"皮膚真菌症の処置に使用される装置であって、少なくとも一つのRF電極を含み、RFエネルギー、光放射エネルギー、及び超音波エネルギーからなる群から選択される少なくとも一つの形態のエネルギーを、爪板及び通常爪板により覆われる組織の少なくとも一つに適用するべく動作可能なアプリケータであって、皮膚真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な温度まで前記爪板及び組織を加熱するアプリケータと、通常前記爪板により覆われる前記組織の温度を受信かつ分析するべく動作可能な少なくとも一つの熱モニタリング機構とを含む装置。前記光放射エネルギーは400nmから2000nmの波長内にある、請求項1に記載の装置。前記アプリケータは、前記爪板を通して400nmから2000nmの波長を有する放射線を適用するべく動作可能である、請求項1又は2に記載の装置。前記アプリケータは、通常前記爪板により覆われる組織に400nmから2000nmの波長を有する放射線を適用するべく動作可能である、請求項1又は2に記載の装置。前記アプリケータは、前記皮膚にRFエネルギーを適用するべく動作可能な少なくとも2つのRF電極をさらに含み、前記RF電極同士の距離が調整可能である、請求項1に記載の装置。前記アプリケータはまた、前記皮膚にRFエネルギーを適用するべく動作可能な少なくとも2つのRF電極を含み、前記電極は、前記電極と前記皮膚との適切な結合を可能とするべく調整可能である、請求項1に記載の装置。前記RFエネルギーは、少なくとも2つのばね付勢RF電極を含むアプリケータにより前記皮膚に適用され、前記電極同士の距離が自動的に調整可能である、請求項1に記載の装置。前記RFエネルギーは、少なくとも一つのRF電極を含むアプリケータにより適用される、請求項2に記載の装置。前記RFエネルギーは、離間パターンに配列された複数の電圧適用素子により適用される、請求項2に記載の装置。前記RFエネルギーは連続又はパルスモードで適用される、請求項2に記載の装置。前記組織に生成される熱は、被処置組織及びまわりの組織に望ましくない損傷をもたらすことなく前記真菌症の病原体に影響を与えるのに十分である、請求項1に記載の装置。前記超音波エネルギーは、少なくとも一つの超音波トランスデューサを含むアプリケータにより調整可能な角度にて前記組織に適用される、請求項1に記載の装置。前記超音波エネルギーは、前記組織に適用される超音波ビームを一の入射角にて放出するべく動作可能な少なくとも一つの超音波トランスデューサを含むアプリケータにより適用され、放出された前記ビームの少なくとも一部の伝播が所望組織層においてもたらされる、請求項1に記載の装置。前記超音波エネルギーは、通常爪板により覆われる組織に超音波エネルギーを適用するべく、かつ、前記病原体に影響を与えるのに十分な熱を前記組織に生成するべく動作可能な少なくとも一つの超音波トランスデューサを含むアプリケータにより適用される、請求項1に記載の装置。前記超音波エネルギーは、超音波ビームの前記組織への放出及び前記組織からの受け入れの少なくとも一つを行うべく、かつ、放出され及び受け入れられたビーム信号をコントローラへ通信するべく動作可能な少なくとも一つの超音波トランスデューサを含むアプリケータにより適用され、前記コントローラは、前記組織を通る前記ビームの伝播速度の変化を分析して前記組織の温度の変化を決定する、請求項1に記載の装置。前記装置は、インピーダンス及び超音波伝播速度からなる群から選択される少なくとも一つの温度変化インジケータをさらに含む、請求項1に記載の装置。前記RF電極は、離間パターンで配列された複数の電圧適用素子の一パターンを一表面上に有する少なくとも一つのキャリアを含む、請求項1に記載の装置。前記RF電極は、離間パターンで配列された複数の電圧適用素子の一パターンを一表面上に有する少なくとも一つのキャリアと、前記RF電極を使用して、前記通常爪により覆われる組織にわたる熱領域に直線掃引波効果を適用し、前記真菌症の病原体に影響を与えるべく動作可能なコントローラとを含む、請求項1に記載の装置。前記加熱された直線領域に適用される連続した掃引組織加熱波効果同士の時間間隔が、人間の皮膚の熱緩和時間よりも長い、請求項18に記載の装置。