"対象について誘導放出抑制を用いる光学顕微鏡システムであって、励起ビームである第1のビームと、前記第1のビームに対する抑制ビームである第2のビームと、を放出することができる放射線生成手段と、前記第1及び前記第2のビームを前記対象にフォーカスする光学素子であって、前記放射線生成手段に相対的に配され、前記第1及び前記第2のビームの共通光路を規定する光学素子と、前記共通光路に挿入される位相変更部材であって、前記対象内に抑制されない関心領域を生成するために、前記第1のビームの波面を実質的に変更されないままにし、前記第2のビームの波面を変更するように、光学的に構成される、位相変更部材と、を有するシステム。前記位相変更部材は、第1及び第2の領域を含む複数の領域を具える表面をもつことによって、前記第2のビームの波面を変更することができ、前記第1の領域が、前記第2の領域の高さを上回る突出した高さをもつ、請求項1に記載のシステム。前記位相変更部材は、前記第1のビームの位相をπの2倍のモジュラスで変更することによって、前記第1のビームの波面を実質的に変更されないままにすることができる、請求項1に記載のシステム。前記位相変更部材の前記表面の前記複数の領域が、1つの光学材料に製造される、請求項2に記載のシステム。少なくとも前記光学素子及び前記位相変更部材が、医用イメージング用の内視鏡、カテーテル、ニードル又は生検ニードルに位置する、請求項1に記載のシステム。前記位相変更部材は、方位角方向のコンフィギュレーションを有し、前記複数の領域の各領域が、方位角間隔の範囲内に位置する、請求項2に記載のシステム。前記複数の領域は、前記位相変更部材の前記表面において連続的に増加する高さを有する、請求項6に記載のシステム。前記位相変更部材の前記表面における前記高さは高さ分布を有し、方位角Φφの関数として変更される前記第2のビームの位相が、方位角、Φφ=φφ∈[0,2πの場合に略等しい、請求項6に記載のシステム。前記光学素子の焦点面における前記第2のビームのスポット振幅は、前記位相変更部材が式、をほぼ満たすことを要求することによって、前記光路の中心位置でゼロであり、上式で、kはセグメント数を示し、Φkはセグメント位相を示し、wkは、セグメントkの終了角度から開始角度を減じた角度に等しいセグメントサイズを示す、請求項6に記載のシステム。前記光学素子の焦点面における前記第2のビームのスポット振幅は、前記位相変更部材が、式、をほぼ満たすことを要求することによって、前記共通光路の周りで略回転対称であり、上式で、kはセグメント数を示し、Φkはセグメント位相を示し、wkは、セグメントkの終了角度から開始角度を減じた角度に等しいセグメントサイズを示す、請求項6に記載のシステム。前記位相変更部材の前記第1及び前記第2の領域は、前記共通光路の周りで回転対称である、請求項2に記載のシステム。光学顕微鏡システムにおいて誘導放出抑制を使用して対象を光学イメージングするように構成される光学サブユニットであって、前記光学顕微鏡システムが、励起ビームである第1のビーム及び前記第1のビームに対する抑制ビームである第2のビームを放出することができる放射線生成手段を有し、前記光学サブユニットが、前記第1及び前記第2のビームを前記光学サブユニットを通してガイドする光学ガイディング手段と、前記第1及び前記第2のビームを前記対象にフォーカスする光学素子であって、前記放射線生成手段に相対的に配され、前記第1及び前記第2のビームの両方の共通光路を規定する光学素子と、前記共通光路に挿入される位相変更部材であって、前記対象内に抑制されない関心領域を生成するために、前記第1のビームの波面を実質的に変更されないままにし、前記第2のビームの波面を変更するように、光学的に構成される、位相変更部材と、を有する、光学サブユニット。前記光学サブユニットは、医用イメージング用の内視鏡、カテーテル、ニードル又は生検ニードルの一部を形成する、請求項12に記載の光学サブユニット。対象について誘導放出抑制を用いて光学顕微鏡法を実施する方法であって、励起ビームである第1のビームと、前記第1のビームに対する抑制ビームである第2のビームと、を含む放射線を放出するステップと、前記第1及び前記第2のビームの両方の共通光路を規定する光学素子を使用して、前記第1及び前記第2のビームを前記対象にフォーカスするステップと、前記共通光路に位相変更部材を提供するステップであって、前記位相変更部材は、前記対象内に抑制されない関心領域を生成するために、前記第1のビームの波面を実質的に変更されないままにし、前記第2のビームの波面を変更するように、光学的に構成される、ステップと、を含む方法。