"成分A少なくともa1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位と、a2架橋性基を有する構成単位とを有する共重合体、成分B少なくともb1スチレン類に由来する構成単位と、b2架橋性基を有する構成単位とを有する共重合体、及び、成分C発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。成分Bの有機概念図に基づく無機性値Iを有機性値Oで除したI/O値と、成分Aの前記カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基が全て脱保護された重合体のI/O値との差が0.40以下である、請求項1に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分Aのa1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位における酸分解性基がアセタールである、請求項1又は2に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分Aがメタアクリル系共重合体である、請求項1~3のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。成分Cが、式c0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物である、請求項1~4のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式c0中、波線部は結合部位を表す。成分Cが、式OS-3、式OS-4、式OS-5、又は式c3で表される化合物である、請求項1~5のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。式OS-3~式OS-5中、R1はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、R6はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。式c3中、RB1はアルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子を表し、RB2はアルキル基又はアリール基を表す。ブロックイソシアネート化合物を更に含有する、請求項1~6のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。アルコキシメチル基含有架橋剤を更に含有する、請求項1~7のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。1請求項1~8のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、3露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、4現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法。前記現像工程後、前記ポストベーク工程前に、現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含む、請求項9に記載の硬化膜の形成方法。請求項9又は10に記載の方法により形成された硬化膜。層間絶縁膜である、請求項11に記載の硬化膜。請求項11又は12に記載の硬化膜を具備する有機EL表示装置。請求項11又は12に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。近年、電子材料分野においては、高集積化、多機能化、高性能化の進行に伴い、回路抵抗や配線間のコンデンサー容量が増大し、消費電力や遅延時間の増大を招いている。中でも、遅延時間の増大は、デバイスの信号スピードの低下やクロストークの発生の大きな要因となるため、この遅延時間を減少させてデバイスの高速化を図るべく、寄生容量の低減が求められている。この寄生容量を低減するため、層間絶縁膜の低誘電率化の要求が高まってきている。アクリル系樹脂からなる層間絶縁膜は、シリコン窒化膜SiN、比誘電率約8、シリコン酸窒化膜SiON、比誘電率約4.5、シリコン酸化膜SiO、比誘電率約4などに比べ低いが、上記の理由から、更なる低誘電率化が望まれている。層間絶縁膜の低誘電率化の方法として、感光性樹脂組成物にスチレン含有ポリマーを添加する方法が知られているが、このような疎水的なポリマーを添加することは、感度が低下するデメリットがあり、生産性の低下が問題となっていた。また、感光性樹脂組成物にスチレン含有ポリマーを添加することにより、配向膜積層工程で使用されるNMPN-メチルピロリドンに対する耐性が悪化することを、本発明者等は見出した。更に、NMPに対する耐性が悪いとパネル信頼性試験においてパネル表示ムラが生じやすいことが明らかとなった。従来の知見では、絶縁膜の低誘電率化と、感度、NMPに対する耐性をすべて満足することが困難であった。本願発明は上記課題を解決することを目的としたものである。すなわち、本発明が解決しようとする課題は、高感度であり、得られる硬化膜が低誘電率でかつNMPN-メチルピロリドンに対する耐性が良好で、信頼性試験においてパネル表示ムラの発生を抑えたポジ型感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜及びその形成方法、並びに、前記硬化膜を備えた有機EL表示装置及び液晶表示装置を提供することである。本発明の上記課題は、以下の<1>、<9>、<11>、<13>又は<14>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>~<8>、<10>、及び<12>とともに以下に記載する。<1>成分A少なくともa1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位と、a2架橋性基を有する構成単位とを有する共重合体、成分B少なくともb1スチレン類に由来する構成単位と、b2架橋性基を有する構成単位とを有する共重合体、及び、成分C発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、<2>成分Bの有機概念図に基づく無機性値Iを有機性値Oで除したI/O値と、成分Aの前記カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基が全て脱保護された共重合体のI/O値との差が0.40以下である、上記<1>に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<3>成分Aのa1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位における酸分解性基がアセタールである、請求項1又は2に記載のポジ型感光性樹脂組成物、<4>成分Aがメタアクリル系共重合体である、上記<1>~<3>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<5>成分Cが、式c0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物である、上記<1>~<4>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、式c0中、波線部は結合部位を表す。<6>成分Cが、式OS-3、式OS-4、式OS-5、又は式c3で表される化合物である、上記<1>~<5>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、式OS-3~式OS-5中、R1はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、R6はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。式c3中、RB1はアルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子を表し、RB2はアルキル基又はアリール基を表す。<7>ブロックイソシアネート化合物を更に含有する、上記<1>~<6>いずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<8>アルコキシメチル基含有架橋剤を更に含有する、上記<1>~<7>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物、<9>1上記<1>~<8>のいずれか1つに記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、2塗布された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、3露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、4現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程、を含む硬化膜の形成方法、<10>前記現像工程後、前記ポストベーク工程前に、現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含む、上記<9>に記載の硬化膜の形成方法、<11>上記<9>又は<10>に記載の方法により形成された硬化膜、<12>層間絶縁膜である、上記<11>に記載の硬化膜、<13>上記<11>又は<12>に記載の硬化膜を具備する有機EL表示装置、<14>上記<11>又は<12>に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。本発明によれば、高感度であり、得られる硬化膜が低誘電率でかつNMPN-メチルピロリドンに対する耐性が良好であり、信頼性試験においてパネル表示ムラの発生を抑えたポジ型感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜及びその形成方法、並びに、前記硬化膜を備えた有機EL表示装置及び液晶表示装置を提供することができた。以下、本発明について詳細に説明する。なお、明細書中、下限~上限の記載は下限以上、上限以下を表し、上限~下限の記載は上限以下、下限以上を表す。すなわち、上限及び下限を含む数値範囲を表す。また、成分A少なくともa1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位と、a2架橋性基を有する構成単位とを有する共重合体等を単に成分A等ともいい、a1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位等を単に構成単位a1等ともいう。また、アクリレート、メタクリレートの双方あるいはいずれかを指す場合メタアクリレートと、アクリル、メタクリルの双方あるいはいずれかを指す場合メタアクリルと、それぞれ記載することがある。ポジ型感光性樹脂組成物本発明のポジ型感光性樹脂組成物以下、単に感光性樹脂組成物ともいう。は、成分A少なくともa1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位と、a2架橋性基を有する構成単位とを有する共重合体、成分B少なくともb1スチレン類に由来する構成単位と、b2架橋性基を有する構成単位とを有する共重合体、及び、成分C発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤、を含有することを特徴とする。本発明の感光性樹脂組成物は、特定の共重合体以下、特定の樹脂ともいう。2成分成分A及び成分B及び光酸発生剤を含有することにより、感度に優れたものとなる。また、本発明の感光性樹脂組成物は、特定の樹脂2成分及び光酸発生剤を含有することにより、得られる硬化膜が低誘電率であることによりパネルクロストークが発生せず、かつNMPN-メチルピロリドンに対する耐性が良好で、信頼性試験においてパネル表示ムラの発生を抑えた硬化膜を形成することができる。なお、パネルクロストークとは、パネル上で駆動していない回路へ駆動信号が漏れ誤放電する現象を意味する。本発明の感光性樹脂組成物は、化学増幅型のポジ型感光性樹脂組成物化学増幅ポジ型感光性樹脂組成物であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、光酸発生剤としてオキシムスルホネート化合物を含有するのが好ましいが、前記オキシムスルホネート化合物は、活性光線に感応して生成する酸が保護された酸性基の脱保護に対して触媒として作用するので、1個の光量子の作用で生成した酸が、多数の脱保護反応に寄与し、量子収率は1を超え、例えば、10の数乗のような大きい値となり、いわゆる化学増幅の結果として、高感度が得られる。また、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、成分Bの有機概念図に基づく無機性値Iを有機性値Oで除したI/O値と、成分Aの前記カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基が全て脱保護された共重合体のI/O値との差が0.40以下であることが好ましい。成分Aと成分BのI/O値の差が0.40以下であることにより、本発明の効果がより一層発揮されるので好ましい。なお、本明細書における基原子団の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えばアルキル基とは、置換基を有さないアルキル基無置換アルキル基のみならず、置換基を有するアルキル基置換アルキル基をも包含するものである。また、本発明に使用する成分Aや成分B等の共重合体が含有する構成単位を導入する方法は、重合法でもよく、高分子反応法でもよい。重合法では、所定の官能基を含有するモノマーを予め合成した後に、これらのモノマーを共重合する。高分子反応法では、重合反応を行った後に、得られた共重合体の構成単位に含まれる反応性基を利用して必要な官能基を構成単位中に導入する。ここで、官能基としては、カルボキシ基又はフェノール性水酸基等の酸基を保護すると同時に強酸の存在下で分解しこれらを遊離するための保護基、エポキシ基又はオキセタニル基などの架橋性基、また、フェノール性水酸基やカルボキシ基のようなアルカリ可溶性基酸基等が例示できる。成分A少なくともa1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位と、a2架橋性基を有する構成単位とを有する共重合体本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、成分A少なくともa1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位以下、構成単位a1ともいう。と、a2架橋性基を有する構成単位以下、構成単位a2ともいう。とを有する共重合体を含有する。また、前記構成単位a1と前記構成単位a2とは、同一の構成単位であってもよいが、異なる構成単位であることが好ましい。成分Aはアルカリ不溶性であり、かつ、酸分解性基が分解したときにアルカリ可溶性となる樹脂であることが好ましい。ここで、酸分解性基とは酸の存在下で分解可能な官能基を意味する。また、アルカリ可溶性とは、化合物樹脂の溶液を基板上に塗布し、90°Cで2分間加熱して形成した塗膜厚さ3μmの、23°Cにおける0.4重量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が、0.01μm/秒以上であることをいう。一方、アルカリ不溶性とは、溶解速度が0.01μm/秒未満であることをいう。成分Aのアルカリ溶解速度は0.005μm/秒未満であることがより好ましい。成分Aは、付加重合型の樹脂であることが好ましく、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来する構成単位を含む重合体であることがより好ましい。なお、成分Aは、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来する構成単位以外の構成単位、例えば、ビニル化合物に由来する構成単位等を有していてもよいが、スチレン類に由来する構成単位は含まない。成分Aは、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来するモノマー単位を、全モノマー単位に対し、50モル以上含有することが好ましく、80モル以上含有することがより好ましく、90モル以上含有することが更に好ましく、100モル含有することが特に好ましい。また、成分Aが含有する構成単位を導入する方法は、重合法でもよく、高分子反応法でもよく、これらの2方法を併用してもよい。重合法では、例えば、カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有するエチレン性不飽和化合物、架橋性基を有するエチレン性不飽和化合物、及び、カルボキシ基等の酸を有するエチレン性不飽和化合物等を混合して付加重合して、目的とする共重合体を得ることができる。高分子反応法では、メタクリル酸2-ヒドロキシエチルを共重合した共重合体にエピクロロヒドリンを反応させてエポキシ基を導入することが例示できる。