塩化水素を、触媒層を含む流動層反応器内で酸化して、塩化水素から塩素を製造する方法において、該流動層反応器内の、触媒層が存在する部分の任意の水平断面Aにおける内径が0.2m以上、10.0m以下の範囲内にあり、かつ該断面Aにおける式1で定義される相当直径が0.1m以上、5.0m以下の範囲内にあることを特徴とする塩化水素から塩素を製造する方法。式1DE=4×AF/LW1ここで、DEm:相当直径、AFm2:断面Aにおける触媒層が存在する部分の断面積流路面積、LWm:断面Aにおける触媒層が存在する部分の周の長さの合計浸辺長を示す。前記水平断面Aにおける内径が0.4m以上、6.0m以下の範囲内にあり、前記相当直径が0.2m以上、3.0m以下の範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の塩化水素から塩素を製造する方法。前記触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の、触媒1kgあたりの表面積sが、40cm2以上、2000cm2以下であることを特徴とする請求項1に記載の塩化水素から塩素を製造する方法。前記触媒層で用いられる触媒が、銅元素を含む球状粒子であることを特徴とする請求項1に記載の塩化水素から塩素を製造する方法。前記触媒が、さらに、アルカリ金属元素およびランタノイド元素を含む球状粒子であることを特徴とする請求項4に記載の塩化水素から塩素を製造する方法。前記触媒中に含まれる、銅元素とアルカリ金属元素との重量比が1:0.2~1:4.0の範囲であり、かつ、銅元素とランタノイド元素との重量比が1:0.2~1:6.0の範囲であることを特徴とする請求項5に記載の塩化水素から塩素を製造する方法。前記触媒層で用いられる触媒が、銅元素を含み、かつ、前記触媒層中に含まれる銅元素の含有量が、該触媒100重量あたり、0.3重量以上、4.5重量以下に維持しながら、塩素を製造することを特徴とする請求項1に記載の塩化水素から塩素を製造する方法。本発明は、反応活性および流動性が長期にわたって維持できる触媒層を含む特定の流動層反応器を用いて、塩化水素を酸化して、塩素を製造する方法の提供を課題としている。本発明の塩化水素から塩素を製造する方法は、塩化水素を、触媒層を含む流動層反応器内で酸化して、塩化水素から塩素を製造する方法において、該流動層反応器内の、触媒層が存在する部分の任意の水平断面Aにおける内径が0.2m以上、10.0m以下の範囲内にあり、かつ該断面Aにおける式1で定義される相当直径が0.1m以上、5.0m以下の範囲内にあることを特徴とする。式1DE=4×AF/LW1ここで、DEm:相当直径、AFm2:断面Aにおける触媒層が存在する部分の断面積流路面積、LWm:断面Aにおける触媒層が存在する部分の周の長さの合計浸辺長を示す。前記水平断面Aにおける内径が0.4m以上、6.0m以下の範囲内にあり、前記相当直径が0.2m以上、3.0m以下の範囲内にあることが好ましい。前記触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の、触媒1kgあたりの表面積sが、40cm2以上、2000cm2以下であることが好ましい。前記触媒層で用いられる触媒は、銅元素を含む球状粒子であることが好ましい。また、前記触媒は、さらに、アルカリ金属元素およびランタノイド元素を含む球状粒子であることが好ましい。また、前記触媒中に含まれる、銅元素とアルカリ金属元素との重量比が1:0.2~1:4.0の範囲であり、かつ、銅元素とランタノイド元素との重量比が1:0.2~1:6.0の範囲であることも好ましい。前記触媒層で用いられる触媒が、銅元素を含み、かつ、前記触媒層中に含まれる銅元素の含有量が、該触媒100重量あたり、0.3重量以上、4.5重量以下に維持しながら、塩素を製造することが好ましい。本発明によれば、触媒を用いて、塩化水素を酸化して塩素を生成する反応において、反応活性及び触媒流動性が、長期に渡って維持可能であり、連続的かつ効率的に塩素を製造することができる。以下、本発明について具体的に説明する。<流動層反応器>本発明の触媒層を含む流動層反応器について説明する。本発明に係る流動層反応器は、特に限定されないが、流動層反応器内に、流動性向上、あるいは反応器内の触媒層温度の制御の為に、直立インターナルおよび/または水平インターナルを任意に設置することが好ましい。ここで、直立インターナルの形状は、特に限定されないが、円筒状、あるいは棒状であることが好ましい。直立インターナルを多数設置することにより、触媒層の流動性向上が可能である。また円筒状のインターナル内に冷媒、あるいは熱媒を流通させることにより、反応器内の触媒層温度を容易に制御可能となる。また、水平インターナルの形状も特に限定されないが、水平な多孔板が好適に使用可能である。該多孔板を多段に設置することにより、触媒層の流動性向上が可能である。なお、直立インターナルと水平インターナルとの交差も、直交に限らず、任意の内角を有して設置できる。なお、直立インターナルや水平インターナルについては、たとえば、流動層反応装置社化学工学協会、1987年10月15日発行が参照でき、適宜適用できる。本発明に係る流動層反応器は、触媒層が存在する部分の任意の水平断面A触媒層が存在する部分における、水平方向の一断面における内径が、0.2m以上、10.0m以下の範囲内にあり、好ましくは0.4m以上、6.0m以下、より好ましくは、0.6m以上、4.0m以下である。内径が0.2m未満であると1つの反応器に触媒を充填する量が少なくなり、塩素の生産性の観点から望ましくない。一方、10mより大きいと、反応器の製造自体が困難となるおそれがあり、また触媒層の断面積が大きくなるため反応性の制御が困難となるおそれがあることから望ましくない。また、該水平断面Aにおける下記式1で定義される相当直径は、0.1m以上、5.0m以下の範囲内にあり、好ましくは0.2m以上、3.0m以下、より好ましくは、0.3m以上、1.5m以下である。相当直径が0.1m未満であると、触媒に対して触媒層が存在する部分の内面積の割合が大きくなり、触媒の磨耗、活性成分の融着等を招きやすくなり、触媒寿命の低下に繋がることから望ましくない。一方、5.0mより大きいと、反応器の製造が困難となるおそれがあり、また、触媒層の断面積が大きくなるため反応性の制御が困難となるおそれがあることなどから望ましくない。本発明において、相当直径は、以下の式1で定義される。式1DE=4×AF/LW1ここで、DEm:相当直径、AFm2:断面Aにおける触媒層が存在する部分の断面積流路面積、LWm:断面Aにおける触媒層が存在する部分の周の長さの合計浸辺長を示す。