2つのパルスレーザビームを生成するために、一般に、上記のHarke他による文献の図1に示される光学セットアップが使用される。これは、すべての3空間次元においてビームアライメントに重い制約を与え、一般に、光学セットアップにおける機械的、熱的及び/又は光学的なビームドリフトにより、再アライメントが周期的に必要とされる。更に、抑制ビームは、ドーナツ形状スポットを生成するために、さまざまな異なる光学コンポーネントを必要とする。同様に、2レーザビームは、インビボの医学的及び生物学的イメージングに非常に重要である光学STED顕微鏡の可能性のある小型化に制約を課す。本願出願人による国際公開第2009087527号パンフレットを参照して、光学ファイバスキャナに関連して、このようなアプリケーションの場合、概して、励起ビーム及びSTEDビームの共通の光学ビームパスを有することが好ましい。本発明の発明者は、改善されたSTED顕微鏡システムが有益であることを認識し、結果として、本発明を案出した。改善された顕微鏡システムを達成することが有利である。更に、よりコンパクトな及び/又はロバストな顕微鏡システムを可能にすることが望ましい。概して、本発明は、好適には、単独で又は任意の組み合わせにおいて、上述の不利益の1又は複数を軽減する、緩和する又は除去することを追求する。特に、本発明の目的は、従来技術の上述の問題又は他の問題を解決する方法を提供することが理解されることができる。これらの問題の1又は複数により良好に対処するために、本発明の第1の見地は、関連する対象について誘導放出抑制STEDを用いる光学顕微鏡システムであって、システムは、第1及び第2のビームを放出することができる放射線生成手段であって、第1のビームが励起ビームであり、第2のビームが、第1のビームに対する抑制ビームである、放射線生成手段と、第1及び第2のビームを対象にフォーカスする光学素子であって、放射線生成手段と相対的に配置され、第1及び第2の両方のビームの共通光路を規定する光学素子と、前記共通光路に挿入される位相変更部材であって、対象内に抑制されない関心領域を生成するために、第1のビームの波面を実質的に変更されないままにし、第2のビームの波面を変更するように、光学的に構成される、位相変更部材と、を有する。本発明は、特に、これに限らないが、よりコンパクトな及び/又はロバストなSTED顕微鏡システムを得るために有利である。この場合、第1の励起ビーム及び第2の抑制ビームは、第1のビームには影響を与えず、第2のビームには波頭又は位相の変化を与え、その結果、焦点面の関連する対象内に抑制領域例えばドーナツ形状のスポットをもたらすようなやり方で、波面又は位相を適応させる位相変更部材により、ビームをフォーカスする光学素子によって規定される共通光路を有する。この技術分野では従来、例えばドーナツ形状のビームを提供するために、位相板が、STEDセットアップの2つのパルスレーザビームの一方に使用されていたことに注意すべきである。この構造の欠点は、位相板がビームの一方になければならず、一緒の両方のビームに配されることができないことであった。従って、ファイバスキャナのような小型顕微鏡においてSTED技法を実現する場合、この制約は、以前は、小型顕微鏡の可能性のある小型化を制限していた。光学ファイバスキャナに関連して、例えば本願出願人による国際公開第2009087527号パンフレットを参照して、位相変更部材は、このようなアプリケーションの場合、国際公開第2009087527号パンフレットの図4のファイバ2と対物レンズ6aとの間に位置付けられることができる。上記パンフレットの内容はすべて、参照によって本願明細書に盛り込まれるものとする。本発明のコンテクストにおいて、実際的な観点から、誘導される小さい波面又は位相変化が一般にあるが、この変化は、得られる誘導放出抑制画像に結果をもたらさず又は少なくとも取るに足らない結果をもたらすという意味において、位相変更部材は、第1の励起ビームに対して影響を与えず又は実質的に与えないことが理解されるべきである。以下、これについてより詳しく説明される。特定の有利な実施形態において、位相変更部材は、第1及び第2の領域を含む複数の領域をもつ表面を有する第2のビームの波面を変更することができ、第1の領域は、第2の領域の高さを上回る突出した高さを有する。