"X式aaで表される構造単位と式abで表される構造単位とを有する樹脂及びB酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式aa中、Raa1は、水素原子又はメチル基を表す。Aaa1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基又は式a-1で表される基を表す。式a-1中、sは0又は1の整数を表す。X10及びX11は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A10、A11及びA12は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。は炭素原子との結合手である。Raa2は、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。][式ab中、Rab1は、水素原子又はメチル基を表す。Aab1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基、式a-2で示される基又は単結合を表す。式a-2中、tは0または1の整数を表す。X30及びX31は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A30及びA31は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。A32は、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。はW1との結合手である。W1は、置換基を有していてもよい炭素数4~36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。nは1又は2を表す。Aab2は、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。nが2の場合、2つのAab2は同一又は相異なる。Rab2は、炭素数1~12のフッ化アルキル基を表し、フッ化アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチル基に置換されていてもよい。nが2の場合、2つのRab2は同一又は相異なる。]前記式aaのAaa1が、炭素数1~6のアルカンジイル基である請求項1記載のレジスト組成物。前記式aaのAaa1が、メチレン基である請求項1記載のレジスト組成物。前記式abのnが1であり、W1が、アダマンタンジイル基又はシクロヘキサンジイル基である請求項1~3のいずれか記載のレジスト組成物。前記Bが、式B1で表される酸発生剤である請求項1~4のいずれか記載のレジスト組成物。[式B1中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、炭素数1~17の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Yは、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Zは、有機カチオンを表す。]前記式B1のYが、置換基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭化水素基である請求項5記載のレジスト組成物。さらに、Aアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂を含有する請求項1~6のいずれか記載のレジスト組成物。さらに、D溶剤を含有する請求項1~7のいずれか記載のレジスト組成物。1請求項1~8のいずれか記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、2塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、3組成物層を露光する工程、4露光後の組成物層を加熱する工程、及び5加熱後の組成物層を現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。従来から知られる上記レジスト組成物から製造されるレジストパターンは、CD均一性CDUが必ずしも満足できない場合があった。本発明者等は前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に至った。すなわち、本発明は、以下の発明を含む。1X式aaで表される構造単位と式abで表される構造単位とを有する樹脂及びB酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式aa中、Raa1は、水素原子又はメチル基を表す。Aaa1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基又は式a-1で表される基を表す。式a-1中、sは0又は1の整数を表す。X10及びX11は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A10、A11及びA12は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。は炭素原子との結合手である。Raa2は、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。][式ab中、Rab1は、水素原子又はメチル基を表す。Aab1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基、式a-2で示される基又は単結合を表す。式a-2中、tは0または1の整数を表す。X30及びX31は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A30及びA31は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。A32は、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。はW1との結合手である。W1は、置換基を有していてもよい炭素数4~36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。nは1又は2を表す。Aab2は、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。nが2の場合、2つのAab2は同一又は相異なる。Rab2は、炭素数1~12のフッ化アルキル基を表し、フッ化アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチル基に置換されていてもよい。nが2の場合、2つのRab2は同一又は相異なる。]2前記式aaのAaa1が、炭素数1~6のアルカンジイル基である1記載のレジスト組成物。3前記式aaのAaa1が、メチレン基である1記載のレジスト組成物。4前記式abのnが1であり、W1が、アダマンタンジイル基又はシクロヘキサンジイル基である1~3のいずれか記載のレジスト組成物。5前記Bが、式B1で表される酸発生剤である1~4のいずれか記載のレジスト組成物。[式B1中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、炭素数1~17の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Yは、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Zは、有機カチオンを表す。]6前記式B1のYが、置換基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭化水素基である1~5記載のレジスト組成物。7さらに、Aアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂を含有する1~6記載のレジスト組成物。81前記1~7のいずれか記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、2塗布後の組成物から溶剤を除去して組成物層を形成する工程、3組成物層を露光する工程、4露光後の組成物層を加熱する工程及び5加熱後の組成物層を現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。本発明のレジスト組成物によれば、優れたCD均一性CDUのレジストパターンを製造することができる。本明細書に示す種々の化合物などにおいて共通する基を定義する。この定義において、Cに付して記載した数値は、各々の基の炭素数を示すものである。本明細書において、炭化水素基とは、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基をいう。該脂肪族炭化水素基はさらに鎖式及び脂環式に分類される。本明細書でいう脂肪族炭化水素基とは、特に定義しない限り、鎖式及び脂環式の脂肪族炭化水素基が組み合わさった脂肪族炭化水素基を含む。鎖式の脂肪族炭化水素基鎖式炭化水素基のうち1価のものは、典型的にはアルキル基であり、当該アルキル基としては、メチル基C1、エチル基C2、プロピル基C3、ブチル基C4、ペンチル基C5、ヘキシル基C6、ヘプチル基C7、オクチル基C8、デシル基C10、ドデシル基C12、ヘキサデシル基C14、ペンタデシル基C15、ヘキシルデシル基C16、ヘプタデシル基C17及びオクタデシル基C18などが挙げられ、これらは直鎖でも分岐していてもよい。この鎖式炭化水素基は特に限定しない限り、ここに例示したアルキル基の一部に炭素-炭素二重結合を含んでいてもよいが、このような炭素-炭素二重結合などを有さない、飽和の鎖式炭化水素基、特に飽和のアルキル基が好ましい。2価の鎖式炭化水素基は、ここに示したアルキル基から水素原子を1個取り去ったアルカンジイル基が該当する。脂環式の脂肪族炭化水素基脂環式炭化水素基のうち1価のものは、典型的には、脂環式炭化水素から水素原子1個を取り去った基である。当該脂環式炭化水素基には、炭素-炭素不飽和結合1個程度を含む不飽和脂環式炭化水素基でもよく、このような炭素-炭素不飽和結合を含まない飽和脂環式炭化水素基でもよいが、本明細書でいう脂環式炭化水素基は飽和であることが好ましい。また、脂環式炭化水素基は単環式のものであっても、多環式のものであってもよい。ここでは、水素原子を取り去る前の脂環式炭化水素を例示する。単環式の脂環式炭化水素は典型的にはシクロアルカンであり、以下の式KA-1で表されるシクロプロパンC3、式KA-2で表されるシクロブタンC4、式KA-3で表されるシクロペンタンC5、式KA-4で表されるシクロヘキサンC6、式KA-5で表されるシクロヘプタンC7、式KA-6で表されるシクロオクタンC8及び式KA-7で表されるシクロドデカンC12などが挙げられる。多環式の脂環式炭化水素は、例えば、以下の式KA-8で示されるビシクロ2.2.1ヘプタン以下ノルボルナンということがあるC7、式KA-9で示されるアダマンタンC10及び式KA-10~式KA-22で示される脂環式炭化水素などが挙げられる。2価の脂環式炭化水素基とは、式KA-1~式KA-22の脂環式炭化水素から水素原子を2個取り去った基が該当する。本明細書において、芳香族炭化水素基は1価の芳香族炭化水素基であり、典型的にはアリール基である。具体的にいえば、フェニル基C6、ナフチル基C10、アントリル基C14、ビフェニル基C12、フェナントリル基C14及びフルオレニル基C13などである。脂肪族炭化水素基は置換基を有することがある。置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基、アリール基、アラルキル基及びアリールオキシ基を挙げることができる。ハロゲン原子は特に限定のない限り、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子である。アルコキシ基としては、メトキシ基C1、エトキシ基C2、プロポキシ基C3、ブトキシ基C4、ペンチルオキシ基C5、ヘキシルオキシ基C6、ヘプチルオキシ基C7、オクチルオキシ基C8、デシルオキシ基C10及びドデシルオキシ基C12などであり、これらアルコキシ基は直鎖でも分岐していてもよい。アシル基としては、アセチル基C2、プロピオニル基C3、ブチリル基C4、バレイル基C5、ヘキシルカルボニル基C6、ヘプチルカルボニル基C7、オクチルカルボニル基C8、デシルカルボニル基C10及びドデシルカルボニル基C12などのアルキル基とカルボニル基とが結合したものに加え、ベンゾイル基C7などのようにアリール基とカルボニル基とが結合したものを含む。これらアシル基のうち、アルキル基とカルボニル基とが結合したものの該アルキル基は直鎖でも分岐していてもよい。アリール基としては、上述の芳香族炭化水素基のアリール基として例示したものと同じであり、アリールオキシ基の具体例は、当該アリール基と酸素原子とが結合したものである。アラルキル基としては、ベンジル基C7、フェネチル基C8、フェニルプロピル基C9、ナフチルメチル基C11及びナフチルエチル基C12などである。芳香族炭化水素基は置換基を有することがある。置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基、アルキル基及びアリールオキシ基を挙げることができる。これらのうち、アルキル基は、鎖式脂肪族炭化水素基として例示したものと同じであり、芳香族炭化水素基に任意に有する置換基のうち、アルキル基以外のものは、脂肪族炭化水素基の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。また、メタアクリル系モノマーとは、CH2=CH-CO-又はCH2=CCH3-CO-の構造を有するモノマーの少なくとも1種を意味する。同様にメタアクリレート及びメタアクリル酸とは、それぞれアクリレート及びメタクリレートの少なくとも1種及びアクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも1種を意味する。<レジスト組成物>本発明のレジスト組成物は、樹脂以下樹脂Xということがある及び酸発生剤を含有する。本発明のレジスト組成物は、樹脂Xを含有することにより、優れたCD均一性のレジストパターンを製造できる。また、本発明のレジスト組成物は、樹脂Xとは異なり、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるという特性を有する樹脂Aをさらに含有していることが好ましい。樹脂Xがこのような特性を有していてもよい。これにより、本発明のレジスト組成物は、樹脂Xと酸発生剤との相乗効果によって、より良好なレジストパターンを形成できる。なお、樹脂Xが上記特性を有する場合は、本発明のレジスト組成物は、必ずしも樹脂Aを含有していなくてもよい。本発明のレジスト組成物は、さらにD溶剤及び/又は塩基性化合物を含有していることが好ましい。樹脂X樹脂Xは、式aaで表される構造単位以下構造単位aaということがあると、式abで表される構造単位以下構造単位abということがあるを有する。構造単位aaAaa1は、炭素数1~6のアルカンジイル基又は式a-1で表される基以下基a-1ということがあるである。Aaa1のアルカンジイル基は、直鎖状であっても、分岐していてもよく、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;1-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、1-メチルブタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。アルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基などが挙げられる。Aaa1の基a-1は、X10及びX11のように、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基等の酸素原子を含む部分構造を有する。A10、A11及びA12の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、1-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基等が挙げられる。A10、A11及びA12における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基などが挙げられる。酸素原子を有する基a-1としては、などが挙げられるは結合手を表す。カルボニル基を有する基a-1としては、などが挙げられるは結合手を表す。カルボニルオキシ基を有する基a-1としては、などが挙げられるは結合手を表す。オキシカルボニル基を有する基a-1としては、などが挙げられるは結合手を表す。なかでも、Aaa1は炭素数1~6のアルカンジイル基が好ましく、炭素数1~4のアルカンジイル基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。Raa2は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。脂肪族炭化水素基は部分的に、炭素-炭素不飽和結合を有していてもよいが、炭素-炭素不飽和結合を有さない飽和の脂肪族炭化水素基脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。好ましい脂肪族炭化水素基としては、アルキル基当該アルキル基は直鎖でも分岐していてもよい。及び脂環式炭化水素基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基などが挙げられる。脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基などのシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及びメチルノルボルニル基並びに下記に示す基などが挙げられる。これらアルキル基及び脂環式炭化水素を任意に組み合わせた基であってもよい。Raa2の脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、酸素原子又はカルボニル基に置き換えられるメチレン基の個数は最大2個程度である。Raa2の脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよく、その場合の置換基はフッ素原子が好ましい。より好ましくは、水素原子の全部がフッ素原子に置換された脂肪族炭化水素基例えば、ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは、フッ素原子が置換された飽和の鎖式の脂肪族炭化水素基、特に、ペルフルオロアルキル基が好ましい。鎖式のフッ素原子が置換された脂肪族炭化水素基としては、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、1,1,1-トリフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロプロピル基、1,1,1,2,2-ペンタフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、1-トリフルオロメチル-1,2,2,2-テトラフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,2,2-テトラフルオロブチル基、1,1,1,2,2,3,3-ヘプタフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチル基、2-ペルフルオロプロピルエチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロペンチル基、1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロペンチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、ペルフルオロペンチル基、2-ペルフルオロブチルエチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロヘキシル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基、ペルフルオロオクチル基などが挙げられる。なかでも、好ましくは、トリフルオロメチル基、1,1,1-トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,1,2,2-ペンタフルオロプロピル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,1,2,2,3,3-ヘプタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基などであり、より好ましくは、炭素数が1~6のペルフルオロアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数1~3のペルフルオロアルキル基である。ここで、Aaa1がアルカンジイル基である好適な構造単位aaの具体例を示す。式aa-1~式aa-14のいずれかで表される構造単位aaにおいて、以下に示す部分構造Mを、以下に示す部分構造Aに置き換えたものも構造単位aaの具体例として挙げることができる。構造単位aaは、式aa’で表される化合物から誘導される。式aa’中の符号はいずれも、前記と同義である。化合物aa’は、例えば、式aas-1で表される化合物と式aas-2で表される化合物とを、溶媒中、触媒の存在下で反応させることにより、製造することができる。溶媒としては、ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。触媒としては、炭酸カリウム及びヨウ化カリウムなどを用いればよい。式aas-1で表される化合物としては、典型的には、市場から容易に入手できるもの市販品が好ましい。かかる市販品は、メタクリル酸などである。式aas-2で表される化合物は例えば、式aas-3で表される化合物と式aas-4で表される化合物とを反応させることで製造できる。この反応は、溶媒中、塩基触媒の存在下で実施される。この反応で用いる溶媒としては、テトラヒドロフランなどが挙げられる。塩基触媒としては、ピリジンなどが用いられる。式aas-3で表される化合物としては例えば、クロロアセチルクロリドなどが挙げられる。このクロロアセチルクロリドは市場から容易に入手できる。式aas-4で表される化合物としては例えば、2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロ-1-ブタノールなどが挙げられる。この2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロ-1-ブタノールは市場から容易に入手できる。構造単位abAab1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基、式a-2で示される基以下基a-2ということがある又は単結合を表す。Aab1のアルカンジイル基の具体例は、式aaのAaa1と同様のものが挙げられる。また、その置換基は、前記式aaのAaa1と同じく、ヒドロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基などである。基a-2の具体例のうち、A32が単結合以外のものは、前記基a-1の具体例と同じものを含む。ここでは、A32が単結合である基a-2について具体例を示すが、この具体例のは、式a-2と同様に、W1との結合手を示す。酸素原子を有する基a-2としては、などが挙げられる。カルボニル基を有する基a-2としては、などが挙げられる。カルボニルオキシ基を有する基a-2としては、などが挙げられる。オキシカルボニル基を有する基a-2としては、などが挙げられる。基a-2は、酸素原子、カルボニル基、オキシカルボニル基及びカルボニルオキシ基からなる群より選ばれる2種以上を含む場合もある。酸素原子及びカルボニルオキシ基を含む基a-2としてはなどが挙げられる。なかでも、Aab1としては、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は単結合が好ましく、置換基を有さないアルカンジイル基又は単結合がより好ましく、単結合がさらに好ましい。W1は、炭素数4~36の脂環式炭化水素基である。W1の脂環式炭化水素基としては、上述した式KA-1~式KA-22で表される脂環式炭化水素から水素原子をn1個取り去った基が挙げられ、好ましくは炭素数5~24の脂環式炭化水素基、炭素数が5~18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは6~12の脂環式炭化水素基である。なかでも、アダマンタン、シクロヘキサン、ノルボルナン又はノルボルネンから水素原子をn1個取り去った基が好ましく、アダマンタン又はシクロヘキサンから水素原子をn1個取り去った基がより好ましく、アダマンタンから水素原子をn1個取り去った基がさらに好ましい。W1の脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換えられることもあるが、ここでいう総炭素数とは、メチレン基を置き換える前の炭素数をいう。メチレン基が酸素原子又はカルボニル基に置き換わった基としては、例えば、以下の基が挙げられる。メチレン基が酸素原子又はカルボニル基に置き換わってもよい数は、2個程度が好ましい。脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、水素原子以外の置換基に置換されていてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基が挙げられる。ただし、W1では、脂環式炭化水素基及び置換基の合計炭素数は4~36が好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基及びオクチル基などが挙げられ、これらのアルキル基は直鎖でも、分岐していてもよい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ヘキシルオキシ基及びオクチルオキシ基などが挙げられ、これらのアルコキシ基は直鎖でも、分岐していてもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロヘキシル基、アダマンチル基及びノルボルニル基などが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル基及びナフチル基などが挙げられる。好ましい-W1-Aab2-Rab2n[W1、Aab2、Rab2及びnは、前記と同義である。]としては、式W1-1で表される基、及び式W1-2で表される基が挙げられる。式W1-1中、Aab2、Rab2及びnは、前記と同義である。アダマンタン環に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。アダマンタン環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基に置換されていてもよい。はAab1との結合手を表す。アダマンタン環に含まれるメチレン基が、酸素原子又はカルボニル基に置き換わる場合、置き換えられるメチレン基の個数は最大2個程度であり、置き換えられるメチレン基の個数は0であるとさらに好ましい。式W1-2中、Aab2、Rab2及びnは、前記と同義である。シクロヘキサン環に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。シクロヘキサン環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基に置換されていてもよい。はAab1との結合手を表す。シクロヘキサン環に含まれるメチレン基が、酸素原子又はカルボニル基に置き換わる場合、置き換えられるメチレン基の個数は最大2個程度であり、置き換えられるメチレン基の個数は0であるとさらに好ましい。式W1-1のアダマンタン環に含まれる水素原子が、アルキル基、アルコキシ基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基からなる群より選ばれる基に置き換えられている場合、その置換数は最大3個程度であり、この置換数が2以上の場合、置き換えられた複数の基はそれぞれ独立である。同様に、式W1-2のシクロヘキサン環にある水素原子が、アルキル基、アルコキシ基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基からなる群より選ばれる基に置き換えられている場合、その置換数は最大3個程度であり、この置換数が2以上の場合、置き換えられた複数の基はそれぞれ独立である。式W1-1のアダマンタン環又は式W1-2のシクロヘキサン環に含まれる水素原子が置き換わることもある基置換基の具体例は、各々の炭素数が上述の範囲において、すでに例示したものを含む。nは1が好ましく、よって、W1は2価の基であることが好ましい。nが1である場合、好ましいW1はアダマンタンジイル基又はシクロヘキサンジイル基である。Aab2は炭素数1~6の脂肪族炭化水素基を示す。脂肪族炭化水素基は部分的に、炭素-炭素不飽和結合を含んでもよいが、このような不飽和結合を有さない、脂肪族飽和炭化水素基が好ましく、典型的にはアルカンジイル基である。アルカンジイル基としては、すでに例示したものを含む。また、脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、このような基としては、例えば、以下の基が挙げられる。なお、は、W1との結合手を表す。なかでも、Aab2は、メチレン基の一部が酸素原子及び/又はカルボニル基で置き換えられたアルカンジイル基が好ましい。Rab2は、炭素数1~12のフッ化アルキル基を示す。フッ化アルキル基とは、炭素数1~12のアルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子に置換された基を意味する。なお、炭素数1~12のアルキル基は、炭素数12以下である範囲において、すでに例示したものを含む。また、フッ素原子に置換された水素原子以外の水素原子は、ヒドロキシ基又はアルコキシ基に置換されることもある。Rab2としては、アルキル基に含まれる水素原子の全部がフッ素原子に置換されたものペルフルオロアルキル基がさらに好ましい。このペルフルオロアルキル基の具体例は、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基などである。また、このペルフルオロアルキル基は直鎖でも分岐していてもよいが、直鎖のペルフルオロアルキル基が好ましい。Rab2における置換基としては、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチル基が挙げられる。構造単位abの具体例を以下に示す。なお、この具体例では、W1がアダマンタン環を含む基である構造単位abを示すことにするが、W1がシクロヘキサン環を含む脂環式炭化水素基である構造単位abとしては、以下に示す具体例の各々に含まれるアダマンタン環をシクロヘキサン環に置き換えたものを挙げることができる。また、nが2である場合は、以下に示す構造単位abの具体例の各々において、アダマンタン環に含まれる水素原子1個を、-Aab2-Rab2に置き換えればよい。式ab-1~式ab-11のいずれかで表される構造単位abにおいて、構造単位aaの具体例と同様に、部分構造Mを部分構造Aに置き換えたものも構造単位abの具体例として挙げることができる。構造単位abは、式ab’で表される化合物以下化合物ab’ということがあるから誘導される。式ab’中の符号はいずれも、前記と同義である。化合物ab’は例えば、国際公開第2008/015876号パンフレットに記載された方法に準じて製造することができる。樹脂Xにおいて、構造単位aaと構造単位abとは、各々一種ずつ有していてもよいし、一方が複数種であり、他方が一種であってもよいし、構造単位aa及び構造単位abをともに複数種を有していてもよい。これらのうち、樹脂Xを容易に製造できる点では、構造単位aaと構造単位abとは、各々一種ずつ有しているものが好ましい。かかる構造単位aa及び構造単位abの組み合わせとしては例えば、以下の表1に示される。なお、表1では式aa-1で表される構造単位aaなどを、その式番号に応じて、aa-1と表記し、同様に式ab-1で表される構造単位abなどを、その式番号に応じて、ab-1と表記する。また、例えばaa-1/aa-3の表記は、構造単位aaとして、式aa-1で表される構造単位と、式aa-3で表される構造単位とをともに有することを意味する。構造単位aa又は構造単位I及び構造単位abの合計含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、好ましくは1~100モルであり、より好ましくは5~100モルであり、さらに好ましくは10~100モルであり、より一層好ましくは30~100モルであり、特に50~100モルである。樹脂Xにおいて、構造単位aa又は構造単位Iと構造単位abとの含有量のモル比は、好ましくは1:99~99:1が挙げられ、3:97~97:3が好ましく、50:50~95:5がより好ましく、60:40~90:10が一層好ましく、70:30~90:10が特に好ましい。なお、このような含有割合で構造単位aaや構造単位abを有する樹脂Xは、樹脂X製造時に用いる全モノマーの総モル量に対する化合物aa’及び化合物ab’の使用モル量を調節すればよい。上述のとおり、樹脂Xは構造単位aa及び構造単位ab以外の構造単位を有していてもよく、構造単位aa及び構造単位ab以外の構造単位としては、後述する樹脂Aに含まれていてもよい構造単位などが挙げられ、特に、酸安定モノマーa4に由来する構造単位などが好ましい。樹脂A樹脂Aは、上述したように、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるという特性を有する樹脂である。そのために、樹脂Aは、分子内に1以上の酸不安定基を有する。以下、酸不安定基を有する構造単位を構造単位a1といい、このような構造単位a1を誘導するモノマーを酸不安定モノマーという。ここで、酸不安定基とは、酸との接触により脱離し得る保護基により保護されている親水性基を意味し、このような親水性基としては、ヒドロキシ基又はカルボキシ基が挙げられる。なかでも、カルボキシ基がより好ましい。樹脂Aは、構造単位aa及び構造単位abのいずれかを有していてもよいが、両者を同時に有さない。なお、樹脂Xが、上述した特性を有する場合には、構造単位aa又は構造単位I及び構造単位ab以外に、酸不安定基を有することが好ましい。本発明のレジスト組成物は、このような特性を有する樹脂を含むことにより、酸発生剤との相乗効果によって、優れたCD均一性のレジストパターンを製造することができる。酸不安定基親水性基がカルボキシ基である場合の酸不安定基は、該カルボキシ基の水素原子が、有機残基に置き換わり、カルボキシ基の-O-と結合する該有機残基の原子が第三級炭素原子である基すなわち第三アルコールのエステルが挙げられる。このような酸不安定基のうち、好ましい酸不安定基は例えば、以下の式1で表されるもの以下酸不安定基1ということがあるである。