"多孔質基材上にシリカゾルを付着させ、露点が-70~0°Cの風を送風することにより前記シリカゾルを乾燥させ、その後焼成することによりシリカ膜を製造するシリカ膜の製造方法。前記風を風速5~20m/sで送風することにより前記シリカゾルを乾燥させる請求項1に記載のシリカ膜の製造方法。以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、発明の範囲を逸脱しない限りにおいて、変更、修正、改良を加え得るものである。本発明のシリカ膜1の製造方法は、多孔質基材11上にシリカゾルを付着させ、露点が-70~0°Cの風を送風することによりシリカゾルを乾燥させ、その後焼成することによりシリカ膜1を製造する方法である。ここで露点とは、空気中の水蒸気分圧が飽和圧と等しくなる温度であり、水蒸気を含む空気の温度を下げていくとき、水蒸気の凝縮が観測される温度である。乾燥時はシリカゾルに含まれるエタノール等の溶媒の気化により膜面温度が低下するため、乾燥風中の水が結露し、膜面へ付着する。このため、水とエタノール等の溶媒との表面張力の差によりシリカ粒子の配列が乱され、欠陥が発生する。低露点乾燥露点が-70~0°Cにより、結露が防止され、欠陥が抑制されるため、欠陥のないシリカ膜1を得るための製膜回数を減らすことができる。つまり、露点が-70~0°Cの風を用いてシリカゾルを乾燥させることにより、高分離性高分離係数の膜を得ることができ、従来よりもより薄いシリカ膜1で高分離性を得ることができる。なお、風の露点が膜面温度以下<-70°Cでは、露点が-70°C乾燥時と同程度の分離係数しか得られないが、多額の設備費が必要となり、コストに対して効果が少ない。そのため、露点が-70~0°Cの風を用いることが好ましい。さらに、風を風速5~20m/sで送風することによりシリカゾルを乾燥させることが好ましい。このような風速とすることにより、より高分離係数の膜が得られる。風速が5m/s未満では多孔質基材11の表面に付着したシリカゾルの乾燥が進展しにくく、密な膜が得られず細孔径が大きい膜となりやすい。また、風速が20m/sを超えると乾燥速度が速く、膜面にクラックが発生しやすい。図1に本発明の製造方法によって形成されるシリカ膜1を示す。多孔質基材11の精密濾過膜MF膜上に細孔径が0.5~20nmの限外濾過膜であるUF膜14が形成され、そのUF膜14上にシリカ膜1が形成されている。UF膜14としては、例えば、チタニアを採用することができる。シリカ膜1は、シリカゾルを複数回積層した多層構造とされている。以上のように、UF膜14上にシリカ膜1を形成した場合、UF膜14の膜表面が平滑で欠陥も少ないため、シリカ膜1が薄く、欠陥無く成膜することが可能となる。即ち高分離能、高透過流束、低コストのシリカ膜1が作製可能となる。一方、UF膜14を形成せずに多孔質基材11の精密濾過膜MF膜上にシリカ膜1を形成した場合、MF膜の表面の凸凹のため、表面を全てシリカ膜1で被覆するためにはセラミック層が厚膜となってしまい、低透過流束となる。またMF膜の表面が凸凹であるため、シリカ膜1が不均質となりクラック等の欠陥が発生しやすい。すなわち低分離性能となる。さらにクラックを発生させないためには一度に薄くしか成膜できず、工程数が増え高コストの原因となる。したがってUF膜14を形成し、UF膜14の表面を基材の表面としてシリカ膜1を形成することが望ましい。UF膜14をシリカ膜1形成の基材として、UF膜14上にシリカ膜1を形成すると、欠陥の少ないシリカ膜1、すなわち高分離能のシリカ膜1を形成できる。基材の最表面層は、成膜する下地層でありUF膜14である。また、後述するスラリーを基材上側から流下により接触させて付着させる方法によれば、基材の成膜面に対し水圧がかからないため、毛細管力によるUF膜14内へのシリカゾルの染込みに留まり、細孔の大きい基材多孔質基材11等への浸透が抑えられる。また、基材が長くなった場合であっても上下でシリカゾルの付着量の差がつきにくく、長さ方向で均質な膜を得ることができる。