"金属銅及び銅塩の存在下、式1式1中、Aは置換基但し、当該置換基は、下記のE1、E2、X1又はX2のいずれか一つ以上のものを含まないを有していてもよい芳香環を表し、E1及びE2はそれぞれ独立に電子求引性基但し、当該電子求引性基は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を除くを表す。X1及びX2はそれぞれ独立に塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。nは0~p3の整数を表す。但し、pはAの芳香環を構成する原子の数を表す。で示される化合物を重合する工程を含むことを特徴とする式2式2中、A、E1、E2及びnは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位を含むポリアリーレンの製造方法。銅塩が、10.0以下の酸解離定数pKaを示すブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基と銅カチオンとからなる塩であることを特徴とする請求項1記載の製造方法。ブレンステッド酸が、ハロゲン化水素、硫酸、チオシアン酸、リン酸、炭酸、硝酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、アセチルアセトン、フェノール、ペンタフルオロフェノールおよびチオフェノールからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項2記載の製造方法。銅塩が、ハロゲン化銅、硫酸銅、銅チオシアネート、リン酸銅、炭酸銅、硝酸銅、メタンスルホン酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅I-ベンゼン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅I-トルエン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅II、ベンゼンスルホン酸銅、酢酸銅、トリフルオロ酢酸銅、ペンタフルオロプロピオン酸銅、銅IIアセチルアセトナート、銅フェノレート、銅ペンタフルオロフェノレートおよび銅チオフェノレートからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記載の製造方法。銅塩の使用量が、前記式1で示される化合物1モルに対し、0.0001~1モルの範囲であることを特徴とする請求項1記載の製造方法。前記工程が、分子内に少なくとも2つの三級窒素原子を含むアミン化合物の存在下で重合する工程であることを特徴とする請求項1~5のいずれか記載の製造方法。アミン化合物が、2,2’ビピリジル、1,10-フェナントロリン、1,4,7-トリメチル-1,4,7-トリアザシクロノナン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン及びN,N,N’,N’-テトラエチルエチレンジアミンからなる群から選ばれる少なくとも1つのアミン化合物であることを特徴とする請求項6記載の製造方法。アミン化合物の使用量が、銅塩1モルに対して0.1~100モルの範囲であることを特徴とする請求項6又は7記載の製造方法。前記式1におけるX1及びX2が塩素原子であることを特徴とする請求項1~8のいずれか記載の製造方法。前記式1で示される化合物が、式3式3中、E1及びE2は、それぞれ独立に、電子求引性基但し、当該電子求引性基は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を除くを表す。nは0~2の整数を表す。で示される化合物であり、前記式2で示される構造単位が、式4式4中、E1、E2及びnは、前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であることを特徴とする請求項1~9のいずれか記載の製造方法。E1が、式5式5中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、又は、式6式6中、Y1、Y2、Y3及びY4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。で示されるアンモニウムイオンで示される基であることを特徴とする請求項1~10のいずれか記載の製造方法。前記式3で示される化合物が、式10式10中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、又は式6式6中、Y1、Y2、Y3及びY4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。で示されるアンモニウムイオンを表す。で示される化合物であり、前記式4で示される構造単位が、式10’式10’中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であることを特徴とする請求項10又は11記載の製造方法。前記式3で示される化合物が、式11式11中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、又は式6式6中、Y1、Y2、Y3及びY4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。で示されるアンモニウムイオンを表す。で示される化合物であり、前記式4で示される構造単位が、式11’式11’中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であることを特徴とする請求項10又は11記載の製造方法。前記式3で示される化合物が、式13式13中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、又は式6式6中、Y1、Y2、Y3及びY4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。で示されるアンモニウムイオンを表す。で示される化合物であり、前記式4で示される構造単位が、式13’式13’中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であることを特徴とする請求項10又は11記載の製造方法。