回転可能に構成された電磁波源と、前記電磁波源から出射された電磁波を回折する回折格子と、前記回折格子によって回折された前記電磁波の一部を遮る遮蔽格子と、前記遮蔽格子を経た前記電磁波の強度分布を検出する検出手段と、を備え、前記検出手段で検出された情報に基づき被検査物内部の奥行き情報を取得するトモシンセシス撮像装置であって、前記遮蔽格子は、透過部と遮蔽部とが周期的に配列され、これらの周期が互いに異なる周期を有する、少なくとも2つの部分遮蔽格子の積層によって構成され、前記2つの部分遮蔽格子を前記周期の方向に移動させ、前記積層による部分遮蔽格子間の各遮蔽部の重なり状態を制御する制御手段を備え、前記電磁波源の回転による電磁波源の入射方向に応じて、前記制御手段により前記各遮蔽部の重なり状態を制御し、前記電磁波源から出射され前記遮蔽格子の透過部を透過する電磁波が、前記各遮蔽部による遮蔽を抑制することを特徴とするトモシンセシス撮像装置。前記電磁波源から出射された電磁波を分割する光源格子を有することを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。前記制御手段は、前記電磁波源の回転に応じて、前記遮蔽格子の格子面と前記回折格子の格子面を平行に姿勢を制御し、かつ前記電磁波の入射方向に対して前記回折格子の格子面方向に姿勢を制御することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のトモシンセシス撮像装置。前記制御手段は、前記電磁波源の回転に応じて、電磁波入射方向に対して前記回折格子の格子面が垂直になるように前記回折格子の姿勢を制御することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のトモシンセシス撮像装置。前記電磁波が、X線であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のトモシンセシス撮像装置。回転可能に構成された電磁波源と、前記電磁波源から出射された電磁波を回折する回折格子と、前記回折格子によって回折された前記電磁波の一部を遮る遮蔽格子と、前記遮蔽格子を経た前記電磁波の強度分布を検出する検出手段と、を備え、前記検出手段で検出された情報に基づき被検査物内部の奥行き情報を取得するトモシンセシス画像の撮像方法であって、前記遮蔽格子として、透過部と遮蔽部とが周期的に配列され、これらの周期が互いに異なる周期を有する、少なくとも2つの部分遮蔽格子の積層によって構成された遮蔽格子を用いて前記トモシンセシス画像を撮像するに際し、前記電磁波源を回転させる工程と、前記電磁波源の回転に応じて、前記回折格子の姿勢を制御する工程と、前記電磁波源の入射方向に応じて、前記各遮蔽部の重なり状態を制御し、前記電磁波源から出射され前記遮蔽格子の透過部を透過する電磁波が、前記各遮蔽部により遮蔽されることを抑制する工程と、前記電磁波源の回転に応じて、前記検出手段の姿勢を制御する工程と、を有することを特徴とするトモシンセシス画像の撮像方法。トールボット干渉計を用いたトモシンセシス撮像装置を構成する際に、電磁波源の回転角度がある回転角以上に達すると、遮蔽格子に入射する電磁波はそのほとんどが遮蔽格子の電磁波吸収体によって遮蔽されてしまう。これによって、回折格子と遮蔽格子によって形成されるモアレの強度分布から計算されるビジビリティが低下し、得られる被検体の位相像や微分位相像の画質が低下する可能性がある。本発明は、上記課題に鑑み、モアレのビジビリティ低下を抑制することができ、高画質な位相像や微分位相像を取得することが可能となるトモシンセシス撮像装置及びトモシンセシス画像の撮像方法の提供を目的とする。本発明のトモシンセシス撮像装置は、回転可能に構成された電磁波源と、前記電磁波源から出射された電磁波を回折する回折格子と、前記回折格子によって回折された前記電磁波の一部を遮る遮蔽格子と、前記遮蔽格子を経た前記電磁波の強度分布を検出する検出手段と、を備え、前記検出手段で検出された情報に基づき被検査物内部の奥行き情報を取得するトモシンセシス撮像装置であって、前記遮蔽格子は、透過部と遮蔽部とが周期的に配列され、これらの周期が互いに異なる周期を有する、少なくとも2つの部分遮蔽格子の積層によって構成され、前記2つの部分遮蔽格子を前記周期の方向に移動させ、前記積層による部分遮蔽格子間の各遮蔽部の重なり状態を制御する制御手段を備え、前記電磁波源の回転による電磁波源の入射方向に応じて、前記制御手段により前記各遮蔽部の重なり状態を制御し、前記電磁波源から出射され前記遮蔽格子の透過部を透過する電磁波が、前記各遮蔽部による遮蔽を抑制することを特徴とする。