"A中空又は多孔質粒子と、B活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物と、C下記A群に示される部分構造から選ばれる少なくとも一つと、カルボン酸基とを含有し、前記活性種の作用によりアルカリ現像液への溶解性が変化する樹脂を含有することを特徴とする感光性組成物。<A群>水酸基但し、カルボキシル基を構成している水酸基を除く、アミノ基、アミド基、ウレア結合、エステル結合但し、樹脂Cの主鎖に直結するエステル結合は除く、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ポリアルキレングリコール鎖前記樹脂Cが、C-1前記A群で示される部分構造から選ばれる少なくとも一つを有する繰り返し単位、C-2ラジカル重合性基又はカチオン重合性基を有する繰り返し単位、C-3カルボン酸基を有する繰り返し単位の少なくとも3つの異なる繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項1記載の感光性組成物。前記樹脂C中の前記A群で示される部分構造が、下記一般式1-1又は1-2で表される部分構造であることを特徴とする請求項1又は2記載の感光性組成物。一般式1-1及び1-2中、R11、R12、R21、及びR22は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を示す。R11、R12、R21、及びR22が複数存在する場合、複数のR11、R12、R21、及びR22はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。X1は-O-又は-NH-を表す。X2は-O-、OCO-、-COO-、-NHCO-又は-CONH-のいずれかを示す。X1及びX2が複数存在する場合、複数のX1及びX2は同一でも異なっていてもよい。Yはアルキル基を示す。n1及びn2は、それぞれ独立に1以上の整数を示す。m1及びm2は、それぞれ独立に2~10の整数を示す。前記樹脂Cが、前記一般式1-1又は1-2で表される部分構造を備えた、下記一般式2-1又は2-2で表される繰り返し単位を有する樹脂であることを特徴とする請求項3に記載の感光性組成物。一般式2-1及び2-2中、R11、R12、R21、R22、X1、X2、Y、m1、m2、n1及びn2は、それぞれ、上記一般式1-1及び1-2におけるR11、R12、R21、R22、X1、X2、Y、m1、m2、n1及びn2と同義である。R13及びR23は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を示す。Z11及びZ21は、それぞれ独立に単結合、アルキレン基、アルキレンオキシ基、アリーレン基又はアリーレンオキシ基を示す。Z12及びZ22は、それぞれ独立に-O-又は-NR4-を示す。ここでR4は水素原子又はアルキル基を示す。Z13及びZ23は、それぞれ独立に単結合又は2価の有機基を示す。前記繰り返し単位C-2が、下記一般式3~5のいずれかで表される繰り返し単位であり、かつ、前記繰り返し単位C-3が、メタアクリル酸由来の繰り返し単位である、請求項2~4のいずれか一項に記載の感光性組成物。一般式3~5中、A21、A22及びA23は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子又は-NR41-を表し、R41は、水素原子又はアルキル基を表す。G21、G22及びG23は、各々独立に、2価の連結基を表す。X21及びZ21は、各々独立に酸素原子、硫黄原子又は-NR42-を表し、R42は水素原子又はアルキル基を表す。Y21は、酸素原子、硫黄原子、フェニレン基又は-NR43-を表し、R43は水素原子又はアルキル基を表す。R21~R40は、各々独立に水素原子又は1価の置換基を表す。活性光線又は放射線の照射により前記化合物Bが発生する活性種がラジカルである、請求項1~5のいずれか一項に記載の感光性組成物。前記樹脂CのC=C価が0.5mmol/g~5.0mmol/gであり、かつ、酸価が10mgKOH/g~200mgKOH/gである、請求項1~6のいずれか一項に記載の感光性組成物。前記樹脂Cの屈折率が1.45以上1.50未満である、請求項1~7のいずれか一項に記載の感光性組成物。前記樹脂Cが、非環式分岐アルキル基を含有する繰り返し単位を有する請求項1~8のいずれか一項に記載の感光性組成物。前記中空又は多孔質粒子Aがシリカ粒子である、請求項1~9のいずれか一項に記載の感光性組成物。更に常圧での沸点が180°C以上である有機溶剤を含む、請求項1~10のいずれか一項に記載の感光性組成物。前記中空又は多孔質粒子Aを、溶剤を除く全固形分中で50質量~95質量含む、請求項1~11のいずれか一項に記載の感光性組成物。更に、D重合性化合物を含有する、請求項1~12のいずれか一項に記載の感光性組成物。請求項1~13のいずれか一項に記載の感光性組成物であるパターン形成材料。請求項1~14のいずれか一項に記載の感光性組成物により形成される感光性膜。請求項15に記載の感光性膜を形成する工程、前記感光性膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液により現像してパターン膜を得る現像工程を含むパターン形成方法。請求項16に記載のパターン形成方法により得られるパターン膜。請求項17に記載のパターン膜である低屈折率膜。請求項18に記載の低屈折率膜を有する光学デバイス。請求項19に記載の光学デバイスを備えた固体撮像素子。本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、適正感度が高く、屈折率が低く、現像後のパターンの欠けや残渣が少なく、高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供することを目的とする。本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、以下の手段により前記課題を解決できることができることがわかった。前記課題を解決するための具体的手段を以下に示す。1A中空又は多孔質粒子と、B活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物と、C下記A群に示される部分構造から選ばれる少なくとも一つと、カルボン酸基とを含有し、前記活性種の作用によりアルカリ現像液への溶解性が変化する樹脂を含有することを特徴とする感光性組成物。<A群>水酸基但し、カルボキシル基を構成している水酸基を除く、アミノ基、アミド基、ウレア結合、エステル結合但し、樹脂Cの主鎖に直結するエステル結合は除く、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ポリアルキレングリコール鎖2前記樹脂Cが、C-1前記A群で示される部分構造から選ばれる少なくとも一つを有する繰り返し単位、C-2ラジカル重合性基又はカチオン重合性基を有する繰り返し単位、C-3カルボン酸基を有する繰り返し単位の少なくとも3つの異なる繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項1記載の感光性組成物。3前記樹脂C中の前記A群で示される部分構造が、下記一般式1-1又は1-2で表される部分構造であることを特徴とする上記1又は2記載の感光性組成物。一般式1-1及び1-2中、R11、R12、R21、及びR22は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を示す。R11、R12、R21、及びR22が複数存在する場合、複数のR11、R12、R21、及びR22はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。X1は-O-又は-NH-を表す。X2は-O-、-OCO-、-COO-、-NHCO-又は-CONH-のいずれかを示す。X1及びX2が複数存在する場合、複数のX1及びX2は同一でも異なっていてもよい。Yはアルキル基を示す。n1及びn2は、それぞれ独立に1以上の整数を示す。m1及びm2は、それぞれ独立に2~10の整数を示す。4前記樹脂Cが、前記一般式1-1又は1-2で表される部分構造を備えた、下記一般式2-1又は2-2で表される繰り返し単位を有する樹脂であることを特徴とする上記3に記載の感光性組成物。一般式2-1及び2-2中、R11、R12、R21、R22、X1、X2、Y、m1、m2、n1及びn2は、それぞれ、上記一般式1-1及び1-2におけるR11、R12、R21、R22、X1、X2、Y、m1、m2、n1及びn2と同義である。R13及びR23は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を示す。Z11及びZ21は、それぞれ独立に単結合、アルキレン基、アルキレンオキシ基、アリーレン基又はアリーレンオキシ基を示す。Z12及びZ22は、それぞれ独立に-O-又は-NR4-を示す。ここでR4は水素原子又はアルキル基を示す。Z13及びZ23は、それぞれ独立に単結合又は2価の有機基を示す。5前記繰り返し単位C-2が、下記一般式3~5のいずれかで表される繰り返し単位であり、かつ、前記繰り返し単位C-3が、メタアクリル酸由来の繰り返し単位である、上記2~4のいずれか一項に記載の感光性組成物。一般式3~5中、A21、A22及びA23は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子又は-NR41-を表し、R41は水素原子又はアルキル基を表す。G21、G22及びG23は、各々独立に、2価の連結基を表す。X21及びZ21は、各々独立に酸素原子、硫黄原子又は-NR42-を表し、R42は水素原子又はアルキル基を表す。Y21は、酸素原子、硫黄原子、フェニレン基又は-NR43-を表し、R43は水素原子又はアルキル基を表す。R21~R40は、各々独立に水素原子又は1価の置換基を表す。6活性光線又は放射線の照射により前記化合物Bが発生する活性種がラジカルである、上記1~5のいずれか一項に記載の感光性組成物。7前記樹脂CのC=C価が0.5mmol/g~5.0mmol/gであり、かつ、酸価が10mgKOH/g~200mgKOH/gである、上記1~6のいずれか一項に記載の感光性組成物。8前記樹脂Cの屈折率が1.45以上1.50未満である、上記1~7のいずれか一項に記載の感光性組成物。9前記樹脂Cが、非環式分岐アルキル基を含有する繰り返し単位を有する上記1~8のいずれか一項に記載の感光性組成物。10前記中空又は多孔質粒子Aがシリカ粒子である、上記1~9のいずれか一項に記載の感光性組成物。11更に常圧での沸点が180°C以上である有機溶剤を含む、上記1~10のいずれか一項に記載の感光性組成物。12前記中空又は多孔質粒子Aを、溶剤を除く全固形分中で50質量~95質量含む、上記1~11のいずれか一項に記載の感光性組成物。13更に、D重合性化合物を含有する、上記1~12のいずれか一項に記載の感光性組成物。14上記1~13のいずれか一項に記載の感光性組成物であるパターン形成材料。15上記1~14のいずれか一項に記載の感光性組成物により形成される感光性膜。16上記15に記載の感光性膜を形成する工程、前記感光性膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液により現像してパターン膜を得る現像工程を含むパターン形成方法。17上記16に記載のパターン形成方法により得られるパターン膜。18上記17に記載のパターン膜である低屈折率膜。19上記18に記載の低屈折率膜を有する光学デバイス。20上記19に記載の光学デバイスを備えた固体撮像素子。本発明によれば、適正感度が高く、屈折率が低く、現像後のパターンの欠けや残渣が少なく、高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供できる。以下、本発明について詳細に記述する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において~を用いて表される数値範囲は、~の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。本明細書中において、メタアクリレートはアクリレート及びメタクリレートを表し、メタアクリルはアクリル及びメタクリルを表し、メタアクリロイルはアクリロイル及びメタクリロイルを表す。本明細書中において、単量体とモノマーとは同義である。本発明における単量体は、オリゴマー及びポリマーと区別され、重量平均分子量が2,000以下の化合物をいう。本明細書中において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性基とは、重合反応に関与する基を言う。なお、本明細書に於ける基原子団の表記に於いて、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、アルキル基とは、置換基を有さないアルキル基無置換アルキル基のみならず、置換基を有するアルキル基置換アルキル基をも包含するものである。また本明細書中における活性光線又は放射線とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線EUV光、X線、電子線等を意味する。また本発明において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本明細書中における露光とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、X線、EUV光などによる露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。本発明の感光性組成物は、A中空又は多孔質粒子と、B活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物と、C下記A群に示される部分構造から選ばれる少なくとも一つと、カルボン酸基とを含有し、前記活性種の作用によりアルカリ現像液への溶解性が変化する樹脂を含有する。<A群>水酸基但し、カルボキシル基を構成している水酸基を除く、アミノ基、アミド基、ウレア結合、エステル結合但し、樹脂Cの主鎖に直結するエステル結合は除く、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ポリアルキレングリコール鎖本発明の感光性組成物を用いることによって、本発明の効果が得られる理由は定かではないが、上記A群の基又は結合が、高い極性を示すため、中空又は多孔質粒子Aと、樹脂CにおけるA群に示される部分構造との間で水素結合等の相互作用が生じ、中空又は多孔質粒子Aの分散性や、中空又は多孔質粒子Aと樹脂Cとの相溶性が向上することに加え、カルボン酸基がアルカリ現像液に対して高い親和性を示すことにより、現像後の残渣低減や、塗布欠陥が低減すると考えられる。更に化合物Bを組み合わせて使用することが、パターンが高適正感度で得られることに大きく寄与しているものと考えられる。本発明に係る感光性組成物は、典型的には、ネガ型の組成物ネガパターンを形成する組成物、又は、ポジ型の組成物ポジパターンを形成する組成物であり、ネガ型の組成物であることが好ましく、光硬化性組成物であることがより好ましい。また、本発明は、上記感光性組成物であるパターン形成材料にも関する。以下、本発明の感光性組成物の各成分について詳述する。[1]A中空又は多孔質粒子中空粒子は、内部に空洞を有する構造のものであり、外郭に包囲された空洞を有する粒子を指し、多孔質粒子は、多数の空洞を有する多孔質の粒子を指す。このような粒子の空隙率は、好ましくは10~80、更に好ましくは20~60、最も好ましくは30~60である。中空又は多孔質粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。中空又は多孔質粒子は、屈折率を低下しやすい観点から、中空粒子であることがより好ましい。例えば、中空粒子をシリカで構成した場合には、中空シリカ粒子は、屈折率の低い空気屈折率=1.0を有しているため、その屈折率は、通常のシリカ屈折率=1.46と比較して著しく低くなる。中空粒子の製造方法としては、例えば特開2001-233611号公報に記載されている。また、多孔質粒子の製造方法は、例えば特開2003-327424号、同2003-335515号、同2003-226516号、同2003-238140号等の各公報に記載されている。また、中空又は多孔質粒子は、平均粒子径が1~200nmであることが好ましく、10~100nmがより好ましい。中空又は多孔質粒子の平均粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒径とする通常、平均粒径を求めるために300個以上の粒子について測定する。中空又は多孔質粒子の屈折率は、1.10~1.40が好ましく、更に好ましくは、1.15~1.35、最も好ましくは1.15~1.30である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、粒子が中空粒子である場合、中空粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。粒子が多孔質粒子である場合、多孔質粒子の屈折率は、アッベ屈折率計アタゴ株製にて測定することができる。中空又は多孔質粒子は、低屈折率化の観点からは、中空又は多孔質の無機粒子が好ましい。