"ハロゲン含有ガスを、そのハロゲン含有ガスが高圧充填された容器から外部装置へと供給するハロゲン含有ガス供給装置であって、前記容器と前記外部装置とを接続する供給管と、前記供給管に設けられ、前記容器からハロゲン含有ガスを供給するための供給弁と、を備え、前記供給弁より下流の前記供給管の一部の管内部に、ハロゲン含有ガスの流通方向を変化させる流通方向変化機構が設けられることを特徴とするハロゲン含有ガス供給装置。前記流通方向変化機構として、前記供給管内部に配置され開口部を有してガスの流通方向を仕切る邪魔板を備え、前記開口部の面積は、前記供給管の断面積の1/2以下であることを特徴とする請求項1に記載のハロゲン含有ガス供給装置。前記邪魔板は、前記供給管の長さ方向に複数配置され、複数の前記邪魔板は、隣り合う邪魔板の前記開口部が前記供給管の長さ方向に重ならないように配置されることを特徴とする請求項2に記載のハロゲン含有ガス供給装置。前記流通方向変化機構として、前記供給管内部に複数の充填物が充填されていることを特徴とする請求項1に記載のハロゲン含有ガス供給装置。ハロゲン含有ガスのハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のハロゲン含有ガス供給装置。前記ハロゲン含有ガスの充填圧力は、5MPa以上20MPa以下であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のハロゲン含有ガス供給装置。しかしながら、特許文献1に記載の容器弁は、シートディスクでガスの流路を開閉し、外部との気密をダイヤフラムでシールするバルブであるため、弁室内のガスが滞留しやすいデッドスペースが大きくなる。特許文献2には、バルブの内部を研磨することによって、水分等のガス分子やパーティクルが接ガス部表面に吸着する影響を少なくすることについて開示されている。しかし、詳細な研磨部分や形状について具体的に記載されていない。また、フッ素およびフッ素化合物ガスに適用できることについての記載もされていない。従来のバルブでは、高圧、高濃度のフッ素ガスを取り扱う場合には、弁室内の温度が上昇し、弁室内の表面腐食やシール材の劣化の問題があり、また、シール材に樹脂材質を用いるとフッ素ガスによって樹脂材質が焼損するという問題点があった。この問題点は、O2やNO等の支燃性ガスを取り扱う場合も同様である。特許文献3に記載のバルブは、バックファイヤに対して対策されたものであり、高圧、高濃度のフッ素ガスに応用することはできない。また、特許文献4に記載のリニアサーボバルブは、コイルやボビンが空気冷却されるものであり、高圧、高濃度のフッ素ガスに応用することはできない。フッ素ガスなど腐食性の高いハロゲンガスが高圧充填された容器から供給弁を介してハロゲンガスを導入する場合、ハロゲンガスよって導入側の導入弁の内部温度の上昇を引き起こし易く、また、導入弁の弁室内の表面腐食やシール材の劣化が生じ易いという問題点があった。本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、ハロゲン含有ガスを外部装置へと導く導入弁の弁室内の温度上昇を抑制し、導入弁の弁室内の表面腐食や導入弁に用いられるシール材の劣化を抑制することを目的とする。本発明は、ハロゲン含有ガスを、そのハロゲン含有ガスが高圧充填された容器から外部装置へと供給するハロゲン含有ガス供給装置であって、前記容器と前記外部装置とを接続する供給管と、前記供給管に設けられ、前記容器からハロゲン含有ガスを供給するための供給弁と、を備え、前記供給弁より下流の前記供給管の一部の管内部に、ハロゲン含有ガスの流通方向を変化させる流通方向変化機構が設けられることを特徴とする。また、本発明は、前記流通方向変化機構として、前記供給管内部に配置され開口部を有してガスの流通方向を仕切る邪魔板を備え、前期開口部の面積は、前記供給管の断面積の1/2以下であることを特徴とする。また、本発明は、前記邪魔板は、前記供給管の長さ方向に複数配置され、複数の前記邪魔板は、隣り合う邪魔板の前記開口部が前記供給管の長さ方向に重ならないように配置されることを特徴とする。また、本発明は、前記流通方向変化機構として、前記供給管内部に複数の充填物が充填されていることを特徴とする。また、本発明は、ハロゲン含有ガスのハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素であることを特徴とする。また、本発明は、前記ハロゲン含有ガスの充填圧力は、5MPa以上20MPa以下であることを特徴とする。