"受光素子が2次元配置された受光素子アレイと、上記受光素子アレイの入射側に配置され、偏光方向が互いに異なる偏光成分を透過させる複数種類のフィルタ領域が上記受光素子アレイ上における1つの受光素子又は2以上の受光素子群で構成される単位受光領域に対応して配置された偏光フィルタアレイと、上記受光素子アレイで検出された各単位受光領域の受光量に基づいて、2つ以上の偏光成分についての偏光画像情報を出力する偏光画像情報出力手段とを有する偏光画像撮像装置において、撮像領域内の各地点からの光の入射光路それぞれを、上記偏光フィルタアレイ上の互いに異なる種類のフィルタ領域に向かう複数の分岐光路に分岐させる光路分岐手段を有することを特徴とする偏光画像撮像装置。請求項1の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段が分岐させる複数の分岐光路の1つは、当該入射光路から直進方向へ進む直進光路であることを特徴とする偏光画像撮像装置。請求項1又は2の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、分岐させた複数の分岐光路が、上記偏光フィルタアレイ上で互いに隣接したフィルタ領域に向かうように構成されていることを特徴とする偏光画像撮像装置。請求項1乃至3のいずれか1項に記載の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、撮像領域内の各地点からの光の入射光路それぞれを偏光成分ごとに分岐させるものであって、各偏光成分に対応した分岐光路が当該分岐光路を通る偏光成分を透過させるフィルタ領域に向かうように構成されていることを特徴とする偏光画像撮像装置。請求項4の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、複屈折部材で構成されていることを特徴とする偏光画像撮像装置。請求項4の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、偏光回折部材で構成されていることを特徴とする偏光画像撮像装置。請求項4の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、偏光ホログラム部材で構成されていることを特徴とする偏光画像撮像装置。請求項1乃至7のいずれか1項に記載の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、上記偏光フィルタアレイに固定されていることを特徴とする偏光画像撮像装置。ところが、上記特許文献2に記載の撮像装置のように、偏光方向が互いに異なる偏光成分を透過させる複数種類のフィルタ領域が受光素子アレイ上の各受光素子に対応して配置された偏光フィルタアレイにより各偏光成分についての偏光画像を撮像する場合には、次のような問題点が発生する。以下、その問題点について、図面を参照して説明する。図14に示した例の偏光フィルタアレイは、4種類の偏光子領域a~dを2×2の受光素子に対応して配置し、これを周期的に2次元配置した分布させたものである。この例における偏光画像の1画素は、4種類の偏光子領域a~dに対応する1組2×2の受光素子によって構成される。したがって、例えば、偏光子領域a~dをそれぞれ透過する各偏光成分についての偏光画像を個別に生成したり、偏光子領域a~dをそれぞれ透過する各偏光成分の少なくとも2つを用いて算出される指標値偏光比等を用いた偏光画像を生成したりすることができる。ここで、説明を簡単にするため、図15に示すように、互いに直交した偏光成分S偏光成分、P偏光成分を透過させる2種類の偏光子領域を介して受光する2つの受光素子によって偏光画像の1画素が構成される場合で説明する。偏光フィルタアレイ302の各偏光子領域f0,f1,f2,f3,f4,f5は、それぞれ、撮像素子の各受光素子C0,C1,C2,C3,C4,C5に対応しており、撮像領域内の位置Aからの光のP偏光成分と位置Bからの光のS偏光成分とから、偏光画像中の1画素についての偏光画像情報1が生成される。同様に、撮像領域内の位置Cからの光のP偏光成分と位置Dからの光のS偏光成分とから、偏光画像中の他の1画素についての偏光画像情報2が生成される。このような偏光画像情報を撮像領域の全域について得ることで、当該撮像領域全体の偏光画像を生成することができる。図16aは、撮像領域内の位置A及び位置Bからいずれも同じ光強度をもった無偏光の自然光が入射した場合の模式図である。