焦点調整レンズ及びセンサーを有する撮像装置を用意し、基板に向けて第1の光路に沿って伝わる光エネルギーを生成し、該光エネルギーが基板と接触することにより該基板から撮像データを読み出し、該撮像データを含む光エネルギーが反射装置に向けて第1の光路に沿って移動分岐し続け、第1の光路に沿って撮像装置に向かって進む第2の光路内で該撮像データを含む光エネルギーを戻すように、該撮像データを含む光エネルギーを反射装置に反射し、第2の光路内の空間位置に存在している結像面に焦点調整レンズの焦点を合わせ、第2の光路内の空間位置で撮像データを含む光エネルギーの画像を捕捉し、明視野データ及び暗視野データの双方を有する基板の対象の光学的影響を提供するように、捕捉された画像から撮像データを外挿することを含む、基板撮像方法。基板の対象の光学的影響に係る多重画像を捕捉するように、少なくとも一つ以上の撮像装置が用意される、請求項1に記載の方法。光エネルギーは放射源から放射される、請求項1に記載の方法。基板は透明な基板であり、第1の光路及び第2の光路の双方内における光エネルギーは該透明な基板を通じて伝達される、請求項1に記載の方法。基板は反射性基板であり、第1の光路及び第2の光路の双方内における光エネルギーは、該反射性基板の表面に反射する、請求項1に記載の方法。基板の方向に向かう第1の光路に向けるための反射部品を更に含む、請求項1に記載の方法。反射部品は鏡又はビームスプリッターからなるグループから選択される、請求項6に記載の方法。反射部品は撮像装置の前方に配置され、第1の光路内の光エネルギーを撮像装置から離れた方向へ向かわせる、請求項6に記載の方法。反射部品はビームスプリッターであり、該ビームスプリッターは、第2の光路内で複数の焦点位置から対象の光学的影響に係る複数の画像をとらえるために、第2の光路内の撮像データを含む帰還光エネルギーを複数の撮像装置に向けて反射する、請求項1に記載の方法。反射部品は放射線散乱スクリーン又はレトロ反射型媒体からなるグループから選ばれる、請求項1に記載の方法。結像面は基板と反射装置の間にある空間の空間点に存在する、請求項1に記載の方法。結像面は撮像装置と基板の間にある空間の空間点に存在する、請求項1に記載の方法。一つ又は一つ以上の焦点調整レンズを用いた複数の結像面に焦点を合わせ、そして同時にそれら結像面のそれぞれにおいて画像を得ることをさらに含む、請求項1に記載の方法。複数の結像面は、基板と反射装置の間全体、撮像装置と基板の間全体、基板と反射装置及び撮像装置と基板の双方の間における位置の組合せ、又は、基板と反射装置の間及び基板に位置する結像面の位置の組合せからなるグループから選択された、第2の光路に沿った位置に有る、請求項13に記載の方法。光エネルギーが撮像装置に入る前に第2の光路の帰還光エネルギーを修正するように、撮像装置と反射装置の間に追加光学部品の配置することをさらに含む、請求項1に記載の方法。第2の光路における光エネルギーは一つ又は二つの面において第1の光路から分岐する、請求項1に記載の方法。対象の光学的影響は基板内部又は基板表面における欠陥を含む、請求項1に記載の方法。対象の光学的影響は基板内部における画像のパターンを含む、請求項1に記載の方法。対象の光学的影響は基板内部におけるもやを含み、該もやの量を計測することをさらに含む、請求項1に記載の方法。焦点調整レンズ及びセンサーを有する撮像装置と、反射部品と、基板に向かって第1の光路に沿って移動し、基板と接し、基板から撮像データを入手し、次いで反射装置に向かって第1の光路に沿って移動し続ける光エネルギーと、第1の光路が反射装置に反射されることにより生成され、撮像装置に向かって移動し、そして撮像データを含む帰還光エネルギーを有する第2の光路と、第2の光路内の空間における位置に存在する結像面と、中央演算処理装置CPU、コンピュータ読み取り可能メモリ、及びコンピュータ読み取り可能記憶媒体と、第2の光路内で撮像データを含む光エネルギーの空間位置における画像を捕捉するための第1のプログラム命令と、明視野データ及び暗視野データの双方を有する、基板の対象の光学的影響を提供するように、捕捉された画像から撮像データを外挿するための第2のプログラム命令とを含み、第1及び第2のプログラム命令は全てコンピュータ読み取り可能メモリを介してCPUにより実行されるようにコンピュータ読み取り可能記憶媒体に保管されている、基板撮像システム。本発明の好ましい実施形態の説明について、図1~12Cを参照して説明するが、本発明の類似の特徴に対しては、類似の参照番号が付与されている。本発明の様々な態様は、繊維やシートにおける欠陥やパターンの撮像や検出を改良するレトロ反射型レンズを利用した方法、装置及びソリッドステートシステムを指向するものである。本発明は、オフラインでの利用と同様に、オンライン、自己整合型光撮像モジュールを用いるリアルタイムでの視覚的欠陥の検出やパターン認識を伴う、自動検査工程において利用するのに適している。