"1,1,1,2-テトラフルオロプロペンの製造方法であって、原料のヘキサフルオロプロペンを還元触媒の存在下にて水素化して、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンを得る第1の水素化工程、該1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンを脱HF反応に付して、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンを得る第1の脱HF工程、該1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンを還元触媒の存在下にて水素化して、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンを得る第2の水素化工程、および該1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンを脱HF反応に付して、1,1,1,2-テトラフルオロプロペンを得る第2の脱HF工程を逐次的に実施することを含む方法。第1の水素化工程および第2の水素化工程が同じ条件下で実施され、第1の脱HF工程および第2の脱HF工程が同じ条件下で実施される、請求項1に記載の方法。1,1,1,2-テトラフルオロプロペンの製造方法であって、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンを還元触媒の存在下にて水素化して、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンを得る水素化工程、および該1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンを脱HF反応に付して、1,1,1,2-テトラフルオロプロペンを得る脱HF工程を実施することを含む方法。水素化工程における還元触媒が、Pd、Pt、Rh、RuおよびReからなる群より選択される少なくとも1種の金属を活性炭に担持したものである、請求項1~3のいずれかに記載の方法。水素化工程が、気相で実施される、請求項1~4のいずれかに記載の方法。脱HF工程が、気相で実施される、請求項1~5のいずれかに記載の方法。脱HF工程が、触媒の存在下にて実施される、請求項1~6のいずれかに記載の方法。脱HF工程における触媒が、酸化フッ化クロム、酸化フッ化アルミニウム、フッ化ニオブ、フッ化マグネシウム、フッ化タンタルおよびフッ化アンチモンからなる群より選択される少なくとも1種を含む、請求項7に記載の方法。水素化工程における還元触媒が、金属を0.5~5重量の割合で担持している、請求項1~8のいずれかに記載の方法。水素化工程が、30°C~300°Cの温度で実施される、請求項1~9のいずれかに記載の方法。脱HF工程が、250°C~450°Cの温度で実施される、請求項1~10のいずれかに記載の方法。しかしながら、このような方法は、目的生成物であるHFC-1234yfおよびその前駆体であるHFC-245ebのほかに、HFC-1234yfとなり得ない副生成物を生じることが多い。本発明の目的は、従来の方法に比して、HFC-1234yfをより高選択的に製造することのできる方法を提供することにある。本発明者らは、HFC-1234yfを得るための原料としてヘキサフルオロプロペンHFPを用いることについて検討し、水素化、脱HFまたは脱フッ化水素および蒸留の適当な実施方法について鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。本発明の第1の要旨においては、1,1,1,2-テトラフルオロプロペンHFC-1234yfの製造方法であって、a原料のヘキサフルオロプロペンHFPを1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンHFC-1225yeと共に還元触媒の存在下にて水素化して、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンHFC-236eaおよび1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンHFC-245ebを含む反応混合物を得る工程、b工程aより得た反応混合物を脱HF反応に付して、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンHFC-1225yeおよび1,1,1,2-テトラフルオロプロペンHFC-1234yfを含んで成る反応混合物を得る工程、c工程bより得た反応混合物を蒸留に付して、1,1,1,2-テトラフルオロプロペンHFC-1234yfを含む第1Aフラクションと、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンHFC-1225yeを含む第2Aフラクションとに分離する工程、およびd第2Aフラクションに含まれる1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンHFC-1225yeを工程aに用いる工程を含み、1,1,1,2-テトラフルオロプロペンを第1Aフラクション中に得る方法が提供される。