"光パルスを伝送する光ファイバシステムにおける光パルスをモニタする光パルスのモニタ方法であって、光パルスを発生させる光源からの光パルスを、光サーキュレータを介して、分散補償量を変化できる可変型分散補償器と干渉計とを経由させて、2光子吸収を利用した受光器に受光させ、該受光器からの受光信号をA/DコンバータでA/D変換させてコンピュータに送り、該コンピュータにより前記A/D変換された受光信号を演算処理し、前記干渉計により、入射した光パルスを2つに分けて、少なくとも一方の光路の光路長を周期的に変化させ、前記2つに分けられた光パルスを重畳させ、前記受光器に受光させて、少なくとも、前記受光器からの信号強度の時間的変化をモニタに表示することを特徴とする光パルスのモニタ方法。請求項1に記載の光パルスのモニタ方法において、前記受光器に、半導体レーザまたはフォトダイオードを用いる光パルスのモニタ方法。請求項1に記載の光パルスのモニタ方法において、前記光源に波長域1μmの光パルスを発生させ、前記受光器に波長635nmのレーザダイオードを用いる光パルスのモニタ方法。請求項1に記載の光パルスのモニタ方法において、前記分散補償器は、入射した光パルスを、波長毎に異なる回折角で透過する第1回折格子と、該第1回折格子に対して相対的に距離を変化させることが可能で、前記第1回折格子を透過した光パルスを、波長毎に異なる回折角で透過する透過する第2回折格子と、該第2回折格子を透過した光パルスを反射する反射器と、を備え、前記分散補償器において、前記第1回折格子と前記第2回折格子との距離を変化させて、分散補償量を変化させる光パルスのモニタ方法。請求項1に記載の光パルスのモニタ方法において、前記干渉計は、ビームスプリッタと、回転可能な透明板と、反射器と、を備え、前記分散補償器を経由した光パルスが、前記ビームスプリッタにより2つに分光されて、それぞれ第1光路と第2光路を進み、前記第1光路では、分光された一方の光パルスが、第1反射器で反射されて、前記回転可能な透明板を通過し第2反射器で反射され、進んできた光路を戻り、前記ビームスプリッタを通過し出射され、前記第2光路では、分光された他方の光パルスが、第3反射器で反射されて、前記回転可能な透明板を通過し第4反射器で反射され、進んできた光路を戻り、前記ビームスプリッタを通過し出射され、前記透明板を回転させることによって、前記分光された2つの光パルスが通過する前記透明板の厚みの違いによる光路差により、前記分光された2つの光パルス間に、周期的な時間差を生じさせる光パルスのモニタ方法。請求項1に記載の光パルスのモニタ方法において、予め、前記光源の発生する光パルスのパワーがピークとなるように調整するとともに、光パルスのモニタに用いる光パルスモニタ装置自体の分散補償量が求めておき、前記光源から前記受光器までの間の光路に被測定物を配置し、該被測定物を含む分散補償量を測定し、測定した分散補償量と前記モニタ装置自体の分散補償量との差を求めて、該被測定物の分散補償量を算出する光パルスのモニタ方法。しかし現状では、1μmの波長帯域において、光ファイバ内でどの程度の波長分散が起こっているかを正確に測定する方法は、確立されていない。さらに、特に1μmの波長帯域において、光通信ネットワークシステムに用いられるレーザ装置の発生している光パルスの時間幅を正確に求める方法も、確立されていない。そこで本発明の目的は、光ファイバやレーザを含む光通信ネットワークシステムに適用可能で、レーザ装置における光パルスをモニタすることができる光パルスのモニタ方法を提供することである。本発明による光パルスのモニタ方法の特徴は、まず分散補償量を変化できる可変型分散補償器を用いることにより、光ファイバを含んで構成される光パルスモニタ装置の全体の分散を補償できることである。また、光パルスのモニタ方法では、可変型分散補償器により分散補償された光パルスを感度よく検出するために、受光器として2光子吸収を利用した受光器を用いている。さらに、本発明による光パルスのモニタ方法の特徴は、2光子吸収を利用した受光器にて、光パルスを効率的に感度よく検出するために、干渉計により2つに分光した光パルスを、周期的に重畳していることである。