"太陽光を反射するミラーと、前記ミラーで反射された太陽光を透過して集熱部に導光するレンズと、を有し、前記ミラーは、太陽光を反射したときに、反射光束の中心軸に沿ったZ方向に直交する面内において、X方向に集光するが、X方向に直交するY方向には集光せず、前記レンズは、前記ミラーからの反射光束を入射したときに、少なくとも前記Y方向には集光することを特徴とする太陽光集光システム。前記ミラーは、フィルムミラーを、形状を維持する為の基板に粘着剤を介して貼り付けて一体化していることを特徴とする請求項1に記載のミラー。前記フィルムミラーは、高分子フィルムと金属薄膜との積層体からなることを特徴とする請求項2に記載のミラー。前記基板は、金属および金属加工品であることを特徴とする請求項2又は3に記載のミラー。前記基板は、セラミック、プラスチック、ガラスのいずれかであることを特徴とする請求項2又は3に記載のミラー。前記ミラーと前記レンズとの距離は、前記レンズと前記集熱部との距離より大きいことを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の太陽光集光システム。前記レンズは、前記集熱部に取り付けられていることを特徴とする請求項6に記載の太陽光集光システム。請求項2~6のいずれかに記載の太陽光集光システムに用いられるミラーであって、ロール状の前記フィルムミラーを切断して、前記基板に接着してなることを特徴とするミラー。しかるに、例えば特許文献5に開示されている技術によれば、ガラス製ミラーを、より曲面の自由度が高いミラーに置き換えることはできる。しかしながら、そのミラーは、実質的に放物線状の凸面/凹面の3次元形状にし、放射状で円筒形のフランジから成る円形のリムにするように形成されたアルミニウム合金のシートから組み立てられ、更にポリマー層が凹面に蒸着され、ポリマー層上に反射金属の薄膜の蒸着がなされ、次いで、腐食および酸化から金属層を保護するために、薄いガラス層が金属層に蒸着させられるというように、複雑な工程を経て形成されるので、コスト高を招き大量生産に向かないという問題がある。本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、簡易な生産設備で製造でき、高い集光性能を備えたミラーとそれを用いた太陽光集光システムを提供することにある。請求項1に記載の太陽光集光システムは、太陽光を反射するミラーと、前記ミラーで反射された太陽光を透過して集熱部に導光するレンズと、を有し、前記ミラーは、太陽光を反射したときに、反射光束の中心軸に沿ったZ方向に直交する面内において、X方向に集光するが、X方向に直交するY方向には集光せず、前記レンズは、前記ミラーからの反射光束を入射したときに、少なくとも前記Y方向には集光することを特徴とする。フィルムミラー自体は、低コストで大量生産が可能であるが、これを基板に貼り付けて、3次元形状に精度良く曲げることは、皺などが生じて困難であることが多い。そこで、本発明によれば、前記ミラーを、太陽光を反射したときに、反射光束の中心軸に沿ったZ方向に直交する面内において、X方向に集光するが、X方向に直交するY方向には集光しない形状としたので、例えばロール状に形成したシートミラーやフィルムミラーを用いて、簡易な生産設備にて前記ミラーを形成できる。一方、このようなミラーを用いると、前記X方向にのみ集光された反射光束が出射されるので、太陽光の集光効率が低くなる。そこで、本発明においては、前記ミラーからの反射光束を入射したときに、少なくとも前記Y方向には集光するレンズを用いることで、前記ミラーと前記レンズとの組み合わせにより、前記集熱部に太陽光を効率よく集光することができるのである。請求項2に記載の太陽光集光システムは、請求項1に記載の発明において、前記ミラーは、フィルムミラーを、形状を維持する為の基板に粘着剤を介して貼り付けて一体化していることを特徴とする。これにより、任意の半径を有するミラーを容易に形成できる。請求項3に記載の太陽光集光システムは、請求項2に記載の発明において、前記フィルムミラーは、高分子フィルムと金属薄膜との積層体からなることを特徴とする。これにより、大量生産が可能である。請求項4に記載の太陽光集光システムは、請求項2又は3に記載の発明において、前記基板は、金属および金属加工品であることを特徴とする。金属等は安価で加工しやすいので、基板の素材として好ましい。請求項5に記載の太陽光集光システムは、請求項2又は3に記載の発明において、前記基板は、セラミック、プラスチック、ガラスのいずれかであることを特徴とする。金属等に限らず、このような素材も基板に用いることができる。請求項6に記載の太陽光集光システムは、請求項1~5のいずれかに記載の発明において、前記ミラーと前記レンズとの距離は、前記レンズと前記集熱部との距離より大きいことを特徴とする。これにより、前記レンズを前記集熱部の近くに配置でき、集光効率を確保できる。請求項7に記載の太陽光集光システムは、請求項6に記載の発明において、前記レンズは、前記集熱部に取り付けられていることを特徴とする。これにより、前記レンズの取り付けが容易になる。請求項8に記載のミラーは、請求項2~6のいずれかに記載の太陽光集光システムに用いられるミラーであって、ロール状の前記フィルムミラーを切断して、前記基板に接着してなることを特徴とする。例えばフィルムミラーは、細長い形状に形成でき、これをロール状に巻き付けることでコンパクトに出来、保管運搬時の利便性を図ることができる。しかるに、フィルムミラーをロール状に巻き付けると、巻癖が付いてしまうため、平板に貼り付けることが難しい一方で、円筒面に貼り付けることは容易になる。そこで本発明では、ロール状のフィルムミラーを切断して、基板の円筒面等に接着することで、コストを抑えたミラーを提供できるのである。かかるミラーを、ここではフレキシブルミラーと呼ぶ。フィルムミラーとは、フィルム状の樹脂基材に反射層を設けたフィルム状のミラーをいう。フィルムの厚さは、50~400μmであり、好ましくは70~250μmであり、特に好ましいのは100~220μmである。フィルムミラーは製造後にロール状にされると好ましい。フィルムミラーの一例を図1に示す。図1に示す例において、フィルムミラーEは太陽光側から順番に、高分子フィルム層1、金属酸化物からなるガスバリア層2、金属からなる反射層Ag層3、粘着層4が積層されてなる。粘着層4の下側の表面には剥離フィルム5をつけて、粘着させたい時に適宜剥離フィルム5を剥がして基板である金属板、樹脂板又は積層板に固着させることができる。なお、本発明のフィルムミラーは、図1に示す構成に限らず、様々な機能層を付加することが好ましい。また、上記構成であってもそれぞれの層に機能性を付与することができる。以下に、様々な機能層を付加した、別のフィルムミラーの態様を説明する。