真空引き、ガス置換が終了したRFマグネトロンスパッタ装置において、RF電圧印加直後のプラズマが不安定な状態で、RF電源を間欠的にON-OFFすることを特徴とするナノ金属ガラス粒子集合体の製造方法。前記ガス置換ガスがアルゴンガスであり、前記RF電源の間欠的なON-OFFの間隔が、3分間以上、10分間以内であることを特徴とする請求項1記載のナノ金属ガラス粒子集合体の製造方法。従来の液体急冷法や化学還元法で作製したアモルファス合金の構造的な弱点を解決するものとして、ナノ構造である金属ガラスが考えられる。このナノ金属ガラスは大きい表面積を有し、高い触媒活性を示す。更に、単なるアモルファス粒子よりかなり構造的に高い熱安定性も有し、工業プロセスで製造することが可能である。このことから、本発明は、工業的なプロセスで高い触媒性能が期待でき、熱的にも安定なナノ金属ガラス粒子を簡単に製造することができるナノ金属ガラス粒子集合体の製造方法を提供することを目的としている。本発明によれば、真空引き、ガス置換が終了したRFマグネトロンスパッタ装置において、RF電圧印加直後のプラズマが不安定な状態で、RF電源を間欠的にON-OFFすることを特徴とするナノ金属ガラス粒子集合体の製造方法が得られる。本発明に係るナノ金属ガラス粒子集合体の製造方法で使用する物理蒸気沈着方法であるスパッタリングは、通常の堆積プロセスと異なり、RF電源ON直後の不安定なプラズマを用いると、基板に届く原子の密度が不均一になる。この結果、本発明によれば、構造が違うガラス粒子と粒子-粒子界面との複合構造を得ることができる。また、本発明によれば、前記ガス置換ガスがアルゴンガスであり、前記RF電源の間欠的なON-OFFの間隔が、3分間以上、10分間以内であることを特徴とするナノ金属ガラス粒子集合体の製造方法が得られる。間欠的なON-OFFの間隔が、3分間より短い時には、スパッタリングの堆積速度が非常に遅くなり、工業的にナノ金属ガラス薄膜を製造することは困難である。また、間欠的なON-OFFの間隔が10分間より長くなると、プラズマが安定するので、通常の二次元成長する薄膜の堆積になり、ナノ金属ガラス粒子が得られない。ON-OFFの間隔を3分間以上10分間以内とすることにより、薄膜の三次元成長を促進することができる。本発明により、工業的なプロセスで高い触媒性能が期待でき、熱的にも安定なナノ金属ガラス粒子を簡単に製造することができるナノ金属ガラス粒子集合体の製造方法を提供することができる。以下、図面に基づき、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明で用いたRFマグネトロンスパッタ装置の模式図である。金属ガラスとして、組成がAu52Ag5Pd2Cu25Si10Al6の合金とPd78Si22の合金とをターゲットに用いて、Si基板上にナノ金属ガラス薄膜をスパッタリングした。スパッタリングの条件は、到達真空度が1×10-4Pa、成膜中のArガス圧が1Pa、スパッタリングのパワーが100Wで、RF電圧を間欠的に5分間ON-5分間OFFを繰り返した。この繰り返しで10時間スパッタリングしたAu-基ナノ金属ガラス薄膜の密度を測定した結果、13.33±0.14g/cm3であり、薄膜がナノ粒子の集合体で、空隙が存在するので、同一組成の均一な組織を持つバルク金属ガラスより、6以上小さい値になった。図2は、繰り返しで2時間スパッタリングしたAu-基ナノ金属ガラス薄膜とPd基ナノ金属ガラス薄膜のX線回折結果である。また、図3は、繰り返しで10時間スパッタリングしたAu-基ナノ金属ガラス薄膜の示差走査熱量法DSCの解析結果である。図2及び図3から、得られた薄膜が金属ガラス層であることがわかる。図4は、Au-基ナノ金属ガラス薄膜の繰り返しスパッタリング時間が、5分から10時間までの走査電子顕微鏡写真である。図4から、繰り返しスパッタリング時間が最初の5分間では、ナノ粒子の粒径は約10nmであり、繰り返しスパッタリング時間が長くなると、30nm程度に成長し、更に繰り返しスパッタリング時間が長くなると、ナノ粒子同士が凝集してクラスターを形成し、繰り返しスパッタリング時間が10時間では、クラスター同士の集合体の形態となることがわかる。また、図5は、Pd-ナノ金属ガラス薄膜の、繰り返しスパッタリング時間が2時間の走査電子顕微鏡写真である。図5から、クラスター同士の集合体の形態であることがわかる。図6は、繰り返し時間が2時間のスパッタリングで作製したAu基ナノ金属ガラス薄膜のa透過電子顕微鏡写真、b選択領域の電子回折パターン、c高分解能透過電子顕微鏡写真をそれぞれ示す。また、図7は、繰り返し時間が2時間のスパッタリングで作製したPd基ナノ金属ガラス薄膜の高分解能透過電子顕微鏡写真と、選択領域の電子回折パターンはめ込み部をそれぞれ示す。それぞれの電子回折パターンから、アモルファス相であることがわかり、それぞれの高分解能透過電子顕微鏡写真から、一つの金属ガラス粒子とその界面との2相から成っていることが分かる。図8は、繰り返しスパッタリング時間が2時間で作製したAu基ナノ金属ガラス薄膜の、シランジメチルフェニルシランの酸化反応の繰り返し触媒活性を示している。図8から、5回までの繰り返し使用でも、触媒活性がほとんど低下していないことがわかる。