ロケット構造体の構成部品の製造方法において、基礎構造体の表面にNVD法によりニッケルを蒸着してニッケル層を形成するステップを含むことを特徴とする方法。前記ニッケルを蒸着するステップは、セラミック材料製ないしは非セラミック材料製の多孔質の基礎構造体の表面に気体封止性ないしは液体封止性を付与するステップを含むことを特徴とする請求項1記載の方法。前記基礎構造体は、繊維複合材料製基礎構造体である請求項2記載の方法。ロケットエンジンの被冷却または非被冷却とされる基礎構造体をニッケルで作製するステップ、を更に含むことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法。前記ニッケルで作製するステップは、NVD法によりニッケルを蒸着することにより作製することを特徴とする請求項4記載の方法。前記基礎構造体は、開放している冷却流路を有する冷却流路画成構造体であり、ニッケルを蒸着するステップの前に、冷却流路を充填材により充填するステップを含むことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。前記基礎構造体は、開放している冷却流路を有する冷却流路画成構造体であり、ニッケルを蒸着するステップの前に、冷却流路画成構造体に被膜層を形成するステップを含むことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。ニッケルを蒸着するステップの前に、前記基礎構造体のニッケル層を形成する表面に凹凸形状部分またはニッケル層との間で係合可能な微細構造を形成するステップを含むことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。ニッケルを蒸着するステップの前に、前記基礎構造体のニッケル層を形成する表面に、ニッケル層の蒸着材料が入り込むことができる空孔を形成するステップを含むことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。ニッケルを蒸着するステップの前に、前記基礎構造体のニッケル層を形成する表面の少なくとも一部に、ロウ材の層を形成するステップと、ニッケルを蒸着したステップの後に、ロウ付け処理炉の中でロウ付けを行うステップと、を含むことを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載の方法。ニッケルを蒸着するステップの後に、前記基礎構造体とニッケル層との結合体に対して更なる加工を施して構成部品を形成するステップを含むことを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載の方法。ロケット構造体の構成部品の製造方法において、基礎構造体の形状に対応した形状の雌型の表面にNVD法によりニッケルを蒸着してニッケル層を形成するステップと、蒸着したニッケル層に加工を施すことによって構成部品を形成するステップと、を含むことを特徴とする方法。ロケット構造体の構成部品の製造方法において、中空の空間の形状と同一形状のロストコアを適当な材料で作製するステップと、該コア上にNVD法によりニッケルを蒸着してニッケル層を形成するステップと、コアを除去するステップと、蒸着したニッケル層に加工を施すことによって構成部品を形成するステップと、を含むことを特徴とする方法。前記加工は、ニッケル蒸着、化学的処理及び機械的処理のうちの少なくとも1つであることを特徴とする請求項11ないし13のいずれか1項に記載の方法。請求項1ないし14記載の方法によって製造されたロケット構造体の構成部品。本発明の目的は、層成長速度が高速であり、しかも、均一厚さのニッケル層を任意形状の基礎構造体の表面に正確に倣って形成することができるロケット構造体の構成部品の製造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、開放した空孔をニッケル層によって封止することができる、ロケット構造体の構成部品の製造方法を提供することにある。以上の目的は、請求項1に記載の方法により解決される。従属請求項は、本発明の特に有利な実施の形態に係る特徴を記載したものである。