非回転部材と、回転部材と、両部材間に配された転動体とを備え、高温環境下で重力方向を回転軸として回転する回転支持構造を有する成膜装置であって、前記回転軸と平行な方向において、前記転動体と前記非回転部材との間に第1内張部材を、前記転動体と前記回転部材との間に第2内張部材をそれぞれ配し、第1及び第2内張部材の前記転動体との接面は前記回転軸に垂直であることを特徴とする回転支持構造を有する成膜装置。第1及び/又は第2内張部材の前記転動体との接面とは異なる面の少なくとも一部が、前記回転支持構造の外部から見て曝露していることを特徴とする請求項1記載の回転支持構造を有する成膜装置。前記非回転部材及び第1内張部材がリング状であり、第1内張部材の内側面の少なくとも一部が前記非回転部材の内側から見て曝露していることを特徴とする請求項2記載の回転支持構造を有する成膜装置。前記回転部材及び第2内張部材がリング状であり、第2内張部材の内側面の少なくとも一部が前記回転部材の内側から見て曝露していることを特徴とする請求項2又は3記載の回転支持構造を有する成膜装置。第1及び/又は第2内張部材の外側面の少なくとも一部が前記回転支持構造の外側から見て曝露していることを特徴とする請求項2~4の何れかに記載の回転支持構造を有する成膜装置。第1及び/又は第2内張部材の前記転動体との接面とは反対面の一部が、前記回転支持構造の外部から見て曝露していることを特徴とする請求項2~5の何れかに記載の回転支持構造を有する成膜装置。第1及び/又は第2内張部材の前記転動体との接面とは反対面の一部が、前記非回転部材又は前記回転部材に形成された貫通穴を介して前記回転支持構造の外部から見て曝露していることを特徴とする請求項6記載の回転支持構造を有する成膜装置。近年、照明やフラットパネルディスプレイのバックライト分野のLED化が急速に進捗しており、これに使用される青色LEDの需要が拡大を続けている。その為、青色LEDの生産に用いられるMOCVD装置においても一台当たりの生産能力を拡大する為に使用するウエハサイズが大型化している。特許文献1では載置台をガス流により浮上回転させる方法が開示されているが、ガス流により浮上回転させる方法は、ガス流による載置台の冷却作用を考慮して加熱しなければならない点と、ウエハの回転数が管理できない問題がある。一方、特許文献2と特許文献3におけるベアリング、もしくは転動体と遊星ギヤを用いる方法は上記課題が無い為、これまで広く用いられてきた。しかしながら、近年の2~3インチから4インチを経て6インチ以上へというウエハの大型化によって、ウエハを載置する回転部材の重量増加が著しい。その結果、前記ベアリング、もしくは転動体、及びこれらが転動接触する転動面に加わる負荷が増大した為、前記ベアリング、もしくは転動体、及びこれらが転動接触する転動面の摩耗が急速に進行するという問題が発生している。MOCVD装置では載置台近傍は800°Cから1000°Cを越える温度となる為、耐熱性、加工性からグラファイトや窒化硼素系の材料が用いられるが、これらの材料は一般に脆く、摩耗しやすい。摩耗が進行すると回転抵抗が増加し、なめらかな回転が阻害される他、摩耗粉によるウエハ表面の汚染等の問題が発生する。さらに、摩耗の進行によって載置台の高さが徐々に低下することで成膜条件が刻々と変わっていく為、安定な生産ができないという深刻な問題も発生する。この摩耗問題を軽減する為には、転動体と転動体が接触する部材を耐熱且つ耐摩耗材料で作製すればよい。例えば、ガイド部材13や載置台5をすべてアルミナAl2O3で製作する方法が考えられる。もしくはすべてアルミナで構成されたベアリングを用いる方法も考えられる。しかしながら、アルミナは高硬度であり耐摩耗性を期待できる反面、加工性が悪く、大きくかつ複雑な形状に精度良く成形することが困難であり、高コストになるという問題がある。本発明は、単純な形状で必要最小限に抑えた耐摩耗性の良い材料を用い、成膜条件の安定化と低コスト化とを実現する回転支持構造を有する成膜装置を提供することを目的とする。上記目的を達成するために本発明は、非回転部材と、回転部材と、両部材間に配された転動体とを備え、高温環境下で重力方向を回転軸として回転する回転支持構造を有する成膜装置であって、前記回転軸と平行な方向において、前記転動体と前記非回転部材との間に第1内張部材を、前記転動体と前記回転部材との間に第2内張部材をそれぞれ配し、第1及び第2内張部材の前記転動体との接面は前記回転軸に垂直であることを特徴とする。