"基材の表面に塗工された溶剤を含む塗工剤の乾燥処理を行う乾燥装置であって、前記基材を保持しつつ、前記基材の重量を測定する測定部と、前記基材に塗工された前記塗工剤の溶剤を熱付与により気化させる乾燥部と、前記乾燥部を前記基材に対して相対的に移動させる移動機構と、を備える乾燥装置。請求項1に記載の乾燥装置において、前記移動機構は、前記基材に対して前記乾燥部を相対的に往復移動させる、乾燥装置。請求項1または2に記載の乾燥装置において、前記測定部は、前記基材を保持する基材保持部と、前記基材保持部を支持する支持部と、前記支持部に取り付けられており、重量を計測するはかりと、を含み、前記乾燥部は、前記移動機構によって相対的に移動する前記乾燥部の移動方向に沿って延びる前記支持部材を挿通させるための挿通孔が形成されており、内部に前記基材保持部を収納するチャンバー、を含む乾燥装置。請求項3に記載の乾燥装置において、前記乾燥部は、前記基材を通過させるための通過口が形成されており、前記チャンバー内を少なくとも2つの区画に仕切る仕切部と、前記仕切部によって仕切られた、前記2つの区画のうちの一方の区画において、熱風を噴射する熱風噴射部と、をさらに含み、前記移動機構は、前記基材を前記2つの区画の間を相対移動させる乾燥装置。請求項1から4までのいずれか1項に記載の乾燥装置において、前記乾燥部は、基材の乾燥処理を行う乾燥処理ユニットと、前記乾燥処理ユニットにより乾燥処理を行う前に、前記基材を加熱する予熱処理を行う予熱処理ユニットと、を含む乾燥装置。基材の表面に塗工された、溶剤を含む塗工剤を乾燥させる乾燥方法であって、前記基材に塗工された前記塗工剤の前記溶剤を、乾燥部によって熱付与することにより気化させつつ、前記乾燥部を前記基材に対して相対的に移動させる工程と、前記工程において、前記基材の重量を測定する工程と、を含む乾燥方法。従来の乾燥装置においては、適切な乾燥条件を決定するために、金属箔の厚みや塗工剤の種類などから、乾燥時間、風量、または、加熱温度などの各種乾燥条件が暫定的に決定され、この暫定的な条件下での乾燥処理が実際に行われていた。また、適切に乾燥が行われていたかどうかは、部分的に切り出された金属箔の、乾燥処理前後における重量の比較に基づいて行われていた。しかしながら、従来の乾燥装置においては、金属箔をロールトゥロール方式で搬送されるため、乾燥処理中でのリアルタイムでの測定を行うことが難しかった。このため、乾燥の完了を適切に決定することが極めて困難であった。また、従来の乾燥装置において、最適な乾燥時間を決めるためには、乾燥時間を変えて繰り返し試験する必要があり、極めて煩雑な作業を要していた。本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、基材に塗工された塗工剤の乾燥状況を把握できるようにすることで、乾燥条件を容易かつ適切に決定する技術を提供することを目的とする。上記の課題を解決するため、第1の態様は、基材の表面に塗工された溶剤を含む塗工剤の乾燥処理を行う乾燥装置であって、前記基材を保持しつつ、前記基材の重量を測定する測定部と、前記基材に塗工された前記塗工剤の溶剤を熱付与により気化させる乾燥部と、前記乾燥部を前記基材に対して相対的に移動させる移動機構とを備える。また、第2の態様は、第1の態様に係る乾燥装置において、前記移動機構は、前記基材に対して前記乾燥部を相対的に往復移動させる。また、第3の態様は、第1または第2の態様に係る乾燥装置において、前記測定部は、前記基材を保持する基材保持部と、前記基材保持部を支持する支持部と、前記支持部に取り付けられており、重量を計測するはかりとを含み、前記乾燥部は、前記移動機構によって相対的に移動する前記乾燥部の移動方向に沿って延びる前記支持部材を挿通させるための挿通孔が形成されており、内部に前記基材保持部を収納するチャンバー、を含む。また、第4の態様は、第3の態様に係る乾燥装置において、前記乾燥部は、前記基材を通過させるための通過口が形成されており、前記チャンバー内を少なくとも2つの区画に仕切る仕切部と、前記仕切部によって仕切られた、前記2つの区画のうちの一方の区画において、熱風を噴射する熱風噴射部とをさらに含み、前記移動機構は、前記基材を前記2つの区画の間を相対移動させる。