"ウェーハを検査するように構成されたシステムであって、前記ウェーハを照射するように構成された照明サブシステムと、前記ウェーハから散乱した光の集光と、前記散乱光の偏光の保持とを行うように構成された集光サブシステムと、前記集光サブシステムの前記集光開口数の異なるセグメント内に集光された前記散乱光を分離するように構成された光学要素であって、前記光学要素は、前記集光サブシステムのフーリエ面または前記フーリエ面の共役に配置される、光学要素と、前記異なるセグメントのうち1つの中の散乱光を偏光に基づいて前記散乱光の異なる部分に分離するように構成された偏光要素と、前記散乱光の異なる部分のうち1つの検出と、前記検出光に応じた出力の生成とを行うように構成された検出器であって、前記出力は、前記ウェーハ上の欠陥の検出に用いられる、検出器と、を含む、システム。前記照明サブシステムは、前記ウェーハ上の間隔を空けて配置されたスポットのアレイを同時に照射するように、さらに構成される、請求項1に記載のシステム。前記アレイ内の隣接スポットが前記トラックの幅よりも広い間隔を空けて配置された前記ウェーハ上のトラックを走査するように、前記スポットが前記ウェーハ上に間隔を空けて配置される、請求項2に記載のシステム。前記照明サブシステムは、p偏光のみを前記ウェーハへと方向付けることにより前記ウェーハを照射するようにさらに構成される、請求項1に記載のシステム。前記照明サブシステムは、s偏光のみを前記ウェーハへと方向付けることにより前記ウェーハを照射するようにさらに構成される、請求項1に記載のシステム。前記照明サブシステムは、前記ウェーハへ光を方向付けることにより前記ウェーハを照射するようにさらに構成され、前記光は、前記ウェーハの1つ以上の特性に基づいて選択された偏光を有する、請求項1に記載のシステム。前記集光開口数の異なるセグメントは、相互に排他的である、請求項1に記載のシステム。前記集光サブシステムは、開口数が0.9を超え散乱光集光器を含む、請求項1に記載のシステム。前記集光サブシステムは、散乱光集光器を1つのみ含む、請求項1に記載のシステム。前記集光サブシステムは、散乱光集光器を1つのみ含み、前記散乱光集光器は、実質的に前記集光サブシステムの散乱半球全体の上において散乱された光を集光するように構成される。請求項1に記載のシステム。前記システムは、前記ウェーハから散乱した光を集光するように構成された集光サブシステムを1つだけさらに含む、請求項1に記載のシステム。前記集光サブシステムは、前記ウェーハから散乱した光を集光するように構成されたレンズを含み、前記集光サブシステムは任意の反射光学要素を含まず、前記集光サブシステムは、前記散乱光の偏光を変更しない、請求項1に記載のシステム。前記集光サブシステムは反射光学要素を含み、前記システムは、さらなる反射光学要素をさらに含み、前記さらなる反射光学要素は、前記反射光学要素と前記偏光要素との間の散乱光の経路内に配置され、前記反射光学要素および前記さらなる反射光学要素は、p偏光である前記散乱光およびs偏光である前記散乱光におけるほぼゼロの位相変化を協働して発生させるように構成される、請求項1に記載のシステム。前記集光サブシステムは、前記ウェーハから散乱した光を集光するように構成された反射集光器を含み、前記反射集光器は、前記散乱光を偶数回だけ反射するようにさらに構成され、前記反射集光器の反射要素上には薄膜コーティングが形成され、前記薄膜コーティングは、前記偶数回の反射時において、前記反射要素に起因して発生したp偏光散乱光およびs偏光散乱光の位相遅延が無効化されるように、構成される、請求項1に記載のシステム。前記集光サブシステムは、前記ウェーハから散乱した光を集光するように構成された反射集光器を含み、前記反射集光器は、p偏光散乱光とs偏光散乱光との間に位相シフトを発生させ、前記システムは、反射光学要素をさらに含み、前記反射光学要素は、前記反射集光器と前記偏光要素との間の散乱光の光路内に配置され、前記p偏光散乱光と前記s偏光散乱光との間において位相シフトを発生させるように構成され、前記位相シフトは、前記p偏光散乱光および前記s偏光散乱光における位相変化全体がほぼゼロになるように、前記反射集光器に起因する位相シフトを無効化する、請求項1に記載のシステム。前記散乱光は、ベクトルフーリエ変換を用いて前記フーリエ面上へとマッピングされる、請求項1に記載のシステム。前記ウェーハからの表面散乱に起因する前記集光された光の偏光は、前記フーリエ面または前記フーリエ面の共役の実質的部分上において実質的に平行である、請求項1に記載のシステム。前記光学要素の1つ以上の反射部上に薄膜コーティングが形成され、前記薄膜コーティングは、前記システムの少なくとも1つの他の反射光学要素による反射時において、前記1つ以上の反射部に起因するp偏光およびs偏光の位相遅延が無効化されるように、構成される、請求項1に記載のシステム。前記偏光要素は直線偏光子である、請求項1に記載のシステム。前記偏光要素は直線偏光子であり、前記集光サブシステムの結像開口数のうち大部分を網羅する、請求項1に記載のシステム。前記偏光要素は偏光線スプリッターである、請求項1に記載のシステム。前記偏光要素は、前記照明サブシステムの入射面に対して鏡対称性を有する、請求項1に記載のシステム。前記偏光要素は、2つの偏光線スプリッターの2つの部分を含み、前記2つの部分は、前記偏光要素が前記照明サブシステムの入射面に対して鏡対称となるように、相互に接続される、請求項1に記載のシステム。偏光に基づいて前記偏光要素によって分離された前記散乱光の異なる部分は、直交しかつ相互に排他的な偏光を有し、前記システムは、前記散乱光の異なる部分のうち別の部分を検出するように構成された別の検出器をさらに含む、請求項1に記載のシステム。前記光学要素および前記偏光要素は、前記ウェーハ上の粒子検出のためのシステムを最適化するようにさらに構成され、前記最適化は、前記検出器によって検出された粒子からの散乱の信号対ノイズ比を最大化し、前記光学要素および前記偏光要素に起因して発生する前記粒子に対応する信号の損失を最小化することにより、行われる、請求項1に記載のシステム。前記異なるセグメントのうち1つは、2つの個々のセグメントを含み、前記2つの個々のセグメントは、前記照明サブシステムの入射面において相互に鏡対称である、請求項1に記載のシステム。前記異なるセグメントのうち1つは、2つの個々のセグメントを含み、前記2つの個々のセグメントは、前記照明サブシステムの入射面において相互に鏡対称であり、前記入射面から間隔を空けて配置され、前記2つの個々のセグメントはそれぞれ、第1の側部、第2の側部および第3の側部によって規定された形状を有し、前記第1の側部は、直線状であり、前記入射面に対して角度を以て配置され、前記第2の側部は、直線状であり、前記入射面に対して実質的に平行であり、前記第1の側部よりも実質的に短く、前記第3の側部は曲線状である、請求項1に記載のシステム。前記偏光要素は、前記照明サブシステムの入射面に対して鏡対称性を有し、前記異なるセグメントのうち1つは、前記集光開口数の1つ以上の個々のセグメントを含み、前記1つ以上の個々のセグメントにおいて、前記ウェーハ上の粒子からの散乱光強度が集光開口数全体において最高となり、また、前記ウェーハからの前記散乱光の偏光が、前記1つ以上の個々のセグメントそれぞれと実質的にアライメントされかつ前記入射面に対して鏡対称となり、これにより、前記1つ以上の個々のセグメント内において前記偏光要素によって前記ウェーハからの前記散乱光を前記粒子からの前記散乱光から分離することが可能となる、請求項1に記載のシステム。前記集光開口数の前記異なるセグメントのうちの別のものに集光された前記散乱光の経路内に配置されたさらなる光学要素と、さらなる偏光要素と、さらなる検出器とをさらに含み、前記さらなる光学要素は、前記異なるセグメントのうちその他のセグメント内の散乱光を前記集光開口数のさらなる異なるセグメントに分離するように構成され、前記さらなる偏光要素は、前記さらなる異なるセグメントのうち1つの中の前記散乱光を偏光に基づいて前記散乱光のさらなる異なる部分へ分離するように構成され、前記さらなる検出器は、前記散乱光の前記さらなる異なる部分のうちの1つの検出と、前記検出光に応じた出力の生成とを行うように構成される、請求項1に記載のシステム。前記集光開口数の前記異なるセグメント、前記さらなる異なるセグメントおよび他の任意の異なるセグメントは相互に相補的であり、これにより、前記システム内に含まれる前記検出器、前記さらなる検出器および他の任意の検出器と協働して、前記集光サブシステムの集光開口数全体上において光を検出する、請求項29に記載のシステム。前記光のさらなる異なる部分は、直交しかつ相互に排他的な偏光を有し、前記システムは、前記散乱光の前記さらなる異なる部分のうち別の部分を検出するように構成された別のさらなる検出器をさらに含む、請求項29に記載のシステム。コンピュータサブシステムをさらに含み、前記コンピュータサブシステムは、前記検出器によって生成された出力と、前記システム内に設けられた少なくとも1つの他の検出器によって生成された出力とを用いて前記ウェーハ上において検出された欠陥を分類するように構成される、請求項1に記載のシステム。前記集光開口数の前記異なるセグメント中に集光された散乱光を分離するように前記光学要素を構成することにより、少なくとも1つの種類の欠陥の検出に合わせて前記システムを最適化する、請求項1に記載のシステム。前記散乱光を前記異なる部分に分離するように前記偏光要素を構成することは、前記検出器によって検出された信号対ノイズ比が前記ウェーハ上の欠陥のうち一部のみについて最大化されるように、行われる、請求項1に記載のシステム。リレー光学素子をさらに含み、前記リレー光学素子は、前記集光サブシステムのフーリエ面からの光を前記フーリエ面の共役へとリレーし、前記フーリエ面の共役のサイズを制御するように、構成される、請求項1に記載のシステム。コンピュータサブシステムをさらに含み、前記コンピュータサブシステムは、前記システム内の複数の光学要素のうち、前記集光サブシステムのフーリエ面または前記フーリエ面の共役に配置されるべきものを1つ選択することと、前記システムの1つ以上の要素を制御して、前記選択された光学要素を前記フーリエ面または前記フーリエ面の共役の位置へと移動させることとを行うように構成される、請求項1に記載のシステム。前記集光された光の経路内に配置された視野絞りをさらに含み、前記視野絞りは、前記ウェーハを照射するために前記照明サブシステムによって用いられる1つ以上の光線の1つ以上の経路内のウェーハの表面の近隣の空気分子から散乱した光を拒否するように構成される、請求項1に記載のシステム。前記システムは、前記ウェーハを同時に回転および平行移動させることによって前記ウェーハ上の光を走査するように、さらに構成される、請求項1に記載のシステム。ウェーハ処理方法であって、前記ウェーハを照射することと、前記ウェーハから散乱した光を集光サブシステムを用いて集光することであって、前記集光サブシステムは、前記散乱光の偏光を保持するように構成される、ことと、前記集光サブシステムの前記集光開口数の異なるセグメント内に集光された前記散乱光を光学要素を用いて分離することであって、前記光学要素は、前記集光サブシステムのフーリエ面または前記フーリエ面の共役に配置される、ことと、偏光に基づいて偏光要素を用いて、前記異なるセグメントのうち1つの中の散乱光を分離して前記散乱光の異なる部分とすることと、前記散乱光の異なる部分のうち1つを検出して、前記検出光に応じて出力することと、前記出力を用いて前記ウェーハ上の欠陥を検出することと、を含む、方法。前記光学要素および前記偏光要素は、前記ウェーハ上の粒子検出を最適化するように構成され、前記最適化は、前記検出ステップにおいて検出された粒子からの散乱の信号対ノイズ比を最大化し、前記光学要素および前記偏光要素に起因して前記検出ステップにおいて検出された粒子に対応する信号損失を最小化することにより、行われる、請求項39に記載の方法。前記集光開口数の前記異なるセグメント中に集光された散乱光を分離して、少なくとも1つの種類の欠陥の検出に合わせて前記方法を最適化するように前記光学要素を構成することと、前記散乱光を前記異なる部分に分離して、前記検出ステップによって検出された前記信号対ノイズ比を前記ウェーハ上の欠陥のうち一部のみについて最大化させるように前記偏光要素を構成することとをさらに含む、請求項39に記載の方法。前記集光された光の経路内に配置された視野絞りを用いて、前記ウェーハの照射に用いられる1つ以上の光線の1つ以上の経路内のウェーハ表面の近隣の空気分子から散乱した光を拒否することをさらに含む、請求項39に記載の方法。前記偏光要素は、前記照射の入射面に対して鏡対称性を有する、請求項39に記載の方法。よって、裸ウェーハ検査システムの将来の生産のために、アーキテクチャアプローチを展開することができれば有用である。このアーキテクチャアプローチを用いれば、現在用いられている検査システムの上記不利点のうち1つ以上を引き起こすことなく、裸ウェーハ上の実質的微小粒子について達成可能な信号対ノイズ比の大幅な向上が可能となる。多様な実施形態についての以下の記載は、添付の特許請求の範囲をいかようにも限定しないことが理解される。一実施形態は、ウェーハを検査するように構成されたシステムに関連する。前記システムは、前記ウェーハを照射するように構成された照明サブシステムを含む。前記システムはまた、前記ウェーハから散乱した光の集光と、前記散乱光の偏光の保持とを行うように構成された集光サブシステムを含む。加えて、前記システムは、光学要素を含む。前記光学要素は、前記集光サブシステムの集光開口数NAの異なるセグメント中に集光された前記散乱光を分離するように構成される。前記光学要素は、前記集光サブシステムのフーリエ面または前記フーリエ面の共役に配置される。前記システムは、偏光要素をさらに含む。前記偏光要素は、前記異なるセグメントのうち1つの中の散乱光を偏光に基づいて分離して、前記散乱光の異なる部分とするように構成される。前記システムはまた、検出器を含む。前記検出器は、前記散乱光の異なる部分のうち1つの検出と、前記検出光に応じた出力の生成とを行うように構成される。前記出力を用いて、前記ウェーハ上の欠陥を検出する。