第一の基板の一方の面に、剥離層、アライメントマーク層、配向膜層、位相差層を順次形成する工程と、第二の基板の一方の面に粘着層を形成する工程と、前記第一の基板の最上層である位相差層と前記第二の基板の粘着層とを積層する工程と、前記積層された積層体を前記第一の基板の剥離層から剥離する工程からなることを特徴とする位相差板の製造方法。第一の基板の一方の面に、剥離層、アライメントマーク層、配向膜層、位相差層および粘着層を順次形成する工程と、前記第一の基板の最上層である粘着層と前記第二の基板とを積層する工程と、前記積層された積層体を前記第一の基板の剥離層から剥離する工程からなることを特徴とする位相差板の製造方法。前記第一の基板がガラス基板、前記第二の基板がフィルム基板であることを特徴とする請求項1または2に記載の位相差板の製造方法。前記アライメントマーク層を構成する感光性樹脂組成物を用いて、前記アライメントマーク層と同時に位相差性の異なる位相差層境界部に遮光層を形成することを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の位相差板の製造方法。請求項1~4のいずれかに記載の位相差板の製造方法で製造されたことを特徴とする位相差板。請求項5に記載の位相差板を具備したことを特徴とする液晶表示装置。本発明は上記の課題を鑑みたものであり、フィルム基板上への位相差層の形成方法において、熱によるフィルム基板の伸縮に基づくアライメント精度の低下を招くことなく安定したアライメント精度を有する位相差板の製造方法を提供することを目的とする。本発明の請求項1に係る発明は、第一の基板の一方の面に、剥離層、アライメントマーク層、配向膜層、位相差層を順次形成する工程と、第二の基板の一方の面に粘着層を形成する工程と、前記第一の基板の最上層である位相差層と前記第二の基板の粘着層とを積層する工程と、前記積層された積層体を前記第一の基板の剥離層から剥離する工程からなることを特徴とする位相差板の製造方法である。また、本発明の請求項2に係る発明は、第一の基板の一方の面に、剥離層、アライメントマーク層、配向膜層、位相差層および粘着層を順次形成する工程と、前記第一の基板の最上層である粘着層と前記第二の基板とを積層する工程と、前記積層された積層体を前記第一の基板の剥離層から剥離する工程からなることを特徴とする位相差板の製造方法である。また、本発明の請求項3に係る発明は、前記第一の基板がガラス基板、前記第二の基板がフィルム基板であることを特徴とする請求項1または2に記載の位相差板の製造方法である。また、本発明の請求項4に係る発明は、前記アライメントマーク層を構成する感光性樹脂組成物を用いて、前記アライメントマーク層と同時に位相差性の異なる位相差層境界部に遮光層を形成することを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の位相差板の製造方法である。また、本発明の請求項5に係る発明は、請求項1~4のいずれかに記載の位相差板の製造方法で製造されたことを特徴とする位相差板である。また、本発明の請求項6に係る発明は、請求項5に記載の位相差板を具備したことを特徴とする液晶表示装置である。本発明によれば、熱伸縮、各層形成のための焼成温度の制限が少ない位相差板を製造することができる。以下に本発明の具体的な説明を上記図に示す実施形態より詳述する。図1は、本発明の位相差板の製造方法である第一の実施形態の製造フロー及び断面図を示す。まず、本発明は図1aに示すように、第一の基板1に剥離層組成物を塗布a-1して剥離層2を形成する。次に、図1bに示すように、前記剥離層2の上面に、黒色顔料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、光重合開始剤及び重合禁止剤などからなるアライメントマーク層形成用の感光性樹脂組成物3 ́を塗布b-1し、UV露光、現像、水洗、焼成処理工程b-2を経て、アライメントマーク層3を形成する。次に、図1cに示すように、前記アライメントマーク層3が形成されていない領域の剥離層2面上に、光配向膜層形成用の組成物4 ́を塗布、ベーキング後、1/4λの位相差板を用いて偏光露光c-1して1/4λ層をパターン形成し、さらに-1/4λの位相差板を用いて偏光露光c-2して-1/4λ層をパターン形成し、その後焼成処理工程c-3を経て、光配向膜層4を形成する。