"金属酸化物を含有している70~85重量のマトリックス、及びマトリックス全体に分布していてマトリックスと複雑な界面を有している15~30重量の触媒部分を含んでなり、金属酸化物がAl2O3、SiO2、CaO、MgO、ZrO2、CeO2、TiO2及びY2O3よりなる群から選ばれ;そして触媒部位がナノ-ニッケル0ドメイン及びナノ-ニッケル0-A0合金ドメインよりなる群から選ばれるここでAはRh、Pd、Pt、Ru又はCoであり、触媒部位がナノ-ニッケル0-A0合金ドメインである場合は、ニッケル0が合金ドメインの少なくとも95を構成する、金属酸化物-担持ニッケル触媒。触媒部位がナノ-ニッケル0ドメインである、請求項1に記載の触媒。金属酸化物がAl2O3、SiO2、CaO又はZrO2である、請求項2に記載の触媒。触媒部位が触媒の18~22重量を構成する、請求項3に記載の触媒。触媒部位がナノ-ニッケル0-A0合金ドメインである、請求項1に記載の触媒。AがRhである請求項5に記載の触媒。金属酸化物がAl2O3、SiO2、CaO又はZrO2である、請求項5に記載の触媒。触媒部位が触媒の18~22重量を構成する、請求項7に記載の触媒。AがRhである請求項8に記載の触媒。方法が、水性媒体中でNixOyOH2x-y粒子及び、任意に、AnOmOH3n-2/3m粒子及びAnOmOH2n-m粒子よりなる群から選ばれる別の金属含有粒子を生成し、それによりコロイド懸濁液を形成することここで、1≦x≦100、y<x、1≦n≦100、m<n、AはRh、Pd、Pt、Ru、Cu及びCoよりなる群から選ばれる金属であり、そして粒子は界面活性剤で安定化される;式MpORqの化合物をコロイド懸濁液に加えてゾルを形成することここで、pは1であり、qは2、3又は4であり、MはAl、Si、Ca、Mg、Zr、Ce、Ti及びYからなる群より選ばれる金属であり、そしてRはH又はCgH2g1ここで、gは1と4の間の整数であるである;ゾルを加熱してゲルを形成すること;ゲルを焼成して金属酸化物-担持ニッケル酸化物触媒を形成すること;及び金属酸化物-担持ニッケル酸化物触媒を還元して、ナノ-ニッケル0ドメイン及びナノ-ニッケル0-A0合金ドメインよりなる群から選ばれる触媒部位を含有している金属酸化物-担持ニッケル触媒を形成すること:を含んでなる、金属酸化物-担持ニッケル触媒を製造する方法。還元工程において、金属酸化物-担持ニッケル酸化物触媒をH2で還元する、請求項10に記載の方法。還元工程において、金属酸化物-担持ニッケル酸化物触媒をCH4で還元する、請求項10に記載の方法。加熱工程を60~100°Cで実施する、請求項10に記載の方法。焼成工程を580~620°Cで実施する、請求項10に記載の方法。界面活性剤が8~16の親水性-親油性バランス値を有している、請求項10に記載の方法。界面活性剤がn-ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミドである、請求項15に記載の方法。水性媒体中でNixOyOH2x-y粒子及び、任意に、AnOmOH3n-2/3m粒子及びAnOmOH2n-m粒子よりなる群から選ばれる別の金属含有粒子を生成し、それによりコロイド懸濁液を形成することここで、1≦x≦100、y<x、1≦n≦100、m<n、AはRh、Pd、Pt、Ru、Cu及びCoよりなる群から選ばれる金属であり、そして粒子は界面活性剤で安定化される;式MpORqの化合物をコロイド懸濁液に加えてゾルを形成することここで、pは1であり、qは2、3、又は4であり、MはAl、Si、Ca、Mg、Zr、Ce、Ti及びYからなる群より選ばれる金属であり、そしてRはH又はCgH2g1ここで、gは1と4の間の整数であるである;ゾルを加熱してゲルを形成すること