互いに一定の距離を挟んで対向配置される第1の基板及び第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に液晶分子を封止して成る液晶層と、液晶層の液晶分子を一定方向に配列させる配向膜と、第1の基板側に形成される対向電極パターンと、第1の基板側に形成され、複数本の電極枝を有する画素電極パターンと、信号電位の書き込みタイミングを与える制御パルスが供給される走査線と、信号電位が供給される信号線、とを有し、画素電極パターンの複数本の電極枝の間に形成されるスリットの内、両端部分に形成されるスリットの少なくとも一方の延設方向と、残りのスリットの延設方向とは異なり、残りのスリットの延設方向は信号線又は走査線の延設方向と並行である液晶パネル。画素電極パターンの全てのスリットの幅が等しい請求項1に記載の液晶パネル。画素電極パターンの全ての電極枝の幅が等しい請求項1に記載の液晶パネル。互いに一定の距離を挟んで対向配置される第1の基板及び第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に液晶分子を封止して成る液晶層と、液晶層の液晶分子を一定方向に配列させる配向膜と、第1の基板側に形成される対向電極パターンと、第1の基板側に形成され、複数本の電極枝を有する画素電極パターンと、とを有し、複数本の電極枝の間に形成されるスリットの内、両端部分に形成されるスリットの少なくとも一方の延設方向と液晶分子の配向方向とがなす第1の交差角が7度以上であり、残りのスリットの延設方向と液晶分子の配向方向とがなす第2の交差角は第1の交差角と異なる液晶パネル。第1の交差角が、7度以上15度以下である請求項4に記載の液晶パネル。第1の交差角は、第2の交差角よりも大きい請求項4又は請求項5に記載の液晶パネル。第2の交差角は、第1の交差角よりも大きい請求項4又は請求項5に記載の液晶パネル。画素電極パターンと対向電極パターンは、同じ階層面に形成される請求項1乃至請求項7の何れか1項に記載の液晶パネル。画素電極パターンと対向電極パターンは、異なる階層面に形成される請求項1乃至請求項7の何れか1項に記載の液晶パネル。互いに一定の距離を挟んで対向配置される第1の基板及び第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に液晶分子を封止して成る液晶層と、液晶層の液晶分子を一定方向に配列させる配向膜と、第1の基板側に形成される対向電極パターンと、第1の基板側に形成され、複数本の電極枝を有する画素電極パターンと、信号電位の書き込みタイミングを与える制御パルスが供給される走査線と、信号電位が供給される信号線とを有する液晶パネル、液晶パネルを駆動する駆動回路、システム全体の動作を制御するシステム制御部、並びに、システム制御部に対する操作入力を受け付ける操作入力部、を備え、液晶パネルは、画素電極パターンの複数本の電極枝の間に形成されるスリットの内、両端部分に形成されるスリットの少なくとも一方の延設方向と、残りのスリットの延設方向とは異なり、残りのスリットの延設方向は信号線の延設方向と並行である電子機器。互いに一定の距離を挟んで対向配置される第1の基板及び第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に液晶分子を封止して成る液晶層と、液晶層の液晶分子を一定方向に配列させる配向膜と、第1の基板側に形成される対向電極パターンと、第1の基板側に形成され、複数本の電極枝を有する画素電極パターンとを有する液晶パネル、液晶パネルを駆動する駆動回路、システム全体の動作を制御するシステム制御部、並びに、システム制御部に対する操作入力を受け付ける操作入力部、を備え、液晶パネルは、複数本の電極枝の間に形成されるスリットの内、両端部分に形成されるスリットの少なくとも一方の延設方向と液晶分子の配向方向とがなす第1の交差角が7度以上であり、残りのスリットの延設方向と液晶分子の配向方向とがなす第2の交差角は第1の交差角と異なる電子機器。横電界表示型の液晶パネルでは、図4に示すように、スリット31の長手方向の両端部分電極枝13Aが連結部13Bで連結される部分の近くで、電圧印加時の液晶分子の配向が乱れ易いことが知られている。この現象は、ディスクリネーションと呼ばれる。図4では、ディスクリネーションの発生によって、液晶分子の配列が乱れる領域41を網掛けにより示している。図4の場合、計12個の領域41で液晶分子の配向の乱れが発生する。ところで、このディスクリネーションに外部圧力指押し等が加わると、液晶分子の配列の乱れは、電極枝13Aの延設方向に沿って広がる特性がある。なお、この液晶分子の配列の乱れは、液晶分子の配列を電界方向とは逆方向に回転させる方向に作用する。以下この現象を、リバースツイスト現象と呼ぶことにする。図5及び図6に、リバースツイスト現象の発生例を示す。図5及び図6では、この液晶分子の配列の乱れた領域43を、電極枝13Aの延設方向に沿って延びる網掛け表示として表している。