Yがアルカリ金属イオンであることを特徴とする請求項11~14のいずれか記載の製造方法。前記工程が、非プロトン性極性溶媒の存在下、重合する工程であることを特徴とする請求項1~15のいずれか記載の製造方法。本発明の目的は、電子求引性基を有するアリール基を構造単位として含むポリアリーレンの新規な製造方法を提供することである。このような状況下、本発明者は、鋭意検討した結果、以下の本発明に至った。<1>金属銅及び銅塩の存在下、式1式1中、Aは置換基但し、当該置換基は、下記のE1、E2、X1又はX2のいずれか一つ以上のものを含まないを有していてもよい芳香環を表し、E1及びE2はそれぞれ独立に電子求引性基但し、当該電子求引性基は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を除くを表す。X1及びX2はそれぞれ独立に塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。nは0~p3の整数を表す。但し、pはAの芳香環を構成する原子の数を表す。で示される化合物を重合する工程を含むことを特徴とする式2式2中、A、E1、E2及びnは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位を含むポリアリーレンの製造方法。<2>銅塩が、10.0以下の酸解離定数pKaを示すブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基と銅カチオンとからなる塩であることを特徴とする<1>記載の製造方法。<3>ブレンステッド酸が、ハロゲン化水素、硫酸、チオシアン酸、リン酸、炭酸、硝酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、アセチルアセトン、フェノール、ペンタフルオロフェノールおよびチオフェノールからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする<2>記載の製造方法。<4>銅塩が、ハロゲン化銅、硫酸銅、銅チオシアネート、リン酸銅、炭酸銅、硝酸銅、メタンスルホン酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅I-ベンゼン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅I-トルエン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅II、ベンゼンスルホン酸銅、酢酸銅、トリフルオロ酢酸銅、ペンタフルオロプロピオン酸銅、銅IIアセチルアセトナート、銅フェノレート、銅ペンタフルオロフェノレートおよび銅チオフェノレートからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする<1>記載の製造方法。<5>銅塩の使用量が、前記式1で示される化合物1モルに対し、0.0001~1モルの範囲であることを特徴とする<1>記載の製造方法。<6>前記工程が、分子内に少なくとも2つの三級窒素原子を含むアミン化合物の存在下で重合する工程であることを特徴とする<1>~<5>のいずれか記載の製造方法。<7>アミン化合物が、2,2’ビピリジル、1,10-フェナントロリン、1,4,7-トリメチル-1,4,7-トリアザシクロノナン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン及びN,N,N’,N’-テトラエチルエチレンジアミンからなる群から選ばれる少なくとも1つのアミン化合物であることを特徴とする<6>記載の製造方法。<8>アミン化合物の使用量が、銅塩1モルに対して0.1~100モルの範囲であることを特徴とする<6>又は<7>記載の製造方法。<9>前記式1におけるX1及びX2が塩素原子であることを特徴とする<1>~<8>のいずれか記載の製造方法。<10>前記式1で示される化合物が、式3式3中、E1及びE2は、それぞれ独立に、電子求引性基但し、当該電子求引性基は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を除くを表す。nは0~2の整数を表す。で示される化合物であり、前記式2で示される構造単位が、式4式4中、E1、E2及びnは、前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であることを特徴とする<1>~<9>のいずれか記載の製造方法。<11>E1が、式5式5中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、又は、式6式6中、Y1、Y2、Y3及びY4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。で示されるアンモニウムイオンで示される基であることを特徴とする<1>~<10>のいずれか記載の製造方法。<12>前記式3で示される化合物が、式10式10中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、又は式6式6中、Y1、Y2、Y3及びY4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。で示されるアンモニウムイオンを表す。で示される化合物であり、前記式4で示される構造単位が、式10’式10’中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であることを特徴とする<10>又は<11>記載の製造方法。<13>前記式3で示される化合物が、式11式11中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、又は式6式6中、Y1、Y2、Y3及びY4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。で示されるアンモニウムイオンを表す。で示される化合物であり、前記式4で示される構造単位が、式11’式11’中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であることを特徴とする<10>又は<11>記載の製造方法。