"基板の第1表面に画素領域を区画する上部電極を形成する工程と、前記上部電極と、前記画素領域に向かい合う領域の前記第1表面に向かい合う第2表面に接する下部電極と、に極性が異なる電圧を印加した状態で、前記上部電極と前記画素領域の一部を含む範囲にインクを吐出する工程と、インクを乾燥させてカラーフィルター層を形成する工程と、を有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。請求項1に記載のカラーフィルターの製造方法において、前記第2表面に、前記下部電極を形成する工程を有し、前記下部電極が光透過性を有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。基板の第1表面に下部電極を形成する工程と、前記第1表面及び前記下部電極を覆う光透過性を有する絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層の前記第1表面と接する面とは逆側の表面に、画素領域を区画する上部電極を形成する工程と、前記下部電極と前記上部電極とに、極性が異なる電圧を印加した状態で、前記上部電極と前記画素領域の一部を含む範囲にインクを吐出する工程と、インクを乾燥させてカラーフィルター層を形成する工程と、を有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。基板の表面に画素領域を区画する上部電極と、エレクトロウェッティング現象を利用し前記画素領域に配置されるカラーフィルター層と、を有することを特徴とするカラーフィルター。請求項4に記載のカラーフィルターにおいて、前記上部電極と、前記基板の前記上部電極が形成される表面とは逆側の表面に、前記画素領域と向かい合うように配置される光透過性を有する下部電極と、を有することを特徴とするカラーフィルター。基板の第1表面に設けられる光透過性を有する絶縁層と、前記第1表面と前記絶縁層との界面に設けられる下部電極と、前記絶縁層の前記第1表面と接する面とは逆側の表面に設けられ画素領域を区画する上部電極と、エレクトロウェッティング現象を利用し前記画素領域に配置されるカラーフィルター層と、を有することを特徴とするカラーフィルター。基板の第1表面に区画される画素領域にインクを吐出する吐出手段と、被吐出媒体の基板を支持するステージと、前記吐出手段をX軸方向に移動させるX軸駆動軸と、前記ステージをY軸方向に移動させるY軸方向ガイド軸と、前記画素領域を区画する上部電極と前記基板の第1表面に向かい合う第2表面に配置される下部電極とに電圧を印加する電圧供給手段と、前記画素領域に吐出されたインクを乾燥させる乾燥手段と、を備えることを特徴とするカラーフィルター製造装置。請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の製造方法、または請求項4ないし請求項6のいずれかに記載のカラーフィルターを備えていることを特徴とする電気光学装置。請求項8に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。このような特許文献1や特許文献2では、濡れ性可変層を設け、この濡れ性可変層の上面にカラーフィルター層および遮光性スペーサーを形成している。濡れ性可変層は、酸化チタンTiO2等の光触媒とバインダーと溶剤とからなる光触媒含有層であって、透明基板上に塗布される。ここで、カラーフィルター層は、光触媒含有層上に形成されるため、カラーフィルター層の色味の調整範囲が制限されてしまうという課題がある。また、1光触媒含有層の塗布には、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート等の成膜方法が用いられる。よって、このような成膜工程、製造設備が必要となる。さらに、2光触媒含有層の塗布後、加水分解、重縮合反応等によりバインダーに光触媒を強固に固定する工程が必要になる。3濡れ性を変化させるために光触媒含有層に紫外線を含む照射エネルギーを用いるが、光の波長や光の照射量を親インク性を持たせるために適切な選択が要求される。このように、特殊な材料や難易度が高いプロセス、製造設備を用いなければならないという課題がある。本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。[適用例1]本適用例に係るカラーフィルターの製造方法は、基板の第1表面に画素領域を区画する上部電極を形成する工程と、前記上部電極と、前記画素領域に向かい合う領域の前記第1表面に向かい合う第2表面に接する下部電極と、に極性が異なる電圧を印加した状態で、前記上部電極と前記画素領域の一部を含む範囲にインクを吐出する工程と、インクを乾燥させてカラーフィルター層を形成する工程と、を有することを特徴とする。基板表面にインクを吐出させる場合、インクをはじいてしまい、画素領域に均一なカラーフィルター層を形成することは困難である。