透光性基体および情報記録層を有し、前記透光性基体側から前記情報記録層に入射したレーザービームによって光学的に記録および/または再生がなされる光情報媒体に対し、レーザービーム入射側表面の耐擦傷性に関する評価を行う方法であって、光情報媒体のレーザービーム入射側表面を故意に摩耗させた後、記録/再生特性を測定し、その測定値に基づいてレーザービーム入射側表面の耐擦傷性を評価する光情報媒体の評価方法において、光情報媒体のレーザービーム入射側表面を故意に摩耗させる手段として、ISO9352に規定されている摩耗輪を用い、記録/再生特性の測定としてジッタの測定を行う、光情報媒体の評価方法。透光性基体および情報記録層を有し、前記透光性基体側から前記情報記録層に入射したレーザービームによって光学的に記録および/または再生がなされる光情報媒体に対し、レーザービーム入射側表面の耐擦傷性に関する評価を行う方法であって、光情報媒体のレーザービーム入射側表面を故意に摩耗させた後、記録/再生特性を測定し、その測定値に基づいてレーザービーム入射側表面の耐擦傷性を評価する光情報媒体の評価方法において、光情報媒体のレーザービーム入射側表面を故意に摩耗させる手段として、0000のスチールウールを用い、記録/再生特性の測定としてジッタの測定を行う、光情報媒体の評価方法。ところで、前記ハードコート層として用いられる、樹脂材料または無機材料の耐摩耗性の指標となる表面硬度は、ビッカース硬さなどの押し込み硬度や、引っかき硬さ、または摩耗試験などによって測定することが一般的である。これらの測定法のうち、例えば摩耗試験については、摩耗によって生じた試験片の摩耗量を、試験片の質量、厚さ、または光透過率などの各種パラメータの変化量を用いて定量化することが多い。光情報媒体のハードコート層材料のように、光学的に透明でかつ表面硬度が比較的高い材料の場合、光透過率や光拡散の変化量によって定量化することが最も適切である。具体的には、前記試験片に白色平行光を入射させ、その曇価ヘイズ値を測定する方法などが一般的に用いられる。曇価の測定を利用する試験片の硬度評価方法は、摩耗による試験片の視覚的な劣化を定量化する方法として優れている。しかしながら、この評価方法は、インコヒーレントな光によるマクロな評価、すなわち非収束光による評価であって、摩耗による、光情報媒体の記録/再生特性の劣化の度合いとは必ずしも相関性をもたない。したがって、光情報媒体のハードコート層の性能評価方法として適当とはいえない。また、曇価の測定による評価方法は、透明な試験片の透過光を測定するものであるから、光情報媒体のハードコート層を評価する際には、前記ハードコート層と等価な自立フィルムをあらかじめ用意しなければ測定できないことはいうまでもない。一方、ハードコート層の耐摩耗性は、ハードコート層の表面性、摩擦係数、膜厚、ハードコート層構成材料の弾性率に依存するが、耐摩耗性に影響を及ぼす因子はこれらだけではない。例えば、ハードコート層が設けられる基材の硬度も、その上に設けられるハードコート層表面の耐摩耗性に大きな影響を及ぼす。したがって、このような点から考えても、ハードコート層の性能を正確に評価するためには、実際の光情報媒体にハードコート層を形成した状態で評価することが好ましい。上記のような種々の要求を満たすハードコート層の評価法ないし検査法はこれまで存在しておらず、このためハードコート層の正確な性能を把握することはできていなかった。しかしながら、現在実用化が検討されている、記録/再生光学系の短波長化および高NA化による大容量化が図られた光ディスクシステムにおいては、現行のCDやDVDと比べて、透光性基体表面の傷、汚れに対しさらに敏感になる。したがって、前記ハードコート層の耐摩耗性、耐擦傷性等に対する要求も従来以上に厳しくなっており、これらの特性の定量化に適した方法が強く求められている。また、透光性基体表面にハードコート層を設けるのではなく透光性基体全体を高硬度材料から構成する場合においても、記録層を形成したり、他の基体と貼り合わせたりすることなどによって透光性基体の耐擦傷性は変化しうる。したがって、この場合も、実際の媒体と同条件で透光性基体の耐擦傷性を評価できる方法が望まれる。このような実状に鑑み本発明は創案されたものであって、その目的は、ユーザーの取り扱い時に傷が発生しにくく、さらに、記録/再生光学系の高NA化によって高記録密度化が図られた光情報媒体においても、その記録および/または再生時にピックアップの衝突による傷が生じにくい光情報媒体を提供することである。また、本発明の他の目的は、光情報媒体の記録/再生光入射側表面の耐擦傷性を、簡便に、かつ実際の使用環境を反映した形で定量化できる評価方法を提供することである。上記目的は、下記1~11の本発明により達成される。1透光性基体および情報記録層を有し、前記透光性基体側から前記情報記録層に入射したレーザービームによって光学的に記録および/または再生がなされる光情報媒体であって、前記透光性基体のレーザービーム入射側にポリシラザン硬化膜を有し、前記透光性基体の引張弾性率、または、前記ポリシラザン硬化膜が一体化した状態における前記透光性基体の引張弾性率が、200MPa以上である光情報媒体。2前記透光性基体が、厚さ30~300μmの樹脂層を含む上記1の光情報媒。3前記ポリシラザン硬化膜の厚さが0.2~50μmである上記1または2の光情報媒体。4レーザービーム入射側表面の鉛筆硬度がHB以上である上記1~3のいずれかの光情報媒体。5前記ポリシラザン硬化膜は、組成の相異なる複数の膜を積層したものであり、前記ポリシラザン硬化膜をレーザービーム入射側から見たとき、無機ポリシラザンの硬化膜と有機基を導入したポリシラザンの硬化膜とがこの順で存在する上記1~4のいずれかの光情報媒体。6前記ポリシラザン硬化膜のレーザービーム入射側に、潤滑性、撥水性および撥油性から選択される少なくとも1種の機能を有する機能層を有する上記1~5のいずれかの光情報媒体。