"インク剥離性フィルム基材の表面に光硬化性のインクを塗工する第1の工程と、前記インクを予備乾燥して予備乾燥インク膜を前記インク剥離性フィルム基材の表面に形成する第2の工程と、前記予備乾燥インク膜に目的とする画像パターンを遮光するマスクを介して光を照射することで、目的とする画像パターンのネガパターンのみを硬化させて非印刷状態にする第3の工程と、前記非印刷状態にしたパターンニング予備インク膜を被印刷基材上へ接触させ、目的の画像パターンを転写する第4の工程とを備える、ことを特徴とするパターン印刷方法。前記第3の工程は、前記インク剥離性フィルム基材の裏面から前記画像パターンを遮光するマスクを接触させて光を照射することを特徴とする請求項1記載のパターン印刷方法。前記第3の工程は、前記インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面から、前記画像パターンを遮光するマスクを100μm~500μmの間隔をあけて光を照射することを特徴とする請求項1または2記載のパターン印刷方法。前記第3の工程は、前記インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面から照射する光が平行光であることを特徴とする請求項1乃至3に何れか1項記載のパターン印刷方法。前記第3の工程は、前記インク剥離性フィルム基材が254nm~334nmの波長を透過する特性を有し、使用するインクの光硬化が254nm~334nmの波長の光で開始され、照射する光の波長が254nm~334nmの短波長を含むことを特徴とする請求項1乃至4に何れか1項記載のパターン印刷方法。インク剥離性フィルム基材の表面に光硬化性のインクを塗工するインク塗工部と、前記インクを予備乾燥して予備乾燥インク膜を前記インク剥離性フィルム基材の表面に形成するインク乾燥部と、前記予備乾燥インク膜に目的とする画像パターンを遮光するマスクを介して光を照射することで、目的とする画像パターンのネガパターンのみを硬化させて非印刷状態にするネガパターン光硬化部と、前記非印刷状態にしたパターンニング予備インク膜を被印刷基材上へ接触させ、目的の画像パターンを転写する基材貼り合わせ部とを備える、ことを特徴とするパターン印刷装置。前記ネガパターン光硬化部は、前記インク剥離性フィルム基材の裏面から前記画像パターンを遮光するマスクを接触させて光を照射することを特徴とする請求項6記載のパターン印刷装置。前記ネガパターン光硬化部は、前記インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面から、前記画像パターンを遮光するマスクを100μm~500μmの間隔をあけて光を照射することを特徴とする請求項6または7記載のパターン印刷装置。前記ネガパターン光硬化部は、前記インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面から照射する光が平行光であることを特徴とする請求項6乃至8に何れか1項記載のパターン印刷装置。前記ネガパターン光硬化部は、前記インク剥離性フィルム基材が254nm~334nmの波長を透過する特性を有し、使用するインクの光硬化が254nm~334nmの波長の光で開始され、照射する光の波長が254nm~334nmの短波長を含むことを特徴とする請求項6乃至9に何れか1項記載のパターン印刷装置。以上のように、ブランケット上のインク膜からネガパターンを取り除く方法として、画像パターンのネガパターンを凸部とした凸版を接触させる方法は、多くの問題点が発生する。そこで、本発明は上記の問題点を解決するためになされたもので、目的とする画像パターンのネガパターンを凸部とした凸版を用いることなく、目的とする画像パターンを遮光するマスクを介して、光照射によるネガパターンのみを硬化させる方法で、被印刷基材上に目的の画像パターンを形成する、凸版レスの印刷方法を可能にしたパターン印刷方法及びパターン印刷装置を提供することを目的とする。上記目的を達成するために請求項1の発明は、パターン印刷方法であって、インク剥離性フィルム基材の表面に光硬化性のインクを塗工する第1の工程と、前記インクを予備乾燥して予備乾燥インク膜を前記インク剥離性フィルム基材の表面に形成する第2の工程と、前記予備乾燥インク膜に目的とする画像パターンを遮光するマスクを介して光を照射することで、目的とする画像パターンのネガパターンのみを硬化させて非印刷状態にする第3の工程と、前記非印刷状態にしたパターンニング予備インク膜を被印刷基材上へ接触させ、目的の画像パターンを転写する第4の工程とを備えることを特徴とする。