"共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の連鎖構造を制御する方法であって、非共役オレフィンの存在下において、共役ジエン化合物の投入を制御することで、共重合体の連鎖構造を制御することを特徴とする方法。前記共役ジエン化合物が、炭素数4~8の共役ジエン化合物であることを特徴とする請求項1に記載の共重合体の連鎖構造を制御する方法。前記共役ジエン化合物が、13ブタジエン及びイソプレンよりなる群から選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項2に記載の共重合体の連鎖構造を制御する方法。前記非共役オレフィンが、非環状オレフィンであることを特徴とする請求項1に記載の共重合体の連鎖構造を制御する方法。前記非環状オレフィンが、炭素数2~10のαオレフィンであることを特徴とする請求項4に記載の共重合体の連鎖構造を制御する方法。前記αオレフィンが、エチレン、プロピレン及び1ブテンよりなる群から選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項5に記載の共重合体の連鎖構造を制御する方法。前記共役ジエン化合物の投入量を制御することで、共重合体の連鎖構造を制御することを特徴とする請求項1に記載の共重合体の連鎖構造を制御する方法。前記共役ジエン化合物の投入回数を制御することで、共重合体の連鎖構造を制御することを特徴とする請求項1に記載の共重合体の連鎖構造を制御する方法。そこで、本発明の目的は、共重合体中の単量体単位の配列を制御し、ランダム共重合体、テーパー共重合体、マルチブロック共重合体及びブロック共重合体を作り分けることが可能な共重合体の連鎖構造を制御する方法を提供することにある。本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとを重合させる重合反応系に、非共役オレフィンの存在下、共役ジエン化合物を投入することにより、共重合体中の単量体単位の配列を制御できることを見出し、本発明を完成させるに至った。即ち、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法は、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の連鎖構造を制御する方法であって、非共役オレフィンの存在下において、共役ジエン化合物の投入を制御することで、共重合体の連鎖構造を制御することを特徴とする。なお、共役ジエン化合物の投入方法は、連続投入、分割投入のいずれであってもよく、更には、連続投入及び分割投入を組み合わせてもよい。また、連続投入とは、例えば、一定の添加速度で一定の時間添加することをいう。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法の好適例においては、前記共役ジエン化合物が、炭素数4~8の共役ジエン化合物であり、13ブタジエン及びイソプレンよりなる群から選択される少なくとも一種であることが好ましい。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法の他の好適例においては、前記非共役オレフィンが、非環状オレフィンである。ここで、前記非環状オレフィンとしては、炭素数2~10のαオレフィンが好ましく、該αオレフィンとしては、エチレン、プロピレン及び1ブテンが好ましい。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法は、前記共役ジエン化合物の投入量を制御することで、共重合体の連鎖構造を制御するのが好ましい。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法は、前記共役ジエン化合物の投入回数を制御することで、共重合体の連鎖構造を制御するのが好ましい。本発明によれば、重合反応系に共役ジエン化合物を投入することにより共役ジエン化合物と非共役オレフィンとを重合させる場合、非共役オレフィンの存在下、共役ジエン化合物の投入を制御することで、共重合体中の単量体単位の配列を制御し、ランダム共重合体、テーパー共重合体、マルチブロック共重合体及びブロック共重合体を作り分けることができる。以下に、本発明を詳細に説明する。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法は、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体の連鎖構造を制御する方法であって、非共役オレフィンの存在下において、共役ジエン化合物の投入を制御することで、共重合体の連鎖構造を制御することを特徴とする。上記した通り、従来の重合反応系では、共重合体中の単量体単位の配列については殆ど報告されていない。そこで、発明者は、重合反応系中への単量体の仕込み方に着目し、共役ジエン化合物の投入の際に、非共役オレフィンを重合反応系中に存在させることにより、共重合体中の単量体単位の配列を制御できることを見出した。従って、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法によれば、ランダム共重合体、テーパー共重合体、マルチブロック共重合体及びブロック共重合体を作り分けることが可能となる。なお、本発明において、重合反応系とは、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの重合が行われる場所を意味し、具体例としては、反応容器等が挙げられる。具体的には、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとを重合させる重合反応系に共役ジエン化合物を投入することで、該重合反応系内の単量体の濃度比を制御することが可能となり、その結果、得られる共重合体中の連鎖構造即ち、単量体単位の配列を特徴づけることが可能となる。また、共役ジエン化合物の投入の際に、非共役オレフィンが重合反応系中に存在することで、共役ジエン化合物単独重合体の生成を抑制することができる。なお、共役ジエン化合物の投入は、非共役オレフィンの重合を開始した後に行ってもよい。例えば、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法によってブロック共重合体を製造する場合には、あらかじめ非共役オレフィンの重合を開始した重合反応系に、非共役オレフィンの存在下、共役ジエン化合物を連続投入することが有効となる。なお、マルチブロック共重合体を製造する場合には、ブロック共重合体の製造を繰り返し行えばよい。また、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法によってテーパー共重合体を製造する場合には、ブロック共重合体の製造方法とランダム共重合体の製造方法の両方を用いることが有効となる。詳細には、1あらかじめ非共役オレフィンの重合を開始した重合反応系に、非共役オレフィンの存在下、共役ジエン化合物を投入し、その結果重合した非共役オレフィン-共役ジエン化合物共重合体を含む重合反応系に、共役ジエン化合物を新たに1回以上投入するか、及び/又は、共役ジエン化合物を連続的に投入する方法や、2非共役オレフィンの存在下で共役ジエン化合物を1回以上投入するか又は共役ジエン化合物を連続投入し、その結果重合した非共役オレフィン-共役ジエン化合物共重合体を含む重合反応系に共役ジエン化合物を連続投入する方法等を例示できる。また、これらの方法の両方を用いて重合を行っても、テーパー共重合体を合成することが可能である。更に、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法によってランダム共重合体を製造する場合には、共役ジエン化合物と非共役オレフィンの重合を開始した重合反応系に、非共役オレフィンの存在下、共役ジエン化合物を新たに1回以上投入するか、又は共役ジエン化合物と非共役オレフィンとを重合させる重合反応系に、非共役オレフィンの存在下、共役ジエン化合物を連続的に投入することが有効となる。なお、本発明において、ブロック共重合体とは、共役ジエン化合物の単量体単位からなるブロック部分と非共役オレフィンの単量体単位からなるブロック部分とからなる共重合体を意味し、マルチブロック共重合体ブロック共重合体の構造が、A-Bx、A-x及びB-xのとき、又はの構造を複数備えるブロック共重合体も含まれる。また、テーパー共重合体とは、共役ジエン化合物の単量体単位からなるブロック部分及び非共役オレフィンの単量体単位からなるブロック部分の少なくとも一方のブロック部分と、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンの単量体単位が不規則に配列したランダム部分とからなる共重合体を意味し、ランダム共重合体とは、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンの単量体単位が不規則に配列したランダム部分からなる共重合体を意味する。ここで、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法によって得られる共重合体について、ブロック共重合体、テーパー共重合体及びランダム共重合体の形成の確認には、示差走査熱量測定DSC及び核磁気共鳴NMRが主要な測定手段として用いられる。なお、示差走査熱量測定DSCとは、JISK7121-1987に準拠して行われる測定方法である。具体的には、DSCにより共役ジエン化合物の単独重合に由来するガラス転移点や非共役オレフィンの単独重合に由来する結晶化温度が観測できる場合、その共重合体中には、共役ジエン化合物の単量体単位からなるブロック部分や非共役オレフィンの単量体単位からなるブロック部分が形成されていることを示す。