表示基板と、対向基板と、前記対向基板上に設けられた対向電極と、前記表示基板と前記対向電極との間に設けられた電解質層と、前記表示基板と前記対向電極との間に互いに隔離して設けられた複数の表示電極と、前記各表示電極上に、前記対向電極と向き合うように形成されたエレクトロクロミック層を有し、前記エレクトロクロミック層を酸化還元反応させて発消色するエレクトロクロミック表示装置であって、1つまたは複数の前記表示電極を選択して前記対向電極との間を接続して電圧印加する手段と、他の選択されない前記表示電極と前記対向電極間との間を非接続にする手段と、前記表示電極間を接続する手段を設けたことを特徴とする、エレクトロクロミック表示装置。1つまたは複数の前記表示電極を選択して前記対向電極との間を接続して電圧印加するとともに、他の選択されない前記表示電極と前記対向電極間との間を非接続にして、前記選択した表示電極上に形成された前記エレクトロクロミック層を発消色させ、さらに、前記表示電極と前記対向電極との間を非接続とした後、前記表示電極間を接続して電圧印加することを特徴とする、請求項1記載のエレクトロクロミック表示装置の駆動方法。前記対向基板上に形成した対向電極を複数有し、対向電極の選択手段を設けたことを特徴とする、請求項1記載のエレクトロクロミック表示装置。1つまたは複数の前記表示電極を選択するとともに、1つまたは複数の前記対向電極を選択し、選択した表示電極と選択した対向電極との間を接続して電圧印加するとともに、他の選択されない前記表示電極と前記対向電極間との間を非接続にして、前記選択した表示電極上に形成されたエレクトロクロミック層の前記選択した対向電極に対向する領域を発消色させ、さらに、前記表示電極と前記対向電極との間を非接続とした後、前記表示電極間を接続して電圧印加することを特徴とする、請求項3記載のエレクトロクロミック表示装置の駆動方法。1つまたは複数の選択した表示電極上に形成された前記エレクトロクロミック層を発消色させ、次に、非選択の表示電極の中から、1つまたは複数の新たに選択をした他の表示電極上に形成されたエレクトロクロミック層を発消色させ、さらに、前記表示電極と前記対向電極との間を非接続とした後、前記表示電極間を接続して電圧印加することを特徴とする、請求項2又は請求項4にいずれか一項に記載のエレクトロクロミック表示装置の駆動方法。対向電極から遠い表示電極上に形成されたエレクトロクロミック層から順次発色駆動させることを特徴とする、請求項2、4又は5にずれか一項に記載のエレクトロクロミック表示装置の駆動方法。全ての前記表示電極を選択して前記対向電極との間を接続して電圧印加することにより、全ての表示電極上に形成された前記エレクトロクロミック層を発消色させることを特徴とする、請求項1記載のエレクトロクロミック表示装置の駆動方法。全ての前記表示電極を選択するとともに、全ての前記対向電極を選択し、全ての表示電極と全ての対向電極との間を接続して電圧印加することにより、全ての表示電極上に形成された前記エレクトロクロミック層を発消色させることを特徴とする、請求項3記載のエレクトロクロミック表示装置の駆動方法。前記各表示電極と前記各対向電極で形成される画素ごとに印加する電荷量を可変制御する手段を具備することを特徴とする、請求項1または3にいずれか一項に記載のエレクトロクロミック表示装置。形成する画像の発色濃度により画素の印加電荷量を制御し、電荷量の印加時間に従い表示電極の選択時間を調整する手段を具備することを特徴とする、請求項1、3又は9にいずれか一項に記載のエレクトロクロミック表示装置。前記複数の表示電極同士の間に、前記複数の表示電極を互いに絶縁するための絶縁層が設けられていることを特徴とする、請求項1、3、9又は10のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック表示装置。前記各表示電極と前記各エレクトロクロミック層との間に、電気絶縁性保護層が設けられていることを特徴とする、請求項1、3、9~11のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック表示装置。前記表示基板側から入射する光を光散乱反射するための白色反射層を、前記エレクトロクロミック層と、前記対向電極の間に設けることを特徴とする、請求項1、3、9~12のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック表示装置。本発明者らが特許文献1で提案する積層構成では、表示基板と対向電極との間に複数の表示電極を互いに隔離して設け、表示電極の各々に対応してエレクトロクロミック層を形成する。この構成により、選択した表示電極のエレクトロクロミック層を独立して発消色を駆動させるが、そのためには隔離された各表示電極間の電気抵抗が、各表示電極面内の電気抵抗よりも大きくなるように構成する必要がある。ここで発消色とは、上で説明したエレクトロクロミック現象を引き起こすエレクトロクロミック化合物の発色、消色を意味する。表示電極間の電気抵抗が小さいと、選択していない表示電極にも電流が印加されるため、発消色が独立駆動できないからである。特許文献1では電極間の絶縁性を確保するとともに電解層の浸透性を得る方法として、エレクトロクロミック層と表示電極の間に浸透性絶縁層を形成することを提案している。また各エレクトロミック層を充電発色させた後は、開回路構成にして画素の発色状態を維持する。しかし、開回路構成にしても各エレクトロクロミック層の発色状態が十分には安定しなかった。すなわち時間とともに各エレクトロクロミック層の発色が混色するということが見出された。これはエレクトロクロミックに充電した電荷が時間とともに減衰し、その結果各エレクトロクロミック層間の充電バランスが崩れることが要因と考えられた。これは電荷保持能力が低いエレクトロクロミック材料を用いた場合は、特に顕著となる。また各エレクトロクロミック層を対極電極の微細パターンに合わせて独立に発消色させるアクティブマトリックス駆動においては、表示電極間の十分な絶縁性を得ることは困難であることが分かった。すなわち先行して発色させたエレクトロクロミック層の発色が、後に発色させるエレクトロクロミック層の発色動作に影響する問題が生じるということが見出された。本発明は上記の点に鑑みなされたものであり、積層したエレクトロクロミック層を独立に発消色させるとともに発色状態を安定に維持させることが容易となる。また、画像表示スピードが改善され、かつ表示電極間の十分な絶縁性が得られることからアクティブ駆動が可能となるエレクトロクロミック表示装置を提供することを目的とする。