本発明によれば、供給弁より下流の供給管の一部の管内部に、ハロゲン含有ガスの流通方向を変化させる流通方向変化機構が設けられるため、導入弁の弁室内の温度上昇、及び導入弁の表面腐食や導入弁に用いられるシール材の劣化を抑制することができる。本発明の実施の形態に係るハロゲン含有ガス供給装置は、ハロゲン含有ガスを、そのハロゲン含有ガスが高圧充填された容器から外部装置へと供給するものであって、容器と外部装置とを接続する供給管と、供給管に設けられ、容器からハロゲン含有ガスを供給するための供給弁と、を備える。供給弁より下流の供給管の一部の管内部には、ハロゲン含有ガスの流通方向を変化させる流通方向変化機構が設けられる。流通方向変化機構のさらに下流には、ハロゲン含有ガスを外部装置へと導入するための導入弁が設けられる。導入弁は、外部装置内に設けるようにしてもよく、また、ハロゲン含有ガス供給装置内に設けるようにしてもよい。外部装置は、半導体デバイス、МEМSデバイス、液晶用TFTパネル、及び太陽電池等に用いられる半導体を製造する半導体製造装置である。また、ハロゲン含有ガスは、半導体製造工程にてクリーニングプロセス用ガスやエッチングプロセス用ガスとして用いられる。以下、本発明の実施の形態に係るハロゲン含有ガス供給装置について詳細に説明する。ハロゲン含有ガスが高圧充填された容器は、開閉弁を具備する。容器は、少なくとも5MPaG以上の高圧を保つことができる密閉性を有し、かつ、開閉弁にてハロゲン含有ガスを放出できる構造であればよい。望ましくは、20MPaG以上の高圧を保てる密閉性を有するのが好ましい。容器の材質は、充填されるハロゲンガスに対して耐蝕性を有するものが好ましく、例えば、マンガン鋼、ステンレス鋼、ニッケルを含む合金ハステロイ、インコネル、モネルなどが挙げられる。ハロゲン含有ガスのハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素であり、これらのうちいずれか2種類以上が混合されたものであってもよい。ハロゲン含有ガスは、ハロゲンが含有されているものであればよく、フッ素ガス、塩素ガス、臭素ガス、ヨウ素ガスのハロゲンガス、又はNF3、BF3、ClF、ClF3、IF7等のハロゲン化合物のガスに、N2、Ar、He等の不活性ガスを混合したものであってもよい。また、ハロゲンガスとハロゲン化合物のガスとの混合ガスに不活性ガスを混合したものであってもよい。ハロゲン含有ガス中のハロゲンガスの濃度は、特に限定されないが、例えば、フッ素ガス、塩素ガス、臭素ガス、ヨウ素ガス、NF3ガス、BF3ガス、ClFガス、ClF3ガス、及びIF7ガスのうち少なくともいずれか1種類が0.1vol以上100以下の範囲である。ハロゲン含有ガスの充填圧力は、5MPaG以上20MPaG以下であることが望ましい。5MPaG未満では、導入側の導入弁内部の温度上昇を引き起こし難く、また、導入弁の弁室内の表面腐食や導入弁に用いられるシール材の劣化が生じ難い。一方、20MPaG超では、本発明の供給装置を具備することにより導入弁内部の温度上昇は引き起こさないものの、ハロゲンガスによる接ガス部表面の腐食が生じ易くなるため、好ましくない。ハロゲン含有ガスの流通方向を変化させる流通方向変化機構の構造は特に限定されることは無く、管内でガスの流通方向を変化できるものであればよい。例えば、開口部を有してガスの流通方向を仕切る邪魔板を、配管内部に該配管の長さ方向に複数備えた構造、又は複数の充填物が配管内に封入された構造などが好ましい。邪魔板の開口部の面積は、該配管の長さ方向に垂直な該配管の断面積の1/2以下であることが好ましい。また、複数の邪魔板は、隣り合う邪魔板の開口部が該配管の長さ方向に対して重ならないように間隔を開けて設けることが好ましい。設置する邪魔板の間隔は、特に限定されることは無く、3枚以上の邪魔板を設置する場合の間隔は、等間隔でも、等間隔でなくてもよい。充填物の形状は特に限定されることは無く、ガスが衝突したときにその流れを表面又は内部で変える形状が好ましい。例えば、気液接触に用いられる一般的な充填材ラシッヒリング、テラレット、ポールリンク、サドル、レッシリング、パールリング、ヘリパック、マクマホンパッキング、スルザーパッキングなどと同様の形状、球状、線状などの形状が上げられる。充填物の封入は、充填物がガスの流れにより下流に搬送されないよう、充填物をせき止めるものが充填物の充填部分の下流側に設置されていることが好ましい。例えば、この充填部分より下流の管の少なくとも一部の内径が充填部分の管の内径より小さい、又は充填部分より下流の管内に多孔板等が設置されているなどの状態で、充填物が封入されていることが好ましい。さらに、充填部分の上流においても同様に充填部分の内径より小さい部分を設けるか、又は多孔板等が設置されている状態で、充填物が封入されていることがより好ましい。