第1及び第2の領域の高さの間に突出又はステップを有することによって、相対的に簡素なやり方で位相変更部材を生成することが可能であり、例えば一般にマイクロメートル以下の精度を有するステップ高さを生成するための高精度の製造方法を適用して、単一材料に生成されることができる。言うまでもなく、これは、各領域が位相変更部材の全体の技術目的と整合する突出を有する、2より多くの領域、すなわち3、4、5、6、7、8、9、10等の領域にも一般化されうる。これは、高精度のレンズ製造から知られている技法を使用することによって可能である;例えば、BHWHendriks他によるMiniaturisedHighNumericalApertureSingletPlasticObjectiveforOpticalRecordingJapaneseJournalofAppliedPhysicsVol44No9A2005pp65646567及びMAHvanderAa他によるSmallFormFactorOpticalDriveMiniaturizedPlasticHighNAObjectiveandOpticalDriveProceedingsfromJointInternationalSymposiumonOpticalMemoryandOpticalDataStorage2002IEEEp251253を参照されたい。これらの両方の文献はそれら全体が、参照によって本願明細書に盛り込まれるものとする。これは、本発明の技術的効果を生成するために、一般に光学的、熱的及び機械的パラメータの相対的に複雑な整合/インタフェースを要求する2又はそれ以上の異なる光学材料を使用することと比較して、特に有益にある。付加の有利な実施形態において、位相変更部材は、パイπの2倍のモジュラスで第1のビームの位相を変更することによって、第1のビームの波面を実質的に変更されないままにすることができる。そのようにして、例えば2又はそれ以上の異なる材料の光学特性を整合させる必要がない。言及する価値のある他の利点は、位相変更部材に関して、必要とされるステップ高さは、概して相対的に小さく数ミクロンのオーダー、それゆえ、製造の観点で部材を相対的に容易にすることである。更に、ステップの幅は、ステップ高さに対して大きくなりうる。階段状steppedの位相構造のこれらの特性は、それらを、今日のレンズ製造技術により製造することを相対的に容易にする。上述の文献を参照されたい。上述の好適な実施形態において、位相変更部材が、第1の及び第2の領域を含む複数の領域をもつ表面を有することによって、第2のビームの波面を変更することができる。第1の領域が、第2の領域の高さを上回る突出した高さを有する場合、その表面は、位相変更部材の外側の表面でありえ、これは、簡素な製造を可能にする。付加的に又は代替として、位相変更部材は、パイπの2倍のモジュラスで第1のビームの位相を変更することによって、第1のビームの波面を実質的に変更されないままにすることができる。製造の簡潔さ及び/又は容易さを増大するために、位相変更部材の表面の複数の領域は、1つの光学材料に製造されることができ、好適には、位相変更部材の全体が、1つの光学材料に製造されることができる。有利な実施形態において、少なくとも前記光学素子及び位相変更部材は、例えば小型化の要求が特に迫られているインビボ光学イメージングのような、医用イメージング用の内視鏡、カテーテル又はニードルに位置する。一実施形態において、位相変更部材は、方位角方向のコンフィギュレーションを有することができ、前記複数の領域のの各領域が、方位角方向の間隔内に位置する。共通光路は、位相部材の中心の又は実質的に中心の位置を通ることが好適である。更に、複数の領域は、位相変更部材の表面において、方位座標に沿って、3、4、5又はそれより多くの離散ステップにより、連続的に増加する高さを有することができる。これに関して、図3及び以下の対応する説明を参照されたい。他の変形例において、複数の領域は、位相変更部材の表面において、連続的に増加する高さを有しなくてもよく、代わりに、方位座標に沿って高くなり、低くなる高さを有してもよい。特定の実施形態において、位相変更部材の表面の高さは、方位角Φφの関数としての第2のビームの変更された位相が、方位角、Φφ=φφ∈[0,2πにほぼ等しくなるように高さ分布を有することができる。厳密に述べると、これは、連続する高さ分布の場合にのみ満たされることができ、さまざまな高さ分布の場合、これは、合理的に近似されうる。