"対向に配置された2枚の基板、この基板の少なくとも1枚の内面側に積層された層間絶縁膜、及び上記基板間に配設され、重合性液晶組成物から形成された液晶層を備え、上記層間絶縁膜を構成する樹脂が、下記式1で表される重合体の架橋部分を有する液晶表示素子。式1中、R0は下記式1-1~1-6のいずれかで表される基である。上記層間絶縁膜が、[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式2で表される基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、[B]光酸発生体、及び[C]有機溶媒を含有するポジ型感放射線性組成物を用いて形成された請求項1に記載の液晶表示素子。式2中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。また、R1及びR2が共に水素原子である場合はない。R3は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は-MR3m3で表される基である。上記Mは、Si、Ge又はSnである。R3mはアルキル基である。但し、これらの基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。また、R1とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよい。上記重合性液晶組成物が、光重合性又は熱重合性を有する請求項1又は請求項2に記載の液晶表示素子。対向に配置された2枚の基板、この基板の少なくとも1枚の内面側に積層された層間絶縁膜、及び上記基板間に配設され、重合性液晶組成物から形成された液晶層を備える液晶表示素子の層間絶縁膜を形成するために用いられ、[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式2で表される基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、[B]光酸発生体、及び[C]有機溶媒を含有するポジ型感放射線性組成物。式2中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。また、R1及びR2が共に水素原子である場合はない。R3は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は-MR3m3で表される基である。上記Mは、Si、Ge又はSnである。R3mはアルキル基である。但し、これらの基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。また、R1とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよい。[D]界面活性剤をさらに含有し、この[D]界面活性剤が、シリコーン系界面活性剤である請求項4に記載のポジ型感放射線性組成物。1請求項4又は請求項5に記載のポジ型感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2工程1で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3工程2で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び4工程3で現像された塗膜を加熱する工程を有する液晶表示素子用層間絶縁膜の形成方法。請求項4又は請求項5に記載のポジ型感放射線性組成物を用いて形成された液晶表示素子用層間絶縁膜。本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は優れた耐熱性及び耐光性を有する層間絶縁膜を備え、高い電圧保持率を有する液晶表示素子、及び保存安定性に優れ、かつ上記層間絶縁膜の形成に好適なポジ型感放射線性組成物を提供することである。上記課題を解決するためになされた発明は、対向に配置された2枚の基板、この基板の少なくとも1枚の内面側に積層された層間絶縁膜、及び上記基板間に配設され、重合性液晶組成物から形成された液晶層を備え、上記層間絶縁膜を構成する樹脂が、下記式1で表される重合体の架橋部分を有する液晶表示素子である。式1中、R0は下記式1-1~1-6のいずれかで表される基である。本発明の液晶表示素子を構成する樹脂が、上記式1で表される重合体の架橋部分を有する層間絶縁膜を備えることで、優れた耐熱性及び耐光性を有し、その結果、当該液晶表示素子は、高い電圧保持率を有することができる。上記層間絶縁膜は、[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式2で表される基を含む構造単位以下構造単位1とも称するとエポキシ基含有構造単位とを有する重合体以下、[A]重合体とも称する、[B]光酸発生体、及び[C]有機溶媒を含有するポジ型感放射線性組成物を用いて形成された液晶表示素子である。式2中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。また、R1及びR2が共に水素原子である場合はない。R3は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は-MR3m3で表される基である。上記Mは、Si、Ge又はSnである。R3mはアルキル基である。但し、これらの基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。また、R1とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよい。[A]重合体は、エポキシ基と反応する官能基が上記式2で表される構造で保護されているため、通常の状態では反応せず、酸によって脱保護されることではじめて官能基とエポキシ基とが反応することとなる。従って、[A]重合体を含むこのポジ型感放射線性組成物は保存安定性に優れ、当該液晶表示素子は高い生産性を有している。また、当該液晶表示素子の層間絶縁膜は、脱保護された官能基とエポキシ基との架橋反応により強固に硬化されているため優れた耐熱性及び耐光性を備え、その結果、当該液晶表示素子は、高い電圧保持率を有することができる。上記重合性液晶組成物は、光重合性又は熱重合性を有することが好ましい。上記重合性液晶組成物が、光重合性又は熱重合性を有することで、光の照射又は加熱により重合性液晶組成物から液晶層を形成することができ、効率的な製造が可能となる。また、当該液晶表示素子によれば、このような光の照射又は加熱を経て製造されても、層間絶縁膜の変形等が抑制されるため、高い電圧保持率及び優れた生産性を発揮することができる。本発明のポジ型感放射線性組成物は、対向に配置された2枚の基板、この基板の少なくとも1枚の内面側に積層された層間絶縁膜、及び上記基板間に配設され、重合性液晶組成物から形成された液晶層を備える液晶表示素子の層間絶縁膜を形成するために用いられ、[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式2で表される基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、[B]光酸発生体、及び[C]有機溶媒を含有するポジ型感放射線性組成物である。式2中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。また、R1及びR2が共に水素原子である場合はない。R3は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は-MR3m3で表される基である。上記Mは、Si、Ge又はSnである。R3mはアルキル基である。但し、これらの基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。また、R1とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよい。[A]重合体は、上述のとおりエポキシ基と反応する官能基が上記式2で表される構造で保護されているため、通常の状態では反応せず、酸によって脱保護されることで、エポキシ基と官能基とが反応することとなる。放射線の照射により脱保護された官能基とエポキシ基との架橋反応が進み、強固に硬化されるため、耐熱性及び耐光性に優れた層間絶縁膜を得ることができ、かつ優れた保存安定性を有する。従って、当該組成物は、加熱又は光照射により液晶層を形成する液晶表示素子用層間絶縁膜を好適に形成することができる。当該組成物は、[D]界面活性剤をさらに含有し、この[D]界面活性剤がシリコーン系界面活性剤であることが好ましい。当該組成物が、シリコーン系界面活性剤をさらに含有することで得られる層間絶縁膜の膜厚均一性を向上することができ、その結果、得られる液晶表示素子の電圧保持率をより高めることができる。本発明の液晶表示素子用層間絶縁膜の形成方法は、1当該組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2工程1で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3工程2で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び4工程3で現像された塗膜を加熱する工程を有する。当該層間絶縁膜は、加熱又は光照射により液晶層を形成する液晶表示素子用の層間絶縁膜の形成方法として好適である。本発明の液晶表示素子の層間絶縁膜は、上記ポジ型感放射線性組成物を用いて形成されたものである。当該層間絶縁膜は、上述のとおり加熱又は光照射により液晶層を形成する液晶表示素子用の層間絶縁膜として好適に用いることができる。なお、本明細書にいう[A]成分の重合体は、一の重合体分子中に構造単位1を有し、かつその一の重合体分子とは異なる重合体分子中にエポキシ基含有構造単位を有する場合も含む概念である。また、放射線とは、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線、荷電粒子線等を含む概念である。以上説明したように、本発明の液晶表示素子は、層間絶縁膜が優れた耐熱性及び耐光性を有しているため、製造工程における変形等を抑えることができ、その結果、優れた電圧保持能を発揮することができる。また、このポジ型感放射線性組成物が保存安定性に優れているため、当該液晶表示素子は高い生産性を有している。本発明の液晶表示素子は、対向に配置された2枚の基板、この基板の少なくとも1枚の内面側に積層された層間絶縁膜、及び上記基板間に配設された液晶層を備える。以下、各構成要素について詳述する。<基板>基板としては、一般的な液晶表示素子に通常使用されるものが挙げられる。基板の材質としては、例えばガラス、石英、シリコーン、樹脂等が挙げられる。樹脂としては例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、環状オレフィンの開環重合体及びその水素添加物等が挙げられる。なお、この基板は、堅固な材質に限定されずプラスチックフィルム等の柔軟性を有する材質であってもよい。対向に配置された少なくとも1枚の基板は透明性を有する。この透明性を有する基板を通じて液晶層等を外側から視認することができる。なお、液晶表示素子が、素子の一方の側から他方の側へ通過する光に対して作用させるために使用される場合は、2枚の基板は、共に透明性を有する。この基板には、目的に応じて透明又は不透明な電極が、その全面又は部分的に配置されても良い。なお、この2枚の基板間には、通常、周知の液晶表示素子と同様に、間隔保持用のスペーサーを介在させることもできる。<層間絶縁膜>層間絶縁膜は、[A]重合体、[B]光酸発生体及び[C]有機溶媒を含有するポジ型感放射線性組成物を用いて形成されたものであり、上記層間絶縁膜を構成する樹脂が、上記式1で表される重合体の架橋部分を有する。当該液晶表示素子が、上記式1で表される基を重合体の架橋部分を有する層間絶縁膜を備えることで、優れた耐熱性及び耐光性を有し、その結果、当該液晶表示素子は、高い電圧保持率を有することができる。上記式1中、R0は、上記式1-1~1-6のいずれかで表される基である。上記式1で表される重合体の架橋部分は、例えば下記反応式で表されるように、カルボキシル基等の官能基を有する重合体とエポキシ基を有する重合体とが熱架橋すること、又は一分子中にカルボキシル基とエポキシ基を有する重合体間で熱架橋することによって形成される。なお、上記カルボキシル基等の官能基とは、例えば上記式2で表される保護基が酸によって脱保護された基が該当する。また、このポジ型感放射線性組成物はその他の任意成分を含有していてもよい。以下、ポジ型感放射線性組成物の各成分を詳述する。[[A]重合体][A]重合体は、同一又は異なる重合体分子中に上記構造単位1とエポキシ基含有構造単位とを有しており、必要に応じてその他の構造単位を有していてもよい。[A]重合体は、エポキシ基と反応する官能基が上記式2で表される構造で保護されているため、通常の状態では反応せず、酸によって脱保護されることではじめて官能基とエポキシ基とが反応することとなる。従って、[A]重合体を含むこのポジ型感放射線性組成物は保存安定性に優れ、当該液晶表示素子は高い生産性を有している。また、当該液晶表示素子の層間絶縁膜は、脱保護された官能基とエポキシ基との架橋反応により強固に硬化されているため優れた耐熱性及び耐光性を備え、その結果、当該液晶表示素子は、高い電圧保持率を有することができる。構造単位1及びエポキシ基含有構造単位を有する[A]重合体の態様としては特に限定されず、i同一の重合体分子中に構造単位1及びエポキシ基含有構造単位の両方を有しており、重合体中[A]に1種の重合体分子が存在する場合;ii一の重合体分子中に構造単位1を有し、それとは異なる重合体分子中にエポキシ基含有構造単位を有しており重合体中[A]に2種の重合体分子が存在する場合;iii一の重合体分子中に構造単位1及びエポキシ基含有構造単位の両方を有し、それとは異なる重合体分子中に構造単位1を有し、これらとはさらに異なる重合体分子中にエポキシ基含有構造単位を有しており、重合体中[A]に3種の重合体分子が存在する場合;ivi~iiiに規定の重合体分子に加え、重合体中[A]にさらに別の1種又は2種以上の重合体分子を含む場合等が挙げられる。構造単位1構造単位1では、上記式2で表される基が、酸の存在下で解離して極性基を生じる基以下、酸解離性基とも称するとして存在しているので、放射線の照射により光酸発生体から生じた酸により酸解離性基が解離し、その結果、アルカリ不溶性であった[A]重合体はアルカリ可溶性となる。上記酸解離性基は、アルカリに対しては比較的安定なアセタール構造又はケタール構造を有しており、これらが酸の作用によって解離することとなる。上記式2において、R1及びR2で表されるアルキル基としては、好ましくは炭素数1~30の直鎖状及び分岐状アルキル基である。このアルキル鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子を有していてもよい。上記アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-ドデシル基、n-テトラデシル基、n-オクタデシル基等の直鎖状アルキル基、i-プロピル基、i-ブチル基、t-ブチル基、ネオペンチル基、2-ヘキシル基、3-ヘキシル基等の分岐状アルキル基等が挙げられる。上記式2においてR1及びR2で表されるシクロアルキル基としては、好ましくは炭素数3~20のシクロアルキル基である。シクロアルキル基は、多環でもよく、環内に酸素原子を有していてもよい。上記シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル、シクロオクチル、ボルニル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。上記式2においてR1及びR2で表されるアリール基としては、好ましくは炭素数6~14のアリール基である。アリール基は、単環でもよく、単環が連結した構造であってもよく、縮合環であってもよい。上記アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。上記R1及びR2の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。置換基としては、例えばハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、カルボニル基、シクロアルキル基このシクロアルキル基としては、上記シクロアルキル基の説明を好適に適用できる、アリール基このアリール基としては、上記アリール基の説明を好適に適用できる、アルコキシ基好ましくは、炭素数1~20のアルコキシ基である。