"下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に間隔をおいて並設された複数本のコアと、前記複数本のコアのそれぞれに形成されたミラー面とを有するミラー付き光導波路であって、各コアは、長手方向に間隔をおいて第1~第nの傾斜面nは2以上の整数を有しており、前記複数本のコアの第kの傾斜面kは1~nの整数同士が前記コアの短手方向に1列に配列しており、前記複数本のコアの第1~第nの傾斜面よりなる総ての傾斜面のうち、一部の傾斜面が金属層の形成されたミラー面となっており、残部の傾斜面が金属層を有しない透光面となっており、前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっていることを特徴とするミラー付き光導波路。前記nが2であり、各コアの第1の傾斜面及び第2の傾斜面のうち、一方が金属層の形成されたミラー面となっており、他方が金属層を有しない透光面となっており、前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっている請求項1に記載のミラー付き光導波路。前記複数本のコアを被覆する上部クラッド層を有する請求項1又は2に記載のミラー付き光導波路。各コアは、前記長手方向に間隔をおいて第1~第nの溝nは2以上の整数を有しており、前記複数本のコアの第kの溝kは1~nの整数同士が前記コアの短手方向に1列に配列しており、第kの溝の一方の側面が第kの傾斜面となっている請求項1~3のいずれかに記載のミラー付き光導波路。請求項1~4のいずれかに記載のミラー付き光導波路の製造方法であって、前記下部クラッド層上に前記複数本のコアを形成するコア形成工程と、前記複数本のコアに前記第kの傾斜面を形成する傾斜面形成工程と、前記一部の傾斜面に前記ミラー面を形成するミラー面形成工程とを有するミラー付き光導波路の製造方法。前記ミラー面形成工程の後に、前記複数本のコアを被覆する上部クラッド層を形成する上部クラッド層形成工程を有する請求項5に記載のミラー付き光導波路の製造方法。特許文献1~3の光導波路にあっては、限られたスペース内に複数個の光学素子を効率よく設置することができないという問題がある。すなわち、特許文献1の導波路フィルム型光モジュールは、上述のとおり、板状の光導波路フィルムの長手方向における一方の側面が傾斜したミラー面とされている。このミラー面の下方に4個の発光点が、この光導波路フィルムの短手方向光路と直交方向に間隔をおいて1列に設置されている。このように4個の発光点が1列に設置されているため、隣接する発光点同士の間に十分な間隔をおく必要があり、所定のスペース内に多数の発光点を効率よく設置することが困難である。特許文献2の導波路フィルム型光モジュールにあっては、その図3に示すとおり、4本の導波路コアが平行に設置されており、これら導波路コアの左端部は、傾斜したミラー面となっている。しかしながら、これら4本の導波路コアの左端に形成された4個のミラー面は1列に並んでいるため、これらミラー面の下方の光学素子も1列に設置される。このため、隣接する光学素子同士の間に十分な間隔をおく必要があり、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが困難である。特許文献3の光電気混載回路実装基板にあっても、第1のミラー同士が1列に設けられており、また第2のミラー同士も1列に設けられているため、これらの上方に設けられる光学素子も1列に設置される。このため、隣接する光学素子同士の間に十分な間隔をおく必要があり、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが困難である。本発明は、限られたスペース内に複数個の光学素子を効率よく設置することが可能なミラー付き光導波路及びその製造方法を提供することを課題とする。本発明者は鋭意検討した結果、複数本のコアが並設されたミラー付き光導波路において、隣り合うコアのミラー面をコアの長手方向光路方向にずらして設置することにより、上記課題を解決し得るとの知見に至った。また、本発明者は、上記傾斜面の列をコアの長手方向に間隔をおいて複数列形成し、隣り合うコアにあっては異なる列の傾斜面を選択してミラー面を形成することにより、隣り合うコアのミラー面をコアの長手方向にずらして設置することができ、上記課題を解決し得るとの知見に至った。すなわち、本発明は、下記[1]~[6]を提供するものである。[1]下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に間隔をおいて並設された複数本のコアと、前記複数本のコアのそれぞれに形成されたミラー面とを有するミラー付き光導波路であって、各コアは、長手方向に間隔をおいて第1~第nの傾斜面nは2以上の整数を有しており、前記複数本のコアの第kの傾斜面kは1~nの整数同士が前記コアの短手方向に1列に配列しており、前記複数本のコアの第1~第nの傾斜面よりなる総ての傾斜面のうち、一部の傾斜面が金属層の形成されたミラー面となっており、残部の傾斜面が金属層を有しない透光面となっており、前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっていることを特徴とするミラー付き光導波路。[2]前記nが2であり、各コアの第1の傾斜面及び第2の傾斜面のうち、一方が金属層の形成されたミラー面となっており、他方が金属層を有しない透光面となっており、前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっている[1]に記載のミラー付き光導波路。または、下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に間隔をおいて並設された複数本のコアと、前記複数本のコアのそれぞれに形成されたミラー面とを有するミラー付き光導波路であって、各コアは、長手方向に間隔をおいて第1~第2の傾斜面を有しており、第1の傾斜面同士が前記コアの短手方向に1列に配列しており、第2の傾斜面同士が前記コアの短手方向に1列に配列しており、各コアの第1の傾斜面及び第2の傾斜面のうち、一方が金属層の形成されたミラー面となっており、他方が金属層を有しない透光面となっており、前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっていることを特徴とするミラー付き光導波路。