"エーテル置換基が、メチル基、ヒドロキシアルキル基、および任意にメチルとは異なるアルキル基である、セルロースエーテルであって、該セルロースエーテルが、MSヒドロキシアルキル0.05~1.00を有し、無水グルコース単位の水酸基が、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]が0.35以下であるようにメチル基で置換されており、s23は、無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率であり、s26は、無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率である、セルロースエーテル。ヒドロキシアルキルメチルセルロースである、請求項1に記載のセルロースエーテル。ヒドロキシプロピルメチルセルロースであり、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]が0.27以下である、請求項2に記載のセルロースエーテル。ヒドロキシエチルメチルセルロースであり、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]が0.32以下である、請求項2に記載のセルロースエーテル。DSメチルが1.2~2.2である、前掲の請求項のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。水中1.5質量溶液中、20°Cで剪断速度2.55s1にて測定したときの粘度が150mPas超である、前掲の請求項のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。セルロースエーテルの1.5質量水性溶液が雰囲気圧力で検出可能な沈殿温度を有さず、またはセルロースエーテルの沈殿温度よりも3°C以下高いゲル化温度を有し、ゲル化温度は、G’/G=1である温度であり、G’は、セルロースエーテルの1.5質量水性溶液の貯蔵弾性率であり、そしてGは、セルロースエーテルの1.5質量水性溶液の損失弾性率である、請求項6に記載のセルロースエーテル。ASTMD2363-792006年再承認に準拠した、水中2質量溶液中、20°Cにて測定したときの粘度が2~200mPasである、請求項1~5のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。セルロースエーテルの20質量水性溶液が、等式[ゲル化温度[°C]/1[°C]-150×MSヒドロキシアルキル]<20式中、ゲル化温度はG’/G=1である温度であり、G’はセルロースエーテルの20質量水性溶液の貯蔵弾性率であり、そしてGはセルロースエーテルの20質量水性溶液の損失弾性率であるを満たす、請求項8に記載のセルロースエーテル。水性組成物の総質量基準で7~40質量の請求項8に記載のセルロースエーテルを含む、剤形のカプセルまたはコーティングを製造するための、水性組成物。請求項8に記載のセルロースエーテルを含む水性組成物をディッピングピンと接触させるステップを含む、カプセルの製造方法。請求項8に記載のセルロースエーテルを含む水性組成物を剤形と接触させるステップを含む、剤形のコーティング方法。請求項8に記載のセルロースエーテルを含む、カプセルシェル。請求項13に記載のカプセルシェルを含む、カプセル。請求項8に記載のセルロースエーテルを含む組成物でコートされている、剤形。要約驚くべきことに、公知のヒドロキシアルキルメチルセルロースよりも低いゲル化温度を水性溶液中で有する新規なセルロースエーテルを見出した。従って、本発明の新規なセルロースエーテルは、剤形のカプセルまたはコーティングの製造特に熱ゲル化法によってのために極めて有用である。本発明の一側面は、エーテル置換基が、メチル基、ヒドロキシアルキル基、および任意にメチルとは異なるアルキル基である、セルロースエーテルであって、該セルロースエーテルが、MSヒドロキシアルキル0.05~1.00を有し、無水グルコース単位の水酸基が、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]が0.35以下であるようにメチル基で置換されており、s23は、無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率であり、s26は、無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率である、セルロースエーテルである。本発明の別の側面は、水性組成物の総質量基準で7~40質量の上記のセルロースエーテルを含む、剤形のカプセルまたはコーティングの製造のための水性組成物である。本発明の更に別の側面は、上記セルロースエーテルを含む水性組成物を剤形と接触させるステップを含む、剤形のコーティング方法である。本発明の更に別の側面は、上記セルロースエーテルを含む水性組成物をディッピングピンと接触させるステップを含む、カプセルの製造方法である。本発明の更に別の側面は、上記セルロースエーテルを含む、カプセルシェルである。本発明の更に別の側面は、上記カプセルシェルを含む、カプセルである。本発明の更に別の側面は、上記セルロースエーテルを含む組成物でコートされている、剤形である。詳細な説明本発明のセルロースエーテルにおいて、エーテル置換基は、メチル基、ヒドロキシアルキル基、および任意にメチルとは異なるアルキル基である。ヒドロキシアルキル基は、互いに同じまたは異なることができる。好ましくは、セルロースエーテルは、1つまたは2つのヒドロキシアルキル基を含み、より好ましくは1つ以上のヒドロキシC1-C3アルキル基例えばヒドロキシプロピルおよび/またはヒドロキシエチルを含む。有用な任意のアルキル基は、例えばエチルまたはプロピルであり、エチルが好ましい。本発明の好ましい3元セルロースエーテルは、エチルヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルメチルセルロース、またはヒドロキシエチルヒドロキシプロピルメチルセルロースである。好ましいセルロースエーテルは、ヒドロキシアルキルメチルセルロース、特に、ヒドロキシC1-C3アルキルメチルセルロース例えばヒドロキシプロピルメチルセルロースまたはヒドロキシエチルメチルセルロースである。新規なセルロースエーテルの本質的な特徴は、これらの、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]が0.35以下、好ましくは0.32以下、より好ましくは0.30以下、最も好ましくは0.27以下、特に0.25以下、および特に0.23以下であるような無水グルコース単位上のメチル基の特異な分布である。典型的には、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]は0.07以上、より典型的には0.10以上、および最も典型的には0.13以上である。