"基板を支持するチャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節する調節装置、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有し、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、空間的光変調器により変調された光ビームを照射光学系へその光軸に対して斜めに入射させ、照射光学系から前記チャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置と、前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備えたことを特徴とする配向膜の露光装置。前記光ビーム照射装置は、前記照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞りと、前記調節装置により調節された光ビームの前記空間的光変調器への入射角度に応じ、前記絞りを前記照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動する絞り移動装置とを有することを特徴とする請求項1に記載の配向膜の露光装置。前記光ビーム照射装置の調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、前記チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、前記移動手段による前記チャックと前記光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の配向膜の露光装置。基板をチャックで支持し、チャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節する調節装置、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置内において、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、空間的光変調器により変調された光ビームを照射光学系へその光軸に対して斜めに入射させ、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射し、光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与することを特徴とする配向膜の露光方法。光ビーム照射装置内において、調節装置により調節した光ビームの空間的光変調器への入射角度に応じ、照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞りを、照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動することを特徴とする請求項4に記載の配向膜の露光方法。光ビーム照射装置の調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の配向膜の露光方法。基板を支持するチャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系、照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞り、及び絞りを照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動する絞り移動装置を有し、絞り移動装置により絞りの開口の中心を空間的光変調器により変調された光ビームの中心からずらし、照射光学系を通過する光ビームの一部を絞りで遮断して、照射光学系から前記チャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置と、前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備えたことを特徴とする配向膜の露光装置。前記光ビーム照射装置の絞り移動装置による絞りの移動方向を変えて、前記チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、前記移動手段による前記チャックと前記光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することを特徴とする請求項7に記載の配向膜の露光装置。基板をチャックで支持し、チャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系、照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞り、及び絞りを照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動する絞り移動装置を有する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置内において、絞り移動装置により絞りの開口の中心を空間的光変調器により変調された光ビームの中心からずらし、照射光学系を通過する光ビームの一部を絞りで遮断して、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射し、光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与することを特徴とする配向膜の露光方法。光ビーム照射装置の絞り移動装置による絞りの移動方向を変えて、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することを特徴とする請求項9に記載の配向膜の露光方法。特許文献1に記載の様に、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成するためには、直線偏光の紫外光を、配向領域毎に異なる方向から斜めに照射する必要がある。そのため、従来は、フォトリソグラフィー技術で用いられる、マスクと基板との間に微小な間隙プロキシミティギャップを設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置と同様の構成を用い、露光する配向領域以外の領域を覆うマスクを設けて、露光光照射装置からマスクへ直線偏光の露光光を斜めに照射していた。しかしながら、マスクを用いた従来の方式は、露光する基板の種類毎にマスクを交換する必要がある。また、従来のプロキシミティ露光装置に用いられる露光光照射装置は、露光光を照射する方向を変更することができないため、各配向領域を露光する度に基板をチャックから取り外して基板の向きを回転させる必要がある。