"透明樹脂および無機充填剤とを含む表示装置用または太陽電池用基板の製造方法であって、下記一般式Iで表される化合物、一般式IIIで表される化合物、または一般式VIで表される化合物と、光重合開始剤と、前記無機充填剤とを混合し、得られた混合物に光を照射することにより硬化させて、透明樹脂および無機充填剤とを含む表示装置用または太陽電池用基板を得る製造方法。前記式I中、R1は、炭素数が1~6のアルキル基であり、R2は、-OH、炭素数が1~12のアルキルオキシ基、ベンジルオキシ基、下記式Aで表される基[前記式A中、mは0~3の整数であり、R3は、炭素数1~6のアルキル基であり、R4は炭素数1~10のアルキル基である。]、または下記式Bで表される基[前記式B中、nは0~2000の整数であり、R3は、炭素数1~6のアルキル基であり、R5は炭素数1~10のアルキル基、または下記式bで表される基前記式b中、pは0~100の整数であり、R31は、炭素数1~6のアルキル基であり、R7は炭素数1~10のアルキル基である。であり、R6は炭素数1~10のアルキル基である。]である。[前記式III中、qは1から3の整数である]前記混合物が、さらにエポキシ樹脂を含む請求項1に記載の表示装置用または太陽電池用基板の製造方法。表示装置用または太陽電池用基板における前記透明樹脂aおよび前記無機充填剤bの質量割合a:bが、20:80~80:20の範囲である請求項1または2に記載の表示装置用または太陽電池用基板の製造方法。前記無機充填剤が、ガラス繊維である請求項1~3のいずれかに記載の表示装置用または太陽電池用基板の製造方法。前記ガラス繊維が、ガラス繊維製布帛である請求項4に記載の表示装置用または太陽電池用基板の製造方法。前記混合物を光硬化させて形成された光学層上に平滑化層を積層する工程をさらに含む請求項1~5のいずれかに記載の表示装置用または太陽電池用基板の製造方法。そこで、本発明は、低熱膨張性であり、透明性、耐熱性、強度、表面平滑性および耐溶剤性に優れる光学シートの提供を目的とする。前記目的を達成するために、本発明は、透明樹脂および無機充填剤を含む光学シートであって、前記透明樹脂が下記一般式Iで表される化合物の重合体を含むことを特徴とする。前記式I中、R1は、炭素数が1~6のアルキル基であり、R2は、-OH、炭素数が1~12のアルキルオキシ基、ベンジルオキシ基、下記式Aで表される基[前記式A中、mは0~3の整数であり、R3は、炭素数1~6のアルキル基であり、R4は炭素数1~10のアルキル基である。]、または下記式Bで表される基[前記式B中、nは0~2000の整数であり、R3は、炭素数1~6のアルキル基であり、R5は炭素数1~10のアルキル基、または下記式bで表される基前記式b中、pは0~100の整数であり、R3は、炭素数1~6のアルキル基であり、R7は炭素数1~10のアルキル基である。であり、R6は炭素数1~10のアルキル基である。]である。このように、本発明の光学シートは、透明樹脂と無機充填剤とを含む光学シートであるため、低熱膨張性であり、透明性、耐熱性および強度に優れると共に、前記透明樹脂が特定のオキセタン化合物の重合体を含むことにより、前記各特性に加え、表面平滑性および耐溶剤性の双方特性に優れる。特に、本発明の光学シートは、低熱膨張性であり、かつ表面平滑性に優れるから、これを、例えば、アクティブマトリックス型液晶表示装置用基板として用いれば、高品位の画像が表示できる。ただし、本発明の光学シートの用途は、これに制限されない。前記式Iで表される化合物としては、例えば、下記式IIで表される3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、下記式IIIで表される化合物、[前記式III中、qは1から3の整数である]下記式IVで表されるジ[1-エチル3-オキセタニル]メチルエーテル、下記式Vで表される3-エチル-3-2-エチルヘキシロキシメチルオキセタン、下記式VIで表される3-エチル-3-フェノキシメチルオキセタンなどが挙げられる。前記式IIIで表される化合物としては、例えば、前記式III中nが1である、1,4-ビス{[3-エチル-3-オキセタニルメトキシ]メチル}ベンゼンが挙げられる。前記重合体は、これらのオキセタン化合物の1種類のみ、または2種類以上が重合されて形成されていてもよい。本発明において、前記アルキル基とは、直鎖状または分岐状のアルキル基である。前記アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、2-エチルブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、n-ヘキシル基、2-エチルヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。本発明において、前記アリール基とは、芳香族炭化水素残基である。