"支持体上に重合性画像記録層を有する平版印刷版原版であって、支持体と重合性画像記録層の間に支持体吸着性基を有する繰り返し単位a1とオキシアルキレン単位の繰り返し数が8~120であるポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位a2を有する高分子化合物を含んでなる中間層を有し、中間層及び重合性画像記録層の少なくともいずれかに分子量が1500以下のオキシアルキレン基を有する化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。分子量が1500以下のオキシアルキレン基を有する化合物のオキシアルキレン基が、ポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版。分子量が1500以下のポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を有する化合物が酸基又はその塩を有することを特徴とする請求項2に記載の平版印刷版原版。ポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基、及び酸基又はその塩を有し、分子量が1500以下の化合物が、下記一般式1Aで表される化合物又は下記一般式1Bで表される構造を有する化合物であることを特徴とする請求項3記載の平版印刷版原版。RZYX1A式1A中、Rは、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、Zはポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を表す。Yは炭素数18以下の置換若しくは無置換のアルキレン基、炭素数30以下の置換若しくは無置換のアリーレン基、又は2価の複素環基を表し、Xは酸基又はその塩を表す。式1B中、X1及びX2は同一であっても異なってもよく、H又は1価のカチオン性基を表す。X1及びX2の代わりに1個の2価のカチオン性基であってもよい。酸基又はその塩がスルホン酸基又はその塩であることを特徴とする請求項3又は4に記載の平版印刷版原版。分子量が1500以下のポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を有する化合物のポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基のオキシエチレン又はオキシプロピレンの繰り返し単位数nが2~20であることを特徴とする請求項2~5のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。分子量が1500以下のポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を有する化合物のポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基のオキシエチレン又はオキシプロピレンの繰り返し単位数nが2~15であることを特徴とする請求項6に記載の平版印刷版原版。分子量が1500以下のオキシアルキレン基を有する化合物のオキシアルキレン基が、ポリオキシエチレン基であることを特徴とする請求項2~7のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。支持体吸着性基を有する繰り返し単位a1とポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位a2を有する高分子化合物において、ポリオキシアルキレン基がポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基であり、繰り返し単位数nが15~100であることを特徴とする請求項1~8のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。支持体吸着性基を有する繰り返し単位a1とオキシアルキレン単位の繰り返し数が8~120であるポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位a2を有する高分子化合物が、エチレン性不飽和結合を側鎖に有する繰り返し単位a3を含むことを特徴とする請求項1~9のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。重合性画像記録層上に、オーバーコート層を有することを特徴とする請求項1~10のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。重合性画像記録層が、インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより除去可能であることを特徴とする請求項1~11のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。請求項12に記載の平版印刷版原版を、画像露光した後に、印刷機に取り付け、未露光部の重合性画像記録層を印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより除去することを特徴とする平版印刷版の製版方法。本発明の目的は、機上現像性及び耐刷性が共に優れ、特に長期保管後の機上現像性に優れた平版印刷版原版、並びにその製版方法を提供することにある。本発明者らは、鋭意検討の結果、中間層又は重合性画像記録層にオキシアルキレン基を有する低分子化合物を含有させ、更に、支持体と重合性画像記録層の間に支持体吸着性基を有する繰り返し単位Aとオキシアルキレン単位の繰り返し数が8~120であるポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位Bを有する高分子化合物を含んでなる中間層を組み合わせることによって、機上現像性、特に、長期保管後の機上現像性を大幅に向上できることを見出し、本発明に至った。本発明は以下の通りである。1.支持体上に重合性画像記録層を有する平版印刷版原版であって、支持体と重合性画像記録層の間に支持体吸着性基を有する繰り返し単位a1とオキシアルキレン単位の繰り返し数が8~120であるポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位a2を有する高分子化合物を含んでなる中間層を有し、中間層及び重合性画像記録層の少なくともいずれかに分子量が1500以下のオキシアルキレン基を有する化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。2.分子量が1500以下のオキシアルキレン基を有する化合物のオキシアルキレン基が、ポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基であることを特徴とする前記1に記載の平版印刷版原版。3.分子量が1500以下のポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を有する化合物が酸基又はその塩を有することを特徴とする前記2に記載の平版印刷版原版。4.ポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基、及び酸基又はその塩を有し、分子量が1500以下の化合物が、下記一般式1Aで表される化合物又は下記一般式1Bで表される構造を有する化合物であることを特徴とする前記3記載の平版印刷版原版。RZYX1A式1A中、Rは、置換若しくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、Zはポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を表す。Yは炭素数18以下の置換若しくは無置換のアルキレン基、炭素数30以下の置換若しくは無置換のアリーレン基、又は2価の複素環基を表し、Xは酸基又はその塩を表す。式1B中、X1及びX2は同一であっても異なってもよく、H又は1価のカチオン性基を表す。X1及びX2の代わりに1個の2価のカチオン性基であってもよい。5.酸基又はその塩がスルホン酸基又はその塩であることを特徴とする前記3又は4に記載の平版印刷版原版。6.分子量が1500以下のポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を有する化合物のポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基のオキシエチレン又はオキシプロピレンの繰り返し単位数nが2~20であることを特徴とする前記2~5のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。7.分子量が1500以下のポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を有する化合物のポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基のオキシエチレン又はオキシプロピレンの繰り返し単位数nが2~15であることを特徴とする前記6に記載の平版印刷版原版。8.分子量が1500以下のオキシアルキレン基を有する化合物のオキシアルキレン基が、ポリオキシエチレン基であることを特徴とする前記2~7のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。9.支持体吸着性基を有する繰り返し単位a1とポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位a2を有する高分子化合物において、ポリオキシアルキレン基がポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基であり、繰り返し単位数nが15~100であることを特徴とする前記1~8のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。10.支持体吸着性基を有する繰り返し単位a1とオキシアルキレン単位の繰り返し数が8~120であるポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位a2を有する高分子化合物が、エチレン性不飽和結合を側鎖に有する繰り返し単位a3を含むことを特徴とする前記1~9のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。11.重合性画像記録層上に、オーバーコート層を有することを特徴とする前記1~10のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。12.重合性画像記録層が、インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより除去可能であることを特徴とする前記1~11のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。13.前記12に記載の平版印刷版原版を、画像露光した後に、印刷機に取り付け、未露光部の重合性画像記録層を印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより除去することを特徴とする平版印刷版の製版方法。本発明では、中間層又は重合性画像記録層にオキシアルキレン基を有する低分子化合物を含有させ、更に、支持体と重合性画像記録層の間に支持体吸着性基を有する繰り返し単位Aとオキシアルキレン単位の繰り返し数が8~120であるポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位Bを有する高分子化合物を含んでなる中間層を組み合わせることで、上記課題を解決できた。この作用機構は必ずしも明確ではないが、以下のように推定される。中間層に存在する支持体吸着性基を有する繰り返し単位Aとポリアルキレンオキシ鎖を有する繰り返し単位Bを有する高分子化合物のポリオキシアルキレン鎖が重合性画像記録層側に配向する。中間層及び/又は重合性画像記録層中のオキシアルキレン基を有する化合物が、配向したポリオキシアルキレン鎖と相互作用することで、中間層あるいは画像記録層中の中間層近傍からの移動が抑制される。その結果、平版印刷版原版を包装形態で長期保管した場合でも、特にオーバーコート層あるいは合紙が存在する場合のそれらへの移動が抑制され、機上現像性の劣化が抑えられる。本発明によれば、機上現像性及び耐刷性が共に優れ、特に長期保管後の機上現像性に優れた平版印刷版原版、並びにその製版方法を提供できる。以下に、本発明の平版印刷版原版に用いられる要素及び成分について詳細に説明する。