7前記機能層の厚さが500nm以下である上記6の光情報媒体。8前記機能層が、加水分解性のシリル基を有する化合物により形成されたものである上記6または7の光情報媒体。9透光性基体および情報記録層を有し、前記透光性基体側から前記情報記録層に入射したレーザービームによって光学的に記録および/または再生がなされる光情報媒体に対し、レーザービーム入射側表面の耐擦傷性に関する評価を行う方法であって、光情報媒体のレーザービーム入射側表面を故意に摩耗させた後、記録/再生特性を測定し、その測定値に基づいてレーザービーム入射側表面の耐擦傷性を評価する光情報媒体の評価方法。10光情報媒体のレーザービーム入射側表面を故意に摩耗させる手段として、ISO9352に規定されている摩耗輪を用いる上記9の光情報媒体の評価方法。11光情報媒体のレーザービーム入射側表面を故意に摩耗させる手段として、0000のスチールウールを用いる上記9の光情報媒体の評価方法。本発明者らは、光情報媒体の透光性基体表面を保護するのに適したハードコート層を探索した結果、ポリシラザンを硬化することにより形成した膜が適切であることを見いだした。ポリシラザン硬化膜を情報媒体の保護層に適用することは、前記特開2000-132865号公報に記載されている。ただし、同公報に実施例として示されるものは、厚さ20μmのポリエチレンテレフタレート支持体上に、色素および樹脂バインダを含有する厚さ0.2μmの赤色感応層を設け、この赤色感応層上に、ポリシラザンからなる厚さ0.1μmの保護層を設けた媒体だけである。同公報には、保護層の好ましい乾燥膜厚は0.001~0.2μm、より好ましい乾燥膜厚は0.05~0.15μmである旨が記載されている。同公報には、上記膜厚範囲に限定する理由は記載されていない。同公報の実施例では、テープ媒体をカートリッジに入れた状態で評価を行っているため、取り扱う際にテープ媒体がカートリッジ以外に接触することがなく、テープ媒体が傷つきにくい。また、同公報では、光ディスクにおいて問題となるようなピックアップの衝突に対しては注目していない。これに対し光ディスクはカートリッジに封入しないタイプが主流であるため、レーザービーム入射側表面が傷つきやすい。また、前述したように高NAの記録/再生システムに適用される光ディスクでは、レーザービーム入射側表面にピックアップが衝突しやすい。したがって、光ディスクのレーザービーム入射側表面には、優れた耐摩耗性、耐擦傷性が要求される。ポリシラザン硬化膜は硬度が高いが、光ディスクのレーザービーム入射側表面に要求される耐摩耗性、耐擦傷性を得るためには、前記特開2000-132865号公報に記載されている0.1μmの厚さでは不十分である。しかし、本発明者らの実験によれば、ポリシラザン硬化膜は内部応力が高く、そのため、ポリシラザン硬化膜を厚く形成すると自己破壊が生じやすいことがわかった。ポリシラザン硬化膜の自己破壊を防ぐために本発明者らは実験を重ねた結果、自己破壊の起こりやすさは、ポリシラザン硬化膜の下地となる透光性基体の引張弾性率に依存することがわかった。そのため本発明では、透光性基体の引張弾性率を限定することにより、ポリシラザン硬化膜を十分な厚さに形成することを可能とし、その結果、レーザービーム入射側表面が十分な耐摩耗性、耐擦傷性をもつ光情報媒体を実現した。本発明の評価方法では、光情報媒体のレーザービーム入射側表面の耐擦傷性を、簡便に、かつ実際の使用環境を反映した形で定量化して評価することができる。光情報媒体本発明が適用される光情報媒体は、透光性基体および情報記録層を有し、前記透光性基体側から情報記録層にレーザービームが入射し、光学的に記録および/または再生が行われる。このような光情報媒体の具体的な構成例としては、例えば図1および図2に示すものが挙げられる。図1に示す光情報媒体は相変化型記録媒体であり、支持基体20の一方の面上に、反射層5、第2誘電体層32、情報記録層としての記録層4、第1誘電体層31、透光性基体21およびポリシラザン硬化膜22をこの順で形成したものである。透光性基体21は、樹脂シートの貼り付けや樹脂の塗布によって形成された樹脂層である。記録および/または再生のためのレーザービームは、透光性基体21を通して記録層4に入射する。図1に示す構造の媒体は、透光性基体21を薄くできるため、記録/再生光学系の対物レンズの高NA化に対応でき、高密度記録に適する。図1に示す構造において、透光性基体21とポリシラザン硬化膜22との合計厚さは、好ましくは30~300μm、より好ましくは30~200μmである。この厚さが薄すぎると、媒体のレーザービーム入射側表面に付着した塵埃による光学的な影響が大きくなる。一方、この厚さが厚すぎると、高NA化による高記録密度達成が難しくなる。図2に示す媒体は、透光性基体21の一方の面上に、第1誘電体層31、記録層4、第2誘電体層32、反射層5および保護層6をこの順で形成し、透光性基体21の他方の面上に、ポリシラザン硬化膜22を形成したものである。この構造では、厚さ0.4~2mm程度の比較的剛性の高い透光性基体21を用いる。図2に示す構造において、レーザービーム入射側からみた各層の配列は、保護層6を除き、図1に示す媒体と同じである。図2に示す構造は、DVD-RAMやDVD-RWなどの市販の光ディスクが採用している構造である。一方、図1に示す構造は、反射層、記録層等の各層の積層順が図2とは逆である。本明細書では、図1に示す構造の媒体を逆積層タイプという。本発明は、記録層の種類によらず適用できる。すなわち、図示する相変化型記録媒体のほか、例えば、ピット形成タイプの記録媒体にも光磁気記録媒体にも適用できる。また、本発明は、図示するような記録可能タイプにも限らず、再生専用タイプにも適用可能である。その場合、支持基体20と一体的に形成されるピット列およびその上に形成される反射層が、情報記録層を構成することになる。本発明では、図1および図2に示されるように、透光性基体21のレーザービーム入射側にポリシラザン硬化膜22を有する。