"フォトレジストパターン上にコーティングするための水性組成物であって、少なくとも一つのケイ素部分と少なくとも一つのアミノ基とを含む第一の水溶性化合物、及び少なくとも一つのカルボン酸基を含む第二の化合物を含む、前記組成物。第二の化合物が、少なくとも二つのカルボン酸基を含む、請求項1に記載の組成物。第二の化合物が更にケイ素部分を含む、請求項1または2に記載の組成物。第一の化合物が以下の構造1の部分を含む、請求項1~3のいずれか一つに記載の組成物。式中、R1は、水素、C1-C8アルキル、及びC1-C6カルボニルアルキルから選択され、R2は、C1-C12脂肪族アルキレン、C1-C12カルボニル脂肪族アルキレン、C1-C12カルボニルアミノ脂肪族アルキレン及びC1-C12アミノ脂肪族アルキレンから選択され、そしては、第一の化合物の残りの部分への結合点である。第二の化合物が以下の構造2を有する、請求項1~4のいずれか一つに記載の組成物。式中、Wは接続基であり、そしてyは、0、1、2または3である。第二の化合物が以下の構造3を有する、請求項1~5のいずれか一つに記載の組成物。式中、R3及びR4は、独立して、C1~C12脂肪族アルキレンから選択され、Xは、直接原子価結合または接続基であり、zは0、1、2または3である。第二の化合物が以下の構造3を有する、請求項1~6のいずれか一つに記載の組成物。式中、R3及びR4は、独立して、C1~C12脂肪族アルキレンから選択され、Xは直接原子価結合または接続基であり、zは1、2または3である。Xがケイ素部分を含む、請求項7に記載の組成物。第二の化合物中のカルボン酸基と第一の化合物のアミン基とのモル比が約5:100~約110:100の範囲である、請求項1~8のいずれか一つに記載の組成物。90°Cで60秒間ベークした後に水中でまたは水性アルカリ性溶液中で現像可能である、請求項1~9のいずれか一つに記載の組成物。水、水溶性有機溶剤またはこれらの混合物から選択される溶剤を更に含む、請求項1~10のいずれか一つに記載の組成物。組成物のケイ素含有率が、組成物の固形物に対し5重量を超える、請求項1~11のいずれか一つに記載の組成物。フォトレジストに共形付着層を形成することができる、請求項1~12のいずれか一つに記載の組成物。パターン形成方法であって、次のステップ:a基材上に第一のフォトレジストパターンを形成するステップ;b請求項1~13のいずれか一つに記載のコーティング組成物を第一のフォトレジストパターン上に施用して、第一のフォトレジストパターンを覆う第二のコーティング層を形成するステップ;c任意に、コーティングを加熱するステップ;及びd第二のコーティング組成物を現像し、それによって第一のフォトレジストパターン上の未反応の第二のコーティング層を除去するステップ;を含む、前記方法。パターン形成方法であって、次のステップ:aフォトレジスト構造を持つ第一のフォトレジストパターンを基材上に形成するステップ;b請求項1~13のいずれか一つに記載のコーティング組成物を第一のフォトレジストパターン上に施用して、第一のフォトレジストパターンを覆うコーティング層を形成するステップ;cコーティング層を現像し、それによって第一のフォトレジストパターン上に付着コーティング層を形成するステップ;dフォトレジストの表面をドライエッチングして、フォトレジストパターンの最上部で付着コーティング層を完全に除去するステップ;及びe第一のフォトレジストパターンを除去し、それによって基材上に付着層のパターンを形成するステップ;を含む、前記方法。付着層の形成後にハードベークを更に含む、請求項14に記載の方法。第一フォトレジストパターンがドライエッチングによって除去される、請求項15に記載の方法。第一のフォトレジストパターンが有機溶剤によって除去される、請求項15に記載の方法。フォトレジストがフラッド露光及び水性アルカリ性現像剤中での現像によって除去される、請求項15に記載の方法。パターン形成方法であって、次のステップ:a基材上に第一のフォトレジストパターンを形成するステップ;b請求項1~13のいずれか一つに記載のコーティング組成物を第一のフォトレジストパターン上に施用して、第一のフォトレジストパターンを覆うコーティング層を形成するステップ;c任意に、コーティングを加熱するステップ;及びd第二のコーティング組成物を現像し、それによって相互混合ドープドフォトレジストパターンを形成するステップ;を含む、前記方法。フォトレジストパターン上にコーティングするための、請求項1~13のいずれか一つに記載の組成物の使用。例1ポリ3-アミノプロピルシロキサンの合成:123.9gのDI脱イオン水を、マグネチックスターラーバーを備えた500mlのフラスコ中に仕込んだ。攪拌しながら、51.48gの3-アミノプロピルトリエトキシシランを滴下した。添加後に、溶液を室温で18時間攪拌して透明な溶液を得た。GPCゲルパーミエーションクロマトグラフィは約1060g/モルのMWを示した。調合:上記のポリマー溶液をDI水で希釈することによって5.0重量溶液を調製し、そして1000ppmのSurfynol登録商標485界面活性剤AirProductsandChemicals,Inc.,Allentown,PA,USAから入手可能を加えた。