太陽光吸収体コンポーネント10上に選択的吸収コーティングを作製する方法であって、下記方法工程:-金属表面を有する基体1を準備する工程、-前記金属表面の内表面を決定する工程、-前記内表面に応じて前記吸収コーティングを作製するのに必要な単位面積当たりの電荷量を決定する工程、-第1工程で基体1の前記金属表面を直流陽極処理し、多孔性酸化物層を形成し、かつ第2工程で前記酸化物層の細孔を交流着色処理することによってここで、前記直流陽極処理及び交流着色処理は、前記内表面からそれぞれの工程のために決定された前記単位面積当たりの電荷量に達するまで行なわれる、電解で吸収層3を作製する工程ここで、前記直流陽極処理のための単位面積当たりの電荷量ρAと、前記交流着色処理のための単位面積当たりの電荷量ρPとの比ρA/ρP=0.65~0.8であるを含む方法。前記基体1が、金属コンポーネント、特に板状又は管状コンポーネントであることを特徴とする請求項1に記載の方法。前記基体1が、接着促進金属表面層2を有する金属コンポーネント、特に鋼又はステンレス鋼コンポーネントであることを特徴とする請求項2に記載の方法。前記接着促進金属表面層2がアルミニウム又は銅層であることを特徴とする請求項3に記載の方法。前記基体が、ロールボンドプロセスで2つの金属シートから作製された膨張したクッション吸収体であることを特徴とする請求項2に記載の方法。前記基体1を円筒状に形成し、かつアルミニウム又は銅管を引っ張って被せることによって前記接着促進層を与えることを特徴とする請求項2~5のいずれか1項に記載の方法。前記基体が箔状であり、特にアルミニウム又は銅箔として形成されることを特徴とする請求項1に記載の方法。前記基体がガラス基体、特にTCOコーティングされたガラス基体であることを特徴とする請求項1に記載の方法。前記基体材料の金属表面の内表面を原子間力顕微鏡を用いて決定することを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の方法。前記基体表面上に直流陽極処理によって析出される前記吸収層がAl2O3又は酸化銅層であることを特徴とする請求項1~9のいずれか1項に記載の方法。Ni、C、Al、Mg、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Ag及びSnから成る群より選択される金属を用いて前記交流着色処理を行なうことを特徴とする請求項1~10のいずれか1項に記載の方法。太陽光吸収体コンポーネント10を円筒状に形成し、電解質20を満たした容器30内に立位で位置づけた太陽光吸収体コンポーネント10を用いて吸収層3を電解で作製し、円筒状の太陽光吸収体コンポーネント10を、周囲の円筒状の対電極40に対して同軸性に配置することを特徴とする請求項1~11のいずれか1項に記載の方法。太陽光吸収体コンポーネント10を円筒状に形成し、電解質20を満たした容器30’、30内に横臥位で位置づけた太陽光吸収体コンポーネント10を用いて吸収層3を電解で作製し、円筒状の太陽光吸収体コンポーネント10を、本質的に円筒状の内表面を有する樋形の対電極40’、40に対して本質的に同軸性に配置することを特徴とする請求項1~11のいずれか1項に記載の方法。前記円筒状の太陽光吸収体コンポーネント10を、その外周に関して一部だけ電解質20に浸漬することを特徴とする請求項13に記載の方法。電解で作製された吸収層3上に透明の反射防止層4を与えることを特徴とする請求項1~14のいずれか1項に記載の方法。前記反射防止/保護層4を、Al2O3、TiO2、3-メルカプトプロピルトリメトキシシランMPTMS、酸化セリウム、ケイ酸ナトリウム、SiO2、SiO2/SnO2又は熱分解SnO2若しくはF:SnO2FTO又はフッ素ドープ酸化錫から成る群より選択される材料から形成することを特徴とする請求項15に記載の方法。