金属層と、前記金属層上に順次積層されたバリア層、裏面電極層、及び発電層と、前記発電層の表面から前記金属層の表面まで貫通する貫通孔と、前記裏面電極層と絶縁された状態で、前記金属層の表面と接するように前記貫通孔内に形成され、更に前記発電層上に延在する表面電極層と、を有する太陽電池。前記裏面電極層を貫通して前記バリア層の表面を露出する他の貫通孔を更に有し、前記貫通孔は、平面視において前記他の貫通孔よりも内側に形成され、前記発電層は、前記他の貫通孔の内壁面を構成する前記裏面電極層の端面を覆うように形成されて、前記裏面電極層と前記貫通孔内に形成された前記表面電極層とを絶縁している請求項1記載の太陽電池。前記バリア層、前記裏面電極層、及び前記発電層を貫通して前記金属層の表面を露出する他の貫通孔と、少なくとも前記他の貫通孔の内壁面を構成する前記裏面電極層の端面を覆うように形成された絶縁層と、を更に有し、前記貫通孔は、平面視において前記他の貫通孔よりも内側に形成され、前記絶縁層は、前記貫通孔の内壁面を構成している請求項1記載の太陽電池。前記発電層は、少なくとも銅Cu、インジウムIn、及びセレンSeを含有する請求項1乃至3の何れか一項記載の太陽電池。前記発電層は、少なくとも銅Cu、亜鉛Zn、錫Sn、及びカルコゲン元素セレンSe又は硫黄Sを含有する請求項1乃至3の何れか一項記載の太陽電池。複数個直列に接続された請求項1乃至5の何れか一項記載の太陽電池と、複数個の前記太陽電池を封止する封止材と、前記封止材の表面を覆う表面保護材と、前記封止材の裏面を覆う裏面保護材と、を有する太陽電池モジュール。前記太陽電池の端部の前記表面電極層及び前記発電層が除去されて前記裏面電極層の表面が露出し、前記表面電極層及び前記発電層から露出した前記裏面電極層の表面が、隣接して配置された他の前記太陽電池の前記金属層の裏面の端部と接して電気的に接続されている請求項6記載の太陽電池モジュール。金属層上にバリア層、裏面電極層、及び発電層を順次積層する積層工程と、前記発電層の表面から前記金属層の表面まで貫通する貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記裏面電極層と絶縁された状態で前記金属層の表面と接するように前記貫通孔内に表面電極層を形成し、更に前記表面電極層を前記発電層上に延在させる表面電極層形成工程と、を有する太陽電池の製造方法。バリア層上に、裏面電極層、及び発電層を順次積層する積層工程と、前記バリア層の前記裏面電極層形成面と反対側の面に金属層を形成する金属層形成工程と、前記発電層の表面から前記金属層の表面まで貫通する貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記裏面電極層と絶縁された状態で前記金属層の表面と接するように前記貫通孔内に表面電極層を形成し、更に前記表面電極層を前記発電層上に延在させる表面電極層形成工程と、を有する太陽電池の製造方法。前記積層工程は、前記金属層上に、前記バリア層及び前記裏面電極層を順次積層する工程と、前記裏面電極層を貫通して前記バリア層の表面を露出する他の貫通孔を形成する工程と、前記裏面電極層を覆うと共に前記他の貫通孔内を充填するように前記バリア層上に前記発電層を積層する工程と、を含み、前記貫通孔形成工程では、前記他の貫通孔の内壁面を構成する前記裏面電極層の端面が前記発電層により覆われるように、平面視において前記他の貫通孔よりも内側に前記貫通孔を形成する請求項8又は9記載の太陽電池の製造方法。前記積層工程と前記貫通孔形成工程との間に、前記バリア層、前記裏面電極層、及び前記発電層を貫通して前記金属層の表面を露出する他の貫通孔を形成する工程と、前記他の貫通孔を形成後に、少なくとも前記他の貫通孔の内壁面を構成する前記裏面電極層の端面を覆うように、前記他の貫通孔内に絶縁層を形成する工程と、を更に有し、前記貫通孔形成工程では、前記絶縁層が内壁面を構成するように、平面視において前記他の貫通孔よりも内側に前記貫通孔を形成する請求項8又は9記載の太陽電池の製造方法。前記発電層は、少なくとも銅Cu、インジウムIn、及びセレンSeを含有する請求項8乃至11の何れか一項記載の太陽電池の製造方法。前記発電層は、少なくとも銅Cu、亜鉛Zn、錫Sn、及びカルコゲン元素セレンSe又は硫黄Sを含有する請求項8乃至11の何れか一項記載の太陽電池の製造方法。