また、本発明のトモシンセシス画像の撮像方法は、回転可能に構成された電磁波源と、前記電磁波源から出射された電磁波を回折する回折格子と、前記回折格子によって回折された前記電磁波の一部を遮る遮蔽格子と、前記遮蔽格子を経た前記電磁波の強度分布を検出する検出手段と、を備え、前記検出手段で検出された情報に基づき被検査物内部の奥行き情報を取得するトモシンセシス画像の撮像方法であって、前記遮蔽格子として、透過部と遮蔽部とが周期的に配列され、これらの周期が互いに異なる周期を有する、少なくとも2つの部分遮蔽格子の積層によって構成された遮蔽格子を用いて前記トモシンセシス画像を撮像するに際し、前記電磁波源を回転させる工程と、前記電磁波源の回転に応じて、前記回折格子の姿勢を制御する工程と、前記電磁波源の入射方向に応じて、前記各遮蔽部の重なり状態を制御し、前記電磁波源から出射され前記遮蔽格子の透過部を透過する電磁波が、前記各遮蔽部により遮蔽されることを抑制する工程と、前記電磁波源の回転に応じて、前記検出手段の姿勢を制御する工程と、を有することを特徴とする。本発明によれば、モアレのビジビリティ低下を抑制することができ、高画質な位相像や微分位相像を取得することが可能となるトモシンセシス撮像装置及びトモシンセシス画像の撮像方法を実現することができる。以下に、本発明の実施形態のトモシンセシス撮像装置の構成例について説明する。本実施形態のトモシンセシス撮像装置は、回転可能に構成された電磁波源と、前記電磁波源から出射された電磁波を回折する回折格子と、前記回折格子によって回折された前記電磁波の一部を遮る遮蔽格子と、を備える。そして、この遮蔽格子を経た前記電磁波の強度分布を検出手段で検出し、この検出された情報に基づき被検査物内部の奥行き情報を取得するように構成されている。これらを図を用いて説明するが、以下に説明する各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。本実施形態では、本発明を、X線トールボット干渉法を用いたX線トモシンセシス撮像装置に適用した場合について説明する。図1は本実施形態におけるX線トモシンセシス撮像装置の構成例を説明する図である。図1に示したX線トモシンセシス撮像装置は、X線源110と、X線源からのX線を回折する回折格子130と、回折格子130によって回折されたX線の一部を遮蔽する遮蔽格子150と、遮蔽格子を経たX線を検出する検出器検出手段170を備えている。遮蔽格子150は、少なくとも2つの部分遮蔽格子301図3参照から構成される。更に、検出器の検出結果に基づいて演算を行う演算装置180と、X線源110と回折格子130と遮蔽格子150と部分遮蔽格子301の姿勢を制御する制御部制御手段190を備えている。この制御部によって、例えば、電磁波源の回転に応じて、遮蔽格子の格子面と前記回折格子の格子面を平行に姿勢を制御し、かつ電磁波の入射方向に対して回折格子の格子面方向に姿勢を制御することができる。また、電磁波源の回転に応じて、電磁波入射方向に対して回折格子の格子面が垂直になるように回折格子の姿勢を制御することができる。そして、本実施形態の撮像装置は、被検体被検査物120の位相情報をモアレとして撮像する。以下に、上記各構成について更に具体的に説明する。本実施形態の撮像装置は、電磁波源としてX線源110を備えている。X線源110から発生したX線111が被検体120を透過すると、被検体120の組成や形状に応じてX線111に位相の変化及び吸収が生じる。X線源としては、連続X線を発生させるX線源を用いても、特性X線を発生させるX線源を用いても良い。また、波長としては、0.1Å以上5Å以下のものから適宜選択される。また、X線源110から出射したX線の経路上に、波長選択フィルタやX線を細いビームに分割するための線源用の光源格子を適宜設けても良い。また、回折格子130は、位相進行部131と位相遅延部132が周期的に配置されており、X線111を回折することで、明部と暗部を有する干渉パターン140を形成する。図1では回折格子130は、被検体120と遮蔽格子150の間に配置されているが、X線源と被検体の間に配置しても良い。回折格子130を被検体120と遮蔽格子150の間に配置すると、被検体により位相波面が変化したX線が回折されることで被検体の位相情報を持った干渉パターンが形成される。