下記の反応式1に従って、式1で表わされる化合物式中、R1は、-CH2COOR、又は-CH2PhZmZは、フェニル基Phの置換基であり、mは0~5である。であり、Rは低級アルキル基またはアルカリ金属原子である。を、二炭酸ジ-tert-ブチルBoc2Oと反応させて式2で表わされる化合物を製造し、得られた式2で表わされる化合物を、下記の反応式2に従って、塩基の存在下に、H-A-CH2X式中、Aは、-C≡C-又はCHCHであり、Xは、脱離性置換基である。で表わされる化合物と反応させて式3で表わされる化合物を製造し、次いで、得られた式3で表わされる化合物を、下記の反応式3に従って、式4で表わされる化合物式中、Yは、脱離性置換基である。とカップリング反応させて式5で表わされるジアミン前駆体化合物を製造する方法。式1で表わされる化合物が、グリシンtert-ブチルエステル若しくはその塩、又は、ベンジルアミン若しくはその塩である請求項1に記載の方法。前記カップリング反応が、金属錯体、配位子、及び塩基の共存下に行われる請求項1又は2に記載の方法。前記カップリング反応が、3級ホスフィン又は3級ホスファイトを配位子として含むパラジウム錯体の共存下に行われる請求項1~3のいずれかに記載の方法。式4で表される化合物におけるYが、Br、I、又はトリフルオロメタンスルホン酸エステル基である請求項1~4のいずれかに記載の方法。H-A-CH2-Xで表わされる化合物におけるXが、ハロゲン、又はスルホン酸エステル基である請求項1~5のいずれかに記載の方法。H-A-CH2-Xで表わされる化合物が、プロパルギルハライド、又はアリルハライドである請求項1に記載の方法。請求項1~7のいずれかに記載の方法で得られる式5で表わされる化合物を、下記の反応式4に従って、還元して式6式中、R2は、水素原子又は-CH2COORであり、Rは、低級アルキル基である。で表わされるジアミン化合物を製造する方法。下記式で表わされるエステル化合物。下記のいずれかの式で表わされるニトロ化合物。本発明は、液晶配向剤などに使用されるポリアミド酸及び/又はポリイミドの原料であるtert-ブトキシカルボニル基Boc基を有するジアミン化合物の前駆体であるニトロ化合物を、安価な原料から、簡便、かつ効率的に製造する新規な方法を提供することを目的とする。更に、本発明は、ジアミン化合物の前駆体化合物であるニトロ化合物から、tert-ブトキシカルボニル基を有するジアミン化合物を製造する方法も提供する。本発明は、上記目的を達成するために鋭意研究を進めたところ、以下を要旨とする新規な製造方法に達したものである。かかる製造方法は、後記するように、その過程では、新規な化合物を包含するものである。1.下記の反応式1に従って、式1で表わされる化合物式中、R1は、-CH2COOR、又は-CH2PhZmZは、フェニル基Phの置換基であり、mは0~5である。であり、Rは低級アルキル基若しくはアルカリ金属原子であり、Phはフェニル基である。を、二炭酸ジ-tert-ブチルBoc2Oと反応させて式2で表わされる化合物を製造し、得られた式2で表わされる化合物を、下記の反応式2に従って、塩基の存在下に、H-A-CH2X式中、Aは、-C≡C-又はCHCHであり、Xは、脱離性置換基である。で表わされる化合物と反応させて式3で表わされる化合物を製造し、次いで、得られた式3で表わされる化合物を、下記の反応式3に従って、式4で表わされる化合物式中、Yは、脱離性置換基である。とカップリング反応させて式5で表わされるジアミン前駆体化合物を製造する方法。2.式1で表わされる化合物が、グリシンtert-ブチルエステル若しくはその塩、又は、ベンジルアミン若しくはその塩である上記1に記載の方法。3.前記カップリング反応が、金属錯体、配位子、及び塩基の共存下に行われる上記1又は2に記載の方法。4.前記カップリング反応が、3級ホスフィン又は3級ホスファイトを配位子として含むパラジウム錯体の共存下に行われる上記1~3のいずれかに記載の方法。5.式4で表される化合物におけるYが、Br、I、又はトリフルオロメタンスルホン酸エステル基である上記1~4のいずれかに記載の方法。6.H-A-CH2-Xで表わされる化合物におけるXが、ハロゲン、又はスルホン酸エステル基である上記1~5のいずれかに記載の方法。7.H-A-CH2-Xで表わされる化合物が、プロパルギルハライド、又はアリルハライドである上記1に記載の方法。8.上記1~7のいずれかに記載の方法で得られる式5で表わされる化合物を、下記の反応式4に従って、還元して式6式中、R2は、水素原子又は-CH2COORであり、Rは、低級アルキル基である。で表わされるジアミン化合物を製造する方法。9.下記で表わされるエステル化合物。10.下記のいずれかの式で表わされるニトロ化合物。本発明によれば、安価な出発原料から、簡便、かつ効率的に液晶配向剤などに使用されるポリアミド酸及び/又はポリイミドの原料であるtert-ブトキシカルボニル基を有するジアミン化合物の前駆体化合物である、ニトロ化合物を製造する新規な方法が提供される。また、本発明によれば、製造されたジアミン化合物の前駆体化合物のニトロ化合物からtert-ブトキシカルボニル基を有するジアミン化合物を製造する方法が提供される。