"A、B、C、D及びEを含む感光性樹脂組成物。A樹脂B重合性化合物C重合開始剤D活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を2つ以上有し、かつ分子量が3000未満である化合物E溶剤活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基が、アセトアセチル基である請求項1記載の感光性樹脂組成物。樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構造単位と、炭素数2~4の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位とを含む共重合体である請求項1又は2記載の感光性樹脂組成物。重合開始剤が、オキシムエステル化合物を含む重合開始剤である請求項1~3のいずれか記載の感光性樹脂組成物。請求項1~4のいずれか記載の感光性樹脂組成物により形成されるパターン。請求項5記載のパターンを含む表示装置。しかしながら、従来から提案されている感光性樹脂組成物では、得られるパターンの機械特性について必ずしも十分に満足できない場合があった。本発明は、以下の[1]~[6]を提供するものである。[1]A、B、C、D及びEを含む感光性樹脂組成物。A樹脂B重合性化合物C重合開始剤D活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を2つ以上有し、かつ分子量が3000未満である化合物E溶剤[2]活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基が、アセトアセチル基である[1]記載の感光性樹脂組成物。[3]樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構造単位と、炭素数2~4の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位とを含む共重合体である[1]又は[2]記載の感光性樹脂組成物。[4]重合開始剤が、オキシムエステル化合物を含む重合開始剤である[1]~[3]のいずれか記載の感光性樹脂組成物。[5][1]~[4]のいずれか記載の感光性樹脂組成物により形成されるパターン。[6][5]記載のパターンを含む表示装置。本発明の感光性樹脂組成物によれば、機械特性に優れたパターンを得ることができる。本発明の感光性樹脂組成物は、A、B、C、D及びEを含む感光性樹脂組成物である。A樹脂B重合性化合物C重合開始剤D活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を2つ以上有し、かつ分子量が3000未満である化合物E溶剤なお、本明細書においては、各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で又は組合せて使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂Aを含む。本発明の感光性樹脂組成物に用いられる樹脂Aとしては、アルカリ溶解性を示す樹脂であることが好ましい。アルカリ溶解性とは、アルカリ化合物の水溶液である現像液に溶解する性質のことをいう。前記のアルカリ溶解性を示す樹脂としては、樹脂A-1:不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種a以下aという場合があると炭素数2~4の環状エーテル構造を有する不飽和化合物b以下bという場合があるとを重合してなる共重合体、樹脂A-2:a及びbと共重合可能な単量体cただし、炭素数2~4の環状エーテルは有さない。以下cという場合があると、aとbとを重合してなる共重合体、樹脂A-3:aとcとを重合してなる共重合体、樹脂A-4:aとcとを重合してなる共重合体にbを反応させて得られる樹脂、樹脂A-5:bとcとを重合してなる共重合体にaを反応させて得られる樹脂等が挙げられる。樹脂Aとしては、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構造単位と、炭素数2~4の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位とを含む共重合体、すなわち樹脂A-1及び樹脂A-2が好ましく、樹脂A-1がより好ましい。aとしては、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、o-ビニル安息香酸、m-ビニル安息香酸、p-ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸類;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、3‐ビニルフタル酸、4-ビニルフタル酸、3,4,5,6-テトラヒドロフタル酸、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、1、4-シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸類;メチル-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸、5-カルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-6-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-6-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物類;無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、3-ビニルフタル酸無水物、4-ビニルフタル酸無水物、3,4,5,6-テトラヒドロフタル酸無水物、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、5,6-ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン無水物ハイミック酸無水物等の不飽和ジカルボン酸類無水物;こはく酸モノ2-メタアクリロイルオキシエチル、フタル酸モノ2-メタアクリロイルオキシエチル等の2価以上の多価カルボン酸の不飽和モノメタアクリロイルオキシアルキルエステル類;α-ヒドロキシメチルアクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート類等が挙げられる。これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が共重合反応性の点やアルカリ溶解性の点から好ましく用いられる。本明細書において、メタアクリル酸とは、アクリル酸及びメタクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも1種を表す。メタアクリロイル及びメタアクリレート等の表記も同様の意味を有する。bは、炭素数2~4の環状エーテル構造例えば、オキシラン環、オキセタン環およびテトラヒドロフラン環オキソラン環からなる群から選ばれる少なくとも1種とエチレン性不飽和結合とを有する単量体であり、炭素数2~4の環状エーテルとメタアクリロイルオキシ基とを有する単量体がであることが好ましい。bとしては、例えば、オキシラニル基とエチレン性不飽和結合とをを有する単量体b1以下b1という場合がある、オキセタニル基とエチレン性不飽和結合とをを有する単量体b2以下b2という場合がある、テトラヒドロフリル基とエチレン性不飽和結合とをを有する単量体b3以下b3という場合があるなどが挙げられる。b1としては、アルケンをエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体b1-1以下b1-1という場合がある、シクロアルケンをエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体b1-2以下b1-2という場合があるが挙げられる。b1としては、オキシラニル基とメタアクリロイルオキシ基とを有する単量体b1が好ましく、シクロアルケンをエポキシ化した構造とメタアクリロイルオキシ基とを有する単量体b1-2がより好ましい。これらの単量体であると、感光性樹脂組成物の保存安定性に優れる。b1-1としては、具体的には、グリシジルメタアクリレート、β-メチルグリシジルメタアクリレート、β-エチルグリシジルメタアクリレート、グリシジルビニルエーテル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-メチル-o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-メチル-m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-メチル-p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、2,3-ビスグリシジルオキシメチルスチレン、2,4-ビスグリシジルオキシメチルスチレン、2,5-ビスグリシジルオキシメチルスチレン、2,6-ビスグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,4-トリスグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,5-トリスグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,6-トリスグリシジルオキシメチルスチレン、3,4,5-トリスグリシジルオキシメチルスチレン、2,4,6-トリスグリシジルオキシメチルスチレン、特開平7-248625号公報に記載される化合物等が挙げられる。b1-2としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサン例えば、セロキサイド2000;ダイセル化学工業株製、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート例えば、サイクロマーA400;ダイセル化学工業株製、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート例えば、サイクロマーM100;ダイセル化学工業株製、式Iで表される化合物、式IIで表される化合物等が挙げられる。