このように、反応性基を有するエチレン性不飽和化合物を共重合した後に、側鎖に残る反応性基を活用して、高分子反応によって、フェノール性水酸基若しくはカルボキシ基が酸分解性基で保護された残基、及び/又は、架橋性基のような官能基を側鎖に導入することができる。<構成単位a1>成分Aは、a1カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を少なくとも含有する。成分Aが構成単位a1を有することにより、極めて高感度な感光性樹脂組成物とすることができる。本発明におけるカルボキシ基が酸分解性基で保護された残基は、カルボキシ基がアセタール、ケタール、第三級アルキル基、又は、第三級アルキルカーボネート基等で保護された残基であることが好ましい。酸分解性基としては、KrF用ポジ型レジスト、ArF用ポジ型レジストにおける酸分解性基として公知のものを使用でき、特に限定されない。酸分解性基としては、酸により比較的分解し易い基例えば、テトラヒドロピラニル基、エトキシエチル基等のアセタール系官能基や、酸により比較的分解し難い基例えば、t-ブチルエステル基、t-ブチルカーボネート基等のt-ブチル系官能基が知られている。構成単位a1としては、カルボキシ基がアセタール、又は、ケタールで保護された残基を有する構成単位が感度の観点から好ましい。なお、カルボキシ基が下式A1で表されるアセタール又はケタールで保護された残基である場合、残基の全体としては、-C=O-O-CR1R2OR3の構造となっている。式A1中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、少なくともR1及びR2のいずれか一方がアルキル基、又は、アリール基であり、R3は、アルキル基、又は、アリール基を表し、R1又はR2とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよい。また、式A1における波線部分は、他の構造との結合位置を表す。式A1中、R1、R2及びR3における、該アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数1~12であることが好ましく、炭素数1~6であることがより好ましく、炭素数1~4であることが更に好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、テキシル基2,3-ジメチル-2-ブチル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基等を挙げることができる。中でも、メチル基、エチル基が好ましい。環状アルキル基としては、炭素数3~12であることが好ましく、炭素数4~8であることがより好ましく、炭素数4~6であることが更に好ましい。環状アルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。中でも、単環状のものが好ましく、シクロヘキシル基がより好ましい。前記アルキル基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、炭素数6~20のアリール基、炭素数1~6のアルコキシ基が例示できる。置換基としてハロゲン原子を有する場合、R1、R2、R3はハロアルキル基となり、置換基としてアリール基を有する場合、R1、R2、R3はアラルキル基となる。アラルキル基としては、ベンジル基が好ましい。式A1中、R1、R2及びR3における該アリール基としては、炭素数6~12であることが好ましく、炭素数6~10であることがより好ましい。該アリール基は置換基を有していてもよく、該置換基としては炭素数1~6のアルキル基が好ましく例示できる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、1-ナフチル基等が例示でき、フェニル基が好ましい。また、式A1中、R1、R2及びR3は互いに結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成することができる。R1とR2、R1とR3又はR2とR3が結合した場合の環構造としては、例えばシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、テトラヒドロフラニル基、アダマンチル基及びテトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。なお、式A1において、R1及びR2のいずれか一方が、水素原子又はメチル基であることが好ましい。式A1で表される残基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体は、市販のものを用いてもよいし、例えば特開2009-098616号公報の段落0025~0026に記載の方法等、公知の方法で合成したものを用いてもよい。構成単位a1としては、式A2で表される構成単位がより好ましい。式A2中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともR1及びR2のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、R3は、アルキル基又はアリール基を表し、R1又はR2とR3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、R4は、水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合又はアリーレン基を表す。式A2中、R1~R3は、式A1におけるR1~R3と同様であり、好ましい範囲も同様である。式A2中、R1及びR2は、水素原子、又は、炭素数1~3のアルキル基が好ましく、水素原子、又は、メチル基がより好ましい。R3は、直鎖状、分岐鎖状若しくは環状の炭素数6以下のアルキル基、又は、炭素数7~10のアラルキル基が好ましく、エチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基がより好ましい。R1又はR2とR3とが連結した環状エーテルとしては、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基が好ましい。R4は、メチル基が好ましい。Xは単結合又はフェニレン基が好ましい。構成単位a1の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Rは、水素原子又はメチル基を表す。構成単位a1としては、カルボキシ基が式A3で表される第三級アルキル基で保護された残基を有する構成単位であってもよい。アセタール又はケタールで保護された残基に比べると、感度は劣るが、保存安定性に優れるという点で好ましい。なお、カルボキシ基が式A3で表される第三級アルキル基で保護された残基である場合、残基の全体としては、-C=O-O-CR1R2R3の構造である。式A3中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表し、R1、R2及びR3のいずれか2つが互いに結合して環を形成していてもよい。式A3における波線部分は、他の構造との結合位置を表す。式A3のR1~R3における、アルキル基、アリール基の具体例は、式A1におけるアルキル基、アリール基の具体例と同様である。式A3において、好ましい例としては、R1=R2=R3=メチル基の組み合わせや、R1=R2=メチル基でR3=ベンジル基の組み合わせが例示できる。これらの中でも、構成単位a1は、感度の観点から、下記式a1-1で表される構成単位であることが好ましい。式a1-1中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1~6のアルキル基を表し、R3は炭素数1~6のアルキル基又は炭素数4~7のシクロアルキル基を表し、R2とR3とは連結して環を形成してもよい。式a1-1中、R1はメチル基であることが好ましい。式a1-1中、R2は炭素数1~4のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。式a1-1中、R3は炭素数1~4のアルキル基又は炭素数5又は6のシクロアルキル基であることが好ましく、エチル基又はシクロヘキシル基であることがより好ましい。式a1-1中、R2とR3とは連結して環を形成する場合は、R2とR3とが連結した基が、炭素数3~6のアルキレン基であることが好ましく、1,3-プロピレン基又は1,4-ブチレン基であることがより好ましい。<構成単位a2>成分Aは、a2架橋性基を有する構成単位を少なくとも有する。架橋性基としては、前述したカルボキシ基と反応して共有結合を形成するもの、架橋性基同士で熱や光の作用により共有結合を形成するものであればいずれでもよい。カルボキシ基と反応して共有結合を形成する架橋性基を有する構成単位a2としては、エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位、及びN-アルコキシメチルアミド基を有する構成単位が好ましく、架橋性基同士で熱や光の作用により共有結合を形成するものとしては炭素-炭素二重結合が好ましい。これらの架橋性基の中でも、カルボキシ基と反応して共有結合を形成するものが好ましい。架橋性基は、エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位として、成分Aに含まれることが好ましい。また、構成単位a2としては、エポキシ基とオキセタニル基との両方の基を含んでもよい。前記エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位としては、脂環エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位であることが好ましく、オキセタニル基を有する構成単位であることがより好ましい。脂環エポキシ基は、脂肪族環とエポキシ環とが縮合環を形成している基であり、具体的には例えば、3,4-エポキシシクロヘキシル基、2,3-エポキシシクロヘキシル基、2,3-エポキシシクロペンチル基等が好ましく挙げられる。オキセタニル基を有する基としては、オキセタン環を有していれば、特に制限はないが、3-エチルオキセタン-3-イルメチル基が好ましく例示できる。エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位は、1つの構成単位中にエポキシ基又はオキセタニル基を少なくとも1つ有していればよく、1つ以上のエポキシ基と1つ以上のオキセタニル基とを含んでもよく、2つ以上のエポキシ基、又は、2つ以上のオキセタニル基を有していてもよく、特に限定されないが、エポキシ基とオキセタニル基とを合計1~3つ有することが好ましく、エポキシ基とオキセタニル基とを合計1又は2つ有することがより好ましく、エポキシ基とオキセタニル基とを1つ有することが更に好ましい。エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第4168443号公報の段落0031~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられる。オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、例えば、特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルなどを挙げることができる。エポキシ基又はオキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。これらのラジカル重合性単量体の中で、更に好ましいものとしては、特許第4168443号公報の段落0034~0035に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物及び特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルであり、特に好ましいものとしては特開2001-330953号公報の段落0011~0016に記載のオキセタニル基を有するメタアクリル酸エステルである。これらの中でも好ましいものは、アクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルであり、最も好ましいものはアクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチル、及び、メタクリル酸3-エチルオキセタン-3-イルメチルである。これらの構成単位は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。構成単位a2の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。また、架橋性基としては、アルコキシメチル基が窒素原子に置換したアミド基も好ましく用いられる。アルコキシメチル基が窒素原子に置換したアミド基を有する構成単位としては、下式A4で表される構成単位が好ましい。式A4中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1~20のアルキル基又は炭素数6~20のアリール基を表し、R3は水素原子、炭素数1~20のアルキル基、又は炭素数6~20のアリール基を表す。式A4中、R1は水素原子又はメチル基を表し、水素原子が好ましい。R2は炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基を表し、前記アルキル基又はアリール基は置換されていてもよく、置換基としてはハロゲン原子、水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基が挙げられる。R2としては、メチル基、エチル基、プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、s-ブチル基がより好ましい。R3は水素原子、炭素数1~20のアルキル基又は炭素数6~20のアリール基を表し、前記アルキル基又はアリール基は置換されていてもよく、置換基としてはハロゲン原子、水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~20のアルコキシ基が挙げられる。R3は水素原子又は炭素数1~20のアルコキシメチル基がより好ましい。式A4で表される構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の例としては、N-メトキシメチルメタアクリルアミド、N-エトキシメチルメタアクリルアミド、N-n-ブトキシメチルメタアクリルアミド、N-i-ブトキシメチルメタアクリルアミドが好ましく、N-n-ブトキシメチルメタアクリルアミド、N-i-ブトキシメチルメタアクリルアミドがより好ましく、N-n-ブトキシメチルアクリルアミドが特に好ましい。これらの化合物は、市販品ではNRCユニテック株製のNMMA、NEMA、NBMA、IBMA、NMMM、NEMM、NBMM、IBMM等が挙げられる。構成単位a2の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。感度の観点から、成分Aにおける構成単位a2を形成するモノマー単位の含有比率は、成分Aを構成する全モノマー単位に対し、10~70モルが好ましく、15~65モルがより好ましく、20~60モルが更に好ましい。NMPに対する耐性の観点から、成分Aにおける構成単位a2を形成するモノマー単位の含有比率は、成分Aを構成する全モノマー単位に対し、10~70モルが好ましく、10~60モルがより好ましく、10~50モルが更に好ましい。<その他の構成単位a3>成分Aは、本発明の効果を妨げない範囲で、その他の構成単位a3を更に有していてもよい。構成単位a3を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、特開2004-264623号公報の段落0021~0024に記載の化合物を挙げることができるただし、前記した構成単位a1及びa2を除く。。また、成分Aは、感度の観点から、構成単位a3として、酸基を有する構成単位を更に有することが好ましい。酸基としては、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する構成単位であることがより好ましく、カルボキシ基を有する構成単位であることが更に好ましい。構成単位a3は、アクリル酸又はメタクリル酸に由来する構成単位であることがより好ましく、メタクリル酸に由来する構成単位であることが特に好ましい。また、構成単位a3の好ましい例としては、メタアクリル酸エステル、水酸基含有不飽和カルボン酸エステル、脂環構造含有不飽和カルボン酸エステル、及び、N置換マレイミドよりなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構成単位も挙げられる。より好ましい例としては、メタアクリル酸トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イル、メタアクリル酸トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルオキシエチル、メタアクリル酸イソボルニル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸2-メチルシクロヘキシルのような脂環構造含有のメタアクリル酸エステル類、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチルのような水酸基含有不飽和カルボン酸エステル、N置換マレイミド等から由来する構成単位が挙げられる。