上記したシステムは、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。例えば、前記集光サブシステムは、前記ウェーハから散乱した光を比較的大きなNAにわたって集光するように構成され得る。前記集光サブシステムは、レンズ集光器を含み得る。前記レンズ集光器は、前記散乱光の偏光を変化させない。前記光学要素および恐らくは本明細書中に記載の他の光学要素はは、NAセグメント化サブシステムとして機能し得る。前記NAセグメント化サブシステムは、前記集光サブシステムのフル集光NAの異なるセグメントへの分割と、前記異なるセグメント中に集光された散乱光の別個の検出器への方向付けとを行うように構成される。一例において、前記光学要素は、アパチャ鏡を含み得る。前記アパチャ鏡は、前記集光NAの1つのセグメント中に集光された散乱光を透過させつつ、前記集光NAの別のセグメント中に集光された散乱光を反射する。前記光学要素は、多様な欠陥種類に対する最大信号対ノイズ比に合わせて前記集光NAの各セグメントを最適化するように、構成される。前記光学要素の1つ以上の反射部上には薄膜コーティングが形成され得、これにより、偶数回の反射時において、位相遅延が無効化されるかまたは実質的に無効化される。加えて、前記偏光要素は、前記散乱光の2つの独立偏光成分を前記集光NAのセグメントにおいて分割するように、構成され得る。前記偏光成分の偏光の方向付けは、前記入射面に対して鏡対称であり得る。前記システム各検出経路内に含まれる検出器および他の任意の検出器によって検出された光の偏光単数または複数は、各検出器によって生成された出力の信号対ノイズ比の最適化最大化により、決定され得る。本明細書中にさらに記載するように、前記システムに含まれる1つの検出器を実質的高感度のために粒子に合わせて最適化することができる。前記最適化は、前記検出器によって検出された集光NAのセグメントの偏光および1つ以上の特性例えば、形状を最適化することによって行われ、これにより、前記ウェーハ表面からの散乱およびそれと同時に粒子からの散乱損失が最小化され、これにより、前記粒子の信号対ノイズ比が最大化される。他の欠陥種類例えば、擦過傷、窪みおよび染みに合わせて同様の方法例えば、対応する検出器へと方向付けられる集光NAのセグメントの散乱光の偏光および特性単数または複数を構成することにより他の検出器を実質的高感度のために最適化することができる。前記システムのこれらの実施形態はそれぞれ、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。別の実施形態は、ウェーハ処理方法に関連する。前記方法は、前記ウェーハを照射することを含む。前記方法はまた、前記ウェーハから散乱した光を集光サブシステムを用いて集光することを含む。前記集光サブシステムは、前記散乱光の偏光を保持するように構成される。加えて、前記方法は、前記集光サブシステムの集光NAの異なるセグメント中に集光された散乱光を光学要素を用いて分離することを含む。前記光学要素は、前記集光サブシステムのフーリエ面または前記フーリエ面の共役において配置される。前記方法はまた、偏光に基づいて偏光要素を用いて、前記異なるセグメントのうち1つの中の散乱光を分離して前記散乱光の異なる部分とすることを含む。加えて、前記方法は、前記散乱光の異なる部分のうち1つを検出して、前記検出光に応じて出力することを含む。前記方法は、前記出力を用いて前記ウェーハ上の欠陥を検出することをさらに含む。上記した方法の各ステップは、本明細書中に記載のようにさらに行われ得る。加えて、前記方法のステップはそれぞれ、本明細書中に記載のシステム単数または複数のいずれかを用いて行われ得る。さらに、前記方法は、本明細書中に記載のシステム単数または複数のうちいずれかによって実行可能な他の任意のステップ単数または複数を含み得る。例えば、前記方法において用いられる集光サブシステムは、本明細書中に記載のように構成され得る集光光学素子を保持する偏光を含み得る。加えて、前記集光NAの異なるセグメント中に集光された散乱光を分割することは、前記フル集光NAを分割して複数の検出経路とすることを含み得る。前記方法において用いられる光学要素および偏光要素は、前記散乱光の異なる部分のうち1つを粒子に対して高感度に最適に検出するように、構成される。よって、前記方法の実行に用いられるシステムは、粒子に対する高感度が得られるように最適化された検出経路を含み得る。例えば、前記ウェーハ表面からの散乱ノイズの検出の最小化と、前記粒子からの散乱の集光および検出信号の最大化とが可能になるように、粒子高感度検出経路と、前記粒子高感度検出経路によって検出された光の偏光とのための集光NAのセグメントの形状を構成することができる。前記方法を行うように構成されたシステム内に含まれる他の経路は、他の欠陥種類に対して最高感度が得られるように、同様に最適化され得る。本発明の他の目的および利点は、以下の詳細な説明および添付図面から明らかとなる。ここで図面を参照して、図面は縮尺通りではない点に留意されたい。詳細には、図面中の要素のうちいくつかの縮尺は、前記要素の特性を強調するための大幅に誇張されている。また、図面は同一縮尺通りに描かれていない点に留意されたい。1つよりも多くの図面中に記載の要素のうち同様の構成のものは、同一の参照符号によって示している。図1aは、ウェーハを検査するように構成されたシステムの一実施形態を示す。前記システムは、前記ウェーハを照射するように構成された照明サブシステムを含む。例えば、照明サブシステム110は、傾斜した照明114を前記ウェーハへかつ/または垂直照明116を前記ウェーハへと方向付けることにより、ウェーハ112を照射するように構成される。例えば、前記照明サブシステムは、複数の光学要素を含み得る例えば、1つ以上の光源図示せずからの光を1つ以上の所望の入射角度において前記ウェーハへと方向付けるように構成された反射光学要素118。前記照明サブシステムはまた、傾斜した入射角度および/または垂直または実質的な垂直入射角度においてウェーハへ光を非同時的に方向付けるように、構成され得る。例えば、前記システムは、検査に用いられる照明の種類に基づいて例えば、検査対象となるウェーハ種類に基づいて前記照明サブシステムの1つ以上の光学要素図示せずを移動させるように構成され得る。このような1つの例において、前記システムは、入射照明の垂直または実質的垂直角度を検査に用いる必要がある場合またはその逆の場合のみに、入射照明の傾斜角度経路内に移動させるように構成され得る。前記システムは、前記照明サブシステムの1つ以上の光学要素を当該分野において公知の任意の適切な様態で移動させるように、構成され得る。前記照明サブシステムは、1つ以上の光源図示せずを含み得る。前記光源単数または複数は、任意の適切な光源を含み得る例えば、レーザー、cwレーザー、またはパルスレーザー。加えて、前記光源単数または複数は、光を任意の適切な波長単数または複数例えば、約355nm、約266nm、または約193nmで生成するように構成され得る。照明の偏光は、p偏光、s偏光または円形偏光であり得る。一実施形態において、前記照明サブシステムは、p偏光のみを前記ウェーハへと方向付けることにより、前記ウェーハを照射するように構成される。例えば、前記照明サブシステムに含みまれ得る光源図示せずは、p偏光のみを生成するように構成される。加えて、前記照明サブシステムに含みまれ得る光源図示せずは、光および偏光要素図示せずを生成するように構成される。前記光および偏光要素図示せずは、前記光経路内に配置され、かつ、p偏光のみが前記ウェーハへと方向付けられるようにp偏光のみを透過させるように構成される。別の実施形態において、前記照明サブシステムは、s偏光のみを前記ウェーハへと方向付けることにより、前記ウェーハを照射するように構成される。このような照明サブシステムは、上記したように構成され得る。加えて、前記照明サブシステムは、光を前記ウェーハへと方向付けることにより前記ウェーハを照射するように構成され得る。前記光は、前記ウェーハの1つ以上の特性に基づいて選択された偏光を有する。例えば、p偏光照明は、最適な粒子感度のために用いられ得る。しかし、他の偏光例えば、s偏光のが他の種類のウェーハ例えば、粗膜が表面上に形成されたものに対してより高い性能を持つ場合もある。本明細書中にさらに記載されるようなコンピュータサブシステムは、前記ウェーハの1つ以上の特性を任意の適切な方法で決定することと、前記照明の偏光を前記特性単数または複数に基づいて任意の適切な方法で選択することとを行うように、構成され得る。一実施形態において、前記照明サブシステムは、前記ウェーハ上の間隔を空けて配置されたスポットのアレイ図1a中の図示せずを同時照射するように、構成される。例えば、光源からの光は、前記照明サブシステムの回折光学要素DOE図示せずへと方向付けられ得る。前記DOEは、任意の適切なDOEを含み得る。前記DOEは、前記光源からの光を分割して2つ以上の個々のビームとするように、構成され得る。前記DOEは、前記光を分割して任意の適切な数の個々のビームとするように構成され得る。前記ウェーハ上のスポットのアレイは、スポットの一次元アレイである。これらのスポットは、前記ウェーハ上において相互に重複しない。加えて、前記ウェーハ上の各スポットのサイズは、およそ等しくすることができる。一実施形態において、前記スポットは前記ウェーハ上において間隔を空けて配置され、これにより、前記アレイ内の隣接スポットにより、前記トラックの幅よりも広い距離だけ間隔を空けて配置された前記ウェーハ上のトラックが走査される。このようにして、前記アレイ内の2つの隣接スポットによって走査されたトラック間のトラックがスキップされる。例えば、図2に示すように、黒色楕円および白色楕円は、異なるサイズのスポットを示し、曲線は、前記ウェーハ上に走査されるトラックの中央を示す。従来用いられる多スポット照明において、アレイ内のスポットが相互に間隔を空けて配置され、これにより、前記ウェーハ上の隣接トラックが隣接スポットによって走査される。前記トラックの幅のほぼ2倍のサイズに対応するより小さなサイズを帯状軌跡210例えば、帯状軌跡n内において前記スポットが有する場合、前記3つの隣接スポットは、前記ウェーハ上の3つの隣接トラック212、214、および216を走査する。次の帯状軌跡218例えば、帯状軌跡n1において、3つの隣接スポットは、前記ウェーハ上の次の3つの隣接トラック220、222および224を走査する。図2に示すように、帯状軌跡210および218は、前記ウェーハ上において隣接するすなわち、恐らくは前記帯状軌跡の縁部の近隣の領域を除いてこれらの帯状軌跡は前記ウェーハ上において重複しておらず、これにより、ウェーハ全体の走査が可能となる。このようにして、前記ウェーハの表面積全体を前記スポットによって走査することができる。しかし、スループット増加を達成するために前記スポットのサイズによって前記黒色楕円によって示されるサイズを前記白色楕円によって示されるサイズへと拡大させる必要がある場合、前記スポットによって走査されるトラック幅も相応に増加し、その結果、スポット間の間隔が増加する。スポット間隔の変化に対応するために照明および集光双方の光学素子倍率を変更するためにさらなる光学素子および自動機械が必要となり、これにより、複雑度およびコストが増加する。これとは対照的に、本明細書中に記載の実施形態において、帯状軌跡226例えば、帯状軌跡nにおいて、アレイ内の隣接スポットは、トラック228、230および232を走査し得る。トラック228、230および232はそれぞれ、トラック例えば、帯状軌跡226内において走査されるトラック間に挿入されたトラック234または236の幅よりも広い距離を空けて、前記ウェーハ上において前記帯状軌跡内のその他のトラックから間隔を空けて配置される。換言すれば、アレイ内の隣接スポットは、scan前記ウェーハ上の他のトラックそれぞれまたは少なくとも相互に隣接したトラック以外のもの例えば、前記ウェーハ上の第3または第4のトラックを走査する。このようにして、前記スポットのサイズが例えば2倍または2×だけ増加した場合、トラックの幅も同じ倍数だけ例えば、2×だけ増加し、スポット間隔を同一に維持することができ、帯状軌跡幅のみが同一倍数だけ変化する。例えば、スポット238のサイズが前記黒色楕円によって示されるサイズから前記白色楕円によって示されるサイズへと例えば、2×だけ増加した場合、スポット238は、帯状軌跡nについてトラック228を走査し、その後帯状軌跡n1についてトラック246を走査する。換言すれば、スポットサイズに関係無く、スポット間隔は同一に保持され、これにより、照明または集光器いずれかの内部において光学素子倍率変更のためにさらなる光学素子は不要となる。加えて、従来用いられる多スポット走査スキームにおいて、前記検査システムは、帯状軌跡例えば、帯状軌跡210および218が前記帯状軌跡縁部を除いてウェーハ上において重複しないように、主に設計される。このようにして、前記帯状軌跡は、前記ウェーハ上に横並びに配置され、これにより、前記帯状軌跡によってウェーハ全体が被覆される。これとは対照的に、本明細書中に記載の実施形態において、前記帯状軌跡は相互に重複し得、これにより、前記帯状軌跡内において走査されたトラック間にある帯状軌跡内の未走査トラックを次の帯状軌跡または別の帯状軌跡内において走査することができる。例えば、図2に示すように、帯状軌跡240例えば、帯状軌跡n1において、アレイ内の隣接スポットは、帯状軌跡226例えば、帯状軌跡n内において走査されたトラック230および232間に配置されたトラック236、トラック242、およびトラック244を走査し得る。加えて、図2に示すように、トラック242および244間に配置されたトラック246は、帯状軌跡240内において走査され得ない。このようにして、前記照明サブシステムは、一次元比較的疎な多スポット照明のために構成され得る。前記多スポット照明は、システム内の光学素子が、可変スポットサイズに合わせて有利に簡易化される。例えば、比較的疎な多スポットというコンセプトは、可変スポットサイズを考慮するための倍率変化が不要であるため、システムの大幅な簡素化が可能であるという点において有利である。システム。