式1中、Ra1、Ra2及びRa3Ra1~Ra3は、それぞれ独立に、炭素数1~8の脂肪族炭化水素基を表し、Ra1及びRa2は結合して、それらが結合する炭素原子とともに炭素数3~20の環を形成してもよい。Ra1及びRa2が結合して形成される環、及び該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。は結合手を表す。Ra1~Ra3の脂肪族炭化水素基は、アルキル基又は脂環式炭化水素基である。このアルキル基の具体例は、すでに例示したアルキル基のうち、炭素数が1~8の範囲において、すでに例示したものを含む。脂環式炭化水素基も、炭素数が8以下の範囲において、すでに例示したものを含む。-CRa1Ra2Ra3基において、Ra1及びRa2が互いに結合して形成する炭化水素基としては、下記の基が挙げられる。この炭化水素基は、好ましくは炭素数3~12である。式1で表される酸に不安定な基としては、例えば、1,1-ジアルキルアルコキシカルボニル基式1中、Ra1~Ra3がアルキル基である基、好ましくはtert-ブトキシカルボニル基、2-アルキルアダマンタン-2-イルオキシカルボニル基式1中、Ra1、Ra2及び炭素原子がアダマンチル基を形成し、Ra3がアルキル基である基及び1-アダマンタン-1-イル-1-アルキルアルコキシカルボニル基式1中、Ra1及びRa2がアルキル基であり、Ra3がアダマンチル基である基などが挙げられる。一方、親水性基がヒドロキシ基である場合の酸不安定基は、該ヒドロキシ基の水素原子が、有機残基に置き換わり、アセタール構造又はケタール基を含む基となったものが挙げられる。このような酸不安定基のうち、好ましい酸不安定基は例えば、以下の式2で表されるもの以下酸不安定基2ということがあるである。式2中、Rb1及びRb2Rb1~Rb2は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~20の炭化水素基を表し、Rb3は、炭素数1~20の炭化水素基を表す。或いは、Rb2及びRb3は結合して、それらが各々結合する炭素原子及び酸素原子とともに炭素数3~20の環を形成してもよい。該炭化水素基がメチレン基を含む場合、そのメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、Rb2及びRb3が結合して形成される環に含まれるメチレン基も、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。は結合手を表す。Rb1~Rb3の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基のいずれでもよく、その具体例も炭素数の上限が20以下である範囲において、すでに例示したものを含むが、Rb1及びRb2のうち、少なくとも1つは水素原子であると好ましい。酸不安定基2の具体例としては、以下の基が挙げられる。構造単位a1は、酸不安定基と炭素-炭素二重結合とを有するモノマーから誘導されるものが好ましく、酸不安定基を有するメタアクリル系モノマーから誘導されるものがさらに好ましい。当該構造単位a1は好ましくは、酸不安定基1又は酸不安定基2を有するものであり、これらの酸不安定基をともに有していてもよい。より好ましくは酸不安定基1を有する構造単位a1である。酸不安定基1を有する構造単位a1の中でも、酸不安定基1が、炭素数5~20の脂肪族環を部分構造とするものが好ましい。このような立体的に嵩高い基の構造単位a1を有する樹脂Aは、該樹脂Aを含有する本発明のレジスト組成物を用いてレジストパターンを製造したとき、より良好な解像度でレジストパターンを製造することができる。酸不安定構造単位a1酸不安定基1を有する構造単位a1は、式a1-1で表される構造単位以下構造単位a1-1ということがある及び式a1-2で表される構造単位以下構造単位a1-2ということがあるが好ましい。式a1-1中、La1は、酸素原子又は-O-CH2k1-CO-O-k1は1~7の整数を表し、はカルボニル基との結合手を表す。で表される基を表す。Ra4は、水素原子又はメチル基を表す。Ra6は、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基を表す。m1は0~14の整数を表す。式a1-2中、La2は、酸素原子又は-O-CH2k1-CO-O-k1は前記と同義である。で表される基を表す。Ra5は、水素原子又はメチル基を表す。Ra7は、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基を表す。n1は0~10の整数を表す。n1’は0~3の整数を表す。La1及びLa2は、好ましくは、酸素原子又は、k1が1~4の整数である-O-CH2k1-CO-O-で表される基であり、より好ましくは酸素原子又は-O-CH2-CO-O-であり、さらに好ましくは酸素原子である。Ra4及びRa5は、好ましくはメチル基である。Ra6及びRa7の脂肪族炭化水素基のうち、好ましくは炭素数1~8のアルキル基又は炭素数3~10の脂環式炭化水素基であり、この炭素数の上限以下の範囲で、すでに例示したものと同じものを含む。Ra6及びRa7の脂肪族炭化水素基はそれぞれ独立に、好ましくは炭素数8以下のアルキル基又は炭素数8以下の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは炭素数6以下のアルキル基又は炭素数6以下の脂環式炭化水素基である。m1は、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は1である。n1は、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は1である。n1’は好ましくは0又は1である。ここで、構造単位a1-1の具体例を挙げる。式a1-1-1~式a1-1-38のいずれかで表される構造単位a1-1の具体例において、構造単位aaの具体例と同様に、部分構造Mを部分構造Aに置き換えたものも構造単位a1-1の具体例として挙げることができる。なかでも、式a1-1-1、式a1-1-2及び式a1-1-3のいずれかで表される構造単位a1-1、並びにこれらの構造単位a1-1の部分構造Mが部分構造Aに置き換えられたものが好ましく、式a1-1-1、式a1-1-2及び式a1-1-3のいずれかで表される構造単位a1-1がより好ましく、式a1-1-1及び式a1-1-2のいずれかで表される構造単位a1-1がさらに好ましい。なお、これら好ましい構造単位a1-1を有する樹脂Aは、該樹脂Aを製造する際に、2-メチル-2-アダマンタン-2イルメタアクリレート、2-エチル-2-アダマンタン-2イルメタアクリレート又は2-イソプロピル-2-アダマンタン-2-イルメタアクリレートなどを製造用原料モノマーとして用いればよい。構造単位a1-2としては、以下の構造単位があげられる。式a1-2-1~式a1-2-12のいずれかで表される構造単位a1-2の具体例において、構造単位aaの具体例と同様に、部分構造Mを部分構造Aに置き換えたものも構造単位a1-2の具体例として挙げることができる。なかでも、式a1-2-1、式a1-2-2、式a1-2-4及び式a1-2-5のいずれかで表される構造単位a1-2、あるいは、これらの構造単位a1-2の部分構造Mが部分構造Aに置き換えられたものがより好ましく、式a1-2-4及び式a1-2-5のいずれかで表される構造単位、あるいは、これらの構造単位a1-2の部分構造Mが部分構造Aに置き換えられたものがさらに好ましい。このような構造単位a1-2を有する樹脂Aを製造するためには、2-メチル-2-シクロヘキサン-2-イルメタアクリレートなどをモノマーとして用いればよい。樹脂Aが構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を有する場合、その合計含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、10~95モルの範囲が好ましく、15~90モルの範囲がより好ましく、20~85モルの範囲が一層好ましい。樹脂Xが構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を有する場合、その合計含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、5~50モルの範囲が好ましく、10~45モルの範囲がより好ましく、15~40モルの範囲がさらに好ましい。構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2の合計含有割合を、このような範囲にするためには、樹脂Aを製造する際に、全モノマーの使用量に対する、構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を誘導するモノマーの使用量を調整すればよい。また、構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を有する樹脂Xを製造する場合には、構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を誘導するモノマーの使用量と、化合物aa’及び化合物ab’の合計使用量との割合を調整すればよい。酸不安定モノマー酸不安定基1を有する構造単位a1として、式a1-3で表されるノルボルネン環を有するモノマー以下モノマーa1-3ということがあるに由来する構造単位を用いることができる。式a1-3中、Ra9は、水素原子、ヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1~3のアルキル基、カルボキシル基、シアノ基又は-COORa13Ra13は、炭素数1~20の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。を表す。Ra10、Ra11及びRa12Ra10~Ra12は、それぞれ独立に、炭素数1~20の脂肪族炭化水素基を表すか、或いは、Ra10及びRa11が結合して、これらが結合している炭素原子とともに、炭素数3~20の環を形成する。なお、この脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基などに置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ra9のヒドロキシ基を有するアルキル基は例えば、ヒドロキシメチル基及び2-ヒドロキシエチル基などが挙げられる。Ra10~Ra12の脂肪族炭化水素基は、鎖式炭化水素基例えば、アルキル基及び脂環式炭化水素基のいずれでもよく、その具体例は、炭素数20以下の範囲において、すでに例示したものを含む。Ra10及びRa11が結合して形成される環は脂肪族環が好ましく、具体的には、シクロへキサン環及びアダマンタン環などが好ましい。Ra9のアルコキシカルボニル基は例えば、メトキシカルボニル基C2及びエトキシカルボニル基C3など、すでに例示したアルコキシ基にカルボニル基がさらに結合した基が挙げられる。モノマーa1-3としては、5-ノルボルネン-2-カルボン酸-tert-ブチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-シクロヘキシル-1-メチルエチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-メチルシクロヘキシル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸2-メチル-アダマンタン-2-イル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸2-エチル-アダマンタン-2-イル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-4-メチル-シクロヘキシル-1-メチルエチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-4-ヒドロキシシクロヘキシル-1-メチルエチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-メチル-1-4-オキソシクロヘキシルエチル及び5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-アダマンタン-1-イル-1-メチルエチルなどが挙げられる。モノマーa1-3を用いて樹脂Aを製造した場合、この樹脂Aにはモノマーa1-3に由来する、立体的に嵩高い構造単位が含まれることになる。このように立体的に嵩高い構造単位を有する樹脂Aを含有する本発明のレジスト組成物により、レジストパターンを製造すれば、より良好な解像度でレジストパターンを得ることができる。さらにモノマーa1-3を用いることにより、樹脂Aの主鎖に剛直なノルボルナン環を導入できるため、該樹脂Aを含有する本発明のレジスト組成物は、ドライエッチング耐性に優れたレジストパターンが得られ易いという傾向がある。樹脂Aが、モノマーa1-3に由来する構造単位を有する場合、上述のように、良好な解像度でレジストパターンを製造できる点や、ドライエッチング耐性に優れたレジストパターンが得られ易いという点から、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、10~95モルの範囲が好ましく、15~90モルの範囲がより好ましく、20~85モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xが、モノマーa1-3に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、5~50モルの範囲が好ましく、10~45モルの範囲がより好ましく、15~40モルの範囲がさらに好ましい。酸不安定基2を有する構造単位a1としては、式a1-4で表されるモノマー以下モノマーa1-4ということがあるに由来する構造単位が挙げられる。式a1-4中、Ra32は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基ハロアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ra33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアシル基、炭素数2~4のアシルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。laは0~4の整数を表す。laが2以上である場合、複数のRa33はそれぞれ独立である。Ra34及びRa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~12の炭化水素基を表す。Xa2は、単結合又は炭素数1~17の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアシル基及び炭素数2~4のアシルオキシ基からなる群より選ばれる基に置換されていてもよい。ここに示す置換基の具体例は、炭素数が各々の上限である範囲において、すでに例示したものを含む。Xa2の脂肪族炭化水素基は、鎖式炭化水素基であると好ましく、アルカンジイル基であるとさらに好ましい。該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又は-NRc-で示される基に置き換わっていてもよい。ここで、Rcは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。Ya3は、炭素数1~18の炭化水素基であり、さらに好ましくは、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基である。これらの炭化水素基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアシル基又は炭素数2~4のアシルオキシ基を有していてもよい。Ra32のハロゲン原子を有してもよいアルキル基のうち、アルキル基の具体例としては、炭素数1~6の範囲において、すでに例示したものを含む。ハロアルキル基とは、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子に置換されたものである。具体的にハロアルキル基を挙げると、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基及びペルヨードメチル基などである。Ra32及びRa33のハロゲン原子、アルコキシ基及びアシル基の具体例は、すでに例示したものを含む。Ra34及びRa35の炭化水素基は、鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基のいずれであってもよい。その具体例は、各々の炭素数の範囲において、すでに例示したものを含む。これらのうち、該鎖式炭化水素基としては、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基が好ましく、該脂環式炭化水素基としては、シクロヘキシル基、アダマンチル基、2-アルキル-2-アダマンタン-2イル基、1-1-アダマンタン-1-イル-1-アルキル基及びイソボルニル基が好ましい。該芳香族炭化水素基は、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、2,6-ジエチルフェニル基及び2-メチル-6-エチルフェニルが好ましい。Ra32及びRa33がアルキル基である場合、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ra33のアルコキシ基としては、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。