支持体吸着性基を有する繰り返し単位a1とオキシアルキレン単位の繰り返し数が8~120であるポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位a2を有する高分子化合物以下では特定高分子化合物と称す。<支持体吸着性基を有する繰り返し単位a1>本発明の特定高分子化合物は、支持体との密着性を高めるために、支持体吸着性基を有する繰り返し単位a1を有する。支持体吸着性基を有する繰り返し単位a1は、下記一般式a1-1、a1-2、a1-3、a1-4及びa1-5の各式で表される支持体表面と相互作用する構造の少なくともいずれかを側鎖に有する繰り返し単位であることが好ましい。一般式、、、、及び中、M11、M12はそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属に含まれる金属原子又はアンモニウム基を表す。R11~R13はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。Y1は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。は高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。R11~R13で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、イソペンチル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。上記の組み合わせからなるY1の具体例を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合する。L1:-CO-O-二価の脂肪族基-L2:-CO-O-二価の芳香族基-L3:-CO-NH-二価の脂肪族基-L4:-CO-NH-二価の芳香族基-L5:-CO-二価の脂肪族基-L6:-CO-二価の芳香族基-L7:-CO-二価の脂肪族基-CO-O-二価の脂肪族基-L8:-CO-二価の脂肪族基-O-CO-二価の脂肪族基-L9:-CO-二価の芳香族基-CO-O-二価の脂肪族基-L10:-CO-二価の芳香族基-O-CO-二価の脂肪族基-L11:-CO-二価の脂肪族基-CO-O-二価の芳香族基-L12:-CO-二価の脂肪族基-O-CO-二価の芳香族基-L13:-CO-二価の芳香族基-CO-O-二価の芳香族基-L14:-CO-二価の芳香族基-O-CO-二価の芳香族基-L15:-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-L16:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-ここで二価の脂肪族基とは、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基又はポリアルキレンオキシ基を意味する。なかでもアルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基及びポリアルキレンオキシ基が好ましく、アルキレン基、置換アルキレン基及びポリアルキレンオキシ基が更に好ましい。二価の脂肪族基は、環状構造よりも鎖状構造の方が好ましく、更に分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造の方が好ましい。二価の脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20であることが好ましく、1乃至15であることがより好ましく、1乃至12であることが更に好ましく、1乃至10であることが更にまた好ましく、1乃至8であることが最も好ましい。二価の脂肪族基の置換基の例としては、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基及びジアリールアミノ基等が挙げられる。上記の二価の芳香族基とは、置換基を有してもよいアリーレン基を意味する。具体的には、置換又は無置換の、フェニレン基、ナフタレン基、アンスリレン基などが挙げられる。なかでもフェニレン基が好ましい。二価の芳香族基の置換基の例としては、上記二価の脂肪族基の置換基の例に加えて、アルキル基が挙げられる。Y1として好ましくは、単結合、-CO-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、前記L1~L4である。更に機上現像性の観点から、Y1は、単結合、又は前記L1であることがより好ましい。機上現像性及び耐刷性の観点から、支持体表面と相互作用する構造は、、、であることが好ましく、、であることがより好ましく、であることが最も好ましい。、ともにM11、M12は水素原子であることが好ましい。具体的には、下記の構造を挙げることができる。支持体表面と相互作用する構造を少なくとも1つ有する繰り返し単位a1は、下記一般式A1で表される繰り返し単位が好ましい。一般式A1において、R101~R103はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~6のアルキル基、又はハロゲン原子を表す。Qは上述の一般式a1-1~a1-5から選ばれる支持体表面と相互作用する構造を表し、好ましい態様も上述の一般式a1-1~a1-5の好ましい態様と同じである。本発明の特定高分子化合物中の支持体表面と相互作用する官能基を有する繰り返し単位a1の割合は、機上現像性及び耐刷性の観点から、5~95質量の範囲であることが好ましく、5~90質量の範囲であることがより好ましい。<オキシアルキレン単位の繰り返し数が8~120であるポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位a2>本発明の特定高分子化合物は、更にオキシアルキレン単位の繰り返し数が8~120であるポリオキシアルキレン構造を側鎖に有する繰り返し単位a2を有している。ポリオキシアルキレン構造は、下記一般式で表される構造であることが好ましい。一般式中、R21は、水素原子又はアルキル基を表す。R22は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。aは、1~5の整数を表す。lは、8~120の整数を表す。Y2は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。は高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。一般式中、R21及びR22のアルキル基の例としては、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、イソペンチル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。アリール基の例としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などが挙げられる。R21としては、水素原子が最も好ましく、R22としては、水素原子及びメチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。aは、機上現像性の観点から、好ましくは1又は2であり、最も好ましくは1である。lは機上現像性の観点から好ましくは15~120、より好ましくは15~100である。Y2は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、二価の脂肪族基及び二価の芳香族基は前述のY1の場合と同義である。Y2としては、下記L17で表される連結基であることが最も好ましい。L17:-CO-O-なお、L17は左側が主鎖に結合する。a、Y2、R21、R22の好ましい組み合わせは、aが1であり、Y2がL17であり、R21が水素原子、又はメチル基であり、R22が水素原子、又はメチル基である。R21が水素原子のユニットすなわちオキシエチレンとメチル基のユニットオキシプロピレンが共存していてもよい。より好ましくは、aが1であり、Y2がL17であり、R21が水素原子であり、R22が水素原子、又はメチル基である。ポリオキシアルキレン構造としては、下記の具体例を挙げることができる。本発明において、ポリオキシアルキレン構造を有する繰り返し単位a2は、具体的には下記一般式A2で表されることが好ましい。上式中、R201~R203はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又はハロゲン原子を表す。Jは上述した一般式で表されるポリオキシアルキレン構造であり、好ましい態様も一般式の態様と同じである。本発明における特定高分子化合物中のポリオキシアルキレン構造を有する繰り返し単位a2の割合は、機上現像性の観点から、5~95質量の範囲であることが好ましく、20~80質量の範囲であることがより好ましく、20~49質量の範囲であることが最も好ましい。<エチレン性不飽和結合を側鎖に有する繰り返し単位a3>本発明における特定高分子化合物は、耐刷性の向上の観点から、エチレン性不飽和結合を側鎖に有する繰り返し単位a3を有することが好ましい。ここで、エチレン性不飽和結合の好ましい例としては、付加重合可能な不飽和結合基例えば、メタアクリロイル基、メタアクリルアミド基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基、アルキニル基等が挙げられる。中でも、耐刷性の点から、メタクリル基を有することが最も好ましい。ここでメタアクリル基とは、アクリル基又はメタクリル基を表す。エチレン性不飽和結合は、aポリマー側鎖のヒドロキシ基と、エチレン性不飽和結合を有するイソシアネート類を用いたウレタン化反応、bポリマー側鎖のヒドロキシ基と、エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸、カルボン酸ハライド、スルホン酸ハライド、又はカルボン酸無水物を用いたエステル化反応、cポリマー側鎖のカルボキシ基又はその塩と、エチレン性不飽和結合を有するイソシアネート類を用いた反応、dポリマー側鎖のハロゲン化カルボニル基、カルボキシ基又はその塩と、エチレン性不飽和結合を有するアルコール類を用いたエステル化反応、eポリマー側鎖のハロゲン化カルボニル基、カルボキシ基又はその塩と、エチレン性不飽和結合を有するアミン類を用いたアミド化反応、fポリマー側鎖のアミノ基と、エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸、カルボン酸ハロゲン化物、スルホン酸ハロゲン化物、又はカルボン酸無水物を用いたアミド化反応、gポリマー側鎖のエポキシ基と、エチレン性不飽和結合を有する各種求核性化合物との開環反応、hポリマー側鎖のハロアルキル基と、エチレン性不飽和結合を有するアルコール類とのエーテル化反応、により導入することができる。エチレン性不飽和結合を有する側鎖としては、下記一般式a3-1で表される構造が好ましい。一般式中、R31~R33は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、イソペンチル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。アリール基の例としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などが挙げられる。R31~R33としては、なかでも、水素原子又はメチル基が好ましい。一般式中、Y3は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。組み合わせからなるY3の具体例を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側がエチレン性不飽和結合に結合する。