"膜を有する膜ユニットを備え、被処理水が該膜ユニットにより膜分離されるように構成されてなる水処理装置であって、限外ろ過膜及び/又は精密ろ過膜を有するスパイラル型の除濁膜ユニットを備え、ろ過時は、被処理水と塩素含有成分とが混合されることにより得られ且つ遊離残留塩素濃度が0.05~2.5mg/Lの範囲内である遊離残留塩素含有被処理水が被処理水として前記除濁膜ユニットにより膜分離され、洗浄時は、遊離残留塩素濃度が20mg/L以上の洗浄水が前記除濁膜ユニットに供給されて該除濁膜ユニット内の膜が該洗浄水に浸漬されるように構成されてなる水処理装置。酢酸セルロースで構成される逆浸透膜を有する逆浸透膜ユニットを備え、該逆浸透膜ユニットにより、前記除濁膜ユニットにより得られた遊離残留塩素を含む透過水が膜分離されるように構成されてなる請求項1記載の水処理装置。前記除濁膜ユニットから得られる透過水の透過流束が0.6m/d以下である請求項1又は2記載の水処理装置。洗浄の頻度が、10~80時間に1回である請求項1~3の何れかに記載の水処理装置。洗浄時での洗浄水による膜浸漬時間が、0.2~5時間である請求項1~4の何れかに記載の水処理装置。膜を有する膜ユニットにより、被処理水を膜分離する水処理方法であって、ろ過時は、限外ろ過膜及び/又は精密ろ過膜を有するスパイラル型の除濁膜ユニットにより、被処理水と塩素含有成分とが混合されることにより得られ且つ遊離残留塩素濃度が0.05~2.5mg/Lの範囲内である遊離残留塩素含有被処理水を被処理水として膜分離し、洗浄時は、遊離残留塩素濃度が20mg/L以上の洗浄水を前記除濁膜ユニットに供給して該除濁膜ユニット内の膜を該洗浄水に浸漬することを特徴とする水処理方法。しかしながら、前記中空糸型の膜ユニットは、比較的高価であり、より安価な膜を用いる方法が望まれている。斯かる観点から、比較的安価である、限外ろ過膜UF膜又は精密ろ過膜MF膜を有するスパイラル型の膜ユニットを用いることが考えられる。ところで、スパイラル型の膜ユニットは、平膜状のろ過膜と網状のスペーサーとが重ね合わされて巻かれ、スペーサー部分が流路となるように構成されたものである。しかるに、斯かるスパイラル型の膜ユニットは、懸濁物質をある程度以上含む水被処理水を処理するのに用いられた場合、前記網状のスペーサーが濁質により目詰まりしてしまう虞がある。斯かる観点から、被処理水と塩素含有成分とを混合して得られる残留塩素含有被処理水を膜分離することで、残留塩素により膜や被処理水の流路の目詰まりを抑制しつつ被処理水を膜処理することが考えられるが、単に残留塩素含有被処理水における残留塩素濃度を高濃度にしたのではコストがかかったり、膜が劣化したり、環境への負荷が高まる等の問題がある。本発明は、上記問題点に鑑み、スパイラル型の膜ユニットを用いて懸濁物質をある程度以上含む被処理水を処理しても、膜や被処理水の流路の目詰まり及び塩素含有成分の使用量の増大を抑制し得る水処理装置及び水処理方法を提供することを課題とする。本発明は、膜を有する膜ユニットを備え、被処理水が該膜ユニットにより膜分離されるように構成されてなる水処理装置であって、限外ろ過膜及び/又は精密ろ過膜を有するスパイラル型の除濁膜ユニットを備え、ろ過時は、被処理水と塩素含有成分とが混合されることにより得られ且つ遊離残留塩素濃度が0.05~2.5mg/Lの範囲内である遊離残留塩素含有被処理水が被処理水として前記除濁膜ユニットにより膜分離され、洗浄時は、遊離残留塩素濃度が20mg/L以上の洗浄水が前記除濁膜ユニットに供給されて該除濁膜ユニット内の膜が該洗浄水に浸漬されるように構成されてなる水処理装置にある。