"第1基材と、前記第1基材上に形成された第1電極層と、前記第1電極層上に形成された第1配向膜とを有する第1配向処理基板、および、第2基材と、前記第2基材上に形成された第2電極層と、前記第2電極層上に形成された第2配向膜と、前記第2配向膜上に形成され、反応性液晶を固定化してなる反応性液晶層とを有する第2配向処理基板を、前記第1配向膜と前記反応性液晶層とが対向するように配置し、前記第1配向膜と前記反応性液晶層との間に強誘電性液晶を挟持してなる液晶表示素子であって、前記強誘電性液晶が単安定性を示すものであり、前記第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに、前記強誘電性液晶の分子方向が前記第1配向処理基板面に対して平行に前記強誘電性液晶のチルト角の約2倍変化することを特徴とする液晶表示素子。前記反応性液晶が、ネマチック相を発現するものであることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。前記反応性液晶が、重合性液晶モノマーを含有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液晶表示素子。前記重合性液晶モノマーが、モノアクリレートモノマーまたはジアクリレートモノマーであることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示素子。前記ジアクリレートモノマーが、下記式1で表される化合物であることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示素子。ここで、式中のZ31およびZ32は、各々独立して直接結合している-COO-、-OCO-、-O-、-CH2CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2COO-、-OCOCH2CH2-を表し、R31、R32およびR33は、各々独立して水素または炭素数1~5のアルキルを表し、kおよびmは0または1を表し、nは2~8の範囲内の整数を表す。前記ジアクリレートモノマーが、下記式2で表される化合物であることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示素子。ここで、式中のXは、水素、炭素数1~20のアルキル、炭素数1~20のアルケニル、炭素数1~20のアルキルオキシ、炭素数1~20のアルキルオキシカルボニル、ホルミル、炭素数1~20のアルキルカルボニル、炭素数1~20のアルキルカルボニルオキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロを表し、mは2~20の範囲内の整数を表す。前記第1配向膜および前記第2配向膜が、光配向膜であることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかに記載の液晶表示素子。前記光配向膜の構成材料が、光反応を生じることにより前記光配向膜に異方性を付与する光反応型の材料であり、または光異性化反応を生じることにより前記光配向膜に異方性を付与する光異性化反応性化合物を含む光異性化型の材料であることを特徴とする請求項7に記載の液晶表示素子。前記第1配向処理基板が、前記第1基材上に形成された薄膜トランジスタTFTを有するTFT基板であり、前記第2配向処理基板が、前記第2電極層が共通電極である共通電極基板であることを特徴とする請求項1から請求項8までのいずれかに記載の液晶表示素子。薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリックス方式により駆動させることを特徴とする請求項1から請求項9までのいずれかに記載の液晶表示素子。フィールドシーケンシャルカラー方式により駆動させるものであることを特徴とする請求項1から請求項10までのいずれかに記載の液晶表示素子。本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、単安定性を示す強誘電性液晶を用いた液晶表示素子において、強誘電性液晶の自発分極の向きを制御することが可能な液晶表示素子を提供することを主目的とする。本発明は、上記目的を達成するために、第1基材と、上記第1基材上に形成された第1電極層と、上記第1電極層上に形成された第1配向膜とを有する第1配向処理基板、および、第2基材と、上記第2基材上に形成された第2電極層と、上記第2電極層上に形成された第2配向膜と、上記第2配向膜上に形成され、反応性液晶を固定化してなる反応性液晶層とを有する第2配向処理基板を、上記第1配向膜と上記反応性液晶層とが対向するように配置し、上記第1配向膜と上記反応性液晶層との間に強誘電性液晶を挟持してなる液晶表示素子であって、上記強誘電性液晶が単安定性を示すものであり、上記第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに、上記強誘電性液晶の分子方向が上記第1配向処理基板面に対して平行に上記強誘電性液晶のチルト角の約2倍変化することを特徴とする液晶表示素子を提供する。本発明によれば、反応性液晶が第2配向膜により配向しており、反応性液晶層は強誘電性液晶を配向させる配向膜として機能する。また、反応性液晶は、強誘電性液晶と構造が比較的類似していることから、強誘電性液晶との相互作用が強く、配向膜のみを用いた場合よりも効果的に配向を制御することができる。したがって、上下の配向膜の一方に反応性液晶層を形成することにより、強誘電性液晶の配向の単安定化が可能である。さらに、反応性液晶層は、一般に液晶表示素子に用いられる配向膜、例えば光配向膜やラビング配向膜等に比べてプラスの極性が強い傾向にあると考えられる。このため、電圧無印加状態では、反応性液晶層側がプラス極性、第1配向膜側がマイナス極性となるので、強誘電性液晶の自発分極が第1配向膜側を向くようになる。したがって本発明においては、強誘電性液晶の自発分極の方向を制御することが可能である。本発明に用いられる強誘電性液晶は、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに、液晶分子の方向がチルト角の約2倍変化するものであるので、本発明の液晶表示素子をフィールドシーケンシャルカラー方式により駆動させた場合には、液晶分子の自発分極の方向が制御可能であることにより、上述した背景技術の欄に記載したような不具合を回避することができる。上記発明においては、上記反応性液晶がネマチック相を発現するものであることが好ましい。ネマチック相は、液晶相の中でも配向制御が比較的容易であるからである。また本発明においては、上記反応性液晶が重合性液晶モノマーを含有することが好ましい。重合性液晶モノマーは、他の重合性液晶材料、すなわち重合性液晶オリゴマーや重合性液晶ポリマーと比較して、より低温で配向が可能であり、かつ配向に際しての感度も高く、容易に配向させることができるからである。この際、上記重合性液晶モノマーが、モノアクリレートモノマーまたはジアクリレートモノマーであることが好ましい。モノアクリレートモノマーまたはジアクリレートモノマーは、配向状態を良好に維持したまま容易に重合させることができるからである。またこの際、上記ジアクリレートモノマーが、下記式1で表される化合物であることが好ましい。ここで、式中のZ31およびZ32は、各々独立して直接結合している-COO-、-OCO-、-O-、-CH2CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2COO-、-OCOCH2CH2-を表し、R31、R32およびR33は、各々独立して水素または炭素数1~5のアルキルを表し、kおよびmは0または1を表し、nは2~8の範囲内の整数を表す。さらに、上記ジアクリレートモノマーが、下記式2で表される化合物であることも好ましい。ここで、式中のXは、水素、炭素数1~20のアルキル、炭素数1~20のアルケニル、炭素数1~20のアルキルオキシ、炭素数1~20のアルキルオキシカルボニル、ホルミル、炭素数1~20のアルキルカルボニル、炭素数1~20のアルキルカルボニルオキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロを表し、mは2~20の範囲内の整数を表す。さらに本発明においては、上記第1配向膜および上記第2配向膜が、光配向膜であることが好ましい。光配向処理は非接触配向処理であることから静電気や塵の発生がなく、定量的な配向処理の制御ができるからである。この際、上記光配向膜の構成材料が、光反応を生じることにより上記光配向膜に異方性を付与する光反応型の材料であり、または光異性化反応を生じることにより上記光配向膜に異方性を付与する光異性化反応性化合物を含む光異性化型の材料であることが好ましい。光反応および光異性化反応を利用することにより、光配向膜への異方性の付与が容易になるからである。また本発明においては、上記第1配向処理基板が、上記第1基材上に形成された薄膜トランジスタTFTを有するTFT基板であり、上記第2配向処理基板が、上記第2電極層が共通電極である共通電極基板であることが好ましい。このような構成とすることにより、TFT素子のスイッチがオフのときにゲート電極付近で光漏れが発生するのを防ぐことができるからである。また本発明の液晶表示素子は、薄膜トランジスタTFTを用いたアクティブマトリックス方式により駆動させることが好ましい。TFT素子を用いたアクティブマトリックス方式を採用することにより、目的の画素を確実に点灯、消灯できるため高品質なディスプレイが可能となるからである。さらに本発明の液晶表示素子は、フィールドシーケンシャルカラー方式により駆動させるのに適している。上記強誘電性液晶は単安定性を示すので階調表示が可能であり、フィールドシーケンシャルカラー方式により駆動させることにより、低消費電力かつ低コストで、視野角が広く、明るく高精細なカラー動画表示を実現できる。本発明においては、反応性液晶層が第1配向膜よりもプラスの極性が強い傾向にあることを利用することにより、強誘電性液晶の自発分極の方向を制御することができるという効果を奏する。以下、本発明の液晶表示素子について、詳細に説明する。本発明の液晶表示素子は、第1基材と、上記第1基材上に形成された第1電極層と、上記第1電極層上に形成された第1配向膜とを有する第1配向処理基板、および、第2基材と、上記第2基材上に形成された第2電極層と、上記第2電極層上に形成された第2配向膜と、上記第2配向膜上に形成され、反応性液晶を固定化してなる反応性液晶層とを有する第2配向処理基板を、上記第1配向膜と上記反応性液晶層とが対向するように配置し、上記第1配向膜と上記反応性液晶層との間に強誘電性液晶を挟持してなる液晶表示素子であって、上記強誘電性液晶が単安定性を示すものであり、上記第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに、上記強誘電性液晶の分子方向が上記第1配向処理基板面に対して平行に上記強誘電性液晶のチルト角の約2倍変化することを特徴とするものである。本発明の液晶表示素子について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の液晶表示素子の一例を示す概略断面図である。図1に例示する液晶表示素子においては、第1基材1a上に第1電極層2aおよび第1配向膜3aが順に形成された第1配向処理基板11と、第2基材1b上に第2電極層2b、第2配向膜3bおよび反応性液晶層4が順に形成された第2配向処理基板12とが対向しており、第1配向処理基板11の第1配向膜3aと第2配向処理基板12の反応性液晶層4との間には強誘電性液晶が挟持され、液晶層5が構成されている。