<14>前記式3で示される化合物が、式13式13中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、又は式6式6中、Y1、Y2、Y3及びY4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。で示されるアンモニウムイオンを表す。で示される化合物であり、前記式4で示される構造単位が、式13’式13’中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であることを特徴とする<10>又は<11>記載の製造方法。<15>Yがアルカリ金属イオンであることを特徴とする<11>~<14>のいずれか記載の製造方法。<16>前記工程が、非プロトン性極性溶媒の存在下、重合する工程であることを特徴とする<1>~<15>のいずれか記載の製造方法。本発明によれば、電子求引性基を有するアリール基を構造単位として含むポリアリーレンの新規な製造方法が提供可能である。以下、本発明の製造方法を詳細に説明する。本発明は、金属銅及び銅塩の存在下、式1式1中、Aは置換基但し、当該置換基は、下記のE1、E2、X1又はX2のいずれか一つ以上のものを含まないを有していてもよい芳香環を表し、E1及びE2はそれぞれ独立に電子求引性基但し、当該電子求引性基は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を除くを表す。X1及びX2はそれぞれ独立に塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。nは0~p3の整数を表す。但し、pはAの芳香環を構成する原子の数を表す。で示される化合物以下、化合物1と記すことがあるを重合する工程以下、本工程と記すことがあるを含むことを特徴とする式2式2中、A、E1、E2及びnは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位を含むポリアリーレン以下、ポリアリーレン2と記すことがあるの製造方法である。まず、本工程に用いられる金属銅及び銅塩について説明する。金属銅の使用量は、用いる化合物1の物質量1モルに対して1~40モルであり、好ましくは2~10モルである。金属銅の使用量が1モル以上であると、得られる化合物2の分子量が向上する傾向があることから好ましく、また、金属銅の使用量が40モル以下であると、化合物2を反応系中から取り出すための後処理において、操作が簡便になる傾向があることから好ましい。金属銅の形状としては、例えば、粉体状、ワイヤ状、箔状、削り状又は粒子状等が挙げられ、当該金属銅の操作性の点からは、粉体状であることが好ましい。このような金属銅は、市場から容易に入手可能である。かかる市販の金属銅は、その表面の一部が、環境中の酸素により酸化され酸化銅になっていることもある。このようにごく微量の酸化銅を含む金属銅はそのまま重合反応に供することもできるし、かかるごく微量の酸化銅を除去してから本工程に供することもできる。銅塩は、銅カチオンとアニオンとからなる。1価の銅カチオンとアニオンとからなる銅塩でもよいし、2価の銅カチオンとアニオンとからなる銅塩でもよい。アニオンとしては、10.0以下の酸解離定数pKaを示すブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基が好ましい。酸解離定数pKaは、25°C、水中における数値であり、化学便覧基礎編改訂5版II-331~II-343日本化学会編、丸善株式会社発行に記載される方法によって算出することができる。ここで、炭酸、硫酸、硝酸等の多価塩基酸の場合、最初の水素イオンを取り去る際の酸解離定数pKaが10.0以下であることが好ましい。アニオンとして、酸解離定数pKaが6.0未満であるブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基がより好ましく、3.0未満であるブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基が特に好ましい。また、アニオンとして、酸解離定数pKaが-10.0以上であるブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基が好ましい。好ましいアニオンをブレンステッド酸として具体的に例示すると、ハロゲン化水素pKa:-4.0~2.7、硫酸pKa:2.0以下、チオシアン酸pKa:-0.9、リン酸pKa:1.8、炭酸pKa:6.1、硝酸pKa:-1.8、メタンスルホン酸pKa:-1.2、トリフルオロメタンスルホン酸pKa:-2.5、ベンゼンスルホン酸pKa:-2.5、酢酸pKa:4.7、トリフルオロ酢酸pKa:0.2、ペンタフルオロプロピオン酸pKa:8.8、アセチルアセトンpKa:8.8、フェノールpKa:9.9、ペンタフルオロフェノールpKa:6.4、チオフェノールpKa:6.4等を挙げることができる。前記ブレンステッド塩基が有機塩基である場合、メチル基、エチル基等の置換基を有していてもよい。銅塩としては、例えば、ハロゲン化銅、硫酸銅、銅チオシアネート、リン酸銅、炭酸銅、硝酸銅、メタンスルホン酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅I-ベンゼン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅I-トルエン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅II、ベンゼンスルホン酸銅、酢酸銅、トリフルオロ酢酸銅、ペンタフルオロプロピオン酸銅、銅IIアセチルアセトナート、銅フェノレート、銅ペンタフルオロフェノレート、銅チオフェノレート等を挙げることができる。ここで、ハロゲン化銅としては、例えば、フッ化銅、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅が挙げられる。これら銅塩から選ばれる2種以上を混合してもよい。かかる銅塩は水和物であってもよいが、無水物が好ましい。