"以下の工程:ai反応性基を有するフッ素含有化合物とii有機金属化合物とを混合する工程;b多孔性鉱物酸化物担体材料を添加する工程;c不活性ガス下、次に酸素を含む雰囲気下で、工程b由来の官能化担体を加熱する工程;及びd活性担体を回収する工程を経て調製される、活性担体。前記フッ素含有化合物が、下記式:RFn-X式中:Rはヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビル又は置換ヘテロヒドロカルビルであり、かつ20以下の非水素原子を有し;nは1~41であり;XはOH、SH又はNR2であり、Rは水素又はヒドロカルビルであるで表される、請求項1記載の活性担体。nが1~6である、請求項2記載の活性担体。XがOHである、請求項2又は3記載の活性担体。前記フッ素含有化合物が、ペンタフルオロフェノール、2,2,2-トリフルオロエタノール又は1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-オールから選択される、請求項1~4のいずれかに記載の活性担体。前記有機金属化合物が、アルミニウム又はホウ素のアルキル化誘導体である、請求項1~5のいずれかに記載の活性担体。前記有機金属化合物が、有機アルミニウム化合物である、請求項1~6のいずれかに記載の活性担体。前記有機アルミニウム化合物が、トリエチルアルミニウムである、請求項7記載の活性担体。前記多孔性鉱物酸化物担体材料が、シリカである、請求項1~8のいずれかに記載の活性担体。前記工程b由来の官能化担体を、不活性ガス下、100~600°C、好ましくは150~450°Cの温度で加熱する、請求項1~9のいずれかに記載の活性担体。前記工程b由来の官能化担体を、酸素を含む雰囲気下、70~600°C、好ましくは100~600°C、最も好ましくは150~450°Cの温度で加熱する、請求項1~10のいずれかに記載の活性担体。多孔性鉱物酸化物担体材料と、フッ素と、第1族、第2族又は第13族金属とを含んでおり、多孔性鉱物酸化物担体材料と、反応性基を有するフッ素含有化合物と、第1族、第2族又は第13族金属を有する有機金属化合物とを接触する工程を含む方法により、調製される活性担体であって、前記フッ素含有化合物と前記有機金属化合物とを接触させてから、前記多孔性鉱物酸化物担体材料を接触させることを特徴とする、活性担体。多孔性鉱物酸化物担体材料と、フッ素と、第1族、第2族又は第13族金属とを含んでおり、多孔性鉱物酸化物担体材料と、反応性基を有するフッ素含有化合物と、第1族、第2族又は第13族金属を有する有機金属化合物とを接触する工程を含む方法により、調製される活性担体であって、前記多孔性鉱物酸化物担体材料と前記有機金属化合物とを接触させてから、前記フッ素含有化合物を添加することを特徴とする、活性担体。多孔性鉱物酸化物担体材料と、フッ素と、第1族、第2族又は第13族金属とを含んでおり、多孔性鉱物酸化物担体材料と、反応性基を有するフッ素含有化合物と、第1族、第2族又は第13族金属を有する有機金属化合物とを接触する工程を含む方法により、調製される活性担体であって、前記多孔性鉱物酸化物担体材料と前記フッ素含有化合物とを接触させてから、前記有機金属化合物を添加することを特徴とする、活性担体。前記多孔性鉱物酸化物担体が、シリカである、請求項12~14のいずれかに記載の活性担体。前記フッ素含有化合物が、請求項2記載の式RFn-Xで表される、請求項12~14のいずれかに記載の活性担体。調製されたままの状態である、請求項1~16のいずれかに記載の活性担体。多孔性鉱物酸化物担体材料とアルミニウムとフッ素とを含む活性担体であって、1.8を超えるF/Al比を有する、前記活性担体。1.8~10、より好ましくは1.9~3.0、最も好ましくは1.95~2.3のF/Al比を有する、請求項18記載の活性担体。オレフィンの重合用の担持触媒系であって、a遷移金属化合物とb請求項1~19のいずれかに記載の活性担体とを含む、前記担持触媒系。前記遷移金属化合物が、メタロセンである、請求項20記載の担持触媒系。前記メタロセンが、下記一般式:[式中:Rは、それぞれ独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロ、シアノ及びこれらの組み合わせから選択され、前記Rは20以下の非水素原子を有し、必要により、2つのR基この場合、Rは水素、ハロ又はシアノではないが、互いに結合し、シクロペンタジエニル環の隣接位に結合する二価の誘導基を形成し、縮合環構造を形成してもよく;Xは、30以下の非水素原子を有する中性のη4結合されるジエン基であり、Mと共にπ複合体を形成し;Yは、-O-、-S-、-NR-、-PR-であり;Mは、2形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり;ZはSiR2、CR2、SiR2SiR2、CR2CR2、CR=CR、CR2SiR2、又はGeR2式中:Rは、それぞれ独立して、水素、又はヒドロカルビル、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、及びこれらの組み合わせから選択された一種であり、前記Rは、10以下の非水素原子を有し、必要により、Zからの2つのR基この場合、Rは水素ではない、又はZからのR基とYからのR基とが、環系を形成してもよいである]で表される、請求項21記載の担持触媒系。Mが、チタンである、請求項22記載の触媒系。