構成単位a3としては、メタクリル酸又はメタクリル酸2-ヒドロキシエチル由来の構成単位がより好ましい。これらの構成単位a3は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。成分Aを構成する全モノマー単位中、構成単位a3を含有させる場合における構成単位a3を形成するモノマー単位の含有比率は、1~50モルが好ましく、5~40モルが更に好ましく、5~30モルが特に好ましい。本発明における成分Aの重量平均分子量は、2,000~100,000であることが好ましく、3,000~50,000であることがより好ましく、4,000~30,000であることが更に好ましく、10,000~16,000であることが特に好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、テトラヒドロフランTHFを溶媒とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCによるポリスチレン換算重量平均分子量であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物中における成分Aの含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、20~99重量であることが好ましく、30~95重量であることがより好ましく、30~90重量であることが更に好ましい。なお、感光性樹脂組成物の固形分量とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量を表す。成分B少なくともb1スチレン類に由来する構成単位とb2架橋性基を有する構成単位とを有する共重合体本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、成分Aに加え、成分B少なくともb1スチレン類に由来する構成単位とb2架橋性基を有する構成単位とを有する共重合体を含有する。また、前記構成単位b1と前記構成単位b2とは、同一の構成単位であってもよいが、異なる構成単位であることが好ましい。更に、成分Bは、アルカリ可溶性であることが好ましい。成分Bは、付加重合型の樹脂であることが好ましく、構成単位b1に更にメタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来する構成単位を含む共重合体であることがより好ましい。なお、成分Bは、構成単位b1及びメタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来する構成単位以外の構成単位、例えば、ビニル化合物に由来する構成単位等を更に含むことができる。成分Bは、構成単位b1を、全モノマー単位に対し、5~60モル含有することが好ましく、10~50モルがより好ましく、20~40モルが更に好ましい。成分Bは、メタアクリル酸及び/又はそのエステルに由来するモノマー単位を、全モノマー単位に対し50モル以上含有することが好ましく、50~90モル含有することがより好ましく、60~90モル含有することが更に好ましい。また、成分Bが含有する構成単位を導入する方法は、成分Aと同様に、重合法であってもよく、高分子反応法であってもよく、これらの2方法を併用してもよい。<構成単位b1>成分Bは、b1スチレン類に由来する構成単位を有する。構成単位b1を有する成分Bを含有することにより、本発明の感光性樹脂組成物を硬化して得られる層間絶縁膜の誘電率を下げる効果がある。構成単位b1は、下記式b1-1で表されるスチレン類に由来する構成単位であることが好ましい。スチレン類は、スチレンの不飽和基のα位又はベンゼン環に置換基を有していてもよい。式b1-1中、R1は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表し、R2はハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数6~12のアリール基を表し、mは0~5の整数を表す。式b1-1中、R1は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基がより好ましい。式b1-1中、R2はハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数6~12のアリール基を表す。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子が好ましい。アミノ基は、置換されていてもよく、置換基としては炭素数1~4のアルキル基、炭素数6~12のアリール基が挙げられる。炭素数1~12のアルキル基は、直鎖、分岐、又は環状でもよく、置換されていてもよく、置換基としてはハロゲン原子、水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数6~10のアリール基が挙げられる。炭素数6~12のアリール基は置換されていてもよく、置換基としてはハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~4のアルキル基が挙げられる。式b1-1中、mは0~5の整数を表し、mは0がより好ましい。式b1-1で表されるスチレン又は置換スチレンに由来する構成単位の好ましい例としては、下記の構成単位が挙げられる。中でも、スチレン又はα-メチルスチレン由来の構成単位がより好ましく、スチレン由来の構成単位が更に好ましい。<構成単位b2>成分Bは、b2架橋性基を有する構成単位を含有する。架橋性基としては、前述したカルボキシ基と反応して共有結合を形成するもの、架橋性基同士で熱や光の作用により共有結合を形成するものであればいずれでもよい。成分Bにおける構成単位b2は、成分Aにおける構成単位a2と同義であり、好ましい態様も同様である。比誘電率の観点から、成分Bにおける構成単位b1を形成するモノマー単位の含有比率は、成分Bを構成する全モノマー単位に対し、5~50モルが好ましく、5~45モルがより好ましく、5~40モルが更に好ましい。NMPに対する耐性の観点から、成分Bにおける構成単位b2を形成するモノマー単位の含有比率は、成分Bを構成する全モノマー単位に対し、5~60モルが好ましく、10~50モルがより好ましく、20~50モルが更に好ましい。<その他の構成単位b3>成分Bは、本発明の効果を妨げない範囲で、その他の構成単位b3を更に有していてもよい。構成単位b3を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、例えば、特開2004-264623号公報の段落0021~0024に記載の化合物を挙げることができるただし、前記した構成単位b1及びb2を除く。。また、成分Bは、感度の観点から構成単位a3と同様に、構成単位b3として酸基を有する構成単位を更に有することが好ましい。酸基としては、カルボキシ基及び/又はフェノール性水酸基を有する構成単位であることがより好ましく、カルボキシ基を有する構成単位であることが更に好ましい。アクリル酸又はメタクリル酸に由来する構成単位であることがより好ましく、メタクリル酸に由来する構成単位であることが特に好ましい。また、構成単位b3のその他の例としては、メタアクリル酸エステル類、ビニル化合物、及び、N置換マレイミドよりなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構成単位が好ましく挙げられる。中でも、構成単位b3を形成するために用いられるラジカル重合性単量体としては、メタアクリル酸ジシクロペンタニル、メタアクリル酸トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イル、メタアクリル酸シクロヘキシルのような脂環構造を有するメタアクリル酸エステル類、メタアクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチルを好ましく例示できる。構成単位b3は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。成分Bを構成する全モノマー単位中、構成単位b3を含有させる場合における構成単位b3を形成するモノマー単位の含有比率は、5~70モルが好ましく、15~65モルがより好ましく、20~60モルが更に好ましい。本発明における成分Bの重量平均分子量は、2,000~100,000であることが好ましく、3,000~50,000であることがより好ましく、4,000~30,000であることが更に好ましく、10,000~20,000であることが特に好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、テトラヒドロフランTHFを溶媒とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCを用いて測定したポリスチレン換算の重量平均分子量であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物中における成分Bの含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、1~50重量であることが好ましく、5~40重量であることがより好ましく、10~30重量であることが更に好ましい。また、本発明の感光性樹脂組成物中における成分Aと成分Bとの含有比率は、成分Aの含有量/成分Bの含有量=1~6であることが好ましく、2~6であることがより好ましく、3~5であることが更に好ましい。上記範囲であると、本発明の効果をより発揮できる。なお、本発明の感光性樹脂組成物中では、本発明の効果を妨げない範囲で成分A及び成分B以外の樹脂を併用してもよい。ただし、成分A及び成分B以外の樹脂の含有量は、現像性の観点から、成分Aの含有量及び成分Bの含有量より少ないことが好ましい。<I/O値>また、本発明の感光性樹脂組成物は、成分Bの有機概念図に基づく無機性値Iを有機性値Oで除したI/O値と、成分Aの前記カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基が全て脱保護された共重合体のI/O値との差が0.40以下であることが好ましい。成分Aと成分BのI/O値の差が0.40以下であることにより、本発明の効果がより一層発揮されるので好ましい。ここで、I/O値とは、無機性値/有機性値とも称される各種有機化合物の極性を有機概念的に取り扱った値であり、各官能基にパラメータを設定する官能基寄与法の一つである。前記I/O値については、有機概念図甲田善生著、三共出版1984;KUMAMOTOPHARMACEUTICALBULLETIN,第1号、第1~16項1954年;化学の領域、第11巻、第10号、719~725項1957年;フレグランスジャーナル、第34号、第97~111項1979年;フレグランスジャーナル、第50号、第79~82項1981年;などの文献に詳細な説明がある。I/O値の概念は、化合物の性質を、共有結合性を表す有機性基と、イオン結合性を表わす無機性基とに分け、全ての有機化合物を有機軸、無機軸と名付けた直行座標上の1点ずつに位置づけて示すものである。前記無機性値とは、有機化合物が有している種々の置換基や結合等の沸点への影響力の大小を、水酸基を基準に数値化したものである。具体的には、直鎖アルコールの沸点曲線と直鎖パラフィンの沸点曲線との距離を炭素数5の付近でとると約100°Cとなるので、水酸基1個の影響力を数値で100と定め、この数値に基づいて各種置換基あるいは各種結合などの沸点への影響力を数値化した値が、有機化合物が有している置換基の無機性値となる。例えば、-COOH基の無機性値は150であり、炭素-炭素二重結合の無機性値は2である。したがって、ある種の有機化合物の無機性値とは、化合物が有している各種置換基や結合等の無機性値の総和を意味する。また、前記有機性値とは、分子内のメチレン基を単位とし、そのメチレン基を代表する炭素原子の沸点への影響力を基準にして定めたものである。即ち、直鎖飽和炭化水素化合物の炭素数5~10付近で炭素1個が加わることによる沸点上昇の平均値は20°Cであるから、これを基準に炭素原子1個の有機性値を20と定め、これを基礎として各種置換基や結合等の沸点への影響力を数値化した値が有機性値となる。例えば、ニトロ基-NO2の有機性値は70である。I/O値は、0に近いほど非極性疎水性、有機性が大きいの有機化合物であることを示し、値が大きいほど極性親水性、無機性が大きいの有機化合物であることを示す。以下、I/O値の計算方法の一例を示す。メタクリル酸/メタクリル酸メチル/スチレン共重合体共重合モル比:2/5/3のI/O値は、以下に示す方法により該共重合体の無機性値及び有機性値を計算し、下記式より求めることができる。I/O値=共重合体の無機性値/共重合体の有機性値前記共重合体の無機性値は、メタクリル酸の無機性値×メタクリル酸のモル比と、メタクリル酸メチルの無機性値×メタクリル酸メチルのモル比と、スチレンの無機性値×スチレンのモル比との合計を求めることにより算出される。メタクリル酸はカルボキシ基を1個有し、メタクリル酸メチルはエステル基を1個有し、スチレンは芳香環を1個有するため、前記メタクリル酸の無機性値は、150カルボキシ基の無機性値×1カルボキシ基の個数=150、前記メタクリル酸メチルの無機性値は、60エステル基の無機性値×1エステル基の個数=60、前記スチレンの無機性値は、15芳香環の無機性値×1芳香環の個数=15である。よって、前記共重合体の無機性値は、150×2メタクリル酸のモル比60×5メタクリル酸メチルのモル比15×3スチレンのモル比より645である。前記共重合体の有機性値は、メタクリル酸の有機性値×メタクリル酸のモル比と、メタクリル酸メチルの有機性値×メタクリル酸メチルのモル比と、スチレンの有機性値×スチレンのモル比との合計を求めることにより算出される。メタクリル酸は炭素原子4個を有し、メタクリル酸メチルは炭素原子5個を有し、スチレンは炭素原子8個を有するため、前記メタクリル酸の有機性値は、20炭素原子の有機性値×4炭素原子数=80、前記メタクリル酸メチルの有機性値は、20炭素原子の有機性値×5炭素原子数=100、前記スチレンの有機性値は、20炭素原子の有機性値×8炭素原子数=160である。よって、前記共重合体の有機性値は、80×2メタクリル酸のモル比100×5メタクリル酸メチルのモル比160×3スチレンのモル比より1140である。以上から、前記メタクリル酸/メタクリル酸メチル/スチレン共重合体のI/O値は、645該共重合体の無機性値/1140該共重合体の有機性値=0.566である。このようにI/O値と樹脂を構成するモノマーとその組成比には密接な関係がある。本明細書におけるI/O値は、前述した計算方法により計算した値である。成分A又は成分Bが示すI/O値を制御する方法としては、例えば、ヒドロキシエチル基やヒドロキシプロピル基などの無機性値の大きい基の樹脂中の割合を増やすことでI/O値を上げることができ、ジシクロペンタニル基やドデシル基などの有機性値の大きい基の樹脂中の割合を増やすことでI/O値を下げることができる。成分C発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤本発明の感光性樹脂組成物は、成分C発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤を含有する。成分Cとしては、波長300nm以上、好ましくは波長300~450nmの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に制限されるものではない。また、波長300nm以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長300nm以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。成分Cとしては、発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤が好ましく、pKaが3以下の酸を発生する光酸発生剤がより好ましい。なお、pKaについては、公知の測定方法、公知の算出方法、及び/又は、文献値等により値を求めることができる。発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤の例として、トリクロロメチル-s-トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、感度の観点から、オキシムスルホネート化合物を用いることが好ましい。これら光酸発生剤は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。これらの具体例としては、以下が例示できる。トリクロロメチル-s-トリアジン類として、2-3-クロロフェニル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシフェニル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メチルチオフェニル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-4-メトキシ-β-スチリル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-ピペロニル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-フラン-2-イルエテニル]-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-5-メチルフラン-2-イルエテニル]-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニルエテニル]-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン、又は、2-4-メトキシナフチル-ビス4,6-トリクロロメチル-s-トリアジン等。