基板上のインプリント可能な媒体のインプリントリソグラフィで使用するインプリントテンプレートのパターン形成された表面を検査する方法であって、前記インプリント可能な媒体又は前記インプリントテンプレートは、付着防止化合物を含み、前記方法は、前記パターン形成された表面上に存在するインプリント可能な媒体の欠陥微粒子の蛍光が誘発されて第2の波長の放射を生成するように、前記パターン形成された表面を第1の波長の放射で照明するステップと、前記第2の波長の放射を、前記パターン形成された表面上のインプリント可能な媒体の欠陥微粒子の存在の標識として使用するステップと、を含み、前記第1の波長の放射は、前記インプリント可能な媒体からの前記第2の波長の放射の蛍光を誘発し、前記付着防止化合物からの前記第2の波長の放射の蛍光を実質的に誘発しない、方法。前記第1の波長の放射は、前記付着防止化合物からの放射の蛍光を実質的に誘発しない、請求項1に記載の方法。前記第2の波長の放射を検出器で検出するステップと、前記検出器で検出された前記第2の波長の放射の量がしきい値を超えたときに前記パターン形成された表面の洗浄を開始するプロセッサへ信号を送信するステップと、を含む、請求項1又は2に記載の方法。前記検出器と前記パターン形成された表面との間に、前記検出器への前記第2の波長の放射の通過を許可し、前記検出器への前記第1の波長の放射の通過を阻止するフィルタが配置される、請求項3に記載の方法。前記付着防止化合物は、蛍光脂肪族ポリマーエステルを含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。前記第1の波長は、425nm以上である、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。前記インプリント可能な媒体は、UV硬化性モノマー及び開始剤化合物を含む、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。前記UV硬化性モノマーは、硬化すると、前記第1の波長で照明されたときに前記第2の波長の放射を発する蛍光を示す、請求項7に記載の方法。前記UV硬化性モノマーは、アクリロイル基を含む、請求項7又は8に記載の方法。前記開始剤化合物は、前記第1の波長の放射で照明されたときに前記第2の波長の放射の蛍光を示す、請求項7~9のいずれか一項に記載の方法。前記インプリント可能な媒体は、前記第1の波長の放射で励起されたときに前記第2の波長の放射の蛍光を発する染料を含む、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。基板上のインプリント可能な媒体のインプリントリソグラフィのためのインプリントテンプレートのパターン形成された表面上のインプリント可能な媒体の欠陥微粒子を検出する方法であって、前記インプリント可能な媒体又は前記インプリントテンプレートは、付着防止化合物を含み、前記方法は、欠陥微粒子の蛍光を誘発し、付着防止化合物の蛍光を誘発しないように選択された第1の波長の放射で前記パターン形成された表面を照明するステップを含み、欠陥微粒子の存在が前記パターン形成された表面からの蛍光によって示される、方法。インプリントリソグラフィテンプレート検査装置であって、インプリントテンプレートのパターン形成された表面を照明する第1の波長の放射の出力と、前記パターン形成された表面から放出された第2の波長の放射の強度を検出する検出器を備える検出器アセンブリと、前記第2の波長の放射の強度がしきい値を超えたときに前記パターン形成された表面の洗浄を開始するプロセッサであって、前記第1の波長が425nm以上で、前記第2の波長が第1の波長よりも大きい、プロセッサと、を備える、装置。前記第1の波長の放射源をさらに備える、請求項13に記載の装置。請求項13又は14に記載の前記インプリントリソグラフィテンプレート検査装置を備える、インプリントリソグラフィ装置。0013したがって、デバイス製造のためのインプリントリソグラフィで使用するインプリントテンプレートのパターン形成された表面上の欠陥微粒子を検出する際に使用する方法及び装置を提供する必要がある。