変形可能なリングキャリア2を備え、ならびに連続した第1密封リング3aおよび第2密封リング3bを備えた、ピストンコンプレッサのための密封装置1であって、前記リングキャリア2はその周方向に対して垂直に延びている長手軸Lを有し、前記リングキャリア2はその周方向にクリアランスを有する間隙2iを有し、前記密封リング3a、3bは、その周方向に対して垂直に延びた長手軸3c、3dを有し、前記密封リング3a、3bは、外側から前記リングキャリア2によって包囲されるように配置されており、前記2つの密封リング3a、3bは前記長手軸Lの範囲の方向に隣り合って配置されており、前記リングキャリア2ならびに前記密封リング3a、3bは、前記第1密封リング3aが片側において前記リングキャリア2の第1側壁2dと接触して、前記リングキャリア2に向かう第1間隙S1を、前記第1密封リング3aの長手軸3cに対して反対の側に形成するように相互適合的に設計されており、前記第2密封リング3bは鏡像対称的に片側において前記リングキャリア2の第2側壁2lと接触し、前記リングキャリア2に向かう第2間隙S2を、前記第2密封リング3bの前記長手軸3dに対して反対側に形成し、前記第1および第2側壁2d、2lは前記長手軸Lに対して対向的に配置されており、これにより、前記リングキャリア2が、前記第1または第2側壁2d、2lのそれぞれを介して各々の予負荷力5a、5bを前記第1または第2密封リング3a、3bにそれぞれ加えることができ、前記予負荷力5a、5bは対向的に延びる、密封装置1。前記第1および第2密封リング3a、3bは、前記長手軸Lの範囲の方向に直接隣り合って配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の密封装置1。前記リングキャリア2は、前記長手軸Lの範囲方向における前記第1および第2密封リング3a、3bの間に中間ウェブ2kを有することを特徴とする、請求項1に記載の密封装置1。前記中間ウェブ2kは、前記第1および第2密封リング3a、3bの内径Rと実質的に一致する内径を有することを特徴とする、請求項3に記載の密封装置1。前記第1および第2密封リング3a、3bのうちの少なくとも一つは、全周に沿って同一の幅3kを有し、前記リングキャリア2は、前記第1および第2間隙S1、S2のうちの少なくとも一つの範囲内で前記第1および第2密封リング3a、3bのうちの少なくとも一つに対して離間した第1および第2側壁2e、2mのうちの少なくとも一つを有することを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載の密封装置1。前記第1接触側壁2dおよび第1の離間した側壁2eは共に円形または楕円形状に延びており、前記第2接触側壁2lおよび第2の離間した側壁2mは共に円形または楕円形状に延びており、前記第1および第2密封リング3a、3bのうちの少なくとも一つは、前記第1密封リング3aと前記第1の離間した側壁2eとの間に前記第1間隙S1が形成されるように、周方向に可変幅3kを有し、前記第2間隙S2は前記第2密封リング3bと前記第2の離間した壁2mの間に形成されることを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載の密封装置1。第1中心Z1ならびに曲率半径R2は前記第1接触側壁2dの半円範囲を画定し、第2中心Z2ならびに曲率半径R3は、第1の離間した側壁2eの半円範囲を画定し、前記第1および第2中心Z1、Z2は相互に離間していることを特徴とする、請求項5または6のいずれか一項に記載の密封装置1。前記2つの曲率半径R2、R3は同一であることを特徴とする、請求項7に記載の密封装置1。前記第1および第2中心Z1、Z2の間の距離は0.1~10mmの範囲内にあることを特徴とする、請求項7または8のいずれか一項に記載の密封装置1。前記第1および第2間隙S1、S2のうちの少なくとも一つは0.1~10mmの範囲内の最大幅を有することを特徴とする、請求項1~9のいずれか一項に記載の密封装置1。前記密封リング3a、3bは摩耗可能な材料から構成され、この材料は特に、青銅、ねずみ鋳鉄、または焼結鉄のような金属、あるいはPEEK、中実のPTFEのようなプラスチック、PEEK、PI、またはエポキシのような高温ポリマーであることを特徴とする、請求項1~10のいずれか一項に記載の密封装置1。前記第1および第2の接触している側壁2d、2lのうちの少なくとも一つは180度または約180度の角度にわたって延びており、前記第1および第2間隙S1、L2のうちの少なくとも一つは180度または約180度の角度にわたって延びていることを特徴とする、請求項1~11のいずれか一項に記載の密封装置1。前記密封リング3a、3bは、前記ピストンロッド6の外側半径よりも大きいまたはこれと等しい内側半径Rを有することを特徴とする、請求項1~12のいずれか一項に記載の密封装置1。