"難分解性の塩素系有機化合物について、その構成成分の塩素原子Clを処理対象とし、水溶液中の該処理対象を、OHラジカルOHにて処理する方法であって、該処理対象について、水酸基OHの有無を判定し、有の場合、OHラジカルが該水酸基の水素原子Hを奪って酸化し、自身は水に回帰して系外遊離すると共に、該水酸基の酸素原子Oを不対電子有化させる第1プロセスと、該処理対象について、不対電子の有無を判定し、有の場合、OHラジカルが付加して水酸基が生成される第2プロセスとを、順不同に有してなると共に、最終的に第3プロセスにおいて、まず、OHラジカルが水分子から水素原子を奪って酸化し、自身は水に回帰して系外に遊離すると共に、酸素分子を発生させつつ発生期の水素Heを生成し、該発生期の水素が、該処理対象の残基を還元して、次亜塩素酸HClOが生成されること、を特徴とする塩素系有機化合物の処理方法。請求項1において、該処理対象の処理に要するOHラジカルの必要総モル数が、前記各プロセスでの反応式に基づき算出されること、を特徴とする塩素系有機化合物の処理方法。請求項2において、OHラジカルはフェントン法にて生成され、過酸化水素および鉄イオンの添加量が、OHラジカルの該必要総モル数と該フェントン法に基づき算出されること、を特徴とする塩素系有機化合物の処理方法。請求項3において、まず検出手段により、該塩素系有機化合物の濃度が検出されると共に、入力手段により、該塩素系有機化合物中の該処理対象のモル数が入力され、もって、検出された該濃度および入力された該処理対象のモル数に基づき、制御装置により、該処理対象の処理に要するOHラジカルの該必要総モル数、そして過酸化水素および鉄イオンの該添加量が算出され、そして、該制御装置からの指示に基づき、過酸化水素添加部および鉄イオン添加部により、該処理対象の水溶液に対し、少なくとも該添加量の過酸化水素および鉄イオンが添加されること、を特徴とする塩素系有機化合物の処理方法。請求項4において、該制御装置はコンピュータにて構成されており、そのプログラムに基づき、該処理対象について、前記第1,第2,第3の各プロセス毎に必要なOHラジカルのモル数を、算出するプロセス処理と、該プロセス処理に基づく、該処理対象の処理に要するOHラジカルの該必要総モル数の演算処理と、該演算処理に基づく、過酸化水素および鉄イオンの該添加量の演算処理とが、行われること、を特徴とする塩素系有機化合物の処理方法。請求項4において、該制御装置はコンピュータにて構成されており、そのプログラムに基づき、予め記憶されたデータを検索して、該処理対象の処理に必要なOHラジカルのモル数を抽出するデータ検索処理と、該データ検索処理に基づく、該処理対象の処理に要するOHラジカルの該必要総モル数の演算処理と、該演算処理に基づく、過酸化水素および鉄イオンの該添加量の演算処理とが、行われること、を特徴とする塩素系有機化合物の処理方法。《問題点》ところで、このような従来のフェントン法による処理技術については、次の課題が指摘されていた。OHラジカルは、周知のごとく酸化力の強いラジカルであり、強力な酸化力,分解力を備えており、難分解性の塩素系有機化合物の塩素原子の処理に、効果的である。しかしOHラジカルは、ラジカルで反応性に富んでいるだけに、存在時間が瞬間的で寿命が極めて短い化学種であり、生成効率向上や反応効率向上が重要テーマとなる。これに対し従来のフェントン法は、例えば、過酸化水素が途中で水と酸素に分解され易い等、OHラジカルの連鎖的な生成に支障が生じ易く、OHラジカルの生成効率が悪かった。又、所期の処理以外の2次的反応が起こり易い等、反応効率も悪かった。OHラジカルが、処理対象の塩素系有機化合物の塩素原子にアタックすることなく、その処理に用いられることなく、消滅してしまうロスや、不安定な中間生成物を生成してしまうロス、等々の問題が従来より指摘されていた。《その原因について》従来のフェントン法について指摘されていた上述した問題は、根本的には、次の各点の解明不足,把握不足にあった。すなわち、処理対象の塩素原子について、a.処理プロセスの分析、→そしてb.これに基づく、化学式の解明、→c.これに基づく、処理に要するOHラジカルの必要総モル数の算出、→d.これに基づく、フェントン法での過酸化水素や鉄イオンの添加量の算出、等々の点についての解明不足が挙げられる。又、これらの解明が進展したとしても、これらを手計算で行うことの困難性が、特に指摘されていた。すなわちa.処理対象が処理され尽くすまでの煩雑な処理プロセス、そしてb.その化学式を確実にフォローして、c.OHラジカルの必要総モル数の算出や、d.過酸化水素や鉄イオンの添加量の算出等には、膨大な計算そして多大な時間や労力を要し、ミスも多発していた。そこで、難分解性の塩素系有機化合物の塩素原子について、系統立った処理プロセスの解明、最適処理条件の選定、その計算アルゴリズムの確立、その自動化,制御化,ツール化等が、切望されていた。《本発明について》本発明の塩素系有機化合物の処理方法は、このような実情に鑑み、上記従来技術の課題を解決すべくなされたものである。そして本発明は、第1に、OHラジカルの必要総モル数等の計算アルゴリズムが確立し、第2に、特にその自動化,制御化,ツール化が実現される、塩素系有機化合物の処理方法を提案することを、目的とする。《各請求項について》このような課題を解決する本発明の技術的手段は、特許請求の範囲にも記載したように、次のとおりである。