"厚み方向に貫通する複数の収容孔それぞれにウエハを収容した搬送可能なトレイを供給及び回収するためのストック部と、前記ストック部から供給される前記トレイに収容された前記ウエハに対してプラズマ処理を実行する処理部と、前記プラズマ処理前の前記トレイが載置されるテーブルを備え、このテーブル上の前記ウエハの位置決めが行われるアライメント部と、前記アライメント部の前記テーブルに載置された前記トレイの各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行うウエハ有無検出部とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。前記トレイを搬送する搬送機構と、前記ウエハ有無検出部が前記テーブルに載置された前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記収容されていないことを検出すると、前記搬送機構により前記テーブル上の前記トレイを前記処理部に搬送することなく前記ストック部に戻す搬送制御部とをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。前記ウエハ有無検出部は、前記テーブル上の前記トレイの前記収容孔に収容された前記ウエハを検出するための光学式センサと、前記光学式センサからの信号に基づいて、前記トレイが備える前記収容孔に前記ウエハが存在するか否かを判定する判定部とを備えたことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載のプラズマ処理装置。前記光学式センサは、前記トレイに向けて検査光を投光する投光器と、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが収容されていれば前記検査光が遮られて受光されないが、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが収容されていなければ前記検査光が受光される位置に配置された受光器とを備えたことを特徴とする、請求項3に記載のプラズマ処理装置。前記ウエハ有無検出部は、前記テーブル上の前記トレイの前記収容孔を上方から撮像する撮像部と、前記撮像部により得られた画像に基づいて、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが存在するか否かを判定する判定部とを備えたことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載のプラズマ処理装置。前記テーブルは前記トレイを水平面内で回転させる回転テーブルであり、前記ウエハ有無検出部は、前記回転テーブルによる前記トレイの回転中に、前記トレイが備える各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行うことを特徴とする、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。前記アラインメント部は、前記回転テーブルに対するトレイの中心位置合わせを行うセンタリング機構と、前記回転テーブルによりトレイを回転させながらトレイの回転方向の位置決めを行う回転方向位置決め部とを備え、前記ウエハ有無検出部は、前記回転方向位置決め部による回転方向の位置決め中に、前記トレイが備える各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行うことを特徴とする、請求項6に記載のプラズマ処理装置。前記ウエハ有無検出部が前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記ウエハが収容されていないことを検出すると警報を発生する警報発生部をさらに備える、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。厚み方向に貫通する複数の収容孔それぞれにウエハを収容したトレイを、ストック部からアラインメント部に搬送してテーブルに載置し、前記アライメント部の前記テーブル上の前記トレイの各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かを検出し、前記テーブル上の前記トレイのすべての前記収容孔内に前記ウエハが存在していれば、前記トレイを前記アラインメント部から処理部に搬送してプラズマ処理を実行し、前記テーブル上の前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記ウエハが存在していなければ、前記トレイを前記アラインメント部から前記ストック部に戻す、プラズマ処理方法。しかしながら、上記のように、厚み方向に貫通する収容孔を有するトレイによって複数のウエハを一括して支持台に支持させる構成の従来のプラズマ処理装置では個々の収容孔に実際にウエハが収容されているか否かが重要である。すなわち、トレイが備える複数の収容孔のうちウエハが存在しないウエハが収容されていない収容孔がある場合、そのウエハが存在しない収容孔に対応するウエハ支持部は直接プラズマに晒されてしまう。ウエハ支持部がプラズマに晒されると、そのウエハ支持部のみならずプラズマ処理装置全体が故障に至るおそれがある。そこで本発明は、ウエハが存在しないトレイの収容孔から支持台のウエハ支持部が直接プラズマに晒されることを防止することができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。