"金属帯を真空雰囲気で連続的に処理する真空処理装置の金属帯導入口または金属帯排出口を真空シールする真空シール装置であって、前記金属帯の上面側に配置された上側シール部材と、該上側シール部材と平行に前記金属帯の下面側に配置された下側シール部材と、該下側シール部材と前記上側シール部材との間で前記金属帯の左右両側をシールする左右一対のサイドシール部材と、前記上側シール部材、前記下側シール部材および前記サイドシール部材の少なくとも何れかを前記金属帯の幅方向または長さ方向に駆動するシール部材駆動機構とを備えてなり、前記上側シール部材、前記下側シール部材および前記サイドシール部材により形成されるシール空間の金属帯幅方向長さまたは金属帯長さ方向長さに対して、前記シール部材駆動機構により駆動されるシール部材が前記方向に2倍以上の長さでプレート状またはエンドレスベルト状に形成されていることを特徴とする真空シール装置。しかしながら、特許文献2に記載されたものでは、シールロールとその後方に設けられたシール金物との間に0.2mm程度の隙間が発生し、シール性が低いという問題がある。また、特許文献3に記載されたものでは、エンドレスシール部材の幅方向両側に配置されるサイドシール片が振動などで脱落する可能性があり、サイドシール片が脱落した場合には真空処理装置の内部を真空状態に保つことができなくなるという問題がある。また、特許文献4に記載されたものでは、シール板が樹脂から形成されているため、金属帯とシール板との間に0.03mm程度の隙間ができるようにシール板を金属帯の上面に近づけてシール性を高めようとした場合には、シール板が比較的早期に磨耗してしまい、安定したシール性能を保つことができないという問題がある。本発明は、上述した問題点に着目してなされたものであり、金属帯を真空雰囲気で連続的に処理する真空処理装置の金属帯導入口や金属帯排出口を常に高いシール性能で真空シールすることのできる真空シール装置を提供することを目的とするものである。上記目的を達成するために、本発明は、金属帯を真空雰囲気で連続的に処理する真空処理装置の金属帯導入口または金属帯排出口を真空シールする真空シール装置であって、前記金属帯の上面側に配置された上側シール部材と、該上側シール部材と平行に前記金属帯の下面側に配置された下側シール部材と、該下側シール部材と前記上側シール部材との間で前記金属帯の左右両側をシールする左右一対のサイドシール部材と、前記上側シール部材、前記下側シール部材および前記サイドシール部材の少なくとも何れかを前記金属帯の幅方向または長さ方向に駆動するシール部材駆動機構とを備えてなり、前記上側シール部材、前記下側シール部材および前記サイドシール部材により形成されるシール空間の金属帯幅方向長さまたは金属帯長さ方向長さに対して、前記シール部材駆動機構により駆動されるシール部材が前記方向に2倍以上の長さでプレート状またはエンドレスベルト状に形成されていることを特徴とする。本発明によれば、シール部材が金属帯によって磨耗したときにシール部材を金属帯の幅方向に駆動することによってシール部材の磨耗部分が磨耗していない部分と置換されることになるので、金属帯を真空雰囲気で連続的に処理する真空処理装置の金属帯導入口や金属帯排出口を常に高いシール性能で真空シールすることができる。以下、図面を参照して本発明に係る真空シール装置について説明する。図1は本発明の第1の実施形態に係る真空シール装置を備えた真空処理装置の一部を示す断面図、図2は図1のA-A断面を示す図である。図1に示される真空処理装置1は複数の上側搬送ロール2aと下側搬送ロール2bにより矢印方向に搬送される金属帯3を真空雰囲気で連続的に処理するものであって、この真空処理装置1の金属帯導入口4は、上側シール部材6、下側シール部材7、サイドシール部材8a,8b、シール部材押し付け機構9及びシール部材駆動機構12からなる真空シール装置5によって真空シールされている。上側シール部材6は金属帯3の上面側をシールするものであって、金属帯3との間に0.03mm程度の隙間が形成されるように金属帯3の上面側に配置されている。