"入射する光を横切る方向に相対移動可能に配置される光学素子であって、入射する光の所定面における光量分布を第1領域の平均的な光量がそれ以外の領域の平均的な光量よりも大きい第1分布に設定する第1素子領域と、前記第1素子領域に隣接して配置され、入射する光の前記所定面における光量分布を、前記第1領域に連なる第2領域における平均的な光量が前記第1分布の前記第2領域の平均的な光量よりも大きい第2分布に設定する第2素子領域と、を備え、入射する光の前記第1及び第2素子領域に対する照射面積比によって、前記所定面の前記第2領域における平均的な光量が可変であることを特徴とする光学素子。前記第1分布及び前記第2分布は、前記第1領域の平均的な光量が互いにほぼ等しいことを特徴とする請求項1に記載の光学素子。前記第1領域は、光軸の回りにほぼ等角度間隔で配置される互いに形状がほぼ等しい複数の領域であり、前記第2分布は、前記第2領域内の少なくとも一部の領域で光量がほぼ一定であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学素子。前記第2分布は、前記第2領域内の少なくとも一部の領域で光量が前記第1領域に向かって次第に増加することを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の光学素子。前記第1素子領域は回折格子パターンが形成された領域であることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の光学素子。前記第2素子領域は回折格子パターン又は拡散面が形成された領域であることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の光学素子。前記光学素子の射出面側に集光光学系を配置した場合に、前記所定面は、前記集光光学系の射出瞳と共役な面であることを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の光学素子。光源からの光で被照射面を照明する照明光学系において、請求項1~7のいずれか一項に記載の光学素子と、前記光学素子を前記光に対して前記光を横切る方向に移動可能に支持する支持機構と、前記光学素子と前記被照射面との間に配置されるオプティカルインテグレータと、を備えることを特徴とする照明光学系。光源からの光で被照射面を照明する照明光学系において、請求項1~7のいずれか一項に記載の光学素子と、前記光を前記光学素子に対して前記光を横切る方向に移動させる光移動機構と、前記光学素子と前記被照射面との間に配置されるオプティカルインテグレータと、を備えることを特徴とする照明光学系。前記オプティカルインテグレータはフライアイインテグレータであり、前記光学素子を介した光を前記フライアイインテグレータに導く集光光学系を備え、前記光学素子に関して光量分布を規定する前記所定面は、前記フライアイインテグレータの入射面又は後側焦点面であることを特徴とする請求項8又は9に記載の照明光学系。前記照明光学系は、所定のパターンを介した光を、前記所定のパターンの像を基板に投影する投影光学系に導き、前記光学素子に関して光量分布を規定する前記所定面は、前記投影光学系の瞳と光学的に共役な位置にあることを特徴とする請求項8又は9に記載の照明光学系。請求項8~11のいずれか一項に記載の照明光学系を備え、前記照明光学系からの光で所定のパターンを介して基板を露光することを特徴とする露光装置。請求項12に記載の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、前記パターンが形成された前記基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。光源からの光で被照射面を照明する照明光学系内の、前記光の光路上に回折光学素子を配置し、所定面における光量分布を計測する工程と、前記照明光学系内に前記回折光学素子の代わりに請求項1~7のいずれか一項に記載の光学素子を配置する工程と、前記所定面における光量分布が前記回折光学素子に関して計測された光量分布に近づくように、前記光学素子と前記光との前記光を横切る方向の相対移動量を調整する工程と、を含むことを特徴とする照明方法。従来の通常の回折光学素子を使用した場合には、照明瞳面に設計上の光量分布の外に、高次回折光等のフレア光に起因する例えばほぼ一定のオフセット成分等が付加されるため、そのようなフレア光が存在する状態で露光装置の照明条件が設定されていた。これに対して、製造技術の進歩によって、最近の例えば新世代の回折光学素子は、フレア光を大幅に抑制することが可能となっている。そのため、例えば従来のフレア光が比較的大きい回折光学素子を有する照明光学系を備えた露光装置を用いて、照明条件が最適化されたデバイス製造工程で、フレア光が抑制された回折光学素子を有する照明光学系を備えた露光装置を使用する場合が生じ得る。このような場合、照明条件の互換性を維持するためには、後者の露光装置においても、照明瞳面にあえてフレア光に起因する成分と同等の光量分布を付加することが求められることもある。本発明は、このような事情に鑑み、それまで使用されていた光学素子と異なる光学素子を使用する場合に、必要に応じて光量分布の互換性を維持できるようにすることを目的とする。本発明の第1の態様によれば、入射する光を横切る方向に相対移動可能に配置される光学素子が提供される。この光学素子は、入射する光の所定面における光量分布を第1領域の平均的な光量がそれ以外の領域の平均的な光量よりも大きい第1分布に設定する第1素子領域と、その第1素子領域に隣接して配置され、入射する光のその所定面における光量分布を、その第1領域に連なる第2領域における平均的な光量がその第1分布のその第2領域の平均的な光量よりも大きい第2分布に設定する第2素子領域とを備え、入射する光のその第1及び第2素子領域に対する照射面積比によって、その所定面のその第2領域における平均的な光量が可変であるものである。また、本発明の第2の態様によれば、光源からの光で被照射面を照明する照明光学系が提供される。この照明光学系は、本発明の第1の態様の光学素子と、その光学素子をその光に対してその光を横切る方向に移動可能に支持する支持機構又はその光をその光学素子に対してその光を横切る方向に移動させる光移動機構と、その光学素子とその被照射面との間に配置されるオプティカルインテグレータとを備えるものである。また、本発明の第3の態様によれば、本発明の照明光学系を備え、その照明光学系からの光で所定のパターンを介して基板を露光する露光装置が提供される。また、本発明の第4の態様によれば、本発明の露光装置を用いて、基板上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成されたその基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。