前記クランプリング4は、前記リングキャリア2を外側から、周方向に包囲することを特徴とする、請求項1~13のいずれか一項に記載の密封装置1。前記リングキャリア2は特に、鋼鉄、ステンレス鋼、青銅、またはねずみ鋳鉄といった金属、特にPEEK、中実のPTFEといったプラスチック、あるいは、PEEK、PI、またはエポキシのような高温ポリマーから構成されることを特徴とする、請求項1~14のいずれか一項に記載の密封装置1。前記第1密封リング3aおよび前記第2密封リング3bのうちの少なくとも一つの前記リングキャリア2に対する回転を阻止するように設計された回転防止部10を含むことを特徴とする、請求項1~15のいずれか一項に記載の密封装置1。前記回転防止部10は、前記半径方向へ突出して、前記リングキャリア2の前記間隙2i内への配置が可能なノーズ部31を含むことを特徴とする、請求項16に記載の密封装置1。前記回転防止部10は、ピン10aと、前記リングキャリア2内のボア10bと、前記第1密封リング3aおよび前記第2密封リング3bのうちの少なくとも一つ内のボア10cとを含み、前記ボア10b、10c内に導入された前記ピン10は、前記リングキャリア2の、前記第1密封リング3aおよび前記第2密封リング3bのうちの少なくとも一つに対する相互回転を阻止するように設計されていることを特徴とする、請求項16に記載の密封装置1。前記第1および第2密封リング3a、3bのうちの少なくとも一つは、前記リングキャリア2を超えて前記長手軸Lの方向へ突出することを特徴とする、請求項1~18のいずれか一項に記載の密封装置1。変形可能なリングキャリア2ならびに連続した第1密封リング3aを備えた、ピストンコンプレッサのための密封装置1であって、前記リングキャリア2は、その周方向に対し垂直に延びた長手軸Lを有し、前記リングキャリア2は、その周方向にクリアランスを有する間隙2iを有し、前記リングキャリア2はL字型設計であり、側部2nが前記長手軸Lに対して垂直に延び、包囲部2mが前記長手軸Lの方向へ延びており、前記第1密封リング3aはその周方向に対して垂直に延びた長手軸3cを有し、前記第1密封リング3aは、前記包囲部2mが前記第1密封リング3aを外側から包囲できるように、前記リングキャリア2内に配置され、前記第1密封リング3aは、前記側部2nの隣に配置され、前記長手軸Lの範囲方向においてこれと接触しており、前記リングキャリア2および前記第1密封リング3aは、ピストンロッド6に接触した際に、前記第1密封リング3aが片側において前記リングキャリア2の第1側壁2dと接触し、前記第1密封リング3aの前記長手軸3cに対して反対の側において前記リングキャリア2に向かう第1間隙S1を形成するように相互適合的に設計されており、前記リングキャリア2は、前記長手軸Lに対して前記第1側壁2dとは反対側に配置された第2側壁2eを有しており、これにより前記リングキャリア2が前記第1側壁2dを介して前記第1密封リング3aに前記長手軸Lへ向いた予負荷力5aをかけることができ、また、クランプリング4が前記周方向において前記リングキャリア2を外側から包囲することができる、密封装置1。前記側部2nは、前記長手軸Lに向かって円形状に延びており、第1中心Z1および曲率半径R4を有する密封面2cを有し、前記第2側壁2eは、半円形状に延び、第2中心Z2および曲率半径R3を有するように設計されており、前記曲率半径R3は曲率半径R4よりも大きく、前記第1および第2中心Z1、Z2は相互に離間していることを特徴とする、請求項20に記載の密封装置1。前記第1側壁2dは、第1中心Z1および曲率半径R2を伴った半円形範囲を有することを特徴とする、請求項21に記載の密封装置。前記第1および第2側壁2d、2eは同一の曲率半径R2、R3を有することを特徴とする、請求項21または22のいずれか一項に記載の密封装置。前記第1および第2中心Z1、Z2の間の距離は0.1~10mmの範囲内にあることを特徴とする、請求項21~23のいずれか一項に記載の密封装置1。前記第1間隙S1は0.1~10mmの範囲の最大幅を有することを特徴とする、請求項20~24のいずれか一項に記載の密封装置1。前記密封リング3aは摩耗可能な材料から構成され、この材料は、特に青銅、ねずみ鋳鉄、または焼結鉄のような金属、PEEK、中実のPTFEのようなプラスチック、あるいはPEEK、PI、またはエポキシのような高温ポリマーであることを特徴とする、請求項20~25のいずれか一項に記載の密封装置。前記第1側壁2dは180度または約180度の角度にわたって延びており、前記第1間隙S1は180度または約180度の角度にわたって延びていることを特徴とする、請求項20~26のいずれか一項に記載の密封装置1。