"式IIIの化合物:[式中、R4は、ヒドロキシ、ハロゲン、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたアルコキシ、シアノ、ニトロ、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、カルボキシ、任意選択で置換されたアミノ、カルバミジル、ウレイド、チオウレイド、シリル、-SH、シロキシ、スルファニル、およびアジドから選択され、R5は、出現する毎に、ホルミル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、アリールオキシカルボニル、アミノカルボニルオキシ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、ボロン酸、ボロン酸エステル、シクロアルコキシカルボニルアミノ、ヘテロシクロアルキルオキシカルボニルアミノ、ヘテロアリールオキシカルボニルアミノ、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、ハロゲン、任意選択で置換されたシクロアルキル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたアルコキシ、任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、および任意選択で置換されたアミノから選択される、キラルまたはアキラル基から独立に選択され、mは、0~4の整数であり、nは、0~3の整数であり、R6およびR7は、水素、ヒドロキシ、ならびに任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたシクロアルキル、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、ハロゲン、任意選択で置換されたアミノ、カルボキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、任意選択で置換されたアルコキシ、およびアミノカルボニルから選択される、キラルまたはアキラル基からそれぞれ独立に選択されるか、またはR1およびR2は、任意の介在原子と一緒になって、オキソ、任意選択で置換されたシクロアルキル、および任意選択で置換されたヘテロシクロアルキルから選択される基を形成してもよく、BおよびB’は、水素、ハロゲン、ならびにメタロセニル、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたアルコキシ、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、および任意選択で置換されたシクロアルキルから選択される、キラルまたはアキラル基からそれぞれ独立に選択されるか、あるいはBおよびB’は、任意の介在原子と一緒になって、任意選択で置換されたシクロアルキル、および任意選択で置換されたヘテロシクロアルキルから選択される基を形成する]。R4が、クロロ、フルオロ、ブロモ、メチル、エチル、フェニル、ペルフルオロアルコキシ、およびペルフルオロアルキルから選択され、R5が、出現する毎に、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、任意選択で置換されたアルキル、ボロン酸エステル、ハロゲン、任意選択で置換されたシクロアルキル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたアルコキシ、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、および任意選択で置換されたアミノから独立に選択され、mおよびnが、それぞれ独立に、0~2から選択される整数であり、R6およびR7が、水素、ヒドロキシ、ならびに任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたシクロアルキル、ハロゲン、カルボキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、任意選択で置換されたアルコキシ、およびアミノカルボニルから選択されるキラル基からそれぞれ独立に選択されるか、あるいはR1およびR2が、任意の介在原子と一緒になって、オキソおよび任意選択で置換されたシクロアルキルから選択される基を形成してもよく、BおよびB’が、水素;任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、および任意選択で置換されたシクロアルキルから選択されるキラル基からそれぞれ独立に選択されるか、あるいはBおよびB’が、任意の介在原子と一緒になって、任意選択で置換されたシクロアルキルから選択される基を形成する、請求項1に記載の化合物。R4が、クロロ、フルオロ、ブロモ、およびトリフルオロメチルから選択され、R5が、出現する毎に、メチル、エチル、ブロモ、クロロ、フルオロ、メトキシ、エトキシおよびCF3から独立に選択され、R6およびR7が、メチル、エチル、プロピルおよびブチルからそれぞれ独立に選択され、BおよびB’が、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、アルキルカルボニル、カルボキシ、およびアルコキシカルボニルから独立に選択される1つまたは複数の基で置換されているフェニルからそれぞれ独立に選択される、請求項2に記載の化合物。3,3-ビス4-メトキシフェニル-5,7-ジブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス4-メトキシフェニル-5,7-ジクロロ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジブロモ-11-トリフルロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-フルオロフェニル-3-4-N-ピペリジニルフェニル5,7-ジフルオロ-10,12-ジブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス4-メトキシフェニル-5-クロロ-6-メトキシ-7-ヒドロキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-フェニル-5-クロロ-6-メトキシ-7-ヒドロキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス4-ブトキシフェニル-5-クロロ-6-メトキシ-7-ヒドロキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス4-フルオロフェニル-5,7-ジトリフルオロメチル-12-ブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス4-フルオロフェニル-5,7-ジトリフルオロメチル-10-ブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン3-フェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン;3-フェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-メトキシフェニル-3-4-モルホリノフェニル-5-メトキシ-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-メトキシフェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-10,12-ジフルオロ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-メトキシフェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-11-フェニル-13,13-ジエチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-フルオロフェニル-3-フェニル-5,7-ジフルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-メトキシフェニル-3-フェニル-5,7-ジフルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-7-フルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジモルホリノ-11-メトキシ13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5-モルホリノ-7-フルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-7-フルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-ヒドロキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-7-フルオロ-11-5-メチチオフェン-2-イル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-ヒドロキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;および3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランから選択される、請求項1に記載の化合物。フォトクロミック化合物である、請求項1に記載の化合物。請求項6に記載の化合物および任意選択で少なくとも1種の他のフォトクロミック化合物を含むフォトクロミック組成物であって、a単一のフォトクロミック化合物;bフォトクロミック化合物の混合物;c少なくとも1種のフォトクロミック化合物を含む材料;d少なくとも1種のフォトクロミック化合物が化学結合している材料;e前記少なくとも1種のフォトクロミック化合物と外部材料との接触を実質的に防止するための、コーティングをさらに含む材料cもしくはd;fフォトクロミックポリマー;またはgこれらの混合物を含む、フォトクロミック組成物。有機材料の少なくとも一部に組み込まれている少なくとも1種の請求項5に記載の化合物を含むフォトクロミック組成物であって、前記有機材料が、ポリマー材料、オリゴマー材料、モノマー材料、またはこれらの混合物もしくは組合せである、フォトクロミック組成物。前記ポリマー材料が、液晶材料、自己組織化材料、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリメタアクリレート、多環式アルケン、ポリウレタン、ポリ尿素ウレタン、ポリチオウレタン、ポリチオ尿素ウレタン、ポリオールアリルカーボネート、酢酸セルロース、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリアルケン、ポリアルキレン-酢酸ビニル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリオレフィン、これらのコポリマー、および/またはこれらの混合物を含む、請求項7に記載のフォトクロミック組成物。染料、配向促進剤、抗酸化剤、反応速度増強添加物、光開始剤、熱開始剤、重合阻害剤、溶媒、光安定剤、熱安定剤、離型剤、レオロジー制御剤、レベリング剤、フリーラジカル捕捉剤、ゲル化剤および接着促進剤から選択される少なくとも1種の添加物をさらに含む、請求項7に記載のフォトクロミック組成物。液晶材料、自己組織化材料およびフィルム形成材料から選択される材料を含むコーティング組成物を含む、請求項9に記載のフォトクロミック組成物。基材と、基材の少なくとも一部に接続されている請求項5に記載のフォトクロミック化合物とを含む、フォトクロミック物品。光学素子を含む請求項11に記載のフォトクロミック物品であって、前記光学素子が、眼部素子、ディスプレイ素子、窓、鏡、包装材料およびアクティブ液晶セル素子またはパッシブ液晶セル素子の少なくとも1つである、フォトクロミック物品。前記眼部素子が、矯正レンズ、非矯正レンズ、コンタクトレンズ、眼内レンズ、拡大レンズ、保護レンズ、またはバイザーを含む、請求項12に記載のフォトクロミック物品。前記基材が、ポリマー材料を含み、フォトクロミック材料が、前記ポリマー材料の少なくとも一部の中に組み込まれている、請求項13に記載のフォトクロミック物品。前記フォトクロミック材料が、前記ポリマー材料の少なくとも一部とブレンドされ、前記ポリマー材料の少なくとも一部に結合されており、かつ/または前記ポリマー材料の少なくとも一部に吸い込まれている、請求項14に記載のフォトクロミック物品。前記基材の少なくとも一部に接続されているコーティングまたはフィルムを含み、前記コーティングまたはフィルムが、フォトクロミック材料を含む、請求項11に記載のフォトクロミック物品。前記基材が、有機材料、無機材料、またはこれらの組合せから形成される、請求項16に記載のフォトクロミック物品。フォトクロミックコーティング、反射防止コーティング、直線偏光コーティング、遷移コーティング、プライマーコーティング、接着コーティング、反射コーティング、くもり止めコーティング、酸素バリヤーコーティング、紫外線光吸収コーティング、および保護コーティングから選択される少なくとも1つのさらなる少なくとも部分的なコーティングをさらに含む、請求項16に記載のフォトクロミック物品。基材;1種の配向材料の少なくとも部分的なコーティング;液晶材料の少なくとも1つのさらなる少なくとも部分的なコーティング;および少なくとも1種の請求項6に記載の化合物を含む、フォトクロミック物品。二色性染料、非二色性染料、配向促進剤、抗酸化剤、反応速度増強添加物、光開始剤、熱開始剤、重合阻害剤、溶媒、光安定剤、熱安定剤、離型剤、レオロジー制御剤、レベリング剤、フリーラジカル捕捉剤、ゲル化剤および接着促進剤から選択される少なくとも1種の添加物をさらに含む、請求項19に記載のフォトクロミック物品。前記基材が、ガラス、石英、およびポリマー有機材料から選択される、請求項19に記載のフォトクロミック物品。前記少なくとも1種の配向材料が、磁界、電界、直線偏光赤外線、直線偏光紫外線、直線偏光可視光線および剪断力の少なくとも1つへの曝露によって方向付け可能なポリマー網目を含む、請求項19に記載のフォトクロミック物品。前記液晶材料が、液晶ポリマーである、請求項19に記載のフォトクロミック物品。少なくとも1つのプライマーコーティング、遷移コーティング、保護コーティングまたはこれらの組合せをさらに含む、請求項19に記載のフォトクロミック物品。前記遷移コーティングが、アクリレートポリマーを含む、請求項24に記載のフォトクロミック物品。前記保護コーティングが、少なくとも1種のシロキサン誘導体を含む、請求項24に記載のフォトクロミック物品。前記少なくとも1つのプライマーコーティングが、ポリウレタンを含む、請求項26に記載のフォトクロミック物品。本明細書に記載されているのは、下記の構造式IIIによって表される化合物であり、式中、R4は、ヒドロキシ、ハロゲン、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたアルコキシ、シアノ、ニトロ、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、カルボキシ、任意選択で置換されたアミノ、カルバミジルcarbamidyl、ウレイド、チオウレイド、シリル、-SH、シロキシ、スルファニル、およびアジドから選択され、R5は、出現する毎に、ホルミル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、アリールオキシカルボニル、アミノカルボニルオキシ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、ボロン酸、ボロン酸エステル、シクロアルコキシカルボニルアミノ、ヘテロシクロアルキルオキシカルボニルアミノ、ヘテロアリールオキシカルボニルアミノ、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、ハロゲン、任意選択で置換されたシクロアルキル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたアルコキシ、任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、および任意選択で置換されたアミノから選択される、キラルまたはアキラル基から独立に選択され、mは、0~4の整数であり、nは、0~3の整数であり、R6およびR7は、水素、ヒドロキシ、ならびに任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたシクロアルキル、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、ハロゲン、任意選択で置換されたアミノ、カルボキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、任意選択で置換されたアルコキシ、およびアミノカルボニルから選択される、キラルまたはアキラル基からそれぞれ独立に選択されるか、あるいはR1およびR2は、任意の介在原子と一緒になって、オキソ、任意選択で置換されたシクロアルキル、および任意選択で置換されたヘテロシクロアルキルから選択される基を形成してもよく、BおよびB’は、水素、ハロゲン、ならびにメタロセニル、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたアルコキシ、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、および任意選択で置換されたシクロアルキルから選択される、キラルまたはアキラル基からそれぞれ独立に選択されるか、あるいはBおよびB’は、任意の介在原子と一緒になって、任意選択で置換されたシクロアルキル、および任意選択で置換されたヘテロシクロアルキルから選択される基を形成する。本明細書においてまた提供されるのは、上記のような少なくとも1種の式IIの化合物を含むフォトクロミック組成物およびフォトクロミック物品である。詳細な説明本明細書において使用するように、下記の語、語句および記号は一般に、これらが使用される文脈がそうではないことを示す場合を除いて、以下に記載するような意味を有することを意図する。下記の略語および用語は、全体に亘って示した意味を有する。2つの文字または記号の間ではないダッシュ-は、置換基に対して、結合点を示すために使用される。例えば、-CONH2は、炭素原子を介して結合している。アルキルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、親アルカン、アルケン、またはアルキンの単一の炭素原子から1個の水素原子を除去することによって得られる、飽和または不飽和の分枝鎖または直鎖の一価炭化水素ラジカルを意味する。アルキル基の例には、これらに限定されないが、メチル;エチル、例えば、エタニル、エテニル、およびエチニル;プロピル、例えば、プロパン-1-イル、プロパン-2-イル、プロパ-1-エン-1-イル、プロパ-1-エン-2-イル、プロパ-2-エン-1-イルアリル、プロパ-1-イン-1-イル、プロパ-2-イン-1-イルなど;ブチル、例えば、ブタン-1-イル、ブタン-2-イル、2-メチル-プロパン-1-イル、2-メチル-プロパン-2-イル、ブタ-1-エン-1-イル、ブタ-1-エン-2-イル、2-メチル-プロパ-1-エン-1-イル、ブタ-2-エン-1-イル、ブタ-2-エン-2-イル、ブタ-1,3-ジエン-1-イル、ブタ-1,3-ジエン-2-イル、ブタ-1-イン-1-イル、ブタ-1-イン-3-イル、ブタ-3-イン-1-イルなどが含まれる。アルキルという用語は、任意の飽和度または飽和レベルを有する基、すなわち、もっぱら炭素-炭素一重結合を有する基、1つまたは複数の炭素-炭素二重結合を有する基、1つまたは複数の炭素-炭素三重結合を有する基、ならびに炭素-炭素の一重結合、二重結合、および三重結合が混じっている基を含むことを特に意図する。特定の飽和レベルが意図される場合、アルカニル、アルケニルおよびアルキニルという用語が使用される。特定の実施形態において、アルキル基は、1~20個の炭素原子、特定の実施形態において、1~10個の炭素原子、特定の実施形態において、1~8個または1~6個の炭素原子、特定の実施形態において、1~3個の炭素原子を含む。アシルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、ラジカル-COR30を意味し、R30は、水素、アルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、またはヘテロアリールアルキルであり、このアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキルは本明細書に定義されているように置換され得る。アシル基の例には、これらに限定されないが、ホルミル、アセチル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘキシルメチルカルボニル、ベンゾイル、ベンジルカルボニルなどが含まれる。アルコキシは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、ラジカル-OR31を意味し、R31は、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、またはアリールアルキルであり、このアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールアルキルは本明細書に定義されているように置換され得る。いくつかの実施形態において、アルコキシ基は、1~18個の炭素原子を有する。アルコキシ基の例には、これらに限定されないが、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシなどが含まれる。アルコキシカルボニルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、ラジカル-COOR31を意味し、R31は、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、またはアリールアルキルであり、このアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールアルキルは本明細書に定義されているように置換され得る。アミノは、ラジカル-NH2を意味する。アミノカルボニルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、式-NCOR60のラジカルを意味し、各R60は、水素、アルキル、置換アルキル、アルコキシ、置換アルコキシ、シクロアルキル、置換シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロシクロアルキル、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、アリールアルキル、置換アリールアルキル、ヘテロアリールアルキルから選択される。アリールは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、親芳香環系の単一の炭素原子から1個の水素原子を除去することによって得られる、一価の芳香族炭化水素ラジカルを意味する。アリールは、5員および6員の炭素環式芳香環、例えば、ベンゼン;二環式環系少なくとも1つの環は、炭素環および芳香環、例えば、ナフタレン、インダン、およびテトラリンである;ならびに三環式環系少なくとも1つの環は、炭素環および芳香環、例えば、フルオレンであるを包含する。