[式I及び式IIにおいて、R1及びR2は、互いに独立に、水素原子、又は炭素数1~4のアルキル基を表し、該アルキル基はヒドロキシ基で置換されていてもよい。X1及びX2は、互いに独立に、単結合、-R3-、-R3-O-、-R3-S-、-R3-NH-を表す。R3は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。は、Oとの結合手を表す。]炭素数1~4のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、3-ヒドロキシプロピル基、1-ヒドロキシ-1-メチルエチル基、2-ヒドロキシ-1-メチルエチル基、1-ヒドロキシブチル基、2-ヒドロキシブチル基、3-ヒドロキシブチル基、4-ヒドロキシブチル基等が挙げられる。R1及びR2としては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基等が挙げられる。X1及びX2としては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、-CH2-O-はOとの結合手を表す基、-CH2CH2-O-基が挙げられ、より好ましくは単結合、-CH2CH2-O-基が挙げられる。式Iで表される化合物としては、式I-1~式I-15のいずれかで表される化合物等が挙げられる。好ましくは式I-1、式I-3、式I-5、式I-7、式I-9及び式I-11~式I-15のいずれかで表される化合物が挙げられる。より好ましくは式I-1、式I-7、式I-9及び式I-15のいずれかで表される化合物が挙げられる。式IIで表される化合物としては、式II-1~式II-15のいずれかで表される化合物等が挙げられる。好ましくは式II-1、式II-3、式II-5、式II-7、式II-9及び式II-11~式II-15のいずれかで表される化合物が挙げられる。より好ましくは式II-1、式II-7、式II-9及び式II-15のいずれかで表される化合物が挙げられる。式Iで表される化合物及び式IIで表される化合物は、それぞれ単独で用いることができる。また、それらは、任意の比率で混合することができる。混合する場合、その混合比率はモル比で、好ましくは式I:式IIで、5:95~95:5、より好ましくは10:90~90:10、とりわけ好ましくは20:80~80:20である。b2としては、オキセタニル基とメタアクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。b2としては、例えば、3-メチル-3-メタアクリロイルオキシメチルオキセタン、3-エチル-3-メタアクリロイルオキシメチルオキセタン、3-メチル-3-メタアクリロイルオキシエチルオキセタン、3-エチル-3-メタアクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。b3としては、テトラヒドロフリル基とメタアクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。b3としては、具体的には、テトラヒドロフルフリルアクリレート例えば、ビスコートV150、大阪有機化学工業株製、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。cとしては、メタアクリル酸エステル類、N-置換マレイミド類、不飽和ジカルボン酸ジエステル類、脂環式不飽和化合物類、スチレン類、その他のビニル化合物等が挙げられる。メタアクリル酸エステル類としては、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート等のアルキルエステル類;シクロヘキシルメタアクリレート、2-メチルシクロヘキシルメタアクリレート、トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルメタアクリレート当該技術分野では、慣用名として、ジシクロペンタニルメタアクリレートといわれている。、ジシクロペンタニルオキシエチルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート等のシクロアルキルエステル類;2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート等のヒドロキシアルキルエステル類;フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート等のアリール及びアラルキルエステル類等が挙げられる。不飽和ジカルボン酸ジエステル類としては、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等が挙げられる。N-置換マレイミド類としては、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-スクシンイミジル-3-マレイミドベンゾエート、N-スクシンイミジル-4-マレイミドブチレート、N-スクシンイミジル-6-マレイミドカプロエート、N-スクシンイミジル-3-マレイミドプロピオネート、N-9-アクリジニルマレイミド等が挙げられる。脂環式不飽和化合物類としては、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-2’-ヒドロキシエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジ2’-ヒドロキシエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジエトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシ-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシ-5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシメチル-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-tert-ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-フェノキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ビスtert-ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ビスシクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン等のビシクロ不飽和化合物類等が挙げられる。スチレン類としては、スチレン、α-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、ビニルトルエン、p-メトキシスチレン等が挙げられる。その他のビニル化合物としては、メタアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、メタアクリルアミド、酢酸ビニル、1,3-ブタジエン、イソプレン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン等が挙げられる。cとしては、スチレン、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン等が、共重合反応性及びアルカリ溶解性の点から好ましい。樹脂A-1において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂A-1を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。aに由来する構造単位;5~60モルより好ましくは10~50モルbに由来する構造単位;40~95モルより好ましくは50~90モル樹脂A-1の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、保存安定性、現像性、耐溶剤性、耐熱性および機械強度が良好になる傾向がある。樹脂A-1としては、bがb1である樹脂A-1が好ましく、bがb1-2である樹脂A-1がより好ましい。樹脂A-1は、例えば、文献高分子合成の実験法大津隆行著発行所株化学同人第1版第1刷1972年3月1日発行に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。具体的には、a及びbの所定量、重合開始剤及び溶剤等を反応容器中に仕込んで、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素で、攪拌、加熱、保温する方法が例示される。なお、ここで用いられる重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているもののいずれをも使用することができる。例えば、重合開始剤としては、アゾ化合物2,2′-アゾビスイソブチロニトリル、2,2′-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル等や有機過酸化物ベンゾイルペルオキシド等が挙げられ、溶剤としては、各単量体を溶解するものであればよく、感光性樹脂組成物の溶剤として後述する溶剤E等を用いることができる。なお、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体粉体として取り出したものを使用してもよい。特に、この重合の際に溶剤として、後述する溶剤Eと同一の溶剤を使用することにより、反応後の溶液をそのまま使用することができ、製造工程を簡略化することができる。樹脂A-2において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂A-2を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。aに由来する構造単位;2~40モルより好ましくは5~35モルcに由来する構造単位;1~65モルより好ましくは1~60モルbに由来する構造単位;2~95モルより好ましくは5~80モル樹脂A-2の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、保存安定性、現像性、耐溶剤性、耐熱性及び機械強度が良好になる傾向がある。