上記課題を解決するために、本発明のエレクトロクロミック表示装置は、表示基板と、対向基板と、前記対向基板上に設けられた対向電極と、前記表示基板と前記対向電極との間に設けられた電解質層と、前記表示基板と前記対向電極との間に互いに隔離して設けられた複数の表示電極と、前記各表示電極上に、前記対向電極と向き合うように形成されたエレクトロクロミック層を有し、前記各表示電極と前記対向電極間に印加する電荷量を制御することにより前記エレクトロクロミック層を酸化還元反応させて発消色するエレクトロクロミック表示装置であって、1つまたは複数の前記表示電極を選択して前記対向電極との間を接続して電圧印加する手段と、他の選択されない前記表示電極と前記対向電極間との間を非接続にする手段と、前記表示電極間を接続する手段を設けることを特徴とする。本発明によれば、積層したエレクトロクロミック層を独立に発消色させるとともに、発色状態を安定に維持させることが容易になる。また、画像表示スピードが改善され、かつ表示電極間の十分な絶縁性が得られ、アクティブ駆動が可能となる。次に、本発明を実施するための形態について図面と共に説明する。エレクトロクロミック表示装置表示部構成の説明:図1には、本発明の表示装置表示部の一例が示されている。表示装置表示部10は、表示基板11に形成された表示電極11aと、所定の間隔を隔てて対向して設けられている複数の対向電極12aが形成されている対向基板12を有する。さらに表示電極11aと対向電極12aとの間に隔離して形成された2つの表示電極11b、11cと、各表示電極11a、11b、11cに接して設けられたエレクトロクロミック層13a、13b、13cとを有する。さらに表示電極間の絶縁性を得るためエレクトロクロミック層に接して形成された絶縁層14a、14bと、表示電極に接して設けられた保護層15a、15bと、白色反射層17とを有する。これらは、電解質層16を挟んで、表示電極11aと対向電極12aと密着形成された構成となる。ここで電解質層16はイオン移動性を示す層であり、表示電極11aと対向電極12aの間に浸透しており、通常は電解質と溶媒が含有されている。また電解質層16には白色反射機能を付与させるために白色粒子18を含有させても良い。その場合は白色反射層17を省略することもできる。なお表示基板11と対向基板12は、接着剤を含有させた電解質層、またはスペーサ19介して貼り合わされる。駆動の説明:本発明の表示装置表示部10は、選択した表示電極11と対極電極12の間に接続して電圧を印加し、選択した表示電極に接するエレクトロクロミック層13が、表示電極11からの電荷の授受により酸化還元反応することにより発消色する。また、エレクトロクロミック層13の対向電極側に白色反射機能白色反射板17や白色粒子18を有するので、表示基板11側から視認できる反射型の表示素子となる。さらに、一の表示電極と他の表示電極との間の電気抵抗を、一の表示電極の電気抵抗より大きく設定することにより、積層カラー表示が可能となる。かかる電気抵抗はエレクトロクロミック層13の膜厚などにも依存し、絶縁層14なしでも十分な電気抵抗が得られる場合は絶縁層14を省略することもできる。各エレクトロクロミック層13のエレクトロクロミック化合物をYイエロー、Mマゼンタ、Cシアンなどの異なる発色カラーとすることで、Y、M、C単色表示することやR、G、B、K黒のそれぞれの混色表示が実現できる。構成材料の説明:表示基板11を構成する材料としては、ガラス、プラスチック等が挙げられる。表示基板11として、プラスチックフィルムを用いると、軽量でフレキシブルな表示装置を作製することができる。表示電極11a、11b、11cを構成する材料としては、導電性を有する材料であれば特に限定されるものではない。光の透過性を確保する必要があるため、透明且つ導電性に優れた透明導電性材料が用いられる。これにより、発色させる色の視認性をより高めることができる。ここで透明導電性材料としては、スズをドープした酸化インジウム以下ITO、フッ素をドープした酸化スズ以下FTO、アンチモンをドープした酸化スズ以下ATO等の無機材料を用いることができる。本発明においては特に、真空成膜により形成されたインジウム酸化物以下、In酸化物という、スズ酸化物以下、Sn酸化物という又は亜鉛酸化物以下、Zn酸化物というの何れか1つを含む無機材料であることが好ましい。さらにIn酸化物、Sn酸化物及びZn酸化物は、スパッタ法により、容易に成膜が可能な材料であると共に、良好な透明性と電気伝導度が得られる材料であり好ましい。特に好ましい材料は、InSnO、GaZnO、SnO、In2O3、ZnOである。電解質層16としては、支持塩を溶媒に溶解させた層の使用が、イオン伝導度が高いため好ましい。電解質層16の支持塩として、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、4級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩を用いることができる。具体的には、LiClO4、LiBF4、LiAsF6、LiPF6、LiCF3SO3、LiCF3CO2、KCl、NaClO3、NaCl、NaBF4、NaSCN、KBF4、MgClO42、MgBF42、過塩素酸テトラブチルアンモニウムなどを用いることができる。また電解質層16の溶媒として、例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ―ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、1、2-ジメトキシエタン、1、2-エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類、が用いられる。本発明においては電解質として、支持塩を溶媒に溶解させた液体状の電解質に特に限定されるものではなく、イオン液体、ゲル状の電解質、液晶電解質、さらにポリマー電解質等の固体電解質も用いられる。また電解質層16は素子強度向上、信頼性向上、発色拡散の防止から、ゲル状、固体状に形成することが好ましい。固体化の手法としては、電解質と溶媒をポリマー樹脂中に保持することが好ましい。これにより高いイオン伝導度とともに固体強度も得られるためである。さらにポリマー樹脂としては光硬化可能な樹脂光硬化性樹脂が好ましい。熱重合熱硬化や、ポリマー溶液から溶剤を蒸発させることにより薄膜化する方法に比べて、低温で短時間で素子を製造できるためである。かかる樹脂としては、特に限定されないが、ウレタン、エチレングリコール、ポリプレングリコール、ビニルアルコール、アクリル、エポキシなどを挙げることができる。また白色顔料粒子18を、前記電解質層中に分散させることで、白色反射層の機能をもたせることもできる。ここで白色の顔料粒子18としては、特に限定されないが、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化ケイ素、酸化セシウム、酸化イットリウム等の金属酸化物が挙げられる。白色の顔料粒子18の含有量は、特に制限はないが、電解質層の厚さにも存するが、好ましい含有量は10~50wtである。光硬化樹脂により電解質層を硬化する場合は白色顔料を増量すると光を遮蔽するため硬化不良となりやすい。