処理対象の液体を収容し、複数の開口部が設けられた処理漕と、前記複数の開口部を介して、気体を前記処理漕の内側に送り込む気泡発生部であって、前記気体の流量を一定に制御するともに、前記気体に周期的な圧力変動を発生させる気泡発生部と、それぞれが前記開口部ごとに設けられ、前記処理漕の外側に、対応する開口部とオーバーラップする位置に設けられた複数のアノード電極と、前記処理漕の内側に設けられたカソード電極と、それぞれが前記アノード電極ごとに設けられ、それぞれの第1端子が共通に接続され、それぞれの第2端子が対応するアノード電極に接続された複数のリアクタンス素子と、前記複数のリアクタンス素子の共通に接続された第1端子に、前記圧力変動と同期した高電圧を発生させる高電圧パルス発生回路と、を備えることを特徴とする液体処理装置。前記複数のアノード電極は、メッシュ状に形成されることを特徴とする請求項1に記載の液体処理装置。前記圧力変動は、ある時刻に急激に増大し、続いて時間とともに低下し、再び増大するのこぎり波形を有することを特徴とする請求項1または2に記載の液体処理装置。前記気泡発生部は、スピーカと、前記スピーカを収容する筐体と、前記筐体内に一定の流量の気体を送り込むマスフローコントローラと、前記スピーカを駆動する駆動回路と、を備え、前記スピーカのコーンの表面から押し出される気体が、前記処理漕の前記複数の開口部に供給されることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の液体処理装置。前記アノード電極および前記カソード電極の少なくとも一方は、誘電体で被覆もしくはコーティングされた金属であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の液体処理装置。このような液体処理装置によって大量の液体を処理するには、多数の気泡を同時に発生させる必要がある。本発明はかかる状況においてなされたものであり、そのある態様の例示的な目的のひとつは、多数の気泡を安定的に発生させることが可能な液体処理装置の提供にある。本発明のある態様は、液体処理装置に関する。液体処理装置は、処理対象の液体を収容し、複数の開口部が設けられた処理漕と、複数の開口部を介して、気体を処理漕の内側に送り込む気泡発生部であって、気体の流量を一定に制御するともに、気体に周期的な圧力変動を発生させる気泡発生部と、それぞれが開口部ごとに設けられ、処理漕の外側に、対応する開口部とオーバーラップする位置に設けられた複数のアノード電極と、処理漕の内側に設けられたカソード電極と、それぞれがアノード電極ごとに設けられ、それぞれの第1端子が共通に接続され、それぞれの第2端子が対応するアノード電極に接続された複数のリアクタンス素子と、複数のリアクタンス素子の共通に接続された第1端子に、圧力変動と同期した高電圧を発生させる高電圧パルス発生回路と、を備える。この態様によると、気体に周期的な圧力変動を与えることにより、複数の開口部から間欠的に連続して、かつ確実に気泡を発生させることができる。また、圧力変動と同期して最適なタイミングで高電圧を発生させることにより、各開口部に生じている気泡内でプラズマを発生させることができる。さらに間欠的にプラズマを発生させることにより、放電電流は交流となるため、バラストとして抵抗ではなく、インダクタやキャパシタなどのリアクタンス素子を利用できるため、電力損失を低減できる。複数のアノード電極は、メッシュ状に形成されてもよい。平板電極や棒状電極を用いると、電極によって気体の流れが妨げられ、一部の開口部において気泡が発生しないおそれがあるが、メッシュ状とすることで気体がすべての開口部に均一に供給され、安定的に気泡を発生できる。圧力変動は、ある時刻に急激に増大し、続いて時間とともに低下し、再び増大するのこぎり波形を有してもよい。この場合、圧力の増大により気泡を成長させ、その後の圧力低下により、気泡を切り離すことができる。また圧力をゆるやかに低下させることにより、処理漕内の液体が吸い出されるのを防止できる。気泡発生部は、スピーカと、スピーカを収容する筐体と、筐体内に一定の流量の気体を送り込むマスフローコントローラと、スピーカを駆動する駆動回路と、を備えてもよい。