反応性液晶層4は第2配向膜3b上に形成されることから、反応性液晶層4を構成する反応性液晶は上記第2配向膜3bにより配向しており、この反応性液晶を例えば紫外線により重合させて反応性液晶の配向状態を固定化することにより反応性液晶層4が形成される。このように、反応性液晶層4は反応性液晶の配向状態が固定化されているものであるので、液晶層5を構成する強誘電性液晶を配向させる配向膜として機能する。さらに、反応性液晶層を構成する反応性液晶は、強誘電性液晶と構造が比較的類似していることから、強誘電性液晶との相互作用が強くなり、配向膜のみを用いた場合よりも効果的に配向を制御することができる。本発明に用いられる強誘電性液晶の配向状態の一例を図2に示す。一般に、強誘電性液晶を用いた液晶表示素子では、対向する2つの配向膜は、それぞれの配向処理方向が平行になるように配置される。よって、図2bに例示するように、電圧無印加状態では、液晶分子8は第1配向膜および第2配向膜反応性液晶層の配向処理方向dに沿って配向し、一様な配向状態となる。このように上下の配向膜の一方に反応性液晶層を形成することにより、配向欠陥が形成されることなく、強誘電性液晶の配向を単安定化させることができる。すなわち、強誘電性液晶は単安定性を示すのである。また、電界印加徐冷法によらずに、配向膜および反応性液晶層を用いて配向処理を行うものであるので、相転移温度以上に昇温してもその配向を維持し、配向欠陥の発生を抑制することができるという利点を有する。強誘電性液晶においては、図3に例示するように、液晶分子8が層法線zから傾いており、層法線zに垂直な底面を有する円錐コーンの稜線に沿って回転する。このような円錐コーンにおいて、液晶分子8の層法線zに対する傾き角をチルト角θという。なお、本発明において単安定性を示すとは、電圧無印加時の強誘電性液晶の状態がひとつの状態で安定化している状態をいう。具体的に説明すると、図3に示すように、液晶分子8は層法線zに対しチルト角±θだけ傾く二つの状態間をコーン上に動作することができるが、電圧無印加時に液晶分子8が上記コーン上のいずれかひとつの状態で安定化している状態をいう。また、本発明者らは、印加電圧の極性による強誘電性液晶の自発分極の向きについて調べるため、以下に示す実験を行った。まず、光配向膜と反応性液晶層との間に強誘電性液晶が挟持された液晶表示素子を作製した。光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされた2枚のガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。ホットプレートで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。さらに、片方のガラス基板に、アクリレートモノマーを含有する反応性液晶Rolictechnologies社製、商品名:ROF5101の2質量シクロペンタノン溶液を、回転数4000rpmで30秒スピンコーティングして積層し、55°Cで3分間乾燥させた後、無偏光紫外線を55°Cで1000mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。反応性液晶層側の電極層が負極になるように電圧を印加すると、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化した。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約75であった。また、光配向膜材料および反応性液晶の種類や組み合わせを変えて、上記と同様に光配向膜と反応性液晶層との間に強誘電性液晶が挟持された液晶表示素子を作製したところ、上記と同様の結果が得られた。次に、一対の光配向膜間に強誘電性液晶が挟持された液晶表示素子を作製した。光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされた2枚のガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。ホットプレートで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。片方の電極層が負極になるように電圧を印加すると、一部の強誘電性液晶の分子方向はチルト角の約2倍変化したが、一部の強誘電性液晶の分子方向は変化しなかった。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約50であった。また、光配向膜材料の種類や組み合わせを変えて、上記と同様に一対の光配向膜間に強誘電性液晶が挟持された液晶表示素子を作製したところ、上記と同様の結果が得られた。上述の実験の結果から、反応性液晶層は、光配向膜に比べてプラスの極性が強い傾向にあることがわかった。このように、反応性液晶層は、一般に液晶表示素子に用いられる配向膜、例えば光配向処理やラビング処理を施した配向膜等に比べてプラスの極性が強い傾向にあると考えられる。このため、図2aに例示するように、電圧無印加状態では、反応性液晶層4が第1配向膜3aよりもプラスの極性が強いので、液晶分子8の自発分極Psは第1配向膜3a側を向く。なお、液晶分子8の自発分極Psは、図4に示すように、矢印の先端がプラスの極性となっている。また、図2a中、第1配向処理基板の第1基材は省略しており、液晶層では液晶分子8のみを示している。図2bは、図2aの上面からの液晶分子の配向状態を示す模式図であり、液晶分子8の配向状態は一様で、その自発分極Psは紙面手前から奥方向に向いている図2b中の×印。本発明における電圧印加時の強誘電性液晶の配向状態の一例を図5に示す。図5aに例示するように、第1電極層2aが正極、第2電極層2bが負極-となるように電圧を印加すると、印加電圧の極性の影響により、液晶分子8の自発分極Psは反応性液晶層4側を向くようになる。なお、図5a中、第2配向処理基板の第2基材は省略しており、液晶層では液晶分子8のみを示している。図5bは、図5aの上面からの液晶分子の配向状態を示す模式図であり、液晶分子8の配向状態は一様で、その自発分極Psは紙面奥から手前方向に向いている図5b中の●印。さらに、第1電極層が負極-、第2電極層が正極となるように電圧を印加すると、印加電圧の極性の影響によって、図2aに例示するように、液晶分子8の自発分極Psは第1配向膜3a側を向くようになる。この場合、液晶分子は、電圧無印加状態と同様の配向状態になる図2b。電圧無印加状態あるいは第2電極層へのプラス極性の電圧印加状態図2から、第2電極層へのマイナス極性の電圧印加状態図5としたとき、この印加電圧のマイナスの極性と、液晶分子の自発分極のマイナス極性との反発によって、図4に例示するように、液晶分子8が角度約2θ回転する。すなわち、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに、強誘電性液晶の分子方向が、第1配向処理基板面に対して平行に、強誘電性液晶のチルト角θの約2倍変化するのである。このように本発明においては、反応性液晶層が第1配向膜よりもプラスの極性が強い傾向にあることを利用して、液晶分子の自発分極の方向を制御することが可能である。また、第2電極層が負極となるように電圧を印加したとき、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化するものが80以上存在することが好ましく、より好ましくは90以上、最も好ましくは95以上である。上記範囲であれば、良好なコントラスト比を得ることができるからである。なお、上記の比率は、次のようにして測定することができる。例えば図1に示すように、第1配向処理基板11および第2配向処理基板12の外側に偏光板6aおよび6bを設け、偏光板6a側から光が入射し、偏光板6b側から光が出射するものとする。2枚の偏光板6aおよび6bは、それぞれの偏光軸が略垂直に、かつ、偏光板6aの偏光軸と第1配向膜3aの配向処理方向液晶分子の配向方向とが略平行になるように配置されている。電圧無印加状態では、偏光板6aを透過した直線偏光と液晶分子の配向方向とが一致するため、液晶分子の屈折率異方性が発現されず、偏光板6aを透過した直線偏光はそのまま液晶分子を通過し、偏光板6bにより遮断され、暗状態となる。一方、電圧印加状態では、液晶分子がコーン上を移動し、偏光板6aを透過した直線偏光と液晶分子の配向方向とが所定の角度を持つようになるため、偏光板6aを透過した直線偏光は液晶分子の複屈折により楕円偏光となる。この楕円偏光のうち、偏光板6bの偏光軸と一致する直線偏光のみが偏光板6bを透過し、明状態となる。このため、第2電極層が負極となるように電圧を印加したとき、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化すると明状態が得られる。一方、第2電極層が負極となるように電圧を印加したとき、例えば強誘電性液晶の分子方向が変化しないものが部分的に存在する場合には、部分的に暗状態が得られる。したがって、電圧印加時に得られる白黒明暗表示の白黒の面積比から、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化するものの比率を算出することができる。本発明においては、上述の図1に例示するように、第1配向処理基板11および第2配向処理基板12の外側には偏光板6aおよび6bが設けられていてもよい。これにより入射光が直線偏光となり液晶分子の配向方向に偏光した光のみを透過させることができる。偏光板6aおよび6bは、偏光軸が90°ねじれて配置されている。これにより、電圧無印加状態と電圧印加状態とにおける液晶分子の光軸の方向や複屈折率の大きさを制御し、液晶分子を白黒シャッターとして用いることにより、明状態と暗状態とをつくることができる。例えば、電圧無印加状態では、偏光板6aの偏光軸を液晶分子の配向方向第1配向膜3aの配向処理方向と揃うように設置することにより、偏光板6aを透過した偏光は方向を90°回転することができず、偏光板6bにより遮断され、暗状態となる。これに対し、電圧印加状態では、液晶分子の配向方向が偏光板6aおよび6bの偏光軸に対し角度θ望ましくはθ=45°を持つようになるので、液晶分子により偏光の方向が回転して偏光板6bを透過し、明状態となる。このように本発明の液晶表示素子は、強誘電性液晶を白黒シャッターとして用いるものであるので、応答速度を速くすることができるという利点を有する。そして、印加電圧により透過光量を制御することにより階調表示が可能となる。このように偏光板が設けられた液晶表示素子においては、電圧無印加状態および第2電極層へのマイナス極性の電圧印加状態のときに暗状態、第2電極層へのプラス極性の電圧印加状態のときに明状態となる。したがって、液晶表示素子をフィールドシーケンシャルカラー方式により駆動した場合には、図6に例示するように、例えばG緑色のバックライトの点灯時にR赤色のバックライトに同期させた走査によって明状態となるのを回避することが可能である。なお、図6中の記号等については、図13に示した記号等と同様である。本発明の液晶表示素子は、薄膜トランジスタTFTを用いたアクティブマトリックス方式により駆動することができる。この場合、第1配向処理基板が、第1基材上に形成されたTFTを有するTFT基板であり、第2配向処理基板が、第2電極層が共通電極である共通電極基板であることが好ましい。図7にTFTを用いたアクティブマトリックス方式の液晶表示素子の一例を示す概略斜視図を示す。図7に例示する液晶表示素子20は、第1基材1a上にTFT素子25がマトリックス状に配置されたTFT基板第1配向処理基板21と、第2基材1b上に共通電極23が形成された共通電極基板第2配向処理基板22とを有するものである。共通電極基板第2配向処理基板22には、第2配向膜3b上に反応性液晶層4が形成されている。また、TFT基板第1配向処理基板21には、ゲート電極24x、ソース電極24yおよび画素電極24tが形成されている。