"少なくとも一つの超小型電子ワークピースを加工する装置であって、a上記少なくとも一つの超小型電子ワークピースを加工中に収容する加工チェンバーと、b加工中に、上記少なくとも一つの超小型電子ワークピースに重ねられて当該ワークピースを少なくとも部分的に覆う下面と、略環状の隙間とを有する構造体と、d流体が流動可能なように上記環状の隙間に連結し、上記環状の隙間の方に向かって斜めに向くノズルであって、当該ノズルを通って流体が噴出されて上記環状の隙間に流入するときに、上記流体の旋回流が発生するように構成された、少なくとも一つのノズルと、e上記流体の旋回流を、上記構造体の下面に向かって流体が流れるように仕向ける少なくとも一つの壁とを備えていることを特徴とする装置。上記構造体は、面を有する第一の部分と、別の面を有する第二の部分とを有し、上記第二の部分の面は、少なくとも部分的に、上記第一の部分の面と接触することを特徴とする請求項1に記載の装置。上記少なくとも一つのノズルが、上記第一の部分の面および上記第二の部分の面のどちらか一方、または、両方に設けられた溝を有することを特徴とする請求項2に記載の装置。上記少なくとも一つのノズルが、上記第一の部分の面および上記第二の部分の面のどちらか一方、または、両方に設けられた複数の溝を有するグループを複数備えていることを特徴とする請求項2に記載の装置。少なくとも一つの超小型電子ワークピースを加工する装置であって、a上記少なくとも一つの超小型電子ワークピースを加工中に収容できる加工チェンバーと、b加工中に、上記少なくとも一つの超小型電子ワークピースに重ねられて当該ワークピースを少なくとも部分的に覆う下面を有する構造体と、c上記加工チェンバーへの出口を提供し、流体が流動可能なように上記構造体の下面に連結される経路面を有する、少なくとも一つの拡張する経路と、d上記略環状の隙間の方に向かって斜めに向くノズルであって、当該ノズルを通って流体が噴出されて上記環状の隙間に流入するときに、上記環状の隙間において上記流体の旋回流が発生するように構成された、少なくとも一つのノズルとを備え、上記環状の隙間で発生した上記流体の旋回流が、上記拡張する経路の経路面を少なくとも有する一または複数の面を介して上記構造体の下面に運ばれるように、上記環状の隙間が、上記経路面の上流にあり、流体が流動可能なように上記経路面と連結されていることを特徴とする装置。上記経路面が、一または複数の付加的面によって、流体が流動可能なように上記構造体の下面と連結されていることを特徴とする請求項5に記載の装置。上記経路面が、直接的に上記下面に連結されていることを特徴とする請求項6に記載の装置。上記経路面が、間接的に上記下面に連結されていることを特徴とする請求項6に記載の装置。上記構造体は、面を有する第一の部分と、別の面を有する第二の部分とを有し、上記第二の部分の面は、少なくとも部分的に、上記第一の部分の面と接触することを特徴とする請求項5に記載の装置。上記少なくとも一つのノズルが、上記第一の部分の面および上記第二の部分の面のどちらか一方、または、両方に設けられた溝を有することを特徴とする請求項9に記載の装置。上記少なくとも一つのノズルが、上記第一の部分の面および上記第二の部分の面のどちらか一方、または、両方に設けられた複数の溝を有するグループを複数備えていることを特徴とする請求項9に記載の装置。装置を洗浄する方法であって、a処理中に少なくとも一つの超小型電子ワークピースを収容する加工チェンバーと、上記少なくとも一つの超小型電子ワークピースに重ねられて当該ワークピースを少なくとも部分的に覆う下面を有する構造体とを備えている装置を準備する工程と、b洗浄流体の旋回流を発生させるのに効果的な条件下で、略環状の隙間、または、その一部分に向かって、上記洗浄流体を斜めに向かわせる工程と、c洗浄液の上記旋回流で上記構造体の下面を濡らす工程とを含むことを特徴とする装置を洗浄する方法。以下に記載される本発明の実施形態は、網羅的であることを意図せず、以下の詳細な説明に開示される形状そのものに本発明を限定することを意図しない。むしろ以下の実施形態は、当業者が本発明の原理および実施を良く理解できるように、選ばれて、記載されたものである。本発明の原理は、ワークピースを、単一、もしくは、バッチで加工するツールに関連して使用できる。説明の目的で、図1は、概略的に実例としてのツール10を示す。このツール10は、本発明の原理を組み込み、そして、ツール10の中に1つのワークピース12を常に収容して、一つ以上の処理にかけるものである。上記1つ以上の処理においては、液体、気体、及び/もしくは、他の処理媒体が、ワークピース12と接触させられる。超小型電子機器産業において、例えば、ツール10は、単一ウエハ加工ツールと称されうる。ワークピース12は、一般的に、半導体ウエハ、もしくは、他の仕掛かり超小型電子基板を含む。本発明の原理は、ツール10に関連して記載されるが、本発明の原理は、他の広い範囲の超小型電子処理システムに洗浄機能を組み込むためにも、同様に使用できる。概略的に図1に示されるように、ツール10は一般的に、主アセンブリとして、土台部14、及び、バリア/供給部16を含む。