そのため、タクトタイムが長くなって、スループットが低下するという問題がある。本発明の課題は、マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成することである。また、本発明の課題は、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、タクトタイムを短縮して、スループットを向上させることである。本発明の配向膜の露光装置は、基板を支持するチャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節する調節装置、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有し、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、空間的光変調器により変調された光ビームを照射光学系へその光軸に対して斜めに入射させ、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置と、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備えたものである。また、本発明の配向膜の露光方法は、基板をチャックで支持し、チャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節する調節装置、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置内において、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、空間的光変調器により変調された光ビームを照射光学系へその光軸に対して斜めに入射させ、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射し、光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与するものである。光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与するので、光ビーム照射装置の空間的光変調器を駆動する駆動回路へ供給する描画データを変更して、所望の位置及び所望の形状の配向領域を露光することができる。従って、マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成することができる。そして、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することができる。従って、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、各配向領域を露光する度に基板をチャックから取り外して基板の向きを回転させる必要が無いので、タクトタイムが短縮されて、スループットが向上する。また、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの入射角度を変更し、配向膜に付与する配向特性のプレチルト角を制御することができる。さらに、本発明の配向膜の露光装置は、光ビーム照射装置が、照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞りと、調節装置により調節された光ビームの空間的光変調器への入射角度に応じ、絞りを照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動する絞り移動装置とを有するものである。また、本発明の配向膜の露光方法は、光ビーム照射装置内において、調節装置により調節した光ビームの空間的光変調器への入射角度に応じ、照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞りを、照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動するものである。照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞りは、通常、その開口の中心を照射光学系の光軸に合わせて設置される。本発明では、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、空間的光変調器により変調された光ビームを照射光学系へその光軸に対して斜めに入射させるので、照射光学系を通過する光ビームの光路が変化し、そのままでは、光ビームの一部が絞りで遮断されて、照射光学系を通過する光ビームの光量が低下する。調節装置により調節した光ビームの空間的光変調器への入射角度に応じ、照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞りを、照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動することにより、照射光学系を通過する光ビームの光量の低下を抑制することができる。さらに、本発明の配向膜の露光装置は、光ビーム照射装置の調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、移動手段によるチャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更するものである。また、本発明の配向膜の露光方法は、光ビーム照射装置の調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更するものである。露光光のパターンや基板に塗布された配向膜の性質等に応じて、光ビームによる基板の走査方向が配向膜に付与される配向特性のプレチルト方向に影響する場合、光ビームの方向の変更と、チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、所望のプレチルト方向を得ることができる。あるいは、本発明の配向膜の露光装置は、基板を支持するチャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系、照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞り、及び絞りを照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動する絞り移動装置を有し、絞り移動装置により絞りの開口の中心を空間的光変調器により変調された光ビームの中心からずらし、照射光学系を通過する光ビームの一部を絞りで遮断して、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置と、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備えたものである。