銅塩は、市販されているものをそのまま使用してもよいし、1価又は2価の銅化合物と、酸とを混合することにより調製したものを使用してもよい。1価又は2価の銅化合物としては、通常、酸化銅、水酸化銅等が好ましく使用され、酸としては前記のブレンステッド酸が使用される。好ましい銅塩としては、例えば、ハロゲン化銅、硫酸銅、銅チオシアネート、硝酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅I-ベンゼン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅I-トルエン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅II、銅IIアセチルアセトナート、銅チオフェノレート等を挙げることができる。より好ましくは、例えば、ハロゲン化銅、硫酸銅、硝酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅I-ベンゼン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅II、銅IIアセチルアセトナート等が挙げられる。銅塩の使用量は、用いる化合物1の物質量1モルに対して0.0001~1モルであり、好ましくは、0.001~0.5モルである。目的とするポリアリーレンの収率および本工程終了後の銅塩の除去の操作性の点で0.001~0.3が好ましく、0.01~0.1モルであることが特に好ましい。本工程は、分子内に少なくとも2つの三級窒素原子を含むアミン化合物以下、アミン化合物と記すことがある存在下に行うことが好ましい。アミン化合物に含まれる三級窒素原子とは、3つの炭素原子と結合している窒素原子からなる置換基を意味し、アミン化合物に含まれる三級アミン基を構成する窒素原子が、3つの炭素原子と結合している窒素原子であることを意味する。該炭素原子を含む化合物は、芳香族性を有していてもよい。アミン化合物に含まれる2つの三級窒素原子は、炭素原子2個を介して結合していることが好ましい。アミン化合物としては、例えば、2,2’ビピリジル、1,10-フェナントロリン、1,4,7-トリメチル-1,4,7-トリアザシクロノナン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン及びN,N,N’,N’-テトラエチルエチレンジアミン等を挙げることができる。アミン化合物の使用量としては、用いる銅塩1モルに対して0.1~100モルを挙げることができる。好ましくは、例えば、1~50モルが挙げられる。特に好ましくは、例えば、3~30モルを挙げることができる。アミン化合物の使用量が銅塩1モルに対して0.1モル以上であると得られるポリアリーレンの分子量が向上する傾向があり、また、100モル以下であると、重合速度が向上する傾向があることから好ましい。本工程は、溶媒の存在下に行うことが好ましい。当該溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド及びヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒;ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等の炭酸系溶媒;等が挙げられる。かかる溶媒は、単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。なかでも、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルスルホキシド、トルエン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸エチルがより好ましい。溶媒の使用量としては、用いる化合物11重量部に対して、例えば、0.5~20重量部の範囲を挙げることができる。好ましくは、例えば、1~10重量部の範囲が挙げられる。本工程は、窒素ガス又はアルゴンガス等の不活性ガスの雰囲気下に行うことが好ましい。本工程の反応温度は、通常、0~300°Cの範囲であるが、用いられる化合物1の種類及びその量、金属銅及び銅塩の使用量等により適宜調節することができる。好ましくは、50~250°Cの範囲である。より好ましくは、100~200°Cの範囲である。、特に好ましくは、140~180°Cの範囲である。反応温度が0°C以上であると、ポリアリーレン2の重合速度が向上し反応時間が短縮される傾向があることから好ましく、反応温度が300°C以下であるとポリアリーレン2の分子量が高くなる傾向があることから好ましい。反応時間は、1~48時間の範囲であるが、用いられる化合物1の種類及びその量、金属銅及び銅塩の使用量等により適宜調節することができる。また、反応時間を、反応系中の反応混合物を所定時間おきにサンプリングし、サンプリングした反応溶液を、例えば、液体クロマトグラフィー分析、ガスクロマトグラフィー分析、ゲル浸透クロマトグラフィー分析等の分析手段により、化合物1の消失の度合い、又はポリアリーレン2の分子量の増加度合いに基づき、調節することもできる。式1中、Aは置換基但し、当該置換基は、下記のE1、E2、X1又はX2のいずれか一つ以上のものを含まないを有していてもよい芳香環を表し、E1及びE2はそれぞれ独立に電子求引性基但し、当該電子求引性基は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を除くを表す。X1及びX2はそれぞれ独立に塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。nは0~p3の整数を表す。但し、pはAの芳香環を構成する原子の数を表す。例えば、ベンゼン環を構成する原子の数は6であることから、p=6であり、ナフタレン環を構成する原子の数は10であることから、p=10である。また、ピリジン環は炭素原子5個及び窒素原子1個から構成されていることから、p=6であり、チオフェン環は炭素原子4及び硫黄原子1から構成されていることから、p=5である。本工程において、化合物1は、単独で用いてもよいし、異なる2種以上を混合して用いてもよい。