また、本発明の第5の態様によれば、光源からの光で被照射面を照明する照明光学系内の、その光の光路上に回折光学素子を配置し、所定面における光量分布を計測する工程と、その照明光学系内にその回折光学素子の代わりに本発明の第1の態様の光学素子を配置する工程と、その所定面における光量分布がその回折光学素子に関して計測された光量分布に近づくように、その光学素子とその光とのその光を横切る方向の相対移動量を調整する工程と、を含む照明方法が提供される。本発明の態様によれば、入射する光の第1及び第2素子領域に対する照射面積比によって、その所定面の第2領域における平均的な光量が可変である。従って、必要に応じてその第2領域における平均的な光量をそれまでに使用されていた光学素子によって設定される光量に近付けることによって、光量分布の互換性を維持できる。以下、本発明の第1の実施形態につき図1~図6を参照して説明する。図1は、本実施形態のスキャニングステッパーよりなる走査露光型の露光装置投影露光装置EXの構成を示す。図1において、露光装置EXは、露光用の照明光露光光ILを発生する光源1と、光源1からの照明光ILでレチクルRマスクのパターン面被照射面を照明する照明光学系ILSと、レチクルRの位置及び速度を制御するレチクルステージRSTと、レチクルRのパターンの像をウエハW基板の表面に投影する投影光学系PLとを備えている。さらに、露光装置EXは、ウエハWの位置及び速度を制御するウエハステージWSTと、装置全体の動作を統括制御するコンピュータよりなる主制御系20とを備えている。以下、図1において、投影光学系PLの光軸AXに平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面本実施形態ではほぼ水平面内で図1の紙面に平行にX軸を、図1の紙面に垂直にY軸を取って説明する。露光時のレチクルR及びウエハWの走査方向は、Y軸に平行な方向Y方向である。本実施形態において、光源1としてはArFエキシマレーザ光源波長193nmが使用されている。なお、光源1としては、KrFエキシマレーザ光源波長248nmなどの他のレーザ光源、YAGレーザ若しくは固体レーザ例えば半導体レーザ等等の高調波発生装置、又は水銀ランプなども使用することができる。光源1から射出された所定の偏光状態の紫外パルス光よりなる照明光ILは、ビームエキスパンダ2により光束の断面形状が所望の形状本実施形態では矩形に変換された後、光路折り曲げ用のミラー3及び偏光状態を制御するための偏光光学系不図示を介して光軸AXIに沿って照明条件切り替え装置10の一部に入射する。図2Aは照明条件切り替え装置10を示し、図2Bは図2AのBB線に沿う断面図である。図2Aにおいて、照明条件切り替え装置10は、互いに異なる照明条件を設定するための複数の回折光学素子DiffractiveOpticalElementDOE5A,5B,5C,5D,5E,5Fと、回折光学素子5A~5Fが固定された矩形の回転枠33A~33Fと、光軸AXIに平行な回転軸31cの回り以下、θ方向というに回転可能に支持された円板状のターレット板31と、ターレット板31をθ方向に指定された角度だけ回転するロータリーエンコーダを内蔵した駆動部22Aと、を備えている。さらに、照明条件切り替え装置10は、ターレット板31の周縁部に等角度間隔で配置された複数の開口31a内に、回転軸受け34A~34Fを介して回転可能に支持された連結枠35A~35Fと、ターレット板31の外周部に所定間隔を隔てて配置されたエアーシリンダー38と、エアーシリンダー38からターレット板31側に付勢可能なガイド部材39と、駆動部22A及びエアーシリンダー38の動作を制御する照明制御系21図1参照と、を備えている。回転枠33A~33Fの構成は互いに同じであり、回転枠33A~33Fは、それぞれ複数のボルト36図2B参照によって連結枠35A~35Fに固定されている。回転枠33A~33F及び連結枠35A~35Fには、それぞれ回折光学素子5A~5Fから射出される回折光を通過させる開口33Ab等及び開口35Aa等が形成されている図2B参照。なお、本実施形態では、回折光学素子5A~5Fの個数は6個であるが、実際にはこれより多くの回折光学素子が備えられている。図1において、駆動部22Aは、照明光学系ILSを支持するフレームの一部であるフレーム部FR1に固定され、エアーシリンダー38もそのフレームの一部不図示に固定されている。また、図2Aに示すように、回折光学素子5Aが照明光ILの照射領域30にある状態では、回転枠33AのZ方向の端面33Aaは回折光学素子5Aが並進移動平行移動する方向TD本実施形態ではY方向に平行である。ガイド部材39の長手方向もY方向に平行である。なお、回折光学素子5A~5Fを構成するガラス基板は矩形の平板状であるため、ガイド部材39を回折光学素子5Aの端面に直接付勢することも可能である。本実施形態では、図2Aのように回折光学素子5Aが照射領域30にかかっている状態で、エアーシリンダー38によってガイド部材39を回転軸31cの方向RDに軽く付勢して、ガイド部材39を回転枠33Aの端面33Aa位置A10に押し付ける。この状態で、ターレット板31をθ方向に回転すると、回転枠33A回折光学素子5Aはガイド部材39に沿って逆方向に回転するため、回折光学素子5Aは照射領域30に対してほぼ方向TDY方向に並進移動する。なお、実際には回折光学素子5AはZ方向にも僅かに並進移動するが、回折光学素子5AがZ方向に移動しても回折光のパターン、ひいては照明条件は実質的に変化しない。同様に、エアーシリンダー38及びガイド部材39を含む並進機構によって、他の回折光学素子5B~5Fもそれぞれ照射領域30の近傍ではほぼ方向TDに並進移動する。なお、エアーシリンダー38の代わりに電磁式のアクチュエータ等も使用可能である。また、並進機構の構成は任意である。また、回折光学素子5C~5F等の中には、照射領域30とのY方向の位置関係を調整する必要のない素子もある。このようにY方向の位置関係を調整する必要がない回折光学素子に関しては、連結枠35C等及び回転軸受け34C等を省略して、回転枠33C等をターレット板31に直接固定してもよい。また、一例として、第1及び第2の回折光学素子5A及び5Bは、それぞれ入射した照明光ILを回折して、ファーフィールドに光軸AXIに関してほぼ対称にZ方向レチクルRのパターン面のX方向に対応する方向及びY方向に偏心した4箇所の領域で光量が大きくなる回折光のパターンを形成する4極照明用の素子である。ただし、回折光学素子5A,5Bは生成可能なフレア光の状態が異なっている詳細後述。また、回折光学素子5C及び5Dは、それぞれファーフィールドにZ方向及びY方向に偏心した2箇所の領域で光量が大きくなる回折光のパターンを形成する2極照明用の素子である。そして、他の回折光学素子5E及び5Fは、それぞれ例えば通常照明用及び輪帯照明用の回折光のパターンを形成する。