ポリシラザン硬化膜22は、ポリシラザンに由来するシリカまたはこれとポリシラザンとを含有する。そのため、ポリシラザン硬化膜22は硬度が十分に高く耐摩耗性、耐擦傷性に優れる。図1に示す逆積層タイプの媒体では、記録/再生光学系の対物レンズの高NA化によって作動距離が小さくなる結果、透光性基体21にピックアップが衝突して傷を付けやすい。また、逆積層タイプでは、透光性基体21が薄いため、透光性基体21表面の傷つきの影響が大きくなる。したがって本発明は、逆積層タイプの媒体に特に好適である。ポリシラザン硬化膜22は、全体がポリシラザンに由来するシリカまたはこれとポリシラザンとから構成されるものであってもよく、全体にポリシラザンに由来するシリカまたはこれとポリシラザンとが分散ないし含有されるものであってもよい。ポリシラザン硬化膜の厚さは、好ましくは0.05μm以上、より好ましくは0.2μm以上、さらに好ましくは0.25μm以上、最も好ましくは0.5μm以上である。ポリシラザン硬化膜が薄すぎると、十分な耐摩耗効果が得られない。ポリシラザン硬化膜は内部応力が高いため、厚くなるほど自己破壊しやすくなる。しかし、十分な媒体保護効果を得るためには、ポリシラザン硬化膜を比較的厚くする必要がある。また、ポリシラザン硬化膜自体は緻密で硬度が高いが、その下地である透光性基体21の物性によっては、ポリシラザン硬化膜による媒体保護効果が不十分となることがある。そのため本発明では、透光性基体21の引張弾性率を、200MPa以上、好ましくは400MPa以上とする。透光性基体21の引張弾性率がこの範囲にあれば、ポリシラザン硬化膜22を比較的厚くしても、具体的にはポリシラザン硬化膜22の厚さを0.2μm以上としても、また、0.25μm以上としても、さらには0.5μm以上としても、自己破壊が発生しにくい。ただし、ポリシラザン硬化膜22が著しく厚くなるとやはり自己破壊が生じやすくなるので、ポリシラザン硬化膜22の厚さは好ましくは50μm以下、より好ましくは10μm、さらに好ましくは5μm以下とする。また、透光性基体21の引張弾性率が上記範囲内であれば、ポリシラザン硬化膜22による媒体保護効果は十分に高くなる。具体的には、ポリシラザン硬化膜22が存在するレーザービーム入射側表面の鉛筆硬度を、HB以上にすることができる。なお、本明細書における鉛筆硬度は、ISODIS151841996に規定された鉛筆硬度である。なお、いったん形成したポリシラザン硬化膜22を透光性基体21から剥離することは困難であるため、ポリシラザン硬化膜22を形成した後で透光性基体21の引張弾性率を測定することは難しい。ただし、ポリシラザン硬化膜22は透光性基体21に比べ極めて薄いため、ポリシラザン硬化膜22を剥離せずに測定した透光性基体21の引張弾性率は、透光性基体21単独の引張弾性率と大きくは違わない。したがって本発明では、ポリシラザン硬化膜22が一体化した状態における透光性基体21の引張弾性率が、200MPa以上、好ましくは400MPa以上であればよい。透光性基体21の引張弾性率またはポリシラザン硬化膜22が一体化した状態における透光性基体21の引張弾性率の上限は特に限定されないが、一般に利用することが可能な材料から透光性基体21を構成した場合、通常、前記上限は3000MPa程度となる。なお、本明細書における引張弾性率は、JISK71271989において規定されたものである。これらを測定するに際しては、試験片の長さ:60mm、試験片の幅:10mm、標線間距離:40±1mm、掴み具間距離:44±1mm、引張速度:30mm/minとし、そのほかの測定条件はJISK71271989の規定に従えばよい。これらの条件をJISK71271989と異なるものとするのは、媒体から剥離した透光性基体について測定できるように、媒体光ディスクの寸法通常、直径12cm程度を考慮したためである。ポリシラザン硬化膜22は、透光性基体21のレーザービーム入射側表面にポリシラザン溶液を塗布し、これを加熱して硬化することにより形成する。ポリシラザンは、大気中で加熱処理することによって空気中の水分による加水分解が進行し、極めて純度の高い緻密なシリカを形成することが知られている。また、ポリシラザン溶液にあらかじめ金属触媒を添加しておくことにより、100°C前後の加熱でも良好に反応が進行し、高純度なシリカへと転化しうる。このときの加熱温度は、好ましくは25~130°C、より好ましくは50~120°Cであり、加熱時間は好ましくは10分間~10時間、より好ましくは10分間~5時間である。加熱温度が低かったり加熱時間が短かったりすると、十分に硬化が進まないことがある。ただし、ポリシラザンの塗膜は、室温で放置することによっても硬化できる。ポリシラザン溶液の塗布方法は特に限定されず、例えば、グラビアコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スピンコート法などのいずれを用いてもよい。本発明で用いるポリシラザンは、Si-N-Si結合を有するものであればよく、従来公知の各種ポリシラザンが使用できる。好ましいポリシラザンとしては、例えば、Si2NHnの構造を有し、n=100~50000である環状無機ポリシラザン、鎖状無機ポリシラザンまたはこれらの混合物や、これらの無機ポリシラザン中のケイ素原子に結合した水素原子の一部または全部が有機基で置換されたポリオルガノヒドロシラザンが挙げられる。また、分子中に酸素を含有させたポリシロキサザン、金属アルコキシド等との反応により生成したポリメタロシラザン、有機ホウ素化合物との反応により生成したポリボロシラザン等も使用できる。また、市販のポリシラザン溶液、例えばNL110東燃ゼネラル石油株製、も使用できる。ポリシラザン硬化膜は、組成の相異なる複数の膜を積層したものであってもよい。無機ポリシラザンの硬化物自体は極めて高硬度であるが、膜としての硬度を十分に高くするためには一定以上の厚さが必要とされる。