試験:上記調合物を、6インチSiウェハ上にスピンコートし、そして110°C/30秒間でベークした。次いで、これらのウェハをDI水で30秒間現像した。ベークされたフィルムが水現像後に残り、これはフィルムが硬化されそしてDI水では除去できなかったことを示した。例2合成:13.42gの1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサンを34.3gのDI水中に分散した。攪拌しながら、19.38gの3-アミノプロピルトリエトキシシランを滴下した。添加後に、溶液を室温で24時間攪拌して透明な溶液を得た。GPCは約1200g/molのMWを示した。1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサン中のCOOHと3-アミノプロピルトリエトキシシラン中のNH2とのモル比は100:100であった。調合:上記のポリマー溶液をDI水で希釈することによって5.0重量溶液を調製し、そして1000ppmのSurfynol登録商標485界面活性剤AirProductsandChemicals,Inc.,Allentown,PA,USAから入手可能を加えた。試験:調合物を6インチSiウェハ上にスピンコートし、そして110°C/60秒間でベークした。次いで、これらのウェハをDI水で30秒間現像した。ベークしたフィルムはDI水で完全に洗浄除去され、これは、1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサンが、110°C/60秒間のベークでポリ3-アミノプロピルシロキサンの硬化を妨げたことを示した。例3調合:例2の20.4gのポリマー溶液及び例1の30.13gのポリマー溶液を、163.7gのDI水と混合した。次いで、500ppmのMegaface登録商標ExpTF-2066界面活性剤DICCorporationTokyo,Japanから入手可能を添加し、そしてこの調合物を0.2μmフィルターに通して濾過した。1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサン中のCOOHと、3-アミノプロピルトリエトキシシラン中の全NH2とのモル比は40:100であった。試験1:調合物を別々の8インチSiウェハ上にスピンコートし、そして一つのウェハは110°C/60秒間でベークし、そして他のウェハは140°C/60秒間でベークした。次いで、これらのウェハをDI水で30秒間現像した。どちらの場合も、ベークしたフィルムは完全に洗浄除去されて、硬化を示さなかった。試験2:1:1のピッチを有する90nmライン/トレンチパターンを、193nmフォトレジストAZ登録商標2110P,AZElectronicMaterialsCorp.,Somerville,NJ,USAを用いて別々の8インチケイ素ウェハ上に生成した。上記の調合物を1800rpmで上記パターン上にコーティングし、そして一つのウェハは110°C/60秒間でベークし、そして二つめのウェハは140°C/60秒間でベークし、その後、水で30秒間現像した。CD測定は、フォトレジストのライン幅の約15nmCD増加を示し、付着層が形成されたことを示した。試験3:上記の調合物を8インチ20.3cmケイ素ウェハ上に1500rpmでスピンコートし、そしてフィルムを200°Cで60秒間ベークした。このウェハを、以下の条件、すなわち50sccmのO2流速、0.26Paのプロセス圧;100wのアンテナ電力;100wのトリガー電力、及び15秒間のプロセス時間の条件を用いて純O2プラズマ中でエッチングした。対照としてのAZ登録商標2110P193nmフォトレジストに対して、0.08の相対エッチング速度がこの材料で得られ、これは、この材料が、フォトレジストと比べて高いエッチング選択性を有したことを示した。例4合成:9.26gの1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサンを37.86gのDI水中に分散した。攪拌しながら、33.4gの3-アミノプロピルトリエトキシシランを滴下した。添加後に、溶液を室温で24時間攪拌して透明な溶液を得た。GPCは1256g/molのMWを示した。1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサン中のCOOHと3-アミノプロピルトリエトキシシラン中のNH2とのモル比は40:100であった。調合:5.28gの上記のポリマー溶液をDI水で希釈して総重量31gとし、そして500ppmのMegaface登録商標ExpTF-2066界面活性剤DICCorporationTokyo,Japanから入手可能を加えた。この溶液を0.2μmフィルターに通して濾過した。試験1:調合物を8インチSiウェハ上にスピンコートし、そして110°C/60秒間でベークした。次いで、これらのウェハをDI水で30秒間現像した。