可動オブジェクトの位置関連量を制御する位置制御システムであって、前記可動オブジェクトの実際の位置関連量を決定するように構成された位置測定システムと、前記可動オブジェクトの位置関連設定ポイント信号を提供するように構成された設定ポイント生成装置と、前記実際の位置関連量と前記位置関連設定ポイント信号との比較に基づいてエラー信号を提供するように構成されたコンパレータと、前記エラー信号に基づいて制御信号を提供するように構成されたコントローラと、前記位置関連設定ポイント信号に基づいてフィードフォワード信号を提供するように構成されたフィードフォワードデバイスと、前記制御信号及び前記フィードフォワード信号に基づいて前記可動オブジェクトに作動するように構成されたアクチュエータとを備え、前記フィードフォワードデバイスが、前記可動オブジェクトの位置に応じて前記可動オブジェクトに作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルを備える位置制御システム。前記制御システムが、擾乱力の推定値を更新するために前記擾乱力補正テーブルに前記エラー信号を提供するように配置される、請求項1に記載の制御システム。前記擾乱力補正テーブルが、前記可動オブジェクトのルートの擾乱力の推定値を含む、請求項1又は2に記載の制御システム。前記擾乱力補正テーブルが前記ルート内の幾つかの位置についての擾乱力の推定値を含み、前記位置のうちの1つの位置の擾乱力の各推定値が公称パラメータ設定に基づく、請求項3に記載の制御システム。前記フィードフォワードデバイスが、前記公称パラメータ設定と前記ルートの前記位置のうちの1つの位置の実際のパラメータとの差について前記擾乱力補正テーブルの値を補正するように構成されたパラメータ補正デバイスを備える、請求項4に記載の制御システム。前記可動オブジェクトが、リソグラフィ装置の基板支持体であり、前記ルートが、前記基板支持体のスキャンルートである、請求項3に記載の制御システム。前記スキャンルートが、複数のスキャン運動と、2つの後続のスキャン運動の間に実行される少なくとも1つの移送運動とを含み、前記擾乱力補正テーブルが、主として前記スキャン運動内の擾乱力の推定値を含む、請求項6に記載の制御システム。前記フィードフォワードデバイスが、移送運動中に前記フィードフォワードデバイスの出力信号を前のスキャン運動の最後の位置に関連する値から次のスキャン運動の最初の位置に関連する値へ徐々に変化させるように構成された移送運動補償デバイスを備える、請求項1に記載の制御システム。前記フィードフォワードデバイスが、前記フィードフォワードデバイスの出力信号を前記擾乱力補正テーブル内の周知の位置に関連する値から前記擾乱力補正テーブル内の次の周知の位置に関連する値へ徐々に変化させるように構成された移送運動補償デバイスを備える、請求項1に記載の制御システム。リソグラフィ装置であって、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、基板を保持するように構築された基板支持体と、前記基板のターゲット部分上に前記パターン付放射ビームを投影するように構成された投影システムと、前記リソグラフィ装置の可動オブジェクトの位置関連量を制御するように構成された位置制御システムであって、前記可動オブジェクトの実際の位置関連量を決定するように構成された位置測定システムと、前記可動オブジェクトの位置関連設定ポイント信号を提供するように構成された設定ポイント生成装置と、前記実際の位置関連量と前記位置関連設定ポイント信号との比較に基づいてエラー信号を提供するように構成されたコンパレータと、前記エラー信号に基づいて制御信号を提供するように構成されたコントローラと、前記位置関連設定ポイント信号に基づいてフィードフォワード信号を提供するように構成されたフィードフォワードデバイスと、前記制御信号及び前記フィードフォワード信号に基づいて前記可動オブジェクトに作動するように構成された1つ又は複数のアクチュエータとを備える位置制御システムとを備え、前記フィードフォワードデバイスが、前記可動オブジェクトの位置に応じて前記可動オブジェクトに作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルを備えるリソグラフィ装置。可動オブジェクトの位置制御方法であって、前記方法が、位置測定システムを用いて前記可動オブジェクトの位置関連量を決定するステップと、コンパレータを用いて測定位置関連量と設定ポイント生成装置によって提供される位置関連設定ポイント信号とを比較してエラー信号を得るステップと、前記エラー信号に基づいてコントローラによって制御信号を提供するステップと、前記位置関連設定ポイント信号に基づいてフィードフォワードデバイスによってフィードフォワード信号を提供するステップと、前記制御信号及び前記フィードフォワード信号に基づいてアクチュエータを作動させるステップとを含み、前記フィードフォワード信号を提供するステップが、前記可動オブジェクトの位置に応じて前記可動オブジェクトに作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルを使用するステップを含む可動オブジェクトの位置制御方法。