請求項2の発明は、請求項1記載のパターン印刷方法において、前記第3の工程は、前記インク剥離性フィルム基材の裏面から前記画像パターンを遮光するマスクを接触させて光を照射することを特徴とする。請求項3の発明は、請求項1または2記載のパターン印刷方法において、前記第3の工程は、前記インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面から、前記画像パターンを遮光するマスクを100μm~500μmの間隔をあけて光を照射することを特徴とする前記インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面から、前記画像パターンを遮光するマスクを100μm~500μmの間隔をあけて光を照射することを特徴とする。請求項4の発明は、請求項1乃至3に何れか1項記載のパターン印刷方法において、前記第3の工程は、前記インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面から照射する光が平行光であることを特徴とする。請求項5の発明は、請求項1乃至4に何れか1項記載のパターン印刷方法において、前記第3の工程は、前記インク剥離性フィルム基材が254nm~334nmの波長を透過する特性を有し、使用するインクの光硬化が254nm~334nmの波長の光で開始され、照射する光の波長が254nm~334nmの短波長を含むことを特徴とする。請求項6の発明は、パターン印刷装置であって、インク剥離性フィルム基材の表面に光硬化性のインクを塗工するインク塗工部と、前記インクを予備乾燥して予備乾燥インク膜を前記インク剥離性フィルム基材の表面に形成するインク乾燥部と、前記予備乾燥インク膜に目的とする画像パターンを遮光するマスクを介して光を照射することで、目的とする画像パターンのネガパターンのみを硬化させて非印刷状態にするネガパターン光硬化部と、前記非印刷状態にしたパターンニング予備インク膜を被印刷基材上へ接触させ、目的の画像パターンを転写する基材貼り合わせ部とを備えることを特徴とする。請求項7の発明は、請求項6記載のパターン印刷装置において、前記ネガパターン光硬化部は、前記インク剥離性フィルム基材の裏面から前記画像パターンを遮光するマスクを接触させて光を照射することを特徴とする。請求項8の発明は、請求項6または7記載のパターン印刷装置において、前記ネガパターン光硬化部は、前記インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面から、前記画像パターンを遮光するマスクを100μm~500μmの間隔をあけて光を照射することを特徴とする。請求項9の発明は、請求項6乃至8に何れか1項記載のパターン印刷装置において、前記ネガパターン光硬化部は、前記インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面から照射する光が平行光であることを特徴とする。請求項10の発明は、請求項6乃至9に何れか1項記載のパターン印刷装置において、前記ネガパターン光硬化部は、前記インク剥離性フィルム基材が254nm~334nmの波長を透過する特性を有し、使用するインクの光硬化が254nm~334nmの波長の光で開始され、照射する光の波長が254nm~334nmの短波長を含むことを特徴とする。本発明のパターン印刷方法及び装置によれば、画像パターンのネガパターンを凸部とした凸版を用いることなく、印刷が可能になり、凸版洗浄や凸版加工などの工程が排除できる。このため、装置の簡易化、工程の簡略化、低コスト化、環境への負荷低減が見込める。また、複数枚必要であった凸版に代わり、遮光マスクは1~2枚で十分であるため、部材の管理枚数を低減できる。さらに、マスクを使用した光硬化によるパターニングは、凸版を使用したパターニングよりパターン再現性が高くなる。また、本発明のパターン印刷方法及び装置によれば、インク剥離性のフィルム基材の裏面から、画像パターンを遮光するマスクを接触させて光を照射するようにしたので、光の回折の影響が小さくなり、パターン再現性の高いパターニングを可能となる。また、本発明のパターン印刷方法及び装置によれば、インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面から、画像パターンを遮光するマスクを100μm~500μmの間隔をあけて光を照射するようにしたので、インク剥離性フィルム基材の表面もしくは裏面からの異物の付着によるパターン欠損を防ぐことができる。このとき、100μm以下の場合は、異物の付着する可能性が高くなり、100μm以上だと、パターン解像性が悪化する。