ゲート電極24xおよびソース電極24yはそれぞれ縦横に配列しており、ゲート電極24xおよびソース電極24yに信号を加えることによりTFT素子25を作動させ、強誘電性液晶を駆動させることができる。ゲート電極24xおよびソース電極24yが交差した部分は、図示しないが絶縁層で絶縁されており、ゲート電極24xの信号とソース電極24yの信号とは独立に動作することができる。ゲート電極24xおよびソース電極24yにより囲まれた部分は、本発明の液晶表示素子を駆動する最小単位である画素であり、各画素には少なくとも1つ以上のTFT素子25および画素電極24tが形成されている。そして、ゲート電極およびソース電極に順次信号電圧を加えることにより、各画素のTFT素子を動作させることができる。なお、図7において、液晶層および第1配向膜は省略している。上記の液晶表示素子においては、例えばゲート電極を30V程度の高電位にするとTFT素子のスイッチがオンになり、ソース電極によって信号電圧が強誘電性液晶に加えられ、ゲート電極を-10V程度の低電位にするとTFT素子のスイッチがオフになる。スイッチオフ状態では、図8に例示するように、共通電極23およびゲート電極24x間には、共通電極23側が正になるように電圧が印加される。このスイッチオフ状態のとき、強誘電性液晶は動作しないので、その画素は暗状態となる。本発明においては、上述したように電圧無印加状態では、極性表面相互作用によって液晶分子の自発分極が第1配向処理基板側を向く。すなわち、スイッチオフ状態のとき、図8に例示するように、液晶分子8の自発分極PsがTFT基板第1配向処理基板21側を向く。したがって、自発分極の向きは、共通電極23およびゲート電極24x間に印加された電圧の影響を受けることがない。一方、例えば電圧無印加状態にて自発分極が共通電極基板第2配向処理基板側を向く場合には、スイッチオフ状態のときに共通電極およびゲート電極間に印加された電圧の影響によって、ゲート電極が設けられている領域付近で自発分極の向きが反転してしまう。そうすると、ゲート電極が設けられている領域付近では、スイッチがオフであるにもかかわらず、強誘電性液晶が動作して光漏れが生じる。これに対し、上述したように本発明においては、自発分極の向きは、共通電極およびゲート電極間に印加された電圧の影響を受けないので、光漏れが生じることがない。したがって本発明においては、自発分極の向きを制御し、反応性液晶層が形成された第2配向処理基板を共通電極基板とすることにより、ゲート電極付近の光漏れを防止することができる。以下、本発明の液晶表示素子の各構成部材について詳細に説明する。1.液晶層本発明に用いられる液晶層は、強誘電性液晶を反応性液晶層および第1配向膜の間に挟持させることにより構成されている。本発明に用いられる強誘電性液晶としては、単安定性を示すものであり、かつ、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに、強誘電性液晶の分子方向が第1配向処理基板面に対して平行に強誘電性液晶のチルト角の約2倍変化するものであれば、特に限定されるものでない。ここで、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに、強誘電性液晶の分子方向が第1配向処理基板面に対して強誘電性液晶のチルト角θの約2倍変化するとは、電圧無印加時に液晶分子がコーン上のひとつの状態で安定化しており、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに、液晶分子が単安定化状態からコーン上の一方の側に傾き、第2電極層が正極となるように電圧を印加したときに、液晶分子が、単安定化状態を維持するか、または単安定化状態から第2電極層が負極となるように電圧を印加したときとは逆側に傾き、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときの、液晶分子の単安定化状態からの傾斜角が、第2電極層が正極となるように電圧を印加したときの、液晶分子の単安定化状態からの傾斜角よりも大きいことをいう。図9は、単安定性を示す強誘電性液晶の配向状態の一例を示す模式図である。図9aは電圧無印加の場合、図9bは第2電極層が負極となるように電圧を印加した場合、図9cは第2電極層が正極となるように電圧を印加した場合をそれぞれ示す。電圧無印加の場合、液晶分子8は、コーン上のひとつの状態で安定化している図9a。第2電極層が負極となるように電圧を印加した場合、液晶分子8は、安定化している状態破線から一方の側に傾く図9b。また、第2電極層が正極となるように電圧を印加したときに、液晶分子8は、安定化している状態破線から第2電極層が負極となるように電圧を印加したときとは逆側に傾く図9c。このとき、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときの傾斜角δは、第2電極層が正極となるように電圧を印加したときの傾斜角ωよりも大きい。なお、図9において、dは配向処理方向、zは層法線を示す。第2電極層が負極となるように電圧を印加したとき、液晶分子は、印加電圧の大きさに応じた角度で、単安定化状態からコーン上の一方の側に傾く。また、強誘電性液晶においては、図9aに例示するように、位置A液晶分子8の方向と、位置B配向処理方向dと、位置Cとが、必ずしも一致するわけではない。そのため、図9bに例示するように、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときの最大の傾斜角δは、チルト角θの約2倍角度2θとなる。例えば図4に示すように、液晶分子8の方向は、第1配向処理基板面に対して平行に、チルト角θの約2倍角度2θ変化するのであるが、ここでチルト角θの約2倍変化するとは、2θ±5°変化する場合をいう。なお、上記角度は、次のようにして測定した値である。まず、偏光板をクロスニコルに配置した偏光顕微鏡および液晶表示素子を、一方の偏光板の偏光軸と液晶層の液晶分子の配向方向とが平行になるように配置し、この位置を基準とする。電圧を印加すると液晶分子が偏光軸と所定の角度を持つようになるため、一方の偏光板を透過した偏光が他方の偏光板を透過して明状態となる。この電圧を印加した状態で液晶表示素子を回転させ暗状態にする。そして、このときの液晶表示素子を回転させた角度を測定する。液晶表示素子を回転させた角度が、強誘電性液晶の分子方向が変化した角度である。上述したように、第2電極層が負極となるように電圧を印加したとき、液晶分子は、印加電圧の大きさに応じた角度で、単安定化状態からコーン上の一方の側に傾くので、実際に液晶表示素子を駆動している際、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに、液晶分子の方向がチルト角の約2倍変化するわけではない。このような強誘電性液晶として具体的には、例えば図10に示すような正負いずれかの電圧を印加したときにのみ液晶分子が動作する、half-Vshapedswitching以下、HV字型スイッチングと称する。特性を示す強誘電性液晶が用いられる。このようなHV字型スイッチング特性を示す強誘電性液晶を用いると、白黒シャッターとしての開口時間を十分に長くとることができ、これにより時間的に切り替えられる各色をより明るく表示することができ、明るいカラー表示の液晶表示素子を実現することができる。なお、本発明においてHV字型スイッチング特性とは、印加電圧に対する光透過率が非対称な電気光学特性をいう。強誘電性液晶の相系列は、カイラルスメクチックC相SmCを発現するものであれば特に限定されるものではない。例えば、相系列が、ネマチック相N-コレステリック相Ch-カイラルスメクチックC相SmCと相変化するもの、ネマチック相N-カイラルスメクチックC相SmCと相変化するもの、ネマチック相N-スメクチックA相SmA-カイラルスメクチックC相SmCと相変化するもの、ネマチック相N-コレステリック相Ch-スメクチックA相SmA-カイラルスメクチックC相SmCと相変化するもの、などを挙げることができる。一般に、図11下段に例示するようなSmA相を経由する相系列を有する強誘電性液晶は、相変化の過程において、スメクチック層の層間隔が縮まり、その体積変化を補償するためにスメクチック層が曲がったシェブロン構造を有し、この曲げの方向によって液晶分子の長軸方向が異なるドメインが形成され、その境界面にジグザグ欠陥やヘアピン欠陥と呼ばれる配向欠陥が発生しやすい。また一般に、図11上段に例示するようなSmA相を経由しない相系列を有する強誘電性液晶は、層法線方向の異なる二つの領域ダブルドメインが発生しやすい。本発明においては、このような配向欠陥を生じさせることなく、強誘電性液晶の配向を単安定化することができるのである。このような強誘電性液晶としては、一般に知られる液晶材料の中から要求特性に応じて種々選択することができる。特に、Ch相からSmA相を経由しないでSmC相を発現する液晶材料は、HV字型スイッチング特性を示すものとして好適である。具体的には、AZエレクトロニックマテリアルズ社製R2301が挙げられる。また、SmA相を経由する液晶材料としては、材料選択の幅が広いことから、Ch相からSmA相を経由してSmC相を発現するものが好ましい。この場合、SmC相を示す単一の液晶材料を用いることもできるが、低粘度でSmC相を示しやすいノンカイラルな液晶以下、ホスト液晶とする場合がある。に、それ自身ではSmC相を示さないが大きな自発分極と適当な螺旋ピッチを誘起する光学活性物質を少量添加することにより、上記のような相系列を示す液晶材料が、低粘度であり、より速い応答性を実現できることから好ましい。上記ホスト液晶としては、広い温度範囲でSmC相を示す材料であることが好ましく、一般に強誘電性液晶のホスト液晶として知られているものであれば特に限定されることなく使用することができる。例えば、下記一般式:Ra-Q1-X1-Q2-Y1m-Q3-Rb式中、RaおよびRbはそれぞれ、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルカノイルオキシ基またはアルコキシカルボニルオキシ基であり、Q1、Q2およびQ3はそれぞれ、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、ピリダジン-3,6-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基であり、これらの基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基等の置換基を有していてもよく、X1およびY1はそれぞれ、-COO-、-OCO-、-CH2O-、-OCH2-、-CH2CH2-、-C≡C-または単結合であり、mは0または1である。で表される化合物を使用することができる。ホスト液晶としては、上記化合物を1種単独でも2種以上を組み合わせて用いることもできる。上記ホスト液晶に添加する光学活性物質としては、自発分極が大きく、適当な螺旋ピッチを誘起する能力を持った材料であれば特に限定されるものではなく、一般にSmC相を示す液晶組成物に添加する材料として知られるものを使用することができる。特に少量の添加量で大きな自発分極を誘起できる材料であることが好ましい。このような光学活性物質としては、例えば、下記一般式:Rc-Q1-Za-Q2-Zb-Q3-Zc-Rd式中、Q1、Q2、Q3は上記一般式と同じ意味を表し、ZaおよびZbは-COO-、-OCO-、-CH2O-、-OCH2-、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH=N-、-N=N-、-N→O=N-、-C=OS-または単結合であり、Rcは不斉炭素原子を有していてもよい直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルカノイルオキシ基またはアルコキシカルボニルオキシ基であり、Rdは不斉炭素原子を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルカノイルオキシ基またはアルコキシカルボニルオキシ基であり、RcおよびRdはハロゲン原子、シアノ基、水酸基で置換されていてもよい。