実際使用する際においては、上記土台部14、及び、バリア/供給部16は、フレームワーク図示されないに取り付けられ、ツール10の筐体図示されない内に収容される。上記取り付けは、ネジ、ボルト、リベット、接着剤、溶接、クランプ、ブラケット、または、これらの組み合わせ等によって行うことができる。しかしながら、望ましくは、上記土台部14及びバリア/供給部16、及び/もしくは、これらの構成部品は、運転、保守、改修、及び/もしくは、交換を容易にするように、独立し、かつ、取り外し可能に取り付けられる。土台部14及びバリア/供給部16は、ワークピース12が処理中に配置される加工チェンバー18を規定にするのに役立つ。土台部14及び/もしくはバリア/供給部16は、ワークピース12を加工チェンバー18に取り付けたり、加工チェンバー18から取り出したりすることを可能にするような、一つ以上の構成もしくは性能を含む。そのような構成もしくは性能の例としては、例えば、所望の退出を可能にする開閉可能なドア図示されないを挙げることができる。代替として、かつ、実際に好ましい実施方法において考えられるように、土台部14及びバリア/供給部16のうちの一つもしくは両方が、可動式で互いに相対的に動くことにより、上記退出を可能にする。好都合なことに、この相対的な動きは、例示する実施形態において、例えば、周囲のフレームワーク図示されないに固定された土台部14の少なくとも一部を保持しながら、バリア/供給部16を上げ下げすることによって実現される。上記土台部14が譲受人による同時係属出願番号1及び2において記載されるような一つ以上の可動バッフル部材を含む実施形態において、上記退出を促進するようにバッフル部材を上げ下げすることが可能である。一般的に、土台部14は、筐体20、チャック22、裏面供給ヘッド26、および、環状バッフル部材34、36及び38を含む。モーター図示されないは、チャックを回転可能に駆動するために使用される。加工チェンバー18の内部において、ワークピース12は、チャック22によって支持され、保持される。チャック22は、固定されていてもよいし、中心軸を中心にして回転可能になっていてもよい。説明目的のため、図は以下のツール10の実施形態を示している。すなわち、このツール10において、ワークピース12が加工中に軸を中心にして回転されるように、チャック22はモーター図示されないによって回転可能に駆動される。ワークピース12が回転するチャック22によって回転させられる実施形態において、この回転によって、ワークピース12上において供給された処理用物質が均一に広がるように促される。現在開発された従来のやり方、もしくは、今後開発されるやり方に基づく様々な異なる方法のいずれかによって、チャック22はワークピース12を固定してもよい。好ましくは、チャック22は、ワークピース12とチャック22との間に隙間28ができるように、しっかりとワークピース12を保持するエッジグリップ構造図示されないを含む。この種の配置によって、ワークピース12の上面もしくは下面のどちらかに、洗浄水を含む処理用化学物質を供給することが可能となる。ツール10は、ワークピース12の下面を処理するための供給構造体を任意に含んでいてもよい。例示する裏面供給機構は、一般的に円形の裏面供給ヘッド26として示される。この裏面供給ヘッド26を通して、一つ以上の処理化学物質をワークピース12の下面に向かって供給することできる。処理化学物質は、シャフト30を経由して、裏面供給ヘッド26に供給される。シャフト30はチャック22の中心穴32を通り抜ける。チャック22が回転する実施形態において、チャック22が回転している時にシャフト30と中心穴32とが接触しないように、シャフト30と中心穴32との間には隙間がある。裏面供給ヘッド26は、要求に応じて、供給または混合されて注がれる、処理用物質の一つ以上の供給物図示されないにつながっていてもよい。加工チェンバー18を収容するのに役に立つ筐体20は、一般的に、受け皿33、および、可動で環状のバッフル部材34、36及び38を含む。上記バッフル部材34、36及び38は、排出管42及び44の少なくとも一部分を規定し、可動境界部分を構成する。排出管42及び44は、リサイクル、廃棄、もしくはその他の処理を目的として、様々な処理流体を取り込むために使用される。それぞれの処理流体は、相互汚染を最小限にするように、及び/もしくは、異なる流体用に独自のキャプチャープロトコルを使用して、それぞれ異なるダクトにおいて回収することが可能である。排出管42及び44のそれぞれは、ワークピース12の外周部付近に注入口41及び43を有する。排出管42及び44のそれぞれは、排出口44及び46を有し、これら排出口44及び46を通って物質が排出される。隣接するバッフル部材は、対応するダクト経路を塞ぐ、もしくは、開くように、互いに向かって行く方向、もしくは、互いから離れる方向に動くことが可能である。例えば、隣接するバッフル部材が互いから離れるように動く場合、これらバッフル部材間でダクト経路が開く。そして、ダクト経路は、上記構造体間において拡張する。上記構造体が互いに連動する場合、構造体間のダクトは塞がり、その大きさは縮小される。