"A芳香族ポリカーボネート樹脂0~95重量部、B下記式[1]で表されるポリカーボネートブロックと、下記式[3]で表されるポリジオルガノシロキサンブロックとからなるポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂5~100重量部からなる樹脂成分と該樹脂成分100重量部に対し、C紫外線吸収剤0.01~0.5重量部およびDリン系安定剤0.001~0.1重量部とからなる樹脂組成物であって、ポリカーボネートのマトリックス中にポリジオルガノシロキサンドメインが分散した凝集構造であり、該ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズが5~40nm、規格化分散が30以下であり、全光線透過率が88以上である、共重合樹脂組成物。[式中、R1およびR2は夫々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~18のアルキル基、炭素原子数1~18のアルコキシ基、炭素原子数6~20のシクロアルキル基、炭素原子数6~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数2~10のアルケニル基、炭素原子数3~14のアリール基、炭素原子数3~14のアリールオキシ基、炭素原子数7~20のアラルキル基、炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群から選ばれる基を表し、それぞれ複数ある場合はそれらは同一でも異なっていても良い。eおよびfは夫々1~4の整数である。Wは、単結合もしくは下記式[2]で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一つの基である。式中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17およびR18は夫々独立して、水素原子、炭素原子数1~18のアルキル基、炭素原子数3~14のアリール基および炭素原子数7~20のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。R19およびR20は夫々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~18のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基、炭素原子数6~20のシクロアルキル基、炭素原子数6~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数2~10のアルケニル基、炭素原子数3~14のアリール基、炭素原子数6~10のアリールオキシ基、炭素原子数7~20のアラルキル基、炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群から選ばれる基を表し、複数ある場合はそれらは同一でも異なっていても良い。gは1~10の整数、hは4~7の整数である。]式中、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は夫々独立に、水素原子、炭素数1~12のアルキル基または炭素数6~12の置換若しくは無置換のアリール基である。R9およびR10は夫々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基である。pは自然数であり、qは0または自然数であり、pqは30~70の自然数である。Xは炭素原子数2~8の二価脂肪族基である。該ポリオルガノシロキサンドメインの平均サイズが5~15nmである請求項1記載の共重合樹脂組成物。式[3]で表されるポリジオルガノシロキサンブロックが2-アリルフェノール末端ポリジオルガノシロキサン、もしくは2-メトキシ-4-アリルフェノール末端ポリジオルガノシロキサンより誘導された、請求項1記載の共重合樹脂組成物。式[3]におけるpqが30~60であり、且つ全光線透過率が89以上である、請求項1記載の共重合樹脂組成物。共重合樹脂組成物の全重量を基準にして式[3]で表されるポリジオルガノシロキサンブロックが0.1~50重量である請求項1記載の共重合樹脂組成物。R3、R4、R5、R6、R7、R8がメチル基である、請求項1記載の共重合樹脂組成物。常温、常圧で厚み2mmの平滑平板を用いて測定された蒸留水の接触角が85~105°である請求項1記載の共重合樹脂組成物。紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール型紫外線吸収剤である、請求項1~7のいずれか一項に記載の共重合樹脂組成物。リン系安定剤がホスファイト化合物またはホスフォナイト化合物である、請求項1~8のいずれか一項に記載の共重合樹脂組成物。式[1]で表されるポリカーボネートブロックが2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパンより誘導された請求項1~9のいずれか記載の共重合樹脂組成物。請求項1~10のいずれか記載の樹脂組成物から形成された成形品。ポリカーボネートのマトリックス中にポリジオルガノシロキンサンドメインが分散した凝集構造を有し、該ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズが5~40nm、規格化分散が30以下である請求項11記載の成形品。全光線透過率が88以上である請求項11記載の成形品。請求項1~10のいずれか記載の樹脂組成物から形成される屋外用電子機器表示板。厚みが0.2~1.0mmである請求項14に記載の屋外用電子機器表示板。本発明の目的は、透明性に優れ、屋外曝露時の黄変と衝撃強度の低下が抑制された耐候性、耐熱老化性及び水垢付着防止性に優れたポリカーボネート樹脂組成物および成形品を提供することにある。また、靭性に優れ、屋外での長期使用に対する耐久性、視認性の要求される用途に好適であるポリカーボネート樹脂組成物及び成形品を提供することにある。本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の凝集構造を形成するポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂を含有するポリカーボネート樹脂組成物に、紫外線吸収剤とリン系安定剤を組み合わせて配合すると、格段に高い透明性を維持したまま、耐候性、耐熱老化性、水垢付着防止性に優れ、且つ優れた靭性を備えた樹脂組成物が得られることを見出し、本発明を完成した。即ち本発明によれば、上記課題は下記構成により解決される。1.A芳香族ポリカーボネート樹脂0~95重量部、B下記式[1]で表されるポリカーボネートブロックと、下記式[3]で表されるポリジオルガノシロキサンブロックとからなるポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂5~100重量部からなる樹脂成分と、該樹脂成分100重量部に対し、C紫外線吸収剤0.01~0.5重量部およびDリン系安定剤0.001~0.1重量部とからなる樹脂組成物であって、ポリカーボネートのマトリックス中にポリジオルガノシロキサンドメインが分散した凝集構造であり、該ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズが5~40nm、規格化分散が30以下であり、全光線透過率が88以上である、共重合樹脂組成物。[式中、R1およびR2は夫々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~18のアルキル基、炭素原子数1~18のアルコキシ基、炭素原子数6~20のシクロアルキル基、炭素原子数6~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数2~10のアルケニル基、炭素原子数3~14のアリール基、炭素原子数3~14のアリールオキシ基、炭素原子数7~20のアラルキル基、炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群から選ばれる基を表し、それぞれ複数ある場合はそれらは同一でも異なっていても良い。eおよびfは夫々1~4の整数である。Wは、単結合もしくは下記式[2]で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一つの基である。式中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17およびR18は夫々独立して、水素原子、炭素原子数1~18のアルキル基、炭素原子数3~14のアリール基および炭素原子数7~20のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。R19およびR20は夫々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~18のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基、炭素原子数6~20のシクロアルキル基、炭素原子数6~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数2~10のアルケニル基、炭素原子数3~14のアリール基、炭素原子数6~10のアリールオキシ基、炭素原子数7~20のアラルキル基、炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群から選ばれる基を表し、複数ある場合はそれらは同一でも異なっていても良い。gは1~10の整数、hは4~7の整数である。]式中、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は夫々独立に、水素原子、炭素数1~12のアルキル基または炭素数6~12の置換若しくは無置換のアリール基である。R9およびR10は夫々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基である。pは自然数であり、qは0または自然数であり、pqは30~70未満の自然数である。Xは炭素原子数2~8の二価脂肪族基である。2.該ポリオルガノシロキサンドメインの平均サイズが5~15nmである前記1記載の共重合樹脂組成物。3.式[3]で表されるポリジオルガノシロキサンブロックが2-アリルフェノール末端ポリジオルガノシロキサン、もしくは2-メトキシ-4-アリルフェノール末端ポリジオルガノシロキサンより誘導された、前記1記載の共重合樹脂組成物。4.式[3]におけるpqが30~60であり、且つ全光線透過率が89以上である、前記1記載の共重合樹脂組成物。5.共重合樹脂組成物の全重量を基準にして式[3]で表されるポリジオルガノシロキサンブロックが0.1~50重量である前記1記載の共重合樹脂組成物。6.R3、R4、R5、R6、R7、R8がメチル基である、前記1記載の共重合樹脂組成物。7.常温、常圧で厚み2mmの平滑平板を用いて測定された蒸留水の接触角が85~105°である前記1記載の共重合樹脂組成物。8.紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール型紫外線吸収剤である、前記1~7のいずれかに記載の共重合樹脂組成物。9.リン系安定剤がホスファイト化合物またはホスフォナイト化合物である、前記1~8のいずれかに記載の共重合樹脂組成物10.式[1]で表されるポリカーボネートブロックが2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパンより誘導された前記1~9のいずれか記載の共重合樹脂組成物。11.前記1~10のいずれか記載の共重合樹脂組成物から形成された成形品。12.ポリカーボネートのマトリックス中にポリジオルガノシロキンサンドメインが分散した凝集構造を有し、該ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズが5~40nm、規格化分散が30以下である前記11記載の成形品。13.全光線透過率が88以上である前記11記載の成形品。14.前記1~10のいずれか記載の樹脂組成物から形成される屋外用電子機器表示板。15.厚みが0.2~1.0mmである前記14に記載の屋外用電子機器表示板。