この方法及び装置は、実質的にその組成を変更することなく、UV硬化性フォトレジストなどの従来のインプリント可能な媒体に有効であることが望ましい。この方法及び装置は、処理速度が大幅に低減されないように実質的に非侵襲的で非接触であることが望ましい。0014例えば、当技術分野の検査方法及び装置に関連付けられた1つ以上の問題を低減又は解消するデバイス製造のためのインプリントリソグラフィで使用するインプリントテンプレートのパターン形成された表面上の欠陥微粒子を検出する方法及び装置を提供することが望ましい。例えば、付着防止化合物が欠陥微粒子の検出に実質的に干渉しない方法及び装置を提供することが望ましい。0015本発明の一態様によれば、基板上のインプリント可能な媒体のインプリントリソグラフィで使用するインプリントテンプレートのパターン形成された表面を検査する方法であって、インプリント可能な媒体又はインプリントテンプレートは付着防止化合物を含み、上記方法は、パターン形成された表面上に存在するインプリント可能な媒体の欠陥微粒子の蛍光が誘発されて第2の波長の放射を生成するように、パターン形成された表面を第1の波長の放射で照明するステップと、第2の波長の放射を、パターン形成された表面上のインプリント可能な媒体の欠陥微粒子の存在の標識として使用するステップと、を含み、第1の波長の放射は、インプリント可能な媒体からの第2の波長の放射の蛍光を誘発し、付着防止化合物からの第2の波長の放射の蛍光を実質的に誘発しない、方法が提供される。0016インプリント可能な媒体は、パターン形成された表面の凹部内に流入でき、パターン形成された表面上の突起によって脇へ押し退けられる任意の適切な媒体であってもよい。凹部は、インプリントテンプレートのパターン形成された表面のパターンフィーチャを画定する。通常、インプリント可能な媒体は、パターン形成された表面とインプリント可能な媒体とが合体する際に流動可能である。インプリント可能な媒体は、インプリントテンプレートのパターン形成された表面とパターン形成されたインプリント可能な媒体とが分離する前に、硬化状態とも呼ばれる非流動可能又は凝固状態に置くことができる。これは、例えば、UV放射などの硬化用化学線でインプリント可能な媒体を硬化させることで達成できる。インプリント可能な媒体は通常、パターン形成される基板表面上の例えば、インクジェット印刷によって堆積した液滴から形成される。0017基板は、半導体基板などの、その表面でのデバイス製造のためのインプリントリソグラフィが有用である任意の基板であってもよい。0018化合物又は分子に適用される蛍光の又は同様の用語は、第1の波長の放射によって励起されたときに第2の波長の放射を発することを意味する。0019ある実施形態では、第1の波長は、非硬化インプリント可能な媒体のリソグラフィ装置内の他の部分での意図しない硬化を回避するために、インプリント可能な媒体のあらゆる硬化に使用するUV放射などの任意の硬化用化学線よりも十分に長い波長を有していなければならない。0020ある実施形態では、第1の波長の放射は、付着防止化合物からの放射の蛍光を実質的に誘発しない。例えば、そこからのいかなる波長の放射の蛍光も誘発しない。0021本明細書で使用する波長という用語は、1つの波長だけでなくある範囲の波長を意味するために使用できる。0022ある実施形態では、この方法は、検出された第2の波長の放射の量がしきい値を超えたときにパターン形成された表面の洗浄を開始するように構成されたプロセッサへ信号を送信するように構成された検出器で、第2の波長の放射を検出するステップを含んでもよい。例えば、検出器として電荷結合素子CCD又は増倍型光電管を使用できる。0023第2の波長の放射は、インプリントテンプレートのパターン形成された表面上に直接照射でき、又はインプリントテンプレートを通過してパターン形成された表面の内部表面に到達することもできる。0024第2の波長の放出された放射は、パターン形成された表面からの直接の収集用に配置されたか又はパターン形成された表面の内部表面からインプリントテンプレートを通過する放射を収集するように構成された検出器によって収集されてもよい。0025そのような構成によって、インプリントテンプレートは、第1及び第2の波長の放射を実質的に透過するか又は半透過する物質から成っていてもよい。