さらに、本発明によれば、下記の新規な化合物が提供される。以下に、本発明についてさらに詳細に説明する。A.下記式1で表わされる化合物を原料にした下記式2で表わされる化合物の製造式1で表わされる化合物を原料にし、これをBoc2O二炭酸ジtertブチルと反応させることにより、反応式1にしたがって、式2で表わされる化合物が製造される。式1中、R1は、-CH2COOR、又は-CH2PhZmZはフェニル基Ph上の置換基であり、mは0~5である。であり、Rは低級アルキル基またはアルカリ金属原子であり、Phはフェニル基である。ここで、低級アルキル基とは、炭素数1~6のアルキル基、好ましくは炭素数1~4のアルキル基であり、特に、CH2CO2tertButertブチル基が好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム又はカリウムが好ましく、特に、ナトリウム又はカリウムが好ましい。Zは、フェニル基上の置換基であり、フッ素原子、ニトロ基、カルボキシル基、エステル基、シアノ基またはC1-4アルコキシカルボニル基であり、メトキシ基またはニトロ基が好ましい。mは、0~5であり、0~2が好ましい。式1で表わされる化合物は、R1がCH2CO2tertBuの場合、グリシンtertブチルエステルもしくはその塩であり、R1がCH2Phの場合、ベンジルアミンもしくはその塩である。これらのグリシンtertブチルエステルもしくはその塩、及び、ベンジルアミンもしくはその塩は、プロパルギルアミンHC≡CCH2NH2などと異なり、入手が容易であり、安価である。上記の式2で表わされる化合物を得る反応は、好ましくは塩基の存在下に行われる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウムなどの無機塩基;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、キノリン、コリジンなどのアミン類;水素化ナトリウム、水素化カリウム、tertブトキシナトリウム、tertブトキシカリウムなどが使用できる。式1で表わされる化合物として、遊離のアミンを使用する場合には、塩基の存在がなくとも反応は進行するが、塩基を使用する場合は、反応の後処理の操作性を考慮し、アミン類の使用が好ましい。反応溶媒としては、反応条件下において安定であり、不活性で、目的とする反応を妨げない溶媒であればいずれも使用できる。例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセテート、Nメチルピロリドンなどの非プロトン性極性有機溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、THFテトラヒドロフラン、TBMEtert-ブチルメチルエーテル、CPMEシクロペンチルメチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル;ペンタン、へキサン、ヘプタン、石油エーテルなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラリンなどの芳香族炭化水素;クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチルなどの低級脂肪酸エステル;アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルなどのニトリルなどが使用できる。これらの溶媒は、反応の起こり易さなどを考慮して適宜選択することができ、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。上記溶媒は、適当な脱水剤や乾燥剤を用いて水を含有しない溶媒として用いることもできる。反応温度は、好ましくは、-100°C以上から使用する反応溶媒の沸点の温度までの温度範囲を選ぶことができるが、より好ましくは、-50~150°C、特に好ましくは0~60°Cである。反応時間は、0.1~1000時間、より好ましくは0.5~50時間である。上記反応式1により得られた式2で表わされる化合物は、蒸留、再結晶、又はシリカゲルなどのカラムクロマトグラフィーなどで精製してもよいが、精製せずにそのまま次工程に用いてもよい。このようにして製造される式2で表わされる化合物の好ましい例は、Boc-NHCH2COOtert-Bu、またはBoc-NHCH2PhZmただし、Zはフェニル基上の置換基であって、フッ素原子、ニトロ基、カルボキシル基、エステル基、シアノ基またはC1-4アルコキシカルボニル基であり、mは0~5である。である。B.下記式2で表わされる化合物から下記式3で表わされる化合物の製造上記反応式1で得られた式2で表わされる化合物からは、塩基の存在下に、H-A-CH2X式中、Aは、-C≡C-又は-CH=CH-であり、Xは脱離能力のある置換基である。と反応させることにより、下記の反応式2にしたがって、式3で表わされる化合物が製造される。上記H-A-CH2-Xは、Aが-C≡C-である場合はプロパルギル化剤であり、また、Aが-CH=CH-である場合は、アリル化剤である。