また、供給管は、ハロゲン含有ガスの流通方向を変化させる機構を複数有していてもよい。例えば、ハロゲン含有ガスの流通方向を変化させる機構を直列又は並列に複数配置するようにしてもよい。容器の開閉弁、供給管、供給弁、導入弁、及びハロゲン含有ガスの流通方向を変化させる機構におけるハロゲンガスが接触する部分には、メタル材質を用いることが望ましい。メタル材質としては、ステンレス鋼、インコネル、又はハステロイ等が挙げられる。開閉弁、供給弁のバルブ構造については特に限定されることはない。本発明のハロゲン含有ガス供給装置を、例えば、外部装置としての半導体製造装置に接続し、半導体製造装置へハロゲン含有ガスを供給する場合について、図1を参照して説明する。図1に示す実施例では、ハロゲン含有ガスが高圧充填された容器1の開閉弁2には、導管6を介して供給弁3が接続される。供給弁3には供給管4が接続され、供給管4の下流端には半導体製造装置101が接続される。供給管4には、供給弁3を通じて供給されたハロゲン含有ガスを半導体製造装置101へと導くための導入弁100が設けられる。供給管4には、供給弁3と導入弁100との間に、ガスの流通方向を変化させる流通方向変化機構5例えば、開口部を有してガスの流通方向を変化させる邪魔板を、配管内部に該配管の長さ方向に複数備えており、該開口部の面積は該配管の断面積の1/2以下であり、複数の邪魔板は、隣り合う邪魔板の開口部が該配管の長さ方向に対して重ならないように設けられたものが設けられる。開閉弁2と供給弁3は、接ガス部がオールメタル製のダイヤフラムバルブである。図1において、供給弁3を開放、及び開閉弁2と導入弁100を閉止した状態で、開閉弁2から導入弁100までの導管6及び供給管4内を真空ライン図示省略により真空状態とする。その後、供給弁3を閉止し、開閉弁2を開放して容器1から供給弁3までの導管6内にハロゲン含有ガスを封入する。その後、供給弁3を開放することにより、供給弁3から導入弁100までの供給管4内の圧力が上昇し内圧が一定となる。これにより、半導体製造装置101にハロゲン含有ガスを供給可能な状態となる。供給弁を開放して高圧のハロゲン含有ガスを供給する場合、外部装置へハロゲン含有ガスを導入するための導入弁の内部温度の上昇を引き起こし易く、また、導入弁の弁室内の表面腐食や導入弁に用いられるシール材の劣化が生じ易い。これは、供給弁の開放により、ハロゲン含有ガスが流通する供給管内で衝撃波が発生し、発生した衝撃波が伝播する過程で成長し導入弁に達するため、導入弁内部の温度上昇を引き起こすものと推測される。そこで、本発明では、供給弁3と導入弁100との間の供給管4に流通方向変化機構5を設けることによって、衝撃波の発生または成長を抑制する。これにより、導入弁100内部の温度上昇、及び導入弁100の弁室内の表面腐食やシール材の劣化を抑制することができる。以下、実施例により本発明を詳細に説明する。図2に本実施例の概略図を示す。マンガン鋼製の容器1には、N2希釈による20volF2ガスが5MPaGの圧力で充填されている。容器1には開閉弁2が装着されている。開閉弁2と供給弁3は、外径1/2インチ、肉厚1mm、長さ200mmの直線状のステンレス製の導管6で接続されている。供給弁3の下流側には、導管6と同一形状のステンレス管の供給管4が接続される。供給管4の途中には、流通方向変化機構5が設けられている。さらに、流通方向変化機構5の下流側には内容量50ccのステンレス製のシリンダ26が接続されている。シリンダ26の下流側には、手動弁28を介して真空ライン29が接続されている。図3に、流通方向変化機構5の外観の斜視図を、図4に、流通方向変化機構5の概略断面図を、図5に、図4に示されているA-A線に沿う断面の概略断面図を示す。流通方向変化機構5は、外径20mm、肉厚2mm、長さ100mmのステンレス配管52と、ステンレス配管52の内部に配置され一部が切り欠かれたリブ状のステンレス製の7枚の邪魔板51とを備える。邪魔板51は、円弧の部分の外径がステンレス配管52の内径と略同一であり、外周の円弧の部分がステンレス配管52の内周に沿うように管内面に略垂直に、開口部53を設けて配置される。さらに、邪魔板51は、隣り合う邪魔板51の開口部53が互い違いとなるように等間隔に、ステンレス配管52の長さ方向に10mm間隔で7枚配置され、上流側から下流側にかけてガスの流通方向を変化させる。ステンレス配管52の長さ方向に対して垂直方向の開口部53の断面積は、該配管52の内部空間の同方向の断面積の0.25倍である。流通方向変化機構5の上流側と下流側のそれぞれには外径1/2インチ、肉厚1mmのステンレス製の配管50a,50bが接続されており、供給管4の途中に接続されている。