また、第5の態様は、第1から第3までの態様のいずれか1態様に係る乾燥装置において、前記乾燥部は、基材の乾燥処理を行う乾燥処理ユニットと、前記乾燥処理ユニットにより乾燥処理を行う前に、前記基材を加熱する予熱処理を行う予熱処理ユニットと、を含む。また、第6の態様は、基材の表面に塗工された、溶剤を含む塗工剤を乾燥させる乾燥方法であって、前記基材に塗工された前記塗工剤の前記溶剤を、乾燥部によって熱付与することにより気化させつつ、前記乾燥部を前記基材に対して相対的に移動させる工程と、前記工程において、前記基材の重量を測定する工程とを含む。第1の態様に係る乾燥装置によると、乾燥処理を行いながら、基材の重量変化を計測できる。これにより、乾燥中における塗工剤の乾燥状況を把握することができる。したがって、乾燥部の相対的な移動速度、または、加熱時間など含む各種乾燥処理条件を容易かつ適切に決定することができる。第2の態様に係る乾燥装置によると、基材に対して乾燥部を相対的に往復移動させることで、基材に乾燥部周辺を複数回通過させることができる。第3の態様に係る乾燥装置によると、乾燥部が相対的に移動する方向に沿って移動方向に沿って延びる挿通孔がチャンバーに形成されているため、乾燥部を相対移動させたときに、測定部と乾燥部とが干渉することを抑制できる。第4の態様に係る乾燥装置によると、熱噴射部から噴射された熱風によって、チャンバー内の温度を上昇させることができる。これにより、溶剤に熱を付与することができる。また、仕切部を設けることによって、一方の区画内で噴射された熱風が、他方の区画に流入することを抑制することができる。したがって、他方の区画において、基材の重量を正確に測定することができる。第5の態様に係る乾燥装置によると、本乾燥の前に、基材を加熱する予熱処理を行うことができる。また、予熱処理において、基材の重量変化を計測することができる。よって、予熱処理における各種条件を適切に決定することができる。第6の態様に係る乾燥方法によると、乾燥処理を行いながら、基材の重量変化を計測できる。これにより、乾燥中における塗工剤の乾燥状況を監視することができる。乾燥部の相対的な移動速度、または、加熱時間など含む各種乾燥処理条件を適切に決定することができる。以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。<1.第1実施形態>図1は、第1実施形態に係る乾燥装置100の正面図である。なお、図1および以降の各図にはそれらの方向関係を明確にするためZ軸方向を鉛直方向とし、XY平面を水平面とする左手系のXYZ直交座標系を適宜付している。このXYZ直交座標系については、鉛直方向上向きをZ方向、鉛直方向下向きを-Z方向としている。また、図3に示すように、チャンバー21内のうち、測定室211側を-Y側とし、乾燥室213側をY側としている。また、図1および以降の各図においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して図示している場合がある。<1.1.概略構成>乾燥装置100は、測定部10と、乾燥部20と、移動機構30と、制御部80とを備えており、リチウムイオン二次電池の電極製造工程において、金属箔5の上に塗工された電極材料である電極活物質の乾燥処理を行う装置として構成されている。金属箔5には、塗工剤が塗工されており、この金属箔5は基材保持板11にて保持される。乾燥装置100は、移動機構30によって、乾燥部20をY軸方向に沿って往復移動させながら、金属箔5の乾燥処理を行うとともに、この乾燥処理中において、測定部10による金属箔5の重量測定を行う。金属箔5は、リチウムイオン二次電池の集電体として機能する部材である。金属箔5がリチウムイオン二次電池の正極される場合には、例えばアルミニウム箔Alを用いることができる。また、金属箔5が負極とされる場合には、例えば銅箔Cuを用いることができる。なお、金属箔5としては、前述した部材に限定されるものではない。