FOUPの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、FOUPの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、FOUPの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とFOUP本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたFOUPの開閉装置において、前記搬送口の口縁部に密着したFOUPと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、前記開閉ドアに設けられ、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入して、当該内部空間にパージガスを吐出し、前記内部空間の雰囲気を蓋体における当該開口部とは異なる開口部から前記閉塞空間へと排出するためのパージガス吐出部と、を備えたことを特徴とする蓋体開閉装置。FOUPの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、FOUPの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、FOUPの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とFOUP本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたFOUPの開閉装置において、前記搬送口の口縁部に密着したFOUPと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、前記開閉ドアに設けられ、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入して、当該内部空間の雰囲気を排気するための排気部と、を備えたことを特徴とする蓋体開閉装置。前記パージガス吐出部または排気部は、前記蓋体取り外し機構に設けられていることを特徴とする請求項1または2記載の蓋体開閉装置。FOUPの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、FOUPの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、FOUPの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とFOUP本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたFOUPの開閉装置において、前記搬送口の口縁部に密着したFOUPと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、前記蓋体取り外し機構が設けられると共に前記蓋体の前面に対向する対向面と、前記対向面の面方向に多数設けられたパージガスの吐出口と、を備え、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間にパージガスを吐出し、内部空間の雰囲気を蓋体における当該開口部とは異なる開口部から前記閉塞空間へと排出するためのパージガス吐出部と、を備えたことを特徴とする蓋体開閉装置。FOUPの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、FOUPの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、FOUPの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とFOUP本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたFOUPの開閉装置において、前記搬送口の口縁部に密着したFOUPと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、前記蓋体取り外し機構が設けられると共に前記蓋体の前面に対向する対向面と、前記対向面の面方向に多数設けられた排気口と、を備え、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間の雰囲気を排気するための排気部と、を備えたことを特徴とする蓋体開閉装置。FOUPの搬送領域は大気雰囲気であり、基板搬送領域は不活性ガス雰囲気であり、且つ前記パージガスは不活性ガスであることを特徴とする請求項1、3または4に記載の蓋体開閉装置。本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、蓋体の内部空間を介してFOUPの搬送領域の雰囲気が基板搬送領域に混入することを抑えることができる技術を提供することである。