前記基体1が、アルミニウム又は銅ストリップC或いはロールツーロールプロセスでコーティングされるアルミニウム又は銅コーティングでコーティングされた鋼ストリップCであることを特徴とする請求項1に記載の方法。請求項1~16のいずれか1項に記載の方法で作製された太陽光吸収体コンポーネント10。これを出発点とみなして、本発明の目的は、太陽光吸収体コンポーネント上に選択的吸収コーティングを作製する方法であって、その方法を利用して、異なるジオメトリの金属表面上に、特に管状コンポーネント上、プレート製品上、並びにコイル製品上にも、商業規模で高い再現性及び最大の吸収能ひいては最適の有用性で高度選択的吸収層を作製できる方法を特定することである。本発明の実施に伴う投資コストは低くなければならない。この目的は、本発明により太陽光吸収体コンポーネント上に選択的吸収コーティングを作製する方法で達成される。この方法は下記方法工程:-金属表面を有する基体を準備する工程、-金属表面の内表面を決定する工程、-内表面に応じて吸収コーティングを作製するのに必要な単位面積当たりの電荷量を決定する工程、-第1工程で基体の金属表面を直流陽極処理し、多孔性酸化物層を形成し、かつ第2工程で酸化物層の細孔を交流着色処理することによってここで、直流陽極処理及び交流着色処理は、内表面からそれぞれの工程のために決定された単位面積当たりの電荷量に達するまで行なわれる、電解で吸収層を作製する工程ここで、直流陽極処理のための単位面積当たりの電荷量ρAと、交流着色処理のための単位面積当たりの電荷量ρPとの比ρA/ρP=0.65~0.8であるを含む。本発明の方法の特定の利点は、高い精度及び最高度の再現性で金属基体表面上に選択的吸収層を作製できることである。金属基体表面の予め決定した内表面に応じて吸収コーティングの作製に必要な単位面積当たりの電荷量を決定することによって、例えば空気の温度及び圧力並びに電解質の温度及びその中のイオン濃度のような完全には抑制できない周囲条件の変動がコーティング結果に悪影響を及ぼさないようにすることができる。上に述べたように、本発明の製法における出願人による調査は、日の異なる時間、すなわち、わずかに異なる温度で完全に同一の基体表面上における選択的吸収層の作製は、既にコーティングに目に見える差異をもたらし、ひいては異なる層厚、それに応じて不均一な吸収挙動をもたらすことを示した。ファラデーの法則この法則によれば、材料の電荷量及び電解変換ひいては層作製が相互の関連で厳密に比例するを検討することによって、外部の周囲パラメータに無関係な均一かつ再現性のある層成長を確実にする。ここで、所要の電荷量は内表面に応じて決まり、内表面は基体の微視的組成に応じてその巨視的に決定できる表面とは異なり得る。本発明によれば、第1工程で基体の金属表面を陽極処理し、多孔性酸化物層を形成することによって電解で吸収層が作製される。このような陽極処理法エロキサダイジングeloxadizingEloxieren英、独訳は、特にアルミニウム表面を用いて、何年もの間、工業規模で使用されてきたので、何の問題もなく商業的に多孔性酸化層を作製するのに適している。アルミニウム表面の場合、表面を陽極処理することによって、例えば、Al2O3層が作製される。銅の場合、これは酸化銅層である。本発明によれば、第2工程で、酸化物層の細孔の交流着色処理が行なわれる。ここで、直流陽極処理及び交流着色処理は、内表面からそれぞれの工程のために決定された単位面積当たりの電荷量に達するまで行なわれ、その後、中断される。この二段階電解プロセスを用いて、優れた吸収特性を有し、比較的技術的努力及び費用が少ない、いわゆるサーメット層セラミック金属として基体表面上に再現性のある高品質の吸収体層が作製される。交流の基礎を成す交流電圧は、経時的に特に正弦的、矩形的又は非対称的に流れ得る。直流コンポーネントを交流に適用することもできる。周波数も固定されない。従って、特に、50Hzの電力周波数で交流着色処理を行なうこともできる。