"以下の一般式Aを有するポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物:YZabCF2cdefghXmSiR2iSi3zzA式中、Zは、、CF2O、O、O、CF2、、及びから独立して選択され;aは、1~200の整数であり;b、c、d、e、f及びgは、0~200からそれぞれ独立して選択される整数であり;h、n及びjは、0~20からそれぞれ独立して選択される整数であり;i及びmは、0~5からそれぞれ独立して選択される整数であり;Xは、二価有機基又は酸素原子であり;Rは、1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;zは、0~2から独立して選択される整数であり;X’は、独立して選択される加水分解性基であり;R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;Yは、フッ素及びSi3zzmSiR2iXhここで、X’、z、R1、j、m、i、n及びhは、上記のとおりである。から選択される。であって、但し、iが0である場合に、jも0であり;iが0よりも大きい整数である場合に、jも0よりも大きい整数であり;及びiが0よりも大きい整数である場合に、mも0よりも大きい整数であり;但し、Yが、フッ素であり;Zが、であり;aが、1~3の整数であり;c、d、f及びiが、0である場合に、以下の一般式B:FabegFBにより表される含フッ素化合物が、前記表面処理組成物の全量に基づいて、少なくとも25モルの量で、前記表面処理組成物中に存在し、及び但し、以下の一般式C:Y’ZabCF2cdefghXCR5CR5CH3C式中、Y’は、フッ素及びCH3CR5CR5Xhから選択され;n’は、0~17から独立して選択される整数であり;R5は、水素原子及びメチル基から独立して選択され;Z、a、b、c、d、e、f、g、h及びXは、上記のとおりである。により表される含フッ素化合物が、前記表面処理組成物の全量に基づいて、40モル未満の量で、前記表面処理組成物中に存在する、表面処理組成物。前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるX’により表される前記加水分解性基が、ハロゲン基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、カルボキシ基、アルキルイミノキシ基、アルケニルオキシR4基、又はN-アルキルアミド基から独立して選択され、R2、R3及びR4が、それぞれ独立して、水素及び1~22の炭素原子を有する炭化水素から選択され、R2及びR3が、アルキルアミノ基における環状アミンを必要に応じて形成してよい、請求項1に記載の表面処理組成物。ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物の製造方法であって、前記方法が、少なくとも1つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物を準備する工程;ヒドロシラン化合物を準備する工程;ヒドロシリル化触媒を準備する工程;異性体減少剤を準備する工程;及びヒドロシリル化触媒と異性体減少剤の存在下においてパーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物を反応させてポリフルオロポリエーテルシランと表面処理組成物とを製造する工程;を含み、但し、ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式G:YZ’a’beghXSi3zzG式中、Z’は、であり;a’は、1~3の整数であり;b、e及びgは、0~200からそれぞれ独立して選択される整数であり;h及びnは、0~20からそれぞれ独立して選択される整数であり;Xは、二価有機基又は酸素原子;zは、0~2から独立して選択される整数であり;X’は、独立して選択される加水分解性基であり;R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;Yはフッ素である。を有する場合に、以下の一般式B:FabegFB式中、aは、1~3であり、b、e及びgは、上記のとおりである。により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の全量に基づいて、少なくとも25モルの量で表面処理組成物中に存在する、表面処理組成物の製造方法。ポリフルオロポリエーテルシランが以下の一般式A:YZabCF2cdefghXmSiR2iSi3zzA式中、Zは、、CF2O、O、O、CF2、、及びから独立して選択され;aは、1~200の整数であり;b、c、d、e、f及びgは、0~200からそれぞれ独立して選択される整数であり;h、n及びjは、0~20からそれぞれ独立して選択される整数であり;i及びmは、0~5からそれぞれ独立して選択される整数であり;Xは、二価有機基又は酸素原子であり;Rは、1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;zは、0~2から独立して選択される整数であり;X’は、独立して選択される加水分解性基であり;R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;Yは、フッ素及びSi3zzmSiR2iXhここで、X’、z、R1、j、m、i、n及びhは、上記のとおりである。から選択される。を有し、但し、iが0である場合に、jも0であり;iが0よりも大きい整数である場合に、jも0よりも大きい整数であり;及びiが0よりも大きい整数である場合に、mも0よりも大きい整数であり;但し、Yが、フッ素であり;Zが、であり;aが、1~3の整数であり;c、d、f及びiが、0である場合に;以下の一般式B:FabegFB式中、aは、1~3であり、b、e及びgは、上記のとおりである。により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の全量に基づいて、少なくとも25モルの量で、表面処理組成物中に存在する、請求項3に記載の方法。ポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるX’により表される加水分解性基が、ハロゲン基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、カルボキシ基、アルキルイミノキシ基、アルケニルオキシR4基、又はN-アルキルアミド基から独立して選択され、R2、R3及びR4が、それぞれ独立して、水素及び1~22の炭素原子を有する炭化水素から選択され、R2及びR3が、アルキルアミノ基における環状アミンを必要に応じて形成してよい、請求項4に記載の方法。異性体減少剤が、カルボン酸化合物を含む、請求項3~5のいずれか1項に記載の方法。異性体減少剤が、1以上のシリル化カルボン酸を含む、請求項3~6のいずれか1項に記載の方法。以下の一般式C:Y’ZabCF2cdefghXCR5CR5CH3C式中、Y’は、フッ素及びCH3CR5CR5Xhから選択され;n’は、0~17から独立して選択される整数であり;R5は、水素原子とメチル基から独立して選択され;Z、a、b、d、e、f、g、h及びXは上記のとおりである。により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の全量に基づいて、40モル未満の量で表面処理組成物中に存在する、請求項3~7のいずれか1項に記載の方法。ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物であって、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、ヒドロシリル化触媒と異性体減少剤との存在下においてパーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物とから形成され、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式A:YZabCF2cdefghXmSiR2iSi3zzA式中、Zは、、CF2O、O、O、CF2、、及びから独立して選択され;aは、1~200の整数であり;b、c、d、e、f及びgは、0~200からそれぞれ独立して選択される整数であり;h、n及びjは、0~20からそれぞれ独立して選択される整数であり;i及びmは、0~5からそれぞれ独立して選択される整数であり;Xは、二価有機基又は酸素原子であり;Rは、1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;zは、0~2から独立して選択される整数であり;X’は、独立して選択される加水分解性基であり;R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;Yは、フッ素及びSi3zzmSiR2iXhここで、X’、z、R1、j、m、i、n及びhは、上記のとおりである。から選択される。