現在用いられている液晶パネルでは、リバースツイスト現象が一度発生すると、自然放置によって元に戻せない問題があった。画素の上部と下部のそれぞれから広がるディスクリネーションが画素中央部で結合することにより安定化状態を形成し、領域43に位置する液晶分子の配向方向を元に戻せないためである。結果的に、リバースツイスト現象の発生した領域43は、画残りすなわち、表示ムラとして視認される問題があった。以下、この画残りを、リバースツイストラインという。なお、リバースツイストラインは、全ての電極枝13Aに沿って発生するが、図中右端の電極枝13Aに最も顕著に発生する。そこで、発明者らは、互いに一定の距離を挟んで対向配置される第1及び第2の基板と、第1及び第2の基板間に封止される液晶層と、配向膜と、第1の基板側に形成される対向電極パターンと、第1の基板側に形成され、複数本の電極枝を有する画素電極パターンとを有する液晶パネルであって、複数本の電極枝間に形成されるスリットのうち両端部分に形成されるスリットの少なくとも一方の延設方向が、液晶の配向方向に対して7°以上の角度で交差するように形成されるものを提案する。なお、両端部分に形成されるスリットのうち少なくとも一方の延設方向と液晶の配向方向の交差角は、7°以上15度以下であることが望ましい。また、両端部分に形成されるスリットのうち少なくとも一方の延設方向と液晶の配向方向との交差角は、他のスリットの延設方向と液晶の配向方向との交差角よりも大きいことが望ましい。また、画素電極パターンと対向電極パターンは、同じ階層面に形成されても良いし、異なる階層面に形成されても良い。すなわち、横電界表示型の液晶パネルであり、画素電極にスリットを有するものであれば、画素領域の断面構造は問わない。発明者らは、リバースツイストラインが顕著に出現し易いスリット位置に着目し、当該スリット位置の配向安定性を高めてリバースツイストラインの改善を図る。具体的には、複数本の電極枝間に形成されるスリットのうち両端部分に形成されるスリットの少なくとも一方の延設方向が、液晶の配向方向と7°以上の交差角で交差するように、画素電極パターンや配向膜を形成する。この画素構造の採用により、リバースツイストラインが発生したとしても、これを自然放置によって低減できる表示パネルを実現することができる。以下では、発明の最良の形態例を、以下に示す順番で説明する。A液晶パネルモジュールの外観例及びパネル構造Bスリットの延設方向と配向膜の配向方向との間に発見された特性C画素構造例1:シングルドメイン構造例D画素構造例2:シングルドメイン構造例E画素構造例3:シングルドメイン構造例F画素構造例4:シングルドメイン構造例G画素構造例5:デュアルドメイン構造例2画素間で上下鏡面構造H画素構造例6:デュアルドメイン構造例2画素間で上下鏡面構造I画素構造例7:デュアルドメイン構造例1画素内で上下鏡面構造J画素構造例8:デュアルドメイン構造例1画素内で上下鏡面構造K画素構造例9:デュアルドメイン構造例1画素内で上下鏡面構造L画素構造例10:デュアルドメイン構造例1画素内で上下鏡面構造M画素構造例11:他の画素構造例N画素構造例12:他の画素構造例O画素構造例13:他の画素構造例P画素構造例14:他の画素構造例Q他の形態例なお、本明細書で特に図示又は記載されない部分には、当該技術分野の周知又は公知技術を適用する。また以下に説明する形態例は、発明の一つの形態例であって、これらに限定されるものではない。A液晶パネルモジュールの外観例及びパネル構造図7に、液晶パネルモジュール51の外観例を示す。液晶パネルモジュール51は、支持基板53に対向基板55を貼り合わせた構造を有している。支持基板53は、ガラス、プラスチックその他の基材で構成される。対向基板55も、ガラス、プラスチックその他の透明部材を基材とする。対向基板55は、封止材料を挟んで支持基板53の表面を封止する部材である。なお、基板の透明性は光の射出側だけ確保されていれば良く、他方の基板側は不透性の基板でも良い。この他、液晶パネル51には、外部信号や駆動電源を入力するためのFPCフレキシブルプリントサーキット57が必要に応じて配置される。図8に、液晶パネルモジュール51のシステム構成例を示す。液晶パネルモジュール51は、下部ガラス基板61図1のガラス基板5に対応する。上に、画素アレイ部63と、信号線ドライバ65と、ゲート線ドライバ67と、タイミングコントローラ69を配置した構成を有している。この形態例の場合、画素アレイ部63の駆動回路は、1個又は複数個の半導体集積回路として形成され、ガラス基板上に実装される。因みに、画素アレイ部63は、表示上の1画素を構成するホワイトユニットがM行×N列に配置されたマトリクス構造を有している。なお、この明細書において、行とは、図中X軸方向に配列される3×N個のサブ画素71で構成される画素列をいう。また、列とは、図中Y軸方向に配列されるM個のサブ画素71で構成される画素列をいう。勿論、MとNの値は、垂直方向の表示解像度と水平方向の表示解像度に応じて定まる。また、信号線ドライバ65は、画素階調に対応する信号電位Vsigを信号線DLに印加するのに用いられる。