最後に、陽極処理の電荷密度と着色処理の電荷密度の比は、太陽光吸収係数αを定義する。驚くべきことに発明者らが発見したように、太陽放射線エネルギーを熱に変換すると、太陽光吸収体コンポーネントの最適の有用性、ひいては最大のプロセス効率を与える吸収係数α>90が比ρA/ρP=0.65~0.8で得られる。本発明の方法の第1実施形態によれば、基体は金属コンポーネント、特に板状又は管状コンポーネントであってよい。その一方で、ロールボンドプロセスで作製されたアルミニウムクッション吸収体として基体を形成することができる。さらに、ロールツーロールプロセスでコイル製品を作製することができる。実際のところ、非金属基体材料、例えば、金属表面を有するプラスチックを使用することもできる。確立されたプロセスは、例えば電気めっきプラスチックコーティング又はプラズマコーティングである。本発明の方法を用いてガラス基体を高度に選択的にコーティングすることもできる。出願人が行なった試験では、透明な伝導性酸化物層TCO、ここでは特にインジウム錫酸化物ITO、フッ素錫酸化物FTO、アルミニウム亜鉛酸化物AZO及びアンチモン錫酸化物ATOでコーティングされたガラス表面が特に好適であることが判明した。さらに、基体材料は箔状であってよく、特にアルミニウム箔として形成することができる。選択的吸収コーティングが基体ベースにしっかり接着することを確実にするため、本発明の方法のさらなる実施形態によれば、基体が接着促進層を備えることに関する規定が設けられる。基体材料の組成に応じて異なる接着促進層を適用することができる。好ましくは、アルミニウム又は銅の層を接着促進層として使用する。これらの元素は赤外範囲の高度の反射及び優れた熱伝導度を有するからである熱伝導度λCu=230~400W/m×K;λAl=230~400W/m×K。基体材料が例えば、円筒状コンポーネント、特に鋼管の場合、アルミニウム管を引っ張って被せることによって鋼管上に接着促進層を与えることもできる。このためには、鋼管の外径よりわずかに小さい内径の薄壁アルミニウム管を使用する。加熱すると、アルミニウム管を引っ張って鋼管に被せることができ、冷却後に鋼管との非常に堅い結合を形成する。アルミニウム管の代わりに、銅管を用いて引っ張って鋼管に被せることもできる。銅管は、後の使用においてCSPレシーバ内で>520°Cの温度を発生させ得るという利点を有する。当然に、基体材料上に接着促進層を沈着させるために他の方法、特に真空法を使用することもできる。その一方で、アルミニウム又は銅の固体材料から成るコンポーネントを使用することもできる。本発明の教示によれば、太陽光吸収体コンポーネント上の吸収層の電解作製に必要な電荷量は基体の内表面に応じて決まる。内表面、すなわち、基体の微視的表面は、例えば、顕微鏡スケールでの機械的走査によって、好ましくは原子間力顕微鏡によって決定可能である。このために、例えば、10×10μm2又は50×50μm2の代表的表面セクションを走査する。本発明によれば、吸収層は第1工程で基体表面を直流陽極処理することによって作製される。この直流陽極処理は、内表面から決定された単位面積当たりの電荷量に達するまで行なわれ、その後それに応じて中断される。陽極処理中の表面積電荷密度ρAは熱放射率εに正比例する。実験的に、出願人は下記関係:ε[]=5×ρA[C/cm2]ε基体[]式中、εは陽極処理表面の放射率を表し、ε基体は基体の放射率を表すを見い出した。アルミニウム又は銅が基体材料として適格である。文献から材料定数としてそれらの放射率を利用することができるεアルミニウム=2.3及びε銅=2.9。本発明によれば、第2工程で、酸化物層の細孔の交流着色処理が行なわれる。このとき直流陽極処理及び交流着色処理は、内表面からそれぞれの工程のために決定された単位面積当たりの電荷量に達するまで行なわれる。陽極処理層を着色処理するために種々の金属を使用することができる。