0026検出器は、第1の波長ではなく第2の波長の検出された放射の強度を測定するように構成してもよい。検出器とパターン形成された表面との間に、検出器への第2の波長の放射の通過を許可し、第1の波長の放射の通過を阻止するように構成されたフィルタを配置してもよい。0027ある実施形態では、付着防止化合物は、FC44323M社製などの蛍光脂肪族ポリマーエステルである。第1の波長は、425nm以上であってもよい。0028インプリント可能な媒体は、UV硬化性モノマー及び開始剤化合物を含んでもよい。言い換えれば、インプリント可能な媒体は、UV硬化性インプリント可能な媒体であってもよい。開始剤化合物は、UV放射に照明されたときに、UV硬化性モノマーの重合化を開始する遊離ラジカルを生成すると考えられている。0029UV硬化性インプリント可能な媒体は、硬化すると、第1の波長の放射で照明されたときに第2の波長の放射を発する蛍光を適切に示す。例えば、適切なUV硬化性インプリント可能な媒体は、アクリレート基置換アクリレート基を含むなどのアクリロイル基置換アクリロイル基を含む又はビニルエーテル基を含む。0030ある実施形態では、開始剤化合物は、第1の波長の放射で照明されたときに第2の波長の放射の蛍光を発する開始剤化合物の群から選択される。0031ある実施形態では、インプリント可能な媒体は、第1の波長の放射で励起されたときに第2の波長の放射の蛍光を発するように構成された染料を含んでもよい。0032言い換えれば、基板上のインプリント可能な媒体のインプリントリソグラフィのためのインプリントテンプレートのパターン形成された表面上のインプリント可能な媒体の欠陥微粒子を検出する方法であって、インプリント可能な媒体又はインプリントテンプレートが付着防止化合物を含み、上記方法は、欠陥微粒子の蛍光を誘発し、付着防止化合物の蛍光を誘発しないように選択された第1の波長の放射でパターン形成された表面を照明するステップを含み、欠陥微粒子の存在がパターン形成された表面からの蛍光によって示される方法が提供される。0033本発明の一態様によれば、インプリントリソグラフィテンプレート検査装置であって、インプリントテンプレートのパターン形成された表面を照明するように構成された第1の波長の放射源と、パターン形成された表面から放出された第2の波長の放射の強度を検出するように構成された検出器を備える検出器アセンブリと、第2の波長の放射の強度がしきい値を超えたときにパターン形成された表面の洗浄を開始するように構成されたプロセッサであって、第1の波長が425nm以上で、第2の波長が第1の波長よりも大きい、プロセッサと、を備える装置が提供される。0034本発明の一態様によれば、上記のインプリントリソグラフィテンプレート検査装置を備えるインプリントリソグラフィ装置が提供される。0035本発明の任意の態様について本明細書に記載するオプションの特徴は、本明細書に記載する本発明の任意の他の態様に、適宜、個別に又は組み合わせて適用可能である。0039インプリントリソグラフィの方法の例を図1a~図1bに概略的に示す。0040図1aは、いわゆるホットインプリントリソグラフィ又はホットエンボスの一例を示す。典型的なホットインプリントプロセスでは、テンプレート2が、基板6の表面に提供された熱硬化性又は熱可塑性のインプリント可能な媒体4内にインプリントされる。インプリント可能な媒体4は、例えば樹脂であってもよい。樹脂は、例えばスピンコーティングし、基板表面に、又は図示の例のように、基板6の平坦化及び転写層8に焼成してもよい。熱硬化性ポリマー樹脂を使用する場合、樹脂は、テンプレートに接触すると、テンプレート上に形成されたパターンフィーチャ内に流入する程度に十分に流動可能な状態になるような温度に加熱される。次に、樹脂の温度は、上昇して樹脂を熱硬化架橋結合させ、樹脂は固体化し所望のパターンを不可逆的に採用する。次に、テンプレート2を除去してパターン形成された樹脂を冷却することができる。熱可塑性ポリマー樹脂の層を使用するホットインプリントリソグラフィでは、熱可塑性樹脂が加熱されてテンプレート2によるインプリントの直前に自由に流動可能な状態になる。