しかしながら、太陽電池100では、金属層110上に製膜された各層とは別に、表面電極層150と金属層110とを電気的に接続する導電材170を貫通孔100x内に形成する必要があり、製造工程が煩雑化する問題があった。本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、製造工程を簡略化できる太陽電池及びその製造方法、並びに前記太陽電池を複数個直列接続した太陽電池モジュールを提供することを課題とする。本太陽電池は、金属層と、前記金属層上に順次積層されたバリア層、裏面電極層、及び発電層と、前記発電層の表面から前記金属層の表面まで貫通する貫通孔と、前記裏面電極層と絶縁された状態で、前記金属層の表面と接するように前記貫通孔内に形成され、更に前記発電層上に延在する表面電極層と、を有することを要件とする。本太陽電池の製造方法の一の形態は、金属層上にバリア層、裏面電極層、及び発電層を順次積層する積層工程と、前記発電層の表面から前記金属層の表面まで貫通する貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記裏面電極層と絶縁された状態で前記金属層の表面と接するように前記貫通孔内に表面電極層を形成し、更に前記表面電極層を前記発電層上に延在させる表面電極層形成工程と、を有することを要件とする。本太陽電池の製造方法の他の形態は、バリア層上に、裏面電極層、及び発電層を順次積層する積層工程と、前記バリア層の前記裏面電極層形成面と反対側の面に金属層を形成する金属層形成工程と、前記バリア層、前記裏面電極層、及び前記発電層を貫通して前記金属層の表面を露出する貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記裏面電極層と絶縁された状態で前記金属層の表面と接するように前記貫通孔内に表面電極層を形成し、更に前記表面電極層を前記発電層上に延在させる表面電極層形成工程と、を有することを要件とする。開示の技術によれば、製造工程を簡略化できる太陽電池及びその製造方法、並びに前記太陽電池を複数個直列接続した太陽電池モジュールを提供できる。以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。なお、各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する必要がある。第1の実施の形態[第1の実施の形態に係る太陽電池の構造]まず、第1の実施の形態に係る太陽電池の構造について、CIS系薄膜太陽電池を例にとって説明する。図2は、第1の実施の形態に係るCIS系薄膜太陽電池を例示する平面図である。図3は、図2のA-A線に沿う部分断面図である。各図は、CIS系薄膜太陽電池の平面形状が略正方形である場合の例を示し、CIS系薄膜太陽電池を平面視した場合受光面側から視た場合の1辺の方向をX方向、平面内でX方向に垂直な方向をY方向、厚さ方向をZ方向としている。又、便宜上、各断面図において各構成要素の紙面上側の面を表面、下側の面を裏面と称する。なお、CIS系薄膜とは、銅Cu、インジウムIn、及びセレンSeを含有する化合物からなる薄膜である。図2及び図3を参照するに、CIS系薄膜太陽電池10は、金属層11と、バリア層12と、裏面電極層13と、発電層14と、表面電極層15とを有し、金属層11上に、バリア層12、裏面電極層13、発電層14、及び表面電極層15が順次積層されている。CIS系薄膜太陽電池10の平面形状は、例えば10cm角~15cm角程度の正方形とすることができる。以下、CIS系薄膜太陽電池10を構成する各要素について説明する。金属層11は、裏面電極層13や発電層14等を形成する基体となる部分である。金属層11としては、例えば、ステンレスやアルミニウム合金等からなる金属板や、銅箔やアルミ箔等の金属箔等を用いることができる。金属層11の厚さは、例えば、数100μm程度とすることができる。なお、金属層11は薄いため、可撓性フレキシブル性を有する。バリア層12は、金属層11上に形成されている。バリア層12は、金属層11と裏面電極層13とを絶縁するための絶縁層としての機能を有する。又、バリア層12は、金属層11に含有される金属イオン等が裏面電極層13側に移動することを防止する機能を有する。