"自発光型光源からの光抽出を強化するための光抽出フィルムであって、可撓性キャリアフィルムと、前記キャリアフィルムによって担持される第1層及び第2層であって、前記第1層及び前記第2層は、それらの間に第1の埋め込みインターフェースを画定する、第1層及び第2層と、を含み、前記第1の埋め込みインターフェースは、第1の光抽出要素の第1の構造化表面を形成し、前記第1層はナノ中空モルホルジーを有し、かつポリマー結合剤を含み、前記第1層はまた1.35未満の屈折率を有し、前記第2層は、前記第1層よりも大きい屈折率を有する、光抽出フィルム。前記第1層が1.3未満の屈折率を有する、請求項1に記載の抽出フィルム。前記第2層が1.4超の屈折率を有する、請求項1に記載の抽出フィルム。前記第1層と前記第2層との屈折率の差が少なくとも0.3、又は少なくとも0.4、又は少なくとも0.5である、請求項1に記載の抽出フィルム。前記第1層が前記キャリアフィルムと前記第2層との間に配置される、請求項1に記載の抽出フィルム。前記第1の光抽出要素が十分に小さく、前記第2層が十分に薄いため、前記前記抽出フィルムが前記自発光型光源と組み合わされたときに、前記抽出要素の実質的な部分が、前記自発光型光源のエバネセント領域内に配置される、請求項5に記載の抽出フィルム。前記第1の光抽出要素が回折要素を含む、請求項5に記載の抽出フィルム。前記第1の光抽出要素が1マイクロメートル未満のピッチを有する、請求項5に記載の抽出フィルム。前記第1の光抽出要素が1マイクロメートル超のピッチを有する、請求項5に記載の抽出フィルム。前記第1の光抽出要素が屈折要素を含む、請求項9に記載の抽出フィルム。前記第1の光抽出要素がそれと関連付けられたランド部を有し、前記ランド部は50マイクロメートル未満の厚さを有する、請求項9に記載の抽出フィルム。前記ランド部の厚さが25マイクロメートル未満である、請求項11に記載の抽出フィルム。前記第2層が光透過性粘弾性物質を含む、請求項5に記載の抽出フィルム。前記第1の構造化表面と反対側の第2層の主表面を覆う剥離ライナーを更に含む、請求項13に記載の抽出フィルム。前記抽出フィルムは、前記抽出フィルムとは別に製造される自発光型光源への適用のために適合される、請求項1に記載の抽出フィルム。前記抽出フィルムは、その上で前記自発光型光源が製造され得る基材として適合される、請求項1に記載の抽出フィルム。前記キャリアフィルムは、該キャリアフィルムをロールツーロールプロセスにおいて自立する支持フィルムとして適したものにする物理的特性を有する、請求項1に記載の抽出フィルム。前記第1層又は前記第2層のいずれも、前記第1層又は前記第2層をロールツーロールプロセスにおいて自立する支持フィルムとして適したものにする物理的特性を有さない、請求項1に記載の抽出フィルム。前記キャリアフィルムによって担持される第3層と、それらの間に第2の埋め込まれたインターフェースを画定する第1層及び第2層と、を更に含み、前記第2の埋め込まれたインターフェースは、第2の光抽出要素の第2の構造化表面を形成する、請求項1に記載の抽出フィルム。前記第1の光抽出要素は1マイクロメートル未満のピッチを有し、前記第2の光抽出要素は1マイクロメートル超のピッチを有する、請求項19に記載の抽出フィルム。前記第1の光抽出要素の実質的な部分は、前記抽出フィルムが前記自発光型光源と組み合わされたときに、前記自発光型光源のエバネセント領域内に配置されるように適合される、請求項19に記載の抽出フィルム。前記第2の光抽出要素がそれと関連付けられたランド部を有し、前記ランド部は50マイクロメートル未満の厚さを有する、請求項19に記載の抽出フィルム。前記ランド部の厚さが25マイクロメートル未満である、請求項22に記載の抽出フィルム。前記自発光型光源がOLEDを含む、請求項1に記載の抽出フィルム。前記第1層及び前記第2層は前記可撓性キャリアフィルムと前記自発光型光源との間に配置される、前記自発光型光源と組み合わされた請求項1に記載の抽出フィルム。デバイスであって、OLED、及び前記OLEDに取り付けられた光抽出フィルム、を含み、前記光抽出フィルムは可撓性キャリアフィルムと、前記キャリアフィルムによって担持される第1層及び第2層であって、第1の光抽出要素の第1の構造化表面を形成する第1の埋め込みインターフェースをそれらの間に画定する、第1層及び第2層と、を含み、前記第1層はナノ中空モルホルジーを有し、かつポリマー結合剤を含み、前記第1層はまた1.35未満の屈折率を有し、前記第2層は、前記第1層よりも大きい屈折率を有し、かつ前記第1層と前記OLEDとの間に配置される、デバイス。高屈折率領域が前記OLEDと関連付けられ、前記高屈折率領域が少なくとも1つの有機光生成層及び少なくとも1つの透明電極層を含み、前記第1の光抽出要素の実質的な部分が、前記高屈折率領域のエバネセント領域内に配置される、請求項26に記載のデバイス。少なくとも1つの透明電極層が前記光抽出フィルムの一部である、請求項27に記載のデバイス。前記第1の光抽出要素が屈折要素を含み、かつ1マイクロメートル超のピッチを有する、請求項26に記載のデバイス。前記第1の光抽出要素がそれと関連付けられたランド部を有し、前記ランド部は50マイクロメートル未満の厚さを有する、請求項29に記載のデバイス。前記ランド部が25マイクロメートル未満の厚さを有する、請求項29に記載のデバイス。OLED及び他の自発光型光源との組み合わせで使用して、放射された光を増加させ、損失を減少させるように、かかるデバイスからの光を抽出することができる光学フィルムの新しい系統を本発明者らは開発した。開示される光抽出フィルムは、様々なタイプのOLEDとの組み合わせに特に有効である。開示された抽出フィルムの一部は、導波モードに対して損失する光の量を低減することによって光抽出を強化するように設計される。いくつかの抽出フィルムは、最外表面又はOLEDの境界において内部全反射される光の量を低減させることによって、光抽出を強化するように設計される。いくつかの抽出フィルムは、これらのタイプの損失メカニズムの両方を低減することによって、光抽出を強化するように設計される。開示される光学フィルムは、例えば底面発光又は表面発光OLEDなど、自発光型光源からの光抽出を強化するために有用である。抽出フィルムは典型的に、可撓性キャリアフィルムと、このキャリアフィルムによって担持される第1層及び第2層を含む。第1層又は第2層はナノ中空モルホルジーを有してもよく、かつポリマー結合剤を含んでもよく、並びにまた1.35又は1.3未満の屈折率を有してもよい。光抽出要素の埋め込まれた構造化表面が第1層と第2層との間に形成される。光抽出要素は主として、OLEDエバネセント領域内に配置されるように適用された主に回折要素であり得るか、又はそれらは、主として回折要素であり、これはエバネセント領域の外に配置され得る。抽出フィルムはまた、第3層を含んでもよく、第2の埋め込まれた構造化表面は、第3層と第1層との間に形成されてもよい。本出願はとりわけ、可撓性キャリアフィルムと、このキャリアフィルムによって担持される第1層及び第2層と、を含む光抽出フィルムも開示する。第1層及び第2層はそれらの間に、第1の埋め込まれたインターフェースを画定し、これは第1の光抽出要素の第1の構造化表面を形成する。第1層はナノ中空モルホロジーを有し、かつポリマー結合剤を含み、第1層はまた1.35未満の屈折率を有するのが好ましい。第2層は、第1層よりも大きい屈折率を有する。いくつかの場合においては、第1層は1.3未満の屈折率を有してもよい。いくつかの場合においては、第2層は1.4超の屈折率を有してもよい。一部の場合は、第1層と第2層との屈折率の差は、少なくとも0.3、又は少なくとも0.4、又は少なくとも0.5である。いくつかの場合においては、第1層はキャリアフィルムと第2層との間に配置されてもよい。いくつかの場合においては、第1の光抽出要素が十分小さく、第2層が十分薄いため、抽出フィルムが自発光型光源と組み合わされたときに、抽出要素の実質的な部分が、自発光型光源のエバネセント領域内に配置される。いくつかの場合においては、第1の光抽出要素は回折要素を含んでもよい。いくつかの場合においては、第1の光抽出要素は1マイクロメートル未満のピッチを有してもよい。いくつかの場合においては、第1の光抽出要素は1マイクロメートル超のピッチを有してもよい。いくつかの場合においては、第1の光抽出要素は屈折要素を含んでもよい。一部の実施形態では、第1の光抽出要素はそれと関連付けられたランド部を有してもよく、ランド部は50マイクロメートル未満の厚さを有してもよい。いくつかの場合においては、ランド部の厚さは25マイクロメートル未満であってもよい。他の場合では、第1の光抽出要素はランド部を有さなくてもよい。いくつかの場合においては、第2層は光透過性粘弾性物質を含み得る。いくつかの場合においては、フィルムは第1の構造化表面と反対側の第2層の主表面を覆う剥離ライナーを更に有してもよい。いくつかの場合においては、抽出フィルムは、抽出フィルムとは別に製造される自発光型光源への適用のために適合されてもよい。いくつかの場合においては、抽出フィルムは、その上で自発光型光源が製造され得る基材として適用されてもよい。いくつかの場合においては、キャリアフィルムは、ロールツーロールプロセスにおいて自立する支持フィルムとして適したものにする物理的特性を有してよい。いくつかの場合においては、第1層及び第2層のいずれも、ロールツーロールプロセスにおいて自立支持フィルムとして適したものにする物理的特性を有さない。いくつかの場合においては、抽出フィルムは、キャリアフィルムによって担持される第3層と、それらの間に第2の埋め込まれたインターフェースを画定する第1層及び第2層と、を更に含み、第2の埋め込まれたインターフェースは、第2の光抽出要素の第2の構造化表面を形成してもよい。場合によっては、第1の光抽出要素は1マイクロメートル未満のピッチを有してもよく、第2の光抽出要素は1マイクロメートル超のピッチを有してもよい。いくつかの場合においては、第1の光抽出要素の実質的な部分は、抽出フィルムが自発光型光源と組み合わされたときに、自発光型光源のエバネセント領域内に配置されるように適合されてもよい。いくつかの場合においては、第2の光抽出要素はそれと関連付けられたランド部と関連を有してもよく、ランド部は50マイクロメートル未満の厚さを有してもよい。いくつかの場合においては、ランド部の厚さは25マイクロメートル未満であってもよい。いくつかの場合においては、自発光型光源はOLEDを含んでもよい。いくつかの場合においては、抽出フィルムは自発光型光源と組み合わされてもよく、第1層及び第2層は可撓性キャリアフィルムと自発光型光源との間に配置されてもよい。本発明者らは、OLED、及びこのOLEDに取り付けられた光抽出フィルムを含むデバイスを開示する。光抽出フィルムは可撓性キャリアフィルムと、キャリアフィルムによって担持される第1層及び第2層であって、第1の光抽出要素の第1の構造化表面を形成する第1の埋め込みインターフェースをそれらの間に画定する、第1層及び第2層と、を含んでもよい。第1層はナノ中空モルホロジーを有してもよく、かつポリマー結合剤を含んでもよく、並びに1.35未満の屈折率も有してもよい。第2層は、第1層よりも大きい屈折率を有してもよく、かつ第1層とOLEDとの間に配置されてもよい。場合によっては、高屈折率領域はOLEDと関連付けられ、高屈折率領域は少なくとも1つの有機光生成層及び少なくとも1つの透明電極層を含み、第1の光抽出要素の実質的な部分は、高屈折率領域のエバネセント領域内に配置されてもよい。