具体的に説明すると、中間バッフル部材36と下部バッフル部材38との間の下部排出管42が塞がれている間、上部バッフル部材34と中間バッフル部材36との間の排出管40が開く。具体的に説明すると、ツール10は、可動であり且つ入れ子状にできる三つのバッフル部材34、36、及び38を含む。上記三つのバッフル部材34、36、及び38の間には、二つの排気管42及び44が形成できる状態となる。しかしながら、本発明の他の実施形態には、これより多い数もしくは少ない数のバッフル部材を含んでいてもよいし、それに応じて、上記の2つより多い数の、もしくは、少ない数の排出管を含んでいてもよい。上記土台部14とバリア/供給部16との間には隙間48ができることがある。外部もしくはその他の源からの酸素が加工チェンバー18から排除されるべきワークピース12の処理などのように、閉鎖モードの動作で、ツール10が作動する場合、酸素が隙間48を通って加工チェンバー18へ出ることができないように、この隙間48を塞ぐ、及び/もしくは、なくすことが望ましい。これは様々な方法によって達成され得る。いくつかの選択肢としては、ガスケット、他の適切な密封部品を用いることによって、及び/もしくは、加工チェンバー18の外部環境から加工チェンバー18を隔離するように、隙間48を横切って境界を形成する流動気体のカーテンを用いることによっても、上記隙間48を密封することが可能である。何らかの理由により加工チェンバー18を周囲から隔離することが望まれるなんらかの処理の少なくとも一部の間などのように、いかなる時においても要求に応じて、このガスカーテンの形での境界を設置することができる。適切な配管図示されないを通して、適切な源から図示されない供給される、窒素、二酸化炭素、アルゴン、これらの組み合わせ、等の加圧ガスを、所望のガスカーテンを形成するのに使用してもよい。特に好適な実施形態において、土台部202は、譲受人の同時係属出願番号1及び2に記載され、図示された加工部11の形で存在する。そのような実施形態において、環状のガスカーテンは、バッフル部材の内側の縁と、隣接するバリア板構造体の外周部との間に設けられる。この構造を有する本発明の代表的な実施形態は、より詳細には、譲受人の同時係属出願番号5に記載される。さらに図1を参照すると、バリア/供給部16の例示的な実施形態は、一般的に、バリアプレート56、ネック部200、取り入れ多岐管300、ガス供給システム400、以下にさらに記載される供給構造、及び配管図示されないを含む。バリア/供給部16は、譲受人の同時係属出願番号1から5に記載される供給アセンブリ554に類似している。従って、バリア/供給部16は、可動部材526に結合されていてもよく、そして、これら同時係属出願に記載され、示され、及び/もしくは言及されているバリア/供給部の代用となってもよい。好適な実施形態によれば、バリアプレート56は、一般的に環状であり、下面58を有する。バリアプレート56の下面58は、存在する可能性のある液体を集めて取り除くのに役立つ、一つ以上の構成を有する。一つの方法として、譲受人の同時係属出願番号3に記載されるように、吸引構造及び技術が、液体を除去するために使用されてもよい。この目的のために、バリアプレート56の下面58から液体を吸引するための配管図示されないが行われる。譲受人の同時係属出願番号1及び2の可動支持部材526のような構成部品を用いることなどによる、z軸の移動によって、下に位置するワークピース12に対するバリアプレート56の相対的な位置を制御することができる。好適には、ワークピース12とバリアプレート56の下面58との間に先細りの流路64を設置するように、少なくともバリアプレート56の下面58は、下に位置するワークピース12の平面に対して中心軸62から放射状に外に向かって、下向きの角度に調整される。この流路64の先細りの構成によって、再循環領域を最小限にする一方で、放射状流がワークピース12の中心から外側に向かうように促すのを助長する。この先細りの構成はまた、ワークピース12の外縁に接近する流動中の流体を円滑に収束させ、流体の速度を上げるのにも役立つ。これにより、結果として液飛びを減少させるのにも役立つ。さらに、下面58の上記角度により、下面58上の液体は、外周部に向かって流れるようになる。この外周部では、集められた液体は、ワークピース12に向かって滴り落ちずに、吸引して取り除かれる。上記構成は、より良好に流体を回収することによって、化学的な再生利用効率を促進する。上記角度に調整された下面58は、様々な幾何学形状を有することができる。例えば、下面58の幾何学形状は、一つ以上の線形幾何円錐状、放物線幾何学、多項式幾何などからなる。具体的に説明すると、下面58は、一般的に、放射状に外向きの方向で、ワークピース12に向かって、線形的に収束する。さらに、特定の実施形態に関して、上記一般的に環状のバリアプレート56は、一つの態様においては、ワークピースの加工のための環境を保護するのに役立ち、また、加工チェンバー18に供給された物質を収容するのに役立つように、加工チェンバー18上の蓋もしくはカバーとして機能する。