"加工対象物の被ナノ加工面に対し、2種類のポリマー成分による共重合体であって当該加工対象物のガラス転移温度よりも低いガラス転移温度のブロック共重合体から成る被覆層を形成し、当該加工対象物のガラス転移温度よりも低い温度雰囲気下にて被覆層を相分離させた後、その被覆層を選択的エッチングすることにより当該被覆層における一方のポリマー相を除去してマスクを形成し、そのマスクを介して前記被ナノ加工面をエッチングすることを特徴とするナノ構造体の製造方法。前記のブロック共重合体は、常温以下で相分離することを特徴とする請求項1記載のナノ構造体の製造方法。前記のブロック共重合体は、ポリブタジエン‐ポリエチレンオキサイド‐ブロック共重合体,ポリイソブチレン-ポリカプロラクタン-ブロック共重合体,ポリエチレンオキサイド-ポリラクタイド-ブロック共重合体のうち何れか一つから成ることを特徴とする請求項1記載のナノ構造体の製造方法。請求項1~3のうち何れかの製造方法により、樹脂製基板の被ナノ加工面にナノ構造層を形成して成ることを特徴とするナノ構造体。本願発明者は、ブロック共重合体によるマスクを適用してナノ構造体を形成する微細パターン化技術において、アニール処理例えば特許文献1のような比較的高温長時間のアニール処理を行わなくとも、加工対象物の被ナノ加工面を微細パターン化できるようにし、微細パターン化技術分野に貢献することを課題とした。本発明は、前記の課題を解決すべく創作された技術的思想であり、具体的に、この発明によるナノ構造体の製造方法の一態様は、加工対象物の被ナノ加工面に対し、2種類のポリマー成分による共重合体であって当該加工対象物のガラス転移温度よりも低いガラス転移温度のブロック共重合体から成る被覆層を形成し、当該加工対象物のガラス転移温度よりも低い温度雰囲気下にて被覆層を相分離させた後、その被覆層を選択的エッチングすることにより当該被覆層における一方のポリマー相を除去してマスクを形成し、そのマスクを介して前記被ナノ加工面をエッチングすることを特徴とするナノ構造体の製造方法。なお、前記のブロック共重合体は、常温以下で相分離するもの、例えばポリブタジエン‐ポリエチレンオキサイド‐ブロック共重合体,ポリイソブチレン-ポリカプロラクタン-ブロック共重合体,ポリエチレンオキサイド-ポリラクタイド-ブロック共重合体のうち何れか一つから成るものでも良い。また、この発明によるナノ構造体の一態様は、前記のナノ構造体の製造方法により、樹脂製基板の被ナノ加工面にナノ構造層を形成して成ることを特徴とする。以上、この発明に係るナノ構造体の製造方法およびナノ構造体によれば、加工対象物のガラス転移温度よりも低い温度雰囲気下にて微細パターン化されたブロック共重合体から成るマスクを介してナノ構造層を形成することができ、微細パターン化技術分野に貢献することが可能となる。本発明の実施形態に係るナノ構造体の製造方法およびナノ構造体は、2種類のポリマー成分から成りガラス転移温度が加工対象物よりも低いブロック共重合体非相溶のポリマー鎖が化学結合によって繋がれたブロック共重合体を適用した微細パターン化技術に関するものである。このようなブロック共重合体においては、例えばアニール処理を行わなくとも、ブロック共重合体のガラス転移温度雰囲気下かつ加工対象物のガラス転移温度よりも低い温度雰囲気下であれば2種類のポリマー間のエネルギー的相互作用がエントロピー因子を超えて自己組織的に分離し、鎖長程度のミクロな相分離構造が形成されることとなる。このように相分離するブロック共重合体から成る被覆層を被ナノ加工面に形成し選択的エッチングすることにより、当該相分離されたうちの一方のエッチングレートの大きいポリマー相がエッチングされ、他方のエッチングレートの低いポリマー相が残存するため、微細パターンのマスクが形成される。そして、前記のマスクを介して被ナノ加工面をエッチングすることにより、ナノ構造層多孔質層を有するナノ構造体を形成することが可能となる。例えば、シリコン基板等よりも低いガラス転移温度のブロック共重合体自体は種々のものが存在し一般的に知られているものであるが、従来の微細パターン化技術においてはアニール処理によって相分離するブロック共重合体例えば、ポリスチレンとポリメタクリル酸メチルとのブロック共重合体のようにガラス転移温度が比較的高いブロック共重合体を適用してシリコン基板等にマスクを形成するという発想しか存在せず、本実施形態のようにガラス転移温度が加工対象物例えば樹脂製基板よりも低いブロック共重合体を適用してナノ構造層を形成して微細パターン化技術分野に貢献例えば、アニール処理を省略してエネルギー消費を抑制するという技術的思想は無かった。