いくつかの場合においては、少なくとも1つの透明電極層は光抽出フィルムの一部であってもよい。いくつかの場合においては、第1の光抽出要素は屈折要素を含み、かつ1マイクロメートル超のピッチを有してもよい。いくつかの場合においては、第1の光抽出要素はそれと関連付けられたランド部を有してもよく、ランド部は50マイクロメートル未満の厚さを有してもよい。いくつかの場合においては、ランド部は25マイクロメートル未満の厚さを有してもよい。関連する方法、システム、及び物品も説明される。本願のこれらの態様及び他の態様は、以下の詳細な説明から明らかとなろう。しかし、決して、上記概要は、請求された主題に関する限定として解釈されるべきでなく、主題は、手続処理の間補正することができる添付の特許請求の範囲によってのみ規定される。図1は、OLED100の一実施形態を高度に簡略化した概略の方式で示す。OLED100は、底面発光又は表面発光OLEDのいずれかであってもよく、2つの光学的に厚い層112、114に挟まれた薄い放射領域110を含む。層112、114は、水蒸気及び酸素を放射領域110から外に保持するためのバリア層として機能し、層112、114は、その上でOLED100を成長させ、堆積され、又は積層される基材として機能し得る。別の実施形態では、厚い層112、114のうちの1つは、不活性ガス又は真空に置き換えられてもよい。放射領域110は、印加された電流又は電界に反応して、所望の波長の光を放射するように調整された1つ以上の従来の有機層を含んでもよい。印加された電流は、その主表面が、放射領域の外側表面110a、110bと一致することができる電極によって供給され得る。少なくとも1つの電極は、例えば表面110aにおいて堆積されたものは透明である。電極及び有機放射層は典型的に、その屈折率が約1.5よりも実質的に大きい材料から作製される。例えば、酸化インジウムスズITOから作製された透明電極は、約1.8の屈折率を有し、典型的な光放射有機材料は、1.6~1.8の範囲の屈折率を有してもよい。比較的高屈折率を有する上に、放射領域はまた典型的に非常に薄く、例えば、およそ可視光の波長又はそれ以下である。例えば、ITO電極は、およそ約150nmの厚さを有してもよく、放射性有機層は、およそ約100nmの厚さを有してもよいが、勿論、他の厚さが使用されてもよい。放射領域とは対称的に、層112、114は光学的に厚い、すなわち可視光の波長よりも実質的に大きい厚さを有するだけでなく、それらはまた放射領域110のものよりも小さい屈折率を有する。例えば、層112、114は、その屈折率が約1.5であるガラス又はプラスチックを含んでもよい。結果として、薄い放射領域110は、導波電磁場116として図1に概して示されている、1つ以上の導波モードにおいて、有機材料によって放射される光の一部を捕捉することができる。放射領域110における有機材料に電圧を加えるために電流が印加されるとき、光は全方向で放射される。この光の一部は、光線115によって示され、光が層112又は114内に屈折し、かつ放射領域110から出るのを可能にする方向において伝播する。放射された光の他の部分は、高屈折率領域110において捕捉され、場116によって示される1つ以上の導波モードのような領域に沿って伝播する。場116は典型的に、境界又は表面110a、110bからの距離の関数として指数関数的に減衰する電界強度を有し、減衰の詳細は、領域110と隣接する光学的に厚い層112若しくは114と間の屈折率、並びに2つ以上のモードが指示されている場合は、特定の導波モードによる。領域110の外の場116の指数関数的に減衰している部分は、エバネセント波と呼ばれる。最も実用的な場合では、エバネセント波は、例えば、領域110の対応する外側表面に隣接する層112若しくは114の境界領域において、放射領域110の非常に短い距離内にのみ存在すると考えることができ、その厚さは、およそ可視光の波長、例えばおよそ1マイクロメートル以下である場合があり、あるいは、光学的に厚い層が、高屈折率領域のものに近い屈折率を有する場合は、幾分大きい場合がある。放射領域110を出る光115の中でも、光の一部は、光が層112から外に屈折するよう十分小さい角度によって、OLED110の厚い軸又は光学軸から離れる方向に沿って光が移動する。そのような光はしたがって、OLED100から周囲の空気媒質内に逃げることができ図1の空気媒質は、標準的な大気、又は真空、又は好適な不活性気体のうちのいずれか1つを指す場合がある、最終的には観察者120又は他の光学構成要素に達することができる。光線115a及び115bはこの逃げる光の代表的なものである。光線115aは、角度θ1で外側表面112aにおける空気境界面に衝突し、角度は十分に小さいため、光はOLEDデバイスから外へ、かつ包囲する空気媒質内に反射される。光線115bは、角度θ2で空気境界面に衝突し、これはθ1よりも大きく、層112の臨界角に近いが、臨界角よりもわずかに小さく、これによって反射光は視射角付近で、周囲の空気媒質内に出る。光線115cへのこの進行を辿った場合、放射領域110から逃げる光線115の一部は、層112から外に屈折されるには大きすぎる角度によって、OLED100の厚さ若しくは光学軸から離れる方向に沿って移動する。したがって、光線115cは、層112の臨界角よりも大きい角度θ3で空気境界に衝突し、したがって、光線115cが表面112において全内部反射させ、OLED100内で捕捉させる。したがって、2つの方法放射領域110と関連付けられる導波モードにおいて、及びデバイスの空気境界面112aにおける全内部反射TIRにおいてのうちの1つで光はOLEDデバイス100内に捕捉され得るということが分かる。両方の場合では、捕捉された光は典型的には、最終的に吸収され、OLED100のより低い輝度、より低い効率、及びより高い損失を生じる。放射領域に捕捉された光に関連する損失を導波損失と呼び、OLEDの外側表面におけるTIRによる光の捕捉に関連する損失を基材損失と呼ぶ。OLEDにおける損失メカニズムの更なる説明は、LuらのOptimizationofexternalcouplingandlightemissioninorganiclight-emittingdevices:modelingandexperiment91J.Appl.Phys.Jan.15,2002,pp.595~604に見出すことができる。ナノ中空層本明細書に開示される例示の光抽出フィルムは、少なくとも1つのナノ中空層を組み込む。ナノ中空層は、複数の相互に連結された空隙又は結合剤中に分散した空隙の網状組織を含む。複数又はネットワーク中の少なくとも一部の空隙は、中空トンネル又は中空トンネル様通路を介して互いにつながっている。空隙は、好ましくは層の体積の十分に大きい部分を占めるが、個々の寸法は、ナノ中空層が非常に屈折率の低い、例えば1.35未満、又は1.3未満の材料のように光学的に機能するように十分小さい。このような層は、以下で更に十分に論証するように、光抽出フィルムで用いるのに特に有利である。いくつかの場合においては、ナノ中空層は、例えば1.15~1.35、又は1.15~1.3の範囲の屈折率を示し得る。ナノ中空層は、好ましくは、微細構造化される、すなわち、1ミリメートル未満の少なくとも1つの寸法、及びいくつかの場合においては50ナノメートル~500マイクロメートル、又は50ナノメートル~100マイクロメートル、又は50ナノメートル~1マイクロメートルの範囲であり得る、少なくとも1つの寸法を有するレリーフ機構を伴う非円滑又は非平面表面を有するように意図的に合わせられる、少なくとも1つの主面を有する。図2及び3に関連して、ナノ中空層を製作する代表的な方法、並びにこのような層が呈し得る機構及び特性について記載する。好適なナノ中空層に関する更なる詳細及びそれらの製造は、本願と同日付けに出願され、その全体を本明細書に援用するものである、本願と同一譲受人に譲渡された米国特許出願XXX号代理人整理番号66015US005、発明の名称OpticalFilmsWithMicrostructuredLowRefractiveIndexNanovoidedLayersandMethodsThereforに見出すことができる。まず図2に戻ると、ここには、バックフィルされたナノ中空微細構造化物品250を形成する代表的なプロセス220、及びこのような物品を製造するための対応するシステムが示される。プロセス220は、基材216上にコーティング溶液215を配置する工程を含む。基材216は、好ましくは、ポリマー及び/又は他の好適な材料で作られる可撓性フィルムであり、このフィルムは、図2に示されるようなロールツーロール加工システムにおいて、自立支持フィルム又はキャリアフィルムとして用いるのに好適なものにする厚さ、組成物、及びその他の物理的特性を有している。典型的には、このような基材、つまりキャリアフィルムは、従来の光透過性ポリマー材料で作られる場合、意図しない過度の延伸、巻き上がり、又はゆがみがない状態で、巻き戻され、ロールツーロール加工システムで処理され、及び再度巻き取られるのに、又は1つ以上の加工操作例えばスリット付け、又は個々のシート若しくは片への分離にかけられるのに十分な強度を有するために、少なくとも約0.002インチ約50マイクロメートルの物理的厚さを有する。いくつかの場合においては、例えばスロットコーターダイなどのダイ214を用いて、コーティング溶液215を塗布できる。コーティング溶液215は、重合性材料及び溶媒を含む。次に、プロセス220は、コーティング溶液215が微細複製ツール212に接触している間に重合性材料を重合し、微細構造化層230を形成する工程を含む。続いて、例えばオーブン235により、微細構造化層230から溶媒が除去され、ナノ中空微細構造化物品240を形成する。次に、プロセス220は、ナノ中空微細構造化物品240上にポリマー材料245を配置し、バックフィルされたナノ中空微細構造化物品250を形成する工程を含む。例えばスロットコーターダイなどのダイ244を用いて、又は別の好適な手段により、ポリマー材料245を塗布できる。別の方法として、ポリマー材料245をナノ中空微細構造化物品240上に積層し、ナノ中空微細構造化物品250を形成してよい。微細複製ツール212は、任意の有用な微細複製ツールであってよい。微細複製ツール212は、微細複製表面がロールの外面にあるロールとして図示される。微細複製装置は円滑なロールを含んでよく、微細複製ツールが、コーティング溶液215に接触する基材216の構造化表面であることも想到される。図示される微細複製ツール212は、ニップロール221及び引き取りロール222を備える。紫外線バンクなどの硬化源225は、コーティング溶液215が微細複製ツール212と接触して微細構造化層230を形成する間、基材216及びコーティング溶液215に向いているように図示されている。いくつかの実施形態では、基材216は、コーティング溶液215まで硬化光を透過し、コーティング溶液215を硬化して微細構造化層230を形成することができる。別の実施形態では、硬化源225は熱源であり、コーティング溶液215は熱硬化材料を含む。硬化源225は、図示されるように、又は微細複製ツール212内部に配置されてよい。硬化源225が微細複製ツール212内部に配置されるとき、微細複製ツール212は光をコーティング溶液215まで透過し、コーティング溶液215を硬化して微細構造化層230を形成することができる。ナノ中空微細構造化物品を形成するプロセスは、例えば硬化後の工程又は更なる重合工程などの、追加の加工工程を含んでよい。