本適用例によれば、基板を挟んで上部電極と下部電極に電圧を印加させることによって、基板が誘電体であることから画素領域には電荷が発生する。その状態で上部電極と画素領域にかけてインクを吐出すると、エレクトロウェッティング現象により、インクと画素領域の基板表面との親和性が高まりつまり、濡れ性が高くなる、画素領域に均一に広がって、色抜けや色むらのないカラーフィルター層を形成することができる。従って、前述した従来技術にように、光触媒含有層の塗布によって濡れ性可変層を形成し濡れ性を改善する方法にくらべ、光触媒含有層を必要とせずに画素領域表面の濡れ性を向上させることが可能で、当然、光含有層塗布工程、エネルギー照射工程が不要となり、特殊な材料や難易度が高いプロセス、それらの製造設備を用いることなく、所望の色味のカラーフィルター層を形成できる。また、上部電極と下部電極共に電圧を印加した状態でインクを乾燥させることによって、インクが均一に広がった状態のままで固化させるため、均一なカラーフィルター層を形成することができる。なお、上部電極を遮光部とすれば、一般に呼称されるブラックマトリックスを改めて形成する必要がなくなるという効果がある。[適用例2]上記適用例に係るカラーフィルターの製造方法は、前記第2表面に、前記下部電極を形成する工程を有し、前記下部電極が光透過性を有することが好ましい。このようにすれば、光透過性が優れたカラーフィルター層を実現することができる。[適用例3]本適用例に係るカラーフィルターの製造方法は、基板の第1表面に下部電極を形成する工程と、前記第1表面及び前記下部電極を覆う光透過性を有する絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層の前記第1表面と接する面とは逆側の表面に、画素領域を区画する上部電極を形成する工程と、前記下部電極と前記上部電極とに、極性が異なる電圧を印加した状態で、前記上部電極と前記画素領域の一部を含む範囲にインクを吐出する工程と、インクを乾燥させてカラーフィルター層を形成する工程と、を有することを特徴とする。本適用例によれば、基板の表面に絶縁層を形成し、この絶縁層を挟んで上部電極と下部電極に電圧を印加する。絶縁層の厚さは100nm程度と薄いため、前述した基板を挟んで電圧印加する場合よりも、低電圧でエレクトロウェッティング現象を発現できるという効果がある。[適用例4]本適用例に係るカラーフィルターは、基板の表面に画素領域を区画する上部電極と、エレクトロウェッティング現象を利用し前記画素領域に配置されるカラーフィルター層と、を有することを特徴とする。本適用例によれば、カラーフィルター層は、画素領域全体に均一に広がって、色抜けや色むらのないカラーフィルターを実現できる。また、上部電極を遮光部とすれば、ブラックマトリックスを改めて形成する必要がなく、構成が単純で低コストなカラーフィルターを実現できるという効果がある。[適用例5]上記適用例に係るカラーフィルターは、前記上部電極と、前記基板の前記上部電極が形成される表面とは逆側の表面に、前記画素領域と向かい合うように配置される光透過性を有する下部電極と、を有することが好ましい。このように、基板に下部電極を設ければ、例えば、下部電極を基板台座のような別部材に形成しなくてもよい。しかも、光透過性の下部電極を用いることによって、光透過型のカラーフィルターを実現できる。[適用例6]本適用例に係るカラーフィルターは、基板の第1表面に設けられる光透過性を有する絶縁層と、前記第1表面と前記絶縁層との界面に設けられる下部電極と、前記絶縁層の前記第1表面と接する面とは逆側の表面に設けられ画素領域を区画する上部電極と、エレクトロウェッティング現象を利用し前記画素領域に配置されるカラーフィルター層と、を有することを特徴とする。本適用例によれば、基板の表面に絶縁層を形成し、この絶縁層を挟んで上部電極と下部電極に電圧を印加する。絶縁層の厚さは100nm程度と薄いため、前述した基板を挟んで電圧印加する場合よりも、低電圧でエレクトロウェッティング現象を発現できる。ここで、下部電極を光透過性とすれば光透過型の、遮光性とすれば反射型のカラーフィルターを実現できる。[適用例7]本適用例に係るカラーフィルター製造装置は、基板の第1表面に区画される画素領域にインクを吐出する吐出手段と、被吐出媒体の基板を支持するステージと、前記吐出手段をX軸方向に移動させるX軸駆動軸と、前記ステージをY軸方向に移動させるY軸方向ガイド軸と、前記画素領域を区画する上部電極と前記基板の第1表面に向かい合う第2表面に配置される下部電極とに電圧を印加する電圧供給手段と、前記画素領域に吐出されたインクを乾燥させる乾燥手段と、を備えることを特徴とする。ここで、吐出手段としては、例えば、インクジェットヘッドやディスペンサー等の微小液滴を吐出可能なものを採用できる。