"下記一般式で表される含窒素芳香族化合物。から選ばれる原子または基を示し、Yは、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Zは直接結合または、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、R20は含窒素複素環基を示す。qは1~5の整数を示し、pは0~4の整数を示す。含窒素複素環基がピロール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、ピリジン、イミダゾール、イミダゾリン、ピラゾール、1,3,5-トリアジン、ピリミジン、ピリタジン、ピラジン、インドール、キノリン、イソキノリン、ブリン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラゾール、テトラジン、トリアゾール、カルバゾール、アクリジン、キノキサリン、キナゾリンから選ばれる含窒素複素環化合物およびこれらの誘導体からなる群から選ばれる化合物から誘導される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の含窒素芳香族化合物。下記一般式で表される化合物と含窒素複素環化合物とを反応させることを特徴とする請求項1記載の含窒素芳香族化合物の製造方法。から選ばれる原子または基を示し、Yは、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、qは1~5の整数を示し、pは0~4の整数を示し、Xはハロゲン原子を示す主鎖がポリフェニレン構造であり、スルホン酸基を有する側鎖と含窒素複素環基を有する側鎖とを有する構造を含むことを特徴とする重合体。含窒素複素環基を有する側鎖が下記一般式Dで表される構造であることを特徴とする請求項4に記載の重合体。式中、Zは直接結合または、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Yは、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-lは1~10の整数である、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、R20は含窒素複素環基を示す。qは1~5の整数を示し、pは0~4の整数を示す。前記含窒素複素環基がピロール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、ピリジン、イミダゾール、イミダゾリン、ピラゾール、1,3,5-トリアジン、ピリミジン、ピリタジン、ピラジン、インドール、キノリン、イソキノリン、ブリン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラゾール、テトラジン、トリアゾール、カルバゾール、アクリジン、キノキサリン、キナゾリンからなる含窒素複素環化合物およびこれらの誘導体からなる群から選ばれる化合物から誘導される少なくとも1種の基であることを特徴とする請求項4または5に記載の重合体。スルホン酸基を有する側鎖が下記一般式Eで合わされる請求項4記載の重合体。l-、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Z1は直接結合または、-l-、-C2-、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Arは-SO3Hまたは-OhSO3Hまたは-OhSO3Hhは1~12の整数で表される置換基を有する芳香族基を示す。mは0~10の整数を示し、nは0~10の整数を示し、kは1~4の整数を示す。下記一般式Cで表される繰り返し構造単位および下記一般式で表される繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項4に記載の重合体。式中、Zは直接結合または、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Yは、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-lは1~10の整数である、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、R20は含窒素複素環基を示す。qは1~5の整数を示し、pは0~4の整数を示す。l-、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Z1は直接結合または、-l-、-C2-、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Arは-SO3Hまたは-OhSO3Hまたは-OhSO3Hhは1~12の整数で表される置換基を有する芳香族基を示す。mは0~10の整数を示し、nは0~10の整数を示し、kは1~4の整数を示す。さらに下記一般式Bで表される構造を有することを特徴とする請求項8に記載の重合体。式中、A、Dは独立に直接結合または、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-lは1~10の整数である、-l-lは1~10の整数である、-CR2-Rは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基およびハロゲン化炭化水素基を示す、シクロヘキシリデン基、フルオレニリデン基、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Bは独立に酸素原子または硫黄原子であり、R1~R16は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、一部またはすべてがハロゲン化されたハロゲン化アルキル基、アリル基、アリール基、ニトロ基、ニトリル基からなる群より選ばれた少なくとも1種の原子または基を示す。s、tは0~4の整数を示し、rは0または1以上の整数を示す。請求項4~9いずれかに記載の重合体からなるプロトン伝導膜。しかしながら、従来より使用されていたスルホン酸基を有するポリマーからなるプロトン伝導膜では、高温下ではスルホン酸基の可逆的な脱離反応やスルホン酸が関与する架橋反応が発生することがあった。これにより、プロトン伝導性が低下したり、膜の脆化等が生じたりして、燃料電池の発電出力の低下や、膜が破断することにより発電不能に至る問題があった。また、このような問題をできるだけ回避するために、現状、燃料電池発電時の上限温度を限定し使用しており、発電出力に制限があった。このため、従来と同様にプロトン伝導性を具備するとともに、耐熱性にも優れたプロトン伝導膜を提供しうるポリマーが望まれており、そのためには、このようなポリマーの原料であるモノマーを開発することが求められていた。本発明者らは、上記問題点を鑑み鋭意検討した結果、スルホン酸基を含有する重合体に、含窒素複素環式芳香族基を導入しておくことで、高温条件下でのスルホン酸基の安定性を向上させ、上記問題を解決しうることを見出した。そしてこのようなポリマーの原料となるモノマーとして、特定の化合物を使用すれば前記課題をいずれも解消するとともに、また他のモノマーと共重合しやすく、また、プロトン伝導性も低下することがないことを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は以下のように構成される。11下記一般式で表される含窒素芳香族化合物。から選ばれる原子または基を示し、Yは、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Zは直接結合または、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、R20は含窒素複素環基を示す。qは1~5の整数を示し、pは0~4の整数を示す。12含窒素複素環基がピロール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、ピリジン、イミダゾール、イミダゾリン、ピラゾール、1,3,5-トリアジン、ピリミジン、ピリタジン、ピラジン、インドール、キノリン、イソキノリン、ブリン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラゾール、テトラジン、トリアゾール、カルバゾール、アクリジン、キノキサリン、キナゾリンから選ばれる含窒素複素環化合物およびこれらの誘導体からなる群から選ばれる化合物から誘導される少なくとも1種である11の含窒素芳香族化合物。13下記一般式で表される化合物と含窒素複素環化合物とを反応させることを特徴とする11の含窒素芳香族化合物の製造方法。から選ばれる原子または基を示し、Yは、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、qは1~5の整数を示し、pは0~4の整数を示し、Xはハロゲン原子を示す。21主鎖がポリフェニレン構造であり、スルホン酸基を有する側鎖と含窒素複素環基を有する側鎖とを有する構造を含むことを特徴とする重合体。