まず、請求項1については、次のとおり。請求項1の塩素系有機化合物の処理方法は、難分解性の塩素系有機化合物について、その構成成分の塩素原子Clを処理対象とし、水溶液中の該処理対象を、OHラジカルOHにて処理する。そしてまず、次の第1と第2プロセスとを、順不同に有してなる。すなわち該処理対象について、水酸基-OHの有無を判定し、有の場合、OHラジカルが該水酸基の水素原子Hを奪って酸化し、自身は水に回帰して系外遊離すると共に、該水酸基の酸素原子Oを不対電子有化させる第1プロセスと、該処理対象について、不対電子の有無を判定し、有の場合、OHラジカルが付加して水酸基が生成される第2プロセスとを、有してなる。そして、最終的に第3プロセスにおいて、まず、OHラジカルが水分子から水素原子を奪って酸化し、自身は水に回帰して系外に遊離すると共に、酸素分子を発生させつつ発生期の水素Heを生成し、該発生期の水素が、該処理対象の残基を還元して、次亜塩素酸HClOが生成されること、を特徴とする。請求項2については、次のとおり。請求項2の塩素系有機化合物の処理方法では、請求項1において、該処理対象の処理に要するOHラジカルの必要総モル数が、前記各プロセスでの反応式に基づき算出されること、を特徴とする。請求項3については、次のとおり。請求項3の塩素系有機化合物の処理方法では、請求項2において、OHラジカルはフェントン法にて生成され、過酸化水素および鉄イオンの添加量が、OHラジカルの該必要総モル数と該フェントン法に基づき算出されること、を特徴とする。請求項4については、次のとおり。請求項4の塩素系有機化合物の処理方法では、請求項3において、まず検出手段により、該塩素系有機化合物の濃度が検出されると共に、入力手段により、該塩素系有機化合物中の該処理対象のモル数が入力される。もって、検出された該濃度および入力された該処理対象のモル数に基づき、制御装置により、該処理対象の処理に要するOHラジカルの該必要総モル数、そして過酸化水素および鉄イオンの該添加量が算出される。そして、該制御装置からの指示に基づき、過酸化水素添加部および鉄イオン添加部により、該処理対象の水溶液に対し、少なくとも該添加量の過酸化水素および鉄イオンが添加されること、を特徴とする。請求項5については、次のとおり。請求項5の塩素系有機化合物の処理方法では、請求項4において、該制御装置はコンピュータにて構成されている。そして、そのプログラムに基づき、該処理対象について、前記第1,第2,第3の各プロセス毎に必要なOHラジカルのモル数を、算出するプロセス処理と、該プロセス処理に基づく、該処理対象の処理に要するOHラジカルの該必要総モル数の演算処理と、該演算処理に基づく、過酸化水素および鉄イオンの該添加量の演算処理とが、行われることを特徴とする。請求項6については、次のとおり。請求項6の塩素系有機化合物の処理方法では、請求項4において、該制御装置はコンピュータにて構成されている。そして、そのプログラムに基づき、予め記憶されたデータを検索して、該処理対象の処理に必要なOHラジカルのモル数を抽出するデータ検索処理と、該データ検索処理に基づく、該処理対象の処理に要するOHラジカルの該必要総モル数の演算処理と、該演算処理に基づく、過酸化水素および鉄イオンの該添加量の演算処理とが、行われることを特徴とする。《作用等について》本発明は、このような手段よりなるので、次のようになる。1難分解性の塩素系有機化合物を含有した被処理水は、フェントン処理槽に供給される。2そして、過酸化水素や鉄イオンが添加される。3もって、OHラジカルが連鎖的に生成される。4OHラジカルは、処理対象の塩素系有機化合物の構成成分である塩素原子を、処理する。5すなわち本発明では、処理対象が次の各プロセスにて処理される。まず、水酸基有の場合の第1プロセスと、不対電子有の場合の第2プロセスとが、OHラジカル関与のもとで順不同に実施される。それから、OHラジカル関与のもと、発生期の水素にて還元する第3プロセスにて、次亜塩素酸が生成される。6このように、パターン化された各プロセスにより、処理プロセスや化学式が具体的に解明,把握される。もって、OHラジカルの必要総モル数や、過酸化水素や鉄イオンの添加量が、容易かつ確実に算出可能となる。7このような計算アルゴリズムは、コンピュータ等の制御装置を利用することにより、自動化,制御化,ツール化される。8すなわち、前記第1,第2,第3の各プロセス処理や、記憶データ検索処理、そして必要総モル数演算処理,添加量演算処理等を、プログラム化してコンピュータにて行うことにより、上述したところが、容易かつ確実に自動化,制御化,ツール化される。9なお、OHラジカルの必要総モル数や、過酸化水素や鉄イオンの添加量は、理論上算出された値より、実際上は多目に算出,設定,準備される。10さてそこで、本発明の塩素系有機化合物の処理方法は、次の効果を発揮する。《第1の効果》第1に、本発明の処理方法により、OHラジカルの必要総モル数等の計算アルゴリズムが、確立する。すなわち、第1,第2,第3の各プロセスを、処理対象の難分解性の塩素系有機化合物の構成成分、つまり塩素原子に対して適用することにより、処理プロセスや化学式が具体的に系統立って解明,把握される。そこで、OHラジカルの必要総モル数や、フェントン法の過酸化水素や鉄イオンの添加量を、容易かつ確実に算出可能となる。