本発明の蓋体開閉装置は、FOUPの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、FOUPの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、FOUPの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とFOUP本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたFOUPの開閉装置において、前記搬送口の口縁部に密着したFOUPと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、前記開閉ドアに設けられ、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入して、当該内部空間にパージガスを吐出し、前記内部空間の雰囲気を蓋体における当該開口部とは異なる開口部から前記閉塞空間へと排出するためのパージガス吐出部と、を備えたことを特徴とする。本発明の他の蓋体開閉装置は、FOUPの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、FOUPの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、FOUPの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とFOUP本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたFOUPの開閉装置において、前記搬送口の口縁部に密着したFOUPと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、前記開閉ドアに設けられ、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入して、当該内部空間の雰囲気を排気するための排気部と、を備えたことを特徴とする。前記パージガス吐出部または排気部は、例えば前記蓋体取り外し機構に設けられている。本発明のさらに他の蓋体開閉装置は、FOUPの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、FOUPの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、FOUPの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とFOUP本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたFOUPの開閉装置において、前記搬送口の口縁部に密着したFOUPと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、前記蓋体取り外し機構が設けられると共に前記蓋体の前面に対向する対向面と、前記対向面の面方向に多数設けられたパージガスの吐出口と、を備え、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間にパージガスを吐出し、内部空間の雰囲気を蓋体における当該開口部とは異なる開口部から前記閉塞空間へと排出するためのパージガス吐出部と、を備えたことを特徴とする。本発明の蓋体開閉装置は、FOUPの搬送領域の雰囲気と基板搬送領域の雰囲気とを区画する隔壁に形成され、開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、FOUPの基板取り出し口の口縁部を密着させ、前記開閉ドアに設けられた蓋体取り外し機構を、FOUPの蓋体の前面側の開口部を介して蓋体内に進入させて蓋体とFOUP本体との係合を解除し、当該蓋体を保持するように構成されたFOUPの開閉装置において、前記搬送口の口縁部に密着したFOUPと、前記開閉ドアとの間に形成される閉塞された空間の雰囲気を排気する排気口と、前記蓋体取り外し機構が設けられると共に前記蓋体の前面に対向する対向面と、前記対向面の面方向に多数設けられた排気口と、を備え、前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間の雰囲気を排気するための排気部と、を備えたことを特徴とする。また、例えばFOUPの搬送領域は大気雰囲気であり、基板搬送領域は不活性ガス雰囲気であり、且つ前記パージガスは不活性ガスであるところで、FOUPとはFrontOpeningUnifiedPodの略であり、一般的にはその径が300mmであるウエハ用の搬送、保管を目的としたキャリアであるが、ここでいうFOUPの収納対象となる基板は、後述するようにウエハに限られるものではないし、その径が300mmに限られることもない。