より特別には、ヒドロキシエチルメチルセルロースの場合、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]の上限は0.35、好ましくは0.32、より好ましくは0.30、および最も好ましくは0.27である。ヒドロキシプロピルメチルセルロースの場合、[s23/s26-0.2×MSヒドロキシアルキル]の好ましい上限は、一般的には0.30、好ましくは0.27、より好ましくは0.25、および最も好ましくは0.23である。本開示で用いる符号×は乗算演算子を表す。比s23/s26において、s23は、無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率であり、s26は、無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率である。s23の定義について、用語無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率は、6位がメチルで置換されていないこと、例えば、これらが非置換水酸基であることができ、またはこれらがヒドロキシアルキル基、メチル化ヒドロキシアルキル基、メチル基とは異なるアルキル基、もしくはアルキル化ヒドロキシアルキル基で置換されていることができることを意味する。s26の定義について、用語無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率は、3位がメチルで置換されていないこと、例えば、これらが非置換水酸基であることができ、またはこれらがヒドロキシアルキル基、メチル化ヒドロキシアルキル基、メチル基とは異なるアルキル基、もしくはアルキル化ヒドロキシアルキル基で置換されていることができることを意味する。下記式Iは、無水グルコース単位における水酸基の番号付けを示す。式Iは例示の目的で用いるに過ぎず、本発明のセルロースエーテルを表すものではなく;ヒドロキシアルキル基での置換は式Iには示していない。セルロースエーテルは、好ましくはDSメチルが1.2~2.2であり、より好ましくは1.25~2.10であり、最も好ましくは1.40~2.00である。セルロースエーテルのメチル置換度、DSメチルは、無水グルコース単位当たりの、メチル基で置換されたOH基の平均数である。DSメチルの定義について、用語メチル基で置換されたOH基は、ポリマー骨格でのメチル化されたOH基すなわち無水グルコース単位の直接の一部であるものを包含するのみでなく、ヒドロキシアルキル化の後に形成された、メチル化されたOH基も包含する。セルロースエーテルは、MSヒドロキシアルキルが0.05~1.00であり、好ましくは0.07~0.80、より好ましくは0.08~0.70、最も好ましくは0.10~0.60、および特に0.10~0.50である。ヒドロキシアルキル置換度は、MSモル置換で説明される。MSヒドロキシアルキルは、無水グルコース単位1モル当たりのエーテル結合によって結合したヒドロキシアルキル基の平均数である。ヒドロキシアルキル化の間、複数の置換が側鎖をもたらすことができる。ヒドロキシプロピルメチルセルロースにおけるメトキシルおよびヒドロキシプロポキシルの定義は、UnitedStatesPharmacopeiaUSP32に準拠して行う。得られる値は、メトキシルおよびヒドロキシプロポキシルである。これらは続いて、メチル置換基について置換度DSに、そしてヒドロキシプロピル置換基についてモル置換MSに変換される。塩の残留量は変換において考慮されてきた。ヒドロキシエチルメチルセルロースにおけるDSメチルおよびMSヒドロキシエチルは、ヨウ化水素でのツァイゼル開裂、次いでガスクロマトグラフィで達成されるG.BartelmusおよびR.Ketterer,Z.Anal.Chem.2861977161-190。本発明の一側面において、セルロースエーテルの粘度は150mPas超、好ましくは500~200,000mPas、より好ましくは500~100,000mPas、最も好ましくは1000~80,000mPas、特に1000~60,000mPasである20°Cの1.5質量水性溶液中、HaakeRS600レオメータにて円錐平板幾何学配置CP-60/2°で20°Cにて剪断速度2.55s1で測定したとき。そのような粘度を有するセルロースエーテルは、多様な用途、例えば、剤形用のカプセルまたはコーティングの製造において用いる低分子量のセルロースエーテル製造用の原料物質として、有用である。驚くべきことに、上記のように、1.5質量水性溶液中、20°Cにて測定したときの粘度150mPas超を有する本発明のセルロースエーテルの好ましい態様が、1.5質量の水性溶液として、雰囲気圧力で、検出可能な沈殿温度を有さず、または、セルロースエーテルの沈殿温度よりも、3°C以下、好ましくは2.5°C以下、より好ましくは2°C以下高いゲル化温度を有することを見出した。沈殿が高温で起こる場合、貯蔵弾性率は降下する。この沈殿温度は、対数貯蔵弾性率G’対ノーマル非対数温度のプロットから、2つの接線の交点として分析される。第1の接線は、温度上昇での貯蔵弾性率の低下にフィッティングされ、第2の接線は温度領域1~3°Cに亘る貯蔵弾性率の降下にフィッティングされる。ゲル化温度は、G’/G=1の温度であり、G’は、セルロースエーテルの1.5質量水性溶液の貯蔵弾性率であり、そしてGは、セルロースエーテルの1.5質量水性溶液の損失弾性率である。図1は、本発明のセルロースエーテルの沈殿温度およびゲル化温度の評価方法を示す。本発明のいくつかの態様において、セルロースエーテルは、雰囲気圧力で1.5質量水性溶液として検出可能な沈殿温度をなお有さない。ゲル化温度と沈殿温度との間のこの低い相違または検出可能でない沈殿温度は、本発明の新規なセルロースエーテルを、剤形用のカプセルまたはコーティングの製造に用いる低分子量セルロースエーテルを製造するための原材料として高度に有利にする。1.5質量水性溶液中、20°Cおよび剪断速度2.55s1にて評価したときの粘度が150mPas超であり、かつゲル化温度と沈殿温度との間の上記の低い相違を示す本発明のセルロースエーテルは、低ゲル化温度を有する低粘度のセルロースエーテルに一部解重合できる。これはこれらを剤形用のカプセルまたはコーティングを製造するために極めて有用にする。セルロースの1.5質量水性溶液の沈殿またはゲル化の温度依存特性を特性化するためにAntonPaarPhysicaMCR501レオメーターOstfildern,GermanyであってCupBobセットアップCC-27およびペルチェ制御システムを有するものを、振動剪断流にて用いた。測定の詳細は例の項で説明する。驚くべきことに、上記定義のように1.5質量水性溶液中、20°Cにて剪断速度2.55s1で測定したときに粘度150mPas超を有する本発明のセルロースエーテルが、驚く程高いゲル強度を有することも見出した。セルロースエーテルの水性溶液がG’/G≧1で特性化される場合、すなわちこれがゲルを形成する場合、ゲル強度は貯蔵弾性率G’として測定される。