"式1式中、R1はC1-C11フルオロアルキル基、C3-C11フルオロアルケニル基またはC3-C11フルオロアルキニル基を表し、R2はC1-C3アルキル基を表し、R3はC1-C3アルキル基を表し、R4はC3-C6シクロアルキル基または1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基を表し、R5はC3-C6シクロアルキル基または1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基を表す。で示されるアミジン化合物。R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基を表し、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基で示される、請求項1に記載のアミジン化合物。R4がC1-C6アルキル基を表し、R5がC1-C6アルキル基で示される、請求項1に記載のアミジン化合物。請求項1に記載のアミジン化合物を含有する植物病害防除剤。請求項1に記載のアミジン化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する植物病害の防除方法。植物病害を防除するための請求項1に記載のアミジン化合物の使用。本発明は、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供する。本発明者らは、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を見出すべく検討した結果、下記式1で示されるアミジン化合物が植物病害に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は以下の項1~項6のものである。項1式1式中、R1はC1-C11フルオロアルキル基、C3-C11フルオロアルケニル基またはC3-C11フルオロアルキニル基を表し、R2はC1-C3アルキル基を表し、R3はC1-C3アルキル基を表し、R4はC3-C6シクロアルキル基または1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基を表し、R5はC3-C6シクロアルキル基または1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基を表す。で示されるアミジン化合物。項2R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基を表し、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基で示される、[項1]に記載のアミジン化合物。[項3]R4がC1-C6アルキル基を表し、R5がC1-C6アルキル基で示される、[項1]に記載のアミジン化合物。項41に記載のアミジン化合物を含有する植物病害防除剤。項51に記載のアミジン化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する植物病害の防除方法。項6植物病害を防除するための1に記載のアミジン化合物の使用。本発明化合物を用いることにより、植物病害を防除することができる。本発明の化合物とは、上記式1で示される化合物以下、本発明化合物と記す。である。また、本発明の防除剤とは、本発明化合物を含有する植物病害防除剤以下、本発明防除剤と記す。である。本発明化合物における置換基を以下に説明する。C1-C11フルオロアルキル基とは、1以上のフッ素を有するC1-C11アルキル基である。C1-C11フルオロアルキル基としては、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、222-トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、2233-テトラフルオロプロピル基、22333-ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、333-トリフルオロプロピル基、2-フルオロブチル基、4-フルオロブチル基、24-ジフルオロブチル基、224-トリフルオロブチル基、244-トリフルオロブチル基、2244-テトラフルオロブチル基、2444-テトラフルオロブチル基、22444-ペンタフルオロブチル基、333-トリフルオロ-2-トリフルオロメチルプロピル基、223444-ヘキサフルオロブチル基、2233444-ヘプタフルオロブチル基、444-トリフルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、444-トリフルオロ-3-トリフルオロメチルブチル基、22-ジフルオロブチル基、223344555-ノナフルオロペンチル基、555-トリフルオロペンチル基、ウンデカフルオロペンチル基、555-トリフルオロ-4-トリフルオロメチルペンチル基、22334455666-ウンデカフルオロヘキシル基、666-トリフルオロへキシル基、トリデカフルオロへキシル基、666-トリフルオロ-5-トリフルオロメチルヘキシル基、2-フルオロペンチル基、22-ジフルオロペンチル基、2-フルオロ-4-メチルペンチル基、22-ジフルオロ-4-メチルペンチル基、2233445566777-トリデカフルオロヘプチル基、777-トリフルオロヘプチル基、ペンタデカフルオロへプチル基、777-トリフルオロ-6-トリフルオロメチルヘプチル基、2-フルオロ-44-ジメチルペンチル基、22-ジフルオロ-44-ジメチルペンチル基、223344556677888-ペンタデカフルオロオクチル基、888-トリフルオロオクチル基、ヘプタデカフルオロオクチル基、888-トリフルオロ-7-トリフルオロメチルオクチル基、22334455667788999-ヘプタデカフルオロノニル基、999-トリフルオロノニル基、ノナデカフルオロノニル基、999-トリフルオロ-8-トリフルオロメチルノニル基、2233445566778899101010-ノナデカフルオロデシル基、101010-トリフルオロデシル基、ヘンイコサフルオロデシル基、101010-トリフルオロ-9-トリフルオロメチルデシル基、22334455667788991010111111-ヘンイコサフルオロウンデシル基、111111-トリフルオロウンデシル基、トリコサフルオロウンデシル基などが挙げられる。C3-C11フルオロアルケニル基とは、1以上のフッ素を有するC3-C11アルケニル基である。C3-C11フルオロアルケニル基としては、23-ジフルオロ-2-プロペニル基、233-トリフルオロ-2-プロペニル基、11233-ペンタフルオロ-2-プロペニル基、23-ジフルオロ-2-ブテニル基、444-トリフルオロ-2-ブテニル基、44-ジフルオロ-3-ブテニル基、2-フルオロ-2-ブテニル基、3-フルオロ-2-ブテニル基、344-トリフルオロ-3-ブテニル基、555-トリフルオロ-2-ペンテニル基、555-トリフルオロ-3-ペンテニル基、555-トリフルオロ-4-トリフルオロメチル-2-ペンテニル基、55-ジフルオロ-4-ペンテニル基、34-ジフルオロ-3-ペンテニル基、2-フルオロ-2-ペンテニル基、3-フルオロ-2-ペンテニル基、455-トリフルオロ-4-ペンテニル基、2-フルオロ-4-メチル-2-ペンテニル基、2-フルオロ-44-ジメチル-2-ペンテニル基、666-トリフルオロ-2-ヘキセニル基、666-トリフルオロ-3-ヘキセニル基、666-トリフルオロ-5-トリフルオロメチル-2-ヘキセニル基、66-ジフルオロ-5-ヘキセニル基、777-トリフルオロ-2-ヘプテニル基、777-トリフルオロ-6-トリフルオロメチル-2-ヘプテニル基、888-トリフルオロ-5-オクテニル基、888-トリフルオロ-7-トリフルオロメチル-3-オクテニル基、999-トリフルオロ-2-ノネニル基、999-トリフルオロ-8-トリフルオロメチル-2-ノネニル基、101010-トリフルオロ-4-デセニル基、101010-トリフルオロ-9-トリフルオロメチル-8-デセニル基、111111-トリフルオロ-2-ウンデセニル基などが挙げられる。C3-C11フルオロアルキニル基とは、1以上のフッ素を有するC3-C11アルキニル基である。C3-C11フルオロアルキニル基としては、1-フルオロ-2-プロピニル基、14-ジフルオロ-2-ブチニル基、444-トリフルオロ-2-ブチニル基、4-フルオロ-2-ブチニル基、44-ジフルオロ-2-ブチニル基、2-フルオロ-3-ブチニル基、555-トリフルオロ-3-ペンチニル基、555-トリフルオロ-2-ペンチニル基、4-フルオロ-2-ペンチニル基、55-ジフルオロ-2-ペンチニル基、2-フルオロ-3-ペンチニル基、2555-テトラフルオロ-3-ペンチニル基、2233-テトラフルオロ-4-ペンチニル基、3-フルオロ-4-ペンチニル基、55666-ペンタフルオロ-2-ヘキシニル基、666-トリフルオロ-5-トリフルオロメチル-2-ヘキシニル基、777-トリフルオロ-3-ヘプチニル基、777-トリフルオロ-6-トリフルオロメチル-2-ヘプチニル基、888-トリフルオロ-2-オクチニル基、888-トリフルオロ-7-トリフルオロメチル-4-オクチニル基、999-トリフルオロ-2-ノニル基、999-トリフルオロ-8-トリフルオロメチル-2-ノニル基、101010-トリフルオロ-2-デシニル基、101010-トリフルオロ-9-トリフルオロメチル-6-デシニル基、111111-トリフルオロ-5-ウンデシニル基などが挙げられる。C1-C3アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基とは、C1-C6アルキル基およびC1-C6ハロアルキル基を表す。C1-C6アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、タ-シャリ-ブチル基、ペンチル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基、2-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、4-メチルペンチル基、ヘキシル基などが挙げられる。C1-C6ハロアルキル基とは1以上のハロゲンを有するC1-C6アルキル基であり、2以上のハロゲンを有する場合、該ハロゲンは同一であっても相異なっていてもよい。該ハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。C1-C6ハロアルキル基としては、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基、2-クロロプロピル基、2-ブロモプロピル基、2-ヨードプロピル基、6-クロロへキシル基、6-ブロモへキシル基、6-ヨードへキシル基などが挙げられ、C3-C6シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。本発明化合物の態様としては、例えば式1における置換基が以下に示すものである化合物が挙げられる。R1がC1-C11フルオロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基である化合物;R2がメチル基である化合物;R3がメチル基である化合物;R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R4がメチル基である化合物;R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R5がエチル基である化合物;R2がメチル基であり、R3がメチル基である化合物;R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R2がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R2がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R4がメチル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R4がメチル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R4がメチル基であり、R5がメチル基である化合物;R4がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R2がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R2がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R2がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5がメチル基である化合物;R2がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R3がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R3がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R3がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5がメチル基である化合物;R3がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5がメチル基である化合物;R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がメチル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4がC3-C6シクロアルキル基であり、R5がC3-C6シクロアルキル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がメチル基である化合物;R1がC1-C6フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルケニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC3-C6フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物;R1がC7-C11フルオロアルキニル基であり、R2がメチル基であり、R3がメチル基であり、R4が1以上のハロゲンを有していてもよいC1-C6アルキル基であり、R5がエチル基である化合物。