本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、透明性と耐候性、耐熱老化性、水垢付着防止性に優れ、さらに高度な靭性を備えているため、屋外での長期使用に対する耐久性、視認性の要求される用途に好適である。従って、その奏する産業上の効果は格別である。以下、本発明の詳細について説明する。A成分:芳香族ポリカーボネート樹脂本発明でA成分として使用される芳香族ポリカーボネート樹脂は、二価フェノールとカーボネート前駆体とを反応させて得られるものである。反応方法の一例として界面重合法、溶融エステル交換法、カーボネートプレポリマーの固相エステル交換法、および環状カーボネート化合物の開環重合法などを挙げることができる。ここで使用される二価フェノールの代表的な例としては、ハイドロキノン、レゾルシノール、4,4’-ビフェノール、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルエタン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン通称ビスフェノールA、2,2-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルブタン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-1-フェニルエタン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルペンタン、4,4’-p-フェニレンジイソプロピリデンジフェノール、4,4’-m-フェニレンジイソプロピリデンジフェノール、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-4-イソプロピルシクロヘキサン、ビス4-ヒドロキシフェニルオキシド、ビス4-ヒドロキシフェニルスルフィド、ビス4-ヒドロキシフェニルスルホキシド、ビス4-ヒドロキシフェニルスルホン、ビス4-ヒドロキシフェニルケトン、ビス4-ヒドロキシフェニルエステル、ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルスルフィド、9,9-ビス4-ヒドロキシフェニルフルオレンおよび9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルフルオレンなどが挙げられる。好ましい二価フェノールは、ビス4-ヒドロキシフェニルアルカンであり、なかでも耐衝撃性の点からビスフェノールAが特に好ましく、汎用されている。本発明では、汎用のポリカーボネートであるビスフェノールA系のポリカーボネート以外にも、他の2価フェノール類を用いて製造した特殊なポリカーボネ-トをA成分として使用することが可能である。例えば、2価フェノール成分の一部又は全部として、4,4’-m-フェニレンジイソプロピリデンジフェノール以下BPMと略称することがある、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン以下Bis-TMCと略称することがある、9,9-ビス4-ヒドロキシフェニルフルオレン及び9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルフルオレン以下BCFと略称することがあるを用いたポリカーボネ-ト単独重合体又は共重合体は、吸水による寸法変化や形態安定性の要求が特に厳しい用途に適当である。これらのBPA以外の2価フェノールは、該ポリカーボネートを構成する2価フェノール成分全体の5モル以上、特に10モル以上、使用するのが好ましい。殊に、高剛性かつより良好な耐加水分解性が要求される場合には、樹脂組成物を構成するA成分が次の1~3の共重合ポリカーボネートであるのが特に好適である。1該ポリカーボネートを構成する2価フェノール成分100モル中、BPMが20~80モルより好適には40~75モル、さらに好適には45~65モルであり、かつBCFが20~80モルより好適には25~60モル、さらに好適には35~55モルである共重合ポリカーボネート。2該ポリカーボネートを構成する2価フェノール成分100モル中、BPAが10~95モルより好適には50~90モル、さらに好適には60~85モルであり、かつBCFが5~90モルより好適には10~50モル、さらに好適には15~40モルである共重合ポリカーボネート。3該ポリカーボネートを構成する2価フェノール成分100モル中、BPMが20~80モルより好適には40~75モル、さらに好適には45~65モルであり、かつBis-TMCが20~80モルより好適には25~60モル、さらに好適には35~55モルである共重合ポリカーボネート。これらの特殊なポリカーボネートは、単独で用いてもよく、2種以上を適宜混合して使用してもよい。また、これらを汎用されているビスフェノールA型のポリカーボネートと混合して使用することもできる。これらの特殊なポリカーボネートの製法及び特性については、例えば、特開平6-172508号公報、特開平8-27370号公報、特開2001-55435号公報及び特開2002-117580号公報等に詳しく記載されている。カーボネート前駆体としてはカルボニルハライド、炭酸ジエステルまたはハロホルメートなどが使用され、具体的にはホスゲン、ジフェニルカーボネートまたは二価フェノールのジハロホルメートなどが挙げられる。前記二価フェノールとカーボネート前駆体の界面重合によって芳香族ポリカーボネート樹脂を製造するに当っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、二価フェノールが酸化するのを防止するための酸化防止剤などを使用してもよい。また本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂は三官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分岐ポリカーボネート樹脂、芳香族または脂肪族脂環式を含むの二官能性カルボン酸を共重合したポリエステルカーボネート樹脂、二官能性アルコール脂環式を含むを共重合した共重合ポリカーボネート樹脂、並びにかかる二官能性カルボン酸および二官能性アルコールを共に共重合したポリエステルカーボネート樹脂を含む。また、得られた芳香族ポリカーボネート樹脂の2種以上を混合した混合物であってもよい。分岐ポリカーボネート樹脂は、本発明の樹脂組成物に、ドリップ防止性能などを付与できる。かかる分岐ポリカーボネート樹脂に使用される三官能以上の多官能性芳香族化合物としては、フロログルシン、フロログルシド、または4,6-ジメチル-2,4,6-トリス4-ヒドロキジフェニルヘプテン-2、2,4,6-トリメチル-2,4,6-トリス4-ヒドロキシフェニルヘプタン、1,3,5-トリス4-ヒドロキシフェニルベンゼン、1,1,1-トリス4-ヒドロキシフェニルエタン、1,1,1-トリス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルエタン、2,6-ビス2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェノール、4-{4-[1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルエチル]ベンゼン}-α,α-ジメチルベンジルフェノール等のトリスフェノール、テトラ4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス2,4-ジヒドロキシフェニルケトン、1,4-ビス4,4-ジヒドロキシトリフェニルメチルベンゼン、またはトリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸およびこれらの酸クロライド等が挙げられ、中でも1,1,1-トリス4-ヒドロキシフェニルエタン、1,1,1-トリス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルエタンが好ましく、特に1,1,1-トリス4-ヒドロキシフェニルエタンが好ましい。分岐ポリカーボネートにおける多官能性芳香族化合物から誘導される構成単位は、2価フェノールから誘導される構成単位とかかる多官能性芳香族化合物から誘導される構成単位との合計100モル中、好ましくは0.01~2モル、より好ましくは0.05~1.2モル、特に好ましくは0.05~1.0モルである。また、特に溶融エステル交換法の場合、副反応として分岐構造単位が生ずる場合があるが、かかる分岐構造単位量についても、2価フェノールから誘導される構成単位との合計100モル中、0.001~2モル、好ましくは0.005~1.2モル、特に好ましくは0.01~1.0モルであるものが好ましい。なお、かかる分岐構造の割合については1H-NMR測定により算出することが可能である。脂肪族の二官能性のカルボン酸は、α,ω-ジカルボン酸が好ましい。脂肪族の二官能性のカルボン酸としては例えば、セバシン酸デカン二酸、ドデカン二酸、テトラデカン二酸、オクタデカン二酸、イコサン二酸などの直鎖飽和脂肪族ジカルボン酸、並びにシクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸が好ましく挙げられる。二官能性アルコールとしては脂環族ジオールがより好適であり、例えばシクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール、およびトリシクロデカンジメタノールなどが例示される。本発明で使用されるポリカーボネート樹脂の製造方法である界面重合法、溶融エステル交換法、カーボネートプレポリマー固相エステル交換法、および環状カーボネート化合物の開環重合法などの反応形式は、各種の文献及び特許公報などで良く知られている方法である。本発明において、A成分である芳香族ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量Mvは、特に限定されないが、好ましくは1×104~5×104であり、より好ましくは1.4×104~3×104であり、さらに好ましくは1.4×104~2.4×104である。粘度平均分子量が1×104未満の芳香族ポリカーボネート樹脂では、良好な機械的特性が得られない。一方、粘度平均分子量が5×104を超える芳香族ポリカーボネート樹脂から得られる樹脂組成物は、射出成形時の流動性に劣る点で汎用性に劣る。なお、前記芳香族ポリカーボネート樹脂は、その粘度平均分子量が前記範囲外のものを混合して得られたものであってもよい。殊に、前記範囲5×104を超える粘度平均分子量を有する芳香族ポリカーボネート樹脂は、樹脂のエントロピー弾性が向上する。その結果、構造部材に成形する際に使用されることのあるガスアシスト成形、および発泡成形において、良好な成形加工性を発現する。かかる成形加工性の改善は前記分岐ポリカーボネートよりもさらに良好である。より好適な態様としては、A成分が粘度平均分子量7×104~3×105の芳香族ポリカーボネート樹脂A-1-1成分、および粘度平均分子量1×104~3×104の芳香族ポリカーボネート樹脂A-1-2成分からなり、その粘度平均分子量が1.6×104~3.5×104である芳香族ポリカーボネート樹脂A-1成分以下、高分子量成分含有芳香族ポリカーボネート樹脂と称することがあるも使用できる。かかる高分子量成分含有芳香族ポリカーボネート樹脂A-1成分において、A-1-1成分の分子量は7×104~2×105が好ましく、より好ましくは8×104~2×105、さらに好ましくは1×105~2×105、特に好ましくは1×105~1.6×105である。またA-1-2成分の分子量は1.0×104~2.5×104が好ましく、より好ましくは1.1×104~2.4×104、さらに好ましくは1.2×104~2.4×104、特に好ましくは1.2×104~2.3×104である。高分子量成分含有芳香族ポリカーボネート樹脂A-1成分は前記A-1-1成分とA-1-2成分を種々の割合で混合し、所定の分子量範囲を満足するよう調整して得ることができる。好ましくは、A-1成分100重量中、A-1-1成分が2~40重量の場合であり、より好ましくはA-1-1成分が3~30重量であり、さらに好ましくはA-1-1成分が4~20重量であり、特に好ましくはA-1-1成分が5~20重量である。