L18:-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-L19:-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-L20:-CO-二価の脂肪族基-O-CO-L23:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-L24:-二価の脂肪族基-O-CO-L25:-CO-NH-二価の芳香族基-O-CO-L26:-CO-二価の芳香族基-O-CO-L27:-二価の芳香族基-O-CO-L28:-CO-O-二価の脂肪族基-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-L29:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-二価の脂肪族基-O-CO-L30:-CO-O-二価の芳香族基-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-L31:-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-二価の脂肪族基-O-CO-L32:-CO-O-二価の脂肪族基-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-L33:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-二価の芳香族基-O-CO-L34:-CO-O-二価の芳香族基-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-L35:-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-二価の芳香族基-O-CO-L36:-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-L37:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-L38:-CO-NH-二価の脂肪族基-NH-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-L39:-CO-NH-二価の芳香族基-NH-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-L40:-CO-O-二価の脂肪族基-NH-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-L41:-CO-O-二価の芳香族基-NH-CO-NH-二価の脂肪族基-O-CO-二価の脂肪族基、及び二価の芳香族基は前述したものと同じである。Y3として好ましくは、L18、L23、L37、L38、L39である。一般式で表される構造としては、具体的には、下記の構造を挙げることができる。エチレン性不飽和結合を側鎖に有する繰り返し単位a3は、下記一般式A3で表される繰り返し単位が好ましい。一般式A3において、R301~R303はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又はハロゲン原子を表す。Tは、上述した一般式a3-1で表されるエチレン性不飽和結合を有する側鎖の構造を表す。特定高分子化合物中の、このようなエチレン性不飽和結合を側鎖に有する繰り返し単位a3の割合は、1~50質量であることが好ましく、1~30質量であることがより好ましく、1~20質量であることが最も好ましい。その他の繰り返し単位D本発明の特定高分子化合物は、上述の繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を有する共重合体であってもよい。特定高分子化合物に共重合させることができるモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、N,N-2置換アクリルアミド類、N,N-2置換メタクリルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などから選ばれるモノマーが挙げられる。具体的には、例えば、アルキルアクリレート、アリールアクリレート、アルキルメタクリレート、アリールメタクリレート、スチレン、アルキルスチレン等のスチレン、アルコキシスチレン、ハロゲン含有スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メタクリル酸、アクリル酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸又はスルホン酸塩等が挙げられる。本発明の特定高分子化合物は、また、双性イオン構造を有する側鎖を含む繰り返し単位を有していてもよい。双性イオン構造を有する側鎖は、下記一般式a4-1又はa4-2で表されることが好ましい。上記一般式a4-1中、R41及びR42は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、R41とR42は互いに連結し、環構造を形成してもよく、L41は、連結基を表し、A-は、アニオンを有する構造を表す。Y4は、高分子化合物の主鎖と連結する2価の連結基を表す。は高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。上記R41及びR42が互いに連結して形成する環構造は、酸素原子などのヘテロ原子を有していてもよく、好ましくは5~10員環、より好ましくは5又は6員環である。R41及びR42の炭素数は、後述の有していてもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数1~30が好ましく、炭素数1~20がより好ましく、炭素数1~15が特に好ましく、炭素数1~8が最も好ましい。R41及びR42で表されるアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、イソペンチル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。R41及びR42で表されるアルケニル基の例としては、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられる。R41及びR42で表されるアルキニル基の例としては、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。また、R41及びR42で表されるアリール基の例としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などが挙げられる。更に、ヘテロ環基としては、フラニル基、チオフェニル基、ピリジニル基などが挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基及びジアリールアミノ基等が挙げられる。R41、R42として、効果及び入手容易性の観点から、特に好ましい例としては、水素原子、メチル基、又はエチル基を挙げることができる。最も好ましくは、メチル基、又はエチル基である。L41は連結基を表し、好ましくは、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる連結基であり、好ましくは、後述の有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数30以下である。連結基の具体例としては、アルキレン基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~10、及び、フェニレン、キシリレンなどのアリーレン基好ましくは炭素数5~15、より好ましくは炭素数6~10が挙げられる。機上現像性の観点から、L41は、炭素数3~5の直鎖アルキレン基が好ましく、更に炭素数4若しくは5の直鎖アルキレン基が好ましく、炭素数4の直鎖アルキレン基が最も好ましい。L41の具体例として、例えば、以下の連結基が挙げられる。なお、これらの連結基は、置換基を更に有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基及びジアリールアミノ基等が挙げられる。前記一般式a4-1において、Aは、好ましくは、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、又はホスフィナートを表す。具体的には、以下の陰イオンが挙げられる。式中、R43は、上述したR41、R42と同義である。機上現像性の観点から、Aはスルホナートであることが最も好ましい。更に、式a4-1において、L41が、炭素数4若しくは5の直鎖アルキレン基であり、かつAがスルホナートの組み合わせが好ましく、L41が、炭素数4の直鎖アルキレン基であり、かつAがスルホナートの組み合わせが最も好ましい。Y4は前記L1又はL3であり、R41及びR42がエチル基又はメチル基であり、L41が、炭素数4若しくは5の直鎖アルキレン基であり、A-がスルホナート基である組み合わせが好ましい。更にY4は前記L3であり、R41、R42がメチル基であり、L41が、炭素数4の直鎖アルキレン基であり、かつA-がスルホナートの組み合わせがより好ましい。具体的には下記構造が好ましい。また、前記一般式a4-2において、L42は連結基を表し、好ましくは、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる。その具体例及び好ましい例については、前述のL41で表される連結基と同様である。Y4は、前記一般式のY4と同義であり、好ましい例も同じである。は高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。Eは、カチオンを有する構造を表し、好ましくはアンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、又はスルホニウムを有する構造を表す。より好ましくは、アンモニウム又はホスホニウムを有する構造であり、特に好ましくはアンモニウムを有する構造である。カチオンを有する構造の例としては、トリメチルアンモニオ基、トリエチルアンモニオ基、トリブチルアンモニオ基、ベンジルジメチルアンモニオ基、ジエチルヘキシルアンモニオ基、2-ヒドロキシエチルジメチルアンモニオ基、ピリジニオ基、N-メチルイミダゾリオ基、N-アクリジニオ基、トリメチルホスホニオ基、トリエチルホスホニオ基、トリフェニルホスホニオ基などが挙げられる。L42Y4、Eの最も好ましい組み合わせは、L42が炭素数2~4のアルキレン基であり、Y4は、前記L1、L3であり、Eは、トリメチルアンモニオ基又はトリエチルアンモニオ基、である。具体的には、下記の構造を挙げることができる。本発明において、双性イオン構造を有する繰り返し単位は、具体的には下記式A4で表されることが好ましい。式中、R401~R403はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又はハロゲン原子を表す。Gは、双性イオン構造を有する側鎖を表し、好ましくは、前記式a4-1又はa4-2で表される構造が好ましい。a4-1及びa4-2の好ましい例、及び組み合わせは、上述したものと同じである。本発明における特定高分子化合物は、既知の方法によっても合成可能であるが、その合成には、ラジカル重合法が好ましく用いられる。一般的なラジカル重合法は、例えば、新高分子実験学3高分子学会編、共立出版、1996年3月28日発行、高分子の合成と反応1高分子学会編、共立出版、1992年5月発行、新実験化学講座19、高分子化学I日本化学会編、丸善、昭和55年11月20日発行、物質工学講座高分子合成化学東京電気大学出版局、1995年9月発行等に記載されており、これらを適用することができる。本発明における特定高分子化合物の質量平均モル質量Mwは、平版印刷版原版の性能設計により任意に設定できる。耐刷性及び機上現像性の観点からは、質量平均モル質量として、2,000~1,000,000が好ましく、2,000~500,000であることがより好ましく、10,000~500,000であることが最も好ましい。以下に、特定高分子化合物の具体例を、その質量平均モル質量Mwと共に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、ポリマー構造の組成比は質量百分率を表す。中間層として、本発明の特定高分子化合物の塗布量は0.1~100mg/m2であるのが好ましい。より好ましくは1~50mg/m2、最も好ましくは5~30mg/m2である。この範囲内で良好な本発明の効果が得られる。分子量が1500以下のオキシアルキレン基を有する化合物以下では特定低分子化合物ともいう。分子量が1500以下のオキシアルキレン基を有する化合物特定低分子化合物は、オキシアルキレン基としてはポリオキシアルキレン基が好ましい。更にポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基であることが好ましく、特にポリオキシエチレン基であることが好ましい。オキシエチレン単位又はオキシプロピレン単位の好ましい繰り返し単位数は、1~30が好ましく、より好ましくは1~20、更に好ましくは2~20、特に好ましくは2~15である。特定低分子化合物は、イオン性の化合物又は非イオン性の化合物のどちらでもよい。イオン性の化合物イオン性の化合物としては、特にポリオキシアルキレン基と酸基又はその塩を有している化合物が好ましい。酸基の中でも、下記1~3に挙げる酸基の塩が好ましい。