加えて、比較的疎な多スポットというコンセプトを用いた場合、本明細書中にさらに記載される集光サブシステムへの要求が緩和され、これにより、光学素子のコストが低下する。さらに、前記検査システムは、複数回の生成が可能なように拡張可能である。前記照明サブシステムは、共同所有された米国特許出願シリアル番号第12/042,252号Zhaoら、出願日:2008年3月4日、米国特許出願公開第2009/0225399号として2009年9月10日として公開、本明細書中、同文献を参考のためあたかも全体が記載されているかのように援用するに記載されているような疎な多スポット照明に合わせて、さらに構成され得る。あるいは、ウェーハ上のシングルスポットのみへと光を方向付けることにより前記ウェーハを照射するように前記照明サブシステムを構成してもよい。よって、単一のまたは複数のスポット照明に合わせて前記システムを構成することができる。再度図1aを参照して、前記システムはまた、集光サブシステム120を含む。集光サブシステム120は、前記ウェーハから散乱した光の集光と、前記散乱光の偏光の保持とを行うように構成される。例えば、図1aに示すような一実施形態において、集光サブシステム120は、ウェーハから散乱した光を集光するように構成されたレンズ集光器を含む。本実施形態において、前記集光サブシステムは任意の反射光学要素を、前記集光サブシステムは、散乱光の偏光を変化させない。このようにして、前記集光サブシステムは、位相遅延を引き起こすこと無く、偏光透過保持のために最適化させることができる。例えば、前記集光サブシステムを偏光保持のために最適化することができる。なぜならば、前記集光サブシステムは、反射面を全く含まないからである。そのため、前記集光サブシステムを通じて偏光が透過する際反射と比較して前記光は変化しない。換言すれば、前記集光サブシステムは、従来用いられる鏡集光器によって生成される比較的大きな位相遅延これは、偏光変化の原因となるに対し、偏光を保持する。このような比較的大きな位相遅延について、本明細書中においてさらに説明する。しかし、本明細書中にさらに説明する他の様態で偏光保持を行うように、前記集光サブシステムを最適化することが可能である。前記レンズ集光器は、比較的単純な設計および最小数の要素も持ち得る。例えば、図1aに示すように、前記レンズ集光器は、4つの反射光学要素のみを含み得る。これら4つの反射光学要素は、当該分野において公知の任意の適切な反射光学要素を含み得る。加えて、前記レンズ集光器は、任意の適切な数の反射光学要素を含み得る。一実施形態において、前記集光サブシステムは、散乱光集光器を含む例えば、図1aに示すレンズ集光器。前記散乱光集光器の開口数NAは、0.9よりも高い。例えば、前記散乱光集光器のNAは、約0.90~0.97であり得る。このようにして、前記散乱光集光器は、超高NA集光器であり得る。よって、前記システムは、比較的単純かつ低コストの高NA集光器を含み得る。加えて、前記照明サブシステムがウェーハ上の複数のスポットを同時照射するように構成された場合、前記レンズ集光器は、照明の複数のスポットが検出器または検出器アレイ上に画像生成されたときに明確に分離さされるように、良好な画像生成性能を有するように構成され得る。別の実施形態において、前記集光サブシステムは、1つの散乱光集光器のみを含む例えば、図1aに示すレンズ集光器のみを含む。このようにして、前記集光サブシステムは、前記ウェーハから散乱した光を集光するように構成された単一の散乱光集光器を含み得る。例えば、本明細書中にさらに記載するように、いくつかの検査システムは、ウェーハから散乱した光を検査システムの集光空間中にセグメント化するように設計される。前記セグメント化は、複数の別個のレンズ集光器を用いることにより、行われる。前記複数の別個のレンズ集光器は、前記レンズ集光器それぞれが前記集光空間の異なる部分中に集光するように、配置される。これらのシステムとは対照的に、本明細書中にさらに記載するように、前記光は、単一の散乱光レンズ集光器によって集光され得、その後前記集光された光をセグメント化することができる。セグメント化は、本明細書中に記載のように有利である。別の実施形態において、前記集光サブシステムは、前記集光サブシステムの実質的に散乱半球全体にわたって散乱光を集光するように構成された散乱光集光器を1つのみ含む。このようにして、前記集光サブシステムは、前記ウェーハから散乱した光を実質的に大型NA上において集光するように構成された単一の散乱光集光器を含み得る。このようにして、集光サブシステムの集光空間全体の比較的小型部分のみにおいて散乱した光をそれぞれが集光する複数の集光器を含む従来用いられるシステムと対照的に、本明細書中に記載の実施形態は、単一の散乱光集光器を含み得る。前記単一の散乱光集光器は、前記集光NAの実質的に大型部分例えば、全体にわたって光を集光した後、前記単一の散乱光集光器によって集光された散乱光を本明細書中にさらに記載するように分割することが可能となる。さらなる実施形態において、前記システムは、前記ウェーハから散乱した光を集光するように構成された集光サブシステムを1つだけ含む。例えば、前記システムは、ウェーハから反射した光を集光するように構成された本明細書中に記載のように構成され得る別の集光サブシステムを含み得るが、前記システムは好適には、散乱光集光サブシステムを1つだけ含むとよい。このようにして、前記システムは、従来用いられるシステムとも異なる。従来用いられるシステムは、複数の散乱光集光サブシステムを含むものとみなされ得、前記複数の散乱光集光サブシステムはそれぞれ、システムの集光空間全体のうち一部のみ内に散乱した光を集光する。換言すれば、本明細書中にさらに記載するように、前記システムは、単一の散乱光集光サブシステムを含む。前記単一の散乱光集光サブシステ自身は、単一の散乱光集光器のみを含む。しかし、前記単一の散乱光集光器自身は、図1aに示すような1つよりも多くの光学要素を含み得る。前記1つよりも多くの光学要素は、直行に組み合わされることより、前記単一の集光器を構成する。前記システムはまた、前記集光サブシステムの集光NAの異なるセグメント中に集光された散乱光を分離するように構成された光学要素を含む。このようにして、前記光学要素は、前記集光NAを分割して複数のセグメントとするように構成されたNAセグメント化サブシステムとして機能し得る。一実施形態において、前記システムは、前記集光された光の経路内に配置された視野絞りを含む。例えば、図1aに示すように、前記システムは、視野絞り122を含み得る。前記視野絞りは、前記照明サブシステムが前記ウェーハを照射する際に用いられる1つ以上の光線の1つ以上の経路内のウェーハ表面近隣の空気分子から散乱された光を拒絶するように、構成される。例えば、前記視野絞りは、開口部単数または複数を持ち得る。前記開口部単数または複数は、前記集光器レンズによって投射されたスポットサイズ単数または複数よりも若干大きい。そのため、前記視野絞りは、ウェーハ上の照明スポット単数または複数近隣の光線単数または複数例えば、レーザービーム単数または複数の経路中の周囲空気分子からの不要な迷光および散乱光を有効に遮断し得る。多スポット照明において、前記視野絞りは、複数の開口部を含み得る。前記複数の開口部は、アレイ内のスポット線に対して平行な複数のスポット照明またはスリットに整合する。前記集光サブシステムは、集光された散乱光を視野絞り122を通じて集束させて光学素子124をリレーするように構成される。光学素子124は、本明細書中にさらに記載するように構成され得る。前記集光された散乱光は、リレー光学素子124から光学要素126へと伝送され得る。前記光学要素は、前記集光サブシステムの集光NAの異なるセグメント中に集光された散乱光を分離するように構成される。例えば、本明細書中にさらに記載する断面図に示すように、前記光学要素は、前記集光された散乱光を伝送する集光された散乱光および他の部分単数または複数を反射する部分単数または複数を含み得る。図1aの場合、例えば、光学要素126は、前記集光NAの別のセグメント中に集光された他の散乱光図示せずからの集光サブシステムの集光NAの1つのセグメント中に集光された散乱光128を分離するように構成される。前記分離は、別のセグメント中のその他の散乱光を反射しつつ、1つのセグメント中の散乱光128を伝送することにより、行われる。しかし、前記光学要素は、前記異なるセグメント中の散乱光を分離し得る。前記分離は、反射、遮断、屈折、回折、吸収または他の任意の適切な光学技術を用いて、行われる。前記光学要素は、多様な光学要素を含み得る例えば、アパチャ、マスク、アパチャ鏡、液晶ディスプレイLCD要素、またはミクロ鏡アレイ。このような1つの例において、適切なアパチャは、折り畳み鏡のうち一部が光を透過しかつ前記折り畳み鏡のうち別の部分が光を反射するように前記折り畳み鏡のうち一部を切除することにより、形成され得る。別のこのような例において、透明基板上の金属膜単数または複数および/または誘電体膜単数または複数のマスキングコーティングを形成することにより、アパチャ鏡を製造することができる。他のビーム分割光学要素例えば、光を異なる方向に反射するための多様なファセット方向付けを用いたプリズムを用いることにより、集光NAのセグメント化を実現することも可能である。他にも、集光NAをセグメント化する手段が可能である例えば、デジタルミクロ鏡デバイス例えば、デジタル光プロジェクタにおいて一般的に用いられるようなもの。前記光学要素は好適には、前記集光サブシステムのフーリエ面または前記フーリエ面の共役に配置される。例えば、前記集光サブシステムは、アクセス可能なフーリエ面130を持ち得る。このようにして、対物レンズアセンブリの内側にフーリエ面が配置されているため物理的にアクセス不可能であるような最も従来の対物レンズ設計と対照的に、本明細書中に記載の集光サブシステムは、光学要素例えば、アパチャまたはマスクを物理的に配置することが可能な位置に設けられたフーリエ面を有するように設計される。図1aに示す光学要素126の位置は、前記集光サブシステムのフーリエ面の共役位置である。しかし、前記光学要素は、図1aに示すフーリエ面130に配置してもよい。加えて、フーリエ面においてまたは前記フーリエ面の共役においてとは、本明細書中、前記フーリエ面そのものにおいて設けられているだけではなく、前記フーリエ面の共役そのものにおいて設けられている様子も示す。また、これらの用語は、フーリエ面またはその近隣においておよび前記フーリエ面の共役またはその近隣においてという意味もそれぞれ示す。本明細書中に記載のような光学要素は、前記フーリエ面そのものの位置または前記フーリエ面の正確な位置の約5のエラー以内の位置に何らかのエラー源が前記システム内にありかつ/または前記システム内の物理的制約に起因して配置された場合、フーリエ面またはその近隣においてとしてみなされ得る。前記フーリエ面の共役またはその近隣においてとも、同様に記述され得る。ある程度の性能劣化が受容可能である場合、光学要素126は、フーリエ面から距離を空けてかつ視野絞り122から実質的距離を空けて配置され得る。このような性能劣化は、レンズ集光器120の視野に依存し、レンズ集光器120は、シングルスポット照明において最低限であり得る。前記光学要素および本明細書中に記載の他の光学要素を用いて、異なるセグメント中の散乱光をシステムの異なる経路へと方向付けることが可能なように集光NAを分割して、異なるセグメントとする。例えば、上述したように、前記光学要素は、光を反射する一部分と、光を透過させる別の部分とを持ち得る。そのため、前記光学要素は、前記集光NAを分割して2つのセグメントとすることができる。前記2つのセグメントのうち1つのセグメントは、反射によって一経路内へと方向付けられ、前記2つのセグメントのうち別のセグメントは、透過によって別の経路内へと方向付けられる。このようにして、前記最適化は、現在行われているような半球表面上に対して、フーリエ面またはフーリエ面の共役において行われる。一実施形態において、ベクトルフーリエ変換を用いて、散乱光をフーリエ面上にマッピングする。ベクトルフーリエ変換においては、ベクトル電界のx成分、y成分およびz成分の別個のフーリエ変換を計算することと、これらの成分を像面において再度組み合わせることと、強度の合計をとることとを含む。このようにして、ベクトルフーリエ変換により、表面散乱をフーリエ面上にマッピングすることが可能となる。よって、ベクトルフーリエ変換を用いることにより、表面散乱の偏光をフーリエ面上において実質的に平行にアライメントさせることができる。そのため、いくつかの実施形態において、ウェーハからの表面散乱に起因する集光の偏光は、フーリエ面の実質的部分および/またはフーリエ面の共役上において実質的に平行になる。換言すれば、上述したフーリエ変換の結果、表面散乱の偏光がほぼ平行にアライメントされる。よって、従来用いられるシステムの半球偏光の変化とは対照的に、表面散乱の偏光をフーリエ面の実質的部分に対して実質的に平行にアライメントすることができる。このようにして、従来用いられるシステムにおいてセグメント化が行われる半球中の偏光変更が行われるのとは対照的に、ウェーハ表面からの散乱光の偏光を、本明細書中に記載のシステムにおいてセグメント化が行われる面に対して実質的にアライメントすることができる。例えば、図3は、フーリエ面上に投射された場合特に、半球表面上に投射された場合の表面散乱の偏光間の差を示す。図3中の双方のプロット中の小線は、散乱半球上およびフーリエ面上の異なる位置における表面散乱の偏光である。図3の上部に示すプロットは、半球中の偏光を球座標、極角およびアジマス角の関数として示す。そのため、半球は紙面に対して折り畳まれていないが、図3の上部のプロットは、前記半球上の偏光を示す。図3の下部に示すプロットは、フーリエ面内の表面散乱の偏光をx方向におけるNAすなわち、NAxおよびy方向におけるNAすなわち、Nayの関数として示す。図3に示すように、前記フーリエ面において、前記偏光は比較的大領域上において類似の方向において良好にアライメントされ、これにより、表面散乱のより効率的な抑制が可能となる。これと同時に、集光NAの実質的に大領域上において表面散乱を効率的に抑制できるため、特に、粒子または他の欠陥の最適化のために従来用いられていた集光NAの比較的小さなセグメントと比較して、ウェーハ上の欠陥例えば、粒子からの散乱光を実質的に大領域上において集光および検出することができる。