"パターン修正装置において欠陥を修正されるべき基板を支持するための基板支持装置であって、前記基板を搬送する搬送装置のハンド部が進入可能な隙間を形成するように互いに離れて配置され、前記基板を保持する複数の副ステージと、前記隙間内を移動可能なように隣り合う前記副ステージの間に配置され、前記基板を保持する補間ステージとを備えた、基板支持装置。前記補間ステージは、前記隙間に前記ハンド部が進入可能な状態を形成するように前記隙間内において移動可能となっている、請求項1に記載の基板支持装置。前記副ステージは、前記ハンド部が進入する方向に沿って延在し、前記補間ステージは、前記ハンド部が進入する方向に交差する方向に移動可能となっている、請求項1または2に記載の基板支持装置。複数の前記補間ステージを備え、前記複数の補間ステージは互いに連結されることにより連動して移動可能となっている、請求項1~3のいずれか1項に記載の基板支持装置。前記隙間には複数の前記補間ステージが配置される、請求項1~4のいずれか1項に記載の基板支持装置。前記補間ステージの前記基板に接触すべき面は、前記基板が保持される側に向けて凸な曲面となっている、請求項1~5のいずれか1項に記載の基板支持装置。前記補間ステージの前記基板に接触すべき面は、外周部が面取り加工されている、請求項1~5のいずれか1項に記載の基板支持装置。前記補間ステージの前記基板に接触すべき面を含むように、前記基板との摩擦を低減する摩擦低減層が形成されている、請求項1~7のいずれか1項に記載の基板支持装置。基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するためのパターン修正装置であって、定盤と、前記定盤の上に配置され、前記基板を支持する基板支持装置と、前記定盤の上に配置され、前記基板の欠陥を修正する欠陥修正部とを備え、前記基板支持装置は、請求項1~8のいずれか1項に記載の基板支持装置である、パターン修正装置。前記定盤と前記基板支持装置との間に配置され、前記基板に対して光を照射する照明部をさらに備え、前記副ステージおよび前記補間ステージは、前記光を透過可能となっている、請求項9に記載のパターン修正装置。前記副ステージおよび前記補間ステージは樹脂からなっている、請求項9または10に記載のパターン修正装置。しかしながら、上記特許文献1に記載のパターン修正装置では、ガラス定盤に穴を開け、当該穴を通してリフタピンを上下させる機構を設けているため、装置構成が複雑になるという問題がある。また、修正対象となる基板の大型化に伴って、これに対応した大型のガラス定盤を用意する必要がある。さらに、ガラス定盤に穴や溝を形成する場合、加工が難しくコスト高になるという問題もある。また、上記特許文献2に記載のパターン修正装置では、隣り合う副ステージの間の隙間は、ロボットのハンド部と干渉しない距離、たとえば数百mm程度とされる。このとき、この隙間上に位置するガラス基板の領域は副ステージにより支持されないため、当該領域は下方に撓んで変形する。そのため、欠陥の確認および修正にあたり、当該領域の微細パターンを観察光学系により観察する際、他の領域を観察する場合に対してフォーカス位置が大きく変わる。そのため、フォーカス位置の検出に時間がかかる、フォーカスの検出範囲外となる、などの問題がある。さらに、微細パターンの修正のために研磨加工のように基板の上方から力を負荷するような加工を実施する場合、隙間上に位置するガラス基板の領域が弾性変形しすなわち撓んで、所望の加工を行うことが困難になるという問題がある。本発明は上記問題点に対応するためになされたものであって、その目的は、装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能な基板支持装置およびこれを用いたパターン修正装置を提供することである。本発明に従った基板支持装置は、パターン修正装置において欠陥を修正されるべき基板を支持するための基板支持装置である。この基板支持装置は、基板を搬送する搬送装置のハンド部が進入可能な隙間を形成するように互いに離れて配置され、基板を保持する複数の副ステージと、当該隙間内を移動可能なように隣り合う副ステージの間に配置され、基板を保持する補間ステージとを備えている。本発明の基板支持装置は、副ステージ間の隙間を移動可能な補間ステージを備えている。