例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等が挙げられる、アシル基好ましくは炭素数2~20のアシル基である。例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、i-ブチリル基等が挙げられる、アシロキシ基好ましくは炭素数2~10のアシロキシ基である。例えば、アセトキシ基、エチリルオキシ基、ブチリルオキシ基、t-ブチリルオキシ基、t-アミリルオキシ基等が挙げられる、アルコキシカルボニル基好ましくは炭素数2~20のアルコキシカルボニル基である。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等が挙げられる、ハロアルキル基上記アルキル基又はシクロアルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基である。例えば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、フルオロシクロプロピル基、フルオロシクロブチル基等が挙げられる等が挙げられる。アリール基、シクロアルキル基等における環状構造については、さらなる置換基として上記アルキル基が挙げられる。上記式2においてR3で表されるアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基はR1及びR2での説明を適用できる。上記式2においてR3で表されるアラルキル基としては、好ましくは炭素数7~20のアラルキル基である。例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。上記式1においてR3の-MR3m3で表される基としては、例えばトリメチルシラニル基、トリメチルゲルミル基等が挙げられる。このR3で表されるアラルキル基又は-MR3m3で表される基の水素原子の一部又は全部を上記基置換基で置換していてもよい。R1とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよい。このような環状エーテルとしては、例えば2-オキセタニル基、2-テトラヒドロフラニル基、2-テトラヒドロピラニル基、2-ジオキサニル基等が挙げられる。この環状エーテルの水素原子の一部又は全部は上記置換基で置換されていてもよい。構造単位1は、他の炭素原子に結合することによりアセタール構造又はケタール構造を与える官能基を有することで、そのアセタール構造又はケタール構造を有することができる。上記他の炭素原子に結合することによりアセタール構造を与える官能基としては、例えば1-メトキシエトキシ基、1-エトキシエトキシ基、1-n-プロポキシエトキシ基、1-i-プロポキシエトキシ基、1-n-ブトキシエトキシ基、1-i-ブトキシエトキシ基、1-sec-ブトキシエトキシ基、1-t-ブトキシエトキシ基、1-シクロペンチルオキシエトキシ基、1-シクロヘキシルオキシエトキシ基、1-ノルボルニルオキシエトキシ基、1-ボルニルオキシエトキシ基、1-フェニルオキシエトキシ基、1-1-ナフチルオキシエトキシ基、1-ベンジルオキシエトキシ基、1-フェネチルオキシエトキシ基、シクロヘキシルメトキシメトキシ基、シクロヘキシルエトキシメトキシ基、シクロヘキシルn-プロポキシメトキシ基、シクロヘキシルi-プロポキシメトキシ基、シクロヘキシルシクロヘキシルオキシメトキシ基、シクロヘキシルフェノキシメトキシ基、シクロヘキシルベンジルオキシメトキシ基、フェニルメトキシメトキシ基、フェニルエトキシメトキシ基、フェニルn-プロポキシメトキシ基、フェニルi-プロポキシメトキシ基、フェニルシクロヘキシルオキシメトキシ基、フェニルフェノキシメトキシ基、フェニルベンジルオキシメトキシ基、ベンジルメトキシメトキシ基、ベンジルエトキシメトキシ基、ベンジルn-プロポキシメトキシ基、ベンジルi-プロポキシメトキシ基、ベンジルシクロヘキシルオキシメトキシ基、ベンジルフェノキシメトキシ基、ベンジルベンジルオキシメトキシ基、2-テトラヒドロフラニルオキシ基、2-テトラヒドロピラニルオキシ基、1-トリメチルシラニルオキシエトキシ基、1-トリメチルゲルミルオキシエトキシ基等が挙げられる。これらのうち、1-エトキシエトキシ基、1-シクロヘキシルオキシエトキシ基、2-テトラヒドロピラニルオキシ基、1-n-プロポキシエトキシ基、、1-n-ブトキシエトキシ基、2-テトラヒドロピラニルオキシ基が好ましい。上記他の炭素原子に結合することにより、ケタール構造を与える官能基としては、例えば1-メチル-1-メトキシエトキシ基、1-メチル-1-エトキシエトキシ基、1-メチル-1-n-プロポキシエトキシ基、1-メチル-1-i-プロポキシエトキシ基、1-メチル-1-n-ブトキシエトキシ基、1-メチル-1-i-ブトキシエトキシ基、1-メチル-1-sec-ブトキシエトキシ基、1-メチル-1-t-ブトキシエトキシ基、1-メチル-1-シクロペンチルオキシエトキシ基、1-メチル-1-シクロヘキシルオキシエトキシ基、1-メチル-1-ノルボルニルオキシエトキシ基、1-メチル-1-ボルニルオキシエトキシ基、1-メチル-1-フェニルオキシエトキシ基、1-メチル-1-1-ナフチルオキシエトキシ基、1-メチル-1-ベンジルオオキシエトキシ基、1-メチル-1-フェネチルオキシエトキシ基、1-シクロヘキシル-1-メトキシエトキシ基、1-シクロヘキシル-1-エトキシエトキシ基、1-シクロヘキシル-1-n-プロポキシエトキシ基、1-シクロヘキシル-1-i-プロポキシエトキシ基、1-シクロヘキシル-1-シクロヘキシルオキシエトキシ基、1-シクロヘキシル-1-フェノキシエトキシ基、1-シクロヘキシル-1-ベンジルオキシエトキシ基、1-フェニル-1-メトキシエトキシ基、1-フェニル-1-エトキシエトキシ基、1-フェニル-1-n-プロポキシエトキシ基、1-フェニル-1-i-プロポキシエトキシ基、1-フェニル-1-シクロヘキシルオキシエトキシ基、1-フェニル-1-フェニルオキシエトキシ基、1-フェニル-1-ベンジルオキシエトキシ基、1-ベンジル-1-メトキシエトキシ基、1-ベンジル-1-エトキシエトキシ基、1-ベンジル-1-n-プロポキシエトキシ基、1-ベンジル-1-i-プロポキシエトキシ基、1-ベンジル-1-シクロヘキシルオキシエトキシ基、1-ベンジル-1-フェニルオキシエトキシ基、1-ベンジル-1-ベンジルオキシエトキシ基、2-2-メチル-テトラヒドロフラニルオキシ基、2-2-メチル-テトラヒドロピラニルオキシ基、1-メトキシ-シクロペンチルオキシ基、1-メトキシ-シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、1-メチル-1-メトキシエトキシ基、1-メチル-1-シクロヘキシルオキシエトキシ基が好ましい。上記アセタール構造又はケタール構造を有する構造単位1としては、例えば下記式2-1~2-3で表される構造単位等が挙げられる。上記式2-1及び2-3中、R4は、水素原子又はメチル基である。R1、R2及びR3は上記式2と同義である。上記式2-1~2-3で表される構造単位1を与えるラジカル重合性を有する単量体以下、アセタール構造含有単量体とも称するとしては、例えば1-アルコキシアルキルメタアクリレート、1-シクロアルキルオキシアルキルメタアクリレート、1-ハロアルコキシアルキルメタアクリレート、1-アラルキルオキシアルキルメタアクリレート、テトラヒドロピラニルメタアクリレート等のメタアクリレート系アセタール構造含有単量体;2,3-ジ1-トリアルキルシラニルオキシアルコキシカルボニル-5-ノルボルネン、2,3-ジ1-トリアルキルゲルミルオキシアルコキシカルボニル-5-ノルボルネン、2,3-ジ1-アルコキシアルコキシカルボニル-5-ノルボルネン、2,3-ジ1-シクロアルキルオキシアルコキシカルボニル-5-ノルボルネン、2,3-ジ1-アラルキルオキシアルコキシカルボニル-5-ノルボルネン等のノルボルネン系アセタール構造含有単量体;1-アルコキシアルコキシスチレン、1-ハロアルコキシアルコキシスチレン、1-アラルキルオキシアルコキシスチレン、テトラヒドロピラニルオキシスチレン等のスチレン系アセタール構造含有単量体等が挙げられる。より具体的なアセタール構造含有単量体としては、例えば1-エトキシエチルメタクリレート、1-メトキシエチルメタクリレート、1-n-ブトキシエチルメタクリレート、1-イソブトキシエチルメタクリレート、1-t-ブトキシエチルメタクリレート、1-2-クロルエトキシエチルメタクリレート、1-2-エチルヘキシルオキシエチルメタクリレート、1-n-プロポキシエチルメタクリレート、1-シクロヘキシルオキシエチルメタクリレート、1-2-シクロヘキシルエトキシエチルメタクリレート、1-ベンジルオキシエチルメタクリレート、2-テトラヒドロピラニルメタクリレート、1-エトキシエチルアクリレート、1-メトキシエチルアクリレート、1-n-ブトキシエチルアクリレート、1-イソブトキシエチルアクリレート、1-t-ブトキシエチルアクリレート、1-2-クロルエトキシエチルアクリレート、1-2-エチルヘキシルオキシエチルアクリレート、1-n-プロポキシエチルアクリレート、1-シクロヘキシルオキシエチルアクリレート、1-2-シクロヘキシルエトキシエチルアクリレート、1-ベンジルオキシエチルアクリレート、2-テトラヒドロピラニルアクリレート、2,3-ジ1-トリメチルシラニルオキシエトキシカルボニル-5-ノルボルネン、2,3-ジ1-トリメチルゲルミルオキシエトキシカルボニル-5-ノルボルネン、2,3-ジ1-メトキシエトキシカルボニル-5-ノルボルネン、2,3-ジ1-シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル-5-ノルボルネン、2,3-ジ1-ベンジルオキシエトキシカルボニル-5-ノルボルネン、p又はm-1-エトキシエトキシスチレン、p又はm-1-メトキシエトキシスチレン、p又はm-1-n-ブトキシエトキシスチレン、p又はm-1-イソブトキシエトキシスチレン、p又はm-1-1,1-ジメチルエトキシエトキシスチレン、p又はm-1-2-クロルエトキシエトキシスチレン、p又はm-1-2-エチルヘキシルオキシエトキシスチレン、p又はm-1-n-プロポキシエトキシスチレン、p又はm-1-シクロヘキシルオキシエトキシスチレン、p又はm-1-2-シクロヘキシルエトキシエトキシスチレン、p又はm-1-ベンジルオキシエトキシスチレン等が挙げられる。上記構造単位1は、単独又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。これらのアセタール構造含有単量体のうち、1-アルコキシアルキルメタアクリレート、テトラヒドロピラニルメタアクリレート、1-アルコキシアルコキシスチレン、テトラヒドロピラニルオキシスチレンが好ましく、1-アルコキシアルキルメタアクリレートがより好ましく、1-エトキシエチルメタクリレート、1-n-ブトキシエチルメタクリレート、2-テトラヒドロピラニルメタクリレート、1-ベンジルオキシエチルメタクリレートが特に好ましい。構造単位1を与えるアセタール構造含有単量体は、市販品を用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いてもよい。例えば、上記式2-1で表されるアセタール構造含有単量体は、下記反応式に表されるメタアクリル酸を酸触媒の存在下でビニルエーテルと反応させることにより合成できる。上記反応式中、R4、R1及びR3は、それぞれ上記式2及び2-1と同義である。R5及びR6は、-CHR5R6として、上記式2におけるR2と同義である。[A]重合体における構造単位1の含有量としては、[A]重合体が酸によりアルカリ可溶性を示し、硬化膜の所望の耐熱性が発揮される限り特に限定されない。一の重合体分子に構造単位1とエポキシ基含有構造単位とを両方含む場合、[A]重合体に含まれる全構造単位に対して、単量体仕込み比で、5質量~70質量が好ましく、10質量~60質量以下がより好ましく、20質量~50質量が特に好ましい。一方、一の重合体分子に構造単位1を有し、かつ別の一の重合体分子にエポキシ基含有構造単位を有する場合、構造単位1を有する一の重合体分子における構造単位1の含有量としては、その重合体分子に含まれる全構造単位に対して、単量体仕込み比で、40質量~99質量が好ましく、50質量~98質量がより好ましく、55質量~95質量が特に好ましい。エポキシ基含有構造単位[A]重合体は、上記構造単位1と共に、エポキシ基含有構造単位を有する。エポキシ基含有構造単位は、ラジカル重合性を有するエポキシ基含有単量体に由来する構造単位である。このエポキシ基としては、オキラニル基1,2-エポキシ構造、オキセタニル基1,3-エポキシ構造が挙げられる。[A]重合体が分子中にオキシラニル基又はオキセタニル基等を含む構造単位を有することで、当該組成物から得られる硬化膜の硬度を向上させて耐熱性をより高めることができる。上記エポキシ基含有構造単位を与えるエポキシ基含有単量体としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-3-メチル-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3-エチル-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-5,6-エポキシヘキシル、メタクリル酸-5,6-エポキシヘキシル、メタクリル酸-5-メチル-5,6-エポキシヘキシル、メタクリル酸-5-エチル-5,6-エポキシヘキシル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、3,4-エポキシシクロへキシルメタクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルメチルメタクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルエチルメタクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルプロピルメタクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルブチルメタクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルヘキシルメタクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルアクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルメチルアクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルエチルアクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルプロピルアクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルブチルアクリレート、3,4-エポキシシクロへキシルヘキシルアクリレート等のオキシラニル基含有メタアクリル系化合物;o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-メチル-o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-メチル-m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-メチル-p-ビニルベンジルグリシジルエーテル等のビニルベンジルグリシジルエーテル類;o-ビニルフェニルグリシジルエーテル、m-ビニルフェニルグリシジルエーテル、p-ビニルフェニルグリシジルエーテル等のビニルフェニルグリシジルエーテル類;3-アクリロイルオキシメチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-3-メチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-3-フェニルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-3-フェニルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-3-メチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-3-フェニルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-3-フェニルオキセタン、2-アクリロイルオキシメチルオキセタン、2-アクリロイルオキシメチル-2-メチルオキセタン、2-アクリロイルオキシメチル-2-エチルオキセタン、2-アクリロイルオキシメチル-2-フェニルオキセタン、2-2-アクリロイルオキシエチルオキセタン、2-2-アクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、2-2-アクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、2-2-アクリロイルオキシエチル-2-フェニルオキセタン、2-メタクリロイルオキシメチルオキセタン、2-メタクリロイルオキシメチル-2-メチルオキセタン、2-メタクリロイルオキシメチル-2-エチルオキセタン、2-メタクリロイルオキシメチル-2-フェニルオキセタン、2-2-メタクリロイルオキシエチルオキセタン、2-2-メタクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、2-2-メタクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、2-2-メタクリロイルオキシエチル-2-フェニルオキセタン等のオキセタニル基含有メタアクリル系化合物等が挙げられる。