Xは、脱離能力のある置換基であり、例えば、F、Cl、Br、Iなどのハロゲン;pトルエンスルホン酸エステル基-OSO2C6H4-p-CH3、メタンスルホン酸エステル基-OSO2CH3、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基-OSO2CF3などのスルホン酸エステル基類;酢酸エステル基-OCOCH3、安息香酸エステル基-OCOPhなどの有機酸エステル基;メトキシカルボニルオキシ基-OCO2CH3、エトキシカルボニルオキシ基-OCO2CH2CH3、iプロピロキシカルボニルオキシ基-OCO2CHCH32、フェノキシカルボニルオキシ基-OCO2Phに代表される炭酸エステル基などである。なかでも、反応性の点から、ハロゲン又はスルホン酸エステル基が好ましい。反応に使用する塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウムなどの無機塩基;tertブトキシナトリウム、tertブトキシカリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの塩基;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、キノリン、コリジンなどのアミンを使用できる。なかでも、tertブトキシナトリウム、tertブトキシカリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどが好ましい。反応溶媒としては、反応条件下において安定であり、不活性で、目的とする反応を妨げない溶媒であればいずれも使用できる。例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセテート、Nメチルピロリドンなどの非プロトン性極性有機溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、THF、TBME、CPME、ジオキサンなどのエーテル類;ペンタン、へキサン、ヘプタン、石油エーテルなどの脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラリンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチルなどの低級脂肪酸エステル;アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルなどのニトリルが使用できる。これらの溶媒は、反応の起こり易さなどを考慮して適宜選択することができ、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。また場合によっては、上記溶媒は、適当な脱水剤や乾燥剤を用いて水を含有しない溶媒として用いることもできる。また、上記の反応をより効率的に進行させるため、ヨウ化テトラnブチルアンモニウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなどのヨウ化物を添加することもできる。反応温度は、好ましくは、-100°C以上から使用する反応溶媒の沸点の温度までの温度範囲を選ぶことができるが、より好ましくは、-50~150°C、特に好ましくは-20~100°Cである。反応時間は、0.1~1000時間、より好ましくは0.5~50時間である。上記反応式2により得られた式3で表わされる化合物は、蒸留、再結晶、又はシリカゲルなどのカラムクロマトグラフィーなどで精製してもよいが、精製せずにそのまま次工程に用いてもよい。このようにして製造される式3で表わされる化合物の好ましい例は、Boc-NCH2C≡CHCH2COOt-Bu、Boc-NCH2C≡CHCH2Ph-Zm、Boc-NCH2CH=CH2CH2COOt-Bu、またはBoc-NCH2CH=CH2CH2Ph-Zmである。ここで、Zはフェニル基上の置換基であって、フッ素原子、ニトロ基、カルボキシル基、エステル基、シアノ基またはC1-4アルコキシカルボニル基であり、mは0~5である。式3で表わされる化合物のうち、以下のエステル化合物は、本出願前において新規な化合物である。C.下記式3で表わされる化合物から下記式5で表わされる化合物の製造上記反応式2で得られた式3で表わされる化合物からは、金属錯体、配位子、及び塩基の共存下に、式4で表わされる化合物と、薗頭反応若しくはヘック反応などのカップリング反応を行うことにより、式5で表わされる化合物が製造される。式4で表わされる化合物において、Yは、脱離能力のある置換基であり、例えば、F、Cl、Br、Iのハロゲン;pトルエンスルホン酸エステル基-OSO2C6H4-p-CH3、メタンスルホン酸エステル基-OSO2CH3、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基-OSO2CF3などのスルホン酸エステル基などが用いられる。なかでも、反応性の点から、Br、I、又はトリフルオロメタンスルホン酸エステル基が好ましい。本反応においては、適当な金属錯体と配位子を用いて金属錯体触媒を形成し、使用する。