"非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を調製する方法であって、A濃度c1の非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を得るために、ZnO及び/又はZnOH2を少なくとも1種の溶媒中のアンモニアと接触させる工程、BZnOH2を含む懸濁液を得るために、工程Aで生じた溶液から溶媒の一部を除去する工程、C工程Bで生じた懸濁液から固体のZnOH2を除去する工程、D濃度c2の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を得るために、工程Cで生じたZnOH2を少なくとも1種の溶媒中のアンモニアと接触させる工程、を少なくとも含むことを特徴とする調製方法。濃度c2が濃度c1よりも高い、請求項1に記載の方法。x、y及びzはそれぞれ独立して1~6である、請求項1又は2に記載の方法。工程A及びDにおける溶媒は水性溶液又は水である、請求項1~3の何れか1項に記載の方法。工程Bにおいて、前記溶媒を昇温及び/又は減圧下で除去する、請求項1~4の何れか1項に記載の方法。請求項1~5の何れか1項に記載の方法によって調製することができる、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液。溶液100g当たりZnが1.6~5.0gの濃度の、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液。基材上に少なくとも酸化亜鉛を含む層を形成する方法であって、E請求項1~5の何れか1項に記載の方法により、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を調製する工程、F工程Eで生じた溶液を基材に施す工程、及びG[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。を酸化亜鉛に転化させるために、工程Fで生じた基材を20~450°Cの温度において熱処理する工程、を少なくとも含むことを特徴とする形成方法。前記基材が機械的にフレキシブルであり、少なくとも1種のポリマーを含む請求項8に記載の方法。ZnOに、Al3、In3、Sn4、Ga3及びこれらの混合物からなる群から選択される金属カチオンをドープする請求項8又は9に記載の方法。工程Fにおいて、工程Eで生じた溶液を、スピンコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティング、ドロップキャスティング及び/又は印刷により施す、請求項8~10の何れか1項に記載の方法。工程Gにおける温度が200°C未満である、請求項8~11の何れか1項に記載の方法。請求項8~12の何れか1項に記載の方法により製造可能である、少なくとも酸化亜鉛を含む、基材上の層。特定の厚さを有するZnO層を得るためには、従来技術の方法ではいくつかのZnO層を連続して施すことが必要である。その理由は、存在する溶液中のZnOの前駆体化合物の濃度が非常に低く、例えば、溶液100g当たり約1gのZnしかないからである。従って、本発明の目的は、ZnOの前駆体化合物の溶液を高濃度で調製することができ、前駆体化合物が、その低い分解温度によって、ポリエチレンナフタレート又はポリエチレンテレフタレート等の熱に弱い基材に適合すべきである、方法を提供することにある。また、本発明の更なる目的は、基材を半導体ZnOで被覆する方法であって、所望とする層厚を有するZnO層を数工程で、可能な限り一工程で得ることができる方法を提供することにある。基材を半導体ZnOで被覆するこの方法によれば、それに応じて改善された性質を有する被覆基材となるべきである。これら目的は、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を調製する方法1であって、A濃度c1の非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を得るために、ZnO及び/又はZnOH2を少なくとも1種の溶媒中のアンモニアと接触させる工程、BZnOH2を含む懸濁液を得るために、工程Aで生じた溶液から溶媒の一部を除去する工程、C工程Bで生じた懸濁液から固体のZnOH2を除去する工程、D濃度c2の非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を得るために、工程Cで生じたZnOH2を少なくとも1種の溶媒中のアンモニアと接触させる工程、を少なくとも含むことを特徴とする調製方法により達成される。