"A金属原子と、1価の含窒素芳香族複素環基を3つ含む含窒素化合物と、式1:式中、R1は置換基を有してもよい炭素原子数1~12個のヒドロカルビル基を表す。で表されるαケト酸とを含む金属錯体を、酸素の存在下で、二酸化炭素と反応させてシュウ酸含有錯体を生成させ、B前記シュウ酸含有錯体を処理してシュウ酸を分離する、ことを含むシュウ酸の合成方法。前記の1価の含窒素芳香族複素環基を3つ含む含窒素化合物が式2:式中、AはB、B―-R2、C-R2、Si-R2、PもしくはP=Oを表し、R2は水素原子、1価の含窒素芳香族複素環基又は置換基を有してもよい炭素原子数1~12個のヒドロカルビル基を表す。Ar1、Ar2及びAr3は相互に独立に1価の含窒素芳香族複素環基を表す。で表される含窒素化合物である、請求項1記載の合成方法。前記の金属原子が、銅、白金、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、タングステン、レニウム、バナジウム、パラジウム、イリジウム及び亜鉛からなる群から選ばれる元素の原子であり、該原子はカチオン状態であってもよい、請求項1又は2に記載の合成方法。前記の金属錯体が、式3:式中、Mは金属原子を表し、A、Ar1、Ar2、Ar3及びR1は前記と同じであり、a及びbは独立に1~3の整数を表す。で表される金属錯体である、請求項2又は3に記載の合成方法。前記の金属錯体が、式4:式中、Ar1、Ar2、Ar3及びR1は前記と同じである。で表される金属錯体である、請求項4記載の合成方法。そこで、本発明は二酸化炭素から高収率でシュウ酸を合成できる方法を提供することを課題とする。本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の三座含窒素配位子、αケト酸及び金属化合物から調製した金属錯体を用いることにより、上記課題を解決できることを見出し本発明に至った。即ち、本発明は、A金属原子と、1価の含窒素芳香族複素環基を3つ含む含窒素化合物と、式1:式中、R1は置換基を有してもよい炭素原子数1~12個のヒドロカルビル基を表す。で表されるαケト酸とを含む金属錯体を、酸素の存在下で、二酸化炭素と反応させてシュウ酸含有錯体を生成させ、B該シュウ酸含有錯体を処理してシュウ酸を分離する、ことを含むシュウ酸の合成方法を提供する。本発明の様々な実施形態は後で詳述するが、代表的な実施形態は次の通りである。前記の1価の含窒素芳香族複素環基を3つ含窒素化合物は、式2:式中、AはB、B―-R2、C-R2、Si-R2、PもしくはP=Oを表し、R2は水素原子、1価の含窒素芳香族複素環基又は置換基を有してもよい炭素原子数1~12個のヒドロカルビル基を表す。Ar1、Ar2及びAr3は相互に独立に置換基を有してもよい1価の含窒素芳香族複素環基を表す。で表される含窒素化合物であることが好ましい。前記の合成反応に使用される金属錯体の金属原子は、好ましくは、銅、白金、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、タングステン、レニウム、バナジウム、パラジウム、イリジウム及び亜鉛からなる群から選ばれる元素の原子であり、該原子はカチオン状態であってもよい。前記の合成反応に使用される金属錯体は、式3:式中、Mは金属原子を表し、A、Ar1、Ar2、Ar3及びR1は前記と同じであり、a及びbは独立に1~3の整数を表す。で表される金属錯体であることが好ましく、中でも、式4:式中、Ar1、Ar2、Ar3及びR1は前記と同じである。で表される金属錯体であることがより好ましい。本発明によれば、染料、漂白剤、医薬などにそれ自体として又は原料として利用できるシュウ酸を空気中の二酸化炭素から高収率で合成できる。二酸化炭素は地球温暖化ガスとして知られているが、これを有用物質へ変換できるため、合成的に優れているだけでなく、地球温暖化の抑制に有用で環境保全に貢献しうる。以下、本発明について詳細に説明する。<用語の説明>本願において、置換基を有していてもよいとは、その対象である化合物又は基の骨格を構成する原子に結合した水素原子が無置換の場合及び該水素原子の一部又は全部が別の基又は原子本願では置換基と総称するによって置換されている場合の双方を含むことを意味する。水素原子が置換基によって置換されている場合の置換基としては、特記しない限り、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数1~30のヒドロカルビル基、炭素原子数1~30のヒドロカルビルオキシ基、炭素原子数1~7のヒドロカルビルスルホニル基が挙げられ、これらの中でも、好ましくは、ハロゲン原子、炭素原子数1~18のヒドロカルビル基、炭素原子数1~18のヒドロカルビルオキシ基であり、より好ましくは炭素原子数1~12のヒドロカルビル基、炭素原子数1~12のヒドロカルビルオキシ基であり、更に好ましくは炭素原子数1~6のヒドロカルビル基、炭素原子数1~6のヒドロカルビルオキシ基である。ヒドロカルビル基及びヒドロカルビルオキシ基等の置換基はそれぞれ、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよい。置換基であるハロゲン原子としては、好ましくは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であり、より好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。置換基であるヒドロカルビル基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれでもよい。このヒドロカルビル基としては、例えば、メチル基、エチル基、1-プロピル基、2-プロピル基、1-ブチル基、2-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1-アダマンチル基、2-アダマンチル基、ノルボルニル基、ベンジル基、α,α―ジメチルベンジル基、1-フェネチル基、2-フェネチル基、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、オレイル基、エイコサペンタエニル基、ドコサヘキサエニル基、2,2-ジフェニルビニル基、1,2,2-トリフェニルビニル基、2-フェニル-2-プロペニル基、フェニル基、2-トリル基、4-トリル基、4-トリフルオロメチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、4-シアノフェニル基、2-ビフェニリル基、3-ビフェニリル基、4-ビフェニリル基、ターフェニリル基、3,5-ジフェニルフェニル基、3,4-ジフェニルフェニル基、ペンタフェニルフェニル基、4-2,2-ジフェニルビニルフェニル基、4-1,2,2-トリフェニルビニルフェニル基、フルオレニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、9-アントリル基、2-アントリル基、9-フェナントリル基、1-ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、コロニル基が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、1-プロピル基、2-プロピル基、1-ブチル基、2-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、ベンジル基、α,α―ジメチルベンジル基、1-フェネチル基、2-フェネチル基、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、オレイル基、エイコサペンタエニル基、ドコサヘキサエニル基、2,2-ジフェニルビニル基、1,2,2-トリフェニルビニル基、2-フェニル-2-プロペニル基、フェニル基、2-トリル基、4-トリル基、4-トリフルオロメチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、4-シアノフェニル基、2-ビフェニリル基、3-ビフェニリル基、4-ビフェニリル基、ターフェニリル基、3,5-ジフェニルフェニル基、3,4-ジフェニルフェニル基、ペンタフェニルフェニル基、4-2,2-ジフェニルビニルフェニル基、4-1,2,2-トリフェニルビニルフェニル基、フルオレニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、9-アントリル基、2-アントリル基、9-フェナントリル基であり、より好ましくは、メチル基、エチル基、1-プロピル基、2-プロピル基、1-ブチル基、2-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、ベンジル基、フェニル基であり、更に好ましくは、メチル基、エチル基、1-プロピル基、2-プロピル基、1-ブチル基、2-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基である。置換基であるヒドロカルビルオキシ基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれでもよい。このヒドロカルビルオキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、1-プロポキシ基、2-プロポキシ基、1-ブトキシ基、2-ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、1-アダマンチルオキシ基、2-アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、ベンジロキシ基、αα-ジメチルベンジロキシ基、2-フェネチルオキシ基、1-フェネチルオキシ基、フェノキシ基、アルコキシフェノキシ基、アルキルフェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ基、ペンタフルオロフェニルオキシ基が挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、1-プロポキシ基、2-プロポキシ基、1-ブトキシ基、2-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基であり、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、1-プロポキシ基、2-プロポキシ基、1-ブトキシ基、2-ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基である。本発明の合成方法は、工程A及び工程Bを有する。以下、工程を追って説明する。-工程A-該工程では、金属原子と、1価の含窒素芳香族複素環基を3つ含む含窒素化合物と、式1:式中、R1は置換基を有してもよい炭素原子数1~12個のヒドロカルビル基を表す。で表されるαケト酸を含む金属錯体を、酸素の存在下で、二酸化炭素と反応させてシュウ酸含有錯体を生成させる。[金属錯体]前記工程Aで用いられる金属錯体は、錯体に中心金属をもたらす金属化合物と、前記含窒素化合物と、前記αケト酸とから調製することができる。<αケト酸>αケト酸は式1:式中、R1は置換基を有してもよい炭素原子数1~12個のヒドロカルビル基を表す。で示される。R1に示される炭素原子数1~12の、好ましくは炭素原子数1~10のヒドロカルビル基としては、例えば、メチル基、エチル基、1-プロピル基、2-プロピル基、1-ブチル基、2-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ビニル基、プロペニル基、2-メチルプロペニル基、ブテニル基、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、4-メチルフェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、ベンジル基、フェネチル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、1-プロピル基、2-プロピル基、1-ブチル基、2-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、2-エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、1-ナフチル基、3,5-ジメチルフェニル基、ベンジル基であり、より好ましくは、2-プロピル基、2-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、2-エチルヘキシル基、フェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、ベンジル基であり、さらに好ましくは2-プロピル基、tert-ブチル基、ベンジル基である。