栽培施設内にスプレイノズルを配置し、このスプレイノズルからミストを散布して換気することなく栽培施設内の温度、湿度を制御することを特徴とする植物工場のミスト散布装置。前記ミストは栽培施設内の水槽が湛水する養液をミスト化して噴霧したものであることを特徴とする請求項1記載の植物工場のミスト散布装置。前記養液をミスト化する経路に熱交換機を設置し、この熱交換機で養液を冷却することを特徴とする請求項2記載の植物工場のミスト散布装置。解決しようとする問題点は以上のような点であり、本発明は、植物工場における温度、湿度などの環境条件を有効に制御できる環境調整装置を提供することを目的になされたものである。そのため本発明は、栽培施設内にスプレイノズルを配置し、このスプレイノズルからミストを散布して換気することなく栽培施設内の温度、湿度を制御することを最も主要な特徴とする。本発明は、栽培施設内にスプレイノズルを配置し、このスプレイノズルからミストを散布して換気することなく栽培施設内の温度、湿度を制御する。そのため温度、湿度を制御しても中の空気が外に逃げないので、栽培施設内の炭酸ガス濃度を常に一定に保つことができる。以下、本発明の実施の形態について説明する。図1に、本発明を実施した植物工場のミスト散布装置の構成図を示す。植物工場のミスト散布装置は、栽培室1内に多段に形成した栽培棚2を設置し、各段の上方にミストを散布するスプレイノズル3を、下方に一定の水位で養液aを湛水する水槽4を、それぞれ配置する。スプレイノズル3はスプレイ管5を介してスプレイ装置6に接続する。養液aは、タンクTからポンプPにより不純物を除去するフィルタ槽Fを経由して三方弁Vで分岐し、一方は熱交換器7で冷却されてスプレイ装置6に供給される。他方は三方弁Vから最上段に位置する水槽4に供給され、次に左右の排水管8を通して下段の水槽4に順次供給され、最後に最下段に位置する水槽4の排水管8を通してタンクTに還流する。タンクTに還流した養液aは再度ポンプPによって各段の水槽4に供給される。これにより養液aが満遍なく全ての水槽4に行き渡り、生長むらのない均一な野菜が生育される。排水管8は、その入口部分が水槽4の底面から所定の高さに設定され、養液aの水位が一定に保てるようになっている。養液aをこのようにポンプPで連続的あるいは間欠的に循環させることで養液中の溶存酸素量を多量にし、根の呼吸作用が十分行えるようにする。また、養液aの一部を熱交換器7で冷却してスプレイ装置6に供給し、ミスト状にして栽培棚2上方のスプレイノズル3から噴霧する。これにより換気することなく栽培棚2上方の半閉鎖空間の温度を制御できる。従って、換気により炭酸ガス濃度が低下することがなくなる。スプレイ装置6は、図2に示すように、コンプレッサ61、液タンク62、レギュレタ63で構成し、スプレイ管5の先端にスプレイノズル3を取り付ける。スプレイ管5は空送管51と液送管52で構成し、液タンク62には栽培室1のタンクTから供給された養液aが充填されている。スプレイ装置6は、このようなスプレイ式のほか、超音波振動やプラズマ放電と送風器を組み合わせたものなどでもよい。以上の構成で、コンプレッサ61からの圧縮空気がレギュレタ63で圧力調整され、密閉構造の液タンク62を加圧する。これにより一定量の養液aが液送管52を通してスプレイノズル3へ圧送される。コンプレッサ61の圧縮空気は空送管51を介してスプレイノズル3にも供給されるので、スプレイノズル3の先端から圧縮空気がジェット噴射し、液送管52を通して圧送された養液aをミスト化して噴霧する。噴霧されたミストは、栽培棚2の植物の表面やその近傍で蒸発し、その際に植物から蒸発潜熱を奪う。その結果、植物の温度を一時的に下げることができる。同時に、高温時における光合成速度の低下を防ぐ。その理由を以下に述べる。植物は高温になると葉内水蒸気張力が高まり蒸散速度が増加する。そのため気孔を閉じて水分の蒸散を防ぐが、これにより光合成に必要な二酸化炭素を気孔から多く取り込めなくなる。その結果、光量や炭酸ガス濃度が十分でも光合成速度が低下する。ところが温度が上昇し葉内水蒸気張力が高まっても、ミストを散布すると大気中の湿度が高くなる。大気の湿度が高く相対湿度にあまり差がない場合は蒸散速度はさほど変化しない。従って、気孔が開いたままになり、多くの二酸化炭素を取り込め、光合成速度の低下を防ぐことができる。このように光合成の増進には、気孔の開度を大きくし、葉面境界層を薄く拡散抵抗を小さくしてCO2の気孔への取入れをしやすくしなければならないが、そのためには室内の空気が適度な湿度を保つ必要がある。