これにより、基板の撓みを抑制すべき位置に補間ステージを移動させることが可能となり、適切に基板の撓みを抑制することができる。たとえば、上記隙間上で研磨加工等を実施する場合、加工されるべき領域に対応する位置を支持するように補間ステージが移動することにより、基板の撓みを抑制し、加工の実施を容易にすることができる。また、副ステージの間に移動可能な補間ステージを配置するという簡単な装置構成により、上記動作が可能となる。このように、本発明の基板支持装置によれば、装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能な基板支持装置を提供することができる。上記基板支持装置においては、補間ステージは、上記隙間に上記ハンド部が進入可能な状態を形成するように隙間内において移動可能となっていてもよい。これにより、基板が搬入および搬出される際には、上記隙間に進入する搬送装置のハンド部と干渉しない位置に補間ステージが移動することにより、基板の搬入および搬出が容易となる。一方、基板上のパターンが修正される際には補間ステージが基板の撓み抑制に適した位置に移動することにより、基板の撓みを抑制することができる。上記基板支持装置においては、副ステージは、上記ハンド部が進入する方向に沿って延在し、補間ステージは、上記ハンド部が進入する方向に交差する方向に移動可能となっていてもよい。これにより、上記隙間へのハンド部の進入が容易となるとともに、上記隙間における補間ステージによる基板の適切な支持を容易に達成することができる。上記基板支持装置においては、複数の補間ステージを備え、当該複数の補間ステージは互いに連結されることにより連動して移動可能となっていてもよい。これにより、複数の補間ステージの位置制御を容易に達成することができる。上記基板支持装置においては、上記隙間には複数の補間ステージが配置されてもよい。これにより、1つの隙間において基板を複数の補間ステージにより支持することが可能となる。その結果、基板の撓みを一層確実に抑制することができる。上記基板支持装置においては、補間ステージの基板に接触すべき面は、基板が保持される側に向けて凸な曲面となっていてもよい。また、上記基板支持装置においては、補間ステージの基板に接触すべき面は、外周部が面取り加工されていてもよい。また、上記基板支持装置においては、補間ステージの基板に接触すべき面を含むように、基板との摩擦を低減する摩擦低減層が形成されていてもよい。このようにすることにより、基板を支持した状態で補間ステージを移動させた場合でも、基板と補間ステージとの摩擦を抑制することができる。本発明に従ったパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するためのパターン修正装置である。このパターン修正装置は、定盤と、定盤の上に配置され、基板を支持する基板支持装置と、定盤の上に配置され、基板の欠陥を修正する欠陥修正部とを備えている。そして、基板支持装置は、上記本発明の基板支持装置である。上記本発明の基板支持装置を備えていることにより、本発明のパターン修正装置によれば、装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能なパターン修正装置を提供することができる。上記パターン修正装置においては、定盤と基板支持装置との間に配置され、基板に対して光を照射する照明部をさらに備え、副ステージおよび補間ステージは、上記光を透過可能となっていてもよい。このように照明部を配置し、かつ副ステージおよび補間ステージが照明部からの光を透過可能であることにより、基板上の微細パターンの観察が容易となる。上記パターン修正装置においては、副ステージおよび補間ステージは樹脂からなっていてもよい。副ステージおよび補間ステージの素材として樹脂を採用することにより、照明部からの光を透過可能で、かつ軽量な副ステージおよび補間ステージを容易に作製することができる。以上の説明から明らかなように、本発明の基板支持装置およびパターン修正装置によれば、装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能な基板支持装置およびこれを用いたパターン修正装置を提供することができる。以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。