前記擾乱力補正テーブルが、前記可動オブジェクトのルートの擾乱力の推定値を含む、請求項11に記載の方法。前記方法が、前記フィードフォワードデバイスを用いずに少なくとも1つのルートに沿って前記可動オブジェクトを移動させ、前記コンパレータによって得た前記エラー信号を測定し、前記エラー信号を補償するのに必要な擾乱力を計算することで擾乱力の推定値を得るステップを含む、請求項12に記載の方法。前記方法が、設定時に一般較正データを収集し、前記一般較正データに基づいて前記少なくとも1つのルートについて擾乱力を抽出することで擾乱力の推定値を得るステップを含む、請求項13に記載の方法。前記可動オブジェクトが、リソグラフィ装置の基板支持体であり、前記ルートが、前記基板支持体のスキャンルートである、請求項14に記載の方法。0008可動オブジェクトの位置制御の精度及び/又は速度を増加できるリソグラフィ装置の可動オブジェクトのための位置制御システムを提供することが望ましい。また、可動オブジェクトの位置制御の精度及び/又は速度を増加させることができるリソグラフィ装置の可動オブジェクトの位置制御方法を提供することが望ましい。0009本発明のある実施形態によれば、可動オブジェクトの位置関連量を制御する位置制御システムが提供され、該位置制御システムは、可動オブジェクトの実際の位置関連量を決定するように構成された位置測定システムと、可動オブジェクトの位置関連設定ポイント信号を提供する設定ポイント生成装置と、実際の位置関連量と位置関連設定ポイント信号との比較に基づいてエラー信号を提供するように構成されたコンパレータと、エラー信号に基づいて制御信号を提供するコントローラと、位置関連設定ポイント信号に基づいてフィードフォワード信号を提供するフィードフォワードデバイスと、制御信号及びフィードフォワード信号に基づいて可動オブジェクトに作動するアクチュエータとを備え、フィードフォワードデバイスは、可動オブジェクトの位置に応じて可動オブジェクトに作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルを含む。0010本発明のある実施形態によれば、リソグラフィ装置が提供され、該リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、基板を保持するように構築された基板支持体と、基板のターゲット部分上にパターン付放射ビームを投影するように構成された投影システムとを備え、上記リソグラフィ装置は、リソグラフィ装置の可動オブジェクトの位置関連量を制御する位置制御システムを含み、該位置制御システムは、可動オブジェクトの実際の位置関連量を決定するように構成された位置測定システムと、可動オブジェクトの位置関連設定ポイント信号を提供する設定ポイント生成装置と、実際の位置関連量と位置関連設定ポイント信号との比較に基づいてエラー信号を提供するコンパレータと、エラー信号に基づいて制御信号を提供するコントローラと、位置関連設定ポイント信号に基づいてフィードフォワード信号を提供するフィードフォワードデバイスと、制御信号及びフィードフォワード信号に基づいて可動オブジェクトに作動するアクチュエータとを備え、フィードフォワードデバイスは、可動オブジェクトの位置に応じて可動オブジェクトに作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルを含む。0011本発明のある実施形態によれば、可動オブジェクトの位置関連量を制御する方法が提供され、該方法は、位置測定システムを用いて可動オブジェクトの位置関連量を決定するステップと、コンパレータを用いて測定位置関連量と設定ポイント生成装置によって提供される位置関連設定ポイント信号とを比較してエラー信号を得るステップと、エラー信号に基づいてコントローラによって制御信号を提供するステップと、位置関連設定ポイント信号に基づいてフィードフォワードデバイスによってフィードフォワード信号を提供するステップと、制御信号及びフィードフォワード信号に基づいてアクチュエータを作動させるステップとを含み、フィードフォワード信号を提供するステップは、可動オブジェクトの位置に応じて可動オブジェクトに作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルを使用するステップを含む。0018図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームB例えば、UV放射又は任意の他の適切な放射を調節するように構成された照明システムイルミネータILと、パターニングデバイス例えば、マスクMAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に配置するように構成された第1の位置決めデバイスPMに接続されたパターニングデバイス支持構造例えば、マスクテーブルMTとを含む。