前記アリール基の例としては、単環式アリール基、例えば、フェニル基等および、縮合多環式アリール基、例えば、ナフチル基、インデニル基、フルオレニル基等が挙げられる。本発明において、前記透明樹脂は、さらにエポキシ樹脂を含むことが好ましい。その理由としては、例えば、前記オキセタン化合物を重合してオキセタン樹脂を製造する際、エポキシ樹脂が存在すると、その重合が促進されること等があげられる。前記エポキシ樹脂としては、特に制限されず、従来公知のエポキシ樹脂が使用できるが、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型およびこれらの水添加物等のビスフェノール型;フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型等のノボラック型;トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型等の含窒素環型;脂環式型;脂肪族型;ナフタレン型等の芳香族型;グリシジルエーテル型やビフェニル型等の低吸水率型;ジシクロペンタジエン型等のジシクロ型;エステル型;エーテルエステル型;およびこれらの変成型等が挙げられる。前記エポキシ樹脂の中でも、変色防止性等の点から、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が好ましい。なお、これらのエポキシ樹脂は一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。前記エポキシ樹脂は、例えば、形成する光学シートの柔軟性や強度等が向上することから、エポキシ当量100~1000g/eq、軟化点120°C以下であることが好ましく、より好ましくは、エポキシ当量120~500g/eq、軟化点90°C以下である。また、前記エポキシ樹脂は、硬化前において、常温例えば、5~35°Cで液体であることが好ましい。前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、例えば、下記式XVで表される樹脂が挙げられる。下記式においてnは、例えば、0~2である。前記脂環式エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、下記式XVIで表される3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、下記式XVIIで示す樹脂が挙げられる。下記式XVIIにおいて、nは1~20の整数であり、Rは、前記アルキル基である。また、前記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、下記式XVIII、下記式XIXおよび下記式XXで表されるエポキシ樹脂等が挙げられる。下記式XIXにおいて、nは1~3の整数である。エポキシ樹脂は、前記式XVからXIXで表されるエポキシ樹脂が特に好ましい。前記透明樹脂における前記オキセタン化合物xと前記エポキシ樹脂yとの質量割合x:yは、好ましくは100:0~1:99であり、より好ましくは100:0~5:95、特に好ましくは100:0~10:90である。前記透明樹脂は、透明性を向上させる目的で屈折率の異なる樹脂を混合して、前記透明樹脂と無機充填剤との屈折率やアッベ数を調整してもよい。このような調整方法としては、例えば、特開2001-261933号公報に記載の方法を用いることができる。同公報に記載の方法とは、例えば、樹脂の屈折率と、無機充填剤の屈折率とを、下記の式Aに示す関係に調整する方法である。-0.005≦n2-n1≦0.005A前記式中、n1は、樹脂の波長589.3nmにおける屈折率を意味し、n2は、無機充填剤の波長589.3nmにおける屈折率である。前記式Aに示す関係を満たすためには、例えば、前記樹脂のアッベ数および屈折率を調整する方法例えば、オキセタン化合物の種類の選択、オキセタン化合物の2種類以上の併用、光重合開始剤の種類の選択、光重合開始剤の2種類以上の併用等、無機充填剤のアッベ数および屈折率を調整する方法例えば、原料組成の選択等、およびこれらの2つを併用する方法が挙げられる。例えば、無機充填剤のアッベ数および屈折率を、ある程度、前記樹脂のアッベ数および屈折率に近づけてから、さらに、前記樹脂のアッベ数および屈折率を微調整することにより、前記樹脂と無機充填剤とのアッベ数および屈折率の差をさらに小さくなるよう調整することにより、前記式Aに示す関係を満たすことが可能である。なお、ここでいうアッベ数υdとは、屈折率の波長依存性、すなわち分散の度合いを示すもので、式υd=nD-1/nF-nCを用いて算出することができる。ここで、nC、nDおよびnFは、それぞれブラウンホーファーの線のC線波長656nm、D線589nmおよびF線486nmに対する屈折率を意味する。