しかしながら、バリアプレート56は、多くの実施形態おいて上下に動かすことができるので、上記一般的な環状バリアプレート56は、加工チェンバー18を規定にするのに役立つ他のバリアに、直接的かつ物理的に接触するよりも、むしろ、隙間48が設けられるように、近接するほうが好ましい。この構成により、直接的かつ物理的な接触により発生しうる粒子の生成を最小限に抑えられる。また、上記構成により、バリアプレート56が動く間に起こり得るステッピングモーターのステップをコントローラーが見失うようなリスクが最小限に抑えられる。上記バリアプレート56の好適な実施形態は、譲受人の同時係属出願番号3及び5にさらに記載されている。ワークピース12に一つ以上の処理化学物質を噴射する供給機能を提供するために、バリアプレートの下側に、スプレーバー図示されないを取り付けることもできる。このスプレーバーは、下に位置するワークピースの全て、もしくは、一部を占める設置面積を有しうる。スプレーバーの実施形態は、譲受人の同時係属出願、及び、本明細書に引用される発行された特許に記載される。ネック部200は、バリアプレート56の上部に取り付けられる。上記ネック部200は、配管、供給部品、及び、他の構成を接続する構成を有する。一方で、同時に、上記ネック部200は、周囲から加工チェンバー18を隔離するのに役立つ。ネック部200は、洗浄流体の供給に貢献する機能、蒸気の封じ込めに貢献する機能、及び、ベンチュリ機能を実現する機能をもたらす。図2~4に最もよく見られるように、ネック部200は、上部フランジ202、基部フランジ204、及び本体206を含む。基部フランジ204は、なんらかの適切な締結技術を用いて、下に位置するバリアプレート56に取り付けられる。具体的に説明すると、基部フランジ204は、適切なネジ部品図示されないを用いて、ネック部200をバリアプレート56に固定するための貫通孔208を含む。本発明のこの締結状況、もしくは、他の締結状況において役立つ代替的締結技術には、リベット、接着剤、ボルト、溶接、クランプ、テープ、および、これらの組み合わせ等が含まれる。経路210は、注入口214から排出口216に、ネック部200を通って伸びている。各経路210は、壁212によって少なくとも部分的に規定される。本実施形態に記載されるように、各壁212は、断面が一般的に丸い形で相対的に小さい注入口214から、断面が一般的にDの形状をしており相対的に大きな排出口216の方向に向かって、滑らかに拡張している。各経路210の拡張する幾何形状は、数多くの利点をもたらす。その利点には、封じ込めのために注入口214において相対的に高い流速が得られること、加工チェンバー18へのより円滑な流れを目的として、排出口216において相対的に低い流速が得られること、バリアプレート56の下面58に洗浄流体などの流体の散布できることを含む。各排出口216は、いくつかの実施形態において、下に位置するバリアプレート56中の対応する孔の幾何形状に一致するように、一般的にDの形をしている。使用時には、各経路210を、経路に流体的に結合された一つ以上の適切な源から、加工チェンバー18へと加工用のガス、及び/もしくは、蒸気を流入させるために、使用することができる。したがって、これらのガス、及び/もしくは、蒸気が、ネック部200を通り、続いて、加工チェンバー18へと流入する際の円滑な流れを促進させるために、各経路210が滑らかな外形を描くことが望ましい。図示されるような幾何的に拡張していく形状に加えて、他の幾何形状もまた経路210に使用してもよい。例えば、他の実施形態における、経路の一部は、上記経路が本明細書に引用された譲受人の特許権の一つ以上に記載されるようなベンチュリ構成を含むように、収束し、その後、拡張する部分を含んでいてもよい。ベンチュリ構成によって、加工用のガス及び他の流体を、下に位置する加工チェンバー18に閉じ込めることを促進できる。ねじ穴218は、配管、および、取り入れ多岐管300のような他の構成部品を、適切な留め具を使って、ネック部200の上面220に取り付けるための簡単な方法を提供する。溝及び対応するはめ込み式ガスケットなどのような適切な構成を、任意で、上面220に設けることができる。これにより、配管部品とネック部200との間の流体を確実に密封することが助長される。同様に、溝及びガスケットなどの構成をD形状の排出口216の周りに設けることが可能である。これにより、ネック部200と下に位置するバリアプレート56との間の流体を密封することが助長される。ネック部200の中心領域において、ポケット224は、好都合な経路を提供する。この経路を通って配管、ノズル、電線、光ファイバー、センサー、及び、その他ツールの構成部品が通されていてもよい。フロア222がポケット224内でくぼんでいる。そしてフロア222は、上述のような構成部品を取り付ける、及び/もしくは、通すために使用可能な開口部226を含む。例えば、中心にある供給ノズル本明細書に引用される同時係属出願を参照は、処理流体が下に位置するワークピース12の中心に向かって供給されることを可能にする経路を設けるために、フロア222に適切に配置される開口部に取り付けることができる。