この形態例の場合、信号線DLは、図中Y軸方向に延びるように配線されている。ゲート線ドライバ67は、信号電位Vsigの書き込みタイミングを与える制御パルスをスキャン線WLに印加するのに用いられる。この形態例の場合、スキャン線WLは、図中X軸方向に延びるように配線される。ここで、サブ画素71には、不図示の薄膜トランジスタが形成されており、そのゲート電極はスキャン線WLに接続され、主電極の一方は信号線DLに接続され、主電極の他方は画素電極13に接続される。タイミングコントローラ69は、信号線ドライバ65及びゲート線ドライバ67に駆動パルスを供給する回路デバイスである。Bスリットの延設方向と液晶層の配向方向との間に発見された特性前述したように、既存の画素構造には、指押し等により液晶分子の配向乱れリバースツイスト現象が発生すると、いつまでも表示ムラとして視認される問題があった。そこで、発明者らは、画素電極13の電極枝13Aによって形成されるスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角度を可変することにより、液晶分子の配向乱れが自然に軽減されるかについて実験を行った。なお、液晶層7の配向方向とはなお、液晶の配向方向ともいう。、液晶がもつ誘電率異方性の向きで定義され、誘電率が大きい方向をいうものとする。以下、実験によって明らかになった特性を説明する。まず、図9を用いてスリット31と液晶層7の配向方向との関係を説明する。図9は、サブ画素71の平面構造を表した図である。なお、図9では、スリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との関係に着目する。このため、画素電極13を駆動する薄膜トランジスタ等の表示は省いている。図9に示す平面構造は、図2で説明した平面構造と同じであり、対応部分には同一符号を付して表している。すなわち、サブ画素71は、Y軸方向に延設された信号線21とX軸方向に延設された走査線23とで囲まれた矩形領域内に形成される。また、画素電極13は、5本の電極枝13Aとその両端を連結する連結部13Bとで構成される。図9の場合、電極枝13A同士の間や電極枝13Aと図中右側の信号線21との間に形成されるスリット31は、Y軸方向に延設される。すなわち、スリット31の延設方向は、信号線21に並行であり、走査線23に垂直であるように形成されている。また、図9では、液晶層7の配向方向を矢印線で示す。図9の場合、Y軸に対して時計周り方向が液晶層7の配向方向である。図9では、液晶層7の配向方向とスリット31の延設方向との交差角をαとして示している。発明者らは、この交差角αに着目し、様々な交差角αについて表示ムラが消失するまでの時間を測定した。図10に、測定結果を示す。図10の横軸は、スリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角αであり、図10の縦軸は、表示ムラが消失するまでの時間である。図10に示す実験結果より、交差角αが7°未満の場合には、リバースツイスト現象による表示ムラが自然に消失しないことが確認された。一方、交差角αが7°以上の場合には、リバースツイスト現象による表示ムラを自然に消失できることが確認された。因みに、交差角αが7°の場合、表示ムラの消失に要した時間は35秒であった。また、実験の結果、交差角αが大きいほど、表示ムラが消失するまでの時間が短縮されることが確認された。例えば交差角αが10°の場合には、3秒で表示ムラが消失することが確認された。また例えば交差角αが15°の場合には、25秒で表示ムラが消失することが確認された。また例えば交差角αが20°の場合には、15秒で表示ムラが消失することが確認された。以上の結果、発明者らは、スリット31の延設方向と液晶層7の配向方向と交差角αを7°以上に設定することで、横電界表示型の液晶パネルにおける電圧印加時の液晶分子の配向安定性を高めることできることを発見した。すなわち、指押し等によりリバースツイスト現象が発生しても、配向の乱れを自然に消失できることを発見した。図11に、交差角αと表示ムラのレベルとの間に観察された結果を示す。図11の横軸は、スリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角αであり、図11の縦軸は、表示ムラの視認レベルである。図11に示すように、交差角αが10°以上であれば、表示画面をいずれの角度から見ても表示ムラが見えないことが確認された。また、交差角αが5°の場合には、表示画面を斜め方向から見た場合に、表示ムラが微かに見えることが確認された。なお、交差角αが5°以上10°未満の範囲では、図11に示すように視認性が少しずつ変化することが確認された。ただし、交差角αが大きすぎると、透過率が低下する特性があることが確認された。図12に、確認された透過特性を示す。なお、図12の横軸は、スリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角αであり、図12の縦軸は、相対透過率である。