金属箔5が正極とされる場合、塗工剤正極材料として、例えば正極活物質であるコバルト酸リチウムLiCoO2、導電助剤であるカーボンC、結着剤であるポリフッ化ビニリデンPVDF、溶剤であるN-メチル-2-ピロリドンNMPの混合液が金属箔5に塗工される。コバルト酸リチウムに代えて、正極活物質としてニッケル酸リチウムLiNiO2、マンガン酸リチウムLiMn2O4、燐酸鉄リチウムLiFePO4などを用いることもできるが、これらに限定されるものではない。また、金属箔5が負極とされる場合、塗工剤負極材料として、例えば負極活物質である黒鉛グラファイト、結着剤であるPVDF、溶剤であるNMPの混合液が金属箔5に塗工される。黒鉛に代えて、負極活物質としてハードカーボン、チタン酸リチウムLi4Ti5O12、シリコン合金、スズ合金などを用いることもできるが、これらに限定されるものではない。また、正極材料および負極材料の双方において、結着剤としてPVDFに代えてスチレン-ブタジエンゴムSBRなどを使用することができ、溶剤としてNMPに代えて水H2Oなどを使用することができる。さらに、結着剤としてSBR、溶剤として水を用いる場合には、増粘剤としてカルボキシメチルセルロースCMCを併用することもできる。これら正極材料および負極材料の塗工液は固体微粒子が分散されたスラリーであってその粘度はいずれも1Pasパスカル秒以上であり、一般的にチクソトロピー性を有する。<測定部10>測定部10は、金属箔5を支持する基材保持板11基材保持部と、その上端部にて基材保持板11を下方から支持する一対の支柱部13,13支持部と、支柱部13に固定されている電子天秤15はかりとを備えている。測定部10は、基材保持板11にて金属箔5を保持しつつ、電子天秤15によって、金属箔5の重量を測定する。図2は、第1実施形態に係る基材保持板11の概略斜視図である。基材保持板11の大きさは特に限定されるものではないが、例えば縦横の長さを約100mmとすることができる。本実施形態に係る基材保持板11には、略矩形状の金属箔5が載置される。基材保持板11に載置される金属箔5の大きさおよび厚さは、特に限定されるものではないが、例えば縦横が60mm、厚さが10μm~20μmとすることができる。また、金属箔5に塗工される塗工剤の膜厚は、例えば約200μmとすることができる。基材保持板11は、略矩形状に形成された板状部材であり、中央部に貫通孔111が形成されている。貫通孔111の大きさは、基材保持板11に載置される金属箔5よりも小さくなっている。このため、基材保持板11は、その表面に載置された金属箔5のうち周縁部を支持することとなる。本実施形態では、後述するように、下側熱風噴出部25から、基材保持板11に載置された金属箔5に熱風が噴射される。金属箔5の下側から供給される熱風を、貫通孔111を通じて金属箔5の裏面に当てることができるため、金属箔5を効率的に加熱することができる。図2に示した基材保持板11の形状は一例であり、基材保持板11をその他の形状とすることは妨げられない。例えば、基材保持板11を平面視において円形楕円形を含む状となるように形成することも考えられる。一対の支柱部13,13は、その上端部が基材保持板11の両側端部に固定されており、基材保持板11を支持する棒状の部材である。一対の支柱部13,13の下端部は、電子天秤15に固定されている。電子天秤15は、支柱部13を介して基材保持板11に載置された金属箔5の重量を測定する。電子天秤15は、測定により取得した金属箔5の重量データを、記録装置に適宜出力する。この記録装置は、CPUCentralProcessingUnit、RAMRandomAccessMemoryなどを備えた一般的なコンピュータとして構成されており、電子天秤15で測定された重量を記憶部RAMなどの一時的に情報を記憶するものも含む。に随時記録することができる。記録装置に保存された金属箔5の重量に関するデータは、図示しないモニターに表示されるようにしてもよいし、または、プリンタなどによって紙媒体などにプリント出力されるようにしてもよい。なお、本実施形態に係る測定部10においては、金属箔5が載置された基材保持板11を下側から支持して、その重量を支柱部13の下端に取り付けられた電子天秤15によって測定するように構成されている。