前記密封リング3aは、ピストンロッド6の外側半径R5よりも大きいかまたはこれと等しい内側半径Rを有することを特徴とする、請求項20~27のいずれか一項に記載の密封装置1。前記リングキャリア2は特に、鋼鉄、ステンレス鋼、青銅、またはねずみ鋳鉄といった金属、特にPEEK、中実のPTFEといったプラスチック、あるいはPEEK、PI、またはエポキシのような高温ポリマーから構成されることを特徴とする、請求項20~28のいずれか一項に記載の密封装置1。本発明の目的は、より経済的に有利な密封装置を形成することである。この目的は、請求項1の特徴を有する密封装置によって達成される。従属請求項2~19はさらなる有利な実施形態を開示している。この目的は、請求項20の特徴を有する密封装置によってさらに達成される。従属請求項21~29はさらなる有利な実施形態を開示している。上記の目的は特に、変形可能なリングキャリアを備え、ならびに連続した第1および第2密封リングを備えた密封装置によって満たされ、リングキャリアはその周方向に対して垂直に延びている長手軸を有し、リングキャリアはその周方向にクリアランスを有する間隙を有し、密封リングの各々は、その周方向に対して垂直に延びた長手軸を有し、密封リングは、外側からリングキャリアによって包囲されるように配置されており、2つの密封リングは長手軸の範囲の方向に隣り合って配置されており、リングキャリアならびに密封リングは、第1密封リングが片側においてリングキャリアの第1側壁と接触し、リングキャリアに向かう第1間隙を第1密封リングの長手軸に対して反対側に形成するように相互適合的に設計されており、第2密封リングは鏡像対称的な片側においてリングキャリアの第2側壁と接触し、リングキャリアに向かう第2間隙を、第2密封リングの長手軸に対して反対側に形成し、第1および第2側壁は長手軸に対して対向的に配置されており、これにより、リングキャリアが、第1または第2側壁のそれぞれを介して各々の予負荷力を第1または第2密封リングにそれぞれ加えることができ、予負荷力は対向的に、特に切れ目の範囲方向において延びる。この目的は、特に、変形可能なリングキャリアならびに連続した第1密封リングを備えた、ピストンコンプレッサ用の密封装置によってさらに達成され、リングキャリアは、その周方向に対し垂直に延びた長手軸Lを有し、リングキャリアは、その周方向にクリアランスを有する間隙を有し、リングキャリアは、L字型設計であり、側部が長手軸に対して垂直に延び、包囲部が長手軸Lの方向へ延びており、第1密封リングはその周方向に対し垂直に延びた長手軸を有し、第1密封リングは、包囲部が第1密封リングを外側から包囲できるように、リングキャリア内に配置されており、第1密封リングは、側部の隣に配置され、長手軸の範囲方向においてこれと接触しており、リングキャリアおよび第1密封リングは、ピストンロッドに接触した際に、第1密封リングが片側においてリングキャリアの第1側壁と接触し、第1密封リングの長手軸に対し反対側にリングキャリアに向かう第1間隙を形成するように相互適合的に設計されており、リングキャリアは、長手軸Lに対し第1側壁とは反対側に配置された第2側壁を有しており、これによりリングキャリアが第1側壁を介して第1密封リングに長手軸Lへ向かう予負荷力をかけることができ、また、クランプリングが周方向においてリングキャリアを外側から包囲することができる。公知の密封装置の摩耗補正に必要なリング間隙は、圧力変化および圧力差によって生じた負荷の下では不安定であり、これにより、密封リングにおける、および密封装置全体における摩耗が増加することが認識された。本発明による密封装置は、実際の密封リングにリング間隙を一切設けておらず、密封リングが連続した密封リングとして設計されているという利点を有する。つまり、密封リングが360°にわたって延び、間隙またはリング間隙を一切設けず、むしろ360°の全円にわたって貫通様式に設計されている。そのため、本発明による、リング間隙のない密封リングを有する密封装置は、密封リングに伴う圧力変化および圧力差によって密封リングの不安定さが生じることがない、あるいはほんのわずかな不安定性が生じるので、従来の密封装置と比較して密封リングの摩耗が実質的に少なくなるという利点を有する。公知の摩擦密封装置に匹敵する密封効果を達成するために、本発明によるピストンコンプレッサのピストンロッドを密封するための密封装置では、2つの連続した密封リングを有し、この2つの密封リングはピストンロッドの範囲方向に隣り合って配列され、共通のリングキャリア内に保持されており、2つの密封リングならびにリングキャリアは、摩耗補正のために、2つの密封リングがリングキャリア内の反対方向へ変位可能に支持されるように相互適合的に設計されている。したがって本発明の密封装置によれば、作動中に摩耗して、リングキャリアが摩耗補正を実施できるように設計された2つの連続した密封リングを、擦り密封を行うために使用することが可能になる。