ベークしたフィルムは完全に洗浄除去され、これは、110°C/60秒間ベークで硬化しないことを示した。試験2:1:1ピッチを有する90nmライン/トレンチパターンを、ArFフォトレジストAZ登録商標2110P,AZElectronicMaterialsCorp.,Somerville,NJ,USAを用いて8インチ20.3cmケイ素ウェハ上に生成した。上記の組成物を1800rpmで上記パターン上にコーティングし、110°Cで60秒間ベークし、その後、水で30秒間現像した。CD測定はフォトレジストライン幅に約15nmのCD増加を示し、これは付着層の形成を示していた。例5合成:21.39gの1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサンを87.56gのDI水中に分散した。攪拌しながら、77.24gの3-アミノプロピルトリエトキシシランを滴下した。更に9.1gのDI水を加えた後、溶液を室温で24時間攪拌して透明な溶液を得た。GPCは1162g/molのMWを示した。1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサン中のCOOHと3-アミノプロピルトリエトキシシラン中のNH2とのモル比は40:100であった。調合:37.7gの上記のポリマー溶液をDI水で希釈して全重量240gとし、そして500ppmのMegaface登録商標ExpTF-2066界面活性剤DICCorporationTokyo,Japanから入手可能を加えた。この溶液を0.2μmフィルターに通して濾過した。試験:様々なピッチの120nmコンタクトホールを、ArFコンタクトホールフォトレジストAZ登録商標2050,AZElectronicMaterialsCorp.,Somerville,NJ,USAを用いて8インチ20.3cmケイ素ウェハ上に生成した。上記の水性ケイ素組成物を1800rpmでパターン上にコーティングし、110°Cで60秒間ベークし、その後、水で30秒間現像した。CD測定は、コンタクトホール径に約20nmの減少を示した。例6合成:5.0gの1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサンを25gのDI水中に分散した。攪拌しながら、18.06gの3-アミノプロピルトリエトキシシランと1gのテトラエトキシシランとの混合物を滴下した。添加後に、溶液を室温で24時間攪拌して透明な溶液を得た。1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサン中のCOOHと3-アミノプロピルトリエトキシシラン中のNH2とのモル比は40:100であった。GPCは1207g/molのMWを示した。調合:8.2gの上記のポリマー溶液を44.6gのDI水によって希釈し、そして500ppmのMegaface登録商標ExpTF-2066界面活性剤DICCorporationTokyo,Japanから入手可能を加えた。この溶液を0.2μmフィルターに通して濾過した。試験1:調合物を8インチSiウェハ上にスピンコートし、そして110°C/60秒間でベークした。次いで、これらのウェハをDI水で30秒間現像した。ベークしたフィルムは完全に洗浄除去され、硬化は示さなかった。試験2:先ず、1:1ピッチを有する90nmライン/トレンチパターンを、ArF193nmフォトレジストAZ登録商標2110P,AZElectronicMaterialsCorp.,Somerville,NJ,USAを用いて、8インチ20.3cmケイ素ウェハ上に生成した。上記の組成物を1800rpmでオーバーコートし、110°Cで60秒間ベークし、その後、水で30秒間現像した。CD測定は、約20nmのCD増加を示した。例7合成:19.98gの1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサンを45.25gのDI水中に分散した。攪拌しながら、23.35gの3-アミノプロピルトリメトキシシランを滴下した。添加後に、反応溶液を室温で24時間攪拌して透明な溶液を得た。GPCは1200g/molのMWを示した。1,3-ビス3-カルボキシプロピルテトラメチルジシロキサン中のCOOHと3-アミノプロピルトリエトキシシラン中のNH2とのモル比は100:100であった。調合:2gの上記のポリマー溶液及び例1の5.18gのポリマー溶液を混合しそしてDI水で希釈して4.7重量の溶液を調製した。500ppmのMegaface登録商標ExpTF-2066界面活性剤DICCorporationTokyo,Japanから入手可能を添加し、そしてこの溶液を0.2μmフィルターに通して濾過した。この調合物中でのCOOHと全NH2とのモル比は30:100であった。試験1:調合物を8インチ20.3cmSiウェハ上にスピンコートし、そして110°C/60秒間でベークした。次いで、これらのウェハをDI水で30秒間現像した。ベークしたフィルムは完全に洗浄除去され、硬化は示さなかった。