無機充填剤の例としては、各種金属、金属酸化物、ガラス組成物などが挙げられ、その形状は特に制限はなく、球状、破砕状、燐片状、繊維状のいずれでもよい。中でも線膨張係数の低減効果や透明性が高いことから、ガラス繊維が好ましい。前記ガラス繊維としては、例えば、Eガラス、Tガラス、NEガラス、Sガラス等の材料から形成されたガラス繊維を用いることができる。これらのなかでも、オキセタン樹脂との屈折率調整が容易なことから、TガラスおよびNEガラスから形成されたものが好ましい。そのガラス繊維の形態としては、例えば、織布、不織布、編物等の布帛が挙げられる。前記ガラス繊維製布帛としては、例えば、ヤーンを製織したガラスクロス、ガラス不織布、ロービングクロス、チョップドストランドマット、スダレクロス等があげられる。このなかでも、成形後の強度に優れる点等より、ロービングクロス、ガラスクロス等が好ましく、表面の均一性や強度等の観点からガラスクロスがさらに好ましい。前記ガラスクロスの織り方としては、平織り、朱子織、綾織、ななこ織などが挙げられるが、成形後の平滑性や凹凸の均一性等の観点から平織りおよび朱子織が好ましい。ガラス繊維が布帛織布、不織布、編物等である場合、例えば、目付けは、10~500g/m2の範囲であることが好ましく、より好ましくは20~350g/m2であり、特に好ましくは30~250g/m2である。前記ガラス繊維製布帛の厚みは、例えば、10~500μmであり、好ましくは15~350μmであり、特に好ましくは30~250μmである。ガラス繊維の太さは、例えば、3~15μmであり、好ましくは5~13μmであり、より好ましくは5~10μmである。本発明の光学シートにおいて、前記透明樹脂aおよび前記ガラス繊維bの質量割合a:bは、20:80~80:20であるのが好ましく、より好ましくは25:75~75:25、特に好ましくは30:70~70:30である。図1の断面図に、本発明の光学シートの一例を示す。この光学シート10では、透明樹脂により樹脂層1光学層が形成され、その中に、ガラス繊維製布帛2が埋設されている。前記ガラス繊維製布帛2の空隙にも透明樹脂が侵入している。本発明の光学シートにおいて、その表面平滑性は、表面粗さRt0.6μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.3μm以下であり、特に好ましくは0.2μm以下である。本発明において表面粗さRtとは、例えば、表面形状測定器商品名:サーフコーダET-4000A;小坂研究所製により、長波長カットオフ800μm、短波長カットオフ250μm、評価長さ8mmの条件で測定した、最大値と最小値との差を意味する。本発明の光学シートは、25°Cから160°Cにおける線膨張係数は、30ppm/°C以下であることが好ましく、より好ましくは20ppm/°C以下であり、特に好ましくは15ppm/°Cである。前記線膨張係数は、サンプルについて、例えば、JISK-7197に規定されるTMA法によりTMA測定値を得て、これを下記式に代入することによって算出できる。下記式において、ΔIsT1およびΔIsT2は、サンプル測定時の温度T1°CおよびT2°CにおけるTMA測定値μmをそれぞれ示し、L0は、室温23°Cにおけるサンプルの長さmmを示す。線膨張係数=[1/L0×103]×[ΔIsT2-ΔIsT1/T2-T1]本発明の光学シートは、その面内位相差が2nm以下であることが好ましく、より好ましくは1nm以下、特に好ましくは0.8nm以下である。また、本発明の光学シートの厚み方向位相差は、40nm以下であることが好ましく、より好ましくは20nm以下であり、さらに好ましくは10nm以下であり、特に好ましくは7nm以下である。前記面内位相差Δndおよび前記厚み方向位相差Rthは、例えば、それぞれ下記式で表される。下記式においてnxおよびnyは、それぞれ前記光学シートにおけるX軸およびY軸方向の屈折率を示し、前記X軸方向とは、前記光学シートの面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Y軸方向は、前記面内において前記X軸に対して垂直な軸方向であり、dは、前記光学シートの厚みを示す。Δnd=nx-nydRth=[[nxny/2]-nz]d本発明の光学シートは、その光透過率が80以上であることが好ましく、より好ましくは85以上であり、特に好ましくは90以上である。前記光透過率は、例えば、分光光度計を用いて波長550nmの全光線透過率を測定することによって求めることができる。本発明の光学シートの厚みは、特に制限されないが、例えば、20~800μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは30~500μmであり、特に好ましくは50~300μmである。本発明の光学シートにおいて、前記透明樹脂と前記無機充填剤とから光学層が形成され、この光学層に他の層が積層されていてもよい。