また、上側シール部材6はシール性の良好なシール材例えば樹脂からなり、上側シール部材6、下側シール部材7及びサイドシール部材8a,8bにより形成されるシール空間14の金属帯幅方向長さをWとすると、上側シール部材6は2W以上の長さでプレート状に形成されている。下側シール部材7は金属帯3の下面側をシールするものであって、上側シール部材6と平行に金属帯3の下面側に配置されている。また、下側シール部材7はシール性の良好なシール材例えば樹脂からなり、金属帯3の横幅より大きい幅寸法でプレート状に形成されている。さらに、下側シール部材7は真空処理装置1の内面に固定されている。サイドシール部材8a,8bは、上側シール部材6と下側シール部材7との間で金属帯3の左右両側にシールするものである。これらのサイドシール部材8a,8bはシール性の良好なシール材例えば樹脂からなり、金属帯3と下側シール部材7との間に0.03mm程度の隙間が形成されるように、本実施形態では下側シール部材7と一体に形成されている。シール部材押し付け機構9は上側シール部材6の下面をサイドシール部材8a,8bの上面に押し付けるものであって、例えば複数のシール部材押し付けローラ10と、これらのシール部材押し付けローラ10を上側シール部材6の上面に押し付ける複数のシリンダ11とで構成されている。シール部材駆動機構12は上側シール部材6を金属帯3の幅方向に駆動するものであって、例えば金属帯3の幅方向に伸縮動作するシリンダ13から構成されている。なお、上側シール部材6が押し付けられるサイドシール部材8a,8bの上面には、ゴムなどの弾性材からなる弾性シール部材15を収納する2つのシール部材収納溝が金属帯3の長手方向に沿って形成されている。図3は上側シール部材6を金属帯3の幅方向に移動させた状態を示す図であり、以下、図3を参照して第1の実施形態に係る真空シール装置5の作用効果について説明する。上述した真空シール装置5において、上側シール部材6の下面が金属帯3によって磨耗した場合には、シール部材駆動機構12のシリンダ13を作動させ、図3に示すように、上側シール部材6を金属帯3の幅方向に移動させる。そうすると、上側シール部材6はシール空間14の金属帯幅方向長さWに対して2倍以上の長さでプレート状に形成されているため、上側シール部材6の磨耗した部分が磨耗していない部分と置換されることになる。これにより、上側シール部材6の磨耗によって真空シール装置5のシール性能が低下してもプレート状の上側シール部材6を金属帯3の幅方向に移動させることによって真空シール装置5のシール性能を初期の状態に回復させることができ、従って、真空処理装置1の金属帯導入口4を常に高いシール性能で真空シールすることができる。また、シール部材押し付け機構9が複数のシール部材押し付けローラ10と、これらのシール部材押し付けローラ10を上側シール部材6の上面に押し付ける複数のシリンダ11とで構成されているため、シール部材駆動機構12により上側シール部材6を金属帯3の幅方向にスライドさせたときに真空シール装置5のシール性能を低下させる損傷が上側シール部材6に生じることを防止することもできる。上述した第1の実施形態では、上側シール部材6と下側シール部材7のうち上側シール部材6が金属帯3の幅方向に駆動されるものを例示したが、これに限られるものではない。たとえば、下側シール部材7をシール空間14の金属帯幅方向長さWに対して2倍以上の長さでプレート状に形成し、この下側シール部材7をシール部材駆動機構により金属帯3の幅方向に駆動してもよい。また、上側シール部材6と下側シール部材7の両方をシール空間14の金属帯幅方向長さWに対して2倍以上の長さでプレート状に形成し、これらのシール部材6,7をシール部材駆動機構により金属帯3の幅方向に駆動してもよい。次に、図4及び図5を参照して本発明の第2の実施形態について説明する。