Ni、C、Al、Mg、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Ag及びSnから成る群より選択される金属を用いて交流着色処理を行なうのが好ましい。異なる戦略を利用して、コーティングすべき太陽光吸収体コンポーネントのジオメトリに応じて吸収層を電解で作製することができる。非平面表面膨張したチャネルのためを有するロールボンド吸収体を板製品又は箔と全く同じようにコーティングすることができる。本方法の特に有利な実施形態によれば、太陽光吸収体コンポーネントを円筒状に形成し、電解質を満たした容器内に立位で位置づけた太陽光吸収体コンポーネントを用いて吸収層を電解で作製し、円筒状の太陽光吸収体コンポーネントを周囲の円筒状の対電極に対して同軸性に配置する。或いは、円筒状に形成した太陽光吸収体コンポーネントを、電解質を満たした容器内に横臥位で配置することができる。この場合、円筒状の太陽光吸収体コンポーネントは、本質的に円筒状の内表面を有する樋形の対電極に本質的に同軸性に配置される。ここで、円筒状の太陽光吸収体コンポーネントをその外周に関して全体的又は部分的に電極に浸漬することができる。従って、一部だけ電極に浸漬する場合、円筒状の太陽光吸収体コンポーネントの電極に浸漬された外周セクション上にのみ吸収層が電解で作製される。円筒状の太陽光吸収体コンポーネントをパラボリックトラフ式集光器内のレシーバとして又はレシーバ管内の吸収体管として設ける場合、当然のことながら、コーティングされた外周セクションをトラフ形の鏡セクションに面して配置し、非コーティングセクションを太陽に面して配置する。特にアルミニウム又は銅製のコイル製品は、ロールツーロールプロセスを利用して高度に選択的にコーティング可能である。このためには、1つの構成によれば、コイル材料を4つの浸漬タンクを通して連続的に引抜き加工する。第1浸漬タンクで材料をきれいにし、第2タンクで直流陽極処理によって多孔性酸化物層を形成し、第3浸漬タンクでコイル材料から陽極処理電解質を除去し、最後のタンクで交流着色処理を行なう。第1代替法によれば、コイル材料を地電位に接続し、対電極を対応電位陽極処理では直流電圧、着色処理では交流電圧に接続する。第2代替法によれば、陽極処理の直流電圧をコイル材料に印加し、着色処理交流電圧と陽極処理電圧の合計電位で着色処理を行なう。出願人による試験は、両方とも何の問題もなく達成可能であることを立証した。本発明のさらなる実施形態によれば、電解作製された吸収層上に最後に透明な反射防止層を与えることができる。これは、例えば、Al2O3、SiO2、SiO2/SnO2、TiO2、3-メルカプトプロピルトリメトキシシランMPTMS、酸化セリウム、ケイ酸ナトリウム、又は熱分解SnO2若しくはF:SnO2FTO又はフッ素ドープ酸化錫から成る群より選択される材料から形成可能である。この層は、反射による損失を食い止め、かつさらに大気水分及び大気汚染から保護するための透明薄層として役立つ。それにより、埋め込まれた金属粒子を酸化又はヒドロキシド化から保護することによって層の分解をも防止する。さらに、表面粗さを減らし、表面をきれいにしやすくする。本発明のさらなる態様は、請求項1~18のいずれか1項に記載の方法により作製された太陽光吸収体コンポーネントに関する。この太陽光吸収体コンポーネントの利点については上記説明を参照されたい。以下、例示実施形態を示す図面の助けを借りてさらに詳細に本発明を説明する。図1には、パラボリックトラフ式集光器用の選択的吸収コーティングを備えた吸収管10を断面図で示してある。ここで、基体材料の厚さに対する個々の層のそれぞれの厚さは、明瞭さのため、縮尺比に従って表していない。図1の吸収管10は鋼管1を含み、この鋼管1にはその外表面上に接着促進層2が設けられている。これは、好ましくはアルミニウム又は銅層であり、好ましくは鋼表面上に電解析出される。