エチレンを重合する方法又はエチレンと3~10個の炭素原子を有するα-オレフィンとを共重合する方法であって、請求項20記載の担持触媒系が存在する重合条件で重合する、前記方法。スラリー相又は気相で重合する、請求項24記載の方法。前記α-オレフィンが、1-ヘキセンである、請求項24記載の方法。従って、本発明の第一の態様により、以下の工程によって調製された活性担体活性化担体が提供される。ai反応性基を有するフッ素含有化合物とii有機金属化合物とを混合する工程;b多孔性鉱物酸化物担体材料を添加する工程;c不活性ガス下、次に酸素を含む雰囲気下で、工程b由来の官能化担体を加熱する工程;及びd活性担体を回収する工程。好適なフッ素含有化合物は、有機金属化合物と反応可能な基を有する。好ましいフッ素含有化合物は、下記式で表される。RFn-X式中:Rはヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビル又は置換ヘテロヒドロカルビルであり、かつ20以下の非水素原子を有し;nは1~41であり;XはOH、SH又はNR2であり;Rは水素又はヒドロカルビルである好ましいRはヒドロカルビルであり、最も好ましくはアルキルである。好ましいnは1~6である。好ましいXはOHである。フッ素含有化合物好適な化合物としては、フッ素含有アルコール、フッ素含有フェノール、フッ素含有チオール及びフッ素含有アミンが挙げられる。好適な脂肪族アルコールとしては、2,2,2-トリフルオロエタノール及び1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-オールが挙げられる。好ましいアルコールは、2,2,2-トリフルオロエタノールである。好適な芳香族アルコールとしては、2-フルオロフェノール、3-フルオロフェノール、3,5-ジフルオロフェノール、4-フルオロフェノール、3,4,5-トリフルオロフェノール及び4-トリフルオロメチルフェノールが挙げられる。特に好ましいフェノールは、ペンタフルオロフェノールである。好適なチオールとしては、2-フルオロベンゼンチオール、3-フルオロベンゼンチオール及び4-フルオロベンゼンチオールが挙げられる。好適なアミンとしては、2-ブロモ-6-フルオロアニリン及び2-ブロモ-4,6-ジフルオロアニリンが挙げられる。有機金属化合物有機金属化合物としては、典型的には、第1族金属、第2族金属又は第13族金属好ましくは第13族金属のアルキル化誘導体から選択される。好ましい金属は、アルミニウム、ホウ素、リチウム又はマグネシウムである。有機金属化合物は、好ましくは、アルミニウム又はホウ素のアルキル化誘導体例えば、トリエチルアルミニウム又はトリエチルホウ素から選択される。最も好ましい有機金属化合物は、有機アルミニウム化合物である。最も好ましい有機アルミニウム化合物は、トリエチルアルミニウムTEAである。担体材料多孔性鉱物酸化物は、有利には、シリカ、アルミナ又はこれらの混合物から選択されるが、好ましくはシリカである。好適なシリカは、100~1000m2/g、好ましくは200~600m2/gの表面積を有する。好適なシリカは、15μmと150μmの間の平均孔径15μm<d50<150μmを有する。好適なシリカとしては、GraceDavison製のSylopol2209及び2408シリカ又はPQCorporation製のES70又はCS2050シリカが挙げられる。担体材料を熱処理焼成に供し、担体材料の水分含量又はヒドロキシル含量を低減してもよい。使用に先立って、担体材料を、不活性ガス流通下又は減圧下、25°C~1000°C、好ましくは100°C~1000°C、最も好ましくは150°C~850°Cで処理してもよい。熱処理官能化担体は、不活性ガス例えば、アルゴン又は窒素の雰囲気下で熱処理に供してもよく、100~600°C、最も好ましくは150~450°Cで行われる。担体は、更に、酸素を含む雰囲気下、70~600°C、好ましくは100~600°C、最も好ましくは150~450°Cで処理してもよい。雰囲気は、酸素又は純酸素又はこれらの混合ガスを含んでいてもよい。本発明の更なる態様により、多孔性鉱物酸化物担体材料と、フッ素と、第1族金属、第2族金属又は第13族金属とを含む活性担体であって、反応性基を有するフッ素含有化合物と、第1族金属、第2族金属又は第13族金属を有する有機金属化合物と、前記多孔性鉱物酸化物担体材料とを接触させる工程を含む方法であり、前記フッ素含有化合物と前記有機金属化合物とを接触させてから、前記多孔性鉱物酸化物担体材料を接触させることを特徴とする方法によって調製される活性担体が提供される。本発明の活性担体は、上記の工程の異なる順序によって好適に調製し得る。従って、本発明の更なる態様により、多孔性鉱物酸化物担体材料と、フッ素と、第1族金属、第2族金属又は第13族金属とを含む活性担体であって、反応性基を有するフッ素含有化合物と、第1族金属、第2族金属又は第13族金属を有する有機金属化合物と、前記多孔性鉱物酸化物担体材料とを接触させる工程を含む方法であり、前記有機金属化合物と前記多孔性鉱物酸化物担体材料とを接触させてから、前記フッ素含有化合物を添加することを特徴とする方法によって調製される活性担体が提供される。本発明の更なる態様により、多孔性鉱物酸化物担体材料と、フッ素と、第1族金属、第2族金属又は第13族金属とを含む活性担体であって、反応性基を有するフッ素含有化合物と、第1族金属、第2族金属又は第13族金属と、前記多孔性鉱物酸化物担体材料とを接触させる工程を含む方法であり、前記フッ素含有化合物と前記多孔性鉱物酸化物担体材料とを接触させてから、前記有機金属化合物を添加することを特徴とする方法によって調製される活性担体が提供される。