を有し、但し、iが0である場合に、jも0であり;iが0よりも大きい整数である場合に、jも0よりも大きい整数であり;及びiが0よりも大きい整数である場合に、mも0よりも大きい整数であり;但し、Yが、フッ素であり;Zが、であり;aが、1~3の整数であり;c、d、f及びiが、0である場合に;以下の一般式B:FabegFBにより表される含フッ素化合物が、前記表面処理組成物の全量に基づいて、少なくとも25モルの量で、前記表面処理組成物中に存在する、表面処理組成物。前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるX’により表される前記加水分解性基が、ハロゲン基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、カルボキシ基、アルキルイミノキシ基、アルケニルオキシR4基、又はN-アルキルアミド基から独立して選択され、R2、R3及びR4が、それぞれ独立して、水素1~22の炭素原子を有する炭化水素から選択され、R2及びR3が、アルキルアミノ基における環状アミンを必要に応じて形成してよい、請求項9に記載の表面処理組成物。異性体減少剤が、カルボン酸化合物を含む、請求項9及び10のいずれか1項に記載の表面処理組成物。異性体減少剤が、1以上のシリル化カルボン酸を含む、請求項9~11のいずれか1項に記載の表面処理組成物。表面処理した物品であって;表面を有する物品;及び、前記物品の前記表面上に形成される層;を含み、前記層が、ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物から作られており、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式A:YZabCF2cdefghXmSiR2iSi3zzA式中、Zは、、CF2O、O、O、CF2、、及びから独立して選択され;aは、1~200の整数であり;b、c、d、e、f及びgは、0~200からそれぞれ独立して選択される整数であり;h、n及びjは、0~20からそれぞれ独立して選択される整数であり;i及びmは、0~5からそれぞれ独立して選択される整数であり;Xは、二価有機基又は酸素原子であり;Rは、1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;zは、0~2から独立して選択される整数であり;X’は、独立して選択される加水分解性基であり;R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;Yは、フッ素及びSi3zzmSiR2iXhここで、X’、z、R1、j、m、i、n及びhは、上記のとおりである。から選択される。を有し、但し、iが0である場合に、jも0であり;iが0よりも大きい整数である場合に、jも0よりも大きい整数であり;及びiが0よりも大きい整数である場合に、mも0よりも大きい整数であり;但し、Yが、フッ素であり;Zが、であり;aが、1~3の整数であり;c、d、f及びiが、0である場合に;以下の一般式B:FabegFBにより表される含フッ素化合物は、前記表面処理組成物の全量に基づいて、少なくとも25モルの量で、前記表面処理組成物中に存在し、及び但し、以下の一般式C:Y’ZabCF2cdefghXCR5CR5CH3C式中、Y’は、フッ素及びCH3CR5CR5Xhから選択され;n’は、0~17から独立して選択される整数であり;R5は、水素原子及びメチル基から独立して選択され;Z、a、b、c、d、e、f、g、h及びXは、上記のとおりである。により表される含フッ素化合物が、前記表面処理組成物の全量に基づいて40モル未満の量で、前記表面処理組成物中に存在する、表面処理した物品。前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるX’により表される加水分解性基が、ハロゲン基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、カルボキシ基、アルキルイミノキシ基、アルケニルオキシR4基、又はN-アルキルアミド基から独立して選択され、R2、R3及びR4が、それぞれ独立して、水素及び1~22の炭素原子を有する炭化水素から選択され、R2及びR3が、アルキルアミノ基における環状アミンを必要に応じて形成してよい、請求項13に記載の表面処理した物品。前記物品が、電子物品として更に規定されている、請求項13及び14のいずれか1項に記載の表面処理した物品。このような汚れ及び汚染の出現及び広がりを最小限にしようとして、表面処理組成物を電子機器のディスプレイ上に適用する。しかしながら、従来の表面処理組成物は、従来の表面処理組成物を製造することから様々な異性体、非反応性成分、及び残留した未反応成分を含む。これらの異性体、非反応性成分、及び残留した未反応成分は、従来の表面処理組成物から得られる物理的特性に対する有害な影響を有する。本発明は、ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物を提供する。表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式A:YZabCF2cdefghXmSiR2iSi3zzAを有する。一般式Aにおいて、Zは、、CF2O、O、O、CF2、、及びから独立して選択され;aは、1~200の整数であり;b、c、d、e、f及びgは、0~200からそれぞれ独立して選択される整数であり;並びにh、n及びjは、0~20からそれぞれ独立して選択される整数であり;i及びmは、0~5からそれぞれ独立して選択される整数であり;Xは、二価有機基又は酸素原子であり;Rは、1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;zは、0~2から独立して選択される整数であり;X’は、独立して選択される加水分解性基である。R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;Yは、フッ素及びSi3zzmSiR2iXhここで、X’、z、R1、j、m、i、n及びhは、上記のとおりである。から選択される。加えて、iが0である場合に、jも0であり;iが0より大きい整数である場合に、jも0より大きい整数であり;iが0よりも大きい整数である場合に、mも0よりも大きい整数である。更に、Yがフッ素であり、Zがであり;aが1~3の整数であり;c、d、f及びiが0である場合に;以下の一般式B:FabegFにより表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の全量に基づいて、少なくとも25モルの量で表面処理組成物中に存在する。表面処理組成物中に、以下の一般式C:Y’ZabCF2cdefghXCR5CR5CH3式中、Y’は、フッ素及びCH3CR5CR5Xhから選択され;n’は、0~17から独立して選択される整数であり;R5は、水素原子及びメチル基から独立して選択され;及びZ、a、b、c、d、e、f、g、h及びXは、上記のとおりである。により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の全量に基づいて、40モル未満の量で存在する。本発明は、表面処理組成物の製造方法も提供する。本発明の方法は、少なくとも1つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物;ヒドロシラン化合物;ヒドロシリル化触媒;及び異性体減少剤を準備する工程を含む。本発明の方法は、ヒドロシリル化触媒と異性体減少剤の存在下においてパーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物を反応させてポリフルオロポリエーテルシラン及び表面処理組成物を準備する工程を更に含む。本発明は、表面処理した物品を更に提供する。表面処理した物品は、表面を有する物品を含む。層は物品表面上に形成されており、層は表面処理組成物から作られている。本発明の表面処理組成物は、耐久性並びに防汚性及び耐汚染性を有する優れた物理的特性を有する。本発明は、表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、及び表面処理した物品を提供する。表面処理組成物は、防汚性、耐汚染性、耐久性、及び低表面張力などの優れた物理的特性を有する。従って、表面処理組成物は、以下に更に詳細に記載されるように、物品の物理的特性を改善するために、電子物品などの物品が有する表面上に層を形成するのに特に適している。しかしながら、表面処理組成物は、このような使用又は物品に限定されないことを理解されたい。例えば、表面処理組成物は、ガラスのような他の物品及び/又は基材上に、層を形成するのにも適している。本発明の表面処理組成物は、以下の一般式A:YZabCF2cdefghXmSiR2iSi3zzを有するポリフルオロポリエーテルシランを含む。式Aにおいてb~gにより括られる基、即ち、角括弧内の基は、ポリフルオロポリエーテルシラン内において任意の順番であってよく、上記及びこの明細書全体を通して一般式Aで表されている順番とは異なる順番を含むことを理解されたい。