"並列する複数のコア部と、前記複数のコア部の間に位置する側面クラッド部と、を有する光導波路であって、前記側面クラッド部に設けられ、前記コア部と同じ材料で構成された模様からなる識別記号を有することを特徴とする光導波路。複数の前記側面クラッド部と、そのそれぞれに設けられた前記模様と、を有し、前記複数の模様全体で前記識別記号として機能するよう構成されている請求項1に記載の光導波路。前記複数の模様が一様に分布してなる背景部分と、前記背景部分内に設けられ前記模様が局所的に存在していない空白部分と、を有し、前記空白部分全体で前記識別記号として機能するよう構成されている請求項1に記載の光導波路。前記識別記号は、目視にて識別可能な大きさである請求項2または3に記載の光導波路。前記識別記号は、情報を図形化してなる図形コードを含んでいる請求項1ないし4のいずれかに記載の光導波路。前記コア部および前記模様は、それぞれ、ポリマー中に前記ポリマーと屈折率の異なる光重合性モノマーが分散してなる材料で構成された層に対して部分的に光を照射し、前記光重合性モノマーを移動、偏在させることにより、前記層内に屈折率の偏りを生じさせて形成されたものである請求項1ないし5のいずれかに記載の光導波路。前記ポリマーは、メタアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、またはポリオレフィン系樹脂である請求項6に記載の光導波路。前記複数のコア部の平均幅をWCO[μm]とし、前記複数の側面クラッド部の平均幅をWCL[μm]としたとき、WCO/WCLは0.1~10であり、かつ、WCLは10~250μmである請求項1ないし7のいずれかに記載の光導波路。請求項1ないし8のいずれかに記載の光導波路を備えることを特徴とする電子機器。本発明の目的は、小型化しても識別可能な識別記号を有する光導波路、および前記光導波路を備えた電子機器を提供することにある。このような目的は、下記1~9の本発明により達成される。1並列する複数のコア部と、前記複数のコア部の間に位置する側面クラッド部と、を有する光導波路であって、前記側面クラッド部に設けられ、前記コア部と同じ材料で構成された模様からなる識別記号を有することを特徴とする光導波路。2複数の前記側面クラッド部と、そのそれぞれに設けられた前記模様と、を有し、前記複数の模様全体で前記識別記号として機能するよう構成されている上記1に記載の光導波路。3前記複数の模様が一様に分布してなる背景部分と、前記背景部分内に設けられ前記模様が局所的に存在していない空白部分と、を有し、前記空白部分全体で前記識別記号として機能するよう構成されている上記1に記載の光導波路。4前記識別記号は、目視にて識別可能な大きさである上記2または3に記載の光導波路。5前記識別記号は、情報を図形化してなる図形コードを含んでいる上記1ないし4のいずれかに記載の光導波路。6前記コア部および前記模様は、それぞれ、ポリマー中に前記ポリマーと屈折率の異なる光重合性モノマーが分散してなる材料で構成された層に対して部分的に光を照射し、前記光重合性モノマーを移動、偏在させることにより、前記層内に屈折率の偏りを生じさせて形成されたものである上記1ないし5のいずれかに記載の光導波路。7前記ポリマーは、メタアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、またはポリオレフィン系樹脂である上記6に記載の光導波路。8前記複数のコア部の平均幅をWCO[μm]とし、前記複数の側面クラッド部の平均幅をWCL[μm]としたとき、WCO/WCLは0.1~10であり、かつ、WCLは10~250μmである上記1ないし7のいずれかに記載の光導波路。9上記1ないし8のいずれかに記載の光導波路を備えることを特徴とする電子機器。本発明によれば、例えば余白部分を切り落とす等して小型化しても識別可能な識別記号を有する光導波路が得られる。また、本発明によれば、上記光導波路を備えた電子機器が得られる。以下、本発明の光導波路および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。<光導波路>まず、本発明の光導波路について説明する。図1は、本発明の光導波路の実施形態を示す一部切り欠いて、および透過して示す斜視図、図2は、図1に示す光導波路のコア層を示す平面図である。なお、図が煩雑になるのを避けるため、図1では、8つのコア部14のうちの2つについて示している。図1に示す光導波路1は、平面視において並列する複数のコア部14と、各コア部14の両側に設けられた側面クラッド部15と、を有している。すなわち、図1の光導波路1は、いわゆるマルチチャンネルのものである。このような光導波路1には、図2に示すような文字や図形等の情報を含む識別記号4が付与される。このような識別記号は、従来、光導波路の余白に付与されていた。ここで余白とは、並列する複数のコア部のうち、最も外側のコア部のさらに外側に位置する側面クラッド部のことを指す。コア部同士の間に位置する側面クラッド部に比べて、この余白についてはその幅を十分に広くすることができるので、目視で識別可能な大きさの識別記号を付与することができ、視認性を高くすることができるという利点がある。ところが、光導波路に対する小型化の要請に伴い、余白を切り落して小型化を図ることが多くなってきた。その結果、余白に付与されていた識別記号が失われ、それ以降、光導波路を識別することができないという不都合が生じていた。これに対し本発明では、図1に示すように、複数のコア部14の間に位置する側面クラッド部15に、コア部14と同じ材料で構成された模様41からなる識別記号4を設けることとした。このような識別記号4は、余白部分ではなく、コア部14同士の間に設けられるため、光導波路1の小型化を妨げない。このため、光導波路1の余白を最小化して光導波路1の小型化を図ったとしても、識別記号4の機能が失われることがない。したがって、本発明によれば、小型でかつ個体の識別が容易な光導波路1が得られる。以下、光導波路1の各部の構成について順次説明する。図2に示す光導波路1は、前述したように、並列する複数のコア部14と、それに隣接する複数の側面クラッド部15と、複数の側面クラッド部15のうち、コア部14同士の間にそれぞれ設けられ、コア部14と同じ材料で構成された複数の模様41からなる識別記号4と、を有している。ここで、図2aに示す複数の模様41は、それぞれ平面視で円形をなすものである。これらの複数の模様41は、所定のパターンで配列されることで集合体を構成しており、この集合体全体により、光導波路1を識別する記号として機能するよう構成されている。図2aでは、複数の模様41が集合して3つの集合体を構成しており、各集合体において隣り合う模様41同士を仮想的に結ぶことで、40という数字と、→という記号とを認識することができる。このような図2aに示す光導波路1では、複数の模様41の集合体により識別記号4が構成されているため、余白を最小化したとしても目視で十分に識別可能な大きさの識別記号4を構築することができる。このため、小型でかつ個体の識別が容易な光導波路1が得られる。なお、各模様41は、それぞれ識別記号4に比べて十分に小さくすることができるので、視認性を妨げることなく、コア部14の伝送特性に対して模様41が及ぼす影響を最小限に抑えることができる。また、模様41は、コア部14と同じ材料で構成されている。このため、コア部14を製造するのと同時に模様41を製造することができ、模様41を製造するための工程を別に設ける必要がない。よって、このような模様41を有する光導波路1は、容易にかつ低コストで製造可能なものである。また、コア部14と同じ材料で構成されているため、模様41の屈折率は、その周囲の側面クラッド部15の屈折率よりも高くなっている。このため、模様41と側面クラッド部15とは互いに色が異なって見え、それにより模様41の存在を視認することができる。その結果、識別記号4はその識別機能を果たすことができる。なお、コア部14と同じ材料とは、材料系が同じで、かつ屈折率については側面クラッド部15よりも高い材料であればよい。したがって、このような条件を満たせば、コア部14と模様41とが互いに異なる工程で製造されたものでもよいが、前述したように同一工程で同時に製造することにより、材料系が同じでかつ屈折率は側面クラッド部15よりも高いコア部14とほぼ等しいものとなる。なお、後述するような活性放射線の照射によって化学構造の一部を変化させる等して屈折率を変調させるような方法で製造された場合、同一工程で同時に製造したとしてもコア部14と模様41との間で屈折率が異なることがあるが、この場合でも模様41の屈折率は側面クラッド部15よりも高くなる。また、図2aに示す模様41の形状は、図2aに示す真円に限られず、楕円、長円等の円形であってもよい。また、それ以外の形状、例えば、三角形、四角形、五角形、六角形等の多角形、星形、菱形等であってもよく、限定されるものではない。さらには、模様41自体が文字、記号等であってもよい。また、模様41または識別記号4が示す情報としては、例えば原材料、製造ロット、メーカー名、納入先、製造年月日、仕様、規格、光学特性、使用方法、アライメントマーク等が挙げられる。このうち、使用方法を示す模様41あるいは識別記号4の例としては、光導波路1の入射側と出射側を特定するための矢印記号等が挙げられる。また、アライメントマークを示す模様41あるいは識別記号4の例としては、側面クラッド部15に沿って光導波路1を切断する際の目安となる切断線等が挙げられる。模様41の平面視における大きさは、コア部14間の距離に応じて設定され、特に限定されないが、例えば最大径が10~250μm程度に設定される。このような大きさの模様41であれば、模様41の存在を十分に視認することができ、かつ、模様41がコア部14の伝送特性に影響を及ぼすのを防止することができる。また、模様41を設けたことによって応力分布が不均一になることを防止し、光導波路1に反りや曲がり等が発生するのを防止することができる。なお、模様41の最大径とは、模様41の平面視においてとり得る最大長のことである。一方、複数の模様41の集合体である識別記号4は、図2aに示すような文字、記号等に限られず、例えば、情報を図形化してなる図形コードを含んでいてもよい。図形コードを含むことにより、識別記号4は、より多くの情報を格納し、かつ、その情報を電子データとして簡単に読み出すことのできるものとなる。また、複数の模様41のうちの一部が欠損や汚れ等によって見えなくなっている場合でも、格納された情報を読み出せる場合がある等、識別記号4としての安定性を高めることができる。図形コードの例としては、バーコードのような一次元コード、QRコード登録商標のような二次元コード等が挙げられる。識別記号4の平面視における大きさは、特に限定されないが、例えば最大径が30μm以上に設定されるのが好ましく、50μm以上に設定されるのがより好ましい。このような大きさであれば、目視でも、識別記号4を文字や記号として確実に視認することができる。なお、各模様41は、その全てがコア部14同士の間に設けられている必要はなく、一部は余白に設けられていてもよい。また、各模様41は、コア部14から離れるように設けられているのが好ましい。これにより、模様41がコア部14の伝送特性に影響を及ぼすのを防止することができる。なお、各模様41とそれに隣り合うコア部14との離間距離、すなわち各模様41とそれに隣り合うコア部14との間にある側面クラッド部15の幅は、特に限定されないが、2~100μm程度であるのが好ましく、3~80μm程度であるのがより好ましい。これにより、光導波路1の高密度化を確保しつつ、模様41とコア部14とを確実に分離して視認することができる。また、各模様41の最大径は、側面クラッド部15の幅の20~95程度であるのが好ましく、30~90程度であるのがより好ましい。これにより、識別記号4の視認性とコア部14の伝送効率とを高度に両立することができる。ところで、光導波路では、一般にコア部の屈折率がクラッド部よりも高いため、コア部に入射された光はクラッド部に漏れることなく伝搬される。しかしながら、このような挙動は理論上のものであり、実際にはわずかな光量がクラッド部に漏れ出ている。光導波路1においても、コア部14を伝搬する光は、その一部が側面クラッド部15に漏れ出ていると考えられる。本発明では、前述したように側面クラッド部15に模様41が設けられているため、側面クラッド部15に漏れ出た光漏出光は模様41に干渉することとなる。漏出光が模様41に干渉すると、模様41と側面クラッド部15との界面で漏出光が散乱される。その結果、漏出光が別のコア部14に波及し、ノイズクロストークになってしまうのを防止することができる。すなわち、模様41を備えた光導波路1は、個体を識別可能な上に、高品質の光通信が可能なものとなる。さらには、光導波路では、コア部ではなく側面クラッド部を伝搬してしまう光、いわゆるクラッドモードが知られている。このクラッドモードの光を受光素子が受光してしまうと、光通信の品質が低下することとなる。これに対し、コア部14同士の間に模様41を設けることにより、模様41がクラッドモードを減衰させることができる。その結果、光通信の品質低下を防止することができる。ここで、識別記号4の他の構成例について説明する。図2bは、図2aに示す識別記号の他の構成例を示す平面図である。図2bに示す光導波路1は、複数の模様41の配置が異なる以外、図2aに示す光導波路1と同様である。図2bに示す識別記号4は、複数の模様41が一様に分布してなる領域である背景部分401と、背景部分401の内側に設けられ模様41が局所的に存在していない箇所、すなわち模様41が一様に分布している背景部分401のうち一部の模様41が欠落している箇所である空白部分402と、を有している。そして、空白部分402が複数個集まって、文字や図形等の情報を示すことができる。すなわち、図2aに示す識別記号4は、複数の模様41が集まって識別機能を発揮するポジ型の識別記号であるといえ、一方、図2bに示す識別記号4は、複数の空白部分402が集まって識別機能を発揮するネガ型の識別記号であるといえる。このような図2bに示す識別記号4では、背景部分401が模様41で構成されるため、図2aに示す識別記号4に比べてより多くの模様41が配置されることとなる。このため、前述したクロストークやクラッドモードの発生を防止するという効果がより確実に発揮されることとなる。その結果、図2bに示す光導波路1は、識別機能を有するとともに、とりわけ高品質な光通信が可能なものとなる。なお、背景部分401では、複数の模様41が一様に分布していればよく、模様41の配列パターンが規則的であっても不規則的であってもよい。また、模様41が文字、記号、図形コードのように情報を含み得るものである場合、上記のような複数の模様41の集合体で識別記号4を構成するのではなく、模様41はそれ単独で識別記号4として機能するものであってもよい。この場合、例えばコア部14ごとに個別の情報光の伝搬方向等を付与することもできる。コア層図3は、図1に示すX-X線断面図について、横軸にコア層の厚さの中心線C1における位置をとり、縦軸に屈折率をとったときの屈折率分布の一例を模式的に示す図、図4は、図1に示す光導波路のコア部の1つに光を入射したときの出射光の強度分布の一例を示す図である。図1に示す光導波路1は、下側からクラッド層11、コア層13およびクラッド層12の3層を有している。また、図1に示す光導波路1は、下方から支持フィルム2により、上方からカバーフィルム3により、挟まれている。コア層13には、幅方向において屈折率が偏りを有してなる屈折率分布Wが形成されている。この屈折率分布Wは、相対的に屈折率の高い領域極大値と低い領域極小値とを有しており、これにより入射された光を屈折率の高い領域に閉じ込めて伝搬することができる。その結果、伝送損失およびパルス信号の鈍りが抑えられ、大容量の光信号を入射しても信頼性の高い光通信を行うことができる。この屈折率分布Wには、屈折率が不連続的に変化したステップインデックス型の分布や、屈折率が連続的に変化したグレーデッドインデックス型の分布等が適用される。このうち、伝送効率等の観点から屈折率分布Wにはグレーデッドインデックス型の分布を適用するのが好ましい。これにより、伝送効率の高い光導波路1が得られる。また、グレーデッドインデックス型の分布を適用することにより、多数の模様41を設けても伝送効率が低下し難いので、優れた個体識別機能を付与することができる。ここで、グレーデッドインデックス型の分布は、極大値と極小値とを含み、屈折率が連続的に変化した分布であればよいが、特に極大値について相対的に高さの異なる2種類の極大値に分かれていることが好ましい。具体的には、屈折率分布Wが有する極大値には、相対的に高い第1の極大値と相対的に低い第2の極大値とが含まれており、第1の極大値を挟んで極小値が位置している。そして、第1の極大値に対応してコア部14が、第2の極大値に対応して側面クラッド部15が位置する。これにより、コア部14と側面クラッド部15との間には極小値が位置することになり、第1の極大値と極小値との間に大きな屈折率差が形成されることから、コア部14からは光が漏れ難くなる。また、側面クラッド部15には第1の極大値より低い第2の極大値が位置するため、たとえコア部14から光が漏れ出したとしても、その漏出光は側面クラッド部15に閉じ込められることとなる。これにより、幅方向に隣り合うコア部14の間におけるクロストークが抑制される。その結果、コア層13中におけるコア部14の間隔を狭めて高密度化した場合でも、高品質な光通信を維持することができる。屈折率分布Wは、図3bに示すような、4つの極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と、5つの極大値Wm1、Wm2、Wm3、Wm4、Wm5と、を有している。また、5つの極大値には、相対的に屈折率の大きい極大値第1の極大値Wm2、Wm4と、相対的に屈折率の小さい極大値第2の極大値Wm1、Wm3、Wm5とが存在している。このうち、極小値Ws1と極小値Ws2との間および極小値Ws3と極小値Ws4との間には、極大値Wm2および極大値Wm4が存在している。光導波路1では、図3に示すように、極小値Ws1と極小値Ws2との間に、相対的に屈折率の大きい極大値Wm2が位置していることから、この領域がコア部14となり、同様に、極小値Ws3と極小値Ws4との間にも極大値Wm4が位置していることからコア部14となる。なお、ここでは、極小値Ws1と極小値Ws2との間をコア部141とし、極小値Ws3と極小値Ws4との間をコア部142とする。また、極小値Ws1の左側の領域、極小値Ws2と極小値Ws3との間、および極小値Ws4の右側の領域は、それぞれコア部14の両側面に隣接する領域であることから側面クラッド部15となる。なお、ここでは、極小値Ws1の左側の領域を側面クラッド部151とし、極小値Ws2と極小値Ws3との間を側面クラッド部152とし、極小値Ws4の右側の領域を側面クラッド部153とする。すなわち、屈折率分布Wは、少なくとも、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値がこの順で並ぶ領域を有していればよい。なお、この領域は、コア部の数に応じて繰り返し設けられ、図3のようにコア部14が2つである場合、屈折率分布Wは、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値のように、極大値と極小値が交互に並び、かつ極大値については第1の極大値と第2の極大値が交互に並ぶ領域を有していればよい。また、これら複数の極小値、複数の第1の極大値、および複数の第2の極大値は、それぞれ互いにほぼ同じ値であることが好ましいが、極小値は第1の極大値や第2の極大値より小さく、第2の極大値は第1の極大値より小さいという関係が保持されれば、互いの値が多少ずれていても差し支えない。その場合、ずれ量は、複数の極小値の平均値の10以内に抑えられているのが好ましい。また、光導波路1は前述したように細長い帯状をなしているが、上記のような屈折率分布Wは、光導波路1の長手方向全体においてほぼ同じ分布が維持されている。以上のような屈折率分布Wに伴い、図1に示すコア層13には、長尺状の2つのコア部14と、これらのコア部14の各両側面に隣接する3つの側面クラッド部15とが形成されることとなる。より詳しくは、図1に示すコア層13には、並列する2つのコア部141、142と、並列する3つの側面クラッド部151、152、153とが交互に設けられている。これにより、各コア部141、142は、それぞれ各側面クラッド部151、152、153および各クラッド層11、12で囲まれた状態となる。ここで、これらのコア部141、142の屈折率は、側面クラッド部151、152、153の屈折率より高くなっているので、各コア部141、142と各側面クラッド部151、152、153との界面において光の反射を生じさせることができる。なお、図1に示す各コア部14には密なドットを付し、各側面クラッド部15には疎なドットを付している。光導波路1では、コア部14の一方の端部に入射された光を、コア部14とクラッド部各クラッド層11、12および各側面クラッド部15との界面で反射させ、他方に伝搬させることにより、コア部14の他方の端部から取り出すことができる。また、図1に示すコア部14は、その横断面形状が正方形または長方形のような四角形矩形をなしているが、この形状は特に限定されず、例えば、真円、楕円形、長円形等の円形、三角形、五角形、六角形等の多角形であってもよい。コア部14の幅および高さコア層13の厚さは、特に限定されないが、それぞれ、1~200μm程度であるのが好ましく、5~100μm程度であるのがより好ましく、20~70μm程度であるのがさらに好ましい。ここで、4つの極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4は、それぞれ、隣接する側面クラッド部15における平均屈折率WA未満である。