すなわち、本発明による光パルスのモニタ方法は、光パルスを伝送する光ファイバシステムにおける光パルスをモニタする光パルスのモニタ方法であって、光パルスを発生させる光源からの光パルスを、光サーキュレータを介して、分散補償量を変化できる可変型分散補償器と干渉計とを経由させて、2光子吸収を利用した受光器に受光させ、該受光器からの受光信号をA/DコンバータでA/D変換させてコンピュータに送り、該コンピュータにより前記A/D変換された受光信号を演算処理し、前記干渉計により、入射した光パルスを2つに分けて、それぞれ、異なる光路を進ませ、反射器により反射させて元の光路を進ませ、再び1つの光パルスとして出射させるとともに、前記2つに分けられた光パルスの光路のうち、少なくとも一方の光路の光路長を周期的に変化させ、前記2つに分けられた光パルスを重畳させ、前記受光器に受光させて、少なくとも、前記受光器からの信号強度の時間的変化をモニタに表示することを特徴とする。前記光パルスのモニタ方法において、前記受光器に、半導体レーザまたはフォトダイオードを用いるとよい。前記光パルスのモニタ方法において、前記光源により波長域1μmの光パルスを発生させ、前記受光器に、波長635nmのレーザダイオードを用いるとよい。前記光パルスのモニタ方法において、前記分散補償器は、入射した光パルスを、波長毎に異なる回折角で透過する第1回折格子と、該第1回折格子に対して相対的に距離を変化させることが可能で、前記第1回折格子を透過した光パルスを、波長毎に異なる回折角で透過する透過する第2回折格子と、該第2回折格子を透過した光パルスを反射する反射器と、を備え、前記分散補償器において、前記第1回折格子と前記第2回折格子との距離を変化させて、分散補償量を変化させるとよい。前記光パルスのモニタ方法において、前記干渉計は、ビームスプリッタと、回転可能な透明板と、反射器と、を備え、前記分散補償器を経由した光パルスが、前記ビームスプリッタにより2つに分光されて、それぞれ第1光路と第2光路を進み、前記第1光路では、分光された一方の光パルスが、第1反射器で反射されて、前記回転可能な透明板を通過し第2反射器で反射され、進んできた光路を戻り、前記ビームスプリッタを通過し出射され、前記第2光路では、分光された他方の光パルスが、第3反射器で反射されて、前記回転可能な透明板を通過し第4反射器で反射され、進んできた光路を戻り、前記ビームスプリッタを通過し出射され、前記透明板を回転させることによって、前記分光された2つの光パルスが通過する前記透明板の厚みの違いによる光路差により、前記分光された2つの光パルス間に、周期的な時間差を生じさせるとよい。前記光パルスのモニタ方法において、予め、前記光源の発生する光パルスのパワーがピークとなるように調整するとともに、光パルスのモニタに用いる光パルスモニタ装置自体の分散補償量が求めておき、前記光源から前記受光器までの間の光路に被測定物を配置し、該被測定物を含む分散補償量を測定し、測定した分散補償量と前記モニタ装置自体の分散補償量との差を求めて、該被測定物の分散補償量を算出するとよい。本発明による光パルスのモニタ方法は、上述のように構成されているので、光パルスの時間幅や波形をモニタすることができる。したがって、本発明の光パルスのモニタ方法によれば、光パルスの時間幅をモニタしながら、光パルスの発生条件を調整できるので、光源の発生可能な最短の光パルス、すなわち時間幅が最も狭い光パルスを容易に得られるようになる。したがって、ピークパワーの得られる光パルスの発生条件が容易に得られることになる。また、本発明の光パルスのモニタ方法によれば、光パルスの波形をモニタできるので、波形を解析することができる。したがって、光パルスに長い波長の光が混在していることや、パルス波形の対称性、パルスのシャープネス、光パルスがピークにあることなど、光パルスの状態を把握することが可能となる。実施例以下に、図面を参照しながら、本発明による光パルスのモニタ方法を説明する。光パルスモニタ装置の基本的構成図1は、光パルスモニタ装置の概略の構成を示すブロック図である。本発明による光パルスのモニタ方法は、このような光パルスモニタ装置を用いて実施することができる。光パルスモニタ装置100は、光パルスを発生させる光源20と、光サーキュレータ30と、可変型分散補償器40と、干渉計50と、受光器60と、A/Dコンバータ70と、受光器で受光した信号を演算処理するソフトウエアを備えたコンピュータ80とを含んで構成されている。光パルスモニタ装置100を構成する可変型分散補償器40は、分散補償量を変化することができる。