ジアリールヨードニウム塩類として、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、フェニル-4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、又は、フェニル-4-2’-ヒドロキシ-1’-テトラデカオキシフェニルヨードニウムp-トルエンスルホナート等。トリアリールスルホニウム塩類として、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、又は、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート等。第四級アンモニウム塩類として、テトラメチルアンモニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリスp-クロロフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス3-トリフルオロメチルフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス2,6-ジフルオロフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリスp-クロロフェニルボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス3-トリフルオロメチルフェニルボレート等。ジアゾメタン誘導体として、ビスシクロヘキシルスルホニルジアゾメタン、ビスt-ブチルスルホニルジアゾメタン、ビスp-トルエンスルホニルジアゾメタン等。イミドスルホネート誘導体として、トリフルオロメチルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-ジカルボキシイミド、スクシンイミドトリフルオロメチルスルホネート、フタルイミドトリフルオロメチルスルホネート、N-ヒドロキシナフタルイミドメタンスルホネート、N-ヒドロキシ-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボキシイミドプロパンスルホネート等。本発明の感光性樹脂組成物は、成分C発生酸のpKaが4以下である光酸発生剤として、下記式c0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物を含むことが好ましい。なお、波線部分は、他の化学構造との結合位置を表す。前記式c0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物は、下記式c1で表される化合物であることが好ましい。式c1中、R5及びR6はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、R5及びR6は連結して環を形成していてもよく、R7はアルキル基、シクロアルキル基、アリール又はヘテロアリール基を表す。式c1中、R5は、炭素原子数1~6のアルキル基、炭素原子数1~6のアルコキシ基、炭素原子数6~20のアリール基、炭素原子数2~10のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2~10のアシル基、又はシアノ基が好ましい。前記炭素原子数1~6のアルキル基は直鎖、分岐、又は環状でもよい。前記アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基が挙げられる。式c1中、R6は、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基、炭素原子数6~20のアリール基、炭素原子数3~10の複素環基、アミノ基、モルフォリノ基、又はシアノ基が好ましい。前記炭素原子数1~10のアルキル基は直鎖、分岐、又は環状でもよい。前記炭素原子数3~10の複素環基は炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子を含んでもよい。前記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、複素環基、又はアミノ基は置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基が挙げられる。前記アリール基、複素環基、又は環状アルキル基は、他の脂肪族環又は芳香族環と縮合環を形成してもよい。式c1中、R7は、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数3~10のシクロアルキル基、又は炭素原子数6~20のアリール基が好ましい。前記炭素原子数1~10のアルキル基は直鎖でも分岐でもよい。前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基が挙げられる。式c1中、R5とR6とは互いに結合して5員環又は6員環を形成してもよい。前記5員環又は6員環としては、脂肪族炭素環又は複素環が挙げられ、複素環を形成する場合には、R5及び/又はR6は炭素原子、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子が好ましい。前記5員環又は6員環は任意の置換基を有していてもよく、任意の有機基と不飽和結合で連結していてもよい。また、前記5員環又は6員環は、他の脂肪族環、芳香族環、又は複素環と縮合環を形成してもよい。式c0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物化合物の好適な態様の一つは、下記式c1-1で表される化合物である。式c1-1中、R7は、炭素数1~8のアルキル基、p-トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表し、Xは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、tは、0~3の整数を表し、tが2又は3であるとき、複数のXは同一でも異なっていてもよい。前記式c1-1のR7における炭素数1~8のアルキル基、及び、ノナフルオロブチル基は、直鎖であっても、分岐を有していてもよい。また、前記R7におけるアルキル基の炭素数は、1~4であることが好ましく、1~3であることがより好ましい。また、前記R7におけるカンホリルcamphoryl基と硫黄原子との結合位置は、特に制限はないが、10位であることが好ましい。すなわち、前記カンホリル基は、10-カンホリル基であることが好ましい。前記式c1-1におけるR7は、メチル基、n-プロピル基、n-オクチル基、p-トルイル基又はカンホリル基が好ましく、n-プロピル基、n-オクチル基、p-トルイル基又はカンホリル基であることがより好ましく、n-プロピル基又はp-トルイル基であることが更に好ましい。Xで表されるアルキル基としては、炭素原子数1~4の、直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が好ましい。Xで表されるアルコキシ基としては、炭素原子数1~4の、直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基が好ましい。Xで表されるハロゲン原子としては、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。tとしては、0又は1が好ましい。式c1-1中、tが1であり、Xがメチル基であり、Xの置換位置がオルト位であり、R7が炭素原子数1~10の直鎖状アルキル基、7,7-ジメチル-2-オキソノルボルニルメチル基、又は、p-トルイル基である化合物が特に好ましい。式c1-1で表されるオキシムスルホネート化合物の好ましい具体例としては、下記化合物i、化合物ii、化合物iii、化合物iv等が挙げられ、これらの化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種類以上を併用することもできる。化合物i~ivは、市販品として、入手することができる。また、他の種類の光酸発生剤と組み合わせて使用することもできる。式c0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物としては、下記式c3で表される化合物であることも好ましい。式c3中、RB1はアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、RB2はアルキル基又はアリール基を表す。式c3中、RB1は、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基又はハロゲン原子が好ましい。RB1におけるアルキル基及びアルコキシ基は置換基を有していてもよく、アルキル基は直鎖状、分岐状、又は環状でもよい。置換基としてはハロゲン原子、水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましい。RB2は、炭素数1~10のアルキル基又は炭素数6~20のアリール基が好ましい。RB2におけるアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよく、アルキル基は直鎖状、分岐状、又は環状でもよい。置換基としてはハロゲン原子、水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~10のアルコキシ基が好ましい。式c3におけるRB1としては、ハロゲン原子、炭素原子数1~4のアルキル基、又は炭素原子数1~4のアルコキシ基が好ましい。RB2は、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~5のハロゲン化アルキル基、Wで置換されていてもよいフェニル基、Wで置換されていてもよいナフチル基又はWで置換されていてもよいアントラニル基が好ましく、Wは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数1~10のアルコキシ基、炭素原子数1~5のハロゲン化アルキル基又は炭素原子数1~5のハロゲン化アルコキシ基が好ましい。式c3におけるRB2としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-オクチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ-n-プロピル基、パーフルオロ-n-ブチル基、p-トリル基、4-クロロフェニル基又はペンタフルオロフェニル基が好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基又はp-トリル基であることが特に好ましい。RB1で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好ましい。RB1で表される炭素原子数1~4のアルキル基としては、メチル基又はエチル基が好ましい。RB1で表される炭素原子数1~4のアルコキシ基としては、メトキシ基又はエトキシ基が好ましい。式c0で表されるオキシムスルホネート残基の少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物のうち、式c3で表される化合物に包含される化合物の好ましい態様としては、式c1中、R5が、フェニル基又は4-メトキシフェニル基を表し、R6がシアノ基を表し、R7が、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基又は4-トリル基を表す態様である。以下、式c1で表される化合物のうち、式c3で表される化合物に包含される化合物の特に好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。α-メチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR5=フェニル基、R6=シアノ基、R7=メチル基α-エチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR5=フェニル基、R6=シアノ基、R7=エチル基α-n-プロピルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR5=フェニル基、R6=シアノ基、R7=n-プロピル基α-n-ブチルスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR5=フェニル基、R6=シアノ基、R7=n-ブチル基α-4-トルエンスルホニルオキシイミノベンジルシアニドR5=フェニル基、R6=シアノ基、R7=4-トリル基α-メチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR5=4-メトキシフェニル基、R6=シアノ基、R7=メチル基α-エチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR5=4-メトキシフェニル基、R6=シアノ基、R7=エチル基α-n-プロピルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR5=4-メトキシフェニル基、R6=シアノ基、R7=n-プロピル基α-n-ブチルスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR5=4-メトキシフェニル基、R6=シアノ基、R7=n-ブチル基α-4-トルエンスルホニルオキシイミノ-4-メトキシフェニルアセトニトリルR5=4-メトキシフェニル基、R6=シアノ基、R7=4-トリル基また、前記式c0で表されるオキシムスルホネート残基を少なくとも1つ有する化合物としては、下記式OS-3、式OS-4、又は、式OS-5で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。式OS-3~OS-5中、R1はアルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、複数存在するR2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はハロゲン原子を表し、複数存在するR6はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基、又はアルコキシスルホニル基を表し、XはO又はSを表し、nは1又は2を表し、mは0~6の整数を表す。前記式OS-3~OS-5中、R1で表されるアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。前記式OS-3~OS-5中、R1で表されるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。また、前記式OS-3~OS-5中、R1で表されるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数6~30のアリール基が好ましい。また、前記式OS-3~OS-5中、R1で表されるヘテロアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数4~30のヘテロアリール基が好ましく、少なくとも1つの複素芳香環であればよく、例えば、複素芳香環とベンゼン環とが縮環していてもよい。R1で表されるアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。前記式OS-3~OS-5中、R2は、水素原子、アルキル基、又はアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましい。前記式OS-3~OS-5中、化合物中に2以上存在するR2のうち、1つ又は2つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることが好ましく、1つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることがより好ましく、1つがアルキル基であり、かつ残りが水素原子であることが特に好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R2で表されるアルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよい。R2で表されるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基としては、前記R1におけるアルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基と同様の基が例示できる。