アリールは、少なくとも1つの炭素環式芳香環、シクロアルキル環、またはヘテロシクロアルキル環と縮合している少なくとも1つの炭素環式芳香環を有する多環系を包含する。例えば、アリールは、N、O、およびSから選択される1個または複数のヘテロ原子を含有する5員~7員のヘテロシクロアルキル環と縮合している5員および6員の炭素環式芳香環を含む。環の1つのみが炭素環式芳香環であるこのような縮合二環式環系について、結合点は、炭素環式芳香環またはヘテロシクロアルキル環においてであり得る。アリール基の例には、これらに限定されないが、アセアントリレン、アセナフチレン、アセフェナントリレン、アントラセン、アズレン、ベンゼン、クリセン、コロネン、フルオランテン、フルオレン、ヘキサセン、ヘキサフェン、ヘキサレンhexalene、as-インダセン、s-インダセン、インダン、インデン、ナフタレン、オクタセン、オクタフェン、オクタレン、オバレン、ペンタ-2,4-ジエン、ペンタセン、ペンタレン、ペンタフェン、ペリレン、フェナレン、フェナントレン、ピセン、プレイアデン、ピレン、ピラントレン、ルビセン、トリフェニレン、トリナフタレンなどに由来する基が含まれる。特定の実施形態において、アリール基は、5~20個の炭素原子、特定の実施形態において、5~12個の炭素原子を含むことができる。しかし、アリールは、本明細書において別々に定義されるヘテロアリールを全く包含もせず、重複もしない。したがって、1つまたは複数の炭素環式芳香環がヘテロシクロアルキル芳香環と縮合している多環系は、本明細書に定義されているように、ヘテロアリールであり、アリールではない。アリールアルキルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、炭素原子、典型的には末端またはsp3炭素原子に結合している水素原子の1つが、アリール基で置き換えられている、非環式アルキルラジカルを意味する。アリールアルキル基の例には、これらに限定されないが、ベンジル、2-フェニルエタン-1-イル、2-フェニルエテン-1-イル、ナフチルメチル、2-ナフチルエタン-1-イル、2-ナフチルエテン-1-イル、ナフトベンジル、2-ナフトフェニルエタン-1-イルなどが含まれる。特定のアルキル部分が意図される場合、アリールアルカニル、アリールアルケニル、またはアリールアルキニルという命名法が使用される。特定の実施形態において、アリールアルキル基は、C7~30アリールアルキルであり、例えば、アリールアルキル基のアルカニル、アルケニル、またはアルキニル部分は、C1~10であり、アリール部分は、C6~20であり、特定の実施形態において、アリールアルキル基は、C7~20アリールアルキルであり、例えば、アリールアルキル基のアルカニル、アルケニル、またはアルキニル部分は、C1~8であり、アリール部分は、C6~12である。カルボキサミジルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、式-CONR60R61のラジカルを意味し、各R60およびR61は、独立に、水素、アルキル、置換アルキル、アルコキシ、置換アルコキシ、シクロアルキル、置換シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロシクロアルキル、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、アリールアルキル、置換アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、または置換ヘテロアリールアルキルであるか、あるいはR60およびR61は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、または置換ヘテロアリール環を形成する。シクロアルキルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、飽和または不飽和の環状アルキルラジカルを意味する。特定の飽和レベルが意図される場合、シクロアルカニルまたはシクロアルケニルという命名法が使用される。シクロアルキル基の例には、これらに限定されないが、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサンなどに由来する基が含まれる。特定の実施形態において、シクロアルキル基は、C3~15シクロアルキル、特定の実施形態において、C3~12シクロアルキルまたはC5~12シクロアルキルである。シクロアルキルアルキルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、炭素原子、典型的には末端またはsp3炭素原子に結合している水素原子の1つが、シクロアルキル基で置き換えられている非環式アルキルラジカルを意味する。特定のアルキル部分が意図される場合、シクロアルキルアルカニル、シクロアルキルアルケニル、またはシクロアルキルアルキニルという命名法が使用される。特定の実施形態において、シクロアルキルアルキル基は、C7~30シクロアルキルアルキルであり、例えば、シクロアルキルアルキル基のアルカニル、アルケニル、またはアルキニル部分は、C1~10であり、シクロアルキル部分は、C6~20であり、特定の実施形態において、シクロアルキルアルキル基は、C7~20シクロアルキルアルキルであり、例えば、シクロアルキルアルキル基のアルカニル、アルケニル、またはアルキニル部分は、C1~8であり、シクロアルキル部分は、C4~20またはC6~12である。ハロゲンは、フルオロ、クロロ、ブロモ、またはヨード基を意味する。ヘテロアルキルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、炭素原子および任意の関連する水素原子の1つまたは複数が、同じまたは異なるヘテロ原子団で独立に置き換えられているアルキル基を意味する。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、1~8個の炭素原子を有する。ヘテロ原子団の例には、これらに限定されないが、-O-、-S-、-S-S-、-NR38-、=N-N=、-N=N-、-N=N-NR39R40、-PR41-、-PO2-、-POR42-、-O-PO2-、-SO-、-SO2-、-SnR43R44-などが含まれ、R38、R39、R40、R41、R42、R43、およびR44は、独立に、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、アリールアルキル、置換アリールアルキル、シクロアルキル、置換シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロシクロアルキル、ヘテロアルキル、置換ヘテロアルキル、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、または置換ヘテロアリールアルキルである。特定の飽和レベルが意図される場合、ヘテロアルカニル、ヘテロアルケニルまたはヘテロアルキニルという命名法が使用される。特定の実施形態において、R38、R39、R40、R41、R42、R43、およびR44は、水素およびC1~3アルキルから独立に選択される。ヘテロアリールは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、親ヘテロ芳香環系の単一の原子から1個の水素原子を除去することによって得られる、一価のヘテロ芳香族ラジカルを意味する。ヘテロアリールは、少なくとも1つの他の環この少なくとも1つの他の環は芳香族であっても非芳香族であってもよいと縮合している少なくとも1つの芳香環を有する多環系を包含し、この芳香環において少なくとも1個の環原子はヘテロ原子である。ヘテロアリールは、5員~7員などの5員~12員の芳香族を包含し、単環式環は、1個または複数の、例えば、1~4個の、または特定の実施形態において、1~3個の、N、O、およびSから選択されるヘテロ原子を含有し、残りの環原子は、炭素であり、二環式ヘテロシクロアルキル環は、1個または複数の、例えば、1~4個の、または特定の実施形態において、1~3個の、N、O、およびSから選択されるヘテロ原子を含有し、残りの環原子は、炭素であり、少なくとも1個のヘテロ原子は、芳香環中に存在する。例えば、ヘテロアリールには、5員~7員のヘテロシクロアルキル、5員~7員のシクロアルキル環と縮合している芳香環が含まれる。複数の環のうちの1つの環のみが1個または複数のヘテロ原子を含有するこのような縮合二環式ヘテロアリール環系について、結合点は、ヘテロ芳香環にあってもシクロアルキル環にあってもよい。特定の実施形態において、ヘテロアリール基におけるN、S、およびO原子の総数が1を超えるとき、ヘテロ原子は、互いに隣接しない。特定の実施形態において、ヘテロアリール基におけるN、S、およびO原子の総数は、2以下である。特定の実施形態において、芳香族複素環におけるN、S、およびO原子の総数は、1以下である。ヘテロアリールは、本明細書に定義されているようなアリールを包含もせず、それと重複もしない。ヘテロアリール基の例には、これらに限定されないが、アクリジン、アルシンドール、カルバゾール、β-カルボリン、クロマン、クロメン、シンノリン、フラン、イミダゾール、インダゾール、インドール、インドリン、インドリジン、イソベンゾフラン、イソクロメン、イソインドール、イソインドリン、イソキノリン、イソチアゾール、イソオキサゾール、ナフチリジン、オキサジアゾール、オキサゾール、ペリミジン、フェナントリジン、フェナントロリン、フェナジン、フタラジン、プテリジン、プリン、ピラン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、ピリジン、ピリミジン、ピロール、ピロリジン、キナゾリン、キノリン、キノリジン、キノキサリン、テトラゾール、チアジアゾール、チアゾール、チオフェン、トリアゾール、キサンテンなどに由来する基が含まれる。特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、5員~20員のヘテロアリールであり、特定の実施形態において、5員~12員のヘテロアリールまたは5員~10員のヘテロアリールである。特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、チオフェン、ピロール、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、インドール、ピリジン、キノリン、イミダゾール、オキサゾール、およびピラジンに由来するものである。ヘテロアリールアルキルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、炭素原子、典型的には末端またはsp3炭素原子に結合している水素原子の1つが、ヘテロアリール基で置き換えられている、非環式アルキルラジカルを意味する。特定のアルキル部分が意図される場合、ヘテロアリールアルカニル、ヘテロアリールアルケニル、またはヘテロアリールアルキニルという命名法が使用される。特定の実施形態において、ヘテロアリールアルキル基は、6員~30員のヘテロアリールアルキルであり、例えば、ヘテロアリールアルキルのアルカニル、アルケニル、またはアルキニル部分は、1員~10員であり、ヘテロアリール部分は、5員~20員のヘテロアリールであり、特定の実施形態において、6員~20員のヘテロアリールアルキル、例えば、ヘテロアリールアルキルのアルカニル、アルケニル、またはアルキニル部分は、1員~8員であり、ヘテロアリール部分は、5員~12員のヘテロアリールである。ヘテロシクロアルキルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、1個または複数の炭素原子および任意の関連する水素原子が同じまたは異なるヘテロ原子で独立に置き換えられている、部分的飽和または不飽和の環状アルキルラジカルを意味する。炭素原子複数可と置き換わるヘテロ原子の例には、これらに限定されないが、N、P、O、S、Siなどが含まれる。特定の飽和レベルが意図される場合、ヘテロシクロアルカニルまたはヘテロシクロアルケニルという命名法が使用される。ヘテロシクロアルキル基の例には、これらに限定されないが、エポキシド、アジリン、チイラン、イミダゾリジン、モルホリン、ピペラジン、ピペリジン、ピラゾリジン、ピロリジン、キヌクリジンなどに由来する基が含まれる。ヘテロシクロアルキルアルキルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、炭素原子、典型的には末端またはsp3炭素原子に結合している水素原子の1つが、ヘテロシクロアルキル基で置き換えられている、非環式アルキルラジカルを意味する。特定のアルキル部分が意図される場合、ヘテロシクロアルキルアルカニル、ヘテロシクロアルキルアルケニル、またはヘテロシクロアルキルアルキニルという命名法が使用される。特定の実施形態において、ヘテロシクロアルキルアルキル基は、6員~30員のヘテロシクロアルキルアルキルであり、例えば、ヘテロシクロアルキルアルキルのアルカニル、アルケニル、またはアルキニル部分は、1員~10員であり、ヘテロシクロアルキル部分は、5員~20員のヘテロシクロアルキルであり、特定の実施形態において、6員~20員のヘテロシクロアルキルアルキル、例えば、ヘテロシクロアルキルアルキルのアルカニル、アルケニル、またはアルキニル部分は、1員~8員であり、ヘテロシクロアルキル部分は、5員~12員のヘテロシクロアルキルである。親芳香環系は、共役πパイ電子系を有する、不飽和の環式または多環式環系を意味する。親芳香環系の定義内に含まれるのは、環の1つまたは複数が芳香族であり、環の1つまたは複数が飽和または不飽和である縮合環系例えば、フルオレン、インダン、インデン、フェナレンなどである。親芳香環系の例には、これらに限定されないが、アセアントリレン、アセナフチレン、アセフェナントリレン、アントラセン、アズレン、ベンゼン、クリセン、コロネン、フルオランテン、フルオレン、ヘキサセン、ヘキサフェン、ヘキサレン、as-インダセン、s-インダセン、インダン、インデン、ナフタレン、オクタセン、オクタフェン、オクタレン、オバレン、ペンタ-2,4-ジエン、ペンタセン、ペンタレン、ペンタフェン、ペリレン、フェナレン、フェナントレン、ピセン、プレイアデン、ピレン、ピラントレン、ルビセン、トリフェニレン、トリナフタレンなどが含まれる。親ヘテロ芳香環系は、1個または複数の炭素原子および任意の関連する水素原子が同じまたは異なるヘテロ原子で独立に置き換えられている、親芳香環系を意味する。炭素原子と置き換わるヘテロ原子の例には、これらに限定されないが、N、P、O、S、Siなどが含まれる。親ヘテロ芳香環系の定義内に特に含まれるのは、環の1つまたは複数が芳香族であり、環の1つまたは複数が飽和または不飽和である縮合環系例えば、アルシンドール、ベンゾジオキサン、ベンゾフラン、クロマン、クロメン、インドール、インドリン、キサンテンなどである。親ヘテロ芳香環系の例には、これらに限定されないが、アルシンドール、カルバゾール、β-カルボリン、クロマン、クロメン、シンノリン、フラン、イミダゾール、インダゾール、インドール、インドリン、インドリジン、イソベンゾフラン、イソクロメン、イソインドール、イソインドリン、イソキノリン、イソチアゾール、イソオキサゾール、ナフチリジン、オキサジアゾール、オキサゾール、ペリミジン、フェナントリジン、フェナントロリン、フェナジン、フタラジン、プテリジン、プリン、ピラン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、ピリジン、ピリミジン、ピロール、ピロリジン、キナゾリン、キノリン、キノリジン、キノキサリン、テトラゾール、チアジアゾール、チアゾール、チオフェン、トリアゾール、キサンテンなどが含まれる。ペルハロアルキルは、各水素原子が同じまたは異なるハロゲン原子で置き換えられている、置換アルキルのサブセットである。ペルハロアルキルの例には、これらに限定されないが、-CF3、-CF2CF3、および-CCF33が含まれる。ペルハロアルコキシは、R31の各水素原子が同じまたは異なるハロゲン原子で置き換えられている、置換アルコキシのサブセットである。ペルハロアルコキシの例には、これらに限定されないが、-OCF3、-OCF2CF3、および-OCCF33が含まれる。保護基は、分子中の反応性基に結合したときに、その反応性を遮蔽、低下、または防止する、原子の分類を意味する。保護基の例は、WutsおよびGreene、ProtectiveGroupsinOrganicSynthesis、JohnWileySons、第4版、2006年;Harrisonら、CompendiumofOrganicSyntheticMethods、第1~11巻、JohnWileySons、1971~2003年;Larock、ComprehensiveOrganicTransformations、JohnWileySons、第2版、2000年;およびPaquette、EncyclopediaofReagentsforOrganicSynthesis、JohnWileySons、第11版、2003年に見出すことができる。アミノ保護基の例には、これらに限定されないが、ホルミル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニルCBZ、tert-ブトキシカルボニルBoc、トリメチルシリルTMS、2-トリメチルシリル-エタンスルホニルSES、トリチルおよび置換トリチル基、アリルオキシカルボニル、9-フルオレニルメチルオキシカルボニルFMOC、ニトロ-ベラトリルオキシカルボニルNVOCなどが含まれる。ヒドロキシ保護基の例には、これらに限定されないが、ヒドロキシ基がアシル化またはアルキル化されているもの例えば、ベンジル、およびトリチルエーテル、ならびにアルキルエーテル、テトラヒドロピラニルエーテル、トリアルキルシリルエーテル、およびアリルエーテルが含まれる。シリルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、式-SiR30R31R31のラジカルを意味し、R30、R31、およびR31のそれぞれは、アルキル、アルコキシル、およびフェニルから独立に選択され、このアルキル、アルコキシル、フェニルは本明細書に定義されているようにそれぞれ置換され得る。シロキシは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、式-OSiR30R31R31のラジカルを意味し、R30、R31、およびR31のそれぞれは、アルキル、アルコキシル、およびフェニルから独立に選択され、このアルキル、アルコキシル、フェニルは本明細書に定義されているようにそれぞれ置換され得る。置換されているとは、1個または複数の水素原子が同じまたは異なる置換基複数可で独立に置き換えられている基を意味する。置換基の例には、これらに限定されないが、-R64、-R60、-O-、-OH、=O、-OR60、-SR60、-S-、=S、-NR60R61、=NR60、-CX3、-CN、-CF3、-OCN、-SCN、-NO、-NO2、=N2、-N3、-SO2O-、-SO2OH、-SO2R60、-OSO2O-、-OSO2R60、-POO-2、-POOR60O-、-OPOOR60OR61、-COR60、-CSR60、-COOR60、-CONR60R61、-COO-、-CSOR60、-NR62CONR60R61、-NR62CSNR60R61、-NR62CNR63NR60R61、-CNR62NR60R61、-SO2、NR60R61、-NR63SO2R60、-NR63COR60、および-SOR60が含まれ、各-R64は、独立に、ハロゲンであり、R60およびR61はそれぞれ独立に、水素、アルキル、置換アルキル、アルコキシ、置換アルコキシ、シクロアルキル、置換シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロシクロアルキル、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、アリールアルキル、置換アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、または置換ヘテロアリールアルキルであるか、あるいはR60およびR61は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、または置換ヘテロアリール環を形成し、R62およびR63は、独立に、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、アリールアルキル、置換アリールアルキル、シクロアルキル、置換シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、または置換ヘテロアリールアルキルであるか、あるいはR62およびR63は、それらが結合している原子と一緒になって、1つまたは複数のヘテロシクロアルキル、置換ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、または置換ヘテロアリール環を形成する。特定の実施形態において、第三級アミンまたは芳香族窒素は、1個または複数の酸素原子で置換され、相当する酸化窒素を形成し得る。スルホネートは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、式-SO2O-の硫黄ラジカルを意味する。スルホニルは、それ自体でまたは別の置換基の一部として、式-SO2R60の硫黄ラジカルを意味し、R60は、水素、アルキル、置換アルキル、アルコキシ、置換アルコキシ、シクロアルキル、置換シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロシクロアルキル、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、アリールアルキル、置換アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、および置換ヘテロアリールアルキルから選択され得る。特定の実施形態において、置換アリールおよび置換ヘテロアリールは、下記の置換基の1つまたは複数を含む。F、Cl、Br、C1~3アルキル、置換アルキル、C1~3アルコキシ、-SO2NR50R51、-NR50R51、-CF3、-OCF3、-CN、-NR50SO2R51、-NR50COR51、C5~10アリール、置換C5~10アリール、C5~10ヘテロアリール、置換C5~10ヘテロアリール、-COOR50、-NO2、-COR50、-CONR50R51、-OCHF2、C1-3アシル、-SR50、-SO2OH、-SO2R50、-SOR50、-CSR50、-COO-、-CSOR50、-NR50CONR51R52、-NR50CSNR51R52、および-CNR50NR51R52、C3~8シクロアルキル、および置換C3~8シクロアルキルR50、R51、およびR52は、水素およびC1~C4アルキルからそれぞれ独立に選択される。この明細書および添付の特許請求の範囲において使用されているように、冠詞a、an、theは、明確および明解に1つの指示対象に限定しない限り、複数の指示対象を含む。他に示さない限り、明細書において使用される成分の量、反応条件、および他の特性またはパラメーターを表す全ての数は、全ての場合において約という用語で修飾されていると理解されるべきである。したがって、他に示さない限り、明細書および下記の添付の特許請求の範囲において記載されている数値パラメーターは、近似値であることを理解すべきである。最低限でも、そして特許請求の範囲に対して均等論を適用することを制限する試みとしてではなく、数値パラメーターは、報告する有効数字の桁数および通常の丸めの技術の適用を考慮して読み取るべきである。