また、A-1成分の調製方法としては、1A-1-1成分とA-1-2成分とを、それぞれ独立に重合しこれらを混合する方法、2特開平5-306336号公報に示される方法に代表される、GPC法による分子量分布チャートにおいて複数のポリマーピークを示す芳香族ポリカーボネート樹脂を同一系内において製造する方法を用い、かかる芳香族ポリカーボネート樹脂を本発明のA-1成分の条件を満足するよう製造する方法、および3かかる製造方法2の製造方法により得られた芳香族ポリカーボネート樹脂と、別途製造されたA-1-1成分および/またはA-1-2成分とを混合する方法などを挙げることができる。B成分:ポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂本発明のポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂以下、共重合樹脂と略すことがある。は、式[1]のポリカーボネートブロックおよび式[3]のポリジオルガノシロキサンブロックを含有する。式[1]のポリカーボネートブロックポリカーボネートブロックは、下記式[1]で表される。式[1]において、R1およびR2は夫々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~18のアルキル基、炭素原子数1~18のアルコキシ基、炭素原子数6~20のシクロアルキル基、炭素原子数6~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数2~10のアルケニル基、炭素原子数3~14のアリール基、炭素原子数3~14のアリールオキシ基、炭素原子数7~20のアラルキル基、炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群から選ばれる基を表す。R1およびR2が夫々複数ある場合は、それらは同一でも異なっていても良い。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。炭素原子数1~18のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基等が挙げられる。好ましくは炭素原子数1~6のアルキル基である。炭素原子数1~18のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキトキシ基、オクトキシ基、等が挙げられる。炭素原子数1~6のアルキル基が好ましい。炭素原子数6~20のシクロアルキル基として、シクロへキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。炭素原子数6~12のシクロアルキル基が好ましい。炭素原子数6~20のシクロアルコキシ基として、好ましくはシクロへキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基等が挙げられる。炭素原子数6~12のシクロアルキル基が好ましい。炭素原子数2~10のアルケニル基として、メテニル基、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基等が挙げられる。炭素原子数1~6のアルキル基が好ましい。炭素原子数3~14のアリール基として、フェニル基、ナフチル基等挙げられる。炭素原子数3~14のアリールオキシ基として、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。炭素原子数7~20のアラルキル基として、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基として、ベンジルオキシ基、フェニルエチルオキシ基等が挙げられる。eおよびfは夫々独立に1~4の整数である。Wは、単結合もしくは下記式[2]で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一つの基である。式[2]においてR11、R12、R13、R14、R15、R16、R17およびR18は夫々独立して、水素原子、炭素原子数1~18のアルキル基、炭素原子数3~14のアリール基および炭素原子数7~20のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表わす。炭素原子数1~18のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等が挙げられる。好ましくは炭素原子数1~6のアルキル基である。炭素原子数3~14のアリール基として、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。これらは置換されていてもよい。置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素原子数1~6のアルキル基が挙げられる。炭素原子数7~20のアラルキル基として、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。R19およびR20は夫々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~18のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基、炭素原子数6~20のシクロアルキル基、炭素原子数6~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数2~10のアルケニル基、炭素原子数3~14のアリール基、炭素原子数6~10のアリールオキシ基、炭素原子数7~20のアラルキル基、炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群から選ばれる基を表す。複数ある場合はそれらは同一でも異なっていても良い。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。炭素原子数1~18のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基等が挙げられる。好ましくは炭素原子数1~6のアルキル基である。炭素原子数1~10のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられる。炭素原子数1~6のアルキル基が好ましい。炭素原子数6~20のシクロアルキル基として、シクロへキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。炭素原子数6~12のシクロアルキル基が好ましい。炭素原子数6~20のシクロアルコキシ基として、シクロへキシルオキシ基、シクロオクチル基等が挙げられる。炭素原子数6~12のシクロアルキル基が好ましい。炭素原子数2~10のアルケニル基として、メテニル基、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基等が挙げられる。炭素原子数1~6のアルキル基が好ましい。炭素原子数3~14のアリール基として、フェニル基、ナフチル基等挙げられる。炭素原子数3~14のアリールオキシ基として、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。炭素原子数7~20のアラルキル基として、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。炭素原子数7~20のアラルキルオキシ基として、ベンジルオキシ基、フェニルエチルオキシ基等が挙げられる。gは1~10の整数、好ましくは1~6の整数である。hは4~7の整数、好ましくは4~5の整数である。式[1]で表されるポリカーボネートブロックは、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパンより誘導されたブロックであることが好ましい。ポリカーボネートブロックの長さは、式[1]の繰り返し単位の平均数で、好ましくは10~100、より好ましくは30~80、さらに好ましくは35~65である。式[1]で表されるポリカーボネートブロックの含有量は、共重合樹脂の全重量を基準にして、好ましくは50~99.9重量、より好ましくは70~99.5重量、さらに好ましくは80~99.0重量である。式[3]のポリジオルガノシロキサンブロックポリジオルガノシロキサンブロックは、下記式[3]で表される。上記式[3]において、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は夫々独立に、水素原子、炭素数1~12のアルキル基または炭素数6~12の置換若しくは無置換のアリール基である。炭素数1~12のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等が挙げられる。好ましくは炭素原子数1~6のアルキル基である。炭素数6~12の置換若しくは無置換のアリール基として、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。置換基としてメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などの炭素数1~12のアルキル基が挙げられる。R3、R4、R5、R6、R7、R8がメチル基であることが好ましい。R9およびR10は夫々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基である。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。炭素原子数1~10のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等が挙げられる。好ましくは炭素原子数1~6のアルキル基である。炭素原子数1~10のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキソキシ基、へプトキシ基、オクトキシ基、等が挙げられる。好ましくは炭素原子数1~6のアルキルコキシ基である。pは自然数であり、qは0または自然数であり、pqは30~70の自然数である。pは好ましくは5~70、より好ましくは30~60である。qは好ましくは0~65、より好ましくは0~50である。pqは好ましくは30~60、より好ましくは35~55、特に好ましくは35~50である。Xは、炭素数2~8の二価脂肪族基である。二価脂肪族基として、炭素数2~8のアルキレン基が挙げられる。アルキレン基としてエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等が挙げられる。式[3]で表されるポリジオルガノシロキサンブロックが2-アリルフェノール末端ポリジオルガノシロキサン、もしくは2-メトキシ-4-アリルフェノール末端ポリジオルガノシロキサンより誘導されたブロックであることが好ましい。即ち、式[3]においてXがトリメチレン基でR9およびR10が水素原子であるか、もしくはXがトリメチレン基でR9およびR10がメトキシ基であることが好ましい。式[3]で表されるポリジオルガノシロキサンブロックの含有量は、共重合樹脂の全重量を基準にして、好ましくは0.1~50重量、より好ましくは0.5~30重量、さらに好ましくは1.0~20重量である。共重合樹脂の粘度平均分子量は、好ましくは5.0×103~5.0×104、より好ましくは1.0×104~4.0×104、更に好ましくは1.5×104~3.5×104、特に好ましくは1.7×104~2.5×104である。共重合樹脂の粘度平均分子量が5.0×103未満では、多くの分野において実用上の機械的強度が得られにくく、5.0×104を超えると、溶融粘度が高く、概して高い成形加工温度を必要とするため、樹脂の熱劣化などの不具合を生じやすい。ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズ、規格化分散本発明のポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂は、ポリカーボネートポリマーのマトリックス中にポリジオルガノシロキサンドメインが分散した凝集構造である。なお、本発明においてポリジオルガノシロキサンドメインとは、ポリカーボネートのマトリックス中に分散したポリジオルガノシロキサンを主成分とするドメインをいい、他の成分を含んでもよい。