通常、金属錯体としては、パラジウム錯体やニッケル錯体が使用され、反応によっては、銅触媒を助触媒として共存させることが好ましい。金属錯体触媒としては、種々の構造のものを用いることができるが、いわゆる低原子価のパラジウム錯体又はニッケル錯体を用いることが好ましく、特に3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子とするゼロ価金属錯体触媒が好ましい。また、反応系中で容易にゼロ価金属錯体触媒に変換される適当な前駆体を用いることもできる。さらに、反応系中で、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子として含まない金属錯体と、配位子である3級ホスフィンや3級ホスファイトとを混合し、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子とする低原子価金属錯体触媒を生成させることもできる。配位子である3級ホスフィン又は3級ホスファイトとしては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリoトリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、フェニルジメチルホスフィン、12ビスジフェニルホスフィノエタン、13ビスジフェニルホスフィノプロパン、14ビスジフェニルホスフィノブタン、11ビスジフェニルホスフィノフェロセン、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト等が挙げられる。これらの配位子の2種以上を混合して含む金属錯体触媒も好適に用いられる。金属錯体触媒として、3級ホスフィンや3級ホスファイトを含まないパラジウム錯体と、3級ホスフィン又は3級ホスファイトを含む金属錯体とを組み合わせて用いることも好ましい。この場合、上記配位子をさらに組み合わせてもよい。3級ホスフィンや3級ホスファイトを含まないパラジウム錯体としては、ビスベンジリデンアセトンパラジウム、トリスベンジリデンアセトンジパラジウム、ビスアセトニトリルジクロロパラジウム、ビスベンゾニトリルジクロロパラジウム、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、パラジウム-活性炭等が挙げられる。また、3級ホスフィンや3級ホスファイトを配位子として含むパラジウム錯体としては、エチレンビストリフェニルホスフィンパラジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、ビストリフェニルホスフィンジクロロパラジウム等が挙げられる。これらパラジウム錯体の使用量は、いわゆる触媒量で良く、好ましくは、式4で表わされる化合物に対して20モル以下であり、特に好ましくは10モル以下である。同時に助触媒として使用される銅触媒は1価のものが好ましく、例えば、塩化銅I、臭化銅I、ヨウ化銅I、酢酸銅Iなどが挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウムなどの無機塩基;メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、イミダゾール、キノリン、コリジン、ピロリジン、ピペリジン、モルフォリン、N-メチルモルフォリンなどのアミン;酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウムなどが使用できる。原料である式3で表わされる化合物のAが、C≡Cである末端アセチレン化合物の場合には、予め、塩基として、有機リチウム、有機マグネシウム、有機亜鉛などを用いて金属アセチリドLnMC≡C、式中Mは金属、Lは配位子、nはゼロでない整数。としておき、この金属アセチリドを反応に用いることも可能である。Mとしては、Li、Mg、Zn、Sn、Bなどが挙げられる。Lとしては、F、Cl、Br、I、OH、C1-6アルコキシなどが挙げられる。反応溶媒としては、当該反応条件下において安定であって、不活性で、反応を妨げないものであればいずれも使用できる。反応溶媒として、水、アルコール類、アミン類、非プロトン性極性有機溶媒DMFジメチルホルムアミドDMSOジメチルスルホキシドDMAcジメチルアセトアミドNMPN-メチルピロリドンなど、エーテル類Et2O、iPr2O、TBME、CPME、THF、ジオキサンなど、脂肪族炭化水素類ペンタン、へキサン、ヘプタン、石油エーテルなど、芳香族炭化水素類ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラリンなど、ハロゲン系炭化水素類クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタンなど、低級脂肪酸エステル類酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチルなど、ニトリル類アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルなどなどが使用できる。