図16bは、この場合に、偏光子領域f1,f2を介して撮像素子304の受光素子C1,C2により受光した受光量光強度を示すグラフである。図16aの上方から無偏光である自然光が偏光フィルタアレイ302に入射し、これが偏光子領域f1,f2を透過して撮像素子304の受光素子C1,C2に受光されると、各受光素子C1,C2からは受光量光強度に応じた電気信号が出力され、その電気信号に基づいて偏光画像の画素値が決定される。ここで、2つの受光素子C1,C2には、それぞれ対応する偏光子領域f1,f2を透過した光のみ受光されるものとし、各偏光子領域f1,f2では、直交する偏光成分のうちの一方のみを完全に透過し、他方を完全に遮断するものとする。この場合、同じ光強度をもった無偏光の自然光が各偏光子領域f1,f2を透過して各受光素子C1,C2に受光されると、各受光素子C1,C2で受光される光の受光量光強度は、図16bに示すように、いずれも同じ値をとる。図17aは、撮像領域内の位置Aからは無偏光の自然光が入射し、位置BからはS偏光成分のみの光が入射した場合の模式図である。図17bは、この場合に、偏光子領域f1,f2を介して撮像素子304の受光素子C1,C2により受光した受光量光強度を示すグラフである。この例では、位置Bからの光強度は位置Aからの光強度の1/2としている。位置Aからの光無偏光が偏光子領域f1を透過して受光素子C1に受光されると、偏光子領域f1を透過する前の光強度の半分S偏光成分が偏光子領域f1で遮断されるので、受光素子C1に受光される光の強度は偏光子領域f1を透過する前の光強度の半分となる。一方、位置Bからの光S偏光成分のみが偏光子領域f2を透過して受光素子C2に受光されるとき、その偏光子領域f2で遮断されるP偏光成分がもともと存在しないので、受光素子C2に受光される光の強度は偏光子領域f2を透過する前と同じ光強度となる。位置Bからの光強度は位置Aからの光強度の1/2なので、各受光素子C1,C2で受光される光の受光量光強度は、図17bに示すように、いずれも同じ値をとる。図16aに示す例と図17aに示す例とでは、撮像領域からの光の偏光特性分布が異なっているが、図16bと図17bのグラフを対比すると、各受光素子C1,C2で受光される光強度の組合せはいずれも同じ組合せとなる。この場合、各受光素子C1,C2の光強度から算出される偏光画像の画素値に違いが出ないので、撮像領域からの光の偏光特性分布の違いが偏光画像上に反映されないことになる。従来の撮像装置では、偏光画像の1画素に対応する一組の受光素子C1,C2には同じ地点からの光同じ偏光特性を持った光が入射していると仮定して信号処理している。よって、一組の受光素子C1,C2で受光される光強度の組合せが図16bや図17bに示すようなものである場合、従来の撮像装置では、これを図16aに示す例のような偏光特性分布である各位置A,Bからの光はいずれも無偏光であると認識することになる。そのため、実際の偏光特性分布が図17aに示す例のようなものである場合位置Aからの光は無偏光、位置Bからの光はS偏光成分のみである場合、従来の撮像装置では、これを図16aに示す例のような偏光特性分布であると誤認識してしまう。従来の撮像装置では、特定の偏光成分を受光する受光素子で受光される光強度からは、そこに向けて入射している光に含まれている当該特定の偏光成分の光強度を把握できても、そこに向けて入射している光がどのような偏光特性を有しているか他の偏光成分を含んだものであるのか否か等を判断できない。そのため、偏光画像の1画素に対応する1組の受光素子には同じ地点からの光が入射していると仮定し、ある受光素子で受光される光の偏光特性を、これと同じ組に属する他の受光素子の光強度から推測している。しかしながら、従来の撮像装置では、同じ組に属する受光素子は、互いに異なる位置A,Bからの光を受光するので、これらの位置A,Bがいかに近接しているとしても、その推測誤差を避けることはできない。したがって、従来の撮像装置では、偏光特性分布の誤認識の発生を避けることができないという問題点があった。この問題点は、例えば、偏光画像から撮像領域内の物体形状や表面状態などを認識する場合、その物体のエッジ偏光特性が変化する境界部分を検出する際にそのエッジ検出精度を低下させ、認識精度を悪化させる要因となるなど、種々の不具合を引き起こす。本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、撮像領域内の偏光特性分布の誤認識が発生することを避けることができる偏光画像撮像装置を提供することである。