即ち、本発明が提供するロケット構造体の構成部品の製造方法は、基礎構造体の表面にNVD法によりニッケルを蒸着するステップを含むことを特徴とするものである。さらに、前記基礎構造体とニッケル層との結合体に対して更なる加工を施して構成部品を形成するステップとを含むことを特徴とするものである。また、基礎構造体の形状に対応した形状の雌型の表面にNVD法によりニッケルを蒸着してニッケル層を形成するステップと、蒸着したニッケル層に加工を施すことによって構成部品を形成するステップと、を含むことを特徴とするものである。または、中空の空間の形状と同一形状のロストコアを適当な材料で作製するステップと、該コア上にNVD法によりニッケルを蒸着してニッケル層を形成するステップと、コアを除去するステップと、蒸着したニッケル層に加工を施すことによって構成部品を形成するステップと、を含むことを特徴とするものである。加工は、ニッケル蒸着、化学的処理及び機械的処理のうちの少なくとも1つとすることができる。また、提供するもう1つのロケット構造体の構成部品の製造方法は、セラミック材料製ないしは非セラミック材料製の多孔質の繊維複合材料製構造体の表面に気体封止性ないしは液体封止性を付与するステップを更に含むことができる。また、提供するもう1つのロケット構造体の構成部品の製造方法は、ロケットエンジンの被冷却ないしは非被冷却とされる基礎構造体をニッケルで作製するステップを更に含むことができる。本発明に係る方法の利点は、層成長速度が高速であり、均一厚さのニッケル層を任意形状の基礎構造体の表面に正確に倣って形成することができ、そして、開放した空孔を駆逐することができるというNVD法の長所を、存分に活用できることにある。本発明に係る方法の特質は、本発明に係る方法によれば従来の技法とは異なり、基礎構造体とその表面に形成したニッケル層との全体をもって構成部品とし、任意には、その構成部品に対して更なる加工処理を施すようにしており、従って、形成したニッケル層をそれ以後基礎構造体から分離しないようにしていることにある。そして、この特徴によって、NVD法をロケット構造体の構成部品の製造という用途に用い得るようにしたものである。推力室の構成部品として、セラミック材料製の構成部品を用いる場合には、それによって構成される中空構造体が、組織構造上の理由から十分な気体封止性を持ち得ないという不都合がある。これは、多くの用途において、許されざることである。実験室段階では、気体封止性を付与するために、構成部品の表面に電解メッキ層やシリコン含有層を被覆するということが行われている。NVD法では、この方法の特性上、表面の微細な空孔が蒸着材料で埋められるため、本発明によれば表面に気体封止性が付与される。また、NVD法による層形成を反復して実施することによって、供用時に作用する荷重に対応した耐力構造部を、外層として形成することも可能である。更に、NVD法によって、補強構造部、接続構造部、それに結合構造部などを形成することも可能であり、その種の構造部としては、例えば、フィン部、板状部、フランジ部、溶接開始箇所を提供する付加部、ボルトやナットの螺着面を提供する座繰部、係止部、ガセット部などがあり、それらは蒸着の過程で形成することもでき、或いはまた、蒸着により形成した厚い蒸着層に更に機械加工を施すことによって形成することもできる。特に、その基礎構造体が、表面組織が不規則で形状精度のばらつきも大きいセラミック材料製の基礎構造体である場合には、その基礎構造体に対して機械加工を施すことなしに、蒸着により形成する金属材料層の結合構造部と、その基礎構造体の表面構造部とを、密接嵌合状態ないしは密着固定嵌合状態で、隙間なく結合させることができ、及び/または、その構成部品の表面に封止性を付与することができる。更に、NVD法によれば、ニッケル製の1つの構成部品と、その他の材料からなる別の1つの構成部品とを、それら構成部品の基礎構造体に対して、アンダーカット形成や表面粗面化を施すことによって、互いに機械構造的に結合することも可能である。そのため、例えば、フライス加工を施して作製した金属材料製の冷却流路画成構造体と、その外周を囲繞する耐力構造部とを、機械構造的に結合するための、機械構造的結合構造部を形成することも可能である。