スプレーバーもしあればを供給する配管ライン図示されないもまた、フロア222にしっかり固定されていてもよい、及び/もしくは、フロア222を通っていてもよい。洗浄ラインもまた、これらの開口部のうちの一つ以上を通って、加工チェンバー18に通じていてもよい。ポケット壁230上の開口部228もまた、配管、電線もしくはその他ラインをポケット224へ引き、続いて加工チェンバー18へ引くように使用することも可能である。さらに以下に記載されるように、本発明の洗浄技術によって生成される洗浄流体の旋回流を、バリアプレート56の裏面を洗浄するために使用してもよい。多くの場合、上記洗浄流体は、水もしくは、他の水性組成物である。この旋回流は、少なくとも部分的には経路210を規定する壁212によって、バリアプレート56の裏面に導かれる。バリアプレート56へ、この旋回水流を円滑に運ぶことを促進するために、親水性物質でネック部200を作ることが望ましい。石英は、適切な親水性物質の一例である。適切な親水性物質の別の例として、適切な表面処理が行なわれたフッ化ビニリデン樹脂PVDFが挙げられる。このような表面処理には、例えば、粗面化、研磨、ビーズ吹き付け、化学的浸食、エッチングなどが挙げられる。適切な親水性物質の別の例として、一般的に疎水性物質である、ポリフェニレンサルファイド樹脂PPSに対して、紫外線照射、電子ビーム照射など、適切な量の電離放射線を照射することによって得ることが挙げられる。PPSは、供給される際には、たいてい、淡黄色である。適切な量の放射線によって、PPSの物理的特性を過度に失うことなく、PPSの色が黄褐色に変わる。たいてい、この色の変化は、表面が親水性にされたことを示す視覚的な指標となる。単純な実証的試験は、水が玉のようになるか、一面に広がるかをみるために、水を処理済みの物質に注ぐことによって、行うことができる。色の変化が観察されても、表面は疎水性のままである場合がある。表面が親水性になるまで、一回以上、電離エネルギーを用いて、上記物質を再処理することができる。二つ以上の親水性物質の組み合わせを使用してもよい。主に図1及び図4~図11を参照すると、取り入れ多岐管300は、ネック部200に接続されている。各取り入れ多岐管300は、対応する経路210と共に、経路の一部を構成し、この経路を通って、一種類以上のガス、蒸気などが加工チェンバー18に供給される。取り入れ多岐管のうちの少なくとも一つ、しかし好ましくは両方が、表面212及びバリアプレート56の裏面58を洗浄するために使用される水もしくは他の適切な液体の旋回流の発生を助長する洗浄構成をも組み込んでいる。主要部品として、各取り入れ多岐管300は、基部302と、基部302に取り付けられたカバー304とを備える。この例示的実施形態における各基部302は、円柱を輪切りにした形を持つ下部本体部分306と、四角柱を輪切りにした形を持つ上部本体部分308と、取り付けフランジ310とを備える。フランジ310の中の取り付け穴312を用いて、取り入れ多岐管300をネック部200に締め付けることができる。経路314は、注入口端部316から基部302を通って、さらに排出口318を通って伸びている。注入口端部316に近い経路314は、側壁324と面326とを含むカウンタボア320を有するように構成される。円筒壁328は、カウンタボア320から排出口318に伸びる経路314の残りの部分を規定する。基部302は、ネック部200の表面212だけでなく、バリアプレート56の裏面58を濡らして洗浄するための洗浄液の旋回流を生成するために使用される構成の少なくとも一部を含むことが望ましい。配管接続330は、供給ライン図示されないを取り付けるための場所を提供するように、上部本体部分308の少なくとも1つの側面に備えられる。上記供給ラインを通して、洗浄液が一つ以上の適切な源図示されないから供給される。引込管332は、配管接続330の先端336にある注入口334から、面326に配置された排出口338にかけて伸びている図7から図12参照。例示的な実施形態における各多岐管300に対して、カバー304が、上端部350から下端部352に伸びており、主要部品として、本体344、取り付けフランジ346、及び、段付き突起348を含む。フランジ346における孔347によって、カバー304を対応する基部302に取付けるのが容易になる。経路356は、上端部350に近い注入口358からカバー304を通って、下端部352に近い排出口360を通って、伸びている。経路356は、ガス、蒸気などが加工チェンバー18に供給されるときに沿うそれぞれの経路の一部分としての役割を果たす。各多岐管300は、経路356がネック部200の中にある対応する経路210の上流にくるように、ネック部200に接続される。排出口360に近い各経路356は、経路356から対応する経路210に流体をスムーズに流す手助けとなるように凸状の外形図示されないを任意に有していてもよい。注入口358と排出口360との間の経路356の一部は、円筒型の壁364によって規定される。上端部350に近い溝366のOリング図示されないは、カバー304を供給管444及び448に結合するための一つの例示的な方法を提供する。階付き突起348は、本体367、頸状部369、及び、つば部370を備える。