上記エポキシ基含有構造単位は、単独又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。上記エポキシ基含有単量体のうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸-2-メチルグリシジル、メタクリル酸-3,4-エポキシシクロヘキシル、メタクリル酸-3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、3-メタクリロイルオキシメチル-3-メチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタンが他のラジカル重合性単量体との共重合反応性及び当該組成物の現像性の観点から好ましい。[A]重合体におけるエポキシ基含有構造単位の含有量としては、層間絶縁膜の所望の耐熱性が発揮される限り特に限定されず、一の重合体分子に構造単位1とエポキシ基含有構造単位とを含む場合、[A]重合体に含まれる全構造単位に対して、単量体仕込み比で10質量~60質量が好ましく、15質量~55質量がより好ましく、20質量~50質量が特に好ましい。一方、一の重合体分子に構造単位1を有し、かつ別の一の重合体分子にエポキシ基含有構造単位を有する場合、エポキシ基含有構造単位を有する一の重合体分子に含まれる全構造単位に対するエポキシ基含有構造単位の含有量としては、単量体仕込み比で20質量~80質量が好ましく、30質量~70質量がより好ましく、35質量~65質量が特に好ましい。その他の構造単位その他の構造単位を与えるラジカル重合性単量体としては、カルボキシル基又はその誘導体、水酸基を有するラジカル重合性単量体等が挙げられる。上記カルボキシル基又はその誘導体を有するラジカル重合体単量体としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、2-アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸、2-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸;上記ジカルボン酸の酸無水物等が挙げられる。上記水酸基を有するラジカル重合性単量体としては、例えばアクリル酸-2-ヒドロキシエチルエステル、アクリル酸-3-ヒドロキシプロピルエステル、アクリル酸-4-ヒドロキシブチルエステル、アクリル酸-4-ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルエステル等のアクリル酸ヒドロキシアルキルエステル;メタクリル酸-2-ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸-3-ヒドロキシプロピルエステル、メタクリル酸-4-ヒドロキシブチルエステル、メタクリル酸-5-ヒドロキシペンチルエステル、メタクリル酸-6-ヒドロキシヘキシルエステル、メタクリル酸-4-ヒドロキシメチル-シクロヘキシルメチルエステル等のメタクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等が挙げられる。これらの水酸基を有するラジカル重合性単量体のうち、その他のラジカル重合性単量体との共重合反応性及び得られる層間絶縁膜の耐熱性の観点から、アクリル酸-2-ヒドロキシエチルエステル、アクリル酸-3-ヒドロキシプロピルエステル、アクリル酸-4-ヒドロキシブチルエステル、メタクリル酸-2-ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸-4-ヒドロキシブチルエステル、アクリル酸-4-ヒドロキシメチル-シクロヘキシルメチルエステル、メタクリル酸-4-ヒドロキシメチル-シクロヘキシルメチルエステルが好ましい。その他のラジカル重合性単量体としては、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸i-プロピル等のアクリル酸アルキルエステル;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸sec-ブチル、メタクリル酸t-ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル;アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸-2-メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、アクリル酸-2-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチル、アクリル酸イソボルニル等のアクリル酸脂環式アルキルエステル;メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸-2-メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、メタクリル酸-2-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチル、メタクリル酸イソボルニル等のメタクリル酸脂環式アルキルエステル;アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸のアリールエステル及びアクリル酸のアラルキルエステル;メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸のアリールエステル及びメタクリル酸のアラルキルエステル;マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジアルキルエステル;メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタクリル酸テトラヒドロフリル、メタクリル酸テトラヒドロピラン-2-メチル等の酸素1原子を含む不飽和複素五員環メタクリル酸エステル及び不飽和複素六員環メタクリル酸エステル;4-メタクリロイルオキシメチル-2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン、4-メタクリロイルオキシメチル-2-メチル-2-イソブチル-1,3-ジオキソラン、4-メタクリロイルオキシメチル-2-シクロヘキシル-1,3-ジオキソラン、4-メタクリロイルオキシメチル-2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン、4-メタクリロイルオキシメチル-2-メチル-2-イソブチル-1,3-ジオキソラン等の酸素2原子を含む不飽和複素五員環メタクリル酸エステル;4-アクリロイルオキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン、4-アクリロイルオキシメチル-2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン、4-アクリロイルオキシメチル-2、2-ジエチル-1,3-ジオキソラン、4-アクリロイルオキシメチル-2-メチル-2-イソブチル-1,3-ジオキソラン、4-アクリロイルオキシメチル-2-シクロペンチル-1,3-ジオキソラン、4-アクリロイルオキシメチル-2-シクロヘキシル-1,3-ジオキソラン、4-アクリロイルオキシエチル-2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン、4-アクリロイルオキシプロピル-2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン、4-アクリロイルオキシブチル-2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン等の酸素2原子を含む不飽和複素五員環アクリル酸エステル;スチレン、α-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、4-イソプロペニルフェノール等のビニル芳香族化合物;N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-スクシンイミジル-3-マレイミドベンゾエート、N-スクシンイミジル-4-マレイミドブチレート、N-スクシンイミジル-6-マレイミドカプロエート、N-スクシンイミジル-3-マレイミドプロピオネート、N-9-アクリジニルマレイミド等のN位置換マレイミド;1,3-ブタジエン、イソプレン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン等の共役ジエン系化合物;アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等のその他の不飽和化合物等が挙げられる。これらのその他のラジカル重合性単量体のうち、スチレン、4-イソプロペニルフェノール、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、1,3-ブタジエン、4-アクリロイルオキシメチル-2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン、N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミド、メタクリル酸ベンジルが、上記の反応官能基を有するラジカル重合性単量体との共重合反応性及び当該組成物の現像性の点で好ましい。[A]重合体のGPCゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算重量平均分子量Mwとしては、好ましくは2.0×103~1.0×105、より好ましくは5.0×103~5.0×104である。[A]重合体のMwを上記特定範囲とすることで、当該組成物の放射線感度及びアルカリ現像性を高めることができる。[A]重合体のGPCによるポリスチレン換算数平均分子量Mnとしては、好ましくは2.0×103~1.0×105、より好ましくは5.0×103~5.0×104である。共重合体のMnを上記特定範囲とすることで、当該組成物の塗膜の硬化時の硬化反応性を向上させることができる。[A]重合体の分子量分布Mw/Mnとしては、好ましくは3.0以下、より好ましくは2.6以下である。[A]重合体のMw/Mnを3.0以下とすることで、得られる層間絶縁膜の現像性を高めることができる。[A]重合体を含む当該組成物は、現像する際に現像残りを生じることなく容易に所望のパターン形状を形成できる。[A]重合体の製造方法[A]重合体は、例えばアセタール構造含有単量体、エポキシ基含有単量体、その他の構造単位を与える単量体のラジカル共重合により製造できる。同一の重合体分子に構造単位1及びエポキシ基含有構造単位の両方を含む[A]重合体を製造する場合は、少なくともアセタール構造含有単量体とエポキシ基含有単量体とを含む混合物を用いて共重合させればよい。一方、一の重合体分子に構造単位1を有し、かつそれとは異なる重合体分子にエポキシ基含有構造単位を有する[A]重合体を製造する場合は、少なくともアセタール構造含有単量体を含む重合性溶液をラジカル重合させて構造単位1を有する重合体分子を得ておき、別途少なくともエポキシ基含有単量体を含む重合性溶液をラジカル重合させてエポキシ基含有構造単位を有する重合体分子を得て、最後に両者を混合して[A]重合体とすればよい。[A]重合体を製造するための重合反応に用いられる溶媒としては、例えばアルコール類、エーテル類、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、芳香族炭化水素類、ケトン類、他のエステル類等が挙げられる。アルコール類としては、例えばメタノール、エタノール、ベンジルアルコール、2-フェニルエチルアルコール、3-フェニル-1-プロパノール等が挙げられる。エーテル類としては、例えばテトラヒドロフラン等が挙げられる。グリコールエーテルとして、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。エチレングリコールアルキルエーテルアセテートとしては、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。ジエチレングリコールアルキルエーテルとしては、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等が挙げられる。プロピレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとしては、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとしては、例えばプロピレンモノグリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート等が挙げられる。芳香族炭化水素類としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。ケトン類としては、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン等が挙げられる。他のエステル類としては、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、3-ヒドロキシプロピオン酸メチル、3-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-ヒドロキシプロピオン酸プロピル、3-ヒドロキシプロピオン酸ブチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-メトキシプロピオン酸ブチル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-エトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸ブチル、2-ブトキシプロピオン酸メチル、2-ブトキシプロピオン酸エチル、2-ブトキシプロピオン酸プロピル、2-ブトキシプロピオン酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸プロピル、3-エトキシプロピオン酸ブチル、3-プロポキシプロピオン酸メチル、3-プロポキシプロピオン酸エチル、3-プロポキシプロピオン酸プロピル、3-プロポキシプロピオン酸ブチル、3-ブトキシプロピオン酸メチル、3-ブトキシプロピオン酸エチル、3-ブトキシプロピオン酸プロピル、3-ブトキシプロピオン酸ブチル等が挙げられる。これらの溶媒のうち、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、メトキシ酢酸ブチルが好ましく、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メトキシ酢酸ブチルがより好ましい。重合反応に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できる。ラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス2-メチルプロピオン酸メチル等のアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、t-ブチルペルオキシピバレート、1,1’-ビス-t-ブチルペルオキシシクロヘキサン等の有機過酸化物及び過酸化水素等が挙げられる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよい。[A]重合体を製造するための重合反応において、分子量を調整するために、分子量調整剤を使用できる。分子量調整剤としては、例えばクロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類;n-ヘキシルメルカプタン、n-オクチルメルカプタン、n-ドデシルメルカプタン、t-ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類;ジメチルキサントゲンスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類;ターピノーレン、α-メチルスチレンダイマー等が挙げられる。<[B]光酸発生体>[B]光酸発生体は、放射線の照射によって酸を発生する物質である。ここで、放射線としては、例えば可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用できる。当該組成物が[B]光酸発生体と酸解離性基を有する[A]重合体を含むことで、ポジ型の感放射線特性を発揮できる。[B]光酸発生体は、放射線の照射によって酸例えば、カルボン酸、スルホン酸等を発生させる物質である限り、特に限定されない。[B]光酸発生体の当該組成物における含有形態としては、後述するような化合物である光酸発生剤以下[B]光酸発生剤とも称するの形態でも、[A]重合体又は他の重合体の一部として組み込まれた光酸発生基の形態でも、これらの両方の形態でもよい。[B]光酸発生剤としては、オキシムスルホネート化合物、オニウム塩、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物等が挙げられる。これらは単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。オキシムスルホネート化合物上記オキシムスルホネート化合物としては、下記式3で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物が好ましい。上記式3中、R5は、置換されていてもよい直鎖状、分岐状、環状アルキル基、又は置換されていてもよいアリール基である。R5のアルキル基としては、炭素数1~10の直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。R5のアルキル基は、炭素数1~10のアルコキシ基又は脂環式基7,7-ジメチル-2-オキソノルボルニル基等の有橋式脂環基を含む、好ましくはビシクロアルキル基等で置換されていてもよい。R5のアリール基としては、炭素数6~11のアリール基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましい。R5のアリール基は、炭素数1~5のアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されてもよい。上記式3で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物は、下記式3-1で表されるオキシムスルホネート化合物であることが特に好ましい。上記式3-1中、R5は、上記式3と同義である。R6は、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子である。mは0~3の整数である。但し、R6が複数の場合、複数のR6は同一でも異なっていてもよい。R6が示すアルキル基としては、炭素数1~4の直鎖状若しくは分岐状アルキル基が好ましい。R6が示すアルコキシ基としては、炭素数1~4の直鎖状又は分岐状アルコキシ基が好ましい。Xが示すハロゲン原子としては、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。mは0又は1が好ましい。上記式3-1において、mが1であり、R6がメチル基であり、R6の置換位置がオルトである化合物がより好ましい。オキシムスルホネート化合物としては例えば下記式で表される化合物等が挙げられる。上記化合物は、それぞれ[5-プロピルスルフォニルオキシイミノ-5H-チオフェン-2-イリデン-2-メチルフェニルアセトニトリル]、[5-オクチルスルフォニルオキシイミノ-5H-チオフェン-2-イリデン-2-メチルフェニルアセトニトリル]、[カンファースルフォニルオキシイミノ-5H-チオフェン-2-イリデン-2-メチルフェニルアセトニトリル]、[5-p-トルエンスルフォニルオキシイミノ-5H-チオフェン-2-イリデン-2-メチルフェニルアセトニトリル]及び[5-オクチルスルフォニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリル]として、市販品を入手できる。オニウム塩オニウム塩としては、ジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩等が挙げられる。ジフェニルヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム-p-トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウム-p-トルエンスルホナート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムカンファースルホン酸等が挙げられる。トリフェニルスルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホン酸、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム-p-トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムブチルトリス2、6-ジフルオロフェニルボレート等が挙げられる。スルホニウム塩としては、例えばアルキルスルホニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ジベンジルスルホニウム塩、置換ベンジルスルホニウム塩等が挙げられる。アルキルスルホニウム塩としては、例えば4-アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル-4-ベンジルオキシカルボニルオキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル-4-ベンゾイルオキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル-4-ベンゾイルオキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル-3-クロロ-4-アセトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。ベンジルスルホニウム塩としては、例えばベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4-アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル-4-メトキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル-2-メチル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル-3-クロロ-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、4-メトキシベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。ジベンジルスルホニウム塩としては、例えばジベンジル-4-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル-4-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4-アセトキシフェニルジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル-4-メトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル-3-クロロ-4-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジベンジル-3-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル-4-メトキシベンジル-4-ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。置換ベンジルスルホニウム塩としては、例えばp-クロロベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p-ニトロベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p-クロロベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、p-ニトロベンジル-3-メチル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、3,5-ジクロロベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、o-クロロベンジル-3-クロロ-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。ベンゾチアゾニウム塩としては、例えば、3-ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、3-ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、3-ベンジルベンゾチアゾニウムテトラフルオロボレート、3-p-メトキシベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、3-ベンジル-2-メチルチオベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、3-ベンジル-5-クロロベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。テトラヒドロチオフェニウム塩としては、例えば4,7-ジ-n-ブトキシ-1-ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウム-1,1,2,2-テトラフルオロ-2-ノルボルナン-2-イルエタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウム-2-5-t-ブトキシカルボニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウム-2-6-t-ブトキシカルボニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート等が挙げられる。スルホンイミド化合物スルホンイミド化合物としては、例えばN-トリフルオロメチルスルホニルオキシスクシンイミド、N-カンファスルホニルオキシスクシンイミド、N-4-メチルフェニルスルホニルオキシスクシンイミド、N-2-トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシスクシンイミド、N-4-フルオロフェニルスルホニルオキシスクシンイミド、N-トリフルオロメチルスルホニルオキシフタルイミド、N-カンファスルホニルオキシフタルイミド、N-2-トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシフタルイミド、N-2-フルオロフェニルスルホニルオキシフタルイミド、N-トリフルオロメチルスルホニルオキシジフェニルマレイミド、N-カンファスルホニルオキシジフェニルマレイミド、4-メチルフェニルスルホニルオキシジフェニルマレイミド、N-2-トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシジフェニルマレイミド、N-4-フルオロフェニルスルホニルオキシジフェニルマレイミド、N-4-フルオロフェニルスルホニルオキシジフェニルマレイミド、N-フェニルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-4-メチルフェニルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-トリフルオロメタンスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-ノナフルオロブタンスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-カンファスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-カンファスルホニルオキシ-7-オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-トリフルオロメチルスルホニルオキシ-7-オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-4-メチルフェニルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-4-メチルフェニルスルホニルオキシ-7-オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-2-トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-2-トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ-7-オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-4-フルオロフェニルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-4-フルオロフェニルスルホニルオキシ-7-オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシルイミド、N-トリフルオロメチルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン-5,6-オキシ-2,3-ジカルボキシルイミド、N-カンファスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン-5,6-オキシ-2,3-ジカルボキシルイミド、N-4-メチルフェニルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン-5,6-オキシ-2,3-ジカルボキシルイミド、N-2-トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン-5,6-オキシ-2,3-ジカルボキシルイミド、N-4-フルオロフェニルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン-5,6-オキシ-2,3-ジカルボキシルイミド、N-トリフルオロメチルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-カンファスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-4-メチルフェニルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-フェニルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-2-トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-4-フルオロフェニルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-ペンタフルオロエチルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-ヘプタフルオロプロピルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-ノナフルオロブチルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-エチルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-プロピルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-ブチルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-ペンチルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-ヘキシルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-ヘプチルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-オクチルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド、N-ノニルスルホニルオキシナフチルジカルボキシルイミド等が挙げられる。