で表される化合物を使用することができる。光学活性物質としては、上記化合物を1種単独でも2種以上を組み合わせて用いることもできる。SmA相を経由する強誘電性液晶として、具体的には、AZエレクトロニックマテリアルズ社製FELIXM4851-100などが挙げられる。単安定性を示す強誘電性液晶を用いた液晶表示素子においては、透過率は、電圧を印加したときの液晶分子の傾斜角に依存する。正負いずれかの電圧を印加すると液晶分子がコーン上を傾くので、例えば図10に示すように印加電圧の大きさに応じて液晶分子の傾斜角が変化して透過率が変化する。このとき、液晶分子の単安定状態からの傾斜角が45°の場合に透過率が最大になる。したがって、高い透過率を実現するためには、実際の駆動時に第2電極層が負極となるように電圧を印加した場合に、液晶分子の単安定状態からの傾斜角が45°になり得る強誘電性液晶を用いることが好ましい。例えば、図9に示すような液晶分子の単安定状態からの最大の傾斜角δが45°よりも大きい強誘電性液晶を用いた場合には、実際に液晶表示素子を駆動している際、第2電極層が負極となるように電圧を印加したときに、液晶分子の単安定状態からの傾斜角を45°とすることができる。上述したように、実際の駆動時に第2電極層が負極となるように電圧を印加した場合に、液晶分子の方向がチルト角の約2倍変化するわけではないからである。また本発明においては、強誘電性液晶が単安定性を示すものであるので、薄膜トランジスタTFTを用いたアクティブマトリックス方式による駆動が可能になる。さらに、電圧変調により階調制御が可能になる。これにより、高精細で高品位の表示を実現することができる。上記強誘電性液晶で構成される液晶層の厚みは、1.2μm~3.0μmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは1.3μm~2.5μm、さらに好ましくは1.4μm~2.0μmの範囲内である。液晶層の厚みが薄すぎるとコントラストが低下するおそれがあり、逆に液晶層の厚みが厚すぎると強誘電性液晶が配向しにくくなる可能性があるからである。液晶層の形成方法としては、一般に液晶セルの作製方法として用いられる方法を使用することができる。例えば、あらかじめ第1配向処理基板および第2配向処理基板を作製した液晶セルに、上記強誘電性液晶を加温することにより等方性液体とし、キャピラリー効果を利用して注入し、接着剤で封鎖することにより液晶層を形成することができる。上記液晶層の厚みは、ビーズなどのスペーサーにより調整することができる。2.第2配向処理基板次に、本発明に用いられる第2配向処理基板について説明する。本発明における第2配向処理基板は、第2基材と、第2基材上に形成された第2電極層と、第2電極層上に形成された第2配向膜と、第2配向膜上に形成された反応性液晶層とを有するものである。以下、反応性液晶側基板の各構成について説明する。1反応性液晶層本発明に用いられる反応性液晶層は、第2配向膜上に形成され、反応性液晶を固定化してなるものである。反応性液晶は、第2配向膜により配向しており、例えば紫外線を照射して反応性液晶を重合させ、その配向状態を固定化することにより反応性液晶層が形成される。このように反応性液晶層は、反応性液晶の配向状態を固定化してなるものであるので、強誘電性液晶を配向させるための配向膜として機能する。また、反応性液晶は固定化されているため、温度等の影響を受けないという利点を有する。さらに、反応性液晶は、強誘電性液晶と構造が比較的類似しており、強誘電性液晶との相互作用が強くなるため、配向膜のみを用いた場合よりも効果的に強誘電性液晶の配向を制御することができる。本発明に用いられる反応性液晶としては、ネマチック相を発現するものであることが好ましい。ネマチック相は、液晶相の中でも配向制御が比較的容易であるからである。また、反応性液晶は、重合性液晶材料を含有することが好ましい。これにより、反応性液晶の配向状態を固定化することが可能になるからである。重合性液晶材料としては、重合性液晶モノマー、重合性液晶オリゴマー、および重合性液晶ポリマーのいずれかを用いることができるが、中でも、重合性液晶モノマーが好適に用いられる。重合性液晶モノマーは、他の重合性液晶材料、すなわち重合性液晶オリゴマーや重合性液晶ポリマーと比較して、より低温で配向が可能であり、かつ配向に際しての感度も高く、容易に配向させることができるからである。上記重合性液晶モノマーとしては、重合性官能基を有する液晶モノマーであれば特に限定されるものではなく、例えばモノアクリレートモノマー、ジアクリレートモノマー等が挙げられる。また、これらの重合性液晶モノマーは単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。モノアクリレートモノマーとしては、例えば下記式で表される化合物を例示することができる。上記式において、A、B、D、EおよびFはベンゼン、シクロヘキサンまたはピリミジンを表し、これらはハロゲン等の置換基を有していてもよい。また、AおよびB、あるいはDおよびEは、アセチレン基、メチレン基、エステル基等の結合基を介して結合していてもよい。M1およびM2は、水素原子、炭素数3~9のアルキル基、炭素数3~9のアルコキシカルボニル基、またはシアノ基のいずれであってもよい。さらに、分子鎖末端のアクリロイルオキシ基とAまたはDとは、炭素数3~6のアルキレン基等のスペーサーを介して結合していてもよい。ジアクリレートモノマーとしては、例えば下記式1に示す化合物を挙げることができる。上記式1において、Z31およびZ32は、各々独立して直接結合している-COO-、-OCO-、-O-、-CH2CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2COO-、-OCOCH2CH2-を表し、R31、R32およびR33は、各々独立して水素または炭素数1~5のアルキルを表す。また、kおよびmは0または1を表し、nは2~8の範囲内の整数を表す。R31、R32およびR33は、k=1の場合、各々独立して炭素数1~5のアルキルであり、k=0の場合、各々独立して水素または炭素数1~5のアルキルであることが好ましい。このR31、R32およびR33は、互いに同じであってもよい。また、上記式1で表される化合物の具体例としては、下記式に示す化合物を挙げることができる。上記式において、Z21およびZ22は、各々独立して直接結合している-COO-、-OCO-、-O-、-CH2CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2COO-、-OCOCH2CH2-を表す。また、mは0または1を表し、nは2~8の範囲内の整数を表す。また、ジアクリレートモノマーとしては、例えば下記式2および3に示す化合物を挙げることができる。上記式2および3において、XおよびYは、水素、炭素数1~20のアルキル、炭素数1~20のアルケニル、炭素数1~20のアルキルオキシ、炭素数1~20のアルキルオキシカルボニル、ホルミル、炭素数1~20のアルキルカルボニル、炭素数1~20のアルキルカルボニルオキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロを表す。また、mは2~20の範囲内の整数を表す。また、上記式2において、Xは、炭素数1~20のアルキルオキシカルボニル、メチルまたは塩素であることが好ましく、中でも炭素数1~20のアルキルオキシカルボニル、特にCH3CH24OCOであることが好ましい。本発明においては、上記の中でも、上記式1および2で表される化合物が好ましく用いられる。特に上記式1で表される化合物が好適である。具体的には、旭電化工業株式会社製のアデカキラコールPLC7183、アデカキラコールPLC7209などを挙げることができる。本発明においては、重合性液晶モノマーの中でも、ジアクリレートモノマーが好適である。ジアクリレートモノマーは、配向状態を良好に維持したまま容易に重合させることができるからである。上述した重合性液晶モノマーは、それ自体がネマチック相を発現するものでなくてもよい。これらの重合性液晶モノマーは、上述したように2種以上を混合して用いてもよいものであり、これらを混合した組成物すなわち反応性液晶が、ネマチック相を発現するものであればよいからである。さらに本発明においては、必要に応じて、上記反応性液晶に光重合開始剤や重合禁止剤等を添加してもよい。例えば、電子線照射により重合性液晶材料を重合させる際には、光重合開始剤が不要な場合はあるが、一般的に用いられている例えば紫外線照射による重合の場合においては、通常光重合開始剤が重合促進のために用いられるからである。本発明に用いることができる光重合開始剤としては、例えばベンジルビベンゾイルとも言う、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-ベンゾイル-4 ́-メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、2-n-ブトキシエチル-4-ジメチルアミノベンゾエート、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、3,3 ́-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン、1-4-ドデシルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン2,4-ジイソプロピルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン等を挙げることができる。なお、光重合開始剤の他に増感剤を、本発明の目的が損なわれない範囲で添加することも可能である。このような光重合開始剤の添加量としては、一般的には0.01~20質量、好ましくは0.1~10質量、より好ましくは0.5~5質量の範囲で上記反応性液晶に添加することができる。反応性液晶層の厚みは、目的とする異方性に応じて適宜調整されるものであり、例えば1nm~1000nmの範囲内で設定することができ、好ましくは3nm~100nmの範囲内である。反応性液晶層の厚みが厚すぎると必要以上の異方性が生じてしまい、また反応性液晶層の厚みが薄すぎると所定の異方性が得られない場合があるからである。次に、反応性液晶層の形成方法について説明する。反応性液晶層は、第2配向膜上に上記反応性液晶を含む反応性液晶層形成用塗工液を塗布し、配向処理を行い、上記反応性液晶の配向状態を固定化することにより形成することができる。また、反応性液晶層形成用塗工液を塗布するのではなく、ドライフィルム等を予め形成し、これを第2配向膜上に積層する方法も用いることができる。製造工程の簡便さの観点からは、反応性液晶を溶媒に溶解させて反応性液晶層形成用塗工液を調製し、これを第1配向膜上に塗布し、溶媒を除去する方法を用いることが好ましい。上記反応性液晶層形成用塗工液に用いる溶媒としては、上記反応性液晶等を溶解することができ、かつ第2配向膜の配向能を阻害しないものであれば特に限定されるものではない。