これにより、各コア部14と各側面クラッド部15との境界には、側面クラッド部15よりもさらに屈折率の小さい領域が存在することとなる。その結果、各極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の近傍では、より急峻な屈折率の勾配が形成され、これにより、各コア部14からの光の漏れが抑制されるため、伝送損失の小さい光導波路1が得られる。また、屈折率分布Wは、全体で屈折率が連続的に変化している。これにより、ステップインデックス型の屈折率分布を有する光導波路に比べ、コア部14に光を閉じ込める作用がより増強されるため、伝送損失のさらなる低減が図られる。さらに、屈折率分布Wでは、極大値を有するとともに屈折率が連続的に変化しているため、光の速度が屈折率に反比例するという性質により、光の速度は中心から離れるにつれて速くなり、光路ごとの伝搬時間に差が生じ難くなる。このため、伝送波形が崩れ難くなり、例えば伝送光にパルス信号が含まれている場合でも、パルス信号の鈍りパルス信号の広がりを抑制することができる。その結果、光通信の品質をより高め得る光導波路1が得られる。なお、屈折率分布Wにおいて屈折率が連続的に変化しているとは、屈折率分布Wの曲線が各部で丸みを帯びており、この曲線が微分可能なものであるという状態である。また、本実施形態のように、コア層13中にコア部14と側面クラッド部15とを作り込む場合、一般的には、屈折率差を形成する原理に伴う制約上、コア部14と側面クラッド部15との平均の屈折率差を十分に大きくすることができないが、本発明によれば、極大値と極小値とを交互に配置しているため、コア部14の平均の屈折率と側面クラッド部15の平均の屈折率との差が小さくても、コア部14に光を確実に閉じ込めることができる。このため、同一層からコア部14と側面クラッド部15とを形成する方法で製造される光導波路1において、本発明は特にその効果を発揮する。すなわち、本発明によれば、同一層にコア部14および側面クラッド部15を形成することができるので、製造が容易であるとともに寸法精度の高い光導波路1が得られる。また、屈折率分布Wのうち、極大値Wm2、Wm4は、図3に示すようにコア部141、142に位置しているが、コア部141、142の中でもその幅の中心部に位置しているのが好ましい。これにより、各コア部141、142では、伝送光がコア部141、142の幅の中心部に集まる確率が高くなり、相対的に側面クラッド部151、152、153に漏れ出る確率が低くなる。その結果、コア部141、142の伝送損失をより低減することができる。なお、コア部141の幅の中心部とは、極小値Ws1と極小値Ws2との間の中点から両側に、コア部141の幅の30の距離の領域である。また、極大値Wm2、Wm4の位置は、必ずしも中心部でなくても、コア部141、142の縁部近傍各側面クラッド部151、152、153との界面近傍以外に位置していれば、特性の著しい低下は免れる。すなわち、コア部141、142の伝送損失をある程度抑えることができる。なお、コア部141の縁部近傍とは、前述した縁部から内側に、コア部141の幅の5の距離の領域である。一方、屈折率分布Wのうち、極大値Wm1、Wm3、Wm5は、図3に示すように側面クラッド部151、152、153中に位置しているが、特に側面クラッド部151、152、153の縁部近傍コア部141、142との界面近傍以外に位置しているのが好ましい。これにより、コア部141、142中の極大値Wm2、Wm4と、側面クラッド部151、152、153中の極大値Wm1、Wm3、Wm5とが、互いに十分に離間したものとなるため、コア部141、142中の伝送光が、側面クラッド部151、152、153中に漏れ出る確率を十分に低くすることができる。その結果、コア部141、142の伝送損失を低減することができる。なお、側面クラッド部151、152、153の縁部近傍とは、前述した縁部から内側に、側面クラッド部151、152、153の幅の5の距離の領域である。また、極大値Wm1、Wm3、Wm5は、側面クラッド部151、152、153の幅の中央部に位置しており、しかも、極大値Wm1、Wm3、Wm5から隣接する極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4に向かっては、屈折率が連続的に低下しているのが好ましい。これにより、コア部141、142中の極大値Wm2、Wm4と、側面クラッド部151、152、153中の極大値Wm1、Wm3、Wm5との離間距離は、最大限確保され、しかも極大値Wm1、Wm3、Wm5近傍に光を確実に閉じ込めることができることになるため、前述したコア部141、142からの伝送光の漏出をより確実に抑制することができる。さらに、極大値Wm1、Wm3、Wm5は、前述したコア部141、142に位置する極大値Wm2、Wm4よりも屈折率の小さいものであるので、コア部141、142のような高い光伝送性は有しないものの、周囲よりも屈折率が高くなっているため、わずかな光伝送性を有することとなる。その結果、側面クラッド部151、152、153は、コア部141、142から漏出した伝送光を閉じ込めることで、他のコア部への波及を防止する作用を有するものとなる。すなわち、極大値Wm1、Wm3、Wm5が存在することで、クロストークを抑制することができる。なお、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4は、前述したように、隣接する側面クラッド部15の平均屈折率WA未満であるが、その差は、所定の範囲内であることが望まれる。具体的には、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と側面クラッド部15の平均屈折率WAとの差は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4とコア部141、142中の極大値Wm2、Wm4との差の3~80程度であるのが好ましく、5~50程度であるのがより好ましく、7~20程度であるのがさらに好ましい。これにより、側面クラッド部15は、クロストークを抑制するのに必要かつ十分な光伝送性を有するものとなる。なお、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と側面クラッド部15の平均屈折率WAとの差が前記下限値を下回る場合は、側面クラッド部15における光伝送性が小さ過ぎて、クロストークを十分に抑制することができないおそれがあり、前記上限値を上回る場合には、側面クラッド部15における光伝送性が大き過ぎて、コア部141、142の光伝送性に悪影響を及ぼすおそれがある。また、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と極大値Wm1、Wm3、Wm5との差は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と極大値Wm2、Wm4との差の6~90程度であるのが好ましく、10~70程度であるのがより好ましく、14~40程度であるのがさらに好ましい。これにより、側面クラッド部15における屈折率の高さとコア部14における屈折率の高さとのバランスが最適化され、光導波路1は、特に優れた光伝送性を有するとともにクロストークをより確実に抑制し得るものとなる。なお、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4とコア部141、142中の極大値Wm2、Wm4との屈折率差は、できるだけ大きい方がよいが、0.005~0.07程度であるのが好ましく、0.007~0.05程度であるのがより好ましく、0.01~0.03程度であるのがさらに好ましい。これにより、上述した屈折率差が、コア部141、142中に光を閉じ込めるのに必要かつ十分なものとなる。また、コア部14の平均幅WCOと側面クラッド部15の平均幅WCLとの比WCO/WCLは、0.1~10程度であることが好ましく、0.3~5程度であるのがより好ましく、0.5~4程度であるのがさらに好ましい。コア部14と側面クラッド部15との間で幅の比を最適化することにより、前述した各効果をそれぞれ高度化することができる。また、側面クラッド部15の平均幅WCLは5~250μmであることが好ましく、10~200μmであるのがより好ましく、10~120μmであるのがさらに好ましい。これにより、前述した各効果をそれぞれ高度化することができる。また、存在を視認する程度の大きさの模様41を設けることができる。図4は、光導波路1のコア部141に光を入射したときの出射光の強度分布を示す図である。この強度分布は、光導波路1の複数のコア部141、142のうち、コア部141の端部に光を入射したときの他方の端部における出射光の強度分布である。コア部141に光を入射すると、出射光の強度は、コア部141の出射端の中心部において最も大きくなる。そして、コア部141の中心部から離れるにつれて出射光の強度は小さくなるが、光導波路1では、コア部141に隣り合うコア部142において極小値をとるような強度分布が得られる。このようにコア部142の位置に出射光の強度分布の極小値が一致することで、コア部142におけるクロストークは極めて小さく抑えられることとなる。その結果、高密度化によっても混信の発生を確実に防止し得る光導波路1が得られる。なお、従来の光導波路では、光を入射するコア部に隣り合うコア部において出射光の強度分布が極小値をとることはなく、むしろ極大値をとっていたので、クロストークの問題が発生していた。これに対し、上述したような出射光の強度分布は、クロストークを抑制する上で極めて有用なものである。本発明の光導波路においてこのような強度分布が得られる詳細な理由は明らかでないものの、理由の1つとしては、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4を有し、かつ、屈折率分布W全体で屈折率が連続的に変化している、という特徴的な屈折率分布Wが、従来であればコア部142において極大値を有していた出射光の強度分布を、コア部142に隣接する側面クラッド部153等にシフトさせていることが挙げられる。すなわち、この強度分布のシフトにより、クロストークが確実に抑制されているのである。また、上記のような出射光の強度分布は、必ず観測されるわけではなく、入射光のNAnumericalapertureやコア部141の横断面積、コア部141、142のピッチ等によっては、明瞭な極小値が観測されなかったり、極小値の位置がコア部142から外れたりする場合もあるが、このような場合でもクロストークは十分に抑制される。また、図3bに示す屈折率分布Wにおいて、側面クラッド部15における平均屈折率をWAとしたとき、極大値Wm2、Wm4近傍における屈折率が連続して平均屈折率WA以上である部分の幅をa[μm]とし、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4近傍における屈折率が連続して平均屈折率WA未満である部分の幅をb[μm]とする。このとき、bは、0.01a~1.2a程度であるのが好ましく、0.03a~1a程度であるのがより好ましく、0.1a~0.8a程度であるのがさらに好ましい。これにより、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の実質的な幅が、上述した作用効果を奏するのに必要かつ十分なものとなる。すなわち、bが前記下限値を下回っている場合は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の実質的な幅が狭過ぎるため、コア部141、142に光を閉じ込める作用が低下するおそれがある。一方、bが前記上限値を上回っている場合は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の実質的な幅が広過ぎて、その分、コア部141、142の幅やピッチが制限され、伝送効率が低下したり高密度化が妨げられるおそれがある。なお、側面クラッド部15における平均屈折率WAは、極大値Wm1と極小値Ws1との中点で近似することができる。また、各極大値Wm1、Wm2、Wm3、Wm4、Wm5は、頂部近傍において屈折率が実質的に変化していない平坦部を含んでいてもよい。屈折率分布Wが各極大値の頂部近傍においてこのような形状をなしていても、本発明の光導波路は前述したような作用効果を奏するものとなる。ここで、屈折率が実質的に変化していない平坦部とは、屈折率の変動が0.001未満である領域であって、その両側では屈折率が連続的に低下している領域のことをいう。平坦部の長さは、特に限定されないが、好ましくは100μm以下、より好ましくは20μm以下、さらに好ましくは10μm以下とされる。また、本実施形態では、コア層13に2つのコア部14を有する場合について説明したが、コア部14の数は特に限定されず、3つ以上であってもよい。この場合、コア部14の数が3、4、5と増える場合には、それに応じて、屈折率分布Wが有する極小値の数は、6、8、10と増えることとなる。上述したようなコア層13の構成材料主材料は、上記の屈折率差が生じる材料であれば特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、PETやPBTのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料の他、石英ガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス材料等を用いることができる。なお、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよい。また、これらの中でも特にメタアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、またはポリオレフィン系樹脂が好ましく、メタアクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂がより好ましい。これらの樹脂材料は、光の透過性が高いことから、特に伝送損失の小さい光導波路1が得られる。なお、コア部14と同じ材料で製造される模様41にも、前記第1の極大値と同様の高屈折率領域が形成されている。そして、模様41と側面クラッド部15との界面近傍には、屈折率の極小値が存在することとなる。このため、光導波路1を平面視したとき、模様41中の第1の極大値とこの極小値との間に大きな屈折率差が存在し、この屈折率差に基づいて模様41の輪郭の存在模様41と側面クラッド部15との色の相違が明確になる。したがって、上述したような屈折率分布Wを有する光導波路1は、より明瞭でより確実な識別が可能な識別記号4を有するものとなる。模様41における屈折率の最大値と側面クラッド部15の平均屈折率との差は、特に限定されないが、0.002~0.05程度であるのが好ましく、0.003~0.04程度であるのがより好ましい。クラッド層クラッド層11および12は、それぞれ、コア層13の下部および上部に位置するクラッド部を構成するものである。クラッド層11、12の平均厚さは、コア層13の平均厚さ各コア部14の平均高さの0.05~1.5倍程度であるのが好ましく、0.1~1.25倍程度であるのがより好ましく、具体的には、クラッド層11、12の平均厚さは、特に限定されないが、それぞれ、通常、1~200μm程度であるのが好ましく、3~100μm程度であるのがより好ましく、5~60μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路1が必要以上に大型化厚膜化するのを防止しつつ、クラッド部としての機能が好適に発揮される。また、クラッド層11および12の構成材料としては、例えば、前述したコア層13の構成材料と同様の材料を用いることができるが、特にメタアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、またはポリオレフィン系樹脂が好ましく、メタアクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂がより好ましい。また、コア層13の構成材料およびクラッド層11、12の構成材料を選択する場合、両者の間の屈折率差を考慮して材料を選択すればよい。具体的には、コア部14とクラッド層11、12との境界において光を確実に反射させるため、コア部14の構成材料の屈折率が十分に大きくなるように材料を選択すればよい。これにより、光導波路1の厚さ方向において十分な屈折率差が得られ、各コア部14からクラッド層11、12に光が漏れ出るのを抑制することができる。なお、光の減衰を抑制する観点からは、コア層13の構成材料とクラッド層11、12の構成材料との密着性親和性が高いことも重要である。一方、光導波路1の厚さ方向の屈折率分布Tは、コア部14の屈折率が高く、クラッド層11、12の屈折率が低ければその形状は特に限定されない例えば、ステップインデックス型、グレーデッドインデックス型でもよい。が、コア部14に極大値を有し、コア部14とクラッド層11、12との境界付近に極小値を有しているのが好ましい。図5aは、図1に示すX-X線断面図のコア部を中心とする一部を切り出した図であり、図5bは、X-X線断面図のコア部の幅方向の中心を通過する中心線C2上の屈折率分布Tの一例を模式的に示す図である。なお、図5bは、横軸に屈折率をとり、縦軸に中心線C2上の位置をとったときの屈折率分布Tの一例を示す図である。前述したように、光導波路1は、クラッド層11、コア層13およびクラッド層12に分かれているが、その横断面のうち、コア部14における厚さ方向の屈折率分布Tは、その中心部に位置する極大値Tmと、極大値Tmの両側にそれぞれ位置する極小値Ts1、Ts2を有している。なお、極大値Tmの下側に位置する極小値をTs1とし、上側に位置する極大値をTs2とする。光導波路1では、図5に示すように、極小値Ts1と極小値Ts2との間が極大値Tmを含んでいることから、この領域がコア部14となる。一方、極小値Ts1の下側の領域がクラッド層11となり、極小値Ts2の上側の領域がクラッド層12となる。すなわち、屈折率分布Tは、少なくとも、極小値、極大値、極小値がこの順で並ぶ領域を有していればよい。なお、この領域は、コア層13が積層される数に応じて繰り返し設けられ、例えばクラッド層を介してコア層13を2層設けた場合、屈折率分布Tでは、極小値と極大値が交互に並ぶこととなる。この場合、極大値については、相対的に大きい第1の極大値と、相対的に小さい第2の極大値が、交互に並んでいるのが好ましい。すなわち、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値、極小値、第1の極大値のように並んでいればよい。また、これらの複数の極小値、複数の第1の極大値、および複数の第2の極大値は、それぞれ互いにほぼ同じ値であることが好ましいが、極小値は第1の極大値や第2の極大値より小さく、第2の極大値は第1の極大値より小さいという関係が保持されれば、互いの値が多少ずれていても差し支えない。その場合、ズレ量は、複数の極小値の平均値の10以内に抑えられているのが好ましい。また、光導波路1は、細長い帯状をなしており、上記のような屈折率分布Tは、光導波路1の長手方向全体においてほぼ同じ分布が維持されている。ここで、極小値Ts1は、クラッド層11における平均屈折率TA未満であり、極小値Ts2は、クラッド層12における平均屈折率TA未満である。これにより、コア部14と各クラッド層11、12との間に、各クラッド層11、12よりもさらに屈折率の小さい領域が存在することとなる。その結果、各極小値Ts1、Ts2の近傍では、より急峻な屈折率の勾配が形成され、これにより、各コア部14から各クラッド層11、12への光の漏れが抑制されるため、伝送損失の小さい光導波路1が得られる。また、屈折率分布Tは、全体で屈折率が連続的に変化している。これにより、ステップインデックス型の屈折率分布を有する光導波路に比べ、コア部14に光を閉じ込める作用がより増強されるため、伝送損失のさらなる低減が図られる。さらに、屈折率分布Tでは、上述したような各極小値Ts1、Ts2を有するとともに屈折率が連続的に変化しているため、光の速度が屈折率に反比例するという性質により、光の速度は中心から離れるにつれて速くなり、光路ごとの伝搬時間に差が生じ難くなる。このため、伝送波形が崩れ難くなり、例えば伝送光にパルス信号が含まれている場合でも、パルス信号の鈍りパルス信号の広がりを抑制することができる。その結果、光通信の品質をより高め得る光導波路1が得られる。なお、屈折率分布Tにおいて屈折率が連続的に変化しているとは、屈折率分布Tの曲線が各部で丸みを帯びており、この曲線が微分可能なものであるという状態である。また、屈折率分布Tのうち、極大値Tmは、図5に示すようにコア部14に位置しているが、コア部14の中でもその厚さの中心部に位置している。これにより、コア部14では、伝送光がコア部14の厚さの中心部に集まる確率が高くなり、相対的に各クラッド層11、12に漏れ出る確率が低くなる。その結果、コア部141、142の伝送損失をより低減することができる。なお、コア部14の厚さの中心部とは、極小値Ts1と極小値Ts2との間の中点から両側に、コア部14の厚さの30の距離の領域である。また、極大値Tmの位置は、必ずしも中心部でなくても、コア部14の縁部近傍各クラッド層11、12との界面近傍以外に位置していればよい。これにより、コア部14の伝送損失をある程度抑えることができる。なお、コア部14の縁部近傍とは、前述した縁部から内側に、コア部14の厚さの5の距離の領域である。一方、屈折率分布Tでは、各クラッド層11、12において、コア部14との界面近傍以外で最も高く、コア部14との界面近傍で最も低くなるよう屈折率が変化している。