"陽極と、陰極と、前記陽極と陰極の間に設けられた有機発光層と、フッ化ナトリウムからなり、前記陰極と前記有機発光層の間に前記有機発光層に接して設けられた第1の層と、前記第1の層と前記陰極の間に位置し、有機物からなる第1の材料と、第2の材料とを有してなり、かつ、前記第2の材料が前記第1の材料に電子を供与しうる材料である第2の層と、を備える有機エレクトロルミネセンス素子。前記第1の層の膜厚が0.1~10nmの範囲にある請求項1記載の有機エレクトロルミネセンス素子。前記第2の層において第1の材料と第2の材料の重量比率が1000:1~5:1の範囲にある請求項1又は2記載の有機エレクトロルミネセンス素子。前記陰極が金属からなる請求項1~3のうちのいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネセンス素子。前記陰極がAlからなる請求項4記載の有機エレクトロルミネセンス素子。前記陰極と前記第2の層との間にさらに第3の層を含み、該第3の層が金属からなる請求項1~3のうちのいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネセンス素子。前記第3の層がAlからなる請求項6記載の有機エレクトロルミネセンス素子。前記第1の材料は、電子輸送性有機物からなる請求項1~7のうちのいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネセンス素子。前記第2の材料が金属である請求項1~8のうちのいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネセンス素子。前記第2の層が前記第1の層に接し、前記陰極又は前記第3の層が前記第2の層に接している請求項1~9のうちのいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネセンス素子。しかしながら、有機エレクトロルミネセンス素子では、優れた発光効率を維持しつつより長寿命であることが求められている。そこで本発明は、優れた発光効率を有しかつ長寿命の有機エレクトロルミネセンス素子を提供することを目的とする。本発明は、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、陰極と有機発光層の間に有機発光層に接してフッ化ナトリウムからなる層を設けることにより、発光効率を悪化させることなく長寿命化が図れることを見出して完成させたものである。すなわち、本発明に係る有機エレクトロルミネセンス素子は、陽極と、陰極と、前記陽極と陰極の間に設けられた有機発光層と、フッ化ナトリウムからなり、前記陰極と前記有機発光層の間に前記有機発光層に接して設けられた第1の層と、前記第1の層と前記陰極の間に位置し、有機物からなる第1の材料と、第2の材料とを有してなり、かつ、前記第2の材料が前記第1の材料に電子を供与しうる材料である第2の層と、を備える。本発明のある形態では、前記第1の層の膜厚が0.1~10nmの範囲にある。本発明のある形態では、前記第2の層において第1の材料と第2の材料の重量比率が1000:1~5:1の範囲にある。本発明のある形態では、前記陰極が金属からなる。本発明のある形態では、前記陰極がAlからなる。本発明のある形態では、前記陰極と前記第2の層との間にさらに第3の層を含み、該第3の層が金属からなる。本発明のある形態では、前記第3の層がAlからなる。本発明のある形態では、前記第1の材料は、電子輸送性有機物からなる。本発明のある形態では、前記第2の材料が金属である。本発明のある形態では、前記第2の層が前記第1の層に接し、前記陰極又は前記第3の層が前記第2の層に接している。以上のように構成された本発明に係る有機エレクトロルミネセンス素子は、有機発光層に接して設けられた前記フッ化ナトリウムからなる第1の層を備えているので、優れた発光効率を有しかつ長寿命の有機エレクトロルミネセンス素子を提供することができる。以下、図面を参照しながら本発明に係る実施形態の有機エレクトロルミネセンス素子について説明する。本実施形態の有機エレクトロルミネセンス素子は、図1に示すように、基板1上に、例えば、ITO透明電極からなる陽極2、例えば、酸化タングステンWOxからなる正孔注入層3、例えば、正孔輸送性の有機化合物からなる正孔輸送層4、注入される正孔と電子が再結合して励起子を生成して発光する有機発光層5、フッ化ナトリウム層6,例えば、電子輸送性有機物と電子供与性の金属を含んでなる電子注入層7、例えば、Alからなる陰極8が積層されることにより構成される。尚、本実施形態の有機エレクトロルミネセンス素子は、基板側から光を取り出すように構成しているが、本発明はこれに限定されるものではない。本実施形態の有機エレクトロルミネセンス素子において、基板1は、素子積層構造を支持するものであり、本実施形態では、基板を介して光を出射させるために透明基板を用いている。陽極2は、駆動回路と接続される電極であり、例えば、ITO透明電極からなる透明電極である。また、陽極2は、駆動回路との接続が容易でかつ正孔注入層3との間のエネルギー障壁を低くできるような材料から選択される。正孔注入層3は、陽極との界面において正孔注入のエネルギー障壁を低くして正孔注入を容易にする層である。