更に、これらの基は、ランダム形態又はブロック形態であってよい。加えて、bにより括られる基は、典型的には、直鎖状であってよく、即ち、bにより括られる基が、代替的に、bと記載されてよい。上記の一般式Aにおいて、Zは、、CF2O、O、O、CF2、、及びから独立して選択される。いくつかの実施形態において、Z及びbCF2cdefgで示される残基は、Z及びこの残基が過酸化物を作らないように選択される。ポリフルオロポリエーテルシランが主鎖において酸素-酸素O-O結合を含まないようにZが選択されることを理解されたい。加えて、この一般式において、aは、1~200の整数であり;b、c、d、e、f及びgは、0~200からそれぞれ独立して選択される整数であり;h、n及びjは、0~20からそれぞれ独立して選択される整数であり;i及びmは、0~5からそれぞれ独立して選択される整数であり;Xは、二価有機基又は酸素原子であり;Rは、1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;zは、0~2から独立して選択される整数であり;X’は、独立して選択される加水分解性基であり;R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1~22の炭素原子を有する炭化水素基であり;Yは、フッ素及びSi3zzmSiR2iXhここで、X’、z、j、m、i、n及びhは、上記のとおりである。から選択される。1~22の炭素原子を有する炭化水素基であってよいRは、直鎖状、分岐状、又は環状であってよい。加えて、Rは、炭化水素基においてヘテロ原子を含んでよく、及び置換されてよく又は置換されなくてよい。加えて、n及びjにより括られる基、即ち、基及びは、独立して直鎖状又は分岐状であってもよい。例えば、nが3である場合に、これらの基は、構造CH2CH2CH2、CHCH2又はCH2CHを独立して有してよく、後者の2つの構造は、ペンダントアルキル基を有し、即ち、これらの構造は、分岐状であり、直鎖状ではない。m、i及びjにより括られる残基に関して、iが0である場合にjも0であり;iが0よりも大きい整数である場合に、jも0よりも大きい整数であり;iが0よりも大きい整数である場合に、mも0よりも大きい整数であるということを理解されたい。別の言い方をすれば、iにより括られる基が存在する場合に、jにより括られる基も存在する。逆も真実である、即ち、iにより括られる基が存在しない場合に、jにより括られる基も存在しない。加えて、iが0よりも大きい整数である場合に、mにより括られる基は存在し、mも0よりも大きい整数である。いくつかの実施形態において、m及びiはそれぞれ1である。シロキサン結合即ち、Si-O結合がiにより括られる基で存在するようにmが1よりも大きい整数であってよいけれども、典型的には、iは1を越えない。但し、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランにおいて、Yがフッ素であり;Zがであり;aが1~3の整数であり;c、d、f及びiが0である場合に;一般式BFabegFにより表される含フッ素化合物は、表面処理組成物の全量に基づいて、少なくとも25モル、典型的には、25~50モルの量で、表面処理組成物中に存在することがある。典型的には、このようなフッ含有化合物、即ち、一般式Bにより表される含フッ素化合物は、以下に更に詳細に示されるように、表面処理組成物を製造するのに用いるパーフルオロポリエーテル含有化合物とともに含有される。典型的には、以下の一般式C:Y’ZabCF2cdefghXCR5CR5CH3の含フッ素化合物は、表面処理組成物の全量に基づいて、40モル未満、あるいは、30モル未満、あるいは、25モル未満の量で表面処理組成物中に存在する。上記の一般式Cにおいて、Y’は、フッ素及びCH3CR5CR5Xhから選択され;n’は、0~17から独立して選択される整数であり;R5は、水素原子及びメチル基から独立して選択され;及びZ、a、b、c、d、e、f、g、h及びXは上記のとおりである。ポリフルオロポリエーテルシランと同様に、式Cにおいてb~gにより括られる基、即ち、角括弧内の基は、一般式Cの含フッ素化合物において任意の順番であってよく、上記及び本明細書全体を通して一般式Aに表される順番とは異なる順番を含むことを理解されたい。更に、これらの基は、ランダム形態又はブロック形態であってよい。以下に更に詳細に記載されるように、一般式Cにより表される含フッ素化合物は、ポリフルオロポリエーテルシラン及び表面処理組成物を製造する場合にその場で形成される望ましくない異性体である。そのため、表面処理組成物の製造方法に関して以下に記載される理由のために、表面処理組成物中におけるこれらの異性体、即ち、一般式Cにより表される含フッ素化合物のモルを最小限にすることは好都合である。ポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるX’により表される加水分解性基は、ハロゲンハライド基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、カルボキシ基、アルキルイミノキシ基、アルケニルオキシR4基、又はN-アルキルアミド基から独立して選択してよく、R2、R3及びR4は、それぞれ独立して、水素及び1~22の炭素原子を有する炭化水素基から選択される。R2、R3及びR4が、独立して、1~22の炭素原子を有する炭化水素基である場合に、R2、R3及びR4は、直鎖状、分岐状又は環状であってよい。加えて、R2、R3及びR4は、炭化水素基におけるヘテロ原子を独立して含んでよく、及び置換されてよく又は置換されなくてよい。いくつかの実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるX’により表される加水分解性基は、アルコキシ基及びアルキルアミノ基から独立して選択される。ポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるX’により表される加水分解性基がアルキルアミノ基である場合に、R2及びR3は、アルキルアミノ基における環状アミンを必要に応じて形成してよい。このような実施形態に限定されないが、特定種類の表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの例示的な実施形態が以下に詳細に記載される。典型的には、これらの実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランが、X’により表される3つの加水分解性基を含むように、zは0である。しかしながら、上述したように、これらの特定のポリフルオロポリエーテルシランが3つよりも少ない加水分解性基を含むように、zは0以外の整数例えば、1又は2であってよいことを理解されたい。いくつかの実施形態において、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるYはフッ素である。典型的には、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるYがフッ素である場合に、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるc、d及びgは0である。そのため、これらの実施形態において、c、d及びgにより括られる基を有さない場合に、ポリフルオロポリエーテルシランは一般式YZabefhXmSiR2iSi3zzを有する。上記で説明されているように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるYがフッ素である1つの実施形態において、一般式AにおけるZはであり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるc、d、f及びgは0であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるb、e、h及びnは、それぞれ独立して、0よりも大きい整数である。この実施形態の1つの例として、aは3であり、bは少なくとも1であり、eは1であり、hは1であり、Xは酸素原子であり、nは3であり、m、i及びjはそれぞれ0である。この1つの例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式:CF3CF2CF2bOCF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si3zzを有する。従って、X’により表される加水分解性基が全てアルコキシ基、例えば、メトキシ基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式:CF3CF2CF2bOCF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si3を有する。