また、電解質層の膜厚は表示電極11aと対向電極12aの間の距離で決まり、0.1~200μmの任意の範囲とすることができる。好ましくは1~50μmである。電解質層がこれよりも厚いと電荷が拡散しやすい、またこれよりも薄いと電解質の保持が困難にあるためである。エレクトロクロミック層13a、13b、13cには酸化還元により色の変化を起こす材料であれば特に制限されない。たとえばこのような材料として、ポリマー系、色素系、金属錯体、金属酸化物等の種々の公知のエレクトロクロミック化合物が目的に応じて、例えば望ましい発消色電位に応じて適宜選択使用することができる。さらにこれらの化合物を目的に応じて単独で、もしくは適宜組み合わせて使用することも可能である。具体的に、ポリマー系、色素系、のエレクトロクロミック化合物として、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系、等の低分子系有機エレクトロクロミック化合物、ポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性高分子化合物が用いられる。本発明において特に好ましくは発消色電位が低いものである。発消色電位が低いと、複数の表示電極を有するエレクトロクロミック表示装置を構成した場合においても、低電圧の印加により良好な発消色駆動が可能になるためである。本発明においては具体的には、以下一般式1で表されるジピリジン系化合物を含むことが好ましい。式中、R1、R2は、それぞれ独立に置換基を有しても良い炭素数1から8のアルキル基、又はアリール基を表し、R1又はR2の少なくとも一方は、COOH、POOH2、SiOCkH2k13から選ばれる置換基を有する。X-は1価のアニオンを表す。n、m、lはそれぞれ独立に0または1を表す。またA、B、Cはそれぞれ独立に置換基を有しても良い炭素数2から20のアリール基、複素環基を表す。ここで、A、B、Cの種類については制限はなく、例えば特開2007-171781、特開2008-116718、特開2008-116665、特開2011-102288、特開2011-102382、特開2011-102287、特開2011-85773等に開示される技術に基づき、この技術分野の熟練者にとって、適宜選択することが可能である。これらの化合物エレクトロクロミック化合物は表示電極に接してエレクトロクロミック現象を発揮するエレクトロクロミック層として形成されればよく特にその状態において制限はない。本発明においては、エレクトロクロミック化合物が、ナノ構造半導体材料に吸着または結合して電極に接している状態形態が好ましい。またこの形態においてはエレクトロクロミック化合物が移動しないよう固定化されると共に、エレクトロクロミック化合物の酸化還元に伴う電子の授受が妨げられないように電気的な接続が確保されていればよい。このためにエレクトロクロミック化合物とナノ構造半導体材料とは混合されて単一層として使用することも好ましい。ナノ構造半導体材料の材料としては、特に限定されるものではなく従来公知の材料が適宜選択使用されるが。具体的には、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アルミニウム以下アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ケイ素以下シリカ、酸化イットリウム、酸素ホウ素、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、フェライト、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、アルミノケイ酸、リン酸カルシウム、アルミノシリケート等を主成分とする金属酸化物が用いられる。これらの金属酸化物は、単独で用いられてもよく、2種以上が混合され用いられてもよい。電気伝導性等の電気的特性や光学的性質等の物理的特性を考慮して、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タングステン、から選ばれる一種、もしくはそれらの混合物の使用が好ましい。発消色の応答速度に優れた多色表示が可能となるからである。また、ナノ構造半導体材料の形状は、特に限定されるものではない。エレクトロクロミック化合物を効率よく担持吸着、結合、混合等するために、単位体積当たりの表面積以下比表面積が大きい形状の使用が好ましく用いられる。大きな比表面積を有することにより効率的にエレクトロクロミック化合物が担持され、発消色の表示コントラスト比に優れた表示が可能となる。エレクトロクロミック層の好ましい膜厚範囲は0.2~5.0μmの任意の範囲である。この範囲よりも膜厚が薄い場合、発色濃度を得にくくなる。またこの範囲よりも膜厚が厚い場合、製造コストが増大すると共に、着色によって視認性が低下しやすい。図1の積層構成では、第1の表示電極11a、第2の表示電極11b、第3の表示電極11cのそれぞれの間の電極間抵抗は、対向電極12aに対する一方の表示電極の電位を、対向電極12aに対する他方の表示電極の電位と独立に制御することができる程度に大きな抵抗になるように、構成形状材料等を適宜選択する。少なくとも第1の表示電極11a、第2の表示電極11b、第3の表示電極11cの何れかの表示電極のシート抵抗よりも大きくなるように形成されなくてはならない。これは、第1の表示電極11a、第2の表示電極11b、第3の表示電極11cのそれぞれの間の電極間抵抗が、第1の表示電極11a及び第2の表示電極11bの何れかの表示電極のシート抵抗よりも小さい場合、第1の表示電極11a、第2の表示電極11b、第3の表示電極11cの何れかの表示電極に電圧印加をすると、同程度の電圧が他方の表示電極にも印加されることになり、各表示電極に対応するエレクトロクロミック層を独立に消色することができなくなるからである。各表示電極の間の電極間抵抗は、夫々の表示電極のシート抵抗の500倍以上あることが好ましい。本発明においてはかかる抵抗値を確保するために、絶縁層14をさらに設けることが好ましい。絶縁性、耐久性及び成膜性に優れた公知の有機材料および無機材料を好ましく使用することができる。さらに絶縁層14の材料の形状としては特に限定されるものではないが、多孔質であることが好ましい。多孔質膜の形成方法としても特に制限されるものではなく公知の方法が好ましく使用できる。例えば、燒結法高分子微粒子や無機粒子をバインダ等を添加して部分的に融着させ粒子間に生じた孔を利用する、抽出法溶剤に可溶な有機物または無機物類と溶剤に溶解しないバインダ等で構成層を形成した後に、溶剤で有機物または無機物類を溶解させ細孔を得る、高分子重合体等を加熱や脱気する等して発泡させる発泡法、良溶媒と貧溶媒を操作して高分子類の混合物を相分離させる相転換法、各種放射線を輻射して細孔を形成させる放射線照射法等の公知の形成方法を適宜選択して使用することができる。