上記目的を達成するために、請求項1の発明は、受光素子が2次元配置された受光素子アレイと、上記受光素子アレイの入射側に配置され、偏光方向が互いに異なる偏光成分を透過させる複数種類のフィルタ領域が上記受光素子アレイ上における1つの受光素子又は2以上の受光素子群で構成される単位受光領域に対応して配置された偏光フィルタアレイと、上記受光素子アレイで検出された各単位受光領域の受光量に基づいて、2つ以上の偏光成分についての偏光画像情報を出力する偏光画像情報出力手段とを有する偏光画像撮像装置において、撮像領域内の各地点からの光の入射光路それぞれを、上記偏光フィルタアレイ上の互いに異なる種類のフィルタ領域に向かう複数の分岐光路に分岐させる光路分岐手段を有することを特徴とするものである。また、請求項2の発明は、請求項1の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段が分岐させる複数の分岐光路の1つは、当該入射光路から直進方向へ進む直進光路であることを特徴とするものである。また、請求項3の発明は、請求項1又は2の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、分岐させた複数の分岐光路が、上記偏光フィルタアレイ上で互いに隣接したフィルタ領域に向かうように構成されていることを特徴とするものである。また、請求項4の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、撮像領域内の各地点からの光の入射光路それぞれを偏光成分ごとに分岐させるものであって、各偏光成分に対応した分岐光路が当該分岐光路を通る偏光成分を透過させるフィルタ領域に向かうように構成されていることを特徴とするものである。また、請求項5の発明は、請求項4の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、複屈折部材で構成されていることを特徴とするものである。また、請求項6の発明は、請求項4の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、偏光回折部材で構成されていることを特徴とするものである。また、請求項7の発明は、請求項4の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、偏光ホログラム部材で構成されていることを特徴とするものである。また、請求項8の発明は、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の偏光画像撮像装置において、上記光路分岐手段は、上記偏光フィルタアレイに固定されていることを特徴とするものである。本発明においては、撮像領域内の各地点からの光の入射光路それぞれを複数の分岐光路に分岐させ、各分岐光路がそれぞれ偏光フィルタアレイ上の互いに異なる種類のフィルタ領域に向かうように構成されている。よって、同一地点からの光が、互いに異なる種類のフィルタ領域を介して個別の単位受光領域に受光される。したがって、本発明においては、ある単位受光領域で受光した特定の偏光成分の受光量だけではそこに向けて入射している光の偏光特性が認識できなくても他の偏光成分も含んでいるのか否か等、その単位受光領域で受光される光と同じ地点からの光についての他の偏光成分を受光する別の単位受光領域の受光量から、当該地点からの光の偏光特性を、推測ではなく直接的に特定することができる。なお、一の単位受光領域に向けて入射してくる光の偏光特性を別の単位受光領域の受光量から特定するためには、当該別の単位受光領域に、当該一の単位受光領域で受光される光と同じ地点からの光の成分だけが受光されるように、他の地点からの光の成分が当該別の単位受光領域に受光されないようにする。ただし、当該別の単位受光領域に他の地点からの光の成分も受光される場合であっても、当該別の単位受光領域で受光する受光量から当該他の地点からの光の成分を除去することができれば、当該一の単位受光領域に向けて入射してくる光の偏光特性を特定することが可能となる。以上より、本発明は、撮像領域内の偏光特性分布の誤認識が発生することを避けることができる偏光画像撮像装置を提供できるという優れた効果が得られる。以下、本発明に係る偏光画像撮像装置以下、単に撮像装置という。