また、本発明のパターン印刷方法及び装置によれば、照射する光が平行光であるため、光の回折の影響が小さくなり、パターン再現性の高いパターニングを可能となる。また、本発明のパターン印刷方法及び装置によれば、短波長の光を使用するようにしたので、光の回折の影響が小さくなり、パターン再現性の高いパターニングを可能となる。第1の実施の形態本発明方法を用いたパターン印刷装置の実施の形態について、図1を参照して詳細に説明する。本実施の形態にかかる反転印刷方式のパターン印刷装置は、図1に示すように、インク剥離性フィルム基材101、被印刷基材107,当該インク剥離性フィルム基材の搬送の制御を行うインク剥離性フィルム基材巻き出し部108、インク剥離性フィルム基材巻き取り部109の搬送系とインク塗工部110、インク乾燥部111、画像パターンが遮光されているマスク103と光源104から成るネガパターン光硬化部114、基材アライメント部112、基材貼りあわせ部113によって構成される。インク剥離性フィルム基材巻き出し部108、インク剥離性フィルム基材巻き取り部109の搬送部は、回転やテンションを制御してインク剥離性フィルム基材を搬送するためのモーターを備える。装着されるフィルム原反幅は100mm~1000mmが選択できるが、パターンの実用性と転写位置精度を考慮し選択される。また、インク剥離性フィルム基材のテンションの制御は、これら装置以外に搬送系にニップ部を設置してインク剥離性フィルム基材を保持することでも調節を行うことができる。ニップ部は、主に搬送ロールに備わったエアー吸着孔による吸着ニップが用いられる。搬送は、各工程で必要な時間差を緩和し、インク剥離性フィルム基材の連続搬送を行うためのバッファを備えた場合には、連続搬送を行うことができるが、インク剥離性フィルム基材101を、工程ごとに必要な長さの搬送を行うことが好ましい。インク塗工部110は、可動ステージと、可動ステージ上に設けられたインク剥離性フィルム基材に対しインクを塗布する塗工装置が設置されている。可動ステージは、ボールねじやリニアモーター等で駆動するものを用いることができ、金属製、石製などのものを用いることができるが、少なくとも水平方向に水平を保ったまま往復運動することができ、インク剥離性フィルム基材101を吸着することができることが望ましい。吸着による表面の凹凸を防ぐためにフィルムのエッジ付近のみ吸着孔を設ける方法や、多孔質性材料を用いた吸着表面を用いる方法を選択することができる。塗工装置は、連続加工や膜厚の均一性が優れるダイ方式のものについて説明するが、これに限定するものではない。ダイヘッドには、別に用意されたインク供給用のポンプから所定量のインクを供給することができる。このダイヘッドとインク剥離性フィルム基材とのギャップは印刷開始前に設定してもよく、また可動式ステージの搬送に合わせてダイヘッドを上下動させて調整してもよい。インク乾燥部111は、上記インク塗工部110でインク剥離性フィルム基材101へ塗工したインクを乾燥させるために設置されるもので、ホットプレート、オーブン、温風、減圧乾燥、紫外線照射などの乾燥装置を設けてもよい。ネガパターン光硬化部114は、画像パターンが遮光されているマスク103と光源104から成り、インク剥離性フィルム101の上方または下方より、画像パターンが遮光されているマスク103を介して光源104から光を照射させることで、ネガパターン部のみ光硬化させる。インク剥離性フィルム101と画像パターンが遮光されているマスク103とのギャップは、異物の混入によるマスク欠損の発生等の不良を防ぐために、間隔を設けても良いし、解像度を高くするためにインク剥離性フィルム101をマスク103に、その裏面から接触させても良い。この場合、解像度に関しては光学系に依存する部分も大きい。したがって、光源104のランプ輝線の分布やそのミラー系の材質、さらにインテグレーターレンズの形状や大きさに起因するコリメーション半角等も適正な条件で実施することが望ましい。アライメント部112は、可動性ステージと複数の顕微鏡カメラから構成されており、可動性ステージ上に吸着した被印刷基材107上に、インク剥離性フィルム基材上101の未硬化部分の画像パターン106を接触させ剥離することにより、画像パターン106の転写を行う。被印刷基材107に、位置合わせが必要な転写を行う場合は、インク剥離性フィルム基材101が透明であることを利用して、インク剥離性フィルム基材上101に得られたパターンの一部や位置合わせ用のマークパターンと、被印刷基材107上に予め設けられた位置合わせ用パターンを透過画像で認識し、それぞれのパターンを認識した画像から座標データを取得し、可動性ステージを動作させ転写位置の補正を行うことができる。