無機の低屈折率粒子としては、フッ化マグネシウムやシリカの粒子が挙げられ、低屈折率性、分散安定性、コストの観点から、シリカ粒子であることがより好ましい。これらの無機粒子の一次粒子径は、1~100nmであることが好ましく、1~60nmであることがより好ましい。無機粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形状が最も好ましいが、数珠状、長径と短径の比が1以上の形状、あるいは不定形状であってもよい。無機粒子の比表面積は、10~2000m2/gであることが好ましく、20~1800m2/gであることが更に好ましく、50~1500m2/gであることが最も好ましい。また、樹脂Cにおける上記A群の基との相互作用がより確実に発現されて、現像後の残渣低減や、塗布欠陥がより低減する観点から、無機粒子は、表面に極性基シラノール基等を有することが好ましい。無機粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいは、バインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。すなわち、無機粒子がシリカ粒子であり、カップリング剤がシラン化合物である場合、シラン化合物とシラノール基との反応により、オルガノシリル基モノオルガノシリル、ジオルガノシリル、トリオルガノシリル基がシリカ粒子の表面に結合するものである。表面処理されたシリカ粒子がその表面に有する有機基としては、飽和又は不飽和の炭化水素基好ましくは炭素数1~18のもの、ハロゲン化炭化水素基好ましくは炭素数1~18のものなどが挙げられる。上記カップリング剤は、無機粒子の表面処理剤として低屈折率膜用塗布液の調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられても、塗布液調製時に更に添加剤として添加してもよい。無機粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。シリカ粒子としては市販されているものを好ましく用いることができる。例えば日揮触媒化成株製スルーリアシリーズイソプロパノールIPA分散、4-メチル-2-ペンタノンMIBK分散など、OSCALシリーズ、日産化学株製スノーテックスシリーズIPA分散、エチレングリコール分散、メチルエチルケトンMEK分散、ジメチルアセトアミド分散、MIBK分散、プロピレングリコールモノメチルアセテート分散、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散、メタノール分散、酢酸エチル分散、酢酸ブチル分散、キシレン-n-ブタノール分散、トルエン分散など、日鉄鉱業株製シリナックス、扶桑化学工業株製PLシリーズIPA分散、トルエン分散、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散、メチルエチルケトン分散など、EVONIK社製アエロジルシリーズプロピレングリコールアセテート分散、エチレングリコール分散、MIBK分散など、EVONIK社製AERODISPシリーズなどのシリカ粒子を用いることができる。シリカ粒子を、シリカ粒子と粒子分散剤粒子分散剤の詳細は後述するとを含有する分散液として、感光性組成物に添加する場合、シリカ粒子のシリカ分散液中の含有量は、10質量~50質量が好ましく、15質量~40質量がより好ましく、15質量~30質量が更に好ましい。中空又は多孔質粒子は1種を単独で用いてもよく、あるいは2種以上を併用しても良い。2種以上を併用する場合、例えば、中空粒子と多孔質粒子とを併用しても良い。感光性組成物の全固形分に対する中空又は多孔質粒子の含有量は、30質量~99質量であることが好ましく、50質量~95質量であることがより好ましい。感光性組成物を用いて膜を形成する場合、中空又は多孔質粒子の塗設量は、1mg/m2~100mg/m2が好ましく、より好ましくは5mg/m2~80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2~60mg/m2である。1mg/m2以上であることによって、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果を確実に得ることができるとともに、100mg/m2以下であることによって、膜の表面に微細な凹凸ができて積分反射率が悪化することを抑制できる。[2]B活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物本発明の感光性組成物は、B活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物を含有する。化合物Bを含有することによって感光性が付与された本発明の感光性組成物は、フォトレジスト、カラーレジスト、光学用コーティング材料等に好適に用いることができるようになる。化合物Bとしては、感光性組成物がネガ型である場合は光重合開始剤を、感光性組成物がポジ型である場合は光酸発生剤を、それぞれ、好適に挙げることができる。すなわち、上記活性種としては、感光性組成物がネガ型である場合はラジカル、カチオン種又はアニオン種より好ましくはラジカル又はカチオン種を、感光性組成物がポジ型である場合は酸を、それぞれ、好適に挙げることができる。以下、光重合開始剤及び光酸発生剤について、詳細に説明する。[2-1]光重合開始剤光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができ、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。また、光重合開始剤は、約200~800nm300~450nmがより好ましい。の範囲内に少なくとも約50の分子吸光係数を有する成分を少なくとも1種含有していることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が挙げられ、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。すなわち、活性光線又は放射線の照射により化合物Bが発生する活性種は、ラジカルであることが好ましい。光ラジカル重合開始剤光ラジカル重合開始剤においては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など、ヘキサアリールビイミダゾール化合物類、ロフィンダイマー類、ベンゾイン類、ケタール類、2,3-ジアルキルジオン化合物類、有機過酸化物、チオ化合物、ジスルフィド化合物類、アゾ化合物、ホウ酸塩類、無機錯体、クマリン類、ケトン化合物ベンゾフェノン類、チオキサントン類、チオクロマノン類、アントラキノン類、芳香族オニウム塩、フルオロアミン化合物類、ケトオキシムエーテル、アセトフェノン類アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、オキシム誘導体等のオキシム化合物、などが挙げられる。前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Bull.Chem.Soc.Japan,42、29241969記載の化合物、英国特許1388492号明細書記載の化合物、特開昭53-133428号公報記載の化合物、独国特許3337024号明細書記載の化合物、F.C.SchaeferなどによるJ.Org.Chem.;29、15271964記載の化合物、特開昭62-58241号公報記載の化合物、特開平5-281728号公報記載の化合物、特開平5-34920号公報記載化合物、米国特許第4212976号明細書に記載されている化合物、などが挙げられる。前記米国特許第4212976号明細書に記載されている化合物としては、例えば、オキサジアゾール骨格を有する化合物例えば、2-トリクロロメチル-5-フェニル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-クロロフェニル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-1-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-2-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリブロモメチル-5-フェニル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリブロモメチル-5-2-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール;2-トリクロロメチル-5-スチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-クロルスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-メトキシスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-1-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-n-ブトキシスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリプロモメチル-5-スチリル-1,3,4-オキサジアゾールなどなどが挙げられる。ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ホウ酸塩としては、例えば、特許第2764769号、特開2002-116539号等の各公報、及び、Kunz,MartinらのRadTech’98.ProceedingApril、19~22頁1998年,Chicago等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。例えば、前記特開2002-116539号公報の段落番号[0022]~[0027]記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平6-348011号公報、特開平7-128785号公報、特開平7-140589号公報、特開平7-306527号公報、特開平7-292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられ、具体例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。また、上記以外のラジカル重合開始剤として、アクリジン誘導体例えば、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス9、9’-アクリジニルヘプタンなど、N-フェニルグリシンなど、ポリハロゲン化合物例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトンなど、クマリン類例えば、3-2-ベンゾフロイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-2-ベンゾフロイル-7-1-ピロリジニルクマリン、3-ベンゾイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-2-メトキシベンゾイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-4-ジメチルアミノベンゾイル-7-ジエチルアミノクマリン、3,3’-カルボニルビス5,7-ジ-n-プロポキシクマリン、3,3’-カルボニルビス7-ジエチルアミノクマリン、3-ベンゾイル-7-メトキシクマリン、3-2-フロイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-4-ジエチルアミノシンナモイル-7-ジエチルアミノクマリン、7-メトキシ-3-3-ピリジルカルボニルクマリン、3-ベンゾイル-5,7-ジプロポキシクマリン、7-ベンゾトリアゾール-2-イルクマリン、また、特開平5-19475号公報、特開平7-271028号公報、特開2002-363206号公報、特開2002-363207号公報、特開2002-363208号公報、特開2002-363209号公報などに記載のクマリン化合物など、アシルホスフィンオキサイド類例えば、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチル-ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、LucirinTPOなど、メタロセン類例えば、ビスη5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル-ビス2,6-ジフロロ-3-1H-ピロール-1-イル-フェニルチタニウム、η5-シクロペンタジエニル-η6-クメニル-アイアン1-ヘキサフロロホスフェート1-など、特開昭53-133428号公報、特公昭57-1819号公報、同57-6096号公報、及び米国特許第3615455号明細書に記載された化合物などが挙げられる前記ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、2-メチルベンゾフェノン、3-メチルベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、4-メトキシベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4-ブロモベンゾフェノン、2-カルボキシベンゾフェノン、2-エトキシカルボニルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、4,4’-ビスジアルキルアミノベンゾフェノン類例えば、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジシクロヘキシルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジヒドロキシエチルアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4-ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、2-t-ブチルアントラキノン、2-メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、2-クロル-チオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、フルオレノン、2-ベンジル-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-1-ブタノン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルホリノ-1-プロパノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-4-1-メチルビニルフェニルプロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール、アクリドン、クロロアクリドン、N-メチルアクリドン、N-ブチルアクリドン、N-ブチル-クロロアクリドンなどが挙げられる。ラジカル重合開始剤としては、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アシルホスフィン化合物、及びオキシム化合物からなる群より選択される化合物が更に好ましい。より具体的には、例えば、特開平10-291969号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第4225898号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤、及び、オキシム系開始剤、更にオキシム系開始剤として、特開2001-233842号記載の化合物も用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるIRGACURE-907、IRGACURE-369、及び、IRGACURE-379商品名:いずれもBASFジャパン社製を用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるIRGACURE-819やDAROCUR-TPO商品名:いずれもBASFジャパン社製を用いることができる。ヒドロキシアセトフェノン化合物は、下記式Vで表される化合物であることが好ましい。式V中、RV1は水素原子、アルキル基好ましくは、炭素数1~10のアルキル基、アルコキシ基好ましくは、炭素数1~10のアルコキシ基、又は、2価の有機基を表す。RV1が2価の有機基である場合、2個の光活性なヒドロキシアセトフェノン構造すなわち、一般式Vで表される化合物から置換基RV1を除外した構造がRV1を介して連結してなる2量体を表す。RV2、RV3は互いに独立して、水素原子、又は、アルキル基好ましくは炭素数1~10のアルキル基を表す。また、RV2とRV3は結合して環好ましくは炭素数4~8の環を形成していてもよい。上記RV1としてのアルキル基及びアルコキシ基、RV2及びRV3としてのアルキル基、並びに、RV2とRV3とが結合して形成される環は、更に置換基を有していてもよい。