座標位置測定装置のためのエラー修正方法であって、i各々が第一の物体の表面上のある位置を表す1つまたは複数の第一のデータ値を含む第一のデータセットを取得するステップと、ii各々が前記第一の物体の表面上のある位置を表す1つまたは複数の第二のデータ値を含む第二のデータセットを取得するステップと、iii各々が前記第一のデータセットにより表される表面と前記第二のデータセットにより表される表面の間の位置差を表す1つまたは複数のエラー値を含むエラーマップを計算するステップと、を含み、前記第一の物体の面法線が第一のデータ値の各々により表される各位置において既知であり、ステップiiiが、実質的に既知の面法線の方向の位置差を判断することによって、各エラー値を計算するステップを含み、前記方法が、前記第一の物体または、前記第一の物体と名目上同一の物体について加工または測定作業を実行するステップivをさらに含み、前記表面上の位置が、ステップiiiで計算された前記エラーマップを使って修正されることを特徴とする方法。ステップivが、前記第一の物体と名目上同一の別の物体を得るステップと、座標位置測定装置を使って、前記別の物体を測定するステップと、前記エラーマップを用いて、前記別の物体の前記測定値を修正するステップと、を含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。ステップivは、加工作業を実行して、前記第一の物体または前記第一の物体と名目上同一の物体の表面形状を改変するステップと、前記エラーマップを用いて、前記加工作業により生成される前記表面形状を調整するステップと、を含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。前記加工作業が、前記第一の物体または前記第一の物体と名目上同一の物体に材料を追加するステップ、またはそこから材料を除去するステップを含むことを特徴とする、請求項3に記載の方法。前記1つまたは複数の第一のデータ値および/または前記1つまたは複数の第二のデータ値を、第二のデータ値の各々が確実に第一のデータ値の既知の面法線上にあるようにするための補間工程を用いて生成するステップを含み、ステップiiiで計算したエラー値の各々が、第一のデータ値と、それに関連する、前記既知の面法線に沿った第二のデータ値の間の位置差を含むことを特徴とする、請求項1~4のいずれかに記載の方法。複数の第一のデータ値の各々について、第一のデータ値を含み、前記既知の面法線に垂直な平面を定義するステップと、前記第一のデータ値の前記既知の面法線に沿った前記第二のデータ値の少なくともいくつかを推定して、前記第二のデータ値の推定が前記定義された平面と交差する位置を判断するステップと、前記第二のデータ値の推定のうちのどれが、前記定義された平面と、前記選択された第一のデータ値に最も近い交差点で交差するかを確定するステップと、前記最も近い交差点と、その推定のもとになった、関連する前記第二のデータ値の位置差から前記エラー値を計算するステップと、を含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。前記第一の物体の前記表面上の複数の点の位置を測定するための測定プローブを備える、少なくとも1つの座標位置測定装置を使用するステップを含み、前記第一のデータセットと前記第二のデータセットの少なくとも一方が、前記少なくとも1つの座標位置測定装置を使って得た前記第一の物体の測定値から導き出されることを特徴とする、請求項1~6のいずれかに記載の方法。前記第一の物体の前記表面上の複数の点の位置を測定するための測定プローブを備える、第一の座標位置測定装置を使用するステップを含み、前記第一の座標位置測定装置が、校正された座標測定機を含み、前記第一のデータセットが、前記第一の座標位置測定装置を使用して得た前記第一の物体の測定値から導き出されることを特徴とする、請求項7に記載の方法。前記第一の座標位置測定装置によって前記第一の物体の前記表面上で測定された前記点を使用して、第一のデータ値の各々によって表される各位置における前記第一の物体の前記面法線を計算するステップを含むことを特徴とする、請求項8に記載の方法。前記第一の物体が既知の幾何学形状を有し、前記方法が、前記第一の座標位置測定装置を使って基準設定作業を実行し、前記第一の物体の方位を、前記第一の物体の前記面法線が第一のデータ値の各々によって表される各位置において既知であるように確定するステップを含むことを特徴とする、請求項8に記載の方法。前記第一のデータセットと前記第二のデータセットの少なくとも一方が、前記物体の設計データから導き出されることを特徴とする、請求項1~10のいずれかに記載の方法。