これらの溶媒は、反応の起こり易さなどを考慮して適宜選択することができ、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。また場合によっては、上記溶媒は、適当な脱水剤や乾燥剤を用いて水を含有しない溶媒として用いることもできる。反応温度は、好ましくは、-100°C以上から使用する反応溶媒の沸点の温度までの温度範囲を選ぶことができるが、より好ましくは、-50~200°C、特に好ましくは20~150°Cである。反応時間は、0.1~1000時間、より好ましくは0.5~100時間である。上記反応式3により得られた式5で表わされる化合物は、蒸留、再結晶、又はシリカゲルなどのカラムクロマトグラフィーなどで精製するのが好ましい。なお、再結晶はできるだけ低温で行うのが好ましい。このようにして製造される式5で表わされる化合物のうち、以下の3種の化合物は、本出願前において新規な化合物である。D.下記式5で表わされる化合物からの下記式6で表わされるジアミンの製造上記反応式3で得られた式5で表わされる化合物からは、そのベンゼン環が有するニトロ基、及びその側鎖部分の不飽和結合、さらに、構造によってはベンジル基が還元され、上記反応式4にしたがって、式6で表わされるジアミンが製造される。式6で表わされる化合物において、式5で表される化合物のR1がベンジル基の場合は、R2は水素原子であり、R1がCH2COORの場合は、R2もCH2COORである。Rは、低級アルキル基であり、この場合の低級アルキル基については、R1の場合と同じ説明が適用される。上記式5で表わされる化合物の還元の方法としては、触媒として、パラジウム-活性炭や白金-活性炭などを利用する水素添加反応、Fe、Sn、Znやこれらの塩とプロトンの共存下で行う還元反応、蟻酸を水素源とする還元反応、ヒドラジンを水素源とする反応などがある。また、これらの反応を組み合わせて実施することもできる。上記に例示の還元反応のうち、基質が式5で表わされる化合物の構造と還元反応の反応性を考慮すると、水素添加反応の使用が好ましい。使用する触媒としては、市販品として入手できる活性炭担持金属、例えば、パラジウム-活性炭、白金-活性炭、ロジウム-活性炭などがある。また、水酸化パラジウム、酸化白金、ラネーニッケルなど必ずしも活性炭担持型の金属触媒でなくてもよい。一般的に広く使用されているパラジウム-活性炭の使用でも良好な結果が得られる。反応溶媒としては、反応条件下において安定であり、不活性で、目的とする反応を妨げない溶媒であればいずれも使用できる。例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセテート、Nメチルピロリドンなどの非プロトン性極性有機溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、THF、TBME、CPME、ジオキサンなどのエーテル;ペンタン、へキサン、ヘプタン、石油エーテルなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラリンなどの芳香族炭化水素、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチルなどの低級脂肪酸エステル;アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルなどのニトリルが使用できる。これらの溶媒は、反応の起こり易さなどを考慮して適宜選択することができ、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。また場合によっては、上記溶媒は、適当な脱水剤や乾燥剤を用いて水を含有しない溶媒として用いることもできる。上記の還元反応をより効果的に進行させるため、活性炭の共存下で反応を実施することもできる。この場合に使用する活性炭の量は特に限定されないが、式5で表わされる化合物に対して1~20重量、より好ましくは1~10重量である。さらに、反応をより効果的に進行させるため、加圧下で反応を実施することもできる。この場合、ベンゼン核の還元を避けるため、好ましくは20気圧kgf程度の加圧範囲、より好ましくは10気圧までの範囲で反応を実施する。反応温度は、好ましくは、-100°C以上から使用する反応溶媒の沸点の温度までの温度範囲を選ぶことができるが、より好ましくは、-50~150°C、特に好ましくは0~80°Cである。反応時間は、0.1~1000時間、より好ましくは1~200時間である。上記反応式4により得られた式6で表わされる化合物は、蒸留、再結晶、又はシリカゲルなどのカラムクロマトグラフィーなどで精製するのが好ましい。このようにして製造される式6で表わされる化合物の好ましい例は、R2が水素原子またはCH2COOt-Buで表わされる化合物である。以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、これらの実施例によって本発明の解釈が限定されるものではない。なお、実施例にて採用した分析装置及び分析条件は、下記のとおりである。