また、FOUP本体と蓋体とを係合する機構は、実施の形態で述べるような回動部の回動により直動部が昇降する構成であることに限られず、蓋体の内部に進入した蓋体取り外し機構により係合の解除がなされるものすべてが含まれる。本発明の蓋体開閉装置は、FOUPの蓋体の内部空間にパージガス吐出部が進入して、当該内部空間の雰囲気を排出するか、前記内部空間に排気部が進入して前記雰囲気を排気する。また、蓋体の前面に対向する多数の吐出口からパージガスを吐出して前記内部空間の雰囲気を排出するか、蓋体の前面に対向する多数の排気口から内部空間の雰囲気を排気する。従って、蓋体の内部空間を介してFOUPの搬送領域の雰囲気が基板搬送領域に混入することを抑えることができる。第1の実施形態本発明に係る蓋体開閉装置が組み込まれた縦型熱処理装置について説明する。図1は縦型熱処理装置1の縦断側面図、図2は縦型熱処理装置1の平面図である。図中11は縦型熱処理装置1の外装体を構成する筐体であり、この筐体11内には、被処理体であるウエハWを収納した容器であるキャリアCが装置に対して搬入、搬出されるためのキャリア搬送領域S1と、キャリアC内のウエハWを搬送して後述の熱処理炉内に搬入するための移載領域であるウエハ搬送領域S2とが形成されている。キャリアCは既述のFOUPである。キャリア搬送領域S1とウエハ搬送領域S2とは隔壁2により仕切られている。キャリア搬送領域S1は大気雰囲気である。一方、ウエハ搬送領域S2は搬入されたウエハWに酸化膜が形成されることを防ぐために、不活性ガス雰囲気例えば窒素N2ガス雰囲気とされており、キャリア搬送領域S1よりも清浄度が高く且つ低酸素濃度に維持されている。以降の装置の説明では、キャリア搬送領域S1及びウエハ搬送領域S2の配列方向を縦型熱処理装置1の前後方向とする。キャリア搬送領域S1について説明する。キャリア搬送領域S1は、第1の搬送領域12と、第1の搬送領域12の後方側ウエハ搬送領域S2側に位置する第2の搬送領域13とからなる。第1の搬送領域12の左右方向には、キャリアCを各々載置する2つの第1の載置台14が設けられている。各第1の載置台14の載置面には、キャリアCを位置決めするピン15が例えば3個所に設けられている。第2の搬送領域13には、第1の載置台14に対して前後に並ぶように、左右に2つの第2の載置台16が配置されている。各第2の載置台16は前後に移動自在に構成されている。第2の載置台16の載置面にも第1の載置台14と同様にキャリアCを位置決めするピン15が、3個所に設けられている。また、前記載置面にはキャリアCを固定するためのフック16aが設けられている。第2の搬送領域13の上部側にはキャリアCを保管するキャリア保管部18が設けられている。キャリア保管部18は2段以上の棚により構成されており、各棚は左右に2つのキャリアCを載置することができる。図1では前記棚が2段である例を示している。そして第2の搬送領域13には、キャリアCを第1の載置台14と第2の載置台16とキャリア保管部18との間で搬送するキャリア搬送機構21が設けられている。このキャリア搬送機構21は左右に伸び、且つ昇降自在なガイド部21aと、このガイド部21aにガイドされながら左右に移動する移動部21bと、この移動部21bに設けられ、キャリアCを保持して水平方向に搬送する関節アーム21cと、を備えている。また、第2の搬送領域13の天井部にはHEPAフィルタまたはULPAフィルタを備えたフィルタユニット19が設けられており、これらのフィルタにより清浄化されたエアを下方に向けて供給する。隔壁2には、キャリア搬送領域S1とウエハ搬送領域S2とを連通させるウエハWの搬送口20が設けられている。搬送口20には、当該搬送口20をウエハ搬送領域S2側から塞ぐ開閉ドア5が設けられている。開閉ドア5には駆動機構50が接続されており、駆動機構50により開閉ドア5は前後方向及び上下方向に移動自在に構成され、搬送口20が開閉される。この開閉ドア5及び搬送口20の周囲の構成については後に詳述する。ウエハ搬送領域S2には、下端が炉口として開口された縦型の熱処理炉22が設けられ、この熱処理炉22の下方側には、多数枚のウエハWを棚状に保持するウエハボート23が断熱部24を介してキャップ25の上に載置されている。キャップ25は昇降機構26の上に支持されており、この昇降機構26によりウエハボート23が熱処理炉22に対して搬入あるいは搬出される。またウエハボート23と隔壁2の搬送口20との間には、ウエハ搬送機構27が設けられている。このウエハ搬送機構27は、左右に伸びるガイド機構27aに沿って移動すると共に鉛直軸回りに回動する移動体27bに、5枚の進退自在なアーム27cを設けて構成され、ウエハボート23と第2の載置台16上のキャリアCとの間でウエハWを搬送する。図3、図4は夫々キャリアC、ウエハWの搬送口20及び開閉ドア5の縦断側面図、横断平面図であり、図5は搬送口20及びキャリアCの斜視図である。図3及び図4では前記第2の載置台16によりキャリアCが、ウエハ搬送領域S2との間でウエハWを受け渡すための受け渡し位置に移動した状態を示している。