"リソグラフィ投影装置で、-放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、-パターン形成手段を支持する支持構造とを有し、パターン形成手段は、所望のパターンに従い投影ビームにパターン形成する働きをし、さらに、-基板を保持する基板テーブルと、-基板の目標部分にパターン形成したビームを投影する投影システムと、-前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、前記液体供給システムが、前記浸漬液を浄化する液体浄化装置を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。前記液体浄化装置が蒸留ユニットを有する、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。前記液体浄化装置が、浸漬液の炭化水素含有率を低下させるユニットを有する、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。前記液体浄化装置が脱塩装置を有する、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。前記脱塩装置が、逆浸透ユニット、イオン交換ユニットまたは脱イオン化ユニットである、請求項4に記載のリソグラフィ投影装置。前記液体浄化装置がフィルタを有する、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。前記フィルタが、前記液体供給システムの1つまたは複数のさらなる構成要素から動的に隔離される、請求項6に記載のリソグラフィ投影装置。前記液体供給システムが、前記浸漬液を2度目に完全に、または部分的に浄化した状態で、または浄化しない状態で前記空間で浸漬液を再使用するための再循環手段を含む、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。前記液体供給システムがさらに、浸漬液を前記液体浄化装置から前記空間に提供する循環手段を有する、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。浸漬液が水または水溶液であり、液体浄化装置は、前記水または水溶液が以下の特性aからf、つまり、a0.055マイクロシーメンス/cmから0.5マイクロシーメンス/cmの導電性、b5から8、好ましくは6から8のpH、c5ppb以下、好ましくは1ppb以下の有機化合物含有率、d浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子2個以内、好ましくは浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子0.5個以内の粒子含有率、e15ppb以下、好ましくは5ppb以下の溶解酸素濃度、およびf500ppt以下、好ましくは100ppt以下のシリカ含有率、のうち1つまたは複数、好ましくは全てを有すよう、これを浄化するためのものである、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。リソグラフィ投影装置で、-放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、-パターン形成手段を支持する支持構造とを有し、パターン形成手段は、所望のパターンに従い投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、-基板を保持する基板テーブルと、-基板の目標部分にパターン形成したビームを投影する投影システムと、-前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、前記液体供給システムが、前記空間に入る前に浸漬液に照射するために紫外線ソースを有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。リソグラフィ投影装置で、-放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、-パターン形成手段を支持する支持構造とを有し、パターン形成手段は、所望のパターンに従い投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、-基板を保持する基板テーブルと、-基板の目標部分にパターン形成したビームを投影する投影システムと、-前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、前記浸漬液が可視光で照射されることを防止するための手段を設けることを特徴とするリソグラフィ投影装置。前記手段が、可視光に対して非透明で、前記液体供給システムを囲む容器またはエンクロージャである、請求項12に記載のリソグラフィ投影装置。