しかし、本発明に用いることができるフィルムミラーはこれらの態様のみに限定されない。尚、以下の説明で上は太陽光が入射する側を意味し、下はその反対側を意味する。例えば、図1において、高分子フィルム層1に紫外線吸収剤を添加し、その下のガスバリア層2を水蒸気バリア層として機能させ、更にその下の反射層3は銀蒸着層からなり、該銀蒸着層の下に、粘着層4と剥離フィルム5を積層した構成を有するフィルムミラーとしてもよい。高分子フィルム層に紫外線吸収剤を添加することにより、耐久性が増加する。また、上記フィルムミラー1において、反射層3と粘着層4との間に腐食防止剤層腐食防止剤入り高分子層を設けたフィルムミラーとしてもよい。腐食防止剤層を付加することで、フィルムミラーの酸素、硫化水素ガス、塩分に対する劣化防止及び平滑な光学面を長期間提供することができる。前記フィルムミラー1において、ガスバリア層2と反射層3との間に太陽光を入射する側から順に接着層と腐食防止剤層を積層し、更に、反射層3と粘着層4との間に高分子フィルム層を設けたフィルムミラーとしてもよい。前記フィルムミラー2において、紫外線吸収剤が添加された高分子フィルム層1の代わりに、太陽光を入射する側から順にハードコート層と高分子フィルム層を積層したフィルムミラーとしてもよい。ハードコート層は紫外線吸収剤等を含有することが好ましい。上記フィルムミラー4において、ハードコート層の代わりに高分子フィルム層の上に、紫外線反射層を設けたフィルムミラーとしてもよい。前記フィルムミラー2において、腐食防止剤層の代わりに、犠牲防食層を設けたフィルムミラーとしてもよい。続いて、フィルムミラーの各層及び各層に用いられる素材について説明する。高分子フィルム層高分子フィルム層のフィルム材料としては、フレキシブル性や軽量化の点で、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィン、セルロース、ポリアミドのいずれかを含むことが好ましい。これらの中で耐候性に優れ、特に、少なくとも2種以上のアクリル系モノマーを共重合したアクリル系共重合体が好適である。好適なアクリル系共重合体としては、具体的には例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート等のアルキルメタアクリレートのような側鎖中に官能性基を有しないモノマー以下、非官能性モノマーというから選ばれる1種または2種以上のモノマーを主成分とし、これに2-ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、等のモノマーから選ばれる1種または2種以上のモノマーの側鎖中にOHやCOOHなどの官能性基を有するモノマー以下、官能性モノマーというの1種または2種以上を組合せて、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等の重合法により共重合させることにより得られる重量平均分子量が4万ないし100万、好ましくは10万ないし40万のアクリル系共重合体が挙げられ、中でも、エチルアクリレート、メチルアクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート等の比較的Tgの低いポリマーを与える非官能性モノマーを50~90質量、メチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等の比較的Tgの高いポリマーを与える非官能性モノマーを10~50質量、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリル酸、イタコン酸等の官能性モノマーを0~10質量含有するようなアクリル系重合体が最も好適である。また、本発明に係る高分子フィルム層に好適に用いることのできるシクロオレフィン樹脂は、脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合又は共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ7.4.0.110,13.02,7トリデカ-2,4,6,11-テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、3,4-ジメチルシクロペンテン、3-メチルシクロヘキセン、2-2-メチルブチル-1-シクロヘキセン、シクロオクテン、3a,5,6,7a-テトラヒドロ-4,7-メタノ-1H-インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテンなどのエチレン又はα-オレフィン;1,4-ヘキサジエン、4-メチル-1,4-ヘキサジエン、5-メチル-1,4-ヘキサジエン、1,7-オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。高分子フィルム層の厚さは、特に制限はないが、9μm以上、175μm以下であることが好ましく、より好ましくは12μm以上、100μm以下である。厚さが9μm以上であれば、フィルムミラー加工時のしわの発生や破損を防止することができ、175μm以下であれば偏肉やたるみを防止でき均一性の高い基材を形成することができる。高分子フィルム層表面は、金属酸化物層、ハードコート層、誘電体コーティング層等との密着性を向上させるために、コロナ放電処理、プラズマ処理等が施されていてもよい。また、高分子フィルム層は、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、シアノアクリレート系、ポリマー型の紫外線吸収剤のうちいずれかを含むことが好ましい。紫外線吸収剤本発明に係る高分子フィルムにおいては、耐候性並びに耐光性向上の観点から紫外線吸収剤を含有することが好ましい。