本発明の様々な態様によると、対象となる位置にレンズを合わせることにより、光撮像処理の特定時間に、光エネルギーを妨げる、対象の光学的影響の改良された画像が、レトロ反射型部品に反射したエネルギーに得られる。該画像は、これに限定されるわけではないが、拡大された広がり、増幅された鮮明さ、より高度な解像度、追加の視場、及びそれらの組合せを有する欠陥及び/又はパターンを含む、一つ又は一つ以上のより拡大された、対象interestの光学的影響をとらえることは明らかであり理解されるべきである。検出された対象の光学的影響は、基板内部、基板表面に存在し、更には、基板内部及び表面双方に存在することもある。本発明は対象の様々な光学的影響を電気光学的に感知、検出、及び識別する。対象の光学的影響は、光エネルギーを光学的に塞ぐ欠陥であり、以下のものに限定されるものではないものの、ガス状の気泡、筋、水滴、漏斗孔、へこみ、でっぱり、しわ、被覆欠陥、歪み、跳ね返り、大きな傷、小さな傷、皿型、部品を製造するのに利用される金型のふぞろい又は処理における損傷による幾何学的歪み、更には、汚染物質による欠陥などである。また、一つ又は一つ以上の対象の光学的影響は、単一の基板内部又は基板上に存在し、同時に検出することができることは明らかであり、理解されるべきである。本発明において使用に適した繊維及びシートは、平坦な基板即ち、平面を有する基板、又は非平坦な基板即ち、平らでない表面を有する基板である。基板は平面及び非平面双方を有していても良い。そのような基板は、透明な素材、半透明な素材、不透明な素材、反射素材、表面に反射被覆を有する素材、又はこれら複合材料の組合せからなるものでもよい。一つ又は一つ以上の態様において、基板は、これに限定されるわけではないが、シートメタル、ガラス、プラスチックシート又は繊維例えば、プラスチックパネル、プラスチックフィルム、等、紙のシート又は繊維、或いは、透明、反射、又は表面に反射層を有する、他のいかなる種類の基板をも含む。本発明において使用に適した基板の多くは、オンライン、工程及び品質管理のための、欠陥検出データのリアルタイムフィードバックを含む工程に頼る、様々な産業のためのものである。それらの産業には、例えば、太陽光発電、ガラスディスプレイ、フレキシブルエレクトロニクス、フィルム、金属、紙、車のボディパーツ即ち、ボンネット、泥除け、ドア、等のためのプラスチックパネル、飛行機パネル、電化製品/家具の表面やパネル、薬剤例えば、薬剤に利用されるフィルム及び/又は紙、及びその他に係るものが含まれる。図を参照して説明すると、図1は本発明の様々な態様における利用に適した撮像アセンブリを表す。該撮像アセンブリは、少なくとも、放射源1、レンズ3、第1の反射装置5例えば、鏡又はビームスプリッタ、及び焦点調整レンズ16及びセンサー17を有する撮像装置15を有するスキャナ18を含む。該放射源は、これらに限定されるわけではないが、レーザー、発光ダイオード、可視又は不可視の他の放射源、撮像装置と軸方向に一致し、焦点調整レンズの視界の外側にある光輪、等を含む。発明の理解を容易にするため、放射源はレーザー1として示されている。レーザー1は、ビーム形成光学部品3を通して伝達される光エネルギー2のビームを生成することにより、第1の光路を引き起こす。レーザー1はガス、又は固体のレーザー、発光ダイオードLED、又は他の放射源である。ビーム形成光学部品3は、方位角及び仰角面双方において該ビームの角度を拡大させるために、光エネルギービーム2を拡大させる。形成レンズ3はレーザー1と一体化するか、または該レーザーから分離された異なる部品となる。結果として、通過するか又は反射される基板7に近づくにつれ、より拡大するビーム6を供給するために、拡大されたビーム4は第1の反射装置5に焦点を合わせて反射する。第1の反射装置5は鏡図1~3B及び5~7B参照又はビームスプリッター図4A~B参照でもよい。本発明の新規の考えから離れることはないものの、他の反射装置が本発明において利用に適し得ることは理解されるべきである。一つ又は一つ以上の態様において、第1の光路をこれらのコンポーネントから離れた方向へ向かわせ、対象の光学的影響例えば、欠陥、パターン、もや、等のために分析される基板方面に向かわせるため、反射装置5は一つもしくは一つ以上の撮像装置の前に設置される。第1の反射装置5が鏡である態様においては、該鏡は薄くて不透明な反射装置である。例えば、該鏡は前面又は後面の鏡面例えば、ガラス又はプラスチック、つやのある金属又は金属化された媒体を含む。鏡がガラス又はプラスチックであるこれら態様では、鏡によって光エネルギーが伝達される。該鏡は焦点調整レンズ16の小さな部分、多くの部分を覆う、或いは該焦点調整レンズ16の全てを覆うこともある。また、該鏡は撮像装置15との関係で調整することができ、それにより様々な画像が違った角度、深さ、サイズ、等において捕捉される。