前記手段が、浸漬液を浸漬液ソースから可視光に対して非透明である前記空間に供給する導管を有する、請求項12に記載のリソグラフィ投影装置。リソグラフィ投影装置で、-放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、-パターン形成手段を支持する支持構造とを有し、パターン形成手段は、所望のパターンに従い投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、-基板を保持する基板テーブルと、-基板の目標部分にパターン形成したビームを投影する投影システムと、-前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、前記液体供給システムが、さらに、前記浸漬液に生物成長阻害薬品を添加する手段を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。浸漬リソグラフィ投影装置の投影システムの最終要素と、描像される基板との間の空間に使用する浸漬液で、前記浸漬液が少なくとも1つの生物成長阻害薬品で構成されるものである浸漬液。リソグラフィ投影装置で、-放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、-パターン形成手段を支持する支持構造とを有し、パターン形成手段は、所望のパターンに従い投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、-基板を保持する基板テーブルと、-基板の目標部分にパターン形成したビームを投影する投影システムと、-前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、前記浸漬液が請求項16による浸漬液であることを特徴とするリソグラフィ投影装置。リソグラフィ投影装置で、-放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、-パターン形成手段を支持する支持構造とを有し、パターン形成手段は、所望のパターンに従い投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、-基板を保持する基板テーブルと、-基板の目標部分にパターン形成したビームを投影する投影システムと、-前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、前記浸漬液が以下の特性aからf、つまり、a0.055マイクロシーメンス/cmから0.5マイクロシーメンス/cmの導電性、b5から8、好ましくは6から8のpH、c5ppb以下、好ましくは1ppb以下の有機化合物含有率、d浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子2個以内、好ましくは浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子0.5個以内の粒子含有率、e15ppb以下、好ましくは5ppb以下の溶解酸素濃度、およびf500ppt以下、好ましくは100ppt以下のシリカ含有率、のうち1つまたは複数、好ましくは全てを有する水または水溶液であることを特徴とするリソグラフィ投影装置。液体供給システムが、浸漬液を含む液体封じ込めシステムを有する、請求項18に記載の装置。浸漬リソグラフィ投影装置の投影システムの最終要素と描像される基板との間の空間に使用する浸漬液で、前記浸漬液が以下の特性aからf、つまり、a0.055マイクロシーメンス/cmから0.5マイクロシーメンス/cmの導電性、b5から8、好ましくは6から8のpH、c5ppb以下、好ましくは1ppb以下の有機化合物含有率、d浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子2個以内、好ましくは浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子0.5個以内の粒子含有率、e15ppb以下、好ましくは5ppb以下の溶解酸素濃度、およびf500ppt以下、好ましくは100ppt以下のシリカ含有率、のうち1つまたは複数、好ましくは全てを有する水または水溶液であることを特徴とする浸漬液。浸漬液の品質を制御することができる液体供給システムを提供することが、本発明の目的である。以上およびその他の目的は、冒頭のパラグラフで特定され、前記液体供給システムが、前記浸漬液を浄化する液体浄化装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置にて、本発明により達成される。このように、リソグラフィ投影装置は、事前に浄化した水のソースを必要とすることなく、通常の水道本管に取り付けることができる。