ここで、置換基但し、当該置換基は、下記のE1、E2、X1又はX2のいずれか一つ以上のものを含まないを有していてもよい芳香環とは、置換基但し、当該置換基は、下記のE1、E2、X1又はX2のいずれか一つ以上のものを含まないを有していてもよい芳香族化合物の芳香環に結合している水素原子を取り去ることにより形成されるE1、E2、X1及びX2の各々との間での結合手を有する骨格を意味する。該芳香環は、E1が結合した炭素原子及びX1が結合した炭素原子を含めて芳香族性を有する。置換基を有しない芳香族化合物としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ピレン、ビフェニル、フルオレン、9、9’-ビフルオレン、フェナントレン、ペリレン、クリセン、ナフタセン、ペンタセン、トリプチセン等の芳香族化合物、例えば、ピリジン、フラン、チオフェン、ベンゾチアジアゾール、ピロール、キノリン、キノキサリン、ピリミジン及びピラジン等の芳香族性を有する複素環化合物、例えば、フェロセン等を挙げることができる。芳香環を構成する原子の数としては、例えば、5~30を挙げることができる。好ましくは、例えば、5~20が挙げられる。置換基但し、当該置換基は、下記のE1、E2、X1又はX2のいずれか一つ以上のものを含まない。即ち、当該置換基は、E1、E2、X1及びX2以外の芳香環Aが結合していてもよい基であればよい。としては、例えば、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1~20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6~20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6~20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7~20のアラルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7~20のアラルキルオキシ基又は下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1~20の炭化水素基を有するアミノ基等を挙げることができる。G群フッ素原子、シアノ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリール基、炭素数6~12のアリールオキシ基前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基の炭素数1~20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2,2-ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n-ヘプチル基、2-メチルペンチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基及びn-イコシル基等の直鎖状、分枝鎖状もしくは環状のアルキル基が挙げられる。前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよいアルキル基とは、ここに例示するアルキル基にある水素原子の一部又は全部が、前記G群より選ばれる基に置き換わった基を意味し、置換基を有する場合、当該置換基にある炭素原子の数も合わせて、その炭素数の合計が1~20の範囲である。これらの中でも、置換基を有さないアルキル基が好ましく、炭素数1~10の範囲のアルキル基がさらに好ましい。前記G群より選ばれる基を有していてもよいアルコキシ基の炭素数1~20のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基、2,2-ジメチルプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n-ヘプチルオキシ基、2-メチルペンチルオキシ基、n-オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、n-ノニルオキシ基、n-デシルオキシ基、n-ウンデシルオキシ基、n-ドデシルオキシ基、n-トリデシルオキシ基、n-テトラデシルオキシ基、n-ペンタデシルオキシ基、n-ヘキサデシルオキシ基、n-ヘプタデシルオキシ基、n-オクタデシルオキシ基、n-ノナデシルオキシ基、n-イコシルオキシ基等の直鎖状、分枝鎖状もしくは環状の炭素数1~20のアルコキシ基が挙げられる。前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよいアルコキシ基とは、ここに例示するアルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、前記G群より選ばれる基に置き換わった基を意味し、置換基を有する場合、当該置換基にある炭素原子の数も合わせて、その炭素数の合計が1~20の範囲である。これらの中でも、置換基を有さないアルコキシ基が好ましく、炭素数1~10の範囲のアルコキシ基がさらに好ましい。前記G群より選ばれる基を有していてもよいアリール基の炭素数6~20のアリール基としては、例えば、フェニル基、2-トリル基、3-トリル基、4-トリル基、2,3-キシリル基、2,4-キシリル基、2,5-キシリル基、2,6-キシリル基、3,4-キシリル基、3,5-キシリル基、2,3,4-トリメチルフェニル基、2,3,5-トリメチルフェニル基、2,3,6-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、3,4,5-トリメチルフェニル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n-プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n-ブチルフェニル基、sec-ブチルフェニル基、tert-ブチルフェニル基、n-ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n-ヘキシルフェニル基、n-オクチルフェニル基、n-デシルフェニル基、n-ドデシルフェニル基、n-テトラデシルフェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基等が挙げられる。