このように本発明では、処理用のOHラジカルの必要総モル数等の計算アルゴリズムが確立され、最適処理条件が系統だって選定される。もって、前述したこの種従来例に比し、OHラジカルの生成効率や反応効率が向上する。連鎖的に生成され寿命の短いOHラジカルが、処理対象である塩素原子に対し、効率良くアタックするようになり、処理に用いられずに消滅してしまう消滅ロスは防止され、2次的反応による中間生成物の生成ロスも削減される。これらにより、有効な水質向上技術が確立する。《第2の効果》第2に、特に本発明の処理方法によって、上述した計算アルゴリズムの自動化,制御化,ツール化が、実現される。本発明では、コンピュータ等の制御装置を利用することにより、塩素系有機化合物の塩素原子の処理に関し、OHラジカルの必要総モル数等の計算アルゴリズムが、自動化,制御化,ツール化される。すわなち、濃度検出手段や処理対象入力手段を付設すると共に、プログラムソフトに基づき演算処理等を行うことにより、容易かつ確実に、OHラジカルの必要総モル数,過酸化水素の添加量,鉄イオンの添加量等が、算出される。前述したこの種従来例では、手計算により多大な時間と労力を要し、ミス多発の虞もあったのに比し、このように自動化,制御化,ツール化される意義は大きい。このように、この種従来例に存した課題がすべて解決される等、本発明の発揮する効果は、顕著にして大なるものがある。以下、本発明を実施するための形態について、詳細に説明する。すなわち以下、フェントン法,OHラジカルの生成,処理対象等,本発明の概要,処理データ,処理内容,計算アルゴリズム,制御装置等,制御例その1,制御例その2,作用等,基本部分等の酸化分解,実施例、等の順に説明する。《フェントン法について》本発明の処理方法は、難分解性の塩素系有機化合物について、その構成成分の塩素原子Clを、処理対象1とする。そして、水溶液中の処理対象1を、OHラジカルOHにて処理する。さて、OHラジカルの生成法やOHラジカルによる処理法としては、フェントン法が代表的である。そこでまず、本発明の前提となるフェントン法について、図1を参照して、その概要を説明する。図示したフェントン法の処理装置2は、原水槽3,フェントン処理槽4,後処理槽5を順に備えており、フェントン処理槽4には、過酸化水素槽6,鉄イオン槽7,pH調整手段図示せず等が、付設されている。もって、塩素系有機化合物を溶存,含有した被処理水8が、処理対象1として、原水槽3からフェントン処理槽4へと供給される。フェントン処理槽4は、pH調整手段にて常時弱酸性に調整されている。そして、フェントン処理槽4に供給された被処理水8に対し、反応当初において、過酸化水素槽6から過酸化水素H2O2の水溶液が、電磁弁やポンプを備えた過酸化水素添加部9を介し、フェントン試薬として全量添加される。それから、上述により過酸化水素が添加されたフェントン処理槽4の被処理水8に対し、間欠的に複数サイクル繰り返して、鉄イオン槽7から2価の鉄イオンFe2溶液が、電磁弁やポンプを備えた鉄イオン添加部10を介し、フェントン試薬として分割添加される。すなわち、液中で2価の鉄イオンを生じる物質、例えば硫酸第一鉄7水和物FeSO47H2Oが、このような鉄塩として代表的に使用されるが、その他の無水塩や含水塩、例えば塩化鉄FeCl2やその水和物も使用可能である。なお、鉄イオン槽7から鉄イオン添加部10を介して分割添加される鉄イオンとしては、このように2価の鉄イオンFe2が代表的であるが、これに代え3価の鉄イオンFe3も使用可能である後述する化1や化5の反応式も参照。フェントン処理槽4内では、このように添加された過酸化水素と鉄イオンにてOHラジカルが生成され、もって、被処理水8中の処理対象1、つまり塩素系有機化合物の構成成分である塩素原子が、処理される。すなわち、OHラジカルつまりヒドロキシラジカルOHは、周知のごとく強力な電子奪取力,酸化力,分解力を有すると共に、ラジカルで反応性に富んでおり、反応が激しいだけに存在時間が瞬間的であり、寿命の短い化学種でもある。そして、水相分散したOHラジカルは、被処理水8中に溶存,含有された塩素系有機化合物について、処理対象1の塩素原子を処理する。もって被処理水8は、後処理槽5を経由し、凝集,沈殿,濾過,pH調整された後、外部排水されて放流される。フェントン法については、以上のとおり。《OHラジカルの生成》次に、フェントン法におけるOHラジカルの生成反応について、図1を参照して説明しておく。第1に、フェントン処理槽4内では、まず、添加された過酸化水素が、添加された鉄イオンにて還元されて、OHラジカルが生成される。すなわち、次の化1,化2の反応式に基づき、OHラジカルが生成される。これがフェントン主反応である。なお、化1と化2の反応式を合成すると、化3の反応式となる。第2に、上記第1のようにOHラジカルが生成されると共に、上記化2の過酸化水素の還元反応にて生成された水酸化イオンが、上記化1の2価の鉄イオンの酸化反応にて生成された3価の鉄イオンにて酸化されて、OHラジカルが生成される。すなわち、次の化4,化5の反応式によっても、付随的,副次的,連鎖的に、OHラジカルの生成が可能である。第3に、更に前記化3化1,化2や上記化4,化5の反応式にて生成されたOHラジカルが、被処理水8等の水と反応して、新たなOHラジカルと水とを生成する反応が、次の化6,化7の反応式により、付随的,副次的,連鎖的に繰り返して可能である。