いくつかの場合においては、溶媒除去工程に続いて、硬化後の工程がナノ中空微細構造化物品に適用される。いくつかの実施形態では、これらの方法は、ウェブベースの材料の製造にとって一般的な追加の処理装置、例えば、アイドラーロール、引張りローラー、操縦機構、コロナ又は火炎処理装置などの表面処理装置、積層ローラーなどを含むことができる。いくつかの場合においては、これらの方法は、異なるウェブ経路、コーティング技術、重合装置、重合装置の位置、乾燥オーブン、調整セクション等を利用することができ、記載されたセクションのいくつかは任意であってよい。いくつかの場合においては、プロセスの1つ、一部、又は全部の工程をロールツーロールプロセスとして実施してよく、少なくとも1つの基材ロールが実質的に連続プロセスを通過し、別のロールで終わる、又はシート化、積層、スリット付けなどを介して変形される。ここで図3に戻ると、ここではナノ中空微細構造化層300の一部の概略的立面図が示される。このナノ中空微細構造化層300は2つの平面的な外側表面330、332を有するように図示されているが、外側表面330、332のうち少なくとも1つが微細構造化され、本明細書で更に記載するような解放又は抽出機構を形成すると理解される。代表的なナノ中空微細構造化層300は、結合剤310中に分散した、複数の相互に連結された空隙又は空隙320の網状組織を含む。複数又はネットワーク中の少なくとも一部の空隙は、中空トンネル又は中空トンネル様通路を介して互いにつながっている。相互に連結された空隙は、元々コーティングされたフィルムの一部を形成し、重合性材料の硬化後、オーブン又は他の手段によってフィルムから追い出された溶媒の相互に連結された塊の名残であり得る。空隙320の網状組織は、図3に示すように、相互に連結された空隙又は孔320A~320Cを含むと考えられる。空隙は、必ずしも物質及び/又は微粒子を全く含んでいない必要はない。例えば、いくつかの場合においては、空隙は、例えば結合剤及び/又はナノ粒子を含む、1つ以上の小さな繊維様物体又はひも様物体を含み得る。一部の開示されるナノ中空微細構造化層は、多数の組の相互に連結された空隙又は多数の空隙の網状組織を含み、各組又は網状組織中の空隙は相互に連結されている。いくつかの場合においては、多数又は多数の組の互いに連結された空隙に加えて、ナノ中空微細構造化層はまた、複数の閉鎖された、又は連結されていない空隙、つまり空隙がトンネルを介して他の空隙に連結されていない空隙も含んでよい。空隙320の網状組織が、ナノ中空層300の第1主面330から対向する第2主面332まで延びる1つ以上の通路を形成する場合、層300は多孔質層であると説明されてよい。一部の空隙は、ナノ中空微細構造化層の表面に存在し、又はこの表面を遮ることができ、表面空隙であると考えることができる。例えば、代表的なナノ中空微細構造化層300では、空隙320D及び320Eはナノ中空微細構造化層の第2主面332に存在し、表面空隙320D及び320Eと見なすことができ、空隙320F及び320Gはナノ中空微細構造化層の第1主面330に存在し、表面空隙320F及び320Gと見なすことができる。空隙320B及び320Cなどのいくつかの空隙は、光学フィルムの内部に配置され、光学フィルム外面からは離れており、したがって内部空隙が1つ以上の他の空隙を介して主面に連結され得るとしても、内部空隙320B及び320Cとして見なされ得る。空隙320は寸法d1を有し、好適な組成物及び製造コーティング、乾燥及び硬化条件などを選択することによって寸法d1を一般に制御することができる。一般に、d1は、任意の望ましい数値範囲内にある任意の望ましい値であり得る。例えば、場合によっては、空隙の少なくとも60、70、80、90、又は95といった少なくとも大多数の空隙は、所望の範囲である寸法を有する。例えば、いくつかの場合においては、少なくとも大多数の空隙、例えば空隙の少なくとも60又は70又は80又は90又は95が、約10マイクロメートル以下、又は約7、又は5、又は4、又は3、又は2、又は1、又は0.7、又は0.5マイクロメートル以下の寸法を有する。いくつかの場合においては、複数の相互に連結され空隙320は、約5マイクロメートル以下、又は約4マイクロメートル以下、又は約3マイクロメートル以下、又は約2マイクロメートル以下、又は約1マイクロメートル以下、又は約0.7マイクロメートル以下、又は約0.5マイクロメートル以下の平均空隙、つまり孔径を有する。いくつかの場合においては、一部の空隙は、その主要な光学的効果が有効屈折率を低下させることであるように十分に小さくてよく、一部の他の空隙は有効屈折率を低減し、光を散乱させることができ、なおかつ一部の他の空隙は、その主要な光学的効果が光を散乱させるように十分に大きくてよい。いくつかの場合においては、空隙は、有意に散乱光を有さずに実効屈折率を地下させるのに十分小さい。ナノ中空微細構造化層300は、任意の有用な厚さt1第1主面330と第2主面332との間の直線距離を有してよい。多くの実施形態では、ナノ中空微細構造化層は、約100nm以上、若しくは約500nm以上、若しくは約1,000nm以上、又は0.1~10マイクロメートルの範囲、若しくは1~100マイクロメートルの範囲である厚さt1を有してよい。いくつかの場合においては、ナノ中空微細構造化層が、空隙及び結合剤の屈折率の観点で表され得る有効屈折率、並びに空隙又は孔の体積分率、つまり多孔性を合理的に有することができるように、ナノ中空微細構造化層は十分に厚くてよい。そのような場合には、ナノ中空微細構造化層の厚さは、例えば約500nm以上、若しくは約1,000nm以上、又は1~10マイクロメートルの範囲、若しくは500nm~100マイクロメートルの範囲である。開示されるナノ中空微細構造化層中の空隙が十分に小さく、かつナノ中空微細構造化層が十分に厚いとき、ナノ中空微細構造化層は、以下の式で表すことができる有効誘電率εeffを有する。式中、εv及びεbは、それぞれ空隙及び結合剤の誘電率であり、fはナノ中空微細構造化層中の空隙の体積分率である。そのような場合には、ナノ中空微細構造化層の有効屈折率neffは、以下の式で表すことができる。式中、nv及びnbは、それぞれ空隙及び結合剤の屈折率である。空隙の屈折率と結合剤の屈折率との差が十分に小さいなど、いくつかの場合においては、ナノ中空微細構造化層の有効屈折率は次の式で近似され得る。そのような場合には、ナノ中空微細構造化層の有効屈折率は、空隙と結合剤の屈折率の容積重み付き平均となる。例えば、50の空隙体積分率を有し、屈折率が1.5の結合剤を有するナノ中空微細構造化層は、式3で計算するとき約1.25の有効屈折率を有し、より正確な式2で計算するとき約1.27の屈折率を有する。いくつかの代表的な実施形態では、ナノ中空微細構造化層は、1.15~1.35、又は1.15~1.3の範囲の有効屈折率を有し得るが、これらの範囲外の値も想到される。図3のナノ中空層300は、結合剤310中に分散した、複数の相互に連結された空隙、又は空隙320の網状組織に加え、結合剤310内部に実質的に均一に分散した任意の複数のナノ粒子340を含むことも示している。ナノ粒子340は、任意の所望の値範囲内にある任意の所望の値であり得るサイズd2を有する。例えば、場合によっては、粒子の少なくとも60、70、80、90、又は95といった少なくとも大多数の粒子は、所望の範囲である寸法を有する。例えば、いくつかの場合においては、粒子の少なくとも60又は70又は80又は90又は95など、粒子の少なくとも大部分が、約1マイクロメートル以下、又は約700、又は500、又は200、又は100、又は50ナノメートル以下の寸法を有する。いくつかの場合においては、複数のナノ粒子340は、約1マイクロメートル以下、又は約700、又は500、又は200、又は100、又は50ナノメートル以下の平均粒子サイズを有してよい。いくつかの場合においては、一部のナノ粒子は十分に小さいため、主に有効屈折率に影響をもたらすことができ、一方、別の一部のナノ粒子は、有効屈折率及び散乱光に影響をもたらすことができ、一方、更に別の一部の粒子は十分に大きいため、その主な光学的効果は光を散乱させることである。ナノ粒子340は、官能化されてもよく、官能化されなくてもよい。いくつかの場合においては、一部、大部分、又は実質的に全てのナノ粒子340、例えばナノ粒子340Bは官能化されていない。いくつかの場合においては、凝集がない、又は非常に少ない状態で所望の溶媒又は結合剤310中に分散できるように、一部、大部分、又は実質的に全てのナノ粒子340が官能化又は表面処理される。いくつかの実施形態では、ナノ粒子340は更に官能化されて結合剤310に化学結合することができる。例えば、ナノ粒子340Aなどのナノ粒子を表面修飾又は表面処理し、結合剤310に化学結合するための反応性官能基、又は基360を有してよい。所望に応じて、ナノ粒子を複数の化学的性質で官能化できる。そのような場合には、ナノ粒子340Aの少なくともかなりの割合は、結合剤に化学結合する。いくつかの場合においては、ナノ粒子340は、結合剤310に化学結合するための反応性のある官能基を有さない。そのような場合には、ナノ粒子340は結合剤310に物理的に結合させることができる。いくつかの場合においては、ナノ粒子の一部は反応性基を有し、他のナノ粒子は反応性基を有さない。ナノ粒子の集合は、大きさが混在したもの、反応性及び非反応性の粒子、異なるタイプの粒子例えばシリカと酸化ジルコニウムを含み得る。いくつかの場合においては、ナノ粒子は表面処理化シリカナノ粒子を含んでよい。ナノ粒子は、無機ナノ粒子、有機例えば、ポリマーナノ粒子、又は有機ナノ粒子と無機ナノ粒子の組み合わせであってもよい。更に、ナノ粒子は、多孔質粒子、中空粒子、固体粒子、又はこれらの組み合わせであってもよい。好適な無機ナノ粒子の例としては、ジルコニア、チタニア、セリア、アルミナ、酸化鉄、ヴァナディアvanadia、酸化アンチモン、酸化スズ、アルミナ/シリカ、及びこれらの組み合わせを含む、シリカ及び金属酸化物ナノ粒子が挙げられる。ナノ粒子は、約1000nm未満、又は約100又は50nm未満の平均粒子直径を有してよく、あるいは平均が約3~50nm、又は約3~35nm、又は約5~25nmの範囲であってよい。ナノ粒子が凝集している場合、凝集した粒子の断面寸法は、こうした範囲のいずれか以内であってよく、また、約100nmを超えることも可能である。いくつかの実施形態では、CabotCo.Boston,MAから入手できるCAB-O-SPERSE登録商標PG002ヒュームドシリカ、CAB-O-SPERSE登録商標2017Aヒュームドシリカ、及びCAB-O-SPERSE登録商標PG003ヒュームドアルミナなどの、主たる寸法が約50nm未満のシリカ及びアルミナなどのヒュームドナノ粒子も含まれる。ナノ粒子は、疎水基、親水基、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される表面基を含んでよい。あるいは、ナノ粒子は、シラン、有機酸、有機塩基、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される剤由来の表面基を含んでよい。他の実施形態では、ナノ粒子は、アルキルシラン、アリールシラン、アルコキシシラン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される薬剤から誘導されたオルガノシリル表面基を含む。