これにより、コア部14中の極大値Tmと、各クラッド層11、12中における屈折率の高い領域とが、互いに十分に離間したものとなるため、コア部14中の伝送光が、各クラッド層11、12中に漏れ出る確率を十分に低くすることができる。その結果、コア部14の伝送損失を低減することができる。なお、各クラッド層11、12におけるコア部14との界面近傍とは、この界面から内側に、各クラッド層11、12の厚さの5の距離の領域である。また、各クラッド層11、12における平均屈折率TAは、極小値Ts1、Ts2と各クラッド層11、12における最大値との中点で近似することができる。また、前述したように複数のコア層13を積層する場合には、相対的に大きい第1の極大値がコア部中に位置し、相対的に小さい第2の極大値はクラッド層中に位置することとなる。この場合、第2の極大値は、クラッド層の厚さの中央部に位置しているのが好ましい。これにより、コア部中に位置する第1の極大値と、クラッド層中に位置する第2の極大値との離間距離が、最大限確保され、しかもコア部から漏れ出た光が、他のコア部に侵入しないよう、クラッド層中に閉じ込めることができるようになる。これにより、複数のコア層13を積層した場合でも、層間におけるクロストークを確実に抑制することができる。また、極小値Ts1、Ts2は、前述したように、各クラッド層11、12の平均屈折率TA未満であるが、両者の差は、所定の範囲内であることが望まれる。具体的には、極小値Ts1、Ts2とクラッド層11、12の平均屈折率TAとの差は、極小値Ts1、Ts2とコア部14中の極大値Tmとの差の3~80程度であるのが好ましく、5~50程度であるのがより好ましく、7~30程度であるのがさらに好ましい。これにより、各クラッド層11、12は、クロストークを抑制するのに必要かつ十分な光伝送性を有するものとなる。なお、極小値Ts1、Ts2と各クラッド層11、12の平均屈折率TAとの差が前記下限値を下回る場合は、各クラッド層11、12における光伝送性が小さ過ぎて、クロストークを十分に抑制することができないおそれがあり、前記上限値を上回る場合には、各クラッド層11、12における光伝送性が大き過ぎて、コア部14の光伝送性に悪影響を及ぼすおそれがある。また、極小値Ts1、Ts2とコア部14中の極大値Tmとの屈折率差は、できるだけ大きい方がよいが、0.005~0.07程度であるのが好ましく、0.007~0.05程度であるのがより好ましく、0.01~0.05程度であるのがさらに好ましい。これにより、上述した屈折率差が、コア部14中に光を閉じ込めるのに必要かつ十分なものとなる。支持フィルム光導波路1の下面には、必要に応じて、図1に示すような支持フィルム2を積層するようにしてもよい。支持フィルム2は、光導波路1の下面を支持して、保護補強する。これにより、光導波路1の信頼性および機械的特性を高めることができる。このような支持フィルム2の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料の他、銅、アルミニウム、銀等の金属材料が挙げられる。なお、金属材料の場合は、支持フィルム2として金属箔が好ましく用いられる。また、支持フィルム2の平均厚さは、特に限定されないが、5~200μm程度であるのが好ましく、10~100μm程度であるのがより好ましい。これにより、支持フィルム2は、適度な剛性を有するものとなるため、光導波路1を確実に支持するとともに、光導波路1の柔軟性を阻害し難くなる。なお、支持フィルム2と光導波路1との間は接着または接合されているが、その方法としては、熱圧着、接着剤または粘着剤による接着等が挙げられる。このうち、接着層としては、例えば、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤の他、各種ホットメルト接着剤ポリエステル系、変性オレフィン系等が挙げられる。また、特に耐熱性の高いものとして、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリイミドアミドエーテル、ポリエステルイミド、ポリイミドエーテル等の熱可塑性ポリイミド接着剤が好ましく用いられる。このような材料で構成された接着層は、比較的柔軟性に富んでいるため、光導波路1の形状が変化したとしても、その変化に自在に追従することができる。その結果、形状変化に伴う剥離を確実に防止し得るものとなる。このような接着層の平均厚さは、特に限定されないが、1~100μm程度であるのが好ましく、5~60μm程度であるのがより好ましい。カバーフィルム一方、光導波路1の上面には、必要に応じて、図1に示すようなカバーフィルム3を積層するようにしてもよい。カバーフィルム3は、光導波路1を保護するとともに、光導波路1を上方から支持するものである。これにより、汚れや傷などから光導波路1が保護され、光導波路1の信頼性および機械的特性を高めることができる。このようなカバーフィルム3の構成材料としては、支持フィルム2の構成材料と同様であり、例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料の他、銅、アルミニウム、銀等の金属材料が挙げられる。なお、金属材料の場合は、カバーフィルム3として金属箔が好ましく用いられる。また、光導波路1の途中にミラーを形成した場合には、カバーフィルム3を光が透過することになるので、カバーフィルム3の構成材料は実質的に透明であるのが好ましい。また、カバーフィルム3の平均厚さは、特に限定されないが、3~50μm程度であるのが好ましく、5~30μm程度であるのがより好ましい。カバーフィルム3の厚さを前記範囲内とすることにより、カバーフィルム3は光通信において十分な光透過率を有するとともに、光導波路1を確実に保護するために十分な剛性を有するものとなる。なお、カバーフィルム3と光導波路1との間は接着または接合されているが、その方法としては、熱圧着、接着剤または粘着剤による接着等が挙げられる。このうち、接着剤としては前述したようなものを用いることができる。<光導波路の製造方法>次に、本発明の光導波路を製造する方法の一例について説明する。光導波路1は、クラッド層11を形成するための組成物、コア層13を形成するための組成物、およびクラッド層12を形成するための組成物を、順次成膜して製造することもできるが、3種の組成物を同時に3層に押出成形して製造することもできる。以下では後者の方法について説明する。図6、7は、光導波路1の製造に用いる装置を示す図、図8~10はそれぞれ図1に示す光導波路1の製造方法を説明するための図である。なお、以下の説明では、図8~10中の上側を上、下側を下という。光導波路1の製造方法では、[1]まず、支持基板951上に2種類の光導波路形成用組成物901、902第1の組成物および第2の組成物を層状に押出成形して層910を得る。[2]次いで、層910の一部に活性放射線を照射することで屈折率差を生じさせ、光導波路1を得る。以下、各工程について順次説明する。[1]まず、光導波路形成用組成物901、902を用意する。光導波路形成用組成物901、902は、それぞれ、ポリマー915と、添加剤920本実施形態では、少なくともモノマーを含む。と、を含有するものであるが、その組成は異なるものである。2種類の組成物のうち、光導波路形成用組成物901は、主にコア層13を形成するための材料であり、活性放射線の照射により、ポリマー915中において少なくともモノマーの活発な反応が生じ、それに伴って屈折率分布に変化を生じさせる材料である。すなわち、光導波路形成用組成物901は、ポリマー915とモノマーの存在比率の偏りによって屈折率分布に変化が生じ、その結果、コア層13中にコア部14と側面クラッド部15とを形成することのできる材料である。一方、光導波路形成用組成物902は、主にクラッド層11、12を形成するための材料であり、光導波路形成用組成物901より低屈折率の材料で構成されている。光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との屈折率差は、それぞれに含まれるポリマー915の組成、モノマーの組成、ポリマー915とモノマーとの存在比率等を設定することにより、適宜調整することができる。例えば、モノマーの屈折率がポリマー915より低い場合、組成物中のモノマーの含有率は、光導波路形成用組成物901より光導波路形成用組成物902の方が高くなっている。一方、モノマーの屈折率がポリマー915より高い場合、組成物中のモノマーの含有率は、光導波路形成用組成物902より光導波路形成用組成物901の方が高くなっている。換言すれば、ポリマー915やモノマーの各屈折率に応じて、各光導波路形成用組成物901、902中のポリマー915および添加剤920の組成が適宜選択されている。また、光導波路形成用組成物901および光導波路形成用組成物902では、モノマーの含有率が互いにほぼ等しくなるよう、組成が設定されているのが好ましい。このように設定すれば、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との間で、モノマーの含有率の差が小さくなるため、これをきっかけにしたモノマーの拡散移動が抑制される。モノマーの拡散移動は、前述したように屈折率差の形成において有用であるが、含有率の差が大きい場合には望ましくない方向に移動することが避けられない場合もある。後述する多色押出成形法では、層910の厚さ方向の屈折率分布を自由に形成することが可能であるため、少なくとも厚さ方向においてはモノマーの拡散移動が抑制されていても差し支えなく、むしろ厚さ方向における意図しないモノマーの拡散移動は抑制される方が好ましい。意図しないモノマーの拡散移動を抑制することにより、最終的に目的とする形状の屈折率分布Tを有する光導波路1を確実に製造することができる。なお、モノマーの含有率をほぼ等しくした場合には、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との間で、ポリマー915またはモノマーの条件を異ならせればよい。具体的には、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とで、用いるポリマー915の組成を異ならせるほか、同じ組成であっても分子量や重合度を異ならせるようにすればよい。また、用いるモノマーの組成、すなわち屈折率を異ならせるようにしてもよい。このようにすれば、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とでモノマーの含有率をほぼ等しくし、モノマーの拡散移動を抑制しながら、両者の間に屈折率差を形成することができる。次いで、支持基板951上に光導波路形成用組成物901、902を多色押出成形法により層状に成形する。多色押出成形法では、光導波路形成用組成物901を3層で押し出すとともに、これらの層間にそれぞれ光導波路形成用組成物902を押し出すことで、5層からなる多色成形体914を一括形成する。具体的には、多色成形体914では、光導波路形成用組成物901、光導波路形成用組成物902、光導波路形成用組成物901、光導波路形成用組成物902、および光導波路形成用組成物901が、下方からこの順で同時に押し出されるため、組成物同士の境界においては、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とがわずかに混濁する。したがって、組成物同士の境界近傍では、光導波路形成用組成物901の一部と光導波路形成用組成物902の一部とが混合し、厚さ方向に沿って混合比率が連続的に変化している領域が形成される。その結果、多色成形体914では、図8aの下方から、主に光導波路形成用組成物901からなる第1成形層914a、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物からなる第2成形層914b、主に光導波路形成用組成物902からなる第3成形層914c、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物からなる第4成形層914d、主に光導波路形成用組成物901からなる第5成形層914e、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物からなる第6成形層914f、主に光導波路形成用組成物902からなる第7成形層914g、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物からなる第8成形層914h、および主に光導波路形成用組成物901からなる第9成形層914iが、この順で積層されたものとなる。そして、得られた多色成形体914中の溶媒を蒸発脱溶媒させ、層910を得る図8b参照。得られた層910は、図8bの下方から、第3成形層914cの中心部より下方の層から形成されるクラッド層11と、第3成形層914cの中心部より上方で第7成形層914gの中心部より下方の層から形成されるコア層13と、第7成形層914gの中心部より上方の層から形成されるクラッド層12との積層体となる。得られた層910中では、ポリマーマトリックス915が実質的に一様かつランダムに存在し、添加剤920は、ポリマー915中に実質的に一様かつランダムに分散している。これにより、層910中には、添加剤920が実質的に一様かつランダムに分散している。層910の平均厚さは、形成すべき光導波路1の厚さに応じて適宜設定され、特に限定されないが、10~500μm程度であるのが好ましく、20~300μm程度であるのがより好ましい。なお、支持基板951には、例えば、シリコン基板、二酸化ケイ素基板、ガラス基板、ポリエチレンテレフタレートPETフィルム等が用いられる。ところで、このような層910を得るための多色成形体914は、以下のようなダイコーター多色押出成形装置800を用いて製造される。図6は、多色成形体914を得るダイコーターを示す斜視図、図7は、ダイコーターの一部を拡大して示す縦断面図である。ダイコーター800は、図6に示すように、上リップ部811と、その下方に設けられた下リップ部812とを備えるダイヘッド810を有している。上リップ部811および下リップ部812は、それぞれ長尺のブロック体で構成され、互いに重ね合わされている。合わせ面には空洞のマニホールド820が形成されている。マニホールド820の幅はダイヘッド810の右側ほど広くなるよう連続的に拡張している。一方、マニホールド820の厚さはダイヘッド810の右側ほど小さくなるよう連続的に縮小している。そして、マニホールド820の右端では、空洞の幅が最大でかつ厚さが最小になっており、スリット821を形成している。このダイヘッド810は、マニホールド820の左側から供給された光導波路形成用組成物901、902をスリット821から右側に成形しつつ押し出すことができる。すなわち、スリット821の形状に応じて、多色成形体914の幅および厚さが決定される。ダイヘッド810の左側には、ミキシングユニット830が設けられている。ミキシングユニット830は、光導波路形成用組成物901、902をそれぞれダイヘッド810に供給するための3系統の配管を組み合わせて構成されており、光導波路形成用組成物902をダイヘッド810に供給する第1の供給管831と、光導波路形成用組成物901をダイヘッド810に供給する第2の供給管832および第3の供給管833とを有している。また、第1の供給管831、第2の供給管832および第3の供給管833から供給された光導波路形成用組成物901、902は、ダイヘッド810との接続を担う接続部835において合流し、ダイヘッド810のマニホールド820へと供給される。なお、第2の供給管832は、途中で上下2つに分岐し、接続部835の最上層部および最下層部にそれぞれ接続されている。一方、第3の供給管833は、接続部835の中層部に接続されている。さらに、第1の供給管831も、途中で上下2つに分岐し、接続部835の最上層部と中層部との間上層部、および、最下層部と中層部との間下層部にそれぞれ接続されている。すなわち、接続部835では、光導波路形成用組成物901で構成される1層の流れを、光導波路形成用組成物902で構成される上下2層の流れで挟み込むようにして合流し、さらにその外側を光導波路形成用組成物901で構成される上下2層の流れで挟み込みようにして合流している。なお、この際、最上層部および最下層部に接続される第2の供給管832については、その流量が、第3の供給管833より小さくなるようにする。これにより、第1成形層914aおよび第9成形層914iは、第5成形層eに比べて十分に薄くなり、最下層部および最下層部の屈折率が中層部の屈折率より高くなるのを防止することができる。また、ミキシングユニット830は、第1の供給管831と第2の供給管832との合流地点に設けられた、複数のピン836を有している。これらのピン836は、長尺の円柱状をなしており、その軸と、第1の供給管831および第2の供給管832の延伸方向とがほぼ直交するよう配置されている。また、図7では、これらのピン836が、接続部835の最上層部と上層部との間、上層部と中層部との間、中層部と下層部との間、および、下層部と最下層部との間などにそれぞれ設けられている。なお、ピン836の本数は特に限定されないが、好ましくは2本以上とされ、より好ましくは3~10本程度とされる。また、ピン836は、光導波路形成用組成物901、902間に乱流を生じさせ得るものであれば、他の構造物例えば、メッシュ、パンチングメタル等で代替することもできる。ダイヘッド810の右側には、多色押出成形された多色成形体914を搬送する搬送部840が設けられている。搬送部840は、ローラー841と、ローラー841に沿って移動する搬送フィルム842とを有している。搬送フィルム842はローラー841の回転により、図6の下方から右側へと搬送されるが、その際に、ローラー841上にて多色成形体914を積層する。これにより、多色成形体914の形状を保持しつつ、右側へと搬送することができる。次いで、ダイコーター800の動作について説明する。ミキシングユニット830に光導波路形成用組成物901、902が同時に供給されると、接続部835において5層の層流が形成される。接続部835において光導波路形成用組成物901、902が合流する際、合流部に設けられた複数のピン836の作用により、光導波路形成用組成物901、902の流れに乱れが生じる。この乱れは、層流間の境界を不明瞭とし、境界では光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とが混在した領域が形成される。このようにして形成された層流は、ダイヘッド810のマニホールド820において、幅方向に拡張されるとともに厚さ方向には圧縮される。その結果、前述したような、第1成形層914a、第2成形層914b、第3成形層914c、第4成形層914d、第5成形層914e、第6成形層914f、第7成形層914g、第8成形層914h、および第9成形層914iが、下方からこの順で積層されてなる多色成形体914が形成される。そして、このような多色成形体914を用いることにより、最終的に前述した厚さ方向の屈折率分布Tを有する光導波路1が得られる。なお、多色成形体914は、搬送フィルム842上に形成されるが、この搬送フィルム842をそのまま前述した支持基板951として、さらには支持フィルム2として利用することもできる。また、図6に示すダイコーター800は、コア層13を1層含む層910を形成可能であるが、コア層13を複数層設ける場合には、それに応じてミキシングユニット830の構造を変更すればよい。具体的には、コア層13の層数に応じて第1の供給管831、第2の供給管832および第3の供給管833の分岐数を増やすようにすればよい。なお、上記多色押出成形法およびダイコーターは、多色成形体914を製造する方法および装置の一例であり、層間での組成物の混濁を生じ得る方法および装置であれば、例えば射出成形法装置、塗布法装置、印刷法装置等の各種方法装置を用いることもできる。次に、ポリマー915および添加剤920について説明する。ポリマーポリマー915は、光導波路1のベースポリマーとなるものである。ポリマー915には、透明性が十分に高く無色透明であり、かつ、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応重合反応や架橋反応可能であり、モノマーが重合した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。ここで、相溶性を有するとは、モノマーが少なくとも混和して、光導波路形成用組成物901、902中や層910中においてポリマー915と相分離を起こさないことをいう。このようなポリマー915としては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、PETやPBTのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせてポリマーアロイ、ポリマーブレンド混合物、共重合体など用いることができる。これらの中でも、特に、メタアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、またはポリオレフィン系樹脂を主とするものが好ましく、メタアクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂を主とするものがより好ましい。ポリマー915としてこれらの樹脂を用いることにより、優れた光伝送性能を有する光導波路1を得ることができる。以下、これらの樹脂について詳述する。アクリル系ポリマーメタアクリル系ポリマーは、アクリル酸、アクリル酸エステルのようなアクリル酸系モノマー、メタクリル酸、メタクリル酸エステルのようなメタクリル酸系モノマー、またはこれらの誘導体例えば、アルコキシ誘導体、カプロラクトン誘導体等を原料モノマーとして、この原料モノマーを重合してなるポリマー樹脂およびゴムを含む。