光パルスモニタ装置100を構成する干渉計50は、入射した光パルスを2つに分けて、それぞれ異なる光路を進ませ、反射器により反射させて元の光路を進ませ、再び1つの光パルスにして出射させるような構成を有し、前記2つに分けられた光パルスの光路のうち、少なくとも一方の光路の光路長を変化させるように構成されている。光パルスモニタ装置100において、受光した信号を処理するソフトウエアは、少なくとも、前記受光器60からの信号強度の時間的変化をモニタに表示するプログラムを有している。光パルスモニタ装置の動作つぎに、光パルスモニタ装置100の動作の一例について、図2を用いて説明する。光源20から発生された光パルスは、光サーキュレータ30を介して、まず可変型分散補償器40に入射される。図2に示した光パルスモニタ装置における可変型分散補償器40は、第1回折格子41と第2回折格子42との距離を、例えば図示しないスライド機構により相対的に変化させることで、分散補償量を変化させることが可能となっている可変型分散補償器である。この可変型分散補償器40によって、光ファイバ2を含んで構成される光パルスモニタ装置100において発生する、すべての波長分散を補償することが可能である。図示した光パルスモニタ装置100において、光源20と光サーキュレータ30、光サーキュレータ30と可変型分散補償器40、光サーキュレータ30と干渉計50、干渉計50と受光器60との間はそれぞれ、光ファイバ2を介して接続されている。可変型分散補償器40において、第1回折格子41は入射した光パルスを波長毎に異なる回折角で透過させ、第2回折格子42は第1回折格子41を透過した光パルスを波長毎に異なる回折角で透過させる。ここで、第1回折格子41と第2回折格子42とは、互いに平行に配置されており、例えばスライド機構によりその距離を相対的に変化させたときも、平行状態は保たれるようになっている。第2回折格子42を透過してきた光パルスは、反射器43によって反射され、元の光路を逆方向に進行する。第1回折格子41と第2回折格子42との距離を適切に調整すると、光ファイバ2を含む光パルスモニタ装置100の全体の分散を補償することができる。図3のグラフは、第1回折格子41および第2回折格子42の距離と、分散補償量との関係の一例を示している。横軸は回折格子間の距離であり、縦軸は分散を表している。ここで、第1回折格子41および第2回折格子42には、回折構造が600本/mmのピッチで形成されている。なお、本明細書において、回折格子間の距離は、第1回折格子41および第2回折格子42において、各回折格子面の中心間の光学距離である。ただし、この光学距離は、各回折格子の基板の屈折率を考慮したものとする。グラフから、第1回折格子および第2回折格子との距離が大きくなると、補償される分散量が直線的に大きくなることがわかる。この分散補償器では、第1回折格子および第2回折格子との距離を100mmとすると、0.26psnmの分散を補償できることがわかる。また、図4のグラフは、使用する波長と分散の関係の一例を示している。波長が1000nmから1300nmまで長くなると、分散量の負の絶対値が小さくなり、1275nm付近で0となっていることがわかる。なお、分散補償器は、図2に示したものに限られず、図5に示したファイバブラッググレーティング45により構成されていてもよい。このFBGを含んで構成される分散補償器でも、温度勾配を設けたり、機械的なストレスを与えたりすることによって、分散補償量を変化させることが可能である。ファイバブラッググレーティングとは、光ファイバのコアの屈折率に周期的な屈折率変化が形成されているファイバ型デバイスである。FBGに形成されている屈折率変化は回折格子として働き、グレーティングの周期が作るブラッグ反射条件を満たす波長の光のみを反射させることができる。このため、FBGは分散補償器として用いることができる。さらにFBGにおいて、その長手方向に温度勾配を設けたり、機械的なストレスを与えたりすると、ブラッグ反射条件を変化させうることが知られており、分散量を可変できるFBGが提案されている例えば、特開2006-023688号公報、特開2006-078649号公報。このように、ブラッグ反射条件を変化させると、分散補償量を変化させることができるので、上述のような構成を有するFBGは可変型分散補償器として用いることができる。続いて、可変型分散補償器40により分散補償された光パルスは、光サーキュレータ30によって光ファイバ2を介して、干渉計50に出射される。