"それぞれがλ/4波長板として機能し、遅相軸が互いにほぼ直交するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列されたパターン化位相差フィルムの欠陥を検出するパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置において、前記パターン化位相差フィルムを挟むようにクロスニコル配置される第1及び第2の偏光板と、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射する光源部と、前記第2偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムを撮影して輝度画像を得る撮影装置と、前記輝度画像から欠陥を検出する欠陥検出部とを備え、前記第1及び第2の偏光板は、いずれか一方の偏光透過軸が前記第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる状態で、正常な前記第1及び第2位相差領域を撮影装置で撮影した際の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記一方の偏光透過軸の方向が調整されていることを特徴とするパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。前記パターン化位相差フィルムは、位相差層を透明フィルムからなる支持体に積層することにより前記第1及び第2位相差領域が形成されており、前記第1偏光板と前記パターン化位相差フィルムとの間、または前記パターン化位相差フィルムとの間に配され、前記支持体が有する位相差特性を打ち消す位相差補償板を備えることを特徴とする請求項1記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。前記位相差補償板は、前記支持体と同じ透明フィルムであることを特徴とする請求項2記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。前記画像処理部は、撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化回路と、複数個の明画素が繋がった領域を欠陥候補領域とする欠陥候補抽出回路とを有し、前記欠陥検出部は、前記欠陥候補領域に対して、隣接する他の前記欠陥候補領域との間の画素数を前記境界線の並ぶ方向に計数し、計数された画素数が所定値以下の場合に、当該欠陥候補領域を欠陥とすることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。前記第1及び第2位相差領域の境界に対応した前記輝度画像内の境界線を消去する画像処理部を備え、前記欠陥検出部は、前記境界線が消去された輝度画像に基づいて欠陥を検出することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。前記画像処理部は、撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化回路と、前記境界線が並ぶ方向に明画素の領域を収縮する収縮処理を二値化された輝度画像に対して前記境界線の幅に応じた回数で行い、前記境界線を消去する収縮処理回路とを有することを特徴とする請求項5記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。前記画像処理部は、前記収縮処理と同方向に明画素の領域を膨張する膨張処理を収縮処理された輝度画像に対して行い、前記収縮処理で残った明画素の領域を収縮処理前のサイズに戻す膨張処理回路を有し、前記欠陥検出部は、前記膨張処理された前記輝度画像に基づいて欠陥を検出することを特徴とする請求項6記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。前記画像処理部は、前記輝度画像上の画素に対して、少なくとも前記境界線の並ぶ方向に前記境界線間隔に応じた画素数だけ当該画素から離れた画素を相手画素として、当該画素の輝度から相手画素の輝度を減算した値を当該画素の新たな値とする差分処理を前記輝度画像上の各画素について行うことにより、境界線を実質的に消去した差分画像を生成する差分画像生成回路と、前記差分画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化回路とを有することを特徴とする請求項5記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。前記差分画像生成回路は、前記輝度画像上で互いに異なる方向の相手画素との間で差分処理を行うことにより各々の方向の差分画像をそれぞれ生成し、前記二値化回路は、前記複数の差分画像のそれぞれを所定のしきい値で二値化して複数の二値化画像を生成し、前記欠陥検出部は、複数の前記二値化画像に対して欠陥検出を行うことを特徴とする請求項8記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。それぞれがλ/4波長板として機能し、遅相軸が互いにほぼ直交するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列されたパターン化位相差フィルムの欠陥を検出するパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法において、クロスニコル配置にされた第1及び第2の偏光板の間に、前記パターン化位相差フィルムを配した状態で、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射したときに、前記第2偏光板を介して撮影される正常な第1及び第2位相差領域の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記第1及び第2の偏光板いずれか一方の偏光透過軸の方向を、前記第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる範囲で調整する調整ステップと、偏光透過軸の方向が調整された前記第1及び第2の偏光板との間に前記パターン化位相差フィルムを配し、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに前記検査光を照射し、前記第2偏光板を介して位相差フィルムを撮影して輝度画像を取得する撮影ステップと、取得した前記輝度画像に基づいて欠陥を検出する検出ステップとを有することを特徴とするパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。前記パターン化位相差フィルムは、位相差層を透明フィルムからなる支持体に積層することにより前記第1及び第2位相差領域が形成されており、前記調整ステップ及び前記撮影ステップでは、前記第1偏光板と前記パターン化位相差フィルムとの間、または前記パターン化位相差フィルムとの間に前記支持体が有する位相差特性を打ち消す位相差補償板が配されていることを特徴とする請求項10記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。前記位相差補償板は、前記支持体と同じ透明フィルムであることを特徴とする請求項11記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。