前記他の層は、前記光学層の上下の両方に積層されていてもよいし、片方のみに積層されていてもよい。また、前記光学層および前記他の層は、単層構造でもよいし、同種の層若しくは異種の層を積層した積層構造であってもよい。前記他の層としては、例えば、平滑化層、ハードコート層およびガスバリア層があげられ、このなかでも、さらに表面平滑性を高めるために平滑化層を形成することが好ましい。前記平滑化層の形成材料としては、特に制限されないが、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン-ホルムアルデヒド樹脂、シアネート樹脂、オキセタン樹脂等が挙げられる。なお、これらの樹脂は、一種類でもよいし、二種類以上を混合したブレンド樹脂であってもよい。前記形成材料としては、中でも、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂等が、耐溶剤性を維持することができかつ透明性が高いので好ましい。また、後述するように、平滑化層の形成材料には、必要に応じて、レベリング剤、開始剤、消泡剤、染料、顔料、無機粒子、プラスチックビーズ等を添加してもよい。平滑化層の形成方法としては、後述のように、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、ディッピング法、カーテンコート法、スプレーコート法、エクストルージョンコート法、グラビアコート法等の、一般的に用いられる塗工法が適用可能である。但し、本発明は、これらの方法に限定されない。前記平滑化層の厚みは、特に制限されないが、例えば、0.5~50μmの範囲である。この厚みが、0.5μm以上であれば、光学シートの表面の平滑性がさらに向上するからである。また、この厚みが50μm以下であれば、光学シートの屈曲性が優れ、樹脂の硬化収縮によるカール発生が防止できるからである。前記平滑化層の厚みは、好ましくは、1~40μmであり、より好ましくは2~30μmである。前記ハードコート層の形成材料としては、特に制限されないが、例えば、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等が使用できる。これらの中でも、ウレタン系樹脂が好ましく、より好ましくはウレタンアクリレートである。なお、これらの樹脂は、一種類でもよいし、二種類以上を混合したブレンド樹脂であってもよい。前記ハードコート層の厚みは、特に制限されないが、通常、製造時の剥離や、剥離の際におけるヒビ割れの発生を防止する点から、例えば、0.1~50μmの範囲であり、好ましくは0.5~8μmの範囲であり、より好ましくは2~5μmの範囲である。前記ガスバリア層の種類としては、例えば、有機ガスバリア層と無機ガスバリア層が挙げられる。前記有機ガスバリア層の形成材料としては、特に制限されないが、例えば、ポリビニルアルコール及びその部分ケン化物、エチレンビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系ポリマー、ポリアクリロニトリルやポリ塩化ビニリデン等の酸素透過が小さい材料等が使用でき、これらの中でも、高ガスバリア性の点からビニルアルコール系ポリマーが特に好ましい。前記有機ガスバリア層の厚みは、例えば、透明性、着色防止、ガスバリア性等の機能性、薄型化、得られる光学シートのフレキシビリティー等の点から、10μm以下であることが好ましく、より好ましくは2~10μmであり、さらに好ましくは2~10μm、特に好ましくは3~5μmの範囲である。一方、無機ガスバリア層の形成材料としては、例えば、珪素酸化物、マグネシウム酸化物、アルミニウム酸化物、亜鉛酸化物等の透明材料が使用でき、この中でも、例えば、ガスバリア性や基材層への密着性に優れること等から、珪素酸化物や珪素窒化物が好ましい。前記珪素酸化物としては、例えば、珪素原子数に対する酸素原子数の割合が、1.5~2.0であることが好ましい。このような割合であれば、例えば、前記無機ガスバリア層のガスバリア性、透明性、表面平坦性、屈曲性、膜応力、コスト等の点において、より一層優れるからである。なお、前記珪素酸化物においては、珪素原子数に対する酸素原子数の割合の最大値が2.0となる。前記珪素窒化物としては、例えば、珪素原子数Siに対する窒素原子数Nの割合Si:Nが1:1~3:4であることが好ましい。前記無機ガスバリア層の厚みは、特に制限されないが、例えば、5~200nmの範囲である。本発明の光学シートにおいて、前記平滑化層、前記ハードコート層および前記ガスバリア層の少なくとも一つを含む場合、その積層順序は、特に制限されないが、平滑化層、ガスバリア層、ハードコート層の順序で光学層上に積層されることが好ましい。特に、前記ハードコート層は、耐衝撃性や溶剤耐性等に優れることから、最外層として形成されることが好ましく、前記光学層の他方の表面にもハードコート層が積層されてもよい。