前記式1で表されるαケト酸としては、例えば、2-オキソプロパン酸、3-フェニル-2-オキソプロパン酸、2-オキソブタン酸、3-メチル-2-オキソブタン酸、3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸、2-オキソペンタン酸、3-メチル-2-オキソペンタン酸、4-メチル-2-オキソペンタン酸、2-オキソヘキサン酸、3-メチル-2-オキソへキサン酸、4-メチル-2-オキソへキサン酸、5-メチル-2-オキソへキサン酸、2-オキソヘプタン酸、2-オキソオクタン酸、2-オキソデカン酸、2-オキソドデカン酸、2-オキソテトラデカン酸、α-オキソシクロプロピル酢酸、α-オキソシクロペンチル酢酸、α-オキソシクロヘキシル酢酸、2-オキソ-3-ブテン酸、2-オキソ-4-ブテン酸、2-オキソ-4-メチル-3-ペンテン酸、α-オキソフェニル酢酸、α-オキソナフチル酢酸、α-オキソ-4-メチルフェニル酢酸、α-オキソ-3,5-ジメチルフェニル酢酸、α-オキソ-2,4,6-トリメチルフェニル酢酸などが挙げられ、好ましくは、2-オキソプロパン酸、3-フェニル-2-オキソプロパン酸、2-オキソブタン酸、3-メチル-2-オキソブタン酸、3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸、2-オキソペンタン酸、3-メチル-2-オキソペンタン酸、4-メチル-2-オキソペンタン酸、2-オキソヘキサン酸、3-メチル-2-オキソへキサン酸、4-メチル-2-オキソへキサン酸、5-メチル-2-オキソへキサン酸、2-オキソヘプタン酸、2-オキソオクタン酸、α-オキソシクロヘキシル酢酸、α-オキソフェニル酢酸、α-オキソナフチル酢酸、α-オキソ-3,5-ジメチルフェニル酢酸であり、より好ましくは、3-フェニル-2-オキソプロパン酸、3-メチル-2-オキソブタン酸、3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸、3-メチル-2-オキソペンタン酸、4-メチル-2-オキソペンタン酸、3-メチル-2-オキソへキサン酸、4-メチル-2-オキソへキサン酸、5-メチル-2-オキソへキサン酸、α-オキソフェニル酢酸、α-オキソ-3,5-ジメチルフェニル酢酸であり、さらに好ましくは3-フェニル-2-オキソプロパン酸、3-メチル-2-オキソブタン酸、3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸である。<含窒素化合物>該含窒素化合物は本発明の金属錯体において配位子として存在し、式2:式中、AはB、B―-R2、C-R2、Si-R2、PもしくはP=Oを表し、R2は水素原子、1価の含窒素芳香族複素環基又は置換基を有してもよい炭素原子数1~12個のヒドロカルビル基を表す。Ar1、Ar2及びAr3は相互に独立に1価の含窒素芳香族複素環基を表す。で示される。前記式2において、AはBホウ素原子、B―-R2ホウ素アニオン、C-R2、Si-R2、PもしくはP=Oを表し、好ましくは、B、B--R2、Si-R2もしくはP=Oであり、より好ましくはB--R2である。ここで、R2は水素原子、1価の含窒素芳香族複素環基又は置換基を有してもよい炭素原子数1~12個のヒドロカルビル基を表す。ここで、前記R2で表される1価の含窒素芳香族複素環基としては、例えばピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、テトラゾール等の五員環化合物の環上の水素原子を1個取り除いた残りの原子団、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン等の六員環化合物の環上の水素原子を1個取り除いた残りの原子団、インドール、イソインドール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、プリン、プテリジン、アデニン等の炭素原子数1~20の縮合環化合物の環上の水素原子を1個取り除いた残りの原子団が挙げられ、好ましくはオキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、テトラゾール、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、プリン、プテリジン、アデニンの環上の水素原子を1個取り除いた残りの原子団であり、より好ましくは、イソオキサゾール、イソチアゾール、ピラゾール、テトラゾール、ピリダジン、シンノリンの環上の水素原子を1個取り除いた残りの原子団であり、更に好ましくは、イソチアゾール、ピラゾール、ピリダジンの環上の水素原子を1個取り除いた残りの原子団である。また、前記R2で表される置換基を有してもよい炭素原子数1~12個のヒドロカルビル基としては、置換基を有してもよい炭素原子数1~12個のアルキル基、置換基を有してもよい炭素原子数3~12個のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素原子数6~12個のアリール基、及び置換基を有してもよい炭素原子数7~12のアラルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、1-プロピル基、2-プロピル基、1-ブチル基、2-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、4-メチルフェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、ベンジル基、フェネチル基が挙げられ、好ましくは2-プロピル基、2-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、1-ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基であり、より好ましくは、2-プロピル基、2-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基であり、更に好ましくは2-プロピル基、tert-ブチル基、ベンジル基である。前記式で示される含窒素化合物において、Ar1、Ar2及びAr3で示される1価の含窒素芳香族複素環基は含窒素芳香族複素環式化合物の環上の水素原子を1つ除いた残りの原子団である。該含窒素芳香族複素環式化合物としては、例えば、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、テトラゾール等の五員環化合物、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン等の六員環化合物、インドール、イソインドール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、プリン、プテリジン、アデニン等の炭素原子数1~20の縮合環化合物が挙げられ、好ましくは、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、テトラゾール、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、プリン、プテリジン、アデニンであり、より好ましくは、イソオキサゾール、イソチアゾール、ピラゾール、テトラゾール、ピリダジン、シンノリンであり、更に好ましくは、イソチアゾール、ピラゾール、ピリダジンである。