しかしながら、基材保持板11を吊り下げて支持するようにして、金属箔5の重量を、吊りはかりなどで測定することも考えられる。<乾燥部20>乾燥部20は、内部に基材保持板11を収納するチャンバー21と、乾燥処理ユニット22とを備えている。チャンバー21の-Y側には、搬入口210が設けられている。搬入口210は、手動または電動で開閉可能に構成されており、金属箔5が載置された基材保持板11がチャンバー21に搬入される際に開閉される。また、図示を省略するが、チャンバー21には、排気口が設けられており、内部の雰囲気が外部に適宜排出されるようになっている。チャンバー21の底部には、一対の支柱部13が挿通される一対の挿通孔212が形成されている。挿通孔212は、乾燥部20の移動方向Y軸方向に沿って延びているとともに、支柱部13よりも幅広である開口を形成している。乾燥部20具体的には、チャンバー21が移動する際、支柱部13は、挿通孔212に沿って相対的に移動するため、支柱部13とチャンバー21とが相互に干渉することが抑制されている。図3は、乾燥装置100の概略側面図である。なお、図3中、チャンバー21については、一対の支柱部13,13のうちの一方の位置において、チャンバー21をYZ平面に平行な平面で切断したときの切断面を図示している。図3に示したように、チャンバー21内には、チャンバー21内の空間を2つの区画測定室211と乾燥室213に仕切る仕切部27が設置されている。移動機構30は、乾燥部20をY軸方向に沿って往復移動させることにより、基材保持板11を、測定室211と乾燥室213との間を往き来させることができる。本実施形態では、チャンバー21内における-Y側の区画を測定室211、Y側の区画を乾燥室213としているが、これらの位置を入れ替えることももちろん可能である。仕切部27には、基材保持板11と同程度の高さ位置に、X軸方向に延びる通過孔271第一通過孔が形成されている。通過孔271は、X軸方向に関して、基材保持板11の幅よりも大きい開口幅を有している。また、仕切部27には、一対の支柱部13を通過させるための一対の通過孔272が形成されている。通過孔272は、Z軸方向に沿って延びており、支柱部13の幅よりも大きい開口を形成している。一対の通過孔272,272のそれぞれは、その端部において、通過孔271に繋がっている。乾燥部20が往復移動したときに、基材保持板11および一対の支柱部13,13が、通過孔271および通過孔272,272をそれぞれ通過ことで、仕切部27と干渉せずに、測定室211と乾燥室213との間を往き来することができる。乾燥処理ユニット22は、上側熱風噴出部23と、下側熱風噴出部25とで構成されている。上側熱風噴出部23は、乾燥室213における、基材保持板11よりも上側の位置に設けられている。下側熱風噴出部25は、乾燥室213における、基材保持板11よりも下側の位置に配置されている。上側熱風噴出部23および下側熱風噴出部25は、金属箔5を加熱することによって、塗工剤の溶剤を気化蒸発させる。図4は、乾燥処理ユニット22を示す概略断面図である。上側熱風噴出部23は、整流板231および噴出ヘッド232を備えている。整流板231は、基材保持板11に保持された金属箔5と略平行に延びる板状部材である。整流板231における、Y軸方向の中央部付近には、噴出孔233が設けられている。噴出孔233は、金属箔5の幅方向X軸方向に沿って延びる1本のスリット孔とされている。ただし、噴出孔233は、当該幅方向に沿って配設された複数の孔とされてもよい。噴出ヘッド232は、その内部の空間が噴出孔233と連通するように整流板231に連結されている。噴出ヘッド232は、熱風供給ポート234から供給された熱風を整流板231の噴出孔233から金属箔5に向けて噴出する。噴出ヘッド232の内部空間には、2枚の仕切り板2351,2352およびパンチングプレート236が設けられている。これら2枚の仕切り板2351,2352の間が熱風の流路となる。このような2枚の仕切り板2351,2352およびパンチングプレート236を設けることによって、熱風供給ポート234から供給された熱風が噴出ヘッド232の内部空間で均一に拡がり、噴出孔233から均一に熱風が噴出される。