湾曲箔形状電気光学製品の製造方法であり、前記方法が、-少なくとも1つの第1の領域に収縮可能又は膨張可能な有機材料のベース基板層を提供するステップ、-前記少なくとも1つの第1の領域に前記ベース基板層とスタックを形成するための少なくとも1つのさらなる層を提供するステップ、-1以上の電気光学構造を提供するステップ、-前記有機材料を収縮させ、それに伴い前記スタックを前記収縮可能な有機材料が設けられる側で内側に湾曲させる処理を行うステップ、又は-前記有機材料を膨張させ、それに伴い前記スタックを前記収縮可能な有機材料が設けられる側で外側に湾曲させる処理を行うステップを含む、方法。請求項1に記載の方法であり、前記収縮可能な有機材料が熱収縮材料であり、前記有機材料を収縮させる処理が熱処理である、方法。請求項1に記載の方法であり、前記収縮可能又は膨張可能な有機材料がポリマーの前駆体であり、前記有機材料を収縮又は膨張させる処理が、前記有機材料を重合又は変換するステップである、方法。請求項3に記載の方法であり、前記有機材料が、ラジカル添加重合により硬化する系である、方法。請求項3に記載の方法であり、前記有機材料が、開環を伴わない付加反応を介して反応する系を含む、方法。請求項3に記載の方法であり、前記有機材料が開環により硬化可能な小環状系を含む、方法。請求項3に記載の方法であり、前記有機材料が開環により硬化可能な大環状系を含む、方法。請求項3に記載の方法であり、前記有機材料が2環系開環により硬化可能な環状系を含む、方法。電気光学構造を含む箔形状半製品であり、次のステップ、-少なくとも1つの第1の領域に収縮可能な又は膨張可能な材料のベース基板層を提供し、-前記少なくとも1つの第1の領域に前記ベース基板層とスタックを形成するために少なくとも1つのさらなる層を提供するステップにより得られ得る、電気光学構造を含む箔形状半製品。請求項9に記載の電気光学構造を含む箔形状半製品であり、複数のゾーンを含み、それぞれのゾーンは少なくとも1つの1以上の電気光学構造を含み、これらは第1及び第2のバリア層で包埋される、電気光学構造を含む箔形状半製品。請求項9又は10のいずれか1項に記載の半製品から次の、-前記有機材料を収縮させ、それに伴い前記スタックを前記収縮可能な有機材料の設けられた側で内側に湾曲させる処理を行うステップ又は、-前記有機材料を膨張させ、それに伴い前記スタックを前記収縮可能な有機材料の設けられた側で外側に湾曲させる処理を行うステップ、から得られ得る湾曲箔形状電気光学製品。請求項11に記載の湾曲箔形状電気光学製品であり、前記少なくとも1つの湾曲領域が、それぞれが少なくとも1つの1以上の電気光学構造を持つ相互に分離された第2の領域の間に配置される、湾曲箔形状電気光学製品。請求項12に記載の湾曲箔形状電気光学製品であり、前記相互に分離された第2領域が伸長可能な電気接続線で電気的に接続される、湾曲箔形状電気光学製品。請求項13に記載の湾曲箔形状電気光学製品であり、前記伸長可能な電気接続線が蛇行電気接続線である、湾曲箔形状電気光学製品。請求項11に記載の湾曲箔形状電気光学製品であり、前記電気光学構造が前記収縮可能な又は膨張可能な有機材料の凸側に適用される、湾曲箔形状電気光学製品。請求項11に記載の湾曲箔形状電気光学製品であり、前記さらなる層が、前記ベース基板層と反対側に配置され、前記ベース基板層とは異なる程度の収縮又は膨張の対象となるさらなる基板層である、湾曲箔形状電気光学製品。請求項11に記載の湾曲箔形状電気光学製品であり、前記電気光学構造が、少なくとも部分的に少なくとも1つの第1の領域と重なる第2の領域に配置され、かつ前記電気光学構造が、前記ベース基板層と前記さらなる基板層の間に配置される、湾曲箔形状電気光学製品。請求項11に記載の湾曲箔形状電気光学製品であり、前記ベース基板層に使用される有機材料が可逆的に収縮可能な材料である、湾曲箔形状電気光学製品。請求項18に記載の湾曲箔形状電気光学製品であり、前記可逆的収縮が前記材料の温度で決められる、湾曲箔形状電気光学製品。請求項19に記載の湾曲箔形状電気光学製品であり、前記可逆的収縮光学材料の温度が抵抗部品で制御される、湾曲箔形状電気光学製品。箔形状電気光学製品の製造をするための装置であり、-収縮可能な有機材料のベース基板層を持つ少なくとも1つの第1の領域を提供するための第1の設備、-少なくとも1つの電気光学構造を提供するための第2の設備、-前記有機材料を収縮させるか膨張させて、それに伴い前記少なくとも1つの第1の領域を前記収縮可能な有機材料の設けられた側で内側又は外側に湾曲させる処理を行うための第3の設備を含む、装置。有機材料の基板層を持ち、かつ前記基板層で支持される電気光学構造を持つ箔形状電気光学製品であり、前記基板層は前記電気光学構造と重なる少なくとも1つの第1の部分と、前記電気光学構造と重ならない少なくとも1つの第2の部分を含み、前記少なくとも1つの電気光学構造と重ならない少なくとも1つの部分が、比較的伸長可能な材料であり、前記少なくとも1つの電気光学構造と重なる少なくとも1つの部分が、比較的非伸長可能な材料である、箔形状電気光学製品。箔形状電気光学製品の製造方法であり、-電気光学構造を提供するステップと、-前記電気光学構造を支持する有機材料の基板層を提供するステップを含み、-前記基板層を提供するステップが、比較的非伸長可能な材料から少なくとも1つの前記基板層の第1の部分を提供するステップを含み、前記少なくとも1つの第1の部分が前記電気光学構造と重なり、及び比較的伸長可能な材料から少なくとも1つの前記基板層の第2の部分を提供するステップを含み、前記少なくとも1つの第2の部分が前記電気光学構造と重ならない、方法。箔形状電気光学製品の製造のための装置であり、-電気光学構造を提供する設備、-前記電気光学構造に有機材料の基板層を提供する設備を含み、及び-前記基板層を提供する設備が、比較的非伸長可能な材料から少なくとも1つの前記基板層の第1の部分を提供するように構成され、前記少なくとも1つの第1の部分が前記電気光学構造と重なり、及び比較的伸長可能な材料から少なくとも1つの前記基板層の第2の部分を提供するように構成され、前記少なくとも1つの第2の部分が前記電気光学構造と重ならない、装置。相互に異なる有機材料を適用する方法であり、前記有機材料を同じ層の相互に隣接する領域に印刷し、前記材料をそれらが硬化する前にお互いの中に拡散させることを含む、方法。請求項25に記載の方法であり、前記相互に異なる有機材料が相互に重なる領域で適用される、方法。請求項26に記載の方法であり、第1及び第2の有機材料が、1つの領域で相互に相補的厚さ係数で適用され、それにより実質的に一定の厚さの層を形成する、方法。請求項25に記載の方法であり、前記層は電気光学製品のベース基板層であり、前記相互に隣接する領域が第1の比較的伸長可能な領域と第2の比較的非伸長可能な領域を含む、方法。