また、DSCにより非共役オレフィンの単独重合に由来する結晶化温度が観測されないか、又は非共役オレフィンの単独重合に由来する結晶化温度のピークと比較して幅の広いピークが観測される場合、その共重合体中には、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンの単量体単位が不規則に配列したランダム部分が形成されていることを示す。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法は、上述のように重合反応系中への単量体の仕込み方を特定する以外は特に限定されず、例えば、溶液重合法、懸濁重合法、液相塊状重合法、乳化重合法、気相重合法、固相重合法等の任意の重合方法を用いることができる。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法において、単量体として用いる共役ジエン化合物としては、炭素数4~8の共役ジエン化合物が好ましく、具体的には、13ブタジエン、イソプレン、13ペンタジエン、23ジメチルブタジエン等が挙げられ、これらの中でも、13ブタジエン及びイソプレンが好ましい。また、これら共役ジエン化合物は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法においては、共役ジエン化合物の投入を制御する必要があるが、具体的には、共役ジエン化合物の投入量や共役ジエン化合物の投入回数を制御することが好ましい。また、共役ジエン化合物の投入の制御方法は、例えば、コンピュータ等のプログラムで制御する方法や、タイマー等を用いてアナログで制御する方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、上述のように、共役ジエン化合物の投入方法は、特に限定されず、連続投入、分割投入等が挙げられる。ここで、共役ジエン化合物を分割投入する場合、該共役ジエン化合物の投入回数は、特に限定されるものではない。一方、単量体として用いる非共役オレフィンとしては、非環状オレフィンであることが好ましく、該非環状オレフィンとしては、炭素数2~10のαオレフィンであることが好ましい。ここで、上記αオレフィンとしては、エチレン、プロピレン、1ブテン、1ペンテン、1ヘキセン、1ヘプテン、1オクテン等が挙げられ、これらの中でも、エチレン、プロピレン及び1ブテンが好ましい。これら非共役オレフィンは、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、オレフィンは、脂肪族不飽和炭化水素で、炭素-炭素二重結合を1個以上有する化合物を指す。なお、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法においては、共役ジエン化合物の投入時に、非共役オレフィンが重合反応系に存在していることが必要であるため、非共役オレフィンを重合反応系へ連続的に供給することが好ましい。また、非共役オレフィンの供給方法は、特に限定されるものではない。また、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法は、効率よく重合を進行させる観点から、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの重合を、下記に示す重合触媒又は重合触媒組成物の存在下で行うことが好ましい。また、重合反応に溶媒を用いる場合、用いられる溶媒は重合反応において不活性であればよく、例えば、トルエン等が挙げられる。<第一の重合触媒組成物>上記重合触媒組成物としては、下記一般式:式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ra~Rfは、それぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基又は水素原子を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示すで表されるメタロセン錯体、及び下記一般式:式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示すで表されるメタロセン錯体、並びに下記一般式:式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示し、B-は、非配位性アニオンを示すで表されるハーフメタロセンカチオン錯体からなる群より選択される少なくとも1種類の錯体を含む重合触媒組成物以下、第一重合触媒組成物ともいうが好適に挙げられ、該重合触媒組成物は、更に、通常のメタロセン錯体を含む重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含んでいてもよい。ここで、メタロセン錯体は、一つ又は二つ以上のシクロペンタジエニル又はその誘導体が中心金属に結合した錯体化合物であり、特に、中心金属に結合したシクロペンタジエニル又はその誘導体が一つであるメタロセン錯体を、ハーフメタロセン錯体と称することがある。なお、重合反応系において、第一重合触媒組成物に含まれる錯体の濃度は01~00001mollの範囲であることが好ましい。上記一般式及び式で表されるメタロセン錯体において、式中のCpRは、無置換インデニル又は置換インデニルである。インデニル環を基本骨格とするCpRは、C9H7XRX又はC9H11XRXで示され得る。ここで、Xは0~7又は0~11の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。置換インデニルとして、具体的には、2フェニルインデニル、2メチルインデニル等が挙げられる。なお、一般式及び式における二つのCpRは、それぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。上記一般式で表されるハーフメタロセンカチオン錯体において、式中のCpRは、無置換もしくは置換のシクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルであり、これらの中でも、無置換もしくは置換のインデニルであることが好ましい。シクロペンタジエニル環を基本骨格とするCpRは、C5H5XRXで示される。ここで、Xは0~5の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。シクロペンタジエニル環を基本骨格とするCpRとして、具体的には、以下のものが例示される。式中、Rは水素原子、メチル基又はエチル基を示す。一般式において、上記インデニル環を基本骨格とするCpRは、一般式のCpRと同様に定義され、好ましい例も同様である。一般式において、上記フルオレニル環を基本骨格とするCpRは、C13H9XRX又はC13H17XRXで示され得る。ここで、Xは0~9又は0~17の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。一般式、式及び式における中心金属Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号57~71の15元素が含まれ、これらのいずれでもよい。中心金属Mとしては、サマリウムSm、ネオジムNd、プラセオジムPr、ガドリニウムGd、セリウムCe、ホルミウムHo、スカンジウムSc及びイットリウムYが好適に挙げられる。一般式で表されるメタロセン錯体は、シリルアミド配位子[-N2]を含む。シリルアミド配位子に含まれるR基一般式におけるRa~Rfは、それぞれ独立して炭素数1~3のアルキル基又は水素原子である。また、Ra~Rfのうち少なくとも一つが水素原子であることが好ましい。Ra~Rfのうち少なくとも一つを水素原子にすることで、触媒の合成が容易になり、また、ケイ素まわりのかさ高さが低くなるため、非共役オレフィンが導入され易くなる。同様の観点から、Ra~Rcのうち少なくとも一つが水素原子であり、Rd~Rfのうち少なくとも一つが水素原子であることが更に好ましい。なお、アルキル基としては、メチル基が好ましい。一般式で表されるメタロセン錯体は、シリル配位子[-SiX3]を含む。シリル配位子[-SiX3]に含まれるXは、下記で説明される一般式のXと同様に定義される基であり、好ましい基も同様である。一般式において、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基及び炭素数1~20の炭化水素基からなる群より選択される基である。ここで、上記アルコキシド基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、nブトキシ基、イソブトキシ基、secブトキシ基、tertブトキシ基等の脂肪族アルコキシ基;フェノキシ基、26ジtertブチルフェノキシ基、26ジイソプロピルフェノキシ基、26ジネオペンチルフェノキシ基、2tertブチル6イソプロピルフェノキシ基、2tertブチル6ネオペンチルフェノキシ基、2イソプロピル6ネオペンチルフェノキシ基等のアリールオキシド基が挙げられ、これらの中でも、26ジtertブチルフェノキシ基が好ましい。一般式において、Xが表すチオラート基としては、チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオプロポキシ基、チオnブトキシ基、チオイソブトキシ基、チオsecブトキシ基、チオtertブトキシ基等の脂肪族チオラート基;チオフェノキシ基、26ジtertブチルチオフェノキシ基、26ジイソプロピルチオフェノキシ基、26ジネオペンチルチオフェノキシ基、2tertブチル6イソプロピルチオフェノキシ基、2tertブチル6チオネオペンチルフェノキシ基、2イソプロピル6チオネオペンチルフェノキシ基、246トリイソプロピルチオフェノキシ基等のアリールチオラート基が挙げられ、これらの中でも、246トリイソプロピルチオフェノキシ基が好ましい。