代替として、条件は、セグメントの平均角度で近似されることができる。他の特定の実施形態において、フォーカシング光学素子の焦点面における第2のビームスポット振幅Uは、位相変更部材が、式、をほぼ満たすことを要求することによって、光路の中心位置r=0においてほぼゼロでありうる。上式で、kは、セグメント数を示し、Φkは、セグメント位相を示し、wkは、セグメントkの終了角度から開始角度を減じたものに等しいセグメントサイズである。いわゆるドーナツコンフィギュレーションに代わって、この式は、本質的なSTED要求を満たす変更部材の他の光学コンフィギュレーションのレンジを含む。代替の実施形態において、フォーカシング光学素子の焦点面における第2のビームのスポット振幅Uは、位相変更部材が、式、をほぼ満たすことを要求することによって、共通光路の周りでほぼ回転対称でありうる。ここで、kは、セグメント数を示し、Φkは、セグメント位相を示し、wkは、セグメントkの終了角度から開始角度を減じたものに等しいセグメントサイズである。従って、これらの2つの式は、本発明による位相変更部材の多くの異なる光学的な実施形態を可能にする設計規則を当業者のために規定する。全く異なる実施形態において、位相変更部材の第1及び第2の領域は、共通光路の周りで回転対称でありうる。これは、本発明の他の簡素で有利な実施形態を可能にする。図10及び以下の記述を参照されたい。第2の見地において、本発明は、関連する光学顕微鏡システムにおいて、誘導放出抑制STEDを使用して関連する対象を光学イメージングするように構成される光学サブユニットであって、関連する光学顕微鏡システムは、第1及び第2のビームを放出することができる放射線生成手段を有し、第1のビームは励起ビームであり、第2のビームは第1のビームに対する抑制ビームであり、光学サブユニットは、第1及び第2のビームをサブユニットを通してガイドする光学ガイディング手段と、第1及び第2のビームを対象にフォーカスする光学素子であって、放射線生成手段と相対的に配置され、第1及び第2のビームの両方の共通光路を規定する光学素子と、前記共通光路に挿入される位相変更部材であって、対象内に抑制されない関心領域を生成するために、第1のビームの波面を実質的に変更されないままにし、第2のビームの波面を変更するように、光学的に構成される位相変更部材と、を有する光学サブユニットに関する。好適には、光学サブユニットは、第1の見地による関連する光学顕微鏡システムにおいて、誘導放出抑制STEDを使用して関連する対象を光学イメージングするように構成されることができ、光学サブユニットは、医用イメージング用の内視鏡、カテーテル、ニードル又は生検ニードルの一部を形成する。非医用のものを含む他の種類のイメージング装置が更に、本発明の教示及び一般法則の中で企図される。医用分野において、これは特に有利であり、なぜなら、この種の装置は、一般に、衛生上の規制のため1回使用後に廃棄され、本発明によるこれらの医用装置の相対的に簡素な製造は、有利な医用装置のより広範囲の使用及び応用を容易にするからである。第3の見地において、本発明は、対象について誘導放出抑制STEDを用いて好学顕微鏡法を実施する方法であって、方法は、第1及び第2のビームを含む放射線を放出するステップであって、第1のビームが励起ビームであり、第2のビームが第1のビームに対する抑制ビームである、ステップと、第1及び第2の両方のビームの共通光路を規定する光学素子を使用して、第1及び第2のビームを対象にフォーカスするステップと、前記共通光路に位相変更部材を提供するステップであって、位相変更部材は、対象内に抑制されない関心領域を生成するために、第1のビームの波面を実質的に変更されないままにし、第2のビームの波面を変更するように、光学的に構成される、ステップと、を含む方法に関する。この見地によれば、本発明は、光学STED顕微鏡システムが本発明に従って動作するように変更され及び/又は更新されることができる点で、特に有利である。概して、本発明のさまざまな見地は、本発明の範囲内で可能な任意のやり方で組み合わせられ、結合されることができる。本発明のこれら及び他の見地、フィーチャ及び/又は利点は、以下に記述される実施形態から明らかであり、それらを参照して説明される。本発明の実施形態は、図面を参照して、単なる例示として記述される。図1は、本発明による光学顕微鏡STEDシステム10の概略図である。