描画パターンデータを記憶する第1の記憶装置と、該描画パターンデータに所定のショット分割処理を加えることにより、ショット順に順序づけされた1ショット単位のショット分割パターンデータを作成する第1のショット分割手段を備え、制御手段により該ショット分割パターンデータに基づき断面形状と描画材料上のショット位置とを制御して描画材料上に荷電粒子ビームをショットすると共に、近接効果補正データに基づいてショット時間を制御して所望のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置において、前記第1の記憶装置から読み出された描画パターンデータに基づいて近接効果補正演算を行い近接効果補正マップデータを作成する近接効果補正演算回路と、前記第1の記憶装置から読み出された該描画パターンデータに前記第1のショット分割手段におけるのと同一のショット分割処理を加えることにより、ショット順に順序づけされた1ショット単位のショット分割パターンデータを作成する第2のショット分割手段と、該第2のショット分割手段から得られたショット分割パターンデータと前記近接効果補正演算回路から得られた近接効果補正マップデータとに基づきショット順に順序づけられた1ショット単位の近接効果補正データを作成するショット単位近接効果補正データ作成回路とを備えた外部処理装置を設け、前記制御手段は、前記第1のショット分割手段から得たれたショット分割パターンデータに基づき断面形状と描画材料上のショット位置とを制御して描画材料上にか荷電粒子ビームをショットすると共に、前記外部処理装置で作成されたショット順に順序づけされた1ショット単位の近接効果補正データに基づいてショット時間を制御して描画することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。第1のショット分割手段により描画パターンデータに所定のショット分割処理を加えることにより、ショット順に順序づけされた1ショット単位のショット分割パターンデータを作成し、制御手段により該ショット分割パターンデータに基づき断面形状と描画材料上のショット位置とを制御して描画材料上に荷電粒子ビームをショットする共に、近接効果補正データに基づいてショット時間を制御して所望のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画方法において、第2のショット分割手段により前記描画パターンデータの前記第1のショット分割手段におけるのと同一のショット分割処理を加えることにより、ショット順に順序づけされた1ショット単位のショット分割パターンデータを作成する工程と、前記描画パターンデータに基づいて近接効果補正演算を行い近接効果補正マップデータを作成する工程と、前記第2のショット分割手段から得られたショット分割パターンデータと前記近接効果補正マップデータとに基づきショット順に順序づけされた1ショット単位の近接効果補正データを作成する工程とから成る準備工程を設け、該準備工程終了後、前記制御手段により、前記第1のショット分割手段から得られたショット順に順序付けられたショット分割パターンデータに基づき断面形状と描画材料上のショット位置とを制御して描画材料上にか荷電粒子ビームをショットすると共に、前記外部処理装置で作成されたショット順に順序づけされた1ショット単位の近接効果補正データに基づいてショット時間を制御して描画することを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。半導体デバイスの微細化が更に進展して極めて密度の高い半導体素子を製造する場合、描画パターンデータが多量になり、また、精度の高い描画を行うために種々の補正かぶり誤差補正、プロセス誤差補正、ローディング効果補正等を行うので膨大なデータを用いた複雑で長時間を要する演算となることは避けられない。そのため、上述したように、事前に外部処理装置で補正演算を済ませ、演算の結果、得られた補正値データを付加した描画パターンデータを作成し、電子ビーム描画装置の記憶装置20に格納し、それから電子ビーム描画装置による描画が開始される。しかし、このような外部処理装置で行い、描画パターンデータに補正値を付加した補正値データ付き描画パターンデータを作成すると、作成されるパターンデータ量の増大を招き、それを格納する電子ビーム描画装置の記憶装置20の容量を大きくしなければならないばかりか、記憶装置20への転送に長時間を要することになる。これは描画装置の稼動率の低下を招き、ひいては描画スループットの低下を招くことになる。なお、パターンデータのデータ量の増大には、単純に補正量が付加されることによる増大と、パターンデータは一般的に基本的な図形の位置および大きさと、その図形の繰返し情報に分離して圧縮されているのに対し、補正値をパターンデータに付加する際に、パターンデータの圧縮を解いて付加しなければならないことによる増大がある。