なお、本発明に係る内径および相当直径がそれぞれ上記範囲を満たせば、水平断面Aに対する垂直方向の任意の高さにおける水平断面の内径および相当直径は、それぞれ特に限定されない。該反応器の水平断面Aが真円であり、反応器内に直立インターナルが全く存在しない場合、相当直径は、その直径となる。一方、反応器内に直立インターナル等が存在する場合、相当直径は、存在する直立インターナルの周長を上式の断面の周長に加えた浸辺長を用いて、算出される。すなわち、水平断面Aにおいて、同心円状に配置された直径Rの真円と直径rの真円R>rで画定されるドーナツ形状の場合、π×Rrと浸辺長を算出し、これを用いて、相当直径を算出する。したがって、例えば、図1のような水平断面Aを持つ流動層反応器の場合、反応器の内半径が3.0m、反応器内に存在する直立インターナルの半径が1.0mであるので、相当直径は以下の計算式2により算出され、4.0mとなる。式24×π×3×3-π×1×1/2×π×32×π×1=42本発明において、水平断面Aの相当直径が上記範囲を満たし、本発明の効果を奏する限り、直立および/または水平インターナルの設置方法には限定されない。このような触媒層を含む特定の流動層反応器を、塩素の製造に用いると、反応活性及び触媒流動性が、長期に渡って維持可能であり、連続的かつ効率的に塩素を製造することができる。また、本発明において、触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の、触媒1kgあたりの表面積sが、40cm2以上、2000cm2以下であることが好ましく、100cm2以上、1000cm2以下であることがより好ましく、200cm2以上、800cm2以下であることがさらに好ましい。触媒1kgあたりの表面積sが、40cm2未満であると、流動層反応器内の熱交換器が不充分となり、触媒層の温度制御が困難になるおそれがあり、また、流動性を向上させる為のインターナルの不足により、触媒層の流動性悪化を招くおそれがあるため好ましくない。触媒1kgあたりの表面積sが、2000cm2より大きいと、触媒と反応器の内表面との接触頻度が高くなり、活性成分の移動、触媒の破砕等を招くおそれがあり、触媒寿命の低下を招くおそれがあるため好ましくない。ここで、本発明において、流動層反応器の内表面に接触する部分の全表面積Sは、1触媒層が接触する部分の流動層反応器の内壁の全表面積を、また2必要に応じて設置される直立および/または水平インターナルを有する場合は、それらと触媒層とが接触する部分の全外表面積と、触媒層が接触する部分の流動層反応器の内壁の全表面積との和、を指す。該全表面積Sを、触媒層を構成する触媒重量で除することにより、触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の、触媒1kgあたりの表面積sを算出することができる。なお、触媒層中に直立および/または水平インターナルを有する場合、触媒層と該インターナルとの接触は、特に限定されないが、全て接触していてもよいし、インターナルの一部が触媒層と接触している状態でも良い。本発明に係る流動層反応器内の触媒層の充填層高は、特に限定されないが、0.2m以上、10.0m以下が好ましく、1.0m以上、6.0m以下がより好ましい。触媒層の充填層高が0.2m未満であると、塩化水素及び酸素等の原料ガスに対する触媒が不足し、塩化水素の転化率の低下を招くおそれがあり、充分な生産性が得られないため好ましくない。一方、充填層高が10mより大きいと、触媒の自重により触媒の流動性が安定しないおそれがあり、好ましくない。尚、本発明における触媒層の充填層高は、水平方向における、ガス未流通時、すなわち静止時の高さである。また、流動層反応器の形状は、特に限定されないが、たとえば、円柱型などの直管状や曲管状が挙げられる。また、反応器の断面形状ガス流通方向と直交する方向に切断した際の断面形状は、一律である必要は無く、反応器の高さにより断面形状が変化しても良く、例えば、真円、楕円、半円形、三角形、正方形、長方形、ひし形および台形などの四角形、五角形や六角形などの多角形を組み合わせた形状や、円錐と円柱を組み合わせた形状等をとることができる。なお、本発明に係る水平断面Aにおける内径は、真円の場合、内径を、楕円の場合、長径と短径との平均を、半円形の場合、半径を用いる。また、多角形の場合は、頂点と頂点、頂点と辺および辺と辺とを結ぶ線分の中で、一番長い線分と一番短い線分との平均か、または線分が全て等しい場合、その線分を用いる。本発明では、流動層反応器は、流動性の制御、反応器の製造の容易さなどから、断面形状が均一な円柱型の反応器を用いることが望ましい。流動層反応器の設置方法としては、本発明に係る内径および相当直径がそれぞれ上記範囲を満たす限り特に限定されず、鉛直、水平や斜めなどが適宜採用できる。本発明において、反応器、及びインターナルの材質は特に限定されないが、耐食性の高い材料が好ましい。例えば、ハステロイB、ハステロイC、インコネル、インコロイ等のニッケル合金、高純度ニッケル、高純度チタン、高純度タンタル等を用いることができるが、耐食性の点から、高純度ニッケル、あるいは高純度チタンが好適に使用できる。このような本発明に係る触媒層を有する流動層反応器を用いて、塩化水素を酸化して塩素を生成する製造方法によれば、反応活性及び触媒流動性が、長期に渡って維持可能であり、連続的かつ効率的に塩素を製造することができる。<塩素の製造方法>次に、本発明の上記流動層反応器を用いた塩素の製造方法について説明する。本発明の塩素の製造方法は、流動層反応器内で、触媒の存在下で塩化水素を酸素により酸化して塩素を製造する方法であって、該流動層反応器が、前述した本発明の流動層反応器であることを特徴とする。本発明の塩素の製造方法では、流動層反応器を用いるものであり、塩素を連続して製造でき、好ましくは流通式である。基質となる塩化水素、酸素を含む原料ガスを流動層反応器の下部から導入し、塩素を含む生成ガスを流動層反応器の上部、あるいは側部より回収する形式が好ましい。本反応は平衡反応であるため、反応温度が高すぎると転化率が低下し、低すぎると触媒の活性が充分でないため、反応温度は、通常は250°C以上、500°C未満、好ましくは320°C以上、420°C未満で行う。反応時の圧力は、操作性を考慮すれば、大気圧以上、50気圧未満が好ましい。反応に用いる酸素の酸素源としては、空気をそのまま使用してもよいが、酸素分圧を制御しやすい純酸素がより好ましい。