浄水は高価であり、枯渇しないよう明らかに残りの量を監視する必要があるので、これは有利である。本発明は、157nmの波長の投影ビームで適切でないような水以外の浸漬液にも、使用することができる。液体浄化装置は水蒸留ユニットを有することが好ましく、追加的または代替的に液体浄化装置は水脱塩装置を有してよい。この方法で、通常の水道本管から供給された水を、リソグラフィ投影装置に供給することができ、ここで水は、浄化ユニットの選択により浸漬液として使用するのに許容可能な純度にされる。言うまでもなく、水には、例えば湿潤剤などの他の添加物が必要なことがある。浸漬液が水でない場合は、蒸留ユニットおよび脱塩装置に加えて、またはこれらの代わりに他のタイプの浄化装置が必要なことがある。一つの実施形態では、水脱塩装置は逆浸透ユニットである。さらなる実施形態では、液体浄化装置はフィルタを有し、これは液体供給システムの1つまたは複数のさらなる構成要素から動的に隔離される。フィルタの動的隔離は、フィルタ内に形成することがある粒子の塊が分解し、下流に放出されることを防止するのに役立つ。このように、ウェハの粒子汚染が軽減し、生産量が増加する。液体供給システムは、2度目に前記浸漬液を浄化することなく、前記空間で浸漬液を再使用するための再循環手段を含むことが好ましい。このようなシステムが有利であるのは、再浄化せずに浸漬液を再使用することができ、それによりリソグラフィ投影装置の経済性が改善されるからである。冒頭のパラグラフで指定されたようなリソグラフィ投影装置における本発明のさらなる実施形態では、前記空間に入る前に浸漬液に放射する紫外線ソースを有する前記液体供給システムによって、目的が達成される。この紫外線ソースは、リソグラフィ投影装置の投影ビーム以外のソースであり、浸漬液水中に存在する生物を殺し、さらなる成長を防止するのに有効である。このような生物には、リソグラフィ投影装置を汚染する藻類がある。これも上記の問題を解決する本発明の別の実施形態では、冒頭のパラグラフで指定したようなリソグラフィ投影装置が、浸漬液ソースから前記空間へと浸漬液を供給する導管が、可視光に対して不透過性であることを特徴とする。藻類などの生物は、光合成して成長できるよう可視光を必要とする。可視光が浸漬液に到達するのを防止することにより、生きるために光を必要とする浸漬液中の生物が全て死滅する。この方法で、浸漬液の品質が改善されないまでも維持され、汚染物質が減少する。上記の目的を達成する代替方法は、冒頭のパラグラフで指定したようなリソグラフィ装置に、前記浸漬液に生物成長阻害薬品を添加する手段をさらに有する液体供給システムを設けることである。この解決法では、藻類などの生物を、化学的攻撃で殺すことができる。本発明は、リソグラフィ投影装置の投影システムの最終要素と描像される基板との間の空間で使用する浸漬液も提供し、浸漬液は、水および少なくとも1つの生物成長阻害薬品で構成される。このような浸漬液は、汚染を減少させ、生物成長阻害薬品を含まない浸漬液より組成が容易に制御される。これも上記の問題を解決する別の実施形態では、冒頭のパラグラフで指定したようなリソグラフィ投影装置が、浸漬液が水、または以下の特性aからfのうち1つまたは複数、好ましくは全てを有する水溶液であることを特徴とする。a0.055マイクロシーメンス/cmから0.5マイクロシーメンス/cmの導電性b5から8、好ましくは6から8のpHc5ppb以下、好ましくは1ppb以下の有機化合物含有率d浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子2個以内、好ましくは浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子0.5個以内の粒子含有率e15ppb以下、好ましくは5ppb以下の溶解酸素濃度f500ppt以下、好ましくは100ppt以下のシリカ含有率この実施形態では、浸漬液は高い純度を有し、液体と接触するシステムの様々な要素の汚染を減少させ、光学的変化または不完全性を回避するのに役立つ。本発明のこの実施形態で使用する浸漬液は、上述したようにリソグラフィ装置に組み込まれた液体浄化装置を使用するか、遠方の浄化システム例えば液体をリソグラフィ装置に、さらに他のユーザに供給する超純水ユースポイントフィルタを使用して浄化することができる。特に、本実施形態の装置は、1つまたは複数の以下の問題の影響を回避するか、軽減することができる。-要素/基板の表面上で乾燥するか、そこから蒸発する浸漬液によって引き起こされる光学要素および/または基板上の水染み。-有機種による投影システム外部要素の汚染。-焦点面またはその近傍における粒子または気泡によって生じる印刷の欠陥。-迷光などの光学的欠陥。-浸漬液中の物質例えば塩基との反応によるレジストへの損傷、および不純物の付着によるレジスト表面の汚染。