ガスが漏れない方法で隔離することができる半導体または基材加工プロセスチャンバ内に半導体素子または基材を移送するためのフラップ移送弁であって、:第一の長手方向軸2に沿って延伸し、第一の密封平面41上に存在する第一の密封表面3により、フレームの形態に取り囲まれた、細長く、特にスロット状の第一の開口部1と、第一の長手方向軸2に平行な第二の長手方向軸5に沿って延伸し、第一の開口部1を閉鎖するために、前面6上の閉鎖体表面8を有し、第一の密封表面3に対応し、それにガスが漏れないように接触させることができ、閉鎖体表面8の縁端領域内かつ第二の密封平面42上に位置する、第二の密封表面9と、を有する細長い弁閉鎖体ビーム4と、前面6に対向する背面7上の、弁閉鎖体ビーム4の支持体40であって、第二の長手方向軸5に平行な傾斜軸44を中心として、支持体40の旋回可能な接続部43を介して、限定された旋回角度によって旋回可能に配置された支持体40と、弁閉鎖体ビーム4の閉鎖体表面8が第一の開口部1を覆って閉鎖し、支持体40により、背面7に加えられる力の作用により、第一の密封表面3および第二の密封表面9が共通の第一の密封平面41および第二の密封平面42上でガスが漏れないように接触している、閉鎖位置Cと、弁閉鎖体ビーム4が第一の開口部1から旋回して離れ、少なくとも部分的に第一の開口部1を解放する、開放位置Oとの間で、第二の長手方向軸5に平行である旋回軸10を中心として、支持体40が弁閉鎖体ビーム4と合わせて旋回することができる、旋回軸受60と、を有し、旋回軸10が本質的に第一の密封平面41上に存在し、傾斜軸44が本質的に第二の密封平面42上に存在することを特徴とする、フラップ移送弁。支持体40と弁閉鎖体ビームとの間の旋回可能な接続部43が、少なくとも一つの傾斜継手43a、ボール継手43bまたは旋回継手43cによって形成されていることを特徴とする、請求項1記載のフラップ移送弁。前記第二の密封表面9は、閉鎖体表面8の縁端領域内に位置し、少なくとも弁閉鎖体ビーム4の中央領域内において、閉鎖体表面8が弁閉鎖体ビーム4の前面6の方向に第二の密封平面42を越えて突出するように、第二の密封表面9が背面7の方向に後退し、少なくとも一つの凹部45が少なくとも弁閉鎖体ビーム4の中央領域内において、閉鎖体ビーム4の背面7上に形成され、前面6の方向に少なくとも第二の密封平面42上に延伸し、傾斜軸44が凹部45の領域内で延伸し、旋回可能な接続部43が凹部45に配置されていることを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項記載のフラップ移送弁。旋回可能な接続部43が、少なくとも一つの凹部45と、支持体40上の少なくとも一つの凸部46と、から形成され、前記凸部46が凹部45内に突出し、支持体40に対する相対的な傾斜軸41を中心として、弁閉鎖体ビーム4が旋回できるように、凸部46と凹部45との間に接触がある、ことを特徴とする、請求項3記載のフラップ移送弁。旋回可能な接続部43は、傾斜継手43aの形態であり、凹部45は、ベース47を有し、凸部46は、点に収束する横断面を有し、傾斜軸44および第二の長手方向軸5が直角に通過する、平面に対する尖頭48を有することを特徴とし、尖頭48とベース47との間の傾斜軸44上に点またはライン接触があり、これが傾斜継手43aを形成している、請求項4記載のフラップ移送弁。凸部46は、V字形状の横断面を有し、点に収束するV字角度により、尖頭48が形成されていることを特徴とする、請求項5記載のフラップ移送弁。凹部45は、傾斜軸44および第二の長手方向軸5が直角で通過する平面に対し、内方に収束する横断面を有することを特徴とする、請求項5または6のいずれか一項記載のフラップ移送弁。凹部45は、V字形状の横断面を有し、ベース47が緩やかに収束するV字角度によって形成されていることを特徴とする、請求項7記載のフラップ移送弁。凹部45は、少なくとも部分的に傾斜軸44に沿って延伸する溝の形態であり、溝45のベース47が第二の密封平面42上を伸び、凸部46は、傾斜軸44に沿って延伸するくさびの形態であることを特徴とする、請求項4~8のいずれか一項記載のフラップ移送弁。