この干渉計50では、入射した光パルスを2つに分けて、それぞれ、異なる光路を進ませ、反射器により反射させて元の光路を進ませ、再び1つの光パルスとして出射されるとともに、2つに分けられた光パルスの光路のうち、少なくとも一方の光路の光路長を周期的に変化させるように構成されている。干渉計50において、2つに分けられた光パルスの光路のうち、少なくとも一方の光路の光路長を周期的に変化させることによって、2つの光パルスは、周期的に光路長が一致して重畳され、より強調されるようになる。図2に示した光パルスモニタ装置100における干渉計50は、ビームスプリッタ55と、回転可能な透明板56と、反射器51,52,53,54と、を備え、以下のような動作をする。すなわち、可変型分散補償器40を経由した光パルスが、ビームスプリッタ55により2つに分光されて、それぞれ第1光路と第2光路を進み、第1光路では、分光された一方の光パルスが、第1反射器51で反射されて、回転可能な透明板56を通過し第2反射器52で反射され、進んできた光路を戻り、ビームスプリッタ55を通過し出射され、第2光路では、分光された他方の光パルスが、第3反射器53で反射されて、回転可能な透明板56を通過し第4反射器54で反射され、進んできた光路を戻り、ビームスプリッタ55を通過し出射され、回転可能な透明板56が回転することによって、分光された2つの光パルスが通過する透明板の厚みの違いによる光路差により、分光された2つの光パルス間には、周期的な時間差を生じさせている。ここで、透明板の回転角度θと分光された2つの光パルスの時間差との関係を、図6に示す。回転角度θが20度から70度の間において、回転角度θと2つの光パルスの時間差とは、ほぼ直線の関係を保ちながら、分光された2つの光パルスの時間差が周期的に変化していることがわかる。回転角度θについては、図6を参照のこと。さらに、透明板56の回転角度θが45度の位置で光路差がなくなり、分光された2つの光パルスの時間差がなくなり、干渉計50から出射される2つの光パルスが一致し重畳して干渉を起こす。干渉を起こすことによって、光パルスが強調され、出射される光パルスのピークパワーがより大きくなる。なお、透明板56の両方の主表面は、光学的に平行となっているので、透明板の回転角度に関係なく、光パルスは、透明板を通過しても直進する。図2に示した干渉計50では、第1光路と第2光路とにおいて、空間における光路長は基本的に同じである。第1光路と第2光路とにおける光路長の違いは、透明板56の回転角度によって生じる、光路上の板厚の違いによるものだけである。このため、分光された2つの光パルスの形状が基本的に互いによく一致している。また、上述のように、透明板56の回転角度と、2つの光パルスの時間差とは、ほぼ直線の関係を保っていることから、分光された2つの光パルスの形状が、互いによく一致していると考えられる。このように、2つの光パルスの形状が互いによく一致していると、干渉を起こしたときに光パルスがより強調されるので、好ましい。また、広く用いられている干渉計では、光路長を周期的に変化させるために、反射器を往復運動させていることが多い。この場合、高速化のため、単位時間当たりに干渉を起こす回数を多くしようとしても、反射器を往復運動させているため、その回数には自ずと限界がある。これに対して本発明では、単位時間当たりに干渉を起こす回数は、透明板56の回転数によって決まる。透明板56の回転数を多くすることは、比較的容易であるので、単位時間当たりに干渉を起こす回数を比較的容易に多くすることができる。つまり、本発明はこの点でも有利である。干渉計50において、上述のような動作をすることにより、光パルスをより強調することができる。本発明の光パルスモニタ装置100では、強調された光パルスをモニタしている。なお、干渉計50は図2に示したものに限られず、図7Aに示した構成を有する干渉計500でもよい。この干渉計500では、図示しないスライダ機構によって、第1反射器51をスライド機構により往復運動させる構造を有している。第1光路は、第1反射器51が往復運動することにより、光路長を変化させるように構成されている。一方、第2光路の光路長は一定である。さらに干渉計は、図7Bに示した構成を有する干渉計500でもよい。この干渉計500では、対をなす反射器52,53が設けられた回転板506を回転させる構造を有する干渉計である。第1光路の光路長は一定である。一方、第2光路の光路長は、回転板506を回転させることにより、光路長を変化させるように構成されている。