本発明化合物は、例えば以下の製造法により製造することができる。製造法1式1で示される本発明化合物は、以下の式2で示される化合物以下、化合物2と記す。と式3で示される化合物以下、化合物3と記す。とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。式中、R1、R2、R3、R4およびR5は前記と同じ意味を表し、Lは塩素、臭素、ヨウ素、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基又はp-トルエンスルホニルオキシ基を表す。該反応は、通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコ-ルジメチルエ-テル、メチルターシャリーブチルエーテル以下、MTBEと記す。等のエ-テル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、NN-ジメチルホルムアミド以下、DMFと記す。、13-ジメチル-2-イミダゾリジノン、N-メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、水及びこれらの混合物が挙げられる。該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物等が挙げられる。該反応には化合物21モルに対して、化合物3が通常1~10モルの割合、塩基が通常1~5モルの割合で用いられる。該反応の反応温度は通常-20~150°Cの範囲である。該反応の反応時間は通常0.1~24時間の範囲である。該反応は、必要に応じてヨウ化ナトリウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウムなどを加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物21モルに対して、0.05~0.2モルの割合で用いられる。反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式1で示される本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィ-、再結晶等によりさらに精製することもできる。製造法2式中、R1、R2、R3、R4およびR5は前記と同じ意味を表し、R6はメチル基もしくはエチル基を表す。工程1式5で示される化合物以下、化合物5と記す。は、式4で示される化合物以下、化合物4と記す。とオルトギ酸メチルまたはオルトギ酸エチルとを、酸の存在下に反応させることにより製造することができる。該反応に用いられる酸としては、例えばカンファースルホン酸、パラトルエンスルホン酸等のスルホン酸類、塩酸、硫酸などの無機酸類が挙げられる。該反応には化合物41モルに対して、オルトギ酸エステルが1モル~大過剰量、酸が0.05~1モルの割合で用いられる。該反応の反応温度は通常80~150°Cの範囲である。該反応の反応時間は通常0.5~2時間の範囲である。反応終了後は、反応混合物を濃縮することにより化合物5を得ることもできるが、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物5を単離することができる。工程2式1で示される本発明化合物は、化合物5と式6で示される化合物以下、化合物6と記す。とを反応させることにより製造することができる。該反応は、通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコ-ルジメチルエ-テル、MTBE等のエ-テル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、DMF、13-ジメチル-2-イミダゾリジノン、N-メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類及びこれらの混合物が挙げられる。該反応には化合物51モルに対して、化合物6が通常1~2モルの割合で用いられる。該反応の反応温度は通常80~150°Cの範囲である。該反応の反応時間は通常0.5~3時間の範囲である。反応終了後は、反応混合物を濃縮し、クロマトグラフィ-により精製を行うことにより式1で示される本発明化合物を単離することができる。製造法3本発明化合物は、化合物4と式7で示される化合物以下、化合物7と記す。とを反応させることにより製造することができる。式中、R1、R2、R3、R4およびR5は前記と同じ意味を表し、R7はメチル基もしくはエチル基を表す。該反応は、通常溶媒の非存在下で行われる。該反応には化合物41モルに対して、化合物7が通常1モル~大過剰量用いられる。該反応の反応温度は通常80~150°Cの範囲である。該反応の反応時間は通常0.5~2時間の範囲である。反応終了後は、反応混合物を濃縮し、クロマトグラフィ-により精製を行うことで式1で示される本発明化合物を単離することができる。本発明化合物には二重結合の炭素原子の結合する炭素原子に基づくシス及びトランスのシス-トランス異性体が存在する場合もあるが、本発明には活性な異性体を単独で又は任意の比率で含有するものを用いることができる。以下、本発明化合物の一例を化合物番号と共に示す。式1-Aにおいて、R2、R3及びR4がメチル基であり、R5がエチル基であり、R1が表1~表4に記載の本発明化合物。式1-Bにおいて、R2、R3、R4及びR5がメチル基であり、R1が表5~表8に記載の本発明化合物。式1-Cにおいて、R1が223444-ヘキサフルオロブチル基であり、R2、R3、R4及びR5が表9~表12に記載の組み合わせである本発明化合物。式1-Dにおいて、R1が22-ジフルオロ-44-ジメチルペンチル基であり、R2、R3、R4及びR5が表13~表17に記載の組み合わせである本発明化合物。式1-Eにおいて、R1が2-フルオロ-44-ジメチルペンチル基であり、R2、R3、R4及びR5が表18~表21に記載の組み合わせである本発明化合物。式1-Fにおいて、R1が2,2-ジフルオロ-4-メチルペンチル基であり、R2、R3、R4及びR5が表22~表22に記載の組み合わせである本発明化合物。式1-Gにおいて、R1が2-フルオロ-4-メチルペンチル基であり、R2、R3、R4及びR5が表26~表28に記載の組み合わせである本発明化合物。本発明防除剤は、本発明化合物のみからなるものであってもよいが、通常は本発明化合物を、固体担体、液体担体、ガス担体、界面活性剤等と混合し、必要により固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤を添加して、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾ-ル剤、マイクロカプセル剤等に製剤化して用いる。これらの製剤には本発明化合物が重量比で通常0.1~99、好ましくは0.2~90含有される。固体担体としては、例えば、粘土類例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレ-、ベントナイト、酸性白土、タルク類、その他の無機鉱物例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコ-ル類例えば、メタノ-ル、エタノ-ル、ケトン類例えば、アセトン、メチルエチルケトン、芳香族炭化水素類例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン、脂肪族炭化水素類例えば、n-ヘキサン、シクロヘキサノン、灯油、エステル類例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、ニトリル類例えば、アセトニトリル、イソブチロニトリル、エ-テル類例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエ-テル、酸アミド類例えば、DMF、ジメチルアセトアミド、ハロゲン化炭化水素類例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素が挙げられる。界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリ-ルスルホン酸塩、アルキルアリ-ルエ-テル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコ-ルエ-テル類、多価アルコ-ルエステル類、糖アルコ-ル誘導体が挙げられる。その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロ-ス誘導体、アルギン酸、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子例えば、ポリビニルアルコ-ル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類、PAP酸性りん酸イソプロピル、BHT26-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノ-ル、BHA2-tert-ブチル-4-メトキシフェノ-ルと3-tert-ブチル-4-メトキシフェノ-ルとの混合物、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。本発明防除剤を施用する方法としては、実質的に本発明防除剤が施用され得る形態であればその方法は特に限定されないが、例えば茎葉散布等の植物体への処理、土壌処理等の植物の栽培地への処理、種子消毒等の種子への処理が挙げられる。また、本発明防除剤を他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤と混合して、または混合せずに同時に用いることもできる。かかる他の殺菌剤としては、例えば以下のものが挙げられる。1アゾ-ル殺菌剤プロピコナゾ-ルpropiconazole、プロチオコナゾ-ルprothioconazole、トリアジメノ-ルtriadimenol、プロクロラズprochloraz、ペンコナゾ-ルpenconazole、テブコナゾ-ルtebuconazole、フルシラゾ-ルflusilazole、ジニコナゾ-ルdiniconazole、ブロムコナゾ-ルbromuconazole、エポキシコナゾ-ルepoxiconazole、ジフェノコナゾ-ルdifenoconazole、シプロコナゾ-ルcyproconazole、メトコナゾ-ルmetconazole、トリフルミゾ-ルtriflumizole、テトラコナゾ-ルtetraconazole、マイクロブタニルmyclobutanil、フェンブコナゾ-ルfenbuconazole、ヘキサコナゾ-ルhexaconazole、フルキンコナゾ-ルfluquinconazole、トリティコナゾ-ルtriticonazole、ビテルタノ-ルbitertanol、イマザリルimazalil、フルトリアホ-ルflutriafol、シメコナゾ-ルsimeconazole、イプコナゾ-ルipconazole等;2アミン殺菌剤フェンプロピモルフfenpropimorph、トリデモルフtridemorph、フェンプロピジンfenpropidin、スピロキサミンspiroxamine等;3ベンズイミダゾ-ル殺菌剤カルベンダジムcarbendazim、ベノミルbenomyl、チアベンダゾ-ルthiabendazole、チオファネ-トメチルthiophanate-Methyl等;4ジカルボキシイミド殺菌剤プロシミドンprocymidone、イプロジオンiprodione、ビンクロゾリンvinclozolin等;5アニリノピリミジン殺菌剤シプロディニルcyprodinil、ピリメタニルpyrimethanil、メパニピリムmepanipyrim等;6フェニルピロ-ル殺菌剤フェンピクロニルfenpiclonil、フルジオキソニルfludioxonil等;7ストロビルリン殺菌剤クレソキシムメチルkresoxim-methyl、アゾキシストロビンazoxystrobin、トリフロキシストロビンtrifloxystrobin、フルオキサストロビンfluoxastrobin、ピコキシストロビンpicoxystrobin、ピラクロストロビンpyraclostrobin、ジモキシストロビンdimoxystrobin、ピリベンカルブpyribencarb、メトミノストロビンmetominostrobin、オリサストロビンorysastrobin、エネストロビンenestrobin等;8フェニルアマイド殺菌剤メタラキシルmetalaxyl、メタラキシルMまたはメフェノキサムmetalaxyl-Mormefenoxam、ベナラキシルbenalaxyl、ベナラキシルMまたはキララキシルbenalaxyl-Morkiralaxyl等;9カルボン酸アミド殺菌剤ジメトモルフdimethomorph、イプロバリカルブiprovalicarb、ベンチアバリカルブイソプロピルbenthivalicarb-isopropyl、マンジプロパミドmandipropamid、バリフェナルvaliphenal10カルボキサミド殺菌剤カルボキシンcarboxin、メプロニルmepronil、フルトラニルflutolanil、チフルザミドthifluzamide、フラメトピルfurametpyr、ボスカリドboscalid、ペンチオピラドpenthiopyrad、フルオピラムfluopyram、ビキサフェンbixafen、ペンフルフェンpenflufen、セダキサンsedaxane、フルキサピロキサドfluxapyroxad、イソピラザムisopyrazam11その他の殺菌剤ジエトフェンカルブdiethofencarb;チウラムthiuram;フルアジナムfluazinam;マンコゼブmancozeb;クロロタロニルchlorothalonil;キャプタンcaptan;ジクロフルアニドdichlofluanid;フォルペットfolpet;キノキシフェンquinoxyfen;フェンヘキサミドfenhexanid;ファモキサドンfanoxadon;フェナミドンfenamidon;ゾキサミドzoxamide;エタボキサムethaboxam;アミスルブロムamisulbrom;シアゾファミドcyazofamid;メトラフェノンmetrafenone;シフルフェナミド;プロキナジドproquinazid;フルスルファミドflusulfamide;フルオピコリドfluopicolide;フォセチルfosetyl;シモキサニルcymoxanil;ペンシクロンpencycuron;トルクロホスメチルtolclofos‐methyl;カルプロパミドcarpropamid;ジクロシメットdiclocymet;フェノキサニルfenoxanil;トリシクラゾ-ルtricyclazole;ピロキロンpyroquilon;プロベナゾ-ルprobenazole;イソチアニルisotianil;チアジニルtiadinil;テブフロキンtebufloquin;ジクロメジンdiclomezine;カスガマイシンkasugamycin;フェリムゾンferimzone;フサライドfthalide;バリダマイシンvalidamycin;ヒドロキシイソキサゾ-ルhydroxyisoxazole;イミノクタジン酢酸塩iminoctadineacetate;イソプロチオランisoprothiolane;オキソリニック酸oxolinicacid;オキシテトラサイクリンoxytetracycline;ストレプトマイシンstreptomycin;塩基性塩化銅copperoxychloride;水酸化第二銅copperhydroxide;塩基性硫酸銅copperhydroxidesulfate;有機銅organocopper;硫黄sulfur;アメトクトラジンametoctradin;フェンピラザミンfenpyrazamineおよび式12式中、X3はメチル基、ジフルオロメチル基、またはエチル基を表し、X4はメトキシ基、またはメチルアミノ基を表し、X5はフェニル基、2-メチルフェニル基、または25-ジメチルフェニル基を表す。