前記画像処理部は、撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化ステップと、複数個の明画素が繋がった領域を欠陥候補領域とする欠陥候補抽出ステップとを有し、前記検出ステップは、前記欠陥候補領域に対して、隣接する他の前記欠陥候補領域との間の画素数を前記境界線の並ぶ方向に計数し、計数された画素数が所定値以下の場合に、当該欠陥候補領域を欠陥とすることを特徴とする請求項10ないし12のいずれか1項に記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。前記第1及び第2位相差領域の境界に対応した前記輝度画像内の境界線を消去する消去ステップを有し、前記検出ステップは、前記境界線が消去された輝度画像に基づいて欠陥を検出することを特徴とする請求項10ないし12のいずれか1項に記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。前記消去ステップは、撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化ステップと、前記境界線が並ぶ方向に明画素の領域を収縮する収縮処理を二値化された輝度画像に対して前記境界線の幅に応じた回数で行い、前記境界線を消去する収縮ステップとを有することを特徴とする請求項14記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。前記消去ステップは、前記収縮処理と同方向に明画素の領域を膨張する膨張処理を収縮処理された輝度画像に対して行い、収縮処理で残った明画素の領域を収縮処理前のサイズに戻す膨張処理ステップを有し、前記検出ステップは、膨張処理された前記輝度画像に基づいて欠陥を検出することを特徴とする請求項15記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。前記消去ステップは、前記輝度画像上の画素に対して、少なくとも前記境界線の並ぶ方向に前記境界線間隔に応じた画素数だけ当該画素から離れた画素を相手画素として、当該画素の輝度から相手画素の輝度を減算した値を当該画素の新たな値とする差分処理を前記輝度画像上の各画素について行うことにより、境界線を実質的に消去した差分画像を生成する差分画像生成ステップと、前記差分画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化ステップとを有することを特徴とする請求項14記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。前記差分画像生成ステップは、前記輝度画像上で互いに異なる方向の相手画素との間で差分処理を行うことにより各々の方向の差分画像をそれぞれ生成し、前記二値化ステップは、前記複数の差分画像のそれぞれを所定のしきい値で二値化して複数の二値化画像を生成し、前記検出ステップは、複数の前記二値化画像に対して欠陥検出を行うことを特徴とする請求項17記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。それぞれがλ/4波長板として機能し、遅相軸が互いにほぼ直交するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列されたパターン化位相差フィルムを製造する製造ステップと、偏光透過軸の方向が調整された前記第1及び第2の偏光板との間に前記パターン化位相差フィルムを配し、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射し、前記第2偏光板を介して位相差フィルムを撮影して輝度画像を取得する取得ステップと、取得した前記輝度画像に基づいて欠陥を検出する検出ステップと、前記取得ステップに先立って実施され、前記第1及び第2の偏光板の間に、前記パターン化位相差フィルムを配した状態で、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射したときに、前記第2偏光板を介して撮影される正常な第1及び第2位相差領域の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記第1及び第2の偏光板いずれか一方の偏光透過軸の方向を、前記第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる範囲で調整する調整ステップとを有することを特徴とするパターン化位相差フィルムの製造方法。ところで、パターン化位相差フィルムは、上述のように光学軸の方向が互いに異なる位相差領域を交互に多数配してある。このため、特許文献1,2のように偏光板を配しただけでは、各位相差領域により観察される輝度が異なってしまう。そのため、欠陥を精度良く検出することができないという問題があった。本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであって、パターン化位相差フィルムの欠陥を精度よく検出することができるパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置及び方法、並びに製造方法を提供することを目的とする。上記課題を達成するために、本発明のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置では、それぞれがλ/4波長板として機能し、遅相軸が互いにほぼ直交するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列されたパターン化位相差フィルムを挟むようにクロスニコル配置される第1及び第2の偏光板と、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射する光源部と、前記第2偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムを撮影して輝度画像を得る撮影装置と、前記輝度画像から欠陥を検出する欠陥検出部とを備え、前記第1及び第2の偏光板は、いずれか一方の偏光透過軸が第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる状態で、正常な第1及び第2位相差領域を撮影装置で撮影した際の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記一方の偏光透過軸の方向を調整したものである。前記パターン化位相差フィルムが、位相差層を透明フィルムからなる支持体に積層することにより前記第1及び第2位相差領域が形成されているときに、前記第1偏光板と前記パターン化位相差フィルムとの間、または前記パターン化位相差フィルムとの間に、前記支持体が有する位相差特性を打ち消す位相差補償板を配することが好ましい。前記位相差補償板としては、前記支持体と同じ透明フィルムとするのが簡便である。前記画像処理部は、撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化回路と、複数個の明画素が繋がった領域を欠陥候補領域とする欠陥候補抽出回路とを有し、前記欠陥検出部は、前記欠陥候補領域に対して、隣接する他の前記欠陥候補領域との間の画素数を前記境界線の並ぶ方向に計数し、計数された画素数が所定値以下の場合に、当該欠陥候補領域を欠陥とすることが好ましい。前記第1及び第2位相差領域の境界に対応した前記輝度画像内の境界線を消去する画像処理部を備え、前記欠陥検出部は、前記境界線が消去された輝度画像に基づいて欠陥を検出することが好ましい。また、前記画像処理部は、撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化回路と、前記境界線が並ぶ方向に明画素の領域を収縮する収縮処理を二値化された輝度画像に対して前記境界線の幅に応じた回数で行い、前記境界線を消去する収縮処理回路とを有することが好ましい。