これら目的は更に、基材上に少なくとも酸化亜鉛を含む層を形成する方法2であって、E本発明に係る方法1により、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を調製する工程、F工程Eで生じた溶液を基材に施す工程、及びG非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。を酸化亜鉛に転化させるために、工程Fで生じた基材を20~450°Cの温度において熱処理する工程、を少なくとも含むことを特徴とする形成方法2により達成される。方法1を以下に詳細に記述する。工程A:本発明に係る方法1の工程Aは、濃度c1の非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を得るために、ZnO及び/又はZnOH2を少なくとも1種の溶媒中のアンモニアと接触させる工程を含む。好ましくは、本発明に係る方法の工程Aにおいては、初めに、適切な反応器に酸化亜鉛ZnO又は水酸化亜鉛ZnOH2又はこれらの混合物を入れる。本発明で使用可能なZnO及び/又はZnOH2は、当業者に知られている全ての方法により得ることができる。ZnOH2は、例えば、適切な亜鉛塩、例えばZnNO326H2O等の硝酸亜鉛、硫酸亜鉛ZnSO47H2O、塩化亜鉛ZnCl2と、水酸化アルカリ金属の水溶液、例えば、NaOH水溶液、KOH水溶液とを反応させることにより得ることができる。相当する方法は、例えば、非特許文献2に記載されている。本発明の工程Aにおいては、例えば、亜鉛アルコキシド、亜鉛アミド、亜鉛アルキル及びこれらの混合物からなる群から選択される他のZnOH2前駆体化合物を使用することも、追加的に又は単独で可能であり、これらは工程Cの後に特に反応性のZnOH2を同様に生じさせる。次に、固体の酸化亜鉛及び/又は水酸化亜鉛を、好適なアンモニアNH3の溶液で処理する。この場合には、初めに固体の酸化亜鉛及び/又は水酸化亜鉛を入れて、これを好適な溶媒中のアンモニアNH3で処理するか、あるいは初めに好適な溶媒中のアンモニアNH3を入れ、固体の酸化亜鉛及び/又は水酸化亜鉛を加えることが可能である。本発明に係る方法1の工程Aは、当業者に知られている全ての反応器内で行うことができる。例えば、撹拌反応器である。本発明によれば、工程Aは連続式でもバッチ式でも行うことができる。溶媒は好ましくは水性溶媒、例えばアルコール性水溶液又は水、より好ましくは水である。アンモニアは、水溶液全体に対して、1~18mol/l、好ましくは2~15mol/l、より好ましくは3~12mol/lの濃度でこの水溶液に存在することが好ましい。工程Aでは、固体の酸化亜鉛及び/又は水酸化亜鉛に十分な量のアンモニア溶液を加えることが好ましく、酸化亜鉛は通常0.01~0.33mol/l、好ましくは0.05~0.25mol/l、より好ましくは0.1~0.2mol/lの濃度の反応混合物得られる。液体アンモニアに直接行うことも必要により可能である。このようにして得られた反応混合物を、次に、通常10~120°C、好ましくは10~60°C、より好ましくは20~30°Cの温度において加圧下で必要に応じて撹拌する。一般に、この懸濁液は、酸化亜鉛又は水酸化亜鉛の所望とする割合が溶液の状態となるまで行い、例えば、2~72h、好ましくは2~24hである。反応の完了時には、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液、特に水溶液が存在する。存在するあらゆる懸濁物質を除去するために、得られた溶液を必要に応じて、例えば濾過によって精製することができる。本発明に係る方法の工程Aで調製される非荷電の化合物[OHxNH3yZn]zにおいて、x、y及びzは、通常それぞれ独立して0.01~10、好ましくはそれぞれ独立して1~6である。好ましくはz=1である。更に好ましくはx=2である。更に好ましくはy=2又は4である。例えば、x=2及びy=2又はy=4及びz=1であり、本発明に係る方法の工程Aにおいて、[ZnNH32]OH2又は[ZnNH34]OH2の溶液を調製することが特に好ましい。本発明によれば、x、y及びzは、それぞれ独立して、整数でも少数でもよい。従って、本発明は、x、y及びzがそれぞれ独立して1~6である本発明に係る方法に関する。溶液中に存在し且つ本発明に係る方法1の工程Aで好ましく調製される非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzがそれぞれ独立して0.01~10である。は、次の点で優れている。すなわち、調製に使用される反応物質に起因するあらゆる不純物、例えば、Na、K、NO3等の関係のないイオン類を含まないこと、非常に安価な反応物質を使用することができること、及び、精製工程が不要であることである。