本発明は、箔形状電気光学製品、半製品及びそれらを製造する方法及び装置を提供することを課題とする。本発明の第1の側面によると、湾曲箔形状電気光学製品の製造の方法が提供される。前記方法は、-少なくとも1つの第1の領域に収縮可能又は膨張可能な有機材料のベース基板層を提供するステップ、-前記少なくとも1つの第1の領域に前記ベース基板層とスタックを形成するための少なくとも1つのさらなる層を提供するステップ、-1以上の電気光学構造を提供するステップ、-前記有機材料を収縮させ、それに伴い前記スタックを前記収縮可能な有機材料が設けられる側で内側に湾曲させる処理を行うステップ又は-前記有機材料を膨張させ、それに伴い前記スタックを前記収縮可能な有機材料が設けられる側で外側に湾曲させる処理を行うステップを含む、方法である。収縮可能な有機材料の存在により、前記箔形状電気光学製品は自発的に外部支持構造なしで望ましい形状になる。種々の層、電気光学構造は、一時的な担体基板に適用され得る。前記担体基板は、例えばガラスプレートなどの剛性材料から形成され得る。又は前記担体基板はフレキシブル材料、例えばポリマー又は金属箔などであり得る。前記方法の実施の完了後又は実施の間に、前記担体基板は製造されるべき電気光学構造から除かれる。例えば前記一時的担体基板を溶解又はエッチングして除くか、又は一時的担体基板を製造される製品から、例えば剥離ライナを用いて剥離することで除かれる。望ましい収縮又は膨張を達成するためにいくつかの選択が可能である。本発明の第1の側面による方法の1つの実施態様では、前記収縮可能な有機材料は熱収縮材料であり、前記有機材料の処理が熱処理である。熱収縮材料は、ポリマー鎖が予め選択された方向に伸ばされ、ガラスネットワークで凍結されたポリマー材料である。加熱することで前記鎖の可動性は増加して前記材料は軟化し、これにより鎖に緩和が生じて、前記材料は前記伸長された方向に沿って相当の収縮が起こる。熱収縮性ポリマーの例には、照射化低密度ポリエチレンLDPE、ポリオレフィン、ポリ-エチレンテレフタレートPET及びポリ-ビニルクロリドPVC及びポリ-テトラフルオロエチレンPTFE、ポリ-ビニリデンジフロリドPVDF、ポリフルオロエチレンプロピレンFEP及びポリパーフルオロアルコキシPFAなどのフルオロポリマーが挙げられる。熱処理中の熱収縮性材料の収縮の程度は、その凍結相での伸ばされた程度に依存する。この依存性は、製造される製品の湾曲の程度を制御するために製造プロセスで使用され得る。熱収縮性ポリマーは、化学的耐性、ゼロ又は非常に低い水分吸収、電気絶縁性、摩耗抵抗性、弾性及び接着耐性などから選択される。国際公開第200609733号には、電気又は光学装置の製造方法が開示されている。この方法は次のステップを含む:iポリマー性基板層を形成するステップ;ii前記基板層を少なくとも1つの方向に伸長するステップ;iiiフィルムを約19から約15kg/mの範囲の張力で寸法保持して、ガラス転移温度を超えるが溶融温度を下回る温度に温度設定するステップ;iv前記フィルムを前記基板層のポリマーのガラス転移温度を超えるが溶融温度を下回る温度で熱安定化するステップ;v平坦化コーティング組成を適用して、コーティング基板の表面が、Ra値0.6nm未満、及び/又はRq値0.8nm未満とするステップ;vi厚さ2から1000nmの無機バリアフィルムを高エネルギー蒸着により適用するステップ;及びvii前記ポリマー基板層、前記平坦化コーティング相及び前記無機バリア相を含む複合フィルムを前記電気又は光学電気装置に提供するステップ、を含む。従って、知られた方法では、前記ポリマー性基板層は、残る層の前及びそれが光学電気装置の基板として使用される前に熱安定化される。この知られた方法は湾曲した製品を製造することを防止するものである。本発明による方法の他の実施態様では、前記収縮可能な又は膨張可能な有機材料はポリマーの前駆体であり、前記有機材料の処理には前記有機材料の重合ステップ又は変換ステップが含まれる。望ましい湾曲の程度に依存して、前記前駆体は以下のカテゴリのUV又は熱硬化性/クロスリンク無溶媒処方物を含み得る。i高重合収縮性、ii中適度重合収縮性、iii低から中程度重合収縮性、ivゼロから低程度の重合収縮性又は重合膨張性。カテゴリiの例は、アクリレート、メタクリレート及びチオール-エン系などのラジカル付加重合により硬化、及びイソシアネート-アミン系及びイソシアネート-ヒドロキシル系などの開環を伴わない付加反応を介して反応して硬化する系が挙げられる。カテゴリiiの例は、エポキシドカチオン硬化、エポキシ-アミン系、無水物-アミン系及び無水系-アルコール系などの小開環系による開環反応により硬化する系が挙げられる。カテゴリiiiの例は、オキセタンカチオン硬化及びオキセタン-アミン系などのエポキシ系の場合よりも大きい環系の開環反応により硬化する系が挙げられる。カテゴリivの例は、スピロ-オルトエステル及びスピロオルトカーボネートなどの非常に低い又はゼロ収縮性である、2環系の開環重合による硬化する系が挙げられる。上述のクロスリンク機能は、機能構成基に基づくものであり、例えば、オリゴエチレンオキシド、ポリエチレンオキシド、アルキルブロック、脂肪族ポリ-又はオリゴエステル、芳香族ポリ又はオリゴエステル、ポリ-又はオリゴブタジエン、脂肪族ポリ-又はオリゴエーテル、芳香族ポリ-又はオリゴエーテル、脂肪族ポリ-又はオリゴカーボネート、芳香族ポリ-又はオリゴカーボネート、脂肪族ポリ又はオリゴウレタン、芳香族ポリ又はオリゴウレタン、脂肪族ウレタン、芳香族ウレタン、ポリフェノール、アルコキシル化フェノール、脂肪族ポリ又はオリゴエポキシド、芳香族ポリ又はオリゴエポキシド例えば、ビスフェノールAの又はエトキシル化ビスフェノールA系、ネオペンチルグリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、エトキシル化トリメチロールプロパン、カプロラクトン、ポリ-又はオリゴシロキサン、脂肪族ポリ又はオリゴペプチド、芳香族ポリ又はオリゴペプチド、脂肪族ポリ又はオリゴアミン、芳香族ポリ又はオリゴアミン、ポリ又はオリゴスチレン、又はこれらの全ての組合せに基づくものである。反応希釈剤は、上述のクロスリンクカテゴリから選択され得る。また上述の機能構成ブロックに基づくことができる。硬化処方の全重合収縮又は膨張は、4つの上述のクロスリンクカテゴリのそれぞれからのいくつかを組合せて行うことで微調節され得る。例えば、重合の際に膨張する系は、重合の際に収縮する系と組み合わせて収縮も膨張もない組成を達成することができる。全体の重合収縮を調節する他の方法は、前記処方のそれぞれの成分についていくつかのクロスリンク機能性を選択することである。