である。したがって、メタアクリル系ポリマーとしては、上記原料モノマーの1種を重合してなるホモポリマー、上記原料モノマーの異なる2種以上を重合してなるコポリマー、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマー等が挙げられる。かかる原料モノマーとしては、例えば、単官能メタアクリレート、2官能メタアクリレート、3官能以上の多官能メタアクリレート等が挙げられる。単官能メタアクリレートとしては、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、s-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ヘプチルメタアクリレート、オクチルヘプチルメタアクリレート、ノニルメタアクリレート、デシルメタアクリレート、ウンデシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、テトラデシルメタアクリレート、ペンタデシルメタアクリレート、ヘキサデシルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、ベヘニルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレートのような脂肪族メタアクリレート、シクロペンチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、シクロペンチルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、3-メチル-3-オキセタニルメチルメタアクリレート、1-アダマンチルメタアクリレートのような脂環式メタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ノニルフェニルメタアクリレート、p-クミルフェニルメタアクリレート、o-ビフェニルメタアクリレート、1-ナフチルメタアクリレート、2-ナフチルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-o-フェニルフェノキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-1-ナフトキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-2-ナフトキシプロピルメタアクリレートのような芳香族メタアクリレート、2-テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、N-メタアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、2-メタアクリロイルオキシエチル-N-カルバゾールのような複素環式メタアクリレート等が挙げられる。また、2官能メタアクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、1,3-ブタンジオールジメタアクリレート、2-メチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、1,10-デカンジオールジメタアクリレート、グリセリンジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールメタアクリレートのような脂肪族メタアクリレート、シクロヘキサンジメタノールメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールメタアクリレート、水添ビスフェノールAジメタアクリレート、水添ビスフェノールFジメタアクリレートのような脂環式メタアクリレート、ビスフェノールAジメタアクリレート、ビスフェノールFジメタアクリレート、ビスフェノールAFジメタアクリレート、フルオレン型ジメタアクリレートのような芳香族メタアクリレート、イソシアヌル酸ジメタアクリレートのような複素環式メタアクリレート等が挙げられる。また、3官能以上の多官能メタアクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートのような脂肪族メタアクリレート、イソシアヌル酸トリメタアクリレートのような複素環式メタアクリレート等が挙げられる。なお、上記原料モノマーと重合させる他の原料モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、アクリロニトリル等が挙げられ、上記原料モノマーとしてアクリル酸メタクリル酸系モノマーを選択した場合には、これらを重合することにより、アクリルゴムが得られる。また、上記原料モノマーとしては、例えば、MMAモノマークラレ製または三菱レイヨン製、アクリレートモノマーダイセルサイテック製、ブレンマー日油製、アクリル酸エステルモノマー日本触媒製、光硬化性モノマーオリゴマー新中村化学工業製等が挙げられる。メタアクリル系ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、2×104~3×105程度であることが好ましく、3×104~2×105程度であることがより好ましい。かかる重量平均分子量のメタアクリル系ポリマーを用いることにより、後述するモノマーとの相溶性が高くなるとともに、コア層13の強度や可撓性の向上を図ることができる。ここで、コア層13の各部の屈折率は、各部におけるメタアクリル系ポリマーの屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定される。そのため、用いるモノマーの種類およびメタアクリル系ポリマーの種類を適宜選択することにより、コア層13の各部の屈折率を調整することができる。また、メタアクリル系ポリマーの構造を設計することによっても、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差の調整を容易に行うことができる。例えば、メタアクリル系ポリマーを、主鎖と、後述する活性放射線930により主鎖から離脱する脱離性基とを有する化学構造に設計する。かかる化学構造を有するメタアクリル系ポリマーにおいては、活性放射線930の照射により、離脱性基を主鎖から離脱させることができ、その屈折率が変化する。このような離脱性基としては、例えば、分子構造中に、-O-構造、-Si-アリール構造および-O-Si-構造のうちの少なくとも1つを有するものが挙げられる。かかる離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、カチオンの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。このうち、離脱によりメタアクリル系ポリマーの屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、-Si-ジフェニル構造および-O-Si-ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。また、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、フリーラジカルの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。離脱性基の量数は、特に限定されないが、メタアクリル系ポリマー全質量に対して10~80質量であるのが好ましく、20~60質量であるのがより好ましい。離脱性基の量が前記範囲内であると、屈折率変調機能屈折率差を変化させる効果に優れたメタアクリル系ポリマーとすることができるとともに、形成されるコア層13の可撓性の向上を図ることもできる。かかる離脱性基を有するメタアクリル系ポリマーは、前述した原料モノマーと、この原料モノマーに離脱性基を導入したモノマーとを重合することにより、容易に得ることができる。さらに、エポキシ基を有するメタアクリル系ポリマーを用いることもできる。かかるメタアクリル系ポリマーを用いることにより、クラッド層11、12に対して密着性に優れたコア層13を形成することが可能となる。このメタアクリル系ポリマーを得る場合、原料モノマーには、例えば、グリシジルメタアクリレート、α-エチルグリシジルメタアクリレート、α-プロピルグリシジルメタアクリレート、α-ブチルグリシジルメタアクリレート、2-メチルグリシジルメタアクリレート、2-エチルグリシジルメタアクリレート、2-プロピルグリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシブチルメタアクリレート、3,4-エポキシヘプチルメタアクリレート、α-エチル-6,7-エポキシヘプチルメタアクリレート、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルエチルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルプロピルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルブチルメタアクリレート等のうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、上記原料モノマーとしては、例えば、EBECRYLダイセルサイテック製、デナコールアクリレートナガセケムテックス製、ネオポール日本ユピカ製等を用いることができる。さらに、エポキシ基を有するメタアクリル系ポリマーとしては、例えば、ブレンマー日油製等を用いることができる。また、フッ素含有メタアクリル系ポリマーも用いることができる。このポリマーを得るための原料モノマーとしては、例えば、ダイキン工業製METHACRYLATESCASNo1799844ethylmethacrylate、ユニマテック製ケミノックス等を用いることができる。さらには、マレイミド変性アクリル系ポリマーも用いることができる。このポリマーとしては、例えば、アロンタック東亞合成製等を用いることができ、また、原料モノマーとしては、例えば、アロニックス東亞合成製等を用いることができる。この他に、メタアクリル系ポリマーとして、スミペックスMHF住友化学製、シリコーングラフトメタアクリル系ポリマーとして、サイマックUS-352東亞合成製、UV硬化型メタアクリル系ポリマーとして、8KX-018C大成ファインケミカル製を使用することができる。また、原料モノマーには、末端アクリルポリエーテルとして、デナコールアクリレートDA-931ナガセケムテックス製、末端メタクリルシリコーンオイルとして、BY167-152C東レダウコーニング製、水性アクリレートとして、RD-180互応化学工業製、ビスフェノールAジアクリレートとして、ABE-300、フルオレンジアクリレートとして、A-BPEF以上、新中村化学工業製、ウレタンアクリレートとして、MiramerHR-3700東洋ケミカルズ製、ベンジルメタアクリレート日立化成工業製等を使用することができる。エポキシ系ポリマーエポキシ系ポリマーは、特に、透明性が高く、優れた光伝送性を有し、さらに優れた耐熱性および密着性を有することから、本発明におけるポリマーとして用いられる。また、かかるエポキシ系ポリマーには、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応重合反応や架橋反応可能であり、モノマーが反応した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。ここで、相溶性を有するとは、モノマーが少なくとも混和して、光導波路形成用組成物901、902中や層910中においてエポキシ系ポリマーと相分離を起こさないことをいう。さらに、エポキシ系ポリマーとは、ノルボルネン系エポキシモノマー、ケイ素含有エポキシモノマー、脂環式エポキシモノマー、ビスフェノール型エポキシモノマー、フッ素化エポキシモノマー、脂肪族エポキシモノマー、ナフタレン環含有エポキシモノマー、芳香環含有エポキシモノマー等のエポキシモノマーまたはこれらの誘導体を原料モノマーとして、この原料モノマーを重合してなるポリマー樹脂およびゴムを含む。である。したがって、エポキシ系ポリマーとしては、上記原料モノマーの1種を重合してなるホモポリマー、上記原料モノマーの異なる2種以上を重合してなるコポリマー、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマー等が挙げられる。このような原料モノマーのうち、ノルボルネン系エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式1で表わされるものが挙げられる。なお、式1で表される化合物は、エポキシノルボルネンであり、このような化合物としては、例えば、プロメラス社製EpNBを使用することができる。この他、ジシクロペンタジエン型エポキシモノマーとして、DIC製HP-7200HHHを使用することができる。また、ケイ素含有エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式2または式3で表わされるものが挙げられる。なお、式2で表される化合物は、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランであり、この化合物としては、例えば、東レダウコーニング社製Z-6040を使用することができる。また、式3で表される化合物は、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランであり、この化合物としては、例えば、東京化成製E0327を使用することができる。この他、東レダウコーニング社製SF8413、BY16-839、SF8421を使用することができる。さらに、脂環式エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式4~式6で表わされるものが挙げられる。なお、式4で表される化合物は、3、4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3’、4’-エポキシシクロヘキセンカルボキシレートであり、この化合物としては、例えば、ダイセル化学社製セロキサイド2021Pを使用することができる。また、式5で表される化合物は、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサンであり、この化合物としては、例えば、ダイセル化学社製セロキサイド2000を使用することができる。さらに、式6で表される化合物は、1,2:8,9ジエポキシリモネンであり、この化合物としては、例えば、ダイセル化学社製セロキサイド3000を使用することができる。この他、ダイセル化学社製セロキサイド2081を使用することもできる。また、ビスフェノール型エポキシモノマーとしては、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、以下の式7で表わされるものが挙げられる。なお、式7で表される化合物としては、具体的には、例えば、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル式7中、n=1、R1~R6がすべて水素原子のもの、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル式7中、n=0、R1~R6がすべて水素原子のもの等が挙げられる。この他、ビスA型エポキシモノマーとして、新日鐵化学製YD-128S、YD-020G、水添ビスA型エポキシモノマーとして、新日鐵化学製ST-3000、ST-4000Dを使用することもできる。さらに、フッ素化エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式8で表わされるものが挙げられる。この他、ダイキン工業製EPOXIDESCASNo74328566perfluoronhexane、EPOXIDESCASNo791220perfluoronbutaneを使用することもできる。また、脂肪族エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式9で表わされるものが挙げられる。この他、多官能脂肪族エポキシモノマーとして、ナガセケムテックス製デナコールEX-850L、デナコールEX-216Lを使用することができる。さらに、ナフタレン環含有エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式10で表わされるものが挙げられる。[式7中、R1~R4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1~6のアルキル基である。また、R5、R6は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基である。さらに、各nは、それぞれ独立して、0~10の整数を表わす。][式8中、nは、2~10の整数を表わす。][式9中、nは、2~10の整数を表わす。][式10中、Rは、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、またはフェニル基を表わす。]また、エポキシ系ポリマーまたは原料モノマーとしては、上記の他に、エピコートジャパンエポキシレジン製、フェノキシ樹脂YPシリーズ、ノボラック型エポキシ樹脂YDCNシリーズ以上、新日鐵化学製、オグソールEG大阪ガスケミカル製、ビフェニル型エポキシ樹脂YX-4000H三菱化学製、リカレジン新日本理化製、シリコーン変性エポキシ信越化学工業製または東レダウコーニング製、デナコールナガセケムテックス製、フッ素化エポキシダイキン工業製、ARUFONUG-4000、4035、4040東亞合成製、アロンオキセタンOXT-213、221、211東亞合成製等を使用することができる。なお、エポキシ系ポリマーを、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマーとする場合、他の原料モノマーとしては、上記原料モノマーと異なる種類のものであれば、特に限定されないが、例えば、後述する添加剤920に含まれるモノマーで例示するものを用いることができる。エポキシ系ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、2×104~3×105程度であることが好ましく、3×104~2×105程度であることがより好ましい。かかる重量平均分子量のエポキシ系ポリマーを用いることにより、後述するモノマーとの相溶性が高くなるとともに、コア層13の強度や可撓性の向上を図ることができる。ここでコア層13の各部の屈折率は、各部におけるエポキシ系ポリマーの屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定される。そのため、用いるモノマーの種類およびエポキシ系ポリマーの種類を適宜選択することにより、コア層13の各部の屈折率を調整することができる。また、エポキシ系ポリマーの構造を設計することによっても、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差の調整を容易に行うことができる。例えば、エポキシ系ポリマーを、主鎖と、後述する活性放射線930により主鎖から離脱する脱離性基とを有する化学構造に設計する。かかる化学構造を有するエポキシ系ポリマーにおいては、活性放射線930の照射により、離脱性基を主鎖から離脱させることができ、その屈折率が変化する。このような離脱性基としては、例えば、分子構造中に、-O-構造、-Si-アリール構造および-O-Si-構造のうちの少なくとも1つを有するものが挙げられる。かかる離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、カチオンの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。このうち、離脱によりエポキシ系ポリマーの屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、-Si-ジフェニル構造および-O-Si-ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。また、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、フリーラジカルの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。離脱性基の量数は、特に限定されないが、エポキシ系ポリマー全重量に対して10~80重量であるのが好ましく、20~60重量であるのがより好ましい。離脱性基の量が前記範囲内であると、屈折率変調機能屈折率差を変化させる効果に優れたエポキシ系ポリマーとすることができるとともに、形成されるコア層13の可撓性の向上を図ることもできる。かかる離脱性基を有するエポキシ系ポリマーは、前述した原料モノマーと、この原料モノマーに離脱性基を導入したモノマーとを重合することにより、容易に得ることができる。さらに、エポキシ基を有するエポキシ系ポリマーを用いることもできる。かかるエポキシ系ポリマーを用いることにより、クラッド層11、12に対して密着性に優れたコア層13を形成することが可能となる。シリコーン系ポリマーシリコーン系ポリマーは、特に、透明性が高く、優れた光伝送性を有し、さらに優れた耐熱性、光安定性および電気絶縁性を有することから、本発明におけるポリマーとして用いられる。