前記画像処理部は、前記収縮処理と同方向に明画素の領域を膨張する膨張処理を収縮処理された輝度画像に対して行い、収縮処理で残った明画素の領域を収縮処理前のサイズに戻す膨張処理回路を有し、前記欠陥検出部は、前記膨張処理された前記輝度画像に基づいて欠陥を検出することが好ましい。また、前記画像処理部は、前記輝度画像上の画素に対して、少なくとも前記境界線の並ぶ方向に前記境界線間隔に応じた画素数だけ当該画素から離れた画素を相手画素として、当該画素の輝度から相手画素の輝度を減算した値を当該画素の新たな値とする差分処理を前記輝度画像上の各画素について行うことにより、境界線を実質的に消去した差分画像を生成する差分画像生成回路と、前記差分画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化回路とを有することが好ましい。前記差分画像生成回路は、前記輝度画像上で互いに異なる方向の相手画素との間で差分処理を行うことにより各々の方向の差分画像をそれぞれ生成し、前記二値化回路は、前記複数の差分画像のそれぞれを所定のしきい値で二値化して複数の二値化画像を生成し、前記欠陥検出部は、複数の前記二値化画像に対して欠陥検出を行うことが好ましい。本発明のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法では、クロスニコル配置にされた第1及び第2の偏光板の間に、それぞれがλ/4波長板として機能し、遅相軸が互いにほぼ直交するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列されたパターン化位相差フィルムを配した状態で、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射したときに、前記第2偏光板を介して撮影される正常な第1及び第2位相差領域の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記第1及び第2の偏光板のいずれか一方の偏光透過軸の方向を、前記第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる範囲で調整する調整ステップと、偏光透過軸の方向が調整された前記第1及び第2の偏光板との間に前記パターン化位相差フィルムを配し、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射し、前記第2偏光板を介して位相差フィルムを撮影して輝度画像を取得する撮影ステップと、取得した前記輝度画像に基づいて欠陥を検出する検出ステップとを有するものである。前記パターン化位相差フィルムが、位相差層を透明フィルムからなる支持体に積層することにより前記第1及び第2位相差領域が形成されているときに、前記調整ステップ及び前記撮影ステップでは、前記第1偏光板と前記パターン化位相差フィルムとの間、または前記パターン化位相差フィルムとの間に前記支持体が有する位相差特性を打ち消す位相差補償板が配されることが好ましい。前記位相差補償板としては、前記支持体と同じ透明フィルムとするのが簡便である。前記画像処理部は、撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化ステップと、複数個の明画素が繋がった領域を欠陥候補領域とする欠陥候補抽出ステップとを有し、前記検出ステップは、前記欠陥候補領域に対して、隣接する他の前記欠陥候補領域との間の画素数を前記境界線の並ぶ方向に計数し、計数された画素数が所定値以下の場合に、当該欠陥候補領域を欠陥とすることが好ましい。前記第1及び第2位相差領域の境界に対応した前記輝度画像内の境界線を消去する消去ステップを有し、前記検出ステップは、前記境界線が消去された輝度画像に基づいて欠陥を検出するのがよい。前記消去ステップは、撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化ステップと、前記境界線が並ぶ方向に明画素の領域を収縮する収縮処理を二値化された輝度画像に対して前記境界線の幅に応じた回数で行い、前記境界線を消去する収縮ステップとを有することが好ましい。前記消去ステップは、前記収縮処理と同方向に明画素の領域を膨張する膨張処理を収縮処理された輝度画像に対して行い、収縮処理で残った明画素の領域を収縮処理前のサイズに戻す膨張処理ステップを有し、前記検出ステップは、膨張処理された前記輝度画像に基づいて欠陥を検出することが好ましい。前記消去ステップは、前記輝度画像上の画素に対して、少なくとも前記境界線の並ぶ方向に前記境界線間隔に応じた画素数だけ当該画素から離れた画素を相手画素として、当該画素の輝度から相手画素の輝度を減算した値を当該画素の新たな値とする差分処理を前記輝度画像上の各画素について行うことにより、境界線を実質的に消去した差分画像を生成する差分画像生成ステップと、前記差分画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化ステップとを有することが好ましい。前記差分画像生成ステップは、前記輝度画像上で互いに異なる方向の相手画素との間で差分処理を行うことにより各々の方向の差分画像をそれぞれ生成し、前記二値化ステップは、前記複数の差分画像のそれぞれを所定のしきい値で二値化して複数の二値化画像を生成し、前記検出ステップは、複数の前記二値化画像に対して欠陥検出を行うことが好ましい。本発明のパターン化位相差フィルムの製造方法は、それぞれがλ/4波長板として機能し、遅相軸が互いにほぼ直交するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列されたパターン化位相差フィルムを製造する製造ステップと、偏光透過軸の方向が調整された前記第1及び第2の偏光板との間に前記パターン化位相差フィルムを配し、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射し、前記第2偏光板を介して位相差フィルムを撮影して輝度画像を取得する取得ステップと、取得した前記輝度画像に基づいて欠陥を検出する検出ステップと、前記取得ステップに先立って実施され、前記第1及び第2の偏光板の間に、前記パターン化位相差フィルムを配した状態で、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射したときに、前記第2偏光板を介して撮影される正常な第1及び第2位相差領域の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記第1及び第2の偏光板いずれか一方の偏光透過軸の方向を、前記第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる範囲で調整する調整ステップとを有するものである。本発明によれば、クロスニコル配置にされた第1及び第2の偏光板の間に、パターン化位相差フィルムを配した状態で、第1偏光板を介してパターン化位相差フィルムに検査光を照射し、第2偏光板を介して位相差フィルムを撮影して得られる輝度画像から欠陥を検出するときに、正常な第1及び第2位相差領域を第2偏光板を介して撮影した際の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、第1及び第2の偏光板いずれか一方の偏光透過軸の方向を、第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる範囲で調整されるから、低い輝度レベルで撮影されるパターン化位相差フィルムの第1位相差領域と第2位相差領域の正常部分に対して、欠陥部分を高い輝度で撮影することができ、しかも正常部分の輝度が第1位相差領域と第2位相差領とで同じになるから、精度よく欠陥を検出することができる。[第1実施形態]図1において、欠陥検出装置10は、パターン化位相差フィルムの製造ライン上に設けられている。