透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が3以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ISO14577-1に準拠して押し込み荷重0.5mNで測定したときの押し込み深さが0.6μm以上であり、前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が3以上であることを特徴とする光学シート。面光源の光放出面側に前記請求項1に記載の光学シートを備えることを特徴とする、面光源装置。画像表示装置本体の背面側に、前記請求項4に記載の面光源装置を配置した、画像表示装置。本発明は上記実情を鑑みたものであり、凸状の光学単位を有する光学機能発現部を設けた光学シートの当該光学機能発現部に優れた耐指跡性指跡付着防止性を付与することを目的とする。本発明に係る光学シートは、透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が3以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ISO14577-1に準拠して押し込み荷重0.5mNで測定したときの押し込み深さが0.6μm以上であり、前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が3以上であることを特徴とする。本発明に係る面光源装置は、面光源の光放出面側に前記本発明に係る光学シートを備えることを特徴とする。本発明に係る画像表示装置は、画像表示装置本体の背面側に、前記本発明に係る面光源装置を配置してなることを特徴とする。本発明によれば、凸状の光学単位を有する光学機能発現部の耐指跡性指跡付着防止性に優れる光学シート、並びに当該光学シートを備える面光源装置及び画像表示装置を提供することができる。以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その趣旨の範囲内で種々変形して実施することができる。本発明において、メタアクリル樹脂は、アクリル樹脂及び/又はメタクリル樹脂を表し、メタアクリレートは、アクリレート及び/又はメタクリレートを表す。本発明において樹脂とは、モノマーやオリゴマーの他、ポリマーを含む概念である。なお、フィルムとシートのJIS-K6900での定義では、シートとは薄く一般にその厚さが長さと幅のわりには小さい平らな製品をいい、フィルムとは長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通例、ロールの形で供給されるものをいう。したがって、シートの中でも厚さの特に薄いものがフィルムであるといえるが、シートとフィルムの境界は定かではなく、明確に区別しにくいので、本発明では、厚みの厚いもの及び薄いものの両方の意味を含めて、シートと定義する。本発明において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、THF溶剤におけるゲル浸透クロマトグラフィーGPCにより測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量を意味し、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味する。光学シート本発明に係る光学シートは、透明基材の一面側に、頂点または稜線を有する凸状の光学単位を複数配列した光学機能発現部を設け、他面側に、バインダー樹脂を含む裏面層を設けた光学シートであって、前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が3以上であり、且つ、その光学単位の頂部における、ISO14577-1に準拠して押し込み荷重0.5mNで測定したときの押し込み深さが0.6μm以上であり、前記裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有しており、その表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が3以上であることを特徴とする。本発明者らは、光学シートの指跡付着性を調査したところ、凸状の光学単位を有する光学機能発現部は、裏面層と比べて指跡が付着しやすく、光学機能発現部に含有される防汚剤の量が、裏面層の指跡付着を防止できる防汚剤の量と同じでも、光学機能発現部に指跡が付着することが判明した。そこで、本発明者らは光学シートの表裏で指跡付着性の程度に差が生じた理由について、その原因を鋭意分析検討した結果、指跡には主に皮脂の付着と加圧による永久変形の二種類の原因があると考えた。つまり、光学シートの光学機能発現部側を手で掴もうとすると、凸状の光学単位の尖った頂上付近だけに指が接触し、接触面積が限定され、光学機能発現部に対する指の接触圧力が裏面層に対する指の接触圧力よりも大きくなるため、特に光学機能発現部の指紋と思われていた痕跡は、表面に皮脂が強く付着するいわゆる狭義の指紋だけでは無く、これに加えて、指跡の凹凸形状が、指が接触した際の加圧によって転写して永久変形することも一因となっている、と考えた。これは、光学機能発現部は、稜線が最外部に突出した三角柱プリズムに代表されるような突起部を有し、該突起部は狭い面積で指の加圧力を受ける為、応力が集中し、変形が予想外に顕著に残るためである。それゆえ、単に防汚染剤及び/又は滑り性付与剤を添加するのみでは十分に指跡を解消し得なかったことが判明した。そして、光学機能発現部側を手で掴もうとしたときに、光学機能発現部が指の形に合わせて変形し接触圧力を軽減できる柔軟性と、指が離れた後に元の凸状に戻れる復元性を有していれば、加圧による永久変形を防ぐことができ、耐指跡性指跡付着防止性の向上に貢献することを突き止めた。本発明は、かかる知見に基づいて成し遂げられたものである。以下、本発明に係る光学シートについて図面を用いて詳細に説明する。なお、図1以下の図面では、説明の便宜上、縦横の寸法比及び各層間の寸法比は適宜、実寸とは変えて誇張して図示してある。図1は、本発明に係る光学シートの一例を示した模式的な斜視図であり、図2は、本発明に係る光学シートの層構成の一例を示した模式的な断面図であり、三角柱プリズムの延在する方向に直角な横断面主切断面を示す。尚、本発明において主切断面とは、透明基材の平面の法線方向以下、単に厚さ方向と称することがある。を含み、且つ光学単位の稜線方向と直交する切断面を意味する。図1及び図2に示す光学シート10は、透明基材11上に光学機能発現部12が設けられており、透明基材11の光学機能発現部12が無い側に、裏面層13が設けられている。光学機能発現部12は、凸状の光学単位12aが複数配列してなり、図1及び図2では、光学単位12aの一例として、三角柱形状のプリズム単位を備える光学シートを示す。以下、本発明に係る光学シートの必須の構成要素である透明基材、光学機能発現部及び裏面層、並びに必要に応じて適宜設けることができる光拡散層について説明する。透明基材透明基材は、特に限定されず、従来公知の光学シートに用いられている透明基材を用いることができる。透明基材は、例えば、特開2009-37204号公報に記載のものを用いることができる。透明基材は、所望の透明性、機械的強度等の要求適性を勘案の上、材料及び厚さを適宜選択すればよい。