モノ-、ジ-、トリ-又はそれ以上の機能材料を使用し得る。全体の重合収縮又は膨張はさらに、ある割合で特定の形で不活性フィラーを負荷することで調節され得る。例えばポリマー、セラミックス、全ての形態のカーボン、シリケート、金属、有機金属金属錯体及び金属塩などである。前記粒子は、前記マトリクス材料と反応する前記クロスリンク基と反応性又は非反応性であり得る。この場合前記マトリクス材料との接着性を強化する。本発明の第2の側面によると電気光学構造を持つ湾曲箔形状電気光学製品が提供される。前記湾曲箔形状電気光学製品は第1の湾曲領域に凸側と凹側を持つ少なくとも1つのベース基板層を持ち、前記基板層が収縮有機材料からなりさらにその凸側に少なくとも1つのさらなる層を含むか、又は前記基板層が膨張有機材料からなりさらにその凹側に少なくとも1つのさらなる層を含み、前記層が機械的にお互いに結合する。収縮又は膨張有機材料の存在により、前記箔形状電気光学製品は自発的に外部の支持構造なしで望ましい形状になる。本発明の第2の側面による湾曲箔形状電気光学製品は、本発明の第3の側面による半製品から得られ得る。本発明の第3の側面によると、電気光学構造を持つ箔形状半製品が提供され、これは収縮可能な又は膨張可能な有機材料のベース基板層を持つ少なくとも1つの第1の領域と、少なくとも1つのさらなる層を含む、この層は機械的にお互いに結合される。本発明の第3の側面による箔形状半製品は、複数のゾーンを有し、それぞれのゾーンは1以上の電気光学構造を含み、これらは第1及び第2のバリア層で包埋される。これにより、前記半製品からの前記ゾーン間の分離線によりゾーンが分離可能となる。本発明の第3の側面による前記半製品は、次の、-少なくとも1つの第1の領域に収縮可能な又は膨張可能な有機材料のベース基板層を提供するステップ、-前記少なくとも1つの第1の領域で少なくとも1つのさらなる層を前記ベース基板層とスタックするために提供するステップとから得られ得る。従って本発明の第2の側面による湾曲箔形状電気光学製品は、前記半製品から次の、-前記有機材料を収縮させ、それに伴い前記スタックを前記収縮可能な有機材料が設けられた側で内側に湾曲させるための処理を適用するステップ、又は-前記有機材料を膨張させ、それに伴い前記スタックを前記収縮可能な有機材料が設けられた側で外側に湾曲させるための処理を適用するステップ、を追加することで得られ得る。本発明の第2の側面による前記湾曲箔形状電気光学製品は、前記半製品を得るために必要なステップと、前記半製品から前記湾曲箔形状電気光学製品を得るためのステップとを組み合わせることで直接得られ得る。電気光学構造は通常は、複数の層を含み、例えば第1及び第2の電極層及び前記第1及び第2の電極層間に埋め込まれた1以上の電気光学層を含む。又は、前記電気光学構造は、例えば第1及び第2の電極が2つのインタロックされた櫛形状構造として形成され、それらの間に電気光学材料が適用される単一層として形成され得る。応用により、さらに電極シャント層などの保護層及び他の補助的層が利用可能である。1つの実施態様では、少なくとも1つの第1の領域は、電気光学構造を含む相互に分離された第2の領域の間に配置される。この方法は、製品の湾曲を、前記電気光学構造を含む領域の外側の領域で導入できるという点で利点がある。これにより、前記電気光学構造を損傷することなく比較的強い湾曲が達成できる。1つの実施態様では、相互に分離された領域は、伸長可能な接続線で電気的に接続される。1つの実施態様では、前記伸長可能な電気接続線は蛇行電気接続線である。前記蛇行接続線は、前記分離された第2の領域間の少なくとも1つの第1の領域で大きく伸長され得る。これは電気接続のために使用される材料が比較的高い弾性率を持つ場合でもそうである。このことは、良好な導電性を持つが伸張可能性が低い銅や銀などを含む広い範囲の材料から電気接続のための材料を選択することを可能とする。本発明の第2の側面による電気光学製品の1つの実施態様では、前記電気光学構造は前記収縮有機材料の凸側に適用される。この実施態様では、前記電気光学構造は伸長されるよりはむしろ圧縮される。このことは、前記電気光学構造の伸長を避けることができ、前記電気光学構造が凹側に適用される場合よりも前記電気光学製品の湾曲をより強くできる。前記電気光学構造はさらなる層を含むことができる。1つの実施態様では、前記さらなる層は、前記ベース基板層の反対に配置されるさらなる基板層であり、これは前記ベース基板層より異なる程度の収縮又は膨張の対象とされる。前記さらなる基板層は製品により規則的な湾曲を与える。しかし他の実施態様では、前記電気光学構造は、前記さらなる基板層の機能を果たす十分な剛性を有することができる。この実施態様の具体的な実施態様では、前記電気光学構造は、前記少なくとも1つの第1の領域と少なくとも部分的に重なる第2の領域に設けられ、前記電気光学構造は、前記ベース基板層と前記さらなる基板層の間に設けられる。このことは、前記電気光学構造が、前記少なくとも1つの第1及び第2の領域が重なる部分においては双方向で保護されること、及び前記電気光学構造が前記変形が比較的に小さいゾーンに設けられる、という点から有利である。前記半製品は、箔として提供され、これはさらに、全体的に又は局所的に熱又は光放射を適用する処理がなされ、熱適用により湾曲箔形状製品とすることができる。1つの実施態様では、前記収縮可能な有機材料は、可逆的に収縮可能な有機材料である。この方法で、最終製品の形状を現在の状況に合わせて変更することを可能とする。それにより、可逆的に収縮可能な材料のベース基板層を持ち、かつ前記ベース基板層へ機械的に結合される少なくとも1つのさらなる層を含む電気光学構造を持つ箔形状電気光学製品が提供される。1つの具体的な実施態様では、前記可逆的収縮は前記材料の温度で決定される。この実施態様は、例えば光電池タイプ電気光学製品に適用可能である。空の太陽の位置に依存して環境の温度は変化する。温度に依存する前記ベース基板層の可逆的収縮は、最適な量の太陽放射を受けるために前記電気光学製品を湾曲させ、又は加熱から生じる前記電気光学製品を保護するために使用され得る。1つの実施態様では、可逆的収縮可能な光学材料の温度は抵抗素子で制御される。これにより、前記ベース基板層の収縮、及びそれによる前記制御の湾曲がこの方法で直接制御され得る。LED又は他の光放射源で、これは光子放射の分布を制御するために使用され得る。本発明の第4の側面により、箔形状電気光学製品の製造のための装置が提供され、前記装置は、-収縮可能な有機材料のベース基板層を持つ少なくとも1つの第1の領域を提供する第1の設備、-少なくとも1つの電気光学構造を提供する第2の設備、-前記有機材料を収縮又は膨張させ、それに伴い前記少なくとも1つの第1の領域を前記収縮可能な有機材料が設けられた側で内側又は外側に湾曲させる処理を提供する第3の設備を含む。