前記式OS-3~OS-5中、R2で表されるアルキル基としては、置換基を有してもよい総炭素数1~12のアルキル基であることが好ましく、置換基を有してもよい総炭素数1~6のアルキル基であることがより好ましい。R2で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基が好ましく、メチル基が更に好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R2で表されるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数6~30のアリール基であることが好ましい。R2で表されるアリール基としてフェニル基、p-メチルフェニル基、o-クロロフェニル基、p-クロロフェニル基、o-メトキシフェニル基、p-フェノキシフェニル基が好ましい。前記式OS-3~OS-5中、XはO又はSを表し、Oであることが好ましい。前記式OS-3~OS-5において、Xを環員として含む環は、5員環又は6員環である。前記式OS-3~OS-5中、nは1又は2を表し、XがOである場合、nは1であることが好ましく、また、XがSである場合、nは2であることが好ましい。前記式OS-3~OS-5中、R6で表されるアルキル基及びアルキルオキシ基は、置換基を有していてもよい。前記式OS-3~OS-5中、R6で表されるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。R6で表されるアルキルオキシ基としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、フェノキシエチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、又は、エトキシエチルオキシ基が好ましい。R6におけるアミノスルホニル基としては、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、メチルフェニルアミノスルホニル基、アミノスルホニル基が挙げられる。R6で表されるアルコキシスルホニル基としては、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、プロピルオキシスルホニル基、ブチルオキシスルホニル基が挙げられる。R6で表されるアルキル基又はアルキルオキシ基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノカルボニル基が挙げられる。また、前記式OS-3~OS-5中、mは0~6の整数を表し、0~2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることが特に好ましい。また、前記式OS-3で表される化合物は、下記式OS-6、式OS-10又は式OS-11で表される化合物であることが特に好ましく、前記式OS-4で表される化合物は、下記式OS-7で表される化合物であることが特に好ましく、前記式OS-5で表される化合物は、下記式OS-8又は式OS-9で表される化合物であることが特に好ましい。式OS-6~OS-11中、R1はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R7は、水素原子又は臭素原子を表し、R8は水素原子、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、R9は水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、R10は水素原子又はメチル基を表す。前記式OS-6~OS-11におけるR1は、前記式OS-3~OS-5におけるR1と同義であり、好ましい態様も同様である。前記式OS-6におけるR7は、水素原子又は臭素原子を表し、水素原子であることが好ましい。前記式OS-6~OS-11におけるR8は、水素原子、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、炭素数1~8のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~6のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。前記式OS-8及び式OS-9におけるR9は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、水素原子であることが好ましい。前記式OS-8~OS-11におけるR10は、水素原子又はメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムの立体構造E,Zについては、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。前記式OS-3~OS-5で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記例示化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。前記式c0で表されるオキシムスルホネート残基を少なくとも1つを有するオキシムスルホネート化合物の好適な他の態様としては、下記式OS-1で表される化合物が挙げられる。前記式OS-1中、R1は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表す。R2は、アルキル基、又は、アリール基を表す。Xは-O-、-S-、-NH-、-NR5-、-CH2-、-CR6H-、又は、-CR6R7-を表し、R5~R7はアルキル基、又はアリール基を表す。R21~R24は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。R21~R24のうち2つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。R21~R24としては、水素原子、ハロゲン原子、及び、アルキル基が好ましく、また、R21~R24のうち少なくとも2つが互いに結合してアリール基を形成する態様もまた、好ましく挙げられる。中でも、R21~R24がいずれも水素原子である態様が感度の観点から好ましい。前記した置換基は、いずれも、更に置換基を有していてもよい。前記式OS-1で表される化合物は、下記式OS-2で表される化合物であることがより好ましい。前記式OS-2中、R1、R2、R21~R24は、それぞれ前記式OS-1におけるR1、R2、R21~R24と同義であり、好ましい例もまた同様である。これらの中でも、式OS-1、及び、式OS-2におけるR1がシアノ基、又はアリール基である態様がより好ましく、式OS-2で表され、かつR1がシアノ基、フェニル基又はナフチル基である態様が最も好ましい。また、前記オキシムスルホネート化合物において、オキシムやベンゾチアゾール環の立体構造E,Z等についてはそれぞれ、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。以下に、本発明に好適に用いることができる式OS-1で表される化合物の具体例例示化合物b-1~b-34を示すが、本発明はこれに限定されない。なお、具体例中、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Bnはベンジル基を表し、Phはフェニル基を表す。上記化合物の中でも、感度と安定性との両立の観点から、b-9、b-16、b-31、b-33が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、活性光線に感応する成分C光酸発生剤として1,2-キノンジアジド化合物を含まないことが好ましい。その理由は、1,2-キノンジアジド化合物は、逐次型光化学反応によりカルボキシ基を生成するが、その量子収率は1以下であり、オキシムスルホネート化合物に比べて感度が低いためである。これに対してオキシムスルホネート化合物は、活性光線に感応して生成する酸が保護された酸性基の脱保護に対して触媒として作用するので、1個の光量子の作用で生成した酸が、多数の脱保護反応に寄与し、量子収率は1を超え、例えば、10の数乗のような大きい値となり、いわゆる化学増幅の結果として、高感度が得られるものと推測される。本発明の感光性樹脂組成物における成分C光酸発生剤の含有量は、成分A及び成分Bの総含有量100重量部に対して、0.1~10重量部であることが好ましく、0.5~10重量部であることがより好ましい。<溶剤>本発明の感光性樹脂組成物は、溶剤を含有するのが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分である成分A、成分B及び成分C、並びに、好ましい成分である後述の各種添加剤の任意成分を、溶剤に溶解又は分散した液として調製されることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、上記した溶剤のうち、例えば、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類のジエチレングリコールエチルメチルエーテル、及び/又は、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましい。これら溶剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明に用いることができる溶剤は、1種単独、又は、2種を併用することが好ましく、2種を併用することがより好ましく、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類とプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類とを併用することが更に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物における溶剤の含有量は、成分A及び成分Bの総含有量100重量部当たり、50~3,000重量部であることが好ましく、100~2,000重量部であることがより好ましく、150~1,500重量部であることが更に好ましい。<その他の成分>本発明の感光性樹脂組成物には、その他の成分を含有することができる。その他の成分として、本発明の感光性樹脂組成物は、感度の観点から、光増感剤を含有することが好ましく、液保存安定性の観点から、塩基性化合物を含有することが好ましく、膜物性の観点から、架橋剤を含有することが好ましく、基板密着性の観点から、密着改良剤を含有することが好ましく、また、塗布性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。更に、必要に応じて、本発明の感光性樹脂組成物には、現像促進剤、酸化防止剤、可塑剤、熱ラジカル発生剤、熱酸発生剤、酸増殖剤、紫外線吸収剤、増粘剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤などの、公知の添加剤を加えることができる。以下、本発明の感光性樹脂組成物に含有することができるその他の成分を説明する。<光増感剤>本発明の感光性樹脂組成物は、光増感剤を含有することが好ましい。光増感剤を含有することにより、露光感度向上に有効であり、露光光源がg,h線混合線の場合に特に有効である。光増感剤としては、アントラセン誘導体、アクリドン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ベーススチリル誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体が好ましい。アントラセン誘導体としては、アントラセン、9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ジクロロアントラセン、2-エチル-9,10-ジメトキシアントラセン、9-ヒドロキシメチルアントラセン、9-ブロモアントラセン、9-クロロアントラセン、9,10-ジブロモアントラセン、2-エチルアントラセン、9,10-ジメトキシアントラセンが好ましい。アクリドン誘導体としては、アクリドン、N-ブチル-2-クロロアクリドン、N-メチルアクリドン、2-メトキシアクリドン、N-エチル-2-メトキシアクリドンが好ましい。チオキサントン誘導体としては、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-クロロチオキサントンが好ましい。クマリン誘導体としては、クマリン-1、クマリン-6H、クマリン-110、クマリン-102が好ましい。ベーススチリル誘導体としては、2-4-ジメチルアミノスチリルベンゾオキサゾール、2-4-ジメチルアミノスチリルベンゾチアゾール、2-4-ジメチルアミノスチリルナフトチアゾールが挙げられる。ジスチリルベンゼン誘導体としては、ジスチリルベンゼン、ジ4-メトキシスチリルベンゼン、ジ3,4,5-トリメトキシスチリルベンゼンが挙げられる。これらの中でも、アントラセン誘導体が好ましく、9,10-ジアルコキシアントラセンアルコキシ基の炭素数1~6がより好ましい。光増感剤の具体例としては、下記が挙げられる。なお、下記において、Meはメチル基、Etはエチル基、Buはブチル基を表す。本発明の感光性樹脂組成物における光増感剤の含有量は、成分A及び成分Bの総含有量100重量部に対して、0.1~10重量部であることが好ましく、0.5~10重量部であることがより好ましい。上記の数値範囲内にあると、所望の感度が得やすくなり好ましい。<塩基性化合物>本発明の感光性樹脂組成物は、液保存安定性の観点から、塩基性化合物を含有することが好ましい。塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、及び、カルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。脂肪族アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、トリ-n-プロピルアミン、ジ-n-ペンチルアミン、トリ-n-ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミンなどが挙げられる。芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、ベンジルアミン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。複素環式アミンとしては、例えば、ピリジン、2-メチルピリジン、4-メチルピリジン、2-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2-フェニルピリジン、4-フェニルピリジン、N-メチル-4-フェニルピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、4-メチルイミダゾール、2-フェニルベンズイミダゾール、2,4,5-トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、8-オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、4-メチルモルホリン、N-シクロヘキシル-N’-[2-4-モルホリニルエチル]チオ尿素、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン、1,8-ジアザビシクロ[5.3.0]-7-ウンデセンなどが挙げられる。第四級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ヘキシルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。カルボン酸の第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ-n-ブチルアンモニウムアセテート、テトラ-n-ブチルアンモニウムベンゾエートなどが挙げられる。本発明に用いることができる塩基性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよいが、2種以上を併用することが好ましく、2種を併用することがより好ましく、複素環式アミンを2種併用することが更に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物における塩基性化合物の含有量は、成分A及び成分Bの総含有量100重量部に対して、0.001~1重量部であることが好ましく、0.002~0.2重量部であることがより好ましい。<架橋剤>本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じ、架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤を添加することにより、本発明の感光性樹脂組成物により得られる硬化膜をより強固な膜とすることができる。架橋剤としては、例えば、以下に述べるブロックイソシアネート系架橋剤、分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、アルコキシメチル化メラミン化合物のようなアルコキシメチル基含有架橋剤、又は、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物等を添加することができる。中でも、ブロックイソシアネート系架橋剤は、レジスト感度や保存安定性の観点から特に好ましい。