"式I-α:[AαはXαで置換されてもよいフェニルであり;BはYで置換されたチエニルであり;Xαは弗素原子、塩素原子、沃素原子、アルキル又はアルコキシであり;Yはハロゲン、アルキル又はアルコキシであり;R1及びR2は各々アルキルであり;R3は水素原子であり;W1及びW2は共に酸素原子である]で表される酸アミド誘導体又はその塩。Bが3-メチル-2-チエニルであり、R1及びR2が共にメチルである請求項1に記載の酸アミド誘導体又はその塩。式Iαの化合物が、N-[4’-クロロ-1,1,2’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[3’,4’-ジクロロ-1,1-ジメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[1,1,3’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[4’-クロロ-1,1-ジメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[3’-クロロ-1,1-ジメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[3’,5’-ジクロロ-1,1-ジメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[4’-クロロ-1,1,3’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[3’-クロロ-1,1,4’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[4’-フルオロ-1,1,2’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[3’-クロロ-1,1,4’,5’-テトラメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[3’,4’-ジクロロ-1,1,2’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[4’-クロロ-1,1,2’,3’-テトラメチルフェナシル-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[4’-クロロ-1,1,3’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[4’-メトキシ-1,1,2’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[4’-エトキシ-1,1,2’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[1,1,2’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[3’-クロロ-1,1,2’-トリメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド及びN-[[4’-2-プロピルオキシ-1,1,2’-トリメチル]フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミドから成る群から選択された少なくとも1種である請求項1に記載の酸アミド誘導体又はその塩。従来から提供されている多くの殺菌性組成物は、予防効果と治療効果のいずれか一方が不十分であったり、残効性が不十分であったり、或は、施用場面によっては植物病害に対する防除効果が不十分であったりするなど、実用上いくつかの問題点を抱えている。従って、このような問題点を克服した殺菌性組成物が希求されている。本発明者らは、前述の問題点を解決すべく研究した結果、後記式Iの酸アミド誘導体を含有する殺菌性組成物が、種々の有害菌類、例えば卵菌類、子嚢菌類、担子菌類、不完全菌類に起因する各種病害に対して優れた予防効果及び治療効果を発揮し、同時に、実用上満足できる残効性を有することを見出し、本発明を完成した。すなわち本発明は、従来、具体的に知られていなかった式Iα:[AαはXαで置換されてもよいフェニルであり;BはYで置換されたチエニルであり;Xαは弗素原子、塩素原子、沃素原子、アルキル又はアルコキシであり;Yはハロゲン、アルキル又はアルコキシであり;R1及びR2は各々アルキルであり;R3は水素原子であり;W1及びW2は共に酸素原子である]で表される酸アミド誘導体又はその塩に関する。さらに、本発明は、式I:[式中、AはXで置換されてもよいフェニル、Xで置換されてもよいベンジル、Xで置換されてもよいナフチル、Xで置換されてもよい複素環、Xで置換されてもよい縮合複素環、インダニルインダニルは、ハロゲン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい又はテトラヒドロナフチルテトラヒドロナフチルは、ハロゲン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよいであり;BはYで置換されてもよい複素環但し、ピリジルは除く、Yで置換されてもよい縮合複素環又はYで置換されてもよいナフチルであり;Xはハロゲン、E1で置換されてもよいアルキル、E1で置換されてもよいアルケニル、E1で置換されてもよいアルキニル、ヒドロキシ、シアノオキシ、E1で置換されてもよいアルコキシ、E1で置換されてもよいアルケニルオキシ、E1で置換されてもよいアルキニルオキシ、メルカプト、シアノチオ、E1で置換されてもよいアルキルチオ、E1で置換されてもよいアルケニルチオ、E1で置換されてもよいアルキニルチオ、E2で置換されてもよいアルキルスルフィニル、E2で置換されてもよいアルキルスルホニル、Jで置換されてもよいシクロアルキル、Jで置換されてもよいシクロアルキルオキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキルチオ、シアノ、ニトロ、ホルミル、Yで置換されてもよいフェニル、Yで置換されてもよいフェノキシ、Yで置換されてもよいフェニルチオ、Yで置換されてもよいフェニルアルキル、Yで置換されてもよいフェニルアルケニル、Yで置換されてもよいフェニルアルキニル、Yで置換されてもよいフェニルアルキルオキシ、Yで置換されてもよいフェニルアルケニルオキシ、Yで置換されてもよいフェニルアルキニルオキシ、Yで置換されてもよいフェニルアルキルチオ、Yで置換されてもよいフェニルアルケニルチオ、Yで置換されてもよいフェニルアルキニルチオ、Yで置換されてもよいフェニルアミノ、OR4、SR5、NR6R7、CO2R8、CNR8R9、SO2NR8R9、CH=NR10又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;Yはハロゲン、E1で置換されてもよいアルキル、E1で置換されてもよいアルケニル、E1で置換されてもよいアルキニル、ヒドロキシ、シアノオキシ、E1で置換されてもよいアルコキシ、E1で置換されてもよいアルケニルオキシ、E1で置換されてもよいアルキニルオキシ、メルカプト、シアノチオ、E1で置換されてもよいアルキルチオ、E1で置換されてもよいアルケニルチオ、E1で置換されてもよいアルキニルチオ、E2で置換されてもよいアルキルスルフィニル、E2で置換されてもよいアルキルスルホニル、Jで置換されてもよいシクロアルキル、Jで置換されてもよいシクロアルキルオキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキルチオ、シアノ、ニトロ、ホルミル、OR4、SR5、NR6R7、CO2R8、CNR8R9、SO2NR8R9、CH=NR10又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;R1及びR2は各々独立に水素原子、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、シアノアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、アルコキシアルケニル、アルキニル、ハロアルキニル、アルコキシアルキニル、シクロアルキル、ハロシクロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキル、シアノ又はCO2R8であり、またR1とR2は一緒になって3~6員飽和炭素環を形成してもよく;R3は水素原子、E1で置換されてもよいアルキル、E1で置換されてもよいアルケニル、E1で置換されてもよいアルキニル、ヒドロキシ、シアノオキシ、E1で置換されてもよいアルコキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキル、Jで置換されてもよいシクロアルキルオキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキルチオ、シアノ、ホルミル、CR11、COR12、CSR12、CNR12R13、SmR12又はSnNR12R13であり;R4はCR12、COR12、CSR12、CNR12R13、SmR12、SnNR12R13又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;R5はCR12、COR12、CSR12、CNR12R13又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;R6は水素原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、シアノアルキル、アルキル、シクロアルキル、シアノ、CR12、COR12、CSR12、CNR12R13、SmR12、SnNR12R13又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;R7は水素原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル又はハロアルコキシアルキルであり;R8及びR9は各々独立に水素原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル又はハロアルコキシアルキルであり、隣接するR8とR9は一緒になって環を形成してもよく;R10はアルキルアルキルは、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい、アルコキシアルコキシは、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい、アルケニルオキシアルケニルオキシは、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい、アルキニルオキシアルキニルオキシは、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい又はアルコキシカルボニルアルコキシカルボニルは、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよいであり;R11は水素原子、E3で置換されてもよいアルキル、フェニルフェニルは、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよい又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;R12及びR13は各々独立にE3で置換されてもよいアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキル又はフェニルフェニルは、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり、隣接するR12とR13は一緒になって環を形成してもよく;W1、W2及びW3は各々独立に酸素原子又は硫黄原子であり;m及びnは各々独立に0~2の整数であり;E1はハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、メルカプト、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルホニル、シクロアルキル、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シアノ、ニトロ、ヒドロキシカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、トリアルキルシリル又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;E2はハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、シクロアルキル、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シアノ、ニトロ、ヒドロキシカルボニル、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;E3はハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シクロアルキル、シアノ、アルコキシカルボニル、ハロアルコキシ、ハロアルキルチオ又はフェニルフェニルは、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;Jはハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ又はハロアルコキシである]で表される酸アミド誘導体又はその塩を有効成分として含有する殺菌性組成物に関する。また、本発明は、前記誘導体又はその塩の有効量を施用して種々の有害菌類或は種々の有害菌類に起因する各種病害を防除する方法、前記誘導体又はその塩の有効量を施用して作物を保護する或は作物の収穫量を向上させる方法に関する。前記式I中、Aに含まれる置換基としてのXの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なっていてもよい。Aに含まれるインダニル又はテトラヒドロナフチルの置換基であるハロゲン、アルキル又はアルコキシの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なっていてもよい。B又はXに含まれる置換基としてのYの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なっていてもよい。X、Y、R3、R11、R12又はR13に含まれる置換基としてのE1、E2又はE3の置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なっていてもよい。X、Y、R3、R12又はR13に含まれる置換基としてのJの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なっていてもよい。X、Y、R4、R5、R6、R11、R12、R13、E1、E2又はE3に含まれるフェニル又は複素環の置換基であるハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なっていてもよい。R10に含まれるアルキル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ又はアルコキシカルボニルの置換基であるハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なっていてもよい。A、B、X、Y、R4、R5、R6、R11、E1又はE2中の複素環としてはO、S及びNからなる群より選ばれた少なくとも1種の原子を1~4含有する3、5若しくは6員複素環が望ましく、例えばオキシラニルのような3員複素環;フリル、テトラヒドロフリル、チエニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、ジオキソラニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、テトラゾリルなどの5員複素環;ピラニル、ピリジル、ピペリジニル、ジオキサニル、オキサジニル、モルホリニル、チアジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピペラジニル、トリアジニルなどの6員複素環が挙げられる。A又はB中の縮合複素環としてはO、S及びNからなる群より選ばれた少なくとも1種の原子を1~4含有する8~10員縮合複素環、例えばベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ジヒドロベンゾフラニル、ジヒドロイソベンゾフラニル、ベンゾチエニル、イソベンゾチエニル、ジヒドロベンゾチエニル、ジヒドロイソベンゾチエニル、テトラヒドロベンゾチエニル、インドリル、イソインドリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、インダゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾジオキソラニル、ベンゾジオキサニル、クロメニル、クロマニル、イソクロマニル、クロモニル、クロマノニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、インドリジニル、キノリジニル、イミダゾピリジル、ナフチリジニル、プテリジニル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ジヒドロベンゾオキサゾリノニル、ジヒドロベンゾオキサジノニル、ベンゾチオキサニルなどが挙げられる。