真空槽と、前記真空槽の下方に配置された回収槽と、一端と他端に第一、第二の開口がそれぞれ設けられ、前記第一の開口が前記回収槽内に露出し、前記第二の開口が前記真空槽内に露出する主配管と、前記第一の開口の閉塞と開放を切り替える弁体と、前記真空槽内と前記回収槽内を真空排気する真空排気部と、真空排気された前記真空槽内に原料液を噴射して凍結粒子を生成する噴射器と、前記真空槽内に配置され、生成された前記凍結粒子が表面に堆積する加熱冷却棚と、を有し、前記第一の開口が開放され、前記加熱冷却棚上の前記凍結粒子が前記主配管内を通って前記回収槽内に移動された後、前記第一の開口が閉塞され、前記凍結粒子が前記回収槽内から搬出される凍結真空乾燥装置であって、前記主配管内に挿入され、一端が前記真空槽内に配置され、他端は、前記第一の開口が閉塞されているときには、前記主配管の内部に位置する補助配管と、前記補助配管を前記主配管の長手方向に沿って往復移動する移動装置とを有し、前記補助配管は、前記第一の開口が開放されているときには、前記他端が前記第一の開口を通って前記主配管の外部に出る位置と内部に入る位置との間を往復移動できるように構成された凍結真空乾燥装置。前記主配管の内周面の一部と、前記補助配管の外周面の一部との間の擦動空間を、前記真空槽の内部空間と、前記回収槽の内部空間とから遮断する遮断部材を有する請求項1記載の凍結真空乾燥装置。前記補助配管の内周面には凹凸が設けられた請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の凍結真空乾燥装置。真空槽内と回収槽内を真空排気し、前記真空槽内に原料液を噴射して凍結粒子を生成し、前記凍結粒子を前記真空槽内に配置された加熱冷却棚の表面に堆積させ、一端と他端に第一、第二の開口がそれぞれ設けられ、前記第一の開口が前記回収槽内に露出し、前記第二の開口が前記真空槽内に露出する主配管の前記第一の開口を開放し、前記加熱冷却棚上の前記凍結粒子を前記主配管内を通って前記回収槽内に移動し、前記第一の開口を閉塞し、前記凍結粒子を前記回収槽内から搬出する凍結粒子製造方法であって、前記凍結粒子を前記加熱冷却棚の表面に堆積させ、前記主配管の前記第一の開口を開放した後、前記主配管内に挿入され、一端が真空槽内に配置され、他端が前記主配管の内部に位置する補助配管を、前記他端が前記第一の開口を通って前記主配管の外部に出る位置に移動し、前記加熱冷却棚上の前記凍結粒子を前記補助配管内を通って前記回収槽内に移動し、前記補助配管を、前記他端が前記第一の開口を通って前記主配管の内部に入る位置に移動し、前記第一の開口を閉塞し、前記凍結粒子を前記回収槽内から搬出する凍結粒子製造方法。本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、凍結真空乾燥装置及び凍結粒子製造方法において、回収槽内の弁座を凍結粒子の付着から保護する技術を提供することにある。上記課題を解決するために本発明は、真空槽と、前記真空槽の下方に配置された回収槽と、一端と他端に第一、第二の開口がそれぞれ設けられ、前記第一の開口が前記回収槽内に露出し、前記第二の開口が前記真空槽内に露出する主配管と、前記第一の開口の閉塞と開放を切り替える弁体と、前記真空槽内と前記回収槽内を真空排気する真空排気部と、真空排気された前記真空槽内に原料液を噴射して凍結粒子を生成する噴射器と、前記真空槽内に配置され、生成された前記凍結粒子が表面に堆積する加熱冷却棚と、を有し、前記第一の開口が開放され、前記加熱冷却棚上の前記凍結粒子が前記主配管内を通って前記回収槽内に移動された後、前記第一の開口が閉塞され、前記凍結粒子が前記回収槽内から搬出される凍結真空乾燥装置であって、前記主配管内に挿入され、一端が前記真空槽内に配置され、他端は、前記第一の開口が閉塞されているときには、前記主配管の内部に位置する補助配管と、前記補助配管を前記主配管の長手方向に沿って往復移動する移動装置とを有し、前記補助配管は、前記第一の開口が開放されているときには、前記他端が前記第一の開口を通って前記主配管の外部に出る位置と内部に入る位置との間を往復移動できるように構成された凍結真空乾燥装置である。本発明は凍結真空乾燥装置であって、前記主配管の内周面の一部と、前記補助配管の外周面の一部との間の擦動空間を、前記真空槽の内部空間と、前記回収槽の内部空間とから遮断する遮断部材を有する凍結真空乾燥装置である。