ハロゲン含有化合物ハロゲン含有化合物としては、例えばハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物等が挙げられる。ジアゾメタン化合物ジアゾメタン化合物としては、例えばビストリフルオロメチルスルホニルジアゾメタン、ビスシクロヘキシルスルホニルジアゾメタン、ビスフェニルスルホニルジアゾメタン、ビスp-トリルスルホニルジアゾメタン、ビス2,4-キシリルスルホニルジアゾメタン、ビスp-クロロフェニルスルホニルジアゾメタン、メチルスルホニル-p-トルエンスルホニルジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル1,1-ジメチルエチルスルホニルジアゾメタン、ビス1,1-ジメチルエチルスルホニルジアゾメタン、フェニルスルホニルベンゾイルジアゾメタン等が挙げられる。スルホン化合物スルホン化合物としては、例えばβ-ケトスルホン化合物、β-スルホニルスルホン化合物、ジアリールジスルホン化合物等が挙げられる。スルホン酸エステル化合物スルホン酸エステル化合物としては、例えばアルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等が挙げられる。カルボン酸エステル化合物カルボン酸エステル化合物としては、例えばカルボン酸o-ニトロベンジルエステル等が挙げられる。これらの[B]光酸発生剤のうち、放射線感度、[C]有機溶媒への溶解性の観点から、オキシムスルホネート化合物が好ましく、上記式3で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物がより好ましく、上記式3-1で表されるオキシムスルホネート化合物が特に好ましく、市販品として入手可能な[5-プロピルスルフォニルオキシイミノ-5H-チオフェン-2-イリデン-2-メチルフェニルアセトニトリル]、[5-オクチルスルフォニルオキシイミノ-5H-チオフェン-2-イリデン-2-メチルフェニルアセトニトリル]、[5-p-トルエンスルフォニルオキシイミノ-5H-チオフェン-2-イリデン-2-メチルフェニルアセトニトリル]、[カンファースルフォニルオキシイミノ-5H-チオフェン-2-イリデン-2-メチルフェニルアセトニトリル]、[5-オクチルスルフォニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリル]が最も好ましい。また、[B]光酸発生剤としてはオニウム塩も好ましく、テトラヒドロチオフェニウム塩及びベンジルスルホニウム塩がより好ましく、4,7-ジ-n-ブトキシ-1-ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、ベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートが特に好ましい。当該組成物における[B]光酸発生剤としての含有量としては、[A]重合体100質量部に対して、好ましくは0.1質量部~10質量部、より好ましくは1質量部~5質量部である。[B]光酸発生剤の含有量を上記特定範囲とすることで、当該組成物の放射線感度を最適化し、透明性を維持しつつ表面硬度が高い層間絶縁膜を形成できる。[[C]有機溶媒]当該組成物は、[C]有機溶媒に[A]重合体、[B]光酸発生体及び必要に応じて[D]界面活性剤、その他の任意成分を混合することによって溶解又は分散させた状態に調製される。[C]有機溶媒としては、上記各構成要素を均一に溶解又は分散し、各構成要素と反応しないものが好適に用いられる。[C]有機溶媒としては、例えばアルコール類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、乳酸エステル類、脂肪族カルボン酸エステル類、アミド類、ケトン類等が挙げられる。これらは、単独又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。[C]有機溶媒としては、C120°Cにおける蒸気圧が0.1mmHg以上1mmHg未満の有機溶媒以下、C1有機溶媒とも称すると、さらにC220°Cにおける蒸気圧が1mmHg以上20mmHg以下の有機溶媒以下、C2有機溶媒とも称するとを含有することが好ましい。特定の蒸気圧を有する[C]有機溶媒を用いることで、例えば吐出ノズル式塗布法を採用しても、塗布ムラを防止しつつ高速塗布が可能となる。なお、蒸気圧の測定は、公知の方法を使用できるが、本明細書ではトランスピレーション法気体流通法により測定した値をいう。C1有機溶媒としては、例えばベンジルアルコール等のアルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類;ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;乳酸n-プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸n-ブチル、乳酸イソブチル、乳酸n-アミル、乳酸イソアミル等の乳酸エステル類;ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチル酪酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、3-メチル-3-メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の脂肪族カルボン酸エステル類;N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類;N-メチルピロリドン、γ-ブチロラクトン等のケトン類等が挙げられる。これらは、単独又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。C2有機溶媒としては、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸n-ブチル、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、3-メトキシプロピオン酸メチル、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。これらは、単独又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。C1有機溶媒とC2有機溶媒を混合して使用する場合、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル/ジエチエレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル/シクロヘキサノン、ジエチレングリコールジエチルエーテル/ジエチエレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル/シクロヘキサノン、ジエチレングリコールジエチルエーテル/3-メトキシプロピオン酸メチル、ジエチレングリコールジエチルエーテル/メチルイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル/酢酸n-ブチルの組み合わせが好ましい。なお、C1有機溶媒又はC2有機溶媒は、2種以上を混合して使用してもよく、組み合わせとしては例えばジエチレングリコールジエチルエーテル/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/シクロヘキサノン/3-メトキシプロピオン酸メチル等が挙げられる。C2有機溶媒の含有量としては、C1有機溶媒とC2有機溶媒の合計量に対して10質量以上50質量が好ましい。蒸気圧が低いC1有機溶媒と蒸気圧が高いC2有機溶媒との質量比を上記特定範囲とすることで、特にプレベーク後の塗膜中における残存溶媒量は最適化され、塗膜の流動性がバランスされたものとなり、結果として、塗布ムラ筋ムラ、ピン跡ムラ、モヤムラ等の発生を抑制し、膜厚均一性をさらに向上できる。また、残存溶媒量が最適化されることで酸発生量と酸解離性基とが高度にバランスされ、放射線感度が良好となる傾向にある。当該組成物の固形分濃度は、10質量以上30質量以下である。より好ましくは、20質量以上25質量以下である。当該組成物の固形分濃度を上記特定範囲とすることで、塗布ムラの発生を効果的に抑制できる。当該組成物の25°Cにおける粘度は、2.0mPas以上10mPas以下が好ましいとされる。当該組成物の粘度を上記特定範囲とすることで、膜厚均一性を維持しつつ、塗布ムラが生じても自発的に均し得る程度の粘度をバランスよく達成でき、かつ高速塗布性を実現できる。[[D]界面活性剤]当該組成物は当該組成物の被膜形成性をより向上させるために[D]界面活性剤をさらに含有できる。このような界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤及びその他の界面活性剤が挙げられる。当該組成物が、[D]界面活性剤を含有することで、塗膜の表面平滑性を向上することができ、その結果、形成される層間絶縁膜の膜厚均一性を向上できる。これらの界面活性剤の中でも、膜圧均一性が特に優れるシリコーン系界面活性剤が好ましい。フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基及び/又はフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましい。フッ素系界面活性剤としては、例えば1,1,2,2-テトラフルオロn-オクチル1,1,2,2-テトラフルオロn-プロピルエーテル、1,1,2,2-テトラフルオロn-オクチルn-ヘキシルエーテル、ヘキサエチレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロn-ペンチルエーテル、オクタエチレングリコールジ1,1,2,2-テトラフルオロn-ブチルエーテル、ヘキサプロピレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロn-ペンチルエーテル、オクタプロピレングリコールジ1,1,2,2-テトラフルオロn-ブチルエーテル、パーフルオロn-ドデカンスルホン酸ナトリウム、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロn-デカン、1,1,2,2,3,3,9,9,10,10-デカフルオロn-ドデカン、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルリン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキスフルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フルオロアルキルエステル等が挙げられる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えばBM-1000、BM-1100以上、BMCHEMIE製、メガファックF142D、メガファックF172、メガファックF173、メガファックF183、メガファックF178、メガファックF191、メガファックF471、メガファックF476以上、大日本インキ化学工業製、フロラードFC-170C、フロラードFC-171、フロラードFC-430、フロラードFC-431以上、住友スリーエム製、サーフロンS-112、サーフロンS-113、サーフロンS-131、サーフロンS-141、サーフロンS-145、サーフロンS-382、サーフロンSC-101、サーフロンSC-102、サーフロンSC-103、サーフロンSC-104、サーフロンSC-105、サーフロンSC-106以上、旭硝子製、エフトップEF301、エフトップEF303、エフトップEF352以上、新秋田化成製、フタージェントFT-100、フタージェントFT-110、フタージェントFT-140A、フタージェントFT-150、フタージェントFT-250、フタージェントFT-251、フタージェントFT-300、フタージェントFT-310、フタージェントFT-400S、フタージェントFTX-218、フタージェントFT-251以上、ネオス製等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、例えばトーレシリコーンDC3PA、トーレシリコーンDC7PA、トーレシリコーンSH11PA、トーレシリコーンSH21PA、トーレシリコーンSH28PA、トーレシリコーンSH29PA、トーレシリコーンSH30PA、トーレシリコーンSH-190、トーレシリコーンSH-193、トーレシリコーンSZ-6032、トーレシリコーンSF-8428、トーレシリコーンDC-57、トーレシリコーンDC-190、SH8400FLUID以上、東レダウコーニングシリコーン製、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452以上、GE東芝シリコーン製、オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業製等が挙げられる。[D]界面活性剤は、単独又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。当該組成物における[D]界面活性剤の含有量としては、[A]重合体100質量部に対して、好ましくは0.01質量部以上2質量部以下であり、より好ましくは0.05質量部以上1質量部以下である。[D]界面活性剤の含有量を上記特定範囲とすることで塗膜の表面平滑性をより向上することができる。[その他の任意成分]当該組成物は、所期の効果を損なわない範囲で必要に応じて密着助剤、塩基性化合物、キノンジアジド化合物等のその他の任意成分を含有できる。その他の任意成分は、単独又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。密着助剤当該組成物においては、例えばシリコーン、酸化シリコーン、窒化シリコーン等のシリコーン化合物又は金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との接着性を向上させるために密着助剤を含有できる。密着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましく使用される。官能性シランカップリング剤としては、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基好ましくはオキシラニル基、チオール基等の反応性置換基を有するシランカップリング剤等が挙げられる。官能性シランカップリング剤としては、例えばトリメトキシシリル安息香酸、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの官能性シランカップリング剤のうち、γ-グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。密着助剤の含有量としては、[A]重合体100質量部に対して、0.5質量部以上20質量部以下が好ましく、1質量部以上10質量部以下がより好ましい。密着助剤の使用量を上記特定範囲とすることで、形成される層間絶縁膜と基板との密着性が改善される。塩基性化合物当該組成物に塩基性化合物を含有させることで、露光により[B]光酸発生体から発生した酸の拡散長を適度に制御することができ、パターン現像性を良好にできる。