;ゲルを焼成して金属酸化物-担持ニッケル酸化物触媒を形成すること;及び金属酸化物-担持ニッケル酸化物触媒を還元して金属酸化物-担持ニッケル触媒を形成すること:を含んでなる方法で製造され、金属酸化物-担持ニッケル触媒が、金属酸化物を含有する70~85重量のマトリックス、及びマトリックス全体に分布していてマトリックスとの複雑な界面を有している15~30重量の触媒部位を含有していて、金属酸化物がAl2O3、SiO2、CaO、MgO、ZrO2、CeO2、TiO2及びY2O3よりなる群から選ばれ;そして触媒部位がナノ-ニッケル0ドメイン及びナノ-ニッケル0-A0合金ドメインよりなる群から選ばれるここでAはRh、Pd、Pt、Ru又はCoであり、触媒部位がナノ-ニッケル0-A0合金ドメインである場合は、ニッケル0が合金ドメイン中の少なくとも95を構成する、金属酸化物-担持ニッケル触媒。製造工程において、金属酸化物-担持ナノ-ニッケル0ドメイン触媒を形成するためにNixOyOH2x-y粒子のみを製造する、請求項17に記載の触媒。金属酸化物がAl2O3、SiO2、CaO又はZrO2である、請求項18に記載の触媒。触媒部位が触媒の18~22重量を構成する、請求項19に記載の触媒。製造工程において、金属酸化物-担持ナノ-ニッケル0-A0合金ドメイン触媒を形成するために、NixOyOH2x-y粒子と別の金属含有粒子の両方を製造する、請求項17に記載の触媒。AがRhである、請求項21に記載の触媒。金属酸化物がAl2O3、SiO2、CaO又はZrO2である、請求項21に記載の触媒。触媒部位が触媒の18~22重量を構成する、請求項23に記載の触媒。AがRhである、請求項24に記載の触媒。方法が、請求項1又は請求項17に記載の金属酸化物-担持ニッケル触媒を反応器に入れること、及びC1~C5炭化水素及び酸素ガスを含有している気体流を反応器に供給してC1~C5炭化水素を700~900°Cで酸素ガスと反応できるようにして一酸化炭素及び水素を生産すること、を含んでなる、C1~C5炭化水素の部分酸化によって一酸化炭素及び水素を生産する方法。本発明は、触媒を製造するための新規な合成ルートの開発に伴うこのジレンマの解決法を提供する。一態様では、本発明は、金属酸化物を含有しているマトリックス、及びマトリックス全体に分布していてマトリックスとの複雑な界面を有している触媒部位を包含している金属酸化物担持ニッケル触媒を特徴としている。ここで金属酸化物は、Al2O3、SiO2、CaO、MgO、ZrO2、CeO2、TiO2、又はY2O3例えば、Al2O3、SiO2、CaO、又はZrO2であってよく;触媒部位はナノニッケル0ドメイン又はナノニッケル0-A0合金ドメインであってよく、AはRh、Pd、Pt、Ru、Cu、又はCo例えば、Rhであってよいが、触媒部位がナノニッケル0-A0合金ドメインであるときは、ニッケル0が合金ドメインの少なくとも95重量を構成する。触媒の総重量に対して、金属酸化物を含有しているマトリックスの重量パーセントは70~85であって、触媒部位の重量パーセントは15~30例えば、18~22重量である。これらの触媒部位のそれぞれは複雑なマトリックスとの界面を有するすなわち、互いに複雑に貫通し合う。すなわち、触媒とマトリックスの間に明確な境界面はない。特定の界面は、それらの境界面における触媒とマトリックス間の融合に起因するものである。別の態様では、本発明は金属酸化物担持ニッケル触媒を製造する方法を特徴としている。