22含窒素複素環基を有する側鎖が下記一般式Dで表される構造である21の重合体。式中、Zは直接結合または、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Yは、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-lは1~10の整数である、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、R20は含窒素複素環基を示す。qは1~5の整数を示し、pは0~4の整数を示す。23前記含窒素複素環基がピロール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、ピリジン、イミダゾール、イミダゾリン、ピラゾール、135-トリアジン、ピリミジン、ピリタジン、ピラジン、インドール、キノリン、イソキノリン、ブリン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラゾール、テトラジン、トリアゾール、カルバゾール、アクリジン、キノキサリン、キナゾリンからなる含窒素複素環化合物およびこれらの誘導体からなる群から選ばれる化合物から誘導される少なくとも1種の基である21または22の重合体。24スルホン酸基を有する側鎖が下記一般式Eで表される21の重合体。l-、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Z1は直接結合または、-l-、-C2-、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Arは-SO3Hまたは-OhSO3Hまたは-OhSO3Hhは1~12の整数で表される置換基を有する芳香族基を示す。mは0~10の整数を示し、nは0~10の整数を示し、kは1~4の整数を示す。25下記一般式Cで表される繰り返し構造単位および下記一般式で表される繰り返し単位を含む21の重合体。式中、Zは直接結合または、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Yは、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-lは1~10の整数である、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、R20は含窒素複素環基を示す。qは1~5の整数を示し、pは0~4の整数を示す。l-、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Z1は直接結合または、-l-、-C2-、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Arは-SO3Hまたは-OhSO3Hまたは-OhSO3Hhは1~12の整数で表される置換基を有する芳香族基を示す。mは0~10の整数を示し、nは0~10の整数を示し、kは1~4の整数を示す。26さらに下記一般式Bで表される構造を有することを特徴とする25の重合体。式中、A、Dは独立に直接結合または、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-lは1~10の整数である、-l-lは1~10の整数である、-CR2-Rは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基およびハロゲン化炭化水素基を示す、シクロヘキシリデン基、フルオレニリデン基、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Bは独立に酸素原子または硫黄原子であり、R1~R16は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、一部またはすべてがハロゲン化されたハロゲン化アルキル基、アリル基、アリール基、ニトロ基、ニトリル基からなる群より選ばれた少なくとも1種の原子または基を示す。s、tは0~4の整数を示し、rは0または1以上の整数を示す。2721~26の重合体からなるプロトン伝導膜。本発明によれば、プロトン伝導膜として使用されるスルホン酸基を有するポリアリーレンに、含窒素複素環式芳香族基を効率的に導入することが可能となる。本発明によれば、本来、耐熱水性が高く、高いスルホン酸濃度を有し、優れたプロトン伝導性を示す重合体中に、含窒素複素環式芳香族基を導入することで、プロトン伝導性を損なうことなく、高温下で高いスルホン酸の安定性を有するプロトン伝導膜が得られる。このため、燃料電池用のプロトン伝導膜に使用した際は、広範囲な温度、湿度、特に高温下でも発電可能になり、発電出力を向上することができる。また、高温下で使用しても、スルホン酸基が高い安定性を有することから、電池寿命を大幅に向上させた燃料電池を得ることができる。以下、本発明を実施するための最良の形態について説明する。含窒素芳香族化合物本発明に係る含窒素芳香族化合物は、下記一般式で表される。Xはフッ素を除くハロゲン原子、-OSO2Rbから選ばれる原子または基を示す。Yは、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示す。好ましくは、-CO-、-SO2-であり、より好ましくは-CO-である。Zは直接結合または、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示す。好ましくは、直接結合または、-O-である。R20は含窒素複素環基を示す。具体的には、ピロール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、ピリジン、イミダゾール、イミダゾリン、ピラゾール、1,3,5-トリアジン、ピリミジン、ピリタジン、ピラジン、インドール、キノリン、イソキノリン、ブリン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラゾール、テトラジン、トリアゾール、カルバゾール、アクリジン、キノキサリン、キナゾリンからなる含窒素複素環化合物およびこれらの誘導体の炭素または窒素に結合する水素原子が引き抜かれてなる構造の基である。これらの含窒素複素環基は、さらにメチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基、フェニル基、トルイル基、ナフチル基等のアリール基、シアノ基、フッ素原子などの置換基を有していてもよい。qは1~5の整数を示し、好ましくは、1または2である。pは0~4の整数を示し、好ましくは、0または1である。一般式で表される含窒素芳香族化合物の具体例として、下記の化合物を挙げることができる。本発明の化合物には、さらに、塩素原子が臭素原子に置き換わった化合物、塩素原子や臭素原子の結合位置の異なる異性体を挙げることができる。また-CO-結合が、-SO2-結合に置き換わった化合物を挙げることができる。本発明の含窒素芳香族化合物を合成する方法として、例えば以下のような方法を挙げることができる。下記一般式で表される化合物と、含窒素複素環化合物とを、求核置換反応させる。式中、X、Y、pおよびqは、一般式で示した定義と同一である。Xはハロゲン原子を示す。フッ素原子または塩素原子であることが好ましく、フッ素原子がより好ましい。一般式で表される化合物の具体例としては、2,4-ジクロロ-4-フルオロベンゾフェノン、2,5-ジクロロ-4-フルオロベンゾフェノン、2,6-ジクロロ-4-フルオロベンゾフェノン、2,4-ジクロロ-2-フルオロベンゾフェノン、2,5-ジクロロ-2-フルオロベンゾフェノン、2,6-ジクロロ-2-フルオロベンゾフェノン、2,4-ジクロロフェニル-4-フルオロフェニルスルホン、2,5-ジクロロフェニル-4-フルオロフェニルスルホン、2,6-ジクロロフェニル-4-フルオロフェニルスルホン、2,4-ジクロロフェニル-2-フルオロフェニルスルホン、2,4-ジクロロフェニル-2-フルオロフェニルスルホン、2,4-ジクロロフェニル-2-フルオロフェニルスルホンなどが挙げられる。これらの化合物のうち2,5-ジクロロ-4-フルオロベンゾフェノンが好ましい。含窒素複素環化合物は、活性水素を有するものであり、この活性水素と一般式で表される化合物のXで表される基を置換反応させる。活性水素を有する含窒素複素環化合物としては、ピロール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、ピリジン、イミダゾール、イミダゾリン、ピラゾール、1,3,5-トリアジン、ピリミジン、ピリタジン、ピラジン、インドール、キノリン、イソキノリン、ブリン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラゾール、テトラジン、トリアゾール、カルバゾール、アクリジン、キノキサリン、キナゾリン、2-ヒドロキシピリジン、3-ヒドロキシピリジン、4-ヒドロキシピリジン、3-ヒドロキシキノリン、8-ヒドロキシキノリン、2-ヒドロキシピリミジン、2-メルカプトピリジン、3-メルカプトピリジン、4-メルカプトピリジン、2-メルカプトピリミジン、2-メルカプトベンズチアゾールなどを挙げることができる。