この欠陥検出装置10には、位相差フィルム形成工程からの長尺なパターン化位相差フィルム以下、単に位相差フィルムという12が連続供給され、その位相差フィルム12に対して欠陥の検出を行う。なお、以下の説明では、位相差フィルム12の長手方向をX方向、このX方向に直交する位相差フィルム12の幅方向をY方向とする。位相差フィルム12には、位相差層12bの位相差特性が異なる第1位相差領域14と第2位相差領域15とがY方向に交互に配列されている。位相差フィルム12は、位相差フィルム形成工程において、図2に示すように、TACトリアセチルセルロースなどの透明フィルムからなる支持体12aの表面に第1,第2位相差領域14,15の位相差を発現させる位相差層12bが形成される。第1位相差領域14,第2位相差領域15は、位相差フィルム12の長手方向に沿って延びたストライプ状であって、Y方向に一定のピッチで交互に並べて配されている。各位相差領域14,15の幅Y方向の長さは、例えば270μmであり、この幅と同じピッチで各位相差領域14,15がY方向に並んでいる。なお、図1では、各位相差領域14,15の幅を誇張して描いてある。図3に示すように、X方向を基準0°として、第1位相差領域14は、その光学軸遅相軸または進相軸、例えば遅相軸As1が-45°=-θ1だけ傾けられたλ/4波長板として機能するように形成され、一方の第2位相差領域15は、その遅相軸As2が45°=θ1だけ傾けられたλ/4波長板として機能するように形成されている。したがって、位相差フィルム12は、第1位相差領域14と第2位相差領域15の遅相軸As1,As2が互いに直交するように形成されたパターン化位相差フィルムとなっている。このような位相差フィルム12は、例えば液晶スクリーンに貼り付けられ、立体画像を観察するために用いられる。なお、詳細を後述するように、位相差フィルム12の遅相軸As1,As2がX方向に対して厳密に±45°傾けられている必要はなく、また基準とする方向も任意であって、各位相差領域14,15の遅相軸が互いにほぼ直交するパターン化位相差フィルムであれば検査対象になる。また、遅相軸に代えて進相軸が互いに直交するように各位相差領域が形成されたパターン化位相差フィルムも検査対象になる。欠陥検出装置10は、図1に示すように、光源部16、撮影装置17、第1,第2偏光板18,19、欠陥検出ユニット20を有している。位相差フィルム12が用いられる最終製品として、3Dテレビを想定し、これを鑑賞者が通常の観察をするとした場合には、例えば直径が100μm程度の欠陥を検出できればよく、欠陥検出装置10では、各部の諸元がそのように決められている。テレビ鑑賞者には100μm以下のサイズのものは欠陥として識別されることがないので実用上は問題がないからである。また、欠陥としては、異物、汚れ、キズや、配光ムラ位相差特性の局所的な乱れなどが挙げられる。欠陥検出装置10では、位相差フィルム形成工程から供給される位相差フィルム12が搬送機構図示省略によってX方向に連続搬送される。この位相差フィルム12の搬送路には、所定の間隔で2本のガイドローラ図示省略を配してあり、これらガイドローラに位相差フィルム12が掛けられることにより、各ガイドローラの間の検査ステージで位相差フィルム12が平面状に保持される。検査ステージには、光源部16と、撮影装置17と、第1,第2偏光板18,19とが配されている。光源部16と撮影装置17とは、搬送路を挟んで互いに反対側に配してある。光源部16は、ハロゲンランプなどの光源を有しており、この例では搬送路の下側から第1偏光板18を介して位相差フィルム12の下面に向けて幅方向に一様に検査光を照射する。なお、光源部16の光源としては、メタルハライドランプ等の他のランプでもよく、LED発光ダイオード等であってもよい。撮影装置17は、搬送路の上側に、位相差フィルム12の法線方向から第2偏光板19を介して位相差フィルム12の輝度画像を撮影する。この撮影装置17は、撮影レンズ17aと、ライン状に並べた多数の受光素子からなるCCDラインセンサ17b等から構成されたリニアアレイカメラとなっており、1回の撮影で位相差フィルム12の幅方向に平行な1ラインを撮影する。輝度画像の各画素の値は対応する位相差フィルム12の部分から射出されて第2偏光板を透過した光量、すなわち第2偏光板を通して観察される輝度を表している。位相差フィルム12が1ライン分搬送されるごとに撮影装置17による1回の撮影を行うことによって、検査ステージを通過する位相差フィルム12の輝度画像を順次に撮影する。撮影装置17の画素分解能、すなわち輝度画像の1画素に対応する位相差フィルム12上におけるY方向の長さは、例えば10μm/画素となっている。なお、撮影装置17として、リニアアレイカメラではなく、複数のラインを同時に撮影するエリアカメラを用いてもよい。第1偏光板18は、光源部16と位相差フィルム12との間に、また第2偏光板19は、位相差フィルム12と撮影装置17との間に、それぞれ位相差フィルム12と平行な姿勢で配されている。各偏光板18,19は、いずれも直線偏光タイプのものであり、第1偏光板18の偏光透過軸P1と第2偏光板19の偏光透過軸P2が互いに直交する、いわゆるクロスニコル配置とされている。後述するように偏光透過軸P1及び偏光透過軸P2の方向が位相差フィルム12に対して調整されるが、偏光透過軸P2の方向を偏光透過軸P1に連動させることにより偏光透過軸P1,P2が互い直交する状態を維持する。第1偏光板18と第2偏光板19は、欠陥がない正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15とを撮影装置17で撮影したときに、それら各位相差領域14,15が同じ輝度レベルとなるように、位相差フィルム12に対する偏光透過軸P1の方向が調整される。この調整では、偏光透過軸P1が遅相軸As1とほぼ平行、かつ、偏光透過軸P2が遅相軸As2とほぼ平行、となる範囲で行う。これにより、正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15とを透過した検査光が第2偏光板19を透過しない消光状態に近い状態消光状態近傍で、第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるようにしている。位相差フィルム12は、遅相軸As1,As2が直交するように第1位相差領域14と第2位相差領域15とが形成されるが、実際には種々の理由により遅相軸As1,As2が互いに直交した状態からずれていることがある。このため、例えば偏光透過軸P1を遅相軸As1と平行に調整した場合に、第1位相差領域14については検査光を通さない消光状態となるが第2位相差領域15については消光状態にはならず、それらに輝度レベルに差が生じることがある。このように各位相差領域14,15に輝度差が生じると、撮影装置17による輝度画像に基づいて欠陥を精度よく検出できない。そこで、消光状態ではないが、上記のように消光状態に近い状態で第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるように調整し、欠陥検出を精度よく行うことができるようにしている。この例では第1位相差領域14の遅相軸As1と第1偏光板18の偏光透過軸P1とをほぼ平行となる状態で、正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるように調整しているが、このようにほぼ平行となる状態としているのは、上記からわかるように消光状態に近い状態とするためである。ここで、消光状態に近い状態で正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとすることは、遅速軸As1,As2のなす角度の90°からのズレをΔθとすると、偏光透過軸P1,P2のなす角度が90°クロスニコルを維持した状態で、偏光透過軸P1が遅相軸As1に対して、また偏光透過軸P2が遅相軸As2に対して、それぞれΔθ/2だけずらした状態に調整することを意味する。