しかし、無機ポリシラザンを用いて厚い膜を形成しようとすると、自己破壊しやすい。一方、有機基を導入したポリシラザンの硬化物は、それ自体の硬度はやや低いが、厚く形成しても自己破壊しにくい。そこで、有機基を導入したポリシラザンの硬化膜を下地層として比較的厚く形成し、その上に、無機ポリシラザンの硬化膜を表面層として比較的薄く形成すれば、積層膜全体として十分な厚さが得られるために積層膜の硬度が十分に高くなり、かつ、積層膜の表面硬度も十分に高くなる。なお、この場合において十分に高い表面硬度を得るためには、無機ポリシラザンの硬化膜の厚さを好ましくは0.05μm以上、より好ましくは0.2μm以上とする。ポリシラザン硬化膜は、緻密な高純度シリカを主成分とするため、極めて高い硬度をもつ。また、ポリシラザンのケイ素原子や窒素原子に結合する水素原子が活性水素として作用することから、その硬化膜は透光性基体21表面との密着性に非常に優れたものとなる。なお、ポリシラザン硬化膜には、ポリシラザンが一部シリカに転化することなく存在していてもよい。また、有機基が導入されたポリシラザンを用いた場合、通常、ポリシラザン硬化膜中にも有機基が存在する。ポリシラザン溶液を調製する際に用いる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、あるいはエーテル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、四塩化炭素等が挙げられる。ただし、透光性基体21表面にポリシラザン溶液を直接塗布する場合、透光性基体21構成材料を侵さない溶媒を選択する必要がある。透光性基体21構成材料としてはポリカーボネートが好ましく用いられるが、ポリカーボネートを侵さず、かつポリシラザンの希釈溶媒として使用可能な溶媒としては、例えばジブチルエーテル等のエーテル系溶媒が挙げられる。透光性基体21は、図1に示す逆積層タイプでは樹脂層であり、図2に示す構造では比較的剛性の高い板状体である。図1における透光性基体21は、例えば、樹脂シートの貼り付けや樹脂の塗布により形成することができる。また、貼り付けた樹脂シートの上に、さらに樹脂を塗布してもよく、複数の樹脂塗膜を積層した構成としてもよい。図2における透光性基体21は、例えば射出成形や、2Pフォトポリマー法により形成することができる。透光性基体21は、ポリカーボネートやポリメチルメタクリレートPMMA等の熱可塑性樹脂や、アクリル系紫外線硬化型樹脂等の活性エネルギー線硬化型樹脂から構成することが好ましい。図2に示す構造では、透光性基体21をガラスから構成し、その表面に2P法によってグルーブやピットなどのパターンを設けてもよい。透光性基体21は、構成材料の相異なる複数の層から構成されていてもよい。図3および図4に示す媒体は、透光性基体21を、基体本体21Aとバリア層21Bとの積層構造としたものであり、そのほかは図1および図2に示す構造とそれぞれ同じである。バリア層21Bは、基体本体21Aとポリシラザン硬化膜22との間に設けられ、ポリシラザン溶液を塗布する際に、塗布溶媒から基体本体21Aを防護する。例えば、有機溶媒のキシレンはポリカーボネートを侵すため、図1に示す構造において透光性基体21をポリカーボネートからなる樹脂シートとした場合、ポリシラザン硬化膜形成の際の塗布溶媒にキシレンを用いることはできない。これに対し図3に示す構造において、基体本体21Aをポリカーボネートシートから構成し、バリア層をキシレンに侵されない樹脂、例えばアクリル系樹脂などの活性エネルギー線硬化型樹脂から構成すれば、塗布溶媒としてキシレンを使用することができ、塗布溶媒選択の自由度が高くなる。バリア層21Bの構成材料は特に限定されず、紫外線硬化型樹脂等の活性エネルギー線硬化型樹脂のほか、このような樹脂中にコロイダルシリカを分散したもの、スパッタリングによって形成したSiO2膜等の無機薄膜など、塗布溶媒の種類に応じて適宜選択すればよい。バリア層の厚さは、塗布溶媒に対して十分な防護効果が得られるように設定すればよいが、通常は50nm~200μmの範囲から選択することが好ましく、図3に示すように透光性基体21が薄い逆積層タイプの場合には、50nm~10μmの範囲から選択することが好ましい。なお、透光性基体21を積層構造とするのは、上記したようなバリア層を設ける場合に限定されない。例えば、透光性基体21において良好な光学特性と高い強度とを共に実現するために、比較的柔らかい層と比較的硬い層とを積層する場合など、透光性基体21の物性制御のためであってもよい。ポリシラザン硬化膜22の下地の表面、すなわち透光性基体21の表面に対し、必要に応じてプラズマやコロナ放電、紫外線等の高エネルギー線処理によって表面改質を行ってもよい。また、前記下地が活性エネルギー線硬化型樹脂から構成される場合、活性エネルギー線の照射量を適当に制御して前記下地の重合反応を途中でいったん停止させておき、前記下地表面にポリシラザン溶液を塗布した後に、再び活性エネルギー線を照射して前記下地の重合反応を完結させる処理を施してもよい。上記いずれの処理も、ポリシラザン硬化膜とその下地との間の密着性を向上させるのに有効であり、その結果としてポリシラザン硬化膜の表面硬度をより高くすることが可能である。ポリシラザン硬化膜は、この膜のみで極めて高い耐摩耗性が実現できるが、必要に応じて、ポリシラザン硬化膜表面に他の層を設けてもよい。前記他の層としては、潤滑性、撥水性および撥油性から選択される少なくとも1種の機能を有する機能層が好ましい。図5および図6に示す媒体は、ポリシラザン硬化膜22の表面に機能層23を設けてあり、そのほかは図1および図4に示す構造とそれぞれ同じである。例えば潤滑性を有する機能層23でポリシラザン硬化膜22表面を被覆すれば、表面の耐摩耗性やピックアップの衝突に対する耐性をさらに高めることができる。