本発明は、このような問題を解決するためになされたもので、新規な荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置を提供することを目的とする。本発明の荷電粒子ビーム描画装置は、描画パターンデータを記憶する第1の記憶装置と、該描画パターンデータに所定のショット分割処理を加えることにより、ショット順に順序づけされた1ショット単位のショット分割パターンデータを作成する第1のショット分割手段を備え、制御手段により該ショット分割パターンデータに基づき断面形状と描画材料上のショット位置とを制御して描画材料上に荷電粒子ビームをショットすると共に、近接効果補正データに基づいてショット時間を制御して所望のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置において、前記第1の記憶装置から読み出された描画パターンデータに基づいて近接効果補正演算を行い近接効果補正マップデータを作成する近接効果補正演算回路と、前記第1の記憶装置から読み出された該描画パターンデータに前記第1のショット分割手段におけるのと同一のショット分割処理を加えることにより、ショット順に順序づけされた1ショット単位のショット分割パターンデータを作成する第2のショット分割手段と、該第2のショット分割手段から得られたショット分割パターンデータと前記近接効果補正演算回路から得られた近接効果補正マップデータとに基づきショット順に順序づけられた1ショット単位の近接効果補正データを作成するショット単位近接効果補正データ作成回路とを備えた外部処理装置を設け、前記制御手段は、前記第1のショット分割手段から得たれたショット分割パターンデータに基づき断面形状と描画材料上のショット位置とを制御して描画材料上にか荷電粒子ビームをショットすると共に、前記外部処理装置で作成されたショット順に順序づけされた1ショット単位の近接効果補正データに基づいてショット時間を制御して描画することを特徴とする。本発明の荷電粒子ビーム描画方法及び装置によれば、外部処理装置で事前に補正演算を行うと共にショット分割も行い、ショット分割データと補正演算の結果に基づいて、1ショット毎の補正値を描画する順番に並べたショット順補正値データを作成しておき、実施の描画の際、近接効果補正データを付けなくてすむので、描画パターンデータに近接効果補正データを付加することに伴うデータの増大に起因する外部処理装置から荷電粒子ビーム描画装置へのデータ転送の際の長時間のデータ転送待ちが起きなくなり、荷電粒子ビーム描画装置の可動率の低下を抑えことができる。実施の形態1図1は、本発明の実施の形態1に係る電子ビーム描画装置と外部処理装置を構成の一例を示す図である。図4中、図1にて使用した記号と同一記号の付されたものは同一構成要素を示す。図1に示された電子ビーム描画装置と外部処理装置と図4に示された電子ビーム描画装置と外部処理装置との比較で異なる構成は、外部処理装置22 ́内にデータ変換機30を設け、ショット補正値付加回路を削除したことにある。外部処理装置22内のデータ変換機30は、ショット分割処理回路19 ́とソーティング処理回路20 ́とショット単位近接効果補正データ作成回路29とから成る。そして、前記ショット分割処理回路19 ́と前記ソーティング処理回路20 ́は、データ転送回路18内のショット分割処理回路19とソーティング処理回路20と同一の機能を有するものである。前記ショット単位近接効果補正データ作成回路29は、ソーティング処理回路20 ́からの出力と近接効果補正演算回路23からの出力とに基づいてショット順に順序づけされた1ショット単位の近接効果補正データを作成し、記憶装置25に送るものである。更に、パターンディスク16の出力を外部処理装置22 ́とCPU17に接続させ、記憶装置25がショット順に順序付けされた1ショット単位の近接効果補正データを記憶するものである。このような構成の電子ビーム描画装置の動作について説明する。描画前の準備段階において、外部処理装置22 ́でパターンディスク16からの描画パターンデータに基づいてショット順に順序づけられた1ショット単位の近接効果補正データを作成する。先ず、その過程について説明する。パターンデータディスク16に格納している描画パターンデータは、CPU17からの指令により外部処理装置22 ́に送られる。該描画パターンデータに基づき近接効果補正演算回路23は、描画パターンを描画領域の単位区画メッシュ毎に分割し、この区画毎に近接効果補正の補正値を算出し、データ変換機30内のショット単位近接効果補正データ作成回路29に送る。このとき、同時に該描画パターンデータに基づきデータ変換機30のショット分割処理回路19 ́は、前記描画パターンデータ中のパターンを最大ショット寸法以下のショット単位の描画パターンに分割し、1ショット単位のショット分割パターンデータをソーティング処理回路20 ́に送る。