試験2:先ず、1:1ピッチを有する90nmライン/トレンチパターンを、ArFフォトレジストAZ登録商標2110P,AZElectronicMaterialsCorp.,Somerville,NJ,USAを用いて、8インチ20.3cmケイ素ウェハ上に生成した。上記の組成物を1800rpmでオーバーコートし、135°Cで60秒間ベークし、その後、水で30秒間現像した。CD測定は、約37nmのCD増加を示した。例8調合:例7の13.99gのポリマー溶液を100.1gのDI水によって希釈し、そして500ppmのMegaface登録商標ExpTF-2066界面活性剤DICCorporationTokyo,Japanから入手可能を加えた。この溶液を0.2μmフィルターに通して濾過した。この調合物中のCOOHとNH2とのモル比は100:100であった。試験2:先ず、1:1のピッチの80nmライン/トレンチパターンを、ArFフォトレジストAZ登録商標2110P,AZElectronicMaterialsCorp.,Somerville,NJ,USAを用いて8インチ20.3cmケイ素ウェハ上に生成した。上記の組成物を1800rpm/30秒間でオーバーコートし、140°Cで60秒間ベークし、2.38重量TMAH現像剤で30秒間現像した。CD測定はCD変化を示さなかった。同じウェハを次いでフォトレジスト溶剤中に60秒間浸漬した。X-SEMは、ウェハ上のパターンが消失しなかったことを示した。これは、該ケイ素組成物がフォトレジスト中に拡散し、そして付着ケイ素層がTMAH除去液で除去された後でも溶剤浸食からフォトレジストパターンを保護したことを示していた。例9調合:オリゴマー性ポリ3-アミノプロピルシロキサン溶液22~25重量水溶液、MW:570g/mol,GelestCorp.,Morrisville,PA,USAをDI水と混合することによって5重量水溶液を調製した。1000ppmのSurfynol登録商標485界面活性剤AirProductsandChemicals,Inc.,Allentown,PA,USAから入手可能を加えた。試験:上記調合物を、6インチSiウェハ上にスピンコートし、そして110°C/30秒間でベークした。次いで、これらのウェハをDI水で30秒間現像した。ベークされたフィルムが水現像後に残り、これはフィルムが硬化されそしてDI水では除去できなかったことを示した。例102.27gのアジピン酸を、GelestGelestCorp.,Morrisville,PA,USAから得たポリ3-アミノプロピルシロキサンの22~25重量水溶液16.57g中に溶解した。1.5gのこの混合物をDI水で希釈して、8.3gの総重量とした。500ppmのMegaface登録商標ExpTF-2066界面活性剤DICCorporationTokyo,Japanから入手可能を添加し、そしてこの溶液を0.2μmフィルターに通して濾過した。調合物を8インチ20.3cmSiウェハ上にスピンコートし、そして110°C/60秒間でベークした。次いで、これらのウェハをDI水で30秒間現像した。ベークしたフィルムは完全に洗浄除去され、これはアジピン酸が、ポリ3-アミノプロピルシロキサンがこの温度で硬化することを妨げ得たことを示した。例11合成:40.56gのDI水を、マグネチックスターラーバーを備えた250mlフラスコ中に仕込んだ。攪拌しながら、19.8gのN-[3-トリメトキシシリルプロピル]エチレンジアミンを滴下した。添加後に、この溶液を室温で19時間攪拌して透明な溶液を得た。調合:上記のポリマー溶液をDI水で希釈することによって5.0重量溶液を調製し、そして500ppmのMegaface登録商標ExpTF-2066界面活性剤DICCorporationTokyo,Japanから入手可能を加えた。試験:調合物を6インチ15.2cmSiウェハ上にスピンコートし、そして110°C/30秒間でベークした。次いで、これらのウェハをDI水で30秒間現像した。ベークされたフィルムが水現像後に残り、これはフィルムが硬化されそしてDI水では除去できなかったことを示した。例12合成:7.3gのアジピン酸を、マグネチックスターラーバーを備えた250mlフラスコ中で40.17gのDI水中に分散した。攪拌しながら、11.18gのN-[3-トリメトキシシリルプロピル]エチレンジアミンを滴下した。添加後に、この溶液を室温で19時間攪拌して透明な溶液を得た。アジピン酸中のCOOHとN-[3-トリメトキシシリルプロピル]エチレンジアミン中の全Nのとのモル比は100:100であった。調合:上記のポリマー溶液をDI水で希釈することによって5.0重量溶液を調製し、そして500ppmのMegaface登録商標ExpTF-2066界面活性剤DICCorporationTokyo,Japanから入手可能を加えた。試験:調合物を6インチ15.2cmSiウェハ上にスピンコートし、そして140°C/60秒間ベークした。次いで、これらのウェハをDI水で30秒間現像した。ベークしたフィルムはDI水で完全に洗浄除去され、これはアジピン酸が、ポリプロピルエチレンジアミンシロキサンが140°C/60秒間ベークで硬化することを妨げたことを示していた。"