本発明は凍結真空乾燥装置であって、前記補助配管の内周面には凹凸が設けられた凍結真空乾燥装置である。本発明は、真空槽内と回収槽内を真空排気し、前記真空槽内に原料液を噴射して凍結粒子を生成し、前記凍結粒子を前記真空槽内に配置された加熱冷却棚の表面に堆積させ、一端と他端に第一、第二の開口がそれぞれ設けられ、前記第一の開口が前記回収槽内に露出し、前記第二の開口が前記真空槽内に露出する主配管の前記第一の開口を開放し、前記加熱冷却棚上の前記凍結粒子を前記主配管内を通って前記回収槽内に移動し、前記第一の開口を閉塞し、前記凍結粒子を前記回収槽内から搬出する凍結粒子製造方法であって、前記凍結粒子を前記加熱冷却棚の表面に堆積させ、前記主配管の前記第一の開口を開放した後、前記主配管内に挿入され、一端が真空槽内に配置され、他端が前記主配管の内部に位置する補助配管を、前記他端が前記第一の開口を通って前記主配管の外部に出る位置に移動し、前記加熱冷却棚上の前記凍結粒子を前記補助配管内を通って前記回収槽内に移動し、前記補助配管を、前記他端が前記第一の開口を通って前記主配管の内部に入る位置に移動し、前記第一の開口を閉塞し、前記凍結粒子を前記回収槽内から搬出する凍結粒子製造方法である。回収槽内の弁体と弁座のシール性を向上できる。シール性が向上すると、真空槽内の真空雰囲気を維持でき、凍結真空乾燥能力を維持できる。また回収槽内から凍結粒子を搬出しながら、真空槽内で凍結真空乾燥処理を行えるので、生産性が向上する。<凍結真空乾燥装置の構造>本発明の凍結真空乾燥装置の構造を説明する。図1は凍結真空乾燥装置10の内部構成図を示している。凍結真空乾燥装置10は、真空槽11と、真空槽11の下方に配置された回収槽12と、一端と他端に第一、第二の開口22、24がそれぞれ設けられすなわち、一端に第一の開口22が設けられ、他端に第二の開口24が設けられ、第一の開口22が回収槽12内に露出し、第二の開口24が真空槽11内に露出する主配管21と、第一の開口22の閉塞と開放を切り替える弁体15とを有している。本実施例では、主配管21は筒形状であり中心軸線を鉛直方向と平行に向けられており、一端である上端は真空槽11の底面に気密に挿入され、他端である下端は回収槽12の天井面に気密に挿入されている。主配管21の回収槽12内に挿入された他端には第一の開口22を取り囲んで環状の弁座23が密着して固定されている。弁座23は例えばゴムのOリングである。弁体15は弁座23の下方に配置されている。図2は回収槽12のA-A線切断断面図である。本実施例では弁体15には水平な回転軸51が固定されている。回転軸51の先端は回収槽12の壁面を気密に貫通して、回収槽12の外側に配置された回転装置52に接続されている。本実施例では回転装置52は圧空により、回転軸51を弁体15と一緒に回転軸51の中心軸線Lの周りに回動できるように構成されている。なお、回転装置52の動力源は圧空に限定されず、モーターでもよい。弁体15を一の回転方向に回動させて、弁体15の表面を第一の開口22の外側に向けると、図3を参照し、弁体15の表面と弁座23とは離間して、第一の開口22は開放されるようになっている。一方、弁体15を前記一の回転方向とは逆方向に回動させて、弁体15の表面を第一の開口22と対面させると、図1を参照し、弁体15の表面は弁座23に押しつけられて環状に密着し、第一の開口22は閉塞されるようになっている。凍結真空乾燥装置10は、真空槽11内と回収槽12内を真空排気する真空排気部と、真空排気された真空槽11内に原料液を噴射して凍結粒子を生成する噴射器16と、真空槽11内に配置され、生成された凍結粒子が表面に堆積する加熱冷却棚17とを有している。本実施例では、真空排気部は第一、第二の真空排気装置13a、13bを有している。第一の真空排気装置13aは真空槽11に接続され、第二の真空排気装置13bは回収槽12に接続され、真空槽11内と回収槽12内は別々に真空排気されるようになっている。なお、本発明の真空排気部は上記構成に限定されず、一台の真空排気装置が真空槽11と回収槽12に別々の真空バルブを介して接続され、各真空バルブの開閉を制御することで、真空槽11内と回収槽12内を別々に真空排気できるように構成されていてもよい。噴射器16は、真空槽11内に配置され、原料液が蓄液された原料液タンク19に接続されており、原料液タンク19から原料液が供給されると、真空槽11内に原料液を噴射できるように構成されている。