本発明の第5の側面によると、箔形状電気光学製品が提供される。前記製品は、有機材料の基板層を持ち、かつ前記基板層で支持される電気光学構造を持つ箔形状電気光学製品であり、前記基板層は前記電気光学構造と重なる少なくとも1つの第1の部分と、前記電気光学構造と重ならない少なくとも1つの第2の部分を含み、前記少なくとも1つの電気光学構造と重ならない少なくとも1つの部分が、比較的伸長可能な材料であり、前記少なくとも1つの電気光学構造と重なる少なくとも1つの部分が、比較的非伸長可能な材料である、箔形状電気光学製品である。伸長可能な材料は、比較的非伸長可能な材料と比較して比較的低い力で弾性的又は非弾性的に伸長され得る材料である。前記比較的伸長可能な材料は、通常フレキシブルでもある。前記比較的非伸長可能な材料は、その応用に依存してフレキシブルか又は非フレキシブルである。箔形状電気光学製品は、本発明の第2の側面と第5の側面による特徴を組み合わせることができる。例えば、装置は本発明の第2の側面によるベース基板層とさらに本発明の第5の側面によるさらなる基板を持つことができる。本発明の第6の側面によれば、箔形状電気光学製品の製造方法が提供される。前記方法は、箔形状電気光学製品の製造方法であり、電気光学構造を提供するステップと、前記電気光学構造を支持する有機材料の基板層を提供するステップを含み、前記基板層を提供するステップが、比較的非伸長可能な材料から少なくとも1つの前記基板層の第1の部分を提供するステップを含み、前記少なくとも1つの第1の部分が前記電気光学構造と重なり、及び比較的伸長可能な材料から少なくとも1つの前記基板層の第2の部分を提供するステップを含み、前記少なくとも1つの第2の部分が前記電気光学構造と重ならない、方法である。1つの実施態様では、前記基板層は、前記電気光学構造の前に適用される。他の実施態様では、前記基板層は前記電気光学構造の後に適用される。前記少なくとも1つの第1及び少なくとも1つの第2の部分を持つ基板層が半製品として提供され得る。前記基板層は、前記少なくとも1つの第1及び少なくとも1つの第2の部分での材料として相互に異なる前駆体を適用することで、及び/又は前記少なくとも1つの第1及び少なくとも1つの第2の部分に相互に異なる処理を適用することで製造され得る。相互に異なる前駆体が、前記少なくとも1つの第1及び少なくとも1つの第2の部分のために使用される場合には、これらの前駆体は境界で部分的にお互いの中に拡散する。前記境界領域は、重なるようにして相互に異なる前駆体を適用することで増加させ得る。相互に異なる前駆体が高さに関して相互に反対の勾配を持って印刷される場合には、重なる領域の全高さは一定となる。種々の層、電気光学構造及び可能な他の製造されるべき電気光学製品の部品は一時的担体基板に適用され得る。前記担体基板は、例えばガラスなどの剛性材料から形成され得る。又は前記担体基板は、例えばポリマー又は金属箔などのフレキシブル材料から形成され得る。本方法が完了した後、又は方法の間に、前記担体基板は製造される電気光学製品から除去され得る。例えば前記一時的担体基板を溶解又はエッチングして除去するか、製造される製品から、例えば剥離ライナを用いて一時的担体基板を剥離させることで除去され得る。本発明の第7の側面により、箔形状電気光学製品の製造のための装置が提供される。前記装置は、-電気光学構造を提供する設備、-前記電気光学構造に有機材料の基板層を提供する設備を含み、及び-前記基板層を提供する設備が、比較的非伸長可能な材料から少なくとも1つの前記基板層の第1の部分を提供するように構成され、前記少なくとも1つの第1の部分が前記電気光学構造と重なり、及び比較的伸長可能な材料から少なくとも1つの前記基板層の第2の部分を提供するように構成され、前記少なくとも1つの第2の部分が前記電気光学構造と重ならない、装置である。前記電気光学構造を提供する設備は、この目的で使用される通常の手段を含み得る。前記基板層を提供する設備は、例えばインクジェットプリンタ、ロータリースクリーン印刷又はロトグラビアプリンタなどの印刷装置を含み得る。前記基板層を提供する設備は、さらに、例えば光子放射又は加熱などの前記基板層を硬化させる設備を含み得る。これらの及びその他の側面について、以下図面を参照してさらに詳細に説明する。図1は、湾曲箔形状電気光学製品1を示し、収縮有機材料のベース基板層10を持つ少なくとも1つの第1の領域を含む。前記ベース基板層10は凸側12及び凹側14を持ち、前記製品1は前記ベース基板層10の前記凸側12で少なくとも1つのさらなる層を含む。前記電気光学製品1はさらに、電気光学構造20を含む少なくとも1つの第2の領域を含む。前記電気光学構造20は例えば、電流を光に変換する層のスタックである。前記電気光学構造は、図1Aに1部分20Aが示されるが、通常は、導電性材料のアノード22、正孔輸送層24、発光層26及びカソード28を含む。この場合には、前記アノード22は好ましくは例えばアルミニウムや銀などの高反射性金属であり、これにより内側に照射された光が外側に反射される。しかし他の金属層、導電層、ITOインジウムスズ酸化物などの金属酸化物層などの他の導電性材料もまた使用され得る。好ましく作用可能な他の金属酸化物には、限定されるものではないが、ニッケル-タングステン-酸化物、インジウムドープ亜鉛酸化物、マグネシウム-インジウム-酸化物及びポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール又はドープされたポリマーなどの導電性ポリマーが挙げられる。参照符号24は正孔輸送層を示す。正孔輸送層材料は例えば、Kirk-OthmerEncyclopediaofChemicalTechnology、FourthEdition、Vol.18、p.837-860、1996、byY.Wangに記載されている。正孔輸送分子及びポリマーも使用され得る。