この装置は、また、基板例えば、レジストコートウェーハWを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に配置するように構成された第2の位置決めデバイスPWに接続された基板支持体例えば、ウェーハテーブルWTを含む。さらに、この装置は、基板Wのターゲット部分C例えば、1つ又は複数のダイを含む上にパターニングデバイスMAによって放射ビームBへ付与されたパターンを投影するように構成された投影システム例えば、屈折投影レンズシステムPSを含む。0019照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組合せなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。0020パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。このパターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。パターニングデバイス支持体は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書においてレチクル又はマスクという用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語であるパターニングデバイスと同義と見なすことができる。0021本明細書において使用するパターニングデバイスという用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。0022パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルLCDパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。0023本明細書において使用する投影システムという用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において投影レンズという用語を使用した場合、これはさらに一般的な投影システムという用語と同義と見なすことができる。0024本明細書で示すように、本装置は透過タイプである例えば透過マスクを使用する。あるいは、装置は反射タイプでもよい例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する。0025リソグラフィ装置は2つデュアルステージ又はそれ以上の基板テーブル又は基板支持体及び/又は2つ以上のマスクテーブル又はマスク支持体を有するタイプでよい。このようなマルチステージ機械においては、追加のテーブル又は支持体を並行して使用するか、又は1つ又は複数の他のテーブル又は支持体を露光に使用している間に1つ又は複数のテーブル又は支持体で予備工程を実行することができる。0026リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で周知である。本明細書で使用する液浸という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。0027図1を参照すると、イルミネータILは放射源SOから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源SOはリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び/又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムBDの助けにより、放射源SOからイルミネータILへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源SOがリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源SO及びイルミネータILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDとともに放射システムと呼ぶことができる。0028イルミネータILは、放射ビームの角度強度分布を調整するように設定されたアジャスタADを備えていてもよい。通常、イルミネータILの瞳面における強度分布の外側及び/又は内側半径範囲一般にそれぞれ、σouter及びσinnerと呼ばれるを調節することができる。また、イルミネータILは、インテグレータIN及びコンデンサCOなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。イルミネータILを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。0029放射ビームBは、パターニングデバイス支持体例えば、マスクテーブルMT上に保持されたパターニングデバイス例えば、マスクMAに入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。