以下に図1~図6を参照しつつ、本発明について更に詳細に説明して行く。図1の左側の図はニッケル層14の結合領域において開放している冷却流路25を有する燃焼室基礎構造体10の断面図であり、右側の図はニッケル層14の結合領域において閉鎖している冷却流路15を有する燃焼室基礎構造体10の断面図である。図2は、冷却流路を備え、その冷却流路に充填材料13が充填されている状態の燃焼室基礎構造体10を示した図であり、ニッケル層を燃焼室基礎構造体に係合状態で結合するための3通りの結合部の具体例を示している。それらは、両面に溝形状のアンダーカット部を形成した凹凸形状部分の具体例16a、冷却流路仕切壁部の端面にニッケル層を固着させるための微細構造を形成した具体例16b、それに、冷却流路仕切壁部の側面にニッケル層を固着させるための微細構造を形成した具体例16cである。図3は、複数の個別の丸パイプ12aまたは複数の個別の角パイプ12bを連接してなる基礎体に、ニッケル層からなる耐力構造層14が被着されたことを示した図である。図4は、冷却流路と流入開口部とを備え、外周面及び前端面にニッケル層17が被着された金属材料製またはセラミック材料製の基礎構造体11を示した図である。この基礎構造体の最終形状は、フィン部及び板状部21を備えた形状であり、それらは、ニッケル層の形成に続いて実施される機械加工により形成されるものである。更に、NVD法による蒸着層の形成により、多孔質の基礎構造体に基体封止性及び液体封止性を付与するための封止性蒸着膜18が形成されている。図5は、基礎構造体、耐力構造層、及びリング形補強部を一体化した、一体型の構成部品19を示した図である。中空の空間を画成するために適当なコア材22を使用してNVD法により蒸着層を形成し、更にそれに続いて、機械加工を施すことによって外部形状20を仕上げたものである。図6は、様々な材料で作製される基礎構造体24とニッケル層23とを、隙間がなく、応力発生がなく、係合状態で結合することのできる結合構造部を示した図である。図示したニッケル層23は、耐力構造部を形成する層、及び/または、結合構造部を形成した後にその形状を仕上げるための、或いは、形成する際に一体化される結合部を形成するための、基礎材料部を形成する層である。本発明を用いて、NVD法を適用することのできる用途としては、以下に列挙する用途がある。1様々な種類の金属材料製の構成部品の表面に耐力構造部を形成する用途。2冷却流路が形成された燃焼室基礎構造体をNVD法により蒸着するニッケルで作製する用途。3ロケットエンジンやガスジェネレータに用いられる燃焼室耐力構造部とその耐力構造部に必要とされる流入側分流構造部及び流出側合流構造部とを一体的な構成部品として作製する用途。4セラミック材料製の構成部品の表面に耐力構造部を形成する用途。5セラミック材料製の構成部品の表面に封止性を付与するための蒸着層を形成する用途。6金属材料製ないしはセラミック材料製の基礎構造体の表面に結合構造部を形成する用途。7基礎構造体とニッケル層とを機械的結合構造部により結合する用途。8ロウ付け接合を併用してNVD法により蒸着層を形成する用途。以上に列挙した用途においては、層成長速度が高速であり、均一厚さのニッケル層を任意形状の基礎構造体の表面に正確に倣って形成することができ、そして、開放した空孔を駆逐することができるというNVD法の長所が、存分に活用される。先ず、本発明に係る方法を用いて、様々な種類の金属材料製及び非金属材料製の構成部品の表面に耐力構造部を形成する場合について説明する。蒸着層を形成する基礎構造体をNVD処理チャンバの中に収容して前処理を施し、この前処理は公知の方法に従って行う。続いてNVD法により、その基礎構造体の表面にニッケルを蒸着し、耐力構造部として用いられる所定のニッケル層を形成する。そして、その基礎構造体とニッケル層との結合体をもって構成部品とし、その構成部品に対して更なる加工を施す。ロケット技術の分野では、非常に大きな熱負荷及び機械的負荷を受ける金属材料製ないし非金属材料製の被冷却構造体を作製する際に、NVD法による蒸着層の形成を利用することができる。