樹脂A-2としては、bがb1である樹脂A-2が好ましく、bがb1-2である樹脂A-2がより好ましい。樹脂A-2は、樹脂A-1と同様の方法により製造することができる。樹脂A-3において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂A-3を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。aに由来する構造単位;2~40モルより好ましくは5~35モルcに由来する構造単位;60~98モルより好ましくは65~95モル樹脂A-3の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、保存安定性、現像性、耐溶剤性が良好になる傾向がある。樹脂A-3は、樹脂A-1と同様の方法により製造することができる。樹脂A-4は、aとcとの共重合体に、bを反応させて得られる樹脂である。樹脂A-4は、例えば、二段階の工程を経て製造することができる。この場合も、上述した文献高分子合成の実験法大津隆行著発行所株化学同人第1版第1刷1972年3月1日発行に記載された方法、特開2001-89533号公報に記載された方法等を参考にして製造することができる。まず、第一段階として、上述した樹脂A-1の製造方法と同様にして、aとcとの共重合体を得る。この場合、上記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体粉体として取り出したものを使用してもよい。また、上記と同様のポリスチレン換算の重量平均分子量及び分子量分布[重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn]とすることが好ましい。ただし、a及びcに由来する構造単位の比率が、前記の共重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。aに由来する構造単位;5~50モルより好ましくは10~45モルcに由来する構造単位;50~95モルより好ましくは55~90モル次に、第二段階として、得られた共重合体に由来するaのカルボン酸及びカルボン酸無水物の一部を、前述のbの環状エーテルと反応させる。環状エーテルの反応性が高く、未反応のbが残存しにくいことから、樹脂A-4に用いられるbとしてはb1又はb2が好ましく、b1-1がより好ましい。具体的には、上記に引き続き、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、aのモル数に対して、5~80モルのb、カルボキシ基と環状エーテルとの反応触媒例えばトリスジメチルアミノメチルフェノール等をa、b及びcの合計量に対して0.001~5質量、及び重合禁止剤例えばハイドロキノン等をa、b及びcの合計量に対して0.001~5質量をフラスコ内に入れて、60~130°Cで、1~10時間反応させ、樹脂A-4を得ることができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整することができる。また、この場合、bのモル数は、aのモル数に対して、10~75モルとすることが好ましく、より好ましくは15~70モルである。この範囲とすることにより、保存安定性、現像性、耐溶剤性、耐熱性、機械強度及び感度のバランスが良好になる傾向がある。樹脂A-5は、第一段階として、上述した樹脂A-1の製造方法と同様にして、bとcとの共重合体を得る。この場合、上記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体粉体として取り出したものを使用してもよい。b及びcに由来する構造単位の比率が、前記の共重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。bに由来する構造単位;5~95モルより好ましくは10~90モルcに由来する構造単位;5~95モルより好ましくは10~90モルさらに、樹脂A-4の製造方法と同様にして、bとcとの共重合体中のbに由来する環状エーテルに、aが有するカルボン酸又はカルボン酸無水物を反応させることにより得ることができる。環状エーテルとカルボン酸又はカルボン酸無水物との反応により発生するヒドロキシ基に、さらにカルボン酸無水物を反応させてもよい。前記の共重合体に反応させるaの使用量は、bのモル数に対して5~80モルであることが好ましい。環状エーテルの反応性が高く、未反応のbが残存しにくいことから、bとしてはb1が好ましく、さらにb1-1が好ましい。樹脂Aのポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは3,000~100,000、より好ましくは5,000~50,000である。樹脂Aの重量平均分子量が、前記の範囲にあると、塗布性に優れる傾向があり、また現像時に露光部の膜減りが生じにくく、さらに非露光部が現像で除去しやすい。樹脂Aの分子量分布[重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn]は、好ましくは1.1~6.0であり、より好ましくは1.2~4.0である。分子量分布が、前記の範囲にあると、現像性に優れる傾向がある。樹脂Aの酸価は、20~150mgKOH/gであり、好ましくは40~135mgKOH/g、より好ましくは50~135mgKOH/gである。ここで酸価は樹脂A1gを中和するに必要な水酸化カリウムの量mgとして測定される値であり、水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。樹脂Aの含有量は、樹脂A及び重合性化合物Bの合計量に対して、好ましくは5~95質量、より好ましくは20~80質量であり、特に好ましくは40~60質量である。樹脂Aの含有量が、前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の現像性、得られるパターンの密着性、耐溶剤性及び機械特性が良好になる傾向がある。ここで、固形分とは、感光性樹脂組成物から溶剤Eを除いた量のことをいう。本発明の感光性樹脂組成物は、重合性化合物Bを含む。重合性化合物Bは、重合開始剤Cから発生した活性ラジカルによって重合しうる化合物であって、例えば、重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物などであり、好ましくはメタアクリル酸エステル化合物である。エチレン性不飽和結合を1つ有する重合性化合物Bとしては、前記a、b及びcとして挙げた化合物と同じものが挙げられ、中でも、メタアクリル酸エステル類が好ましい。エチレン性不飽和結合を2つ有する重合性化合物Bとしては、1,3―ブタンジオールジメタアクリレート、1,3-ブタンジオールメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールAのビスアクリロイロキシエチルエーテル、エトキシ化ビスフェノールAジメタアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、3-メチルペンタンジオールジメタアクリレート等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を3つ以上有する重合性化合物Bとしては、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、トリペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレートと酸無水物カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、カプロラクトン変性トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタメタアクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリメタアクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレートと酸無水物等が挙げられる。中でも、3官能以上の光重合性化合物Bが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートがより好ましい。重合性化合物Bの含有量は、樹脂A及び重合性化合物Bの合計量に対して、好ましくは5~95質量、より好ましくは20~80質量である。重合性化合物Bの含有量が、前記の範囲にあると、感度や、得られるパターンの強度、平滑性、信頼性が良好になる傾向がある。本発明の感光性樹脂組成物は、重合開始剤Cを含むことが好ましい。重合開始剤Cとしては、光又は熱の作用により重合を開始しうる化合物であれば特に限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。重合開始剤Cとして、例えば、アルキルフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、オキシムエステル化合物が挙げられる。また、特開2008-181087号公報に記載された光及び/又は熱カチオン重合開始剤例えば、オニウムカチオンとルイス酸由来のアニオンとから構成されているものを用いてもよい。中でも、ビイミダゾール化合物、アルキルフェノン化合物及びオキシムエステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、特にオキシムエステル化合物であることが好ましい。これらの化合物を含む重合開始剤であると、特に、高感度になる傾向があり好ましい。