透明基材は、通常、樹脂基材とする。透明基材の樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリメチルメタアクリレート等のメタアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、シクロオレフィンポリマーCOP樹脂及びシクロオレフィンコポリマーCOC樹脂等が好ましい。透明基材は、長尺形状であっても良いし、所定の大きさからなる枚葉形状であっても良い。透明基材の厚さは、通常は50~500μmが好ましいが、これに限定されない。透明基材の光透過率としては、画像表示装置の前面設置用としては、100が理想であり、透過率85以上であることが好ましい。光学機能発現部光学機能発現部は、頂点または稜線を有する凸状の光学単位が複数配列してなる。当該光学機能発現部は、通常、透明基材の上に形成されるが、透明基材と光学機能発現部とが一体成形されていても良い。この場合、特に限定されないが、後述する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて、透明基材上に光学機能発現部を積層成形することが好ましい。本発明に係る光学シートは、例えば、光学機能発現部の凹凸形状において、光を屈折又は反射等の幾何光学的作用によって変調させて、集光、拡散、屈折又は反射等の所望の機能を発現するプリズムシート又はレンズシート等として用いることができ、光学機能発現部を構成する光学単位の形状は、要求される性能に応じて適宜選択又は設定することができる。以下、本発明に係る光学シートをプリズムシート又はレンズシートとして用いる場合の光学機能発現部の具体的な形状構造を説明する。プリズムシートとしての光学機能発現部の具体的な形状構造を例示すると、三角柱図1参照、四角柱、五角柱等の角柱状の単位プリズム光学単位をその稜線方向延在方向と直交する方向に多数配列したものプリズム線状配列が挙げられる。上述したような角柱状の単位プリズム光学単位の場合、光学機能発現部の厚さT図2に示すように凹凸形状の凸状頂部から透明基材側の面までの距離は、その稜線方向で均一であっても良いし、均一でなくとも良い。例えば、周縁部に近いほど高く、中央部に近いほどが低いというように稜線方向で異なっていても良い。この他、プリズムシートとしての光学機能発現部の凹凸形状の具体的な形状の一例としては、円錐、又は三角、四角、五角若しくは六角等の角錐等の光学単位を透明基材表面に二次元的に複数配列したものが挙げられる。単位プリズム光学単位の主切断面における形状は、頂点を有すれば特に限定されないが、図2のように二等辺三角形としても良いし、図示しないが不等辺三角形としても良い。主切断面における三角形の単位プリズム光学単位の頂角の値は、40~120°の範囲で調節することができる。レンズシートとしては、例えば、光学機能発現部を構成する光学単位の凸部に頂点を有する環状又は線状のフレネルレンズ等が挙げられる。本発明において、光学単位の頂部は図1及び図2のような典型的に尖った形状でも良いし、図示しないが厚さ方向の断面の頂部近傍が曲率半径1~20μmの面取りされた鈍い頂点でも良い。光学機能発現部の厚さT図2参照は、要求される性能に応じて適宜調節すれば良く、通常、20~1000μmである。尚、当該厚さTは、稜線方向で厚さが異なる場合は最大となる箇所の厚さとする。また、前記光学機能発現部は、その光学単位の頂部における、ISO14577-1に準拠して押し込み荷重0.5mNで測定される押し込み深さが0.6μm以上であり、好ましくは0.8μm以上である。これにより、当該光学単位は優れた形状復元性を有するため、指が接触した際等の加圧によって永久変形せず、光学機能発現部の耐指跡性が向上する。上記押し込み深さは、株フィッシャーインストルメンツ製の微小硬さ試験機商品名PICODENTORHM500、圧子はダイヤモンド製の四角錐型、対面角90°で測定することができる。前記光学機能発現部は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物以下、単に組成物ということがある。を、活性エネルギー線の照射により硬化して形成することができる。なお、本発明において活性エネルギー線とは、可視光並びに紫外線及びX線等の非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線及びα線のような粒子線を総称する、活性エネルギー線硬化性基を有する分子に架橋反応乃至重合反応を生じせしめるに足るエネルギー量子を持った放射線が含まれる。活性エネルギー線としては、紫外線が好ましい。前記組成物のバインダー樹脂としては、例えば、従来公知の光学シート形成用のメタアクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基を有する単官能若しくは多官能のモノマー、オリゴマー又はプレポリマー等を用いることができる。単官能のモノマーとしては、例えば、特開2009-37204号公報に記載のビニルモノマー、メタアクリル酸エステルモノマー及びメタアクリルアミド誘導体が挙げられる。多官能のモノマーとしては、例えば、特開2009-37204号公報に記載のエチレングリコールジメタアクリレート、ビスフェノールAポリエトキシジオールジメタアクリレート及びペンタエリスリトールトリメタアクリレート等が挙げられる。反応性プレポリマーとしては、例えば、特開2009-37204号公報に記載のエポキシメタアクリレート、ウレタンメタアクリレート及びポリエステルメタアクリレート等が挙げられる。また、前記組成物は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有する。これにより、光学機能発現部は、皮脂に起因する指跡がつき難くなり、耐指跡性が向上する。前記ケイ素系化合物としては、その化合物の末端または側鎖が、変性されたものが好ましくは挙げられる。そのようなケイ素系化合物としては、下記一般式I~III又はIVで表わされるものが挙げられる。上記式中、Rは、疎水基として、メチル基、フッ素原子、アクリル基、又はメタクリル基であり、親水基として、水酸基、カルボキシル基、ポリエーテル基、又はエポキシ基であり、或いはこれらの混合基であってよく、R1はアルキル基、好ましくは炭素数1~20のアルキル基、より好ましくは炭素数1~10のアルキル基であり、Xは0~1200であり、Yは0~1200である。また、前記ケイ素系化合物としては、市販品を用いることもできる。例えば、東芝シリコーン社製のTSFシリーズ、信越化学社製のX22シリーズ及びKFシリーズ、チッソ社製のサイラプレーンシリーズ等の反応基を有しないケイ素系化合物や、新中村化学社製のSUA1900L10重量平均分子量4200及びSUA1900L6重量平均分子量2470、信越シリコーン社製のKNS5300、GE東芝シリコーン社製のUVHC1105及びUVHC8550等の反応基を有するケイ素系化合物を用いることができる。前記フッ素系化合物の具体例としては、下記一般式:Aw-Bx-Dy-CF3上記式中、Aは、CF2、CFCF2、CCF22からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、Bは、OCF2CF2、OCF2CFCF2、OCF2CCF22、OCFCF2CFCF2、OCFCF2CCF22、OCCF22CFCF2、OCCF22CCF22からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、Dは、OCH2CH2、OCH2CH2CH2、OCOCH2zからなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、w、x、y、zは0超過50以下の数を表す。