より詳細には、従来用いられるシステムにおいて、集光NAの比較的小セグメントのみの上において表面散乱を抑制することが可能であるため、表面散乱を抑制することが可能な比較的小領域により、検出に利用可能であった欠陥からの散乱光が限定された。これとは対照的に、本明細書中に記載の実施形態において、集光NA内の実質的大領域上において表面散乱を抑制することができ、これにより、ウェーハ上の欠陥例えば、粒子からの散乱の効率的集光が可能になる。よって、前記実質的大領域内の欠陥散乱を検出することができ、これにより、信号対ノイズ比を増加例えば、最大化させることが可能となる。前記システムは、偏光に基づいて前記異なるセグメントのうち1つの中の散乱光を分離して前記散乱光の異なる部分とするように構成された偏光要素を含む。例えば、図1aに示すように、前記システムは、光学要素126によって透過された1つのセグメント中の散乱光を分離して部分134および136とするように構成された偏光要素132を含み得る。詳細には、前記偏光要素は、光学要素126によって透過された集光NAのセグメント中に集光された散乱光部分の2つの独立偏光を分離するように、構成される。一実施形態において、前記偏光要素は、照明サブシステムの入射面に対して鏡対称性を有する。例えば、照明偏光が入射面例えば、p偏光に対して平行であるかまたは入射面例えば、s偏光に対して垂直である場合、前記散乱光の偏光は、前記入射面に対して対称性を有する。そのため、任意の種類の単数または複数の欠陥に対する感度を最適化するために集光経路において用いられる直線偏光子は好適には、入射面に対して鏡対称性を有する。別の実施形態において、前記偏光要素は、直線偏光子である。例えば、市販の直線偏光子も利用可能である。詳細には、このような偏光要素が入射面に対して平行または垂直に方向付けられた場合、偏光は通常は前記入射面に対して対称であるため、鏡対称偏光要素の特殊な場合としてみなされ得る。同様に、一実施形態において、前記偏光要素は、偏光線スプリッターである。前記偏光線スプリッターは、当該分野において公知の任意の適切な偏光線スプリッターを含み得る。加えて、前記偏光要素は、鏡対称偏光方向付けを用いた偏光線スプリッターであり得る。よって、直線偏光子または偏光要素として用いられる偏光線スプリッターは、散乱光の異なる偏光、直交偏光および相互に排他的に偏光を有する2つの異なる部分への偏光に基づいて、1つのセグメント中の光を分離するように構成される。集光された散乱光を分離して集光NAの異なるセグメントとすることと、鏡対称偏光要素との組み合わせに起因する検査システムの性能向上を理論的シミュレーションにより決定し、その結果を図4に示す。図4のプロット中に示すグレースケールは、散乱光の強度を示すグレースケールが薄いほど、散乱が強くなり、逆にグレースケールが濃くなると、散乱強度は低下する。図4のプロット中に示す線は、散乱光の偏光を示す。加えて、図4中のプロットにおいて、照明は左側から発生して右側へと移動し、用いられる照明はp偏光である。一実施形態において、散乱光を分割して異なる部分とするように偏光要素を構成することは、ウェーハ上の欠陥の一部のみについて、検出器によって検出された信号対ノイズ比を最大化するように行われる。例えば、プロット410は、本明細書中に記載の集光サブシステムの集光NA上における粒子散乱を偏光要素を全く用いことなくシミュレート測定した結果を示す。このプロットに示すように、前記粒子からの散乱強度は、より高いNAにおいて高くなり、前記粒子からの散乱した偏光は、実質的に集光NA上において変化する。プロット412は、本明細書中に記載の集光サブシステムの集光NA上の表面散乱対数目盛における強度を偏光要素を全く用いことなくシミュレート測定した結果を示す。表面によって散乱した光の強度は、表面粗さの空間周波数分布に依存し、表面散乱の偏光は、集光NAの実質的大部分上において実質的にアライメントされる。照明に用いられる偏光がP、Sまたは他の対称偏光である場合、粒子からの散乱光の偏光および表面からの散乱光の偏光はどちらとも、入射面に対して鏡対称である前記入射面は、プロット414および416に示すフルNAの中央を通じた水平線である。プロット414は、入射面に対する鏡対称偏光を有しかつ白色線によって示される偏光を有する光をプロット414上において透過させる直線偏光子を用いた場合における、本明細書中に記載の集光サブシステムの集光NA上における粒子散乱のシミュレート測定を示す。プロット416は、白色線によって示される鏡対称偏光を有する光をプロット416上に透過させる直線偏光子を用いた場合における、本明細書中に記載の集光サブシステムの集光NA上における粒子散乱のシミュレート測定を示す。プロット414および416の比較によって分かるように、粒子散乱のうち大部分が偏光子によって透過される集光NA領域において、表面散乱のうちほとんどは偏光子によって遮断される。そのため、これらの領域のみ内の光を検出することにより、粒子の信号対ノイズ比を増加させることができる。このようにして、一実施形態において、前記偏光要素は、前記照明サブシステムの入射面に対して鏡対称性を有し、前記異なるセグメントのうち1つは、集光NAの1つ以上の個々のセグメントを含む。前記集光NAの1つ以上の個々のセグメントにおいて、ウェーハ上の粒子からの散乱光の強度が集光NA全体において最高となりかつおよび前記ウェーハからの散乱光の偏光が1つ以上の個々のセグメントそれぞれと実質的にアライメントされかつ入射面に対して鏡対称であり、これにより、前記ウェーハからの散乱光を前記1つ以上の個々のセグメント内において前記粒子からの散乱光から偏光要素によって分離することができる。例えば、本明細書中に記載のような光学要素を用いて、白色線によって包囲された領域中の光をシステム構成に応じて選択的に透過するかまたは選択的に反射することにより白色線によって包囲されるプロット418および420中に示される領域内の光を選択的に検出することができる。なぜならば、プロット418に示すように、これらの領域内において偏光子によって透過される粒子散乱は比較的高強度であり、プロット420に示すように、これらの領域内において偏光子によって透過される表面散乱は、実質的に高強度である。そのため、前記白色線によって包囲されるプロット418および420中に示す領域は、本明細書中に記載される光学要素によって集光NAの他のセグメントから分離可能な集光NAの1つの異なるセグメントを示す。これらのプロットに示すように、前記異なるセグメントのうち1つは、プロット414および416中の水平白色線によって示される照明サブシステムの入射面の周囲において相互に鏡対称である2つの個々のセグメントを含む。この異なるセグメントは、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。前記光学要素は、フーリエ面内に配配置してもよいし、あるいは本明細書中に記載のような集光サブシステムのフーリエ面の共役に配置してもよい。p偏光照明の場合、ヘイズ低減は表面粗さ特性に応じて約50x~約100xであり、信号低下はわずか約2xである。そのため、本明細書中に記載の実施形態を用いれば、フルNA集光を用いた既存のアーキテクチャと比較して、信号対ノイズ比およびよって感度の大幅な向上が可能になる。比較的小さなスポットサイズについて、充分なレーザー出力により、感度はスペックルノイズによって制限される。アパチャ低減に起因するより高いスペックルコントラストを考慮して、図4に示す光学要素および散乱のための偏光要素の組み合わせによって可能となる最大信号対スペックルノイズの全体的向上は、フル未偏光NAと比較して約20×倍である。加えて、本明細書中に記載の光学要素および偏光要素の組み合わせにより、現在用いられているセグメント化スキームにおいて光が検出される領域と比較して、より大きな領域上における粒子散乱検出が可能となる。このようなより大きな領域上における集光NAにより、粒子からの散乱光の集光をより効率的に行うことが可能になり、これにより、信号のショットノイズが最小化される。詳細には、前記信号のショットノイズは、前記信号の平方根に比例する。そのため、前記信号のノイズに対する信号比は、前記信号に逆比例する。よって、前記信号のショットノイズにより、粒子捕獲率が制限される。そのため、本明細書中に記載の実施形態によって可能となる比較的大きな集光領域により、バックグラウンドのノイズに対する信号比が向上するだけでなく、信号のノイズに対する信号比も向上する。これとは対照的に、現在利用可能なシステムにおいて用いられる比較的小型の集光NAは、粒子からの散乱の集光効率が比較的低い。詳細には、表面散乱ノイズに対する信号比が比較的高い実質的に小さい数による分割場合も、信号ノイズに対する信号比を実質的に低くすることができ、これにより欠陥捕獲率が低下する。比較的小さな集光アパチャ単数または複数の利用に起因する比較的小さな信号による別の悪影響として、他のノイズ源例えば、迷光および検出器暗電流が支配的となり得、検出感度が制限される点がある。そのため、いくつかの実施形態において、ウェーハ上の粒子検出に合わせてシステムを最適化するように、光学要素および偏光要素を構成する。前記最適化は、検出器によって検出された粒子からの散乱の信号対ノイズ比を最大化させ、前記光学要素および前記偏光要素に起因する前記粒子に対応する信号損失を最小化することにより、行われる。よって、前記システムは、光学要素構成例えば、形状を偏光方向付けと共に用いて信号対ノイズ比を最大化しかつ信号損失を最小化することにより、粒子感度に合わせて最適化された1つの経路を含み得る。図5は、図4に示す理論的シミュレーションを確認する実験データを示す。例えば、図5に示すように、プロット510は、ウェーハ上の欠陥に起因する散乱光の信号Sと、0.95の参照符号512によって示されるフル集光NAを用いて前記ウェーハについて測定された表面散乱に起因するノイズNとを示すすなわち、これらの測定において、光学要素は用いなかった。用いられる照明はp偏光であり、前記ウェーハから散乱した光の経路内に偏光要素は配置しなかった。これとは対照的に、図5に示すプロット514は、ウェーハ上の欠陥に起因する散乱光の信号Sと、側部開口部518を有する光学要素516を用いて前記ウェーハについて測定された表面散乱に起因するノイズNとを示す。用いられた照明はp偏光であり、50度の直線偏光子すなわち、直線偏光子の通過軸は、50度において方向付けられる側部開口部518中に示す斜線によって示されるが前記集光経路中に配置される。図5に示すように、前記光学要素および直線偏光子組み合わせを用いて検出された信号対ノイズ比は、フル集光NAを用いかつ偏光要素を用いずに検出された信号対ノイズ比よりも大幅に高い。本明細書中に記載の実施形態において直線偏光子を用いた場合、最大反射/透過効率が容易に利用可能となるため、有利である。例えば、直線偏光子の効率は、セグメント化偏光子として典型的に用いられるワイヤグリッド偏光子の効率例えば、約60と比較して、効率が95を超え得る。別の実施形態において、偏光要素は直線偏光子であり、集光サブシステムの結像NAの大部分を被覆する。例えば、上述したように、フーリエ変換の結果、表面散乱の偏光は、フーリエ面内の集光NAの実質的部分上においてほぼ平行にアライメントされ、その結果、前記結像NAの大部分を網羅する直線偏光子が可能となる。その結果、信号対ノイズ比が大幅に向上し、システム実行も大幅に簡単になる。一実施形態において、前記偏光要素は、2つの偏光線スプリッターの2つの部分を含む。前記2つの部分は、前記偏光要素が照明サブシステムの入射面に対して鏡対称となるように、相互に接続される。このような偏光要素は、図6aおよび図6bに示すように構成され得る。例えば、前記偏光要素は、規則的偏光線スプリッターPBS立方体の2つの二分部610および612を含み得る。換言すれば、前記偏光要素は、2つの規則的偏光子によって構成され得る。前記2つの規則的偏光子は、適切な角度において切断され、相互に縫合される。例えば、前記偏光要素は、2つの別個の片の偏光線スプリッターであり得る。これら2つの別個の片は、2つに切断された後、相互に接着される。このような偏光要素は、単一の基板上に製造されたワイヤグリッド偏光子であってもよい。しかし、前記偏光要素の任意の方向付けが可能である。このようにして、前記偏光要素は、システムの入射面に対して鏡対称性を有する。加えて、前記直線偏光子は、アパチャ全体を被覆し得、入射面に対して鏡対称性を持ち得る。関連面の定義の都合上、前記偏光成分の角部をABB’CDによって表す。面ADCは、ウェーハの照明の入射面と一致するかまたは実質的に一致し得る。面ABCは、PBS立方体の半分の偏光線分割表面であり、AB’Cは、前記PBS立方体の他方の半分の偏光線分割表面である。面ABCおよび面AB’Cは、線ACにおいて交差し、相互に平行ではない。入来光線614および616記載目的のみのために、図6a中、2つの光線として示すは、偏光要素によって分離されて、透過ビーム618および620と、反射ビーム622および624とにそれぞれされる。図6aに示す両矢印626は全て、は、前記矢印と交差する光線の偏光方向付けを示す。前記偏光要素の二分部双方について、反射光線はS偏光を有し、透過光線はP偏光を有する。しかし、S偏光およびP偏光は、反射面ABCおよびAB’Cの入射面に対してそれぞれ規定される。表面ABCの入射面は表面ABDに平行であり、表面AB’Cの入射面は表面AB’Dに平行である。透過光および反射光は、上面図628に示すようにウェーハ照明ACDの入射面に対して鏡対称性を有する。前記上面図において、αは、照明の入射面の透過偏光角度である。偏光角度は、前記PBS立方体を対応する角度において切断および組み合わせることにより、本例において45度であるが、任意の角度にすることができる。1つの入射ビームを2つのビームすなわち、1つの偏光を有する1つの透過ビームおよび直交偏光を有する1つの反射ビームに分割する規則的PBS立方体と対照的に、図6aに示す偏光要素は、1つの入射ビームを3つのビームに分割する。そのうち1つの透過ビームは鏡対称偏光を有し、2つの反射ビームは鏡対称偏光を有する。