1カルボン酸基-CO2H2スルホン酸基-SO3H3リン酸基-OPO3H2上記1~3より選ばれる酸基の中でも、2スルホン酸基が好ましい。上記酸基と塩を形成するカチオン性基としては、カチオン性基であれば特に限定されない。カチオン性基の中でも、リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン等の無機カチオン性基、第4級アンモニウム基、第4級ホスホニウム基等の有機カチオン性基等が好ましい。本発明においては、特定低分子化合物がイオン性の場合は、下記一般式1Aで表される化合物又は下記一般式1Bで表される構造を有する化合物であることが特に好ましい。<一般式1Aで表される化合物>以下では、一般式1Aで表される化合物について説明する。RZYX1A式1A中、Rは、置換若しくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、Zはポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を表す。Yは、炭素数18以下の置換若しくは無置換のアルキレン基、炭素数30以下の置換若しくは無置換のアリーレン基又は2価の複素環骨格を表し、Xは酸基又はその塩を表す。Rで表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、secブチル基、tertブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1メチルブチル基、イソヘキシル基、2エチルヘキシル基、2メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1アダマンチル基、2ノルボルニル基等の炭素数1~30までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルキル基が挙げられる。Rで表されるアルケニル基の具体例としては、ビニル基、1プロペニル基、1ブテニル基、1メチル1プロペニル基、1シクロペンテニル基、1シクロヘキセニル基等の炭素数1~30までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルケニル基が挙げられる。Rで表されるアルキニル基の具体例としては、エチニル基、1プロピニル基、1ブチニル基、1オクチニル基等の炭素数1~30までのアルキニル基が挙げられる。Rが有してもよい置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子F、Br、Cl、I、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Nアルキルアミノ基、N,Nジアルキルアミノ基、Nアリールアミノ基、N,Nジアリールアミノ基、NアルキルNアリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Nアルキルカルバモイルオキシ基、Nアリールカルバモイルオキシ基、N,Nジアルキルカルバモイルオキシ基、N,Nジアリールカルバモイルオキシ基、NアルキルNアリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Nアルキルアシルアミノ基、Nアリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’アルキルウレイド基、N’,N’ジアルキルウレイド基、N’アリールウレイド基、N’,N’ジアリールウレイド基、N’アルキルN’アリールウレイド基、Nアルキルウレイド基、Nアリールウレイド基、N’アルキルNアルキルウレイド基、N’アルキルNアリールウレイド基、N’,N’ジアルキルNアルキルウレイド基、N’,N’ジアルキルNアリールウレイド基、N’アリールNアルキルウレイド基、N’アリールNアリールウレイド基、N’,N’ジアリールNアルキルウレイド基、N’,N’ジアリールNアリールウレイド基、N’アルキルN’アリールNアルキルウレイド基、N’アルキルN’アリールNアリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、NアルキルNアルコキシカルボニルアミノ基、NアルキルNアリーロキシカルボニルアミノ基、NアリールNアルコキシカルボニルアミノ基、NアリールNアリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、Nアルキルアミノカルボニル基、N,Nジアルキルアミノカルボニル基、Nアリールアミノカルボニル基、N,Nジアリールアミノカルボニル基、カルバモイル基、Nアルキルカルバモイル基、N,Nジアルキルカルバモイル基、Nアリールカルバモイル基、N,Nジアリールカルバモイル基、NアルキルNアリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基SO3H及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Nアルキルスルフィナモイル基、N,Nジアルキルスルフィナモイル基、Nアリールスルフィナモイル基、N,Nジアリールスルフィナモイル基、NアルキルNアリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Nアルキルスルファモイル基、N,Nジアルキルスルファモイル基、Nアリールスルファモイル基、N,Nジアリールスルファモイル基、NアルキルNアリールスルファモイル基、Nアシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Nアルキルスルホニルスルファモイル基SO2NHSO2alkyl及びその共役塩基基、Nアリールスルホニルスルファモイル基SO2NHSO2aryl及びその共役塩基基、Nアルキルスルホニルカルバモイル基CONHSO2alkyl及びその共役塩基基、Nアリールスルホニルカルバモイル基CONHSO2aryl及びその共役塩基基、アルコキシシリル基SiOalkyl3、アリーロキシシリル基SiOaryl3、ヒドロキシシリル基SiOH3及びその共役塩基基、ホスホノ基PO3H2及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基PO3alkyl2、ジアリールホスホノ基PO3aryl2、アルキルアリールホスホノ基PO3alkylaryl、モノアルキルホスホノ基PO3Halkyl及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基PO3Haryl及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基OPO3H2及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基OPO3alkyl2、ジアリールホスホノオキシ基OPO3aryl2、アルキルアリールホスホノオキシ基OPO3alkylaryl、モノアルキルホスホノオキシ基OPO3Halkyl及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基OPO3Haryl及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルボリル基Balkyl2、ジアリールボリル基Baryl2、アルキルアリールボリル基Balkylaryl、ジヒドロキシボリル基BOH2及びその共役塩基基、アルキルヒドロキシボリル基BalkylOH及びその共役塩基基、アリールヒドロキシボリル基BarylOH及びその共役塩基基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。特にアルコキシ基、アリーロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、Nアルキルアミノカルボニル基、N,Nジアルキルアミノカルボニル基、Nアリールアミノカルボニル基、N,Nジアリールアミノカルボニル基が好ましい。Rで表されるアリール基及び複素環基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、インデニル基等の炭素数1~30までのアリール基、並びに窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個含有する炭素数1~30までのヘテロアリール基、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基等、が挙げられる。本発明の一般式1AのRとしては、上記の中でアルキル基が特に好ましい。Zはポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を表し、繰り返し単位数は1~30が好ましく、より好ましくは1~20、更に好ましくは2~20、特に好ましくは2~15である。Yで表されるアルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、アダマンチレン基、ノルボルニレン基等の炭素数1~30までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルキレンが挙げられる。Yで表されるアリーレン基、2価複素環基の具体例としては、フェニレン、ナフチレン、インデニレン等の炭素数1~30までのアリーレン基、並びに窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個含有する炭素数1~30までのヘテロアリール環、例えば、フラン、チオフェン、ピロリン、ピリジン、キノリン等からの2価基が挙げられる。上記Yの中ではアルキレン基が好ましい。Xで表される酸基及びその塩としては、下記1~3に挙げる酸基及びその塩が好ましく、酸基の塩がより好ましい。1カルボン酸基-CO2H2スルホン酸基-SO3H3リン酸基-OPO3H2上記1~3より選ばれる酸基の中でも、2スルホン酸基が好ましい。Xにて上記酸基と塩を形成するカチオン性基としては、カチオン性基であれば特に限定されない。カチオン性基の中でも、リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン等の無機カチオン性基、第4級アンモニウム基、第4級ホスホニウム基等の有機カチオン性基等が好ましい。以下に一般式1Aで表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の例示に限定されない。<一般式1Bで表される構造を有する化合物>以下では、一般式1Bで表される構造を有する化合物について説明する。式1B中、X1及びX2は同一であっても異なってもよく、H又は1価のカチオン性基を表す。X1とX2の代わりに1個の2価のカチオン性基であってもよい。上記1価のカチオン性基としては、リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン等の無機カチオン性基、及び第4級アンモニウム基、第4級ホスホニウム基等の有機カチオン性基が挙げられる。上記2価のカチオン性基としては、第4級アンモニウム基、第4級ホスホニウム基等の有機カチオン性基を分子内に2個有するカチオン、及びマグネシウムイオン、カルシウムイオン等の2価の無機カチオンが挙げられる。これらのカチオン性基のなかでも特にナトリウムイオンが好ましい。また、一般式1Bで表される構造を有する化合物は、分子中にオキシアルキレン基を有する。オキシアルキレン基が、ポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基であることがより好ましい。オキシエチレン単位又はオキシプロピレン単位の好ましい繰り返し単位数は、1~30が好ましく、より好ましくは1~20、更に好ましくは2~20、特に好ましくは2~15である。ポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基を有することにより、機上現像性が向上する。オキシエチレン単位又はオキシプロピレン単位の繰り返し単位数が30以下であれば塗布液溶解性が良くなり好ましい。一般式1Bの構造を有する化合物の中で、特に下記一般式1B2の構造の化合物が好ましい。式中Rは置換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基を表わす。nは1~20の整数を表す。より好ましくは2~20、特に好ましくは2~15である。X1及びX2は一般式1BのX1及びX2と同義である。アルキル基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素数は1~20が好ましく、1~16がより好ましく、1~12が最も好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基、2エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基などが挙げられる。