ヒドロキシアセトフェノン化合物としては、例えば、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オンDAROCURE1173、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルブタン-1-オン、1-4-メチルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-イソプロピルフェニル-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-ブチルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-4-オクチルフェニルプロパン-1-オン、1-4-ドデシルフェニル-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-メトキシフェニル-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-メチルチオフェニル-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-クロロフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-ブロモフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-1-4-ヒドロキシフェニル-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-ジメチルアミノフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-カルボエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンIRGACURE184、1-[4-2-ヒドロキシエトキシ-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オンIRGACURE2959などが挙げられる。また、市販のα-ヒドロキシアセトフェノン化合物として、BASFジャパン社からイルガキュア184IRGACURE184、ダロキュア1173DARUCUR1173、イルガキュア127IRGACURE127、イルガキュア2959IRGACURE2959、イルガキュア1800IRGACURE1800、イルガキュア1870IRGACURE1870及びダロキュア4265DAROCURE4265の商品名で入手可能な重合開始剤も使用することができる。アシルホスフィン系開始剤としては、市販品であるIRGACURE-819、IRGACURE-819DW,DAROCUR-TPO商品名:いずれもBASFジャパン社製を用いることができる。また特開2009-134098記載のホスフィン系開始剤も適用できる。本発明で光重合開始剤として好適に用いられるオキシム誘導体等のオキシム化合物としては、例えば、3-ベンゾイロキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイロキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-4-トルエンスルホニルオキシイミノブタン-2-オン、及び2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オンなどが挙げられる。オキシム化合物としては、J.C.S.PerkinII1979年pp.1653-1660、J.C.S.PerkinII1979年pp.156-162、JournalofPhotopolymerScienceandTechnology1995年pp.202-232、特開2000-66385号公報記載の化合物、特開2000-80068号公報、特表2004-534797号公報、特開2006-342166号公報の各公報に記載の化合物等が挙げられる。市販品ではIRGACURE-OXE01BASFジャパン社製、IRGACURE-OXE02BASFジャパン社製も好適に用いられる。更に、特開2007-231000公報、及び、特開2007-322744公報に記載される環状オキシム化合物も好適に用いることができる。最も好ましくは、特開2007-269779公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開2009-191061公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。具体的には、オキシム化合物としては、下記式Iで表される化合物が好ましい。なお、オキシム結合のN-O結合がE体のオキシム化合物であっても、Z体のオキシム化合物であっても、E体とZ体との混合物であってもよい。式I中、R及びBは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表す。前記Rで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。前記一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、1以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基を有していてもよいアルキル基としては、炭素数1~30のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、1-エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、2-エチルヘキシル基、フェナシル基、1-ナフトイルメチル基、2-ナフトイルメチル基、4-メチルスルファニルフェナシル基、4-フェニルスルファニルフェナシル基、4-ジメチルアミノフェナシル基、4-シアノフェナシル基、4-メチルフェナシル基、2-メチルフェナシル基、3-フルオロフェナシル基、3-トリフルオロメチルフェナシル基、及び、3-ニトロフェナシル基が例示できる。置換基を有していてもよいアリール基としては、炭素数6~30のアリール基が好ましく、具体的には、フェニル基、ビフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、9-アンスリル基、9-フェナントリル基、1-ピレニル基、5-ナフタセニル基、1-インデニル基、2-アズレニル基、9-フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、o-、m-及びp-トリル基、キシリル基、o-、m-及びp-クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、並びに、オバレニル基が例示できる。置換基を有していてもよいアシル基としては、炭素数2~20のアシル基が好ましく、具体的には、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、1-ナフトイル基、2-ナフトイル基、4-メチルスルファニルベンゾイル基、4-フェニルスルファニルベンゾイル基、4-ジメチルアミノベンゾイル基、4-ジエチルアミノベンゾイル基、2-クロロベンゾイル基、2-メチルベンゾイル基、2-メトキシベンゾイル基、2-ブトキシベンゾイル基、3-クロロベンゾイル基、3-トリフルオロメチルベンゾイル基、3-シアノベンゾイル基、3-ニトロベンゾイル基、4-フルオロベンゾイル基、4-シアノベンゾイル基、及び、4-メトキシベンゾイル基が例示できる。置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数2~20のアルコキシカルボニル基が好ましく、具体的には、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、及び、トリフルオロメチルオキシカルボニル基が例示できる。置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基として具体的には、フェノキシカルボニル基、1-ナフチルオキシカルボニル基、2-ナフチルオキシカルボニル基、4-メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4-フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4-ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4-ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2-クロロフェニルオキシカルボニル基、2-メチルフェニルオキシカルボニル基、2-メトキシフェニルオキシカルボニル基、2-ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3-クロロフェニルオキシカルボニル基、3-トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3-シアノフェニルオキシカルボニル基、3-ニトロフェニルオキシカルボニル基、4-フルオロフェニルオキシカルボニル基、4-シアノフェニルオキシカルボニル基、及び、4-メトキシフェニルオキシカルボニル基が例示できる。置換基を有していてもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子若しくはリン原子を含む、芳香族又は脂肪族の複素環が好ましい。具体的には、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3-b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H-ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H-インドリル基、インドリル基、1H-インダゾリル基、プリニル基、4H-キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH-カルバゾリル基、カルバゾリル基、β-カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、及び、チオキサントリル基が例示できる。置換基を有していてもよいアルキルチオカルボニル基として具体的には、メチルチオカルボニル基、プロピルチオカルボニル基、ブチルチオカルボニル基、ヘキシルチオカルボニル基、オクチルチオカルボニル基、デシルチオカルボニル基、オクタデシルチオカルボニル基、及び、トリフルオロメチルチオカルボニル基が例示できる。置換基を有していてもよいアリールチオカルボニル基として具体的には、1-ナフチルチオカルボニル基、2-ナフチルチオカルボニル基、4-メチルスルファニルフェニルチオカルボニル基、4-フェニルスルファニルフェニルチオカルボニル基、4-ジメチルアミノフェニルチオカルボニル基、4-ジエチルアミノフェニルチオカルボニル基、2-クロロフェニルチオカルボニル基、2-メチルフェニルチオカルボニル基、2-メトキシフェニルチオカルボニル基、2-ブトキシフェニルチオカルボニル基、3-クロロフェニルチオカルボニル基、3-トリフルオロメチルフェニルチオカルボニル基、3-シアノフェニルチオカルボニル基、3-ニトロフェニルチオカルボニル基、4-フルオロフェニルチオカルボニル基、4-シアノフェニルチオカルボニル基、及び、4-メトキシフェニルチオカルボニル基が挙げられる。前記Bで表される一価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基を表す。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。なかでも、特に好ましくは以下に示す構造である。下記の構造中、Y、X、及び、nは、それぞれ、後述する式IIにおけるY、X、及び、nと同義であり、好ましい例も同様である。前記Aで表される二価の有機基としては、例えば、アルキレン基好ましくは炭素数1~12のもの、シクロヘキシレン基好ましくは炭素数6~12のもの、アルキニレン基好ましくは炭素数2~12のものが挙げられる。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。中でも、Aとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、tert-ブチル基、ドデシル基で置換されたアルキレン基、アルケニル基例えば、ビニル基、アリル基で置換されたアルキレン基、アリール基例えば、フェニル基、p-トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基で置換されたアルキレン基が好ましい。前記Arで表されるアリール基としては、炭素数6~30のアリール基が好ましく、また、置換基を有していてもよい。置換基としては、先に置換基を有していてもよいアリール基の具体例として挙げた置換アリール基に導入された置換基と同様のものが例示できる。なかでも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。式Iにおいては、前記Arと隣接するSとで形成されるSArの構造が、以下に示す構造であることが感度の点で好ましい。なお、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表す。オキシム化合物は、下記式IIで表される化合物であることが好ましい。式II中、R及びXは各々独立に一価の置換基を表し、A及びYは各々独立に二価の有機基を表し、Arはアリール基を表し、nは0~5の整数である。式IIにおけるR、A、及びArは、前記式IにおけるR、A、及びArと同義であり、好ましい例も同様である。前記Xで表される一価の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、複素環基、ハロゲン原子が挙げられる。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。これらの中でも、Xとしては、溶剤溶解性と長波長領域の吸収効率向上の点から、アルキル基が好ましい。また、式2におけるnは、0~5の整数を表し、0~2の整数が好ましい。前記Yで表される二価の有機基としては、以下に示す構造が挙げられる。なお、以下に示される基において、は、前記式IIにおいて、Yと隣接する炭素原子との結合位置を示す。中でも、高感度化の観点から、下記に示す構造が好ましい。更にオキシム化合物は、下記式IIIで表される化合物であることが好ましい。式III中、R及びXは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表し、nは0~5の整数である。式IIIにおけるR、X、A、Ar、及び、nは、前記式IIにおけるR、X、A、Ar、及び、nとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。以下、好適に用いられるオキシム化合物の具体例B-1~B-10を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。オキシム化合物は、350nm~500nmの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、360nm~480nmの波長領域に吸収波長を有するものであることが好ましく、365nm及び405nmの吸光度が高いものが特に好ましい。オキシム化合物は、365nm又は405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、3,000~300,000であることが好ましく、5,000~300,000であることがより好ましく、10000~200,000であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計Varian社製Carry-5spctrophotometerにて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。光カチオン重合開始剤光カチオン重合開始剤としては、例えば、紫外線等のエネルギー線を受けることにより光カチオン重合を開始させる物質を生成する化合物であれば良く、オニウム塩が好ましく、芳香族オニウム塩がより好ましく、アリールスルホニウム塩及びアリールヨウドニウム塩が更に好ましい。オニウム塩の具体例としては、ジフェニルヨードニウム、4-メトキシジフェニルヨードニウム、ビス4-メチルフェニルヨードニウム、ビス4-tert-ブチルフェニルヨードニウム、ビスドデシルフェニルヨードニウム、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル-4-チオフェノキシフェニルスルホニウム、ビス[4-ジフェニルスルホニオ-フェニル]スルフィド、ビス[4-ジ4-2-ヒドロキシエチルフェニルスルホニオ-フェニル]スルフィド、η5-2,4-シクロペンタジエニル[1,2,3,4,5,6-η]-メチルエチル-ベンゼン]-鉄1等が挙げられる。アニオンの具体例としては、テトラフルオロボレートBF4-、ヘキサフルオロホスフェートPF6-、ヘキサフルオロアンチモネートSbF6-、ヘキサフルオロアルセネートAsF6-、ヘキサクロロアンチモネートSbCl6-、過塩素酸イオンClO4-、トリフルオロメタンスルホン酸イオンCF3SO3-、フルオロスルホン酸イオンFSO3-、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸アニオン、トリニトロトルエンスルホン酸アニオンなどが挙げられる。特に、芳香族オニウム塩の具体例としては、特開昭50-151996号公報、特開昭50-158680号公報などに記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50-151997号公報、特開昭52-30899号公報、特開昭56-55420号公報、特開昭55-125105号公報などに記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭50-158698号公報などに記載のVA族芳香族オニウム塩、特開昭56-8428号公報、特開昭56-149402号公報、特開昭57-192429号公報などに記載のオキソスルホキソニウム塩、特開昭49-17040号公報などに記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655号明細書に記載のチオビリリウム塩、鉄/アレン錯体、アルミニウム錯体/光分解ケイ素化合物系開始剤、ハロゲン化水素を光発生するハロゲン化物、o-ニトロベンジルエステル化合物、イミドスルホネート化合物、ビススルホニルジアゾメタン化合物、オキシムスルホネート化合物を挙げることができる。本発明で用いることができる光カチオン重合開始剤としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物を広く採用することができる有機エレクトロニクス材料研究会編、イメージング用有機材料、ぶんしん出版1993年、187~192ページ参照。これらの化合物は、THECHEMICALSOCIETYOFJAPANVoi.71No.11,1998年、有機エレクトロニクス材料研究会編、イメージング用有機材料、ぶんしん出版1993年、に記載の光カチオン重合開始剤と同様、公知の方法にて容易に合成することができる。光カチオン重合開始剤の市販品としては、UVI-6950、UVI-6970、UVI-6974、UVI-6990、UVI-6992、以上、ユニオンカーバイド社製、アデカオプトマーSP-150、SP-151、SP-170、SP-171、SP-172以上、株ADEKA製、Irgacure261、IRGACUREOXE01、IRGACURECGI-1397、CGI-1325、CGI-1380、CGI-1311、CGI-263、CGI-268、CGI-1397、CGI-1325、CGI-1380、CGI-1311以上、BASFジャパン社製、CI-2481、CI-2624、CI-2639、CI-2064以上、日本曹達株製、CD-1010、CD-1011、CD-1012以上、サートマー社製、DTS-102、DTS-103、NAT-103、NDS-103、TPS-103、MDS-103、MPI-103、BBI-103以上、みどり化学株製、PCI-061T、PCI-062T、PCI-020T、PCI-022T以上、日本化薬株製、PHOTOINITIATOR2074ローディア社製、UR-1104、UR-1105、UR-1106、UR-1107、UR-1113、UR-1114、UR-1115、UR-1118、UR-1200、UR-1201、UR-1202、UR-1203、UR-1204、UR-1205、UR-1207、UR-1401、UR-1402、UR-1403、UR-M1010、UR-M1011、UR-M10112、UR-SAIT01、UR-SAIT02、UR-SAIT03、UR-SAIT04、UR-SAIT05、UR-SAIT06、UR-SAIT07、UR-SAIT08、UR-SAIT09、UR-SAIT10、UR-SAIT11、UR-SAIT12、UR-SAIT13、UR-SAIT14、UR-SAIT15、UR-SAIT16、UR-SAIT22、UR-SAIT30以上、URAY社製などを挙げることができる。これらのうち、UVI-6970、UVI-6974、アデカオプトマーSP-170、SP-171、SP-172、CD-1012、MPI-103は、これらを含有してなる組成物により高い光硬化感度を発現させることができる。上記の光カチオン重合開始剤は、1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。光ラジカル重合開始剤又は光カチオン重合開始剤は単独で用いてもよいし、2種以上を自由に組み合わせても良い。[2-2]光酸発生剤光酸発生剤としては、上記光カチオン重合開始剤を用いることができるが、好ましくはオニウム塩の対アニオンがスルホネートの場合である。本発明の感光性組成物の全固形分に対する化合物Bの含有量は、0.1~50質量であることが好ましく、0.5~20質量であることが好ましく、1~5質量であることが更に好ましい。[3]C下記A群に示される部分構造から選ばれる少なくとも一つと、カルボン酸基とを含有し、活性種の作用によりアルカリ現像液への溶解性が変化する樹脂<A群>水酸基但し、カルボキシル基を構成している水酸基を除く、アミノ基、アミド基、ウレア結合、エステル結合但し、樹脂Cの主鎖に直結するエステル結合は除く、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ポリアルキレングリコール鎖ポリエチレングリコール鎖、ポリプロピレングリコール鎖等樹脂Cとしては、感光性組成物がネガ型である場合は、活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少する樹脂を、感光性組成物がポジ型である場合は、活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を、それぞれ、挙げることができる。また活性種は、前述の化合物Bが発生する活性種である。以下、樹脂Cについて、詳細に説明する。樹脂Cのうち最も鎖長の長い主鎖は、炭素原子のみで構成されるか、又は酸素原子若しくは窒素原子で連結された構造を有する。樹脂Cの重合は、反応点からの分類で連鎖重合、逐次重合、リビング重合など、反応機構の分類から付加重合、重縮合、重付加、付加縮合など、更に化学反応種の分類からラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合、開環重合などが知られており、一般公知なものを適用することができる。樹脂Cが共重合体を形成する場合には、ランダム共重合、交互共重合、ブロック共重合、グラフト共重合などを任意に選択することができる。樹脂Cが必須成分として有するカルボン酸基は、樹脂の同一分子中に少なくとも一つ存在すれば良い。該カルボン酸基の導入位置は最も鎖長の長い主鎖の末端であっても良いし、側鎖でも良い。側鎖の場合は、主鎖とカルボン酸基の間に任意の2価の連結基を介しても良い。樹脂Cは下記A群に示される部分構造から選ばれる少なくとも一つと、カルボン酸基とを含有する。導入位置は最も鎖長の長い主鎖中でも良いし、末端であっても良いし、側鎖でも良い。側鎖の場合は、主鎖とA群で示される部分構造の間に任意の2価の連結基を介しても良い。A群は、好ましくは、水酸基但し、カルボキシル基を構成している水酸基を除く、アミノ基、ウレア結合、エステル結合但し、樹脂Cの主鎖に直結するエステル結合は除く、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ポリアルキレングリコール鎖であり、より好ましくは水酸基、ポリエチレングリコール鎖である。上記エステル結合において、樹脂Cの主鎖に直結するエステル結合は除くとは、樹脂Cの主鎖を構成する原子炭素原子などに直結する-OCO-又は-COO-で表されるエステル基は、A群におけるエステル結合から除外することを意味する。C樹脂中、A群で示される部分構造が、下記一般式1-1又は1-2で表される部分構造であることがより好ましい。一般式1-1及び1-2中、R11、R12、R21、及びR22は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を示す。R11、R12、R21、及びR22が複数存在する場合、複数のR11、R12、R21、及びR22はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。X1は-O-又は-NH-を表す。X2は-O-、-OCO-、-COO-、-NHCO-又は-CONH-を示す。X1及びX2が複数存在する場合、複数のX1及びX2は同一でも異なっていてもよい。Yはアルキル基を示す。n1及びn2は、それぞれ独立に1以上の整数を示す。m1及びm2は、それぞれ独立に2~10の整数を示す。R11、R12、R21、及びR22は、それぞれ独立して水素原子又はアルキル基を示す。アルキル基は、炭素数1~10のアルキル基であることが好ましく、最も好ましくはメチル基である。R11及びR12の好ましい組み合わせとしては、R11及びR12が共に水素原子の場合か、R11が水素原子、R12がメチル基の場合である。同様に、R21及びR22の好ましい組み合わせとしては、R21及びR22が共に水素原子の場合か、R21が水素原子、R22がメチル基の場合である。X1は-O-又は-NH-を表し、-O-であることが好ましい。X2は-O-、-OCO-、-COO-、-NHCO-又は-CONH-を表し、-O-、-OCO-又は-COO-であることが好ましい。Yは好ましくは炭素数1~10のアルキル基を示す。Yとしてのアルキル基は更に置換基を有していても良く、そのような置換基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子などを挙げることができる。n1及びn2は、それぞれ独立に1以上の整数を示し、好ましくは1~200、より好ましくは1~30である。m1及びm2は、それぞれ独立に2~10の整数を示し、好ましくは2~5の整数である。一般式1-1又は1-2で表される部分構造は、一般式1-1で表される部分構造であることが好ましく、一般式1-1中の各置換基の最も好ましい組み合わせは、R11,R12が共に水素原子であり、Xが-O-であり、Yが水素原子であり、n1が5以上30以下の整数であり、m1が2の場合である。樹脂C中、一般式1-1又は1-2で示される部分構造の異なる2種以上が組み合わされても良い。樹脂Cは、前記繰り返し単位C-1として、前記一般式1-1又は1-2で表される部分構造を備えた、下記一般式2-1又は2-2で表される繰り返し単位を有する樹脂であることがより好ましい。一般式2-1及び2-2中、R11、R12、R21、R22、X1、X2、Y、m1、m2、n1及びn2は、それぞれ、上記一般式1-1及び1-2におけるR11、R12、R21、R22、X1、X2、Y、m1、m2、n1及びn2と同義である。R13及びR23は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を示す。Z11及びZ21は、それぞれ独立に単結合、アルキレン基、アルキレンオキシ基、アリーレン基又はアリーレンオキシ基を示す。Z12及びZ22は、それぞれ独立に-O-又は-NR4-を示す。ここでR4は水素原子又はアルキル基を示す。Z13及びZ23は、それぞれ独立に単結合又は2価の有機基を示す。R13及びR23は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を示し、より好ましくは水素原子又はメチル基である。Z11及びZ21は、それぞれ独立に単結合、アルキレン基、アルキレンオキシ基、アリーレン基、アリーレンオキシ基を示す。アルキレン基、アルキレンオキシ基におけるアルキレン基としては炭素数1~10が好ましく、ヘテロ原子、カルボニル基によって中断されていてもよいアルキレン基中にヘテロ原子やカルボニル基を含んでいてもよい。アリーレン基、アリーレンオキシ基におけるアリーレン基としては炭素数6~12が好ましい。これらのなかで好ましくは単結合、フェニレン基、フェニレンオキシ基であり、最も好ましくは単結合である。Z12及びZ22は、それぞれ独立に-O-又は-NR4-を示し、好ましくは-O-である。R4は水素原子が好ましい。Z13及びZ23は、それぞれ独立に単結合又は2価の有機基を示す。2価の有機基としては、例えば、アルキレン基好ましくは炭素数1~10のもの、アリーレン基好ましくは炭素数6~12のもの、-R5―NHCOO-、―R5―COO-などが挙げられる。ここでR5はアルキレン基好ましくは炭素数1~5のものである。アルキレン基、アリーレン基は置換基を有していてもよく、アルキレン基、アリーレン基中にヘテロ原子、カルボニル基を含んでいてもよい。Z11,Z12,Z13,Z21,Z22,Z23の最も好ましい組み合わせは、Z11及びZ21が単結合であり、Z12及びZ22が-O-であり、Z13及びZ23が単結合である。一般式1-1又は1-2で表される繰り返し単位として、具体的には下記の繰り返し単位が挙げられる。樹脂Cは、前記化合物Bが活性光線又は放射線の照射により発生する活性種の作用によって、アルカリ現像液に対する溶解性が変化する樹脂である。アルカリ現像液に対する溶解性の変化は、アルカリ現像液に対する溶解性が減少する場合であっても、逆に溶解性が増大する場合であっても良い。アルカリ現像液に対する溶解性が減少する例としては、樹脂C中のラジカル重合性基又はカチオン重合性基が、ラジカル又はカチオン重合によってポリマー架橋が起こり、アルカリ不溶となる硬化反応が挙げられる。アルカリ現像液に対する溶解性が増大する例としては、樹脂C中の脱離基で保護されたアルカリ可溶性基が、光酸発生剤から発生した酸によって脱保護され、アルカリ可溶性基が出現することによる極性変換が挙げられる。高感度及び高解像度の観点から、ラジカル又はカチオン重合を利用することが好ましい。即ち、樹脂Cはラジカル重合性基又はカチオン重合性基を有することが好ましく、活性光線又は放射線の照射によりB成分の化合物より発生したラジカル又はカチオンによって、樹脂Cのラジカル又はカチオン重合反応が進行し、樹脂Cのアルカリ現像液に対する溶解性が減少することが好ましい。このように樹脂Cは、1.上記A群で示される部分構造と、2.ラジカル重合性基又はカチオン重合性基と、3.カルボン酸基の3種の基を有することが好ましい。これら3つの繰り返し単位は、後述するC-1~C-3の3種の異なる繰り返し単位に含まれていても良いし、3種の基のうち2つ以上が同一の繰り返し単位に含まれていてもよい。更に樹脂Cは、C-1上記A群で示される部分構造から選ばれる少なくとも一つを有する繰り返し単位C-2ラジカル重合性基又はカチオン重合性基を有する繰り返し単位、C-3カルボン酸基を有する繰り返し単位の少なくとも3つの異なる繰り返し単位を含有することが、高感度硬化性が良好で、残渣が少ないアルカリ現像性をより確実に両立できるために好ましい。これら繰り返し単位は、C-1~C-3に該当する機能を有する単量体を、上記一般公知な重合方法で高分子化しても良いし、樹脂の反応性基に対して、高分子反応を利用して該当する機能を付与させても良い。それら組み合わせによって合成されても良い。上記3つの異なる繰り返し単位以外にそのほかの繰り返し単位を有していても良いが、構造は特に限定されない。全樹脂の繰り返し単位100モル中、C-1は1モル~50モル、C-2は10モル~90モル、C-3は1モル~50モルの範囲内であることが好ましい。C-1は10モル~30モル、C-2は10モル~30モル、C-3は10モル~30モルの範囲内であることが最も好ましい。前記繰り返し単位C-1は、樹脂Cの中空又は多孔質粒子との相互作用によって、中空又は多孔質粒子Aと樹脂Cとの相溶性向上に寄与する。繰り返し単位C-1の樹脂Cにおける含有量は、樹脂C中の全繰り返し単位に対し、1モル~90モルであることが好ましく、5モル~70モルがより好ましく、10モル~40モルであることが最も好ましい。ラジカル又はカチオン重合性繰り返し単位C-2は、ラジカル又はカチオン種の作用によりポリマー分子間に架橋が生じ、ゲル化することでアルカリ現像液に対する溶解性の減少に寄与する。ラジカル重合性繰り返し単位としては、例えば、カルボキシル基含有樹脂に、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のグリシジル基含有不飽和化合物や、アリルアルコール、2-ヒドロキシアクリレート、2-ヒドロキシメタクリレート等の不飽和アルコールを反応させた樹脂、水酸基を有するカルボキシル基含有樹脂に、遊離イソシアネート基含有不飽和化合物、不飽和酸無水物を反応させた樹脂、エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との付加反応物に、多塩基酸無水物を反応させた樹脂、共役ジエン共重合体と不飽和ジカルボン酸無水物との付加反応物に、水酸基含有重合性モノマーを反応させた樹脂、塩基処理によって脱離反応が生起され不飽和基を与える特定官能基を有する樹脂を合成し、該樹脂に塩基処理を施すことで不飽和基を生成させた樹脂等が代表的な樹脂として挙げられる。