具体例としては、無機ナノ構造粒子SiO2粒子、Al2O3粒子などとポリマー結着剤からなるポリマー混合粒子膜、多孔性有機膜ポリウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、多孔質膜上に形成した無機絶縁材料膜などが挙げられる。本発明においてはこの無機絶縁材料膜としては、少なくともZnSを含む材料が好ましい。ZnSは、スパッタ法よって、エレクトロクロミック層などにダメージを与えることなく高速に成膜できるという特徴を有するからである。ZnSを主な成分として含む材料として、ZnO-SiO2、ZnS-SiC、ZnS-Si、ZnS-Ge等が好ましく使用することができる。ZnSの含有率は、絶縁層14を形成した際の結晶性を良好に保つために、約50~90molとすることが好ましい。従って、特に好ましい材料は、ZnS-SiO2モル比8/2、ZnS-SiO2モル比7/3、ZnS、ZnS-ZnO-In2O3-Ga2O3モル比60/23/10/7である。このような絶縁層14の材料を用いることにより、薄膜で良好な絶縁効果が得られ、多層化による膜強度低下すなわち膜のはがれを防止することができる。さらに、前述のようにZnS等をスパッタで形成する場合、予め下引き層として多孔性粒子膜を形成することによって、ZnS等の多孔質膜を形成することができる。この場合、前述のナノ構造半導体材料を粒子状膜として使用することもできるが、別途シリカ、アルミナ等を含む多孔質粒子膜を形成し、2層構成の絶縁層とすることが絶縁性の点から好ましい。このような手法を用いて絶縁層14を多孔質膜にすることにより、電解質層16が絶縁層14さらには表示電極11に浸透することが可能となるため、酸化還元反応に伴う電解質層中のイオン電荷の移動が容易となり、発消色の応答速度に優れた多色表示が可能となる。なお、絶縁層14の膜厚は20~2000nmの任意の範囲にある。この範囲よりも膜厚が薄い場合、絶縁性を得にくくなる。またこの範囲よりも膜厚が厚い場合、製造コストが増大すると共に、着色によって視認性が低下しやすい。対向基板12の材料としては、特に限定されるものではなく、上で説明した表示基板11と同様の材料を用いることができる。対向電極12aの材料としては、導電性を有する材料であれば、特に限定されるものではない。対向基板12として、ガラス基板、プラスチックフィルムが用いられる場合、対向電極12aの材料として、ITO、FTO、酸化亜鉛等の透明導電膜、あるいは亜鉛、白金等の導電性金属膜、さらにはカーボンなどが好ましく用いられる。これらの透明導電膜又は導電性金属からなる対向電極12aは、対向基板12に真空製膜または湿式コーティングにより形成されることができる。さらに対向電極12aとして、亜鉛等の金属板が用いられる場合、対向基板12が対向電極12aを兼ねることができる。さらに、エレクトロクロミック層13a、13b、13cで起こす酸化還元反応条件で、逆の酸化還元反応を起こす材料を対向電極表面に形成することで、安定した発消色が可能となる。すなわち、エレクトロクロミック層が酸化により発色する場合はその酸化条件で還元反応を起こし、エレクトロクロミック層が還元により発色する場合はその還元条件で酸化反応を起こす材料を対向電極12aとして、または対向電極表面に形成して用いると、エレクトロクロミック層13a、13b、13cにおける発消色の反応がより安定となる。かかる対向電極材料は、同時に使用するエレクトロクロミック材料としての化合物の酸化還元ポテンシャル値又は測定値に基づき、適切な酸化還元電位を有する金属等の導電性材料を選択して使用することが可能である。また図1に示すように、本発明においては白色反射層17を設けることが好ましい。表示基板側11から入射する光をより効果的に光散乱反射するためである。白色反射層17の材料としては、公知の金属、半金属に加えて、酸化物、チッカ物、硫化物などの真空製膜可能な無機化合物膜、または酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化ケイ素、酸化セシウム、酸化イットリウム等の金属酸化物粒子からなる白色顔料粒子膜が挙げられる。ここで無機化合物膜に浸透性を持たせるには絶縁層と同様の形態として形成する必要があり、効果的な散乱を得るためには下地層の粒子径が散乱効率の高い100~400nmであることが好ましい。また、金属酸化物粒子膜は溶液に分散したペーストとして塗布製膜することにより容易に形成することができる。本発明において特に好ましい材料は酸化チタン粒子である。なお、白色反射層17の膜厚は0.1~50μmの範囲にあり、更に好ましくは0.5~5μmの範囲である。この範囲よりも膜厚が薄い場合、白色反射効果を得にくくなる。またこの範囲よりも膜厚が厚い場合、浸透性と膜強度を両立することが困難となるためである。ただし、酸化チタン粒子含有層を用いても最大反射率が得られる膜厚まで厚膜化すると膜強度が不足しやすくなる。そこで本発明においては、十分な膜強度が得られる白色反射層と、電解質層16に白色顔料粒子18を混合した白色電解質層との2層構成で白色反射層を形成することが好ましい。さらに図1に示すように、本発明においては保護層15を設けることが好ましい。以下詳しく説明する。保護層は少なくとも1つの表示電極とエレクトロクロミック層の間に形成されることが好ましい。上で説明した、エレクトロクロミック層が、ナノ構造半導体材料にエレクトロクロミック化合物が吸着または結合している形態の場合、表示電極表面またはナノ構造半導体表面に保護層15を形成することが可能である。本発明では特に電極表面に形成することが好ましい。保護層15を形成することにより、先行して発色させたエレクトロクロミック層の発色が、後に発色させるエレクトロクロミック層の発色駆動に影響することを低減することができる。かかる効果を以下図2aおよび図2bにより模式的に説明する。1層目のエレクトロクロミック層13aのA領域に対応する対極電極画素-1と1層目の表示電極11a間に電圧を印加し、1層目のエレクトロクロミック層13aのA領域を発色させる。後、2層目のエレクトロクロミック層13bのB領域に対応する対極電極画素-2と2層目の表示電極11b間に電圧を印加し、2層目のエレクトロクロミック層13bのB領域を発色させる。このとき正常に発色する場合には図2aに示されるようにA領域とB領域がそれぞれの層で発色する。一方、図2bに異常発色として示されるように、1層目のエレクトロクロミック層13aのA領域の発色が保持されず、2層目のエレクトロクロミック層13bのA領域が発色しやすくなることがある。この問題は2層目のエレクトロクロミック層13bのB領域に対応する対極電極画素-2と2層目の表示電極11b間に電圧印加した際に表示電極13aと13b間の絶縁性が十分でなく、その結果1層目のエレクトロクロミック層13aのA領域の発色電荷により2層目のエレクトロクロミック層13bのA領域が発色すると考えられる。本発明の一の実施の形態においては、電気絶縁性の保護層15を表示電極に形成することで、保護層15の形成により表示電極13aと13bの絶縁性を有効に保持することにより解消している。