複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、発散する荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割する第1アパーチャアレイと、前記第1アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線からそれぞれ第1の複数のクロスオーバーを形成する集束レンズアレイと、前記第1の複数のクロスオーバーが形成される主平面を有するコリメータレンズと、前記コリメータレンズから射出した複数の荷電粒子線の角度を補正し、かつ、第2の複数のクロスオーバーを形成する補正系と、前記第2の複数のクロスオーバーにそれぞれ対応する複数の開口を有する素子と、を有し、前記主平面における前記第1の複数のクロスオーバーの配列を前記複数の開口の配列に対して異ならせることにより、前記素子上において前記第2の複数のクロスオーバーがそれぞれ前記複数の開口に整合するように、前記第1アパーチャアレイ及び前記集束レンズアレイは、開口が配置されている、ことを特徴とする描画装置。前記第1アパーチャアレイ及び前記集束レンズアレイの開口は、前記素子の前記複数の開口のうちの対応する開口に対して、像高に関する3次の多項式に基づく量だけ偏心している、ことを特徴とする請求項1に記載の描画装置。前記補正系は、前記複数の荷電粒子線のそれぞれの主光線を規定する第2アパーチャアレイと、前記複数の主光線の角度をそれぞれ補正する補正レンズアレイとを含む、ことを特徴とする請求項1または2に記載の描画装置。前記第2アパーチャアレイ及び前記補正レンズアレイの開口は、前記素子の前記複数の開口のうちの対応する開口に対して、像高に関する3次の多項式に基づく量だけ偏心している、ことを特徴とする請求項3に記載の描画装置。前記補正系は、前記補正レンズアレイが形成する第3の複数のクロスオーバーを拡大投影して前記第2の複数のクロスオーバーを形成する拡大レンズアレイをさらに含む、ことを特徴とする請求項3に記載の描画装置。前記補正系は、前記複数の荷電粒子線のそれぞれの主光線を規定する第2アパーチャアレイと、前記複数の主光線の角度をそれぞれ補正する補正偏向器アレイとを含む、ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の描画装置。複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、発散する荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割する第1アパーチャアレイと、前記第1アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線からそれぞれ第1の複数のクロスオーバーを形成する集束レンズアレイと、前記複数のクロスオーバーが形成される主平面を有するコリメータレンズと、前記コリメータレンズから射出した複数の荷電粒子線の角度を補正し、かつ、第2の複数のクロスオーバーを形成する補正系と、前記第2の複数のクロスオーバーにそれぞれ対応する複数の開口を有する素子と、を有し、前記補正系は、2段のレンズアレイを含み、前記素子上において前記第2の複数のクロスオーバーがそれぞれ前記複数の開口に整合するように、前記2段のレンズアレイは、それぞれ、前記複数の開口のうちの対応する開口に対して偏心した開口を有する、ことを特徴とする描画装置。前記素子は、ブランキングストップアパーチャアレイである、ことを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の描画装置。前記素子は、ブランキング偏向器アレイである、ことを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の描画装置。請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の描画装置を用いて基板に描画を行う工程と、前記工程で描画を行われた基板を現像する工程と、を含むことを特徴とする物品の製造方法。ところが、マルチカラム式の描画装置において荷電粒子線の本数を増やすには、一般に、複数の投影ユニットの前側にある照射光学系中の荷電粒子源からの荷電粒子線の発散角発散半角を大きくする必要がある。荷電粒子源からの荷電粒子線の発散角が大きくなると、複数の投影ユニットに照射される光線は、照射光学系の収差により十分な平行化が困難であるため、照射角度入射角が不均一となってしまう。この照射角度の不均一性は、結果として、複数の荷電粒子線の間の特性の不均一性を生じさせる。従来、投影光学系の収差に係る課題や当該収差を補償するための構成は知られているが、上述のような照射光学系の収差に係る課題は、発明者が独自に認識するに至ったものである。本発明は、照射角度の不均一な照射光学系を備えるも、複数の荷電粒子線の間の特性の均一性の点で有利な描画装置を提供することを例示的目的とする。本発明の一つの側面は、複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、発散する荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割する第1アパーチャアレイと、前記第1アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線からそれぞれ第1の複数のクロスオーバーを形成する集束レンズアレイと、前記第1の複数のクロスオーバーが形成される主平面を有するコリメータレンズと、前記コリメータレンズから射出した複数の荷電粒子線の角度を補正し、かつ、第2の複数のクロスオーバーを形成する補正系と、前記第2の複数のクロスオーバーにそれぞれ対応する複数の開口を有する素子と、を有し、前記主平面における前記第1の複数のクロスオーバーの配列を前記複数の開口の配列に対して異ならせることにより、前記素子上において前記第2の複数のクロスオーバーがそれぞれ前記複数の開口に整合するように、前記第1アパーチャアレイ及び前記集束レンズアレイは、開口が配置されている、ことを特徴とする描画装置である。本発明によれば、例えば、照射角度の不均一な照射光学系を備えるも、複数の荷電粒子線の間の特性の均一性の点で有利な描画装置を提供することができる。以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。なお、原則として、全図を通じ同一の部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。