中でも、カルボキシル基含有樹脂に、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のグリシジル基含有不飽和化合物を反応させた樹脂、水酸基含有メタアクリル酸エステル系化合物を重合させた樹脂に、メタアクリル酸-2-イソシアネートエチル等の遊離イソシアネート基を有するメタアクリル酸エステルを反応させた樹脂、後述の一般式3~5で表される構造単位を有する樹脂、塩基処理によって脱離反応が生起され不飽和基を与える特定官能基を有する樹脂を合成し、該樹脂に塩基処理を施すことで不飽和基を生成させた樹脂等がより好ましい。カチオン重合性繰り返し単位として、カチオン重合性基を側鎖に有してもよく、例えば、エポキシ基、オキセタン基等を側鎖に含有するポリマー等も有用である。樹脂Cにエポキシ基を導入するには、例えば、エポキシ基を有するモノマー以下エポキシ基を導入するための単量体と称することもある。を、単量体成分として重合すればよい。前記エポキシ基を有するモノマーとしては、例えば、グリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート、o-又はm-、又はp-ビニルベンジルグリシジルエーテル等が挙げられる。これらエポキシ基を導入するための単量体は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。樹脂Cを得る際の単量体成分が前記エポキシ基を導入するための単量体をも含む場合、その含有割合は、特に制限されないが、全単量体成分中5~70質量、好ましくは10~60質量であるのがよい。ラジカル又はカチオン重合性繰り返し単位IIは、具体的には下記一般式3~5のいずれかで表されることが好ましい。前記一般式3~5中、A21、A22及びA23は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子又は-NR41-を表し、R41は水素原子又はアルキル基を表す。G21、G22及びG23は、各々独立に、2価の連結基を表す。X21及びZ21は、各々独立に酸素原子、硫黄原子又は-NR42-を表し、R42は水素原子又はアルキル基を表す。Y21は、酸素原子、硫黄原子、フェニレン基又は-NR43-を表し、R43は水素原子又はアルキル基を表す。R21~R40は、各々独立に水素原子又は1価の置換基を表す。前記一般式3において、R21~R23は各々独立に、水素原子又は1価の置換基を表す。R21~R23で表される1価の置換基としては、置換基を有していてもよいアルキル基好ましくは炭素数1~10、より好ましくは炭素数1~4などが挙げられ、アルキル基が有していてもよい置換基としては、水酸基、ハロゲン原子等が挙げられる。中でも、R21及びR22は水素原子であることが好ましく、R23は水素原子又はメチル基であることが好ましい。R24~R26は各々独立に、水素原子又は1価の置換基を表す。R24としては、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基好ましくは炭素数1~10、より好ましくは炭素数1~4などが挙げられ、アルキル基が有していてもよい置換基としては、水酸基、ハロゲン原子等が挙げられる。中でも、R24は、水素原子、メチル基又はエチル基であることが好ましい。また、R25及びR26は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基好ましくは炭素数2~15、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基好ましくは炭素数1~20、置換基を有していてもよいアリール基好ましくは炭素数6~20、置換基を有していてもよいアルコキシ基好ましくは炭素数1~15、置換基を有していてもよいアリールオキシ基好ましくは炭素数6~20、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基好ましくは炭素数1~20、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基好ましくは炭素数6~20などが挙げられ、中でも、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。ここで、導入しうる置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等が挙げられる。A21は、酸素原子、硫黄原子、又は、-NR41-を表し、X21は、酸素原子、硫黄原子、又は-NR42-を表す。ここで、R41及びR42は、それぞれ独立して水素原子又はアルキル基好ましくは炭素数1~10、より好ましくは炭素数1~4を表す。A21及びX21は、酸素原子であることが好ましい。G21は、2価の連結基を表す。G21で表される2価の連結基としては、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよい2価の芳香族基、-OCO-、-COO―、-NR44-及びこれらを組み合わせてなる連結基総炭素数が好ましくは1~20であり、総炭素数1~15であることがより好ましく、総炭素数2~10であることが更に好ましいが好ましい。R44は、水素原子又はアルキル基好ましくは炭素数1~10、より好ましくは炭素数1~4を表す。G21としてより好ましくは、炭素数1~20の置換基を有していてもよいアルキレン基、炭素数3~20の置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、炭素数6~20の置換基を有していてもよい2価の芳香族基、-OCO-、-COO―、-NR44-及びこれらを組み合わせてなる連結基が挙げられ、中でも、置換基を有していてもよい炭素数1~10の直鎖状或いは分岐アルキレン基、炭素数3~10の置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、炭素数6~12の置換基を有していてもよい2価の芳香族基、-OCO-、-COO―、-NR44-及びこれらを組み合わせてなる連結基が強度、現像性等の性能上、好ましい。ここで、G21における置換基としては、水素原子がヘテロ原子に結合した基の中でも水酸基を除くもの、例えば、アミノ基、チオール基、カルボキシル基を含まないものが好ましく、水酸基が好ましい。前記一般式4において、R27~R29は各々独立に、水素原子又は1価の置換基を表す。R27~R29の好ましい範囲は、前述のR21~R23の好ましい範囲と同様である。R30~R32は、各々独立に、水素原子又は1価の置換基を表す。R30~R32としては、具体的には例えば、水素原子、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基好ましくは炭素数2~20、アルコキシカルボニル基好ましくは炭素数2~15、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基好ましくは炭素数1~20、置換基を有していてもよいアリール基好ましくは炭素数6~20、置換基を有していてもよいアルコキシ基好ましくは炭素数1~15、置換基を有していてもよいアリールオキシ基好ましくは炭素数6~20、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基好ましくは炭素数1~20、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基好ましくは炭素数6~20などが挙げられ、中でも、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基が好ましい。ここで、導入しうる置換基としては、一般式3においてR21~R23に導入しうる置換基として挙げたものが同様に例示される。A22は、それぞれ独立して、酸素原子、硫黄原子、又は、-NR41-を表す。ここで、R41は、水素原子又はアルキル基好ましくは炭素数1~10、より好ましくは炭素数1~4を表す。G22は、2価の連結基を表す。G22で表される2価の連結基の具体例及び好ましい範囲は、前述のG21で表される2価の連結基の具体例及び好ましい範囲と同様である。Y21は、酸素原子、硫黄原子、-NR43-又はフェニレン基を表す。ここで、R43は、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基好ましくは炭素数1~10、より好ましくは炭素数1~4を表す。Y21で表されるフェニレン基は置換基を有していてもよく、置換基としてはアルキル基、ハロゲン原子などが挙げられる。前記一般式5において、R33~R35は各々独立に、水素原子又は1価の置換基を表す。R33~R35の好ましい範囲は、前述のR21~R23の好ましい範囲と同様である。R36~R40は、各々独立に、水素原子又は1価の置換基を表す。R36~R40の具体例及び好ましい範囲は、R30~R32の具体例及び好ましい範囲と同様である。A23は、酸素原子、硫黄原子、又は-NR41-を表し、Z21は、酸素原子、硫黄原子、又は-NR42-を表す。R41及びR42としては、一般式3におけるR41及びR42と同様のものが挙げられる。G23は、2価の連結基を表す。G23で表される2価の連結基の具体例及び好ましい範囲は、前述のG22で表される2価の連結基の具体例及び好ましい範囲と同様である。前記一般式3~5で表される繰り返し単位を有するポリマーの合成は、特開2003-262958号公報の段落番号[0027]~[0057]に記載の合成方法に基づいて行なうことができる。この中でも、同公報中の合成方法1を用いることが好ましい。ラジカル又はカチオン重合性繰り返し単位C-2の樹脂Cにおける含有量は、高感度化や硬化したパターンの欠けを抑制するために、樹脂C中の全繰り返し単位に対し、1モル~70モルであることが好ましく、5モル~60モルがより好ましく、10モル~60モルであることが最も好ましい。カルボン酸基を有する繰り返し単位C-3としては、従来公知のものを使用することができる。樹脂Cにカルボン酸基を導入するには、例えば、カルボン酸基を有するモノマー及び/又は重合後にカルボン酸基を付与しうるモノマー以下カルボン酸基を導入するための単量体と称することもある。を、単量体成分として重合するようにすればよい。なお、重合後にカルボン酸基を付与しうるモノマーを単量体成分としてカルボン酸基を導入する場合には、重合後に例えば後述するようなカルボン酸基を付与するための処理が必要となる。前記カルボン酸基を有するモノマーとしては、例えば、メタアクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマー、無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー等が挙げられるが、これらの中でも特に、メタアクリル酸が好ましい。前記重合後にカルボン酸基を付与しうるモノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート等の水酸基を有するモノマー、グリシジルメタアクリレート等のエポキシ基を有するモノマー、2-イソシアナートエチルメタアクリレート等のイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。これらカルボン酸基を導入するための単量体は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。重合後に酸基を付与しうるモノマーを用いる場合において、重合後にカルボン酸基を付与するための処理としては、ポリマー側鎖の極性基の一部を、ポリマー反応により変性する処理が挙げられる。また、アルカリの作用によって加水分解してカルボン酸基を発生するラクトンも用いることができる。カルボン酸基を有する繰り返し単位の樹脂Cにおける含有量は、アルカリ現像性を可能にし、未露光部への中空又は多孔質粒子が付着することによる残渣の抑制のために、樹脂C中の全繰り返し単位に対し、1モル~60モルであることが好ましく、5モル~50モルがより好ましく、10モル~40モルであることが最も好ましい。樹脂Cは前記繰り返し単位C―1~C―3の3成分に加えて、低屈折率繰り返し単位C-4を含有することも好ましい。繰り返し単位C-4としては、非環式分岐アルキル基を含有する繰り返し単位が低屈折率化及び残渣の低減に有効である。非環式分岐アルキル基としては、イソブチル基、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、2-エチルヘキシル基等が挙げられる。樹脂CのC=C価は、0.1mmol/g~7.0mmol/gであることが好ましく、より好ましくは0.2mmol/g~5.0mmol/gであり、好ましくは、1.3mmol/g~5.0mmol/gであり、最も好ましくは1.4mmol/g~2.0mmol/gの範囲である。この範囲とすることで、硬化性と現像性を両立することができる。C=C価とはポリマー1g中に含まれる重合性不飽和結合のミリモル数不飽和価を示し、例えばヨウ素価滴定により求めることができる。樹脂Cの酸価は、10mgKOH/g~300mgKOH/gであることが好ましく、更に好ましくは20mgKOH/g~250mgKOH/gであり、最も好ましくは50mgKOH/g~120mgKOH/gである。この範囲とすることで現像性が良好となり、未露光部への中空又は多孔質粒子による残渣を抑制することができる。樹脂Cの屈折率は1.30以上1.50未満、好ましくは1.40以上1.50未満、更に好ましくは1.45以上1.50未満であることが、光反応性組成物の屈折率を低減することができる観点から好ましい。このような屈折率を実現するためには、高分子の中に芳香環や、環状構造を有さないものが好ましい。樹脂Cは、基盤凹凸への埋め込み性を勘案して質量平均分子量が3,000~100,000が好ましく、更に好ましくは5,000~50,000であり、最も好ましくは7,000~20,000の範囲である。樹脂Cの含有量は、本発明の感光性組成物の全固形分に対して、5~50質量であることが好ましく、10~40質量であることが好ましく、15~30質量であることが更に好ましい。以下に樹脂Cの具体的な化合物例を記載するが、本発明はこれに限定されるものではない。下記化合物中、各構造単位に併記される数値主鎖繰り返し単位に併記される数値は、当該構造単位のモル比を表す。側鎖の繰り返し部位に併記される数値は、当該繰り返し部位の繰り返し数を示す。[4]D重合性化合物本発明の感光性組成物は更に、重合性化合物を含有することが、特に適正感度の向上の観点で好ましい。前記B活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物が重合開始能を有することから、本発明の感光性組成物は、B活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物の機能によりD重合性化合物が重合硬化して硬化膜を形成しうる。本発明の感光性組成物に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。本発明に好適に用いられるD重合性化合物について、より具体的に説明する。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などや、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物を使用することも可能である。脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリロイルオキシプロピルエーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4-シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3-ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビスp-3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシフェニルジメチルメタン、ビス-p-メタクリルオキシエトキシフェニルジメチルメタン等がある。イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3-ブタンジオールジイタコネート、1,4-ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。その他のエステルの例として、例えば、特公昭51-47334号公報、特開昭57-196231号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59-5240号、特開昭59-5241号、特開平2-226149号各公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1-165613号公報に記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス-アクリルアミド、メチレンビス-メタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-アクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54-21726号公報に記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。なかでも、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートなど、後述する実施例において使用される多官能重合性化合物を好ましいものとして挙げることができる。