一方、X線源と被検体の間に回折格子を配置すると、回折格子によって回折されたX線の位相波面が被検体により変化することで被検体の位相情報を持った干渉パターンが形成される。位相進行部131と位相遅延部132は、透過したX線に対して位相差がつくように形成されていれば良い。一般的には、位相遅延部132を透過したX線と、位相進行部131を透過したX線の位相差がπ、またはπ/2である。前者をπ回折格子、後者をπ/2回折格子と称する場合もある。但し、位相遅延部132を透過したX線と、位相進行部131を透過したX線の位相差は、πやπ/2でなくても、X線を回折する領域内で一定であれば良く、例えば、透過したX線の位相差がπ/3でも良い。位相進行部131と位相遅延部132は1次元周期を持つように配置されていても良いし、2次元周期を持つように配置されていても良い。位相進行部131と位相遅延部132が2次元周期を持つように配置されている例として、図2aに示すように位相進行部220と位相遅延部210が市松格子状に配置されている回折格子201が挙げられる。他にも、図2bに示すような位相進行部220と位相遅延部210が井桁格子状に配置されている回折格子201挙げられる。しかし、位相進行部131と位相遅延部132の配置方法や形状はこれらに限定されるものではなく、例えば位相進行部や位相遅延部の外縁が円形状であっても回折格子として利用することが可能である。回折格子130が1次元の周期を有する場合には、被検体120の1次元方向の位相勾配情報しか取得できない。しかし、回折格子130が2次元の周期を有する場合には、2次元方向の位相勾配情報を取得することができるため、より正確に被検体の位相情報を得ることができる。なお、回折格子130を構成する材料はX線を透過する物質であることが好ましく、例えば、シリコン等を用いることができる。X線が回折格子130に回折されることで形成される干渉パターンは、X線源110と回折格子130との距離をZ0とすると、回折格子130からの距離Z1が下記の式1を満たしている位置に最も明瞭に現れる。式1において、λはX線の波長、dは回折格子130の格子周期である。Nは回折格子の形態により異なる値であり、以下のように表現できる実数である。なお、nは自然数である。1次元配列のπ回折格子:N=n/4-1/81次元配列のπ/2回折格子:N=n-1/22次元配列の市松模様π回折格子:N=n/4-1/82次元で市松模様π/2回折格子:N=n/2-1/4本実施形態の遮蔽格子は、透過部と遮蔽部とが周期的に配列され、これらの周期が互いに異なる周期を有する、少なくとも2つの部分遮蔽格子の積層によって構成される。具体的には、遮蔽格子150は、透過部151と遮蔽部152を備え、少なくとも2つの部分遮蔽格子301から構成される。この部分遮蔽格子301は周期的に配置された透過部350と遮蔽部360を有し、干渉パターン140の明部の一部を遮光することでモアレを形成する。そのため、回折格子130から距離Z1だけ離れた位置に設けられることが好ましいが、製造誤差程度であれば遮蔽格子の配置位置がずれていてもモアレを形成することができる。なお、図1では説明の都合上、干渉パターン140と遮蔽格子150を離して記載している。部分遮蔽格子は、図3に示すように、格子の周期が互いに異なることによって、X線源から出る球面波に対応することができる。部分遮蔽格子の格子面の1辺をLとし、1番目の部分遮蔽格子301の周期をp1、2番目の部分遮蔽格子310の周期をp2とすると、以下の条件式2を満たす必要がある。但し、X線吸収体部分の面積がX線透過部分の面積に比べて小さくする場合は、この限りではない。なお、遮蔽格子の透過部151はX線の一部が透過可能に構成されていればよく、開口が貫通している必要はない。また、遮蔽格子の遮蔽部152は干渉パターン140が形成される位置に遮蔽格子が配置された時にモアレが生じる程度にX線を遮蔽すれば良く、X線を完全に遮蔽しなくても良い。この遮蔽部152を構成する材料として、例えば、金を用いることができる。遮蔽格子150の周期は、干渉パターンと同一、または僅かに異なる。干渉パターンと同一の周期を持つ遮蔽格子を用いた場合、干渉パターンに対して遮蔽格子を面内回転させることによってモアレが発生する。干渉パターンの周期をD、干渉パターンの明暗の周期方向と遮蔽格子の周期方向のなす角をθ但し、θ<<1ラジアンとすれば、モアレの周期Dmは、D/θとなる。一方、干渉パターンと僅かに異なる周期を持つ遮蔽格子を用いた場合、遮蔽格子の面内回転を行なうことなくモアレが発生する。