あるいは、X’により表される加水分解性基が全てアルキルアミノ基、例えば、N2である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式:CF3CF2CF2bOCF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si23を有する。上述したように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるYがフッ素であり一般式AにおけるZがである別の実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるc、d、f及びgは0であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるb、e、h、n、m、i及びjは、それぞれ独立して、0よりも大きい整数である。この実施形態の1つの例として、aは3であり、bは少なくとも1であり、eは1であり、hは1であり、Xは酸素原子であり、nは3であり、並びにm及びiはそれぞれ1であり、jは2である。この1つの例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式:CF3CF2CF2bOCF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si2OSi2CH2CH2Si3zzを有する。従って、X’により表される加水分解性基が全てアルコキシ基、例えば、メトキシ基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式:CF3CF2CF2bOCF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si2OSi2CH2CH2Si3を有する。上記で説明されているように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるYがフッ素である別の実施形態において、一般式AにおけるZは、CF2Oである。この実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるb、c、d、e及びgは0であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるf、h及びnは、それぞれ独立して、0よりも大きい整数である。この実施形態の1つの例として、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるb、c、d、e及びgは0であり、aは少なくとも1であり、fは1であり、hは1であり、Xは酸素原子であり、nは3であり、i、m及びjはそれぞれ0である。この1つの例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式:FCF2OaCFCH2OCH2CH2CH2Si3zzを有する。従って、X’により表される加水分解性基が全てアルコキシ基、例えば、メトキシ基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは以下の一般式:FCF2OaCFCH2OCH2CH2CH2Si3を有する。あるいは、X’により表される加水分解性基が全てアルキルアミノ基、例えば、N2基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは以下の一般式:FCF2OaCFCH2OCH2CH2CH2Si23を有する。直前で説明されているように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるYがフッ素であり一般式AにおけるZがCF2Oである別の実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるb、c、d、e及びgは0であり、aは少なくとも1であり、fは1であり、hは1であり、Xは酸素原子であり、nは3であり、m及びiはそれぞれ1であり、jは2である。この1つの例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式:FCF2OaCFCH2OCH2CH2CH2Si2OSi2CH2CH2Si3zzを有する。従って、X’により表される加水分解性基が全てアルコキシ基、例えば、メトキシ基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは以下の一般式:FCF2OaCFCH2OCH2CH2CH2Si2OSi2CH2CH2Si3を有する。他の実施形態において、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるYは、Si3zzmSiR2iXhである。典型的には、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるYが、Si3zzmSiR2iXhである場合に、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるb、c及びfは0である。そして、これらの実施形態において、b、c及びfにより括られる基を有さない場合に、ポリフルオロポリエーテルシランは以下の一般式:YZadeghXmSiR2iSi3zzを有する。直前で説明されているように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるYがSi3zzmSiR2iXhである1つの実施形態において、Zはであり、Xは酸素原子であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるb、c、d及びfは0であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるe及びgは、それぞれ独立して、0よりも大きい整数である。この実施形態の1つの例において、Zはであり、Xは酸素原子であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるb、c、d、f、m、i及びjは0であり、eは少なくとも1であり、gは少なくとも1であり、hは1であり、Xは酸素原子であり、nは3である。この1つの例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式:z3zSiCH2CH2CH2OCH2CF2egCH2OCH2CH2CH2Si3zzを有する。従って、X’により表される加水分解性基が全てアルコキシ基、例えば、メトキシ基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは以下の一般式:3SiCH2CH2CH2OCH2CF2egCH2OCH2CH2CH2Si3を有する。あるいは、X’により表される加水分解性基が全てアルキルアミノ基、例えば、N2基である場合に、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式:2N3SiCH2CH2CH2OCH2CF2egCH2OCH2CH2CH2Si23を有する。あるいは、上記で説明されているように、表面処理組成物のポリフルオロポリエーテルシランの一般式AにおけるYがSi3zzmSiR2iXhである別の実施形態において、Zはであり、Xは酸素原子であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるb、c、e及びfは0であり、ポリフルオロポリエーテルシランの一般式Aにおけるd及びgは、それぞれ独立して、0よりも大きい整数である。本発明の表面処理組成物は、例えば、有機溶媒のような液状媒体を含んでよい。一般式Aにより表されるポリフルオロポリエーテルシランと、一般式B及びCにより表される含フッ素化合物の濃度は、好ましくは、表面処理組成物の合計重量に基づいて、0.001重量~80重量、あるいは、0.1重量~60重量である。有機溶媒が表面処理組成物と反応しないならば、有機溶媒は、表面処理組成物を好ましくは溶解する様々な溶媒であってよい。有機溶媒の例は、例えば、含フッ素アルカン、含フッ素ハロアルカン、含フッ素芳香族及び/又は含フッ素エーテル例えば、ハイドロフルオロエーテルHFEのような含フッ素溶媒を含む。触媒を必要に応じて用い、本発明の表面処理組成物による表面改質を促進してよい。これらの触媒は、ポリフルオロエーテルシランの加水分解性基と物品表面の間の反応を促進する。これらの触媒を、単独で又は2種類以上の組み合わせとして用いて、本発明の表面改質剤を形成してよい。適切な触媒化合物の例は、酸、塩基、例えば、ジブチル錫ジオクトエート、ステアリン酸鉄及びオクタン酸鉛などのような有機酸の金属塩、チタン酸テトライソプロピル、チタン酸テトラブチルのようなチタン酸エステル、アセチルアセトナトチタンのようなキレート化合物を含む。光触媒を、典型的に、表面処理組成物の100重量部に基づいて、0~5重量部、あるいは、0.01~2重量部の量で用いる。表面処理組成物は、例えば、カップリング剤、帯電防止剤、紫外線吸収体、可塑剤、均染剤、色素、触媒などの任意の適切な他の組成物を追加的に含んでよい。