樹脂基板上に透明ガスバリア層が形成された透明ガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、金属および半金属の少なくとも1種を含み、前記透明ガスバリア層が、厚み方向に密度が連続的かつ周期的に変化する層を複数有しており、前記密度の変化が、高密度から低密度への変化、または、低密度から高密度への変化であることを特徴とする透明ガスバリアフィルム。前記透明ガスバリア層における、密度の極小値Xに対する極大値Yの比Y/Xが、1.1以上であることを特徴とする、請求項1記載の透明ガスバリアフィルム。前記厚み方向に密度が変化する層の各層の厚みが、50~200nmの範囲であることを特徴とする、請求項1または2記載の透明ガスバリアフィルム。前記金属および前記半金属の少なくとも1種が、酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物および酸化窒化炭化物からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の透明ガスバリアフィルム。樹脂基板上に透明ガスバリア層を形成する透明ガスバリアフィルムの製造方法であって、アーク放電プラズマを発生させ、反応ガスの存在下で金属酸化物および半金属酸化物の少なくとも一方を樹脂基板に蒸着させて透明ガスバリア層を形成する透明ガスバリア層形成工程を含み、前記透明ガスバリア層形成工程において、前記樹脂基板とプラズマ源との距離を変化させながら蒸着を行い、前記距離の変化が、前記距離を遠ざける変化、および、前記距離を近づける変化の少なくとも一方の変化であることを特徴とする、透明ガスバリアフィルムの製造方法。前記距離の変化を繰り返しながら、前記透明ガスバリア層形成工程を行うことを特徴とする、請求項5記載の透明ガスバリアフィルムの製造方法。請求項5または6記載の透明ガスバリアフィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする透明ガスバリアフィルム。基板上に、陽極層、有機EL層および陰極層が、この順序で設けられた積層体を有する有機EL素子であって、前記基板が、請求項1から4のいずれか一項または請求項7記載の透明ガスバリアフィルムであることを特徴とする有機EL素子。基板上に、陽極層、有機EL層および陰極層が、この順序で設けられた積層体を有する有機EL素子であって、さらに、背面封止部材を有し、前記積層体の少なくとも一部が前記背面封止部材で被覆されており、前記基板および前記背面封止部材の少なくとも一方が、請求項1から4のいずれか一項または請求項7記載の透明ガスバリアフィルムであることを特徴とする、有機EL素子。太陽電池セルを含む太陽電池であって、前記太陽電池セルが、請求項1から4のいずれか一項または請求項7記載の透明ガスバリアフィルムで被覆されていることを特徴とする太陽電池。集電層、陽極層、固体電解質層、陰極層および集電層が、この順序で設けられた積層体を有する薄膜電池であって、前記積層体が、請求項1から4のいずれか一項または請求項7記載の透明ガスバリアフィルムで被覆されていることを特徴とする薄膜電池。また、前記先行技術文献では指摘されていないが、ガスバリア層のクラックの問題があり、このクラックの問題は、ガスバリア性に影響を及ぼす。そこで、本発明は、ガスバリア性に優れ、かつ、透明ガスバリア層の内部応力が非常に低い透明ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供することを目的とする。本発明の透明ガスバリアフィルムは、樹脂基板上に透明ガスバリア層が形成された透明ガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、金属および半金属の少なくとも1種を含み、前記透明ガスバリア層が、厚み方向に密度が連続的かつ周期的に変化する層を複数有しており、前記密度の変化が、高密度から低密度への変化、または、低密度から高密度への変化であることを特徴とする。