接着促進層は完全に無孔性でなければならないので、ここでは電解析出層の最小厚が8~10μmであると好ましい。鋼管1が、多孔性表面のある低い表面品質の鋼管である場合、まず最初に、側方に成長する金属層例えばニッケルの電解析出によって表面上の細孔を電解で閉じ、引き続きアルミニウム接着促進層を電解析出させることは道理にかなっている。或いは、薄いアルミニウム管例えばAlMg3又は銅管を引っ張って鋼管に被せることができる。ここでは、その外径が鋼管の外径よりわずかに小さいアルミニウム又は銅管を加熱し、引っ張って鋼管に被せる。冷却後、非常に固い材料結合が生じる。接着促進層の電解析出に加えて、この層を真空プロセス、例えばPVDで与えることもできる。ここで、接着促進層は絶対的に細孔がないことに注意しなければならない。さらに、言うまでもないが、当然に、鋼管の代わりにアルミニウム又は銅管を使用することもできる。銅管の利点は、それらを用いて>520°Cの表面温度を達成できることである。基体が板状である太陽光吸収体コンポーネントの実施形態は図示していない。特にアルミニウム又は銅箔の形の箔状基体も図示していない。この箔は、0.05及び0.2mmの典型的厚さを有し得る。出願人による試験が示したように、家庭用アルミニウム箔でさえ、本発明の方法を用いて選択的にコーティングすることができる。選択的吸収コーティング3を接着促進層2の上に与える。本コーティング3の吸収特性の選択性のため、太陽放射線の主要部分は0.3~2.5μmの波長範囲にかなり吸収されるが、太陽放射線の長波長部分は反射される。選択的吸収コーティング3は着色陽極処理層であり、二段階プロセスで接着促進層2上に作製される。この層の微視的構造については、図2及び3と関連してさらに後述する。図1の吸収体管の層構造の最外層は反射防止層4によって形成される。これは、透明の薄層として、反射による損失を最小限にし、同時に、大気水分及び大気汚染から防御し、かつ高度選択的コーティングの分解を防止する。反射防止層用の材料として、Al2O3、SiO2/SnO2、TiO2、3-メルカプトプロピルトリメトキシシランMPTMS、酸化セリウム、ケイ酸ナトリウム又は熱分解SnO2若しくはF:SnO2FTO又はフッ素ドープ酸化錫を使用することができる。SiO2層を反射防止層として使用すると、石英ガラスの屈折率nSiO2≒1.55は、例えば、Al2O3nAl2O3≒1.76の場合より使用中の吸収体管周囲の空気の屈折率n空気≒1によく適合し、その結果、SiO2反射防止層では反射による損失が比較的少ないので、特に好ましい。図2には、図1の吸収体管の陽極処理及び着色処理された選択的吸収コーティングを今度は組織的に配列した形式の断面図で示してある。この場合もやはり、明瞭さのため、縮尺比に従って示していない。下部のアルミニウム接着促進層2の直流陽極処理中、最初に薄いAl2O3バリア層23が生じ、これは接着促進層2と高度選択的吸収層3の間の拡散防止層として機能する。ここでは、バリア層23の厚さは約25nmである。連続的直流陽極処理により、約300~500nmの厚さを有する多孔性層3aがバリア層23の上に生じる。本例示実施形態では、細孔3bの直径を50~80nmとして示すことができる。この層構造は、直流陽極処理中に電荷量を一定に維持することによって、変動する周囲条件とは無関係に正確に再現可能である。所定の単位面積当たりの電荷量に達した後の陽極処理の中断後、交流着色処理工程で酸化物層の細孔が着色される。ここでもやはり基体の内表面に応じて決定された電荷量が一定に維持される。着色処理には金属Ni、C、Al、Mg、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Ag及びSnが適している。図6と関連して後で詳しく説明するように、金属顔料3cが細孔3bから漏れて多孔性酸化物層3a上の単層領域に閉じた金属膜を生じてしまわないように、多孔性酸化物層3aの細孔3bを着色しないことが重要である。