また、本発明は、膜を有する膜ユニットにより、被処理水を膜分離する水処理方法であって、ろ過時は、限外ろ過膜及び/又は精密ろ過膜を有するスパイラル型の除濁膜ユニットにより、被処理水と塩素含有成分とが混合されることにより得られ且つ遊離残留塩素濃度が0.05~2.5mg/Lの範囲内である遊離残留塩素含有被処理水を被処理水として膜分離し、洗浄時は、遊離残留塩素濃度が20mg/L以上の洗浄水を前記除濁膜ユニットに供給して該除濁膜ユニット内の膜を該洗浄水に浸漬することを特徴とする水処理方法にある。斯かる水処理装置及び水処理方法によれば、ろ過時は遊離残留塩素濃度が0.05~2.5mg/Lの範囲内である遊離残留塩素含有被処理水を膜処理することで前記除濁膜ユニットの膜や被処理水の流路の目詰まりを抑制しつつ、洗浄時にはろ過時よりも遊離残留塩素濃度が高い洗浄水で前記除濁膜ユニット内の膜を浸漬により洗浄することで膜や被処理水の流路の目詰まりをより一層抑制することができる。また、洗浄時よりもろ過時における遊離残留塩素含有被処理水の遊離残留塩素濃度を低くすることにより、膜や被処理水の流路の目詰まりを抑制しつつ塩素含有成分の使用量を抑制することができる。従って、斯かる水処理装置及び水処理方法によれば、スパイラル型の膜ユニットを用いて懸濁物質をある程度以上含む被処理水を処理しても、膜や被処理水の流路の目詰まりが生じ難く、且つ塩素含有成分の使用量を抑制し得る。以上のように、本発明によれば、スパイラル型の膜ユニットを用いて懸濁物質をある程度以上含む被処理水を処理しても、膜や被処理水の流路の目詰まり及び塩素含有成分の使用量の増大を抑制し得る。以下、添付図面を参照しつつ、本発明の一実施形態について説明する。まず、本実施形態の水処理装置について説明する。図1に示すように、本実施形態の水処理装置1は、懸濁物質を含む被処理水Aが膜分離されて第1透過水及び第1濃縮水Cを得る除濁膜ユニット21を有し、該除濁膜ユニット21により被処理水Aを膜分離する除濁処理部2と、該第1透過水が膜分離されて第2透過水及び第2濃縮水Dを得る逆浸透膜ユニット31を有し、該逆浸透膜ユニット31により被処理水Aを膜分離する逆浸透膜処理部3とを備えてなる。また、本実施形態の水処理装置1は、被処理水Aが除濁処理部2に移送され、第1透過水が逆浸透膜処理部3に移送され、第1濃縮水Cが第1濃縮水貯留槽図示せずに移送され、第2透過水が浄化水Bとして浄化水貯留槽図示せずに移送され、第2濃縮水Dが第2濃縮水貯留槽図示せずに移送されるように構成されてなる。また、本実施形態の水処理装置1は、塩素含有成分の水溶液以下、塩素系水溶液ともいうを貯留する塩素系水溶液貯留部4を備えてなる。また、本実施形態の水処理装置1は、該塩素系水溶液貯留部4の塩素系水溶液が除濁処理部2に移送され、該塩素系水溶液貯留部4の塩素系水溶液が逆浸透膜処理部3に移送されるように構成されてなる。前記塩素含有成分は、塩素原子を含む無機成分である。前記塩素含有成分としては、次亜塩素酸塩、亜塩素酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩などの塩素のオキソ酸塩が挙げられる。具体的には、前記次亜塩素酸塩としては、次亜塩素酸カルシウムさらし粉、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウムなどが挙げられる。前記亜塩素酸塩としては、亜塩素酸ナトリウム、亜塩素酸カリウムなどが挙げられる。前記塩素酸塩としては、塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウム、塩素酸アンモニウム、塩素酸カルシウムなどが挙げられる。前記過塩素酸塩としては、過塩素酸アンモニウム、過塩素酸カリウム、過塩素酸カルシウム、過塩素酸ナトリウムなどが挙げられる。