上記のように1.5質量水性溶液中、20°Cにて剪断速度2.55s1で測定したときの粘度150mPas超を有する本発明のセルロースエーテルは、一般的には貯蔵弾性率G’少なくとも50Pa、好ましくは少なくとも100Pa、より好ましくは少なくとも150Pa、および最も好ましくは少なくとも200Pa1.5質量水性溶液として80°Cで測定したときを有する。そのような貯蔵弾性率G’は一般的には、MSヒドロキシアルキルが>0.30で1.00以下、より典型的には0.80以下、最も典型的には0.60以下であるときになお実現される。MSヒドロキシアルキルが0.05~0.30の範囲内である場合、本発明のセルロースエーテルは、一般的に貯蔵弾性率G’少なくとも100Pa、好ましくは少なくとも150Pa、より好ましくは少なくとも200Pa、最も好ましくは少なくとも250Pa、および多くの場合で更に少なくとも300Pa1.5質量水性溶液として80°Cで測定したときを有する。最適条件下で、貯蔵弾性率20,000Pa以下、典型的には10,000Pa以下、およびより典型的には5,000Pa以下1.5質量水性溶液として80°Cで測定したときを実現できる。上記定義のように1.5質量水性溶液中、20°Cおよび剪断速度2.55s1にて測定したときの粘度150mPas超を有する本発明のセルロースエーテルのゲル強度は、同等の粘度ならびに置換の種類およびパーセントを有する比較のセルロースエーテルのゲル強度よりも高い。これは、これらを、剤形用のカプセルまたはコーティングの製造に用いる低分子量セルロースエーテルを製造するための原材料として高度に有利にする。これは良好なゲル強度も有する低分子量セルロースエーテルをもたらすからである。本発明の別の側面において、セルロースエーテルの粘度は2~200mPas、好ましくは2~100mPas、より好ましくは2.5~50mPas、特に3~30mPas2質量水性溶液として20°CでASTMD-2363-792006年再承認に準拠して測定したときである。そのような低粘度のセルロースエーテルは、剤形用のカプセルまたはコーティングの製造に特に有用である。これらのセルロースエーテルは、水性溶液中で同じ粘度および濃度の公知のヒドロキシアルキルメチルセルロースよりも低い、水性溶液中でのゲル化温度を有する。ゲル化温度は、MSヒドロキシアルキルに左右される。驚くべきことに、本発明の低粘度セルロースエーテル例えばヒドロキシプロピルメチルセルロース、またはヒドロキシエチルメチルセルロースの20質量水性溶液が、一般的に、[ゲル化温度[°C]/1[°C]-150×MSヒドロキシアルキル]<20、好ましくは<10、より好ましくは<0、および最も好ましくは<-5式中、ゲル化温度はG’/G=1である温度°C単位であり、G’はセルロースエーテルの20質量水性溶液の貯蔵弾性率であり、そしてGはセルロースエーテルの20質量水性溶液の損失弾性率であるの関係を満たすことを見出した。本発明のそのような低粘度セルロースエーテルの20質量の水性溶液を加熱して水性溶液のゲル化をさせる場合、沈殿は検出されない。貯蔵弾性率G’、損失弾性率GおよびG’/G=1であるゲル化温度それぞれセルロースエーテルの20質量水性溶液のものは、AntonPaarPhysicaMCR501ペルチェ温度制御システムを有するもの振動剪断流にてを用いた温度掃引実験で測定される。測定ギャップ1mmの平行板PP-50幾何的配置を用いる。該幾何学配置は、該幾何学配置周囲を金属リング内径65mm、幅5mm、および高さ15mmで覆い、溶液の外側表面はパラフィン油で覆う。測定は一定周波数2Hz、および一定歪み変位振幅0.5で5~75°C、または5°Cが既にG’とGとの交点に近い場合は-2°C~75°Cで行う。これらの測定は加熱速度1°C/分で、データ収集量4点/分で行う。振動測定で得られる貯蔵弾性率G’は、溶液の弾性特性を表す。振動測定で得られる損失弾性率Gは、溶液の粘性特性を表す。サンプルのゲル化プロセス中、G’はGより大きい。G’およびGの交点はゲル化温度を表す。本発明の幾つかのセルロースエーテルは、G’とGとの交点の2つの点を示すであろう。そのような場合、ゲル化温度は、G’/G=1となる温度であってG’/G=1よりも1°C低い温度でG>G’である温度である。本発明の新規なセルロースエーテルの製造方法は、例において詳細に説明される。新規なセルロースエーテルを製造するためのプロセスの幾つかの側面は以下でより一般的な用語で説明される。一般的にいえば、セルロースパルプ、または、セルロースパルプのヒドロキシアルキルメチルセルロースへの反応が進むに従って、一部反応したセルロースパルプに対して、2つ以上の段階で、好ましくは2つまたは3つの段階で、1つ以上の反応器内にて、アルカリ金属ヒドロキシドの水性アルカリ溶液で、より好ましくは水酸化ナトリウムで、アルカリ化する。水性アルカリ溶液は、好ましくは、アルカリ金属ヒドロキド量30~70、より好ましくは35~60、最も好ましくは48~52水性アルカリ溶液の総質量基準でを有する。一態様において、有機溶媒,例えばジメチルエーテル、を希釈剤および冷却剤として反応器に添加する。同様に、反応器の上部スペースは任意に不活性ガス例えば窒素でパージして、セルロースエーテル生成物の酸素触媒解重合を制御する。典型的には、1.2~2.0モル当量のアルカリ金属ヒドロキシドセルロース中の無水グルコース単位1モル当たりを第1段階で添加する。パルプ中での均一な膨潤および分布は、混合および撹拌によって任意に制御する。第1段階において、アルカリ金属ヒドロキシド剤の添加量はあまり臨界的ではない。これは幾つかの分割量,例えば2~4分割量、または連続で添加できる。アルカリ金属ヒドロキシドとセルロースパルプとの接触の第1段階での温度は、典型的には、約45°C以下に維持する。アルカリ化の第1段階は、典型的には15~60分間続く。メチル化剤,例えば塩化メチルまたはジメチルスルフェートもまたセルロースパルプに添加される典型的には、アルカリ金属ヒドロキシドの添加後に。メチル化剤の総量は一般的には、無水グルコース単位1モル当たり2~5.3モルである。メチル化剤は、セルロースに、または、セルロースパルプのヒドロキシアルキルメチルセルロースへの反応が進むにしたがって、一部反応したセルロースパルプに、1段階で添加できるが、好ましくは2つ以上の段階で添加し、より好ましくは2つまたは3つの段階、最も好ましくは2段階で添加する。メチル化剤を1段階で添加する場合、これは一般的には、無水グルコース1モル当たりメチル化剤3.5~5.3モルの量で添加するが、いずれの場合も、反応混合物の加熱前に、アルカリ金属ヒドロキシドの添加総モル量に対して少なくとも当モル量で添加する。メチル化剤を1段階で添加する場合、これは好ましくは毎分無水グルコース単位1モル当たり0.25~0.5モル当量のメチル化剤で添加する。メチル化剤を2段階で添加する場合、第1段階では、反応混合物の加熱前に、無水グルコール単位1モル当たり2~2.5モルのメチル化剤の量でこれを添加するが、いずれの場合も、いずれの場合も、反応混合物の加熱前に、アルカリ金属ヒドロキシド添加の第1段階で添加するアルカリ金属ヒドロキシドのモル量に対して少なくとも当モル量で添加する。