で示されるα-アルコキシフェニル酢酸化合物。かかる他の殺虫剤としては、例えば以下のものが挙げられる。1有機リン化合物アセフェ-トacephate、りん化アルミニウムAluminiumphosphide、ブタチオホスbutathiofos、キャドサホスcadusafos、クロルエトキシホスchlorethoxyfos、クロルフェンビンホスch1orfenvinphos、クロルピリホスchlorpyrifos、クロルピリホスメチルchlorpyrifos-methyl、シアノホスcyanophos:CYAP、ダイアジノンdiazinon、DCIPdichlorodiisopropylether、ジクロフェンチオンdichlofenthion:ECP、ジクロルボスdichlorvos:DDVP、ジメトエ-トdimethoate、ジメチルビンホスdimethylvinphos、ジスルホトンdisulfoton、EPN、エチオンethion、エトプロホスethoprophos、エトリムホスetrimfos、フェンチオンfenthion:MPP、フエニトロチオンfenitrothion:MEP、ホスチアゼ-トfosthiazate、ホルモチオンformothion、りん化水素Hydrogenphosphide、イソフェンホスisofenphos、イソキサチオンisoxathion、マラチオンmalathion、メスルフェンホスmesulfenfos、メチダチオンmethidathion:DMTP、モノクロトホスmonocrotophos、ナレッドnaled:BRP、オキシデプロホスoxydeprofos:ESP、パラチオンparathion、ホサロンphosalone、ホスメットphosmet:PMP、ピリミホスメチルpirimiphos-methy1、ピリダフェンチオンpyridafenthion、キナルホスquinalphos、フェントエ-トphenthoate:PAP、プロフェノホスprofenofos、プロパホスpropaphos、プロチオホスprothiofos、ピラクロホスpyraclorfos、サリチオンsalithion、スルプロホスsulprofos、テブピリムホスtebupirimfos、テメホスtemephos、テトラクロルビンホスtetrach1orvinphos、テルブホスterbufos、チオメトンthiometon、トリクロルホンtrichlorphon:DEP、バミドチオンvamidothion、フォレ-トphorate、カズサホスcadusafos等;2カ-バメ-ト化合物アラニカルブalanycarb、ベンダイオカルブbendiocarb、ベンフラカルブbenfuracarb、BPMC、カルバリルcarbary1、カルボフランcarbofuran、カルボスルファンcarbosulfan、クロエトカルブcloethocarb、エチオフェンカルブethiofencarb、フェノブカルブfenobucarb、フェノチオカルブfenothiocarb、フェノキシカルブfenoxycarb、フラチオカルブfurathiocarb、イソプロカルブisoprocarb:MIPC、メトルカルブmetolcarb、メソミルmethomyl、メチオカルブmethiocarb、NAC、オキサミルoxamyl、ピリミカ-ブpirimicarb、プロポキスルpropoxur:PHC、XMC、チオジカルブthiodicarb、キシリルカルブxylylcarb、アルジカルブaldicarb等;3合成ピレスロイド化合物アクリナトリンacrinathrin、アレスリンallethrin、ベンフルスリンbenfluthrin、ベ-タ-シフルトリンbeta-cyfluthrin、bifwentorinbifenthrin、シクロプロトリンcycloprothrin、シフルトリンcyfluthrin、シハロトリンcyhalothrin、シペルメトリンcypermethrin、デルタメトリンdeltamethrin、エスフェンバレレ-トesfenvalerate、エトフェンプロックスethofenprox、フェンプロパトリンfenpropathrin、フェンバレレ-トfenvalerate、フルシトリネ-トflucythrinate、フルフェンプロックスflufenoprox、フルメスリンflumethrin、フルバリネ-トfluvalinate、ハルフェンプロックスhalfenprox、イミプロトリンimiprothrin、ペルメトリンpermethrin、プラレトリンprallethrin、ピレトリンpyrethrins、レスメトリンresmethrin、シグマ-サイパ-メスリンsigma-cypermethrin、シラフルオフェンsilafluofen、テフルトリンtefluthrin、トラロメトリンtralomethrin、トランスフルトリンtransfluthrin、テトラメトリンtetramethrin、フェノトリンphenothrin、シフェノトリンcyphenothrin、アルファシペルメトリンalpha-cypermethrin、ゼ-タシペルメトリンzeta-cypermethrin、ラムダシハロトリンlambda-cyhalothrin、フラメトリンfuramethrin、タウフルバリネ-トtau-fluvalinate、2356-テトラフルオロ-4-メトキシメチルベンジルEZ-1RS3RS;1RS3SR-22-ジメチル-3-プロプ-1-エニルシクロプロパンカルボキシレ-ト、2356-テトラフルオロ-4-メチルベンジルEZ-1RS3RS;1RS3SR-22-ジメチル-3-プロプ-1-エニルシクロプロパンカルボキシレ-ト、2356-テトラフルオロ-4-メトキシメチルベンジル1RS3RS;1RS3SR-22-ジメチル-3-2-メチル-1-プロペニルシクロプロパンカルボキシレ-ト等;4ネライストキシン化合物カルタップcartap、ベンスルタップbensu1tap、チオシクラムthiocyclam、モノスルタップmonosultap、ビスルタップbisultap等;5ネオニコチノイド化合物イミダクロプリドimidac1oprid、ニテンピラムnitenpyram、アセタミプリドacetamiprid、チアメトキサムthiamethoxam、チアクロプリドthiacloprid、ジノテフランdinotefuran、クロチアニジンclothianidin等;6ベンゾイル尿素化合物クロルフルアズロンchlorfluazuron、ビストリフルロンbistrifluron、ジアフェンチウロンdiafenthiuron、ジフルベンズロンdiflubenzuron、フルアズロンfluazuron、フルシクロクスロンflucycloxuron、フルフェノクスロンflufenoxuron、ヘキサフルムロンhexaflumuron、ルフェヌロンlufenuron、ノバルロンnovaluron、ノビフルムロンnoviflumuron、テフルベンズロンteflubenzuron、トリフルムロンtriflumuron、トリアズロン等;7フェニルピラゾ-ル化合物アセトプロ-ルacetoprole、エチプロ-ルethiprole、フィプロニルfiproni1、バニリプロ-ルvaniliprole、ピリプロ-ルpyriprole、ピラフルプロ-ルpyrafluprole等;8Btトキシン殺虫剤バチルスチュ-リンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物;9ヒドラジン化合物クロマフェノジドchromafenozide、ハロフェノジドhalofenozide、メトキシフェノジドmethoxyfenozide、テブフェノジドtebufenozide等;10有機塩素化合物アルドリンaldrin、ディルドリンdieldrin、ジエノクロルdienochlor、エンドスルファンendosulfan、メトキシクロルmethoxychlor等;11天然殺虫剤マシン油machineoil、硫酸ニコチンnicotine-sulfate;12その他の殺虫剤アベルメクチンavermectin-B、ブロモプロピレ-トbromopropylate、ブプロフェジンbuprofezin、クロルフェナピルchlorphenapyr、シロマジンcyromazine、D-D1,3-Dichloropropene、エマメクチンベンゾエ-トemamectin-benzoate、フェナザキンfenazaquin、フルピラゾホスflupyrazofos、ハイドロプレンhydroprene、メトプレンmethoprene、インドキサカルブindoxacarb、メトキサジアゾンmetoxadiazone、ミルベマイシンAmilbemycin-A、ピメトロジンpymetrozine、ピリダリルpyridalyl、ピリプロキシフェンpyriproxyfen、スピノサッドspinosad、スルフラミドsulfluramid、トルフェンピラドtolfenpyrad、トリアゼメイトtriazamate、フルベンジアミドflubendiamide、レピメクチンlepimectin、亜ひ酸Arsenicacid、ベンクロチアズbenclothiaz、石灰窒素Calciumcyanamide、石灰硫黄合剤Calciumpolysulfide、クロルデンchlordane、DDT、DSP、フルフェネリウムflufenerim、フロニカミドflonicamid、フルリムフェンflurimfen、ホルメタネ-トformetanate、メタムアンモニウムmetam-ammonium、メタムナトリウムmetam-sodium、臭化メチルMethylbromide、ニディノテフランnidinotefuran、オレイン酸カリウムPotassiumoleate、プロトリフェンビュ-トprotrifenbute、スピロメシフェンspiromesifen、硫黄Sulfur、メタフルミゾンmetaflumizone、スピロテトラマットspirotetramat、ピリフルキナゾンpyrifluquinazone、スピネトラムspinetoram、クロラントラニリプロ-ルchlorantraniliprole、シアントラニリプロ-ルcyantraniliprole、で示される化合物等。かかる他の殺ダニ剤殺ダニ活性成分としては、例えばアセキノシルacequinocyl、アミトラズamitraz、ベンゾキシメ-トbenzoximate、ビフェナゼ-トbifenaate、フェニソブロモレ-トbromopropylate、キノメチオネ-トchinomethionat、クロルベンジレ-トchlorobenzilate、CPCBSchlorfenson、クロフェンテジンclofentezine、シフルメトフェンcyflumetofen、ケルセンジコホル:dicofol、エトキサゾ-ルetoxazole、酸化フェンブタスズfenbutatinoxide、フェノチオカルブfenothiocarb、フェンピロキシメ-トfenpyroximate、フルアクリピリムfluacrypyrim、フルプロキシフェンfluproxyfen、ヘキシチアゾクスhexythiazox、プロパルギットpropargite:BPPS、ポリナクチン複合体polynactins、ピリダベンpyridaben、ピリミジフェンPyrimidifen、テブフェンピラドtebufenpyrad、テトラジホンtetradifon、スピロディクロフェンspirodiclofen、スピロメシフェンspiromesifen、スピロテトラマットspirotetramat、アミドフルメットamidoflumet、シエノピラフェンcyenopyrafen等が挙げられる。かかる他の殺線虫剤殺線虫活性成分としては、例えば、DCIP、フォスチアゼ-トfosthiazate、塩酸レバミゾ-ルlevamisol、メチルイソチオシアネ-トmethyisothiocyanate、酒石酸モランテルmoranteltartarate、イミシアホスimicyafos等が挙げられる。本発明防除剤の施用量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、対象病害、対象作物等によっても異なるが、本発明防除剤中の本発明化合物量で1000m2あたり、通常1~500g、好ましくは2~200gである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は通常水で希釈して施用されるが、その場合の希釈後の本発明化合物濃度は、通常0.0005~2重量、好ましくは0.005~1重量であり、粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま施用される。種子への処理においては、種子1Kgに対して本発明防除剤中の本発明化合物量で、通常0001~100g、好ましくは0.01~50gの範囲で施用される。本発明防除剤は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地における植物病害の防除剤として使用することができる。本発明防除剤は、以下に挙げられる植物等を栽培する農耕地等において、当該農耕地の病害を防除することができる。