本発明の第1の態様は、厚み方向に貫通する複数の収容孔それぞれにウエハを収容した搬送可能なトレイを供給及び回収するためのストック部と、前記ストック部から供給される前記トレイに収容された前記ウエハに対してプラズマ処理を実行する処理部と、前記プラズマ処理前の前記トレイが載置されるテーブルを備え、このテーブル上の前記ウエハの位置決めが行われるアライメント部と、前記アライメント部の前記テーブルに載置された前記トレイの各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行うウエハ有無検出部とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置を提供する。具体的には、プラズマ処理装置は、前記トレイを搬送する搬送機構と、前記ウエハ有無検出部が前記テーブルに載置された前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記収容されていないことを検出すると、前記搬送機構により前記テーブル上の前記トレイを前記処理部に搬送することなく前記ストック部に戻す搬送制御部とをさらに備える。処理部でのプラズマ処理前に、トレイは位置決めのためにアラインメント部のテーブルに載置される。テーブル上のトレイに対し、ウエハ有無検出部が各収容孔内にウエハが存在するか否かの検出を行う。その結果、トレイが備える複数の収容孔のうちウエハが存在しない収容孔がある場合にはそのトレイを処理部でのプラズマ処理に供しないようにすることができる。具体的には、前記ウエハ有無検出部は、前記テーブル上の前記トレイの前記収容孔に収容された前記ウエハを検出するための光学式センサと、前記光学式センサからの信号に基づいて、前記トレイが備える前記収容孔に前記ウエハが存在するか否かを判定する判定部とを備える。好ましくは、前記光学式センサは、前記トレイに向けて検査光を投光する投光器と、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが収容されていれば前記検査光が遮られて受光されないが、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが収容されていなければ前記検査光が受光される位置に配置された受光器とを備える。この構成によれば、投光器からの検査光を受光器が受光するか否か、すなわちウエハで検査光が遮られるか否かによって収容孔内のウエハの有無を判定するので、判定部は収容孔内のウエハの有無を正確に判定できる。代案としては、前記ウエハ有無検出部は、前記テーブル上の前記トレイの前記収容孔を上方から撮像する撮像部と、前記撮像部により得られた画像に基づいて、前記トレイの前記収容孔に前記ウエハが存在するか否かを判定する判定部とを備える。前記テーブルは前記トレイを水平面内で回転させる回転テーブルであってもよい。この場合、前記ウエハ有無検出部は、前記回転テーブルによる前記トレイの回転中に、前記トレイが備える各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行う。この構成により、ウエハ有無検出部が備える検査光の投光方向が固定された1個の光学式センサ又は視野が固定された1個の撮像部により、複数の収容孔についてウエハ有無の検出が可能となる。前記アラインメント部は、前記回転テーブルに対するトレイの中心位置合わせを行うセンタリング機構と、前記回転テーブルによりトレイを回転させながらトレイの回転方向の位置決めを行う回転方向位置決め部とを備える。前記ウエハ有無検出部は、前記回転方向位置決め部による回転方向の位置決め中に、前記トレイが備える各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かの検出を行う。この構成によれば、トレイの回転方向の位置決め中に各収容孔内にウエハが存在するか否かを検出できるので、アラインメント部での処理に要する時間を短縮し、プラズマ処理装置全体でのタクト向上に貢献できる。プラズマ処理装置は、前記ウエハ有無検出部が前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記ウエハが収容されていないことを検出すると警報を発生する警報発生部をさらに備えてもよい。本発明の第2の態様は、厚み方向に貫通する複数の収容孔それぞれにウエハを収容したトレイを、ストック部からアラインメント部に搬送してテーブルに載置し、前記アライメント部の前記テーブル上の前記トレイの各収容孔内に前記ウエハが存在するか否かを検出し、前記テーブル上の前記トレイのすべての前記収容孔内に前記ウエハが存在していれば、前記トレイを前記アラインメント部から処理部に搬送してプラズマ処理を実行し、前記テーブル上の前記トレイのいずれかの前記収容孔に前記ウエハが存在していなければ、前記トレイを前記アラインメント部から前記ストック部に戻す、プラズマ処理方法を提供する。本発明では、処理部でウエハに対するプラズマ処理が実行される前のアライメント部内におけるトレイの位置決め段階で、トレイが備える各収容孔内にウエハが存在するか否かの検出を行うようになっており、その結果、トレイが備える複数の収容孔のうちウエハが存在しない収容孔があった場合にはそのトレイを処理部に搬送せずにストック部に戻すことができるため、ウエハが存在しないトレイの収容孔から処理部のウエハ支持部が直接プラズマに晒されてそのウエハ支持部のみならずプラズマ処理装置全体が故障に至ることを防止することができる。以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1~図4において、本発明の一実施の形態におけるプラズマ処理装置1は処理対象物に対してプラズマ処理例えばドライエッチングを施すものであり、ストック部2、搬送室搬送部3、アライメント室アラインメント部4、処理室処理部5及び制御装置6図1及び図3を備える。ここで、図3は図2における矢視A-A断面図、図4は図2における矢視B-B断面図である。