本発明の光学シートの製造方法は、特に制限されず、例えば、前記透明樹脂の形成材料と、無機充填剤とを直接混合し、必要な型に注型した後に硬化させる方法、前記形成材料を溶媒に溶解させ、これに無機充填剤を分散させ、キャストした後に硬化させる方法、前記ガラスクロス等のガラス繊維製布帛に前記形成材料を含浸させて硬化させること等の方法によって製造できる。なお、無機充填剤には、オキセタン樹脂等との密着性を向上させる目的でアミノシラン系、エポキシシラン系等のシランカップリング剤で表面処理を施すことが好ましい。また、無機充填剤としてガラスクロスを用いる際、このガラスクロスに開繊処理を施すと、前記形成材料の含浸性を高めることができるため、好ましい。前記透明樹脂の形成材料は、オキセタン化合物を含み、任意に、光重合開始剤、硬化前のエポキシ樹脂やその他の樹脂、各種添加剤を含んでいてもよい。前記注型法の場合には、例えば、平板金型にガラス繊維製布帛を配置し、液状の前記形成材料を前記布帛に塗布した後、減圧条件とすることによって、前記布帛に前記形成材料を含浸させ硬化させる。また、常圧条件下であっても、液状の前記形成材料中に前記ガラス繊維製布帛を浸漬し、その状態で前記形成材料を硬化させてもよい。また、エンドレスベルトや基板上に前記ガラス繊維製布帛を配置し、これに前記形成材料を含浸させたり、塗工して硬化させてもよい。また、金属板、ガラス板、プラスチックフィルム等の支持体に前記形成材料を塗布したのち、その上にガラス繊維製布帛を貼り合わせて前記形成材料を硬化させてもよい。なお、前記支持体は、離型処理することが好ましい。前記形成材料の硬化処理は、例えば、光例えば、紫外線照射処理、電子線照射等を採用することが好ましい。また、光硬化処理の場合は、後述のように、光重合開始剤を使用することが好ましい。前記形成材料を液状溶液若しくは分散液とする場合は、溶媒若しくは分散媒を使用してもよい。前記溶媒等としては、特に制限されないが、例えば、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、アセトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル等が使用できる。液状の前記形成材料の粘度は、特に制限されないが、無機充填剤への浸透性の観点等から、例えば、1~5000mPas、好ましくは1~3000mPas、より好ましくは1~1000mPasである。液状の前記形成材料は、加温することにより粘度を調整することも可能であり、この温度は、前記形成材料が硬化しない程度の温度例えば、10~100°Cである。前記形成材料は、光重合開始剤を更に含んでもよい。前記光重合開始剤としては、光カチオン開始剤が好ましい。前記光カチオン開始剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等をその分子内に含有し、光が照射されると分解して酸が発生するものが挙げられる。なお、前記光カチオン開始剤を用いると、前記形成材料に含まれるオキセタン化合物の環状エーテルのカチオン重合が促進される。前記光カチオン開始剤としては、例えば、以下の構造式X~XIVで表されるものが挙げられる。前記式中、R10、R11、R12、R13、R14、R15およびR16は、それぞれ、水素、炭素数1~18のアルキル基、または炭素数1~18のアルキルオキシ基であり、Mは金属原子であり、好ましくはアンチモン、ヒ素、リンまたはホウ素であり、Xはハロゲン原子であり、好ましくはフッ素であり、nは金属原子の価数である。前記形成材料に添加されていてもよい各種添加物としては、例えば、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、消泡剤、金属酸化物粒子、樹脂粒子等の従来公知の添加物が挙げられる。これらの添加剤は、いずれか一種類を添加してもよいし、二種類以上を併用してもよい。前記老化防止剤としては、特に制限されないが、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等の従来公知のものが使用できる。前記変性剤としては、特に制限されないが、例えば、グリコール類、シリコーン類、アルコール類等の従来公知のものが使用できる。前記界面活性剤としては、特に制限されないが、例えば、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等の各種界面活性剤が使用でき、これらの中でも、シリコーン系が好ましい。また、本発明の光学シートが、光学層と平滑化層との積層体の場合は、例えば、前述の方法で光学層をまず形成し、その少なくとも一方の表面上に平滑化層を形成すればよい。前記平滑化層の形成方法は、特に制限されず、例えば、前述の平滑化層の形成材料を、溶媒に混合して塗工液を調製し、光学層の面上に塗布して、これを乾燥させることで形成できる。