本発明の第1の要旨による製造方法においては、HFPからHFC-1234yfを生じるために、以下のような反応がHFC-1225yeを経て逐次的に進行していると考えられる。本発明者らは、HFPからHFC-236eaを生じる水素化反応と、HFC-1225yeからHFC-245ebを生じる水素化反応とを同じ条件下にて進行させることが可能であり、かつ、HFC-236eaからHFC-1225yeを生じる脱HF反応と、HFC-245ebからHFC-1234yfを生じる脱HF反応とを同じ条件下にて進行させることも可能であることを見出した。これにより、これら水素化および脱HFをそれぞれ同時に言わば、上記逐次反応を折り畳んで実施し、その後、蒸留によりHFC-1234yfを得るものとした。本発明のこのような製造方法によれば、HFC-1234yfをより高選択的に製造することが可能となる。本発明の上記第1の要旨による製造方法において、工程cより得られる第2Aフラクションが、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンHFC-1225yeに加えて、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンHFC-245ebおよび1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンHFC-236eaの少なくとも一方を含んで成るものであってよく、ならびに工程dが、第2Aフラクションを更なる蒸留に付して、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンHFC-245ebおよび1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンHFC-236eaの少なくとも一方を含んで成る第3Aフラクションと、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンHFC-1225yeを含んで成る第4Aフラクションとに分離し、第3Aフラクションを工程bの脱HF反応に付し、および第4Aフラクションを工程aの水素化反応に付すことを含むものであってよい。これにより、中間体であるHFC-245ebおよびHFC-236eaの少なくとも一方ならびにHFC-1225yeをそれぞれ適切な反応段階に戻して使用することができる。しかしながら、本発明の第1の要旨はこれに限定されず、例えば第2Aフラクションをそのまま全部、工程aの水素化反応に付すようにしてもよい。本発明の第2の要旨においては、1,1,1,2-テトラフルオロプロペンHFC-1234yfの製造方法であって、p原料のヘキサフルオロプロペンを還元触媒の存在下にて水素化して、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンHFC-236eaおよび1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンHFC-245ebを含む反応混合物を得る工程、q工程pより得た反応混合物を蒸留に付して、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンHFC-245ebを含んで成る第1Bフラクションと、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンHFC-236eaを含んで成る第2Bフラクションとに分離する工程、およびr第1Bフラクションを脱HF反応に付して、1,1,1,2-テトラフルオロプロペンHFC-1234yfを含んで成る反応混合物を得る工程を含み、1,1,1,2-テトラフルオロプロペンHFC-1234yfを工程rの反応混合物中に得る方法が提供される。本発明の第2の要旨による製造方法においては、HFPからHFC-1234yfを生じるために、以下のような反応が進行していると考えられる。本発明者らは、HFPを適切な条件で水素化することによって、HFC-236eaに加えてHFC-245ebが直接に得られることを見出し、得られたHFC-245ebを蒸留分離して脱HFすることによりHFC-1234yfを得るものとした。