場合によって、熱可塑性樹脂を樹脂のガラス転移温度より大幅に高い温度まで上昇させる必要がある。テンプレートは流動性樹脂に押し付けられ、次に流動性樹脂はガラス転移温度より下の温度まで冷却され、その間、テンプレート2が所定位置でパターンを硬化させる。その後、テンプレート2は除去される。パターンは、インプリント可能な媒体の残りの層から浮き彫りになったフィーチャからなり、次に、残りの層は、適切なエッチングプロセスによって除去され、パターンフィーチャだけが後に残される。ホットインプリントリソグラフィプロセスで使用される熱可塑性ポリマー樹脂の例は、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリベンジルメタクリレート、又はポリシクロヘキシルメタクリレートである。ホットインプリントの詳細情報については、例えば、米国特許第4731155号及び米国特許第5772905号を参照されたい。0041図1bは、紫外線UV放射を透過する透明な又は半透明のテンプレートとインプリント可能な媒体としてのUV硬化性液体本明細書ではUVという用語が便宜上使用されているが、インプリント可能な媒体を硬化させる任意の適切な化学線放射を含むものと解釈すべきであるの使用を含むUVインプリントリソグラフィの一例を示す。UV硬化性液体は、多くの場合、ホットインプリントリソグラフィで使用される熱硬化性及び熱可塑性樹脂よりも粘性が低く、したがって、はるかに速く移動してテンプレートのパターンフィーチャを充填することができる。図1aのプロセスと同様の方法で石英インプリントテンプレート1が、UV硬化性インプリント可能な媒体3に当てられる。しかし、ホットインプリントの場合のような熱又は温度サイクリングを用いるのではなく、石英インプリントテンプレート1を通してインプリント可能な媒体3上に印加されるUV放射5でインプリント可能な媒体3を硬化させることでパターンは固化する。テンプレート1を除去した後で、インプリント可能な媒体3はエッチングされる。UVインプリントリソグラフィによって基板をパターン形成する特定の方法は、いわゆるステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィSFILである。ステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィは、従来、IC製造で使用されている光ステッパと類似の方法で基板を細かいステップでパターン形成するために使用することができる。UVインプリントの詳細情報については、例えば、米国特許出願公開第2004-0124566号、米国特許第6334960号、PCT特許出願公開WO02/067055号、及びMoldassistednanolithographyAprocessforreliablepatternreplication、JVacSciTechnolB14NovDec1996と題されたJHaisma氏の論文を参照されたい。0042上記インプリント技術の組合せも可能である。例えば、インプリント可能な媒体の加熱及びUV硬化の組合せを記述する米国特許出願公開第2005-0274693号を参照されたい。0043図2a及び図2bは、本発明のある実施形態による方法を実施するのに適切な本発明のある実施形態によるインプリントリソグラフィ検査装置の概略図を示す。0044例えば、レーザ又はレーザに接続された放射出力23例えば、放射源は、前のインプリントリソグラフィステップから発生したパターン形成された表面上又は表面内に残るインプリント可能な媒体27の欠陥微粒子を励起するために、リソグラフィインプリントテンプレートのパターン形成された表面22を波長L1の放射で照明するように構成されている。検出器24、例えば、電荷結合素子又は増倍型光電管は、パターン形成された表面の欠陥微粒子から蛍光を発する波長L2の放射を収集する位置にある。レンズ構成25を用いて波長L2の蛍光放射が収集され、フィルタ26が配置されて、表面から散乱又は反射する可能性がある波長L1の励起放射が検出器に到達するのを防止する。ある実施形態では、検出器は、表面から鏡面反射したL1の放射が検出器の捕捉経路を外すような位置にある。