弁閉鎖体ビーム4と支持体40との間のばね配置49であって、該ばね配置49は、弁閉鎖体ビーム4が支持体40上に保持され、凸部46が凹部45内に押し当てられるように配置されている、ことを特徴とする、請求項4~9のいずれか一項記載のフラップ移送弁。前記ばね配置49は、弁閉鎖体ビーム4の背面7上に配置され、凸部46を凹部45内に押し付け、凹部45内に突出する凸部46の後方で傾斜軸44に対して横向きに配置されている、少なくとも一つのリーフばねの形態であることを特徴とする、請求項10記載のフラップ移送弁。弁閉鎖体ビーム4と支持体40との間で旋回角度を限定する、旋回止め具50と、弁閉鎖体ビーム4と支持体40との間の少なくとも一つのばね51と、を有し、開放位置Oにおいて、少なくとも一つのばね51が弁閉鎖体ビーム4を旋回止め具50に押し付け、弁閉鎖体ビーム4が開放位置Oのときに支持体40に対して傾斜し、旋回軸受60により、支持体40および弁閉鎖体ビーム4が開放位置Oから閉鎖位置Cに旋回する一方、第一の密封表面3と第二の密封表面9との間の接触が生じている間、これらの密封表面3、9が互いの上にフラットに載置されるようになる請求項1~11のいずれか一項記載のフラップ移送弁。第一の開口部1の第一の長手方向軸2に平行に、かつ、旋回軸10に沿って延伸する旋回シャフト61が第一の開口部1に隣接して配置され、旋回シャフト61には、旋回軸10を中心として旋回するための支持体40が取り付けられていることを特徴とする、請求項1~12のいずれか一項記載のフラップ移送弁。第二の長手方向軸5に本質的に平行であり、旋回軸10から距離がある、シャフト軸12を中心として回転することができる、シャフト11と、シャフト軸12を中心としてシャフト11を回転させ、開放位置Oと閉鎖位置Cとの間で弁閉鎖体ビーム4を移動させるため、シャフト11に結合されている、少なくとも一つの駆動装置13と、共に回転するようにシャフト11上に配置され、自由端が直接的または支持体40を介して間接的に、弁閉鎖体ビーム4の背面7に係合する少なくとも1つの第一のアーム29であって、シャフト軸12を中心としたシャフト11の回転と、これによる第一のアーム29の旋回との結果、開放位置Oと閉鎖位置Cとの間で旋回軸10を中心として弁閉鎖体ビーム4を旋回するための力が弁閉鎖体ビーム4の背面7に加えることができる、少なくとも一つの第一のアーム29と、を特徴とする、請求項1~13のいずれか一項記載のフラップ移送弁。図1a~1eは、様々な状態における本発明のフラップ移送弁の共通の例示的実施態様を、異なる図および異なる詳細の度合いから示す。これらの図は、したがって、連帯的に記載され、あるときは先の図を参照しながら既に説明された参照符号および特徴を再度記載しない。ガスが漏れない方法で隔離することができる半導体または基材加工プロセスチャンバ内に半導体素子または基材を移送するためのフラップ移送弁は、図1eに見てとれるように、基本的に、立方形の形状である気密弁ハウジング14を有する。二つの対向する側方の細長い面は、弁ハウジング14の第一の開口部面および第二の開口部面を形成する。細長く、スロット状の第一の開口部1は、弁ハウジング14の第一の開口部面上に形成され、図1a、1bおよび1eに見てとれるように、矩形の横断面を有する。第一の開口部1は、弁ハウジング14の第二の開口部面上に配置されている、第二の開口部17に対向する。二つの開口部1および17は、本質的に同じ細長いスロット状の横断面を有し、それらの凸部が整列している。換言すると、二つの開口部1および17は、共通の開口部軸を有する。第一の開口部1は、図1a、1bおよび1eに示すように、第一の長手方向軸2に沿って延伸し、第一の密封表面3により、フレームの形態に取り囲まれている。第一の密封表面3は、第一の密封平面41上に伸び、弁内部に面するフラットな弁座を形成する。細長い弁閉鎖体ビーム4は、なかでも、図1aおよび1bに示すように、弁ハウジング内に配置され、第一の長手方向軸2に本質的に平行である、第二の長手方向軸5に沿って延伸する。弁閉鎖体ビーム4は、開口部1および17の横断面に本質的に対応するが、ややより大きい横断面を有し、結果として、それは、第一の開口部1を覆うことができる。図示した例示的実施態様では、二つの開口部1および17ならびに弁閉鎖体ビーム4の幅は、各高さの6倍を超えている。横断面は、したがって、本質的に高さよりも幅、すなわち、長さにおいて延伸し、結果として、横断面を細長いと呼ぶ。