また、本発明の配向膜の露光方法は、基板をチャックで支持し、チャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系、照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞り、及び絞りを照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動する絞り移動装置を有する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置内において、絞り移動装置により絞りの開口の中心を空間的光変調器により変調された光ビームの中心からずらし、照射光学系を通過する光ビームの一部を絞りで遮断して、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射し、光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与するものである。絞り移動装置により絞りの開口の中心を空間的光変調器により変調された光ビームの中心からずらし、照射光学系を通過する光ビームの一部を絞りで遮断して、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射するので、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節することなく、絞りを照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動する簡単な動作で、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームが斜めに照射される。そして、絞り移動装置による絞りの移動方向を変えて、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することができる。従って、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、各配向領域を露光する度に基板をチャックから取り外して基板の向きを回転させる必要が無いので、タクトタイムが短縮されて、スループットが向上する。さらに、本発明の配向膜の露光装置は、光ビーム照射装置の絞り移動装置による絞りの移動方向を変えて、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、移動手段によるチャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更するものである。また、本発明の配向膜の露光方法は、光ビーム照射装置の絞り移動装置による絞りの移動方向を変えて、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更するものである。露光光のパターンや基板に塗布された配向膜の性質等に応じて、光ビームによる基板の走査方向が配向膜に付与される配向特性のプレチルト方向に影響する場合、光ビームの方向の変更と、チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、所望のプレチルト方向を得ることができる。本発明によれば、光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与することにより、光ビーム照射装置の空間的光変調器を駆動する駆動回路へ供給する描画データを変更して、所望の位置及び所望の形状の配向領域を露光することができる。従って、マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成することができる。そして、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することができる。従って、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、タクトタイムを短縮して、スループットを向上させることができる。また、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの入射角度を変更し、配向膜に付与する配向特性のプレチルト角を制御することができる。さらに、光ビーム照射装置内において、調節装置により調節した光ビームの空間的光変調器への入射角度に応じ、照射光学系を通過する光ビームの回折光を制限する絞りを、照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動することにより、照射光学系を通過する光ビームの光量の低下を抑制することができる。さらに、光ビーム照射装置の調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することにより、露光光のパターンや基板に塗布された配向膜の性質等に応じて、光ビームによる基板の走査方向が配向膜に付与される配向特性のプレチルト方向に影響する場合、光ビームの方向の変更と、チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、所望のプレチルト方向を得ることができる。あるいは、絞り移動装置により絞りの開口の中心を空間的光変調器により変調された光ビームの中心からずらし、照射光学系を通過する光ビームの一部を絞りで遮断して、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射することにより、調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節することなく、絞りを照射光学系の光軸に垂直な方向へ移動する簡単な動作で、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射することができる。そして、絞り移動装置による絞りの移動方向を変えて、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することができる。従って、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、タクトタイムを短縮して、スループットを向上させることができる。