本発明のこのような製造方法によれば、HFC-1234yfをより高選択的に製造することが可能となる。本発明の上記第2の要旨による製造方法は、工程qより得られる第2Bフラクションを工程pの水素化反応に付すことを更に含むものであってよい。これにより、中間体であるHFC-236eaを水素化に付してHFC-245ebを得ることができる。しかしながら、本発明の第2の要旨はこれに限定されず、第2Bフラクションを水素化に利用しなくてもよい。本発明によれば、ヘキサフルオロプロペンHFPを原料として用い、水素化、脱HFおよび蒸留を適切に組み合わせることにより、1,1,1,2-テトラフルオロプロペンHFC-1234yfをより高選択的に製造することができる。本発明の2つの実施形態について図面を参照しながら以下に詳述する。実施形態1本実施形態は、水素化反応後に脱HFを行い、その後に蒸留を行う態様折畳みタイプに関する。図1を参照して、ヘキサフルオロプロペンHFPを原料として外部からライン11に供給し、および、後述するように蒸留塔T12からライン17を通じて取り出した第6ストリームS16をライン11にリサイクルする。第6ストリームS16は1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンHFC-1225yeを含んで成る第4Aフラクションである。これにより、フィードF1としてHFPおよびHFC-1225yeの混合物がライン11を通じて反応器R11に供給される。フィードF1として供給されたHFPおよびHFC-1225yeの混合物は、反応器R11にて還元触媒の存在下にて水素化図1中、H2の供給は省略するに付されて、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンHFC-236eaおよび1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンHFC-245ebを生じる。尚、反応混合物中には、未反応のHFPおよびHFC-1225yeもわずかに残留し得るが、最終的にHFC-1234yfに転化しない物質は実質的に存在しないことが好ましい。このような還元触媒には、例えば、一般的な還元触媒を使用し得る。好ましい還元触媒は、Pd、Pt、Rh、Ru、またはReなどの金属を、活性炭、アルミナなどの金属酸化物、または金属フッ化物に担持したものである。金属の担持割合は0.1~20重量であり、好ましくは0.1~10重量、更に好ましくは0.5~5重量である。触媒によっては還元の能力が異なり、還元が進みすぎたり、逆に還元が進まなかったり転化率が上がらなかったりすることもあるので、触媒は本実施形態に従った目的に応じて適宜選択され得る。反応圧力は特に限定されず、減圧下、常圧下、もしくは加圧下で反応を進行させることが可能であるが、常圧下もしくは加圧下での反応が好ましい。約0~1.5MPaGゲージ圧の範囲の圧力とすることが好ましく、このような圧力は反応の進行に際し比較的大きな装置を要しないという利点がある。しかしながら、この範囲外の圧力を適用することも可能である。反応温度は、通常約30°C~400°Cの範囲とされ、好ましくは約30°C~300°C、更に好ましくは約30°C~180°Cの範囲である。不必要に高い反応温度としないことによって、副生成物を比較的少量に抑えることができる。また、本反応は発熱反応であるため部分的に触媒の一部が上記の温度範囲を超えて高温になることがあってもよい。接触時間はW/F0gNml-1secこの場合、F0Nmlsec-1は反応器R11へのフィードF1の供給量であり、Wgは反応器R11に充填した触媒の量であるで表わされ、通常約0.1~30の範囲とされ得、好ましくは約0.5~15の範囲である尚、単位における記号Nは0°Cおよび1atmでの標準状態換算を示す。以下も同様である。接触時間は、選択率および転化率に影響を与えるので、目的に応じて適宜選択され得る。水素化に用いる水素H2と、原料であるHFPおよびHFC-1225yeは、通常、理論等量以上の比で混合して反応器R11に供給される。よって、H2/HFPおよびHFC-1225yeの供給モル比は通常1~6の範囲であり、好ましくは1~3である。次に、反応器R11にて得られた反応混合物はライン12より第1ストリームS11として抜き出され、反応器R12に供給される。そして、反応混合物中のHFC-236eaおよびHFC-245ebが脱HFに付されて、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンHFC-1225yeおよび1,1,1,2-テトラフルオロプロペンHFC-1234yfを生じる。尚、これにより得られる反応混合物中には、未反応のHFC-236eaおよびHFC-245ebなどが残留し得る。