Xa2及びYa3の置換基は好ましくはヒドロキシ基である。モノマーa1-4としては、以下のモノマーが挙げられる。ここに示すモノマーa1-4において、以下に示す部分構造V’を、以下に示す部分構造P’置き換えたものもモノマーa1-4の具体例として挙げることができる。部分構造P’部分構造V’樹脂Aがモノマーa1-4に由来する構造単位を有する場合、その含有割合は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、10~95モルの範囲が好ましく、15~90モルの範囲がより好ましく、20~85モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xが、モノマーa1-4に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、5~50モルの範囲が好ましく、10~45モルの範囲がより好ましく、15~40モルの範囲がさらに好ましい。酸不安定基2を有する構造単位として、例えば、式a1-5で表されるモノマー以下モノマーa1-5ということがあるに由来する構造単位を用いることができる。式a1-5中、R31は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。L1~L3は、酸素原子又は硫黄原子又は-O-CH2k1-CO-O-で表される基を表す。ここで、k1は1~7の整数を表し、はカルボニル基-CO-との結合手である。Z1は、単結合又は炭素数1~6のアルカンジイル基であり、該アルカンジイル基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。s1及びs1’は、それぞれ独立して、0~4の整数を表す。式a1-5においては、R31は、水素原子及びメチル基が好ましい。L1は、酸素原子が好ましい。L2及びL3は、それぞれ独立に酸素原子又は硫黄原子である。L2及びL3は、一方が酸素原子、他方が硫黄原子であると好ましい。s1は、1が好ましい。s1’は、0~2の整数が好ましい。Z1は、単結合又は炭素数1~6のアルカンジイル基であり、該アルカンジイル基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Z1としては、単結合又は-CH2-CO-O-が好ましい。モノマーa1-5としては、以下のモノマーが挙げられる。上記モノマーにおいて、R31に相当するメチル基が水素原子に置き換わったモノマーも、モノマーa1-5の具体例として挙げることができる。樹脂Aがモノマーa1-5に由来する構造単位を有する場合、その含有割合は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、10~95モルの範囲が好ましく、15~90モルの範囲がより好ましく、20~85モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xがモノマーa1-5に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、5~50モルの範囲が好ましく、10~45モルの範囲がより好ましく、15~40モルの範囲がさらに好ましい。酸安定構造単位本発明のレジスト組成物樹脂Aは、酸不安定構造単位a1に加えて、酸不安定基を有さない構造単位以下酸安定構造単位ということがあるを有していることが好ましい。なお、樹脂Xが、構造単位aa及び構造単位ab以外に、酸安定構造単位を有していてもよい。以下においては、構造単位a1を有する樹脂Xに酸安定構造単位を導入する場合は、樹脂Aを樹脂Xに置き換えて読むことができる。酸安定構造単位は、ヒドロキシ基又はラクトン環を有する構造単位が好ましい。ヒドロキシ基を有する酸安定構造単位以下酸安定構造単位a2ということがある及び/又はラクトン環を有する酸安定構造単位以下酸安定構造単位a3ということがあるを有する樹脂Aは、当該樹脂Aを含有する本発明のレジスト組成物を基板に塗布したとき、基板上に形成される塗布膜又は塗布膜から得られる組成物層が基板との間に優れた密着性を発現し易くなり、本発明のレジスト組成物は良好な解像度で、レジストパターンを製造することができる。酸安定構造単位a2酸安定構造単位a2を樹脂Aに導入する場合、当該樹脂Aを含有する本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造する際の露光源の種類によって、各々、好適な酸安定構造単位a2を選択することができる。すなわち、本発明のレジスト組成物を、KrFエキシマレーザ波長:248nmを露光源とする露光、電子線あるいはEUV光などの高エネルギー線を露光源とする露光に用いる場合には、酸安定構造単位a2として、フェノール性ヒドロキシ基を有する酸安定構造単位a2-0を樹脂Aに導入することが好ましい。短波長のArFエキシマレーザ波長:193nmを露光源とする露光を用いる場合は、酸安定構造単位a2として、後述の式a2-1で表される酸安定構造単位を樹脂Aに導入することが好ましい。このように、樹脂Aが有する酸安定構造単位a2は各々、レジストパターンを製造する際の露光源によって好ましいものを選ぶことができるが、樹脂Aが有する酸安定構造単位a2は、露光源の種類に応じて好適な酸安定構造単位a21種のみを有していてもよく、露光源の種類に応じて好適な酸安定構造単位a22種以上を有していてもよく、或いは、露光源の種類に応じて好適な酸安定構造単位a2と、それ以外の酸安定構造単位a2とを組み合わせて有していてもよい。酸安定構造単位a2-0酸安定構造単位a2は、以下の式a2-0で表されるもの以下酸安定構造単位a2-0ということがあるも挙げることができる。式a2-0中、Ra30は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ra31は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアシル基、炭素数2~4のアシルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。maは0~4の整数を表す。maが2以上の整数である場合、複数のRa31はそれぞれ独立である。Ra30のハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基及びハロゲン原子の具体例は、式a1-4のRa32で例示したものと同じである。これらのうち、Ra30は、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ra31のアルコキシ基の具体例は、すでに例示したものを含む。これらのうち、Ra31は、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。maは0、1又は2が好ましく、0又は1がより好ましく、0が特に好ましい。酸安定構造単位a2-0の具体例を、該酸安定構造単位a2-0を誘導するモノマー以下酸安定モノマーa2-0ということがあるを挙げることで例示する。ここに例示する具体例において、ベンゼン環に結合しているメチル基やエチル基を、Ra31として例示したその他の置換基に置き換えたものも、酸安定モノマーa2-0の具体例である。このような酸安定モノマーa2-0を用いて樹脂Aを製造する場合、酸安定モノマーa2-0にあるフェノール性ヒドロキシ基が適当な保護基で保護されているモノマーを用いることもできる。保護基は、例えば、酸又は塩基で脱離する保護基などが好ましい。酸又は塩基で脱離する保護基で保護されたフェノール性ヒドロキシ基は、酸又は塩基との接触により、脱保護することができる。ただし、樹脂Aは、酸不安定基を含む構造単位a1を有しているので、保護基で保護されたフェノール性ヒドロキシ基を脱保護する際には、構造単位a1の酸不安定基を著しく損なわないよう、塩基との接触により、脱保護することが好ましい。保護基としては、例えば、保護基としては、例えば、アセチル基、ベンゾイル基などが好ましい。塩基としては、例えば、4-ジメチルアミノビリジン、トリエチルアミン等が挙げられる。上述の酸安定モノマーa2-0の例示の中では、4-ヒドロキシスチレン又は4-ヒドロキシ-α-メチルスチレンが特に好ましい。これらの化合物は、フェノール性ヒドロキシ基が適当な保護基で保護したものであってもよい。樹脂Aが酸安定構造単位a2-0を有する場合、その含有割合は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、通常、5~95モルが好ましく、10~80モルがより好ましく、15~80モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xが酸安定構造単位a2-0を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常、0~90モルであり、10~80モルが好ましく、20~70モルがより好ましい。酸安定構造単位a2-1酸安定構造単位a2-1の具体例は、以下の式a2-1で示されるものである。式a2-1中、La3は、酸素原子又は-O-CH2k2-CO-O-k2は1~7の整数を表す。を表し、はカルボニル基-CO-との結合手を表す。Ra14は、水素原子又はメチル基を表す。Ra15及びRa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。o1は、0~10の整数を表す。La3は、好ましくは、酸素原子又は、k2が1~4の整数である-O-CH2k2-CO-O-で表される基であり、より好ましくは、酸素原子又は、-O-CH2-CO-O-であり、さらに好ましくは酸素原子である。Ra14は、好ましくはメチル基である。Ra15は、好ましくは水素原子である。Ra16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。o1は、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は1である。酸安定構造単位a2-1としては、例えば、以下のものが挙げられる。式a2-1-1~式a2-1-17のいずれかで表される酸安定構造単位a2-1の具体例において、構造単位aaの具体例と同様に、部分構造Mを部分構造Aに置き換えたものも酸安定構造単位a2-1の具体例として挙げることができる。例示した酸安定構造単位a2-1の中でも、式a2-1-1、式a2-1-2、式a2-1-13及び式a2-1-15のいずれかで表される酸安定構造単位a2-1、並びにこれらの酸安定構造単位a2-1の部分構造Mが部分構造Aに置き換わったものが好ましく、式a2-1-1、式a2-1-2、式a2-1-13及び式a2-1-15のいずれかで表される酸安定構造単位a2-1がさらに好ましい。これらの酸安定構造単位a2-1を有する樹脂Aは、3-ヒドロキシアダマンタン-1-イルメタアクリレート、3,5-ジヒドロキシアダマンタン-1-イルメタアクリレート又はメタアクリル酸1-3,5-ジヒドロキシアダマンタン-1-イルオキシカルボニルメチルなどを、樹脂A製造用のモノマーとして用いればよい。樹脂Aが酸安定構造単位a2-1を有する場合、その含有割合は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、3~40モルの範囲から選ばれ、5~35モルの範囲がより好ましく、5~30モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xが酸安定構造単位a2-1を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常、1~90モルであり、10~80モルが好ましく、20~70モルがより好ましい。酸安定構造単位a3酸安定構造単位a3が有するラクトン環は、例えば、β-プロピオラクトン環、γ-ブチロラクトン環及びδ-バレロラクトン環のような単環式でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。これらラクトン環の中で、γ-ブチロラクトン環及びγ-ブチロラクトン環と他の環との縮合環が好ましい。酸安定構造単位a3は好ましくは、以下の式a3-1、式a3-2又は式a3-3で表されるものである。樹脂Aは、これらのうち1種のみを有していてもよく、2種以上を有していてもよい。なお、以下の説明においては、式a3-1で示されるものを酸安定構造単位a3-1といい、式a3-2で示されるものを酸安定構造単位a3-2といい、式a3-3で示されるものを酸安定構造単位a3-3という。[式a3-1中、La4は、酸素原子又は-O-CH2k3-CO-O-k3は1~7の整数を表す。を表す。はカルボニル基との結合手を表す。Ra18は、水素原子又はメチル基を表す。p1は0~5の整数を表す。Ra21は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表し、p1が2以上の場合、複数のRa21はそれぞれ独立である。式a3-2中、La5は、酸素原子又は-O-CH2k3-CO-O-k3は1~7の整数を表す。を表す。はカルボニル基との結合手を表す。q1は、0~3の整数を表す。Ra22は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表し、q1が2以上の場合、複数のRa22は、それぞれ独立である。式a3-3中、La6は、酸素原子又は-O-CH2k3-CO-O-k3は1~7の整数を表す。を表す。はカルボニル基との結合手を表す。Ra20は、水素原子又はメチル基を表す。r1は、0~3の整数を表す。Ra23は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表し、r1が2以上の場合、複数のRa23は、それぞれ独立である。]式a3-1~式a3-3において、La4~La6は、それぞれ独立に、酸素原子又は、k3が1~4の整数である-O-CH2k3-CO-O-で表される基が好ましく、酸素原子又は、-O-CH2-CO-O-がより好ましく、さらに好ましくは酸素原子である。Ra18~Ra21は、好ましくはメチル基である。Ra22及びRa23は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。p1、q1及びr1は、好ましくは0~2の整数であり、より好ましくは0又は1である。γ-ブチロラクトン環を有する酸安定構造単位a3-1としては、例えば、以下のものが挙げられる。γ-ブチロラクトン環とノルボルナン環との縮合環を有する酸安定構造単位a3-2としては、例えば以下のものが挙げられる。γ-ブチロラクトン環とシクロヘキサン環との縮合環を有する酸安定構造単位a3-3は例えば、以下のものが挙げられる。式a3-1-1~式a3-1-11のいずれかで表される酸安定構造単位a3-1、式a3-2-1~式a3-2-11のいずれかで表される酸安定構造単位a3-2及び式a3-3-1~式a3-3-6のいずれかで表される酸安定構造単位a3-3において、構造単位aaの例示と同様に、部分構造Mを部分構造Aに置き換えたものも、各々酸安定構造単位a3-1、酸安定構造単位a3-2及び酸安定構造単位a3-3の具体例として挙げることができる。また、この例示において、ラクトン環が有する置換基Ra21~Ra23としてメチル基を有するものも例示したが、このメチル基を上述のような基に置き換えたものも、酸安定構造単位a3の具体例として挙げられる。酸安定構造単位a3の中でも、α-メタアクリロイロキシ-γ-ブチロラクトン、β-メタアクリロイロキシ-γ-ブチロラクトン、α-メタアクリロイロキシ-β,β-ジメチル-γ-ブチロラクトン、α-メタアクリロイロキシ-α-メチル-γ-ブチロラクトン、β-メタアクリロイロキシ-α-メチル-γ-ブチロラクトン、メタアクリル酸5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.037]ノナン-2-イル、メタアクリル酸テトラヒドロ-2-オキソ-3-フリル及びメタアクリル酸2-5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.037]ノナン-2-イルオキシ-2-オキソエチルなどから誘導される酸安定構造単位a3が好ましい。樹脂Aが、酸安定構造単位a3-1、酸安定構造単位a3-2及び酸安定構造単位a3-3からなる群より選ばれる酸安定構造単位a3を有する場合、その合計含有割合は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、5~50モルの範囲から選ばれ、10~40モルの範囲が好ましく、15~40モルの範囲がさらに好ましい。また、酸安定構造単位a3-1、酸安定構造単位a3-2及び酸安定構造単位a3-3それぞれの含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、5~60モルの範囲が好ましく、10~55モルの範囲がより好ましく、20~50モルの範囲がさらに好ましく、20~45モルの範囲が一層好ましい。樹脂Xが、酸安定構造単位a3-1、酸安定構造単位a3-2及び酸安定構造単位a3-3からなる群より選ばれる酸安定構造単位a3を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常、0~90モルであり、好ましくは10~80モルであり、より好ましくは20~70モルである。酸安定モノマーa4樹脂Aは、酸安定構造単位a2及び酸安定構造単位a3以外の酸安定構造単位を含有していてもよい、酸安定構造単位を誘導するモノマー酸安定モノマーを酸安定モノマーa4という。酸安定モノマーa4に由来する構造単位は、樹脂Xが、構造単位aa及び構造単位ab以外に有することもある構造単位のうち、好ましいものである。