A、X、Y、R1~R3、R6~R13、E1~E3又はJ中のアルキル又はアルキル部分は、直鎖状又は分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルのようなC1-7のものなどが挙げられる。X、Y、R1~R3、R6、R12、R13又はE1~E3中のシクロアルキル又はシクロアルキル部分としては、炭素数3~6のもの、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。また、R1とR2が一緒になって形成する3~6員飽和炭素環の具体例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。X、Y、R1~R3又はR10中のアルケニル又はアルケニル部分としては、炭素数2~7の直鎖又は分枝状のもの、例えばビニル、1-プロペニル、アリル、イソプロペニル、1-ブテニル、1,3-ブタジエニル、1-ヘキセニル、1-ヘプテニルなどが挙げられる。また、X、Y、R1~R3又はR10中のアルキニル又はアルキニル部分としては、炭素数2~7の直鎖又は分枝状のもの、例えばエチニル、2-ブチニル、2-ペンチニル、3-ヘキシニル、4-ジメチル-2-ペンチニルなどが挙げられる。A、X、Y、R1~R13、E1~E3又はJ中のハロゲン又は置換基としてのハロゲンとしては、弗素、塩素、臭素又は沃素の各原子が挙げられる。置換基としてのハロゲンの数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、各ハロゲンは同一でも相異なってもよい。また、ハロゲンの置換位置はいずれの位置でもよい。前記式Iα中の置換基Aα又はXαの定義は、各々前記式I中の置換基A又はXの定義に準ずる。前記式I又はIαの酸アミド誘導体の塩としては、農業上許容されるものであればあらゆるものが含まれるが、例えばナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩;マグネシウム塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類金属塩;塩酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無機酸塩;酢酸塩、メタンスルホン酸塩のような有機酸塩などが挙げられる。前記式I又はIαの酸アミド誘導体には、各種異性体、例えば光学異性体、幾何異性体などが存在するが、本発明には各異性体及び異性体混合物の双方が含まれる。尚、本発明には、当該技術分野における技術常識の範囲内において、前記したもの以外の各種異性体も含まれる。また、異性体の種類によっては、前記式I又はIαとは異なる化学構造となる場合があるが、当業者であればそれらが異性体の関係にあることが十分認識できる為、本発明の範囲内であることは明らかである。前記式I又はIαの酸アミド誘導体又はその塩は、以下の反応A~K、U~W並びに、通常の塩の製造方法に従って製造することができる。反応A中、A、B、R1及びR2は前述の通りであり、Zはヒドロキシ、アルコキシ又はハロゲンであり、ハロゲンとしては弗素、塩素、臭素又は沃素の各原子が挙げられる。反応Aは、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基は、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類;メチルリチウム、n-ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのような有機リチウム化合物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式IIの化合物に対し1~3倍モル、望ましくは1~2倍モル使用できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Aは、必要に応じて脱水縮合剤の存在下で行うことができる。該脱水縮合剤としてはNN-ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロスルホニルイソシアネート、NN-カルボニルジイミダゾール、トリフルオロ酢酸無水物などが挙げられる。反応Aは、通常0~100°C、望ましくは0~50°Cで行うことができ、その反応時間は、通常05~48時間程度、望ましくは1~24時間程度とすることができる。反応B中、A、B、R1及びR2は前述の通りであり、R3aはE1で置換されてもよいアルキル、E1で置換されてもよいアルケニル、E1で置換されてもよいアルキニル、ヒドロキシ、シアノオキシ、E1で置換されてもよいアルコキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキル、Jで置換されてもよいシクロアルキルオキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキルチオ、シアノ、ホルミル、CR11、COR12、CSR12、CNR12R13、SmR12又はSnNR12R13E1、J、R11、R12、R13、W3、m及びnは前述の通りであり、Tはハロゲンであり、ハロゲンとしては弗素、塩素、臭素又は沃素の各原子が挙げられる。反応Bは、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基は、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式I-1の化合物に対して1~3倍モル、望ましくは1~15倍モル使用できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Bは、通常0~100°C、望ましくは0~50°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常1~300時間程度、望ましくは1~150時間程度とすることができる。反応C中、A、R1及びR2は前述の通りであり、B1はCO2Hで置換された複素環又はCO2Hで置換された縮合複素環であり、式VはQフェニル、複素環又は縮合複素環のジカルボン酸無水物である。反応Cは、通常溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tertブタノールのようなアルコール類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Cは、必要に応じて塩基の存在下で行うことができる。該塩基としては、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式IIの化合物に対して1~3倍モル、望ましくは1~15倍モル使用できる。反応Cの反応は、通常0~150°C、望ましくは0~80°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常05~96時間程度、望ましくは1~48時間程度とすることができる。反応D中、A、R1及びR2は前述の通りであり、B2はY2で置換された複素環又はY2で置換された縮合複素環であり、B3はY3で置換された複素環又はY3で置換された縮合複素環であり、Y2は塩素、臭素又は沃素の各原子であり、Y3は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよいである。反応Dは、通常触媒、塩基、溶媒及び不活性ガスの存在下で行うことができる。触媒は、例えばテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム0、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム0のようなパラジウム錯体などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式I-4の化合物に対して1~20倍モル、望ましくは1~10倍モル使用できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tertブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどを使用できる。反応Dの反応は、通常0~150°C、望ましくは15~100°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常05~96時間程度、望ましくは1~48時間程度とすることができる。反応E中、A、R1及びR2は前述の通りであり、B4はCO2Hで置換された複素環又はCO2Hで置換された縮合複素環であり、B5はCO2R8aで置換された複素環又はCO2R8aで置換された縮合複素環基であり、R8aはアルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル又はハロアルコキシアルキルである。反応E中の第1工程は、塩素化剤の存在下で行うことができる。該塩素化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化オキサリル、五塩化リンなどから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応E中の第1工程は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応E中の第1工程の反応は、通常0~200°C、望ましくは15~150°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常01~72時間程度、望ましくは05~3時間程度とすることができる。反応E中の第2工程は、必要に応じて塩基の存在下で行うことができる。該塩基は、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式I-6の化合物に対して1~5倍モル、望ましくは1~2倍モル使用できる。反応E中の第2工程は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。尚、この反応においては、式VIIの化合物を過剰に用いることにより溶媒を兼ねることができる。反応E中の第2工程の反応は、通常0~100°C、望ましくは0~50°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常01~48時間程度、望ましくは05~6時間程度とすることができる。反応F中、A、B4、B5、R1、R2及びR8aは前述の通りであり、反応Fは、通常触媒又は脱水縮合剤の存在下で行うことができる。触媒は、例えば塩酸、硫酸のような鉱酸;パラトルエンスルホン酸のような有機酸;三フッ化ホウ素エーテラートのようなルイス酸などから1種又は2種以上を適宜選択できるる。脱水縮合剤は、NN-ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロスルホニルイソシアネート、NN-カルボニルジイミダゾール、トリフルオロ酢酸無水物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Fは、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tertブタノールのようなアルコール類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。尚、この反応においては、式VIIの化合物を過剰に用いることにより溶媒を兼ねることができる。反応Fの反応、通常0~200°C、望ましくは0~100°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常01~96時間程度、望ましくは05~24時間程度とすることができる。反応G中、A、B4、R1、R2、R8及びR9は前述の通りであり、B6はCONR8R9で置換された複素環又はCONR8R9で置換された縮合複素環基R8及びR9は前述の通りである。反応G中の第1工程は、前記反応Eの第1工程に準じて行うことができる。反応G中の第2工程は、必要に応じて塩基の存在下で行うことができる。該塩基は、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式I-6の化合物に対して1~10倍モル、望ましくは1~2倍モル使用できる。反応G中の第2工程は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応G中の第2工程の反応は、通常0~100°C、望ましくは0~50°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常01~48時間程度、望ましくは05~6時間程度である。反応H中、A、B4、B6、R1、R2、R8及びR9は前述の通りである。反応Hは、通常脱水縮合剤及び溶媒の存在下で行うことができる。脱水縮合剤は、NN-ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロスルホニルイソシアネート、NN-カルボニルジイミダゾール、トリフルオロ酢酸無水物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Hの反応は、通常0~200°C、望ましくは0~100°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常01~96時間程度、望ましくは05~24時間程度とすることができる。反応I中、A、B5、B6、R1、R2、R8及びR9は前述の通りである。反応Iは、通常溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tertブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択する。尚、この反応においては、式VIIIの化合物を過剰に用いることにより溶媒を兼ねることができる。反応Iの反応は、通常0~150°C、望ましくは0~80°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常01~48時間程度、望ましくは05~24時間程度とすることができる。反応J中、Bは前述の通りであり、A1はOR4で置換されたフェニル、OR4で置換されたベンジル、OR4で置換されたナフチル、OR4で置換された複素環又はOR4で置換された縮合複素環R4は前述の通りであり、A2はOHで置換されたフェニル、OHで置換されたベンジル、OHで置換されたナフチル、OHで置換された複素環又はOHで置換された縮合複素環であり、R1a及びR2aは各々アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、シアノアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、アルコキシアルケニル、アルキニル、ハロアルキニル、アルコキシアルキニル、シクロアルキル、ハロシクロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキル又はシアノであり、またR1aとR2aは一緒になって3~6員飽和炭素環を形成してもよく、Mはナトリウム又はカリウムである。反応Jは、通常溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tertブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Jの反応は、通常0~100°C、望ましくは20~80°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常01~24時間程度、望ましくは01~12時間程度とすることができる。反応K中、A1、A2、B、R1a、R2a及びR4は前述の通りであり、Gは塩素、臭素又は沃素の各原子である。反応Kは、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基は、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、式I-10の化合物に対して1~2倍モル、望ましくは1~15倍モル使用することができる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Kの反応は、通常-20~100°C、望ましくは0~50°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常01~24時間程度、望ましくは01~12時間程度である。前記反応A又はCで使用される式IIの化合物は、以下の反応L~Nに従って製造することができる。