光学顕微鏡システム10は、関連する対象Oそれ自身は光学システム自体の一部を形成しないの誘導放出抑制STEDイメージングのために適応される。STED方法に関する更なる技術的詳細については、HarkeJKeller、CKUllal、VWestphal、ASchonle及びSWHell他によるResolutionscalinginSTEDmicroscopyOpticsExpress16p41544162を参照されたい。その内容はすべて、参照によって本願明細書に盛り込まれるものとする。光学システム10は、例えば2又はそれ以上のパルスレーザ又は単一同調可能レーザ又は他の適切な放射線生成器である、少なくとも第1及び第2のビームを放出することができる放射線生成手段5を有する。第1のビーム1は、例えば対象の蛍光イメージングのための励起ビームであり、第2のビーム2は、対象Oの或るゾーンに抑制を引き起こすように、赤方遷移エネルギー、すなわち低エネルギーを一般にもつ、第1のビーム1に対する抑制ビームである。付加的に、例えば非ゼロの屈折力をもつレンズ又は他のコンポーネントである光学素子6が、第1のビーム1及び第2のビーム2を対象Oにフォーカスするために提供される。光学素子は、放射線生成手段7に相対的に配置され、第1のビーム1及び第2のビーム2の両方の共通光路OPを規定する。図1において、第1のビーム1及び第2のビーム2は、単に図における明確さの理由で垂直にずらされており、空間的な重なりは、一般に、ビームを利用するために可能である限り、実際の実現において最大にされる。更に、位相変更部材5は、前記共通光路OPに挿入され、位相変更部材5は、対象Oに抑制されない関心領域を生成するために、第1のビーム1の波面を実質的に変更されないままにし、第2のビーム2の波面を変更するように、光学的に配置される。同等に、位相変更部材5は、第1のビームの位相を、2パイπの整数倍で変更するように、すなわち位相を効果的に変更されないままにし、及び第2のビームの位相を2πの整数倍と異なるように変更して、対象内に抑制されない関心領域を生成するように、光学的に構成されるものであると言うことができる。これは、特により容易な使用及び/又はよりコンパクトな光学設計のような多数の利点を提供するSTED顕微鏡と関連して、共通光路に沿って、単一ビームパスの使用を容易にする。位相変更部材5及び光学素子6は、2つの別個のエンティティと同様の又は等価な機能を有する単一のエンティティ図示せずに組み合わせられることができる。図2は、光路OPに沿った、本発明による第1のビーム1及び第2のビーム2の波面の概略図であり、2つの異なる時間における2つのビームが図示されている;時間=AEXCITにおける、位相変更部材5を通過する第1の励起ビーム1が図示されており、ここで、波面は変更されておらず、又は同等に、第1のビームの光収差がない。これは、一般に第1のビーム1の波長に大きく依存することに注意すべきである。その後、時間=BSTEDにおいて、位相変更部材5を通過する第2の抑制ビーム2の波面が、図示されており、ここで、波面2は変更されており、波面のブレーク2突然の変化によって概略的に示されている。第2のビーム2の波面の変更は、対象Oに抑制されない関心領域ROIを生成するようにサイズ設計されるべきである。これは、以下により詳しく説明される。図2の右側には、それぞれ異なる時間の対応する焦点面FPが図示されており、時間=AEXCITに、円は、例えば対象Oに蛍光を生じさせることができる放射線によって照明される。時間=BSTEDに、変更された抑制ビーム2が、円周領域に抑制を生じさせる;図2に円形の非抑制領域の周りに黒で概略的に示されている。より後の時間=CROIには、蛍光は、主として抑制の程度に依存して、中心の関心領域ROIからのみ生じ、それは、放出される蛍光の波長以下、すなわち回折限界以下の空間的拡張例えば円の直径を有しうる。図3は、本発明による方位角方向のコンフィギュレーションを有する位相変更部材5の、さまざまな異なるビューから見たより詳しい図である。方位角方向のコンフィギュレーションという語は、中心軸、すなわち一般的な光路OP、の周りの従来の円筒座標によって記述されるコンフィギュレーションによって合理的に表現され又は近似されることができるコンフィギュレーションを意味する。図3に示される部材5は、3つの領域又は方位角セグメント31、32及び33を含む。