蛍光放射L2から発生する信号から励起放射L1から発生する信号を分離する別の手段は、時間ドメインである。例えば、ピコ秒オーダーのパルスを有するパルスレーザと、励起パルス間のみ測定を行うゲート付検出器と、を使用できる。通常、インプリント可能な媒体からの蛍光の総減衰率はナノ秒オーダーであるため、ゲーティングはその時間スケールで適切に実行される。0045インプリントテンプレートは、ロボットアーム30によってアクチュエータ29に動作可能に接続されたテンプレートホルダ31に保持され、したがって、テンプレートの位置は、アクチュエータを起動するコントローラ28によって制御できる。コントローラ28は、検出器24から信号を受信し、コンピュータプログラムによって指示することができる。0046この方法のある実施形態による検査は、通常、インプリントテンプレート20がインプリントされた媒体を提供されるいかなる基板からも離れた位置にある状態で、個々のインプリントステップの間に実行される。0047使用時に、検出器24がインプリントテンプレート20のパターン形成された表面22上のインプリント可能な媒体の1つ以上の欠陥微粒子の存在を示すのに十分な波長L2の放射を受光した場合、検出器24からコントローラ28へ送信される信号によってアクチュエータ29は、インプリントテンプレート20を欠陥微粒子が除去される洗浄ステーション図示せずへ移動させるように指示される。適切な洗浄技術は、洗浄流体、液体及び/又は気体、例えば酸素の印加、プラズマ洗浄、超音波洗浄、機械的なワイピング、フォイルを用いた洗浄、UV露光、高温の印加又はこれらの組合せを含むが、これらに限定されない。0048パターン形成された表面が洗浄された後で、コントローラ28は、アクチュエータ29に、インプリントテンプレート20を次のインプリントリソグラフィ動作を実行できる位置へ戻すように、指示する。PCT特許出願公開WO2005/026837号に開示されているようなカルーセルタイプの設定の場合、第1のテンプレートに対して検査及び/又は洗浄を実行する間、第2のテンプレートを第1のテンプレートに代えて、検査及び/又は洗浄中にインプリントリソグラフィを実質的に中断しないように進行させることができる。0049パターン形成された表面と固化したインプリント可能な媒体との付着のリスクを低減するための例えば、インプリント可能な媒体内の付着防止化合物の存在によって、付着防止化合物の少なくとも単一層などの分子層が例えば、インプリントリソグラフィがインプリントテンプレート20を用いて1回実行された後でパターン形成された表面22上に存在する。本発明のある実施形態の方法及び装置で、付着防止化合物の励起の結果として波長L2の又は任意の波長の蛍光が実質的に発生しないように励起波長L1が選択され、したがって、付着防止化合物の存在によって欠陥微粒子27の偽の表示が実行されず、その結果、パターン形成された表面22の不要な洗浄を指示することでプロセスを不要に遅延させることがない。0050例えば、UV硬化性レジスト内で、又はそれと共に使用される通常の付着防止化合物はFC44323M社製などの蛍光脂肪族ポリマーエステルである。これは、例えば、300~425nmの波長を有する放射で励起されたときに、蛍光を発する放射が400~600nmの範囲の波長にレッドシフトした蛍光を示す。化合物の励起の結果として蛍光が発光するこの波長領域を本明細書では励起帯と呼ぶ。励起スペクトルのピークは、約380nm蛍光を460nmで測定、蛍光強度のピークは約450nm励起が375nmである。付着防止化合物の量子効率すなわち、蛍光発光する光子の数/吸収される光子の数は、0.05程度である。0051インプリントリソグラフィのためのインプリント可能な媒体としての使用に適切なUV硬化性フォトレジスト内で使用される開始剤の場合、425nm未満の波長などの短い波長は一般に蛍光を誘発しない。これは、十分に高いエネルギーの光子で励起されると破裂して遊離ラジカルに変化できる開始剤の性質のためであると考えられる。