たとえば、ヒドロキシ基、メルカプト基を有するものは、酸素、硫黄原子に結合した水素が活性水素となり、-O-、-S-結合を介して、含窒素複素環を導入する。また、含窒素複素環の窒素原子に結合した水素原子、複素環の窒素以外の原子に結合した水素原子も活性水素となるので、この場合、含窒素複素環との間に直接結合を生じて、含窒素複素環が導入される。これらの化合物のうち、ピロール、イミダゾール、インドール、カルバゾール、ベンズオキサゾール、ベンズイミダゾールが好ましい。一般式で表される化合物と活性水素を有する含窒素複素環化合物との反応は、有機溶媒中で行うことが好ましい。N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、スルホラン、ジフェニルスルホン、ジメチルスルホキシドなどの極性溶媒を用いる。反応を促進するために、アルカリ金属、水素化アルカリ金属、水酸化アルカリ金属、アルカリ金属炭酸塩などを用いる。一般式で表される化合物と、活性水素を有する含窒素複素環化合物との比率は、等モルもしくは活性水素を有する含窒素複素環化合物を過剰に加えて反応させる。具体的には、活性水素を有する含窒素複素環化合物は一般式で表される化合物の1~3倍モル、特に1~1.5倍モル使用することが好ましい。反応温度は0°C~300°Cで、10°C~200°Cが好ましい。反応時間は15分~100時間、好ましくは1時間~24時間である。生成物は再結晶などの方法で精製して用いることが好ましい。本発明の含窒素芳香族化合物は、単量体の一成分として重合することができ、具体的には、ポリフェニレン、ポリアリーレン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホンなどのモノマーとして有用である。重合体本発明の重合体は、主鎖がポリフェニレン構造であり、スルホン酸基を有する側鎖と含窒素複素環基を有する側鎖とを有する構造を含むものである。主鎖となるポリフェニレン構造とは、下記のような構造を示し、側鎖とは、下記構造における置換基R2を示すものである。側鎖本発明においては、含窒素複素環基を有する側鎖は下記一般式Dで表される。式中、Z、Y、R20、pは式1と同じである。すなわち、Dは直接結合または、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、Yは、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-lは1~10の整数である、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示し、好ましくは-CO-である。R20は含窒素複素環基を示す。含窒素複素環基としては、ピロール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、ピリジン、イミダゾール、イミダゾリン、ピラゾール、1,3,5-トリアジン、ピリミジン、ピリタジン、ピラジン、インドール、キノリン、イソキノリン、ブリン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラゾール、テトラジン、トリアゾール、カルバゾール、アクリジン、キノキサリン、キナゾリンからなる含窒素複素環化合物およびこれらの誘導体の炭素または窒素に結合する水素原子が引き抜かれてなる構造の基である。これらの含窒素複素環基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基、フェニル基、トルイル基、ナフチル基等のアリール基、シアノ基、フッ素原子などがあげられる。qは1~5の整数を示し、好ましくは、1または2である。pは0~4の整数を示し、好ましくは、0または1である。また、スルホン酸基を有する側鎖は、下記一般式Eで表される。一般式Eにおいて、Y1は-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-lは1~10の整数である、-C2-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示す。このうち、-CO-、-SO2-が好ましい。Z1は直接結合または、-l-lは1~10の整数である、-C2-、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示す。このうち直接結合、-O-が好ましい。Arは-SO3Hまたは-OhSO3Hまたは-OhSO3Hで表される置換基hは1~12の整数を示すを有する芳香族基を示す。芳香族基として具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基などが挙げられる。これらの基のうち、フェニル基、ナフチル基が好ましい。芳香族基は前記した-SO3Hまたは-OhSO3Hまたは-OhSO3Hで表される置換基で、少なくとも1個置換されていることが必要であり、ナフチル基である場合には2個以上置換していることが好ましい。mは0~10、好ましくは0~2の整数であり、nは0~10、好ましくは0~2の整数であり、kは1~4の整数を示す。m、nの値とY、Z、Arの構造についての好ましい組み合わせとして、1m=0、n=0であり、Y1は-CO-であり、Arが置換基として-SO3Hを有するフェニル基である構造、2m=1、n=0であり、Y1は-CO-であり、Z1は-O-であり、Arが置換基として-SO3Hを有するフェニル基である構造、3m=1、n=1、k=1であり、Y1は-CO-であり、Z1は-O-であり、Arが置換基として-SO3Hを有するフェニル基である構造、4m=1、n=0であり、Y1は-CO-であり、Z1は-O-であり、Arが置換基として2個の-SO3Hを有するナフチル基である構造、5m=1、n=0であり、Y1は-CO-であり、Z1は-O-であり、Arが置換基として-O4SO3Hを有するフェニル基である構造などを挙げることができる。なお、側鎖DおよびEのY1およびZ1は、同一のものであって異なるものであってもよい。重合体本発明の重合体は、下記一般式CおよびAで表される繰り返し単位を含む。一般式Cにおいて、Y、Z、R20、q、pは、一般式Dで説明したものと同様である。一般式Aにおいて、Y1、Z1、Ar、m、n、kについは前記式Eと同一である。さらに重合体は、下記一般式Bで表される繰り返し単位を有していることが好ましい。一般式Bにおいて、A、Dは独立に直接結合または、-CO-、-SO2-、-SO-、-CONH-、-COO-、-l-lは1~10の整数である、-l-lは1~10の整数である、-CR2-Rは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基およびハロゲン化炭化水素基を示す、シクロヘキシリデン基、フルオレニリデン基、-O-、-S-からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を示す。ここで、-CR2-で表される構造の具体的な例として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、プロピル基、オクチル基、デシル基、オクタデシル基、フェニル基、トリフルオロメチル基などが挙げられる。これらのうち、直接結合または、-CO-、-SO2-、-CR2-Rは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基およびハロゲン化炭化水素基を示す、シクロヘキシリデン基、フルオレニリデン基、-O-が好ましい。Bは独立に酸素原子または硫黄原子であり、酸素原子が好ましい。R1~R16は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、一部またはすべてがハロゲン化されたハロゲン化アルキル基、アリル基、アリール基、ニトロ基、ニトリル基からなる群より選ばれた少なくとも1種の原子または基を示す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基などが挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基などが挙げられる。アリル基としては、プロペニル基などが挙げられ、アリール基としては、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基などが挙げられる。s、tは0~4の整数を示す。rは0または1以上の整数を示し、上限は通常100、好ましくは1~80である。