シリンダ26内の下流端底部には、各辺3mmのPCTFE三フッ化塩化エチレンチップ27が封入されている。開閉弁2及び供給弁3はオールメタル製のダイヤフラム自動弁である。手動弁28及び真空ライン29は導管6及び供給管4内のガス置換を行うためのものである。次に、操作について説明する。開閉弁2を閉、それ以外の弁を開にした状態で導管6及び供給管4内を真空ライン29を通じて真空状態とする。その後、すべての弁を閉止した後、開閉弁2を開放して容器1から供給弁3までの導管6内の圧力を5MPaGとした。さらに、供給弁3を開放して容器1からシリンダ26までの供給管4内の圧力を5MPaGとした。その後、開閉弁2を閉止して真空ライン29を通じて導管6及び供給管4内のガス置換を行った。以上のような操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。流通方向変化機構5が図6の構造である以外は実施例1と同様である。本実施例で用いた流通方向変化機構5を実施例1と比較すると、ステンレス配管52内には、ガス流入側から流出側に、邪魔板54a、邪魔板54b、邪魔板54c、邪魔板54d、邪魔板54e、邪魔板54f、邪魔板54gの7枚の邪魔板が配置されている。7枚の邪魔板54a~54gは、設置する角度及び間隔以外は実施例1と同様である。邪魔板の設置角度は、邪魔板と配管52内面とが接触する領域中の邪魔板の切欠部分と該接触領域との距離が最大となる場所での、邪魔板と配管52内面とのガス流出側になす角度とする。この場合、各邪魔板の設置角度は、邪魔板54aでは85度、邪魔板54bでは82度、邪魔板54cでは84度、邪魔板54dでは81度、邪魔板54eでは77度、邪魔板54fでは115度、邪魔板54gでは110度となっている。邪魔板の間隔は、邪魔板の切り欠かれた線分から垂直方向の長さが最大である直線成分が配管52内面に接続している点において、配管52の長さ方向に垂直な面の間隔を示す。この場合、各邪魔板の間隔は、邪魔板54a-邪魔板54b間では14mm、邪魔板54b-邪魔板54c間では9mm、邪魔板54c-邪魔板54d間では9mm、邪魔板54d-邪魔板54e間では11mm、邪魔板54e-邪魔板54f間では17mm、邪魔板54f-邪魔板54g間では10mmとなっている。ステンレス配管52の長さ方向に対して垂直方向の開口部53の断面積は、該配管52の内部空間の同方向の断面積の0.25倍である。操作については実施例1と同様である。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。流通方向変化機構5が図7の構造である以外は実施例1と同様である。ステンレス配管52内に、邪魔板の代わりに、ステンレス製の球55を8個封入しており、流通方向変化機構5の上流側から下流側は見通せないような構造としている。8個のステンレス製の球55は、直径10mmのものが1個、直径12mm径のものが3個、及び直径14mmのものが4個からなる。流通方向変化機構5の上流側と下流側のそれぞれには外径1/2インチ、肉厚1mmのステンレス製の配管50a,50bが接続されており、供給管4の途中に接続されている。操作については実施例1と同様である。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による20volF2ガスが14.7MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。次に、操作について説明する。開閉弁2を閉、それ以外の弁を開にした状態で導管6及び供給管4内を真空ライン29により真空状態とする。その後、すべての弁を閉止した後、開閉弁2を開放して容器1から供給弁3までの導管6内の圧力を14.7MPaGとした。さらに、供給弁3を開放して容器1からシリンダ26までの導管内の圧力を14.7MPaGとした。その後、開閉弁2を閉止し、真空ライン29を通じて導管6及び供給管4内のガス置換を行った。以上のような操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による10volCl2ガスが5MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による0.5volBr2ガスが5MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による0.1volヨウ素ガスが5MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による10volのF2Cl2混合ガスF2とCl2の体積分率はそれぞれ50volが5MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による20volF2ガスが3.6MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。