前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよいアリール基とは、ここに例示するアリール基にある水素原子の一部又は全部が、前記G群より選ばれる基に置き換わった基を意味し、置換基を有する場合、当該置換基にある炭素原子の数も合わせて、その炭素数の合計が6~20の範囲である。これらの中でも、置換基を有さないアリール基が好ましい。炭素数6~10の範囲のアリール基がより好ましく、フェニル基が特に好ましい。前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよい炭素数6~20のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、n-ブチルフェニルオキシ基、2-ナフチルオキシ基及び2-アントリルオキシ基等の前記に例示したアリール基と酸素原子とから構成されるものが挙げられる。前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7~20のアラルキル基の炭素数7~20のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、2-メチルフェニルメチル基、3-メチルフェニルメチル基、4-メチルフェニルメチル基、2,3-ジメチルフェニルメチル基、2,4-ジメチルフェニルメチル基、2,5-ジメチルフェニルメチル基、2,6-ジメチルフェニルメチル基、3,4-ジメチルフェニルメチル基、4,6-ジメチルフェニルメチル基、2,3,4-トリメチルフェニルメチル基、2,3,5-トリメチルフェニルメチル基、2,3,6-トリメチルフェニルメチル基、3,4,5-トリメチルフェニルメチル基、2,4,6-トリメチルフェニルメチル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニルメチル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニルメチル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニルメチル基、ペンタメチルフェニルメチル基、エチルフェニルメチル基、n-プロピルフェニルメチル基、イソプロピルフェニルメチル基、n-ブチルフェニルメチル基、sec-ブチルフェニルメチル基、tert-ブチルフェニルメチル基、n-ペンチルフェニルメチル基、ネオペンチルフェニルメチル基、n-ヘキシルフェニルメチル基、n-オクチルフェニルメチル基、n-デシルフェニルメチル基、n-デシルフェニルメチル基、ナフチルメチル基及びアントラセニルメチル基等が挙げられる。前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよいアラルキル基とは、ここに例示するアラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、前記G群より選ばれる基に置き換わった基を意味し、置換基を有する場合、当該置換基にある炭素原子の数も合わせて、その炭素数の合計が7~20の範囲である。これらの中でも、置換基を有さないアラルキル基が好ましく、炭素数7~10の範囲のアリール基がさらに好ましく、ベンジル基が特に好ましい。前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7~20のアラルキルオキシ基の炭素数7~20のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、2-メチルフェニルメトキシ基、3-メチルフェニルメトキシ基、4-メチルフェニルメトキシ基、2,3-ジメチルフェニルメトキシ基、2,4-ジメチルフェニルメトキシ基、2,5-ジメチルフェニルメトキシ基、2,6-ジメチルフェニルメトキシ基、3,4-ジメチルフェニルメトキシ基、3,5-ジメチルフェニルメトキシ基、2,3,4-トリメチルフェニルメトキシ基、2,3,5-トリメチルフェニルメトキシ基、2,3,6-トリメチルフェニルメトキシ基、2,4,5-トリメチルフェニルメトキシ基、2,4,6-トリメチルフェニルメトキシ基、3,4,5-トリメチルフェニルメトキシ基、2,3,4,5-テトラメチルフェニルメトキシ基、2,3,4,6-テトラメチルフェニルメトキシ基、2,3,5,6-テトラメチルフェニルメトキシ基、ペンタメチルフェニルメトキシ基、エチルフェニルメトキシ基、n-プロピルフェニルメトキシ基、イソプロピルフェニルメトキシ基、n-ブチルフェニルメトキシ基、sec-ブチルフェニルメトキシ基、tert-ブチルフェニルメトキシ基、n-ヘキシルフェニルメトキシ基、n-オクチルフェニルメトキシ基、n-デシルフェニルメトキシ基、ナフチルメトキシ基及びアントラセニルメトキシ基等の前記に例示したアラルキル基と酸素原子とから構成されるものが挙げられる。前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1~20の炭化水素基で置換されたアミノ基の炭素数1~20の炭化水素基で置換されたアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ-n-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ-n-ブチルアミノ基、ジ-sec-ブチルアミノ基、ジ-tert-ブチルアミノ基、ジ-イソブチルアミノ基、tert-ブチルイソプロピルアミノ基、ジ-n-ヘキシルアミノ基、ジ-n-オクチルアミノ基、ジ-n-デシルアミノ基及びジフェニルアミノ基等が挙げられる。これらの中でも、ジメチルアミノ基及びジエチルアミノ基が好ましい。本発明において、電子求引性基とは、化学便覧基礎編改訂5版II-379~II-380日本化学会編、丸善株式会社発行において定義される置換基定数σp0値が正である基である。電子求引性基としては、置換基定数σp0値が0.3~1の範囲である基が好ましい。0.5~1の範囲である基がより好ましく、0.7~1の範囲である基が特に好ましい。