図7を参照にすると、カバー304が基部302に取りつけられる際に、本体367と側壁324との間に流体をきつく密封するのに役立つように、Oリング380は、本体367上の円周上にある溝383にはめ込まれる。さらに、カバー304、洗浄液の旋回流を発生させるのに使用される構成の少なくとも一部を含んでいる。これらの構成は、つば部370上にガイド壁374を含み、これにより旋回流が引き起こされる環状の隙間384を作り出すのに役立つ。さらに、細長い溝376図7及び13を参照が頸状部369に設けられ、排出口338に位置を合わせて配置される。細長い溝376は、排出口338から出る液体を貯蔵部382に入れることを可能にする流路を形成する。複数の溝378が面372に形成され、流路としての役目を果たす。様々な方法によって、上記溝378を面372に設けることが可能である。発生した旋回流が、より均一に一面を覆う作用が起こるのを助長するように、一般的に、溝378を一様に配置することが望ましい。図13で最もよく分かる好適な実施形態において、溝は、介在ランド部分393ができるように、グループ391に分けて配置される。こうすることによって、溝378が面372に一様に分布することを妨げずに、ランド部分393に細長い溝376を配置することが可能となる。本内容において、斜めにというタームは、一般的に中心軸342図13に向かって、放射状に、そして内へ向かう溝と対比される。斜めの溝378は、経路356を上面から見たときに時計回りもしくは反時計回りのいずれかの旋回流を発生させるように、通常、集合的に、そして、非放射状に向けられている。各溝378を、他の溝378と同程度に傾斜させる必要はない、もしくは、同じ斜め方向にする必要はない。しかし、一つ以上の溝が使われる場合、全ての溝378は、時計回りの旋回流もしくは反時計回り旋回流のいずれかを作り出すように、実質同じ斜め方向に向けられていることが望ましい。図4で最もよく分かるように、カバー304が基部302に取り付けられる際、環状貯蔵部382は、カウンタボア320に形成される。一般的に、環状の隙間384は、つば部370のガイド壁374と壁328との間に形成される。ガイド壁374と壁328とは、隙間384の領域内において平行であってもよいし、平行でなくともよい。好適な実施形態において、上記隙間384は、底部においてわずかに広くなっている。およそ7度程度の角度で拡張していることが好適であろう。使用中において、洗浄液は適切な配管供給ライン図示されないによって、洗浄用引込管332に供給される。上記洗浄液は、引込管332を出て、排出口338及び細長い溝376を通って環状貯蔵部382を満たす。貯蔵部382から、上記洗浄液は、溝378によって形成された流路を通って、ガイド壁374に向かって内向に、斜め方向に噴出される。こうして洗浄液は環状の隙間384に入る。斜めに向けられた溝に少なくとも一部起因して、洗浄液の旋回流が隙間384で発生する。上記隙間384の幅が、旋回作用の特性に影響を与える可能性がある。例えば、上記隙間が広すぎると、上記旋回作用は、所望よりも弱くなってしまう可能性がある。一実施形態において、0.004インチの隙間が好適であろう。隙間384において生成された流れは、まず、通路314及び356を満たすことなく、壁328及び364の一面を覆いながら、経路314及び356を通り、その後、ネック部の経路210を満たすことなく、壁212の一面を覆いながら、該経路210を通って、加工チェンバー18の方に向かって旋回し続ける。その後、上記洗浄液は、ネック部200から外側に向けて、上記バリアプレート56の裏面58に流れる。裏面58を効果的に、そして非常に均一に濡らし、洗浄することが成し遂げられる。上記一面を覆う旋回流が、洗浄したい面に洗浄液を保持するのを助け、洗浄剤が滴り落ちるのを最小限にする、もしくは、解消するのを助ける。複数の長所がこの方法から生じる。洗浄液が旋回しながら加工チェンバー18に向かって流れる際、この旋回流によって、望ましくは、経路210、314、及び356の全面をうまく濡らすことが達成される。この段階で、全面に亘る範囲をうまく濡らすことができ、これが、バリアプレート56の下面に向かって、そして、下方面の至るところに、滑らかな一面を覆う液の流れを進めるのに役立つ。経路210、314、及び356を通って加速するガス流によって、バリアプレート56の下面58上の液体の流れが広がったり、細くなったりするのがさらに助長される。水を経路210、314、及び356の、好ましくは親水性の表面に供給した場合、液飛びや滴の形成がほとんどない、良好に一面に広がる作用および親水性の表面における良好な被覆が観察される。洗浄液が、バリアプレート56の好ましくは親水性の下面58に流れる際、一面の流動中の洗浄液が、上記バリアプレートの親水性の下面上に円滑に、そして、均一に広がり、上記下面を覆う。上記洗浄液がバリアプレートの外周部に向かって外向きに流れる際、譲受人の同時係属出願番号3に記載されるような吸引技術を、洗浄液の少なくともいくらかを回収するために用いることが望ましい。吸気は、洗浄中、及び/もしくは、洗浄の終わりに実施してもよい。