これら図3~図5を用いてキャリアCについて説明すると、キャリアCは容器本体であるキャリア本体31と、蓋体41とからなり、キャリア本体31の左右には、ウエハWの裏面側周縁部を支持する支持部32が多段に設けられる。キャリア本体31の前面にはウエハWの取り出し口33が形成されている。図中34は前記取り出し口33の開口縁部であり、開口縁部34の内周側の左右の上下には各々係合溝35が形成されている。キャリア本体31の上部には、既述のキャリア搬送機構21がキャリアCを搬送するために把持する把持部36が設けられる。また、図3に示すようにキャリア本体31の下部には凹部37と溝部38とが設けられ、凹部37は第1の載置台14及び第2の載置台16のピン15に嵌合する。溝部38は、第2の載置台16のフック16aに係合し、この係合によってキャリア本体31が第2の載置台16に固定される。キャリアCの蓋体41について、図6の縦断正面図も参照しながら説明する。蓋体41には内部空間42が形成されており、内部空間42の左右には各々水平軸回りに回動する円板状の回動部43が設けられている。回動部43は、後述のキー67に係合する係合孔44と、スリット45とを備えている。各回動部43の上下には直動部46が設けられている。直動部46の基端側には、蓋体41の厚さ方向に伸びると共に前記スリット45に進入するピン46aが設けられている。回動部43が90度回動することにより、スリット45の移動に合わせて当該スリット45内をピン46aが移動して直動部46が上下に移動し、直動部46の先端をなす係合部47が、蓋体41の側面側に設けられた開口部48を介して蓋体41の外部へ出入する。図中46bは、直動部46のガイドである。蓋体41の外部へと突出した係合部47が、容器本体31の開口縁部34の係合溝35に係合することにより、蓋体41が容器本体31に固定される。なお、図6中左側の係合部47は、前記固定を行うために蓋体41の外部へ突出した状態、右側の係合部47は、前記固定を解除するために内部空間42に引き込んだ状態を示している。実際には左右の係合部47で互いに揃って、内部空間42への引き込み及び蓋体41の外部への突出が行われる。蓋体41の前面には回動部43の係合孔44に重なるようにキー67の差し込み口40が開口している。また、前記前面には複数箇所に開口部49が形成されている。開口部49の形状、位置及び数は図を見やすくするために実機とは異なるように示している。この各開口部49は蓋体41の内外で圧力を調整する目的と蓋体41を軽量化する目的で設けられている。続いて、開閉ドア5及びウエハWの搬送口20の構成について説明する。搬送口20におけるキャリア搬送領域S1側の口縁部には、キャリア本体31の開口縁部34が当接する位置にシール部材51が設けられている。また、搬送口20における側縁部側には図4に示すようにN2ガス供給管52が垂直に設けられている。このN2ガス供給管52は上下にガス供給口53を備え、ウエハWの受け渡し位置におけるキャリアCと開閉ドア5とに囲まれる閉塞空間54にN2ガスを供給する。また搬送口20の下端部には、横長の排気口55が設けられている。図中55aは横方向における排気の偏りを抑えるために排気口55に設けられた多孔質体である。開閉ドア5は、その周縁部がキャリア搬送領域S1側へ向けて屈曲された箱体として形成されており、この箱体の開口縁にはシール部材56が設けられ、当該シール部材56を介して開閉ドア5は搬送口20の縁部に密着する。開閉ドア5のキャリア搬送領域S1側には、蓋体41の取り外し機構6が設けられている。この取り外し機構6は、蓋体41に対向する対向板61を備え、対向板61は進退機構62により前後方向に移動自在に構成される。図中61aは蓋体41に対向する対向面である。図7は対向板61の構成を示す斜視図である。対向板61の内部には内部空間63が形成され、この内部空間63には水平軸回りに回動する円形状の回動部64と、回動部64に接続され、当該回動部64を回動させるためのエアシリンダ65とが設けられている。回動部64の回転中心から対向面61aを突き抜けるように横方向に棒状の接続部66が伸びており、接続部66の先端には例えば円い棒状のキーラッチピン67が設けられている。キー67は、蓋体41の回動部43の係合孔44と係合するように形成されている。キー67の形状としてはこの係合が行えるものであればよいので図示した円柱形状には限られず、例えば角柱形状であったり、これら円柱または角柱の角部を丸く形成したものであってもよい。図8にその縦断側面、図9にその縦断正面を示すようにキー67は、その長さ方向の両端と、接続部66の延長方向と、前記延長方向から見た左右方向とに夫々ガス吐出口68を備えたパージガス吐出部として構成されている。各ガス吐出口68の口径は例えば1mm~2mmである。各ガス吐出口68の上流側は、前記接続部66、回動部64に夫々形成されたガス流路66a、64aに接続されており、ガス流路64aは配管69に連通している。