この塗工液は、必用に応じて、重合開始剤、レベリング剤、酸化防止剤、消泡剤、染料、顔料、無機粒子、プラスチックビーズ等を含んでもよい。前記塗工方法としては、特に制限されず、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、ディッピング法、カーテンコート法、スプレーコート法、エクストルージョンコート法、グラビアコート法等、一般に用いられる塗工方法が適用できる。また、本発明の光学シートが、光学層とハードコート層との積層体の場合は、例えば、前記平板金型にハードコート層を形成してから、この上に前記無機充填剤と前記形成材料を用いて光学層を形成すればよい。前記ハードコート層の形成においては、必要に応じて、加熱処理、光照射処理等の硬化処理を行ってもよい。また、ステンレス製等のエンドレスベルトや基材上に、流延法や塗工法等によってハードコート層を形成してから、別途形成した光学層と貼り合わせてもよい。前記ハードコート層の形成方法は、特に制限されず、前述のような形成材料を前記溶媒に混合して塗工液を調製し、ハードコート層形成用基材上に塗布して、これを乾燥させればよい。前記塗工法としては、特に制限されず、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレーコート法等の従来公知の方法が採用できる。また、光学層、ガスバリア層およびハードコート層を含む光学シートの場合は、例えば、前述のようにして形成したハードコート層上に、ガスバリア層を形成してから、さらに前述と同様にして、光学層を形成すればよい。前記ガスバリア層の形成方法は、特に制限されず、例えば、従来公知の方法を適宜採用できる。本発明の光学シートは、各種の用途に用いることができ、例えば、液晶表示装置、有機EL表示装置等の各種画像表示装置の基板や太陽電池用基板等として好ましく用いることができる。また、本発明の液晶表示装置、有機EL表示装置および太陽電池は、その基板として本発明の光学シートを使用することを特徴とする。これ以外は、従来の表示装置若しくは太陽電池と同様である。このなかで、本発明の光学シートを用いた各種表示装置は、薄型軽量化が可能であり、また、表示品位も優れたものとなる。なお、本発明の光学シートの用途は特に制限されず、その用途は広い。液晶表示装置は、一般に、電極を備えた液晶セル基板に液晶が保持された液晶セル、偏光板、反射板およびバックライトを備え、駆動回路等を組み込んで構成されている。本発明の液晶表示装置においては、前記本発明の光学シートを液晶セル基板として使用すればよく、この点を除いて特に限定はされず、さらに従来公知の各種構成部品を備えても良い。従って、本発明の液晶表示装置においては、前記液晶セル基板に、さらに、例えば、視認側の偏光板の上に設ける光拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護層、保護板、あるいは液晶セルと視認側の偏光と板の間に設ける補償用位相差板等の光学部品等を組み合わせてもよい。有機エレクトロルミネセンスEL表示装置は、一般に、透明基板ELディスプレイ用基板上に、透明電極と、発光体有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機発光層と、金属電極とが順に積層されることによって構成されている。本発明の有機EL表示装置においては、前記本発明の光学シートをELディスプレイ用基板として使用すればよく、この点を除いて特に限定はされず、さらに従来公知の各種構成部品を備えても良い。前記有機発光層は、種々の発光体を含む有機薄膜の積層体である。このような積層体としては、例えば、トリフェニルアミン誘導体等を含む正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性有機固体からなる発光層との積層体や、前述のような発光層とペリレン誘導体等を含む電子注入層との積層体、前述のような正孔注入層と発光層と電子注入層の積層体等が挙げられ、様々な組み合わせが知られている。有機EL表示装置は、通常、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質等の発光体を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射するという原理によって発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度とは、印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。有機EL表示装置においては、有機発光層における発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明であることが必要であり、通常、酸化インジウムスズITO等の透明導電体で形成される透明電極を陽極として使用する。