位相変更部材5は、少なくとも第1の領域31、第2の領域32及び第3の領域33を含む複数の領域を有する表面をもつことによって、第2のビーム2の波面を変更することができる。第2の領域32は、第1の領域31の高さを上回る突出した高さhを有し、第3の領域又はセグメント33は、第2の領域32を上回る高さを有する。これは、部材の下の、高さh対方位角φを示すグラフに示されている。部材5の表面は、例えばガラス、ポリマ又は空気のような別の光学材料又は媒体とインタフェースされることができ、それにより、位相変更部材を設計する際、効果的な波面変更がこれを考慮することに言及しなくてはならない。一般に、これは、製造プロセスの簡潔さの理由で、例えばPMMA、ポリカーボネート、COCのようなポリマ、ジアクリルの類の硬化可能な樹脂である単一材料に作られる部材5である。従って、図3にも示されるように、それぞれ異なる領域の異なる高さは、部材5の外側表面上にありうる。図4-図6は、特定の例について、対応する位相対角度左側及び焦点面で結果的に得られるスポット分布対スケーリングされた半径距離右側を示すグラフの3つの組を示している。位相変更部材5をPMMAから作成するものとする。PMMAの屈折率は、励起波長635nmに対して1.490であり、抑制波長735nmに対して1.487である。位相板が、波面に位相Φφを導入するものとする。抑制ビームの開口数NAをNA=0.6とする。焦点面のSTEDスポット振幅は、によって与えられる。上式で、焦点面r,Ψの円筒座標を使用して、k=2π/λでありBorn及びWolfによるPrinciplesofOpticsSeventhEditionPergamonPresschapter9を参照、積分ρ,φについて、ρは無次元である。この場合、積分下で、方位角に関する位相、Φφ=φ3を近似すると、下式が得られる:波長635nmにおいて、ステップが2πの位相をもたらすように、ステップ高さを次のように規定する:h=λ/n-ns5ここで、λは635nmの波長であり、nは、ステップが作成される材料の屈折率であり、nsは、周囲媒体の屈折率である。ここで、周囲媒体は空気であり、ゆえにns=1であるとする。この特定の例において、hex=1.2959ミクロンであることが分かる。これらのステップは、ゆえに、励起ビームに影響を与えない。735nmにおいて、このステップは、2πの位相ステップをもはや生成しないが、位相は、0.85872πに等しい。表1には、735nm波長において、さまざまなステップ高さに関してもたらされる位相がリストされている。表1:635nm波長で2πの倍数の位相を生成するさまざまなステップ高さと、735nm波長でもたらされる対応する位相を示すリスト焦点面FPにドーナツ形状のスポット分布を生成するために、位相変更部材5、すなわち位相板によって生成される位相は、ラジアンで表現される角度であるΦφ=φと等しくなりうる。励起ビームで効果を生じさせないために、この分布を階段状の分布によって近似することができる。表2、表3及び表4には、3、4及び5の等しい大きさのセグメントを有する位相変更部材5の例を与えるさまざまなステップのリストが示されている。図4-図6には、抑制ビーム2に関して焦点面の対応するスポット分布を通る横断面がプロットされている。この図は、実際、位相変更部材5が、中心にくぼみ又は最小値を有するスポット分布をもたらすことを示している。この例では、r=0での強度値が最も低いので、最適結果は、この例では5段の位相変更部材5に関する。再び励起ビーム1に対しては、位相変更部材5は、効果をもたらさず又は非常にわずかな効果しかもたらさない。表2:3段の位相板の場合のさまざまなステップ及び抑制ビームに対してステップによってもたらされる位相のリスト表3:4段の位相板の場合のさまざまなステップ及び抑制ビームに対してステップによってもたらされる位相のリスト表4:5段の位相板の場合のさまざまなステップ及び抑制ビームに対してステップによってもたらされる位相のリスト図7及び図8は、表2-4の位相変更部材によって生成されるスポットの2次元強度分布と、等しい大きさのセグメントを有する理想的な位相変更部材の強度プロファイルとをそれぞれ示している。図7は、表2-4の位相板によって生成されるスポットの2次元強度分布を示す。明らかに、強度プロファイルは回転対称からは程遠い。スポットの2次元強度分布は、表2左、表3中心及び表4右の位相板によって生成されたものである。