また、第1偏光板18と第2偏光板19のいずれか一方の偏光透過軸を、第1位相差領域14と第2位相差領域15のいずれか一方の光学軸遅相軸または進相軸とほぼ平行となる状態にして、正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるように調整すればよい。したがって、第1偏光板18の偏光透過軸P1が第1位相差領域14の遅相軸As1とほぼ直交する状態で、正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるように調整してもよい。また、偏光透過軸P1が第1位相差領域14の進相軸とほぼ平行となる状態あるいは直交する状態で正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるように調整してもよい。なお、第1偏光板18と第2偏光板19とがクロスニコルとされており、また第1位相差領域14と第2位相差領域15の各光学軸例えば遅相軸As1,As2とがほぼ直交している。このため、一方の偏光板の偏光透過軸と一方の位相差領域の光学軸とをほぼ平行な状態とすることは、一方の偏光板の偏光透過軸と他方の位相差領域の光学軸とをほぼ直交する状態にすること、他方の偏光板の偏光透過軸と他方の位相差領域の光学軸とをほぼ平行な状態にすること、及び他方の偏光板の偏光透過軸と一方の位相差領域の光学軸とをほぼ直交する状態にすることと同じ意味である。撮影装置17からの輝度画像は、欠陥検出ユニット20に送られる。欠陥検出ユニット20は、撮影装置17で得られる輝度画像に基づいて位相差フィルム12の欠陥を検出する。図4に示すように、欠陥検出ユニット20は、画像処理部21と、欠陥検出部22とを有し、画像処理部21は、D/A変換器23,メモリ24,二値化回路25,収縮処理回路26,膨張処理回路27,ノイズ除去回路28を有する。D/A変換器23は、輝度画像の各画素の輝度レベルをデジタルデータ化する。メモリ24は、多数のラインの輝度画像を記憶可能であり、1ラインずつ入力される輝度画像を順次蓄積することにより、二次元の輝度画像を生成する。また、メモリ24は、欠陥検出ユニット20の各部が処理を行うためのワークメモリとしても用いられる。メモリ24には、所定ライン数、例えば400ラインからなる二次元の輝度画像が生成され、この二次元の輝度画像を1つの処理単位として以降の画像処理が実施される。400ラインからなる二次元の輝度画像には、前後の輝度画像との間でオーバーラップするように生成され、二次元の輝度画像間の境界付近の欠陥を漏れなく検出できるようにしている。画像処理部21の各部は、メモリ24に所定ライン数の輝度画像が生成されるごとに、これを読み出し、その輝度画像に対して所定の処理を施した上で、再びメモリ24に保存する。輝度画像には、識別データが付与される。この識別データは、画像処理部21で実施された処理の履歴を示すものであり、画像処理部21の各部で処理が行われるごとに、その内容が更新される。画像処理部21の各部は、この識別データに基づき、メモリ24に保存された輝度画像に該当処理を行うか否かを識別し、該当処理を行うべき輝度画像があれば、それをメモリ24から読み出して該当処理を実施する。これにより、二次元の輝度画像に対して、画像処理部21による所定の画像処理が順次に施される。二値化回路25は、メモリ24に記憶されている輝度画像の各画素について、輝度レベルを所定のしきい値と比較して二値化する。この二値化より、輝度レベルがしきい値よりも低い画素を値0の暗画素とし、しきい値以上の画素を値1の明画素にする。この二値化では、位相差領域14,15の正常部分に対応した画素が暗画素となり、この正常部分よりも輝度が高く欠陥候補となる画素が明画素となるようにすればよいから、第1偏光板18の偏光透過軸P1の方向の調整後に正常部分から得られる輝度に基づいてしきい値を設定する。第1,第2偏光板18,19が調整された状態では、第1,第2位相差領域14,15の正常部分の輝度は消光状態に近い状態で両者が同じ輝度レベルになっている。上記二値化のためのしきい値としては、この正常部分の輝度レベルより高い輝度レベルであれば良いが、どの輝度レベル以上の輝度部分を欠陥候補とするか、に応じて決める。この輝度レベルは、通常、予め模擬的に生成した欠陥サンプルか、実際に生じた欠陥サンプルを、調整済の欠陥検出装置10もしくは同等の光学系の実験機にセットして該当欠陥の輝度測定を行って決めることができる。収縮処理回路26は、輝度画像に含まれる位相差領域14,15の境界線や、ノイズの消去を行う。第1位相差領域14と第2位相差領域15との境界は、狭い幅ではあるが位相差特性が崩れ、欠陥と同様に輝度が高くなる。このため、二次元の輝度画像上では、Y方向に所定の画素数、例えば2~3画素で、X方向に沿った直線上の輝度の高くなった境界線となる。収縮処理回路26は、境界線を消去するために収縮処理を二値化された輝度画像に対して行う。また、収縮処理により、Y方向の長さが小さいノイズとなる明画素が同時に消去される。境界線の各画素は、二値化により明画素に変換される。収縮処理は、各位相差領域14,15が並ぶ方向、すなわちY方向に対して明画素の幅を縮小するように行う。この収縮処理は、境界線を消去し得るだけの回数、すなわち境界線の幅Y方向の画素数に応じた回数だけ行われる。このように境界線を消去することにより、各位相差領域14,15の境界の影響をなくして欠陥を精度よく検出することができるようになる。1回の収縮処理では、着目する輝度画像上の画素について、同じ1ライン中でそれに隣接した画素の一方、例えば右側が暗画素値が0であるときに、着目する画素を暗画素値が0とする処理を各画素について行う。すなわち、同じ1ライン上で明画素領域の右端の画素を暗画素にして取り除く。このため、例えば、境界線の幅が2画素であるときには、2回の収縮処理を行い、境界線の幅が3画素であるときには、3回の収縮処理を行うことで境界線を消去する。収縮処理を何回行うかは、撮影装置17の分解能と位相差フィルム12上での境界線の幅によって決めることができるが、境界線の幅の正常範囲内のばらつきを考慮して、実験により輝度画像上の境界線の幅画素数から決めることが望ましい。なお、上記の収縮処理では、処理ごとに明画素領域の右端の画素を暗画素にして取り除くようにしているが、明画素領域の左端の画素を暗画素にして取り除いてもよい。膨張処理回路27は、収縮処理後の輝度画像に対して膨張処理を施す。この膨張処理によって、輝度画像に残った明画素の領域のY方向の長さを復元する。これにより、欠陥判定の際に精度よく欠陥サイズの判定を行うことができるようにする。膨張処理は、Y方向について収縮処理の逆論理で行われ、輝度画像上の着目する画素について、同じ1ライン中でそれに左側に隣接した画素が明画素値が1であるときに、着目する画素を明画素値1とする処理を各画素について行う。この膨張処理は、収縮処理と同じの処理回数だけ行われる。なお、この例では、欠陥検出の際に、画素数に基づく欠陥抽出や欠陥判定を容易とするために膨張処理を行って、残った明画素の領域のサイズを元へ戻している。したがって、明画素の領域のサイズによらず欠陥として判断するのであれば、膨張処理を省略することができる。また、この例では、収縮処理及び膨張処理をY方向についてのみ行っているから、輝度画像を二次元化せずに、1ラインずつ収縮処理及び膨張処理を行ってもよい。さらに、この例では、Y方向のみを対象に収縮,膨張処理を行っているが、X方向にも行うことによって、X方向の長さが小さいノイズとなる明画素の消去を同時に行ってもよい。ノイズ除去回路28は、所定画素数以下の明画素の領域をノイズとして輝度画像から除去する。