農作物;トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピ-ナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、野菜;ナス科野菜ナス、トマト、ピ-マン、トウガラシ、ジャガイモ等、ウリ科野菜キュウリ、カボチャ、ズッキ-ニ、スイカ、メロン等、アブラナ科野菜ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コ-ルラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリ-、カリフラワ-等、キク科野菜ゴボウ、シュンギク、ア-ティチョ-ク、レタス等、ユリ科野菜ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス、セリ科野菜ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等、アカザ科野菜ホウレンソウ、フダンソウ等、シソ科野菜シソ、ミント、バジル等、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、花卉、観葉植物、果樹;仁果類リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等、核果類モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プル-ン等、カンキツ類ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレ-プフル-ツ等、堅果類クリ、クルミ、ハシバミ、ア-モンド、ピスタチオ、カシュ-ナッツ、マカダミアナッツ等、液果類ブル-ベリ-、クランベリ-、ブラックベリ-、ラズベリ-等、ブドウ、カキ、オリ-ブ、ビワ、バナナ、コ-ヒ-、ナツメヤシ、ココヤシ等、果樹以外の樹;チャ、クワ、花木、街路樹トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユ-カリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ等。上記植物とは、イソキサフルト-ル等のHPPD阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のALS阻害剤、EPSP合成酵素阻害剤、グルタミン合成酵素阻害剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された作物も含まれる。古典的な育種法により耐性が付与された植物の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤耐性のClearfield登録商標カノ-ラ、チフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ALS阻害型除草剤耐性のSTSダイズ等がある。また、遺伝子組換え技術により耐性が付与された植物の例として、グリホサ-トやグルホシネ-ト耐性のトウモロコシ品種があり、RoundupReady登録商標、RoundupReady2登録商標、及びLibertyLink登録商標等の商品名ですでに販売されている。上記植物とは、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物も含まれる。この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルスセレウスやバチルスポピリエ由来の殺虫性タンパク;バチルスチュ-リンゲンシス由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ-エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパク;線虫由来の殺虫タンパク;さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素;糸状菌類毒素;植物レクチン;アグルチニン;トリプシン阻害剤、セリンプロテア-ゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテア-ゼ阻害剤;リシン、トウモロコシ-RIP、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾ-ム不活性化タンパクRIP;3-ヒドロキシステロイドオキシダ-ゼ、エクジステロイド-UDP-グルコシルトランスフェラ-ゼ、コレステロ-ルオキシダ-ゼ等のステロイド代謝酵素;エクダイソン阻害剤;HMG-COAリダクタ-ゼ;ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤;幼若ホルモンエステラ-ゼ;利尿ホルモン受容体;スチルベンシンタ-ゼ;ビベンジルシンタ-ゼ;キチナ-ゼ;グルカナ-ゼ等が挙げられる。またこの様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1又はCry9C等のδ-エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の1つ又は複数が置換されている。これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、EP-A-0374753、WO9307278、WO9534656、EP-A-0427529、EP-A-451878、WO03052073等に記載されている。これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。また、1つ若しくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、1つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、YieldGard登録商標Cry1Ab毒素を発現するトウモロコシ品種、YieldGardRootworm登録商標Cry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種、YieldGardPlus登録商標Cry1AbとCry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種、HerculexI登録商標Cry1Fa2毒素とグルホシネ-トへの耐性を付与する為にホスフィノトリシンN-アサチルトランスフェラ-ゼPATを発現するトウモロコシ品種、NuCOTN33BCry1Ac毒素を発現するワタ品種、BollgardI登録商標Cry1Ac毒素を発現するワタ品種、BollgardII登録商標Cry1AcとCry2Ab毒素とを発現するワタ品種、VIPCOT登録商標VIP毒素を発現するワタ品種、NewLeaf登録商標Cry3A毒素を発現するジャガイモ品種、NatureGard登録商標Agrisure登録商標GTAdvantageGA21グリホサ-ト耐性形質、Agrisure登録商標CBAdvantageBt11コ-ンボ-ラ-CB形質、Protecta登録商標等が挙げられる。上記植物とは、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。抗病原性物質の例として、PRタンパク等が知られているPRPs、EP-A-0392225。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP-A-0392225、WO9533818、EP-A-0353191等に記載されている。こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている。等のイオンチャネル阻害剤;スチルベンシンタ-ゼ;ビベンジルシンタ-ゼ;キチナ-ゼ;グルカナ-ゼ;PRタンパク;ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO03000906に記載されている。等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。また、上記植物には、古典的育種技術または遺伝子組換え技術を用い、先に述べたような除草剤耐性、害虫抵抗性、病害耐性等に関わる形質を2種以上付与された系統、および同類または異なる性質を有する遺伝子組換え植物同士を掛け合わせることにより親系統が有する2種以上の性質が付与された系統も含まれる。本発明により防除することができる植物病害としては、例えば糸状菌等が挙げられ、より詳しくは以下の病害を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。通常、本発明防除方法は、本発明防除剤を前記した本発明防除剤を施用する方法で用いることにより行われる。イネのいもち病Magnaporthegrisea、ごま葉枯病Cochliobolusmiyabeanus、紋枯病Rhizoctoniasolani、馬鹿苗病Gibberellafujikuroi、黄化萎縮病Sclerophthoramacrospora;コムギのうどんこ病Erysiphegraminis、赤かび病Fusariumgraminearum、F.avenaceum、F.culmorum、Microdochiumnivale、さび病Pucciniastriiformis、P.graminis、P.recondita、紅色雪腐病Micronectriellanivale、雪腐小粒菌核病Typhulasp.、裸黒穂病Ustilagotritici、なまぐさ黒穂病Tilletiacaries、眼紋病Pseudocercosporellaherpotrichoides、葉枯病Septoriatritici、ふ枯病Stagonosporanodorum、黄斑病Pyrenophoratritici-repentis、;オオムギのうどんこ病Erysiphegraminis、赤かび病Fusariumgraminearum、F.avenaceum、F.culmorum、Microdochiumnivale、さび病Pucciniastriiformis、P.graminis、P.hordei、裸黒穂病Ustilagonuda、雲形病Rhynchosporiumsecalis、網斑病Pyrenophorateres、斑点病Cochliobolussativus、斑葉病Pyrenophoragraminea、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病Rhizoctoniasolani;ムギ類のうどんこ病Erysiphegraminis、赤かび病Fusariumgraminearum,F.avenaceumF.culmorum,Microdochiumnivale、さび病Pucciniastriiformis,P.graminis,P.recondita,Phordei、雪腐病Typhulasp.,Micronectriellanivalis、裸黒穂病Ustilagotritici,U.nuda、なまぐさ黒穂病Tilletiacaries、眼紋病Pseudocercosporellaherpotrichoides、雲形病Rhynchosporiumsecalis、葉枯病Septoriatritici、ふ枯病Leptosphaerianodorum、網斑病PyrenophorateresDrechsler、立枯病Gaeumannomycesgraminis、黄斑病Pyrenophoratritici-repentis;カンキツ類の黒点病Diaporthecitri、そうか病Elsinoefawcetti、果実腐敗病PenicilliumdigitatumP.italicum;リンゴのモニリア病Moniliniamali、腐らん病Valsaceratosperma、うどんこ病Podosphaeraleucotricha、斑点落葉病Alternariaalternataapplepathotype、黒星病Venturiainaequalis、炭そ病Glomerellacingulata;ナシの黒星病Venturianashicola,V.pirina、黒斑病AlternariaalternataJapanesepearpathotype、赤星病Gymnosporangiumharaeanum;モモの灰星病Moniliniafructicola、黒星病Cladosporiumcarpophilum、フォモプシス腐敗病Phomopsissp.;ブドウの黒とう病Elsinoeampelina、晩腐病Glomerellacingulata、うどんこ病Uncinulanecator、さび病Phakopsoraampelopsidis、ブラックロット病Guignardiabidwellii、べと病Plasmoparaviticola;カキの炭そ病Gloeosporiumkaki、落葉病Cercosporakaki,Mycosphaerellanawae;ウリ類の炭そ病Colletotrichumlagenarium、うどんこ病Sphaerothecafuliginea、つる枯病Mycosphaerellamelonis、つる割病Fusariumoxysporum、べと病Pseudoperonosporacubensis、疫病Phytophthorasp.、苗立枯病Pythiumsp.;トマトの輪紋病Alternariasolani、葉かび病Cladosporiumfulvum、疫病Phytophthorainfestans;ナスの褐紋病Phomopsisvexans、うどんこ病Erysiphecichoracearum;アブラナ科野菜の黒斑病Alternariajaponica、白斑病Cercosporellabrassicae、根こぶ病Plasmodiophoraparasitica、べと病Peronosporaparasitica;ネギのさび病Pucciniaallii、ダイズの紫斑病Cercosporakikuchii、黒とう病Elsinoeglycines、黒点病Diaporthephaseolorumvar.sojae、さび病Phakopsorapachyrhizi、インゲンの炭そ病Colletotrichumlindemthianumラッカセイの黒渋病Cercosporapersonata、褐斑病Cercosporaarachidicola、白絹病Sclerotiumrolfsii;エンドウのうどんこ病Erysiphepisi;ジャガイモの夏疫病Alternariasolani、疫病Phytophthorainfestans、半身萎凋病Verticilliumalbo-atrum,V.dahliae,V.nigrescens;イチゴのうどんこ病Sphaerothecahumuli;チャの網もち病Exobasidiumreticulatum;白星病Elsinoeleucospila、輪斑病Pestalotiopsissp.