図4は本発明の第2の実施形態に係る真空シール装置を備えた真空処理装置の一部を示す断面図、図5は図4のB-B断面を示す図であり、図4に示される真空処理装置1の金属帯導入口4は、上側シール部材17、下側シール部材18、サイドシール部材19a,19b、シール部材押し付け機構20、シール部材駆動機構24及び補修用テーブル26からなる真空シール装置16によって真空シールされている。上側シール部材17は金属帯3の上面側をシールするものであって、金属帯3との間に0.03mm程度の隙間が形成されるように金属帯3の上面側に配置されている。また、上側シール部材17はシール性の良好なシール材例えば樹脂からなり、上側シール部材17、下側シール部材18及びサイドシール部材19a,19bにより形成されるシール空間27の金属帯幅方向長さをWとすると、上側シール部材17は2W以上の長さでエンドレスベルト状に形成されている。下側シール部材18は金属帯3の下面側をシールするものであって、上側シール部材17と平行に金属帯3の下面側に配置されている。また、下側シール部材18はシール性の良好なシール材例えば樹脂からなり、金属帯3の横幅より大きい幅寸法でプレート状に形成されている。さらに、下側シール部材18は真空処理装置1の内面に固定されている。サイドシール部材19a,19bは、上側シール部材17と下側シール部材18との間で金属帯3の左右両側にシールするものである。これらのサイドシール部材19a,19bはシール性の良好なシール材例えば樹脂からなり、金属帯3と下側シール部材18との間に0.03mm程度の隙間が形成されるように、本実施形態では下側シール部材18と一体に形成されている。シール部材押し付け機構20は上側シール部材17をサイドシール部材19a,19bの上面に押し付けるものであって、例えばシール部材押し付け板21と、このシール部材押し付け板21を上側シール部材17の上面にローラ22を介して押し付ける複数のシリンダ23とで構成されている。シール部材駆動機構24は上側シール部材17を金属帯3の幅方向に駆動するものであって、例えばエンドレスベルト状に形成された上側シール部材17を金属帯3の幅方向に送り駆動する4つの送りロール25から構成されている。補修用テーブル26はエンドレスベルト状に形成された上側シール部材17を補修するためのものであって、シール部材押し付け機構20の上方に配置されている。なお、上側シール部材17が押し付けられるサイドシール部材19a,19bの上面には、ゴムなどの弾性材からなる弾性シール部材15を収納する2つのシール部材収納溝が金属帯3の長手方向に沿って形成されている。このような構成において、上側シール部材17の下面が金属帯3によって磨耗した場合には、シール部材駆動機構24の送りロール25を回転させ、上側シール部材17を金属帯3の幅方向例えば図5に示す矢印方向に送り駆動する。そうすると、上側シール部材17はシール空間27の金属帯幅方向長さWに対して2倍以上の長さでエンドレスベルト状に形成されているため、上側シール部材17の磨耗した部分が磨耗していない部分と置換されることになる。これにより、上側シール部材17の磨耗によって真空シール装置16のシール性能が低下してもエンドレスベルト状の上側シール部材17を金属帯3の幅方向に送り駆動することによって真空シール装置16のシール性能を初期の状態に回復させることができ、従って、真空処理装置1の金属帯導入口4を常に高いシール性能で真空シールすることができる。上述した第2の実施形態では、上側シール部材17と下側シール部材18のうち上側シール部材17が金属帯3の幅方向に駆動されるものを例示したが、これに限られるものではない。たとえば、下側シール部材18をシール空間27の金属帯幅方向長さWに対して2倍以上の長さでエンドレスベルト状に形成し、この下側シール部材18をシール部材駆動機構により金属帯3の幅方向に駆動してもよい。また、上側シール部材17と下側シール部材18の両方をシール空間27の金属帯幅方向長さWに対して2倍以上の長さでエンドレスベルト状に形成し、これらのシール部材17,18をシール部材駆動機構により金属帯3の幅方向に駆動してもよい。次に、図6及び図7を参照して本発明の第3の実施形態について説明する。