前記フッ素含有化合物は、前述の定義のとおりである。本発明の前記態様による好ましい活性担体は、前記多孔性鉱物酸化物担体材料がシリカである活性担体である。本発明の方法を利用することにより、既に知られた担体よりも高いF/Al比を有する活性担体を調製し得る。従来技術に開示され、前述のWO2007/014889で代表例として示された担体は、1.7未満のF/Al比を示す。このような担体は、例えば、NH42SiF6又はジエチルアルミニウムフロリドを使用するフッ素化工程を利用することによって調製される。本発明者は、驚くべきことに、このようなフッ素化工程を回避する本発明の方法により、高いF/Al比を有する担体が生成することを見出した。従って、本発明の別の態様により、多孔性鉱物酸化物担体材料とアルミニウムとフッ素とを有し、かつ1.8を超える>1.8F/Al比を有する担体が提供される。好ましくは、担体は、1.8~10、より好ましくは1.9~3.0、最も好ましくは1.95~2.3のF/Al比を有する。F/Al比は、アルミニウムに対するフッ素のモル比を意味し、後述の元素分析によって測定されるwt含量に基づく。本発明の前記態様による好ましい活性担体は、多孔性鉱物酸化物担体材料がシリカである活性担体である。本発明の前記態様による好ましい担体は、ケイ素とアルミニウムとフッ素とを含んでいる。本発明の更なる態様により、後述のように調製される活性担体が提供される。本発明の活性担体は、好適には、オレフィンの重合触媒系の構成成分として使用してもよく、重合触媒、特に遷移金属化合物を含む重合触媒と組み合わせて使用してもよい。重合触媒は、典型的には、周期表第3族~第12族元素IUPAC版の遷移金属複合体であってもよい。このような複合体の具体例は、当該分野において公知である。メタロセン複合体の幾つかの異なるファミリーが開発されている。近年では、ビスシクロペンタジエニル金属複合体をベースとする触媒が開発されており、その具体例は、EP129368又はEP206794に見出し得る。更に最近では、単一の又はモノシクロペンタジエル環を有する複合体が開発されている。このような複合体は、束縛構造の複合体と称され、これらの複合体の具体例は、EP416815又はEP420436に見出し得る。これらの複合体の両方において、金属原子例えば、ジルコニウムは、最大の酸化状態にある。しかし、他の複合体が開発されており、その複合体では、金属原子が還元酸化状態にあり得る。ビスシクロペンタジエニル複合体及びモノシクロペンタジエニル複合体の両方の具体例は、それぞれWO96/04290及びWO95/00526に記載されている。上記のメタロセン複合体は、典型的には、共触媒又は活性化剤の存在下、重合に利用される。典型的な活性化剤は、アルミノキサン特にメチルアルミノキサンであってもよく、又はホウ素化合物をベースとする化合物であってもよい。後者の具体例としては、ボレート例えば、トリアルキル置換アンモニウムテトラフェニル-又はテトラフルオロフェニル-ボレート又はトリアリールボラン例えば、トリスペンタフルオロフェニルボランが挙げられる。ボレート活性化剤を組み込んだ触媒系は、EP561479、EP418044及びEP551277に記載されている。更に最近では、他のシングルサイト触媒系が開発されている。前記触媒系は、例えば、後期遷移金属例えば、鉄、コバルト、ルテニウム、マンガンを含む金属複合体をベースとしている。このような化合物の具体例は、WO98/27124、WO99/12981、EP1015501及びEP1276777に記載されており、[2,6-ジアセチルピリジンビス2,6-ジイソプロピルアニルFeCl2]、2,6-ジアセチルピリジンビス2,4,6-トリメチルアニルFeCl2、及び[2,6-ジアセチルピリジンビス2,6-ジイソプロピルアニルCoCl2]が例示され得る。ChemRev2003,103,283-315、ChemRev2000,100,1169-1203及びAngewChemIntEd1999,38,428-447により、好適なメタロセン複合体及び他のシングルサイト触媒の更なる詳細が提供される。他の触媒としては、第3~4族金属又はランタノイド金属の誘導体が挙げられ、これらは2、3又は4の形式酸化状態formaloxidationstateにある。好ましい化合物としては、1~3個のアニオン性又は中性のリガンド基環状又は非環状の、非局在化されπ結合されるアニオン性リガンド基であってもよいを有する金属複合体が挙げられる。このようなπ結合されるアニオン性リガンド基の具体例としては、共役又は非共役の、環状又は非環状のジエニル基、アリル基、ボラタベンゼン基、ホスホール基及びアレーン基が挙げられる。用語π結合は、リガンド基が、部分的に非局在化されたπ結合から電子を共有することによって金属に結合されることを意味する。非局在化されπ結合される基の各原子は、それぞれ水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、ハロヒドロカルビル、メタロイド基で置換されたヒドロカルビル前記メタロイドは、周期表第14族から選択されるからなる群から選択される基で置換してもよい。用語ヒドロカルビルには、C1-C20の直鎖状、分岐鎖状又は環状アルキル基、C6-C20芳香族基などが含まれる。