また、アルコキシメチル基含有架橋剤も好適に用いることができ、中でもメチロール化メラミン化合物がより好ましい。本発明の感光性樹脂組成物中における架橋剤の添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、0.05~50重量部であることが好ましく、0.2~40重量部であることがより好ましく、0.5~30重量部であることが更に好ましい。この範囲で添加することにより、機械的強度及び耐溶剤性に優れた硬化膜が得られる。-ブロックイソシアネート系架橋剤-ブロックイソシアネート系架橋剤としては、ブロックイソシアネート基を有する化合物ブロックイソシアネート化合物であれば特に制限はないが、硬化性の観点から、1分子内に2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物であることが好ましい。なお、本発明におけるブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。また、前記ブロックイソシアネート基は、90°C~250°Cの熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であることが好ましい。また、ブロックイソシアネート系架橋剤としては、その骨格は特に限定されるものではなく、ヘキサメチレンジイソシアネートHDI骨格、イソホロンジイソシアネートIPDI骨格、及び、HDIやIPDIから派生するプレポリマー型の骨格の化合物を好適に用いることができる。前記ブロックイソシアネート基におけるイソシアネート基のブロック剤としては、特に限定されるものではなく、ジエステル化合物等の活性メチレン化合物、オキシム化合物、ラクタム化合物、アミン化合物等の活性水素化合物を好ましく用いることができる。これらの中でも、反応性の観点から、活性メチレン化合物が特に好ましい。前記活性メチレン化合物としては、マロン酸ジエチル、マロン酸ジメチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル等が例示できる。前記オキシム化合物としては、シクロヘキサノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム、アセトキシム等が例示できる。前記ラクタム化合物としては、ε-カプロラクタム、γ-ブチロラクタム等が例示できる。前記アミン化合物としては、アニリン、ジフェニルアミン、エチレンイミン、ポリエチレンイミン等が例示できる。なお、前記活性水素化合物は、下記式に示すようにイソシアネート基と反応し、ブロックイソシアネート基を形成する。R-NCOH-R’→R-NH-C=O-R’式中、H-R’は活性水素化合物を表し、H-R’におけるHは活性水素原子を表し、Rはイソシアネート化合物における該イソシアネート基以外の部分を表し、R’は活性水素化合物における該活性水素原子以外の部分を表す。これらブロックイソシアネート系架橋剤は、市販品として入手可能であり、例えば、デュラネートMF-K60X、MF-K60B、MF-B60X、17B-60P、TPA-B80E、E402-B80B、SBN-70D、K6000以上、旭化成ケミカルズ株製、デスモジュールBL3272、BL3575/1以上、住化バイエルウレタン株製、ウレハイパーPUR-1804DIC株製などを好ましく使用することができる。これらの中でも、デュラネートMF-K60X、MF-K60B、17B-60P、SBN-70D、K6000が特に好ましい。本発明の感光性樹脂組成物にブロックイソシアネート系架橋剤を用いる場合のブロックイソシアネート系架橋剤の添加量は、成分A及び成分Bの総含有量100重量部に対して、0.1~30重量部であることが好ましく、0.2~20重量部であることがより好ましく、0.5~15重量部であることが更に好ましい。-アルコキシメチル基含有架橋剤-アルコキシメチル基含有架橋剤としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル及びアルコキシメチル化尿素等が好ましい。これらは、それぞれメチロール化メラミン、メチロール化ベンゾグアナミン、メチロール化グリコールウリル、又は、メチロール化尿素のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等を挙げることができるが、アウトガスの発生量の観点から、特にメトキシメチル基が好ましい。これらのアルコキシメチル基含有架橋剤のうち、アルコキシメチル化メラミン化合物ががより好ましい架橋剤として挙げられ、アミノ基の窒素原子がメトキシメチル基で置換されたメラミン化合物が特に好ましい。これらアルコキシメチル基含有架橋剤は、市販品として入手可能であり、例えば、サイメル300、301、303、370、325、327、701、266、267、238、1141、272、202、1156、1158、1123、1170、1174、UFR65、300以上、三井サイアナミッド株製、ニカラックMX-750、-032、-706、-708、-40、-31、-270、-280、-290、ニカラックMS-11、ニカラックMW-30HM、-100LM、-390、以上、株三和ケミカル製などを好ましく使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物にアルコキシメチル基含有架橋剤を用いる場合のアルコキシメチル基含有架橋剤の添加量は、成分A及び成分Bの総含有量100重量部に対して、0.05~30重量部であることが好ましく、0.2~10重量部であることがより好ましい。この範囲で添加することにより、現像時の好ましいアルカリ溶解性と、硬化後の膜の優れた耐溶剤性が得られる。-分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物-分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。これらは市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010以上、ジャパンエポキシレジン株製、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055以上、DIC株製等であり、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010以上、ジャパンエポキシレジン株製、EPICLON830、EPICLON835以上、DIC株製、LCE-21、RE-602S以上、日本化薬株製等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、JER152、JER154、JER157S70、JER157S65以上、ジャパンエポキシレジン株製、EPICLONN-740、EPICLONN-740、EPICLONN-770、EPICLONN-775以上、DIC株製等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、EPICLONN-660、EPICLONN-665、EPICLONN-670、EPICLONN-673、EPICLONN-680、EPICLONN-690、EPICLONN-695以上、DIC株製、EOCN-1020以上、日本化薬株製等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ADEKARESINEP-4080S、同EP-4085S、同EP-4088S以上、株ADEKA製、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、EHPE3150、EPOLEADPB3600、同PB4700以上、ダイセル化学工業株製等である。その他にも、ADEKARESINEP-4000S、同EP-4003S、同EP-4010S、同EP-4011S以上、株ADEKA製、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502以上、株ADEKA製等が挙げられる。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中でも、エポキシ樹脂が好ましく挙げられ、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、及びフェノールノボラック型エポキシ樹脂がより好ましく挙げられ、ビスフェノールA型エポキシ樹脂が特に好ましく挙げられる。分子内に2個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンOXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX以上、東亞合成株製を用いることができる。また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することが好ましい。分子内に2個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物の本発明の感光性樹脂組成物への添加量は、成分A及び成分Bの総含有量を100重量部としたとき、0.5~50重量部が好ましく、1~30重量部がより好ましい。-少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物-少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、単官能メタアクリレート、2官能メタアクリレート、3官能以上のメタアクリレートなどのメタアクリレート化合物を好適に用いることができる。単官能メタアクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、カルビトールメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、3-メトキシブチルメタアクリレート、2-メタアクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。2官能メタアクリレートとしては、例えば、エチレングリコールメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。3官能以上のメタアクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメタアクリロイロキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどが挙げられる。これらの少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、1種単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。本発明の感光性樹脂組成物における少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用割合は、成分A及び成分Bの総含有量100重量部に対して、50重量部以下であることが好ましく、30重量部以下であることがより好ましい。少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を加える場合には、後述の熱ラジカル発生剤を添加することが好ましい。<密着改良剤>本発明の感光性樹脂組成物は、基板密着性の観点から、密着改良剤を含有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に用いることができる密着改良剤は、基板となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、モリブデン、チタン、酸化インジウムスズ、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物である。具体的には、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。本発明で使用される密着改良剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。これらの中でも、シランカップリング剤が好ましく例示できる。好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリアコキシシラン、γ-グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、γ-クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。これらのうち、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、及びγ-メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ-グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが更に好ましい。これらは、市販品として入手できる。KBM-303、-402、-403、KBE-402、-403のようなエポキシ基含有の化合物、KBM-502、-503、KBE-502、-503のようなメタクリル基含有の化合物、KBM-602、-603、-903、-573、-575、KBE-603、-9103のようなアミノ基含有の化合物以上、信越化学工業株製等が挙げられる。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物における密着改良剤の含有量は、成分A及び成分Bの総含有量100重量部に対して、0.1~20重量部が好ましく、0.5~10重量部がより好ましい。<界面活性剤>本発明の感光性樹脂組成物は、塗布性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、フッ素系、シリコーン系界面活性剤を挙げることができる。本発明の感光性樹脂組成物は、界面活性剤として、フッ素系界面活性剤、及び/又は、シリコーン系界面活性剤を含有することがより好ましい。これらのフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤として、例えば、特開昭62-36663号、特開昭61-226746号、特開昭61-226745号、特開昭62-170950号、特開昭63-34540号、特開平7-230165号、特開平8-62834号、特開平9-54432号、特開平9-5988号、特開2001-330953号各公報記載の界面活性剤を挙げることができ、市販の界面活性剤を用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えば、エフトップEF301、EF303、以上、新秋田化成株製、フロラードFC430、431以上、住友スリーエム株製、メガファックF171、F173、F176、F189、R08以上、DIC株製、サーフロンS-382、SC101、102、103、104、105、106以上、旭硝子株製、PolyFoxシリーズOMNOVA社製等のフッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤を挙げることができる。また、ポリシロキサンポリマーKP-341信越化学工業株製も、シリコーン系界面活性剤として用いることができる。また、界面活性剤として、下記式1で表される構成単位A及び構成単位Bを含み、テトラヒドロフランTHFを溶媒とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwが1,000以上10,000以下である共重合体を好ましい例として挙げることができる。式1中、R1及びR3はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R4は水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは重合比を表す重量百分率であり、pは10重量以上80重量以下の数値を表し、qは20重量以上90重量以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、nは1以上10以下の整数を表す。前記Lは、下記式2で表される分岐アルキレン基であることが好ましい。式2におけるR5は、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数1以上3以下のアルキル基が好ましく、炭素数2又は3のアルキル基がより好ましい。前記共重合体の重量平均分子量Mwは、1,500以上5,000以下がより好ましい。これら界面活性剤は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明の感光性樹脂組成物における界面活性剤の添加量は、成分A及び成分Bの総含有量100重量部に対して、10重量部以下であることが好ましく、0.01~10重量部であることがより好ましく、0.01~1重量部であることが更に好ましい。<現像促進剤>本発明の感光性樹脂組成物は、現像促進剤を含有することが好ましい。現像促進剤としては、現像促進効果のある任意の化合物を使用できるが、カルボキシ基、フェノール性水酸基、及び、アルキレンオキシ基の群から選ばれる少なくとも1種の基を有する化合物であることが好ましく、カルボキシ基又はフェノール性水酸基を有する化合物がより好ましく、フェノール性水酸基を有する化合物が最も好ましい。