また、かかるシリコーン系ポリマーには、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応重合反応や架橋反応可能であり、モノマーが反応した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。ここで、相溶性を有するとは、モノマーが少なくとも混和して、光導波路形成用組成物901、902中や層910中においてシリコーン系ポリマーと相分離を起こさないことをいう。さらに、シリコーン系ポリマーとは、オルガノアルコキシシランまたはその誘導体を原料モノマーとして、この原料モノマーを重合加水分解縮合または縮合してなるポリマー樹脂およびゴムを含む。である。したがって、シリコーン系ポリマーポリオルガノシロキサンとしては、上記原料モノマーの1種を重合してなるホモポリマー、上記原料モノマーの異なる2種以上を重合してなるコポリマー、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマー等が挙げられる。このように原料モノマーシリコーンモノマーとして用いられるオルガノアルコキシシランとしては、特に限定されないが、例えば、以下の式11で表わされるものが挙げられる。[式11中、R1、R3は、それぞれ独立して、一価の有機基である。また、R2は、アルキル基またはアルコキシアルキル基である。さらに、mは、0または1であり、nは、0~3の整数を表わす。]なお、式11中、R1、R3一価の有機基は、具体的には、それぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基のようなアルキル基、ビニル基、アリル基のようなアルケニル基、フェニル基、トリル基のようなアリール基、ナフチル基、フェネチル基のようなアラルキル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基およびこれら有機基中の炭素原子の一部が窒素原子、酸素原子、珪素原子、硫黄原子、リン原子またはこれら原子を含む原子団等で置換されたものが挙げられる。また、R2は、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基のようなアルキル基、メトキシメチル基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ基のようなアルコキシアルキル基が挙げられる。以上のような式11で表わされるオルガノアルコキシシランとしては、具体的には、例えば、イソプロピルトリメトキシシラン、ネオペンチルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、4-ビニルフェニルトリメトキシシラン、トリメチルシリルメチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、エチニルトリメトキシシラン、ジエチニルジメトキシシラン、4-ビニルフェニルトリエトキシシラン、トリメチルシリルメチルトリエトキシシラン、イソプロピルトリプロポキシシラン、シクロペンチルトリイソプロポキシシラン、ネオペンチルトリブトキシシラン、イソプロピルメチルジメトキシシラン、メチルネオペンチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、メチルシクロペンチルジメトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、4-クロロフェニルメチルジメトキシシラン、エチルプロピルジメトキシシラン、エチルイソペンチルジメトキシシラン、エチルネオペンチルジメトキシシラン、エチルシクロペンチルジメトキシシラン、フェニルエチルジメトキシシラン、エチル-3,3,3-トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ブチルプロピルジメトキシシラン、sec-ブチルプロピルジメトキシシラン、ペンチルプロピルジメトキシシラン、ヘキシルプロピルジメトキシシラン、3-クロロプロピルプロピルジメトキシシラン、3-ブロモプロピルプロピルジメトキシシラン、イソプロピル-sec-ブチルジメトキシシラン、イソプロピルシクロペンチルジメトキシシラン、イソプロピルビニルジメトキシシラン、シクロペンチルイソブチルジメトキシシラン、ジヘキシルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ビストリメチルシリルメチルジメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルヘキシルジメトキシシラン、sec-ブチルメチルジエトキシシラン、エチルプロピルジエトキシシラン、エチル-tert-ブチルジエトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジイソプロピルジエトキシシラン、ジイソプロピルブチルエトキシシラン、ジシクロペンチルジエトキシシラン、4-メトキシフェニルビニルジエトキシシラン、イソブチルジメチルメトキシシラン、tert-ブチルジメチルメトキシシラン、4-クロロフェニルジメチルメトキシシラン、ジメチル-2-チエニルメトキシシラン、トリプロピルメトキシシラン、トリブチルメトキシシラン、イソブチルジメチルエトキシシラン、アリルジメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、フェニルジエチルエトキシシラン、ジプロピルイソブチルエトキシシラン、ジフェニルメチルエトキシシラン、アリルジメチルプロポキシシラン、トリエチルプロポキシシラン、ジフェニルメチルブトキシシラン、1,4-ビスメチルジメトキシシリルフェニレン、2-アミノエチルアミノメチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルジメチルエトキシシラン、2-2-アミノエチルチオエチルトリエトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン等が挙げられる。なお、シリコーン系ポリマーを、上記原料モノマーオルガノアルコキシシランと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマーとする場合、他の原料モノマーとしては、上記原料モノマーと異なる種類のものであれば、特に限定されないが、例えば、後述する添加剤920に含まれるモノマーで例示するものを用いることができる。シリコーン系ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、2×104~3×105程度であることが好ましく、3×104~2×105程度であることがより好ましい。かかる重量平均分子量のシリコーン系ポリマーを用いることにより、後述するモノマーとの相溶性が高くなるとともに、コア層13の強度や可撓性の向上を図ることができる。ここで、コア層13の各部の屈折率は、各部におけるシリコーン系ポリマーの屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定される。そのため、用いるモノマーの種類およびシリコーン系ポリマーの種類を適宜選択することにより、コア層13の各部の屈折率を調整することができる。また、シリコーン系ポリマーは、前述したように、オルガノアルコキシシランまたはその誘導体を加水分解縮合または縮合してなるものであることから、その分子構造中に、-O-構造、-Si-アリール構造および-O-Si-構造のうちの少なくとも1つを有するものとなる。そのため、かかる構造を有する部分が、後述する活性放射線930により主鎖から離脱する脱離性基として機能し、この脱離性基の主鎖からの脱離により、その屈折率を変化させることができるため、かかる点からも、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差の調整を行うことができる。なお、離脱によりシリコーン系ポリマーの屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、-Si-ジフェニル構造および-O-Si-ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。また、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、フリーラジカルの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。離脱性基の量数は、特に限定されないが、シリコーン系ポリマー全重量に対して10~80重量であるのが好ましく、20~60重量であるのがより好ましい。離脱性基の量が前記範囲内であると、屈折率変調機能屈折率差を変化させる効果に優れたシリコーン系ポリマーとすることができるとともに、形成されるコア層13の可撓性の向上を図ることもできる。なお、シリコーン系ポリマーとして、エポキシ基を有するものを用いた場合には、クラッド層11、12に対して密着性に優れたコア層13を形成することが可能となる。ポリイミド系ポリマーポリイミド系ポリマーは、特に、透明性が高く、優れた光伝送性を有し、さらに優れた耐熱性、光安定性、機械的特性、密着性および電気絶縁性を有することから、本発明におけるポリマーとして用いられる。また、かかるポリイミド系ポリマーには、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応重合反応や架橋反応可能であり、モノマーが反応した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。ここで、相溶性を有するとは、モノマーが少なくとも混和して、光導波路形成用組成物901、902中や層910中においてポリイミド系ポリマーと相分離を起こさないことをいう。さらに、ポリイミド系ポリマーとは、テトラカルボン酸無水物とジアミンとを反応させることにより得られるポリアミド酸を加熱硬化イミド化させてなるポリイミドオリゴマーを含むポリマーである。したがって、ポリイミド系ポリマーとしては、1種の上記ポリイミドを重合してなるホモポリマー、2種以上の上記ポリイミドを重合してなるブロックコポリマー、上記ポリイミドと他のオリゴマーとを重合してなるブロックコポリマー等が挙げられる。このようなポリイミドを得るために用いられるテトラカルボン酸無水物およびジアミンとしては、特に限定されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。すなわち、テトラカルボン酸無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス2,3-ジカルボキシフェニルプロパン二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス3,4-ジカルボキシフェニルエーテル二無水物、ビス3,4-ジカルボキシフェニルスルホン酸二無水物のような分子内にフッ素原子を含有しないものや、2,2-ビス3,4-ジカルボキシフェニルへキサフルオロプロパン二無水物、4,4-ビス3,4-ジカルボキシトリフルオロフェノキシテトラフルオロベンゼン二無水物、1,4-ビス3,4-ジカルボキシトリフルオロフェノキシテトラフルオロベンゼン二無水物、トリフルオロメチルビロメリット酸二無水物、ジトリフルオロメチルピロメリット酸二無水物、ジヘプタフルオロプロピルピロメリット酸二無水物のような分子内にフッ素原子を含有するもの等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、ジアミンとしては、例えば、m-フェニレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、ビス3-アミノフェニルスルフィド、3-アミノフェニル4-アミノフェニルスルフィド、ビス3-アミノフェニルスルホキシド、3-アミノフェニル4-アミノフェニルスルホキシド、ビス4-アミノフェニルスルホン、3-アミノフェニル4-アミノフェニルスルホン、3,4’-ジアミノベンゾフェノン、1,3-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、1,3-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、4,4’―ビス3-アミノフェノキシビフェニル、ビス[4-4-アミノフェノキシフェニルケトン、ビス[4-3-アミノフェノキシフェニル]スルフィド、ビス[4-3-アミノフェノキシフェニルスルホキシド、ビス[4-3-アミノフェノキシフェニルスルホン、ビス[4-3-アミノフェノキシフェニルエーテル、4,4’-ジアミノ-55’-ジフェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4-フェノキシベンゾフェノン、3,4’-ジアミノ-45’-ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4-ビフェノキシベンゾフェノン、ンのような分子内にフッ素原子を含有しないものや、2,2’-ビス-44’-ジアミノビフェニル、2-トリフルオロメチル-44’-ジアミノジフェニルエーテル、2’-トリフルオロメチル-34’-ジアミノジフェニルエーテル、2,2-ビス3-アミノフェニル-111333-ヘキサフルオロプロパン、1,3-ビス3-アミノフェノキシ-4-トリフルオロメチルベンゼン、1,3-ビス3-アミノ-5-トリフルオロメチルフェノキシベンゼン、1,3-ビス3-アミノ-5-トリフルオロメチルフェノキシ-5-トリフルオロメチルベンゼン、1,4-ビスベンゼン、2,2-ビス[4-3-アミノフェノキシフェニル-111333-ヘキサフルオロプロパンのような分子内にフッ素原子を含有するもの等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、ポリイミド系ポリマーを、上記ポリイミドオリゴマーと他のオリゴマーとを重合してなるブロックコポリマーとする場合、他のオリゴマーとしては、上記ポリイミドと異なる種類のものであれば、特に限定されないが、例えば、メタアクリル系オリゴマー、エポキシ系オリゴマーおよびシリコーン系オリゴマーオルガノシロキサンオリゴマーのうちの少なくとも1種を用いることができる。ポリイミド系ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、2×104~1×106程度であることが好ましく、2×105~4×105程度であることがより好ましい。かかる重量平均分子量のポリイミド系ポリマーを用いることにより、後述するモノマーとの相溶性が高くなるとともに、コア層13の強度や可撓性の向上を図ることができる。ここで、コア層13の各部の屈折率は、各部におけるポリイミド系ポリマーの屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定される。そのため、用いるモノマーの種類およびポリイミド系ポリマーの種類を適宜選択することにより、コア層13の各部の屈折率を調整することができる。また、ポリイミド系ポリマーの構造を設計することによっても、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差の調整を容易に行うことができる。例えば、ポリイミド系ポリマーを、主鎖と、後述する活性放射線930により主鎖から離脱する脱離性基とを有する化学構造に設計する。かかる化学構造を有するポリイミド系ポリマーにおいては、活性放射線930の照射により、離脱性基を主鎖から離脱させることができ、その屈折率が変化する。このような離脱性基としては、例えば、分子構造中に、-O-構造、-Si-アリール構造および-O-Si-構造のうちの少なくとも1つを有するものが挙げられる。かかる離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、カチオンの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。このうち、離脱によりポリイミド系ポリマーの屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、-Si-ジフェニル構造および-O-Si-ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。また、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、フリーラジカルの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。離脱性基の量数は、特に限定されないが、ポリイミド系ポリマー915全重量に対して10~80重量であるのが好ましく、20~60重量であるのがより好ましい。離脱性基の量が前記範囲内であると、屈折率変調機能屈折率差を変化させる効果に優れたポリイミド系ポリマー915とすることができるとともに、形成されるコア層13の可撓性の向上を図ることもできる。かかる離脱性基を有するポリイミド系ポリマーは、例えば、このものを上記ポリイミドオリゴマーと他のオリゴマーとしてのオルガノシロキサンオリゴマーとを重合してなるブロックコポリマーとすることにより、容易に得ることができる。フッ素系ポリマーフッ素系ポリマーは、特に、透明性が高く、優れた光伝送性を有し、さらに優れた機械的特性および耐吸湿性を有することから、本発明におけるポリマーとして用いられる。また、かかるフッ素系ポリマーには、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応重合反応や架橋反応可能であり、モノマーが反応した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。ここで、相溶性を有するとは、モノマーが少なくとも混和して、光導波路形成用組成物901、902中や層910中においてフッ素系ポリマーと相分離を起こさないことをいう。さらに、フッ素系ポリマーとは、その分子構造中にフッ素原子を含有する重合体であり、本発明では、フッ素系ポリマーとしては、脂肪族環構造、イミド環構造、トリアジン環構造、ベンゾオキサゾール構造および芳香族環構造のうちの少なくとも1種の環構造を有するものであり、かかる構造中にフッ素原子を含有するものであるのが好ましい。これらの中でも、特に、脂肪族環構造を主鎖として有する重合体であるのが好ましい。これにより、光導波路形成用組成物901、902から得られる層910をより均一な膜厚を有するものとすることができる。脂肪族環構造を主鎖として有する重合体以下、含フッ素脂肪族環構造重合体ということもある。は、フッ素原子を含有する環構造を備えるモノマーや、フッ素原子と2以上の重合性不飽和結合とを備えるモノマーを原料モノマーとして、この原料モノマーを重合することにより得ることができる。したがって、含フッ素脂肪族環構造重合体としては、上記原料モノマーの1種を重合してなるホモポリマー、上記原料モノマーの異なる2種以上を重合してなるコポリマー、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマー等とすることができる。なお、本明細書中において、含フッ素脂肪族環構造重合体とは、その主鎖が複数の脂肪族環構造で主に構成され、この脂肪族環構造を構成する炭素原子の1つ以上にフッ素原子またはフッ素原子を含む原子団が結合しているものをいう。このような含フッ素脂肪族環構造重合体は、具体的には、例えば、下記式12~16に挙げるような構成単位繰り返し単位を主鎖に備えるものが挙げられる。[上記各式中、lは0~5、mは0~4、nは0~1、lmnは1~6、o、p、qは、それぞれ独立して、0~5、opqは1~6であり、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、F、Cl、CF3、C2F5、C3F7またはOCF3であり、X1およびX2は、それぞれ独立して、FまたはClである。]かかる構成の含フッ素脂肪族環構造重合体を得るために、フッ素原子を含有する環構造を備えるモノマー単量体としては、例えば、ペルフルオロ2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール、ペルフルオロ2-メチル-1,3-ジオキソール、ペルフルオロ2-エチル-2プロピル-1,3-ジオキソール、ペルフルオロ2,2-ジメチル-4メチル-1,3-ジオキソールのようなジオキソール環員炭素に、フッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基のようなフッ素置換アルキル基が結合したペルフルオロジオキソール類を備えるものや、ペルフルオロ4-メチル-2-メチレン-1,3-ジオキソラン、ペルフルオロ2-メチル-1,4-ジオキシンのような含フッ素脂環構造を備えるもの等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、フッ素原子と2以上の重合性不飽和結合とを備えるモノマー単量体としては、例えば、ペルフルオロ3-オキサ-1,5-ヘキサジエン、ペルフルオロ3-オキサ-1,6-ヘプタジエン、ペルフルオロ4-メチル-3-オキサ-1,6-ヘプタジエン、ペルフルオロ4-クロロ-3-オキサ-1,6-ヘプタジエン、ペルフルオロ4-メトキシ-3-オキサ-1,6-ヘプタジエン、ペルフルオロ5-メチル-3-オキサ-1,6-ヘプタジエン等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、含フッ素脂肪族環構造重合体は、上述したフッ素原子を含有する環構造を備えるモノマーと、フッ素原子と2以上の重合性不飽和結合とを備えるモノマーとの双方を原料モノマーとして用い、これらを共重合させてコポリマーすることによっても得ることができる。