これら2つの反射ビームは、相互に平行ではなく、異なる方向に伝播する。いくつかの実施形態において、前記2つの反射ビームは、別個に集光され得、2つの別個の検出器へと方向付けられ得る。前記2つの別個の検出器によって生成された出力は、個々に用いてもよいし、あるいは、欠陥検出および/または分類の向上のために組み合わせて用いてもよい、しかし、前記2つの反射ビーム単一の検出器上へと方向付けた方が、システム構成をより簡単にしかつ最もコスト効果を高くすることが可能である。例えば、図6bに示すように、上記するように構成され得る2つの二分部610および612を有する入来ビーム629を偏光要素によって分離して、反射ビーム632および634とすることができる。反射光学要素630を用いて、反射ビーム632を折り畳んで反射ビーム634に対して平行にすることができ、これにより、ビーム632および634をレンズ636によって同一検出器638上へと集束させることができる。図6bに示す折り畳み鏡の代わりに全反射プリズム図示せずを用いて、前記反射ビームのうち1つを折り畳むことができる。反射光学要素630、レンズ636および検出器638は、任意の適切なこのような成分を含み得る。図6bに示す偏光要素の各部分によって透過された光を別の検出器図6b中図示せずによって検出してもよく、前記別の検出器は、本明細書中にさらに記載するように構成され得る。コスト効果のために2つのビームを組み合わせて1つのビームとするための方法が他にも多数ある。別の例詳細は図示せずとして、図1a~図1d中の光学要素126と偏光要素132との間に半波長板を導入する例がある。前記半波長板は、図1b~図1dに示す透過部分154または透過部分152のいずれかにより、光透過経路のみに配置される。前記半波長板の方向付けは、前記2つの透過部分152および154による光透過の偏光が偏光要素132に進入する前に同一になるように、アライメントされる。このようにして、必要な検出器が1つのみとなる。あるいは、2つの半波長板1つは透過部分152による光透過上にありかつ他方は透過部分154による光透過上にあるを用いることも可能である。各半波長板の方向付けは、前記2つの透過部分152および154による光透過の偏光が同一となった後に偏光要素132に進入するように、別個にアライメントされる。図7に示す多様な偏光は、本明細書中に記載の多様な偏光要素図7中図示せずによって分離され得る。前記多様な偏光要素は、本明細書中に記載の光学要素図7中図示せずの実施形態と組み合わせて用いられ得る。例えば、図7において、照明方向が集光NA710に対して矢印712によって図示されており、照明の入射面は、集光NA710の中央上において矢印712に対して平行である。集光NA710全体中に散乱した光を本明細書中に記載の光学要素によって分離して、異なるセグメント714および716へと散乱された光とすることができる。セグメント714および716は、相互に相補的である。図7に示す実施形態において、セグメント714は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る2つの個々のセグメントを含む。本明細書中に記載の光学要素のうち図7に示す集光NAの異なるセグメントに対応する反射および透過部分を有する1つにより、これらの異なるセグメント全体中に散乱した光を分離することができる。このようにして、前記光学要素は、集光サブシステムの集光NAをセグメント化する図7中図示せず。前記光学要素によって反射および透過された光の経路内に、多様な偏光要素を配置することができる。例えば、実質的に偏光要素全体上において同一偏光を有する光を透過する直線偏光子を、前記光学要素によって集光NAの異なるセグメントのうち1つへと分離された散乱光の経路内に配置することができる。前記直線偏光子は、単一の偏光子であり得、また、偏光要素が含まれる経路に対応する集光NAセグメント全体上において偏光が実質的に完全にアライメントされた場合、本明細書中に記載システムにおいて用いられ得る。偏光722を有する直線偏光子による光透過と、直交偏光724を有する偏光要素によって反射された光とを、本明細書中にさらに記載するように集光および検出することができる。透過光および反射光はどちらとも、光学要素によって分離されて異なるセグメントとされた散乱光の損失が実質的に無いように、集光および検出され得る。例えば、偏光要素によって透過された光を1つの検出器図7中図示せずへと方向付けることができ、前記偏光要素によって透過された光以外の直交かつ相互に排他的な偏光を有する光を別の検出器図7中図示せずへと方向付けることができる。換言すれば、前記光透過by第1の偏光を有する偏光要素によって透過された光を第1の検出器へと方向付けることができ、第1の偏光に直交しておりかつ相互に排他的でありかつ第1の偏光と異なる第2の偏光によって反射された光を第2の検出器へと方向付けることができる。このようにして、集光NAの任意のセグメント中へと分離された散乱光をさらに分離して、差異検出器によって検出され得る、直交かつ相互に排他的な異なる偏光を有する異なる部分とすることができる。そのため、前記集光NAの任意のセグメント中の光を偏光要素による偏光に基づいて分離し、システムの異なる経路によって別個に検出することができる。前記システムは、鏡対称偏光要素単数または複数を含み得る。例えば、図6aおよび図6bに示すような偏光要素が集光NAの異なるセグメントのうち1つ中へと分離された散乱光経路中に配置された場合、前記光の透過部分は、入射面に対して鏡対称性を有する偏光方向付け726を持ち得、前記光の反射部分は、前記入射面に対して同様に鏡対称性を有する偏光方向付け732を持ち得る。詳細には、図7に示すように、前記光の透過部分の偏光726は、2つの異なる偏光728および730を含む。2つの異なる偏光728および730の方向付けを、前記部分上の両矢印線によって示す。これらの両矢印線は、相互に異なり、相互に直交し、相互に排他的でありかつ相互に鏡対称である。同様にして、前記光の反射部分の偏光732は、2つの異なる偏光734および736を含む。2つの異なる偏光734および736の方向付けを、前記部分上の両矢印線によって示す。これらの両矢印線は、相互に異なり、相互に直交し、相互に排他的でありかつ相互に鏡対称である。加えて、偏光728および734は、集光NAの同一セグメントに対応するが、相互に直交し、偏光730および736は、前記集光NAの同一セグメントに対応するが、相互に直交する。前記偏光要素によって透過された光は、本明細書中に記載のように集光および検出することができる。前記偏光要素によって透過されなかった光も集光および検出することが可能であるため、集光NAセグメントに分離された光の損失が実質的に無くなる。例えば、前記偏光要素の双方の部分によって透過された光を1つの検出器図7中図示せずに方向付けることができ、前記偏光要素の双方の部分によって反射された光を別の検出器図7中図示せずへと方向付けることができる。このようにして、光学要素によって集光NAのセグメントに分離された光を偏光要素による偏光に基づいて分離することができ、システムの異なる経路によって別個に検出することができる。前記システムはまた、検出器を含む。前記検出器は、前記散乱光の異なる部分のうち1つを検出し、前記検出光に応じて出力を生成するように構成される。前記出力を用いて、ウェーハ上の欠陥を検出する。加えて、上記したように、本明細書中に記載の偏光要素によって異なる部分に分離された光を差異検出器または検出経路へと方向付けることができかつ前記差異検出器または検出経路によって検出することができる。例えば、一実施形態において、偏光要素による偏光によって分離された散乱光の異なる部分は、直交しかつ相互に排他的な偏光を有し、前記システムは、散乱光の異なる部分のうち別のものを検出するように構成された別の検出器を含む。このような1つの例において、図1aに示すように、部分134および136は、それぞれ反射光学要素142および144によってそれぞれ検出器138および140へと方向付けられ得る。前記検出器はそれぞれ、前記散乱光の異なる部分のうち1つを検出し、前記散乱光に応じて出力を生成するように構成される。検出器138は、粒子に対して最大感度を有するように構成され得る。例えば、光学要素126によって透過された光は、偏光要素132によって透過され、その後反射光学要素によって検出器138へと集束される。よって、検出器138によって検出された光は、集光経路を通じて直行し、いかなる光学要素によっても反射されない。このようにして、前記システムは好適には、検出器138によって検出された光の偏光子132を通過する前の任意の反射を回避するように構成され、これにより、透過効率の最大化と、折り畳み鏡または他の反射光学要素に起因して発生し得る光位相遅延の排除とが可能になる。一実施形態において、前記光学要素および前記偏光要素は、ウェーハ上の粒子検出のためのシステムを最適化するように構成される。前記最適化は、検出器によって検出された粒子からの散乱の信号対ノイズ比を最大化し、前記光学要素および前記偏光要素に起因して発生する、前記粒子に対応する信号損失を最小化することにより、行われる。例えば、集光NAの異なるセグメントの形状と、鏡対称偏光を用いた偏光成分の偏光方向付けとの最適化は、新規な最適化コンセプトを示す。詳細には、光学要素によって透過された集光NAのセグメントの形状と、鏡対称偏光要素とを組み合わせることにより、ヘイズが抑制され、信号損失が最小化され、これにより、信号対ノイズが大幅に低減する。加えて、現在用いられているいくつかのウェーハ検査システムのような複数の比較的小さなアパチャの場合と同様に、実質的に大きなアパチャ上において表面散乱が低減される。例えば、現在用いられているウェーハ検査システムにおいては、比較的小さなアパチャ上でしか表面散乱を低減することができない。なぜならば、図3に示すように、偏光が半球上へと投射されると、比較的小さな領域上において、粒子散乱の偏光必要な信号が、表面散乱の偏光不要なノイズに対して垂直になる。これとは対照的に、本明細書中に記載のように、比較的より大型の領域上において表面散乱を低減することが可能である。その結果、表面散乱を大幅に低減しつつ、比較的小型の粒子について検出された信号が保持される。反射光学要素142および144は、任意の適切な光学要素を含み得る。なぜならば、偏光子132を光が通過した後の位相遅延は、信号対ノイズ比に対して実質的影響を持たないからである。検出器138および140は、以下を含み得る:任意の適切な検出器例えば、電荷結合素子CCD、時間遅延積分TDI検出器、マルチアノード光電子増倍管PMT、PMT、PMTアレイ、または他の任意の当該分野において公知の適切な検出器。前記検出器によって生成された出力は、任意の適切な出力を含み得る例えば、信号、データまたは画像データ。前記出力を用いて、ウェーハ上の欠陥を検出する。例えば、前記検出器によって生成された出力は、コンピュータサブシステムへと提供され得る。このような1つの例において、前記システムは、コンピュータサブシステム146を含み得る。コンピュータサブシステム146は、例えば、コンピュータサブシステムと、当該分野において公知の任意の適切な透過媒体を含む図1a中の検出器との間の1つ以上の透過媒体破線で示すを介して検出器138および140へと接続される。検出器から生成された出力をコンピュータサブシステム146が受信することが可能なように、コンピュータサブシステム146を前記検出器へと接続することができる。前記コンピュータサブシステムは、前記検出器から生成された出力を用いて、ウェーハ上の欠陥を検出するように、構成され得る。前記コンピュータサブシステムは、前記出力と、当該分野において公知の任意の適切なアルゴリズムおよび/または方法とを用いて、ウェーハ上の欠陥を検出するように構成され得る。例えば、前記コンピュータサブシステムは、前記出力と、閾値とを比較するように構成され得る。前記出力が前記閾値を超えている場合、前記コンピュータサブシステムは、欠陥が存在していると決定し、これにより前記ウェーハ上の欠陥を検出する。これとは対照的に、前記出力が前記閾値を下回る場合、前記コンピュータサブシステムは、欠陥が無いと決定し、これにより前記ウェーハ上の欠陥を検出しない。前記コンピュータサブシステムは、他の欠陥関連機能を行うように構成してもよい例えば、欠陥分類。前記コンピュータサブシステムは、多様な形態をとり得る例えば、パーソナルコンピュータシステム、画像コンピュータ、メインフレームコンピュータシステム、ワークステーション、ネットワーク機器、インターネット機器または他のデバイス。一般的に、コンピュータサブシステムという用語は、1つ以上のプロセッサを有する任意のデバイスを包含するように広範に定義され得る。前記1つ以上のプロセッサは、メモリ媒体からの命令を実行する。前記コンピュータサブシステムはまた、当該分野において公知の任意の適切なプロセッサ例えば、並行プロセッサを含み得る。加えて、前記コンピュータサブシステムは、高速処理およびソフトウェアを含むコンピュータプラットフォームをスタンドアロンツールまたはネットワークツールとして含み得る。前記集光サブシステムの集光NAを、光学要素によってセグメント化して複数の経路とすることができる。一実施形態において、前記集光NAの異なるセグメントは、相互に排他的であるである。例えば、図1bに示すように、光学要素126は、前記集光NAの異なるセグメント中に集光された散乱光を分離して、セグメント148およびセグメント150とすることができる。セグメント148は前記光学要素によって透過され得、セグメント150は前記光学要素によって反射され得る。このようにして、前記光学要素は、前記集光NAの1つのセグメント例えば、セグメント148に対応する透過部分単数または複数と、前記集光NAの別の異なるセグメント例えば、セグメント150に対応する反射部単数または複数とを含み得る。例えば、図1bの断面図に示すように、前記光学要素は、前記集光NAの1つのセグメントに対応する透過部分152および154と、前記集光NAの別の異なるかつ相互に排他的なセグメントに対応する反射部156とを含み得る。反射部156は、前記集光NAのセグメント中の光のうち部分156に対応するもの全てを反射し得るすなわち、部分156は、散乱光に対して0の透過性を持ち得る。