第4に、前記化3化1の2価の鉄イオンの酸化反応にて生成される3価の鉄イオンと、過酸化水素とが反応して、新たにOHラジカル等を生成する反応が、次の化8,化9の反応式により、付随的,副次的,連鎖的に繰り返して可能である。なお、化8と化9の反応式を合成すると、化10の反応式となる。すなわち、被処理水8をpH調整手段にてアルカリ化し、もって化8の反応式にて、過酸化水素がプロトンHを遊離し、3価の鉄イオンが2価の鉄イオンに還元されると共に、酸素分子に電子が付加されているスーパーオキシドアニオンO2-が生成される。そして、化9の反応式により、このスーパーオキシドアニオンが、過酸化水素と反応して、OHラジカルを生成する。なお、化8と化9の反応式を合成すると、化10の反応式となる。フェントン法では、このように、主反応や各付随的,副次的,連鎖的反応によって、OHラジカルが生成される。OHラジカルの生成については、以上のとおり。《処理対象1等について》次に、処理対象1等について、説明する。本発明は、難分解性の塩素系有機化合物について、その構成成分である塩素原子Clを、処理対象1とする。難分解性の塩素系有機化合物としては、各種の物質が存在するが、例えば、クロロベンゼンC6H5Cl、2,4-ジクロロフェノールC6H4Cl2O、クロロホルムトリハロメタンCHCl3、トリクロロエチレンC2HCl3、テトラクロロエチレンCCl2=CCl2、等が挙げられる。本発明は、このような難分解性の塩素系有機化合物について、その塩素原子Clを処理対象1とする。そして塩素原子は、R側の末端接続部と切断,分離,遊離し、単独で取扱可能,処理可能である。すなわち、R側の末端接続部との酸化力,結合力は、塩素原子に比し例えばOHラジカルの方が遥かに勝っており、フェントン処理槽4内において、R側と塩素原子側とは容易に切断,分離する。なお本明細書において、Rとは、対象となる塩素系有機化合物について、処理対象1となる塩素原子以外、つまりその基本部分,有機本体部分や残基等を示す。勿論、アルキル基を示す場合も含まれ、高分子よりなる場合もあり、多くの場合は炭素原子C,水素原子H,更には酸素原子O、等々からなる。処理対象1等については、以上のとおり。《本発明の概要について》以下、本発明について説明する。まず、本発明の概要について説明する。フェントン処理槽4図1を参照内では、連鎖的に生成されるOHラジカルにより、水溶液中の難分解性の塩素系有機化合物について、塩素原子が処理対象1とされ、最終的には次亜塩素酸HClOが生成される。そしてこれは、処理対象1である塩素原子が、まず、次の第1プロセス,第2プロセスを、順不同に辿ることにより行われる。第1プロセスについては、次のとおり。第1プロセスでは、処理対象1の塩素原子Clについて、塩素原子に付く水酸基-OHの有無が判定される。そして水酸基有の場合は、OHラジカルOHが水酸基の水素原子Hを奪って酸化し、自身は水H2Oに回帰して系外に遊離すると共に、水酸基の酸素原子Oを、不対電子有化-Oさせる。第2プロセスについては、次のとおり。第2プロセスでは、処理対象1の塩素原子について、不対電子の有無が判定される。そして不対電子有の場合は、OHラジカルがこれに付加し、もって水酸基が生成される。第3プロセスについては、次のとおり。最終プロセスである第3プロセスでは、まず、OHラジカルが水分子から水素原子を奪って酸化する。もって、自身は水に回帰して系外に遊離すると共に、酸素分子を発生させつつ、発生期の水素He-を生成する。そして、生成された発生期の水素が、処理対象1つまり塩素原子の残基を還元し、もって次亜塩素酸HClOが生成される。本発明の概要については、以上のとおり。《処理データ》次に、このような処理データについて、説明する。難分解性の塩素系有機化合物について、処理対象1の塩素原子は、本発明では、前記第1プロセス,第2プロセス,第3プロセスを辿り、最終的に次亜塩素酸が生成される。付随して、水や酸素が副次的に派生するが、これらは系外へと遊離する。表1は、このような処理を行った結果のデータである。以下、このような処理内容について、説明する。《処理内容》まず、処理対象1の塩素原子は、表1のパターン1に示したように、処理される。すなわち、難分解性の塩素系有機化合物において、処理対象1とされた1モルの塩素原子は、前記第1プロセス,第2プロセス,第3プロセスを順不同に辿る。なお、そのR側は既に離脱,分離しているが、その処理等については、後述を参照。もって、計3モルのOHラジカルが関与し消費されることにより、1モルの次亜塩素酸HClOが生成され、1モルの水と0.5モルの酸素分子が派生される。前記第1,第2プロセス,第3プロセスの適用については、次の化11の1~4の反応式として、順次把握される。そして、この化11の1~4の4式を合成,総括すると、表1のパターン1の反応式となる。上記化11の1~4の反応式について、図4も参照して説明する。まず、塩素系有機化合物において、塩素原子は、その原子価がおおむね1価であり、炭化水素の水素原子を置換した構造よりなる。そして塩素原子は、不対電子を有した形で、鎖状炭化水素や環状炭化水素等の有機本体部分側つまりR側に、不対電子を残すことなく、切断,分離して処理対象1となる。