長尺のシート状基材を、真空処理室を通して搬送し、この真空処理室でシート状基材に所定の処理を施す真空処理装置であって、真空処理室に、単一の処理ユニットが設けられると共に、繰出しローラと巻取りローラとの少なくとも一方が設けられる真空補助室が連設されたものにおいて、真空処理室で処理ユニットを跨ぐ両側に一対の第1ローラユニットが備えられ、第1ローラユニットの夫々が等間隔に配置された複数のローラを有し、各ローラを軸方向に互い違いにずらして配置して、シート状基材が各ローラに螺旋状に巻き掛けられるように構成し、第1ローラユニットの一側の各ローラから他側の各ローラに向かう、処理ユニットに対向するシート状基材の片面を表面とし、シート状基材の裏面が処理ユニットに対向するときに当該シート状基材の一部を所定幅で処理ユニット側にシフトするシフト手段を更に備えることを特徴とする真空処理装置。前記シフト手段は、前記一対の第1ローラユニットの内方で処理ユニットの両側に配置された他の一対の第2ローラユニットであり、第2ローラユニットは、前記処理ユニット側にシフトされたシート状基材の一部と、前記第1ローラユニット一側の各ローラから他側の各ローラに向かうシート状基材の部分との処理ユニットからの距離が同等となるように配置されることを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。請求項1または請求項2記載の真空処理装置であって、処理ユニットがスパッタリング成膜用のカソードユニットであるものにおいて、前記カソードユニットを、真空処理室を画成する壁面に設けると共に、この壁面に対向する他の壁面に単一の真空補助室を連設し、この真空補助室に繰出しローラと巻取りローラとを配置して構成したことを特徴する真空処理装置。前記巻取りローラの上流側でシート状基材に対向させて冷却パネルを設けたことを特徴とする請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の真空処理装置。本発明は、以上の点に鑑み、装置の小型化が図れて生産性のよい低コストの真空処理装置を提供することをその課題としている。上記課題を解決するために、本発明は、長尺のシート状基材を、真空処理室を通して搬送し、この真空処理室でシート状基材に所定の処理を施す真空処理装置であって、真空処理室に、単一の処理ユニットが設けられると共に、繰出しローラと巻取りローラとの少なくとも一方が設けられる真空補助室が連設されたものにおいて、真空処理室で処理ユニットを跨ぐ両側に一対の第1ローラユニットが備えられ、第1ローラユニットの夫々が等間隔に配置された複数のローラを有し、第1ローラユニットの各ローラを軸方向に互い違いにずらして配置して、シート状基材が各ローラに螺旋状に巻き掛けられるように構成し、第1ローラユニットの一側の各ローラから他側の各ローラに向かう、処理ユニットに対向するシート状基材の片面を表面とし、シート状基材の裏面が処理ユニットに対向するときに当該シート状基材の一部を所定幅で処理ユニット側にシフトするシフト手段を更に備えることを特徴とする。本発明によれば、一対のローラユニットにより、処理ユニットの前方で、当該処理ユニットに対してシート状基材の表面及び裏面が交互に対向するようにシート状基材を周回搬送されると共に、シフト手段により、シート状基材の一部を、例えば、処理ユニットからシート状基材の表面または裏面までの距離を略同一になるようにシフトさせるようにしたため、単一の処理ユニットにて効率よくシート状基材の表裏に同一処理を施すことができる。このため、上記従来例の如く、複数の処理室を必要とせず、装置の小型化が図れると共に、部品点数を少なくして低コスト化を図ることできる。しかも、シート状基材の表裏両面が複数回処理ユニットに対向するようにすれば、シートの搬送速度を向上でき、生産性もよい。本発明においては、前記シフト手段は、前記一対の第1ローラユニットの内方で処理ユニットの両側に配置された他の一対の第2ローラユニットであり、第2ローラユニットは、前記処理ユニット側にシフトされたシート状基材の一部と、前記第1ローラユニット一側の各ローラから他側の各ローラに向かうシート状基材の部分との処理ユニットからの距離が同等となるように配置されることが望ましい。これによれば、簡単な構成で、処理ユニットからシート状基材の表面または裏面までの距離を略同一に揃えることが実現できる。