好ましく得られた生成物は、好ましくは、いかなる精製工程を行わなくても調製直後には特に高い純度、例えば>99、好ましくは>99.5、より好ましくは>99.9の純度を有する。本発明に係る方法1の工程Aの後、溶媒中に、好ましくは水中に非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。を含む溶液が得られる。本発明に係る方法により調製される溶液を使用して、例えば、本発明に係る方法2によって基材上にZnO層を形成する場合には、これらの成分に加えて、工程Aで得られた溶液は、必要により、例えば、基材上へのあらゆる沈着動作を改善する作用をする更なる添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は、工程Aにおいて溶液中に別々に導入することができる。しかしながら、本発明によれば、工程Aにおいて付随の添加剤を加えることは好ましくない。本発明によれば、付随の添加剤を添加する場合には、本発明に係る方法の工程Dにおいてこれを行うことが好ましい。本発明に係る方法1の工程Aで調製された溶液は、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して1~10である。を濃度c1で含む。濃度c1は通常、溶液100gに対して0.1~2.2gのZn、好ましくは溶液100gに対して0.3~1.5gのZn、より好ましくは溶液100gに対して0.7~1.3gのZnである。典型的な濃度c1は溶液100gに対してZn1gである。本発明に係る方法1の工程Aで調製された溶液は、任意に得られたZnOにドープする作用をする更なる金属カチオンを更に含んでいてもよい。ある実施の形態では、これらの金属カチオンは、Al3、In3、Sn4、Ga3及びこれらの混合物からなる群から選択される。これらの金属カチオンは、工程Aにおいて溶液に別々に導入することができる。しかしながら、本発明によれば、工程Aにおいて付随の金属カチオンを加えることは好ましくない。本発明において、ドープのために付随の金属カチオンを加える場合には、本発明に係る方法の工程Dにおいてこれを行うことが好ましい。工程Aにおいて溶液を調製するために、上記ドーパント金属カチオンは金属酸化物、金属水酸化物、金属アルコキシドの形態で、又は溶解可能な錯体の形態で加えることができる。上記ドーパントは、本発明に係る方法の工程Aにおいて、溶液に、通常、Znに対して0.02~10mol、好ましくはZnに対して0.1~5molの量で加えることができる。従って、本発明は、調製された溶液がAl3、In3、Sn4、Ga3及びこれらの混合物からなる群から選択される金属カチオンを含む、本発明に係る方法1に関する。工程B:本発明に係る方法1の工程Bは、ZnOH2を含む懸濁液を得るために、工程Aで生じた溶液から溶媒を部分的に除去する工程を含む。本発明に係る方法の工程Bにおいて、存在する溶媒、特に水を、当業者に知られている方法によって、例えば、昇温下及び/又は減圧下において部分的に除去する。本発明に係る方法の工程Bにおいて、NH3等の配位子の少なくとも一部を除去することも必要に応じて可能である。従って、本発明は、工程Bにおいて、昇温下及び/又は減圧下において溶媒を部分的に除去する、本発明に係る方法1に関する。本発明において、昇温とは、室温よりも高い温度、例えば、30~100°C、好ましくは30~90°C、より好ましくは40~80°Cの温度を意味するものとして理解される。本発明によれば、減圧とは、大気圧よりも低い圧力、例えば、1000mbara未満、好ましくは10~900mbara、より好ましくは100~800mbaraの圧力を意味するものとして理解される。昇温及び/又は減圧の結果、溶媒及びNH3は蒸発し、これによって溶液から除去することができる。本発明に係る方法の工程Bにおいて溶媒の部分的除去は、蒸留装置又はロータリーエバポレーターで行うことが好ましい。これらの装置は当業者に知られている。本発明において、部分的除去とは、存在する溶媒を完全に除去するのではなく、部分的にのみ;例えば、工程Aで使用した溶媒の20~90質量、好ましくは30~80質量、より好ましくは40~70質量、例えば50質量を工程Bで除去することを意味するものとして理解される。本発明の方法1の工程Bにおいて、通常は、溶媒の一部が除去されるだけでなく、溶液中又は生じた[OHxNH3yZn]z錯体但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。中に存在するアンモニアも除去される。従って、上記錯体は、工程Bにおいて、ZnOH2と任意にZnOとを含む固体を形成する。本発明に係る方法1の工程Bの後、溶媒、好ましくは水のZnOH2懸濁液が得られる。