正孔注入層3は、例えば、酸化タングステンなどの無機化合物又は電子受容性の材料がドープされた正孔輸送性の有機化合物が用いられる。正孔輸送層4は、正孔を有機発光層5に移行させる層であり、例えば、正孔輸送性の有機化合物からなる。また、有機発光層5から正孔輸送層4に移行しようとする電子をブロックする機能を持たせることもできる。有機発光層5は、注入された正孔と電子を再結合させて励起子を生成して発光する層である。フッ化ナトリウム層6は、第1の層であり、例えば、その厚さを調整することにより有機発光層5に注入される電子の注入量を調整又は抑制する層である。電子注入層7は、第2の層であり、陰極との界面において電子注入のエネルギー障壁を低くして電子注入を容易にする層である。電子注入層7は、例えば、電子供与性の材料ドーパントがドープされた電子輸送性の有機化合物とからなる。電子輸送性の有機化合物は、電子供与性の材料から電子を受け取ることができ、陰極との間のエネルギー障壁を低くしている。陰極8は、駆動回路と接続される電極であり、例えば、駆動回路との接続が容易でかつ電子注入層7との間のエネルギー障壁が低くできるような材料から選択される。ここで、本実施形態の有機エレクトロルミネセンス素子において、陰極8と有機発光層5の間陰極側に有機発光層5に接してフッ化ナトリウム層6を設けていることが重要であり、上述のように、電子の注入量を調整又は抑制することにより、又は電子の注入量を調整又は抑制することに加えさらにその属性に応じた機能を発揮することにより、発光効率を悪化させることなく長寿命化が図れる。すなわち、フッ化ナトリウムは導電性が低く、陰極からの電子の注入量を調整又は抑制することに適している。さらに、化学的に比較的安定な性質を有するため、長期間、電子の注入量を調整又は抑制し続けることが可能である。アルカリ金属フッ化物の中でも、電子の注入量の調整又は抑制する効果の観点からは、アルカリ金属の仕事関数が大きいフッ化ナトリウムがより好ましい。以下、実施形態の有機エレクトロルミネセンス素子について詳細に説明する。<基板1>本発明の有機エレクトロルミネセンス素子を構成する基板の材料は、電極を形成し、有機物の層を形成する際に化学的に変化しないものであればよく、例えばガラス、プラスチック、高分子フィルム、金属フィルム、シリコン基板、これらを積層したものなどが用いられる。前記基板としては、市販のものが入手可能であり、又は公知の方法により製造することができる。<陽極2>本発明の有機エレクトロルミネセンス素子を構成する陽極において、正孔注入層、正孔輸送層、発光層等で用いられる有機半導体材料への正孔供給性の観点から、発光層側表面の仕事関数が4.0eV以上であることが好ましい。陽極の材料には、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物などの電気伝導性化合物、又はこれらの混合物等を用いることが出来る。具体的には、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズITO、酸化インジウム亜鉛IZO、酸化モリブデン等の導電性金属酸化物、又は、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの導電性金属酸化物と金属との混合物等が挙げられる。前記陽極は、これら材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。多層構造である場合は、仕事関数が4.0eV以上である材料を発光層側の最表面層に用いることがより好ましい。陽極の作製方法としては、特に限定されず公知の方法が利用でき、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等が挙げられる。陽極の膜厚は、通常10nm~10μmであり、好ましくは50nm~500nmである。さらに、該陽極は上記方法にて作製された後に、UVオゾン、シランカップリング剤、2356テトラフルオロ7788テトラシアノキノジメタンなどの電子受容性化合物を含む溶液、などで表面処理を施される場合がある。表面処理によって該陽極に接する有機層との電気的接続が改善される。<正孔注入層3>本発明の有機エレクトロルミネセンス素子において、正孔注入層3を形成する材料としては、酸化バナジウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の導電性金属酸化物を用いることができる。正孔注入層3として、後述の正孔輸送層4に用いられる正孔輸送性の有機化合物に電子受容性の材料ドーパントをドープした材料で構成することもできる。電子受容性の材料をドープした正孔輸送性の有機化合物層では、正孔輸送性の有機化合物が電子受容性の材料により電子を奪われた状態で存在することにより、陽極との間のエネルギー障壁を低くできる。電子受容性の材料ドーパントの例としては、キノン化合物、遷移金属錯塩化合物、有機閉殻陰イオン化合物、シアノ基とニトロ基を有するフルオレン化合物、テトラシアノエチレン、テトラシアノブタジエン、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、燐酸トリクロライド、フルオラニル、クロラニル、ブロマニルが挙げられる。