ネック部200の上に配置され、多岐管300の中に組み込まれる洗浄構造もまた、加工チェンバー18のかなり上流にある。これが、洗浄構造を汚染から護るのに役立つ。また、残留化学物質を有する可能性が高い全ての表面に、洗浄剤が到達するのを可能にする。さらなる長所として、良好に表面を濡らす流体の旋回流を発生させ、導入することがより容易となる。全体でみると、多岐管300に一体化される洗浄構造に関連する、これら数多くの特徴及び長所によって、粒子汚染が軽減される。バリア/供給部16は、加工チェンバー18に処理用物質を供給するための一つ以上の独立した機構を備えることが望ましい。例えば、例示的な実施形態には、少なくとも一つの、好ましくは二つ以上の、そして、さらに好ましくは、少なくとも異なる3種類以上の供給性能を有している。一つの性能としては、スプレーの下にあるワークピース12の回転により、処理用物質が全面に行き渡るように、ワークピース12に向けて下方に、一般的にはワークピース12の半径全体に、一つ以上の処理用流体を噴射する供給構造を含む。好適な実施形態において、この性能は、バリアプレート56及び/またはネック部200に取り付けられるスプレーバーのような供給構造体によって実現される。このようなスプレーバーの好適な実施形態、及び、このようなスプレーバーをバリア/供給部に組み込む方法は、譲受人の同時係属出願番号3にスプレーバー178として記載されている。別の供給性能として、処理用化学物質を下に位置するワークピース12の中心に向けて、一般的に下方に供給する供給構造が含まれていてもよい。ワークピース12が回転する際、中心に供給された物質は上記ワークピースの表面全体に行き渡る。好適な実施形態において、この性能は、ネック部200のフロア222に取り付けられた、中央の供給ノズルアセンブリ図示されないによって実現される。このようなノズルの好適な実施形態は、譲受人の同時係属出願番号3に、中心供給ノズルアセンブリ518として記載される。このユニットの取り付け方法は、この譲受人の同時係属出願番号3に記載される方法と同様に行われる。さらに、ガス供給システム400は、典型的にはガス及び/または蒸気である加工用物質、および、任意で、同伴物質が含まれる加工用物質を加工チェンバー18に導入するための、さらに別の方法を提供する。上記ガス供給システム400は、上述の流れを経路210、314、及び356に供給する。これらの流れの中から一つ以上の流れが、加工チェンバー18に向かって下流へと供給される。上記バリア/供給部16の供給部品は、適切な供給ラインを経由して供給される処理用物質の一つ以上の供給物図示されないにつながっていてもよい。これらの物質は、要求に応じて、供給または混合されて注がれる。ツール10は、実施される可能性のある処理の種類において極めて柔軟であるので、種々様々な処理用物質を使用できる。代表的な処理用物質をほんの少し例に挙げると、窒素、二酸化炭素、アンモニア、きれいな乾燥空気、蒸気、アルゴン、HFガス、水性HF,水性イソプロピルアルコール、もしくは、他のアルコール類などのガスや液体、及び/もしくは、張力活性物質、純水、水酸化アンモニウムの水溶液もしくは他の溶液、硫酸の水溶液もしくは他の溶液、および/または、その乾燥種及び前駆物質例えば、三酸化硫黄SO3、チオ硫酸H2S2O3、ペルオキソ硫酸H2SO5、ペルオキソニ硫酸H2S2O8、フルオロ硫酸HSO3F、及び、クロロ硫酸HSO3Cl、硝酸の水溶液もしくは他の溶液、リン酸の水溶液もしくは他の溶液、塩化水素の水溶液もしくは他の溶液、過酸化水素および/もしくはオゾンガスなどの酸化剤、水中オゾン、界面活性剤、有機酸および有機溶媒、キレート剤、脱酸素剤、ならびに、これらの組み合わせ等が挙げられる。ガス供給システム400は、加工チェンバー18に一種類以上のガス、蒸気などを供給する取り入れ多岐管300の上流にあり、流体が流動可能なように、取り入れ多岐管300と連結されている。具体的に説明すると、ガス供給システム400は、二つの供給ライン444及び448を介して多岐管300につながれて流体が流れるようになっている。他の実施形態において、望むなら、これよりも多い数の、もしくは、少ない数の供給ラインを使用してもよい。ガス供給システム400は、増幅ガス供給ステーション462を含む。増幅ガス供給ステーション462は、主要部品として、空気増幅器498、バルブ520及び多岐管464を備える。要求に応じて、上記増幅ガス供給ステーション462は、加工チェンバー18を少なくとも1つの外気の源に、流体が流れるように、かつ、制御可能につなぐ。好適な実施形態において、増幅ガス供給ステーション462は、ツール10に関連するロボット使用の区画において、外気の源に、流体が流動可能なように連結されている。上記のような空気は、しばしば非常に高度に、さらに、ツール10の外部を取り巻くクリーンルーム環境よりも高度に、浄化されるので、上記のような構成は有益である。これにより、増幅ガス供給ステーション462は、超小型電子ワークピースの純度の高い加工のために、実質粒子のない環境から外気を取り込むことができる。