前記式で表される含窒素化合物としては、例えばヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジエチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジプロペニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジブテニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフェニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフルオロピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジクロロピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジブロモピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジメトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジエトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジプロポキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフェノキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジシアノピラゾリルボレート、ヒドロトリスイソチアゾイルボレート、ヒドロトリスピリダゾジルボレート等の含窒素ヒドロボレート化合物;トリス3,5-ジメチルピラゾリルボラン、トリス3,5-エチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルボラン、トリス3,5-ジクロロピラゾリルボラン、トリス3,5-ジブロモピラゾリルボラン、トリス3,5-ジメトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジシアノピラゾリルボラン、トリスイソチアゾイルボラン、トリスピリダゾジルボラン等の含窒素ホウ素化合物;トリス3,5-ジメチルピラゾリルメタン、トリス3,5-エチルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルメタン、トリス3,5-ジクロロピラゾリルメタン、トリス3,5-ジブロモピラゾリルメタン、トリス3,5-ジメトキシピラゾリルメタン、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルメタン、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルメタン、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルメタン、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルメタン、トリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルメタン、トリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルメタン、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルメタン、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルメタン、トリス3,5-ジシアノピラゾリルメタン、テトライソチアゾイルメタン、トリスピリダゾジルメタン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルエタン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルプロパン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルブタン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリル-2-メチル-ブタン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリル-3-メチルブタン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリル-3、3-ジメチルブタン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルヘプタン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルへキサン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルプロペン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルブテン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリル-2-フェニルエタン、1、1、1-トリス3,5-ジイソブチルピラゾリル-2-ナフチルエタン等の含窒素炭化水素化合物;トリス3,5-ジメチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-エチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジーtert-ブチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジーsec-ブチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルヒドロシラン、テトラ3,5-ジクロロピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジブロモピラゾリルヒドロシラン、テトラ3,5-ジメトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジーtert-ブトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジーsec-ブトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジシアノピラゾリルヒドロシラン、トリスイソチアゾイルヒドロシラン、トリスピリダゾジルヒドロシラン、テトラ3,5-ジメチルピラゾリルシラン、テトラ3,5-エチルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジプロピルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジイソプロピルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジイソブチルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジシクロプロピルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジプロペニルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジブテニルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジフェニルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジフルオロピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジクロロピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジブロモピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジメトキシピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジエトキシピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジプロポキシピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジイソブトキシピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジフェノキシピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルシラン、テトラ3,5-ジシアノピラゾリルシラン、テトライソチアゾイルシラン、テトラピリダゾジルシラン等の含窒素ケイ素化合物;トリス3,5-ジメチルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-エチルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルホスフィン、テトラ3,5-ジクロロピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジブロモピラゾリルホスフィン、テトラ3,5-ジメトキシピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルホスフィン、トリス3,5-ジシアノピラゾリルホスフィン、トリスイソチアゾイルホスフィン、トリスピリダゾジルホスフィン等の含窒素ホスフィン化合物;トリス3,5-ジメチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-エチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルホスフィンオキシド、テトラ3,5-ジクロロピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジブロモピラゾリルホスフィンオキシド、テトラ3,5-ジメトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジシアノピラゾリルホスフィンオキシド、トリスイソチアゾイルホスフィンオキシド、トリスピリダゾジルホスフィンオキシド等の含窒素オキシリン化合物などが挙げられる。前記式で表される含窒素化合物として、好ましくは、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジエチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジプロペニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジブテニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフェニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフルオロピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジクロロピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジブロモピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジメトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジエトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジプロポキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフェノキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジシアノピラゾリルボレート、ヒドロトリスイソチアゾイルボレート、ヒドロトリスピリダゾジルボレート等の含窒素ヒドロボレート化合物;トリス3,5-ジメチルピラゾリルボラン、トリス3,5-エチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルボラン、トリス3,5-ジクロロピラゾリルボラン、トリス3,5-ジブロモピラゾリルボラン、トリス3,5-ジメトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジシアノピラゾリルボラン、トリスイソチアゾイルボラン、トリスピリダゾジルボラン等の含窒素ホウ素化合物;トリス3,5-ジメチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-エチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルヒドロシラン、テトラ3,5-ジクロロピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジブロモピラゾリルヒドロシラン、テトラ3,5-ジメトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジシアノピラゾリルヒドロシラン、トリスイソチアゾイルヒドロシラン、トリスピリダゾジルヒドロシラン等の含窒素シラン素化合物;トリス3,5-ジメチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-エチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルホスフィンオキシド、テトラ3,5-ジクロロピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジブロモピラゾリルホスフィンオキシド、テトラ3,5-ジメトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジシアノピラゾリルホスフィンオキシド、トリスイソチアゾイルホスフィンオキシド、トリスピリダゾジルホスフィンオキシド等の含窒素リン化合物が挙げられる。