注入可能な製品、特に電気伝導度が15μS未満の注入可能な製品を、容器2に充填するための充填システム1であって、使用時に注入可能製品で充填されたタンク10と、前記容器2に前記注入可能製品を充填可能とする構成を選択的に取ることができる、少なくとも1つの充填バルブ15と、前記タンク10と前記充填バルブ15との間に配置された、少なくとも1つのダクト20と、を備え、前記ダクト20に配置された渦流量計30を備えることを特徴とする充填システム。前記ダクト20内で、前記タンク10から前記充填バルブ15へ向かって前記渦流量計40の上流に配置された、第1の整流装置40を備えることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。前記ダクト20内で、前記タンク10から前記充填バルブ15へ向かって前記渦流量計30の下流に配置された、第2の整流装置41を備えることを特徴とする、請求項1または2に記載のシステム。前記第1及び第2の整流装置40、41のうちの少なくとも1つは、前記ダクト20の軸Aに関して対称的な複数の開口44を備えることを特徴とする、請求項2または3に記載のシステム。前記渦流量計30と前記充填バルブ15との間に配置された第1の絞り60を備えることを特徴とする、先行する請求項のいずれか1項に記載のシステム。前記渦流量計30と前記第1の絞り60との間に配置された第2の絞り50と、前記注入可能製品が前記第2の絞り50を迂回して高速充填を行うことが可能な第1の位置と、前記注入可能製品を強制的に前記第2の絞り50を通過させて低速充填を行うための第2の位置との間を変位可能なバイパスバルブ55と、を備えることを特徴とする、請求項5に記載のシステム。前記第1と第2の絞り60、50は円筒形であり、かつ前記第1の絞り60の直径は前記第2の絞り50の直径よりも大きいことを特徴とする、請求項6に記載のシステム。前記渦流量計30は入口32と出口33とを備え、前記ダクト20と前記渦流量計30は、前記出口33における圧力が、前記入口32と出口33の間の水頭の少なくとも5倍であるような寸法となっていることを特徴とする、先行する請求項のいずれか1項に記載のシステム。注入可能な製品、特に電気伝導度が15μS未満の注入可能な製品を、前記容器2に充填するための充填機械であって、先行する請求項のいずれか1項に記載の複数の充填システム1と、1つの軸を中心に回転し、複数の前記充填バルブ15を備えたカルーセル型コンベヤと、を備え、単一の前記タンク10が前記カルーセル型コンベヤの外側又は内側に配置され、かつそれぞれの前記システム1の前記ダクト20と流体連通することを特徴とする、充填機械。注入可能な製品、特に電気伝導度が15μS未満の注入可能な製品を、容器2に充填する方法であって、前記容器2に前記注入可能製品を充填可能とする位置を選択的に取ることができる充填バルブ15によって前記注入可能製品を前記容器2に充填するステップと、タンク10内に収納された前記注入可能製品をダクト20により前記充填バルブ15へ向けて供給するステップと、を備え、前記充填するステップは、前記ダクト20の中間に配置された渦流量計30によって前記注入可能製品の流速を測定するステップを含むことを特徴とする、充填方法。前記渦流量計30の上流において前記注入可能製品を層流とするステップを備えることを特徴とする、請求項10に記載の充填方法。前記渦流量計30の下流において前記注入可能製品を層流とするステップを備えることを特徴とする、請求項10又は11に記載の充填方法。前記充填するステップが、前記注入製品を絞り50の中を搬送して、前記容器2を低速度で充填するステップ、または、前記注入製品を前記絞り50の迂回路に沿って搬送して、前記容器2を高速度で充填するステップ、を備えることを特徴とする、請求項10~12のいずれか1項に記載の充填方法。本発明の目的は、上記の必要性を簡単かつ低コストで満たすことができる、注入可能製品を容器へ充填する充填システムを提供することである。上記の目的は、請求項1に記載の、注入可能製品、特には電気伝導度が15μS未満の注入可能製品を容器へ充填するための充填システムに係わる本発明により達成される。本発明はまた、請求項10に記載の、注入可能製品、特には電気伝導度が15μS未満の注入可能製品を容器へ充填するための方法にも関する。本発明のより良い理解のために1つの好適な実施形態を、単なる非限定的な実施例として添付の図面を参照して以下に開示する。添付の図面に特に関連して、符号1は、容器2に注入可能製品を充填し、図にはその詳細を示していない充填機械の中に組み込むことができるようになった、充填システムを指している。より詳しくは、注入可能製品は電気伝導度が15μS未満である。より具体的には、注入可能製品は食品であり、浸透処理水、すなわち逆浸透処理を施した、溶解塩を実質的に含まない水であってよい。システム1は実質的に、-注入可能製品を所与の圧力、例えば0.6~1.4バールの範囲にある圧力で充填したタンク10と、-個別の容器20への注入可能製品の充填に適合した、複数の充填バルブ15図1にはその1つのみを示すと、-タンク10の出口11と対応する充填バルブ15の入口16との間に配置された、それぞれの軸Aに沿って延びる複数のダクト20図1にはそのうちの1つを示すと、を備える。