本発明は、浸漬リソグラフィ投影装置の投影システムの最終要素と描像される基板との間の空間で使用する浸漬液も提供し、前記浸漬液は以下の特性aからfのうち1つまたは複数、好ましくは全てを有する。a0.055マイクロシーメンス/cmから0.5マイクロシーメンス/cmの導電性b5から8、好ましくは6から8のpHc5ppb以下、好ましくは1ppb以下の有機化合物含有率d浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子2個以内、好ましくは浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子0.5個以内の粒子含有率e15ppb以下、好ましくは5ppb以下の溶解酸素濃度f500ppt以下、好ましくは100ppt以下のシリカ含有率このような浸漬液は、水の汚染を防止し、上記のパラグラフで言及した問題を防止するか、軽減するのに役立つ。本発明のさらなる態様によると、デバイス製造方法で、-少なくとも部分的に放射線感光材料の層で覆われた基板を提供するステップと、-放射線システムを使用して、放射線の投影ビームを提供するステップと、-投影ビームの断面にパターンを与えるために、パターン形成手段を使用するステップと、-放射線感光材料の層の目標部分にパターン形成した放射線のビームを投影するステップと、-浸漬液を提供して、前記投影ステップで使用した投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を部分的に充填するステップとを有し、前記リソグラフィ投影装置に未処理水を提供し、前記浸漬液提供ステップの直前に水を浄化するために、液体浄化装置を使用して前記未処理水を浄化することを特徴とし、または、前記浸漬液提供ステップの前に、紫外線光で前記浸漬液を照射することを特徴とし、または、前記浸漬液が、浸漬液ソースから可視光に対して不透過性である導管を介して前記空間に提供されることを特徴とし、または、前記浸漬液提供ステップの前に、少なくとも1つの生物成長阻害薬品を前記浸漬液に添加することを特徴とし、または、前記浸漬液が、以下の特性aからfのうち1つまたは複数、好ましくは全てを有する、つまり、a0.055マイクロシーメンス/cmから0.5マイクロシーメンス/cmの導電性、b5から8、好ましくは6から8のpH、c5ppb以下、好ましくは1ppb以下の有機化合物含有率、d浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子2個以内、好ましくは浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子0.5個以内の粒子含有率、e15ppb以下、好ましくは5ppb以下の溶解酸素濃度、およびf500ppt以下、好ましくは100ppt以下のシリカ含有率を有する水または水溶液であることを特徴とするデバイス製造方法が提供される。本発明による装置の使用法に関して、本文ではICの製造において詳細なる参照説明を行うものであるが、こうした装置が他の多くの用途においても使用可能であることは明確に理解されるべきである。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用ガイダンスおよび検出パターン、液晶ディスプレイパネル、薄膜磁気ヘッド等の製造に使用され得る。こうした代替的な用途においては、本文にて使用したレチクル、ウェハ、ダイといった用語は、それぞれマスク、基板、目標部分といった、より一般的な用語に置き換えて使用され得ることは当業者にとって明らかである。本明細書では、放射線およびビームという用語は、紫外線放射線例えば、365nm、248nm、193nm、157nm、あるいは126nmの波長を有するを含むあらゆるタイプの電磁放射線を網羅するものとして使用される。本発明の実施形態を添付の略図を参照に、例示の方法においてのみ説明する。図面では、対応する参照記号は対応する部品を示す。図1は、本発明の独自の実施形態に基づくリソグラフィ投影装置を概略的に示したものである。この装置は、-この特別なケースでは放射線ソースLAも有する、放射線の投影ビームPB例えばDUV放射線を供給する放射線ソースEx、ILと、-マスクMA例えばレクチルを保持するマスクホルダを有し、かつ、品目PLに対して正確にマスクの位置決めを行う第一位置決め手段PMに連結を行った第一オブジェクトテーブルマスクテーブルMTと、-基板W例えばレジスト塗布したシリコンウェハを保持する基板ホルダ2を有し、かつ、品目PLに対して正確に基板の位置決めを行う第二位置決め手段PWに連結を行った第二オブジェクトテーブル基板テーブルWTと、-マスクMAの照射部分を、基板Wの目標部分C例えば、1つあるいはそれ以上のダイから成るに描像する投影システムレンズPLとにより構成されている。ここで示しているように、本装置は透過タイプであるすなわち透過マスクを有する。