で表わされるものが挙げられる。また、前記フッ素系化合物としては、市販品を用いることもできる。例えば、大日本インキ社製のメガファックシリーズ、例えば、MCF350-5、F445、F455、F178、F470、F475、F479、F477、TF1025、F478、F178K等の反応基を有しないフッ素系化合物や、大日本インキ社製のディフェンサTF3001、ディフェンサTF3000及びディフェンサTF3028等の反応基を有するフッ素系化合物を用いることができる。前記防汚剤の数平均分子量は、特に限定されないが、通常500以上10万以下であり、好ましくは下限が750以上であり、より好ましくは1000以上であり、好ましくは上限が7万以下であり、より好ましくは5万以下である。また、本発明の好ましい態様によれば、前記防汚剤は、ポリオルガノシロキサン基、ポリオルガノシロキサン含有グラフトポリマー、ポリオルガノシロキサン含有ブロックポリマー、フッ素化アルキル基などを含有する2官能以上の多官能アクリレートを含んでなるものが好ましい。多官能アクリレートとしては、例えば、2官能アクリレートとして、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、1、3-ブタンジオールジメタアクリレート、1、4-ブタンジオールジメタアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタアクリレート、エトキシ化ビスフェノールFジメタアクリレート、1、6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1、9-ノナンジオールジメタアクリレート、1、10-デカンジオールジメタアクリレート、グリセリンジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸エトキシ変性ジメタアクリレートイソシアヌル酸EO変性ジメタアクリレート、2官能ウレタンアクリレート、2官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。3官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリメタアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリメタアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロポキシ化グリセリルトリメタアクリレート、3官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。4官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート等が挙げられる。5官能以上のアクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。前記組成物中における前記防汚剤の含有量は、光学機能発現部の表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が3以上となるように適宜定め、好ましくは4以上となるように適宜定める。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記下限値未満であると、光学機能発現部の耐指跡性が不十分となる。また、防汚剤の含有量は、光学機能発現部の表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が28以下となるように定めることが好ましく、20以下となるように定めることがより好ましい。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記上限値を超えると、防汚剤による耐指跡性の向上が頭打ちになることが多く、また、光学機能発現部の表面からの防汚剤のブリードアウト量が多くなってしまう。尚、光学機能発現部表面におけるケイ素原子及びフッ素原子の存在率を上記のようにするために実際に含有される防汚剤の含有量は、用いる防汚剤によって異なり、適宜調整されるが、一般的に、組成物の全固形分質量に対して、4~20質量である。XPS解析とは、試料光学機能発現部又は裏面層を、角度により測定するものであり、具体的には、最大エントロピー法により角度プロファイルを深さプロファイルに容易に変換して行われるものである。XPSとは、X線光電子分光により試料表面に存在する元素及びその組成を分析する方法である。XPSの測定条件の一例を挙げると、ThermoElectron社製VGThetaProbeのXPSX線光電子分光測定装置を使用し、X線源はMonochromatedAlKα、X線出力は100W、測定領域は400μmφ、レンズはAngleResolvedにて行うことができ、測定角度も任意に変更させて行うことができる。本発明では、5段階28°、38°、48°、58°、68°の条件にて行う。本発明に係る光学シートの好適な態様では、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、上記防汚剤以外に、A活性エネルギー線硬化性基としてメタアクリロイル基を1個有するメタアクリル樹脂以下、単にA成分ということがある。、及び/又はB活性エネルギー線硬化性基としてメタアクリロイル基を2個有するメタアクリル樹脂以下、単にB成分ということがある。、Cポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン以下、単にC成分ということがある。及びD一般式4で表わされる化合物以下、単にD成分ということがある。を含み、かつ、当該A及びBの合計質量が当該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の全固形分質量に対して50質量以上であることが、光学機能発現部が上述した特定範囲の押し込み深さを発現し易い点から好ましい。以下、これらA~D成分について順に説明する。A活性エネルギー線硬化性基としてメタアクリロイル基を1個有するメタアクリル樹脂A成分は、活性エネルギー線硬化性基としてメタアクリロイル基を1個有するメタアクリル樹脂であり、ハロゲン原子、硫黄原子、酸素原子若しくは窒素原子等のヘテロ原子を含む鎖状の脂肪族又は環状の脂環式若しくは芳香族のメタアクリル樹脂であっても良く、例えば、上述した特開2009-37204号公報に記載の単官能のメタアクリル樹脂を用いることができる。A成分は好ましくは、フェノキシエチルメタアクリレート別名メタアクリル酸2-フェノキシエチル及び下記一般式1で表わされる化合物が挙げられる。一般式1中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、Xは、水素原子又は炭素数1~10の鎖状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素若しくは芳香族炭化水素であり、kは2~6の整数である。