図4には、図2の選択的吸収コーティングの反射率をナノメートルの波長に応じてプロットしてある。特に顕著なことは、約800nmの波長未満ではコーティングの反射率が<5と非常に低く、7000nmの波長から一定して90の範囲の反射率となることである。太陽光吸収体管上の選択的吸収層の作製の完全な作業サイクルについて具体的な例示実施形態を用いて以下に述べる。最初に、アルミニウム接着促進層を円筒状鋼基体上に析出させる。イソプロパノールできれいにした後、アルミニウム接着促進層をナトリウム溶液でエッチング又は酸洗いするか或いは通常のアルミニウムの酸洗いを行なう。当該手段によって、一方では、表面の不純物が除去され、他方では、アルミニウム表面上のバリア酸化物及び天然酸化物が除去される。酸洗い又はエッチング後には、表面上にアルミニウム、ケイ素又はマグネシウムだけが存在することが重要である。そうでなければ、陽極処理及び着色処理、ひいてはコーティング結果が完全なものにならないであろうからである。引き続き化学的又は電解的光沢めっき浴を用いて、Al基体の放射率をなおさらに下げることができ、これにより完成コーティングでは、さらに低い全放射率となるε[]=5×ρA[C/cm2]εAl[]。次の陽極処理プロセスでは、全ての場所に同一厚さの酸化物を形成し、その細孔中に金属粒子を組み込むことができる。このようにして、傑出したコーティング品質を保証することができる。次の工程では、原子間力顕微鏡AFMを用いて内表面を決定する。アルミニウム接着促進層の内表面は、例えば、Ra=56nmの平均表面粗さ、典型的に約120μm2と100μm2の測定場を有する。実験的に分かった陽極処理中の表面積電荷密度ρAと熱放射率εとの関係ρA[C/cm2]=ε[]-εAl[]/5の助けを借りて、これから、直流陽極処理に必要な単位面積当たりの電荷量C/cm2を計算する。着色処理の電荷量ρPは、ρA/ρP=0.65~0.8から決まる。これに関連して、例えば、接着促進層を陽極処理するために、ε=6.3及びεAl=2.3では0.8C/cm2という単位面積当たりの電荷量となる。次に、アルミニウム接着促進層の直流陽極処理を行なう。本例示実施形態では、リン酸H3PO4-9vol中15Vの直流電圧でこれを行ない、アルミニウム表面上にAl2O3層が作製される。単位面積当たりの電荷量に達した後にプロセスを停止する。電荷量の制御の結果として、電流の相当な変動につながる電解質温度の変動及び電解質濃度の変動を補償することができる。純粋に時間依存性の層成長では、このような変動は、再現できないコーティング結果をもたらすであろう。純粋に電流制御すると、印加電圧は温度変化につれて変化し、順次、表面内の異なる細孔分布をもたらすであろう。細孔の大きさ及び間隔は、陽極処理印加電圧に決定的に依存する。直流陽極処理の過程で作製されるAl2O3層は、組織的に配列した形式の図2に示すものに相当する。側断面図で図2に示す細孔3bは、平面図では六方格子を形成する。直流陽極処理の過程で生じるAl2O3バリア層の厚さは、方程式D=α×U式中、α=1.2~1.4nm/Vであり、U=15は直流陽極処理電圧であるを用いて決定することができる。これによるとバリア層の厚さは約18~21nmである。選択的吸収層の細孔間の距離は、式D=β×U式中、β=2.5nm/Vであり、U=15Vは、この場合もやはり陽極処理電圧に相当するを用いて計算することができる。従って、上式によれば、細孔間の距離は約37.5nmである。図5には、アルミニウム接着促進層の直流陽極処理の電流特性曲線を示してある。ここでは、陽極処理電流を時間に対してプロットしている。図5で確認できるように、電流は最初に約315mAの値から約50mAの値へ指数関数的に降下する。この段階でバリア層が形成される。この後、電流は約430秒の処理時間まで緩徐に約60mAの値へ再び上昇する。この段階で、薄いバリア酸化物のある場所内の不規則に厚い酸化物層上で場の拡大が起こる。バリア層に窪みが生じ、細孔成長の種として働く。第3段階では、約430秒の処理時間で始まり、計算された単位面積当たりの電荷量に達した後にプロセスが中断されるまで、前述した直流電圧値、電解質の組成及び濃度で、約50~80nmの直径を有する細孔の安定した成長が起こる。約2000秒の処理時間で、計算された単位面積当たりの電荷量に達し、その結果、図5で陽極処理電流の急降下によって示されるように、陽極処理が停止される。これとは別に、陽極酸化技術で知られる酸クロム酸、硫酸中でAl2O3層又は酸化銅層を作製することもでき、この場合、細孔の大きさ及び分布は本例示実施形態から逸脱する。アルミニウム接着促進層の直流陽極処理を行なった後、交流着色処理工程で該層を着色する。本例示実施形態では、この処理を下記から構成されるニッケル対電極及び着色処理溶液を用いて行なう。硫酸ニッケル六水和物30g/l硫酸マグネシウム20g/l硫酸アンモニウム20g/lホウ酸20g/l5~12V、特に7.5Vの交流電圧で数系列の実験を行なった。このとき交流密度は6.5mA/cm2~22.5mA/cm2であった。接着促進層の内表面から計算された単位面積当たりの電荷量に達してから自動停止されるまで再び交流着色処理を行なった。直流陽極処理の単位面積当たりの電荷量ρAと、交流着色処理の単位面積当たりの電荷量ρPとの間の関係については、値ρA/ρP=0.65~0.8を選択した。図6には、経時的な電流の過程として交流着色処理の電流特性曲線をプロットしてある。図6で確認できるように、プロセス時間が進行し、約60秒で極小デルタピークを通過しながら電流は降下する。そして、電流は再び上昇する。出願人による試験が示したように、電流が徐々に下がる段階に、陽極処理層の細孔は規則的様式で顔料で満たされる。図3bには、規則的に満たされた細孔を示してある。デルタピークを通過するとすぐに、完全に満たされた細孔から顔料が漏れるように細孔の過剰着色が起こり、多孔性陽極処理層の上の単層領域に閉じた金属膜を形成し始める。これを図3cに概略的に示してある。過剰着色は、可視スペクトル範囲の吸収の低下を伴うであろうことから、これを回避するため、交流着色処理は常に、図6の電流特性曲線の減少を続けるエリアで実施される。それに応じて、デルタピークに達する前の、計算された単位面積当たりの電荷量に達したときに着色処理は中断される。全体的に見ると、出願人による試験が示すように、直流陽極処理と交流着色処理は両方とも4~6mA/cm2の範囲の比較的低い電流密度で十分である。この結果、表面積電荷密度は、陽極処理中は1.2C/cm2未満、着色処理中は0.8~0.95C/cm2となる。陽極処理コーティングを着色処理した後、外的影響に対する保護機能をももたらす反射防止層をさらに与えなければならない。好ましくは、浸漬コーティングを用いてSiO2層を与える。本例示実施形態では、吸収体管の選択的吸収層上の浸漬コーティングによる反射防止層の付与を、105g/lの濃度のオルトケイ酸テトラエチルTEOS溶媒はイソプロピルアルコール中、約0.5mm/秒の浸漬速度で行なう。次に、コーティングを300~320°Cでテンパリングする。反射防止層をAl2O3層、TiO2層、3-メルカプトプロピルトリメトキシシランMPTMS層、酸化セリウム層、ケイ酸ナトリウム層又はSiO2/SnO2層で形成すべき場合、これも浸漬コーティングによって与えることができる。図7及び8には、吸収体管10の表面上に選択的吸収コーティングを作製するための装置の2つの異なる実施形態を示してある。図7の装置では、円筒状の吸収体管10が、電解質20を満たした浸漬タンク30内に立位で、かつ周囲の対電極40に同軸性に位置づけられている。