また、撥水性または撥油性を有する機能層23でポリシラザン硬化膜22表面を被覆すれば、汚れが付着しにくくなり、また、付着しても拭き取りやすくなる。潤滑性を有する機能層の表面は、ISO82951995で規定された動摩擦係数が0.4以下、好ましくは0.3以下であることが望ましい。なお、測定に際しては、相手材料として平滑なガラス板を使う。動摩擦係数の下限は特に限定されないが、通常、動摩擦係数を0.03未満とすることは困難である。一方、撥水性および撥油性は、その物質の表面自由エネルギーの目安である臨界表面張力γc/mNm1によって一義的に表すことができる。これは接触角の実測値から求めることができ、平滑な物質表面の接触角θ/radを、表面張力既知の数種の飽和炭化水素液体表面張力:γ1/mNm1について測定し、cosθとγ1とのプロットにおいてcosθ1に外挿した値がγcである。ある物質が液体を弾くためには、その物質のγcが液体の表面張力γ1を下回っている必要がある。機能層構成材料には、汎用的に使用されている材料を用いることができる。その具体例としては、ステアリン酸ブチルやミリスチン酸ブチルのような高級脂肪酸エステルやその誘導体、ジメチルシロキサン誘導体に代表されるシリコーンオイルやこれらが変性された材料、フッ素化炭化水素系潤滑剤やその誘導体などが挙げられる。また、機能層はポリシラザン硬化膜表面に設けられるため、機能層をフッ素化炭化水素系のシランカップリング剤から構成することも好ましい。このシランカップリング剤は、一般的に、加水分解性のシリル基にフッ素化炭化水素鎖が結合した構造を有する。前記シリル基とポリシラザン硬化膜表面とは加水分解反応によって強固な化学結合を形成するので、前記シランカップリング剤からなる機能層は、耐久性に優れる。本発明では、これらの中から適宜選択すればよく、潤滑性、撥水性および撥油性から選択される2種以上の機能をもつ材料を用いることもできる。潤滑性、撥水性、撥油性を有する材料については、例えば特開平11-213444号公報および特開平6-187663号公報等に開示されている。機能層の厚さは、500nm以下であることが好ましく、100nm以下であることがより好ましい。機能層が厚すぎると、ポリシラザン硬化膜の表面硬度が媒体表面の硬度に反映されなくなる恐れがあり、また、機能層の光学的透明性の劣化も懸念される。ただし、潤滑性、撥水性、撥油性などの機能を十分に発揮させるためには、機能層の厚さは1nm以上であることが好ましい。光情報媒体の評価方法次に、光情報媒体の記録/再生光入射側表面の耐擦傷性を評価する方法について説明する。様々な方法によって表面を摩耗させた透光性基体の摩耗の程度と、透光性基体を摩耗させた後における光情報媒体の記録/再生特性との相関について、本発明者らが鋭意検討した結果、透光性基体の摩耗度と、摩耗後に記録/再生した際の反射率、ジッタ、エラーレート等との間に比較的強い相関が存在することが確認された。すなわち、適当な摩耗方法を選択した場合、光情報媒体の反射率、ジッタ等の諸特性は、摩耗時間などの摩耗条件の関数として表される。したがって、本発明の評価方法では、所定の摩耗方法を用いて、光情報媒体の透光性基体表面を故意に摩耗させた後に、反射率、ジッタ、およびエラーレート等の電気特性を評価することによって、現実の光情報媒体における透光性基体の耐摩耗性および耐擦傷性を定量化することができる。前記媒体の透光性基体の評価において、故意に表面を摩耗させる方法および摩耗に用いる手段は、磨耗が再現性よく生じうるものであれば特に限定されない。しかし、評価に時間がかかりすぎることは好ましくないので、好ましくは1~60分間、より好ましくは1~30分間程度の摩耗処理により、光情報媒体の実使用環境において生じうる摩耗を上回る摩耗が生じるような方法および手段を用いることが望ましい。具体的な摩耗方法としては、例えばISO9352に規定されている、摩耗輪による摩耗試験方法や、JISK7205に規定されている、研磨材による摩耗試験方法などの、標準化された試験方法、あるいは、スチールウールによって摩耗させる方法などが好ましい。ISO9352に規定された摩耗輪による摩耗試験方法とは、一般的にテーバー摩耗試験と呼ばれる試験方法であって、以下の方法によって実施される。この方法では、摩耗輪と呼ばれる車輪状の研削砥石2個が、ターンテーブル上の所定の位置に配置されている試験機を用い、このターンテーブル上に試料を載せる。その後、摩耗輪に所定の荷重をかけ、ターンテーブルをモーターにより回転させる。その際、摩耗輪は、ターンテーブルの回転する方向に対して一定の傾きを保ちながら試料表面を研削する仕組みとなっている。摩耗輪は、その材質や砥石粒度の異なるものが数種類用意されており、摩耗輪の種類や、摩耗の際の荷重、およびターンテーブルの回転数などを適宜選択することにより、試料の耐摩耗性を知ることができる。なお、光情報媒体における一般的なハードコート層の場合、CS-10、CS-10FおよびCS-17のいずれかの弾力性の摩耗輪を用い、2.5N以上9.8N以下の荷重にてターンテーブルを10回以上500回以下の範囲で回転させて摩耗させることが好ましい。一方、スチールウールを用いる摩耗方法では、研磨用のスチールウールとして0000のものを用い、これを所定の荷重で試料に押し当て、一定回数往復させる方法が一般的に用いられる。上記試験方法の中では、試験結果の再現性がよく、摩耗輪の種類や印加する荷重の選択によって比較的広範な種類の材料に適用できることや、国際的に標準化された試験方法であることなどから、摩耗輪による摩耗試験方法を用いることが最も好ましい。ただし、特別な装置を必要とせず、簡便であることなどから、スチールウールによって摩耗させる方法を用いてもよい。従来一般的に用いられている方法においては、上述した各種の摩耗試験方法によって摩耗させた試料の摩耗度を、試料の厚さ、質量、光学的散乱量などの各種パラメータの変化量によって定量化することが普通であるが、本発明の評価方法では、摩耗させた光情報媒体を、光ディスク駆動装置によって直接評価する。