"基板上に少なくとも着色層、ブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタの欠陥修正方法において、予め前記カラーフィルタの欠陥修正部分にレーザーを照射して、前記欠陥修正部分を熱分解熱変性に起因する炭化作用により着色させる段階と、その後前記欠陥修正部分にレーザー光を照射して前記欠陥修正部分をレーザーアブレーションにより除去する段階と、を具備することを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法。予め前記カラーフィルタの前記欠陥修正部分を炭化着色させることで、該当欠陥修正部分のレーザーアブレーション処理におけるレーザーエネルギーの吸収率を高めることを特徴とする請求項1に記載するカラーフィルタの欠陥修正方法。ガラス基板又はTFT基板上に少なくとも着色層、ブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタを有する液晶表示装置用カラーフィルタ基板であって、上記請求項1または2に記載するカラーフィルタの欠陥修正方法によって、欠陥部分が修正されたことを特徴とするカラーフィルタ基板。上述したように、従来のカラ-フィルタの欠陥修正方法を用いた場合には、修正対象にあわせてレーザーの出力を調整し、時間をかけて修正作業を行うことで効率が悪かった。また、TFT基板上に形成されたカラーフィルタCOABOAの場合、異物等によりNGとなった際、TFT基板も破棄されることとなり損失が非常に大きい問題があった。この為、従来のアブレーション除去に必要なレーザーエネルギー強度に比べ、低いレーザーエネルギー強度で修正箇所をアブレーション除去することができる欠陥修正技術の確立が求められていた。本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであり、液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造工程において、ガラス基板又はTFT基板上に着色層RGB他およびブラックマトリックスBMなどのカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ製造におけるレーザー修正において、修正箇所のレーザーアブレーションに伴う下地の損傷を発生させることなく、効率的に、且つ、選択的にカラーフィルタ層のみを修正することができるカラーフィルタの欠陥修正方法、及び、その欠陥修正方法によって欠陥部分が修正されたカラーフィルタ基板を提供することを課題としている。そこで、本発明の請求項1に係る発明は、基板上に少なくとも着色層、ブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタの欠陥修正方法において、予め前記カラーフィルタの欠陥修正部分にレーザーを照射して、前記欠陥修正部分を熱分解熱変性に起因する炭化作用により着色させる段階と、その後前記欠陥修正部分にレーザー光を照射して前記欠陥修正部分をレーザーアブレーションにより除去する段階と、を具備することを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法である。また、本発明の請求項2に係る発明は、予め前記カラーフィルタの前記欠陥修正部分を炭化着色させることで、該当欠陥修正部分のレーザーアブレーション処理におけるレーザーエネルギーの吸収率を高めることを特徴とする請求項1に記載するカラーフィルタの欠陥修正方法である。次に、本発明の請求項3に係る発明は、ガラス基板又はTFT基板上に少なくとも着色層、ブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタを有する液晶表示装置用カラーフィルタ基板であって、上記請求項1または2に記載するカラーフィルタの欠陥修正方法によって、欠陥部分が修正されたことを特徴とするカラーフィルタ基板である。本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法では、ガラス基板又はTFT基板上に形成された着色層RGB他およびブラックマトリックスBMなどのカラーフィルタ層の欠陥修正部分を、炭化処理により予め、褐色~黒色に着色させることで、欠陥修正部分のカラーフィルタ層のアブレーション時のレーザーエネルギー吸収率を上げることが可能となった。これにより、従来のアブレーション除去に必要なレーザーエネルギー強度に比べ、低いレーザーエネルギー強度で修正箇所をアブレーション除去することが可能となった。また、本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法によれば、修正箇所のレーザーアブレーションに伴う下地の損傷を発生させることなく、選択的にカラーフィルタ層のみを修正することが可能となった。本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法を、一実施形態例に基づいて以下に説明する。図1は、本発明の欠陥修正方法が適用される、対向基板としてガラス基板にBMおよび着色層を形成したMVA方式の一例の液晶表示素子の部分断面模式図である。また、図2は、アレイ基板側にカラーフィルタを構成するBMおよび着色層を形成した、一例の液晶表示素子の部分断面を模式的に示したものであり、図3は、そのアレイ基板の部分平面模式図である。図1に示すように、このカラー液晶表示素子は、対向基板1と、この対向基板に所定の隙間を保持して対向配置されたアレイ基板2基板と、これら2つの基板間に狭持された液晶層4と、から構成される。