好ましい実施形態では、リングキャリアは、2つの密封リングをこれらが対向する方向へ変位可能に支持される形で包囲するように設計されている。好ましい実施形態では、リングキャリアは円周方向に間隙を有しており、リングキャリアは変形可能な材料で形成され、また弾性的あるいは可塑的に変形可能に設計されているため、そのためリングキャリアはその直径を半径方向において変更でき、これにより2つの密封リングに力を加える、または変位させることが可能である。好ましい実施形態では、密封装置は、少なくとも無負荷状態で密封リングに力を加えるために、そしてこれにより無負荷状態で密封リングとピストンロッドの接触を確実に維持するために、リングキャリアの円周を包囲するコイルばねまたはクランプリングを含む。有利な実施形態では、リングキャリアはリング間隙を有しており、密封リングがリングキャリア内に配置され、さらに、2つの密封リングの変位方向がリング間隙の範囲の方向に対して直交的または垂直に整列できるよう、相互変位可能に保持されている。2つの密封リングが可動ピストンロッドと接触すること、ならびに2つの密封リングが対向する方向へ変位される、密封リングが摩耗するため必要である本発明の密封装置の摩擦補正によって、各々の密封リングは180度または約180度の角度にわたってピストンロッドと単に擦り接触するだけ、つまり、この角度に沿ってピストンロッドの円周と接触するだけになる。そのため、2つの密封リングの各々にて材料を非対称的に除去し、作動中または摩耗中に密封リングが互いに向かって移動できるようにする。特に有利な実施形態において、リングキャリアおよび2つの密封リングは、例えば偏心的にリングキャリアに工作した溝によって密封リングの可用な最大許容摩耗経路が制限されるように、相互適合的に設計されている。リングキャリアは最大許容摩耗経路の地点に到達し次第、反対方向に作用する力を密封リングに発しなくなる。また、密封リングが最大許容摩耗経路に達し次第、密封装置の密封機能は摩擦密封から間隙密封へ、好ましくは無接触の間隔密封へ変更される。本発明による密封装置はとりわけ、密封リングを連続的に設計する、つまり切り込みまたは間隙を設けずに設計することで、密封リングの剛性が高まり、密封リングにて係合する圧縮力によって起こる変形がより小規模になり、その結果、摩耗が減少するという利点を有している。さらに、従来公知の密封リングでは必要であった、摩耗補正を行うための弾性または可塑性の変形能力が密封リングには不要になる。これにより、摩耗の少ない密封装置が可能となる。本発明による密封装置では、2つの密封リングの摩耗方向はリングキャリアによって例えば密封リングを保持するための偏心的に設計された溝によって事前に画定されているため、密封装置に固定ピンによる回転防止部を有する必要がなくなり、これにより密封装置の設計を好都合かつ信頼性の高いものにすることが可能となる。さらなる有利な実施形態では、密封装置のリングキャリアは、2つの密封リングがリングキャリアによって軸方向に相互に離間した位置に保持されるように、すなわちリングキャリアが密封リング間に配置されたスペーサリングを有する形に構成されている。特に有利な実施形態では、スペーサリングは内側をピストンロッドに近接させるように、またはピストンロッドと接触し、同様に密封機能を発するように設計されている。スペーサリングがピストンロッドと接触すると、ピストンロッドに沿って擦り接触が生じ、つまり第1密封リングが180度の範囲でピストンロッドと接触し、次にスペーサリングがピストンロッドと擦り接触し、第2密封リングが180度の範囲でピストンロッドと接触する。この実施形態では、リングキャリアは密封リングの圧力解放機能を有している。さらに、密封リングがスペーサリングによって側方方向へ案内される。密封リングは、中実のPTFE、または特にドライランニング用に改良した混合ポリマーのようなドライランニング材料、あるいは、PEEKまたはPIのような高温ポリマー、ならびに特殊な焼結青銅から製造することが好ましい。オイルフリー式ピストンコンプレッサに使用するために、密封リングは、例えば中実プラスチックおよび合成物、あるいは鉛青銅またはスズ青銅のような金属を備えている。リングキャリアは、PEEKのようなプラスチックで製造されることが好ましい。リングキャリアにピストンロッドとの接触部分が設けられている場合は、好ましくはグラファイトやPTFEのような固体潤滑剤を含有した改良プラスチックが好適である。以降では、実施形態を参照しながら本発明を詳細に説明する。図1では密封装置1を平面図にて示し、図2では線A-Aに沿った断面図にて示す。この密封装置1は、弾性または可塑性の変形が可能なリングキャリア2と、リングキャリア2内部に配置された第1密封リング3aおよび第2密封リング3bとを備えている。