固体表面からのβ線を、前記固体表面を破壊せずに検出する器具であって、β線を含む少なくとも2種類の異なる放射線に対して敏感な少なくとも2つの膜を有する、器具。前記固体表面の周辺の放射線から前記膜を保護する保護体をさらに有する、請求項1に記載の器具。前記保護体がポリマー膜のシートである、請求項2に記載の器具。前記保護体が黒の織物である、請求項2に記載の器具。前記保護体は、前記膜が感受性を有する放射線が侵入しない材料で作られる被覆体である、請求項2に記載の器具。前記被覆体が鉛で作られる、請求項5に記載の器具。β線を定量するために校正されたスケールをさらに有する、請求項1乃至6のうちのいずれか一項に記載の器具。請求項1乃至7のうちのいずれか一項に記載の器具を使用する方法であって:前記固体表面上に第1膜又は3層以上の膜からなる積層体を設置する手順;前記第1膜上に第2膜又は前記積層体を設置する手順;前記第1膜と前記第2膜を現像する手順;及び、前記現像手順後、前記第1膜又は前記固体表面に対して最も近くに位置する前記積層体の膜と、前記第2膜とを比較する手順;を有し、前記積層体の膜の数は、β線が前記第2膜へ到達しないように決定される、方法。前記第1膜と前記第2膜を保護体で被覆する手順をさらに有する、請求項8に記載の方法。前記第1膜と前記第2膜を現像する手順が、適切な装置を用いて、レーザーによって実行される、請求項8又は9に記載の方法。本発明の一の目的は、上で例示した従来技術に係る課題のうちの少なくとも1つを解決することである。上記目的のため、本発明は、固体表面でのβ線を、その固体表面を破壊せずに検出する器具に関する。当該器具は、β線を含む少なくとも2種類の異なる放射線に対して敏感な少なくとも2つの膜を有する。当該器具の一の利点は、その使用が単純なことである。それに加えて、単純な膜を使用することで、設置の自動化が可能となる。その結果、人が、解体されるべき建物に入ってサンプリング操作を実行する必要がなくなる。他の任意で非限定的な特徴は以下の通りである。-当該器具はまた、前記固体表面の周辺の放射線から前記膜を保護する保護体をも有する。-前記保護体はポリマー膜のシートである。-前記保護体は黒の織物である。-前記保護体は、前記膜が感受性を有する放射線が侵入しない材料で作られる被覆体である。-前記被覆体は鉛で作られる。-β線を定量するのに校正されたスケールをも有する。本発明はまた、上述の器具を使用する方法をも供する。当該方法は、-固体表面上に第1膜を設置する手順、-前記第1膜上に第2膜を設置する手順、を有する。他の任意で非限定的な特徴は以下の通りである。-当該方法はまた、前記第1膜と前記第2膜を保護体で被覆する手順をさらに有する。-当該方法はまた、適切な装置によるレーザーによって前記第1膜と前記第2膜を現像する手順をも有する。他の目的、特徴、及び利点は、添付図面を参照しながら以降の詳細な説明を読むことによって、明らかとなる。β線検出器具図1を参照すると、β線検出器具が以降で説明されている。器具Kは、固体表面Sを破壊せずにβ線を検出さらには測定することを可能にする。器具Kは、β線を含む少なくとも2種類の放射線に対して感受性を有する少なくとも2つの膜12を有する。たとえば2つの膜12は同一であって、β線、γ線、X線、又はα線に対して感受性を有して良い。他の例では、2つの膜12はそれぞれ異なる。2つの膜12のうちの一は、β線に対して感受性を有する。2つの膜12のうちの他は、β線には感受性を有しないが、γ線又はX線に対して感受性を有する。器具K中での膜の数は、検出及び又は測定したい放射線の種類に従って変化する。2つの膜12は有利となるように、リン光体層で被覆されたポリマーで作られる。これらの膜の厚さは典型的には1mmである。これらの膜12は、一旦β線、γ線、X線、又はα線に曝露されても、強度が均一の白色光ただしUV光成分を含まないに曝露することによって容易に再利用可能となる。器具Kはまた、膜を使用不能にする恐れのある固体表面Sの周囲の放射線-特に日光-から膜12を保護する保護体3をも有して良い。保護体3は、約450μgcm2の薄いポリマーシート、膜12が感受性を有する放射線が侵入しない材料から作られる黒い織物又は被覆体であって良い。保護体3が被覆体である場合、これは鉛から作られて良い。β線は様々な原子核-たとえばトリチウム3H及び炭素1414C-から放出される。関心がトリチウム3Hにしかない場合、トリチウム3Hのβ線のみを検出する必要がある。炭素14から放出されるβ線は、トリチウム3Hから放出されるβ線よりも侵入する。しかし炭素1414Cから放出されるβ線は、固体表面Sと第1膜1との間のたとえば1枚の紙のシートからなるセパレータ4を用いることによって、トリチウム3Hから分離されうる。この場合、炭素1414Cのみが現像された膜上で見える。よってトリチウム3Hは、2つの記録物一はセパレータを用いた場合の記録で、他はセパレータを用いなかった場合の記録の差異によって観測される。器具Kはまた、トリチウム3Hを定量するサンプリングスケール5をも有して良い。サンプリングスケール5は、β線の定量、ひいてはトリチウム3Hの定量を可能にする。サンプリングスケール5は、様々な濃度たとえば1kBqg~10kBqgのトリチウム3Hを含むことでよって1組の基準を生成する様々なマトリックスたとえばポリマー、コンクリート、金属等の組である。サンプリングスケール5は、固体表面S上でかつ膜12の下に設置される。