一般式において、Xが表すアミド基としては、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基等の脂肪族アミド基;フェニルアミド基、26ジtertブチルフェニルアミド基、26ジイソプロピルフェニルアミド基、26ジネオペンチルフェニルアミド基、2tertブチル6イソプロピルフェニルアミド基、2tertブチル6ネオペンチルフェニルアミド基、2イソプロピル6ネオペンチルフェニルアミド基、246トリtertブチルフェニルアミド基等のアリールアミド基;ビストリメチルシリルアミド基等のビストリアルキルシリルアミド基が挙げられ、これらの中でも、ビストリメチルシリルアミド基が好ましい。一般式において、Xが表すシリル基としては、トリメチルシリル基、トリスシリル基、ビスメチルシリル基、トリメチルシリルシリル基、トリイソプロピルシリルシリル基等が挙げられ、これらの中でも、トリスシリル基が好ましい。一般式において、Xが表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子のいずれでもよいが、塩素原子又は臭素原子が好ましい。また、Xが表す炭素数1~20の炭化水素基として、具体的には、メチル基、エチル基、nプロピル基、イソプロピル基、nブチル基、イソブチル基、secブチル基、tertブチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等の直鎖又は分枝鎖の脂肪族炭化水素基;フェニル基、トリル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基;ベンジル基等のアラルキル基等の他;トリメチルシリルメチル基、ビストリメチルシリルメチル基等のケイ素原子を含有する炭化水素基等が挙げられ、これらの中でも、メチル基、エチル基、イソブチル基、トリメチルシリルメチル基等が好ましい。一般式において、Xとしては、ビストリメチルシリルアミド基又は炭素数1~20の炭化水素基が好ましい。一般式において、B-で示される非配位性アニオンとしては、例えば、4価のホウ素アニオンが挙げられる。該4価のホウ素アニオンとして、具体的には、テトラフェニルボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラボレート、テトラボレート、ボレート、トリスフェニルボレート、トリデカハイドライド78ジカルバウンデカボレート等が挙げられ、これらの中でも、テトラキスボレートが好ましい。上記一般式及び式で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式で表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、更に0~3個、好ましくは0~1個の中性ルイス塩基Lを含む。ここで、中性ルイス塩基Lとしては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記錯体が複数の中性ルイス塩基Lを含む場合、中性ルイス塩基Lは、同一であっても異なっていてもよい。また、上記一般式及び式で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式で表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、単量体として存在していてもよく、二量体又はそれ以上の多量体として存在していてもよい。上記一般式で表されるメタロセン錯体は、例えば、溶媒中でランタノイドトリスハライド、スカンジウムトリスハライド又はイットリウムトリスハライドを、インデニルの塩例えばカリウム塩やリチウム塩及びビスアミドの塩例えばカリウム塩やリチウム塩と反応させることで得ることができる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間~数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンを用いればよい。以下に、一般式で表されるメタロセン錯体を得るための反応例を示す。式中、Xはハライドを示す。上記一般式で表されるメタロセン錯体は、例えば、溶媒中でランタノイドトリスハライド、スカンジウムトリスハライド又はイットリウムトリスハライドを、インデニルの塩例えばカリウム塩やリチウム塩及びシリルの塩例えばカリウム塩やリチウム塩と反応させることで得ることができる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間~数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンを用いればよい。以下に、一般式で表されるメタロセン錯体を得るための反応例を示す。式中、Xはハライドを示す。上記一般式で表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、例えば、次の反応により得ることができる。ここで、一般式で表される化合物において、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0~3の整数を示す。また、一般式AB-で表されるイオン性化合物において、Aは、カチオンを示し、B-は、非配位性アニオンを示す。Aで表されるカチオンとしては、例えば、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アミンカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等が挙げられる。カルボニウムカチオンとしては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリカルボニウムカチオン等の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリカルボニルカチオンとして、具体的には、トリカルボニウムカチオン等が挙げられる。アミンカチオンとしては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウムカチオン;NNジメチルアニリニウムカチオン、NNジエチルアニリニウムカチオン、NN246ペンタメチルアニリニウムカチオン等のNNジアルキルアニリニウムカチオン;ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンとしては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリホスホニウムカチオン、トリホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらカチオンの中でも、NNジアルキルアニリニウムカチオン又はカルボニウムカチオンが好ましく、NNジアルキルアニリニウムカチオンが特に好ましい。上記反応に用いる一般式AB-で表されるイオン性化合物としては、上記の非配位性アニオン及びカチオンからそれぞれ選択し組み合わせた化合物であって、NNジメチルアニリニウムテトラキスボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキスボレート等が好ましい。また、一般式AB-で表されるイオン性化合物は、メタロセン錯体に対して01~10倍モル加えることが好ましく、約1倍モル加えることが更に好ましい。なお、一般式で表されるハーフメタロセンカチオン錯体を重合反応に用いる場合、一般式で表されるハーフメタロセンカチオン錯体をそのまま重合反応系中に提供してもよいし、上記反応に用いる一般式で表される化合物と一般式AB-で表されるイオン性化合物を別個に重合反応系中に提供し、反応系中で一般式で表されるハーフメタロセンカチオン錯体を形成させてもよい。また、一般式又は式で表されるメタロセン錯体と一般式AB-で表されるイオン性化合物とを組み合わせて使用することにより、反応系中で一般式で表されるハーフメタロセンカチオン錯体を形成させることもできる。一般式及び式で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式で表されるハーフメタロセンカチオン錯体の構造は、X線構造解析により決定することが好ましい。上記第一重合触媒組成物に用いることができる助触媒は、通常のメタロセン錯体を含む重合触媒組成物の助触媒として用いられる成分から任意に選択され得る。該助触媒としては、例えば、アルミノキサン、有機アルミニウム化合物、上記のイオン性化合物等が好適に挙げられる。これら助触媒は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。上記アルミノキサンとしては、アルキルアミノキサンが好ましく、例えば、メチルアルミノキサンMAO、修飾メチルアルミノキサン等が挙げられる。また、修飾メチルアルミノキサンとしては、MMAO-3A東ソーファインケム社製等が好ましい。なお、上記第一重合触媒組成物におけるアルミノキサンの含有量は、メタロセン錯体の中心金属Mと、アルミノキサンのアルミニウム元素Alとの元素比率Al/Mが、10~1000程度、好ましくは100程度となるようにすることが好ましい。一方、上記有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリアルキルアルミニウムが好ましい。また、トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等が挙げられる。なお、上記重合触媒組成物における有機アルミニウム化合物の含有量は、メタロセン錯体に対して1~50倍モルであることが好ましく、約10倍モルであることが更に好ましい。更に、上記重合触媒組成物においては、一般式及び式で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式で表されるハーフメタロセンカチオン錯体をそれぞれ、適切な助触媒と組み合わせることで、シス14結合量や得られる共重合体の分子量を増大できる。