高炉ブローパイプ内に還元材を吹込む装置であって、還元材を吹込むランスが水冷化されていることを特徴とする高炉への還元材吹込み装置。還元材を連続的に吹込むことを特徴とする請求項1に記載の高炉への還元材吹込み装置。ランス先端圧力が炉内圧力より大きくなるように、還元材の供給量に応じて還元材を吹込むランスの本数を増減することを特徴とする請求項1または2に記載の高炉への還元材吹込み装置。高炉ブローパイプ内に還元材を吹込む方法であって、還元材を吹込むランスを水冷化することを特徴とする高炉への還元材吹込み方法。還元材を連続的に吹込むことを特徴とする請求項4に記載の高炉への還元材吹込み方法。ランス先端圧力が炉内圧力より大きくなるように、還元材の供給量に応じて還元材を吹込むランスの本数を増減することを特徴とする請求項4または5に記載の高炉への還元材吹込み方法。しかしながら、本発明者らが検討したところによれば、上記特許文献1、2に記載の技術には以下のような問題点があることが分かった。特許文献1については、基本的にランスの配置について述べられているが、吹込むための前提となる還元材供給圧力、流量等についてはほとんど述べられておらず、また、通常操業の範囲において炉内圧力等の操業状況が変化した場合にも当該ランス配置が必ずしも最適であるとは言い切れない。特許文献2については、炉内圧力に対して還元性ガスの所定吹込み圧力を維持すること、吹込み圧力が所定値を下回った場合の実施内容等について述べられているが、吹込み圧力が低下する状況に至る原因そのものの解消方法については述べられていないため、対処療法的である。また、仮にランスが何らかの原因により閉塞した場合、実際は吹込みが不可能な状況になっているにも関わらず、吹込み圧力が所定値を上回っているように検知される可能性もあり、その場合には何ら対応できない。本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、高炉への還元材吹込みを行うに際して、吹込みランスの閉塞等を的確に防止して、高炉に安定かつ確実に還元材を吹込むことができる還元材吹込み装置および方法を提供することを目的とするものである。本発明者らは、前記課題を解決するために様々な検討を行った結果、以下の知見を得た。すなわち、まず、高温高速空気が逆流することなくランスから還元材が炉内に吹き込まれるための前提条件として、常にランス先端圧力>炉内圧力の関係を満たす必要がある。その上で、ランスの閉塞を的確に防止するためには、ランスを水冷化すれば良い。さらに、還元材を断続的ではなく連続的に吹込めば良く、加えて、還元材の供給量に応じて還元材を吹込むランスの本数を増減させれば良い。本発明は、上記の知見に基づいたものであり、以下のような特徴を有している。[1]高炉ブローパイプ内に還元材を吹込む装置であって、還元材を吹込むランスが水冷化されていることを特徴とする高炉への還元材吹込み装置。[2]還元材を連続的に吹込むことを特徴とする前記[1]に記載の高炉への還元材吹込み装置。[3]ランス先端圧力が炉内圧力より大きくなるように、還元材の供給量に応じて還元材を吹込むランスの本数を増減することを特徴とする前記[1]または[2]に記載の高炉への還元材吹込み装置。[4]高炉ブローパイプ内に還元材を吹込む方法であって、還元材を吹込むランスを水冷化することを特徴とする高炉への還元材吹込み方法。[5]還元材を連続的に吹込むことを特徴とする前記[4]に記載の高炉への還元材吹込み方法。[6]ランス先端圧力が炉内圧力より大きくなるように、還元材の供給量に応じて還元材を吹込むランスの本数を増減することを特徴とする前記[4]または[5]に記載の高炉への還元材吹込み方法。本発明においては、ランスの閉塞を的確に防止して、高炉に安定かつ確実に還元材を吹込むことができるようになる。その結果、炉況がより安定化する。また、ランス関係のトラブル頻度も大幅に低下するため、トラブル発生による高炉減風すなわち出銑量低下の回避、および破損箇所の補修費の削減というメリットもある。本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。図1に示したように、一般に、高炉1においては、熱風炉から環状管3を経由して供給される高温空気を、ブローパイプ4を通じて炉体下部の円周上に均等配置された羽口5から炉内に吹き込んでいる。本発明においても、炉内への還元材供給はブローパイプ4内に差し込んだランス10を通じて行うものとする。高炉においては、基本的に炉頂より原料を投入、下部より高温空気および還元材を供給している。原料は最終的に炉床より溶銑として出銑され、高温空気および還元材は最終的に炉頂より高炉ガスとして排出される。炉内は大まかには鉱石とコークスが交互に積み重なった充填層となっておりただし、炉内下部では各層の融着が進行しているため明確に層があるわけではない、安定した炉内状態を維持するための操業パラメータの1つとして炉内圧力PBFがある。現実の操業においては、充填層の状態は時々刻々と変化するので、それに伴い充填層の通気抵抗も変化し、その結果として炉内圧力PBFは、Pave-ΔP≦PBF≦PaveΔPの範囲で変動する。ここで、Pave:炉内圧力平均値、ΔP:炉内圧力変動幅の1/2である。そこで、まず、ランス先端圧力PLは常に、以下の関係を満たすようにする必要がある。ランス先端圧力PL>炉内圧力PBFなぜなら、流体は圧力勾配に沿って流れるため、もし、ランス先端圧力PL<炉内圧力PBFとなった場合、高温高速空気がランス内に逆流、還元材供給配管系統で逆火する可能性があるからである。その上で、本発明においては、ランス10を水冷化することによって、ランス10の閉塞を防止するようにしている。