また、塩化水素を酸化して塩素を生成する反応は、平衡反応であるため、転化率は100に至らず、未反応塩化水素と生成物である塩素との分離が必要である。酸素に対する塩化水素の量論モル比塩化水素/酸素は4であるが、一般的に理論量よりも酸素を過剰に供給する方が高活性、かつ良好な流動性を得ることができるため、酸素に対する塩化水素のモル比塩化水素/酸素は0.5以上、3.0未満が好ましく、1.0以上、2.5未満がより好ましい。また、必要に応じて、塩化水素、及び酸素以外のガスを反応器内に流通させても良い。さらに、反応の開始時、あるいは終了時には、酸素に対する塩化水素のモル比を低下させること、あるいは空塔速度を速めることなどにより安定な運転が可能となる。また、使用する原料ガス中には、塩素の原料となる塩化水素、酸素、以外に不純物ガスを含んでもいても良い。不純物としては特に限定はしないが、例えば、塩素、水、窒素、二酸化炭素、一酸化炭素、水素、塩化カルボニル、芳香族化合物、含硫黄化合物、含ハロゲン化合物、等が挙げられる。特に一酸化炭素は、触媒活性を低下させる要因となることが知られている。一酸化炭素の原料ガス中に含まれる濃度は10.0vol未満が好ましく、6.0vol未満がより好ましい。10.0vol以上であると、一酸化炭素の酸化反応が顕著に進行し、発熱量が過剰となる、塩化水素の転化率が減少する、等の問題を生じることとなり好ましくない。また、本発明における触媒の使用重量に対する塩化水素の供給速度は、触媒1kgあたり、通常100NL/hr以上、2000NL/hr未満であることが好ましく、より好ましくは200NL/hr以上、1000NL/hr未満である。本発明におけるガス空塔速度は、0.01m/秒以上、1.0m/秒以下が好ましく、0.02m/秒以上、0.5m/秒以下がより好ましい。ガス空塔速度が0.01秒未満であると、触媒の流動が不充分となり流動性の悪化を招き好ましくない。ガス空塔速度が1.0m/秒より大きいと触媒が反応器内から飛散することとなり好ましくない。また、ガス空塔速度は、後述する触媒の終末速度以下であることが好ましい。ガス空塔速度よりも触媒の終末速度の方が遅いと、触媒の反応器内からの飛散が顕著となるおそれがあり、好ましくない。本発明における塩素の製造方法において、その製造工程は特に限定されないが、以下の各工程を含むことが好ましい。1塩化水素、酸素を含有する原料ガスを予め加熱する工程2塩化水素の酸化反応を行う工程3塩化水素、酸素、塩素、水を含有する生成ガスを冷却する工程4生成ガスから塩化水素を回収除去する工程5生成ガスを脱水する工程6生成ガスを圧縮、冷却し、塩素を液化塩素として分離する工程塩化水素、酸素を含有する原料ガスを予め加熱する工程においては、流動層反応器にガスが導入する前に100°C以上、400°C未満に加熱することが好ましく、150°C以上、350°C未満であることがより望ましい。予め加熱する温度が100°C未満であると、塩化水素ガスが系内で凝縮し、装置腐食が進行してしまうおそれがあるため、好ましくない。塩化水素、酸素、塩素、水を含有する生成ガスを冷却する工程においては、250°C~500°C程度の、反応器内で生成した塩素及び水と、未反応の塩化水素及び酸素を含む生成ガスを冷媒によって冷却する。冷媒は特に限定されないが、水が好ましい。生成ガスから塩化水素を回収除去する工程は、塩化水素、酸素、塩素、水を含有する生成ガスから未反応の塩化水素を回収除去することを目的とする。塩化水素の回収除去方法は、特に限定されないが、塩化水素を回収媒体に吸収させる方法が好ましい。回収媒体は、特に限定されないが、取扱いの容易さから水が好ましい。また、生成ガスを冷却する工程、及び塩化水素を吸収する工程は、別々の装置を用いて実施しても良いし、同一の装置で実施しても良い。生成ガスを脱水する工程においては、塩素、酸素、水を含む生成ガスから水を除去することを目的とする。脱水方法は、特に限定されないが、冷却脱水法、吸収脱水法、吸着脱水法、圧縮脱水法等の方法が好適に使用でき、吸収脱水法による方法が特に好ましい。当該工程を用いることで、生成ガス中に含まれる残存水分をほぼ完全に除去できる。生成ガスを圧縮、冷却し、塩素を液化塩素として分離する工程においては、前工程で水分除去された生成ガスを圧縮冷却し、塩素を液化させてガス相より分離する。この際に塩素を液化分離した後のガス相は、酸素、未回収塩素を含んでいる。この酸素を含むガスは、1塩化水素、酸素を含有する原料ガスを予め加熱する工程へ、再度、導入することにより、2塩化水素の酸化反応工程の原料ガスとして使用することができる。これらの工程を経ることにより、高純度の塩素が、連続的かつ効率的に製造可能となる。本発明の塩素の製造方法では、使用する触媒は、特に限定されないが、後述する銅元素を含む球状粒子の触媒が好ましく、さらに、アルカリ金属元素およびランタノイド元素を含有する球状粒子の触媒がより好ましい。触媒の使用に際しては、触媒のみを用いてもよいが、触媒とともに、流動性向上の為に、塩化水素酸化反応に対して反応不活性な粒子を流動層反応器内に共存させて用いることも可能である。この際の不活性粒子の使用割合は特に限定されるものではないが、触媒と不活性粒子とからなる粒子全体に対して、1重量以上、80重量以下、好ましくは2重量以上、50重量以下、より好ましくは2重量以上、40重量以下である。不活性粒子の添加量が1重量より少ないと、流動性向上の効果が低くなるおそれがあり、80重量より多いと、塩化水素の転化率が低下するおそれがあるため、好ましくない。なお、不活性粒子については、後述する。本発明の塩素の製造方法では、反応を進行させながら、流動層反応器内の触媒を抜出すること、流動層反応器内に、触媒、あるいは不活性な粒子を装入したりすることも任意に実施可能である。すなわち、流動層反応器内の銅元素A濃度を、本発明の目的を損なわない範囲で、容易に制御可能であるが、流動層反応器内の銅元素濃度を0.3重量以上、4.5重量以下に維持することが、反応活性、及び流動層反応器内の触媒流動性を維持できる点で好ましい。銅元素濃度が0.3重量未満であると塩化水素転化率が低下し、生産性が低減するおそれとなるため好ましくない。一方、銅元素濃度が4.5重量より大きいと、銅成分の融着により触媒層の流動性悪化を招くおそれとなるため好ましくない。このような本発明の特定の流動層反応器を用いた、塩化水素から塩素を製造する方法によれば、反応活性及び触媒流動性が長期にわたり維持でき、安定して塩素を連続的かつ効率的に製造することができる。<触媒>本発明で使用する触媒は、本発明の目的を損なわない範囲にあり、塩化水素を酸化して塩素を製造するための触媒塩素製造用の触媒であれば、特に触媒の構造を限定するものではなく、クロムを含有する触媒、銅を含有する触媒、ルテニウムを含有する触媒などの種々公知の触媒を用いることができる。