上記一般式1で表わされる化合物は、上記フェノキシエチルメタアクリレートと共に組成物中に含有されることにより、その組成物の硬化物である光学機能発現部に柔軟性が付与され、光学機能発現部に外力が加わって形状が変形した場合でも、元の形状に復元可能な復元性を付与することができ、耐指跡性を向上させる。上記一般式1において、kは2~6の正の整数であり、光学機能発現部の柔軟性を高める観点から、好ましくは2、3又は4であり、さらに好ましくは2又は3である。A成分は1種単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。A成分は組成物の全固形分質量に対して、20~50質量が好ましい。そして、組成物の全固形分質量に対してフェノキシエチルメタアクリレートが、15~30質量であることが好ましく、22~27質量であることがより好ましい。また、組成物の全固形分質量に対して上記一般式1で表わされる化合物が、5~20質量であることが好ましく、5~15質量であることがより好ましい。上記A成分と後述するB成分は、その合計質量ABが組成物の全固形分質量に対して50質量以上であることが好ましく、85~95質量であることがより好ましい。当該合計質量を組成物の全固形分質量に対して50質量以上とすることにより、光学機能発現部が上述した特定範囲の押し込み深さを発現し易い。B活性エネルギー線硬化性基としてメタアクリロイル基を2個有するメタアクリル樹脂B成分は、活性エネルギー線硬化性基としてメタアクリロイル基を2個有するメタアクリル樹脂であり、ハロゲン原子、硫黄原子、酸素原子若しくは窒素原子等のヘテロ原子を含む鎖状の脂肪族又は環状の脂環式若しくは芳香族のメタアクリル樹脂であっても良く、例えば、上述した特開2009-37204号公報に記載の2官能のメタアクリル樹脂を用いることができる。B成分は好ましくは、下記一般式2で表わされる化合物が挙げられる。一般式2中、R1及びR3は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、n及びmは、nm=2~20を満たす正の整数である。上記一般式2で表わされる化合物は、上述したフェノキシエチルメタアクリレート及び一般式1で表わされる化合物と共に組成物中に含有されることにより、光学機能発現部の柔軟性がさらに高まり、光学機能発現部の復元性を優れたものとし、耐指跡性を向上することができる。一般式2において、n及びmは、nm=2~20を満たす正の整数である。n、mの個々の値及び両者の組合せの例としては、例えば、m=1、n=1でmn=2、m=3、n=1でmn=4、m=2、n=2でmn=4、m=6、n=4でmn=10、m=8、n=2でmn=10、m=5、n=5でmn=10、m=12、n=8でmn=20、m=10、n=10でmn=20等である。また、硬化物の柔軟性を高める観点から、n及びmは、好ましくはmn=2~12、さらに好ましくはmn=4~10となるように選ばれる。一般式2表わされる化合物の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、25~50質量であることが好ましく、さらに30~50質量であることが好ましく、特に35~45質量であることが好ましい。Cポリエーテル変性ジメチルポリシロキサンC成分は、光学機能発現部に滑り性を付与し、光学機能発現部の凹凸形状に他部材等が接触した際の外力が加わりを緩和する働きを有する。この他、非反応性のC成分は、組成物が硬化した際に、上記A成分、B成分及び後述するD成分が架橋した網目状の組織の中で、当該網目の隙間を埋める働きもしていると推測される。C成分は、重量平均分子量が5000~25000であることが好ましい。このようなC成分としては、例えば、下記一般式3で表わされる化合物が挙げられる。一般式3中、aは1~5の整数、bは1~5の整数、cは1~30の整数及びdは1~70の整数であり、かつ、c≦dを満たし、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~4のアルキル基である。一般式3中、a、b、c及びdが上記範囲を満たすことにより、高分子としての性質を発現し、組成物における適度な溶解乃至分散性が得られ、光学機能発現部にレベリング剤としての性質や滑り性を付与し易いという利点がある。C成分の市販品としては、例えば、ビックケミージャパン株製の商品名BYK-302、BYK-307及びBYK-330並びに信越化学工業株製の商品名KF-618及びKF-640等が挙げられる。C成分の誘導体として、水酸基を導入したビックケミージャパン株製の商品名BYK-377等も好ましく用いることができる。C成分の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、好ましくは0.1~1質量であり、より好ましくは0.2~0.7質量である。D一般式4で表わされる化合物D成分は、下記一般式4で表わされる化合物グリセリンエポキシトリアクリレートであり、1分子内に3つの活性エネルギー線硬化性基を有するため、組成物の硬化時に上記A成分及びB成分との架橋が可能であり、多くの架橋点を生じる働きを有する。この他、D成分は、そのCHO-CH2O-2部分に由来した柔軟性を有する。したがって、D成分は、光学機能発現部に、複数の架橋点及びCHO-CH2O-2部分に由来した柔軟性による強靭性を付与する働きを有する。D成分の市販品としては、例えば、ナガセケムテックス株製の商品名DA-314が挙げられる。D成分の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、好ましくは1~10質量であり、より好ましくは2~7質量である。なお、本発明の組成物には、上記成分以外に必要に応じて、シリコーン、酸化防止剤、重合禁止剤、増粘剤、離型剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、溶剤、非反応性アクリル樹脂、非反応性ウレタン樹脂、非反応性ポリエステル樹脂、顔料、染料又は拡散剤等も併用することができる。なお、本発明の組成物は、通常、当該組成物中に含まれる上記必須成分と当該必須成分以外の硬化後に光学シートのマトリクスを形成する成分の合計量が、当該組成物の全質量に対して、通常、90質量以上となるように適宜調製される。また、前記光学機能発現部は、動的粘弾性測定で測定される平衡弾性率を2.0×107Pa未満とすることができる。光学機能発現部の平衡弾性率は、より好ましくは、0.5×107Pa~1.7×107Pa、さらに好ましくは0.8×107Pa~1.7×107Paである。これにより、光学機能発現部の復元性が向上するため、耐指跡性が向上する。光学機能発現部は、動的粘弾性測定で測定される損失弾性率以下、単にEという。と貯蔵弾性率以下、単にE’という。の比である損失正接以下、単にtanδという。の極大値を0.6~3.0にすることができる。光学機能発現部のtanδの極大値は、より好ましくは0.7~3.0、さらに好ましくは0.8~2.0である。光学機能発現部のtanδの極大値を0.6~3.0とすることにより、光学機能発現部のガラス転移温度以下、単にTgという。を10~40°C、より好ましくは10~30°C、さらに好ましくは15~28°Cとすることができる。