連続した密封リングは、360°にわたって延びたリングである、つまり間隙もリング間隙箇所も設けていないリングであると理解される。リングキャリア2は、その周方向に対して垂直に延びた長手軸Lを有する。リングキャリア2はこれに加え、周方向にクリアランスTを有する間隙2iを有する。密封リング3a、3bは、周方向に対して垂直に延びた長手軸3c、3dをそれぞれ設けている。密封リング3a、3bは、図2に見られるように、2つの密封リング3a、3bが長手軸Lの範囲方向に直接隣り合って並び、これらの外側をリングキャリア2で囲む形で配置されている。リングキャリア2および密封リング3a、3bは新たな状態にある。この新たな状態とはつまり、リングキャリア2および密封リング3a、3bが、全く摩耗しない、またはほとんど摩耗しないように、またピストンロッド6と接触するべく相互に適合されて設計されており、これにより、第1密封リング3aがその片側においてリングキャリア2の第1側壁2dと接触し、第1密封リング3aの長手軸3cに対して反対の側に配置されたリングキャリア2へ向かう第1間隙S1が形成され、また、第2密封リング3bがその片側において、鏡像的に対称にリングキャリア2の第2側壁2lと接触し、第2密封リング3bの長手軸3dに対して反対側に配置されたリングキャリア2へ向かう第2間隙S2が形成され、リングキャリア2が第1側壁2dまたは第2側壁2lを介し第1密封リング3aまたは第2密封リング3bのそれぞれに予負荷力5a、5bをそれぞれ印加できる形で、第1側壁2dおよび第2側壁2lが長手軸Lに対して対向的に配置され、予負荷力5a、5bは、図2に示すセクションAの範囲方向内で互いに反対方向へ延びている。密封リング3a、3bが摩耗していないまたは摩耗が少量である場合、先述したリングキャリア2および2つの密封リング3a、3bの配置は上記の新たな状態に特に適用できる。この新たな状態では、密封リング3a、3bはピストンロッド6に沿った開始位置に配置されており、2つの密封リング3a、3bが好ましくはピストンロッド6と接触し、長手軸3c、3cが同一に延びることができるようになっている。図示の実施形態では、リングキャリア2はカットアウト部2fを有しており、このカットアウト部2fは内部にクランプリング4が配置され、またリングキャリア2を包囲している。リングキャリア2は、リングキャリア2に対するクランプリング4の回転を阻止するためにウェブ2hを有する。図1および図2に示す密封装置1は、間隙2iを有するリング型本体として設計されたリングキャリア2を示す。図1による図では、第2密封リング3bとこれを包囲するリングキャリア2を特に示しており、ここで、第2密封リング3bは内側半径Rと外側半径R1を有する。リングキャリア2はその内側に側壁を有する。この側壁は、クランプリング4がリングキャリア2に予負荷力を発する状態で、互いに反対方向へ作用する予負荷力5a、5bを第1密封リング3aまたは第2密封リング3b上にそれぞれかけるように設計されている。図1に示される図では、リングキャリア2は図中左手に示す内側に第2側壁2lを有し、この第2側壁2lは半円状に延び、中心Z1と半径R2を有する。さらに、リングキャリア2は図中右手に示す内側に第2の離間した側壁2mを有しており、この第2の離間した側壁2mは、半円状に延び、中心Z2および半径R3を有する。図示の実施形態では、半径R2とR3は同一である。2つの中心Z1とZ2は距離Zで相互に離間している。この距離Zはリングキャリア2の実施形態に応じて、あるいは密封リング3a、3bの最大許容摩耗に応じて、0.1~10mmの値を有することができる。図1に示される図では、裏面に配置された第1密封リング3aを保持するために、図1および図2に見られるように、リングキャリア2は、第2側壁2lに対して鏡像対称的に設計された第1側壁2d、第2の離間した側壁2m、第1の離間した側壁2eを有するため、第1側壁2dが半円設計となり、中心Z1および半径R2を有し、また、第1の離間した側壁2eが半円設計となり、中心Z3および半径R3を有する。ここでも、図示の実施形態において半径R2とR3は同一である。2つの中心Z1およびZ3もやはり、距離Zで相互に離間している。連続した密封リング3a、3bは内側半径Rを有する。図3は、中心軸3c、3dと、内側半径Rと、外側半径R1と、リング幅3kとを有する連続した密封リング3aまたは3bを平面図にて示す。図4は、幅3gを有する連続した密封リング3a、3bを側面図にて示す。図5は、間隙4aおよび間隙幅4bを有するクランプリング4を平面図にて示す。図6は、移動方向vへ可動で、長手軸Mを有するピストンロッド6を示す。これに加え図6は、密封装置1の左半分を部分縦断面図にて示す。この密封装置は、密封チャンバ7を有するチャンバリング8内に配置されており、ここでP1は高圧の側部を表し、P2は低圧の側部を表している。図6は図1および図2に示したものと類似の密封装置1を示す。