触媒として、好ましくは銅元素を含む球状粒子の触媒であり、より好ましくは、銅元素、アルカリ金属元素および特定のランタノイド元素を活性成分として含有する球状粒子の触媒である。銅元素を含む球状粒子の触媒において、銅元素は、原子価が1価、2価いずれの状態で含まれていてもよい。銅元素の含有量は、触媒100重量あたり、0.3重量以上、4.5重量以下であり、好ましくは0.5重量以上、3.5重量以下、より好ましくは0.5重量以上、3.0重量以下である。銅含有量が4.5重量より大きいと、触媒間の流動性が悪化する場合があり好ましくない。一方、銅含有量が0.3重量未満であると、充分な塩素収率が得られない場合があり好ましくない。触媒にアルカリ金属元素が含まれる場合、アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランシウムが挙げられる。これらのアルカリ金属元素は、触媒中に単独で含まれても、2種以上組み合わせて含まれてもよい。このうち、ナトリウムおよび/またはカリウムが好ましく、カリウムがより好ましい。アルカリ金属元素の含有量は、特に限定されないが、触媒100重量あたり、0.1重量以上、5.0重量以下が好ましく、0.2重量以上、4.0重量以下がより好ましく、0.3重量以上、3.0重量以下がさらに好ましい。触媒にランタノイド元素が含まれる場合、ランタノイド元素としては、原子番号57~71のいわゆるランタノイド元素のうち、298Kにおける酸素との結合解離エネルギーが100~185kcal/molの範囲にあるランタノイド元素が挙げられる。ここで、ランタノイドと酸素との298Kにおける結合解離エネルギーは、次の表1に示すとおりであり、触媒に含まれるランタノイド元素としては、具体的には、プラセオジムPr、ネオジムNd、プロメチウムPm、サマリウムSm、ユウロピウムEu、ガドリニウムGd、テルビウムTb、ジスプロシウムDy、ホルミウムHo、エルビウムEr、ツリウムTmおよびルテチウムLuよりなる群から選ばれる1種以上のランタノイド元素が挙げられる。なお、上記表1に記載の298KでのLn-Oランタノイド-酸素結合解離エネルギーD298の値は、有機金属反応剤ハンドブック玉尾皓平編著、化学同人、発行年月:2003年6月223頁表2に記載の値である。ランタノイド元素の結合解離エネルギーが185kcal/molを超えると、酸素との結合が強くなりすぎ、また100kcal/mol未満であれば、酸素との親和性が低くなりすぎるため、反応活性塩化水素転化率を十分に向上させることができない場合がある。これらのランタノイド元素のうちでは、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ジスプロシウムが好ましく、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウムが塩素化水素から塩素への転化率、及び流動安定性のバランスの観点からより好ましい。これらのランタノイド元素は、単独で使用しても、2種以上で使用しても構わない。ランタノイド元素の含有量は、触媒100重量あたり、0.3重量以上、10.0重量以下が好ましく、0.5重量以上、7.0重量以下がより好ましく、0.5重量以上、5.0重量以下がさらに好ましい。本発明において、触媒が、銅元素、アルカリ金属元素、およびランタノイド元素を含む場合、それらの重量比は特に限定されないが、銅元素とアルカリ金属元素との重量比が1:0.2~1:4.0の範囲であり、かつ、銅元素とランタノイド元素との重量比が、1:0.2~1:6.0の範囲であることが好ましく、銅元素とアルカリ金属元素との重量比が、1:0.2~1:2.0の範囲であり、銅元素とランタノイド元素との重量比が、1:0.2~1:3.0の範囲であることがより好ましく、銅元素とアルカリ金属元素との重量比が、1:0.3~1:1.5の範囲であり、銅元素とランタノイド元素との重量比が、1:0.3~1:2.5であることがさらに好ましく、銅元素とアルカリ金属元素との重量比が、1:0.4~1:1.0であり、銅元素とランタノイド元素との重量比が、1:0.4~1:2.0であることが最も好ましい。上記範囲では活性成分である各元素が複合化しやすく、長寿命が得られ、触媒が活性に優れたものとなるため、好ましい。本発明において、触媒の形状は特に限定されないが、球状粒子からなることが好ましい。また、活性成分である銅元素、アルカリ金属元素、およびランタノイド元素が、通常、多孔質の球状粒子担体に担持されている形態が好ましい。本発明において、触媒を構成する担体は、特に限定されないが、活性成分を分散、担持でき、かつ、塩酸、塩素に対して分解しない耐腐食性を有するものが好ましい。担体としては、平均粒子径が10μm以上、1000μm未満、好ましくは30μm以上、600μm未満、より好ましくは50μm以上、300μm未満であることが望ましい。また、担体の細孔直径の平均値以下、平均細孔径と記載は3nm以上、50nm以下であることが好ましく、6nm以上、30nm以下であることがより好ましい。平均細孔径が3nm未満であると、細孔内に銅をはじめとする金属成分を導入しがたく、表面での凝集、細孔の閉塞などを招くこととなり好ましくない。一方、平均細孔径が50nmより大きいと、担体の表面積の低下を招くこととなり、反応効率が低下してしまうので好ましくない。また、担体の比表面積は30m2/g以上、1000m2/g以下であることが好ましく、50m2/g以上、500m2/g以下であることがより好ましく、100m2/g以上、300m2/g以下であることがさらに好ましい。比表面積が30m2/g未満であると反応点の減少を招くこととなり好ましくない。1000m2/gより大きいと、担体の製造に特殊な手法が必要となり、製造コストの観点から好ましくない。尚、比表面積は、たとえば、BET法比表面積測定装置BELSORP-max日本ベル株式会社製を用いて測定できる。また、担体の嵩密度は0.20g/ml以上、1.00g/ml以下であることが好ましく、0.30g/ml以上、0.80g/ml以下であることがより好ましい。さらに、担体の細孔容積は0.5ml/g以上、3.0ml/g以下であることが好ましく、0.5ml/g以上、2.0ml/g以下であることがより好ましい。0.5ml/g未満であると、細孔内の空間が充分でなく、反応効率の低下を招く場合があり好ましくない。