s、tの値と、A、B、D、R1~R16の構造についての好ましい組み合わせとしては、1s=1、t=1であり、Aが-CR2-Rは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基およびハロゲン化炭化水素基を示す、シクロヘキシリデン基、フルオレニリデン基であり、Bが酸素原子であり、Dが-CO-または、-SO2-であり、R1~R16が水素原子またはフッ素原子である構造、2s=1、t=0であり、Bが酸素原子であり、Dが-CO-または、-SO2-であり、R1~R16が水素原子またはフッ素原子である構造、3s=0、t=1であり、Aが-CR2-Rは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基およびハロゲン化炭化水素基を示す、シクロヘキシリデン基、フルオレニリデン基、Bが酸素原子であり、R1~R16が水素原子またはフッ素原子またはニトリル基である構造が挙げられる。本発明に使用される重合体は、上記一般式で表されるスルホン酸基を有する繰り返し単位と、上記一般式で表されるスルホン酸基を有さない繰り返し単位疎水性ユニットと、上記一般式で表される含窒素複素環基を含むことが特徴であり、下記一般式で表される重合体である。一般式Fにおいて、A、B、D、Y、Z、Y1、Z1、Ar、k、m、n、p、q、r、s、t、R20およびR1~R16は、それぞれ上記一般式A、B、C中のA、B、D、Y、Z、Y1、Z1、Ar、R20、k、m、n、p、q、r、s、tおよびR1~R16と同義である。x、y、zはxyz=100モルとした場合のモル比を示す。本発明の重合体は、式Aで表される繰り返し構成単位すなわちxのユニットを0.5~99.9モル、好ましくは10~99.5モルの割合で、式Cで表される繰り返し構成単位すなわちzのユニットを0.1~99.5モル、好ましくは0.5~89.5モルを含有している。式Bで表される繰り返し構成単位すなわちyのユニットは、任意であり、AとC以外の残りがBに相当し、含まれている場合には、99.4~0.01モル、好ましくは89.5~0.5モルの割合であることが望ましい。また、式Aで表される繰り返し構成単位すなわちxのユニットに対する、式Cで表される繰り返し構成単位すなわちzのユニットの割合は、0.001モル~50モルであり、好ましくは、0.1モル~30モルであり、さらに好ましくは、1モル~25モルである。本発明に係る重合体のイオン交換容量は通常0.3~5meq/g、好ましくは0.5~3meq/g、さらに好ましくは0.8~2.8meq/gである。0.3meq/g未満では、プロトン伝導度が低く発電性能が低い。一方、5meq/gを超えると、耐水性が大幅に低下してしまうことがあるため好ましくない。上記のイオン交換容量は、構造単位A、構成単位および構成単位の種類、使用割合、組み合わせを変えることにより、調整することができる。したがって重合時に構成単位A~Cを誘導する前駆体モノマーオリゴマーの仕込み量比、種類を変えれば調整することができる。概して構造単位Aが多くなるとイオン交換容量が増え、プロトン伝導性が高くなるが、耐水性が低下する。一方、構造単位Aが少なくなると、イオン交換容量が小さくなり、耐水性が高まるが、プロトン伝導性が低下する。構造単位Cを含んでいると、高温条件下でのスルホン酸基の安定性が向上し、その結果耐熱性が向上する。含窒素複素環式芳香族化合物の窒素原子は、塩基性を有するため、スルホン酸基との間でイオン的な相互作用を形成する。これによって、スルホン酸基の安定性を高め、高温条件下でのスルホン酸基の脱離が抑制される。また、同様に高温条件下でスルホン酸基に由来するポリマー分子間の架橋反応をも抑制することができる。含窒素複素環式芳香族化合物は、プロトン伝導性を損なわず、これらの効果を発現できる適度な強さの塩基性を有する化合物である。構成単位Bは任意成分であり、重合体中のAおよびC成分を除いた残りが構成単位Bの量に相当する。また、Bが含まれていなくともよい。この構成単位Bを含んでいると、分子量の調整や、上記各繰り返し単位の含有量の調整などを行いやすくなるとともに、熱的、化学的に安定な重合体を得ることができる。本発明の重合体の分子量は、ゲルパーミエションクロマトグラフィによるポリスチレン換算重量平均分子量で、1万~100万、好ましくは2万~80万である。<ポリマーの製造方法>スルホン酸基を有する重合体の製造には、例えば下記に示すA法、B法、C法の3通りの方法を用いることができる。例えば、特開2004-137444号公報に記載の方法と同様に、下記一般式Aで表されるモノマー、下記一般式で表されるモノマーおよび下記一般式で表されるモノマーを共重合させ、スルホン酸エステル基を有する重合体を製造し、このスルホン酸エステル基を脱エステル化して、スルホン酸エステル基をスルホン酸基に変換することにより合成することができる。モノマーAXは塩素原子、臭素原子および-OSO2Rbここで、Rbはアルキル基、フッ素置換アルキル基またはアリール基を示すから選ばれる原子または基を示す。Y1,Z1,Ar,m,n、kは一般式Aと同じであり、Rは炭素数4~12のアルキル基を示す。一般式Aで表される化合物の具体的な例としては、下記一般式で表される化合物、特開2004-137444号公報、特開2004-345997号公報、特開2004-346163号公報に記載されているスルホン酸エステル類を挙げることができる。一般式Aで表される化合物において、スルホン酸エステル構造は、通常、芳香族環のメタ位に結合している。モノマーBRおよびRは塩素原子、臭素原子および-OSO2Rbここで、Rbはアルキル基、フッ素置換アルキル基またはアリール基を示すから選ばれる原子または基を示す。R1~R16、A、B、D、s、tおよびrは前記一般式Bと同じである。モノマーBの具体例としては、一般式Bにおけるrが0の場合、例えば44-ジクロロベンゾフェノン、44-ジクロロベンズアニリド、2,2-ビスジフルオロメタン、22-ビス-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、4-クロロ安息香酸-4-クロロフェニルエステル、ビススルホキシド、ビススルホン、2,6-ジクロロベンゾニトリルが挙げられる。これらの化合物において塩素原子が臭素原子またはヨウ素原子に置き換わった化合物などが挙げられる。また、一般式Bにおけるrが1の場合、下記に挙げる化合物および特開2003-113136号公報に記載の化合物を挙げることができる。一般式Bにおけるrがr≧2の場合、例えば下記に示す構造の化合物を挙げることができる。モノマーCXは塩素原子または臭素原子、-OSO2Rbここで、Rbはアルキル基、フッ素置換アルキル基またはアリール基を示すから選ばれる原子または基を示す。Y、Z、R20、pおよびqは前記一般式Cと同じである。モノマーCの具体例として、前記式1で表される含窒素芳香族化合物を挙げることができる。重合本発明の重合体を得るためはまず上記モノマーA、モノマーCおよび必要に応じてもモノマーBを共重合させ、前駆体を得る。この共重合は、触媒の存在下に行われるが、この際使用される触媒は、遷移金属化合物を含む触媒系であり、この触媒系としては、遷移金属塩および配位子となる化合物、または配位子が配位された遷移金属錯体、ならびに還元剤を必須成分とし、さらに、重合速度を上げるために、塩を添加してもよい。これらの触媒成分の具体例、各成分の使用割合、反応溶媒、濃度、温度、時間等の重合条件としては、特開2001-342241号公報に記載の化合物および条件を採用することができる。たとえば、遷移金属塩としては、塩化ニッケル、臭化ニッケルなどが好適に使用され、また、配位子となる化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリ-o-トリルホスフィン、トリ-m-トリルホスフィン、トリ-p-トリルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ-tert-ブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、2,2′-ビピリジンなどが好適に使用される。さらに、あらかじめ配位子が配位された遷移金属塩としては、塩化ニッケルビストリフェニルホスフィン、塩化ニッケル2,2′ビピリジンが好適に使用される。還元剤としては、例えば、鉄、亜鉛、マンガン、アルミニウム、マグネシウム、ナトリウム、カルシウムなどを挙げることできるが、亜鉛、マグネシウム、マンガンが好ましい。塩としては、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム、臭化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウムが好ましい。反応には重合溶媒を使用してもよく、具体的には、テトラヒドロフラン、NNジメチルホルムアミド、NNジメチルアセトアミド、1メチル2ピロリドンなどが好適に使用される。触媒系における各成分の使用割合は、遷移金属塩または配位子が配位された遷移金属塩が、モノマーの総計1モルに対し、通常、0.0001~10モル、好ましくは0.01~0.5モルである。この範囲にあれば、触媒活性が高く、また分子量も高く重合することが可能である。触媒系に塩を使用する場合、その使用割合は、モノマーの総計1モルに対し、通常、0.001~100モル、好ましくは0.01~1モルである。かかる範囲であれば、重合速度を上げる効果が充分となる。