スピーカの表面から押し出される気体が、処理漕の複数の開口部に供給されてもよい。この構成によれば、気体の流量を一定に制御するともに、気体に周期的な圧力変動を発生させることができる。またスピーカに与える駆動波形に応じて圧力を制御できる。処理漕の、複数の開口部が生成される部分はセラミックで形成されてもよい。アノード電極およびカソード電極の少なくとも一方は、誘電体で被覆もしくはコーティングされた金属であってもよい。プラズマをパルス状に発生することで、放電電流が交流となるため、電極を誘電体で被覆することが可能となる。そして被覆によって金属が液体内、あるいは気体中に溶け出すのを防止でき、金属の寿命を延ばすことができる。複数の開口部は、処理漕の底面にマトリクス状に配置されてもよい。開口部の間隔は、隣接する気泡が合体しない程度に密に配置しされてもよい。なお、以上の構成要素を任意に組み合わせたもの、あるいは本発明の表現を、方法、装置などの間で変換したものもまた、本発明の態様として有効である。本発明のある態様によれば、多数の気泡を安定的に発生させることができる。以下、本発明を好適な実施の形態をもとに図面を参照しながら説明する。各図面に示される同一または同等の構成要素、部材、処理には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、実施の形態は、発明を限定するものではなく例示であって、実施の形態に記述されるすべての特徴やその組み合わせは、必ずしも発明の本質的なものであるとは限らない。図1は、実施の形態に係る液体処理装置1の構成を示す断面図である。液体処理装置1は、処理漕10、気泡発生部20、高電圧パルス発生回路30、複数のアノード電極32、カソード電極34、複数のリアクタンス素子36を備える。処理漕10は、処理対象の液体を収容する容器であり、その少なくともひとつの面には、複数の開口部12が設けられている。本実施の形態では、10個の開口部12が処理漕10の底面に、2×5のマトリクス状に配置される。なお開口部12の個数および配置は特に限定されず、開口部12は、千鳥状に、あるいはランダムに配置されてもよい。これらの開口部12は、気泡の発生源として機能すると同時に、プラズマの発生箇所となる。したがって開口部12は、処理漕10内の液体2が、処理漕10の外部に漏れない程度に小さく、後述するプラズマが気泡内で確実に生成される程度に大きいサイズで形成される。たとえば開口部12は、1mm程度に大きいと内部の液体2が外部に漏れ、0.1mm程度まで小さくなるとプラズマが生成されない。本実施の形態では、開口部12の直径は、0.3~0.5mm程度で形成される。処理漕10の材料は特に限定されず、ガラスやプラスティックなどが採用しうるが、収容する液体2に対して安定した材料であることが望ましい。さらには処理漕10の複数の開口部12が生成される部分14を耐熱性、耐プラズマ性の低い材料で形成すると、プラズマが開口部12を削ってしまい、放電が不安定になる。したがって部分14には、耐熱性、耐プラズマ性が高い材料、たとえばセラミックなどで形成することが望ましい。気泡発生部20は、複数の開口部12を介して、気体を処理漕10の内側に送り込む。気体は、処理の内容に応じて適宜選択され、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガスや、酸素などが利用される。気泡発生部20は、送り込まれる気体の流量を一定に制御するとともに、気体に周期的な圧力変動を発生させる。圧力変動については後述する。気泡発生部20は、スピーカアクチュエータ22、スピーカ駆動回路26、マスフローコントローラ28、逆止弁29を備える。スピーカ22は、筐体50の内部に設けられている。筐体50には、マスフローコントローラ28から一定の流量で送り出される気体が、流路52a、52bを介して供給される。流路52aはスピーカ22の表面側の空間と連通しており、流路52bはスピーカ22の裏面側の空間と連通している。流路52aの経路上には逆止弁29が設けられる。スピーカ駆動回路26は、スピーカ22のコイル不図示に、所望の圧力変動に応じた駆動電圧VDRVを印加する。