また、本発明の透明ガスバリアフィルムの製造方法は、樹脂基板上に透明ガスバリア層を形成する透明ガスバリアフィルムの製造方法であって、アーク放電プラズマを発生させ、反応ガスの存在下で金属酸化物および半金属酸化物の少なくとも一方を樹脂基板に蒸着させて透明ガスバリア層を形成する透明ガスバリア層形成工程を含み、前記透明ガスバリア層形成工程において、前記樹脂基板とプラズマ源との距離を変化させながら蒸着を行い、前記距離の変化が、前記距離を遠ざける変化、および、前記距離を近づける変化の少なくとも一方の変化であることを特徴とする。本発明の他の態様の透明ガスバリアフィルムは、前記本発明の透明ガスバリアフィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする。また、本発明の有機EL素子は、基板上に、陽極層、有機ELエレクトロルミネッセンス層および陰極層が、この順序で設けられた積層体を有する有機EL素子であって、前記基板が、前記本発明の透明ガスバリアフィルムであることを特徴とする。また、本発明の有機EL素子は、基板上に、陽極層、有機EL層および陰極層が、この順序で設けられた積層体を有する有機EL素子であって、さらに、背面封止部材を有し、前記積層体の少なくとも一部が前記背面封止部材で被覆されており、前記基板および前記背面封止部材の少なくとも一方が、前記本発明の透明ガスバリアフィルムであることを特徴とする。本発明の太陽電池は、太陽電池セルを含む太陽電池であって、前記太陽電池セルが、前記本発明の透明ガスバリアフィルムで被覆されていることを特徴とする。本発明の薄膜電池は、集電層、陽極層、固体電解質層、陰極層および集電層が、この順序で設けられた積層体を有する薄膜電池であって、前記積層体が、前記本発明の透明ガスバリアフィルムで被覆されていることを特徴とする。本発明によれば、ガスバリア性に優れ、かつ、透明ガスバリア層の内部応力が非常に低い透明ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供することができる。本発明の透明ガスバリアフィルムにおいて、前記透明ガスバリア層における、密度の極小値Xに対する極大値Yの比Y/Xが、1.1以上であることが好ましい。本発明の透明ガスバリアフィルムにおいて、前記厚み方向に密度が変化する層の各層の厚みが、50~200nmの範囲であることが好ましい。本発明の透明ガスバリアフィルムにおいて、前記金属および前記半金属の少なくとも1種が、酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物および酸化窒化炭化物からなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。本発明の透明ガスバリアフィルムの製造方法において、前記距離の変化を繰り返しながら、前記透明ガスバリア層形成工程を行うことが好ましい。つぎに、本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の記載により制限されない。本発明の透明ガスバリアフィルムにおける透明ガスバリア層は、厚み方向に密度が連続的かつ周期的に変化する層を複数有しており、前記密度の変化が、高密度から低密度への変化、または、低密度から高密度への変化である。前記透明ガスバリア層は、金属および半金属の少なくとも1種を含んでいる。金属または半金属の少なくとも1種は、酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物および酸化窒化炭化物からなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。金属としては、例えば、アルミニウム、チタン、インジウム、マグネシウムなどであり、半金属は、例えば、ケイ素、ビスマス、ゲルマニウムなどである。ガスバリア性の向上のためには、透明ガスバリア層内におけるネットワーク構造網目状の構造を緻密にするような炭素、窒素を含むことが好ましい。さらに透明性を向上させるためには、酸素を含有していることが好ましい。前記透明ガスバリア層の成分は、金属および半金属の少なくとも1種、炭素、酸素ならびに窒素のいずれをも含んでいることが、特に好ましい。前記透明ガスバリア層は、蒸着、スパッタリング、化学気相堆積法CVDのような真空を用いたドライプロセスにより形成される。