酸安定モノマーa4としては、以下の式a4-1で表される無水マレイン酸、式a4-2で表される無水イタコン酸、及び、式a4-3で表されるノルボルネン環を有する酸安定モノマー以下酸安定モノマーa4-3ということがあるなどを挙げることができる。[式a4-3中、Ra25及びRa26は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1~3のアルキル基、シアノ基、カルボキシ基又は-COORa27Ra27は、炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し-COORa27が酸不安定基となるものは除くすなわち、Ra27は、3級炭素原子が-O-と結合するものを含まないを表すか、或いはRa25及びRa26が結合して-CO-O-CO-を形成する。]式a4-3のRa25及びRa26において、ヒドロキシ基を有していてもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシメチル基及び2-ヒドロキシエチル基などが好ましい。Ra27の脂肪族炭化水素基は、好ましくは炭素数1~8のアルキル基及び炭素数4~18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基及び炭素数4~12の脂環式炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、2-オキソ-オキソラン-3-イル基及び2-オキソ-オキソラン-4-イル基などがさらに好ましい。酸安定モノマーa4-3としては、例えば、2-ノルボルネン、2-ヒドロキシ-5-ノルボルネン、5-ノルボルネン-2-カルボン酸、5-ノルボルネン-2-カルボン酸メチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸2-ヒドロキシ-1-エチル、5-ノルボルネン-2-メタノール及び5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物などが挙げられる。樹脂Aが、式a4-1で表される無水マレイン酸に由来する構造単位、式a4-2で表される無水イタコン酸に由来する構造単位及びモノマーa4-3に由来する構造単位からなる群より選ばれる構造単位を有する場合、その合計含有割合は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、2~40モルの範囲から選ばれ、3~30モルの範囲が好ましく、5~20モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xが、式a4-1で表される無水マレイン酸に由来する構造単位、式a4-2で表される無水イタコン酸に由来する構造単位及びモノマーa4-3に由来する構造単位からなる群より選ばれる構造単位を有する場合、その合計含有量は、好ましくは、樹脂Xの全構造単位に対して、5~20モルである。酸安定モノマーa4として、例えば、式a4-4で表されるスルトン環を有するもの以下酸安定モノマーa4-4ということがあるが挙げられる。[式a4-4中、La7は、酸素原子又は-T-CH2k2-CO-O-をk2は1~7の整数を表す。Tは酸素原子又はNHである。表し、はカルボニル基との結合手を表す。Ra28は、水素原子又はメチル基を表す。W10は、置換基を有していてもよいスルトン環基を表す。]スルトン環基に含まれるスルトン環としては、脂環式炭化水素に含まれるメチレン基のうち、隣り合うメチレン基2つが、一方が酸素原子、他方がスルホニル基に置き換わったものであり、下記に示すものなどが挙げられる。スルトン環基の代表例は、下記スルトン環にある水素原子の1つが、結合手に置き換わったものであり、式a4-4においてはLa7との結合手が該当する。置換基を有するスルトン環基とは、上述の結合手に置き換わった水素原子以外の水素原子がさらに置換基水素原子以外の1価の基に置換されたものであり、該置換基は、ヒドロキシ基、シアノ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のフッ化アルキル基、炭素数1~6のヒドロキシアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~7のアルコキシカルボニル基、炭素数1~7のアシル基及び炭素数1~8のアシルオキシ基からなる群より選ばれる。酸安定モノマーa4-4の具体例を示す。ここに示した酸安定モノマーa4-4の具体例において、部分構造M’を部分構造A’に置き換えたものも、酸安定モノマーa4-4の具体例として挙げることができる。樹脂Aが酸安定モノマーa4-4に由来する構造単位を有する場合、その含有割合は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、2~40モルの範囲から選ばれ、3~35モルの範囲が好ましく、5~30モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xがモノマーa4-4に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常0~90モルであり、好ましくは10~80モルであり、より好ましくは20~70モルである。酸安定モノマーa4としては、例えば、以下に示すようなフッ素原子を有するモノマー以下酸安定モノマーa4-5ということがあるも挙げられる。このような酸安定モノマーa4-5の中でも、単環式又は多環式の脂肪族環を有するメタアクリル酸5-3,3,3-トリフルオロ-2-ヒドロキシ-2-[トリフルオロメチル]プロピルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル、メタアクリル酸6-3,3,3-トリフルオロ-2-ヒドロキシ-2-[トリフルオロメチル]プロピルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル、メタアクリル酸4,4-ビストリフルオロメチル-3-オキサトリシクロ[4.2.1.02,5]ノニルが好ましい。樹脂Aがモノマーa4-5に由来する構造単位を有する場合、その合計含有割合は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、1~20モルの範囲から選ばれ、2~15モルの範囲が好ましく、3~10モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xがモノマーa4-5に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、好ましくは、樹脂Xの全構造単位に対して、5~40モルである。樹脂Aは、以下の示す式3又は式4で表される基を有するモノマーa4に由来する構造単位を含有することができる。[式3中、R10は、炭素数1~6のフッ化アルキル基を表す。は結合手を表す。]R10のフッ化アルキル基としては、ジフルオロメチル基、パーフルオロメチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、パーフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロプロピル基、パーフルオロエチルメチル基、1-トリフルオロメチル-1,2,2,2-テトラフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、1,1,2,2-テトラフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、パーフルオロブチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチル基、2-パーフルオロプロピルエチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロペンチル基、パーフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロペンチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、パーフルオロペンチル基、2-パーフルオロブチルエチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロヘキシル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-ドデカフルオロヘキシル基、パーフルオロペンチルメチル基及びパーフルオロヘキシル基が挙げられる。R10のフッ化アルキル基は、その炭素数が1~4であると好ましく、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基及びパーフルオロプロピル基がより好ましく、パーフルオロメチル基が特に好ましい。式3で表される基を有する酸安定モノマーa4[以下酸安定モノマーa4-6ということがあるとしては、例えば、以下で表されるものが挙げられる。ここに示した酸安定モノマーa4-6の具体例において、酸安定モノマーa4-4の例示と同様に、部分構造M’を部分構造A’に置き換えたものも、酸安定モノマーa4-6の具体例として挙げることができる。また、酸安定モノマーa4-6としては、以下のものも挙げることができる。樹脂Aが酸安定モノマーa4-6に由来する構造単位を有する場合、その含有割合は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、5~90モルの範囲から選ばれ、10~80モルの範囲が好ましく、20~70モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xがモノマーa4-6に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常0~90モルであり、好ましくは10~80モルであり、より好ましくは20~70モルである。樹脂Aは、以下に示す式4で表される基を有する酸安定モノマーa4に由来する構造単位を含有することができる。[式4中、R11は置換基を有してもよい炭素数6~12の芳香族炭化水素基を表す。R12は、置換基を有してもよい炭素数1~12の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。A3は、単結合、-CH2m10-SO2-O-又は-CH2m10-CO-O-を表し、ここに示すアルキレン鎖-CH2m10-に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基又はスルホニル基に置き換わっていてもよく、当該アルキレン鎖に含まれる水素原子は、フッ素原子に置き換わっていてもよい。m10は、1~12の整数を表す。]R11における炭素数6~12の芳香族炭化水素基の具体例は、炭素数がこの範囲において、すでに例示したものを含む。これら芳香族炭化水素基が置換基を有する場合、その置換基は、炭素数1~4のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、フェニルオキシ基及びtert-ブチルフェニル基などである。R11としては、以下の基が挙げられる。なお、は炭素原子との結合手である。R12における炭素数1~12の炭化水素基は、鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基のいずれでもよい。脂肪族炭化水素基としては、典型的にはアルキル基であり、その具体例は炭素数が1~12の範囲において、すでに例示したものを含む。脂環式炭化水素基としては、炭素数が12以下の範囲において、すでに例示したものを含む。なお、R12が脂肪族炭化水素基である場合、該脂肪族炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。ヘテロ原子としては、ハロゲン原子、硫黄原子、酸素原子及び窒素原子などである連結基として、スルホニル基、カルボニル基を含む形態でもよい。このようなヘテロ原子を含むR12としては、以下の基が挙げられる。R12が芳香族炭化水素基である場合、その具体例は、R11の場合と同じである。A3としては、下記に示す基が挙げられる。式4で表される基を含む酸安定モノマーa4としては、例えば、式a4-7で表されるもの[以下酸安定モノマーa4-7ということがある]が挙げられる。[式a4-7中、R13は、水素原子又はメチル基を表す。R11、R12及びA3は、前記と同義である。]酸安定モノマーa4-7としては、例えば、以下のものが挙げられる。ここに示した酸安定モノマーa4-7の具体例において、酸安定モノマーa4-4の具体例と同様に、部分構造M’を部分構造A’に置き換えたものも、酸安定モノマーa4-7の具体例として挙げることができる。樹脂Aが酸安定モノマーa4-7に由来する構造単位を有する場合、その含有割合は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、5~90モルの範囲から選ばれ、10~80モルの範囲が好ましく、20~70モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xがモノマーa4-7に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常0~90モルであり、好ましくは10~80モル、より好ましくは20~70モルである。酸安定モノマーa4としては、以下の式a4-8で示されるモノマー[以下酸安定モノマーa4-8ということがある]が挙げられる。[式a4-8中、W2は、炭素数3~36の脂肪族環を表す。A4は、単結合又は炭素数1~17の脂肪族炭化水素基を表す。該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、A4のうち、酸素原子に結合している原子は炭素原子である。R14は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のハロアルキル基を表す。R15及びR16は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のハロアルキル基を表す。]W2は、単環式又は多環式の炭素数3~36の脂肪族環であり、その炭素数は5~18の範囲が好ましく、6~12の範囲がより好ましい。より具体的には、すでに脂環式炭化水素基の説明において、式KA-1~式KA-22で示した脂環式炭化水素の形式で示した脂肪族環を挙げることができる。すなわち、式a4-8においてで示される部分構造は、式KA-1~式KA-22の脂環式炭化水素に含まれる水素原子の1個がA4との結合手に、脂環式炭化水素環に含まれる炭素原子の1つに結合している2つの水素原子が、-O-CO-R15及び-O-CO-R16との結合手に置き換わったものを挙げることができる。W2の脂肪族環は、シクロヘキサン環、アダマンタン環、ノルボルナン環及びノルボルネン環が特に好ましい。A4の脂肪族炭化水素基は、炭素数が17以下の範囲において、すでに例示したアルカンジイル基及び2価の脂環式炭化水素基を挙げることができ、炭素数が17以下の範囲であれば、アルカンジイル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた脂肪族炭化水素基であってもよい。また、A4の脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよい。ここで、アルカンジイル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた脂肪族炭化水素基の代表例を示しておく。かかる脂肪族炭化水素基としては、以下の式Xx-A、式Xx-B及び式Xx-Cで表される基などが挙げられる。式中、XX1及びXX2は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキレン基を表し、XX1及びXX2がともに単結合であることはなく、式Xx-A、式Xx-B及び式Xx-Cで表される基の総炭素数は17以下である。また、すでに述べたように、A4の脂肪族炭化水素基は、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基が、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。このような基の代表例としては、例えば、式aaの基a-1で例示したものを含む。A4は、単結合又は-CH2s1-CO-O-は-O-との結合手を表し、s1は1~6の整数を表す。で表される基が好ましく、単結合又は-CH2-CO-O-は-O-との結合手を表す。で表される基がより好ましい。R14は、水素原子又はメチル基が好ましい。R14、R15及びR16R14~R16のアルキル基としては、炭素数が1~6の範囲において、その具体例は、すでに例示したものを含む。ハロアルキル基としては、フッ素原子を有するアルキル基フッ化アルキル基が特に好ましい。R15及びR16のハロゲン化アルキル基のうち、好ましいものとしては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基及びペルフルオロブチル基などが挙げられ、中でも、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基及びペルフルオロプロピル基が挙げられる。酸安定モノマーa4-8としては、以下に示すものが挙げられる。以下の式において、R14~R16及びA4は、前記と同義である。これらの中でも、で示される酸安定モノマーa4-8がより好ましい。酸安定モノマーa4-8として、より具体的には、以下で表されるものが挙げられる。ここに示した酸安定モノマーa4-8の具体例において、酸安定モノマーa4-4の具体例と同様に、部分構造M’を部分構造A’に置き換えたものも、酸安定モノマーa4-8の具体例として挙げられる。