前記第一の物体の前記表面上の複数の点の位置を測定するための測定プローブを備える第二の座標位置測定装置を使用するステップを含み、前記第二のデータセットが、前記第二の座標位置測定装置を使用して得た前記第一の物体の測定値から導き出されることを特徴とする、請求項1~11のいずれかに記載の方法。前記第二の座標位置測定装置がパラレル座標位置測定装置であることを特徴とする、請求項12に記載の方法。ステップiiが補間工程を用いて、前記第二の座標位置測定装置により測定された前記第一の物体の前記表面上の複数の点の位置から前記1つまたは複数の第二のデータ値を計算するステップを含み、ステップiiで計算された第二のデータ値の各々が、第一のデータ値の前記面法線上に存在するように構成されることを特徴とする、請求項12~13のいずれか1項に記載の方法。各々が前記第一の物体の前記表面上のある点を表す1つまたは複数の第三のデータ値を含む第三のデータセットを取得するステップと、各々が第二のデータ値と第三のデータ値の位置差を表す1つまたは複数のエラー値を含む第二のエラーマップを計算するステップと、を含み、前記位置差が、実質的に、前記第一のデータ値に関連する前記既知の面法線の方向に判断されることを特徴とする、請求項1~14のいずれかに記載の方法。図1を参照すると、パラレル座標位置測定装置が示されている。この装置は、複数の支柱6によって上側、すなわちベース支持台4に固定された台座2を備える。支柱6は、ベース支持台4が台座2に対して固定された位置に確実に保持されるように、十分な剛性を有する。ベース支持台4はまた、拘束付パラレル位置測定機構10によって可動支持台8に取り付けられる。明瞭さを期し、図1ではパラレル位置測定機構10の詳細部を割愛し、この機構の詳細は図2に示す。ベース支持台4、可動支持台8およびパラレル位置測定機構10はそれゆえ、拘束付パラレル位置測定機を形成して、3つの軸X、Y、Zに沿った可動支持台8の並進運動を制御する。可動支持台8は、偏向可能なスタイラス20を有する測定プローブ18を担持する。測定プローブ18により測定される部品24もまた、装置の台座2の上に載置された状態で示されている。コンピュータコントローラ22が、装置の動作を制御するため、特に可動支持台8の運動を制御するため、および測定プローブ18からの測定データを受け取るために設けられている。測定プローブ18は、イギリスGloucestershire、Wotton-under-EdgeのRenishaw社が販売するSP25であってもよい。SP25測定プローブはいわゆる走査プローブまたはアナログプローブであり、スタイラス先端の偏向の測定値をその局所座標系において出力する。プローブ18は移動されすなわち、可動支持台8の運動による、それによってスタイラス先端が部品24の表面上の経路をたどる。コントローラ22は、測定プロープからスタイラス先端の偏向データと、パラレル座標位置測定装置からの、測定プローブの位置に関するデータを受け取る。これらを合成して、部品の表面上の複数の点の位置を機械座標系の中ですなわち、機械の一定点または原点に関して把握することができる。この例はアナログ測定プローブを示しているが。スタイラスが偏向するたびに、トリガ信号を出力する、いわゆるタッチトリガプローブを使用して測定することも可能であろう。このようなタッチトリガプローブを使用した場合、スタイラスは部品の表面上の複数の異なる点と接触するように駆動されることになる。すると、トリガ信号が発行された時の測定プロープの位置に関するデータを使って、表面接触点の位置を確定することができる。また、留意すべき点として、測定プローブ18は接触プローブであるが、その代わりに非接触光、誘導型、容量型等の測定プローブを使用することも可能であろう。図2を参照して、図1の装置に使用される拘束付パラレル位置測定機構を、今度はより詳細に説明するが、図2の拘束付パラレル位置測定機構の図は、図1の図と比較して逆転しているすなわち、逆さになっている。拘束付パラレル位置測定機構は、複数の支柱により窩洞支持台またはステージ8に取り付けられたベース支持台4を有する。特に、ベース支持台4と可動支持台8は、3つの動力付き伸縮可能支柱40によって連結され、その端は車軸式継手によってそれぞれの支持台に接続されている。各動力付き伸縮可能支柱40は、その長さを伸縮させるモータ42と、その長さを測定する位置エンコーダモータ筐体内に収容されているため、図2では見えないを有する。3つの回転防止装置44もまた、ベース支持台4と可動支持台8の間の回転3自由度を拘束するために設けられており、留意すべき点として、回転防止装置は受動的であり、モータまたはその他のタイプのアクチュエータを備えていない。