[3]前記複数本のコアを被覆する上部クラッド層を有する[1]又は[2]に記載のミラー付き光導波路。[4]各コアは、前記長手方向に間隔をおいて第1~第nの溝nは2以上の整数を有しており、前記複数本のコアの第kの溝kは1~nの整数同士が前記コアの短手方向に1列に配列しており、第kの溝の一方の側面が第kの傾斜面となっている[1]~[3]のいずれかに記載のミラー付き光導波路。[5][1]~[4]のいずれかに記載のミラー付き光導波路の製造方法であって、前記下部クラッド層上に前記複数本のコアを形成するコア形成工程と、前記複数本のコアに前記第kの傾斜面を形成する傾斜面形成工程と、前記一部の傾斜面に前記ミラー面を形成するミラー面形成工程とを有するミラー付き光導波路の製造方法。[6]前記ミラー面形成工程の後に、前記複数本のコアを被覆する上部クラッド層を形成する上部クラッド層形成工程を有する[5]に記載のミラー付き光導波路の製造方法。本発明のミラー付き光導波路及びその製造方法にあっては、隣り合うコアに設置したミラー面が、コアの長手方向光路方向に互いにずれている。これにより、これらミラー面の上方又は下方に設置する光学素子の設置位置もコアの長手方向にずれるため、光学素子同士が干渉し合うことが防止され、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが可能である。本発明のミラー付き光導波路は、下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に間隔をおいて並設された複数本m本のコアと、前記複数本のコアのそれぞれに形成されたミラー面とを有するミラー付き光導波路であって、各コアは、長手方向に間隔をおいて第1~第nの傾斜面nは2以上の整数を有しており、前記複数本のコアの第kの傾斜面kは1~nの整数同士が前記コアの短手方向に1列に配列しており、前記複数本のコアの第1~第nの傾斜面よりなる総ての傾斜面のうち、一部の傾斜面が金属層の形成されたミラー面となっており、残部の傾斜面が金属層を有しない透光面となっており、前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっていることを特徴とするものである。以下に、コアの本数m本及び各コアの傾斜面の個数n個の異なる種々の実施形態を説明する。<第1の実施の形態m=4、n=2>図1aは第1の実施の形態に係るミラー付き光導波路5の斜視図、図1bは図1aのB-B線に沿う断面図、図1cは図1aのC-C線に沿う断面図である。図2aは図1aの上部クラッド層4を省略した斜視図、図2bは図2aのB-B線に沿う断面図、図2cは図2aのC-C線に沿う断面図である。図3は図1aの平面図である。図4は図1のミラー付き光導波路5の光コネクタ70への接続を説明する斜視図である。図5は図1のミラー付き光導波路5の製造方法の一例を説明する断面図である。ミラー付き光導波路の構成詳細は後述するが、本実施の形態に係るミラー付き光導波路5は、主に、基板1と、基板1上の下部クラッド層2と、下部クラッド層2上に並設された4本m=4のコア3a~3dと、コア3a~3dに形成された第1の傾斜面11及び第2の傾斜面21n=2と、これら傾斜面11,21の一部に形成されたミラー面6と、コア3a~3dを被覆する上部クラッド層4とを有する。図1aに示すとおり、隣り合うコア3a,3b、隣り合うコア3b,3c、及び隣り合うコア3c,3dにおいては、ミラー面6の形成箇所がコアの長手方向光路方向。図1b及び図1cの左右方向。にずれているため、ミラー面6の下方に設置する光学素子の設置位置もずらすことができる。その結果、光学素子同士が干渉し合うことが防止され、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが可能である。次に、このミラー付き光導波路5の構成について詳細に説明する。基板基板1の材料としては、特に制限はなく、例えば、ポリイミド基板、FR-4基板、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルム、電気配線板が挙げられる。基板1として柔軟性及び強靭性のある基材、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミドを基板として用いることで、フレキシブルな光導波路としてもよい。この基板1の厚さとしては、板の反りや寸法安定性により、適宜変えてよいが、好ましくは0.1~10.0mmである。本実施の形態では、光信号の波長に対して透明な基板1を用いるとよい。また、基板1のない光導波路を得るためには、下部クラッド層形成工程後から上部クラッド層形成工程後のいずれかの工程において、基板1と下部クラッド層とを剥離すればよく、この場合、下部クラッド層と基板1とに剥離性のある材料を用いれば良い。このときの基板1は光信号の波長に対して透明でなくとも良い。下部クラッド層上記基板1の上面の全面に、下部クラッド層2が設けられている。下部クラッド層2としては、コア3a~3dより低屈折率の樹脂が使用される。下部クラッド層2の厚さに関しては、特に限定するものではないが、乾燥後の厚さで、5~500μmの範囲が好ましい。5μm以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、500μm以下であると、膜厚を均一に制御することが容易である。以上の観点から、下部クラッド層2の厚さは、さらに10~100μmの範囲であることがより好ましい。コア本実施の形態では、この下部クラッド層2上に、間隔をおいて4本m=4のコア3a~3dが並設されている。これらコア3a~3dは、細長い四角柱状であり、互いに間隔をおいて平行に設けられている。