さらに、含フッ素脂肪族環構造重合体を、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマーとする場合、他の原料モノマーとしては、例えば、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ペルフルオロメチルビニルエーテルのようなラジカル重合性モノマーの他、後述する添加剤920に含まれるモノマーで例示するものを用いることができる。フッ素系ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、2×104~3×105程度であることが好ましく、3×104~2×105程度であることがより好ましい。かかる重量平均分子量のフッ素系ポリマーを用いることにより、後述するモノマーとの相溶性が高くなるとともに、コア層13の強度や可撓性の向上を図ることができる。ここで、コア層13の各部の屈折率は、各部におけるフッ素系ポリマーの屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定される。そのため、用いるモノマーの種類およびフッ素系ポリマーの種類を適宜選択することにより、コア層13の各部の屈折率を調整することができる。また、フッ素系ポリマーの構造を設計することによっても、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差の調整を容易に行うことができる。例えば、フッ素系ポリマーを、主鎖と、後述する活性放射線930により主鎖から離脱する脱離性基とを有する化学構造に設計する。かかる化学構造を有するフッ素系ポリマーにおいては、活性放射線930の照射により、離脱性基を主鎖から離脱させることができ、その屈折率が変化する。このような離脱性基としては、例えば、分子構造中に、-O-構造、-Si-アリール構造および-O-Si-構造のうちの少なくとも1つを有するものが挙げられる。かかる離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、カチオンの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。このうち、離脱によりフッ素系ポリマーの屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、-Si-ジフェニル構造および-O-Si-ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。また、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、フリーラジカルの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。離脱性基の量数は、特に限定されないが、フッ素系ポリマー全重量に対して10~80重量であるのが好ましく、20~60重量であるのがより好ましい。離脱性基の量が前記範囲内であると、屈折率変調機能屈折率差を変化させる効果に優れたフッ素系ポリマーとすることができるとともに、形成されるコア層13の可撓性の向上を図ることもできる。なお、かかる離脱性基を有するフッ素系ポリマーは、前述した原料モノマーと、この原料モノマーに離脱性基を導入したモノマーとを重合することにより、容易に得ることができる。ポリオレフィン系ポリマーポリオレフィン系ポリマーは、例えば、エチレン、プロピレン、1-ブテン、シス-2-ブテン、トランス-2-ブテン、イソブテン、1-ペンテン、2-ペンテン、2-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ブテン、2,3-ジメチル-2-ブテン、1-ブテン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-ノネン、1-デセンのようなモノオレフィン系モノマー、アレン、メチルアレン、ブタジエン、2,3-ジメチルブタジエン、1,3-ペンタジエン、1,4-ペンタジエン、クロロプレン、1,5-ヘキサジエンのようなジエン系モノマー等を原料モノマーとして、この原料モノマーを重合してなるポリマー樹脂およびゴムを含む。である。なお、ポリオレフィン系ポリマーとしては、上記原料モノマーの1種を重合してなるホモポリマー、上記原料モノマーの異なる2種以上を混合してなるコポリマー、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマー等が挙げられる。また、上記原料モノマーと重合させる他の原料モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、o-メチルスチレン、p-メチルスチレン、m-メチルスチレン、o-エチルスチレン、p-t-ブチルスチレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、ブロモスチレンといった芳香族ビニル系モノマー、メタアクリロニトリル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸プロピル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸アリル、N-フェニルマレイミド、N-メチルマレイミド、酢酸ブチル、酢酸ビニル、酢酸イソプロペニル、塩化ビニル、ビニルエーテル等のビニル系モノマーが挙げられる。なお、上記原料モノマーを重合してなるポリマーとしては、例えば、ポリスチレン、スチレンーブタジエンコポリマー、酢酸ビニルまたはその加水分解物、ポリビニルアルコール、ポリアセタール、ポリブチラール、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また、他の原料モノマーとしては、活性放射線930の照射により、一部が光異性化または光二量化する化学構造を有するモノマーであってもよい。かかる化学構造を有するポリオレフィン系ポリマーにおいては、活性放射線930の照射により、光異性化または光二量化を生じ、その屈折率が変化する。光異性化は、活性放射線の照射によりシス-トランス異性化や光Fries転位、脱炭酸を生じる現象であり、光二量化は、隣り合って存在する二重結合同士の間に結合が生じる現象である。このような光異性化または光二量化する化学構造としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基のようなN=N基、マレイミド基、インデン基、クマリン基、シンナメート基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ-ル基、スチルバゾリウム基、シンナモイル基、ヘミチオインジゴ基、カルコン基のようなC=C基、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン構造のようなC=N基、ベンゾフェノン基、アントラキノン基等のようなC=O基、アリルエステル基のようなエステル基、アシルフェノール構造等が挙げられ、これらのうちの少なくとも1つが用いられる。また、特に、アゾベンゼン基、マレイミド基、クマリン基、シンナモイル基、およびインデン基の少なくとも1つが好ましく用いられる。また、上記化学構造を有する化合物としては、例えば、イミレックス日本触媒製、脂肪族ビスマレイミドDMI製、アロニックス東亞合成製、ビスマレイミド類ケイアイ化成製、メチルシンナメート井上香料製造所、パラメトキシケイ皮酸2エチルヘキシル等が挙げられる。添加剤本実施形態では、光導波路形成用組成物901および光導波路形成用組成物902の双方において、添加剤920がモノマーを含んでいる。また、本実施形態では、光導波路形成用組成物901中の添加剤920が、さらに重合開始剤を含んでいる一方、光導波路形成用組成物902中の添加剤920は、重合開始剤を含んでいない。モノマーモノマー光重合性モノマーは、後述する活性放射線の照射により、照射領域において反応して反応物を形成し、それとともにモノマーが拡散移動することで、層910において照射領域と未照射領域との間に屈折率差を生じさせ得るような化合物である。モノマーの反応物としては、モノマーがポリマー915中で重合して形成されたポリマー重合体、モノマーがポリマー915同士を架橋してなる架橋構造、および、モノマーがポリマー915に重合してポリマー915から分岐した分岐構造のうちの少なくとも1つが挙げられる。ところで、照射領域と未照射領域との間に生じる屈折率差は、ポリマー915の屈折率とモノマーの屈折率との差に基づいて生じることから、添加剤920中に含まれるモノマーは、ポリマー915の屈折率との大小関係を考慮して選択される。具体的には、層910において、照射領域の屈折率が高くなることが望まれる場合には、比較的低い屈折率を有するポリマー915と、このポリマー915に対して高い屈折率を有するモノマーとを組み合わせて使用される。一方、照射領域の屈折率が低くなることが望まれる場合には、比較的高い屈折率を有するポリマー915と、このポリマー915に対して低い屈折率を有するモノマーとを組み合わせて使用される。なお、屈折率が高いまたは低いとは、屈折率の絶対値を意味するものではなく、ある材料同士の相対的な関係を意味するものである。そして、モノマーの反応反応物の生成により、層910において照射領域の屈折率が低下した領域には屈折率分布Wの極小値が対応し、照射領域の屈折率が上昇した領域には屈折率分布Wの極大値が対応する。なお、モノマーとしては、ポリマー915との相溶性を有し、ポリマー915との屈折率差が0.01以上であるものが好ましく用いられる。このようなモノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、ポリマー915の原料として挙げたモノマー等が用いられ、特に限定されないが、例えば、アクリル酸メタクリル酸系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらのモノマーのうち、ポリマー915と同種のモノマーを用いることにより、ポリマー915中にモノマーをより均一に分散することができるので、光導波路形成用組成物901、902の特性の均質化を図ることができる。また、重合可能な部位としては、特に不飽和炭化水素が好ましく用いられる。不飽和炭化水素を含む化合物は、ラジカル重合やカチオン重合といった重合反応を生じ易く、本発明に用いられるモノマーとして好適である。ここで、アクリル酸メタクリル酸系モノマー、エポキシ系モノマーとしては、ポリマー915の原料として挙げたモノマーと同様のものを用いることができる。また、環状エーテル基の開環が起こり易いため、オキセタニル基およびエポキシ基のような環状エーテル基を有するモノマーまたはオリゴマーは、速やかに反応し得る。したがって、かかるモノマーを用いることにより、コア層13の形成時間の短縮、ひいては光導波路1の製造時間の短縮を図ることができる。環状エーテル基を有するモノマーの分子量重量平均分子量またはオリゴマーの分子量重量平均分子量は、それぞれ100以上400以下であるのが好ましい。また、ビニルエーテル系モノマーとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n-プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、tert-ブチルビニルエーテル、n-ペンチルビニルエーテル、n-ヘキシルビニルエーテル、n-オクチルビニルエーテル、n-ドデシルビニルエーテル、2-エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類またはシクロアルキルビニルエーテル類が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、スチレン系モノマーとしては、例えば、スチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられ、これらのうちの1種または2種を組み合わせて用いることができる。さらに、光二量化モノマーとしては、前述した光二量化し得る化学構造を有するモノマーが挙げられ、具体的には、4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、ビス-3-エチル-5-メチル-4-マレイミドフェニルメタン、2,2’-ビス-[4-4-マレイミドフェノキシフェニル]プロパン等が挙げられ、これらのうちの1種または2種を組み合わせて用いることができる。なお、これらのモノマーと前述したポリマー915との組み合わせは、特に限定されず、いかなる組み合わせであってもよい。さらに、モノマーとしては、上述した各種モノマー、すなわちアクリル酸メタクリル酸系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等のモノマーが、同種非同種のものを問わず2種以上併用されていてもよい。これらの組合せの中でも、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマー、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーのうちの2種以上を併用するのが好ましい。オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーは重合を開始する開始反応が遅いが、生長反応が速い。これに対し、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーは、重合を開始する開始反応が速いが、生長反応が遅い。そのため、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーと、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとを併用することで、光を照射した際に、照射領域と未照射領域との間の屈折率差を確実に生じさせることができる。オキセタニル基を有するモノマーとしては、例えば、アロンオキセタン東亞合成製を使用することができる。また、モノマーは、その少なくとも一部が上述したようにオリゴマー化していてもよい。これらのモノマーの添加量は、ポリマー915の100質量部に対し、1質量部以上50質量部以下であることが好ましく、2質量部以上40質量部以下であることがより好ましい。これにより、コア部14と側面クラッド部15との間の屈折率変調をより確実に起こすことができる。なお、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との間で、含まれるモノマーは同じ組成のものでも、異なる組成のものでもよい。なお、同じ組成のものを用いることで、相互のモノマーの拡散移動が確実に生じるため、上述した屈折率分布Tをより明確化することができる。その結果、特性に優れた光導波路1が得られる。また、光導波路形成用組成物901がモノマーを含む一方、光導波路形成用組成物902がモノマーを含まないようにしてもよい。この場合、各クラッド層11、12では、層内でのモノマーの拡散移動が生じないので、各クラッド層11、12の層内の屈折率を均一にすることができる。重合開始剤重合開始剤は、活性放射線の照射に伴ってモノマーに作用し、モノマーの反応を促すものである。用いる重合開始剤としては、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。例えば、アクリル酸メタクリル酸系モノマー、スチレン系モノマーには専らラジカル重合開始剤が、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマーには専らカチオン重合開始剤が好ましく用いられる。ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。具体的には、イルガキュア651、イルガキュア184以上、BASFジャパン製等が挙げられる。一方、カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型のもの、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型のもの等が挙げられる。具体的には、アデカオプトマーSP-170ADEKA製、サンエイドSI-100L三新化学工業製、Rhodorsil2074ローディアジャパン製等が挙げられる。特に、モノマーとして環状エーテル基を有するモノマーを用いる場合には、以下のようなカチオン重合開始剤光酸発生剤が好ましく用いられる。例えば、トリフェニルスルフォニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス4-t-ブチルフェニルスルホニウム-トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホニウム塩類、p-ニトロフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリキュミルヨードニウム-テトラキスペンタフルオロフェニルボレートなどのヨードニウム塩類、キノンジアジド類、ビスフェニルスルホニルジアゾメタンなどのジアゾメタン類、1-フェニル-1-4-メチルフェニルスルホニルオキシ-1-ベンゾイルメタン、N-ヒドロキシナフタルイミド-トリフルオロメタンサルホネートなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、トリス2,4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-3.4-メチレンジオキシフェニル-4,6-ビス-トリクロロメチル-s-トリアジンなどのトリアジン類等の化合物が、光酸発生剤として用いられる。なお、これらの光酸発生剤は、単独または複数を組み合わせて用いられる。この他に、各種架橋剤を用いることができる。例えば、メタアクリル系モノマーの架橋には、水性メタアクリレート用架橋剤としてカルボジライトV-02-L2日清紡ケミカル製を使用することができる。重合開始剤の含有量は、ポリマー100質量部に対し0.01質量部以上0.3質量部以下であることが好ましく、0.02質量部以上0.2質量部以下であることがより好ましい。これにより、反応性の向上という効果がある。なお、本実施形態では、上述したように、光導波路形成用組成物901中の添加剤920が重合開始剤を含んでいる一方、光導波路形成用組成物902中の添加剤920は重合開始剤を含んでいないため、コア層13においてのみ、層内でモノマーの重合反応が促進され、クラッド層11、12では、モノマーの重合反応が促進されない。したがって、クラッド層11、12では屈折率の変化が抑えられ、層内での屈折率を比較的均一にすることができる。ただし、重合開始剤の添加については、上記の場合に限定されず、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の双方が重合開始剤を含んでいてもよい。この場合、クラッド層11、12ではできるだけモノマーの重合反応を抑えることが好ましいので、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とで含まれる重合開始剤の種類や添加量を異ならせるようにすればよい。具体的には、光導波路形成用組成物901に含まれる重合開始剤として後述する活性放射線930の波長に対して反応性の高いものを用い、光導波路形成用組成物902に含まれる重合開始剤として後述する活性放射線930の波長に対して反応性の低いものを用いればよい。また、同じ種類の重合開始剤を用いる場合には、光導波路形成用組成物901に比べて光導波路形成用組成物902への添加量を少なくすればよい。さらに、光導波路形成用組成物901に含まれる重合開始剤として光酸発生剤を用い、光導波路形成用組成物902に含まれる重合開始剤として熱酸発生剤を用いるようにしてもよい。これにより、活性放射線930の照射に伴って主にコア層13の層内でのみモノマーの重合反応が促進され、屈折率分布Wが形成される一方、クラッド層11、12ではモノマーの重合反応が促進されない。屈折率分布Wが形成された後、層910に熱を加えることにより、今度はクラッド層11、12においてモノマーの重合反応が促進される。その結果、層910では、厚さ方向の屈折率分布Tが固定される。熱酸発生剤としては、例えば、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルフォン酸、トリフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルフォン酸のようなスルホニウム塩型化合物、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルフォン酸、ジフェニルヨードニウムノナフルオロブタンスルフォン酸のようなヨードニウム塩型化合物、ペンタフェニルホスニウムトリフルオロメタンスルフォン酸、ペンタフェニルホスニウムノナフルオロブタンスルフォン酸のようなホスニウム塩型化合物等が挙げられる。また、添加剤920は、モノマーや重合開始剤に加え、増感剤等を含んでいてもよい。このうち、増感剤は、光に対する重合開始剤の感度を増大して、重合開始剤の活性化反応または分解に要する時間やエネルギーを減少させる機能や、重合開始剤の活性化に適する波長に光の波長を変化させる機能を有するものである。