、炭そ病Colletotrichumtheae-sinensisタバコの赤星病Alternarialongipes、うどんこ病Erysiphecichoracearum、炭そ病Colletotrichumtabacum、べと病Peronosporatabacina、疫病Phytophthoranicotianae;テンサイの褐斑病Cercosporabeticola、葉腐病Thanatephoruscucumeris、根腐病Thanatephoruscucumeris、黒根病Aphanomycessochlioides;バラの黒星病Diplocarponrosae、うどんこ病Sphaerothecapannosa;キクの褐斑病Septoriachrysanthemi-indici、白さび病Pucciniahoriana;タマネギの白斑葉枯病Botrytiscinerea,B.byssoidea,Bsquamosa、灰色腐敗病Botrytisalli;小菌核性腐敗病Botrytissquamosa種々の作物の灰色かび病Botrytiscinerea、菌核病Sclerotiniasclerotiorum;ダイコン黒斑病Alternariabrassicicola;シバのダラ-スポット病Sclerotiniahomeocarpa、シバのブラウンパッチ病およびラ-ジパッチ病Rhizoctoniasolani;並びにバナナのシガトカ病Mycosphaerellafijiensis、Mycosphaerellamusicola。次に本発明について製造例、製剤例、試験例等の実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。まず、製造例を示す。製造例1223444-ヘキサフルオロブタノ-ル5.6g及びクロロホルム40mlを室温で混合した。得られた混合物に0°Cでピリジン3.0mlおよびトリフルオロメタンスルホン酸無水物6.2mlを順次加えた。得られた混合物を室温で1時間30分攪拌した。反応混合物に1N塩酸を加え、ジエチルエ-テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下濃縮することで223444-ヘキサフルオロブチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物4.15gを得た。N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.50g及びDMF10mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.11gを加えた。得られた混合物を室温で20分攪拌した。次に、該混合物に上記の223444-ヘキサフルオロブチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物0.92gを室温で加えた。得られた混合物を室温で2時間30分間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物1を0.54g得た。本発明化合物11H-NMRδ120217223298335418-438511-528656663738製造例2N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.20g及びDMF3mlを室温で混合した。得られた混合物に室温で2233-テトラフルオロプロピルトリフルオロメタンスルホネ-ト0.26g及び60水素化ナトリウム油性0.11gを順次加えた。得られた混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物2を0.20g得た。本発明化合物21H-NMRδ120216223298335428608656662738製造例3222-トリフルオロエタノ-ル0.70g及びジエチルエ-テル20mlを室温で混合した。得られた混合物に-50°Cでトリフルオロメタンスルホン酸無水物1.4mlおよびトリエチルアミン1.0mlを順次加えた。得られた混合物を0°Cに昇温して30分間攪拌した。反応混合物に1N塩酸を加え、ジエチルエ-テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下濃縮することで222-トリフルオロエチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物0.46gを得た。N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.22g及びDMF4mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.047gを室温で加えた。得られた混合物を室温で15分間攪拌した。次に、該混合物に上記の222-トリフルオロエチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物0.30gを室温で加えた。得られた混合物を室温で2時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物3を0.15g得た。本発明化合物31H-NMRδ120219222298335429656662739製造例422333-ペンタフルオロプロパノ-ル1.5g及びジエチルエ-テル40mlを室温で混合した。得られた混合物に-50°Cでトリフルオロメタンスルホン酸無水物2.0mlおよびトリエチルアミン1.5mlを順次加えた。得られた混合物を0°Cに昇温して20分間攪拌した。反応混合物に1N塩酸を加え、ジエチルエ-テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下濃縮することで22333-ペンタフルオロプロピルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物を得た。N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.53g及びDMF10mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.15gを室温で加えた。得られた混合物を室温で20分間攪拌した。次に、該混合物に上記の22333-ペンタフルオロプロピルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物全量を室温で加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物4を0.094g得た。本発明化合物41H-NMRδ120217223298334434-437656660738製造例52233444-ヘプタフルオロブタノ-ル1.6g及びジエチルエ-テル30mlを室温で混合した。得られた混合物に-50°Cでトリフルオロメタンスルホン酸無水物1.6mlおよびトリエチルアミン1.1mlを順次加えた。得られた混合物を0°Cに昇温して30分間攪拌した。反応混合物に1N塩酸を加え、ジエチルエ-テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下濃縮することで2233444-ヘプタフルオロブチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物を得た。N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.48g及びDMF10mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.14gを室温で加えた。得られた混合物を室温で20分間攪拌した。次に、該混合物に上記の2233444-ヘプタフルオロブチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物全量を室温で加えた。得られた混合物を室温で20分間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物5を0.059g得た。本発明化合物51H-NMRδ120217223298335439656661738製造例6223344555-ノナフルオロペンタノ-ル1.5g及びジエチルエ-テル25mlを室温で混合した。得られた混合物に-50°Cでトリフルオロメタンスルホン酸無水物1.2mlおよびトリエチルアミン0.89mlを順次加えた。得られた混合物を0°Cに昇温して20分間攪拌した。反応混合物に1N塩酸を加え、ジエチルエ-テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下濃縮することで223344555-ノナフルオロペンチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物を得た。N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.20g及びDMF3mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.043gを室温で加えた。得られた混合物を室温で15分間攪拌した。次に、該混合物に上記の223344555-ノナフルオロペンチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物全量を室温で加えた。得られた混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物6を0.045g得た。本発明化合物61H-NMRδ120217223298335440657661738製造例722334455666-ウンデカフルオロヘキサノ-ル1.9g及びジエチルエ-テル20mlを室温で混合した。得られた混合物に-50°Cでトリフルオロメタンスルホン酸無水物1.2mlおよびトリエチルアミン0.91mlを順次加えた。得られた混合物を0°Cに昇温して30分間攪拌した。反応混合物に1N塩酸を加え、ジエチルエ-テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下濃縮することで22334455666-ウンデカフルオロヘキシルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物を得た。N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.20g及びDMF3mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.078gを室温で加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。次に、該混合物に上記の22334455666-ウンデカフルオロヘキシルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物全量を室温で加えた。得られた混合物を室温で2時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物7を0.083g得た。本発明化合物71H-NMRδ120218223298335440656661738製造例82233445566777-トリデカフルオロヘプタノ-ル2.1g及びジエチルエ-テル20mlを室温で混合した。得られた混合物に-50°Cでトリフルオロメタンスルホン酸無水物1.2mlおよびトリエチルアミン0.89mlを順次加えた。得られた混合物を0°Cに昇温して20分間攪拌した。反応混合物に1N塩酸を加え、ジエチルエ-テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下濃縮することで2233445566777-トリデカフルオロヘプチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物を得た。N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.20g及びDMF3mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.078gを加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。次に、該混合物に上記の2233445566777-トリデカフルオロヘプチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物全量を室温で加えた。得られた混合物を室温で2時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物8を0.065g得た。本発明化合物81H-NMRδ120217223298335440657661738製造例9223344556677888-ペンタデカフルオロオクタノ-ル2.5g及びジエチルエ-テル30mlを室温で混合した。得られた混合物に-50°Cでトリフルオロメタンスルホン酸無水物1.3mlおよびトリエチルアミン0.92mlを順次加えた。得られた混合物を0°Cに昇温して20分間攪拌した。反応混合物に1N塩酸を加え、ジエチルエ-テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下濃縮することで223344556677888-ペンタデカフルオロオクチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物を得た。N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.50g及びDMF10mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.16gを室温で加えた。得られた混合物を室温で20分間攪拌した。次に、該混合物に上記の223344556677888-ペンタデカフルオロオクチルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物全量を室温で加えた。得られた混合物を室温で2時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物9を0.082g得た。本発明化合物91H-NMRδ120218223298335440657661738製造例1022334455667788999-へプタデカフルオロノナ-ル3.1g及びジエチルエ-テル30mlを室温で混合した。