これらコア3a~3dの長手方向は、基板1の一辺と平行である。これらコア3a~3dは、基板1の当該一辺と直交する1対の辺にわたって延在し、これらコア3a~3dの両端面はミラー付き光導波路5の側面に露出している。コア3a~3dの材料としては、下部クラッド層2及び上部クラッド層4より高屈折率の樹脂が好適に用いられる。コア3a~3dの厚さについては特に限定されず、通常は10~100μmとなるように調整される。該コア3a~3dの厚さが10μm以上であると、光導波路形成後の光学素子との結合において位置合わせトレランスが拡大できるという利点があり、100μm以下であると、光導波路形成後の光学素子との結合において、結合効率が向上するという利点がある。以上の観点から、コア3a~3dの厚さは、さらに30~90μmの範囲であることが好ましい。溝上記コア3a~3dは、その長手方向光路方向に間隔をおいて、第1の溝10及び第2の溝20図2b、図2cを有している。各溝10,20は、各コア3a~3dの短手方向にわたって延在しており、その両端が各コア3a~3dの両側面にまで至っている。これらの溝10,20は、コア3a~3dの上面から下部クラッド層2の上面以下の深さにまで至っている。コア3a~3dの合計4個の第1の溝10は、コアの短手方向に一列に並んでいる。同様に、コア3a~3dの合計4個の第2の溝20は、コアの短手方向に一列に並んでいる。これら第1の溝10及び第2の溝20は、図1b及び図1cに示すとおり、コアの長手方向コアの短手方向と直交方向の縦断面が、直角三角形となっている。具体的には、第1の溝10の2つの側面のうち、第2の溝20から遠い側の側面は下部クラッド層2に対して垂直に起立する垂直面となっており、第2の溝20から近い側の側面は下部クラッド層2に対して傾斜する傾斜面11となっている。同様に、第2の溝20の2つの側面のうち、第1の溝10から近い側の側面は下部クラッド層2に対して略垂直に起立する垂直面となっており、第1の溝10から遠い側の側面は下部クラッド層2に対して傾斜する傾斜面21となっている。これら4個の傾斜面11は、同一平面内に存在しており、同様に、これら4個の傾斜面21は、同一平面内に存在している。傾斜面11,21とコア3a~3dの長手方向ないし下部クラッド層2の表面とのなす傾斜角は、用途に応じて適宜設定することができるが、好ましくは30~60°、より好ましくは40~50°、更に好ましくは44~46°である。一方、上記溝10,20の垂直面とコア3a~3dの長手方向ないし下部クラッド層2の表面とのなす角度は、好ましくは40~150°であり、より好ましくは90°である。この角度が90°に近いほど、光信号の反射率が小さく且つ透光率が大きくなり、光損失が小さくなるため好ましい。ミラー面コア3a,3cにあっては、第2の溝20を覆うようにして金属層30が設けられている。この金属層30は、溝20の側面傾斜面21及び垂直面及びその近傍にまで設けられているが、少なくとも溝20の傾斜面21を被覆していればよい。この金属層30のうち傾斜面21を被覆している部分がミラー面6図3となる。一方、これらコア3a,3cの第1の溝10には金属層30が形成されておらず、第1の溝10の傾斜面11にはミラー面6が形成されていない。このミラー面6が形成されていない傾斜面11が透光面7図3となる。また、コア3b,3dにあっては、第1の溝10を覆うようにして金属層30が設けられている。この金属層30は、溝10の側面傾斜面11及び垂直面及びその近傍にまで設けられているが、少なくとも溝10の傾斜面11を被覆していればよい。この金属層30のうち傾斜面11を被覆している部分がミラー面6図3となる。一方、これらコア3b,3dの第2の溝20には金属層30が形成されておらず、第2の溝20の傾斜面21にはミラー面6が形成されていない。このミラー面6が形成されていない傾斜面21が透光面7図3となる。図3に示すとおり、隣り合うコア3a,3b、隣り合うコア3b,3c、及び隣り合うコア3c,3dにあっては、ミラー面6がコアの長手方向にずれた位置に設けられている。これにより、これらミラー面6の下方に設置される光学素子の設置位置も互いにずれることになるため、光学素子同士が干渉し合うことが防止され、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが可能である。上記金属層30の材料としては、Au、Ag、Cu、Cr、Ti、Al、Pd、Ni等の各種金属が好適に用いられる。反射率の観点から、Au、Ag、Cu、Alがより好適に用いられる。上部クラッド層これら下部クラッド層2の上面及びコア3a~3dを覆うようにして、上部クラッド層4が設けられている。上記溝10,20は、この上部クラッド層4により充填されている。このように、溝10,20が上部クラッド層4で充填され、ミラー面6が大気中に露出しないので、ミラー面6が劣化したり損傷したりすることが防止される。また、詳しくは後述するが、図1aに矢印で示すとおり、コア3b,3dにおいては、第2の溝20側の端面図1aの左端面からコア3b,3d内を移動した光信号は、第2の溝20を透過して第1の溝10のミラー面6で光路変換される必要がある。ここで、第2の溝20内に上部クラッド層2が充填されているため、充填されていない場合と比べて、光信号が第2の溝20内をより効率よく透過し、光損失の低減が図られる。さらに、ミラー付き光導波路5の強度が高くなり、溝10,20近傍で折れ等が生じることが防止される。上部クラッド層4の材料としては、コア3a~3dより低屈折率の樹脂が使用される。この上部クラッド層4と下部クラッド層2とは、材料が同一であっても異なっていてもよく、屈折率が同一であっても異なっていてもよい。上部クラッド層4の厚さに関しても下部クラッド層2と同様に、特に限定するものではないが、乾燥後の厚さで、5~500μmの範囲が好ましい。5μm以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、500μm以下であると、膜厚を均一に制御することが容易である。