続いて、干渉計50を経由した光パルスは、光ファイバ2を介して受光器60に受光される。本発明の光パルスモニタ装置100では、受光器60として2光子吸収を利用した受光器としている。2光子吸収を利用した受光器における出力値は、光パルスのピークパワーに対して2次関数的に比例した数値となる。このため、2光子吸収を利用した受光器を用いると、感度のよい検出が可能となる。換言すると、2光子吸収を利用した受光器60を用いるために、干渉計50を用いて光パルスのピークを強調しているのである。このような2光子吸収を利用した受光器60では、光源の発生する光パルスの波長域に感度を有していないことが好ましい。この実施例では、光源の波長が1μm帯であるのに対して、受光器は635nmに感度中心を有している。さらに、2光子吸収を利用した光検出では、受ける光パルスのパワー密度が高いほど、効率のよい検出が実現できる。そこで、受光器では、受光面におけるパワー密度を高めるために、入射させる光パルスを数μm2の範囲に絞り込むとよい。このために、受光器60には集光用レンズを備えていることよい。集光用レンズとしては、0.1以上の開口数を有していることが好ましい。集光用レンズとしては、球面レンズや組み合わせた球面レンズを始め、非球面レンズ、屈折率分布型レンズGRINレンズでもよい。受光器60の具体例としては、半導体レーザまたはアバランシェフォトダイオードが挙げられる。半導体レーザとしては、測定対象である光パルスの波長よりも短い波長で発振することができるレーザダイオードLDのような、導波路型の半導体を用いるとよい。この半導体レーザは、そのバンドギャップが測定対象である光パルスの波長に対応するエネルギレベルより広いため、対象波長である1光子波長に対しては感度がなく、半波長である2光子波長に対して感度を有するので、好ましい。アバランシェフォトダイオード以下、APDともいうでは、非線形効果を利用して光検出しているので、光信号から電気信号への変換速度が比較的速い。そのため、光通信等で使われるような時間変化を持つ超短パルス光列であっても、その変化を確度よくモニタすることができる。このAPDとしては、対象波長である1光子吸収に対して感度がなく、半波長である2光子吸収に対して感度の高い材料で構成されているとよい。具体的な当該材料として、ガリウム砒素結晶を用いるとよい。ガリウム砒素結晶を用いたAPDは、アバランシェ増倍と呼ばれる現象を利用して感度を高めているので、本発明による光パルスモニタ装置に好適に採用できる。さらに、ガリウム砒素APDには適切な電気的バイアスを掛けるとよい。続いて、光パルスモニタ装置100では、受光器60からの受光信号が、A/Dコンバータ70でA/D変換されて、コンピュータ80に送られる。A/D変換されコンピュータに送られた受光信号は、コンピュータ80に備えられたソフトウエアによって演算処理され、その結果がコンピュータ80のモニタ上に表示される。光パルスのモニタ方法以上、説明した光パルスモニタ装置100を用いて、光パルスをモニタする方法について、以下に説明する。本発明による光パルスモニタ装置100では、可変型分散補償器40により光パルスの分散補償がなされているとともに、干渉計50で光パルスを重畳し、強調された光パルスを2光子吸収を利用した受光器60で検出しているので、光源20で発生した光パルスの波形をコンピュータ80のモニタ上にリアルタイムで表示することができる。このような構成により、本発明の光パルスモニタ装置100では、特にこれまで困難であった1μm帯の光パルスの波形を、簡単にモニタすることができる。光パルスの波形がモニタできるようになると、光パルスの波形の変化を確認しながら、光パルスの発生条件を調整したり、被測定物90の波長分散量を求めたりすることが可能となる。1光パルスモニタ装置自体の分散補償光パルスモニタ装置100は光ファイバ2を含んで構成されているので、装置自体でも分散は発生している。そこでまず、光パルスモニタ装置自体の分散を補償する。上述したように、光源20から発生した光パルスを光パルスモニタ装置100でモニタする。ここで、光源20において光パルスの発生条件を一定とし、可変型分散補償器40を調整して、モニタしている光パルスの時間幅が最も短くなるようにする。一定の条件で、光パルスの時間幅が最も短くなるということは、光パルスモニタ装置100で発生している分散が補償されていることを意味している。光パルスモニタ装置100で分散が発生していると、光パルスの時間幅が最短にならないからである。