加熱冷却棚17はここでは平板状の棚であり、噴射器16の下方に配置されている。加熱冷却棚17の内部には温度管理された熱媒体が流される流路不図示が設けられ、加熱冷却棚17の表面を所定の温度に冷却又は加熱できるようになっている。真空排気された真空槽11内に噴射器16から原料液が噴射されると、噴射された原料液から液体成分が蒸発して、原料液は瞬時に冷却され、凍結粒子が生成されるようになっている。加熱冷却棚17の表面を水平にしておくと、生成された凍結粒子は加熱冷却棚17の表面に堆積するようになっている。本実施例では、凍結真空乾燥装置10は加熱冷却棚17を傾斜させる傾斜装置を有しており、傾斜装置はここでは支持軸18aと昇降装置18bを有している。支持軸18aは加熱冷却棚17の下方に鉛直に立てられて配置され、支持軸18aの下端は真空槽11の壁面を気密に貫通して、真空槽11の外側に配置された昇降装置18bに取り付けられている。本実施例では昇降装置18bは油圧駆動装置であり、油圧による動力を支持軸18aに伝達して、支持軸18aを鉛直方向に沿って往復移動できるように構成されている。支持軸18aを上昇させると、支持軸18aの上端は加熱冷却棚17の裏面と接触して、加熱冷却棚17は押し上げられて傾斜し、支持軸18aを降下させると、加熱冷却棚17の表面は水平に戻るようになっている。加熱冷却棚17を傾斜させると、加熱冷却棚17の表面に堆積した凍結粒子は加熱冷却棚17の表面から滑り落ちて、主配管21の上端の第二の開口24の内側に落下するようになっており、主配管21の下端の第一の開口22が開放されている場合には、凍結粒子は主配管21を通って回収槽12内に移動する。本発明の凍結真空乾燥装置10は、主配管21内に挿入され、一端が真空槽11内に配置され、他端は、第一の開口22が閉塞されているときには、主配管21の内部に位置する補助配管31と、補助配管31を主配管21の長手方向に沿って往復移動する移動装置45とを有している。補助配管31の一端は、先端に近いほど内周の直径が大きい漏斗形状に形成されており、他端は主配管21の第二の開口24を通って主配管21の内部に挿入されている。本実施例では、主配管21の側面には上方空気入口251と下方空気入口252が設けられており、上方空気入口251と下方空気入口252との間にはピストン35が配置されている。ピストン35は補助配管31に固定されている。移動装置45は空圧駆動装置であり、上方空気入口251と下方空気入口252にそれぞれ接続されている。図3を参照し、弁体15が弁座23から離間して第一の開口22が開放された状態で、移動装置45から上方空気入口251に空気を導入すると、ピストン35が下方に押圧されて、補助配管31はピストン35と一緒に降下し、補助配管31の下端の全周は第一の開口22を通って弁座23の下端よりも下方に移動し、すなわち補助配管31の下端は主配管21の外部に出るようになっている。一方、図1を参照し、加熱冷却棚17が水平にされた状態で、移動装置45から下方空気入口252に空気を導入すると、ピストン35が上方に押圧されて、補助配管31はピストン35と一緒に上昇し、補助配管31の下端の全周は弁座23の下端よりも上方に移動し、すなわち補助配管31の下端は主配管21の内部に入るようになっている。移動装置45は、補助配管31を主配管21の長手方向に沿って往復移動できるならば、上記構成に限定されず、例えば油圧により補助配管31を駆動するように構成してもよい。凍結真空乾燥装置10は、主配管21の内周面の一部と、補助配管31の外周面の一部との間の擦動空間26を真空槽11の内部空間と、回収槽12の内部空間とから遮断する遮断部材41、42を有している。擦動空間26には凸状の擦動部271、272が配置されている。本実施例では、擦動部271、272は主配管21の内周側面に固定されており、擦動部271、272の先端は補助配管31の外周側面と接触して、補助配管31は主配管21の内側に主配管21と平行に支持されるようになっている。なお、擦動部271、272は補助配管31の外周側面に固定され、擦動部271、272の先端は主配管21の内周側面と接触して、補助配管31は主配管21の内側に主配管21と平行に支持されるようになっていてもよい。本実施例では擦動部271、272は主配管21の長手方向に離間した異なる二カ所にそれぞれ配置されており、二カ所で支持することで、補助配管31の長さが長い場合でも、容易に補助配管31を主配管21と平行に支持できるようになっている。