さらに、光ビーム照射装置の絞り移動装置による絞りの移動方向を変えて、チャックに支持された基板へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することにより、露光光のパターンや基板に塗布された配向膜の性質等に応じて、光ビームによる基板の走査方向が配向膜に付与される配向特性のプレチルト方向に影響する場合、光ビームの方向の変更と、チャックと光ビーム照射装置との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、所望のプレチルト方向を得ることができる。図1は、本発明の一実施の形態による配向膜の露光装置の概略構成を示す図である。また、図2は本発明の一実施の形態による配向膜の露光装置の側面図、図3は本発明の一実施の形態による配向膜の露光装置の正面図である。露光装置は、ベース3、Xガイド4、Xステージ5、Yガイド6、Yステージ7、θステージ8、チャック10、ゲート11、光ビーム照射装置20、リニアスケール31,33、エンコーダ32,34、レーザー測長系、レーザー測長系制御装置40、ステージ駆動回路60、及び主制御装置70を含んで構成されている。なお、図2及び図3では、レーザー測長系のレーザー光源41、レーザー測長系制御装置40、ステージ駆動回路60、及び主制御装置70が省略されている。露光装置は、これらの他に、基板1をチャック10へ搬入し、また基板1をチャック10から搬出する基板搬送ロボット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。なお、以下に説明する実施の形態におけるXY方向は例示であって、X方向とY方向とを入れ替えてもよい。図1及び図2において、チャック10は、基板1の受け渡しを行う受け渡し位置にある。受け渡し位置において、図示しない基板搬送ロボットにより基板1がチャック10へ搬入され、また図示しない基板搬送ロボットにより基板1がチャック10から搬出される。チャック10は、基板1の裏面を真空吸着して支持する。基板1の表面には、ポリイミド等の高分子化合物から成る配向膜が塗布されている。基板1の露光を行う露光位置の上空に、ベース3をまたいでゲート11が設けられている。ゲート11には、複数の光ビーム照射装置20が搭載されている。なお、本実施の形態は、8つの光ビーム照射装置20を用いた露光装置の例を示しているが、光ビーム照射装置の数はこれに限らず、本発明は1つ又は2つ以上の光ビーム照射装置を用いた露光装置に適用される。図4は、本発明の一実施の形態による光ビーム照射装置の概略構成を示す図である。光ビーム照射装置20は、光ファイバー22、レンズ23、ミラー24、DMDDigitalMicromirrorDevice25、投影レンズ26a,26b、DMD駆動回路27、偏光子28、絞り29、調節装置50、及び絞り移動装置を含んで構成されている。光ファイバー22は、レーザー光源ユニット21から発生された紫外光の光ビームを、光ビーム照射装置20内へ導入する。光ファイバー22から射出された光ビームは、レンズ23を透過した後、偏光子28を透過して直線偏光となり、ミラー24で反射されてDMD25へ照射される。DMD25は、光ビームを反射する複数の微小なミラーを直交する二方向に配列して構成された空間的光変調器であり、各ミラーの角度を変更して光ビームを変調する。DMD25により変調された光ビームは、投影レンズ26a,26bを含むヘッド部20aから照射される。DMD駆動回路27は、主制御装置70から供給された描画データに基づいて、DMD25の各ミラーの角度を変更する。なお、偏光子28は、レンズ23とミラー24の間に限らず、光ビーム照射装置20内で光ビームの光路中の任意の位置に設置することができる。図2及び図3において、チャック10は、θステージ8に搭載されており、θステージ8の下にはYステージ7及びXステージ5が設けられている。Xステージ5は、ベース3に設けられたXガイド4に搭載され、Xガイド4に沿ってX方向へ移動する。Yステージ7は、Xステージ5に設けられたYガイド6に搭載され、Yガイド6に沿ってY方向へ移動する。θステージ8は、Yステージ7に搭載され、θ方向へ回転する。Xステージ5、Yステージ7、及びθステージ8には、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない駆動機構が設けられており、各駆動機構は、図1のステージ駆動回路60により駆動される。θステージ8のθ方向への回転により、チャック10に搭載された基板1は、直交する二辺がX方向及びY方向へ向く様に回転される。Xステージ5のX方向への移動により、チャック10は、受け渡し位置と露光位置との間を移動される。露光位置において、Xステージ5のX方向への移動により、各光ビーム照射装置20のヘッド部20aから照射された光ビームが、基板1をX方向へ走査する。また、Yステージ7のY方向への移動により、各光ビーム照射装置20のヘッド部20aから照射された光ビームによる基板1の走査領域が、Y方向へ移動される。図1において、主制御装置70は、ステージ駆動回路60を制御して、θステージ8のθ方向へ回転、Xステージ5のX方向への移動、及びYステージ7のY方向への移動を行う。図5は、DMDのミラー部の一例を示す図である。光ビーム照射装置20のDMD25は、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査方向X方向に対して、所定の角度θだけ傾いて配置されている。DMD25を、走査方向に対して傾けて配置すると、直交する二方向に配列された複数のミラー25aのいずれかが、隣接するミラー25a間の隙間に対応する箇所をカバーするので、配向膜の露光を隙間無く行うことができる。なお、本実施の形態では、Xステージ5によりチャック10をX方向へ移動することによって、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査を行っているが、光ビーム照射装置20を移動することにより、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査を行ってもよい。また、本実施の形態では、Yステージ7によりチャック10をY方向へ移動することによって、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査領域を変更しているが、光ビーム照射装置20を移動することにより、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査領域を変更してもよい。図1及び図2において、ベース3には、X方向へ伸びるリニアスケール31が設置されている。リニアスケール31には、Xステージ5のX方向への移動量を検出するための目盛が付けられている。また、Xステージ5には、Y方向へ伸びるリニアスケール33が設置されている。リニアスケール33には、Yステージ7のY方向への移動量を検出するための目盛が付けられている。