アルキル基の置換基としては、炭素数20以下の脂肪酸アミド基、アルコキシ基などが挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ブチルフェニル基、アミルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基などが挙げられる。本発明の一般式1Bの構造を有する化合物は、一般式1Bの構造を2個以上有してもよい。具体例として、一般式1B2のRから水素原子を一つ除いた基を単結合又は連結基を介して複数個結合させた化合物が挙げられる。連結基としては特に限定されないが、アルキレン基、アリーレン基、2価以上の複素環基、3価以上の炭化水素基などが挙げられる。以下に化合物1Bの具体例を例示するが、本発明はこれらの例示に限定されない。本発明の一般式1Bの構造を有する化合物は、例えば、特開2002356697号公報等に記載の既知の方法にて合成できる。<一般式1Cで表される化合物>本発明においては、特定低分子化合物として、下記一般式1Cで表される硫酸塩も用いることが可能である。一般式1Cのnは1~20の整数を表す。より好ましくは2~20、特に好ましくは2~15である。一般式1Cで表される硫酸塩の具体例として以下の化合物が挙げられる。非イオン性化合物特定低分子化合物のうち非イオン性の化合物としては、例えば、下記一般式1D1又は1D2で表される化合物を挙げることができる。好ましいオキシアルキレン基はポリオキシエチレン基R=H及びポリオキシプロピレンR=CH3基であり、ポリオキシエチレン基がより好ましい。オキシアルキレン基の好ましい繰り返し単位数は一般式1A,一般式1Bと同様であるが、分子量は1500以下である必要がある。具体例としては、下記D-1~D-7の化合物を挙げることができる。中間層又は画像記録層として、本発明の特定低分子化合物の塗布量は1~200mg/m2であるのが好ましい。より好ましくは10~100mg/m2、最も好ましくは20~80mg/m2である。中間層及び画像記録層に共に含有されている場合の合計の塗布量は1~200mg/m2であるのが好ましい。より好ましくは10~100mg/m2、最も好ましくは20~80mg/m2である。この範囲内で良好な機上現像性を有し、耐刷性の優れた平版印刷版原版が得られる。これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。重合性画像記録層本発明の画像記録層は重合性画像記録層であり、機上現像可能な画像記録層であることが必須である。画像記録層が含有する機上現像可能な代表的な画像形成態様としては、1A赤外線吸収染料、Bラジカル重合開始剤、及び、Cラジカル重合性化合物を含有して、重合反応を利用して画像部を硬化させる態様と、2A赤外線吸収染料、及び、Eポリマー微粒子を含有して、ポリマー微粒子の熱融着や熱反応を利用して疎水性領域画像部を形成する態様を挙げることができるこのようなポリマー微粒子は疎水化前駆体ともいわれる。また、上記二つの態様が混合したものでもよい。例えば、1重合性の画像記録層にポリマー微粒子を含有させてもよいし、2ポリマー微粒子を含んだ疎水化前駆体型画像記録層に、Bラジカル重合開始剤、Cラジカル重合性化合物などを含有させて重合性をもたせてもよい。なかでも、A赤外線吸収染料、Bラジカル重合開始剤、及び、Cラジカル重合性化合物を含有する重合利用の態様が好ましい。以下に、重合性画像記録層に含有できる各成分について、順次説明する。なお、以下では、重合性画像記録層を単に画像記録層と記載する。A赤外線吸収染料赤外線吸収染料は、吸収した赤外線を熱に変換する機能と赤外線により励起して後述のラジカル重合開始剤に電子移動及び/又はエネルギー移動する機能を有する。本発明において使用される赤外線吸収染料は、波長760~1200nmに吸収極大を有する染料である。赤外線吸収染料としては、特開2008-195018号公報の段落番号[0058]~[0087]に記載されている化合物を用いることができる。これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。特に好ましい例として下記一般式aで示されるシアニン色素が挙げられる。一般式a中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、-NR9R10、-X2-L1又は以下に示す基を表す。ここで、R9及びR10は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数6~10の芳香族炭化水素基、炭素原子数1~8のアルキル基、水素原子を表し、またR9とR10とが互いに結合して環を形成してもよい。なかでもフェニル基が好ましい。X2は酸素原子又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1~12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1~12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。以下に示す基において、Xaは後述するZaと同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1~12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Zaは、対アニオンを示す。ただし、一般式aで示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZaは必要ない。好ましいZaは、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。本発明において、好適に用いることのできる一般式aで示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落番号[0017]~[0019]、特開2002-023360号公報の段落番号[0012]~[0021]、特開2002-040638号公報の段落番号[0012]~[0037]に記載されたものを挙げることができる。また、これらのA赤外線吸収染料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開2008-195018号公報[0072]~[0076]に記載の化合物が好ましい。本発明における画像記録層中の赤外線吸収染料の含有量は、画像記録層の全固形分の0.1~10.0質量が好ましく、より好ましくは0.5~5.0質量である。Bラジカル重合開始剤本発明に用いられるBラジカル重合開始剤としては、Cラジカル重合性化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明において使用しうるラジカル重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。本発明におけるラジカル重合開始剤としては、例えば、a有機ハロゲン化物、bカルボニル化合物、cアゾ化合物、d有機過酸化物、eメタロセン化合物、fアジド化合物、gヘキサアリールビイミダゾール化合物、h有機ホウ酸塩化合物、iジスルホン化合物、jオキシムエステル化合物、kオニウム塩化合物、が挙げられる。a有機ハロゲン化物としては、特開2008-195018号公報の段落番号[0022]~[0023]に記載の化合物が好ましい。bカルボニル化合物としては、特開2008-195018号公報の段落番号[0024]に記載の化合物が好ましい。cアゾ化合物としては、例えば、特開平8-108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。d有機過酸化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0025]に記載の化合物が好ましい。eメタロセン化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0026]に記載の化合物が好ましい。fアジド化合物としては、2,6-ビス4-アジドベンジリデン-4-メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。gヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0027]に記載の化合物が好ましい。h有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0028]に記載の化合物が好ましい。iジスルホン化合物としては、特開昭61-166544号、特開2003-328465号公報等に記載の化合物が挙げられる。jオキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0028]~[0030]に記載の化合物が好ましい。kオニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,3871974、T.S.Baletal,Polymer,21,4231980に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4-365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2-150848号、特開2008-195018号の各公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivelloetal,Macromolecules,106,13071977、J.V.Crivelloetal,J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.,17,10471979に記載のセレノニウム塩、C.S.Wenetal,Teh,Proc.Conf.Rad.CuringASIA,p478Tokyo,Oct1988に記載のアルソニウム塩、特開2008-195018号公報に記載のアジニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。上記の中でもより好ましいものとして、オニウム塩、なかでもヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩が挙げられる。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、更に好ましくは非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-メトキシフェニル-4-2-メチルプロピルフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-2-メチルプロピルフェニル-p-トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4-ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=1-ペルフルオロブタンスルホナート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウム=テトラフェニルボラートが挙げられる。スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス4-クロロフェニルフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス4-クロロフェニル-4-メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス4-クロロフェニルスルホニウム=3,5-ビスメトキシカルボニルベンゼンスルホナートが挙げられる。アジニウム塩の例としては、1-シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-シクロヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-エトキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-クロロ-1-シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-エトキシ-4-シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4-ジクロロ-1-2-エチルヘキシルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-ベンジルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-フェネチルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=p-トルエンスルホナート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ブロミド、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。