また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式Iで示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。CH2=CR31COOCH2CHR32OHIただし、一般式I中、R31及びR32は、それぞれ、H又はCH3を示す。また、特開平10-62986号公報において一般式1及び2としてその具体例と共に記載の、前記多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後にメタアクリレート化した化合物も、重合性化合物として用いることができる。中でも、重合性化合物としては、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、及びこれらのメタアクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましく、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートがより好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。本発明に用いられる重合性化合物としては、4官能以上のアクリレート化合物がより好ましい。また、重合性化合物としては、特公昭48-41708号、特開昭51-37193号、特公平2-32293号、特公平2-16765号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号、特公昭56-17654号、特公昭62-39417号、特公昭62-39418号各公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、重合性化合物として、特開昭63-277653号、特開昭63-260909号、特開平1-105238号各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、非常に感光スピードに優れた硬化性組成物を得ることができる。重合性化合物の市販品としては、ウレタンオリゴマーUAS-10、UAB-140以上、山陽国策パルプ社製、UA-7200新中村化学社製、A-TMM-3LM-N新中村化学社製、DPHA-40H日本化薬社製、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600以上、共栄社製などが挙げられる。また、重合性化合物としては、酸基を有するエチレン性不飽和化合物類も好適である。酸基を有するエチレン性不飽和化合物類は、前記多官能アルコールの一部のヒドロキシ基をメタアクリレート化し、残ったヒドロキシ基に酸無水物を付加反応させてカルボキシ基とするなどの方法で得られる。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のカルボキシ基含有3官能アクリレートであるTO-756、及びカルボキシ基含有5官能アクリレートを含むTO-1382などが挙げられる。これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、感光性組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数異なる重合性基例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。また、感光性組成物に含有される他の成分例えば、光重合開始剤、着色剤顔料、染料等、バインダーポリマー等との相溶性、分散性に対しても、付加重合性化合物の選択使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体などの硬質表面との密着性を向上させる目的で特定の構造を選択することもあり得る。重合性化合物は1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。本発明の感光性組成物におけるD重合性化合物の含有量は、該組成物の固形分に対し0.1~30質量が好ましく、0.2~20質量がより好ましく、0.3~15質量が更に好ましい。<その他の成分>感光性組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、以下に詳述する任意成分を更に含有してもよい。以下、感光性組成物が含有しうる任意成分について説明する。[5]E増感剤本発明の感光性組成物は、光重合開始剤又は酸発生剤等のラジカル発生効率の向上、酸発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。本発明に用いることができる増感剤としては、前記したB活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。感光性組成物に用いられる増感剤としては、例えば、特開2008-32803号公報の段落番号0101~0154に記載される化合物が挙げられる。感光性組成物中における増感剤の含有量は、深部への光吸収効率と開始分解効率の観点から、感光性組成物中の全固形分に対して、0.1質量~20質量であることが好ましく、0.5質量~15質量がより好ましい。増感剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。[6]F重合禁止剤本発明の感光性組成物においては、感光性組成物の製造中或いは保存中において、D重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量のF重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、t-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-t-ブチルフェノール、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。F重合禁止剤の添加量は、感光性組成物中の全固形分に対し、0.0005質量~5質量であることが好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で塗布膜の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光性組成物中の全固形分に対し、0.5質量~10質量であることが好ましい。[7]G有機溶剤本発明の感光性組成物は、一般には、有機溶剤を含有する。有機溶剤は、各成分の溶解性や感光性組成物の塗布性を満足すれば、基本的には特に制限はなく、特に、バインダーの溶解性、塗布性、及び安全性を考慮して選ばれることが好ましい。有機溶剤としては、例えば、特開2008-32803号公報の段落番号0187に記載の各種溶剤が挙げられる。有機溶剤の具体例としては、エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸アルキルエステル類例:オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル具体的には、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等が挙げられる。、3-オキシプロピオン酸アルキルエステル類例:3-オキシプロピオン酸メチル、3-オキシプロピオン酸エチル等具体的には、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル等が挙げられる。、2-オキシプロピオン酸アルキルエステル類例:2-オキシプロピオン酸メチル、2-オキシプロピオン酸エチル、2-オキシプロピオン酸プロピル等具体的には、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル等が挙げられる。、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸エチル具体的には、2-メトキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-エトキシ-2-メチルプロピオン酸エチル等が挙げられる。、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸メチル、2-オキソブタン酸エチル等が挙げられる。また、エーテル類としては、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルPGME:別名1-メトキシ-2-プロパノール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート別名2-メトキシエチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート別名2-エトキシエチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA:別名1-メトキシ-2-アセトキシプロパン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等が挙げられる。ケトン類としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン等が挙げられる。芳香族炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等が好適に挙げられる。また、本発明の感光性組成物が、常圧での沸点が180°C以上である有機溶剤を含む形態であることも好ましい。常圧での沸点が180°C以上である有機溶剤としては、例えば、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを好適に挙げることができる。これらの有機溶剤は、前述の各成分の溶解性、及びバインダーを含む場合はその溶解性、塗布面状の改良などの観点から、2種以上を混合することも好ましい。この場合、特に好ましくは、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、メチルエチルケトン、エチルベンゼン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートから選択される2種以上で構成される混合溶液である。有機溶剤の感光性組成物中における含有量としては、塗布性の観点から、組成物中の全固形分濃度が5~80質量になる量とすることが好ましく、5質量~60質量になる量がより好ましく、10質量~50質量になる量が更に好ましい。[8]H密着促進剤本発明の感光性組成物においては、形成された硬化膜の支持体などの硬質表面との密着性を向上させるために、密着促進剤を添加することができる。密着促進剤としては、シラン系カップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。シラン系カップリング剤としては、例えば、特開2008-32803号公報の段落番号0185に記載の化合物が挙げられる。なかでも、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが最も好ましい。本発明の感光性組成物は、密着促進剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、密着促進剤の添加量は、感光性組成物中の全固形分に対して、0.5質量~30質量が好ましく、0.7質量~20質量がより好ましい。[9]I界面活性剤本発明の感光性組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。特に、本発明の感光性組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性特に、流動性がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。即ち、フッ素系界面活性剤を含有する感光性組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3質量~40質量が好適であり、より好ましくは5質量~30質量であり、特に好ましくは7質量~25質量である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、感光性組成物中における溶解性も良好である。フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F176、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437、同F475、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781以上、DIC株製、フロラードFC430、同FC431、同FC171以上、住友スリーエム株製、サーフロンS-382、同SC-101、同SC-103、同SC-104、同SC-105、同SC1068、同SC-381、同SC-383、同S393、同KH-40以上、旭硝子株製、ソルスパース20000日本ルーブリゾール株製等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステルBASF社製のプルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1等が挙げられる。カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体商品名:EFKA-745、森下産業株製、オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業株製、メタアクリル酸系共重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95共栄社化学株製、W001裕商株製等が挙げられる。アニオン系界面活性剤として具体的には、W004、W005、W017裕商株社製、ソルスパース21000日本ルーブリゾール株製等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レダウコーニング株製トーレシリコーンDC3PA、トーレシリコーンSH7PA、トーレシリコーンDC11PA,トーレシリコーンSH21PA,トーレシリコーンSH28PA、トーレシリコーンSH29PA、トーレシリコーンSH30PA、トーレシリコーンSH8400、モメンティブパフォーマンスマテリアルズ社製TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452、信越シリコーン株式会社製KP341、KF6001、KF6002、ビックケミー社製BYK307、BYK323、BYK330等が挙げられる。界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。感光性組成物は、界面活性剤を含んでも含まなくてもよいが、含む場合、界面活性剤の含有量は、本発明の感光性組成物の全固形分質量に対して、0.001質量以上1質量以下であることが好ましく、0.01質量以上0.1質量以下であることがより好ましい。[10]J紫外線吸収剤本発明の感光性組成物は、紫外線吸収剤を含有しても良い。紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系の紫外線吸収剤を使用することができる。サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、p-オクチルフェニルサリシレート、p-t-ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、2,2’-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、2-2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-ブチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’-tert-ブチル-5’-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’-tert-アミル-5’-イソブチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’-イソブチル-5’-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’-イソブチル-5’-プロピルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-[2’-ヒドロキシ-5’-1,1,3,3-テトラメチルフェニル]ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤の例としては、2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリル酸エチル、2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリル酸2-エチルヘキシルなどが挙げられる。