前記のアルキルフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、ベンジルジメチルケタール、2-ヒドロキシ-1-4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-メチルプロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル-ベンジル]―フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-モルホリノ-1-4-メチルスルファニルフェニル-2-メチルプロパン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2-メチルベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-3-メチルベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2-エチルベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2-プロピルベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2-ブチルベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2,3-ジメチルベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2、4-ジメチルベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2-クロロベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2-ブロモベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-3-クロロベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-クロロベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-3-ブロモベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-ブロモベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2-メトキシベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-3-メトキシベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-メトキシベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2-メチル-4-メトキシベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2-メチル-4-ブロモベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-2-ブロモ-4-メトキシベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-4-1-メチルビニルフェニルプロパン-1-オンのオリゴマー等が挙げられる。前記のビイミダゾール化合物としては、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2,3-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール例えば、特開平6-75372号公報、特開平6-75373号公報等参照。、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラアルコキシフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラジアルコキシフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラトリアルコキシフェニルビイミダゾール例えば、特公昭48-38403号公報、特開昭62-174204号公報等参照。、4,4’5,5’-位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物例えば、特開平7-10913号公報等参照。等が挙げられる。好ましくは2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2、3-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス2、4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾールが挙げられる。前記のトリアジン化合物としては、2,4-ビストリクロロメチル-6-4-メトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-4-メトキシナフチル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-ピペロニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6--1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-5-メチルフラン-2-イルエテニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-フラン-2-イルエテニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニルエテニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-3,4-ジメトキシフェニルエテニル-1,3,5-トリアジン等が挙げられる。前記のアシルホスフィンオキサイド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。前記のオキシムエステル化合物としては、N-ベンゾイルオキシ-1-4-フェニルスルファニルフェニルブタン-1-オン-2-イミン、N-エトキシカルボニルオキシ-1-フェニルプロパン-1-オン-2-イミン、N-ベンゾイルオキシ-1-4-フェニルスルファニルフェニルオクタン-1-オン-2-イミン、N-アセトキシ-1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]エタン-1-イミン、N-アセトキシ-1-[9-エチル-6-{2-メチル-4-3,3-ジメチル-2,4-ジオキサシクロペンタニルメチルオキシベンゾイル}-9H-カルバゾール-3-イル]エタン-1-イミン等が挙げられる。イルガキュアOXE-01、OXE-02以上、チバジャパン社製、N-1919ADEKA社製等の市販品を用いてもよい。さらに重合開始剤Cとしては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系化合物;ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’-テトラtert-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;9,10-フェナンスレンキノン、、2-エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン系化合物;10-ブチル-2-クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。これらは、後述の重合開始助剤C1と組み合わせて用いることが好ましい。また、連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤として、特表2002-544205号公報に記載されている光重合開始剤を使用してもよい。前記の連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤としては、例えば、下記式a~fの化合物が挙げられる。前記の連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤は、樹脂Aを構成する成分cとしても使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物において、上述した重合開始剤Cとともに、重合開始助剤C1を用いることができる。重合開始助剤C1は、重合開始剤Cと組み合わせて用いられ、重合開始剤によって重合が開始された重合性化合物の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤である。重合開始助剤C1としては、下記式III~式Vで表される化合物、チオキサントン化合物、アミン化合物及びカルボン酸化合物等が挙げられる。[式III中、環W1で示される点線はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数6~12の芳香環を表す。Y1は、-O-又は-S-を表す。R4は、炭素数1~6の1価の飽和炭化水素基を表す。R5は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の飽和炭化水素基またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基を表す。]ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。炭素数6~12の芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数6~12の芳香環としては、例えば、ベンゼン環、メチルベンゼン環、ジメチルベンゼン環、エチルベンゼン環、プロピルベンゼン環、ブチルベンゼン環、ペンチルベンゼン環、ヘキシルベンゼン環、シクロヘキシルベンゼン環、クロロベンゼン環、ジクロロベンゼン環、ブロモベンゼン環、ジブロモベンゼン環、フェニルベンゼン環、クロロフェニルベンゼン環、ブロモフェニルベンゼン環、ナフタレン環、クロロナフタレン環、ブロモナフタレン環などが挙げられる。炭素数1~6の1価の飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、1-メチルプロピル基、2-メチルプロピル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、1-メチルブチル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基、1,1-ジメチルプロピル基、1,2-ジメチルプロピル基、2,2-ジメチルプロピル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の飽和炭化水素基としては、例えば、上記の炭素数1~6の1価の飽和炭化水素基に加え、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、1-クロロブチル基、2-クロロブチル基、3-クロロブチル基などが挙げられる。