上述の如く、ポリジオルガノシロキサンドメインは、マトリックスたるポリカーボネートとの相分離により構造が形成されることから、必ずしも単一の成分から構成されない。ポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂の全重量に占めるポリジオルガノシロキサン含有量は0.1~50重量が好ましい。かかるポリジオルガノシロキサン成分含有量はより好ましくは0.5~30重量、さらに好ましくは1~20重量である。かかる好適な範囲の下限以上では、耐衝撃性や難燃性に優れ、かかる好適な範囲の上限以下では、成形条件の影響を受けにくい安定した透明性が得られやすい。かかるジオルガノシロキサン重合度、ポリジオルガノシロキサン含有量は、1H-NMR測定により算出することが可能である。ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズは、5~40nm、好ましくは5~15nm、より好ましくは7~12nmである。かかる平均サイズの下限は、好ましくは6nmであり、より好ましくは7nmである。かかる平均サイズの上限は、好ましくは20nm、より好ましくは15nm、特に好ましくは12nmである。かかる範囲の下限未満では、耐衝撃性や難燃性が十分に発揮されず、かかる範囲の上限を超えると透明性が安定して発揮されない。本発明のポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂のポリジオルガノシロキサンドメインは、規格化分散が30以下である。ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズが好適な範囲であっても、その規格化分散が30を超えると良好かつ安定した透明性が発揮されない。かかるポリジオルガノシロキサンドメインサイズの規格化分散は、好ましくは25以下、さらに好ましくは20以下である。かかる規格化分散の下限は実用上7以上が好ましく、10以上がより好ましい。かかる適切なドメインの平均サイズと、その規格化分散を有することにより、透明性と耐衝撃性、ならびに難燃性の両立に優れた共重合樹脂組成物およびその成形品が提供される。本発明におけるポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂組成物成形品のポリジオルガノシロキサンドメインの平均ドメインサイズ、規格化分散は、小角エックス線散乱法SmallAngleX-rayScattering:SAXSにより評価される。小角エックス線散乱法とは、散乱角2θが10°未満の範囲の小角領域で生じる散漫な散乱回折を測定する方法である。この小角エックス線散乱法では、物質中に電子密度の異なる1~100nm程度の大きさの領域があると、その電子密度差によりエックス線の散漫散乱が計測される。この散乱角と散乱強度に基づいて測定対象物の粒子径を求める。ポリカーボネートポリマーのマトリックス中にポリジオルガノシロキサンドメインが分散した凝集構造となる共重合樹脂組成物の場合、ポリカーボネートマトリックスとポリジオルガノシロキサンドメインの電子密度差により、エックス線の散漫散乱が生じる。散乱角2θが10°未満の範囲の各散乱角2θにおける散乱強度Iを測定して、小角エックス線散乱プロファイルを測定し、ポリジオルガノシロキサンドメインが球状ドメインであり、粒径分布のばらつきが存在すると仮定して、仮の粒径と仮の粒径分布モデルから、市販の解析ソフトウェアを用いてシミュレーションを行い、ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズと粒径分布規格化分散を求める。小角エックス線散乱法によれば、透過型電子顕微鏡による観察では正確に測定できない、ポリカーボネートポリマーのマトリックス中に分散したポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズと粒径分布を、精度よく、簡便に、かつ再現性良く測定することができる。平均ドメインサイズとは個々のドメインサイズの数平均を意味する。規格化分散とは、粒径分布の広がりを平均サイズで規格化したパラメータを意味する。具体的には、ポリジオルガノシロキサンドメインサイズの分散を平均ドメインサイズで規格化した値であり、下記式1で表される。上記式1において、σはポリジオルガノシロキサンドメインサイズの標準偏差、Davは平均ドメインサイズである。本発明に関連して用いる用語平均ドメインサイズ、規格化分散は、射出成形により形成される厚み1.0mmの成形品を用いて、小角エックス線散乱法により測定することにより得られる測定値を示す。具体的には、射出成形により成形した3段型プレート幅50mm、長さ90mm、厚みがゲート側から3.0mm長さ20mm、2.0mm長さ45mm、1.0mm長さ25mm、表面の算術平均粗さRaが0.03μmを用いて、厚み1.0mm部の端部より5mm、側部より5mmの交点におけるポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズと粒径分布規格化分散を小角エックス線散乱法により測定したものである。なお、ポリジオルガノシロキサン含有量が極少量、もしくは散乱体であるポリジオルガノシロキサンドメインのサイズが極微小の場合、小角エックス線散乱法において十分な散乱強度が得られず平均ドメインサイズ、規格化分散を解析することができない。このような事例に対して、表1において測定不能と表記した。全光線透過率ヘイズ本発明のポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂は、射出成形により形成される厚み2.0mmの成形品において、その全光線透過率が88以上である。かかる全光線透過率は好ましくは88.5以上、より好ましくは89以上である。一方、その上限は好ましくは92、より好ましくは91.5である。また、本発明のポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂組成物からなる厚み2.0mmの成形品において、そのヘイズは0.3~20が好ましい。かかるヘイズは、より好ましくは0.5~10、さらに好ましくは0.6~5、特に好ましくは0.6~2である。全光線透過率は、透明性のレベルを表示するもので、ASTM-D1003-61の方法E308による、入射光に対する透過光の比を意味する。本発明に関連して用いる用語ヘイズは、透明性のレベルを表示するもので、試験片を通過する際に前方散乱により入射光束から逸れる透過光の割合を意味するASTM-D1003-61。すなわち、全光線透過率が高く、ヘイズが低いほど透明性に優れる。共重合樹脂の製造方法ポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂は、工程iおよび工程iiにより製造することができる。工程i工程iは、水に不溶性の有機溶媒とアルカリ水溶液との混合液中において、下記式[4]で表わされる二価フェノールIとホスゲンとを反応させ、末端クロロホーメート基を有するカーボネートオリゴマーを含有する溶液を調製する工程である。式中、R1、R2、e、fおよびWは前記と同じである。式[4]で表される二価フェノールIとしては、例えば、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、ビス4-ヒドロキシフェニルメタン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルエタン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-1-フェニルエタン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルプロパン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、2,2-ビス4-ヒドロキシ-3,3’-ビフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシ-3-イソプロピルフェニルプロパン、2,2-ビス3-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルブタン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルオクタン、2,2-ビス3-ブロモ-4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス3-シクロヘキシル-4-ヒドロキシフェニルプロパン、1,1-ビス3-シクロヘキシル-4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、ビス4-ヒドロキシフェニルジフェニルメタン、9,9-ビス4-ヒドロキシフェニルフルオレン、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルフルオレン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロペンタン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエ-テル、4,4’-ジヒドロキシ-3,3’-ジメチルジフェニルエ-テル、4,4’-スルホニルジフェノール、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、2,2’-ジメチル-4,4’-スルホニルジフェノール、4,4’-ジヒドロキシ-3,3’-ジメチルジフェニルスルホキシド、4,4’-ジヒドロキシ-3,3’-ジメチルジフェニルスルフィド、2,2’-ジフェニル-4,4’-スルホニルジフェノール、4,4’-ジヒドロキシ-3,3’-ジフェニルジフェニルスルホキシド、4,4’-ジヒドロキシ-3,3’-ジフェニルジフェニルスルフィド、1,3-ビス{2-4-ヒドロキシフェニルプロピル}ベンゼン、1,4-ビス{2-4-ヒドロキシフェニルプロピル}ベンゼン、1,4-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、1,3-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、4,8-ビス4-ヒドロキシフェニルトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン、4,4’-1,3-アダマンタンジイルジフェノール、および1,3-ビス4-ヒドロキシフェニル-5,7-ジメチルアダマンタン等が挙げられる。なかでも、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-1-フェニルエタン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルプロパン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、4,4’-スルホニルジフェノール、2,2’-ジメチル-4,4’-スルホニルジフェノール、9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルフルオレン、1,3-ビス{2-4-ヒドロキシフェニルプロピル}ベンゼン、および1,4-ビス{2-4-ヒドロキシフェニルプロピル}ベンゼンが好ましい。殊に2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサンBPZ、4,4’-スルホニルジフェノール、および9,9-ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルフルオレンが好ましい。中でも強度に優れ、良好な耐久性を有する2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパンが最も好適である。また、これらは単独または二種以上組み合わせて用いてもよい。工程iでは、水に不溶性の有機溶媒とアルカリ水溶液との混合液中において、二価フェノールIと、ホスゲンや二価フェノールIのクロロホルメート等のクロロホルメート形成性化合物との反応により、二価フェノールIのカーボネートオリゴマーであって末端クロロホーメート基を有するオリゴマーを含有する溶液を調製する。カーボネートオリゴマーの重合度は、好ましくは1.0~10.0、より好ましくは2.0~8.0、さらに好ましくは1.5~4.0である。