425nmを超える波長の場合、光子エネルギーはラジカル形成を誘発するのには不十分で、その代わりに、蛍光は励起スペクトル内の約450nmのピークで誘発され発光は510nmで測定され、レッドシフトした蛍光の最大強度は435nmの励起で測定したIrgacure商標819の場合約475nmである。Irgacure商標819の励起帯は比較的狭い425nm~475nm。Irgacure商標819開始剤の量子効率は約0.5である。Irgacure商標369及びIrgacure商標184などのその他の開始剤の場合、それぞれ励起スペクトルの410nmと400nmでピークになったしかし、Irgacure商標819と比較して5~10倍も量子効率が低い。0052硬化アクリラートポリマーすなわち、アクリラートモノマーなどのアクリロイルモノマーから誘導された典型的なポリマーの場合、発光スペクトル内のピークは、500nmで励起されたときに約550nmである。硬化アクリラートの励起帯は広い575nm以下の波長である。0053したがって、付着防止化合物から誘発される蛍光の量がゼロ又は無視できるがインプリント可能な媒体例えば、開始剤及び/又は硬化インプリント可能な媒体から誘発される蛍光が欠陥微粒子の検出に十分な励起波長L1の選択によって、本発明のある実施形態を実行できる。言い換えれば、選択された励起波長L1は付着防止層分子の励起帯の範囲外にあり、インプリント可能な媒体例えば、開始剤及び/又は硬化インプリント媒体の励起帯の範囲内になければならない。0054例えば、付着防止化合物FC44323M社製の場合、この波長L1の値は425nm以上でなければならない。効率を向上させるために、開始剤化合物は、波長L1の放射で励起されるときに波長L2で蛍光を提供する開始剤化合物であるように選択してもよく、この追加の蛍光放射は存在する硬化ポリマーによって蛍光を発する放射を補足する。0055欠陥微粒子の存在はパターン形成された表面からの蛍光の存在によって示され、必要なときにのみ洗浄ステップを開始するために使用でき、不要な洗浄を解消し、各洗浄ステップが引き起こす可能性があるあらゆる損傷を最低限に低減することで処理を高速化する。付着防止化合物からの偽陽性の解消は低減又は解消される。0056本発明のある実施形態は、検出が必要なスポットで、すなわち、欠陥微粒子それ自体から微粒子を検出するのに必要な放射を生成するという点で、従来のインプリントリソグラフィ検査装置及び方法に対して利点を提供する。放射はインプリント可能な媒体内にすでに存在する成分例えば、インプリント可能な媒体のモノマー又はインプリント可能な媒体の開始剤化合物によって生成され、したがって、蛍光体を含む分子を故意に追加するなどの既知のインプリント可能な媒体の変更を必要としない。これは、インプリント可能な媒体の特性が変更されていないということを意味する。しかし、本発明の範囲は、例えば適切な染料の追加などによる、インプリント可能な媒体への蛍光体の故意の追加を除外しない。0057インプリントテンプレート20は、例えば、25×25mm又は26×32mmの寸法のパターン形成された表面22上でのインプリントリソグラフィのためのパターン形成された領域を有してもよく、又は何か別の適切な寸法を有するパターン形成された領域を有してもよい。0058パターン形成された表面22は、例えば、1つの集積回路の層を形成する1つのパターンを備えてもよい。あるいは、パターン形成された表面22は、例えば、各々が集積回路の層を形成する複数のパターンを備えてもよい。ある実施形態では、テンプレートは1回のインプリント中に基板全体の上にパターンをインプリントするのに十分な大きさであってもよい。0059上記の図示した実施形態はその性質が限定的ではなく、例示的であると考えるべきである。好ましい実施形態だけを図示し説明しており、特許請求の範囲に記載する本発明の範囲に入るすべての変更及び修正は望ましくは保護されることを理解されたい。0060図2aは本発明のある実施形態による特定の装置を示しているが、その他の装置も使用できる。例えば、検出器14を別の場所に配置することで装置を変更してもよい。例えば、検出器は、テンプレートが基板のインプリントに使用するテンプレートホルダによって保持されている間に検査できるように、インプリントが実行される場所に隣接して配置してもよい。