例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、n-ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン等の炭化水素類;メトキシベンゼン、1,2-ジメトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2,4-ペンタンジオン等のケトン類;酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン等のエステル類;2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;t-ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類;フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセロソルブ類;などの1種または2種以上が使用可能である。また、単一種の溶媒を使用しただけでは、上記反応性液晶等の溶解性が不十分であったり、上述したように第2配向膜が侵食されたりする場合がある。この場合には、2種以上の溶媒を混合使用することにより、この不都合を回避することができる。上記の溶媒のなかにあって、単独溶媒として好ましいものは、炭化水素類およびグリコールモノエーテルアセテート系溶媒であり、混合溶媒として好ましいのは、エーテル類またはケトン類と、グリコール系溶媒との混合系である。反応性液晶層形成用塗工液の濃度は、反応性液晶の溶解性や、反応性液晶層の厚みに依存するため一概には規定できないが、通常は0.1~40質量、好ましくは1~20質量の範囲で調整される。反応性液晶層形成用塗工液の濃度が上記範囲より低いと、反応性液晶が配向しにくくなる場合があり、逆に反応性液晶層形成用塗工液の濃度が上記範囲より高いと、反応性液晶層形成用塗工液の粘度が高くなるので均一な塗膜を形成しにくくなる場合があるからである。さらに、上記反応性液晶層形成用塗工液には、本発明の目的を損なわない範囲内で、下記に示すような化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと1塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、メタアクリル酸を反応させて得られるポリエステルメタアクリレート;ポリオール基と2個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物にメタアクリル酸を反応させて得られるポリウレタンメタアクリレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、メタアクリル酸を反応させて得られるエポキシメタアクリレート等の光重合性化合物;アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物;などが挙げられる。上記反応性液晶に対するこれら化合物の添加量は、本発明の目的が損なわれない範囲で選択される。これらの化合物の添加により、反応性液晶の硬化性が向上し、得られる反応性液晶層の機械強度が増大し、またその安定性が改善される。このような反応性液晶層形成用塗工液を塗布する方法としては、例えばスピンコート法、ロールコート法、プリント法、ディップコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、ブレードコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、押し出しコート法等が挙げられる。また、上記反応性液晶層形成用塗工液を塗布した後は、溶媒を除去するのであるが、この溶媒の除去は、例えば、減圧除去もしくは加熱除去、さらにはこれらを組み合わせる方法等により行われる。本発明においては、上述したように塗布された反応性液晶を、第2配向膜により配向させて液晶規則性を有する状態とする。すなわち、反応性液晶にネマチック相を発現させる。これは、通常はN-I転移点以下で熱処理する方法等の方法により行われる。ここで、N-I転移点とは、液晶相から等方相へ転移する温度を示すものである。上述したように、反応性液晶は重合性液晶材料を有するものであり、このような重合性液晶材料の配向状態を固定化するには、重合を活性化する活性放射線を照射する方法が用いられる。ここでいう活性放射線とは、重合性液晶材料に対して重合を起こさせる能力がある放射線をいい、必要であれば重合性液晶材料内に光重合開始剤が含まれていてもよい。このような活性放射線としては、重合性液晶材料を重合させることが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光線が使用され、波長が150~500nm、好ましくは250~450nm、さらに好ましくは300~400nmの照射光が用いられる。本発明においては、光重合開始剤が紫外線でラジカルを発生し、重合性液晶材料がラジカル重合するような重合性液晶材料に対して、紫外線を活性放射線として照射する方法が好ましい方法であるといえる。活性放射線として紫外線を用いる方法は、既に確立された技術であることから、用いる光重合開始剤を含めて、本発明への応用が容易であるからである。この照射光の光源としては、低圧水銀ランプ殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト、高圧放電ランプ高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ショートアーク放電ランプ超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプなどが例示できる。なかでもメタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ等の使用が推奨される。また、照射強度は、反応性液晶の組成や光重合開始剤の多寡によって適宜調整されて照射される。このような活性照射線の照射は、上記重合性液晶材料が液晶相となる温度条件で行ってもよく、また液晶相となる温度より低い温度で行ってもよい。一旦液晶相となった重合性液晶材料は、その後温度を低下させても、配向状態が急に乱れることはないからである。なお、重合性液晶材料の配向状態を固定化する方法としては、上記の活性放射線を照射する方法以外にも、加熱して重合性液晶材料を重合させる方法も用いることができる。この場合に用いられる反応性液晶としては、反応性液晶のN-I転移点以下で、反応性液晶に含有される重合性液晶モノマーが熱重合するものであることが好ましい。2第2配向膜本発明に用いられる第2配向膜としては、上記反応性液晶を配向させることができ、さらに上記反応性液晶の配向状態を固定化する際に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではない。例えばラビング処理、光配向処理等を施したものを用いることができる。中でも、光配向処理を施した光配向膜を用いることが好ましい。光配向処理は非接触配向処理であることから静電気や塵の発生がなく、定量的な配向処理の制御ができる点で有用であるからである。以下、このような光配向膜について説明する。i光配向膜光配向膜は、後述する光配向膜の構成材料を塗布した基板に偏光を制御した光を照射し、光励起反応分解、異性化、二量化を生じさせて得られた膜に異方性を付与することによりその膜上の液晶分子を配向させるものである。本発明に用いられる光配向膜の構成材料は、光を照射して光励起反応を生じることにより、強誘電性液晶を配向させる効果光配列性:photoaligningを有するものであれば特に限定されるものではなく、このような材料としては、大きく、光反応を生じることにより光配向膜に異方性を付与する光反応型の材料と、光異性化反応を生じることにより光配向膜に異方性を付与する光異性化型の材料とに分けることができる。光配向膜の構成材料が光励起反応を生じる光の波長領域は、紫外光域の範囲内、すなわち10nm~400nmの範囲内であることが好ましく、250nm~380nmの範囲内であることがより好ましい。以下、光反応型の材料および光異性化型の材料について説明する。光反応型まず、光反応型の材料について説明する。上述したように、光反応型の材料とは、光反応を生じることにより光配向膜に異方性を付与する材料である。本発明に用いられる光反応型の材料としては、このような特性を有するものであれば特に限定されるものではないが、光二量化反応または光分解反応を生じることにより上記光配向膜に異方性を付与する材料であることが好ましい。ここで、光二量化反応とは、光照射により偏光方向に配向した反応部位がラジカル重合して分子2個が重合する反応をいい、この反応により偏光方向の配向を安定化し、光配向膜に異方性を付与することができるものである。また、光分解反応とは、光照射により偏光方向に配向したポリイミドなどの分子鎖を分解する反応をいい、この反応により偏光方向に垂直な方向に配向した分子鎖を残し、光配向膜に異方性を付与することができるものである。本発明においては、これらの光反応型の材料の中でも、露光感度が高く、材料選択の幅が広いことから、光二量化反応により光配向膜に異方性を付与する材料を用いることがより好ましい。このような光二量化反応を利用した光反応型の材料としては、光二量化反応により光配向膜に異方性を付与することができる材料であれば特に限定されるものではないが、ラジカル重合性の官能基を有し、かつ、偏光方向により吸収を異にする二色性を有する光二量化反応性化合物を含むことが好ましい。偏光方向に配向した反応部位をラジカル重合することにより、光二量化反応性化合物の配向が安定化し、光配向膜に容易に異方性を付与することができるからである。このような特性を有する光二量化反応性化合物としては、側鎖としてケイ皮酸エステル、クマリン、キノリン、カルコン基およびシンナモイル基から選ばれる少なくとも1種の反応部位を有する二量化反応性ポリマーを挙げることができる。これらの中でも光二量化反応性化合物としては、側鎖としてケイ皮酸エステル、クマリンまたはキノリンのいずれかを含む二量化反応性ポリマーであることが好ましい。偏光方向に配向したα、β不飽和ケトンの二重結合が反応部位となってラジカル重合することにより、光配向膜に容易に異方性を付与することができるからである。上記二量化反応性ポリマーの主鎖としては、ポリマー主鎖として一般に知られているものであれば特に限定されるものではないが、芳香族炭化水素基などの、上記側鎖の反応部位同士の相互作用を妨げるようなπ電子を多く含む置換基を有していないものであることが好ましい。上記二量化反応性ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されるものではないが、5,000~40,000の範囲内であることが好ましく、10,000~20,000の範囲内であることがより好ましい。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィGPC法により測定することができる。上記二量化反応性ポリマーの重量平均分子量が小さすぎると、光配向膜に適度な異方性を付与することができない場合がある。逆に、大きすぎると、光配向膜形成時の塗工液の粘度が高くなり、均一な塗膜を形成しにくい場合がある。二量化反応性ポリマーとしては、下記式で表される化合物を例示することができる。上記式において、M11およびM12は、それぞれ独立して、単重合体または共重合体の単量体単位を表す。例えば、エチレン、アクリレート、メタクリレート、2-クロロアクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、2-クロロアクリルアミド、スチレン誘導体、マレイン酸誘導体、シロキサンなどが挙げられる。M12としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メタクリレート、メチルメタクリレート、ヒドロキシアルキルアクリレートまたはヒドロキシアルキルメタクリレートであってもよい。xおよびyは、共重合体とした場合の各単量体単位のモル比を表すものであり、それぞれ、0<x≦1、0≦y<1であり、かつ、xy=1を満たす数である。