通常使用される正孔輸送分子には、限定されるものではないが、4、4’、4’’-トリスN、N-ジフェニル-アミノ-トリフェニルアミンTDATA;4、4’、4’’-トリスN-3-メチルフェニル-N-フェニル-アミノ-トリフェニルアミノMTDATA;N、N’-ジフェニル-N、N’-ビス3-メチルフェニル-[1、1’-ビフェニル]-4、4’-ジアミンTPD;1、1-ビス[ジ-4-トルイルアミノフェニル]シクロヘキサンTAPC;N、N’-ビス4-メチルフェニル-N、N’-ビス4-エチルフェニル-[1、1’-3、3’-ジメチルビフェニル]-4、4’-ジアミンETPD;テトラキス-3-メチルフェニル-N、N、N’、N’-2、5-フェニレンジアミンPDA;a-フェニル-4-N、N-ジメチルアミノスチレンTPS;p-ジメチルアミノベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾンDEH;トリフェニルアミンTPA;ビス[4-N、N-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル]4-メチルフェニルメタンMPMP;1-フェニル-3-[p-ジエチルアミノスチリル]-5-[p-ジエチルアミノフェニル]ピラゾリンPPR又はDEASP;1、2-trans-ビス9H-カルバゾール-9-イルシクロブタンDCZB;N、N、N’、N’-テトラキス4-メチルフェノル-1、1’-ビフェニル-4、4’-ジアミンTTB;N、N’-ビスナフタレン-1-イル-N、N’-ビス-フェニルベンジジンa-NPB;及び銅フタロシアニンなどのポリフィリン化合物が含まれる。通常使用される正孔輸送ポリマーには、限定されるものではないが、ポリ9、9-ジオクチル-フルオレン-co-N-4-ブチルフェニルジフェニルアミンなど、ポリビニルカルバゾール、フェニルメチルポリシラン、ポリジオキシチオフェン、ポリアニリン及びポリピロールが挙げられる。正孔輸送ポリマーはまた、前記正孔輸送分子をポリスチレン及びポリカーボネートなどのポリマーにドープすることでも得られる。発光層26又は光活性層は、通常は全ての有機エレクトロルミネセンスEL材料を含み、これには、限定されるものではないが、小分子有機発光化合物、蛍光及び燐光発光金属化合物、共役ポリマー及びこれらの組合せが挙げられる。発光化合物の例には、限定されるものではないが、ピレン、ペリレン、ルブレン、クマリン、それらの誘導体及びそれらの混合物が挙げられる。金属化合物の例として、限定されるものではないが、トリス8-ヒドロキシキノレートアルミニウムAlq3などの金属キレートオキシノイド化合物;イリジウムとフェニルピリジン、フェニルキノリン又はフェニルピリミジンリガンドとの錯体などのシクロ金属化イリジウム及び白金エレクトロルミネセンス化合物Petrov等、米国特許第6、670、645号及び国際公開第03/063555号、2004/016710号の開示、及び有機金属化合物例えば、国際公開第03/008424号、03/091688号及び03/040257号の開示及びそれらの混合物が挙げられる。電荷担持ホスト材料及び金属錯体を含むエレクトロルミネセンス発光層については、Thompson等の米国特許第6、303、238号及びBurrowsとThompsonの国際公開第00/70655号及び01/41512号に開示されている。共役ポリマーの例には、限定されるものではないが、ポリフェニレンビニレン、ポリフルオレン、ポリスピロビフルオレン、ポリチオフェン、ポリp-フェニレン、それらの共重合体、及びそれらの組合せが挙げられる。具体的な材料の選択は、具体的な応用、操作において使用される電圧又はその他のファクタに依存する。エレクトロルミネセンス有機材料を含むEL層26は、蒸着、溶液プロセス技術又は熱移動を含む多くの技術を用いて適用され得る。他の実施態様では、ELポリマー前駆体が適用され、その後通常は加熱やその他の外部エネルギー例えば可視光、紫外光放射によりポリマーへ変換され得る。カソード層28は、特に電子又は負電荷キャリアを注入するために効果的な電極である。カソード層28は、前記第1の電気接触層この場合ではアノード層よりも低仕事関数を有するすべての非金属であり得る。ここで使用する低仕事関数とは、約4.4eVより大きくない仕事関数を持つ材料を意味する。ここで使用する高仕事関数とは、少なくとも約4.4eVの仕事関数を持つ材料を意味する。カソード層の材料は、第1族のアルカリ金属例えばLi、Na、K、Rb、Cs、、第2族金属例えばMg、Ca、Baなど、第12族金属、ランタニド例えばCe、Sm、Euなど及びアクチニド例えばTh、Uなどなどから選択される。アルミニウム、インジウム、イッテルビウムなどの金属及びそれらの組合せもまた使用され得る。カソード層の具体的な材料の例には、限定されるものではないが、バリウム、リチウム、セリウム、セシウム、ユーロピウム、ルビジウム、イッテルビウム、マグネシウム、サマリウム及びこれらの合金及びそれらの組合せが挙げられる。カソード層28は通常は、化学的又は物理的蒸着プロセスで形成される。通常の実施態様では、前記カソードは、発光層26に面する、厚さ約5nmのBaの第1の層及び発光層から離れて面する厚さ100nmから400nmの範囲のアルミニウムの第2の層を含む。図1に示される電気光学装置1の実施態様では、電気光学構造20は、電気光学構造20を包埋する第1及び第2のバリア構造30、40で保護される。この場合には、電気光学構造20は、ベース基板層10の凸側12に適用されている。電気光学製品の他の実施態様では、電気光学構造20’は前記収縮有機材料10の凹側14に適用される。バリア構造は通常は、サブ層のスタックを含む。第1の実施態様では、前記バリア構造は、第1及び第2の無機層の間に挟まれた有機層を含むスタックである。このスタックはさらに、お互いに交互にある有機及び無機層を含むことができる。有機層は水分ゲッターを含み得る。有機層は、クロスリンク熱硬化材料、エラストマー、直鎖ポリマー又は分岐又は超分岐ポリマー系又はこれらの全ての組合せから形成され得る。また場合により、光透過性を保証され得る小さいサイズの無機粒子で充填されていてもよい。前記材料は、溶液又は100固体材料からプロセスされ得る。前記硬化又は乾燥は、例えば前記湿った材料、純粋な材料又は光又は熱感受性ラジカル開始剤又は超酸開始剤で適切に調製された材料に、UV光、可視光、赤外線光又は熱、Eビーム、γ線又はこれらの全ての組合せを照射することで生じ得る。有機層の材料は好ましくは、低い特定の水蒸気透過率及び高い疎水性を有する。適切なクロスリンク熱硬化系の例としては、脂肪族又は芳香族エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、飽和炭化水素アクリレート、エポキシド、エポキシド-アミン系、エポキシド-カルボン酸組合せ、オキセタン、ビニールエーテル、ビニール誘導体及びチオール-エン系のすべての1つ又は全てのそれらの組合せが挙げられる。エラストマー材料の適切な例はポリシロキサンである。適切な分岐又は直鎖ポリマー系の例としては、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリエーテル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブタジエン、ポリノルボルネン、環状オレフィンコポリマー、ポリビニリデンフロリド、ポリビニリデンクロリド、ポリビニルクロリド、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレンのすべてのコポリマー又はそれらの物理的組合せが挙げられる。