重合溶媒中におけるモノマーの総計の濃度は、通常、1~90重量、好ましくは5~40重量である。また、本発明の重合体を重合する際の重合温度は、通常、0~200°C、好ましくは50~100°Cである。また、重合時間は、通常、0.5~100時間、好ましくは1~40時間である。次いで、得られた重合体を加水分解して、構成単位中のスルホン酸エステル基-SO3Rをスルホン酸基-SO3Hに転換する。加水分解は、1少量の塩酸を含む過剰量の水またはアルコールに、上記スルホン酸エステル基を有する重合体を投入し、5分間以上撹拌する方法、2トリフルオロ酢酸中で上記スルホン酸エステル基を有する重合体を80~120°C程度の温度で5~10時間程度反応させる方法、3重合体中のスルホン酸エステル基-SO3R1モルに対して1~3倍モルのリチウムブロマイドを含む溶液、例えばN-メチルピロリドンなどの溶液中で上記スルホン酸エステル基を有する重合体を80~150°C程度の温度で3~10時間程度反応させた後、塩酸を添加する方法などにより行うことができる。例えば、特開2001-342241号公報に記載の方法と同様に、上記一般式で表される骨格を有し、かつスルホン酸基、スルホン酸エステル基を有しないモノマーと、上記モノマーBと、上記モノマーCを共重合させ、この重合体を、スルホン化剤を用いて、スルホン化することにより合成することもできる。B法において用いることのできる、上記一般式で表される構造単位となりうるスルホン酸基、またはスルホン酸エステル基を有しないモノマーの具体的な例として、特開2001-342241号公報、特開2002-293889号公報に記載されているジハロゲン化物を挙げることができる。一般式において、Arが-OhSO3Hまたは-OhSO3Hで表される置換基を有する芳香族基である場合には、例えば、特開2005-606254号公報に記載の方法と同様に、上記一般式で表される構造単位となりうる前駆体のモノマーと、上記一般式で表される構造単位となりうるモノマー、またはオリゴマーと、上記一般式で表される構造単位となるモノマーを共重合させ、次にアルキルスルホン酸またはフッ素置換されたアルキルスルホン酸を導入する方法で合成することもできる。において用いることのできる、上記一般式で表される構造単位となりうる前駆体のモノマーの具体的な例として、特開2005-36125号公報に記載されているジハロゲン化物を挙げることができる。具体的には、2,5-ジクロロ-4-ヒドロキシベンゾフェノン、2,4-ジクロロ-4-ヒドロキシベンゾフェノン、2,6-ジクロロ-4-ヒドロキシベンゾフェノン、2,5-ジクロロ-2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2,4-ジクロロ-2,4-ジヒドロキシベンゾフェノンをあげることができる。またこれらの化合物のヒドロキシル基をテトラヒドロピラニル基などで保護した化合物をあげることができる。またヒドロキシル基がチオール基にかわったもの、塩素原子が、臭素原子、ヨウ素原子におきかわったものもあげることができる。では前駆体の重合体に、特開200560625号公報に記載の方法で、アルキルスルホン酸基を導入する方法。例えば、前駆体の重合体のヒドロキシル基と、プロパンスルトン、ブタンスルトンなどを反応させることで導入することができる。<プロトン伝導膜>本発明に係るプロトン伝導膜は、上記スルホン酸基と上記含窒素複素環基を有する重合体からなる。本発明に係るプロトン伝導膜を製造する方法としては、特に限定されるものではないが、上記本発明の重合体を溶解する有機溶媒に溶解し、基体上にキャストし、溶媒を除去、乾燥させるキャスト法が主に用いられる。このような製膜方法において用いられる基体としては、通常の溶液キャスト法に用いられる基体であれば特に限定されず、例えば、プラスチック製または金属製などの基体が用いられ、好ましくは、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの熱可塑性樹脂からなる基体が用いられる。これらの製膜方法で用いられる溶媒としては、具体的には、N-メチル-2-ピロリドン、NN-ジメチルホルムアミド、γ-ブチロラクトン、NN-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチル尿素、ジメチルイミダゾリジノンなどの非プロトン系極性溶剤が挙げられる。これらの中では、溶解性および溶液粘度の面から、N-メチル-2-ピロリドンが特に好ましい。上記非プロトン系極性溶剤は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記溶媒として、上記非プロトン系極性溶剤とアルコールとの混合物を用いてもよい。このようなアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、isoプロピルアルコール、secブチルアルコール、tertブチルアルコールなどが挙げられる。これらの中では、幅広い組成範囲で溶液粘度を下げる効果があることから、メタノールが特に好ましい。アルコールは、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記非プロトン系極性溶剤とアルコールとの混合物を用いる場合には、非プロトン系極性溶剤が95~25重量、好ましくは90~25重量であり、アルコールが5~75重量、好ましくは10~75重量である。アルコールの量が上記範囲内にあることにより、溶液粘度を下げる効果に優れる。また、上記アルコールの他に、硫酸、リン酸などの無機酸、カルボン酸を含む有機酸、適量の水などを併用してもよい。製膜する際の溶液のポリマー濃度は、通常5~40重量、好ましくは7~25重量である。ポリマー濃度が5重量未満では、厚膜化し難く、また、ピンホールが生成しやすい傾向にある。一方、ポリマー濃度が40重量を超えると、溶液粘度が高すぎてフィルム化し難く、また、表面平滑性に欠けることがある。なお、溶液粘度は、通常2000~100000mPas、好ましくは3000~50000mPasである。溶液粘度が2000mPas未満では、成膜中の溶液の滞留性が悪く、基体から流れてしまうことがある。一方、溶液粘度が100000mPasを超えると、粘度が高過ぎるため、ダイからの押し出しができず、流延法によるフィルム化が困難となることがある。上記のようにして製膜した後、得られた未乾燥フィルムを水に浸漬すると、未乾燥フィルム中の有機溶剤を水と置換することができ、得られるプロトン伝導膜の残留溶媒量を低減することができる。なお、未乾燥フィルムを水に浸漬する前に、未乾燥フィルムを予備乾燥してもよい。予備乾燥は、未乾燥フィルムを、通常50~150°Cの温度で、0.1~10時間保持することにより行われる。未乾燥フィルムを水に浸漬する際は、枚葉を水に浸漬するバッチ方式でもよく、基板フィルム上に成膜された状態の積層フィルムのまま、または基板から分離した膜を水に浸漬させて、巻き取っていく連続方式でもよい。また、バッチ方式の場合は、処理後のフィルム表面に皺が形成されるのを抑制するために、未乾燥フィルムを枠にはめるなどの方法で、水に浸漬させることが好ましい。未乾燥フィルムを水に浸漬する際の水の使用量は、未乾燥フィルム1重量部に対して、10重量部以上、好ましくは30重量部以上、より好ましくは50重量部以上の割合である。水の使用量が上記範囲であれば、得られるプロトン伝導膜の残存溶媒量を少なくすることができる。また、浸漬に使用する水を交換したり、オーバーフローさせたりして、常に水中の有機溶媒濃度を一定濃度以下に維持しておくことも、得られるプロトン伝導膜の残存溶媒量を低減することに有効である。さらに、プロトン伝導膜中に残存する有機溶媒量の面内分布を小さく抑えるためには、水中の有機溶媒濃度を撹拌等によって均質化させることが効果的である。未乾燥フィルムを水に浸漬する際の水の温度は、置換速度および取り扱いやすさの点から、通常5~80°C、好ましくは10~60°Cの範囲である。高温ほど、有機溶媒と水との置換速度は速くなるが、フィルムの吸水量も大きくなるので、乾燥後に得られるプロトン伝導膜の表面状態が悪化することがある。また、フィルムの浸漬時間は、初期の残存溶媒量、水の使用量および処理温度にもよるが、通常10分~240時間、好ましくは30分~100時間の範囲である。上記のように未乾燥フィルムを水に浸漬した後、フィルムを30~100°C、好ましくは50~80°Cで、10~180分、好ましくは15~60分乾燥し、次いで、50~150°Cで、好ましくは500mmHg~0.1mmHgの減圧下において、0.5~24時間真空乾燥することにより、プロトン伝導膜を得ることができる。上記のようにして得られたプロトン伝導膜の残存溶媒量は、通常5重量以下、好ましくは1重量以下にまで低減される。本発明の方法により得られるプロトン伝導膜は、その乾燥膜厚が、通常10~100μm、好ましくは20~80μmである。[実施例]以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。