図6の密封装置1も同様に新たな状態にある。この密封装置1の設計および動作については、図2を補足して既に説明している。図7は、例えば図6中の線B-Bに沿ったピストンロッド6の断面図を示すが、ここで密封リング3bはピストンロッド6に接触している新たな状態にある。ピストンロッド6の長手軸Mは、密封リング3bの中心軸3dと同一またはほぼ同一に延びている。密封リング3bの内側半径Rはピストンロッドの半径R5よりも長いか、またはこれと等しい。図8は、図7に示された図のものから特定の動作時間が経過した後の状態を示しており、この特定の動作時間中に密封リング3a、3bが摩耗を被る。第2密封リング3bに予負荷力3bが作用することで、図8の表示における第2密封リング3bの左側内面が摩耗する。この内面はピストンロッド6の表面と接触して、右側の、ピストンロッド6と第2密封リング3bの間に間隙S6を形成している。第1密封リング3aは、例えば第2密封リング3aに対して鏡像対称的に摩耗を受け、これにより、予負荷力5aの方向へ鏡像対称的な移動を実施して、ピストンロッド6と第1密封リング3aの間に間隙S3を形成する。図9は図8の線C-Cに沿った断面図を示すが、図9ではさらに、第1密封リング3aおよび第2密封リング3bを包囲したリングキャリア2を示している。第1密封リング3aおよび第2密封リング3bの摩耗によって間隙S3、S4、S5、S6が形成されるが、ここで、図9に見られるように、ピストンロッドLの長手方向Mにこれらの間隙S3、S4、S5、S6が存在するにもかかわらず、密封装置1は非常に優れた密封効果を有する。図9では、第1密封リング3aおよび第2密封リング3bは最大摩耗経路に達しており、これは図示の左側において第1密封リング3aがリングキャリア2と接触していることから認識できるため、これより左側に変位することはない。これと鏡像対称的に、右側において第2密封リング3bがリングキャリア2と接触しているため、これより右側に変位することはない。密封リング3a、3bが最大可用摩擦路に到達し次第、密封装置1の密封機能が摩擦密封から間隙密封へ、好ましくは無接触間隙密封へ変化する。図10は、密封装置1のさらなる実施形態を断面図にて示す。図2に示した密封装置1と異なり、図10による密封装置1はリング部分2kを伴ったリングキャリア2を有しており、このリング部分2kは中間壁として設計され、また2つの密封リング3a、3bに接触することで、2つの密封リング3a、3bを長手軸Lの方向へ相互に離間して配置させている。リング部分2kはスペーサリング2kとも呼ばれる。図12は、図10のものと類似したリングキャリア2の平面図を示す。図11は、図12中の線D-Dに沿った断面図を示す。リングキャリア2は、第1密封リング3aのためのカットアウト2a、ならびに第2密封リング3bのためのカットアウト部2bを有する。さらにリングキャリア2は、ピストンロッド6のためのカットアウト部2cを伴ったリング間隙2kあるいは中間ウェブ2kを有し、また、図示のカットアウト部はピストンロッド6に向けて整列した表面を有していることが好ましく、リング部分2kは、間隙密封を形成するべくリング部分2kとピストンロッド6の間に間隙を形成するように設計されていることが好ましい。好ましい実施形態では、中間ウェブ2kは、第1密封リング3aおよび第2密封リング3bの内径Rと実質的に一致する内径R4を有する。第1密封リング3aおよび第2密封リング3bを受容するための溝の範囲は、図1に示したものと同一の設計である、すなわち第2密封リング3bのためのカットアウト部2bが、半円状に延び、曲率半径R2および中心Z1を有する第2側壁2lと、半円状に延び、曲率半径R3および中心Z2を有する離間した側壁2mとを有する。一方、第1密封リング3aのためのカットアウト部2aはこれと鏡像対称的に設計され、また、半円状に延び、曲率半径R2および中心Z1を有する第1側壁2dと、離間し、半円状に延び、曲率半径R3および中心Z3を有する側壁2eとを有する。ここで、中心Z3とZ2は中心Z1に対して同一の間隔を有する。図1および図2で説明したとおりのこのリングキャリア2内における密封リング3a、3bの配置のために、密封リング3a、3bに予負荷力5a、5bが加えられると、図8および図9に示すように時間と共に生じる摩耗により密封リング3a、3bがリングキャリア2に対して移動する。リング部分2kは、とりわけ、密封リング3a、3bのための支持側面として形成されることで、変更する負荷に上手く係合すべく案内されるという利点を有している。さらに、リング部分2kはピストンロッド6と共に長手方向Lにおける間隙密封部を形成することができる。図13は、内径R4を有するリング部分2kを有するリングキャリア2の実施形態をさらに示す。図14は、このリングキャリア2に適合され、内側半径Rを有する第2密封リング3bを示す。