本発明の評価方法において、評価対象とする記録/再生特性は特に限定されないが、具体的には、例えば媒体再生時の反射率、変調度、またはRF信号平坦度;記録済み信号、上書き信号、および追記信号のいずれかについてのジッタ、出力レベル、CN比carriertonoiseratio、またはエラーレート;記録時または再生時の線速度におけるフォーカス感度曲線のp-ppeaktopeak値、フォーカスエラー信号の残留エラー分の量、または前記p-p値と前記残留エラー分の量との比率;などが挙げられる。これらのうちの1種または複数を評価対象とし、測定することができる。なお、フォーカス感度曲線は、通常、S字曲線と呼ばれるものであり、例えば1989年2月10日にラジオ技術社から刊行された光ディスク技術の第81ページに記載されている。このフォーカス感度曲線から、フォーカスエラー信号出力のp-p値、すなわちプラス側出力のピーク値とマイナス側出力のピーク値との差を求めてこれをFで表し、一方、フォーカスエラー信号の残留エラー成分の出力p-p値を求めてこれをRで表したとき、R/Fが小さければ、具体的にはR/Fが10以下であれば、再生時のジッタが十分に小さくなり、また、書き込みエラーが十分に少なくなる。本発明の評価方法が適用される光情報媒体は、情報記録層と透光性基体とを有し、この透光性基体を通して記録および/または再生のためのレーザービームが前記情報記録層に入射するように使用されるものであれば特に限定されない。すなわち、前記した本発明の光情報媒体と同様な構成である。以下に本発明の具体的実施例を示す。ただし、本発明は以下の実施例により限定されるものではない。併せて比較例を示す。実施例1逆積層タイプ媒体1再生専用タイプであるほかは図1と同様な構造をもつ媒体1を、以下の手順で作製した。まず、ランダム信号情報が予めプリピットとして表面に形成されたポリカーボネート基板外径120mm、厚さ1.2mmを支持基体20とし、この支持基体20のプリピットが設けられた面に、アルミニウムからなる厚さ100nmの反射層をスパッタリング法により形成した。続いて、この上に紫外線硬化型樹脂大日本インキ化学工業社製のSD301の膜をスピンコート法により100μm厚に塗布して紫外線硬化することにより透光性基体21を形成した。なお、硬化後の透光性基体21を反射層から剥離して引張弾性率を測定したところ、970MPaであった。次いで、透光性基体21上に、無機ポリシラザンのキシレン溶液東燃ゼネラル石油株製N-L110、固形分濃度20質量百分率をスピンコート法によって塗布し、1分間室温で放置した後、100°Cにて30分間加熱することにより硬化させてポリシラザン硬化膜22を形成した。ポリシラザン硬化膜22の厚さは0.2μmであった。この媒体1では、ポリシラザン硬化膜22側から前記反射層にレーザービームを入射させることによって信号の再生を行う。この媒体において、レーザービーム入射側表面の鉛筆硬度はHであった。媒体2比較ポリシラザン硬化膜を設けなかったほかは媒体1と同様にして、媒体2を作製した。この媒体において、レーザービーム入射側表面の鉛筆硬度はBであった。媒体3再生専用タイプであるほかは図5と同様な構造をもつ媒体3を作製した。この媒体3は、媒体1のポリシラザン硬化膜22の表面に、シリコーンオイル信越シリコーン社製のKF96、粘度10000cPからなる厚さ約100nmの機能層23をスピンコート法により形成したものである。機能層23表面のISO82951995による動摩擦係数は0.25であった。なお、レーザービーム入射側表面の鉛筆硬度は、機能層23を設けても変化しなかった。評価上記各媒体を光ディスクドライブに挿入し、再生信号のビットエラーレートBERを測定した。なお、評価に用いた光ディスクドライブのレーザー波長は650nmである。次に、媒体1をテーバー摩耗試験機にセットし、摩耗輪CS-10Fを用い、荷重4.9Nにてターンテーブルを10回転させて摩耗させたのち、摩耗後のBERを上記と同様に測定した。その後、このディスクに対し、上記摩耗輪を用いてターンテーブルをさらに40回転合計50回転させて摩耗させ、同様にBERの測定を行った。BERは傷の発生と相関関係があり、傷の発生によりBERが上昇する。初期、10回転摩耗後および50回転摩耗後それぞれのBERについて、1.0×104未満の場合を○、そして1.0×104以上の場合を×とした。結果を表1に示す。また、再生動作中にピックアップが媒体に衝突した場合の影響を評価するため、パルステック工業株製のDDU-1000を改造し、媒体回転中にピックアップが媒体に意図的に接触するようにした。媒体を一定線速度6.0msで回転させながら、媒体の半径40mmの位置にてピックアップを接触させて3分間摺動させた後、フォーカスエラー信号を確認し、ピックアップの摺動前後で波形に乱れがあるか確認を行った。フォーカスエラー信号に変化が見られない場合を◎、信号に若干乱れがある場合を○、信号にノイズが大きく見られる場合を×とした。結果を表1に示す。なお、この評価においてディスク表面に接触するのは前記レンズプロテクタであり、その材質はポリプロピレンである。表1からわかるように、ポリシラザン硬化膜を設けた媒体1では、摩耗させても傷がほとんど発生せず、BERの劣化もみられなかった。これに対しポリシラザン硬化膜を設けなかった媒体2では、BERの劣化が顕著であり、耐摩耗性に劣ることが判明した。また、ピックアップの接触、摺動によっても媒体1においては信号の乱れが少ないのに対して、媒体2においては、ノイズが顕著に発生することが判明した。また、シリコーンオイルからなる機能層を設けた媒体3では、ピックアップ摺動後において、フォーカスエラー信号の乱れが媒体1より少ないことがわかる。次に、ポリシラザン硬化膜を以下の手順で形成したほかは媒体1と同様にして、媒体1Aを作製した。