一方、3.0ml/gよりも大きいと、担体としての強度が低下し、反応中に触媒自身が破壊されてしまう場合があるため好ましくない。担体の素材としては、シリカ、シリカアルミナ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、などが挙げられるが、なかでも高強度であるため、触媒寿命が長くなる点でシリカが好ましい。シリカ担体は通常の市販のシリカゲル、ヒュームドシリカ等、いずれも用いることができる。本発明の触媒中の担体の含有量は、触媒100重量あたり、通常98~65重量、好ましくは97~69重量、より好ましくは94~72重量である。上記範囲では、触媒の活性と強度とを両立することができるため好ましい。本発明において、触媒は、真球に近い形状である場合には触媒の耐摩耗性に優れるとともに、流動性も良いため好ましく、真球度の平均値が好ましくは0.80以上、さらに好ましくは0.90以上の球状粒子形状を有することが望ましい。0.80未満であると、摩擦による粒子の磨耗、粉化が無視できなくなり、反応中の流動性が悪化する。良好な流動性が確保できなければ、反応効率が低下し、結果として生産性の低下につながる。なお、真球度の平均値の上限は、1であり、1のとき、真球を示す。球状粒子の真球度の平均値は、走査電子顕微鏡SEMなどの顕微鏡写真の画像から求められる円形度係数各球状粒子の真球度の平均値により表わされる値である。平均値を求めるために測定する粒子数は、1000以上であるのが望ましい。真球度は、各粒子画像の周囲長と面積とから、4×π×面積/周囲長×周囲長で求められる値であって、粒子画像が真円に近いほど1に近い値となる。具体的には、球状粒子の平均真球度は、後述する実施例及び比較例においては以下の手順により測定して求めた。1.測定サンプルを試料台の上に粘着テープで固定し、走査電子顕微鏡SEM写真を撮影する。2.SEM像を画像解析装置に取り込み、各粒子の真球度円形度係数を計測し、測定粒子数から平均真球度を算出する。測定対象は円相当径が30μm以上の粒子とし、測定粒子数は前述のように1000以上が望ましい。なお、本測定において使用した装置は以下のとおりである。走査電子顕微鏡SEM:株日立ハイテクノロジーズ社製S-4800加速電圧:30kV、エミッション電流:20μA、倍率:30倍画像解析装置:ライカマイクロシステムズ株社製ライカQ-win触媒の、球状粒子形状の形成方法は特に限定されるものではなく、球状粒子状の担体に活性成分を担持することで形成してもよく、活性成分を担持した担体を研磨することにより形成してもよいが、触媒粒子の形状は通常、担体の形状に直接依存するため、触媒を構成する担体としては、球状粒子形状を有する担体を用いるのが好ましく、真球度の平均値が0.80以上、好ましくは0.90以上の球状粒子形状を有するものを用いることがさらに望ましい。なお、上限値は、1である。触媒の粒子形状が球形でない場合や、真球度の低い形状である場合には、摩擦による粒子の磨耗、粉化が無視できなくなり、反応中の流動性が低下することがある。そして良好な流動性が確保できなければ、反応効率が低下し、結果として生産性の低下につながる場合がある。また、本発明において、触媒は、上記活性成分および担体以外の成分その他の成分を含んでいてもよい。その成分としては、パラジウム元素、イリジウム元素、クロム元素、バナジウム元素、ニオブ元素、鉄元素、ニッケル元素、アルミニウム元素、モリブデン元素、タングステン元素、アルカリ土類金属元素などがあげられる。これら他の成分が含まれる場合には、担体100重量部あたり、通常0.001~10重量部、好ましくは0.01~10重量部の範囲で含まれる。また、本発明では、本発明の目的を損なわない範囲において、触媒に、ランタン、セリウム、イッテルビウム、スカンジウム、イットリウムなどのその他の希土類元素を1種または2種以上含んでいてもよい。なお、これらの元素は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜使用できるが、好ましくは、触媒100重量あたり、0.001重量以上、10重量以下である。また、本発明に係るランタノイド元素と、その他の希土類元素との重量比は、特に限定されないが、好ましくは1:0~1:9.0の範囲であり、より好ましくは1:0~1:4.0の範囲である。触媒は、特に限定されるものではないが、たとえば、平均粒子径が10μm以上、1000μm未満、好ましくは30μm以上、600μm未満、より好ましくは50μm以上、300μm未満であることが望ましい。また、触媒は、特に限定されるものではないが、たとえば、平均細孔径が3nm以上、50nm以下であることが好ましく、6nm以上、30nm以下であることがより好ましい。平均細孔径が3nm未満であると、細孔内に銅をはじめとする金属成分を導入しがたく、表面での凝集、細孔の閉塞などを招くこととなり好ましくない。一方、平均細孔径が50nmより大きいと、触媒の表面積の低下を招くこととなり、反応効率が低下してしまうおそれがあり好ましくない。触媒は、特に限定されるものではないが、たとえば、比表面積は30m2/g以上、1000m2/g以下であることが好ましく、50m2/g以上、500m2/g以下であることがより好ましく、100m2/g以上、300m2/g以下であることがさらに好ましい。尚、比表面積は、たとえば、BET法比表面積測定装置BELSORP-max日本ベル株式会社製を用いて測定できる。また、触媒は、特に限定されるものではないが、嵩密度が0.20g/ml以上、1.00g/ml以下であることが好ましく、0.30g/ml以上、0.80g/ml以下であることがより好ましい。触媒は、特に限定されるものではないが、細孔容積が0.3ml/g以上、3.0ml/g以下であることが好ましく、0.5ml/g以上、2.0ml/g以下であることがより好ましく、0.6ml/g以上、1.5ml/g以下であることがさらに好ましい。0.3ml/g未満であると、細孔内の空間が不足し基質の拡散が不充分となる、比表面積が低下し反応効率が低下する、等を招く場合があり好ましくない。一方、3.0ml/gよりも大きいと、触媒としての強度が低下し、反応中に触媒自身が破壊されてしまう場合があるため好ましくない。触媒は、特に限定されるものではないが、粒子密度が0.4g/ml以上、1.2g/ml以下であることが好ましく、0.6g/ml以上、1.0g/ml以下であることがより好ましい。粒子密度がこのような範囲を満たす場合は、触媒が軽量となり、取り扱いが容易かつ安価であり、安定して長期間使用し得る触媒を提供可能となり好ましい。