該溶液には、重合してない重合度=1の二価フェノールIのクロロホルメート化物も含まれる。二価フェノールIからのクロロホルメート化合物を生成するにあたり、二価フェノールIの全量を一度にクロロホルメート化合物としてもよく、または、その一部を後添加モノマーとして後段の界面重縮合反応に反応原料として添加してもよい。後添加モノマーとは、後段の重縮合反応を速やかに進行させるために加えるものであり、必要のない場合には敢えて加える必要はない。このクロロホルメートオリゴマー生成反応の方法は特に限定はされないが、通常、酸結合剤の存在下、溶媒中で行う方式が好適である。更に、所望に応じ、亜硫酸ナトリウム、およびハイドロサルファイドなどの酸化防止剤を少量添加してもよく、添加することが好ましい。クロロホルメート形成性化合物としてはホスゲンが好適である。クロロホルメート形成性化合物の使用割合は、反応の化学量論比当量を考慮して適宜調整すればよい。また、好適なクロロホルメート形成性化合物であるホスゲンを使用する場合、ガス化したホスゲンを反応系に吹き込む方法が好適に採用できる。前記酸結合剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、および水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、および炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、並びにピリジンの如き有機塩基、あるいはこれらの混合物などが用いられる。酸結合剤の使用割合も、上記同様に、反応の化学量論比当量を考慮して適宜定めればよい。具体的には、二価フェノールIのクロロホルメート化合物の形成に使用する二価フェノールI1モルあたり通常1モルは2当量に相当、2当量若しくはこれより若干過剰量の酸結合剤を用いることが好ましい。前記溶媒としては、公知のポリカーボネートの製造に使用されるものなど各種の反応に不活性な溶媒を1種単独であるいは混合溶媒として使用すればよい。代表的な例としては、例えば、キシレンの如き炭化水素溶媒、並びに、塩化メチレンおよびクロロベンゼンをはじめとするハロゲン化炭化水素溶媒などが挙げられる。特に塩化メチレンの如きハロゲン化炭化水素溶媒が好適に用いられる。得られるポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂の透明性向上のためには、固形分濃度を下げることが有効である。二価フェノールIの濃度は、好ましくは400g/L以下、より好ましくは300g/L以下、更に好ましくは250g/L以下である。二価フェノールIの濃度は、安定した透明性の点からは低いほど好ましいものの、製造効率の観点から、その下限は100g/L以上が好ましい。水に不溶性の有機溶媒の量は、二価フェノールI1モルあたり、好ましくは8モル以上、より好ましくは10モル以上、さらに好ましくは12モル以上、特に好ましくは14モル以上である。上限は特に制限されないが、装置の大きさやコストの面から50モル以下で充分である。二価フェノールIに対する有機溶媒のモル比をかかる範囲内とすることにより、ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズおよび規格化分散を、より適正値に制御しやすくなる。その結果、高シロキサン重合度のヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIpqが30~70からなる共重合樹脂であっても、安定して全光線透過率が高く、ヘイズの低いポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂を与え得る。さらに、かかる共重合樹脂は成形条件の透明性への影響が少なく、安定して透明性の高い成形品を与え得る。クロロホルメート化合物の生成反応における圧力は特に制限はなく、常圧、加圧、もしくは減圧のいずれでもよいが、通常、常圧下で反応を行うことが有利である。反応温度は-20~50°Cの範囲から選ばれ、多くの場合、反応に伴い発熱するので、水冷または氷冷することが望ましい。反応時間は他の条件に左右され一概に規定できないが、通常、0.2~10時間で行われる。クロロホルメート化合物の生成反応におけるpH範囲は、公知の界面反応条件が利用でき、pHは通常10以上に調製される。工程ii工程iiは、工程iで得られた溶液を攪拌しながら下記式[5]で表わされるヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIを、該溶液の調整にあたり仕込まれた二価フェノールIの量1モルあたり、0.01モル/min以下の速度で加え、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIとカーボネートオリゴマーとを界面重縮合させる工程である。式中、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、p、qおよびXは前記と同じである。式[5]で表されるヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIとしては、例えば次に示すような化合物式[6]が好適に用いられる。ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIは、オレフィン性の不飽和炭素-炭素結合を有するフェノール類、好適にはビニルフェノール、2-アリルフェノール、イソプロペニルフェノール、2-メトキシ-4-アリルフェノールを所定の重合度を有するポリシロキサン鎖の末端に、ハイドロシリレーション反応させることにより容易に製造される。なかでも、2-アリルフェノール末端ポリジオルガノシロキサン、2-メトキシ-4-アリルフェノール末端ポリジオルガノシロキサンが好ましく、殊に2-アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサン、および2-メトキシ-4-アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンが好ましい。また、高度な透明性を実現するためにヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIのジオルガノシロキサン重合度pqは30~70である。かかるジオルガノシロキサン重合度pqは、好ましくは30~60、より好ましくは35~55、特に好ましくは35~50である。かかる好適な範囲の下限以上では、耐衝撃性や難燃性に優れ、かかる好適な範囲の上限以下では、透明性に優れる。すなわち、かかる上限以下の共重合樹脂は、ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズと規格化分散を小さくしやすい。その結果、高温で長時間シリンダー内に滞留される成形条件下にあっても、優れた透明性を有する樹脂成形品を得ることができる。上記上限以下のポリジオルガノシロキサン単位は、その単位重量あたりのモル数が増加し、ポリカーボネート中に該単位が均等に組み込まれやすくなる。ジオルガノシロキサン重合度が大きいと、ポリジオルガノシロキサン単位のポリカーボネート中への組み込みが不均等になるとともに、ポリマー分子中のポリジオルガノシロキサン単位の割合が増加する。そのため、該単位を含むポリカーボネートと、含まないポリカーボネートとが生じやすく、かつ相互の相溶性が低下しやすくなる。その結果として大きなポリジオルガノシロキサンドメインが生じやすくなる。一方で、耐衝撃性や難燃性の観点からは、ポリジオルガノシロキサンドメインがある程度大きい方が有利であることから、上記の如く好ましい重合度の範囲が存在する。ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIは1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。また、本発明の製造方法の妨げにならない範囲で、上記二価フェノールI、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンII以外の他のコモノマーを共重合樹脂の全重量に対して10重量以下の範囲で併用することもできる。本発明においては、工程iで末端クロロホルメート基を有する、二価フェノールIのカーボネートオリゴマーを含む溶液を調整した後、工程iiにおいて該溶液を攪拌しながら式[5]で表わされるヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIを、該混合溶液の調整にあたり仕込まれた二価フェノールIの量1モルあたり、0.01モル/min以下の速度で加え、該ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIと該クロロホーメート化合物とを界面重縮合させることにより、ポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂を得る。本発明を何らかの理論により限定するものではないが、かかる方法により、所定のドメインサイズおよび該ドメインサイズの規格化分散を小さくできる理由を以下のように推察する。従来の方法では、二価フェノールIとヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIとの混合物に対してホスゲンを反応させるため、二価フェノールIとヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIとの反応性の差から一方のモノマーのみからなる連鎖長の長いブロック共重合樹脂が形成されやすい。さらには、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIが二価フェノールIからなる短鎖のカーボネートオリゴマーを介して結合した構造が形成されやすい。一方、本発明のプロセスには、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンII濃度の急増を抑制し、その結果、該モノマーと末端クロロホルメート基を有する二価フェノールIのカーボネートオリゴマーとの反応を着実に進展させ、未反応のヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIの量を低減することができる。かかる低減は、二価フェノールIとヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIとの反応性の差を解消し、一方のモノマーのみからなる連鎖長の長いブロック共重合樹脂や、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIが二価フェノールIからなる短鎖のカーボネートオリゴマーを介して結合した構造の形成確率を低下させると考えられる。これにより、ポリジオルガノシロキサンドメインサイズの規格化分散の小さい凝集構造が形成され、そして透明性が高く、成形条件に影響され難い熱安定性に優れた共重合樹脂が得られると推測される。上述のヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIの添加速度が、0.01モル/minより速い場合、得られるポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂の成形品において、内部に分散したポリジオルガノシロキサンドメインサイズの規格化分散が40を超え、透明性が悪化しやすくなる。さらに、成形加工条件によっては良好な透明性が得られない、または成形加工条件により透明性がばらつきやすくなる。上述のヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIの添加速度が0.0001モル当量/minよりも遅い場合、生産効率上好ましくなく、また得られる共重合樹脂のポリジオルガノシロキサン成分含有量が少なくなり、分子量がばらつく傾向があるため好ましくない。したがって、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIの添加速度の下限は実質的には0.0001モル当量/minである。ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIの添加速度は、該溶液の調製にあたり仕込まれた二価フェノールIの量1モルあたり、より好ましくは0.005モル/min以下、更に好ましくは0.0025モル/min以下、特に好ましくは0.0015モル/min以下の速度であり、下限はより好ましくは0.0002モル/min以上の速度である。また、均一分散性を高めるため、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIは、溶媒と混合して溶液状態で、末端クロロホルメート化合物を含有する混合溶液中に投入することが望ましい。該溶液の濃度は、反応を阻害しない範囲内で希薄であることが望ましく、好ましくは、0.01~0.2モル/Lの範囲、より好ましくは0.02~0.1モル/Lの範囲である。尚、かかる溶媒は特に限定されないものの、上述のクロロホルメート化合物の生成反応に使用する溶媒と同一が好ましく、特に塩化メチレンが好ましい。界面重縮合反応を行うにあたり、酸結合剤を反応の化学量論比当量を考慮して適宜追加してもよい。酸結合剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、および水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、および炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、並びにピリジンの如き有機塩基、あるいはこれらの混合物などが用いられる。具体的には、使用するヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンII、または上記の如く二価フェノールIの一部を後添加モノマーとしてこの反応段階に添加する場合には、後添加分の二価フェノールIとヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIとの合計モル数通常1モルは2当量に相当に対して2当量若しくはこれより過剰量のアルカリを用いることが好ましい。二価フェノールIのオリゴマーとヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンIIとの界面重縮合反応は、上記混合液を激しく攪拌することにより行われる。かかる重縮合反応においては、末端停止剤或いは分子量調節剤が通常使用される。末端停止剤としては一価のフェノール性水酸基を有する化合物が挙げられ、通常のフェノール、p-tert-ブチルフェノール、p-クミルフェノール、トリブロモフェノールなどの他に、長鎖アルキルフェノール、脂肪族カルボン酸クロライド、脂肪族カルボン酸、ヒドロキシ安息香酸アルキルエステル、ヒドロキシフェニルアルキル酸エステル、アルキルエーテルフェノールなどが例示される。その使用量は用いる全ての二価フェノール系化合物100モルに対して、100~0.5モル、好ましくは50~2モルの範囲であり、二種以上の化合物を併用することも当然に可能である。重縮合反応を促進するために、トリエチルアミンのような第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩などの触媒を添加することができ、添加することが好ましい。特に好適にはトリエチルミンが利用される。かかる重合反応の反応時間は、透明性を向上させるためには比較的長くする必要がある。好ましくは30分以上、更に好ましくは50分以上であり、製造効率の点からその上限は好ましくは2時間以下、より好ましくは1.5時間以下である。本発明のポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂は、分岐化剤を上記の二価フェノール系化合物と併用して分岐化ポリカーボネート共重合樹脂とすることができる。かかる分岐ポリカーボネート樹脂に使用される三官能以上の多官能性芳香族化合物としては、フロログルシン、フロログルシド、または4,6-ジメチル-2,4,6-トリス4-ヒドロキジフェニルヘプテン-2、2,4,6-トリメチル-2,4,6-トリス4-ヒドロキシフェニルヘプタン、1,3,5-トリス4-ヒドロキシフェニルベンゼン、1,1,1-トリス4-ヒドロキシフェニルエタン、1,1,1-トリス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルエタン、2,6-ビス2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェノール、4-{4-[1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルエチル]ベンゼン}-α,α-ジメチルベンジルフェノール等のトリスフェノール、テトラ4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス2,4-ジヒドロキシフェニルケトン、1,4-ビス4,4-ジヒドロキシトリフェニルメチルベンゼン、またはトリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸およびこれらの酸クロライド等が挙げられる。中でも1,1,1-トリス4-ヒドロキシフェニルエタン、1,1,1-トリス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルエタンが好ましく、特に1,1,1-トリス4-ヒドロキシフェニルエタンが好ましい。かかる分岐化ポリカーボネート共重合樹脂の製造方法は、クロロホルメート化合物の生成反応時にその混合溶液中に分岐化剤が含まれる方法であっても、該生成反応終了後の界面重縮合反応時に分岐化剤が添加される方法であってもよい。分岐化剤由来のカーボネート構成単位の割合は、該共重合樹脂を構成するカーボネート構成単位全量中、好ましくは0.005~1.5モル、より好ましくは0.01~1.2モル、特に好ましくは0.05~1.0モルである。なお、かかる分岐構造量については1H-NMR測定により算出することが可能である。可能である。重縮合反応における系内の圧力は、減圧、常圧、もしくは加圧のいずれでも可能であるが、通常は、常圧若しくは反応系の自圧程度で好適に行い得る。反応温度は-20~50°Cの範囲から選ばれ、多くの場合、重合に伴い発熱するので、水冷または氷冷することが望ましい。反応時間は反応温度等の他の条件によって異なるので一概に規定はできないが、通常、0.5~10時間で行われる。場合により、得られたポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂に適宜物理的処理混合、分画などおよび/または化学的処理ポリマー反応、架橋処理、部分分解処理などを施して所望の還元粘度[ηSP/c]の共重合樹脂として取得することもできる。得られた反応生成物粗生成物は公知の分離精製法等の各種の後処理を施して、所望の純度精製度のポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂として回収することができる。。C成分:紫外線吸収剤本発明のポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂を含有する樹脂においては、耐光性を付与することを目的として紫外線吸収剤が配合される。紫外線吸収剤としては、具体的にはベンゾフェノン系では、例えば、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-ベンジロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5-スルホキシベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシ-5-ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス5-ベンゾイル-4-ヒドロキシ-2-メトキシフェニルメタン、2-ヒドロキシ-4-n-ドデシルオキシベンソフェノン、および2-ヒドロキシ-4-メトキシ-2’-カルボキシベンゾフェノンなどが例示される。紫外線吸収剤としては、具体的に、ベンゾトリアゾール系では、例えば、2-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニルベンゾトリアゾ-ル、2-2-ヒドロキシ-5-tert-オクチルフェニルベンゾトリアゾ-ル、2-2-ヒドロキシ-3,5-ジクミルフェニルフェニルベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2,2’-メチレンビス[4-1,1,3,3-テトラメチルブチル-6-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェノール]、2-2-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾ-ル、2-2-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ブチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-アミルフェニルベンゾトリアゾ-ル、2-2-ヒドロキシ-5-tert-オクチルフェニルベンゾトリアゾ-ル、2-2-ヒドロキシ-5-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾ-ル、2-2-ヒドロキシ-4-オクトキシフェニルベンゾトリアゾ-ル、2,2’-メチレンビス4-クミル-6-ベンゾトリアゾールフェニル、2,2’-p-フェニレンビス1,3-ベンゾオキサジン-4-オン、および2-[2-ヒドロキシ-3-3,4,5,6-テトラヒドロフタルイミドメチル-5-メチルフェニル]ベンゾトリアゾ-ル、並びに2-2’-ヒドロキシ-5-メタクリロキシエチルフェニル-2H-ベンゾトリアゾールと該モノマーと共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体や2-2’―ヒドロキシ-5-アクリロキシエチルフェニル―2H―ベンゾトリアゾールと該モノマーと共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体などの2-ヒドロキシフェニル-2H-ベンゾトリアゾール骨格を有する重合体などが例示される。紫外線吸収剤は、具体的に、ヒドロキシフェニルトリアジン系では、例えば、2-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル-5-ヘキシルオキシフェノール、2-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル-5-メチルオキシフェノール、2-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル-5-エチルオキシフェノール、2-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル-5-プロピルオキシフェノール、および2-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル-5-ブチルオキシフェノールなどが例示される。さらに2-4,6-ビス2,4-ジメチルフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル-5-ヘキシルオキシフェノールなど、上記例示化合物のフェニル基が2,4-ジメチルフェニル基となった化合物が例示される。紫外線吸収剤は、具体的に環状イミノエステル系では、例えば2,2’-p-フェニレンビス3,1-ベンゾオキサジン-4-オン、2,2’-m-フェニレンビス3,1-ベンゾオキサジン-4-オン、および2,2’-p,p’-ジフェニレンビス3,1-ベンゾオキサジン-4-オンなどが例示される。また紫外線吸収剤としては、具体的にシアノアクリレート系では、例えば1,3-ビス-[2’-シアノ-3’,3’-ジフェニルアクリロイルオキシ]-2,2-ビス[2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリロイルオキシ]メチルプロパン、および1,3-ビス-[2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリロイルオキシ]ベンゼンなどが例示される。