反応L中、A、R1及びR2は前述の通りである。反応Lにおいては、反応の後処理或は通常の塩形成反応に準じて化合物IIの塩を製造できる。反応Lは、通常酸化剤及び水の存在下で行うことができる。酸化剤としては、例えばフェリシアン化カリウムなどが挙げられる。酸化剤は、式XIIの化合物に対して1~10倍モル、望ましくは1~5倍モル使用できる。反応Lは、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。また、反応Lで用いる水は、過剰に用いることにより、溶媒を兼ねることができる。反応Lは、通常20~150°C、望ましくは50~100°Cで行うことができ、その反応時間は、通常05~30時間程度、望ましくは1~20時間程度とすることができる。反応M中、A、R1及びR2は前述の通りである。反応Mにおいては、反応の後処理或は通常の塩形成反応に準じて化合物IIの塩を製造できる。反応Mの環化反応は、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基は、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物などから1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、式XIIIの化合物に対して1~3倍モル、望ましくは1~15倍モル使用できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、プロパノール、tertブタノールのようなアルコール類;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Mの環化反応の反応は、通常0~150°C、望ましくは30~100°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常05~24時間程度、望ましくは1~12時間程度とすることができる。反応Mの加水分解反応は、一般的な加水分解反応に準じて行うことができ、通常酸又は塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。酸としては、例えば塩化水素、硫酸などが挙げられる。塩基としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物などが挙げられる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、tertブタノールのようなアルコール類;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Mの加水分解反応の反応は、通常0~100°C、望ましくは20~80°Cで行なうことができ、反応時間は、通常01~12時間程度、望ましくは01~1時間程度とすることができる。反応N中、A、R1及びR2は前述の通りである。反応Nにおいては、反応の後処理或は通常の塩形成反応に準じて化合物IIの塩を製造できる。反応Nの還元反応としては、例えば接触還元、金属水素化物水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウムなどによる還元;トリフェニルホスフィン、ジメチルスルフィド又はジフェニルスルフィドによる還元;鉄、銅のような金属と、ギ酸、酢酸のようなカルボン酸から構成される反応系での還元などが挙げられる。接触還元は、通常、水素雰囲気下で、白金、酸化白金、白金黒、ラネーニッケル、パラジウム、パラジウム炭素、ロジウム、ロジウムアルミナなどを触媒として使用することにより行うことができる。反応Nは、通常、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tertブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Nは、通常0~150°C、望ましくは0~80°Cで行うことができ、その反応時間は、通常05~96時間程度、望ましくは05~48時間程度とすることができる。前記反応Mで使用される式XIIIの化合物は、以下の反応Oに従って製造できる。反応O中、A、R1及びR2は前述の通りである。反応Oは、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;メタノール、エタノール、プロパノール、tertブタノールのようなアルコール類;アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Oのヨウ化メチルは、式の化合物に対し1~10倍モル、望ましくは1~3倍モル使用できる。また、ヨウ化メチルは過剰に用いることにより、溶媒を兼ねることができる。反応Oは、通常0~100°C、望ましくは10~50°Cで行うことができ、その反応時間は、通常05~48時間程度、望ましくは1~24時間程度とすることができる。前記反応Nで使用される式XIVの化合物は、以下の反応Pに従って製造できる。反応P中、A、R1及びR2は前述の通りであり、Uは塩素又は臭素の各原子である。反応Pは、アジド化剤の存在下で行うことができる。該アジド化剤としては、例えばアジ化ナトリウム、アジ化カリウム、トリメチルシリルアジドなどから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Pは、通常、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tertブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Pは、通常0~150°C、望ましくは20~90°Cで行うことができ、その反応時間は、通常01~96時間程度、望ましくは05~12時間程度とすることができる。前記反応Oで使用される式XVの化合物は、以下の反応Qに従って製造できる。反応Q中、A、R1及びR2は前述の通りである。反応Qは一般的なヒドラゾン合成反応に準じて行うことができ、必要に応じて脱水剤及び/又は触媒の存在下で行うことができる。脱水剤としては、例えばモレキュラーシーブなどが挙げられる。脱水剤は、式XIIの化合物の重量に対して通常は1~30倍、望ましくは5~10倍使用できる。触媒としては、例えば四塩化チタンなどが挙げられる。反応Qのジメチルヒドラジンは、式XIIの化合物に対して通常は1~30倍モル、望ましくは5~10倍モル使用できる。反応Qの反応は、通常20~150°C、望ましくは50~120°Cで行なうことができ、その反応時間は、通常5~200時間程度、望ましくは24~120時間程度とすることができる。前記反応Pで使用される式XVIの化合物は、以下の反応Rに従って製造できる。反応R中、A、R1、R2及びUは前述の通りである。反応Rは、塩素化剤又は臭素化剤の存在下で行うことができる。該塩素化剤としては、例えば塩素、Nクロロコハク酸イミドなどから1種又は2種以上を適宜選択し、臭素化剤としては、例えば臭素、Nブロモコハク酸イミド、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミドなどから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Rは、通常、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;酢酸、プロピオン酸のような有機酸;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Rは、必要に応じ塩基の存在下で行うことができる。該塩基としては、例えばリチウムジイソプロピルアミドなどが挙げられる。塩基は、式XIIの化合物に対し1~2倍モル、望ましくは1~12倍モル使用できる。塩基の存在下で行う場合、通常溶媒はテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類から1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Rは、必要に応じ酢酸、プロピオン酸のような有機酸或は塩化アルミニウムのようなルイス酸を触媒として使用することができる。また、溶媒としての有機酸を過剰に用いることにより触媒を兼ねることができる。反応Rは、通常100~150°C、望ましくは78~110°Cで行うことができ、その反応時間は、通常01~48時間程度、望ましくは05~24時間程度とすることができるが、塩基の存在下で行う場合、通常100~0°C、望ましくは78~20°Cで行うことができ、その反応時間は、通常01~12時間程度、望ましくは05~6時間程度とすることができ、また、酸の存在下で行う場合、通常0~150°C、望ましくは20~110°Cで行うことができ、その反応時間は、通常01~48時間程度、望ましくは1~24時間程度とすることができる。前記反応Qで使用される式XIIの化合物は公知化合物であるか、或は以下の反応S~T又はこれらに準じた方法に従って製造することができる。反応S中、R1及びR2は前述の通りであり、Zは酸素原子、硫黄原子又は又は-CG2-であり、Xaは水素原子、塩素原子又はアルキルであり、Xaは塩素原子又はアルキルであり、Xb、Xc、Xd、Xe、G1及びG2は各々独立に水素原子、弗素原子又は塩素原子であり、Vは臭素原子又は沃素原子であり、jは0又は1であり、Lは脱離基、より具体的には塩素原子、臭素原子のようなハロゲン;メトキシ、エトキシのようなアルコキシ;ジメチルアミノ、ジエチルアミノのようなジアルキルアミノ;NメトキシNメチルアミノ又はアルキルで置換されていてもよいアジリジニルなどである。反応Sの第1工程は、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基は、リチウムジイソプロピルアミドのような有機リチウム化合物などから適宜選択できる。塩基は、式XVII-1又はXVII-2の化合物に対し1~2倍モル、望ましくは1~15倍モル使用できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Sの第1工程で用いる塩素化剤としては、例えばNクロロコハク酸イミドなどが挙げられる。反応Sの第1工程で用いる式:Xa-Iは、式XVII-1又はXVII-2の化合物に対し1~10倍モル、望ましくは1~5倍モル使用できる。また、反応Sの第1工程で用いる塩素化剤は、式XVII-1又はXVII-2の化合物に対し1~5倍モル、望ましくは1~3倍モル使用できる。反応Sの第1工程は、必要に応じ不活性ガスの存在下で行うことができる。該不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどから適宜選択できる。反応Sの第1工程は、通常-100~50°C、望ましくは-70~25°Cで行うことができ、その反応時間は、通常1~48時間程度、望ましくは1~20時間程度とすることができる。反応Sの第2工程は、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基は、メチルリチウム、n-ブチルリチウムのような有機リチウム化合物;イソプロピルマグネシウムクロリドのようなグリニャール化合物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式XVII-1、XVII-2、XVIII-1又はXVIII-2の化合物に対し1~2倍モル、望ましくは1~15倍モル使用できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Sの第2工程で用いる式XIXの化合物は、式XVII-1、XVII-2、XVIII-1又はXVIII-2の化合物に対し1~3倍モル、望ましくは1~15倍モル使用できる。反応Sの第2工程は、必要に応じ不活性ガスの存在下で行うことができる。該不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどから適宜選択できる。反応Sの第2工程は、通常-100~50°C、望ましくは-70~25°Cで行うことができ、その反応時間は、通常1~48時間程度、望ましくは1~20時間程度とすることができる。反応T中、R1、R2、Z、Xa、Xa’、Xb、Xc、Xd、Xe、V及びjは前述の通りである。反応Tの第1工程は、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基は、メチルリチウム、n-ブチルリチウムのような有機リチウム化合物;イソプロピルマグネシウムクロリドのようなグリニャール化合物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式XVII-1、XVII-2、XVIII-1又はXVIII-2の化合物に対し1~2倍モル、望ましくは1~15倍モル使用できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Tの第1工程で用いる式XXは、式XVII-1、XVII-2、XVIII-1又はXVIII-2の化合物に対し1~3倍モル、望ましくは1~15倍モル使用できる。反応Tの第1工程は、必要に応じ不活性ガスの存在下で行うことができる。該不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどから適宜選択できる。反応Tの第1工程は、通常-100~50°C、望ましくは-70~25°Cで行うことができ、その反応時間は、通常1~48時間程度、望ましくは1~20時間程度とすることができる。反応Tの第2工程は、通常、酸化剤及び溶媒の存在下で行うことができる。酸化剤は、クロロクロム酸ピリジニウム、二酸化マンガンなどから1種又は2種以上を適宜選択できる。酸化剤は、式XXI-1又はXXI-2の化合物に対し1~10倍モル、望ましくは1~3倍モル使用できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応Tの第2工程は、通常0~150°C、望ましくは20~100°Cで行うことができ、その反応時間は、通常05~24時間程度、望ましくは1~12時間程度とすることができる。反応U中、A、B、R1、R2及びZは前述の通りである。反応Uは、前記反応Aに準じて行うことができる。反応V中、A、B、R1、R2、U及びZは前述の通りである。また、チオカルボニル化剤としては、ローソン試薬、五硫化二リンなどが挙げられる。反応Vは、上記フロー中の~のように5段階の反応から成り、各々の反応の反応条件については、以下に説明する。の反応は、通常、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、リグロイン、石油ベンジンのよな脂肪族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;二硫化炭素などから1種又は2種以上を適宜選択できる。の反応は、通常-20~150°C、望ましくは0~110°Cで行うことができ、その反応時間は、通常01~48時間とすることができる。の反応において、チオカルボニル化剤は、式の化合物に対し04~2倍モル使用できる。の反応は、前記反応Rに準じて行うことができる。の反応は、前記反応Pに準じて行うことができる。の反応は、前記反応Nに準じて行うことができる。の反応は、前記反応Aに準じて行うことができる。反応W中、A、B、R1、R2及びZは前述の通りである。反応Wは、前記反応Aに準じて行うことができる。尚、式Iの酸アミド誘導体又はその塩は、必要に応じWO2001/60783或はWO2003/27059に開示された方法を参考にして製造することもできる。式Iの酸アミド誘導体又はその塩を有効成分として含有する殺菌性組成物以下本発明組成物と略すは、低薬量で有害菌類を防除することができ、例えば農園芸用の殺菌性組成物として有用である。本発明組成物の望ましい態様について以下に記述する。本発明組成物は、低薬量で有害菌類を防除できる殺菌性組成物として有用であり、特に、農園芸用の殺菌性組成物として有用である。農園芸用の殺菌性組成物として用いた場合、本発明組成物は、例えば卵菌類Oomycetes、子嚢菌類Ascomycetes、担子菌類Basidiomycetes、不完全菌類Deuteromycetesなどに属する有害菌類を防除でき、なかでも子嚢菌類Ascomycetes、不完全菌類Deuteromycetesなどに属する有害菌類の防除に特に有効である。前記有害菌類のより具体的な例としては、例えば以下のようなものなどが挙げられる。卵菌類として、ジャガイモまたはトマト疫病菌Phytophthorainfestans、トマト灰色疫病菌PhytophthoracapsiciのようなファイトフィトラPhytophthora属;キュウリべと病菌PseudoperonosporacubensisのようなシュウドペロノスポーラPseudoperonospora属;ブドウべと病菌PlasmoparaviticolaのようなプラズモパラPlasmopara属;イネ苗立枯病菌Pythiumgraminicola、コムギ褐色雪腐病菌PythiumiwayamaiのようなピシュームPythium属などが挙げられる。