これに該当する被冷却構造体としては、例えば、燃焼室、膨張ノズル、それに、被冷却型のガスジェネレータなどがある。また、蒸着層を形成する構造体は、例えば、多数の冷却流路をフライス加工で削設して形成した金属材料製の基礎構造体図1の参照符号10であることもあり、セラミック材料製の繊維複合材料製構造体図4の参照符号11であることもあり、更には、各々がパイプ材から成る個別の部材を連接してなる構造体図3の参照番号12a及び12bであることもある。更に、そのような場合に、蒸着層の形成は、以下に説明する様々な手順によって実施することができる図1及び図2。A蒸着層を形成しようとする側面において開放している冷却流路25を有する冷却流路画成基礎構造体の場合:a冷却流路画成基礎構造体の全体または一部に適当な充填材13を充填した上で、NVD法により蒸着層14を形成する。b冷却流路画成基礎構造体には、蒸着層を形成するのに先立って、例えば電解メッキなどの別の層形成法により被膜層を形成し、しかる後に、NVD法により蒸着層を形成する。c冷却流路画成基礎構造体の蒸着層を形成する表面16a、16b、16cに、物理的または化学的な処理を施して、NVD蒸着層の蒸着材料がその空孔部凹部に入り込んでその空孔部凹部を埋めることができるような凹凸形状部分または係合可能な微細構造を形成し、NVD蒸着層の蒸着材料がその空孔部凹部に入り込むことによって、耐力構造部と基礎構造体とが係合状態で結合するようにする。冷却流路画成基礎構造体には、蒸着層を形成するのに先立って、適当な充填材13を充填しておく。d蒸着層を形成する表面に、適当な化学的な前処理または電解技術を利用した前処理を施すことにより、NVD蒸着層を基礎構造体の表面に分子結合させて形成する。以上のうち、Aa及びAbの蒸着層形成手順では、基礎構造体の表面に分子結合させることが望ましいが、ただしそうすることが必ずしも必要なわけではない。B蒸着層を形成しようとする側面において閉塞している冷却流路を有する冷却流路画成基礎構造体の場合:a蒸着層を形成する表面に、適当な化学的な前処理または電解技術を利用した前処理を施すことにより、NVD蒸着層を基礎構造体の表面に分子結合させて形成する。bNVD蒸着層を基礎構造体の表面に結合しない状態で形成することによって、温度差が生じても熱応力が発生しないようにする。このようにするには、蒸着層を形成する表面に適当な前処理を施すことにより、材料条件や適用条件に応じた適当な厚さの分離層を形成するようにすることが考えられる。c蒸着層を形成する表面に、物理的または化学的な処理を施して、NVD蒸着層の蒸着材料がその空孔部凹部に入り込んでその空孔部凹部を埋めることができるような凹凸形状部分を形成し、NVD蒸着層の蒸着材料がその空孔部凹部に入り込むことによって、耐力構造部と基礎構造体とが係合状態で結合するようにする。d蒸着層を形成する表面に、材料条件や製造条件に応じて、NVD蒸着層の蒸着材料がその中に入り込んでその中を埋めることができるような多数の空孔を形成し、NVD蒸着層の蒸着材料がそれら多数の空孔に入り込むことによって、耐力構造部と基礎構造体とが係合状態で結合するようにする。次に、本発明に係る方法を用いて、冷却流路が一体的に形成された燃焼室基礎構造体をNVD法により蒸着するニッケルで作製する場合について説明する図5。ある種のロケットエンジンでは、また、ある種のロケット燃料を使用する場合には、燃焼室基礎体を、100ニッケルで作製することが望ましいとされている。そして、NVD法は、フィンを備えた燃焼室基礎構造体ライナーを作製するにも適しており、また、冷却流路を備えた一体型の基礎構造体の全体を作製するにも適している。a基礎構造体ライナーを作製する場合フィンを備えた基礎構造体を作製するには、その基礎構造体の形状に対応した形状の雌型の表面に、NVD法によりニッケルを蒸着してニッケル層を形成する。続いて、それに加工を施すことによって、フィンを備えた基礎構造体の壁厚寸法及び完成形状を適当な寸法及び形状とすることができる。b耐力構造部が形成された一体型の基礎構造体を作製する場合冷却媒体を流通させる中空の空間の形状と同一形状のロストコア22を適当な材料で作製した上で、NVD法によりニッケルを蒸着してニッケル層19を形成する。