擦動空間26に露出する主配管21の内周面と補助配管31の外周面は潤滑油が塗られた油面にされており、補助配管31の外周面と擦動部271、272の先端との接触部分は潤滑油により摩擦が低減されている。遮断部材41、42は、筒形状の第一、第二のベローズを有している。第一、第二のベローズは、筒壁の気密性を維持しながら長手方向に伸縮できるように構成されている。以下、第一のベローズに符号41を付し、第二のベローズに符号42を付して説明する。第一、第二のベローズ41、42は、中心軸線を主配管21の中心軸線と平行に向けられて、擦動空間26を間に挟んだ上下二カ所にそれぞれ配置されている。ここでは第二のベローズ42が第一のベローズ41より第一の開口22に近い位置に配置されている。補助配管31は第一、第二のベローズ41、42の内側に挿通されている。第一、第二のベローズ41、42の一端は補助配管31の外周面に環状に密着して固定され、他端は主配管21の内周面に環状に密着して固定され、擦動空間26は、第一、第二のベローズ41、42により、真空槽11の内部空間と回収槽12の内部空間とから遮断されている。従って、擦動空間26の油面の潤滑油は、真空槽11内と回収槽12内にそれぞれ漏れないようになっている。<凍結真空乾燥装置の使用方法>凍結真空乾燥装置10は制御装置60を有しており、制御装置60は以下の各工程を行うように構成されている。準備工程第一、第二の真空排気装置13a、13bにより真空槽11内と回収槽12内をそれぞれ真空排気する。以後真空排気を継続して、真空槽11内と回収槽12内の真空雰囲気を維持する。図1を参照し、加熱冷却棚17の表面を水平にする。補助配管31を、補助配管31の下端の全周が主配管21の内部空間に入る位置で静止させる。このとき補助配管31の上端は加熱冷却棚17と衝突しないようになっている。弁体15を弁座23に環状に密着させて、第一の開口22を閉塞しておく。加熱冷却棚17の内部の流路に原料液の凍結温度以下の温度の熱媒体を流して、加熱冷却棚17の表面を冷却させておく。凍結真空乾燥工程真空排気された真空槽11内に噴射器16から原料液を噴出させると、噴出された原料液から液体成分が蒸発し、原料液は瞬時に冷却され、凍結粒子が生成される。原料液は、液体成分と、液体成分に溶解された溶質や液体成分中に分散された分散体等の固体成分を含有しており、凍結粒子には原料液と同じ固体成分が含有されている。生成された凍結粒子は落下して、加熱冷却棚17の表面に堆積する。加熱冷却棚17の表面は原料液の凍結温度以下に冷却されており、凍結粒子の凍結が不十分な場合には、凍結粒子は追加的に冷却され、凍結される。蒸発した原料液中の液体成分は、真空槽11内部に配置されたコールドトラップ56により捕集される。凍結粒子を加熱冷却棚17の表面に堆積させた後、加熱冷却棚17の内部の流路に原料液の液体成分の蒸発温度以上の温度の熱媒体を流して、加熱冷却棚17の表面を加熱させる。凍結粒子から液体成分が追加的に蒸発され、凍結粒子の乾燥が加速される。図3を参照し、弁体15を弁座23から離間させ、第一の開口22を開放して、真空槽11内と回収槽12内とを接続させる。凍結粒子移動工程補助配管31を降下させ、補助配管31の下端の全周が第一の開口22を通って主配管21の外部に出る位置で静止させる。このとき補助配管31の下端の全周は弁座23の下端より下方に位置する。加熱冷却棚17を傾斜させると、加熱冷却棚17の表面に堆積した凍結粒子は、補助配管31の上端の開口の内側に滑り落ちる。滑り落ちた凍結粒子は補助配管31の内側を通って、補助配管31の下端から回収槽12内に移動する。回収槽12内は真空雰囲気に維持されており、補助配管31の下端から回収槽12内に放出された凍結粒子は、真空中で排出されるため速度の鉛直上方成分を得ることはない。従って、放出された凍結粒子は補助配管31の下端より上方には移動せず、弁座23に到達しない。図4を参照し、補助配管31の内周側面には凹凸39が形成されていてもよい。補助配管31の内周側面に凹凸39が形成されていると、補助配管31の内側を落下する凍結粒子は、凹凸39に衝突して乱反射する。乱反射のたびに、凍結粒子の運動エネルギーは補助配管31に吸収され、凍結粒子の速度の水平方向成分の絶対値は減少する。