上記のように、本発明は、ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物の製造方法も提供する。いくつかの実施形態において、本発明の方法により製造されるポリフルオロポリエーテルシランは、上述したAにより示されるポリフルオロポリエーテルシランである。しかしながら、本発明の方法により製造されるポリフルオロポリエーテルシランは、本発明の方法に用いる反応剤に応じて、一般式Aにより示されるポリフルオロポリエーテルシランの構造とは異なる構造を有してよいということを理解されたい。本発明の方法により製造されるポリフルオロポリエーテルシランが以下の一般式GYZ’a’beghXSi3zzを有し、式中、Z’がであり;a’が1~3の整数であり;b、e及びgが、0~200からそれぞれ独立して選択される整数であり;h及びnが、0~20からそれぞれ独立して選択される整数であり;Xが、二価有機基又は酸素原子であり;zが、0~2から独立して選択される整数であり;X’が、独立して選択される加水分解性基であり;R1が、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1~22までの炭素原子を有する加水分解性基であり;Yがフッ素である場合に;以下の一般式B:FabegFBにより表される含フッ素化合物は、表面処理組成物の全量に基づいて、少なくとも25モルの量で、表面処理組成物中に存在する。この場合において、例えば、ポリフルオロポリエーテルシランが上記の一般式Gを有する場合に、一般式Bにおいてaは1~3であり、b、e及びgは上記のとおりであることを理解されたい。本発明の方法は、少なくとも1つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物を準備する用いる工程を含む。本発明の方法は、ヒドロシラン化合物を準備する用いる工程も含む。加えて、本発明の方法は、ヒドロシリル化触媒を準備する用いる工程を含む。本発明の方法は、異性体減少剤を準備する用いる工程を更に含む。本発明の方法は、ヒドロシリル化触媒及び異性体減少剤の存在下において、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物を反応させて、ポリフルオロポリエーテルシラン及び表面処理組成物を製造する工程も含む。これらの方法の工程のそれぞれは、以下に更に詳細に記載される。上記で説明されているように、本発明の方法は、少なくとも1つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物を準備する工程を含む。いくつかの実施形態において、少なくとも1つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物が、以下の一般式D:Y’ZabCF2cdefghXCR5CR5Hを有する。一般式Dにおいて、Y’は、フッ素及びCR5HCR5Xhから選択され;n’’は、0~16から独立して選択される整数であり;R5は、水素原子及びメチル基から独立して選択され;及びZ、a、b、c、d、e、f、g、h及びXは上記のとおりである。n’’により表される基、即ち、基は、また、独立して、直鎖状又は分岐状であってよいことを理解されたい。例えば、n’’が3である場合に、これらの基は、構造CH2CH2CH2、CHCH2、又はCH2CHを独立して有してよく、後者の2つの構造は、ペンダントアルキル基を有し、即ち、これらの構造は、分岐状であり、直鎖状ではない。一般式Dにおいてb~gにより括られる基、即ち、角括弧内の基は、パーフルオロポリエーテル含有化合物内の任意の順番であってよく、上記及び本明細書全体を通して一般式Aに表される順番とは異なる順番を含むことを理解されたい。一般式Dにおいて説明するように、少なくとも1つの脂肪族不飽和基は、典型的には、エチレン系不飽和基である。典型的には、エチレン系不飽和基は、パーフルオロポリエーテル含有化合物の末端基である。しかしながら、脂肪族不飽和基は、また、パーフルオロポリエーテル含有化合物の主鎖から側基として存在してよいということを理解されたい。加えて、上述したように、一般式Dにおいて、パーフルオロポリエーテル含有化合物は、単官能基であってよく、即ち、1つの脂肪族不飽和基を含んでよく、又は二官能基であってよく、即ち、2つの脂肪族不飽和基を含んでよい。パーフルオロポリエーテル含有化合物が二官能基である場合に、脂肪族不飽和基は、典型的に、パーフルオロポリエーテル含有化合物の末端に位置している。本発明の方法は、ヒドロシラン化合物を準備する工程も含む。いくつかの実施形態において、ヒドロシラン化合物は、X’、R1及びzが上記に規定されている以下の一般式EHSi3zzを有する。あるいは、他の実施形態において、ヒドロシラン化合物はヒドロシロキサンを含む。ヒドロシラン化合物がヒドロシロキサンを含む実施形態において、ヒドロシロキサンは、R、m、i、j、X’、z及びR1が上記のとおりである以下の一般式FHmSiR2iSi3zzを典型的に有する。一般式Aにおけるiが少なくとも1である場合に、典型的には、ヒドロシラン化合物はヒドロシロキサンを含む。いくつかの実施形態において、上記の一般式EにおけるX’により表される加水分解性基は、ハロゲン原子から独立して選択される。これらの実施形態において、zは、ヒドロシランがそこに結合されている3つのハロゲン原子を有するように典型的には0である。1つの例として、ヒドロシランは、多くの供給者から市販できるトリクロロシランであってよい。ヒドロシリル化触媒は、触媒の第VIII族の遷移金属を典型的に含む。例えば、ヒドロシリル化触媒は、白金又はロジウムを典型的に含む。ヒドロシリル化触媒が白金を含む場合に、ヒドロシリル化触媒は、13-ジビニル-1133テトラメチルジシロキサンを有する塩化白金酸として又は白金錯体として、若しくはロジウムをトリストリフェニルホスフィンロジウムIクロリドとして典型的に準備される。しかしながら、他のヒドロシリル化触媒で、本発明の方法においてその範囲から逸脱せずに用いてよいことを理解されたい。ヒドロシリル化触媒が白金錯体を含む場合に、パーフルオロポリエーテル含有化合物の1モルに基づいて、0.001~100ミリモル、あるいは、0.001~50ミリモル、あるいは、0.01~10ミリモルの量で白金を供給する量で、ヒドロシリル化触媒を典型的には用いる。上記において、本発明の方法は、異性体減少剤を準備する工程も含む。いくつかの実施形態において、異性体減少剤はカルボン酸化合物を含む。カルボン酸化合物は、aカルボン酸、bカルボン酸無水物、cシリル化カルルボン酸、及び/又はd本発明の方法の反応における反応又は分解により上記のカルボン酸化合物即ち、a、b及び/又はcを生成する物質を含んでよい。これらのカルボン酸化合物の1以上の混合物を異性体減少剤として用いてよいことを理解されたい。例えば、シリル化カルボン酸は、異性体減少剤としてカルボン酸の無水物と組み合わせて用いてよい。加えて、1種類以上のカルボン酸化合物における混合物を異性体減少剤として用いてよい。例えば、2つの異なるシリル化カルボン酸を同時に用いてよく、又は2つのシリル化カルボン酸を、カルボン酸の無水物と同時に用いてよい。異性体減少剤がaカルボン酸を含む場合に、カルボキシ基を有する任意のカルボン酸を用いてよい。カルボン酸の適切な例は、飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸、モノカルボン酸、及びジカルボン酸を含む。飽和又は不飽和の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ハロゲン化した炭化水素基、水素原子などは、これらのカルボン酸におけるカルボキシ基以外の部分として通常選択される。適切なカルボン酸の具体例は、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、n-酪酸、イソ酪酸、ヘキサン酸、シクロヘキサン酸、ラウリン酸、及びステアリン酸などの飽和モノカルボン酸;シュウ酸及びアジピン酸などの飽和ジカルボン酸;安息香酸及びp-フタル酸などの芳香族カルボン酸;例えば、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、p-クロロ安息香酸、及びトリメチルシリル酢酸など、これらのカルボン酸の炭化水素基の水素原子がハロゲン原子又は有機シリル基と置換されているカルボン酸;アクリル酸、メタクリル酸、及びオレイン酸などの不飽和脂肪酸;カルボキシ基に加えて、ヒドロキシ基、カルボニル基、又はアミノ基を有する化合物、即ち、例えば、乳酸などのヒドロキシ酸、アセト酢酸などのケト酸、グリオキシル酸などのアルデヒド酸、及びグルタミン酸などのアミノ酸を含む。異性体減少剤が、bカルボン酸の酸無水物を含む場合に、カルボン酸の酸無水物の適切な例は、酢酸無水物、プロピオン酸無水物及び安息香酸無水物を含む。反応システムにおいて反応又は分解により得られるこれらのカルボン酸の酸無水物は、塩化アセチル、塩化ブチル、塩化ベンゾイル、及び他のカルボン酸ハロゲン化物、並びに例えば、酢酸亜鉛、酢酸タリウムなどのカルボン酸金属塩、及び例えば、プロピオネートのような光又は熱により分解されるカルボン酸エステルを含む。