なお、本発明において、同等には、処理ユニットからシート状基材の表面または裏面までの距離が厳密に一致している場合だけでなく、例えば、処理ユニットをスパッタリング成膜用のカソードユニットとし、シート状基材の表面または裏面に同時に成膜処理するような場合に、同じ膜厚で成膜できるようにカソードユニットに対して第2ローラユニットが近接または離間しているような場合を含む。また、本発明においては請求項1または請求項2記載の真空処理装置であって、処理ユニットがスパッタリング成膜用のカソードユニットであるものにおいて、前記カソードユニットを、真空処理室を画成する壁面に設けると共に、この壁面に対向する他の壁面に単一の真空補助室を連設し、この真空補助室に繰出しローラと巻取りローラとを配置して構成しておけば、真空処理装置を更に小型化できてよい。ところで、例えば、シート状基材を所定温度に加熱した状態で成膜処理を行った後、処理直後のシート状基材を巻取りローラで巻き取ると、シート状基材の処理面が変質する等の不具合が生じる虞がある。このため、例えば、処理後のシート状基材を所定温度以下まで冷却して巻取りローラに巻き取ることになる。この場合、ガイドローラや巻取りローラの回転軸を冷却してシート状基材を熱交換で冷却することが考えられるが、これでは装置構成が複雑になる。そこで、前記巻取りローラの上流側でシート状基材に対向させて冷却パネルを設けておけば、当該冷却パネルのシート状基材との対向面が吸熱面としての役割を果たし、シート状基材を効率よく冷却できる。しかも、冷却パネルが、例えば極低温数十Kに保持されたクライオパネルであるような場合、当該パネルに真空補助室内の水分等が吸着されることで、真空補助室の高真空度保持に寄与し、例えば、真空補助室に設けるポンプを排気能力の低い、低コストのものを用いることができる等、有利である。以下、図面を参照して、処理ユニットを、スパッタリング成膜用のカソードユニットとし、シート状基材の表裏両面に成膜する場合を例に、本発明の実施形態の真空処理装置について説明する。図1及び図2を参照して、SMは、本実施形態の真空処理装置である。この真空処理装置SMは、図外の真空ポンプで真空引きされる直方体形状の真空処理室1と、この真空処理室1の一側面に連設された真空補助室2とを備え、シート状基材Sを、真空補助室2から真空処理室1を通して搬送し、この真空処理室1でシート状基材Sに成膜できる。真空処理室1には、真空補助室2に対向する他側面に単一のカソードユニット3が装着されている。カソードユニット3は、シート状基材Sの表裏両面に形成しようとする薄膜の組成に応じて形成されたターゲット31を備える。ターゲット31は例えば矩形で、後述のようにターゲット31の前方を周回搬送されるシート状基材Sの全幅より大きな幅を有するように作製され図2参照、バッキングプレート32に接合された状態で真空処理室1内に設けられる。なお、カソードユニット3自体は、公知の構造を有するものを利用できるため、ここでは詳細な説明を省略する。また、図1中、33a、33bは防着板、34はカードユニットのカバー、35はアノードリングである。真空処理室1には、ターゲット31をその長さ方向図1中、上下方向で跨ぐ両側に、一対のローラユニット4u、4dが設けられている。これらのローラユニットを第1ローラユニット4u、4dとし、第1ローラユニット4u、4dの各々は、同一の構成を有し、第1軸体41とこの第1軸体41に等間隔で回転可能に外装された4個の第1ローラ42とから構成される。第1軸体41の各々は、未使用時のターゲット31のスパッタ面31aに夫々平行で、かつ、ターゲット31のスパッタ面31aから所定間隔を存して配置されているスパッタ面31aと両軸体41との間隔は同等である。また、第1軸体41の一方と他方とは、第1ローラ42の各々が軸方向に互い違いにずれるように配置される。なお、第1ローラユニット4u、4dの構成は上記のものに限定されるものではなく、また、第1ローラ42の数もシート状基材Sの幅や成膜速度を考慮して適宜設定される。また、真空処理室1には、第1ローラユニット4u、4dの内方でターゲット31をその長さ方向図1中、上下方向で跨ぐ両側に、他の一対のローラユニット5u、5dが設けられ、これら一対のローラユニット5u、5dが、シート状基材Sの一部を所定幅で処理ユニット側にシフトする本実施形態のシフト手段を構成する。