本明細書において全ての数値範囲は、数値の記載された範囲内の全ての数値および全ての数値の範囲を含む。さらに、本開示の広い範囲を記載する数値範囲およびパラメーターは、上で考察するように近似値である一方、実施例のセクションにおいて記載されている数値は、できるだけ正確に報告される。しかし、このような数値は、測定装置および/または測定技術によりもたらされる特定の誤差を本質的に含むことを理解すべきである。少なくとも部分的なコーティングという語句は、基材の表面の一部から表面全てまでを覆う量のコーティングを意味する。少なくとも部分的に硬化されたコーティングという語句は、硬化可能または架橋可能な成分が少なくとも部分的に硬化、架橋および/または反応しているコーティングを意味する。代替の非限定的実施形態において、反応性成分の程度は、広範に変わり得、例えば、全ての可能性のある硬化可能で、架橋可能で、そして/または反応可能な成分の5から100まで変わり得る。少なくとも部分的に耐摩耗性のコーティングまたはフィルムという語句は、振動サンド法を使用した透明なプラスチックおよびコーティングの耐摩耗性についてのASTMF-735標準試験法において少なくとも1.3~10.0のBayer耐摩耗性指数を示すコーティングまたはフィルムを意味する。少なくとも部分的に反射防止コーティングという語句は、コーティングされていない表面と比較して透過パーセントを増加させることによって、それが付着した表面の反射防止の性質を少なくとも部分的に改善するコーティングである。透過パーセントの改善は、未処理表面より1~9パーセントだけ超える範囲でよい。言い換えれば、処理された表面の透過パーセントは、未処理表面より大きいあるパーセンテージから99.9までの範囲でよい。上で考察したように、従来の熱可逆性フォトクロミック化合物は、化学線に応答して第1の状態から第2の状態へと切り換わり、熱エネルギーに応答して第1の状態に復帰するのに適合する。さらに具体的には、従来の熱可逆性フォトクロミック化合物は、化学線に応答して1つの異性体形態例えば、これらだけに限定されないが、閉じた形態から別の異性体形態例えば、これらだけに限定されないが、開いた形態へと転換し、熱エネルギーに曝露されたときに閉じた形態に復帰することができる。前述のように、本発明は、式IIIの化合物を対象とする。上記の式IIIに関連して、R4は、ヒドロキシ、ハロゲン、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたアルコキシ、シアノ、ニトロ、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、カルボキシ、任意選択で置換されたアミノ、カルバミジル、ウレイド、チオウレイド、シリル、-SH、シロキシ、スルファニル、およびアジドから選択される。典型的には、R4は、クロロ、フルオロ、ブロモ、メチル、エチル、フェニル、ペルフルオロアルコキシ、およびペルフルオロアルキルから選択される。特定の実施形態において、R4は、クロロ、フルオロ、ブロモ、およびトリフルオロメチルから選択される。またR5は、出現する毎に、ホルミル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、アリールオキシカルボニル、アミノカルボニルオキシ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、ボロン酸、ボロン酸エステル、シクロアルコキシカルボニルアミノ、ヘテロシクロアルキルオキシカルボニルアミノ、ヘテロアリールオキシカルボニルアミノ、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、ハロゲン、任意選択で置換されたシクロアルキル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたアルコキシ、任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、および任意選択で置換されたアミノから選択される、キラルまたはアキラル基から独立に選択される。典型的には、R5は、出現する毎に、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、任意選択で置換されたアルキル、ボロン酸エステル、ハロゲン、任意選択で置換されたシクロアルキル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたアルコキシ、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、および任意選択で置換されたアミノから独立に選択される。本発明の特定の実施形態において、R5は、出現する毎に、メチル、エチル、ブロモ、クロロ、フルオロ、メトキシ、エトキシおよびCF3から独立に選択される。さらに、式IIIに関して、mは、0~4、例えば、0~3、または0~2の整数であり、nは、0~3、例えば、0~2の整数である。さらに、式IIIに関して、R6およびR7は、水素、ヒドロキシ、ならびに任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたシクロアルキル、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、ハロゲン、任意選択で置換されたアミノ、カルボキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、任意選択で置換されたアルコキシ、およびアミノカルボニルから選択される、キラルまたはアキラル基からそれぞれ独立に選択されるか、あるいはR1およびR2は、任意の介在原子と一緒になって、オキソ、任意選択で置換されたシクロアルキル、および任意選択で置換されたヘテロシクロアルキルから選択される基を形成してもよい。典型的には、R6およびR7は、水素、ヒドロキシ、ならびに任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたシクロアルキル、ハロゲン、カルボキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、任意選択で置換されたアルコキシ、およびアミノカルボニルから選択されるキラル基からそれぞれ独立に選択されるか、あるいはR1およびR2は、任意の介在原子と一緒になって、オキソおよび任意選択で置換されたシクロアルキルから選択される基を形成してもよい。本発明の特定の実施形態において、R6およびR7は、メチル、エチル、プロピルおよびブチルからそれぞれ独立に選択される。式IIIの置換基BおよびB’は、水素、ハロゲン、ならびにメタロセニル、任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアルキニル、任意選択で置換されたヘテロアルキル、任意選択で置換されたアルコキシ、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、任意選択で置換されたヘテロシクロアルキル、および任意選択で置換されたシクロアルキルから選択される、キラルまたはアキラル基からそれぞれ独立に選択されるか、あるいはBおよびB’は、任意の介在原子と一緒になって、任意選択で置換されたシクロアルキル、および任意選択で置換されたヘテロシクロアルキルから選択される基を形成する。典型的には、BおよびB’は、水素;任意選択で置換されたアルキル、任意選択で置換されたアルケニル、任意選択で置換されたアリール、任意選択で置換されたヘテロアリール、および任意選択で置換されたシクロアルキルから選択されるキラル基からそれぞれ独立に選択されるか、あるいはBおよびB’は、任意の介在原子と一緒になって、任意選択で置換されたシクロアルキルから選択される基を形成する。本発明の特定の実施形態において、BおよびB’は、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、アルキルカルボニル、カルボキシ、およびアルコキシカルボニルから独立に選択される1つまたは複数の基で置換されているフェニルからそれぞれ独立に選択される。本発明の化合物の具体例として、3,3-ビス4-メトキシフェニル-5,7-ジブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス4-メトキシフェニル-5,7-ジクロロ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジブロモ-11-トリフルロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-フルオロフェニル-3-4-N-ピペリジニルフェニル5,7-ジフルオロ-10,12-ジブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス4-メトキシフェニル-5-クロロ-6-メトキシ-7-ヒドロキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-フェニル-5-クロロ-6-メトキシ-7-ヒドロキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス4-ブトキシフェニル-5-クロロ-6-メトキシ-7-ヒドロキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス4-フルオロフェニル-5,7-ジトリフルオロメチル-12-ブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス4-フルオロフェニル-5,7-ジトリフルオロメチル-10-ブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン3-フェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン;3-フェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-メトキシフェニル-3-4-モルホリノフェニル-5-メトキシ-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン;3,3-ビス-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-メトキシフェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-10,12-ジフルオロ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-メトキシフェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-11-フェニル-13,13-ジエチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-フルオロフェニル-3-フェニル-5,7-ジフルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-メトキシフェニル-3-フェニル-5,7-ジフルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-7-フルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジモルホリノ-11-メトキシ13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5-モルホリノ-7-フルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-7-フルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-ヒドロキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-7-フルオロ-11-5-メチチオフェン-2-イル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-ヒドロキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピラン;および3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランから選択されるものを挙げることができるが、該具体例はそれに限定されない。上記化合物のいずれかは、記載された化合物は、単独で、混合物として、または他の化合物、組成物、および/もしくは材料と組み合わせて有用であり得る。本明細書に記載されている新規化合物を得るための方法は、当業者には明らかであり、適切な手順は、例えば、下記の反応スキームおよび実施例において、ならびに本明細書において引用した参照文献に記載されている。下記のスキームおよび実施例において、下記の略語は、下記の意味を有する。略語が定義されていない場合、それはその一般に容認されている意味を有する。BiOTf3=ビスマストリフレートDHP=3,4-ジヒドロ-2H-ピランDCM=ジクロロメタンDBSA=ドデシルベンゼンスルホン酸DMF=N,N-ジメチルホルムアミドDMSO=ジメチルスルホキシドEtMgBr=臭化エチルマグネシウムEt2O=ジエチルエーテルg=グラムh=時間HPLC=高速液体クロマトグラフィーiPr2NH=ジイソプロピルアミンHOAc=酢酸LDA=リチウムジイソプロピルアミドM=モル濃度molarモル濃度molarityMeLi=メチルリチウムmg=ミリグラムmin=分mL=ミリリットルmmol=ミリモルmM=ミリモル濃度NatOBu=ナトリウムtert-ブトキシドN=規定濃度規定度ng=ナノグラムnm=ナノメートルnM=ナノモル濃度NMP=N-メチルピロリドンNMR=核磁気共鳴PPTS=ピリジンp-トルエンスルホネートpTSA=p-トルエンスルホン酸THF=テトラヒドロフランTLC=薄層クロマトグラフィーt-BuOH=t-ブタノールTf2O=トリフルオロメタンスルホン酸無水物μL=マイクロリットルμM=マイクロモル濃度以下でさらに概要を述べるスキームにおいて考察されるように、化合物105は、本明細書に記載されているフォトクロミック二色性染料を調製するためのベースとしての役割を果たし得る1つの中間体を表す。例えば、これは、スキーム1、2、3、4および5において示すように調製され得る。調製されると、化合物105のヒドロキシ官能基は、スキーム6において観察されるように、ピラン形成のために使用され得る。スキーム1は、化合物105を調製する1つの方法を示す。R6およびR7は、任意選択で置換されたキラルまたはアキラル基、例えば、ヘテロアルキル、アルキル、ペルフルオロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、およびヘテロシクロアルキルから選択され得る。アリールケトン101は、購入することができ、または当技術分野において公知のフリーデル-クラフツ法またはグリニャールもしくはクペレート法によって調製することができる。例えば、公開資料Friedel-CraftsandRelatedReactions、GeorgeA.Olah、IntersciencePublishers、1964年、第3巻、第XXXI章AromaticKetoneSynthesis;RegioselectiveFriedel-CraftsAcylationof1,2,3,4-TetrahydroquinolineandRelatedNitrogenHeterocycles:EffectonNHProtectiveGroupsandRingSize、Ishihara,Yugiら、J.Chem.Soc.、PerkinTrans.、1巻、3401~3406頁、1992年;AdditionofGrignardReagentstoArylAcidChlorides:Anefficientsynthesisofarylketones、Wang,Xiao-junら、OrganicLetters、第7巻、第25号、5593~5595頁、2005年、およびそこで引用されている参照文献を参照されたい上記の合成法に関する開示は参考として本明細書においてその全体が援用される。カリウムt-ブトキシドの存在下でのコハク酸ジメチルとのアリールケトン101のストッブ反応によって、化合物102の縮合した生成物が得られ、これは無水酢酸中での閉環反応を経て、続いてメタノリシスによって、化合物103の生成物が形成される。化合物103はまた、例えば、Synthesis、1995年1月、41~43頁;TheJournalofChemistrySocietyPerkinTransaction、1巻、1995年、235~241頁および米国特許第7,557,208B2号このような合成法に関するこれらの開示は参考として本明細書においてその全体が援用されるにおいてさらに記載されているように、当業者には公知の方法によって化合物106から出発してエステルが媒介する求核芳香族置換反応から調製され得る。調製されると、化合物103は、様々な多段階反応を経由する架橋炭素上の様々な置換によって、化合物105のインデノ縮合生成物にさらに変換することができ、これは、米国特許第5,645,767号;同第5,869,658号;同第5,698,141号;同第5,723,072号;同第5,961,892号;同第6,113,814号;同第5,955,520号;同第6,555,028号;同第6,296,785号;同第6,555,028号;同第6,683,709号;同第6,660,727号;同第6,736,998号;同第7,008,568号;同第7,166,357号;同第7,262,295号;同第7,320,826号および同第7,557,208号架橋炭素上の置換基に関するこれらの開示は参考として本明細書においてその全体が援用されるにおいて見出すことができる。スキーム1において示されるものは、化合物103がグリニャール試薬と反応して、それに続いて閉環反応によって、化合物105が得られることを例示する。スキーム2は、化合物103を化合物105に変換する第2の方法を例示する。化合物103の加水分解、それに続く閉環反応の後、化合物202を得た。化合物202のカルボニルは、求核試薬、例えば、グリニャール試薬、有機リチウム試薬、またはペルフルオロアルキルトリメチルシランと反応し、化合物203を形成することができる。R6は、任意選択で置換されたキラルまたはアキラル基、例えば、ヘテロアルキル、アルキル、ペルフルオロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルおよびヘテロシクロアルキルから選択され得る。化合物203のヒドロキシル基は、R7ハロゲン、ならびに任意選択で置換されたキラルまたはアキラル基、例えば、アルコキシ、シラノキシsilanoxy、ヘテロアリールオキシおよびアリールオキシから選択され得るに容易に変換され得る。スキーム3は、化合物103を化合物105に変換する第3の方法を例示する。スキーム2からの化合物202は、ウォルフキシュナー還元またはその修正したバージョンを使用して301に還元され得る。例は、PracticalproceduresforthepreparationofN-tert-butyldimethylsilylhydrozonesandtheiruseinmodifiedWolff-Kishnerreductionsandinthesynthesisofvinylhalidesandgem-dihalides、Myers,Andrew.G.ら、126巻、5436~5445頁、2004年、およびその中の参照文献ウォルフキシュナー還元に関するこれらの開示は参考として本明細書において援用されるにおいて見出すことができる。ヒドロキシ保護の後、化合物302は、塩基、例えば、LDAまたはメチルグリニャール試薬によって脱プロトン化されると、非常に求核的なジェミナル炭素gem-carbonを有する。当業者は、脱プロトン化化合物302を、求電子試薬、例えば、ハロゲン化アルキル、二酸化炭素、酸塩化物、ニトリルおよびクロロホルメート誘導体と反応させることによって、R6およびR7に変換することができる。その結果、化合物105を調製することができ、R6およびR7は、水素;ヘテロアルキル、アルキル、シクロアルキル、カルボキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、アリールオキシカルボニルから選択される任意選択で置換されたキラルまたはアキラル基から選択されるか、あるいはR6およびR7は、任意の介在原子と一緒になって、オキソ、任意選択で置換されたシクロアルキル、および任意選択で置換されたヘテロシクロアルキルから選択される基を形成し得る。スキーム4および5は、化合物105を調製する2つの新規方法を要約するこれは従前に記載されていたとは考えられない。スキーム4は、アリールケトン401から出発する。R6は、水素、任意選択で置換されたキラルまたはアキラル基、例えば、ヘテロアルキル、アルキル、ペルフルオロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルおよびヘテロシクロアルキルから選択され得る。コハク酸ジメチルとのストッブ反応の後、化合物402は、無水物403に変換される。この無水物は、塩化アルミニウムを使用してインデノン酸indenoneacid404に転換され得る。1,4-付加反応は、求核試薬、例えば、有機金属試薬、アミン、アルコールalchoholおよびチオールを使用して行われ得る。この反応によって、インダノ酸indanoacid405が提供される。R7は、水素、任意選択で置換されたキラルまたはアキラル基、例えば、ヘテロアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アミノ、アルコキシ、およびチオールから選択され得る。化合物405はグリニャール試薬406と反応して、酸性後処理の後で化合物407を形成することができる。化合物407は、無水酢酸中で閉環反応を経て、続いてメタノリシスによって、生成物408を形成し、これは加水分解によって化合物105に変換され得る。スキーム5は、ストッブ生成物102から出発し、これはグリニャール試薬と反応し、化合物501が得られる。R6およびR7は、任意選択で置換されたキラルまたはアキラル基、例えば、ヘテロアルキル、アルキル、ペルフルオロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルおよびヘテロシクロアルキルから選択され得る。トルエン中のビスマストリフレート、次いで無水酢酸で処理した後、2つの閉環反応が、同じポット中で逐次的に起こる。効率的な反応によって、化合物408がもたらされ、これは化合物105に変換され得る。スキーム6は、化合物105を式IIIに変換する方法を例示する。式IIIのピラン環は、プロパルギルアルコール602とのカップリングによって形成される。BおよびB’は、水素、ハロゲン、ならびに任意選択で置換されたキラルまたはアキラル基、例えば、メタロセニル、アルキルまたはペルフルオロアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、アルコキシ、ペルフルオロアルコキシ、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、およびシクロアルキルからそれぞれ独立に選択され得るか、あるいはBおよびB’は、任意の介在原子と一緒になって、基、例えば、任意選択で置換されたシクロアルキル、および任意選択で置換されたヘテロシクロアルキルを形成する。1~6の全てのスキームにおいて、R4は、ナフトールの形成の前に導入される。下記のスキーム7およびスキーム8は、R4がまた、ナフトールの段階において、またはフォトクロミック化合物が調製された後に導入され得ることを示す。