本適用例によれば、上部電極と下部電極とに電圧を印加する電圧供給手段を備えることによって、画素領域とインクとの間にエレクトロウェッティング現象を発現させて、画素領域に均一なカラーフィルター層を形成すると共に、電圧を印加した状態で乾燥すれば、インクが画素領域に均一に広がった状態のまま、基板に定着させることができる。[適用例8]本適用例に係る電気光学装置は、上記適用例のいずれかに記載の製造方法で製造されたカラーフィルターを備えていることを特徴とする。このような構成によれば、画素領域に均一に広がったカラーフィルター層を有するカラーフィルターを備えることによって、色特性が優れた電気光学装置を提供できる。[適用例9]本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする。このような構成によれば、色特性に優れた高品質の画像を表示することが可能な電子機器を提供できる。以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。なお、以下の説明で参照する図は、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材ないし部分の縦横の縮尺は実際のものとは異なる模式図である。カラーフィルターまず、カラーフィルターについて図面を参照して説明する。図1は、カラーフィルターの基本構成を示す斜視図の一部である。カラーフィルター1は、誘電体である透明な基板10の第1表面11に画素領域15を区画する格子状の上部電極20と、画素領域15に配置されるカラーフィルター層30と、から構成されている。基板10は、ガラス基板の他、またはPETポリエチレンテレフタレートやPESポリエーテルサルフォンなどの高い熱変形温度と長期使用出来る特性を有する樹脂基板を用いていることができる。カラーフィルター層30は、エレクトロウェッティング現象を利用して画素領域15に均一に形成されている。実施例1図2aは、実施例1に係るカラーフィルターを示す部分断面図である。カラーフィルター1は、基板10の第1表面11に画素領域15を区画する格子状の上部電極20と、画素領域15に配置されるカラーフィルター層30と、から構成されている。実施例2図2bは、実施例2に係るカラーフィルターを示す部分断面図である。実施例2は、上述した実施例1に記載の基板10に下部電極40が形成されていることを特徴とする。実施例2に係るカラーフィルター1は、基板10の第1表面11に画素領域15を区画する格子状の上部電極20と、画素領域15に配置されるカラーフィルター層30と、基板10の上部電極20が形成される第1表面11とは逆側の第2表面12に、画素領域15と向かい合うように配置される光透過性を有するITO酸化インジウム等の下部電極40と、から構成されている。本例において、下部電極40は、エレクトロウェッティング現象を発現させるための電極としての機能を有する。実施例3図2cは、実施例3に係るカラーフィルターを示す部分断面図である。実施例3は、基板10の表面に絶縁層が設けられていることに特徴を有する。実施例3に係るカラーフィルター1は、基板10の第1表面11に設けられる光透過性を有するSiO2からなる絶縁層50と、第1表面11と絶縁層50との界面に設けられる下部電極41と、絶縁層50の第1表面11と接する面とは逆側の表面13に設けられ画素領域16を区画する上部電極21と、画素領域に配置されるカラーフィルター層30と、から構成されている。なお、本例の下部電極41は、光透過性を有するもの、または遮光性を有するものを用いることが可能である。なお、上述した実施例1~実施例3に示す構成のカラーフィルターにおけるR,G,Bの配置について説明する。図3は、R,G,Bの代表的な配置を示す平面図である。図3aはストライプ配置、図3bはモザイク配置、図3cはデルタ配置であって、それぞれ上部電極20実施例1,2または上部電極21実施例3によって区画された画素領域15または画素領域16に配置されている。カラーフィルター製造装置続いて、前述したカラーフィルターを作製するための製造装置について説明する。カラーフィルター製造装置としては、インクジェット方式やディスペンサー方式等の、微小液滴を精度よく吐出できるものであればよく、限定されないが、本実施例では、吐出ヘッドとしてピエゾ素子を用いたインクジェット方式を例示して説明する。図4は、カラーフィルター製造装置を示し、aは全体構成を示す斜視図、bは吐出ヘッドを示す断面図である。図4aにおいて、カラーフィルター製造装置70は、インク吐出手段としての液滴吐出ヘッド80と、X軸方向駆動軸81と、Y軸方向ガイド軸82と、制御装置83と、ステージ84と、クリーニング機構85と、基台86と、乾燥手段としてのヒーター87と、電圧供給手段89と、を備えている。ステージ84は、基板10を支持するものであり、この基板10を基準位置に固定するための固定機構図示せずを備えている。