さらに、送風乾燥を行うことにより、密なシリカ膜1が形成できる。次に図2を用いて、本発明の製造方法によってシリカ膜1が形成されるセラミックフィルタ10の一実施形態を説明する。本発明のセラミックフィルタ10は、隔壁22により画成され軸方向の流体通路を形成する複数のセル23を有するモノリス形状を成している。本実施形態では、セル23は円形断面を有し、その内壁面に、図1に示されたようなシリカ膜1が形成されている。セル23は、六角断面や四角形断面を有するように形成してもよい。このような構造によれば、例えば、混合体例えば、水と酢酸を入口側端面25からセル23に導入すると、その混合体を構成する一方が、セル23内壁に形成されたシリカ膜1において分離され、多孔質の隔壁22を透過してセラミックフィルタ10の最外壁から排出されるため、混合体を分離することができる。つまり、セラミックフィルタ10に形成されたシリカ膜1は、分離膜として利用することができ、例えば、水とアルコールあるいは水と酢酸に対して高い分離特性を有する。基材本体である多孔質基材11は、押し出し成形等により多孔質材料からなる円柱形状のモノリス型フィルターエレメントとして形成されており、多孔質材料としては、耐食性と温度変化によるろ過部の細孔径の変化が少ない点や充分な強度が得られる点から、例えば、アルミナを用いることができるが、アルミナ以外にコーディエライト、ムライト、炭化珪素等のセラミックス材料を使用することもできる。多孔質基材11は、小さな細孔径の多数の細孔を有する多孔質体であり、シリカ膜1を成膜する面最表面層の細孔径が、好ましくは0.5~20nm、より好ましくは、0.5~10nmである。この多孔質体はその表面に上記範囲の細孔径を有する多孔質膜図1の実施形態においては、UF膜14が上記範囲の最表面層を形成しているが形成されているものであっても良い。本発明のシリカ膜1は、多孔質基材11の内周面内壁面に対して成膜するため、長さが50cm以上である比較的長尺の筒状の基材、またはレンコン状の形状の多孔質基材を好適に用いることができる。次に、シリカ膜1の製造方法について、図3A及び図3Bを用いて説明する。まず、シリカ膜1を形成するためのコーティング液成膜用シリカゾル液40を用意する。テトラエトシキシランを硝酸の存在下で加水分解し、シリカゾル液を得、そのシリカゾル液をシリカが0.3~2質量となるようにエタノールで希釈してコーティング液成膜用シリカゾル液40とする。次に、図3Aに示すように、多孔質基材11の外周面をマスキングテープ41でマスクする。例えば、広口ロート下端に上記多孔質基材11を固定し図示せず、基材上部から前述のコーティング液成膜用シリカゾル液40を流し込みセル23内を通過させる流下法。あるいは、流下製膜装置を用いてそのタンク溜めたに成膜用シリカゾル液40を流し込んでもよい。このようにしてセル23の表面上にシリカゾルを付着させる。そして基材上部から風を送り、余剰なシリカゾルを除去する。次に、例えば、図3Bに示すように、除湿送風機30等により露点が-70~0°Cの風を多孔質基材11の上部から送風することにより、セル内に風を送ってシリカゾルを乾燥させる。露点-70~0°Cの空気は、例えば、吸着剤が強力に結合されたハニカム構造の除湿ロータで湿分を吸着させることにより得られる。露点が-70~0°Cの風による送風乾燥を行うことにより、シリカ膜1がUF膜14上に密な構造で形成され、高分離性を有する膜を得ることができる。乾燥のための風がセル内を通過する速度は、5~20m/秒で行うとよい。風がセル内を通過する速度が5m/秒以下だと乾燥に要する時間が長くなりすぎ、また、風がセル内を通過する速度が20m/秒以上だと膜面にクラックが発生しやすく、好ましくない。このように送風により乾燥を行うことにより、UF膜14へシリカ膜1が密に膜化する構造とすることができる。膜表面から溶媒が乾燥することが重要と考えられるため、外周面をマスクすることにより、シリカゾルの含まれる溶媒の基材側からの蒸発を防止してもよい。