[実施例11]2,5-ジクロロ4ベンゾフェノンの合成攪拌機、温度計、冷却管、窒素導入管を取り付けた2L三口フラスコに、2,5-ジクロロ―4―フルオロベンゾフェノン150.7g、イミダゾール114.4g、炭酸カリウム100.6g、NNジメチルアセトアミド840mlを量りとった。反応溶液を、窒素雰囲気下オイルバスを用いて110°Cで2時間加熱した。薄層クロマトグラフィーにより原料の消失を確認した後、反応液を室温まで放冷した。その後、反応液を3Lの水に徐々に加え、生成物を凝固させ、ろ過した。ろ過により得られた生成物をTHFで溶かし、トルエンを加えた後、水層が中性になるまで食塩水により洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥させた後、エバポレーターにより溶媒を留去した。粗収量180g。80°Cに加熱したトルエン1Lとメタノール20mlの混合溶媒を用いて再結晶単離操作を行い、白色固体155gを収率87で得た。得られた化合物の1HNMRスペクトルを図1に示す。[実施例12]25ジクロロ4ベンゾフェノンの合成攪拌機、温度計、冷却管、窒素導入管を取り付けた2L三口フラスコに、2,5-ジクロロ4フルオロベンゾフェノン134.6g、ピロール50.3g、炭酸カリウム76.0g、脱水N,N-ジメチルアセトアミド840mlを量りとった。反応溶液を、窒素雰囲気下オイルバスを用いて100°Cで3時間加熱した。薄層クロマトグラフィーにより原料の消失を確認した後、反応液を室温まで放冷した。その後、反応液を3Lの水に徐々に加え、生成物を凝固させ、ろ過した。ろ過により得られた生成物をトルエン2.5Lに溶解させた後、分液漏斗を用いて、水層が中性になるまで食塩水により洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥させた後、エバポレーターにより溶媒を留去した。粗収量133.3g。ヘキサン、酢酸エチルの混合溶媒を用いて再結晶単離操作を行い、目的の精製物125.3gを収率79.3で得た。[実施例13]2,5-ジクロロ-4-ベンゾフェノンの合成攪拌機、温度計、冷却管、窒素導入管を取り付けた3L三口フラスコに、2,5-ジクロロ4フルオロベンゾフェノン269.1g、2-メルカプトベンゾチアゾール175.6g、炭酸カリウム152.0g、脱水N,N-ジメチルアセトアミド1500mlを量りとった。反応溶液を、窒素雰囲気下オイルバスを用いて110°Cで2時間加熱した。薄層クロマトグラフィーにより原料の消失を確認した後、反応液を室温まで放冷した。その後、反応液を3Lの水に徐々に加え、生成物を凝固させ、ろ過した。ろ過により得られた生成物を、トルエン4Lに溶解した。この有機層を食塩水で中性になるまで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥させた後、エバポレーターにより溶媒を留去した。粗収量350.3g。80°Cに加熱したトルエン1.5Lを用いて再結晶単離操作を行い、精製物325.4g、収率78.2を得た。次に、重合体の実施例について説明するが、評価用の膜の調製、スルホン酸当量、分子量およびプロトン伝導度の測定は以下の記載にして行った。<膜の調製>得られたスルホン化重合体の15重量溶液の混合溶媒からキャスト膜を調製した。これを大量の蒸留水に一晩浸漬し、膜中の残存NMPを希釈により取り除いた後、乾燥し、膜を得た。また、実施例中に記載の含窒素複素環芳香族化合物とスルホン化重合体からなるプロトン伝導膜の調製の際は、所定量の含窒素複素環芳香族化合物と得られたスルホン化アリーレンが溶液中15重量になるように、メタノール/NMP=50/50で溶解させ、ワニスを調製した。これを上記と同様にキャスト法により、キャスト膜を調製し、大量の蒸留水への浸漬により、膜中の残存NMPを希釈により除去し、目的の膜を得た。<スルホン酸当量>得られたスルホン酸基を有する重合体の水洗水が中性になるまで洗浄し、フリーに残存している酸を除いて充分に水洗し、乾燥後、所定量を秤量し、THF/水の混合溶剤に溶解したフェノールフタレインを指示薬とし、NaOHの標準液を用いて滴定を行い、中和点から、スルホン酸当量を求めた。<分子量の測定>スルホン酸基を有しない重合体重量平均分子量は、溶剤としてテトラヒドロフランを用い、GPCによって、ポリスチレン換算の分子量を求めた。スルホン酸基を有する重合体の分子量、または耐熱試験後のスルホン酸基を有する重合体の分子量を、臭化リチウム7.83gとリン酸3.3mlとN-メチル-2-ピロリドン2Lからなる混合溶液を溶離液として用い、GPCによって、ポリスチレン換算の分子量を求めた。<比抵抗の測定>交流抵抗は、5mm幅の短冊状膜試料の表面に、白金線を押し当て、恒温恒湿装置中に試料を保持し、白金線間の交流インピーダンス測定から求めた。すなわち、85°C、相対湿度90の環境下で交流10kHzにおけるインピーダンスを測定した。抵抗測定装置として、NF回路設計ブロック製のケミカルインピーダンス測定システムを用い、恒温恒湿装置には、ヤマト科学製のJW241を使用した。白金線は、5mm間隔に5本押し当てて、線間距離を5~20mmに変化させ、交流抵抗を測定した。線間距離と抵抗の勾配から、膜の比抵抗を算出した。比抵抗R=0.5×膜厚×抵抗線間勾配<耐熱性の評価>膜厚約40μmの各フィルムを、160°Cオーブン中に24時間入れた。耐熱試験前後のサンプルを、上記のNMP系のGPC溶離液99.8重量部に対し、0.2重量部のプロトン伝導膜を浸漬、溶解後、不溶分を除去し、GPC測定を行った。耐熱試験前後のGPCの溶出面積の比から不溶分含量を求めた。[実施例21]1含窒素複素環基含有スルホン化重合体A-N1の合成2,5-ジクロロ-4-フェノキシベンゾフェノン185.3g0.540mol、4,4′-ジクロロベンゾフェノン151g0.060mol、実施例12で得られた2,5-ジクロロ-4-1-ピロリルベンゾフェノン7.1g0.024mol、ヨウ化ナトリウム117g0.078mol、ビストリフェニルホスフィンニッケルジクロリド118g0.018mmol、トリフェニルホスフィン630g0.240mol、亜鉛941g1440molを冷却管、三方コックを取り付けた三口フラスコに入れ、70°Cのオイルバスにつけ、窒素置換後、窒素雰囲気下にN-メチル-2-ピロリドン1000mlを加え、反応を開始した。20時間反応後、N-メチル-2-ピロリドン500mlで希釈し、1:10塩酸/メタノール溶液に重合反応液を注ぎ、ポリマーを析出、洗浄後、ろ過、真空乾燥後、白色の粉末を得た。収量は、148gであった。また、重量平均分子量は、154,000であった。このポリマー150gに対し、濃硫酸1500mlを加え室温で24時間、攪拌しスルホン化反応を行った。反応後、大量の純水中に注ぎ、スルホン化ポリマーを析出させた。pH7になるまでポリマーを純水によって洗浄し、ろ過後、スルホン化ポリマーを回収し、90 ゚Cで真空乾燥した。スルホン化ポリマーの収量は159gであった。このポリマーのイオン交換容量は2.3meq/g、重量平均分子量は185,000であった。このようにして得られたポリマーは、構造式A-N1で表される。スルホン酸基を有する重合体を、ポリマーA-N1とする。2含窒素複素環基含有スルホン化重合体A-N1の物性評価上記で得られた含窒素複素環基含有スルホン化重合体A―N1を、メタノール/NMP=50/50の混合溶媒に15重量になるよう溶解し、ワニスを調製した。これをキャスト法により、キャスト膜を調製し、大量の蒸留水への浸漬により、膜中の残存NMPを希釈により除去し、目的の40μmの膜を得た。得られた膜を用いて、比抵抗、耐熱性評価を行った。結果を表1に示す。[実施例22]1疎水性ユニットBの合成攪拌機、温度計、Deanstark管、窒素導入管、冷却管をとりつけた1Lの三口フラスコに、4,4-ジクロロジフェニルスルホン29.8g0.104mol、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン37.4g0.111mol、炭酸カリウム20.0g0.145molをはかりとった。窒素置換後、スルホラン168mL、トルエン84mLを加えて攪拌した。オイルバスで反応液を150°Cで加熱還流させた。反応によって生成する水はDeanstark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDeanstark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200°Cに上げ、5時間攪拌を続けた後、4,4-ジクロロベンゾフェノン7.5g0.030molを加え、さらに8時間反応させた。反応液を放冷後、トルエン100mLを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩を濾過し、濾液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物を濾過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mLに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末を濾過、乾燥し、疎水性ユニットB56gを得た。