<第二の重合触媒組成物>また、上記重合触媒組成物としては、成分:希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物であって、希土類元素と炭素との結合を有さない該希土類元素化合物又は反応物と、成分:非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物、アルミノキサン、並びにルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物及び活性ハロゲンを含む有機化合物のうち少なくとも一種のハロゲン化合物よりなる群から選択される少なくとも一種とを含む重合触媒組成物以下、第二重合触媒組成物ともいうを好適に挙げることもでき、該重合触媒組成物が、イオン性化合物及びハロゲン化合物の少なくとも一種を含む場合、該重合触媒組成物は、更に、成分:下記一般式:YR1aR2bR3c[式中、Yは、周期律表第1族、第2族、第12族及び第13族から選択される金属であり、R1及びR2は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R3は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R3は上記R1又はR2と同一又は異なっていてもよく、また、Yが周期律表第1族から選択される金属である場合には、aは1で且つb及びcは0であり、Yが周期律表第2族及び第12族から選択される金属である場合には、a及びbは1で且つcは0であり、Yが周期律表第13族から選択される金属である場合には、a、b及びcは1である]で表される有機金属化合物を含むことを特徴とする。上記イオン性化合物及び上記ハロゲン化合物は、成分へ供給するための炭素原子が存在しないため、該成分への炭素供給源として、上記成分が必要となる。なお、上記重合触媒組成物が上記アルミノキサンを含む場合であっても、該重合触媒組成物は、上記成分を含むことができる。また、上記重合触媒組成物は、通常の希土類元素化合物系の重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含んでいてもよい。なお、重合反応系において、第二重合触媒組成物に含まれるA成分の濃度は01~00001mollの範囲であることが好ましい。上記第二重合触媒組成物に用いる成分は、希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物であり、ここで、希土類元素化合物及び該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物は、希土類元素と炭素との結合を有さない。該希土類元素化合物及び反応物が希土類元素-炭素結合を有さない場合、化合物が安定であり、取り扱いやすい。ここで、希土類元素化合物とは、周期律表中の原子番号57~71の元素から構成されるランタノイド元素又はスカンジウムもしくはイットリウムを含有する化合物である。なお、ランタノイド元素の具体例としては、ランタニウム、セリウム、プラセオジム、ネオジウム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミニウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウムを挙げることができる。なお、上記成分は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記希土類元素化合物は、希土類金属が2価もしくは3価の塩又は錯体化合物であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子及び有機化合物残基から選択される1種又は2種以上の配位子を含有する希土類元素化合物であることが更に好ましい。更に、上記希土類元素化合物又は該希土類元素化合物とルイス塩基との反応物は、下記一般式又は:M11X112L11wM11X113L11w[式中、M11は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、X11は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基、アルデヒド残基、ケトン残基、カルボン酸残基、チオカルボン酸残基又はリン化合物残基を示し、L11は、ルイス塩基を示し、wは、0~3を示す]で表されることができる。上記希土類元素化合物の希土類元素に結合する基配位子として、具体的には、水素原子;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、nブトキシ基、イソブトキシ基、secブトキシ基、tertブトキシ基等の脂肪族アルコキシ基;フェノキシ基、26ジtertブチルフェノキシ基、26ジイソプロピルフェノキシ基、26ジネオペンチルフェノキシ基、2tertブチル6イソプロピルフェノキシ基、2tertブチル6ネオペンチルフェノキシ基、2イソプロピル6ネオペンチルフェノキシ基等の芳香族アルコキシ基チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオプロポキシ基、チオnブトキシ基、チオイソブトキシ基、チオsecブトキシ基、チオtertブトキシ基等の脂肪族チオラート基;チオフェノキシ基、26ジtertブチルチオフェノキシ基、26ジイソプロピルチオフェノキシ基、26ジネオペンチルチオフェノキシ基、2tertブチル6イソプロピルチオフェノキシ基、2tertブチル6チオネオペンチルフェノキシ基、2イソプロピル6チオネオペンチルフェノキシ基、246トリイソプロピルチオフェノキシ基等のアリールチオラート基;ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基等の脂肪族アミド基;フェニルアミド基、26ジtertブチルフェニルアミド基、26ジイソプロピルフェニルアミド基、26ジネオペンチルフェニルアミド基、2tertブチル6イソプロピルフェニルアミド基、2tertブチル6ネオペンチルフェニルアミド基、2イソプロピル6ネオペンチルフェニルアミド基、246tertブチルフェニルアミド基等のアリールアミド基;ビストリメチルシリルアミド基等のビストリアルキルシリルアミド基;トリメチルシリル基、トリスシリル基、ビスメチルシリル基、トリメチルシリルシリル基、トリイソプロピルシリルシリル基等のシリル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。更には、サリチルアルデヒド、2ヒドロキシ1ナフトアルデヒド、2ヒドロキシ3ナフトアルデヒド等のアルデヒドの残基;2ヒドロキシアセトフェノン、2ヒドロキシブチロフェノン、2ヒドロキシプロピオフェノン等のヒドロキシフェノンの残基;アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、プロピオニルアセトン、イソブチルアセトン、バレリルアセトン、エチルアセチルアセトン等のジケトンの残基;イソ吉草酸、カプリル酸、オクタン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、シクロペンタンカルボン酸、ナフテン酸、エチルヘキサン酸、ビバール酸、バーサチック酸[シェル化学製の商品名、C10モノカルボン酸の異性体の混合物から構成される合成酸]、フェニル酢酸、安息香酸、2ナフトエ酸、マレイン酸、コハク酸等のカルボン酸の残基;ヘキサンチオ酸、22ジメチルブタンチオ酸、デカンチオ酸、チオ安息香酸等のチオカルボン酸の残基、リン酸ジブチル、リン酸ジペンチル、リン酸ジヘキシル、リン酸ジヘプチル、リン酸ジオクチル、リン酸ビス、リン酸ビス、リン酸ジラウリル、リン酸ジオレイル、リン酸ジフェニル、リン酸ビス、リン酸ビス、リン酸、リン酸、リン酸等のリン酸エステルの残基;2エチルヘキシルホスホン酸モノブチル、2エチルヘキシルホスホン酸モノ2エチルヘキシル、フェニルホスホン酸モノ2エチルヘキシル、2エチルヘキシルホスホン酸モノpノニルフェニル、ホスホン酸モノ2エチルヘキシル、ホスホン酸モノ1メチルヘプチル、ホスホン酸モノpノニルフェニル等のホスホン酸エステルの残基、ジブチルホスフィン酸、ビスホスフィン酸、ビスホスフィン酸、ジラウリルホスフィン酸、ジオレイルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、ビスホスフィン酸、ブチルホスフィン酸、ホスフィン酸、ホスフィン酸、ブチルホスフィン酸、2エチルヘキシルホスフィン酸、1メチルヘプチルホスフィン酸、オレイルホスフィン酸、ラウリルホスフィン酸、フェニルホスフィン酸、pノニルフェニルホスフィン酸等のホスフィン酸の残基を挙げることもできる。なお、これらの配位子は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、これらの中でもアミド基を用いることが好ましい。助触媒と反応して活性種を形成しやすくなるためである。上記第二重合触媒組成物に用いる成分において、上記希土類元素化合物と反応するルイス塩基としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記希土類元素化合物が複数のルイス塩基と反応する場合式及びにおいては、wが2又は3である場合、ルイス塩基L11は、同一であっても異なっていてもよい。上記第二重合触媒組成物に用いる成分は、イオン性化合物B-1、アルミノキサンB-2及びハロゲン化合物B-3よりなる群から選択される少なくとも一種の化合物である。なお、上記第二重合触媒組成物における成分の合計の含有量は、成分に対して01~50倍モルであることが好ましい。上記B-1で表されるイオン性化合物は、非配位性アニオンとカチオンとからなり、上記成分である希土類元素化合物又はそのルイス塩基との反応物と反応してカチオン性遷移金属化合物を生成できるイオン性化合物等を挙げることができる。