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基としては、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、クロロブロモフェニル基、ビフェニル基、クロロビフェニル基、ジクロロビフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基、ジクロロナフチル基、ブロモナフチル基、ジブロモナフチル基などが挙げられる。式IIIで表される化合物として、具体的には、2-[2-オキソ-2-2-フェニルエチリデン]-3-メチルナフト[2,1-d]チアゾリン、2-[2-オキソ-2-2-フェニルエチリデン]-3-メチルナフト[1,2-d]チアゾリン、2-[2-オキソ-2-2-フェニルエチリデン]-3-メチルナフト[2,3-d]チアゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチルベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチルベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-フェニルベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-フェニルベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-フルオロベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-フルオロベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-クロロベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-クロロベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-ブロモベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-ブロモベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フェニルフェニルエチリデン]-3-メチルベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フェニルフェニルエチリデン]-3-メチル-5-フェニルベンゾチアゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチルナフト[2,1-d]チアゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチルナフト[1,2-d]チアゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フェニルフェニルエチリデン]-3-メチルナフト[2,1-d]チアゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フェニルフェニルエチリデン]-3-メチルナフト[1,2-d]チアゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フルオロフェニルエチリデン]-3-メチルナフト[2,1-d]チアゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フルオロフェニルエチリデン]-3-メチルナフト[1,2-d]チアゾリン、2-[2-オキソ-2-2-フェニルエチリデン]-3-メチルナフト[2,1-d]オキサゾリン、2-[2-オキソ-2-2-フェニルエチリデン]-3-メチルナフト[1,2-d]オキサゾリン、2-[2-オキソ-2-2-フェニルエチリデン]-3-メチルナフト[2,3-d]オキサゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチルベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチルベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-フェニルベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-フェニルベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-フルオロベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-フルオロベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-クロロベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-クロロベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-2-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-ブロモベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチル-5-ブロモベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フェニルフェニルエチリデン]-3-メチルベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フェニルフェニルエチリデン]-3-メチル-5-フェニルベンゾオキサゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチルナフト[2,1-d]オキサゾリン、2-[2-オキソ-2-1-ナフチルエチリデン]-3-メチルナフト[1,2-d]オキサゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フェニルフェニルエチリデン]-3-メチルナフト[2,1-d]オキサゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フェニルフェニルエチリデン]-3-メチルナフト[1,2-d]オキサゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フルオロフェニルエチリデン]-3-メチルナフト[2,1-d]オキサゾリン、2-[2-オキソ-2-4-フルオロフェニルエチリデン]-3-メチルナフト[1,2-d]オキサゾリン等が挙げられる。[式IV及び式V中、環W2、環W3および環W4は、互いに独立に、炭素数6~12の芳香環又は炭素数2~10の複素環を表し、該芳香環及び該複素環に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。Y2~Y5は、互いに独立に、-O-又は-S-を表す。R6~R9は、炭素数1~12の1価の飽和炭化水素基又は炭素数6~12のアリール基を表し、該飽和炭化水素基及び該アリール基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数1~6のアルコキシ基で置換されていてもよい。]炭素数6~12の芳香環としては、式IIIで挙げたものと同様の芳香環が挙げられ、該芳香環に含まれる水素原子は、前記で挙げたハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2~10の複素環としては、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、ピラン環等が挙げられる。1価のヒドロキシ基置換飽和炭化水素基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基等が挙げられる。ヒドロキシ基置換アリール基としては、ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基等が挙げられる。1価のアルコキシ基置換飽和炭化水素基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、ブトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、プロポキシブチル基等が挙げられる。アルコキシ基置換アリール基としては、メトキシフェニル基、エトキシナフチル基等が挙げられる。式IV及び式Vで表される化合物としては、具体的には、ジメトキシナフタレン、ジエトキシナフタレン、ジプロポキシナフタレン、ジイソプロポキシナフタレン、ジブトキシナフタレンなどのジアルコキシナフタレン類;9,10-ジメトキシアントラセン、2-エチル-9,10-ジメトキシアントラセン、9,10-ジエトキシアントラセン、2-エチル-9,10-ジエトキシアントラセン、ジプロポキシアントラセン、ジイソプロポキシアントラセン、ジブトキシアントラセン、ジペンチルオキシアントラセン、ジヘキシルオキシアントラセン、メトキシエトキシアントラセン、メトキシプロポキシアントラセン、メトキシイソプロポキシアントラセン、メトキシブトキシアントラセン、エトキシプロポキシアントラセン、エトキシイソプロポキシアントラセン、エトキシブトキシアントラセン、プロポキシイソプロポキシアントラセン、プロポキシブトキシアントラセン、イソプロポキシブトキシアントラセンなどのジアルコキシアントラセン類;ジメトキシナフタセン、ジエトキシナフタセン、ジプロポキシナフタセン、ジイソプロポキシナフタセン、ジブトキシナフタセンなどのジアルコキシナフタセン類;等が挙げられる。チオキサントン化合物としては、例えば、2-イソプロピルチオキサントン、4-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン等が挙げられる。アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン等の脂肪族アミン化合物、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4-ジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシル、安息香酸2-ジメチルアミノエチル、N,N-ジメチルパラトルイジン、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン通称;ミヒラーズケトン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノンのような芳香族アミン化合物が挙げられる。カルボン酸化合物としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、N-フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、N-ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等の芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。重合開始剤Cと重合開始助剤C1との組合せとしては、アセトフェノン化合物とチオキサントン化合物、アセトフェノン化合物と芳香族アミン化合物が挙げられ、具体的には、2-モルホリノ-1-4-メチルスルファニルフェニル-2-メチルプロパン-1-オンと2,4-ジエチルチオキサントン、2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オンと2,4-ジエチルチオキサントン、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オンと2,4-ジエチルチオキサントン、2-モルホリノ-1-4-メチルスルファニルフェニル-2-メチルプロパン-1-オンと2-イソプロピルチオキサントンと4-イソプロピルチオキサントン、2-モルホリノ-1-4-メチルスルファニルフェニル-2-メチルプロパン-1-オンと4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オンと4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オンと4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。中でも、アセトフェノン化合物とチオキサントン化合物との組合せが好ましく、2-モルホリノ-1-4-メチルスルファニルフェニル-2-メチルプロパン-1-オンと2,4-ジエチルチオキサントン、2-モルホリノ-1-4-メチルスルファニルフェニル-2-メチルプロパン-1-オンと2-イソプロピルチオキサントンと4-イソプロピルチオキサントンがより好ましい。これらの組合せであると、高感度で、かつ可視光透過率の高いパターンが得られる。重合開始剤Cの含有量は、樹脂A及び重合性化合物Bの合計量に対して、好ましくは0.5~30質量、より好ましくは1~20質量であり、さらに好ましくは1~10質量である。重合開始剤Cの含有量が前記の範囲にあると、高感度でパターンを得ることができる。光重合開始助剤C1の使用量は、樹脂A及び重合性化合物Bの合計量に対して、好ましくは0.1~10質量、より好ましくは0.3~7質量である。重合開始助剤C1の量が前記の範囲にあると、高感度でパターンを得ることができ、得られるパターンは形状が良好である。本発明の感光性樹脂組成物は、活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を2つ以上有し、かつ分子量が3000未満である化合物以下化合物Dという場合がある。を含む。活性メチレン基とは、求核試薬に対する反応活性をもつメチレン基のことをいい、活性メチン基とは、求核試薬に対する反応活性をもつメチン基のことをいう。活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基は、式VIで表される基であることが好ましい。-Xa-CHRk-RmVI[式VI中、Xaは、-CO-、-SO-又は-SO2-を表す。Rmは、-CO-Rn、-CO-O-Rn、-CO-NRp-Rn、-SO-Rn、-SO2-Rn、シアノ基又はニトロ基を表す。Rk、Rn及びRpは、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~8のアルキル基を表し、RkとRmとは互いに結合して環を形成していてもよい。]式VIで表される基としては、例えば、式VI-1~式VI-9で表される基等が挙げられる。化合物Dとしては、例えば、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の多価アルコールのアセト酢酸エステルが挙げられる。また、化合物Dとしては、例えば、化合物D-1~化合物D-12等が挙げられる。なお、化合物D-1は下記式D-1で表される化合物である。化合物Dの含有量は、樹脂Aと重合性化合物Bとの合計量に対して、好ましくは0.1~50質量、より好ましくは1~30質量である。化合物Dの含有量が前記の範囲にあると、パターン形成の際に現像性に優れ、かつ得られるパターンは機械特性に優れる傾向がある。本発明の感光性樹脂組成物は、溶剤Eを含む。本発明において使用し得る溶剤としては、例えば、エステル溶剤分子内に-COO-を含み、-O-を含まない溶剤、エーテル溶剤分子内に-O-を含み、-COO-を含まない溶剤、エーテルエステル溶剤分子内に-COO-と-O-とを含む溶剤、ケトン溶剤分子内に-CO-を含み、-COO-を含まない溶剤、アルコール溶剤、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等の中から選択して用いることができる。エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、2-ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテート、γ-ブチロラクトンなどが挙げられる。エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、3-メトキシ-1-ブタノール、3-メトキシ-3-メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4-ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソールなどが挙げられる。エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-エトキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。ケトン溶剤としては、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、アセトン、2-ブタノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、4-ヘプタノン、4-メチル-2-ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロンなどが挙げられる。アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどが挙げられる。アミド溶剤としては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの溶剤は、単独でも2種類以上を組み合わせて用いてもよい。上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、1atmにおける沸点が120°C以上180°C以下である有機溶剤が好ましい。中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、3-メトキシブチルアセテート、3-メトキシ-1-ブタノール等が好ましい。溶剤Eがこれらの溶剤であると、塗布時のムラを抑制し、塗膜の平坦性を良好にすることができる。感光性樹脂組成物における溶剤Eの含有量は、感光性樹脂組成物に対して、好ましくは60~95質量であり、より好ましくは70~90質量である。言い換えると、感光性樹脂組成物の固形分は、好ましくは5~40質量であり、より好ましくは10~30質量である。溶剤Eの含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物を塗布した膜の平坦性が高い傾向がある。また、本発明の感光性樹脂組成物は、さらに多官能チオール化合物Tを含有していてもよい。多官能チオール化合物Tとは、分子内に2個以上のスルファニル基を有する化合物をいう。特に、脂肪族炭化水素基に由来する炭素原子と結合する2個以上のスルファニル基を有する化合物を用いると、本発明の感光性樹脂組成物の感度が高くなる傾向にある。多官能チオール化合物Tとしては、具体的には、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、1,4-ビスメチルスルファニルベンゼン、ブタンジオールビス3-スルファニルプロピオネート、ブタンジオールビス3-スルファニルアセテート、エチレングリコールビス3-スルファニルアセテート、トリメチロールプロパントリス3-スルファニルアセテート、ブタンジオールビス3-スルファニルプロピオネート、トリメチロールプロパントリス3-スルファニルプロピオネート、トリメチロールプロパントリス3-スルファニルアセテート、ペンタエリスリトールテトラキス3-スルファニルプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス3-スルファニルアセテート、トリスヒドロキシエチルトリス3-スルファニルプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス3-スルファニルブチレート、1,4-ビス3-スルファニルブチルオキシブタン等が挙げられる。多官能チオール化合物Tの含有量は、重合開始剤Cに対して、好ましくは0.1~10質量、より好ましくは0.5~7質量である。