また、2以上の前記基が、互いに結合して、縮合環系を形成してもよく、金属と共に金属環状物metallocycleを形成してもよい。非局在化されπ結合されるアニオン性基の好適な具体例としては、ホスホール基及びボラタベンゼン基に加えて、シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、テトラヒドロフルオレニル、オクタヒドロフルオレニルなどが挙げられる。ホスホールは、シクロペンタジエニル基に対するリン含有アナログであるアニオン性リガンドである。これらは、従来技術で知られており、WO98/50392に記載されている。ボラタベンゼンは、ベンゼンに対するホウ素含有アナログであるアニオン性リガンドである。これらは、Organometallics,14,1,471-4801995に記載されている。本発明の好ましい重合触媒としては、少なくとも1つの前述の非局在化されπ結合される基を含有する、メタロセン複合体とも称される嵩高いリガンド化合物、特に、シクロペンタジエニルリガンドが挙げられる。このようなメタロセン複合体は、第4A族金属例えば、チタン、ジルコニウム、ハフニウムをベースとする。メタロセン複合体は、下記一般式で表し得る。LxMQn式中、Lはシクロペンタジエニルリガンドであり;Mは第4族金属であり;Qは脱離基であり;x及びnは、金属の酸化状態に依存している第4族金属は、典型的には、チタン、ジルコニウム又はハフニウムであり、xは1又は2のいずれかであり、典型的な脱離基としては、ハロゲン又はヒドロカルビルが挙げられる。シクロペンタジエニルリガンドは、例えば、アルキル基又はアルケニル基で置換されていてもよく、インデニル又はフルオレニルなどの縮合環系を含んでいてもよい。好適なメタロセン複合体の具体例は、EP129368及びEP206794に記載されている。このような複合体は、非架橋体[例えば、ビスシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド、ビスペンタメチルシクロペンタジエニルジクロリド]又は架橋体[例えば、エチレンビスインデニルジルコニウムジクロリド又はジメチルシリルインデニルジルコニウムジクロリド]であってもよい。他の好適なビスシクロペンタジエニルメタロセン複合体は、WO96/04290に記載されるビスシクロペンタジエニルジエン複合体である。このような複合体の具体例としては、ビスシクロペンタジエニルジルコニウム2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン及びエチレンビスインデニルジルコニウム1,4-ジフェニルブタジエンが挙げられる。本発明の使用に適したモノシクロペンタジエニル又は置換モノシクロペンタジエニル複合体の具体例は、EP416815、EP418044、EP420436及びEP551277に記載される。好適な複合体は、下記一般式で表し得る。CpMXn式中、Cpは単一のシクロペンタジエニル基又は置換シクロペンタジエニル基であり、これらは必要により置換基を介してMに共有結合してもよく;Mは、単一のシクロペンタジエニル基又は置換シクロペンタジエニル基のη5結合モードに束縛された第4族金属であり;Xは、それぞれ、ヒドリド、又は20以下の非水素原子を有するハロ、アルキル、アリール、アリールオキシ、アルコキシ、アルコキシアルキル、アミドアルキル、シロキシアルキル等、及び20以下の非水素原子を有する中性ルイス塩基リガンドからなる群から選択された部分moietyであり、又は1つのXは必要によりCpと結合し、Mと共に金属環状物を形成してもよく;nは金属の結合価に依存している。特に好ましいモノシクロペンタジエニル複合体は、下記式で表される。[式中:Rは、それぞれ独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロ、シアノ及びこれらの組み合わせから選択され、前記Rは20以下の非水素原子を有し、必要により、2つのR基この場合、Rは水素、ハロ又はシアノではないが、互いに結合し、シクロペンタジエニル環の隣接位に結合した2価の誘導体を形成し、縮合環構造を形成してもよく;Xは、ヒドリド、又は20以下の非水素原子を有するハロ、アルキル、アリール、アリールオキシ、アルコキシ、アルコキシアルキル、アミドアルキル、シロキシアルキル等、及び20以下の非水素原子を有する中性ルイス塩基リガンドからなる群から選択された部分であり;Yは、-O-、-S-、-NR-、-PR-であり;Mは、ハフニウム、チタン又はジルコニウムであり;Zは、SiR2、CR2、SiR2SiR2、CR2CR2、CR=CR、CR2SiR2、又はGeR2式中:Rは、それぞれ独立して、水素、又はヒドロカルビル、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、及びこれらの組み合わせから選択された一種であり、前記Rは、10以下の非水素原子を有し、必要により、Zからの2つのR基この場合、Rは水素ではない又はZからのR基とYからのR基とが、環系を形成してもよいであり;及びnは、Mの結合価に応じて1又は2である]好適なモノシクロペンタジエニル複合体の具体例としては、t-ブチルアミドジメチルテトラメチル-η5-シクロペンタジエニルシランチタニウムジクロリド及び2-メトキシフェニルアミドジメチルテトラメチル-η5-シクロペンタジエニルシランチタニウムジクロリドが挙げられる。他の好適なモノシクロペンタジエニル複合体は、WO99/40125、WO00/05237、WO00/05238及びWO00/32653に記載のホスフィンイミンリガンドである。