前記式で表される含窒素化合物として、より好ましくは、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジエチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジプロペニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジブテニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフェニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフルオロピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジクロロピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジブロモピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジメトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジエトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジプロポキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジーtert-ブトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフェノキシピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジシアノピラゾリルボレート、ヒドロトリスイソチアゾイルボレート、ヒドロトリスピリダゾジルボレート、トリス3,5-ジメチルピラゾリルボラン、トリス3,5-エチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルボラン、トリス3,5-ジクロロピラゾリルボラン、トリス3,5-ジブロモピラゾリルボラン、トリス3,5-ジメトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルボラン、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルボラン、トリス3,5-ジシアノピラゾリルボラン、トリスイソチアゾイルボラン、トリスピリダゾジルボラン、トリス3,5-ジメチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-エチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルヒドロシラン、テトラ3,5-ジクロロピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジブロモピラゾリルヒドロシラン、テトラ3,5-ジメトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルヒドロシラン、トリス3,5-ジシアノピラゾリルヒドロシラン、トリスイソチアゾイルヒドロシラン、トリスピリダゾジルヒドロシラン、トリス3,5-ジメチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-エチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジプロピルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソブチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジシクロプロピルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジシクロヘキシルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジプロペニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジブテニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフェニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフルオロピラゾリルホスフィンオキシド、テトラ3,5-ジクロロピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジブロモピラゾリルホスフィンオキシド、テトラ3,5-ジメトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジエトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジプロポキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソプロプロポキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジイソブトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-tert-ブトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジ-sec-ブトキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフェノキシピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジメタンスルホニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジフェニルスルホニルピラゾリルホスフィンオキシド、トリス3,5-ジシアノピラゾリルホスフィンオキシド、トリスイソチアゾイルホスフィンオキシド、トリスピリダゾジルホスフィンオキシドが挙げられる。前記式で表される含窒素化合物として、さらに好ましくは、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジイソブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート、ヒドロトリス3,5-ジ-sec-ブチルピラゾリルボレート、及びヒドロトリス3,5-ジフェニルピラゾリルボレートが挙げられる。