前記キノン化合物としては、例えば、p-ベンゾキノン誘導体、テトラシアノキノジメタン誘導体、1,4-ナフトキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体が挙げられる。前記p-ベンゾキノン誘導体としては、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノンDDQ、2,3-ジブロモ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノンDBDQ、2,3-ジヨード-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノンDIDQ、2,3-ジシアノ-p-ベンゾキノンQCN2が例示される。前記テトラシアノキノジメタン誘導体としては、2,3,5,6-テトラフルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタンF4-TCNQ、2,3,5-トリフルオロメチル-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタンCF3-TCNQ、2,5-ジフルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタンF2-TCNQ、2-モノフルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタンF-TCNQ、11,11,12,12-テトラシアノナフト-2,6-キノジメタンTNAP、7,7,8,8-テトラシアノキノジメタンTCNQ、デシル-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタンC10-TCNQが例示される。前記1,4-ナフトキノン誘導体としては、2,3-ジシアノ-5-ニトロ-1,4-ナフトキノンDCNNQ、2,3-ジシアノ-1,4-ナフトキノンDCNQが例示される。前記ジフェノキノン誘導体としては、3,3’,5,5’-テトラブロモ-ジフェノキノンTBDQが例示される。前記遷移金属錯塩化合物としては、例えば、TPP2Pddto2、TPP2Ptdto2、TPP2Nidto2、TPP2Cudto2、TBA2Cuox2が挙げられる。ここで、TPPはトリフェニルホスフィンを、TBAはテトラブチルアンモニウムを、dtoはジチオオキサラトを、oxはオキサラトを表す。前記有機閉殻陰イオン化合物としては、例えば、ピクラート、トシラートが挙げられる。前記シアノ基とニトロ基を有するフルオレン化合物としては、例えば、9-ジシアノメチレン-2,4,5,7-テトラニトロ-フルオレノンDTENF、9-ジシアノメチレン-2,4,7-トリニトロ-フルオレノンDTNF、2,4,5,7-テトラニトロフルオレノンTENF、2,4,7-トリニトロフルオレノンTNFが挙げられる。前記材料は単成分であってもあるいは複数の成分からなる組成物であってもよい。また、前記正孔注入層は、前記材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。正孔注入層3の作製方法としては、特に限定されず公知の方法が利用できる。無機化合物材料の場合は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられ、低分子有機材料の場合は、真空蒸着法、レーザー転写や熱転写などの転写法、溶液からの成膜による方法高分子バインダーとの混合溶液を用いてもよい等が挙げられる。また、高分子有機材料では、溶液からの成膜による方法が例示される。正孔注入材料が、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、等の低分子化合物の場合には、真空蒸着法を用いて正孔注入層を形成することができる。溶液からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、バーコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法及び印刷法が挙げられる。溶液からの成膜に用いる溶媒の例としては、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン等の有機塩素化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ノルマルヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、ジメチルホルムアミド等のアミド結合を含む化合物、ジメチルスルホキシド等のスルホキシドが挙げられる。これらの溶媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。<正孔輸送層4>本発明の有機エレクトロルミネセンス素子において、正孔輸送層4を形成する正孔輸送性の有機化合物材料としては、例えば、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリN-ビニルカルバゾール誘導体、有機シラン誘導体、およびこれらの構造を含む高分子化合物が挙げられる。