この例では、収縮処理後で膨張処理前の段階で、周囲が全て暗画素となる孤立した1画素の明画素孤立点をノイズとして消去する。この消去は、明画素を暗画素に変換することにより行われる。なお、ノイズ除去回路28による、ノイズ除去は、電気的なノイズなども種々の要因で現れたノイズとしての明画素や、欠陥として検出してなくても問題にならない程度に面積画素数が小さい明画素の領域を消すものであり、1画素の明画素の領域に限らず、複数の明画素が繋がった明画素の領域をノイズとして除去してもよい。また、収縮処理前の輝度画像や、膨張処理後で欠陥検出の直前にノイズ除去を行ってもよい。欠陥検出部22は、膨張処理後の輝度画像から欠陥を検出する。この欠陥検出部22は、欠陥の検出では、輝度画像上の明画素の領域を抽出して、その抽出した領域を欠陥部分として特定する。また、明画素の領域の画素数を調べることにより、欠陥のX,Y方向の長さ、サイズ、形状を判定することも可能である。もちろん、明画素の領域の長さやサイズに基づいて欠陥部分とするか否かを判定することも可能である。欠陥検出部22は、欠陥を検出したときには、その欠陥の位相差フィルム12上の位置や検出した欠陥のサイズを含む欠陥情報を生成して出力する。この欠陥情報は、欠陥部分を製品として使用しないための制御情報として用いられる。次に上記構成の作用について説明する。図5に示すように、欠陥検出装置10による欠陥検査に先立って、偏光透過軸の方向の調整を行う。まず、検査ステージの第1偏光板18と第2偏光板19との間に、検査対象となる位相差フィルム12の予め特定しておいた正常部分を配した状態にする。次に、第1偏光板18と第2偏光板19の各偏光透過軸P1,P2を直交させて、クロスニコル状態にする。クロスニコル状態、及び位相差フィルム12との平行状態を維持しながら粗調整を行い、この粗調整で第1偏光板18の偏光透過軸P1が第1位相差領域14の遅相軸As1と平行となるようにする。このときに、偏光透過軸P1と遅相軸As1とを厳密に平行にする必要はなく、ほぼ平行となる程度でよい。簡単には、光源部16を点灯させた状態で、第1位相差領域14、または第2位相差領域15を第2偏光板19を介して観察したときに、透過する光量が最も少なくなる消光状態となるように調整すればよい。粗調整後に、光源部16及び撮影装置17を作動させ、撮影装置17で撮影される輝度画像に基づいて第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度レベルを参照できるようにする。そして、この後に、各位相差領域14,15の輝度レベルが同じになるように微調整を行う。微調整では、クロスニコル状態、及び位相差フィルム12との平行状態を維持しながら、各輝度レベルが同一になるように設定する。この微調整では、偏光透過軸P1の方向を大きく変えないようにして、偏光透過軸P1が遅相軸As1とほぼ平行であって消光状態に近い状態を維持しながら偏光透過軸P1の方向を調整する。光源部16からの検査光は、第1偏光板18を介して直線偏光となって位相差フィルム12に入射する。ここで偏光透過軸P1が第1位相差領域14の遅相軸As1と正確に平行となっている場合には、第1偏光板18から射出された直線偏光の検査光は、第1位相差領域14を透過しても位相差が生じることない。したがって、その検査光は、直線偏光のまま第2偏光板9に入射する。そして、第2偏光板19に入射する検査光は、その偏光方向が第2偏光板19の偏光透過軸P2と直交しているから、第2偏光板19から射出されない。また、偏光透過軸P1が第1位相差領域14の遅相軸As1とほぼ平行であるが正確に平行となっていない場合には、検査光は、第1位相差領域14を透過する際に位相差を生じ楕円偏光となって第2偏光板19に入射する。したがって、この場合には、楕円偏光となった検査光のうち偏光透過軸P2に直交する偏光成分は第2偏光板19から射出されないが、偏光透過軸P2に平行な偏光成分は第2偏光板19から射出される。そして、偏光透過軸P1と遅相軸As1との方向関係の平行からのずれが大きくなるほど、偏光透過軸P2に平行な偏光成分が大きくなるから、第2偏光板19からの射出光量が大きくなって第1位相差領域の輝度が高くなる。一方、第2位相差領域15についても同様であるが、遅相軸As2に対する偏光透過軸P1,P2の関係が第1位相差領域14とは逆になる。すなわち、偏光透過軸P1が第2位相差領域15の遅相軸As2と正確に直交している場合には、第1偏光板18からの直線偏光の検査光は、偏光方向が遅相軸As2と正確に直交しているから第2位相差領域15を透過しても位相差が生じることなく第2偏光板19に入射する。そして、その検査光は、偏光方向が第2偏光板19の偏光透過軸P2と直交しているから、第2偏光板19から射出されない。また、偏光透過軸P1が第2位相差領域15の遅相軸As1とほぼ直交であるが正確に直交となっていない場合には、検査光は、第2位相差領域15を透過する際に位相差を生じて楕円偏光となる。楕円偏光となった検査光のうち偏光透過軸P2に平行な偏光成分だけが第2偏光板19から射出される。偏光透過軸P1と遅相軸As2との方向関係の直交からのずれが大きくなるほど、偏光透過軸P2に平行な偏光成分が大きくなり、第2偏光板19からの射出光量が大きくなって輝度が高くなる。遅相軸As1,As2が互いに正確に直交するように第1位相差領域14と第2位相差領域15とが形成された位相差フィルム12が検査対象である場合には、遅相軸As1と偏光透過軸P1との平行に対するずれの増減は、遅相軸As2と偏光透過軸P1との直交に対するずれの増減と同じであり、そのずれの大きさが同じになる。したがって、偏光透過軸P1が遅相軸As1と平行な状態となると同時に、偏光透過軸P1が遅相軸As2と直交した状態になるから、第1,第2位相差領域14,15からの検査光が第2偏光板19から射出されることはなく、いずれの領域の輝度も0消光状態に調整し得る。上記のように遅相軸As1,As2が互いに正確に直交した状態であることは位相差フィルム12として理想的ではあるが、支持体12aが僅かながらでも複屈折性を示す、位相差領域の形成時の遅相軸の向きの誤差などの要因により、遅相軸As1と遅相軸As2とが正確に直交せず僅かに直交からずれている場合が多い。この場合には、偏光透過軸P1を遅相軸As1と平行な状態にするのと同時に、偏光透過軸P1を遅相軸As2と直交した状態にすることはできない。すなわち、第1位相差領域14及び第2位相差領域15を同時に輝度レベル0として撮影するように微調整することはできない。しかしながら、遅相軸As1と偏光透過軸P1との平行に対するずれと、遅相軸As2と偏光透過軸P1との直交に対するずれの大きさを同じにし、第1,第2位相差領域14,15を透過して第2偏光板19から射出される検査光の偏光成分の大きさを同じにすることができる。したがって、第1,第2位相差領域14,15の輝度を0ではないが低輝度レベルとした消光状態に近い状態で同時に同じ輝度レベルに微調整することができる。上記のように偏光透過軸P1の微調整を行ったのち、第1位相差領域14または第2位相差領域15の正常部分を撮影装置17で撮影した輝度レベルを取得し、その輝度レベルよりも少し高いしきい値を二値化回路25に設定する。この後に、位相差フィルム12の欠陥検査を開始する。欠陥検査が開始されると、位相差フィルム形成工程から位相差フィルム12が欠陥検出装置10に連続供給され、検査ステージを通って、さらに下流へと搬送される。この搬送中には、光源部16からの検査光が第1偏光板18を介して位相差フィルム12に照射され、位相差フィルム12が1ライン分送られるごとに撮影装置17によって1ライン分の輝度画像の撮影が行われる。撮影を行うごとに撮影装置17から1ライン分の輝度画像が欠陥検出ユニット20に送られ、D/A変換器23で各画素の輝度レベルがデジタルデータ化されてからメモリ24に書き込まれる。