方法は少なくとも5工程を包含している:i水性媒体中で、NixOyOH2x-y粒子及び、任意に、AnOmOH3n-2/3m粒子及びAnOmOH2n-m粒子よりなる群から選ばれるその他の金属含有粒子を製造すること、それによりコロイド懸濁液を形成することここで、1≦x≦100、y<x、1≦n≦100、m<nであり、Aは、Rh、Pd、Pt、Ru、Cu、及びCoよりなる群から選ばれる金属であり、そして粒子は界面活性剤によって安定化されている;ii式MpORqの化合物をコロイド懸濁液に加えてゾルを形成することここで、pは1であり;qは2、3又は4であってよく;MはAl、Si、Ca、Mg、Zr、Ce、Ti、又はYであってよく;そしてRはH又はCgH2g1ここでgは1~4の整数であるあってよい;iii適切な温度例えば、60~100°Cでゾルを加熱してゲルを形成すること;ivゲルを十分に高い温度例えば、580~620°Cで焼成して有機成分を焼き尽くして、NiO、及び任意に、AnOmを含有する金属酸化物担持酸化ニッケル触媒を形成すること;及びv金属酸化物担持酸化ニッケル触媒を還元して、それぞれにナノニッケル0ドメイン及びナノニッケル0-A0合金ドメインよりなる群から選ばれる触媒部位を含有している金属酸化物担持ニッケル触媒を形成すること。還元工程は水素又はメタン中で実施できる。NixOyOH2x-y粒子、AnOmOH3n-2/3m粒子、及びAnOmOH2n-m粒子は、安定な水中油型エマルジョンをもたらす何れかの界面活性剤を用いて安定化できる。具体的には、8~16の親水性親油性バランス値を有する界面活性剤又はブレンドした界面活性剤を用いることができる。例えば、n-ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミドを用いることができる。上記の方法で製造した金属酸化物担持ニッケル触媒も本発明の範囲内である。更に別の態様では、C1~C5炭化水素の部分酸化による一酸化炭素及び水素の製造方法を特徴としている。この方法では、C1~C5炭化水素及び酸素を含有している気体流を、上記の金属酸化物担持ニッケル触媒を入れた反応容器に供給して、700~900°Cで一酸化炭素及び水素を生産する。この方法で用いられる金属酸化物担持ニッケル触媒は、上記のように、ナノニッケル0ドメイン又はナノニッケル0-A0合金ドメインであってよい触媒部位を含有して、マトリックスと特有の界面を有している。この界面が、典型的な触媒乾式改質温度800~900°Cでニッケルドメインが融合するのを効果的に防ぐ。その結果、触媒はコークス化の影響を極めて受けにくくなる。例えば、長時間例えば6時間に渡るメタンの部分酸化における高いメタン転化XCH4>90及び合成ガス選択性SCO>85を保持できる。本発明の1つ又はそれ以上の実施態様の詳細は以下の記載に述べられている。本発明のその他の特徴、目的及び利点は以下の図面、幾つかの実施態様の詳細な説明から、及び添付の特許請求の範囲からも明らかとなるだろう。本発明の一部分は、ある特定の製造法が長時間に渡るメタンの部分酸化における高いメタン転化XCH4>90及び合成ガス選択性SCO>85を保持している金属酸化物担持ニッケル触媒をもたらすという予想外の発見に基づいている。合成ガスは、水素、メタン、酢酸の製造、及び合成燃料を製造するフィッシャートロプシュFT合成に適用できる重要な工業用ガス混合物である。合成ガスは高温850~100°C、圧力10~40atm下で、VIII族金属例えば、Rh、Ru、Pt、Ir、Pd、Ni触媒の存在下に天然ガスの水蒸気改質CH4H2O→CO3H2によって工業的に製造される。しかし、これは高い吸熱反応工程である。これに対して、合成ガスへのメタンの触媒部分酸化POMは穏やかな発熱工程-35.7kJ.mol-1であるので、長年に渡って広く研究されているCH41/2O2→CO2H2。従来の水蒸気改質工程と比べると、部分酸化は、少ない熱放出、低い圧力、及び小さい反応容器という利点を有している。