配管69の上流側はN2ガスの供給源60に接続されている。配管69はいわゆるフレキシブル配管として構成され、回動部64の回動を阻害しないようにこの回動に追従して撓むように構成されている。この縦型熱処理装置1には、例えばコンピュータからなる制御部1Aが設けられている。制御部1Aはプログラム、メモリ、CPUからなるデータ処理部などを備えており、前記プログラムには制御部1Aから縦型熱処理装置1の各部に制御信号を送り、既述の各処理工程を進行させるように命令各ステップが組み込まれている。その制御信号によりキャリアCの搬送、ウエハWの搬送、蓋体41の開閉、開閉ドア5の開閉、蓋体41へのN2ガスの供給などの動作が制御され、後述のようにウエハWの搬送及び処理が行われる。このプログラムは、コンピュータ記憶媒体例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、MO光磁気ディスク及びメモリーカードなどの記憶媒体に格納されて制御部1Aにインストールされる。次に上述の実施の形態の作用について説明する。先ずクリーンルームの天井部に沿って移動する図示しない自動搬送ロボットによりキャリアCが第1の載置台14に載置される。続いてキャリア搬送機構21により前記キャリアCが第2の載置台16に搬送され、フック16aにより第2の載置台16に固定され、第2の載置台16が隔壁2へ向けて移動し、図10に示すようにキャリアCの開口縁部34が隔壁2の搬送口20の周りのシール部材51に気密に当接する。続いてガス供給口53からN2ガスがキャリアCと開閉ドア5との間の閉塞空間54に供給され、排気口55に流れて排気されて、閉塞空間54が大気雰囲気から窒素雰囲気に置換される。そして対向板61が蓋体41に向けて前進し、キー67が蓋体41の前面の差し込み口40を介して蓋体41の内部空間42に進入し、図11に示すように回動部43の係合孔44に差し込まれて回動部43と係合すると、図12に示すようにキー67のガス吐出口68からN2ガスが吐出される。図12中矢印で示すようにガス吐出口68から吐出されたN2ガスは、蓋体41の前面側の開口部49及び側面側の開口部48から閉塞空間54へと流れて排気される。このN2ガスの流れにより、蓋体41の内部空間42に残留していた大気が閉塞空間54へとパージされて閉塞空間54から排気され、内部空間42が速やかにN2雰囲気に置換される。なお、図12では図の煩雑化を避けるために、前記内部空間42の回動部43及び直動部46を省略している。ガス吐出口68からN2ガスの吐出が停止すると、キー67が90度回動して蓋体41の回動部43が回動し、それによって直動部46の先端の係合部47が蓋体41内に引き込まれ、当該係合部47と容器本体31の係合溝35との係合が解除されることにより、蓋体41のキャリア本体31に対する結合が解除され、キー67に蓋体41が保持される。そして、図13に示すように取り外し機構6が、キー67により蓋体41を保持した状態で開閉ドア5へ向けて後退して、キャリア本体31のウエハWの取り出し口33が開放される。その後、開閉ドア5が後退した後、下降して搬送口20から退避し、図14に示すようにキャリアC内がウエハ搬送領域S2に開放され、ウエハ搬送機構27によりキャリアC内のウエハWが順次取り出されてウエハボート23に移載される。キャリアC内のウエハWが空になると、上述と逆の動作でキャリアCの蓋体41が閉じられると共にキャリア本体31に固定される。然る後、第2の載置台16が後退してキャリアCが隔壁2から離れ、キャリア搬送機構21によりキャリア保管部18に搬送されて一時的に保管される。一方、ウエハWが搭載されたウエハボート23は熱処理炉22内に搬入されて、ウエハWに熱処理例えばCVD、アニール処理、酸化処理などが行われる。その後、処理を終えたウエハWをキャリアCに戻すときも、キャリアCからウエハWを払い出すときと同様の手順で蓋体41が開放される。上記の縦型熱処理装置1によれば、蓋体41の取り外し機構6にガスノズルとして構成されたキー67が設けられ、当該キー67がキャリアCの蓋体41の内部空間42に進入して、N2ガスを吐出する。これによって内部空間42の大気が、排気が行われている閉塞空間54へパージされるため、開閉ドア5が開かれたときに蓋体41と共にキャリア搬送領域S1の大気雰囲気が持ち込まれることが防がれる。従って、ウエハ搬送領域S2の清浄度が保たれると共に酸素濃度の上昇が抑えられる。その結果として、ウエハWの歩留りの低下を抑えることができる。また、内部空間42に進入したキー67からN2ガスを吐出しているため、前記大気のパージを速やかに、且つ確実に行うことができる。この第1の実施形態においては、対向板61の表面に蓋体41の前面側の開口部49と対向する位置にキー67とは別のガスノズルを設け、キー67を内部空間42に進入させるときに当該ガスノズルも内部空間42に進入させ、当該ガスノズルからN2ガスを吐出させて、内部空間42のパージを行ってもよい。