このプラズマ処理装置1では、処理対象物としてのウエハWを複数枚同時に処理することができるように、図5A及び図5Bに示すような搬送可能なトレイ7が用いられる。このトレイ7は薄板円盤状の部材であり、セラミックス材料等の電気絶縁性材料から形成されている。トレイ7には厚さ方向に貫通して設けられてウエハWよりもやや大きい直径を有する複数ここでは7つの円形の収容孔7aが設けられている。各収容孔7aの内周部の下縁部には、その収容孔7aの内方に張り出したリング状の張り出し部7bが設けられている。張り出し部7bは収容孔7a内に収容されたウエハWの下面の外縁を支持する。ウエハWの外縁が張り出し部7bによって下方から支持されて収容孔7aの内部に収容された状態では、ウエハWの下面は収容孔7aから下方に露出した状態となる図5B。この実施の形態におけるトレイ7は、図5Aに示すように、トレイ7の中心位置に配置された1つの収容孔7aに1枚のウエハWを収容する。また、トレイ7の中心位置を中心とする仮想円CL上に中心が等間隔で並ぶように配置された6つの収容孔7aに6枚のウエハWを収容できるようになっている。図1、図2及び図3において、本実施の形態におけるプラズマ処理装置1のストック部2は、その内部に複数のトレイ7各トレイ7が備える複数の収容孔7aのそれぞれにはウエハWが収容されているを取り出し及び格納可能に収容したカセット21を備えている。カセット21には、ストック部2に設けられた開閉扉22を介して外部からアクセスすることができる。図2、図3及び図4において、搬送室3はストック部2に隣接して設けられており、内部にトレイ7を搬送するための搬送機構30が収容されている。搬送機構30は搬送アーム31を備えている。この搬送アーム31は2つの平行な突起部31aを有して平面視においてU字の形状をなし、上下軸回りに回転自在な回転軸32の上部に設けられた水平移動機構33に取り付けられている。図2、図3及び図4において、水平移動機構33は回転軸32の上端部に固定されて水平面内の方向に延びたベースステージ33aと、ベースステージ33aに対してベースステージ33aの延びる方向に移動自在に設けられた下段ステージ33bと、下段ステージ33bに対してベースステージ33aの延びる方向に移動自在に設けられた上段ステージ33cを備える。搬送アーム31は2つの突起部31aの延びる方向をベースステージ33aの延びる方向と一致させた状態で上段ステージ33cに取り付けられている。搬送アーム31は回転軸32が回転することによって水平面内で回転し、水平移動機構33の下段ステージ33bがベースステージ33aに対して水平面内で移動するのと連動して上段ステージ33cが下段ステージ33bに対して水平面内で移動することによって水平面内で移動する。搬送アーム31の水平面内での回転動作回転軸32の回転動作は、制御装置6が回転軸駆動モータ32a図3、図4及び図6の作動制御を行うことによってなされる。また、搬送アーム31の水平面内での移動動作ベースステージ33aに対する下段ステージ33bの水平面内方向への移動動作及び上段ステージ33cの下段ステージ33bに対する水平面内方向への移動動作は、制御装置6が水平移動機構33の内部に設けられた水平移動機構駆動部33d図6の作動制御を行うことによってなされる。制御装置6は、このように搬送アーム31を水平面内で回転させ、また水平面内で移動させることによって、ストック部2内のトレイ7のアライメント室4への搬送、アライメント室4内のトレイ7の処理室5への搬送、処理室5内のトレイ7のアライメント室4への搬送、及びアライメント室4内のトレイ7のストック部2への搬送を行う。図2及び図4において、アライメント室4は搬送室3に隣接して設けられている。図7にも示すように、アライメント室4は、内部に回転テーブル41、センタリング機構42、透過型の光学式センサ投光器が投光する検査光を受光器が直接受光する形態の光学式センサであるノッチ検出センサ43、同じく透過型の光学式センサである2つのウエハ有無検出センサ44A,44B、及びトレイ仮置きテーブル45を備えている。図4及び図7において、回転テーブル41は、アライメント室4の底板部4aに対して水平面内で回転自在に設けられており、搬送室3内の搬送アーム31によってストック部2から供給されたトレイ7このトレイ7の各収容孔7aにはウエハWが収容されているが載置される。回転テーブル41は、底板部4aの下方に設けられた回転テーブル駆動モータ46図4及び図6の作動によって回転し、これにより回転テーブル41上のトレイ7が水平面内で回転する。センタリング機構42は、図2、図7及び図8に示すように、アライメント室4の底板部4a上に設けられて水平面内の同一軸上を同期して近接又は離間するように設けられた一対の縦方向部材42aと、各縦方向部材42aに一端側が固定されて縦方向部材42aと直交する水平面内方向に延びた一対の横方向部材42bとを備える。各横方向部材42bに2つずつ立設して計4つの当接部材42cが設けられている。一対の縦方向部材42aが互いに近接又は離間すると、これに応じて一対の横方向部材42bが互いに近接又は離間するようになっている。ここで、一対の縦方向部材42aの近接又は離間動作すなわち一対の横方向部材42bの近接又は離間動作は、制御装置6が一対の縦方向部材42aの間に設けられたセンタリング機構駆動部42dの作動制御を行うことによってなされる。制御装置6は、搬送室3内の搬送アーム31を水平面内で移動させ、搬送アーム31によってトレイ7を回転テーブル41に載置させる。その後、制御装置6は、センタリング機構駆動部42dの作動制御を行って一対の縦方向部材42aをしたがって一対の横方向部材42bを互いに近接するように作動させ図8中に示す矢印A、一対の横方向部材42bに立設された計4つの当接部材42cをトレイ7の外縁に当接させてトレイ7を挟み込む図8中の実線で示す当接部材42c参照。