ここで、非配位性アニオンとしては、例えば、テトラフェニルボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラボレート、テトラボレート、ボレート、トリスフェニルボレート、トリデカハイドライド78ジカルバウンデカボレート等が挙げられる。一方、カチオンとしては、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等を挙げることができる。カルボニウムカチオンの具体例としては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリカルボニウムカチオン等の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリカルボニルカチオンとして、より具体的には、トリカルボニウムカチオン、トリカルボニウムカチオン等が挙げられる。アンモニウムカチオンの具体例としては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン例えば、トリアンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウムカチオン;NNジメチルアニリニウムカチオン、NNジエチルアニリニウムカチオン、NN246ペンタメチルアニリニウムカチオン等のNNジアルキルアニリニウムカチオン;ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンの具体例としては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリホスホニウムカチオン、トリホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。従って、イオン性化合物としては、上述の非配位性アニオン及びカチオンからそれぞれ選択し組み合わせた化合物が好ましく、具体的には、NNジメチルアニリニウムテトラキスボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキスボレート等が好ましい。また、これらのイオン性化合物は、1種単独で使用することも、2種以上を混合して用いることもできる。なお、上記第二重合触媒組成物におけるイオン性化合物の含有量は、成分に対して01~10倍モルであることが好ましく、約1倍モルであることが更に好ましい。上記B-2で表されるアルミノキサンは、有機アルミニウム化合物と縮合剤とを接触させることによって得られる化合物であり、例えば、一般式:Oで示される繰り返し単位を有する鎖状アルミノキサン又は環状アルミノキサン式中、Rは炭素数1~10の炭化水素基であり、一部の炭化水素基はハロゲン原子及び/又はアルコキシ基で置換されてもよく、繰り返し単位の重合度は、5以上が好ましく、10以上が更に好ましいを挙げることができる。ここで、Rとして、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基等が挙げられ、これらの中でも、メチル基が好ましい。また、アルミノキサンの原料として用いられる有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム及びその混合物等が挙げられ、トリメチルアルミニウムが特に好ましい。例えば、トリメチルアルミニウムとトリブチルアルミニウムとの混合物を原料として用いたアルミノキサンを好適に用いることができる。なお、上記第二重合触媒組成物におけるアルミノキサンの含有量は、成分を構成する希土類元素Mと、アルミノキサンのアルミニウム元素Alとの元素比率Al/Mが、10~1000程度となるようにすることが好ましい。上記B-3で表されるハロゲン化合物は、ルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物及び活性ハロゲンを含む有機化合物のうち少なくとも一種からなり、例えば、上記成分である希土類元素化合物又はそのルイス塩基との反応物と反応して、ハロゲン化遷移金属化合物や遷移金属中心が電荷不足の化合物を生成することができる。なお、上記第二重合触媒組成物におけるハロゲン化合物の合計の含有量は、成分に対して1~5倍モルであることが好ましい。上記ルイス酸としては、B3等のホウ素含有ハロゲン化合物、Al3等のアルミニウム含有ハロゲン化合物を使用できる他、周期律表中の第III,IV,V,VI又はVIII族に属する元素を含有するハロゲン化合物を用いることもできる。好ましくはアルミニウムハロゲン化物又は有機金属ハロゲン化物が挙げられる。また、ハロゲン元素としては、塩素又は臭素が好ましい。上記ルイス酸として、具体的には、メチルアルミニウムジブロマイド、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジブロマイド、エチルアルミニウムジクロライド、ブチルアルミニウムジブロマイド、ブチルアルミニウムジクロライド、ジメチルアルミニウムブロマイド、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジブチルアルミニウムブロマイド、ジブチルアルミニウムクロライド、メチルアルミニウムセスキブロマイド、メチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムセスキブロマイド、エチルアルミニウムセスキクロライド、ジブチル錫ジクロライド、アルミニウムトリブロマイド、三塩化アンチモン、五塩化アンチモン、三塩化リン、五塩化リン、四塩化錫、四塩化チタン、六塩化タングステン等が挙げられ、これらの中でも、ジエチルアルミニウムクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、エチルアルミニウムセスキブロマイド、エチルアルミニウムジブロマイドが特に好ましい。上記金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物を構成する金属ハロゲン化物としては、塩化ベリリウム、臭化ベリリウム、ヨウ化ベリリウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、ヨウ化カルシウム、塩化バリウム、臭化バリウム、ヨウ化バリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化カドミウム、臭化カドミウム、ヨウ化カドミウム、塩化水銀、臭化水銀、ヨウ化水銀、塩化マンガン、臭化マンガン、ヨウ化マンガン、塩化レニウム、臭化レニウム、ヨウ化レニウム、塩化銅、ヨウ化銅、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩化金、ヨウ化金、臭化金等が挙げられ、これらの中でも、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化マンガン、塩化亜鉛、塩化銅が好ましく、塩化マグネシウム、塩化マンガン、塩化亜鉛、塩化銅が特に好ましい。また、上記金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物を構成するルイス塩基としては、リン化合物、カルボニル化合物、窒素化合物、エーテル化合物、アルコール等が好ましい。具体的には、リン酸トリブチル、リン酸トリ2エチルヘキシル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジエチルホスフィノエタン、ジフェニルホスフィノエタン、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、プロピオニトリルアセトン、バレリルアセトン、エチルアセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸フェニル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジフェニル、酢酸、オクタン酸、2エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、安息香酸、ナフテン酸、バーサチック酸、トリエチルアミン、NNジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、2エチルヘキシルアルコール、オレイルアルコール、ステアリルアルコール、フェノール、ベンジルアルコール、1デカノール、ラウリルアルコール等が挙げられ、これらの中でも、リン酸トリ2エチルヘキシル、リン酸トリクレジル、アセチルアセトン、2エチルヘキサン酸、バーサチック酸、2エチルヘキシルアルコール、1デカノール、ラウリルアルコールが好ましい。上記ルイス塩基は、上記金属ハロゲン化物1モル当り、0.01~30モル、好ましくは0.5~10モルの割合で反応させる。このルイス塩基との反応物を使用すると、ポリマー中に残存する金属を低減することができる。上記活性ハロゲンを含む有機化合物としては、ベンジルクロライド等が挙げられる。上記第二重合触媒組成物に用いることができる成分は、下記一般式:YR1aR2bR3c[式中、Yは、周期律表第1族、第2族、第12族及び第13族から選択される金属であり、R1及びR2は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R3は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R3は上記R1又はR2と同一又は異なっていてもよく、また、Yが周期律表第1族から選択される金属である場合には、aは1で且つb及びcは0であり、Yが周期律表第2族及び第12族から選択される金属である場合には、a及びbは1で且つcは0であり、Yが周期律表第13族から選択される金属である場合には、a、b及びcは1である]で表される有機金属化合物であり、下記一般式:AlR11R12R13[式中、R11及びR12は、同一又は異なり、炭素数1~10の炭化水素基又は水素原子で、R13は炭素数1~10の炭化水素基であり、但し、R13は上記R11又はR12と同一又は異なっていてもよい]で表される有機アルミニウム化合物であることが好ましい。