以上の観点から、上部クラッド層4の厚さは、さらに10~100μmの範囲であることがより好ましい。また、コア3a~3dを埋め込むためには、上部クラッド層4の厚みはコア3a~3dの厚さ以上にすることが好ましい。ミラー付き光導波路を用いた光信号の送受信例次に、図1及び図4を参照して、このように構成されたミラー付き光導波路5に光信号を送受信する一例について説明する。上記のミラー付き光導波路5は、図4に示すとおり、溝20側の端部図4の左端部が光コネクタMTコネクタ70に接続される。コア3a,3cにおいては、基板1の下面のうち第2の溝20の傾斜面21の下方位置に、光学素子図示略が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、光コネクタ70から送信された光信号は、コア3a,3b内をコアの長手方向に移動した後、第2の溝20に形成されたミラー面6で下向きに光路変換され、このミラー面6の下方の光学素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、発光素子から上向きに送信された光信号は、基板1、下部クラッド層2及びコア3a,3b内を移動した後、第2の溝20に形成されたミラー面6で長手方向図1及び図4の左方向に光路変換されてコア3a、3b内を光路方向に移動し、光コネクタ70によって受信される。コア3b,3dにおいては、基板1の下面のうち第1の溝10の傾斜面11の下方位置に、光学素子図示略が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、光コネクタ70から送信された光信号は、コア3b,3d内をコアの長手方向に移動し、第2の溝20を通過した後、第1の溝10に形成されたミラー面6で下向きに光路変換され、このミラー面6の下方の光学素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、発光素子から上向きに送信された光信号は、基板1、下部クラッド層2及びコア3a,3b内を移動した後、第1の溝10に形成されたミラー面6で水平方向図1及び図4の左方向に光路変換されてコア3a、3b内を光路方向に移動し、溝20を通過した後、光コネクタ70によって受信される。ミラー付き光導波路の製造方法次に、上記のミラー付き光導波路5の製造方法について説明する。1基板上への下部クラッド層の形成工程図5a基板1上に下部クラッド層2を積層する。下部クラッド層2の形成方法は特に限定されず、例えば、クラッド層形成用樹脂の塗布又はクラッド層形成用樹脂フィルムのラミネートにより形成すればよい。クラッド層形成用樹脂としては、コア3a~3dより低屈折率であり、光又は熱により硬化する樹脂組成物であれば特に限定されず、熱硬化性樹脂組成物や感光性樹脂組成物を好適に使用することができる。塗布の方法は限定されず、クラッド層形成用樹脂組成物を常法により塗布すればよい。また、ラミネートに用いるクラッド層形成用樹脂フィルムは、例えば、クラッド層形成用樹脂組成物を溶媒に溶解して、キャリアフィルムに塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。このクラッド層形成用樹脂フィルムは、支持フィルム上に形成することが好ましい。支持フィルムの種類としては、基板1として柔軟性及び強靭性のある基材として上記に列挙したフィルムが好適に挙げられる。支持体フィルムの厚さは、5~50μmであることが好ましい。5μm以上であると、支持体フィルムとしての強度が得やすいという利点があり、50μm以下であると、パターン形成時のマスクとのギャップが小さくなり、より微細なパターンが形成できるという利点がある。以上の観点から、支持体フィルムの厚さは10~40μmの範囲であることがより好ましく、15~30μmであることが特に好ましい。なお、後述するコア層形成用樹脂フィルム及び下部クラッド層用のクラッド層形成用樹脂フィルムも、この支持フィルム上に形成することが好ましい。2コア3a~3dの形成工程図5b次いで、該下部クラッド層2上にコア3a~3dを形成する。このコア3a~3dの形成方法には特に制限はなく、例えば、コア層形成用樹脂の塗布又はコア層形成用樹脂フィルムのラミネートによって下部クラッド層2の上面全面にコア層を形成し、エッチングによりコア3a~3dを形成すればよい。上記コア層形成用樹脂及びコア層形成用樹脂フィルムとしては、活性光線によりコア3a~3dを形成し得る樹脂組成物を用いることができる。3傾斜面の形成工程図5cこれらコア3a~3dに、第1の溝10及び第2の溝20を形成する。これら溝10,20の形成方法は特に限定されず、レーザーアブレーションやダイシングソーによって形成すればよい。例えば、ダイシングソーを、コア3aからコア3d側に移動させることにより、これらコア3a~3dに第1の溝10を形成し、次いで、コア3dからコア3a側に移動させることにより、これらコア3a~3dに第2の溝20を形成することができる。この第1の溝10の一方の側面が傾斜面11となり、この第2の溝20の一方の側面が傾斜面21となる。4ミラー面の形成工程図5dコア3a,3cの第2の傾斜面21と、コア3b、3dの第1の傾斜面11に、金属層30よりなるミラー面6を形成する。金属層30の形成方法としては、特に限定はないが、蒸着、スパッタリング、めっき等が好ましい。また、傾斜面21,21にのみ金属層30を形成する場合は、傾斜面11,21に対応する箇所を開口させたメタルマスクを用いて蒸着、又はスパッタリングを行ったり、レジストを用いて傾斜面11,21を開口させ、蒸着、スパッタリング、めっき等を行い、その後、レジストを除去するのが好ましい。金属層30の形成範囲は適宜調節すればよく、少なくとも傾斜面11,21のうちコア3a~3dの一部に形成すればよいが、光損失を小さくする観点からは、傾斜面11,21の全面に形成することがより好ましい。5上部クラッド層の形成工程図5e下部クラッド層2及びコア3a~3dの上面側から上部クラッド層4を積層する。