遮蔽格子の周期をDa=Dδ但し、δ<<Dとすれば、モアレの周期Dmは、D2/δとなる。部分遮蔽格子は、X線トモシンセシス撮像装置におけるX線源の回転角度に応じて、互いに1周期以内の範囲で周期方向に移動することができる。部分遮蔽格子が移動することによって、部分遮蔽格子の遮蔽部が積層した遮蔽部は、X線の入射方向に向かって一直線上に配列する。遮蔽格子150において、透過部151と遮蔽部152は、1次元周期的に配列されていてもよいし、また2次元周期的に配列されていてもよい。例えば、図2aに示した市松格子状の回折格子であって、π回折格子を用いた場合には、図4aのように透過部420と遮蔽部410が2次元的に配列されている井桁格子状の遮蔽格子401を用いることができる。また、図2bに示した井桁格子状のπ/2回折格子を用いた場合には、図4bのように透過部420と遮蔽部410が2次元的に配列されている市松格子状の遮蔽格子401を用いることができる。なお、上記の組合せは一例であり、回折格子と遮蔽格子は種々の組合せが可能である。前記遮蔽格子150を透過したX線の干渉パターンの情報はモアレの強度分布として、X線検出器170によって検出される。X線検出器170は、X線のモアレを撮像することのできる撮像素子である。検出器として、例えば、デジタル信号への変換が可能なFPDFlatPanelDetector等を用いることができる。本実施形態の制御部は、上記2つの部分遮蔽格子を周期方向に移動させ、部分遮蔽格子間の各遮蔽部の重なり状態を制御する。その際、電磁波源の回転による電磁波源の入射方向に応じて、この制御手段により各遮蔽部の重なり状態を制御し、電磁波源から出射され遮蔽格子の透過部を透過する電磁波が、各遮蔽部による遮蔽を抑制するように構成されている。具体的には、本実施形態の制御部は、被検体被検査物を中心として回転するX線源の回転に応じて、回折格子、遮蔽格子及び検出器の姿勢を制御する。X線源の被検体を中心とした回転角は最大で左右に20度ずつで、この範囲内で2度ずつ姿勢を制御して撮像を行ない、合計11回の撮像を行なう。X線源の被検体を中心とした回転角をθ、正位置検収器面からの垂線状にX線源があるときでのX線源から被検体の中心までの距離をa、被検体の中心から回折格子面までの距離をb、回折格子面から遮蔽格子面までの距離をcとするとき、X線源の回転による回折格子、遮蔽格子、検出器の姿勢の制御量は、次のようになる。回折格子の格子面上に沿った平行移動量はbtanθであり、遮蔽格子および検出器の検出器面上に沿った平行移動量はbctanθである。但し、遮蔽格子と検出器同士は、極めて近い位置に配置するものとする。例えば、図5に示すように、X線源から被検体の中心までの距離を1350mm、被検体の中心から回折格子面までの距離を10mm、回折格子面から遮蔽格子面までの距離を125mmとする。そして、正位置から正方向に15度、負方向に15度回転した場合のX線源の回転による回折格子、遮蔽格子、検出器の姿勢の制御量を計算する。回折格子は格子面上に沿った平行移動量は2.7mm、遮蔽格子および検出器の検出器面上に沿った平行移動量は36mmとなる。演算装置180は、検出器170で検出されたモアレの強度分布をフーリエ変換することで空間周波数スペクトルを算出する。次に、基本周期成分の周波数以後、キャリア周波数と呼ぶに対応するスペクトルを用いて位相回復処理を行い、微分位相像や位相像を得る。演算装置180は例えばCPUを有する。本実施形態のX線撮像装置は演算部を有しているが、検出器で検出した情報を基にフーリエ変換と位相回復処理が行えれば、演算装置とX線撮像装置が別に設けられていても良い。また、位相回復方法は、特許文献1に記載の縞走査回復法を用いてもよい。上記の位相回復処理演算は、X線源の回転に応じた各ステップについて行ない、シフト加算法によりトモシンセシス画像の再構成を行なう。シフト加算法とは、撮像された一連の画像に対して、各々の画像を走査方向に適量シフトし、画像を重ね合わせることで、任意の断面の画像を構成する方法である。また、演算装置と表示部を接続してX線撮像システムを構成しても良い。但し、本明細書においては、演算装置を含めたX線撮像装置と、その演算装置の演算結果に基づいた画像を表示する表示部をまとめてX線撮像システムと呼ぶ。以上の本実施形態の構成によれば、遮蔽格子を構成する部分遮蔽格子のうちの少なくともいずれか1つの姿勢を制御することにより、高画質な位相像や微分位相像を得ることが可能となる。