前記塩素含有成分としては、適度な酸化性を有し取り扱いやすいという点で、前記次亜塩素酸塩が好ましく、次亜塩素酸ナトリウムがより好ましい。前記除濁処理部2は、被処理水Aと塩素系水溶液とを混合して第1遊離残留塩素含有被処理水を得る第1混合部22を備え、該第1遊離残留塩素含有被処理水が被処理水Aとして除濁膜ユニット21に移送され膜分離されるように構成されてなる。また、前記除濁処理部2は、被処理水Aと塩素系水溶液との混合割合を調節して、得られる第1遊離残留塩素含有被処理水の遊離残留塩素濃度を調節する第1混合割合調節機構図示せずを備えてなる。前記第1混合部22で塩素系水溶液と混合される被処理水Aは、特に限定されるものではないが、該被処理Aとしては、例えば、し尿廃水、下水、工場廃水食品工場、化学工場、電子産業工場、パルプ工場等の工場からの廃水等の有機性廃水を生物処理及び沈殿分離して得られた上澄水や、河川水、湖沼水等が挙げられる。該被処理水Aは、濁質を有するものであり、該被処理水Aにおける濁度は、例えば、0.1度以上、より具体的には0.1~50度である。尚、本明細書では、濁度は、レーザー散乱方式で測定した値を意味する。また、前記除濁処理部2は、ろ過時は、被処理水Aと塩素系水溶液とが混合されることにより得られ且つ遊離残留塩素濃度が0.05~2.5mg/Lの範囲内である第1遊離残留塩素含有被処理水が継続的に被処理水Aとして前記除濁膜ユニット21により膜分離され、洗浄時は、遊離残留塩素濃度が20mg/L以上の洗浄水が前記除濁膜ユニット21に供給されて該除濁膜ユニット21内の膜が該洗浄水に浸漬されるように構成されてなる。なお、遊離残留塩素濃度は、市販されている残留塩素計によって測定できる。また、本実施形態の水処理装置1は、洗浄時は、前記塩素系水溶液貯留部4から塩素系水溶液が洗浄水として前記除濁処理部2に移送されるように構成されてなる。また、本実施形態の水処理装置1は、必要に応じて、前記塩素系水溶液貯留部4から前記除濁処理部2に移送される塩素系水溶液が必要な濃度に水で希釈され、該希釈された塩素系水溶液が洗浄水として前記除濁処理部2で用いられるように構成されてなる。また、前記除濁処理部2は、洗浄の頻度が、好ましくは10~80時間に1回、より好ましくは24~72時間に1回、さらに好ましくは24~60時間に1回、さらに好ましくは24~48時間に1回となるように構成されてなる。さらに、前記除濁処理部2は、洗浄時での洗浄水による膜浸漬時間が、好ましくは0.2~5時間、より好ましくは0.5~3時間、さらに好ましくは0.5~1.5時間となるように構成されてなる。また、前記除濁処理部2は、前記除濁膜ユニット21から得られる第1透過水の透過流束が、好ましくは0.6m/d以下、より好ましくは0.1~0.5m/dとなるように構成されてなる。前記除濁処理部2は、前記除濁膜ユニット21から得られる第1透過水の透過流束が、0.6m/d以下となるように構成されてなることにより、膜や被処理水の流路の目詰まりをより一層抑制し得るという利点がある。前記除濁ユニット21は、限外ろ過膜及び/又は精密ろ過膜を有し、スパイラル型のものである。スパイラル型の膜ユニットは、平膜状のろ過膜と網状のスペーサーとが重ね合わされて巻かれた構造をしたものである。前記逆浸透膜処理部3は、遊離残留塩素を含む第1透過水を貯留する第1透過水貯留部32を備え、第2遊離残留塩素含有被処理水たる該第1透過水が被処理水として逆浸透膜ユニット31に移送され膜分離されるように構成されてなる。なお、前記水処理装置は、第1透過水の遊離残留塩素濃度を調整するために、塩素系水溶液を第1透過水貯留部32に添加できるように構成されてなる。