因みに、図12では、交差角αが5°の場合を100としている。図12の場合、交差角αが5°の場合における透過率が最大になり、交差角αが45°の場合における透過率が最小になる。なお、交差角αが45°の場合における相対的な透過率は約64になる。図12に示すように、交差角αと相対透過率との間にはおおよそ線形の関係が認められる。この透過率の観点からすると、交差角αは、小さいほど表示輝度の点で有利になることが分かる。以上の特性に基づいて、発明者らは、スリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角αは7°以上であることが望ましいと考える。ただし、相対的な透過率と表示ムラの消失時間の両方が良好であることを考慮すると、発明者らは、交差角αが7°以上15°以下であることがより望ましいと考える。C画素構造例1図13に示す画素構造は、図9で説明した画素構造と同じFFSFringeFieldSwitching型の液晶パネルで使用されるものである。従って、画素領域の断面構造は、図1に示す構造と同じである。すなわち、対向電極15は、画素電極13よりも下層側に画素領域の全域を覆うように配置される。図13に示す画素構造と図9に示す画素構造との違いは、電極枝13A間に形成される4本のスリット31のうち図中右端に形成される1本のスリットのみが信号線21に対して時計周りに傾いて形成されることである。従って、図13の場合、この図中右端に位置するスリット31の延設方向だけが、液晶層7の配向方向と7°以上の交差角α1>7°で交差するように形成され、他の3つのスリット31の延設方向は配向膜11の配向方向と平行に形成される。なお、図13の場合、4つあるスリット31の各スリット幅は、いずれも同じ長さに設定されている。ところで、図13の画素領域右端に位置するスリット31は、図中下端側の連結部13Bを原点として、矩形形状のスリット31の図中上端側を時計回りに回転させた形状に形成される。具体的には、図中右端に位置するスリット31が、ほぼ平行四辺形になるように形成する。ただし、この形状を実現するには、工夫が必要である。すなわち、図中右から2番目に位置する電極枝13Aの電極パターンを、逆台形形状に加工する必要がある。さて、図13に示す画素構造を採用する理由は、画素領域全体としての透過率の低下を最大限抑制しつつ、リバースツイストラインによる表示品質の低下を改善するためである。前述したように、画素領域内の右端に形成されるスリット31の延設方向は、液晶層7の配向方向と7°以上の交差角α1で交差するように設定されている。この画素領域内で斜め方向に延びるスリット31は、画素領域内でもリバースツイスト現象が最も顕著に出現する又は視認される領域部分に形成されている。従って、最も顕著に現れるリバースツイストラインを確実に消去することができる。これにより、画素領域全体としての表示品質の大幅な改善が可能になる。なお、リバースツイストラインが消去されるまでに要する時間を短縮するためには交差角α1を大きくすれば良いが、図12を用いて説明したように、交差角α1が大きすぎると透過率が低下する。従って、画素領域の右端部分における透過率とのバランスを考慮すると、交差角α1は7°以上15°以下であることが望ましい。ところで、図13に示す画素構造の場合には、残る3つのスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向とが約3°で交差するように形成されている。従って、これらのスリット31の形成領域では、リバースツイストラインを消去することができない。しかし、リバースツイストラインが顕著に出現するのは、スリット31が斜めに形成された図中右端領域だけであるので、従来構造図5に比して表示品質を大幅に改善できる。また、図12を用いて説明したように、3つのスリット31の延設方向と配向膜11の配向方向との交差角は0°であるので、これらスリット31の形成領域における透過率を最大化することができる。このように、図13に示す画素構造の場合には、透過率の低下が少ないだけでなく、リバースツイストラインによる表示品質の低下も少なくすることができる。勿論、FFS型の画素構造であるので、画素電極13と対向電極15の間に形成される放物線状の電界により、画素電極13の上部に位置する液晶分子も動かすことができる。このため、視野角の広い液晶パネルを実現することができる。D画素構造例2図14に、2つ目の画素構造例を示す。この画素構造も、図13で説明した1つ目の画素構造と同じFFSFringeFieldSwitching型の液晶パネルで使用されるものである。また、画素電極13のパターン構造は、図13で説明した1つ目の画素構造と同じである。相違点は、液晶層7の配向方向である。図13に示す画素構造の場合、液晶層7の配向方向は、信号線21に対して反時計回りに約3°傾いて形成されていた。しかし、図14に示す画素構造では、液晶層7の配向方向が、Y軸方向に対して時計周りに傾いている場合を想定する。