nは4~30,000の整数を表す。D1およびD2は、スペーサー単位を表す。R1は-A1-Z1-B1z-Z2-で表される基であり、R2は-A1-Z1-B1z-Z3-で表される基である。ここで、A1およびB1は、それぞれ独立して、共有単結合、ピリジン-2,5-ジイル、ピリミジン-2,5-ジイル、1,4-シクロヘキシレン、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル、または置換基を有していてもよい1,4-フェニレンを表す。また、Z1およびZ2は、それぞれ独立して、共有単結合、-CH2-CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CONR-、-RNCO-、-COO-または-OOC-を表す。Rは、水素原子または低級アルキル基であり、Z3は、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数1~12のアルキルまたはアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲンである。zは、0~4の整数である。E1は、光二量化反応部位を表し、例えば、ケイ皮酸エステル、クマリン、キノリン、カルコン基、シンナモイル基などが挙げられる。jおよびkは、それぞれ独立して、0または1である。このような二量化反応性ポリマーとしては、具体的に下記式で表される化合物を挙げることができる。また、上記二量化反応性ポリマーとして、より具体的には下記式で表される化合物4~7を挙げることができる。本発明においては、光二量化反応性化合物として、上述した化合物の中から、要求特性に応じて光二量化反応部位や置換基を種々選択することができる。また、光二量化反応性化合物は、1種単独でも2種以上を組み合わせて用いることもできる。また、光二量化反応を利用した光反応型の材料としては、上記光二量化反応性化合物のほか、光配向膜の光配列性を妨げない範囲内で添加剤を含んでいてもよい。上記添加剤としては、重合開始剤、重合禁止剤などが挙げられる。重合開始剤または重合禁止剤は、一般に公知の化合物の中から、光二量化反応性化合物の種類によって適宜選択して用いればよい。重合開始剤または重合禁止剤の添加量は、光二量化反応性化合物に対し、0.001質量~20質量の範囲内であることが好ましく、0.1質量~5質量の範囲内であることがより好ましい。重合開始剤または重合禁止剤の添加量が小さすぎると重合が開始禁止されない場合があり、逆に大きすぎると、反応が阻害される場合があるからである。光分解反応を利用した光反応型の材料としては、例えば日産化学工業株製のポリイミドRN1199などを挙げることができる。光異性化型次に、光異性化型の材料について説明する。ここでいう光異性化型の材料とは、上述したように光異性化反応を生じることにより光配向膜に異方性を付与する材料であり、このような特性を有する材料であれば特に限定されるものではないが、光異性化反応を生じることにより上記光配向膜に異方性を付与する光異性化反応性化合物を含むものであることが好ましい。このような光異性化反応性化合物を含むことにより、光照射により、複数の異性体のうち安定な異性体が増加し、それにより光配向膜に容易に異方性を付与することができるからである。光異性化反応性化合物としては、上記のような特性を有する材料であれば特に限定されるものではないが、偏光方向により吸収を異にする二色性を有し、かつ、光照射により光異性化反応を生じるものであることが好ましい。このような特性を有する光異性化反応性化合物の偏光方向に配向した反応部位の異性化を生じさせることにより、上記光配向膜に容易に異方性を付与することができるからである。このような光異性化反応性化合物が生じる光異性化反応としては、シス-トランス異性化反応であることが好ましい。光照射によりシス体またはトランス体のいずれかの異性体が増加し、それにより光配向膜に異方性を付与することができるからである。このような光異性化反応性化合物としては、単分子化合物、または、光もしくは熱により重合する重合性モノマーを挙げることができる。これらは用いられる強誘電性液晶の種類に応じて適宜選択すればよいが、光照射により光配向膜に異方性を付与した後、ポリマー化することにより、その異方性を安定化することができることから、重合性モノマーを用いることが好ましい。このような重合性モノマーの中でも、光配向膜に異方性を付与した後、その異方性を良好な状態に維持したまま容易にポリマー化できることから、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマーであることが好ましい。上記重合性モノマーは、単官能のモノマーであっても、多官能のモノマーであってもよいが、ポリマー化による光配向膜の異方性がより安定なものとなることから、2官能のモノマーであることが好ましい。このような光異性化反応性化合物としては、具体的には、アゾベンゼン骨格やスチルベン骨格などのシス-トランス異性化反応性骨格を有する化合物を挙げることができる。この場合に、分子内に含まれるシス-トランス異性化反応性骨格の数は、1つであっても2つ以上であってもよいが、強誘電性液晶の配向制御が容易となることから、2つであることが好ましい。上記シス-トランス異性化反応性骨格は、液晶分子との相互作用をより高めるために置換基を有していてもよい。置換基は、液晶分子との相互作用を高めることができ、かつ、シス-トランス異性化反応性骨格の配向を妨げないものであれば特に限定されるものではなく、例えば、カルボキシル基、スルホン酸ナトリウム基、水酸基などが挙げられる。これらの構造は、用いられる強誘電性液晶の種類に応じて、適宜選択することができる。また、光異性化反応性化合物としては、分子内にシス-トランス異性化反応性骨格以外にも、液晶分子との相互作用をより高められるように、芳香族炭化水素基などのπ電子が多く含まれる基を有していてもよく、シス-トランス異性化反応性骨格と芳香族炭化水素基は、結合基を介して結合していてもよい。結合基は、液晶分子との相互作用を高められるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、-COO-、-OCO-、-O-、-C≡C-、-CH2-CH2-、-CH2O-、-OCH2-などが挙げられる。なお、光異性化反応性化合物として、重合性モノマーを用いる場合には、上記シス-トランス異性化反応性骨格を、側鎖として有していることが好ましい。上記シス-トランス異性化反応性骨格を側鎖として有していることにより、光配向膜に付与される異方性の効果がより大きなものとなり、強誘電性液晶の配向制御に特に適したものとなるからである。この場合に、前述した分子内に含まれる芳香族炭化水素基や結合基は、液晶分子との相互作用が高められるように、シス-トランス異性化反応性骨格と共に、側鎖に含まれていることが好ましい。また、上記重合性モノマーの側鎖には、シス-トランス異性化反応性骨格が配向しやすくなるように、アルキレン基などの脂肪族炭化水素基をスペーサーとして有していてもよい。上述したような単分子化合物または重合性モノマーの光異性化反応性化合物の中でも、本発明に用いられる光異性化反応性化合物としては、分子内にアゾベンゼン骨格を有する化合物であることが好ましい。アゾベンゼン骨格は、π電子を多く含むため、液晶分子との相互作用が高く、強誘電性液晶の配向制御に特に適しているからである。以下、アゾベンゼン骨格が光異性化反応を生じることにより光配向膜に異方性を付与できる理由について説明する。まず、アゾベンゼン骨格に、直線偏光紫外光を照射すると、下記式に示されるように、分子長軸が偏光方向に配向しているトランス体のアゾベンゼン骨格が、シス体に変化する。アゾベンゼン骨格のシス体は、トランス体に比べて化学的に不安定であるため、熱的にまたは可視光を吸収してトランス体に戻るが、このとき、上記式の左のトランス体になるか右のトランス体になるかは同じ確率で起こる。そのため、紫外光を吸収し続けると、右側のトランス体の割合が増加し、アゾベンゼン骨格の平均配向方向は紫外光の偏光方向に対して垂直になる。本発明においては、この現象を利用することにより、アゾベンゼン骨格の配向方向を揃え、光配向膜に異方性を付与し、その膜上の液晶分子の配向を制御することができるのである。このような分子内にアゾベンゼン骨格を有する化合物のうち、単分子化合物としては、例えば、下記式で表される化合物を挙げることができる。上記式中、R41は各々独立して、ヒドロキシ基を表す。R42は-A41-B41-A41m-D41n-で表される連結基を表し、R43はD41n-A41-B41-A41m-で表される連結基を表す。ここで、A41は二価の炭化水素基を表し、B41は-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NHCO-、-NHCOO-または-OCONH-を表し、mは0~3の整数を表す。D41は、mが0のとき二価の炭化水素基を表し、mが1~3の整数のとき-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NHCO-、-NHCOO-または-OCONH-を表し、nは0または1を表す。R44は各々独立して、ハロゲン原子、カルボキシ基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基またはメトキシカルボニル基を表す。ただし、カルボキシ基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。R45は各々独立して、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、アミノ基またはヒドロキシ基を表す。ただし、カルボキシ基またはスルホ基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。上記式で表される化合物の具体例としては、下記の化合物を挙げることができる。なお、従来、上記式に示すようなアゾベンゼン骨格を有する単分子化合物は、液晶分子に対する配向規制力が高いため、光配向膜の構成材料として有用であるが、安定性に欠けるという問題点から光配向膜の材料として用いることが困難であった。本発明おいては、上記反応性液晶層を構成する反応性液晶が、アゾベンゼン骨格を有する単分子化合物を安定化させることができるため、光配向膜上に上記反応性液晶層を積層することにより、光配向膜の構成材料としてアゾベンゼン骨格を有する単分子化合物を安定的に用いることができる。また、上記アゾベンゼン骨格を側鎖として有する重合性モノマーとしては、例えば、下記式で表される化合物を挙げることができる。上記式中、R51は各々独立して、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリルアミド基、ビニルオキシ基、ビニルオキシカルボニル基、ビニルイミノカルボニル基、ビニルイミノカルボニルオキシ基、ビニル基、イソプロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシカルボニル基、イソプロペニルイミノカルボニル基、イソプロペニルイミノカルボニルオキシ基、イソプロペニル基またはエポキシ基を表す。R52は-A51-B51-A51m-D51n-で表される連結基を表し、R53はD51n-A51-B51-A51m-で表される連結基を表す。ここで、A51は二価の炭化水素基を表し、B51は-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NHCO-、-NHCOO-または-OCONH-を表し、mは0~3の整数を表す。D51は、mが0のとき二価の炭化水素基を表し、mが1~3の整数のとき-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NHCO-、-NHCOO-または-OCONH-を表し、nは0または1を表す。