本発明に係る高分子フィルムに使用される紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ太陽光利用の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平10-182621号、同8-337574号公報記載の紫外線吸収剤、特開平6-148430号、特開2003-113317号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、2-2′-ヒドロキシ-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′-tert-ブチル-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-ブチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′-3′′,4′′,5′′,6′′-テトラヒドロフタルイミドメチル-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2,2-メチレンビス4-1,1,3,3-テトラメチルブチル-6-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェノール、2-2′-ヒドロキシ-3′-tert-ブチル-5′-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′-tert-ブチル-5′-2-オクチルオキシカルボニルエチル-フェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′-1-メチル-1-フェニルエチル-5′-1,1,3,3-テトラメチルブチル-フェニルベンゾトリアゾール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-6-直鎖及び側鎖ドデシル-4-メチルフェノール、オクチル-3-3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェニルプロピオネートと2-エチルヘキシル-3-3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェニルプロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビンTINUVIN171、チヌビンTINUVIN900、チヌビンTINUVIN928、チヌビンTINUVIN360いずれもチバジャパン社製、LA31ADEKA社製、RUVA-100大塚化学製が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物の具体例として、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5-スルホベンゾフェノン、ビス2-メトキシ-4-ヒドロキシ-5-ベンゾイルフェニルメタン等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。酸化防止剤、安定剤本発明に係る高分子フィルム基材においては、酸化防止剤または安定剤を含有することが好ましい。本発明に係る高分子フィルム基材に好ましく適用することのできる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤を挙げることができる。フェノール系酸化防止剤としては、例えば、1,1,3-トリス2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニルブタン、2,2′-メチレンビス4-エチル-6-t-ブチルフェノール、テトラキス-メチレン-3-3′、5′-ジ-t-ブチル-4′-ヒドロキシフェニルプロピオネートメタン、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール、4,4′-チオビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、4,4′-ブチリデンビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、1,3,5-トリス3′、5′-ジ-t-ブチル-4′-ヒドロキシベンジル-S-トリアジン-2,4,6-1H,3H,5Hトリオン、ステアリル-β-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネート、トリエチレングリコールビス3-3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオネー、3,9-ビス[1,1-ジ-メチル-2-β-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルプロピオニルオキシエチル]-2,4,8,10-テトラオキオキサスピロ5,5ウンデカン、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が550以上のものが好ましい。チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル-3,3′-チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール-テトラキス-β-ラウリル-チオプロピオネート等を挙げられる。ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス2,4-ジ-t-ブチルフェニルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ2,6-ジ-t-ブチルフェニルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス-2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル-ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス2,4-ジ-t-ブチルフェニル4,4′-ビフェニレン-ジホスホナイト、2,2′-メチレンビス4,6-ジ-t-ブチルフェニルオクチルホスファイト等が挙げられる。また、本発明に係る高分子フィルム基材においては、上記酸化防止剤と共に、下記の光安定剤を用いることもできる。ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-2-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル-2-n-ブチルマロネート、1-メチル-8-1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-セバケート、1-[2-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシエチル]-4-3-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、4-ベンゾイルオキシ-2,2、6,6-テトラメチルピペリジン、テトラキス2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル-1,2,3,4-ブタン-テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、8-アセチル-3-ドデシル-7,7,9,9-テトラメチル-1,3,8-トリアザスピロ[4,5]デカン-2,4-ジオン等が挙げられる。