更に、トリアジン系紫外線吸収剤の例としては、2-[4-[2-ヒドロキシ-3-ドデシルオキシプロピルオキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-[4-[2-ヒドロキシ-3-トリデシルオキシプロピルオキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2,4-ジヒドロキシフェニル-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジンなどのモノヒドロキシフェニルトリアジン化合物;2,4-ビス2-ヒドロキシ-4-プロピルオキシフェニル-6-2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス2-ヒドロキシ-3-メチル-4-プロピルオキシフェニル-6-4-メチルフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス2-ヒドロキシ-3-メチル-4-ヘキシルオキシフェニル-6-2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジンなどのビスヒドロキシフェニルトリアジン化合物;2,4-ビス2-ヒドロキシ-4-ブトキシフェニル-6-2,4-ジブトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4,6-トリス2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4,6-トリス[2-ヒドロキシ-4-3-ブトキシ-2-ヒドロキシプロピルオキシフェニル]-1,3,5-トリアジンなどのトリスヒドロキシフェニルトリアジン化合物等が挙げられる。本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。感光性組成物は、紫外線吸収剤を含んでも含まなくてもよいが、含む場合、紫外線吸収剤の含有量は、本発明の感光性組成物の全固形分質量に対して、0.001質量以上1質量以下であることが好ましく、0.01質量以上0.1質量以下であることがより好ましい。[10]Kその他の添加剤更に、本発明の感光性組成物に対しては、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や、可塑剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、重合性化合物とバインダーポリマーとの合計質量に対し10質量以下添加することができる。以上述べたように、本発明の感光性組成物は、A中空又は多孔質粒子と、B活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物と、C更に上記A群に示される部分構造から選ばれる少なくとも一つと、カルボン酸基とを含有し、前記活性種の作用によりアルカリ現像液への溶解性が変化する樹脂とを含有することにより、屈折率が低く、現像後のパターンの欠けや残渣が少なく、高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な低屈折率材料を提供することができる。特に、本発明の低屈折率材料は、アルカリ現像液によるパターニングにおいて好ましく用いられる。以上、本発明の感光性組成物の各成分について説明したが、感光性組成物は、上記したような有機溶媒に溶解した溶液であってもよいし、有機溶媒を含まない固形物であってもよい。本発明の感光性組成物は、低屈折率材料に代表される種々の用途に用いることができ、その目的に応じて各成分の含有量や添加する添加剤などの種類が決められる。感光性組成物は、各種膜を形成するために用いられることが好ましく、低屈折率膜を形成するために用いられることが特に好ましい。本発明の感光性組成物中には、不純物としての金属含量が充分に少ないことが好ましい。組成物中の金属濃度はICP-MS法等により高感度に測定可能であり、その場合の遷移金属以外の金属含有量は好ましくは300ppm以下、より好ましくは100ppm以下である。感光性組成物の製造方法は特に限定されず、有機溶媒を含む場合、組成物の各成分を有機溶媒に添加して、攪拌することにより得られる。上記の組成物はフィルターろ過により、不溶物、ゲル状成分等を除いてから膜形成に用いることが好ましい。その際に用いるフィルターの孔径は0.05~2.0μmが好ましく、孔径0.05~1.0μmがより好ましく、孔径孔径0.05~0.5μmが最も好ましい。フィルターの材質はポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロンが好ましく、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン及びナイロンがより好ましい。[11]パターン形成方法本発明のパターン形成方法は、感光性膜を形成する工程、前記感光性膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液により現像してパターン膜を得る現像工程を含む。ここで、感光性膜は、本発明の感光性組成物から形成される。また、本発明は、このパターン形成方法により得られるパターン膜にも関する。本発明の感光性組成物から形成される感光性膜の形成方法は特に限定されないが、例えば、感光性組成物をスピンコーティング法、ローラーコーティング法、ディップコーティング法、スキャン法、スプレー法、バー塗布法、インクジェット法等の任意の方法により、基板支持体に塗布した後、溶媒を必要に応じて加熱処理で除去して塗膜感光性膜を形成し、プリベーク処理を施すことにより形成することができる。基板としては、シリコンウエハ基板、SiO2ウエハ基板、SiNウエハ基板、ガラス基板、又は、これらの表面に各種金属層が形成された基板や、プラスチックフィルム、マイクロレンズ、イメージセンサー用オンチップカラーフィルターが塗布された基板などを挙げることができる。基板に塗布する方法としては、スピンコーティング法、スキャン法、インクジェット法が好ましい。特に好ましくは、スピンコーティング法である。スピンコーティング法については、市販の装置を使用できる。例えば、クリーントラックシリーズ東京エレクトロン製、D-スピンシリーズ大日本スクリーン製、SSシリーズあるいはCSシリーズ東京応化工業製等が好ましく使用できる。スピンコート条件としてはいずれの回転速度でもよいが、膜の面内均一性の観点より、直径300mmシリコン基板においては1300rpm程度の回転速度が好ましい。また組成物溶液の吐出方法においては、回転する基板上に組成物溶液を吐出する動的吐出、静止した基板上へ組成物溶液を吐出する静的吐出のいずれでもよいが、膜の面内均一性の観点より、動的吐出が好ましい。また、組成物の消費量を抑制する観点より、予備的に組成物の主溶媒のみを基板上に吐出して液膜を形成した後、その上から組成物を吐出するという方法を用いることもできる。スピンコート時間については特に制限はないが、スループットの観点から180秒以内が好ましい。また、基板の搬送の観点より、基板エッジ部の膜を残存させないための処理エッジリンス、バックリンスをすることも好ましい。なお、本発明の感光性組成物は、例えば、塗布装置吐出部のノズル、塗布装置の配管部、塗布装置内等に付着した場合でも、公知の洗浄液を用いて容易に洗浄除去することができる。この場合、より効率の良い洗浄除去を行うためには、本発明の感光性組成物に含まれる溶剤として前掲した溶剤を洗浄液として用いることが好ましい。また、特開平7-128867号公報、特開平7-146562号公報、特開平8-278637号公報、特開2000-273370号公報、特開2006-85140号公報、特開2006-291191号公報、特開2007-2101号公報、特開2007-2102号公報、特開2007-281523号公報などに記載の洗浄液も、本発明の感光性組成物の洗浄除去用の洗浄液として好適に用いることができる。洗浄液としては、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、又はアルキレングリコールモノアルキルエーテルを用いることが好ましい。洗浄液として用いうるこれら溶剤は、単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。溶剤を2種以上を混合する場合、水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤とを混合してなる混合溶剤が好ましい。水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤との質量比は、1/99~99/1、好ましくは10/90~90/10、更に好ましくは20/80~80/20である。混合溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEAとプロピレングリコールモノメチルエーテルPGMEの混合溶剤で、その比率が60/40であることが特に好ましい。なお、感光性組成物に対する洗浄液の浸透性を向上させるために、洗浄液には、感光性組成物が含有しうる界面活性剤として前掲した界面活性剤を添加してもよい。プリベーク処理の方法は、特に限定されないが、一般的に使用されているホットプレート加熱、ファーネス炉を使用した加熱方法、RTPRapidThermalProcessor等によるキセノンランプを使用した光照射加熱等を適用することができる。好ましくは、ホットプレート加熱、ファーネスを使用した加熱方法である。ホットプレートとしては市販の装置を好ましく使用でき、クリーントラックシリーズ東京エレクトロン製、D-スピンシリーズ大日本スクリーン製、SSシリーズあるいはCSシリーズ東京応化工業製等が好ましく使用できる。ファーネスとしては、Cxシリーズ東京エレクトロン製等が好ましく使用できる。上記プリベークの条件としては、ホットプレートやオーブンを用いて、60°C~150°C好ましくは60°C~120°Cで、0.5分間~15分間程度加熱する条件が挙げられる。感光性膜を露光する工程は、必要に応じてマスクを介して行われる。この露光に適用し得る活性光線又は放射線としては、赤外光、g線、h線、i線、KrF光、ArF光、X線、電子線等を挙げることができる。露光量、感度、解像度の観点から、i線、KrF光、ArF光、電子線が好ましく、更に汎用性の観点から、i線、KrF光が最も好ましい。照射光にi線を用いる場合、100mJ/cm2~10000mJ/cm2の露光量で照射することが好ましい。KrF光を用いる場合は、30mJ/cm2~300mJ/cm2の露光量で照射することが好ましい。また、露光した組成物層は、必要に応じて、次の現像処理前にホットプレートやオーブンを用いて、70°C~180°Cで、0.5分間~15分間程度加熱することができる。続いて、露光後の組成物層に対し、現像液にて前記感光性膜の露光部を現像してパターン膜を得る現像工程。これにより、ネガ型若しくはポジ型のパターンレジストパターンを形成することができる。アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、n-プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、ジ-n-ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、ピロール、ピヘリジン等の環状アミン類等、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン等のアルカリ性水溶液を使用することができる。更に、上記アルカリ性水溶液にアルコール類、界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ現像液のアルカリ濃度は、通常0.1~20質量である。アルカリ現像液のpHは、通常10.0~15.0である。特に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの0.3質量の水溶液が望ましい。現像方法としては、たとえば、現像液が満たされた槽中に基板を一定時間浸漬する方法ディップ法、基板表面に現像液を表面張力によって盛り上げて一定時間静止することで現像する方法パドル法、基板表面に現像液を噴霧する方法スプレー法、一定速度で回転している基板上に一定速度で現像液吐出ノズルをスキャンしながら現像液を吐出しつづける方法ダイナミックディスペンス法などを適用することができる。現像時間は、感光性組成物の組成によって異なるが、通常、25°Cで30~120秒間程度である。上記各種の現像方法が、現像装置の現像ノズルから現像液を感光性膜に向けて吐出する工程を含む場合、吐出される現像液の吐出圧吐出される現像液の単位面積あたりの流速は好ましくは2mL/sec/mm2以下、より好ましくは1.5mL/sec/mm2以下、更に好ましくは1mL/sec/mm2以下である。流速の下限は特に無いが、スループットを考慮すると0.2mL/sec/mm2以上が好ましい。吐出される現像液の吐出圧を上記の範囲とすることにより、現像後のレジスト残渣に由来するパターンの欠陥を著しく低減することができる。このメカニズムの詳細は定かではないが、恐らくは、吐出圧を上記範囲とすることで、現像液が感光性膜に与える圧力が小さくなり、感光性膜パターン膜が不用意に削られたり崩れたりすることが抑制されるためと考えられる。なお、現像液の吐出圧mL/sec/mm2は、現像装置中の現像ノズル出口における値である。現像液の吐出圧を調整する方法としては、例えば、ポンプなどで吐出圧を調整する方法や、加圧タンクからの供給で圧力を調整することで変える方法などを挙げることができる。現像の後には、リンス液を用いて洗浄する工程を含むことが好ましい。リンス処理におけるリンス液としては、純水を使用し、界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。リンス工程においては、現像を行ったウェハをリンス液を用いて洗浄処理する。洗浄処理の方法は特に限定されないが、たとえば、一定速度で回転している基板上にリンス液を吐出しつづける方法回転塗布法、リンス液が満たされた槽中に基板を一定時間浸漬する方法ディップ法、基板表面にリンス液を噴霧する方法スプレー法、などを適用することができ、この中でも回転塗布方法で洗浄処理を行い、洗浄後に基板を2000rpm~4000rpmの回転数で回転させ、リンス液を基板上から除去することが好ましい。また、リンス工程の後に加熱工程PostBakeを含むことも好ましい。ベークによりパターン間及びパターン内部に残留した現像液及びリンス液が除去される。リンス工程の後の加熱工程は、パターン膜を、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により加熱することにより行うことができるこのポストベークにおいて、加熱温度は、通常、120~250°C、好ましくは160~230°Cである。また加熱時間は、加熱手段により異なるが、ホットプレート上で加熱する場合、通常、5~30分間程度であり、オーブン中で加熱する場合、通常、30~90分間程度である。また、ポストベークに際しては、2回以上加熱するステップベーク法等を採用することもできる。現像工程後、必要に応じて、形成されたパターン膜に対し後加熱及び/又は後露光を行い、パターン膜の硬化を更に促進させてもよい硬膜処理による後硬化工程。これにより、耐光性、耐気候性、膜強度が向上し、更に低屈折率性も向上させることができる場合がある。硬膜処理とは、基板上のパターン膜を更に硬化し、膜に溶媒耐性などを、より与えることを意味する。硬膜の方法としては、加熱処理焼成することが好ましい。例えば、樹脂に残存する重合性基の後加熱時の重合反応が利用できる。この後加熱処理の条件は、好ましくは100~600°C、より好ましくは200~500°C、特に好ましくは200°C~450°Cで、好ましくは1分~3時間、より好ましくは1分~2時間、特に好ましくは1分~1時間の範囲である。後加熱処理は数回に分けて行ってもよい。また、本発明では加熱処理ではなく、光照射や放射線照射などの高エネルギー線を照射することで、重合体中に、依然、残存する重合性基間の重合反応を起こして硬膜してもよい。高エネルギー線とは、電子線、紫外線、X線などが挙げられるが、特にこれらの方法に限定されるものではない。高エネルギー線として、電子線を使用した場合のエネルギーは0.1~50keVが好ましく、より好ましくは0.2~30keV、特に好ましくは0.5~20keVである。電子線の総ドーズ量は好ましくは0.01~5μC/cm2、より好ましくは0.01~2μC/cm2、特に好ましくは0.01~1μC/cm2である。電子線を照射する際の基板温度は0~500°Cが好ましく、より好ましくは20~450°C、特に好ましくは20~400°Cである。圧力は好ましくは0~133kPa、より好ましくは0~60kPa、特に好ましくは0~20kPaである。重合体の酸化を防止するという観点から、基板周囲の雰囲気はAr、He、窒素などの不活性雰囲気を用いることが好ましい。また、電子線との相互作用で発生するプラズマ、電磁波、化学種との反応を目的に酸素、炭化水素、アンモニアなどのガスを添加してもよい。電子線照射は複数回行ってもよく、この場合は電子線照射条件を毎回同じにする必要はなく、毎回異なる条件で行ってもよい。高エネルギー線として紫外線を用いてもよい。