次に、操作について説明する。開閉弁2を閉、それ以外の弁を開にした状態で導管6及び供給管4内を真空ライン29により真空状態とする。その後、すべての弁を閉止した後、開閉弁2を開放して容器1から供給弁3までの導管6内の圧力を3.6MPaGとした。さらに、供給弁3を開放して容器1からシリンダ26までの導管内の圧力を3.6MPaGとした。その後、開閉弁2を閉止し、真空ライン29を通じて導管6及び供給管4内のガス置換を行った。以上のような操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による10volF2ガスが19MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。次に、操作について説明する。開閉弁2を閉、それ以外の弁を開にした状態で導管6及び供給管4内を真空ライン29により真空状態とする。その後、すべての弁を閉止した後、開閉弁2を開放して容器1から供給弁3までの導管6内の圧力を19MPaGとした。さらに、供給弁3を開放して容器1からシリンダ26までの導管内の圧力を19MPaGとした。その後、開閉弁2を閉止し、真空ライン29を通じて導管6及び供給管4内のガス置換を行った。以上のような操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による10volF2ガスが21MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。次に、操作について説明する。開閉弁2を閉、それ以外の弁を開にした状態で導管6及び供給管4内を真空ライン29により真空状態とする。その後、すべての弁を閉止した後、開閉弁2を開放して容器1から供給弁3までの導管6内の圧力を21MPaGとした。さらに、供給弁3を開放して容器1からシリンダ26までの導管内の圧力を21MPaGとした。その後、開閉弁2を閉止し、真空ライン29を通じて導管6及び供給管4内のガス置換を行った。以上のような操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、チップ表面に若干の変色が認められたものの、重量減少率は0.5質量以下であった。重量変化は発生しておらず、目視変化も僅かであったことから、PCTFEの焼損としては問題の無い範囲であった。本実施例では、容器1に、N2希釈による50volF2ガスが5MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。流通方向変化機構5が図8の構造である以外は実施例1と同様である。本実施例で用いた流通方向変化機構5は実施例1に対して、邪魔板51が開口部53を揃えて配置されている以外は同様である。操作については実施例1と同様である。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、チップ表面に変色が認められたものの、重量減少率は0.5質量以下であった。重量変化は発生しておらず、目視変化も僅かであったことから、PCTFEの焼損としては問題の無い範囲であった。流通方向変化機構5が図9の構造である以外は実施例1と同様である。本実施例で用いた流通方向変化機構5は実施例1に対して、邪魔板51がガス流入側に最も近い1枚のみであること以外は同様である。操作については実施例1と同様である。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、チップ表面に若干の変色が認められ、重量減少率も0.5質量であった。本実施例では、変色及びの重量変化も認められたものの、後述の比較例1と比較するとPCTFEチップの変色の度合いと重量減少率も十分に小さなものであった。本実施例では、ステンレス配管52の長さ方向に対して垂直方向の開口部53の断面積は、該配管52の内部空間の同方向の断面積の0.4倍である。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。次に、操作について説明する。開閉弁2を閉、それ以外の弁を開にした状態で導管6及び供給管4内を真空ライン29により真空状態とする。その後、すべての弁を閉止した後、開閉弁2を開放して容器1から供給弁3までの導管6内の圧力を14.7MPaGとした。