図12に示した実施形態とは異なり、図13に示すリングキャリア2では、中心Z1および半径R2を伴う円形側壁を有するカットアウト部2bを有しているため、第2側壁2lと離間した側壁2mが同一の中心Z1を有する円形状に延びることができる。図1および図2で説明したとおりに第2密封リング3bがリングキャリア2のカットアウト部2b内に変位されるように、第2密封リング3bは図14に示すように設計されている。第2密封リング3bは、中心Z1および半径R1を有する第1の半円外面3bを有する。第2密封リング3bは、中心Z3および半径R1を有する第2の半円外面3iをさらに設けている。2つの中心Z1とZ3は、距離Zだけ相互に離間している。したがって、第2密封リング3bは図14の右手において幅が狭いため、図13に示すリングキャリア2のカットアウト部2b内に配置されたこの密封リング3bが、リングキャリア2の離間側壁2mと第2半円外面3iの間に新たな状態の間隙S2を有する。第1密封リング3aは図14に示した第2密封リング3bと全く同一設計のものであり、第1密封リング3aは図13中のリングキャリア3内に第2密封リング3bとは鏡像対称的に配置され、これによって例えば図2に示すような新たな状態において左側に間隙S1が形成される。図13および図14に示す実施形態のリングキャリア2および密封リング3a、3bのうちの少なくとも一方は、密封リング3a、3bのリングキャリアに対する位置を固定して相互回転が生じないようにするために、例えばピンでできた回転防止部10を有利に設けている。図15に回転防止部10のさらなる実施形態を示す。図12および図13は、リング部分2kまたは中間ウェブ2kを有するリングキャリア2をそれぞれ示す。しかし、図13に示すリングキャリア2を中間ウェブ2kを設けずに設計し、図14による設計の2つの密封リング3b、3aが図2と類似の様式でリングキャリア2内に保持されるようにすることも可能である。第1密封リング3aおよび第2密封リング3bと、これらの外面3h、3iとを受容することを目的とした、リングキャリア2内のカットアウト部2a、2bの側壁2l、2mを、密封リング3a、3bがリングキャリア2内に、係合予負荷力5a、5bの範囲の方向へ変位可能に支持されるように、複数の可能性において相互適合的に設計することができる。側壁2l、2mおよび外面3h、3iのうちの少なくとも一方は、例えば度数多角形としてまたは多角形として設計することもできるし、あるいは例えば楕円形状に延びていてもよい。リングキャリア2、密封リング3a、3bは、第1間隙S1および第2間隙S2のうちの少なくとも一つが新たな状態において0.1~10mmの最大幅、好ましくは1~2mmの最大幅を有するよう、相互適合的に設計されることが好ましい。密封リング3a、3bは摩耗可能な材料から構成されることが好ましく、この材料は特に、青銅、ねずみ鋳鉄、焼結鉄のような金属、あるいはPEEK訳者追加:ポリエーテルエーテルケトン、中実のPTFE訳者追加:ポリテトラフルオロエチレンのようなプラスチック、またはPEEK、PI訳者追加:ポリイミド、またはエポキシのような中空温度ポリマーである。リングキャリア2は特に、鋼鉄、ステンレス鋼、青銅、またはねずみ鋳鉄といった金属、あるいは特にPEEK、中実のPTFEといったプラスチック、あるいはPEEK、PI、またはエポキシといった高温ポリマーから構成される。複数の密封装置1を、密封装置1の範囲の方向へ互いに背後配置することができる。図15は、本質的に図1の密封装置と同一設計のさらなる密封装置1を示しているが、図15の密封装置1は、第1密封リング3aおよび第2密封リング3bのうちの少なくとも一つのリングキャリア2に対する回転を阻止するように設計された回転防止部10を有する点において図1の密封装置と異なる。線E-Eに沿った断面図は図2に示す断面図と同一である。回転防止部10は多様な実施形態で設計することが可能である。図15に示す実施形態では、回転防止部10の構成は、第1密封リング3aおよび第2密封リング3bのうちの少なくとも一つが突出ノーズ部31を有し、また、ノーズ部31が密封リング3a、3bの周方向に幅広な設計であるため、リングキャリア2の間隙2i内に余白が形成され、これによりノーズ部31がリングキャリア2によって形成された間隙2iと共に、第1密封リング3aおよび第2密封リング3bのうちの少なくとも一つのリングキャリア2に対する回転を阻止するための回転防止部10を形成するといったものである。図15に示される図では、第2密封リング3bのみを示している。好ましい実施形態では、第1密封リング3aも同様に、間隙2i内に突出して回転防止部10を成すノーズ部31を有することができる。図15は、ピン10aと、リングキャリア2内のボア10bと、第1密封リング3a内および第2密封リング3bのうちの少なくとも一つ内のボア10cとを含んだ回転防止部10のさらなる実施形態を追加で示している。