マトリックスは、膜1上で良好なコントラストが得られるように選ばれる図4aの例のマトリックスのサイズは、直径が約1cmで厚さが約1mmの円筒に相当する。サンプリングスケールは、曝露時間に従って膜12に対してそれぞれ異なる影響を及ぼす。定量分析の場合では、膜12はスケール上で同一期間曝露されることで、材料が分析される必要がある。当該器具の使用方法図2aと図2bを参照すると、上述の器具Kの使用方法が以降で説明される。最初に第1膜1が、固体表面S上のE2E2’に直接設置される。前記第1膜1は、β線、γ線、X線、又はα線によって刻印され、β線、γ線、X線、又はα線の一部を止める。次に第2膜2が、固体表面S上のE3E3’に直接設置される。一部の放射線は、第1膜1によって止められる。よって第2膜2は、第1膜1を通過して侵入する放射線によってのみ刻印される。他の膜もまた、これまで設置された膜上に直接積層することによって、その実施形態に応じて設置されて良い。使用される膜の数は、検出及び又は測定したいβ線に依存する。この理由は、すべてのβ線がある材料中を同じように同一距離侵入する訳ではないからである。β線はそれほど侵入しない。ほとんどの場合において、β線は、第1膜1によって止められるので、その第1膜1にしか刻印しない。しかし場合によって、β線はより侵入することもあり得る。従って少なくとも1つの追加膜を用いることが必要である。最も侵入する放射線-たとえばγ線又はX線-はすべての膜を刻印する。第2膜2-又は複数の膜が用いられる場合には、その積層体の最上部の膜-上で検出される放射線がβ線以外の放射線であるか否かを、適切な電子検出器を用いることによって確認することが可能である。検出器が、第2膜2-又は複数の膜が用いられる場合には、その積層体の最上部の膜-を刻印する放射線が、たとえばγ線又はX線であることを示唆する場合、他の膜を追加する必要はない。あるいはその代わりに検出器が、γ線又はX線によって刻印されない第2膜2-又は複数の膜が用いられる場合には、その積層体の最上部の膜上の点が存在することを示唆する場合、さらなる膜を追加することが必要である。その理由は、残された印は、より侵入したβ線に起因する蓋然性が高いからである。固体表面周辺の環境に由来する迷光による膜の影響及び又は汚点の生成を可能な限り回避するため、2つの膜12又は複数の膜からなる積層体は、保護体3-たとえば被覆体-によって覆われて良いE4E4’参照。膜12は、所与の期間-たとえばトリチウム3Hによる汚染が少ない場合には2週間-固体表面Sからの放射線に曝露される。その期間は、信号対バックグラウンド比を最適化して、膜上で最高のコントラスを得るため、実験的に決定される。曝露時間の終了時に、膜12は回収されて、適切な装置によるレーザーに曝露される。膜12が回収されて任意で移送されるとき、膜12によって記録されたデータの劣化を防止するため、膜12を周囲の迷光にしないように注意することが必要である。図2bでセパレータ4が用いられる場合、セパレータ4は、第1膜1が固体表面Sと接する前に設けられるE1’参照。この場合、第1膜1はセパレータ4と接する。様々な濃度のトリチウム3Hを含む複数のマトリックスの組であるサンプリングスケール5が用いられる場合図2a参照、サンプリングスケール5は、第1膜1の下又はセパレータ4用いられる場合の下に設けられなければならない。当該方法の一の利点は、一連の操作を正しく行うことが簡単なことである。前記一連の操作は、膜12と、任意のセパレータ4と、保護体3と、サンプリングスケール5が重ね合わせられることでまとめて実行される。これらの操作の自動化が単純化される。その自動化を行うロボットの開発はそれほど困難なことではない。当該器具によって得られた結果図3aと図3bは、トリチウム3Hと接した固体表面によって放出されるβ線及びγ線による第1膜1の印図3aと第2膜2の印図3bをそれぞれ再現している。図3aでは、8つの刻印された領域が見える。前記8つの刻印された領域は、第1膜1上でB1~B3及びG1~G5の参照記号でラベル付けされている。図3bでは、5つの刻印された領域が見える。前記5つの刻印された領域は、第2膜2上でΓ1~Γ5の参照記号でラベル付けされている。膜1と膜2とを比較することによって、第1膜1の領域G1~G5が、第2膜2のΓ1~Γ5に対応することが分かる。従ってこれら5つの領域は、β線よりも侵入するγ線によって刻印された。β線は、第1膜1の領域B1~B3のみを刻印した。第2膜2に対応する領域が存在しないことが、これらの放射線がβ線であることを示唆している。従って領域B1~B3に対応する固体表面の領域は、トリチウム3Hによって汚染された。このことは、β線及び間接的にはβ線に関与する原子核の検出が単純化されることを示している。それに加えて、この検出によって、トリチウム3Hの汚染情報が2次元で与えられる。β線ひいてはトリチウム3Hの定量的な測定を可能にするため、サンプリングスケール5が、図4aに図示されているように用いられる。サンプリングスケール5に残された印は、ある程度の強度で刻印された円の組暗部である。円が膜の残りの部分の色に近づくにつれて、トリチウム3Hの汚染は低くなる。第1膜1について得られた結果と、このスケール5とを比較することによって、トリチウム3Hの定量が可能となる。図4bは、図4aの膜と接した状態で設置された膜を表している。この膜は刻印されていない。このことは、β線が2つの膜の積層体によって評価可能であり、かつ、β線は、第1膜1が刻印されて第2膜2が刻印されない地点に存在することを明らかに示している。