パターニングデバイス例えばマスクMAを横断した放射ビームBは、投影システムPSを通過し、投影システムPSは、ビームを基板Wのターゲット部分C上に合焦させる。第2の位置決めデバイスPWと位置センサIF例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサの助けを借りて、基板テーブルWTは、例えば、様々なターゲット部分Cを放射ビームBの経路に位置決めできるように正確に移動できる。同様に、第1の位置決めデバイスPMと別の位置センサ図1には明示されていないを用いて、マスクライブラリからの機械的な取り出し後又はスキャン中などに放射ビームBの経路に対してパターニングデバイス例えばマスクMAを正確に位置決めできる。一般に、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMTの移動は、第1の位置決めデバイスPMの部分を形成するロングストロークモジュール粗動位置決め及びショートストロークモジュール微動位置決めの助けにより実現できる。同様に、基板テーブルWT又は基板支持体の移動は、第2のポジショナPWの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを用いて実現できる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMTをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定してもよい。パターニングデバイス例えばマスクMA及び基板Wは、マスクアライメントマークM1、M2及び基板アライメントマークP1、P2を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間に位置してもよいスクライブレーンアライメントマークとして周知である。同様に、パターニングデバイス例えばマスクMA上に複数のダイを設ける状況では、マスクアライメントマークをダイ間に配置してもよい。00301.ステップモードにおいては、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMT又はマスク支持体及び基板テーブルWT又は基板支持体は、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影されるすなわち単一静的露光。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWT又は基板支持体がX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。2.スキャンモードにおいては、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMT又はマスク支持体及び基板テーブルWT又は基板支持体は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影されるすなわち単一動的露光。パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMT又はマスク支持体に対する基板テーブルWT又は基板支持体の速度及び方向は、投影システムPSの拡大縮小及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の非スキャン方向における幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分のスキャン方向における高さが決まる。3.別のモードでは、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMT又はマスク支持体はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWT又は基板支持体を移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWT又は基板支持体を移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。0031上述した使用モードの組合せ及び/又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。0032図2は、本発明のある実施形態による基板2を支持する基板支持体1を備えたリソグラフィ装置の詳細図を示す。投影システム4に対して基板2の異なるターゲット部分Cをその後位置決めするために、基板支持体2の位置を制御する位置制御システム3が提供される。この実施形態では、基板支持体1は、幾つかの自由度、通常、同一平面上の3自由度基板に平行な平面内又は全6自由度で可動である。0033位置制御システム3は、好適な数の自由度で基板支持体の位置を測定するように構成された位置測定システム8、9と、少なくとも位置測定システムによって測定された位置に基づいて制御信号を提供するように構成されたコントローラCDと、基板支持体1を所望の方向に作動させるように構成された1つ又は複数のアクチュエータ7とを含む。