工程C:本発明に係る方法1の工程Cは、工程Bで生じた懸濁液から固体のZnOH2を除去する工程を含む。本発明に係る方法1の工程Cは、通常、当業者に知られている全ての方法、例えば、ろ過、デカンテーション、遠心分離、より好ましくはろ過、によって行うことができる。ろ過処理自体は当業者に知られており、例えば、ろ紙又は例えばSiO2から構成されるミネラルフィルターを使用する。本発明に係る方法の工程Cの後、固体のZnOH2及び溶媒、好ましくは水が互いに別々に得られる。好ましい実施の形態では、得られたZnOH2を、除去後に、例えば昇温下及び/又は減圧下で乾燥させる。工程Cにおいて、20~30°Cの温度及び大気圧未満の圧力、例えば20~800mbaraで乾燥させることが特に好ましい。工程D:本発明に係る方法1の工程Dは、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の濃度c2の溶液を得るために、工程Cで生じたZnOH2を少なくとも1種の溶媒中のアンモニアと接触させる工程を含む。本発明に係る方法1の工程Dは、当業者に知られている全ての反応器、例えば撹拌反応器内で行うことができる。本発明によれば、工程Dは連続式又はバッチ式で行うことができる。溶媒は好ましくは水性溶媒、例えばアルコール性水性溶媒又は水、より好ましくは水である。特に好ましい実施の形態では、本発明に係る方法の工程A及びDにおいて、それぞれ水性溶液中、好ましくは水中のアンモニアを使用する。従って、本発明は、工程A及びDの溶媒が水性溶液又は水である、本発明に係る方法に関する。アンモニアは、工程Dで好ましく使用される水性溶液中に、それぞれ溶液全体に対して、1~18mol/l、好ましくは2~15mol/l、より好ましくは3~12mol/lの濃度で存在する。本発明によれば、工程Aで使用するアンモニア水溶液よりも高い又は低い濃度を有するアンモニア水溶液を工程Dで使用することも可能である。例えば、工程Dにおいて、アンモニアの含有量が15~35質量、好ましくは20~30質量、例えば25質量であるアンモニア水溶液を使用する。好ましくは、工程Dにおいて、十分な量のアンモニア溶液を固体の水酸化亜鉛ZnOH2に加え、水酸化亜鉛が通常0.1~1mol/L、好ましくは0.25~0.75mol/L、より好ましくは0.33~0.6mol/Lの濃度で存在する反応混合物を得る。必要に応じて液体アンモニアに直接行うことも可能である。このようにして得られた反応混合物を次いで通常10~120°C、好ましくは10~60°C、より好ましくは20~30°Cの温度で撹拌する。通常、懸濁液を、所望とする転化率が得られるまで、例えば2~72h、好ましくは2~24h撹拌する。本発明に係る方法1の工程Dにおける反応の後、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液、特に水溶液が存在する。存在するあらゆる懸濁した物質を除去するために、得られる溶液を必要に応じて例えばろ過により精製することができる。本発明に係る方法の工程Dにおいて調製される非荷電の化合物[OHxNH3yZn]zにおいて、x、y及びzは通常それぞれ独立して0.01~10、好ましくはそれぞれ独立して1~6である。好ましくは、z=1である。更に好ましくはx=2である。また好ましくはy=2又は4である。例えば、x=2、y=2又はy=4、z=1であり、本発明に係る方法の工程Dにおいて、[ZnNH32]OH2又は[ZnNH34]OH2の溶液を調製することが特に好ましい。本発明によれば、x、y及びzは、それぞれ独立して、整数又は少数のいずれかであってよい。工程Aに関して上述した添加剤又はドーパント金属を、工程Dにおいても、又は工程Dだけで加えることが可能である。好ましくは、上記ドーパント金属は、工程Dだけで加え、工程Aでは加えない。本発明に係る方法1の工程Dにおいて得られた溶液は、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。を濃度c2で含む。本発明に係る方法1の好ましい実施の形態では、濃度c2は濃度c1よりも高い。従って、本発明は、濃度c2が濃度c1よりも高い、本発明に係る方法に関する。濃度c2は、通常、溶液100gに対してZnが0.6~6.5g、好ましくは溶液100gに対してZnが1.6~5g、より好ましくは溶液100gに対してZnが2.2~3.9g、例えば溶液100gに対してZnが3.0gである。本発明はまた、本発明に係る方法1により調製可能な、好ましくは調製された、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液、好ましくは水溶液に関する。この本発明の溶液には、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。