多官能チオール化合物Tの含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の感度が高くなり、また現像性が良好になる傾向があり好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は界面活性剤Fを含有してもよい。界面活性剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンDC3PA、同SH7PA、同DC11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA、ポリエーテル変性シリコーンオイルSH8400商品名:東レダウコーニング株製、KP321、KP322、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341信越化学工業株製、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460モメンティブパフォーマンスマテリアルズジャパン合同会社製等が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、フロリナート登録商標FC430、同FC431住友スリーエム株製、メガファック登録商標F142D、同F171、同F172、同F173、同F177、同F183、同R30DIC株製、エフトップ登録商標EF301、同EF303、同EF351、同EF352三菱マテリアル電子化成株製、サーフロン登録商標S381、同S382、同SC101、同SC105旭硝子株製、E5844株ダイキンファインケミカル研究所製等が挙げられる。フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、メガファック登録商標R08、同BL20、同F475、同F477、同F443DIC株製等が挙げられる。好ましくはメガファック登録商標F475が挙げられる。界面活性剤Fは、感光性樹脂組成物に対して、0.001質量以上02質量以下であり、好ましくは0002質量以上0.1質量以下、より好ましくは001質量以上0.05質量以下である。界面活性剤をこの範囲で含有することにより、塗膜の平坦性を良好にすることができる。本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、連鎖移動剤等の種々の添加剤を併用してもよい。本発明の感光性樹脂組成物は、顔料および染料などの着色剤を実質的に含有しない。すなわち、本発明の感光性樹脂組成物において、組成物全体に対する着色剤の含量は、例えば、好ましくは1質量未満、より好ましくは0.5質量未満である。本発明の感光性樹脂組成物は、光路長が1cmの石英セルに充填し、分光光度計を使用して測定波長400~700nmの条件下で透過率を測定した場合の平均透過率が、好ましくは70以上であり、より好ましくは80以上である。本発明の感光性樹脂組成物は、塗膜にした際に、塗膜の平均透過率が、好ましくは90以上であり、さらに95以上となることがより好ましい。この平均透過率は、加熱硬化例えば、100~250°C、5分~3時間の条件で硬化後の厚みが3μmの塗膜を、分光光度計を使用して、測定波長400~700nmの条件下で測定した場合の平均値である。これにより、可視光領域での透明性に優れた塗膜を提供することができる。本発明の感光性樹脂組成物は、基板上に塗布することによって、塗膜を形成することができる。塗膜は、乾燥及び硬化したものであることが好ましい。また、得られた塗膜を所望の形状にパターニングすることによって、パターンを形成することもできる。さらに、これら塗膜又はパターンを、表示装置等の構成部品の一部として形成して使用してもよい。まず、本発明の感光性樹脂組成物を、基板上に塗布する。基板としては、ガラス、金属、プラスチック等の基板が挙げられる。これらには、カラーフィルタ、各種絶縁又は導電膜、駆動回路等が予め形成されていてもよい。塗布は、上述したように、スピンコーター、スリットスピンコーター、スリットコーター、インクジェット、ロールコーター、ディップコーター等の種々の塗布装置を用いて行うことができる。次いで、乾燥又はプリベークして、溶剤等の揮発成分を除去して乾燥させることが好ましい。これにより、平滑な未硬化塗膜を得ることができる。この場合の塗膜の膜厚は、特に限定されず、用いる材料、用途等によって適宜調整することができ、例えば、1~6μm程度が例示される。さらに、得られた未硬化塗膜に、目的のパターンを形成するためのフォトマスクを介して、光、例えば、水銀灯、発光ダイオードから発生する紫外線等を照射する。この際のフォトマスクの形状は特に限定されず、形状や大きさは、パターンの用途に応じて選択すればよい。近年の露光機では、350nm未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、436nm付近、408nm付近、365nm付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出して、露光面全体に均一に略平行光線を照射したりすることができる。マスクアライナ、ステッパ等の装置を用いれば、このときマスクと基材との正確な位置合わせを行うことができる。露光後の塗膜を現像液に接触させて所定部分、例えば、非露光部すなわち非画素部分を溶解させ、現像することにより、目的とするパターン形状を得ることができる。現像方法は、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基材を任意の角度に傾けてもよい。現像に使用する現像液は、塩基性化合物の水溶液が好ましい。塩基性化合物は、無機及び有機の塩基性化合物のいずれでもよい。無機の塩基性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア等が挙げられる。有機の塩基性化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン等が挙げられる。これらの無機及び有機の塩基性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは0.01~10質量であり、より好ましくは0.03~5質量である。前記の現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤又はカチオン系界面活性剤のいずれでもよい。ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン/オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン等が挙げられる。アニオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアルキルアリールスルホン酸塩類等が挙げられる。カチオン系界面活性剤としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライドのようなアミン塩又は第四級アンモニウム塩等が挙げられる。アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、好ましくは0.01~10質量の範囲、より好ましくは0.05~8質量、より好ましくは0.1~5質量である。現像後、水洗を行うことで、パターンを得ることができる。さらに必要に応じて、ポストベークを行ってもよい。ポストベークは、例えば、150~240°Cの温度範囲、10~180分間が好ましい。未硬化塗膜を露光する際に、パターンが形成されたフォトマスクを使用せず、全面に光照射を行うこと及び/又は現像を省略することで、パターンを有さない塗膜を得ることができる。このようにして本発明の感光性樹脂組成物から得られるパターンは、例えば、カラーフィルタ基板及び/又はアレイ基板の一部を構成するフォトスペーサ、パターニング可能なオーバーコート、層間絶縁膜、液晶配向制御用突起、マイクロレンズ、膜厚調整のためのコート層等、タッチパネル用の部材として有用であり、上記のようにして得られるパターンを有さない塗膜は、カラーフィルタ基板及び/又はアレイ基板の一部を構成するオーバーコートとして有用である。前記のカラーフィルタ基板及びアレイ基板は、液晶表示装置、有機EL表示装置等に好適に用いられる。以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中の及び部は、特記ない限り、質量及び質量部である。合成例1還流冷却器、滴下ロートおよび攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を0.02L/分で流して窒素雰囲気とし、3-メトキシ-1-ブタノール200質量部および3-メトキシブチルアセテート105質量部を入れ、撹拌しながら70°Cまで加熱した。次いで、メタクリル酸60質量部、3,4-エポキシトリシクロ[5.2.1.02.6]デシルアクリレート式I-1で表される化合物および式II-1で表される化合物を、モル比で、50:50で混合。240質量部および、3-メトキシブチルアセテート140質量部に溶解して溶液を調製し、該溶液を、滴下ロートを用いて4時間かけて、70°Cに保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル30質量部を3-メトキシブチルアセテート225質量部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて4時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、4時間、70°Cに保持し、その後室温まで冷却して、固形分32.6質量、酸価110mg-KOH/g固形分換算の共重合体樹脂Aaの溶液を得た。得られた樹脂Aaの重量平均分子量Mwは、13,400、分子量分布は2.50であった。樹脂Aaは、以下の構造単位を有する。合成例2還流冷却器、滴下ロートおよび攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を0.02L/分で流して窒素雰囲気とし、3-メトキシ-1-ブタノール200質量部および3-メトキシブチルアセテート105質量部を入れ、撹拌しながら70°Cまで加熱した。