上部クラッド層4の形成方法としては、特に限定はなく、スピンコートによってクラッド層形成用の樹脂をコーティングしたり、ドライフィルム型のクラッド層形成用の樹脂フィルムをロールラミネータや真空ラミネータ等を用いて積層することが好ましい。このとき、溝10,20がクラッド層形成用の樹脂又は樹脂フィルムで埋められる。<第2の実施の形態m=4、n=3>図6aは第2の実施の形態に係るミラー付き光導波路5Bの斜視図、図6bは図6aの平面図、図6cは図6aのC-C線に沿う断面図である。なお、図6aでは金属層30は図示を省略している。このミラー付き光導波路5Bは、コア3a~3dに第3の溝50を設けたこと、ミラー面6の設置箇所を異ならせたこと以外は、図1~5のミラー付き光導波路5と同様であり、図1~図5と同一符号は同一部分を示す。以下に、溝及びミラー面の詳細について説明する。溝上記コア3a~3dは、その長手方向光路方向に間隔をおいて、第1の溝10、第2の溝20、及び第3の溝50を有している。各溝10,20,50は、各コア3a~3dの短手方向にわたって延在しており、その両端が各コア3a~3dの両側面にまで至っている。これらの溝10,20,50は、コア3a~3dの上面から下部クラッド層2の上面以下の深さにまで至っている。コア3a~3dの合計4個の第1の溝10は、コアの短手方向に一列に並んでいる。同様に、コア3a~3dの合計4個の第2の溝20は、コアの短手方向に一列に並んでおり、コア3a~3dの合計4個の第3の溝50は、コアの短手方向に一列に並んでいる。これら第1の溝10、第2の溝20、及び第3の溝50は、図6cに示すとおり、コアの長手方向コアの短手方向と直交方向の縦断面が、直角三角形となっている。具体的には、第1~3の溝10,20,50の各々は、コアの長手方向に対向する2つの側面のうち、一方の側第1の溝10側。図6における右側。の側面が下部クラッド層2に対して垂直に起立する垂直面となっており、他方の側第3の溝50側。図6における左側。の側面が下部クラッド層2に対して傾斜する傾斜面11,21,51となっている。これら4個の傾斜面11は同一平面内に存在している。同様に、これら4個の傾斜面21は同一平面内に存在しており、また、これら4個の傾斜面51は同一平面内に存在している。傾斜面11,21,51とコア3a~3dの長手方向ないし下部クラッド層2の表面とのなす傾斜角は、第1の実施の形態の場合と同様である。また、これら傾斜面11,21,51と対向する垂直面のなす角度も第1の実施の形態の場合と同様である。ミラー面図6bに示すとおり、コア3a,3dにあっては、第3の溝50を覆うようにして金属層30が設けられている。この金属層30は、少なくとも溝50の傾斜面51を被覆していればよい。この金属層30のうち傾斜面51を被覆している部分がミラー面6となる。一方、これらコア3a,3dの第1の溝10及び第2の溝20には金属層30が形成されていない。これら第1,2の溝10,20の傾斜面11,21が透光面7となる。また、図6bに示すとおり、コア3bにあっては、第2の溝20を覆うようにして金属層30が設けられている。この金属層30は、少なくとも溝20の傾斜面21を被覆していればよい。この金属層30のうち傾斜面21を被覆している部分がミラー面6となる。一方、このコア3bの第1の溝10及び第3の溝50には金属層30が形成されていない。これら第1,3の溝10,50の傾斜面11,51が透光面7となる。さらに、図6bに示すとおり、コア3cにあっては、第1の溝10を覆うようにして金属層30が設けられている。この金属層30は、少なくとも溝10の傾斜面11を被覆していればよい。この金属層30のうち傾斜面11を被覆している部分がミラー面6となる。一方、このコア3bの第2の溝20及び第3の溝50には金属層30が形成されていない。これら第2,3の溝20,50の傾斜面21,51が透光面7となる。図6bに示すとおり、隣り合うコア3a,3b、隣り合うコア3b,3c、及び隣り合うコア3c,3dにあっては、ミラー面6がコアの長手方向にずれた位置に設けられている。これにより、これらミラー面6の下方に設置される光学素子の設置位置も互いにずれることになるため、光学素子同士が干渉し合うことが防止され、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが可能である。次に、図6aを参照して、このように構成されたミラー付き光導波路5Bに光信号を送受信する一例について説明する。上記のミラー付き光導波路5Bも、図示は省略するが図4の場合と同様に、第3の溝50側の端部図6の左端部が光コネクタMTコネクタに接続される。また、コア3a,3dにおいては、基板1の下面のうち第3の溝50の傾斜面51の下方位置に、光学素子図示略が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、光コネクタから送信された光信号は、コア3a,3d内をコアの長手方向に移動した後、第3の溝50に形成されたミラー面6で下向きに光路変換され、このミラー面6の下方の光学素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、発光素子から上向きに送信された光信号は、基板1、下部クラッド層2及びコア3a,3b内を移動した後、第3の溝50に形成されたミラー面6で長手方向図6の左方向に光路変換されてコア3a、3d内を光路方向に移動し、光コネクタ70によって受信される。コア3bにおいては、基板1の下面のうち第2の溝20の傾斜面21の下方位置に、光学素子図示略が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、光コネクタから送信された光信号は、コア3b内をコアの長手方向に移動し、第3の溝50の傾斜面51及び垂直面を透過した後、第2の溝20に形成されたミラー面6で下向きに光路変換され、このミラー面6の下方の光学素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、発光素子から上向きに送信された光信号は、基板1、下部クラッド層2及びコア3b内を移動した後、第2の溝20に形成されたミラー面6で水平方向図6の左方向に光路変換されてコア3b内を長手方向に移動し、第3の溝50の垂直面及び傾斜面51を透過した後、光コネクタによって受信される。