バリア層12の材料としては、例えば、シリカSiO2、アルミナAl2O3、ソーダライムガラス、シリコンナイトライドSi3N4等を用いることができる。バリア層12の厚さは、例えば、1~3μm程度とすることができる。なお、バリア層12は原則として絶縁材料であればどのような材料を用いてもよいが、CIS系薄膜太陽電池10の場合には、ソーダライムガラスを用いることが好ましい。バリア層12としてソーダライムガラスを用いると、CIS系化合物からなる発電層14を製膜する際に、ソーダライムガラスに含有されるナトリウムNaが裏面電極層13を介して発電層14に拡散し、発電層14の結晶品質が向上するからである。なお、バリア層12は単一の層から構成されてもよいし、複数の層が積層されて構成されてもよい。複数の層が積層されてバリア層12を構成する場合、単一の素材が複数積層された構成でもよいし、異なる素材が複数積層された構成であってもよい。例えば、金属層11上にアルミナを製膜し、アルミナ上にソーダライムガラスを積層してバリア層12を構成することができる。裏面電極層13は、バリア層12上に形成されている。裏面電極層13は、CIS系薄膜太陽電池10の一方の電極となる層である。裏面電極層13の材料としては、例えば、モリブデンMo、チタンTi、クロームCr等を用いることができる。裏面電極層13の厚さは、例えば、1~3μm程度とすることができる。貫通孔10xは、裏面電極層13を貫通してバリア層12の表面を露出する平面形状が細長状の貫通孔であり、Y軸に平行な方向に所定間隔で複数列並設されている。各貫通孔10xの幅X方向は、例えば、150μm程度とすることができる。なお、貫通孔10xは、本発明に係る他の貫通孔の代表的な一例である。発電層14は、裏面電極層13上及び各貫通孔10x内に露出するバリア層12上に形成されている。発電層14は、各貫通孔10xの内壁面を構成する裏面電極層13の端面を覆うように形成されている。発電層14は、CIS系薄膜太陽電池10に照射された太陽光等を光電変換する部分であり、例えばp型半導体からなる。発電層14としては、例えば、銅Cu、インジウムIn、セレンSeからなる化合物や、銅Cu、インジウムIn、ガリウムGa、セレンSe、硫黄Sからなる化合物等の、少なくとも銅Cu、インジウムIn、及びセレンSeを含有する化合物を用いることができる。前記化合物の一例を挙げれば、CuInSe2、CuInGaSe2、CuInGaSSe2等である。発電層14の厚さは、例えば、1~3μm程度とすることができる。貫通孔10yは、発電層14の表面から金属層11の表面まで貫通して金属層11の表面を露出する平面形状が細長状の貫通孔であり、Y軸に平行な方向に所定間隔で複数列並設されている。各貫通孔10yは、平面視において、各貫通孔10xに囲まれるように形成されている。換言すれば、各貫通孔10yは、平面視において各貫通孔10xよりも内側に形成されている。平面視において、各貫通孔10yの周囲には、バリア層12が環状に露出している。各貫通孔10yの幅X方向は、例えば、70μm程度とすることができる。各貫通孔10xの内壁面と各貫通孔10yの内壁面の平面視における距離L1バリア層12の露出部分の幅は全周において略一定であり、例えば、40μm程度とすることができる。本実施の形態では、貫通孔10x及び10yを4列ずつ並設しているが、並設する列数は任意に設定して構わない。なお、貫通孔10yは、本発明に係る貫通孔の代表的な一例である。なお、発電層14の表面にバッファ層図示せずを形成してもよい。バッファ層は、発電層14からの電流の漏出を防止する機能を有する高抵抗の層である。バッファ層の材料としては、例えば、亜鉛化合物、硫化亜鉛ZnS、硫化カドミウムCdS、硫化インジウムInS等を用いることができる。バッファ層の厚さは、例えば、5~50nm程度とすることができる。表面電極層15は、n型半導体からなる透明な層であり、発電層14上発電層14の表面、又は、バッファ層が形成されている場合にはバッファ層の表面、以降同様。及び各貫通孔10y内に形成されている。各貫通孔10y内に形成された表面電極層15の下端面は金属層11の表面と接触している。つまり、表面電極層15と金属層11とは電気的に接続されている。