Tgを上記範囲内とすることにより、光学機能発現部の光学単位の形状を変形させるものの磨耗性に優れたものとすることができる。なお、本発明では、引っ張り正弦波、周波数1Hzにて測定したときの、損失正接tanδの極大値を示す温度をTgとし、80°Cにおける貯蔵弾性率E’を平衡弾性率とする。ここで、上記平衡弾性率、tanδ及びTgは、動的粘弾性測定装置で測定することができる。当該動的粘弾性測定装置では、弾性に相当するE’、粘性に相当するE、EとE’の比であって振動吸収性を反映するtanδの温度依存性や周波数依存性等を測定することができ、その測定結果により、光学機能発現部光学単位の頂部を構成する樹脂硬化物の分子内構造に起因するTgや平衡弾性率等を評価できる。なお、動的粘弾性測定装置としては、エスアイアイナノテクノロジー株製の商品名粘弾性スペクトロメータDMS6100を挙げることができる。透明基材に光学機能発現部を形成する方法としては、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、特開2009-37204号公報の図2に示すように、所望の光学機能発現部の形状の型に上記組成物を入れ、そこに透明基材を重ね、ラミネーター等を用いて透明基材をその組成物に圧着し、紫外線等で組成物を硬化させ、前記型を剥離乃至除去する方法等が挙げられる。裏面層本発明に係る光学シートは、光学機能発現部の無い透明基材上に、バインダー樹脂及びケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含む裏面層を備える。裏面層としては、例えば、マット層やハードコート層等が挙げられる。マット層とは、微細凹凸形状を有する層であり、視野角を拡大する為の拡散性の付与や他の部材との密着による干渉防止あるいは、キズ等外観の不具合を隠す等の為に、形成される。さらには、微細凹凸形状をランダムに形成することによって、光学シートを液晶表示パネルと組み合わせた際に、光学シートの導光板の配列と、液晶表示パネルの画素配列と、に起因したモアレの発生を防止することもできる。また、バックライト用のアクリル板に印刷される反射用ドットを見えにくくすることも可能となる。マット層は、例えば、マット剤のコーティング、熱プレスによるエンボス型押加工、サンドブラスト加工等の機械的加工、透明樹脂の注型キャスティング法等によって形成することができる。マット剤のコーティングは、例えば、マット剤を樹脂及び溶剤等からなるバインダーに含有させたマット剤塗料を、プリズム層のプリズム列と反対側表面にコーティングすることによって行う。マット剤としては、例えば、ポリメタクリル酸メチルアクリル系ビーズ、ポリメタクリル酸ブチル系ビーズ、ポリカーボネート系ビーズ、ポリウレタン系ビーズ、炭酸カルシウム系ビーズ、シリコーン系ビーズ及びシリカ系ビーズ等の微粒子が挙げられる。前記微粒子は、特に限定されないが、平均粒径が1~30μm、屈折率が1.30~1.65程度の範囲であることが好ましく、また、ビーズの濃度はバインダー樹脂分の2~5であることが好ましい。マット層のバインダーに用いられる樹脂としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などから適宜自由に選択して用いることができる。前記樹脂の屈折率はマット剤と極力一致させても良いし、出光特性をコントロールするために、樹脂とマット剤の屈折率を一致させなくても構わない。マット剤塗料のコーティング方法としては、ダイコーティング、グラビヤコーティング、スリットリバースコーティング等各種公知のコーティング方法を選択することが可能である。なお、マット層の厚さは通常1~20μmである。ハードコート層とは、物体表面に耐擦傷性及び耐摩耗性を付与する層であり、本発明においては、JISK5600-5-4:1999で示される鉛筆硬度試験でH以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層は、通常、電離放射線硬化性樹脂を使用して形成する。ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂としては、好ましくはアクリレート系の官能基を有するものを挙げることができる。具体的には、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール等を挙げることができる。また、エチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレートモノステアレート等のジメタアクリレート;トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート等のトリメタアクリレート;ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート等の4官能以上の多官能メタアクリレート;等の多官能化合物のモノマー類やエポキシアクリレートやウレタンアクリレート等のオリゴマー等を挙げることもできる。また、透明性を損なわない範囲で表面が被覆されたシリカ、アルミナ等から成る無機粒子又はポリアミド樹脂、シリコン樹脂、尿素樹脂等から成る有機粒子を用い、粒子とハードコート成分に共有結合を形成し、硬度を向上させたハードコート層を用いても良い。ハードコート層を形成する手段は、特に限定されず、例えば、上記電離放射線硬化性樹脂を含有するハードコート層形成用材料を透明基材上に塗布し、適当な電離放射線によって硬化する方法等が挙げられる。ハードコート層は硬化後の膜厚は、好ましくは0.1μm以上、さらに好ましくは0.8μm以上とし、一方、当該膜厚は、好ましくは100μm以下、さらに好ましくは20μm以下とする。膜厚を0.1μm以上とすれば十分なハードコート性能が得られやすくなり、100μm以下とすれば、外部からの衝撃に対しても十分な強度を得やすい。尚、本発明の裏面層としては、上記のハードコート層に上記マット層を形成したものを用いることもできる。この場合は、マット層が最外層透明基材と反対側の面となるように裏面層を形成することが好ましい。その他、帯電防止層、低屈折層などを設けても良い。本発明の裏面層は、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有している。裏面層に含有されるケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤は、上述したものと同様のものを用いることができる。裏面層に含まれる防汚剤の量は、裏面層の表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が3以上となるように適宜定め、好ましくは4以上となるように適宜定める。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記下限値未満であると、裏面層の耐指跡性が不十分となる。また、裏面層に含まれる防汚剤の含有量は、裏面層の表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が28以下となるように定めることが好ましく、20以下となるように定めることがより好ましい。ケイ素原子及びフッ素原子の存在率が前記上限値を超えると、防汚剤による耐指跡性の向上が頭打ちになることが多く、また、光学機能発現部の表面からの防汚剤のブリードアウト量が多くなってしまう。