なお、光量とは、本実施形態では、被計測面の単位面積当たりに単位時間当たりに入射する光のエネルギーであり、光量とは照度又は光強度にも対応している。回折光学素子5A~5Fは、それぞれ照明光ILを透過する矩形のガラス基板の一面に、ファーフィールドに形成する回折光のパターンに応じた種々の凹凸の回折パターン種々のピッチの回折格子をエッチング等で形成することによって製造できる。回折光学素子5A~5Fの回折パターンは、計算機ホログラムから形成することも可能である。また、回折光学素子5A~5Fの回折パターンとして、位相分布型のホログラム、キノフォーム、又は振幅分布型のホログラムも使用可能である。また、回折光学素子5A~5Fは、透過型回折光学素子には限定されず、反射型回折光学素子であっても良い。主制御系20からの照明条件を設定する指令に応じて、照明制御系21が駆動部22Aを介してターレット板31を回転し、エアーシリンダー38を介してガイド部材39を回転枠33A~33Fに付勢することによって、その照明条件に応じた回折光学素子が照明光ILの光路上に配置される。また、後述のように、選択された回折光学素子と照明光ILとのY方向の相対位置の調整も行われる。図1において、照明条件切り替え装置10内の任意の回折光学素子図1では回折光学素子5Aを介して回折された光束は、前群レンズ系7a、凹の円錐面を持つ第1プリズム8aと凸の円錐面を持つ第2プリズム8bとからなるアキシコン系8、及び後群レンズ系7bを介して、オプティカルインテグレータとしてのマイクロレンズアレイ9を照明する。前群レンズ系7a及び後群レンズ系7bから、所定範囲で焦点距離が連続的に可変のズームレンズ変倍光学系7が構成されている。ズームレンズ7は、回折光学素子5Aの射出面とマイクロレンズアレイ9の後側焦点面とを光学的にほぼ共役に結んでいる。また、マイクロレンズアレイ9の入射面9Iは、ズームレンズ7集光光学系の後側焦点面、即ちズームレンズ7の射出瞳と共役な面でもある。回折光学素子5A又は回折光学素子5C等から射出される照明光ILは、ズームレンズ7の後側焦点面、即ち、マイクロレンズアレイ9の入射面9Iにおいて、4極状又は2極状等の照明領域に集光される。このように回折光学素子5A等とズームレンズ7とは、照明領域形成手段の一部を構成している。その照明領域の全体的な大きさは、ズームレンズ7の焦点距離に依存して変化する。照明制御系21が例えばスライド機構を含む駆動部22Bを介して前群レンズ系7aを光軸AXIに沿って駆動することで、ズームレンズ7の焦点距離が所望の値に制御される。また、アキシコン系8において、第1プリズム8aと第2プリズム8bとの円錐面は対向して配置されている。照明制御系21が例えばスライド機構を含む駆動部22Cを介して第2プリズム8bを光軸AXIに沿って駆動することで、プリズム8a及び8bの光軸AXIに沿った間隔を制御できる。この間隔の制御によって、回折光学素子5A等から射出された光束の入射面9Iにおける光軸AXIに対して半径方向の位置を制御できる。一方、上記のズームレンズ7の焦点距離を制御することによって、入射面22Iの個々の照明領域の大きさを制御できる。マイクロレンズアレイ9は、縦横に稠密に配列された多数の正屈折力を有する微小レンズからなる。マイクロレンズアレイ9を構成する各微小レンズは、レチクルRのパターン面レチクル面に形成すべき照明領域の形状と相似な矩形状の断面を有する。マイクロレンズアレイ9の後側焦点面が照明光学系ILSの瞳面照明光学系の射出瞳と共役な面である照明瞳面IPPであり、照明瞳面IPPは、レチクル面と光学的にフーリエ変換の関係にある。また、照明瞳面IPPは、投影光学系の入射瞳と共役な関係、或いは投影光学系中の開口絞りの位置と共役な関係にあるとも言える。照明瞳面IPPには、マイクロレンズアレイ9への入射光束によって形成される照明領域とほぼ同じ光量分布光強度分布を有する二次光源、ここでは回折光学素子5A等によって形成される4極照明用等の二次光源が形成される。このように、マイクロレンズアレイ9の入射面9I及び照明瞳面IPPにおける光量分布は互いにほぼ等しいとみなすことができる。ただし、入射面9Iに入射する照明光の開き角に比べて、照明瞳面IPPの二次光源から射出される照明光の開き角は大きくなっている。また、照明瞳面IPPの近傍に照度センサ25が配置され、照度センサ25の検出信号は主制御系20に供給されている。照度センサ25は、Z方向及びY方向に移動可能なリニアエンコーダが組み込まれたアーム不図示の先端部に固定されている。照度センサ25の検出信号によって照明瞳面IPP上の二次光源の形状又は光量分布照度分布をモニタできる。マイクロレンズアレイ9の後側焦点面照明瞳面IPPを通過した照明光ILは、第1リレーレンズ13、レチクルブラインド14視野絞り、第2リレーレンズ15、光路折り曲げ用のミラー16、及びコンデンサ光学系17を介して、レチクルRのパターン面レチクル面の矩形の照明領域を重畳的に照明する。ビームエキスパンダ2、ミラー3、照明条件切り替え装置10回折光学素子5A~5F、ズームレンズ7、アキシコン系8、及びマイクロレンズアレイ9からコンデンサ光学系17までの光学部材を含んで照明光学系ILSが構成されている。レチクルブラインド14の配置面は、レチクル面の共役面である。なお、マイクロレンズアレイ9の代わりにフライアイレンズ等を使用してもよい。レチクルRのパターン面レチクル面は、両側テレセントリックの投影光学系PLの物体面に配置されている。照明光ILのもとで、レチクル面の照明領域内の回路パターンの像が、投影光学系PLを介して投影倍率ββは例えば1/4,1/5等で、投影光学系PLの像面に配置されたウエハWの表面の一つのショット領域の露光領域照明領域と共役な領域のフォトレジスト層に転写される。投影光学系PLとしては、屈折系の他に、反射屈折系等も使用可能である。ウエハW基板は、例えば半導体シリコン等又はSOI等の直径が200mm~450mm程度の円板状の基材上にフォトレジスト感光材料を塗布したものを含む。レチクルRに形成されている回路パターンは、一例として4極照明に適したパターン、例えばX方向に投影光学系PLの解像限界に近い周期で形成されたX方向のラインアンドスペースパターン以下、LSパターンという。、及びY方向にその解像限界に近い周期で形成されたY方向のLSを含むパターンである。また、レチクルRは、レチクルステージRSTのXY平面と平行な上面に吸着保持され、レチクルステージRSTは、レチクルベース不図示の上面にY方向に等速移動可能に、かつ少なくともX方向、Y方向、及びZ軸に平行な軸の回りθz方向に微動可能に載置されている。レチクルステージRSTの位置情報回転角も含むは、レチクルステージ駆動系23内のレーザ干渉計によって計測されている。レチクルステージ駆動系23は、その計測情報及び主制御系20からの制御情報に基づいて、不図示の駆動機構を介してレチクルステージRSTの位置及び速度を制御する。