これにより、非常に緻密でガスバリア性の高い薄膜を得ることができる。この中でも、蒸着法が好ましい。蒸着法は、成膜速度が非常に速いプロセスであり、生産性の高いプロセスであるため、生産効率が良いためである。特に好ましいのは、アーク放電プラズマを利用した蒸着法を用いて形成することである。アーク放電プラズマは、通常使用されるグロー放電プラズマとは異なり、非常に高い電子密度であることがわかっている。蒸着法にアーク放電プラズマを用いることで、反応性を高くすることができ、非常に緻密な透明ガスバリア層が形成できる。アーク放電プラズマは、例えば、圧力勾配型プラズマガン、直流放電プラズマ発生装置、高周波放電プラズマ発生装置などで形成可能であるが、中でも蒸着中でも安定して高密度なプラズマを発生することが可能な圧力勾配型プラズマガンを用いることが好ましい。図1は、本発明の透明ガスバリアフィルムの構成の一例の概略断面図である。図示のとおり、この透明ガスバリアフィルム100は、樹脂基板110上に透明ガスバリア層120を有している。透明ガスバリア層120は、厚み方向に密度が連続的かつ周期的に変化する層を複数有しており、前記密度の変化が、高密度から低密度への変化、または、低密度から高密度への変化である。図2および図3は、本発明の透明ガスバリアフィルムにおけるガスバリア層の厚み方向の密度分布の例を示す模式図である。図2に示す密度分布の例では、樹脂基板側から表面側に向かい、密度が徐々に増加し、極大値を経て徐々に減少し、極小値を経て徐々に増加するというパターン高密度→低密度→高密度を繰り返している。図3に示す密度分布の例では、樹脂基板側から表面側に向かい、密度が徐々に増加するというパターン高密度→低密度を繰り返している。なお、前記密度の変化は、直線的であってもよいし、曲線的であってもよい。高密度の層を形成することで、高いガスバリア性は得られるが、高密度の層の厚みを厚くしたり、他の層との積層構造とすると、内部応力が高まり、マイクロクラックが生じガスバリア性が低下しやすかった。そこで、前記のように、密度が連続的かつ周期的に変化する層を複数有することで、内部応力を低くすることができるので、マイクロクラックの発生を防ぎ、高いガスバリア性を実現することができる。なお、理由は明らかではないが、密度がある一定の層厚で変化することで、ランダムな層厚での変化に比べ、応力が低減される傾向にある。なお、図2および図3のどちらの傾斜構造でも屈曲性の高い透明ガスバリア層を得ることができるが、図3の構造のほうが、より内部応力が低い透明ガスバリア層を形成することができる傾向にあり、好ましい。前記透明ガスバリア層における、密度の極小値Xに対する極大値Yの比Y/Xは、1.1以上であることが好ましい。前記Xに対する前記Yの比が1に近く、差が小さい場合は、ガスバリア性向上および内部応力低下のいずれかの機能が十分ではなくなる。前記ガスバリア層の密度は材質、組成および成膜方法によっても異なるものとなるが、例えば、酸化シリコン層は1.6~2.2gcm-3、窒化シリコン層は2.3~2.7gcm-3である。前記透明ガスバリア層の厚みは、ガスバリア性、透明性、成膜時間、膜の内部応力の観点を考慮し、1μm以下であることが好ましく、より好ましくは、100~800nmの範囲であり、さらに好ましくは、200~500nmの範囲である。前記厚み方向に密度が変化する層の各層の厚みは、50~200nmの範囲であることが好ましく、より好ましくは、10~100nmの範囲である。なお、前記厚み方向に密度が変化する層は3~20層の範囲で有していることが好ましく、より好ましくは、5~16層の範囲である。樹脂基板としては、アーク放電プラズマや蒸着源からの輻射熱による加熱の影響を考慮すると、耐熱性、特にTgガラス転移温度および熱収縮性に優れたものが好ましい。これらが低い場合、透明ガスバリア層形成の際にフィルムに歪が生じガスバリア層にクラックなどが生じガスバリア性が劣化することが考えられる。したがって、樹脂基板としては耐熱性の高い透明フィルムが好ましい。例えば、フィルムの収縮率としては幅方向TDと流れ方向MDとの双方ともに0.5以下であることが好ましい。