その他ニッケル系紫外線安定剤として、2,2′-チオビス4-t-オクチルフェノレート-2-エチルヘキシルアミンニッケルII、ニッケルコンプレックス-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルリン酸モノエチレート、ニッケルジブチル-ジチオカーバメート等も使用することが可能である。特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、3級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-セバケート、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル-2-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル-2-n-ブチルマロネート、または1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジノール/トリデシルアルコールと1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。反射層反射層としては、例えば、銀または銀合金、その他、金、銅、アルミニウム、これらの合金も用いることができる。特に、銀を使用することが好ましい。このような反射層は、光を反射させる反射膜としての役割を果たす。反射層を銀または銀合金からなる膜とすることにより、フィルムミラーの可視光領域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。可視光領域とは、400~700nmの波長領域を意味する。入射角とは、膜面に対して垂直な線に対する角度を意味する。銀合金としては、反射層の耐久性が向上する点から、銀と、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタン及びビスマスからなる群から選ばれる1種以上の他の金属とからなる合金が好ましい。他の金属としては、高温耐湿性、反射率の点から、金が特に好ましい。反射層が銀合金からなる膜である場合、銀は、反射層における銀と他の金属との合計100原子中、90~99.8原子が好ましい。また、他の金属は、耐久性の点から0.2~10原子が好ましい。また、反射層の膜厚は、60~300nmが好ましく、80~200nmが特に好ましい。反射層の膜厚が60nm未満では、膜厚が薄く、光を透過してしまうため、フィルムミラーの可視光領域での反射率が低下する恐れがある。反射層の膜厚が300nmを超えると、反射層の表面に凹凸が発生しやすくなり、これにより光の散乱が生じてしまい、可視光領域での反射率が低下するおそれがある。金属からなる反射層は、湿式めっき、乾式めっき、銀蒸着で形成することが好ましい。銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤本発明のフィルムミラーは銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を有することが好ましい。具体的には、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。アミン類およびその誘導体としては、例えば、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ-n-ブチルアミン、o-トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、2-N-ジメチルエタノールアミン、2-アミノ-2-メチル-1,3-プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、p-エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。ピロール環を有する物としては、例えば、N-ブチル-2,5-ジメチルピロール,N-フェニル-2,5ジメチルピロール、N-フェニル-3-ホルミル-2,5-ジメチルピロール,N-フェニル-3,4-ジホルミル-2,5-ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。トリアゾール環を有する化合物としては、例えば、1,2,3-トリアゾール、1,2,4-トリアゾール、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、3-ヒドロキシ-1,2,4-トリアゾール、3-メチル-1,2,4-トリアゾール、1-メチル-1,2,4-トリアゾール、1-メチル-3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4-メチル-1,2,3-トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール、4,5,6,7-テトラハイドロトリアゾール、3-アミノ-1,2,4-トリアゾール、3-アミノ-5-メチル-1,2,4-トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-5′-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-4-オクトキシフェニルベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。ピラゾール環を有する化合物としては、例えば、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、3,5-ジメチルピラゾール、3-メチル-5-ヒドロキシピラゾール、4-アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。チアゾール環を有する化合物としては、例えば、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、2-N,N-ジエチルチオベンゾチアゾール、P-ジメチルアミノベンザルロダニン、2-メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。