そして、当該電子求引性基は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を除くものであればよい。具体的には、ニトロ基-NO2、ホルミル基-CHO、式5式5中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、式6式6中、Y1、Y2、Y3及びY4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表す。で示されるアンモニウムイオンで示される基、-CO2-Y式中、Yは前記Yと同一の意味を表わす。で示される基、-SO3R式中、Rは、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、イソアミル基、フェニル基、4-メチルフェニル基、ベンジル基等の炭素数1~10の炭化水素基を表す。、-CO2R式中、Rは前記と同じ意味を表す。およびトリフルオロメチル基等が挙げられる。好ましくは、式5で示される基およびニトロ基である。ここで、アルカリ金属イオンとしては、例えば、リチウムイオンLi、ナトリウムイオンNa、カリウムイオンK、セシウムイオンCsを挙げることができる。好ましくは、ナトリウムイオンが挙げられる。式6において、Y1、Y2、Y3及びY4の炭素数1~10の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等の炭素数1~10のアルキル基およびフェニル基等の炭素数6~10のアリール基を挙げることができる。式6で示されるアンモニウムイオンとしては、例えば、アンモニウムイオンNH4、メチルアンモニウムイオンNH3、ジエチルアンモニウムイオンN2H2、トリプロピルアンモニウムイオンN3H、テトラブチルアンモニウムイオンN4、ジイソプロピルジエチルアンモニウムイオンN22、テトラオクチルアンモニウムイオンN4、テトラデシルアンモニウムイオンN4、トリフェニルアンモニウムイオンN3H等を挙げることができる。本発明によれば、化合物1におけるX1及びX2が塩素原子である化合物1を好ましく挙げることができる。X1及びX2が塩素原子である化合物1としては、例えば、式3式3中、E1及びE2は、それぞれ独立に、電子求引性基但し、当該電子求引性基は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を除くを表す。nは0~2の整数を表す。で示される化合物以下、化合物3と記すことがある。を挙げることができる。化合物3としては、例えば、式10式10中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される化合物以下、化合物10と記すことがある、式11式11中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される化合物以下、化合物11と記すことがある、式12式12中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される化合物以下、化合物12と記すことがある、又は、式13式13中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される化合物以下、化合物13と記すことがある等を挙げることができる。化合物3の製造方法について、化合物10を例として説明すると、例えば、1,4-ジクロロ-2-メルカプトベンゼンを、例えば、発煙硫酸、濃硫酸、クロロ硫酸等のスルホン化剤でスルホン化した後、例えば、過マンガン酸カリウム、希硝酸、酸素、過塩素酸ナトリウム、Jones試薬、過酢酸、m-クロロ安息香酸、トリフルオロ過酢酸、過酸化水素等の酸化剤で酸化する方法、例えば、1,4-ジクロロ-2-メルカプトベンゼンを酸化剤で酸化した後、スルホン化剤でスルホン化する方法等を挙げることができる。化合物11の1種である2,5-ジクロロテレフタル酸は、市販品をそのまま使用すればよい。化合物3としては、例えば、2,5-ジクロロ-1,4-ベンゼンジスルホン酸ジリチウム、2,5-ジクロロ-1,4-ベンゼンジスルホン酸ジナトリウム、2,5-ジクロロ-1,4-ベンゼンジスルホン酸ジカリウム以上は、化合物10に属する、例えば、2,5-ジクロロ-テレフタル酸ジリチウム、2,5-ジクロロ-テレフタル酸ジナトリウム、2,5-ジクロロ-テレフタル酸ジカリウム以上は、化合物11に属する、例えば、2,6-ジクロロベンゼンスルホン酸リチウム、2,6-ジクロロベンゼンスルホン酸ナトリウム、2,6-ジクロロベンゼンスルホン酸カリウム以上は、化合物12に属する、例えば、2,6-ジクロロ安息香酸リチウム、2,6-ジクロロ安息香酸ナトリウム、2,6-ジクロロ安息香酸カリウム以上は、化合物13に属する等を挙げることができる。化合物1としては、2,5-ジクロロ-1,4-ベンゼンジスルホン酸ジナトリウムが好ましい。本工程は、式2式2中、A、E1、E2及びnは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位以下、構造単位2と記すことがあるを含むポリアリーレンが製造可能である。本工程で用いる化合物1が化合物3である場合には、構造単位2として式4式4中、E1、E2及びnは、前記と同じ意味を表す。で示される構造単位以下、構造単位4と記すことがあるを含むポリアリーレンが製造可能である。具体的には、化合物1が化合物10である場合、構造単位2に対応する構造単位としては、式10’式10’中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であり、化合物1が化合物11である場合、構造単位2に対応する構造単位としては、式11’式11’中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であり、化合物1が化合物12である場合、構造単位2に対応する構造単位としては、式12’式12’中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位であり、化合物1が化合物13である場合、構造単位2に対応する構造単位としては、式13’式13’中、Yは前記と同じ意味を表す。で示される構造単位である。