液滴吐出ヘッド80は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプであり、吐出ノズル配置長手方向とY軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド80の下面にY軸方向に並んで一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド80の吐出ノズルからは、ステージ84に支持された基板10に対してインクが吐出される。X軸方向駆動軸81には、X軸方向駆動モーター88が接続されている。X軸方向駆動モーター88は、ステッピングモーター等からなり、制御装置83からX軸方向の駆動信号が供給されると、X軸方向駆動軸81を回転させる。X軸方向駆動軸81が回転すると液滴吐出ヘッド80はX軸方向に移動する。Y軸方向ガイド軸82は、基台86に対して固定されている。ステージ84は、Y軸方向駆動モーター90を備えている。Y軸方向駆動モーター90は、ステッピングモーター等からなり、制御装置83からY軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ84をY軸方向に移動する。制御装置83は、液滴吐出ヘッド80にインクの吐出制御用の電圧を供給する。また、X軸方向駆動モーター88に液滴吐出ヘッド80のX軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給し、Y軸方向駆動モーター90にステージ84のY軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。クリーニング機構85は、液滴吐出ヘッド80をクリーニングするものである。このクリーニング機構85には、Y軸方向の駆動モーター図示せず。が備えられている。このY軸方向の駆動モーターの駆動により、クリーニング機構85は、Y軸方向ガイド軸82に沿って移動する。クリーニング機構85の移動も制御装置83により制御される。ヒーター87は、ここではランプアニールによって基板10を乾燥処理する手段であり、基板10上に塗布されたインクに含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒーター87の電源の投入及び遮断も制御装置83により制御される。電圧供給手段89は、基板10に形成された上部電極20と下部電極40、または上部電極21と下部電極41にエレクトロウェッティング現象を発現させるのに必要な電圧を供給する。カラーフィルター製造装置70は、液滴吐出ヘッド80と基板10を支持するステージ84とを相対的に走査しながら、基板10の画素領域15に対してインクを吐出する。ここで、以下の説明において、X軸方向を走査方向、X軸方向と直交するY軸方向を非走査方向とする。液滴吐出ヘッド80の吐出ノズルは、非走査方向であるY軸方向に一定間隔で並んで設けられている。図4に示す液滴吐出ヘッド80は、基板10の進行方向に対し直角に配置されているが、液滴吐出ヘッド80の角度を調整し、基板10の進行方向に対して交差させるようにしてもよい。このようにすれば、液滴吐出ヘッド80の角度を調整することで、ノズル間のピッチを調節することができる。また、基板10とノズル面との距離を任意に調節するようにしてもよい。次に、液滴吐出ヘッド80によるインクの吐出動作を図4bを参照して説明する。液滴吐出ヘッド80は、ピエゾ方式を採用したものであり、このピエゾ方式による液滴吐出は、インクに熱を加えないため、インクの組成に影響を与えにくいという利点を有している。液滴吐出ヘッド80には、インクを収容する液体室91に隣接してピエゾ素子92が設置されている。液体室91には、インクを収容するタンクを含むインク供給系93を介してインクが供給される。ピエゾ素子92は、駆動回路94に接続されており、この駆動回路94を介してピエゾ素子92に電圧を印加すると、ピエゾ素子92が変形し、液体室91を押圧することによって、インクをノズル95から吐出させる。この場合、印加する電圧値を変化させることにより、ピエゾ素子92の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子92の歪み速度が制御される。また、インクの吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。このうち、帯電制御方式は、インクに帯電電極で電荷を付与し、偏向電極でインクの飛翔方向を制御してノズルからインクを吐出させるものである。この他にも、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術もある。インクジェット法は、インクの使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量のインクを的確に配置できるという利点を有する。