の一実施形態について説明する。図1は、本実施形態における撮像装置の概略構成を示す説明図である。この撮像装置は、主に、撮像レンズ1と、偏光フィルタアレイ2と、光路分岐手段3と、受光素子が2次元配置された受光素子アレイである画像センサ4と、画像センサ4から出力されるアナログ電気信号をデジタル電気信号に変換した撮像画像データを生成して出力する信号処理部5と、信号処理部5から出力された撮像画像データから偏光画像データを生成して出力する偏光画像情報出力手段としての偏光画像処理部6とから構成されている。被写体被検物を含む撮像領域からの光は、撮像レンズ1を通り、光路分岐手段3を通過して偏光フィルタアレイ2を透過し、画像センサ4でその光強度に応じた電気信号に変換される。信号処理部5では、画像センサ4から出力される電気信号アナログ信号が入力されると、その電気信号から、撮像画像データとして、画像センサ4上における各単位受光領域の明るさ輝度を示すデジタル信号を、画像の水平垂直同期信号とともに後段の機器へ出力する。なお、本実施形態では、1つの単位受光領域は1つの受光素子で構成されているが、2以上の受光素子群により構成してもよい。図2は、偏光フィルタアレイ2と画像センサ4とを示す拡大図である。画像センサ4は、CCDChargeCoupledDeviceやCMOSComplementaryMetalOxideSemiconductorなどを用いたイメージセンサであり、その受光素子にはフォトダイオード4aを用いている。フォトダイオード4aは、画素ごとに2次元的にアレイ配置されており、フォトダイオード4aの集光効率を上げるために、各フォトダイオード4aの入射側にはマイクロレンズ4bが設けられている。この画像センサ4がワイヤボンディングなどの手法によりPWBprintedwiringboardに接合されてセンサ基板が形成されている。画像センサ4のマイクロレンズ4b側の面には、偏光フィルタアレイ2が近接配置されている。偏光フィルタアレイ2は、図3に示すように、偏光方向が互いに直交する2つの偏光成分のうちの一方S偏光成分を透過するS偏光フィルタ領域2aと他方P偏光成分を透過するP偏光フィルタ領域2bとがストライプ状に配置されたフィルタ領域パターン領域分割パターンを有している。本実施形態では、偏光方向が互いに直交する2つの偏光成分を透過させる2種類のフィルタ領域2a,2bを備えた構成について説明するが、偏光方向が互いに異なる3つ以上の偏光成分を透過させる3種類以上のフィルタ領域を備えた構成としてもよい。例えば、図14に示したように、偏光方向が互いに45°ずつ異なっている4つの偏光成分を透過させる4種類のフィルタ領域を備えた構成としてもよい。また、偏光フィルタアレイ2を構成するフィルタ領域の種類には、入射する光をそのまま透過させる種類の領域が含まれていても良い。また、本実施形態の偏光フィルタアレイ2は、各フィルタ領域2a,2bが図中左右方向に長尺なものを図中上下方向に並べたストライプ状のフィルタ領域パターンを備えたものであるが、フィルタ領域パターンはこれに限られるものではない。例えば、図4に示すように、各フィルタ領域2a,2bが図中上下方向に長尺なものとして、これらを図中左右方向に並べたストライプ状のフィルタ領域パターンでもよい。また、例えば、図5に示すように、各フィルタ領域2a,2bを2次元方向で交互に隣接するように格子状に配置された市松状のフィルタ領域パターンであってもよい。また、図6に示すように、各フィルタ領域2a,2bが図中斜めに並べられたストライプ状のフィルタ領域パターンでもよい。このようなフィルタ領域パターンをもった偏光フィルタアレイ2には、フォトリソグラフィプロセスや干渉露光プロセスで形成可能なワイヤーグリッド偏光子やオートクローニング法で形成されるフォトニック結晶偏光子などが利用できる。構成例1以下、本実施形態における偏光フィルタアレイ2の入射側に配置される光路分岐手段3の一構成例以下、本構成例を構成例1という。について説明する。図7は、本構成例1における光路分岐手段である複屈折板3Aの説明図である。本構成例1に係る光路分岐手段は、入射光路10を通って入射する光の互いに直交した偏光成分S偏光成分とP偏光成分を、2つの分岐光路である直進光路10Aとシフト光路10Bとに分離する機能を有するもので、方解石や水晶を用いた複屈折部材としての複屈折板3Aで構成されている。本構成例1の複屈折板3Aでは、入射光路10を通って入射する光のP偏光成分が直進光路10Aを通り、S偏光成分がシフト光路10Bを通るように構成されている。