これにより回転テーブル41上のトレイ7は、トレイ7の中心位置ct図8が回転テーブル41の中心位置CT図8と一致する位置に移動して、回転テーブル41に対する中心位置合わせセンタリングがなされる。制御装置6は、トレイ7のセンタリングを行った後は、センタリング機構駆動部42dの作動制御を行って、一対の縦方向部材42aをしたがって一対の横方向部材42bを互いに離間するように作動させる。これにより、4つの当接部材42cがトレイ7から離れ、トレイ7が回転テーブル41の回転作動により回転し得るようにする。なお、本実施の形態では、図8に示すように、センタリング機構42によってトレイ7がセンタリングされた状態では、回転テーブル41の外縁はトレイ7の仮想円CLの内部領域に収まるようになっている。図7及び図9において、ノッチ検出センサ43は、アライメント室4の天井部4b図4及び図7に設けられて検査光L1を下方に投光する投光器HS1と、投光器HS1の直下であって底板部4a上に設けられた受光器JS1とを備える。本実施の形態では、アライメント室4の天井部4bはアクリル板等の透明な部材から成っており、ノッチ検出センサ43は天井部4bの上面側に設けられて投光器HS1から投光される検査光L1は天井部4bを透過して下方に照射されるようになっている。しかし、ノッチ検出センサ43の投光器HS1は天井部4bの下面側に設けられていてもよい2つのウエハ有無検出センサ44A,44Bについても同じ。図9において、ノッチ検出センサ43の投光器HS1は、センタリング機構42によってセンタリングがなされたトレイ7が回転テーブル41により回転されたときに、投光器HS1が投光する検査光L1がトレイ7の外縁の一部を切り欠いて形成されたノッチ7cを上下方向に通過し得る位置に配置されている。ノッチ検出センサ43の受光器JS1は、投光器HS1が投光した検査光L1がノッチ7cを上下方向に通過したときにその検査光L1を受光し得る位置に配置されている。ノッチ検出センサ43は、トレイ7が載置された回転テーブル41が回転されている状態で図9中に示す矢印B、投光器HS1から検査光L1を投光しつつ、受光器JS1による検査光L1の受光状態を観察することによって、トレイ7のノッチ7cの位置を検出することができる。制御装置6のアライメント処理部6a図6は、ノッチ検出センサ43によりノッチ7cの位置が検出されたトレイ7の回転角度回転テーブル41の回転軸回りの回転角度を0度原点位置であると認識する。なお、このノッチ7cの検出における回転テーブル41の回転動作は、制御装置6のアライメント処理部6aが回転テーブル駆動モータ46の作動制御を行うことによってなされる。図7及び図9において、アライメント室4に備えられた2つのウエハ有無検出センサ44A,44Bはそれぞれ、アライメント室4の天井部4bに設けられて検査光L2を下方に投光する投光器HS2と、投光器HS2の直下であって、回転テーブル41の上面トレイ7の載置面又は底板部4a上に設けられた受光器JS2とを備える。各ウエハ有無検出センサ44A,44Bの投光器HS2は、センタリング機構42によってセンタリングがなされたトレイ7が備える収容孔7aに収容されたウエハWに検査光L2を照射し得る位置に設けられている。制御装置6のウエハ有無判定部6b図6は、検査光L2がトレイ7の収容孔7aを通過して受光器JS2が検査光L2を受光した場合図9には、ウエハWが存在するか否かの検出ウエハ有無検出の対象となっているトレイ7の収容孔7aにウエハWが存在しないウエハWが収容されていないと判断する。また、ウエハ有無判定部6bは、検査光L2が収容孔7a内のウエハWの上面で反射して受光器JS2が検査光L2を受光しなかった場合には、ウエハ有無検出の対象となっているトレイ7の収容孔7aにウエハWが存在するウエハWが収容されていると判断する。すなわち本実施の形態におけるプラズマ処理装置1が備える2つのウエハ有無検出センサ44A,44Bは、回転テーブル41に支持されたトレイ7が収容するウエハWに向けて照射した検査光L2が検出されるか否かに基づいてウエハ有無検出を行うようになっている。ウエハ有無検出センサ44A,44Bとウエハ有無判定部6bは、本発明におけるウエハ有無検出部を構成する。本実施の形態では、前述のように、トレイ7はその中心位置に配置された1つの収容孔7aに1枚のウエハWを収容するとともに、トレイ7の中心位置を中心とする仮想円CL上周辺位置に中心が等間隔で並ぶように配置された6つの収容孔7aに6枚のウエハWを収容するようになっている。この配置に対応して2つのウエハ有無検出センサ、すなわち、回転テーブル41の中心位置に配置された1つの収容孔7aについてのウエハ有無検出を行う第1のウエハ有無検出センサ44Aと、周辺位置に配置された6つの収容孔7aについてのウエハ有無検出を行う第2のウエハ有無検出センサ44Bとがある。ここで、第1のウエハ有無検出センサ44Aは、図9に示すように、回転テーブル41の中心位置のほぼ直上に設けられた投光器HS2と、回転テーブル41上の投光器HS2の直下の位置したがって回転テーブル41の中心位置に埋設された受光器JS2とを備える。また、第2のウエハ有無検出センサ44Bは、回転テーブル41の外縁の外側であって、トレイ7の周辺位置に配置された6つの収容孔7aに内接する仮想円SS図8よりも内側の領域内の任意の位置例えば仮想円CL上の任意の位置の直上に設けられた投光器HS2と、この投光器HS2の直下の底板部4a上に設けられた受光器JS2とを備える。ここで、図7に示すように、トレイ仮置きテーブル45には、各ウエハ有無検出センサ44A,44Bの投光器HS2が照射する検査光L2がトレイ仮置きテーブル45によって遮られないようにするため、トレイ仮置きテーブル45の各所には、その厚さ方向に貫通した透孔45aが設けられている。トレイ7の周辺位置の6つの収容孔7aについてのウエハ有無検出を行う第2のウエハ有無検出センサ44Bは1つである。