塩基性化合物としては、例えば脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、4級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸4級アンモニウム塩等が挙げられる。脂肪族アミンとしては、例えばトリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、トリ-n-プロピルアミン、ジ-n-ペンチルアミン、トリ-n-ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン等が挙げられる。芳香族アミンとしては、例えばアニリン、ベンジルアミン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミン等が挙げられる。複素環式アミンとしては、例えばピリジン、2-メチルピリジン、4-メチルピリジン、2-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2-フェニルピリジン、4-フェニルピリジン、N-メチル-4-フェニルピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、4-メチルイミダゾール、2-フェニルベンズイミダゾール、2,4,5-トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、8-オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、4-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-5-ノネン、1,8-ジアザビシクロ[5,3,0]-7ウンデセン等が挙げられる。4級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ヘキシルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。カルボン酸4級アンモニウム塩としては、例えばテトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ-n-ブチルアンモニウムアセテート、テトラ-n-ブチルアンモニウムベンゾエート等が挙げられる。当該組成物における塩基性化合物の含有量としては、[A]重合体100質量部に対して0.001質量部~1質量部が好ましく、0.005質量部~0.2質量部がより好ましい。塩基性化合物の含有量を上記特定範囲とするで、パターン現像性が良好となる。キノンジアジド化合物キノンジアジド化合物は、放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物である。キノンジアジド化合物としては、フェノール性化合物又はアルコール性化合物以下、母核とも称すると1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。上記母核としては、例えばトリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェノン、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、ポリヒドロキシフェニルアルカン、その他の母核等が挙げられる。トリヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン、2,4,6-トリヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。テトラヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,3’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,2’-テトラヒドロキシ-4’-メチルベンゾフェノン、2,3,4,4’-テトラヒドロキシ-3’-メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。ペンタヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば2,3,4,2’,6’-ペンタヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。ヘキサヒドロキシベンゾフェノンとしては、例えば2,4,6,3’,4’,5’-ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、3,4,5,3’,4’,5’-ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。ポリヒドロキシフェニルアルカンとしては、例えばビス2,4-ジヒドロキシフェニルメタン、ビスp-ヒドロキシフェニルメタン、トリスp-ヒドロキシフェニルメタン、1,1,1-トリスp-ヒドロキシフェニルエタン、ビス2,3,4-トリヒドロキシフェニルメタン、2,2-ビス2,3,4-トリヒドロキシフェニルプロパン、1,1,3-トリス2,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル-3-フェニルプロパン、4,4’-1-4-1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチルフェニルエチリデンビスフェノール、ビス2,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインデン-5,6,7,5’,6’,7’-ヘキサノール、2,2,4-トリメチル-7,2’,4’-トリヒドロキシフラバン等が挙げられる。その他の母核としては、例えば2-メチル-2-2,4-ジヒドロキシフェニル-4-4-ヒドロキシフェニル-7-ヒドロキシクロマン、1-[1-3-{1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル}-4,6-ジヒドロキシフェニル-1-メチルエチル]-3-1-3-{1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル}-4,6-ジヒドロキシフェニル-1-メチルエチルベンゼン、4,6-ビス{1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル}-1,3-ジヒドロキシベンゼン等が挙げられる。これらの母核のうち、2,3,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、1,1,1-トリp-ヒドロキシフェニルエタン、4,4’-1-4-1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチルフェニルエチリデンビスフェノールが好ましい。上記1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましい。1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとしては、例えば1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸クロリド、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド等が挙げられる。これらのうち、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリドが好ましい。フェノール性化合物又はアルコール性化合物と1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物としては、1,1,1-トリp-ヒドロキシフェニルエタンと1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリドとの縮合物、4,4’-1-4-1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチルフェニルエチリデンビスフェノールと1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリドとの縮合物が好ましい。フェノール性化合物又はアルコール性化合物と、1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合反応では、フェノール性化合物又はアルコール性化合物中のOH基数に対して、好ましくは30モル~85モル、より好ましくは50モル~70モルに相当する1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドを用いることができる。縮合反応は、公知の方法によって実施できる。また、キノンジアジド化合物としては、上記例示した母核のエステル結合をアミド結合に変更した1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド類、例えば2,3,4-トリアミノベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸アミド等も好適に使用される。当該組成物の製造方法当該組成物は[C]有機溶媒に[A]重合体、[B]光酸発生体、及び好適成分としての[D]界面活性剤、並びに必要に応じてその他の任意成分を混合することによって溶解又は分散させた状態に調製される。例えば[C]有機溶媒中で、[A]、[B]及び[D]成分、並びにその他の任意成分を所定の割合で混合することにより、当該組成物を調製できる。<液晶層>当該液晶表示素子に備わる液晶層は重合性液晶組成物から形成されたものである。重合性液晶組成物としては、光重合性又は熱重合性を有することが好ましい。上記重合性液晶組成物が、光重合性又は熱重合性を有することで光の照射又は加熱により重合性液晶組成物から液晶層を形成することができ、効率的な製造が可能となる。また、当該液晶表示素子によれば、このような光の照射又は加熱を経て製造されても層間絶縁膜の変形等が抑制されるため、高い電圧保持率及び優れた生産性を発揮することができる。重合性液晶組成物としては、熱硬化型重合性液晶組成物、光硬化型重合性液晶組成物が挙げられる。[熱硬化型重合性液晶組成物]熱硬化型重合性液晶組成物としては、例えば液晶化合物及び熱重合性化合物を含む組成物が挙げられる。液晶化合物液晶化合物としては、例えばネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶等が挙げられる。液晶化合物としては、ネマチック液晶が好ましい。また、これらの液晶には、性能を改善するために、コレステリック液晶、カイラルネマチック液晶、カイラルスメクチック液晶等やカイラル化合物が含まれていてもよい。具体的な液晶化合物としては、例えば4-置換安息香酸4’-置換フェニルエステル、4-置換シクロヘキサンカルボン酸4’-置換フェニルエステル、4-置換シクロヘキサンカルボン酸4’-置換ビフェニルエステル、4-4-置換シクロヘキサンカルボニルオキシ安息香酸4’-置換フェニルエステル、4-4-置換シクロヘキシル安息香酸4’-置換フェニルエステル、4-4-置換シクロヘキシル安息香酸4’-置換シクロヘキシルエステル、4-置換4’-置換ビフェニル、4-置換フェニル4’-置換シクロヘキサン、4-置換4’’-置換ターフェニル、4-置換ビフェニル4’-置換シクロヘキサン、2-4-置換フェニル-5-置換ピリミジン、下記式a~dで表される化合物等が挙げられる。これらの液晶化合物のうち、上記式a~dで表される化合物等、少なくとも分子の一方の末端にシアノ基を有する化合物が好ましい。これらは、単独又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。これらの液晶化合物は、液晶の特性、即ち、等方性液体と液晶との相転移温度、融点、粘度、屈折率異方性Δn、誘電率異方性Δε及び他の成分等との溶解性等を考慮して適宜選択、配合して用いることができる。また、液晶化合物としては重合性基を有しているものも好ましい。液晶化合物が重合性基を有することで、この液晶化合物自体に熱重合性又は光重合性を備えることができる。重合性基としては、例えばビニル基、メタアクリル基、メタアクリロイル基、メタアクリルアミド基、スチリル基、エポキシ基、イソシアナート基等が挙げられる。重合性基を有する液晶化合物としては、例えば下記式4で表される化合物等が挙げられる。上記式4中、R7は、水素原子又はメチル基である。R8、R10及びR12は、それぞれ独立して下記式で表される基のいずれかである。nは0又は1である。R9及びR11は、それぞれ独立して単結合、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-CH24-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH2=CHCH2CH2-、又は-CH2CH2CH=CH-である。R12は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~20のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基又はアルケニルオキシ基である。上記式中、mは、1~4の整数である。上記式4で表される化合物のうち、R8、R10及びR12がそれぞれ独立して、下記式で表される基であり、mが1又は2であり、R9及びR11がそれぞれ独立して、単結合又は-C≡C-であり、R13がハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~20のアルキル基又はアルコキシ基である化合物が好ましい。他の重合性基を有する液晶化合物としては、例えば下記式5で表される化合物等が挙げられる。上記式5中、R14は、水素原子又はメチル基である。pは、2~12の整数である。R15は、単結合又は-COO-である。R16は、シアノ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又はフェニル基である。上記式5で表される重合性基を有する液晶化合物としては、例えば下記式5-1~5-3で表される化合物等が挙げられる。上記式5-1~5-3中、R17、R18及びR19は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基である。j、k及びqは、それぞれ独立して2~12の整数である。R20は、炭素数1~6のアルキル基又はフェニル基である。熱硬化型重合性液晶組成物における液晶化合物の含有量としては、90質量以上が好ましく、96質量以上99.9質量以下がより好ましく、98質量以上99.5質量以下が特に好ましい。液晶化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、好適な液晶応答性を発揮することができる。上記熱重合性化合物としては、エポキシ化合物が好ましい。かかるエポキシ化合物としては、分子中にエポキシ基を1以上有しており、加熱により反応し硬化する化合物であれば特に限定されないが、塗布性の点から常温で液状のエポキシ化合物が好ましい。エポキシ化合物としては、例えばエポキシ基を有する脂肪族化合物、エポキシ基を有する脂環式化合物、エポキシ基を有する芳香族化合物等が挙げられる。エポキシ基を有する脂肪族化合物としては、例えば1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類;エポキシ化大豆油;エポキシステアリン酸ブチル;エポキシステアリン酸オクチル;エポキシ化アマニ油;エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。エポキシ基を有する脂肪族化合物の市販品としては、例えばSR-NPG、SR-16H、SR-PG、SR-TPG以上、阪本薬品工業製;PG-202、PG-207以上、東都化成製;EX-610U、EX-1610-P以上、ナガセケムテックス製等が挙げられる。