本構成例1では、直進光路10Aを通ったP偏光成分は偏光フィルタアレイ上のP偏光フィルタ領域2bに入射し、シフト光路10Bを通ったS偏光成分は偏光フィルタアレイ上のS偏光フィルタ領域2aに入射するように構成されている。具体的には、シフト光路10Bのシフト量が、偏光フィルタアレイ上のフィルタ領域ピッチに対応するように設定されている。シフト光路10Bのシフト量は、複屈折板3Aの結晶軸と厚みtを変更することで適宜調整できる。構成例2次に、本実施形態における光路分岐手段3の他の構成例以下、本構成例を構成例2という。について説明する。図8は、本構成例2における光路分岐手段である偏光回折素子3Bの説明図である。本構成例2に係る偏光回折素子3Bも、上記構成例1の複屈折板3Aと同様に、入射光路10を通って入射する光の互いに直交した偏光成分S偏光成分とP偏光成分を、2つの分岐光路である直進光路10Aとシフト光路10Bとに分離する機能を有する。偏光回折素子3Bとしては、ウェッジ型の基板を複屈折材料としたものや、等方性材料のウェッジ基板間に、例えば、複屈折性を示す液晶材料を封入した構成が使用できる。ウェッジ構造はピッチが大きい場合は切削などの機械加工で実現可能であり、ピッチが狭い場合はフォトリソグラフィ加工で簡単に実現できるため、高価な複屈折板を用いる構成例1の場合よりも低コスト化できる。なお、シフト光路10Bのシフト量は、積層間隔tを変えることで適宜設定できる。構成例3次に、本実施形態における光路分岐手段3の更に他の構成例以下、本構成例を構成例3という。について説明する。図9は、本構成例3における光路分岐手段である偏光ホログラム部材3Cの説明図である。本構成例3に係る偏光ホログラム部材3Cも、上記構成例1の複屈折板3Aと同様に、入射光路10を通って入射する光の互いに直交した偏光成分S偏光成分とP偏光成分を、2つの分岐光路である直進光路10Aとシフト光路10Bとに分離する機能を有する。また、偏光ホログラム部材3Cの構造は干渉露光プロセスで実現されるため、フォトリソグラフィよりも狭ピッチ化が可能であり、シフト量を設定するための積層間隔tが小さくできるので小型化が図れる。偏光ホログラム部材3Cとしては、例えば、ホログラフィックポリマー分散型液晶H-PDLC光学素子などが使用できる。構成例4次に、本実施形態における光路分岐手段3の更に他の構成例以下、本構成例を構成例4という。について説明する。図10は、本構成例4における光路分岐手段の説明図である。本構成例4は、光路分岐手段3として上記構成例1の複屈折板3Aを用い、これを偏光フィルタアレイ2に固定して一体化したものである。なお、光路分岐手段3としては、他の構成例のものでも、更に別の光路分岐手段3であってもよい。一体化の方法は、複屈折板3Aと偏光フィルタアレイ2を個別作製後に貼り合わせる方法でもよいが、偏光フィルタアレイ2はフォトリソグラフィプロセスで形成できるため、複屈折板3A上に領域分割パターンを直接形成する方法であってもよい。後者の方法は、領域分割パターンの位置合わせが高精度にでき、耐信頼性の向上につながる。次に、本実施形態における偏光画像処理部6における処理内容について説明する。図11は、偏光画像処理部6における処理内容を説明するための説明図である。本実施形態において、直進光路10Aを通るP偏光成分は、偏光フィルタアレイ2上のP偏光フィルタ領域f1,f3をそのまま透過して、対応する受光素子C1,C3に受光される。一方、シフト光路10Bを通ったS偏光成分は、偏光フィルタアレイ2上のS偏光フィルタ領域f2,f4をそのまま透過して、対応する受光素子C2,C4に受光される。したがって、偏光画像の1画素を構成する1組の受光素子C1,C2及び受光素子C3,C4には、それぞれ、同一位置A,Cからの光についてのS偏光成分とP偏光成分が受光される。したがって、本実施形態においては、例えば受光素子C1で受光したP偏光成分の受光量光強度だけでは位置Aからの光の偏光特性が認識できなくてもS偏光成分をどの程度含んでいるのか等、これと同じ位置Aからの光のS偏光成分を受光する受光素子C2の光強度から、位置Aからの光の偏光特性を直接的に特定することができる。ここで、位置Aからの光の偏光特性を、受光素子C1及び受光素子C2の光強度から特定するためには、これらの受光素子C1,C2には、位置Aとは異なる位置からの光の成分が受光されないようにする必要がある。