光拡散層本発明に係る光学シートは、図示はしないが、必要に応じて光拡散機能を付与するために光拡散層を設けても良い。光拡散層は、好ましく設けられる任意の層であって、光を拡散させる作用があればよく、一般的な光拡散シートに形成されているものを用いることができる。例えば、光拡散性微粒子が透光性樹脂中に分散した層を適用できる。光拡散層は、透明基材と裏面層の間に面に設けられていても良いし、裏面層の透明基材とは反対側の面に設けられていても良いし、透明基材と光学機能発現部の間に設けられていても良い。あるいはプリズムシート光学シートを形成するプリズム樹脂部分光学機能発現部に光拡散性微粒子を内添しても良い。光拡散層を構成する透光性樹脂としては、上記透明基材と同様の樹脂を挙げることができる。また、光拡散性微粒子としては、一般的に光拡散シートに用いられる光拡散性の微粒子が用いられ、例えば、ポリメタクリル酸メチルアクリル系ビーズ、ポリメタクリル酸ブチル系ビーズ、ポリカーボネート系ビーズ、ポリウレタン系ビーズ、炭酸カルシウム系ビーズ及びシリカ系ビーズ等が挙げられる。なお、光拡散層の厚さは、通常、1~20μmである。光学シートの用途本発明に係る光学シートは、例えば、液晶表示装置等のバックライトに用いられるプリズムシート、プロジェクションテレビ等の投影スクリーンに用いられるフレネルレンズシート等に用いることができる。本発明に係る光学シートはこれらのいずれにおいても好適に用いることができるが、中でも液晶表示装置用バックライトのプリズムシートとして好適に用いることができる。面光源装置本発明に係る面光源装置は、面光源の光放出面側に、上述した本発明の光学シートを備えることを特徴とする。本発明に係る面光源装置に用いられる面光源としては、各種の仕様形態のものが使用でき、特に制限は無い。従来公知の、いわゆる、エッジライト型、直下型、EL電場発光型等の形態の面光源の光放出面側に上記の本発明の光学シートを載置して本発明の面光源装置が構成される。図3は、本発明に係る光学シートを備える面光源装置の一例として、エッジライト型面光源を用いた本発明に係る面光源装置の形態を示した模式的な断面図である。図3の面光源装置20は、導光板21の光放出面22側に、光放出面22側から、裏面層13、透明基材11及び光学機能発現部12が設けられている。なお、図3の面光源装置20は、導光板21の少なくとも一つの側端面23に設けられた光源24から光が導光板21内に入射され、光放出面22から光が放出されるエッジライト型面光源26を用いたエッジライト型面光源装置である。導光板は、透光性材料からなる板状体である。図3の導光板21は、左側の側端面23から導入された光を、上側の光放出面22から放出するように構成されている。導光板は、従来公知の導光板とすれば良く、光学シートや透明基材と同様の透光性材料で形成しても良い。導光板は通常、アクリル樹脂又はポリカーボネート樹脂で形成される。導光板の厚さは通常1~10mmであり、その厚さは全範囲で一定であっても良いし、図3に示すように、一端側に光源24を設ける場合は、光源24を設ける側端面23側が最も厚く、側端面23の反対側ほどに徐々に薄くなるテーパ形状であっても良い。導光板には、光放出面から光を放出させるために、その内部又は表面に光散乱機能が付加されていることが好ましい。光源は、エッジライト型面光源装置の場合、その少なくとも1つの側端面から内部に光を入射させるものであり、導光板の側端面に沿って配置される。光源としては、特に限定されず、冷陰極管等の線状光源を用いても良いし、白熱電球、LED発光ダイオード等の点光源を側端面に沿ってライン状に配置しても良いし、小形の平面蛍光ランプを側端面に沿って複数個配置するようにしても良い。導光板の光放出面とは反対側の面又は光放出面以外の面には、図3に示すように導光板21の光放出面22とは反対側等から放出される光を導光板21内に戻し、光放出面22から放出させるための光反射板25が設けられていても良い。光反射板は、薄い金属板にアルミニウム等を蒸着したもの、又は、白色の発泡PETポリエチレンテレフタレート等が用いられる。画像表示装置本発明に係る画像表示装置は、画像表示装置本体の背面側に、上述した本発明に係る面光源装置を配置していることを特徴とする。前記画像表示装置としては、例えば、画像表示装置本体として液晶セルを用いた液晶表示装置が挙げられる。本発明において液晶セルとは、液晶化合物をガラス等により封入したモジュールをいい、偏光板又はカラーフィルター等のその他の部材が含まれたモジュールであっても良い。図4は、図3で示したエッジライト型の面光源装置を備えた液晶表示装置の一例を示した模式的な断面図である。図4に示す液晶表示装置30は、液晶セル31とその一面側背面液晶表示装置における映像表示を観察する面とは反対側の面側に上記光学シート10を備えた面光源装置20を備えている。液晶表示装置は、液晶セルの背面側に面光源装置バックライトを有する透過型の液晶表示装置であっても良いし、外光による反射光の表示とともに背面側のバックライトによる表示の両方が可能な半透過型の液晶表示装置であっても良い。なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、これらの記載により本発明を制限するものではない。まず、以下の成分を混合して、プリズム部光学機能発現部の材料となるプリズム部用組成物ベース処方A、B、C以下、単にベース処方A、B、Cと称することがある。を調製した。各ベース処方の配合は、硬化後のプリズム部において、押し込み荷重0.5mNで測定したときの押し込み深さの値が、ベース処方Aでは0.8μm、ベース処方Bでは1.5μm、ベース処方Cでは0.4μmとなるように調整されている。各プリズム部用組成物ベース処方が含有する成分及びその含有量質量部を表1に示す。プリズム部用組成物ベース処方A:押し込み深さ0.8μmフェノキシエチルアクリレートサートマー社製の商品名SR339A:14.6質量部オルトフェニルフェノキシエチルアクリレート別名アクリル酸2-2-ビフェニリルオキシエチル:28質量部ビスフェノールAジアクリレートEO4モル変性一般式2においてm=n=2、かつ、R1及びR3が全て水素原子、共栄社化学株製の商品名ライトアクリレートBP-4EA:12質量部ビスフェノールAジアクリレートEO10モル変性一般式2においてm=n=5、かつ、R1及びR3が全て水素原子、MIWON社製の商品名MIRAMERM2100:35質量部ビスフェノールAエポキシジアクリレート共栄社化学株製の商品名FLEA-POA、全質量に対するビスフェノールAエポキシジアクリレートの含有量49質量、フェノキシエチルアクリレートの含有量51質量、重量平均分子量2000:2質量部ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサンビックケミージャパン株製の商品名BYK-377、一般式3において、a=5、b=5、c=30、d=10、R1及びR2がメチル基、重量平均分子量10800:0.5質量部グリセリンエポキシトリアクリレート上記一般式4、ナガセケムテックス株製の商品名DA-314:5質量部イソシアヌル酸トリアクリレートEO3モル変性、東亞合成株製の商品名アロニックスM-315:3質量部1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンチバジャパン株製の商品名イルガキュア184:3質量部リン酸エステル系離型剤SC有機化学株製の商品名ChelexH-18D:0.1質量部プリズム部用組成物ベース処方B:押し込み深さ1.5μmフェノキシエチルアクリレートサートマー社製の商品名SR339A:12質量部オルトフェニルフェノキシエチルアクリレート別名アクリル酸2-2-ビフェニリルオキシエチル:32質量部ビスフェノールAジアクリレートEO4モル変性一般式2においてm=n=2、かつ、R1及びR3が全て水素原子、共栄社化学株製の商品名ライトアクリレートBP-4EA:8質量部ビスフェノールAジアクリレートEO10モル変性一般式2においてm=n=5、かつ、R1及びR3が全て水素原子、MIWON社製の商品名MIRAMERM2100:42質量部ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサンビックケミージャパン株製の商品名BYK-377、一般式3において、a=5、b=5、c=30、d=10、R1及びR2がメチル基、重量平均分子量10800:0.5質量部グリセリンエポキシトリアクリレート上記一般式4、ナガセケムテックス株製の商品名DA-314:5質量部1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンチバジャパン株製の商品名イルガキュア184:3質量部リン酸エステル系離型剤SC有機化学株製の商品名ChelexH-18D:0.1質量部プリズム部用組成物ベース処方C:押し込み深さ0.4μmフェノキシエチルアクリレートサートマー社製の商品名SR339A:19質量部イソボルニルアクリレート:8質量部4-アクリロイルモルホリン:5質量部ビスフェノールAジアクリレートEO4モル変性一般式2においてm=n=2、かつ、R1及びR3が全て水素原子、共栄社化学株製の商品名ライトアクリレートBP-4EA:12質量部ビスフェノールAジアクリレートEO2モル変性一般式2においてm=n=1、R1が全てメチル基、かつ、R3が全て水素原子、共栄社化学株製の商品名ライトアクリレートBP-2EM:27質量部ビスフェノールAエポキシジアクリレート共栄社化学株製の商品名FLEA-POA、全質量に対するビスフェノールAエポキシジアクリレートの含有量49質量、フェノキシエチルアクリレートの含有量51質量、重量平均分子量2000:16質量部ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサンビックケミージャパン株製の商品名BYK-377、一般式3において、a=5、b=5、c=30、d=10、R1及びR2がメチル基、重量平均分子量10800:0.5質量部イソシアヌル酸トリアクリレートEO3モル変性、東亞合成株製の商品名アロニックスM-315:13質量部1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンチバジャパン株製の商品名イルガキュア184:3質量部リン酸エステル系離型剤SC有機化学株製の商品名ChelexH-18D:0.1質量部マット層用材料ベース処方綜研化学製、架橋アクリル散粒子平均粒径5μm1重量をポリエステル樹脂に混合し、イソシアネート硬化剤を硬化反応適量加えた。メチルエチルケトンとトルエンを等量混合した有機溶剤を用い、前記固形分が35重量になるように希釈して、光拡散性微粒子を含むマット層用材料ベース処方を調製した。実施例1上記プリズム部用組成物ベース処方Aに、ケイ素系防汚剤日本合成化学工業株製、UT3971が固形分全体の1質量となるように、且つ、フッ素系防汚剤大日本インキ社製、ディフェンサTF3001が固形分全体の0.8質量となるように、ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤をそれぞれ添加、混合し、プリズム部用組成物を得た。尚、前記ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤の含有量質量は、得られるプリズム部用組成物中の固形分全体の質量を100としたときの値である。上記マット層用材料ベース処方に、ケイ素系防汚剤日本合成化学工業株製、UT3971が固形分全体の1質量となるように、且つ、フッ素系防汚剤大日本インキ社製、ディフェンサTF3001が固形分全体の0.8質量となるように、ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤をそれぞれ添加、混合し、マット層用材料を得た。尚、前記ケイ素系防汚剤及びフッ素系防汚剤の含有量質量は、得られるマット層用材料中の固形分全体の質量を100としたときの値である。厚さ188μmのポリエチレンテレフタレートPETの透明基材東洋紡績株製の商品名A4300の片面に前述のマット層用材料を塗工し、厚さ約3μmのマット層を得た。図1に示すような単位プリズム光学単位の線状配列の凹凸形状が形成されたプリズム型に前述のプリズム部用組成物を供給し、マット層を設けていない面のポリエチレンテレフタレートPETの透明基材を重ね、ニップローラーで加圧し、高圧水銀灯を用い、780mJ/cm2で紫外線照射を行い、多数の単位プリズムを有するプリズム部光学機能発現部を硬化させ、PET基材と一体化した状態で上記プリズム型を剥離し、光学シートを得た。ここで、単位プリズム光学単位の形状は、主切断面形状が高さ25μm、底辺50μm、頂角90°となる二等辺三角形の三角柱形状とした。そして、プリズム部光学機能発現部は、各単位プリズムの稜線が互いに平衡になるように複数の単位プリズムを配列周期50μmで当該稜線と直交する方向に多数隣接して配列した構造とした。得られた光学シートのプリズム部及びマット層におけるケイ素存在率及びフッ素存在率をXPS解析によって測定したところ、光学機能発現部のケイ素存在率は2、フッ素存在率は2であり、マット層におけるケイ素存在率は2、フッ素存在率は2であった。尚、XPS解析は、ThermoElectron社製VGThetaProbeのXPSX線光電子分光測定装置を使用し、X線源はMonochromatedAlKα、X線出力は100W、測定領域は400μmφ、レンズはAngleResolvedとした。測定角度は、5段階28°、38°、48°、58°、68°の条件にて行った。尚、プリズム部用組成物又はマット層用材料中の固形分全体の質量を100としたときのケイ素系防汚剤の含有量質量と、XPS解析によるプリズム部又はマット層におけるケイ素存在率との相関関係を表2に示し、プリズム部用組成物又はマット層用材料中の固形分全体の質量を100としたときのフッ素系防汚剤の含有量質量と、XPS解析によるプリズム部又はマット層におけるフッ素存在率との相関関係を表3に示す。尚、得られた光学シートのプリズム部及びマット層におけるXPS解析によるケイ素の存在率及びフッ素の存在率は表4及び表5に示す。実施例2プリズム部用組成物ベース処方Aに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤日本合成化学工業株製、UT3971が固形分全体の4質量となるように、且つ、フッ素系防汚剤大日本インキ社製、ディフェンサTF3001が固形分全体の3質量となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、光学シートを得た。