[実施形態1]図1は、実施形態1に係る描画装置複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置の構成を示す図である。本実施形態の描画装置は、1つの荷電粒子線ごとに1つの投影ユニットを有するいわゆるマルチカラム式の描画装置として構成されている。なお、全実施形態を通じて、荷電粒子線として電子線電子ビームを用いた例を説明するが、それに限らず、イオン線等の他の荷電粒子線を用いてもよい。電子源107から広角な放射角で発散する電子ビームは、プリアパーチャアレイ109第1アパーチャアレイによってマルチ電子ビームに分割される。ここで、電子源107は、LaB6やBaO/Wディスペンサーカソードなどのいわゆる熱電子型の電子源が好ましい。また、カソードの形状に関しては、高エミッタンスを実現する平面カソードが好適である。平面カソード型の電子銃は、仮想クロスオーバー108を定義でき、この仮想クロスオーバー108の位置に仮想的な光源二次光源があるものとみなすことができる。プリアパーチャアレイ109から射出したマルチ電子ビームは、プリ集束レンズアレイ111集束レンズアレによって集束され、それぞれ複数のクロスオーバーを形成する。ここで、プリ集束レンズアレイ111は、3枚の電極で構成され、中間電極には負の電圧を印加し、上下電極は接地する、いわゆるアインツェル型の静電レンズアレイとしうる。また、プリ集束レンズアレイの3枚の電極の開口配列は、マルチ電子ビームの各主光線が3つの開口それぞれの中心を通るように、3枚の電極の間で互いに異なっている。このような開口配列を採ることにより、プリ集束レンズアレイ111中の外方の集束レンズの軸外収差を低減することができる。プリ集束レンズアレイの後側には、マルチ電子ビームの主光線を屈折させて平行化するためのコリメータレンズ113が置かれている。ここで、コリメータレンズ113も、アインツェル型の静電レンズとしうる。コリメータレンズ113は、プリ集束レンズアレイ111によって形成される各クロスオーバーに、コリメータレンズ113の前側主平面が一致するように配置されている。ここで、一致は、描画装置に要求される精度から設定される許容範囲内で不一致である場合も含むものとする。以下の説明における一致も、これと同様の意味で使用する。コリメータレンズ113によって、屈折面114で主光線が平行化されたマルチ電子ビームは、第2アパーチャアレイ117によって再び光束を規定された後、補正レンズアレイ119によって再び集束される。ここで、第2アパーチャアレイ117は、補正レンズアレイ119の前側焦点面に一致するように配置されていて、補正レンズアレイ119の瞳面を通過する光束を規定している。補正レンズアレイ119の役割は、コリメータレンズ113の球面収差や空間電荷効果によるマルチ電子ビームの主光線の角度ずれを補正することである。補正レンズアレイ119の機能の詳細は後述する。補正レンズアレイ119によってマルチ電子ビームの主光線の角度ずれを補正した後、マルチ電子ビームは、拡大レンズアレイ124によって再び集束される。ここで、拡大レンズアレイのレンズパワーは、後側のストップアパーチャアレイ133ブランキングストップアパーチャアレイ上にマルチ電子ビームが集束するように設定されている。拡大レンズアレイ124を通過したマルチ電子ビームは、ただちに投影アパーチャアレイ126によって、サブマルチ電子ビーム131へと更に分割される。図1は、一つの電子ビームを3×3のサブマルチ電子ビーム1組のサブマルチ電子ビーム群へと分割する場合を例示している。上述のように拡大レンズアレイ124のレンズパワーが設定されているため、サブマルチ電子ビームは、ストップアパーチャアレイ133上で集束する。ここで、ストップアパーチャアレイ133には、1組のサブマルチ電子ビーム群に対して1つの開口が設けられている。ストップアパーチャアレイの開口134の配列は、1組のサブマルチ電子ビーム群に対応する投影アパーチャアレイ126の3×3の開口群の中心の開口の配列と一致している。投影アパーチャアレイ126の直下には、ブランカーアレイ128ブランキング偏向器アレイが備えられている。ブランカーアレイは、電子ビームを偏向する偏向器電極対を含むが配列されてなり、各電子ビームのブランキング動作を行うデバイスである。ブランカーアレイ128の1つの電極対に電圧を印加すると、対応する電子ビームは、偏向されてストップアパーチャアレイ133によって遮断され、ブランキング状態となる。ブランカーアレイ128によって偏向された電子ビーム130が図1に示されている。ストップアパーチャアレイ133を通過したサブマルチ電子ビームは、対物レンズアレイ136によって集束され、ウエハ137の表面上に結像するクロスオーバーを形成する。対物レンズアレイ136の物体面は、投影アパーチャアレイ126と一致するように構成されている。このため、投影アパーチャアレイ126の3×3の開口パターンは、ウエハ137に縮小投影される。投影アパーチャアレイ126の1つの開口の径を2.5μm、対物レンズアレイ136の投影倍率を1/100倍に設定した場合、ウエハ137上に縮小投影される1つの電子ビームの径は25nmとなる。ストップアパーチャアレイ133は、対物レンズアレイ136の前側焦点面に置かれていて、対物レンズアレイ136の瞳面を通過する光束を規定している。また、ストップアパーチャアレイ133の近傍には偏向器アレイ132が置かれていて、1組のサブマルチ電子ビーム群を単位とする電子ビームのスキャンを行うことができる。偏向器アレイ132は、例えば、くし歯状の対向電極対から構成され、偏向信号発生回路104からの信号に従って駆動される。パターンの描画にあたっては、ウエハ137は、ステージ139とともにX方向紙面垂直方向に連続的に移動する。それと並行して、レーザー測長機等による実時間でのステージ139の位置の計測結果に基づき、ウエハ上の電子ビーム138は、偏向器アレイ132によってY方向紙面左右方向に偏向される。また、各電子ビームは、ブランカーアレイ128により、描画すべきパターンに応じてブランキングされる。このようにして、ウエハ137にパターンを高速に描画することができる。電子光学系は、照射光学系170照射系と投影光学系180投影系とから構成されている。照射光学系170は、マルチ電子ビーム生成光学系150マルチ電子ビーム生成系とコリメータレンズ113と補正光学系160補正系とから構成されている。マルチ電子ビーム生成光学系150は、電子源107プリアパーチャアレイ109プリ集束レンズアレイ111コリメータレンズ113を含み、マルチ電子ビームを生成する部分をいう。また、補正光学系160は、コリメータレンズ113と投影アパーチャアレイ126との間の電子光学素子を含み、コリメータレンズ113の球面収差や空間電荷効果によるマルチ電子ビームの主光線群の角度ずれを補正する部分をいう。