これにより駆動電圧VDRVに応じた駆動電流がコイルに流れ、コーン24が変位し、処理漕10に供給される気体に圧力変動が加えられる。複数のアノード電極32はそれぞれ、開口部12ごとに設けられる。各アノード電極32は、処理漕10の外側に、対応する開口部12とオーバーラップする位置に設けられる。図2は、アノード電極32および処理漕10を底面側から見た平面図である。各アノード電極32は、メッシュ状に形成されている。アノード電極32の材料は特には限定されないが、たとえばタングステンであってもよい。図1に戻る。カソード電極34は、処理漕10の内部の液体2の水面よりも下側に設けられる。たとえばカソード電極34は金属棒であり、処理漕10の側面から挿入され、外部において接地されてその電位が固定される。カソード電極34およびアノード電極32は、ガラスなどの誘電体で被覆もしくはコーティングすることが望ましい。後述するように、本実施の形態では、プラズマをパルス状に発生することで、放電電流が交流となるため、カソード電極34あるいはアノード電極32を誘電体で被覆することが可能となる。この被覆によって金属が液体内あるいは気体内に溶け出すのを防止でき、また、金属の寿命を延ばすことができる。複数のリアクタンス素子36はそれぞれ、アノード電極32ごとに設けられる。複数のリアクタンス素子36の第1端子は電気的に共通に接続され、それぞれの第2端子は、対応するアノード電極32に電気的に接続される。複数のリアクタンス素子36は、インダクタであってもよいし、キャパシタであってもよく、これらは過電流を抑制するバラスト抵抗の代わりに設けられる。高電圧パルス発生回路30は、複数のリアクタンス素子36の共通に接続された第1端子に、圧力変動と同期した高電圧VHIGHを発生させる。図3は、高電圧パルス発生回路30の構成例を示す回路図である。高電圧パルス発生回路30は、昇圧回路40と、放電スイッチSW1を備える。昇圧回路40は、昇圧トランスT1、スイッチング素子M1、整流ダイオードD1、出力キャパシタC1を備える。昇圧回路40は、スイッチング素子M1をスイッチングすることにより入力直流電圧VINを昇圧し、出力キャパシタC1に数百V~数kVの直流電圧VDCを生成する。昇圧回路40の構成は特に限定されず、公知の任意の昇圧回路を利用できる。放電スイッチSW1は、昇圧回路40の出力電圧VDCと接地端子の間の放電経路上に、リアクタンス素子36、アノード電極32およびカソード電極34と直列に設けられる。放電スイッチSW1は、カソード電極34と接地端子の間に設けられてもよい。放電スイッチSW1がオンすると、高電圧VDCがリアクタンス素子36を介してアノード電極32に印加される。その結果、アノード電極32とカソード電極34の間で絶縁破壊が起き、気泡内にプラズマを発生させることができる。放電スイッチSW1が、所定の周期、所定のデューティ比でオン、オフを繰り返すことにより、周期的にプラズマが生成される。以上が液体処理装置1の構成である。続いてその動作を説明する。図4は、図1の液体処理装置1の動作を示す波形図である。図4の上段はスピーカ22に印加される駆動電圧VDRVを、中段は、複数の開口部12の付近における気体の圧力を、下段は高電圧パルス発生回路30により生成されるパルス高電圧VHIGHを示す。図4に示すように、スピーカ22には、所定の周期TCYCを有するのこぎり波形の駆動電圧VDRVが印加される。具体的には、駆動電圧VDRVは、ある時刻に最小値から最大値に増大し、その後、周期TCYCの間に最小値まで低下していく。駆動電圧VDRVの最大値は、スピーカ22のコーンが前方に押し出された状態であり、最小値はコーンが後方に引き込まれた状態を示す。これにより、気体に与えられる圧力変動は、ある時刻に急激に増大し、続いて時間とともに低下し、再び増大するというステップを繰り返すのこぎり波形となる。スピーカ22によって与えられた圧力変動が開口部12に到達するには遅延が存在するため、開口部12の周辺における圧力変動Pは、駆動電圧VDRVに対して遅延時間τ遅れている。アノード電極32とコーン24の間のギャップに高電圧が印加される放電時間TDISは、処理対象の液体2の種類や、プラズマによって誘起させる化学反応の種類などに応じて最適化すればよい。