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要であり、通常、Mg-Ag、Al-Li等の金属電極が使用される。このような構成の有機EL表示装置において、前記有機発光層は、例えば、厚み10nm程度の極めて薄い膜で形成されることが好ましい。このような薄さであれば、例えば、前記有機発光層も透明電極と同様に、光をほぼ完全に透過することができる。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射して、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極において反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認した際に、有機EL表示装置の表示面が鏡面のように見えるのである。本発明の有機EL表示装置が、例えば、電圧印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備え、かつ、有機発光層の裏面側に金属電極を備える場合、前記透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、前記透明電極と偏光板との間に位相板を設けることが好ましい。前記位相板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光させる作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相板として1/4波長板を使用し、かつ、偏光板と位相板との偏光方向のなす角を、π/4に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。すなわち、この有機EL表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみを透過できる。この直線偏光は位相板によって一般に楕円偏光となるが、特に位相板が1/4波長板であり、しかも偏光板と位相板との偏光方向のなす角がπ/4のときには円偏光となる。この円偏光は、例えば、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相板によって再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているため、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができるのである。つぎに、本発明の実施例について比較例と併せて説明する。なお、本発明は、下記の実施例および比較例により制限されない。オキセタン化合物として、前記式IVで表されるジ[1-エチル3-オキセタニル]メチルエーテル商品名:アロンオキセタンOXT-221;東亜合成株式会社製100質量部と、光重合開始剤として前記式XIVで表される化合物商品名:アデカオプトマーSP-170;旭電化株式会社製3質量部とを混合して、透明樹脂の形成材料を調製した。そして、ガラスクロス商品名:NLA2116;日東紡績株式会社製を、前記形成材料に浸漬させ、減圧1Pa条件下で60分間放置することによって、前記ガラスクロス内部に前記形成材料を含浸させた。このガラスクロスを、2枚のガラス板離型処理済みで挟み、それに紫外線を照射し高圧水銀ランプ、2000mJ/cm2、前記形成材料を硬化させてオキセタン樹脂を形成し、その後、前記ガラス板を取り除き、厚み100μmの光学シートを得た。オキセタン化合物として前記式IVで表されるジ[1-エチル3-オキセタニル]メチルエーテル商品名:アロンオキセタンOXT-221;東亜合成株式会社製70質量部と、エポキシ樹脂として、前記式XIXで表されるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂商品名:エピクロンEXA-7200S;大日本インキ化学工業株式会社製30質量部とを80°Cで加熱しながら混合し、その後、室温まで放冷させた。この混合物に、光重合開始剤として、前記式XIVで表される化合物商品名:アデカオプトマーSP-170;旭電化株式会社製3質量部を混合して、透明樹脂の形成材料を調製した。これら以外は、実施例1と同様にして厚み100μmの光学シートを得た。オキセタン化合物として、前記式IVで表されるジ[1-エチル3-オキセタニル]メチルエーテル商品名:アロンオキセタンOXT-221;東亜合成株式会社製80質量部と、エポキシ樹脂として、前記式XVで表されるビスフェノールA型エポキシ樹脂商品名:AER250;旭化成株式会社20質量部と、光重合開始剤として、前記式XIVで表される化合物商品名:アデカオプトマーSP-170;旭電化株式会社製3質量部とを混合して、前記透明樹脂形成材料を調製した。