この媒体1Aでは、まず、透光性基体21上に、有機基を導入したポリシラザン東燃ゼネラル石油株製N-L710の硬化膜を厚さ1μmとなるように形成した。次いで、この硬化膜上に、媒体1と同様にして無機ポリシラザンの硬化膜を厚さ0.2μmとなるように形成した。この媒体1Aにおいて、レーザービーム入射側表面の鉛筆硬度は媒体1と同等であった。この媒体1Aと上記媒体1とについて、テーバー摩耗試験機を用いた上記評価を行った。ただし、評価条件を厳しくするために、ターンテーブルは100回転させた。その結果、摩耗後のBERは、媒体1では1.0×104以上であったが、媒体1Aでは1.0×104未満であり、ポリシラザン硬化膜を厚く形成することによる効果が確認できた。また、透光性基体21を引張弾性率150MPaの紫外線硬化型樹脂層から構成したほかは媒体1Aと同様にして媒体1Bを作製した。この媒体1Bでは、ポリシラザン硬化膜に自己破壊クラックが生じた。また、ポリシラザン硬化膜22の厚さを0.5μmとしたほかは媒体1と同様にして媒体1Cを作製した。この媒体1Cについて媒体1Aと同条件で評価を行ったところ、媒体1Aと同等の結果が得られた。一方、透光性基体21を引張弾性率150MPaの紫外線硬化型樹脂層から構成したほかは媒体1Cと同様にして媒体1Dを作製した。この媒体1Dでは、ポリシラザン硬化膜に自己破壊クラックが生じた。実施例2媒体4市販のDVD-RAM記録容量2.6GB/面を用意した。DVD-RAMは相変化型記録媒体であり、図2に示す媒体とほぼ同様の構造をもち、この構造のものの保護層6同士を貼り合わせた構成である。記録層4は主としてGe、SbおよびTeからなっており、透光性基体21は厚さ0.6mmのポリカーボネート基板である。このDVD-RAMを用い、以下の手順で図4に示す構造をもつ媒体4を作製した。まず、DVD-RAMのポリカーボネート基板を基体本体21Aとし、そのレーザービーム入射側表面に、紫外線硬化型アクリル系樹脂日本化薬株製HOD-3200をスピンコート法により塗布し、紫外線照射高圧水銀灯、照射量300mJcm2によって硬化させて、厚さ3.3μmのバリア層21Bを形成した。透光性基体21の引張弾性率は1340MPaであった。続いて、バリア層21Bの表面に、媒体1と同様にしてポリシラザン硬化膜22を形成した。次いで、ポリシラザン硬化膜2を通して1.0Jcm2の紫外線を照射し、バリア層21Bを完全に硬化した。この媒体において、レーザービーム入射側表面の鉛筆硬度はHであった。この媒体4に対して、半径39.5~57.5mmの領域にランダム信号の記録を行い、その後、媒体1と同様の評価を行ったところ、媒体1と同様に良好な結果が得られた。なお、ピックアップ摺動後のフォーカスエラー信号についての結果は表2に示した。媒体5比較ポリシラザン硬化膜22を設けず、かつ、バリア層21B形成の際の紫外線照射量を1.0Jcm2としたほかは媒体4と同様にして、媒体5を作製した。この媒体において、レーザービーム入射側表面の鉛筆硬度は2Bであった。この媒体5に対して媒体4と同様にして評価を行ったところ、ポリシラザン硬化膜を設けなかった媒体2と同様の結果を示し、媒体4に比べて明らかに劣るものであった。なお、ピックアップ摺動後のフォーカスエラー信号についての結果は表2に示した。媒体6図6に示す構造をもつ媒体6を作製した。この媒体6は、媒体4のポリシラザン硬化膜22の表面に、厚さ約10nmの機能層23を形成したものである。機能層23は、撥水撥油性シランカップリング剤ダイキン工業株製DSXの0.1質量百分率パーフルオロヘキサン溶液をスピンコート法により塗布し、大気中において60°Cで10時間加熱して化学吸着させることにより形成した。この媒体の機能層23表面のISO82951995による動摩擦係数は0.20であった。また、機能層23表面に対する水の接触角は114.0度であり、n-ヘキサデカンの接触角は63.8度であった。なお、レーザービーム入射側表面の鉛筆硬度は、機能層23を設けても変化しなかった。この媒体について、媒体1と同様にして評価したところ、摩耗後のBERについては媒体4と同様に良好であった。また、ピックアップ摺動後のフォーカスエラー信号については表2に示したが、媒体4よりもノイズが抑制されることが確認された。さらに、媒体6においては表面に指紋等の汚れが付着しにくく、また、付着しても拭き取り性に優れることがわかった。なお、ポリシラザン硬化膜22を実施例1の媒体1Aおよび媒体1Cとそれぞれ同様にして形成したほかは媒体4と同様にして媒体を作製したところ、これらの媒体では、媒体1Aおよび媒体1Cと同様に優れた耐摩耗性が得られた。上記媒体6と実施例1の媒体3とについて、乾燥したウェス旭化成工業株製ベンコットリントフリーCT-8を機能層23表面で20往復摺動させた。摺動時の荷重は約10Nとした。摺動の前後で機能層23表面の水の接触角を測定したところ、媒体3では摺動前が98.3度、摺動後が83.5度であり、ウェスによりシリコーンオイルがかなり拭い取られたことがわかった。一方、媒体6では摺動前が114.0度、摺動後が112.5度であり、シランカップリング剤が拭い取りに対して耐性の高いことが確認できた。実施例3媒体7再生専用タイプであるほかは図6と同様な構造をもつ媒体7を以下の手順で作製した。まず、ランダム信号情報が予めプリピットとして表面に形成されたポリカーボネート基板外径120mm、厚さ0.6mmを基体本体21Aとし、そのプリピット形成面とは反対側に、媒体4と同じバリア層21Bを形成した。透光性基体21の引張弾性率は1340MPaであった。続いて、バリア層21Bの表面に、媒体1と同様にしてポリシラザン硬化膜22を形成した。次に、この基板のプリピット形成面に、アルミニウム反射層厚さ100nmをスパッタリング法により形成した。続いて、この反射層表面に、プリピットが設けられていないポリカーボネート基板外径120mm、厚さ0.6mmを、紫外線硬化型の接着剤アクリル系、硬化後の接着剤層の厚さ5.0μmによって貼り合わせて光ディスクとした。