まず、反応式1では、前記第2プロセスが適用されて、OHラジカルが付加される図4のステップS1,S2,S3のルーチンを参照。続く反応式2では、前記第1プロセスが適用され、OHラジカルによる酸化と共に、酸素原子が分子化される図4のステップS4,S5のルーチンを参照。もって、共有結合からイオン結合への過渡形態として、単結合で不対電子を持ち、次亜塩素酸イオンClO-に1電子欠けた中間生成物O-Clが、生成される。それから、反応式3,4に進んで、前記第3プロセスが適用される。もって上記中間生成物が、発生期の水素He-にて還元されて、次亜塩素酸HClOそして電離した次亜塩素酸イオンClO-が、生成される。処理内容については、以上のとおり。《計算アルゴリズム》次に、OHラジカル等の計算アルゴリズムについて、説明する。本発明の処理方法では、処理対象1となる塩素原子について、その処理に要するOHラジカルの必要総モル数が、前記第1プロセス,第2プロセス,第3プロセスでの反応式に基づき、算出される。そしてOHラジカルは、代表的にはフェントン法にて生成されるので、過酸化水素および鉄イオンの添加量が、OHラジカルの算出された必要総モル数と、フェントン法の反応式とに基づき、算出される。この計算アルゴリズムについて、更に詳述する。まず、処理対象1の塩素原子について、水酸基有の場合の前記第1プロセスと、不対電子有の場合の前記第2プロセスとが、OHラジカル関与のもとで順不同に実行される。それから次に、OHラジカルが関与して生成される発生期の水素He-による、還元パターンの前記第3プロセスが実行される。これらの各プロセスを辿ることにより、処理対象1の塩素原子は処理され、もって次亜塩素酸HClOが生成されると共に、水や酸素が派生する。その具体的パターンについては、前記表1等を参照。そして、各プロセスの化学反応式を辿ることにより、処理に必要なOHラジカルの理論総モル数が、算出される。すなわち、酸化分解の各反応式において、原料側左側において関与,使用されるOHラジカルのモル数を合算することにより、必要理論総モル数が算出される。OHラジカルのモル数が算出されると、これに基づき、フェントン法による過酸化水素と鉄イオンの必要添加量も算出される。すなわち、必要総モル数のOHラジカルを生成するのに必要な過酸化水素の添加量と、2価の鉄イオン等の鉄イオンの添加量も、フェントン法の反応式に基づき、算出される。フェントン法によるOHラジカル生成の反応式については、前記化1,化2,化3の主反応や、前記化4,化5や、前記化6,化7や、前記化8,化9,化10等の副次的反応を参照。具体的には、主反応に対する副次的反応のウェート付け次第であるが、実際上、過酸化水素の添加量は、1モルの過酸化水素から例えば1.5モルや2モルのOHラジカルが生成される旨、定量的に算出される。鉄イオンの添加量に関しては、実際上は過酸化水素の添加量から係数計算することにより、算出される。なお、実際上の取扱いについては、次のとおり。実際上は、OHラジカルについて、前述により算出された必要理論総モル数を基に、より多目の必要総モル数が定量的に算出され、この多目の必要総モル数を基に、過酸化水素や鉄イオンについて、その添加量が算出される。又は、OHラジカルの必要理論総モル数を基に、過酸化水素や鉄イオンの添加量が、定量的に多目に算出される。すなわち、前述した各化学反応式は、水溶液中に存する他物質による外乱等がなく、原料系から生成系へと正反応が進み、逆反応がない状態を想定したものであるので、実際上は、上述したように多目に算出されることになる。そして、過酸化水素および鉄イオンは、理論的に算出された添加量が、少なくとも添加される。OHラジカルの必要理論総モル数を基に算出された添加量を、最低限として添加される。計算アルゴリズムについては、以上のとおり。《制御装置11等について》次に、制御装置11等について、図1を参照して説明する。上述した計算アルゴリズムに基づく処理方法の自動化,制御化,ツール化には、濃度検出手段12,処理対象入力手段13,制御装置11,過酸化水素添加部9,鉄イオン添加部10、等が使用される。そして、まず濃度検出手段12により、塩素系有機化合物の濃度が検出されると共に、処理対象入力手段13により、この塩素系有機化合物中の処理対象1つまり塩素原子のモル数構成成分当量が、入力される。このように検出された濃度および入力されたモル数に基づき、制御装置11により、処理対象1の処理に要するOHラジカルの必要総モル数、そして過酸化水素および2価の鉄イオンの添加量が、算出される。もって、制御装置11からの指示信号に基づき、過酸化水素添加部9および鉄イオン添加部10により、処理対象1の水溶液つまり被処理水8に対し、その添加量の過酸化水素および2価の鉄イオンが、添加される。これらについて、更に詳述する。濃度検出手段12は、原水槽3に付設されており、例えば、COD-Cr二クロム酸カリウムによる酸素消費量測定装置や、COD-Mn過酸化マンガンカリウムによる酸素消費量測定装置や、TOC全有機体炭素測定装置等が使用される。もって、被処理水8中の塩素系有機化合物の濃度例えばmg/Lが、分析,測定されて、その測定データが制御装置11に入力される。処理対象入力手段13は、塩素系有機化合物について、処理対象1である塩素原子のモル数構成成分当量を、キーボード等を使用して手入力により、又は分析装置を使用して自動入力により、制御装置11に対して入力する。