メチル化剤を2段階で添加する場合、第1段階のメチル化剤は、好ましくは、毎分無水グルコール単位1モル当たりメチル化剤0.25~0.5モル当量で添加する。1段階の、または第1段階の、メチル化剤は懸濁剤と前混合できる。この場合、懸濁剤およびメチル化剤の混合物は、好ましくは20~50質量、より好ましくは30~50質量の懸濁剤メチル化剤および懸濁剤の総質量基準でを含む。セルロースがアルカリ金属ヒドロキシドおよびメチル化剤と接触した時点で、反応温度を典型的には30~80分間、より典型的には50~70分間かけて、約70~85°Cまで、好ましくは約75~80°Cまで上昇させ、そしてこの温度で10~30分間反応させる。メチル化剤を2段階で添加する場合、メチル化剤の第2段階は一般的に、反応混合物を温度約70~85°Cまで10~30分間加熱した後に、反応混合物に添加する。第2段階のメチル化剤は一般的には、無水グルコース単位1モル当たり1.5~3.4モルの量で添加するが、いずれの場合も、反応混合物中に存在するアルカリ金属ヒドロキシドのモル量に対して少なくとも当モル量で添加する。従って、第2段階のメチル化剤は、添加する場合は、アルカリ金属ヒドロキシドが過剰量でセルロースパルプと接触しないような様式で、アルカリ金属ヒドロキシド添加の第2段階または任意に第3段階の前または最中に反応混合物に添加する。第2段階のメチル化剤は、好ましくは、毎分無水グルコース単位1モル当たりメチル化剤0.25~0.5モル当量の量で添加する。メチル化剤を2段階で添加する場合、第1段階のメチル化剤と第2段階のメチル化剤とのモル比は、一般的には0.68:1~1.33:1である。アルカリ金属ヒドロキシドを2段階で添加する場合、典型的には、1段階または第1段階のメチル化剤の添加後に、または存在する場合には第2段階のメチル化剤の添加と同時またはその後に、無水グルコース単位1モル当たり1.0~2.9モル当量のアルカリ金属ヒドロキシドを第2段階で添加する。第1段階のアルカリ金属ヒドロキシドと第2段階のアルカリ金属ヒドロキシドとのモル比は、一般的には0.6:1~1.2:1である。第2段階で用いるアルカリ金属ヒドロキシドはゆっくり、すなわち、毎分無水グルコース単位1モル当たり0.04モル当量未満、典型的には0.03モル当量未満のアルカリ金属ヒドロキシドの量で、添加することが重要である。第2段階のアルカリ金属ヒドロキシドは一般的には温度55~80°C、好ましくは60~80°Cで添加する。メチル化剤およびアルカリ金属ヒドロキシドの各々を2段階で添加する上記手順の代替として、第2段階のメチル化剤は、第2段階のアルカリ金属ヒドロキシドの一部を添加した後の反応混合物に添加し、次いでアルカリ金属ヒドロキシドの後続の添加を行い、すなわち、メチル化剤を第2段階で添加し、これに続いてアルカリ金属ヒドロキシドの第3段階での添加を行う。方法のこの態様において、第2および第3の段階で添加する、無水グルコース単位1モル当たりのアルカリ金属ヒドロキシドの総量は、一般的には、無水グルコース単位1モル当たり1.0~2.9モルであり、好ましくはその40~60を第2段階で添加し、60~40を第3段階で添加する。好ましくは、第3段階で用いるアルカリ金属ヒドロキシドはゆっくり、すなわち、毎分無水グルコース単位1モル当たり0.04モル当量未満、典型的には0.03モル当量未満のアルカリ金属ヒドロキシドの量で、添加する。第3段階のメチル化剤およびアルカリ金属ヒドロキシドは一般的には温度55~80°C、好ましくは65~80°Cで添加する。1種以上、好ましくは1種または2種のヒドロキシアルキル化剤,例えばエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドもまた、セルロースパルプに、または、セルロースパルプのヒドロキシアルキルメチルセルロースへの反応が進むにしたがって、一部反応したセルロースパルプに、第1段階で添加するアルカリ金属ヒドロキシドの前、後またはこれと同時のいずれかで添加する。好ましくは1種のヒドロキシアルキル化剤のみを用いる。ヒドロキシアルキル化剤は一般的には、無水グルコース単位1モル当たりヒドロキシアルキル化剤0.2~2.0モルの量で添加する。ヒドロキシアルキル化剤は有利には、反応混合物を反応温度,すなわち温度30~80°C、好ましくは45~80°Cに加熱する前に添加する。メチル化剤とは異なる追加のアルキル化剤もまた、第1段階で添加するアルカリ金属ヒドロキシドの前、後またはこれと同時のいずれかでセルロースパルプに添加できる。有用なアルキル化剤は、エチル化剤,例えば塩化エチルである。追加のアルキル化剤は一般的には、無水グルコース単位1モル当たりアルキル化剤0.5~6モルの量で添加する。アルキル化剤は有利には、反応混合物を反応温度,すなわち温度30~80°C、好ましくは45~80°Cに加熱する前に添加する。セルロースエーテルを洗浄して、塩および他の反応副生成物を除去する。任意の溶媒であってその中に塩が可溶であるものを使用できるが、水が好ましい。セルロースエーテルは、反応器内で洗浄できるが、反応器の下流に位置する別個の洗浄器内で洗浄することが好ましい。洗浄前または洗浄後に、セルロースエーテルを蒸気に曝して揮散により残留有機物含有量を低減できる。セルロースエーテルを乾燥させて、水分および揮発分の含有量を、好ましくは約0.5~約10.0質量の水、より好ましくは約0.8~約5.0質量の水および揮発分セルロースエーテルおよび揮発分の質量の合計基準でに低減する。低減された水分および揮発分の含有量によって、セルロースエーテルが粒状形状にミル粉砕されることが可能になる。セルロースエーテルを所望サイズの粒状物にミル粉砕する。所望の場合、乾燥およびミル粉砕を同時に実施できる。上記のプロセスに従い、一般的に粘度150mPas超、好ましくは500~200,000mPas、より好ましくは500~100,000mPas、最も好ましくは1,000~80,000mPas、特に1,000~60,000mPas1.5質量水性溶液中、20°CにてHaakeRS600にて剪断速度2.55s1で評価したときを有するセルロースエーテルが得られる。剤形のカプセルまたはコーティングの製造用に特に好適なセルロースエーテルの製造のために、そのようなセルロースエーテルは一般的に部分解重合プロセスに供する。部分解重合プロセスは、当該分野で周知であり、例えば欧州特許出願第EP1,141,029号;第EP210,917号;第EP1,423,433号、および米国特許第4,316,982号に記載されている。代替として、部分解重合は、セルロースエーテルの製造中に、例えば酸素または酸化剤を存在させることによって実現できる。そのような部分解重合プロセスにおいて、粘度2~200mPas、好ましくは2~100mPas、より好ましくは2.5~50mPas、特に3~30mPas2質量水性溶液中、20°CにてASTMD2363-792006年再承認に準拠して評価したときを有するセルロースエーテルが得られる。