一方、ウエハWは、不図示のウエハホルダを介してウエハステージWSTの上部に吸着保持され、ウエハステージWSTは、ウエハベース不図示の上面にX方向、Y方向に移動可能に載置されている。ウエハステージWSTの位置情報回転角も含むは、ウエハステージ駆動系24内のレーザ干渉計によって計測されている。ウエハステージ駆動系24は、その計測情報及び主制御系20からの制御情報に基づいて、不図示の駆動機構を介してウエハステージWSTの位置及び速度を制御する。また、ウエハステージWSTには、不図示のオートフォーカスセンサの計測情報に基づいて、走査露光中に露光領域内でウエハWの表面を投影光学系PLの像面に合わせ込むための合焦機構Zレベリングステージが組み込まれている。また、レチクルRのアライメントを行うためのレチクルアライメント系不図示及びウエハWのアライメントを行うためのウエハアライメント系不図示が備えられている。露光時には、主制御系20からの制御情報に基づいて、照明条件切り替え装置10によって照明光ILの光路にレチクルRのパターンに応じた回折光学素子ここでは回折光学素子5A又は5Bを配置することで、照明条件が設定される。その後、アライメントの結果に基づいて、ウエハステージWSTをX方向、Y方向にステップ移動することで、ウエハWが走査開始位置に移動する。そして、照明光学系ILSからの照明光ILのもとで、レチクルRの照明領域内の回路パターンの投影光学系PLによる像でウエハWの一つのショット領域を露光しつつ、レチクルステージRSTを介して照明領域に対してY方向にレチクルRを移動する動作と、ウエハステージWSTを介して露光領域に対してウエハWを対応する方向に移動する動作とを同期して行う。この走査露光動作によって、ウエハWの当該ショット領域にレチクルRのパターンの像が転写露光される。そのステップ移動と走査露光とを繰り返すステップアンドスキャン動作によって、ウエハWの全部のショット領域にレチクルRのパターンの像が転写露光される。次に、本実施形態の照明光学系ILS中の回折光学素子5A,5Bの構成及び使用方法につき詳細に説明する。なお、照明光学系ILS中のアキシコン系8の第1プリズム8aと第2プリズム8bとの間隔及びズームレンズ7の焦点距離は、それぞれ可変範囲内の中央値に固定されているものとする。本実施形態では、照明瞳面IPPの二次光源の光量分布に、従来の回折光学素子から発生する高次回折光等のフレア光に起因する成分と等価な可変の光量分布を付加することが可能である。図3Aは、従来の比較的大きいフレア光が発生する4極照明用の回折光学素子4A不図示を図1の照明光ILの光路に設置した場合に、照明瞳面IPPに形成される二次光源28Oの形状を示し、図3Bは、図3Aの光軸AXIを通りY軸に平行なBB線に沿う光量分布IT5を示す。なお、二次光源28Oは90°回転しても同じであるため、図3Aの光軸AXIを通りZ軸に平行な直線上の光量分布もほぼ光量分布IT5と同じである。また、光量分布IT5等は、対応する回折光学素子の回折パターン形成領域の単位面積から発生する回折光による光量分布を示している。図3Aにおいて、二次光源28Oは、光軸AXIをY方向に挟む1対の扇形の領域26A,26C、及び光軸AXIをZ方向レチクル面のX方向に対応する方向に挟む1対の扇形の領域26B,26Dの平均的な光量がLAで、領域26A~26Dに内接してフレア光の影響がある円形のフレア領域27の平均的な光量がLCである。中央のフレア領域27の光量分布はほぼ一定のオフセット成分であり、その光量LCは、照明光ILを照射しない場合の暗レベルLBよりも大きく、暗レベルLBを基準としたときの光量LCは、領域26A~26Dの光量LAに対しては例えば0.5~数程度である。従来の4極照明用の回折光学素子には、フレア領域27の平均的な光量がLCと異なるLC1,LC2等になるものもある。また、従来の4極照明用の回折光学素子には、図3Aの二次光源28Oにおいて、円形のフレア領域27の周縁部で、かつ4極の領域26A~26Dに内接する扇形の部分フレア領域27a,27b,27c,27dの光量分布が、領域26A~26Dに近づくにつれて次第に増加するスロープ状分布となっているタイプもある。このように部分フレア領域27a~27dの光量分布がスロープ状となっている場合に、図3AのBB線に沿う光量分布IT6を図3Cに示す。なお、図3Aの光軸AXIを通りZ軸に平行な直線上の光量分布もほぼIT6となる以下同様。図3Cにおいて、図3Aの部分フレア領域27a,27cの光量分布に対応するスロープ部LE,LDは、光量が中央の暗レベルLBから外側に向かって次第に増加している。この場合にも、回折光学素子によっては、スロープ状分布の状態はスロープ部LE1,LD1のように異なっている場合がある。これらに対して、図3Dは、図1の照明瞳面IPPにおける4極照明用のフレア光が抑制された二次光源28Nの形状を示し、図3Eは、図3Dの光軸AXIを通りY軸に平行なEE線に沿う光量分布ITNを示す。光量分布ITNは、二次光源28Nの2対の領域26A~26Dでほぼ一定の光量LAであり、それ以外の領域ではほぼ暗レベルLBである。本実施形態では、図2Aの回折光学素子5A又は5Bを照明光ILの光路に設置することで、図3A及び図3D等の種々の4極照明用の二次光源を生成する。図4Aは、第1の回折光学素子5Aのパターン形成領域を図2Aの照明光ILの照射領域30に設置した状態を示す。照射領域30は、Z方向の長さがY方向の幅のほぼ2倍のZ方向に細長いほぼ矩形領域である。また、照明条件切り替え装置10の動作によって、回折光学素子5Aのパターン形成領域内に照射領域30が入っている状態では、回折光学素子5Aは照射領域30に対してほぼY方向に並進移動平行移動する。図4Aにおいて、回折光学素子5Aのパターン形成領域には、それぞれY軸及びZ軸に平行な辺で囲まれてZ方向に細長い互いに同じ大きさの第1及び第2の回折パターン領域5A1,5A2がY方向に隣接して形成されている。回折パターン領域5A1,5A2はそれぞれ照射領域30より大きく、照明条件切り替え装置10によってターレット板31を回転して回折光学素子5AをY方向に並進移動することで、照射領域30による回折パターン領域5A1,5A2に対する照射面積比を任意に制御可能である。また、回折光学素子5Aの第1回折パターン領域5A1には、照明瞳面IPPにおいて、図3Dの二次光源28Nと同様の二次光源を生成可能な回折パターンが形成されている。即ち、照射領域30で第1回折パターン領域5A1のみを照明した場合、照明瞳面IPPにおいては、図3Dの2対の領域26A~26Dの光量がほぼLAで、それ以外の領域図3Aのフレア領域27を含むの光量がほぼ暗レベルLBの二次光源が形成される。図4Dは、照射領域30で第1回折パターン領域5A1のみを照明した場合の、図3DのEE線に沿う光量分布IT1を示す。