そして制御装置11は、このように入力された濃度データおよびモル数とに基づき、処理対象1の処理に必要なOHラジカルの総モル数を、算出する。OHラジカルの必要総モル数が算出されると、これに基づき、過酸化水素および鉄イオンの添加量が、通常は定量的正数,定量的係数を基準として、算出されるこれらの計算アルゴリズムについては、前述した所を参照。もって制御装置11から、過酸化水素添加部9および鉄イオン添加部10に対し、それぞれの添加量指示信号が、駆動回路15を経由して出力される。そこで、過酸化水素添加部9により、過酸化水素槽6の過酸化水素が、所定添加量だけフェントン処理槽4に添加される。又、鉄イオン添加部10により、鉄イオン槽7の代表的には2価の鉄イオンが、所定添加量だけフェントン処理槽4に分割添加される。制御装置11としては、マイクロコンピュータ14が代表的に使用される。マイクロコンピュータ14は、周知のごとく、図2に示したようにCPU16,RAM17,ROM18,記憶装置19,インプットポート20,アウトプットポート21等を備えている。制御装置11等については、以上のとおり。《制御例その1について》次に、このような制御の具体例その1について、図1~図3を参照しつつ、説明する。この制御例の処理方法において、制御装置11は、マイクロコンピュータ14にて構成されており、順次経時的に、次のプロセス処理,総モル数演算処理,添加量演算処理等を行う。すなわち、処理対象1について前記第1,第2,第3のプロセス処理を行うプログラムに基づき、各プロセス毎に必要なOHラジカルのモル数を算出するプロセス処理と、このプロセス処理に基づく、処理対象1の処理に要するOHラジカルの必要総モル数の演算処理と、過酸化水素および鉄イオンの添加量の演算処理とが、順次経時的に行われる。このような制御例その1について、更に詳述する。制御装置11として使用されるマイクロコンピュータ14は、そのCPU16が、まず、次のように機能することによってプロセス処理を行う。すなわち、マイクロコンピュータ14のCPU16は、プログラムに基づき、図3中に示したように、前記第1プロセスの処理を実行する第1プロセス処理手段22、前記第2プロセスの処理を実行する第2プロセス処理手段23、前期第3プロセスを実行する第3プロセス実行手段24として、順不同に機能する。プログラムは、ROM18に書き込まれている。もって、処理対象入力手段13で入力された処理対象1の1モルやnモルの構成成分を対象に、プロセス処理手段22,23,24が機能する。そして、各プロセスの判断や処理が行われる前記化11の反応式を参照。次に、マイクロコンピュータ14のCPU16は、図3中に示したように、OHラジカルの総モル数演算手段その126として機能し、もって、総モル数演算処理が行われる。この総モル数演算手段その126では、まず、処理対象1の処理に際し、上記第1,第2,第3のプロセスに関与して消費されるOHラジカルのモル数が、合算されるその計算アルゴリズムについては、前述したところを参照。これと共に、この総モル数演算手段その126は、検出手段12で検出された塩素系有機化合物の濃度例えばmg/Lから、処理対象1のモル数を換算する。これらに基づき、処理対象1の処理に必要なOHラジカルの総モル数が、算出される。それから、マイクロコンピュータ14のCPU16は、図3中に示したように、過酸化水素や鉄イオンの添加量演算手段その127として機能し、もって添加量演算処理が行われる。すなわち、この添加量演算手段その127は、上述により得られたOHラジカルの必要総モル数に基づき、まず、過酸化水素の必要モル数を算出するその計算アルゴリズムについては、前述したところを参照。過酸化水素について、必要モル数が算出されると、その密度,分子量,質量を基に、その必要添加量が算出される。なお、2価の鉄イオン等の鉄イオンの必要添加量は、この過酸化水素の必要添加量から係数計算することにより、算出される。もって、算出された添加量の過酸化水素や鉄イオンが、添加される。制御例その1では、このような制御が実施される。《制御例その2について》次に、制御の具体例その2について、図1~図3,表1等を参照して、説明する。この制御例の処理方法において、制御装置11は、マイクロコンピュータ14にて構成されており、次のデータ検索処理,総モル数演算処理,添加量演算処理等を行う。すなわち、そのプログラムに基づき、予め記憶されたデータを検索することにより、処理対象1の処理に必要なOHラジカルのモル数を抽出するデータ検索処理と、このデータ検索処理に基づく、処理対象1の処理に要するOHラジカルの必要総モル数の演算処理と、これに基づく、過酸化水素および鉄イオンの該添加量の演算処理とが、行われる。このような制御例その2について、更に詳述する。制御装置11として使用されるマイクロコンピュータ14のCPU16は、ROM18に書き込まれたプログラムに基づき、図3中に示したように、データ検索処理手段28,総モル数演算手段その229,添加量演算手段その230、等として順次経時的に機能する。これと共に、マイクロコンピュータ14の記憶装置19には、前述した表1のデータが、その他各種の官能基等の酸化分解用のデータと共に、データテーブル31に格納されている。つまり塩素原子について、その処理に必要なOHラジカルのモル数が、記憶されている。