表面電極層15と発電層14とは、pn接合を形成している。表面電極層15は、CIS系薄膜太陽電池10の他方の電極となる層である。各貫通孔10y内に形成された表面電極層15は、裏面電極層13の端面と絶縁する必要がある。本実施の形態では、裏面電極層13と絶縁するために専用の絶縁層を設けることなく、発電層14を各貫通孔10xの内壁面を構成する裏面電極層13の端面を覆うように形成して裏面電極層13と各貫通孔10y内に形成された表面電極層15とを絶縁している。裏面電極層13と各貫通孔10y内に形成された表面電極層15とを絶縁できれば、前述の距離L1は任意の値に設定して構わない。このように、表面電極層15は、裏面電極層13と絶縁された状態で金属層11の表面と接するように各貫通孔10y内に形成され、更に発電層14上に延在している。つまり、各貫通孔10y内に形成された表面電極層15により、発電層14上に形成された表面電極層15と金属層11とを電気的に接続している。表面電極層15としては、例えば、酸化亜鉛系薄膜ZnOやITOIndiumTinOxide薄膜等の透明かつ低抵抗な膜を用いることができる。表面電極層15として酸化亜鉛系薄膜ZnOを用いる場合には、硼素BやガリウムGa、アルミニウムAl等をドーパントとして添加することにより、低抵抗化でき好適である。発電層14上の表面電極層15の厚さは、例えば、2~4μm程度とすることができる。このように、表面電極層15を表面電極層15よりも低抵抗の金属層11と電気的に接続することにより、表面電極層15と発電層14とで生じた光起電力を、低抵抗の金属層11及び裏面電極層13から取り出すことができる。[第1の実施の形態に係る太陽電池の製造方法]次に、第1の実施の形態に係る太陽電池の製造方法についてCIS系薄膜太陽電池を例にとって説明する。図4~図9は、第1の実施の形態に係るCIS系薄膜太陽電池の製造工程を例示する図である。なお、図4~図9は、図2のA-A断面に対応する部分断面図である。まず、図4に示す工程では、金属層11を準備し、準備した金属層11上にバリア層12を形成する。金属層11としては、例えば、ステンレスやアルミニウム合金等からなる金属板や、銅箔やアルミ箔等の金属箔等を用いることができる。金属層11の厚さは、例えば、数100μm程度とすることができる。バリア層12は、例えば、シリカSiO2、アルミナAl2O3、ソーダライムガラス、シリコンナイトライドSi3N4等の材料を用いて、スパッタ法等により、金属層11上に形成できる。バリア層12の厚さは、例えば、1~3μm程度とすることができる。次に、図5に示す工程では、バリア層12上に裏面電極層13を形成する。裏面電極層13は、例えば、モリブデンMo、チタンTi、クロームCr等の高耐蝕性で高融点の金属材料を用いて、スパッタ法等により、バリア層12上に形成できる。裏面電極層13の厚さは、例えば、1~3μm程度とすることができる。次に、図6に示す工程では、裏面電極層13を貫通してバリア層12の表面を露出する平面形状が細長状の貫通孔10xを、Y軸に平行な方向に所定間隔で複数列並設する。例えば、YAGレーザ等のレーザ光を裏面電極層13の一部に照射することにより、レーザ光が照射された部分の裏面電極層13が除去され、各貫通孔10xが形成される。各貫通孔10xの幅X方向は、例えば、150μm程度とすることができる。次に、図7に示す工程では、裏面電極層13上及び各貫通孔10x内に露出するバリア層12上に、発電層14を形成する。換言すれば、裏面電極層13を覆うと共に各貫通孔10x内を充填するようにバリア層12上に発電層14を積層する。発電層14としては、例えば、前述のような銅Cu、インジウムIn、及びセレンSeを含有する化合物を用いることができる。発電層14は、例えば、図6に示す構造体を500°C程度以上に加熱し、裏面電極層13上及び各貫通孔10x内に露出するバリア層12に銅Cu、インジウムIn、及びセレンSeを含有する原料を適当な組合せで同時に蒸着する多源同時蒸着法によって形成できる。発電層14は、セレン化/硫化法等により形成してもよい。次に、図8に示す工程では、各貫通孔10xの内側に、発電層14の表面から金属層11の表面まで貫通して金属層11の表面を露出する平面形状が細長状の貫通孔10yを形成する。