本発明における樹脂基板としては、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンサルファイド、ポリフェニルサルファイド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドなど透明性があるフィルムがあげられる。前記樹脂基板の厚みは、20~200μmが好ましく、ハンドリングの面から50~150μmの厚みが特に好ましい。本発明における樹脂基板は、前記透明ガスバリア層の形成前にその表面を、例えば、コロナ放電処理、プラズマ放電処理またはイオンエッチングRIE処理を行ったものであってもよい。また平滑層や接着層として無機物やポリマーの層を、真空プロセスや塗布により形成したものであってもよい。本発明において、前記金属および前記半金属の少なくとも1種が、酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物および酸化窒化炭化物からなる群から選ばれる場合、酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物、酸化窒化炭化物に含まれる酸素、炭素または窒素は、例えば、反応ガスの存在下でアーク放電プラズマを発生させて、前記金属および前記半金属の少なくとも1種の蒸着を行うことによって、導入することができる。前記蒸着における蒸着材料として、金属酸化物、半金属酸化物を用いることもできる。前記反応ガスとしては、酸素含有ガス、窒素含有ガス、炭化水素含有ガス、またはこれらの混合ガスを用いることができる。酸素含有ガスとしては酸素O2、一酸化二窒素N2O、一酸化窒素NO、窒素含有ガスとしては窒素N2、アンモニアNH3、一酸化窒素NO、炭化水素含有ガスとしてはメタンCH4、エタンC2H6、プロパンC3H8、ブタンC4H10、エチレンC2H4、アセチレンC2H2などがあげられる。前記蒸着材料を蒸発させる手段としては、抵抗加熱、電子ビーム、アーク放電プラズマのいずれかを蒸着材料蒸着源に導入する方法を用いることができる。中でも、高速蒸着が可能である電子ビームあるいはアーク放電プラズマによる方法であることが好ましい。これらの方法は、併用してもよい。前記透明ガスバリアフィルムは、透明ガスバリア層形成工程において、例えば、前記樹脂基板とプラズマ源との距離を変化させながら蒸着することで製造することができるが、本発明は、これに限定されるものではない。図4に、本発明における透明ガスバリアフィルムをバッチ生産方式で製造する装置の構成の一例を示す。図示のとおり、この製造装置400は、真空槽1、圧力勾配型プラズマガン2、反射電極5、収束電極6、蒸着源7、放電ガス供給手段11、反応ガス供給手段12、真空ポンプ20を主要な構成部材として有する。真空槽1内には、基板用ロール13が配置され、前記基板用ロール13に樹脂基板例えば、透明樹脂フィルム3が設置されている。蒸着源7は、基板用ロール13と対向するように、真空槽1の底部に設置されている。蒸着源7の上面には、蒸着材料8が装着されている。前記真空ポンプ20は、前記真空槽1の側壁同図においては、右側側壁に配置されており、これにより、前記真空槽1内を減圧することが可能となっている。前記放電ガス供給手段11および前記反応ガス供給手段12は、前記真空槽1の側壁同図においては、右側側壁に配置されている。前記放電ガス供給手段11は、放電ガス用ガスボンベ21に接続されており、これにより、適度な圧力の放電ガス例えば、アルゴンガスを、前記真空槽1内に供給することが可能となっている。前記反応ガス供給手段12は、反応ガス用ガスボンベ22に接続されており、これにより、適度な圧力の反応ガス例えば、酸素ガス、窒素ガス、メタンガスを、前記真空槽1内に供給することが可能となっている。基板用ロール13には、温度制御手段図示せずが接続されている。これにより、基板用ロール13の表面温度を調整することで、樹脂基板3の温度を、所定の範囲とすることが可能となっている。前記温度制御手段としては、例えば、シリコーンオイル等を循環する熱媒循環装置等があげられる。図4に示す製造装置を使用した場合の製造プロセスの一例は、次のとおりである。