図1及び図3において、Xステージ5の一側面には、リニアスケール31に対向して、エンコーダ32が取り付けられている。エンコーダ32は、リニアスケール31の目盛を検出して、パルス信号を主制御装置70へ出力する。また、図1及び図2において、Yステージ7の一側面には、リニアスケール33に対向して、エンコーダ34が取り付けられている。エンコーダ34は、リニアスケール33の目盛を検出して、パルス信号を主制御装置70へ出力する。主制御装置70は、エンコーダ32のパルス信号をカウントして、Xステージ5のX方向への移動量を検出し、エンコーダ34のパルス信号をカウントして、Yステージ7のY方向への移動量を検出する。図6は、レーザー測長系の動作を説明する図である。なお、図6においては、図1に示したゲート11、及び光ビーム照射装置20が省略されている。レーザー測長系は、公知のレーザー干渉式の測長系であって、レーザー光源41、レーザー干渉計42,44、及びバーミラー43,45を含んで構成されている。バーミラー43は、チャック10のY方向へ伸びる一側面に取り付けられている。また、バーミラー45は、チャック10のX方向へ伸びる一側面に取り付けられている。レーザー干渉計42は、レーザー光源41からのレーザー光をバーミラー43へ照射し、バーミラー43により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光源41からのレーザー光とバーミラー43により反射されたレーザー光との干渉を測定する。この測定は、Y方向の2箇所で行う。レーザー測長系制御装置40は、主制御装置70の制御により、レーザー干渉計42の測定結果から、チャック10のX方向の位置及び回転を検出する。一方、レーザー干渉計44は、レーザー光源41からのレーザー光をバーミラー45へ照射し、バーミラー45により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光源41からのレーザー光とバーミラー45により反射されたレーザー光との干渉を測定する。レーザー測長系制御装置40は、主制御装置70の制御により、レーザー干渉計44の測定結果から、チャック10のY方向の位置を検出する。図4において、主制御装置70は、光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ描画データを供給する描画制御部を有する。図7は、描画制御部の概略構成を示す図である。描画制御部71は、メモリ72、バンド幅設定部73、中心点座標決定部74、及び座標決定部75を含んで構成されている。メモリ72は、各光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給する描画データを、そのXY座標をアドレスとして記憶している。バンド幅設定部73は、メモリ72から読み出す描画データのY座標の範囲を決定することにより、光ビーム照射装置20のヘッド部20aから照射される光ビームのY方向のバンド幅を設定する。レーザー測長系制御装置40は、露光位置における基板1の露光を開始する前のチャック10のXY方向の位置を検出する。中心点座標決定部74は、レーザー測長系制御装置40が検出したチャック10のXY方向の位置から、基板1の露光を開始する前のチャック10の中心点のXY座標を決定する。図1において、光ビーム照射装置20からの光ビームにより基板1の走査を行う際、主制御装置70は、ステージ駆動回路60を制御して、Xステージ5によりチャック10をX方向へ移動させる。基板1の走査領域を移動する際、主制御装置70は、ステージ駆動回路60を制御して、Yステージ7によりチャック10をY方向へ移動させる。図7において、中心点座標決定部74は、エンコーダ32,34からのパルス信号をカウントして、Xステージ5のX方向への移動量及びYステージ7のY方向への移動量を検出し、チャック10の中心点のXY座標を決定する。座標決定部75は、中心点座標決定部74が決定したチャック10の中心点のXY座標に基づき、各光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給する描画データのXY座標を決定する。メモリ72は、座標決定部75が決定したXY座標をアドレスとして入力し、入力したXY座標のアドレスに記憶された描画データを、各光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ出力する。以下、本発明の一実施の形態による配向膜の露光方法について説明する。図4において、光ビーム照射装置20の調節装置50は、支持台51及びリニアモータを含んで構成されている。支持台51は、ミラー24を支持して回転する回転機構51aを有し、回転機構51aを回転してミラー24の角度を変更する。リニアモータは、コイルを内蔵した可動子52aと、磁石を内蔵した固定子52bとから成る。可動子52aのコイルに電流を流すと、コイルの電流と固定子52bの磁石の磁界とから、フレミングの左手の法則によって、可動子52aに推力ローレンツ力が働き、可動子52aが固定子52bに沿って移動する。可動子52aには、支持台51が搭載されている。なお、調節装置50には、リニアモータに限らず、ボールねじ及びモータ等の他の移動機構を用いてもよい。調節装置50は、主制御装置70の制御により、支持台51の回転機構51aを回転して、ミラー24の角度を変更すると共に、リニアモータの可動子52aを移動して、ミラー24の位置を変更し、ミラー24からDMD25へ照射される光ビームの入射角度を調節する。ミラー24からDMD25へ照射される光ビームの入射角度が変わると、DMD25の各ミラー25aにより反射される光ビームの反射角度が変化する。図4は、DMD25の各ミラー25aにより反射された光ビームの中心軸が、投影レンズ26a,26bの光軸と平行な状態を示している。このとき、投影レンズ26a,26bを透過した光ビームの中心軸は、チャック10に支持された基板1の表面に対して、垂直となる。図8及び図11は、調節装置の動作を説明する図である。図8は、調節装置50が、支持台51の回転機構51aを矢印で示す様に反時計回りへ回転し、支持台51を矢印で示す様に図面右方向へ移動して、ミラー24からDMD25へ照射される光ビームの入射角度を大きくした例を示している。このとき、図8に示す様に、DMD25の各ミラー25aにより反射された光ビームは、右斜め上方から、投影レンズ26aへその光軸に対して斜めに入射する。図11は、調節装置50が、支持台51の回転機構51aを矢印で示す様に時計回りへ回転し、支持台51を矢印で示す様に図面左方向へ移動して、ミラー24からDMD25へ照射される光ビームの入射角度を小さくした例を示している。このとき、図11に示す様に、DMD25の各ミラー25aにより反射された光ビームは、左斜め上方から、投影レンズ26aへその光軸に対して斜めに入射する。