子嚢菌類として、コムギうどんこ病菌ErysiphegraminisのようなエリシフェErysiphe属;キュウリうどんこ病菌Sphaerothecafuliginea、イチゴうどんこ病菌SphaerothecahumuliのようなスファエロテカSphaerotheca属;ブドウうどんこ病菌UncinulanecatorのようなウンシニュラUncinula属;リンゴうどんこ病菌PodosphaeraleucotrichaのようなポドスファエラPodosphaera属;エンドウ褐紋病菌Mycosphaerellapinodes、リンゴ黒点病菌、バナナブラックシガトカ病菌、カキ円星落葉病菌、イチゴ蛇の目病菌のようなミコスファエレラMycosphaerella属;リンゴ黒星病菌Venturiainaequalis、ナシ黒星病菌VenturianashicolaのようなベンチュリアVenturia属;オオムギ網斑病菌Pyrenophorateres、オオムギ斑葉病菌PyrenophoragramineaのようなピレノホーラPyrenophora属;インゲン菌核病菌、キュウリ菌核病菌、キャベツ菌核病菌、ハクサイ菌核病菌、トウガラシ菌核病菌、ピーマン菌核病菌又はタマネギ菌核病菌のような各種菌核病菌Sclerotiniasclerotiorum、コムギ雪腐大粒菌核病菌、トマト小粒菌核病菌Sclerotiniaminor、アルファルファ菌核病菌SclerotiniatrifoliorumのようなスクレロティニアSclerotinia属;ラッカセイ小菌核病菌のようなボトリオリニア属;イネごま葉枯病菌CochliobolusmiyabeanusのようなコクリオボーラスCochliobolus属;キュウリつる枯病菌DidymellabryoniaeのようなディディメラDidymella属;コムギ赤かび病菌GibberellazeaeのようなジベレラGibberella属;ブドウ黒痘病菌Elsinoeampelina、カンキツそうか病菌ElsinoefawcettiiのようなエルシノエElsinoe属;カンキツ黒点病菌Diaporthecitri、ブドウ枝膨病菌DiaporthespのようなディアポルセDiaporthe属;リンゴモニリア病菌Moniliniamali、モモ灰星病菌MoniliniafructicolaのようなモニリニアMonilinia属;ブドウ晩腐病菌GlomerellacingulataのようなグロメレラGlomerella属などが挙げられる。担子菌類として、イネ紋枯病菌RhizoctoniasolaniのようなリゾクトニアRhizoctonia属;コムギ裸黒穂病菌UstilagonudaのようなウスティラゴUstilago属;エンバク冠さび病菌Pucciniacoronata、コムギ赤さび病菌Pucciniarecondita、コムギ黄さび病菌PucciniastriiformisのようなプクシニアPuccinia属;コムギ又はオオムギ雪腐小粒菌核病菌のようなティフラ属などが挙げられる。不完全菌類として、コムギふ枯病菌Septorianodorum、コムギ葉枯病菌SeptoriatriticiのようなセプトリアSeptoria属;ブドウ灰色かび病菌、カンキツ灰色かび病菌、キュウリ灰色かび病菌、トマト灰色かび病菌、イチゴ灰色かび病菌、ナス灰色かび病菌、インゲン灰色かび病菌、アズキ灰色かび病菌、エンドウ灰色かび病菌、ラッカセイ灰色かび病菌、トウガラシ灰色かび病菌、ピーマン灰色かび病菌、レタス灰色かび病菌、タマネギ灰色かび病菌、スターチス灰色かび病菌、カーネーション灰色かび病菌、バラ灰色かび病菌、パンジー灰色かび病菌又はヒマワリ灰色かび病菌のような各種灰色かび病菌Botrytiscinerea、タマネギ灰色腐敗病菌Botrytisallii、タマネギのボトリチス属菌による葉枯れ症を引き起こす病原菌BotrytissquamosaBotrytisbyssoideaBotrytistulipaeのようなボトリティスBotrytis属;イネいもち病菌PyriculariaoryzaeのようなピリキュラリアPyricularia属;テンサイ褐斑病菌Cercosporabeticola、カキ角斑病菌CercosporakakivolaのようなサーコスポーラCercospora属;キュウリ炭そ病菌ColletotrichumorbiculareのようなコレトトリカムColletotrichum属;リンゴ斑点落葉病菌Alternariaalternataapplepathotype、ナシ黒斑病菌AlternariaalternataJapanesepearpathotype、ジャガイモ夏疫またはトマト輪紋病菌Alternariasolani、キャベツ又はハクサイ黒斑病菌Alternariabrassicae、キャベツ黒すす病菌Alternariabrassicola、タマネギ又はネギ黒斑病菌AlternariaporriのようなアルタナリアAlternaria属;コムギ眼紋病菌PseudocercosporellaherpotrichoidesのようなシュウドサーコスポレラPseudocercosporella属;ブドウ褐斑病菌PseudocercosporavitisのようなシュウドサーコスポーラPseudocercospora属;オオムギ雲形病菌RhynchosporiumsecalisのようなリンコスポリウムRhynchosporium属;モモ黒星病菌CladosporiumcarpophilumのようなクラドスポリウムCladosporium属;モモホモプシス腐敗病菌PhomopsisspのようなホモプシスPhomopsis属;カキ炭そ病菌GloeosporiumkakiのようなグロエオスポリウムGloeosporium属;トマト葉かび病菌FulviafulvaのようなフルビアFulvia属;キュウリ褐斑病菌CorynesporacassiicolaのようなコリネスポーラCorynespora属などが挙げられる。本発明組成物は、前述した各種有害菌類を防除できることから、各種病害を予防的又は治療的に防除することができる。特に本発明組成物は、農園芸分野で問題となる各種病害、例えばイネのいもち病、ごま葉枯病、紋枯病又は苗立枯病;ムギ類のうどんこ病、赤かび病、赤さび病、黄さび病、網斑病、斑葉病、雪腐病、裸黒穂病、眼紋病、雲形病、葉枯病又はふ枯病;カンキツの黒点病又はそうか病;リンゴのモニリア病、うどんこ病、黒点病、斑点落葉病又は黒星病;ナシの黒星病又は黒斑病;モモの灰星病、黒星病又はフォモプシス腐敗病;ブドウの黒とう病、晩腐病、褐斑病、枝膨病、うどんこ病又はべと病;カキの炭そ病、円星落葉病又は角斑病;ウリ類の炭そ病、うどんこ病、つる枯病、褐斑病又はべと病;トマトの輪紋病、灰色疫病、葉かび病又は疫病;バナナのブラックシガトカ病;テンサイの褐斑病;エンドウの褐紋病;アブラナ科野菜の黒斑病;ジャガイモの疫病又は夏疫病;イチゴのうどんこ病又は蛇の目病;豆類、野菜類、果樹類、花卉類など種々の作物の灰色かび病又は菌核病;等の各種病害の防除に有効であり、中でも、キュウリ、インゲン、アズキ、ダイズ、エンドウ、ラッカセイ、トマト、イチゴ、ナス、トウガラシ、ピーマン、レタス、タマネギ、ブドウ、カンキツ、スターチス、カーネーション、バラ、パンジー、ヒマワリなどの灰色かび病又は菌核病の防除に特に有効である。また本発明組成物は、フザリウム菌、ピシウム菌、リゾクトニア菌、バーティシリウム菌、プラズモディオホーラ菌等の植物病原菌によって引き起こされる土壌病害の予防的又は治療的防除にも有効である。また、本発明組成物はベンズイミダゾール、ストロビルリン、ジカルボキシイミド、フェニルアマイド、エルゴステロール生合成阻害剤などの薬剤に対する各種抵抗性有害菌類の防除にも有効である。更に本発明組成物は、優れた浸透移行性を有していることから、本発明組成物を含有する有害生物防除剤を土壌に施用することによって土壌中の有害菌類の防除と同時に、茎葉部の有害菌類をも防除することができる。本発明組成物は、通常、式Iの酸アミド誘導体又はその塩と各種農業上の補助剤とを混合して粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、水性懸濁剤、油性懸濁剤、水溶剤、乳剤、液剤、ペースト剤、エアゾール剤、微量散布剤などの種々の形態に製剤して使用されるが、本発明の目的に適合するかぎり、通常の当該分野で用いられているあらゆる製剤形態にすることができる。製剤に使用する補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム、タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト、カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレー、炭酸ナトリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの固型担体;水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ジオキサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホキシド、NN-ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、アルコールなどの溶剤;脂肪酸塩、安息香酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルジグリコールエーテル硫酸塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキルアリールリン酸塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩のような陰イオン系の界面活性剤や展着剤;ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ポリグリセライド、脂肪酸アルコールポリグリコールエーテル、アセチレングリコール、アセチレンアルコール、オキシアルキレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルアリールエーテル、ポリオキシエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシプロピレン脂肪酸エステルのような非イオン系の界面活性剤や展着剤;オリーブ油、カポック油、ひまし油、シュロ油、椿油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ油、米ぬか油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの植物油や鉱物油などが挙げられる。これら補助剤の各成分は、本発明の目的から逸脱しないかぎり、1種又は2種以上を適宜選択して使用することができる。また、前記した補助剤以外にも当該分野で知られたものの中から適宜選んで使用することもでき、例えば、増量剤、増粘剤、沈降防止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤など通常使用される各種補助剤も使用することができる。式Iの酸アミド誘導体又はその塩と各種補助剤との配合割合は0001:99999~95:5、望ましくは0005:99995~90:10である。これら製剤の実際の使用に際しては、そのまま使用するか、または水等の希釈剤で所定濃度に希釈し、必要に応じて各種展着剤界面活性剤、植物油、鉱物油などを添加して使用することができる。本発明組成物の施用は、気象条件、製剤形態、対象作物、施用時期、施用場所、有害菌類の種類や発生状況、病害の種類や発生状況などの相違により一概に規定できないが、一般に、茎葉処理の場合01~10000ppm、望ましくは1~2000ppmの有効成分濃度で施用することができ、その施用適量は1ヘクタールあたり式Iの酸アミド誘導体又はその塩が、01~50000g、望ましくは1~30000g程度とすることができる。土壌処理の場合には、一般に1ヘクタールあたり式Iの酸アミド誘導体又はその塩を10~100000g、望ましくは、200~20000g施用することができる。本発明組成物の種々の製剤、又はその希釈物の施用は、通常一般に行なわれている施用方法すなわち、散布例えば散布、噴霧、ミスティング、アトマイジング、散粒、水面施用等、土壌施用混入、灌注等、表面施用塗布、粉衣、被覆等等により行うことができる。また、いわゆる超高濃度少量散布法ultralowvolumeにより施用することもできる。この方法においては、活性成分を100含有することが可能である。本発明組成物は、他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或は併用することができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すことがある。他の農薬としては、除草剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤、殺菌剤、抗ウィルス剤、誘引剤、抗生物質、植物ホルモン、植物成長調整剤などが挙げられる。特に、式Iの酸アミド誘導体又はその塩と、他の殺菌性有効成分化合物の1種又は2種以上とを混用或は併用した混合殺菌性組成物は、適用範囲、薬剤処理の時期、防除活性等を好ましい方向へ改良することがある。尚、式Iの酸アミド誘導体又はその塩と他の殺菌剤の有効成分化合物は、各々別々に製剤したものを散布時に混合して使用しても、両者を一緒に製剤して使用してもよい。本発明には、このような混合殺菌性組成物も含まれる。式Iの酸アミド誘導体又はその塩と他の殺菌性有効成分化合物との混合比は、気象条件、製剤形態、対象作物、施用時期、施用場所、有害菌類の種類や発生状況、病害の種類や発生状況などの相違により一概に規定できないが、一般に1:300~300:1、望ましくは1:100~100:1とすることができる。また、施用適量は1ヘクタール当りの総有効成分化合物量として01~70000g、望ましくは1~30000gとすることができる。本発明には、このような混合殺菌性組成物の施用による有害菌類の防除方法も含まれる。上記他の農薬中の、殺菌性有効成分化合物一般名;一部申請中を含む、又は日本植物防疫協会供試試験コードとしては、例えば、メパニピリムMepanipyrim、ピリメサニルPyrimethanil、シプロジニルCyprodinilのようなアニリノピリミジン系化合物;フルアジナムFluazinamのようなピリジナミン系化合物;トリアジメホンTriadimefon、ビテルタノールBitertanol、トリフルミゾールTriflumizole、エタコナゾールEtaconazole、プロピコナゾールPropiconazole、ペンコナゾールPenconazole、フルシラゾールFlusilazole、マイクロブタニルMyclobutanil、シプロコナゾールCyproconazole、テブコナゾールTebuconazole、ヘキサコナゾールHexaconazole、ファーコナゾールシスFurconazole‐cis、プロクロラズProchloraz、メトコナゾールMetconazole、エポキシコナゾールEpoxiconazole、テトラコナゾールTetraconazole、オキスポコナゾールフマル酸塩Oxpoconazolefumarate、シプコナゾールSipconazole、プロチオコナゾールProthioconazole、トリアジメノールTriadimenol、フルトリアフオールFlutriafol、ジフェノコナゾールDifenoconazole、フルキンコナゾールFluquinconazole、フェンブコナゾールFenbuconazole、ブロムコナゾールBromuconazole、ジニコナゾールDiniconazole、トリシクラゾールTricyclazole、プロベナゾールProbenazole、シメコナゾールSimeconazole、ペフラゾエートPefurazoate、イプコナゾールIpconazole、イミベンコナゾールImibenconazoleのようなアゾール系化合物;キノメチオネートQuinomethionateのようなキノキサリン系化合物;マンネブManeb、ジネブZineb、マンゼブMancozeb、ポリカーバメートPolycarbamate、メチラムMetiram、プロピネブPropinebのようなジチオカーバメート系化合物;フサライドFthalide、クロロタロニルChlorothalonil、キントゼンQuintozeneのような有機塩素系化合物;ベノミルBenomyl、チオファネートメチルThiophanate‐Methyl、カーベンダジムCarbendazim、シアゾファミドCyazofamidのようなイミダゾール系化合物;シモキサニルCymoxanilのようなシアノアセトアミド系化合物;メタラキシルMetalaxyl、メタラキシルMMetalaxylM、オキサジキシルOxadixyl、オフレースOfurace、ベナラキシルBenalaxyl、ベナラキシルMBenalaxylM、フララキシルFuralaxyl、シプロフラムCyprofuramのようなフェニルアミド系化合物;ジクロフルアニドDichlofluanidのようなスルフェン酸系化合物;水酸化第二銅Cuprichydroxide、有機銅OxineCopperのような銅系化合物;ヒメキサゾールHymexazolのようなイソキサゾール系化合物;ホセチルアルミニウムFosetyl‐Al、トルコホスメチルTolcofos‐Methyl、S-ベンジルO,O-ジイソプロピルホスホロチオエート、O-エチルS,S-ジフェニルホスホロジチオエート、アルミニウムエチルハイドロゲンホスホネートのような有機リン系化合物;キャプタンCaptan、キャプタホルCaptafol、フォルペットFolpetのようなN-ハロゲノチオアルキル系化合物;プロシミドンProcymidone、イプロジオンIprodione、ビンクロゾリンVinclozolinのようなジカルボキシイミド系化合物;フルトラニルFlutolanil、メプロニルMepronil、ゾキサミドZoxamid、チアジニルTiadinilのようなベンズアニリド系化合物;ボスカリドのようなアニリド系化合物;トリホリンTriforineのようなピペラジン系化合物;ピリフェノックスPyrifenoxのようなピリジン系化合物;フェナリモルFenarimol、フルトリアフォルFlutriafolのようなカルビノール系化合物;フェンプロピディンFenpropidineのようなピペリジン系化合物;フェンプロピモルフFenpropimorph、トリデモルフのようなモルフォリン系化合物;フェンチンヒドロキシドFentinHydroxide、フェンチンアセテートFentinAcetateのような有機スズ系化合物;ペンシキュロンPencycuronのような尿素系化合物;ジメトモルフDimethomorph、フルモルフFlumorphのようなシンナミック酸系化合物;ジエトフェンカルブDiethofencarbのようなフェニルカーバメート系化合物;フルジオキソニルFludioxonil、フェンピクロニルFenpiclonilのようなシアノピロール系化合物;アゾキシストロビンAzoxystrobin、クレソキシムメチルKresoxim‐Methyl、メトミノフェンMetominofen、トリフロキシストロビンTrifloxystrobin、ピコキシストロビンPicoxystrobin、オリザストロビンOryzastrobin、ジモキシストロビンDimoxystrobin、ピラクロストロビンPyraclostrobin、フルオキサストロビンFluoxastrobin、フルアクリピリムFluacrypyrinのようなストロビルリン系化合物;ファモキサドンFamoxadoneのようなオキサゾリジノン系化合物;エタボキサムEthaboxamのようなチアゾールカルボキサミド系化合物;シルチオファムSilthiophamのようなシリルアミド系化合物;イプロバリカルブIprovalicarb、ベンチアバリカルブ-イソプロピルbenthiavalicarbisopropylのようなアミノアシッドアミドカーバメート系化合物;フェナミドンFenamidoneのようなイミダゾリジン系化合物;フェンヘキサミドFenhexamidのようなハイドロキシアニリド系化合物;フルスルファミドFlusulfamideのようなベンゼンスルホンアミド系化合物;シフルフェナミドCyflufenamidのようなオキシムエーテル系化合物;フェノキサニルFenoxanilのようなフェノキシアミド系化合物;ポリオキシンのような抗生物質;イミノクタジンIminoctadineのようなグアニジン系化合物;また、その他の化合物として、イソプロチオランIsoprothiolane、ピロキロンPyroquilon、ジクロメジンDiclomezine、キノキシフェンQuinoxyfen、プロパモカルブ塩酸塩PropamocarbHydrochloride、スピロキサミンSpiroxamineクロルピクリンChloropicrin、ダゾメットDazomet、メタムナトリウム塩Metam‐sodium、ニコビフェンNicobifen、メトラフェノンMetrafenone、MTF753ペンチオピラド、Pentiopyrad、UBF307、ジクロシメットDiclocymet、プロキンアジドProquinazid、NC224Amibromdole、Amisulbrom、KIF7767KUF1204、Pyribencarbmethyl、Mepyricarb、Syngenta446510Mandipropamid、Dipromandamidなどが挙げられる。上記他の農薬中の、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤或いは殺土壌害虫剤の有効成分化合物一般名;一部申請中を含むとしては、例えばプロフェノホスProfenofos、ジクロルボスDichlorvos、フェナミホスFenamiphos、フェニトロチオンFenitrothion、EPN、ダイアジノンDiazinon、クロルピリホスメチルChlorpyrifosmethyl、アセフェートAcephate、プロチオホスProthiofos、ホスチアゼートFosthiazate、ホスホカルブPhosphocarb、カズサホスCadusafos、ジスルホトンDisulfoton、クロルピリホスChlorpyrifos、デメトンSメチルDemetonSmethyl、ジメトエートDimethoate、メタミドホスMethamidophosのような有機リン酸エステル系化合物;カルバリルCarbaryl、プロポキスルPropoxur、アルジカルブAldicarb、カルボフランCarbofuran、チオジカルブThiodicarb、メソミルMethomyl、オキサミルOxamyl、エチオフェンカルブEthiofencarb、ピリミカルブPirimicarb、フェノブカルブFenobucarb、カルボスルファンCarbosulfan、ベンフラカルブBenfuracarbのようなカーバメート系化合物;カルタップCartap、チオシクラムThiocyclam、ベンスルタップBensultapのようなネライストキシン誘導体;ジコホルDicofol、テトラジホンTetradifonのような有機塩素系化合物;酸化フェンブタスズFenbutatinOxideのような有機金属系化合物;フェンバレレートFenvalerate、ペルメトリンPermethrin、シペルメトリンCypermethrin、デルタメトリンDeltamethrin、シハロトリンCyhalothrin、テフルトリンTefluthrin、エトフェンプロックスEthofenprox、フェンプロパトリンFenpropathrin、ビフェントリンBifenthrinのようなピレスロイド系化合物;ジフルベンズロンDiflubenzuron、クロルフルアズロンChlorfluazuron、テフルベンズロンTeflubenzuron、フルフェノクスロンFlufenoxuron、ルフェヌロンLufenuron、ノバルロンNovaluronのようなベンゾイルウレア系化合物;メトプレンMethoprene、ピリプロキシフェンPyriproxyfen、フェノキシカルブFenoxycarbのような幼若ホルモン様化合物;ピリダベンPyridabenのようなピリダジノン系化合物;フェンピロキシメートFenpyroximate、フィプロニルFipronil、テブフェンピラドTebufenpyrad、エチプロールEthiprole、トルフェンピラドTolfenpyrad、アセトプロールAcetoprole、ピラフルプロールPyrafluprole、ピリプロールPyriproleのようなピラゾール系化合物;イミダクロプリドImidacloprid、ニテンピラムNitenpyram、アセタミプリドAcetamiprid、チアクロプリドThiacloprid、チアメトキサムThiamethoxam、クロチアニジンClothianidin、ジノテフランDinotefuranなどのネオニコチノイド;テブフェノジドTebufenozide、メトキシフェノジドMethoxyfenozide、クロマフェノジドChromafenozideなどのヒドラジン系化合物;ジニトロ系化合物、有機硫黄化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、ヒドラゾン系化合物また、その他の化合物として、フロニカミドFlonicamid、ブプロフェジンBuprofezin、ヘキシチアゾクスHexythiazox、アミトラズAmitraz、クロルジメホルムChlordimeform、シラフルオフェンSilafluofen、トリアザメイトTriazamate、ピメトロジンPymetrozine、ピリミジフェンPyrimidifen、クロルフェナピルChlorfenapyr、インドキサカルブIndoxacarb、アセキノシルAcequinocyl、エトキサゾールEtoxazole、シロマジンCyromazine、13-ジクロロプロペン13dichloropropene、ジアフェンチウロンDiafenthiuron、ベンクロチアズBenclothiaz、フルフェンリムFlufenerim、ピリダリルPyridalyl、スピロジクロフェンSpirodiclofen、ビフェナゼートBifenazate、スピロメシフェンSpiromesifen、スピロテトラマットspirotetramat、プロパルギットPropargite、クロフェンテジンClofentezine、フルアクリピリムFluacrypyrim、メタフルミゾンMetaflumizone、フルベンジアミドFlubendiamide、シフルメトフェンCyflumetofenのような化合物;などが挙げられる。更に、BT剤、昆虫病原ウイルス剤、昆虫病原糸状菌剤、線虫病原糸状菌剤などのような微生物農薬、アベルメクチンAvermectin、エマメクチンベンゾエートEmamectinBenzoate、ミルベメクチンMilbemectin、スピノサッドSpinosad、イベルメクチンIvermectin、レピメクチンLepimectinのような抗生物質、アザディラクチンAzadirachtinのような天然物などが挙げられる。本発明の望ましい態様は以下の通りである。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。1前記式Iで表される酸アミド誘導体又はその塩。2前記式I中、AがXで置換されてもよいフェニル、Xで置換されてもよいナフチル、Xで置換されてもよい複素環又はXで置換されてもよい縮合複素環であり;BがYで置換されてもよい複素環但し、ピリジルは除く、Yで置換されてもよい縮合複素環又はYで置換されてもよいナフチルであり;Xがハロゲン、アルキルアルキルは、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、シクロアルキル、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シアノ、アルコキシカルボニル又はアルキルカルボニルオキシで置換されてもよい、アルケニル、ハロアルケニル、アルキニルアルキニルは、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アミノ、ヒドロキシカルボニル、アルコキシカルボニル又はトリアルキルシリルで置換されてもよい、ヒドロキシ、シアノオキシ、アルコキシアルコキシは、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、シクロアルキル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シアノ又は複素環で置換されてもよい、アルケニルオキシ、ハロアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アルキルチオアルキルチオは、ハロゲン、シクロアルキル又はシアノで置換されてもよい、アルケニルチオ、ハロアルケニルチオ、アルキニルチオ、ハロアルキニルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、ハロゲンで置換されてもよいシクロアルキル、ハロゲンで置換されてもよいシクロアルキルオキシ、ハロゲンで置換されてもよいシクロアルキルチオ、シアノ、ニトロ、ホルミル、フェニルフェニルは、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル又はアルコキシで置換されてもよい、アルキルで置換されてもよいフェノキシ、アルキルで置換されてもよいフェニルチオ、アルキルで置換されてもよいフェニルアルキル、アルキルで置換されてもよいフェニルアルケニル、アルキルで置換されてもよいフェニルアルキニル、アルキルで置換されてもよいフェニルアルキルオキシ、アルキルで置換されてもよいフェニルアルケニルオキシ、アルキルで置換されてもよいフェニルアルキニルオキシ、アルキルで置換されてもよいフェニルアミノ、OR4、SR5、NR6R7、CO2R8、CNR8R9、SO2NR8R9、CH=NR10又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;Yがハロゲン、アルキルアルキルは、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルコキシ、アミノ、モノアルキルアミノ又はジアルキルアミノで置換されてもよい、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、シクロアルキル、シアノ、ニトロ、ホルミル、OR4、NR6R7、CO2R8、CNR8R9、SO2NR8R9、CH=NR10であり;R1及びR2が各々独立に水素原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、アルケニル、アルキニル又はシクロアルキルであり、またR1とR2は一緒になって3~6員飽和炭素環を形成してもよく;R3が水素原子、アルキルアルキルは、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ又はシアノで置換されてもよい、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シアノ、ホルミル、CR11、COR12又はSmR12である酸アミド誘導体又はその塩。3AがXで置換されてもよいフェニル、Xで置換されてもよいナフチル、Xで置換されてもよい複素環又はXで置換されてもよい縮合複素環であり;BがYで置換されてもよい5員複素環、ピラジニル又はYで置換されてもよい縮合複素環であり;Xがハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、ジアルキルアミノアルキル、アルキニル、トリアルキルシリルアルキニル、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルコキシ、シクロアルキル、ニトロ、フェニル、フェニルアルキニル、ハロアルキルで置換されてもよいピリジルオキシ、アルキルカルボニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;Yがハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、シクロアルキル又はホルミルであり;R1及びR2が各々独立に水素原子又はアルキルであり;R3が水素原子、アルキル、アルキルカルボニル又はアルコキシカルボニルであり;W1及びW2が各々独立に酸素原子又は硫黄原子である酸アミド誘導体又はその塩。4W1及びW2が共に酸素原子である前記3の酸アミド誘導体又はその塩。5BがYで置換されてもよい縮合複素環である前記3の酸アミド誘導体又はその塩。6縮合複素環がベンゾフラニル、ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾジオキサニル又はキノリルである前記5の酸アミド誘導体又はその塩。7BがYで置換されてもよい5員複素環であり;Xがハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルキニル、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルコキシ、シクロアルキル、ニトロ、フェニルアルキル、ハロアルキルで置換されてもよいピリジルオキシ、アルキルカルボニルオキシ又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;Yがハロゲン、アルキル、ハロアルキル又はアルコキシであり;R3が水素原子、アルキルカルボニル又はアルコキシカルボニルであり;W1及びW2が共に酸素原子である前記3の酸アミド誘導体又はその塩。8BがYで置換されてもよいフリル、Yで置換されてもよいチエニル、Yで置換されてもよいピロリル、Yで置換されてもよいオキサゾリル、Yで置換されてもよいイソキサゾリル、Yで置換されてもよいチアゾリル、Yで置換されてもよいイソチアゾリル、Yで置換されてもよいピラゾリル又はYで置換されてもよいチアジアゾリルである前記3又は7の酸アミド誘導体又はその塩。9BがYで置換されてもよいフリル、Yで置換されてもよいチエニル、Yで置換されてもよいピロリル、Yで置換されてもよいオキサゾリル、Yで置換されてもよいチアゾリル、Yで置換されてもよいイソチアゾリル、Yで置換されてもよいピラゾリル又はYで置換されてもよいチアジアゾリルである前記8の酸アミド誘導体又はその塩。10BがYで置換されたフリルである前記9の酸アミド誘導体又はその塩。11BがYで置換されたチエニルである前記9の酸アミド誘導体又はその塩。12BがYで置換されたピラゾリルである前記9の酸アミド誘導体又はその塩。