しかし、センタリングを行った後のトレイ7を回転テーブル41により回転させることにより、1つの第2のウエハ有無検出センサ44Bによってトレイ7の周辺位置の6つの収容孔7aについてウエハ有無検出を行うことができる。なお、この回転テーブル41の回転制御は、制御装置6のウエハ有無判定部6bが、回転テーブル駆動モータ46の作動制御を行うことによってなされる。また、1つの第2のウエハ有無検出センサ44Bによるトレイ7の周辺位置の6つの収容孔7aについてウエハ有無検出は、後述するようにノッチ検出センサ43による7cのために回転テーブル41によりトレイ7を回転させる際に実行される。つまり、ウエハ有無検出はトレイ7の回転角度位置の位置決めのためのノッチ検出と並行して行われる。そのため、アライメント室4での処理に要する時間を短縮し、プラズマ処理装置1全体でのタクト向上に貢献できる。さらに、本実施の形態におけるプラズマ処理装置1では、上記のように、第2のウエハ有無検出センサ44Bが、回転テーブル41の外縁の外側であって、トレイ7の周辺位置に配置された6つの収容孔7aに内接する仮想円SSよりも内側の領域内に検査光L2を照射するようにすることにより、検出の対象となっているトレイ7の収容孔7aにウエハWが存在しない場合であっても、検査光L2が回転テーブル41によって反射されることはない。そのため、ウエハWが存在しない収容孔7aについて、ウエハWが存在すると制御装置6のウエハ有無判定部6bが誤認することを避けることができる。図2及び図3において、処理室5は搬送室3とゲートバルブ8を介して繋がっており、ゲートバルブ8を閉じた状態では処理室5は搬送室3とは独立した真空容器として機能する。処理室5は、内部にウエハWをトレイ7ごと支持する支持台としてのサセプタ51を備えるとともに、サセプタ51によって支持されたウエハWに対してプラズマ処理を施すプラズマ処理部52図6を備えている。図10A及び図10Bにおいて、サセプタ51はトレイ載置部51a及びトレイ載置部51aから上方に突出して設けられた複数のウエハ支持部51bを備えている。トレイ載置部51aには、アライメント室4内において回転テーブル41に対するトレイ7の中心位置合わせセンタリングと回転方向の位置決めがなされ、搬送室3内の搬送アーム31によって搬送されたトレイ7このトレイ7の各収容孔7aにはウエハWが収容されているが載置される。各ウエハ支持部51bは、センタリング及び回転方向位置決め後のトレイ7がトレイ載置部51aに載置されると、トレイ7の各収容孔7a内に下方から入り込んで各ウエハWを持ち上げ支持する。図10Aにおいて、サセプタ51には制御装置6によって制御される昇降ピン駆動機構53図6の作動によって同期して昇降する4つの昇降ピン54が設けられている。これら4つの昇降ピン54の上端部には、トレイ7の下面側に設けられた4つの昇降ピン嵌入孔7d図5A及び図5Bが上方から嵌入し得るようになっている。トレイ7の4つの昇降ピン嵌入孔7dが4つの昇降ピン54に嵌入した状態で図11A及び図12A、4つの昇降ピン54をサセプタ51に対して下降させる図11B及び図12Bの図中に示す矢印C。この下降により、トレイ7はトレイ載置部51aに載置され、トレイ7の各収容孔7aに収容されたウエハWは、各収容孔7a内に下方から入り込んだウエハ支持部51bによって、トレイ7から上方に浮いた状態に支持される図11C及び図12C。図6において、プラズマ処理部52は、いずれも制御装置6によってその動作が制御される、ガス供給源52a、真空排気装置52b、第1の高周波電圧印加装置52c、直流電圧印加装置52d、冷媒循環装置52e、冷却ガス供給装置52f、及び第2の高周波電圧印加装置52gを備える図6。ガス供給源52aは、処理室5内にプラズマ発生用のガスを供給する。真空排気装置52bは、処理室5内のガスを真空排気する。第1の高周波電圧印加装置52cは、処理室5の上方に設けられた誘電コイル55図3に高周波電圧を印加する。直流電圧印加装置52dは、各ウエハ支持部51bに設けた静電吸着用電極56図10Bに直流電圧を印加してウエハ支持部51b上に載置されたウエハWをウエハ支持部51b上に静電吸着させる。冷媒循環装置52eは、サセプタ51内に設けられた冷媒流路57図10B内に温度調節がなされた冷媒を循環させる。冷却ガス供給装置52fは、サセプタ51内に設けられてウエハ支持部51bの上面に開口する冷却ガス供給管路58図10B、図12A、図12B、及び図12C内にウエハWを冷却するための冷却ガス例えばヘリウムガスを供給する。第2の高周波電圧印加装置52gは、処理室5内で発生したプラズマをウエハW側に引き寄せるバイアスを発生させる。次に、このプラズマ処理装置1により複数のウエハWをバッチ処理により一括してプラズマ処理する手順について説明する。制御装置6は先ず、搬送アーム31を移動させて、ストック部2に供給されている複数のトレイ7各トレイ7の各収容孔7aにはウエハWが収容されているのうちの1枚を搬送アーム31により保持させる。その後、制御装置6は、搬送アーム31を作動させてそのトレイ7をアライメント室4内に移動させる図13中に示す矢印D1。さらに制御装置6は搬送アーム31を回転テーブル41の上方で下降させてトレイ7を回転テーブル41上に載置する図13中に示す矢印D2。制御装置6は、トレイ7を回転テーブル41上に載置した後、搬送アーム31を搬送室3内に戻す図13中に示す矢印D3。制御装置6は、上記のようにしてトレイ7をアライメント室4の回転テーブル41に載置したら、センタリング機構駆動部42dの作動制御を行ってセンタリング機構42を作動させ、前述の要領でトレイ7のセンタリングを行う図14に示すステップST1。そして、トレイ7のセンタリングが終わったら回転テーブル41を作動させてトレイ7を水平面内で360度以上回転させながら、ノッチ検出センサ43を用いてトレイ7に設けられたノッチ7cの検出を行う。