このような増感剤としては、重合開始剤の感度や増感剤の吸収のピーク波長に応じて適宜選択され、特に限定されないが、たとえば、9,10-ジブトキシアントラセンCAS番号第76275-14-4番のようなアントラセン類、キサントン類、アントラキノン類、フェナントレン類、クリセン類、ベンツピレン類、フルオラセン類fluoranthenes、ルブレン類、ピレン類、インダンスリーン類、チオキサンテン-9-オン類thioxanthen9ones等が挙げられ、これらを単独または混合物として用いることができる。増感剤の具体例としては、例えば、2-イソプロピル-9H-チオキサンテン-9-オン、4-イソプロピル-9H-チオキサンテン-9-オン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、フェノチアジンphenothiazineまたはこれらの混合物が挙げられる。増感剤の含有量は、光導波路形成用組成物901、902中で、0.01質量以上であるのが好ましく、0.5質量以上であるのがより好ましく、1質量以上であるのがさらに好ましい。なお、上限値は、5質量以下であるのが好ましい。なお、添加剤920はこの他に、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を含んでいてもよい。以上のようなポリマー915と添加剤920とを含有する層910は、ポリマー915中に一様に分散する添加剤920の作用により、所定の屈折率を有している。[2]次に、開口窓9351が形成されたマスクマスキング935を用意し、このマスク935を介して、層910に対して活性放射線930を照射する図9参照。以下では、モノマーとして、ポリマー915より低い屈折率を有するものを用いる場合を一例に説明する。また、これに対応して、層910を形成するために用いた光導波路形成用組成物901、902において、ポリマー915の組成が、光導波路形成用組成物901の屈折率>光導波路形成用組成物902の屈折率の関係を満足するよう設定されている。これにより、層910では、厚さ方向の中央部が最も屈折率が高く、そこから層910の表面および裏面との間にそれぞれ極小値が存在し、かつ、屈折率が連続的に変化する屈折率分布が形成されている。また、ここで示す例では、活性放射線930の照射領域925が主に側面クラッド部15となる。したがって、ここで示す例では、マスク935には、主に、形成すべき側面クラッド部15のパターンと等価な開口窓9351が形成される。この開口9351は、照射する活性放射線930が透過する透過部を有するものである。なお、コア部14や側面クラッド部15のパターンは、活性放射線930の照射に応じて形成される屈折率分布Wに基づいて決まるため、開口9351のパターンと側面クラッド部15のパターンとは完全に一致するものではなく、前記両パターンには多少のずれが生じる場合もある。マスク935は、予め形成別途形成されたもの例えばプレート状のものでも、層910上に例えば気相成膜法や塗布法により形成されたものでもよい。マスク935として好ましいものの例としては、石英ガラスやPET基材等で作製されたフォトマスク、ステンシルマスク、気相成膜法蒸着、スパッタリング等により形成された金属薄膜等が挙げられるが、これらの中でもフォトマスクやステンシルマスクを用いるのが特に好ましい。微細なパターンを精度良く形成することができるとともに、ハンドリングがし易く、生産性の向上に有利であるからである。また、図9においては、マスク935の開口窓9351は、活性放射線930の照射領域925のパターンに沿ってマスクを部分的に除去したものを示したが、前記石英ガラスやPET基材等で作製されたフォトマスクを用いる場合、該フォトマスク上に例えばクロム等の金属による遮蔽材で構成された活性放射線930の遮蔽部を設けたものを用いることもできる。このマスクでは、遮蔽部以外の部分が前記窓透過部となる。用いる活性放射線930は、重合開始剤に対して光化学的な反応変化を生じさせ得るもの、および、ポリマー915に含まれる離脱性基を離脱させ得るものであればよく、例えば、可視光、紫外光、赤外光、レーザー光の他、電子線やX線等を用いることもできる。これらの中でも、活性放射線930は、重合開始剤や離脱性基の種類、増感剤を含有する場合には、増感剤の種類等によって適宜選択され、特に限定されないが、波長200~450nmの範囲にピーク波長を有するものであるのが好ましい。これにより、重合開始剤を比較的容易に活性化させるとともに、離脱性基を比較的容易に離脱させることができる。また、活性放射線930の照射量は、0.1~9J/cm2程度であるのが好ましく、0.2~6J/cm2程度であるのがより好ましく、0.2~3J/cm2程度であるのがさらに好ましい。マスク935を介して層910に活性放射線930を照射すると、照射領域925のうち、コア層13における照射領域9253において重合開始剤が活性化される。これにより、照射領域9253においてモノマーが重合する。モノマーが重合すると、照射領域9253におけるモノマーの量が減少するため、それに応じて未照射領域940のうち、コア層13における未照射領域9403中のモノマーが照射領域9253に拡散移動する。前述したように、ポリマー915とモノマーは、互いに屈折率差が生じるように適宜選択されるため、モノマーの拡散移動に伴ってコア層13の照射領域9253と未照射領域9403との間に屈折率差が生じる。一方、クラッド層11、12における照射領域9251、9252では、重合開始剤が含まれていないので、モノマーの重合反応が抑えられる。図11は、コア層13の照射領域9253と未照射領域9403との間で屈折率差が生じる様子を説明するための図であり、層910の横断面の幅方向の位置を横軸にとり、横断面の屈折率を縦軸にとったときの屈折率分布を示す図である。本実施形態では、モノマーとしてポリマー915より屈折率が小さいものを用いているため、モノマーの拡散移動に伴い、未照射領域9403の屈折率が高くなるとともに、照射領域9253の屈折率は低くなる図11a参照。モノマーの拡散移動は、照射領域9253においてモノマーが消費され、それに応じて形成されたモノマーの濃度勾配がきっかけとなって起こると考えられる。このため、未照射領域9403全体のモノマーが一斉に照射領域9253に向かうのではなく、照射領域9253に近い部分から徐々に移動が始まり、これを補うように未照射領域9403の中央部から外側へのモノマーの移動も生起される。その結果、図11aに示すように、照射領域9253と未照射領域9403との境界を挟んで、未照射領域9403側に高屈折率部H、照射領域9253側に低屈折率部Lが形成される。これら高屈折率部Hおよび低屈折率部Lは、それぞれ上述したようなモノマーの拡散移動に伴って形成されるため、必然的に滑らかな曲線で構成されることとなる。なお、上述したようなモノマーが重合してなるポリマーの屈折率は、重合前のモノマーの屈折率とほぼ同じ屈折率差が0~0.001程度であるため、照射領域9253では、モノマーの重合が進むにつれ、モノマーの量およびモノマー由来の物質の量に応じて屈折率の低下が進むこととなる。したがって、ポリマーに対するモノマーの量あるいは重合開始剤の量等を適宜調整することにより、屈折率分布Wの形状を制御することができる。一方、未照射領域9403では、重合開始剤が活性化されないため、モノマーの重合は促進されない。また、照射領域9253ではモノマーの重合が進むにつれてモノマーの拡散移動の容易性が徐々に低下する。これにより、照射領域9253では、未照射領域9403に近いほど自ずとモノマーの濃度が高くなり、屈折率の低下量が大きくなる。その結果、照射領域9253に形成される低屈折率部Lの分布形状は、左右非対称になり易く、未照射領域9403側の勾配はより急峻なものとなる。これにより、屈折率分布Wが形成される。また、ポリマー915は前述したように離脱性基を有しているのが好ましい。この離脱性基は活性放射線930の照射に伴って離脱し、ポリマー915の屈折率を低下させる。したがって、照射領域9253に活性放射線930が照射されると、前述したモノマーの拡散移動が開始されるとともに、ポリマー915から離脱性基が離脱し、照射領域9253の屈折率は照射前から低下することとなる図11b参照。この屈折率の低下は、照射領域9253全体で一律に生じるため、前述した高屈折率部Hと低屈折率部Lの屈折率差は、より拡大される。その結果、図11bに示す屈折率分布Wが得られる。なお、図11aにおける屈折率の変化と、図11bにおける屈折率の変化は、ほぼ同時に起こる。このような屈折率変化によってこの屈折率差はさらに拡大することとなる。なお、活性放射線930の照射量を調整することにより、形成される屈折率差および屈折率分布の形状を制御することができ、例えば、照射量を多くすることで、屈折率差を拡大することができる。また、活性放射線930の照射前に層910を乾燥させてもよいが、その際の乾燥の程度を調整することにより、屈折率分布の形状を制御することもできる。例えば、乾燥の程度を大きくすることで、モノマーの拡散移動量を抑えることができる。また、照射領域9253では、コア層13中の未照射領域9403からのモノマーの拡散移動のみならず、照射領域925のうち、クラッド層11における照射領域9251およびクラッド層12における照射領域9252からのモノマーの拡散移動も生じる。これにより、照射領域9253では、さらに屈折率の低下が生じることとなる。一方、照射領域9251および照射領域9252では、モノマーの拡散移動に伴って屈折率の上昇が生じるが、この領域ではそもそも屈折率が低くなるようポリマー915の組成等が設定されているので、屈折率の上昇が生じても光導波路1の機能を損なうことはない。また、クラッド層11における照射領域9251およびクラッド層12における照射領域9252では、コア層13における照射領域9253と同様、離脱性基の離脱が生じ、ポリマー915の屈折率が低下する。その結果、照射領域9251および照射領域9252においても、さらなる屈折率の低下が生じる。以上のような原理で、屈折率分布Wを有する光導波路1が得られる図10参照。このような光導波路1は、ポリマー915中にモノマーが分散してなる光導波路形成用組成物で構成された層910に対して部分的に活性放射線930を照射し、モノマーを拡散移動、偏在させることにより、層910内に屈折率の偏りを生じさせてなる屈折率分布Wを有するものである。また、このような光導波路1は、単に活性放射線930を部分的に照射するのみで形成可能であり、しかも伝送効率の高いものとなるので、コア部14や側面クラッド部15の幅やピッチが狭くても、高品質な光通信が可能なものとなる。したがって、光導波路1は、高密度化が容易なものとなる。なお、屈折率分布Wにおいては、低屈折率部Lが転化した極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4が存在しており図3b参照、これらの極小値の位置がコア部14と側面クラッド部15との界面に相当する。また、モノマーとしてポリマー915より高い屈折率を有するものを用いる場合には、上記と反対に、モノマーの拡散移動に伴って移動先の屈折率が高くなるため、それに応じて、照射領域925および未照射領域940を設定するようにすればよい。また、ポリマー915のショアD硬度は、50~95程度であるのが好ましく、55~90程度であるのがより好ましく、60~85程度であるのがさらに好ましい。このような硬度のポリマー915は、光導波路1に必要かつ十分な可撓性と抗折性とを付与しつつ、モノマーを確実に拡散移動させ、十分な屈折率差の形成に寄与する。したがって、得られた光導波路1は、折り曲げ使用に適した十分な柔軟性と機械的強度とを備えるとともに、折り曲げた状態でも優れた光学特性を有するものとなる。同様に、ポリマー915のロックウェル硬度は、Mスケールで50~125程度であるのが好ましく、60~115程度であるのがより好ましく、70~110程度であるのがさらに好ましい。また、ポリマー915の軟化点は、90°C以上であるのが好ましく、100~130°Cであるのがより好ましい。これにより、得られた光導波路1は、屈折率分布Wを確実に形成し、かつ形成された屈折率分布Wを長期にわたって確実に維持し得るとともに、折り曲げた状態で使用しても断線を防止し得る十分な機械的強度を備えたものとなる。したがって、光導波路1は、光学特性に優れた信頼性の高いものとなる。なお、ポリマー915の軟化点は、ポリマー915のガラス転移温度または融点であり、双方あるときは低い方を指す。なお、活性放射線930の照射は、必要に応じて、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気のような不活性ガス雰囲気下で行うようにしてもよい。これにより、ポリマー915やモノマーの酸化、変性を抑制することができ、より光学特性の高い光導波路1を得ることができる。一方、活性放射線930を照射する前の層910には、図12aに示すように、その厚さ方向において屈折率分布T’が形成されている。この屈折率分布T’は、前述したように、互いに屈折率の異なる光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とを用い、多色成形法によって層910を得たことにより形成されたものである。ここで、マスク935を介して層910に活性放射線930を照射すると、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とでモノマーの含有率に差がある場合、未照射領域9403中のモノマーが照射領域9253に拡散移動するため、コア部14の厚さ方向における屈折率分布T’においても、コア部14に対応する領域の屈折率が高くなる。一方、コア部14の上下に位置するクラッド層11、12では、屈折率が変化しないため、結果的に、コア部14とその上下のクラッド層11、12との間で屈折率差が拡大することとなる。以上のような原理で、極大値と極小値との間で屈折率差の大きい屈折率分布Tを有する光導波路1が得られる図12b参照。なお、屈折率分布T’において、すでに十分な効果が認められるような屈折率分布の形状が実現されている場合には、上述した屈折率分布T’から屈折率分布Tへの変化は省略されてもよい。なお、屈折率分布Wは、コア層13中のモノマー由来の構造体濃度に一定の相関関係を有している。したがって、このモノマー由来の構造体の濃度を測定することにより、光導波路1が有する屈折率分布Wを間接的に特定することが可能である。同様に、屈折率分布Tは、光導波路1中のモノマー由来の構造体濃度に一定の相関関係を有している。したがって、このモノマー由来の構造体の濃度を測定することにより、光導波路1が有する屈折率分布Tを間接的に特定することが可能である。なお、モノマー由来の構造体とは、モノマー、モノマーが反応してなるオリゴマー、およびモノマーが反応してなるポリマー等、モノマーの未反応物か反応に伴って形成される構造体のことである。構造体の濃度の測定は、例えば、FT-IR、TOF-SIMSの線分析、面分析等を用いて行うことができる。さらには、光導波路1の出射光の強度分布が、屈折率分布Wあるいは屈折率分布Tと一定の相関関係を有していることを利用しても、屈折率分布Wおよび屈折率分布Tを間接的に特定することができる。また、例えば、1干渉顕微鏡dual-beaminterferencemicroscopeを用いて屈折率依存の干渉縞を観測し、その干渉縞から屈折率分布を算出するという方法、2屈折ニアフィールド法RefractedNearFieldmethod;RNFにより直接測定することが可能である。このうち、屈折ニアフィールド法は、例えば特開平5-332880号公報に記載の測定条件を採用することができる。一方、干渉顕微鏡は、屈折率分布の測定を簡便に行い得る点で好ましく用いられる。以下、干渉顕微鏡を使用した屈折率分布の測定手順の一例について説明する。まず、断面方向幅方向に光導波路をスライスして、光導波路断片を得る。例えば、光導波路の長さが200~300μmとなるようにスライスする。次いで、2つのスライドガラスで囲まれた空間に、屈折率1.536のオイルで充填したチャンバーを作製する。そして、チャンバー内の空間に、光導波路断片を挟み込んで測定サンプル部と、光導波路断片を入れていないブランクサンプル部とを作製する。次いで、干渉顕微鏡を使用し、2つに分けた光をそれぞれ測定サンプル部とブランクサンプル部に照射した後、透過光を統合することによって干渉縞写真を得る。干渉縞は光導波路断片の屈折率分布位相分布に伴って発生するものであるので、得られた干渉縞写真を画像解析することにより、光導波路の幅方向の屈折率分布Wを得ることができる。なお、屈折率分布Wを取得する際には、複数の干渉縞写真を画像解析することで屈折率分布Wの精度を高めることができる。複数の干渉縞写真を得るときには、干渉顕微鏡内のプリズムを移動させることにより、光路長を変化させ、干渉縞の間隔や干渉縞のできる箇所を互いに異ならせた写真を得るようにすればよい。また、干渉縞写真を画像解析する際には、例えば2.5μmの間隔で解析点を設定すればよい。また、活性放射線930として、レーザー光のように指向性の高い光を用いる場合には、マスク935の使用を省略してもよい。次に、必要に応じて、層910に加熱処理を施す。この加熱処理において、光を照射したコア層13の照射領域9253中のモノマーがさらに重合する。この加熱処理における加熱温度は、特に限定されないが、30~180°C程度であるのが好ましく、40~160°C程度であるのがより好ましい。また、加熱時間は、照射領域925のモノマーの重合反応がほぼ完了するように設定するのが好ましく、具体的には、0.1~2時間程度であるのが好ましく、0.1~1時間程度であるのがより好ましい。なお、この加熱処理は必要に応じて行えばよく、省略してもよい。以上により、光導波路1が得られる。その後、必要に応じて、支持基板951から光導波路1を剥離するとともに、光導波路1の下面に支持フィルム2を積層し、上面にカバーフィルム3を積層する。また、コア層13を複数層含むように層910を形成した場合、これに活性放射線930を照射すると、1回の照射で複数のコア層13に対して一括にコア部14および側面クラッド部15を形成することができる。このため、複数のコア層13を有する光導波路1を少ない工程で製造することができる。またこの場合、複数のコア層13の間においてコア部14の位置ずれはほとんど起こり得ない。したがって、寸法精度が極めて高い光導波路1が得られる。このような光導波路1は、受発光素子等との光結合に際して、光結合効率が特に高いものとなる。なお、識別記号4を構成する模様41についても、コア部14を形成するのと同様の方法により形成することができる。すなわち、活性放射線を照射する際に、形成すべき模様41に対応した未照射領域を設定すればよい。これにより、コア部14と同じ材料で構成された模様41が形成される。また、使用するフォトマスクのパターンを適宜選択することのみで、コア部14と識別記号4とを同時に形成することができるので、簡単な工程で個体識別機能を備えた光導波路1を製造することができる。<電子機器>上述したような本発明の光導波路は、個体識別機能を有し、電子機器への実装において作業ミス等の発生を避けられるものである。このため、信頼性の高い電子機器が得られる。また、前述したような屈折率分布Wをもつ光導波路を備えることにより、2点間で高品質の光通信を行い得る電子機器本発明の電子機器が得られる。本発明の光導波路を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、WDM装置、パソコン、テレビ、ホームサーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が期待できる。さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。また、屈折率分布Wをもつ光導波路は、伝送損失およびパルス信号の鈍りが小さく、多チャンネル化および高密度化しても混信が生じ難い。このため、高密度かつ小面積でも信頼性の高い光導波路が得られ、電子機器の信頼性向上および小型化が図られる。以上、本発明の光導波路および電子機器について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、例えば光導波路には、任意の構成物が付加されていてもよい。また、本発明の光導波路を製造する方法は、上記の方法に限定されず、例えば、活性放射線の照射により分子結合を切断し、屈折率を変化させる方法フォトブリーチ法、コア層を形成する組成物に光異性化または光二量化可能な不飽和結合を有する光架橋性ポリマーを含有させ、これに活性放射線を照射して分子構造を変化させるとともに屈折率を変化させる方法光異性化法光二量化法等の方法を用いることもできる。これらの方法では、活性放射線の照射量に応じて屈折率の変化量を調整することができるので、目的とする屈折率分布Wの形状に応じて層の各部に照射する活性放射線の照射量を異ならせることにより、屈折率分布Wを有するコア層を形成することができる。次に、本発明の実施例について説明する。1.光導波路の製造実施例11クラッド層形成用樹脂組成物の製造ダイセル化学工業株製の脂環式エポキシ樹脂、セロキサイド208120g、株ADEKA製のカチオン重合開始剤、アデカオプトマーSP-1700.6g、およびメチルイソブチルケトン80gを撹拌混合して溶液を調製した。次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明なクラッド層形成用樹脂組成物E1を得た。2感光性樹脂組成物の製造エポキシ系ポリマーとして新日鐵化学株製のフェノキシ樹脂、YP-50S20g、モノマーとしてダイセル化学工業株製のセロキサイド2021P5g、および重合開始剤として株ADEKA製のアデカオプトマーSP-1700.4gを、メチルイソブチルケトン80g中に投入し、撹拌溶解して溶液を調製した。次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明な感光性樹脂組成物F1を得た。