担持ニッケル触媒、特に耐熱性物質例えば、Al2O3、SiO2、ZrO2、CeO2、TiO2、MgO、CaO、La2O3、Y2O3、HfO2、Si3N4、Sm2O3に担持されるニッケルがPOMの実施のために開発されている。今日まで、低級炭化水素ガスの触媒部分酸化は、適格な触媒がないために、工業的なスケールで稼働されたことがない。工業的に競合する改質触媒は、経済的で、高い原料転化及び合成ガスへの高い選択性を示し、そして指定された操作時間にわたる安定した性能を保証するものでなければならない。ニッケル触媒系の主な利点は低価格及び、一般に、高い活性及び選択性である。しかし、それらは、改質温度800~900°Cでのニッケル金属粒子の焼成及びニッケル部位におけるコークス生成炭素析出によって、低い安定性という弱点がある。従って、ニッケル触媒系の安定性を改善するために大規模な研究が行われてきた。コークスの生成はニッケルの微結晶を低減することによって著しく軽減できると理解されている;しかし、活性なニッケル粒子サイズの縮小はそれらの焼結に対する耐性を弱める。従って、高い性能に基づく触媒安定性を達成するために、求められる触媒構造はコークス生成及び焼結を同時に阻害できるものでなければならない。この10年で、この目標に向けた取り組みにより、以下に表示されるような3つの代表的な前進がもたらされた。Ruckensteinetalは、高い空間速度でガスを合成するメタンの部分酸化のためのNiO/MgO固溶体触媒を開示した。このNiO35モル/MgO触媒は850°C、50時間で優れた安定性を示した;しかしこのNiO/MgO触媒の活性及び安定性はNiOの濃度に敏感である、すなわちこの固溶体組成からの乖離は、元の利点を消滅させてしまう。Takenakaetalは10nmのシリカ層で覆われているナノサイズのニッケル金属粒子を製造する油中水型マイクロエマルジョン法を開示した。この触媒製造法は実際に、担持ニッケル触媒の触媒安定性について、従来の含浸法よりもより大きな改善をもたらしている。しかし、この方法では、触媒中の活性ニッケルの濃度が低い<5重量。触媒成分のこのような低い担持レベルは、高い原料転化及び合成ガス選択性を達成するために高い温度~850°Cが必要となる。それにも関わらず、高い改質温度では、長期間に渡ってPOMの安定な成果を継続するために、ニッケル担持レベルがニッケル種の蒸発を許容するように十分高くなければならない>10重量。担持ニッケル触媒中への、Rh及びPtのような貴金属の組み込みは、担持ニッケル改質触媒系を改善する別の効果的な手段であるChoudharyetalBeneficialofEffectofNobleMetalAdditiontoNiAl2O3CatalystforOxidativeMethanetoSyngasConversionJCatalysis157752754。しかし、この取り組みは明らかに原料費を増大させる。纏めると、担持ニッケル触媒に関する限りは、たとえパイロット運転であっても、反応ガスの高い転化率並びにCO及びH2についての高い選択性を保持することは未だにかなりの難題である。既存の担持ニッケル触媒は何れも上記ジレンマに起因するこのような特徴を主張してない。本発明は、通常採用されている耐熱酸化物担持体における活性ニッケル部位の固有の微細構造を規定する新規な化学製造手法を探索してきた。その結果、この触媒がPOMにおいて、長い反応時間例えば、300時間に渡って一定の高い安定性及び選択性示す。この手法によって、NixOyOH2x-yゾル粒子及び、任意に、AnOmOH3n-2/3m粒子及びAnOmOH2n-m粒子AはRh、Pd、Pt、Ru、Cu又はCoであるよりなる群から選ばれるその他の金属含有ゾル粒子は、水性媒体中でそれらが生成する際に適切な界面活性剤で安定化される。