また、制御装置6は、ノッチ検出センサ43によるノッチ7cの検出と並行してウエハ有無検出が実行される。つまり、ノッチ7cの検出のために回転テーブル41を作動させてトレイ7を回転させているときに、2つのウエハ有無検出センサ第1のウエハ有無検出センサ44A及び第2のウエハ有無検出センサ44Bにより、トレイ7の各収容孔7aについてのウエハ有無検出を行う図14に示すステップST2。そのためアラインメント室4での処理に要する時間を短縮し、プラズマ処理装置1全体でのタクト向上に貢献できる。また、回転テーブル41でトレイ7を回転させつつウエハWの有無検出を行うので、トレイ7の中央の収容孔7a以外の6個の収容孔7aについては検査光の投光方向が固定された1個のウエハ検出センサ44Bでウエハ有無検出を実行できる。制御装置6は、このステップST2において、各収容孔7aについてのウエハ有無検出を終了した後、ノッチ7cを検出した時点でトレイ7の回転回転テーブル41の回転を停止させて、トレイ7の回転方向の原点位置を把握する。制御装置6は、上記ステップST2が終了したら、ノッチ7cの検出が成功したかどうかの判定を行う図14に示すステップST3。そして、その結果、ステップST2におけるノッチ7cの検出が失敗したと判定した場合には、このプラズマ処理装置1に設けられるディスプレイ装置等の表示部警報発生部61図6にエラーメッセージを表示したうえで、トレイ7をストック部2に返却するための待ち状態に入る図14に示すステップST4。なお、ステップST2におけるノッチ7cの検出における回転テーブル41の回転数は予め定めた所定回数例えば3回までとし、制御装置6は、回転テーブル41を所定回数回転させるまでの間にノッチ7cを検出できなかった場合にはノッチ7cの検出に失敗したとしてステップST3からステップST4に進む。一方、制御装置6のウエハ有無判定部6bは、ステップST3でノッチ7cの検出が成功したと判定した場合には、ステップST2の結果に基づいて、トレイ7が備える複数の収容孔7aの全てにウエハWが存在しているか否かの判断を行う図14に示すステップST5。ステップST5において、トレイ7が備える複数の収容孔7aの全てにウエハWが存在しているとウエハ有無判定部6bが判断しなかった場合、すなわち、トレイ7が備える7つの収容孔7aのうちウエハWが存在しない収容孔7aがあるウエハなしと判断した場合には、表示部61にエラーメッセージ警告を表示する図14に示すステップST4。表示部61に表示するエラーメッセージの態様はオペレータが認識できるものであれば、文字、図形、記号、ランプの点灯等のいずれでもよい。また、表示部61に加えた又は表示部61に代えて音又は音声でエラーメッセージ警告を出力する音響出力部を設けてもよい。また、トレイ7が備える7つの収容孔7aのうちウエハWが存在しない収容孔7aがあるウエハなしと判断した場合、トレイ7をストック部2に返却するための待ち状態に入る図14に示すステップST4。待ち状態はトレイ7をストック部2に返却する条件が充足すると終了する。待ち状態の終了後、制御装置6は回転ステージ41上のトレイ7を搬送機構30の搬送アーム31で保持し、アライメント室4からストック部2のカセット21に戻す。一方、ステップST5で、トレイ7が備える全ての収容孔7aにウエハWが存在しているウエハ有りとウエハ有無判定部6bが判断した場合には、回転テーブル41を回転させ、ステップST2で検出したノッチ7cの位置に基づくトレイ7の回転方向の位置決めを行う図14に示すステップST6。また、トレイ7を処理室5に搬送するための待ち状態に入り図14に示すステップST7、アライメント室4内での処理を終了する。制御装置6は、ウエハ有無判定部6bがいずれかの収容孔7aにウエハWが存在しないウエハなしと判断してステップST4の待ち状態となると、搬送アーム31を作動させて回転テーブル41上のトレイ7をストック部2へ返却する。このように、本実施の形態におけるプラズマ処理装置1では、ウエハWに対するプラズマ処理が実行される前のトレイ7が回転テーブル41に支持されている段階で、トレイ7が備える各収容孔7a内にウエハWが存在するか否かの検出ウエハ有無検出を行う。その結果、複数の収容孔7aのうちウエハWが存在しない収容孔7aがあった場合には、そのトレイ7は処理室5に搬送されない。制御装置6は、ウエハ有無判定部6bがすべての収容孔7aにウエハWが存在すると判断してステップST7の待ち状態となると、搬送アーム31を作動させて回転テーブル41上のトレイ7を保持し、そのトレイ7を搬送室3経由で処理室5のサセプタ51に載置させる。この動作を図15A中の矢印E1と図15Bの矢印E2で示す。このときトレイ7はアライメント室4において回転テーブル41に対する中心位置合わせセンタリングと回転方向の位置決めがなされているので、トレイ7の下面側に設けられた4つの昇降ピン嵌入孔7dにサセプタ51に設けられた4つの昇降ピン54の上端部が嵌入し、トレイ7は4つの昇降ピン54によって支持された状態となる。制御装置6は、トレイ7を4つの昇降ピン54に支持させたら、搬送アーム31を処理室5から退去させる図15C中に示す矢印E3。そして、処理室5に設けられたゲートバルブ8を閉止状態にして処理室5を密閉状態にする。制御装置6は、処理室5を密閉状態にしたら、昇降ピン駆動機構53の作動制御を行って4つの昇降ピン54を下降させる。この下降によりトレイ7がサセプタ51のトレイ載置部51aに載置されるとともに、トレイ7の各収容孔7aに収容されたウエハWがサセプタ51のウエハ支持部51bに載置支持される図15C。制御装置6はトレイ7及びウエハWをサセプタ51に載置させたら、ガス供給源52aの作動制御を行って処理室5内にプラズマ発生用のガスを供給する。次いで直流電圧印加装置52dを作動させて、ウエハ支持部51b内の静電吸着用電極56に直流電圧を印加する。