が、通常、溶液100gに対してZnが0.6~6.5g、好ましくは溶液100gに対してZnが1.6~5.0g、より好ましくは溶液100gに対してZnが2.2~3.9g、例えば溶液100gに対してZnが3.0gの濃度で存在する。本発明はまた、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の、溶液100gに対してZnが1.6~5.0g、好ましくは溶液100gに対してZnが2.2~3.9g、例えば溶液100gに対してZnが3.0gの濃度の溶液、好ましくは水溶液に関する。非荷電の化合物[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。及び好ましい溶媒に関しては、方法1の記述を援用する。本発明の溶液は、本発明に係る方法1により好ましく調製される。好ましい実施の形態では、本発明に係る方法1の工程Dで得られた、非荷電の[OHxNH3yZn]zx、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の濃度c2の溶液を、基材上にZnOの層を形成するために、その基材上の被覆に直接使用することができる。好ましい実施の形態では、これは、少なくとも工程E、F及びGを含む本発明に係る方法2により実行できる。本発明に係る方法1により、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の特に高い濃度の溶液を得ることができる。そのため、本発明に従って調製可能な溶液は、例えば、基材の被覆に特に有利に使用することができる。その理由は、多量の対応する化合物を、一工程で基材に施されるからであり、これにより厚い層厚を有するZnO層を、次の熱処理及び相関する非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の半導体ZnOへの転化において得ることができる。従来技術で得られる半導体材料の前駆体化合物の溶液は、対応する前駆体化合物を低濃度でしか含んでいないので、所望とする層厚を達成するには対応する被覆処理において数工程必要となる。本発明によれば、高濃度c2は、工程B~Dの本発明の組み合わせにより達成することができる。溶媒を部分的に除去することにより、特に反応性ZnOH2を得ることが可能となり、これは次の工程Dにおいて、溶解可能な非荷電の錯体[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。に転化することができるが、これは従来技術によるZnOH2を用いてできるものよりも割合が大きい。本発明はまた、基材上に少なくとも酸化亜鉛を含む層を形成する本発明に係る方法2であって、E本発明に係る方法1により、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を調製する工程、F工程Eで生じた溶液を基材に施す工程、及びG非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。を酸化亜鉛に転化させるために、工程Fで生じた基材を20~450°Cの温度において熱処理する工程、を少なくとも含むことを特徴とする形成方法に関する。本発明に係る方法2は基材上に少なくとも酸化亜鉛を含む層を形成する役割がある。通常、本発明に係る方法2によって、当業者に知られている全ての基材、例えばシリコンウエハ、ガラス、セラミックス、金属、金属酸化物、半金属酸化物、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリスルホン等のポリマーを被覆することができる。本発明に係る方法2の好ましい実施の形態では、基材は機械的にフレキシブルであり、例えば、ポリエステル例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスルホン及びこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種のポリマーを含む。従って、本発明は、好ましくは、基材が機械的にフレキシブルであり、少なくとも1種のポリマーを含む、本発明に係る方法に関する。少なくとも1種の半導体金属酸化物を含み、本発明に係る方法によって基材上に形成される層は、通常、5~250nm、好ましくは5~100nmの厚さを有する。本発明に係る方法2の各工程を以下に詳細に記述する。工程E:本発明に係る方法の工程Eは、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を、本発明に係る方法1により調製する工程を含む。