しかし、一般的には、例えば反射マスクを有する反射タイプのものも可能である。あるいは、本装置は、上記に関連するタイプであるプログラマブルミラーアレイといったような、他の種類のパターン形成手段も使用可能である。ソースLA例えばエキシマレーザソースは放射線のビームを作り出す。このビームは、直接的に、あるいは、例えばビームエキスパンダExといったような調整手段を横断した後に、照明システム照明装置ILに供給される。照明装置ILは、ビームにおける強度分布の外部および/あるいは内部放射範囲一般的にそれぞれ、σ-outerおよびσ-innerと呼ばれるを設定する調整手段AMを含む。さらに、これは一般的に積分器INおよびコンデンサCOといったような、他のさまざまな構成要素を有する。このようにして、マスクMAに照射するビームPBは、その断面に亘り所望する均一性と強度分布とを有する。図1に関して、ソースLAはリソグラフィ投影装置のハウジング内にあるこれは例えばソースLAが水銀ランプである場合に多いが、リソグラフィ投影装置から離して配置することも可能であることを注記する。この場合、ソースLAが作り出す放射線ビームは例えば適切な誘導ミラーにより装置内に導かれる。この後者のシナリオでは、ソースLAがエキシマレーザである場合が多い。本発明および請求の範囲はこれら両方のシナリオを網羅するものである。続いてビームPBはマスクテーブルMT上に保持されているマスクMAに入射する。ビームPBはマスクMAを横断して、基板Wの目標部分C上にビームPBの焦点を合わせるレンズPLを通過する。第二位置決め手段PWおよび干渉計測手段IFの助けにより、基板テーブルWTは、例えばビームPBの経路における異なる目標部分Cに位置を合わせるために正確に運動可能である。同様に、第一位置決め手段PMは、例えばマスクライブラリからマスクMAを機械的に検索した後に、あるいは走査運動の間に、ビームPBの経路に対してマスクMAを正確に位置決めするように使用可能である。一般的に、オブジェクトテーブルMT、WTの運動はロングストロークモジュール粗動位置決めおよびショートストロークモジュール微動位置決めにて行われる。これについては図1に明示を行っていない。しかし、ウェハステッパの場合走査ステップ式装置とは対照的に、マスクテーブルMTはショートストロークアクチュエータに連結されるだけであるか、あるいは固定される。ここに表した装置は2つの異なるモードにて使用可能である。1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTは基本的に静止状態に保たれている。そして、マスクの像全体が1回の作動すなわち1回のフラッシュで目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがx方向および/あるいはy方向にシフトされ、異なる目標部分CがビームPBにより照射され得る。2.走査モードにおいては、基本的に同一シナリオが適用されるが、但し、ここでは、所定の目標部分Cは1回のフラッシュでは露光されない。代わって、マスクテーブルMTが、速度vにて所定方向いわゆる走査方向、例えばy方向に運動可能であり、それによってビームPBがマスクの像を走査する。これと同時に、基板テーブルWTが速度V=Mvで、同一方向あるいは反対方向に運動する。ここで、MはレンズPLの倍率一般的にM=1/4あるいは1/5である。このように、解像度を妥協することなく、比較的大きな目標部分Cを露光することが可能となる。図4は、投影システムPLと基板ステージWT上に配置された基板Wとの間の液体リザーバ10を示す。液体リザーバ10は、比較的高い屈折率を有し、入口/出口ダクト13を介して供給された液体11で充填される。液体は、本説明のように水でよいが、任意の適切な液体にすることが可能である。液体は、投影ビームの放射線が空中または真空中より液体中の方で短い波長を有し、より小さい形態を解像できるという効果を有する。投影システムの解像度限界は、特に投影ビームの波長およびシステムの開口数によって決定されることがよく知られている。液体の存在は、有効開口数を増加させると見なすこともできる。さらに、開口数を固定した状態で、液体は焦点深さを増加させるのに効果的である。リザーバ10は、液体が、投影システムPLに面する基板の1次表面と、投影システムPLの最終光学要素との間の空間を充填するため封じ込められるよう、投影レンズPLの鏡像力場imagefieldの周囲に基板Wに対する好ましくは非接触式のシールを形成する。リザーバは、投影レンズPLの最終要素の下に配置され、これを囲むシール部材12によって形成される。したがって、液体封じ込めシステムLCSが、基板の局所化された区域にのみ液体を供給する。シール部材12は、投影システムの最終要素とセンサ10または基板Wとの間の空間を液体で充填するため、液体封じ込めシステムLCSの一部を形成する。