1HNMR及び13CNMR;装置:VarianNMRSystem400NB測定溶媒:CDCl3DMSOd6基準物質:テトラメチルシランTMSCDCl3実施例1反応式1の例グリシンtertブチルエステル塩酸塩9のトルエン462mL懸濁液を60°Cに保ち、トリエチルアミン651g643mmolを加え、05時間撹拌した。次に、二炭酸ジtertブチル100g459mmolのトルエン116mL溶液を反応混合液に滴下し、6時間反応させた。次いで、水30mLを加えた後、有機層を分離した。その後、有機層から溶媒を留去し、nヘキサンで再結晶を行い、NBocグリシンtertブチルエステル10を得た106g459mmol100収率。生成物の構造は、1HNMR分析にて確認した。1HNMRδ498379152140実施例2反応式1の例グリシンtertブチルエステル塩酸塩9のトルエン10L懸濁液を10°Cに保ち、トリエチルアミン09113Kg9006molを加え、1時間撹拌した。次に、二炭酸ジtertブチル1474Kg6754molを反応混合液に滴下し、3時間反応させた。次いで、水5Lを加えて反応を停止させた後、有機層を分離した。その後、有機層から溶媒を留去させ、目的のNBocグリシンtertブチルエステル10を得た。得られたNBocグリシンtertブチルエステル10を1HNMR分析で確認したところ、上述の実施例1において得られたNBocグリシンtertブチルエステルの1HNMRと完全に一致した。実施例3反応式2の例NBocグリシンtertブチルエステル10のトルエン550mL溶液に、tertブトキシカリウム8005g07134molのTHF懸濁液を室温で滴下し、その混合液を10分間室温で撹拌した。次に、得られた反応混合液を氷冷し、ヨウ化テトラnブチルアンモニウム7186g001946molとプロパルギルブロミド8486g07134molのトルエン200mL溶液を、この順番で反応混合液に加えた。得られた反応混合物を室温で3時間撹拌した後、8重量の塩化アンモニウム水溶液500mLを加えて反応を停止させ、有機層を分離した。その後、有機層から溶媒を留去して、目的の末端アセチレン化合物11を得た1534g05695mol88収率。生成物である末端アセチレン化合物11の構造は、1HNMR分析にて確認した。1HNMRδ420410400390223150140実施例4反応式2の例水素化ナトリウム55重量ミネラルオイル分散、08490g1946mmol使用前に10mLのヘキサンで洗浄し、ミネラルオイルを除去した。のDMF懸濁液を氷冷し、この溶液にNBocグリシンtertブチルエステル10のDMF溶液をゆっくり滴下した。得られた反応混合液を室温で1時間撹拌した後、同温度にてプロパルギルブロミド1697g1427mmolのDMF溶液を反応混合液に加えた。反応混合液を室温に保ち、18時間反応させた後、氷冷下で水60mLを加え反応を停止させた。次いで、ヘキサン50mLを加え、分液して有機層を分離し、水層はヘキサン50mLで2回抽出した。得られた有機層をまとめて飽和食塩水50mLで洗浄し、有機層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ取し、得られた有機層から溶媒を留去すると、目的の化合物11が得られた2605g9672mmol75収率。得られた化合物の構造を1HNMR分析で確認したところ、上記の実施例3において、tBuOKを使用して得られた化合物11の1HNMRと完全に一致した。実施例5反応式3の例2ヨード4ニトロアニリン12、ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド2970g0004231mol及びヨウ化銅のTHF懸濁液に、室温でジエチルアミン3713g05077molと末端アセチレン11のTHF溶液を、この順番で添加した。次いで、この反応混合液を40°Cに昇温して24時間撹拌した。反応を停止させるため、反応混合液を水3850mLに注ぐと目的物は結晶化したが、さらにそのまま3時間撹拌した。得られた反応混合液から目的物をろ取し、乾燥させ粗物を得た。得られた粗物はトルエンを使って再結晶を行い、目的とするニトロ体13を得た1446g03566mol84収率。ニトロ化合物13の構造は1HNMR分析にて確認した。1HNMRδ816799662515445432404388155140実施例6反応式3の例2ヨード4ニトロアニリン12、ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド996mg0142mmol及びヨウ化銅の酢酸エチルの懸濁液に、室温でジエチルアミン104g142mmolと末端アセチレン11のトルエン溶液を、この順番で添加した。次いで、この反応混合液を50°Cに昇温して6時間撹拌した。得られた反応混合液に活性炭0750gを加え、50°Cで活性炭と反応残渣をろ過除去し、ろ液に水225mLを加え、有機相を分離した。次に、有機相の溶媒を減圧留去し、得られた粗物にトルエン462mL、活性炭115gを加え、80°Cを超えない温度で活性炭をろ過除去し、ろ液から目的物を再結晶してニトロ体13を得た103g252mmol89収率。ニトロ化合物13の構造は1HNMR分析にて確認したところ、上述の実施例5において得られたニトロ化合物13の1HNMRと完全に一致した。