他の態様においては、第1の反射装置5は、同一の欠陥について多様な視野及び画像を供給するビームスプリッターを利用できる。第2の反射装置12から異なった距離分離れた箇所において、同一の対象の光学的影響例えば、欠陥やパターンをとらえるために、複数の撮像装置15、19、等と組合せたビームスプリッターを利用することにより、各撮像装置の焦点調整レンズを、空間における異なった面に焦点を合わせることができる。これにより、本発明の部品例えば、エレクトロニクスやソフトウェアが、分析や相互比較のために同一の対象の光学的影響の異なった写真ビューを利用したり、撮像データや対象の光学的影響についての情報を推定することを可能とする。基板自体のみにおける対象の光学的影響の撮像では、それは可能ではない。第1の反射装置5がビームスプリッターである態様では、該ビームスプリッターの一部は、第1の光路を基板7の方向へ向かわせる。該ビームスプリッターの他の部分は、反射した第2の光路を一つ又は一つ以上の撮像装置の方向へ分割させる。つまり、ビームスプリッターの利用は、第2の光路において妨害を受けていない帰還エネルギーの集合体が、一つ又は一つ以上の撮像装置に進入することを可能とする。例えば、図4A~Bを参照すると、ビームスプリッターは、第2の光路において帰還光エネルギーを、第1の撮像装置15の方向へ第1の帰還エネルギー経路に沿って、そして第2の撮像装置19の方向へ第2の帰還エネルギー経路に沿って反射することができる。このように、第2の光路の光エネルギーは、一つ又は一つ以上の別個の撮像装置例えば、撮像装置15及び19により撮像される。この方法により、一つ又は一つ以上の対象領域において、欠陥やパターン等に関連する追加の光学的データを抽出したり集めたりするために、それら領域の多重画像をとらえることが可能となる。再び図1~3Bを参照すると、一つ又は一つ以上の態様において、基板7は透明である。例えば、該基板は、これらに限定されるわけではないが、プラスチックフィルム又はガラスを含む素材の透明な繊維又はシートである。基板7が透明である態様において、光エネルギービーム6は基板7とその前面で接触し、基板7を通って全体的に伝達され、該基板の後面において送出される。光エネルギービーム6が透明な基板7と接する箇所は、基板7にあるスキャン線9と一致する。第1の光路に沿って基板から出現する光エネルギービーム11は、更に拡大する。それと共に、光エネルギービーム2、4、6及び11は第1の光路を構成する。図2Aは、第1の光路が透明な基板を通過するところを示しており、A’‐A線に沿った断面図が図2Bに示されている。第1の光路は該基板の後面において第2の反射装置と接触し、該基板はその反射面に第1の光路の光エネルギーを反射させ、それを帰還エネルギーとして第2の光路14に沿って発射する図3A。第2の反射装置12は、所望の方向においてその表面に光エネルギーを反射させる、いかなるタイプの反射又は分岐媒体である。本発明を限定する意図はないが、一つ又は一つ以上の態様において、第2の反射装置には、これに限定されるわけではないが、レトロ反射型媒体、放射散乱型スクリーン、等が含まれる。レトロ反射物を備える態様において、該レトロ反射物は、様々な方向において第1の光路からの光を反射させるために、その表面において多数のガラスの球体、立方体、プリズム、又は他の装置を有する細長い部品である。このレトロ型反射物はレーザービームと一直線になっていることが好ましい。図3A及び3Bの上面図及び側面図をそれぞれ参照すると、第2の光路の帰還エネルギー14は透明な基板7を通過し、第1の反射装置5、及び焦点調整レンズ16及びセンサー17を有する撮像装置15双方の方向へ戻るように示されている。第1の光路光エネルギーが第2の反射装置12に近づくにつれて、該光エネルギーは分岐し、第1の光路が第2の反射装置に接触する箇所で最も大きな寸法を有する図2A参照。第2の反射装置12は該光エネルギーを受け取り反射させる。該光エネルギーは第1の光路の発生経路、少なくとも光エネルギービーム6及び11に沿って戻される。すなわち、第2の反射装置12から戻されたエネルギーは、原則的に、第1の光路の投影されたエネルギーと同じ面に沿って伝達する。この帰還エネルギーは、第1の光路からの少量の分岐を有する。例えば、第2の光路14は、約2度かそれ以下の角度で第1の光路から分岐する。第2の光路14におけるこの分岐は一つ又は二つの面で増大し、例えば、高さ例えばピッチ及び方位角例えばヨー双方において増大する。図5~7Bを参照すると、基板が透明なものであるというよりは、基板が反射する、又は反射面を有しており、該基板は対象の光学的影響について分析される必要がある。例えば、該基板はアルミ箔のシートでもよく、又は、紙又はコーティングを施したガラスのように、表面に反射層を有する無機素材のシート又は繊維でもよい。