光量分布IT1は図3Eの光量分布ITNと同じである。また、回折光学素子5Aの第2回折パターン領域5A2には、照明瞳面IPPにおいて、図3Aの二次光源28Oよりもフレア光の多い二次光源を生成可能な回折パターンが形成されている。即ち、照射領域30で第2回折パターン領域5A2のみを照明した場合、照明瞳面IPPにおいては、図3Aの2対の領域26A~26Dの光量がほぼLAで、領域26A~26Dに内接するフレア領域27の平均的な光量LC3が図3Bの光量LCの例えば数倍で、それ以外の領域の光量がほぼ暗レベルLBの二次光源が形成される。図4Cは、照射領域30で第2回折パターン領域5A2のみを照明した場合の、図3AのBB線に沿う光量分布IT2を示す。図4Cにおいて、光量分布IT2は、領域26A,26Cにおける光量LAが第1回折パターン領域5A1を用いたときの光量分布IT1の光量と同じであり、フレア領域27における光量LC3ほぼ一定のオフセット成分は、光量分布IT1の光量暗レベルLBよりも大きい。なお、本実施形態では、図1の照明瞳面IPPにおける二次光源の光量分布は、マイクロレンズアレイ9の入射面9Iズームレンズ7の射出瞳と共役な面における光量分布と等価である。また、回折パターン領域5A1,5A2の境界線はZ軸に平行であるため、回折光学素子5Aが照射領域30に対してZ方向に相対移動しても、照明瞳面IPPにおける二次光源の光量分布は変化しない。これは後述の回折光学素子5Bについても同様である。本実施形態では、照明光ILの照射領域30の回折パターン領域5A1,5A2に対する照射面積比を任意に制御可能である。その照射面積比がa:bである場合、照明瞳面IPPにおける二次光源の光量分布は、図3Aの領域26A~26Dの光量がLAで、フレア領域27のほぼ一定の光量LCxは、フレア領域27の光量分布IT1の光量暗レベルLB及び光量分布IT2の光量LC3を用いて次のようになる。LCx=LBLC3-LBb/ab...1従って、その照射面積比を制御することによって、照明瞳面IPPのフレア領域27の光量を暗レベルLBから第2回折パターン領域5A2のみを用いたときの光量LC3までの範囲内で制御できる。なお、図4Eは、フレア領域27の光量LCxを図3Bの光量LCと同じにした場合の、図3AのBB線に沿う光量分布IT5を表し、図4Bは、この場合の照射領域30と回折光学素子5Aとの位置関係の一例を示す。また、図5Aは、図2Aの第2の回折光学素子5Bのパターン形成領域を照明光ILの照射領域30に設置した状態を示す。図5Aにおいて、回折光学素子5Bのパターン形成領域には、それぞれY軸及びZ軸に平行な辺で囲まれてZ方向に細長い互いに同じ大きさの第1及び第2の回折パターン領域5B1,5B2がY方向に隣接して形成されている。回折パターン領域5B1,5B2はそれぞれ照射領域30より大きく、照明条件切り替え装置10によって回折光学素子5BをY方向に並進移動することで、照射領域30による回折パターン領域5B1,5B2に対する照射面積比を任意に制御可能である。また、回折光学素子5Bの第1回折パターン領域5B1には、回折光学素子5Aの第1回折パターン領域5A1と同じ回折パターンが形成されている。即ち、照射領域30で第1回折パターン領域5B1のみを照明した場合、照明瞳面IPPにおいては、図3Dの2対の領域26A~26Dの光量がほぼLAで、それ以外の領域図3Aのフレア領域27を含むの光量がほぼ暗レベルLBの二次光源が形成される。図5Dは、照射領域30で第1回折パターン領域5B1のみを照明した場合の、図3DのEE線に沿う光量分布IT1を示す。また、回折光学素子5Bの第2回折パターン領域5B2には、照明瞳面IPPにおいて、図3Aの二次光源28Oとフレア光の状態が異なる二次光源を生成可能な回折パターンが形成されている。照射領域30で第2回折パターン領域5B2のみを照明した場合、照明瞳面IPPにおいては、図3Aの2対の領域26A~26Dの光量がほぼLAで、領域26A~26Dに内接するフレア領域27内の部分フレア領域27a~27dの光量が領域26A~26Dに向かって次第に増加する二次光源が形成される。図5Cは、照射領域30で第2回折パターン領域5B2のみを照明した場合の、図3AのBB線に沿う光量分布IT3を示す。図5Cにおいて、光量分布IT3は、領域26A,26Cにおける光量LAが第1回折パターン領域5B1を用いたときの光量分布IT1の光量と同じであり、部分フレア領域27a,27cにおける光量分布はスロープ部LE2,LD2で示すように、暗レベルLBから図4Cの光量LC3程度まで次第に増加している。また、照明条件切り替え装置10によって、照明光ILの照射領域30の回折パターン領域5B1,5B2に対する照射面積比を任意に制御可能である。その照射面積比がa:bである場合、照明瞳面IPPにおける二次光源の光量分布は、図3Aの領域26A~26Dの光量がLAで、部分フレア領域27aの位置Y毎の光量LExは、部分フレア領域27aの光量分布IT1の光量暗レベルLB及び光量分布IT3の位置Y毎の光量LE2xを用いて次のようになる。他の部分フレア領域27b~27dの光量も同様である。LEx=LBLE2x-LBb/ab...2従って、その照射面積比を制御することによって、照明瞳面IPPの部分フレア領域27a~27dスロープ部の光量を暗レベルLBから第2回折パターン領域5B2のみを用いたときのスロープ部LE2,LD2等までの範囲内で制御できる。なお、図5Eは、部分フレア領域27aの光量LExの分布を図3Cのスロープ部LEと同じにした場合の、図3AのBB線に沿う光量分布IT6を表し、図5Bは、この場合の照射領域30と回折光学素子5Bとの位置関係の一例を示す。次に、本実施形態の露光装置EXの照明光学系ILSを用いた照明方法の一例につき図6のフローチャートを参照して説明する。この照明方法の動作は主制御系20によって制御される。まず、図6のステップ102において、図1の照明条件切り替え装置10の回転枠33Aに従来の4極照明用のフレア光の多い回折光学素子4Aを固定し、回折光学素子4Aを照明光ILの照射領域30光路上に配置する。次のステップ104において、光源1からの照明光ILの照射を開始して、照度センサ25によって照明瞳面IPPにおける光量分布を計測する。この計測結果のうち、図3AのBB線に対応する線分に沿う光量分布は、図3Bの光量分布IT5であり、この計測結果は主制御系20内の記憶装置に記憶される。次のステップ106において、光源1の発光を停止して、照明条件切り替え装置10の回転枠33Aに第1の回折光学素子5Aを固定し、回折光学素子5Aを照明光ILの照射領域30光路上に配置する。次のステップ108において、主制御系20内の演算部は、ステップ104の計測結果光量分布IT5に合わせて、図4Aの照射領域30の回折光学素子5Aの回折パターン領域5A1,5A2に対する照射面積比a:bを計算する。