R54は各々独立して、ハロゲン原子、カルボキシ基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基またはメトキシカルボニル基を表す。ただし、カルボキシ基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。R55は各々独立して、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、アミノ基またはヒドロキシ基を表す。ただし、カルボキシ基またはスルホ基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。上記式で表される化合物の具体例としては、下記の化合物を挙げることができる。本発明においては、このような光異性化反応性化合物の中から、要求特性に応じて、シス-トランス異性化反応性骨格や置換基を種々選択することができる。なお、これらの光異性化反応性化合物は、1種単独でも2種以上を組み合わせて用いることもできる。本発明に用いられる光異性化型の材料としては、上記光異性化反応性化合物のほか、光配向膜の光配列性を妨げない範囲内で添加剤を含んでいてもよい。上記光異性化反応性化合物として重合性モノマーを用いる場合には、添加剤としては、重合開始剤、重合禁止剤などが挙げられる。重合開始剤または重合禁止剤は、一般に公知の化合物の中から、光異性化反応性化合物の種類によって適宜選択して用いればよい。重合開始剤または重合禁止剤の添加量は、光異性化反応性化合物に対し、0.001質量~20質量の範囲内であることが好ましく、0.1質量~5質量の範囲内であることがより好ましい。重合開始剤または重合禁止剤の添加量が小さすぎると重合が開始禁止されない場合があり、逆に大きすぎると、反応が阻害される場合があるからである。光配向処理方法次に、光配向処理方法について説明する。まず、第2電極層が設けられた第2基材の液晶層と対向する面上に、上述の光配向膜の構成材料を有機溶剤で希釈した塗工液を塗布し、乾燥させる。この場合に、塗工液中の光二量化反応性化合物または光異性化反応性化合物の含有量は、0.05質量~10質量の範囲内であることが好ましく、0.2質量~2質量の範囲内であることがより好ましい。含有量が上記範囲より少ないと、配向膜に適度な異方性を付与することが困難となり、逆に含有量が上記範囲より多いと、塗工液の粘度が高くなるので均一な塗膜を形成しにくくなるからである。塗布法としては、例えばスピンコート法、ロールコート法、ロッドバーコート法、スプレーコート法、エアナイフコート法、スロットダイコート法、ワイヤーバーコート法などを用いることができる。上記構成材料を塗布することにより得られる膜の厚みは、1nm~1000nmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは3nm~100nmの範囲内である。膜の厚みが上記範囲より薄いと十分な光配列性を得ることができない可能性があり、逆に厚みが上記範囲より厚いとコスト的に不利になる場合があるからである。得られた膜は、偏光を制御した光を照射することにより、光励起反応を生じさせて異方性を付与することができる。照射する光の波長領域は、用いられる光配向膜の構成材料に応じて適宜選択すればよいが、紫外光域の範囲内、すなわち100nm~400nmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは250nm~380nmの範囲内である。また、偏光方向は、上記光励起反応を生じさせることができるものであれば特に限定されるものではない。さらに、光配向膜の構成材料として、上記の光異性化反応性化合物の中でも重合性モノマーを用いた場合には、光配向処理を行った後、加熱することにより、ポリマー化し、光配向膜に付与された異方性を安定化することができる。3第2基材本発明に用いられる第2基材は、一般に液晶表示素子の基材として用いられるものであれば特に限定されるものではなく、例えばガラス板、プラスチック板などが好ましく挙げられる。4第2電極層本発明に用いられる第2電極層は、一般に液晶表示素子の電極として用いられているものであれば特に限定されるものではないが、第1配向処理基板および第2配向処理基板の電極層のうち少なくとも一方が透明導電体で形成されることが好ましい。透明導電体材料としては、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫ITO等が好ましく挙げられる。本発明の液晶表示素子を、TFTを用いたアクティブマトリックス方式の液晶表示素子とする場合には、第1配向処理基板および第2配向処理基板の電極層のうち、一方を上記透明導電体で形成される全面共通電極とし、他方にはゲート電極とソース電極をマトリックス状に配列し、ゲート電極とソース電極で囲まれた部分にTFT素子および画素電極を配置する。第2電極層は、第2基材上に例えば化学蒸着CVD法や、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等の物理蒸着PVD法などにより透明導電膜を形成することができ、これをマトリックス状にパターニングすることによりゲート電極およびソース電極を形成することができる。5着色層本発明においては、第2基材と第2電極層との間に着色層が形成されていてもよい。着色層が形成されている場合には、着色層によりカラー表示を実現することができる。この着色層は、第2配向処理基板における第2基材と第2電極層との間に形成されていてもよく、あるいは、後述する第1配向処理基板における第1基材と第1電極層との間に形成されていてもよい。本発明に用いられる着色層としては、一般にカラーフィルタの着色層として用いられるものであれば特に限定されるものではない。着色層には、例えば、通常の顔料分散法等に用いられる赤、青、または緑の顔料を含有する感光性樹脂組成物を用いることができる。3.第1配向処理基板本発明に用いられる第1配向処理基板は、第1基材と、第1基材上に形成された第1電極層と、第1電極層上に形成された第1配向膜とを有するものである。なお、第1基材、第1電極層および第1配向膜については、上記第2配向処理基板の第2基材、第2電極層および第2配向膜とそれぞれ同様であるため、ここでの説明は省略する。4.偏光板本発明に用いられる偏光板は、光の波動のうち特定方向のみを透過させるものであれば特に限定されるものではなく、一般に液晶表示素子の偏光板として用いられているものを使用することができる。5.液晶表示素子の駆動方法本発明の液晶表示素子は、強誘電性液晶の高速応答性を利用することができるので、1画素を時間分割し、良好な動画表示特性を得るために高速応答性を特に必要とするフィールドシーケンシャルカラー方式による駆動が適している。本発明によれば、フィールドシーケンシャルカラー方式により駆動させた場合の不具合を回避することが可能である。また、本発明の液晶表示素子の駆動方法は、フィールドシーケンシャル方式に限定されるものではなく、上記着色層を用いてカラー表示を行ってもよい。本発明の液晶表示素子は、薄膜トランジスタTFTを用いたアクティブマトリックス方式により駆動させることが好ましい。TFT素子を用いたアクティブマトリックス方式を採用することにより、目的の画素を確実に点灯、消灯できるため高品質なディスプレイが可能となるからである。また、セグメント方式による駆動も可能である。6.液晶表示素子の製造方法次に、本発明の液晶表示素子の製造方法について説明する。本発明の液晶表示素子は、液晶表示素子の製造方法として一般に用いられる方法により製造することができる。以下、本発明の液晶表示素子の製造方法の一例として、TFT素子を用いたアクティブマトリックス方式の液晶表示素子の製造方法について説明する。まず、第2基材上に真空蒸着法により透明導電膜を形成し、全面共通電極とする。さらに、共通電極上に光配向膜材料を塗布し、光配向処理を施して第2配向膜を形成する。この第2配向膜上に反応性液晶層形成用塗工液を塗布し、反応性液晶を配向させて固定化することにより反応性液晶層を形成し、第2配向処理基板とする。また、第1基材上には、透明導電膜をマトリックス上にパターニングすることによりゲート電極およびソース電極を形成し、TFT素子および画素電極を設置する。さらに、ゲート電極、ソース電極、TFT素子および画素電極上に光配向膜材料を塗布し、光配向処理を施して第1配向膜を形成し、第1配向処理基板とする。次いで、第1配向処理基板の第1配向膜上にスペーサーとしてビーズを分散させ、周囲にシール剤を塗布して第2配向処理基板の反応性液晶層と第1配向処理基板の第1配向膜とが対向するように貼り合わせ、熱圧着させる。そして、注入口からキャピラリー効果を利用して強誘電性液晶を等方性液体の状態で注入し、注入口を紫外線硬化樹脂等により封鎖する。その後、強誘電性液晶は徐冷することにより配向させることができる。このようにして得られた液晶セルの上下に偏光板を貼り付けることにより本発明の液晶表示素子を得ることができる。なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。[実施例1]光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされた2枚のガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。ホットプレートで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。さらに、片方のガラス基板に、アクリレートモノマーを含有する反応性液晶Rolictechnologies社製、商品名:ROF5101の2質量シクロペンタノン溶液を、回転数4000rpmで30秒スピンコーティングして積層し、55°Cで3分間乾燥させた後、無偏光紫外線を55°Cで1000mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。反応性液晶層側の電極層が負極になるように電圧を印加すると、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化した。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約75であった。[比較例1]光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされた2枚のガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。ホットプレートで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。片方の電極層が負極になるように電圧を印加すると、一部の強誘電性液晶の分子方向はチルト角の約2倍変化したが、一部の強誘電性液晶の分子方向は変化しなかった。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約50であった。[実施例2]光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP102の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされた2枚のガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。ホットプレートで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。