シフト手段たるローラユニットを第2ローラユニット5u、5dとし、第2ローラユニット5u、5dの各々は、同一の構成を有し、第2軸体51とこの第2軸体51に等間隔で回転可能に外装した4個の第2ローラ52とから構成される。第2ローラ52の径は、第1ローラ42の径より小さく設定されている。第2軸体51の一方と他方とは、第1軸体41に夫々平行で、第2ローラ52が第1ローラ42の相互の間に位置すると共に第2ローラ52の各々が軸方向に互い違いにずれ、かつ、第1軸体41よりカソードユニット3側に偏心して配置されている。この場合、スパッタ面31aと両第2軸体51との間隔も同等である。なお、第2ローラユニット5u、5dの構成は上記のものに限定されるものではなく、例えば、2ローラ52の径を、第1ローラ42の径と同じに設定し、第1軸体41及び第2軸体51をターゲット31のスパッタ面31aに平行な同一平面内に配置してもよく、また、第2ローラ52の数等も第1ローラ42に応じて適宜設定される。真空補助室2は、真空処理室1と同様、図外の真空ポンプで真空引きされ、その内部には、図示省略の駆動源を備えた繰出しローラ6と、図示省略の駆動源を備えた巻取りローラ7とが設けられている。巻取りローラ7の上流側には、シート状基材Sのテンションを測定する測定器8が設けられ、この測定器8の測定結果に応じて、繰出しローラ6や巻取りローラ7の回転速度が適宜制御されるようになっている。なお、図1中、GRはガイドローラである。以下に、真空補助室2内の繰出しローラ6から繰り出し、真空処理室1を通した後、巻取りローラ7に巻き取るまでのシート状基材Sの搬送を説明する。繰出しローラ6から繰り出したシート状基材Sは、真空処理室1と真空補助室2との当接面に形成した透孔11aを通って真空処理室1に送られる。真空処理室1において、シート状基材Sは、図1中、下側の第1ローラユニット4dの軸方向一側図2中、手前側に位置する第1ローラ42aに先ずカソードユニット3側時計回りへと巻き掛けられ、上側の第1ローラユニット4uの軸方向一側図2中、手前側に位置する第1ローラ42bにカソードユニット3側から巻き掛けられる。このとき、カソードユニット3のターゲット31に対向するシート状基材Sの片面が表面となり、スパッタ面31aと平行に当該スパッタ面31aを横切るようになる。第1ローラ42bを経たシート状基材Sは、ガイド手段たる第2ローラユニット5u、5dの軸方向一側図2中、手前側に位置する第2ローラ52a、52bのカソードユニット3側を夫々経由して、下側の第1ローラユニット4dの軸方向一側図2中、手前側のローラ42aに隣り合う次のローラ42cへと案内され、カソードユニット3とは反対側から巻き掛けられるつまり、第1ローラユニット4u、4dのみにシート状基材Sを巻き掛ける場合、螺旋状をなすように巻き掛けられる。このとき、両第2ローラ52a、52b間をシート状基材Sが搬送される間、シート状基材Sの一部の裏面がターゲット31のスパッタ面31aに対向するようになるつまり、シート状基材Sの裏面が、スパッタ面31aと平行に当該スパッタ面31aを横切るようになる。そして、両第2軸体51の位置を適宜設定すれば、第1ローラ42a、42b間を搬送されるシート状基材Sの表面と第2ローラ52a、52b間を搬送されるシート状基材Sの裏面と、ターゲット31のスパッタ面31aとの間の距離を略同一に揃えることができる。上記のように各ローラ42、52へのシート状基材Sの巻き掛けを、軸方向他側まで行う。そして、下側の第2ローラユニット5dの軸方向他側図2中、後側に位置するローラ52eを経たシート状基材Sが、真空処理室1と真空補助室2との当接面に形成した他の透孔11bを通して真空補助室2に戻され、巻取りローラ7に巻き取る。これにより、シート状基材Sが、カソードユニット3の前方で、その表面及び裏面が交互にカソードユニット3に対向するように周回搬送される。そして、ターゲット31の前方空間に希ガスを導入した状態でターゲット3に図外の電源から負の電位を持った所定電力を投入すると、ターゲット31のスパッタ面31a前方空間にプラズマが形成され、ターゲット31がスパッタリングされ、ターゲットから飛散したスパッタ粒子がシート状基材Sの表裏両面に夫々付着、堆積し、シート状基材Sの表裏両面に略同一の厚さで所定の薄膜が成膜される。