本発明に係る方法2の工程Eは、本発明に係る方法1の工程A、B、C及びDを少なくとも含む。従って、工程A、B、C及びDに関する記述を工程Eに適用する。従って、本発明は、ある実施の形態では、好ましくは、ZnOに、Al3、In3、Sn4、Ga3及びこれらの混合物からなる群から選択される金属カチオンをドープする、本発明に係る方法に関する。従って、本発明は、好ましい実施の形態では、基材上に少なくとも酸化亜鉛を含む層を形成する本発明に係る方法2であって、A濃度c1の非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を得るために、少なくとも1種の溶媒中でZnO及び/又はZnOH2をアンモニアと接触させる工程、BZnOH2を含む懸濁液を得るために、工程Aで生じた溶液から溶媒の一部を除去する工程、C工程Bで生じた懸濁液から固体のZnOH2を除去する工程、D濃度c2の非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の溶液を得るために、少なくとも1種の溶媒中で工程Cで生じたZnOH2をアンモニアと接触させる工程、F工程Dで生じた溶液を基材に施す工程、及びG非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。を酸化亜鉛に転化させるために、工程Fで生じた基材を20~450°Cの温度において熱処理する工程、を少なくとも含む方法に関する。好ましい実施の形態では、工程Dの後に得られる溶液を本発明の工程Fで直接使用する。工程F:本発明に係る方法2の工程Fは、工程E又はDで生じた溶液を基材に施す工程を含む。通常、工程Fは、工程E又はDから得られた溶液を基材に施す好適な当業者に知られている全ての方法、例えばスピンコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティング、ドロップキャスティング又は印刷、例えばインクジェット印刷、フレキソ印刷又はグラビア印刷により行うことができる。従って、本発明は、好ましい実施の形態では、工程E又はDで生じた溶液を、工程Fにおいて、スピンコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティング、ドロップキャスティング及び/又は印刷により施す、本発明に係る方法に関する。より好ましくは、工程E又はDで生じた溶液を、本発明に係る方法の工程Fにおいて、スピンコーティング又はインクジェット印刷によって施す。これらの方法はそれ自体当業者に知られている。従って、本発明はまた、工程E又はDで生じた溶液を工程Fにおいてスピンコーティングにより施す、本発明に係る方法に関する。工程Fでは、工程Gにおける熱処理により所望とする層厚のZnO層が得られるように、適切な濃度の溶液を基材に施すことが好ましい。工程G:本発明に係る方法2の工程Gは、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。を酸化亜鉛に転化するために、20~450°Cの温度において、工程Fで生じた基材の熱処理を含む。好ましい実施の形態では、本発明に係る工程Gの温度は200°C未満である。通常、工程Gは、基材を加熱するために当業者に知られている全ての装置、例えば、ホットプレート、オーブン、乾燥キャビネット、熱風ガン、ベルトか焼炉又は加熱傾斜がある又はない温度湿度制御キャビネットで行うことができる。本発明に係る方法の工程Gを比較的低い温度、例えば20~50°Cで行う場合には、酸化亜鉛への分解は、好ましくは触媒活性化により、例えば反応性ガス流との接触により又は放射により行われる。触媒活性化は高温でも可能であるが、好ましくない。工程Gでは、工程Eで生じた溶液で施された非電荷の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。が酸化亜鉛に転化する。本発明によれば、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。を、好ましくは200°C未満、より好ましくは150°C未満、更により好ましくは130°C未満、特に100°C未満の温度で酸化亜鉛に転化させることができ、これにより、例えば、酸化亜鉛の調製中に変形しない又は熱的に分解しないポリマーの基材を使用することが可能である点で有利である。更なる利点は、本発明に係る方法の工程Gの熱処理において使用される、非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。によって、揮発性の副生成物しか生じないことであり、これは気体状態で抜け出し、形成される層中に厄介な不純物として残存しない。