なお、インクジェット法により吐出されるインク流動体の一滴の量は、例えば1~300ナノグラムである。カラーフィルターの製造方法続いて、カラーフィルター1の製造方法について説明する。カラーフィルター1の構造は、前述した実施例1、実施例2、実施例3の3種類を例示したが、まず、実施例1図2aに示したカラーフィルターの製造方法を説明する。図5は、実施例1に係るカラーフィルターの製造方法の主要工程を示す部分断面図である。まず、図5aに示すように、準備作業として基板10の第1表面11に格子状の上部電極20を形成し、一方、台座基板60には、下部電極40を形成しておく。台座基板60は、ステージ84上の所定の位置に支持される。上部電極20は、画素領域15を区画している。次に、図5bに示すように、台座基板60と基板10とを重ね合わせる。この際、画素領域15に下部電極40が対向するように正確な位置規制を行い、下部電極40と基板10の第2表面12とを密接させる。そして、電圧供給手段89から上部電極20と下部電極40とに、極性が異なる電圧を印加する。すると、基板10は誘電体であるため、第1表面11には電荷が、第2表面12には-電荷が帯電する。ここで、エレクトロウェッティング現象を発現させるために、基板10がガラス基板で、基板厚が0.6mm、比誘電率が6の場合に約16万Vの電圧を印加し、基板10がPET基板で、基板厚が0.6mm、比誘電率が3.2の場合には約30万V、基板10がPES基板で、基板厚が0.6mm、比誘電率が3.5の場合には約27万Vの電圧を印加する。次に、図5cに示すように、上部電極20によって区画された画素領域15に、液滴吐出ヘッド80からR赤、G緑、B青に対応するインク25を吐出させる。この際、上部電極20と下部電極40には、上述の電圧が印加された状態である。インク25の吐出範囲は、上部電極20と画素領域15とにかかるような位置に吐出される。インク滴のサイズは、画素領域15の面積、形状、カラーフィルター層30の狙いの厚さ、を考慮して決定する。なお、インク吐出のときに隣り合うインク滴は接触させない。ステージ84に台座基板60と基板10を設置し、液滴吐出ヘッド80とステージ84とを相対的に走査しながら、液滴吐出ヘッド80に設けられた複数のノズル95から吐出されたインクを、上部電極20によって区画された画素領域15内に繰り返し塗布する。これにより、R赤の顔料を含むインク、G緑の顔料を含むインク、及びB青の顔料を含むインク滴を、画素領域15に選択的に配置することができる。上部電極20と画素領域15には電荷が帯電しており、インク25との界面が、エレクトロウェッティング現象によって濡れ性が向上する。この際、画素領域15の電荷量は上部電極20の電荷量よりも小さいので、インク25は、画素領域15内に広がっていく。その状態で、ヒーター87によってインク25を乾燥する。本実施例では、インクとして、顔料を溶媒に分散させたものを用いている。その結果、図5dに示すように、溶媒が蒸発して除去され顔料のみが画素領域15に残り、画素領域15内に均一なカラーフィルター層30が硬化形成される図5f参照。ここで、顔料と溶媒の割合重量または体積比率は、画素領域15の面積、カラーフィルター層30の厚さとで決定する。このようなエレクトロウェッティング現象を利用しない場合には、図5fに示すように、適切な位置に、適切な量のインク滴を吐出し場合であっても、図中に二点鎖線で示すように、画素領域15の隅々まで広がらず、また、厚さも均一にならない。また、インクの乾燥処理は、ヒーター87の具体例としてランプアニールによって行うことができる。ランプアニールに使用する光の光源としては、特に限定されないが、赤外線ランプ、キセノンランプ、YAGレーザー、アルゴンレーザー、炭酸ガスレーザー、XeF、XeCl、XeBr、KrF、KrCl、ArF、ArClなどのエキシマレーザーなどを使用することができる。なお、このような熱処理又は光処理は、通常大気中で行うが、必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中で行うこともできる。このような乾燥処理によりインク中の溶媒が蒸発すると、形成されるカラーフィルター層30の体積が減少する。この場合、カラーフィルター層30が十分な厚みが得られるまで、上述したインク吐出工程と乾燥工程とを繰り返す。以上のようなカラーフィルター層30の形成をR赤,G緑,B青の色毎に行う。なお、各色のカラーフィルター層30を形成する順番については、特に限定されず、いずれの順序で行ってもよい。また、インクの乾燥処理は、例えば基板10を加熱する通常のホットプレートや、電気炉などによる加熱処理によって行うことができる。処理条件は、例えば加熱温度が60°C、加熱時間が10分間程度である。ところで、前述した実施例2に係るカラーフィルター1の構造図2b参照の製造方法は、あらかじめ上部電極20と下部電極40とを形成した基板10を、ステージ84上に支持し、前述した図5b以降の工程を行えばよい。