好ましい酸安定モノマーa4-8は例えば、式a4-8-aで表される化合物と、式a4-8-bで表される化合物とを反応させることにより製造することができる。式a4-8-aで表される化合物は例えば、特開2002-226436号公報に記載されている1-メタクリロイルオキシ-4-オキソアダマンタンなどが挙げられる。式a4-8-bで表される化合物としては例えば、ペンタフルオロプロピオン酸無水物、ヘプタフルオロ酪酸無水物及びトリフルオロ酢酸無水物などが挙げられる。この反応は、用いる式a4-8-bで表される化合物の沸点温度付近で加温することにより、実施することが好ましい。[式a4-8-a及び式a4-8-b中の符号はいずれも、前記と同義である。]樹脂Aが酸安定モノマーa4-8に由来する構造単位を有する場合、その含有割合は、樹脂AAの全構造単位100モルに対して、5~90モルの範囲から選ばれ、10~80モルの範囲が好ましく、20~70モルの範囲がさらに好ましい。樹脂Xがモノマーa4-8に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常0~90モルであり、好ましくは10~80モルであり、より好ましくは20~70モルの範囲である。<樹脂の製造方法>樹脂Xは、化合物aa’と化合物ab’とを重合させることで、あるいは化合物aa’と、化合物ab’と、他の構造単位を誘導するモノマー好ましくは、酸安定モノマーa4とを重合することで得ることができる。樹脂Xに含まれる他の構造単位を誘導するモノマーとしては、好ましくは、酸安定モノマーa4、より好ましくは、酸安定モノマーa4-6及び/又は酸安定モノマーa4-7が挙げられ、さらに好ましくは、酸安定モノマーa4-6に由来する構造単位が挙げられる。樹脂Xが構造単位a1を含有する場合、構造単位a1の含有量と酸安定性構造単位の含有量との比は、構造単位a1/酸安定構造単位で表して、好ましくは10~80モル/90~20モルであり、より好ましくは20~60モル/80~40モルである。酸安定構造単位の含有量は、構造単位aa及び構造単位abの含有量を含めて算出することが好ましい。一方、樹脂Aは、構造単位a1を誘導するモノマー[好ましくは、構造単位a1-1又は構造単位a1-2を誘導するモノマー]を共重合させたものであり、好ましくは構造単位a1を誘導するモノマーと、酸安定構造単位を誘導するモノマーとを共重合させたものであり、より好ましくは、構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を誘導するモノマー、酸安定構造単位a2及び/又は酸安定構造単位a3を誘導するモノマーとを共重合させたものである。樹脂Aは、構造単位a1として、アダマンチル基を有する構造単位a1-1及びシクロへキシル基を有する構造単位a1-2のうち、少なくとも1種を有することが好ましく、アダマンチル基を有する構造単位a1-1を有することがさらに好ましい。酸安定構造単位a2としては、ヒドロキシアダマンチル基を有する構造単位a2-1を用いることが好ましい。酸安定構造単位a3としては、γ-ブチロラクトン環を有する酸安定構造単位a3-1及びγ-ブチロラクトン環とノルボルナン環との縮合環を有する酸安定構造単位a3-2の少なくとも1種を有することが好ましい。樹脂Aが酸安定構造単位を有する場合、構造単位a1の含有割合を基準にして、酸安定性構造単位の含有割合を定めることができる。構造単位a1の含有割合と酸安定性構造単位の含有割合との比は、構造単位a1/酸安定構造単位で表して、好ましくは10~80モル/90~20モルであり、より好ましくは20~60モル/80~40モルである。また、構造単位a1がアダマンタン環を有する構造単位、特に構造単位a1-1を含む場合、構造単位a1の総量100モルに対して、構造単位a1-1の割合を15モル以上とすることが好ましい。このようにすると、樹脂Aを含有する本発明のレジスト組成物から得られるレジストパターンのドライエッチング耐性がより良好になる傾向がある。本発明のレジスト組成物は、樹脂Xと樹脂Aとを組み合わせて用いることが好ましく、酸不安定基a1を有さない樹脂Xと樹脂Aとを組み合わせて用いることがより好ましい。樹脂Xと樹脂Aとを組み合わせて用いる場合、その混合質量比は、樹脂と後述する酸発生剤との相互作用により、本発明のレジスト組成物によってレジストパターンが製造できるように、適宜調整する。例えば、混合質量比は、樹脂Xが酸不安定基a1を有する場合、樹脂A10質量部に対して、樹脂Xは、0.1~100質量部が好ましく、1~50質量部がより好ましい。樹脂Xが酸不安定基a1を有さない場合、樹脂A10質量部に対して、樹脂Xは、0.01~2質量部が好ましく、0.1~1質量部がより好ましい。樹脂X及び樹脂Aは、上述したモノマーを公知の重合法例えばラジカル重合法に供することにより重合共重合することができる。樹脂Xの重量平均分子量は、8,000以上80,000以下が好ましく、10,000以上60,000以下がさらに好ましい。樹脂Aの重量平均分子量は、2,500以上50,000以下であると好ましく、3,000以上30,000以下がさらに好ましい。ここでいう重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー分析により、標準ポリスチレン基準の換算値として求められるものである。この分析の詳細な分析条件は、本願の実施例に記載する。<酸発生剤B>酸発生剤Bは、非イオン系とイオン系とに分類される。非イオン系酸発生剤には、有機ハロゲン化物、スルホネートエステル類例えば2-ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、N-スルホニルオキシイミド、N-スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン4-スルホネート、スルホン類例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン等が含まれる。イオン系酸発生剤は、オニウムカチオンを含むオニウム塩例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩及びヨードニウム塩などが代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン及びスルホニルメチドアニオンなどがある。酸発生剤Bとしては、例えば特開昭63-26653号、特開昭55-164824号、特開昭62-69263号、特開昭63-146038号、特開昭63-163452号、特開昭62-153853号、特開昭63-146029号、米国特許第3,779,778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用できる。また、酸発生剤Bは、公知の方法によって製造することができる。本発明のレジスト組成物に含有される酸発生剤Bは、以下の式B1で表される酸発生剤以下酸発生剤B1ということがあるが好ましい。この酸発生剤B1のうち、正電荷を有するZは有機カチオンといい、該有機カチオンを除去してなる負電荷を有するものをスルホン酸アニオンということがある。式B1中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、置換基を有していてもよい炭素数1~17の2価の脂肪族炭化水素基を表す。該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Yは、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基又はスルホニル基に置き換わっていてもよい。Zは、有機カチオンを表す。Q1及びQ2のペルフルオロアルキル基としては、例えば、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。式B1では、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、好ましくはトリフルオロメチル基又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。Q1及びQ2のペルフルオロアルキル基としては、例えば、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。式B1では、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、好ましくはトリフルオロメチル基又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。Lb1の2価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の脂環式炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組み合わせたものでもよい。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基、ヘプタデカン-1,17-ジイル基、メチリデン基、エチリデン基、プロピリデン基、2-プロピリデン基等の直鎖状アルカンジイル基;直鎖状アルカンジイルに、アルキル基特に、炭素数1~4のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の側鎖を有したもの、例えば、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の脂環式炭化水素基;ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボルナン-2,5-ジイル基、アダマンタン-1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジイル基等の多環式の脂環式炭化水素基等が挙げられる。Lb1の脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基が、酸素原子又はカルボニル基に置き換わったものとしては、例えば、以下の式b1-1~式b1-6のいずれかで示される基が挙げられる。式b1-1~式b1-6は、その左右を式B1に合わせて記載しており、左側の結合手は、CQ1Q2と結合し、右側の結合手はYと結合している。以下の式b1-1~式b1-6の具体例も同様である。式b1-1~式b1-6中、Lb2は、単結合又は炭素数1~15の脂肪族炭化水素基を表し、この脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。Lb3は、単結合又は炭素数1~12の脂肪族炭化水素基を表し、この脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。Lb4は、炭素数1~13の脂肪族炭化水素基を表し、この脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。但しLb3及びLb4の合計炭素数の上限は13である。Lb5は、炭素数1~15の脂肪族炭化水素基を表し、この脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。Lb6及びLb7は、それぞれ独立に、炭素数1~15の脂肪族炭化水素基を表し、これらの脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。但しLb6及びLb7の合計炭素数の上限は16である。Lb8は、炭素数1~14の脂肪族炭化水素基を表し、この脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。Lb9及びLb10は、それぞれ独立に、炭素数1~11の脂肪族炭化水素基を表し、これらの脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。但しLb9及びLb10の合計炭素数の上限は12である。本発明のレジスト組成物に用いる酸発生剤としては、これらの中でも、式b1-1で表される2価の基をLb1として有する酸発生剤B1が好ましく、Lb2が単結合又はメチレン基である式b1-1で表される2価の基を、Lb1として有する酸発生剤B1がより好ましい。Lb1は、好ましくは式b1-1~式b1-4のいずれかで表される基であり、さらに好ましくは式b1-1~式b1-3のいずれかで表される基であり、さらに好ましくは式b1-1又は式b1-2であり、一層好ましくは式b1-1で表される2価の基である。なかでも、Lb2が単結合又はメチレン基である式b1-1で表される2価の基がより好ましい。式b1-1で表される2価の基は例えば、以下のものが挙げられる。式b1-2で表される2価の基は例えば、以下のものが挙げられる。式b1-3で表される2価の基は例えば、以下のものが挙げられる。式b1-4で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。式b1-5で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。式b1-6で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。Lb1の脂肪族炭化水素基における置換基は、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、炭素数7~21のアラルキル基、炭素数2~4のアシル基及びグリシジルオキシ基などが挙げられる。芳香族炭化水素基、アラルキル基及びアシル基の具体例はすでに説明したとおりである。Yの脂肪族炭化水素基はアルキル基及び脂環式炭化水素基が好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、1-メチルエチル基イソプロピル基、1,1-ジメチルエチル基tert-ブチル基、2,2-ジメチルエチル基、プロピル基、1-メチルプロピル基、2,2-ジメチルプロピル基、1-エチルプロピル基、ブチル基、1-メチルブチル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基、1-プロピルブチル基、ペンチル基、1-メチルペンチル基、ヘキシル基、1,4-ジメチルヘキシル基、ヘプチル基、1-メチルヘプチル基、オクチル基、メチルオクチル基、メチルノニル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基等が挙げられる。脂環式炭化水素基としては、式KA-1~式KA-22で表される基から水素原子を2個取り去った基等が挙げられる。なかでも、Yは、炭素数1~6のアルキル基及び炭素数3~12の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数3~12の脂環式炭化水素基がより好ましい。Yの脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基が、酸素原子、スルホニル基及びカルボニル基からなる群より選ばれる基2価の基に置き換わった基としては、例えば、環状エーテル基脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基の1つ又は2つが酸素原子に置き換わった基、環状ケトン基脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基の1つ又は2つがカルボニル基に置き換わった基、スルトン環基脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基のうち隣り合う2つのメチレン基が、それぞれ、酸素原子及びスルホニル基に置き換わった基及びラクトン環基脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基のうち隣り合う2つのメチレン基が、それぞれ、酸素原子及びカルボニル基に置き換わった基などが挙げられる。Yの脂環式炭化水素基の好ましい基は、以下に示す式Y1~式Y5のいずれかで表される脂環式炭化水素基であり、これらのうち、式Y1、式Y2、式Y3及び式Y5のいずれかで表される脂環式炭化水素基がさらに好ましく、式Y1及び式のいずれかで表される脂環式炭化水素基がより好ましい。Yの脂肪族炭化水素基の置換基は、例えば、ハロゲン原子但し、フッ素原子を除く、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、炭素数7~21のアラルキル基、炭素数2~4のアシル基、グリシジルオキシ基又は-CH2j2-O-CO-Rb1で表される基式中、Rb1は、炭素数1~16の炭化水素基を表す。j2は、0~4の整数を表す。などが挙げられる。ここでいう芳香族炭化水素基及びアラルキル基には、例えば、アルキル基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基をさらに有していてもよい。置換基を有する脂環式炭化水素基の具体例は例えば、以下のものである。Yの脂環式炭化水素基は、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、さらに好ましくはアダマンチル基、オキソアダマンチル基又はヒドロキシアダマンチル基である。式B1で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、好ましくは、式b1-1-1~式b1-1-9で表されるアニオンが挙げられる。以下の式においては、置換基の定義は上記と同じ意味であり、置換基Rb2及びRb3は、それぞれ独立に炭素数1~4のアルキル基好ましくは、メチル基を表す。式b1-1-1~式b1-1-9のいずれかで表されるスルホン酸アニオンの具体例は例えば、特開2010-204646号公報に記載されているスルホン酸アニオンを挙げることができる。