そして、投影光学系180は、投影アパーチャアレイ126以後の部分であって、投影アパーチャアレイ126の開口群の像をウエハ上に縮小投影する部分をいう。本発明は、主として、照射光学系170の構成に関するものである。図2は、プリアパーチャアレイプリ集束レンズアレイ第2アパーチャアレイ補正レンズアレイ拡大レンズアレイそれぞれの開口配列、及び、屈折面114ストップアパーチャアレイ133それぞれに形成されるクロスオーバーの配列を示す図である。図2に示すように、プリアパーチャアレイの開口配列110及びプリ集束レンズアレイの開口配列112は、それぞれ、照射光学系が無収差の場合の開口配列201及び202に対してずらされている。その様子が図2の1及び2に示されている。ここで、照射光学系の収差とは、例えば、コリメータレンズ113の球面収差や、空間電荷効果による収差仮想的な凹レンズによる負の球面収差とみなすことができるを含む。照射光学系の収差のため、コリメータレンズ113によって屈折されたマルチ電子ビームの主光線は、完全には平行化されず、電子ビームがより外側になるほどより大きく主光線が傾斜する不均一性を有する。例えば、コリメータレンズ113の球面収差が支配的である場合、マルチ電子ビームの主光線には、電子ビームがより外側になるほどより大きく内側に傾斜する不均一性が生じる。逆に、空間電荷効果による収差が支配的である場合、マルチ電子ビームの主光線には、電子ビームがより外側になるより大きく外側に傾斜する不均一性が生じる。プリアパーチャアレイの開口配列110及びプリ集束レンズアレイの開口配列112をずらす量は、上述の収差に応じて定められ、典型的には、像高に関する3次の多項式関数に従って設定されうる。さらには、像高に関して3次の項球面収差及び空間電荷効果の項に、像高に関して1次の項デフォーカス項を加えた多項式に従って設定されうる。図2は、デフォーカス項を含まない3次の多項式に従った量だけ各開口の位置をずらした場合を示している。デフォーカス調整を行った場合の開口配列等の詳細は、図5を参照して後述する。なお。図2において、照射系が無収差の場合の開口配列は、正方格子配列としているが、例えば千鳥格子配列や多段千鳥格子配列など、他の規則性を有する配列であってもよい。プリアパーチャアレイの開口配列110及びプリ集束レンズアレイの開口配列112は、後側の屈折面114に形成されるクロスオーバー115第1の複数のクロスオーバーの配列、すなわち、マルチ電子ビームの配列を規定する。よって、プリアパーチャアレイの開口配列110及びプリ集束レンズアレイの開口配列112を変更することによって、屈折面114に形成されるクロスオーバー115の配列を変更することができる。詳細は後述するが、屈折面114に形成されるクロスオーバーの配列が照射系の収差量に応じて設定されていることが本実施形態の一つの特徴第1の特徴である。また、本実施形態において、補正光学系160における第2アパーチャアレイの開口配列118及び補正レンズアレイの開口配列120も、照射系が無収差の時の開口配列に対してずらされている。その様子が図2の4に示されている。ここで、照射系が無収差の場合の開口配列は、後段のストップアパーチャアレイの開口配列134に一致するため、第2アパーチャアレイ及び補正レンズアレイの開口配列は、ストップアパーチャアレイの開口配列134に対してずれているということもできる。第2アパーチャアレイの開口配列118及び補正レンズアレイの開口配列120をずらす量も、プリアパーチャアレイ及びプリ集束レンズアレイの場合と同様、照射系の収差に応じて、例えば像高に関する3次の多項式に従って、ずらされている。また、第2アパーチャアレイの開口配列118と補正レンズアレイの開口配列120をずらす量は、図2の4に示されているように、互いに対応する開口に関して同量としうる。すなわち、第2アパーチャアレイ補正レンズアレイの互いに対応する開口は、同軸性を維持したままずらされうる。ここで、同量や同軸は、それぞれ、描画装置に要求される精度から設定される許容範囲内で量や軸が不一致である場合も含む。このように、第2アパーチャアレイ補正レンズアレイの互いに対応する開口が同軸になるように構成すると、第2アパーチャアレイ117は補正レンズアレイ119の前側焦点面に配置されていることから、マルチ電子ビームの主光線は互いに平行になる。なぜなら、第2アパーチャアレイの開口118の中心を補正レンズアレイ119の前側焦点に一致させているからである。すなわち、第2アパーチャアレイ117によって規定されたマルチ電子ビームの主光線群は、対応する補正レンズアレイ119の前側焦点位置をそれぞれ通過するため、平行化されることになる。このようにして、図1において照射系の収差によって傾斜している主光線116は、第2アパーチャアレイ117及び補正レンズアレイ119によって、当該傾斜が補正された主光線121になる。このように、照射の収差による主光線の角度ずれを補正する光学系光学素子を有することが本実施形態のもう一つの特徴第2の特徴である。ここで、主光線の角度ずれを補正する原理上は、同軸性を維持して第2アパーチャアレイの開口118及び補正レンズアレイの開口120をずらすのは必須ではない。ただし、第2アパーチャアレイの開口118および補正レンズアレイの開口120をずらさずに当該補正を行う場合、第2アパーチャアレイで電子ビームがけられることによる電流損失、すなわち、開口率の低下が問題となりうる。特に、屈折面114に形成されるクロスオーバー115の収束角に対して、照射光学系による主光線の角度ずれ量が同程度以上の値を持つ場合、開口率の低下は著しくなる。さらには、照射光学系の収差による主光線の角度ずれ量が非常に大きい場合、第2アパーチャアレイの一部の開口にしか電子ビームが入射しないという状況すら起こりうる。よって、照射光学系の収差による主光線の角度ずれ量が屈折面114に形成されるクロスオーバー115の収束角と同程度以上に大きい場合、第2アパーチャアレイ117及び補正レンズアレイ119の開口を、それらの間の同軸性を維持してずらす構成が必要となる。さらに、第2アパーチャアレイの開口118及び補正レンズアレイの開口120をずらす量を、照射光学系の収差量に応じて、像高に関して3次の多項式で決定するのが好ましい理由も、開口率の観点で以下のように説明できる。まず、第二アパーチャアレイ117の開口率が最大になるのは、照射系の収差により傾斜している主光線116が第2アパーチャアレイ117の開口の中心を通る場合である。一方、照射系の収差による主光線の角度ずれ量は、像高に関して3次の多項式で表わされる。よって、第2アパーチャアレイ117の開口を像高に関して3次の多項式に従ってずらせば、照射系の収差によって傾斜している各主光線116が第2アパーチャアレイ117の対応する開口の中心を通るようになる。