上で説明した通り、保護層15の材料としては、電気絶縁性材料からなり、種々の有機材料または無機材料が特に制限なく使用できるが、絶縁効率の点で金属酸化物を主成分とする無機材料の使用が好ましい。なおここで電気絶縁性材料とは、導電性よりも誘電性が優位な物質であり、広いバンドギャップを有し、直流電圧に対しては電気を通しにくい特性の材料である。具体的には有機材料としてはポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂などのポリマー材料が使用可能である。また無機材料としてはSiO2、HfO2、Ta2O5、Al2O3、ZrO2、Si3N4、ZnSやその混合物など広く知られた材料を用いることができる。本発明において特に好ましい材料はAl酸化物またはSi酸化物を含有する材料である。Al酸化物またはSi酸化物は絶縁性が良く、薄膜化が可能であり、選択したエレクトロクロミック層を独立に発消色させる効果が高いからである。さらに、保護層15は半導体性材料の積層構成として形成することも可能である。n型半導体とp型半導体を積層することで、V-I特性にヒステリシスを付与することが可能である。電流が流れにくい電圧領域を形成することにより、絶縁材料を用いた場合と同様の効果が得られる。また、ヒステリシスを調整することで保護膜形成による駆動電圧の増加を低減することも可能である。n型半導体とp型半導体の積層としては、n型半導体/p型半導体およびp型半導体/n型半導体、の2層積層およびn型半導体/p型半導体/n型半導体の3層積層などが利用できる。これらの半導体材料は透明性が必要になるため、金属酸化物で形成することが好ましい。n型半導体としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズを主成分にした材料などを挙げることが出来き、p型半導体としては、例えば、酸化銅、酸化ニッケルなどを主成分にした材料をあげることができるが、これらに限定されない。保護層15の膜厚は1nm~500nmの範囲であるが、表示電極膜厚よりも薄いことが好ましい。この範囲よりも保護層の膜厚が厚い場合は、表示電極からエレクトロミック層への電荷の授受が低下することで発消色が困難になるとともに、電解層の浸透性が低下するためである。また、この範囲よりも薄いと保護層の効果を得にくい。絶縁性酸化物材料の場合、特に好ましい膜厚は1nm~20nmである。また、半導体積層の場合の好ましい膜厚は10nm~200nmである。また保護層15を形成することで、エレクトロクロミック層との接触吸着または結合が低下するなどの理由で発消色特性が十分でない場合は、保護層15の表面にさらに表面層図示されていないを形成することが好ましい。この表面層材料としてはITOなど表示電極と同様の透明導電性材料などを用いることができる。かかる表面層の形成は通常公知の方法を好ましく使用可能である。保護層15は真空製膜、塗布コート製膜、インクジェット製膜、印刷製膜など公知のプロセスで容易に形成可能である。好ましくは真空製膜法により金属酸化膜を形成することが良い。特に表示電極と保護層を連続して真空製膜することで、高い生産性が得られる。表示装置構成の説明:次に本発明のエレクトロクロミック表示装置の構成について図に基づいて説明する。図6に本発明の表示装置構成の一例を示す。本発明の表示装置は表示装置表示部10の1つまたは複数の前記表示電極を選択する手段として、表示電極選択スイッチ部50を備える。また、1つまたは複数の前記対向電極を選択する手段として、画素電極選択スイッチ部40を備える。さらに、選択表示電極と選択画素電極との間を接続して電圧印加する手段として、駆動電圧サプライ部30を備える。他の選択されない前記表示電極と前記対向電極間との間を非接続にする手段、および前記表示電極間を接続する手段として、表示電極選択スイッチ部50および画素電極選択スイッチ部40を備える。また、接続した表示電極間に電圧印加する手段として、電極間電圧サプライ部300を備える。さらに、各表示電極と前記各対向電極で形成される画素ごとに印加する電荷量を検出して可変制御する手段として充電量検出回路部20を具備する。エレクトロクロミック表示装置の発消色駆動次に本発明のエレクトロクロミック表示装置の駆動の形態について図に基づいて説明する。図10に駆動のフロー図を示す。本発明の駆動方法は発消色駆動、保持、からなる。また、全発消色初期化の駆動についても図10に記載した。発消色駆動では、色と画素すなわち表示電極と対向電極の選択駆動を複数回繰り返すことで、混色表示、フルカラー表示が可能となる。具体的には、たとえば、イエロー画像の発色駆動、次にマゼンタ画像の発色駆動、次にシアン画像の発色駆動を実施することで、YMC減法混色によるフルカラー表示が可能となる。一例として図3に本発明の表示装置の発消色駆動の例を示す。ただし本発明の駆動方法はここに記載されたものに限定されない。図3は3原色であるイエローY、マゼンタM、シアンCを発色するエレクトロクロミック層13a、13b、13cを形成した表示電極11a、11b、11cをそれぞれ積層形成し、対向する4つの画素電極対向電極22a1、22a2、22a3、22a4とからなる4画素の表示装置として構成した例である。また上で説明した電解質層16および白色反射層17が設けられている。さらに駆動電源サプライ部30が設けられ、電源30は、画素電極22a1、22a2、22a3、22a4、表示電極11a、11b、11cに別々に独立して電位を印可するために接続し又は非接続開回路構成可能な画素電極選択スイッチ部42a1、42a2、42a3、42a4と、表示電極選択スイッチ部51a、51b、51cとがそれぞれ設けられている。従って図3に示す表示装置は、各画素において3原色を減法混色表示させることでカラー表示が可能である。当該表示装置の発消色駆動としては発色濃度の安定性を高めるために、まずすべてのエレクトロクロミック層画素を消色した後に、各エレクトロクロミック層を発色させることが好ましい図3a。消色動作はすべての回路51a、51b、51cを接続してすべての表示電極に正電位の電圧を印加し、またすべての回路42a1、42a2、42a3、42a4を接続してすべての画素電極に負電位の電圧を印加して行う。ここで消色動作は、同時の態様が示されるが、かかる態様に制限されるものではない。順に一回路ごとに接続していくことも可能である。図3aのように全数の表示電極と対向電極間を接続して同時に消色電位を印加する方が処理スピードが速く好ましい。次に画像信号に対応してイエロー発色するエレクトロクロミック層13aを形成した表示電極11aの回路51aのみを接続して負電位の電圧を印加し、対極画素電極22a2、22a4との間の回路42a2、42a4を接続して正電位の電圧を印加し、イエロー画素部を発色させる。このとき他のすべての回路は接続せず非接続開回路構成とする。