なお、金属箔5の幅方向全体にわたって均一に熱風を当てるため、X軸方向における噴出孔233の開口の大きさは、金属箔5の幅よりも広くなっていることが望ましい。また、本実施形態においては、噴出孔233は1本のスリット孔とされているが、Y軸方向に関して並列に設けられた複数のスリット孔とされることも考えられる。下側熱風噴出部25には、上方に向けて開口する複数の噴出孔251が分散形成されている。下側熱風噴出部25は、配管252を介して図示しない熱風送風部に接続されている。熱風送風部は、ヒータと送風機を備えており、加熱した空気を熱風として下側熱風噴出部25に送給する。下側熱風噴出部25は、熱風送風部から送給された熱風を複数の噴出孔251から上方の基材保持板11の移動経路に向けて噴出する。乾燥処理ユニット22を構成する上側熱風噴出部23および下側熱風噴出部25は、基材保持板11の移動経路基材保持板11が乾燥処理ユニット22に対して相対的に移動したときの移動経路を挟んで、対向配置されている。つまり、上側熱風噴出部23の噴出ヘッド232の直下に、下側熱風噴出部25が配置されている。これにより、金属箔5の上下面の同じ位置に、上側熱風噴出部23および下側熱風噴出部25から熱風が吹き付けられることとなる。上側熱風噴出部23の整流板231の下面には、加熱されることによって赤外線を放射するセラミックプレート237が設けられている。セラミックプレート237は、アルミナ系、チタニア系、ジルコニア系等の加熱されることによって赤外線を放射するセラミック材料、または、これらの混合物で構成されている。セラミックプレート237は、整流板231の下面にセラミック溶射を行うことによって形成することが可能である。なお、整流板231の下面のうち、噴出孔233にはセラミック溶射を行わずに開放しておくことは勿論である。また、セラミックプレート237は、必ずしも設けられている必要は無い。<移動機構30>移動機構30は、乾燥部20をY軸方向に沿って移動させる駆動装置である。移動機構30は、乾燥部20が搭載されているフレーム構造52に固定されており、Y軸方向に沿って延びるボールネジ、該ボールネジに螺合し、乾燥部20のチャンバー21に固定されているナット、および、ボールネジを回転させるサーボモータなどで構成される。ただし、移動機構30として、その他の駆動機構が採用されてもよく、例えば、リニアモータを利用したものが考えられる。図1に示したように、チャンバー21の両側から、側方に延びる一対のアーム32,32が延びており、それぞれのアーム32の先端には、受動回転するフリーローラ33が取り付けられている。フリーローラ33は、乾燥部20を支持するフレーム構造52の上部に載せられており、Y軸に沿って転がるように保持されている。移動機構30を駆動することによって、チャンバー21がY軸方向に沿った力が付加されると、フリーローラ33がY軸に沿って転がることにより、チャンバー21がY軸方向に沿って移動することとなる。また、図1に示したように、測定部10および乾燥部20は、それぞれ独立したフレーム構造51,52によって支持されている。これにより、乾燥部20の移動に伴って発生する振動により、測定部10による重量測定が妨げられることを抑制できる。制御部80は、CPU、RAMおよびROMReadOnlyMemoryなどを備えた一般的なコンピュータとして構成されている。制御部80は、RAMに展開されたプログラムに従ってCPUが動作することにより、乾燥装置100の構成要素例えば、乾燥部20または移動機構30の動作を制御する。なお、制御部80の一部または全部の機能が、専用回路でハードウェア的に実現されることも考えられる。<1.2.乾燥処理における乾燥装置100の動作>次に、乾燥装置100における乾燥処理時における乾燥装置100の動作について説明する。図5および図6は、乾燥装置100の概略側面図である。上述したように、乾燥装置100は、乾燥処理中、チャンバー21をY軸方向に沿って往復移動させる。図5,6中、チャンバー21については、図3と同様に、一対の支柱部13,13のうちの一方の位置において、チャンバー21をYZ平面に平行な平面で切断したときの切断面を図示している。