実施例7反応式3の例2ヨード4ニトロアニリン12、ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド213mg0304mmol及びヨウ化銅のトルエンの懸濁液に、室温でジエチルアミン111g152mmolと末端アセチレン11のトルエン溶液を、この順番で添加した。次いで、この反応混合液を40°Cに昇温して1時間撹拌した。得られた反応混合液に酢酸エチル534mL及び活性炭0803gを加え、50°Cで活性炭と反応残渣をろ過除去し、ろ液に水241mLを加え、有機相を分離した。次に、有機相の溶媒を減圧留去し、得られた粗物にトルエン356mL、活性炭123gを加え、100°Cで活性炭をろ過除去し、ろ液から目的物を再結晶してニトロ体13を得た102g252mmol83収率。ニトロ化合物13の構造は1HNMR分析にて確認したところ、上述の実施例5において得られたニトロ化合物13の1HNMRと完全に一致した。実施例8反応式3の例2ヨード4ニトロアニリン12、ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド133mg0189mmol及びヨウ化銅のトルエン76mL懸濁液に、室温でジnブチルアミン293g227mmolと末端アセチレン11のトルエン溶液を、この順番で添加した。次いで、この反応混合液を40°Cに昇温して27時間撹拌した。得られた反応混合液に酢酸エチル333mL及び活性炭0500gを加え、50°Cで活性炭と反応残渣をろ過除去し、ろ液に水150mLを加え、有機相を分離した。次に、有機相の溶媒を減圧留去し、得られた粗物にトルエン208mL、活性炭0766gを加え、100°Cで活性炭をろ過除去し、ろ液から目的物を再結晶してニトロ体13を得た548g135mmol72収率。ニトロ化合物13の構造は1HNMR分析にて確認したところ、上述の実施例5において得られたニトロ化合物13の1HNMRと完全に一致した。実施例9反応式1~3の例グリシンtertブチルエステル塩酸塩9のトルエン462mL懸濁液を20°Cに保ち、トリエチルアミン6680g6601mmolを加え、1時間撹拌した。次に、二炭酸ジtertブチル1001g4586mmolのトルエン116mL溶液を反応混合液に滴下し、5時間反応させた。反応終了を確認し、水40mLを加えた後、有機層を分離した。その後、有機層から溶媒を一部留去させ、目的のNBocグリシンtertブチルエステル10を含むトルエン溶液を得た。次に、上記で得られたNBocグリシンtertブチルエステル10のトルエン溶液に、tertブトキシカリウム5490g4893molのテトラヒドロフラン267mL懸濁液を室温で滴下し、その混合液を10分間室温で撹拌した。この反応混合液を氷冷し、ヨウ化テトラnブチルアンモニウム04864g1317mmolとプロパルギルブロミド5820g4895mmolのトルエン100mL溶液を、この順番で反応混合液に加えた。反応混合物を室温で3時間撹拌した後、13重量の塩化アンモニウム水溶液237mLを加えて反応を停止させ、有機層を分離した。その後、有機層から溶媒を一部留去して、目的の末端アセチレン化合物11を含むトルエン溶液を得た3271g。2ヨード4ニトロアニリン12、ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド900mg0130mmol及びヨウ化銅の酢酸エチル455mLの懸濁液に、室温でジエチルアミン947g129mmolと上記で得られた末端アセチレン11のトルエン溶液を、この順番で添加した。次いで、この反応混合液を50°Cに昇温して6時間撹拌した。この反応混合液に活性炭068gを加え、50°Cで活性炭と反応残渣をろ過除去し、ろ液に水205mLを加え、有機相を分離した。有機相の溶媒を減圧留去し、得られた粗製物にトルエン425mL、活性炭105gを加え、80°Cを超えない温度で活性炭をろ過除去し、ろ液から目的物を再結晶してニトロ体13を得た786g194mmol75収率。ニトロ化合物13の構造は1HNMR分析にて確認したところ、上述の実施例5において得られたニトロ化合物13の1HNMRと完全に一致した。実施例10反応式4の例:ニトロ化合物13のトルエン1500L懸濁液に5パラジウム-活性炭1440gを加えた。この反応混合液を水素雰囲気にした後、50°Cで48時間反応させた。反応終了後、反応混合液中の触媒をろ過除去し、得られたろ液から溶媒を留去させ、粗物を得た。得られた粗物をTHFに溶解させ、活性炭1309gを加え室温で1時間撹拌した。その後、活性炭をろ過除去し、ろ液から溶媒を留去してジアミン14の精製品を得た1298g03420mol96収率。ジアミン14の構造は1HNMRにより確認した。1HNMRδ654642351345338330251244184176148144実施例11反応式4の例ニトロ化合物13のトルエン185mL懸濁液に活性炭02006g、5パラジウム-活性炭02000gを加えた。この反応混合液を05MPaの水素雰囲気にした後、50°Cで10分反応させた。