投影レンズ26aと投影レンズ26bとの間には、投影レンズ26bを通過する光ビームの回折光を制限する絞り29が配置されている。図8及び図11において、絞り29は、その開口の中心を投影レンズ26a,26bの光軸に合わせて設置されている。このとき、調節装置50によりミラー24からDMD25へ照射される光ビームの入射角度を調節して、DMD25の各ミラー25aにより反射された光ビームを、投影レンズ26aへその光軸に対して斜めに入射させると、投影レンズ26aを通過する光ビームの光路が変化し、そのままでは、光ビームの一部が絞り29で遮断されて、投影レンズ26bを通過する光ビームの光量が低下する。絞り移動装置は、支持板53及びリニアモータを含んで構成されている。支持板53には、絞り29が取り付けられ、絞り29の開口に合わせて開口が設けられている。リニアモータは、コイルを内蔵した可動子54aと、磁石を内蔵した固定子54bとから成る。可動子54aのコイルに電流を流すと、コイルの電流と固定子54bの磁石の磁界とから、フレミングの左手の法則によって、可動子54aに推力ローレンツ力が働き、可動子54aが固定子54bに沿って移動する。可動子54aには、支持板53が取り付けられている。なお、絞り移動装置には、リニアモータに限らず、ボールねじ及びモータ等の他の移動機構を用いてもよい。図9及び図12は、本発明の一実施の形態による配向膜の露光方法を説明する図である。絞り移動装置は、主制御装置70の制御により、調節装置50により調節された光ビームのDMD25への入射角度に応じ、リニアモータの可動子54aを移動して、絞り29を投影レンズ26a,26bの光軸に垂直な方向へ移動する。図9は、絞り移動装置が、光ビームのDMD25への入射角度が大きくなったのに合わせて、支持板53を矢印で示す様に図面左方向へ移動した例を示している。また、図12は、絞り移動装置が、光ビームのDMD25への入射角度が小さくなったのに合わせて、支持板53を矢印で示す様に図面右方向へ移動した例を示している。図10及び図13は、光ビームと絞りの位置関係を示す図である。図10a及び図13aは、図4の状態における光ビーム2と絞り29の位置関係を示し、DMD25により変調された光ビーム2の中心と絞り29に設けられた開口29aの中心とが一致している。図10bは、図8の状態における光ビーム2と絞り29の位置関係を示し、DMD25により変調された光ビーム2が図面左側へ移動して、光ビーム2の中心が絞り29の開口29aの中心から外れている。図10cは、図9の状態における光ビーム2と絞り29の位置関係を示し、絞り29が図面左側へ移動して、DMD25により変調された光ビーム2の中心と絞り29の開口29aの中心とが一致している。また、図13bは、図11の状態における光ビーム2と絞り29の位置関係を示し、DMD25により変調された光ビーム2が図面右側へ移動して、光ビーム2の中心が絞り29の開口29aの中心から外れている。図13cは、図12の状態における光ビーム2と絞り29の位置関係を示し、絞り29が図面右側へ移動して、DMD25により変調された光ビーム2の中心と絞り29の開口29aの中心とが一致している。調節装置50により調節した光ビームのDMD25への入射角度に応じ、投影レンズ26bを通過する光ビームの回折光を制限する絞り29を、投影レンズ26a,26bの光軸に垂直な方向へ移動することにより、投影レンズ26bを通過する光ビームの光量の低下を抑制することができる。図9において、投影レンズ26bを通過した光ビームは、チャック10に支持された基板1に対して、左斜め上方から照射される。露光装置は、チャック10と光ビーム照射装置20とを相対的に移動し、光ビーム照射装置20から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板1を矢印で示す走査方向へ走査する。このとき、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、プレチルト方向が露光光の進行方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面右側となる配向特性が付与される。また、プレチルト方向が露光光の進行方向と逆方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面左側となる配向特性が付与される。図12において、投影レンズ26bを通過した光ビームは、チャック10に支持された基板1に対して、右斜め上方から照射される。露光装置は、チャック10と光ビーム照射装置20とを相対的に移動し、光ビーム照射装置20から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板1を矢印で示す走査方向へ走査する。このとき、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、プレチルト方向が露光光の進行方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面左側となる配向特性が付与される。また、プレチルト方向が露光光の進行方向と逆方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面右側となる配向特性が付与される。なお、光ビームを基板1へ照射する方向と、光ビームによる基板1の走査方向の組合せは、図9及び図12に示した例に限らず、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、適宜決定される。光ビーム照射装置20から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板1を走査して、基板1に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与するので、光ビーム照射装置20のDMD25を駆動するDMD駆動回路27へ供給する描画データを変更して、所望の位置及び所望の形状の配向領域を露光することができる。従って、マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成することができる。そして、調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの方向を変え、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することができる。従って、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、各配向領域を露光する度に基板をチャックから取り外して基板の向きを回転させる必要が無いので、タクトタイムが短縮されて、スループットが向上する。