図5に示されるように、システムは放射源1、レンズ3、第1の反射装置5、焦点調整レンズ16及びセンサー17を有する撮像装置15又は上記の通り、二つ又は二つ以上の撮像装置15、19を有する、及び第2の反射装置12を含む。しかしながら、分析される基板が反射する態様において、そのような分析のために利用される全ての部品は、スキャン、撮像、及び分析される基板表面の前に存在、又は設置される。具体的には、透明な基板の分析を含む態様においては、放射源1、レンズ3、第1の反射装置5、及び撮像装置15は全て該基板の第1面又は前面にある。一方、第2の反射装置12は該基板の第2の異なった面又は後面にある。しかしながら、基板7が反射する場合には、図5~7Bに示す通り、第2の反射装置12は、放射源、レンズ、第1の反射装置、及び撮像装置と同じ基板の面にある。分析される基板7が反射する態様の場合、光エネルギービーム6は基板7の第1面で同基板に接触し、第2の反射装置12の方向に向けて、この第1面で反射する。この反射性基板の第1面は、該基板の後面又は前面であることが理解されるべきである。また、光エネルギービーム2、4、6及び11は、第2の反射装置12に近づくに連れて分岐する第1の光路を構成する図6A~6B参照。第1の光路が反射性基板7に接触する箇所は、基板7上のスキャン線9と一致する。第1の光路が第2の反射装置12と接触すると、第1の光路の光エネルギーは第2の反射装置12に反射し、第1の光路の発生経路に沿って戻される。この帰還光エネルギーは、第1の光路の発生経路を越えて分岐及び拡大する例えば、高さピッチ及び方位角ヨーの方向第2の光路14である。この第2の光路14の帰還光エネルギーは基板の第1面と接触し反射し、第1の反射装置5及び一つ又は一つ以上の撮像装置例えば、撮像装置15及び19双方の方向に向かう。図3A~7Aを参照すると、第2の反射装置12の帰還エネルギー14が透明な基板又は反射性基板のいずれからのものであるかに関係なく、この帰還エネルギー14は、基板7に近づくにつれて基板7を通って、又はその表面に反射して伝達され集中していく。この光エネルギーは、第1の反射装置5及び撮像装置15の方向へ伸びるにつれて、集中し続ける。帰還光エネルギーの一部が第1の光路の発生経路に沿って伝達される一方、このエネルギーは第1の反射装置5の上で集中し、遮られる。例えば、第1の反射装置5が鏡である態様の場合、該鏡とセンサー17は、鏡がセンサー17を完全に遮るか、部分的に遮るか、又は全く遮らないかに合わせて相互に調整される。第2の光路14におけるエネルギーの残りは、第1の光路の発生経路から分岐する。該第2の光路の分岐エネルギーは、第1の反射装置5例えば、鏡には戻らず、そしてそれ故に遮られない。本発明の様々な態様によると、この第2の光路の分岐エネルギーは、対象のエネルギーである。第2の光路14からの対象のエネルギーは、一つ又は一つ以上の撮像装置例えば、鏡が利用された場合、撮像装置15、又ビームスプリッターが利用される場合は撮像装置15及び19に接触し、反射する。前述の通り、各撮像装置15、19は焦点調整レンズ16及びセンサー17を含む。該撮像装置はライン走査カメラでもよい。センサー17は、ライン走査カメラで使用されるようなピクセルの直線配列、マトリクス配列、CMOS配列、又は光エネルギーをグレースケール及び/又はカラーピクセル又は画像に変換する他の装置でも良い。撮像装置15、19は、第2の光路14からの対象のエネルギーを受け、該エネルギーには基板の内部又は上部に存在する、対象の光学的影響に係るデータが含まれている。該撮像装置は、焦点調整レンズ16及びセンサー17を通じて、この受け取られた対象のエネルギーをエレクトロニックイメージ又は信号に変換する。光電子増倍管は光エネルギーを電子信号に変換することにも利用される。その場合、焦点調整レンズ16は、第2の光路14がそれに沿って、及びそれを通って伝達される、一つ又は一つ以上の異なった結像面に焦点を合わせられる。図8A~8Cを参照すると、第2の光路14の帰還光エネルギー内にあるこれら一つ又は一つ以上の結像面は、該第2の光路14に沿った様々な箇所に存在する。一つ又は一つ以上の態様において、結像面は撮像装置15、19と基板7の間の空間内の空間点又は位置にある第1の結像面8である。他の態様では、結像面は基板7と第2の反射装置12間の空間内の空間点又は位置にある第2の結像面10である。焦点調整レンズは第三の結像面9にも向けられ、該第三の結像面は光エネルギーが基板と接触する箇所に該当する。そしてそれによって、他の態様はこれら結像面8、9、10の如何なる組合せにおいても画像を得るステップを含む。例えば、一つ又は一つ以上の焦点調整レンズ16一つ又は一つ以上の撮像装置15、19、等におけるは、基板内部又は上部における対象の光学的影響に関連する追加データを供給するように、個々の結像面の画像の組合せを同時に得るため、これら結像面8、9、10の組み合わせに焦点を当てる。