0061ある実施形態では、放射源23、検出器24などは可動であり、検査とオプションの洗浄が完了した後でインプリントテンプレートから移動させてもよい。可動ステージを用いてこの移動を実行できる。そのような移動によって、例えば、UVインプリントリソグラフィを使用している場合にUV放射をインプリント可能な媒体上により容易に誘導できる。0062ある実施形態では、基板表面は、例えば、トップコート又はいわゆるBARC層底面反射防止コーティングで覆うことができる。インプリントテンプレートの表面及び/又は基板の表面は必ずしも完全に平坦でなくても、また平面状でなくてもよい例えば、テンプレート表面は、テンプレートの表面と基板の表面との間にインプリント媒体を強く保持する際の助けとしてわずかに凸面であってもよいことを理解されたい。0063本発明は、インプリントリソグラフィ装置及び方法に関する。この装置及び/又は方法は、電子デバイス及び集積回路などのデバイスの製造、又は集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッド、有機発光ダイオードの製造などのその他の用途に使用することができる。0064本明細書においては、基板という用語は、基板の一部を形成するか、又は平坦化層又は反射防止コーティング層のような他の基板上に提供される任意の表面層を含むことを意味する。0065本明細書では、ある成分に適用される備えるという用語は、その成分を含むが、必ずしも他の成分を除外しないということを意味する。1つ以上の成分に適用される基本的に~からなるという用語は、不純物以外のその他の成分、又は本発明の技術的効果に貢献しない重要でない成分が実質的に除外されるということを意味する。通常、これは、化学的組成の場合に、他の成分重量の5未満、通常は1未満が存在するということを意味する。疑問を回避するために、上記の意味に加えて、本明細書での備えるという用語の使用は、基本的に~からなるのより狭い意味も含む。0066上記実施形態では、1つのチャンバ内に1つのインプリントテンプレート、1つのインプリントテンプレートホルダ、1つの基板テーブル及び1つの基板が提供される。別の実施形態では、インプリントをより効率的又は迅速に例えば、並列に実行するために1つ以上のチャンバ内に2つ以上のインプリントテンプレート、2つ以上のインプリントテンプレートホルダ、2つ以上の基板テーブル及び/又は2つ以上の基板を提供してもよい。例えば、ある実施形態では、複数の例えば、2つ、3つ、又は4つの基板テーブルを含む装置が提供される。ある実施形態では、複数の例えば、2つ、3つ、4つ、5つ、6つ、7つ、又は8つ以上のインプリントテンプレートを含む装置が提供される。ある実施形態では、基板テーブルごとに1つのテンプレートホルダ構成を使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、基板テーブルごとに2つ以上のテンプレートホルダ構成を使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、複数の例えば2つ、3つ又は4つのインプリント可能な媒体ディスペンサを含む装置が提供される。ある実施形態では、基板テーブルごとに1つのインプリント可能な媒体ディスペンサを使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、インプリントテンプレート構成ごとに1つのインプリント可能な媒体ディスペンサを使用するように構成された装置が提供される。ある実施形態では、複数の基板テーブルを含む装置が提供され、基板テーブルは装置の複数の機能を共用してもよい。例えば、基板テーブルは、基板ハンドラ、基板カセット、ガス供給システム例えば、インプリント中にヘリウム環境を生成するための、インプリント可能な媒体ディスペンサ、及び/又は放射源インプリント可能な媒体を硬化させるためを共用してもよい。ある実施形態では、2つ以上の基板テーブル例えば、3つ又は4つのが装置の1つ以上の機能例えば、1つ、2つ、3つ、4つ、又は5つの機能を共用する。ある実施形態では、装置の1つ以上の例えば、1つ、2つ、3つ、4つ、又は5つの機能がすべての基板テーブル間で共用される。