上記の顕微鏡カメラは光学顕微鏡、CCDChargeCoupledDevice顕微鏡のどちらであっても良いが、オートフォーカスまたは電気的に制御可能な手動焦点制御機構のいずれか、もしくはその両方の機能を必要とし、取得した画像を観察するために外部に設置したモニターや位置補正のための画像処理装置へ出力するインターフェースを持つものとする。また、被印刷基材107がプラスチック基材の場合など、稼動ステージ内部に熱制御可能なヒータの装填や温水を循環させる加熱冷却機構や、複数のチャックなどで被印刷基材107を固定し、引っ張る機構を加えることで、より精度の高い位置合わせを可能とする。貼り合わせ部113には、前記アライメント部112に設置された可動性ステージ上にローラが設けられる。ローラ外周の材料としては、ゴムや金属、プラスチックなどの材料が使用できる。このとき、ローラの曲率としては、微小なインク膜の凹凸に追従するよう曲率の小さいものを使用することが望ましい。上記貼り合わせ部113に設置された可動性ステージに固定された被印刷基材107と、わずかな隙間をあけて設置されたインク剥離性フィルム基材101の上から、同じく上記貼り合わせ部113に設置されたローラ113Aを押し当て、可動性ステージの移動と共にローラ113Aを回転させながら印圧をかけ、次にインク剥離性フィルム基材101を被印刷基材107から剥がすことにより、画像パターンを転写することができる。次に、上記のように構成されたパターン印刷装置を利用して被印刷基材上に薄膜パターンを形成する場合について図2を参照して説明する。インク剥離性フィルム基材巻き出し部108から図1の矢印方向に巻き出されてくるインク剥離性フィルム基材101上にインク塗工部110で光硬化性のインクを順に塗工した後、インク乾燥部111でインク剥離性フィルム基材101上に塗布されたインクを順次予備乾燥し、図2aに示す予備乾燥インク膜102を形成する。その後、ネガパターン光硬化部114において、図2aに示すように、目的とする画像パターンを遮光するマスク103を介して光源104から光を予備乾燥インク膜102に照射する。これにより、図2bに示すように、目的とする画像パターンのネガパターン105のみを硬化させて非印刷状態にしたパターンニング予備インク膜102Aを形成する。ここで、光が照射されない予備乾燥インク膜102の未硬化部分が画像パターン106となる。次に、基材貼り合わせ部113において、図2cに示すように、ネガパターン光硬化部114で形成されたインク剥離性フィルム基材101上のパターンニング予備インク膜102Aを基板アライメント部112により被印刷基材107にアライメントする。その後、図2dに示すように、パターンニング予備インク膜102Aを被印刷基材107の上面に接触させ、インク剥離性フィルム基材101を上方からローラ113Aで印圧をかけることにより、目的の画像パターン106を被印刷基材107に転写する。すなわち、図2eに示すように、インク剥離性フィルム基材101を被印刷基材107から剥がすことにより、図2fに示すように、画像パターン106を被印刷基材107に転写する。これにより、反転印刷法で被印刷基材上に薄膜パターンを形成することが可能になる。上記の反転印刷法に用いるインク剥離性のフィルムに扱われるフィルム基材は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルムを照射する光にあわせて選択できる。線膨張係数が小さい基材であれば、熱による収縮挙動への追従性が高く、熱制御しやすい。水蒸気透過率が高い基材であれば、湿度による追従性が高く、湿度による制御しやすい。さらに光透過性の基材を用いることにより、パターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とすることができる。これらフィルム基材は長尺の巻き取りロールで供給される。インク剥離性のフィルム基材は、上記基材へシリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を塗布する必要がある。離型剤としてシリコーンゴムの薄膜層を形成してもよい。また、同じ目的でフッ素系樹脂、フッ素系ゴムも利用できるし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜて剥離性を出すなどの使い方をしてもよい。これらシリコーン系の塗膜は通常フィルム基材との密着力が低いが、最表面に設けるシリコーン層の下部より基材との接着性の高い熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等の樹脂層を、アンカー層としてあらかじめフィルム基材上に設けることで改善できる。