上記の回転支持構造を有する成膜装置において、第1及び/又は第2内張部材の前記転動体との接面とは異なる面の少なくとも一部が、前記回転支持構造の外部から見て曝露していることが好ましい。また上記の回転支持構造を有する成膜装置において、前記非回転部材及び第1内張部材がリング状であり、第1内張部材の内側面の少なくとも一部が前記非回転部材の内側から見て曝露していることが好ましい。また上記の回転支持構造を有する成膜装置において、前記回転部材及び第2内張部材がリング状であり、第2内張部材の内側面の少なくとも一部が前記回転部材の内側から見て曝露していることが好ましい。また上記の回転支持構造を有する成膜装置において、第1及び/又は第2内張部材の外側面の少なくとも一部が前記回転支持構造の外側から見て曝露していることが好ましい。また上記の回転支持構造を有する成膜装置において、第1及び/又は第2内張部材の前記転動体との接面とは反対面の一部が、前記回転支持構造の外部から見て曝露していることが好ましい。また上記の回転支持構造を有する成膜装置において、第1及び/又は第2内張部材の前記転動体との接面とは反対面の一部が、前記非回転部材又は前記回転部材に形成された貫通穴を介して前記回転支持構造の外部から見て曝露していることが好ましい。本発明によると、転動体及び転動体が接触する最も大きな重力荷重負荷が加わる部分を限定的に耐摩耗性が良い材料を用いて作製された内張部材で保護できるので、ウエハ径が大きくなっても摩耗を抑制することができる。また、耐摩耗性が良い材料の使用量を必要最小限に抑えられると共に、内張部材は非常に単純な形状にでき、かつ十分な効果が得られる為、低コストで実現することができる。また、複数の転動体それぞれの内張部材と接触する2つの接触点を結ぶ直線は回転軸に平行になるので、転動体と内張部材とは主に転がり接触が発生することになる為、よりいっそう摩耗を抑制することができる。その結果、長期間にわたってなめらかな回転が維持されると共に、載置台の位置変化を抑制でき、かつ摩耗粉による汚染も防止できる。また、少なくとも一方の内張部材の、転動体及び転動体と接触する面とは異なる面の一部がガイド部材や載置台から外側もしくは内側、もしくは内張部材の転動体と接触する面に対し裏面となる側の少なくとも一部が回転支持構造体の外部から見て曝露されている為、内張部材と載置台とを一体的に取り扱いできるように保持、もしくは組み立て時に両者の嵌合状態を確認しながら組み立てができるようになり、組み立て性が大幅に改善される。以下、図面を参照しながら本発明を実施するための形態を、複数の形態について説明する。以下の説明においては、各形態に先行する形態ですでに説明している事項に対応している部分には同一の参照符号を付し、重複する説明を略する場合がある。構成の一部のみを説明している場合、構成の他の部分は、先行して説明している形態と同様とする。各実施形態で具体的に説明している部分の組み合わせ、寸法等に限るものではなく、特に支障が生じなければ、異なる組み合わせ、寸法であってもよい。また実施形態は、本発明に係る技術を具体化するために例示するものであり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。本発明に係る技術内容は、特許請求の範囲に記載された技術的範囲内において、種々の変更を加えることが可能である。第1実施形態図1は第1実施形態のMOCVD装置の側面断面図である。MOCVD装置成膜装置1は、反応室2を有し、反応室2の内部には重力方向を回転軸方向として回転する回転台4を備える。回転台4の上側にはガイド部材非回転部材13と自転リング回転部材14とを含み、回転台4と同様に重力方向を回転軸方向として回転しうる回転支持構造15が複数配置され、それぞれの自転リング14には載置台5が配置されている。載置台5の上面には被処理ウエハとしてのウエハ3が設置される。装置によっては載置台5の上面にウエハ3を直接置かずに、石英や窒化硼素、炭化珪素、グラファイト等で作られたウエハホルダーを使用する場合もある。ウエハ3としては、たとえばSi、GaAsやInP、GaN、サファイア等が使用される。回転台4の下側には加熱手段としてのヒーター8が配置されている。回転台4には回転台4に接続された回転軸6が通っている。回転軸6の下端にはモーター7が設けられている。また、図示しない回転駆動手段によって自転リング14側面に駆動力を加えることで回転駆動可能に構成されている。