このような複合体の典型的な具体例としては、シクロペンタジエニルチタニウム[トリt-ブチルホスフィンイミン]ジクロリドである。本発明の使用に適した別のタイプの重合触媒は、US5527752及びWO99/61486に記載のジルコニウムシクロペンタジエニルトリスジエチルカーバメートなどのヘテロアリル部分を含むモノシクロペンタジエニル複合体である。本発明の担持触媒の調製用の特に好ましいメタロセン複合体は、下記一般式で表し得る。[式中:Rは、それぞれ独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロ、シアノ、及びこれらの組み合わせから選択され、前記Rは、20以下の非水素原子を有し、必要により、2つのR基この場合、Rは水素、ハロ又はシアノではないが互いに結合し、シクロペンタジエニル環の隣接位に結合する2価の誘導基を形成し、縮合環構造を形成してもよく;Xは、30以下の非水素原子を有する中性のη4結合されるジエン基であり、Mと共にπ複合体を形成し;Yは、-O-、-S-、-NR-、-PR-であり、Mは、2形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり;Zは、SiR2、CR2、SiR2SiR2、CR2CR2、CR=CR、CR2SiR2、又はGeR2式中:Rは、それぞれ独立して、水素、又はヒドロカルビル、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、及びこれらの組み合わせから選択された一種であり、前記Rは、10以下の非水素原子を有し、必要により、Zからの2つのR基この場合、Rは水素ではない、又はZからのR基とYからのR基とが、環系を形成してもよいである]好適なX基の具体例としては、s-トランス-η4-1,4-ジフェニル-1,3-ブタジエン、s-トランス-η4-3-メチル-1,3-ペンタジエン;s-トランス-η4-2,4-ヘキサジエン;s-トランス-η4-1,3-ペンタジエン;s-トランス-η4-1,4-ジトリル-1,3-ブタジエン;s-トランス-η4-1,4-ビストリメチルシリル-1,3-ブタジエン;s-シス-η4-3-メチル-1,3-ペンタジエン;s-シス-η4-1,4-ジベンジル-1,3-ブタジエン;s-シス-η4-1,3-ペンタジエン;s-シス-η4-1,4-ビストリメチルシリル-1,3-ブタジエンが挙げられ、前記s-シスジエン基は、金属と共に、本明細書中に定義されるπ複合体を形成する。最も好ましくは、Rが水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ベンジル又はフェニルであるか、又は2つのR基水素を除くが互いに連結し、全体のC5R4基が、例えば、インデニル、テトラヒドロインデニル、フルオレニル、テトラヒドロフルオレニル、又はオクタヒドロフルオレニル基である。非常に好ましくは、Y基が式-NR-又は-PR-式中、RはC110ヒドロカルビルであるに対応する基を含有する、窒素含有基又はリン含有基である。最も好ましい複合体は、アミドシラン又はアミドアルカンジイル複合体である。最も好ましい複合体は、Mがチタンである複合体である。本発明の担持触媒の調製用の好適な特定の複合体は、WO95/00526に記載されたものであり、参照することにより本明細書に組み込まれる。本発明の担持触媒の調製用の特に好ましい複合体は、t-ブチルアミドテトラメチル-η5-シクロペンタジエニルジメチルシランチタニウム-η4-1,3-ペンタジエンである。本発明の担持触媒の担持物遷移金属は、典型的には、0.1μmol/g~1mmol/gにある。重合触媒及び活性担体は、いかなる好適な方法で組み合わせてもよい。好ましくは、活性担体及び重合触媒を、好適な溶媒中で組み合わせてもよい。活性担持触媒系は、必要により、有機金属化合物などのスカベンジャー材料の存在下で使用してもよい。好ましくは、有機金属化合物は、有機アルミニウム化合物である。最も好ましくは、有機アルミニウム化合物は、トリイソブチルアルミニウム及びトリエチルアルミニウムである。本発明の別の態様により、a遷移金属化合物、及びb上記に定義された活性担体、又は上記に定義された方法によって調製された活性担体を含むオレフィンの重合触媒系が提供される。好ましい遷移金属化合物はメタロセンである。本発明の担持触媒系は、スラリー相法又は気相法での使用に最も適している。スラリー法は、典型的には、不活性炭化水素希釈剤を利用し、温度は、約0°Cから得られるポリマーが実質的に不活性重合溶媒に可溶となる温度よりもやや低い温度までである。好適な希釈剤としては、トルエン又はアルカン例えば、ヘキサン、プロパン又はイソブタンが挙げられる。好ましい温度は約30°C~約200°Cであるが、好ましくは約60°C~100°Cである。ループ型反応器が、スラリー重合法で汎用される。オレフィンの重合、特に単独重合及びエチレンとα-オレフィン例えば、1-ブテン、1-ヘキセン、1-オクテン、4-メチル-1-ペンテンとの共重合における気相法は、当該分野で公知である。気相法の典型的な操作条件は、温度が20°C~100°C、最も好ましくは40°C~85°Cであり、圧力が大気圧よりも低い圧力から100バールまでである。特に好ましい気相法は、流動床で操作する。このような方法の具体例は、EP89691及びEP699213に記載され、後者は本発明の担持触媒の使用において特に好ましい方法である。