GPCで測定した数平均分子量Mnは10,500であった。得られた化合物は、式B-1で表される。2含窒素複素環基含有スルホン化重合体B-N1の合成攪拌機、温度計、窒素導入管をとりつけた1Lの三口フラスコに、3-2,5-ジクロロベンゾイルベンゼンスルホン酸ネオペンチル141.6g0.338mol、上記で得られたMn10,500の疎水性ユニットB44.5g4.2mmol、実施例11で得られた2,5-ジクロロ-4-1-イミダゾリルベンゾフェノン5.4g16.9mmol、ビストリフェニルホスフィンニッケルジクロリド6.71g10.3mmol、ヨウ化ナトリウム1.54g10.3mmol、トリフェニルホスフィン35.9g137mmol、亜鉛53.7g820mmolをはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにNNジメチルアセトアミドDMAc430mLを加え、反応温度を80°Cに保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc730mLを加えて希釈し、不溶物を濾過した。得られた溶液を攪拌機、温度計、窒素導入管を取り付けた2Lの三口フラスコに入れ、115°Cに加熱攪拌し、臭化リチウム44g506mmolを加えた。7時間攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。ついで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的のスルホン化ポリマー124gを得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは166,000であった。得られた重合体は、式IIで表されるスルホン化ポリマーと推定される。このポリマーのイオン交換容量は2.3meq/gであった。このようにして得られたスルホン酸基を有する重合体は構造式B-N1で表され、ポリマーB-N1とする。3含窒素複素環基含有スルホン化重合体B-N1の物性評価上記で得られた含窒素複素環基含有スルホン化重合体B―N1を、メタノール/NMP=50/50の混合溶媒に15重量になるよう溶解し、ワニスを調製した。これをキャスト法により、キャスト膜を調製し、大量の蒸留水への浸漬により、膜中の残存NMPを希釈により除去し、目的の40μmの膜を得た。得られた膜を用いて、比抵抗、耐熱性評価を行った。結果を表1に示す。[実施例23]1疎水性ユニットCの合成撹拌機、温度計、冷却管、DeanStark管、窒素導入の三方コックを取り付けた1Lの三つ口のフラスコに、22-ビス4-ヒドロキシフェニル-111333-ヘキサフルオロプロパン67.3g0.200mol、44-ジクロロベンゾフェノン44-DCBP60.3g0.240mol、炭酸カリウム71.9g0.520mol、NN-ジメチルアセトアミドDMAc300mL、トルエン150mLをとり、オイルバス中、窒素雰囲気下で加熱し撹拌下130°Cで反応させた。反応により生成する水をトルエンと共沸させ、DeanStark管で系外に除去しながら反応させると、約3時間で水の生成がほとんど認められなくなった。反応温度を130°Cから徐々に150°Cまで上げた。その後、反応温度を徐々に150°Cまで上げながら大部分のトルエンを除去し、150°Cで10時間反応を続けた後、44-DCBP10.0g0.040molを加え、さらに5時間反応した。得られた反応液を放冷後、副生した無機化合物の沈殿物を濾過除去し、濾液を4Lのメタノール中に投入した。沈殿した生成物を濾別、回収し乾燥後、テトラヒドロフラン300mLに溶解した。これをメタノール4Lに再沈殿し、目的の化合物95g収率85を得た。得られた重合体のGPCTHF溶媒で求めたポリスチレン換算の数平均分子量は11200であった。得られた化合物は構造式C-1で表されるオリゴマーであった。2含窒素複素環基含有スルホン化重合体C-N1の合成乾燥したNN-ジメチルアセトアミドDMAc100mLを下記構造式C-2で表される化合物モノマーC27.21g0.039molと、1で合成した疎水性ユニット16.13g1.44mmol、実施例13で得られた25ジクロロ-4-2-ベンゾチアゾールチオキシベンゾフェノン0.80g1.93mmol、ビストリフェニルホスフィンニッケルジクロリド0.79g1.2mmol、トリフェニルホスフィン4.20g0.016mol、ヨウ化ナトリウム0.18g1.20mmol、亜鉛6.28g96.1mmolの混合物中に窒素下で加えた。反応系を撹拌下に加熱し最終的には79°Cまで加温、3時間反応させた。反応途中で系中の粘度上昇が観察された。重合反応溶液をDMAc425mLで希釈し、30分撹拌し、セライトを濾過助剤に用い、濾過した。濾液の一部をメタノールに注ぎ、凝固させた。ネオペンチル基で保護されたスルホン酸誘導体からなる共重合体のGPCによる分子量は、Mn=57500、Mw=175300であった。前記濾液はエバポレーターで344gまで濃縮し、濾液に臭化リチウム10.1g0.116molを加え、内温110°Cで7時間、窒素雰囲気下で反応させた。反応後、室温まで冷却し、アセトン4Lに注ぎ、凝固した。凝固物を濾集、風乾後、ミキサーで粉砕し、1N塩酸1500mLで攪拌しながら洗浄を行った。濾過後、生成物は洗浄液のpHが5以上となるまで、イオン交換水で洗浄後、80°Cで一晩乾燥し、目的のスルホン化ポリマー23.0gを得た。この脱保護後のスルホン化ポリマーの分子量は、Mn=63,000、Mw=194,000であった。このポリマーのイオン交換容量は2.0meq/gであった。得られたスルホン酸基を有するポリマーCは、構造式Fで表される化合物ポリマーCN1である。3含窒素複素環基含有スルホン化重合体C-N1の物性評価上記で得られた含窒素複素環基含有スルホン化重合体C―N1を、メタノール/NMP=50/50の混合溶媒に15重量になるよう溶解し、ワニスを調製した。これをキャスト法により、キャスト膜を調製し、大量の蒸留水への浸漬により、膜中の残存NMPを希釈により除去し、目的の40μmの膜を得た。得られた膜を用いて、比抵抗、耐熱性評価を行った。結果を表1に示す。[実施例24]1疎水性ユニットDの合成撹拌機、温度計、冷却管、DeanStark管、窒素導入の三方コックを取り付けた1Lの三つ口のフラスコに、2,6-ジクロロベンゾニトリル49.4g0.29mol、22-ビス4-ヒドロキシフェニル-111333-ヘキサフルオロプロパン88.4g0.26mol、炭酸カリウム47.3g0.34molをはかりとった。窒素置換後、スルホラン346ml、トルエン173mlを加えて攪拌した。フラスコをオイルバスにつけ、150°Cに加熱還流させた。反応により生成する水をトルエンと共沸させ、DeanStark管で系外に除去しながら反応させると、約3時間で水の生成がほとんど認められなくなった。反応温度を徐々に上げながら大部分のトルエンを除去した後、200°Cで3時間反応を続けた。次に、26-ジクロロベンゾニトリル12.3g0.072molを加え、さらに5時間反応した。得られた反応液を放冷後、トルエン100mlを加えて希釈した。副生した無機化合物の沈殿物を濾過除去し、濾液を2Lのメタノール中に投入した。沈殿した生成物を濾別、回収し乾燥後、テトラヒドロフラン250mlに溶解した。これをメタノール2Lに再沈殿し、目的の化合物107gを得た。得られた目的の化合物のGPCTHF溶媒で求めたポリスチレン換算の数平均分子量は7300であった。得られた化合物は構造式D-1で表されるオリゴマーであった。2含窒素複素環基含有スルホン化重合体D-N1の合成乾燥したNN-ジメチルアセトアミドDMAc540mLを、3-2,5-ジクロロベンゾイルベンゼンスルホン酸ネオペンチル135.0g0.336molと、1で合成した疎水性ユニットD40.7g5.6mmol、実施例12で得られた2,5-ジクロロ-4-1-イミダゾリルベンゾフェノン6.71g16.8mmol、ビストリフェニルホスフィンニッケルジクロリド6.71g10.3mmol、トリフェニルホスフィン35.9g0.137mol、ヨウ化ナトリウム1.54g10.3mmol、亜鉛53.7g0.821molの混合物中に窒素下で加えた。反応系を撹拌下に加熱し最終的には79°Cまで加温、3時間反応させた。反応途中で系中の粘度上昇が観察された。重合反応溶液をDMAc730mLで希釈し、30分撹拌し、セライトを濾過助剤に用い、濾過した。濾液の一部をメタノールに注ぎ、凝固させた。ネオペンチル基で保護されたスルホン酸誘導体からなる共重合体のGPCによる分子量は、Mn=58,000、Mw=135300であった。前記濾液をエバポレーターで濃縮し、濾液に臭化リチウム43.8g0.505molを加え、内温110°Cで7時間、窒素雰囲気下で反応させた。反応後、室温まで冷却し、アセトン4Lに注ぎ、凝固した。凝固物を濾集、風乾後、ミキサーで粉砕し、1N塩酸1500mLで攪拌しながら洗浄を行った。濾過後、生成物は洗浄液のpHが5以上となるまで、イオン交換水で洗浄後、80°Cで一晩乾燥し、目的のスルホン化ポリマー23.0gを得た。