ラジカル重合開始剤は、画像記録層を構成する全固形分に対し0.1~50質量が好ましく、より好ましくは0.5~30質量、特に好ましくは0.8~20質量の割合で添加することができる。この範囲で良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。Cラジカル重合性化合物本発明に用いることができるCラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれることが好ましい。このような化合物群は当該産業分野において広く知られているものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。具体例としては、特開2008-195018号公報の段落番号[0089]~[0098]に記載の化合物が挙げられる。なかでも好ましいものとして、脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などとのエステルが挙げられる。別の好ましいラジカル重合性化合物としては特開2005-329708号公報に記載のイソシアヌル酸構造を有する重合性化合物が挙げられる。上記の中でも、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ビスアクリロイルオキシエチルヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。本発明において、Cラジカル重合性化合物は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5~80質量、更に好ましくは15~75質量の範囲で使用される。Dバインダーポリマー本発明の画像記録層には、画像記録層の膜強度を向上させるため、バインダーポリマーを用いることができる。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。なかでも、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。なかでも本発明に好適なバインダーポリマーとしては、特開2008-195018号公報に記載のような、画像部の皮膜強度を向上するための架橋性官能基を主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。架橋性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。架橋性官能基としては、メタアクリル基、ビニル基、アリル基などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するアクリルポリマーやポリウレタンとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。バインダーポリマー中の架橋性基の含有量は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1~10.0mmol、より好ましくは1.0~7.0mmol、最も好ましくは2.0~5.5mmolである。また、本発明のバインダーポリマーは、更に親水性基を有することが好ましい。親水性基は画像記録層に機上現像性を付与するのに寄与する。特に、架橋性基と親水性基を共存させることにより、耐刷性と現像性の両立が可能になる。親水性基としては、たとえば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホ基、リン酸基等などがあり、なかでも、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~9個有するアルキレンオキシド構造が好ましい。特にエチレンオキシド単位を2~8個有するポリエチレンオキシド構造が好ましい。バインダーポリマーに親水性基を付与するには親水性基を有するモノマーを共重合すればよい。また、本発明のバインダーポリマーには、着肉性を制御するため、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基などの親油性の基を導入できる。具体的には、メタクリル酸アルキルエステルなどの親油性基含有モノマーを共重合すればよい。以下に本発明に用いられるバインダーポリマーの具体例1~11を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお繰り返し単位の比はモル比である。なお、本発明におけるバインダーポリマーは質量平均モル質量Mwが2000以上であることが好ましく、5000以上であるのがより好ましく、1万~30万であるのが更に好ましい。本発明では必要に応じて、特開2008-195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを用いることができる。また、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することもできる。バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、通常5~90質量であり、5~80質量であるのが好ましく、10~70質量であるのがより好ましい。Eポリマー微粒子本発明では、機上現像性を向上させるため、ポリマー微粒子を用いることができる。特に、ポリアルキレンオキシド構造を有するポリマー微粒子が好ましい。特に側鎖にポリアルキレンオキシド基を有するポリマー微粒子が好ましい。これらにより、湿し水の浸透性が向上し、機上現像性が良好となる。本発明におけるポリマー微粒子は、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる疎水化前駆体であることが好ましい。疎水化前駆体ポリマー微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及びミクロゲル架橋ポリマー微粒子から選ばれる少なくともひとつの粒子が好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。機上現像性を向上させるためには、上記の如く、ポリアルキレンオキシド構造を有することが好ましい。疎水性熱可塑性ポリマー微粒子としては、1992年1月のResearchDisclosureNo.333003、特開平9-123387号公報、同9-131850号公報、同9-171249号公報、同9-171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。本発明に用いられる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01~2.0μmが好ましい。本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられ、これらは、熱反応による架橋、及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など、カチオン重合性基例えば、ビニル基、ビニルオキシ基など、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などを好適なものとして挙げることができる。本発明で用いられるマイクロカプセルとしては、例えば、特開2001-277740号公報、特開2001-277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものである。なお、画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。更に、マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。本発明においては、架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様であってもよい。このミクロゲルは、その中及び/又は表面に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができ、特に、Cラジカル重合性化合物をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化、若しくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01~3.0μmが好ましい。0.05~2.0μmが更に好ましく、0.10~1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。ポリマー微粒子の含有量としては、画像記録層全固形分の5~90質量の範囲であることが好ましい。F感脂化剤本発明の画像記録層には、着肉性を向上させるために、画像記録層にホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を用いることができる。特に、酸素遮断層に無機層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。好適なホスホニウム化合物としては、特開2006-297907号公報及び特開2007-50660号公報に記載のホスホニウム化合物を挙げることができる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4-ビストリフェニルホスホニオブタン=ジヘキサフルオロホスファート、1,7-ビストリフェニルホスホニオヘプタン=スルファート、1,9-ビストリフェニルホスホニオノナン=ナフタレン-2,7-ジスルホナート、1,9-ビストリフェニルホスホニオノナン=ジヘキサフルオロホスファートなどが挙げられる。上記含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第4級アンモニウム塩類が挙げられる。またイミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。なかでも、第4級アンモニウム塩類、及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p-トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファートなどが挙げられる。上記アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すれば如何なるものでもよいが、側鎖にアンモニウム基を有するメタアクリレートを共重合成分として5~80モル含有するポリマーが好ましい。上記アンモニウム塩含有ポリマーは、下記の測定方法で求められる還元比粘度単位:cSt/g/mlの値で、5~120の範囲のものが好ましく、10~110の範囲のものがより好ましく、15~100の範囲のものが特に好ましい。<還元比粘度の測定方法>ポリマー固形分1gを、20mlのメスフラスコに秤量し、N-メチルピロリドンでメスアップした。この溶液をウベローデ還元比粘度管粘度計定数=0.010cStsに入れ、30°Cにて流れ落ちる時間を測定し、計算式動粘度=粘度計定数×液体が細管を通る時間秒を用いて定法により算出した。以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。