なお、送風乾燥はシリカゾル付着後、直ちに、例えば、30秒以内に行うことが好ましい。製膜後、直ちに乾燥を開始することにより、シリカゾルの基材への染み込みを抑制することができるからである。風の温度は好ましくは10~80°Cである。10°Cよりも低い温度の風を通過させると、セル表面に付着したシリカゾルの乾燥が進展しないため、密な膜が得られず細孔径が大きい膜となってしまう。また、80°Cよりも高い温度で温風を通過させると膜面にクラックが発生しやすく、好ましくない。その後、20~100°C/hrにて昇温し、300~600°Cで30分~3時間保持した後、20~100°C/hrで降温する。以上のコーティング液成膜用シリカゾル液40の流し込み、乾燥、昇温、降温の操作を2回~5回繰り返す。なお、シリカ膜1の形成は、図3Aに示すような、シリカゾルの流し込み流下法に限られず、ディップ法により行い、その後、図3Bに示すような送風乾燥を行ってもよい。以上の工程により、UF膜14を基材とし、そのUF膜14の表面上にシリカ膜1が形成される。以上のようにして得られた、内壁面にナノレベルの薄膜状のシリカ膜1が形成されたセラミックフィルタ10は、混合液体等を分離するフィルタとして好適に用いることができる。以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例1~9,比較例1~21多孔質基材平均細孔径が10nmのチタニアのUF膜が形成されているモノリス形状外径180mm,セル内径3mm×2000セル,長さ1000mmの基材多孔質基材11を用いた。尚、基材両端部はガラスにてシールした。2シリカゾルテトラエトシキシランを硝酸の存在下で加水分解し、シリカゾル液を得た。上記シリカゾル液をエタノールで希釈し、シリカ換算で0.7質量となるように調整しコーティング液成膜用シリカゾル液40とした。3成膜多孔質基材11の外周面をマスキングテープ41でマスクした。多孔質基材11を流下製膜装置に固定した。流下製膜装置のタンクに成膜用シリカゾル液40を溜め、基材上部から成膜用シリカゾル液40を流し込みセル23内を通過させた。その後基材上部から風速5m/sの風を送り、余剰なシリカゾルを除去した。なお、この成膜工程により、内側壁の全体に成膜されることを確認した。4乾燥成膜用シリカゾル液40を流し込んでシリカゾルを付着させた多孔質基材11のセル23内を、30秒以内に除湿送風機30を用いて室温の風を通過させて30分間乾燥させた。なお、風速は、5~20m/s、風露点は、-70~0°Cとした。また、比較例1~2は、風露点が0°Cより高い風を用いて乾燥させた。5焼成多孔質基材11の外周面のマスキングテープを取り外し、電気炉で25°C/hrにて昇温し、500°Cで1時間保持した後、25°C/hrで降温した。尚、上記3~5の操作を2回繰り返して実施例の試料を得た。評価水-エタノールの分離試験を行った。具体的には、12L/minの送液速度でシリカ膜1が形成されたモノリス多孔質基材11のセル23内を、温度70°C、エタノール濃度90質量、水10質量の水溶液を流通させた。このとき、基材側面から約2~5Paの真空度で減圧し、基材側面からの透過液を液体窒素トラップで捕集した。トラップで捕集した透過液と透過前の原液のエタノール濃度から分離係数を算出した。また、分離係数及び透過流束を表1に示す。なお、分離係数とは、下記式で示されるように、供給液中のエタノール濃度質量と水濃度質量との比に対する透過液中のエタノール濃度質量と水濃度質量との比の値をいう。また、透過流束とは、単位時間時間、単位面積m2当たりに、分離膜を透過した全物質の質量kgをいう。分離係数=透過液中のエタノール濃度/透過液中の水濃度/供給液中のエタノール濃度/供給液中の水濃度表1に示すように、実施例1~9は、シリカゾルを乾燥させるための風の露点が-70~0°Cであることにより、比較例1~2に対し、少ない成膜回数で分離係数が向上した。さらに、実施例1~5,7~8は、風速が5~20m/sであることにより、大幅に分離係数が向上した。"