図5は、金属箔5のY側に、乾燥処理ユニット22が配置されている状態を示しており、図6は、金属箔5の-Y側に、乾燥処理ユニット22が配置されている状態を示している。仮に、乾燥処理ユニット22を一方向にのみ移動させて、乾燥処理ユニット22上側熱風噴出部23と下側熱風噴出部25の間の位置を複数回通過させる場合、乾燥処理ユニット22を、移動方向に沿って複数用意する必要がある。このような場合、装置寸法が非常に長くなってしまい、また、複数の乾燥処理ユニット22の調整噴出する熱風の温度調整または風量調整などが非常に煩雑となる。これに対して、本実施形態では、1つの乾燥処理ユニット22を往復移動させることで、金属箔5を乾燥処理ユニット22の間を複数回通過させることができる。したがって、装置寸法が長くなることを抑制できる。また、1つの乾燥処理ユニット22の調整ですむため、作業面でも有利である。また、本実施形態では、乾燥処理中に、金属箔5の重量測定が行われる。ここで、乾燥処理中は、乾燥処理ユニット22から熱風が噴射されるため、その気流の影響で金属箔5の重量を正確に測定することが困難となる虞がある。そこで、本実施形態では、図3に示したように、チャンバー21をY方向へ移動させることで、測定室211に基材保持板11が配置される。乾燥室213にて発生した気流は、仕切部27に進路を遮られるため、測定室211側へ流れ込むことがほとんど抑制される。したがって、測定室211内に基材保持板11を配置させることで、金属箔5の重量を正確に測定することが可能となる。なお、乾燥処理ユニット22から噴出される熱風の流量が小さい、または、乾燥処理ユニット22と基材保持板11との距離を大きくとるなどによって、気流の影響を無視できるような場合には、仕切部27が省略されることも考えられる。また、移動機構30によりチャンバー21を移動させることで、基板保持部11に保持された金属箔5をチャンバー21の外部に取り出して、金属箔5の重量測定が行われるようにしてもよい。この場合、チャンバー21のY側または-Y側の側面に、基板保持部11および一対の支柱部13,支柱部13を通過させる通過口を設ければよい。金属箔5に塗工された塗工剤を乾燥させるため、乾燥装置100においては、乾燥処理ユニット22を、基材保持板11に載置された金属箔5の-Y側からY側、または、Y側から-Y側へ相対的に移動させる。具体的に、乾燥装置100は、チャンバー21を、図5に示した位置L1と図6に示した位置L2との間で往復移動させる。また、乾燥装置100は、金属箔5の重量を測定する場合には、図5に示した位置L1から図3に示した位置L0に向けて、チャンバー21を移動させる。ここで、金属箔5の重量測定を行うタイミングは、任意に設定することが可能である。例えば、乾燥部20を一往復させる度に重量測定する場合には、チャンバー21を、位置L0から移動させ、そして、位置L1,L2,L1の順に往復移動させた後、再び位置L0に戻して重量測定が行われる。この動作が繰り返し行われることで、乾燥処理中における金属箔5の重量変化をリアルタイムで取得することができる。また、チャンバー21を位置L1,L2の間を連続して複数回往復移動させるごとに、金属箔5の重量が測定されるようにしてもよい。また、チャンバー21の移動速度については、特に限定されるものではなく、任意に設定できる。ただし、金属箔5の乾燥をなるべく継続して行うという観点から、位置L0,L1間のチャンバー21の移動速度V1は、比較的高速であることが好ましく、位置L1,L2間のチャンバー21の移動速度V2よりも高速であることがより好ましい。チャンバー21の移動速度の一例として、例えば移動速度V1を分速24mとし、移動速度V2を分速10mとすることが考えられる。<1.3.効果>本実施形態によると、金属箔5に塗工された塗工剤の乾燥処理を行いながら、金属箔5の重量を計測することができる。これにより、乾燥中における塗工剤の乾燥状況を、金属箔5の重量変化から適切に把握することができる。