異性体減少剤がcシリル化カルボン酸を含む実施形態において、シリル化カルボン酸の適切な例は、例えば、トリメチルシリルホルマート、トリメチルシリルアセテート、トリエチルシリルプロピオナート、安息香酸トリメチルシリル及びトリフルオロ酢酸トリメチルシリルのようなトリアルキルシリル化カルボン酸;及び例えば、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ジ-t-ブトキシジアセトキシシラン、及びシリコンテトラ安息香酸塩などのジ-、トリ-又はテトラカルボキシシリレートである。異性体減少剤は、用いられる少なくとも1つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物の全量に基づいて、0.001~20重量、あるいは、0.01~5重量、あるいは、0.01~1重量の量で典型的には用いる。異性体減少剤として適切な市販のシリル化カルボン酸の例は、DowCorningCorporationofMidland、MIから市販されている商標登録DOWCORNINGのETS900又は商標登録XIAMETERのOFS1579Silaneである。上述したように、本発明の方法は、ヒドロシリル化触媒及び異性体減少剤の存在下において、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物を反応させる工程を含む。ヒドロシリル化触媒を、一度に全て追加でき、又は時間をかけて徐々に追加してよい。あるいは、ヒドロシリル化触媒を連続して追加してよい。典型的には、ヒドロシリル化触媒を、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物の反応混合物に、時間をかけて徐々に追加する。パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物の反応混合物にヒドロシリル化触媒を追加する間の時間の増加は、変化でき、限定されるものではないが、反応を完了させるのに必要な時間、パーフルオロポリエーテル含有化合物及び特定のヒドロシラン化合物の相対量などを含む多くの要因に依存し得るということを理解されたい。当業者に即座に理解されるように、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物は、ヒドロシリル化触媒及び異性体減少剤の存在下において、ヒドロシリル化反応をする。ヒドロシリル化反応に用いられる反応の工程及び要素を含む反応条件は、当業者により理解されるように、一般式Aにより表されるポリフルオロポリエーテルシランにおける所望の加水分解性基X’に基づいて、典型的に選択されることを理解されたい。一般式Aにより表されるポリフルオロポリエーテルシランにおける1以上の加水分解性基X’を、より好ましくあり得る異なる加水分解性基と独立して交換してよいということは当業者により即座に理解される。例は、過剰のアルキルアミンによる塩化ポリフルオロポリエーテルシランの反応であり、アルキルアミン加水分解性基を有するポリフルオロポリエーテルシランをもたらす。パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシランの間のヒドロシリル化反応は、適切な時間間隔及び温度において過剰の水素化ケイ素により反応させ、反応を完了するまで実行させることにより典型的に行われる。パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシランのモル比は、典型的には、1:1~1:5、あるいは、1:1.2~1:3である。溶媒は混合を促進するように追加されるということを理解されたい。核磁気共鳴NMR又は赤外IR分光法のような様々な計測方法を用いて、反応進行をモニターしてよい。全ての過剰の水素化ケイ素もまた、真空蒸発により反応生成物から容易に除去できる。パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物の間の反応中に、パーフルオロポリエーテル含有化合物は、異性化することがあり、下付き、基、及び置換基が上記のとおりである以下の一般式C:Y’ZabCF2cdefghXCR5CR5CH3により表される異性体になる。特に、パーフルオロポリエーテル含有化合物は、パーフルオロポリエーテル含有化合物の1つ又は両方の末端に、少なくとも1つのエチレン系不飽和基を一般に含む。しかしながら、一般式Cに示すように、化合物のヒドロシリル化の間に、パーフルオロポリエーテル含有化合物から生成した異性体は、その末端にエチレン系不飽和基を含まない。むしろ、一般式Cにより示される異性体は、異性体自体の主鎖においてエチレン系不飽和基を含み、末端は、典型的には、一価のアルキル基である。特に、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物の間の反応は、典型的には、異性体減少剤の不存在下において、表面処理組成物の全量に基づいて、40モルより多い量で、あるいは、50モルより多い量で、あるいは、60モルより多い量で、得られる表面処理組成物中に存在し一般式Cにより表される異性体をもたらす。異性体のエチレン系不飽和基の位置に起因して、異性体はヒドロシランと即座に反応せず、異性体は、ポリフルオロポリエーテルシランと表面処理組成物を製造した後に表面処理組成物中に残る。異性体は、例えば、耐久性のような表面処理組成物の物理特性に望ましくない影響を与える。しかしながら、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシランを異性体減少剤の存在下で反応させる場合に、表面処理組成物が、望ましいポリフルオロポリエーテルシランのより多い量を有するように、生成した異性体の量が顕著に減少する。特に、パーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシランを異性体減少剤の存在下で反応させる場合に、一般式Cにより表される異性体は、表面処理組成物の全量に基づいて、40モル未満、あるいは、30モル未満、あるいは、25モル未満の量で、典型的には存在する。上記のように、本発明は、表面処理した物品を更に提供する。表面処理した物品は、表面を有する物品を含む。層は物品表面上に形成されている。層は本発明の表面処理組成物から作られている。物品は、任意の物品であってよい。しかしながら、本発明の表面処理組成物から得られる優れた物理特性に起因して、物品は、典型的には電子物品、光学物品、消費家電及び部品、自動車の本体及び部品などである。最も典型的には、物品は、指紋又は皮脂から得られる汚れ及び/又は汚染を減少することが望ましい物品である。電子物品の例は、例えば、LCDディスプレイ、LEDディスプレイ、OLEDディスプレイ、プラズマディスプレイなどの電子ディスプレイを有するそれらを典型的には含む。これらの電子ディスプレイは、例えば、コンピューターモニター、テレビ、スマートフォン、GPSユニット、音楽プレイヤー、遠隔制御、ポータブルリーダーのような様々な電子機器に頻繁に用いられている。例示的な電子物品例は、会話型タッチ-スクリーンディスプレイ、又は肌と頻繁に接触する他の部品、及びディスプレイの汚染及び/又は汚れをしばしばもたらす他の部品を有するそれらを含む。上記で説明されるように、物品は、例えば、消費家電及び部品のような金属物品であってもよい。例えば、物品は、食器洗浄機、ストーブ、電子レンジ、冷蔵庫、冷凍庫などであってよい。これらの実施形態において、消費家電及び部品は、例えば、ステンレス鋼、ブラッシュドニッケルなどの光沢金属外観を有するそれらである。あるいは、物品は、自動車の本体又は部品であってよい。例えば、表面処理組成物は、層を形成するように、自動車本体のトップコート上に直接適用でき、該層は、光沢外観を有する自動車本体をもたらし、審美的には魅力的であり、埃などのような汚れ、及び指紋からの汚染に侵されない。適切な光学物品の例は、例えば、ガラス板、無機層を含んでなるガラス板、セラミックなどの無機材料を含む。適切な光学物品の追加的な例は、例えば、透明プラスチック材料、及び無機層を含む透明プラスチック材料などの有機材料を含む。光学物品の具体例は、反射防止フィルム、光学フィルタ、光学レンズ、眼鏡レンズ、ビームスプリッタ、プリズム、鏡などを含む。無機材料の例は、ガラス板を含む。無機層を含むガラス板を形成するための無機化合物の例は、金属酸化物例えば、二酸化ケイ素、一酸化ケイ素などの酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、ITO酸化インジウム錫などを含む。このような無機化合物を含む無機層又は無機材料は、単層又は多層であってよい。無機層は、反射防止層として機能し、例えば、ウェットコーティング、PVD物理蒸着、CVD化学蒸着などの既知の方法により形成されてよい。ウェットコーティング法の例は、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティングなどの方法を含む。PVD法の例は、真空蒸着、反応性蒸着、イオンビームアシスト蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの方法を含む。