イミダゾール環を有する化合物としては、例えば、イミダゾール、ヒスチジン、2-ヘプタデシルイミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロメチルイミダゾール、2-フェニル-4,5ジヒドロキシメチルイミダゾール、4-フォルミルイミダゾール、2-メチル-4-フォルミルイミダゾール、2-フェニル-4-フォルミルイミダゾール、4-メチル-5-フォルミルイミダゾール、2-エチル-4-メチル-5-フォルミルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-4-フォルミルイミダゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。インダゾール環を有する化合物としては、例えば、4-クロロインダゾール、4-ニトロインダゾール、5-ニトロインダゾール、4-クロロ-5-ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。銅キレート化合物類としては、例えば、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。チオ尿素類としては、例えば、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、1,2‐エタンジオール、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、1-メチル-3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、3‐メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。本発明に係る保護コーティング層に用いられる反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤、安定剤を用いることもできる。酸化防止剤、安定剤としては、先に説明した高分子フィルムに適用可能な酸化防止剤及び安定剤と同様のものを挙げることができる。下塗り層本発明のフィルムミラーにおいては、高分子フィルムと反射層との密着性を向上させる観点から、高分子フィルム基材と反射層間に下塗り層を設けることが好ましい。本発明に係る下塗り層に使用する樹脂では、上記密着性の他、耐熱性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。本発明において、下塗り層の厚さは、密着性、平滑性、反射層の反射率等の観点から、0.01~3μmが好ましく、より好ましくは0.1~1μmである。下塗り層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知の湿式コーティング方法が使用できる。その他の構成要素本発明のフィルムミラーにおいては、必要に応じ、下記の示す各機能層を形成してもよい。耐傷性易滑層本発明のフィルムミラーにおいては、フィルムミラーの最外層として、耐傷性易滑層を設けることができる。この耐傷性易滑層は、傷防止のために設けられる。耐傷性易滑層層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社;商品名ダイヤビームシリーズなど、長瀬産業株式会社;商品名デナコールシリーズなど、新中村株式会社;商品名NKエステルシリーズなど、DIC株;商品名UNIDICシリーズなど、東亜合成化学工業株式会社;商品名アロニックスシリーズなど、日本油脂株式会社;商品名ブレンマーシリーズなど、日本化薬株式会社;商品名KAYARADシリーズなど、共栄社化学株式会社;商品名ライトエステルシリーズ、ライトアクリレートシリーズなどなどの製品を利用することができる。本発明において、耐傷性易滑層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。レベリング剤は、特に、耐傷性易滑層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン-ポリオキシアルキレン共重合体例えば、東レダウコーニング株製SH190が好適である。金属酸化物からなるガスバリア層金属酸化物からなるガスバリア層は、酸化珪素、酸化アルミニウム、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化クロム等が挙げられ、特に水蒸気バリア性の観点から酸化珪素、酸化アルミニウム、または珪素、アルミニウムを出発材料とした複合酸化物が好ましい。そのほか波長550nmにおける屈折率が1.35から1.8の低屈折率層と、波長550nmにおける屈折率が1.85から2.8である高屈折率膜を交互に積層した多層膜であっても良い。低屈折率膜材料としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウムなどが挙げられる。高屈折率膜材料としては、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウムなどが挙げられる。これらは真空蒸着法、スパッター法、イオンブレーティングなどのPVD法物理蒸着法、あるいは、CVD法化学蒸着法などの真空プロセスにより形成される。金属酸化物からなるガスバリア層の厚さは5~800nmの範囲が好ましく、更に好ましくは10~300nmの範囲である。高分子フィルム上でガスバリア層を作製することによって、このようにして得られる酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物層は酸素、二酸化炭素、空気などのガスまたは水蒸気に対する高いバリア作用に優れる。また、酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物層と高分子フィルムの積層体は、40°C、90RHにおける水蒸気透過度が1×102g/m224h以下であることが好ましい。水蒸気透過度はMOCON社製の水蒸気透過度測定装置PERMATRAN-W3-33にて測定できる。さらに、酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物層は、膜厚がそれぞれ1μm以下であり、それぞれの光線透過率の平均値は90以上であることが好ましい。これによって、光損失がなく、太陽光を効率よく反射することができる。高分子フィルム層と金属酸化物からなるガスバリア層の厚みの比率高分子フィルム層と金属酸化物からなるガスバリア層の厚みの比率は0.1~5の範囲であることが好ましい。比率が0.1よりも大きいと、すなわち高分子フィルムに対するガスバリア層の厚みが厚くなると、十分なガスバリア性が得られ、劣化進行を抑える機能が発揮されるため好ましい。比率が5よりも小さい、すなわち高分子フィルムに対するガスバリア層の厚みが薄くなると、外部からの曲げの力が加わったときでも金属酸化物にクラックが入りにくく、結果ガスバリア性が得られ、劣化進行を抑える機能が発揮されるため好ましい。