スキーム7において、出発ナフトールアセテート701は、スキーム1からスキーム5を使用して調製され得、R4は、水素であり、アルコキシがそれに対してオルト位である。R8は、アルキルである。701が、求電子試薬、例えば、N-ブロモスクシンイミドまたはN-クロロスクシンイミドで処理されるとき、R4は、702で、臭素または塩素として置換される。実施例5~7は、この方法を使用して調製された。スキーム8において、フォトクロミック染料801は、スキーム1からスキーム6を使用して調製され得る。5位におけるフッ素は、アルキルアミンまたはアルコキシド求核試薬であるR4で置き換えられて、802および803を提供することができ、ここでは、R8およびR9はアルキルである。実施例19~22および24は、この仕方で調製された。本明細書に記載されている化合物は、例えば、本明細書において開示されている様々な非限定的実施形態による熱可逆性フォトクロミック化合物および/または組成物などのフォトクロミック材料として有用であり得る。このような化合物は、フォトクロミック特性、および、適用可能な場合にフォトクロミック-二色性特性を提供する種々の用途において有用であり得る。本発明のフォトクロミック組成物は、本明細書に記載されている化合物、および任意選択で少なくとも1種の他のフォトクロミック化合物の少なくとも1つを含み得る。フォトクロミック組成物は、種々の材料から選択され得る。このような材料の例は、a単一のフォトクロミック化合物;bフォトクロミック化合物の混合物;c少なくとも1種のフォトクロミック化合物を含む材料、例えば、ポリマー樹脂もしくは有機モノマー溶液;d少なくとも1種のフォトクロミック化合物が化学結合している材料、例えば、モノマーもしくはポリマー;e少なくとも1種のフォトクロミック化合物と外部材料との接触を実質的に防止するためのコーティングをさらに含む、材料cもしくはd;fフォトクロミックポリマー;またはgこれらの混合物から選択され得る。本発明は、有機材料と、有機ホスト材料の少なくとも一部に接続されている本開示のフォトクロミック化合物/組成物とを含むフォトクロミック物品をさらに提供する。本明細書において使用する場合、に接続されているという用語は、対象と直接的に接触していること、または1つもしくは複数の他の構造もしくは材料これらの少なくとも1つは、対象と直接的に接触しているを通して対象と間接的に接触していること意味する。さらに、フォトクロミック化合物は、ホスト材料中に組み込むことによって、または、例えば、コーティングもしくは層の一部分としてホスト材料上に付着させることによって、ホストの少なくとも一部に接続され得る。フォトクロミック化合物に加えて、フォトクロミック組成物は、染料、配向促進剤、抗酸化剤、反応速度増強添加物、光開始剤、熱開始剤、重合阻害剤、溶媒、光安定剤、例えば、紫外線吸収剤およびヒンダードアミン安定剤、熱安定剤、離型剤、レオロジー制御剤、レベリング剤、フリーラジカル捕捉剤、ゲル化剤および接着促進剤から選択される少なくとも1種の添加物をさらに含み得る。本明細書において開示されている様々な非限定的な実施形態と併せて使用され得る有機ホスト材料の非限定的例には、液晶材料およびポリマー材料が挙げられる。適切なポリマー材料の例には、モノマーおよびモノマーの混合物から調製したホモポリマーおよびコポリマー米国特許第5,962,617号および米国特許第5,658,501号の第15欄第28行から第16欄第17行に開示されており、これらの米国特許におけるこのようなポリマー材料の開示は、参考として特に本明細書において援用される、オリゴマー材料、モノマー材料、またはこれらの混合物もしくは組合せが含まれる。ポリマー材料は、熱可塑性であっても熱硬化性のポリマー材料であってもよく、透明であっても光学的に明澄であってもよく、必要とされる任意の屈折率を有することができる。このような開示されているモノマーおよびポリマーの非限定的例には、ポリオールアリルカーボネートモノマー、例えば、アリルジグリコールカーボネート、例えば、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートこのモノマーは、商標CR-39でPPGIndustries,Inc.によって販売されている;ポリ尿素-ポリウレタンポリ尿素-ウレタンポリマー例えば、ポリウレタンプレポリマーおよびジアミン硬化剤の反応によって調製され、1つのこのようなポリマー用の組成物は、商標TRIVEXでPPGIndustries,Inc.によって販売されている;ポリオールメタアクリロイル末端カーボネートモノマー;ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー;エトキシ化フェノールメタクリレートモノマー;ジイソプロペニルベンゼンモノマー;エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートモノマー;エチレングリコールビスメタクリレートモノマー;ポリエチレングリコールビスメタクリレートモノマー;ウレタンアクリレートモノマー;ポリエトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート;ポリ酢酸ビニル;ポリビニルアルコール;ポリ塩化ビニル;ポリ塩化ビニリデン;ポリエチレン;ポリプロピレン;ポリウレタン;ポリチオウレタン;熱可塑性ポリカーボネート、例えば、ビスフェノールAおよびホスゲンに由来するカーボネート連結樹脂1つのこのような材料は、商標LEXANで販売されている;ポリエステル、例えば、商標MYLARで販売されている材料;ポリエチレンテレフタレート;ポリビニルブチラール;ポリメタクリル酸メチル、例えば、商標PLEXIGLASで販売されている材料、ならびに多官能性イソシアネートとポリチオールまたはポリエピスルフィドモノマーとの反応によって調製されるポリマーホモポリマー化されているか、またはポリチオール、ポリイソシアネート、ポリイソチオシアネートおよび任意選択でエチレン系不飽和モノマーもしくはハロゲン化芳香族含有ビニルモノマーと、コポリマー化および/もしくはターポリマー化されているが含まれる。また企図されるのは、例えば、ブロックコポリマーまたは相互侵入網目生成物を形成するための、このようなモノマーのコポリマー、ならびに記載したポリマーおよびコポリマーと他のポリマーとのブレンドである。ポリマー材料はまた、自己組織化材料でよい。ポリマーは、ブロックであっても非ブロックコポリマーであってもよい。そのようなブロックコポリマーは、ハードブロックおよびソフトブロックを含み得る。さらに、ポリマーは、非ブロックコポリマーすなわち、特定のモノマー残基の大きなブロックを有さないコポリマー、例えば、ランダムコポリマー、交互コポリマー、周期的コポリマー、および統計コポリマーでよい。本開示はまた、2種を超える異なる種類のコモノマー残基のコポリマーを包含することを意図する。有機ホスト材料は、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリC1~C12アルキルメタクリレート、ポリオキシアルキレンメタクリレート、ポリアルコキシル化フェノールメタクリレート、酢酸セルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルピロリドン、ポリメタアクリルアミド、ポリジメチルアクリルアミド、ポリメタクリル酸ヒドロキシエチル、ポリメタアクリル酸、熱可塑性ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリチオウレタン、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリαメチルスチレン、コポリスチレン-メチルメタクリレート、コポリスチレン-アクリロニトリル、ポリビニルブチラール;ならびにポリオールアリルカーボネートモノマー、単官能性アクリレートモノマー、単官能性メタクリレートモノマー、多官能性アクリレートモノマー、多官能性メタクリレートモノマー、ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノマー、アルコキシル化多価アルコールモノマーおよびジアリリデンペンタエリトリトールモノマーからなる群のメンバーのポリマーから選択され得る。また、有機ホスト材料は、アクリレート、メタクリレート、メタクリル酸メチル、エチレングリコールビスメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート、酢酸ビニル、ビニルブチラール、ウレタン、チオウレタン、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ジイソプロペニルベンゼン、およびエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートから選択される、モノマー複数可のホモポリマーまたはコポリマーであり得る。ポリマー材料は、殆どの場合、液晶材料、自己組織化材料、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリメタアクリレート、多環式アルケン、ポリウレタン、ポリ尿素ウレタン、ポリチオウレタン、ポリチオ尿素ウレタン、ポリオールアリルカーボネート、酢酸セルロース、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリアルケン、ポリアルキレン-酢酸ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリオレフィン、これらのコポリマー、および/またはこれらの混合物を含む。さらに、有機ホスト材料は、光学素子またはその部分を形成することができる。光学素子の非限定的例には、眼部素子、ディスプレイ素子、窓、および鏡が含まれる。本明細書において使用する場合、光学という用語は、光および/または視覚に関するか、または関連することを意味する。例えば、本明細書においてこれらだけに限定されないが、様々な非限定的実施形態によると、光学素子または装置は、眼部素子および装置、ディスプレイ素子および装置、窓、鏡、包装材料、例えば、シュリンクラップ、ならびにアクティブ液晶セル素子、パッシブ液晶セル素子、アクティブ液晶セル装置、およびパッシブ液晶セル装置から選択され得る。本明細書において使用する場合、眼部という用語は、目および視覚に関するか、または関連することを意味する。眼部素子の非限定的例には、矯正および非矯正レンズ単焦点レンズ、または複焦点レンズ分割式複焦点レンズであっても非分割式複焦点レンズであってもよいを含めたこれらに限定されないが、二焦点レンズ、三焦点レンズおよびプログレッシブレンズなど、ならびに視覚を外見的またはその他の点で矯正、保護、または増強するために使用される他の素子例えば、これらだけに限らないが、コンタクトレンズ、眼内レンズ、拡大レンズ、および保護レンズまたはバイザーを含めたが含まれる。本明細書において使用する場合、ディスプレイという用語は、語、数字、記号、デザインまたは図での可視または機械読み取り可能な情報の提示を意味する。ディスプレイ素子および装置の非限定的例には、スクリーン、モニター、ならびにセキュリティ素子これらだけに限定されないが、セキュリティマークおよび認証マークを含めたが含まれる。本明細書において使用する場合、窓という用語は、それを通して光線が透過することを可能にするのに適合した開口部を意味する。窓の非限定的例には、自動車および飛行機の透明部品、フィルター、シャッター、および光スイッチが含まれる。本明細書において使用する場合、鏡という用語は、入射光の大部分を正反射性で反射する表面を意味する。例えば、有機ホスト材料は、眼部素子、より特定すると、眼部レンズでよい。さらに、本明細書において開示されているフォトクロミック化合物は、単独で、または300nm~1000nmの範囲内300nmおよび1000nmを含むの少なくとも1つの活性化吸収極大を有する少なくとも1種の他の補完的な有機フォトクロミック化合物または、これを含有する物質と併せて使用され得ることが企図されている。例えば、フォトクロミック化合物の組合せが、活性化されたとき所望の色相を示すように、本明細書において開示されているフォトクロミック化合物を、少なくとも1種の他の従来の有機フォトクロミック化合物と合わせることができる。適切な従来の有機フォトクロミック化合物の非限定的例には、本明細書の以下に記載されているピラン、オキサジン、フルギドおよびフルギミドが含まれる。補完的な熱可逆性のフォトクロミックピランの非限定的例には、ベンゾピラン、ナフトピラン、例えば、ナフト[1,2-b]ピラン、ナフト[2,1-b]ピラン、インデノ縮合ナフトピラン例えば、米国特許第5,645,767号において開示されているもの、ならびに複素環式縮合ナフトピラン例えば、米国特許第5,723,072号、同第5,698,141号、同第6,153,126号、および同第6,022,497号これらは、このようなナフトピラン;スピロ-9-フルオレノ[1,2-b]ピラン;フェナントロピラン;キノピラン;フルオロアンテノピランfluoroanthenopyrans;スピロピラン、例えば、スピロベンゾインドリンナフトピラン、スピロインドリンベンゾピラン、スピロインドリンナフトピラン、スピロインドリンキノピランおよびスピロインドリンピランの開示について、参考として本明細書に援用されるにおいて開示されているものが含まれる。ナフトピランおよび補完的な有機フォトクロミック物質のさらなる具体例は、その開示が参考として特に本明細書に援用されている米国特許第5,658,501号に記載されている。スピロインドリンピランはまた、その開示が参考として本明細書に援用されているテキストTechniquesinChemistry、第III巻、Photochromism、第3章、GlennH.Brown編、JohnWileyandSons,Inc.、NewYork、1971年に記載されている。補完的な熱可逆性フォトクロミックオキサジンの非限定的例には、ベンゾオキサジン、ナフトオキサジン、およびスピロ-オキサジン、例えば、スピロインドリンナフトオキサジン、スピロインドリンピリドベンゾオキサジン、スピロベンゾインドリンピリドベンゾオキサジン、スピロベンゾインドリンナフトオキサジン、スピロインドリンベンゾオキサジン、スピロインドリンフルオランテノオキサジンfluoranthenoxazine、およびスピロインドリンキノオキサジンquinoxazineが含まれる。補完的な熱可逆性フォトクロミックフルギドのさらなる非限定的例には、フルギミド、ならびに3-フリルフルギド、3-チエニルフルギド、3-フリルフルギミド、および3-チエニルフルギミド米国特許第4,931,220号に開示されているこのようなフルギミドの開示は、参考として特に本明細書に援用されるならびに上記のフォトクロミック材料/化合物のいずれかの混合物が含まれる。例えば、本明細書において開示されているフォトクロミック化合物は、有機ホスト材料この有機ホスト材料の中にフォトクロミック化合物が組み込まれるか、またはフォトクロミック化合物の上にこの有機ホスト材料を付着させるが、活性化状態または脱色した状態において所望の色複数可を示すことができるような量もしくは比で、単独で、または別の従来の有機フォトクロミック化合物上記で考察するようなと併せて使用され得ることが企図されている。したがって、使用されるフォトクロミック化合物の量は重大ではないが、ただし、所望のフォトクロミック作用を生じさせるのに十分な量が存在する。本明細書において使用する場合、フォトクロミック量という用語は、所望のフォトクロミック作用を生じさせるのに必要なフォトクロミック化合物の量を意味する。本発明はまた、基材と、基材のその少なくとも1つの表面の少なくとも一部に接続されている、フォトクロミック量の本開示のフォトクロミック化合物を有するコーティング組成物の少なくとも部分的なコーティングとを含む、フォトクロミック物品を提供する。さらに、本明細書においてこれらだけに限定されないが、少なくとも部分的なコーティングの少なくとも一部は、少なくとも部分的に固化されていてもよい。本明細書において使用する場合、固化されるという用語は、所望の方向付けに固定することを意味する。例えば、上記の非限定的実施形態によると、コーティング組成物は、これらだけに限定されないが、ポリマーコーティング組成物、ペイント、およびインクから選択され得る。さらに、本明細書において開示されているフォトクロミック化合物に加えて、様々な非限定的実施形態によるコーティング組成物は、300nm~1000nmの範囲内300nmおよび1000nmを含むに少なくとも1つの活性化吸収極大を有する少なくとも1種の他の従来の有機フォトクロミック化合物をさらに含むことができる。フォトクロミック量のフォトクロミック化合物を含むコーティング組成物を付着させることができる適切な基材の非限定的例には、ガラス、石造りのもの、テキスタイル、セラミックス、金属、木、紙およびポリマー有機材料が含まれる。適切なポリマー有機材料の非限定的例は、上に記載する。さらに提供されるのは、基材と、基材の少なくとも一部に接続されている少なくとも1種の本開示のフォトクロミック化合物を含む少なくとも部分的なコーティングとを含む光学素子である。光学素子の非限定的例には、眼部素子、ディスプレイ素子、窓、および鏡が含まれる。例えば、光学素子は、眼部素子でよく、基材は、矯正および非矯正レンズ、部分的に形成されたレンズ、およびレンズブランクから選択される眼部基材でよい。本明細書においてこれらだけに限定されないが、光学素子は、所望の光学特性例えば、これらに限定されないが、フォトクロミック特性および二色性特性などを達成するのに必要とされる任意の量のフォトクロミック化合物を含むことができる。上記の非限定的実施形態と併せて使用するのに適した基材の他の非限定的例には、着色されていない基材、着色された基材、フォトクロミック基材、着色されたフォトクロミック基材、直線偏光基材、円偏光基材、楕円偏光基材、反射基材、ならびに波長板または遅延基材、例えば、4分の1波長板および2分の1波長板が含まれる。基材に関連して本明細書において使用する場合、着色されていないという用語は、着色剤添加物これらに限定されないが、従来の染料などを本質的に含まず、かつ化学線に応答して有意に変化しない可視光線についての吸収スペクトルを有する基材を意味する。さらに、基材に関連して、着色されたという用語は、着色剤添加物これらに限定されないが、従来の染料などを有し、かつ化学線に応答して有意に変化しない可視光線についての吸収スペクトルを有する基材を意味する。本明細書において使用する場合、基材に関連して直線偏光という用語は、放射線を直線的に偏光させるすなわち、光波の電気ベクトルの振動を一方向に制限するのに適合した基材を意味する。本明細書において使用する場合、基材に関連して円偏光という用語は、放射線を円偏光するのに適合した基材を意味する。本明細書において使用する場合、基材に関連して楕円偏光という用語は、放射線を楕円偏光するのに適合した基材を意味する。基材に関連して本明細書において使用する場合、フォトクロミックという用語は、少なくとも化学線に応答して変化する可視光線についての吸収スペクトルを有し、熱可逆性である基材を意味する。さらに、基材に関連して本明細書において使用する場合、着色されたフォトクロミックという用語は、着色剤添加物およびフォトクロミック化合物を含有し、かつ少なくとも化学線に応答して変化する可視光線についての吸収スペクトルを有し、熱可逆性である基材を意味する。従って、例えば、着色されたフォトクロミック基材は、化学線に曝露されたとき、着色剤の第1の色特性、および着色剤およびフォトクロミック化合物の組合せの第2の色特性を有することができる。本発明はまた、基材と、基材の少なくとも一部に接続されている少なくとも1種の本開示のフォトクロミック化合物を含む少なくとも部分的なコーティングとを含む光学素子を対象とする。上で考察したように、本発明による光学素子は、ディスプレイ素子例えば、これらに限定されないが、スクリーン、モニター、およびセキュリティ素子などでよい。例えば、光学素子は、第1の表面を有する第1の基材、第2の表面を有する第2の基材を含むディスプレイ素子でよく、第2の基材の第2の表面は、ギャップを画定するように、第1の基材の第1の表面の反対側にあり、そして第1の基材の第1の表面から離間しており、少なくとも1種の本開示のフォトクロミック化合物を含む流体材料は、第1の基材の第1の表面および第2の基材の第2の表面によって画定されたギャップ内に位置している。第1および第2の基材は、着色されていない基材、着色された基材、フォトクロミック基材、着色されたフォトクロミック基材、直線偏光基材、円偏光基材、楕円偏光基材および反射基材および遅延基材から独立に選択され得る。本発明はまた、基材と、基材の少なくとも一部に接続されている本開示の少なくとも1種のフォトクロミック化合物とを含むセキュリティ素子を提供する。セキュリティ素子の非限定的例には、例えば、これらだけに限定されないが、アクセスカードおよびパス、例えば、チケット、バッジ、身分証明書または会員券、デビットカードなど;流通証券および非流通証券、例えば、為替手形、小切手、債務証書、短期証券、定期預金証書、株券など;公文書、例えば、通貨、ライセンス、身分証明書、給付カード、ビザ、パスポート、公的証明書、権利書など;消費者用品、例えば、ソフトウェア、コンパクトディスクCD、デジタルビデオディスクDVD、家庭器具、消費者用電化製品、スポーツ用品、車など;クレジットカード;ならびに商品タグ、ラベルおよびパッケージングなどの、基材の少なくとも一部に接続されているセキュリティマークおよび認証マークが含まれる。本明細書においてこれらだけに限定されないが、セキュリティ素子は、透明な基材および反射基材から選択される基材の少なくとも一部に接続され得る。代わりに、反射基材が必要とされる場合で、基材が意図する用途に対して反射性でないかまたは十分に反射性でない場合、セキュリティマークを基材に付着させる前に、反射材料を、基材の少なくとも一部に最初に付着させることができる。例えば、反射アルミニウムコーティングの上にセキュリティ素子を形成させる前に、反射アルミニウムコーティングを基材の少なくとも一部に付着させることができる。まださらに、セキュリティ素子は、着色されていない基材、着色された基材、フォトクロミック基材、着色されたフォトクロミック基材、直線偏光基材、円偏光基材、および楕円偏光基材から選択される基材の少なくとも一部に接続され得る。さらに、上記のセキュリティ素子は、1つまたは複数の他のコーティングまたはシートをさらに含むことができ、米国特許第6,641,874号多重反射フィルムに関するその開示は参考として本明細書中に特に援用されるに記載されているような視角依存性の特徴を有する多層反射セキュリティ素子を形成する。上記のフォトクロミック物品および光学素子は、当技術分野において公知の方法によって形成され得る。本明細書においてこれらだけに限定されないが、本明細書において開示されているフォトクロミック化合物は、ホスト材料中への組込みか、またはホストもしくは基材上への付着例えば、コーティングの形態でによって、基材もしくはホストに接続され得ることが企図されている。例えば、フォトクロミック化合物は、ホスト材料内にフォトクロミック化合物を溶解または分散させることによって、例えば、重合前にモノマーホスト材料にフォトクロミック化合物を加えることによって所定位置へ入れ、フォトクロミック化合物の熱い溶液中へのホスト材料の液浸または熱移動によるホスト材料中へのフォトクロミック化合物の吸い込みimbibingによって、有機ホスト材料中に組み込まれ得る。本明細書において使用する場合、吸い込みという用語は、ホスト材料中へのフォトクロミック化合物単独の浸透、多孔質ポリマー中へのフォトクロミック化合物の溶媒補助移動、気相移動、および他のこのような移動方法を含む。さらに、本明細書において開示されているフォトクロミック化合物を、コーティング組成物上で考察したようなの一部として、またはフォトクロミック化合物を含むシートとして、有機ホスト材料または他の基材に付着させることができる。