x軸及びy軸は、[-2λ,2λ]のレンジを有する。比較のために、図8は、等しい大きさのセグメントを有する理想的な位相板の強度プロファイルを示す。3、4及び5の等しい大きさのセグメントを有し、表1の値に制限されないがそれらの理想値をもつ位相を有する理想的な位相板のスポット強度プロファイル左から右が、示されている。結果的に得られるスポットは、期待される3重、4重及び5重の対称性を示す。明らかに、3セグメント位相板は、完全な回転対称から最も逸脱しており、蛍光の一様な抑制を提供することができないので、4セグメント及び5セグメント位相板が、3セグメント位相板より好ましい。表1のものに制限された位相値を有する位相板によって生成されるスポット形状は、セグメントがすべて同じ大きさでないことを可能にされる場合に、改善されることができる。こうして生成される付加の自由度は、スポットをより高い回転対称をもつようにするために使用されることができる。位相板の設計基準が、いわゆる回折積分の式2からどのように導き出されることができるかを以下に示す。式2の半径にわたる積分は、解析的に実施されることができ、その結果、下式を与える:ここで、式6の右辺は、a及びNAの累乗で拡張されることができ、その結果、次式を与える:式6-8を式2に挿入し、cosΨ-φ=cosΨcosφsinΨsinφ9を使用すると、下式が得られる。Φφが各セグメントにわたって一定であって、積分レンジがセグメントにわたって再分割される場合、式10のφにわたる積分は、解析的に実施されることができ、結果として、セグメントにわたる合計を与える:上式で、kは、セグメント数を示し、Φkは、表1から選択されるセグメント位相であり、wkは、セグメントサイズすなわちセグメントkの終了角度から開始角度を引いたものであり、φkは、平均セグメント角度すなわち、開始角度及び終了角度の平均である。式11を導き出す際、サイン及びコサインの差のよく知られた関係が使用された:式11を調べると、光学軸r=0上でゼロ強度を有することが望まれる場合、右辺の第1項はゼロであるべきである:更に、光学軸近傍で、可能な限り高い回転対称性をもつ抑制ビームの強度プロファイルを有するために、強度|Ur,Ψ|2がΨから独立することが望まれる。これは、式11のcosΨ及びsinΨによって生じる係数の比が以下である場合に達成される:これは、以下の関係を考慮することによって理解されることができる:A、B複素数。B/A≠±iのとき、式15はΨから独立するようになる。この場合、|B/A|2=1及びReB/A=0である。式15において、A及びBは、式11のcosΨ及びsinΨによって生じる係数を表し、式14の分母及び分子を形成する。これを使用することによって、Ψに関する強度バリエーションに比例する係数に関して、式14の代替の等価な式は、次のようになる:要するに、式13及び14は、位相変更部材又は位相板5の設計規則を提供する:位相Φkの組が与えられる場合、セグメントの開始及び終了角度は、式13及び14が可能な限り満たされるように、選択されなければならない。代替として、セグメントサイズが何らかのやり方で予め決められる場合、これらの設計規則は、可能な位相の組から位相Φkを選択するために使用されることができる。式13及び14を可能な限り十分に満たすような位相が、選択されるべきである。原則的に、他の設計規則は、aのより高い次数まで式8を拡張し、これらのより高い次数を含む上述の導出を繰り返すことによって、生成されることができる。式13及び14を使用して設計される7セグメント位相変更部材5によって生成されるスポットの例が、図9に示されている。スポットの中心付近のほぼ完全な回転対称性に注意されたい。位相板設計のパラメータが表5にリストされる。表5:7段の位相板の場合のさまざまなステップ及び抑制ビームに対してもたらされる位相のリスト収集対物レンズとして機能する光学素子6によって捕えられる蛍光光は、それがファイバ端によって捕えられる前に、位相板5を通過しなければならない。これもまた、ドーナツ形状を有する。検出に関する問題を回避するために、例えばLingFu他によるNonlinearopticalmicroscopybasedondoublecladphotoniccrystalfibersOPTICSEXPRESS5528July2005Vol13No14に記述されるようなファイバのクラディングを通じて光を検出するような代替の方法を用いることが可能である。