各貫通孔10yは、各貫通孔10xの内壁面を構成する裏面電極層13の端面が発電層14により覆われるように、平面視において各貫通孔10xよりも内側に形成する。例えば、YAGレーザ等のレーザ光を発電層14及びバリア層12の一部に照射することにより、レーザ光が照射された部分の発電層14及びバリア層12が除去され、各貫通孔10yが形成される。但し、レーザを用いずに、機械的に各貫通孔10yを形成してもよいメカニカルスクライブ。各貫通孔10yの幅X方向は、例えば、70μm程度とすることができる。各貫通孔10yは、各貫通孔10xの内壁面と各貫通孔10yの内壁面の平面視における距離L1が略一定となるように形成する。距離L1は、例えば、40μm程度とすることができる。次に、図9に示す工程では、発電層14上及び各貫通孔10y内に、表面電極層15を形成する。換言すれば、裏面電極層13と絶縁された状態で金属層11の表面と接するように各貫通孔10y内に表面電極層15を形成し、更に各貫通孔10y内の表面電極層15を発電層14上に延在させる。各貫通孔10xの内壁面を構成する裏面電極層13の端面は絶縁層として機能する発電層14により覆われているため、裏面電極層13と各貫通孔10y内に形成された表面電極層15とは絶縁される。表面電極層15は、例えば、硼素BやガリウムGa、アルミニウムAl等をドーパントとして添加した酸化亜鉛系薄膜ZnOや、ITOIndiumTinOxide薄膜等の透明かつ低抵抗な膜を、MOCVD法やスパッタ法等により、発電層14上及び各貫通孔10y内に形成できる。発電層14上の表面電極層15の厚さは、例えば、2~4μm程度とすることができる。なお、図7に示す工程よりも前に、金属層11の裏面側にモリブデンMoや硫黄S等のVI族元素に対して耐腐食性を有する耐腐食膜を形成してもよい。図7に示す工程で発電層14を形成する際に、セレンSeや硫黄S等のVI族元素が金属層11の裏面を腐食することを防止するためである。又、図7に示す工程よりも後に、発電層14の表面にバッファ層を形成してもよい。バッファ層は、例えば、亜鉛化合物、硫化亜鉛ZnS、硫化カドミウムCdS、硫化インジウムInS等の材料を用いて、溶液成長法CBD法等により、発電層14の表面に形成できる。バッファ層の厚さは、例えば、5~50nm程度とすることができる。なお、溶液成長法CBD法とは、前駆体となる化学種を含む溶液に基材を浸し、溶液と基材表面との間で不均一反応を進行させることによって薄膜を基材上に析出させる方法である。[第1の実施の形態に係る太陽電池モジュールの構造]次に、CIS系薄膜太陽電池を複数個直接に接続したCIS系薄膜太陽電池モジュールの構造について説明する。図10は、第1の実施の形態に係るCIS系薄膜太陽電池モジュールを例示する断面図である。図11は、図10のB部の部分断面図である。図10を参照するに、CIS系薄膜太陽電池モジュール20は、複数のCIS系薄膜太陽電池10を直列に接続して封止材21で封止し、更に、封止材21の表面を覆う表面保護材22を形成し、封止材21の裏面を覆う裏面保護材23を形成したグリッド型構造を有する。封止材21の材料としては、例えば、EVAエチレンビニルアセテートやPVBポリビニルブチラール等を用いることができる。表面保護材22の材料としては、強化ガラスやアクリル系樹脂等を用いることができる。裏面保護材23の材料としては、ガラスやPETポリエチレンテレフタレート等を用いることができる。図11を参照するに、各CIS系薄膜太陽電池10の端部一端側のみの発電層14及び表面電極層15が除去されて、裏面電極層13の表面が露出している。そして、発電層14及び表面電極層15から露出した裏面電極層13の表面が、隣接して配置された他のCIS系薄膜太陽電池10の金属層11の裏面と接して電気的に接続されている。なお、裏面電極層13の表面と金属層11の裏面とは直接接しても構わないし、はんだや導電性ペースト等の導電性の接合部を介して接しても構わない。なお、図示はしていないが、金属層11の一端及び裏面電極層13の一端を、一対の外部端子として、封止材21、表面保護材22、及び裏面保護材23から露出する配線を引き出す必要がある。一対の外部端子から、各CIS系薄膜太陽電池10で生じた光起電力を取り出すことができる。このように、複数個のCIS系薄膜太陽電池10を直列に接続してCIS系薄膜太陽電池モジュール20とすることにより、所望の起電力を得ることができる。