<錯体に中心金属をもたらす金属化合物>本発明のシュウ酸の合成方法に用いられる金属錯体の調製に使用される金属化合物は、金属原子と対イオンからなり、金属原子としては、例えば、銅、白金、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、タングステン、レニウム、バナジウム、パラジウム、イリジウム、亜鉛が挙げられ、好ましくは、銅、白金、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、タングステン、イリジウム、亜鉛であり、より好ましくは、銅、鉄、亜鉛である。前記金属化合物の対イオンとしては、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンが挙げられ、好ましくは、塩化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオンであり、より好ましくは、塩化物イオン、過塩素酸イオンである。前記金属化合物としては、例えば、CuCl、CuCl2、PtCl2、FeCl2、FeCl3、CoCl2、CoCl3、NiCl2、RuCl2、WCl6、ReCl6、VCl2、VCl3、PdCl2、IrCl3、ZnCl2、CuBr、CuBr2、PtBr2、FeBr2、FeBr3、CoBr2、CoBr3、NiBr2、RuBr2、WBr6、ReBr6、VBr2、VBr3、PdBr2、IrBr3、ZnBr2、CuClO42、FeClO43、Cu2、Fe3、Zn2、Cu2、Fe3、Zn2Cu2、Fe3、Zn2、Cu2、Fe3、Zn2が挙げられ、好ましくは、CuCl、CuCl2、PtCl2、FeCl2、FeCl3、CoCl2、CoCl3、NiCl2、RuCl2、WCl6、ReCl6、VCl2、VCl3、PdCl2、IrCl3、ZnCl2、CuClO42、FeClO43、Cu2、Fe3、Zn2、Cu2、Fe3、Zn2であり、より好ましくは、CuCl2、FeCl3、CoCl3、ZnCl2、FeClO43である。<金属錯体の調製>本発明のシュウ酸の合成方法に用いられる金属錯体の合成において、前記αケト酸の使用量は、前記金属化合物に対し0.1モル倍以上であり、好ましくは0.5モル倍~5.0モル倍であり、より好ましくは0.5モル倍~3.0モル倍であり、更に好ましくは、0.5モル倍~2.0モル倍である。前記式2で表される含窒素化合物の使用量は、前記金属化合物に対し、0.1モル倍以上であり、好ましくは0.5モル倍~5.0モル倍であり、より好ましくは0.5モル倍~3.0モル倍であり、更に好ましくは、0.5モル倍~2.0モル倍である。前記金属錯体の合成は、通常、窒素雰囲気下又は不活性ガス雰囲気下で行われる。前記金属錯体を合成は、通常、溶媒の存在下で行われる。該溶媒としては、例えば、キシレン、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル溶媒;ジクロロメタン、1、2-ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒;アセトン、ブチルメチルケトン、2-ブチルメチルケトン等のケトン系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2-ブタノール、tert-ブタノール等のアルコール系溶媒などが挙げられる。これらは一種単独で用いてもよいし、2種以上を同時に用いてもよい。溶媒の使用量は特に限定されないが、前記金属化合物に対して、通常100重量倍以下であり、好ましくは0.1~50重量倍であり、より好ましくは0.1~30重量倍であり、更に好ましくは、0.1~20重量倍である。前記金属錯体を合成する際の反応温度は、通常、-50~100°Cであり、前記金属化合物、前記含窒素化合物及び前記αケト酸の前記溶媒に対する溶解性から、好ましくは-20~80°Cであり、より好ましくは、-10~50°Cであり、更に好ましくは-5~40°Cである。前記金属錯体の合成手順は、特に限定されないが、好ましくは、前記金属化合物に対し、前記含窒素化合物のアルカリ金属塩を作用させ、得られた混合物に前記αケト酸である2-オキソカルボン酸アルカリ金属塩を加えることで金属錯体を得る方法が挙げられる。本発明のシュウ酸の合成方法に用いられる金属錯体としては、市販品を購入して使用してもよい。上述により得られる、前記工程Aで用いられる金属錯体は、例えば、式3:式中、Mは金属原子を表し、Ar1、Ar2、Ar3及びR1は前記と同じであり、a及びbは独立に1~3の整数を表す。で示される。前記式3で示される金属錯体としては、例えば、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体等の銅錯体;ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸鉄錯体等の鉄錯体;ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸イリジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸イリジウム錯体等のイリジウム錯体;ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸パラジウム錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸パラジウム錯体等のパラジウム錯体;ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸亜鉛錯体等の亜鉛錯体などが挙げられる。前記式3で示される金属錯体としては、好ましくは、鉄錯体であるヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸鉄錯体、及びヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸鉄錯体;亜鉛錯体であるヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸亜鉛錯体、及びヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸亜鉛錯体;銅錯体であるヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジメチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-エチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、及びヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体の銅錯体である。前記式3で示される金属錯体としては、より好ましくは、銅錯体であるヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジ-tert-ブチルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体である。