本明細書において使用する場合、コーティングという用語は、均一な厚さを有してもよく、または有さなくてもよい、流動性のある組成物から得られる支持されたフィルムを意味する。本明細書において使用する場合、シートという用語は、全体的に均一な厚さを有し、自立することができる事前形成されたフィルムを意味する。このような場合には、紫外線吸収剤は、コーティングもしくはシートへのその添加前にフォトクロミック材料と混合され得るか、またはこのような吸収剤は、フォトクロミック物品と入射光との間のコーティングもしくはフィルムとして重ねられ得る例えば、重ね合わせられ得る。本明細書において開示されているフォトクロミック化合物を含むコーティング組成物を付着させる非限定的方法には、コーティングを付着させるための当技術分野において公知の方法、例えば、スピンコーティング、スプレーコーティング、スプレーおよびスピンコーティング、カーテンコーティング、フローコーティング、浸漬コーティング、射出成形、キャスティング、ロール塗布、ワイヤーコーティング、およびオーバーモールディングが含まれる。フォトクロミック化合物を含むコーティングこのコーティングはコーティング組成物の形態であり得るをモールドに付着させることができ、基材をコーティングの上に形成させることができるすなわち、オーバーモールディング。さらにまたは代わりに、フォトクロミック化合物を有さないコーティング組成物を、上記の技術のいずれかを使用して基材または有機ホスト材料に最初に付着させることができ、その後そのコーティング組成物に上記のようなフォトクロミック化合物を吸い込ませることができる。フォトクロミック材料を含むことができるフィルム形成ポリマーのコーティング組成物の非限定的例は、下記の通りである。フォトクロミック/二色性液晶コーティング例えば、米国特許第7,256,921号の第2欄第60行から第94欄第23行に記載されたもの;フォトクロミックポリウレタンコーティング例えば、米国特許第6,187,444号の第3欄第4行から第12欄第15行に記載されたもの;フォトクロミックアミノプラスト樹脂コーティング例えば、米国特許第6,432,544号の第2欄第52行から第14欄第5行、および同第6,506,488号の第2欄第43行から第12欄第23行に記載されたもの;フォトクロミックポリシロキサンコーティング例えば、米国特許第4,556,605号の第2欄第15行から第7欄第27行に記載されたもの;フォトクロミックポリメタアクリレートコーティング例えば、米国特許第6,602,603号の第3欄第15行から第7欄第50行、同第6,150,430号の第8欄第15~38行、および同第6,025,026号の第8欄第66行から第10欄第32行に記載されたもの;ポリ酸無水物フォトクロミックコーティング例えば、米国特許第6,436,525号の第2欄第52行から第11欄第60行に記載されたもの;フォトクロミックポリアクリルアミドコーティング米国特許第6,060,001号の第2欄第6行から第5欄第40行に記載されたもの;フォトクロミックエポキシ樹脂コーティング例えば、米国特許第6,268,055号の第2欄第63行から第15欄第12行に記載されたもの;およびフォトクロミックポリ尿素-ウレタンコーティング例えば、米国特許第6,531,076号の第2欄第60行から第10欄第49行に記載されたもの。皮膜形成ポリマーに関する上記米国特許の開示は、これによって参考として本明細書中に援用される。本明細書において開示されているフォトクロミック化合物を含むシートを基材に付着させる非限定的方法には、例えば、ポリマーシートを基材の少なくとも一部に、積層化すること、融合させること、インモールドキャスティングすること、および粘着性結合させることの少なくとも1つが含まれる。本明細書において使用する場合、インモールドキャスティングは、種々のキャスティング技術例えば、これらに限定されないがオーバーモールディングここでは、シートをモールド中に入れ、基材の少なくとも一部の上に基材を例えば、キャスティングによって形成させる;および射出成形ここでは、基材を、シートの周りで形成させるなどを含む。さらに、フォトクロミック化合物を、コーティングとしてシートに付着させることができるか、またはシートを基材に付着させる前もしくはその後に、吸い込みによって、または他の適切な方法によってシート中に組み込むことができることが企図されている。ポリマーシートは、熱硬化性ポリマーおよび熱可塑性ポリマーの両方を含めた、多種多様のポリマーのいずれかのポリマー組成物を含むことができる。本明細書において使用する場合、ポリマーという用語は、ポリマーおよびオリゴマーの両方、ならびにホモポリマーおよびコポリマーの両方を含むことが意図される。このようなポリマーは、例えば、アクリルポリマー、ポリエステルポリマー、ポリウレタンポリマー、ポリ尿素ウレタンポリマー、ポリアミンポリマー、ポリエポキシドポリマー、ポリアミドポリマー、ポリエーテルポリマー、ポリシロキサンポリマー、ポリスルフィドポリマー、これらのコポリマー、およびこれらの混合物を含むことができる。一般に、これらのポリマーは、当業者に公知の任意の方法によって作製されたこれらのタイプのいずれかのポリマーでよい。ポリマーシートを形成するために使用されるポリマーはまた、これらに限定されないが、カルボン酸基、アミン基、エポキシド基、ヒドロキシル基、チオール基、カルバメート基、アミド基、尿素基、イソシアネート基ブロックイソシアネート基を含めた、メルカプタン基、エチレン性不飽和を有する基例えば、アクリレート基、ビニル基、およびこれらの組合せを含めた官能基を含み得る。フィルム形成樹脂の適当な混合物はまた、コーティング組成物の調製において使用され得る。ポリマー組成物このポリマー組成物からポリマーシートが形成されるが、官能基含有ポリマー例えば、上記の官能基含有ポリマーのいずれかを含む場合、ポリマー組成物は、前記ポリマーの官能基と反応性である官能基を有する材料をさらに含むことができる。反応は、例えば、熱硬化技術、光によって開始される硬化技術、酸化的硬化技術、および/または放射性硬化技術によって促進され得る。また企図されるのは、上記ポリマーのいずれかの混合物である。本発明のポリマーシートを形成することにおいて使用するのに適したポリマーのさらなる非限定的例は、米国特許出願公開第2004/0068071A1号のパラグラフ[0020]~[0042]この指定した部分は、参考として本明細書に援用される;および米国特許第6,096,375号の第18欄第8行から第19欄第5行この指定した部分は、参考として本明細書に援用されるに記載されている、ポリメタアクリル酸アルキルおよびポリアミドの熱可塑性ブロックコポリマーである。ポリマーシートは、エラストマー性ポリマー、例えば、熱可塑性エラストマー性ポリマーを含み得る。本明細書において使用する場合、エラストマー性ポリマーとは、少なくとも部分的に可逆的に変形または伸長をすることができるように、高度な弾力性および弾性を有するポリマーを意味する。場合によっては、伸展させられたとき、エラストマーの分子は配向され、結晶性配置の態様をとることができ、解放することによって、エラストマーは、ある程度、その天然の整列していない状態に戻ることができる。本発明の目的のために、エラストマー性ポリマーは、熱可塑性ポリマー、熱可塑性エラストマー性ポリマー、および熱硬化性ポリマーを含むことができるが、ただし、このようなポリマーは、エラストマー性ポリマーについて上で提供した記載の範囲内に入る。エラストマー性ポリマーは、これらに限定されないが、上記ポリマーのいずれかのコポリマーを含めた多種多様の当該技術分野で認識されているエラストマーのいずれかを含むことができる。本発明の一実施形態において、エラストマー性ポリマーは、ポリマー骨格においてエーテルおよび/またはエステル結合を有するブロックコポリマーを含むことができる。適切なブロックコポリマーの例には、これらに限定されないが、ポリアミド-エーテルブロックコポリマー、ポリエステル-エーテルブロックコポリマー、ポリエーテル-ウレタンブロックコポリマー、ポリエステル-ウレタンブロックコポリマー、および/またはポリエーテル-尿素ブロックコポリマーを含むことができる。このようなエラストマー性ポリマーの適切な具体例は、これらに限定されないが、商品名DESMOPAN登録商標およびTEXIN登録商標BayerMaterialScienceから;ARNITEL登録商標RoyalDSMから;ならびにPEBAX登録商標AtofinaChemicalsまたはCordisCorporationからで市販されているものを含むことができる。さらに、上で考察したように、本明細書において開示されているフォトクロミック化合物を、単独で、または少なくとも1種の他の従来の有機フォトクロミック化合物と組み合わせて、組み込んでも、付着させてもよく、また、この少なくとも1種の他の従来の有機フォトクロミック化合物を、上記のようなホスト材料および基材に付着させても、またはそれらの中に組み込んでもよい。他のフォトクロミックコーティング、反射防止コーティング、直線偏光コーティング、遷移コーティング、プライマーコーティング、接着コーティング、ミラーコーティングおよび保護コーティングくもり止めコーティングを含めた、酸素バリヤーコーティングおよび紫外線光吸収コーティングを含めたさらなるコーティングを、フォトクロミック物品に付着させてもよい。本明細書に記載されている実施形態を、以下の非限定的例によってさらに例示する。本発明を、その特定の実施形態の特定の詳細に関連して記載してきた。このような詳細が添付の特許請求の範囲に含まれている場合を除いて、詳細を本発明の範囲に対する制限であると見なすことは意図しない。実施例実施例のパート1において、本明細書において開示されている様々な非限定的な実施形態によってフォトクロミック材料を作製するために使用される合成手順を、実施例1~26および比較例CE1~7において記載する。パート2は、実施例1~22、24および26ならびにCE1~7についてのフォトクロミック性能試験および結果を記載する。パート1-合成手順実施例1工程1マグネシウム2gを、トリブロモベンゼン27.5gおよびTHF200mlの混合物が入った滴下漏斗を備えた乾燥フラスコに入れた。滴下漏斗中の溶液20mlを、フラスコに加えた。数滴のジブロモエタンをまたフラスコに加え、数分で反応フラスコ中の内容物は沸騰し始めた。滴下漏斗中の溶液の残りを、滴下で添加した。氷水を時折使用して、反応混合物を冷却した。添加の後、混合物を室温で2時間撹拌した。0°Cで、ビス[2-N,N-ジメチルアミノエチル]エーテル14gを加え、30分間撹拌した。塩化ベンゾイル12.3gを1度に加え、混合物を0°Cで4時間撹拌した。水500mlを、混合物に加えた。3NのHClを使用して、pHを約5に調節した。酢酸エチルを、混合物500mlに加えた。得られた有機層を集め、水で洗浄し、炭酸水素ナトリウムで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。生成物を、溶離液として8/2v/vのヘキサン/酢酸エチルEtOAcを使用してシリカゲルプラグカラムによって精製した。粘性油状物8gを、生成物として得た。NMRは、生成物が、3,5-ジブロモベンゾフェノンと一致する構造を有することを示した。次の工程で十分な生成物が得られるように、同じ反応をスケールアップした。工程2工程1からの生成物30g、コハク酸ジメチル17gおよびトルエン500mlを、機械式撹拌機、固体添加漏斗および窒素ブランケットを備えた反応フラスコに加えた。混合物を、固体が溶解するまで室温で撹拌した。カリウムt-ブトキシド11gを固体添加漏斗を通して加え、混合物を室温で2時間撹拌した。得られた反応混合物を1Lの水に注ぎ、生成物を含有する水層を集めた。トルエン層を、200mlの水で抽出した。合わせた水溶液を、トルエンで洗浄した。HCl3Nを水溶液に加え、pHを5に調節した。得られた混合物を酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、真空中で乾燥させた。淡黄色の固体を、生成物として得た。これを次の工程において直接使用した。工程3工程2からの生成物および無水酢酸200mlを混合し、冷却器を備えた反応フラスコ中で還流させた。2時間後、無水酢酸を真空蒸発によって除去し、回収した油状物を次の工程において直接使用した。工程4工程3から得た油状物が入った反応フラスコに、メタノール200mLおよびHCl12N、2mlを加えた。混合物を2時間還流させた。メタノールを真空蒸発によって除去した。回収した油状物を酢酸エチルに溶解させ、炭酸水素ナトリウム飽和水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、白色の結晶が熱い溶液から形成され始めるまで濃縮した。混合物を室温に冷却した。白色の結晶を集め、乾燥させた8.8g。プロトン核磁気共鳴NMRは、生成物が、2,4-ジブロモ-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールと一致する構造を有することを示した。工程5工程4からの生成物8.8gを、滴下漏斗および磁気撹拌棒を備えたオーブン乾燥したフラスコ中で無水THF200mlに溶解させた。混合物を室温で撹拌し、臭化メチルマグネシウム43mlのTHF溶液1.4Mを滴下で添加した。添加の後、混合物を室温で約4時間撹拌した。次いで、反応混合物を200mlの氷水に注ぎ、HCl3Nを使用してpHを約5に調節した。酢酸エチル200mLを加え、得られた有機層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、真空中で乾燥させた。回収した白色の固体を次の工程において直接使用した。工程6工程5からの生成物、ビスマストリフレート0.5gおよびトルエン100mLを、磁気撹拌棒を備えた反応フラスコに加えた。混合物を1時間還流させた。次いで、反応混合物を、次の工程において直接使用した。工程7工程6からの生成物の半量を、別の反応フラスコに移した。フラスコに、1,1-ビス4-メトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オール2.7gおよびp-トルエンスルホン酸の少量の結晶を加えた。混合物を室温で1時間撹拌した。生成物を、TeledyneISCOからのCombiFlashRfを使用して精製し、それに続いてアセトンから再結晶させた。黄色の結晶を、生成物2.54gとして得た。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表される3,3-ビス4-メトキシフェニル-5,7-ジブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例2工程1マグネシウム5.38gおよびTHF50mlを、1-ブロモ-3,5-ジクロロベンゼン50gおよびTHF300mlの混合物が入った滴下漏斗を備えた乾燥フラスコ中に入れた。滴下漏斗中の溶液30mlを、フラスコに加えた。数滴のジブロモエタンもまた加え、数分後、反応フラスコ中の内容物は沸騰し始めた。滴下漏斗中の溶液の残りを、滴下で添加した。氷水を時折使用して、反応混合物を冷却した。添加の後、混合物を室温で2時間撹拌した。次いで、ベンゾニトリル22.82gを反応混合物に加え、得られた混合物を2日間還流させた。3NのHCl300mlを加えた。混合物を、4時間撹拌し、次いで酢酸エチルを使用して抽出した。得られた有機層を分液漏斗によって集め、次いで濃縮した。回収した油状物49gを、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程2工程1からの生成物47g、コハク酸ジメチル36gおよびトルエン500mlを、機械式撹拌機、固体添加漏斗および窒素ブランケットを備えた反応フラスコに加えた。固体が溶解するまで、混合物を室温で撹拌した。固体カリウムt-ブトキシド23.1gを固体添加漏斗を通して加え、混合物を室温で4時間撹拌した。得られた反応混合物を1Lの水に注ぎ、得られた、生成物を含有する水層を集めた。回収したトルエン層を、200mlの水で抽出した。合わせた水溶液を、トルエンで洗浄した。HCl3Nを得られた水溶液に加え、pHを5に調節した。得られた混合物を、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、真空中で乾燥させた。油状物を、生成物として得た。これを次の工程において直接使用した。工程3工程2からの生成物および無水酢酸200mlを混合し、冷却器を備えた反応フラスコ中で還流させた。1時間後、無水酢酸を真空蒸発によって除去し、得られた油状物を次の工程において直接使用した。工程4工程3からの生成物が入った反応フラスコに、メタノール500mLおよびHCl12N、1mlを加えた。混合物を2時間還流させた。メタノールを真空蒸発によって除去した。回収した油状物を塩化メチレンに溶解させ、炭酸水素ナトリウム飽和水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、真空下で乾燥させた。透明な油状物48gを得た。酢酸エチル/ヘキサン1/9を使用し、生成物を結晶化させた。白色の結晶12gを、生成物として得た。NMRは、生成物が、2,4-ジクロロ-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールと一致する構造を有することを示した。工程52,4-ジクロロ-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールを、2,4-ジブロモ-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールの代わりに使用したこと以外は、実施例1の工程5~7の手順に従った。オフホワイトの結晶を、生成物として得た。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表される3,3-ビス4-メトキシフェニル-5,7-ジクロロ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例3工程1トリブロモベンゼン100gおよび磁気撹拌棒を有する2Lのフラスコを、真空オーブン中で80°Cにて4時間乾燥させた。乾燥THF500mlを加え、得られた混合物を撹拌した。固体が溶解した後、NaCl1Kgおよび氷2.45Kgを使用してNaCl飽和氷浴を利用した。3Mのイソプロピルマグネシウムクロリド160mlを、約30分から1時間の間隔に亘り反応温度を約0°Cに制御しておく速度で滴下にて添加した。混合物を、同じ温度で30分間撹拌した。温度を-20~0°Cに低下させた後、ビス[2-N,N-ジメチルアミノエチル]エーテル61gを5分に亘りゆっくりと加えた。多量の沈殿物が形成された。懸濁液を20分間撹拌し、4-トリフルオロメチルベンゾイルクロリド73gおよびTHF100mlの混合物を5分に亘り加えた。混合物を一晩撹拌し、水100mlをゆっくりと加え、反応をクエンチした。3NのHClを使用して、pHを2に調節した。分液漏斗を使用して得られた有機層を集め、5NaOH/水およびNaCl/水で洗浄し、乾燥させ、濃縮した。回収した油状物に、メタノール300mlを加え、結晶化を誘発し、白色の結晶を濾過によって集めた。NMRは、回収した白色の結晶87gが、3,5-ジブロモ-4’-トリフルオロメチルベンゾフェノンと一致する構造を有することを示した。工程2工程1の生成物75g、ジメチルコハク酸エステル32.2gおよびトルエン800mlを、機械式撹拌機を備えた5Lの三つ口フラスコに入れた。カリウムt-ブトキシド22.6gを、30分でバッチ式にて加えた。発熱および多量の沈殿物が観察された。2時間後、水500mlを加え、3NのHClを使用して得られた乳濁した混合物のpHを約2に調節した。室温で10分間撹拌した後、分液漏斗を使用して得られた有機層を集め、NaCl/HClで洗浄し、MgSO4で乾燥させた。濃縮後、ヘキサンを生成物に加え、形成された白色の結晶を濾過によって集めた。NMRは、得られた生成物62グラムが、E-4-3,5-ジブロモフェニル-3-メトキシカルボニル-4-4-トリフルオロメチルフェニルブタ-3-エン酸と一致する構造を有することを示した。工程3無水塩化ランタンIII100gを、非常に微細な粉末に粉砕し、次いで、機械式撹拌機および滴下漏斗を備えた5リットルの三つ口フラスコ中で塩化リチウム52gおよび乾燥THF1リットルと混合した。固体が溶解するまで、混合物を数時間還流させた。工程2の生成物106gを、混合物に溶解させた。次いで、混合物を-15°Cに冷却した。3Mの塩化メチルマグネシウムの溶液238mlを、滴下漏斗に入れた。グリニャールの最初の30を、混合物にゆっくりと加えた。気泡の発生が観察された。温度を-15°Cに戻した後、グリニャール試薬の残りを、2分に亘り混合物に加えた。30分後、水1Lを混合物にゆっくりと加え、酢酸を使用してpHを4に調節した。2つの層の形成と共に混合物は明澄となった。水層を排出させた。有機層をNaCl/水で4回洗浄し、次いで濃縮乾燥させた。淡黄色がかった固体を得た。固体をトルエンに再溶解させ、トルエンをエレメントとして使用してシリカゲルプラグカラムを通して濾過した。得られた透明な溶液を濃縮し、白色の固体生成物を形成させ、これを、それ以上精製することなく次の工程で使用した。試料をメタノールから再結晶させ、NMRスペクトルは、精製した結晶が、E-4-3,5-ジブロモフェニル4-トリフルオロメチルフェニルメチレン-5,5-ジメチルジヒドロフラン-23H-オンと一致する構造を有することを示した。工程4工程3の生成物の全て、トルエン500ml、ビスマストリフレート20gおよび酢酸0.24gを反応フラスコに加え、還流させながら1時間撹拌した。これを室温に冷却した後、無水酢酸100mlを加えた。混合物を再び加熱還流させた。1時間後、混合物を室温に冷却し、トルエンを溶離液として使用してシリカゲルプラグカラムを通して濾過した。回収した透明な溶液を濃縮乾燥させた。アセトン50mlを得られた固体に加え、スラリーを得た。スラリー混合物に、メタノール250mlを加えた。混合物を冷却し、白色の結晶が形成され、集め、乾燥後58gを得た。NMRは、生成物が、8,10-ジブロモ-7,7-ジメチル-3-トリフルオロメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-イルアセテートと一致する構造を有することを示したが、この実施例にとってはこれは望ましくない位置異性体であった。所望の異性体は、母液中にあった。母液を濃縮して油状物とし、次の工程において直接使用した。工程5工程4からの生成物の全てが入った反応フラスコに、メタノール200mLおよびHCl12N、2mlを加えた。混合物を2時間還流させた。メタノールを真空蒸発によって除去した。回収した油状物を、シリカゲルプラグカラム、それに続くヘキサンからの再結晶によって精製した。白色の結晶を集め、乾燥させた7.2g。NMRは、生成物が、2,4-ジブロモ-7,7-ジメチル-9-トリフルオロメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールと一致する構造を有することを示した。工程6工程5からの生成物4.86gのクロロホルム溶液100mLに、1-4-ブトキシフェニル-1-4-メトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オール3.72gおよび4-ドデシルベンゼンスルホン酸0.33gを加えた。溶液を3時間加熱還流させた。反応混合物を減圧下で濃縮し、油性残渣を得た。残渣を、4:1のヘキサンとトルエンの混合物を溶離液として使用するカラムクロマトグラフィーによって精製した。所望の材料を含有する画分をグループ化し、紫色の泡状物5.4gに濃縮し、これは凝固した。紫色の固体のNMR分析は、下記の構造式によって表される3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジブロモ-11-トリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を示した。