コア3cにおいては、基板1の下面のうち第1の溝10の傾斜面11の下方位置に、光学素子図示略が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、光コネクタから送信された光信号は、コア3c内をコアの長手方向に移動し、第3の溝50の傾斜面51及び垂直面並びに第2の溝20の傾斜面21及び垂直面を透過した後、第1の溝10に形成されたミラー面6で下向きに光路変換され、このミラー面6の下方の光学素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、発光素子から上向きに送信された光信号は、基板1、下部クラッド層2及びコア3c内を移動した後、第1の溝10に形成されたミラー面6で水平方向図6の左方向に光路変換されてコア3c内を長手方向に移動し、第2の溝20の垂直面及び傾斜面21並びに第3の溝50の垂直面及び傾斜面51を透過した後、光コネクタによって受信される。<第3の実施の形態m=4、n=2>図7aは第3の実施の形態に係るミラー付き光導波路5Cの斜視図、図7bは図7aの平面図、図7cは図7aのC-C線に沿う断面図である。このミラー付き光導波路5Cは、第2の溝20に代えて第2の溝60を設けたこと、ミラー面6の設置箇所を異ならせたこと以外は、図1~5のミラー付き光導波路5と同様であり、図1~図5と同一符号は同一部分を示す。第2の溝60は、第2の溝20において、傾斜面と垂直面とを置換した形状となっている。以下に、溝及びミラー面の詳細について説明する。溝上記コア3a~3dは、その長手方向光路方向に間隔をおいて、第1の溝10及び第2の溝60を有している。各溝10,60は、各コア3a~3dの短手方向にわたって延在しており、その両端が各コア3a~3dの両側面にまで至っている。これらの溝10,60は、コア3a~3dの上面から下部クラッド層2の上面以下の深さにまで至っている。コア3a~3dの合計4個の第1の溝10は、コアの短手方向に一列に並んでいる。同様に、コア3a~3dの合計4個の第2の溝60は、コアの短手方向に一列に並んでいる。これら第1の溝10及び第2の溝60は、コアの長手方向コアの短手方向と直交方向の縦断面が、直角三角形となっている。具体的には、第1の溝10の2つの側面のうち、第2の溝20から遠い側の側面は下部クラッド層2に対して垂直に起立する垂直面となっており、第2の溝20から近い側の側面は下部クラッド層2に対して傾斜する傾斜面11となっている。一方、第2の溝60の2つの側面のうち、第1の溝10から遠い側の側面は下部クラッド層2に対して略垂直に起立する垂直面となっており、第1の溝10から近い側の側面は下部クラッド層2に対して傾斜する傾斜面61となっている。これら4個の傾斜面11は、同一平面内に存在しており、同様に、これら4個の傾斜面61は、同一平面内に存在している。傾斜面11,61とコア3a~3dの長手方向ないし下部クラッド層2の表面とのなす傾斜角は、用途に応じて適宜設定することができるが、好ましくは30~60°、より好ましくは40~50°、更に好ましくは44~46°である。一方、上記溝10,60の垂直面とコア3a~3dの長手方向ないし下部クラッド層2の表面とのなす角度は、好ましくは40~1540°であり、より好ましくは90°である。この角度が90°に近いほど、光信号の反射率が小さく且つ透光率が大きくなり、光損失が小さくなるため好ましい。ミラー面コア3a,3cにあっては、第1の溝10を覆うようにして金属層30が設けられている。この金属層30は、溝10の側面傾斜面11及び垂直面及びその近傍にまで設けられているが、少なくとも溝10の傾斜面11を被覆していればよい。この金属層30のうち傾斜面11を被覆している部分がミラー面6となる。一方、これらコア3a,3cの第2の溝60には金属層30が形成されておらず、第2の溝60の傾斜面61にはミラー面6が形成されていない。このミラー面6が形成されていない傾斜面61が透光面7となる。また、コア3b,3dにあっては、第2の溝60を覆うようにして金属層30が設けられている。この金属層30は、溝60の側面傾斜面61及び垂直面及びその近傍にまで設けられているが、少なくとも溝60の傾斜面61を被覆していればよい。この金属層30のうち傾斜面61を被覆している部分がミラー面6となる。一方、これらコア3b,3dの第1の溝10には金属層30が形成されておらず、第1の溝10の傾斜面11にはミラー面6が形成されていない。このミラー面6が形成されていない傾斜面11が透光面7となる。図7bに示すとおり、隣り合うコア3a,3b、隣り合うコア3b,3c、及び隣り合うコア3c,3dにあっては、ミラー面6がコアの長手方向にずれた位置に設けられている。これにより、これらミラー面6の下方に設置される光学素子の設置位置も互いにずれることになるため、光学素子同士が干渉し合うことが防止され、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが可能である。次に、図7aを参照して、このように構成されたミラー付き光導波路5に光信号を送受信する一例について説明する。上記のミラー付き光導波路5Cは、図示は省略するが図4の場合と同様に、第2の溝60側の端部図7の左端部が光コネクタMTコネクタに接続されることに加え、第1の溝10側の端部図7の右端部も光コネクタMTコネクタに接続される。コア3a,3cにおいては、基板1の下面のうち第1の溝10のミラー面6の下方位置に、光学素子図示略が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、左側の光コネクタから送信された光信号は、コア3a,3c内をコアの長手方向に移動し、第2の溝60を透過した後、第1の溝10に形成されたミラー面6で下向きに光路変換され、このミラー面6の下方の受光素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、この発光素子から上向きに送信された光信号は、基板1、下部クラッド層2及びコア3a,3c内を移動した後、溝10に形成されたミラー面6で長手方向図7の左方向に光路変換されてコア3a、3c内を光路方向に移動し、溝60を通過して左側の光コネクタによって受信される。