さらに、供給弁3を開放して容器1からシリンダ26までの導管内の圧力を14.7MPaGとした。その後、開閉弁2を閉止し、真空ライン29を通じて導管6及び供給管4内のガス置換を行った。以上のような操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、ステンレス配管52の長さ方向に対して垂直方向の開口部53の断面積は、該配管52の内部空間の同方向の断面積の0.6倍である。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。次に、操作について説明する。開閉弁2を閉、それ以外の弁を開にした状態で導管6及び供給管4内を真空ライン29により真空状態とする。その後、すべての弁を閉止した後、開閉弁2を開放して容器1から供給弁3までの導管6内の圧力を14.7MPaGとした。さらに、供給弁3を開放して容器1からシリンダ26までの導管内の圧力を14.7MPaGとした。その後、開閉弁2を閉止し、真空ライン29を通じて導管6及び供給管4内のガス置換を行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、チップ表面に変色が認められたものの、重量減少率は0.5質量以下であった。重量変化は発生しておらず、目視変化も僅かであったことから、PCTFEの焼損としては問題の無い範囲であった。本実施例では、容器1に、100volNF3ガスが14.7MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、100volO2ガスが14.7MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による20volBF3ガスが14.7MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による20volClFガスが14.7MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による0.1volClF3ガスが5MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。本実施例では、容器1に、N2希釈による0.1volIF7ガスが5MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は実施例1の構成と同様である。また、操作も実施例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化は無く、重量減少率も0.5質量以下であった。目視変化及び重量減少が発生していなかったことから、PCTFEの焼損は発生していなかったものと判断できる。[比較例1]図10に本比較例の概略図を示す。本比較例では、マンガン鋼製の容器1にN2希釈による20volF2ガスが5MPaGの圧力で充填されている。容器1には開閉弁2が装着されている。開閉弁2と供給弁3は、外径1/2インチ、肉厚1mm、長さ200mmの直線状のステンレス製の導管6で接続されている。供給弁3の下流側には、導管6と同一形状のステンレス製の供給管4を介して、内容量50ccのステンレス製のシリンダ26が接続されている。シリンダ26の下流側には、手動弁28を介して真空ライン29が接続されている。シリンダ26内の下流端底部には、各辺3mmのPCTFEチップ27が封入されている。開閉弁2及び供給弁3はオールメタル製のダイヤフラム自動弁である。手動弁28及び真空ライン29は導管6及び供給管4内のガス置換を行うためのものである。次に、操作について説明する。開閉弁2を閉、それ以外の弁を開にした状態で導管6及び供給管4内を真空ライン29を通じて真空状態とする。その後、すべての弁を閉止した後、開閉弁2を開放して容器1から供給弁3までの導管6内の圧力を5MPaGとした。さらに、供給弁3を開放して容器1からシリンダ26までの供給管4内の圧力を5MPaGとした。その後、5分間経過した後に開閉弁2を閉止し、真空ライン29を通じて導管6及び供給管4内のガス置換を行った。以上のような操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った結果、目視変化ではPCTFE表面の約50が焼損の為変色しており、重量減少率も12質量であった。目視変化及び重量減少が発生していたことから、PCTFEの焼損が発生したものと判断できる。[比較例2]本比較例では、容器1に、100volNF3ガスが14.7MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は比較例1の構成と同様である。