なお、このような構造では下部電極40は、ITOのような透明電極を用いる。従って、前述した製造方法によって作製されたカラーフィルター1は、基板10を挟んで基板10に接する上部電極20と下部電極40に電圧を印加させ、その状態で上部電極20と画素領域15にかけてインクを吐出すると、エレクトロウェッティング現象により、インク25と画素領域15の基板表面との親和性が高まるつまり、濡れ性が高くなる。このエレクトロウェッティング現象によって、インク25が画素領域15に均一に拡がり、その状態で乾燥すれば均一な状態で硬化形成できるので、色抜けや色むらのないカラーフィルター層30を形成することができる。また、前述した従来技術のように、光触媒含有層を塗布して濡れ性可変層を形成して濡れ性を改善する方法にくらべ、光触媒含有層を必要とせずに画素領域15表面の濡れ性を向上させることが可能で、当然、光触媒含有層、光含有層塗布工程、エネルギー照射工程が不要となり、特殊な材料や難易度が高いプロセスや製造設備を用いることなく、所望の色味のカラーフィルター層30を形成できる。なお、上部電極20を遮光部とすれば、ブラックマトリックスを改めて形成する必要がなくなるという効果がある。また、カラーフィルター製造装置70は、旧来の製造装置に、上部電極20および下部電極40に電圧を印加する電圧供給手段89を加えるだけで、所望の色味を有するカラーフィルター1を作製することが可能となる。次に、前述した実施例3図2c参照に係るカラーフィルター1の製造方法について説明する。図6は、実施例3に係るカラーフィルターの製造方法の主要工程を示す部分断面図である。なお、前述した実施例図5、参照と同じ機能層には同じ符号を付している。まず、図6aに示すように、カラーフィルター基板18を準備する。カラーフィルター基板18は、基板10の第1表面11に設けられる光透過性を有する絶縁層50と、第1表面11と絶縁層50との界面に設けられる下部電極41と、絶縁層50の第1表面11と接する面とは逆側の表面13に設けられ画素領域16を区画する上部電極21と、から構成されている。絶縁層50は、SiO2、Si3N4、有機膜のような透明な層間膜である。ここで、エレクトロウェッティング現象を発現させるために、絶縁層50の厚さが100nm、比誘電率が4の場合に約47Vの電圧を印加する。次に、図6bに示すように、上部電極21によって区画された画素領域16に、液滴吐出ヘッド80からR、G、Bに対応するインク25を吐出させる。この際、上部電極21と下部電極41には、上述の電圧が印加された状態である。インク25の吐出範囲は、上部電極21と画素領域16とにかかるような位置に吐出される。インク滴のサイズは、画素領域16の面積、形状、カラーフィルター層30の狙いの厚さ、を考慮して決定する。なお、インク吐出のときに隣り合うインク滴は接触させない。上部電極21と画素領域16には電荷が帯電しており、インク25との界面が、エレクトロウェッティング現象によって濡れ性が向上する。この際、画素領域16の電荷量は上部電極21の電荷量よりも小さいので、インク25は、画素領域16内に均一に広がっていく。その状態で、ヒーター87によってインク25を乾燥する。本実施例では、インクとして、顔料を溶媒に分散させたものを用いている。その結果、図6cに示すように、溶媒が蒸発して除去され、顔料のみが画素領域16に残り、画素領域16内に均一なカラーフィルター層30が硬化形成される。ここで、顔料と溶媒の割合重量または体積比率は、画素領域16の面積、カラーフィルター層30の厚さとで決定する。このような製造方法によれば、基板10の表面に絶縁層50を形成し、絶縁層50を挟んで上部電極21と下部電極41とに電圧を印加する。絶縁層50の厚さは100nm程度と薄いため、前述した基板10を挟んで電圧印加する場合よりも、低電圧でエレクトロウェッティング現象を発現できるという効果がある。電気光学装置次に、本発明を適用した電気光学装置について説明する。図7は、本発明を適用した電気光学装置の一例として示す液晶装置の分解斜視図である。この液晶装置100は、薄膜トランジスターTFT:ThinFilmTransistorを画素スイッチング素子とするアクティブマトリックス型のカラー液晶表示装置であり、上記カラーフィルター基板を備えたものである。具体的に、この液晶装置100は、図7に示すように、互いに対向して配置されたTFTアレイ基板101と対向基板102とを備えている。TFTアレイ基板101と対向基板102とは、互いに対向する面の周縁部に矩形枠状に設けられたシール材により貼り合わされており、TFTアレイ基板101と対向基板102とシール材とに囲まれる領域セルギャップ内に、電気光学物質である液晶103が封入保持されている。