勿論、リバースツイストラインが顕著に現れ易い図中右端のスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向とは、7°以上の交差角α1で交差するように双方の傾斜角を設計する。これにより、1つ目の画素構造例の場合と同様、画素領域の右端部分の配向規制力を高めることができる。その結果、画素領域内で最も顕著に現れるリバースツイストラインを確実に消去することができる。また、この画素構造例の場合、残る3つのスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角α2は、交差角α1より大きくなる。従って、画素領域の中央及び左端部分に対応するスリット31の配向安定性は、右端部分よりも高くなる。結果的に、これら3つのスリット31に発生するリバースツイストラインも確実に消去することができる。ただし、図12においても説明したように、交差角αが大きいほど透過率が低下する。このため、図14に係る画素構造は、1つ目の画素構造に比べ、画素領域の透過率が低下する。E画素構造例3図15に、3つ目の画素構造例を示す。この画素構造も、図13で説明した1つ目の画素構造と同じFFSFringeFieldSwitching型の液晶パネルで使用されるものである。また、画素電極13のパターン構造は、前述下2つの画素構造と同じである。相違点は、液晶層7の配向方向である。図15に示す画素構造の場合、液晶層7の配向方向が、Y軸方向に対して反時計回りに大きく傾いて形成される場合を想定する。この場合、図中右端に形成されるスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向とがY軸に対して逆向きになる。従って、図中右端に形成されるスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角α1よりも、その他の領域部分に形成されるスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角α2を小さくすることができる。従って、画素領域の右端部分に出現するリバースツイストラインを確実に消去する機能はそのままに、その他の画素領域における透過率を2つ目の画素構造例に比して高めることができる。F画素構造例4図16に、4つ目の画素構造例を示す。この画素構造も、図13で説明した1つ目の画素構造例に対応する変形例である。図16に示す画素構造と図13に示す画素構造の違いは、画素領域の右端に形成されるスリット31の形状の違いである。例えば、1つ目の画素構造の場合は、画素領域内に形成される4つのスリット31が、全て同じスリット幅に形成されていた。しかし、この画素構造の場合には、5本全ての電極枝13Aを全て同じパターン幅になるように形成する。このため、図中右端に形成されるスリット31が台形形状に形成される。なお、図16に示す画素構造の場合にも、図中右端に形成されるスリットの延設方向は、電極枝13Aの延設方向と同じになる。すなわち、図中右端に形成される1本のスリット31のみが信号線21に対して時計周りに傾いて形成されることである。勿論、その他のスリット31の延設方向は信号線21と平行である。従って、図16に示す画素構造の場合も、画素領域全体の透過率を高い状態に保ちつつ、画素領域内で最も顕著に現れるリバースツイストラインを確実に消去することができる。すなわち、画素透過率が高く、表示品質の高い液晶パネルを実現することができる。なお、この4つ目の画素電極13のパターン形状は、2つ目の画素構造例や3つ目の画素構造例のように液晶層7の配向方向が信号線21に対して時計周りに傾いている場合にも、反対に信号線21に対して反時計回りに傾いている場合にも適用できる。G画素構造例5図17に、5つ目の画素構造例を示す。この画素構造も、FFSFringeFieldSwitching型の液晶パネルで使用されるものである。また、この画素構造は、図13に示した1つ目の画素構造の変形例に対応する。すなわち、全てのスリット31が同じスリット幅で形成される画素構造に対応する。また、図中右端に形成されるスリット31が配向方向との間に形成される交差角α1が、他の3つのスリットが配向方向との間に形成する交差角α2よりも大きい画素構造に対応する。ただし、この5つ目の画素構造の場合には、各走査線23の上下Y軸方向に隣接する2つの画素領域が、走査線23を挟んで上下鏡面構造になるように、画素電極13と信号線21のパターン全体を各画素領域内で一様に傾斜させる構造を採用する。なお、ここでのパターン全体の傾斜角は、上下Y軸方向に隣接する2つの画素領域間でY軸方向に対して反転的に設定されるものとする。例えば図17に示す画素領域の場合には、画素電極13と信号線21のパターン全体が、Y軸方向に対して時計周りに傾いて形成される。一方、図17に示す画素領域の上側又は下側に位置する画素領域の場合には、画素電極13と信号線21のパターンが、Y軸方向に対して反時計回りに傾くように形成される。なお、上下鏡面構造であるので、Y軸方向に対する傾斜角の大きさは、上下方向に隣接する画素領域間で同じになる。