実施の形態1図1を参照して、本実施の形態におけるパターン修正装置1は、基板3上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するためのパターン修正装置である。パターン修正装置1は、定盤2と、定盤2の上に配置され、基板3を支持する基板支持装置4と、定盤2の上に配置され、基板3の欠陥を修正する欠陥修正部とを備えている。基板3は、たとえば表面に微細パターンが形成されたガラス基板である。定盤2上には、ガントリ型のXYステージ5が搭載されている。XYステージ5は、X軸ステージ51と、門型のY軸ステージ52とを含んでいる。Y軸ステージ52は、基板支持装置4を跨ぐように設けられ、その上に搭載されたものを図1中に矢印で示されるY軸方向に移動させることができる。X軸ステージ51は、Y軸ステージ52上に搭載され、その上に搭載されたものを図1中に矢印で示されるX軸方向に移動させることができる。X軸方向およびY軸方向は定盤2の主表面に平行であり、X軸方向はY軸方向と直交する。X軸ステージ51上には、その上に搭載されたものを上下方向に移動させることが可能なZ軸ステージ6が搭載される。Z軸ステージ6には、観察光学系7、塗布ユニット8、レーザ9が搭載されている。観察光学系7は、対物レンズ10を含み、基板3上の欠陥部などを観察するために用いられる。レーザ9は、観察光学系7を介して基板3上の欠陥にレーザ光を照射し、レーザアブレーションによってその欠陥形状を整形したり、欠陥およびその周囲に余分に付着した修正インクを除去したりするために用いられる。そして、X軸ステージ51、Y軸ステージ52、およびZ軸ステージ6を制御することにより、観察光学系7、レーザ9および塗布ユニット8の各々を基板3の表面における所望の位置の上方に移動させることが可能となっている。上記XYステージ5、Z軸ステージ6、観察光学系7、塗布ユニット8およびレーザ9は、基板3の欠陥を修正する欠陥修正部を構成する。なお、本実施の形態では、欠陥修正部が修正インクを塗布する塗布ユニット8を含む場合について説明したが、本発明のパターン修正装置における欠陥修正部はこれに限られず、種々の欠陥修正部を含むことができる。図1~図4を参照して、基板支持装置4は、基板3を搬送する搬送装置のハンド部31が進入可能な隙間13を形成するように互いに離れて配置され、基板3を保持する複数の副ステージ12と、隙間13内を移動可能なように隣り合う副ステージ12の間に配置され、基板3を保持する補間ステージ14とを備えている。ここで、図2に示すように、上記基板支持装置4においては、補間ステージ14は、隙間13に輸送ロボットなどの搬送装置のハンド部31が進入可能な状態を形成するように隙間13内において移動可能となっていてもよい。副ステージ12は、ハンド部31が進入する方向に沿って延在している。補間ステージ14は、ハンド部31が進入する方向に沿って延在するとともに、ハンド部31が進入する方向に交差し、定盤2の主表面に沿った方向に移動可能となっていてもよい。さらに、図1~図4に示すように、基板支持装置4が複数の補間ステージ14を含む場合、当該複数の補間ステージ14は互いに連結されることにより連動して移動可能となっていてもよい。より具体的には、基板3を保持する基板支持装置4は、X軸方向に複数本実施の形態では4つの副ステージ12に分割されたステージを備えており、隣り合う副ステージ12同士の間には、基板3を下側から支持して運搬する搬送装置のハンド部31を挿入するための隙間13が形成されている。副ステージ12の各々の上面定盤2とは反対側の主表面には、基板3を固定するための真空吸着用の溝や空気噴出し用の溝図示しないが形成されている。また、各隙間13には、補間ステージ14が配置されている。補間ステージ14は連結板15に固定され、連結板15は直動軸受16により支持される。また、連結板15の一方の端部には連結板15を駆動する駆動部17の出力軸に連結されている。これにより、複数の本実施の形態では3つの補間ステージ14は連動して副ステージ12間の隙間13内をX軸方向に移動することが可能となっている。駆動部17としては、エアシリンダなどの直動アクチュエータを採用することができる。直動軸受16と駆動部17とを内蔵し、位置決めが可能な一軸ステージを採用してもよい。