また気泡は、開口部12において発生、成長し、やがて開口部12から分離して液体2中に放出される。したがって、駆動電圧VDRVのエッジと放電を開始するタイミングとの遅延時間Tdを変化させることによって、任意のサイズの気泡において放電を発生できる。以上が液体処理装置1の動作である。もし仮に圧力変動を与えず、一定の流量で気体を複数の開口部12に対して供給すると、ある開口部12では気泡が発生し、別の開口部12では気泡が発生しないという状況が起こりえる。さらにある開口部12において気泡が発生したとしても、それは周期的にではなく、時間的にランダムに生成されてしまう。これに対して実施の形態に係る液体処理装置1によれば、気体に周期的な圧力変動を与えることにより、複数の開口部12から間欠的に連続して、かつ確実に気泡を発生させることができる。また、圧力変動と同期して最適なタイミングで高電圧VHIGHを発生することにより、各開口部12に生じている気泡内でプラズマを発生させることができる。さらに間欠的にプラズマを発生させることにより、放電電流は交流となるため、バラストとして抵抗ではなく、インダクタやキャパシタなどのリアクタンス素子36を利用できる。これによりバラスト抵抗を用いる場合に比べて電力損失および発熱を大幅に低減できる。さらに液体処理装置1は、アノード電極32がメッシュ状に形成される。仮にメッシュ状ではなく平板電極や棒状電極を用いる場合、電極自体によって気体の流れが妨げられ、圧力の集中、分散が発生し、すべての開口部12に均一に気体が供給されず、結果として一部の開口部において気泡が発生しないおそれがある。これに対してメッシュ状のアノード電極32を用いることで、気体がすべての開口部に均一に供給されるようにない、安定的に気泡を発生できる。圧力変動をのこぎり波形とすることにより、圧力の増大により気泡を成長させ、その後の圧力低下により、気泡を切り離すことができる。また圧力をゆるやかに低下させることにより、処理漕内の液体が吸い出されるのを防止できる。またプラズマをパルス状に発生することで、放電電流が交流となるため、アノード電極32やカソード電極34を誘電体で被覆、コーティングすることが可能となる。誘電体によって、金属が液体2内に溶け出すのを防止でき、金属の寿命を延ばすことができる。以上、本発明について、実施の形態をもとに説明した。この実施の形態は例示であり、それらの各構成要素や各処理プロセスの組み合わせにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。以下、こうした変形例について説明する。複数の開口部12は、処理漕10の側面に設けられてもよい。あるいは複数の面に設けられてもよい。圧力変動としてはのこぎり波が好ましいが、安定に気泡が生成できれば、その他の波形でもよい。図5は、高電圧パルス発生回路の変形例を示す回路図である。高電圧パルス発生回路30aは、昇圧チョッパ回路で構成され、具体的には、トランスT1、スイッチング素子M1、整流ダイオードD1を備える。この構成では、複数のアノード電極32とカソード電極34の間には、静電容量が形成されている。スイッチング素子M1がスイッチングすると、トランスT1の1次巻き線に、振幅VINのパルス電圧が印加される。そして、トランスT1の2次巻き線には、1次巻き線の電圧に、トランスの巻き線比を乗じたパルス上の高電圧VHIGHが発生する。高電圧VHIGHがアノード電極32と気泡界面間のブレークダウンのしきい値電圧を超えると、プラズマが発生する。図5の高電圧パルス発生回路30aによっても、スイッチング素子M1の制御によって放電のタイミングを制御でき、気泡の成長と同期して間欠的にプラズマを発生させることができる。処理漕10は、液体2の流路上の一部として構成されてもよい。この場合、上流の開口部12と下流の開口部12とで、開口の大きさを異ならしめたてもよい。これにより下流と上流それぞれで処理効率を最適化できる。実施の形態にもとづき、具体的な用語を用いて本発明を説明したが、実施の形態は、本発明の原理、応用を示しているにすぎず、実施の形態には、請求の範囲に規定された本発明の思想を逸脱しない範囲において、多くの変形例や配置の変更が認められる。