得られた混合物に-50°Cでトリフルオロメタンスルホン酸無水物1.4mlおよびトリエチルアミン1.0mlを順次加えた。得られた混合物を0°Cに昇温して10分間攪拌した。反応混合物に1N塩酸を加え、ジエチルエ-テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下濃縮することで22334455667788999-ヘプタデカフルオロノニルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物を得た。N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.20g及びDMF3mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.16gを室温で加えた。得られた混合物を室温で15分間攪拌した。次に、該混合物に上記22334455667788999-ヘプタデカフルオロノニルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物全量を室温で加えた。得られた混合物を室温で15時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物10を0.094g得た。本発明化合物101H-NMRδ120218223298335440657661738製造例112233445566778899101010-ノナデカフルオロデカノ-ル2.5g及びジエチルエ-テル20mlを室温で混合した。得られた混合物に-50°Cでトリフルオロメタンスルホン酸無水物1.0mlおよびトリエチルアミン0.74mlを順次加えた。得られた混合物を0°Cに昇温して20分間攪拌した。反応混合物に1N塩酸を加え、ジエチルエ-テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下濃縮することで2233445566778899101010-ノナデカフルオロデシルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物を得た。N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.51g及びDMF10mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.20gを室温で加えた。得られた混合物を室温で15分間攪拌した。次に、該混合物に上記の2233445566778899101010-ノナデカフルオロデシルトリフルオロメタンスルホネ-トの粗生成物全量を室温で加えた。得られた混合物を室温で2時間30分間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物11を0.12g得た。本発明化合物111H-NMRδ120218223298336440657661739製造例12N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.26g及びDMF6mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.055gおよび22334455667788991010111111-ヘンイコサフルオロウンデシルトリフルオロメタンスルホネ-ト0.95gを0°Cで順次加えた。得られた混合物を室温まで昇温して30分間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物12を0.059g得た。本発明化合物121HNMRδ120218223298335441657661738製造例13N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.43g、ヨウ化ナトリウム0.031g及びDMF7mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.055gを室温で加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。次に、該混合物に1-ブロモ-444-トリフルオロブタン0.59gを室温で加えた。得られた混合物を室温で30分攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物13を0.11g得た。本発明化合物131HNMRδ120202205215223230233297335397655661739製造例14N-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジン0.44g、ヨウ化ナトリウム0.032g及びDMF7mlを室温で混合した。得られた混合物に60水素化ナトリウム油性0.093gを室温で加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。次に、該混合物に1-ブロモ-666-トリフルオロヘキサン0.69gを室温で加えた。得られた混合物を室温で30分間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物14を0.16g得た。本発明化合物141HNMRδ119160164176183208211215223297334392655662739製造例1522-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン0.26gにオルトギ酸トリメチル4ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.018gを室温で加えて、1時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、MTBEで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に減圧下濃縮して、以下の式で示されるN-4-22-ジフルオロ-44-ジメチルペンチロキシ-25-ジメチルフェニルホルムイミド酸メチルの粗精製物を得た。N-4-22-ジフルオロ-44-ジメチルペンチロキシ-25-ジメチルフェニルホルムイミド酸メチル上記のN-4-22-ジフルオロ-44-ジメチルペンチロキシ-25-ジメチルフェニルホルムイミド酸メチルの粗精製物及び14-ジオキサン4mlを室温で混合した。得られた混合物にエチルメチルアミン0.12mlを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで3時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物15を0.22g得た。本発明化合物151HNMRδ109119201220222297334400655659738製造例1622-ジフルオロ-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシブタン0.25gにオルトギ酸トリメチル4ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.021gを室温で加えて、1時間40分加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、MTBEで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に減圧下濃縮して、以下の式で示されるN-4-22-ジフルオロブトキシ-25-ジメチルフェニルホルムイミド酸メチルの粗精製物を得た。N-4-22-ジフルオロブトキシ-25-ジメチルフェニルホルムイミド酸メチル上記のN-4-22-ジフルオロブトキシ-25-ジメチルフェニルホルムイミド酸メチルの粗精製物及び14-ジオキサン4mlを室温で混合した。得られた混合物にエチルメチルアミン0.14mlを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで40分攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物16を0.25g得た。本発明化合物161HNMRδ108119204215217223298334407656661738製造例1722-ジフルオロ-4-メチル-25-ジメチル-4-アミノフェノキシペンタン0.28gにオルトギ酸トリメチル4ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.020gを室温で加えて、1時間40分加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、MTBEで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に減圧下濃縮して、以下の式で示されるN-4-22-ジフルオロ-4-メチルペンチロキシ-25-ジメチルフェニル-ホルムイミド酸メチルの粗精製物を得た。N-4-22-ジフルオロ-4-メチルペンチロキシ-25-ジメチルフェニル-ホルムイミド酸メチル上記のN-4-22-ジフルオロ-4-メチルペンチロキシ-25-ジメチルフェニル-ホルムイミド酸メチルの粗精製物及び14-ジオキサン4mlを室温で混合した。得られた混合物にエチルメチルアミン0.14mlを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで40分攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物17を0.28g得た。本発明化合物171HNMRδ101119195199218223297334405656661739製造例1822-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン0.30gにオルトギ酸トリメチル5ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.021gを室温で加えて、1時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却し、減圧下濃縮後、14-ジオキサン5ml及びジエチルアミン0.23mlを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで3時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物18を0.20g得た。本発明化合物181HNMRδ109120201219222337400655659736製造例1922-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン0.30gにNN-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール5mlを室温で加え、100°Cで3時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物19を0.22g得た。本発明化合物191HNMRδ109201219223299400656659737製造例2022-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン0.30gにオルトギ酸トリメチル5ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.021gを室温で加えて、1時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却し、減圧下濃縮後、14-ジオキサン5ml及びN-メチルプロピルアミン0.23mlを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで3時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物20を0.19g得た。本発明化合物201HNMRδ092109162201219222297322400655659739製造例2122-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン0.30gにオルトギ酸トリメチル5ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.021gを室温で加えて、2時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却し、減圧下濃縮後、14-ジオキサン5mlを室温で加えた。得られた混合物にN-メチルイソプロピルアミン0.23mlを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで3時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物21を0.17g得た。本発明化合物211HNMRδ109122201219222288336400656659745製造例2222-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン0.30gにオルトギ酸トリメチル5ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.021gを室温で加えて、2.5時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却し、減圧下濃縮後、14-ジオキサン5ml及びN-メチルシクロピルアミン塩酸塩0.24g及びトリエチルアミン1mlを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで3時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、反応混合物に5塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に減圧下濃縮、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物22を0.16g得た。