紫外線を用いる際の照射波長領域は160~400nmが好ましく、その出力は基板直上において0.1~2000mWcm-2が好ましい。紫外線照射時の基板温度は250~450°Cが好ましく、より好ましくは250~400°C、特に好ましくは250~350°Cである。本発明の重合物の酸化を防止するという観点から、基板周囲の雰囲気はAr、He、窒素などの不活性雰囲気を用いることが好ましい。また、その際の圧力は0~133kPaが好ましい。加熱処理と光照射や放射線照射などの高エネルギー線処理照射を、同時に又は順次行うことにより硬膜してもよい。膜厚は、乾燥膜厚として、1回塗りで厚さ0.05~1.5μm程度、2回塗りでは厚さ0.1~3μm程度の塗膜を形成することができる。本発明の感光性組成物の用途は特に限定されないが、上記したように、低屈折率膜を作製するために使用することが好ましい。よって、本発明は、上記した本発明のパターン形成方法により得られるパターン膜である低屈折率膜にも関する。更に、本発明は、上記低屈折率膜を有する光学デバイスにも関する。また、本発明は、このような光学デバイスを備えた固体撮像素子にも関する。以下、このような低屈折率膜例えば、反射防止膜について詳述する。ただし、低屈折率膜における下記の各種物性の好ましい範囲は、特に低屈折率膜の用途においては好ましい範囲であるものの、その用途に限られたものではない。<低屈折率膜>上述した組成物を用いて得られるパターン膜は、優れた低屈折率性を示す。具体的には、パターン膜の屈折率波長633nm、測定温度25°Cは、1.35以下であることが好ましく、1.23~1.34であることがより好ましく、1.24~1.30であることが特に好ましい。上記範囲内であれば、後述する反射防止膜として有用である。<反射防止膜>上述した本発明の組成物を用いて得られるパターン膜の好適な使用態様として、反射防止膜が挙げられる。特に、光学デバイス例えば、イメージセンサ用マイクロレンズ、プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスなど用の反射防止膜として好適である。反射防止膜として使用した場合の反射率は低いほど好ましい。具体的には、450~650nmの波長領域での鏡面平均反射率が3以下であることが好ましく、2以下であることが更に好ましく、1以下であることが最も好ましい。なお、反射率は小さければ小さいほど好ましく、最も好ましくは0である。反射防止膜のヘイズは、3以下であることが好ましく、1以下であることが更に好ましく、0.5以下であることが最も好ましい。なお、反射率は小さければ小さいほど好ましく、最も好ましくは0である。上述した膜を単層型の反射防止膜として用いる場合には、透明基板の屈折率をnGとすると、反射防止膜の屈折率nは√nG、すなわち透明基板の屈折率に対して1/2乗であることが好ましい。例えば、光学ガラスの屈折率は1.47~1.92波長633nm、測定温度25°Cであるので、その光学ガラス上に形成される単層の反射防止膜のnは1.21~1.38であることが好ましい。なお、その際の反射防止膜の膜厚は10nm~10μmであることが好ましい。上述した膜を、多層型の反射防止膜として用いる場合には、該膜を低屈折率層として使用し、例えば、その膜の下に、高屈折率層、ハードコート層、及び透明基板を含むことができる。このとき、基板の上に、ハードコート層を設けずに、直接、高屈折率層を形成してもよい。また、高屈折率層と低屈折率層の間、又は、高屈折率層とハードコート層の間に、更に中屈折率層を設けてもよい。以下に、多層型の場合の各層について詳述する。1低屈折率層低屈折率層は、上述のように本発明の組成物を用いて得られるパターン膜から構成される。低屈折率層の屈折率及び厚さについて説明する。i屈折率本発明の組成物を用いて得られるパターン膜の屈折率波長633nm、測定温度25°C、即ち、低屈折率膜低屈折率層ともいうの屈折率を1.35以下とすることが好ましい。この理由は、低屈折率膜の屈折率が1.35以下であることにより、高屈折率膜高屈折率層ともいうと組み合わせた場合に、反射防止効果を確実に発現させることができるためである。低屈折率膜の屈折率を1.34以下とするのがより好ましく、1.33以下とするのが更に好ましい。なお、低屈折率膜を複数層設ける場合には、そのうちの少なくとも一層が上述した範囲内の屈折率の値を有していればよい。また、低屈折率層を設ける場合、より優れた反射防止効果が得られることから、高屈折率層との間の屈折率差を0.05以上の値とするのが好ましい。低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差が0.05以上であることにより、これらの反射防止膜層での相乗効果が得られやすく、反射防止効果がより確実に得られやすい。従って、低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差を0.1~0.8の範囲内の値とするのがより好ましく、0.15~0.7の範囲内の値とするのが更に好ましい。ii厚さ低屈折率層の厚さについても特に制限されるものではないが、例えば、20~300nmであることが好ましい。低屈折率層の厚さが20nm以上となると、下地としての高屈折率膜に対する密着力が確実に得られ、一方、厚さが300nm以下となると、光干渉が生じにくく、反射防止効果がより確実に得られやすい。従って、低屈折率層の厚さを20~250nmとするのがより好ましく、20~200nmとするのが更に好ましい。なお、より高い反射防止性を得るために、低屈折率層を複数層設けて多層構造とする場合には、その合計した厚さを20~300nmとすればよい。2高屈折率層高屈折率層を形成するための硬化性組成物としては、特に制限されるものでないが、膜形成成分として、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂、シアネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせを含むことが好ましい。これらの樹脂であれば、高屈折率層として、強固な薄膜を形成することができ、結果として、反射防止膜の耐擦傷性を著しく向上させることができる。しかしながら、通常、これらの樹脂単独での屈折率は1.45~1.62であり、高い反射防止性能を得るには十分で無い場合がある。そのため、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することにより、屈折率1.70~2.20とすることが好ましい。また、硬化形態としては、熱硬化、紫外線硬化、電子線硬化できる硬化性組成物を用いることができるが、より好適には生産性の良好な紫外線硬化性組成物が用いられる。高屈折率層の厚さは特に制限されないが、例えば、20~30,000nmであることが好ましい。高屈折率層の厚さが20nm以上となると、低屈折率層と組み合わせた場合に、反射防止効果や基板に対する密着力がより確実に得られやすく、一方、厚さが30,000nm以下となると、光干渉が生じにくく、反射防止効果がより確実に得られやすい。従って、高屈折率層の厚さを20~1,000nmとするのがより好ましく、50~500nmとするのが更に好ましい。また、より高い反射防止性を得るために、高屈折率層を複数層設けて多層構造とする場合には、その合計した厚さを20~30,000nmとすればよい。なお、高屈折率層と基板との間にハードコート層を設ける場合には、高屈折率層の厚さを20~300nmとすることができる。3ハードコート層本発明の反射防止膜に用いるハードコート層の構成材料については特に制限されるものでない。このような材料としては、シロキサン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせを挙げることができる。また、ハードコート層の厚さについても特に制限されるものではないが、1~50μmとするのが好ましく、5~10μmとするのがより好ましい。ハードコート層の厚さが1μm以上となると、反射防止膜の基板に対する密着力をより確実に向上しやすく、一方、厚さが50μm以下であると、均一に形成しやすい。4基板本発明の低屈折率膜に用いる基板の種類は特に制限されるものではないが、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂TAC等からなる透明基板及びシリコンウエハを挙げることができる。これらの基板を含む反射防止膜とすることにより、カメラのレンズ部、テレビCRTの画面表示部、液晶表示装置におけるカラーフィルターあるいは撮影素子等の広範な反射防止膜の利用分野において、優れた反射防止効果を得ることができる。本発明の組成物を使用して得られるパターン膜は、光学デバイス例えば、マイクロレンズ用の表面保護膜、位相差膜としても用いることができる。本発明の組成物は、特に、マイクロレンズここで、マイクロレンズの概念は、マイクロレンズアレイの概念を含むの被覆用途として、好適に使用することができる。本発明のパターン形成方法から得られるパターン膜は、本発明の感光性組成物を用いて形成されており、屈折率が低く、パターン欠陥及び現像残渣が少なく、また高耐侯性で形成されているので、マイクロレンズや固体撮像素子用以外の他の用途にも好適に使用される。他の用途としては、例えば、各種のOA機器、液晶テレビ、携帯電話、プロジェクター等の液晶表示素子、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結像光学系、光ファイバコネクタ等の特に光の反射を抑制したい領域に設けられる膜、成形樹脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合材料、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カラープルーフ、プリント基板用レジスト、半導体製造用レジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、マイクロマシン用部品製造用レジスト等、絶縁材、ホログラム材料、ウエハレベルレンズ本体或いはレンズ用遮光膜の形成材料、導波路用材料、オーバーコート剤、接着剤、粘着剤、粘接着剤、剥離コート剤等が挙げられ、これら種々の用途に利用することができる。特に、本発明のパターン形成方法を用いてマイクロレンズの表面に本発明のパターン膜を形成することにより、上記特性を有する膜が表面に被覆された高精細なマイクロレンズを高い製品歩留りで簡便に形成することができる。以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例により制約されるものではない。なお、特に断りのない限り、部及びは質量基準である。1.樹脂Cとしての樹脂C-1の合成300mLの3つ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルPGME5.30gを加え、窒素雰囲気下、80°Cで加温した。これにメタクリル酸ジメチルアミノエチル5.2g、メタクリル酸8.1g、アゾ系熱重合開始剤V-601和光純薬製0.23gとPGME47.7gの均一溶液を4時間かけて滴下した。更に2時間80°Cで加熱攪拌したのち、窒素フローを止めて更に90°Cで2時間加熱攪拌した。GPC測定ポリスチレン換算によりこのポリマーの質量平均分子量は20337、数平均分子量は9823であった。空気下で一晩放置したのち、前記ポリマー溶液にメタクリル酸グリシジル4.9g、ジメチルドデシルアミン0.54g、p-メトキシフェノール0.036g加えて90°Cで10時間加熱攪拌した。1HNMRにより、メタクリル酸グリシジルが消費されていることを確認した。GPC測定ポリスチレン換算によりこのポリマーの質量平均分子量は32155、数平均分子量は11113であった。酸価は酸価滴定によって求めこのポリマーのKOH換算の酸価は、88.7mgKOH/gであった。またこのポリマーの不飽和価は、1.75mmol/gであり、屈折率は1.490であった。なおポリマーの屈折率は次の方法で測定した。PGMEに溶解したポリマー濃度10質量のポリマー溶液を、シリコンウエハ上に塗布し、その後、ホットプレート上で100°Cで2分間加熱して約0.3μmの厚さのポリマー膜を得た。この基板をジェーエーウーラムジャパン社製エリプソメトリーVASEを用いて、このポリマー膜における波長633nmで測定した値を屈折率とした。樹脂2~13も同様の方法で合成した。以下の表1に樹脂1~13の構造、重量平均分子量、酸価、不飽和価及び屈折率を示す。比較樹脂として下記ポリマーを使用した。光重合開始剤はBASFジャパン社製の下記化合物を使用した。重合性化合物は下記化合物を使用した。2.感光性組成物の調製下記に示す成分量の成分を混合し、混合液を孔径0.1μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して、実施例1-1の感光性組成物を調液した。中空又は多孔質粒子中空シリカ屈折率:1.20:スルーリア2320日揮触媒化成株製品、20質量メチルイソブチルケトン分散液262.5質量部光重合開始剤B-13.8質量部樹脂120質量PGME溶液93.8質量部溶剤:ジプロピレングリコールモノメチルエーテル140質量部3.低屈折率透明パターンの作製上記で得られた感光性組成物をシリコンウエハ上にスピンコート法で塗布し、その後、ホットプレート上で100°Cで2分間加熱して膜厚0.3μmの感光性膜を得た。次いで、得られた感光性膜に対し、i線ステッパーFPA-3000i5Canon株製を使用して、365nmの波長で、0.5ミクロンスクエアから100ミクロンスクエアまでのサイズが異なるドットアレイパターンのマスクを介して露光した。前記露光後の感光性膜に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド0.3質量水溶液を用い、23°Cで60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗し、膜厚0.1μmの透明パターンを得た。4.評価4-1.適正感度1.0μmスクエアパターンマスクから忠実に1.0μmスクエアのパターンを形成できる感度を適正感度とした。4-2.パターン欠陥及び残渣評価適正感度において得られた透明パターンの形状を測長SEMS-7800H、株日立製作所製を用いてシリコンウエハー上から30000倍で観察した。得られたドットパターンを観察して、下記のような評価基準でパターン欠陥の評価を行った。パターンの欠けが全くみられない:○パターンの欠けが少し見られる1パターンあたり1~2個:△パターンの欠けが著しく見られる1パターンあたり3個以上:×また、パターン周辺の残渣は、下記のような評価基準で行った。全くみられない:○少し見られる1~10個/μm2:△著しく見られる11個以上/μm2:×4-3.低屈折率透明パターンの屈折率の測定上記4-2で得られた感光性組成物をシリコンウエハ上に塗布し、その後、ホットプレート上で100°Cで2分間加熱して透明膜を得た。この基板をジェーエーウーラムジャパン社製エリプソメトリーVASEを用いて、この透明膜における波長633nmで測定した値を屈折率とした。それぞれの結果を表2に示した。4-4.耐候性上記4-2で得られたパターンを、60°C,85RHの調温、調湿されたサーモセルコで3日間放置し、4-3と同様の方法で屈折率を測定した。サーモセルコにて放置していない状態比較して、屈折率変化が0.5未満の場合を○、0.5以上1未満の場合を△、1以上の場合を×とした。<実施例1-1~実施例1-17、比較例1-1~比較例1-5>表2に示す種類及び成分量の各成分を使用した以外は実施例1-1と同様に、実施例1-2~1-17、比較例1-1~比較例1-5の組成物を調製した。これら組成物についても、実施例1-1と同様に評価を行い、その結果を表2にまとめた。<実施例2-1~実施例2-14、比較例2-1~比較例2-5>実施例1-1の感光性組成物の調製において、スルーリア2320の代わりに、PMA-ST日産化学社製、多孔質シリカ屈折率:1.27の30質量PGMEA分散液を使用した以外は、実施例1-1と同様にして実施例2-1の組成物を調整した。また表3に示す種類及び成分量の各成分を使用した以外は実施例2-1と同様に、実施例2-2~2-14、比較例2-1~比較例2-5の組成物を調製した。これら組成物についても、実施例1-1と同様に評価を行い、その結果を表3にまとめた。なお以上の実施例及び比較例において、比較樹脂1~3は、樹脂1と同様に、20質量PGME溶液として使用した。なお適正感度の結果における現像流れは、現像時にシリコンウエハ上の全ての膜が溶解した状態を意味し、現像不可は、現像時にシリコンウエハ上の全ての膜が残存していた状態を意味する。上記実施例で使用した中空又は多孔質粒子以外にも、スノーテックスMIBK-SD-L日産化学社製の多孔質シリカ屈折率1.26の30質量分散液や、PL-2L-PGME扶桑化学社製の多孔質シリカ屈折率1.26の20質量分散液も使用可能であり、上記と同様の効果が得られた。表2及び表3の結果より本発明による感光性組成物を使用した場合、本発明における樹脂Cを使用しない比較例と比較して、適正感度が高く、屈折率が低く、かつ、現像後のパターンの欠けや残渣が少なく、高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成できることがわかる。実施例2-7~2-14の他の実施例との比較から、樹脂Cが非環式分岐アルキル基を含有する繰り返し単位を有することにより、屈折率をより低下できるとともに、残渣を低減できることがわかる。"