これによりエレクトロクロミック層13aのみが、2つの画素電極22a1、22a2に対応するイエロー画素部でイエローに発色する図3b。次に画像信号に対応して、マゼンタ発色するエレクトロクロミック層13bを形成した表示電極11bの回路51bのみを接続して負電位の電圧を印加し、対極画素電極22a1、22a3との間の回路42a1、42a3を接続して正電位の電圧を印加し、マゼンタ画素部を発色させる。このとき他のすべての回路は接続せず非接続開回路構成とする。これによりエレクトロクロミック層13bのみが、2つの画素電極22a1、22a2に対応するマゼンタ画素部でマゼンタに発色する図3c。次に画像信号に対応してシアン発色するエレクトロクロミック層13cを形成した表示電極11cの回路51cのみを接続して負電位の電圧を印加し、対極画素電極22a2、22a3との間の回路42a2、42a3を接続して正電位の電圧を印加し、シアン画素部を発色させる。このとき他のすべての回路は接続せず非接続開回路構成とする。これによりエレクトロクロミック層13cのみが、2つの画素電極22a2、22a3に対応するシアン画素部でシアンに発色する図3d。これにより各エレクトロクロミック層13a、13b、13cは充電発色し、後すべての表示電極と対向電極の間のすべての回路を非結合開回路構成にしても画素の発色状態が維持される図3e。すなわち画素電極22a1に対応する画素ではマゼンタが発色され維持されている。また画素電極22a2に対応する画素ではイエローとシアンが発色され維持されている。また画素電極22a2に対応する画素ではマゼンタとシアンが発色され維持されている。さらに画素電極22a4に対応する画素ではイエローが発色され維持されている。次に表示電極13aと13b、13bと13cとの間に表示電極選択スイッチ部回路33a、33b、33cを接続して保持電圧電源31、32によりそれぞれに保持電圧を印加する図3f。この保持電圧を印加することで、各エレクトロクロミック層の発色状態をさらに安定化することができる。保持電圧は各表示電極の充放電状態依存し、適宜決定することができる。本発明においては好ましい保持電圧は発色電圧の0~30程度である。なお0は接続後電圧印加=0Vを意味する。保持電圧は各エレクトロクロミック層間の発消色電位差を低減する方向に印加することが好ましい。すなわち、発消色時の酸化還元電位はエレクトロクロミック化合物により異なり、発色安定な材料と消色安定な材料が存在する。より安定状態にあるエレクトロクロミック化合物層を基準に、他のエレクトロクロミック化合物層の発消色状態を安定化する電位を印加することで、表示状態が安定化する。図3に対応するタイムチャート例を図7に示す。図7では回路スイッチタイムチャートが51a、51b、51c、42a1、42a2、42a3、42a4、33a、33b、33cであり、電圧印加タイムチャートが30、31、32である。図7では回路スイッチ時間と駆動時間、保持時間を等しく記載しているが、これに限定されず、スイッチング時間が短いほど表示スピードが速くなるので好ましい。また、スイッチングタイミングが駆動、保持と同時でも良い。なお、駆動不要なエレクトロクロミック層がある場合は、その層の表示電極選択スイッチ時間と駆動時間をスキップすることが望ましい。さらに、形成する画像の発色濃度により画素の印加電荷量を制御し、電荷量の印加時間に従い表示電極選択スイッチ時間と駆動時間を調整することが好ましい。画像ごとに表示電極選択スイッチ時間と駆動時間を調整することで、発色濃度の低い色を有する画像は画像表示に要する時間を短縮できる。図3、図7の例示では1層ずつ発色させる駆動動作について説明したが、本発明はこれに制限されない。表示電極の接続51a、51b、51cにより、2層同時、さらに3層同時発色も可能である。また各エレクトロクロミック層の発色順序は表示電極間の絶縁性が保持されていれば発消色には影響しない。ただし前述のように1番目に発色させたエレクトロクロミック層の発色部Yにより、2番目のエレクトロクロミック層の発色駆動が影響される場合は、前記対極電極から遠い表示電極表示電極13aから発消色駆動させることが好ましい。すなわち電圧印加する表示電極と対極電極間の外側に位置する表示電極は電圧印加の影響を受けにくく、選択したエレクトロクロミック層のみを独立に発消色することが容易となるからである。また画素の発色充電状態のばらつきから消色状態は過消色過放電状態となりやすく、発色状態が不安定になる等の不具合が発生しやすい。そこで本発明では、表示電極と対向電極で形成される画素ごとに印加する電荷量を可変制御することが好ましい。画素に印加する電荷量をエレクトロクロミック層の充電量により可変制御することで、各画素を任意の発消色状態にすることが容易となる。充電量は電圧値や抵抗値からモニタすることが可能である。図3および図7では還元状態で発色するエレクトロクロミック層を用いた例示を記載しているが、これに限定されない。酸化条件で発色する場合は正負の電圧極性を反転させるだけで同様に動作できる。図3で説明したとおり、本発明のエレクトロクロミック表示装置は対向電極をアクィブマトリックスの画素電極として形成することで、アクティブ表示が可能となる。図4には、アクティブ駆動表示装置のブロック図の一例を示すが、これに制限されるものではない。AMTFT部は、画像信号から生成されたビデオデータ信号をデータドライバーに入力することにより、表示画像情報に基づきAMTFT上の画素電極対極をアクティブにスイッチ駆動する。表示電極選択スイッチ部/電極間電圧サプライ部は表示電極の選択および表示電極間に保持電圧を印加する。発消色駆動では選択された表示電極とスイッチオンした画素電極間に駆動電圧サプライ部の電圧が印加される。この際、充電量検出回路で検出した充電量に従い電圧印加することで、過印加による素子ダメージを低減するとともに、表示電極シリアルスイッチイングのスピードアップが可能となる。表示を保持メモリーしている状態では表示電極間に電圧印加することで発色状態が安定化される。以下本発明を実施例に基づいてさらに詳しく説明するが本発明はこれら実施例に制限されるものではない。実施例1~4および比較例1で使用する電極構成は図5で模式的に示され、断面構成は図8で示される2層構成の表示部を以下のように作成した。図5および図8に基づいて説明する。表示電極/保護層/エレクトロクロミック層/絶縁層/白色反射層の形成:2層構成の作成表示基板11として40mm×40mm厚さ0.7mmのガラス基板を準備し、ガラス基板上に、ITO膜をスパッタ法により約100nmの厚さになるように製膜することによって、1層目の表示電極11aを形成した。さらにITO膜の表面にAl2O3膜をスパッタ法により約2nmの厚さになるように製膜し、保護層15aを形成した。次に、酸化チタンナノ粒子分散液商品名:SP210昭和タイタニウム社製、平均粒子径:約20nmをスピンコート法により塗布し、120°Cで15分間アニール処理を行うことによって、約1.0μmの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。