さらに、これにより、上記ステーションの供給先である加工チェンバーの比較的近くに、上記ステーション462が、都合よく配置される。当然、適切な外気の源が、実用的に利用できる限り、上記増幅ガス供給ステーション462を、他の所望の場所に配置することができる。他の代表的な候補場所には、ツール10の他の区画、周囲のクリーンルーム、同じ区画のクリーンルームの中の他のツール、または、離れた場所にあるツールもしくはクリーンルームさえも含まれる。上記空気増幅器498の空気吸入口に適切な浄化部品が取り付けられていれば、空気増幅器498の上流にあるそのような浄化部品により浄化される外気の他の源に、空気増幅器498を流体的につなぐことさえ可能である。空気増幅器は、比較的低圧力のガスのより大きな流れを発生させるために、加圧ガスの比較的少ない流れを用いる装置を指している。多くの場合、より低圧力のガスは、外気である。空気増幅装置は、小さな体積の加圧ガスからエネルギーを得て、高速で、体積が大きく、低圧の出力気流を生み出す。多くの市販ユニットの場合、1より大きく、75:1までの範囲の増幅率が達成される。本発明においては、1より大きく、約25:1までの範囲の増幅率、好ましくは、約2より大きく、約10:1までの範囲の増幅率が適切であろう。一連の条件下においては、4:1の増幅率を用いることが適切であることがわかった。空気増幅器498は、ライン505を介して、加圧ガスフローを受ける注入口504、および、外気の供給を受ける吸気口502を備えている。空気増幅器の内部構造により、加圧ガスは、ずっと大きな体積の外気を空気増幅器498の中に吸気口502を通して引き込み、さらに、増幅された外気が多岐管464に向かって下流に流れるように動かす。たいてい、上記加圧ガスは、外気とは関係なく調達される。この用途に適切な他のガス及び蒸気の例として、窒素、アルゴン、二酸化炭素、クリーン乾燥空気、および、これらの組み合わせなどが挙げられる。加工チェンバー18は1つの空気増幅器498からの供給を受けているように図示されているが、他の実施形態においては、一つ以上の空気増幅器によって一つ以上の加工チェンバーが供給を受けてもよい。バルブ520が開き、空気増幅器498が作動している時、外気流は、多岐管464に流れる。この多岐管464から、空気はライン444及び448を通って取り入れ多岐管300に流れる。空気増幅器498の注入口504へ入る加圧ガスの流れが止まっていようとなかろうとバルブ520が閉じている時バルブ520が閉じている時には、注入口504への加圧ガスの流れを止めることが望ましいが、多岐管464、供給ライン444及び448、多岐管300、および、ネック部200を通って伸びる、環境に制御された流体経路は、外気から隔離される。電源障害の際、下流の加工チェンバー18が外気にさらされるのを防ぐように、上記バルブ520は普段は閉じられているのが好ましい。市販の空気増幅器ユニットに備えられるステンレス鋼ロッキングナットがPVDFから製造されたロッキングナットに交換されることを除けば、NEX社から市販される型番40001の調節可能な空気増幅器ユニットが、本実施形態における空気増幅器のとりわけ好適な実施形態である。ステンレス鋼をカバーし、ステンレス鋼が化学物質にさらされるのを防ぐために、PVDFナットが代用される。他の実施形態において、空気増幅器の付加的部品、もしくは、空気増幅器の全体を、PVDF,PTFEおよび/または他の不活性材料から作ることが可能である。多岐管464が、複数の源から流体を受けて、さらに、この流体を、供給ライン444及び448、多岐管300、ネック部200及び加工チェンバー18などの一つ以上の、下流にある送り先へと分配することを可能にする構成を多岐管464は備えている。多岐管464は、増幅された空気の流れを受けるための注入口468、および、外部のものではないガスの流れを受けるための、一つ以上の個々に独立した注入口を備えている。具体的に説明すると、窒素、二酸化炭素、などの不活性ガスを多岐管に供給するための、1つの上記のように独立した注入口472が図示されている。増幅された空気の流れを供給する別の方法として、他のガス及び蒸気を加工チェンバー18に供給するのにシステム400を用いてもよい。例えば、窒素のような不活性ガス、表面張力変性剤例:イソプロピルアルコール、エッチングガス、酸化ガス、アンモニア、CO2、クリーン乾燥空気、などのような一種類以上の外部のものではないガスの流れを、バルブ66を開けることによって、供給ライン472を通って、多岐管464を介して、流体経路444及び448に流入させることが可能である。酸素を排除するため、もしくは、他の何らかの理由のために、外部から加工チェンバー18をさらに隔離することが望まれる場合、隙間48を横切ってバリアを設置するようにガスカーテンを配置してもよい。本発明の様々な変形及び変更は、本発明の範囲及び精神から離れない限り当業者にとって明白であろう。ここに記載される例示的な実施形態及び実施例に本発明が過度に限定されることは意図しておらず、また、上記実施例および実施形態は、以下に記載される請求項によってのみ限定される本発明の範囲の内にある例によってのみ示されていることはいうまでもない。"