これにより、金属箔5に対する、乾燥部20、すなわち、チャンバー21内に設置された乾燥処理ユニット22の相対的な移動速度、または、乾燥時間など含む各種乾燥処理条件を、容易かつ適切に決定することができる。図7は、帯状の金属箔を乾燥処理する乾燥装置900の概略断面図である。図7に示した乾燥装置900は、特許文献1にもあるように、帯状の比較的大きい金属箔例えば、600mm~700mm幅を、ロールトゥロール方式で搬送しながら、表面に塗工された塗工剤を乾燥させる装置として構成されている。乾燥装置900は、チャンバー921を備えており、該チャンバー921内には、金属箔95の進行方向に沿って、4つの乾燥処理ユニット922それぞれ、上側熱風噴出部923および下側熱風噴出部925が設置されている。本実施形態に係る乾燥装置100は、この乾燥装置900による金属箔95の乾燥処理を再現することが可能となっている。つまり、図5,6に示したように、チャンバー21を位置L1,L2間で2回往復移動させることで、金属箔5を4つ分の乾燥処理ユニット22を通過させたことになる。この乾燥処理は、図7に示した乾燥装置900において、帯状の金属箔95を4つの乾燥処理ユニット922を通過させることと略等価となる。したがって、乾燥装置900における乾燥処理の条件金属箔95の搬送速度または乾燥処理ユニットから噴出される熱風の温度、風量などを、乾燥装置100を用いて決定することができる。<2.第2実施形態>図8は、第2実施形態に係る乾燥装置100Aの概略断面図である。図8中、チャンバー21Aについては、図3と同様に、一対の支柱部13,13のうちの一方の位置において、チャンバー21AをYZ平面に平行な平面で切断したときの切断面を図示している。乾燥装置100Aは、乾燥部20の代わりに乾燥部20Aを備えている点で、第1実施形態に係る乾燥装置100と異なっている。なお、以下の説明において、第1実施形態の場合と同様の機能を有する要素については同一符号を付してその説明を省略する。乾燥部20Aは、チャンバー21よりもY軸方向に関して長い寸法を有するチャンバー21Aを備えている。チャンバー21Aの内部は、仕切部27および仕切部27Aによって、3つの区画測定室211、乾燥室213、予熱室215に仕切られている。より具体的には、チャンバー21Aは、Y側において、チャンバー21Aの内部空間を測定室211と乾燥室213とを仕切る仕切部27を備えるとともに、-Y側において、チャンバー21Aの内部空間を測定室211と予熱室215とに区切る仕切部27Aをさらに備えている。予熱室215は、金属箔5の上に塗工された塗工剤を昇温し、一定時間の予熱を行う予熱処理室となっている。この予熱処理は、乾燥室213において、主たる乾燥処理を行う前に、事前に金属箔5を加熱することを目的として行われるものである。予熱室215には、予熱処理ユニット22Aが設けられている。予熱処理ユニット22Aは、上部に設置されるセラミックヒータ23Aと、該セラミックヒータ23Aと対向する下部に設置された下側熱風噴出部25Aとで構成されている。セラミックヒータ23Aは、内部に熱風が通気される通気ボックスと、通気ボックスの下面に取り付けられたセラミックプレートとで構成されている。セラミックプレートは、セラミックプレート237と同様に、アルミナ系、チタニア系、ジルコニア系等の加熱されることによって赤外線を放射するセラミック材料、または、これらの混合物で構成されており、セラミック溶射によって形成されている。セラミックヒータ23Aは、通気ボックスに熱風が通気されることで、セラミックプレートが加熱される。セラミックプレートは、加熱されて昇温することによって赤外線を放射する。なお、セラミックヒータ23Aには、気体の噴出孔等は設けられていないため、通気ボックスに流入した熱風が通気ボックスまたはセラミックプレートの下面から噴出されることはない。乾燥装置100Aにおいては、予熱処理ユニット22Aは、セラミックヒータ23Aおよび下側熱風噴出部25Aの間に基材保持板11に保持された金属箔5を挟んだ状態で、放射熱および熱風により金属箔5を所要温度にまで昇温させる。このとき、移動機構30を駆動することにより、予熱処理ユニット22Aを、金属箔5のY側端部から-Y側端部までの間を往復移動させる。