この液体は、投影レンズの下で、シール部材12内の空間に運ばれる。シール部材12は、投影レンズの底部要素よりわずかに上まで延在し、液体は、液体のバッファが提供されるよう、最終要素の上まで上昇する。シール部材12は、上端で投影システムまたはその最終要素の形状に非常に一致する内周を有し、例えば円形でよい。底部では、内周は、像フィールドの形状、例えば長方形に非常に一致する開口を形成するが、そうである必要はない。投影ビームは、この開口を通過する。液体11は、シール装置16によってリザーバ10内に封じ込められる。図4で示すように、シール装置は非接触シール、つまり気体シールである。気体シールは、空気または合成空気などの気体によって形成され、加圧下で入口15を介してシール部材12と基板Wとの間のギャップに供給され、第一出口14から抽出される。液体11を封じ込める装置の光軸に向かって高速の空気が内部へと流れるよう、気体入口15への過圧、第一出口14の真空レベル、およびギャップの幾何学的形状が構成される。いかなるシールも同様であるが、例えば第一出口14上などで多少の液体が逃げる可能性が高い。図2および図3も、入口IN、出口OUT、基板Wおよび投影レンズPLの最終要素によって確定された液体リザーバを示す。図4の液体封じ込めシステムと同様に、図2および図3に示す液体封じ込めシステムは、入口INおよび出口OUTを有し、投影システムの最終要素と基板の1次表面の局所化した区域との間の空間に液体を供給する。図2、図3および図4の液体封じ込めシステムLCS、さらに基板Wまたは基板テーブルWT全体を浸漬する槽などの他の解決法の両方を、図5に示す本発明の液体供給システムとともに使用することができる。図5は、液体供給システム100をさらに詳細に示す。液体封じ込めシステムLCSは、例えば上述したような任意の種類の封じ込めシステムでよい。液体供給システム100は、リソグラフィ投影装置の一部を形成する。液体供給システム100は、例えば水道本管などの標準的な水源80を浸漬液ソースとして使用できるよう設計される。しかし、他の液体も使用してよく、その場合は、以下で述べるような再循環を使用する可能性が高くなり、浄化がさらに重要になる。水道本管の水は、浸漬液として適切にするため、事前に液体浄化装置で処理する必要がある。他の浸漬液も、特に再循環させる場合は、使用中に汚染が発生することがあるので、このような処理が必要である。好ましい実施形態では、浄化装置は、蒸留ユニット120および/または脱塩装置130および/または液体の炭化水素含有率を低下させるユニット140および/またはフィルタ150でよい。脱塩装置130は、逆浸透ユニット、イオン交換ユニットまたは電気脱イオン化ユニット、またはこれらユニットの2つ以上の組合せなど、任意の種類でよい。脱塩装置は通常、水または水溶液中のイオン成分の含有率を低下させ、したがって水の導電性が0.055マイクロシーメンス/cmと0.5マイクロシーメンス/cmの間である。脱塩装置は、シリカ含有率も500ppt以下、好ましくは100ppt以下に減少させる。液体の炭化水素含有率を低下させるユニット140は、炭化水素例えば木炭またはポリマ材料を吸収するタイプであるか、UV光源とイオン交換器の組合せである。このユニット140は通常、水または水溶液中の有機化合物の含有率を5ppb以下、例えば3ppb以下または2ppb以下、好ましくは1ppb以下、さらに好ましくは0.5ppb以下まで低下させる。脱塩装置130は、いかなる場合でも多少の炭化水素を除去する。フィルタ150は通常、浸漬液の粒子含有率を、粒子2個/ml以下、好ましくは粒子1個/ml以下、より好ましくは粒子0.5個/ml以下まで低下させ、粒子は、少なくとも1つの寸法が50nm以上である粒子と定義される。好ましい実施形態では、フィルタ150は、液体供給システムの1つまたは複数の他の構成要素から動的に隔離される。通常、フィルタは、液体供給システムの機械的衝撃を引き起こすような構成要素から隔離される。フィルタ150は、例えばフィルタの下流にある任意のホースおよび構成要素とともに、システム内の機械的衝撃および/または振動を引き起こす構成要素、例えばモータ、切り換え弁、可動部品および乱流気流から動的に隔離される。液体は、液体封じ込めシステムLCSに入る前に、気体含有率低下手段160を通過することが好ましい。気体含有率が低下すると、気泡が形成する可能性が低下し、したがって気体含有率低下手段は、気泡低下手段として作用する。気体含有率低下手段160は通常、浸漬液の溶解酸素含有率を15ppb以下、好ましくは10ppb以下、または5ppb以下に低下させる。気体含有率低下手段160は、参照により全体が本明細書に組み込まれる欧州特許出願第03253694.8号に記載されているように、超音波を使用するか、超音波キャビテーションおよび気泡と壁との衝突を引き起こし、小さい粒子が壁から離れて制動され、液体を汚染することがあるの欠点の一部を防止するメガ音波約1MHzを使用して同様の原理で働く。