本発明の別の側面は、剤形のカプセルまたはコーティングの製造用の水性組成物であり、これは7~40質量、好ましくは10~30質量の本発明のセルロースエーテル水性組成物の総質量基準でを含む。本発明のセルロースエーテルは、好ましくは粘度2~200mPas、好ましくは2~100mPas、より好ましくは2.5~50mPas、特に3~30mPas2質量水性溶液中、20°CにてASTMD2363-792006年再承認に準拠して評価したときを有する。水性溶液は、任意の添加剤,例えば着色剤、フレーバーおよび味の改善剤、酸化防止剤、可塑剤、および界面活性剤を更に含むことができる。例えばカプセルを製造する場合、水溶性食品染料,例えば弁柄、または天然染料を着色剤として使用でき;TiO2をマスキング剤として使用でき;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ソルビトールまたはグリセリンを可塑剤として、または界面活性剤として使用してカプセルフィルムの柔軟性を改善できる。ソリッド形状のコーティング用の特に有用な添加剤は単層フィルム可塑剤、固体装填向上剤solidsloadingenhancer、第2のセルロースエーテル、界面活性剤、潤滑剤、研磨剤、顔料、粘着防止剤、流動促進剤、不透明化剤、着色剤およびこれらの任意の組合せである。本発明の一側面において、水性組成物は、タブレット、顆粒、ペレット、カプレット、トローチ、座薬、ペッサリーまたは埋め込み可能な剤形等の剤形のコーティング用に使用して、コートされた組成物を形成できる。好ましい剤形は、医薬剤形、栄養補助剤形または農業用剤形である。本発明の別の側面において、水性組成物はカプセルの製造用に使用できる。カプセルの製造用の1つの方法は、ホットピン法である。この方法は、好ましくは、a上記のセルロースエーテルおよび任意の添加剤を含む水性組成物を準備するステップ、bディッピングピンを、水性組成物中にディップされたときにこれらが水性組成物のゲル化温度よりも高温であるように予熱するステップ、c該予熱されたディッピングピンを、そのゲル化温度未満の温度に維持された水性組成物中にディップするステップ、dディッピングピンを水性組成物から取出してディッピングピン上にフィルムを得るステップ、ならびにe成形されたカプセルシェルをピン上に得るように、ディッピングピン上の該フィルムを水性組成物のゲル化温度よりも高温で乾燥させるステップを含む。このホットピン法において、ディッピングピンは、好ましくは、水性組成物中にディップされた際にこれらが温度55~95°C、好ましくは60~90°Cであるように予熱する。予熱されたディッピングピンを、そのゲル化温度よりも10°C~1°C、より好ましくは4°C~1°C低く好ましく維持された水性組成物中にディップする。セルロースエーテルの水性組成物からカプセルを製造するのに用いるホットピン法は、国際公開第WO2008/050209号に詳細に記載されている。カプセルの製造のための別の方法はコールドピン法である。この方法では、水性組成物は、上記のセルロースエーテルおよび更にゲル化剤例えばカラギーナン、ペクチン、ジェランガム、または別の金属イオン封鎖剤もしくはゲル化助剤、例えばカリウムイオン、マグネシウムイオン、アンモニウムイオン、もしくはカルシウムイオンを含む。コールドピン法において、ピンは、一般的には、室温に維持し、そのゲル化温度よりも高温、好ましくは温度45~60°Cに維持された水性組成物中にディップし、ディッピングピンを水性組成物から取出し、そしてフィルムをディッピングピン上に得て、フィルムをディッピングピン上で乾燥させて、成形されたカプセルシェルをピン上に得る。セルロースエーテルの水性組成物からカプセルを製造するのに用いるコールドピン法は、欧州特許第EP0714656号および米国特許第6,410,050号に詳細に記載されている。同等の公知のヒドロキシアルキルメチルセルロースよりも水性溶液中で低いゲル化温度を有する本発明のセルロースエーテルの使用はまた、コールドピン法においても利点を与える。本発明のセルロースエーテルを水性組成物中に組み込む場合、本発明のセルロースエーテルは、公知のヒドロキシアルキルメチルセルロースよりも容易にゲル化する傾向がある。本発明のセルロースエーテルは、同じ置換種および置換レベルの公知のヒドロキシアルキルメチルセルロースよりも、示されるゲル化温度とピン温度例えば室温との間の差が小さいからである。よって、低温の本発明のセルロースエーテルを用いてカプセルを製造するために必要なゲル化剤はより低量または更にはない。これは製造方法を単純化し、カプセル外観明澄性および光沢を改善し、そして、特にジェランをゲル化剤として有するカプセル文献:ColeE.T.,Scott,R.A.,Cade,D.,Connor,A.L.およびWilding,I.R.,Pharm.Res.,2004,21,793-798またはゲル化剤なしのものと比較したときのカプセルの崩壊時間を潜在的に低減する。例1~15および比較例A~D高粘度セルロースエーテル以下の例は例示の目的に過ぎず、本発明の範囲の限定を意図しない。全てのパーセントは特記がない限り質量基準である。均一な溶液を実現するために、3gのセルロースエーテル粉末セルロースエーテルの含水量を考慮しを197gの水に70°Cにて、オーバーヘッドラボ撹拌器で700rpmにて10分間懸濁させる。次いでこれらの溶液を温度2°Cに5時間冷却して、溶解プロセスを完了させる。これらの5時間の間、溶液を500~1000rpmで撹拌し、蒸発で失われた水を置き換える。次いでこれらの溶液を冷蔵庫内で1晩保存する。分析前に、低温溶液を15分間100rpmで撹拌する。ヒドロキシプロピルメチルセルロースの粘度を、1.5質量水性溶液中、20°CにてHaakeRS600レオメーター内、円錐平板幾何学配置CP-60/2°で20°Cにて剪断速度2.55s1で評価する。ヒドロキシプロピルメチルセルロースにおけるメトキシルおよびヒドロキシプロポキシルの評価は、UnitedStatesPharmacopeiaUSP32に準拠して行う。得られる値はメトキシルおよびヒドロキシプロポキシルである。これらは続いてメチル置換基の置換度DSおよびヒドロキシプロピル置換基のモル置換度MSに変換する。塩の残存量は変換において考慮に入れてある。ヒドロキシエチルメチルセルロース中のDSメチルおよびMSヒドロキシエチルは、ヨウ化水素でのツァイゼル開裂、次いでガスクロマトグラフィで行うG.BartelmusおよびR.Ketterer,Z.Anal.Chem.2861977161-190。s23/s26の評価セルロースエーテル中のエーテル置換基の評価は、一般に公知であり、例えばCarbohydrateResearch,1761988137-144,ElsevierSciencePublishersB.V.,Amsterdam,DISTRIBUTIONOFSUBSTITUENTSINO-ETHYL-O-2-HYDROXYETHYLCELLULOSEBengtLindberg,UlfLindquist,およびOlleStenbergよりに記載されている。