さらに好ましくは、Lb1が、式b1-1で表される基であり、Yが、式Y1又は式で表される脂環式炭化水素基であるスルホン酸アニオンである。Yが無置換の脂環式炭化水素基であるスルホン酸アニオンとしては、以下の式b1-s-0~式b1-s-9のいずれかで表されるものが挙げられる。Yがヒドロキシ基を有する脂環式炭化水素基であるスルホン酸アニオンとしては、以下の式b1-s-10~式b1-s-18のいずれかで表されるものが挙げられる。Yが環状ケトン基であるスルホン酸アニオンとしては、以下の式b1-s-19~式b1-s-29のいずれかで表されるものが挙げられる。Yが芳香族基を有する脂環式炭化水素基であるスルホン酸アニオンとしては、以下の式b1-s-30~式b1-s-35のいずれかで表されるものが挙げられる。Yが、前記ラクトン環基又は前記スルホン酸環基であるスルホン酸アニオンとしては、以下の式b1-s-36~式b1-s-41のいずれかで表されるものが挙げられる。酸発生剤B1中の有機カチオンZは例えば、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、有機ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオンなどの有機オニウムカチオンが挙げられ、好ましくは有機スルホニウムカチオン又は有機ヨードニウムカチオン、より好ましくは有機スルホニウムカチオンである。有機スルホニウムカチオンは、好ましくは以下の式b2-1、式b2-3及び式b2-4のいずれかで表される有機カチオンである。有機ヨードニウムカチオンは、好ましくは式b2-2で表される有機カチオンである。式b2-1~式b2-4において、Rb4、Rb5及びRb6は、それぞれ独立に、炭素数1~30の炭化水素基を表し、この炭化水素基のうちでは、炭素数1~30のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基及び炭素数6~18の芳香族炭化水素基が好ましい。前記アルキル基は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基を有していてもよく、前記脂環式炭化水素基は、ハロゲン原子、炭素数2~4のアシル基又はグリシジルオキシ基を有していてもよく、前記芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の飽和環状炭化水素基又は炭素数1~12のアルコキシ基を有していてもよい。Rb7及びRb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。m2及びn2は、それぞれ独立に0~5の整数を表す。Rb9及びRb10は、それぞれ独立に、炭素数1~18のアルキル基又は炭素数3~18の脂環式炭化水素基を表す。Rb11は、水素原子、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基を表す。Rb9、Rb10及びRb11Rb9~Rb11は、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素基であり、この脂肪族炭化水素基がアルキル基である場合、その炭素数は1~12であると好ましく、この脂肪族炭化水素基が脂環式炭化水素基である場合、その炭素数は3~18であると好ましく、4~12であるとさらに好ましい。Rb12は、炭素数1~18の炭化水素基を表す。この炭化水素基のうち、芳香族炭化水素基は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は炭素数1~12のアルキルカルボニルオキシ基を有していてもよい。Rb9とRb10との組み合わせ、及び/又は、Rb11とRb12との組み合わせは、それぞれ独立に、互いに結合して3員環~12員環好ましくは3員環~7員環を形成していてもよく、これらの3員環~12員環好ましくは3員環~7員環は脂肪族環又は、該脂肪族環に含まれるメチレン基が、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基に置き換わっている環である。Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、Rb17及びRb18Rb13~Rb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。Lb11は、酸素原子又は硫黄原子を表す。o2、p2、s2及びt2は、それぞれ独立に、0~5の整数を表す。q2及びr2は、それぞれ独立に、0~4の整数を表す。u2は0又は1を表す。o2が2以上であるとき、複数のRb13は同一又は相異なり、p2が2以上であるとき、複数のRb14は同一又は相異なり、s2が2以上であるとき、複数のRb15は同一又は相異なり、t2が2以上であるとき、複数のRb18は同一又は相異なる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基が挙げられる。脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などのシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基、下記のような基等が挙げられる。は、アダマンタン環又はシクロヘキサン環との結合手を表す。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基などが挙げられる。アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n-プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n-ブチルカルボニルオキシ基、sec-ブチルカルボニルオキシ基、tert-ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び2-エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。好ましいアルキル基は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基であり、特に、Rb9~Rb12のアルキル基は、好ましくは炭素数1~12である。好ましい脂環式炭化水素基は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基、2-アルキルアダマンタン-2-イル基、1-アダマンタン-1-イル-1-アルキル基及びイソボルニル基などである。特に、Rb9~Rb11の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3~18、より好ましくは炭素数4~12である。好ましい芳香族炭化水素基は、フェニル基、4-メチルフェニル基、4-エチルフェニル基、4-tert-ブチルフェニル基、4-シクロへキシルフェニル基、4-メトキシフェニル基、ビフェニリル基及びナフチル基などが好ましい。芳香族炭化水素基にアルキル基が置換したものは、典型的にはアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。Rb9とRb10とが結合する硫黄原子とともに形成する環としては、例えば、チオラン-1-イウム環テトラヒドロチオフェニウム環、チアン-1-イウム環及び1,4-オキサチアン-4-イウム環などが挙げられる。Rb11とRb12とが結合する-CH-CO-とともに形成する環としては、例えば、オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環及びオキソアダマンタン環などが挙げられる。式b2-1~式b2-4で表される有機カチオンとしては、特開2010-204646号公報に記載されたものが挙げられる。例示した有機カチオンの中でも、カチオンb2-1が好ましく、より好ましくは式b2-1-1で表される有機カチオン以下カチオンb2-1-1ということがあるであり、特に好ましくは、トリフェニルスルホニウムカチオン式b2-1-1中、v2=w2=x2=0である。又はトリトリルスルホニウムカチオン式b2-1-1中、v2=w2=x2=1であり、Rb19、Rb20及びRb21がいずれもメチル基である。がさらに好ましい。式b2-1-1中、Rb19、Rb20及びRb21は、それぞれ独立に、ハロゲン原子より好ましくはフッ素原子、ヒドロキシ基、炭素数1~18の脂肪族炭化水素基又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。v2、w2及びx2は、それぞれ独立に0~5の整数好ましくは0又は1を表す。v2が2以上のとき、複数のRb19は同一又は相異なり、w2が2以上のとき、複数のRb20は同一又は相異なり、x2が2以上のとき、複数のRb21は同一又は相異なる。Rb19~Rb21のアルキル基は、好ましくは炭素数が1~12である。脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数が4~18である。なかでも、Rb19、Rb20及びRb21は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子より好ましくはフッ素原子、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数1~12のアルコキシ基である。好適な有機カチオンであるカチオンb2-1-1の具体例を示す。また、有機カチオンとしては、式b2-3で表される有機カチオンのうち、以下の有機カチオンも好適なものとして挙げることができる。酸発生剤B1は該スルホン酸アニオン及び該有機カチオンの組合せである。該スルホン酸アニオンと該有機カチオンとは任意に組み合わせることができる。該スルホン酸アニオン及び該有機カチオンの組み合わせを表2に示す。なお、表2において、式b1-s-1で表されるスルホン酸アニオンなどを、その式番号に応じて、b1-s-1などと表し、式b2-c-1で表される有機カチオンなどを、その式番号に応じて、b2-c-1などと表す。酸発生剤B1としては、さらに好ましくは、以下の式B1-1~式B1-17のいずれかで表されるものである。中でも、式B1-2、式B1-3、式B1-6、式B1-7、式B1-11~B1-14のいずれかで表されるものがより好ましい。酸発生剤Bは、酸発生剤B1とは異なる酸発生剤を含んでいてもよい。この場合は、酸発生剤Bの総量における酸発生剤B1の含有割合は、70質量以上が好ましく、90質量以上がより好ましい。ただし、本発明のレジスト組成物における酸発生剤Bは、実質的に酸発生剤B1のみであることがさらに好ましい。<塩基性化合物以下塩基性化合物Cということがある>塩基性化合物Cは、酸を捕捉するという特性を有する化合物、特に、酸発生剤Bから発生する酸を捕捉する特性を有する化合物である。塩基性化合物Cは、好ましくは塩基性の含窒素有機化合物であり、例えばアミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。塩基性化合物Cとして、好ましくは、式C1で表される化合物~式C8で表される化合物が挙げられ、より好ましくは式C1-1で表される化合物が挙げられる。[式C1中、Rc1、Rc2及びRc3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数5~10の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基を表し、該アルキル基及び該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、アミノ基又は炭素数1~6のアルコキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数5~10の脂環式炭化水素又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基で置換されていてもよい。][式C1-1中、Rc2及びRc3は、前記と同義である。Rc4は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数5~10の脂環式炭化水素又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基を表す。m3は0~3の整数を表し、m3が2以上のとき、複数のRc4は、それぞれ独立である。][式C2、式C3及び式C4中、Rc5、Rc6、Rc7及びRc8は、それぞれ独立に、Rc1と同じ意味を表す。Rc9は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数3~6の脂環式炭化水素基又は炭素数2~6のアルカノイル基を表す。n43は0~8の整数を表し、n43が2以上のとき、複数のRc9は、それぞれ独立である。]アルカノイル基としては、アセチル基、2-メチルアセチル基、2,2-ジメチルアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、2,2-ジメチルプロピオニル基等が挙げられる。[式C5及び式C6中、Rc10、Rc11、Rc12、Rc13及びRc16は、それぞれ独立に、Rc1と同じ意味を表す。Rc14、Rc15及びRc17は、それぞれ独立に、Rc4と同じ意味を表す。o3及びp3は、それぞれ独立に0~3の整数を表し、o3が2以上であるとき、複数のRc14は同一又は相異なり、p3が2以上であるとき、複数のRc15は同一又は相異なる。Lc1は、炭素数1~6のアルカンジイル基、-CO-、-C=NH-、-S-又はこれらを組合せた2価の基を表す。][式C7及び式C8中、Rc18、Rc19及びRc20は、それぞれ独立に、Rc4と同じ意味を表す。q3、r3及びs3は、それぞれ独立に0~3の整数を表し、q3が2以上であるとき、複数のRc18は同一又は相異なり、r3が2以上であるとき、複数のRc19は同一又は相異なり、s3が2以上であるとき、複数のRc20は同一又は相異なる。Lc2は、単結合又は炭素数1~6のアルカンジイル基、-CO-、-C=NH-、-S-又はこれらを組合せた2価の基を表す。]式C1で表される化合物としては、1-ナフチルアミン、2-ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、2-,3-又は4-メチルアニリン、4-ニトロアニリン、N-メチルアニリン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス2-2-メトキシエトキシエチルアミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’-ジアミノ-1,2-ジフェニルエタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルジフェニルメタン及び4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチルジフェニルメタンなどが挙げられ、これらの中でも、ジイソプロピルアニリンが好ましく、2,6-ジイソプロピルアニリン特に好ましい。式C2で表される化合物としては、ピペラジンなどが挙げられる。式C3で表される化合物としては、モルホリンなどが挙げられる。式C4で表される化合物としては、ピペリジン及び特開平11-52575号公報に記載されているピペリジン骨格を有するヒンダードアミン化合物などが挙げられる。式C5で表される化合物としては、2,2’-メチレンビスアニリンなどが挙げられる。式C6で表される化合物としては、イミダゾール、4-メチルイミダゾールなどが挙げられる。式C7で表される化合物としては、ピリジン、4-メチルピリジンなどが挙げられる。式C8で表される化合物としては、1,2-ジ2-ピリジルエタン、1,2-ジ4-ピリジルエタン、1,2-ジ2-ピリジルエテン、1,2-ジ4-ピリジルエテン、1,3-ジ4-ピリジルプロパン、1,2-ジ4-ピリジルオキシエタン、ジ2-ピリジルケトン、4,4’-ジピリジルスルフィド、4,4’-ジピリジルジスルフィド、2,2’-ジピリジルアミン、2,2’-ジピコリルアミン及びビピリジンなどが挙げられる。アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、3-トリフルオロメチルフェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムサリチラート及びコリンなどが挙げられる。<溶剤D>本発明のレジスト組成物には、溶剤Dが含むことが好ましい。本発明のレジスト組成物溶剤Dは、用いる樹脂Xなどの種類及びその量と、酸発生剤Bの種類及びその量などに応じ、さらに後述するレジストパターンの製造において、基板上に本発明のレジスト組成物を塗布する際の塗布性が良好となるという点から適宜、最適なものを選ぶことができる。好適な溶剤Dの例としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチルなどのエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン及びシクロヘキサノンなどのケトン類;γ-ブチロラクトンなどの環状エステル類を挙げることができる。溶剤Dは、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。<その他の成分>本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、樹脂X、酸発生剤B、樹脂A,溶剤D及び必要に応じて用いられる塩基性化合物C以外の構成成分を含有していてもよい。この構成成分を成分Fという。