そして、この場合、開口率は最大となる。このことは、例えば、図1において、外側の像高の高いアパーチャアレイの開口118、及び、対応する主光線116を見ると良く分かる。すなわち、図1において、第2アパーチャアレイの開口118は、照射系の収差により傾斜している主光線116が開口118の中心を通る位置にずらされている。ずらされている量は、照射系の収差に応じて、像高に関して3次の多項式に従って設定されている。補正レンズアレイの開口120は、第二アパーチャアレイの開口118に一致するよう、アパーチャアレイの開口118のずらし量と同量だけずらせばよい。また、屈折面114に形成されるクロスオーバーの配列を照射系が無収差の場合の配列に対してずらすこと本実施形態の第1の特徴の必要性は、主光線の角度ずれを補正する光学系と組み合わせて考えるとわかりやすい。図1を参照して説明する。照射系の収差により電子ビームの主光線が傾斜していると、クロスオーバーの位置ずれが発生してしまう。例えば、屈折面114に形成されるクロスオーバー115と補正系の内部に形成されるクロスオーバー123第3の複数のクロスオーバーとは、像高の高い外側の領域でずれている。このずれは、図1を参照するとわかるように、主光線が傾斜していることが原因になっている。ここで、この補正系の内部に形成されるクロスオーバー123は、拡大レンズアレイ124によってストップアパーチャアレイ133上に形成されるクロスオーバー135第2の複数のクロスオーバーと共役な関係にある。そして、この補正光学系の後側のクロスオーバー135は、ストップアパーチャアレイの開口134に整合する必要がある。整合しない場合、ウエハ137上の電子ビームの電流値や位置が変化してしまうからである。よって、補正系の後段に形成されるクロスオーバー135をストップアパーチャアレイの開口134に整合させるため、補正系の内部に形成されるクロスオーバー123の位置を調整する必要がある。当該調整は、プリアパーチャアレイ109プリ集束レンズアレイ111の開口配列をずらすことにより屈折面114に形成されるクロスオーバー115の配列を予めずらしておくことによりなされている。このようにして、補正系内部のクロスオーバー123の位置が調整されることを通じて、補正系の後側のクロスオーバー135がストップアパーチャアレイの開口134に整合することになる。これにより、プリアパーチャアレイの開口110とプリ集束レンズアレイの開口112をずらす量を照射光学系の収差に応じて像高に関して3次の多項式に従って定めた理由もわかる。すなわち、照射光学系の収差により傾斜している主光線の傾斜角は、像高に関して3次の多項式で決定される。よって、補正光学系の後側のクロスオーバー135をストップアパーチャアレイの開口134に整合させるためには、屈折面114に形成されるクロスオーバーを像高に関して3次の多項式に従ってずらせばよい。本実施形態の2つの特徴をまとめると、次のとおりである。第1の特徴は、主光線の角度の傾斜によるクロスオーバー115の位置ずれを補正していることである。第2の特徴は、アパーチャアレイおよびレンズアレイの対応する開口を同軸に維持したまま、それらの位置をずらす構成によって、主光線の傾斜を補正している点である。これらの特徴によって、照射系の収差による主光線の角度の傾斜を補償し、かつ、ストップアパーチャアレイ133上のクロスオーバーの配列をストップアパーチャアレイの開口134の配列に整合させることができる。つづいて、本実施形態の構成の採用不採用による主光線の傾斜の補正残差の違いに関して、図3図4を参照して説明する。図3は、本実施形態の構成の採用しなかった場合のアパーチャアレイ及び集束レンズアレイの開口配列と、結像面における電子ビームの配列とを示す図である。図3は、電子源107からストップアパーチャアレイ133までを示しており、その他の部分は本実施形態の構成と共通のため省略している。図3において、電子源107より発散する電子ビームは、プリアパーチャアレイ109やプリ集束レンズアレイ111を介さずに、直接コリメータレンズ113を通って平行化される。コリメータレンズ113によって平行化された後に、アパーチャアレイ301によって生成されたマルチ電子ビームは、集束レンズアレイ303によってストップアパーチャアレイ133上に複数のクロスオーバー135を形成する。集束レンズアレイ303の役割は、拡大レンズアレイ124の役割と同様であり、投影アパーチャアレイ126ブランカーアレイ128の配置及び役割も本実施形態のものと同様である。図3の構成例において、照射系の収差コリメータレンズ113の球面収差や、空間電荷効果による収差によって、マルチ電子ビームの主光線は完全には平行化されない。図3には、照射系の収差によって傾斜した主光線116が示されている。照射系の収差によって、ストップアパーチャアレイ133上に形成されるクロスオーバー135の配列は、ストップアパーチャアレイの開口134の配列に対してずれてしまう。図3の右下に、正の球面収差により、電子ビームがより外側になるほどより大きく内側にクロスオーバー135の位置がずれている例を示している。その結果、ウエハ上の電子ビームは、位置ずれや電流が不均一となってしまう。よって、照射系の収差による主光線の角度ずれを補正することが好ましいが、その際には、1つの開口内での電子ビームの角度のばらつき同一開口内補正残差に留意する必要がある。図4は、図3の構成例に対して、アパーチャアレイ集束レンズアレイの開口配列をずらすことによって電子ビームの角度の補正を図った場合の同一開口内補正残差の問題を示す図である。図3の構成と異なる点は、照射系の収差による主光線の角度ずれを補正するための補正レンズアレイ119を追加した点である。補正レンズアレイ119による主光線の角度ずれの補正原理は、上述した原理と同様である。すなわち、アパーチャアレイの開口118及び補正レンズアレイの開口120を同量だけ3次の多項式に従ってずらすことによって、照射系の収差による主光線の角度ずれを補正する。ところが、当該補正方法は、アパーチャアレイ117及び補正レンズアレイ119の開口の単位で補正を行う方法であるため、同一開口内の局所的な角度ずれは補正することができない。図4や図4の構成例のように、コリメータレンズの屈折面114において、照射系の収差量は像高に関して3次の多項式で表わされるため、同一開口内で仮想的な主光線の角度ずれ量が異なってしまい、これは原理的な補正残差となる。このような同一開口内のずれ量の相違は、開口径が大きくなるほど大きくなり、電子光学系によっては許容できない程度の補正残差を引き起こす。図4において、アパーチャアレイ117の一つの開口に対応する屈折面114の屈折領域401内で主光線の角度ずれ量が異なる。