電子ディスプレイであって、画像形成領域を有するディスプレイパネルと、前記画像形成領域の上に配置された第1の光硬化性樹脂系の反応生成物であり、実質的に透明な、光硬化された接着層と、前記実質的に透明な第1の光硬化性接着層の少なくとも一部分に近接した不透明層と、前記不透明層の少なくとも一部分及び前記透明な接着層の少なくとも一部分と接触している実質的に透明な外側パネルと、を備え、前記不透明層は、420nm~700nmの波長範囲の全ての波長に対して約5未満の平均光透過率及び300~400nmの波長範囲で約5を超える平均紫外線透過率を有する、電子ディスプレイ。前記画像形成領域が、液晶ディスプレイ装置、陰極線管ディスプレイ装置、発光ダイオードディスプレイ装置、又はこれらの組み合わせの一部である、請求項1に記載の電子ディスプレイ。前記第1の光硬化性樹脂系が、200nm~400nmの波長範囲に吸収帯を有する光開始剤を含む、請求項1に記載の電子ディスプレイ。前記第1の光硬化性樹脂系がアクリレートを含む、請求項3に記載の電子ディスプレイ。前記不透明層が、第2の光硬化性樹脂系の反応生成物を含む、請求項1に記載の電子ディスプレイ。前記第2の光硬化性樹脂系が、少なくとも1つの顔料又は染料を含む、請求項5に記載の電子ディスプレイ。前記第2の光硬化性樹脂系が、酸化ニッケル又はマグネシウムをドープしたリン酸コバルトをドープした顔料を含む、請求項6に記載の電子ディスプレイ。前記不透明層が多層光学スタックを備える、請求項1に記載の電子ディスプレイ。樹脂系であって、実質的に透明な光硬化性樹脂系と、前記実質的に透明な樹脂系に配置された少なくとも1つの染料又は顔料と、前記実質的に透明な光硬化性樹脂系に配置された少なくとも1つの光開始剤と、を含み、前記光硬化性樹脂系は、420nm~700nmの波長範囲において約5未満の平均光透過率及び300~400nmの波長範囲の全ての波長に対して約5を超える光透過率を有する、樹脂系。前記実質的に透明な樹脂系が、エポキシモノマー、アクリルモノマー、又はこれらの組み合わせを含む、請求項9に記載の樹脂系。前記少なくとも1つの光開始剤が、フリーラジカル反応開始剤、カチオン反応開始剤又はこれらの組み合わせを含む、請求項10に記載の樹脂系。前記少なくとも1つの染料又は顔料が、酸化ニッケル又はマグネシウムをドープしたリン酸コバルトをドープした顔料を含む、請求項9に記載の樹脂系。請求項9に記載の樹脂系の反応生成物。電子ディスプレイの製造方法であって、画像形成領域を有するディスプレイパネルを提供する工程と、前記画像形成領域上に実質的に透明な光硬化性接着層を配置する工程と、不透明層を備える実質的に透明な外側パネルで前記ディスプレイパネルをカバーする工程であって、前記不透明層が前記実質的に透明な光硬化性の接着層を少なくとも部分的にカバーする工程と、前記実質的に透明な光硬化性の接着層を前記実質的に透明な外側パネルを通じて照射する工程と、を含み、前記不透明層は、420nm~700nmの波長範囲において約5未満の平均光透過率及び300~400nmの波長範囲において約5を超える光透過率を有する、製造方法。前記不透明層を硬化する工程を更に含む、請求項14に記載の電子ディスプレイの製造方法。前記不透明層の硬化が紫外線への露出による、請求項15に記載の電子ディスプレイの製造方法。前記画像形成領域が、液晶ディスプレイ装置、陰極線管ディスプレイ装置、発光ダイオードディスプレイ装置、又はこれらの組み合わせの一部である、請求項14に記載の電子ディスプレイの製造方法。前記光硬化性の接着層が、前記ディスプレイパネルの前記画像形成領域に配置された第1の光硬化性樹脂系の反応生成物である、請求項14に記載の電子ディスプレイの製造方法。前記不透明層が少なくとも1つの顔料又は染料を含む、請求項14に記載の電子ディスプレイの製造方法。前記顔料が、酸化ニッケル又はリン酸マグネシウムをドープした顔料を含む、請求項19に記載の電子ディスプレイの製造方法。