これにより、乾燥部20Aは、金属箔5に予熱処理ユニット22Aを複数回通過させて、金属箔5を昇温させる。また、乾燥装置100Aにおいては、予熱処理が完了した後、チャンバー21Aを-Y側へ移動させて金属箔5を測定室211内に配置させることで、引き続き乾燥処理を行うことができる。以上のように、乾燥部20Aに予熱室215を設けることによって、金属箔5を乾燥処理する前に予熱処理を行うことができる。また、予熱室215にて予熱処理が行われる間に、金属箔5を測定室211に移動させることで、金属箔5の重量を精密に測定することができる。したがって、予熱処理中における金属箔5の重量変化も把握することができる。なお、乾燥装置100Aにおいては、上下に配置されたセラミックヒータ23Aと下側熱風噴出部25とで金属箔5の予熱処理が行われる。しかしながら、上下にセラミックヒータ23Aを配置して、放射熱のみで予熱処理が行われてもよい。また、乾燥装置100Aにおいては、同一のチャンバー21A内に乾燥室213と予熱室215とが設けられている。しかしながら、予熱室215を乾燥室213とは異なるチャンバー内に設けてもよい。この場合、予熱処理ユニット22Aと乾燥処理ユニット22がそれぞれ設けられた2つのチャンバーを用意すればよい。そして、これらを独立的または一体的に移動させることによって、基材保持板11に保持されている金属箔5が、それぞれのチャンバーを往き来させることができる。また、予熱室215に、金属製のホットプレートを設けて、該ホットプレート上に金属箔5が載置されて、金属箔5を加熱するようにしてもよい。この場合、予熱処理が完了した後、金属箔5を基材保持板11に移動させればよい。また、金属箔5を保持している基材保持板11をホットプレート上に載置して、金属箔5を加熱するようにしてもよい。また、予熱処理については、チャンバー21Aを移動させずにつまり、予熱処理ユニット22Aを固定して行われてもよい。<3.変形例>以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。例えば上記実施形態では、上側熱風噴出部23および下側熱風噴出部25が1台ずつ設置されている。しかしながら、上側熱風噴出部23および下側熱風噴出部25が、複数組分備えられることも考えられる。また、上記実施形態では、上側熱風噴出部23および下側熱風噴出部25が熱風を噴出して、その熱風で溶剤に熱を付与して気化させることにより、金属箔5の乾燥が行われる。しかしながら、熱風以外の態様で、溶剤を気化させてもよい。例えば、セラミックヒータやカーボンヒータ、ハロゲンヒータなどでの熱源を利用して、溶剤を気化させることも考えられる。また、上記実施形態では、乾燥部20,20Aを往復移動させることで、上側熱風噴出部23、下側熱風噴出部25の間を複数回通過させるようにしている。しかしながら、複数組の上側熱風噴出部23および下側熱風噴出部25を隣接して設置し、これらを金属箔5に対して一方向にのみ一体的に移動させることも考えられる。複数組の上側熱風噴出部23および下側熱風噴出部25を設けた場合、装置寸法が長くなってしまうものの、図7に示した大規模な乾燥装置900の乾燥状況を忠実に再現することができる。また、複数組の上側熱風噴出部23および下側熱風噴出部25を環状に並べて、これらを金属箔5に対して回転させることも考えられる。もちろん、上側熱風噴出部23および下側熱風噴出部25を固定して、金属箔5を移動させてもよい。また、上記実施形態に係る乾燥装置100,100Aにおいては、塗工剤の乾燥状況が、金属箔5の重量変化に基づいて把握されるようになっている。しかしながら、その他の態様で、金属箔5の乾燥状況が把握されるようにしてもよい。例えば、溶剤例えばNMPを検出する溶剤センサをチャンバー内に取り付け、該センサの検出結果に基づいて、塗工剤の乾燥状況が把握されるようにすることも考えられる。また、基材に塗工された塗工剤の画像を取得して、該画像から乾燥状況が把握されるようにすることも考えられる。さらに上記実施形態および変形例にて説明した各構成は、互いに矛盾の生じない限り、適宜組み合わせたり、または省略したりすることができる。"