このためには、式1において、例えばaの代わりに1をおき、光量LCxの代わりにLC計測値をおいて、bの値を計算すればよい。この照射面積比a:bの情報は照明制御系21に供給され、照明制御系21は、その照射面積比が得られるように照明条件切り替え装置10のターレット板31の回転角θ5A、ひいては回折光学素子5AのY方向の位置Y5Aを調整する。次のステップ110において、光源1からの照明光ILの照射を開始して、照度センサ25によって照明瞳面IPPにおける光量分布を計測する。そして、その計測結果のうちの例えば図3AのBB線に対応する線分に沿う光量分布と、記憶してある光量分布IT5とを比較する。そして、フレア領域27の光量の差分が許容範囲を超えている場合には、その差分を小さくするように回折光学素子5AのY方向の位置Y5Aを補正する。次のステップ110において、回折光学素子5Aを用いた場合の照明瞳面IPPにおける光量分布と、従来の回折光学素子4Aを用いた場合の照明瞳面IPPにおける光量分布IT5とのフレア領域27における差分が許容範囲内になったときの回折光学素子5AのY方向の位置Y5A及びターレット板31の回転角θ5Aを主制御系20内の記憶装置に記憶する。同様に、照明瞳面IPPの二次光源の光量分布が図5Eのスロープ部LE,LDを持つ従来の回折光学素子4B不図示、及び図5Aの第2の回折光学素子5Bに関しても、ステップ102~112と同様の動作を繰り返す。これによって、従来の回折光学素子4B及び回折光学素子5Bを用いた場合の照明瞳面IPPの二次光源の光量分布がほぼ等しくなるように、照射領域30の回折光学素子5Bの回折パターン領域5B1,5B2の照射面積比を定めたときの回折光学素子5BのY方向の位置Y5B及びターレット板31の回転角θ5Bが定められる。この位置Y5B及び回転角θ5Bも主制御系20内の記憶装置に記憶される。次のステップ114において、レチクルRのパターンの像をウエハWに露光するために照明光学系ILSの照明条件を設定する。この照明条件が、例えば4極照明で、かつ従来の図3Bのようなフレア光が発生する回折光学素子4Aを用いる場合と互換性のある照明条件である場合には、照明条件切り替え装置10のターレット板31の回転角を上記のθ5Aに設定する。これによって、回折光学素子5Aと照射領域30との相対位置は図4Bのように設定され、回折光学素子4Aを用いた場合の照明条件が再現される。また、その照明条件が、4極照明で、かつ図3Cのようなフレア光が発生する回折光学素子4Bを用いる場合と互換性のある照明条件である場合には、照明条件切り替え装置10のターレット板31の回転角を上記のθ5Bに設定する。これによって、回折光学素子5Bと照射領域30との相対位置は図5Bのように設定され、回折光学素子4Bを用いた場合の照明条件が再現される。なお、4極照明等で実質的にフレア光のない照明条件も設定可能である。次のステップ116において、設定された照明条件のもとで、露光装置EXによって所定のロット数のウエハに順次レチクルRのパターンの像が露光される。この際に、従来の照明条件と互換性のある照明条件を使用した場合には、従来の既知の露光精度と同等の精度で露光を行うことができる。本実施形態の効果等は以下の通りである。1本実施形態の露光装置EXは、照明光ILでレチクルRのパターン面被照射面を照明する照明光学系ILSを備え、照明光学系ILSは回折光学素子5A,5Bを有する。また、回折光学素子5A,5Bは、それぞれ入射する照明光ILを横切る方向Y方向に移動可能に配置される。そして、回折光学素子5Aは、照明光ILのズームレンズ7の射出瞳と共役な面又は照明瞳面IPP所定面における光量分布を領域26A~26D第1領域の平均的な光量LAがそれ以外の領域の平均的な光量LBよりも大きい第1光量分布IT1に設定する第1回折パターン領域5A1第1素子領域と、第1回折パターン領域5A1に隣接して配置され、照明光ILのその所定面における光量分布を、領域26A~26Dに連なるフレア領域27第2領域における平均的な光量LC3がその第1光量分布のフレア領域27の平均的な光量LBよりも大きい第2光量分布IT2に設定する第2回折パターン領域5A2第2素子領域と、を有する。そして、照明光ILの回折パターン領域5A1,5A2に対する照射面積比によって、その所定面のフレア領域27における平均的な光量LCが可変である。同様に、照明光ILの光路に回折光学素子5Bを設置した場合には、照明光ILの回折パターン領域5B1,5B2第1及び第2素子領域に対する照射面積比によって、その所定面の部分フレア領域27a~27d第2領域における平均的な光量が可変である。また、本実施形態の照明方法は、光源1からの照明光ILでレチクルRのパターン面被照射面を照明する照明光学系ILS内の、照明光ILの光路上に回折光学素子4A4Bを配置し、照明瞳面IPPにおける光量分布を計測するステップ102,104と、照明光学系ILS内に回折光学素子4A4Bの代わりに回折光学素子5A5Bを配置するステップ106と、照明瞳面IPPにおける光量分布が回折光学素子4A4Bに関して計測された光量分布に近づくように、回折光学素子5A5Bと照明光ILとのY方向の相対移動量を調整するステップ108,110と、を含んでいる。本実施形態によれば、入射する照明光ILの回折パターン領域5A1,5A2に対する照射面積比によって、その所定面のフレア領域27における平均的な光量が可変である。従って、必要に応じてフレア領域27における平均的な光量をそれまでに使用されていた従来の回折光学素子4Aによって設定される光量に近付けることによって、設定しようとする光量分布照明条件に関して互換性を維持できる。回折光学素子5Bを使用する場合にも、同様に従来の回折光学素子4Bを使用した場合と互換性のある光量分布を設定できる。2また、本実施形態の照明光学系ILSは、回折光学素子5A,5Bと、回折光学素子5A,5Bを照明光ILに対して照明光ILを横切る方向Y方向に移動可能に支持する照明条件切り替え装置10支持機構と、回折光学素子5A,5BとレチクルRのパターン面との間に配置されるオプティカルインテグレータマイクロレンズアレイ9と、を備えている。照明光学系ILSによれば、照明条件切り替え装置10によって回折光学素子5A,5Bと照明光ILとのY方向の相対位置を調整することで、従来のフレア光が混入している照明条件と互換性のある照明条件を容易に再現できる。3また、本実施形態の露光装置EXは、照明光ILでレチクルRのパターンを照明するために照明光学系ILSを備え、照明光学系ILSからの照明光ILでレチクルRのパターン及び投影光学系PLを介してウエハWを露光している。従って、例えば4極照明等を用いる場合に、必要に応じて従来の露光工程で使用されていた照明条件と互換性のある照明条件を再現できるため、従来の製造工程露光工程の情報を有効に活用できる。なお、上記の実施形態では以下のような変形が可能である。