なお、図11に示した方法以外で、複数個のCIS系薄膜太陽電池10を直列に接続してもよい。例えば、CIS系薄膜太陽電池10の発電層14及び表面電極層15から露出した裏面電極層13の表面と、隣接して配置された他のCIS系薄膜太陽電池10の金属層11の裏面とをバスバー電極リボンによって接続してもよい。このように、第1の実施の形態に係るCIS系薄膜太陽電池10では、各貫通孔10y内に形成された表面電極層15により、発電層14上に形成された表面電極層15と金属層11とを電気的に接続している。これにより、従来の太陽電池のように、金属層上に製膜された各層とは別に、表面電極層と金属層とを電気的に接続する専用の導電材を各貫通孔内に形成する必要がないため、CIS系薄膜太陽電池10の製造工程を簡略化できる。又、各貫通孔10xの内壁面を構成する裏面電極層13の端面を覆うように発電層14を形成して、裏面電極層13と各貫通孔10y内に形成された表面電極層15とを発電層14により絶縁している。これにより、従来の太陽電池のように、表面電極層と金属層とを電気的に接続する導電材と裏面電極層とを絶縁する専用の絶縁層を形成する必要がないため、CIS系薄膜太陽電池10の製造工程を簡略化できる。第1の実施の形態の変形例1第1の実施の形態の変形例1では、貫通孔10x及び10yをそれぞれ貫通孔10s及び10tに置換する例を示す。なお、第1の実施の形態の変形例1において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する。図12は、第1の実施の形態の変形例1に係るCIS系薄膜太陽電池を例示する平面図である。第1の実施の形態では、貫通孔10x及び10yをそれぞれ平面形状が細長状平面形状が細長い矩形状の孔としたが図2参照、例えば、図12に示す貫通孔10s及び10tのように、それぞれの平面形状を円形としてもよい。或いは、各貫通孔の平面形状を楕円形や矩形、その他の任意の形状としてもよい。なお、図12のA-A線に沿う断面図は図3と同様であるため、図示は省略する。貫通孔10sは、裏面電極層13を貫通し、バリア層12の表面を露出する平面形状が円形の孔であり、所定間隔で複数個縦横に配列されている。各貫通孔10sの直径は、例えば、150μm程度とすることができる。貫通孔10tは、発電層14の表面から金属層11の表面まで貫通して金属層11の表面を露出する平面形状が円形の孔であり、所定間隔で複数個縦横に配列されている。なお、貫通孔10sは、本発明に係る他の貫通孔の代表的な一例である。各貫通孔10tは各貫通孔10sよりも小径であり、各貫通孔10tは、平面視において、各貫通孔10sに囲まれるように略同心円状に形成されている。平面視において、各貫通孔10tの周囲には、バリア層12が円環状に露出している。各貫通孔10tの直径は、例えば、70μm程度とすることができる。各貫通孔10sの内壁面と各貫通孔10tの内壁面の平面視における距離L1バリア層12の露出部分の幅は全周において略一定であり、例えば、40μm程度とすることができる。なお、貫通孔10tは、本発明に係る貫通孔の代表的な一例である。このように、バリア層12や発電層14、裏面電極層13等に形成する貫通孔の形状は任意に決定して構わない。第1の実施の形態の変形例2第1の実施の形態の変形例2では、貫通孔10x及び10yをそれぞれ貫通孔10m及び10nに置換する例を示す。なお、第1の実施の形態の変形例2において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する。図13は、第1の実施の形態の変形例2に係るCIS系薄膜太陽電池を例示する部分断面図である。なお、図13は、図2のA-A断面に対応する断面図である。図13を参照するに、CIS系薄膜太陽電池10Aにおいて、貫通孔10mは、バリア層12、裏面電極層13、及び発電層14を貫通して金属層11の表面を露出する平面形状が細長状の貫通孔であり、Y軸に平行な方向に所定間隔で複数列並設されている。各貫通孔10mの幅X方向は、例えば、150μm程度とすることができる。各貫通孔10mの内壁面を構成するバリア層12、裏面電極層13、及び発電層14の各端面を覆うように、絶縁層16が形成されている。