いずれも適度のインク受容性を有すると同時に、一度受容したインクの完全なインク剥離性を有することが望ましい。具体的には、シリコーンとして、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いることができる。シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせなどが用いられ、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜用いられる。また、本発明に用いるインク剥離性のフィルム基材として、前記基材に無機膜を設けた後、シランカップリング剤による表面処理を施したものを用いることもできる。シランカップリング剤としては、トリメトキシシラン類、トリエトキシシラン類などを用いることができる。このシランカップリング剤の一部位は、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基などの有機化合物との反応性基を持つものから選ぶことができ、あるいはアルキル基やその一部にフッ素原子が置換されたものやシロキサンが結合して、表面自由エネルギーの小さな表面を形成できる置換基が結合したものを用いることができる。前者の反応性基を有するシランカップリング剤を用いる場合には、シランカップリング剤で基材表面を処理した後、所定の表面自由エネルギーになるような他のモノマー成分を塗工して、結合させることができる。反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-3、4エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどを用いることができ、モノマーとして、スチレン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチルプロパントリグリシジルエーテル、ラウリルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどを用いることができる。また、反応性基を有さないシランカップリング剤としてはメチルトリメトキシシラン、n-ヘキシルトリメトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシランなどを用いることができる。但し、アルキル基に限定されるものではない。上記シランカップリング剤を上記基材に固定化する方法としては、定法の表面処理方法を用いることができる。例えば、シランカップリング剤を水、酢酸水溶液、水-アルコール混合液、あるいはアルコール溶液に希釈させた溶液を調製する。前記溶液を公知の塗工方法であるグラビアコーター、ロールコーター、ダイコーター等を用いて基材表面に塗工し、次いで乾燥させることでシランカップリング剤を固定化できる。また、反応性基を有するシランカップリング剤を用いた場合には、次いで他のモノマー成分を同様に塗工して結合させることができる。上記シランカップリング剤を基材上に固定化するためには、あらかじめ基材上にSiO2やTiO2、ZrO2もしくはこれらの複合膜が設けられていることが好ましい。これら無機酸化膜は既知の蒸着法やスパッタ法を用いて設けたものを用いることができる。また、上記無機酸化膜を設ける方法として、一般式MORnで表される金属アルコキシドMはSi、Ti、Al、Zrなどの金属、RはCH3、C2H5などのアルキル基を水、アルコールの共存下で加水分解反応および縮重合反応させて得られたゲル溶液を表面にコーティング後、加熱することで無機酸化物膜を設ける、いわゆるゾル-ゲル法を用いることができる。さらに、上記ゾル-ゲル法で用いる金属アルコキシド溶液中にあらかじめ上記シランカップリング剤を添加しておくこともできる。この場合、表面性改質に特に効果が得られる。このようにして得られるインク剥離性のフィルム基材に対する剥離性の評価は、接触角を尺度とすると、処理面へインクを滴下した際の接触角が、10°以上90°以下となるのが好ましく、より好ましくは20°以上70°以下である。この接触角が小さいと後工程でのインク剥離性が低下してパターンの欠陥出っ張り、ブリッジ、あるいは再現性不良等が発生しやすくなり、接触角が大きいとインク液膜を形成する際にハジキが生じてしまう。上記に示したインク剥離性のフィルム基材上へインク液膜を形成する方法としては、インクの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。すなわち、例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインクについて均一なインク液膜を形成することができる。