13前記式:[AαはXαで置換されてもよいフェニル、Xαで置換されたナフチル、Xαで置換されたチエニル、Xαで置換されてもよいベンゾジオキソラニル又はXαで置換されてもよいベンゾジオキサニルであり;BはYで置換されてもよい複素環但し、ピリジルは除く、Yで置換されてもよい縮合複素環又はYで置換されてもよいナフチルであり;Xαは弗素原子、塩素原子、沃素原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、ジアルキルアミノアルキル、アルキニル、トリアルキルシリルアルキニル、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルコキシ、シクロアルキル、ニトロ、フェニル、フェニルアルキニル、ハロアルキルで置換されてもよいピリジルオキシ、アルキルカルボニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;Yはハロゲン、E1で置換されてもよいアルキル、E1で置換されてもよいアルケニル、E1で置換されてもよいアルキニル、ヒドロキシ、シアノオキシ、E1で置換されてもよいアルコキシ、E1で置換されてもよいアルケニルオキシ、E1で置換されてもよいアルキニルオキシ、メルカプト、シアノチオ、E1で置換されてもよいアルキルチオ、E1で置換されてもよいアルケニルチオ、E1で置換されてもよいアルキニルチオ、E2で置換されてもよいアルキルスルフィニル、E2で置換されてもよいアルキルスルホニル、Jで置換されてもよいシクロアルキル、Jで置換されてもよいシクロアルキルオキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキルチオ、シアノ、ニトロ、ホルミル、OR4、SR5、NR6R7、CO2R8、CNR8R9、SO2NR8R9、CH=NR10又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;R1及びR2は各々独立に水素原子、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、シアノアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、アルコキシアルケニル、アルキニル、ハロアルキニル、アルコキシアルキニル、シクロアルキル、ハロシクロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキル、シアノ又はCO2R8であり、またR1とR2は一緒になって3~6員飽和炭素環を形成してもよく;R3は水素原子、E1で置換されてもよいアルキル、E1で置換されてもよいアルケニル、E1で置換されてもよいアルキニル、ヒドロキシ、シアノオキシ、E1で置換されてもよいアルコキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキル、Jで置換されてもよいシクロアルキルオキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキルチオ、シアノ、ホルミル、CR11、COR12、CSR12、CNR12R13、SmR12又はSnNR12R13であり;R4はCR12、COR12、CSR12、CNR12R13、SmR12、SnNR12R13又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;R5はCR12、COR12、CSR12、CNR12R13又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;R6は水素原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、シアノアルキル、アルキル、シクロアルキル、シアノ、CR12、COR12、CSR12、CNR12R13、SmR12、SnNR12R13又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;R7は水素原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル又はハロアルコキシアルキルであり;R8及びR9は各々独立に水素原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル又はハロアルコキシアルキルであり、隣接するR8とR9は一緒になって環を形成してもよく;R10はアルキルアルキルは、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい、アルコキシアルコキシは、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい、アルケニルオキシアルケニルオキシは、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい、アルキニルオキシアルキニルオキシは、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよい又はアルコキシカルボニルアルコキシカルボニルは、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシで置換されてもよいであり;R11は水素原子、E3で置換されてもよいアルキル、フェニルフェニルは、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよい又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;R12及びR13は各々独立にE3で置換されてもよいアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、Jで置換されてもよいシクロアルキル又はフェニルフェニルは、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり、隣接するR12とR13は一緒になって環を形成してもよく;W1、W2及びW3は各々独立に酸素原子又は硫黄原子であり;m及びnは各々独立に0~2の整数であり;E1はハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、メルカプト、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルホニル、シクロアルキル、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シアノ、ニトロ、ヒドロキシカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、トリアルキルシリル又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;E2はハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、シクロアルキル、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シアノ、ニトロ、ヒドロキシカルボニル、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;E3はハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シクロアルキル、シアノ、アルコキシカルボニル、ハロアルコキシ、ハロアルキルチオ又はフェニルフェニルは、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;Jはハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ又はハロアルコキシである]で表される酸アミド誘導体又はその塩。14前記式中、BがYで置換されてもよい5員複素環、ピラジニル又はYで置換されてもよい縮合複素環であり;Xαが弗素原子、塩素原子、沃素原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、ジアルキルアミノアルキル、アルキニル、トリアルキルシリルアルキニル、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルコキシ、シクロアルキル、ニトロ、フェニル、フェニルアルキニル、ハロアルキルで置換されてもよいピリジルオキシ、アルキルカルボニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;Yがハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、シクロアルキル又はホルミルであり;R1及びR2が各々独立に水素原子又はアルキルであり;R3が水素原子、アルキル、アルキルカルボニル又はアルコキシカルボニルであり;W1及びW2が各々独立に酸素原子又は硫黄原子である酸アミド誘導体又はその塩。15W1及びW2が共に酸素原子である前記14の酸アミド誘導体又はその塩。16BがYで置換されてもよい縮合複素環である前記14の酸アミド誘導体又はその塩。17縮合複素環がベンゾフラニル、ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾジオキサニル又はキノリルである前記16の酸アミド誘導体又はその塩。18BがYで置換されてもよい5員複素環であり;Xαが弗素原子、塩素原子、沃素原子、アルキル、ハロアルキル、アルキニル、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルコキシ、シクロアルキル、ニトロ、フェニルアルキニル、ハロアルキルで置換されてもよいピリジルオキシ、アルキルカルボニルオキシ又は複素環複素環は、ハロゲン、アルキル又はアルキルカルボニルで置換されてもよいであり;Yがハロゲン、アルキル、ハロアルキル又はアルコキシであり;R3が水素原子、アルキルカルボニル又はアルコキシカルボニルであり;W1及びW2が共に酸素原子である前記14の酸アミド誘導体又はその塩。19BがYで置換されてもよいフリル、Yで置換されてもよいチエニル、Yで置換されてもよいピロリル、Yで置換されてもよいオキサゾリル、Yで置換されてもよいイソキサゾリル、Yで置換されてもよいチアゾリル、Yで置換されてもよいイソチアゾリル、Yで置換されてもよいイミダゾリル、Yで置換されてもよいピラゾリル又はYで置換されてもよいチアジアゾリルである前記14又は18の酸アミド誘導体又はその塩。20BがYで置換されてもよいフリル、Yで置換されてもよいチエニル、Yで置換されてもよいピロリル、Yで置換されてもよいオキサゾリル、Yで置換されてもよいイソキサゾリル、Yで置換されてもよいチアゾリル、Yで置換されてもよいイソチアゾリル、Yで置換されてもよいピラゾリル又はYで置換されてもよいチアジアゾリルである19の酸アミド誘導体又はその塩。21BがYで置換されたフリルである前記20の酸アミド誘導体又はその塩。22BがYで置換されたチエニルである前記20の酸アミド誘導体又はその塩。23BがYで置換されたピラゾリルである前記20の酸アミド誘導体又はその塩。24AがXで置換されてもよいフェニル、Xで置換されてもよいナフチル、Xで置換されてもよいベンゾジオキソラニル又はXで置換されてもよいベンゾジオキサニルであり;BがYで置換されてもよいフリル、Yで置換されてもよいチエニル又はYで置換されてもよいピラゾリルであり;Xがハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ又はハロアルコキシであり;Yはハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ又はハロアルコキシであり;R3が水素原子であり;W1及びW2が共に酸素原子である前記3又は14の酸アミド誘導体又はその塩。25BがYで置換されたフリル、Yで置換されたチエニル又はYで置換されたピラゾリルである前記24の酸アミド誘導体又はその塩。26BがYで置換されたフリル、Yで置換されたチエニル又はYで置換されたピラゾリルであり、Yがハロゲン、アルキル又はハロアルキルである前記24の酸アミド誘導体又はその塩。27AがXで置換されたフェニル又はXで置換されたベンゾジオキソラニルであり、BがYで置換されたフリル、Yで置換されたチエニル又はYで置換されたピラゾリルである前記24の酸アミド誘導体又はその塩。28AがXで置換されたフェニル又はXで置換されたベンゾジオキソラニルであり、BがYで置換されたフリル、Yで置換されたチエニル又はYで置換されたピラゾリルであり、Xがハロゲン、アルキル又はアルコキシであり、Yがハロゲン、アルキル又はハロアルキルである前記24の酸アミド誘導体又はその塩。29AがXで置換されたフェニル又はXで置換されたベンゾジオキソラニルであり、BがYで置換されたフリル、Yで置換されたチエニル又はYで置換されたピラゾリルであり、R1及びR2が各々アルキルであり、Xがハロゲン、アルキル又はアルコキシであり、Yがハロゲン、アルキル又はハロアルキルである前記24の酸アミド誘導体又はその塩。30BがYで置換されたフリルである前記24~29の酸アミド誘導体又はその塩。31BがYで置換されたチエニルである前記24~29の酸アミド誘導体又はその塩。32BがYで置換されたピラゾリルである前記24~29の酸アミド誘導体又はその塩。33前記1~32の酸アミド誘導体又はその塩を有効成分として含有する殺菌性組成物。34前記1~32の酸アミド誘導体又はその塩と、他の殺菌性有効成分化合物とを有効成分として含有する混合殺菌性組成物。35他の殺菌性有効成分化合物が、アニリノピリミジン系化合物、ピリジナミン系化合物、アゾール系化合物、キノキサリン系化合物、ジチオカーバメート系化合物、有機塩素系化合物、イミダゾール系化合物、シアノアセトアミド系化合物、フェニルアミド系化合物、スルフェン酸系化合物、銅系化合物、イソキサゾール系化合物、有機リン系化合物、N-ハロゲノチオアルキル系化合物、ジカルボキシイミド系化合物、ベンズアニリド系化合物、アニリド系化合物、ピペラジン系化合物、ピリジン系化合物、カルビノール系化合物、ピペリジン系化合物、モルフォリン系化合物、有機スズ系化合物、尿素系化合物、シンナミック酸系化合物、フェニルカーバメート系化合物、シアノピロール系化合物、ストロビルリン系化合物、オキサゾリジノン系化合物、チアゾールカルボキサミド系化合物、シリルアミド系化合物、アミノアシッドアミドカーバメート系化合物、イミダゾリジン系化合物、ハイドロキシアニリド系化合物、ベンゼンスルホンアミド系化合物、オキシムエーテル系化合物、フェノキシアミド系化合物、抗生物質、グアニジン系化合物、イソプロチオラン、ピロキロン、ジクロメジン、キノキシフェン、プロパモカルブ塩酸塩、スピロキサミン、クロルピクリン、ダゾメット、メタムナトリウム塩、ニコビフェン、メトラフェノン、MTF753、UBF307、ジクロシメット、プロキンアジド、NC224、KIF7767及びSyngenta446510からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする前記34の混合殺菌性組成物。36他の殺菌性有効成分化合物が、ピリジナミン系化合物、アゾール系化合物、ジチオカーバメート系化合物、有機塩素系化合物、イミダゾール系化合物、銅系化合物、ジカルボキシイミド系化合物、アニリド系化合物、ピペラジン系化合物、ピリジン系化合物、カルビノール系化合物、フェニルカーバメート系化合物、シアノピロール系化合物、ストロビルリン系化合物、ハイドロキシアニリド系化合物、MTF753及びKIF7767からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする前記35の混合殺菌性組成物。37他の殺菌性有効成分化合物が、フルアジナム、トリアジメホン、ビテルタノール、トリフルミゾール、エタコナゾール、プロピコナゾール、ペンコナゾール、フルシラゾール、マイクロブタニル、シプロコナゾール、テブコナゾール、ヘキサコナゾール、ファーコナゾールシス、プロクロラズ、メトコナゾール、エポキシコナゾール、テトラコナゾール、オキスポコナゾールフマル酸塩、シプコナゾール、プロチオコナゾール、トリアジメノール、フルトリアフオール、ジフェノコナゾール、フルキンコナゾール、フェンブコナゾール、ブロムコナゾール、ジニコナゾール、トリシクラゾール、プロベナゾール、シメコナゾール、ペフラゾエート、イプコナゾール、イミベンコナゾール、マンネブ、ジネブ、マンゼブ、ポリカーバメート、メチラム、プロピネブ、フサライド、クロロタロニル、キントゼン、ベノミル、チオファネートメチル、カーベンダジム、シアゾファミド、水酸化第二銅、有機銅、プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン、ボスカリド、ジエトフェンカルブ、フルジオキソニル、フェンピクロニル、アゾキシストロビン、クレソキシムメチル、メトミノフェン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、オリザストロビン、ジモキシストロビン、ピラクロストロビン、フルオキサストロビン、フルアクリピリム、フェンヘキサミド、ポリオキシン、イミノクタジン、MTF753及びKIF7767からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする前記36の混合殺菌性組成物。