少なくともエチレンを含むモノフルオロメタン組成物を硫酸と接触させる工程を含むモノフルオロメタンの製造方法。原料や反応機構にかかわらず気相反応においてモノフルオロメタンを製造する際には、未反応原料、過フッ素化物とともに、熱力学に安定なオレフィン類を伴うことが多い。代表的なエチレン沸点:-104°Cはモノフルオロメタン沸点、-78.2°Cと沸点は比較的離れているとはいえ、低温または加圧下での蒸留となり設備上の制限を受ける。そこで、蒸留に代わる、モノフルオロメタンに含まれるエチレンの除去方法を提供する。本発明者らは、エチレンを含むモノフルオロメタンを硫酸と接触させることで、モノフルオロメタンに分解等の悪影響を及ぼすことなくエチレンを除去できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は次の通りである。[発明1]少なくともエチレンを含むモノフルオロメタン組成物を硫酸と接触させる工程を含むモノフルオロメタンの製造方法。本発明の方法によると、エチレンなどの不飽和化合物を含むモノフルオロメタンから簡便な方法でエチレンを除去することができる。本発明を適用するモノフルオロメタン組成物は、少なくともエチレンを含む組成物である。エチレンとともに他の不飽和化合物を含んでもよい。そのような不飽和化合物としては、特に限定されないが、プロピレン、ブチレン、イソブチレンなどの不飽和炭化水素、塩化ビニルなどの含塩素不飽和炭化水素、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、ジフルオロエチレン、トリフルオロエチレンなどの含フッ素不飽和炭化水素などが挙げられる。本発明の方法は、エチレンのほかに、プロピレンなどに特に有効である。モノフルオロメタン組成物は、どのようにして製造または調製されたものでもよいが、前記特許文献で挙げた各方法で得られたものが使用でき、特に、メチル基を含有する化合物を熱分解しながらフッ素化する方法によるものでは比較的エチレン等の不飽和化合物の生成量が多く、好ましく適用できる。本発明の方法によるエチレン等の不飽和化合物の除去は、モノフルオロメタン中の不飽和化合物の含有量には本来無関係である。モノフルオロメタン組成物に含まれる不飽和化合物の量は、製造方法または本発明にかかる処理方法の前の精製方法により異なるので特に限定されないが、通常0.01~1程度である。高純度モノフルオロメタンを製造する場合には、低い含有量が好ましく、0.02~0.1程度としてから除去手段を適用するのが好ましい。硫酸は、濃硫酸または発煙硫酸を使用できる。硫酸濃度は、50~100質量残部の大部分は水が使用でき、80~100質量が好ましい。50質量未満では除去率が低く、発煙硫酸は装置の腐食を招くので好ましくない。実用上は、濃度95質量以上の工業用硫酸が入手容易で適している。モノフルオロメタン組成物に含まれる水分は硫酸濃度を下げる主な原因となるので予め硫酸あるいはシリカゲル、モレキュラーシーブス等の乾燥剤で脱水しておくのが好ましい。硫酸には、金属イオンを触媒として添加することができるが、通常は用いないでよい。金属イオンは、塩化鉄、塩化アルミニウム、硫酸鉄、硫酸アルミニウムなどの塩化物または硫酸塩として添加するのが好ましい。また、溶媒を使用することもできる。溶媒の添加で融点、粘度を下げることができるが、除去効率を大きく改善することはない。モノフルオロメタン組成物は気体状態でまたは液体状態で硫酸と接触させる。接触方式は、特に限定されず、バッチ式攪拌法、スクラバー方式、スタティックミキサー、バブリング等の形式が挙げられる。バッチ式攪拌法、バブリング式が簡便で好ましい。また、これらの方式は組み合わせて使用できる。接触させる温度は、-78°C~100°Cの範囲であり、20~80°Cが好ましい。硫酸は濃度に依存して融点が変化するので、融点以上の温度とする。-78°C未満では、粘度が上がりまたは凝固することがあり好ましくない。100°Cを超えるとモノフルオロメタンの蒸気圧が高くなり、耐圧容器を必要とすることがあり好ましくない。液液接触させる場合、硫酸とモノフルオロメタン組成物との重量比硫酸/モノフルオロメタン組成物は、エチレンなどの不飽和化合物の含有量、接触時の温度、接触時間、硫酸濃度などに依存するが、1000/1~1/1が好ましい。1000/1より大きいと、単位装置あたりの生産量が低下する。1/1より小さいと、接触効率が低下して、処理に時間を要することがある。接触時間は10分~20時間とし、30分~10時間が好ましい。気液接触させる場合は、エチレンなどの不飽和化合物の含有量、接触時の温度、硫酸濃度などに依存するが、硫酸との接触時間を0.1~300分とし、1~100分が好ましい。以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、適用方法はこれらに限らない。実施例においては、モノフルオロメタン等の気体成分の分析は、ガスタイトシリンジで採取したサンプルについてFID検出器を用いたガスクロマトグラフでおこない、面積をと表示した。[実施例1]エタン:0.008、エチレン:0.051、モノフルオロメタンCH3F:99.939を含む粗ガス2.0g、純度98以上の工業用硫酸15gを100mlのステンレス製オートクレーブに仕込み、60°Cで4時間攪拌した。気相をサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した結果、エタン0.008、エチレン:0.002、CH3F:99.988であった。[実施例2]実施例1と同じ組成の粗ガスに、エチレンを添加して、エタン0.007、エチレン:0.923、CH3F:99.070を含む調整ガスを調製した。この調整ガス2gを用いて、実施例1と同じ実験を行った。その結果、気相はエタン0.007、エチレン:0.003、CH3F:99.990であった。[実施例3]実施例1と同じ組成の粗ガスを20ml/分の速度で、焼結金属フィルター公称孔径:500nmを通して、工業用硫酸200mlの入った容器にバブリングさせた。出口ガスをガスタイトシリンジで採取してガスクロマトグラフで分析した結果、エタン0.008、エチレン:0.001、CH3F:99.989であった。[実施例4]焼結金属フィルターのかわりに公称孔径100~160μmのガラスフィルター用いて、実施例3と同じ実験を行った。その結果、エタン0.008、エチレン、0.012:CH3F:99.980であった。