真空槽1内を10-3Pa以下に排気した後、アーク放電プラズマ発生源である圧力勾配型プラズマガン2に、放電ガス供給手段11から放電ガスとしてアルゴンを導入し、一定電圧を印加して、樹脂基板3が曝されるようにプラズマビーム4を反射電極5に向かって照射する。プラズマビーム4は収束電極6によって一定の形状になるよう制御される。アーク放電プラズマの出力は、例えば、1~10kWである。一方、反応ガス供給手段12から反応ガスを導入する。また、蒸着源7に設置した蒸着材料8に電子ビーム9を照射し基板3に向かって材料を蒸発させる。反応ガスが存在する状態で、蒸着を行い、基板3上に所定の透明ガスバリア層を形成させる。透明ガスバリア層の形成速度蒸着速度は基板3付近に設置した水晶モニター10によって計測、制御される。蒸発開始から蒸着速度が安定化するまでの間は、基板3を覆うシャッター図示せずを閉じておき、蒸着速度が安定してから前記シャッターを開けて、透明ガスバリア層の形成を行うことが好ましい。このとき、基板用ロール13を回転させることで、基板3とプラズマガン2との距離を変化させることができる。基板用ロール13に設置された基板3がプラズマガン2に近い位置図4における左側から遠い位置図4における右側に搬送される際、プラズマガン2に近い位置ではプラズマ密度が相対的に高いため、密度が高い層が得られる。一方、遠い位置ではプラズマ密度が相対的に低いため、密度が低い層が得られることになる。したがって、同一方向の回転を繰り返しながら蒸着を行うことで、例えば図3に示すような密度変化を有するガスバリア層を形成することができる。また、順方向の回転と逆方向の回転とを交互に繰り返しながら蒸着を行うことで、例えば図2に示す密度変化を有するガスバリア層を形成することができる。透明ガスバリア層の形成時の系内圧力は、例えば、0.01Pa~0.1Paの範囲内であり、0.02Pa~0.05Paの範囲内であることが好ましい。また、基板温度は、例えば、20°C~200°Cの範囲内であり、80°C~150°Cの範囲内であることが好ましい。なお、前記アーク放電プラズマの発生と反応ガスの導入は同時または前後してもよく、反応ガス導入と前記プラズマ発生を同時に行ってもよいし、反応ガス導入後に前記プラズマを発生させてもよく、前記プラズマ発生後に反応ガスを導入してもよい。反応ガスは、透明ガスバリア層形成時に系内に存在すればよい。本発明の有機EL素子は、基板上に、陽極層、有機ELエレクトロルミネッセンス層および陰極層が、この順序で設けられた積層体を有するものであって、前記基板が本発明の透明ガスバリアフィルムであることを特徴とする。前記陽極層としては、例えば、透明電極層として使用できる、ITOIndiumTinOxideやIZO登録商標、IndiumZincOxideの層が形成される。前記有機EL層は、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層からなる。陰極層としては、反射層を兼ねてアルミニウム層、マグネシウム/アルミニウム層、マグネシウム/銀層等が形成される。この積層体を大気に曝さないようにこの上から金属、ガラス、樹脂等により封止を行う。本発明の有機EL素子は、さらに背面封止部材を有し、前記積層体の少なくとも一部が前記背面封止部材で被覆されており、前記基板および前記背面封止部材の少なくとも一方が、本発明の透明ガスバリアフィルムであることを特徴とする。すなわち、本発明の透明ガスバリアフィルムは有機EL素子の背面封止部材としても適用可能である。この場合、本透明ガスバリアフィルムを前記積層体上に接着剤を用いて、または、ヒートシールなどにより設置することで十分に封止性を保つことが可能である。なお、前記積層体を樹脂基板として用い、前記積層体の被覆が必要な部分に、本発明の透明ガスバリアフィルムにおける透明ガスバリア層を形成して、封止を行うこともできる。有機EL素子の基板として、本発明の透明ガスバリアフィルムを用いると、有機EL素子の軽量化、薄型化および柔軟化が可能となる。したがって、ディスプレイとしての有機EL素子はフレキシブルなものとなり、これを丸めるなどして、電子ペーパーのように使用することも可能となる。また、本発明の透明ガスバリアフィルムを背面封止部材として用いると、被覆が容易であり、また、有機EL素子の薄型化も可能となる。