これは、アパーチャアレイの開口内の部分電子ビームを考えるとわかりやすい。すなわち、図4において、アパーチャアレイの開口118の中心を通過する部分電子ビームの主光線の角度402と、開口302内の外側の領域を通過する部分電子ビームの主光線の角度403は、異なる像高に対応するから、異なっている。なお、図4は、同一開口内補正残差をわかりやすくするため、それを誇張して描いている。このような補正残差により、アパーチャアレイの開口302の中心を通過する部分電子ビームと、開口302内の外側の領域を通過する部分電子ビームとは、ストップアパーチャアレイ133上の互いに異なる位置に到達してしまう。これは、ストップアパーチャアレイ133上の到達位置がサブマルチ電子ビーム131の電子ビーム毎にばらついてしまうことを意味している。例えば、アパーチャアレイ及び集束レンズアレイの開口ずらしによる補正を、サブマルチ電子ビームに対応した開口群の中心の開口を基準として行うものとする。この場合、図4のように、3×3のサブマルチ電子ビームの中央の電子ビームはストップアパーチャアレイの開口134に整合するが、他の電子ビームは整合しないことになる。すなわち、図4に示されている構成例では、上述の原理的な補正残差のため、アパーチャアレイ117の単位開口118の大きい電子光学系にあっては、ストップアパーチャアレイ133上において許容可能なクロスオーバーを形成できない。これに対して、本実施形態に係る構成は、上述のような同一開口内補正残差の小ささの点で有利である。この点について以下に説明する。本実施形態においては、電子ビームは、コリメータレンズ113の前側においてプリアパーチャアレイ109及びプリ集束レンズ111によって分割集束されている。さらに、集束されたマルチ電子ビームのそれぞれは、コリメータレンズ113の屈折面114上にクロスオーバーを形成している。すなわち、マルチ電子ビームのそれぞれは、クロスオーバーにおいてコリメータレンズ113によって屈折されている。屈折面114にクロスオーバーを形成したマルチ電子ビームを屈折した場合、同一のクロスオーバーに関して像高の関数として決まる主光線の角度は、クロスオーバー毎に電子ビームが局在していることから、ばらつきが小さくなる。このような主光線の角度ずれ量のばらつきは、クロスオーバーのサイズによって決まり、当該サイズを小さくすれば、許容範囲内に収めることができる。以上の理由から、本実施形態のようにコリメータレンズの屈折面114上にマルチ電子ビームのクロスオーバーを形成する構成は、主光線の角度ずれの同一開口内補正残差を低減するのに有利である。なお、単に、コリメータレンズの屈折面114上にマルチ電子ビームのクロスオーバーを形成する構成だけでは不十分である点に留意すべきである。すなわち、照射系の収差による主光線の角度ずれの補正にあたり、ストップアパーチャアレイの開口134に対してクロスオーバー135を整合させるためには、本実施形態のような構成を採用する必要がある。ゆえに、主光線の角度ずれの同一開口内補正残差が問題となるような場合、本実施形態に係る構成を採用するのが有利である。続いて、アパーチャアレイ及びレンズアレイの開口をずらす量について詳細に説明する。プリアパーチャアレイの開口110及びプリ集束レンズアレイの開口112をずらす量と、第2アパーチャアレイの開口118及び補正レンズアレイの開口120をずらす量とは、一般には異なる。ただし、共に照射系の収差による電子ビームの角度ずれ量Δθに比例する。よって、ここでは照射系の収差による電子ビームの角度ずれ量Δθがどのように決まるのかを説明する。そして、そのうえで、第2アパーチャアレイの開口118及び補正レンズアレイの開口120をずらす場合を説明する。照射系の収差による電子ビームの角度ずれ量Δθは、像高に関して3次の多項式で表わされ、具体的には、Δθ=CsY/f3ΔfY/fと近似的に表すことができる。上式のYは、ストップアパーチャアレイ133上の電子ビームのストップアパーチャアレイ中心からの距離像高、Csは、照射系の球面収差係数、fは、コリメータレンズの焦点距離、Δfはコリメータレンズ113のデフォーカス調整量である。ここで、照射系の球面収差係数Csは、Cs=CsCLCsCoulombという数式で表わすことができる。CsCLは、コリメータレンズの球面収差係数、CsCoulombは、空間電荷効果による球面収差係数特定の凹レンズの球面収差係数に相当である。上述の式によってΔθが近似的に表わされ、そのΔθに対応してアパーチャアレイ及びレンズアレイの開口配列が決められる。図5は、コリメータレンズのデフォーカス調整の有無による第2アパーチャアレイ補正レンズアレイの開口配列の違いを示す図である。図5のAは、デフォーカス調整量Δfが0デフォーカス量がゼロのときの第2アパーチャアレイの開口配列118及び補正レンズアレイの開口配列120を示す。また、図5のBは、デフォーカス調整を行ったデフォーカスさせた場合の第2アパーチャアレイの開口配列及び補正レンズアレイの開口配列を示す。図5のCは、像高上述の距離Yを横軸とし、照射系の収差による電子ビームの角度ずれ量電子ビームが内側に傾いた場合を正とするを縦軸として表したグラフであるCs=5000mm、f=500mm、Δf=1.5mmの場合を示す。図5のCにおいて、デフォーカス調整がない場合の電子ビームの角度ずれ量は、像高Yの3乗に比例する。このため、第2アパーチャアレイ及び補正レンズアレイの開口配列も、図5のAのように像高Yの3乗に比例したずれ量をもった開口配列とすることにより、補正を行う。一方、図5のCにおいて、デフォーカス調整を行った場合の電子ビームの角度ずれ量は、像高Yの3乗に比例する項に加え、像高Yに比例するデフォーカス項が加わる。このため、デフォーカス調整を行った場合の電子ビームは、図5のCからわかるように、像高Yが小さな領域では電子ビームが外側に傾き、像高Yが大きな領域では電子ビームが内側に傾くことになる。これを考慮すると、第2アパーチャアレイ及び補正レンズアレイの開口配列は、図5のBのように、結像面上の所定のビーム配列に対し、像高Yの小さな領域の開口501は内側に、像高Yの大きな領域の開口502は外側にずらして、補正を行うことになる。このように、デフォーカス調整を行った場合は、開口配列パターンが多少複雑になる。しかし、図5のCのグラフから明らかなように、デフォーカス調整を行った場合のほうが角度ずれ量の絶対値のレンジは小さくなる。そのため、デフォーカス調整を行ったほうがアパーチャアレイ及び集束レンズアレイの開口配列をずらす量を小さくできるというメリットがある。このことは、図5のAと図5のBとを比較するとよくわかる。以上のように、デフォーカス調整の有無には、それぞれ長所短所がある。