それゆえ、機械の動力付き伸縮可能支柱40が伸長する際、ベース支持台4と可動支持台8の間には並進回転しない運動のみが起こる。換言すれば、可動支持台8は、固定されているベース支持台に対して空間内で並進運動でき、このような並進運動はX、YおよびZ軸に沿った運動として説明してもよい。図1に示すコントローラ22はそれゆえ、各種のモータを作動させて、動力付き伸縮支柱40を伸縮させることによって測定プローブ18を移動させ、また、位置エンコーダからは支柱の伸展に関するフィードバックを受け取り、そこから可動支持台、したがって測定プローブの位置を判断できる。図3を参照すると、シリアル座標測定機102が示されている。以下に詳しく説明するように、CMM102は基準測定機として使用してもよい。CMM102は、その上に物体上述の部品24等の部品等を載置することのできるベースまたはテーブル104と、ベース104に対してx方向とy方向に沿って移動可能なガントリ106を有する。ガントリ106は、ガントリ106に対してz方向に移動可能なクイル108を有する。CMM102の各軸に位置エンコーダが設けられ、x、y、z方向のクイルの位置を測定する。CMMの運動の3つのx、y、zの軸は、シリアル方式で構築されていることがわかる。クイル108は、間欠送り式プローブヘッド110、たとえばRenishawPH10動力付きプローブヘッドを担持する。間欠送り式プローブヘッド110は、クイル108に取り付けられたベース取付部と、偏向可能なスタイラス114を有する走査プローブ112を担持するブローブ取付部を有する。走査プローブ112は、RenishawSP25であってもよく、内部トランスデューサを有して、スタイラス114のいわゆるニュートラル、すなわち静止位置からの偏向をすべて測定する。スタイラス114の偏向はそれゆえ、走査プローブ112により、その局所プローブ座標a、b、c系の中で測定される。複雑な物体の走査能力を高めるために、間欠送り式プローブヘッド110によって、走査プローブ112は直交軸A1とA2の周囲でクイルに対して回転し、複数の間欠送り位置のいずれにおいてもロックできる。RenishawPH10プローブヘッドの場合、プローブは720箇所のいずれの位置にも間欠移動させることができる。コントローラ116は、CMMの動作を制御する。図4を参照すると、測定対象の単純な部品140が示されている。部品140は、円筒形の穴142と1対の基準面144a、144bを有する。部品140の円筒形の穴142はそれゆえ、特定の穴の深さにおいて、呼び半径を有する。基準面144aと144bは、穴142を測定する際の参照用または基準の位置となる。図5a~5cを参照すると、図4に関して説明した部品140を測定するためのデータ収集解析工程の第一段階が示されている。図5aは、第一の測定ステップの結果を示しており、このステップでは、部品140が図3に関して説明したタイプのシリアル座標位置測定装置の上に載置されている。シリアル座標位置測定装置は、公知の方法を用いて正確に校正してもよく、また管理されたクリーンで、温度が安定している等の環境に設置してもよい。シリアルCMMは、円筒形の穴142の内面上の複数のデータまたは測定点152を収集するために使用される。図5aには、表面の呼び形状もまた、破線150で示されている。各測定点152に関連する位置の不確かさもまた、図5aにおいてエラーバーで示されている。留意すべき点として、収集された測定点152の各々は一般に、パラレルCMMのx、y、z座標系で表される位置を有する。理解しやすいように、図5aでは二次元のみを示しているすなわち、図の測定点は1つの平面内にある。留意すべき点として、明瞭さを期し、図5aには穴の部分のみが示されており、基準面上で得られた測定点は省略されている。次に、図5bを参照すると、測定データ点152について、フィルタリングまたはスムージングステップが行われる。たとえば、再帰型フィルタを測定点152に適用し、フィルタリング後の曲線156の上にあるフィルタリング後のデータ点162が図5bに示されている。フィルタリング後のデータ点162は、円筒形の穴の周縁の任意の位置に配置され、点162の密度と分布は座標位置測定装置の構成に依存する。注意すべき点として、図5aに示されるデータに適用されるフィルタリングは比較的弱く、実際には、より強力な効果のフィルタリングが実行される可能性が高い。図5cを参照すると、フィルタリング後のデータ点162に補間を行い、穴の内面上の、基準面144aと144bに関する所定の角度位置での補間後のデータ点176を生成する方法が示されている。たとえば、ゼロ角度位置172は、基準面144aの面法線の穴の中心軸174との交差点によって定義してもよい。