また、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子およびオリゴマー、ポリピロール等の有機導電性材料も挙げることができる。前記材料は単成分であってもあるいは複数の成分からなる組成物であってもよい。また、前記正孔輸送層4は、前記材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。正孔輸送層4の成膜方法に制限はなく、正孔注入層の成膜と同様の方法が挙げられる。溶液からの成膜方法としては、前記したスピンコート法、キャスティング法、バーコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法及び印刷法が挙げられ、昇華性化合物材料を用いる場合には、真空蒸着法、転写法などが挙げられる。溶液からの成膜に用いる溶媒の例としては、正孔注入層の成膜方法で列記した溶媒が挙げられる。<有機発光層5>本発明の有機エレクトロルミネセンス素子において、発光層は高分子発光材料から形成されることが好ましい。高分子発光材料としては、ポリフルオレン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリジアルキルフルオレン、ポリフルオレンベンゾチアジアゾール、ポリアルキルチオフェン等の共役系高分子化合物を好適に用いることができる。また、発光層は、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系色素化合物や、ルブレン、ペリレン、910-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等の低分子色素化合物を含有してもよい。また、ナフタレン誘導体、アントラセン若しくはその誘導体、ペリレン若しくはその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、8-ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン若しくはその誘導体、又はテトラフェニルブタジエン若しくはその誘導体、トリスイリジウムなどの燐光を発光する金属錯体を含有してもよい。また、本発明の有機エレクトロルミネセンス素子が有する発光層は、非共役系高分子化合物[例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリN-ビニルカルバゾール、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂や、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリN-ビニルカルバゾール誘導体、有機シラン誘導体を含む重合体]と前記有機色素や金属錯体などの発光性有機化合物との混合組成物から構成されてもよい。このような高分子化合物の具体例としては、WO9709394、WO9827136、WO9954385、WO0022027、WO0119834、GB2340304A、GB2348316、US573636、US5741921、US5777070、EP0707020、特開平9111233、特開平10324870、特開平200080167、特開2001123156、特開2004168999、特開2007162009、有機EL素子の開発と構成材料シーエムシー出版、2006に開示されているポリフルオレン、その誘導体及び共重合体、ポリアリーレン、その誘導体及び共重合体、ポリアリーレンビニレン、その誘導体及び共重合体、芳香族アミン及びその誘導体の共重合体が例示される。また、低分子化合物の具体例としては、特開昭57-51781号、有機薄膜仕事関数データ集第2版シーエムシー出版、2006、有機EL素子の開発と構成材料シーエムシー出版、2006に記載されている化合物が例示される。前記材料は単成分であってもあるいは複数の成分からなる組成物であってもよい。また、前記発光層は、前記材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。発光層の成膜方法に制限はなく、正孔注入層の成膜と同様の方法が挙げられる。溶液からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、バーコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェットプリント法等の前記塗布法及び印刷法が挙げられ、昇華性化合物材料を用いる場合には、真空蒸着法、転写法などが挙げられる。発光層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、発光層の膜厚としては、例えば5nmから1μmであり、好ましくは10nm~500nmであり、さらに好ましくは30nm~200nmである。<フッ化ナトリウム層6>フッ化ナトリウムは、導電性が低く、かつ、化学的に安定であるため、長期間、電子の注入量を調整又は抑制し続けることができる。また、フッ化ナトリウム層6の膜厚は、効果的に長寿命化を図るために0.1nm以上であることが好ましく、また、駆動電圧を低く抑えるために10nm以下であることが好ましい。