次に、パターン修正装置1の動作について説明する。まず、修正処理の対象となる基板3がロボットなどの搬送装置図示しないのハンド部31に保持された状態でパターン修正装置1へと搬入される。このとき、図2および図3を参照して、駆動部17に駆動された連結板15に連動して補間ステージ14が移動し、副ステージ12に寄せた状態とされる。これにより、隙間13に進入するハンド部31が補間ステージ14と干渉しない状態となる。そして、基板3を保持したハンド部31が隙間13に進入し、基板を副ステージ12および補間ステージ14上に載置した後、ハンド部31が隙間13から退出する。副ステージ12および補間ステージ14上に載置された基板3は、副ステージ12の主表面に形成された吸着用の溝の内部が減圧されることにより、副ステージ12に固定される。次に、図5および図6を参照して、駆動部17に駆動された連結板15に連動して補間ステージ14が移動し、隙間13の略中央に位置する状態とされる。これにより、隙間13上に位置する基板3の領域が補間ステージ14により有効に支持され、基板3の撓みが抑制される。また、たとえば図7に示すように基板3に突起欠陥Aが発見された場合、図8に示すように補間ステージ14を突起欠陥Aに対応する位置に移動させ、突起欠陥Aを押圧する力を負荷した場合における基板3の撓みを抑制した状態で、突起欠陥Aに研磨テープを接触させて突起欠陥Aを削り取ることができる。これにより、突起欠陥Aの修正を容易に実施することができる。このように、本実施の形態における基板支持装置4およびこれを備えたパターン修正装置1においては、基板3の撓みを抑制すべき位置に補間ステージ14を移動させることが可能となっており、適切に基板3の撓みを抑制することができる。また、基板支持装置4においては、基板3をリフトアップすることなく、搬送装置による基板3の搬入、搬出が可能となっている。さらに、観察光学系7により基板3の表面を観察する際には、自動フォーカス焦点合わせのサーチ範囲を狭くすることができるため、フォーカス時間をより短縮することができる。また、副ステージ12の間に移動可能な補間ステージ14を配置するという簡単な装置構成により、上記効果を得ることができる。以上のように、本実施の形態における基板支持装置4およびこれを備えたパターン修正装置1は、装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板3の撓みを抑制することが可能となっている。次に、上記本実施の形態における基板支持装置4およびこれを備えたパターン修正装置1の変形例について説明する。図9に示す第1の変形例においては、補間ステージ14の基板3に接触すべき面補間ステージ14の上面を含むように、より具体的には補間ステージ14の上面を覆うように、基板3との摩擦を低減する摩擦低減層14Aが形成されている。摩擦低減層14Aを構成する材料としては、たとえばポリアセタール系樹脂やフッ素系の樹脂を採用することができる。また、図10に示す第2の変形例においては、補間ステージ14の基板3に接触すべき面補間ステージ14の上面は、基板3が保持される側に向けて凸な曲面となっている。より具体的には、補間ステージ14の上面は長手方向に垂直な断面において円弧状面14Bとなっている。また、図11に示す第3の変形例においては、補間ステージ14の基板3に接触すべき面補間ステージ14の上面は、外周部が面取り加工されていている。より具体的には、補間ステージ14の上面には、面取り部14Cが形成されている。上記変形例1~3にようにすることにより、基板3を支持した状態で補間ステージ14を移動させた場合でも、基板3と補間ステージとの摩擦を抑制するとともに、基板3の裏面微細パターンが形成された面と反対側の主表面に傷が付くことを抑制することができる。また、補間ステージ14の上面に溝や孔を形成し、当該溝や孔から空気などの気体を噴出して補間ステージ14と基板3との間に空気膜を形成してもよい。なお、上記変形例は、適宜組み合わせて実施してもよい。実施の形態2次に、本発明の他の実施の形態である実施の形態2について説明する。実施の形態2における基板支持装置およびこれを備えたパターン修正装置は、基本的には実施の形態1の場合と同様の構成を有し、同様の効果を奏する。