次に、ゼロ位置172に関する特定の所定の角度位置171において、補間後の測定点176を計算してもよい。工程の第二段階では、部品140をシリアル座標位置測定装置から取り外し、図1と図2に関して説明したパラレル座標位置測定装置の上に載置する。パラレル座標位置測定装置は、まったく校正していなくても、または比較的低い精度測定の目的として容認される精度より低いレベル等の校正を行っていてもよい。次に、上記の工程を、シリアル座標位置測定装置に代わってパラレル座標位置測定装置を用いて繰り返す。特に、パラレル座標位置測定装置を使って、穴の内面と基準面の測定データを収集する。次にこのデータに対し、前述の方法によるフィルタリングを行う。次に補間ステップを実行し、その中で、シリアル座標位置測定装置での補間工程で用いたものと同じ角度方向すなわち、基準面に対して定義で表面測定点を得る。両方のデータセットすなわち、シリアルCPAと平行CPAについての補間工程を説明したが、留意すべき点として、一方のデータセットについてのみ補間を行い、これをもう一方のセットと整合させることも可能である。また、念頭に置くべき点として、上で詳しく説明したように、このような補間工程の代替方法もまた採用可能である。図6を参照すると、工程の第三段階が示されており、この段階では、シリアル座標位置測定装置を用いて収集したデータを、パラレル座標位置測定装置を用いて収集したものと比較する。特に、図6には、シリアル座標位置測定装置を用いた場合の補間後のデータ点176と、それに関連するフィルタリング後のデータのフィットライン156が示されている。これに加えて、図6には、パラレル座標位置測定装置を用いた場合の補間後のデータ点182と、これに関連するフィルタリング後のデータフィットライン184が示されている。所定の角度位置171もまた示されている。図6はそれゆえ、シリアルおよびパラレル座標位置測定装置を使って測定した時の穴の表面上の点の位置を表す補間後のデータ点の対応ペアを示している。特に、それぞれシリアルおよびパラレル座標位置測定装置を使って測定された、穴の内面上の同じ角度位置に関する点176と182のペアが示されている。すると、点182と176のペアの間の差、すなわちエラー値Δ1-Δ3を確定することができる。このようなエラー値Δはそれゆえ、複数の角度位置に関する穴の表面の局所面法線に沿った位置差を表す。エラー値はそれゆえ、補間後の点176と182の対応する各ペアについて導き出され、このエラー値が関係する角度情報とともにエラーマップとして保存される。前述のように、シリアル座標位置測定装置は十分に校正され、真実の、または基準となる位置測定値を提供するための良好な近似値と考えることができる。エラーマップのエラー値はそれゆえ、パラレル座標位置測定装置を使って部品140を測定する時に存在する位置の不確かさを示す。同じパラレル座標位置測定装置を使って、部品140と名目上同一の別の部品を測定する場合、収集した測定データに対して上記のフィルタリングと補間工程を実施し、エラーマップのエラー値のそれらに対応する位置における測定データ点を得ることができる。エラーマップに含まれるエラー値はそれゆえ、補間後のデータ点の各々に適用でき、それによって、かかるデータ点に対し、パラレル座標位置測定装置の不確かさを考慮した補正を行うことができる。換言すれば、各エラー値を使い、補間後のデータ点を面法線に沿って移動させ、その結果、測定値の中の、パラレル座標位置測定装置の不確かさから生じるエラーを除去または削減することができる。上記の例では、部品140の幾何学形状を使用して、エラー値を局所の面法線に沿って定義することができる。換言すれば、部品の幾何学形状に関する知識により、異なる装置で取得された測定値の間が関連付けられ、また、エラーマップに含まれるエラー値の生成と使用において使われる面法線情報が得られる。たとえば、穴の測定時に、面法線情報をフィッティングから得ることができる穴の中心軸を穴の内面上で測定された点から発見でき、それによって、必要な面法線情報が供給される、等。しかしながら、この方法の変化型はまた、標準的な幾何学的特性を持ない、いわゆる自由曲面にも適用できる。図7を参照すると、自由曲面202を有する部品200が示されている。ここで、図8~図12を参照しながら、このような表面202の測定方法を説明する。図8a~図8cを参照すると、工程の第一段階が示されており、その中で、部品200の表面202がシリアル基準座標位置測定装置を使って測定される。図8aに示されるように、初期測定ステップは、シリアル座標位置測定装置を使って部品200の表面202の上の複数の点212の位置を測定するステップを含む。各測定点212に関わる不確かさは、エラーバーによって示されている。表面202の呼び形状210もまた示されている。