図2に、本発明で用いる吹込みランス10Aと従来の吹込みランス10Zとの比較を示す。ここで、図2aはランス10がブローパイプ4内に差し込まれている状態を示す図であり、前述の図1cと同じものである。そして、図2bは従来の吹込みランス10Zの先端部分の拡大図であり、図2cは本発明で用いる吹込みランス10Aの先端部分の拡大図である。通常、ランス10は、LNG等に代表される気体還元材の他、粉粒体である微粉炭を還元材として吹き込むことも多い。一般に、微粉炭は400°C以上になると熱分解を開始し揮発分の放出が始まるとされており、これは言い換えると400°C以上で微粉炭の融着現象が発生するということである。ブローパイプ4内の送風温度は1100°C程度あり、ランス10の外面はその高温に直接曝される。その際に、図2bに示す従来の吹込みランス10Zのように、ランス管11が非水冷の場合、ランス管11の径、肉厚、材質等にもよるが、ランス管11内面温度は外面からの熱伝導により、計算上600~900°Cに達していると想定される。そのため、何らかの原因によりランス管11内に微粉炭が滞留した場合、ランス管11内面に融着する可能性がある。一度に大量の融着が発生するか、もしくは少量の融着が繰り返されると、最終的に融着物によるランス管11の閉塞が発生し、還元材の吹込みが不可能になる可能性もある。これに対して、図2cに示すこの実施形態で用いる吹込みランス10Aのように、ランス管11を水冷化した場合、すなわち、ランス管11にランス冷却水通路12が取り付けられていて、そのランス冷却水通路12を流れる冷却水によってランス管11が冷却されるようになっている場合、冷却水量にもよるが、ランス管11内面温度は400°C以下に下げることが可能となる。その結果、ランス管11内に微粉炭が滞留した場合でもランス管11内面に融着することはなくなる。そして、本発明においては、還元材を断続的ではなく連続的に吹込むようにしている。還元材を断続的に吹込む場合、吹込みを停止した瞬間もしくは吹込み停止中に、ブローパイプ4内の圧力変動によりランス管11内に微粉炭が逆流し、上述の融着が発生する頻度が高くなる可能性がある。微粉炭以外の還元材の逆流による不具合発生の頻度が高まる可能性についても然りである。さらには、還元材は常温であることが多く、還元材吹込みそのものにランス冷却効果も期待していることが多いため、吹込み停止中はランス冷却ができず、ランス管11の温度が送風温度の1100°C程度まで上昇、材質劣化し溶損してしまうなお、還元材吹込み停止中は、ランス冷却のために不活性ガスを替わりに吹込んでいることが多い。この点からも還元材は連続吹込みが望ましい。ただし、本発明ではランスを水冷化しているので、停止中も代替ガスを吹込まずともランス管11の温度を所定温度以下に維持することが可能である。また、操業状況に応じて還元材の供給量も変更する必要があるが、本発明においては、供給量に応じて吹込むランスの本数を選択可能にしている。一般に、高炉1にはその内容積に応じて数十本の羽口5が設置されており、ランス10は基本的には羽口5すなわちブローパイプ4毎に設置される。還元材供給量が低下する際、数十本のランス10の全てに還元材を均等に供給していたのでは、ランス10毎の流量が少なくなりすぎて、炉内圧力PBFが変動した際にランス管11内に逆流する可能性がある。そこで、それを回避するために、本発明においては、還元材供給量の低下に応じて、所定のランス10Aのみから還元材を供給することとし、ランス10Aの1本あたりの最低流量を下回らないにように、すなわち、ランス先端圧力PLが炉内圧力PBFより大きくなるようにしている。そのために、図3に示すように、数十本のランス10Aのそれぞれに流量調整弁24を設けるか、もしくはランス10Aを何本かをまとめたグループ毎に流量調整弁23を設けるようにしている。なお、図3において、21は還元材供給配管であり、22は何本かのランス10Aをまとめてヘッダとなるリング管である。このようにして、本発明においては、ランス管11を水冷化しているランス10Aを用いているので、ランス管11の閉塞が防止されて、高炉に安定かつ確実に還元材を吹込むことができるようになる。なお、本発明は、上記の実施形態に限定されるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。本発明の実施例を以下に示す。まず、従来例として、図2bに示したような従来のランス10Z非水冷ランスを用いて、還元材の吹込みを行った。その際に、ランス10Zの上流には手動の流量調整弁を設置した。また、ランス先端圧力PL<炉内圧力PBFとなるタイミングがあり、還元材の吹込みは断続的であり停止中は不活性ガスを吹込んでいた、還元材供給量が変化しても全てのランス10Zから還元材の吹込みを実施した。これに対して、本発明例として、図2cに示したようなランス10A水冷ランスを用いて、還元材の吹込みを行った。その際に、ランス10A群を、図3に示したように、リング管22をヘッダとして5グループに分け、リング管22上流の還元材供給配管21に高炉運転室から操作も可能な自動の流量調整弁23を設置した。さらに、ランス先端圧力PL>炉内圧力PBFの関係を常に保つものとし、還元材の吹込みは連続的とし、還元材供給量が所定値を下回る場合には、自動の流量調整弁23により特定のランス10Aを自動で停止する条件とした。それ以外は従来例と同等の操業条件とした。その結果、従来例では数ヶ月のスパンで全てのランス10Zの数十に発生していたランス管11の閉塞が、本発明例ではゼロとすることができた。その結果、高炉の安定操業に大きく寄与することができた。