実施例4工程1工程1において、3,5-ジフルオロベンゾイルクロリドを4-トリフルオロメチルベンゾイルクロリドの代わりに使用し、工程4において、生成物の混合物を工程5において直接使用し、工程5において、所望の8,10-ジブロモ-2,4-ジフルオロ-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールを、酢酸エチルを溶媒として使用して再結晶させたこと以外は、実施例3の工程1から工程5までの手順に従った。NMRは、生成物が、8,10-ジブロモ-2,4-ジフルオロ-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールと一致する構造を有することを示した。工程2上記の工程1の生成物を2,4-ジブロモ-7,7-ジメチル-9-トリフルオロメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールの代わりに使用し、1-4-フルオロフェニル-1-4-N-ピペリジニルフェニルプロパ-2-イン-1-オールを1-4-メトキシフェニル-1-4-ブトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オールの代わりに使用したこと以外は、実施例3の工程6からの手順に従った。NMRは、生成物が、下記の構造式によって表される3-4-フルオロフェニル-3-4-N-ピペリジニルフェニル5,7-ジフルオロ-10,12-ジブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例5工程1削り状マグネシウムMg13.5g、0.55molを、冷却器および磁気撹拌棒を装着した丸底フラスコに加え、N2下に保った。4-ブロモ-1,2-ジメトキシベンゼン[100g66.3mL、0.46mol]を、THF200mLに加えた。この溶液の一部30mLを、削り状Mgに加えた。次いで、ジブロモエタンDBE、1mLを加え、フラスコを氷浴中に置き、温度を制御した。4-ブロモ-1,2-ジメトキシベンゼンの溶液の残りを、反応混合物に滴下で添加した。削り状Mgが溶解した後、溶液の色は淡黄色となった。反応混合物が濃厚となると、さらなるTHF100mLを加えた。次いで、2,2’-オキシビスN,N-ジメチルエタンアミン[82g98mL、0.51mol]を、0°Cで撹拌しながら滴下で添加した。混合物を、約10分間撹拌した。3,5-ビストリフルオロメチルベンゾイルクロリド[141g92.4mL、0.51mol]を、THF200mLで希釈し、撹拌しながら0°Cにて滴下で添加し、白色の固体が形成された。一晩撹拌した後、反応混合物を10重量のNaClと共に氷水1.5Lに加え、15~20分撹拌し、次いでHClを使用して約4のpHに酸性化した。得られた混合物を、酢酸エチルEtOAc、1Lで抽出し、EtOAcを溶離液として使用して無水MgSO4およびシリカベッドを通過させた。溶媒を蒸発させ、得られた3,5-ビストリフルオロメチルフェニル3,4-ジメトキシフェニルメタノンを含有する色の濃い濃厚なゴム状の材料157gを、次の工程で使用した。工程2工程1の生成物157gおよびコハク酸ジメチル80g、73mLを、N2下でオーバーヘッド機械式撹拌機を装着した丸底フラスコに加えた。テトラヒドロフラン1Lを加えた。カリウムt-ブトキシド52gを0.5~1時間に亘り加え、反応混合物の温度を制御した氷水浴中15~20°Cに維持した。2時間撹拌した後、反応混合物を、10重量のNaClと共に氷水に加えた。混合物全体を、15~20分撹拌した。上部有機層を分離し、HClを使用して水層を約4のpHに酸性化し、次いでEtOAcで抽出し、無水MgSO4ベッドを通過させた。溶媒を蒸発させ、得られた4-3,5-ビストリフルオロメチルフェニル-4-3,4-ジメトキシフェニル-3-メトキシカルボニルブタ-3-エン酸EおよびZの混合物を含有する色の濃い濃厚なゴム状の材料197gを、次の工程で使用した。工程3工程2の生成物197g、0.4molおよび無水酢酸[270g250mL、2.64mol]を、CH2Cl21Lが入った反応フラスコに加えた。ビスマストリフレート18.2g、0.028molを加え、反応混合物を室温で1/2時間撹拌した。得られた溶液を濾過し、溶媒を蒸発させ、濃い色のゴム状の生成物を得た。ゴム状の材料をイソ-プロパノール0.5Lによって洗浄することで、オフホワイトの結晶化生成物が生じた。生成物を単離し、真空下で乾燥させた135g、0.26mol。NMR分析は、生成物が、メチル4-アセトキシ-1-3,5-ビストリフルオロメチルフェニル-6,7-ジメトキシ-2-ナフトエートと一致する構造を有することを示した。工程4工程3の生成物135gをTHF1Lに溶解させ、塩化メチルマグネシウムMeMgCl[525mLTHF中22重量、1.56mol]を、N2雰囲気下で撹拌しながら滴下で添加した。反応混合物を室温で約3時間撹拌し、10重量のNaClと共に氷水1.5Lに加えた。混合物全体を約15分撹拌し、HClを使用して約3のpHに酸性化し、EtOAc1Lで抽出した。得られた有機層を分離し、NaHCO3溶液0.5Lで洗浄し、無水MgSO4ベッドを通過させた。溶媒を蒸発させ、得られた色の濃い濃厚なゴム状の材料を、MeOHによる洗浄を使用して凝固させた。NMR分析は、生成物101gが、4-3,5-ビストリフルオロメチルフェニル-6,7-ジメトキシ-3-プロパ-1-エン-2-イルナフタレン-1-オールと一致する構造を有することを示した。工程5工程4の生成物180gおよびビスマストリフレート13.12gを、冷却器を備えた丸底フラスコ中でキシレン1.8Lに加えた。反応混合物を撹拌しながらN2下で一晩還流させた。得られた混合物を濾過し、溶媒を蒸発させ、EtOAc:ヘキサン=1:3の混合物を溶出溶媒として使用してシリカゲルプラグカラムを通過させた。ヘキサンによる洗浄の後で、生成物を単離した105g。NMR分析は、生成物が、2,3-ジメトキシ-7,7-ジメチル-8,10-ビストリフルオロメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールと一致する構造を有することを示した。工程6トルエン/THF75/25860mL中の臭化メチルマグネシウム1.4Mおよび2,6-ジメチルピペリジン40.8g50mLを、N2下で丸底フラスコに加えた。さらなるTHFを加え、35°Cに維持しながらrxn混合物中でトルエン/THF=1/1.2v/vの比とした。工程5の生成物108gを、いくつかに分割して撹拌しながら加えた。反応混合物を一晩還流させ、10重量のNaClと共に氷水に加え、沈殿物が形成された。1NのHClで酸性化した後、沈殿物を約6のpHで溶解させ、薄茶色の油状物が形成された。混合物を、EtOAcで抽出した。得られた有機層を分離し、NaHCO3溶液で洗浄し、無水MgSO4ベッドを通過させ、乾燥させ、得られた色の濃い濃厚なゴム状の材料を、ヘキサンで洗浄することによって凝固させた。NMR分析は、生成物64gが、3-メトキシ-7,7-ジメチル-8,10-ビストリフルオロメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-2,5-ジオールと一致する構造を有することを示した。工程7工程6の生成物50g;0.11molを、窒素雰囲気下にて撹拌しながらCH2Cl20.5Lが入った反応フラスコに加えた。ピリジン22g;0.28molを反応混合物中に加え、得られた反応混合物を、氷水浴を使用して冷却した。塩化アセチル19g;0.24molを反応混合物にゆっくりと加え、反応温度を室温にした。15分後、溶媒を蒸発させ、得られた材料をMeOHで洗浄し、真空オーブン中で乾燥させ、次の工程で使用した。NMR分析は、生成物55gが、3-メトキシ-7,7-ジメチル-8,10-ビストリフルオロメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-2,5-ジイルジアセテートと一致する構造を有することを示した。工程8工程7からの生成物25g;0.05molをN,N-ジメチルホルムアミド250mLに溶解させ、N-クロロスクシンイミド8.01g;0.06molを反応混合物中に加えた。反応混合物を約80°Cに温め、撹拌した。30分後、反応混合物を氷冷水に加え、EtOAcで抽出した。得られた有機層を分離し、無水MgSO4で乾燥させ、濾過した。濾液を乾燥させ、得られた材料をMeOHで洗浄し、固体22.4gを得た。NMR分析は、生成物が、4-クロロ-3-メトキシ-7,7-ジメチル-8,10-ビストリフルオロメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-2,5-ジイルジアセテートと一致する構造を有することを示した。工程9工程8の生成物21g;0.037molを、反応フラスコ中で窒素下にて撹拌しながら乾燥THF200mLに加え、氷水浴を使用して冷却した。シリンジを使用して、MeMgClTHF中3Mの溶液37mL;0.112molをゆっくりと加えた。反応が完了した後、混合物を冷水に加え、HCLで約4のpHに酸性化し、EtOAcで抽出した。有機部分を集め、無水MgSO4で乾燥させ、溶媒を蒸発させた。ヘキサンを溶媒として使用して4-クロロ-3-メトキシ-7,7-ジメチル-8,10-ビストリフルオロメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-2,5-ジオールを含有する薄縁色がかった黄色の固体11.9gが形成され、次の工程においてそのまま使用した。工程10工程9の生成物3.3g;7.0mmolを、反応フラスコ中で窒素下にてCH2Cl2100mLに加えた。ピリジニウムp-トルエンスルホネート0.44g;1.75mmolおよびトリ-イソプロピルオルトホルメート2.7g;14mmolを、反応混合物に撹拌しながら加えた。反応混合物を約30°Cに加熱し、CH2Cl220mL中の1,1-ビス4-メトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オール1.9g;7mmolを、反応混合物に撹拌しながらゆっくりと加えた。溶液の色は濃くなり、約2時間還流させ、CH2Cl210mL中のさらなる1,1-ビス4-メトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オール0.5g;1.8mmol溶液を加え、さらに1時間還流させた。室温に冷却した後、反応混合物は、CH2Cl2100mLを溶出溶媒として使用してシリカゲルプラグカラムを通過させた。次いで、溶媒を蒸発させ、CH2Cl2:ヘキサン1:1を溶出溶媒として使用してクイックシリカフラッシュカラムを行った。MeOHからの沈殿によって生成物2.5gを単離した。NMR分析は、生成物が、下記の構造式において示される3,3-ビス4-メトキシフェニル-5-クロロ-6-メトキシ-7-ヒドロキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例6工程10において、1-4-ブトキシフェニル-1-フェニルプロパ-2-イン-1-オールを、1,1-ビス4-メトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オールの代わりに使用したこと以外は、実施例5の手順に従い、生成物を作製した。NMR分析は、生成物が、下記の構造式において示される3-4-ブトキシフェニル-3-フェニル-5-クロロ-6-メトキシ-7-ヒドロキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例7工程10において、1,1-ビス4-ブトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オールを、1,1-ビス4-メトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オールの代わりに使用したこと以外は、実施例5の手順に従い、生成物を作製した。NMR分析は、生成物が、下記の構造式において示される3,3-ビス4-ブトキシフェニル-5-クロロ-6-メトキシ-7-ヒドロキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例8工程1マグネシウム3.5gおよびTHF20mlを、1-ブロモ-3,5-ビストリフルオロメチルベンゼン35gおよびTHF約100mlの混合物が入った滴下漏斗を備えた乾燥フラスコ中に入れた。滴下漏斗中の溶液の一部10mlを、フラスコに加えた。数滴のジブロモエタンもまたフラスコに加え、数分後、反応フラスコ中の内容物は沸騰し始めた。滴下漏斗中の溶液の残りを、滴下で添加した。氷水を時折使用して、反応混合物を冷却した。添加の後、混合物を室温で2時間撹拌した。0°Cで、ビス[2-N,N-ジメチルアミノエチル]エーテル25mlのTHF250ml溶液を加え、15分間撹拌し、3-ブロモベンゾイルクロリド25gのTHF50ml溶液を、1度に加えた。得られた混合物を、0~10°Cで3時間撹拌し、塩化アンモニウム水溶液でクエンチした。混合物をEtOAcで抽出した後、抽出物をMgSO4で乾燥させ、濃縮した。残渣は、油状物であった。生成物を、EtOAcを溶離液として使用して、シリカゲルプラグカラムを使用して精製した。粘性油状物41.1gを、生成物として得た。NMRは、生成物が、3,5-ビストリフルオロメチルフェニル3-ブロモフェニルメタノンと一致する構造を有することを示した。工程2工程1からの生成物41g、コハク酸ジメチル21gおよびTHF500mlを、機械式撹拌機、固体添加漏斗および窒素ブランケットを備えた反応フラスコに加えた。固体が溶解するまで、混合物を室温で撹拌した。固体添加漏斗を通して固体カリウムt-ブトキシド15gを加え、混合物を、0°Cで撹拌した。添加の後、混合物を室温に温め、4時間撹拌した。得られた反応混合物を、200mlの水に注いだ。いくらかの酢酸エチルを加え、得られた有機層を分離した。生成物を含有する水層を集めた。有機層を、200mlの水で抽出した。HCl2Nを、合わせた水溶液に加え、pHを5に調節した。得られた混合物を、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、真空中で乾燥させた。高粘性材料を、生成物として得た。これを次の工程において直接使用した。工程3工程2からの生成物23gのTHF133mL溶液が入った反応フラスコ冷却器を備えたものに、臭化メチルマグネシウム24gのトルエン溶液140mlを加えた。混合物を4時間還流させ、次いで50mlの水を加えた。2NのHClを使用して混合物を中和し、酢酸エチルで抽出し、水で洗浄し、濃縮し、油状物7.1gを得て、これを次の工程において直接使用した。工程4キシレン70ml中の工程3からの生成物7.0gが入った反応フラスコに、ビスマスIIIトリフルオロメタンスルホネートBiCF3OSO230.5gを加えた。TLCによって反応が完了したことが示された後、これを室温に冷却し、無水酢酸5.8gを混合しながら加え、冷却器を備えた反応フラスコ中で反応混合物を1時間還流させた。室温に冷却した後、真空蒸発によって無水酢酸を除去し、得られた油状物を次の工程において直接使用した。工程5工程4の生成物6.1gが入った反応フラスコに、メタノール50mLおよびHCl12N、1mlを加えた。混合物を2時間還流させた。メタノールを真空蒸発によって除去した。残渣を少量の塩化メチレンに溶解させ、40mlのヘキサンを加えた。塩化メチレンを除去した後、懸濁液を室温に冷却した。固体を集め2.1g、TeledyneISCOからのCombiFlash登録商標Rfによって精製し、2種の固体を得た。第1の生成物の重さは295mgであり、第2の生成物の重さは197mgであった。工程6工程5からの第1の生成物295mgが入った反応フラスコに、1,1-ビス4-フルオロフェニルプロパ-2-イン-1-オール1150mgおよびp-トルエンスルホン酸の少量の結晶を加えた。混合物を室温で1時間撹拌した。生成物を、TeledyneISCOからのCombiFlash登録商標Rfを使用し、それに続いてメタノールからの再結晶によって精製した。結晶を、生成物295mgとして得た。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表される3,3-ビス4-フルオロフェニル-5,7-ジトリフルオロメチル-12-ブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例9工程1実施例8の工程5の第2の生成物197mgを、第1の生成物の代わりに使用したこと以外は、実施例8の工程6からの手順に従った。結晶を、生成物として得た。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表される3,3-ビス4-フルオロフェニル-5,7-ジトリフルオロメチル-10-ブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例10工程1臭化フェニルマグネシウム/ジエチルエーテル3M、100mL溶液を、氷浴中で添加用漏斗および磁気撹拌子を備えた2Lの二口反応フラスコに加えた。テトラメチルエチレンジアミン58ml/THF100mlを、フラスコにゆっくりと加えた。混合物を、1時間撹拌した。3,4,5-トリメトキシベンゾイルクロリド69g/THF200mlを、30分に亘りフラスコに滴下した。添加の1時間後に、冷却槽を除去した。得られた混合物を室温で一晩撹拌した。得られた黄色の濁った混合物を、氷水1Lに注いだ。濃HCl37、200mLを、混合物にゆっくりと加えた。得られた混合物を、酢酸エチルで2回抽出した400200mL。上層を回収し、水およびブラインで洗浄した。有機溶液を合わせ、Na2SO4で乾燥させた。酢酸エチルの一部を取り除き、ヘキサンを濃縮溶液に加えた。3,4,5-トリメトキシベンゾフェノンを含有する固体生成物が沈殿し、濾過によって回収した74g。工程2工程1からの生成物74g、カリウムt-ブトキシド69gおよびトルエン900mLを、窒素ブランケット下で機械式撹拌機を備えた2Lの三つ口反応フラスコに加えた。トルエン100mL中のコハク酸ジメチル70gを、添加漏斗によってフラスコに加え、得られた混合物を室温で20時間撹拌した。反応混合物を、600mLの水に注いだ。生成物を含有する底部水層を集めた。HCl12N、50mLを水溶液に加え、黄色の油状物が沈殿した。得られた混合物を、酢酸エチル800mLで抽出した。上部有機層を回収し、水およびブラインで洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮し、真空中で乾燥させた。黄色のガラス状の油状物112gを、生成物として得た。質量分析は、368という所望の分子量を示した。生成物を、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程3工程2の生成物112gを、冷却器を備えた1Lの一口反応フラスコ中で無水酢酸150mLに溶解させた。混合物を、還流条件下で15時間加熱した。無水酢酸を真空蒸発によって除去し、152グラムの油状物を生成物として得た。これを、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程4工程3からの150グラムの生成物が入った1Lの反応フラスコに、メタノール500mLおよびHCl12N、5mLを加えた。混合物を還流条件下で5時間加熱した。メタノールを真空蒸発によって除去した。残渣油状物をクロマトグラフィーによって精製し、107グラムの油性生成物を得た。油性混合物から沈殿した固体生成物70gを乾燥させた。質量分析は、368という所望の分子量を示した。工程5工程4からの生成物35gを、添加漏斗および磁気撹拌棒を備えたオーブン乾燥したフラスコ中で500mLの無水テトラヒドロフランTHFに溶解させた。フラスコを氷浴中に置き、THF溶液3M、180mL中の塩化メチルマグネシウムを、滴下で添加した。添加の後、混合物を2時間還流加熱した。反応混合物を室温に冷却し、400mLの氷水に注いだ。HCl12N、70mLで混合物を酸性化した。得られた混合物を、酢酸エチルで2回抽出した400200mL。上部有機層を回収し、合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮し、真空中で乾燥させた。生成物35gの油状物を、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程6工程5からの生成物35gおよびキシレン80mLを、ディーンスタークトラップ、水冷却器および磁気撹拌棒を備えた500mLの反応フラスコに加えた。ビスマスIIIトリフルオロメタンスルホネート0.1gを加え、得られた混合物を4時間還流加熱した。反応混合物を濃縮し、酢酸エチルおよびヘキサンを溶離液として使用してシリカゲルプラグを通して残渣を濾過した。生成物30gをオフイエローの油状物として得た。生成物を、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程7工程6からの生成物5gおよびドデシルベンゼンスルホン酸1滴を、250mLの反応フラスコ中でCHCl350mLに溶解させた。フラスコに、1-フェニル-1’-4-モルホリノフェニルプロパ-2-イン-1-オール4.5gを加えた。混合物を2時間還流加熱した。反応混合物を、クロマトグラフィーによって精製した。2種の固体生成物を単離した。NMR分析は、所望の生成物が、下記の構造式によって表される3-フェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例11工程1氷浴中に置いた無水THF200mL/ジエチルエーテル100mL中の3,5-ビストリフルオロメチルフェニルマグネシウムブロミド76g、インサイチュで作製が入った一口フラスコに、テトラメチルエチレンジアミン47mL/無水THF溶液50mLを15分に亘り加えた。反応混合物を、30分間撹拌した。3,4,5-トリメトキシベンゾイルクロリド55g/無水THF150mL溶液を、10分に亘りフラスコに加えた。添加が完了した後すぐ、氷浴を除去した。得られた混合物を室温で一晩撹拌した。得られた茶色の混合物を、氷水400mLに注いだ。濃HCl37、50mLを、混合物にゆっくりと加えた。得られた混合物を、酢酸エチルで2回抽出した400200mL。上層を回収し、ブライン150mLで洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、溶媒を真空下で取り除いた。残渣を、酢酸エチルおよびヘキサンを溶離液として使用して短いシリカゲルプラグを通して濾過した。3,5-ビストリフルオロメチル-3’,4’,5’-トリメトキシベンゾフェノンを含有するオフイエローの固体生成物80gを、主要な画分から得た。工程2工程1からの生成物80gおよびカリウムt-ブトキシド26gを、窒素ブランケット下で機械式撹拌機を備えた1Lの三つ口反応フラスコ中で無水THF400mLに溶解させた。コハク酸ジメチル34mLを、添加漏斗によってフラスコにゆっくりと加えた。得られた混合物を室温で20時間撹拌し、反応混合物を400mLの水に注いだ。生成物を含有する底部水層を集めた。HCl12N、60mLを水溶液に加え、黄色の油状物が沈殿した。得られた混合物を、酢酸エチルで2回抽出した250250mL。上部有機層をブラインで洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮し、真空中で乾燥させた。黄色のガラス状の油状物80gを、生成物として得た。生成物を、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程3工程2の生成物80gを、冷却器を備えた1Lの一口反応フラスコ中で無水酢酸200mLに溶解させた。