式の有機アルミニウム化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリnプロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリnブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリtブチルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリシクロヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム;水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジnプロピルアルミニウム、水素化ジnブチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ジヘキシルアルミニウム、水素化ジイソヘキシルアルミニウム、水素化ジオクチルアルミニウム、水素化ジイソオクチルアルミニウム;エチルアルミニウムジハイドライド、nプロピルアルミニウムジハイドライド、イソブチルアルミニウムジハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好ましい。以上に述べた成分としての有機金属化合物は、1種単独で使用することも、2種以上を混合して用いることもできる。なお、上記第二重合触媒組成物における有機アルミニウム化合物の含有量は、成分に対して1~50倍モルであることが好ましい。<重合触媒>上記重合触媒としては、下記式:RaMXbQYb[式中、Rはそれぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、該RはMに配位しており、Mはランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、Xはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該XはM及びQにμ配位しており、Qは周期律表第13族元素を示し、Yはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子を示し、該YはQに配位しており、a及びbは2である]で表されるメタロセン系複合触媒が好適に挙げられ、下記一般式:[式中、M21は、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、R21及びR22は、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該R21及びR22は、M21及びAlにμ配位しており、R23及びR24は、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子を示す]で表されるメタロセン系複合触媒が更に好ましい。なお、メタロセン系複合触媒とは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムの希土類元素と周期律表第13族元素とを有する化合物である。また、これらのメタロセン系複合触媒、例えば予めアルミニウム触媒と複合させてなる触媒を用いることで、共重合体合成時に使用されるアルキルアルミニウムの量を低減したり、無くしたりすることが可能となる。なお、従来の触媒系を用いると、共重合体合成時に大量のアルキルアルミニウムを用いる必要がある。例えば、従来の触媒系では、金属触媒に対して10当量以上のアルキルアルミニウムを用いる必要があるところ、該メタロセン系複合触媒であれば、5当量程度のアルキルアルミニウムを加えることで、優れた触媒作用が発揮される。上記メタロセン系複合触媒において、上記式中の金属Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号57~71の15元素が含まれ、これらのいずれでもよい。金属Mとしては、サマリウムSm、ネオジムNd、プラセオジムPr、ガドリニウムGd、セリウムCe、ホルミウムHo、スカンジウムSc及びイットリウムYが好適に挙げられる。上記式において、Rは、それぞれ独立して無置換インデニル又は置換インデニルであり、該Rは上記金属Mに配位している。なお、置換インデニル基の具体例としては、例えば、123トリメチルインデニル基、ヘプタメチルインデニル基、124567ヘキサメチルインデニル基等が挙げられる。上記式において、Qは、周期律表第13族元素を示し、具体的には、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等が挙げられる。上記式において、Xはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該XはM及びQにμ配位している。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。なお、μ配位とは、架橋構造をとる配位様式のことである。上記式において、Yはそれぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子を示し、該YはQに配位している。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。一方、上記式で表されるメタロセン系複合触媒においては、上記式中の金属M21が、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号57~71の15元素が含まれ、これらのいずれでもよい。金属M1としては、サマリウムSm、ネオジムNd、プラセオジムPr、ガドリニウムGd、セリウムCe、ホルミウムHo、スカンジウムSc及びイットリウムYが好適に挙げられる。上記式において、CpRは、無置換インデニル又は置換インデニルである。インデニル環を基本骨格とするCpRは、C9H7XRX又はC9H11XRXで示され得る。ここで、Xは0~7又は0~11の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることが更に好ましく、1~8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。置換インデニルとして、具体的には、2フェニルインデニル、2メチルインデニル等が挙げられる。なお、式における二つのCpRは、それぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。上記式において、R21及びR22は、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基を示し、該Ra及びRbは、M21及びAlにμ配位している。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。上記式において、R23及びR24は、それぞれ独立して炭素数1~20の炭化水素基又は水素原子である。ここで、炭素数1~20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。なお、上記メタロセン系複合触媒は、例えば、溶媒中で、上記第一重合触媒組成物にて説明した上記式で表されるメタロセン錯体を、AlR25R26R27で表される有機アルミニウム化合物と反応させることで得られる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間~数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンやヘキサンを用いればよい。なお、上記メタロセン系複合触媒の構造は、X線構造解析により決定することが好ましい。上記有機アルミニウム化合物は、AlR25R26R27で表され、ここで、R25及びR26は、それぞれ独立して炭素数1~20の1価の炭化水素基又は水素原子で、R27は炭素数1~20の1価の炭化水素基であり、但し、R27は上記R25又はR26と同一でも異なっていてもよい。炭素数1~20の1価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。また、上記有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリnプロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリnブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリtブチルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリシクロヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム;水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジnプロピルアルミニウム、水素化ジnブチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ジヘキシルアルミニウム、水素化ジイソヘキシルアルミニウム、水素化ジオクチルアルミニウム、水素化ジイソオクチルアルミニウム;エチルアルミニウムジハイドライド、nプロピルアルミニウムジハイドライド、イソブチルアルミニウムジハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好ましい。また、これら有機アルミニウム化合物は、1種単独で使用することも、2種以上を混合して用いることもできる。