有機材料のなかで、透明プラスチック材料の例は、様々な有機ポリマーを有する材料を含む。透明性、屈折率、多分散度、同様の光学特性、並びに耐衝撃性、耐熱性及び耐久性などの様々な他の特性を考慮すると、光学部材として用いられる材料は、ポリオレフィンポリエチレン、ポリプロピレンなど、ポリエステルポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど、ポリアミドナイロン6、ナイロン66など、ポリスチレン、塩化ポリビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、セルローストリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファンなど、又はこのような有機ポリマーのコポリマーを通常含む。これらの材料は、眼科用要素に用いてよいことを理解されたい。眼科用要素の例は、限定されるものではないが、矯正及び非矯正レンズを含み、二重焦点、三重焦点及び累進のレンズと同様の単焦点又は多焦点のレンズを含んでおり、該レンズは、セグメント化されてよく又はセグメント化されなくてよく、及び視覚を修正、保護又は向上するように用いる他の要素であってよく、限定なしに、接触レンズ、眼内レンズ、拡大レンズ及び保護的レンズ又はバイザーを含む。眼科用要素に好ましい材料は、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート及びポリカーボネートのコポリマー、ポリオレフィン、特に、ポリノルボルネン、CR39として知られるジエチレングリコール-ビスアリルカーボネートポリマー及びコポリマー、メタアクリルポリマー及びコポリマー、特に、ビスフェノールAから得られるメタアクリルポリマー及びコポリマー、チオメタアクリルポルマー及びコポリマー、ウレタン及びチオウレタンのポリマー及びコポリマー、エポキシポリマー及びコポリマー、及びエピスルフィドポリマー及びコポリマーから選択される1以上のポリマーを含む。このような光学物品に加えて、本発明の表面処理組成物は、例えば、自動車用又は航空機用窓部材などの他の物品上に層を形成するように適用でき、従って、進化した機能性をもたらす。表面硬度を更に改善するように、表面処理組成物及びTEOSテトラエトキシシランの組み合わせを用いて、所謂ゾル-ゲル処理により表面改質を行うことも可能である。本発明の表面処理組成物は、優れた撥液性を有し、従って、リソグラフィー及び機器形成に適用してよい。層を表面処理組成物のウェットコーティング法及び/又はドライコーティング法から作ってよい。ウェットコーティング法の具体例は、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングなどの方法を含む。ドライコーティング法の具体例は、真空蒸着、PVD、スパッタリング、CVDなどの方法を含む。真空蒸着法の具体例は、抵抗加熱、電子ビーム、高周波熱、イオンビームなどの方法を含む。CVD法の例は、プラズマCVD、光学CVD、熱CVDなどの方法を含む。特に、物品表面上に表面処理組成物を堆積して層を形成する方法は、ウェット又はドライコーティング法に限定されない。例えば、層は、大気圧プラズマ法又は真空蒸着法によるコーティングを用いて形成してよい。ウェットコーティング法を用いる場合に、希釈溶媒は、表面処理組成物に典型的に用いる。これらの希釈溶媒の具体例は、5~12の炭素原子を有するパーフルオロ脂肪族炭化水素、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、及びパーフルオロ-1,3-ジメチルシクロヘキサン;例えば、ビストリフルオロメチルベンゼンなどのポリフッ化芳香族炭化水素;ポリフッ化脂肪族炭化水素、パーフルオロブチルメチルエーテル及び同様のHEFなどを含む。このような溶媒は、単独で又は2以上の混合物として用いてよい。典型的には、複雑な形状及び/又は大きい面積を有する材料のためにウェットコーティング法を用いる。層を、表面処理組成物から物品表面上に形成する場合、層に、加熱、加湿、触媒後処理、光照射、電子ビーム照射などを更に付してよい。典型的には、表面処理組成物から形成される層の厚さは、1~5000nm、あるいは、1~200nm、あるいは、1~20nm、あるいは、1~10nmである。本発明のポリフルオロポリエーテルシランの製造方法を示す以下の例は、本発明を説明すること及び限定しないことが意図される。添付の特許請求の範囲は、詳細な説明に記載される特別の及び特定の化合物、組成物又は方法に限定されず、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内にあるいくつかの実施形態の間で変化してよいことを理解されたい。様々な実施形態の特定の特徴又は態様を記載するために本明細書に記載のマーカッシュ群に関して、異なる、特別な及び/又は予想されない結果が、全ての他のマーカッシュ要素から独立した個々のマーカッシュ群の各要素から得られることを理解されたい。マーカッシュ群の各要素は、個別に及び/又は組み合わせて用いてよく、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内におけるいくつかの実施形態のために適切なサポートを提供してよい。本発明の様々な実施形態を記載された任意の範囲及び部分的範囲は、また、独立して及び集合して、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内にあり、たとえ、このような値が本明細書に明確に記載されていない場合でも、全体の及び/又は部分の値を含む全ての範囲を記載及び意図するということを理解されたい。当業者は、列挙された範囲及び部分的範囲が、本発明の様々な実施形態を充分に記載し及び実施可能にし、このような範囲及び部分的範囲が、関連した半分、3分の1、4分の1及び5分の1などに更に区分けされてよいということを即座に理解する。ただ1つの例として、0.1~0.9の範囲が、下部3分の1、即ち、0.1~0.3、中部3分の1、即ち、0.4~0.6、及び上部3分の1、即ち、0.7~0.9に更に区分けされてよく、独立して及び集合して、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内にあり、独立して及び集合して用いてよく、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内にあるいくつかの実施形態のために適切なサポートを提供する。加えて、例えば、少なくとも、よりも多く、未満及び以下などのような範囲を規定又は修飾する用語に関して、このような用語は部分的範囲及び/又は上限値又は下限値を含むということを理解されたい。別の例として、少なくとも10の範囲は、少なくとも10~35の部分的範囲、少なくとも10~25の部分的範囲、及び25~35の部分的範囲などを本質的に含んでおり、それぞれの部分的範囲を、独立して及び/又は集合して用いてよく、特許請求の範囲の技術的範囲内におけるいくつかの実施形態のために適切なサポートを提供する。最後に、開示した範囲における独立した要素を用いてよく、特許請求の範囲の技術的範囲内におけるいくつかの実施形態のための適切なサポートを提供する。例えば、1~9の範囲は、様々な独立した整数、例えば、3、及び小数点又は分数を含む独立した数、例えば、4.1を含んでおり、それを用いてよく、及び特許請求の範囲の技術的範囲内におけるいくつかの実施形態のための適切なサポートを提供する。実施例1~6及び比較例1実施例1~6及び比較例1において、ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物を製造する1つの方法が記載され、ポリフルオロポリエーテルシランの加水分解性基はアルコキシ基である。以下に記載され表1に示されるように、実施例1~6及び比較例1は、異性体減少剤の相対量を除いて、同じである。従って、実施例1~6と比較例1について、以下に記載される方法を、異性体減少剤の有/無又は相対量を別にして、繰り返す。攪拌機、デジタル温度計、還流凝縮器及び乾燥窒素パージを備えた100mlの四つ口フラスコに、20g約4.9ミリモルのアルコキシ末端パーフルオロポリエーテル、15g11.1ミリモルのトリクロロシラン、10gの反応溶媒、及び異性体減少剤比較例1は除く。比較例1は異性体減少剤を含まなかった。を加え、反応混合物を作った。アルコキシ末端パーフルオロポリエーテルは、Mn=4110である一般式FxCF2CF2CH2OCH2CHCH2を有し、30モルの量で一般式Bにより表される含フッ素化合物を有した。アルコキシ末端パーフルオロポリエーテルに対して異性体減少剤の量を表1に示す。反応混合物を、150rpmで攪拌し、60°Cまで加熱した。0.5mgの白金4重量Ptと1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンの錯体を4時間に亘って60°Cで反応混合物に徐々に加えた。反応混合物を室温まで冷却した。