以上説明したように、上記実施形態によれば、第1ローラユニット4u、4dにより、カソードユニット3の前方で、当該カソードユニット3に対してシート状基材Sの表面及び裏面が交互に対向するようにシート状基材Sを周回搬送されると共に、シフト手段たる第2ローラユニット5u、5dにより、カソードユニット3から、成膜され得るシート状基材Sの表面または裏面までの距離を略同一にできるため、単一のカソードユニット3にて効率よくシート状基材Sの表裏両面に略同等の膜厚で成膜することができる。このため、上記従来例の如く、複数の処理室を必要とせず、装置の小型化が図れると共に、部品点数を少なくして低コスト化を図ることができる。しかも、シート状基材Sの表裏両面が複数回処理ユニットに対向したため、シート状基材Sの搬送速度を向上でき、生産性もよい。また、カソードユニット3と真空補助室2とを、真空処理室1を画成する壁面のうち、対向面に夫々設けると共に、真空補助室2に繰出しローラ6と巻取りローラ7とを配置したため、真空処理装置SMを一層小型化できる。ところで、例えば、シート状基材Sを成膜処理する場合、用途によっては、繰出しローラ6の下流側に加熱手段図示せずを設け、成膜処理前にシート状基材Sを所定温度に加熱し、この状態で成膜処理を行う場合がある。このような場合に、処理直後のシート状基材Sを巻取りローラ7で巻き取ると、シート状基材Sに成膜した膜が変質する等の不具合が生じる虞がある。そこで、本実施形態では、巻取りローラ7の上流側でシート状基材に対向させてクライオパネル冷却パネル9を設けている図1参照。クライオパネル9は、例えば、閉サイクルのヘリウム冷凍機等、公知の構図の冷凍ユニット9aを備え、冷凍ユニット9aからの冷媒で極低温例えば、数十Kに保持されるようになっている。この場合、クライオパネル9のシート状基材Sとの対向面は、シート状基材Sより幅広に形成されている。これにより、クライオパネル9のシート状基材Sとの対向面が吸熱面としての役割を果たし、シート状基材Sを効率よく冷却することができる。しかも、クライオパネル9に真空補助室2内の水分等が吸着されることで、真空補助室2の高真空度保持に寄与し、例えば、真空補助室2に設けるポンプを排気能力の低い、低コストのものを用いることができる等、有利である。また、クライオパネル9をガイドロールに対向させて設置し、ガイドロール自体を冷却してシート状基材Sを冷却するようにしてもよい。なお、本実施形態では、冷却パネルとしてクライオパネル9を用いるものを例に説明しているが、シート状基材Sから吸熱して冷却し得るものであれば、これに限定されるものではない。また、冷却パネルを用いた本発明のシート状基材Sの冷却方法は、上記実施形態の真空処理装置だけでなく、上記従来例のような構造のものを含む他の巻取り式の真空処理装置全般に広く適用可能である。上記実施形態では、処理ユニットとしてカソードユニット3を用いるものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、カソードユニットは、抵抗加熱式蒸発源やCVD法によるものでもよく、また、成膜源以外でプラズマガス等を設けて表面処理するような処理ユニットでも本発明は適用できる。更に、上記実施形態では、シフト手段を、一対の第2ローラユニット5u、5dから構成したものを例に説明したが、シート状基材Sの一部を所定幅で処理ユニット3側にシフトできるものであれば特に制限されるものではない。例えば、処理ユニット3に対して進退自在な駆動軸と、この駆動軸の先端に回転自在に取り付けたローラとからガイド手段を構成し、このシフト手段を、処理ユニットを跨ぐ両側に配置しておき、各ガイド手段を同期して処理ユニット側に移動し、シート状基材Sを一定の幅で処理ユニット側に変位させるようにしてもよい。これによれば、処理ユニットとシート状基材Sまでの距離を表面と裏面とで任意に変更できる。また、上記実施形態では、真空処理装置の最も小型化できるように、1つの真空補助室2に繰出しローラと巻取りローラとを設けたものを例に説明したが、装置のレイアウトはこれに限定されるものではない。例えば、図3に示すように、真空処理室1の相互に対向する側面に夫々真空補助室2a、2bを連設し、上流側の真空補助室に設けた繰出しローラ6から、真空処理室1を通して、下流側の真空補助室2bに設けた巻取りローラ7に巻き取るようにシート状基材を搬送してもよい。