次いで、メタクリル酸55質量部、3,4-エポキシトリシクロ[5.2.1.02.6]デシルアクリレート式I-1で表される化合物および式II-1で表される化合物を、モル比で、50:50の混合物。175質量部ならびにN-シクロヘキシルマレイミド70質量部を、3-メトキシブチルアセテート140質量部に溶解して溶液を調製し、該溶液を、滴下ポンプを用いて4時間かけて、70°Cに保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル30質量部を3-メトキシブチルアセテート225質量部に溶解した溶液を、別の滴下ポンプを用いて5時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、4時間、70°Cに保持し、その後室温まで冷却して、固形分32.6質量、溶液の酸価34.3mg-KOH/gの共重合体樹脂Ab溶液を得た。得られた樹脂Abの重量平均分子量Mwは13,600、数平均分子量Mnは、5,400、分子量分布は2.5であった。樹脂Abは、以下の構造単位を有する。合成例3還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を0.02L/分で流して窒素雰囲気とし、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル140質量部を入れ、撹拌しながら70°Cまで加熱した。次いで、メタクリル酸40質量部、3,4-エポキシトリシクロ[5.2.1.02.6]デシルアクリレート式I-1で表される化合物及び式II-1で表される化合物の混合物、モル比=50:50340質量部、ジシクロペンテニルアクリレート式x1で表される化合物及び式x2で表される化合物の混合物、モル比=50:5020質量部をジエチレングリコールエチルメチルエーテル190質量部に溶解して、溶液を調製した。得られた溶解液を、滴下ポンプを用いて4時間かけて、70°Cに保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル30質量部をジエチレングリコールエチルメチルエーテル240質量部に溶解した溶液を、別の滴下ポンプを用いて、5時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、4時間、70°Cに保持し、その後室温まで冷却して、固形分418の共重合体樹脂Acの溶液を得た。得られた樹脂Acの重量平均分子量Mwは9.6×103、分子量分布Mw/Mnは2.02であり、固形分換算した酸価は60mg-KOH/gであった。樹脂Acは、以下の構造単位を有する。得られた樹脂Aa~樹脂Acの重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mnの測定は、GPC法を用いて、以下の条件で行った。装置;K2479株島津製作所製カラム;SHIMADZUShim-packGPC-80Mカラム温度;40°C溶媒;THFテトラヒドロフラン流速;1.0mL/min検出器;RI上記で得られたポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量の比Mw/Mnを分子量分布とした。実施例1~5及び比較例1<感光性樹脂組成物の調整>表4の成分を混合して、感光性樹脂組成物1~6を得た。表4中各成分は以下のとおりである。表4中、樹脂Aの部数は、固形分換算の質量部を表す。樹脂A;Aa:合成例1で得られた樹脂Aa樹脂A;Ab:合成例2で得られた樹脂Ab樹脂A;Ac:合成例3で得られた樹脂Ac重合性化合物B;ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートKAYARADDPHA;日本化薬株製化合物D;トリメチロールプロパントリスアセトアセテート化合物D-1分子量;386日本合成化学株製重合開始剤C;N-アセトキシ-1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]エタン-1-イミンイルガキュアOXE02;BASFジャパン株製界面活性剤F;ポリエーテル変性シリコーンオイルトーレシリコーンSH8400;東レダウコーニング株製溶剤E;Ea;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤E;Eb;3-エトキシプロピオン酸エチル溶剤E;Ec;3-メトキシ-1-ブタノール溶剤E;Ed;3-メトキシブチルアセテート溶剤E;Ee;ジエチレングリコールメチルエチルエーテル溶剤Eは、感光性樹脂組成物の固形分量が表1の固形分量となるように混合し、溶剤E中の溶剤成分Ea~Eeの値は、溶剤E中での質量比を表す。<組成物の平均透過率>得られた感光性樹脂組成物1~3について、それぞれ、紫外可視近赤外分光光度計V-650;日本分光株製石英セル、光路長;1cmを用いて、400~700nmにおける平均透過率を測定した。結果を表4に示す。<膜の平均透過率>得られた感光性樹脂組成物1~3を用いて、それぞれ、硬化後の膜厚が3μmになるように、以下の条件で膜を作製した。2インチ角のガラス基板イーグルXG;コーニング社製を、中性洗剤、水およびアルコールで順次洗浄してから乾燥した。このガラス基板上に、感光性樹脂組成物を、ポストベーク後の膜厚が3.0μmになるようにスピンコートし、減圧乾燥機マイクロテック株製で減圧度が66kPaになるまで減圧乾燥させた後、ホットプレートで80°Cで2分間プレベークして乾燥させた。冷却後、露光機TME-150RSK;トプコン株製、光源;超高圧水銀灯を用いて、大気雰囲気下、露光量60mJ/cm2365nm基準の光を照射した。なお、このときの感光性樹脂組成物への照射は、超高圧水銀灯からの放射光を、光学フィルタUV-33;朝日分光株製を通過させて行った。光照射後、非イオン系界面活性剤0.12と水酸化カリウム0.04を含む水系現像液に前記塗膜を23°Cで60秒間浸漬揺動して現像し、その後、オーブン中、235°Cで15分加熱して膜を得た。得られた膜について、顕微分光測光装置OSP-SP200;OLYMPUS社製を用いて、400~700nmにおける平均透過率を測定した。透過率が高くなることは、吸収が小さくなることを意味する。結果を表4に示す。<パターン形成>2インチ角のガラス基板イーグルXG;コーニング社製を、中性洗剤、水およびアルコールで順次洗浄してから乾燥した。このガラス基板上に、感光性樹脂組成物を、ポストベーク後の膜厚が3.5μmになるようにスピンコートし、減圧乾燥機マイクロテック株製で減圧度が66kPaになるまで減圧乾燥させた後、ホットプレートで80°Cで2分間プレベークして乾燥させた。冷却後、この感光性樹脂組成物を塗布した基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を10μmとし、露光機TME-150RSK;トプコン株製、光源;超高圧水銀灯を用いて、大気雰囲気下、露光量60mJ/cm2365nm基準の光を照射した。なお、このときの感光性樹脂組成物への照射は、超高圧水銀灯からの放射光を、光学フィルタUV―33;朝日分光株製を通過させて行った。また、フォトマスクとして、パターン1辺が13μmである正方形の透光部を有し、当該正方形の間隔が100μmすなわち透光部が同一平面上に形成されたフォトマスクを用いた。光照射後、非イオン系界面活性剤0.12と水酸化カリウム0.04を含む水系現像液に前記塗膜を25°Cで100秒間浸漬揺動して現像し、水洗後、オーブン中、235°Cで15分間ポストベークを行い、パターンを得た。<パターン幅の測定>得られたパターンの幅を、三次元非接触表面形状計測システムMicromapMM527N-PS-M100;株菱化システム社製で計測した。パターン高さに対し、基板面より5の高さの位置で計測した。結果を表5に示す。<機械特性総変位量および回復率>得られたパターンについて、ダイナミック超微小硬度計DUH-W201;株島津製作所製を用いて、総変位量μmおよび弾性変位量μmを測定し、回復率を算出した。回復率が高いほど、強度に優れた液晶パネルを製造することが可能である。結果を表5に示す。-測定条件-試験モード;負荷-除荷試験試験力;50mN負荷速度;4.41mN/sec保持時間;5sec圧子;円錐台圧子直径50μm回復率;弾性変位量μm/総変位量μm×100<感度>2インチ角のガラス基板イーグルXG;コーニング社製を、中性洗剤、水およびアルコールで順次洗浄してから乾燥した。このガラス基板上に、感光性樹脂組成物を、ポストベーク後の膜厚が3.5μmになるようにスピンコートし、減圧乾燥機マイクロテック株製で減圧度が66kPaになるまで減圧乾燥させた後、ホットプレートで80°Cで2分間プレベークして乾燥させた。冷却後、この感光性樹脂組成物を塗布した基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を10μmとし、露光機TME-150RSK;トプコン株製、光源;超高圧水銀灯を用いて、大気雰囲気下、露光量を200mJ/cm2365nm基準の光を照射した。なお、このときの感光性樹脂組成物への照射は、超高圧水銀灯からの放射光を、光学フィルタUV―33;朝日分光株製を通過させて行った。また、フォトマスクとして、パターン1辺が13μmである正方形の透光部を有し、当該正方形の間隔が100μmすなわち透光部が同一平面上に形成されたフォトマスクを用いた。光照射後、非イオン系界面活性剤0.12と水酸化カリウム0.04を含む水系現像液に前記塗膜を25°Cで100秒間浸漬揺動して現像し、水洗後、オーブン中、235°Cで15分間ポストベークを行い、パターンを得た。露光量を100、50、25mJ/cm2365nm基準に変える以外は上記と同じ方法で、それぞれパターンを得た。尚、これらのパターンを作製する際も、スピンコートについては露光量200mJ/cm2でパターンを作製した際と同じ条件にして行った。得られたパターンの膜厚を膜厚測定装置DEKTAK3;日本真空技術株製で測定し、下記式にて残膜率を算出した。低露光量で高い残膜率を示すほど、感度は高いといえる。結果を表5に示す。露光量D0mJ/cm2における高さ残膜率=――――――――――――――――――――×100露光量200mJ/cm2における高さ[式中、露光量D0は、100、50又は25を表す。]表5に示す実施例の結果から、化合物Dを含む本発明の感光性樹脂組成物によれば、感度が低下することなく、機械特性に優れたパターンが得られることがわかる。"