本発明に係る方法2の更なる利点は、工程E又はDで生じた溶液中の非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。が高濃度であることにより、十分な量の非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。を、数工程、好ましくは一工程で基材に施すことができ、これでZnOの十分な層厚を得ることができる。本発明において使用される非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。は通常、工程Gにおいて、酸化亜鉛及び揮発性化合物、又はこれらの混合物に転化する。特に、工程Gでの熱処理後、前駆体化合物の副生成物例えば、ハロゲン化物イオン、硝酸イオン等の対イオン、Na、K等のカチオン、又は非荷電配位子は、形成される酸化亜鉛層中に残存しない。本発明において使用される非荷電の[OHxNH3yZn]z但し、x、y及びzはそれぞれ独立して0.01~10である。の更なる利点は、これが、通常、更なる添加剤を添加することなく、本発明に係る方法の工程Gにおいて、対応する金属酸化物に転化することができることであり、その理由は、配位子圏内での対応する酸化物への転化のために必要とされる酸素を既に有しているからである。更なる添加剤を添加しないので、これらの添加剤の副生成物が形成される層中に残存することはない。同様に、製造方法の工程E、F及びGは周囲環境条件下大気中酸素等で行うことができることが有利である。本発明はまた、本発明に係る方法により製造可能な、好ましくは製造された、少なくとも酸化亜鉛を含む、基材上の層に関する。層厚、利用可能な添加剤、ドープ元素、基材及び本発明の層の更なる詳細に関しては、上記記述を適用する。図面図1は、実施例3に係る電界効果トランジスタの代表的な出力曲線OCを示している。この図において:VDソースとドレイン間の電圧IDソースとドレイン間の電流図2は、実施例3に係る電解効果トランジスタの代表的な伝達曲線TCを示している。この図において:VGソースとゲート間の電圧IDソースとドレイン間の電流実施例1:高度に濃縮されたZnOH2NH34溶液の調製原料:ZnOUmicorePharma12.2g25NH3水溶液500g脱ミネラル水511g25NH3水溶液200g手順:工程1:まず、約7モルのNH3溶液を、25NH3溶液500gと水511gから調製した。最初にZnOを1000mlのDuranガラスビンに入れ、次いで調製したNH3溶液1000mlを加え、この全てをマグネチックスターラーで一晩撹拌した。これにより、無色透明のZnOH2NH34溶液が生成し、その濃度は溶液100g当たりZnが1gであった。濃度は、原子発光分光による元素分析により測定した。工程2:この溶液をロータリーエバポレーターで約500mlの体積まで濃縮し、白色の懸濁液を形成した。この懸濁液をP4吸引フィルターで吸引ろ過し、得られた白色粉末を真空乾燥キャビネット内で一晩、室温500mbarで乾燥させた。乾燥した粉末をまず250mlのDuranガラスビンに入れ、200gのNH325溶液を加え、この混合物を再度一晩撹拌した。依然として存在する固形物を沈殿させた。サンプルを透明な上澄み溶液から取り出し、ミリポアフィルターを押し通し、分析した。ZnOHxNH3y錯体の溶液は、原子発光分光による元素分析により測定して、溶液100g当たりZnの含有量が3.0gであった。実施例2:実施例1で生じた溶液を使用したZnO層の製造実施例1の工程1で調製した、濃度が溶液100g当たりZn1gのZnOH2NH34水溶液を、二酸化ケイ素層を有する洗浄されたシリコンウエハにスピンコーティング3000rps、30sで塗布し施し、ホットプレート上で150°Cで1時間加熱した。得られた層厚は12nmであった原子間力顕微鏡法で測定。実施例1の工程2で調製した、濃度が溶液100g当たりZn3gのZnOH2NH34水溶液を、二酸化ケイ素層を有する洗浄されたシリコンウエハにスピンコーティング3000rps、30sで塗布し施し、ホットプレート上で150°Cで1時間加熱した。得られた層厚は40nmであった原子間力顕微鏡法で測定。実施例3:溶液実施例1から処理されたZnO半導体材料及びシルセスキオキサン誘電体を含むZnO電界効果トランジスタのポリエチレンナフタレートPENフィルム基材上への製造乳酸エチル中のメチル-及びフェニルシルセスキオキサン単位からなるGR150ガラス樹脂Techneglass,Inc.の25質量溶液を、75nmのアルミニウムゲート熱蒸着により施したものを有する洗浄されたPENフィルム基材Teonex,DuPontTeijinFilms上に回転させ、次いで80°Cにおいて1分間及び150°Cにおいて1時間加熱した。