絶縁層16としては、例えば、ナイロン、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン等の熱可塑性ポリマ等を用いることができる。なお、貫通孔10mは、本発明に係る他の貫通孔の代表的な一例である。貫通孔10nは、発電層14の表面から金属層11の表面まで貫通して金属層11の表面を露出する平面形状が細長状の貫通孔であり、Y軸に平行な方向に所定間隔で複数列並設されている。絶縁層16は、各貫通孔nの内壁面を構成している。各貫通孔10nは、平面視において、各貫通孔10mに囲まれるように形成されている。換言すれば、各貫通孔10nは、平面視において各貫通孔10mよりも内側に形成されている。各貫通孔10nの幅X方向は、例えば、70μm程度とすることができる。各貫通孔10mの内壁面と各貫通孔10nの内壁面の平面視における距離L2絶縁層16の幅は全周において略一定であり、例えば、40μm程度とすることができる。なお、貫通孔10nは、本発明に係る貫通孔の代表的な一例である。表面電極層15は、発電層14上及び各貫通孔10n内に形成されている。各貫通孔10n内に形成された表面電極層15の下端面は金属層11の表面と接触している。つまり、表面電極層15と金属層11とは電気的に接続されている。各貫通孔10n内に形成された表面電極層15は、裏面電極層13の端面と絶縁する必要がある。本実施の形態では、バリア層12、裏面電極層13、及び発電層14を貫通する貫通孔10mを形成し、各貫通孔10mの内壁面を構成する少なくとも裏面電極層13の端面を絶縁層16で覆うことにより、裏面電極層13と各貫通孔10n内に形成された表面電極層15とを絶縁している。裏面電極層13と各貫通孔10n内に形成された表面電極層15とを絶縁できれば、前述の距離L2絶縁層16の幅は任意の値に設定して構わない。なお、第1の実施の形態の変形例1と同様に、各貫通孔10m及び10nの形状は任意に決定してよく、例えば、各貫通孔10m及び10nの平面形状を円形等とすることができる。[第1の実施の形態の変形例2に係る太陽電池の製造方法]次に、第1の実施の形態の変形例2に係る太陽電池の製造方法について、CIS系薄膜太陽電池を例にとって説明する。図14~図18は、第1の実施の形態の変形例2に係るCIS系薄膜太陽電池の製造工程を例示する図である。なお、図14~図18は、図2のA-A断面に対応する断面図である。まず、図14に示す工程では、第1の実施の形態の図4及び図5の工程を実行後、裏面電極層13上に、発電層14を形成する。発電層14の材料や形成方法等は前述の通りである。次に、図15に示す工程では、バリア層12、裏面電極層13、及び発電層14を貫通して金属層11の表面を露出する平面形状が細長状の貫通孔10mをY軸に平行な方向に所定間隔で複数列並設する。例えば、YAGレーザ等のレーザ光をバリア層12、裏面電極層13、及び発電層14の一部に照射することにより、レーザ光が照射された部分のバリア層12、裏面電極層13、及び発電層14が除去され、各貫通孔10mが形成される。但し、レーザを用いずに、機械的に各貫通孔10mを形成してもよい。各貫通孔10mの幅X方向は、例えば、150μm程度とすることができる。次に、図16に示す工程では、例えば印刷法等を用いて、各貫通孔10m内に未硬化の熱可塑性ポリマ等例えば、ナイロン、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン等を充填し、その後硬化温度以上に加熱して硬化させ、絶縁層16を形成する。少なくとも各貫通孔10mの内壁面を構成する裏面電極層13の端面は、絶縁層16で覆われる。絶縁層16の表面は、発電層14の表面と略面一とすることができる。次に、図17に示す工程では、各貫通孔10mの内側に、絶縁層16を発電層14の表面から金属層11の表面まで貫通して金属層11の表面を露出する平面形状が細長状の貫通孔10nを形成する。各貫通孔10nは、絶縁層16が内壁面を構成するように、平面視において各貫通孔10mよりも内側に形成する。例えば、YAGレーザ等のレーザ光を絶縁層16の一部に照射することにより、レーザ光が照射された部分の絶縁層16が除去され、各貫通孔10nが形成される。但し、レーザを用いずに、機械的に各貫通孔10nを形成してもよい。