具体的には、s23/s26の評価は以下のように実施する。10~12mgのセルロースエーテルを、4.0mLの乾燥分析グレードジメチルスルホキシドDMSOMerck,Darmstadt,Germany,0.3nmモレキュラーシーブビーズ上で保存中、約90°Cで撹拌下で溶解させ、次いで再度室温まで冷却する。溶液を室温で1晩撹拌し続けて完全な可溶化を確保する。セルロースエーテルの可溶化を含む反応全体を、4mLスクリューキャップバイアル中、乾燥窒素雰囲気を用いて行う。可溶化後、溶解したセルロースエーテルを22mLのスクリューキャップバイアルに移す。粉末化水酸化ナトリウム新しくすり潰された分析グレードのもの,Merck,Darmstadt,Germanyおよびヨウ化エチル合成用で銀で安定化したもの,Merck-Schuchardt,Hohenbrunn,Germanyを、反応剤水酸化ナトリウムおよびヨウ化エチルの無水グルコース単位の水酸基当たり30倍モル過剰にて、添加し、窒素下、暗所で3日間室温にて溶液を激しく撹拌する。第1の反応剤の添加と比べて反応剤水酸化ナトリウムおよびヨウ化エチルの3倍量の添加で完全エチル化を繰り返して、室温で更に2日間撹拌する。任意に、反応混合物を1.5mLのDMSOで希釈して、反応の過程中に良好な混合を確保できる。5mLの5水性チオ硫酸ナトリウム溶液を反応混合物に注ぎ入れ、次いで得られた溶液を3回、4mLのジクロロメタンで抽出する。組合せた抽出物を3回、2mLの水で洗浄する。有機相を無水硫酸ナトリウム約1gで乾燥させる。濾過後、溶媒を窒素の穏やかな流れにて除去して、サンプルを更なるサンプル調製まで4°Cで保存する。約5mgの完全エチル化されたサンプルの加水分解を、窒素下で2mLのスクリューキャップバイアルで1mLの90水性ギ酸で、撹拌下、100°Cにて1時間行う。酸を35~40°Cでの窒素の流れにて除去し、加水分解を1mLの2M水性トリフルオロ酢酸で3時間120°Cで、不活性窒素雰囲気中撹拌下にて繰り返す。完了後、雰囲気温度で約1mLのトルエンを共蒸留用に用いて窒素の流れ中で酸を除去して乾燥状態にする。加水分解の残渣を0.5mLの0.5M重水素化ホウ素ナトリウムで、2N水性アンモニア溶液新しく調製したもの中で3時間、室温で撹拌下で還元する。約200μlの濃酢酸の滴下添加によって過剰の反応剤を潰す。得られる溶液を、窒素流中、約35~40°Cで蒸発させて乾燥状態にし、続いて減圧中で15分間室温で乾燥させる。粘稠な残渣を0.5mLの15酢酸メタノール中中に溶解させ、室温で蒸発させて乾燥状態にする。これを5回行い、純メタノールで4回繰り返す。最終蒸発後、サンプルを減圧中で1晩室温で乾燥させる。還元残渣を600μLの無水酢酸および150μLのピリジンで3時間90°Cにてアセチル化する。冷却後サンプルバイアルにトルエンを入れ、窒素流中、室温で蒸発させて乾燥状態にする。残渣を4mLのジクロロメタン中に溶解させて2mLの水に注ぎ入れ、2mLのジクロロメタンで抽出する。抽出を3回繰り返す。組合せた抽出物を3回、4mLの水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させる。続いて、乾燥したジクロロメタン抽出物をGC分析に供する。GC系の感度に依存し、抽出物の更なる希釈が必要である可能性がある。気体-液体GLCクロマトグラフ分析を、HewlettPackard5890Aおよび5890AシリーズII型のガスクロマトグラフJWキャピラリカラムDB5,30m,0.25mmID,0.25μm相層厚み1.5barヘリウムキャリアガスで操作を備えるで行う。ガスクロマトグラフは、60°Cで1分間一定保持、速度20°C/分で200°Cまで加熱、速度4°C/分で250°Cまで更に加熱、速度20°C/分で310°Cまで更に加熱、ここで更に10分間一定で保持、の温度プロファイルでプログラムする。インジェクター温度は280°Cに設定し、フレームイオン化検出器FIDの温度を300°Cに設定する。1μLのサンプルをスプリットレス式で0.5分のバルブ時間で注入する。データを得て、LabSystemsAtlasワークステーションで処理する。定量モノマー組成物データは、GLCでFID検出にて測定されるピーク面積から得る。モノマーのモル応答は有効炭素数ECNの概念しかし下記表に記載するように改変したに沿って算出する。有効炭素数ECNの概念はAckmanR.G.Ackman,J.GasChromatogr.,21964173-179およびR.F.Addison,R.G.Ackman,J.GasChromatogr.,61968135-138によって説明されており、SweetらD.P.Sweet,R.H.Shapiro,P.Albersheim,Carbohyd.Res.,401975217-225によって部分アルキル化アルジトールアセテートの定量分析に適用する。ECN算出のために用いたECN増分モノマーの異なるモル応答を較正するために、ピーク面積にモル応答係数MRFモノマーこれは2,3,6-Meモノマーに対する応答と定義されるを乗じる。2,3,6-Meモノマーを対照として選択する。これはs23/s26の評価で分析される全サンプル中に存在するからである。MRFモノマー=ECN2,3,6-Me/ECNモノマーモノマーのモル分率は、下記式に従い、較正されたピーク面積を較正された全ピーク面積で除することによって算出する。s23=[23-Me23-Me-6-HAMe23-Me-6-HA23-Me-6-HAHAMe23-Me-6-HAHA];およびs26=[26-Me26-Me-3-HAMe26-Me-3-HA26-Me-3-HAHAMe26-Me-3-HAHA]式中、s23は下記条件を満たす無水グルコース単位のモル分率の合計である。a無水グルコース単位の2-および3-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ6位が置換されていない=23-Me;b無水グルコース単位の2-および3-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、6位がメチル化ヒドロキシアルキル=23-Me-6-HAMeまたは2ヒドロキシアルキル基を含むメチル化側鎖=23-Me-6-HAHAMeで置換されている;ならびにc無水グルコース単位の2-および3-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ6位がヒドロキシアルキル=23-Me-6-HAまたは2ヒドロキシアルキル基を含む側鎖=23-Me-6-HAHAで置換されている。s26は下記条件を満たす無水グルコース単位のモル分率の合計である。