0034アクチュエータ7は、基板支持体1を所望の方向に移動させることが可能な任意のアクチュエータであってもよい。アクチュエータ7は、基板支持体1を複数の自由度で作動させるように構成されていてもよい。異なる自由度の作動又は基板支持体1上の異なる場所での作動を行う2つ以上のアクチュエータを提供してもよい。そのようなアクチュエータとアクチュエータ構成は、当技術分野で周知である。0035基板支持体1の位置を測定する位置測定システム8、9が提供される。また、基板支持体の位置を高精度ナノメートル精度で測定するのに好適な任意の位置測定システム、例えば、干渉計システム又はエンコーダタイプの測定システムを適用できる。図2に、基板支持体1に装着された幾つかのエンコーダタイプのセンサ8と、メトロフレームとも呼ばれる実質的に静止したフレーム10に装着された幾つかの格子板9とを含むエンコーダタイプの測定システムを示す。代替実施形態では、センサ8をメトロフレーム10に装着し、1つ又は複数の格子板9を基板支持体1に装着してもよい。0036位置制御システム3は、例えば設定ポイント生成装置SGによって与えられる所望の又は設定ポイント位置から基板支持体2の実際の位置が減算されるコンパレータCMを含む。多くの場合、サーボエラーと呼ばれる結果として得られる信号は、コントローラユニットの入力に基づいて制御信号を提供するコントローラCDへ供給される。コントローラCDは、比例、導関数及び積分制御部を含むPIDコントローラを含んでいてもよい。0037図2のリソグラフィ装置は、上記のように液浸タイプのリソグラフィ装置である。このリソグラフィ装置には、投影システム4と基板支持体1と基板2の一方又は両方との間に一定量の液浸液12を保持する液浸フード11が提供される。投影システム4と基板2との間に液浸液12を提供することで、例えば投影システムの開口数を増やすために有益な効果をリソグラフィ工程にもたらすことができる。0038しかし、液浸液12の存在は基板支持体2に作用する擾乱力の原因になる場合がある。これらの擾乱力は、特に液浸フード12が基板2の縁部を通過する時に発生することがある。また、基板支持体1に別の擾乱力が作用することがある。これらの擾乱力は位置制御システム3の精度及び/又は位置決め速度を低下させることがある。0039本発明の一実施形態によれば、位置制御システム3は、設定ポイントの位置に基づいてフィードフォワード信号を提供するように構成されたフィードフォワードデバイスFFを含む。フィードフォワードデバイスFFは、基板支持体1の位置に応じて可動オブジェクト上に作用する擾乱力の推定値を含む擾乱力補正テーブルDFCTを含む。擾乱力のかなりの部分は再現可能である。すなわち、同じパラメータ設定で同じ経路をたどる時に実質的に同じ擾乱力が発生する。再現可能な擾乱力を推定し、これらの擾乱力をフィードフォワードデバイスの擾乱力補正テーブルDFCTに加算することで、擾乱力を補償できる。その結果、エラー信号が低減し、位置決め精度が増す。0040位置制御システム3では、擾乱力補正テーブルDFCTを備えたフィードフォワードユニットFFに設定ポイント信号が供給される。フィードフォワードデバイスは、設定ポイントの位置又はその導関数に基づいてフィードフォワード信号を提供する。制御信号及びフィードフォワード信号は、加算デバイスADDに加算され、それによってフィードフォワード信号の方向は実際の擾乱力と逆の方向になる。制御信号とフィードフォワード信号の総和は1つ又は複数のアクチュエータ7に供給され、基板支持体1を所望の位置、すなわち、設定ポイントの位置へ作動させる。0041図3は、本発明のフィードフォワードデバイスFFを含む制御方式を示す。設定ポイント生成装置SGは、位置測定システムMSが入手した基板支持体2の実際の位置posと比較される設定ポイント信号spを提供する。結果として得られるエラー信号eは、コントローラCDに供給されて制御信号cが提供される。設定ポイント信号は、またフィードフォワードデバイスFFにも供給される。フィードフォワードデバイスFFは、擾乱力補正テーブルDFCTを含む。フィードフォワードデバイスは、フィードフォワード信号ffを提供する。フィードフォワード信号ffと制御信号cが加算されてアクチュエータ信号aが形成され、アクチュエータ信号aは、1つ又は複数のアクチュエータ7を介して工程機構Mに供給される。0042フィードフォワードデバイスFFから生まれる信号と力の方向は、基板支持体1に作用する実際の擾乱力の方向と逆でなければならないことが理解されよう。したがって、制御信号cとフィードフォワード信号ffの加算は、制御信号cからのフィードフォワード信号ffの減算であってもよい。擾乱力補正テーブルDFCTは、例えば、垂直又はz方向の1自由度又は同一平面上の3自由度又は6自由度などの複数の自由度の擾乱力に関する情報を含んでいてもよい。0043擾乱力の推定値は、例えば、フィードフォワードデバイスFFを用いずに基板支持体1を移動させ、コンパレータCMによって得たエラー信号eを測定し、エラー信号eを補償するのに必要な擾乱力を計算することで得られる。