さらに、片方のガラス基板に、アクリレートモノマーを含有する反応性液晶Rolictechnologies社製、商品名:ROF5101の2質量シクロペンタノン溶液を、回転数4000rpmで30秒スピンコーティングして積層し、55°Cで3分間乾燥させた後、無偏光紫外線を55°Cで1000mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。反応性液晶層側の電極層が負極になるように電圧を印加すると、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化した。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約80であった。[比較例2]光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP102の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされた2枚のガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。ホットプレートで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。片方の電極層が負極になるように電圧を印加すると、一部の強誘電性液晶の分子方向はチルト角の約2倍変化したが、一部の強誘電性液晶の分子方向は変化しなかった。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約50であった。[実施例3]光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP102の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされたガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。また、光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされたガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。両方の基板をホットプレートで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。さらに、光配向膜材料ROP102をコーティングした基板に、アクリレートモノマーを含有する反応性液晶Rolictechnologies社製、商品名:ROF5101の2質量シクロペンタノン溶液を、回転数4000rpmで30秒スピンコーティングして積層し、55°Cで3分間乾燥させた後、無偏光紫外線を55°Cで1000mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。反応性液晶層側の電極層が負極になるように電圧を印加すると、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化した。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約80であった。[実施例4]光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP102の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされたガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。また、光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされたガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。両方の基板をホットプレートで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。さらに、光配向膜材料ROP102をコーティングした基板に、アクリレートモノマーを含有する反応性液晶Rolictechnologies社製、商品名:ROF5102の2質量シクロペンタノン溶液を、回転数4000rpmで30秒スピンコーティングして積層し、55°Cで3分間乾燥させた後、無偏光紫外線を55°Cで1000mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。反応性液晶層側の電極層が負極になるように電圧を印加すると、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化した。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約88であった。[実施例5]光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP102の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされたガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。また、光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされたガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。両方の基板をホットプレートで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。さらに、光配向膜材料ROP103をコーティングした基板に、アクリレートモノマーを含有する反応性液晶Rolictechnologies社製、商品名:ROF5101の2質量シクロペンタノン溶液を、回転数4000rpmで30秒スピンコーティングして積層し、55°Cで3分間乾燥させた後、無偏光紫外線を55°Cで1000mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。反応性液晶層側の電極層が負極になるように電圧を印加すると、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化した。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約99.7であった。[実施例6]光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP102の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされたガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。また、光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされたガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。両方の基板をホットプレートで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。さらに、光配向膜材料ROP103をコーティングした基板に、アクリレートモノマーを含有する反応性液晶Rolictechnologies社製、商品名:ROF5102の2質量シクロペンタノン溶液を、回転数4000rpmで30秒スピンコーティングして積層し、55°Cで3分間乾燥させた後、無偏光紫外線を55°Cで1000mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。反応性液晶層側の電極層が負極になるように電圧を印加すると、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化した。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約92.8であった。[実施例7]反応性液晶層の液晶材料としては、下記式で表される化合物Aを用いた。光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされた2枚のガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。オーブンで180°C、10分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。さらに、片方の基板に、シクロペンタノンに溶解した2質量の化合物Aの溶液を、回転数4000rpmで30秒スピンコーティングして積層し、55°Cで3分間乾燥させた後、無偏光紫外線を55°Cで1000mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。反応性液晶層側の電極層が負極になるように電圧を印加すると、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化した。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約90であった。[実施例8]光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされた2枚のガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。オーブンで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。さらに、片方の基板に、アクリレートモノマーを含有する反応性液晶旭電化工業株式会社製、商品名:アデカキラコールPLC7209の2質量シクロペンタノン溶液を、回転数4000rpmで30秒スピンコーティングして積層し、55°Cで3分間乾燥させた後、無偏光紫外線を55°Cで1000mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。反応性液晶層側の電極層が負極になるように電圧を印加すると、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化した。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約90であった。[実施例9]光二量化反応型の光配向膜材料Rolictechnologies社製、商品名:ROP103の2質量シクロペンタノン溶液を、ITOでコーティングされた2枚のガラス基板に回転数4000rpmで30秒スピンコーティングした。オーブンで130°C、15分間乾燥させた後、偏光紫外線を25°Cで100mJ/cm2露光した。さらに、片方の基板に、アクリレートモノマーを含有する反応性液晶旭電化工業株式会社製、商品名:アデカキラコールPLC7183の2質量シクロペンタノン溶液を、回転数4000rpmで30秒スピンコーティングして積層し、55°Cで3分間乾燥させた後、無偏光紫外線を55°Cで1000mJ/cm2露光した。その後、片方の基板に1.5μmのスペーサーを散布し、もう片方の基板にシール材をシールディスペンサーで塗布した。基板を偏光紫外線照射方向と平行の状態に組み立て、熱圧着を行った。強誘電性液晶はR2301AZエレクトロニックマテリアルズ社製を用い、注入口上部に強誘電性液晶を付着し、オーブンを用いて、ネマチック相-等方相転移温度より10°C~20°C高い温度で注入を行いゆっくりと常温に戻した。反応性液晶層側の電極層が負極になるように電圧を印加すると、強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化した。強誘電性液晶の分子方向がチルト角の約2倍変化したものは全体の約95であった。"