さらに、前記逆浸透膜処理部3は、第1透過水と塩素系水溶液との混合割合を調節して、第2遊離残留塩素含有被処理水たる第1透過水の遊離残留塩素濃度を調節する第2混合割合調節機構図示せずを備えてなる。また、前記逆浸透膜処理部3は、前記逆浸透膜ユニット31の非透過側の差圧流路圧力損失を測定する差圧測定装置図示せずを備えてなる。なお、前記非透過側の差圧流路圧力損失は、前記逆浸透膜ユニット31の逆浸透膜に供給される供給水の圧力の値から、該逆浸透膜を透過せずに得られる濃縮水の圧力の値を引いた値を意味し、より具体的には、前記逆浸透膜ユニット31の膜モジュールの供給水の入口における供給水の圧力の値から、該膜モジュールの濃縮水の出口における濃縮水の圧力の値を引いた値を意味する。さらに、前記逆浸透膜処理部3は、該差圧測定装置図示せずによって測定された測定値が基準値未満である場合には、遊離残留塩素濃度が0.20mg/L以上1.2mg/L未満、好ましくは0.25mg/Lより大きく1.2mg/L未満、より好ましくは0.3~1.0mg/Lの範囲内である第2遊離残留塩素含有被処理水が被処理水Aとして継続的に前記逆浸透膜ユニット31により膜分離されるように構成されてなり、該差圧測定装置図示せずによって測定された測定値が基準値以上である場合には、遊離残留塩素濃度が1.2~2mg/L、好ましくは1.4~1.8mg/Lの範囲内である第2遊離残留塩素含有被処理水が継続的に被処理水Aとして前記逆浸透膜ユニット31により膜分離されるように構成されてなる。また、前記逆浸透膜装置3は、該差圧測定装置図示せずによって得られた測定値に基づいて、前記第2混合割合調節機構図示せずにより、第2遊離残留塩素含有被処理水たる第1透過水の遊離残留塩素濃度を調節するように構成されてなる。逆浸透膜ユニット1本当たりの前記基準値は、好ましくは0.01~0.1MPa、より好ましくは0.02~0.09MPaである。前記逆浸透膜ユニット31は、逆浸透膜RO膜を有し、該逆浸透膜RO膜は、好ましくは中空糸型のものである。前記逆浸透膜RO膜は、好ましくは酢酸セルロースで構成されている。本実施形態の水処理装置は、上記の如く構成されてなるが、次に、本実施形態の水処理方法について説明する。本実施形態の水処理方法は、前記除濁膜ユニット21により、ろ過時には、被処理水Aと塩素系水溶液とが混合されることにより得られ且つ遊離残留塩素濃度が0.05~2.5mg/Lの範囲内である第1遊離残留塩素含有被処理水を被処理水Aとして膜分離し、洗浄時には、遊離残留塩素濃度が20mg/L以上の洗浄水を除濁膜ユニット21に供給して該除濁膜ユニット内の膜を該洗浄水に浸漬する方法である。前記水処理方法においては、除濁膜ユニット21の膜の目詰まりを抑制しつつろ過時の塩素含有成分の使用量をより抑制できるという点で、ろ過時の被処理水Aの遊離残留塩素濃度が1.2mg/L以下であることが好ましい。また、前記水処理方法においては、除濁膜ユニット21の膜の目詰まりがより確実に抑制されるという点で、洗浄時の洗浄水の遊離残留塩素濃度が50mg/L以上であることが好ましく、100mg/L以上であることがより好ましく、125mg/L以上であることがさらに好ましい。また、洗浄時の塩素含有成分の使用量をより抑制できるという点で、洗浄時の洗浄水の遊離残留塩素濃度が250mg/L以下であることが好ましく、140mg/L以下であることがより好ましい。より具体的には、除濁膜ユニット21の膜の目詰まりがより確実に抑制され且つ洗浄時の塩素含有成分の使用量をより抑制できるという点で、洗浄時の洗浄水の遊離残留塩素濃度が100~140mg/Lであることが最も好ましい。本実施形態の水処理装置及び水処理方法は、以下の利点を有するものである。