各貫通孔10nの幅X方向は、例えば、70μm程度とすることができる。各貫通孔10nは、各貫通孔10mの内壁面と各貫通孔10nの内壁面の平面視における距離L2が略一定となるように形成する。距離L2は、例えば、40μm程度とすることができる。次に、図18に示す工程では、発電層14上及び各貫通孔10n内に、表面電極層15を形成する。換言すれば、裏面電極層13と絶縁された状態で金属層11の表面と接するように各貫通孔10n内に表面電極層15を形成し、更に各貫通孔10n内の表面電極層15を発電層14上に延在させる。各貫通孔10mの内壁面を構成する裏面電極層13の端面は絶縁層16により覆われているため、裏面電極層13と各貫通孔10n内に形成された表面電極層15とは絶縁される。表面電極層15の材料や形成方法等は前述の通りである。以上の工程により、図13に示すCIS系薄膜太陽電池10Aが完成する。図19は、第1の実施の形態の変形例3に係るCIS系薄膜太陽電池を例示する部分断面図である。図13に示すCIS系薄膜太陽電池10Aを、図19に示すに示すCIS系薄膜太陽電池10Bのように変形してもよい。つまり、絶縁層16は、裏面電極層13と各貫通孔10n内に形成された表面電極層15とを絶縁するために設けているので、絶縁層16は、少なくとも裏面電極層13の端面を覆うように形成すればよい。CIS系薄膜太陽電池10Bを製造するには、図16に示す工程で、裏面電極層13の端面を覆う程度に各貫通孔10m内に未硬化の熱可塑性ポリマ等を形成すればよい。その他の製造工程は、CIS系薄膜太陽電池10Aと同様である。このように、第1の実施の形態の変形例2に係るCIS系薄膜太陽電池10A、又は、第1の実施の形態の変形例3に係るCIS系薄膜太陽電池10Bでは、各貫通孔10n内に形成された表面電極層15により、発電層14上に形成された表面電極層15と金属層11とを電気的に接続している。これにより、従来の太陽電池のように、金属層上に製膜された各層とは別に、表面電極層と金属層とを電気的に接続する専用の導電材を各貫通孔内に形成する必要がないため、CIS系薄膜太陽電池10A及び10Bの製造工程を簡略化できる。以上、好ましい実施の形態及びその変形例について詳説したが、上述した実施の形態及びその変形例に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態及びその変形例に種々の変形及び置換を加えることができる。例えば、上述した実施の形態及びその変形例では、CIS系薄膜太陽電池を例にとって太陽電池の説明をしたが、本発明はCIS系薄膜太陽電池以外にも適用可能である。本発明を適用可能な太陽電池の一例を挙げれば、アモルファスシリコン系太陽電池、結晶シリコン系太陽電池、CIS系以外の化合物系太陽電池等である。CIS系以外の化合物系太陽電池とは、例えば、発電層が銅Cu、亜鉛Zn、錫Sn、及びカルコゲン元素セレンSe又は硫黄Sを含有する化合物からなるCZTS系太陽電池や、発電層がカドミウムCd及びテルルTeを含有する化合物からなるCdTe系太陽電池等である。又、上述した実施の形態及びその変形例では、金属層11上に、バリア層12、裏面電極層13、発電層14、及び表面電極層15を順次積層した。しかし、例えば、バリア層12としてポリイミドフィルム等を用い、バリア層12を構成するポリイミドフィルムを基体として、その上に裏面電極層13、発電層14、及び表面電極層15を順次積層する工程としてもよい。この場合には、バリア層12の裏面側に金属層11を形成することができる。金属層11としては、例えば、銅CuやアルミニウムAl等をめっき法や蒸着法等によりバリア層12の裏面側に形成することができる。金属層11の厚さは、例えば、数10μm程度とすることができる。つまり、バリア層12上に、裏面電極層13、及び発電層14を順次積層する積層工程と、バリア層12の裏面電極層13の形成面と反対側の面に金属層11を形成する金属層形成工程と、発電層14の表面から金属層11の表面まで貫通する貫通孔10yを形成する貫通孔形成工程と、裏面電極層13と絶縁された状態で金属層11の表面と接するように貫通孔10y内に表面電極層15を形成し、更に表面電極層15を発電層14上に延在させる表面電極層形成工程と、を有する太陽電池の製造方法により、CIS系薄膜太陽電池10等を製造できる。