続いて、エレクトロクロミック化合物として、以下の構造式2で表される化合物の1.0wt2、2、3、3-テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布し、120°Cで10分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子膜に吸着させて、1層目のエレクトロクロミック層13a図8を形成した。さらに、この上にSiO2粒子のMEK分散ペーストMEK-ST日産化学社製、平均粒子径:約10nmに結着ポリマーとしてウレタン樹脂を添加した塗布液をスピンコート法により塗布した。後、120°Cで5分間アニール処理して約500nmのSiO2粒子層を形成し、さらにその上にスパッタ法にてZnS/SiO28/2を約30nmの厚さで形成することにより2層構成からなる浸透性絶縁層14a図8を形成した。この上に構造式化3で表される化合物3の1.0wt2、2、3、3-テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布して2層目のエレクトロクロミック層13b図8を形成したこと以外同様にして、2層目の表示電極11b、2層目の保護層15b図8、2層目のエレクトロクロミック層13b図8を形成した。次に2、2、3、3-テトラフロロプロパノール溶液に結着ポリマーおよび電解質として、ポリエチレングリコール分子量200/ウレタンペーストDIC社製HW140SF/過塩素酸テトラブチルアンモニウムのジメトキシスルホキシド20wt溶液を5wt、3wt、17wt溶解した溶液を準備した。この溶液に酸化チタン粒子商品名:CR50石原産業株式会社製、平均粒子径:約250nmを30wt分散したペーストをエレクトロクロミック層表面にスピンコート法により塗布し、120°Cで5分間アニール処理を行うことにより、約5μmの白色反射層17図8を形成した。対向電極/電解層の形成対向基板12として32mm×40mm、厚さ0.7mmのガラス基板を準備し、ガラス基板上に対向電極12aとして、ライン幅4mm、ライン長さ35mmの6ラインの矩形ITOパターン膜をスパッタ法により約100nmの厚さになるように成膜した。次に、電解質16図8として過塩素酸テトラブチルアンモニウム、溶媒としてジメチルスルホキシドおよびポリエチレングリコール分子量:200さらにUV硬化接着剤商品名:PTC10十条ケミカル社製を1.2対5.4対6対16で混合した溶液に白色酸化チタン粒子商品名:CR50石原産業株式会社製、平均粒子径:約250nmを20wt添加した分散液ペーストを用意した。前述の白色反射層表面に滴下塗布した後、対向電極面と重ね、対向基板側からUV光照射硬化して貼り合わせることで、図8で示される形態に対応する2層構成とした表示装置を作成した。なお、電解質層の厚さはビーズスペーサを電解層に0.2wt混合することにより10μmに設定した。なお、各表示電極11a、11bおよび対向電極12a対極画素電極-1、対極画素電極-2は図3のレイアウトで形成し、他の層は各表示電極の駆動接続部を除く全面に形成した。形成した表示電極および対向電極のシート抵抗は150オーム/cm以下であり、表示電極11a、11b間の抵抗を駆動接続部で測定したところ、1Mオーム以上であった。上で作成した電極構成を有する表示装置を用いて以下発消色駆動させた。実施例1表示装置10の表示電極11aの駆動接続部に負極を、対向電極12aの対極画素電極-1に正極を接続し、4.5Vの電圧を1秒間印加したところ、エレクトロクロミック層13aが画素電極-1のITOパターン形状に従い青色に発色した。このとき表示電極11bと前記対向電極12a間との間は非接続とした。次に、-4.5Vの電圧を2秒間印加したところ、完全に消色し、白色に戻った。このとき表示電極11bと前記対向電極12a間との間は非接続とした。また、4.5Vの電圧を1秒間印加した後、電圧を印加せずに5分放置しても、発色パターン状態が保持されたことから、画像保持特性に優れることが確認された。この表示装置10の消色状態の白反射率を分光測色計LCD-5000大塚電子社製を用いて、表示基板側から測定したところ、約55であった。実施例2表示装置10の表示電極11aの駆動接続部に負極を、対向電極12aの対極画素電極-1に正極を接続し、4.5Vの電圧を1秒間印加したところ、エレクトロクロミック層13aが画素電極-1のITOパターン形状に従い青色に発色した。このとき、表示電極11bと対向電極間は開回路構成とした。次に表示装置10の表示電極11bの駆動接続部に負極を、対向電極12aの対極画素電極-2に正極を接続し、4.5Vの電圧を1秒間印加したところ、エレクトロクロミック層13bが画素電極-2のITOパターン形状に従いマゼンタ色に発色し、青とマゼンタのラインを表示することができた。なお、このとき表示電極11aと対向電極間は開回路構成とした。発色後、表示電極11aと表示電極11bの間に表示電極11bが負電位となるように保持電圧0.5Vを印加して5分放置したところ、発色パターン状態が保持されていたことから、画像保持特性に優れることが確認された。実施例3実施例2において、青とマゼンタのラインを表示している表示装置10の表示電極11aおよび表示電極11bの駆動接続部に正極を、対向電極12aの全てに負極を接続し、4.5Vの電圧を2秒間印加して、消色初期化を実施したところ、全てのラインが完全に消色し、白色に戻った。次に表示装置10の表示電極11aの駆動接続部に負極を、対向電極12aの対極画素電極-1に正極を接続し、4.5Vの電圧を2秒間印加したところ、エレクトロクロミック層13aが画素電極-1のITOパターン形状に従い青色に発色した。なお、表示電極11bと対向電極間は開回路構成とした。次に表示装置10の表示電極11bの駆動接続部に負極を、対向電極12aの対極画素電極-2に正極を接続し、4.5Vの電圧を2秒間印加したところ、エレクトロクロミック層13bが画素電極-2のITOパターン形状に従いマゼンタ色に発色し、青とマゼンタのラインを表示することができた。なお、表示電極11aと対向電極間は開回路構成とした。発色後、表示電極11aと表示電極11bの間に表示電極11bが負電位となるように保持電圧0.5Vを印加して5分放置したところ、発色パターン状態が保持されていたことから、画像保持特性に優れることが確認された。実施例4実施例3において、マゼンタのラインを表示させる際に表示装置10の表示電極11bの駆動接続部に負極を、対向電極12aの対極画素電極-2および対極画素電極-3に正極を接続し、対極画素電極-2には4.5Vの電圧を2秒間印加し、対極画素電極-3には4.5Vの電圧を1秒間印加したところ、エレクトロクロミック層13bが画素電極-2および画素電極-3のITOパターン形状に従いマゼンタ色に発色し、濃度の異なる2本のマゼンタラインと青ラインが表示された。