例えば上述した欧州特許出願に記載されたような他の気体含有率低下手段、さらには場合によっては真空と組み合わせた薄膜の使用、またはヘリウムなどの低溶解性気体での液体のパージも可能である。薄膜は、マイクロエレクトロニクス、製薬およびパワー用途などの分野で、液体から気体を除去するために既に使用されている。液体は、半多孔性薄膜チューブの束を通して給送される。薄膜の細孔は、液体は通過できるが、除去すべき気体は通過できないようなサイズである。このように、液体を脱気する。プロセスは、チューブの外側に低圧を加えることによって加速することができる。CelgardInc.の一部門であるMembrana-CharlotteCarlotte,NorthCarolina,USAから入手可能なLiqui-Cel登録商標MembranaContractorsが、これに適している。低溶解性気体でのパージは、気泡が往復ポンプヘッドに捕捉されるのを防止するために、高性能液体クロマトグラフィHPLCに適用される既知の技術である。液体を通して低溶解性気体をパージすると、これは二酸化炭素および酸素などの他の気体を追い出す。液体封じ込めシステムLCSで使用した後、浸漬液は排水路200を通して処分することができる。あるいは、液体封じ込めシステムLCSで既に使用した浸漬液またはその一部を再循環させて、液体浄化装置の全構成要素または一部の構成要素を通過した状態、または通過しない状態で、再び導管115を介して液体封じ込めシステムを通過することができる。液体浄化装置は、他の構成要素で構成してもよく、蒸留ユニット120、脱塩装置130、ユニット140およびフィルタ150は、任意の順序で配置してよい。まだ液体封じ込めシステムLCSを通過していない浸漬液の再循環も想定される。例えば、液体は、1つまたは複数の構成要素を通過した後に液体浄化装置から抽出し、導管115を介して再循環させて、さらに蒸留の位置で再び液体浄化装置に入れることができる。この方法で、浸漬液は、液体封じ込めシステムに入る前に、液体浄化装置の少なくとも1つの構成要素を複数回通過する。この実施形態は、改善された浸漬液の浄化を達成できるという利点を有する。液体封じ込めシステムを通過する前、または後に浸漬液を再循環させると、出口200を通る流れがなくても、浸漬液が常に流れ続けることも可能になる。これは、システム内に停滞水が存在することを防止し、これは例えば構造材料からの浸出などにより、停滞水が汚染しやすいので有利である。図5では、浸漬液を再循環させ、液体封じ込めシステムLCS内で液体を循環させるために使用する液体ポンプが図示されていない。図5の液体供給システム100は、浸漬液中の生物の成長を低下させるか、成長させないよう意図された幾つかの措置も有する。水道本管80内でのこのような生物のレベルが非常に低くても、液体供給システム100の汚染につながることが判明している。このような生物には、藻類、細菌類および菌類がある。図5に図示されたこのような生物の成長を低下させるために、3つの主な方法がある。このような方法は個々に、または任意の組合せで使用できることが理解される。最初の方法は、藻類および他の緑色植物に効果的であり、例えば液体供給システム100内で水を運搬する導管110、115が、可視光に対して非透明である材料で製造されることを保証することにより、液体が可視光で照射されないことを保証する。あるいは、液体供給システム100全体、または装置全体さえ、可視光に対して透明ではない容器またはエンクロージャ室など180に収容することができる。あるいは、導管110を、可視光を透過しない材料の外装で覆うことができる。この方法で、水中の有機体が光合成できず、したがって成長または増加することができない。適切な可視光非透過性材料は、ステンレス鋼、ポリマなどである。図5は、浸漬液の照明に使用する紫外線ソース145の使用も示す。UVソース145は、基板Wの描像に使用する投影ビームPBとは別個の照明システムになるよう、液体が液体封じ込めシステムLCSを通過する前に、その照明に使用される。UVソース145は、液体供給システム100内で液体封じ込めシステムLCSより上流のいずれかの箇所に配置してよい。UVソースが生物を殺し、これは次に粒子フィルタ、例えばフィルタ150によって液体から除去される。フィルタの適切な細孔サイズは0.03μmから2.0μmであるが、例えば0.1μmから2.0μmなど、他のサイズも使用することができる。有機体がリソグラフィ投影装置に及ぼす影響を低下させるさらなる方法は、生物成長阻害薬品を浸漬液図5で図示の場合は水に添加することである。これは、液体供給システムの他の構成要素120、130、140、145、150、160のいずれかの下流または上流に配置できる生物成長阻害薬品添加手段147を使用して達成される。