反応終了後、反応混合液中の活性炭、触媒をろ過除去し、得られたろ液から溶媒を留去させ、ジアミン14を得た1790g4717mol97収率。得られたジアミン化合物の構造を1HNMR分析で確認したところ、上述の実施例10において得られたジアミン化合物14の1HNMRと完全に一致した。実施例12反応式2の例:tertブトキシカリウム3153g2810mmolのトルエン100mL懸濁液に室温でNBocグリシンtertブチルエステル10のトルエン200mL溶液を滴下し、30分間撹拌した。次いで、反応混合液にヨウ化テトラnブチルアンモニウム7985g2162mmolとアリルブロミド2877g2378mmolのトルエン200mL溶液を、この順番で加えた。得られた反応混合液を室温で2時間撹拌した後、水300mLを加えて反応を停止させ、トルエン100mLと水200mLを更に加えて分液した。分離した水層はトルエン200mLで抽出し、有機層をまとめ、飽和食塩水200mLで洗浄し、有機層を分離後、硫酸マグネシウムで乾燥した。その後、硫酸マグネシウムをろ取した後、得られた有機層の溶媒を留去して、目的物15を得た5762g2123mmol98収率。目的物15の構造は1HNMRにより確認した。1HNMRδ584573520508395371155138実施例13反応式3の例末端オレフィン化合物15と2ヨード4ニトロアニリン12のNNジメチルアセタミドDMAcの混合溶液に、室温で酢酸ナトリウム2015g2457mmolと酢酸パラジウム002758g01228mmolを加え、110°Cで3時間反応させたヘック反応。得られた反応混合液はセライトを用いてろ過し、得られたろ液に酢酸エチル60mLと水60mLを加えて分液した。分離した水層は、さらに酢酸エチル60mLで抽出し、有機層をまとめ、水60mLで洗浄し、その後、有機層を分離した。次いで、有機層の溶媒を留去し、粗物を得た。得られた粗物はトルエンで再結晶を行い、目的のニトロ化合物16を得た3093g7591mmol62収率。ニトロ化合物16の構造は1HNMR分析にて確認した。1HNMRδ810796661653618472460412402394388155139実施例14反応式4の例ニトロ化合物16のトルエン37mL懸濁液に5パラジウム-活性炭03767gを加えた。この反応混合液を水素雰囲気にした後、50°Cで7時間反応させた。反応終了後、反応混合液中の触媒はセライトを用いてろ過除去し、得られたろ液から溶媒を留去させ、粗物を得た。得られた粗物をTHFに溶解させ、活性炭035gを加え室温で30分間撹拌した。次いで、活性炭をろ過除去し、ろ液から溶媒を留去して、ジアミン化合物14の精製物を得た3477g9162mmol99収率。得られたジアミン化合物の構造を1HNMR分析で確認したところ、上述の実施例10において得られたジアミン化合物14の1HNMRと完全に一致した。実施例15反応式1の例ベンジルアミン17のトルエン780mL溶液に室温で二炭酸ジtertブチル2179g09986molを滴下し、1時間反応させた。その後、水300mLを加えて反応を停止させた後、トルエン60mLをさらに加えて有機層を分離し、溶媒を留去させて目的物の粗製物を得た。次いで、得られた粗製物をヘキサンで再結晶を行い、目的のNBocベンジルアミン18を得た。化合物18の構造は1HNMR分析にて確認した。1HNMRδ735723488431146実施例16反応式2の例tertブトキシカリウム1450g1292mmolのトルエン80mL懸濁液に、室温でNBocベンジルアミン18のトルエン40mL溶液を滴下し、60°Cに昇温後に2時間撹拌した。次いで、反応混合液を氷浴につけて冷却し、ヨウ化テトラnブチルアンモニウム1836g4969mmolとプロパルギルブロミド1301g1093mmolのトルエン80mL溶液を、この順番で反応混合液に加えた。その後、室温で4時間撹拌させ、水100mLを加えて反応を停止した。その後、有機層と水層とを分離し、水層は酢酸エチル50mLでさらに抽出して分離し、有機層をまとめ、飽和食塩水30mLで洗浄後に有機層を分離した。溶媒を留去して目的物19を得た2286g9318mmol94収率。目的物19の構造は1HNMR分析にて確認した。1HNMRδ735723456410382221158139実施例17反応式3の例2ヨード4ニトロアニリン12、ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド003985g005678mmol及びヨウ化銅のTHF懸濁液に、室温でジエチルアミン04983g6813mmolと末端アセチレン化合物19のTHF溶液をこの順番で添加した。その後、40°Cに昇温して6時間撹拌した。得られた反応混合液に水10mLと酢酸エチル10mLを加えて反応を停止させた。次いで、その反応混合液は、セライトを用いてろ過した。得られたろ液から有機層を分離し、溶媒を留去して粗物を得た。次いで、粗物はトルエンとヘキサンを使って再結晶を行い、目的物20を得た1807g4737mmol83収率。目的物20の構造は1HNMR分析にて確認した。1HNMRδ811800740723663510467459425151