混合物を5時間還流加熱した。無水酢酸を真空蒸発によって除去した。生成物を、酢酸エチルおよびヘキサンを溶離液として使用して短いシリカゲルプラグを通して濾過した。主要な画分を凝縮し、油性生成物85gにした。これを、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程4工程3からの生成物が入った1Lの一口フラスコに、メタノール400mLおよびHCl12N、10mLを加えた。混合物を5時間還流加熱した。メタノールを真空蒸発によって除去した。生成物を、酢酸エチルおよびヘキサンを溶離液として使用して短いシリカゲルプラグを通して濾過した。主要な画分を凝縮し、油性生成物70gを得た。これを、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程5添加漏斗および磁気撹拌棒を備えた2Lのオーブン乾燥したフラスコに、200mLの無水THF中の工程4からの生成物70gを加えた。フラスコを氷浴中に置いた。塩化メチルマグネシウム3MのTHF溶液230mLを、フラスコに滴下で添加した。添加をすると、氷浴を除去した。混合物を1時間還流加熱した。反応混合物を室温に冷却し、氷水1Lに注いだ。混合物を、HCl12N、70mLで酸性化した。得られた混合物を、酢酸エチルで2回抽出した300200mL。上部有機層を合わせ、ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮し、真空中で乾燥させた。生成物65gの油状物を、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程6工程5からの生成物65gおよびキシレン200mLを、ディーンスタークトラップ、水冷却器および磁気撹拌棒を備えた500mLの反応フラスコに加えた。ビスマストリフルオロメチルスルホナメートbismuthtrifluoromethylsulfonamate0.9gを加え、得られた混合物を20時間還流加熱した。反応混合物を濃縮し、酢酸エチルおよびヘキサンを溶離液として使用してシリカゲルプラグを通して残渣を濾過した。生成物30gをオフイエローの油状物として得た。生成物を、次の工程においてそれ以上精製することなく使用した。工程7工程6からの生成物8g、ビスマストリフルオロメチルスルホナメート0.4gおよびオルトギ酸トリメチル5mLを、250mLの反応フラスコ中でジクロロエタンClCH2CH2Cl30mLに溶解させた。フラスコに、1-フェニル-1’-4-モルホリノフェニルプロパ-2-イン-1-オール5gを加えた。混合物を20時間還流加熱した。反応混合物を、酢酸エチル/ヘキサンの混合物を使用するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製した。固体生成物2gを、主要な画分から得た。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表される3-フェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例12工程1窒素雰囲気下に置いたオーブン乾燥したフラスコ中で、3-アニソイルクロリド195gおよびビフェニル190gを、ジクロロメタン1.4L中で撹拌した。フラスコを氷浴中に置き、これに、無水塩化アルミニウム172gをそれぞれ10分の間隔をおいていくつかに分割して加えた。塩化アルミニウムの添加が完了した後、反応混合物を2時間加熱還流させた。室温に冷却した後に、反応混合物を、激しく撹拌しながら塩酸の10水溶液1.5Lおよび氷が入ったビーカーにゆっくり注いだ。分液漏斗を使用して、有機層および水層を分離した。次いで、回収した有機層を脱イオン水によって毎回1リットルで3回洗浄し本明細書において下記で3×1Lと示す、硫酸ナトリウムで乾燥させ、ロータリーエバポレーションによって濃縮した。一晩撹拌している間に結晶が形成され、真空濾過によって集めた。次いで、結晶を10メタノール/90ジクロロメタンの溶液に溶解させ、続いて溶媒のほぼ全てをロータリーエバポレーションによって除去することによって再結晶を行った。一晩撹拌している間に結晶が形成され、真空濾過によって集め、153gの[1,1’-ビフェニル]-4-イル3-メトキシフェニルメタノンを得た。工程2窒素雰囲気下に置いたオーブン乾燥したフラスコ中で、工程1の生成物153gおよびカリウムtert-ブトキシド95.3gを、機械式撹拌機を使用してトルエン1850mL中で撹拌した。これに、添加漏斗によってコハク酸ジメチル120mLを1時間に亘りゆっくりと加えた。次いで、反応混合物を40°Cに2時間加熱した。これを室温に冷却し、次いで脱イオン水2Lおよび氷が入ったビーカーに、激しく撹拌しながらゆっくり注いだ。pH1に達するまで、濃塩酸を撹拌しながら混合物にゆっくりと加えた。分液漏斗を使用して、有機層および水層を分離した。水層を、酢酸エチル2×1Lで抽出した。有機層を合わせ、脱イオン水2×1Lで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ロータリーエバポレーションによって濃縮し、EおよびZ4-[1,1’-ビフェニル]-4-イル-3-メトキシカルボニル-4-3-メトキシフェニルブタ-3-エン酸260gの混合物を含有するこはく色の油状物を得て、これを次の反応においてそのまま使用した。工程3工程2の生成物214gを、無水酢酸856mLが入っているフラスコ中で撹拌した。反応混合物を3時間加熱還流させた。室温に冷却した後に、無水酢酸を続いてロータリーエバポレーションによって除去した。暗赤色がかった茶色の油状物300gを単離し、これは3つの異性体:メチル1-[1,1’-ビフェニル]-4-イル-4-アセトキシ-7-メトキシ-2-ナフトエートおよびメチル1-[1,1’-ビフェニル]-4-イル-4-アセトキシ-5-メトキシ-2-ナフトエートおよびメチル-4-アセトキシ-1-3-メトキシフェニル-6-フェニル-2-ナフトエートの混合物を含有し、次の反応においてそのまま使用した。工程4工程3からの生成物を、窒素雰囲気下に置いたオーブン乾燥したフラスコに加え、メタノール1100mL中で撹拌した。これに、濃塩酸20mLを加えた。反応混合物を4時間加熱還流させ、次いで室温に冷却した。次いで、これをロータリーエバポレーションによって部分的に濃縮し、塩化メチレン1.5Lで希釈し、脱イオン水2×1L、続いて炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液750mLで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、ロータリーエバポレーションによって濃縮した。得られた残渣を二分し、各部分を、25酢酸エチル/75ヘキサンの溶液で溶出するシリカゲル1100gクロマトグラフィーによって分離した。最初に溶出した異性体を含有する画分を合わせ、ロータリーエバポレーションによって濃縮した。得られた生成物は、23gの重量があった。NMR分析は、生成物が、1-[1,1’-ビフェニル]-4-イル-4-ヒドロキシ-5-メトキシ-2-ナフトエートと一致する構造を有することを示した。工程5窒素雰囲気下に置いたオーブン乾燥したフラスコ中で、工程4の生成物23gを、無水テトラヒドロフラン230mL中で撹拌した。フラスコを氷浴中に置き、これに、添加漏斗を使用して塩化メチルマグネシウムの無水テトラヒドロフラン溶液120mL3.0Mを45分間に亘りゆっくりと滴下で添加した。反応混合物を2時間加熱還流させ、次いで室温に冷却した。次いで、これを、塩化アンモニウムの飽和水溶液600mLおよび氷が入ったビーカーに撹拌しながらゆっくり注いだ。分液漏斗を使用して、水層および有機層を分離した。回収した水層を、酢酸エチルで抽出した2×250mL。得られた有機層を合わせ、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液600mLで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、ロータリーエバポレーションによって濃縮し、固体を得た。固体を最小量のメチルtert-ブチルエーテル中でスラリー化し、真空濾過によって集め、20gの4-[1,1’-ビフェニル]-4-イル-3-2-ヒドロキシプロパン-2-イル-8-メトキシナフタレン-1-オールを得た。工程6窒素雰囲気下に置き、ディーンスタークトラップを備えたオーブン乾燥したフラスコ中で、工程5の生成物20gを、キシレン300mL中で撹拌した。これに、p-トルエンスルホン酸990mgを加えた。反応混合物を3時間加熱還流させ、次いで室温に冷却した。これを分液漏斗に移し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液300mLで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、次いでロータリーエバポレーションによって濃縮し、固体を得た。固体を最小量のメチルtert-ブチルエーテル中でスラリー化し、真空濾過によって集め、12gの4-メトキシ-7,7-ジメチル-9-フェニル-7H-ベンゾ[C]フルオレン-5-オールを得た。工程7工程6からの生成物0.5g、ドデシルベンゼンスルホン酸0.1gおよび1-4-メトキシフェニル-1-4-モルホリノフェニルプロパ-2-イン-1-オール0.9gを、50mLの反応フラスコ中でキシレン10mLに溶解させた。混合物を2時間還流加熱した。反応混合物を、酢酸エチル/ヘキサンの混合物を溶離液として使用するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製した。オフホワイトの固体生成物100mgを、主要な画分から再結晶させた。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表される3-4-メトキシフェニル-3-4-モルホリノフェニル-5-メトキシ-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例13工程7において、窒素雰囲気下に置いたオーブン乾燥したフラスコに1,2-ジクロロエタン60mLが入っており、このフラスコに実施例12の工程6の生成物5gを撹拌しながら加えたこと以外は、実施例12の工程1~6の手順に従った。これに、オルトギ酸トリメチル4.4gおよびピリジニウムp-トルエンスルホネート1.03gを加えた。次いで、反応混合物を加熱還流させた。1,2-ジクロロエタン40mLに溶解させた1,1-ビス-4-メトキシフェニル-2-プロピン-1-オール4.8gを、添加漏斗を使用して反応混合物に2時間に亘り非常にゆっくりと滴下で添加した。添加が完了した後、1,2-ジクロロエタン40mLに溶解させたさらなる1,1-ビス-4-メトキシフェニル-2-プロピン-1-オール4.8gを、添加漏斗に充填し、反応混合物に2時間に亘りゆっくりと滴下で添加した。反応混合物を室温に冷却し、分液漏斗に移し、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液100mLで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、ロータリーエバポレーションによって濃縮した。得られた残渣を、20酢酸エチル/80ヘキサンの溶液で溶出するシリカゲル400gカラムクロマトグラフィーによって精製した。生成物を含有する画分を合わせ、ロータリーエバポレーションによって濃縮した。得られた残渣をジエチルエーテルに溶解させ、続いて結晶化が起こった。結晶を真空濾過によって集め、0.9グラムの重量であった。NMR分析は、生成物が、下記の構造式において示される3,3-ビス-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例14工程1氷浴中に置いた無水ジエチルエーテル300mL中の3,5-ビスフルオロフェニルbisifluorophenylマグネシウムブロミド45g、インサイチュで作製が入った一口フラスコに、テトラメチルエチレンジアミン36mL/無水THF溶液50mLを10分に亘り加えた。反応混合物を、30分間撹拌した。3,4,5-トリメトキシベンゾイルクロリド43gの無水THF150mL溶液を、10分に亘りフラスコに加えた。添加が完了した後すぐ、氷浴を除去した。得られた混合物を室温で1時間撹拌した。得られた茶色の混合物を、氷水300mLに注いだ。濃HCl12N、50mLを、混合物にゆっくりと加えた。上層を回収し、ブライン150mLで洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。溶媒を真空下で取り除いた。3,5-ビスフルオロ-3’,4’,5’-トリメトキシベンゾフェノンを含有するオフイエローの固体生成物40gを、最初の生成物から再結晶させた。工程2工程1からの生成物40gおよびカリウムt-ブトキシド20gを、窒素ブランケット下で機械式撹拌機を備えた1Lの三つ口反応フラスコ中で無水トルエン150mLに溶解させた。コハク酸ジメチル21mLを、添加漏斗によってフラスコにゆっくりと加えた。得られた混合物を室温で1時間撹拌し、水200mLに注いだ。生成物を含有する底部水層を集めた。HCl12N、50mLを、水溶液に加えた。黄色の油状物が沈殿した。得られた混合物を、酢酸エチル300mLで抽出した。上部有機層を回収し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した54g。得られた黄色のガラス状の油状物生成物を、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程3工程2の生成物54gを、冷却器を備えた1Lの一口反応フラスコ中で無水酢酸80mLに溶解させた。混合物を16時間還流加熱した。無水酢酸を真空蒸発によって除去した。得られた残渣をメタノール300mLに溶解させた。固体生成物28gを再結晶させた。NMR分析は、所望の生成物が母液中に存在したことを示した。酢酸エチルおよびヘキサンを溶離液として使用して、母液を短いシリカゲルプラグを通して濾過した。主要な画分を凝縮して、油性生成物18gにした。これをそれ以上精製することなく次の工程で使用した。工程4添加漏斗および磁気撹拌棒を備えた2Lのオーブン乾燥したフラスコに、無水THF50mL中の工程3からの生成物18gを加えた。フラスコを、氷浴中に置いた。塩化メチルマグネシウムのTHF溶液100mL3Mを、フラスコに滴下で添加した。添加した後すぐ、氷浴を除去した。混合物を室温で2時間撹拌した。反応混合物を、氷水400mLに注いだ。混合物をHCl12N、50mLで酸性化した。得られた混合物を、酢酸エチルで2回200100mL抽出した。上部有機層を回収し、合わせ、ブライン100mLで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮し、真空中で乾燥させた。生成物25gの油状物を、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程5工程4からの生成物25gおよびキシレン200mLを、ディーンスタークトラップ、水冷却器および磁気撹拌棒を備えた500mLの反応フラスコに加えた。トリフルオロメチルスルホン酸ビスマス0.1gを加え、得られた混合物を3時間還流加熱した。反応混合物を濃縮し、酢酸エチルおよびヘキサンを溶離液として使用してシリカゲルプラグを通して残渣を濾過した。生成物20gをオフイエローの油状物として得た。生成物を、次の工程においてそれ以上精製することなく使用した。工程6工程5からの生成物2g、ドデシルベンゼンスルホン酸0.1gおよび1-4-メトキシフェニル-1’-4-モルホリノフェニルプロパ-2-イン-1-オール1gを、250mLの反応フラスコ中でClCH2CH2Cl30mLに溶解させた。混合物を1時間還流加熱した。反応混合物を、酢酸エチル/ヘキサンの混合物を溶離液として使用するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製した。固体生成物2gを、回収した主要な画分から得た。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表される3-4-メトキシフェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-10,12-ジフルオロ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例15工程1氷浴中に置いた無水THF250mL/ジエチルエーテル300mL中の[1,1’-ビフェニル]-4-イルマグネシウムブロミド54g、インサイチュで作製が入った一口フラスコに、テトラメチルエチレンジアミン40mL/無水THF溶液50mLを10分に亘り加えた。反応混合物を、30分間撹拌した。3,4,5-トリメトキシベンゾイルクロリド48g/無水THF150mL溶液を、30分に亘りフラスコに加えた。添加が完了した後すぐ、氷浴を除去した。得られた混合物を3時間還流加熱した。得られた茶色の混合物を、氷水300mLに注いだ。HCl12N、50mLを、混合物にゆっくりと加えた。上層を回収し、濾過し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を真空下で取り除いた。4-フェニル-3’,4’,5’-トリメトキシベンゾフェノンを含有する生成物77gを、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程2工程1からの生成物77gおよびコハク酸ジメチル21mLを、窒素ブランケット下で機械式撹拌機を備えた2Lの三つ口反応フラスコ中で無水トルエン1Lに溶解させた。カリウムt-ブトキシド27gを、添加漏斗によってフラスコにゆっくりと加えた。得られた混合物を室温で2時間撹拌し、水300mLに注いだ。生成物を含有する底部水層を集めた。HCl12N、100mLを、水溶液に加えた。得られた混合物を、酢酸エチル500mLで抽出した。上部有機層を回収し、硫酸マグネシウムで濾過し、濃縮し、黄色のガラス状の油状物60gを得た。生成物を、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程3工程2の生成物60gを、冷却器を備えた1Lの一口反応フラスコ中で無水酢酸200mLに溶解させた。混合物を8時間還流加熱した。無水酢酸を真空蒸発によって除去した。残渣を、酢酸エチルおよびヘキサンを溶離液として使用して短いシリカゲルプラグを通して濾過した。1つの主要な画分を集めた。第1の固体生成物25gを残渣から再結晶させ、第2の固体25gを母液から再結晶させた。NMR分析は、第2の固体の構造が、2,3,4-トリメトキシ-9-フェニル-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールと一致することを示した。工程4添加漏斗および磁気撹拌棒を備えた1Lのオーブン乾燥した一口フラスコに、エチルマグネシウムクロリドのTHF溶液260mL2Mを加えた。無水THF350mL中の工程3から得た第2の固体生成物25gを、15分でフラスコに滴下した。混合物を室温で3時間撹拌した。反応混合物を氷水200mLに注ぎ、HCl12N、50mLで酸性化した。得られた混合物を、酢酸エチル200mLで抽出した。上部有機層を回収し、硫酸マグネシウムで濾過し、濃縮し、真空中で乾燥させた。生成物25gの油状物を、それ以上精製することなく次の工程で使用した。工程5工程4からの生成物25gおよびクメン100mLを、ディーンスタークトラップ、水冷却器および磁気撹拌棒を備えた250mLの反応フラスコに加えた。ピリジニウムp-トルエンスルホネート2gを加え、得られた混合物を3時間還流加熱した。反応混合物を濃縮し、酢酸エチルおよびヘキサンを溶離液として使用してシリカゲルプラグを通して残渣を濾過した。生成物20gをオフイエローの油状物として得た。生成物を、次の工程においてそれ以上精製することなく使用した。工程6工程5からの生成物3g、ビスマスIIIトリフルオロメタンスルホネート0.1gおよび1-4-メトキシフェニル-1’-4-モルホリノフェニルプロパ-2-イン-1-オール2.5gを、250mLの反応フラスコ中でトルエン30mLに溶解させた。混合物を80°Cに3日間加熱した。反応混合物を、酢酸エチル/ヘキサンの混合物を溶離液として使用するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製した。固体生成物2gを、回収した主要な画分から再結晶させた。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表される3-4-メトキシフェニル-3-4-モルホリノフェニル-5,6,7-トリメトキシ-11-フェニル-13,13-ジエチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例16工程11-ブロモ-3,5-ジフルオロベンゼンをトリブロモベンゼンの代わりに使用し、4-メトキシベンゾイルカルボニルクロリドを塩化ベンゾイルの代わりに使用したこと以外は実施例1の工程1の手順に従い、3,5-ジフルオロ-4’-メトキシベンゾフェノンの構造に相当する質量スペクトルを有する生成物を得た。工程2上記の工程1からの生成物を、3,5-ジブロモ-4’-トリフルオロメチルベンゾフェノンの代わりに使用したこと以外は、実施例3の工程2から工程5までの手順に従い、2,4-ジフルオロ-9-メトキシ-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールの構造に相当するNMR分析を有する生成物を得た。工程3上記の工程2からの生成物を2,4-ジブロモ-7,7-ジメチル-9-トリフルオロメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールの代わりに使用し、1-4-フルオロフェニルflurophenyl-1-フェニル-プロパ-2-イン-1-オールを1-4-ブトキシフェニル-1-4-メトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オールの代わりに使用したこと以外は、実施例3の工程6からの手順に従った。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表される3-4-フルオロフェニル-3-フェニル-5,7-ジフルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例171-4-ブトキシフェニル-1-4-メトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オールを、1-4-フルオロフェニル-1-フェニル-プロパ-2-イン-1-オールの代わりに使用したこと以外は、実施例16の工程3からの手順に従った。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表される3-4-メトキシフェニル-3-フェニル-5,7-ジフルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例181-4-メトキシフェニル-1-フェニル-プロパ-2-イン-1-オールを、1-4-フルオロフェニル-1-フェニル-プロパ-2-イン-1-オールの代わりに使用したこと以外は、実施例16の工程3からの手順に従った。NMR分析は、生成物が、下記の構造式によって表されるような3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。実施例19実施例17の生成物0.5gをTHF40mLに溶解させ、MeOH中のナトリウムメトキシドNaOMe0.5M4mLを加えた。