用語表面修飾ナノ粒子は、粒子の表面に付着した表面基を含む粒子を指す。表面基は、粒子の特徴を改変する。用語粒子直径及び粒径は、粒子の最大断面寸法を指す。粒子が凝集体の形態で存在する場合、用語粒子直径及び粒径は、凝集体の最大断面寸法を指す。いくつかの場合においては、粒子は、ヒュームドシリカ粒子などのナノ粒子の高アスペクト比の凝集体であってよい。表面修飾ナノ粒子は、ナノ粒子の溶解度特性を修飾する表面基を有する。表面基は、一般に、粒子をコーティング溶液と相溶にするように選択される。一実施形態では、表面基は、コーティング溶液の少なくとも1つの成分と結合する又は反応するように選択され、重合したネットワークの化学的結合部分となる。ナノ粒子の表面を修飾するには、例えば、ナノ粒子に表面修飾剤例えば、粉末又はコロイド分散の形態でを加えて、表面修飾剤をナノ粒子と反応させるなどの多くの方法がある。他の有用な表面修飾方法は、例えば、米国特許第2,801,185号Iler及び同第4,522,958号Dasらに記載されている。ナノ粒子は、コロイド分散物の形態で提供されてもよい。有用な市販の未修飾シリカ出発物質の例としては、製品名NALCO1040、1050、1060、2326、2327、及び2329コロイド状シリカでNalcoChemicalCo.Naperville,Illから入手可能なナノサイズのコロイド状シリカ;製品名IPA-ST-MS、IPA-ST-L、IPA-ST、IPA-ST-UP、MA-ST-M、及びMA-STゾルでNissanChemicalAmericaCo.Houston,TXから、及びSnowTex登録商標ST-40、ST-50、ST-20L、ST-C、ST-N、ST-O、ST-OL、ST-ZL、ST-UP、及びST-OUPで同じくNissanChemicalAmericaCo.Houston,TXから入手可能なオルガノシリカが挙げられる。重合性材料対ナノ粒子の重量比は約30:70、40:60、50:50、55:45、60:40、70:30、80:20、又は90:10以上の範囲であってよい。ナノ粒子の重量の好ましい範囲は、約10重量~約60重量であり、使用するナノ粒子の密度及び寸法によって決定することができる。いくつかの場合においては、ナノ中空微細構造化層300は、低い光学ヘイズ値を有してよい。そのような場合には、ナノ中空微細構造化層の光学ヘイズは、約5以下、又は約4、3.5、3、2.5、2、1.5、若しくは1以下であってよい。ナノ中空微細構造化層300に垂直に入射する光について、光学ヘイズは、指示がない限り垂直方向から4度を超えて偏向している透過光と全透過光との比と呼んでよい。開示されるフィルム及び層の屈折率値は、任意の好適な手段により、例えば、MetriconCorp.Pennington,NJから入手可能なMetriconModel2010PrismCouplerを用いて測定できる。開示されるフィルム及び層の光学的透過性、透明度、及びヘイズ値はまた、任意の好適な手段により、例えば、BYKGardinerSilverSprings,MDから入手可能なHaze-GardPlusヘイズメーターを用いて測定することもできる。いくつかの場合においては、ナノ中空微細構造化層300は、高い光学ヘイズを有してよい。そのような場合には、ナノ中空微細構造化層300のヘイズは、少なくとも約40、又は少なくとも約50、60、70、80、90、若しくは95である。一般に、ナノ中空微細構造化層300は、ある用途に所望され得る任意の多孔性又は空隙体積分率を有することができる。いくつかの場合においては、ナノ中空微細構造化層300中の複数の空隙320の体積分率は、少なくとも約10、又は少なくとも約20、30、40、50、60、70、80、若しくは90である。結合剤310は、用途に望ましい可能性がある任意の材料であり得、又はそのような材料を含み得る。例えば、結合剤310は、架橋ポリマーなどのポリマーを形成する光硬化性材料であってよい。一般に、結合剤310は任意の重合可能な材料、例えば放射線硬化性の重合性材料であり得る。いくつかの実施形態では、結合剤310は、熱硬化性の重合性材料など、任意の重合性材料であってよい。重合性材料310は、化学的、熱的、又は化学放射によって開始することができる、アニオン性、カチオン性、フリーラジカル、又は他の重合技法によって重合することができる、任意の重合可能な材料であり得る。化学放射を使用するプロセスは、他の集団の中でも、例えば可視及び紫外光、電子ビーム照射、及びこれらの組み合わせを含む。重合を実施できる媒体としては、例えば、溶媒重合、乳化重合、懸濁重合、バルク重合、その他同種のものなどが挙げられる。化学線硬化性材料としては、モノマー、及び反応性オリゴマー、及びアクリレートのポリマー、メタクリレート、ウレタン、エポキシ等が挙げられる。本開示の実施に際して好適なエネルギー硬化性基の代表的な例として、エポキシ基、メタアクリレート基などのエチレン性不飽和基、オレフィン炭素-炭素二重結合、アリルオキシ基、α-メチルスチレン基、メタアクリルアミド基、シアノエステル基、ビニルエーテル基、これらの組み合わせ、及びその他同種のものが挙げられる。フリーラジカル的に重合可能な基が好ましい。いくつかの実施形態では、代表的な材料としてアクリレート及びメタクリレート官能モノマー、オリゴマー、及びポリマーが挙げられ、具体的には、当該技術分野において既知の、重合により架橋ネットワークを形成できる多官能性モノマーを使用できる。重合性材料は、モノマー、オリゴマー、及びポリマーの任意の混合物を含むことができるが、これらの材料は、少なくとも1つの溶媒に少なくとも部分的に可溶性でなければならない。いくつかの実施形態では、物質は溶媒/モノマー混合物に可溶性である必要がある。溶媒は、所望の重合性物質と共に溶液を形成する任意の溶媒であってよい。溶媒は、極性又は非極性溶媒、高沸点溶媒又は低沸点溶媒であってよく、いくつかの実施形態では、これらの溶媒はいくつかの溶媒の混合液を含む。溶媒又は溶媒混合液を、形成される微細構造化層230が、溶媒又は溶媒混合液中の少なくとも1つの溶媒に少なくとも部分的に不溶性であるように選択することができる。いくつかの実施形態では、溶媒混合物は、重合性物質のための溶媒と非溶媒の混合物であってよい。ある特定の実施形態では、不溶性ポリマーマトリックスは、三次元構造をもたらすポリマー鎖連結を有する三次元ポリマーマトリックスであってよい。ポリマー鎖連結は、溶媒の除去後に微細構造化層230の変形を防ぐことができる。いくつかの場合においては、例えば、不溶性ポリマーマトリックス、又は基材216の熱分解温度を超えない温度で乾燥させることによって、溶媒を含む微細構造化層130、230から溶媒を容易に除去できる。ある特定の実施形態では、乾燥中の温度は、基材が変形を起こしやすい温度未満、例えば、基材のゆがみ温度又はガラス転移温度未満に維持される。例示的な溶媒としては、線状、分枝状、及び環状炭化水素、アルコール、ケトン、及びエーテル、例えば、DOWANOL商標PMプロピレングリコールメチルエーテルなどのプロピレングリコールエーテルなど、イソプロピルアルコール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、2-ブタノン、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、水、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン、芳香族炭化水素、イソホロン、ブチロラクトン、N-メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、エステル例えば、ラクテート、アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPMアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテートDEアセテート、エチレングリコールブチルエーテルアセテートEBアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートDPMアセテート、イソ-アルキルエステル、イソヘキシルアセテート、イソヘプチルアセテート、イソオクチルアセテート、イソノニルアセテート、イソデシルアセテート、イソドデシルアセテート、イソトリデシルアセテート、又はその他のイソ-アルキルエステルなど、これらの組み合わせなどが挙げられる。コーティング溶液215は、その他の成分、例えば、反応開始剤、硬化剤、硬化促進剤、触媒、架橋剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、界面活性剤、難燃剤、結合剤、顔料、熱可塑性又は熱硬化性樹脂ポリマーなどの衝撃改質剤、流れ調整剤、発泡剤、充填剤、ガラス及び高分子微小球及び微小粒子、導電性粒子、熱伝導性粒子などのその他の粒子、繊維、帯電防止剤、酸化防止剤、リン光体などの光学的ダウンコンバーター、紫外線吸収剤なども含むこともできる。光開始剤などの反応開始剤は、コーティング溶液中に存在するモノマーの重合を促進するのに有効な量で使用することができる。光開始剤の量は、例えば、反応開始剤の種類、反応開始剤の分子量、得られる微細構造化層の対象とする用途、重合方法例えば、用いられる処理温度、化学線の波長などに応じて様々であってよい。有用な光開始剤としては、例えば、CibaSpecialtyChemicalsから商品名IRGACURE商標及びDAROCURE商標IRGACURE商標184及びIRGACURE商標819などで入手可能なものが挙げられる。微細構造化層230を架橋し、より強固なポリマーネットワークを提供してよい。架橋は、ガンマ線又は電子線照射のような高エネルギー放射線の使用によって、架橋剤を用いて又は用いずに達成され得る。いくつかの実施形態では、架橋剤又は架橋剤の組み合わせを、重合性モノマー、オリゴマー、又はポリマーの混合物に添加することができる。架橋は、他の箇所に記載される化学線源のいずれかを使用したポリマーネットワークの重合中に起こり得る。有用な放射線硬化架橋剤としては、米国特許第4,379,201号Heilmannらに開示されるものなどの多官能性アクリレート及びメタクリレートが挙げられ、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、1,2-エチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリ/テトラメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタアクリレート、グリセロールトリメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、1,12-ドデカノールジメタアクリレート、米国特許第4,737,559号Kellenらに開示されるものなどの共重合可能な芳香族ケトンコモノマー、及び同種のもの、並びにこれらの組み合わせを含む。コーティング溶液215はまた、連鎖移動剤を含んでもよい。連鎖移動剤は、重合前のモノマー混合物に可溶性であるのが好ましい。好適な連鎖移動剤の例としては、トリエチルシラン及びメルカプタンが挙げられる。いくつかの実施形態では、連鎖移動は溶媒にも生じる可能性があるが、これは好ましいメカニズムではない。重合工程は、好ましくは、低酸素濃度を有する雰囲気中で放射線源を使用することを含む。酸素は、フリーラジカル重合を抑え、その結果硬化の程度が低下することで知られる。