その結果、電圧源50が作動されるとこれは、実施する方法工程に応じて直流電圧源又は交流電圧源であり得る、吸収体管10と対電極40の間に、吸収体管10の外周全体にわたって一定であるE場が生じる。このコーティング装置の利点は、吸収体管10をその外周全体にわたって非常に均一にコーティングすることである。しかしながら、この装置の操作には、長さが数メートルであることが多い吸収体管を取り扱うために対応する巻上げギアを必要とする。図8及び9には、図7のコーティング装置の2つの代替実施形態を示してある。図8のコーティング装置では、吸収体管10の表面は、細長い、比較的平坦なタンク30’内にいて横臥位でコーティングされる。ここでは、吸収体管は、本質的に円筒状の内表面を有する樋形の対電極40’で囲まれている。図に示すように、吸収体10は電極20に一部だけ浸漬されている。その結果、その外周に対する選択的吸収層によるコーティングは、吸収体管10の表面の一部でのみ起こる。浸漬深さを選択することによって、それに応じてコーティングされる外周セクションを定めることができる。当然に、コーティングされた外周セクションは、後に吸収体管10がパラボリックトラフ式集光器内で使用されるときに鏡セグメントに面しなければならず、一方、未コーティング又は不均一にコーティングされた外周セクションは太陽に面しなければならない。この装置の利点は、容易に吸収体管をタンク30’に供給することができ、タンク30’から取り出せることである。図9のコーティング装置では、吸収体管10の表面は、この場合もやはり細長い平坦なタンク30内において横臥位でコーティングされる。ここでは、図8の装置とは対照的に、吸収体管は、縦方向に上側が開いている円筒状の対電極40によって囲まれている。さらに、図8の装置とは対照的に、吸収体管10は電解質20に完全に浸漬されている。それに応じてここでは、図7の装置と同様に、選択的吸収層で全面にわたるコーティングが行なわれる。図10には、コイル製品のアルミニウム又は銅表面の、対応コイルコーティングライン100上でロールツーロールプロセスを利用したコーティングを示してある。この目的を達成するために、巻いてコイル対応する表面コーティングを有する鋼ストリップにされたアルミニウム又は銅ストリップCを6つの浸漬タンク110~160を通して連続的に引抜き加工する。第1タンク110では、ストリップ材料Cをエッチングし、次のすすぎタンク120で引き続きそれをすすぐ。第3タンク130では、直流陽極処理を利用して好ましくはUAnod.=約15VDCでストリップ表面上に多孔性酸化物層を形成し、その次のすすぎタンク140で陽極処理電解質を除去する。次に第5タンク150では、交流着色処理を好ましくはUPigm.=約7.5VACで行ない、その後に配置されたすすぎタンク160で着色処理電解質で洗浄する。図10の装置で行なうコーティング方法では、図に示すように、アルミニウム又は銅ストリップC、すなわちコイル製品を地電位に接続し、対電極131、151を対応する逆電位に接続する。図11のコーティング装置では、ストリップ材料Cのアルミニウム又は銅表面のコーティングをもロールツーロールプロセスを利用して行なう。この目的を達成するために、コイル材料Cを6つの浸漬タンク210~260を通して連続的に引抜き加工する。第1タンク210で、材料をエッチングし、引き続きすすぎタンク220でそれをすすぐ。第3タンク230では、直流陽極処理を利用してストリップ表面上に多孔性酸化物層を形成し、引き続き次の第4タンク240で陽極処理電解質によって洗浄する。第5タンク250では、交流着色処理を行なう。その次の第6タンク260で再び、着色処理電解質で洗浄を行なう。このプロセスでは、図11に示すように、好ましくはUAnod.=約15VDCの陽極処理直流電圧をコイル製品Cに印加する。この陽極処理直流電圧と好ましくは着色処理のUPigm.=約7.5VACの交流電圧を重ね合わせて着色処理を行なう。