なお、本発明において、粒子密度:Zg/mlは、粒子の真密度:Xg/mlと、細孔容積:Yml/gとから、次式により算出される値である。Z=1/1/XYさらに、触媒は、ストークスの式から算出される空気中の終末速度が、好ましくは0.05m/秒以上、2.0m/秒以下であり、より好ましくは0.10m/秒以上、1.5m/秒以下、さらに好ましくは0.15m/秒以上、1.0m/秒以下であることが望ましい。ストークスの式から算出される終末速度が、このような範囲を満たす場合には、流動層反応器内で触媒を反応に用いた際に、良好な流動性を示すため好ましい。ここで、触媒の終末速度とは、ストークスの式から算出される空気中の終末速度であって、その値は次式により求められる。触媒講座第6巻触媒反応装置とその設計149頁3.116式触媒学会編著、講談社参照終末速度ut=gρs-ρgdp2/18μ式中、g:重力加速度、ρs:粒子密度、ρg:気体の密度、dp:平均粒子径、μ:気体の粘度をそれぞれ表わす。本発明において、触媒を製造するための方法としては特に限定されないが、例えば次のような方法で製造することができる。触媒を製造する方法としては、銅化合物とアルカリ金属化合物とランタノイド化合物とを球状粒子担体に分散する工程と、銅化合物とアルカリ金属化合物とランタノイド化合物とが分散された担体を、乾燥あるいは焼成する工程とを有する方法が挙げられる。上記触媒を製造する方法では、触媒を解砕する工程、あるいは触媒を特定の粒径に分級する工程を、必要に応じて有しても良い。このような触媒の製造において、活性成分である銅元素、アルカリ金属元素、および特定のランタノイド元素は、それぞれ銅化合物とアルカリ金属化合物、およびランタノイド化合物として担体に分散される。担体としては、前述したものを用いることが好適であり、たとえば真球度の平均値が0.80以上、好ましくは0.90以上などの、球状粒子形状を有する担体を用いることが、触媒が長寿命を得られる点で望ましい。活性成分を前記担体に分散して担持させる方法については特に限定されず、真空チャンバー内での上記元素の蒸着、気相担持、液相担持液相調製法のいずれの方法も使用できるが、操作性や、均一分散性を考慮すると、液相担持が望ましい。液相担持の場合、各活性成分を含む化合物を溶媒に添加し、原料溶液や原料が溶媒中に分散した原料分散液とした後に、触媒担体に吹き付けてもよいし、あるいは、触媒担体を、前記原料溶液や原料分散液中に浸した後、そのまま、原料溶液や原料分散液を攪拌しながら蒸発乾固を行ってもよく、また、触媒担体を、活性成分を含有する前記原料溶液や原料分散液中に浸した後、触媒担体をこの原料溶液や原料分散液中から引き上げ、乾燥する方法を採用することもできる。触媒担体を、活性成分を含有する原料溶液や原料分散液中に浸して分散担持する場合は、担持量が少ない場合には、再度触媒担体を原料溶液や原料分散液中に浸すことにより、活性成分の含有率を上げることができる。前記原料溶液や原料分散液中の活性成分は、担体の細孔内へ入る大きさであれば、溶媒中に溶解していない、固体状態のままでも構わないが、活性成分を均一に細孔内へ分散させるためには、各活性成分が溶媒中に溶解した状態すなわち原料溶液であることが好ましい。原料溶液や原料が溶媒中に分散した原料分散液を、触媒担体に吹き付ける場合には、原料分散液の容量が触媒担体の細孔容積以下であることが望ましい。原料分散液容量が触媒担体の細孔容積よりも大きいと、原料分散液が、触媒担体の細孔内に充填しきれず、触媒担体の表面に存在することとなり、好ましくない。これら液相で担持する場合の各活性成分の溶媒としては、活性成分を含む化合物を溶解または分散できるものであれば特に限定されないが、取り扱いの容易さから水が好ましい。活性成分を溶媒に溶解、分散するときの濃度は、活性成分の化合物が均一に溶解または分散できれば、特に制限されないが、濃度が低すぎると、担持に時間がかかるため、活性成分および溶媒の合計100重量当たりの活性成分量は、好ましくは1~50重量、更に好ましくは2~40重量である。触媒を製造する際には、前記分散後の触媒に細孔容積以上の量の溶媒が残存する場合には、前記分散後、反応器への充填前に溶媒除去が必要となるが、細孔容積以下の溶媒量であれば、そのままの状態で反応に用いても、溶媒除去を行ってもよい。溶媒を除去する場合には、乾燥だけでも良いが、更に焼成を行ってもよい。乾燥条件としては、特に限定はないが、通常は大気中または減圧下、0~200°C、10min~24hrの条件で実施される。また、焼成条件としては、特に限定はしないが、通常は大気中下、200°C~600°C、10min~24hrの条件で実施することができる。担体に分散される銅化合物、アルカリ金属化合物、およびランタノイド化合物は、どのような化合物でもよいが、通常はそれぞれ独立にハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、アルコキシドまたは錯塩である。中でも塩化物、硝酸塩または酢酸塩であることが複合塩を形成しやすいという点で好ましい。銅化合物、アルカリ金属化合物、ランタノイド化合物および担体の使用量としてはその担持方法によっても異なるが、得られる触媒に含まれる銅元素、アルカリ金属元素、およびランタノイド元素が前述の範囲内になる量を用いることが好ましい。上記製造方法によって得られる触媒の形状は、通常担体の形状に依存するが、活性成分を担体に担持し、必要に応じて乾燥、焼成を行った後に、解砕、研磨、凝集粒子の再分散などで粒子形状が球状となるよう調製してもよい。また担体として、シリカ担体を用いる場合には、市販されているものをそのまま使用することもできるが、活性成分の担持前に、30~700°Cの温度で乾燥または焼成して使用することもできる。さらに上記銅化合物とアルカリ金属化合物、およびランタノイド化合物に、本発明に係るランタノイド化合物以外の希土類化合物、パラジウム化合物、イリジウム化合物、クロム化合物、バナジウム化合物、ニオブ化合物、鉄化合物、ニッケル化合物、アルミニウム化合物、モリブデン化合物、タングステン化合物、アルカリ土類金属化合物などその他の化合物を担体に分散させる場合にも、その添加方法は特に限定されず、銅化合物とアルカリ金属化合物、およびランタノイド化合物と一緒に溶液にして担体に分散しても良いし、別途、先に担体に分散しても、あるいは後から担体に分散しても良い。このようにして活性成分および担体以外の成分を含んでいる触媒を得ることができる。触媒にこれら他の成分が含まれる場合には、これら他の成分の合計量は、担体100重量部あたり、金属元素換算で通常0.001~10重量部、好ましくは0.01~10重量部の範囲である。