温度を感知するべく動作可能な少なくとも一つのセンサと、インピーダンス及び超音波伝播速度からなる群から選択される少なくとも一つの温度変化指示インジケータとをさらに含む、請求項1に記載の装置。前記RFエネルギーの周波数は300kHzから40MHzの範囲にある、請求項1に記載の装置。皮膚真菌症の処置に使用される方法であって、一以上のRFエネルギー供給電極を通常爪板により覆われる組織に適用することと、皮膚真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な温度まで少なくとも通常爪板により覆われる組織を加熱するべくRF誘導電流を生成することとを含む方法。前記通常爪により覆われる組織を照射して前記真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な熱を前記組織に生成することをさらに含む、請求項22に記載の方法。前記爪板の下に位置する爪板組織を通して照射して当該組織をさらに加熱することをさらに含む、請求項22に記載の方法。被処置組織に望ましくない損傷をもたらすことなく真菌症の病原体に実質的な熱的影響を与えるのに十分な温度レベルまで前記組織を加熱する、請求項22に記載の方法。前記エネルギーは連続及びパルス形態で供給される、請求項22から24のいずれか一項に記載の方法。さらに超音波エネルギーを前記通常爪により覆われる組織に適用して前記真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な熱を前記組織に生成する、請求項22に記載の方法。さらに温度及び温度変化を受信かつ分析する、請求項22に記載の方法。さらに超音波ビームの前記組織への放出及び前記組織からの受け入れを行うべく、かつ、前記組織を通る前記ビームの伝播速度の変化を分析して前記組織の温度の変化を決定する、請求項22に記載の方法。前記変化及び所定処置プロトコルに応じて処置パラメータを調整することをさらに含む、請求項28又は29に記載の方法。さらに前記通常爪板により覆われる組織にわたる組織加熱掃引波効果を生成して前記真菌症の病原体に影響を与える、請求項22に記載の方法。前記加熱された同じ直線領域に適用される連続した掃引組織加熱波効果同士の時間間隔が、人間の皮膚の熱緩和時間よりも長い、請求項31に記載の方法。前記加熱された同じ直線領域に適用される連続した掃引組織加熱波効果同士の時間間隔を有するパルス形態で前記エネルギーを適用することは、人間の皮膚の熱緩和時間よりも長い、請求項22から24のいずれか一項に記載の方法。前記通常爪板により覆われる組織層に超音波エネルギーを適用して皮膚真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な熱を前記組織に生成することをさらに含む、請求項22から24のいずれか一項に記載の方法。さらに前記通常爪板により覆われる組織のまわりに組織加熱掃引波効果を生成して前記真菌症の病原体に影響を与える、請求項24に記載の方法。前記加熱された同じ直線領域に適用される連続した掃引組織加熱波効果同士の時間間隔が、人間の皮膚の熱緩和時間よりも長い、請求項35に記載の方法。本開示を目的として、以下で使用される用語指は、手の指finger、手足の指digit、又はその双方を意味する。ここで、皮膚真菌症の処置に使用される本方法及び装置の一実施例に係る簡略的な、高い所から見た斜視図及び断面図である図1を参照する。アプリケータ100はベース102及びカバー104を有し、対象の指150すなわち手又は足の指を快適に収容するべく動作可能である。また、カバー104にアパチャ106を有し、対象の指がアプリケータ100に完全に挿入されると、アパチャ106を通して及び爪板110を通して爪床組織112に適用される光エネルギーに被処置組織がさらされる。詳細は以下で説明する。付加的に、アプリケータ100はまた、一以上のRF電極108を含む。当該電極間の距離は自動的に調整可能である。