次いでこれらのゾル粒子を金属水酸化物R=H又は金属有機酸化物R=CgH2g1、g=1~4である[MpORq]の大過剰ゾル分散体に分散するここで、金属Mは耐熱担持体例えば、Al2O3、SiO2、CaO、MgO、ZrO2、CeO2、TiO2、又はY2O3の金属イオンを示す。次いで、MpORqから生成されたゾル粒子をゲル化に付す、その間、界面活性剤で被包されたNixOyOH2x-yゾル粒子及び、任意に、その他の上記金属含有ゾル粒子はその場で形成されたMpOqゲルに組み込まれる。その後、得られるNixOyOH2x-yゾル及び、任意に、その他の上記金属含有ゾル粒子/MpOqゲル系を空気中で焼成して金属酸化物担持ニッケル酸化物触媒を形成し、引き続いてH2中で還元して所望の担持ニッケル触媒を生成する。MpOqゲルの閉じ込めの役割によりニッケル微結晶の集合が阻止されるので、電子顕微鏡写真の検討によって明らかなように、コークスの沈着が効果的に阻害される。注目すべきは、以下の実施例で示されるように、金属酸化物担持ニッケル酸化物触媒はCH4中でも通常700~950°Cの範囲に収まる温度で還元されるNiOnCH4→NiCnxH2yH2O、x>>y。この温度範囲内で、メタンはその自動発火点が約600°Cなので同時に焼成を受ける。焼成CH42O2→CO22H2Oから生じる二酸化炭素及び水蒸気は、反応、CO2C→2CO及び2H2OC→CO22H2を通してニッケル上に形成される炭素フィラメントを浄化する。更に、本発明の方法と従来の含浸方法は、例えNi微結晶が同じ担持体例えば、ZrO2に同じNi担持レベル例えば、20重量で着座しても、昇温還元TPR実験から分かるように、2つの完全に異なった化学微小環境をもたらすことに注目すべきである。本発明の触媒のTPRは、700°C及び880°Cに2つの等しい還元ピークを示すのに対して、含浸方法によって得られた触媒は500°C及び550°Cに2つのショルダーピークを有して420°Cに還元ピークを示す。TPRの図形に関しては、高温ピークは界面領域に位置するNiOの還元に起因するものである。本発明の触媒が、界面NiO種の還元を推進するために非常に高い温度~880°Cを必要とすることを示している。さらに、700°Cにある膨張還元ピークと比べて、界面種の還元に関する同等のピーク領域が示され、試料中にこれらの種がかなりの量存在することを意味している。原則として、H2還元温度はNi微結晶が存在する化学微小環境についての情報を明らかにする。サイズが小さく、そして担持体のマトリックスとかなりの程度で混ざり合っているNiOドメインを還元するためには通常、より高い還元温度を必要とする。その結果、還元後により小さく、そしてより分散的に組み込まれたNi微結晶が生成される。本発明のNiO-金属酸化物触媒は、それぞれのNiOドメインとマトリックスの間に非常に拡散性の界面をもたらすので、NiOドメインの還元は、ZrO2上でのNiNO32の熱分解によって製造されるNiOのそれより非常に高いTPR温度を必要とする。さらに、TPRに基づく微小構造の説明を透過型電子顕微鏡TEMによって実証できる。Ni0粒子がそれらと担持体の間に明確な境界を有するならば、Ni0粒子がZrO2担持体と対照的にTEM画像上に示されるはずである。TEM画像からは、かなりのすなわち、20重量のNi担持に対して、Ni0粒子をTEMによりマトリックスと区別できないことが明らかにされていて、これは、Ni0が小さくてマトリックスと相互浸潤界面を有していることの示唆である。更なる説明がなくても、上の記述により本発明は十分に実施可能であると考える。したがって、以下の実施例は、単なる説明と見なすべきで、何であれ決して開示の限定と見なしてはならない。本明細書で引用する全ての刊行物はその全てが参照により本明細書に取り込まれている。