本発明において、触媒は、通常球状粒子の集合体からなるものであって、個々の粒子がほぼ均一な組成であってもよく、全体として上記の特定性状を満たすものであれば好ましい。触媒は、同じ組成の球状粒子のみの集合体であることが好ましいが、異なる組成の球状粒子の混合体であって、全体として上記特定性状を満たすものであってもよい。異なる組成の球状粒子の混合体である触媒としては、たとえば、銅元素、アルカリ金属元素および特定のランタノイド元素を含有する球状粒子と、塩化水素酸化反応に対して反応不活性な球状粒子との混合体であるなど、組成や物性の異なる球状粒子の集合体が挙げられる。本発明では、不活性粒子を用いると、高い流動性をより長期に渡り維持でき、より安定して塩素の供給をし得る。触媒が、反応に不活性な球状粒子を含む場合、該不活性な球状粒子の素材としては、反応物塩化水素、酸素および生成物塩素、水に対して反応性を有しない限り、特に限定されるものではないが、たとえば、シリカ、シリカアルミナ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、ガラスなどが挙げられるが、なかでもシリカ、アルミナが好ましく、特にシリカが好ましい。また、不活性粒子として、触媒が担持される前の担体を用いてもよい。不活性粒子の形状は、流動層触媒として一般に用いられる粒子状、顆粒状、あるいは球状等いずれの形状でも構わないが、反応時の磨耗を抑えるためには、球状であることが好ましく、真球度の平均値が0.80以上の球状粒子であることがより好ましい。本発明において、銅元素の含有量は、触媒100重量あたり、0.3重量以上、4.5重量以下であることが好ましいが、例えば、銅元素の含有量が上記範囲を外れる球状粒子を用いる場合でも、触媒に、不活性粒子を混合することで、結果として、触媒100重量あたり、銅元素Aの含有量が上記範囲になるように調製すれば、本発明の触媒として用いることができる。このような触媒を本発明に係る流動層反応機内で用いて、塩化水素を酸化して塩素を生成することで、反応活性及び触媒流動性が、長期に渡って維持可能であり、効率的に塩素を製造することができる。以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。調製した触媒および塩素転化率は、以下の測定法に基づいて評価した。1平均粒子径の測定平均粒子径は、通常、以下の方法により測定した。使用装置:粒度分布計、MicrotracMT3300EXIIMicrotrac社製測定原理:レーザー光回折散乱法湿式測定範囲:0.021~1408μm粒子条件:透過性;透過、屈折率;1.81、形状;非球形2平均真球度の測定平均真球度の測定は、以下の手順に従って行った。1.測定サンプルを試料台の上に粘着テープで固定し、走査電子顕微鏡SEMを用いて撮影した。2.SEM像を画像解析装置に取り込み、各粒子の真球度円形度係数を計測し、測定粒子数から平均真球度を算出した。測定対象は円相当径が30μm以上の粒子とし、測定粒子数は1000以上とした。なお、測定で使用した装置および測定条件は、以下のとおりである。走査電子顕微鏡SEM:株日立ハイテクノロジーズ社製S-4800加速電圧:30kV、エミッション電流:20μA、倍率:30倍画像解析装置:ライカマイクロシステムズ株社製ライカQ-win3粒子密度の測定粒子密度は、以下の方法により測定した。1.真密度:Xg/mlを以下の方法により測定した。使用装置:乾式自動密度計;アキュピック1330株島津製作所使用ガス:ヘリウム測定温度:25°C測定方法:試料を充填後、パージヘリウムを20回行った後、10回連続して測定を行った。2.細孔容積:Yml/gを以下の方法により測定した。使用装置:オートソーブ3QuantachromeInstruments社製前処理:室温での真空脱気処理測定方法:液体窒素温度下77Kにおける窒素ガス吸着法BJH法3.上記の方法により測定した、真密度:Xg/ml及び細孔容積:Yml/gの値より以下の式にて、粒子密度:Zg/mlを算出した。Z=1/1/XY4終末速度触媒の終末速度m/秒は、次式により求めた。終末速度ut=gρs-ρgdp2/18μなお、本実施例および比較例では、上記測定により得られた粒子密度ρsおよび平均粒子径dpを用いて、気体を20°Cの空気であると想定し、気体の密度を1.2kg/m3、気体の粘度を0.018mPas、重力加速度を9.807m/s2として終末速度を算出した。5塩化水素の転化率ヨウ化カリウム関東化学株、オキシダント測定用を水に溶解し、0.2mol/L溶液を調製する。この溶液に流動層反応器より生成ガスを吸収させる。この溶液を0.1mol/Lチオ硫酸ナトリウム溶液関東化学株で滴定し、生成した塩素の量を測定する。続けて、0.05mol/L水酸化ナトリウム溶液和光純薬工業株で滴定し、未反応の塩化水素量を測定する。測定した塩素の量、及び塩化水素の量から塩化水素の転化率を求めた。<触媒の調製>本発明で用いる触媒は以下の方法により調製した。担体として、球状シリカ富士シリシア化学株式会社、Q-15、粒度分布:75~500μm、メーカー分析表よりの物性値は、平均細孔径:15nm、平均粒子径:200μm、嵩密度:0.4g/ml、細孔容積:1.2ml/gを用いた。水59.0kgと塩化第二銅和光純薬、特級4.04kg、塩化サマリウム六水和物和光純薬、特級4.55kg、塩化カリウム和光純薬、特級2.15kgを加えて水溶液とした。この水溶液をシリカ担体:120kgに噴霧含浸した後、減圧型回転式乾燥機を用いて水分を除去し、担持触媒1を得た。この担持触媒1中に含まれる銅元素の濃度は1.5重量、カリウム元素の濃度は0.9重量、サマリウム元素の濃度は1.5重量であり、平均真球度は0.925、平均粒子径は220.1μm、嵩密度は0.42g/ml、粒子密度は0.636g/ml、ストークスの式から算出される終末速度は0.551m/秒であった。[実施例1]触媒層が存在する部分の水平断面における内径が2.70mである円筒型の純ニッケル製流動層反応器内に、該水平断面における、流路面積が5.3m2、浸辺長が25.3m、算出される相当直径が0.84mとなるように直立インターナルを設置した。さらに、流動反応器内に円盤状の多孔性水平インターナルを設置し、触媒層高が2.80mとなるように担持触媒1を充填したところ、充填した触媒重量は6300kg、触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の全表面積Sは180m2であった。