エポキシ基を有する脂環式化合物としては例えば3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-3,4-エポキシシクロヘキシル-5,5-スピロ-3,4-エポキシシクロヘキサン-メタ-ジオキサン、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアジペート、ビス3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチルアジペート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシル-3’,4’-エポキシ-6’-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β-メチル-δ-バレロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス3,4-エポキシシクロヘキサン、エチレングリコールのジ3,4-エポキシシクロヘキシルメチルエーテル、エチレンビス3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、エポキシへキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ-2-エチルヘキシル等が挙げられる。エポキシ基を有する脂環式化合物の市販品としては、例えばセロキサイド2021、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、エポリードGT-300、エポリードGT-301、エポリードGT-302、エポリードGT-400、エポリード401、エポリード403以上、ダイセル化学工業製等が挙げられる。エポキシ基を有する芳香族化合物としては、例えば主骨格に芳香環構造を有し、エポキシ基を2以上有する化合物等が挙げられる。このような化合物の芳香環構造の例としては、ビスフェノールA型構造、ビスフェノールF型構造、ノボラック型構造、ナフタレン骨格、アントラセン骨格構造、フルオレン骨格等が挙げられる。エポキシ基を有する芳香族化合物の市販品としては、例えばJER806、JER828、YL980以上、ジャパンエポキシレジン製;YD-127、YD-128、YDF-170、YDF-175S、YDPN-638、YDCN-701以上、東都化成製;EPICLON830、EPICLON850、EPICLON835、EPICLONHP-4032D以上、DIC製等が挙げられる。その他、メタアクリロイル基、ビニル基を有するエポキシ化合物も用いることができる。例えばメタアクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸-3,4-エポキシブチル、α-エチルアクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、3-メチル-3-メタアクリロイルオキシメチルオキセタン、3-エチル-3-メタアクリロイルオキシメチルオキセタン等が挙げられる。エポキシ化合物としては、エポキシ基を有する芳香族化合物が好ましい。エポキシ化合物の含有量としては、0.1質量以上10質量以下が好ましく、0.3質量以上3質量以下がより好ましい。エポキシ化合物の含有量を上記特定範囲とすることで、好適な液晶応答性を発揮することができる。[光硬化型重合性液晶組成物]光硬化型重合性液晶組成物としては、例えば重合性を有する液晶化合物及び光重合開始剤を含むもの以下、光硬化型重合性液晶組成物Aとも称する、液晶化合物、光重合性化合物及び光重合開始剤を含むもの以下、光硬化型重合性液晶組成物Bとも称する等が挙げられる。なお、光硬化型重合性液晶組成物Bにおける液晶化合物の重合性の有無はいずれでもよい。また、上記以外にも例えば、光硬化型重合性液晶組成物AとBとを混合したもの等を用いてもよい。なお、光硬化型における光とは、可視光のみならず、紫外線、遠紫外線等を含む。光硬化型重合性液晶組成物Aにおける重合性を有する液晶化合物及び光硬化型重合性液晶組成物Bにおける液晶化合物としては、上述の熱硬化型重合性液晶組成物において例示したものを挙げることができる。光硬化型重合性液晶組成物における液晶化合物重合性を有する液晶化合物も含むの含有量としては、得られる液晶層の硬化性の点から、60質量以上が好ましく、70質量以上99.5質量以下がより好ましい。光重合開始剤としては、例えば、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オンメルク製、ダロキュア1173、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンチバガイギー製、イルガキュア184、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オンメルク製、ダロキュア1116、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンチバガイギー製、イルガキュア651、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルホリノプロパノン-1チバガイギー製、イルガキュア907、2,4-ジエチルチオキサントン日本化薬製、カヤキュアDETXとp-ジメチルアミノ安息香酸エチル日本化薬製、カヤキュア-EPAとの混合物、イソプロピルチオキサントンワードプレキンソップ製、カンタキュアITXとp-ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物等が挙げられる。光重合開始剤の含有量としては、液晶層の硬化性の点から、0.1質量以上10質量以下が好ましい。光硬化型重合性液晶組成物Bに用いられる光重合性化合物は、重合性基としてビニル基、メタアクリル基、メタアクリロイル基、メタアクリルアミド基、スチリル基等を有する。光重合性化合物としては、例えばスチレン、クロロスチレン、α-メチルスチレン、ジビニルベンゼン;置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、2-エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシエチル基、ブトキシエチル基、フェノキシエチル基、アルリル基、メタリル基、グリシジル基、2-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシプロピル基、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基等を有するアクリレート、メタクリレート又はフマレート;エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3-ブチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン及びペンタエリスリトール等のモノメタアクリレート又はポリメタアクリレート;酢酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル、アクリロニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン、シクロヘキセン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ビニルピリジン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、N-ヒドロキシメチルアクリルアミド又はN-ヒドロキシエチルメタクリルアミド及びそれらのアルキルエーテル化合物;ネオペンチルグリコール1モルに2モル以上のエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジメタアクリレート;トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリメタアクリレート;ビスフェノールA1モルに2モル以上のエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジメタアクリレート;2-ヒドロキシエチルメタアクリレート1モルとフェニルイソシアネート又はn-ブチルイソシアネート1モルとの反応生成物;ジペンタエリスリトールのポリメタアクリレート;カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等のオリゴマー等が挙げられる。光重合性化合物の含有量としては、得られる液晶層の硬化性の点から、3質量以上40質量以下が好ましく、10質量以上30質量以下がより好ましい。光硬化型重合性液晶組成物は、その他の成分として、例えば重合禁止剤等を含有していてもよい。重合禁止剤としては、例えばハイドロキノンモノメチルエ-テルメトキノン、ハイドロキノン、p-ベンゾキノン、フェノチアゾン、モノ-t-ブチルハイドロキノン、カテコ-ル、p-t-ブチルカテコ-ル、ベンゾキノン、2.5-ジ-t-ブチルハイドロキノン、アンスラキノン、2.6-ジ-t-ブチルヒドロキシトルエン等が挙げられる。<層間絶縁膜の形成方法>本発明の液晶表示素子用層間絶縁膜の形成方法は、1当該組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2工程1で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3工程2で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び4工程3で現像された塗膜を加熱する工程を有する。当該層間絶縁膜は、加熱又は光照射により液晶層を形成する液晶表示素子用の層間絶縁膜の形成方法として好適である。本発明の液晶表示素子の層間絶縁膜は、上記ポジ型感放射線性組成物を用いて形成されたものである。当該層間絶縁膜は、上述のとおり加熱又は光照射により液晶層を形成する液晶表示素子用の層間絶縁膜として好適に用いることができる。[工程1]工程1では、基板上に当該組成物又はこの溶液若しくは分散液を塗布した後、好ましくは塗布面を加熱プレベークすることによって溶媒を除去して、塗膜を形成する。組成物溶液又は分散液の塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリットダイ塗布法、バー塗布法等の適宜の方法を採用することができる。これらの塗布方法の中でも、スピンコート法又はスリットダイ塗布法が好ましい。プレベークの条件は、各成分の種類、配合割合等によっても異なるが、好ましくは60°C~120°Cで1分~10分間程度とすることができる。当該組成物によれば、例えば60°C~80°Cと比較的低いプレベーク条件とした場合も、優れたパターン形成性を発揮することができる。<工程2>工程2では、形成された塗膜の少なくとも一部に露光する。この場合、塗膜の一部に露光する際には、通常所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光に使用される放射線としては、光酸発生体に対して用いる放射線が好適である。これらの放射線の中でも、波長が190nm~450nmの範囲にある放射線が好ましく、特に365nmの紫外線を含む放射線が好ましい。露光量としては、放射線の波長365nmにおける強度を、照度計OAImodel356、OAIOpticalAssociates製により測定した値として、好ましくは500J/m2~6,000J/m2、より好ましくは1,500J/m2~1,800J/m2である。<工程3>工程3では、露光後の塗膜を現像することにより、不要な部分放射線の照射部分を除去して所定のパターンを形成する。現像工程に使用される現像液としては、アルカリ性水溶液が好ましい。アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等が挙げられる。アルカリ水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ水溶液におけるアルカリの濃度としては、適当な現像性を得る観点から、好ましくは0.1質量以上5質量以下である。現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等が挙げられる。現像時間としては、ポジ型感放射線性組成物の組成によって異なるが、好ましくは10秒~180秒間程度である。なお、当該組成物によれば、この現像時間に多少の長短があった場合も、この影響を受けることなく、安定したパターンを形成することができる。このような現像処理に続いて、例えば流水洗浄を30秒~90秒間行った後、例えば圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、所望のパターンを形成することができる。<工程4>工程4では、ホットプレート、オーブン等の加熱装置を用い、パターニングされた薄膜を加熱することで、[A]重合体の硬化反応を促進して、硬化物を得ることができる。加熱温度としては、例えば120°C~250°Cである。加熱時間としては、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレート上で加熱工程を行う場合には5分~30分間、オーブン中で加熱工程を行う場合には30分~90分間である。2回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。このようにして目的とする層間絶縁膜等に対応するパターン状薄膜を基板の表面上に形成することができる。形成された層間絶縁膜の膜厚としては、好ましくは0.1μm~8μm、より好ましくは0.1μm~6μm、特に好ましくは0.1μm~4μmである。<液晶表示素子>本発明の液晶表示素子は、このように対向に配置された2枚の基板、この基板の少なくともいずれかの内面側に積層された層間絶縁膜、及び上記基板間に配設された液晶層を備えており、これが液晶セルとなる。この液晶セルの両面、即ち両基板の外側には通常、偏光板が備えられる。なお、2枚の偏光板のうち、1枚を反射板に置き換えることもできる。また、当該液晶表示素子は、その他の構成要素として、例えばマイクロカラーフィルター等をさらに備えていてもよい。当該液晶表示素子は、テレビ受像器やパーソナルコンピュータのモニタ装置、携帯電話、ゲーム機等の各種液晶表示装置に用いることができる。<液晶表示素子の製造方法>液晶表示素子の製造方法としては、例えばPSA技術を用いた液晶表示素子の公知の製造方法を用いることができる。製造方法の一例を図1を参照して説明する。図1の製造途中の液晶表示素子液晶セル10は、主に対向に配置された2枚の基板1a及び1b、基板1aの内面側に積層された層間絶縁膜2、並びに基板1a及び1b間に配設された液晶層3を備えている。まず、基板1aの表面に上述の方法にて層間絶縁膜2を形成する。次に、層間絶縁膜2及び基板1bの表面に透明電極膜4を形成し、さらにそれぞれの透明電極膜4の表面に液晶配向膜5を形成する。液晶配向膜5側を内側にして、2枚の基板1a及び1bを平行に配置し、シール材6で貼り合わせてセルとする。この際、一部にシール材6を積層せずに注入孔7を設けておく。この注入孔7からセルに上記重合性液晶組成物を注入してこの組成物を充填する注入孔7を封止した後、加熱又は光等の照射により液晶層3を形成し、液晶セルが得られる図1の製造途中の液晶表示素子10の状態。この液晶セルの両面に偏光板を貼り合わせることにより、液晶表示素子が得られる。上記透明導電膜4としては、例えば酸化スズSnO2からなるNESA膜米国PPG製、登録商標、酸化インジウム-酸化スズIn2O3-SnO2からなるITO膜等が挙げられる。パターニングされた透明導電膜を得る方法としては、例えばパターンの無い透明導電膜を形成した後、フォトエッチングによりパターンを形成する方法、透明導電膜を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法等が挙げられる。上記液晶配向膜5の形成方法としては、液晶配向膜形成用組成物を好ましくは印刷法、スピンナー法又はインクジェット法によってそれぞれ塗布し、次いで各塗布面を加熱することにより塗膜を形成する方法が挙げられる。この液晶配向膜形成用組成物としては、例えばポリイミド配向処理剤等を用いることができる。加熱後の塗膜にラビング処理を施すことにより、液晶化合物配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜5が形成される。上述のようにして液晶配向膜5が形成された基板間に重合性液晶組成物を注入し、電圧を印加して液晶化合物が傾斜した状態で、加熱又は光照射することによりこの重合性液晶組成物を硬化させることとなる。ここで、塗膜に対してラビング処理を行った場合には、2枚の基板1a及び1bは、各塗膜におけるラビング方向が互いに所定の角度、例えば直交又は逆平行となるように対向配置される。重合性液晶組成物が熱硬化型である場合の加熱時間としては、10分以上60分以下が好ましい。また、加熱温度としては、150°C以上300°C以下が好ましい。加熱時間又は温度が上記特定範囲外の場合は、重合が十分に行われず、得られる液晶層の応答性が低下するおそれがある。