なお、該ショット分割処理回路19 ́は、後述するショット分割処理回路19におけるのと同一のショット分割処理を行うものである。該ソーティング処理回路20 ́は、送られてきたショット分割パターンデータをショットする順番に並びかえ、ショット単位近接効果補正データ作成回路29に送る。該ショット単位近接効果補正データ作成回路29は、前記近接効果補正演算回路23から区画ごとに求められた近接効果補正マップデータと該ソーティング処理回路20 ́から送られてきたショット分割パターンデータとを対応させ、ショット分割パターンデータの位置情報例えば、ショットパターンの中心の位置座標に対応する区画の近接効果補正の補正値を読み出し、読み出された近接効果補正の補正値に基づいて新たな近接効果補正の補正値を算出し、1ショット単位のショット分割パターンデータ毎に近接効果補正の補正値を得、ショット順に順序づけされた1ショット単位の近接効果補正データを作成し、該近接効果補正データを記憶装置20に送る。準備段階が終了した後、描画が指示されると、CPU17からの指令によりパターンディスク16から描画パターンデータがデータ転送回路18に送られ、前記記憶装置20内のショット順に順序づけられた1ショット単位の近接効果補正データが照射時間演算回路21内のメモリ21 ́に送られる。データ転送回路18内のショット分割処理回路19では、前記パターンディスク16からの描画パターンデータに対して、前記ショット分割処理回路19 ́におけるのと同一のショット分割処置を行うことによりショット分割データを作成し、ソーティング処理回路20に送る。該ソーティング処理回路20は、前記1ショット単位のショット分割パターンデータをショットする順番に並びかえ、照射時間演算回路21に送る。前記照射時間演算回路21は、該ソーティング処理回路20から1ショット単位のショット分割パターンデータが送られてくると、ショット順に近接効果補正の補正量をメモリ21 ́から読み出し、基準照射量と読み出された近接効果補正の補正値が適用された照射時間データを算出し、この照射時間データをブランキング制御回路13に送る。このとき、同時に前記ソーティング処理回路20から前記1ショット単位のショット分割パターンデータのパターン情報が成形偏向器制御回路14に、ショット位置情報が位置決め偏向器制御回路15に順次送られるため、前記ブランキング制御回路13によりブランカー2が前記照射時間データで制御され、前記成形偏向制御回路14によって成形偏向器7が制御され、前記位置決め偏向器制御回路15によって位置決め偏向器11が制御されるので、前記成形偏向器7によりパターン情報に基づいて電子ビームの断面形状が成形された成形ビームが、位置決め偏向器11によりショット位置情報に基づいた描画材料10上の位置に前記照射時間データで決まる照射時間でショットされ、所望のショット分割パターンが順次描画される。このように本発明の荷電粒子ビーム描画装置によれば、外部処理装置で事前に補正演算を行うと共にショット分割も行い、ショット分割データと補正演算の結果に基づいて、1ショット毎の補正値を描画する順番に順序付けされたショット順補正値データを作成しておくため、実施の描画の際、近接効果補正データを付けなくてすむので、描画パターンデータに近接効果補正データを付加することに伴うデータの増大に起因する外部処理装置から荷電粒子ビーム描画装置へのデータ転送の際の長時間のデータ転送待ちが起きなくなり、荷電粒子ビーム描画装置の可動率の低下を抑えことができる。前記実施例では、1個のパターンデータディスク16からの描画パターンデータを電子ビーム描画装置側のCPU17と外部装置側外部処理装置22 ́と変換機30に入力させた説明を行ったが、図2に示すように2個のパターンデータディスク16、16 ́を用い、同じ描画パターンデータを電子ビーム描画装置側のCPU17と外部処理装置22に入力させ同様の動作をさせても良い。また、図3に示すように外部処理装置22 ́ ́の中にデータ転送回路18内のショット分割処理回路19とソーティング処理回路20と同じ働きをするソフトウエア、即ち、ショット分割工程19 ́とソーティング処理工程20 ́を組み入れても良い。このとき近接効果補正演算の結果を記憶するメモリ35を設け、ショット単位近接効果補正データ作成回路29 ́もソフトウエアであることが望ましい。また、ショット順に順序づけされた1ショット単位の近接効果補正データは、近接効果補正の補正値の他にかぶり誤差補正、現像やエッチング処理にパターン面積率に依存した処理能力の違いによって発生するパターン寸法の誤差を補正するプロセス誤差補正、現像ローディング効果補正、ステッパの光学系歪みによるパターン寸法の誤差を補正する転写誤差補正等を含んだものでも良い。