実施例3マット層用材料ベース処方に添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤日本合成化学工業株製、UT3971が固形分全体の4質量となるように、且つ、フッ素系防汚剤大日本インキ社製、ディフェンサTF3001が固形分全体の3質量となるようにして得られたマット層用材料を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、光学シートを得た。実施例4~7プリズム部においてXPS解析によるケイ素の存在率及びフッ素の存在率が、表4に示す値になるように、表2及び表3に従って、プリズム部用組成物ベース処方Aに、ケイ素系防汚剤日本合成化学工業株製、UT3971及びフッ素系防汚剤大日本インキ社製、ディフェンサTF3001を含有させたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学シートを得た。実施例8~11マット層においてXPS解析によるケイ素の存在率及びフッ素の存在率が、表4に示す値になるように、表2及び表3に従って、マット層用材料ベース処方に、ケイ素系防汚剤日本合成化学工業株製、UT3971及びフッ素系防汚剤大日本インキ社製、ディフェンサTF3001を含有させたマット層材料を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学シートを得た。実施例12プリズム部用組成物ベース処方Aの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Bを用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学シートを得た。比較例1プリズム部用組成物ベース処方Aの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Cを用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学シートを得た。比較例2プリズム部用組成物ベース処方Aに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の0.5質量存在率1、フッ素系防汚剤が固形分全体の0.3質量存在率1となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学シートを得た。比較例3マット層用材料ベース処方に添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の0.5質量存在率1、フッ素系防汚剤が固形分全体の0.3質量存在率1となるようにしして得られたマット層用材料を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学シートを得た。比較例4プリズム部用組成物ベース処方Aの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Bを用い、当該プリズム部用組成物ベース処方Bに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の0.5質量存在率1、フッ素系防汚剤が固形分全体の0.3質量存在率1となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学シートを得た。比較例5プリズム部用組成物ベース処方Aの代わりにプリズム部用組成物ベース処方Cを用い、当該プリズム部用組成物ベース処方Cに添加する防汚剤の量を、ケイ素系防汚剤が固形分全体の6質量存在率15、フッ素系防汚剤が固形分全体の5質量存在率15となるようにして得られたプリズム部用組成物を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学シートを得た。押し込み深さの測定各実施例及び各比較例で得られた光学シートのプリズム部光学機能発現部の頂部における押し込み深さを、ISO14577-1に準拠し、押し込み荷重0.5mNで測定した。測定機器としては、株フィッシャーインストルメンツ製の微小硬さ試験機商品名PICODENTORHM500、圧子はダイヤモンド製の四角錐型、対面角90°を用いた。実施例で得られた光学シートの測定結果を表4に示し、比較例で得られた光学シートの測定結果を表5に示す。指跡の有無の評価作製した実施例及び比較例の光学シートをA4サイズに切り出し、明室にて、プリズム部表面及びマット層表面の指跡の有無を目視にて観察した。指跡を認識できなかったものを○、指跡を認識できたものを×とし、実施例で得られた光学シートの評価結果を表4に示し、比較例で得られた光学シートの評価結果を表5に示す。本発明に係る光学シートは、指が接触した際に、光学機能発現部を構成する光学単位の凸状頂部付近において指跡が付着するという問題を解決するために開発されたものである。実施例1~12で得られた光学シートは、プリズム部光学機能発現部及びマット層裏面層のいずれにおいても指跡が確認されなかった。プリズム部では、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有し、その表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計を3以上とすることで、皮脂の付着がなく、さらに、押し込み荷重0.5mNでの押し込み深さを0.6μm以上とすることで、加圧による永久変形もなかったことにより、指跡の付着を防止できたと考えられる。マット層では、ケイ素系化合物及びフッ素系化合物から選ばれる防汚剤を含有し、その表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計を3以上とすることで、皮脂の付着を防いだことにより、指跡の付着を防止できたと考えられる。一方、比較例1、2、4及び5で得られた光学シートでは、プリズム部に指跡が確認された。比較例1では、プリズム部表面におけるケイ素原子及びフッ素原子の存在率が実施例と同等であったため、皮脂の付着はなかったと考えられるが、プリズム部の押し込み荷重0.5mNでの押し込み深さが0.4μmと小さかったため、加圧によって指跡が形成されたと考えられる。比較例2及び比較例4では、プリズム部の押し込み深さが実施例と同等であったため、加圧による変形はなかったと考えられるが、プリズム部が含有する防汚剤量が少なく、ケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が2と小さかったため、皮脂による指跡が付着したと考えられる。比較例5では、プリズム部における防汚剤の含有量が多すぎたため、防汚剤がブリードアウトしたことにより指跡が付着し、プリズム部の表面には艶のムラができた。また、プリズム部の押し込み荷重0.5mNでの押し込み深さが0.4μmと小さかったことにより、加圧による指跡も形成されたと考えられる。尚、プリズム部表面におけるケイ素原子及びフッ素原子の存在率は実施例と同等であったため、皮脂による指跡の付着はなかったと考えられる。比較例3で得られた光学シートでは、マット層に指跡が確認された。これは、マット層が含有する防汚剤量が少なく、その表面をXPS解析したときのケイ素原子及びフッ素原子の存在率の合計が2と小さかったため、皮脂による指跡が付着したと考えられる。