これを媒体7とする。なお、この媒体7では、前記ポリシラザン硬化膜表面からレーザービームを反射層に入射させることによって信号の再生を行う。この媒体7について媒体1と同様にして評価を行ったところ、媒体1と同様の結果が得られた。また、ポリシラザン硬化膜22を実施例1の媒体1Aおよび媒体1Cとそれぞれ同様にして形成したほかは媒体7と同様にして媒体を作製したところ、これらの媒体では、媒体1Aおよび媒体1Cと同様に優れた耐摩耗性が得られた。媒体8比較ポリシラザン硬化膜を設けず、かつ、バリア層形成の際の紫外線照射量を1.0Jcm2としたほかは媒体7と同様にして、媒体8を作製した。なお、この媒体8では、前記バリア層表面からレーザービームを反射層に入射させることによって信号の再生を行う。この媒体8について媒体1と同様にして評価を行ったところ、ポリシラザン硬化膜を設けなかった媒体2と同様であり、媒体7より明らかに劣ることがわかった。実施例4耐擦傷性の評価サンプルNo1図4に示す構造の光記録ディスクサンプルを、以下の手順で作製した。まず、グルーブを形成したディスク状基体ポリカーボネート製、直径120mm、厚さ0.6mmを透光性基体21の基体本体21Aとし、そのグルーブの形成されていない面に、媒体7と同様にしてバリア層21Bを形成した。次いで、バリア層21Bの表面に、ポリシラザン硬化膜22を形成し、ハードコート層とした。グルーブ深さは18nm、記録トラックピッチは0.74μmとした。次いで、透光性基体21のグルーブが形成された側に、2層構造の第1誘電体層31をスパッタリング法により形成した。2層のうち透光性基体21側に存在する層は、組成をZnS80モル-SiO220モルとし、厚さを80nmとした。一方、記録層4側に存在する層は、組成をZnS50モル-SiO250モルとし、厚さを5nmとした。次いで、相変化材料からなる合金ターゲットを用い、スパッタリング法により厚さ18nmの記録層4を形成した。記録層4の組成原子比は、Sb74Tb18Ge7In1とした。次いで、ZnS50モル-SiO250モルターゲットを用いてスパッタリング法により厚さ19nmの第2誘電体層32を形成した。次いで、Al98Cr2原子比からなる反射層5をスパッタリング法により形成した。次いで、紫外線硬化型樹脂ソニーケミカル社製SK5110をスピンコート法により塗布し、紫外線を照射することにより厚さ5μmの保護層6を形成した。その後、保護層上に、ポリカーボネート製のダミー基体直径120mm、厚さ0.6mmを紫外線硬化型の接着剤によって貼り合わせ、光記録ディスクサンプルとした。サンプルNo2ポリシラザン硬化膜に替えて、紫外線硬化型樹脂大日本インキ化学工業社製のSD318をスピンコート法によって硬化後の膜厚が2.5μmになるように塗布して硬化することによりハードコート層を形成した。また、バリア層は設けなかった。このほかはサンプルNo1と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。サンプルNo3バリア層およびハードコート層を設けなかったほかはサンプルNo1と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。評価このようにして作製した各サンプルの記録層を、バルクイレーザーで初期化結晶化した後、光記録媒体評価装置に載せ、レーザー波長:650nm、レーザーパワー:1.0mW、対物レンズ開口数NA:0.60、線速度:3.5ms、の条件で、グルーブにトラッキングをかけながら未記録部分の反射率を測定した。次いで1-7変調信号最短信号長2Tをグルーブに記録後、再生信号の出力レベルおよびジッタを測定した。これらの結果を表3に示す。なお、このジッタは、再生信号をタイムインターバルアナライザ横河電機株式会社製により測定して信号の揺らぎσを求め、検出窓幅をTwとして、σ/Twにより算出した。このジッタが13以下であればエラーが許容範囲内に収まるが、各種マージンを十分に確保するためには、このジッタが10以下、より好ましくは9以下であることが望ましい。続いて、前記各サンプルをテーバー摩耗試験機にセットし、サンプルのレーザービーム入射側表面を、摩耗輪CS-10Fを用いて荷重4.9Nにて摩耗させた。摩耗サイクル数ターンテーブルの回転数を表3に示す。その後、摩耗箇所における未記録部分の反射率、および摩耗前に記録した信号の出力レベルおよびジッタを上記と同様に測定した。これらの結果を表3に示す。なお、表3における出力レベルは、摩耗前の値を100として規格化した相対値である。また、表3には、摩耗前の反射率および出力レベルに対する摩耗後の反射率および出力レベルの低下率も示す。なお、表3に示した各測定値のうち反射率の低下率、出力レベルの低下率およびジッタについて、摩耗サイクル数との関係を示すグラフを、それぞれ図7、図8および図9に示す。表3および図7~図9から、光ディスクのレーザービーム入射側表面をポリシラザン硬化膜から構成することにより、優れた耐擦傷性が得られることがわかる。また、図7から、本発明の評価方法における摩耗方法としてISO9352に定められた摩耗輪試験を用いた場合、いずれの媒体においても反射率の低下率が摩耗サイクル数すなわち摩耗時間の平方根に比例することが確認できる。また、出力レベルの低下率についても、摩耗サイクル数の平方根に比例することが図8から確認できる。一方、ジッタ値については、図9から、摩耗サイクル数と線形的な相関をもつことがわかる。上記の結果から、反射率、出力レベル、およびジッタのいずれを評価対象として採用した場合でも、その変化は摩耗時間の関数として表され、かつ、透光性基体表面の耐擦傷性を顕著に反映することがわかる。すなわち、本発明の評価方法が、光情報媒体における透光性基体の耐擦傷性、耐摩耗性等の評価方法として有用であることがわかる。