酸素プラズマ処理30sの後、実施例1の工程2によって調製された、溶液100g当たりZn3gの濃度を有するZnOH2NH34水溶液を30s、3000rpm回転させ、150°Cにおいて1時間加熱した加熱勾配30分間。ソース/ドレイン接触チャンネル幅/長さ比:20は、アルミニウムの熱蒸着により得た。次の平均パラメータを測定した。移動度μ:7102cm2/Vsオン/オフ比:104VT閾値電圧:1V実施例4:高度に濃縮されたZnOH2NH34の溶液の製造原料:ZnOUmicorePharma12.2g25NH3水溶液600g脱ミネラル水613.4g手順:工程1:まず、約7モルのNH3溶液を、25NH3溶液600gと水613.4gから調製した。最初にZnOを1000mlのDuranガラスビンに入れ、次いで調製したNH3溶液1000mlを加え、この全てをマグネチックスターラーで一晩撹拌した。これにより、無色透明のZnOH2NH34溶液が生成し、その濃度は溶液100g当たりZnが1.0gであった。濃度は、原子発光分光による元素分析により測定した。工程2:この溶液をロータリーエバポレーターで約500mlの体積まで濃縮し、白色の懸濁液を形成した。この懸濁液をP4吸引フィルターで吸引ろ過し、得られた白色粉末を真空乾燥キャビネット内で一晩、室温500mbarで乾燥させた。乾燥した粉末をまず250mlのDuranガラスビンに入れ、200mlの約7モルのNH3溶液を加え、この混合物を再度一晩撹拌した。透明な溶液をミリポアフィルターを押し通し、分析した。ZnOHxNH3y錯体の溶液は、原子発光分光による元素分析により測定して、溶液100g当たりZnの含有量が2.9gであった。実施例4は、約7モルのNH3溶液を本発明に係る方法の工程Dで使用する場合に高度に濃縮された溶液も得られることを示している。実施例5:高度に濃縮されたZnOH2NH34の溶液の調製原料:ZnOSigmaAldrichZnO99.9912.2g25NH3水溶液500g脱ミネラル水511g25NH3水溶液200g手順:工程1:まず、約7モルのNH3溶液を、25のNH3溶液500g及び水511gから調製した。最初にZnOを1000mlのDuranガラスビンに入れ、次いで調製したNH3溶液1000mlを加え、全てをマグネチックスターラーで一晩撹拌した。これにより、無色透明のZnOH2NH34溶液が生成し、その濃度は溶液100g当たりZn0.94gであった。この濃度は、原子発光分光により元素分析することにより測定した。工程2:この溶液をロータリーエバポレーターで約500mlの体積まで濃縮し、白色の懸濁液を形成した。この懸濁液をP4吸引フィルターで吸引ろ過し、得られた白色粉末を真空乾燥キャビネット内で一晩、室温500mbarで乾燥させた。乾燥した粉末をまず250mlのDuranガラスビンに入れ、200gのNH325溶液を加え、この混合物を再度一晩撹拌した。依然として存在する固形物を沈殿させた。サンプルを透明な上澄み溶液から取り出し、ミリポアフィルターを押し通し、分析した。ZnOHxNH3y錯体の溶液は、原子発光分光による元素分析により測定して、溶液100g当たりZnの含有量が2.9gであった。実施例5は、異なるソースから生じたZnOを本発明に係る方法の工程Aにおいて使用する場合に高度に濃縮された溶液がまた得られることを示している。比較例1:ZnOH2NH34の溶液の調製原料:ZnOUmicorePharma12.2g25NH3水溶液500g脱ミネラル水511g手順:工程1:まず、約7モルのNH3溶液を、25NH3溶液500gと水511gから調製した。最初にZnO12.2gを1000mlのDuranガラスビンに入れ、次いで調製したNH3溶液1000mlを加え、この全てをマグネチックスターラーで一晩撹拌した。これにより、無色透明のZnOH2NH34溶液が生成し、その濃度は溶液100g当たりZnが0.99gであった。濃度は、原子発光分光による元素分析により測定した。比較例1は、NH3水溶液を用いてZnOを直接溶解した場合、亜鉛錯体の濃度が低い溶液しか得られないことを示している。比較例2:ZnOH2NH34の溶液の調製原料:ZnOUmicorePharma10g25NH3水溶液180ml手順:工程1:25のNH3水溶液及び10gのZnOをオートクレーブに導入した。この混合物をオートクレーブ内で80°Cの温度20barの圧力で16h撹拌した。冷却後、依然として存在する固形物を沈殿させた。サンプルを透明な上澄み溶液から取り出し、ミリポアフィルターを押し通し、分析した。ZnOHxNH3y錯体の溶液は、原子発光分光による元素分析により測定して、溶液100g当たりのZn含有量がたった1.0gであった。比較例2は、より高い圧力及び温度条件下でさえ、亜鉛錯体の濃度が低い溶液しか得られないことを示している。"