例えば、本実施形態の水処理装置1は、該差圧測定装置図示せずによって測定された測定値が基準値未満である場合には、遊離残留塩素濃度が0.20mg/L以上1.2mg/L未満、好ましくは0.25mg/Lより大きく1.2mg/L未満、より好ましくは0.3~1.0mg/Lの範囲内である第2遊離残留塩素含有被処理水が被処理水Aとして継続的に前記逆浸透膜ユニット31により膜分離されるように構成されてなり、該差圧測定装置図示せずによって測定された測定値が基準値以上である場合には、遊離残留塩素濃度が1.2~2mg/L、好ましくは1.4~1.8mg/Lの範囲内である第2遊離残留塩素含有被処理水が継続的に被処理水Aとして前記逆浸透膜ユニット31により膜分離されるように構成されてなることにより以下のような利点を有する。即ち、斯かる水処理装置1によれば、前記測定値が基準値未満である場合に、遊離残留塩素濃度が低濃度である第2遊離残留塩素含有被処理水0.20mg/L以上1.2mg/L未満を膜分離することにより、膜の目詰まりを抑制しつつ逆浸透膜RO膜の劣化を抑制して第2透過水たる浄化水を得ることができる。また、前記測定値が基準値以上である場合に、遊離残留塩素濃度がより高濃度である第2遊離残留塩素含有被処理水1.2~2mg/Lを膜分離することにより、膜の目詰まりをより一層抑制することができる。また、一定の流束で被処理水Aを膜分離した場合に、前記差圧が上昇し始めると、遊離残留塩素以外のアルカリ等の薬品で逆浸透膜RO膜を洗浄しても前記差圧が上昇しつづけてしまうが、斯かる水処理装置1によれば、前記差圧が多少上昇しても、前記差圧を下げることができる。尚、本実施形態の水処理装置及び水処理方法は、上記構成により、上記利点を有するものである。また、本発明の水処理装置及び水処理方法は、上記構成に限定されず、適宜設計変更可能である。例えば、本実施形態の水処理装置は、前記逆浸透膜処理部3が、該差圧測定装置図示せずによって測定された測定値が基準値未満である場合には、遊離残留塩素濃度が0.20mg/L以上1.2mg/L未満の範囲内である第2遊離残留塩素含有被処理水が被処理水Aとして継続的に前記逆浸透膜ユニット31により膜分離されるように構成されてなり、該差圧測定装置図示せずによって測定された測定値が基準値以上である場合には、遊離残留塩素濃度が1.2~2mg/Lの範囲内である第2遊離残留塩素含有被処理水が継続的に被処理水Aとして前記逆浸透膜ユニット31により膜分離されるように構成されてなるが、本発明の水処理装置は、前記逆浸透膜処理部3が、該差圧測定装置図示せずによって測定された測定値が基準値以下である場合には、遊離残留塩素濃度が0.20mg/L以上1.2mg/L未満の範囲内である第2遊離残留塩素含有被処理水が被処理水Aとして継続的に前記逆浸透膜ユニット31により膜分離されるように構成されてなり、該差圧測定装置図示せずによって測定された測定値が基準値を越える場合には、遊離残留塩素濃度が1.2~2mg/Lの範囲内である第2遊離残留塩素含有被処理水が継続的に被処理水Aとして前記逆浸透膜ユニット31により膜分離されるように構成されてもよい。次に、試験例を挙げて本発明についてさらに具体的に説明する。試験例1遊離残留塩素濃度を各所定値に設定した活性汚泥において、溶存酸素濃度を測定することにより、微生物の呼吸活性低下率を調べた。詳しくは、下水処理施設から採取した活性汚泥に対して遊離残留塩素濃度がそれぞれ0,5,10,15,20,30mg/Lとなるように次亜塩素酸ナトリウムを添加し、A添加前5分間における活性汚泥中の溶存酸素濃度の低下の傾き、及び、B添加直後1分間における活性汚泥中の溶存酸素濃度の低下の傾きを測定し、下記の式により呼吸活性低下率を算出した。遊離残留塩素濃度が各所定値のときの呼吸活性低下率=[B/A]その結果を図2に示す。