なお、上記メタロセン系複合触媒の生成に用いる有機アルミニウム化合物の量は、メタロセン錯体に対して2~50倍モルであることが好ましく、約3~5倍モルであることが更に好ましい。<第三の重合触媒組成物>更に、上記重合触媒組成物としては、上記メタロセン系複合触媒と、ホウ素アニオンとを含む重合触媒組成物以下、第三重合触媒組成物ともいうを好適に挙げることもでき、該重合触媒組成物は、更に、通常のメタロセン錯体を含む重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含んでいてもよい。なお、上記メタロセン系複合触媒とホウ素アニオンとを合わせて2成分触媒ともいう。第三重合触媒組成物によれば、上記メタロセン系複合触媒と同様に、共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体を製造することが可能であるが、更にホウ素アニオンを含有するため、各単量体成分の共重合体中での含有量を任意に制御することが可能となる。上記第三重合触媒組成物において、2成分触媒を構成するホウ素アニオンとして、具体的には、4価のホウ素アニオンが挙げられる。例えば、テトラフェニルボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラキスボレート、テトラボレート、テトラボレート、ボレート、トリスフェニルボレート、トリデカハイドライド78ジカルバウンデカボレート等が挙げられ、これらの中でも、テトラキスボレートが好ましい。なお、上記ホウ素アニオンは、カチオンと組み合わされたイオン性化合物として使用することができる。上記カチオンとしては、例えば、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アミンカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等が挙げられる。カルボニウムカチオンとしては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリカルボニウムカチオン等の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリカルボニルカチオンとして、具体的には、トリカルボニウムカチオン等が挙げられる。アミンカチオンとしては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウムカチオン;NNジメチルアニリニウムカチオン、NNジエチルアニリニウムカチオン、NN246ペンタメチルアニリニウムカチオン等のNNジアルキルアニリニウムカチオン;ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンとしては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリホスホニウムカチオン、トリホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらカチオンの中でも、NNジアルキルアニリニウムカチオン又はカルボニウムカチオンが好ましく、NNジアルキルアニリニウムカチオンが特に好ましい。従って、上記イオン性化合物としては、NNジメチルアニリニウムテトラキスボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキスボレート等が好ましい。なお、ホウ素アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物は、上記メタロセン系複合触媒に対して01~10倍モル加えることが好ましく、約1倍モル加えることが更に好ましい。上記第三重合触媒組成物に用いることができる助触媒としては、例えば、上述のAlR25R26R27で表される有機アルミニウム化合物の他、アルミノキサン等が好適に挙げられる。上記アルミノキサンとしては、アルキルアミノキサンが好ましく、例えば、メチルアルミノキサンMAO、修飾メチルアルミノキサン等が挙げられる。また、修飾メチルアルミノキサンとしては、MMAO-3A東ソーファインケム社製等が好ましい。なお、これらアルミノキサンは、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法において、上記重合触媒又は重合触媒組成物を用いる場合、例えば、従来の配位イオン重合触媒を用いる重合反応による重合体の製造方法と同様にして行うことができる。ここで、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法が上記重合触媒組成物を用いる場合は、例えば、1単量体として共役ジエン化合物及び非共役オレフィンを含む重合反応系中に、重合触媒組成物の構成成分を別個に提供し、該反応系中において重合触媒組成物を調製してもよいし、2予め調製された重合触媒組成物を重合反応系中に提供してもよい。また、2においては、助触媒によって活性化されたメタロセン錯体活性種を提供することも含まれる。なお、重合触媒組成物に含まれるメタロセン錯体の使用量は、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンの合計に対して、00001~001倍モルの範囲が好ましい。また、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法においては、エタノール、イソプロパノール等の重合停止剤を用いて、重合を停止させてもよい。また、上記重合反応は、不活性ガス、好ましくは窒素ガスやアルゴンガスの雰囲気下において行われることが好ましい。上記重合反応の重合温度は、特に制限されないが、例えば100°C~200°Cの範囲が好ましく、室温程度とすることもできる。なお、重合温度を上げると、重合反応のシス14選択性が低下することがある。また、上記重合反応の圧力は、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンを十分に重合反応系中に取り込むため、01~10MPaの範囲が好ましい。また、上記重合反応の反応時間も特に制限されず、例えば1秒~10日の範囲が好ましいが、重合される単量体の種類、触媒の種類、重合温度等の条件によって適宜選択することができる。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法において、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの重合の際、重合開始時における共役ジエン化合物の濃度mollと非共役オレフィンの濃度mollとは、下記式:非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度≧10の関係を満たすことが好ましく、更に好ましくは下記式:非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度≧13の関係を満たし、一層好ましくは下記式:非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度≧17の関係を満たす。非共役オレフィンの濃度/共役ジエン化合物の濃度の値を1以上とすることで、反応混合物中に非共役オレフィンを効率的に導入することができる。また、本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法により得られる共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体は、低分子量化の問題が起こることも無く、その重量平均分子量Mwは特に限定されるものでもないが、高分子構造材料への適用の観点から、該共重合体の重量平均分子量Mwは25000以上が好ましく、50000~500000の範囲が更に好ましい。また、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比で表される分子量分布Mw/Mnは、4以下が好ましく、25以下が更に好ましい。ここで、平均分子量及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCによりポリスチレンを標準物質として求めることができる。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法により得られる共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体は、共役ジエン化合物部分のシス14結合量が高い。ここで、上記共役ジエン化合物部分のシス14結合量は、85以上であることが好ましい。共役ジエン化合物部分のシス14結合量が85以上であれば、高い伸長結晶性と低いガラス転移点Tgを保持することができ、これにより、耐摩耗性等の物性が改良される。また、共役ジエン化合物部分のシス14結合量が85未満では、伸長結晶性が著しく低下すると共に、ガラス転移点Tgが高くなることで、耐摩耗性等の耐久性が低下する場合がある。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法により得られる共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体は、共役ジエン化合物部分のビニル結合量が20以下であることが好ましく、15以下であることが更に好ましい。共役ジエン化合物部分のビニル結合量が20を超えると、シス14結合量が低下し、耐摩耗性の向上効果が十分に得られなくなる。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法により得られる共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体は、非共役オレフィンの含有率が3~98molの範囲であることが好ましく、10~50molの範囲であることが更に好ましい。