第一の開口部1を閉鎖するための閉鎖体表面8は、弁閉鎖体ビーム4の前面6上に位置する。加えて、Oリングの形態である第二の密封表面9は、閉鎖体表面8の縁端領域内に配置されている。Oリング9は、第一の密封表面3に対応し、すなわち、図1aに示すように、第一の密封表面3にガスが漏れないように接触させることができる。Oリング9の有効領域、すなわち、第二の密封表面9は、図1aおよび1bに示すように、第二の密封平面42上に位置する。図1aでは、フラップ移送弁が閉鎖位置Cに配設されていることから、第一の密封平面41および第二の密封平面42はそこで一致する。複数の同一の支持体40は、特に図1eに見てとれるように、弁閉鎖体ビーム4の背面7上に第二の長手方向軸5に沿って配置されている。しかし、より良い説明のため、以下の文章は、単一の支持体40に基づく。支持体40は、弁閉鎖体ビーム4と旋回軸受60との間のインターフェースを形成する。弁閉鎖体ビーム4は、以下の文章でより詳細に説明する、旋回可能な接続部43を介し、第二の長手方向軸5に平行である傾斜軸44を中心として旋回することができるように、支持体40上に配置されている。第一の開口部1の第一の長手方向軸2に平行に、かつ、旋回軸10に沿って延伸する旋回シャフト61は、第一の開口部1に隣接して配置されている。支持体40は、旋回軸10を中心として旋回するため、アームを介してこの旋回シャフト61に取り付けられている。弁閉鎖体ビーム4は、したがって、旋回軸10を中心として旋回することができるように設置されている。旋回軸10は、図1aおよび1bに示すように、具体的には本発明により、第一の密封平面41上で第一の開口部1の側方に伸びる。第二の長手方向軸5に平行である、旋回軸10を中心とする弁閉鎖体ビーム4の旋回可能な軸受は、機能的には、弁閉鎖体ビーム4が図1aの閉鎖位置Cと図1bの開放位置Oとの間において、旋回軸10を中心として約80°の旋回角度で旋回することができる、旋回軸受60を形成する。図1aの閉鎖位置Cでは、弁閉鎖体ビーム4の閉鎖体表面8は、第一の開口部1を覆い、それを閉鎖する。図1aに示すように、この閉鎖位置Cでは、第一の密封表面3および第二の密封表面9は、互いにガスが漏れない接触を生じ、第一の密封平面41および第二の密封平面42が互いに載置される。開放位置Oでは、弁閉鎖体ビーム4は、第一の開口部1から旋回して離れ、第一の開口部1を解放する。図1a、1bおよび1eに示すように、シャフト11は、回転することができるように弁ハウジング14上に半径方向に設置され、弁閉鎖体ビーム4の第二の長手方向軸5に本質的に平行である、シャフト軸12を中心として回転することができる。シャフト軸12は、旋回軸10から距離がある、第一の密封表面3の第一の密封平面41に直角の方向に伸びる。図1aおよび1bに見てとれるように、旋回シャフト61の旋回軸10は、第一の開口部面に面する弁ハウジング14のその半分を通して伸びる一方、対照的に、シャフト11のシャフト軸12は、第二の開口部面に面する弁ハウジング14のその半分を通して伸びる。一つの第一のアーム29は、それぞれの場合、共に回転するようにシャフト11上に配置されている。合計で三つの第一のアーム29は、図1eに示すように、相互に平行に、かつ、シャフト軸12に直角に伸びる。第一のアーム29は、シャフト11の回転により、シャフト軸12を中心として旋回することができる。第一のアーム29は、それぞれ、一つの第二のアーム30に結合している。第二のアーム30は、旋回軸10に平行に伸びる第二のアーム軸32を中心として旋回することができるように、弁閉鎖体ビーム4の背面7上の支持体40上に設置されている。各第一のアーム29および第二のアーム30は、第二のアーム軸32に本質的に平行である、第一のアーム軸31を中心として統合されるように、それらの自由端で相互に接続されている。シャフト11、第一のアーム29および第二のアーム30は、したがって、レバー駆動を形成する。これにより、各第一のアーム29は、第二のアーム30を介し、弁閉鎖体ビーム4の背面7上の支持体40に係合し、開放位置Oと閉鎖位置Cとの間において、旋回軸10を中心として弁閉鎖体ビーム4を旋回させるため、シャフト軸12を中心とするシャフト11の回転と、これによる第一のアーム29の旋回とにより、弁閉鎖体ビーム4の背面7に力が加わることを許容する。