反応室2の上部上側面には配管9が接続されており、この配管9の装置内部側の先端はガス吹き出し口10となっており、回転台4の回転軸上から回転台4表面に沿って放射状に、原料ガス11が結晶膜の原料としてウエハ3表面に供給される。一方、配管9の装置外部側の他端には図示しないガス供給装置が接続されている。原料ガス11は、載置台5上に載せられ、かつヒーター8によって加熱されたウエハ3上を通過後、下流側に設けられた排気経路12より排気される。その結果、ウエハ3上近傍で所望の化学反応が行われることによってウエハ3上に所望の成膜処理が実行される。次に、図2を用いてガイド部材13と自転リング14とで構成される回転支持構造15の詳細を説明する。図2はMOCVD装置1の回転支持構造の側面断面図である。ガイド部材13と自転リング14それぞれにはアルミナAl2O3製の球体である転動体16が配置される為の溝様形状部が形成されている。ガイド部材13に設けられた溝様形状部にはリング状に形成された内張部材第1内張部材としてアルミナ製の第1レール17がはめ込まれている。一方、自転リング14に設けられた溝様形状部にもリング状に形成された内張部材第2内張部材としてアルミナ製の第2レール18がはめ込まれている。ガイド部材13と自転リング14を、両者の第1レール17と第2レール18とで複数個の転動体16を挟むように重ね合わせて回転支持構造15が構成される。つまり回転支持構造15は、ガイド部材13と第1レール17と転動体16と第2レール18と自転リング14とがこの順序で自転リング14の自転軸方向に平行に配置されている。第1レール17及び第2レール18の転動体16とのそれぞれの接面は自転リング14の自転軸方向に垂直に形成されているので、第1レール17及び第2レール18は研削加工によって容易に精度良く製作することができる。また、第1レール17の転動体16との接面及び第2レール18の転動体16との接面は、自転リング14の自転軸方向に垂直に形成されており、かつ自転リング14の自転軸方向は重力方向と一致しているので、自転リング14及び載置台5及びウエハ3の重量による荷重は第1レール17及び第2レール18の転動体16との接面に垂直に作用する。つまり、複数個の転動体16個々の荷重は、重力方向にほぼ一直線に並んだ第1レール17と転動体16との第1接触点19と、第2レール18と転動体16との第2接触点20とで支持されることとなる。その結果、第1レール17表面と転動体16表面との相対速度は第2レール18と転動体16との相対速度とほぼ一致するので、どちらの接触点においても主に転がり接触が発生し、滑り接触がほとんど発生しない。つまり、荷重のほとんどを構成する重力成分を転がり接触で支持する構成となっているので、第1及び第2レール17、18と転動体16の摩耗消耗を最小限にすることができる。また、前記第2レール18はその内径側内側面21が自転リング14の内側から見て曝露露出されている。上記の回転支持構造15の組み立ては以下の手順で実施する。まずガイド部材13を平らな台の上に静置し、ガイド部材13に設けられた溝様形状部に第1レール17を載置する。次に、第1レール17の上に複数個の転動体16を並べる。一方、別途自転リング14と第2レール18を嵌合させ、両者の位置関係が変化しないように自転リング14の内側から見て曝露されている第2レール18の内径側21と自転リング14とを保持しつつ、転動体16の上に載置する。その結果、回転支持構造15が完成する。第2レール18はその内径側21が自転リング14の内側から見て曝露されている為、作業者は両者を手もしくは治具で同時に把持することができるので、回転支持構造15を容易に組み立てることができる。仮に第2レール18の内径側21が自転リング14の内側から見て曝露されていない場合、自転リング14と第2レール18を嵌合させた転動体16の上に自転リング14と第2レール18を嵌合させたものを第2レール18を下向きに載置しようとした段階で、曝露されておらず把持できない第2レール18は重力によって自転リング14との嵌合が解除されてしまい、容易には組み立てることができない。自転リング14と第2レール18を接着する方法は、本回転支持構造15が非常に高温の環境化載置台近傍は800°Cから1000°Cを越える温度となるで使用されることから適切な接着方法が無い為、実現不可能である。なお、本実施形態では第2レール18の内径側21が自転リング14の内側から見てすべて曝露されている構成としているが、すべて曝露されている必要は無く、その一部が曝露されているだけでもよい。