図10は、本発明の他の実施形態による円形コンフィギュレーションを有する階段状の位相変更部材の実施形態を示している。中空のスポットを生成するための別の方法は、図7に示す階段状の位相板を使用することによる。入射瞳の半径のbの何分の一かのステップが生じるものとする。更に、分布の強度が、等方性であり、ステップによってもたらされる位相が、Qであるものとする。焦点面の振幅分布は、次式から与えられる:例えばQ=π及びb=1/√2である場合、強度分布は、r=0においてゼロである。ここで、上述したのと同様のやり方で、抑制ビームに対して2πの0.4347倍の位相ステップを生成するが励起ビームには影響を与えない5.1836ミクロンn=4の高さを有するステップを選ぶことが可能である。抑制ビームに対する位相ステップはπに近いので、スポットは、略ドーナツ形状を有する。図3の方位角方向に階段状である位相板の実施形態と、図10の回転対称であり半径方向に階段状である実施形態に加えて、方位角方向及び半径方向の両方で階段状である実施形態が、本発明の教示及び一般法則の範囲内で使用されることができ、例えば、図10の半径方向のステップと方位角方向のステップのリングの組み合わせ、又は、セグメントのいくつか若しくはすべてがスポットプロファイルを最適化するように半径方向おそらくセグメントごとに異なる境界半径で再分割される方位角方向に階段状である位相板を含む。図11は、光学顕微鏡システム10において誘導放出抑制STEDを使用して対象Oを光学イメージングするように構成される光学サブユニット100を示す。光学サブユニット100は、本発明図11に示さないビームに従って第1のビーム1及び第2のビームを放出することができる放射線生成手段7を有し、手段7は、両矢印によって概略的に示されるように、サブユニット100に光学的に接続される。光学サブユニット100は、第1及び第2のビームをサブユニットを通してガイドするための、例えば光ファイバ又は他の適切な光学素子のような光学ガイディング手段110を有する。サブユニットは更に、第1及び第2のビームを対象Oにフォーカスするための光学素子6であって、放射線生成手段に相対的に配置され、第1及び第2の両方のビームの共通光路を規定する光学素子と、共通光路に挿入される位相変更部材5と、を有する。光学サブユニット100、又はその構成素子は、例えばインビボ光学イメージング及び診断のための、医用イメージング用内視鏡、カテーテル、ニードル又は生検ニードルの一部を構成することができる。図12は、本発明による方法のフローチャートであり、方法は、第1のビーム1及び第2のビーム2を含む放射線を放出するステップS1であって、第1のビームが励起ビームであり、第2のビームが第1のビームに対する抑制ビームである、ステップS1と、第1及び第2のビームの両方の共通光路OPを規定する光学素子6を使用して、第1及び第2のビームを対象にフォーカスするステップS2と、前記共通光路に位相変更部材5を提供するステップS3であって、位相変更部材5は、対象内に抑制されない関心領域を生成するために、第1のビームの波面を実質的に変更されないままにし、第2のビームの波面を変更する2ように、光学的に構成される、ステップS3と、を有する。本発明は、図面及び上述の説明に詳しく図示され記述されるが、このような図示及び記述は、説明的又は例示的なものとして考えられるできであり、制限的なものではない。本発明は、開示される実施形態に限定されない。開示される実施形態の他の変更例は、図面、開示及び添付の請求項の検討から、請求項に記載の本発明を実施する際に当業者によって理解され達成されることができる。請求項において、含む、有するcomprisingという語は、他の構成要素又はステップを除外せず、不定冠詞a又はanは、複数性を除外しない。単一のプロセッサ又は他のユニットは、請求項に列挙されるいくつかのアイテムの機能を実現することができる。特定の手段が相互に異なる従属請求項に列挙されているという単なる事実は、これらの手段の組み合わせが有利に使用され得ないことを示さない。コンピュータプログラムは、適切な媒体例えば他のハードウェアと共に又はその一部として供給される光学記憶媒体又はソリッドステート媒体に記憶され/配布されることができるが、他の形で、例えばインターネット又は他のワイヤード若しくはワイヤレス通信システムを通じて、配布されてもよい。請求項におけるいかなる参照符号も、本発明の範囲を制限するものとして解釈されるべきでない。"