方、ラビングローラ10とステージ20との近接/離間方向の相対移動はラビングローラ10を図1中のz軸に沿う方向に移動させることにより行う。これらの相対移動はボールネジ機構等を用いることができる。この相対移動を行う機構が本発明の主搬送部および副搬送部を構成する。本実施形態での初期位置は、ラビングローラ10の副搬送方向の正方向側の端部と基板1の副搬送方向の正方向側の端部とが一致する位置以下、副搬送方向初期位置と称する、かつ、ラビングローラ10が基板1の主搬送方向の正方向側の端部よりも主搬送方向の正方向側にある位置以下、主搬送方向初期位置と称するである。ステージ20を初期位置に移動させると、ラビングローラ10を回転駆動し02、ラビングローラ10をステージ20側に移動以下、下降と称し、逆方向への移動を上昇と称するさせ03、ラビング布11と配向膜2とを接触させる。この状態で、ステージ20を主搬送方向の正方向に移動させる04。そして、ラビングローラ10が基板1配向膜2の主搬送方向の負方向側の端部に到達すると05のYes分岐、ラビングローラ10を上昇させ06、回転を停止する07。これにより、配向膜2の幅、すなわちローラ幅Lと同幅の領域に対するラビング処理が完了する。このとき、配向膜2全体のラビング処理が完了したか否かが判定され08、未処理部分があれば08のYes分岐、ステージ20を副搬送方向の負方向側にローラ幅Lと同距離だけ移動させるとともに09、主搬送方向初期位置に移動させる10。そして、処理を02に移行し、上述の処理を行う。このように、ステージ20を移動させることにより、既にラビング処理を施した領域と、新たにラビング処理を施す領域とが重複することなく、また、これらの間に隙間が生じることもない。なお、上昇位置にあるラビングローラ10と配向膜2との距離は、ステージ20の副搬送方向における位置によって異なるため、基板1の曲率半径Rとステージ20の副搬送方向における位置とに応じてラビングローラ10の下降量が制御される。このように、本発明のラビング装置では、曲率を有する基板1上に形成された配向膜2を曲率を有する方向と交差する方向にラビング処理する際に、基板1の幅よりも小さい幅を有するラビングローラ10を用いることにより、配向膜2に接触するラビング布11の起毛の長さのばらつきを低減し、配向むらを低減している。別実施形態1上述の実施形態では、ステージ20を移動させる機構によって主搬送部および副搬送部を構成したが、ラビングローラ10を移動させる機構によって主搬送部および副搬送部を構成しても構わない。また、ステージ20を移動させる機構とラビングローラ10を移動させる機構との組み合わせによって、主搬送部および副搬送部を構成しても構わない。なお、ラビングローラ10を移動させる機構により副搬送部を構成する場合には、ラビングローラ10とステージ20基板1との相対距離を調整する機構を備えることが望ましい。2上述の実施形態では、基板1の凹面側のラビング処理を施す場合を説明したが、基板1の凸面側のラビング処理にも同様に適用することができる。3上述の実施形態では、ステージ20の副搬送方向への移動は水平移動とし、ラビングローラ10の下降量を調整する構成としたが、ステージ20の副搬送方向への移動を曲率中心Oを中心として揺動するように構成しても構わない。このとき、ステージ20の載置面が曲率中心Oを中心とする半径Rの円弧上を移動するように揺動させる。このように構成すると、ラビングローラ10の下降量を一定にすることができる。4上述の実施形態では、基板1の曲率を有する方向に直交する方向に対してラビング処理を行ったが、基板1の曲率を有する方向に交差する方向であればその他の方向に対してラビング処理を行っても構わない。