a無水グルコース単位の2-および6-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ3位が置換されていない=26-Me;b無水グルコース単位の2-および6-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ3位がメチル化ヒドロキシアルキル=26-Me-3-HAMeまたは2ヒドロキシアルキル基を含むメチル化側鎖で=26-Me-3-HAHAMe置換されている;ならびにc無水グルコース単位の2-および6-位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ3位がヒドロキシアルキル=26-Me-3-HAまたは2ヒドロキシアルキル基を含む側鎖=26-Me-3-HAHAで置換されている。HAMCにおける置換の評価結果を下記表4に列挙する。HPMCのヒドロキシアルキルHAがヒドロキシプロピルHPである場合、メチル化ヒドロキシアルキルHAMeはメチル化ヒドロキシプロピルHPMeである。貯蔵弾性率G’、損失弾性率G、ゲル化温度およびゲル強度の評価1.5質量水性セルロースエーテル溶液の沈殿またはゲル化の温度依存性の特性を特性化するために、AntonPaarPhysicaMCR501レオメーターOstfildern,GermanyをCupBobセットアップCC-27およびペルチェ温度制御系とともに振動剪断流で用いる。これらの溶液を、粘度測定について説明したのと同じ溶解手順に従って調製する。測定は一定周波数2Hz、および一定歪み変位振幅0.5で10~85°C、加熱速度1°C/分で、データ収集量4点/分で行う。振動測定で得られる貯蔵弾性率G’は、溶液の弾性特性を表す。振動測定で得られる損失弾性率Gは、溶液の粘性特性を表す。低温では、損失弾性率値Gは貯蔵弾性率G’よりも高く、両値は温度上昇で若干低下する。沈殿が高温で起こる場合、貯蔵弾性率は降下する。この沈殿温度を、対数貯蔵弾性率G’対温度のプロットから、2つの接線の交点として分析する。第1の接線は、温度上昇での貯蔵弾性率の低下にフィッティングされ、第2の接線は温度範囲1~3°Cに亘る貯蔵弾性率の降下にフィッティングされる。温度の更なる上昇で、貯蔵弾性率値は増大し、貯蔵弾性率と損失弾性率との交点が得られる。G’とGとの交点をゲル化温度と定義する。本発明の幾つかのセルロースエーテルは、2つの点のG’およびGの交点を示す。そのような場合、ゲル化温度は、G’/G=1の温度であってG’/G=1よりも1°C低い温度ではG>G’である温度である。図1は、本発明のセルロースエーテルの沈殿温度およびゲル化温度の評価方法を示し;例2についての結果を図1に示す。例1ヒドロキシプロピルメチルセルロースHPMCを以下の手順に従って製造する。微粉砕した木材セルロースパルプをジャケット付の撹拌された反応器内に入れる。反応器を空にし、窒素でパージして酸素を除去し、次いで再度空にする。反応を2段階で行う。第1段階では、水酸化ナトリウムの50質量の水性溶液を、セルロース中の無水グルコース単位1モル当たり2.0モルの量の水酸化ナトリウムでセルロース上にスプレーし、温度を40°Cに調整する。撹拌後、水性水酸化ナトリウム溶液およびセルロースの混合物を約20分間40°Cで撹拌し、1.5モルのジメチルエーテル、2.5モルの塩化メチルおよび0.6モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりを反応器に添加する。反応器の内容物を次いで60分間80°Cに加熱する。80°Cに到達した後、第1段階の反応を30分間進行させる。反応の第2段階は、無水グルコース単位1モル当たり2.8モル当量の量の塩化メチルを添加することによって開始する。塩化メチルの添加時間は10分間である。次いで、50質量の水酸化ナトリウムの水性溶液を無水グルコース単位1モル当たり2.3モルの量で90分間かけて添加する。添加量は、毎分無水グルコース単位1モル当たり0.026モルの水酸化ナトリウムである。第2段階の添加を完了させた後、反応器の内容物を次いで温度80°Cで120分間維持する。反応後、反応器をベントし、約50°Cまで冷却する。反応器の内容物を取出し、高温水を収容するタンクに移す。粗HPMCを次いでギ酸で中和し、塩化物がなくなるように高温水で洗浄AgNO3凝集試験で調べるし、室温まで冷却し、55°Cで空気掃引ドライヤー中で乾燥させる。材料を次いで、AlpineUPZミルを用いて0.5mmスクリーンを用いて粉砕する。例2反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.8モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例3反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.2モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例4反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.4モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例5反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.15モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例6反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.4モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例7第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第1段階における塩化メチルの量を2.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における塩化メチルの量を1.5モル無水グルコース単位1モル当たりとし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.2モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例8第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第1段階における塩化メチルの量を2.