脱HF反応には、一般的な脱ハロゲン化水素反応に用いられる触媒を使用し得る。具体的には金属酸化フッ化物、もしくは金属フッ化物等であり、更に具体的には酸化フッ化クロム、酸化フッ化アルミニウム、フッ化ニオブ、フッ化マグネシウム、フッ化タンタル、フッ化アンチモンなどであるが、特に限定されない。また、例えば、上記の特許文献8に開示されているような活性炭系触媒を使用してもよい。反応圧力は特に限定されず、減圧下、常圧下、もしくは加圧下で反応を進行させることが可能であるが、常圧下での反応が好ましい。常圧下での反応は、加圧下での反応に比べて平衡的に有利であり、減圧下での反応に比べて比較的大きな装置を要しないという利点がある。反応温度は、常圧下の場合は約200~600°Cの範囲とされ得、好ましくは250~450°Cの範囲である。接触時間はW’/F0’gNml-1secこの場合、F0’Nmlsec-1は反応器R12への第1ストリームS11および存在する場合には後述する第5ストリームS15の供給量であり、W’gは反応器R12に充填した触媒の量であるで表わされ、通常約0.1~120の範囲とされ得、好ましくは約0.5~60の範囲である。本実施形態における反応では脱HF反応が律速段階となっている。次に、反応器R12にて得られた反応混合物はHF脱離後、ライン13より第2ストリームS12として抜き出され、蒸留塔T11に供給される。第2ストリームS12は、HFC-1234yf標準沸点約-29°CおよびHFC-1225ye標準沸点約-19.5°CZ異性体および約-15.3°CE異性体を含み、蒸留により、HFC-1234yf低沸点成分を含んで成る第1Aフラクションと、HFC-1225ye高沸点成分を含んで成る第2Aフラクションとに分離される。第1Aフラクションは蒸留塔T11よりライン14を通じて第3ストリームS13として抜き出される。第1Aフラクションは、好ましくはHFC-1234yfより実質的に成り、第1Aフラクションによって、HFC-1234yfを得ることができる。第2Aフラクションは蒸留塔T11よりライン15を通じて第4ストリームS14として抜き出される。第2Aフラクションは、一般的には、HFC-1225yeに加えてHFC-245eb標準沸点約23°Cおよび/またはHFC-236ea標準沸点約6°Cを含み得る。このようにして得られた第2Aフラクションは、蒸留塔T11より第4ストリームS14として抜き出された後、更に蒸留塔T12に供給され、蒸留により、HFC-245ebおよびHFC-236ea高沸点成分の少なくとも一方、一般的には双方を含んで成る第3Aフラクションと、HFC-1225ye低沸点成分を含んで成る第4Aフラクションとに分離される。第3Aフラクションは、蒸留塔T12よりライン16を通じて第5ストリームS15として抜き出され、反応器R12に戻されて、脱HF反応に付され得る。第4Aフラクションは、蒸留塔T12よりライン17を通じて第6ストリームS16として抜き出され、上述したようにHFPと共に反応器R11にフィードF1として供給されて、水素化反応に付される。以上のようにして、本実施形態によれば、HFPからHFC-1225yeを経てHFC-1234yfを得る逐次反応を簡素化されたプロセスにて実施して、HFC-1234yfを高選択的に製造することができる。本実施形態の製造方法は連続的に実施され得る。なお、本実施形態において不純物の生成はわずかであるが、低沸および高沸の不純物は、蒸留によりストリーム製品ストリームおよびリサイクルストリームなど中より適宜除去され得る。また、工程中で生成するフッ化水素HFは水洗および/または蒸留により適宜分離除去され得る。未反応の水素H2がストリーム中に存在し得るが、分離除去または反応器R11へのリサイクルなどによって、適宜処理され得る。実施形態2本実施形態は、水素化反応後に蒸留を行い、その後に脱HFを行う態様直接タイプに関する。以下、特に説明のない限り、上述の実施形態1と同様である。図2を参照して、ヘキサフルオロプロペンHFPを原料として外部からライン21に供給し、および、後述するように蒸留塔T21からライン24を通じて取り出した第4ストリームS24をライン21にリサイクルする。第4ストリームS24はHFC-236eaを含んで成る第2Bフラクションである。これにより、フィードF2としてHFPおよびHFC-236eaの混合物がライン21を通じて反応器R21に供給される。但し、HFC-236eaの供給は本実施形態に必須ではない。フィードF2として供給されたHFPおよびHFC-236eaの混合物は、反応器R21にて還元触媒の存在下にて水素化図2中、H2の供給は省略するに付されて、HFC-236eaおよびHFC-245ebを生じる。