インク剥離性のフィルム基材上へ上記方法によりインク液膜を形成した後に、上記インク液膜を予備乾燥する。この予備乾燥には自然乾燥、冷風温風乾燥、マイクロ波照射、減圧乾燥などを用いることができ、また、紫外線、電子線などの放射線を用いることもできる。この予備乾燥では、上記インク液膜の粘度またはチキソトロピー性、脆性を上げることを目的とする。予備乾燥による乾燥が不十分な場合は、後工程の凸版の凸部を押し当て剥離する際に、インク液膜が断裂し不良が発生してしまう。逆に乾燥が行き過ぎた場合は、インク膜表面のタック性が無くなり、前記凸版にインクが転写されない。そのため、使用するインクの組成によって乾燥状態を乾燥時間や雰囲気温度により調節するが、乾燥したインク膜に対して0.5重量から4重量の溶剤の残留が認められる状態が好ましい。いわゆるドライフィルムといわれるppmオーダーの溶剤残留量では乾燥が行き過ぎであり、インクが転写されない不具合や、版の押し付けによりインク膜が部分的に剥離してゴミの原因になったりする不具合があるため、予備乾燥インク膜の条件として適さない。本発明の印刷方法は、プラスチック機材などの印刷に適用できるが、例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることもできる。インキ液膜の材料としては、画像パターン形成材料に溶媒を溶解又は分散させたものを用いることができる。例えば、カラーフィルタにおいて赤色、緑色、青色からなるカラーパターン着色層やブラックマトリックス等を本発明の製造方法により形成する場合、顔料成分と樹脂成分を溶媒中に溶解、分散させることによりインキとなる。顔料には、例えば、赤、緑、青の各色で使用できる顔料として次のものが挙げられる。顔料の種類は、カラーインデックスC.I.No.で示す。まず、赤色顔料として、97、122、123、149、168、177、180、192、208、209、215などが、緑色顔料として7、36などが、青色顔料として、15、15:1、15:3、15:6、22、60、64などが挙げられる。墨顔料として、カーボンブラック、チタンブラックなどが挙げられる。また、これら赤、緑及び青顔料の色調整及びインキの流動性を改善するために、次に挙げる顔料を必要量添加することができる。赤色、緑色、青色以外にも、例えば、黄顔料として、17、83、109、110、128などが、紫顔料として、19、23などが、白顔料として、18、21、27、28などが、橙顔料として、38、43などが挙げられる。顔料は、単体以外に、顔料を予め分散剤、有機溶剤に分散させた顔料分散体であっても良い。また、ブラックマトリックスに用いられる黒色顔料としては、カーボンブラックやチタンブラックが単独又は混合して用いられる。樹脂成分には、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂からなる群から選ばれる1つ以上のものが使用される。溶剤には、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤及び炭化水素系溶剤などが使用される。エステル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エトキシエチルプロピオネート、アルコール系溶剤として、1-ブタノール、3メトキシ-3メチル-1ブタノール、1-ヘキサノール、1,3ブタンジオール、1-ペンタノール、2-メチル1-ブタノール、4-メチル-2-ペンタノール、エーテル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、炭化水素系溶剤として、ソルベッソ100、ソルベッソ150製品名エクソン化学社製などが挙げられる。また、有機EL素子において有機発光層を形成する場合、例えば、ポリフェニレンビニレンPPVといった高分子発光材料を溶媒としてトルエンやキシレンといった芳香族系有機溶媒に溶解、分散させることによりインキとなる。また、回路基材において、配線を形成する場合、金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、ロジウム等の金属微粒子分散液を水やアルコール、グリコール系溶媒に溶解、分散させることによりインキとなる。また、これらのインキには必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤、レベリング剤等が添加されてもよい。なお、本発明のインキはこれらに限定されるものではない。また、光を照射することにより、インク剥離性のフィルム基材上の予備乾燥インク膜から、目的とする画像パターンのネガパターンのみを非印刷状態するため、重合開始剤を添加することができる。