特に好ましい重合法は、エチレンの重合単独重合又はエチレンと3~10個の炭素原子を有するα-オレフィンとの共重合を含む方法である。従って、本発明の別の態様により、エチレンを重合単独重合する方法又はエチレンと3~10個の炭素原子を有するα-オレフィンとを共重合する方法であって、前述のように調製された担持触媒系が存在する重合条件下で行う方法を提供する。好ましいα-オレフィンは、1-ブテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン及び1-オクテンである。最も好ましいα-オレフィンは、1-ヘキセンである。利点本発明の活性担体は、優れた活性を有する担持重合触媒系を提供する。調製経路は、従来技術の方法よりも簡便であり、フッ化水素の遊離を含むフッ素化工程の利用を回避するという利点を有する。前記経路はまた、活性化剤としてのアルミノキサン又はボレートをベースとする典型的な担持メタロセン触媒系よりも経済的である。オレフィンの重合用の触媒系の構成成分としての活性担体の使用により、得られるポリマーのレオロジー性を改善し、特に優れた加工性を提供する。以下の実施例を参照しつつ本発明を更に説明する。元素分析の方法aフッ化物選択電極を利用する電位差測定分析によって、フッ化物含量を測定した。この目的のため、ワーツシュミットWurzshmitt燃焼、次に酸検査を経て、試料を調製した。これらの方法は、当該分野で公知である。ワーツシュミットの燃焼の原理は、着火剤及び酸化剤としての過酸化ナトリウムに、試料及びエチレングリコールを導入した気密性純ニッケルボンベ中で爆発的に行う燃焼反応の後、フッ素化された種を無機フッ化物に量的変換する点にある。燃焼残渣を脱イオン水中に回収する。過剰の過酸化ナトリウムを加水分解する。形成した過酸化水素を、コバルト塩の添加及び穏やかな煮沸により分解する。一旦残渣溶液が、要求されたpH~5、HNO3によるになったら、選択電極を介して溶液中のフッ化物イオンの量を測定する。外部校正電位対フッ化物の濃度の対数によって分析を行う。標準溶液NaFから調製及び試料を、同じ条件で測定する。好適なバッファーシクロヘキシレンジアミン四酢酸を添加することにより、pHを溶液のイオン強度に調節し、複合分子を破壊し、フッ化物イオンの濃度を測定する。予め決められた校正曲線のパラメータを用いて、試料で測定された電位からフッ化物イオンの濃度を計算する。bアルミニウムX線蛍光分光法によって、アルミニウム含量を測定した。この目的のため、Pt-Auるつぼで、リチウムテトラボレートの存在下、試料を焼成した。1000°Cと1100°Cの間の温度で、触媒を溶融ボレート中で溶解する。得られる均質なガラスをディスク状に成形し、X線蛍光分光機で試験する。計器校正を、公知の量で測定される元素のリチウム塩を含むテトラボレートガラスで行う。実施例1活性担体S1の調製a担体の熱処理シリカPQCorporation製のCS2050を、15gのバッチで窒素流通下、以下の熱処理に供した。1時間かけて30°Cから100°Cに昇温30分かけて100°Cから130°Cに昇温1時間かけて130°Cから450°Cに昇温450°Cで4時間維持得られたシリカは、2.1mmol/gの表面シラノール濃度を有している。bペンタフルオロフェノールと有機アルミニウム化合物との反応10gのペンタフルオロフェノール54.35ミリモルの乾燥トルエン懸濁液に、55mLのトリエチルアルミニウム1Mの乾燥ヘキサン溶液、55ミリモルを0°Cで滴下し、この混合物を0°Cで1時間撹拌し、生成物Aを得た。c担体の官能化15gの上記焼成シリカの懸濁液に、37.8ミリモルの上記生成物A1.2当量/表面シラノール基を室温で添加した。この懸濁液を1時間撹拌した。デカンテーションによって溶媒を除去し、シリカを乾燥ヘキサン5×50mLで洗浄した。得られた改質シリカを真空下で乾燥した。この改質シリカを、以下のとおり、加熱窒素流動床に供し、次に乾燥空気流動床を加熱した。加熱窒素流動床:1時間かけて30°Cから130°Cに昇温130°Cで1時間維持1時間かけて130°Cから450°Cに昇温450°Cで4時間維持加熱乾燥空気流動床:1時間かけて30°Cから130°Cに昇温130°Cで2時間維持1時間かけて130°Cから450°Cに昇温450°Cで8時間維持元素分析:Al,3.73wt;F,5.15wt;[F/Al=1.96]130°Cで1時間維持1時間かけて130°Cから450°Cに昇温450°Cで4時間維持加熱乾燥空気流動床:1時間かけて30°Cから130°Cに昇温130°Cで2時間維持1時間かけて130°Cから450°Cに昇温450°Cで8時間維持元素分析:Al,3.73wt;F,5.15wt;[F/Al=1.96]実施例2:活性担体S2の調製aシリカの熱処理シリカPQCorporation製のCS2050を、15gのバッチで窒素流通下、以下の熱処理に供した。1時間かけて30°Cから100°Cに昇温30分かけて100°Cから130°Cに昇温1時間かけて130°Cから250°Cに昇温250°Cで4時間維持得られたシリカは、活性化温度が250°Cであるとき、2.5mmol/gの表面シラノール濃度を有している。b2,2,2-トリフルオロエタノールと有機アルミニウム化合物との反応45mLのトリエチルアルミニウム1Mの乾燥ヘキサン溶液、45ミリモルに、3.22mLの2,2,2-トリフルオロエタノール4.51g、45ミリモルを0°Cで滴下し、この混合物を0°Cで1時間撹拌し、生成物Bを得た。