有機層の厚さは、0.1から100μm、好ましくは5及び50μmの間である。無機層は全てのセラミックであり得る。例えば限定されるものではないが、インジウム酸化物In2O3、スズ酸化物SnO2、インジウムスズ酸化物ITOなどの金属酸化物、アルミニウム窒化物AIN、シリコン窒化物SiNなどの金属窒化物、シリコン酸化窒化物などの金属酸化窒化物、シリコンカーバイドなどのカーバイド、又は金属酸化カーバイド、金属炭化窒化物、金属酸化炭化窒化物などのすべての他の組合せが挙げられる。電気光学装置が光学機能を持つ場合には、少なくとも1つの側基礎又はカバーが実質的に透明セラミックである。従って、適切な材料は例えば、シリコン酸化物SiO2、アルミニウム酸化物Al2O3、チタン酸化物TiO2、インジウム酸化物In2O3、スズ酸化物SnO2、インジウムスズ酸化物ITO、In203SnO2、SiC、シリコン酸化窒化物SiON及びこれらの組合せが挙げられる。無機層は水分透過率が、最大で10-4g/cm2/日である。無機層は実際には実質的に前記有機層より薄い。無機層の厚さは、10から1000nmの範囲、好ましくは100から300nmの範囲である。前記第1及び第2のバリア層の合計厚さは好ましくは少なくとも50μmである。実質的に50μmよりも小さい、例えば20μmの厚さでは、得られる包埋電子装置は損傷を受け易くなる恐れがある。好ましくは合計厚さは、500μm未満である。厚さが実質的により厚い、例えば1mmの場合には、製品のフレキシビルティが損なわれ得る。製品のサイズ及び基板に要求される湾曲の程度により、その厚さの範囲は1から5000μmであり得る。湾曲の半径は例えば1と1000mmの間で変動し得る。示される実施態様では、ベース基板層10は収縮有機材料である。前記ベース基板層10は第1の領域を定める。前記電気光学構造20は、前記第1の領域と一致する第2の領域を越えて伸びる。他の実施態様では、層22、24、26及び28は図1Bで示されるように逆の順に適用される。図1Cから1Fは、図1で示される製品の製造方法を模式的に示す。図1Cで示される第1のステップでは、ポリマー箔10が熱収縮材料として準備される。図1Dで示される第2のステップでは、箔10は、例えば交互にスタックされたシリコン窒化物及びシリコン酸化物層のスタックであるバリア構造12と共に準備される。図1Eで示される第3のステップでは、電気光学構造20はバリア構造12の上に適用される。電気光学構造20は、エレクトロルミネセンス材料、カソード、アノード、正孔輸送層などを含む層のスタックを含み得る。図1Fで示される第4のステップでは、さらにバリア構造40が適用され、これはバリア構造12と共に電気光学構造20を包埋する。第5のステップで前記箔10は加熱処理の対象とされる。この処理により、箔10が収縮し、それにより製品の内側への湾曲が生じる結果となり、図1で示される製品を得る。箔10を加熱するために、箔が十分吸収する波長の放射線を照射し得る。電気光学構造20を保持するために相対的に低い温度で放射がパルス状に適用され得る。図2は、本発明による箔形状電気光学製品1の製造のための装置100を模式的に示す。装置は、収縮可能な有機材料のベース基板層を持つ少なくとも1つの第1の領域を準備するための第1の設備110を含む。前記第1の設備はロールを含み、これは熱収縮性材料により形成される収縮可能有機材料の連続箔1Aを含む。前記加熱収縮材料はポリマー材料であり、その鎖が予め選択された方向ここではxで示される方向に延ばされており、かつガラスネットワークに凍結されている。又は、前記箔は、他の、例えば方向xと前記図面の面を横切る方向yへ伸ばされ得る。装置100は第2の設備120を含み、電気光学構造に少なくとも1つの第2の領域を与える。前記第2の設備120は、例えば箔1A全体の上に伸びる単一の第2の領域を与えるか、または箔1A上に複数の相互に離れた第2の領域を適用することができる。参照符号1Bは、1以上の領域が電気光学構造に与えられた箔を示す。電気光学構造に加えて、第2の設備120はさらに、例えばバリア構造、導電体などの追加の層又は構造及びさらに基板層を適用することができる。切断装置130は、第2の設備120でプロセスされた箔を分離して別々の部分1Cにする。電気光学構造が、大気中の物質、例えば水分や酸素に感受性である場合には、かつ側部からの漏れを防止することが望まれる場合には、米国特許出願第2007/196682号明細書に開示される手段を設けることができる。又はさらに部分1Cのプロセスは真空中又は保護雰囲気下で行われ得る。前記切り離された部分1Cは移送機構140により第3の設備150へ移送され、有機材料が収縮を起こす処理が適用される。この場合に、前記第3の設備は、前記ベース基板層を形成する収縮可能な材料の鎖を動かして材料を軟化させるためのヒーターを含む。これにより、鎖の緩和が生じ、前記ベース基板層が前記伸長方向に沿って収縮を示す。これにより、少なくとも、前記ベース基板層により定められた第1の領域又はその加熱された部分は、前記収縮可能な有機材料が設けられた側で内側に湾曲を生じ、図1の湾曲箔形状電気光学製品1が形成される。図3は本発明による湾曲箔形状電気光学製品の他の実施態様を示し、図1で示される実施態様とは、前記装置がさらに基板層60を含む点で異なる。前記さらなる基板層60は前記第1の領域に適用され、前記第1の領域は前記ベース基板層10と前記ベース基板層の反対側で定められ、電気光学構造20が前記ベース基板層10と前記さらなる基板層60との間に設けられることとなる。前記さらなる基板層60は、前記ベース基板層10の材料よりも、製造の際に収縮がより小さくなる材料で形成される。前記さらなる基板層は、その重合の際に拡張の対象とされる材料であり得る。例えば上で説明したカテゴリIVによる材料である。示される実施態様では、前記電気光学構造20の少なくとも1つの第2の領域が前記少なくとも1つの第1の領域と少なくとも部分的に一致しており、前記電気光学構造が、前記ベース基板層10と前記さらなる基板層60との間に配置されることとなる。このことは、少なくとも1つの第1の領域と少なくとも1つの第2に領域が一致する範囲では電気光学構造が2方向で保護されていること、かつ電気光学構造が前記変形が相対的に小さいゾーンに配置されることから、有利である。前記収縮有機材料の層で定められた第1の領域と前記電気光学構造を含む第2の領域とがお互いに重なることは必要ではない。図4A及び図4Bで示される実施態様では、装置1半径r及び長さlのチューブとして形成されたは複数の相互に分離された第2領域1bを含む。第1の領域1aは、前記分離された第2の領域の間に設けられる。