従って、凍結粒子が補助配管31の下端から回収槽12内に放出される際に、凍結粒子が水平方向に拡散することが抑制され、弁座23に到達する可能性をより減少できる。なお、このとき弁体15の表面は第一の開口22の外側に向けられており、放出された凍結粒子は弁体15の表面にも付着しないようになっている。凍結粒子が回収槽12内に移動した後、加熱冷却棚17の表面を水平に戻し、補助配管31を上昇させて、補助配管31の下端の全周が第一の開口22を通って主配管21に内部に入る位置で静止させる。弁体15の表面を弁座23に環状に密着させて、第一の開口22を閉塞し、真空槽11内と回収槽12内とを遮断する。弁体15の表面と弁座23には凍結粒子が付着しておらず、弁体15と弁座23との間に隙間は生じない。次いで、真空槽11内では、噴射器16から真空槽11内に液体材料を噴射させ、上述の凍結真空乾燥工程を行う。一方、回収槽12内では、第二の真空排気装置13bによる真空排気を停止して、回収槽12内を大気に開放し、又は不図示のガス導入部から回収槽12内に圧縮ガスを流して、凍結粒子を回収槽12の外側に搬出する。回収槽12内を大気に開放しても、弁体15と弁座23との間からリークは発生しないので、真空槽11内での凍結真空乾燥能力は低下しない。回収槽12内から凍結粒子を回収槽12の外側に搬出した後、第二の真空排気装置13bにより回収槽12内を真空排気する。回収槽12内を真空雰囲気にした後、弁体15を弁座23から離間させて第一の開口22を開放し、真空槽11内と回収槽12内とを接続させる。上述の凍結粒子移動工程と同様にして、真空槽11内で生成された凍結粒子を補助配管31内を通って回収槽12内に移動させる。凍結粒子は弁座23に付着しないので、上述の各工程を繰り返しても、弁体15と弁座23との間からリークは発生せず、凍結真空乾燥能力は低下しない。<第二例の凍結真空乾燥装置の構造>本発明の第二例の凍結真空乾燥装置の構造を説明する。図5は第二例の凍結真空乾燥装置10’の内部構成図である。上述の第一例の凍結真空乾燥装置10と構造が同じ部分には第一例の凍結真空乾燥装置10と同じ符号を付している。第二例の凍結真空乾燥装置10’は、第一例の凍結真空乾燥装置10の補助配管31と移動装置45の替わりに、主配管21の内側に挿入された第二の補助配管31’を有している。第二の補助配管31’の一端は、先端に近いほど内周の直径が大きい漏斗形状に形成されている。一方、第二の補助配管31’の他端は、先端に近いほど内周の直径が徐々に小さくなるように形成されている。第二の補助配管31’の一端の漏斗形状の部分は真空槽11の内側に配置され、他端は主配管21の上端から主配管21の内側に挿入され、第二の補助配管31’の下端の全周が主配管21の内部に入る位置で静止され、この相対位置で第二の補助配管31’は主配管21に対して固定されている。第二の補助配管31’の下端の全周は主配管21の内部に配置されており、弁体15の表面を弁座23に環状に密着させても、弁体15は第二の補助配管31’の下端と衝突しないようになっている。第二例の凍結真空乾燥装置10’は、第一例の凍結真空乾燥装置10の使用方法から補助配管31を移動させる工程を除いて、同様の方法で使用できる。第二例の凍結真空乾燥装置10’の凍結粒子移動工程を説明する。加熱冷却棚17の表面に凍結粒子を堆積させた後、加熱冷却棚17を傾斜させ、堆積した凍結粒子を、第二の補助配管31’の上端の開口の内側に滑り落とすと、凍結粒子は第二の補助配管31’の内側を通って、第二の補助配管31’の下端から回収槽12内に移動される。第二の補助配管31’の下端の内周と弁座23とは、水平方向に対して互いに離間している。また第二の補助配管31’の内側は下端に近いほど口径が絞られており、第二の補助配管31’の内側を通る凍結粒子の直進性が高められるようになっている。従って、第二の補助配管31’の下端から放出された凍結粒子が、弁座23に到達し、付着する可能性は、従来の凍結真空乾燥装置100図6参照より低減している。凍結粒子は弁座23に付着しないので、装置を繰り返し使用しても、弁体15と弁座23との間からリークは発生せず、凍結真空乾燥能力は低下しない。第二の補助配管31’の下端の口径が小さいほど、凍結粒子は弁座23に到達しにくくなるが、第二の補助配管31’の内部空間で凍結粒子が詰まる可能性が増加するので、あらかじめ実験やシミュレーションにより、凍結粒子が詰まらないように下端の口径の値を求めておくとよい。