粘着層粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。粘着層の厚さは通常1~50μm程度の範囲から選ばれる。厚さが1μmより大きいと充分な粘着効果が得られるため好ましく、一方50μm未満であると粘着剤層が厚すぎて乾燥速度が遅くなるということがなく、能率的である。しかも本来の粘着力が得られ、溶剤が残留するなどの弊害が生じることもない。剥離フィルム剥離フィルムは、基材と、基材上に設けられた剥離剤層とを有していることが好ましい。剥離フィルムは、その外表面が高い平滑性を有している。剥離フィルムを構成する剥離剤としては、例えば、シリコーン系樹脂、長鎖アルキル系樹脂、フッ素系樹脂、フルオロシリコーン樹脂、長鎖アルキル変性アルキド樹脂、シリコーン変性アルキド樹脂等のアルキド系樹脂等が挙げられる。上述した中でも、シリコーン樹脂を剥離剤の材料として用いた場合、より優れた剥離性を発揮する。シリコーン樹脂としては、付加型、縮合型、無溶剤型等いずれのものでも用いることができる。剥離フィルムを構成する剥離剤の平均厚さは、特に限定されないが、0.01~0.3μmであるのが好ましく、0.05~0.2μmであるのがより好ましい。剥離剤層の平均厚さが前記下限値より大きいと、剥離剤層としての機能を十分に発揮できる。一方、剥離剤層の平均厚さが前記上限値より小さいと、剥離フィルムをロール状に巻き取った際に、ブロッキングが発生しにくく、繰り出しに不具合を生じることがないため好ましい。腐食防止剤層腐食防止剤層は、金属からなる反射層具体的にはAg層の変色防止として機能し、例えばチオエーテル系、チオール系、Ni系有機化合物系、ベンゾトリアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール系、テトラザインデン系、ピリミジン系、チアジアゾール系が挙げられる。腐食防止剤層は、大別して銀との吸着基を有する腐食防止剤と、酸化防止剤が好ましく用いられる。以下、これらの腐食防止剤と酸化防止剤について具体例を挙げる。フィルムミラーの製造方法の一例としては、高分子フィルム層の上の表面に、金属からなる反射層を形成し、更に、その上に腐食防止剤層を積層する例が挙げられる。高分子フィルム層の下の表面に粘着層と、剥離フィルムとを積層した後、高分子フィルム層の上の表面、すなわち腐食防止剤層の上に接着層を形成することができる。別の高分子フィルム層の下の表面に、ガスバリア層を成膜し、別の高分子フィルム層のガスバリア層と上記高分子フィルム層の接着層を対面させて張り合わせて作製するようにしてもよい。接着層接着層としては、樹脂からなり、フィルムと上述の紫外線吸収剤入りの高分子フィルム層とを密着するものである。従って、接着層はフィルムと紫外線吸収剤含有高分子フィルム層とを密着する密着性、及びの金属からなる反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性、透明性が必要である。接着層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の厚さは、0.01~3μmが好ましく、より好ましくは0.1~1μmである。厚さが、0.01μmより薄いと、密着性が悪くなり接着層を形成した効果がなく、またフィルム基材表面の凹凸を覆い隠すことができ難くなり、平滑性が悪くなるので好ましくない。厚さが、3μmより厚くても、密着性の向上は望めず、かえって塗りムラの発生により平滑性が悪くなったり、接着層の硬化が不充分となる場合があるので好ましくない。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。ハードコート層フィルムミラーの最外層として、ハードコート層を設けることができる。ハードコート層は、傷防止のために設けられる。ハードコート層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等で構成することができる。特に、硬度と耐久性等の点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性及び生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート等であり、また、メラミンやイソシアヌール酸等の剛直な骨格にアクリル基を結合したもの等も用いられ得る。また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社;商品名ダイヤビーム登録商標シリーズ等、長瀬産業株式会社;商品名デナコール登録商標シリーズ等、新中村株式会社;商品名NKエステルシリーズ等、大日本インキ化学工業株式会社;商品名UNIDIC登録商標シリーズ等、東亜合成化学工業株式会社;商品名アロニックス登録商標シリーズ等、日本油脂株式会社;商品名ブレンマー登録商標シリーズ等、日本化薬株式会社;商品名KAYARAD登録商標シリーズ等、共栄社化学株式会社;商品名ライトエステルシリーズ、ライトアクリレートシリーズ等等の製品を利用することができる。ハードコート層中には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤等の安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤等を用いることができる。レベリング剤は、特に機能層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン-ポリオキシアルキレン共重合体例えば東レダウコーニング株製SH190が好適である。紫外反射層フィルムミラーに紫外反射層を設けてもよい。紫外反射層は、紫外線を反射し可視光及び赤外光を透過する層のことである。紫外反射層は、300nm~400nmの電磁波紫外線に対する平均反射率が75以上であることが好ましい。また、紫外反射層は、400nm~2500nmの電磁波可視光及び赤外光に対する平均透過率が80以上であることが好ましい。フィルムミラーは、金属反射層の太陽光を入射する側に高分子フィルム層を配置し、高分子フィルム層を通過した太陽光を金属反射層で反射するため、高分子フィルム層は常に太陽光に曝される。したがって、高分子フィルム層の太陽光を入射する側に紫外反射層を配置することにより、紫外線による高分子フィルム層の劣化、変色を防止でき、高分子フィルム層の光線透過率の低下を低減できるため、フィルムミラーの反射率低下を低減することが可能となる。また、高分子フィルム層の太陽光を入射する側に紫外反射層を設けることにより、太陽光の紫外線による高分子フィルム層の劣化に起因した、高分子フィルム層の防湿性の低下も低減できる。そのため、高分子フィルム層の防湿性の劣化に伴う金属反射層の劣化も防止できるため、フィルムミラーの反射率低下を低減することが可能となる。