部分152および154は、前記集光NAのセグメント中の光のうち部分152および154に対応するもの全てを実質的に透過し得るすなわち、部分152および154は、散乱光に対して100の透過性を持ち得る。このようにして、集光NA全体を分離して、2つの相互に排他的な部分とすることができる。上述したように、前記光学要素の異なる部分は、前記集光NAの異なるセグメントに対応する。これらのセグメント中において、散乱光が前記光学要素によって分離される。加えて、図1bに示すように、部分152および154は、照明サブシステムの入射面において相互に鏡対称である。さらに、上述したように、部分152および154は、前記集光NAの異なるセグメントのうち1つに対応し得る。このようにして、前記異なるセグメントのうち1つは、部分152および154に対応する2つの個々のセグメントを含み得る。これら2つの個々のセグメントは、照明サブシステムの入射面において相互に鏡対称である。加えて、図1bに示すように、部分152および154はそれぞれ、前記入射面から間隔を空けて配置される。さらに、前記部分はそれぞれ、第1の側部、第2の側部および第3の側部によって規定され得る。これらの側部について、部分152を参照して説明する。詳細には、部分152は、第1の側部152a、第2の側部152bおよび第3の側部152cを含む。第1の側部152aは直線状であり、前記入射面に対して角度を以て配置される。第2の側部152bは、直線状であり、前記入射面に対して実質的に平行であり、かつ、第1の側部よりも短い。加えて、第3の側部152cは曲線状である。図1bに示すように、部分154もこれらの3つの側部によって規定される。上述したように、部分152および154は、前記集光NAの異なるセグメントのうち1つに対応するため、一実施形態において、前記異なるセグメントのうち1つは、2つの個々のセグメントを含む。前記2つの個々のセグメントは、前記照明サブシステムの入射面において相互に鏡対称であり、前記入射面から間隔を空けて配置され、前記2つの個々のセグメントはそれぞれ、第1の側部、第2の側部および第3の側部によって規定された形状を有し、前記第1の側部は、直線状であり、前記入射面に対して角度を以て配置され、前記第2の側部は、直線状であり、前記入射面に対して実質的に平行であり、第1の側部よりも実質的に短く、第3の側部は曲線状である。図1bおよび図4を比較すれば分かるように、光学要素126の特性例えば、形状、相対的寸法は、プロット418および420中に示す白色線によって包囲された領域に類似するただし、プロット418および420中に示す領域と比較して、垂直軸上に光学要素126がフリップされる点を除く。前記光学要素と前記領域との間の差の理由として、前記領域が集光サブシステムのフーリエ面中にあるかのように前記領域が図4中に示され、光学要素126の構成が前記フーリエ面の共役中に配置されているかのように図1b中に示されている点があるなぜならば、前記フーリエ面および前記リレーフーリエ面は実質的に同一であるが、光軸上において逆転しているからである。そのため、図1b中に示す光学要素126は領域418および420と比較してフリップされているが、実際には、光学要素126を用いて、前記集光NAの他の領域中に散乱した光から、前記集光NAの領域418および420中の散乱光を分離することが可能である。そのため、光学要素126を上述したような最適粒子検出感度のために用いることが可能となる。図1bに示す光学要素は、前記集光NAの異なるセグメントのうち1つの中で散乱した光が前記光学要素によって反射されるように構成されているため、前記光学要素は、前記散乱光中に一定の位相変化を発生させることができる。例えば、図8aに示す線810は、アルミニウム鏡からのp偏光の反射率を入射角度の関数として示し、線812は、アルミニウム鏡からのs偏光の反射率を入射角度の関数として示す。前記アルミニウム鏡に起因して、前記光の位相が変化する。この変化を、入射角度の関数としての位相差のプロット814として示す。そのため、図8aに示すように、前記鏡に起因して、偏光の2つの成分間の位相および振幅が変化し、その結果、表面散乱の通常は実質的にアライメントされた偏光に変化が生じ、その結果、偏光子を用いて表面散乱を拒否することが困難になる。例えば、図1aに示すような構成において光学要素によって反射または他の場合に透過された光を検出すべきではない場合または前記透過光を位相遅延による影響を受けない欠陥の検出に用いないべきである場合、このような位相変化を無視することができる。しかし、前記光学要素による光反射を検出し欠陥検出に用いるべきである場合、前記光学要素に起因する位相変化を修正することが有利であり得る。例えば、一実施形態において、薄膜コーティングを前記光学要素の1つ以上の反射部上に形成し、前記システムの少なくとも1つの他の反射光学要素による反射時において1つ以上の反射部に起因するp偏光およびs偏光の位相遅延を無効化するように、前記薄膜コーティングを構成する。詳細には、適切に設計された薄膜コーティングにより、反射光学要素によって反射されたP偏光とS偏光との間の位相を変化させることができる。例えば、図8bは、厚さ約55nmのMgF2でコートされたアルミニウム鏡の反射率および位相遅延を示す。P偏光とS偏光との間の位相シフトは、実質的に広範囲の入射角度上において約180度である。同一のまたは別の反射光学要素による第2の反射を導入することにより、この180度の位相シフトを無効化することができ、その結果、位相変化合計は360度となり、ゼロ度に等しくなる。換言すれば、偶数回の反射の正味の位相シフトは、ほぼゼロ度となる。例えば、図1bに示すように、前記システムは、反射光学要素158を含み得る。反射光学要素158は、上記した同一コーティングでコーティングされ得る。反射光学要素158により、前記光学要素によって反射された散乱光の別の反射が行われ、これにより、前記光が偶数回反射される。そのため、反射光学要素158は、光学要素126に起因する位相変化を補償することができ、これにより、前記散乱光中の位相変化を実質的にゼロにすることができる。よって、反射光学要素158により、二重反射構成のための第2の反射が得られる。このような二重反射構成のためにより、本明細書中に記載のような他の検出器単数または複数へと方向付けられ得る、前記集光NAの反射セグメント中の散乱光の偏光が保持される。このようにして、反射光学要素158は、位相補償鏡として機能することができる。一実施形態において、前記システムは、さらなる光学要素と、さらなる偏光要素と、さらなる検出器とを含む。前記さらなる光学要素は、前記集光NAの異なるセグメントのうち別のものに集光された散乱光の経路内に配置される。例えば、前記システムは、さらなる光学要素160を含み得る。さらなる光学要素160は、前記散乱光が反射光学要素158によって反射された後に光学要素126によって反射される、前記集光NAのセグメント中に集光された散乱光の経路内に配置される。前記さらなる光学要素は、前記異なるセグメント中の他方の中の散乱光を分離して、前記集光NAのさらなる異なるセグメントとするように構成される。例えば、断面図162に示すように、前記さらなる光学要素は、部分164と、部分166とを含み得る。部分164は、集光NAの1つのセグメント中の集光された散乱光を反射する。部分166は、前記集光NAの別のセグメント中の集光された散乱光を透過する。光学要素126と同様に、さらなる光学要素160の異なる部分は、0透過性または100透過性であり得る。よって、前記集光NAの異なるセグメント中において、前記さらなる光学要素によって散乱光が分離される。これらの異なるセグメントは、異なりかつ相互に排他的であり得る。加えて、前記集光NAの異なるセグメントにおいて、前記2つの光学要素によって散乱光が分離される。これらの異なるセグメントは、異なりかつ相互に排他的であり得る。例えば、光学要素126によって透過される前記集光NAのセグメント中の散乱光も、さらなる光学要素160によって透過または反射され得ない。なぜならば、前記集光NAの当該透過セグメント中の光は、前記光学要素から前記さらなる光学要素へと反射されないからである。このようにして、前記さらなる光学要素を用いて、前記集光NAを複数の経路にセグメント化する。例えば、前記さらなる光学要素は、光を反射する少なくとも1つの部分と、光を透過する少なくとも1つの他の部分とを含み得る。そのため、前記さらなる光学要素は、前記集光NAを2つのセグメントにセグメント化することができ、そのうち1つのセグメントは、反射によって一経路内へと方向付けられ、そのうち別のセグメントは、透過によって別の経路内へと方向付けられる。前記さらなる光学要素は、上述したように構成および製造することができる。前記さらなる光学要素は、集光サブシステムのフーリエ面またはその近隣に配置してもよいし、あるいは、前記フーリエ面の共役またはその近隣に配置してもよい。例えば、1つの光学要素を前記フーリエ面に配置し、他方の光学要素を前記フーリエ面の共役に配置することができる。別の例において、1つの光学要素は前記フーリエ面の共役に配置することができ、別の光学要素を前記フーリエ面の共役の近隣に配置することができる。このようにして、前記さらなる光学要素によって行われる最適化を現在行われているように、半球表面上に対するフーリエ面または前記フーリエ面の共役上においても行うことが可能になる。前記さらなる光学要素は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。加えて、前記集光サブシステムの共役フーリエ面を、前記集光サブシステムのフーリエ面に対して集光軸周囲において180度だけ回転させる点に留意されたい。そのため、前記光学要素を前記光軸周囲において180度だけ回転させることで、前記光学要素が前記フーリエ面またはその近隣あるいは前記フーリエ面の共役またはその近隣に配置されているか否かに応じて、前記光学要素の反射部分および透過部分を集光NAのセグメントとアライメントさせる。さらなる光学要素160によって透過された1つのさらなるセグメント中の散乱光168は、さらなる偏光要素170へと方向付けられる.前記さらなる偏光要素は、偏光に基づいて前記さらなる異なるセグメントのうち1つの中の散乱光を分離して、前記散乱光のさらなる異なる部分とするように構成される。例えば、前記さらなる偏光要素は、集光の偏光を分割して、2つの直交偏光にすることができる。さらなる偏光要素170を、偏光要素132に対して本明細書中に記載のように構成することができる。例えば、さらなる偏光要素170は、前記照明サブシステムの入射面に対して鏡対称性を持ち得る。さらなる偏光要素170は、前記さらなる異なるセグメントのうち1つの中の散乱光を分離して、さらなる異なる部分172および174とするように構成される。前記さらなる検出器は、前記散乱光の前記さらなる異なる部分のうちの1つを検出し、前記検出光に応じて出力を生成するように、構成される。例えば、さらなる検出器176は、前記さらなる偏光要素によって透過された散乱光のさらなる異なる部分を検出するように、構成される。詳細には、前記光の部分174を検出器176の反射光学要素178によって集束させることで、検出器176が偏光要素170によって透過された光部分を検出し、前記光部分に応じて出力を生成できるようにする。検出器176は、上述したようにコンピュータサブシステム146へと接続することができ、これにより、前記コンピュータサブシステムは、検出器176によって生成された出力を用いて、ウェーハ上の欠陥の検出および/または本明細書中に記載の1つ以上の他の機能例えば、欠陥分類の実行を行うことができる。さらなる偏光要素170、反射光学要素178および検出器176は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。1つのこのような実施形態において、集光NAの異なるセグメント、さらなる異なるセグメントおよび他の任意の異なるセグメントは相互に相補的であり、これにより、システム中に含まれる検出器、さらなる検出器および他の任意の検出器と共に、実質的に集光サブシステムの集光NA全体上の光を検出する。例えば、前記経路それぞれによって検出された集光NAのセグメント間の隙間を最小化することができる。NAセグメント化間の隙間を実際にゼロにすることにより、最大集光効率が可能となる。集光NAの相補的セグメントの例を図9に示す。図9において、白色領域単数または複数は、各経路によって集光された集光NAのセグメント単数または複数を表す。各経路は、本明細書中に記載のように2つの直交偏光にさらに分割しなくてもよいし、あるいはしてもよい。図9中の第1の行は、前記集光NAの第1のセグメントの例を含む。前記第1のセグメントは、検査システムの第1の経路内へと方向付けられ得る。図9中の第2の行は、前記集光NAの第2のセグメントを含む。前記第2のセグメントは、前記検査システムの第2の経路内へと方向付けられ得る。図9の第3の行は、前記集光NAの第3のセグメントを含む。前記第3のセグメントは、前記検査システムの第3の経路内へと方向付けられ得る。図9中の各列は、相互に相補的な前記集光NAのセグメントを含む。例えば、図9中の第1の行において、経路1へと方向付けられる集光NAの第1のセグメントは、前記集光NAの縁部の環状領域隣接を含む。経路2へと方向付けられる前記集光NAの第2のセグメントは前記集光NAの真ん中領域を含み、経路3へと方向付けられる前記集光NAの第3のセグメントは、環状領域を含む。前記環状領域は、前記集光NAの真ん中部分を包囲し、経路1に対応する環状領域内にある。このようにして、前記異なる経路はそれぞれ、前記集光NAの異なりかつ相互に排他的なセグメント中の光を検出し、前記経路それぞれに対応する集光NAのセグメントと共に、前記集光NAの全体を実質的に網羅する。そのため、図9の第1の行中に示す3つのセグメントは、相互に相補的である。しかし、前記集光NAのセグメントは、相互に相補的でなくてもよい。例えば、前記集光NAのセグメントを、1つの種類の欠陥に合わせてそれぞれ最適化するとよい。そのため、前記最適セグメントは、相補的セグメントではなくなり得る。加えて、前記セグメント間の隙間が可能となる。