また、調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの入射角度を変更し、配向膜に付与する配向特性のプレチルト角を制御することができる。さらに、光ビーム照射装置20の調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャック10と光ビーム照射装置20との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更するので、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、光ビームによる基板1の走査方向が配向膜に付与される配向特性のプレチルト方向に影響する場合、光ビームの方向の変更と、チャック10と光ビーム照射装置20との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、所望のプレチルト方向を得ることができる。図14は、本発明の他の実施の形態による光ビーム照射装置の概略構成を示す図である。本実施の形態の光ビーム照射装置20’は、図4に示した実施の形態の光ビーム照射装置20の調節装置50を有さず、ミラー24は、図示しないミラー支持装置に固定されている。その他の構成要素は、図4に示した実施の形態の光ビーム照射装置20と同様である。図14において、ミラー24の角度は、DMD25の各ミラー25aにより反射された光ビームの中心軸が、投影レンズ26a,26bの光軸と平行になる様に設定されており、投影レンズ26a,26bを透過した光ビームの中心軸は、チャック10に支持された基板1の表面に対して、垂直となる。本実施の形態では、光ビーム照射装置20’内において、絞り移動装置により絞り29の開口29aの中心をDMD25により変調された光ビームの中心からずらし、投影レンズ26bを通過する光ビームの一部を絞り29で遮断して、投影レンズ26bからチャック10に支持された基板1へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する。図15及び図17は、本発明の他の実施の形態による配向膜の露光方法を説明する図である。絞り移動装置は、主制御装置70の制御により、リニアモータの可動子54aを移動して、絞り29を投影レンズ26a,26bの光軸に垂直な方向へ移動する。図15は、絞り移動装置が、支持板53を矢印で示す様に図面左方向へ移動した例を示している。また、図17は、絞り移動装置が、支持板53を矢印で示す様に図面右方向へ移動した例を示している。図16及び図18は、光ビームと絞りの位置関係を示す図である。図16a及び図18aは、図14の状態における光ビーム2と絞り29の位置関係を示し、DMD25により変調された光ビーム2の中心と絞り29に設けられた開口29aの中心とが一致している。図16bは、図15の状態における光ビーム2と絞り29の位置関係を示し、絞り29が図面左側へ移動して、絞り29の開口29aの中心がDMD25により変調された光ビーム2の中心から外れている。このとき、今まで投影レンズ26bを通過していた光ビームの右側の部分が絞り29で遮断されるため、図15において、投影レンズ26bを通過した光ビームは、チャック10に支持された基板1に対し、全体として角度αを持って左斜め上方から照射される。また、図18bは、図17の状態における光ビーム2と絞り29の位置関係を示し、絞り29が図面右側へ移動して、絞り29の開口29aの中心がDMD25により変調された光ビーム2の中心から外れている。このとき、今まで投影レンズ26bを通過していた光ビームの左側の部分が絞り29で遮断されるため、図17において、投影レンズ26bを通過した光ビームは、チャック10に支持された基板1に対し、全体として角度αを持って右斜め上方から照射される。絞り移動装置により絞り29の開口29aの中心をDMD25により変調された光ビームの中心からずらし、投影レンズ26bを通過する光ビームの一部を絞りで遮断して、投影レンズ26bからチャック10に支持された基板1へ直線偏光の光ビームを斜めに照射するので、図4に示した光ビーム照射装置20の調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節することなく、絞り29を投影レンズ26a,26bの光軸に垂直な方向へ移動する簡単な動作で、投影レンズ26bからチャック10に支持された基板1へ直線偏光の光ビームが斜めに照射される。そして、絞り移動装置による絞り29の移動方向を変えて、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの方向を変え、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することができる。従って、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、各配向領域を露光する度に基板をチャックから取り外して基板の向きを回転させる必要が無いので、タクトタイムが短縮されて、スループットが向上する。図15において、露光装置は、チャック10と光ビーム照射装置20’とを相対的に移動し、光ビーム照射装置20’から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板1を矢印で示す走査方向へ走査する。このとき、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、プレチルト方向が露光光の進行方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面右側となる配向特性が付与される。また、プレチルト方向が露光光の進行方向と逆方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面左側となる配向特性が付与される。図17において、露光装置は、チャック10と光ビーム照射装置20’とを相対的に移動し、光ビーム照射装置20’から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板1を矢印で示す走査方向へ走査する。このとき、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、プレチルト方向が露光光の進行方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面左側となる配向特性が付与される。また、プレチルト方向が露光光の進行方向と逆方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面右側となる配向特性が付与される。