1上記の実施形態では、図3Aのフレア領域27のオフセット成分の光量と、部分フレア領域27a~27dのスロープ部の光量分布とを独立に制御しているが、図7Aの第1変形例の回折光学素子5Gを用いてオフセット成分の光量とスロープ部の光量分布とを同時に制御してもよい。図7Aは、回折光学素子5Gを図2Aの照明条件切り替え装置10を用いて照明光ILの照射領域30に設置した状態を示す。図7Aにおいて、回折光学素子5Gの第1回折パターン領域5G1には、回折光学素子5Aの第1回折パターン領域5A1と同じ回折パターンが形成されている。従って、照射領域30で第1回折パターン領域5G1のみを照明した場合、図3Aの照明瞳面IPPのBB線に対応する部分では図7Dの光量分布IT1図3Eの光量分布ITNと同じ分布が得られる。また、回折光学素子5Gの第1回折パターン領域5G1に隣接する第2回折パターン領域5G2には、照明瞳面IPPにおいて、回折光学素子5Aの第2回折パターン領域5A2による二次光源と回折光学素子5Bの第2回折パターン領域5B2による二次光源とを合わせた二次光源が生成される。即ち、照射領域30で第2回折パターン領域5G2のみを照明した場合、照明瞳面IPPにおいては、図3Aの2対の領域26A~26Dの光量がほぼLAで、領域26A~26Dに内接するフレア領域27内の中央部の光量がLC3で、フレア領域27内の部分フレア領域27a~27dの光量が領域26A~26Dに向かって次第に増加する二次光源が形成される。図7Cは、その場合の図3AのBB線に対応する部分の光量分布IT4を示す。図7Cにおいて、光量分布IT4は、部分フレア領域27a,27cにおける光量分布がスロープ部LE2,LD2で示すように、光量LC3から次第に増加している。回折光学素子5Gを照明光ILの光路上に配置し、図7Bに示すように、照射領域30の回折パターン領域5G1,5G2に対する照射面積比を制御することによって、照明瞳面IPPの4極の二次光源において、フレア領域27のオフセット成分LCと部分フレア領域27a~27dのスロープ部LE,LD等の光量分布とを同時に同じ割合で調整できる。調整後の図3AのBB線に対応する部分の光量分布IT7を図7Eに示す。2また、上記の実施形態では、回折光学素子5A等には2つの回折パターン領域5A1,5A2第1及び第2の素子領域等が形成されている。これに対して、図8Aの第2変形例の回折光学素子5Hで示すように、同じガラス基板に3つの回折パターン領域5H1,5H2,5H3第1、第2、及び第3の素子領域を隣接して形成しても良い。図8Aは、回折光学素子5Hを図2Aの照明光ILの照射領域30に配置した状態を示している。この場合、第1回折パターン領域5H1には回折光学素子5Aの第1回折パターン領域5A1と同じ回折パターンが形成され、第1回折パターン領域5H1をY方向に挟むように配列された第2及び第3の回折パターン領域5H2及び5H3には、それぞれ回折光学素子5Aの第2回折パターン領域5A2及び回折光学素子5Bの第2回折パターン領域5B2と同じ回折パターンが形成されている。ただし、第1回折パターン領域5H1のY方向の幅は照射領域30よりも狭く設定されている。回折光学素子5Hを図2Aの照明条件切り替え装置10で支持した場合には、回折光学素子5HをY方向に移動することで、照射領域30の回折パターン領域5H1,5H2,5H3に対する照射面積比を制御できる。なお、回折パターン領域5H1,5H2,5H3の全部を照明している場合、第1回折パターン領域5H1の照射面積は一定である。そして、照明瞳面IPPの二次光源の光量分布は、図8C図3AのBB線に対応する部分の光量分布IT8に示すように、領域26A~26Dの光量LAは一定で、フレア領域27の中央部の光量LC及び部分フレア領域27a,27c27a~27cのスロープ部LE,LDの光量分布が可変である。なお、回折パターン領域5H2,5H3の照射面積は逆比例するため、例えばフレア領域27の中央部の光量がLC4に低下すると、スロープ部LE3,LD3の光量は増加する。なお、1つの回折光学素子に4個以上の回折パターン領域素子領域を隣接して形成してもよい。3また、上記の第2変形例では、回折光学素子5Hには3つの回折パターン領域がY方向に形成されている。これに対して、図8Bの第3変形例の回折光学素子5Iで示すように、同じガラス基板に3つの回折パターン領域5I1,5I2,5I3第1、第2、及び第3の素子領域を二次元的に隣接して形成しても良い。図8Bは、回折光学素子5Iを図2Aの照明光ILの照射領域30に配置した状態を示している。この場合、第1回折パターン領域5I1には回折光学素子5Aの第1回折パターン領域5A1と同じ回折パターンが形成され、第1回折パターン領域5I1にY方向に隣接する第3回折パターン領域5I3には回折光学素子5Bの第2回折パターン領域5B2と同じ回折パターンが形成され、回折パターン領域5I1,5I3にZ方向に隣接する第2回折パターン領域5I2には回折光学素子5Aの第2回折パターン領域5A2と同じ回折パターンが形成されている。また、この第3変形例では、例えば図1に点線で示す平行平板ガラスハービング60B光移動機構をY軸に平行な軸の回りに傾斜させて照明光ILの光路をZ方向第2方向DZに移動し、照明条件切り替え装置10で回折光学素子5IをY方向第1方向DYに移動することによって、回折光学素子5Iと照射領域30とをY方向及びZ方向に二次元的に相対的に並進移動する。これによって、照射領域30の回折パターン領域5I1,5I2,5I3に対する照射面積比を制御できる。この場合、照明瞳面IPPの二次光源の光量分布は、図8Cに示すように、図3Aの領域26A~26Dの光量LAは一定で、フレア領域27の中央部の光量LC及び部分フレア領域27a,27c27a~27cのスロープ部LE,LDの光量分布が独立に可変である。なお、図1に点線で示す平行平板ガラスハービング60A光移動機構をθz方向に傾斜させて照明光ILの光路をY方向に移動してもよい。このように平行平板ガラス60Aを用いる場合には、照明条件切り替え装置10は単に回折光学素子5A等を回転可能に支持するのみでよい。また、平行平板ガラス60A,60Bの代わりに、回折光学素子5A等の入射側に配置された傾斜角が可変のミラー等光移動機構を用いて、照明光ILの光路を回折光学素子5A等に対してY方向及び/又はZ方向に相対移動してもよい。4また、図9Aの第4変形例の回折光学素子5Jを図2Aの照明光ILの照射領域30に配置してもよい。図9Aにおいて、第1回折パターン領域5J1は、図9Bに示すように、照明瞳面IPPにおいてY方向の1対の領域26A,26Cの平均的な光量がZ方向の1対の領域26B,26Dの平均的な光量よりも大きくなる二次光源51Aを生成する。また、第1回折パターン領域5J1にY方向に隣接する第2回折パターン領域5J2は、図9Cに示すように、照明瞳面IPPにおいてZ方向の1対の領域26B,26Dの平均的な光量がX方向の1対の領域26A,26Cの平均的な光量よりも大きくなる二次光源51Bを生成する。