TFTアレイ基板101と対向基板102の外面側には、使用する液晶モードの種類、すなわち、TNTwistedNematicモード、VAVerticalAlignmentモード、OCBOpticallyCompensatedBendモード、IPSInPlainSwitchingモード、STNSuperTwistedNematicモード等の動作モードや、ノーマリホワイトモード/ノーマリブラックモードの別に応じて、位相差板や偏光板等の光学部材104,105が所定の向きに配置されている。さらに、TFTアレイ基板101側に設けられた光学部材104の外面側には、バックライトユニット等の照明装置106が設けられている。液晶装置100には、複数の画素100aがマトリックス状に形成されている。これらの画素100aの各々には、画素スイッチング用のTFTthinfilmtransistor107が形成されており、画素信号を供給するデータ線108がTFT107のソースに電気的に接続されている。データ線108に書き込む画素信号は、この順に線順次で供給してもよく、隣接する複数のデータ線108同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。また、TFT107のゲートには走査線109が電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線109にパルス的に走査信号をこの順に線順次で印加するように構成されている。また、複数の画素100aの各々には、画素電極110が配置され、これらの画素電極110は、TFT107のドレインに電気的に接続されている。そして、TFT107を一定期間だけオン状態とすることにより、データ線108から供給される画素信号が画素電極110に所定のタイミングで書き込まれ、この画素電極110を介して液晶103に書き込まれた所定レベルの画素信号が、対向基板102に配置された対向電極111との間で一定期間保持される。また、画素100aには、カラーフィルター1に形成されている赤R、緑G、青Bのカラーフィルター層112R,112G,112Bが周期的に配置されている。そして、液晶103に電圧が印加されると、この液晶103を透過した光が、各カラーフィルター層112R,112G,112Bに対応した着色光として出力される。この液晶装置100において、TFTアレイ基板101は、上述した本発明のカラーフィルターの製造方法を適用して作製されたものである。すなわち、TFTアレイ基板101の製造に当たっては、上述したTFT107や、データ線108、走査線109などを形成したTFTアレイ基板101の上に配置されるカラーフィルター1には、画素100aの間を仕切る上部電極20または上部電極21が形成されている。上部電極20,21は遮光性の電極であるため、ブラックマトリックスを形成する。カラーフィルター層112R,112G,112Bは、画素領域15,16図2、図5、図6、参照内に均一に形成されていることから、液晶装置100では、色むらや色抜けがない色特性に優れた高品質のカラー表示を行うことができる。なお、前記液晶装置100では、スイッチング素子としてTFT107を備えた構成となっているが、その他にも薄膜ダイオードTFD:ThinFilmDiodeをスイッチング素子として備えた液晶装置や、パッシブマトリックス型の液晶装置にも本発明を適用することができる。また、前記液晶装置100では、TFTアレイ基板101側にカラーフィルター層112R,112G,112Bが配置された構成となっているが、対向基板102側にカラーフィルター層112R,112G,112Bが配置された構成であってもよい。この場合も、対向基板102を前述したカラーフィルター1の製造方法を適用して作製すれば、色特性に優れた高品質の液晶装置100を得ることができる。電子機器次に、前述したカラーフィルター1を適用した電子機器について説明する。図8は、電子機器の一例として示す携帯電話機の斜視図である。携帯電話機1000は表示部1001と、複数の操作ボタン1002と、受話口1003と、送話口1004とを備え、表示部1001に、上述した液晶装置100を備えて構成されている。したがって、このような液晶装置100を備えた携帯電話機1000では、表示部1001において色特性に優れた高品質のカラー表示を行うことができる。なお、本発明を適用した電子機器としては、このような携帯電話機1000に限らず、例えば、電子ブック、パーソナルコンピューター、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダー型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器などを挙げることできる。すなわち、本発明は、画像表示手段を備えた電子機器に広く適用することができ、何れの電子機器においても、色特性に優れた高品質のカラー表示を行うことができる。なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。"