紫外反射層としては特に限定されないが、屈折率の異なる2種類以上の誘電体物質の交互層からなる誘電体多層膜を用いることができる。本発明に係る誘電体多層膜としては、高屈折率の誘電体層と低屈折率の誘電体層を交互に2層以上6層以下積み重ねて構成することが好ましい。このように、誘電体層を積み重ねた多層構造にすることにより、誘電体多層膜の耐傷性を高めることができる。高屈折率の誘電体層は、屈折率が2.0~2.6であることが好ましい。また、低屈折率の誘電体層は、屈折率が1.8以下であることが好ましい。高屈折率の誘電体層としてはZrO2、TiO2低屈折率の誘電体層としてはSiO2、Al2O3を好ましく用いることができる。本発明で用いられる高屈折率の誘電体層としてはTiO2、低屈折率の誘電体層としてはSiO2をより好ましく用いることができる。TiO2を高屈折率の誘電体操として、紫外反射層の最表面つまりフィルムミラーの最表面で用いる場合、TiO2の光触媒効果によるミラー表面の防汚効果を得ることができるため、ミラー表面の汚れに起因したフィルムミラーの反射率の低下を低減することが可能となる。犠牲防食層フィルムミラーは犠牲防食層を有していてもよい。犠牲防食層とは、金属反射層を犠牲防食により保護する層のことであり、犠牲防食層を金属反射層と保護層との間に配置することにより、金属反射層の耐食性を向上させることができる。犠牲防食層としては銀よりもイオン化傾向の高い銅が好ましく、銅の犠牲防食層は銀から成る反射層の下に設けることによって、銀の劣化を抑制することができる。フィルムミラーは、例えば以下のような工程にて製造することができる。[工程1]高分子フィルム層基材として、2軸延伸ポリエステルフィルムポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ60μmを準備し、蒸着機内部に配置し、蒸着機内部を真空ポンプによって真空にする。真空蒸着機内には、ロール状に巻いた高分子フィルムを繰り出す繰り出し装置と、高分子フィルムに蒸着処理を施して金属蒸着された高分子フィルムを巻き取る巻き取り装置とが配置されている。繰り出し装置と巻き取り装置との間には、フィルムをそれぞれ案内するように、ロールが多数配置され、駆動手段により高分子フィルム走行と同期して回転駆動されるようになっている。[工程2]高分子フィルム層走行方向上流側部分と対向する位置には、金属酸化物の蒸着核蒸発源が配置されている。蒸着核蒸発源は、Si、Al、Ag、Cu、等の金属を高分子フィルムに蒸着するためのものであり、真空蒸着法等により金属蒸気を発生させ、フィルムの全幅に亘って均一に金属酸化物蒸着膜および金属蒸着膜を形成する。[工程3]工程2で作製した金属蒸着膜の表面にポリエステル系の接着剤を5μm厚に塗布する。上記の作製順序に限らず、工程2の後に金属の劣化防止に効果のある腐食防止剤を塗布しても良いし、同じく金属の劣化防止に犠牲防食層、例えばCuを蒸着しても良い。また、強い紫外線から高分子フィルムを保護するために高分子フィルムやそのほか太陽光を入射する側に配置されるハードコート層に紫外線吸収剤を添加すれば、着色を防止し、反射効率を維持することができる。以上が、フィルムミラーについての説明となる。基板は、一枚の板形状であってもよいし、異なる材料の複数の板を積層させた形状であってもよいし、軽量化のために内部がハニカム構造や格子状枠を有し、表面を薄板で覆った形状であってもよい。基板の素材としては、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。本発明においては、特に、耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。また、チタン、鉄、鋼、SUS、FRP、銅、黄銅又は青銅、アルミ、ガラス等を単体、又は複合材として用いることができる。複合材として用いる場合、これらの素材を板材としてハニカム構造など中空の構造を挟むようにすると軽量化が促進され好ましい。ハニカム構造は、アルミ、樹脂、紙などを加工することで形成できる。基板のより具体的な例としては、2枚のアルミ合金板でハニカム構造を挟んだもの、2枚のアルミ合金板で発泡層を挟んだもの、2枚のFRPボードでハニカム構造を挟んだもの、アルミ合金板とFRPボードでハニカム構造を挟んだもの、SUS板でハニカム構造を挟んだものなどが挙げられる。太陽熱発電システムは、少なくとも1つの集熱部と、太陽光を反射して集熱部に照射するための少なくとも1つの太陽光集光用ミラーとを有し、例えば集熱部に集められた熱を用いて液体を加熱しタービンを回して発電するものがある。尚、集熱部の周囲に、太陽光集光用ミラーが複数配置されていることが好ましい。好ましくは、図2に示すように同心円状や、同心の扇状に複数の太陽光集光用ミラーが配置されていることである。また、集熱部から、それぞれの太陽光集光用ミラーまでの距離に応じて、反射部又は構造体の中心部と、周辺部との、Z方向の相対位置が異なることが好ましい。集熱部と太陽光集光用ミラーまでの距離のうち最も短い距離が、10m以上であるようなシステムにおいて、軽量のフィルムミラーを使用可能としつつ、集光効率を低下させないという本発明の太陽光集光ミラーの効果が顕著となる。特に、タワー型ビームダウン式、タワートップ式等の太陽熱発電システムにおいてこの発明は好ましく用いられる。本発明によれば、簡易な生産設備で製造でき、高い集光性能を備えたミラーとそれを用いた太陽光集光システムを提供することができる。以下、図面を参照して、本発明の実施の形態をさらに詳細に説明する。図2は、本発明にかかる太陽光集光システムを用いた太陽熱発電システムを側方から見た図である。ここでは、タワートップ式の太陽熱発電光システムを説明するが、ビームダウン式の太陽熱発電光システムにも適用できる。図2において、地面に立てられた支持柱14の上部に取り付けられた集熱部11内には、水が蓄えられている。集熱部11の側面に太陽光Lが集光されて、内部の水が加熱沸騰させられると、かかる沸騰水は支持柱14内を延在する配管により地下の熱交換施設に送られて、不図示のタービン等を回転させて電気を発生するようになっている。集熱部11の上部には、セラミックなど断熱性の高い支持部材12が設けられ、集熱部11の周囲に配置された複数のレンズ13を支持している。支持柱14の周囲の地上には、これを取り囲むようにして、多数のヘリオスタット15が設けられている。ヘリオスタット15は、ポールPLと、ポールPLに支持されたフレキシブルミラーSLとからなる。図3は、ヘリオスタット15と、レンズ13と、集熱部11との関係を示す図である。ヘリオスタット15のフレキシブルミラーSLは、樋状半円筒状であって、上述したようにフィルムミラーFMを、基板STの凹状円筒面に接着剤にて貼り合わせてなり、これにより反射面が所定の半径の円筒面となっている。