次に、図1dに示すように、前記光配向膜層4の上に位相差層形成用の組成物5 ́を塗布、ベーキング後、UV紫外線を前面露光d-1し、その後さらに焼成処理工程d-2を経て、位相差層5を形成する。次に、図1eに示すように、第二の基板6高分子フィルムまたはシートに粘着剤を塗布e-1して、粘着層7を形成する。次に、前記第一の基板1に形成された最上層の前記位相差層5の面と、前記第二の基板6に形成された粘着層7の面を積層f-1し、その後、前記第一の基板1の剥離層2と前記光配向膜層4の間で剥離して、第二の基板6高分子フィルムまたはシート上に第一の実施形態の位相差板10を作製する製造方法である。図2は、本発明の位相差板の製造方法である第二の実施形態の製造フロー及び断面図を示す。図2に示す第二の実施形態の特徴は、ラビングによる光配向膜層4の形成である。すなわち、図1a、bで形成した前記アライメントマーク層3が形成されていない領域の剥離層2面上に、図2cに示すように、光配向膜層形成用の組成物4 ́を塗布c-1、ベーキングc-2後、ラビングによる配向処理c-3により光配向膜層4を形成する。次に、図2dに示すように、前記光配向膜層4の上に位相差層形成用の組成物5 ́を塗布d-1し、ベーキング後、1/2λの位相差板を用いて偏光露光d-2してパターニングを行い、位相差層5を形成する。次に、図2eに示すように、第二の基板6高分子フィルムまたはシートに粘着剤を塗布e-1して、粘着層7を形成する。次に、前記第一の基板1に形成された最上層の前記位相差層5の面と、前記第二の基板6に形成された粘着層7の面を積層f-1し、その後、前記第一の基板1の剥離層2と前記光配向膜層4の間で剥離して、第二の基板6高分子フィルムまたはシート上に第二の実施形態の位相差板20を作製する製造方法である。図3は、本発明の第三の実施形態の製造フロー及び断面図を示す。すなわち、図1及び図2で形成された第一の基板1の最上層である位相差層5の上に、直接、粘着層7を塗布することを特徴とするものである。図3aに示すように、前記図1dで形成された第一の基板1の最上層である位相差層5の上に、直接、粘着層7を塗布a-1し、次に、前記粘着層7の上に第二の基板高分子フィルムまたはシートを積層a-2し、その後、前記第一の基板1の剥離層2と前記光配向膜層4の間で剥離して、第二の基板6高分子フィルムまたはシート上に第二の実施形態の位相差板10を作製する製造方法である。また、図3bに示すように、前記図2dで形成された第一の基板1の最上層である位相差層5の上に、直接、粘着層7を塗布b-1し、次に、前記粘着層7の上に第二の基板高分子フィルムまたはシートを積層b-2し、その後、前記第一の基板1の剥離層2と前記光配向膜層4の間で剥離して、第二の基板6高分子フィルムまたはシート上に第二の実施形態の位相差板20を作製する製造方法である。図4は、本発明の第四の実施形態の遮光層の平面図を示す。本発明は第一の基板1に黒色顔料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、光重合開始剤及び重合禁止剤からなる感光性樹脂組成物を用いてアライメントマーク層3、光配向膜層4及び位相差層5を形成し、その後、粘着剤7を介して第二の基板6高分子フィルムまたはシート上に転写してなる位相差板の製造方法である。また、本発明は上述の位相差板の構成以外にも図4に示すように、剥離層2を形成した第一の基板上に、前記アライメントマーク層3を形成する際に、同時に前記感光性樹脂組成物を用いて遮光層8を形成することができる。前記遮光層とは、クロストーク左右の画像の他方への混入を減少させる目的で、前記位相差板の位相差の異なる位相差層のパターン境界領域に形成されるものである。例えば、本発明の第一の実施形態で説明すると、1/4λ層5aと-1/4λ層5bの位相差の異なる位相差層のパターン境界領域に遮光層8が形成されることで、クロストーク左右の画像の他方への混入を減少させることができる位相差板を作製することができる。本発明により、従来ガラス基板上にしか形成できなかったアライメント精度の高い位相差層を、高分子フィルムやシート基板上に形成することができ、軽量で低コストの位相差板を製造することができる。また、本発明により、右目用、左目用として光の入射を制御する位相差層がパターニングされた位相差板を用いることにより、軽量でシャープな3D画像を供する液晶表示装置が得られる。