重合及び/又は架橋させるために使用される放射線源は、化学線例えば、スペクトルの紫外線又は可視光領域に波長を有する放射線、加速粒子例えば、電子線照射、熱例えば、加熱又は赤外線などであってよい。いくつかの実施形態では、好ましいエネルギーは、重合及び/又は架橋の開始及び速度の制御を行う上で優れている化学線又は加速粒子である。加えて、化学線及び加速粒子は、比較的低い温度の硬化にも使用できる。このことは、熱硬化技術を用いる場合にエネルギー硬化性基の重合及び/又は架橋を開始するのに必要とされる比較的高温に対して感受性がある成分を、分解又は蒸発させるのを防ぐ。好適な硬化エネルギー源としては、UVLED、可視LED、レーザ、電子線、水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ、タングステンランプ、閃光ランプ、太陽光、低強度の紫外線ブラックライト等が挙げられる。いくつかの実施形態では、結合剤310は、多官能性アクリレート及びポリウレタンを含む。この結合剤310は、光開始剤、多官能性アクリレート、及びポリウレタンオリゴマーの重合生成物であってよい。多官能性アクリレート及びポリウレタンオリゴマーの組み合わせは、より耐久性のあるナノ中空微細構造化層300を生成することができる。ポリウレタンオリゴマーはエチレン性不飽和である。いくつかの実施形態では、ポリウレタン又はポリウレタンオリゴマーは、アクリレートと反応できる、又は、本明細書に記載する重合反応において他のアクリレートと反応できるアクリレートで末端保護される。上記図2で説明される1つの例示的プロセスでは、溶媒に溶解した複数のナノ粒子任意及び重合性材料を含む溶液を調製し、ここで、重合性材料は例えば、1つ以上のタイプのモノマーを含んでよい。重合性材料を基材上にコーティングし、例えば、熱又は光の適用により重合性材料が重合されている間、ツールをそのコーティングに適用し、溶媒中に不溶性ポリマーマトリックスを形成する。場合によっては、重合工程の後、溶媒は重合可能な材料のいくらかを依然として含んでいてもよいが、濃度は低い。次に、溶液を乾燥又は蒸発させることによって溶媒を除去し、ポリマー結合剤310中に分散した網状組織又は複数の空隙320を含むナノ中空微細構造化層300がもたらされる。ナノ中空微細構造化層300は、ポリマー結合剤中に分散した任意の複数のナノ粒子340を含む。このナノ粒子は結合剤に結合されており、この結合は物理的又は化学的であり得る。本明細書に記載のプロセスを用いる本明細書に記載のナノ中空微細構造化層300及び微細構造化物品の製造を、有機物、樹脂、フィルム、及び支持体の使用に適合可能な温度範囲で実施してよい。多くの実施形態では、ピークプロセス温度ナノ中空微細構造化層300及び微細構造化物品表面を対象として光学温度計で決定するときは200°C以下、又は150°C以下、又は100°C以下である。概して、ナノ中空微細構造化層300は、結合剤310と複数のナノ粒子340の任意の重量比において望ましい多孔性を有することができる。したがって、広くは、重量比は、ある用途で望ましい場合のある任意の値であってよい。いくつかの場合においては、結合剤310と複数のナノ粒子340の重量比は、少なくとも約1:2.5、又は少なくとも約1:2.3、又は1:2、又は1:1、又は1.5:1、又は2:1、又は2.5:1、又は3:1、又は3.5:1、又は4:1、又は5:1である。場合によっては、重量比は、約1:2.3~約4:1の範囲である。ここで図3aに関連して、a最初に微細構造化表面を有するナノ中空層を形成し、次に従来の非ナノ中空材料、例えば従来のポリマー材料で微細構造化表面を埋め戻すことにより製造される物品と、b最初に従来の材料層に微細構造化表面を形成し、次にナノ中空材料層を有する微細構造化表面を埋め戻すことにより製造される物品との間に、いくらかの構造的差異があるかどうかをあらためて検討する。両方の場合において、得られる物品は、埋め込み境界面、すなわち微細構造化表面を有し、その片側はナノ中空材料層であり、反対側は従来の材料層である。2つの物品間には、少なくとも1つの構造的差異が起こり得、その構造的差異は相互貫入のメカニズムに関連することが見出された。bの場合の物品では、微細構造化表面をナノ中空材料で埋め戻す前に従来の材料層が微細構造化されるとき、ナノ中空材料は典型的には従来の材料層内には移動しない。これは、この層が、ナノ中空材料が超えて貫入できない微細構造化表面の各小面及び各部分において、典型的には実質的に固体の非多孔質バリアを呈すためである。反対にaの場合の物品は、従来の材料又はかかる材料の前駆体、例えば未硬化の液体ポリマー樹脂をナノ中空層の微細構造化表面に適用する時点で、微細構造化表面の小面又は部分が、例えばくぼみ、ポケット、又はトンネル形状の表面空隙を含むことができ、その空隙の内部に、表面空隙の特性、従来の材料の特性、及びプロセス条件、例えば未硬化状態の従来の材料の滞留時間に応じて、従来の材料が移動できるような方法で作製される。図3aに模式的に示されるように、好適な材料特性及びプロセス条件により、従来の材料層はナノ中空層に相互貫入できる。図3aは、第1ナノ中空層372と従来の材料である第2層370との間の境界面の一部の概略的断面図を示す。境界面部分は、例えば2つの層間に画定される構造化表面の微細部分であってよい。ナノ中空層372は、浅い表面空隙、又は凹部374A、並びに深い方の表面空隙374Bを有するように示される。表面空隙374Bは、第1横断寸法S1が第2横断寸法S2よりも境界面に近く、深い位置の寸法S2が浅い位置の寸法S1より大きいことを特徴とする。層370が層372の全般形状例えば凹部374Aにぴったり一致する場合だけではなく、層370の材料が少なくとも一部の深い表面空隙、例えば、境界面により近い空隙の横断寸法が境界面からより遠い横断寸法よりも小さい空隙374aなどの中に移動、又はその中を実質的に充填する場合も、層370が層372に相互貫入していると特徴付けられる。このような相互貫入は、本明細書に記載されるナノ中空材料で達成できる。ナノ中空層を伴う従来の層の相互貫入深さを特徴付ける第1の方法では、従来の層の材料が境界平均表面を平均表面に直行する方向又は測定軸に沿って超えて進んだ量を決定でき、平均寸法の空隙の直径に対してこの量を特徴化できる。相互貫入深さを特徴付ける第2の方法では、従来の層の材料が平均表面を超えて進んだ量を再度測定でき、続いて単純にこの量を距離の標準単位、例えばマイクロメートル又はナノメートルによって報告する。相互貫入深さを特徴付ける第3の方法では、従来の層の材料が平均表面を超えて進んだ量を再度測定できるが、続いてこの量を当該構造化表面の機構高さに対して特徴付ける。代表的な実施形態では、相互貫入深さは、例えば、第1の方法について、平均空隙直径1~10の範囲内であり、第2の方法について、1、10、100、又は500マイクロメートル以下であり、第3の方法について、機構高さの少なくとも5、又は機構高さの少なくとも10、若しくは少なくとも50、若しくは少なくとも95、若しくは少なくとも100、若しくは5以下、若しくは10以下、若しくは25以下、若しくは5~25の範囲内であってよい。しかしこれらの代表的な範囲は、限定的に解釈されてはならない。相互貫入深さを特徴付けるこの方法は、特に小さな機構寸法、例えば機構と機構とのピッチが1マイクロメートル未満であるミクロ構造化表面に対処するときに好適である。相互貫入に関する更なる議論は、本願と同日付けに出願された、本願と同一出願人による米国特許出願XXX号代理人整理番号66015US005、表題OpticalFilmsWithMicrostructuredLowRefractiveIndexNanovoidedLayersandMethodsThereforに見出すことができる。この米国特許出願はまた、ナノ中空ポリマー材料を微細複製するときに見られていた収縮問題、並びに、収縮に関する問題が、構造化表面の機構の高さ例えば構造化表面上の最高点と最低点との間の軸方向の距離、構造化表面の機構のアスペクト比例えば機構のピッチによって分割される機構の高さ、ここで機構のピッチは構造化表面における最も近い隣接する機構間の中心と中心との間の空隙であり得る、ナノ中空材料の空隙体積分率空隙によって占有されたナノ中空材料の分別体積、ナノ中空材料の屈折率、並びにナノ中空層に対するコーティング溶液前駆体の配合例えば重量固形物に関連するかを説明する。例えば、30~45固形物の範囲の、低濃度配合物のコーティング溶液を使用して、より大きな微細構造体を複製するために、ツール上のミクロ構造形状の補償は、材料の縮小の要因となるために使用されてもよく、これによって所望の機構の形をうまく作製することができる。本願は、微細構造化表面の低減された縮小量、又は他の歪みに関連する特定の望ましい関係を説明する。1つのそのような関係では、微細構造化表面は、少なくとも15マイクロメートルの構造高さ例えば図4aの寸法419bと419aとの差、及び0.3超のアスペクト比構造ピッチによって割った構造高さ、例えば図4aのピッチP1及び図4bのP2を参照によって特徴付けられ、並びに、ナノ中空層は30~55の範囲の空隙容積を有し、及び/又はナノ中空層は、1.21~1.35、若しくは1.21~1.32の範囲の屈折率を有し、及び/又はナノ中空層に対するコーティング溶液前駆体は、45~70、又は50~70の範囲で重量固形物を有する。これらのような関係は有利なことに、本開示に同様に適用することができる。光抽出フィルム/光源の組み合わせ開示されるナノ中空層は有利なことに、光抽出を強化し、かつかかる光源における損失を低減させるようにOLED又は他の自発光型光源といくつかの方法で組み合わせることができる光学フィルムに組み込むことができる。場合によっては、フィルムは光源の外面の光放射面に適用するように設計することができ、これは光学フィルムとは別個に製造される。一部のかかるフィルムは、図4a~図4c及び図5a~図5cに関連して説明されている。他の場合では、フィルムは、光源をその上で次いで作ることができる基材として機能するように設計されてもよい。一部のかかるフィルムは、図6a~図6c、図7a及び図7cに関連して説明されている。開示されるフィルムの他の態様は、光学フィルムが主に低下するように設計されている光源の損失メカニズムに関連する。場合によっては、フィルムは主に導波ガイド損失を低下させるように設計されてもよい。一部のかかるフィルムは、図4b、図4c、図5a、図5c、図6b、図6c、図7a及び図7bに関連して説明されている。場合によっては、フィルムは主にTIRに関連した基材損失を低下させるように設計されてもよい。一部のかかるフィルムは、図4a、図5a、図5b、図6a、及び図7aに関連して説明されている。光抽出フィルムの一部は、導波損失及び基材損失の両方を低下させるように設計されてもよいということに留意する。図4a~4cは、表面発光OLEDと共に使用することができる光抽出フィルムの概略側面図又は断面図である。図4aでは、光抽出フィルム410は、可撓性キャリアフィルム412、及びフィルム412によって担持される例えばそれに取り付けられる様々な層を含む。これらの層の中では、ナノ中空層414及び他の層416であり、それらの間には構造化表面414aを形成する埋め込みインターフェースが形成される。ナノ中空層は好ましくは、可視光において従来の高分子材料を遥かに下回る屈折率、例えば1.35又は1.3未満下、又は1.15~1.3の範囲、あるいは1.15~1.35を有する。