さらに上記紫外線吸収剤は、ラジカル重合が可能な単量体化合物の構造をとることにより、かかる紫外線吸収性単量体および/または光安定性単量体と、アルキルメタアクリレートなどの単量体とを共重合したポリマー型の紫外線吸収剤であってもよい。前記紫外線吸収性単量体としては、メタアクリル酸エステルのエステル置換基中にベンゾトリアゾール骨格、ベンゾフェノン骨格、トリアジン骨格、環状イミノエステル骨格、およびシアノアクリレート骨格を含有する化合物が好適に例示される。前記の中でも紫外線吸収能の点においてはベンゾトリアゾール系およびヒドロキシフェニルトリアジン系が好ましく、耐熱性や色相の点では、環状イミノエステル系およびシアノアクリレート系が好ましい。前記紫外線吸収剤は単独であるいは2種以上の混合物で用いてもよい。紫外線吸収剤の配合量は、樹脂成分100重量部に対しては0.01~0.5重量部でありより好ましくは0.02~0.4重量部、さらに好ましくは0.03~0.35重量部、特に好ましくは0.05~0.3重量部である。上記好適な範囲の上限以上においては成形品の初期色相YI値が高くなるため好ましくない。また、上記好適な範囲の下限以下においては、耐候性が十分に発揮されない。D成分:リン系安定剤本発明のポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂を含有する樹脂は、加水分解性を促進させない目的で、リン系安定剤が配合される。かかるリン系安定剤は製造時または成形加工時の熱安定性を向上させ、機械的特性、色相、および成形安定性を向上させる。リン系安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステル、並びに第3級ホスフィンなどが例示される。具体的にはホスファイト化合物としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、2,2-メチレンビス4,6-ジ-tert-ブチルフェニルオクチルホスファイト、トリスジエチルフェニルホスファイト、トリスジ-iso-プロピルフェニルホスファイト、トリスジ-n-ブチルフェニルホスファイト、トリス2,4-ジ-tert-ブチルフェニルホスファイト、トリス2,6-ジ-tert-ブチルフェニルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス2,4-ジ-tert-ブチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス2,6-ジ-tert-ブチル-4-エチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールAペンタエリスリトールジホスファイト、ビスノニルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。更に他のホスファイト化合物としては二価フェノール類と反応し環状構造を有するものも使用できる。例えば、2,2’-メチレンビス4,6-ジ-tert-ブチルフェニル2,4-ジ-tert-ブチルフェニルホスファイト、2,2’-メチレンビス4,6-ジ-tert-ブチルフェニル2-tert-ブチル-4-メチルフェニルホスファイト、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-tert-ブチルフェニル2-tert-ブチル-4-メチルフェニルホスファイト、2,2’-エチリデンビス4-メチル-6-tert-ブチルフェニル2-tert-ブチル-4-メチルフェニルホスファイトなどを挙げることができる。ホスフェート化合物としては、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどを挙げることができ、好ましくはトリフェニルホスフェート、トリメチルホスフェートである。ホスホナイト化合物としては、テトラキス2,4-ジ-tert-ブチルフェニル-4,4’-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス2,4-ジ-tert-ブチルフェニル-4,3’-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス2,4-ジ-tert-ブチルフェニル-3,3’-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス2,6-ジ-tert-ブチルフェニル-4,4’-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス2,6-ジ-tert-ブチルフェニル-4,3’-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス2,6-ジ-tert-ブチルフェニル-3,3’-ビフェニレンジホスホナイト、ビス2,4-ジ-tert-ブチルフェニル-4-フェニル-フェニルホスホナイト、ビス2,4-ジ-tert-ブチルフェニル-3-フェニル-フェニルホスホナイト、ビス2,6-ジ-n-ブチルフェニル-3-フェニル-フェニルホスホナイト、ビス2,6-ジ-tert-ブチルフェニル-4-フェニル-フェニルホスホナイト、ビス2,6-ジ-tert-ブチルフェニル-3-フェニル-フェニルホスホナイト等が挙げられ、テトラキスジ-tert-ブチルフェニル-ビフェニレンジホスホナイト、ビスジ-tert-ブチルフェニル-フェニル-フェニルホスホナイトが好ましく、テトラキス2,4-ジ-tert-ブチルフェニル-ビフェニレンジホスホナイト、ビス2,4-ジ-tert-ブチルフェニル-フェニル-フェニルホスホナイトがより好ましい。かかるホスホナイト化合物は上記アルキル基が2以上置換したアリール基を有するホスファイト化合物との併用可能であり好ましい。ホスホネイト化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、およびベンゼンホスホン酸ジプロピル等が挙げられる。第3級ホスフィンとしては、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリアミルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルオクチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ-p-トリルホスフィン、トリナフチルホスフィン、およびジフェニルベンジルホスフィンなどが例示される。特に好ましい第3級ホスフィンは、トリフェニルホスフィンである。上記リン系安定剤は、1種のみならず2種以上を混合して用いることができる。上記リン系安定剤の中でもトリメチルホスフェートに代表されるアルキルホスフェート化合物が配合されることが好ましい。またかかるアルキルホスフェート化合物と、ホスファイト化合物および/またはホスホナイト化合物との併用も好ましい態様である。リン系安定剤の配合量は、樹脂成分100重量部に対し、0.001~0.1重量部であり、より好ましくは0.005~0.08重量部、さらに好ましくは0.01~0.05重量部である。上記好適な範囲の上限以上においては過剰な熱安定剤の存在により樹脂の各種物性が著しく低下し、さらには生産性が悪化するため好ましくない。また、上記好適な範囲の下限以下においては、熱安定性が十分に発揮されない。紫外線吸収剤とリン系熱安定剤の併用により、紫外線曝露に対する黄変が抑制され、成形加工段階での樹脂劣化に対する黄変も抑制される。結果として、透明性意匠性に優れた物品を製造することが可能となる。特に、ポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂の黄変抑制に対してはこれらの添加剤の併用が効果的である。樹脂組成物およびその成形品本発明の樹脂組成物は、0~95重量の芳香族ポリカーボネートA成分および5~95重量の上記ポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂B成分からなる樹脂成分と、該樹脂成分100重量部に対し、C紫外線吸収剤0.01~0.5重量部およびDリン系安定剤0.001~0.1重量部とからなる樹脂組成物であってポリカーボネートポリマーのマトリックス中にポリジオルガノシロキサンドメインが分散した凝集構造であり、該ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズが5~40nm、規格化分散が30以下であり、全光線透過率が88以上である、樹脂組成物である。B成分のポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂は前述の通りである。本発明の樹脂組成物において、B成分の含有量は、95~5重量、好ましくは80~10重量、より好ましくは50~20重量である。本発明の樹脂組成物は、ポリカーボネートポリマーのマトリックス中にポリジオルガノシロキサンドメインが分散した凝集構造である。本発明の樹脂組成物中のポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズは5~40nm、好ましくは5~15nm、より好ましくは7~12nmである。平均サイズの下限は、好ましくは5nmであり、より好ましくは7nmである。かかる平均サイズの上限は、好ましくは20nm、より好ましくは15nm、特に好ましくは12nmである。本発明の樹脂組成物中のポリジオルガノシロキサンドメインの規格化分散は、30以下、好ましくは25以下、さらに好ましくは20以下である。かかる規格化分散の下限は実用上7以上が好ましく、10以上がより好ましい。ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズ、規格化分散は本発明の共重合樹脂と同じ定義であり、同じ方法で測定する。本発明の樹脂組成物は、射出成形により形成される厚み2.0mmの成形品において、その全光線透過率が88以上である。かかる全光線透過率は好ましくは88.5以上、より好ましくは89以上である。一方、その上限は好ましくは92、より好ましくは91.5である。また、本発明の樹脂組成物からなる厚み2.0mmの成形品において、そのヘイズは0.3~20が好ましい。かかるヘイズは、より好ましくは0.5~10、さらに好ましくは0.6~5、特に好ましくは0.6~2である。樹脂組成物の全光線透過率、ヘイズは、本発明の共重合体と同じ定義であり、同じ方法で測定する。本発明の樹脂組成物は、上記ポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂B成分に類似した凝集構造、ドメインの平均サイズ、規格化分散、全光線透過率を示す。本発明における樹脂組成物からなる成形品は、厚み2.0mm部の常温、常圧で測定された蒸留水の接触角が85~105°であることが好ましい。かかる下限未満では屋外使用による水垢付着が激しく、好ましくない。また、上記上限はベースとなるポリカーボネート樹脂表面の接触角を考慮すると適切である。本発明の共重合樹脂組成物は、ポリカーボネート樹脂、ポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂、紫外線吸収剤およびリン系安定剤成分を混合することにより製造又は調製できる。混合方法としては、特に限定されず、例えば、リボンブレンダ、タンブルミキサ、ヘンシェルミキサなどの混合機や、オープンローラ、ニーダ、バンバリーミキサ、押出機などの混練機による混合手段などを用いた溶融混練による方法が利用できる。これらの混合方法は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。また、本発明の共重合樹脂組成物は、単軸押出機、二軸押出機の如き押出機を用いて、溶融混練することによりペレット化することができる。本発明の共重合樹脂組成物は、前記の如く製造されたペレットを射出成形して各種製品を製造することができる。更にペレットを経由することなく、押出機で溶融混練された樹脂を直接シート、フィルム、異型押出成形品、ダイレクトブロー成形品、および射出成形品にすることも可能である。かかる射出成形においては、通常の成形方法だけでなく、適宜目的に応じて、射出圧縮成形、射出プレス成形、ガスアシスト射出成形、発泡成形超臨界流体の注入によるものを含む、インサート成形、インモールドコーティング成形、断熱金型成形、急速加熱冷却金型成形、二色成形、サンドイッチ成形、および超高速射出成形などの射出成形法を用いて成形品を得ることができる。