しかし、実施の形態2における基板支持装置およびパターン修正装置は、補間ステージの構成において実施の形態1の場合とは異なっている。図12を参照して、実施の形態2における基板支持装置4においては、隙間13に複数の図12では2つの補間ステージ141,142が配置されている。そして、基板3を搬入および搬出する際には、図12に示すように、搬送装置のハンド部31が隙間13に挿入可能な状態とするため、補間ステージ141,142は副ステージ12に寄せた状態とされる。より具体的には、補間ステージ141と補間ステージ142とは、互いに重なるように副ステージ12に寄せた位置に配置される。一方、基板3の表面の微細パターンを修正する際には、図13に示すように、補間ステージ141,142は副ステージ12から離れた状態とされ、かつ補間ステージ141と補間ステージ142とが互いに離れた状態とされる。このようにすることにより、1つの隙間13において基板3を複数の補間ステージ141,142により支持することが可能となる。その結果、基板3の撓みを一層確実に抑制することができる。実施の形態3次に、本発明のさらに他の実施の形態である実施の形態3について説明する。実施の形態3における基板支持装置およびこれを備えたパターン修正装置は、基本的には実施の形態1の場合と同様の構成を有し、同様の効果を奏する。しかし、実施の形態3におけるパターン修正装置は、定盤と基板支持装置との間に配置され、基板に対して光を照射する照明部をさらに備えている点において実施の形態1の場合とは異なっている。照明部の設置方法としては、たとえば細長い蛍光灯を長手方向がX軸方向に沿うように配置して、当該蛍光灯をY軸方向に移動可能とする方法も考えられるが、本実施の形態においては以下のような構成が採用される。すなわち、図14~図16を参照して、実施の形態3におけるパターン修正装置1においては、定盤2と基板支持装置4との間にスペーサ18が配置される。そして、スペーサ18の配置により形成された定盤2と基板支持装置4との間の空間に照明部21が配置される。照明部21は、照明部21をY軸方向に移動可能に支持するY軸ステージ20上に配置される。また、Y軸ステージ20は、Y軸ステージ20をX軸方向に移動可能に支持するX軸ステージ19上に配置される。そして、副ステージ12および補間ステージ14は、照明部21からの光を透過可能となっている。副ステージ12および補間ステージ14の素材としては、たとえばガラスを採用することができる。これにより、副ステージ12および補間ステージ14により照明部21からの光が遮断されることを回避し、基板3上の微細パターンの観察が容易となる。なお、副ステージ12や補間ステージ14の端部と基板3上の欠陥部とが近接する場合、あるいは、副ステージ12や補間ステージ14の基板3に接する面に設けられた基板3を吸着固定するための溝図示しないと基板3上の欠陥部とが近接する場合には、観察光学系7による観察画像が暗くなるおそれがある。これに対応する観点から、基板シフト機構22を副ステージ12に設置してもよい。これにより、上述のように観察光学系7による観察画像が暗くなった場合、基板シフト機構22を用いて、基板3を水平方向定盤2の主表面に沿った方向に微小量移動して、観察画像の明るさを確保することができる。また、副ステージ12および補間ステージ14を構成する材料として透明樹脂たとえばアクリルを採用することもできる。これにより、基板支持装置4の軽量化が期待できる。樹脂材料は帯電し易いため、副ステージ12や補間ステージ14を構成する材料としては帯電防止機能付樹脂材料を選定する、あるいは副ステージ12や補間ステージ14を製作した後に、その表面に帯電防止剤を塗布することが好ましい。なお、副ステージ12や補間ステージ14の素材として樹脂材料を採用した場合、基板3との摺動時に樹脂材料が磨耗するおそれがある。これに対応する観点から、図17に示す変形例を採用することができる。すなわち、図17を参照して、本変形例における基板支持装置4の副ステージ12および補間ステージ14の上面基板3と接触すべき面には、それぞれ耐摩耗性層としてのガラス板23およびガラス板24が配置されている。これにより、副ステージ12および補間ステージ14の摩耗を抑制することができる。今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。"