ここでは、図17の場合について、この画素構造例に係るパターン構造を説明する。前述したように、図17に係る画素領域は、画素領域の全体がY軸方向に対して時計周りに傾いている。従って、信号線21も画素電極13を構成する5本の電極枝13Aも、Y軸方向に対して時計周りに傾いた構造を有している。図17の場合も、画素領域内に形成される4つのスリット31のうち図中右端に位置するスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角をα1とする。また、画素領域内に形成される4つのスリット31のうち図中右端に位置するスリット31を除く3つのスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角をα2とする。図17の場合、画素領域の傾斜角とスリット31の交差角α2とが一致する。勿論、3つのスリット31のY軸方向に対する傾斜角よりも、図中右端に形成されるスリット31の傾斜角の方が大きい。従って、交差角α2よりも、交差角α1が大きい関係が成立する。さて、この画素構造例の場合には、交差角α2を7°以上に設定することが好ましい。交差角α2を7°以上に設定すれば、画素領域右端だけでなく、その他の領域部分についても、リバースツイストラインを確実に低減することができるためである。結果的に、前述した画素構造例では、相対的に発生度合いが低いために残存させていたリバースツイストラインについても、全て画素領域上から無くすことができる。勿論、リバースツイストラインが顕著に現れる画素領域の右側部分におけるスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角α1が他の領域よりも大きくなる。従って、リバースツイストラインが消失されるまでの時間を一段と短縮することができる。すなわち、顕著に視認されるリバースツイストラインは短時間で消去でき、目立ち難いリバースツイストラインは少し遅れて消去することができる。なお、画素領域の中央付近や左端部分に形成されるスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角α2が7°以上になるので、当該領域における透過率が前述した画素構造例に比して低下する。しかし、交差角α2が10°であったとしても、図12において説明したように、その透過率は95以上確保できるため、十分な明るさと、表示品質とを実現することができる。また、図17に示す画素構造の場合、隣接する一方の画素領域と他方の画素領域とで液晶分子の回転方向が逆向きになる。すなわち、一方の画素領域では電界の印加によって液晶分子が時計回りに回転するのに対し、他方の画素領域では電界の印加によって液晶分子が反時計回りに回転する。このため、視野角の依存性を改善することができ、視野角の広い液晶パネルを実現することができる。H画素構造例6図18に、6つ目の画素構造例を示す。この画素構造は、図17で説明した5つ目の画素構造例に対応する変形例である。図18に示す画素構造と図17に示す画素構造の違いは、画素領域の右端に形成されるスリット31の形状の違いである。例えば、5つ目の画素構造の場合は、画素領域内に形成される4つのスリット31が、全て同じスリット幅に形成されていた。しかし、この6つ目の画素構造の場合には、5本全ての電極枝13Aを全て同じパターン幅になるように形成する。このため、図中右端に形成されるスリット31が逆台形形状に形成される。なお、図18に示す画素構造の場合にも、図中右端に形成されるスリットの延設方向は、電極枝13Aの延設方向と同じになる。すなわち、図中右端に形成される1本のスリット31のみが信号線21に対して時計周りに傾いて形成されることである。勿論、その他のスリット31の延設方向は信号線21と平行である。従って、図18に示す画素構造の場合も、画素領域内から全てのリバースツイストラインを消去できると共に、画素領域全体の透過率を極力高い状態に保つことができる。また、5つ目の画素構造例の場合と同様、視野角の依存性を改善することができ、視野角の広い液晶パネルを実現することができる。I画素構造例7図19に、7つ目の画素構造例を示す。この画素構造例の場合には、1つの画素領域の上側領域と下側領域とを上下鏡面構造化する。このため、図19においては、画素領域のY軸方向中央付近に屈曲点を1つ設け、電極枝13Aと信号線21をそれぞれ屈折させる構造を採用する。図19では、この上下鏡面構造を説明するため、屈曲点よりX軸方向に延びる仮想線を示している。勿論、基本となる画素構造は、図17に示す画素構造であるので、交差角をα1は交差角をα2よりも大きくなる。従って、交差角α2を7°以上に設定することにより、交差角α1は7°以上の条件を自動的に満たす。勿論、交差角α1だけが7°以上の条件を満たしても良いが、画素領域の右端以外のスリット31に発生するリバースツイストラインを消去することはできなくなる。ところで、図19に示す画素構造の場合、画素領域の上半分と下半分で液晶分子の回転方向が逆向きになる。