かかる成分Fとしては、本技術分野で広く用いられている添加剤であり、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤及び染料などである。<本発明のレジスト組成物の調製方法>本発明のレジスト組成物は、樹脂特に、樹脂A及び樹脂Xの組み合わせ及び酸発生剤B、並びに、必要に応じて用いられる溶剤D、塩基性化合物C及び成分Fを混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、10~40°Cの範囲から、樹脂Xなどの種類や樹脂Xなどの溶剤Dに対する溶解度等に応じて適切な温度範囲を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、0.5~24時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合などを用いることができる。各成分を混合した後は、孔径0.2μm程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。本発明のレジスト組成物に対する樹脂樹脂A及び樹脂Xの合計含有割合は、本発明のレジスト組成物の固形分の総質量に対して、80質量以上、99質量以下が好ましい。本発明のレジスト組成物に対する酸発生剤Bの含有質量は、本発明のレジスト組成物酸発生剤Bが酸発生剤B1である場合、樹脂100質量部に対して、酸発生剤B1が好ましくは1質量部以上であり、より好ましくは3質量部以上、好ましくは30質量部以下であり、より好ましくは25質量部以下である。本発明のレジスト組成物に塩基性化合物Cを用いる場合、その含有割合は、本発明のレジスト組成物の固形分の総質量に対して、0.01~1質量程度であると好ましい。本発明のレジスト組成物に溶剤Dを用いる場合、その含有割合は、樹脂Xの種類などに応じて適宜調節できる。溶剤Dの含有量は、本発明のレジスト組成物総質量に対して、好ましくは90質量以上、より好ましくは92質量以上であり、さらに好ましくは94質量以上であり、好ましくは99.9質量以下であり、より好ましくは99質量以下である。溶剤Dの含有割合が90質量である場合、本発明のレジスト組成物総質量に対する固形分の含有量は10質量に該当する。このような含有割合で溶剤Dを含有する本発明のレジスト組成物は、例えば後述するレジストパターンの製造方法において、厚み30~300nm程度の組成物層を形成可能な薄膜レジストとして適している。これらの樹脂樹脂A及び樹脂X、又は樹脂X、酸発生剤B、溶剤D、塩基性化合物Cの各々の好適な含有割合も、本発明のレジスト組成物を調製する際の各々の使用量により制御可能である。本発明のレジスト組成物を調製した後には、該本発明のレジスト組成物を、例えばガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー等の公知の分析手段に供して求めることができる。なお、成分Fを本発明のレジスト組成物に用いる場合には、当該成分Fの種類に応じて、適切な含有割合を調節することもできる。<レジストパターンの製造方法>本発明のレジストパターンの製造方法は、1本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、2塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、3組成物層を露光する工程、4露光後の組成物層を加熱する工程、5加熱後の組成物層を現像する工程を含。工程1における本発明のレジスト組成物の基板上への塗布は、スピンコーターなど、半導体の微細加工のレジスト材料塗布用として広く用いられている塗布装置によって行うことができる。本発明のレジスト組成物塗布装置の条件塗布条件を種々調節することで、該塗布膜の膜厚は調整可能であり、適切な予備実験などを行うことにより、所望の膜厚の塗布膜になるように塗布条件を選ぶことができる。本発明のレジスト組成物を塗布する前の基板は、微細加工を実施しようとする種々のものを選ぶことができる。なお、本発明のレジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄したり、反射防止膜を形成してもよい。反射防止膜の形成には例えば、市販の有機反射防止膜用組成物を用いることができる。乾燥は、例えば、ホットプレートなどの加熱装置を用いた加熱手段又は減圧装置を用いた減圧手段により、或いはこれらの手段を組み合わせて、該塗布膜から溶剤Dを蒸発させることにより行われるいわゆるプリベーク。加熱手段や減圧手段の条件は、本発明のレジスト組成物に含有される溶剤Dの種類等に応じて調整されるが、例えばホットプレートを用いる加熱手段ホットプレート加熱では、該ホットプレートの表面温度を50~200°C程度の範囲にしておけばよい。また、減圧手段では、適当な減圧機の中に、塗布膜が形成された基板を封入した後、該減圧機の内部圧力を1~1.0×105Pa程度にすればよい。塗布膜から溶剤Dを除去することにより、該基板上には組成物層が形成される。得られた組成物層を、好ましくは、露光機を用いて露光する。この際には、微細加工を実施しようとする所望のパターンに応じたマスクを介して露光が行われる。露光機の露光光源としては、KrFエキシマレーザ波長248nm、ArFエキシマレーザ波長193nm、F2レーザ波長157nmのような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源YAG又は半導体レーザ等からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するものなど、種々のものを用いることができる。また、該露光機は液浸露光機であってもよい。上述のとおり、マスクを介して露光することにより、該組成物層には露光された部分露光部及び露光されていない部分未露光部が生じる。露光部の組成物層では該組成物層に含まれる酸発生剤Bが露光エネルギーを受けて酸を発生し、さらに発生した酸の作用により、樹脂A又は樹脂Xにある酸不安定基が脱保護反応を生じ、結果として露光部の組成物層にある樹脂A又は樹脂Xはアルカリ水溶液に可溶なものとなる。一方、未露光部では露光エネルギーを受けていないため、樹脂A又は樹脂Xはアルカリ水溶液に対して不溶又は難溶のままとなる。このように、露光部にある組成物層と未露光部にある組成物層とは、アルカリ水溶液に対する溶解性が著しく相違することとなる。露光後の組成物層を、露光部で生じうる脱保護基反応を促進するために加熱処理いわゆるポストエキスポージャーベークする。加熱処理はホットプレートを用いる加熱手段などが採用される。ホットプレートの表面温度は50~200°C程度が好ましく、70~150°C程度がさらに好ましい。加熱後の組成物層を、好ましくは、現像装置により現像する。ここでいう現像とは、加熱後の組成物層をアルカリ水溶液と接触させることにより、露光部の組成物層を該アルカリ水溶液に溶解させ、未露光部の組成物層を基板上に残すことにより、当該基板上にレジストパターンが製造される。ここで用いられるアルカリ水溶液は、アルカリ現像液と称されて、本技術分野で用いられるものを用いることができる。該アルカリ水溶液としては例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液や2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド通称コリンの水溶液などが挙げられる。現像後好ましくは超純水等でリンス処理を行い、さらに基板及びレジストパターン上に残存している水分を除去する。<用途>本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、EB用のレジスト組成物又はEUV露光機用のレジスト組成物、さらに液浸露光用のレジスト組成物として好適である。工に利用できる。実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す及び部は、特記しないかぎり質量基準である。樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。なお、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの分析条件は下記のとおりである。カラム:TSKgelMultiporeHXLMx3guardcolumn東ソー社製溶離液:テトラヒドロフラン流量:10mL/min検出器:RI検出器カラム温度:40°C注入量:100μl分子量標準:標準ポリスチレン東ソー社製樹脂の合成樹脂の合成において使用した化合物モノマーを下記に示す。以下、これらのモノマーを式番号に応じて、モノマーM-A~モノマーM-Lという。合成例1樹脂A1の合成モノマーとして、モノマーM-E及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-E:モノマーM-Gが70:30となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1mol及び3mol添加し、これらを72°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.4×104の樹脂A1共重合体を収率76で得た。この樹脂A1は、以下の構造単位を有するものである。合成例2樹脂A2の合成モノマーとして、モノマーM-E及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-E:モノマーM-Gが80:20となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1mol及び3mol添加し、これらを72°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.3×104の樹脂A2共重合体を収率78で得た。この樹脂A2は、以下の構造単位を有するものである。合成例3樹脂A3の合成モノマーとして、モノマーM-E及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-E:モノマーM-Gが90:10となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1mol及び3mol添加し、これらを72°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.4×104の樹脂A3共重合体を収率75で得た。この樹脂A3は、以下の構造単位を有するものである。合成例4樹脂A4の合成モノマーとして、モノマーM-E、モノマーM-F及びモノマーM-Hを用い、そのモル比モノマーM-E:モノマーM-F:モノマーM-Hが30:10:60となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1.2mol及び3.6mol添加し、これらを72°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.5×104の樹脂A4共重合体を収率93で得た。この樹脂A4は、以下の構造単位を有するものである。合成例5樹脂A5の合成モノマーとして、モノマーM-I、モノマーM-J、モノマーM-D、モノマーM-K及びモノマーM-Cを用い、そのモル比モノマーM-I:モノマーM-J:モノマーM-D:モノマーM-K:モノマーM-Cが32:7:8:10:43となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1mol及び3mol添加し、これらを73°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。かくして得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.2×103の樹脂A5共重合体を収率63で得た。この樹脂A5は、以下の構造単位を有するものである。合成例6樹脂A6の合成モノマーとして、モノマーM-B、モノマーM-C及びモノマーM-Dを用い、そのモル比モノマーM-B:モノマーM-C:モノマーM-Dが35:45:20となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1.0mol及び3.0mol添加し、これらを75°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。かくして得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.0×103の樹脂A6共重合体を収率75で得た。この樹脂A6は、以下の構造単位を有するものである。合成例7樹脂A7の合成モノマーとして、モノマーM-A及びモノマーM-Bを用い、そのモル比モノマーM-B:モノマーM-Dが80:20となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、0.5mol及び1.5mol添加し、これらを70°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。かくして得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量2.8×104の樹脂A7共重合体を収率70で得た。この樹脂A7は、以下の構造単位を有するものである。合成例8樹脂A8の合成モノマーとして、モノマーM-E及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-E:モノマーM-Gが90:10となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、0.9mol及び2.7mol添加し、これらを70°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.7×104の樹脂A8共重合体を収率78で得た。この樹脂A8は、以下の構造単位を有するものである。実施例1~8及び比較例1<レジスト組成物の調製>合成例1~8で得られた樹脂A1~A8;以下に示す酸発生剤B1~B3;以下に示す塩基性化合物C1;の各々を表3に示す質量部で、以下に示す溶剤に溶解させ、さらに孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過して、レジスト組成物を調製した。<樹脂>A1~A8:樹脂A1~樹脂A8このうち、A1~A4及びA8が、樹脂Xに相当する。<酸発生剤>B1:特開2010-152341号住友化学の実施例に従って合成B2:WO2008/99869号の実施例に従って合成B3:特開2007-108581の実施例に従って合成<塩基性化合物:クエンチャー>C1:2,6-ジイソプロピルアニリン東京化成製<溶剤>プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート265.0部プロピレングリコールモノメチルエーテル20.0部2-ヘプタノン20.0部γ-ブチロラクトン3.5部<欠陥評価>12インチのシリコン製ウェハ基板に、レジスト組成物を、乾燥後の膜厚が0.15μmとなるように塗布スピンコートした。塗布後、ダイレクトホットプレート上にて、表3のPB欄に示す温度で60秒間プリベークPBし、ウェハ上に組成物層を形成した。このようにして組成物層を形成したウェハに、現像機[ACT-12;東京エレクトロン株製]を用いて、60秒間、水リンスを行った。その後、欠陥検査装置[KLA-2360;KLAテンコール製]を用いて、ウェハ上の欠陥数を測定した。この結果を表4に示す。<レジストパターンの形成>シリコンウェハに、有機反射防止膜用組成物ARC-29;日産化学株製を塗布して、205°C、60秒の条件でベークすることによって、ウェハ上に膜厚78nmの有機反射防止膜を形成した。次いで、この有機反射防止膜の上に、上記のレジスト組成物を乾燥プリベーク後の膜厚が85nmとなるように塗布スピンコートした。塗布後、シリコンウェハをダイレクトホットプレート上にて、表3のPB欄に記載された温度で60秒間プリベークし、組成物層を形成した。組成物層が形成されたシリコンウェハに、液浸露光用ArFエキシマステッパーXT:1900Gi;ASML社製、NA=1.35、3/4AnnularX-Y偏光で、コンタクトホールパターンホールピッチ100nm/ホール径70nmを形成するためのマスクを用いて、露光量を段階的に変化させて露光した。尚、液浸媒体としては超純水を使用した。露光後、前記シリコンウェハを、ホットプレート上にて、表3のPEB欄に記載された温度で60秒間、加熱ポストエキスポジャーベーク処理した。次いでこのシリコンウェハを、2.38テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行い、レジストパターンを得た。現像後に得られたレジストパターンにおいて、前記マスクを用いて形成したホール径が55nmとなる露光量を実効感度とした。<CD均一性CDU評価>実効感度において、ホール径70nmのマスクで形成したパターンのホール径を、一つのホールにつき24回測定し、その平均値を一つのホールの平均ホール径とした。同一ウェハ内の、ホール径70nmのマスクで形成したパターンの平均ホール径を400箇所測定したものを母集団として標準偏差を求めた。CDU評価は、走査型電子顕微鏡CDSEMHitachi:CG-4000を用いて行った。この結果を表4に示す。本発明のレジスト組成物実施例1~実施例8を用いて得られるレジストパターンは、優れたCD均一性のレジストパターンを形成することができた。また、本発明のレジスト組成物を用いて得られるレジストパターンは、欠陥の発生数も少なかった。一方、比較例1のレジスト組成物では、得られるレジストパターンのCD均一性は不良であった。"