焦点調整レンズ16を異なる結像面8、9、10に当てることにより、センサー17が処理された基板7の内部にある欠陥及び/又はパターンを検出する。画像が、結像面8、9、10のいずれで捕捉されるかにより、欠陥及び/又はパターンは異なって現れる。これらの結像面のうちのいずれかで捕捉される欠陥又はパターンの現れ方は、鏡のサイズの変更、センサーに対する鏡の位置の変更、又は、鏡を代替光学装置例えば、ビームスプリッター、偏光フィルター、等と入れ替えることによっても変化する。更に別の態様では、第2の光路内の帰還エネルギーを、撮像装置15への進入前に変更するために、追加の光学部品が撮像装置15と第1の反射装置5の間に置かれる。本発明の様々な態様において、基板の画像又は一連の画像は、第2の反射装置12から少し離れた結像面における第2の光路14の帰還エネルギーにおいて捕捉されのが好ましい。第2の反射装置から少し離れた空間内における欠陥及び/又はパターンの画像を写真で捕捉することにより、基板自体において直接捕捉される画像と比較して、捕捉することが容易となり、品質良くより大きなサイズの画像となる。帰還エネルギーにおいて捕捉された画像は、そのようなエネルギーが基板と接触する前に、基板自体で捕捉された画像におけるのと同じものが、それよりも約2~22倍のいずれかの大きさで捕捉された欠陥又はパターンを有する。画像が撮られる場所が第2の反射装置12に近ければ近いほど、画像サイズがより大きくなり、また、画像において捕捉される対象の光学的影響の質がより良くなる。撮像装置は、結像面8、9、10いずれか、又はその組合せにおいて一連の画像を得る。例えば、撮像装置は一連の画像フレームを捕捉するライン走査カメラである。それら一連の画像の各画像は、焦点調整レンズ16が焦点を当てている特定の結像面において基板7の画像のスライスを現す。撮像装置が一連の画像フレームを捕捉する割合は、基板7がコンベヤーベルトに沿ってトラック又はローラー上を方向13へ動くスピードと関係するのと同様に、撮像装置のシャッタースピードに関係している。基板はスキャナ18と関係する方向13へ動く。一つ又は一つ以上の態様において、レーザー1、レンズ3、鏡5、撮像装置15、焦点調整レンズ16及びセンサー17は機械的に相互に関連付けられており、作動中は、相互及び基板7と関連しては動かない。本発明のシステムはまた、基板内部における対象の光学的影響を検出するため、得られた一連の画像を分析するために、電子部品や一つ又は一つ以上の命令のセット例えば、ソフトウェアを含む。前述の通り、これらの対象の光学的影響は、それらに限定されないが、欠陥、撮像パターンを含み、及び/又は処理された基板7におけるもやの総量を測定する。これら全ての対象の光学的影響は、検出可能で計測可能な方法での、光エネルギーの向上、減少、変形、及び/又は分岐即ち、光エネルギーを塞ぐを可能とする。そうすることにおいて、とらえられた複数の画像フレーム又は一連の画像は、基板の本質的な3Dグラフィック表示を生成するために利用され、そこには基板内部又は基板表面上の欠陥、パターン、及び/又はもやが含まれる。このデータを利用して基板のトポグラフデータも生成される。図8Aは、基板を通るか、又は基板に反射して伝達された第1の光路の投影されたエネルギーを表している。この投影されたエネルギーが第2の反射装置12に近づくにつれて、撮像された基板7の撮像データ28は分岐即ち、拡大する第1の光路に沿って伝わるにつれて、拡大していく。図に示すとおり、第2の反射装置12に近づくにつれて、撮像データ28は拡大していく。図8Bを参照すると、第1の光路が第2の反射装置12に接触するに際して、光エネルギーは反射面に反射し、戻される第2の光路14において更に拡大する。そして、図8Cに示すように、光エネルギーは第2の反射装置12からスキャナ18の撮像装置の方向へ集中していく。基板の撮像データはこの第2の光路14においてもさらに拡大し、それにより、撮像データの最大領域10Bは第2の反射装置12の最も近くに位置し、基板7に近づくにつれてサイズが小さくなる。例えば、第2の光路14内において、撮像データ領域10Aは、撮像データ領域10Bに比べて小さい。本発明の様々な態様によると、第2の光路14内の空間にある撮像面、好ましくは第2の反射装置12に近い撮像面にレンズ16の焦点を当てることにより、欠陥、パターン、及び/又はもやの画像が、サイズ、明瞭さ、質、及び検出能において著しく増加及び/又は向上する。空間において画像が撮られる距離は、分析される基板の物理的及び/又は化学的性質によって決まることは理解されるべきことである。基板と第2の反射装置12間の距離は、基板の素材自体によって変化させることもまた理解されるべきである。この距離は、第2の反射装置12が基板から好ましいだけ離れた箇所に位置するように選ばれ、それにより、第1の光路の光エネルギーは適切に捕捉され、戻されることができる。