すなわち、画素領域の図中上半分では電界の印加によって液晶分子が反時計回りに回転するのに対し、画素領域の図中下半分では電界の印加によって液晶分子が時計回りに回転する。このように、液晶分子の回転方向が逆方向になることにより、どの角度から表示画面を見ても1画素当たりの光量を均一化することができる。これにより、視野角の広い液晶パネルを実現することができる。J画素構造例8図20に、8つ目の画素構造例を示す。この画素構造例も、1つの画素領域内でデュアルドメイン構造を形成する場合に対応する。この8つ目の画素構造例は、図18に対応する画素構造の上側領域と下側領域を上下鏡面構造化した構造に対応する。すなわち、5本全ての電極枝13Aのパターン幅が全て同じ場合の画素構造例に対応する。この8つ目の画素構造例の場合も、画素領域のY軸方向中央付近に屈曲点を1つ設け、電極枝13Aと信号線21をそれぞれ屈折させる構造を採用する。図20の場合も、この上下鏡面構造を説明するため、屈曲点よりX軸方向に延びる仮想線を示している。勿論、基本となる画素構造は、図18に示す画素構造であるので、交差角をα1は交差角をα2よりも大きくなる。従って、交差角α2を7°以上に設定することにより、交差角α1は7°以上の条件を自動的に満たす。勿論、交差角α1だけが7°以上の条件を満たしても良いが、画素領域の右端以外のスリット31に発生するリバースツイストラインを消去することはできなくなる。ところで、図20に示す画素構造の場合、画素領域の上半分と下半分で液晶分子の回転方向が逆向きになる。すなわち、画素領域の図中上半分では電界の印加によって液晶分子が反時計回りに回転するのに対し、画素領域の図中下半分では電界の印加によって液晶分子が時計回りに回転する。このように、液晶分子の回転方向が逆方向になることにより、どの角度から表示画面を見ても1画素当たりの光量を均一化することができる。これにより、視野角の広い液晶パネルを実現することができる。K画素構造例9図21に、9つ目の画素構造例を示す。図19との相違点は、電極枝13Aの屈曲点を相互に接続する連結枝13Cを追加的に採用する点である。図19に示す画素構造の場合、上下に隣接する2つのドメインの境界部分で液晶分子の回転方向が逆向きとなる。このため、この境界部分に配向の乱れが発生するのを避け得ず、リバースツイストライン現象の消失に影響を及ぼす可能性がある。一方、図21に示す画素構造は、連結枝13Cによって2つのドメインが完全に分離できる。このため、各ドメインの境界部分での液晶分子の配列の乱れを無くすことができる。結果的に、図21に示す画素構造は、リバースツイストライン現象の消失を、図19に示す画素構造よりも短くできる。L画素構造例10図22に、10個目の画素構造例を示す。この10個目の画素構造例は、図20に示したデュアルドメイン構造の変形例に対応する。すなわち、1画素内でデュアルドメイン構造を採用する画素構造の変形例を説明する。図20との相違点は、電極枝13Aの屈曲点を相互に接続する連結枝13Cを追加的に採用する点である。図20に示す画素構造の場合、上下に隣接する2つのドメインの境界部分で液晶分子の回転方向が逆向きとなる。このため、この境界部分に配向の乱れが発生するのを避け得ず、リバースツイストライン現象の消失に影響を及ぼす可能性がある。一方、図22に示す画素構造は、連結枝13Cによって2つのドメインが完全に分離できる。このため、各ドメインの境界部分での液晶分子の配列の乱れを無くすことができる。結果的に、図22に示す画素構造は、リバースツイストライン現象の消失を、図20に示す画素構造よりも短くできる。M画素構造例11前述した10個の画素構造例の場合には、図1で説明した断面構造を有するFFS型の液晶パネルについて説明した。すなわち、櫛歯状に加工された画素電極13の下層に、画素領域の全体を覆うように対向電極15を配置した画素構造を有する液晶パネルについて説明した。しかし、図23に示すように、対向電極15についても櫛歯状に加工した液晶パネルを採用しても良い。なお図23の場合、対向電極15の電極枝15Aは、画素電極13の電極枝13Aの隙間スリット31を埋めるように配置される。すなわち、対向電極15の電極枝15Aは、画素領域内で、画素電極13の電極枝13Aと重ならないように配置される。N画素構造例12前述した各画素構造例の場合には、いずれも画素電極13と対向電極15が層違いに形成される画素構造を前提に説明した。しかしながら、発明者らの提案する技術は、画素電極13と対向電極15が同一層に形成される横電界表示型の液晶パネルにも適用できる。図24に、12個目の画素構造例に対応する断面構造例を示し、図24に12個目の画素構造例に対応する平面構造例を示す。なお、画素構造13と対向電極15以外の構造は、基本的に図1及び図2で説明した画素構造と同じである。すなわち、液晶パネル91は、2枚のガラス基板3及び5と、これらによって挟み込まれるように封入された液晶層7とで構成される。各基板のうち外側表面には偏光板9が配置され、内側表面には配向膜11が配置される。