構造単位2を含むポリアリーレンは、構造単位2を少なくとも2個連続して有しており、好ましくは、5個以上連続して有しており、さらに好ましくは、20個~200個連続して有している。本工程によって得られるポリアリーレン2は、E1及びE2が、-SO3R式中、Rは炭素数1~10の炭化水素基を表す。、又は、-CO2R式中、Rは前記と同じ意味を表す。である場合には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基で加水分解を行い、次いで、塩酸、硫酸等の酸によって中和することにより、イオン伝導性を有するポリアリーレンとすることができる。また、本工程は、スルホ基又はカルボキシル基を有する化合物1であっても重合することから、加水分解を施さなくても、イオン伝導性を有するポリアリーレンとすることができる。本工程によって得られるポリアリーレン2は更に精製してもよい。即ち、本工程の生成物から、金属銅、銅塩及び溶媒等を分離し、精製されたポリアリーレン2を得ることができる。かかる分離精製には、ろ過、抽出、濃縮、再結晶、再沈殿及びクロマトグラフィー分離といった公知の精製操作又はこれらを組み合わせた精製操作を用いることができる。化合物1の種類や、分離精製の対象となるポリアリーレン2の種類に応じて適宜最適な分離精製操作を選択すればよい。本工程によれば、得られるポリアリーレンの分子量が向上する傾向がある。さらに、本工程は、ポリアリーレンの製造時間が短縮される傾向があることから好ましい。以下、本発明を実施例により更に詳しく説明する。得られたポリアリーレンを、ゲル浸透クロマトグラフィ以下、GPCと略記する。により分析分析条件は下記のとおりし、分析結果からポリスチレン換算の重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mnを算出した。<分析条件>測定装置:HLC-8220GPC東ソー株式会社製カラム:TSK-GEL東ソー株式会社製カラム温度:40°C移動相:臭化リチウム含有N,N-ジメチルホルムアミド臭化リチウム濃度:10mmol/dm3流量:0.5mL/分検出波長:300nm[2,5-ジクロロ-1,4-ベンゼンジスルホン酸ジナトリウムの製造例]反応容器に、クロロホルム210g、2,5-ジクロロベンゼンチオール東京化成製22.38g125mmolを入れ、窒素雰囲気下、発煙硫酸和光純薬製87.5g625mmolを30分間かけて25°Cにて滴下した。滴下終了後、得られた混合物を25°Cにて8時間攪拌した。その後、前記混合物を水酸化ナトリウム水溶液にてpHが8から9になるように調節した。これを、重量が約600gになるまで濃縮して得られた反応マスを、攪拌装置を取り付けた反応容器に移し、当該反応容器内に過マンガン酸カリウム和光純薬製69.14g437.5mmolを加え、25°Cで溶解した。その後、得られた溶解液を12時間100°Cで加熱還流した。得られた反応物を25°Cまで冷却した後、これにメタノールを注加したところ、白色固体が析出した。これを濾過することにより、濾液から溶媒を除去し、アセトン及びテトラヒドロフランで洗浄し、ジメチルスルホキシドDMSOに溶解させた。得られた溶解液を濾過した後、回収された濾液をアセトン中に滴下し、更に濾過することにより、粗生成物を得た。粗生成物を、水に溶解し、再度アセトンに滴下して析出させることにより残存DMSOを取り除いた。吸引濾過により固体を濾別し、100°Cで真空乾燥することにより、2,5-ジクロロ-1,4-ベンゼンジスルホン酸ジナトリウムを得た。収率98。1H-NMR300MHz、D2O-d2:δ7.9ppms、2H13C-NMR75MHz、D2O-d2:δ129.7ppm、δ131.8ppm、δ143.1ppm[実施例1]前項で得られた2,5-ジクロロ-1,4-ベンゼンジスルホン酸ジナトリウム0.71g、粉末状金属銅0.51g、ヨウ化銅I0.038g及びN-メチル-2-ピロリドン5.0gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気下、150°Cまで昇温した。該混合物を、窒素雰囲気下、150°Cで4時間撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングした後、得られたサンプルをGPC分析に供した。生成したポリアリーレンのMwは174,000g/mol、Mnは97,000g/molであった。[実施例2]2,5-ジクロロ-テレフタル酸ジナトリウム東京化成工業株製0.42g、粉末状金属銅0.19g、N,N,N’,N’,-テトラメチルエチレンジアミン0.087g、ヨウ化銅I0.029g及びN-メチル-2-ピロリドン2.0gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気下、150°Cまで昇温した。該混合物を、窒窒素雰囲気下、150°Cで4時間撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングした後、前記GPC分析に供した。生成したポリアリーレンのMwは137,000g/mol、Mnは73,000g/molであった。[実施例3]市販品の2,6-ジクロロ安息香酸ナトリウム0.42g、粉末状金属銅0.25g、N,N,N’,N’,-テトラメチルエチレンジアミン0.12g、ヨウ化銅I0.038g及びN-メチル-2-ピロリドン2.0gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、150°Cまで昇温した。該混合物を、窒素雰囲気を保持したまま、150°Cで4時間撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングした後、前記GPC分析に供した。生成したポリアリーレンのMwは141,000g/mol、Mnは72,000g/molであった。[実施例4]粉末状金属銅、N,N,N’,N’,-テトラメチルエチレンジアミン、ヨウ化銅I及びN-メチル-2-ピロリドンの存在下、2,6-ジクロロベンゼンスルホン酸ナトリウムを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、昇温することによりポリアリーレンを得ることができる。"