前記第2の領域1bは電気光学構造20を含む。前記第1の領域1aは、収縮有機材料のベース基板層を含む。前記電気光学構造20を含む前記第2の領域1bは収縮性ではない。図4A及び4Bで示される製品は図4Cで示される半製品から形成される。図4Cの半完成製品は、複数の細長い領域1bを含み、それぞれは電気光学構造20を含み、これは相互に領域1aで分離されている。図4CのIVD-IVDによる断面が図4Dで示される。図4D及び4Cから分かるように、前記半完成製品は前記x-y面に伸びる収縮可能な箔のベース基板10を含む。前記ベース基板10は第1のバリア構造30と共に設けられる。前記電気光学構造は、上述のようにそれぞれ種々の機能層22、24、26及び28を含む。第2のバリア構造50は前記第1のバリア構造30により形成される全表面上及び前記電気光学構造20上に伸び、前記電気光学構造20が前記バリア30、50で包埋される。局所的、パルス状の放射Rにより、ベース基板10は選択的に第1の領域1aで加熱され、前記領域1aで前記ベース基板は収縮を開始し、製品に湾曲を起こさせ、一方で他の放射線の曝露されない領域1bは平坦のままである。図5Aは、さらなる中間製品を示し、図5Bで示されるVB-VBによる断面を持つ。この場合には、前記製品は第1の領域を定める収縮箔10の連続する収縮可能層を持つ。即ち、この場合には、前記第1の領域は前記製品の全領域上に伸びている。前記製品は、前記ベース基板に機械的に結合される電気光学構造20を持つ複数の領域を含む。この場合には、図5Aで示される前記半完成箔形状製品は複数のゾーン2を持つ。それぞれのゾーンは1以上の電気光学構造20を含み、これは第1及び第2のバリア層30、50により包埋される。前記ゾーン2は、切断線3に沿って図5Aで示される半製品から分離され得る。前記半製品はさらに、これは領域1cでの電気光学構造に重なる部分61と、前記電気光学構造と重ならない領域1dでの部分領域62を含む基板層60を持つことが、図5Bの断面で分かる。電気光学構造20と重ならない部分62は比較的伸長可能な材料から形成される。電気光学構造20と重なる部分61は比較的伸長可能でない材料から形成される。伸長可能な材料は、比較的低い力で弾性的又は非弾性的に伸長され得る材料と考えられる。即ち、前記部分61及び62に所定の強度の力を適用する場合には、前記部分62は部分61よりも伸びる。しかし部分61も62も比較的フレキシブルである。図5Cは、図5Aの観点VCにより、図5Aの半製品から分離されたゾーン2を示す。前記ゾーン2は熱処理の対象とされ、前記半製品の収縮箔10はyの方向に巻き上がり、前記半製品をチューブ形状とする。図5Dは、前記チューブ形状製品がさらに、前記さらなる基板層60の比較的伸長可能な部分62により前記領域1dで変形され得ることを示す。従って、電気光学構造20を持つ領域1cは実質的に直線チューブの形状を維持する。前記電気光学構造の電極へ信頼できる電気接続を行うためには種々の選択が可能である。1つの選択は、伸長可能な導電性ポリマーを用いて電気接続を行うことである。他の選択は、蛇行導電体の形状で電気接続を行うことである。この場合には前記導電体は伸長可能である必要はない。前記導電体がフレキシブルである場合には十分である。図5Eは、かかる導電体が設けられる半導体の部分VEの1例を示す。前記電気光学構造20を外部電源と電気的に結合するための導電体71、72は、前記さらなる基板層の比較的伸長可能な部分62を持つ前記領域1d内の蛇行導電体部分71d、72dを含む。比較的非伸長可能な材料がさらなる基板層60のために使用される前記電気光学構造20に重なるこれらの領域1cで、導電体71、72は直線部分71c、72cを含む。又は、前記導電体71、72はまたここで蛇行形状で形成され得るが、必ずしも必要ではない。前記導電体の所定の断面領域について最良の導電体を提供するという点では直線形状が有利である。他の実施態様では、導電体は、例えばPDMSマトリックスなどのゴムに埋め込まれた金属ワイヤにより形成され得る。又は、金属、グラファイトナノ粒子又はミクロ粒子が埋め込まれた導電体もまた可能である。また、導電体は埋め込まれたナノ粒子により形成され得る。1例として、前記さらなる基板の比較的伸長可能な領域は、26イソボルニルアクリレート/9SartomerSr833S/65SartomerSR307/2全混合物に対してからなる組成物から形成された。前記さらなる基板の比較的伸長可能な領域は、67SartomerCN914FF88cポリブタジエン系ウレタンアクリレート/33イソデシルアクリレート/2全混合物に対してIRGACURE651からなる組成物から形成された。前記組成物はそれらの境界で混合され光で硬化された。留意すべきことは、比較的伸長可能な領域と非伸長可能な領域を持つさらなる基板層を、収縮可能な材料のベース基板層と組み合わせることは必要ないということである。1つの実施態様で、比較的伸長可能な部分と、電気光学構造が適用される比較的非伸長可能な部分とを含むベース基板層を単に含む箔形状電気光学製品が提供される。1例が図6に示される。箔形状電気光学製品は、比較的伸長可能な部分と、電気光学構造が設けられる比較的非伸長可能な部分を持つベース基板層を含む。電気光学構造は導電体71、72へ接続され、これらは比較的伸長可能な領域を通じて伸びる。前記導電体71、72は導電性伸長可能なポリマーから形成され得るが、銅又はアルミニウムなどの、比較的伸長可能な又は比較的非伸長可能な材料から形成され得る。図6Aは図6でのVIA-VIAによる断面を示す。ここで、前記ベース基板層10は比較的伸長可能な領域11及び比較的非伸長可能な領域12を含む。前記電気光学構造20は、前記ベース基板層10の比較的非伸長領域12内に適用される。図7は、本出願人P85977EP00による欧州特許出願による光学センサシステムを示し、センサノード82配列、プリント配線84、電子部品86及び電池88を含む。図8は本発明の1つの実施態様による単一センサノード82を示す。示された実施態様では、前記センサは発光源20C、光受光検出装置20D及び光ガイド素子81を含む。操作の間、発光源20Cにより発光される光83は、光ガイド素子81を介して光受光検出装置20Dへガイドされる。発光源20C及び光受光検出装置20Dは、前記基板が湾曲された前記第1の領域1aによりお互いに向かって傾けられる。光ガイド素子81は、例えば、限定されるものではないが、印刷、エンボス又はモールドなどの技術を用いて適用され得る。光ガイド素子81は、光学素子を持つ前記ベース基板10上に直接印刷、エンボス又はモールドされ得る。又は光ガイド素子81は、射出成形又はエンボス技術を用いて別々に製造され得る。この実施態様で、光ガイド素子81は、前記光源20Cと前記検出装置20Dの間に少なくとも部分的に配置される。