ボア10b、10c、およびこれらボア10b、10cの中に導入されたピン10aは、第1密封リング3aおよび第2密封リング3bのうちの少なくとも一つに対するリングキャリア2の相互回転が阻止されるように相互適合的に設計されている。図16は、図10に示す密封装置1と類似した設計のさらなる密封装置1の断面図を示す。図10の密封装置1と異なり、第1密封リング3aおよび第2密封リング3bがリングキャリア2を超えて長手軸方向Lへ図16の密封装置1内に突出する。第1密封リング3aおよび第2密封リング3bのうちの少なくとも一つを等しく幅広に設計して、リングキャリア2を超えて長手軸Lの方向へ突出できるようにすることも可能である。特に有利な実施形態では、密封リング3a、3bを図16に示すように幅広に設計するのではなく、図9または図10に示すリングキャリア2を長手軸L方向に狭くし、また、密封リング3a、3bの幅を、非常に狭いリングキャリア2を形成できるように維持するように設計している。図17は、密封装置1のさらなる実施形態を縦断面図にて示す。この密封装置1は第1密封リング3aならびにリングキャリア2を含み、図17ではこれに加えてピストンロッド6を断面図で示す。クランプリング4はリングキャリア2を少なくとも部分的に包囲している。図18は内側半径Rおよび外側半径R1を有する密封リング3aの側面図を示しており、これに加えて図示の実施形態では密封リング3aは半径方向に突出するノーズ部31を有する。図19は、リングキャリア2を図17の断面図と同一の断面図にて示す。図19に示すリングキャリア2は側部2nにおいてL字型であり、半径方向へ延びており、長手軸Lの方向に延びた包囲部2mを有する。側部2nは、円形状に延び、ピストンロッド6に向いて整列した密封面2cを有する。リングキャリア2はその片側に、密封リング3aを受容するためのカットアウト部2aを有する。カットアウト部2aは、長手軸Lに対し対向的に配置されている第1側壁2dならびに離間した側壁2eを含む。図20はリングキャリア2の平面図を示し、図19は線F-Fに沿った断面図を示す。リングキャリア2は、周方向へ延びた間隙2iを有する。リングキャリア2はウェブ2hをさらに設けている。リングキャリア2は第1中心Z1を含み、半径R2を有する半円が第1側壁2dを画定している。リングキャリア2は、第1中心Z1に対して距離Zだけ離間した第2中心Z2を含む。第2回転中心Z2の周囲の半円は半径R3と共に離間した側壁2eを画定している。リングキャリア2は、例えば図5に示すとおりの設計であってよいクランプリング4のための外周カットアウト部2fをさらに含む。このクランプリング4は周方向へ延びる力をもたらし、リングキャリア2は変形可能、特に弾性変形可能に設計されているので、図17に示すとおりのリングキャリア2が周方向においてピストンロッド6と接触することができる。離間した側壁2eは、少なくとも新しくまだ摩耗していない密封装置1において、密封リング3aと離間した側壁2eの間に第1間隙S1が上昇するように設計される。間隙S1の幅は、密封リング3aおよびリングキャリア2のうちの少なくとも一つの摩耗が増すにつれて減少する。図21は、リングキャリア2のさらなる実施形態の平面図を示す。図20に示すリングキャリア2と異なり、図21に示すリングキャリア2は逆流溝2oを有する。図示されたこの実施形態では、3つの逆流溝2oが周方向に離間して配置されている。図22は、図21に示したリングキャリア2の線G-Gに沿った断面図を示す。逆流溝2oは、流体を逆流させるための、リングキャリア2に設けられた凹部として設計されている。有利な実施形態において、第1側壁2dおよび第2側壁2eは同一の曲率半径R2、R3を有する。有利な実施形態において、第1中心Z1と第2中心Z2の間の距離は、0.1~10mmの範囲内の値を有している。有利な実施形態において、第1間隙S1は0.1~10mmの範囲内の軸幅を有する。有利な実施形態において、密封リング3a、3bは摩耗可能な材料から構成されており、この材料は特に、青銅、ねずみ鋳鉄、または焼結鉄のような金属、PEEK、中実のPTFEのようなプラスチック、あるいはPEEK、PI、またはエポキシのような中空温度ポリマーである。有利な実施形態において、第1側壁2dは180度または約180度の角度にかけて延び、第1間隙S1は180度または約180度の角度にかけて延びている。有利な実施形態では、密封リング3aは、ピストンロッド6の外側半径R5よりも大きいかこれと等しい内側半径Rを有する。有利な実施形態では、リングキャリア2は特に、鋼鉄、ステンレス鋼、青銅、またはねずみ鋳鉄といった金属、特にPEEK、中実のPTFEといったプラスチック、あるいは、PEEK、PI、またはエポキシといった高温ポリマーから構成されている。