38前記1~32の酸アミド誘導体又はその塩の有効量を施用して、有害菌類を防除する方法。39前記1~32の酸アミド誘導体又はその塩の有効量を施用して、植物病害を防除する方法。40前記1~32の酸アミド誘導体又はその塩の有効量を施用して、作物を保護する方法。41前記1~32の酸アミド誘導体又はその塩の有効量を施用して、作物の収穫量を向上させる方法。次に本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらに限定されるものではない。まず式I又はIαの酸アミド誘導体又はその塩の合成例を記載する。合成例1N-[3’,4’-ジクロロ-1,1-ジメチルフェナシル]-2-メチル-3-フランカルボキサミド後記化合物No157の合成亜鉛312gに、34ジクロロベンゾイルクロライド100g、2ブロモイソ酪酸エチル931g及び無水エーテル90mlの混合物を、窒素雰囲気下で滴下した後、還流下で15時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を20硫酸、次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=119で精製して、油状の2-3’,4’-ジクロロベンゾイルイソ酪酸エチル87gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm1111524147487637962-3’,4’-ジクロロベンゾイルイソ酪酸エチル87g、硫酸142ml、水142ml及び酢酸40mlの混合物を、還流下で15時間反応させた。反応混合物を氷水中に投入し、酢酸エチルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=119で精製して、油状の34ジクロロイソブチロフェノン647gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm12134675577980234ジクロロイソブチロフェノン647g及びテトラヒドロフラン100mlの混合物に、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド932gを加え、室温で4時間反応させた。反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のαブロモ34ジクロロイソブチロフェノン639gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm20175080820αブロモ34ジクロロイソブチロフェノン639g及びジメチルスルホキシド60mlの混合物に、アジ化ナトリウム28gを加え、50°Cで1時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、酢酸エチルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=19で精製して、油状のαアジド34ジクロロイソブチロフェノン634gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm160753797820αアジド34ジクロロイソブチロフェノン634g、テトラヒドロフラン90ml及び水32mlの混合物に、トリフェニルホスフィン774gを加え、室温で23時間反応させた。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水、次いで塩酸を加え弱酸性とした後エーテルで洗浄した。水層を水酸化ナトリウム水溶液で中和し、エーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、氷冷下で塩化水素ガスを導入し、生じた固体を濾取し乾燥して、αアミノ34ジクロロイソブチロフェノン塩酸塩592gを得た。αアミノ34ジクロロイソブチロフェノン塩酸塩03g及びテトラヒドロフラン10mlの混合物に、トリエチルアミン031gを加え、室温で5時間攪拌し、その混合物を減圧濃縮した。得られた残渣、2メチル3フランカルボン酸0195g及びジクロロメタン20mlの混合物に、氷冷下でN,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド029g及びジクロロメタン10mlの混合物を滴下した後、室温で15時間反応させた。反応混合物を濾過し、濾液をジクロロメタンで希釈して、炭酸カリウム水溶液、次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=19で精製して、融点175~178°Cの目的物008gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm171243628644726744784811合成例2N-[3’-ジフルオロメトキシ-1,1-ジメチルフェナシル]-5-クロロ-1,3-ジメチル-4-ピラゾールカルボキサミド後記化合物No172の合成3ジフルオロメトキシベンゾニトリル409g及び無水エーテル20mlの混合物に、マグネシウム075g、2ブロモプロパン446g及び無水エーテル24mlを用いて調製したグリニヤール試薬を滴下した。滴下終了後、室温で27時間反応させた。反応混合物を氷水中に投入し、6N硫酸を加え弱酸性とした後05時間攪拌した。その混合物をエーテルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=119で精製して、3ジフルオロメトキシイソブチロフェノン204gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm1233526567327487707803ジフルオロメトキシイソブチロフェノン204g及びテトラヒドロフラン30mlの混合物に、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド358gを加え、室温で2時間反応させた。反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のαブロモ3ジフルオロメトキシイソブチロフェノン279gを得た。αブロモ3ジフルオロメトキシイソブチロフェノン279g及びジメチルスルホキシド35mlの混合物に、アジ化ナトリウム124gを加え、50°Cで1時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、酢酸エチルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=19で精製して、油状のαアジド3ジフルオロメトキシイソブチロフェノン221gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm161656734748786798αアジド3ジフルオロメトキシイソブチロフェノン218g、メタノール35ml及び5パラジウム炭素0109gの混合物を、水素雰囲気下、室温で15時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、氷冷下で塩化水素ガスを導入した後減圧濃縮し、αアミノ3ジフルオロメトキシイソブチロフェノン塩酸塩176gを得た。αアミノ3ジフルオロメトキシイソブチロフェノン塩酸塩03g及びテトラヒドロフラン10mlの混合物に、トリエチルアミン033gを加え、そこへ5クロロ13ジメチル4ピラゾールカルボニルクロライド025g及びテトラヒドロフラン5mlの混合物を氷冷下で滴下した。滴下終了後、室温で3時間反応させた。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルn-ヘキサン=14で精製して、融点138~139°Cの目的物023gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm175228380650680723738784786合成例3N-[2-2’-ナフチルカルボニル-2-プロピル]-5-クロロ-1,3-ジメチル-4-ピラゾールカルボキサミド化合物No21の合成2ナフトニトリル30g及び無水エーテル20mlの混合物に、マグネシウム061g、2ブロモプロパン36g及び無水エーテル18mlを用いて調製したグリニヤール試薬を滴下した。滴下終了後、還流下で12時間反応させた。反応混合物を氷水中に投入し、6N硫酸を加え弱酸性とした後05時間攪拌した。その混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=150で精製して、2ナフチルイソプロピルケトン114gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm127373753~765786~7927978038482ナフチルイソプロピルケトン114g及びテトラヒドロフラン25mlの混合物に、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド216gを加え、室温で3時間反応させた。反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のαブロモイソプロピル2ナフチルケトン159gを得た。αブロモイソプロピル2ナフチルケトン159g及びジメチルスルホキシド40mlの混合物に、アジ化ナトリウム075gを加え、50°Cで15時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、酢酸エチルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルn-ヘキサン=19で精製して、油状のαアジドイソプロピル2ナフチルケトン119gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm168754~766786~790798810874αアジドイソプロピル2ナフチルケトン03g、メタノール10ml及び5パラジウム炭素15mgの混合物を、水素雰囲気下、室温で1時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のαアミノイソプロピル2ナフチルケトン026gを得た。αアミノイソプロピル2ナフチルケトン026g及びテトラヒドロフラン10mlの混合物に、トリエチルアミン019gを加え、そこへ5クロロ13ジメチル4ピラゾールカルボニルクロライド024g及びテトラヒドロフラン5mlの混合物を氷冷下で滴下した。滴下終了後、室温で15時間反応させた。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルn-ヘキサン=23で精製して、融点145~147°Cの目的物015gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm187228379705748~758780~790805856合成例4N-[2-[2’,2’,3’,3’-テトラフルオロ-1’,4’-ベンゾジオキサン-6’-イルカルボニル]イソプロピル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド後記化合物No410の合成6-ブロモ-2,2,3,3-テトラフルオロ-1,4-ベンゾジオキサン30g及びジエチルエーテル38mlの混合物に、窒素雰囲気下、-50°Cにてnブチルリチウム157Mnヘキサン溶液73mlを滴下した後、同温度で30分間攪拌した。そこへ、-70°C以下でイソブチルアルデヒド083gを滴下した後、室温まで昇温し、15時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、塩酸にて弱酸性として、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=19で精製して、油状の1-2’,2’,3’,3’-テトラフルオロ-1’,4’-ベンゾジオキサン-6’-イル-2-メチルプロパノール18gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm083096192440690710714クロロクロム酸ピリジニウム208g、酢酸ナトリウム105g及びジクロロメタン20mlの混合物に、1-2’,2’,3’,3’-テトラフルオロ-1’,4’-ベンゾジオキサン-6’-イル-2-メチルプロパノール18g及びジクロロメタン7mlの混合物を加え、室温で2時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=119で精製して、油状の2233テトラフルオロ14ベンゾジオキサン6イルイソプロピルケトン140gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm1233487247787812,2,3,3-テトラフルオロ-1,4-ベンゾジオキサン-6-イルイソプロピルケトン140g及びテトラヒドロフラン197mlの混合物に、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド189gを加え、室温で2時間反応させた。反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のαブロモイソプロピル2,2,3,3-テトラフルオロ-1,4-ベンゾジオキサン-6-イルケトン178gを得た。αブロモイソプロピル2,2,3,3-テトラフルオロ-1,4-ベンゾジオキサン-6-イルケトン178g及びジメチルスルホキシド10mlの混合物に、アジ化ナトリウム065gを加え、50°Cで2時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、ジエチルエーテルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=119で精製して、油状のαアジドイソプロピル2,2,3,3-テトラフルオロ-1,4-ベンゾジオキサン-6-イルケトン15gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm161723801~803αアジドイソプロピル2,2,3,3-テトラフルオロ-1,4-ベンゾジオキサン-6-イルケトン025g、メタノール15ml及び5パラジウム炭素13mgの混合物を、水素雰囲気下、室温で1時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のαアミノイソプロピル2,2,3,3-テトラフルオロ-1,4-ベンゾジオキサン-6-イルケトン023gを得た。αアミノイソプロピル2,2,3,3-テトラフルオロ-1,4-ベンゾジオキサン-6-イルケトン023g及びテトラヒドロフラン10mlの混合物に、トリエチルアミン016gを加え、そこへ3メチル2チオフェンカルボニルクロライド013g及びテトラヒドロフラン5mlの混合物を、氷冷下で滴下した後、室温で3時間反応させた。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルn-ヘキサン=14で精製して、融点120~122°Cの目的物023gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm176239654684724742784796合成例5N-[3’,4’-ジクロロ-1,1-ジメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド後記化合物No120の合成前記合成例1~の方法に準じて得たαアミノ-3,4-ジクロロイソブチロフェノン塩酸塩268mgと、テトラヒドロフラン5mlとの混合物に、トリエチルアミン303mgを加え、そこへ3-メチル-2-チオフェンカルボニルクロライド265mg及びテトラヒドロフラン25mlの混合物を氷冷下で滴下した。滴下終了後、室温で3時間反応させた。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルn-ヘキサン=13で精製して、融点141°Cの目的物180mgを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm172237653685725743786813合成例6N-[4’-メトキシ-2’-メチル-1,1-ジメチルフェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド後記化合物No1160の合成塩化アルミニウム715g及び二硫化炭素20mlの混合物にイソブチリルクロリド57g及び二硫化炭素5mlの混合物を、10°C以下で滴下し05時間反応させた。次いでmクレゾール50g及び二硫化炭素5mlの混合物を5°C以下で滴下した後室温で4時間反応させた。反応混合物を氷水及び塩酸の混合物中に投入し、塩化メチレンで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣にテトラヒドロフラン60ml、水30ml及び水酸化ナトリウム37gを加え室温で15時間反応させた。