望ましくは、曝露部分は第2レール18の中心を囲んだ2カ所か、若しくは3カ所以上あるとよい。曝露についても第2レール18の内径側が自転リング14の内側から突出している必要はなく、例えば図3に示すように、自転リング141の内側から第2レール181の内側面に向かって、自転リング141の数カ所に貫通穴22が設けられているだけでもよい。この場合、作業者は真空吸着保持治具を使用してこの貫通穴22を介して、第2レール181を吸着することができ、結果として自転リング141と第2レール181を同時に把持することができるので、回転支持構造151を容易に組み立てることができる。もちろん作業者が使用する治具は真空吸着保持治具に限らず貫通穴22を通して第2レール18を保持できるものであれば何でもよい。なお、本実施形態では第2レール18、181の内径側が自転リング14、141の内側から見て曝露されている構成としているが、逆に第1レール17の内径側がガイド部材13の内側から見て曝露されている構成であってもよい。この場合、ガイド部材13はリング状であることが望ましく、かつ組み立て作業時は自転リング14を上下逆さまにして平らな台の上に静置し、自転リング14に設けられた溝に設けられた凹部にアルミナ製の第2レール18を嵌合させ、その上に複数個のアルミナ製の球体である転動体16を並べ、更にその上にガイド部材13と第1レール17を嵌合させ、両者の位置関係が変化しないようにガイド部材13の内側から見て曝露されている第1レール17の内径側とガイド部材13とを保持しつつ、前記転動体16の上に載置した後、組み上がった回転支持構造15をその構成が変化しないように保持しつつ上下を正しい向きにひっくり返すことで組み立てを行うことができる。なお、本実施形態では転動体16、第1レール17、第2レール18、181はアルミナで作製したが、窒化珪素やモリブデン等、耐熱性、耐摩耗性のよい他の材料でもよい。例えば、転動体16はアルミナ、第1レール17、第2レール18、181はモリブデンといった組み合わせであってもよい。第2実施形態図4は第2実施形態の回転支持構造の側面断面図である。本実施形態は、第1実施形態に対し、第2レール18の外径側外側面23の少なくとも一部が自転リング142の外側から見て曝露露出されている構成である。第1実施形態と同様に、ガイド部材13と自転リング142とで構成される回転支持構造152を組み立てる際に、第2レール182はその外径側23が自転リング142の外側から見て曝露されている為、作業者は両者を手もしくは治具で同時に把持することができるので、回転支持構造152を容易に組み立てることができる。なお、第1実施形態と同様に、逆に第1レール17の外径側がガイド部材13の外側から見て曝露されている構成であってもよい。その他の構成についても第1実施形態と同様である。第3実施形態図5は第3実施形態の回転支持構造の側面断面図である。本実施形態は、第1実施形態及び第2実施形態に対し、第2レール183の転動体16との接面とは反対面24の少なくとも一部が、自転リング143に形成された貫通穴22を介して回転支持構造153の外部から見て曝露露出している構成である。換言すれば、第2レール183の転動体16との接面に対し裏面となる側24以下裏面側24と呼称の少なくとも一部が、回転支持構造15を裏面側24から見て曝露露出されている構成である。ガイド部材13と自転リング143とで構成される回転支持構造153を組み立てる際に、裏面側24の一部が、自転リング143の上面側から見て曝露されている。具体的には、自転リング14の上面側から第2レール18に向かって貫通穴22が設けられている。作業者は真空吸着保持治具を使用して貫通穴22を介して、第2レール183を吸着することができ、結果として自転リング143と第2レール183を同時に把持することができるので、回転支持構造153を容易に組み立てることができる。なお、作業者が使用する治具は真空吸着保持治具に限るものではなく、貫通穴22を通して第2レール183を保持できるものであれば何でもよい。また、第1実施形態と同様に、逆に第1レール17の転動体16との接面とは反対面の一部が、ガイド部材13に形成された貫通穴を介して回転支持構造の外部から見て曝露している構成であってもよい。換言すれば、第1実施形態と同様に、逆に第1レール17の転動体16との接面に対し裏面となる側の一部がガイド部材13の外側から見て曝露されている構成であってもよい。その他の構成についても第1実施形態と同様である。