図8B及び8Cは、本発明に基づいて改良された撮像結果を得るために、一つ又は一つ以上の撮像装置により捕捉される撮像データ例えば、領域10A及び/又は10Bを有する結像面10を有する対象の複数の結像面領域を示している。本発明において、帰還エネルギー内の対象の結像面領域は、基板と撮像装置間の配設位置の空間内にも存在し得る。例えば、追加の撮像データを供給する光学的画像の異なった視野を得るために、焦点調整レンズ16は結像面8に焦点を合わせられる。追加の撮像データは明視野データ及び暗視野データの双方の捕捉を含む。保存された捕捉画像データ及び本発明の結果において、灰色点及び光点双方が捕捉される例えば図9A~9Cを参照。以下において詳述する。。図9A~Cにおける灰色点は光が対象の光学的影響によって例えば気泡により吸収される一方、図9B~Cにおける光点基板とレトロ型反射物の間で撮られた。は、屈曲光エネルギーである。この屈曲された光即ち光点は、灰色点として検出されて示される対象の光学的影響に加えて、基板内部にある追加の対象の光学的影響例えば、追加の欠陥、パターン、等を表している。これら追加の欠陥は、画像における灰色点により表された、対象の光学的影響の一部であり、又はそれにより生じる。灰色点から集められたデータは、明視野データと称され、一方、光点から集められたデータは暗視野データと呼ばれる。そのようにして、空間における欠陥の画像をとらえる本発明の光学的撮像とともに、二つの光学的データフィールドからの追加撮像データが得られる。とりわけ、明視野データ及び暗視野データ双方は同時に得られる。比較するに、基板自体で欠陥の画像を捕捉する場合例えば図9A参照、明視野データ即ち、灰色点のみが得られる。分析される基板の第1面における撮像装置では、光学撮像装置例えば、カメラは第2の光路14の対象の帰還光エネルギー経路の近傍に位置づけることもできることは理解されるべきである。例えば、透明な基板の場合、光学撮像装置は該基板の後面に位置することもでき、それにより、結像面領域10A及び/又は10B内で画像をとらえるために、光学撮像装置は該基板と第2の反射装置12の間に存在することになる。そのような画像はこれら領域10A及び/又は10Bの側面画像としてとらえられる。更に、図3A~Bに示すように、光学的撮像装置は第2の光路14の直接路内にもまた位置することができる。それにより、領域10A及び/又は10Bの対象の光学的影響の側面画像と共に正面画像が同時に得られる。基板が透明である場合、側面画像を得るために、該基板と第2の反射装置12の間より高い位置に、一つ又は一つ以上の光学的撮像装置が位置し得ることは理解されるべきである。更に、これら結像面領域の上面又は底面をそれぞれ捕捉するために、撮像装置はそれらの対象の領域より高い、又は低い位置に供給される。限定する意図はないが、以下の実施例は、図9A~12Cに示すように、本発明による撮像結果についてのものである。図9A~9Cは欠陥検出のためのガラス基板分析結果を示している。撮像装置15を備えるスキャナー18は該ガラス基板の第1面に位置し、第2の反射装置12は該ガラス基板の第2面に位置する。光エネルギーは、対象の第2の光路14を生成するために、該ガラス基板を通って伝達し、第2の反射装置に反射する。焦点調整レンズ16は第2の光路14に沿って、そしてその内部で様々な結像面9、10A及び10B即ち、対象領域に焦点を当てられる。ガラス基板内部でガス状の気泡が検出され、光を当てられた円即ち、光を当てられ、黒インクリングとともに撮像されているの中心における黒点として示されている。図9Aは基板にある結像面9で撮像されたガス状の気泡を示している。気泡はガラスにおけるガス状の含有物であり、典型的には気泡の真ん中部分で吸収され、気泡の端及び側面で変形される光を作り出す。図示されているように、撮像されたガラスの気泡は制限された鮮明さや質で辛うじて検出され、小さなサイズで表現されている。基板における欠陥画像を捕捉することにより、明視野データのみが得られる。これにより、欠陥の解釈や識別のための推定や分析を行うことができるデータに制限が加えられる。図9Bは、基板7から約14離れた場所にある結像面10Aで撮像されたガス状の気泡を示す。上述の通り、この撮像された対象領域は第2光路14の帰還エネルギー内にある。図示されているように、ガス状気泡の欠陥は、図9Aにおける基板で捕捉された気泡画像よりも、より検出し易くなり明瞭さや質の向上があり、またサイズもより大きくなっている。図9Bは明視野データ及び暗視野データ双方を示している。結像面10Bで撮像された図9A及び9Bのガス状気泡の結果が図9Cに示される。この結像面10Bは、結像面10Aよりも第2の反射装置12により近い距離にあり、基板7から約32離れ、第2の反射装置12から約1‐2離れている例えば、レトロ反射物の外。