コア3b,3dにおいては、基板1の下面のうち第2の溝60のミラー面6の下方位置に、光学素子図示略が接続される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、この発光素子から上向きに送信された光信号は、基板1、下部クラッド層2及びコア3b,3d内を移動した後、溝60に形成されたミラー面6で長手方向図7の右方向に光路変換されてコア3b、3d内を光路方向に移動し、溝10を通過して右側の光コネクタによって受信される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、右側の光コネクタから送信された光信号は、コア3b,3d内をコアの長手方向に移動し、第1の溝10を透過した後、第2の溝60に形成されたミラー面6で下向きに光路変換され、このミラー面6の下方の受光素子によって受信される。<第4の実施の形態>図8aは第4の実施の形態に係るミラー付き光導波路5Dの断面図、図8bはこのミラー付き光導波路5Dの製造工程の一部を説明する断面図である。ミラー付き光導波路5Dの構成図8aのミラー付き光導波路5Dは、図1~図4のミラー付き光導波路5において、第2の溝20にミラー面6を有していないコア3b,3dの当該溝20に、反射防止部材3’を形成したものである。ミラー付き光導波路5Dのその他の構成は図1~図4のミラー付き光導波路5と同様であり、同一部分は同一部材を意味する。よって、以下には、反射防止部材3’の構成を説明する。上述のとおり、このミラー付き光導波路5Dは、第2のコア3b,3dの溝20に反射防止部材3’が形成されている。この反射防止部材3’としては、この反射防止剤3’とコア3a~3dとの屈折率差が、上部クラッド層4とコア3a~3dとの屈折率差よりも小さい材料であることが好ましく、コア3a~3dと同一の屈折率の材料であることがより好ましい。この反射防止部材3’により、コア3b,3d内の光信号が溝20を通過するときの光損失が低減される。ミラー付き光導波路5Dの製造方法このミラー付き光導波路5Dを製造するには、図5に示すミラー付き光導波路5の製造方法において、斜面の形成工程図5cとミラー面の形成工程図5dとの間に第1のタイミング、または、ミラー面の形成工程図5dと上部クラッド層の形成工程図5eとの間に第2のタイミング、図8bの反射防止材充填工程を実施すればよい。この反射防止材3’の形成方法には特に制限はなく、例えばコア3a~3dと同様の方法を採用することができる。すなわち、コア層形成用樹脂の塗布又はコア層形成用樹脂フィルムのラミネートによって、コア3b,3dの溝20及びその周辺に反射防止材層を形成し、エッチングにより反射防止材3’を形成すればよい。このように、光信号が透過する溝すなわちコア3b,3dの第2の溝20に反射防止材3’が設けられることにより、これら溝を光信号が通過するときの光損失が低減される。このように、反射防止材3’は少なくとも光信号の通過する溝に形成する必要があるが、その他の溝10,20に形成してもよい。例えば、上記第2のタイミングでこの反射防止材3’を形成する場合には、総ての溝10,20に上記方法で反射防止材3’を形成してもよい。<その他の実施の形態>上記実施の形態は本発明の一例であり、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、上記ミラー付き光導波路において、基板1は省略してもよい。コアは3本でもよく、5本以上でもよい。各コアの傾斜面は4個以上であってもよい。第4の実施の形態における上記反射防止材3’は、第2,3の実施の形態に係るミラー付き光導波路5B,5Cの溝に設けてもよい。以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。実施例1[クラッド層形成用樹脂フィルムの作製]Aベースポリマー;メタアクリルポリマーA-1の作製撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部及び乳酸メチル23質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65°Cに上昇させ、メチルメタクリレート47質量部、ブチルアクリレート33質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート16質量部、メタクリル酸14質量部、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル3質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部、及び乳酸メチル23質量部の混合物を3時間かけて滴下後、65°Cで3時間撹拌し、さらに95°Cで1時間撹拌を続けて、メタアクリルポリマーA-1溶液固形分45質量を得た。クラッド層形成用樹脂ワニスの調合Aベースポリマーとして、前記A-1溶液固形分45質量84質量部固形分38質量部、B光硬化成分として、ポリエステル骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製U-200AX33質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタンメタアクリレート新中村化学工業株製UA-420015質量部、C熱硬化成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液固形分75質量住化バイエルウレタン株製スミジュールBL317520質量部固形分15質量部、D光重合開始剤として、1-[4-2-ヒドロキシエトキシフェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オンチバジャパン株製イルガキュア29591質量部、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシドチバジャパン株製イルガキュア8191質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート23質量部を攪拌しながら混合した。