一方、加熱時間又は温度が上記上限を超える場合は層間絶縁膜等が変形するおそれがある。重合性液晶組成物が光硬化型である場合の、光の種類としては紫外線が好ましい。また、光の放射量としては、50mJ/cm2以上400mJ/cm2以下が好ましい。放射量が上記下限未満の場合は、重合が十分に行われず、得られる液晶層の応答性が低下するおそれがある。一方、照射量が上記上限を超える場合は層間絶縁膜等が変形するおそれがある。このように液晶層3を形成した後の液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより、液晶表示素子を得ることができる。このようにして製造することができる当該液晶表示素子によれば、層間絶縁膜が特定の構造単位を有する[A]重合体を含有するポジ型感放射線性組成物から形成されることで、加熱や光照射によって液晶層を形成しても、優れた耐熱性及び耐光性を備えることができる。従って、当該液晶表示素子は、製造過程における変形等が少ないため生産効率が高く、また高い電圧保持率を発揮することができる。以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。重合体のMw及びMnは、下記の条件によるGPCにより測定した。装置:GPC-101昭和電工製カラム:GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803及びGPC-KF-804を結合移動相:テトラヒドロフランカラム温度:40°C流速:1.0mL/分試料濃度:1.0質量試料注入量:100μL検出器:示差屈折計標準物質:単分散ポリスチレン<重合性液晶組成物の調製>[調製例1]各液晶化合物上記式aで表される液晶化合物25、式bで表される液晶化合物30質量、式cで表される液晶化合物30質量、及び式dで表される液晶化合物15質量を配合して液晶組成物iを得た。この液晶組成物i99質量部と、熱重合性化合物としてのトリメチロールプロパントリグリシジルエーテル1質量部とを配合し、熱硬化型の重合性液晶組成物Iを得た。[調製例2]下記式で表される各重合性液晶化合物下記式eで表される液晶化合物47.5質量、式fで表される液晶化合物47.5質量、及び式gで表される液晶化合物5.0質量を配合して重合性液晶組成物iiを得た。この重合性液晶組成物ii99質量部と、光重合開始剤としての2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンチバガイギー製、イルガキュア6511質量部とを配合して、光硬化型の重合性液晶組成物IIを得た。[調製例3]上記液晶組成物i80質量部と、光重合性化合物としてのカプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート日本化薬製、カヤラッドHX62019質量部と、光重合開始剤としてのベンジルジメチルケタールチバガイギー製、イルガキュア6511質量部とを配合して、光硬化型の重合性液晶組成物IIIを得た。<[A]重合体の合成>[合成例1]冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸5質量部、1-エトキシエチルメタクリレート40質量部、スチレン5質量部、メタクリル酸グリシジル40質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート10質量部及びα-メチルスチレンダイマー3質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持し重合体A-1を含む重合体溶液を得た。重合体A-1のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは9,000であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、32.1質量であった。[合成例2]冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸5質量部、テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イルメタクリレート40質量部、スチレン5質量部、メタクリル酸グリシジル40質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート10質量部及びα-メチルスチレンダイマー3質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持し重合体A-2を含む重合体溶液を得た。重合体A-2のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは9,000であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、31.3質量であった。[合成例3]冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2-メチルプロピオン酸メチル7質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸1-n-ブトキシエチル67質量部、メタクリル酸ベンジル23質量部、メタクリル酸10質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80°Cに上昇させ、この温度を6時間保持し重合体A-3を含む重合体溶液を得た。重合体A-3のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは9,000であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、30.3質量であった。[合成例4]冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2-メチルプロピオン酸メチル7質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸1-ベンジルオキシエチル90質量部、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル6質量部、メタクリル酸4質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80°Cに上昇させ、この温度を6時間保持し重合体A-4を含む重合体溶液を得た。重合体A-4のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは9,000であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、31.2質量であった。[合成例5]冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2-メチルプロピオン酸メチル7質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部を仕込んだ。引き続きテトラヒドロ-2H-ピラン-2-イルメタクリレート85質量部、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル7質量部、メタクリル酸8質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80°Cに上昇させ、この温度を6時間保持し重合体A-5を含む重合体溶液を得た。重合体A-5のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは10,000であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、29.2質量であった。[合成例6]冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル52質量部、メタクリル酸ベンジル48質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80°Cに上昇させ、この温度を6時間保持し重合体A-6を含む重合体溶液を得た。重合体A-6のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは10,000であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、32.3質量であった。[合成例7]冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続き、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート45質量部、メタクリル酸ベンジル45質量部、メタクリル酸10質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80°Cに上昇させ、この温度を6時間保持し重合体A-7を含む重合体溶液を得た。重合体A-7のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは10,000であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、33.2質量であった。[合成例8]冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸1-n-ブトキシエチル35質量部、メタクリル酸ベンジル35質量部、メタクリル酸グリシジル30質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80°Cに上昇させ、この温度を6時間保持し重合体A-8を含む重合体溶液を得た。重合体A-8のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは10,000であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は、32.3質量であった。[合成例9]冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部とジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部とを仕込んだ。引き続き、メタクリル酸16質量部、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルメタクリレート16質量部、メタクリル酸ベンジル20質量部、メタクリル酸グリシジル40質量部、スチレン10質量部及びα-メチルスチレンダイマー3質量部を仕込んで窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を4時間保持することによって重合体CA-1を含む重合体溶液を得た。重合体CA-1のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは9,000、分子量分布Mw/Mnは2.2であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は33.4質量であった。<ポジ型感放射線性組成物の調製>[実施例1]合成例1で得られた重合体A-1を含む溶液重合体A-1100質量部固形分に相当する量に、[B]光酸発生体としての5-プロピルスルフォニルオキシイミノ-5H-チオフェン-2-イリデン-2-メチルフェニルアセトニトリルチバスペシャルティーケミカルズ製、IRGACUREPAG1033質量部、[C]有機溶媒としてのジエチレングリコールエチルメチルエーテル、[D]界面活性剤としてのシリコーン系界面活性剤東レダウコーニング製、SH8400FLUID0.1質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過することにより、ポジ型感放射線性組成物S-1を調製した。[実施例2~5及び比較例1]表1に示す種類、配合量の[A]成分を使用したこと以外は、実施例1と同様に操作して実施例2~5及び比較例1のポジ型感放射線性組成物を調製した。なお、欄中の-は該当する成分を使用しなかったことを表す。<液晶セルの作成>[実施例6][透明電極膜/層間絶縁膜/ガラス基板の作成]表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO2膜が形成された10×10cmのガラス基板上に、スピンコーターでポジ型感放射線性組成物S-1を塗布し、さらに90°Cにおいて10分間プレベークすることによって、膜厚2.0μmの塗膜を形成した。続いて、露光機キヤノン製、MPA-600FAを用い、塗布膜を露光した。次いで、230°Cで30分ポストーベークすることで層間絶縁膜をガラス基板上に形成した。次いで、得られた層間絶縁膜上に、以下の手順により透明電極ITO電極膜を作成した。高速スパッタリング装置日本真空技術製、SH-550-C12にて、ITOターゲットITO充填率95以上、In2O3/SnO2=90/10質量比を用いて、60°CにてITOスパッタリングを実施した。このときの雰囲気は、圧力1.0×10-5Pa、Arガス流量3.12×10-3m3/Hr、O2ガス流量1.2×10-5m3/Hrであった。スパッタリング後の基板を、クリーンオーブンにて240°Cで60分加熱し、アニーリングを実施した。[透明電極膜/ガラス基板の作成]表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO2膜が形成された10×10cmのガラス上に、上記高速スパッタリング装置にて、ITOターゲットITO充填率95以上、In2O3/SnO2=90/10質量比を用いて、60°CにてITOスパッタリングを実施した。このときの雰囲気は、圧力1.0×10-5Pa、Arガス流量3.12×10-3m3/Hr、O2ガス流量1.2×10-5m3/Hrであった。スパッタリング後の基板をクリーンオーブンにて240°Cで60分加熱し、アニーリングを実施した。[液晶配向膜の形成]上記手順で作成したそれぞれ一枚ずつの透明電極膜/層間絶縁膜/ガラス基板及び透明電極膜/ガラス基板の透明電極表面に、ポリイミド配向処理剤AL-1254、JSR製をスピンコートした。この基板を180°Cで80分間保ち、基板上にポリイミド膜を形成した。このポリイミド膜をラビング処理して配向処理されたガラス基板を作製した。[セルの作成]上記配向処理されたそれぞれのガラス基板同士を、配向処理した面を対向させ、0.8mmのガラスビーズを混合したシール材で貼り合わせて、セルを作成した。[液晶層の形成]上記セルに重合性液晶組成物Iを注入し、クリーンオーブン中で230°Cで30分加熱し、実施例6の液晶セルを得た。[実施例7~20及び比較例2~4]表2に示す種類のポジ型感放射線性組成物及び重合性液晶組成物を使用したこと以外は、実施例6と同様に操作して実施例7~20及び比較例2~4の液晶セルを得た。なお、重合性液晶組成物として、光硬化型である重合性液晶組成物II又はIIIを用いた場合は、クリーンオーブン中で230°C30分加熱したかわりに、室温において紫外線ランプを用いて、160mJ/cm2の光量の紫外線を照射して、液晶セルを得た。<評価>実施例1~5及び比較例1のポジ型感放射線性組成物、並びに実施例6~20及び比較例2~4の液晶セルについて、それぞれの特性を評価した。評価結果を表1及び表2にあわせて示す。[保存安定性]ポジ型感放射線性樹脂組成物を40°Cのオーブン中で1週間放置し、オーブンに入れる前後での粘度を測定し、粘度変化率を求めた。このとき、粘度変化率が5未満である場合に保存安定性が良好、5以上の場合に保存安定性が不良といえる。[電圧保持率]液晶セルを60°Cの恒温層に入れて、電圧保持率を液晶電圧保持率測定システム東陽テクニカ製、HR-1A型により測定した。このときの印加電圧は5.5Vの方形波、測定周波数は60Hzとした。ここで電圧保持率とは、16.7ミリ秒後の液晶セル電位差/0ミリ秒で印加した電圧×100の値である。液晶セルの電圧保持率が90以下であると、液晶セルは16.7ミリ秒の時間、印加電圧を所定レベルに保持できず、液晶表示パネルの信頼性に影響を及ぼす可能性が高い。さらに、残像などの表示不良を引き起こすおそれが高い。表1の結果から実施例1~5のポジ型感放射線性組成物は、比較例1の組成物と比較して高い保存安定性を有していることが分かった。また、表2の結果から、実施例6~20の液晶セルは、比較例2~4の液晶セルと比べ、電圧保持率に優れており、加熱又は光照射を伴う製造工程における耐熱性及び耐光性に優れていることが分かった。"