フッ化ナトリウム層6の成膜方法としては、真空蒸着、塗布、転写等が挙げられる。フッ化ナトリウム層6は、0.1~10nmの範囲の膜厚に形成することが好ましい。フッ化ナトリウム層6の膜厚が10nmを越えると駆動電圧が徐々に上昇する傾向があり、0.1nm未満であると電子の注入量の調整が難しくなるからである。<電子注入層7>上述したように、本発明において、電子注入層7は、陰極との界面において電子注入のエネルギー障壁を低くするために、例えば、電子供与性の材料ドーパント第2の材料を含む電子輸送性の有機化合物第1の材料からなる。電子輸送性の有機化合物としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8-キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、2,9-ジメチル-4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリンバソクプロイン等のフェナントロリン誘導体などが挙げられる。電子供与性の材料ドーパントとしては、Ba、Li、Na、K、Rb、Cs、Fr、Mg、Ca、Sr、Ra、Be等の金属、これらの金属の塩、これらの金属を含む化合物、これらの金属を含む合金等が挙げられ、金属が好ましく、Ba、Li、Cs、Mg、Caがより好ましい。また、電子輸送性の有機化合物の最低非占有軌道準位LUMOのエネルギーの絶対値と電子供与性の材料の仕事関数の絶対値との差は、1.0eV以下であることが好ましい。本発明において、電子輸送性の有機化合物と電子供与性の材料ドーパントの重量比率は、1000:1~5:1の範囲にあることが好ましい。電子輸送性の有機化合物に対する電子供与性の材料ドーパントの重量比率が20を越えると着色により透過率が低下し、電子輸送性の有機化合物に対する電子供与性の材料ドーパントの重量比率が0.1未満であると好ましい電子輸送性を得ることが難しくなるからである。また、電子注入層7において、電子輸送性の有機化合物と電子供与性の材料ドーパントの重量比率は、より好ましくは、100:1~10:1の範囲に設定され、この範囲であると好ましい透過率を確保しつつ良好な電子輸送性を容易に得ることができる。前記材料は単成分であってもあるいは複数の成分からなる組成物であってもよい。また、前記電子注入層は、前記材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。電子注入層7の成膜方法に制限はなく、正孔注入層の成膜と同様の方法が挙げられる。溶液からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、バーコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェットプリント法等の前記塗布法及び印刷法が挙げられ、昇華性化合物材料を用いる場合には、真空蒸着法、転写法などが挙げられる。溶液からの成膜に用いる溶媒の例としては、正孔注入層の成膜方法で列記した溶媒が挙げられる。電子注入層7の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該電子注入層の膜厚としては、例えば1nmから1μmであり、好ましくは2nm~500nmであり、さらに好ましくは5nm~100nmである。<陰極8>本発明の有機エレクトロルミネセンス素子が有する陰極としては、仕事関数の小さく、発光層への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。また陽極側から光を取出す有機エレクトロルミネセンス素子では、発光層からの光を陰極で陽極側に反射するために、陰極の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。陰極8は、金属からなることが好ましく、また、陰極は、複数の層で構成されていても良いが、少なくとも電子注入層7側が金属からなりその金属層が電子注入層7に接していることが好ましい。このように、陰極8の金属層が電子注入層7に接していると、陰極から電子注入層へ電子をより良好に注入することができる。陰極には、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属及びIII-B族金属などを用いることができる。陰極の材料としては、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、前記金属のうちの2種以上の合金、前記金属のうちの1種以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうちの1種以上との合金、又はグラファイト若しくはグラファイト層間化合物などが用いられる。合金の例としては、マグネシウム-銀合金、マグネシウム-インジウム合金、マグネシウム-アルミニウム合金、インジウム-銀合金、リチウム-アルミニウム合金、リチウム-マグネシウム合金、リチウム-インジウム合金、カルシウム-アルミニウム合金などを挙げることができる。また、陰極としては導電性金属酸化物及び導電性有機物などから成る透明導電性電極を用いることができる。