c担体の官能化15gの上記焼成シリカの懸濁液に、45ミリモルのB1.2当量/表面シラノール基を室温で添加した。この懸濁液を1時間撹拌した。デカンテーションによって溶媒を除去し、シリカを乾燥ヘキサン5×50mLで洗浄した。得られた改質シリカを真空下で乾燥した。この改質シリカを、以下のとおり、加熱窒素流動床に供し、次に乾燥空気流動床を加熱した。加熱窒素流動床:1時間かけて30°Cから130°Cに昇温130°Cで1時間維持1時間かけて130°Cから450°Cに昇温450°Cで4時間維持加熱乾燥空気流動床:1時間かけて30°Cから130°Cに昇温130°Cで2時間維持1時間かけて130°Cから450°Cに昇温450°Cで8時間維持実施例3:活性担体S3の調製aシリカの熱処理シリカPQCorporation製のCS2050を、15gのバッチで窒素流通下、以下の熱処理に供した。1時間かけて30°Cから100°Cに昇温30分かけて100°Cから130°Cに昇温1時間かけて130°Cから450°Cに昇温450°Cで4時間維持得られたシリカは、活性化温度が450°Cであるとき、2.1mmol/gの表面シラノール濃度を有している。b2,2,2-トリフルオロエタノールと有機アルミニウム化合物との反応20.3mLのトリエチルアルミニウム1Mの乾燥ヘキサン溶液、20.3ミリモルに、1.45mLの2,2,2-トリフルオロエタノール2.03g、20.3ミリモルを0°Cで滴下し、この混合物を0°Cで1時間撹拌し、生成物Bを得た。c担体の官能化8gの上記焼成シリカの懸濁液に、20.3ミリモルのB1.2当量/表面シラノール基を室温で添加した。この懸濁液を1時間撹拌した。デカンテーションによって溶媒を除去し、シリカを乾燥ヘキサン5×50mLで洗浄した。得られた改質シリカを真空下で乾燥した。この改質シリカを、実施例2に記載のように、加熱窒素流動床に供し、次に乾燥空気流動床を加熱した。実施例4:活性担体S4の調製aシリカの熱処理シリカPQCorporation製のCS2050を、15gのバッチで窒素流通下、以下の熱処理に供した。1時間かけて30°Cから100°Cに昇温30分かけて100°Cから130°Cに昇温1時間かけて130°Cから250°Cに昇温250°Cで4時間維持得られたシリカは、活性化温度が250°Cであるとき、2.5mmol/gの表面シラノール濃度を有している。b1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-オールと有機アルミニウム化合物との反応42.7mLのトリエチルアルミニウム1Mの乾燥ヘキサン溶液、42.7ミリモルに、3.57mLの1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-オール5.8g、34.4ミリモルを0°Cで滴下し、この混合物を0°Cで1時間撹拌し、生成物Cを得た。c担体の官能化14.28gの上記焼成シリカの懸濁液に、34.4ミリモルのC1.04当量/表面シラノール基を室温で添加した。この懸濁液を1時間撹拌した。デカンテーションによって溶媒を除去し、シリカを乾燥ヘキサン5×50mLで洗浄した。得られた改質シリカを真空下で乾燥した。この改質シリカを、実施例2に記載のように、加熱窒素流動床に供し、次に乾燥空気流動床を加熱した。実施例5:活性担体S5の調製aシリカの熱処理シリカPQCorporation製のCS2050を、15gのバッチで窒素流通下、以下の熱処理に供した。1時間かけて30°Cから100°Cに昇温30分かけて100°Cから130°Cに昇温1時間かけて130°Cから450°Cに昇温450°Cで4時間維持得られたシリカは、活性化温度が450°Cであるとき、2.1mmol/gの表面シラノール濃度を有している。b1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-オールと有機アルミニウム化合物との反応15.4mLのトリエチルアルミニウム1Mの乾燥ヘキサン溶液、15.4ミリモルに、1.61mLの1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-オール2.6g、15.5ミリモルを0°Cで滴下し、この混合物を0°Cで1時間撹拌し、生成物Cを得た。c担体の官能化6.04gの上記焼成シリカの懸濁液に、15.2ミリモルのC1.2当量/表面シラノール基を室温で添加した。この懸濁液を1時間撹拌した。デカンテーションによって溶媒を除去し、シリカを乾燥ヘキサン5×50mLで洗浄した。得られた改質シリカを真空下で乾燥した。この改質シリカを、実施例2に記載のように、加熱窒素流動床に供し、次に乾燥空気流動床を加熱した。実施例6比較例活性担体CE担体を、WO2007/014889に従って、以下の方法により調製した。窒素流動床、450°Cでのシリカの脱ヒドロキシル化2.1mmolのシラノール基/gトリエチルアルミニウム2当量/シラノール基によるシリカのアルキル化アルカンによる洗浄及び真空下での乾燥窒素流動床の加熱、乾燥空気流動床の加熱、及び最終的に窒素流動床で10wtのNH42SiF6と共に加熱元素分析:Al,5.9wt;F,7wt元素分析の要約:スラリーベンチ重合1.触媒調製:C5Me4SiMe2NtBuTiη4-1,3-ペンタジエン2.525mMのヘキサン溶液及びトリイソブチルアルミニウム1Mのヘキサン溶液のプレミックスを室温で調製した[Al/Timol/mol=50]。