また、回折パターン領域5J1,5J2にZ方向に隣接する第3回折パターン領域5J3は、図9Dに示すように、照明瞳面IPPにおいて、領域26A~26Dにおける光量が図9B及び図9Cの領域26A~26Dにおける平均的な光量に等しく、領域26A~26Dに内接するフレア領域27における光量が図4Cの光量LC3に等しい二次光源51Cを生成する。この第4変形例でも、例えば図1に点線で示す平行平板ガラス60Bを傾斜させて照明光ILの光路をZ方向第2方向DZに移動し、照明条件切り替え装置10で回折光学素子5JをY方向第1方向DYに移動することによって、回折光学素子5Jと照射領域30とをY方向及びZ方向に二次元的に相対的に並進移動する。これによって、照射領域30の回折パターン領域5J1,5J2,5J3に対する照射面積比を制御できる。この場合、照明瞳面IPPの二次光源の光量分布は、図9DのX方向の領域26A,26Cの光量とZ方向の領域26B,26Dの光量との比ポールバランス、及びフレア領域27におけるオフセット成分の光量を互いに独立に調整可能である。5また、図10Aに示すように、照明瞳面IPPにおいてY方向の2つの領域26A,26Bの光量が大きくなる2極照明の二次光源52Aを生成する場合には、1つの回折光学素子の第1回折パターン領域に領域26A,26Bのみで光量が大きくなる回折パターンを形成し、第2回折パターン領域には領域26A,26Bに内接する領域53Aでも所定の光量が生じる回折パターンを形成しておいてもよい。同様に、図10Bに示すように、照明瞳面IPPにおいてZ方向の2つの領域26B,26Dの光量が大きくなる2極照明の二次光源52Bを生成する場合には、1つの回折光学素子の第1回折パターン領域に領域26B,26Dのみで光量が大きくなる回折パターンを形成し、第2回折パターン領域には領域26B,26Dに内接する領域53Bでも所定の光量が生じる回折パターンを形成しておいてもよい。また、図10Bに示すように、照明瞳面IPPにおいて輪帯状の領域54の光量が大きくなる輪帯照明の二次光源52Cを生成する場合には、1つの回折光学素子の第1回折パターン領域に領域54のみで光量が大きくなる回折パターンを形成し、第2回折パターン領域には領域54に内接する円形の領域55でも所定の光量が生じる回折パターンを形成しておいてもよい。図10A~図10Cの二次光源を生成する回折光学素子と照明光ILとの相対位置を制御することによって、2極照明又は輪帯照明時にもフレア光による可変の光量分布を付加できる。6また、上記の実施形態では、例えば回折光学素子5A,5B等には2つ又は3つの回折パターン領域が形成されている。これに対して、例えばフレア領域27の光量を制御する場合には、図4Aの回折光学素子5Aの第2回折パターン領域5A2の代わりに単に拡散面例えばスリガラス面を形成しておいてもよい。拡散面からの光は照明瞳面IPP又はマイクロレンズアレイ9の入射面において一様に広がるため、第1回折パターン領域5A1からの回折光と拡散面からの光との割合照射面積比を調整することによって、フレア領域27のオフセット成分の光量を調整可能である。7また、上記の実施形態の照明光学系ILSはズームレンズ7及びアキシコン系8を備えているため、回折光学素子5A~5F等によって形成される照明瞳面IPPの二次光源の形状の伸縮等を行うことができる。しかしながら、回折光学素子5A~5F等に例えば形状が同じで大きさが異なる二次光源を形成できる種々のパターンを形成しておくことによって、ズームレンズ7及びアキシコン系8の少なくとも一方を省略してもよい。さらに、ズームレンズ7及びアキシコン系8の代わりに焦点距離が固定のリレーレンズのみを配置してもよい。8照明光学系ILSは、オプティカルインテグレータとしてマイクロレンズアレイ9フライアイインテグレータの代わりにロッドレンズ内面反射型インテグレータを用いて構成してもよい。この場合にも、回折光学素子5A,5B等を用いることでフレア光の割合を調整可能である。9照明瞳面IPP上の二次光源の形状又は光量分布をモニタする照度センサ25の代わりに、或いはこの照度センサ25に加えて、レチクル面に到達する光束の光強度の角度成分をモニタするセンサを用いてもよい。このようなセンサは、例えば米国特許第6,636,367号明細書等に開示されている。また、上記の実施形態の露光装置を用いて半導体デバイス等の電子デバイス又はマイクロデバイスを製造する場合、電子デバイスは、図11に示すように、電子デバイスの機能性能設計を行うステップ221、この設計ステップに基づいたマスクレチクルを製作するステップ222、デバイスの基材である基板ウエハを製造してレジストを塗布するステップ223、前述した実施形態の露光装置によりマスクのパターンを基板感応基板に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱キュア及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ224、デバイス組み立てステップダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む225、並びに検査ステップ226等を経て製造される。従って、このデバイス製造方法の基板処理ステップ224は、上記の実施形態の露光装置を用いて所定のパターンを介して基板を露光形成する露光工程と、そのパターンが露光形成された基板を処理することとを含んでいる。その露光装置によれば、従来の回折光学素子を用いた場合の照明条件との互換性を維持できるため、電子デバイスを効率的に製造できる。なお、本発明は、上述の走査露光型の露光装置で露光する場合の他に、ステッパー等の一括露光型の露光装置で露光する場合にも適用できる。さらに、本発明は、例えば米国特許出願公開第2007/242247号明細書、又は欧州特許出願公開第1420298号明細書等に開示されている液浸型露光装置で露光する場合にも適用できる。また、本発明は、投影光学系を使用しないプロキシミティ方式の露光装置にも適用可能である。また、本発明は、半導体デバイスの製造プロセスへの適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の製造プロセスや、撮像素子CCD等、マイクロマシーン、MEMS、薄膜磁気ヘッド、及びDNAチップ等の各種デバイスの製造プロセスにも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスクフォトマスク、レチクル等をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、製造工程にも適用することができる。なお、本発明は上述の実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。"