なお、表示電極11aと対向電極間は開回路構成とした。このときの投入電荷量は画素電極-2で1mC/cm2、画素電極-3で0.5mC/cm2であった。この表示装置10のマゼンタ表示部の550nm反射率を分光測色計LCD-5000大塚電子社製を用いて、表示基板側から測定したところ、画素電極-2部が約5、画素電極-3部が約20であった。さらに、実施例5、比較例2で使用する電極構成は図9で模式的に示され、断面構成は図1で示される3層構成の表示部を以下のように作成した。図9および図1に基づいて説明する。表示電極/保護層/エレクトロクロミック層/絶縁層/白色反射層の形成:3層構成の作成表示基板11として40mm×40mm厚さ0.7mmのガラス基板を準備し、ガラス基板上に、ITO膜をスパッタ法により約100nmの厚さになるように製膜することによって、1層目の表示電極11aを形成した。さらにITO膜の表面にTiO2膜、NiO膜TiO2膜をこの順にスパッタ法により約6nm/約4nm/約6nmの厚さになるように製膜し、保護層15aを形成した。次に、酸化チタンナノ粒子分散液商品名:SP210昭和タイタニウム社製、平均粒子径:約20nmをスピンコート法により塗布し、120°Cで15分間アニール処理を行うことによって、約1.0μmの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。続いて、エレクトロクロミック化合物として、構造式化3で表される化合物3の1.0wt2、2、3、3-テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布し、120°Cで10分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子膜に吸着させて、1層目のエレクトロクロミック層13a図1を形成した。さらに、この上にSiO2粒子のMEK分散ペーストMEK-ST日産化学社製、平均粒子径:約10nmに結着ポリマーとしてウレタン樹脂を添加した塗布液をスピンコート法により塗布した。後、120°Cで5分間アニール処理して約500nmのSiO2粒子層を形成し、さらにその上にスパッタ法にてZnS/SiO28/2を約30nmの厚さで形成することにより2層構成からなる浸透性絶縁層14a図1を形成した。この上に下記構造式で表される化合物4の1.0wt2、2、3、3-テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布して2層目のエレクトロクロミック層13b図1を形成したこと以外同様にして、2層目の表示電極11b、2層目の保護層15b図1、2層目のエレクトロクロミック層13b図1、2層目の絶縁層14b図1を形成した。さらにこの上に下記構造式化2で表される化合物2の1.0wt2、2、3、3-テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布して3層目のエレクトロクロミック層13c図1を形成したこと以外同様にして、3層目の表示電極11c、3層目の保護層15c図1、3層目のエレクトロクロミック層13c図1を形成した。次に2、2、3、3-テトラフロロプロパノール溶液に結着ポリマーおよび電解質として、ポリエチレングリコール分子量200/ウレタンペーストDIC社製HW140SF/過塩素酸テトラブチルアンモニウムのジメトキシスルホキシド20wt溶液を5wt、3wt、17wt溶解した溶液を準備した。この溶液に酸化チタン粒子商品名:CR50石原産業株式会社製、平均粒子径:約250nmを30wt分散したペーストをエレクトロクロミック層表面にスピンコート法により塗布し、120°Cで5分間アニール処理を行うことにより、約5μmの白色反射層17図1を形成した。対向電極/電解層の形成対向基板12として32mm×40mm、厚さ0.7mmのガラス基板を準備し、ガラス基板上に対向電極12aとして、ライン幅4mm、ライン長さ35mmの6ラインの矩形ITOパターン膜をスパッタ法により約100nmの厚さになるように成膜した。次に、電解質16図1として過塩素酸テトラブチルアンモニウム、溶媒としてジメチルスルホキシドおよびポリエチレングリコール分子量:200さらにUV硬化接着剤商品名:PTC10十条ケミカル社製を1.2対5.4対6対16で混合した溶液に白色酸化チタン粒子商品名:CR50石原産業株式会社製、平均粒子径:約250nmを20wt添加した分散液ペーストを用意した。前述の白色反射層表面に滴下塗布した後、対向電極面と重ね、対向基板側からUV光照射硬化して貼り合わせることで、図1で示される形態に対応する3層構成とした表示装置を作成した。なお、電解質層の厚さはビーズスペーサを電解層に0.2wt混合することにより10μmに設定した。なお、各表示電極11a、11bおよび対向電極12a対極画素電極-1、対極画素電極-2は図3のレイアウトで形成し、他の層は各表示電極の駆動接続部を除く全面に形成した。形成した表示電極および対向電極のシート抵抗は150オーム/cm以下であり、表示電極11a、11b間および表示電極11b、11c間の抵抗を駆動接続部で測定したところ、どちらも1Mオーム以上であった。実施例5表示装置10の表示電極11aの駆動接続部に負極を、対向電極12aの対極画素電極-1に正極を接続し、4.5Vの電圧を1秒間印加したところ、エレクトロクロミック層13aが画素電極-1のITOパターン形状に従いマゼンタ色に発色した。このとき、表示電極11bおよび11cと対向電極間は開回路構成とした。次に表示装置10の表示電極11bの駆動接続部に負極を、対向電極12aの対極画素電極-2に正極を接続し、4.5Vの電圧を1秒間印加したところ、エレクトロクロミック層13bが画素電極-2のITOパターン形状に従いイエローに発色し、マゼンタとイエローのラインを表示することができた。なお、このとき表示電極11aおよび11cと対向電極間は開回路構成とした。次に表示装置10の表示電極11cの駆動接続部に負極を、対向電極12aの対極画素電極-3に正極を接続し、4.5Vの電圧を1秒間印加したところ、エレクトロクロミック層13cが画素電極-3のITOパターン形状に従い青色に発色し、マゼンタとイエローと青色の3本のラインを表示することができた。なお、このとき表示電極11aおよび11bと対向電極間は開回路構成とした。発色後、表示電極11aと表示電極11bの間に表示電極11bが負電位となるように保持電圧0.1V、また表示電極11bと表示電極11cの間に表示電極11bが負電位となるように保持電圧1.0Vを間欠的に印加して5分放置したところ、発色パターン状態が保持されていたことから、画像保持特性に優れることが確認された。比較例2上で説明した発消色駆動の実施例5において、マゼンタとイエローと青のラインを表示後、表示電極11aと表示電極11bの間および表示電極11bと表示電極11cの間に保持電圧を印加せずに5分放置したところ、マゼンタとイエローのラインが消色した。