前記式3で示される金属錯体としては、更に好ましくはヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3,3-ジメチル-2-オキソブタン酸銅錯体、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートα-オキソフェニル酢酸銅錯体である。[工程Aの反応条件]前記工程Aの反応は、酸素の存在下、金属錯体と二酸化炭素とを反応させる。雰囲気中には二酸化炭素と酸素が存在することが必須である。酸素の不存在下では反応が進行しないためである。該反応における二酸化炭素の量は、酸素に対し、0.000001重量倍以上であり、好ましくは、0.00001重量倍~10重量倍であり、より好ましくは0.00001~5重量倍であり、さらに好ましくは、0.00001~2重量倍である。工程Aで用いられる前記金属錯体の量は、二酸化炭素に対し、0.1モル倍以上であり、好ましくは0.5~10モル倍であり、より好ましくは0.5~5.0モル倍であり、更に好ましくは0.5~2.0モル倍である。前記工程Aの反応の雰囲気中には、窒素などの不活性ガスが共存していてもよい。したがって、大気中でも反応は進行する。前記工程Aの反応は、通常、溶媒の存在下で実施される。該溶媒としては、例えば、キシレン、トルエン、クロロベンゼン、ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル溶媒;ジクロロメタン、1、2-ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒などが挙げられる。これらは一種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、ハロゲン化炭化水素と脂肪族炭化水素の混合溶媒が好ましく、ジクロロメタンとヘプタンを用いることがより好ましい。溶媒の使用量は特に限定されないが、前記金属錯体に対して、通常、100重量倍以下であり、0.1~10重量倍の範囲が好ましい。前記工程Aの反応の温度は、反応収率がより良好である点で、通常、-80~50°Cの範囲が選ばれ、好ましくは0~40°Cの範囲である。該反応は常圧下で行ってもよいし、加圧下で行ってもよい。該反応はFT-IR、ガスクロマトグラフィー等を用いて追跡することができる。以上説明した工程Aでの反応の結果、シュウ酸含有錯体が生成する。シュウ酸は該錯体に配位子として含まれている。該シュウ酸含有錯体は通常二核シュウ酸金属錯体である。前記二核シュウ酸金属錯体としては、例えば、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリル銅錯体、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリル鉄錯体、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリル白金錯体、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリルコバルト錯体、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリルニッケル錯体、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリルルテニウム錯体、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリルタングステン錯体、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリルバナジウム錯体、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリルパラジウム錯体、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリルイリジウム錯体、ビスヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレートオキサリル亜鉛錯体等が挙げられる。-工程B-該工程では、前記シュウ酸含有錯体を処理して該錯体からシュウ酸を分離する。シュウ酸含有錯体からのシュウ酸の分離は、例えば、シュウ酸含有錯体を電解還元することによりシュウ酸イオン溶液として取り出し、該シュウ酸イオン溶液のpHを7以下とすることでシュウ酸として定量的に分離することができる。以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は該実施例に限定されない。金属錯体の構造解析には、リガク社製X線結晶構造解析装置AFC-7Sを用いた。<調製例1>塩化銅II二水和物1.3gをメタノール20mLに溶解させた溶液に、室温にてヒドロトリス3,5-ジイソプロピル-1-ピラゾリルボレートカリウム塩を3.0g0.80当量、対塩化銅II二水和物添加した後、同温にて50分攪拌した。攪拌終了後、真空ポンプにて溶媒を減圧留去し、得られた反応混合物にメタノール30mLを加えてガラスフィルターを用いてろ過した。ろ過物を真空ポンプにて減圧下で乾燥することにより、赤茶色のクロライド銅II錯体CuL1ClL1ヒドロトリス3,5-ジイソプロピル-1-ピラゾリルボレートアニオンを収率94で得た。<調製例2>調製例1で得られたクロライド銅II錯体CuL1Cl2.0gを塩化メチレン45mLに溶解した。得られた溶液に、メタノール20mLに溶かした3-メチル-2-オキソブタン酸ナトリウム0.5g1.05当量、対クロライド銅II錯体の溶液を、0°Cにて滴下し、同温度にて1時間撹拌後、室温まで昇温し、反応溶液から溶媒を減圧留去した。得られた生成物に塩化メチレン20mLを加え、セライトろ過により生じた塩を除いた。その後、真空ポンプにて約5mLまで濃縮し、n-オクタン5mL加え、-25°Cの冷凍庫に入れ、一晩同温度にて静置することにより明緑色結晶を1.7g得た。該結晶を構造解析に供したところ、図1に示す構造を有する、ヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅II錯体CuL1CO2COCHCH32であることを確認した。収率75。<実施例1>調製例2で得られたヒドロトリス3,5-ジイソプロピルピラゾリルボレート3-メチル-2-オキソブタン酸銅II錯体0.1gを、塩化メチレンに溶解させ、n-ヘプタンを加え溶媒混合比=2/1重量比とした。得られた溶液を、大気雰囲気下で溶媒を揮発させることにより、残渣として緑色結晶として得た。該結晶を構造解析に供したところ、図2に示す構造を有する、オキサラート銅II錯体CuL12μ-C2O4であることが確認された。収率88。上記で得られたオキサラート銅II錯体を、電解還元し、得られた溶液をpH7以下にすることで定量的にシュウ酸を得ることができる。"