そして、本発明の全実施形態において、デフォーカス調整によって第2アパーチャアレイ及び補正レンズアレイの開口配列のパターンは変化しうるものである。また、実施形態で示す開口の配列パターンは、例示に過ぎず、照射系の収差によって生じる電子ビームの角度の不均一性を補償するような配列パターンである限りは、本発明の範囲内である。また、プリアパーチャアレイの開口110及びプリ集束レンズアレイの開口112をずらす量は、例えば、上述のようにして決められた第2アパーチャアレイ及び補正レンズアレイの開口配列に基づいて決定されうる。すなわち、プリ集束レンズアレイの形成するクロスオーバーからの電子ビームの主光線が第2アパーチャアレイの対応する開口の中心を通過するように、プリアパーチャアレイの開口110及びプリ集束レンズアレイの開口112をずらす量を決めればよい。なお、プリアパーチャアレイの開口110及びプリ集束レンズアレイの開口112をずらす量と、第2アパーチャアレイの開口118及び補正レンズアレイの開口120をずらす量との決め方は、上述のものには限定されない。すなわち、各電子ビームの主光線の角度ずれの補正およびクロスオーバーの配列の補正がなされるように、それらのずらし量を適宜決定すればよい。[実施形態2]図6は、実施形態2に係る描画装置の構成を示す図である。実施形態1の構成との相違点は、補正系160中のレンズアレイが補正レンズアレイ119及び拡大レンズアレイ124を含む2段構成から補正レンズアレイ119のみを含む1段構成になっている点である。実施形態1のように補正光学系160を2段で構成することは必須ではなく、本実施形態のように1段で構成することもできる。すなわち、第2アパーチャアレイの開口118及び補正レンズアレイの開口120を実施形態1で説明したのと同様に共に同量ずらすことにより、主光線の角度ずれを補正する。そして、マルチ電子ビームがストップアパーチャアレイ133上に集束するように、補正レンズアレイ119のレンズパワーを設定すればよい。このようにすれば、補正レンズアレイ119の1段構成により、主光線の角度ずれを補正し、かつ、ストップアパーチャアレイ133上にマルチ電子ビームのクロスオーバーを形成することができる。ところが、図7に示すように、実施形態2の構成では、照射系の収差が大きい場合、主光線の角度ずれの補正が困難になる。この点について以下に詳細に説明する。図7は、補正系を2段のレンズアレイから構成することにより、主光線の角度ずれの補正限界が改善することを示す図である。図7のaは、実施形態2のような1段のレンズアレイを含む構成、図7bは、実施形態1のような2段のレンズアレイを含む構成を示す。図を見るとわかるように、2段レンズアレイの構成の場合、主光線の角度の傾斜が大きい場合にも傾斜の補正ができているが、1段レンズアレイの構成の場合、補正レンズアレイ119によって電子ビームがけられてしまい、補正が成立していない。このように、傾斜の補正には、補正レンズアレイ119による電子ビームのけられによって決まる限界が存在している。そして、図7のaおよびbは、補正系を2段のレンズアレイから構成することによって、補正限界が改善することを示している。2段のレンズアレイを含む構成によって補正限界が改善する理由を以下に説明する。補正系による補正限界は、その補正方法から、補正レンズアレイ119の焦点距離すなわち、第2アパーチャアレイ117と補正レンズアレイ119との間の距離が短くなるほど改善する。なぜならば、第2アパーチャアレイの開口118を通過した光束が補正レンズアレイ120に蹴られるか否かは、電子ビームの傾斜角、および、第二アパーチャアレイ117と補正レンズアレイ119との間の距離によって決まるからである。ここで、第2アパーチャアレイの開口118と補正レンズアレイの開口120とを同量ずらすことを前提にしている。よって、補正限界を改善したい場合、補正レンズアレイ119の焦点距離を短くしたいが、1段レンズアレイの構成の場合、補正レンズアレイ119の焦点距離を短くすることは難しい。なぜならば、焦点距離fは、レンズの式1/a1/b=1/fa:レンズ-物面間距離、b:レンズ-像面間距離で決まるが、a、bは、共に制約があって短くすることが困難なためであるa、b共に大きい場合、上式からfもまた大きくなる。ここで、bは、投影系180によって値が制約される。例えば、投影アパーチャアレイ126を縮小投影する投影系の倍率を1/100倍、対物レンズアレイ136の焦点距離を400μmとすると、図7のaに示したb1の値は、400μmの100倍の40mm程度に設定されなければならない。また、図7のaに示したa1の値は、クロスオーバー115がコリメータレンズの主平面屈折面114またはその近傍に形成されるため、コリメータレンズとの物理的な干渉から、小さくすることは困難である。以上から、1段レンズアレイの構成の場合、図7のaの構成のように、補正レンズアレイ119の焦点距離f1すなわち第2アパーチャアレイ117と補正レンズアレイ119との間の距離は長くなってしまう。その結果、主光線の傾斜角の補正限界値は小さく、当該限界値を超える補正は行うことができない。一方、2段レンズアレイの構成においては、図7のbを参照すると分かるように、b2の値は、b1の値のような制約がないため、補正レンズアレイ119の焦点距離f2を短くすることができる。ここで、補正レンズアレイ119は縮小レンズアレイとなる。このため、補正レンズアレイ119の形成したクロスオーバーをストップアパーチャアレイ133上に拡大投影してクロスオーバーを形成する拡大レンズアレイ124は、クロスオーバー径を拡大する調整を行うようにしている。以上のように、1段レンズアレイの構成の場合には、電子光学系の制約から、補正レンズアレイの焦点距離を短くできないのに対し、2段レンズアレイの構成の場合には、補正レンズアレイの焦点距離を短くすることができる。よって、2段レンズアレイの構成とすることにより、主光線の傾斜に関する補正限界を改善することができる。以上に説明したことから、実施形態2に係る構成は、上述の補正限界値の小さいことを考慮し、照射系の収差による主光線の傾斜角が比較的小さい場合に適用するべきである。補正限界値を大きくしたいのであれば、実施形態1に係る2段レンズアレイの構成を採用するべきである。[実施形態3]図8は、実施形態3に係る描画装置の構成を示す図である。実施形態1に対する相違点は、実施形態3には補正レンズアレイ119がなく、替わりに第2アパーチャアレイ117の直下に個別偏向器801補正偏向器アレイが備えられている点である。図8を参照するに、照射系の収差によって傾斜した主光線116は、個別偏向器801によって角度が調整されている。ここで、個別偏向器801は、マルチ電子ビームに対してそれぞれ設けられた複数の偏向器電極対を含み、個別に電圧を印加されることによって、主光線の角度ずれを補正する。