充填バルブ15は、垂直軸を中心に回転し、充填機械の一部を構成するカルーセル図示せずから突き出ている。それぞれの充填バルブ15は、入口16を画定するハウジング17と、中空ハウジング17の内部を垂直軸に平行に摺動するシャッタ要素18とを備えている。それぞれの充填バルブ15のシャッタ要素18は、注入可能製品が開口14を通って各ダクト20から各容器2へ流れることを妨げる閉位置図1に示すと、注入可能製品が各ダクト20から各容器2へ流れることが可能な開位置とを取り得る。それぞれの充填バルブ15は更に、ばね19を備え、これはここでは垂直軸を持つ螺旋ばねであって、シャッタ要素18とハウジング17の間に挿入されている。具体的には、それぞれのばね19は各シャッタ要素18上に巻き付けられ、各シャッタ要素18を開位置の方向へ付勢する。容器2はまた、充填工程の間、カルーセル型コンベヤに一体となって回転する。そうしてそれぞれの口3が各充填バルブ15の下に配置されるようにする。有利には、システム1はそれぞれのダクト20に沿って配置された複数の渦流量計30を備えている。渦流量計30は、各充填バルブ15がそれぞれの開位置にある場合には、各ダクト20を通って流れる注入可能製品の流速を検出するようになっている。そうして、充填されている個々の容器2に既に充填された注入可能製品の量に関するそれぞれの情報を提供するようになっている。具体的には、渦流量計20はカルマン渦の歳差運動を利用する。以下の開示においては簡単のために、1つのダクト20と1つの渦流量計30と1つの充填バルブ15とについて述べる。渦流量計20は図2、4、-ダクト20が貫通する入口32と出口33とを画定するチューブ状本体31と、-台形の軸方向断面を持ち、本体31の中に挿入されていて、ダクト20の軸Aに直交する衝撃面34を画定する障害物36と、-入口32から出口33に向かって障害物36の下流に配置されたセンサ35と、を備える。障害物36は軸Aに対して対称的になっている。具体的には、入口32に供給された注入可能製品は、障害物36の表面34に衝突し、渦39の渦列を生成する。渦の周波数はダクト20内における注入可能製品の速度に比例する。センサ35が渦39の周波数を検出し、この周波数に関連する、従ってダクト20内の注入可能製品の速度と流量とに関連する電気的なパルス信号を生成する。システム1は更に、タンク10から充填バルブ15に向かって図1、-注入可能製品の流れを線形化し、渦流量計30の入口32の下流に配置された整流装置フローリニアライザ40と、-注入可能製品の流れを線形化し、渦流量計30の出口33の下流に配置された整流装置フローリニアライザ41と、-絞り50と、-注入可能製品に絞り50を迂回させる第1の位置と、注入可能製品に絞り50を強制的に通過させる第2の位置との間を変位可能なバルブ55と、-充填バルブ15のすぐ上流に配置されたもう1つの絞り60と、を備える。装置40は注入可能製品の流れを渦流量計30の上流で可能な限り層流とするようになっている。これにより、渦流量計30での測定においては、障害物36との衝撃以外に発生し得る注入可能製品の乱流で妨げられることがない。装置41は注入可能製品の流れを渦流量計30の下流で可能な限り層流とするようになっている。これにより、渦流量計30の下流における注入可能製品の擾乱が渦流量計30の動作を妨げることがない。図1と図2を参照すると、装置40、41は渦流量計30の上流と下流にそれぞれ配置されたダクト20の各部分内に収容されている。それぞれの装置40、41は更に、-ダクト20と軸を共有する本体42と、-本体42から半径方向に突き出ていて、注入可能製品が貫通する複数の開口44を画定し、かつダクト20の内径と協働する外径を有する円盤43と、を備えている。装置40、41は渦流量計30に関して対称的に取り付けられている。具体的には、円盤43は図3、軸Aの半径方向の複数の壁47と、円周でありかつ壁47と交差するよう構成された複数の壁48を持っている図3。それぞれの開口44は、軸Aに平行に開口しており、2つの相隣る壁48の各部分で半径方向に区画され、2つの相隣る壁47の各部分で円周方向に区画されている。円盤43は各本体42の軸方向の端部近くに配置されている。より正確には、装置40の円盤43は、渦流量計30の入口32に最も近い、本体42の軸方向端部に配置されている。装置41の円盤43は、渦流量計30の入口33に最も近い、本体42の軸方向端部に配置されている。充填バルブ15が開位置にある状態に関しては、バルブ55は第1の位置にあるときに高速充填を可能とし、第2の位置にあるときに低速充填を可能とする。実際問題として、バルブ55が第2の位置にある場合には、注入可能製品は絞り50を通って流れ、これにより流速が低減される。絞り60は、バルブ55が第1の位置にある場合に、充填バルブ15へ供給される最大流速を低減し、渦流量計30の下流の圧力を上昇させて、ダクト20内での注入可能製品のキャビテーションを防止するようになっている。絞り50、60は、ダクト20と同じ軸を持つ中空円筒で構成されている。好ましくは絞り60の直径は絞り50の直径よりも大きい。図示した例では、ダクト20と渦流量計30は、出口33での圧力が、入口32と出口33の間の注入可能製品の水頭の少なくとも5倍となるような寸法となっている。