この溶液の一部を、100mgの活性担体に添加し、活性担体に対して30μmol/gのTiを担持した。2.重合条件:0.5mLの0.5MトリイソブチルアルミニウムTiBA溶液ヘキサン溶液、1.7Lのイソブタン及び12gのヘキサン-1で反応器を満たした。温度を80°Cに上げて、10バールのエチレンを水素と共に添加したH2/C2=0.2mol。触媒懸濁液を反応器に添加し、温度を90°Cに上げた。エチレン及び水素を、継続的に反応器に供給し、一定のH2/C2比0.2mol及びエチレン分圧10バールを保持した。重合を1時間行った。3.重合結果:気相重合1.触媒処方:担体S2及びS4を用いて、2つの触媒を以下の同じ合成経路で調製した。C5Me4SiMe2NtBuTiη4-1,3-ペンタジエン2.525mMのヘキサン溶液及びトリイソブチルアルミニウム1Mのヘキサン溶液のプレミックスを室温で調製した[Al/Timol/mol=50]。この溶液の一部を、100mgの活性担体に添加し、活性担体に対して30μmolTi/gのTiを担持した。30分の反応時間の後、溶媒を真空下で除去し、乾燥触媒粉末を得た。別の触媒を、比較担体CEを用いて以下のように調製した。C5Me4SiMe2NtBuTiη4-1,3-ペンタジエン2.525mMのヘキサン溶液及びトリイソブチルアルミニウム1Mのヘキサン溶液のプレミックスを室温で調製した[Al/Timol/mol=50]。この溶液の一部を、100mgの活性担体に添加し、活性担体に対して30μmolTi/gのTiを担持した。60分の反応時間の後、触媒を乾燥ヘキサン溶媒で5回洗浄し、真空下で溶媒を除去し、乾燥触媒粉末を得た。内部リファレンスの担持触媒WO05/019275に従った方法により調製されたメタロセン触媒も検討した。2.重合条件:重合を、10バールのエチレン圧下、80°Cで60分行った。アルキル化シリカSiOH/TEAをスカベンジャーとして注入してから、触媒を添加した。乾燥塩を、種床seedbedとして使用した。イソブタンを流しながら80°Cで触媒を反応器に入れた。活性担体系触媒は鉱物油に懸濁してから注入し、内部リファレンスの触媒は乾燥粉末として用いた。水素及びヘキセンを、質量分析計の使用によって制御し、H2/C2及びC6/C2モル比を一定それぞれ0.13mol/mol、0.55mol/molに保った。3.重合結果:ポリマー特性ASTMD4440に従って、25mmの直径の平行プレートを備えた動的レオメータ例えば、TAInstruments製のARESレオメータで、不活性ガス下、動的モードで、動的レオロジー測定を行う。全ての実験において、レオメータを190°Cで少なくとも30分間熱的に安定にしてから、適切に安定化され抗酸化剤による、圧縮成形された試料を平行プレートに挿入する。このプレートを、計測器に登録された正の垂直力で閉じ、良好な接触を確保する。約5分後、190°Cでプレートを軽く圧縮し、このプレートの外周の過剰のポリマーを除去する。熱的安定性のため、及び垂直力を下げてゼロに戻すために更に10分間要した。すなわち、全ての測定は、試料が190°Cで約15分間平衡になった後、十分な窒素で覆われた雰囲気で行った。最初に、2回の歪み掃引SS実験を190°Cで行い、十分な周波数範囲例えば、0.01~100rad/sに亘り、低スケールのトランスデューサの10を超えるトルクシグナルを生成する線形粘弾性歪みを測定する。第1のSS実験を0.1rad/sの低周波数で行う。この試験は、低周波数でトルクの感受性を測定するために行う。第2のSS実験を、100rad/sの高周波数で行う。これにより、選択された歪みが、ポリマーの線形粘弾領域に十分に収まっているので、振動性レオロジー測定により、試験の間、ポリマーの構造変化を誘導しないことを保証する。また、時間掃引TS実験を、選択された歪みSS実験によって決定される、0.1rad/sの低周波数で行い、試験の間、試料の安定性を検査した。190°Cでの溶融弾性モジュラスGG=500Paの測定:周波数掃引FS実験を、上記の適切に選択された歪みレベルを利用して、190°Cで行い、このようにして測定された動的レオロジーデータを、レオメータソフトウェアvizRheometricsRHIOSV44又はOrchestratorSoftwareを用いて分析し、溶融粘性モジュラスGの一定の基準値500Paで、溶融弾性モジュラスGG=500Paを測定する。本発明の新規な活性担体を使用して製造されたポリマーは、改善したレオロジー性を示す。特に、高い粘性が、良好な気泡安定性を提供する低い剪断速度で観察され、低い粘性が、押出機での加工性を良好にする高い剪断速度で観察される。図1は、内部リファレンスポリマー実験13と比較して、実験11及び12で調製したポリマーの特定の粘性と剪断速度とが示されており、別の活性化剤の存在下で用いられる従来の担持触媒系と比較して、創作的な活性担体を用いて調製したポリマーの改善したレオロジーを示している。図2は、実験13の内部リファレンスポリマーと比較して、実験11及び12で製造したポリマーのTanデルタ=fGを示している。Tanデルタは、ポリマー中の長鎖分岐LCBの存在を表している。Tanデルタが低くなると、LCBのレベルが高くなる。前述のとおり、内部リファレンスポリマーは、WO05/019275に従って調製され、少量のLCBを有するポリマーを製造するために公知の触媒系を利用することを示している。LCBの存在により、レオロジーが改善される。従って、ポリマーは、押出機内での加工性が高く、特にフィルム用途に適した良好な気泡安定性を示す。"