これにより、ウエハ支持部51b上のウエハWが静電吸着用電極56に静電吸着される。制御装置6は、処理室5内に供給したプラズマ発生用のガスの圧力が所定の圧力に調圧されたことを検知したら、第1の高周波電圧印加装置52cの作動制御を行って誘電コイル55に高周波電圧を印加する。これにより処理室5内にプラズマが発生する。制御装置6は、各ウエハWがウエハ支持部51b上に静電吸着にて保持された後、冷却ガス供給装置52fを作動させて冷却ガス供給管路58から各ウエハ支持部51bの下面に冷却ガスを充填させる。更に、制御装置6は第2の高周波電圧印加装置52gの作動制御を行って、処理室5内のプラズマがウエハ支持部51b上のウエハWに引き付けられるようにする。これによりウエハWに対するプウエハ処理エッチングが開始される。制御装置6は、ウエハWに対するプラズマ処理が開始されて所定時間が経過したら、第2の高周波電圧印加装置52gによる静電吸着用電極56へのバイアス電圧の印加を停止させて処理室5内でのプラズマ発生を停止させる。次いで、制御装置6は冷却ガス供給装置52fの作動制御を行って冷却ガスの供給を停止させる。冷却ガスの供給停止後、制御装置6はウエハWの下面の冷却ガスの圧力が十分に低下したタイミングで、ガス供給源52aからの処理室5内へのガスの供給を停止させるとともに、第1の高周波電圧印加装置52cによる誘電コイル55への高周波電圧の印加を停止させる。更に、直流電圧印加装置52dによる静電吸着用電極56への直流電圧の印加を停止させて、ウエハWの静電吸着を解除する。ウェウエハ静電吸着を解除した後は、必要に応じて除電処理を実行してウエハWやトレイ7に残った静電気を除去し、処理部での処理を終了する。上記処理室5内での処理の実行中、制御装置6は、真空排気装置52bによる処理室5内のガスのプラズマ処理装置1の外部への排出動作と、冷媒循環装置52eによる冷媒流路57内への冷媒の循環動作を常時実行する。冷媒循環装置52eによる冷媒流路57内への冷媒の循環動作によりサセプタ51を通じてウエハWが冷却され、冷却ガスを通じたウエハWの冷却と相俟って、高いプラズマ処理効率が維持される。なお、制御装置6は、上記のように、処理室5内でのウエハWに対するプラズマ処理を実行している間、搬送アーム31を作動させて、次にプラズマ処理を行うウエハWを収容したトレイ7をストック部2から取り出してアライメント室4に搬入する。また、制御装置6は回転テーブル41上に載置させる。これにより、処理室5内でウエハWに対するプラズマ処理が行われている間、次にプラズマ処理を行うウエハWを収容したトレイ7について、回転テーブル41に対する中心位置合わせセンタリングと回転方向の位置決め及びウエハWの有無検出を実行することができる。制御装置6は、処理室5内でのウエハWに対するプラズマ処理が終了したら、昇降ピン駆動機構53を作動させて4つの昇降ピン54を上昇させ、トレイ7をサセプタ51の上方に持ち上げ支持する。なお、4つの昇降ピン54はその上昇過程でトレイ7の下面側に設けられた昇降ピン嵌入孔7d内に下方から嵌入する。昇降ピン54の上昇作動によりトレイ7をサセプタ51の上方に持ち上げ支持したら、制御装置6はゲートバルブ8を開いて搬送アーム31を処理室5内に進入させる。また、制御装置6は昇降ピン54によって持ち上げ支持されたトレイ7を搬送アーム31によって保持して処理室5から退去させる。そして、そのトレイ5をアライメント室4のトレイ仮置きテーブル45に載置する図15D。図中に示す矢印F1,F2。引き続いて、既に回転テーブル41に対する中心位置合わせセンタリングと回転方向の位置決めが終了している回転テーブル41上のトレイ7次にプラズマ処理を行うウエハWを収容したトレイ7を搬送アーム31によって保持し、アライメント室4から退去させて図15D中に示す矢印F3、そのトレイ7を処理室5内へ搬送する。制御装置6は、次にプラズマ処理を行うウエハWを収容したトレイ7を処理室5内に搬送した後は、搬送アーム31をアライメント室4に進入させ、トレイ仮置きテーブル45上のトレイ7既にプラズマ処理が終了したウエハWを収容したトレイ7を保持してアライメント室4から搬出し、ストック部2に戻す。このように、処理室5から搬出されたトレイ7は一旦トレイ仮置きテーブル45に載置し、冷却してからストック部2に戻す。これによりプラズマ処理によって高温になったウエハWトレイ7が高温状態のままストック部2に戻されることが防止される。また、高温になったウエハWを収容したトレイ7をトレイ仮置きテーブル45に載置したままの状態で、次にプラズマ処理を行うウエハWを収容したトレイ7をアライメント室4から取り出して処理室5へ搬送する。これによりプラズマ処理全体に要する時間を短縮して効率よく作業を行うことができる。トレイ仮置きテーブル45に載置したトレイ7をストック部2に戻したら、そのトレイ7に収容されたウエハWについてのバッチ処理が終了する。以上説明したように、本実施の形態におけるプラズマ処理装置1は、複数ここでは7つの収容孔7aそれぞれにウエハWを収容したトレイ7の位置決めが行われるアライメント室4と、トレイ7の複数の収容孔7aのそれぞれに収容されたウエハWに対してプラズマ処理が行われる処理室5を備える。また、プラズマ処理装置1は、アライメント室4においてウエハWを収容したトレイ7を支持して水平面内で回転させる回転テーブル41と、アライメント室4において回転テーブル41に対するトレイ7の中心位置合わせを行うセンタリング機構42と、アライメント室4において回転テーブル41によりトレイ7を回転させながらトレイ7の回転方向の位置決めを行う回転方向位置決め手段ノッチ検出センサ43及び制御装置6のアライメント処理部6aとを備える。