より正確には、ダクト20と渦流量計30は、入口32での圧力が、入口32と出口33の間の注入可能製品の水頭の少なくとも5.5倍となるような寸法となっている。システム1は更に、渦流量計30で検出された注入可能製品の流速の測定値の入力を受けて、バルブ55と充填バルブ15を制御するように適合された、制御ユニット51を備えている。充填機械はカルーセル型コンベヤと複数のシステム1とを備えている。第1の実施形態において、充填機械は各システム1の全ダクト20に接続され、カルーセルの外部に配置されている単一のタンク10を備えている。第2の実施形態では、タンク10は、各システム1の全ダクト20に接続され、かつカルーセル型コンベヤの内部に配置されている。システム1の動作を、1つのダクト20、1つの渦流量計30、1つのバルブ55、及び1つの充填バルブ15に関して開示する。容器2を充填しようとする場合、制御ユニット51が充填バルブ15を開位置に配置する。制御ユニット51は更に、高速充填の場合にはバルブ55を第1の位置に配置し、低速充填の場合には第2の位置に配置する。実際に高速充填の場合には、バルブ55は注入可能製品を絞り50を迂回する経路に沿って移動させる。これとは違って低速充填の場合には、バルブ55は容器2の充填速度の低減を判断しながら、注入可能製品が絞り50を通過するようにさせる。注入可能製品は、ダクト20中をタンク10から充填バルブ15に向かって、-装置40、-渦流量計30、-装置41、-バルブ55、-絞り60、の順番に通過する。より正確には、注入可能製品の流れは、装置40の開口44の存在によって、可能な限り層流となるようにされる。これにより、障害物36との相互作用で生じるもの以外に発生し得る注入可能製品の乱流が、渦流量計30の測定を阻害することはない。従って、注入可能製品は入口32を通って流れ、障害物36に衝突して渦39を発生させる図4。センサ35が渦39の周波数を検出し、この渦39の周波数に比例する注入可能製品の流速信号を発生させる。この流速信号が制御ユニット51に入力され、それを利用して充填バルブ15とバルブ55が制御される。より正確には、制御ユニット51が充填バルブ15とバルブ55を制御して、容器2に注入可能製品を所定量、かつ所定充填速度で充填させる。障害物36とセンサ35とに相互作用した後、注入可能製品は出口33を通って装置41に到達する。開口44により、装置41は渦流量計30の下流での注入可能製品の流れを可能な限り層流となるようにする。従って、渦流量計30の下流で生じうる乱流が、渦流量計30による流速測定を邪魔することはない。次に、注入可能製品は、バルブ55が第2の位置に配置されているか、第1の位置に配置されているかによって、絞り50を貫通して流れるか、あるいは絞り50を貫通しないで流れる。バルブ55の下流では、注入可能製品が絞り60を貫通して流れ、この絞りが高速充填条件においてバルブ55を通過する最大流速を低減する効果を果たし、渦流量計30の下流での圧力を最小値に維持する。そうして渦流量計30内でのキャビテーション現象の発生を防止する。その後、注入可能製品は入口16と開口14を通って、容器2を充填する。充填工程の最後に、充填バルブ15はバネ19によって閉位置に戻される。本発明によるシステム1及び方法の特徴の解析から、得られる利点は明らかである。具体的には渦流量計30があることにより、システム1は容器2に充填する段階でダクト20内の注入可能製品の流速を注入可能製品の電気伝導度とは無関係に計測可能とする。実際に、渦流量計30の測定精度は、本明細書の発明の背景において開示した磁気流量計における場合とは違って、注入可能製品の電気伝導度の影響を受けない。その結果、システム1は、例えば浸透処理水などのような電気伝導度が15μS未満の注入可能製品の場合においても、高精度で容器2に注入することが可能である。更に、渦流量計30が可動部分を必要としない事実から、システム1は、実装が特に低コストとなりメンテナンスも簡単となる。装置40、41が存在することにより、渦流量計30の上流と下流の両方において注入可能製品にありうる流れの擾乱が、渦流量計30での流速の計測精度を阻害するということを回避可能である。その結果、装置40、41が渦流量計30での流速計測の再現性をかなり向上させる。具体的には、軸Aに対して対称的になった開口44の構成により、渦流量計30に入力される注入可能製品の流れが軸Aに対して対称的になることを可能とする。これにより、ダクト20内の非対称性により生じうる歪みが渦流量計30の測定を阻害する、ということがない。絞り60が高速充填条件においてバルブ55を通過する最大流速を低減し、渦流量計30の下流における圧力を最小値に維持して、渦流量計30の内部でのキャビテーションの発生を回避する。最終的に、システム1は充填バルブ15を備え、これは専ら容器2に充填するために利用され、充填速度の選択にはバルブ55が利用される。その結果、容器2への充填は、充填速度には無関係に、非常に高い再現性を持つようになる。最後に、本明細書において開示及び図示されたシステム1並びに充填方法に対して、本特許請求の範囲の保護範囲を逸脱しない変更及び変形が可能であることは明らかである。