具体的には、導電性金属酸化物として酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ITO、及びIZOを挙げることができ、導電性有機物としてポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などを挙げることができる。陰極の材料は、金属が好ましく、アルミニウムがより好ましい。陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができるが、例えば、10nmから10μmであり、好ましくは20nm~1μmであり、さらに好ましくは50nm~500nmである。陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法等が用いられる。以上の実施形態では、陽極側には、正孔注入層3に加えて正孔輸送層4を設けるようにし、陰極側には電子輸送層を設けることなく電子注入層7を設けた例で説明した。このような構成は、例えば、有機発光層5が電子輸送性材料で構成されている場合に効果的な構成である。しかしながら、本発明は実施形態で説明した層構成に限定されるものではなく、少なくとも陰極8と有機発光層5の間に、有機発光層5に接して設けられたフッ化ナトリウム層と電子注入層7とを有していればよく、以下のような種々の変形が可能である。第2の層と陰極との間に第3の層を有していてもよい。第3の層の材料としては、金属が挙げられる。金属の中でも、アルミニウムが好ましい。本発明に係る変形例の構成として、例えば、以下のa~gの構造が挙げられる。a陽極-正孔注入層-発光層-フッ化ナトリウム層-電子注入層-陰極b陽極-正孔注入層-発光層-フッ化ナトリウム層-電子輸送層-電子注入層-陰極c陽極-正孔注入層-正孔輸送層-発光層-フッ化ナトリウム層-電子輸送層-電子注入層-陰極d陽極-正孔輸送層-発光層-フッ化ナトリウム層-電子注入層-陰極e陽極-正孔輸送層-発光層-フッ化ナトリウム層-電子輸送層-電子注入層-陰極f陽極-発光層-フッ化ナトリウム層-電子注入層-陰極g陽極-発光層-フッ化ナトリウム層-電子輸送層-電子注入層-陰極また、本発明に係る実施形態、及び変形例のa~gの層構成において、陰極側に、陽極から注入された正孔を堰き止める機能を有する正孔ブロック層を形成したり、陽極側に、陰極から注入された電子を堰き止める機能を有する電子ブロック層を形成するようにしてもよい。ここで、電子輸送層及び正孔ブロック層は、上述の電子注入層7の説明において例示した電子輸送性の有機化合物を用いて構成することができ、電子ブロック層は、上述の正孔輸送性層の説明において例示した正孔輸送性の有機化合物を用いて構成することができる。以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。<実施例1>1.高分子化合物1の合成窒素雰囲気下、フラスコに、9,9-ジオクチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イル-フルオレンを21.218g、9,9-ジオクチル-2,7-ジブロモフルオレンを5.487g、N,N-ビス4-ブロモフェニル-N’,N’-ビス4-n-ブチルフェニル-1,4-フェニレンジアミンを16.377g、N,N-ビス4-ブロモフェニル-N-ビシクロ[4.2.0]オクタ-1,3,5-トリエン-3-イル-アミンを2.575g、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド商品名:Aliquat登録商標336、アルドリッチ社製を5.17g、溶媒となるトルエンを400ml加え、混合物を80°Cに加熱した後に、ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロリドを56.2mg、17.5重量の炭酸ナトリウム水溶液を109ml加え、オイルバスでさらに加熱しながら、還流下で、6時間攪拌した。その後、ベンゼンボロン酸を0.49g加え、オイルバスでさらに加熱しながら、還流下で、2時間攪拌した。反応液の水層を分液により除去した後に、24.3gのN,N-ジエチルジチオカルバミド酸ナトリウム三水和物を240mlのイオン交換水に溶解させた溶液を加え、85°Cに加熱しながら2時間攪拌した。反応液の有機層を水層と分離した後、有機層を520mlのイオン交換水で2回、52mlの3重量の酢酸水溶液で2回、520mlのイオン交換水で2回、順次洗浄した。その後、有機層をメタノールに滴下して高分子化合物を沈殿させ、高分子化合物をろ取し、乾燥させることにより、固体を得た。この固体を1240mlのトルエンに溶解させ、予めトルエンを通液したシリカゲルカラム及びアルミナカラムに通液し、得られた溶液を6200mlメタノールに滴下して高分子化合物を沈殿させ、高分子化合物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物1を26.23g得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより分析した高分子化合物1のポリスチレン換算の数平均分子量Mn及びポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは、Mnが7.8×104であり、Mwが2.6×105であった。