図8bを参照すると、次にフィルタリングステップが実行される。このフィルタリングステップでは、再帰型フィルタを使って測定点212のスムージングを行い、フィルタリング後の表面または曲面216上にある一連のフィルタリング後のデータ点218を生成する。再帰型フィルの代わりに、その他の適当なフィルタリング手法を利用することもできるスムージングフィルタ、移動平均フィルタ等。図8cを参照すると、フィルタリング後の各点218に関連する面法線ベクトル220が確定されている。面法線ベクトル220は、フィルタリング工程の前、実行中、または後のいずれに発見してもよい。たとえば、面法線ベクトルは、当初の検査計画からわかるかもしれない。好ましくは、面法線ベクトルはフィルタリグ工程中に発見する。面法線データは、その他にもさまざまな方法で計算できる。面法線ベクトルはたとえば、2つの隣接するフィルタリング後の点を結ぶ線の法線から確定してもよい。あるいは、図8cの挿入図の中に示されているように、線222は、標的とするフィルタリング後の点218’の両側の2つのフィルタリング後の点218を使って定義してもよい。次に、標的とするフィルタリング後の点218’に関する面法線ベクトル220’は、線222に垂直で、標的とするフィルタリング後の点218’と交差するベクトルと定義してもよい。フィルタリング後の点218の位置と、関連する面法線ベクト220を表す情報が保存される。図9aと図9bを参照すると、工程の第二段階が示されており、その中では、物体200の表面202がパラレル座標位置測定装置を使って測定されている。この例において、パラレル座標位置測定装置がエラー修正対象の装置であり、それゆえ、取得した測定値についての不確かさが比較的大きい。しかしながら、留意すべき点として、不確かさはランダムではなく、取得された測定値は反復性が高い。図9aは、パラレル座標位置測定装置を用いて得た測定値を示す。特に、図9aは、部品200の表面202の上の複数の点232の測定位置を示す。部品の呼び表面形状210もまた示されている。このような測定点232に関連する不確かさは、関連するエラーバーで示されている。図8aと比較するとわかるように、パラレル座標位置測定装置を用いて得たデータ点232は、シリアル座標位置測定装置を用いて測定された点とは異なる位置および異なる密度で得られる。図9bは、フィルタリング工程によって測定点232から導き出された一連のフィルタリング後の点238を示す。パラレルおよびシリアル座標位置測定機による測定値に適用されるフィルタリング工程は、同じでも、異なっていてもよい。一連のフィルタリング後のデータ点238は、フィルタリングされた表面または曲線236の上にある。図10を参照すると、シリアルおよびパラレル座標位置測定装置の両方を使用して得た表面202の測定結果を示す。特に、シリアル座標位置測定装置を使って測定したフィルタリング後の測定点218と面法線ベクトル220が、パラレル座標位置測定装置を使って取得したフィルタリング後の測定点238と一緒に示されている。適当なフィッティング工程最小平方和等を実行して、それぞれの座標位置測定装置からのデータを図のような方法で整合させてもよい。次に、補間工程をフィルタリング後の測定点238について実行し、フィルタリング後の測定点218に関連する面法線ベクトル220の上にある補間後の測定点240を得る。補間工程は、たとえば線形補間、多項式立方体等補間または移動補間であってもよい。補間に使用される点の数によって、補間された測定点の精度が決まる。図10の挿入図により詳細に示されているように、面法線ベクトル220に沿ったエラー修正値Δを使い、シリアルおよびパラレル座標位置測定装置を用いて得た測定値の位置差が表される。各種のエラー修正値Δとそれに関連する面法線ベクトルが、エラーマップとして保存される。図11を参照し、上記のエラーマップの使用を今度は、パラレル座標位置測定装置を使って表面202と名目上同一の別の物体の表面を測定する場合に関して説明する。まず、パラレル方式の運動学的座標位置測定装置は、物体の表面上の複数の点を測定するように構成される。次に、これらの測定点にフィルタリングを行い、フィルタリング後の曲線252の上にある一連のフィルタリング後のデータ点250を得る。次に、補間工程上記のタイプ等を実行して、曲線252の上にあり、図10に関して説明した、すでに作成されたエラーマップの面法線ベクトル220と交差する、補間後の測定点254を得た。エラーマップのエラー修正値を補間後の点254に適用し、修正後の測定点256を得る。換言すれば、補間後の測定点264の各々の位置を面法線ベクトル220に沿って、それに関連するエラー値Δだけ移動させる。