このように、光パルスの時間幅が最短のときの可変型分散補償器40による補償量が、この光パルスモニタ装置100における分散量になる。ここで、図2に示した光パルスモニタ装置100の可変型分散補償器40では、第2回折格子42と反射器43とが図示しないスライド機構により移動可能となっている。光パルスの時間幅が最短になったときの第2回折格子42と反射器43との位置を、原点ゼロ点とする。さらに、分散が補償された状態で、光源20において光パルスの発生条件を調整して、光パルスの時間幅が最も短くなるようにする。このようにして、光パルスモニタ装置100を最良の状態とする。また、可変型分散補償器40における第1回折格子41および第2回折格子42との距離と、時間で表される分散補償量との関係を、予め調べておくとよい。2ピークパワーの測定以上のようにして、最良の状態とされた光パルスモニタ装置100では、波長分散が補償されており、さらに光パルスの時間幅が最も短くなっている。つまり、この状態は、光源20の発する光パルスのパワーがピークになっており、そのときのパワーが当該光源20のピークパワーとなる。本発明による光パルスのモニタ方法により、光パルスを観察すると、光パルスのパワーがピークの状態になっていることが判断できる。したがって、このときの光パルスのパワーを別途測定すれば、それは当該光源のピークパワーであり、ピークパワーの数値を得ることも可能である。3被測定物における分散量同様に、最良の状態とされた光パルスモニタ装置100を用いて、被測定物90の波長分散を求めることができる。この光パルスモニタ装置100にて、例えば、光源20と光サーキュレータ30の間の位置、すなわち図1において破線で示した位置に、被測定物90を配置する。そして、当該の条件下で、可変型分散補償器40を調整して、モニタしている光パルスの時間幅が最も短くなるようにする。このとき、可変型分散補償器40における原点からの距離が分散補償量となる。この距離から、予め求めておいた距離と分散補償量時間との関係から、時間で表される分散補償量が求められる。これが被測定物90の分散量になり、被測定物の分散量を算出することができる。被測定物の配置は、図1で破線で示した位置に限られず、例えば光ファイバを被測定物とするときは、図2の光ファイバ2と交換して配置するとよい。要約すると、光パルスモニタ装置100における、光源から受光器までの光路上のいずれかの箇所に、被測定物を配置するとよい。具体例図8A~図8Cは、本発明による光パルスモニタ装置100により、光パルスを観察したときの波形の一例である。なお、この具体例において、光源の波長は1.55μmであり、受光器は1光子吸収の感度を実質的に有せず、2光子吸収の感度を有するフォトダイオードである。図8Aは補償量が1935psnmの場合であり、図8Bは補償量が2069psnmの場合であり、図8Cは補償量が227psnmの場合である。これらの波形は、ピークがそれぞれ任意単位である1.0に規格化されているので、ピークの値を比較することは意味がない。また、光パルスの波形の裾野には、波形の盛り上がりが認められ、その形状は補償量の違いによって異なっていることがわかる。このように、その分散がほぼ零とすることのできる1.55μmの波長帯であっても、本発明を適用することが有用であることがわかる。図9は、本発明による光パルスモニタ装置100を用いて、光パルスを観察しながら光パルスの発生条件を変化させたときにおける、光パルスの時間幅とピークパワー相対値の関係の一例を示すグラフである。グラフから明らかなように、分散補償量が2069psnmのとき、光パルスの時間幅は最小となり、ピークパワーが最大になっている。このように、光パルスの時間幅が最も短くなったときに、ピークパワーが最大となっていることが確認された。従来、光パルスを発生する光源の特性を評価するためには、光パルスのピークパワーを簡単に得ることが困難であったので、光パルスの時間幅を測定することが行われていた。しかし、光パルスの時間幅半値幅は、時間的な変動が大きく、測定値を定めるのが難しい状況にあった。これに対して、本発明による光パルスモニタ装置を用いると、光パルスを安定してモニタできるので、光パルスのパワーがピークになっていることを判定できるだけでなく、ピークパワーの測定値を定めるのも容易であった。したがって、本発明による光パルスモニタ装置を用いると、光パルスを発生する光源の調整が簡単にできる。"