第一のアーム29および第二のアーム30の長さ、ならびに、シャフト軸12と、第一のアーム軸31と、第二のアーム軸32との間の距離は、図1aに示すように、閉鎖位置Cでシャフト軸12、第一のアーム軸31および第二のアーム軸32が本質的に共通の平面上に所在し、第一のアーム29および第二のアーム30が死点で本質的に一列に並ぶような長さおよび距離である。シャフト軸12を中心として回転することができるシャフト11は、したがって、シャフト軸12を中心としたシャフト11の回転により、旋回軸10を中心とした弁閉鎖体ビーム4の旋回が引き起こされるように、アーム29および30を介し、支持体40および弁閉鎖体ビーム4に動作可能に接続されている。電動モータの形態の駆動装置13は、図1eに示すように、シャフト軸12を中心としてシャフト11を回転させ、開放位置Oと閉鎖位置Cとの間で弁閉鎖体ビーム4を移動させるため、弁ハウジング14の側方に配置されている。本発明により、図1aおよび1bに示すように、弁閉鎖体ビーム4の背面7上に配置されている支持体40と、傾斜軸44が第二の密封平面42上に所在する、弁閉鎖体ビーム4との間において、第二の長手方向軸5に平行に伸びる、傾斜軸44を中心とする旋回可能な接続部43がある。閉鎖体表面8の縁端領域内に配設されている第二の密封表面9は、図1aおよび1bに示すように、背面7の方向に後退する。閉鎖体表面8は、したがって、図1aおよび1bに示すように、Oリング9によって取り囲まれた中央領域内において、弁閉鎖体ビーム4の前面6の方向に第二の密封平面42を越えて突出する。換言すると、図1aに示すように、閉鎖位置Cでは、閉鎖体表面8は、第一の密封平面41を越えて第一の開口部1内に突出する。凹部45は、それぞれの場合、それぞれの支持体40のため、弁閉鎖体ビーム4の背面7上で弁閉鎖体ビーム4の中央領域内に形成され、前面6の方向に第二の密封平面42上へ延伸する。傾斜軸44に沿って長手方向に伸び、弁閉鎖体ビーム4の中央部に形成されている凹部45は、それぞれの場合、少なくとも部分的に傾斜軸44に沿って延伸する、V字形状の溝によって形成され、溝45のベース47は、傾斜軸44に沿ったラインの形態であり、したがって、第二の密封平面42上に伸びる。換言すると、この凹部45は、傾斜軸44および第二の長手方向軸5が直角で通過する仮想的な平面、すなわち、図1aおよび1bの横断面平面に対して内方に収束する、V字形状の横断面を有する。図1dの凹部45のベース47は、図1a、1bおよび1dに示すように、緩やかに収束するV字角度によって形成され、傾斜軸44がそれを通過する。それぞれの支持体40は、それぞれの場合、一つの凸部46を有する。凸部46は、傾斜軸44に沿って延伸し、V字形状の横断面を有するくさびの形態であり、凸部46は、横断面において、点に収束するV字角度によって形成されている尖頭48を有する。換言すると、凸部46は、ラインの形態である尖頭頂部48を持つ、くさび形状である。凸部46は、点に収束する横断面を有し、尖頭48は、傾斜軸44および第二の長手方向軸5が直角で通過する仮想的な平面、すなわち、図1aおよび1bに示す横断面図を参照する。凹部45のV字角度は、凸部46のV字角度を上回り、結果として、凸部46は完全に凹部45内に突出することができ、ラインの形態である頂部48、厳密には、凸部46の尖頭48は、ラインの形態である凹部45のベース47上に載置されている。尖頭48、厳密には、頂部48とベース47との間には、したがって、凸部46と凹部45との間において傾斜軸44上に配設されたライン接触があり、弁閉鎖体ビーム4は、支持体40に対して相対的な傾斜軸41を中心として、旋回することができる。この接触は、旋回可能な接続部43を傾斜継手43aの形態で形成する。それぞれの場合、背面7上に設置された二つのリーフばねの形態のばね配置49は、弁閉鎖体ビーム4と支持体40との間に配置されている。リーフばね49は、凹部45内に突出する凸部46の後方で傾斜軸44に対して横向きに設置され、図1cおよび1dに示すように、弁閉鎖体ビーム4が支持体40上に保持され、凸部46が凹部45内に押し付けられる。