反応溶媒及び残留トリクロロシランを真空ストリッピングにより除去した。次いで、オルトギ酸トリメチル30g283ミリモルとメタノール350mg111ミリモルの混合物をフラスコに入れた。フラスコの温度を65°Cで維持して、クロロシランのメトキシ化を促進した。7時間後に、反応混合物を30°Cまで冷却した。余分な反応剤及び生成した副生成物を真空ストリッピングにより除去した。0.1gの乾燥した活性炭をストリッピング残留物に追加して、室温で6時間に亘りエージングした。活性炭を濾過により除去し、21.0gの濾液を収集した。結果を以下に表1に示しており、ポリフルオロポリエーテルシラン、異性体化したパーフルオロポリエーテル化合物、及び一般式Bにより表される含フッ素化合物非反応性であるの相対量を有する。実施例1~6と比較例1において、少なくとも1つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物は、アリルオキシ末端パーフルオロポリエーテルと、一般式Bにより表される30モルの含フッ素化合物非反応性であるである。ヒドロシラン化合物はトリクロロシランである。異性体減少剤はシリル化カルボン酸化合物であり、ダウコーニングコーポレイションMidland、MI在から商標名DowCorning商標登録ETS900で市販されている。ヒドロシリル化触媒は、白金4重量Ptと、1,3-ジエテニル1-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンの錯体である。PFXにより表される反応溶媒はパーフルオロキシレンである。PFHにより表される反応溶媒はパーフルオロヘキサンである。HFEにより表される反応溶媒はn-パーフルオロプロピルエチルエーテルである。表1に明確に示されるように、実施例1~6は、比較例1よりもずっと大きな収率の特定のポリフルオロポリエーテルシランを有した。実施例1~6の表面処理組成物が、ポリフルオロポリエーテルシランのより大きな収率を有しただけでなく、これらの表面処理組成物は、極めて少ない異性化したパーフルオロポリエーテル化合物を有した。実施例1~6により得られるこれらの優れた結果は、異性体減少剤に起因しており、異性体減少剤は実施例1~6に用いられているが、比較例1に用いられていない。比較例1において、表面処理組成物は、約42モルの異性化したパーフルオロポリエーテル化合物一般式Cにより表される含フッ素化合物として上述されているを有した。対照的に、実施例1~6の表面処理組成物は、多くとも15.7モルの異性化したパーフルオロポリエーテル化合物を有した。実施例7及び比較例2実施例1~6及び比較例1で用いられたポリフルオロポリエーテルシランの製造方法を、実施例7及び比較例2で繰り返した。しかしながら、実施例7及び比較例2において、ヒドロシラン化合物は、実施例1~6及び比較例1の方法に用いるトリクロロシランではなく、トリメトキシシランである。そして、実施例7と比較例2において、用いられるヒドロシラン化合物が、アルコキシ加水分解性基を有するポリフルオロポリエーテルシランをもたらすので、クロロシランをメトキシ化する工程を行わない。実施例7において、用いるパーフルオロポリエーテル含有化合物の全量に対して0.2の異性体減少剤を用いた。比較例2において異性体減少剤は用いなかった。実施例7及び比較例2から得られた結果を以下に表2に示す。表2に明確に示すように、実施例7は、比較例2よりもずっと大きな収率の特定ポリフルオロポリエーテルシランを有した。実施例7の表面処理組成物がポリフルオロポリエーテルシランのより大きな収率を有しただけでなく、この表面処理組成物は、極めて少ない異性化したパーフルオロポリエーテル化合物を有した。実施例7により得られたこれらの優れた結果は、異性体減少剤に起因しており、異性体減少剤は、実施例7に用いられているが、比較例2には用いられていない。比較例2において、表面処理組成物は、42.5モルの異性化したパーフルオロポリエーテル化合物一般式Cにより表される含フッ素化合物として記載されているを有した。対照的に、実施例7の表面処理組成物は、12.7モルだけの異性化したパーフルオロポリエーテル化合物を有した。実施例8実施例1~6及び比較例1に用いるポリフルオロポリエーテルシランの製造方法を、実施例8でも繰り返した。しかしながら、実施例8におけるヒドロシリル化触媒は、アルミナ担持白金である。加えて、実施例8において、用いるパーフルオロポリエーテル含有化合物の量に対して0.4の異性体減少剤を用いる。また、実施例8から得られたポリフルオロポリエーテルシランはアルコキシ加水分解性基を含む。実施例8から得られた結果を以下に表3に示す。上記に、表3に明確に示すように、実施例8において、表面処理組成物におけるポリフルオロポリエーテルシランの収率は60.9モルであり、異性化したパーフルオロポリエーテル化合物は9.1モルの量でのみ表面処理組成物中に存在した。実施例9実施例1~6と比較例1に用いるポリフルオロポリエーテルシランの製造方法を、実施例9でも繰り返した。しかしながら、実施例9におけるヒドロシリル化触媒は、白金23重量Ptと1,3ージエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンの錯体であり、全部で0.003グラムであった。加えて、実施例9において、用いるパーフルオロポリエーテル含有化合物の量に対して0.2の異性体減少剤を用いた。アルコキシ加水分解性基を与えるメトキシ化の代わりに、トリクロロシランによるヒドロシリル化を行い、真空ストリッピングにより余分な反応剤及び反応溶媒を除去し、過剰のジメチルアミンによりポリフルオロポリエーテルトリクロロシランをアミノ化した。そのため、実施例9で作ったポリフルオロポリエーテルシランは、トリスジメチルアミノ加水分解性基を有した。実施例9で用いるアミノ化法を直下に記載する。攪拌機、温度計、ドライアイス還流濃縮器及び乾燥窒素ヘッドスペースパージを備えた250ミリリットルの三つ口フラスコに、75グラム約18ミリモルのトリクロロシリル末端のパーフルオロポリエーテル及び195グラムのパーフルオロヘキサン溶媒を追加した。無水のジメチルアミンアルドリッチケミカルカンパニーMilwaukee、WI在から市販されているを、40.2グラム約893ミリモル追加するまでヘッドスペースに供給し、フラスコの内容物を6°Cまで冷却した。フラスコを窒素ヘッドスペースパージ下で攪拌し、ドライアイスを還流濃縮機から気化させて、反応混合物を16時間に亘って周辺温度までゆっくりと暖めた。塩のスラリーを濾過して、濾液としてトリスジメチルアミノ官能性ポリフルオロポリエーテルシランを単離した。溶媒を真空ストリッピングにより除去した。実施例9から得られた結果を以下の表4に示す。上記の表4に明確に示すように、実施例9において、表面処理組成物におけるポリフルオロポリエーテルシランの収率は608モルであり、異性化したポリフルオロポリエーテル化合物は、9.2モルの量でのみ表面処理組成物中に存在した。材料の評価上記で形成した特定表面処理組成物から作った層の物理特性を測定する。実施例4と比較例1の表面処理組成物から作った層の物理特性を測定するように、ガラスをコロナ放電により予め洗浄した。0.14トールの圧力における真空チャンバーは、それぞれの表面処理組成物を含むルツボとガラス基材との両方を有する。ルツボ温度を90分で310°Cまで上昇させ、表面処理組成物を気化させた。コーティングしたガラス基材をチャンバーから取り出した後に、表面を微細繊維布により乾燥拭きした。実施例4と比較例1の表面処理組成物から作った層の接触角及び転落角を、協和界面科学株式会社から商標登録CADTで市販されている接触角計により測定した。特に、1ミクロリットルの水滴を用いて、接触角を測定し、20ミクロリットルの液滴の水を用いて、転落角を測定した。以下に表5に示すように、初期の水の接触角を測定し、ガラス表面をパーフルオロヘキサンにより洗浄し、接触角を再測定した。以下の表5において、相違は、2つの測定の間の差のことを言い、実施例4の表面処理組成物に関して表面の結合における改善を示す。以下の表6において、実施例4と比較例1の表面処理組成物から個別に作った層について、増加する摩耗サイクルの関数として、水転落角を測定した。これらの層は、上述した物理蒸着法により作った。処理したガラスを、登録商標BEMCOTM3IIでラビングした擦った。負荷は500g/cm2であった。上記の表6に明確に示すように、実施例4の表面処理組成物から作った層は、比較例1の表面処理組成物から作った層よりもずっと低い初期転落角を有した。更に、実施例4の表面処理組成物から作った層は、様々なラビングサイクルにおける転落角により明らかなように、比較例1の表面処理組成物から作った層に対して優れた耐久性を有した。本発明は、説明のために本明細書に記載されており、用いた専門用語は、限定するものではなくて、記載について用語の本質であることが意図されることを理解されたい。明らかに、本発明の多数の改良及び変形は上記の教示を考慮すると可能である。本発明は、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内において、具体的に記載されたものとは異なって実施できる。"