これら以外は、実施例1と同様にして厚み100μmの光学シートを得た。オキセタン化合物として、前記式III式中、n=1で表される[1,4-ビス{[3-エチル-3-オキセタニルメトキシ]メチル}ベンゼン商品名:アロンオキセタンOXT-121;東亜合成株式会社製30質量部と、エポキシ樹脂として、前記式XVIで表される脂環式型エポキシ樹脂商品名:セロキサイド2021P;ダイセル化学工業株式会社製70質量部と、光重合開始剤として、前記式XIVで表される化合物商品名:アデカオプトマーSP-170;旭電化株式会社製3質量部とを混合して、前記透明樹脂の形成材料を調製した。これら以外は、実施例1と同様にして厚み100μmの光学シートを得た。比較例1エポキシ樹脂として、前記式XVIで表される脂環式型エポキシ樹脂商品名:セロキサイド2021P;ダイセル化学工業株式会社製100質量部と、光重合開始剤として、前記式XIVで表される化合物商品名:アデカオプトマーSP-170;旭電化株式会社製3質量部とを混合して、透明樹脂の形成材料を調製した。これら以外は、実施例1と同様にして厚み100μmの光学シートを得た。比較例2エポキシ樹脂として、前記式XVIで表される脂環式型エポキシ樹脂商品名:セロキサイド2021P;ダイセル化学工業株式会社製80質量部および前記式XIXで表されるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂商品名:エピクロンEXA-7200S;大日本インキ化学工業株式会社製20質量部とを80°Cで加熱しながら混合し、主剤を調製した。この主剤100質量部と、メチルナジック酸商品名:リカシッドHNA-100;新日本理化株式会社製110質量部と、硬化促進剤商品名:ヒシコーリンPX-4ET;日本化学工業株式会社製2質量部とを混合して、透明樹脂形成材料を調製した。そして、ガラスクロス商品名:NLA2116;日東紡績株式会社製を、前記形成材料に浸漬させ、減圧条件下で放置することによって、前記ガラスクロス内部に前記組成物を含浸させた。前記組成物が含浸された前記ガラスクロスを、2枚のガラス板離型処理済みで挟み、それを120°Cで1時間、ついで190°Cで1時間加熱して、前記組成物を硬化させた。その後、前記ガラス板を取り除き、厚み100μmの光学シートを得た。比較例3エポキシ樹脂として、前記式XVIで表される脂環式型エポキシ樹脂商品名:セロキサイド2021P;ダイセル化学工業株式会社製80質量部および前記式XVで表されるビスフェノールA型エポキシ樹脂商品名:AER250;旭化成株式会社20質量部を混合して、主剤を調製した。この主剤100質量部と、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸商品名:リカシッドMH-700;新日本理化株式会社製110質量部、硬化促進剤として商品名:ヒシコーリンPX-4ET;日本化学工業株式会社製2質量部とを混合して、透明樹脂の形成材料を調製した。これ以外は、前記比較例2と同様にして厚み100μmの光学シートを得た。比較例4アクリル樹脂商品名:ユニディック;大日本インキ化学工業株式会社製100質量部と、溶媒トルエン100質量部と、光重合開始剤商品名:イルガキュア184;リバスペシャルティケミカルズ株式会社製3質量部とを混合して、透明樹脂の形成材料を調製した。これ以外は、実施例1と同様にして、厚み100μmの光学シートを得た。このようにして得られた実施例1~4および比較例1~4の各光学シートについて、下記の方法により、表面平滑性および耐溶剤性を評価した。その結果を、下記表1に示す。表面平滑性各光学シートについて、表面形状測定器商品名:サーフコーダET-4000A;小坂研究所製を用いて、長波長カットオフ800μm、短波長カットオフ250μm、評価長さ8mmの条件で表面粗さ最大値と最小値との差を測定した。耐溶剤性各光学シート寸法:15mm×20mmに調整を、各種溶媒中に10分間浸漬し、クラックの発生の有無を光学顕微鏡で観察した。クラックの発生が認められたものを○、認められなかったものを×として示した。前記溶媒としては、メチルエチルケトンMEK、トリクレンおよびテトラヒドロフランTHFを用いた。線膨張係数熱機械分析装置商品名:TMA/SS6100型;セイコーインスツルメンツ社製を用い、25°Cから160°Cの平均線膨張係数を、引張モード、昇温速度4°C/分、荷重3gにて測定した。全光線透過率ヘイズメータ商品名:HM-150;村上色彩技術研究所製を用いて測定した。前記表1に示すように、本発明の全実施例の光学シートは、表面平滑性および耐溶剤性の双方に優れていた。これに対し、比較例の光学シートでは、耐溶剤性に優れるものがあるものの、全ての比較例において表面平滑性が悪かった。また、本発明の全実施例の光学シートは、低熱膨張性であり、透明性、耐熱性および強度に優れていた。"