反応混合物を減圧濃縮した後氷水中に投入し希硫酸で弱酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=19で精製して、固体の4ヒドロキシ2メチルイソブチロフェノン245gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm1152433406707574ヒドロキシ2メチルイソブチロフェノン08g、炭酸カリウム068g及びジメチルホルムアミド15mlの混合物に硫酸ジメチル062g及びジメチルホルムアミド3mlの混合物を加え室温で3時間反応させた。反応混合物を水中投入し酢酸エチルで抽出し水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=19で精製して、油状の4メトキシ2メチルイソブチロフェノン059gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm1132463386727594メトキシ2メチルイソブチロフェノン059g及びテトラヒドロフラン15mlの混合物に、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド116gを加え、室温で25時間反応させた。反応混合物にエーテルを加え不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮して、油状のαブロモ4メトキシ2メチルイソブチロフェノン07gを得た。αブロモ4メトキシ2メチルイソブチロフェノン07g及びジメチルスルホキシド8mlの混合物に、アジ化ナトリウム04gを加え、50°Cで15時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、酢酸エチルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=19で精製して、油状のαアジド4メトキシ2メチルイソブチロフェノン067gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm154233381672675761αアジド4メトキシ2メチルイソブチロフェノン025g、メタノール10ml及び5パラジウム炭素13mgの混合物を、水素雰囲気下、室温で3時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のαアミノ4メトキシ2メチルイソブチロフェノン023gを得た。αアミノ4メトキシ2メチルイソブチロフェノン022g及びテトラヒドロフラン12mlの混合物に、トリエチルアミン013gを加え、そこへ3メチル2チオフェンカルボニルクロライド017g及びテトラヒドロフラン3mlの混合物を氷冷下で滴下した。滴下終了後、室温で2時間反応させた。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルn-ヘキサン=13で精製して、融点99~101°Cの目的物035gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm177238245681671685726749合成例7N-[3’,4’-ジメトキシ-1,1-ジメチルフェナシル-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド後記化合物No1535の合成34ジメトキシベンズアルデヒド50g及びエーテル50mlの混合物に2ブロモプロパン56g、マグネシウム094g及びエーテル30mlより調製したイソプロピルマグネシウムブロミドエーテル溶液を滴下し、還流下に15時間反応させた。反応混合物を氷水中に投入し、希硫酸を加え攪拌した後塩化メチレンで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮して、油状の1-3’,4’-ジメトキシフェニル-2-メチルプロパノール63gを得た。クロロクロム酸ピリジニウム65g、酢酸ナトリウム49g及びジクロロメタン100mlの混合物に、1-3’,4’-ジメトキシフェニル-2-メチルプロパノール628g及びジクロロメタン30mlの混合物を加え、室温で15時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=37で精製して、油状の34ジメトキシイソブチロフェノン39gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm17035038939068575075634ジメトキシイソブチロフェノン10g及びテトラヒドロフラン20mlの混合物に、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド181gを加え、室温で2時間反応させた。反応混合物にエーテルを加え不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮して、油状のαブロモ34ジメトキシイソブチロフェノンを得た。αブロモ34ジメトキシイソブチロフェノン及びジメチルスルホキシド20mlの混合物に、アジ化ナトリウム062gを加え、50°Cで15時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、酢酸エチルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=14で精製して、油状のαアジド34ジメトキシイソブチロフェノン11gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm156391393686762794αアジド34ジメトキシイソブチロフェノン025g、メタノール15ml及び5パラジウム炭素13mgの混合物を、水素雰囲気下、室温で3時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のαアミノ34ジメトキシイソブチロフェノン02gを得た。αアミノ34ジメトキシイソブチロフェノン02g及び12ジクロロエタン12mlの混合物に、トリエチルアミン011gを加え、そこへ3メチル2チオフェンカルボニルクロライド014g及び12ジクロロエタン2mlの混合物を氷冷下で滴下した。滴下終了後、室温で15時間反応させた。反応混合物を塩化メチレンで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルn-ヘキサン=32で精製して、融点138~140°Cの目的物01gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm182244389680685688723763775次に、式I又はIαの酸アミド誘導体又はその塩の代表例を第1表~第9表に具体的に挙げる。これら化合物は前記合成例或は前記した種々の製造方法に基づいて合成することができる。表中、Noは化合物Noを示し、Meはメチル、Etはエチル、Prはイソプロピル、Prはノルマルプロピル、Buはターシャリーブチル、Buはノルマルブチル、Buはセカンダリーブチル、COはカルボニル、CO2はカルボキシルを、Phはフェニルを各々示す。また、表中、Phとあるのは、4位に塩素原子が置換したフェニルを示し、Phとあるのは、3位と4位に各々塩素原子が置換したフェニルを示し、他の同様の記載もこれらに準じる。また、表中で用いた略号D1~D7及びB1~B117は、各々以下の置換基を示す。以下に、本発明組成物の試験例を記載する。各試験において、防除指数は以下の基準に従った。防除指数発病程度:肉眼観察5:病斑又は胞子形成が全く認められない。4:病斑面積、病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の10未満。3:病斑面積、病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の40未満。2:病斑面積、病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の70未満。1:病斑面積、病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の70以上。試験例1直径75cmのポリ鉢でコムギ品種:農林61号を栽培し、15葉期に達した時に式Iの酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後に、うどんこ病菌の分生胞子を振り掛け接種し、20°Cの恒温室内に保った。接種6から7日後に胞子形成面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No113、129、139、154、190、196、1100、1101、1106、1107、1109、1124、1125、1127、1148、1152、1156、1174、1175、1190、1205、1516、34、39、310、312、319、320、419、61又は72について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。試験例2キュウリうどんこ病予防効果試験直径75cmのポリ鉢でキュウリ品種:相模半白を栽培し、15葉期に達した時に式Iの酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後に、うどんこ病菌の分生胞子懸濁液を噴霧接種し、20°Cの恒温室内に保った。接種6から7日後に胞子形成面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No16、19、111、114、115、117~122、127~129、132、133、136、139、141~143、147、153~156、162~164、166、173、177、179、190、193、197~1104、1106~1108、1111、1115、1119、1120、1124、1127、1129、1131、1148、1150、1152、1156、1160、1161、1164、1165、1167、1170、1172、1174、1175、1190、1205、1516、21、214、32、34、36、39、310、312、319、320、323、410又は61~63について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示し、前記化合物No134について試験したところ、200ppmで防除指数4の効果を示した。試験例3稲いもち病予防効果試験直径75cmのポリ鉢で稲品種:日本晴を栽培し、15葉期に達した時に式Iの酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後に、いもち病菌の分生胞子懸濁液を噴霧接種し、24時間20°Cの接種箱に保ち、その後20°Cの恒温室内に保った。接種5から7日後に病斑数を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No16、19、113、114、128、145、147、152、153、155、156、162、163、166、175、177、179、1109、1119、1164、21、22、325又は419について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。試験例4インゲン灰色かび病予防効果試験直径15cmのポリ鉢でインゲン品種:大正金時を栽培し、本葉が十分展開した時に式Iの酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後に、灰色かび病菌胞子懸濁液を接種し、20°Cの恒温室内に保った。接種3日後に病斑長を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No111、115、117、120、122、127、141、143、152、180、199、1102、1112~1115、1117、1118、1120、1125、1131、1136、1160、1162、1169、1172、1176、1180、1182、1186~1189、1273、22、29、213、214又は76について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。試験例5インゲン菌核病予防効果試験直径15cmのポリ鉢でインゲン品種:大正金時を栽培し、本葉が十分展開した時に式Iの酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後に、菌核病菌の菌叢ディスクを接種し、20°Cの恒温室内に保った。接種3日後に病斑長を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No11、14、17、110、116、118、119、121、126、130~133、136、138、142、144、146、157、160、164、169、171、173、175、180、186、193、196~198、1103~1105、1108、1111~1114、1117、1118、1123、1126、1128、1129、1133~1136、1141~1144、1146、1149、1150、1159、1161~1163、1165~1171、1176、1180、1181、1186、1188、1208、1209、1271、1273、1276、1535、21、23、24、210、211、213、32、33、36、323、326、410、62、63、72、74、76~78又は766について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。試験例6直径75cmのポリ鉢でコムギ品種:農林61号を栽培し、15葉期に達した時に式Iの酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後に、ふ枯病菌の分生胞子懸濁液を噴霧接種し、72時間20°Cの接種箱に保ち、その後20°Cの恒温室内に保った。接種5から10日後に病斑数を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No1179又は1189について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。試験例7稲紋枯病予防効果試験直径75cmのポリ鉢で稲品種:日本晴を栽培し、5葉期に達した時に式Iの酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後に、あらかじめ培養した紋枯病菌の菌叢ディスクを葉梢に挟み込み、紐で固定し25°Cの接種箱に保った。接種5から7日後に病斑長を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No1130、1137又は33について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。次に本発明組成物の製剤例を記載するが、配合割合、剤型等は記載例のみに限定されるものではない。製剤例11式Iの化合物20重量部2クレー72重量部3リグニンスルホン酸ソーダ8重量部以上のものを均一に混合して水和剤とする。製剤例21式Iの化合物5重量部2タルク95重量部以上のものを均一に混合して粉剤とする。製剤例31式Iの化合物20重量部2N,N′-ジメチルアセトアミド20重量部3ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル10重量部4キシレン50重量部以上のものを均一に混合、溶解して乳剤とする。製剤例41クレー68重量部2リグニンスルホン酸ソーダ2重量部3ポリオキシエチレンアルキルアリールサルフェート5重量部4微粉シリカ25重量部以上の各成分の混合物と、式Iの化合物とを4:1の重量割合で混合し、水和剤とする。製剤例51式Iの化合物50重量部2オキシレーテッドポリアルキルフェニルフォスフェート-トリエタノールアミン2重量部3シリコーン0.2重量部4水47.8重量部以上のものを均一に混合、粉砕した原液に更に5ポリカルボン酸ナトリウム5重量部6無水硫酸ナトリウム42.8重量部を加え均一に混合、造粒、乾燥して顆粒水和剤とする。製剤例61式Iの化合物5重量部2ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル1重量部3ポリオキシエチレンの燐酸エステル0.1重量部4粒状炭酸カルシウム93.9重量部1~3を予め均一に混合し、適量のアセトンで希釈した後、4に吹付け、アセトンを除去して粒剤とする。製剤例71式Iの化合物2.5重量部2N-メチル-2-ピロリドン2.5重量部3大豆油95.0重量部以上のものを均一に混合、溶解して微量散布剤とする。製剤例81式Iの化合物20重量部2オキシレーテッドポリアルキルフェノールフォスフェート-トリエタノールアミン2重量部3シリコーン0.2重量部4ザンサンガム0.1重量部5エチレングリコール5重量部6水72.7重量部以上のものを均一に混合、粉砕して水性懸濁剤とする。"