なお、光ビームを基板1へ照射する方向と、光ビームによる基板1の走査方向との組合せは、図15及び図17に示した例に限らず、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、適宜決定される。光ビーム照射装置20’の絞り移動装置による絞り29の移動方向を変えて、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャック10と光ビーム照射装置20’との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更するので、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、光ビームによる基板1の走査方向が配向膜に付与される配向特性のプレチルト方向に影響する場合、光ビームの方向の変更と、チャック10と光ビーム照射装置20’との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、所望のプレチルト方向を得ることができる。なお、以上説明した実施の形態では、基板の配向膜にプレチルト方向が180度異なる2種類の配向領域群を形成していたが、プレチルト方向がほぼ90度ずつ異なる4種類の配向領域群を形成する場合には、図9及び図12、あるいは図15及び図17に示す様にして光ビームによる基板の走査を行った後、基板をほぼ90度回転させてから、再び、図9及び図12、あるいは図15及び図17に示す様にして光ビームによる基板の走査を行えばよい。また、以上説明した実施の形態では、プレチルト方向が基板の長辺又は短辺に平行であったが、表示用パネルの特性として、プレチルト方向を基板の長辺又は短辺に対して斜めにする必要がある場合は、基板をXY方向に対して回転させた状態で光ビームによる基板の走査を行うことにより、所望のプレチルト方向を得ることができる。以上説明した実施の形態によれば、光ビーム照射装置20,20’から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板1を走査して、基板1に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与することにより、光ビーム照射装置20,20’のDMD25を駆動するDMD駆動回路27へ供給する描画データを変更して、所望の位置及び所望の形状の配向領域を露光することができる。従って、マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成することができる。さらに、図4及び図9から図13に示した実施の形態によれば、調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの方向を変え、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することができる。従って、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、タクトタイムを短縮して、スループットを向上させることができる。また、調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの入射角度を変更し、配向膜に付与する配向特性のプレチルト角を制御することができる。さらに、光ビーム照射装置20内において、調節装置50により調節した光ビームのDMD25への入射角度に応じ、投影レンズ26bを通過する光ビームの回折光を制限する絞り29を、投影レンズ26a,26bの光軸に垂直な方向へ移動することにより、投影レンズ26bを通過する光ビームの光量の低下を抑制することができる。さらに、光ビーム照射装置20の調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャック10と光ビーム照射装置20との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することにより、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、光ビームによる基板1の走査方向が配向膜に付与される配向特性のプレチルト方向に影響する場合、光ビームの方向の変更と、チャック10と光ビーム照射装置20との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、所望のプレチルト方向を得ることができる。あるいは、図14から図18に示した実施の形態によれば、絞り移動装置により絞り29の開口29aの中心をDMD25により変調された光ビームの中心からずらし、投影レンズ26bを通過する光ビームの一部を絞り29で遮断して、投影レンズ26bからチャック10に支持された基板1へ直線偏光の光ビームを斜めに照射することにより、図4に示した光ビーム照射装置20の調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節することなく、絞り29を投影レンズ26a,26bの光軸に垂直な方向へ移動する簡単な動作で、投影レンズ26bからチャック10に支持された基板1へ直線偏光の光ビームを斜めに照射することができる。そして、絞り移動装置による絞り29の移動方向を変えて、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの方向を変え、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することができる。従って、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、タクトタイムを短縮して、スループットを向上させることができる。さらに、光ビーム照射装置20’の絞り移動装置による絞り29の移動方向を変えて、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャック10と光ビーム照射装置20’との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することにより、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、光ビームによる基板1の走査方向が配向膜に付与される配向特性のプレチルト方向に影響する場合、光ビームの方向の変更と、チャック10と光ビーム照射装置20との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、所望のプレチルト方向を得ることができる。"