続いて、それに加工を施すことによって、この基礎構造体の壁厚寸法及び完成形状を適当な寸法及び形状とした構成部品20とすることができる。中空の空間は、ニッケル層を形成する工程が完了した後に、適当な手段によってコア材を除去することによって、画成される。次に、本発明に係る方法を用いて、セラミック材料製の構成部品の表面に耐力構造部を形成する場合について説明する図4。NVD法によれば、金属材料の表面にニッケル層を形成するときと同様にして、セラミック材料11の表面にニッケルを蒸着することができる。このとき蒸着されるニッケルは、多孔性の表面18の空孔の中へ入り込むことによって、その表面18に固着し、そして、更に続けて蒸着されるニッケルによって形成されるニッケル層が、その上に形成される構造部17のための基礎となる。次に、本発明に係る方法を用いて、セラミック材料製の構成部品の表面に封止性を付与するための蒸着層を形成する場合について説明する図4。セラミック材料製の構成部品の表面には、その構成部品を作製する過程で多数の空孔が形成されており、NVD法により蒸着されるニッケルは、それら空孔を充填してそれら空孔を塞ぐことになる。これによってその表面18に気体封止性ないし液体封止性が付与される。NVD法により形成したニッケル層は大きな延性を有するため、これは、大きな熱負荷が作用する構成部品に適用する場合に、特に大きな利点をもたらすものである。次に、本発明に係る方法を用いて、金属材料製ないしはセラミック材料製の基礎構造体の表面に結合構造部を形成する場合について説明する図4及び図5。現在、NVD法によってニッケルを蒸着することにより、厚さが35mm以上のニッケル層を形成することが可能である。このように厚いニッケル層を形成できるため、フランジ19などの接続構造部や、流入側分流構造部及び流出側合流構造部20や、それに、リング形補強部21などを、ニッケルを蒸着する過程で形成することもでき、或いはまた、NVD法により形成したニッケル層に更に機械加工を施すことによって形成することもできる。次に、本発明に係る方法を用いて、基礎構造体とニッケル層から成る外殻構造部とを機械的結合構造により結合する場合について説明する図6。以上に説明した様々な方法は一般的に、冷却流路画成構造体とニッケル層から成る外殻構造部とを結合するために利用することができる。この結合は特に、ニッケル層の結合構造部23を、ニッケルとは異なった特性を有する材料で形成された複雑な形状の構造部24に、隙間のない状態で結合するという場合に有用である。ニッケル層を結合する相手側の構造部の材料の具体例としては、例えば、セラミック材料、繊維複合材料、それに金属材料などが挙げられる。次に、本発明に係る方法を用いて、ロウ付け接合を併用してNVD法により蒸着層を形成する場合について説明する図1及び図2。基礎構造体には、NVD法により形成するニッケル層が結合することになる領域の全域またはその一部領域に、電解メッキ法により適当なロウ材の層を形成する。別法として、箔状のロウ材を基礎構造体の表面に貼着するようにしてもよい。続いて、NVD法により蒸着層を形成する。更に続いて、ロウ付け処理炉の中で、ロウ付け工程を実施する。以上に説明した方法は、特に、接合しようとする部品が大型であって、高精度で嵌合させる場合に有利なものである。結合領域の形状をアンダーカットのある複雑な形状に仕上げる場合や、個々の部品の製造プロセスに起因する誤差のばらつきが存在する場合には、この方法を用いることによって、ロウ付け部の隙間寸法を確実に均一にし得るという利点が得られる。基礎構造体10が燃焼室を構成するものである場合には、以上の手順に従って、先ず、外殻構造部であるニッケル層が結合する面である、この基礎構造体10の結合面25に、ロウ材の層を形成する。続いて、フライス加工によって、そこに冷却流路を形成し、更に、形成した冷却流路に適当な充填材料13を充填し、しかる後にNVD法によりニッケルを蒸着してニッケル層14を形成すれば、そのニッケル層は下層との間に隙間なく形成される。このニッケル蒸着工程に続いて、ロウ付け工程を実施することによって、基礎構造体とNVD法により形成されたニッケル層とがロウ付けされる。