この脱保護後のスルホン化ポリマーの分子量は、Mn=60,000、Mw=175,000であった。このポリマーのイオン交換容量は2.4meq/gであった。得られたスルホン酸基を有するポリマーD-N1は、構造式D-2で表される化合物である。3含窒素複素環基含有スルホン化重合体D-N1の物性評価上記で得られた含窒素複素環基含有スルホン化重合体DN1を、メタノール/NMP=50/50の混合溶媒に15重量になるよう溶解し、ワニスを調製した。これをキャスト法により、キャスト膜を調製し、大量の蒸留水への浸漬により、膜中の残存NMPを希釈により除去し、目的の40μmの膜を得た。得られた膜を用いて、比抵抗、耐熱性評価を行った。結果を表1に示す。[比較例21]1スルホン化重合体RAの合成2,5-ジクロロ-4-フェノキシベンゾフェノン1853g540mmol、4,4′-ジクロロベンゾフェノン151g60mmol、ヨウ化ナトリウム117g78mmol、ビストリフェニルホスフィンニッケルジクロリド118g18mmol、トリフェニルホスフィン630g240mmol、亜鉛941g144molを冷却管、三方コックを取り付けた三口フラスコに入れ、70°Cのオイルバスにつけ、窒素置換後、窒素雰囲気下にN-メチル-2-ピロリドン1000mlを加え、反応を開始した。20時間反応後、N-メチル-2-ピロリドン500mlで希釈し、1/10重量比の塩酸/メタノール溶液に重合反応液を注ぎ、ポリマーを析出、洗浄後、ろ過、真空乾燥後、白色の粉末を得た。収量は、153gであった。また、重量平均分子量は、159000であった。このポリマー150gに対し、濃硫酸1500mlを加え室温で24時間、攪拌しスルホン化反応を行った。反応後、大量の純水中に注ぎ、スルホン化ポリマーを析出させた。pH7になるまでポリマーを純水によって洗浄し、ろ過後、スルホン化ポリマーを回収し、90°Cで真空乾燥した。スルホン化ポリマーの収量は179gであった。このポリマーのイオン交換容量は2.3meq/g、重量平均分子量は183,000であった。このようにして得られたポリマーは、構造式Eで表される。スルホン酸基を有する重合体を、ポリマーRAとする。2スルホン化重合体RAの物性評価上記で得られたスルホン化重合体RAを、メタノール/NMP=50/50の混合溶媒に15重量になるよう溶解し、ワニスを調製した。これをキャスト法により、キャスト膜を調製し、大量の蒸留水への浸漬により、膜中の残存NMPを希釈により除去し、目的の40μmの膜を得た。得られた膜を用いて、比抵抗、耐熱性評価を行った。結果を表1に示す。[比較例22]1スルホン化重合体RBの合成攪拌機、温度計、窒素導入管をとりつけた1Lの三口フラスコに、3-2,5-ジクロロベンゾイルベンゼンスルホン酸ネオペンチル141.5g337mmol、[実施例22]1で得られたMn10,500の疎水性ユニットB48.5g4.6mmol、ビストリフェニルホスフィンニッケルジクロリド6.71g10.3mmol、ヨウ化ナトリウム1.54g10.3mmol、トリフェニルホスフィン35.9g137mmol、亜鉛53.7g821mmolをはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにNNジメチルアセトアミドDMAc430mLを加え、反応温度を80°Cに保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc730mLを加えて希釈し、不溶物を濾過した。得られた溶液を攪拌機、温度計、窒素導入管を取り付けた2Lの三口フラスコに入れ、115°Cに加熱攪拌し、臭化リチウム44g506mmolを加えた。7時間攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。ついで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的のスルホン化ポリマー124gを得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは170,000であった。得られた重合体は、式IIで表されるスルホン化ポリマーと推定される。このポリマーのイオン交換容量は2.3meq/gであった。このようにして得られたスルホン酸基を有する重合体は構造式Fで表され、ポリマーRBとする。2スルホン化重合体RBの物性評価上記で得られたスルホン化重合体RBを、メタノール/NMP=50/50の混合溶媒に15重量になるよう溶解し、ワニスを調製した。これをキャスト法により、キャスト膜を調製し、大量の蒸留水への浸漬により、膜中の残存NMPを希釈により除去し、目的の40μmの膜を得た。得られた膜を用いて、比抵抗、耐熱性評価を行った。結果を表1に示す。[比較例23]1スルホン化重合体RCの合成乾燥したNN-ジメチルアセトアミドDMAc100mLを上記構造式C-2で表される化合物モノマーC27.18g38.5mmolと、[実施例23]1で合成した疎水性ユニット16.58g1.48mmol、ビストリフェニルホスフィンニッケルジクロリド0.79g1.2mmol、トリフェニルホスフィン4.20g16.0mmol、ヨウ化ナトリウム0.18g1.20mmol、亜鉛6.28g96.1mmolの混合物中に窒素下で加えた。反応系を撹拌下に加熱し最終的には79°Cまで加温、3時間反応させた。反応途中で系中の粘度上昇が観察された。重合反応溶液をDMAc425mLで希釈し、30分撹拌し、セライトを濾過助剤に用い、濾過した。濾液の一部をメタノールに注ぎ、凝固させた。ネオペンチル基で保護されたスルホン酸誘導体からなる共重合体のGPCによる分子量は、Mn=59400、Mw=178300であった。前記濾液はエバポレーターで344gまで濃縮し、濾液に臭化リチウム10.0g0.116molを加え、内温110°Cで7時間、窒素雰囲気下で反応させた。反応後、室温まで冷却し、アセトン4Lに注ぎ、凝固した。凝固物を濾集、風乾後、ミキサーで粉砕し、1N塩酸1500mLで攪拌しながら洗浄を行った。濾過後、生成物は洗浄液のpHが5以上となるまで、イオン交換水で洗浄し80°Cで一晩乾燥し、目的のスルホン化ポリマー23.0gを得た。この脱保護後のスルホン化ポリマーの分子量は、Mn=65,500、Mw=197,000であった。た。このポリマーのイオン交換容量は2.0meq/gであった。得られたスルホン酸基を有するポリマーRCは、構造式Gで表される化合物である。2スルホン化重合体RCの物性評価上記で得られたスルホン化重合体RCを、メタノール/NMP=50/50の混合溶媒に15重量になるよう溶解し、ワニスを調製した。これをキャスト法により、キャスト膜を調製し、大量の蒸留水への浸漬により、膜中の残存NMPを希釈により除去し、目的の40μmの膜を得た。得られた膜を用いて、比抵抗、耐熱性評価を行った。結果を表1に示す。[比較例24]1スルホン化重合体RDの合成攪拌機、温度計、窒素導入管をとりつけた1Lの三口フラスコに、3-2,5-ジクロロベンゾイルベンゼンスルホン酸ネオペンチル134.6g336mmolと、[実施例24]1で合成した疎水性ユニットD47.4g6.5mmol、ビストリフェニルホスフィンニッケルジクロリド6.71g10.3mmol、トリフェニルホスフィン35.9g136mmol、ヨウ化ナトリウム1.54g10.3mmol、亜鉛53.7g820mmolをはかりとった。これに、乾燥したNN-ジメチルアセトアミドDMAc430mLを窒素下で加えた。反応系を撹拌下に加熱し最終的には79°Cまで加温、3時間反応させた。反応途中で系中の粘度上昇が観察された。重合反応溶液をDMAc730mLで希釈し、30分撹拌し、セライトを濾過助剤に用い、濾過した。濾液の一部をメタノールに注ぎ、凝固させた。ネオペンチル基で保護されたスルホン酸誘導体からなる共重合体のGPCによる分子量は、Mn=59400、Mw=138000であった。前記濾液はエバポレーターで濃縮し、これに臭化リチウム44.0g506mmolを加え、内温110°Cで7時間、窒素雰囲気下で反応させた。反応後、室温まで冷却し、アセトン5Lに注ぎ、凝固した。凝固物を濾集、風乾後、ミキサーで粉砕し、1N塩酸で攪拌しながら洗浄を行った。濾過後、生成物は洗浄液のpHが5以上となるまで、イオン交換水で洗浄し80°Cで一晩乾燥し、目的のスルホン化ポリマー122gを得た。この脱保護後のスルホン化ポリマーの分子量は、Mn=68,000、Mw=140,000であった。このポリマーのイオン交換容量は2.4meq/gであった。得られたスルホン酸基を有するポリマーRDは、構造式Hで表される化合物であった。2スルホン化重合体RDの物性評価上記で得られたスルホン化重合体RDを、メタノール/NMP=50/50の混合溶媒に15重量になるよう溶解し、ワニスを調製した。これをキャスト法により、キャスト膜を調製し、大量の蒸留水への浸漬により、膜中の残存NMPを希釈により除去し、目的の40μmの膜を得た。得られた膜を用いて、比抵抗、耐熱性評価を行った。結果を表1に示す。表1より、含窒素複素環芳香族基を含むものは、プロトン伝導性が高くしかも耐熱性が高いことが判明した。"