図6は本発明の第3の実施形態に係る真空シール装置の平面図、図7は図6のC-C断面を示す図であり、図6及び図7に示される真空シール装置28は、上側シール部材29、下側シール部材30、サイドシール部材31a,31b及びシール部材駆動機構32a,32bを備えている。上側シール部材29は金属帯3の上面側をシールするものであって、金属帯3との間に0.03mm程度の隙間が形成されるように金属帯3の上面側に配置されている。また、上側シール部材29はシール性の良好なシール材例えば樹脂からなり、金属帯3の横幅より大きい幅寸法でプレート状に形成されている。下側シール部材30は金属帯3の下面側をシールするものであって、金属帯3との間に0.03mm程度の隙間が形成されるように、上側シール部材29と平行に金属帯3の下面側に配置されている。また、下側シール部材30はシール性の良好なシール材例えば樹脂からなり、金属帯3の横幅より大きい幅寸法でプレート状に形成されている。サイドシール部材31a,31bは金属帯3の左右両側をシールするものであって、上側シール部材29と下側シール部材30の左右両側に配置されている。また、上側シール部材29、下側シール部材30及びサイドシール部材31a,31bにより形成されるシール空間34の金属帯長さ方向の長さをLとすると、サイドシール部材31a,31bは2L以上の長さでエンドレスベルト状に形成されている。シール部材駆動機構32a,32bはサイドシール部材31a,31bを金属帯3の長さ方向に駆動するものであって、エンドレスベルト状に形成されたサイドシール部材31a,31bを金属帯3の長さ方向に送り駆動する例えば4つのローラ33から構成されている。このような構成において、サイドシール部材31a,31bの表面が金属帯3によって磨耗した場合には、シール部材駆動機構32a,32bの送りローラ33を回転させ、サイドシール部材31a,31bを金属帯3の長さ方向例えば図6に示す矢印方向に送り駆動する。そうすると、サイドシール部材31a,31bはシール空間34の金属帯長さ方向長さLに対して2倍以上の長さでエンドレスベルト状に形成されているため、サイドシール部材31a,31bの磨耗した部分が磨耗していない部分と置換されることになる。これにより、サイドシール部材31a,31bの磨耗によって真空シール装置28のシール性能が低下してもエンドレスベルト状のサイドシール部材31a,31bを金属帯3の長さ方向に送り駆動することによって真空シール装置28のシール性能を初期の状態に回復させることができ、従って、真空処理装置の金属帯導入口を常に高いシール性能で真空シールすることができる。上述した第1~第3の実施形態では、真空処理装置の金属帯導入口を真空シールする真空シール装置に本発明を適用した例を示したが、真空処理装置の金属帯排出口を真空シールする真空シール装置に本発明を適用することにより、真空処理装置の金属帯排出口を常に高いシール性能で真空シールすることができる。図8は本発明に係る真空シール装置のシール性能を従来の真空シール装置と比較して示す図であり、図中縦軸はシール空間形成部材により形成されるシール空間に1リットルの外気が1秒間に流入する割合コンダクタンスを示し、横軸は経過時間を示している。図8に示すように、従来の真空シール装置上側シール部材6が固定の場合では、時間が経つに従ってシール部材のシール性が徐々に低下することがわかる。これに対し、本発明では、上側シール部材、下側シール部材およびサイドシール部材の少なくとも何れかが金属帯3の幅に対して2倍以上の長さでプレート状またはエンドレスベルト状に形成され、かつ金属帯3の幅方向または長さ方向に移動可能となっているため、プレート状またはエンドレスベルト状に形成されたシール部材のシール性が低下したときにシール部材を金属帯3の幅方向に移動させることによりシール部材のシール性を初期状態まで回復できることがわかる。また、従来のシール装置では、上側シール部材の交換に約4時間程度の作業時間を要したのに対し、本発明では、シール部材の磨耗した部分を約5分程度で未磨耗の部分と置換することができる。"