他の層416は好ましくは、ナノ中空化されておらず、かつナノ中空層のものよりも大きい屈折率を有する高分子材料又は他の好適な材料から構成されるのが好ましい。層414と層416との間の屈折率における差は比較的大きいのが望ましく、例えば少なくとも0.2、又は0.3、又は0.4、又は0.5以上である。屈折率における差は、構造化表面414aが、本明細書の他の箇所において記載されているように、OLED又は他の自発光型光源からの光を抽出することができる光学インターフェースとして機能することを可能にする。構造化表面414aは、光源からの光抽出、すなわち光源から出た無駄となる光を、それが対象用途で使用することができるように結合するのに効果的である、任意の輪郭若しくは形状を有するように調整することができる。これに関連して、無駄となる光とは、光源に捕捉される、ないしは別の方法で失われる光、例えばディスプレイ又は他の意図する照明用途において有用な照明に寄与しない方向において、光源の縁部から放射される光を指す。代表的な実施形態では、構造化表面は個々の光抽出要素415を画定するように成形されてもよい。要素415は、湾曲した表面を有しているのが示されており、これは湾曲した線形プリズム、又は2つの直交する方向に配置されたレンズ状要素のアレイを示すが例えば、それに沿って構造化表面が全体的に延びる面を画定する方向、抽出要素は概して任意の好適な形状、例えばレンズ状プリズムの、一次元線状に延びている若しくは二次元であってもよく、これに限定されず、所与の構造化表面の抽出要素は全て、同じ寸法及び/又は形状を有する必要はないが、これらは必要に応じて同じ寸法及び/又は形状を有してもよい。代表的な実施形態では、抽出要素415は、中心間距離、すなわち最も近い近隣のものとの間のピッチP1によって特徴付けられる。抽出要素が均一に分配されていない、又は互いから離間されていない場合では、ピッチP1は、抽出要素の中心間距離の平均を示すことができる。構造化表面414a及び/又は抽出要素415は、自発光型光源に連結するように適合される抽出フィルムの表面からの距離又は厚さによって特徴付けられてもよい。抽出フィルム410の場合では、この連結面は層416の外側主表面416aである。剥離ライナー418は、層416を覆っているのが示されており、抽出フィルムが光源に適用される準備できるまで、連結表面416aを損傷から保護するように製品に組み込まれるのが好ましい。2つの特徴的な距離はラベル表示されている。距離419aは、連結表面416aと構造化表面414aとの間の層416の連続ランド部分の厚さである。ランド部はしたがって、連結表面によって1つ面上に接合され、並びに、連結表面と平行であり、かつ連結表面に最も近い構造化表面の点において構造化表面と交差する面によって反対側の面上に接合される。他の特徴的な距離419bは、連結表面416aと、連結表面に平行であり、かつ連結表面から最も離れている構造化表面の点において、構造化表面と交差する面との間の距離である。換言すると、ランド部厚さ、すなわち距離419aは、連結表面416aと、構造化表面414aとの間の最小の軸方向の距離であると考えることができ、距離419bは、連結表面416aと構造化表面414aとの間の最大の軸方向の距離であると考えることができる。抽出フィルム410が、自発光型光源の最外表面又は境界において内部全反射される光の量を低減することにより、光抽出を強化させるように意図されている場合では、本発明者らは、かかるランド部厚さ419aが比較的小さいように、抽出フィルム410を設計することが有利であるということを見出した。例えば、ランド部厚さ419aは、50マイクロメートル未満、又は25マイクロメートル未満、又は10マイクロメートル未満であってもよいが、これらの値は限定するものとして解釈されるべきではない。いくつかの場合においては、ランドがなくてもよい。更に他の場合では、構造化ナノ中空機構は、非連続的であってもよい。ランド部厚さ419aはまた、可撓性基材412の厚さ未満であってもよい。ランド部厚さ419aは薄すぎて、図2で示されているように、層416がロールツーロールプロセスのシステムで自立している支持フィルムとして適していない場合がある。換言すると、層416は、抽出フィルム410の他の部分全てから分離することができ、これは、例えば過度な破断、反り、又は硬化を呈さずに、ロールツーロールプロセスのシステムで通常直面する力に耐えるための、十分な物理強度又は一体性を有さない場合がある。ランド部厚さ419aはまた必要に応じて、光抽出要素415の実質的な部分が、自発光型光源のエバネセント領域内で配置されないように、十分大きいように選択されてもよい。本発明者らはまた、フィルム410が、TIRを低減することによって光抽出を強化させるように意図されている場合では、それらのピッチP1が比較的大きいように、例えば1マイクロメートル超であるように、抽出機構415を調整することは有利であるということを見出した。機構の高さ、すなわち距離419bと距離419aとの差は、必要に応じて1マイクロメートル超であってもよい。機構の高さ及び横断寸法は、抽出機構の機能性が例えば光回折ではなく光屈折の原理によって主に制御されるように十分に大きく、例えば1、5、10、又は20マイクロメートルよりも大きくてもよい。光抽出フィルム410は、連続的な技法及びバッチ技法を含むがこれらに限定されない、多種多様の製造技法を使用して製造することができる。特に有利な製造技法は、図2において概略的に示されているような連続成形及び硬化3Cロールツーロールプロセスである。その技法は、フィルムが潜在的に大量で連続的に作製され、次いで、最終使用の意図される用途のためにその寸法が調整された多数の片の部又はシートに変換される例えば切断又は切り離されるのを可能にする。そのような場合では、可撓性キャリアフィルム412は、組成物及び厚さなど、図2の基材216と類似の自立フィルムとして好適にする物理特性を有してもよい。多くの場合では、従来の光透過性ポリマー、例えばポリエチレンテレフタレートPET又はポリエチレンナフタレートPEN、又はこれらのコポリマーから構成されるフィルムは、それがかかる目的のために使用することができるようにするために必要なフィルム強度を有するために、約2ミル約50マイクロメートル超のフィルム厚さを有する必要がある。いくつかの場合においては、構造化表面414aは、鋳造及び硬化技法ではなく、所望の層において所望の抽出機構を作ることができる任意の他の好適な技法を用いて作ることができる。例えば、圧痕形成、エンボス加工、及び射出成形も、いくつかの場合においては構造化表面414aの形成に用いられてよい。しかしながら、図2のものと類似のプロセスを使用して抽出フィルム410が作られる場合、層416は、ナノ中空層414及び構造化表面414aの形成後に作られたバックフィル層を構成し得る。その結果、図3aに関連して説明したように、材料選択及びプロセス条件に応じて、層416はナノ中空層414に相互貫入できる。キャリアフィルム412、ナノ中空層414、及び他の層416は全て、光源からの光に高度に透過性であるのが好ましいが、これらの層のうちの1つ、一部、又は全てにおいて少量~適度の量のヘイズが特定の用途において許容できるか、及び/又は望ましい場合がある。層は、少量の損失を伴って光源によって放射された光を伝達するのが好ましく、抽出フィルムが光源に取り付けられた後に、連結表面416aを横断する光源からの光の大部分は、反対の外側表面412bにおいて抽出フィルムから出て、システム照明に寄与する。キャリアフィルム412は、PET、PEN、そのコポリマー、ガラス可撓性ガラスを含む又は他の好適な透明若しくは半透明材料を含んでもよい。キャリアフィルム412は、PET、PEN、及びこれらのコポリマーの交互層の多層も含んでもよい。キャリアフィルムは追加で、重合及び波長選択/変換などの高度な光学機能を可能にするために複屈折、蛍光、及び吸収層を含んでもよい。キャリアフィルム412は、抽出フィルムが光源に取り付けられた後に、水蒸気及び酸素が光源に到達するのを防ぐためにバリア層として機能してもよい。例示の超バリアフィルムは、例えば、ガラス又は他の好適な基材上で多数の層で連続的に2つの無機絶縁体材料を真空堆積することによって作られた多層フィルム、又は米国特許第5,440,446号Shawら、同第5,877,895号Shawら、及び同第6,010,751号Shawらに記載されるような無機材料及び有機ポリマーの交互層を含む。ナノ中空層414は、本明細書に記載の光透過性ナノ中空材料のいずれかを含んでもよい。他の層416は、任意の好適な光透過性材料を含んでもよい。代表的な実施形態では、層416は光透過性感圧接着剤又は他の粘弾性材料であってもよく、又は光透過性感圧接着剤又は他の粘弾性材料を含んでもよい。代表的な粘弾性材料は、本明細書の他で参照されている、本願と同一譲受人に譲渡された米国特許出願代理人整理番号66015US005に開示されている。層416に透明な接着剤を使用仕様することにより、介在する材料層を有さずに、抽出フィルムを自発光型光源の外側表面に直接取り付けることができるようになる。層416に粘弾性材料を使用することにより、抽出フィルム及び特に抽出フィルムの結合表面416aが、OLEDの非平坦な放射表面に適合するように、ある程度流れることを可能にする。光抽出フィルム410は勿論、図4aに示されているものに加えて他の層を、並びに、これらの既に説明されたものに加えて他の機構若しくは特性を含んでもよい。例えば、分散を介して光抽出を強化するため又は光をフィルタリングする、カラーシフトさせる又は偏光させるための材料をフィルム内に組み込んでもよい。表面コーティング又は構造体、例えば機能層は、光抽出フィルムの機能性及びおそらく価値を更に増加させるために、光抽出フィルムの空気表面に適用することができる。かかる表面コーティングは、例えば光学的、機械的、化学的又は電気的機能を有することができる。かかるコーティング又は構造体の実施例は以下の機能又は特性:防曇、帯電防止、惑光防止、反射防止、耐摩耗耐引掻、防汚、疎水性、親水性、接着促進、屈折要素、カラーフィルタ、紫外線UVフィルタ、スペクトルフィルタ、色ずれ、色修正、偏光修正線形若しくは円形、光再指向、拡散又は光学回転、を有するものが挙げられる。空気表面に適用される、他の可能な層には、バリア層又は透明な導電性材料が挙げられる。剥離ライナー418は省略されてもよく、及び/又は別の剥離ライナーが、外側表面412bを保護するために抽出フィルムの他方の面上に設けられてもよい。図4bは、表面発光OLEDと共に使用することができる他の光抽出フィルムの概略側面図又は断面図である。図4bでは、光抽出フィルム440は、可撓性キャリアフィルム442、及びフィルム442によって担持される例えばそれに取り付けられる様々な層を含む。これらの層の中にはナノ中空層444及び他の層446があり、それらの間には構造化表面444aを形成する埋め込みインターフェースが形成される差し込み図を参照。ナノ中空層は好ましくは、可視光において従来の高分子材料を遥かに下回る屈折率、例えば1.35又は1.3未満下、又は1.15~1.3の範囲、あるいは1.15~1.35を有する。他の層446は好ましくは、ナノ中空化されておらず、かつナノ中空層のものよりも大きい屈折率を有する高分子材料又は他の好適な材料から構成されるのが好ましい。層444と層446との間の屈折率における差は比較的大きいのが望ましく、例えば少なくとも0.2、又は0.3、又は0.4、又は0.5以上である。