典型的な薬品は、ハロゲン含有化合物大部分は塩素または臭素系、アルコール、アルデヒド、オゾンおよび重金属である。このような薬品の投与レベルは、浸漬液の純度要件に確実に適合するよう、非常に低いことが好ましい。本発明の一実施形態では、浸漬液純度要件に適合するために、生物成長阻害薬品を使用しないことが好ましい。言うまでもなく、添加手段147は、界面活性剤および湿潤剤など、他の薬品を浸漬液に添加することもできる。図5の実施形態は、浸漬液を最初に蒸留し、次に脱塩してから、炭化水素を除去し、UVで照射してから、濾過し、最後に脱気つまり気泡除去する状態で図示されているが、これは任意の順序で実行してよい。さらに、薬品は、液体封じ込めシステムLCSの上流の任意の段階で水に添加し、再循環水を液体封じ込めシステムLCSの上流の任意の段階で添加することができる。再循環水を添加する箇所は、純度によって決定される。図5に示した例で、実線は、再循環水が添加手段147、蒸留ユニット120、脱塩装置130、ユニット140、UVソース145、フィルタ150および気体含有率低下手段160の下流に添加させることを示す。点線は、再循環液を添加する代替位置を示す。再循環液は、少なくともフィルタ150の上流に添加することが好ましい。本発明の一実施形態では、液体浄化装置が、水または水溶液である浸漬液を浄化し、したがって、浸漬液は、上述の特性aからfまでの1つまたは複数、好ましくは全てを有する。本発明の好ましい実施形態では、浸漬液は、以下の特性aからfの1つまたは複数、好ましくは全てを有する。つまり、a0.055マイクロシーメンス/cmから0.5マイクロシーメンス/cmの導電性、b6から8のpH、c1ppb以下の有機化合物含有率、d浸漬液1ml当たり50nm以上の寸法を有する粒子0.5個以内の粒子含有率、e5ppb以下の溶解酸素濃度、およびf100ppt以下のシリカ含有率である。浸漬液の導電性は、通常、0.055マイクロシーメンス/cmから0.5マイクロシーメンス/cmになるよう、脱塩装置、例えばイオン交換ユニットまたは電気脱イオン化ユニットを使用して制御する。好ましい実施形態では、導電性は0.3マイクロシーメンス/cm以下、例えば0.1マイクロシーメンス/cm以下である。脱塩装置は、浸漬液中のシリカ含有率の制御にも使用することができる。好ましいシリカ含有率は500ppt以下、例えば200ppt以下、100ppt以下、90ppt以下、または80ppt以下にもなる。浸漬液のpHは、任意の適切な手段で制御することができる。通常、上述した実施形態による液体浄化装置を使用して浄化した水道本管の水を使用する場合、pHは、5から8の好ましい範囲、6から8のさらに好ましい範囲に入る。添加剤を浸漬液に入れる場合、このような添加剤の量は、浸漬液のpHが5と8の間にとどまるよう制御しなければならない。あるいは、所望のpHは、適切な緩衝剤を添加することによって達成することができる。phは、水または水溶液のpHを変更する成分の存在を制限することにより制御することが好ましい。これは、例えば緩衝剤などの添加より好ましい。緩衝剤が存在すると、浸漬液の純度に他の方法で影響を及ぼすからである。浸漬液中の有機化合物の濃度は、通常、炭化水素含有率を低下させるためにユニット140によって制御される。同様に、浸漬液中に存在する粒子の数は、フィルタを使用して制御することができる。浸漬液の粒子含有率は、リソグラフィプロセスにおける形態の最小サイズより大きいサイズを有する粒子の含有率である。したがって、粒子含有率は、少なくとも1つの寸法が50nm以上である粒子の含有率である。浸漬液の酸素含有率は、通常、上述したような気体含有率低下手段を使用して制御する。酸素含有率は、15ppb以下、例えば10ppb以下、7ppb以下、5ppb以下、4ppb以下、または3ppb以下までも低下することが好ましい。液体供給システム100は、任意選択で測定手段図5には図示せずを有し、これは浸漬液の特性aからfのうち1つまたは複数を測定するために使用することができる。このような測定手段は、例えば液体供給システムの構成要素120、130、140、145、150および160のうち少なくとも1つ、好ましくは全ての下流に配置することができる。オフライン測定手段も使用することができ、ここで水のサンプルを液体供給システムの適切なサンプリングポイントから抽出し、オフライン測定手段に供給する。測定手段は、一実施形態では、導電性を測定する手段、pHセンサ、TOC分析器、粒子カウンタ、酸素センサおよび合計シリカ測定器具から選択した1つまたは複数の測定手段を有する。気泡測定手段も使用することができる。特性aからfのそれぞれを測定する適切な技術は、当業者によく知られている。以上、本発明の実施形態を詳細に説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。本説明は本発明を制限する意図ではない。"