前述の通り、撮像距離は分析される基板の物理的及び/又は化学的性質に拠ることは理解されるべきである。この画像が第2の反射装置12の近傍で撮られ、それが第2の光路14の集中する光エネルギーのより大きな断面内であるため、そのサイズは顕著に改善、拡大される。図9Cにおけるガス状の気泡は明瞭さや質が顕著に向上し、図9Aの基板、及び図9Bの結像面10A双方で撮られた気泡画像よりもより大きなサイズとなっている。この図9Cに示されている、より大きな画像サイズによって、対象の光学的影響の検出をより容易にすることができる。また、明視野データ及び暗視野データ双方の検出及び捕捉を、図9Bよりも良好な状態で提供する。光エネルギーが第2の反射装置12と接触したすぐ後に、ガス状の気泡を遮断することにより、該ガス状の気泡とその光学的影響吸収及び変形は、より非常に大きく捕捉され、結果としての気泡画像はより多くの光学ピクセルをカバーし、より正しいサイズとなる。このように、ガス状の気泡に係る欠陥検出、サイズ補正、及び分類に導く情報は、本発明の様々な態様により向上する。これにより、より少ない光学ピクセルと処理エネルギーの活用につながり、処理コストの削減が可能となる。図9A~Cにおける透明な基板の分析に代わり、図10A~Bに示すように、反射性基板を分析することもできる。該基板は本発明に基づいて処理された反射フィルムであり、これにより、光エネルギーは第2の反射装置12に反射し、その後、基板表面に反射する。捕捉された欠陥は、例えば、検出可能及び測定可能な方法で光を変形及び/又は分岐させる反射表面内における欠損、へこみ、でっぱりである。図10Aを参照すると、反射性基板における欠陥は、基板自体の箇所に相当する結像面9で撮像されている。図示のように、撮像された欠陥は、限定された鮮明さ及び質で辛うじて検出された状態で、また小さな画像サイズで表される。一方、本発明の図10Bを参照すると、撮像された欠陥は、基板から約32離れた場所にある結像面10B即ち、基板との距離に比べて、第2の反射装置12により近いにおいて撮像されている。図10Bの画像は、反射層における欠陥を示しており、サイズが顕著に大きく、検出能、鮮明さ及び質が向上している。これは、第2の光路14の光エネルギー集中のより大きな断面内であることによる。図11A~11Cは、本発明により撮像されたプラスチックフィルムの他の例を示す。これらの画像において、ゲル及びゆがみ線図11A、ゲル繊維図11B及びフィルムクレイター図11Cは全て基板自体の箇所に相当する結像面9で撮像されている。見てわかるとおり、欠陥及び/又は歪みは、どうにか検出できているものの、不鮮明で、十分な質ではなく、サイズが小さくなっている。一方、本発明の図12A~12Cを参照すると、図11A~11Cの撮像された欠陥及び/又は歪みと同一のものが、基板から約32離れた場所にある結像面10Bで撮像されている。これらの画像の全ては、容易な検出のために、顕著に増大したサイズを有する欠陥及び/又は歪みを示しており、図11A~11Cの撮像結果と比して明瞭さと質が向上している。それ故、本発明の方法、装置及びシステムは、反射部品からの帰還エネルギーから光エネルギーの撮像されたフレームを提供している。これらの画像は、より大きな画像サイズと同様に、対象の光学的影響のより容易な検出能、またそのような対象の光学的影響の向上した明瞭さと質を有する画像を供給するために、反射部品から少し離れた箇所に存在する空間の点でとらえられる。本発明の光学的システムはスキャナー18のような単一のモジュールである。レーザー1、焦点調整レンズ3、第1の反射装置5、及び焦点調整レンズ16及びセンサー17を有する撮像装置15又は19のすべては、スキャナー18の単一のモジュールの中にあるのが好ましい。第2の光路14即ち、帰還エネルギーは、焦点調整レンズ16で集められ、それによりこのエネルギーはセンサー17に当てられる。このセンサーは撮像装置15に付されている。本発明の光学的撮像装置は自己整合型であり、故に、自然の光には影響され難く、基板の跳ね返り及び/又は表面の粗さ即ち、表面の平面性からの逸脱には影響されない。本発明の様々な態様において、明視野データ及び暗視野データ双方は空間における一つ又は一つ以上の結像面で供給され、それにより、基板の品質管理のための分析又は検査を容易かつ効果的な方法により行うことができる。複数の結像面データと同様に、明視野データ及び暗視野データは、基板自体で対象の光学的影響を撮像して捕捉されるシステムと比べて、より詳細で広範囲にわたる対象の光学的影響の検査、分析及び判読を可能とする。このように、本発明は即座にそのような対象の光学的影響例えば、欠陥、パターン、もや、等を、自動的、そして客観的に評価し、それにより、より良い製造品質や工程管理を提供することができる。本発明は、物体が阻害する対象における物体のゆがみの影響を単に得る撮像装置とは異なる。