そしてまず、データ検索処理手段28は、処理対象入力手段13で入力された処理対象1の塩素原子を、検索キーとして、データテーブル31から読み出されたデータを検索する。もって、検索キーとされた塩素原子の処理に必要なOHラジカルのモル数を、抽出する。次に、総モル数演算手段その229では、まず、濃度検出手段12で検出された塩素系有機化合物の濃度例えばmg/Lから、処理対象1の塩素原子のモル数を換算する。そして、この塩素原子の換算モル数と、上記OHラジカルの抽出モル数とに基づき、処理対象1を処理するのに必要なOHラジカルのモル数が、算出される。後は、添加量演算手段その230が、過酸化水素および鉄イオンの添加量を演算することになるが、添加量演算手段その127等において述べた所に準じるので、その説明は省略する。もって、算出された添加量の過酸化水素および鉄イオンが、添加されることになる。制御例その2では、このような制御が実施される。《作用等》本発明の塩素系有機化合物の処理方法は、以上説明したように構成されている。そこで、以下のようになる。1難分解性の塩素系有機化合物を溶存,含有した被処理水8が、原水槽3からフェントン処理槽4へと、供給される図1を参照。2フェントン処理槽4に供給された被処理水8は、まず反応当初に、過酸化水素添加部9から過酸化水素槽6の過酸化水素溶液が、全量添加される。しかる後、鉄イオン添加部10から鉄イオン槽7の鉄イオン溶液が、複数回に分けて分割添加される。この間、被処理水8は、pH調整手段図示せずにより弱酸性に維持されている図1を参照。3さてそこで、フェントン処理槽4内の被処理水8について、OHラジカルが生成される。すなわち過酸化水素が、添加された例えば2価の鉄イオンにて還元されて、OHラジカルを生成するフェントン主反応前記化1~3の反応式を参照を始め、付随的,副次的,連鎖的反応により、OHラジカルが連鎖的に生成される前記化4~10の反応式を参照。4このように連鎖的に生成されるOHラジカルは、極めて強力な酸化力,分解力を備えている。もって、被処理水8中に溶存,含有されていた塩素系有機化合物中の処理対象1つまり塩素原子は、このOHラジカルにて処理される。被処理水8は、このように溶存,含有していた塩素系有機化合物の塩素原子が、処理対象1として処理されて外部排出される。なお、R側つまり有機化合物の基本部分,有機本体部分や残基等の酸化分解,無機化については、後述を参照。5さて、本発明の処理方法では、処理対象1となる塩素原子が、次の各プロセスを辿ることにより、処理される図4も参照。すなわちまず、水酸基有の場合の第1プロセスと、不対電子有の場合の第2プロセスとが、OHラジカル関与のもとで、順不同に実施される。それからOHラジカル関与のもと、発生期の水素にて還元する第3プロセスにて、次亜塩素酸が生成される。6本発明では、このような第1,第2,第3プロセスを、処理対象1の塩素原子に対して適用することにより、その処理プロセスや化学式が、具体的に解明,把握される前記化11の反応式を参照。もって、処理に要するOHラジカルの必要総モル数や、そのOHラジカルの生成に必要なフェントン法の過酸化水素や鉄イオンの添加量が、容易かつ確実に算出可能となり、その計算アルゴリズムが確立される。7そして本発明は、マイクロコンピュータ14等の制御装置11を利用することにより、このような計算アルゴリズムが、自動化,制御化,ツール化される。すなわち、濃度検出手段12にて、塩素系有機化合物の被処理水8中での濃度を検出すると共に、処理対象入力手段13にて、その塩素原子のモル数構成成分当量を入力するだけで、OHラジカルの必要総モル数と、過酸化水素や鉄イオンの添加量が、容易かつ確実に算出される図1,図2を参照。8例えば、前述した制御例その1のように、前記第1,第2,第3のプロセス処理や、所定の総モル数演算処理,添加量演算処理を、プログラムに基づきマイクロコンピュータ14にて行うことにより、上述したモル数や添加量が算出される図3等を参照。又は例えば、前述した制御例その2のように、予め記憶されたデータの検索処理や、所定の総モル数演算処理,添加量演算処理を、プログラムに基づきマイクロコンピュータ14にて行うことによっても、上述したモル数や添加量が算出される表1,図3等を参照。9なお実際使用量は、反応理論値必要理論値より多目とされる。例えばOHラジカルは、反応理論値として算出された必要理論総モル数を下限値としつつ、より多目の必要総モル数が算出,設定,準備される。過酸化水素や鉄イオンの添加量についても、同様である。本発明の作用等については、以上のとおり。ところで本発明は、塩素系有機化合物について、その構成成分である塩素Clを処理対象1としたが、その処理技術は、他のハロゲン系有機化合物にも適用可能である。すなわち、例えば臭素Brやヨウ素Iを処理対象として、前述した所に準じ第1~第3プロセスを適用することにより、その処理プロセス等が具体的に把握され、その計算アルゴリズムが確立する。《参考:基本部分等の酸化分解について》ここで、塩素系有機化合物において、以上説明した処理対象1以外、つまり塩素原子以外の基本部分等の酸化分解,無機化について、説明しておく。すなわち、前述したところにおいて、Rの符号を付して示した基本部分,有機本体部分や残基等は、多くの場合、炭素原子C,水素原子Hからなるが、酸素原子O,硫黄原子S,窒素原子N,燐原子P、等々がこれに加わることもある。