12時間還流させた後、溶媒を蒸発させ、残渣を、1:10のヘキサンと塩化メチレンの混合物を溶離液として使用するカラムクロマトグラフィーによって精製した。所望の材料を含有する画分をグループ化し、濃縮した0.3g。固体のNMRおよび質量スペクトル分析は、下記の構造式によって表される3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-7-フルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を示した。実施例20乾燥したフラスコ中で、モルホリン2.3mLを乾燥THF4mLに溶解させ、次いでシリンジを使用してn-BuLiをゆっくりと加えた添加時間0.5分。2分後、実施例17の生成物0.7gを乾燥THF10mLに溶解させ、反応混合物に加えた。5分後、反応を飽和NH4Cl50mLでクエンチし、酢酸エチルで抽出した。残渣を、1:1の塩化メチレンと酢酸エチルの混合物を溶離液として使用するカラムクロマトグラフィーによって精製した。所望の材料を含有する画分をグループ化し、濃縮した0.5g。固体のNMRおよび質量スペクトル分析は、下記の構造式によって表される3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジモルホリノ-11-メトキシ13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を示した。実施例21乾燥したフラスコ中で、モルホリン0.3mLおよび実施例17の生成物0.25gをピリジン4mLに溶解させ、混合物を80°Cに加熱した。3時間後、反応物を飽和NH4Cl10mLでクエンチし、酢酸エチルで抽出した。残渣を、塩化メチレンを溶離液として使用するカラムクロマトグラフィーによって精製した。所望の材料を含有する画分をグループ化し、濃縮した0.1g。固体のNMRおよび質量スペクトル分析は、下記の構造式によって表される3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5-モルホリノ-7-フルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を示した。実施例22実施例18の生成物を、実施例17の生成物の代わりに使用したこと以外は、実施例19の手順に従い、固体生成物を得た。NMR分析は、構造が、下記の構造式によって表される3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-7-フルオロ-11-メトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致することを示した。実施例23工程1実施例16の工程2からの生成物6gを塩化メチレン180mLに溶解させ、溶液を氷浴中で冷却した。三臭化ホウ素BBr38gの塩化メチレン40mL溶液を、滴下で添加した。3.5時間後、反応混合物を水400mLで洗浄し、回収した有機溶液を、シリカプラグを通して濾過した[どのエレメントを使用]。溶媒の蒸発後、生成物5.3gを集めた。NMR分析は、構造が、2,4-ジフルオロ-9-ヒドロキシ-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールと一致することを示す。工程2上記の工程1からの生成物1.7gを塩化メチレン50mLに溶解させ、50mgのp-トルエンスルホン酸を加え、撹拌した。1-4-メトキシフェニル-1-フェニル-プロパ-2-イン-1-オール1.2gの塩化メチレン溶液70mLを、3時間の間に滴下で添加した。反応混合物を水で洗浄し、溶媒を蒸発させた。生成物を、1:1のヘキサンと塩化メチレンの混合物を溶離液として使用するカラムクロマトグラフィーによって精製した。2種の生成物を集めた[より極性でない生成物0.6gおよびより極性の生成物1.5g]。より極性の生成物のNMR分析は、下記の構造式によって表される3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-ヒドロキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を示した。実施例24工程1実施例22の生成物1.5gおよびトリエチルアミン0.7mLを塩化メチレン40mLに溶解させ、混合物を氷浴中で冷却した。塩化メチレン10mLに溶解させたトリフルオロメタンスルホン酸無水物0.4mLを、5分間で加えた。5分後、反応混合物を、シリカゲルプラグに通し、塩化メチレンを使用して生成物を溶出した。集めた化合物1.5gをエタノール50mLおよびトルエン50mLに溶解させた。次いで、水50mLに溶解させたK2CO32.8g、および5-メチルチオフェン-2-ボロン酸ピナコールエステル0.53mLを加えた。混合物に5分間窒素を泡立たせ、次いでPdCl22PPh30.14gを加えた。混合物を5時間還流させ、次いで酢酸エチル150mLで抽出した。溶媒の蒸発後、残渣を、6:1のヘキサンと酢酸エチルの混合物を溶離液として使用するカラムクロマトグラフィーによって精製した。NMR分析は、生成物0.7gの構造が、3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-5-メチルチオフェンmethythiophen-2-イル-13,13-ジメチル-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致することを示した。工程2上記の工程1からの生成物を、実施例17の生成物の代わりに使用したこと以外は実施例19の手順に従い、固体を得、その構造のNMR分析は下記の構造式によって表される3-4-ブトキシフェニル-3-4-メトキシフェニル-5-メトキシ-7-フルオロ-11-5-メチルチオフェン-2-イル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致した。実施例251-フェニル-1-4-メトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オールを、1-4-ブトキシフェニル-1-4-メトキシフェニルプロパ-2-イン-1-オールの代わりに使用したこと以外は、実施例23の工程2からの手順に従った。より極性の生成物のNMRは、下記の構造式によって表される3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-ヒドロキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を示した。実施例26実施例25の生成物を実施例24の生成物の代わりに使用し、フェニルボロン酸をメチルチオフェン-2-ボロン酸ピナコールエステルの代わりに使用したこと以外は、実施例24の工程1からの手順に従い、固体生成物を得た。生成物のNMR分析は、下記の構造式によって表される3-フェニル-3-4-メトキシフェニル-5,7-ジフルオロ-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を示した。比較例1CE-1CE-1を、米国特許第5,645,767号の開示この開示は参考として本明細書中に援用されるに従って調製した。CE-1は、下記の構造式によって表される3,3-ビス-4-メトキシフェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランであると報告されている。比較例2CE-2工程1無水マレイン酸36gを、冷却器を備えた三つ口フラスコ500mL中でクメン300mLに溶解させ、それに続いてtert-ブチルペルオキシド3~4mLを加えた。得られた混合物を加熱還流させ、一晩還流を続けた。溶媒を真空下で除去し、2-2-フェニルプロパン-2-イルコハク酸を含有する濃厚な茶色の油状物75gを得て、これを精製せずに次の工程で使用した。工程2工程1の生成物45gを、ディーンスタークトラップおよび冷却器を備えた1Lの三つ口フラスコ中でキシレン500mLに溶解させ、それに続いてドデシルベンゼンスルホン酸5.9gを加えた。得られた混合物を加熱還流させ、一晩還流を続けた。溶媒を真空下で除去し、濃厚な茶色の油状物49gを得て、これを精製せずに次の工程で使用した。工程33-2-フェニルプロパン-2-イルジヒドロフラン-2,5-ジオン29gを、1Lの三つ口フラスコ中でジクロロメタン300mLに溶解させた。得られた混合物を、0~10°Cに冷却した。無水AlCl339gを、混合物に30分に亘りゆっくりと加えた。3時間後、氷混じりの水200mLに注ぐことによって反応をクエンチし、HCl37、25gで酸性化した。生成物を、酢酸エチルで2回抽出した2×100mL。回収した有機層を合わせ、無水MgSO4で乾燥させ、真空下で濃縮し、生成物30gを得た。溶離液としてヘキサン/EtOAc3/1、v/vを使用して生成物をカラムクロマトグラフィーによって精製し、16gの所望の生成物を得た。生成物のNMR分析は、2-1,1-ジメチル-3-オキソ-2,3-ジヒドロ-1H-インデン-2-イル酢酸と一致する構造を示した。工程4工程3の生成物8gを、500mLの三つ口丸底フラスコ中で窒素下にて乾燥THF100mLに溶解させた。混合物を0°Cに冷却した。グリニャール試薬、3-クロロフェニルマグネシウムブロミドジエチルエーテル中の1Mの溶液、200mLを、混合物に0~10°Cでゆっくりと加えた。添加は20分で完了し、反応物を室温で2時間撹拌した。氷混じりの水500mLに注ぐことによって反応物を後処理し、塩酸37、25gで酸性化した。混合物を50~55°Cに加熱し、その温度で1時間撹拌した。生成物を、EtOAcで2回抽出した2×100mL。回収した有機層を合わせ、無水MgSO4で乾燥させ、真空下で濃縮し、生成物23gを得て、これを精製せずに次の工程で使用した。工程5工程4の生成物23gを、冷却器を備えた500mLの三つ口フラスコ中で無水酢酸300mLに溶解させた。混合物を加熱還流させ、8時間還流を続けた。溶媒を除去し、2-クロロ-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-イルアセテートを含有する油状物21gを得て、これを精製せずに次の工程で使用した。工程6工程5の生成物21gを、冷却器を備えた250mLの三つ口フラスコ中でメタノール100mLに溶解させ、続いてHCl37、2mLを加えた。混合物を加熱還流させ、1時間還流を続けた。溶媒を真空下で乾燥させ、2-クロロ-7,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オールを含有する生成物18gを得た。工程7工程6の生成物4.8gを、100mLの三つ口丸底フラスコ中でジクロロメタン150mLに溶解させ、続いてp-トルエンスルホン酸一水和物0.4gを加えた。1,1-ビス4-メトキシフェニル-2-プロピン-1-オール3.8gを反応混合物にゆっくりと加えた。混合物を室温で撹拌した。1時間後、さらなる1,1-ビス4-メトキシフェニル-2-プロピン-1-オール、0.4gを反応混合物に加えた。2時間撹拌した後、飽和NaHCO3水溶液100mLの添加によって反応物を後処理した。得られた有機層を集め、無水MgSO4で乾燥させた。有機層を真空下で濃縮し、生成物8.7gを得た。生成物を、溶離液としてヘキサン/EtOAcv/v、4/1の混合物を使用するシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、2gの生成物を得た。生成物を真空下で泡立たせ、スパチュラでこすり取り、固体材料を得た。固体をメタノール30mL上でスラリー化し、濾過し、メタノール2×20mLで洗浄し、灰色がかった生成物1.4gを得た。生成物のNMR分析は、下記の構造式によって表される3,3-ビス-4-メトキシフェニル-7-クロロ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を示した。比較例3CE-3CE-3を、2011年12月7日に出願された米国特許出願第13/313178号の実施例8の開示この開示は参考として本明細書中に援用されるに従って調製した。CE-3は、下記の構造式によって表される3-4-フルオロフェニル-3-4-ピペリジン-1-イルフェニル-10,12-ジブロモ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランであると報告されている。比較例4CE-4実施例5の工程6の生成物を実施例1の工程6の生成物の代わりに使用し、溶媒である塩化メチレンおよびメタノールを再結晶に使用したこと以外は、実施例1の工程7の手順に従った。NMR分析は、生成物が、下記の構造式において示される3,3-ビス4-メトキシフェニル-6-メトキシ-7-ヒドロキシ-10,12-ジトリフルオロメチル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致する構造を有することを示した。比較例5CE-5CE-5を、米国特許第5,645,767号の開示この開示は参考として本明細書中に援用されるに従って調製した。CE-5は、下記の構造式によって表される3-フェニル-3-4-モルホリノフェニル-6,7-ジメトキシ-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランであると報告されている。比較例6CE-6CE-6を、米国特許出願公開第2006/228,557A1号の開示この開示は参考として本明細書中に援用されるに従って調製した。CE-6は、下記の構造式によって表される3-4-ブトキシフェニル-3-4-モルホリノフェニル-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2,1-f]ナフト[1,2-b]ピランであると報告されている。比較例7CE-7工程17,7-ジメチル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オール3.5g、13mmolのピリジン13mL溶液が入った反応フラスコに、トリフルオロメタンスルホン酸無水物7.2g、26mmolのCH2Cl210mL溶液を0°Cで15分間に亘り滴下で添加した。反応混合物を室温で2時間撹拌した。溶媒を除去した後、残渣を水に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル抽出物を蒸発させ、生成物5.28gを得た。工程2氷酢酸8mL中の一臭化ヨウ素2.1gを、工程1の生成物3.37gの氷酢酸溶液15mLが入った反応フラスコに加え、これを氷水浴において冷却し続けた。反応物を1時間静置し、この間にできるだけ多くの臭化水素を、穏やかな通気によってフラスコから除去した。混合物を、2重量の亜硫酸水素ナトリウム溶液50mLに注いだ。次いで、飽和炭酸水素ナトリウム懸濁溶液を加え、溶液をCH2Cl2で抽出した。溶媒の除去の後に生成物を得て、次の工程において直接使用した。工程3工程2から得た生成物が入った反応フラスコに、エタノール25mLおよびNaOH1.1g、26mmolを加えた。混合物を6時間還流させた。エタノールを真空蒸発によって除去し、次いで飽和炭酸水素ナトリウム懸濁液を次いで加え、得られた混合物を、酢酸エチルで抽出した。回収した生成物1.8gは、7,7-ジメチル-9-ブロモ-7H-ベンゾ[C]フルオレン-5-オールを含有し、次の工程において直接使用した。工程4工程3の生成物7.7gおよびフェニルボロン酸3.5gを、250mLの丸底三つ口フラスコ中でジメトキシエタン100mLおよび水50mLの溶液に加え、それに続いてNa2CO35.1gを加えた。得られた溶液に10分間窒素を泡立たせ、次いで触媒であるテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.8gを反応混合物に加えた。得られた反応混合物を、窒素雰囲気下にて還流温度に加熱した。反応を薄層クロマトグラフィーTLC分析によって、反応の終わりまでモニターした。室温に冷却して水30mLを加えることによって、反応をクエンチした。反応混合物のpHを、塩酸37、9.5gをゆっくりと加えることによって5~6に調節した。生成物を、酢酸エチル2×50mLで抽出した。有機層を回収し、合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ロータリーエバポレーションによって濃縮し、生成物11gを得た。生成物を、ヘキサンおよび酢酸エチルの混合物50mL、ヘキサン/酢酸エチル、v/v、9/1上でスラリー化した。生成物を濾過し、ヘキサンおよび酢酸エチルの混合物ヘキサン/酢酸エチル、v/v、9/1で3回洗浄し3×20mL、7,7-ジメチル-9-フェニル-7H-ベンゾ[c]フルオレン-5-オール8gを含有する黄色がかった固体を得た。工程5工程4の生成物2.0gを、250mLの三つ口フラスコ中でジクロロメタン70mLに溶解させ、それに続いてp-トルエンスルホン酸0.3gを加えた。次いで、1-4-メトキシフェニル-1-4-ブトキシフェニル-2-プロピン-1-オール1.6gを反応混合物に加えた。反応物を室温で撹拌した。2時間後、トリフルオロ酢酸1mLを反応混合物に加えた。さらに、1-4-メトキシフェニル-1-4-ブトキシフェニル-2-プロピン-1-オール0.15gを反応混合物に加えた。反応はさらに2時間後に完了した。飽和NaHCO3水溶液20mLを反応混合物に加えた。これを30分間撹拌した。生成物を、ジクロロメタン2×30mLで抽出した。回収した有機層を合わせ、無水MgSO4で乾燥させ、真空下で濃縮し、生成物2.9gを得た。この材料を、カラムクロマトグラフィーシリカゲル、溶離液として85のヘキサンおよび15の酢酸エチルによって精製した。生成物を含有する画分を合わせ、ロータリーエバポレーターにかけ、真空下で乾燥させ、固体を得た。次いで、固体をメタノール20mL上でスラリー化した。生成物を濾過し、メタノール3×15mLで洗浄し、生成物2.3gを得た。NMRスペクトルは、構造が、下記の構造式において示される3-4-メトキシフェニル-3-4-ブトキシフェニル-11-フェニル-13,13-ジメチル-3H,13H-インデノ[2’,3’:3,4]ナフト[1,2-b]ピランと一致することを示した。パート2-フォトクロミック特性試験パート2A-試験用四角片の調製試験を、下記の様式で、実施例1~22、24、および26、ならびにCE1~7に記載した化合物で行った。1.5×10-3重量モル濃度の溶液をもたらすように計算した量の化合物を、4部のエトキシ化ビスフェノールAジメタクリレートBPA2EODMA、1部のポリエチレングリコール600ジメタクリレート、および0.033重量パーセントの2,2’-アゾビス2-メチルプロピオニトリルAIBNの50グラムのモノマーブレンドが入っているフラスコに加えた。各化合物を、必要に応じて撹拌し、穏やかに加熱することによって、モノマーブレンドに溶解させた。明澄な溶液が得られた後、試料を、真空オーブン中で25torrにて5~10分間脱気した。シリンジを使用して、試料を、2.2mm/-0.3mm×6インチ15.24cm×6インチ15.24cmの内寸法を有するフラットシートモールド中に注いだ。モールドを密封し、水平空気流のプログラム可能なオーブン中に入れ、5時間の間隔に亘り40°Cから95°Cへと上昇させ、温度を95°Cで3時間保ち、2時間の間隔に亘り60°Cに低下させ、次いで60°Cで16時間保った。硬化の後、モールドを開け、ポリマーシートを、ダイアモンド刃のこぎりを使用して2インチ5.1cmの試験用四角片に切断した。パート2B-応答試験光学台上での応答試験の前に、パート2Aからのフォトクロミック試験用四角片を、365nmの紫外線に約15分間曝露し、フォトクロミック材料を基底状態の形態から活性化状態の形態へと変換させ、次いで75°Cのオーブン中に約15分間置いて、フォトクロミック材料が基底状態形態に復帰することを可能とした。次いで、試験用四角片を室温に冷却し、室内蛍光灯に少なくとも2時間曝露し、次いで少なくとも2時間カバーしたままにすなわち、暗い環境にして、その後73°F23°Cに維持しながら光学台上で試験した。Schott3mmKG-2バンドパスフィルター、ニュートラルデンシティフィルター複数可およびNewportモデル67005300ワットキセノンアークランプNewportモデル689456DigitalExposure/Timerと併せた、モデル69911の電源を伴うを装着した光学台を使用して、試料の活性化のために利用される照射ビームの強度を制御した。モデルVMM-D3コントローラーを伴うUniblitzモデルCS25S3ZM0高速コンピュータ制御シャッター、この活性化ランプビームのビーム視準のための溶融石英コンデンサレンズ、および石英ガラス水浴試料チャンバ。応答測定値をモニターするための注文製の広帯域光源を、活性化源とモニタービームとの間の角度が30度となるように試料に向け、試料はこのモニタービームに対して垂直に配置した。このブロードビーム光源は、末端が分かれた二股光ファイバーケーブルを有する100ワットのタングステンハロゲンランプLambdaUP60-14定電圧電源により制御からの別々にフィルタリングした光を集め、合わせることによって得て、短波長光強度を増強させる。試料を通過させた後、このモニター光を2インチ積分球中で再び集中させ、光ファイバーケーブルによってOceanOpticsS2000分光光度計に供給した。OceanOpticsSpectraSuiteおよびPPG専売権付ソフトウェアを使用して、応答を測定し、光学台の操作を制御した。λmax-visは、試験用四角片中のフォトクロミック化合物の活性化状態の形態の最大吸収が起こる可視スペクトルにおける波長である。λmax-vis波長は、VarianCary4000UV-可視分光光度計でフォトクロミック試験用四角片を試験することによって決定した。各試験試料についての飽和での光学密度における変化は、キセノンランプからのシャッターを開け、試験チップを3W/m2UVA光線に30分間曝露させた後の透過率を測定することによって決定した。飽和での光学密度における変化は、式:ΔOD=logTb/TaTbは、脱色した状態における透過パーセントであり、Taは、活性化状態における透過パーセントである両方とも、λmax-visにおいてであり、対数は10を底とするを使用して計算した。退色半減期T1/2または脱色速度は、活性化光の源を取り除いた後、試験用四角片中のフォトクロミック材料の活性化状態の形態の吸光度が、室温23°Cにて飽和値でΔODの2分の1に達する時間間隔秒である。感応性ΔOD/分は、試料がどれだけ速く色が濃くなるかの尺度であり、等式ΔODsen=ΔOD5min×12から計算する。実施例5および10ならびに比較例4および5の化合物は、明確な色領域における可視スペクトルλ最大可視部分において二重のピーク吸収を示した。それぞれのλ最大可視部分について、相当する光学密度ΔOD/分、および飽和でのΔODならびに退色半減期を、ピーク吸収の2つの帯AおよびBについて表1において作表する。結果を、表1において一覧表示する。比較例1および2は、実施例1および2と構造が同様であり、実施例1および2と比較すべきである。比較例3は、実施例4と構造が同様であり、実施例4と比較すべきである。比較例4は、実施例5と構造が同様であり、実施例5と比較すべきである。比較例5は、実施例10と構造が同様であり、実施例10と比較すべきである。比較例6は、実施例12と構造が同様であり、実施例12と比較すべきである。比較例7は、実施例13と構造が同様であり、実施例13と比較すべきである。それぞれの比較において、実施例の化合物は、より少ない秒数によってより速い退色速度を示し、かつ/または感応性および飽和値におけるΔODについてのより大きい数字によってより濃い色合いを示す。本発明を、その特定の実施形態の特定の詳細に関連して記載してきた。このような詳細が添付の特許請求に含まれている場合を除いて、詳細を本発明の範囲に対する制限であると見なすことは意図されない。"