指がアプリケータ100に完全に挿入されると、電極108は当該指の爪板110の互いに対向する側部に置かれるようになるか又は、爪板110がない場合、通常爪板110により覆われる爪床組織112の互いに対向する側部に置かれるようになる。これを目的として、電極108は、例えば、ばね114によりばね付勢されるか又は他の適切な手段により調整可能とされる。電極108は、様々なサイズの指を収容するべく調整可能である。また、当該電極を皮膚に対して適切に結合することもできる。アプリケータ100はまた、RF電極108の電気リード118等の必要な配線を収容するケーブル116により、電源及びコントローラ図示せずに接続される。ここで、本方法及び装置の実施例に係る簡略的な断面図である図2A及び2Bを参照する。図2Aに示されるように、RF電極108は、爪板110及び通常爪板110により覆われる爪床組織112の互いに対向する側部に置かれる。爪板110はケラチンすなわち高度に非伝導性の物質からできているので、RF電極108間の電圧により誘導される電流は最短移動経路を通って流れ、この場合、皮膚の一以上の層を含む爪床組織112のセグメント120を通る。セグメント120は、爪床組織112及び/又は爪板110に望ましくない実質的な損傷をもたらすことなく、その中の真菌症の病原体に実質的な熱的影響を与えるのに十分な温度レベルまで加熱される。適用されるRFエネルギーは連続モード及び/又はパルスモードで供給され、300kHzから40MHzの範囲にある周波数を有する。ここで図2Bを参照すると、アプリケータ100はまた、放射エネルギービーム204を生成する光放射源202を含み、爪床組織112のセグメント120を、爪板110を通して照射する。当該放射は、RF電極108によるRFエネルギーの適用に対して同時に又は交互に適用され、爪床112のセグメント120を加熱する。代替的に、セグメント120はRFエネルギーの適用なしで照射される。光源202により適用される放射エネルギーは特徴的に、約400nmを超える波長を有する。これは通常、約400nmから約2000nmの範囲にあり、約2J/cm2から約20J/cm2以上の範囲にある有効フルエンスを有し、約2mmから約20mmの範囲にあるスポットサイズを有する。ここで、本方法及び装置のさらなる他実施例に係る直線掃引波効果の簡略的な断面図及び平面図である図3A、3B、3C、3D、及び3Eを参照する。真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な、上述の電磁エネルギーの形態により生成される熱のレベルは摂氏約50度を超え、エネルギー適用周期同士の間において被処置組織を冷却する必要がある。これは、出願人の米国特許出願公開第2006/0047281号明細書に記載されているように、電極108に取り付けられたチューブを通る冷却流体循環を使用して電極108及び被処置組織を動的に冷却することによって達成される。代替的に、当該組織に対し、皮膚の熱緩和時間よりも長い、冷却に十分な時間を許容することによって冷却を達成することもできる。図3Aに示されるように、電極108は、出願人の国際特許出願第WO2009/072108号明細書に記載されているタイプのものである。これは、出願人の米国仮特許出願第61/307,517号明細書に記載されている直線掃引加熱波効果を用いる。これらの開示は本明細書に参照として組み入れられる。図3Aにおいて、RF電極108は一以上の電圧適用素子キャリア300を含む。電圧適用素子キャリア300は、一表面上に複数の電圧適用素子302を有する。複数の電圧適用素子302は離間パターンにあり、例えば行302-1、302-2、302-3、302-4、及び302-5に沿って配列される。代替的に、素子302は、LED、VCSEL、レーザダイオード、レーザダイオードバー等のような発光素子である。図3B、3C、3D、3E、及び3Fは、本方法及び装置のさらなる他実施例に係る直線掃引波効果を示す。電極108は、爪床及び/又は爪板の互いに対向する側部に配置され、電源及びコントローラ図示せずに接続される。各電極108は、一表面上に複数の電圧適用素子302を有する一以上の電圧適用素子キャリア300を含む。図3Bにおいて、例えば、2つの電圧適用素子キャリア310及び320が、指150の爪床112のいずれかの側部に位置決めされる。