リーフばね49は、ねじにより、溝の形態である凹部45と、凹部45内に突出する凸部46とを介して横向きに取り付けられ、このように、結果として、支持体40と閉鎖体ビーム4との間において、傾斜軸44を中心としてばね付き方式で旋回することができる、接続部となる。とりわけ、本発明の軸受配置によって可能にされる、第一の密封平面41上の旋回軸10および第二の密封平面42上の傾斜軸44の本発明の配置は、弁閉鎖体ビーム4が図1aの閉鎖位置Cに移動しているときに押し付けられているとき、密封表面3および9の横向きの移動を防止することを可能にし、結果として、Oリング9が非常に小さい量の摩耗のみを受け、その寿命が相当に増加する。凸部46と凹部45との間のライン接触のため、粒子の、摩擦に依存する発生が低く保たれ、かくして、要求される粒子からの自由が確保される。本発明により、図1a~1eに記載するような傾斜継手43aに代わり、例として、図3に示すような傾斜継手43aの異なる実施態様か、傾斜軸44が第二の密封平面42上に存在する異なる継手、例として、図2のボール継手43bまたは図4の旋回継手43cを使用することも可能である。以下の文章では、可能な代替実施態様を包括的に記載し、既に説明した実施態様からの差のみを記載する。図2は、支持体40と弁閉鎖体ビーム4との間の旋回可能な接続部43を示し、接続部43は、少なくとも一つのボール継手43bによって形成されている。ボール継手43bは、支持体40内に形成されたボール52と、凹部45内に形成された対応するボールホルダ53とによって形成されている。ボール52および対応するボールホルダ53の中心は、傾斜軸44上、したがって、傾斜軸44および第二の長手方向軸5が直角で通過する平面、すなわち、図2に示すような横断面平面に対する第二の密封平面42上にある。さらに、図2に示す代替実施態様は、弁閉鎖体ビーム4と支持体40との間で旋回角度を限定する、旋回止め具50を有する。第二の密封平面42に直角の方向に働くばね51は、弁閉鎖体ビーム4と支持体40との間に配置されている。開放位置Oでは、ばね51は、弁閉鎖体ビーム4を旋回止め具50に押し当て、開放位置Oのときには、弁閉鎖体ビーム4が支持体40に対して傾斜し、旋回軸受60による開放位置Oから閉鎖位置Cへの支持体40および弁閉鎖体ビーム4の旋回中、第一の密封表面3と第二の密封表面9との間で接触が生じているときには、これらの密封表面3および9が相互の上にフラットに載置されるようになる。この配置は、図1a~1eに示すような第一の例示的実施態様でも使用することができる。図3は、凹部45のベース47がフラットであり、第二の密封平面42上で延伸する、第二の代替実施態様を示す。支持体40上の凸部46は、傾斜軸44に沿って延伸し、縁端の形態である、尖頭48を有する。閉鎖位置Cでは、縁端48および凸部46の上側半分は、ベース47上に載置される。閉鎖位置Cから離脱すると直ちに、弁閉鎖体ビーム4は、傾斜軸44および縁端48を中心として、旋回止め具50を形成する凸部46の下側半分の上へ傾斜し、結果として、先に記載したように、開放位置Oのときに弁閉鎖体ビーム4が支持体40に対して傾斜する。この配置は、限定された旋回角度を持つ傾斜継手43aを形成する。さらに、図1a~1eに示す例示的実施態様に対応する方式では、弁閉鎖体ビーム4は、凸部46を凹部45内に押し当てるため、図3に図示しないばね配置49を有する。図4は、旋回継手43cを持つ第三の代替実施態様を示す。傾斜軸44に沿って延伸し、中心軸が傾斜軸44上にあるボルト断面54が凹部45内に配置されている。ボルト断面54は、支持体40に結合されたボルトホルダ55内に保持され、ボルト断面54およびボルトホルダ55、またこれにより、弁閉鎖体ビーム4および支持体40は、第二の密封平面42上に所在する傾斜軸44を中心として、相互に対して相対的に旋回することができ、このようにして旋回継手43cを形成する。この第三の代替実施態様は、図2に示す第一の例示的代替実施態様と同じ様式で、旋回止め具50およびばね51も有し、結果として、弁閉鎖体ビーム4は、フラップ移送弁が閉鎖状態にないときに、規定された位置を取る。図1a~1e、2、3および4に図示および説明した、四つの具体的な例示的実施態様は、概略的な例証に拠って本発明を図示するための例としてのみ役割を果たす。本発明は、当然のことながら、これらの例示的実施態様およびそれらの特徴の組み合わせに制限されない。