屈折率における差は、構造化表面444aが、本明細書の他の箇所において記載されているように、OLED又は他の自発光型光源からの光を抽出することができる光学インターフェースとして機能することを可能にする。構造化表面444aは、光源からの光抽出する、すなわち光源から出た無駄となる光を、上記のように、それが対象用途で使用することができるように結合するために効果的である、任意の輪郭若しくは形状を有するように調整することができる。代表的な実施形態では、構造化表面は個々の光抽出要素445を画定するように成形されてもよい。要素445が矩形の輪郭を有しているものとして示されており、この矩形の輪郭は、2つの直交する方向例えばそれに沿って構造化表面が全体的に延びる面を画定する方向に配置された線状縁部又は箱型の突起部を示してもよいが、抽出要素は概して、任意の好適な形状、例えばレンズ状、プリズム状、一次元線状に延びる、又は二次元をこれに限定されず有してもよく、所与の構造化表面の抽出要素は、全て同じ寸法及び/又は形状を有する必要はないが、これらは必要に応じて同じ寸法及び形状を有してもよい。代表的な実施形態では、抽出要素445は、中心と中心の空隙、すなわち最も近く近隣するものとの間のピッチP2によって特徴付けられる。抽出要素が均一に分配されていない、又は互いから離間されていない場合では、ピッチP2は、抽出要素の中心間距離の平均を表示することができる。構造化表面444a及び/又は抽出要素445は、自発光型光源に連結するように適合される抽出フィルムの表面からの距離又は厚さによって特徴付けられてもよい。抽出フィルム440の場合では、この連結面は層446の外側主表面446aである。剥離ライナー448は、層446を覆っているのが示されており、抽出フィルムが光源に適用される準備できるまで、連結表面446aを損傷から保護するように製品に組み込まれるのが好ましい。層446が接着剤を含むとき、ライナー448は剥離ライナーであるのが好ましい。層446が接着剤でないとき、ライナー448は使用前に表面を保護するように設計されたプレマスクであってもよい。2つの特徴的な距離はラベル表示されている。距離449aは、連結表面446aと構造化表面444aとの間の層446の連続ランド部分の厚さである。ランド部はしたがって、連結表面によって1つ側面上に接合され、並びに、連結表面と平行であり、かつ連結表面に最も近い構造化表面の点において構造化表面と交差する面によって反対側の側面上に接合される。他の特徴的な距離449bは、連結表面446aと、連結表面に平行であり、かつ連結表面から最も離れている構造化表面の点において、構造化表面と交差する面との間の距離である。換言すると、ランド部厚さ、すなわち距離449aは、連結表面446aと、構造化表面444aとの間の最小の軸方向の距離であると考えることができ、距離449bは、連結表面446aと構造化表面444aとの間の最大の軸方向の距離であると考えることができる。自発光型光源の高屈折率光放射領域において、導波モードとして捕捉される光の量を低減することにより、抽出フィルム440が光抽出を強化することを意図された場合ではランド部厚さ449aが非常に小さく、例えば、連結表面446aが光源の放射表面に対して配置されたときに、例えば光抽出要素445の実質的な部分が自発光型光源のエバネセント領域内に配置されるように十分小さく、抽出フィルム440を設計することは有利であるということを本発明者らは見出した。エバネセント領域が連結表面446aを超えて層446まで延びる程度は、層446の屈折率、及び連結表面446aがそれに対して配置される光源の部分の屈折率など、多くの要因によって決定される。多くの場合では、しかしながら、ランド部厚さ449aは、20マイクロメートル未満、又は10マイクロメートル未満、又は5マイクロメートル未満であってもよいが、これらの値は、エバネセント領域の寸法に影響を与え得る多くの要因を考慮して、限定するものとして解釈されるべきではない。ランド部厚さ449aはまた、可撓性基材442の厚さよりも小さくてもよく、薄すぎて層446が図2で示されているようなルツーロールプロセスのシステムで自立している支持フィルムとして好適でない場合がある。エバネセント領域に関する説明に関して、光源の高屈折率の光放射領域と関連付けられた任意の単一の導波モードのエバネセントフフィールドが、高屈折率の境界からの距離の関数として指数関数的に減衰するということを読者は理解するであろう。更に、2つ以上の導波モードの範囲例えば数十、又は周百のモードは、高屈折率領域によって支持され、各導波モードは、異なる指数関数的に減衰する関数を有してもよく、減衰する関数はまた、層446の屈折率に依存する。これらの複雑化要素を考慮して、好適に設計された構造化表面がそれを超えて、高屈折率の領域から出る相当な量の光を連結できない位置例えば、層446の媒体中で測定されるとして、エバネセント領域の実際の限界又は境界を選択するように選んでもよい。再び、導波モードから出た光を結合するためには、フィルム440が、導波モードとして捕捉された光を低減することによって、光抽出を強化するように意図されている場合では、抽出機構445を、それらのピッチP2が比較的小さい、例えば1マイクロメートル未満であるように調整することは有益であるということを本発明者らは見出した。機構の高さ、すなわち距離449bと距離449aとの差は、必要に応じて1マイクロメートル未満であってもよい。機構の高さ及び横断寸法は、抽出機構の機能性が例えば光回折ではなく光回折の原理によって主に制御されるように十分に小さくてもよい。構造化表面444aは、抽出機構の周期的、準周期的、又はランダムな分散を有してもよく、抽出機構はいくつかの場合においてはフォトニック結晶構造体を形成するように配置されてもよい。いくつかの場合においては、例えば構造化表面444aは、OLEDディスプレイの赤、緑、及び青のサブピクセルの抽出を調整するための複数のピッチを含んでもよい。また、チャープ状又は周期的な構造を有して、広帯域エミッターからの広帯域の抽出をもたらすことも有用であり得る。光抽出フィルム440は、図4aに関して説明されているように、多くの異なる製造技法を使用して作製することができる。可撓性キャリアフィルム442は、図2の基材216と類似の自立するフィルムとして好適であるようにする物理特性を有してもよい。いくつかの場合においては、構造化表面444aは、鋳造及び硬化技法ではなく、所望の層において所望の抽出機構を作ることができる任意の他の好適な技法を用いて作ることができる。例えば、圧痕形成、エンボス加工、及び射出成形も、いくつかの場合においては構造化表面444aの形成に用いてよい。しかしながら、図2のものと類似のプロセスを使用して抽出フィルム440が作られる場合、層446は、ナノ中空層444及び構造化表面444aの形成後に作られたバックフィル層を構成し得る。その結果、図3aに関連して説明したように、材料選択及びプロセス条件に応じて、層446はナノ中空層444に相互貫入できる。キャリアフィルム442、ナノ中空層444、及び他の層446は全て、光源からの光に高度に透過性であるのが好ましいが、これらの層のうちの1つ、一部、又は全てにおいて少量~適度の量のヘイズが特定の用途において許容できるか、及び/又は望ましい場合がある。層は、少量の損失を伴って光源によって放射された光を伝達するのが好ましく、抽出フィルムが光源に取り付けられた後、連結表面446aを横断する光源からの光の大部分は、反対の外側表面442bにおいて抽出フィルムから出て、システム照明に寄与する。キャリアフィルム442、ナノ中空層444、及び他の層446は全て、図4aのキャリアフィルムの対応する要素と同様な組成物及び特性を有してもよい。例えば、キャリアフィルム442は、PET、PEN、それらのコポリマー、ガラス可撓性ガラス、又は他の好適な透明若しくは半透明材料を含んでもよく、それはまた、水蒸気及び酸素が光源に到達するのを防止するバリア層として機能してもよい。図4aの抽出フィルムと同様に、抽出フィルム440は、図4bに示されているものに加えて他の層を、並びに、すでに説明されているこれらのものに加えて他の機構若しくは特性を含んでもよい。例えば、図4aのフィルムに関する上記の説明を参照されたい。剥離ライナー448は、省略されてもよく、及び/又は他の剥離ライナー若しくはプレマスクが、抽出フィルムの他方の面上に設けられて外側表面442bを保護してもよい。図4cは、表面発光OLEDと共に使用することができる更に他の光抽出フィルムの断面図である。図4cでは、光抽出フィルム470は、可撓性キャリアフィルム472と、フィルム472によって担持される例えばそれに取り付けられる様々な層と、を含む。これらの層の中では、ナノ中空層476及び他の層474であり、それらの間には構造化表面474aを形成する埋め込みインターフェースが形成される。第2の構造化表面476a差し込み図を参照を形成する第2の埋め込まれたインターフェースは、ナノ中空層476と他の層480との間に形成される。ナノ中空層は好ましくは、可視光において従来の高分子材料を遥かに下回る屈折率、例えば1.35又は1.3未満下、又は1.15~1.3の範囲、あるいは1.15~1.35を有する。他の層474、480は好ましくは、ナノ中空化されておらず、かつナノ中空層のものよりも大きい屈折率を有する高分子材料又は他の好適な材料から構成されるのが好ましい。層474と層476との間、及び層476と480との間の屈折率における差は比較的大きいのが望ましく、例えば少なくとも0.2、又は0.3、又は0.4、又は0.5以上である。屈折率における差は、構造化表面474a、476bのそれぞれが、本明細書の他の箇所において記載されているように、OLED又は他の自発光型光源からの光を抽出することができる光学インターフェースとして機能することを可能にする。構造化表面474a、476aはそれぞれ、光源からの光抽出に効果的である、すなわち光源から出た無駄となる光を、上記のように、それが対象用途で使用することができるように結合する、任意の輪郭若しくは形状を有するように調整することができる。例示の実施形態では、構造化表面474a、476aはそれぞれ、個々の光抽出要素475、482をそれぞれ画定するように成形される。要素475は湾曲した表面を有しているのが示されており、これは2つの直交する方向に配置された湾曲した線状プリズム又はレンズ状要素のアレイを示し得るが、抽出要素475は一般的に、任意の好適な形状を限定せずに有してもよい。要素482は、矩形の輪郭を有しているのが示されており、これは、2つの直交する方向に配置された平坦な線状畝又は箱型の突出部のアレイを示すが、抽出要素482は任意の好適な形状これに限定されないを有してもよい。所与の構造化表面474a、476aの抽出要素は全て、同じ寸法及び/又は形状を有する必要はないが、それらは必要に応じて同じ寸法及び/又は形状を有してもよい。代表的な実施形態では、抽出要素475は、中心間距離又は最も近く隣接するものの間のピッチP1によって特徴付けられ、抽出要素482は、中心間距離又は最も近く隣接するものの間のピッチP2によって特徴付けられる。抽出要素が均一に分配されていない、又は互いから離間されていない場合では、ピッチP1及び/又はP2は、各抽出要素の中心間距離の平均を示すことができる。構造化表面474a、476aのそれぞれ及び/又はそれらの対応する抽出要素475、482はまた、自発光型光源に連結するように適合される抽出フィルムの表面からの距離又は厚さによって特徴付けられてもよい。抽出フィルム470の場合では、この結合表面は、層480の外側主表面480aである。