このような個別偏向器によっても、照射系の収差によるマルチ電子ビームの主光線の角度ずれを補正できることは明らかである。ここで、重要な点は、マルチ電子ビームの主光線の角度ずれを補正レンズアレイ119でなく個別偏向器801を用いて補正した場合にも、上述した第1の特徴を採用することが必要なことである。すなわち、屈折面114におけるクロスオーバー115の配列を予め補正しておくことが必要なことである。なぜなら、図8を参照すればわかるように、屈折面114上のクロスオーバー115の配列は、ストップアパーチャアレイ133上のクロスオーバー135の配列に対してずらしておく必要があるからである。そして、このずらし量は、コリメータレンズ113の屈折面114と個別偏向器801との間の距離、および、主光線の傾斜角に応じて決められるものである。なお、コリメータレンズ113が静電レンズの場合、個別偏向器801をコリメータレンズ113の内部に置くことはできない。このため、屈折面114と個別偏向器801との間の距離を0にすることはできない。これは、実施形態1及び2において、補正レンズアレイ119をコリメータレンズ113の内部に置くことができないのと同じである。このように、実施形態3においても屈折面114におけるクロスオーバー115の配列を予めずらしておくことが必要である。そのための構成は、実施形態1及び2の場合と同様である。すなわち、プリアパーチャアレイの開口110及びプリ集束レンズアレイの開口112の配列を照射系の収差に応じてずらす構成とする。この構成により、屈折面114上のクロスオーバー115の配列をストップアパーチャアレイの開口134の配列に対してずらすようにする。このずらし量は、個別偏向器801を介してストップアパーチャアレイ上に形成されるクロスオーバー135の配列がストップアパーチャアレイの開口134の配列に整合するように定められる。[実施形態4]図9は、実施形態4に係る描画装置の構成を示す図である。実施形態1に対する相違点は、プリアパーチャアレイの開口110及びプリ集束レンズアレイの開口112の配列がずらされていない点、および、補正光学系160の構成が異なっている点である。実施形態3では、プリアパーチャアレイの開口110及びプリ集束レンズアレイの開口112の配列をずらしていない。このため、実施形態1と同様の補正光学系の構成では、ストップアパーチャアレイ133上において、クロスオーバー135が開口134に整合しない。そこで、実施形態3では、主光線の角度ずれを補正する機能に加えて、ストップアパーチャアレイ上においてクロスオーバー135を開口134に整合させる機能も補正光学系160に持たせる。具体的には、2段の補正レンズアレイによって主光線を2段階で屈折させるようにしている。図9には、2段の補正レンズアレイによる2段階の屈折の様子が示され、補正光学系160内における主光線が点線で示されている。図10は、実施形態4において、2段の補正レンズアレイにより主光線を2段階で屈させる構成を示す図である。図10のaは、2段の補正レンズアレイによる2段階屈折を1つの電子ビームに対して示した図であり、図10のbは、図10のaにおける主光線の軌道のみを示した図である。補正光学系160は、第1補正レンズアレイ901第2アパーチャアレイ117第2補正レンズアレイ903を含んで構成される。第2アパーチャアレイが第2補正レンズアレイの前側2段レンズアレイのうちの2段目のレンズアレイの前側に置かれている。これは、主光線の角度ずれの補正を第2補正レンズアレイ903で行うためである。すなわち、第2アパーチャアレイの開口118と第2補正レンズアレイの開口904とを同軸とすることによって、第2アパーチャアレイの開口で規定された電子ビームの主光線が光軸に平行になるようにしている。図10のbにおいて、第2補正レンズアレイ903の光軸は、第2アパーチャアレイの開口118の中心を通っている。さらに第2アパーチャアレイの開口118および第2補正レンズアレイの開口904は、実施形態1と同様、開口率の観点から共に同量ずらされている。第2アパーチャアレイ117と第2補正レンズアレイ903とによって照射系の収差による主光線の傾斜は補正される。しかし、これだけでは、ストップアパーチャアレイ133上においてクロスオーバー135の位置がストップアパーチャの開口134の位置に整合しない。この整合を行うのが第1補正レンズアレイ901である。第1補正レンズアレイの開口902は、ストップアパーチャアレイ上のクロスオーバー135の位置を調整するように、コリメータレンズの屈折面114におけるクロスオーバー115に対してずれされている。例えば、図10のbにおいて、第1補正レンズアレイの光軸1004は、屈折面114におけるクロスオーバー115に対してΔxだけずらされている。補正系内部の中間結像面上のクロスオーバー123のずれ量Δyは、第1補正レンズアレイの倍率をMとして、MΔxとなる。このように、第1補正レンズアレイの開口902をずらすΔxを変えることによって、中間結像面上のクロスオーバー123の位置を変えることができる。これにより、ストップアパーチャアレイ上において、クロスオーバー135の位置を開口134の位置に整合させることができる。以上のように、補正光学系160として、開口配列をずらした2段の補正レンズアレイを用いることによって、主光線の傾斜とストップアパーチャアレイ上のクロスオーバーの位置の調整とを行うことができる。なお、2段の補正レンズアレイの開口配列の基準は、本実施形態においてはストップアパーチャアレイの開口134の配列とすればよい。すなわち、ストップアパーチャアレイの開口134の配列に対して開口配列をずらした2段の補正レンズアレイを有することが実施形態4の特徴である。以上の実施形態1から4は、投影アパーチャアレイ126をウエハ上に縮小投影する電子光学系をベースとしている。このような電子光学系において、電子源の仮想クロスオーバー108に共役な像は、ストップアパーチャアレイ上のクロスオーバー135であり、これは対物レンズアレイ136の瞳面上にある。すなわち、実施形態1から4で示した電子光学系は、いわゆるケーラー照明を用いたものである。[実施形態5]実施形態1から4に示した電子光学系は、マルチ電子ビームの本数を多くできる点で有利である反面、全系の開口率が低いという点で不利である。開口率が低いことは、大きな放射電流エミッタンスを電子源に要求する。これは、使用可能な電子源を限定してしまう。高輝度低エネルギー分散の電子源として知られるTFE熱電界放出型電子源は、高エミッタンスの点では不利とされている。このため、高輝度光源であるTFE電子源を使用したい場合、開口率の高い電子光学系であることが求められる。