本発明の太陽電池は、太陽電池セルを含み、前記太陽電池セルが、前記本発明の透明ガスバリアフィルムで被覆されている。前記本発明の透明ガスバリアフィルムは、太陽電池の受光側フロントシートおよび保護用バックシートとしても好適に使用できる。太陽電池の構造の一例としては、薄膜シリコンやCIGSCopperIndiumGalliumDiSelenide薄膜により形成した太陽電池セルを、エチレン-酢酸ビニル共重合体等の樹脂により封止し、さらに本発明の透明ガスバリアフィルムにより挟み込むことで構成されるものがあげられる。前記樹脂による封止をせずに、本発明の透明ガスバリアフィルムで直接挟み込んでもよい。本発明の薄膜電池は、集電層、陽極層、固体電解質層、陰極層および集電層が、この順序で設けられた積層体を有する薄膜電池であって、前記積層体が、前記本発明の透明ガスバリアフィルムで被覆されている。薄膜電池としては、薄膜リチウムイオン電池などがあげられる。前記薄膜電池としては、基板上に金属を用いた集電層、金属無機膜を用いた陽極層、固体電解質層、陰極層、金属を用いた集電層を順次積層させた構成が代表的である。前記本発明の透明ガスバリアフィルムは薄膜電池の基板としても使用することができる。つぎに、本発明の実施例について比較例と併せて説明する。なお、本発明は、下記の実施例および比較例によってなんら限定ないし制限されない。また、各実施例および各比較例における各種特性および物性の測定および評価は、下記の方法により実施した。水蒸気透過速度水蒸気透過速度WVTRは、JISK7126に規定される水蒸気透過速度測定装置MOCON社製、商品名PERMATRANにて、温度40°C、湿度90RHの環境下で測定した。なお、前記水蒸気透過率測定装置の測定範囲は、0.005gm-2day-1以上である。屈曲試験円筒形マンドレル法JISK5600-5-1、コーテック製試験装置を使用により、透明ガスバリアフィルムのガスバリア層側を外側にして、直径20mmのマンドレルにより1000回の折り曲げを実施したのち、前記と同様にWVTRを測定した。透明ガスバリアフィルムを構成する各層の厚み透明ガスバリアフィルムを構成する各層の厚みは、透明ガスバリアフィルムの断面を、株式会社日本電子製の走査型電子顕微鏡商品名:JSM-6610にて観察し、基板フィルム表面から各層表面までの長さを測長し、算出した。透明ガスバリアフィルムを構成する各層の密度透明ガスバリアフィルムを構成する各層の密度ρは、株式会社リガク製のX線回折装置商品名:SmartLabにより、透明ガスバリア層を構成する各層のX線反射率を測定し、各層の密度を算出した。一般的に、電子線透過率は膜密度が高いほど低い。そのため、膜密度が高い部分は、電子線が透過しにくく、暗い像になる。一方、膜密度が低いほど電子線透過率は高くなり、膜密度が低い部分は、電子線が透過しやすく、明るい像になる。したがって、TEM像におけるコントラストの変化は、層密度の変化と相関関係を有していると考えられる。[実施例1]透明樹脂フィルムの準備透明樹脂フィルム樹脂基板として、帝人デュポンフィルム社製のポリエチレンナフタレートフィルム厚み100μm、商品名テオネックスを準備した。透明ガスバリア層形成工程つぎに、前記ポリエチレンナフタレートフィルムを、図4に示す製造装置に装着した。圧力勾配型プラズマガン内にアルゴンガス20sccm20×1.69×10-3Pam3/秒を導入し、前記プラズマガンに5kWの放電出力を印加しアーク放電プラズマを発生させた。反応ガスとして、酸素純度5N:99.999を10sccm10×1.69×10-3Pam3/秒および窒素純度5N:99.999を20sccm20×1.69×10-3Pam3/秒の流量で真空槽内に導入し、この状態で、蒸着材料であるシリコン粒純度3N:99.9に電子ビーム加速電圧6kV、印加電流50mAを照射して、蒸着速度100nm/minとなるように蒸発させた。このとき系内圧力が2.0×10-2Paで、基板加熱ヒータ温度は100°Cとした。基板用ロール13を、図4においてプラズマガン2の側から左回転距離を遠ざける変化をさせ、ついで、反射電極5の側から右回転距離を近づける変化をさせる工程を5回繰り返した。基板用ロール13の回転速度は0.5m/minとなるようにした。