その結果、パラレル座標位置測定装置に関連する、位置の不確かさが軽減し、測定精度はシリアル座標位置測定装置のそれに近いものとなる。上記の例は、パラレル座標位置測定装置により得た測定値を、真実の測定値を提供すると想定される事前校正されたシリアル座標位置測定装置による測定値と比較する、エラーマップ生成工程を説明している。しかしながら、重要な点として、この方法は、特定の表面を表す、どのような2つのデータセットの間のエラーマップを生成するためにも利用できる。たとえば、エラーマップは、どのような2つの異なる座標位置測定装置を使用して取得したデータセットについても、または同じ座標位置測定装置の異なる構成についても作成できる。さらに、表面を表すデータセットの一方を、直接測定するのではなく、設計データから生成してもよい。面法線の情報はまた、上述したものとは異なる方法で定義してもよい。たとえば、図7~図11に関して上で説明した方法は、シリアル座標位置測定装置を使用して得た測定値から導き出した面法線ベクトル220を使用している。面法線データは、その代わりに、パラレル座標位置測定装置を使用して得たフィルタリング後の測定値を用いて定義してもよい。別の代替案では、面法線データを、図4~図6に関して説明した既知の幾何学的な穴に適用した工程と同様に、設計データから導き出した呼び表面形状の情報を使って定義することができる。このような例において、シリアルおよびパラレル座標位置測定装置の両方のデータを補間して、設計データの呼び面法線ベクトル上に乗せるようにすることができる。留意すべき点として、複数のエラーマップを作成して、測定値を修正してもよい。ここで、このような工程を詳しく説明する。図12を参照すると、2つのエラーマッピング工程が示されている。特に、図12は、コンピュータ設計パッケージを使用して作った複数のデータ点から形成した、ある物体に関する設計表面形状300と、関連する設計に従って製作された部品について、シリアル基準座標位置測定装置を使って測定した基準面形状302と、パラレル座標位置測定装置を使って測定した、同じ部品の表面プロ形状304を示している。表面形300、302、304には複数のデータ点が含まれ、このようなデータ点の例だけが図12の挿入図に示されている。図7~図11に関して上述した修正方法はそれゆえ、面法線ベクトルと面法線に沿った修正値を含む第一のエラーマップの作成に利用でき、この修正値は、シリアルおよびパラレル座標位置測定装置を使って測定した点の間、たとえば点308と点310の間の位置差を示す。第二のエラーマップも同様にして、基準面形状302と設計表面形状300の上の点の間、たとえば点306と点308の間の位置差をマッピングするために作成してもよい。第一のエラーマップはそれゆえ、シリアルおよびパラレル座標位置測定機を使って得られた測定値の間の差を修正し、第二のエラーマップは、設計データとシリアル座標位置測定機を使って得た測定値の差を修正する。このように、後にパラレル座標位置測定装置を使って取得した物体の測定値を、第一のエラーマップを用いて基準座標位置測定装置に戻し、次に、第二のエラーマップを用いて設計データに戻すようにマッピングできる。パラレル座標測定装置を用いて得た測定値はそれゆえ、設計データへと逆にマッピングできる。各種の図面に関して上で説明した方法は、第一の部品について生成したエラーマップを、たとえば、他のたとえば名目上同一の部品の測定値を修正するために使用できる。しかしながら、エラーマップは、部品を形成する、または若干改変する、後の加工を修正するために使用してもよい。たとえば、エラーマップに含まれる各種のエラー値は、ブランクから製造しようとする部品に関する点対点の修正を行うために使用してもよい。これを実現するためには、たとえば、エラーマップを使用してCADデータを変更し、新しい機械加工指令工作機械用コマンドコード等を作ることができるようにすればよい。そのため、このような新しい指令により、機械加工の工程に、各種のエラー修正を組み込むことができるかもしれない。同様に、エラーマップは、ある部品に追加の材料を加える必要がある場所を特定するために使用してもよい。たとえば、エラーマップは、タービンブレードの改修工程中に、追加の材料をタービンブレードのどこに加える必要があるかを画定するために使用してもよい。再び念頭に置くべきこととして、上で説明した方法は、本発明の二次元の例に過ぎず、この技術は実際には三次元形状にも適用される可能性が高い。さらに、各種の図面において、位置に関するさまざまな不確かさを誇張して描いており、その一方で、収集した点の密度は、一般的に収集される場合よりずっと低い。上記の例はそれゆえ、説明用の例にすぎず、一切、本発明の範囲を限定するものとみなすべきではない。