本実施形態においては、フィードF2としてHFPのみを供給しても、HFPからHFC-245ebが直接生じ得る。尚、反応混合物中には、HFC-1225yeも含まれ得る。このような還元触媒には、HFPからHFC-245ebを直接生じ得るような任意の適切な還元触媒、例えば実施形態1にて上述したものなどを適宜使用し得る。触媒によっては還元の能力が異なり、還元が進みすぎたり、逆に還元が進まなかったり転化率が上がらなかったりすることもあるので、触媒は本実施形態に従った目的に応じて適宜選択され得る。反応圧力は特に限定されず、減圧下、常圧下、もしくは加圧下で反応を進行させることが可能であるが、常圧下もしくは加圧下での反応が好ましい。約0~1.5MPaGゲージ圧の範囲の圧力とすることが好ましく、このような圧力は反応の進行に際し比較的大きな装置を要しないという利点がある。しかしながら、この範囲外の圧力を適用することも可能である。反応温度は、通常約30°C~500°Cの範囲とされ、好ましくは約30°C~400°C、更に好ましくは約30°C~300°Cの範囲である。不必要に高い反応温度としないことによって、副生成物を比較的少量に抑えることができる。また、本反応は発熱反応であるため部分的に触媒の一部が上記の温度範囲を超えて高温になることがあってもよい。接触時間はW/F0gNml-1secこの場合、F0Nmlsec-1は反応器R21へのフィードF2の供給量であり、Wgは反応器R21に充填した触媒の量であるで表わされ、通常約0.1~30の範囲とされ得、好ましくは約0.5~15の範囲である。接触時間は、選択率および転化率に影響を与えるので、目的に応じて適宜選択され得る。水素化に用いる水素H2と、原料であるHFPおよび本実施形態のようにフィード中に存在する場合にはHFC-236eaは、通常、理論等量以上の比で混合して反応器R21に供給される。よって、H2/HFPまたは、本実施形態のようにHFC-236eaがフィード中に存在する場合は、H2/HFPおよびHFC-236eaの供給モル比ガス状態では体積比に等しいは通常1~6の範囲であり、好ましくは1~4である。次に、反応器R21にて得られた反応混合物はライン22より第1ストリームS21として抜き出され、蒸留塔T21に供給される。第1ストリームS21は、HFC-245ebおよびHFC-236eaを含み、蒸留により、HFC-245eb高沸点成分を含んで成る第1Bフラクションと、HFC-236ea低沸点成分を含んで成る第2Bフラクションとに分離される。第1Bフラクションは蒸留塔T21よりライン23を通じて第2ストリームS22として抜き出され、反応器R22に供給される。そして、第1Bフラクション中のHFC-245ebが脱HFに付されて、HFC-1234yfを生じる。脱HF反応の条件は実施形態1と同様である。反応圧力は特に限定されず、減圧下、常圧下、もしくは加圧下で反応を進行させることが可能であるが、常圧下での反応が好ましい。常圧下での反応は、加圧下での反応に比べて平衡的に有利であり、減圧下での反応に比べて比較的大きな装置を要しないという利点がある。反応温度は、常圧下の場合は約200~600°Cの範囲とされ得、好ましくは250~450°Cの範囲である。接触時間はW’/F0’gNml-1secこの場合、F0’Nmlsec-1は反応器R22への第2ストリームS22および存在する場合には後述するリサイクルストリームの供給量であり、W’gは反応器R22に充填した触媒の量であるで表わされ、通常約0.1~120の範囲とされ得、好ましくは約0.5~60の範囲である。これにより得られる反応混合物は、未反応のHFC-245ebも残留し得るが、好ましくはHFC-1234yfを高純度で含んで成る。これによって、HFC-1234yfを得ることができる。所望により、反応混合物をHFC-1234yfを含んで成るフラクションと、HFC-245ebを含んで成るフラクションとに分離し、後者のフラクションを反応器R22に戻してリサイクルストリーム脱HF反応に付してよい。本実施形態における反応でも脱HF反応が律速段階となっている。他方、第2Bフラクションは蒸留塔T21よりライン24を通じて第4ストリームS24として抜き出され、上述したようにHFPと共に反応器R21にフィードF2として供給されて、水素化反応に付される。尚、第2Bフラクションは、一般的には、HFC-236eaに加えてHFC-1225yeを含み得る。以上のようにして、本実施形態によれば、HFPからHFC-245ebを直接得る反応を利用することにより、極めて簡単なプロセスでHFC-1234yfを高選択的に製造することができる。本実施形態の製造方法も連続的に実施され得る。なお、本実施形態において不純物の生成はわずかであるが、低沸および高沸の不純物は、蒸留によりストリーム製品ストリームおよびリサイクルストリームなど中より適宜除去され得る。