得られた透明ガスバリア層について、層内の構造および密度を分析した。図5に、得られた透明ガスバリア層の画像解析結果を示す。この透明ガスバリア層における密度の極大値は、2.68gcm-3であり、極小値は、2.30gcm-3であった。厚み方向に密度が変化する層は、10層形成されており、各層の厚みは約30nmであった。[実施例2]前記左回転の終点および前記右回転の開始点の位置を、実施例1に比べ、プラズマガン2からより遠い位置にしたこと以外は、実施例1と同様にして、本実施例の透明ガスバリアフィルムを得た。得られた透明ガスバリア層について、層内の構造および密度を分析した。透明ガスバリア層における密度の極大値は、2.68gcm-3であり、極小値は、2.20gcm-3であった。厚み方向に密度が変化する層は、10層形成されており、各層の厚みは約30nmであった。[実施例3]前記左回転の終点および前記右回転の開始点の位置を、実施例1に比べ、プラズマガン2からより近い位置にしたこと以外は、実施例1と同様にして、本実施例の透明ガスバリアフィルムを得た。得られた透明ガスバリア層について、層内の構造および密度を分析した。透明ガスバリア層における密度の極大値は、2.68gcm-3であり、極小値は、2.45gcm-3であった。厚み方向に密度が変化する層は、10層形成されており、各層の厚みは約30nmであった。[実施例4]基板用ロール13を、図4において、プラズマガン2の側から左回転の一方向距離を遠ざける変化で4回転させた以外は、実施例1と同様にして、本実施例の透明ガスバリアフィルムを得た。得られた透明ガスバリア層について、層内の構造および密度を分析した。図6に、得られた透明ガスバリア層の画像解析結果を示す。この透明ガスバリア層における密度の極大値は、2.68gcm-3であり、極小値は、2.30gcm-3であった。厚み方向に密度が変化する層は、4層形成されており、各層の厚みは約60nmであった。[比較例1]基板用ロール13を回転させず、固定して透明ガスバリア層を形成した。圧力勾配型プラズマガン内にアルゴンガス20sccm20×1.69×10-3Pam3/秒を導入し、前記プラズマガンに5kWの放電出力を印加しアーク放電プラズマを発生させた。反応ガスとして、酸素純度5N:99.999を10sccm10×1.69×10-3Pam3/秒および窒素純度5N:99.999を20sccm20×1.69×10-3Pam3/秒の流量で真空槽内に導入し、この状態で、蒸着材料であるシリコン粒純度3N:99.9に電子ビーム加速電圧6kV、印加電流50mAを照射して、蒸着速度100nm/minとなるように蒸発させて、基板上に酸化窒化シリコン層を厚み50nmとなるように蒸着した。ついで、前記プラズマガンに印加する放電出力を2kWにして、同様に、酸化窒化シリコン層を厚み50nmとなるように蒸着した。このとき系内圧力が2.0×10-2Paで、基板加熱ヒータ温度は100°Cとした。このプロセスを交互に繰り返し、1層の厚みが50nmの層を計8層形成し、本比較例の透明ガスバリアフィルムを得た。得られた透明ガスバリア層について、各層の厚みおよび密度を分析した。放電出力を5kWにして形成した層の密度は2.68gcm-3であり、放電出力を2kWにして形成した層の密度は2.30gcm-3であった。実施例1~4および比較例1で得られた透明ガスバリアフィルムについて、屈曲試験前後の水蒸気透過速度WVTRを測定した。測定結果を表1に示す。前記表1に示すとおり、実施例で得られた透明ガスバリアフィルムは、いずれも、屈曲試験前後の水蒸気透過速度が0.007gm-2day-1以下の良好なガスバリア性が得られていることがわかる。実施例1、2および4で得られた透明ガスバリアフィルムは、透明ガスバリア層における、密度の極小値Xに対する極大値Yの比Y/Xが、1.1以上であり、屈曲試験前後での水蒸気透過速度に変化が見られず、良好な耐屈曲性も得られた。一方、比較例1では、屈曲試験前の水蒸気透過速度は0.005gm-2day-1と良好であるが、屈曲試験後の水蒸気透過速度は0.010gm-2day-1と、ガスバリア性が劣化していることがわかる。これは、比較例1においては、層間の内部応力差が生じ、クラックが発生して、ガスバリア性が低下したものと考えられる。