12-トリメチルアンモニオエチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体モル比10/9022-トリメチルアンモニオエチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体モル比20/8032-エチルジメチルアンモニオエチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体モル比30/7042-トリメチルアンモニオエチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2-エチルヘキシルメタクリレート共重合体モル比20/8052-トリメチルアンモニオエチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体モル比40/6062-ブチルジメチルアンモニオエチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体モル比20/8072-ブチルジメチルアンモニオエチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体モル比20/8082-ブチルジメチルアンモニオエチルメタクリレート=13-エチル-5,8,11-トリオキサ-1-ヘプタデカンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体モル比20/8092-ブチルジメチルアンモニオエチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート/2-ヒドロキシ-3-メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体モル比15/80/5上記感脂化剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して0.01~30.0質量が好ましく、より好ましくは0.1~15.0質量、1~10質量が更に好ましい。Gその他の成分更にその他の成分として、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機層状化合物、及び共増感剤若しくは連鎖移動剤などを添加することができる。具体的には、特開2008-284817号公報の段落番号[0114]~[0159]、特開2006-091479号公報の段落番号[0023]~[0027]、米国特許公開2008/0311520号明細書[0060]に記載の化合物及び添加量が好ましい。H画像記録層の形成本発明における画像記録層は、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0142]~[0143]に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、これを支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することで形成される。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量固形分は、用途によって異なるが、一般的に0.3~3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。中間層本発明の平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に中間層が設けられる。中間層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、中間層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。中間層には、前記の特定高分子化合物が用いられる。特定低分子化合物も前記のように用いられる。これらの特定化合物の他に、本発明の中間層は、経時における汚れ防止のため、キレート剤、第2級又は第3級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基とアルミニウム支持体表面と相互作用する基とを有する化合物等例えば、1,4-ジアザビシクロ[2,2,2]オクタンDABCO、2,3,5,6-テトラヒドロキシ-p-キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸などを含有することができる。中間層は、公知の方法で塗布される。中間層の塗布量固形分は、1.1~350mg/m2であるのが好ましく、2.0~100mg/m2であるのがより好ましい。オーバーコート層本発明の平版印刷版原版は、画像記録層の上にオーバーコート層保護層とも呼ばれる。を設けることが好ましい。オーバーコート層は酸素遮断によって画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止、及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。このような特性のオーバーコート層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55-49729号公報に記載されている。オーバーコート層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリメタアクリロニトリル等が挙げられる。変性ポリビニルアルコールとしては、カルボン酸基又はスルホン酸基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号、特開2006-259137号の公報記載の変性ポリビニルアルコールが好適なものとして挙げられる。オーバーコート層の好ましい態様として、特開平11-38633号公報等に記載の無機質の層状化合物を含有させたオーバーコート層を挙げることができる。無機質の層状化合物と上記バインダーと組み合わせによって良好な酸素遮断性を得ることができる。本発明において用いられる無機質層状化合物とは、薄い平版状の形状を有する粒子であり、例えば、一般式AB,C25D4O10OH,F,O2ただし、AはK,Na,Caの何れか、B及びCはFeII,FeIII,Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSi又はAlである。で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO4SiOH2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウムなどが挙げられる。上記天然雲母としては、具体的には、例えば、白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、具体的には、例えば、フッ素金雲母KMg3AlSi3O10F2、カリ四ケイ素雲母KMg25Si4O10F2等の非膨潤性雲母;NaテトラシリリックマイカNaMg25Si4O10F2、Na又はLiテニオライトNa,LiMg2LiSi4O10F2、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライトNa,Li18Mg25Li18Si4O10F2等の膨潤性雲母;等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。本発明で使用する無機質の層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上が好ましく、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。本発明で使用する無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3~20μmであることが好ましく、より好ましくは0.5~10μm、特に好ましくは1~5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.05μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1~50nm、面サイズが1~20μm程度である。このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子をオーバーコート層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによるオーバーコート層の劣化を防止する。無機質の層状化合物のオーバーコート層に含有される量は、オーバーコート層の全固形分量に対し、好ましくは5質量~55質量、より好ましくは10質量~40質量である。5質量以上とすることで、耐接着性に対して効果が認められ、55質量以下であれば塗膜形成性が良好で十分な感度が得られる。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これらの無機質層状化合物の合計量が上記の質量であることが好ましい。オーバーコート層に用いる無機質層状化合物の分散は、例えば、下記のようにして行われる。まず、水100質量部に先に無機質層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5~10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質層状化合物の5~10質量の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いてオーバーコート層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。また、オーバーコート層には、可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させるための界面活性剤、表面の滑り性を制御する無機微粒子など公知の添加物を含むことができる。また、画像記録層の説明に記載した感脂化剤をオーバーコート層に含有させることもできる。オーバーコート層は、公知の方法で塗布される。オーバーコート層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01~10g/m2の範囲であることが好ましく、0.02~3g/m2の範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02~1g/m2の範囲である。支持体本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体としては、公知の支持体が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。また、特開2009-255434号公報に記載の鉄が低含有量であるアルミニウム板を好適なものとして挙げることができる。また、上記アルミニウム板は必要に応じて、特開2001-253181号公報や特開2001-322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートあるいは米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行うことができる。支持体は、中心線平均粗さが0.10~1.2μmであるのが好ましい。本発明の支持体には必要に応じて、裏面に、特開平5-45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6-35174号公報に記載されているケイ素のアルコキシ化合物を含むバックコート層を設けることができる。製版方法本発明の平版印刷版原版の製版は機上現像方法で行うことが好ましい。機上現像方法は、平版印刷版原版を画像露光する工程と、露光後の平版印刷版原版になんらの現像処理を施すことなく、油性インキと水性成分とを供給して、印刷する印刷工程とを有し、該印刷工程の途上において平版印刷版原版の未露光部分が除去されることを特徴とする。画像様の露光は平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で行ってもよいし、プレートセッターなどで別途行ってもよい。後者の場合は、露光済み平版印刷版原版は現像処理工程を経ないでそのまま印刷機に装着される。その後、該印刷機を用い、油性インキと水性成分とを供給してそのまま印刷することにより、印刷途上の初期の段階で機上現像処理、すなわち、未露光領域の画像記録層が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出され非画像部が形成される。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が用いられる。以下、更に詳細に説明する。本発明において画像露光に用いられる光源としては、レーザーが好ましい。本発明に用いられるレーザーは、特に限定されないが、波長760~1200nmの赤外線を照射する固体レーザー及び半導体レーザーなどが好適に挙げられる。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10~300mJ/cm2であるのが好ましい。レーザーにおいては、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。露光された平版印刷版原版は、印刷機の版胴に装着される。