基板STの下面は、ポールPLの上端に固定されている。尚、図示していないが、ポールPLは、太陽の位置に追尾するように回転する駆動装置を含む。レンズ13は、樹脂又はガラス製であって、入射面13aはシリンドリカル面又はトーリック面であり、出射面13bは平面もしくは円筒面である。複数のレンズ13が、集熱部11を取り巻いている。ここで、フレキシブルミラーSLが、太陽光Lを反射したときに、反射光束の中心軸の方向をZ方向とすると、Z方向に直交するX-Y面内において、X方向に集光するが、X方向に直交するY方向には集光しないようになっている。一方、レンズ13の入射面13aに入射した、フレキシブルミラーSLからの反射光は、レンズ13を通過することで、入射面13aがシリンドリカル面であれば、Y方向には集光するが、X方向には集光しない。或いは、入射面13aがトーリック面であれば、Y方向及びX方向に集光する。これにより集光された太陽光は、集熱部11の周面に集光され、内部の水を加熱沸騰させることとなる。尚、Z-X面が鉛直線を含むと好ましい。本実施の形態によれば、フレキシブルミラーSLが、ロール状に巻かれたフィルムミラーFMを切断して、基板STの凹状円筒面に貼り付けられることにより形成されているので、安価に大量生産できる。一方、このようなフレキシブルミラーSLを用いた場合でも、レンズ13を通過させることで、集熱部11には、X方向及びY方向に集光された太陽光を到達させることができ、これにより集光効率を増大できる。図4は、別な実施の形態にかかる太陽熱発電システムの斜視図である。図4において、ガラス又は樹脂製のレンズ13は、集熱部11を取り巻く単一の環状となっていて、不図示のホルダにより集熱部11に対して支持されている。つまり、レンズ13の入射面13aは、球面もしくは非球面の一部であり、出射面13bは円筒面である。一方、ヘリオスタット15のフレキシブルミラーSLは、上述したようにフィルムミラーFMを、基板STの凹状円筒面に接着剤にて貼り合わせてなり、その反射面が所定の半径の円筒面となっているが、図4から明らかなように、太陽光Lを反射したときに、反射光束の中心軸の方向をZ方向とすると、Z方向に直交するX-Y面内において、X方向に集光するが、X方向に直交するY方向には集光しないようになっている。更に、レンズ13の入射面13aに入射した、フレキシブルミラーSLからの反射光は、レンズ13を通過することで、Y方向及びX方向に集光する。よって、高い集光効率を確保できる。尚、Y-Z面が鉛直線を含むと好ましい。それ以外は、上述の実施の形態と同様である。図5は、別な実施の形態にかかる太陽熱発電システムの断面図である。図5において、樹脂製のレンズ13は、図4の実施の形態と同様な外形を有するが、中空となっている内部には、水Wが満たされている。集熱部11は高温に加熱されるので、その輻射熱もしくは、支持部材12を介する伝熱によりレンズ13が加熱される恐れがあるが、耐熱性が低い樹脂から成形すると、レンズ13が変形する恐れがある。そこで、本実施の形態においては、レンズ13の内部に、不図示の配管を介して、入口ETから水Wを流し込んで、レンズ13を内部より水冷するようになっている。水Wは透明であるから、レンズ13に入射した太陽光を透過する。レンズ13内で加熱された水Wは、出口EXから排出されるようになっている。尚、出口EXを不図示の配管により、集熱部11の水導入口に接続すれば、レンズ13で加熱された水Wを更に発電用に用いることで、より高効率の太陽熱発電システムを構築できる。実施例以下、上述した実施の形態に好適な実施例を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において部あるいはの表示を用いるが、特に断りがない限り質量部あるいは質量を表す。《フレキシブルミラーの作製》フィルムミラーの作製樹脂基材フィルムとして、2軸延伸ポリエステルフィルムポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ25μmを用いた。このフィルムの片面に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成した。銀反射層上に、ポリエステル系樹脂ポリエスターSP-181、日本合成化学社製と、TDI系イソシアネート2,4-トリレンジイソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂中に、さらに腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後に0.3g/m2となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法により0.1μmになるようコーティングしての銀保護ポリマー層1とした。さらにその上に紫外線吸収剤を含む層として、水分散エマルジョンタイプのベンゾトリアゾール系高分子型紫外線吸収コーティング液UVA-1383MGBASF社製をグラビアコート法によりコーティングして、55°Cで4分間乾燥し厚さ3μmの銀保護ポリマー層2を形成した。銀保護ポリマー層1と2を合わせて銀保護ポリマー層とした。銀保護ポリマー層の上に、接着剤としてアクリル系の粘着剤TSB-085DIC製を10μm厚に塗布して接着層を形成したのち、50μmの高分子フィルムを接着層にニップロール温度80°C、ニップロール圧力2MPaの条件によって貼り付けた。高分子フィルムはPMMAであり、屈折率nは1.495である。樹脂基材の銀反射層側とは逆側にアクリル系の粘着剤エスダイン7851積水化学工業製を25μm厚に塗布して粘着層を形成して本発明のフィルムミラーを作製した。かかるフィルムミラーは、ロール状に巻き付けられて保管運搬された。フィルムミラーの貼り合せ基板として1mm厚のアルミニウム板の円筒面の油汚れ、埃、砂などを取り除き、表面を清浄にした。ロール状に巻かれたフィルムミラーを、基板のサイズに合わせて切断し、巻癖の付いた略円筒面形状の状態で、その粘着層を清浄にしたアルミニウム板の円筒面に接するように配置し、フィルムミラーを貼り合せた。これにより総厚さ11mmのフレキシブルミラーを作製した。レンズの作製樹脂材料としてポリメチルメタクリレート三菱レイヨン製PMMAVH001を使用した。縦30cm、直径20cmの円柱を半分にした形状のシリンドリカルレンズの金型を作製した。金型の素材はステンレス鋼を選択した。金型表面はクロムメッキを施し、離型剤としてオプツールDSXを1分間ディップ法にて表面に薄い被膜を形成した。金型温度230°C、レンズ成型機のシリンダー温度を150°Cに設定し、射出速度30mmsにて金型に射出した。金型温度を100°Cまで下げ、シリンドリカルレンズを取出した。"