ただし、上記のようにキー67にガスノズルが組み込まれた構成とすることで装置の部品点数を少なくすることができるので有利である。また、キー67からN2ガスを吐出するタイミングとしては上記の例に限られず、キー67が差し込まれてから開閉ドア5が開くまでの間に行われればよい。即ち、例えばキー67の回動中及び容器本体31に対する固定が解除された蓋体41を開閉ドア5へ向けて搬送中に前記N2ガスの吐出を行ってもよく、このように蓋体41の取り外し動作とN2ガスの吐出とを並行して行うことで、スループットの向上を図ることができる。上記の例では取り外し機構6の回動部64に配管69が接続されているが、このように構成されることに限られず、図15のように構成されていてもよい。配管69は基部71に接続され、この基部71上に前記回動部64が設けられている。そして、回動部64はこの基部71に対して既述のエアシリンダ65により回動自在に構成され、基部71には配管69と回動部64の流路64aとを接続する流路72が形成されている。つまり、基部71はいわゆるロータリー継手として構成されている。この場合、回動部64の回動に応じて配管69が撓む必要が無いので、配管69は硬質な配管として構成してもよい。第1の実施形態の変形例また、他に第1の実施形態の変形例として、キー67からN2ガスの吐出を行う代わりにキー67から排気を行ってもよい。図16は、配管69の上流側にN2ガスの供給源60の代わりに真空ポンプなどにより構成される排気機構74が接続された例を示しており、それによってキー67は排気部をなし、ガス吐出口68は排気口として構成されている。第1の実施形態と同様にキー67が蓋体41の内部空間42に進入してから開閉ドア5が開かれるまでの間に前記排気口68から排気が行われ、内部空間42の大気雰囲気が除去されることで、第1の実施形態と同様にウエハ搬送領域S2の雰囲気が乱れることを抑えることができる。第2の実施形態続いて、第2の実施形態について、第1の実施形態との差異点を中心に説明する。この第2の実施形態における蓋体41の取り外し機構6の斜視図を図17に示している。この取り外し機構6ではキー67にガス吐出口68が形成されていない代わりに。取り外し機構6の対向板61の対向面61aにおける面方向に多数のガスの吐出口73が開口している。このガス吐出口73は、対向板61の内部空間63に接続されている。そして、ガス供給管69の下流端はこの内部空間63に開口し、内部空間63に吐出されたN2ガスがガス吐出口73から対向板61の厚さ方向に吐出される。つまり、この例では対向板61がシャワーヘッド状のパージガス吐出部として形成されている。例えばキー67が蓋体41の回動部43に係合した状態で、図18に示すようにガス吐出口73からN2ガスが吐出され、N2ガスは蓋体41の前面側の開口部49のうち、対向面61aに重なる領域に形成された開口部49から内部空間42に供給される。そして、前記N2ガスは、前面側の開口部49のうち対向面61aの外側に形成された開口部49及び側面側の開口部48を介して閉塞空間54に排出される。これによって、この第2の実施形態も、第1の実施形態と同様の効果を奏する。この第2の実施形態においてガス吐出口73からN2ガスを吐出するタイミングとしては、第1の実施形態と同様、図19に示すように取り外し機構6の後退中に行ってもよいし、その他にキー67の回動中に行ってもよい。また図20に示すようにキャリアCが受け渡し位置に移動してからキー67が内部空間42に進入するまでにN2ガスを吐出してもよいが、キー67が内部空間42に進入しているときに吐出を行うことで、ガス吐出口73が蓋体41に近接して速やかに内部空間42のパージを行えるため好ましい。この第2の実施形態では、蓋体41の前面側の開口部49がキャリアCごとに異なっても、蓋体41の内部空間42のパージを行えるように対向板61をシャワーヘッド形状に構成している。また、対向面61aを多孔質体により構成することで、対向面61a全体からN2ガスが吐出されるように構成してもよい。このように構成することで、より確実にN2ガスを内部空間42にN2ガスを供給することができる。また、第1の実施形態の変形例で説明したようにN2ガスの供給源60に代わり排気機構74を接続し、ガス吐出口73を排気口として形成して内部空間42を排気してもよい。前記排気は、上記のN2ガスの供給を行うタイミングと同様のタイミングで行うことができる。また、第1の実施形態及び第2の実施形態において、配管69にイオナイザを介設し、イオンを含んだガスを蓋体41に供給し、蓋体41に付着するパーティクルの除去が容易に行われるように構成してもよい。また、第1の実施形態及び第2の実施形態を共に装置に適用してもよい。また、被処理体が半導体ウエハである例について説明したが、被処理体はこれに限られずガラス基板やLCD基板であってもよい。また、開閉ドア5及び隔壁2は大気雰囲気と不活性ガス雰囲気とを区画することに限られず、例えば互いに湿度が異なるように制御された領域を区画する構成であってもよい。