また、現像促進剤の分子量としては、100~2,000が好ましく、150~1,500が更に好ましく、150~1,000が特に好ましい。現像促進剤の例として、アルキレンオキシ基を有するものとしては、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールのモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールのジメチルエーテル、ポリエチレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールグリセリルエステル、ポリプロピレングリコールジグリセリルエステル、ポリブチレングリコール、ポリエチレングリコール-ビスフェノールAエーテル、ポリプロピレングリコール-ビスフェノールAエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエーテル、ポリオキシエチレンのアルキルエステル、及び特開平9-222724号公報に記載の化合物等を挙げることができる。カルボキシ基を有するものとしては、特開2000-66406号公報、特開平9-6001号公報、特開平10-20501号公報、特開平11-338150号公報等に記載の化合物を挙げることができる。フェノール性水酸基を有するものとしては、特開2005-346024号公報、特開平10-133366号公報、特開平9-194415号公報、特開平9-222724号公報、特開平11-171810号公報、特開2007-121766号公報、特開平9-297396号公報、特開2003-43679号公報等に記載の化合物を挙げることができる。これらの中でも、ベンゼン環数が2~10個のフェノール化合物が好適であり、ベンゼン環数が2~5個のフェノール化合物が更に好適である。特に好ましいものとしては、特開平10-133366号公報に溶解促進剤として開示されているフェノール性化合物を挙げることができる。現像促進剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における現像促進剤の添加量は、感度と残膜率の観点から、成分A及び成分Bの総含有量を100重量部としたとき、0.1~30重量部が好ましく、0.2~20重量部がより好ましく、0.5~10重量部であることが最も好ましい。<酸化防止剤>本発明の感光性樹脂組成物は、酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤が好ましい。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブAO-60、アデカスタブAO-80以上、株ADEKA製、イルガノックス1098チバジャパン株製が挙げられる。酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1~6重量であることが好ましく、0.2~5重量であることがより好ましく、0.5~4重量であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時の感度も良好となる。また、酸化防止剤以外の添加剤として、高分子添加剤の新展開株日刊工業新聞社に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。<可塑剤>本発明の感光性樹脂組成物は、可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリン、ジメチルグリセリンフタレート、酒石酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリアセチルグリセリンなどが挙げられる。本発明の感光性樹脂組成物における可塑剤の含有量は、成分A及び成分Bの総含有量100重量部に対して、0.1~30重量部であることが好ましく、1~10重量部であることがより好ましい。<熱ラジカル発生剤>本発明の感光性樹脂組成物は、熱ラジカル発生剤を含んでいてもよく、前述の少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物のようなエチレン性不飽和化合物を含有する場合、熱ラジカル発生剤を含有することが好ましい。本発明における熱ラジカル発生剤としては、公知の熱ラジカル発生剤を用いることができる。熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、重合性化合物の重合反応を開始又は促進させる化合物である。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する場合がある。好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物等が挙げられる。熱ラジカル発生剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明の感光性樹脂組成物における熱ラジカル発生剤の含有量は、膜物性向上の観点から、成分A及び成分Bの総含有量を100重量部としたとき、0.01~50重量部が好ましく、0.1~20重量部がより好ましく、0.5~10重量部であることが最も好ましい。<熱酸発生剤>本発明では、低温硬化での膜物性等を改良するために、熱酸発生剤を使用してもよい。本発明に用いることができる熱酸発生剤とは、熱により酸が発生する化合物であり、通常、熱分解点が130°C~250°C、好ましくは150°C~220°Cの範囲の化合物であり、例えば、加熱によりスルホン酸、カルボン酸、ジスルホニルイミドなどの低求核性の酸を発生する化合物である。熱酸発生剤により発生する酸としては、pKaが2以下と強い、スルホン酸や、電子求引基の置換したアルキル又はアリールカルボン酸、同じく電子求引基の置換したジスルホニルイミドなどが好ましい。電子求引基としては、フッ素原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。また、本発明においては、露光光の照射によって実質的に酸を発生せず、熱によって酸を発生するスルホン酸エステルを使用することも好ましい。露光光の照射によって実質的に酸を発生していないことは、化合物の露光前後でのIRスペクトルやNMRスペクトル測定により、スペクトルに変化がないことで判定することができる。スルホン酸エステルの分子量は、230~1,000であることが好ましく、230~800であることがより好ましい。本発明に用いることができるスルホン酸エステルは、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いてもよい。スルホン酸エステルは、例えば、塩基性条件下、スルホニルクロリド乃至はスルホン酸無水物を対応する多価アルコールと反応させることにより合成することができる。熱酸発生剤の感光性樹脂組成物への含有量は、成分A及び成分Bの総含有量を100重量部としたとき、0.5~20重量部が好ましく、1~15重量部がより好ましい。<酸増殖剤>本発明の感光性樹脂組成物は、感度向上を目的に、酸増殖剤を用いることができる。本発明に用いることができる酸増殖剤は、酸触媒反応によって更に酸を発生して反応系内の酸濃度を上昇させることができる化合物であり、酸が存在しない状態では安定に存在する化合物である。このような化合物は、1回の反応で1つ以上の酸が増えるため、反応の進行に伴って加速的に反応が進むが、発生した酸自体が自己分解を誘起するため、ここで発生する酸の強度は、酸解離定数、pKaとして3以下であるのが好ましく、特に2以下であるのが好ましい。酸増殖剤の具体例としては、特開平10-1508号公報の段落0203~0223、特開平10-282642号公報の段落0016~0055、及び、特表平9-512498号公報第39頁12行目~第47頁2行目に記載の化合物を挙げることができる。本発明で用いることができる酸増殖剤としては、酸発生剤から発生した酸によって分解し、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、フェニルホスホン酸などのpKaが3以下の酸を発生させる化合物を挙げることができる。酸増殖剤の感光性樹脂組成物への含有量は、光酸発生剤100重量部に対して、10~1,000重量部とするのが、露光部と未露光部との溶解コントラストの観点から好ましく、20~500重量部とするのが更に好ましい。硬化膜の形成方法次に、本発明の硬化膜の形成方法を説明する。本発明の硬化膜の形成方法は、以下の1~4の工程を含むことが好ましい。1本発明のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程2塗布された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する露光工程、3露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、及び、4現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するポストベーク工程以下に各工程を順に説明する。1の塗布工程では、本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とする。また、本発明のポジ型感光性樹脂組成物が溶剤を含有する場合、本発明の硬化膜の形成方法は、1の塗布工程と2の露光工程との間に、塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程を含むことが好ましい。前記溶剤除去工程では、塗布された上記の膜から、減圧バキューム及び/又は加熱により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させる。2の露光工程では、得られた塗膜に波長300nm以上450nm以下の活性光線を照射する。この工程では、光酸発生剤が分解し酸が発生する。発生した酸の触媒作用により、成分Aに含まれる酸分解性基が分解されて、酸基が生成する。酸触媒の生成した領域において、上記の加水分解反応を加速させるために、必要に応じて、露光後加熱処理:PostExposureBake以下、PEBともいう。を行うことができる。PEBにより、酸分解性基からのカルボキシ基生成を促進させることができる。本発明における成分A中の酸分解性基は、酸分解の活性化エネルギーが低く、露光による酸発生剤由来の酸により容易に分解し、酸基を生じるため、必ずしもPEBを行うことなく、現像によりポジ画像を形成することもできる。なお、比較的低温でPEBを行うことにより、架橋反応を起こすことなく、酸分解性基の加水分解を促進することもできる。PEBを行う場合の温度は、30°C以上130°C以下であることが好ましく、40°C以上110°C以下がより好ましく、50°C以上80°C以下が特に好ましい。3の現像工程では、遊離した酸基を有する樹脂を、アルカリ性現像液を用いて現像する。アルカリ性現像液に溶解しやすい酸基を有する樹脂を含む組成物よりなる露光部領域を除去することにより、ポジ画像が形成する。4のポストベーク工程において、得られたポジ画像を加熱することにより、成分A中の酸分解性基を熱分解し酸基を生成させ、架橋性基と架橋させることにより、硬化膜を形成することができる。この加熱は、150°C以上の高温に加熱することが好ましく、180~250°Cに加熱することがより好ましく、200~250°Cに加熱することが特に好ましい。加熱時間は、加熱温度などにより適宜設定できるが、10~90分の範囲内とすることが好ましい。ポストベーク工程の前に活性光線、好ましくは紫外線を、現像パターンに全面照射する工程を加えると、活性光線照射により発生する酸により架橋反応を促進することができる。次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法を具体的に説明する。<感光性樹脂組成物の調製方法>特定樹脂2成分及び光酸発生剤の必須成分に、必要によって溶剤を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解して感光性樹脂組成物を調製する。例えば、特定樹脂又は光酸発生剤を、それぞれ予め溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して感光性樹脂組成物を調製することもできる。以上のように調製した感光性樹脂組成物の溶液は、孔径0.2μmのフィルター等を用いてろ過した後に、使用に供することもできる。<塗布工程及び溶剤除去工程>樹脂組成物を、所定の基板に塗布し、減圧及び/又は加熱プリベークにより溶媒を除去することにより、所望の乾燥塗膜を形成することができる。前記の基板としては、例えば液晶表示素子の製造においては、偏光板、更に必要に応じてブラックマトリックス層、カラーフィルター層を設け、更に透明導電回路層を設けたガラス板などが例示できる。基板への塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法等の方法を用いることができる。中でもスリットコート法が大型基板に適するという観点で好ましい。ここで大型基板とは、各辺が1m以上の大きさの基板をいう。また、前記溶剤除去工程の加熱条件は、未露光部における成分A中の酸分解性基が分解して、成分Aをアルカリ現像液に可溶性としない範囲であり、各成分の種類や配合比によっても異なるが、好ましくは80~130°Cで30~120秒間程度である。<露光工程及び現像工程パターン形成方法>露光工程では、塗膜を設けた基板に所定のパターンを有するマスクを介して、活性光線を照射する。露光工程の後、必要に応じて加熱処理PEBを行った後、現像工程では、アルカリ性現像液を用いて露光部領域を除去して画像パターンを形成する。活性光線による露光には、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、LED光源、エキシマレーザー発生装置などを用いることができ、g線436nm、i線365nm、h線405nmなどの波長300nm以上450nm以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。また、必要に応じて長波長カットフィルター、短波長カットフィルター、バンドパスフィルターのような分光フィルターを通して照射光を調整することもできる。現像工程で使用する現像液には、塩基性化合物を使用する。塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類;ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。現像液のpHは、好ましくは10.0~14.0である。現像時間は、好ましくは30~180秒間であり、また、現像の手法は液盛り法、ディップ法等のいずれでもよい。現像後は、流水洗浄を30~90秒間行い、所望のパターンを形成させることができる。<ポストベーク工程架橋工程>現像により得られた未露光領域に対応するパターンについて、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温度、例えば180~250°Cで所定の時間、例えばホットプレート上なら5~60分間、オーブンならば30~90分間、加熱処理をすることにより、成分Aにおける酸分解性基を分解して、酸基を発生させ、成分A及び成分B中の架橋性基と反応して、架橋させることにより、耐熱性、硬度等に優れた保護膜や層間絶縁膜を形成することができる。また、加熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより透明性を向上させることもできる。なお、加熱処理に先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により再露光した後、ポストベークすること再露光/ポストベークにより未露光部分に存在する酸を発生させ、架橋工程を促進する触媒として機能させることが好ましい。すなわち、本発明の硬化膜の形成方法は、現像工程とポストベーク工程との間に、活性光線により再露光する再露光工程を含むことが好ましい。再露光工程における露光は、前記露光工程と同様の手段により行えばよいが、前記再露光工程では、基板の本発明の感光性樹脂組成物により膜が形成された側に対し、全面露光を行うことが好ましい。再露光工程の好ましい露光量としては、100~1,000mJ/cm2である。本発明の感光性樹脂組成物により、絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜が得られる。本発明の感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜は、高い透明性を有し、硬化膜物性に優れるため、有機EL表示装置や液晶表示装置の用途に有用である。本発明の有機EL表示装置や液晶表示装置としては、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機EL表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。また、本発明の感光性樹脂組成物及び本発明の硬化膜は、前記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜や層間絶縁膜以外にも、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルター上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。