重合開始剤としては、光による硬化手段に応じて適宜選択することができる。上記光硬化開始剤の具体例として、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アントラキノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトン、3-メチルアセトフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4-ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾイエチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられる。光源については特に限定するものではないが、極間が小さく、なるべく点光源となるものが望ましい。出力を上げるなどの影響により極間が広くなった場合は、正規分布する強度がブロードになり、インテグレーターレンズにおけるエネルギー損失が大きくなるためである。次に、本発明の実施例について説明する。実施例1本発明の印刷方法にて、PENフィルム上に、赤色インク単色のカラーフィルタのスクエアパターン作成をおこなった。カラーフィルタ用赤色インクを次の要領で調製した。下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径1mmのガラスビーズを用い、サンドミルで5時間分散し、さらに5μmのフィルタでろ過して赤色顔料の分散体を得た。赤色顔料:C.I.PigmentRed254チバスペシャルティケミカルズ社製イルガーフォーレッドB-CF18質量部C.I.PigmentRed177チバスペシャルティケミカルズ社製クロモフタールレッドA2B2質量部アクリルワニス固形分20108質量部その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、5μmのフィルタで濾過して赤色着色インクを得た。上記分散体100質量部ダイアロマーSP-7128大日精化工業社製900質量部光開始剤:ダロキュア1173チバスペシャルティケミカルズ社製18質量部インク剥離性フィルム基材として、基材厚100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムに剥離性シリコーンゴムを厚さ10μm塗布して乾燥させたものを使用した。最初に、塗工部ステージ上でインク剥離性フィルム基材に、300mm幅のヘッドを用いたダイコーターにより、塗工長さ400mm、膜厚5.0μmでインクをコーティングした。塗工が終わったインク剥離性フィルム基材は、減圧乾燥工程を経て、塗工インク膜が予備乾燥をされ、ネガパターン光硬化部まで搬送を行った。ネガパターン光硬化部の遮光マスクは、開口部80μmのスクエアパターンを目的とする画像パターンを遮光する設計とした。また、光学系は、熱線カットフィルター、インテグレーションレンズ、反射鏡、コリメーターレンズを用いた一般的な光学系であり、水銀ランプ出力2kWのものを使用した。コリメーション半角は2°、遮光マスクとインク剥離性フィルムとのGAPはインク剥離性フィルム表面から200μmの条件でネガパターン部の光硬化を行った。その後、ゴムローラでインク剥離性フィルム基材と被印刷基材を貼り合わせた後、インク剥離性フィルム基材を被印刷基材から剥がすことによって、被印刷基材への赤色インク画像パターンの転写を行った。転写された赤色のスクエアパターンは、精度良く設計値どおりに印刷された。実施例2実施例1と同様にPENフィルム上に、赤色インク単色のカラーフィルタのスクエアパターン作成をおこなった。インク剥離性フィルム基材として、基材厚100μmのシクロオレフィンポリマーフィルムに剥離性シリコーンゴムを厚さ10μm塗布して乾燥させたものを使用した。実施例1と同様のインク、インク塗工、予備乾燥にて、塗工インク膜を形成予備乾燥し、ネガパターン光硬化部まで搬送をおこなった。ネガパターン光硬化部の遮光マスクは、実施例1と同じく、開口部80μmのスクエアパターンを目的とする画像パターンを遮光する設計とした。また、光学系も実施例1と同様の、熱線カットフィルター、インテグレーションレンズ、反射鏡、コリメーターレンズを用いた一般的な光学系であり、水銀ランプ出力2kWのものを使用した。遮光マスクは、インク剥離性フィルムの裏面に対して、全面均一に接触させるように設置調整し、光硬化を行った。転写された赤色のスクエアパターンは、精度良く設計値どおりに印刷された。実施例1と比較すると、解像度性向上も確認できた。"