また、高分子化合物1のガラス転移温度は115°Cであった。出発原料の仕込み比より、高分子化合物1は、下記式で示される繰り返し単位を有する高分子化合物であると推定される。式中の括弧の隣の数値は、各繰り返し単位のモル分率を表す。2.高分子化合物2の合成不活性ガス雰囲気下、フラスコに、2,7-ジブロモ-9,9-ジオクチルフルオレンを9.0g16.4mmol、NN’ビス4-ブロモフェニル-NN’-ビス4-t-ブチル2,6-ジメチルフェニル1,4-フェニレンジアミンを1.3g1.8mmol、2,7-ビス4,4,5,5-テトラメチル1,3,2-ジオキサボロラン-2-イル-9,9-ジ4-ヘキシルフェニルフルオレンを13.4g18.0mmol、テトラエチルアンモニウムヒドロキシドを43.0g58.3mmol、酢酸パラジウムを8mg0.04mmol、トリ2-メトキシフェニルホスフィンを0.05g0.1mmol、トルエンを200mL加え、混合物を、90°Cで8時間加熱攪拌した。次いで、フェニルボロン酸を0.22g1.8mmolを添加し、得られた混合物を14時間撹拌した。放冷後、反応液の水層を除去し、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム水溶液を添加し、撹拌した。その後、反応液の水層を除去し、有機層を水及び3重量の酢酸水で洗浄した。有機層をメタノールに注いでポリマーを沈殿させた後、濾取したポリマーを再度トルエンに溶解させ、シリカゲル及びアルミナのカラムに通液した。ポリマーを含む溶出トルエン溶液を回収し、回収した前記トルエン溶液をメタノールに注いでポリマーを沈殿させた。沈殿したポリマーを50°Cで真空乾燥し、高分子化合物2を12.5g得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより分析した高分子化合物2のポリスチレン換算の重量平均分子量は3.1×105であり、分子量分布指数Mw/Mnは2.9であった。高分子化合物2は、仕込み原料の量から、下記式:で表される繰り返し単位と、下記式:で表される繰り返し単位と、下記式:で表される繰り返し単位とが、0.50:0.45:0.05のモル分率で含まれる共重合体である。3.高分子材料溶液の調整正孔輸送性材料である高分子化合物1をキシレン溶媒に0.8重量となるように溶解させ、正孔輸送性高分子材料溶液1を調整した。次いで、発光性材料である高分子化合物2をキシレン溶媒に1.3重量となるように溶解させ、発光性高分子材料溶液2を調整した。4.有機EL素子の作製ITO陽極2が成膜されたガラス基板上に、PlexcoreOC-RG1200Aldrich社製をスピンコート法によって膜厚が35nmとなるように成膜して、正孔注入層3を形成した。こうして正孔注入層3まで形成したガラス基板を170°Cで15分加熱処理して溶媒を蒸発させた。次いで、3.で調整した正孔輸送性高分子材料溶液1を、正孔注入層3上にスピンコート法によって膜厚が20nmとなるように成膜して、正孔輸送層4を形成した。こうして正孔輸送層4まで形成したガラス基板を180°Cで60分加熱処理して溶媒を蒸発させた。次いで、3.で調整した発光性高分子材料溶液2を、正孔輸送層4上にスピンコート法によって膜厚が60nmとなるように成膜して、有機発光層5を形成した。こうして有機発光層5が形成されたガラス基板を130°Cで10分加熱処理して溶媒を蒸発させた。次いで、有機発光層5まで形成したガラス基板を真空蒸着装置のチャンバー内にセットして、フッ化ナトリウム層6、電子注入層7、陰極を以下のようにして順次形成した。まず、有機発光層5上にフッ化ナトリウムを4nmの膜厚で堆積させてフッ化ナトリウム層6を成膜した。次に、電子輸送性低分子材料として、バソクプロインを準備し、バソクプロインとバリウムを重量比で90:10となるように共蒸着により35nmの膜厚で堆積させて、電子注入層7を成膜した。続いて、アルミニウムを100nmの膜厚で堆積させて陰極8を成膜した。そして、以上のようにして陰極8まで形成されたガラス基板を、エポキシ樹脂と封止用ガラス板を用いて封止し、有機エレクトロルミネセンス素子を作製した。<比較例1>フッ化ナトリウム層6を形成しない以外は、実施例1と同様に有機エレクトロルミネセンス素子を作製した。<比較例2>フッ化ナトリウムの代わりに膜厚が0.5nmのフッ化リチウムを堆積させた以外は、実施例1と同様に有機エレクトロルミネセンス素子を作製した。<素子評価>以上のようにして作製した実施例および比較例の有機エレクトロルミネセンス素子についてそれぞれ、輝度半減寿命を評価した。輝度半減寿命とは、初期輝度の半分の輝度になるまでにかかる連続駆動時間のことである。輝度半減寿命試験は、定電圧電流電源を準備して、初期輝度1000cd/m2で測定を行った。その結果、実施例1の有機エレクトロルミネセンス素子の半減寿命は42時間であり、比較例1の有機エレクトロルミネセンス素子の半減寿命は6.3時間であり、比較例2の有機エレクトロルミネセンス素子の半減寿命は19時間であった。"