光ガイド素子81は、流体中の分析物の量に対して感受性のあるセンサ活性材料を含む。用語流体は、前記センサ80を囲む気体及び液体の総称として解釈されるべきである。又は、導波ガイド自体がセンサ活性材料から形成され得る。図8Aは、図8の部分VIIIAでの第1の領域1aを示し、これは図8の第1の領域に対応する。図8Aに示されるように、前記基板層10は、第1のサブ層11及び第2のサブ層12を含む。前記第2のサブ層12の材料は、収縮可能な有機材料から得られ、この材料を収縮させる処理の対象とされた。その一方で前記第1のサブ層11の材料はこの処理では収縮しない。これにより、図8Aに示される少なくとも1つの第1の領域を、前記収縮可能な材料が設けられた側で内側に湾曲させた。前記収縮可能な有機材料は、収縮可能なポリマーであり得る。又は硬化により収縮する前駆体であり得る。前記第2のサブ層のために使用される材料は、非収縮可能なポリマーであり得る。又は硬化により収縮しない前駆体であり得る。前記収縮可能な材料は、湾曲されるべき領域1aに局所的に適用され得る。また全体的に適用されて、前記第1の領域で収縮を導入する処理を局所的に適用することができる。前記第2のサブ層の収縮処理は、前記センサに種々の部品及び構造を配置した後に適用され、それにより前記センサは実質的にロールツーロールプロセスで製造され得る。前記センサの製造方法は前記平坦基板10をほとんどそのままに維持することから、前記センサ配列は、従来のフレキシブルプリント回路基板FPCBに容易に接続され得る。逆に、基板10自体は、プリント回路基板の代わりとして使用され得る。または、モールドインターコネクト装置MIDも使用され得るものであり、これにより光学部材及び前記PCBはモールド技術で製造される。図9Aは、9B及び9Cは、本発明による箔形状電気光学製品のさらなる実施態様を示す。示される実施態様では、箔形状電気光学製品は複数の電気光学構造20を含み、これらは、第1の層11及び第2の層12を含む二層箔で配置される。前記第1の層11は、前記第2の層よりも比較的高い熱膨張係数を持つ。この理由により、1つの組合せとして、比較的高い熱膨張係数を持つゴム状態でのポリマーと比較的低い熱膨張係数を持つガラス状態でのポリマーを使用することができる。例えば、比較的低いガラス転移温度Tgを持つPDMS又はポリブタジエンは、比較的高い熱膨張係数を持つポリマーとして使用され、かつポリカーボネート又はPETは、比較的低い熱膨張係数を持つポリマーとして使用され得る。図9Aは、比較的低温度での製品を示し、図9Bは高温度での製品を示し、図9Cはさらに高温度での製品を示す。従って、前記電気光学構造を担持する二層箔11、12の表面は高温度で内側に湾曲する。これは、前記電気光学構造20として光電池セルを含む太陽電池節配置のために有利に使用され得る。即ち、前記電気光学構造により捕捉される太陽放射量を低減させ、さらなる電気光学構造の温度増加に対抗するからである。前記ベース基板のために使用される収縮可能な有機材料が等方的に収縮する材料、例え重合の際に前記基板の変形の方向が等方的である材料である場合には、前記製品を取り扱う機械により制御され得る。前記ベース基板は、例えばモールド内に固定され、製品が所定の方向に湾曲するようにできる。又は前記ベース基板に、前記ベース基板が望ましくない方向に折れることを防止するために強化構造を持たせることができる。例えば図4A、4Bの実施態様で、前記第2の領域は、前記製品が長さ方向に収縮することを防止するための十分剛性である材料から形成され得る。他の実施態様では、ゾーン1bは、長さ方向Lへ伸びる剛性材料のリブを設けることができる。なお図10に示される他の実施態様では、前記ベース基板が厚さ勾配を持ち、最小値Dminが例えば10から20μmから最大値Dmaxが例えば100から200μmである。前記湾曲箔形状電気光学製品を基板に熱収縮箔を用いて製造する際に、注意すべきことは、電気光学製品のプロセスが前記熱収縮箔の最小収縮温度よりも低い温度で実行される、ということである。さらに、前記熱収縮箔は、前記電気光学構造を形成する他の材料部品に損傷を起こさない温度で収縮されるべきである、ということである。又は、熱収縮箔は、前記箔経常電気光学製品へ、前記湾曲箔形状電気光学製品の製造プロセスの後プロセス、例えば前記最後のプロセスステップの1つとして適用され得る。かかる場合には、比較的低収縮温度を持つ熱収縮箔が適用され得る。電気光学製品の1つの実施態様では、前記収縮材料はバリア構造の一部分である。例えば図11に示される実施態様では、電気光学構造20は、第1のバリア構造16、10、18及び第2のバリア構造66、60、68により包埋される。前記第1のバリア構造は、第1及び第2の無機層16、18の間に第1の有機層10を含む。前記第2のバリア構造は、第1及び第2の無機層66、68の間で第2の有機層60を含む。製造プロセスの間、前記有機層10、60は相互に異なる程度の収縮の対象にされ、前記箔形状電気光学製品は湾曲箔形状電気光学製品に変形される。示される実施態様では、前記第1の有機層10は前記第1及び第2の無機層16、18で包埋される。同様に、前記第2の有機層60は、前記第1及び第2の無機層66、68により包埋される。これにより、有機層10、60を介して水分及び酸素が侵入することを防止する。又はスタック16、10、18、20、66、60、68が密閉構造により横方向で密閉され得る。本明細書で示されるように、本発明は種々の電気光学製品のタイプに適用可能である。本発明は、望ましい光分布を達成するための発光電気光学製品に特に適切である。しかし、本発明はまた、他のタイプの電気光学製品、例えば光電池セルに適用可能である。光電池セルでの前記電気光学構造は通常、大気成分には感受性ではなく、バリア構造による保護は必要はない。また、本発明はエレクトロクローム製品、即ち光子放出のために電圧制御伝達を持つ製品へ適用され得る。前記同じ層で異なる有機材料を適用する場合には、境界を持つことが望ましい。これは、図6Aで示されるように、例えば有機材料を相互に隣接した領域に印刷し、前記材料がそれらが硬化される前にお互いに中に拡散できるようにすることで達成され得る。さらに1つの実施態様では、前記有機材料が相互に重なる領域に適用される。例えば図12は、第1の有機材料11が第1の領域1cに、及び続いて第2の有機材料12が部分的に前記第1の領域1cと重なる第2の領域1dに適用される方法を示す。この方法で、大きな接触表面が、第1及び第2の有機材料との間で達成される。特に、前記第1及び前記第2の有機材料が、それらが重なる領域で相互に相補的な厚さ係数を持つ。この方法で、前記第1と前記第2の有機材料により形成される層の合計厚さは実質的に平坦となる。