別の方法としては、擾乱力の推定値は、設定時に一般較正データを収集し、一般較正データに基づいて擾乱力を抽出することで得られる。擾乱力補正テーブルDFCTのデータ値は、例えば、複数の較正値の平均を決定することで得られる。0044擾乱力の推定値を得るその他の方法も使用することができる。例えば、基板支持体1の動的モデルに基づいて擾乱力を推定してもよい。0045さらに、擾乱力を補償するためのフィードフォワードデバイスFFの使用中に、エラー信号をモニタできる。このエラー信号を用いて擾乱力補正テーブルDFCTのデータを更新できる。言い換えれば、制御システムは、擾乱力の推定値を更新するために擾乱力補正テーブルにエラー信号を提供するように構成してもよい。こうして、位置制御システムの使用中に、エラー信号が最小限になるように推定を適合させてもよい。これは位置制御システムによって制御されるオブジェクトの変化を補正する助けになる。例えば、移動中に基板支持体1が加熱することがある。これによって、センサ8は時間と共にずれる位置を測定することになる。そのため、エラー信号はますます増大することがある。擾乱力補正テーブルDFCT内の推定値を更新することで、ずれを補償することができる。0046基板支持体1に作用する擾乱力は基板支持体の位置によって変化するだけでなく、基板支持体1の速度、移動方向などによっても変化する。位置とその他のパラメータ設定とのすべての可能な組合せを含む擾乱力補正テーブルDFCTは極めて多数の較正ステップを必要とし、その結果、これらのパラメータ設定をすべて含んだ巨大なテーブルになる場合がある。0047一実施形態では、擾乱力補正テーブルDFCTは、基板支持体1の限られた数のルートについての擾乱力の推定値を含んでいてもよい。例えば多くの場合、基板支持体1がたどるルートを擾乱力補正テーブルDFCTの基礎として使用してもよい。リソグラフィ装置の基板支持体1は、多くの場合リソグラフィ工程で同じスキャンルートをたどる。0048図4は、幾つかのターゲット部分Cを有する基板2の上面図を示す。実際にはさらに多くのターゲット部分Cが基板2上にあってもよい。破線と点線の組合せによって、リソグラフィ工程中の基板2に対する投影システム4の移動のスキャンルート50が示されている。このスキャンルート50で、一定の運動中に第1のターゲット部分Cがスキャンされる。その後、スキャン方向が変化し、別の隣接するターゲット部分Cがスキャンされる。次に、スキャン方向は再び変化し、ターゲット部分Cがスキャンされる。スキャンルート50はスキャン工程中にたどることが可能なルートの一例にすぎない。実際には、多くの代替ルートが知られている。しかし、リソグラフィ工程では同じルートをたどることが多い。0049スキャンルート50は、ターゲット部分Cが一定の運動でスキャンされる複数のスキャン運動51と、2つの後続のスキャン運動の間の複数の移送運動52とを含む。スキャン運動51は普通、実際のターゲット部分Cの前で開始し、その後で終了する。0050ある実施形態では、擾乱力補正テーブルDFCTは限られた数のルート、又はルート部分についての擾乱力の推定値を含む。そのような実施形態では、擾乱力の推定値は、フィードフォワードデバイスFFを用いずに限られた数のルートに沿って基板支持体1を移動させ、コンパレータCMによって得たエラー信号eを測定し、エラー信号eを補償するのに必要な擾乱力を計算することで得られる。別の方法としては、擾乱力の推定値は、設定時に一般較正データを収集し、一般較正データに基づいて限られた数のルートについて擾乱力を抽出することで得られる。その他の任意の方法、例えば、基板支持体の挙動の動的モデルに基づく方法も使用することができる。0051擾乱力補正テーブルDFCTは、基板支持体1の少なくとも1つの周知のルート内の幾つかの位置についての擾乱力の推定値を含んでいてもよい。一実施形態では、位置のうち1つの位置の擾乱力の各推定値は公称パラメータ設定に基づいている。これらの公称パラメータ設定は、公称速度などのスキャンルート中に普通使用されるパラメータ設定である。公称速度及びその他の公称パラメータ設定は、基板支持体1の異なる位置で異なっていてもよい。0052実際のスキャンルート中に、実際の速度又はその他のパラメータ設定が公称速度又は公称パラメータ設定と異なる場合がある。フィードフォワードデバイスFFは、基板支持体1の公称パラメータ設定とそれぞれの位置の実際のパラメータとの差について擾乱力補正テーブルの値を補正するパラメータ補正デバイスPCDを含む。そのようなパラメータ補正デバイスPCDでは、擾乱力補正テーブルDFCTの公称速度の推定擾乱力を、例えば、実際の速度が公称速度より低い時に低減できる。0053上記のように、スキャンルート50は、複数のスキャン運動51と、移送運動52とを含む。基板2上に実際に画像が投影されるスキャン運動51中は、基板支持1の位置決めは正確であることが望ましい。移送運動52中は、運動中に画像は投影されないので、精度の重要性は低い。スキャン運動51と移送運動52の間のこの差に鑑みて、ある実施形態では、擾乱力補正テーブルDFCTを用いたこの擾乱力の補償はスキャン運動51中にしか使用できない。