実施例1:Al2O3-担持Ni触媒の製造15.0gのNiNO326H2O及び5.0gのn-ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミドCTABを65°Cで撹拌しながら100mlの水に溶解し、次いで、溶液を室温まで冷却した後、10mlの水酸化テトラメチルアンモニウムTMAH、1.0Mの水溶液をそこに加えて直ちに混ぜ合わせた。上記混合物を約1時間撹拌した後に、安定なNixOyOH2x-yコロイド懸濁液を形成した。続いて、60gのアルミニウムイソプロポキシドを、得られたNixOyOH2x-yコロイド懸濁液に室温で導入し、形成した懸濁液を、セラミック媒体を用いて72時間ボールミル粉砕して、均一なゾル分散液を得た。このゾル懸濁液を80°Cで濃縮して固体ゲルを形成し、最後にこの固体ゲルを600°Cで4時間焼成して、22重量のニッケルを担持するAl2O3-担持Ni触媒を製造した。実施例2:SiO2-担持Ni触媒の製造15.0gのNiNO326H2O及び5.0gのCTABを65°Cで撹拌しながら100mlの水に溶解して、溶液を室温まで冷却した後、10mlのTMAH1.0Mの水溶液をそこに加えて直ちに混ぜ合わせた。上記混合物を約1時間撹拌した後に、安定なNixOyOH2x-yコロイド懸濁液を形成した。続いて、60mlのオルトケイ酸テトラエチルTEOSを、得られたNixOyOH2x-yコロイド懸濁液に室温で導入した。この混合物を室温で1晩撹拌して均一化し、次いで65°Cで更に24時間撹拌を続けてTEOSの加水分解を完了させてゾル懸濁液を形成した。このゾル分散液を80°Cで濃縮して固体ゲルに転化し、固体ゲルを最後に600°Cで4時間焼成して、18重量のニッケルを担持するSiO2-担持Ni触媒を製造した。実施例3:CaO-担持Ni触媒の製造15.0gのNiNO326H2O及び5.0gのCTABを65°Cで撹拌しながら100mlの水に溶解して、次いで溶液を室温まで冷却した後、10mlのTMAH1.0Mの水溶液をそこに加えて直ちに混ぜ合わせた。上記混合物を約1時間撹拌した後に、安定なNixOyOH2x-yコロイド懸濁液を形成した。続いて、12gのCaOを、得られたNixOyOH2x-yコロイド懸濁液に室温で加えて、懸濁液を、セラミックを用いて72時間ボールミル粉砕した。この工程において、CaOの表面が、塩基性媒体中でCaOH2種を含有するヒドロゲル層になる。その結果、NixOyOH2x-yゾル粒子がこのヒドロゲル層に効果的に入ることができる。懸濁液を80°Cで濃縮して固体ゲルを形成し、固体ゲルを最後に600°Cで4時間焼成して、22重量のニッケルを担持するCaO-担持Ni触媒を製造した。実施例4:20重量Ni-ZrO2触媒の製造15.0gのNiNO326H2O及び5.0gのCTABを65°Cで撹拌しながら100mlの水に溶解して、次いで溶液を室温まで冷却した後、10mlのTMAH1.0Mの水溶液をそこに加えて直ちに混ぜ合わせた。上記混合物を約1時間撹拌した後に、安定なNixOyOH2x-yコロイド懸濁液を形成した。続いて、47gのジルコニウムIVブトキシド80重量の1-ブタノール溶液を、得られたNixOyOH2x-yコロイド懸濁液に室温で導入し、生成された懸濁液を1晩撹拌して加水分解を完了して、均一なゾル分散液を得た。このゾル分散液を80°Cで濃縮して固体ゲルを形成し、この固体ゲルを最後に600°Cで4時間焼成して20重量のニッケルを担持するZrO2-担持Ni触媒を製造した。比較実施例:含浸法による20重量Ni-ZrO2触媒の製造水中でジルコニウムIVブトキシドを加水分解して細かいZrO2粉末を作成し、続いて600°Cで4時間焼成した。