これにより、二次元の輝度画像が生成される。所定ライン数の輝度画像がメモリ24に書き込まれると、二値化回路25によって、メモリ24から輝度画像が読み出され、各画素が先に設定したしきい値と比較されて二値化される。図6aに一例を示すように、二値化された輝度画像Iには、第1位相差領域14,第2位相差領域15の正常部分に対応した暗画素領域D1、境界線D2の他に、明画素領域D3~D7が含まれている。第1位相差領域14,第2位相差領域15の正常部分は、しきい値よりも輝度が低くなるため、暗画素のストライプ状の暗画素領域D1となる。各位相差領域14,15の幅を約270μm、撮影装置17の画素分解能を10μm/画素とすると、各暗画素領域D1は、Y方向に約27個の暗画素が並んでおり、X方向に長いストライプ状になる。境界線D2は、欠陥部分と同様に、隣接した各暗画素領域D1の位相差特性の乱れによって明画素として現れる。各境界線D2は、例えばY方向に約2~3個の明画素が並び、X方向に延びた直線状になっている。第1,第2位相差領域14,15内で異物が混入している部分や、キズのある部分、配光ムラが生じている部分などの欠陥部分は、位相差特性に乱れが生じるため、直線偏光の検査光が透過するときに偏光方向に乱れを生じさせて、第2偏光板19から射出される成分を正常部分よりも多くする。このため、その欠陥部分は、輝度が高くなり、明画素となり、その明画素の領域サイズは欠陥部分のサイズに応じたものとなる。また、電気的なノイズが輝度画像の画素に重畳された場合などでも、その画素が明画素となる。明画素領域D3~D7は、このような欠陥部分やノイズに対応している。二値化された輝度画像は、収縮処理回路26によってメモリ24から読み出され、Y方向についての収縮処理が所定回数、例えば3回施される。これにより、図6bのように、境界線D2が暗画素とされて消去される。また、Y方向の長さが小さいノイズや微小な欠陥部分に対応した明画素領域D4~D7も暗画素とされて同時に消去される。収縮処理により、消去される明画素領域は、微小なものであって、実用上で問題にならないものである。なお、境界線が所期の幅よりも太くなっている場合に、所定回数の収縮処理を行っても、その部分の明画素が残るので、欠陥として検出することが可能である。所定回数の収縮処理後の輝度画像に対して、ノイズ除去回路28によるノイズ除去が行われる。これにより、収縮処理で消去されなかったノイズとなる小さな明画素の領域が輝度画像から消去される。この後に、膨張処理回路27によって、所定回数、例えば3回の膨張処理が実施され、収縮処理された輝度画像の明画素領域の幅が戻される。これにより、図6cのように、収縮処理で残った明画素領域D3の幅は、収縮処理前のものに戻る。膨張処理後、欠陥検出部22によって、輝度画像に残っている明画素領域が抽出され、その明画素領域が欠陥部分として特定される。これにより図6cでは、明画素領域D3が欠陥部分として検出される。そして、検出された欠陥部分の位置を示す位置情報や欠陥サイズなどを含む欠陥情報が生成され出力される。[第2実施形態]第2実施形態は、輝度画像上で、着目する画素について所定の画像数だけ離れた画素との輝度を比較して差分をとり、その差分を着目した画素の新たな値とすることにより、境界線を消去するようにしたものである。なお、以下に説明する他は、第1実施形態と同様であり、実質的に同じ構成部材には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。図7に示すように、この例における画像処理部21は、D/A変換器23,メモリ24,差分画像生成回路31,二値化回路25,ノイズ除去回路28から構成される。差分画像生成回路31は、D/A変換器23でデジタル化された1ラインの輝度画像上で着目する画素に対して、所定の画像数だけ離れた画素を相手画素として、その相手画素との輝度の差分をとり、その差分を着目する画素の新たな値とする差分処理を行う。この差分処理を、輝度画像の各画素について行うことにより、差分画像を生成する。差分を求める際には、着目する画素の値から相手画素の値を減算した値を、着目する画素の新たな値とする。上記の差分画像の生成は、輝度画像における第1,第2位相差領域14,15の境界線を消去するためのものであって、着目する画素が境界線上の画素であるときに、相手画素が境界線上の画素となるように、差分の際の画素の距離画素数が決められている。境界線上の各画素は、ほぼ同等の輝度レベルであるので、境界線上の画素の新たな値をほぼ0として実質的に境界線を消去する。着目する画素から相手画素への方向は、少なくともY方向に離れていればよく、X方向とY方向との両方向であってもよい。図8に示すように、着目する画素Px1に対して相手画素Px2までのX方向の画素数をx1画素、Y方向の画素数をy1画素とした場合、y1は、境界線の間隔、すなわち位相差領域の幅Y方向の長さに対応する画素数のn倍n=1,2,3とする。x1は、任意の値とすることができる。例えばx1を0としたときには、着目する画素Px1が境界線上の画素であるときに、相手画素Px2は同じライン上で別の境界線上の画素となる。また、y1を位相差領域の幅境界線の間隔に対応する画素数のn倍として、x1を1以上に設定してもよい。この場合には、x1ライン離れたライン上の画素との差分が求められるから、着目する画素Px1が境界線上の画素であるときに、相手画素Px2は異なるライン上の別の境界線上の画素となる。また、X方向に対して一定の角度方向にスジ状に生じる輝点以下、スジ欠陥というの発生が懸念される場合には、その輝点を消去してしまわないように、スジ欠陥の画素同士が比較されないようなx1,y1の値を設定すべきである。例えば、スジ欠陥がX方向に対して45°方向に出やすい場合には、そのスジ欠陥が消去されないようにするため、着目する画素Px1に対して、相手画素Px2が45°の方向にならないようにx1とy1の組み合わせを決定する。このときに、X方向とY方向の各画素分解能を考慮してx1とy1の組み合わせを決定する必要がある。この例のように、撮影装置17がリニアアレイカメラである場合には、Y方向の画素分解能は、撮影装置17の撮影分解能に応じて決まるが、X方向の画素分解能は、撮影装置17の1ラインの撮影周期と位相差フィルム12の搬送速度とによって決まる。例えばX方向の画素分解能が6μm、Y方向の画素分解能が3μmであるときには、45°方向のスジ欠陥を消去しないためにx1:y1=1:2を満たさないようにする。二値化回路25は、差分画像を所定のしきい値で2値化し、各画素を明画素と暗画素とにする。ノイズ除去回路28は、二値化された差分画像から微小な明画素の領域をノイズとして消去する。欠陥検出部22は、ノイズ除去回路28の処理後に残った明画素の領域を欠陥部分として特定する。なお、上記のように差分画像を作成した場合、第1実施形態の収縮処理と異なり、差分画像の生成の段階で小さな明画素領域が消去されず、また撮影装置17の分解能からくる誤差、境界線自身のエッジ部分のばらつきなどから、小さな明画素領域が多く残る。このため、差分画像を生成して欠陥検出を行う場合には、ノイズの消去を行うことが好ましい。この例によれば、輝度画像の各画素について、着目する画素と相手画素との差分を求めて差分画像が生成されるが、輝度画像の境界線上の各画素は、同一のあるいは異なる境界線上の相手画素との差分が求められる。そして、各境界線上の画素の輝度がほぼ同じレベルとなるから、着目する画素の新たな値はほぼ0となる。したがって、この画素を二値化すれば暗画素となるので、結果的に境界線が消去される。一方、着目する画素が欠陥部分の画素である場合には、ほとんどの場合で輝度レベルがかなり低い正常部分の画素が相手画素となるから、欠陥部分の画素の新たな値はあまり変わらず、二値化によって明画素となる。