図2に示すように、遊離残留塩素濃度が20mg/L濃度以上であれば、微生物の生育を阻害することができる。従って、上述した水処理装置及び水処理方法において、微生物の繁殖による除濁膜ユニットの膜の目詰まりを抑制することができる。試験例2下水を生物処理しその後沈殿分離処理して得られた上澄水濁度:0.1~50度の間を変動と塩素系水溶液次亜塩素酸ナトリウム水溶液とを混合して第1遊離残留塩素含有被処理水を得た。そして、該第1遊離残留塩素含有被処理水を、限外ろ過膜UF膜を有するスパイラル型の除濁膜ユニット商品名:RS50-S8、日東電工社製で膜分離した。膜分離中での除濁膜ユニットの膜間差圧を圧力データロガー商品名:DAQSTATIONDX120、横河電機社製で測定した。また、ろ過時での第1遊離残留塩素含有被処理水の遊離残留塩素濃度は、図3に示すように0.05~1.2mg/Lとし、洗浄時での洗浄水の遊離残留塩素濃度は、125mg/Lとした。さらに、洗浄時での洗浄水による膜浸漬時間を1時間とし、図3中の各区間期間において、表1に示す洗浄の頻度で試験を実施した。また、図3中の各区間期間において、除濁膜ユニットから得られる第1透過水の透過流束が、表1に示す値となるように試験を実施した。図3に示すように、本発明の範囲内の水処理装置及び水処理方法で被処理水を膜分離することにより、スパイラル型の除濁膜ユニットを用いて懸濁物質を含む被処理水を処理しても、膜や被処理水の流路の目詰まり及び塩素含有成分の使用量の増大を抑制し得ることが明らかとなった。試験例3試験例2の第1遊離残留塩素含有被処理水を、試験例2の限外ろ過膜UF膜を有するスパイラル型の除濁膜ユニット商品名:RS50-S8、日東電工社製で膜分離して、第1透過水を第2遊離残留塩素含有被処理水として得た。そして、該第2遊離残留塩素含有被処理水を、三酢酸セルロース製逆浸透膜RO膜を有する中空糸型の逆浸透膜ユニット商品名:HB10255FI、東洋紡績社製で膜分離して第2透過水を得た。膜分離中での逆浸透膜ユニットの非透過側の差圧を差圧測定装置としての圧力データロガー商品名:DAQSTATIONDX120、横河電機社製で測定した。結果を図4に示す。尚、図4に示すように、該差圧測定装置によって測定された測定値が基準値0.06MPa未満である場合には、第2遊離残留塩素含有被処理水を、遊離残留塩素濃度が0.20mg/L以上1.2mg/L未満の範囲内となるようにし、被処理水として前記逆浸透膜ユニットにより膜分離した。また、該差圧測定装置によって測定された測定値が基準値以上である場合には、第2遊離残留塩素含有被処理水を、遊離残留塩素濃度が1.2~2mg/Lの範囲内となるようにし、被処理水として前記逆浸透膜ユニットにより膜分離した。また、前記逆浸透膜ユニットの逆浸透膜RO膜の塩阻止率を算出すべく、第2遊離残留塩素含有被処理水及び第2透過水の電気伝導度を測定した。尚、電気伝導度は、電極法に従って測定した。結果を図4に示す。尚、前記逆浸透膜ユニットの逆浸透膜RO膜の塩阻止率は、次式で算出した値である。塩阻止率=1-Cp/Cf×100Cf;第2遊離残留塩素含有被処理水の電気伝導度、Cp;第2透過水の電気伝導度図4に示すように、前記差圧が0.1MPa以下であり、逆浸透膜RO膜の流路閉塞がほとんど生じていないことが示された。また、前記差圧が0.06MPa以上となった場合に遊離残留塩素濃度が0.25mg/Lより大きく1.2mg/L未満の範囲内となるようにすることで、前記差圧が上昇し始めても低下させることができることが示唆された。また、図5に示すように、前記塩阻止率は、97以上であり、逆浸透膜RO膜が遊離残留塩素によって劣化されていないことが示唆された。"