本発明化合物221HNMRδ069075109201219222266301401655659757製造例2322-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン0.30gにオルトギ酸トリメチル5ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.021gを室温で加えて、2時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却し、減圧下濃縮後、14-ジオキサン5ml及びN-メチルシクロペンチルアミン0.22gを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで2時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物23を0.26g得た。本発明化合物231HNMRδ109159174186190201219223290293400656659748製造例2422-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン0.30gにオルトギ酸トリメチル5ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.021gを室温で加えて、2時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却し、減圧下濃縮後、14-ジオキサン5ml及びN-メチルシクロヘキシルアミン0.25gを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで2時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物24を0.26g得た。本発明化合物241HNMRδ109123140144157183201219222292312400656659747製造例2522-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン0.30gにオルトギ酸トリメチル5ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.021gを室温で加えて、2時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却し、減圧下濃縮後、14-ジオキサン5ml、トリエチルアミン1ml及びN-メチルシクロブチルアミン塩酸塩0.27gを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで2時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物25を0.23g得た。本発明化合物251HNMRδ109162177201219222294296401655659744製造例26Z-2-フルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタ-2-エン0.51gにオルトギ酸トリメチル8ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物0.038gを室温で加えて、1時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、MTBEで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に減圧下濃縮して、以下の式で示されるN-Z-2-フルオロ-44-ジメチルペンテ-2-ニロキシ-25-ジメチルフェニルホルムイミド酸メチルの租精製物を得た。N-Z-2-フルオロ-44-ジメチルペンテ-2-ニロキシ-25-ジメチルフェニルホルムイミド酸メチル上記のN-Z-2-フルオロ-44-ジメチルペンテ-2-ニロキシ-25-ジメチルフェニルホルムイミド酸メチルの租精製物及び14-ジオキサン8mlを室温で混合した。得られた混合物にエチルメチルアミン0.26mlを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで2時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物26を0.31g得た。本発明化合物261HNMRδ101120205222298335579655673739製造例27444-トリフルオロ-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシブタ-2-イン0.38gにNN-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール5mlを室温で加え、90°Cで1時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、本発明化合物27を0.22g得た。本発明化合物271HNMRδ218224299473656669738次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例を示す。参考製造例14-ヒドロキシ-25-ジメチルアニリン10gにオルトギ酸トリメチル60ml及びパラトルエンスルホン酸一水和物1.4gを室温で加えて、1時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、そこに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、減圧下濃縮した。得られた残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液ついでヘキサンとMTBEの混合溶媒で洗浄して、以下の式で示されるN-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-ホルムイミド酸メチルを13g得た。1HNMRδ217219387655661764N-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-ホルムイミド酸メチル13g及び14-ジオキサン200mlを室温で混合した。得られた混合物にエチルメチルアミン12mlを室温で加えた。得られた混合物を80°Cで2時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、減圧下濃縮した。生じた固体をろ過で集め、MTBEで洗浄して、以下の式で示されるN-エチル-N’-4-ヒドロキシ-25-ジメチルフェニル-N-メチルホルムアミジンを8.1g得た。1HNMRδ119218219297334651658738参考製造例225-ジメチル-4-ヒドロキシニトロベンゼン51g、炭酸カリウム44g及びアセトニトリル1.0リットルを室温で混合した。得られた混合物にブロモメチル22-ジメチルプロピルケトン56gを室温で加えた。得られた混合物を1時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、セライトでろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。そこに水を加え、MTBEで抽出した。有機層を1水酸化ナトリウム水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮することで44-ジメチル-25-ジメチル-4-ニトロフェノキシペンタ-2-オンを72g得た。44-ジメチル-25-ジメチル-4-ニトロフェノキシペンタ-2-オン1HNMRδ10723224825945964779544-ジメチル-25-ジメチル-4-ニトロフェノキシペンタ-2-オン22g及びビス2-メトキシエチルアミノサルファートリフルオリド52gを室温で混合し、得られた混合物を70°Cで5時間30分攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却後、MTBEを加えた。得られた溶液を水に滴下した後にMTBEで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、22-ジフルオロ-44-ジメチル-25-ジメチル-4-ニトロフェノキシペンタンの租精製物を得た。上記の22-ジフルオロ-44-ジメチル-25-ジメチル-4-ニトロフェノキシペンタンの租精製物、クロロホルム450ml及びメタノール200mlを室温で混合した。得られた混合物にオゾンを-40°Cから-35°Cを保ちつつ吹き込みながら、1時間攪拌した。得られた混合物に窒素を-40°Cから-35°Cを保ちつつ吹き込みながら、30分攪拌した。反応混合物に水素化ホウ素ナトリウム8.8gを-40°Cから-35°Cを保ちながら加えた。0°Cまで昇温した後、30分攪拌した。反応混合物に濃塩酸を加えてpHを1とした後に、溶媒を減圧下濃縮した。そこに水を加え、MTBEで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、22-ジフルオロ-44-ジメチル-25-ジメチル-4-ニトロフェノキシペンタン13gを得た。22-ジフルオロ-44-ジメチル-25-ジメチル-4-ニトロフェノキシペンタン1HNMRδ11020122726241366379422-ジフルオロ-44-ジメチル-25-ジメチル-4-ニトロフェノキシペンタン13g及び10パラジウム炭素0.9gを混合した。得られた混合物にエタノール150mlを加え、0.40MPaの水素雰囲気下で3時間攪拌した。反応混合物をセライト登録商標でろ過し、ろ液を減圧下濃縮することで22-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン11gを得た。22-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン1HNMRδ109200214216397652654参考製造例325-ジメチル-4-ヒドロキシブロモベンゼン1.0g、炭酸カリウム0.69g及びDMF10mlを室温で混合した。得られた混合物にブロモメチルエチルケトン0.72gを室温で加えた。得られた混合物を室温で4時間攪拌した。反応混合物に水を加え、MTBEで抽出した。有機層を1水酸化ナトリウム水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンとMTBEの混合溶媒で洗浄して4-ブロモ-25-ジメチルフェノキシブタ-2-オンを0.78g得た。4-ブロモ-25-ジメチルフェノキシブタ-2-オン1HNMRδ1122242332664516537314-ブロモ-25-ジメチルフェノキシブタ-2-オン0.52g及びクロロホルム10mlを室温で混合した。得られた混合物にジエチルアミノサルファートリフルオリド0.40mlを0°Cで混合し、得られた混合物を室温で13時間30分攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、22-ジフルオロ-4-ブロモ-25-ジメチルフェノキシブタン0.38gを得た。22-ジフルオロ-4-ブロモ-25-ジメチルフェノキシブタン1HNMRδ10820521221723540866672922-ジフルオロ-4-ブロモ-25-ジメチルフェノキシブタン0.56g、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム0.088g、トリフェニルシリルアミン0.63g及び2-ジシクロへキシルホスフィノビフェニル0.080gを室温で混合した。得られた混合物に1Nのリチウムヘキサメチルジシラジドトルエン溶液2.5mlを加えた。得られた混合物をを100°Cで9時間攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、1N塩酸10mlを加え、得られた混合物を室温で30分攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてpHを10とした後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、22-ジフルオロ-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシブタン0.34gを得た。22-ジフルオロ-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシブタン1HNMRδ107203212213215334403651656参考製造例425-ジメチル-4-ヒドロキシブロモベンゼン2.0g、炭酸カリウム1.4g及びDMF30mlを室温で混合した。得られた混合物にブロモメチル2-メチルプロピルケトン1.7gを室温で加えた。得られた混合物を室温で2時間攪拌した。反応混合物に水を加え、MTBEで抽出した。有機層を1水酸化ナトリウム水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンとMTBEの混合溶媒で洗浄して4-メチル-25-ジメチル-4-ブロモフェノキシペンタ-2-オンを1.7g得た。4-メチル-25-ジメチル-4-ブロモフェノキシペンタ-2-オン1HNMRδ0962222252322484486517314-メチル-25-ジメチル-4-ブロモフェノキシペンタ-2-オン1.2g及びクロロホルム15mlを室温で混合した。得られた混合物にジエチルアミノサルファートリフルオリド0.45mlを0°Cで混合し、得られた混合物を室温で15時間30分攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、22-ジフルオロ-4-メチル-25-ジメチル-4-ブロモフェノキシペンタン0.62gを得た。22-ジフルオロ-4-メチル-25-ジメチル-4-ブロモフェノキシペンタン1HNMRδ10219419821823540666572922-ジフルオロ-4-メチル-25-ジメチル-4-ブロモフェノキシペンタン0.56g、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム0.080g、トリフェニルシリルアミン0.58g及び2-ジシクロへキシルホスフィノビフェニル0.074gを室温で混合した。得られた混合物に1Nのリチウムヘキサメチルジシラジドトルエン溶液2.3mlを加えた。得られた混合物を100°Cで8時間30分攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、1N塩酸10mlを加え、得られた混合物を室温で1時間30分攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてpHを10とした後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、22-ジフルオロ-4-メチル-25-ジメチル-4-アミノフェノキシペンタン0.33gを得た。