図3Bから3Fにおいて、爪板110は説明目的のため除外されている。コントローラは、直線掃引加熱波効果を生成する所定プロトコルによって設定された順序で行302-1、302-2、302-3、302-4、及び302-5のRF電圧適用素子302をアクティブにするべく動作可能である。例えば、図3Bにおいて、コントローラ図示せずは、行302-1のみにあるキャリア300及び310の電圧適用素子302をアクティブにしている。これは黒塗りで示されている。RF電流は、キャリア300の行302-1にある素子302から、被処置組織を通って、キャリア310の行302-1にある素子302まで流れ、当該間にある爪床組織112の直線領域320-1を加熱する。図3Cに示されるように、コントローラ図示せずは、行302-2のみにあるキャリア300及び310の電圧適用素子302をアクティブにしている。これは黒塗りで示されている。RF電流は、キャリア300の行302-2にある素子302から、被処置組織を通って、キャリア310の行302-2にある素子302まで流れ、当該間にある爪床組織112の直線領域320-2を加熱する。図3Cにおいてコントローラ図示せずは、行302-3のみにあるキャリア300及び310の電圧適用素子302をアクティブにしている。これは黒塗りで示されている。RF電流は、キャリア300の行302-3にある素子302から、被処置組織を通って、キャリア310の行302-3にある素子302まで流れ、当該間にある爪床組織112の領域320-3を加熱する。図3Dに示されるように、コントローラ図示せずは、行302-4のみにあるキャリア300及び310の電圧適用素子302をアクティブにしている。これは黒塗りで示されている。RF電流は、キャリア300の行302-4にある素子302から、被処置組織を通って、キャリア310の行302-4にある素子302まで流れ、当該間にある爪床組織112の領域320-4を加熱する。図3Eにおいて、コントローラ図示せずは、行302-5のみにあるキャリア300及び310の電圧適用素子302をアクティブにしている。これは黒塗りで示されている。RF電流は、キャリア300の行302-5にある素子302から、被処置組織を通って、キャリア310の行302-5にある素子302まで流れ、当該間にある爪床組織112の直線領域320-5を加熱する。RFエネルギーの順次適用により、爪床組織112を通る加熱領域320の直線進行効果が得られ、例えばアプリケータ100又は電極108の物理的又は機械的移動なしで直線掃引組織加熱波効果がもたらされる。これにより、迅速な加熱及び冷却の高度に局所的な領域を形成することができる。付加的に、同じ加熱直線領域320に適用される、連続した掃引組織加熱波効果同士の時間間隔を、人間の皮膚の熱緩和時間よりも長く維持することにより、自然冷却が可能となる。これにより、危険な延長時間周期により皮膚を過熱すること及び対象に不快感を与えることが防止される。上述の掃引組織加熱波効果の進行方向は、図面の平面に対して与えられる。本装置が任意の特定平面に限られず任意の配向方向にて動作可能であることがわかる。当業者は、当該掃引組織加熱波効果はまた、上述の図2Bにおいて説明された光放射源202の使用により生成することもできることがわかる。ここで、本方法及び装置のさらなる他実施例に係る簡略的な断面図である図4を参照する。当該実施例では、RF電極108は、超音波エネルギー源による供給を受けて爪板110及び/又は爪床組織112の互いに対向する側部に位置決めされる一以上の超音波トランスデューサ402に交換される。超音波トランスデューサ402の一方又は双方は、爪床組織112及び/又は爪板110に損傷をもたらすことなく真菌症の病原体に実質的な熱的影響を与えるのに十分な波長にある超音波ビームを爪床組織112のセグメント120に放出する。代替的に、トランスデューサ402はRF電極108に近接して置かれ、爪床組織セグメント120へのRFエネルギーの適用に対して同時に及び/又は交互に超音波ビームを適用する。