前述のように、そのようなシステムにおいては、物体例えば、欠陥はカメラと撮像される対象の間にあり、それにより、対象において撮像されたゆがみは、物体が対象を阻害しているか又はその前にあることを示す。どちらかというと、それは単に、ぼやけた、及び/又はゆがんだ物体が存在することを示すためにとらえられる物体収差である。一方、本発明の様々な態様は、実際に対象の光学的影響、欠陥、物体、等、自体を撮像しとらえる。本発明では、反射されたエネルギーにおいて、基板から得られる撮像データの反射データを撮像することにより、対象の光学的影響、欠陥、物体、等、それ自体を撮像する。即ち、基板内部又は上部にあるいかなる対象の光学的影響を捕捉するように、基板画像の反射が捕捉される。即ち、対象の光学的影響、欠陥、物体、等、それ自体が撮像又は捕捉される。このようにして、対象の光学的影響、欠陥、物体、等、の詳細なデータは、本発明に基づき抽出され供給される。当該技術に関係する人にとって、本発明の態様は、システム、方法、又はコンピュータプログラム製品として実施されるかもしれない。それ故に、本発明の態様は、全体的にハードウェアの態様、全体的にソフトウェアの態様、又は一般的にシステムとして表現される、ソフトウェア及びハードウェアの組合せの態様の形態を取る。更には、本発明の態様は、コンピュータ読み取り可能プログラムコード即ち、一連の指令を有する一つ又は一つ以上のコンピュータ読み取り可能媒体に具現されるコンピュータプログラム製品の形態を取り得る。一つ又は一つ以上のいかなるコンピュータ読み取り可能媒体の組合せも利用できる。該コンピュータ読み取り可能媒体は、コンピュータ読み取り可能信号媒体、又は、コンピュータ読み取り可能記憶装置媒体でも良い。コンピュータ読み取り可能記憶装置媒体は、例えば、これに限定されるわけではないが、電子、磁気、光学、電磁気、赤外線、又は半導体のシステム、装置、又は部品、或いはそれらの適当な組合せである。コンピュータ読み取り可能記憶装置媒体のより具体的な例は次のものを含むすべてではない。:一つ又は一つ以上のワイヤーを有する電気的結合、フロッピー登録商標ディスク、ハードディスク、RAM、ROM、EPROM又はフラッシュメモリー、光ファイバー、CD-ROM、光学的記憶装置、磁気的記憶装置、又はそれらの適当な組み合わせ。本明細書の記載において、コンピュータ読み取り可能記憶装置媒体は、指令実行システム、装置、又は部品による、又はそれらに関連する使用のためのプログラムを含む、記憶、通信、伝播、又は搬送できる有形的表現媒体である。コンピュータ利用可能、又はコンピュータ読み取り可能媒体は、紙でも良く、また、プログラムが印刷されている他の適当な媒体でも良く、例えば、プログラムは紙又は他の媒体を通じて電子的に捕捉することができ、その後、適切な方法でコンパイル、判読、又は処理され、必要であればコンピュータメモリに保存されることに留意すべきである。コンピュータ読み取り可能信号媒体は、その中に組み込まれたコンピュータ読み取り可能プログラムコードと共に伝達されるデータを含む。そのような伝達される信号は、これに限定されるわけではないが、電磁気的、光学的、又はそれらの適切な組合せを含む形式の多様性を持ち得る。コンピュータ読み取り可能信号媒体は、コンピュータ読み取り可能記憶装置媒体ではなく、指令実行システム、装置、又は部品による、又はそれらに関連する使用のためのプログラムと通信、伝播、又は搬送できるコンピュータ読み取り可能媒体である。コンピュータ読み取り可能媒体に組み込まれたプログラムコードは、これらに限定されるわけではないが、ワイヤレス、有線、光ファイバーケーブル、RF、等、を含む、適当な媒体を利用して伝送される。本発明の態様の運用を実行するためのコンピュータプログラムコードは、一つ又は一つ以上のプログラム言語で書かれている。それには、JAVA登録商標、Smalltalk、C等、のオブジェクト指向のプログラム言語と、C言語又はそれに類似するプログラム言語のような、汎用型の手続プログラム言語が含まれる。該プログラムコードは、ユーザーのコンピュータで全体的に、部分的に実行され、また、スタンドアローン型ソフトウェアパッケージとして、部分的にユーザーのコンピュータで、また部分的にリモートコンピュータ、又は、全体的にリモートコンピュータ又はサーバーにおいて実行される。後者の場合は、リモートコンピュータは、LAN又はWANを含む、いかなるタイプのネットワークをも通して、ユーザーのコンピュータに接続される、又は、外部コンピュータへの接続が行われる例えば、インターネットサービスプロバイダを通して。特定の好ましい実施形態とともに、本発明を特に説明してきたが、以上の説明を考慮すれば当業者には多くの代替案、修正、及び変形が明らかとなることは明白である。したがって、添付の特許請求の範囲が、本発明の範囲であり、本発明の意図の範囲内にあるこのようなあらゆる代替案、修正、および変形を含む。