さらに、プラズマ処理装置1は、処理室5においてトレイ7が載置されるトレイ載置部51a及びトレイ7がトレイ載置部51aに載置されるときにトレイ7の各収容孔7a内に下方から入り込んで各ウエハWを持ち上げ支持する複数のウエハ支持部51bを備えたサセプタ51支持台と、サセプタ51が備える複数のウエハ支持部51bにより支持された複数のウエハWにプラズマ処理を施すプラズマ処理部52プラズマ処理手段とを備える。さらにまた、プラズマ処理装置1は、センタリング機構42による回転テーブル41に対する中心位置合わせ及び上記回転方向位置決め手段による回転方向の位置決めがなされたトレイ7をアライメント室4の回転テーブル41から処理室5内のサセプタ51へ搬送する搬送手段としての搬送アーム31と、アライメント室4の回転テーブル41に支持されたトレイ7の各収容孔7a内にウエハWが存在するか否かの検出ウエハ有無検出を行うウエハ有無検出部としての2つのウエハ有無検出センサ44A,Bと、制御装置6のウエハ有無判定部6bとを備える。本実施の形態におけるプラズマ処理装置1では、処理室5内でウエハWに対するプラズマ処理が実行される前のアライメント室4内におけるトレイ7の位置決め段階センタリング及びトレイ7の回転方向の位置決めの段階で、トレイ7が備える各収容孔7aにウエハWが存在するか否かの検出ウエハ有無検出を行うようになっている。その結果、トレイ7が備える複数の収容孔7aのうちウエハWが存在しない収容孔7aがあった場合にはそのトレイ7をサセプタ51に載置しないようにすることができる。ウエハWが存在しないトレイ7の収容孔7aからウエハ支持部51bが直接プラズマに晒されてそのウエハ支持部51bのみならずプラズマ処理装置1全体が故障に至ることを防止することができる。また、本実施の形態におけるプラズマ処理装置1において、ウエハ有無判定部6bは、回転テーブル41に支持されたトレイ7が収容するウエハWに向けてウエハ有無検出センサ44A,44Bから照射した検査光L2が検出されるか否かに基づいて収容孔7a内にウエハWが存在するか否かの検出を行う。このようにウエハWで検査光L2が遮られるか否かによって収容孔7a内のウエハWの有無を判定するので、簡易な構成であるがウエハ有無判定部6bは収容孔7a内のウエハWの有無を正確に判定できる。また、本実施の形態におけるプラズマ処理装置1において、ウエハ有無検出部は、回転テーブル41によりトレイ7を回転させながらウエハ有無検出を行う。これにより、ウエハ有無の検出に要する時間を短縮してプラズマ処理装置1における処理作業時間を短縮させることができる。これまで本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上述の実施の形態に示したものに限定されない。例えば、上述の実施の形態では、トレイ7はその中心位置に配置された1つの収容孔7aに1枚のウエハWを収容するとともに、中心位置を中心とする仮想円CL上に中心が等間隔で並ぶように配置された6つの収容孔7aに6枚のウエハWを収容するようになっていたが、これは一例であり、トレイ7が収容し得るウエハWの枚数や収容孔7aの配置は自由である。また、本実施の形態において、ノッチ検出センサ43はトレイ7の外縁の一部を切り欠いて形成されたノッチ7cを検出することができる。ウエハ有無検出手段44A,Bはトレイ7が備える各収容孔7aにウエハWが存在するか否かの検出を行うことができればよい。したがって、これらのセンサ43,44A,Bは必ずしも上述した透過型の光学式センサである必要はなく、反射型の光学式センサ投光部と、投光部が投光する検査光の反射光を受光する受光部を一体的に備えた形態の光学式センサ等の他のセンサであってもよい。なお、反射型の光学式センサを用いる場合には、図7に図示される投光器HS1,HS2を反射型の光学式センサに置き換えるとともに、受光器JS1,JS2をミラーに置き換える。上述の実施の形態では、回転テーブル41に支持されたトレイ7が備える各収容孔7aにウエハWが存在するか否かの検出を行うウエハ有無検出手段として透過型の光学式センサウエハ有無検出センサ44A,Bを用いている。しかし、このような光学式センサに代えてCCDカメラ等の撮像装置を用い、撮像装置によって回転テーブル41上のトレイ7を上方から撮像することによって得られた画像に基づいてウエハ有無検出を行うようにしてもよい。この場合、ウエハ有無判定部6bは撮像装置が撮像した画像に基づいて収容孔7aにウエハWが存在するか否かを判定する。回転テーブル41でトレイ7を回転させつつCCDカメラ等の撮像装置により撮像することで、視野が固定された1個の撮像装置により、複数の収容孔7aについてウエハ有無の検出が可能となる。実施形態では回転テーブル41を含むトレイ7のアライメントのための機構を独立のアラインメント室4に配置している。しかし、回転テーブル41を含むトレイ7のアライメントのための機構を搬送室3内に配置してもよい。この構成にも本発明を適用できる。ストック部2に関連する具体的な構成は実施の形態のものに限定されない。例えば、図16に示す変形例のプラズマ処理装置1は、ストック部2に隣接して設けられた移載部81を備える。移載部81からストック部2に処理前のウエハWを収容したトレイ7が供給され、これらのトレイ7はウエハWの処理後にストック部2から移載部81に戻される。移載部81内の移載室82には移載ロボット83が収容されている。移載ロボット83は、図16において矢印G1で概念的に示すように、トレイ7の収容孔7aにプラズマ処理前のウエハWを収容する作業、つまりトレイ7へウエハWを移載する作業を実行する。また、移載ロボット83は、図16において矢印G2で概念的に示すように、ドライエッチング済みのウエハWをトレイ7から移載する作業を実行する。さらに、移載ロボット83は、処理前のウエハWを収容したトレイ7を移載部81からストック部2に搬入する作業図16の矢印H1と、処理後のウエハWを収容したトレイ7をストック部2から移載部81に搬出する作業図14の矢印H2とを実行する。"