対向基板のガラス基板11には、カラー化のために通常、ブラックマトリックス16で区画された複数色の赤色R、緑色G、青色Bの3色の着色画素18からなるカラーフィルタが設けられ、ITO等の共通電極13上には配向制御用の突起19、更には、配向膜15が設けられ、ガラス基板の反対側視認側には偏光板12が設けられている。複数色には赤、緑、青RGBの組み合わせやそれらにイエロー、マゼンダ、シアンを追加した組み合わせが挙げられるが、ここではアレイ基板にRGB系を適用したものを示す。また、図2に示した液晶表示素子は、少なくとも画素電極24、および前記画素電極を駆動する薄膜トランジスタ3と、前記薄膜トランジスタを覆って設けられた複数色の着色画素23R、23G、23Bを備えたアレイ基板2と、前記アレイ基板に所定の隙間を保持して対向配置された対向基板1と、を備えており、当該複数色の画素は少なくとも着色層から構成されている。図1、図2、図3に示すように、アレイ基板2は透明基板21上に、モリブデンやタングステンもしくはその合金等の金属からなるゲート線38およびゲート電極31を配置し、これらを覆うように酸化ケイ素窒化ケイ素等からなるゲート絶縁膜32が配置されている。また、ゲート絶縁膜上にはアモルファスシリコンなどの半導体層34が配置され、更にモリブデンやアルミニウムからなるソース線37、ソース電極35、ドレイン電極36が配置されスイッチング素子を形成している。スイッチング素子の上には、酸化ケイ素窒化ケイ素等からなる保護層33が配置される。ガラス基板又はTFT基板上への着色層および遮光層の作製方法は、公知のインクジェット法、印刷法、フォトリソグラフィ法、エッチング法など何れかの方法で作製できる。高精細、分光特性の制御性及び再現性等を考慮すれば、透明な樹脂中に顔料を、光開始剤、重合性モノマーと共に適当な溶剤に分散させた着色樹脂組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜にパターン露光、現像することで一色の着色層を形成する工程を各色毎に繰り返し行って着色画素を形成するフォトリソグラフィ法が好ましい。本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法を適用する場合、まず、上記した基板上への着色層および遮光層の作製工程において、欠陥を検出する。上記したカラーフィルタ付基板を、図示しない検査機で検査し、欠陥を検出した場合、欠陥の位置を座標データとして記録し、図示しない修正装置へ転送する。以下、欠陥修正装置における作業となる。対象となる欠陥は、着色層の白欠陥、ブラックマトリックスの白欠陥及び黒欠陥などがある。上記位置データに基づき、基板上に形成された着色層RGB他およびブラックマトリックスBMなどの、カラーフィルタ用レジストを用いて形成されたカラーフィルタ層の任意の修正箇所に、CO2炭酸ガスレーザー波長:9,200nm~10,800nmを光源とした赤外線レーザーを用いて、任意の径となる様にレーザービームを収束させて照射し、カラーフィルタレジストにより形成された着色層の任意の修正箇所の炭化処理を行う。図4に、炭化処理前後の着色層の一例の顕微鏡写真を示す。ここで、レーザービームが、加熱されるべき対象に入射されたとき、レーザー放射は、反射され、且つ吸収され、且つ異なる範囲に伝達される。特に、CO2レーザーは、対象物への放射熱に起因する熱分解変性作用が大きい。本発明ではこの原理を利用し、カラーフィルタレジストにより形成された着色層を炭化させ褐色~黒色に変色させる処理を行うものである。なお、炭化処理に用いるレーザー光源は、他のレーザー光源および他の波長を用いてもかまわない。次に、炭化処理を行った任意の修正箇所および炭化未処理部分を、をYAGレーザー355nmにてレーザーアブレーションを行い除去する。ここで、レーザー光源は、強度可変のレーザー光源が選定される。昇華時に必要な光強度を確保するためにYAGレーザーを用いることが好ましい。また、レーザー波長としては、355nmの他、532nm等を用いても良い。レーザーは、特にこのタイプに限定されず、炭化処理されたカラーフィルタ層が除去されるエネルギーを持つレーザーであればよい。表1に、修正対象である着色層の炭化処理した炭化処理部と、未処理部とのアブレーションに必要なレーザーエネルギー強度の値を示す。このときのレーザー条件は、波長355nm、周波数20Hz、レーザーショット数20Shotである。表1に示すように、修正箇所の炭化処理を行うことにより、該当カラーフィルタ層のレーザーエネルギーの吸収率が高まるため、未処理部に比べより低エネルギーでのレーザーアブレーションが可能となることがわかる。ここで、レーザーエネルギー強度の単位として、発振出力2mJを0.5単位で100分割した値をエネルギー強度1と規定している。すなわち、レーザーエネルギー強度1=1.0×10-2[mJ/強度]である。以上の如く、選択的に欠陥修正を実施した後、次に、公知の方法により着色層を再形成することで着色画素を再生させる。以上説明したように、本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法を用いることによって、より低エネルギーでのレーザーアブレーションが可能となり、効率的に修正が可能となる。また、たとえば、今まで廃棄せざるをえなかったかTFT基板上にカラーフィルタを形成した場合でも、下地に損傷を与えずに不良品の良品化が図れるため、歩留まりが向上し、生産性向上への寄与が期待できる。"