これら各種成形法の利点は既に広く知られるところである。また成形はコールドランナー方式およびホットランナー方式のいずれも選択することができる。また本発明の共重合樹脂組成物は、押出成形により各種異形押出成形品、シート、およびフィルムなどの形で利用することもできる。またシート、フィルムの成形にはインフレーション法や、カレンダー法、キャスティング法なども使用可能である。さらに特定の延伸操作をかけることにより熱収縮チューブとして成形することも可能である。また本発明の共重合樹脂組成物を回転成形やブロー成形などにより成形品とすることも可能である。これにより優れた透明性を有する共重合樹脂組成物の成形品が提供される。即ち、本発明によれば、ポリカーボネートポリマーのマトリックス中にポリジオルガノシロキサンドメインが分散した凝集構造であり、ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズが5~40nm、規格化分散が30以下であり、全光線透過率が88以上であることを特徴とするポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂組成物からなる成形品が提供される。更に本発明の共重合樹脂組成物からなる成形品には、各種の表面処理を行うことが可能である。ここでいう表面処理とは、蒸着物理蒸着、化学蒸着など、メッキ電気メッキ、無電解メッキ、溶融メッキなど、塗装、コーティング、印刷などの樹脂成形品の表層上に新たな層を形成させるものであり、通常のポリカーボネート樹脂に用いられる方法が適用できる。表面処理としては、具体的には、ハードコート、撥水撥油コート、紫外線吸収コート、赤外線吸収コート、並びにメタライジング蒸着などなどの各種の表面処理が例示される。以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、これらは本発明を限定するものではない。特記しない限り、実施例中の部は重量部であり、は重量である。なお、評価は下記の方法に従った。1粘度平均分子量Mv次式にて算出される比粘度ηSPを20°Cで塩化メチレン100mlに共重合樹脂組成物0.7gを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求め、比粘度ηSP=t-t0/t0[t0は塩化メチレンの落下秒数、tは試料溶液の落下秒数]求められた比粘度ηSPから次の数式により粘度平均分子量Mvを算出する。ηSP/c=[η]0.45×[η]2c但し[η]は極限粘度[η]=1.23×10-4Mv0.83c=0.72ポリジオルガノシロキサン成分含有量日本電子株式会社製JNM-AL400を用い、共重合樹脂組成物の1H-NMRスペクトルを測定し、二価フェノールI由来のピークの積分比とヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンII由来のピークの積分比を比較することにより算出した。3全光線透過率およびヘイズ共重合樹脂、及びポリカーボネート樹脂をベント式二軸押出機テクノベル株製,KZW15-25MGによって、温度260°Cで紫外線吸収剤及びリン系安定剤を添加混錬し、ペレット化した。得られたペレットを120°Cで5時間熱風乾燥した後、射出成形機日本製鋼所株製,JSWJ-75EIIIを用いて、成形温度280°C、金型温度80°C、成形サイクル50秒にて幅50mm、長さ90mm、厚みがゲート側から3.0mm長さ20mm、2.0mm長さ45mm、1.0mm長さ25mmであり、算術平均粗さRaが0.03μmである3段型プレートを成形した。かかる3段型プレートの厚み2.0mm部における全光線透過率とヘイズを日本電飾工業株製HazeMeterNDH2000を用い、ASTMD1003に準拠し測定した。4ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズと規格化分散3で作成した3段型プレートを用いて、厚み1.0mm部の端部より5mm、側部より5mmの交点におけるポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズと粒径分布規格化分散を、X線回折装置株リガク社製RINT-TTRIIを用いて測定した。X線源として、CuKα特性エックス線波長0.1541841nm、管電圧50kV、管電流300mAで行った。小角散乱光学系は、Slit:1st0.03mm、HS10mm、SS0.2mm、RS0.1mmとした。測定は、非対称走査法2θスキャンにより、FT0.01°ステップ、4sec/step、走査範囲0.06-3°として実施した。カーブフィッティングの解析には、株リガク社製小角散乱解析ソフトウェアNANO-SolverVer.3.3を使用した。解析はポリカーボネートポリマーのマトリックス中にポリジオルガノシロキサンの球状ドメインが分散した凝集構造であり、粒径分布のばらつきが存在すると仮定して、ポリカーボネートマトリックスの密度を1.2g/cm3、ポリジオルガノシロキサンドメインの密度を1.1g/cm3とし、粒子間相互作用粒子間干渉を考慮しない孤立粒子モデルにて実施した。5接触角3で作成した3段型プレートを温度23°C、湿度50RHの室内に24時間静置させた後、同室内で厚み2.0mm部にマイクロシリンジを用いて液滴直径1.5mmのイオン交換水を滴下し、接触角を測定した。測定装置には協和界面科学製FACE接触計、型式CA-Aを用いた。6色相YI値3で作成した3段型プレートの厚さ2.0mm部を日本電色株製色差計SE-2000型を用いて透過光を測定したX、YおよびZ値からASTM-E1925に基づき、下記式を用いて算出した。YI値が大きいほど成形板の黄色味が強いことを示す。また、YI値が大きいほど成形板の曇り度が強いことを示す。YI値=[1001.28X-1.06Z]/Y7耐侯性試験3で作成した3段型プレートをサンシャインウェザーメータースガ試験機製:WEL-SUN-HCH-Bを使用しブラックパネル温度63°C、湿度50、18分間水噴霧と102分間噴霧無しの計120分サイクルで1000時間処理した後の、厚さ2.0mm部の色相YI値を上記評価6と同様の方法で測定した。処理前に対する処理後のYI値の差であるΔYI値を算出した。ΔYI値が小さいほど色相変化が小さく、水垢付着による表面曇り度が低いため、耐候性及び耐水垢付着性に優れる。8耐熱老化性試験3で作成したペレットを120°Cで5時間熱風乾燥した後、射出成形機日本製鋼所株製JSWJ-75EIIIを用いて、成形温度280°C、金型温度80°C、成形サイクル50秒にて長さ80mm、幅10mm、厚み4mmの試験片を成形した。かかる試験片にISO179に準拠してノッチを施し、ノッチ面を露光面としてサンシャインウェザーメータースガ試験機製:WEL-SUN-HCH-Bを使用しブラックパネル温度63°C、湿度50、18分間水噴霧と102分間噴霧無しの計120分サイクルで360時間処理した後、ISO179に準拠してノッチ付シャルピー衝撃強度を測定した。試験片10本で測定を行い、その平均値を表1に記載した。9耐水垢付着性試験7で処理した3段型プレート表面に付着した水垢の程度を目視にて判定した。○:水垢付着なし、もしくは軽度×:水垢付着が激しいA芳香族ポリカーボネート樹脂A-1:ビスフェノールA及び末端停止剤としてp-tert-ブチルフェノール、並びにホスゲンから界面重縮合法で合成した直鎖状芳香族ポリカーボネート樹脂パウダー帝人化成株製:パンライトL-1225WX商品名、粘度平均分子量19700Bポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂製造例1B-1工程温度計、撹拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水21592部、48.5水酸化ナトリウム水溶液3675部を入れ、式[4]で表される二価フェノールIとして2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパンビスフェノールA3897部17.07モル、およびハイドロサルファイト7.6部を溶解した後、塩化メチレン14565部二価フェノールI1モルに対して10モルを加え、撹拌下22~30°Cでホスゲン1900部を60分要して吹き込んだ。工程48.5水酸化ナトリウム水溶液1131部、p-tert-ブチルフェノール108部を塩化メチレン800部に溶解した溶液を加え、攪拌しながら式[5]で表される二価フェノールIIとして下記構造のポリジオルガノシロキサン化合物信越化学工業株製X-22-1821430部0.1405モルを塩化メチレン1600部に溶解した溶液を、二価フェノールIIが二価フェノールIの量1モルあたり0.0004モル/minとなる速度で加えて乳化状態とした後、再度激しく撹拌した。かかる攪拌下、反応液が26°Cの状態でトリエチルアミン4.3部を加えて温度26~31°Cにおいて1時間撹拌を続けて反応を終了した。式[7]分離、精製反応終了後、有機相を分離し、塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで温水を張ったニーダーに投入して、攪拌しながら塩化メチレンを蒸発し、ポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂のパウダーを得た。得られた共重合樹脂の粘度平均分子量、ポリジオルガノシロキサン成分含有量、ならびに共重合樹脂組成物成形品の全光線透過率、ヘイズ、ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズ、ポリジオルガノシロキサンドメインサイズの規格化分散を測定した。小角エックス線散乱プロファイルa、粒径分布bを図1に示す。滞留試験によるヘイズの変化Δヘイズを測定した。測定結果を表1に示す。製造例2B-2式[5]で表される二価フェノールII信越化学工業株製X-22-1821215部用いた以外は、実施例1と同様にした。工程iにおける平均オリゴマー重合度は1.88であった。測定結果を表1に併記する。製造例3B-3式[5]で表される二価フェノールII信越化学工業株製X-22-1822E215部用いた以外は、実施例1と同様にした。式[8]測定結果を表1に併記する。製造例4B-4式[5]で表される二価フェノールIIとして、下記構造のポリジオルガノシロキサン化合物信越化学工業株製X-22-1875を215部用いた以外は、実施例1と同様にした。式[9]測定結果を表1に併記する。実施例1~5、比較例1~8樹脂組成物表1記載の各成分を各配合量で配合し、ブレンダーにて混合した後、ベント式二軸押出機テクノベル株製,KZW15-25MGによって溶融混錬してペレットを得た。押出条件は、吐出量2.5kg/h、スクリュー回転数250rpmであり、押出温度は第1供給口からダイス部分まで260°Cとした。得られたペレットを使用して評価した結果を表1に示す。表1中に記号で表記した各成分の内容は以下の通りである。A成分A-1:ビスフェノールAおよび末端停止剤としてp-tert-ブチルフェノール、並びにホスゲンから界面重縮合法で合成した直鎖状芳香族ポリカーボネート樹脂パウダー帝人化成株製:パンライトL-1225WX商品名、粘度平均分子量19,700B成分B-1:製造例1にて合成したポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂B-2:製造例2にて合成したポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂B-3:製造例3にて合成したポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂B-4:製造例4にて合成したポリカーボネート-ポリジオルガノシロキサン共重合樹脂C成分Cベンゾトリアゾール型紫外線吸収剤UV-1:2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-1,1,3,3-テトラメチルブチルフェノールケミプロ化成株製:ケミソーブ79商品名/融点:104°CD成分リン系安定剤P-1:トリス2,4-ジ-tert-ブチルフェニルホスファイトチバスペシャリティーケミカルズ株製:イルガフォス168"