図1は、有機EL表示装置の一例の構成概念図を示す。ボトムエミッション型の有機EL表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜4を有している。ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi3N4から成る絶縁膜3が形成されている。絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2高さ1.0μmが絶縁膜3上に形成されている。配線2は、TFT1間又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。更に、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上に平坦化層4が形成されている。平坦化膜4上には、ボトムエミッション型の有機EL素子が形成されている。すなわち、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5が、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成されている。また、第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8が形成されており、この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。更に、図1には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られる。図2は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置10の一例を示す概念的断面図である。このカラー液晶表示装置10は、背面にバックライトユニット12を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた2枚のガラス基板14,15の間に配置されたすべての画素に対応するTFT16の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜17中に形成されたコンタクトホール18を通して、画素電極を形成するITO透明電極19が配線されている。ITO透明電極19の上には、液晶20の層とブラックマトリックスを配置したRGBカラーフィルター22が設けられている。次に、実施例により本発明を更に具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部、は重量基準である。なお、表1~表4の-は非含有を表す。<合成例1>冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルV-65、和光純薬工業株製7重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル200重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸1-エトキシエチル65.1重量部、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート54.0重量部、メタクリル酸8.4重量部、ヒドロキシエチルメタクリレート25.5重量部、及び、α-メチルスチレンダイマー和光純薬工業株製3重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70°Cに上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体A-1を含む重合体溶液を得た。共重合体A-1のポリスチレン換算重量平均分子量Mwは、11,000であった。合成された共重合体の組成比モル当量を表1に示す。<合成例2~10>使用したモノマー及びその量を変更した以外は、合成例1と同様にして、表1に示す共重合体A-2~A-8、a-1及びa-2をそれぞれ合成した。合成された各共重合体の組成比モル当量及び重量平均分子量Mwは、表1に示した通りである。<合成例11>3つ口フラスコに、溶剤として、ハイソルブEDM35.7g、東邦化学工業株製を入れ、窒素雰囲気下において90°Cに昇温した。その溶液に、スチレン13.32g、N-n-ブトキシメチルアクリルアミド20.11g、メタクリル酸7.86g、メチルメタクリレート1.83g、重合開始剤としてジメチル2,2’-アゾビス2-メチルプロピオネートV-601、和光純薬工業株製、3.47g、モノマーに対して8molを溶解させ、2時間かけて滴下した。滴下終了後2時間撹拌した。その溶液に更にV-6011.84g、モノマーに対して2molを添加し、更に2時間撹拌し、反応を終了させた。それにより共重合体B-1を得た。重量平均分子量は19,000であった。合成された共重合体の組成比モル当量を表2に示す。<合成例12~24>使用したモノマー及びその量を変更した以外は、合成例11と同様にして、表2に示す共重合体B-2~B-12、b-1及びb-2をそれぞれ合成した。合成された各共重合体の組成比モル当量及び重量平均分子量Mwは、表2に示した通りである。表1及び表2中の略号は以下の通りである。MAEVE:メタクリル酸1-エトキシエチル和光純薬工業株製MATHF:テトラヒドロフラン-2-イルメタクリレート合成品OXE-30:3-エチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート大阪有機化学工業株製GMA:グリシジルメタクリレート和光純薬工業株製NBMA:N-n-ブトキシメチルアクリルアミド東京化成工業株製VBGE:p-ビニルベンジルグリシジルエーテル合成品、特開平9-227540号公報の段落0037~0039に記載の方法に従って合成した。MAA:メタクリル酸和光純薬工業株製HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート和光純薬工業株製St:スチレン和光純薬工業株製MMA:メチルメタクリレート和光純薬工業株製DCPM:メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.026]デカン-8-イルFA-511A、日立化成工業株製THFFMA:テトラヒドロフルフリルメタクリレート大阪有機化学工業株製実施例1~37及び比較例1~7表3及び表4に記載した各成分の添加量固形分重量を、固形分濃度が20重量となるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテル:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート=1:1重量比の混合溶剤に溶解させた後、口径0.2μmのメンブランフィルタでろ過して、実施例1~37及び比較例1~7の感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。実施例1~37及び比較例1~7に用いた各化合物を示す略号の詳細は、以下の通りである。C-1:下記構造の化合物合成品C-2:下記構造の化合物合成品C-3:下記構造の化合物合成品C-4:CGI-1397BASF社製C-5:下記構造の化合物特表2002-528451号公報の段落0108に記載の方法に従って合成したC-6:PAI-1001みどり化学株製C-7:2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノンの1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル発生酸のpKa=4.5、合成品、特許第2753912号公報の段落0027に記載の方法に従って合成した。<合成例1:MATHFの合成>3つ口フラスコにメタクリル酸50.33g0.585mol、カンファースルホン酸0.27g0.2molを混合して15°Cに冷却した。その溶液に2,3-ジヒドロフラン41.00g0.585molを滴下した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液500mLを加え、酢酸エチル500mLで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物をろ過後40°C以下で減圧濃縮減圧し、残渣の無色油状物を減圧蒸留することで沸点bp.54~56°C/3.5mmHg留分の73.02gのMATHFを得た。<C-1の合成>2-ナフトール10g、クロロベンゼン30mLの懸濁溶液に塩化アルミニウム10.6g、2-クロロプロピオニルクロリド10.1gを添加し、混合液を40°Cに加熱して2時間反応させた。氷冷下、反応液に4NHCl水溶液60mLを滴下し、酢酸エチル50mLを添加して分液した。有機層に炭酸カリウム19.2gを加え、40°Cで1時間反応させた後、2NのHCl水溶液60mLを添加して分液し、有機層を濃縮後、結晶をジイソプロピルエーテル10mLでリスラリーし、ろ過、乾燥してケトン化合物6.5gを得た。得られたケトン化合物3.0g、メタノール18mLの懸濁溶液に酢酸7.3g、50重量ヒドロキシルアミン水溶液8.0gを添加し、10時間加熱還流した。放冷後、水50mLを加え、析出した結晶をろ過、冷メタノール洗浄後、乾燥してオキシム化合物2.4gを得た。得られたオキシム化合物1.8gをアセトン20mLに溶解させ、氷冷下トリエチルアミン1.5g、p-トルエンスルホニルクロリド2.4gを添加し、25°Cに昇温して1時間反応させた。反応液に水50mLを添加し、析出した結晶をろ過後、メタノール20mLでリスラリーし、ろ過、乾燥してC-12.3gを得た。なお、C-1の1H-NMRスペクトル300MHz、CDCl3は、δ=8.3d,1H,8.0d,2H,7.9d,1H,7.8d,1H,7.6dd,1H,7.4dd,1H7.3d,2H,7.1d.1H,5.6q,1H,2.4s,3H,1.7d,3Hであった。<C-2の合成>2-ナフトール20gをN,N-ジメチルアセトアミド150mLに溶解させ、炭酸カリウム28.7g、2-ブロモオクタン酸エチル52.2gを添加して100°Cで2時間反応させた。反応液に水300mL、酢酸エチル200mLを添加して分液し、有機層を濃縮後、48重量水酸化ナトリウム水溶液23g、エタノール50mL、水50mLを添加し、2時間反応させた。反応液を1NHCl水溶液500mLにあけ、析出した結晶をろ過、水洗してカルボン酸粗体を得た後、ポリリン酸30gを添加して170°Cで30分反応させた。反応液を水300mLにあけ、酢酸エチル300mLを添加して分液し、有機層を濃縮した後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ケトン化合物10gを得た。得られたケトン化合物10.0g、メタノール100mLの懸濁溶液に酢酸ナトリウム30.6g、塩酸ヒドロキシルアミン25.9g、硫酸マグネシウム4.5gを添加し、24時間加熱還流した。放冷後、水150mL、酢酸エチル150mL添加して分液し、有機層を水80mLで4回分液し、濃縮した後シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してオキシム化合物5.8gを得た。得られたオキシム3.1gに対し、C-1と同様にスルホネート化を行い、C-23.2gを得た。なお、C-2の1H-NMRスペクトル300MHz、CDCl3は、δ=8.3d,1H,8.0d,2H,7.9d,1H,7.8d,1H,7.6dd,1H,7.5dd,1H7.3d,2H,7.1d.1H,5.6dd,1H,2.4s,3H,2.2ddt,1H,1.9ddt,1H,1.4~1.2m,8H,0.8t,3Hであった。<C-3の合成>C-1におけるp-トルエンスルホニルクロリドの代わりにベンゼンスルホニルクロリドを用いた以外は、C-1と同様にしてC-3を合成した。なお、C-3の1H-NMRスペクトル300MHz、CDCl3は、δ=8.3d,1H,8.1d,2H,7.9d,1H,7.8d,1H,7.7-7.5m,4H,7.4dd,1H,7.1d.1H,5.6q,1H,1.7d,3Hであった。D-1:DBA9,10-ジブトキシアントラセン、増感剤、川崎化成工業株製E-1:1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン塩基性化合物、東京化成工業株製E-2:下記構造の化合物塩基性化合物、東洋化成工業株製F-1:デュラネート17B-60PXブロックイソシアネート化合物、旭化成ケミカルズ株製F-2:デュラネートMF-K60Xブロックイソシアネート化合物、旭化成ケミカルズ株製G-1:MW-100LMアミノ基上にメトキシメチル基を有するメラミン化合物、三和ケミカル株製G-2:MX-750LMアミノ基上にメトキシメチル基を有するメラミン化合物、三和ケミカル株製H-1:JER150S65エポキシ化合物、三菱化学株製H-2:JER1031Sエポキシ化合物、三菱化学株製I-1:3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランKBM-403、シランカップリング剤、信越化学工業株製J-1:メガファックF-554界面活性剤、DIC株製<比誘電率の測定>ベアウエハN型低抵抗SUMCO社製上に、感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、90°Cにて2分間ホットプレート上でプリベークして膜厚3.0μmの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層を、キヤノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプで積算照射量が300mJ/cm2照度:20mW/cm2となるように露光し、この基板をオーブンにて220°Cで1時間加熱することにより、硬化膜を得た。この硬化膜について、CVmap92AFourDimensionsInc.社製を用い、測定周波数1MHzで比誘電率を測定した。結果を表5に示す。この値が3.6以下であるとき、硬化膜の比誘電率は良好である。<膨潤率の測定>ガラス基板コーニング1737、0.7mm厚コーニング社製上に、各感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、90°C/120秒ホットプレート上で加熱により溶剤を除去し、膜厚4.0μmの感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層を、キヤノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプで積算照射量が300mJ/cm2照度:20mW/cm2、i線となるように露光し、その後、この基板をオーブンにて230°Cで1時間加熱して硬化膜を得た。その硬化膜をNMPに80°Cで10分浸漬させ、その膜を引き上げて表面の液をふき取った後で、すぐに膜厚を測定した。浸漬前の膜厚と、浸漬後の膜厚を比較して、増加した割合をパーセントで表記した。この値が少ないほど良好であるといえる。結果を下記表5に示す。なお、評価基準は下記の通りである。A、B及びCが実用上問題のないレベルである。A:100以上103未満B:103以上105未満C:105以上110未満D:110以上膨潤率=浸漬後の膜厚μm/浸漬前の膜厚μm×100<パネル表示ムラの評価>特許第3321003号公報の図1及び図2に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、層間絶縁膜として硬化膜17を形成した。液晶表示装置を60°C相対湿度80の環境下で500時間、その後25°Cにて1日放置した後、パネルに通電して表示ムラがあるかを観察した。結果を表5に示す。下記評価において、A及びBが好ましい。A:表示ムラが観察されない領域が、90以上B:表示ムラが観察されない領域が、60以上90未満C:表示ムラが観察されない領域が、60未満D:パネル表示ムラが測定できない<感度の評価>ガラス基板コーニング1737、0.7mm厚コーニング社製上に、各感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、90°Cにて120秒間ホットプレート上でプリベークして溶剤を揮発させ、膜厚4.0μmの感光性樹脂組成物層を形成した。次に、得られた感光性樹脂組成物層を、キヤノン株製PLA-501F露光機超高圧水銀ランプを用いて、所定のマスクを介して露光した。そして、露光後の感光性組成物層を、アルカリ現像液0.3重量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で23°Cにて60秒間現像した後、超純水で20秒間リンスした。これらの操作により13μmのラインアンドスペースを1:1で解像する時の最適i線露光量Eoptを感度とした。結果を表5に示す。なお、評価基準は下記の通りである。A及びBが実用上問題のないレベルであり、Cは生産性の観点から好ましくない。A:50mJ/cm2未満B:50mJ/cm2以上300mJ/cm2未満C:300mJ/cm2以上本発明の感光性樹脂組成物は、高感度であり、得られる硬化膜の誘電率が低く、NMPN-メチルピロリドンに対する耐性が良好であり、信頼性試験においてパネル表示ムラの発生が抑えられることが判った。"