また、工程中で生成するフッ化水素HFは水洗および/または蒸留により適宜分離除去され得る。未反応の水素H2がストリーム中に存在し得るが、分離除去または反応器R21へのリサイクルなどによって、適宜処理され得る。図1を参照して詳述した実施形態1に従って、本発明の方法を実施した。原料にはHFPをガス状態で用いた。この原料と蒸留塔T12からリサイクルされる第6ストリームS16を一緒にして、フィードF1として反応器R11に供給して還元触媒の存在下にて水素化反応に付した。還元触媒には活性炭担持Pd触媒Pd担持量:3重量を用いた。反応条件は次の通りであった:反応温度は200°Cとし、反応圧力は常圧とした。H2/HFPおよびHFC-1225yeの供給体積比3とした。また、反応器R11へのフィードF1の供給量をF0Nmlsec-1とし、反応器R11に充填した触媒の量をWgとして、W/F0=8gNml-1secであった。反応器R11にて得られた反応混合物を第1ストリームS11として抜き出し、反応器R12に供給して脱HF反応に付した。反応器R12には、蒸留塔T12からリサイクルされる第5ストリームS15も供給して脱HF反応に付した。触媒には酸化フッ化クロム触媒フッ素含量:約31.4重量を用いた。反応条件は次の通りであった:反応温度は400°Cとし、反応圧力は常圧とした。また、反応器R12への第1ストリームS11および第5ストリームS15の供給量をF0’Nmlsec-1とし、反応器R12に充填した触媒の量をW’gとして、W’/F0’=20gNml-1secであった。反応器R12にて得られた脱HF後の反応混合物を第2ストリームS12として抜き出し、蒸留塔T11に移送して、低沸点部分である第3ストリームS13と高沸点部分である第4ストリームS14とに分離した。得られた第4ストリームS14を蒸留塔T12に移送して、高沸点部分である第5ストリームS15と低沸点部分である第6ストリームS16とに分離した。得られた第5ストリームS15および第6ストリームS16は、上述のように、それぞれその全量を反応器R12および反応器R11にリサイクルした。運転開始より12時間経過した後、フィードF1および第1~6ストリームS11~S16の組成をガスクロマトグラフィーにより分析し、水素H2およびフッ化水素HFを除いた各成分の流量を求めた。結果を表1に示す。尚、表中、記号は検出されなかったことを、traceは痕跡量または微量しか存在しなかったことを示す。表1より、第1Aフラクションに該当する第3ストリームS13としてHFC-1234yfが高収率で得られることが確認された。図2を参照して詳述した実施形態2に従って、本発明の方法を実施した。原料にはHFPをガス状態で用いた。この原料と蒸留塔T21からリサイクルされる第4ストリームS24を一緒にして、フィードF2として反応器R21に供給して還元触媒の存在下にて水素化反応に付した。還元触媒には活性炭担持Pd触媒Pd担持量:3重量を用いた。反応条件は次の通りであった:反応温度は200°Cとし、反応圧力は常圧とした。H2/HFPおよびHFC-236eaの供給体積比4とした。また、反応器R21へのフィードF2の供給量をF0Nmlsec-1とし、反応器R21に充填した触媒の量をWgとして、W/F0=8gNml-1secであった。反応器R21にて得られた反応混合物を第1ストリームS21として抜き出し、蒸留塔T21に供給して、高沸点部分である第2ストリームS22と低沸点部分である第4ストリームS24とに分離した。得られた第2ストリームS22を反応器R22に供給して脱HF反応に付した。触媒には酸化フッ化クロム触媒フッ素含量:約31.4重量を用いた。反応条件は次の通りであった:反応温度は400°Cとし、反応圧力は常圧とした。また、反応器R22への第2ストリームS22の供給量をF0’Nmlsec-1とし、反応器R22に充填した触媒の量をW’gとして、W’/F0’=20gNml-1secであった。他方、第4ストリームS24は、上述のように、その全量を反応器R21にリサイクルした。運転開始より12時間経過した後、フィードF2および第1~4ストリームS21~S24の組成をガスクロマトグラフィーにより分析し、水素H2およびフッ化水素HFを除いた各成分の流量を求めた。結果を表2に示す。尚、表中、記号は検出されなかったことを、traceは痕跡量または微量しか存在しなかったことを示す。表2より、脱HF後の反応混合物に該当する第3ストリームS23中にHFC-1234yfが90の収率で得られた。この第3ストリーム中のHFC-245ebは中間体であるから、HFC-245ebを分離して脱HF反応にリサイクルすることによりHFC-1234yfが得られることを考慮すれば、97以上の高収率が期待できる。"