非共役オレフィンの含有率が上記の特定した範囲内にあれば、エラストマーとして均一にふるまいながら、耐熱性の向上効果を有する非共役オレフィンを主鎖中に導入していることのメリットが保存される。また、非共役オレフィンの含有率が3mol未満では、非共役オレフィンが主鎖中に導入されているメリットが失われる場合があり、一方、98molを超えると、共役ジエン化合物が主鎖中に導入されているメリット例えば、架橋しやすさ等が失われる場合がある。本発明の共重合体の連鎖構造を制御する方法により得られる共役ジエン化合物-非共役オレフィン共重合体は、エラストマー製品全般、特にタイヤ部材に用いることができる。以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。実施例1十分に乾燥した400ml耐圧ガラス反応器に、トルエン溶液160mlを添加した後、エチレンを08MPaで導入した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビスガドリニウムビス[2GdN2]285μmol、ジメチルアニリニウムテトラキスボレート[Me2NHPhB4]342μmol、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド143mmolを仕込み、トルエン8mlに溶解させて触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で282μmolとなる量をモノマー溶液へ添加し、室温で5分間重合を行った。その後、エチレンの導入圧力を02MPaminの速度で低下させながら、13-ブタジエン1523g028molを含むトルエン溶液100mlを添加した後、さらに90分間重合を行った。重合後、22メチレンビスNS-55質量のイソプロパノール溶液1mlを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、70°Cで真空乾燥し、共重合体Aブロック共重合体を得た。得られた共重合体Aの収量は1250gであった。実施例2十分に乾燥した400ml耐圧ガラス反応器に、トルエン溶液100mlを添加した後、エチレンを08MPaで導入した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビスガドリニウムビス[2GdN2]285μmol、ジメチルアニリニウムテトラキスボレート[Me2NHPhB4]342μmol、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド143mmolを仕込み、トルエン8mlに溶解させて触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で282μmolとなる量をモノマー溶液へ添加し、室温で5分間重合を行った。その後、エチレンの導入圧力を02MPaminの速度で低下させながら、13-ブタジエン457g0085molを含むトルエン溶液30mlを添加した後、さらに60分間重合を行った。次に、エチレンの導入圧力を08MPaに戻し5分間重合を行い、その後エチレンの導入圧力を02MPaminの速度で低下させながら、13-ブタジエン457g0085molを含むトルエン溶液30mlを添加し、その後さらに60分間重合を行うという操作を計3回繰り返した。重合後、22メチレンビスNS-55質量のイソプロパノール溶液1mlを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、70°Cで真空乾燥し共重合体Bマルチブロック共重合体を得た。得られた共重合体Bの収量は1400gであった。実施例3十分に乾燥した400ml耐圧ガラス反応器に、エチレンを08MPaで導入した後、13-ブタジエン914g017molを含むトルエン溶液160mlを添加した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビスガドリニウムビス[2GdN2]285μmol、ジメチルアニリニウムテトラキスボレート[Me2NHPhB4]342μmol、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド143mmolを仕込み、トルエン8mlに溶解させて触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で282μmolとなる量をモノマー溶液へ添加し、室温で60分間重合を行った。その後、エチレンの導入圧力を01MPaminの速度で低下させながら、新たに13-ブタジエン914g017molを含むトルエン溶液60mlを10mlminの速度で添加し、その後さらに60分間重合を行った。重合後、22メチレンビスNS-55質量のイソプロパノール溶液1mlを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、70°Cで真空乾燥し重合体Cテーパー共重合体を得た。得られた共重合体Cの収量は1630gであった。実施例4十分に乾燥した400ml耐圧ガラス反応器に、トルエン溶液160mlを添加した後、エチレンを08MPaで導入した。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器にビスガドリニウムビス[2GdN2]285μmol、ジメチルアニリニウムテトラキスボレート[Me2NHPhB4]342μmol、及びジイソブチルアルミニウムハイドライド143mmolを仕込み、トルエン8mlに溶解させて触媒溶液とした。次に、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、ガドリニウム換算で282μmolとなる量をモノマー溶液へ添加すると同時に、13-ブタジエンを含むトルエン溶液を13-ブタジエン換算で03gminの速度にて60分間連続的に添加した後、さらに30分間重合を行った。重合後、22メチレンビスNS-55質量のイソプロパノール溶液1mlを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノールで共重合体を分離し、70°Cで真空乾燥し共重合体Dランダム共重合体を得た。得られた共重合体Dの収量は1550gであった。上記のようにして製造した実施例1~4の共重合体A~Dについて、ミクロ構造、エチレン含有率、重量平均分子量Mw、及び分子量分布Mw/Mnを下記の方法で測定評価した。なお、図1は共重合体Aの13CNMRスペクトルチャートであり、図2は共重合体Cの13CNMRスペクトルチャートであり、図3は共重合体Dの13CNMRスペクトルチャートである。また、図4は共重合体AのDSC曲線を示し、図5は共重合体CのDSC曲線を示し、図6は共重合体DのDSC曲線を示す。図1の共重合体Aの13C-NMRスペクトルチャートでは、29.4ppmにエチレンブロック部分に由来するピークが見られ、図4の共重合体AのDSC曲線では、DSCにより-10°C付近に1,3-ブタジエンの単量体シス単位からなるブロック部分に由来する結晶化温度及び120°C付近にエチレンの単量体単位からなるブロック部分に由来する結晶化温度が観測できる。そのため、共重合体Aは、高シスの1,3-ブタジエン及びエチレンのブロック共重合体であることが分かる。また、共重合体Aについて、文献高分子学会予稿集Vol.42,No.4,Page1347のオゾン分解-GPC法を応用して、連鎖分布の解析を行った。なお、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーは[GPC:東ソー製HLC-8121GPC/HT、カラム:昭和電工製GPCHT-803×2本、検出器:示差屈折率計RI、単分散ポリスチレンを基準、測定温度は140°C]を用いて測定した。その結果、全エチレン成分に対しブロックエチレン成分、即ち、数平均分子量Mnが1000以上のポリエチレン成分が80質量以上であり、共重合体Aがブロック共重合体であることを確認した。また、共重合体Bについても同様に、13C-NMR、DSC、オゾン分解-高温GPC法により1,3-ブタジエン及びエチレンのブロック共重合体であることを確認し、共重合体Dについては、図6に示すようにDSCにより明確なエチレンのブロック成分に由来するピークが認められず、またオゾン分解-高温GPC法で数平均分子量Mnが1000以上のポリエチレン成分がほとんどないことからランダム共重合体であることを確認した。さらに、図5の共重合体CのDSC曲線では、40°C~140°Cの温度領域におけるエチレン連鎖由来の全吸熱ピーク面積に対し、エチレンの単量体単位からなる長鎖のブロック部分の結晶化温度に由来する120°C以上の吸熱ピークのほかに、ブタジエン及びエチレンの単量体単位低分子量のブロック含むが不規則に配列してなるランダム部分が形成されていることを示す40°C~120°Cにブロードな吸熱ピークが観測された。そのため、共重合体Cは、1,3-ブタジエン及びエチレンのテーパー共重合体であることを確認した。1ミクロ構造共重合体中のブタジエン部分のミクロ構造を、1HNMRスペクトル12ビニル結合の結合量及び13CNMRスペクトルシス14結合とトランス14結合の含有量比の積分比より求めた。シス14結合量の計算値を表1に示す。2エチレンの含有率共重合体中のエチレン部分の含有率molを1HNMRスペクトル及び13CNMRスペクトルの積分比より求めた。3重量平均分子量Mw及び分子量分布Mw/Mnゲルパーミエーションクロマトグラフィー[GPC:東ソー製HLC-8121GPC/HT、カラム:東ソー製GMHHR-HSHT×2本、検出器:示差屈折率計RI]で単分散ポリスチレンを基準として、重合体のポリスチレン換算の重量平均分子量Mw及び分子量分布Mw/Mnを求めた。なお、測定温度は140°Cである。4DSC曲線JISK7121-1987に準拠して示差走査熱量測定DSCを行い、DSC曲線を描いた。"