得られたZrO2粉末は約300nmの平均粒径及び10.2m2/gのBET表面積を有していた。その後、1.98gのNiNO326H2O及び50mlの水からなる水溶液中に1.6gのZrO2を導入した。得られた懸濁液を乾燥し、600°Cで4時間焼成して、20重量のニッケルを担持するZrO2-担持Ni触媒を製造した。実施例5:POMにおける担持Ni触媒の評価上記製造方法で得られた触媒を850°Cにおけるメタンの部分酸化について評価した。例えば、Al2O3-Ni触媒について、反応物の流れは4成分:He/N2/CH4/O2モル比:37.3/3.8/2/1を含んでいて、気体時空間速度GHSVは248,195h-1であった。6時間の流し時間後にメタン転化率は95より高く、CO選択性は98より高く、そしてH2/COモル比は2/1であった。実施例6:POMにおけるZrO2-Ni触媒の触媒安定性試験POMの触媒に使用した後、ZrO2-Ni触媒を新たな試験に再使用した。ここでは反応ガス混合物He/N2/CH4/O2のモル比は37.3/3.8/2/1であり、GHSVは125,200h-1であった。触媒は300時間に渡って安定した非常に高い活性XCH4>95及びPOMの選択性SCO>95を示した。実施例7:ZrO2担持NiRh触媒の製造15.0gのNiNO326H2O、0.40gのRhCl3xH2O及び5.1gのCTABを65°Cで撹拌しながら100mlの水に溶解し、次いで溶液を室温まで冷却した後、10.5mlのTMAH1.0Mの水溶液をそこに加えて直ちに混ぜ合わせた。上記混合物を約1時間撹拌した後、NixOyOH2x-y及びRhnOmOH3n-2/3mゾル粒子を含有している安定なコロイド懸濁液が形成された。続いて、47gのジルコニウムIVブトキシド80重量の1-ブタノール溶液を、得られたコロイド懸濁液に室温で加え、生成した懸濁液を1晩撹拌して完全に加水分解して、均一なゾル分散液を得た。このゾル分散液を80°Cで濃縮して固体ゲルを形成し、この固体ゲルを最後に600°Cで4時間焼成して、20重量のNi-Rh合金を担持するZrO2-担持Ni97.08モル-Rh2.92モル触媒を製造した。実施例8:ZrO2担持NiPd触媒の製造15.0gのNiNO326H2O、3mLのPdNO32溶液10重量、d=1.118g/mL及び5.1gのCTABを65°Cで撹拌しながら100mlの水に溶解し、次いで溶液を室温まで冷却した後、10.5mlのTMAH1.0Mの水溶液をそこに加えて直ちに混ぜ合わせた。上記混合物を約1時間撹拌した後、NixOyOH2x-y及びPdnOmOH2n-mゾル粒子を含有している安定なコロイド懸濁液が形成された。続いて、47gのジルコニウムIVブトキシド80重量の1-ブタノール溶液を、得られたコロイド懸濁液に室温で加え、生成した懸濁液を1晩撹拌して完全に加水分解して、均一なゾル分散液を得た。このゾル分散液を80°Cで濃縮して固体ゲルを形成し、この固体ゲルを最後に600°Cで4時間焼成して、20重量のNi-Pd合金を担持するZrO2-担持Ni97.26モル-Pd2.74モル触媒を製造した。その他の実施態様本明細書に開示される全ての特徴は、いずれの組み合わせで組合わせてもよい。本明細書に開示されるそれぞれの特徴は、同じ、均等な又は同様の目的に適う代わりの特徴と置き換えてもよい。従って、明示的に別段の定めがされる場合を除き、開示される特徴のそれぞれは均等な又は同様な特徴の包括的系列の一例にすぎない。上の記載から、当業者は本発明の必須の特徴を容易に確認することができ、そしてそれらの精神及び範囲を逸脱することなく、本発明を多様に変更及び修正してそれを多くの用途及び条件に適用することができる。従って、別の実施態様もまた以下の特許請求の範囲の範囲内である。"