別のこのような実施形態において、光のさらなる異なる部分は、直交かつ相互に排他的な偏光を有し、システムは、前記散乱光の前記さらなる異なる部分の別のものを検出するように構成された別のさらなる検出器を含む。例えば、再度図1bを参照して、偏光要素170は、光学要素160によって透過された光の一部も反射し得る。偏光要素によって反射された光は、別の検出器180によって方向付けられ得、これにより、前記光のこの部分の検出も可能となる。例えば、偏光要素170によって反射された光の部分を反射光学要素182によって検出器180へと集束させることで、検出器180は、偏光要素170によって反射された光部分を検出し、前記光部分に応じて出力を生成することができる。検出器180は、上述したようにコンピュータサブシステム146へと接続され得、これにより、前記コンピュータサブシステムは、検出器180によって生成された出力を用いて、ウェーハ上の欠陥の検出および/または本明細書中に記載の1つ以上の他の機能例えば、欠陥分類の実行を行うことができる。反射光学要素182および検出器180は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。このようにして、異なりかつ直交しかつ相互に排他的な偏光を有する散乱光を偏光要素170によって分離し、検出器176および180によって別個に検出することができる。このようにして、前記システムは、以下のような4つの独立的集光経路を含み得る:2つの集光NAの相補的セグメント光学要素によって規定されるおよび2つの各NAセグメントのための直交偏光各光学要素へと接続された偏光要素によって規定される。換言すれば、集光サブシステムの比較的大きな集光NAにより、前記光学要素は、前記集光NAをセグメントした後、前記偏光要素は、前記セグメント化集光NAから集光された光の偏光の2つの独立成分を分割する。明らかに、他の組み合わせも可能である。例えば、3つ以上の集光NAの相補的セグメントも可能である。加えて、集光NAのセグメント化は相補的でなくてもよいが、前記集光NAの異なるセグメント間において隙間が可能となるかまたは構成され得る例えば、欠陥種類に応じて最高感度が必要な場合、そのようにする。いくつかの場合において、前記集光NAの異なるセグメントのうち1つの内部の光は、第1の2つの光学要素双方に対して相補的な別の光学要素へと方向付けられ得る。例えば、図1bに示す光学要素160が、集光NAのセグメント中に散乱した光を反射するように構成された場合、光学要素160によって反射された集光NAセグメント中に集光された散乱光を分離してさらなる異なるセグメント単数または複数とし、これらさらなる異なるセグメント単数または複数を異なる偏光要素単数または複数例えば、本明細書中に記載の偏光要素のうち任意のものへと方向付けるように、第3の光学要素を構成することができる。このような光学要素は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。しかし、第3の集光経路は、光学要素を含まなくてもよく、2つの第1の光学要素のうち1つによって集光NAの異なるセグメントのうち1つへと分離された散乱光全てが第3の集光経路によって検出されるように、構成され得る。例えば、図1cに示すように、光学要素126によって反射されかつ光学要素158によって透過された光を、検査システムの1つ以上のさらなる経路へと方向付けることができる。詳細には、図1c中の光学要素158によって透過された集光NAのセグメント中に集光された散乱光を反射光学要素184へと方向付けることができる。反射光学要素184は、本明細書中に記載のように構成可能であり、集光NA中の前記セグメント中の光を検出器186へと集束させるように構成することができる。検出器186も、本明細書中に記載のように構成され得る。図1cに示すように、光学要素126は、1つの異なるセグメント中に散乱した光を反射するものの、前記1つの異なるセグメントは、欠陥検出のために検出および利用可能であり、検出器186によって検出された散乱光は反射光学要素158によって透過され、光学要素126の反射部単数または複数によって導入され得る位相変化については補償されない。集光NAのいくつかのセグメントについては、位相補償は不要であり得る。しかし、光学要素126の反射部単数または複数に起因する任意の位相変化を補償するために用いられる別の反射光学要素を含むように、図1cに示すシステムの構成を変更することも可能である。このような反射光学要素は、本明細書中に記載のように構成され得る。図1cに示すシステム構成は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。別の実施形態において、第3の集光経路は、偏光要素を含み得る。前記偏光要素は、偏光に基づいて前記光を2つの経路に分割する。例えば、図1dに示すように、光学要素126によって反射された後に光学要素158によって透過された光を、検査システムの1つ以上のさらなる経路へと方向付けることができる。詳細には、光学要素126によって反射された後に光学要素158によって透過された光を、偏光要素188へと方向付けることができる。図1dに示すように、偏光要素188へと方向付けられた光は、光学要素126によって1回しか反射されない。そのため、この反射に起因する任意の位相遅延は、第2の反射について補償されない。このようにして、前記偏光要素へと方向付けられた光を、位相遅延による影響を受けない検出または欠陥に用いることができる。しかし、図1dに示すシステム構成を本明細書中にさらに記載するように変更して、光学要素158と偏光要素188との間の散乱光の経路内に配置された反射光学要素図示せずを含むようにしてもよい。偏光要素188は、光学要素126による光反射に起因する散乱光中の任意の位相遅延について補償するように、構成される。このような反射光学要素は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。そのため、本明細書中に記載のシステム構成において、必要な場合または所望な場合、前記システムの各経路によって検出された光について、前記システム中に含まれる任意および全ての光学要素による反射に起因する位相変化をゼロにすることができる。偏光要素188は、異なるセグメントのうち1つの中の散乱光を偏光に基づいて前記散乱光の異なる部分と分離するように構成され得る。偏光要素188は、本明細書中に記載の偏光要素のうち任意のものを含み得る。例えば、偏光要素188は、入射面に対して鏡対称性を持ち得る。加えて、偏光要素188による光透過を、反射光学要素190へと方向付けることができる。反射光学要素190は、任意の適切な反射光学要素を含み得る。反射光学要素190は、前記光を検出器192へと集束させることができる。検出器192は、本明細書中に記載のように構成され得る。偏光要素188による光反射は、反射光学要素194へと方向付けられ得る。反射光学要素194は、任意の適切な反射光学要素を含み得、前記光を検出器196へと方向付ける。検出器196は、本明細書中に記載のように構成され得る。検出器192および196は、本明細書中に記載のようなコンピュータサブシステム146へと接続され得、これにより、検出器によって生成された出力を前記コンピュータサブシステムによって用いて、ウェーハ上の欠陥の検出および/または本明細書中に記載の1つ以上の他の機能例えば、欠陥分類の実行を行うことができる。このようにして、検出器192および196は、集光NAの第3のセグメント中に散乱した光を検出し、前記光を変更に基づいて別個に検出することができる。そのため、検出器192および196と、その関連付けられた光学素子とにより、検査システムのさらなる経路が形成され得る。これらのさらなる経路は、上記した検査システムのその他の経路全てから独立している。図1dに示すシステム構成は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。本明細書中に記載のシステムの実施形態は、明視野BF経路も含み得る。例えば、前記システムは、1つ以上の反射および/または反射光学要素図示せずを含み得る。前記1つ以上の反射および/または反射光学要素図示せずは、ウェーハから鏡面的に反射された図1a~図1dに示す光198を集光するように、構成される。前記反射および/または反射光学要素単数または複数は、当該分野において公知の任意の適切なこのような要素を含み得る。前記システムはまた、1つ以上の検出器図示せずも含み得る。前記1つ以上の検出器図示せずは、反射および/または反射光学要素単数または複数へと接続され、かつ、ウェーハから鏡面的に反射された光を検出するように構成される。前記検出器単数または複数は、任意の適切な検出器単数または複数を含み得、本明細書中に記載のようなコンピュータサブシステムへと接続され得、これにより、前記コンピュータサブシステムは、前記検出器単数または複数によって生成された出力を用いて、前記ウェーハ上の欠陥の検出または1つ以上の他の機能例えば、ウェーハ高さ調節、欠陥分類などの実行を行うことができる。例えば、集光サブシステムに対するウェーハの位置決定および検査システムの自動集束のために、このような光を検出および利用することができる。このような1つの例において、前記鏡面的に反射光に応じた出力を本明細書中に記載のコンピュータサブシステムによって用いて、前記システムの1つ以上の光学要素の位置を変更することができる。一実施形態において、前記集光サブシステムは、反射光学要素を含む。1つのこのような実施形態において、前記システムは、前記反射光学要素と前記偏光要素との間の散乱光の経路内に配置されたさらなる反射光学要素を含み、前記反射光学要素および前記さらなる反射光学要素は、p偏光である散乱光およびs偏光である散乱光におけるほぼゼロの位相変化を協働して発生させるように、構成される。例えば、前記集光サブシステム内に含まれる反射光学要素は、楕円鏡、放物面鏡、折り畳み鏡または他の任意の適切な反射光学要素であり得る。このようにして、前記反射光学要素に起因して、本明細書中にさらに記載されるような位相変化が発生する。このような反射光学要素は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。例えば、前記反射光学要素の上には、薄膜コーティングが形成される例えば、本明細書中に記載のもの。前記さらなる反射光学要素は、任意の適切な反射光学要素も含み得る例えば、折り畳み鏡。前記さらなる反射光学要素は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得例えば、本明細書中に記載に記載のような薄膜コーティングが施されたもの、これにより、前記さらなる反射光学要素は、前記集光サブシステムの反射光学要素の光反射に起因する散乱光の任意の位相遅延を補償することができる。そのため、本明細書中に記載のシステム構成において、必要な場合または所望である場合、前記システムの各経路によって検出された光は、前記集光サブシステム内に含まれる任意かつ全ての光学要素による反射に起因するゼロの位相変化を持ち得る。加えて、前記集光サブシステムが奇数の反射光学要素を含み、及び/または前記集光サブシステムが前記集光された散乱光を奇数回だけ反射する場合において、前記さらなる反射光学要素を用いることができる。しかし、他の場合において、内部の集光サブシステムまたは前記集光サブシステムそのものを、光の反射と、光反射に起因する散乱光中の任意の位相遅延の補償とを行うように構成することができる。例えば、前記集光サブシステムは、偶数個の反射光学要素を含み得る。これらの反射光学要素は、散乱光を偶数回だけ反射するように構成され、前記反射光学要素に起因する散乱光中の全体的位相変化が実質的にゼロになるように、構成される。一実施形態において、前記集光サブシステムは、ウェーハから散乱した光を集光するように構成された反射集光器を含む。前記反射集光器は、散乱光を偶数回だけ反射するように構成され、前記反射集光器の反射要素上には、薄膜コーティングが形成される。前記薄膜コーティングは、前記反射要素に起因するp偏光散乱光およびs偏光散乱光の位相遅延が前記偶数回の反射時において無効化されるように、構成される。このような実施形態の一例を図10に示す。例えば、図10に示すように、前記集光サブシステムは、偶数個2の反射光学要素反射光学要素1010および1012を含み得る。反射光学要素1010は、前記ウェーハから散乱した光の集光と、前記集光された散乱光の反射光学要素1012への反射とを行うように、構成される。反射光学要素1012は、前記集光された散乱光を視野絞り122を通じて光学素子124へとリレーするように、構成される。図10に示す他の要素も、本明細書中に記載のように構成され得る。反射光学要素1010および1012は、任意の適切な反射光学要素を含み得る。図10に示すように、反射光学要素1010および1012は、前記反射集光器が散乱光を偶数回2回だけ反射するように構成されるように、構成される。加えて、反射光学要素1010および1012上にはそれぞれ、薄膜コーティングが形成され得る例えば、本明細書中さらに記載されるもの。加えて、本明細書中に記載のように、前記薄膜コーティングは、反射光学要素1010および1012に起因するp偏光散乱光およびs偏光散乱光の位相遅延が偶数回反射時において無効化されるように、構成され得る。このようにして、本明細書中に記載のシステム構成は、偶数回の反射例えば、二重鏡設計における2つの反射面を用いた鏡集光器を含み得る。前記鏡集光器はまた、散乱光の偏光を保持する偶数回この設計においては2回の反射によって偏光位相遅延を無効化する反射面上に薄膜コーティングを施すことにより。図10に示すシステム構成を本明細書中に記載のようにさらに構成することができる。例えば、簡潔にするために図10中には1つの経路しか示していないが、前記システム構成は、本明細書中に記載されかつ図1a~図1dに図示される複数の経路構成のうち任意のものを含み得る。別の実施形態において、前記システムは、鏡ベースの集光サブシステムを含み得る。前記鏡ベースの集光サブシステムそのものは、位相シフトを修正しない。例えば、前記集光サブシステムは、前記ウェーハから散乱した光を集光するように構成された反射集光器を含み得る。