本実施形態に係るナノ構造体の製造方法およびナノ構造体においては、前述のようにガラス転移温度が加工対象物よりも低いブロック共重合体から成る被覆層を当該加工対象物のガラス転移温度よりも低い温度雰囲気下にて相分離させ、その被覆層を選択的エッチングして微細パターン化されたマスクを介してナノ構造層を形成できるものであれば良く、目的とするナノ構造体に応じて技術常識を適宜適用した種々の形態のものが考えられる。例えば、ブロック共重合体は、2種類のポリマー成分から成るものであって、比較的高温長時間のアニール処理等を施さなくても、加工対象物のガス転移温度よりも低い温度雰囲気下例えば常温で所定時間放置して相分離するものであれば良く、目的とするナノ構造体に応じて適宜適用可能である。例えば、ポリブタジエン-ポリエチレンオキサイド-ブロック共重合体PBd-b-PEO,ポリイソブチレン-ポリカプロラクタン-ブロック共重合体PIB-b-PCL,ポリエチレンオキサイド-ポリラクタイド-ブロック共重合体PEO-b-PLAが挙げられる。加工対象物においては、前記ブロック共重合体よりもガラス転移温度が高いものであれば、当該ガラス転移温度が比較的高いシリコン基板,ガラス基板等だけでなく、ガラス転移温度が比較的低い樹脂製基板等のように、熱耐久性が高くないものを適用することも可能である。ブロック共重合体から成る被覆層を形成する方法としては、例えばブロック共重合体を溶剤に溶解させ、その溶液をスピンコート法等により被ナノ加工面に対し所定厚さ被覆してから、前記の溶剤を気化させて形成する方法が挙げられる。被覆層を選択的エッチングしてマスクを形成する方法としては、例えば適用するブロック共重合体における一方のポリマー相を選択的に酸化例えば、金属含有の強酸化性物質により酸化することにより、2種類のポリマー相において所望のエッチングレート比に設定してから、エッチングレートの大きいポリマー相をプラズマエッチング等により選択的に除去する方法が挙げられる。本実施形態によれば、例えば数nm~数10nmレベルの多孔質のナノ構造層が形成されるため、その多孔質の度合いを調整、すなわち被覆層の選択的エッチング度合い等を調整してナノ構造層を形成することによって、例えば光反射防止作用,フィルタ作用等を有するナノ構造体を製造することが可能となる。例えば、反射防止作用を有するガラスとして窓,モニター画面,レンズ,太陽電池等や、フィルタ作用を有する気液分離膜等や、広表面積の触媒,ガスセンサー等に適用することが挙げられる。<実施例>まず、ポリブタジエン-ポリエチレンオキサイド-ブロック共重合体PBd-b-PEOを2wtとなるようにトルエン特級99.5,キシダ化学社製に溶解して、その溶液をスピンコート回転数3000rpm,回転時間30秒により石英ガラス板上に被覆し、前記トルエンを乾燥により気化させて被覆層を形成した。次に、前記被覆層を室温雰囲気下で放置して相分離させた後、0.5wt四酸化ルテニウム水溶液の蒸気に3分間暴露することによりポリブタジエン相のエッチングレートを小さくしてから、酸素プラズマエッチングガス圧力0.2Torr,放電出力30W,エッチング時間0~2分によってポリエチレンオキサイド相を選択的に除去することによりマスクを形成した。そして、前記のマスクを介して石英ガラス板をCF4エッチングガス流量比CF4:O2:N2=250:300:80/sccm,放電出力800W,エッチング時間1分して、石英ガラスの被ナノ加工面にナノ構造層不規則なナノ構造層を形成することによりナノ構造体を得た。ここで、前記の酸素プラズマエッチングを0分~2分に設定して得た種々のナノ構造体のナノ構造層をSEM顕微鏡サーマル電界放出形走査電子顕微鏡;JEOL社製のJSM-7600Fで観察して比較したところ、図1マスク被覆層なし,図2O2エッチング0.5分,図3O2エッチング1分,図4O2エッチング2分に示すように当該酸素プラズマ時間に応じて数nm~数10nmレベルの多孔質のナノ構造層が形成されていることを確認できた。また、前記のナノ構造体のナノ構造層に対し300~800nm波長の光を照射した際の反射率を観測したところ、図5の曲線l1マスク被覆層なし,l2O2エッチング0.5分,l3O2エッチング1分,l4O2エッチング2分に示すように、酸素プラズマ時間に応じた光反射防止作用を有することを確認できた。以上、本発明において、記載された具体例に対してのみ詳細に説明したが、本発明の技術思想の範囲で多彩な変更等が可能であることは、当業者にとって明白なことであり、このような変更等が特許請求の範囲に属することは当然のことである。"