そして、このような基本部分等は、次のように酸化分解され、もって無機化される。これらについて更に詳述する。このような基本部分等は、以下のように第1’プロセス~第3’プロセス、更には第4’プロセスを辿って、酸化分解されて無機化されるが、その際、処理装置2,原水槽3,フェントン処理槽4,後処理槽5,過酸化水素槽6,鉄イオン槽7,被処理水8等は、前述と共通に使用される。更に、過酸化水素添加部9,鉄イオン添加部10,制御装置11,濃度検出手段12,処理対象入力手段13,マイクロコンピュータ14等も、前述と共通に使用される。マイクロコンピュータ14のCPU16は、前記第1,第2,第3プロセス処理手段22,23,24に準じたプロセス処理手段として機能し、第1’,第3’,第4’プロセスを実行する。更に、第4プロセス処理手段25として機能し、第2’プロセスを実行する。総モル数演算手段26,29や、添加量演算手段27,30や、データテーブル31等についても、前述に準じて機能する。結局、難分解性の塩素系有機化合物に関し、処理対象1となる塩素原子の処理と共に、その他の基本部分,有機本体部分や残基の構成成分の酸化分解,無機化が、同時併行的に実施されるようになる。もって塩素系有機化合物は、全体的に処理され、酸化分解,無機化され尽くしてしまう。このような基本部分等を対象とした処理,無機化について、そのポイントを、図5,図6を参照して説明しておく。フェントン処理槽4図1を参照内では、前述により生成されたOHラジカルにより、塩素系有機化合物について、その基本部分,有機本体部分や残基,中間生成物等が、酸化分解されて無機化される。そして、この酸化分解,無機化は、次の第1’プロセス,第2’プロセス,第3’プロセス,第4’プロセスを、順次繰返すことにより行われる。なお、前述した第2プロセスが、ここでは第3’プロセスに対応し、共に第2プロセス処理手段23で処理が実行される。因みに第2’プロセスは、第4プロセス処理手段25で処理が実行される。まず、図6の1図は、第1’プロセスに関する。まず前提として、ステップS101で対象となる塩素系有機化合物のR側、つまりその基本部分,有機本体部分や残基等の化学式、具体的には構成成分を示した構造式が、入力される処理対象入力手段13を参照。そして、この第1’プロセスのルーチンでは、そのステップS102で、入力された対象について、まず水酸基-OHの有無が判定される。そして、水酸基有の場合は、ステップS103,S104へと進み、OHラジカルOHが水酸基の水素原子Hを奪って酸化し、水酸基の酸素原子Oを二重結合化=Oすると共に、ステップS105で自身は水H2Oに回帰して系外に遊離する。そしてステップS106により、水酸基が無となるまで、上述した所が繰返される。なお、水酸基の酸素原子について、図示例のように二重結合化によらず、不対電子有化や、分子化して系外遊離する場合もある。次に、図6の2図は、第2’プロセスに関する。第1’プロセスの次のルーチンである第2’プロセスでは、まず、そのステップS107で、第1’プロセス後の対象について、炭素原子Cや酸素原子Oに付く水素原子Hの有無が、判定される。そして、水素原子有の場合は、ステップS108,S109へと進み、OHラジカルが水素原子を奪って酸化し、ステップS110で、自身は水に回帰して系外に遊離する。なおステップS111により、炭素原子や酸素原子に付く水素原子が無となるまで、上述した所が繰返される。図7の1図は、第3’プロセスに関する。上述した第2’プロセスの次のルーチンである第3’プロセスでは、まず、そのステップS112で、第2’プロセス後の対象について、第2’プロセスにて生成された炭素原子Cの不対電子-の有無や、酸素原子Oの不対電子の有無等、原子の不対電子の有無が判定される。そして不対電子有の場合は、ステップS113へと進んで、不対電子に対し引続くOHラジカルが付加して、水酸基が再生される。そこでフローは、ステップS114を経て、前述した図6の1図の第1’プロセスにリターンして、第1’プロセスを繰返すことになる。図7の2図は、第4’プロセスに関する。上述した第1’,第2’,第3’プロセスで、対象について、水酸基,炭素原子,酸素原子等の水素原子が、奪い尽くされ酸化し尽くされた場合、通常は、対象が所期の通り水,炭酸ガス,酸素等に分解され、無機化されてしまったことになる。これに対し、第1’,第2’,第3’プロセスを経ても、対象が、未だすべて無機化され尽くされていない場合は、次のルーチンである第4’プロセスへと進む。第4’プロセスでは、まずステップS116で、引続くOHラジカルが、水分子から水素原子を奪って酸化する。もって、自身は水に回帰して系外に遊離すると共に、酸素分子を発生させつつ、発生期の水素He-を生成する。そして、生成されたステップS117の発生期の水素が、ステップS115の水素原子が奪い尽くされた対象を、ステップS118で還元,水素化する。そこでフローは、ステップS119を経て終了するが、更に前述した図6の2図の第2’プロセスへと、リターンする場合もある。基本部分等の処理については、以上のとおり。難分解性の塩素系有機化合物の1例であり、染料,溶剤,その他多くの有機化合物の合成原料として使用される、クロロベンゼンC6H5Clについて、前記プロセスを適宜適用して処理し、酸化分解,無機化した所、所期のとおり、次の化12の反応式そして次亜塩素酸が得られた。"