こうして、移送運動52中のフィードフォワードデバイスFFの補償の結果としてのその後のスキャン運動51中の精度の低下を回避できる。また、擾乱力補正テーブルDFCT内で必要なデータが減少し、より複雑でないシステムが得られる。0054別の方法としては、フィードフォワードデバイスFFは、移送運動52中に、フィードフォワードデバイスFFの出力信号を前のスキャン運動51の最後の位置に関連する値から次のスキャン運動51の最初の位置に関連する値へ徐々に変化させる移送運動補償デバイスTMCDを含んでいてもよい。そのような移送運動補償デバイスTMCDを提供することで、スキャン運動52から次のスキャン運動へのスムースな移行が得られる。0055本発明の一実施形態による位置制御システムの一般的な適用では、フィードフォワードデバイスの出力信号を擾乱力補正テーブル内の周知の位置に関連する値から擾乱力補正テーブル内の次の周知の位置に関連する値へ徐々に変化させる移送運動補償デバイスTMCDを提供できる。擾乱力補正テーブルDFCT内に可動オブジェクトのすべての位置についてのデータが存在するわけではない時に、例えば、位置決め精度があまり重要でない位置についてデータが存在しない時に、そのような移送運動補償デバイスTMCDを有益に使用することができる。0056図5は、擾乱力補正テーブルDFCT、パラメータ補正デバイスPCD、及び移送運動補償デバイスTMCDを含むフィードフォワードデバイスのある実施形態を示す。0057以上、基板支持体の位置制御のための位置制御システムについて説明した。同様の位置制御システムを用いてリソグラフィ装置の他の可動オブジェクトの位置を制御することもできる。0058上記の位置制御システムは、1自由度に関して説明してきた。実際は、位置制御システムは幾つかの自由度、通常同一平面上の3自由度又は6自由度で基板支持体の位置を制御するように構成される。この理由から、位置制御システム3は、所望の数の自由度で基板支持体の位置を測定するように構成された1次元又は多次元のセンサの構成と、すべての可能な所望の自由度で基板支持体を位置決めする1次元又は多次元のアクチュエータの構成とを含んでいてもよい。0059さらに、上記の位置制御システム3は基板支持体の位置を制御する制御システムへ向けられる。同様のシステムを提供して、位置関連の設定ポイント信号に対する基板支持体のその他の任意の関連した位置関連量、例えば、速度又は加速度を制御し、又はリソグラフィ装置の別の可動オブジェクトの位置関連量を制御することができる。0060以上、コントローラの実施形態について説明してきた。これらのコントローラは別々のコントローラユニットであってもよいが、処理ユニット、例えば、専用の制御処理ユニット上のソフトウェアとして、又はリソグラフィ装置の中央処理装置の一部として一体化していてもよい。0061本文ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書でウェーハ又はダイという用語を使用している場合、それぞれ、基板又はターゲット部分という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール、メトロロジーツール及び/又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板は、例えば多層ICを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。0062光リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組合せを印加することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると、内部にパターンが残される。0063本明細書で使用する放射及びビームという用語は、イオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームのみならず、紫外線UV放射例えば、365nm、248nm、193nm、157nm若しくは126nm、又はこれら辺りの波長を有する及び極端紫外線光EUV放射例えば、5nm~20nmの範囲の波長を有するを含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。0064レンズという用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電気光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか一つ、又はその組合せを指すことができる。0065以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の1つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスクの形態をとることができる。0066上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。