したがって、欠陥部分は消去されることなく、欠陥として検出することができる。なお、ランダムな方向に発生するスジ状の欠陥など、あらゆる方向のスジ状の欠陥を検出することができるようにするために、着目する画素を基点として異なる方向の複数の相手画素との差分をそれぞれ求め、同一の輝度画像から各方向についての差分画像をそれぞれ生成し、各差分画像から欠陥を検出してもよい。これには、x1,y1の比x1/y1が異なる位置の画素を各相手画素として差分画像をそれぞれ生成することができる。例えば、着目する画素からの相手画素の方向が45°となるようにx1,y1を設定して45°方向の差分画像を作成するとともに、着目する画素からの相手画素の方向が30°となるようにx1,y1を設定して30°方向の差分画像を作成する。そして、各差分画像に対して欠陥検出を行い、45°方向の差分画像で特定される欠陥部分、及び30°方向の差分画像で特定される欠陥部分をあわせて位相フィルム12の欠陥部分とする。なお、この例では45°と30°の2方向であるが、方向角度及び方向数は適宜設定できる。[第3実施形態]第3実施形態では、二次元の輝度画像において輝度の高い画素明画素の領域を欠陥候補として抽出し、各々の欠陥候補に対して、Y方向に隣接する欠陥候補までの画素数を隣接距離画素数として計数し、その計数された隣接距離画素数が所定値以下の場合にその欠陥候補を欠陥と判定するものである。なお、以下に説明する他は、第1実施形態と同様であり、実質的に同じ構成部材には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。この例では、図9に示すように、画像処理部21は、D/A変換器23,メモリ24,二値化回路25、計数回路41から構成される。1ラインの輝度画像の各画素は、D/A変換器23でデジタル化されてメモリ24に書き込まれた後に、二値化回路25によって明画素または暗画素にされる。計数回路41は、輝度画像上の複数の明画素が繋がった明画素領域をそれぞれ欠陥候補とする。計数回路41は、各欠陥候補のそれぞれについて、1ライン中の、すなわちY方向に隣接する欠陥候補までの画素数を隣接距離画素数Cpとして計数する。欠陥検出部22は、計数回路41で計数された隣接距離画素数Cpが所定画素数Cpth以下である場合に、その欠陥候補を欠陥部分として特定する。所定画素数Cpthは、輝度画像上の境界線D2同士の間隔Cyよりも小さな値としてある。なお、1個の明画素から明画素領域を欠陥候補とすることもできるが、この例では、そのような明画素領域は、ノイズや実用上欠陥として検出されなくても問題がないため欠陥候補としていない。図10に一例を示すように、輝度画像I上で欠陥候補とされる明画素領域としては、実際に欠陥となる明画素領域D8の他、各境界線D2も含まれる。このように境界線D2は、欠陥候補とされるが、正常部分においては、境界線D2同士がY方向に所定画素数Cpthよりも大きく離れているためCp>Cpth、これらが欠陥部分として特定されることはない。一方、第1位相差領域14や第2位相差領域15内に欠陥がある場合や、境界線の幅が異常に太くなっている場合には、明画素領域が他の明画素領域に対して境界線同士の間隔Cyより近接することになる。このため、そのような明画素領域については、隣接距離画素数Cpが所定画素数Cpth以下となって欠陥部分として特定される。なお、境界線D2の近傍に境界線D2以外の欠陥候補が近接してある場合には、その境界線D2も欠陥として判定されることになるが、欠陥候補検査の運用上の実害はない。この例は、各境界線が一定の間隔画素数で離れていることを利用したものであり、極めて簡単なロジックで欠陥抽出を行うことができる。隣接距離画素数Cpを計数する方向は、Y方向であれば欠陥候補からいずれか一方の方向に計数してもよく、両方向に計数してもよい。さらに、他の実施形態と同様に、画素数が所定値例えば2画素以下となる明画素領域をノイズとして除去する除去回路を設けてもよい。[第4実施形態]第4実施形態は、位相差フィルムの支持体が有する位相差特性を打ち消す位相差補償板を設け、その支持体の有する位相差特性を相殺するものである。なお、位相差補償板を設ける他は、第1ないし第3実施形態と同様にすることができる。この第4実施形態では、図11に示すように、位相差フィルム12と第2偏光板19との間に、位相差補償板37を配してある。位相差補償板37は、位相差フィルム12の支持体12aが有する位相差特性を打ち消すものであり、位相差フィルム12と平行な姿勢で配されている。この位相差補償板37としては、支持体12aが有する位相差特性を打ち消すものであれば限定されないが、簡単には検査対象となっている位相差フィルム12の支持体12aと同じで透明フィルムを用いることができ、この例でもそのようになっている。この場合には、位相差補償板37は、その光学軸が支持体12aの光学軸例えば遅相軸と直交するように配される。この例によれば、第1,第2位相差領域14,15の輝度レベルを消光状態により近付けて輝度画像のコントラストを向上することできる。これにより、より高い精度で位相差フィルム12の欠陥を検出することができる。なお、この例では位相差フィルム12と第2偏光板19との間に位相差補償板37を配してあるが、第1偏光板18と位相差フィルム12との間に位相差補償板37を配してもよい。[実施例1]実施例1では、第1実施形態のように構成された欠陥検出装置10を用いて、実際に位相差フィルム12の欠陥検査を行った。この欠陥検査では、TACを支持体12aとした位相差フィルム12を検査対象とした。位相差フィルム12に形成されている第1,第2位相差領域14,15の幅は270μmであった。また、撮影装置17により撮影される輝度画像でのY方向の画素分解能は、10μm/画素であった。第1,第2位相差領域14,15の境界は、輝度画像上でY方向の画素数が2~3個の境界線明画素となったので、Y方向に3画素だけ収縮する3回の収縮処理を行い、さらに1画素の明画素領域をノイズとして消去してから、Y方向に3画素だけ膨張させる3回の膨張処理を行ってから、明画素領域を欠陥部分として特定した。この結果、直径が約100μmの欠陥を検出することができた。[実施例2]実施例2では、第4実施形態のように位相差補償板37を設けて、位相差フィルム12の欠陥検出を行った。この欠陥検出に用いた欠陥検出装置10は、位相差補償板37を設けた他は、第2実施形態と同様な構成であり差分画像を作成して欠陥の検出を行った。位相差補償板37は、位相差フィルム12の支持体12aと同じ透明フィルの正常部分を用い、支持体12aの光学軸に位相差補償板37の光学軸が直交するように配した。この実施例2では、第1,第2位相差領域14,15の幅が270μmであり、欠陥サイズをより高精度に検出するために画素分解能を3μm/画素とした。このため輝度画像上では、境界線はY方向に5~7画素の幅となった。位相差補償板37を配したことで、前述したように位相差フィルム12の第1,第2位相差領域14,15がともに消光状態により近づき、正常面の輝度レベルは実施例1より低い暗い画像となり輝点のコントラストが改善された。コントラストが改善された分だけ、二値化の際のしきい値を低く設定することが可能となり、第2偏光板19を透過する光量が少ない欠陥部分をも明画素に変換して高い精度で欠陥を検出することができるようになった。輝度画像の各画素に対して、y1=90として、Y方向に90画素だけ離れた相手画素との差分画像を生成した。この結果、境界線上の各画素は、その境界線に隣接する他の境界線上の画素を相手画素として差分がとられたて新たな値はほぼ0となった。これにより、二値化によって輝度画像から境界線を消去することができた。二値化後に、2画素以下の明画素領域をノイズとして消去して得られた画像からは、欠陥を十分な精度で検出できた。境界線の幅と同程度しかない微小な欠陥でも検出が可能であった。"