よって、例えば受光素子C2に真っ直ぐ向かって入射する位置Bからの光の成分が、この受光素子C2に受光されないようにする手段が必要である。本実施形態では、図11に示すように、位置Bからの光が光路分岐手段3に入射すると、位置Bからの光のP偏光成分が直進光路を通って、受光素子C2に対応するS偏光フィルタ領域f2に入射する。このとき、位置Bからの光のP偏光成分は、S偏光フィルタ領域f2によって遮蔽される。したがって、受光素子C2には、位置Aからシフト光路を通ってきたS偏光成分だけが受光され、位置Bからの光のP偏光成分は受光されない。同様に、位置Bからの光のS偏光成分は、シフト光路を通って受光素子C3に対応するP偏光フィルタ領域f3に入射するが、そのP偏光フィルタ領域f3によって遮蔽され、受光素子C3に受光されることはない。したがって、受光素子C3には、位置Cから直進光路を通ってきたP偏光成分だけが受光され、位置Bからの光のS偏光成分は受光されない。このように、本実施形態によれば、受光素子C1,C2からは、位置Aからの光のP偏光成分とS偏光成分の光強度に応じた電気信号がそれぞれ出力され、受光素子C3,C4からは、位置Cからの光のP偏光成分とS偏光成分の光強度に応じた電気信号がそれぞれ出力されるが、位置Bや位置Dからの光は、S偏光成分もP偏光成分も偏光フィルタアレイ2によって遮断され、画像センサ4で受光されることはない。したがって、本実施形態においては、位置A及び位置Cについての偏光情報位置A及び位置Cからの光の偏光特性を誤認識することなく正確に特定できる。よって、位置AのP偏光成分及びS偏光成分から偏光画像情報1を生成してこれに対応する画素値を算出し、位置CのP偏光成分及びS偏光成分から偏光画像情報2を生成してこれに対応する画素値を算出すれば、正確な偏光画像を得ることができる。このようにして得られる各位置のS偏光成分とP偏光成分は、それぞれ個別の偏光画像として出力してもよいが、各位置のS偏光成分とP偏光成分との比率を各画素値とした偏光比画像や、S偏光成分とP偏光成分との合計値に対するS偏光成分とP偏光成分との差分値の比率である差分偏光度を各画素値とした差分偏光度画像などを生成して出力するようにしてもよい。以上、本実施形態の撮像装置は、受光素子4aが2次元配置された受光素子アレイである画像センサ4と、画像センサ4の入射側に配置され、偏光方向が互いに異なるP偏光成分及びS偏光成分を透過させる2種類のフィルタ領域2a,2bが画像センサ4上における1つの受光素子4aで構成される単位受光領域に対応して配置された偏光フィルタアレイ2と、画像センサ4で検出された各受光素子4aの受光量に基づいて、P偏光成分及びS偏光成分についての偏光画像情報を出力する偏光画像情報出力手段としての偏光画像処理部6とを有する偏光画像撮像装置である。この撮像装置には、撮像領域内の各地点からの光の入射光路10それぞれを、偏光フィルタアレイ2上の互いに異なる種類のフィルタ領域であるS偏光フィルタ領域2aとP偏光フィルタ領域2bとに向かう2つの分岐光路である直進光路10Aとシフト光路10Bとに分岐させる光路分岐手段3が設けられている。これにより、本実施形態においては、各地点位置A及び位置C等についての偏光情報を誤認識することなく正確に特定でき、精度の高い偏光画像を得ることができる。また、本実施形態では、光路分岐手段3が分岐させる2つの分岐光路の1つは、入射光路10から直進方向へ進む直進光路10Aである。このような分岐光路は比較的容易に形成することができる。また、本実施形態において、光路分岐手段3は、分岐させた直進光路10Aとシフト光路10Bが偏光フィルタアレイ2上で互いに隣接したP偏光フィルタ領域2bとS偏光フィルタ領域2aとに向かうように構成されている。よって、シフト光路10Bを入射光路から大きくずらす必要がなく、比較的簡易な構成で光路分岐手段3を実現できる。また、本実施形態において、光路分岐手段3は、撮像領域内の各地点からの光の入射光路10それぞれを偏光成分ごとに分岐させるものであって、P偏光成分に対応した直進光路10AはP偏光成分を透過させるP偏光フィルタ領域2bに向かうように構成し、S偏光成分に対応したシフト光路10BはS偏光成分を透過させるS偏光フィルタ領域2aに向かうように構成されている。これにより、例えば偏光画像の一画素を構成する1組の受光素子C1,C2には、これに対応する位置Aからの光の偏光成分のみ受光され、他の位置Bからの光の成分が受光されないようにすることができ、より精度の高い偏光画像を得ることができる。"