そのような電子光学系として、例えば、電子源におけるクロスオーバーの共役像をウエハに形成するクリティカル照明を採用したものが考えられる。以下の実施形態5及び6は、TFE電子源などの高輝度電子源に対してクリティカル照明を採用した開口率の高い電子光学系を前提にしたものである。図11は、実施形態5に係る描画装置の構成を示す図である。本実施形態において、電子光学系は、電子源像をウエハ上に形成するクリティカル照明を採用したものである。電子源107から発散する電子ビームは、実施形態1と同様、プリアパーチャアレイ109によってただちにマルチ電子ビームに分割される。ここで、電子源107としては、例えば、ZrO/Wなどを電子放出面に有するTFE電子源を採用しうる。プリアパーチャアレイ109から射出したマルチ電子ビームは、実施形態1と同様、プリ集束レンズアレイ111を介して、コリメータレンズ113の屈折面114上にクロスオーバーを形成する。その後側で、補正系160、すなわち補正レンズアレイ119及び拡大レンズアレイ124の2段レンズアレイを介して、照射系の収差による主光線の傾斜が補正される。ここで、拡大レンズアレイ124のレンズパワーは、拡大レンズアレイ124によって形成されるクロスオーバーがブランカーアレイ128上に形成されるように決定されている。実施形態1の構成とは異なり、コリメータレンズ113の屈折面114上に形成されるクロスオーバー115の共役像補正光学系の後側に形成されるクロスオーバー135は、ストップアパーチャアレイ133上でなくブランカーアレイ128上に形成される。ブランカーアレイ128の機能は、実施形態1と同様で、マルチ電子ビームの個別のブランキングを行うことである。電子ビームのブランキングは、ブランカー電極対に電圧を印加して電子ビームを偏向し、偏向された電子ビームがストップアパーチャアレイ133に遮断されることによってなされる。ブランカーアレイによって偏向された電子ビーム130が図11に示されている。ブランカーアレイの開口に形成されたクロスオーバー135電子源の仮想クロスオーバー108の共役像は、対物レンズアレイ136によって、ウエハ137上に縮小投影される。投影倍率は、実施形態1と同様、例えば1/100倍に設定される。この場合、ブランカーアレイ上のクロスオーバー135の径を2μmとすると、ウエハ137上に形成されるクロスオーバー投影像の径は20nmとなる。実施形態5においても、マルチ電子ビームを一斉にスキャンするため、実施形態1と同様の偏向器アレイ132が備えられている。また、ブランカーアレイの開口129の位置とブランカーアレイ128上のクロスオーバー135の位置とを整合させるため、アライナー偏向器1102が設けられている。アライナー偏向器1102は、X方向Y方向それぞれの偏向に関して2段階の偏向を行うことができる偏向器である。なお、X方向Y方向は、電子光学系の光軸の方向に直交し、かつ、互いに直交する方向である。アライナー偏向器により、X-Y面内において、任意の方向にマルチ電子ビーム全体をシフトさせることができる。ただし、アライナー偏向器は、マルチ電子ビーム全体の一括のシフトしかできない。このため、例えば、ブランカーアレイ128や各種レンズアレイの平行編心によるマルチ電子ビーム全体の位置ずれ等は補正できるが、マルチ電子ビームの間で異なる量のシフトを必要とする補正はできない。実施形態5における2つの特徴は、以下のとおりである。まず、第一の特徴は、プリアパーチャアレイ109及びプリ集束レンズアレイ111の開口の位置をずらすことにより、コリメータレンズの屈折面114上のクロスオーバー115の配列をずらしていることである。これにより、ブランカーアレイ128上において、クロスオーバー135の配列をブランカーアレイの開口129の配列に整合させることができる。第二の特徴は、第2アパーチャアレイ117及び補正レンズアレイ119の開口を同量だけずらすことにより、照射系の収差による主光線の傾斜を補正していることである。第2アパーチャアレイ117及び補正レンズアレイ119の開口をずらす量は、開口率が最大になるように電子ビームのけられが生じないように、照射系の収差量に応じて決定される。実施形態1と5の間の相違点は、前述したように、実施形態1は、ストップアパーチャアレイの開口134の配列にクロスオーバーの配列を整合させたのに対し、実施形態5は、ブランカーアレイの開口129の配列にクロスオーバーの配列を整合させた点である。すなわち、クロスオーバーの配列を調整するのに基準とする素子素子上の開口が異なっている点である。両者は、電子光学系の基本構成が異なるために当該相違点を有するものの、本発明に係る原理や思想を共有するものである。[実施形態6]実施形態5は、プリアパーチャアレイ109及びプリ集束レンズアレイ111により、クロスオーバーの位置の調整を行った。それらの替わりに、実施形態3と同様の2段のレンズアレイを含む補正レンズアレイによってもクロスオーバーの位置の調整を行うことができる。その場合の構成例を実施形態6として説明する。図12は、実施形態6に係る描画装置の構成を示す図である。実施形態6の構成は、第1補正レンズアレイ901及び第2補正レンズアレイ903での2段階屈折を利用するものである。この2段階屈折により、主光線の傾斜の補正、および、ブランカーアレイ128上におけるクロスオーバーの配列と開口129の配列との整合を行うものである。第1補正レンズアレイ901及び第2補正レンズアレイ903の構成の特徴及びその補正原理は、実施形態3におけるものと同様である。すなわち、第1補正レンズアレイの開口902をずらすことによって、ブランカーアレイ128上のクロスオーバーの配列を調整し、第2アパーチャアレイ117及び第2補正レンズアレイ903の開口を同量だけずらすことによって、主光線の傾斜を補正する。このように、プリアパーチャアレイ及びプリ集束レンズアレイの開口配列をずらす構成によらずとも、偏心した2段のレンズアレイから補正光学系160を構成することによって、クロスオーバーの位置調整と主光線の角度補正とを行うことができる。[実施形態7]本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。該製造方法は、感光剤が塗布された基板の該感光剤に上記の描画装置を用いて潜像パターンを形成する工程基板に描画を行う工程と、当該工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含みうる。さらに、該製造方法は、他の周知の工程酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能品質生産性生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。