また、操作も比較例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った。その結果、重量変化率は0.5質量以下であったものの、目視観察では、わずかではあるが、表面に焼損の為の変色が認められた。[比較例3]本比較例では、容器1に、100volO2ガスが14.7MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は比較例1の構成と同様である。また、操作も比較例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った。その結果、重量変化率は0.5質量以下であったものの、目視観察では、わずかではあるが、表面に焼損の為の変色が認められた。[比較例4]本比較例では、容器1に、N2希釈による20volBF3ガスが14.7MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は比較例1の構成と同様である。また、操作も比較例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った。その結果、重量変化率は0.5質量以下であったものの、目視観察では、わずかではあるが、表面に焼損の為の変色が認められた。[比較例5]本比較例では、容器1に、N2希釈による20volClFガスが14.7MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は比較例1の構成と同様である。また、操作も比較例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った。その結果、重量変化率は0.5質量以下であったものの、目視観察では、わずかではあるが、表面に焼損の為の変色が認められた。[比較例6]本比較例では、容器1に、N2希釈による0.1volClF3ガスが5MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は比較例1の構成と同様である。また、操作も比較例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った。その結果、重量変化率は0.5質量以下であったものの、目視観察では、わずかではあるが、表面に焼損の為の変色が認められた。[比較例7]本比較例では、容器1に、N2希釈による0.1volIF7ガスが5MPaGの圧力で充填されている。それ以外の構成は比較例1の構成と同様である。また、操作も比較例1と同様に行った。該操作を10回繰り返した後に、シリンダ26内のPCTFEチップ27を取出し、目視観察及び重量減少率の測定を行った。その結果、重量変化率は0.5質量以下であったものの、目視観察では、わずかではあるが、表面に焼損の為の変色が認められた。なお、上記実施の形態では、高圧充填されたハロゲン含有ガスを容器から外部装置へと供給する装置について説明した。しかし、実施例17及び比較例4に示したように、ハロゲン含有ガスに代わりO2やNO等の支燃性ガスを用いた場合も同様の作用効果を奏する。つまり、適用するガスをハロゲン含有ガスから支燃性ガスに代え、それ以外の構成は同一であっても、発明として成立する。具体的には、支燃性ガスを、その支燃性ガスが高圧充填された容器から外部装置へと供給する支燃性ガス供給装置であって、前記容器と前記外部装置とを接続する供給管と、前記供給管に設けられ前記容器から支燃性ガスを供給するための供給弁とを備え、前記供給弁より下流の前記供給管の一部の管内部にハロゲン含有ガスの流通方向を変化させる流通方向変化機構が設けられる、と構成しても発明が成立する。また、前記流通方向変化機構として、前記供給管内部に配置され開口部を有してガスの流通方向を仕切る邪魔板を備え、前記開口部の面積は、前記供給管の断面積の1/2以下である。また、前記邪魔板は、前記供給管の長さ方向に複数配置され、複数の前記邪魔板は、隣り合う邪魔板の前記開口部が前記供給管の長さ方向に重ならないように配置される。また、前記流通方向変化機構として、前記供給管内部に複数の充填物が充填される。また、支燃性ガスの充填圧力は、5MPa以上20MPa以下であることが好ましい。支燃性ガスが用いられる本構成においても、供給弁より下流の供給管の一部の管内部に、支燃性ガスの流通方向を変化させる流通方向変化機構が設けられるため、導入弁の弁室内の温度上昇、及び導入弁の表面腐食や導入弁に用いられるシール材の劣化を抑制することができる。本発明は上記の実施の形態に限定されずに、その技術的な思想の範囲内において種々の変更がなしうることは明白である。"