この際、該触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の、触媒1kgあたりの表面積sは、286cm2であった。また、該触媒層に含まれる銅元素の含有量は1.5重量であった。加熱により反応器内部の触媒層温度を350°Cとした後、反応器下部より、触媒1kgあたり、塩化水素ガス:370NL/hr、酸素ガス:230NL/hr、塩化水素及び酸素以外のガス:200NL/hrからなる混合ガスを導入し、触媒を流動させながら塩化水素酸化反応を実施した。このとき、反応の進行による発熱により反応温度は400°C近くまで増加した。反応が定常状態となった後、生成した塩素を反応器上部より採取し、該塩素量、及び未反応の塩化水素量から、塩化水素の転化率を測定したところ、塩化水素転化率は83であった。反応を継続し、1000hr後の塩化水素転化率82であった。[実施例2]触媒層が存在する部分の水平断面における内径が0.30mである円筒型の純ニッケル製流動層反応器内に、該水平断面における、流路面積が0.065m2、浸辺長が1.45m、算出される相当直径が0.18mとなるように直立インターナルを設置した。さらに、流動反応器内に円盤状の多孔性水平インターナルを設置し、触媒層高が1.40mとなるように担持触媒1を充填したところ、充填した触媒重量は37.3kg、触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の全表面積Sは2.63m2であった。この際、該触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の、触媒1kgあたりの表面積sは、705cm2であった。また、該触媒層に含まれる銅元素の含有量は1.5重量であった。加熱により反応器内部の触媒層温度を350°Cとした後、反応器下部より、触媒1kgあたり、塩化水素ガス:670NL/hr、酸素ガス:400NL/hr、塩化水素及び酸素以外のガス:250NL/hrからなる混合ガスを導入し、触媒を流動させながら塩化水素酸化反応を実施した。このとき、反応の進行による発熱により反応温度は400°C近くまで増加した。反応が定常状態となった後、生成した塩素を反応器上部より採取し、該塩素量、及び未反応の塩化水素量から、塩化水素の転化率を測定したところ、塩化水素転化率は78であった。反応を継続し、1000hr後の塩化水素転化率は75であった。[実施例3]触媒層が存在する部分の水平断面における内径が0.80mである円筒型の純ニッケル製流動層反応器内に、該水平断面における、流路面積が0.41m2、浸辺長が3.02m、算出される相当直径が0.54m、となるように直立インターナルを設置した。さらに、流動反応器内に円盤状の多孔性水平インターナルを設置し、触媒層高が2.00mとなるように担持触媒1を充填したところ、充填した触媒重量は344kg、触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の全表面積Sは11.6m2であった。この際、該触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の、触媒1kgあたりの表面積sは、337cm2であった。また、該触媒層に含まれる銅元素の含有量は1.5重量であった。加熱により反応器内部の触媒層温度を350°Cとした後、反応器下部より、触媒1kgあたり、塩化水素ガス:370NL/hr、酸素ガス:230NL/hr、塩化水素及び酸素以外のガス:200NL/hrからなる混合ガスを導入し、触媒を流動させながら塩化水素酸化反応を実施した。このとき、反応の進行による発熱により反応温度は400°C近くまで増加した。反応が定常状態となった後、生成した塩素を反応器上部より採取し、該塩素量、及び未反応の塩化水素量から、塩化水素の転化率を測定したところ、塩化水素転化率は81であった。反応を継続し、1000hr後の塩化水素転化率は80であった。[比較例1]触媒層が存在する部分の水平断面における内径が0.02mである円筒型の純ニッケル製反応器内に、インターナルを設置せずに、触媒層高が0.12mとなるように担持触媒1を充填したところ、充填した触媒重量は16gであった。この際、該水平断面における相当直径は0.02mであり、該触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の、触媒1kgあたりの表面積sは、4320cm2であった。また、該触媒層に含まれる銅元素の含有量は1.5重量であった。加熱により反応器内部の触媒層温度を380°Cとした後、反応器下部より、触媒1kgあたり、塩化水素ガス:670NL/hr、酸素ガス:400NL/hr、塩化水素及び酸素以外のガス:250NL/hrからなる混合ガスを導入し、触媒を流動させながら塩化水素酸化反応を実施した。このとき、反応の進行による発熱により反応温度は390°C近くまで増加した。反応が定常状態となった後、生成した塩素を反応器上部より採取し、該塩素量、及び未反応の塩化水素量から、塩化水素の転化率を測定したところ、塩化水素転化率は74であった。反応を継続し、1000hr後の塩化水素転化率は52であった。[比較例2]触媒層が存在する部分の水平断面における内径が0.12mである円筒型の純ニッケル製流動層反応器内に、該水平断面における、流路面積が0.011m2、浸辺長が0.444m、算出される相当直径が0.10m、となるように直立インターナルを設置した。さらに、流動反応器内に円盤状の多孔性水平インターナルを設置し、触媒層高が0.90mとなるように担持触媒1を充填したところ、充填した触媒重量は4.02kg、触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の全表面積Sは0.466m2であった。この際、該触媒層が流動層反応器の内表面に接触する部分の、触媒1kgあたりの表面積sは、1160cm2であった。また、該触媒層に含まれる銅元素の含有量は1.5重量であった。加熱により反応器内部の触媒層温度を380°Cとした後、反応器下部より、触媒1kgあたり、塩化水素ガス:670NL/hr、酸素ガス:400NL/hr、塩化水素及び酸素以外のガス:250NL/hrからなる混合ガスを導入し、触媒を流動させながら塩化水素酸化反応を実施した。このとき、反応の進行による発熱により反応温度は390°C近くまで増加した。反応が定常状態となった後、生成した塩素を反応器上部より採取し、該塩素量、及び未反応の塩化水素量から、塩化水素の転化率を測定したところ、塩化水素転化率は74であった。反応を継続し、1000hr後の塩化水素転化率は65であった。