このような反射集光器は、図10に示す反射光学要素を含み得る。しかし、本実施形態において、前記反射集光器は、p偏光散乱光とs偏光散乱光とに起因する位相シフトを発生させる。例えば、前記反射集光器は散乱光を偶数回2回反射するが、どちらの反射光学要素の上にも、本明細書中に記載の薄膜コーティングを形成しなくてよい。そのため前記反射光学要素は、協働して散乱光中に位相シフトを発生させ得る。このようにして、前記システムは、前記反射集光器と前記偏光要素との間の散乱光の光路内に配置された反射光学要素を含み得、p偏光散乱光とs偏光散乱光との間の位相シフトを発生させるように構成され得る。前記位相シフトは、前記反射集光器に起因して発生する位相シフトを無効化し、これにより、p偏光散乱光およびs偏光散乱光中の位相変化全体がほぼゼロとなる。例えば、図10に示すシステム構成は、反射光学要素例えば、図1bに示す反射光学要素158を含み得る。この反射光学要素は、反射光学要素1010および1012と図10中に示す偏光要素132との間の散乱光経路内のどこかに配置される。前記反射光学要素は、本明細書中にさらに記載するように、p偏光散乱光およびs偏光散乱光中の位相変化全体がほぼゼロになるように、反射集光器に起因する位相シフトを補償する。一実施形態において、前記システムは、コンピュータサブシステムを含む例えば、図1a~図1dに示すコンピュータサブシステム146。このコンピュータサブシステムは、検出器によって生成された出力と、前記システム内の少なくとも1つの他の検出器によって生成された出力とを用いて、ウェーハ上において検出された欠陥を分類するように、構成される。例えば、上記したような集光NAをセグメント化して複数の経路とすることを行うことにより、欠陥分類の向上が可能となる。詳細には、異なる種類の欠陥に起因して、集光NAの異なるセグメント中への光散乱は異なる様態で発生し得る。例えば、第1の種類の欠陥は、集光NAの第1のセグメント中へは光を強く散乱し得、集光NAの第2のセグメント中には光を強く散乱し得ない。一方、第2の種類の欠陥は、集光NAの第2のセグメント中へは光を強く散乱し得、前記集光NAの第1のセグメント中へは光を強く散乱し得ない。前記集光NAのセグメント中へは、異なる種類の欠陥が強くまたは弱く光散乱し得る。このようなセグメントは、任意の適切な様態例えば、実験的にまたは理論的に例えば、シミュレーションに基づいて決定され得る。そのため、システムによって検出される欠陥の種類に基づいて、光学要素による集光NAのセグメント化を設計することができる。加えて、本明細書中に記載のシステムの複数の経路中へ散乱した光の強度またはいくつかの他の特性を集合的に用いてすなわち、組み合わせて用いて、複数の種類の欠陥のうちの1つに当該欠陥を分類することができる。別の実施形態において、集光NAの異なるセグメント中に集光された散乱光を分離するように光学要素を構成することにより、少なくとも1つの種類の欠陥を検出するように、システムを最適化することが可能となる。また、光学要素をこのように構成することにより、少なくとも1つの他の種類の欠陥の検出を抑制することも可能になる。例えば、上述したようにNAを複数の経路にセグメント化することにより、異なる種類の欠陥の取得の向上も可能になる。詳細には、上述したように、異なる種類の欠陥に起因して、集光NAの異なるセグメント中への光散乱が異なる様態で発生し得る。異なる種類の欠陥に起因して光が内部において強くまたは弱く散乱する集光NAのセグメントは、任意の適切な方法によって例えば、実験的にまたは理論的に例えば、シミュレーションに基づいて決定することができる。そのため、前記光学要素は、前記システムによる検出対象となる欠陥の種類に基づいて例えば、1つの種類の欠陥に起因する大量の散乱光をシステムの検出器へと方向付けかつ別の種類の欠陥に起因する大量の散乱光をシステムの任意の検出器へと方向付けるように、集光NAをセグメント化するように設計され得る。一実施形態において、前記システムは、リレー光学素子を含む。前記リレー光学素子は、c集光サブシステムのフーリエ面からの光を前記フーリエ面の共役へとリレーし、前記フーリエ面の共役のサイズを制御するように、構成される。例えば、リレー光学素子を用いて瞳孔フーリエ面サイズを低減することで、光学要素の変更をスライダーまたは回転ホイールによってより容易に実行可能なようにする。このような1つの例において、前記リレー光学素子例えば、図1a~図1dに示すリレー光学素子124を用いて、瞳孔サイズを低減して、直径をおよそ1または2インチだけ低減する。しかし、前記散乱光集光器が大幅に小さい場合、前記リレーされたフーリエ面は実際のフーリエ面よりも大きくなり得る。一般的に、典型的な光学要素サイズに対応しかつ/または集光NAのセグメント間の相対的隙間を最小化するように、前記リレーされたフーリエ面のサイズを最適化することができる。前記リレー光学素子は、任意の適切な反射光学要素を含み得る例えば、管レンズ、リレーレンズ、平行レンズ、集束レンズ、集光レンズ、またはこれらの組み合わせ。さらなるリレー光学素子を用いて、前記フーリエ面の1つよりも多くのアクセス可能な共役面を得ることができ、これにより、1つの共役フーリエ面に光学要素を配置することが困難である場合、1つよりも多くの光学要素を異なる共役フーリエ面に配置することが可能になる。本明細書中に記載の集光NAのセグメント化は、例えば1組の事前規定された光学要素を回転ホイールまたは直線スライド上に取り付けることにより、構成することができる。このようにして、前記光学要素の変化をソフトウェアおよび/またはコンピュータによって制御することができる。前記ソフトウェアおよび/またはコンピュータは、例えば、検査対象のウェーハの詳細に応じてレシピ設定プロセスの一部とすることができる。例えば、別の実施形態において、前記システムは、コンピュータサブシステム例えば、コンピュータサブシステム146を含む。前記コンピュータサブシステムは、前記システムに含まれる複数の光学要素のうち集光サブシステムのフーリエ面または前記フーリエ面の共役に配置すべきものを選択するように構成され、また、前記システムのうち1つ以上の要素を制御して、前記選択された光学要素を前記フーリエ面または前記フーリエ面の共役の位置へと移動させるように構成される。このようにして、セグメント化を柔軟に行い、前記NAを任意に2つの経路、3つの経路またはそれ以上の経路へ分割することが可能となる。よって、前記本明細書中に記載のシステム実施形態により、柔軟かつ効率的なNAセグメント化が可能となる。前記光学要素の変更を行うために前記コンピュータサブシステムによって制御される1つ以上の要素を挙げると、スライダー、回転ホイール、または他の任意の適切な機械デバイスおよび/またはロボットデバイスがある。いくつかの実施形態において、前記システムは、ウェーハを同時に回転および平均移動させることにより、前記ウェーハ上の光を走査するように構成される。例えば、前記システムは、検査時における前記ウェーハの配置先となるステージ図示せずの位置を制御することにより、ウェーハ上の光を走査するように構成され得る。前記ステージは、当該分野において公知の任意の適切な機械および/またはロボットアセンブリを含み得る。このような実施形態において、前記ウェーハ上において前記照明サブシステムによって照射される前記スポット単数または複数は静止状態であり得、前記ウェーハのみが移動され得る。換言すれば、前記照明サブシステムは、ウェーハ上のスポット単数または複数を走査して前記ウェーハを照射するように構成されていない場合がある。しかし、他の実施形態において、前記照明サブシステムは、ウェーハ表面上のスポット単数または複数を移動させることで前記ウェーハを走査するように構成され得る。例えば、前記照明サブシステムは、任意の適切な光学要素単数または複数を含み得る例えば、音響光学素子AODまたは反射光学要素例えば、鏡。このような光学要素を例えば本明細書中に記載のようなコンピュータサブシステムによって制御して、ウェーハ上の光を任意の適切な様態例えば、ディザリングにより走査することができる。本明細書中の図面は、本明細書中に記載のシステム実施形態の構成を主に示すためのものである点に留意されたい。明らかに、本明細書中に記載のシステム構成は、市販の検査システムの設計時において通常行われるのと同様に、検査システムの性能を最適化するように変更することが可能である。加えて、本明細書中に記載のシステムは、既存の検査システムを用いて例えば、本明細書中に記載の実施形態に基づいて既存の検査システムを変更することにより実行することが可能である。あるいは、全く新規なシステムを得るために、本明細書中に記載のシステムをゼロから設計することも可能である。いくつかの実施形態において、本明細書中に記載のシステムは、スタンドアロンツールまたはプロセスツールへと物理的に接続されていないツールとして構成され得る。しかし、このようなシステムを有線部および無線部分を含み得る伝送媒体によって前記プロセスツールへと接続してもよい。前記プロセスツールは、当該分野において公知の任意のプロセスツールを含み得る例えば、リソグラフィツール、エッチツール、蒸着ツール、研磨ツール、メッキツール、洗浄ツール、またはイオン注入ツール。前記プロセスツールは、クラスターツールとして構成してもよいし、あるいは、一般的ハンドラーによって接続された複数のプロセスモジュールとして構成してもよい。別の実施形態は、ウェーハ処理方法に関連する。前記方法は、前記ウェーハを照射することを含む。前記照射は、本明細書中に記載の照明サブシステムのうち任意のものを用いて、本明細書中に記載のように行われ得る。前記方法はまた、前記ウェーハから散乱した光を集光サブシステムを用いて集光することを含む。前記集光は、本明細書中にさらに記載するように行われ得る。前記集光サブシステムは、前記散乱光の偏光を保持するように構成される。前記集光サブシステムは、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。前記方法は、前記集光サブシステムの集光NAの異なるセグメント中に集光された散乱光を光学要素を用いて分離することをさらに含む。前記分離は、本明細書中にさらに記載するように行われ得る。前記光学要素は、前記集光サブシステムのフーリエ面または前記フーリエ面の共役に配置される。前記光学要素は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。加えて、前記方法は、偏光に基づいて偏光要素を用いて、前記異なるセグメントのうち1つの中の散乱光を分離して前記散乱光の異なる部分とすることを含む。前記分離は、本明細書中にさらに記載のように行われ得る。前記偏光要素は、本明細書中に記載のように構成され得る。前記方法はまた、前記散乱光の異なる部分のうち1つを検出して、前記検出光に応じて出力することを含む。前記検出は、本明細書中に記載のように行われ得る。前記方法は、前記出力を用いて前記ウェーハ上の欠陥を検出することをさらに含む。前記出力を用いて前記ウェーハ上の欠陥を検出することは、本明細書中にさらに記載するように行われ得る。一実施形態において、前記光学要素および前記偏光要素は、前記ウェーハ上の粒子検出を最適化するように構成される。前記最適化は、前記検出ステップにおいて検出された粒子からの散乱の信号対ノイズ比を最大化し、前記光学要素および前記偏光要素に起因して前記検出ステップにおいて検出された粒子に対応する信号損失を最小化することにより、行われる。前記光学要素および前記偏光要素は、本明細書中にさらに記載するようにさらに構成され得る。別の実施形態において、前記方法は、前記集光NAの前記異なるセグメント中に集光された散乱光を分離して、少なくとも1つの種類の欠陥を検出する方法を最適化するように前記光学要素を構成することと、前記散乱光を前記異なる部分に分離して、前記検出ステップによって検出された前記信号対ノイズ比を前記ウェーハ上の欠陥のうち一部のみについて最大化させるように前記偏光要素を構成することとを含む。前記光学要素および前記偏光要素は、本明細書中にさらに記載するように構成され得る。さらなる実施形態において、前記方法は、前記集光された光の経路内に配置された視野絞りを用いて、前記ウェーハの照射に用いられる1つ以上の光線の1つ以上の経路内のウェーハ表面の近隣の空気分子から散乱した光を拒否することを含む。前記視野絞りは、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。さらなる実施形態において、前記偏光要素は、前記照射ステップの入射面に対して鏡対称性を有する。このような偏光要素は、本明細書中に記載のようにさらに構成され得る。上記した方法はそれぞれ、本明細書中に記載の実施形態のうち任意のものによって実行することが可能な他の任意のステップ単数または複数を含み得る。加えて、上記した方法はそれぞれ、本明細書中に記載のシステム実施形態のうち任意のものによって実行することが可能である。本明細書中に記載の実施形態によって実行された検査の結果を用いて、プロセスまたはプロセスツールのパラメータを変更することができる。このようなパラメータ変更は、フィードバック制御技術、リードフォワード制御技術またはinsitu制御技術を用いて行われルーティング。前記プロセスまたはプロセスツールのパラメータの変更は、手動で行ってもよいし、あるいは自動的に行ってもよい。当業者であれば、本記載を読めば、本発明の多様な局面の実施形態のさらなる改変および代替を想起する。例えば、ウェーハ検査のためのシステムおよび方法が提供される。さらに、本記載は、ひとえに例示的なものとして解釈されるべきものであり、本発明を実行する一般的方法について当業者を教示する目的のためのものである。本明細書中に図示および記載される本発明の形態は、好適な実施形態としてとられるべきものであることが理解されるべきである。当業者が本発明の記載の恩恵に気づけば分かるように、要素および材料について、本明細書中に図示および記載のものからの代替が可能であり、部分およびプロセスの逆転が可能であり、また、本発明の特定の特徴を独立的に用いることも可能である。本明細書中に記載の要素について、以下の特許請求の範囲に記載のような本発明の意図および範囲から逸脱すること無く、変更が可能である。"