孔径2μmのポリフロンフィルタアドバンテック東洋株製PF020を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスを得た。上記で得られたクラッド層形成用樹脂組成物を、PETフィルム東洋紡績株製コスモシャインA4100、厚み50μmの非処理面上に、前記塗工機を用いて塗布し、100°Cで20分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理PETフィルム帝人デュポンフィルム株製ピューレックスA31、厚み25μmを貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、本実施例では使用した下部クラッド層2の厚みは15μm、上部クラッド層8の厚みは70μmのものを用いた。[コア層形成用樹脂フィルムの作製]Aベースポリマーとして、フェノキシ樹脂商品名:フェノトートYP-70、東都化成株式会社製26質量部、B光重合性化合物として、9,9-ビス[4-2-アクリロイルオキシエトキシフェニル]フルオレン商品名:A-BPEF、新中村化学工業株式会社製36質量部、及びビスフェノールA型エポキシアクリレート商品名:EA-1020、新中村化学工業株式会社製36質量部、C光重合開始剤として、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド商品名:イルガキュア819、チバスペシャリティケミカルズ社製1質量部、及び1-[4-2-ヒドロキシエトキシフェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン商品名:イルガキュア2959、チバスペシャリティケミカルズ社製1質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40質量部を用いたこと以外は上記製造例と同様の方法及び条件でコア層形成用樹脂ワニスBを調合した。その後、上記製造例と同様の方法及び条件で加圧濾過さらに減圧脱泡した。上記で得られたコア層形成用樹脂ワニスBを、PETフィルム商品名:コスモシャインA1517、東洋紡績株式会社製、厚さ:16μmの非処理面上に、上記製造例と同様な方法で塗布乾燥し、次いで保護フィルムとして離型PETフィルム商品名:ピューレックスA31、帝人デュポンフィルム株式会社、厚さ:25μmを離型面が樹脂側になるように貼り付け、コア層形成用樹脂フィルムを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、本実施例では使用したコア層形成用樹脂フィルム厚みは、50μmのものを用いた。[光導波路の作製]以下の手順で、図1~図5のミラー付き光導波路5を作製した。1基板上への下部クラッド層の形成工程図5a100mm×100mmのポリイミド基板宇部日東化成株式会社製、商品名;ユーピレックスRN、厚さ;25μm上に上記で得られたクラッド層形成用樹脂フィルムから保護フィルムである離型PETフィルムピューレックスA31を剥離し、平板型ラミネータとして真空加圧式ラミネータ株式会社名機製作所製、MVLP-500を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度50°C、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着し、紫外線露光機株式会社オーク製作所製、EXM-1172にて紫外線波長365nmを4J/cm2照射し、その後、キャリアフィルムを剥離し、続いて、170°Cで1時間加熱乾燥及び硬化し、下部クラッド層2を形成した。2コア3a~3dの形成工程図5b次に、下部クラッド層2上に、ロールラミネータ日立化成テクノプラント株式会社製、HLM-1500を用い圧力0.4MPa、温度50°C、ラミネート速度0.2m/minの条件で上記コア層形成用樹脂フィルムをラミネートし、次に、開口幅が50μmネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機にて紫外線波長365nmを0.6J/cm2照射し、次いで80°Cで5分間露光後加熱を行った。その後、支持フィルムであるPETフィルムを剥離し、現像液プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/N,N-ジメチルアセトアミド=8/2、質量比を用いて、コアパターンを現像した。続いて、洗浄液イソプロパノールを用いて洗浄し、100°Cで10分間加熱乾燥し、4個のコア3a~3d各コア:長さ100mm×幅50μm×高さ50μm。コア同士の間の間隙:75μm。を形成した。3傾斜面の形成工程図5c上記で得られたコア3a~3dの基板反対側からダイシングソーDAC552、株式会社ディスコ製を用いて、溝10,20を形成した。4ミラー面の形成工程図5d次いで傾斜面11,21部分に75μm×75μmの開口を有するメタルマスクをコア3a,3c上に設置し、蒸着装置RE-0025、株式会社ファースト技研製を用いてAuを0.5μm蒸着させ、ミラー面6を得た。5上部クラッド層の形成工程図5e次いで、上部クラッド層4として厚さ70μmの上記クラッド層形成用樹脂フィルムを上記真空加圧式ラミネータ株式会社名機製作所製、MVLP-500を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度120°C、加圧時間30秒ラミネートした。さらに、紫外線波長365nmを4J/cm2照射後、キャリアフィルムを剥離し、170°Cで1時間加熱処理することによって、上部クラッド層4を形成し、図1~図5に示すミラー付き光導波路5を作製した。"