レーザー露光装置付きの印刷機の場合は、平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着したのち画像露光される。画像様に露光した平版印刷版原版に湿し水と印刷インキとを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する印刷インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された湿し水及び/又は印刷インキによって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキは露光領域の画像記録層に着肉して印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、湿し水でもよく、印刷インキでもよいが、湿し水が未硬化の画像記録層に浸透するのを印刷インキが妨げない点で、最初に湿し水を供給するのが好ましい。このようにして、本発明の平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は質量平均モル質量Mwであり、繰り返し単位の比率はモル百分率である。[実施例1~33及び比較例1~11]1支持体の作製厚み0.3mmのアルミニウム板材質JISA1050の表面の圧延油を除去するため、10質量アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50°Cで30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス-水懸濁液比重1.1g/cm3を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45°Cの25質量水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60°Cで20質量硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含む、液温50°Cであった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。続いて、塩酸0.5質量水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含む、液温50°Cの電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。次に、この板に15質量硫酸水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含むを電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体1を作製した。その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体1に2.5質量3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60°Cで10秒間、シリケート処理を施し、その後、水洗して支持体2を得た。Siの付着量は10mg/m2であった。この基板の中心線平均粗さRaを直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。2中間層の形成次に、上記支持体2上に、下記中間層塗布液1を乾燥塗布量が20mg/m2になるよう塗布して、中間層を有する支持体を作製した。<中間層塗布液1>表1記載の特定高分子化合物又は下記比較用高分子化合物0.50g表1記載の特定低分子化合物0.50g水500.00g3画像記録層の形成上記のようにして形成された中間層上に、下記組成の画像記録層塗布液1をバー塗布した後、100°C60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。画像記録層塗布液1は下記感光液1及びミクロゲル液1を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。<感光液1>バインダーポリマー1下記構造0.240g赤外線吸収染料1下記構造0.030g重合開始剤1下記構造0.162gラジカル重合性化合物トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレートNKエステルA-9300、新中村化学株製0.192gトリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート0.062g表1に記載の特定低分子化合物0.050g中間層にも特定低分子化合物が添加される場合は0.025gとする。感脂化剤ホスホニウム化合物1下記構造0.055g感脂化剤ベンジル-ジメチル-オクチルアンモニウムPF6塩0.018g感脂化剤アンモニウム基含有ポリマー[下記構造、還元比粘度44cSt/g/ml]0.035gフッ素系界面活性剤1下記構造0.008g2-ブタノン1.091g1-メトキシ-2-プロパノール8.609g<ミクロゲル液1>ミクロゲル12.640g蒸留水2.425g上記の、バインダーポリマー1、赤外線吸収染料1、重合開始剤1、ホスホニウム化合物1、アンモニウム基含有ポリマー、及びフッ素系界面活性剤1の構造は、以下に示す通りである。-ミクロゲル1の合成-油相成分として、下記構造の多官能イソシアナート三井化学製;75質量酢酸エチル溶液4.46g、トリメチロールプロパン6モルとキシレンジイソシアナート18モルを付加させ、これにメチル片末端ポリオキシエチレン1モル、なおオキシエチレン単位の繰り返し数は90を付加させた付加体三井化学ポリウレタン製;50質量酢酸エチル溶液10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート日本化薬株製、SR4443.15g、及びパイオニンA-41C竹本油脂株製0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール株クラレ製PVA-205の4質量水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50°Cで3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量になるように蒸留水を用いて希釈し、これを前記ミクロゲル1とした。ミクロゲルの平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。4オーバーコート層の形成上記画像記録層上に、更に下記組成のオーバーコート層塗布液1をバー塗布した後、120°C、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2のオーバーコート層を形成して、実施例1~33用及び比較例1~11用の平版印刷版原版を得た。<オーバーコート層塗布液1>無機質層状化合物分散液11.5gポリビニルアルコール日本合成化学工業株製CKS50、スルホン酸変性、けん化度99モル以上、重合度3006質量水溶液0.55gポリビニルアルコール株クラレ製PVA-405、けん化度81.5モル、重合度5006質量水溶液0.03g日本エマルジョン株製界面活性剤エマレックス7101質量水溶液0.86gイオン交換水6.0g無機質層状化合物分散液1の調製イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME-100コープケミカル株製6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径レーザー散乱法が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。5平版印刷版原版の評価得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム株製LuxelPLATESETTERT-6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50網点チャートを含むようにした。得られた露光済み原版を現像処理することなく、株小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity-2富士フイルム株製/水道水=2/98容量比の湿し水とスペースカラーフュージョンGNインキDICグラフィックス株製とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート76.5kg紙に印刷を100枚行った。<機上現像性>画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。これらの結果を表1に示す。<経時後の機上現像性>作製した平版印刷版原版及び合紙を、25°C70RH下で1時間調湿した。調湿した平版印刷版原版上に合紙を載せたセットを、30セット積み重ねて1組とした。更に上下に当てボールを挟んだ状態でアルミクラフト紙で包装し、通常の製品形態を作製した。作製した包装を60°C下4.5日保管することで、長期保管をシミュレートした平版印刷版原版を作製した。この平版印刷版原版について上記と同様に印刷して、機上現像性を計測した。これらの結果を表1に示す。<耐刷性>経時していない平版印刷版原版について上述の機上現像性評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。これらの結果を表1に示す。[実施例41~73及び比較例12~22]1中間層の形成次に、前記支持体2上に、下記中間層塗布液2を乾燥塗布量が20mg/m2になるよう塗布して、中間層を有する支持体を作製した。<中間層塗布液2>表2記載の特定高分子化合物又は比較用高分子化合物0.50g表2記載の特定低分子化合物0.50g水500.00g2画像記録層の形成上記のようにして形成された中間層上に、下記組成の画像記録層塗布液2をバー塗布した後、100°C60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成して、実施例41~73用及び比較例12~22用の平版印刷版原版を得た。<画像記録層塗布液2>ポリマー微粒子水分散液1下記合成法20.0g赤外線吸収剤3下記に示す化合物0.2g表2に記載の特定低分子化合物0.26g中間層にも特定低分子化合物が添加される場合は0.07gとする。Irgacure2500.5gエチレン性不飽和基を有するモノマー1.50gSR-399サートマー社製メルカプト-3-トリアゾール0.2gByk336BykChimie社製0.4gKlucelMHercules社製4.8gELVACITE4026IneosAcrylica社製2.5gn-プロパノール55.0g2-ブタノン17.0gなお、上記組成中の商品名で記載の化合物は下記の通りである。Irgacure250:4-メトキシフェニル[4-2-メチルプロピルフェニル]ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート75質量プロピレンカーボナート溶液SR-399:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートByk336:変性ジメチルポリシロキサン共重合体25質量キシレン/メトキシプロピルアセテート溶液KlucelM:ヒドロキシプロピルセルロース2質量水溶液ELVACITE4026:高分岐ポリメチルメタクリレート10質量2-ブタノン溶液ポリマー微粒子水分散液1の合成1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレートPEGMAエチレングリコールの平均の繰返し単位は5010g、蒸留水200g及びn-プロパノール200gを加えて内温が70°Cとなるまで加熱した。次に予め混合されたスチレンSt10g、アクリロニトリルAN80g及び2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80°Cまで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’-アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN=10/10/80のポリマー微粒子水分散液1が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。ここで、粒径分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。3平版印刷版原版の評価実施例41~73用及び比較例12~22用の平版印刷版原版について、機上現像性、経時後の機上現像性、及び耐刷性を、実施例1~33と同様に評価した。結果を表2に示す。"