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における塩化メチルの量を1.5モル無水グルコース単位1モル当たりとし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.4モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例9第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第1段階における塩化メチルの量を3.5モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における塩化メチルの量を0ゼロモル無水グルコース単位1モル当たりとし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.0モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例10第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第1段階における塩化メチルの量を3.5モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル無水グルコース単位1モル当たりとし、第2段階における塩化メチルの量を0ゼロモル無水グルコース単位1モル当たりとし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.35モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりとする他は例1を繰り返す。例11ヒドロキシプロピルメチルセルロースを以下の手順に従って製造する。微粉砕した木材セルロースパルプをジャケット付の撹拌された反応器内に入れる。反応器を空にし、窒素でパージして酸素を除去し、次いで再度空にする。反応を3段階で行う。第1段階では、水酸化ナトリウムの50質量の水性溶液を、セルロース中の無水グルコース単位1モル当たり1.8モルの量の水酸化ナトリウムでセルロース上にスプレーし、温度を40°Cに調整する。撹拌後、水性水酸化ナトリウム溶液およびセルロースの混合物を約10~20分間40°Cで撹拌し、1.5モルのジメチルエーテル、2.3モルの塩化メチルおよび0.4モルのプロピレンオキシド無水グルコース単位1モル当たりを反応器に添加する。反応器の内容物を次いで60分間80°Cに加熱する。80°Cに到達した後、第1段階の反応を5分間進行させる。次いで、反応器の内容物を25分間で65°Cまで冷却する。第2段階反応は、水酸化ナトリウムの50質量水性溶液を、無水グルコース単位1モル当たり1.45モルの水酸化ナトリウムの量にて、45分間に亘って添加することによって開始する。添加量は、毎分無水グルコース単位1モル当たり0.032モルの水酸化ナトリウムである。次いで、無水グルコース単位1モル当たり3.4モルの量で塩化メチルを添加する。塩化メチルの添加時間は10分間である。次いで、第3段階として、再度、水酸化ナトリウムの50質量水性溶液を、無水グルコース単位1モル当たり1.45モルの水酸化ナトリウムの量にて、45分間に亘って添加する。第3段階の水酸化ナトリウム添加が完了した後、反応器の内容物を次いで80°Cに15~30分間にて加熱し、この温度で90分間維持する。製造したセルロースエーテルを、例1で説明したように更に処理する。例12プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.2モルのエチレンオキシドである。例13プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.4モルのエチレンオキシドである。例14プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.6モルのエチレンオキシドである。例15プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.8モルのエチレンオキシドである。例1~15および比較例A~DのヒドロキシプロピルメチルセルロースHPMCおよびヒドロキシエチルメチルセルロースHEMCの特性を下記表1に列挙する。比較例A~DのヒドロキシプロピルメチルセルロースおよびヒドロキシエチルメチルセルロースはTheDowChemicalCompanyから市販で入手可能である。11.5質量水性溶液として測定11.5質量水性溶液として測定例16~21および比較例E~F低粘度セルロースエーテルHPMCを60~65°Cで分散させ、分散体を1~5°Cに冷却し、これを約500rpmで少なくとも2時間1~5°Cで撹拌し、これを1晩冷蔵庫内で1~5°Cにて維持することによって、ヒドロキシプロピルメチルセルロースHPMCの20質量水性溶液を製造する。溶液を5分間、100rpmで撹拌した後、貯蔵弾性率G’、損失弾性率G、および、G’/G=1であるゲル化温度を評価する。ヒドロキシプロピルメチルセルロースHPMCの20質量水性溶液の各々の、貯蔵弾性率G’、損失弾性率G、およびG’/G=1であるゲル化温度は、温度掃引試験で、AntonPaarPhysicaMCR501ペルチェ温度制御系を有し、振動剪断流で測定する。測定ギャップ1mmを有する平行板PP-50幾何学配置を用いる。幾何学配置を金属リング内径65mm、幅5mm、高さ15mmで該幾何学配置を囲んで覆い、溶液の外側表面をパラフィン油で覆う。測定を一定周波数2Hzおよび一定歪み変位振幅0.5、5°C~75°C、または-2°C~75°C5°Cが既にG’とGとの交点に近い場合で行う。これらの測定は加熱速度1°C/分でデータ収集量4点/分で行う。貯蔵弾性率G’これは振動測定から得られるは溶液の弾性特性を表す。損失弾性率Gこれは振動測定から得られるは溶液の粘性特性を表す。サンプルのゲル化プロセス中、G’はGを超える。G’とGとの交点はゲル化温度を表す。サンプルの粘度は、2質量水性溶液として20°CにてASTMD2363-792006年再承認に準拠して測定する。例16~21下記表2に列挙する時間および温度で、粉末状サンプルをガス状塩化水素で加熱することによって、例1~6のヒドロキシプロピルメチルセルロースを部分解重合する。部分解重合されたヒドロキシプロピルメチルセルロースを炭酸水素ナトリウムで中和する。比較例Eこの比較例は、DSメチル1.90、MSヒドロキシプロピル0.14および粘度5.5mPas2質量水性溶液として、20°Cにてを有するヒドロキシプロピルメチルセルロースである。DSメチル1.90およびMSヒドロキシプロピル0.14は、メトキシ量29.9w/wおよびヒドロキシプロポキシ量5.3w/wに対応する。このヒドロキシプロピルメチルセルロースは、硬質カプセルの製造について第WO2008/050209号に開示されるものに対応する。これはTheDowChemicalCompanyから市販で入手可能であり、例12~17について説明したような比較例Aの部分解重合の後得られる。比較例Fこの比較例は、DSメチル1.84、MSヒドロキシプロピル0.24および粘度6.3mPas2質量水性溶液として、20°Cにてを有するヒドロキシプロピルメチルセルロースである。DSメチル1.84およびMSヒドロキシプロピル0.25は、メトキシ量28.3w/wおよびヒドロキシプロポキシ量8.9w/wに対応する。これはTheDowChemicalCompanyから市販で入手可能であり、例12~17について説明したような比較例Bの部分解重合の後得られる。ゲル化温度を下記表3に列挙する。12質量水性溶液として測定220質量水性溶液として測定"