図24の場合も、画素電極13と対向電極15はガラス基板5に形成される。このうち、画素電極13は、櫛歯状に加工された4本の電極枝13Aの一端を連結部13Bで連結した構造を有している。一方、対向電極15は、櫛歯状に加工された3本の電極枝15Aの一端を共通電極線に接続した構造を有している。ここで、対向電極15の電極枝15Aは、画素電極13の電極枝13Aの隙間に嵌め込まれるように配置される。この電極構造のため、図24に示すように、画素電極13の電極枝13Aと対向電極15の電極枝15Aが同一層に交互に配置される。この電極構造により、画素電極13の電極枝13Aと対向電極15の電極枝15Aの間に放物線状の電界が発生する。図24には、この電界を破線にて示す。O画素構造例13前述した12個の画素構造例の場合には、いずれも画素電極13の電極枝13Aによって形成されるスリット31の延設方向がY軸方向と平行又はY軸方向に対して鋭角<45°に交差する場合について説明した。しかしながら、画素電極13の電極枝13Aによって形成されるスリット31の延設方向は、X軸方向と平行又はX軸方向に対して鋭角<45°に交差しても良い。P画素構造例14前述した画素構造例の場合には、いずれも画素領域内に形成される5本のスリット31のうち図中右端に位置するスリット31に着目し、その延設方向と配向膜11の配向方向との交差角α1が7°以上の条件を満たすように設定する場合について説明した。しかし、5本のスリット31のうち左右両端に位置する2つのスリット31の延設方向と液晶層7の配向方向との交差角α1が7°以上の条件を満たすように設定しても良い。Q他の形態例Q-1基板材料前述の形態例に係る説明では、基板をガラス基板としたが、プラスチック基板その他の基板を用いても良い。Q-2製品例前述の説明では、横電界を発生し得る様々な画素構造について説明した。ここでは、これら形態例に係る画素構造を有する液晶パネル駆動回路を実装しない状態や液晶パネルモジュール駆動回路を実装した状態を実装した電子機器について説明する。図25に、電子機器101の概念構成例を示す。電子機器101は、前述した画素構造を有する液晶パネル103、システム制御部105及び操作入力部107で構成される。システム制御部105で実行される処理内容は、電子機器101の商品形態により異なる。また、操作入力部107の構成も商品形態により異なり、例えばGUIグラフィックユーザーインターフェース、スイッチ、ボタン、ポインティングデバイスその他の操作子で構成される。なお、電子機器101は、機器内で生成される又は外部から入力される画像や映像を表示する機能を搭載していれば、特定の分野の機器には限定されない。図26に、その他の電子機器がテレビジョン受像機の場合の外観例を示す。テレビジョン受像機111の筐体正面には、フロントパネル113及びフィルターガラス115等で構成される表示画面117が配置される。表示画面117の部分が、形態例で説明した液晶パネルに対応する。また、この種の電子機器101には、例えばデジタルカメラが想定される。図27に、デジタルカメラ121の外観例を示す。図27Aが正面側被写体側の外観例であり、図27Bが背面側撮影者側の外観例である。デジタルカメラ121は、保護カバー123、撮像レンズ部125、表示画面127、コントロールスイッチ129及びシャッターボタン131で構成される。このうち、表示画面127の部分が、形態例で説明した液晶パネルに対応するまた、この種の電子機器101には、例えばビデオカメラが想定される。図28に、ビデオカメラ141の外観例を示す。ビデオカメラ141は、本体143の前方に被写体を撮像する撮像レンズ145、撮影のスタート/ストップスイッチ147及び表示画面149で構成される。このうち、表示画面149の部分が、形態例で説明した液晶パネルに対応する。また、この種の電子機器101には、例えば携帯端末装置が想定される。図29に、携帯端末装置としての携帯電話機151の外観例を示す。図29に示す携帯電話機151は折りたたみ式であり、図29Aが筐体を開いた状態の外観例であり、図29Bが筐体を折りたたんだ状態の外観例である。携帯電話機151は、上側筐体153、下側筐体155、連結部この例ではヒンジ部157、表示画面159、補助表示画面161、ピクチャーライト163及び撮像レンズ165で構成される。このうち、表示画面159及び補助表示画面161の部分が、形態例で説明した液晶パネルに対応する。また、この種の電子機器101には、例えばコンピュータが想定される。図30に、ノート型コンピュータ171の外観例を示す。ノート型コンピュータ171は、下側筐体173、上側筐体175、キーボード177及び表示画面179で構成される。このうち、表示画面179の部分が、形態例で説明した液晶パネルに対応する。これらの他、電子機器101には、プロジェクター、オーディオ再生装置、ゲーム機、電子ブック、電子辞書等が想定される。Q-3その他前述した形態例には、発明の趣旨の範囲内で様々な変形例が考えられる。また、本明細書の記載に基づいて創作される又は組み合わせられる各種の変形例及び応用例も考えられる。