オプションとして、トランスデューサ402は、爪板110を通して爪床組織セグメント120を照射する光放射源202により生成される放射エネルギービームの適用に対して同時に及び/又は交互に超音波ビームを適用する。熱のほとんどは、通常爪板110により覆われる爪床組織112セグメント120に生成されるので、その中における温度変化を、サーミスタ又は熱電対のような従来の熱センサにより測定することは難しい。したがって、爪床組織112セグメント120における温度変化には、組織温度変化により影響を受ける爪床組織インピーダンス又は超音波伝播速度の変化のようなインジケータの使用による間接測定が必要となる。これは、出願人の米国仮特許出願第61/248,997号明細書に記載されている。これの開示は本明細書に参照として組み入れられる。本方法及び装置によれば、上述の実施例のいずれか一つはまた、温度を受信かつ分析するべく動作可能な一以上の熱モニタリング機構と、インピーダンス及び超音波伝播速度からなる群から選択される一以上の温度変化インジケータとを含む。本方法及び装置の他実施例に係る断面図である図5において、超音波トランスデューサ508-1は、被処置爪床組織112の表面に対する調整可能角度図示せずにて通常はパルス形態で超音波ビームを放出するべく動作可能である。その結果、放出されたビームの少なくとも一部が、当該超音波の全反射をもたらしかつ当該超音波の所望組織層への伝播を可能にする所定入射角、ブリュースター入射角としても知られる、にて爪床組織112の表面に衝突する。これは、米国仮特許出願第61/248,997号明細書に記載されており、これの開示は本明細書に参照として組み入れられる。ブリュースター入射角にて組織に導入された超音波ビームが一般に2つの異なる音屈折率を有する2つの媒体間の境界に沿って伝播するという原理に照らせば、超音波ビームの一部は、矢印500により示されるように、爪床組織112の表面沿いにかつこれと平行に伝播し、最終的には超音波トランスデューサ受信器として動作する508-2によって受信されるように放出される。受信された信号はその後、コントローラ図示せずまで通信される。コントローラ図示せずは、受信された超音波ビーム信号から、当該ビームが伝播した爪床組織112の温度変化を示す当該ビームの伝播速度の変化に関する情報を得るべく動作可能である。コントローラは、当該温度変化及び所定処置プロトコルに基づいて処置パラメータを変更し又は当該処置をすべて停止させる。使用の安全性を高めるべく、本方法及び装置は、上述の熱センサのような安全機能と、アプリケータ100における指の正しい配置並びに処置開始前の電極108及び光源202の最適な配置を確実にする指接触センサ及び/又は指位置センサとを組み入れる。例えば、図1に示されるタイプのアプリケータ600の断面図である図6に示されるように、接触センサ602は、指150がアプリケータ100に完全に挿入されて接触センサ602を押圧してアクティブにすると適切な指位置が示されて動作可能となる。接触センサ602のアクティベーションにより、ビーム204を生成してアパチャ606を通して爪床組織112を照射する光源202がアクティブになる。付加的に又は代替的に、接触センサ602は、RF電極図示せずによる爪床組織112のセグメント120へのRFエネルギー適用をアクティブにする。指150をアプリケータ100から抜き取ると、接触センサ602から圧力が解放されて、すべての形態のエネルギー適用が直ちに停止される。接触センサ602は、ばね付勢マイクロスイッチ、容量センサ等の、指150の先がアプリケータ600と接触するのを検出するべく動作可能なセンサである。付加的に又は代替的に、例えば、電極108に近接して配置され、爪床組織112及び/又は爪板110の互いに対向する側部に係合し、その上の電極108の正しい配置を確実にする他の位置センサ、並びに他の指接触センサ及び/又は指位置センサが使用できる。当業者には本方法及び装置が具体的に図示され上述されたものに限られないことがわかる。むしろ、本発明の範囲は、上述の様々な特徴のコンビネーション及びサブコンビネーションの双方並びにその修正例及び変形例を含む。これらは、上述の記載を読むことで当業者に想起され、かつ、従来技術には存在しない。"