3下側クラッド層の作製クラッド層形成用樹脂組成物E1をドクターブレードにより厚さ25μmのポリイミドフィルム上に均一に塗布した後、50°Cの乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去した後、UV露光機で全面に紫外線を照射し、塗布した樹脂組成物E1を硬化させた。これにより、厚さ10μmの無色透明な下側クラッド層を得た。なお、紫外線の積算光量は500mJ/cm2とした。4コア層の作製作製した下側クラッド層上に感光性樹脂組成物F1をドクターブレードにより均一に塗布した後、50°Cの乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、形成すべきコア部に対応した直線状の遮蔽部幅50μmと、形成すべき側面クラッド部に対応した直線状の透過部幅50μmとを有するフォトマスクを圧着した。そして、フォトマスク上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は500mJ/cm2とした。次いで、フォトマスクを取り去り、150°Cのオーブンに30分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な導波路パターンと円形パターンとが現れているのが確認された。コア部の平均幅WCOと側面クラッド部の平均幅WCLとをそれぞれ表1に示す。また、得られたコア層の厚さは50μm、コア部の本数は8本とした。5上側クラッド層の作製作製したコア層上に、3と同様にしてクラッド層形成用樹脂組成物E1を塗布し、厚さ10μmの無色透明な上側クラッド層を得た。以上のようにして光導波路を得た。6屈折率分布の評価そして、得られた光導波路のコア層の横断面について、干渉顕微鏡により幅方向の屈折率分布Wを取得した。その結果、屈折率分布Wは、複数の極小値および極大値を有し、屈折率が連続的に変化したものであった。実施例2~16ポリマーの組成、モノマーの組成と含有率、および紫外線の積算光量を表1に示すように設定するとともに、コア部の平均幅WCOおよび側面クラッド部の平均幅WCLがそれぞれ表1に示す値になるようにフォトマスクのパターンを設定するようにした以外は、それぞれ実施例1と同様にして光導波路を得た。なお、表1において実施例13~16に記載したポリマーYX-4000Hの軟化点は融点である。実施例171メタアクリル系ポリマーの合成メタクリル酸メチルMMA20.0g、ベンジルメタクリレートBzMA30.0g、およびメチルイソブチルケトン450gをセパラブルフラスコに投入し、撹拌混合したのち、窒素ガスで置換してモノマー溶液を調製した。一方、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.25gをメチルイソブチルケトン10gに溶解したのち、窒素ガスで置換して開始剤溶液を調製した。そして、前記モノマー溶液を80°Cに加熱した状態で撹拌しつつ、シリンジを用いて前記開始剤溶液を前記モノマー溶液に添加した。そのまま80°Cで1時間撹拌したのちに冷却し、重合体溶液を調製した。その後、5Lのイソプロパノールをビーカーに準備し、攪拌機により常温下で撹拌しつつ、ビーカー内に前記重合体溶液を滴下した。滴下が完了してからも引き続き30分間撹拌し、その後沈殿したポリマーを取り出し、真空乾燥機にて減圧下60°Cで8時間乾燥させた。これにより、アクリル系ポリマーA1を得た。2クラッド層形成用樹脂組成物の製造互応化学工業株製の水性アクリレート樹脂溶液RD-18020g、イソプロパノール20g、および重合開始剤として日清紡ケミカル株カルボジライトV-02-L20.4gを撹拌混合して溶液を調製した。次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明なクラッド層形成用樹脂組成物B1を得た。3感光性樹脂組成物の製造合成したアクリル系ポリマーA120gと、モノマーとしてメタクリル酸シクロヘキシル5gと、重合開始剤としてBASFジャパン株製イルガキュア6510.4gを、メチルイソブチルケトン80g中に投入し、撹拌溶解し溶液を調製した。次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明な感光性樹脂組成物C1を得た。4下側クラッド層の作製クラッド層形成用樹脂組成物B1をドクターブレードにより厚さ25μmのポリイミドフィルム上に均一に塗布した後、80°Cの乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去した後、さらに150°Cのオーブンに10分間投入し、硬化させて厚さ10μmの無色透明な下側クラッド層を得た。5コア層の作製作製した下側クラッド層上に感光性樹脂組成物C1をドクターブレードにより均一に塗布した後、50°Cの乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、形成すべきコア部に対応した直線状の遮蔽部幅50μmと、形成すべき側面クラッド部に対応した直線状の透過部幅50μmとを有するフォトマスクを圧着した。そして、フォトマスク上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は500mJ/cm2とした。次いで、フォトマスクを取り去り、150°Cのオーブンに30分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な導波路パターンと円形パターンとが現れているのが確認された。コア部の平均幅WCOと側面クラッド部の平均幅WCLとをそれぞれ表2に示す。また、得られたコア層の厚さは50μm、コア部の本数は8本とした。6上側クラッド層の作製作製したコア層上に、4と同様にしてクラッド層形成用樹脂組成物B1を塗布し、厚さ10μmの無色透明な上側クラッド層を得た。以上のようにして光導波路を得た。7屈折率分布の評価そして、得られた光導波路のコア層の横断面について、干渉顕微鏡により幅方向の屈折率分布Wを取得した。その結果、屈折率分布Wは、複数の極小値および極大値を有し、屈折率が連続的に変化したものであった。実施例18~20モノマーの組成と含有率、および紫外線の積算光量を表2に示すように設定するとともに、コア部の平均幅WCOおよび側面クラッド部の平均幅WCLがそれぞれ表2に示す値になるようにフォトマスクのパターンを設定するようにした以外は、それぞれ実施例17と同様にして光導波路を得た。実施例21メタアクリル系ポリマーの合成において、ベンジルメタクリレートBzMAの代わりに、2-パーフルオロヘキシルエチルメタクリレートPHEMを用いるとともに、コア部の平均幅WCOおよび側面クラッド部の平均幅WCLがそれぞれ表2に示す値になるようにフォトマスクのパターンを設定するようにした以外は、実施例17と同様にして光導波路を得た。実施例22~24モノマーの組成と含有率、および紫外線の積算光量を表2に示すように設定するとともに、コア部の平均幅WCOおよび側面クラッド部の平均幅WCLがそれぞれ表2に示す値になるようにフォトマスクのパターンを設定するようにした以外は、それぞれ実施例21と同様にして光導波路を得た。参考例11離脱性基を有するノルボルネン系樹脂の合成水分および酸素濃度がいずれも1ppm以下に制御され、乾燥窒素で満たされたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネンHxNB7.2g40.1mmol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン12.9g40.1mmolを500mLバイアル瓶に計量し、脱水トルエン60gと酢酸エチル11gを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。次に、100mLバイアルビン中にNi触媒1.56g3.2mmolと脱水トルエン10mLを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。このNi触媒溶液1mLをシリンジで正確に計量し、上記2種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で1時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフランTHF60gを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。100mLビーカーに無水酢酸9.5g、過酸化水素水18g濃度30、イオン交換水30gを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて12時間撹拌してNiの還元処理を行った。次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの30水溶液を100mL加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で3回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、60°Cに設定した真空乾燥機中で12時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー1を得た。ポリマー1の分子量分布は、GPC測定により、Mw=10万、Mn=4万であった。また、ポリマー1中の各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、ヘキシルノルボルネン構造単位が50mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が50molであった。2コア層形成用組成物の製造精製した上記ポリマー110gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076チバガイギー社製0.01g、重合開始剤光酸発生剤RhodorsilPhotoinitiator2074Rhodia社製、CAS178233-72-20.01g、酢酸エチル0.1mL中を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層形成用組成物を得た。なお、この組成物には、モノマーが含まれていない点で、各実施例に記載の感光性樹脂組成物と異なっている。一方、ポリマー1は、活性放射線の照射により離脱性基が離脱する機能を有しており、いわゆるフォトブリーチング現象が生じるものである。また、前記重合開始剤は、表1中においてPI2074と表記する。3クラッド層形成用組成物の製造精製した上記ポリマー1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位80mol、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位20molにそれぞれ変更したものを、前記ポリマー1に代えて用いるようにした以外はコア層形成用組成物と同様にしてクラッド層形成用組成物を得た。4下側クラッド層の作製クラッド層形成用組成物をドクターブレードにより厚さ25μmのポリイミドフィルム上に均一に塗布した後、50°Cの乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去した後、UV露光機で全面に紫外線を照射し、塗布した組成物を硬化させた。これにより、厚さ10μmの無色透明な下側クラッド層を得た。なお、紫外線の積算光量は500mJ/cm2とした。5コア層の作製作製した下側クラッド層上にコア層樹脂組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、50°Cの乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、形成すべきコア部に対応した直線状の遮蔽部幅50μmと、形成すべき側面クラッド部に対応した直線状の透過部幅50μmとを有するフォトマスクを圧着した。そして、フォトマスク上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は1300mJ/cm2とした。次いで、フォトマスクを取り去り、150°Cのオーブンに30分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。得られたコア層の厚さは50μmであった。また、コア部の本数は8本とした。6上側クラッド層の作製作製したコア層上に、3と同様にしてクラッド層形成用樹脂組成物E1を塗布し、厚さ10μmの無色透明な上側クラッド層を得た。以上のようにして光導波路を得た。7屈折率分布の評価そして、得られた光導波路のコア層の横断面について、干渉顕微鏡により幅方向の屈折率分布を取得した。その結果、屈折率分布は、いわゆるステップインデックスSI型の分布になっていた。参考例2露光の際に、露光量が連続的に変化するよう、透過率が連続的に変化したフォトマスクを用いて露光graded露光するようにした以外は、参考例1と同様にして光導波路を得た。なお、得られた光導波路では、側面クラッド部の屈折率がほぼ一定である一方、コア部の屈折率は中央部から周辺に向かって連続的に低下していた。すなわち、得られた光導波路のコア層の屈折率分布は、いわゆるグレーデッドインデックスGI型になっていた。参考例3露光の際に、露光量が連続的に変化するよう、透過率が連続的に変化したフォトマスクを用いて露光graded露光するようにした以外は、参考例1と同様にして光導波路を得た。なお、得られた光導波路では、屈折率分布が複数の極小値および極大値を有し、コア部の屈折率は中央部から周辺に向かって連続的に低下し、極小値に至っており、一方、側面クラッド部では極小値から離れるにつれて屈折率が連続的に増加していた。なお、極小値では、屈折率分布の形状がV字状をなしており、その近傍における屈折率の変化は不連続的であった。以上の各実施例および各参考例で得られた光導波路について、製造条件を表1、2に示す。2.光導波路の評価2.1識別記号の視認性実施例1において使用したフォトマスクに代えて、直線状の遮蔽部幅50μmと、直線状の透過部幅50μmと、さらに、図2aに示す識別記号4の模様41に対応した円形の遮蔽部直径40μmと、を備えたフォトマスクを使用した以外は、実施例1と同様にして識別記号を備えた光導波路を得た。また、その他の実施例および参考例についても、側面クラッド部の幅の80の直径を有する円形の模様を形成するようにした以外は、実施例1と同様にして識別記号を備えた光導波路を得た。次いで、得られた光導波路に形成された識別記号について目視による視認性を評価した。その結果、各実施例および各参考例で得られた光導波路の全てにおいて、模様と周囲の色の違いから、識別記号が数字と記号であることを視認することができた。2.2光導波路の屈折率分布得られた光導波路のコア層の横断面について、その厚さ方向の中心線に沿って干渉顕微鏡により屈折率分布を測定し、コア層の横断面の幅方向の屈折率分布を得た。なお、得られた屈折率分布は、コア部ごとに同様の屈折率分布パターンが繰り返されているので、得られた屈折率分布から一部を切り出し、これを屈折率分布Wとした。屈折率分布Wのうち、表1、2においてW型とした分布の形状は、図3に示すような、4つの極小値と5つの極大値とが交互に並んだ形状であった。このW型の屈折率分布Wから、各極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4および各極大値Wm1、Wm2、Wm3、Wm4、Wm5を求めるとともに、クラッド部における平均屈折率WAを求めた。また、このW型の屈折率分布Wにおいて、コア部に形成された極大値Wm2、Wm4近傍における屈折率が、平均屈折率WA以上の値を有している部分の幅a[μm]、および、各極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4近傍における屈折率が、平均屈折率WA未満の値を有している部分の幅b[μm]をそれぞれ測定した。以上の測定結果を表3、4に示す。その結果、各実施例および各参考例で得られた光導波路の幅方向の屈折率分布Wは、それぞれ、その全体において屈折率の変化が連続的であった。また、参考例1で得られた光導波路の幅方向の屈折率分布Wは、ステップインデックス型であった。また、参考例2で得られた光導波路の幅方向の屈折率分布Wは、グレーデッドインデックス型であった。さらに、参考例3で得られた光導波路の幅方向の屈折率分布Wは、複数の極小値および極大値を有し、かつ、コア部と側面クラッド部との間で屈折率が不連続的に変化していた。一方、各実施例および各参考例で得られた光導波路の厚さ方向の屈折率分布Tは、いずれもステップインデックス型であった。2.3光導波路の伝送損失850nmVCSEL面発光レーザーより発せられた光を50μmφの光ファイバーを経由して、各実施例および各参考例で得られた光導波路に導入し、出射光を200μmφの光ファイバーで受光し、光の強度を測定した。なお、伝送損失の測定にはカットバック法を採用した。そして、光導波路の長手方向を横軸にとり、挿入損失を縦軸にとって測定値をプロットしたところ、測定値は直線上に並んだ。そこで、その直線の傾きから伝送損失を算出した。2.4パルス信号の波形の保持性得られた光導波路に対して、レーザーパルス光源からパルス幅1nsのパルス信号を入射し、出射光のパルス幅を測定した。そして、測定した出射光のパルス幅について、参考例1で得られた光導波路ステップインデックス型の光導波路の測定値を1としたときの相対値を算出し、これを以下の評価基準にしたがって評価した。<パルス幅の評価基準>◎:パルス幅の相対値が0.5未満である○:パルス幅の相対値が0.5以上0.8未満である△:パルス幅の相対値が0.8以上1未満である×:パルス幅の相対値が1以上である以上、2.3および2.4の評価結果を表5、6に示す。表5、6から明らかなように、各実施例で得られた光導波路では、各参考例で得られた光導波路に比べ、伝送損失およびパルス信号の鈍りがそれぞれ抑えられていることが認められた。2.5光導波路の出射光の強度分布また、得られた光導波路の出射側端面について、8本のコア部のうちの1つに光を入射したときの出射光の強度分布を測定した。なお、出射光の強度分布の測定は、以下のようにして行った。図13は、光導波路の出射側端面における出射光の強度分布を測定する方法を説明するための図である。図13に示す方法では、まず、測定対象の光導波路1の入射側端面1aのコア部14の1つに対向するように、直径50μmの入射側光ファイバー21を配置する。この入射側光ファイバー21は、光導波路1に光を入射するための発光素子図示せずに接続されており、その光軸と、コア部14の光軸とが一致するように配置されている。一方、光導波路1の出射側端面1bには、これに対向するように直径62.5μmの出射側光ファイバー22を配置した。この出射側光ファイバー22は、光導波路1から出射した出射光を受光するための受光素子図示せずに接続されており、その光軸は、光導波路1のコア層の厚さ方向の中心線に合わせてある。そして、出射側光ファイバー22は、出射側端面1bとの離間距離を一定に維持しつつ、この中心線を含む面内を走査し得るよう構成されている。そして、入射側光ファイバー21からコア部の1つに光を入射しつつ、出射側光ファイバー22を走査させる。そして、出射側光ファイバー22の位置に対して受光素子で測定された出射光の強度を測定することにより、出射側端面1bの位置に対する出射光の強度分布を取得することができる。以上のようにして測定した出射光の強度分布を図14に示す。なお、図14には、実施例1、参考例1および参考例2で得られた光導波路で測定された出射光の強度分布を代表に示す。図14から明らかなように、実施例1で得られた光導波路では、クロストークが十分に抑えられていることが認められた。また、実施例1で得られた光導波路では、光を入射したコア部14図14の中央のコア部14に隣り合うコア部14における出射光の強度は、そのコア部14に隣接した、前記光を入射したコア部14とは反対側に位置する側面クラッド部15における出射光の強度より小さいことが認められた。これは、実施例1で得られた光導波路では、側面クラッド部15に、コア部14より小さい値の極大値を有しており、かつ、屈折率分布が連続的に変化しているため、従来であれば隣り合うコア部14に漏れ出てクロストーク招いていた光が、側面クラッド部15に集まり、結果的にクロストークの発生を防止しているためであると推察される。したがって、実施例1で得られた光導波路では、チャンネル間での混信を防止することができる。なお、実施例1で得られた光導波路では、出射光の一部が側面クラッド部15に集まっている様子が観測されたが、通常、光導波路に接続される受光素子は、各コア部14の出射側端面に対向するように接続され、側面クラッド部15には接続されない。よって、側面クラッド部15に光が集まったとしても、クロストークとはならず、混信が抑制される。また、図示していないが、他の実施例で得られた光導波路でも、実施例1と同様、幅方向におけるクロストークが十分に抑えられていた。一方、参考例1、2で得られた光導波路では、光を入射したコア部14に隣り合うコア部14において、出射光の強度分布の極大値が位置しており、漏れ出た光、すなわちクロストークが観測された。また、図示していないが、参考例3で得られた光導波路でも、クロストークが観測された。さらには、2.1において識別記号を形成するパターンを加えたフォトマスクを使用した以外、各参考例と同様にして製造された光導波路についても、クロストークの程度を評価した。その結果、各参考例で製造された光導波路識別記号を含まないフォトマスクを使用よりも、それぞれクロストークの程度が低下していた。このことから、識別記号を設けることにより、クロストークの発生が抑えられることが明らかとなった。"