1HNMRδ101190201213216334401651655参考製造例522-ジフルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタン1.2g及び14-ジオキサン20mlを室温で混合した。得られた混合物にカリウムターシャリーブトキシド3.1gを加えた。得られた混合物を7時間加熱還流した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-に付して、Z-2-フルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタ-2-エン0.51gを得た。Z-2-フルオロ-44-ジメチル-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシペンタ-2-エン1HNMRδ100212220338455572650668参考製造例625-ジメチル-4-ヒドロキシニトロベンゼン10g、444-トリフルオロ-ブタ-2-オール7.5g、トリフェニルホスフィン16g及びトルエン200mlを室温で混合した。得られた混合物にアゾジカルボン酸エチルのトルエン溶液2.2M27mlを0°Cで加えた。得られた混合物を室温まで昇温して、1時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-及びヘキサンとクロロホルムとの混合溶媒を用いた再結晶に付して、44-ジメチル-25-ジメチル-4-ニトロフェノキシペンタ-2-オンを1.5g得た。再結晶の母液を濃縮後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-及びヘキサンとクロロホルムからの再結晶に付して、44-ジメチル-25-ジメチル-4-ニトロフェノキシペンタ-2-オンを0.8g得た。1HNMRδ226264490671794444-トリフルオロ-4-ニトロ-25-ジメチルフェノキシブタ-2-イン1.9g、酢酸28ml、水4ml及び鉄粉2.0gを室温で混合した。得られた混合物を1時間30分80°Cで攪拌した。反応混合物を室温付近まで冷却した後、セライトでろ過することにより不溶物を除去後、得られたろ液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ-及び高速液体クロマトグラフィーに付して、444-トリフルオロ-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシブタ-2-イン0.38gを得た。444-トリフルオロ-4-アミノ-25-ジメチルフェノキシブタ-2-イン1HNMRδ214215337467650664次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。製剤例1本発明化合物1~27のいずれか1化合物50部、リグニンスルホン酸カルシウム3部、ラウリル硫酸マグネシウム2部及び合成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合することにより、製剤を得る。製剤例2本発明化合物1~27のいずれか1化合物20部とソルビタントリオレエ-ト1.5部とを、ポリビニルアルコ-ル2部を含む水溶液28.5部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム0.05部及びアルミニウムマグネシウムシリケ-ト0.1部を含む水溶液40部を加え、さらにプロピレングリコ-ル10部を加えて攪拌混合し、製剤を得る。製剤例3本発明化合物1~27のいずれか1化合物2部、カオリンクレ-88部及びタルク10部をよく粉砕混合することにより、製剤を得る。製剤例4本発明化合物1~27のいずれか1化合物5部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ-テル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部及びキシレン75部をよく混合することにより、製剤を得る。製剤例5本発明化合物1~27のいずれか1化合物2部、合成含水酸化珪素1部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部及びカオリンクレ-65部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、製剤を得る。製剤例6本発明化合物1~27のいずれか1化合物10部;ポリオキシエチレンアルキルエ-テルサルフェ-トアンモニウム塩50部を含むホワイトカ-ボン35部;及び水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明化合物を処理した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積とを比較することにより評価した。試験例1;プラスチックポットに土壌を詰め、そこにイネ品種;日本晴を播種し、温室内で20日間生育させた。その後、本発明化合物1,15及び22を製剤例2に準じて製剤とし、水で希釈して所定濃度200ppmにし、上記イネの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、植物を風乾し、昼間24°C、夜間20°C多湿下で、イネいもち病菌Magnaporthegriseaに罹病したイネ苗品種;日本晴と接触させながら6日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物1,15及び22を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30以下であった。試験例2プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ品種;シロガネを播種し、温室内で9日間生育させた。その後、該コムギにコムギのさび病菌Pucciniareconditaの胞子をふりかけ接種した。該コムギを23°C、暗黒多湿下に1日間置いた後、風乾した。本発明化合物1及び2をそれぞれ製剤例2に準じた製剤とした後、水で希釈して所定濃度にし、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、さらに照明下に7日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物1及び2を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30以下であった。試験例3プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ品種;シロガネを播種し、温室内で9日間生育させた。本発明化合物123,4,5,8,12,13,14,15,16,17,18,19,20,21,22,23,24,25及び26をそれぞれ製剤例2に準じた製剤とし、水で希釈して所定濃度にし、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、18°C、照明下で5日間栽培した後、コムギのさび病菌Pucciniareconditaの胞子をふりかけ接種した。接種後植物を23°C、暗黒多湿下に1日間置いた後、18°C、照明下で8日間栽培し、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物123,4,5,8,12,13,14,15,16,17,18,19,20,21,22,23,24,25及び26を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30以下であった。試験例4プラスチックポットに土壌を詰め、そこにキュウリ品種;相模半白を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化合物1234,5,891011,12,13,14,15,17,18,19,20,21,22及び26をそれぞれ製剤例2に準じた製剤とした後、水で希釈して所定濃度200ppmにし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリうどんこ病菌Sphaerothecafuliginea胞子をふりかけ接種した。植物を昼間24°C、夜間20°Cの温室で11日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物1234,5,891011,12,13,14,15,17,18,19,20,21,22及び26を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30以下であった。試験例5プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ品種;アポジ-を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化合物1,8,15,16,18,19,20,21,22,24及び25をそれぞれ製剤例2に準じた製剤とした後、水で希釈して所定濃度200ppmにし、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、2日後にコムギ葉枯病菌Septoriatritici胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後植物を18°C多湿下に3日間置き、次に照明下に14日から18日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物1,8,15,16,18,19,20,21,22,24及び25を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30以下であった。試験例6プラスチックポットに土壌を詰め、そこにオオムギ品種;ニシノホシを播種し、温室で7日間生育させた。本発明化合物1,2,8,13,14,15,16,17,20,21,22,23及び25をそれぞれ製剤例2に準じた製剤とした後、水で希釈して所定濃度200ppmにし、上記オオムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、2日後にオオムギ網斑病菌Pyrenophorateres胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後植物を昼間23°C、夜間20°Cの温室内で多湿下に3日間置き、次に温室内で7日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物1,2,8,13,14,15,16,17,20,21,22,23及び25を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30以下であった。試験例7プラスチックポットに土壌を詰め、そこにキュウリ品種;相模半白を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化合物6及7をそれぞれ製剤例2に準じた製剤とした後、水で希釈して所定濃度50ppmにし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリうどんこ病菌Sphaerothecafuliginea胞子をふりかけ接種した。植物を昼間24°C、夜間20°Cの温室で11日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物6及び7を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30以下であった。試験例8プラスチックポットに土壌を詰め、そこにオオムギ品種;ニシノホシを播種し、温室で7日間生育させた。本発明化合物7を製剤例2に準じた製剤とした後、水で希釈して所定濃度50ppmにし、上記オオムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、2日後にオオムギ網斑病菌Pyrenophorateres胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後植物を昼間23°C、夜間20°Cの温室内で多湿下に3日間置き、次に温室内で7日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物7を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30以下であった。試験例9プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ品種;シロガネを播種し、温室内で9日間生育させた。その後、該コムギにコムギのさび病菌Pucciniareconditaの胞子をふりかけ接種した。該コムギを23°C、暗黒多湿下に1日間置いた後、風乾した。本発明化合物6及び7をそれぞれ製剤例2に準じた製剤とした後、水で希釈して所定濃度にし、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、さらに照明下に7日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物6及び7を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30以下であった。試験例10プラスチックポットに土壌を詰め、そこにダイズ品種;黒千石を播種し、温室内で13日間生育させた。その後、該ダイズにダイズさび病菌Phakopsorapachyrhizi胞子の水懸濁液を噴霧接種した。該ダイズを23°C、多湿下に1日間置いた後、風乾した。本発明化合物15,26及び27をそれぞれ製剤例2に準じた製剤とした後、水で希釈して所定濃度にし、上記ダイズの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、さらに照明下に14日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物15,26及び27を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30以下であった。"