剥離ライナー又はプレマスク478は、層480を覆っているのが示されており、抽出フィルムが光源に適用される準備できるまで、連結表面480aを損傷から保護するように製品に組み込まれるのが好ましい。4つの特徴的な距離は、埋め込まれた構造化表面のそれぞれに対して2つずつ、図でラベル表示されている。構造化表面474aに関して、距離479aは、連結表面480aから構造化表面474aの最も近い部分までの軸方の距離である。この距離は正確には、層476の連続的なランド部の厚さに正確には一致しないという事実にかかわらず層480及び構造化表面476aの存在による、それでも層480が層476よりもはるかに薄い場合は、層476の連続ランド部に実質的に一致すると考えられ得る。距離479bは、連結表面480aから、構造化表面474aの最も遠い部分までの軸方向の距離である。構造化表面476aに関して、距離489aは、連結表面480aと構造化鏡面476aとの間での層480の連続的なランド部の厚さである。層480のランド部はしたがって、連結表面によって1つ側面上に接合され、並びに、連結表面と平行であり、かつ連結表面に最も近い構造化表面の部分と交差する面によって反対側の側面上に接合される。距離489bは、連結表面480aから、構造化表面476aの最も遠い部分までの軸方向の距離である。好ましくは、抽出フィルム470は抽出フィルム410及び440の態様を組み合わせる。例えば、抽出フィルム470は、自発光型光源の最外表面若しくは境界面において構造化表面474aを介して、内部全反射する光の量を低減することによって、及び自発光型光源の高屈折率光放射領域において導波モードとして捕捉される光の量を低減すること構造化表面476aを介しての両方によって、OLEDから又は他の自発光型光源からの光抽出を強化するように調整することができる。この点で、本発明者らは、実質的なランド部厚さ479aが比較的小さいように例えば50マイクロメートル未満、又は25マイクロメートル未満、又は10マイクロメートル未満抽出フィルム470を設計すること、並びにランド部厚さ489aが比較的小さいように、例えば、連結表面480aが光源の放射表面に対して配置されているとき、光抽出要素482の実質的な部分が自発光型光源のエバネセント領域内に配置されるよう十分小さくフィルム470を設計することは有益であるということを本発明者らは見出した。ランド部厚さ489aは例えば、20マイクロメートル未満、又は10マイクロメートル未満、又は5マイクロメートル未満であってもよく、それは、より大きな構造化表面474aと関連付けられている実質的なランド部厚さ479aのごく一部であってもよい。厚さ479a、489aはそれぞれ、可撓性基材472の厚さ未満であってもよく、それぞれがとても小さいため、層476、480のいずれも、図2で示されているようなロールツーロールプロセスで自立する支持フィルムとして適していない。ランド部厚さ479aはまた必要に応じて、光抽出要素475の実質的な部分が、自発光型光源のエバネセント領域内で配置されないように、十分大きいように選択されてもよい。本発明者らはまた、抽出機構475を、それらのピッチP1が比較的大きいように、例えば1マイクロメートル超に調整し、一方で抽出機構482を、それらのピッチP2が比較的小さく、例えば1マイクロメートル未満であるように調整することが有益であるということが見出した。対応する機構の高さは、必要に応じて同様な寸法にされてもよく、例えば構造化表面474aの機構の高さは1マイクロメートル超であってもよく、構造化表面476aの機構の高さは1マイクロメートル未満であってもよい。抽出機構475の機構の高さ及び横断寸法は十分に大きくてもよく例えば5マイクロメートル超、又は10マイクロメートル等、又は20マイクロメートル超、これによってそれらの機能性が、光回折ではなく光屈折の原理によって主に制御され、その一方で、抽出機構482の機構高さ及び横断寸法は、抽出機構の機能性が光屈折ではなく光回折の原理によって制御されるように十分小さくてもよい。光抽出フィルム470は、図4a及び図4bに関して説明されているように、多くの異なる製造技法を使用して作製することができる。可撓性キャリアフィルム472は、図2の基材216と類似の自立フィルムとして好適であるようにする物理特性を有してもよい。いくつかの場合においては、構造化表面474a及び/又は構造化表面476aは、鋳造及び硬化技法ではなく、所望の層において所望の抽出機構を作ることができる任意の他の好適な技法を用いて作ることができる。例えば、圧痕形成、エンボス加工、及び射出成形も、いくつかの場合においては構造化表面474a及び/又は構造化表面476aの形成に用いられてよい。しかしながら、抽出フィルム470が図2のものと類似のプロセスを使用して作製される場合、ナノ中空層476は、層474及び構造化表面474aの形成後に作られたバックフィル層を構成してもよく、層480は同様に、ナノ中空層476及び構造化表面476aの形成後に作られた他のバックフィル層を構成してもよい。その結果、図3aに関連して説明したように、材料選択及びプロセス条件に応じて、層480はナノ中空層476に相互貫入でき、その一方でナノ中空層476は層474に相互貫入できない。キャリアフィルム472、ナノ中空層476、及び他の層474、480は全て、光源からの光に高度に透過性であるのが好ましいが、これらの層のうちの1つ、一部、又は全てにおいて少量~適度の量のヘイズが特定の用途において許容できるか、及び/又は望ましい場合がある。層は、少量の損失を伴って光源によって放射された光を伝達するのが好ましく、抽出フィルムが光源に取り付けられた後、連結表面480aを横断する光源からの光の大部分は、反対の外側表面472bにおいて抽出フィルムから出て、システム照明に寄与する。キャリアフィルム472、ナノ中空層476、及び他の層474、480は全て、図4a及び図4bのキャリアフィルムの対応する要素と同様な組成物及び特性を有してもよい。例えば、キャリアフィルム472は、PET、PEN、それらのコポリマー、ガラス可撓性ガラス、又は他の好適な透明若しくは半透明材料を含んでもよく、それはまた、水蒸気及び酸素が光源に到達するのを防止するバリア層として機能してもよい。図4a及び図4bの抽出フィルムと同様に、抽出フィルム470は、図4cに示されているものに加えて他の層を、並びに、すでに説明されているこれらのものに加えて他の機構若しくは特性を含んでもよい。例えば、図4a及び図4bのフィルムに関する上記の説明を参照されたい。剥離ライナー478は、省略されてもよく、及び/又は他の剥離ライナー若しくはプレマスクが、抽出フィルム472bの他方の面上に設けられて外側表面を保護してもよい。図5aは、図4a~図4cの光抽出フィルムのいずれかが、どのように表面発光OLED又は他の好適な自発光型光源に適用され得るかということを示し、この自発光型光源は抽出フィルムとは別に製造され、これによって強化された光放射光学デバイスを作製する。表面発光OLED510は、説明の容易さのために概略的に示されている。OLEDは、少なくとも基材512及び薄型の高屈折率の光放射コア若しくは領域514を含む。基材は、1つの側面から水蒸気及び酸素が領域514に到達するのを防ぐためのバリア層として機能してもよく、基材はまた機械的及び熱的機能性例えば領域514から出る熱を引くためのヒートシンクなども有してもよい。基材512は、また背面を含んでもよい。領域514を構成する個々の層は、基材510の上部に好適なシーケンスで堆積されてもよく、形成されてもよく、又は適用されてもよい。高屈折率領域514は典型的に、適用された電流又は場に対応して、所望の波長の光を放射するように調整された少なくとも1つの有機層、及び少なくとも1つの透明電極を含む。他の高屈折率層は、薄型の高屈折率領域514に含まれてもよい。領域514の外側表面514aは、OLED510の光放射表面であると考えられ得る。OLEDの強化された光学性能を提供するため、所望の光抽出フィルム410、440、470のうちの1つが、OLEDの光放射表面514aに適用される。適用前に、適切な剥離ライナー又はプレマスク図4a~図4cの品目418、448、478を参照のことが、フィルムから取り除かれて元の光結合表面を露出する品目416a、446a、480a。いくつかの場合においては、光抽出フィルムの光結合表面は、OLEDの光放射表面514aに対して直接配置されてもよい。抽出フィルムの最外層が感圧接着剤、又は他の好適な光透過性接着剤である場合、光抽出フィルムの光結合表面と、OLEDの光放射表面との間の直接接触は、有意なエアギャップをそれらの間に有することなく2つの構成要素との間のフィルム結合を作るのに十分であってもよい。他の場合では、薄型の光結合層は、光抽出フィルムの光結合表面とOLEDの光放射表面514aとの間に設けられてもよい。光結合層はいくつかの機能を果たすことができる。1つの機能はOLEDの放射表面を平坦化することである。多くの画素化された表面発光OLEDでは、例えば、基材は、画素及びサブピクセルのウェルと関連付けられた表面機構を有してもよい。光結合層は、エアギャップ又はポケットができないように、光抽出フィルムの結合表面を取り付けることができる平坦な表面例えば416a、446a、480aを参照を提供するように、ウェル及び他の表面機構充填するために使用されてもよい。光結合層の他の機能は、例えば抽出フィルムの最外層が感圧接着剤又は他の好適な接着剤出ない場合に、光抽出フィルムをOLEDに取り付けることであり得る。いくつかの場合においては、光結合層は、構造体内に含まれる場合には、OLEDの高屈折率領域514に可能な限り近い屈折率を有してもよく、これによって高屈折率領域又はそれらの関連付けられたエバネセント領域内の導波モードは、抽出フィルムの結合表面により近く延ばすことができる。光結合層は、例えば高屈折率領域514のものと、その最外層が、光抽出フィルムの結合表面に一致する層との間の屈折率を有してもよい。好適な光結合層は、高屈折率接着剤及びナノ粒子充填ポリマーなどの光透過性材料を含む。好適な光結合層はまた典型的に可能な限り薄く、その一方で、抽出フィルムの結合表面と、OLEDの光放射表面との間の距離を最小限にするために、それらの必要な機能を実施する。典型的な光結合層は例えば、0.5~5マイクロメートル、又は0.5~20マイクロメートルの範囲の厚さを有してもよいが、他の厚さも使用されてもよい。光結合層が使用されようと、なかろうと、OLEDへの光抽出フィルムの取り付けは、得られるOLEDデバイスの強化された動作となる。導波モードを減少させることによって、光の内部全反射を低減することによって、又は他のメカニズムのいずれかによってであろうとなかろうと、光抽出フィルムは、所与の光学システムで使用されるとき、OLEDの増加した有用な照明を提供することができる増加したゲインと呼ばれることもある。増加した照明又はゲインは、OLEDデバイスの出力表面からの可能な出力方向の半球にわたって統合された合計輝度に関して特徴付けられるか若しくは測定され得、又は例えば関心の具体的な方向に沿った増加した照明、例えば軸上の増加した照明、又はOLED出力表面に垂直な方向に沿ったゲインなど他の方法で測定され得る。OLEDデバイスの有用な照明又はゲインの増加に加えて、代表的な光抽出フィルムはまた、それらが、OLED/フィルムの組み合わせの外側表面として機能する、平坦な、すなわち平面的な外側表面として機能することができるという利点を有する。抽出フィルム410、440、470はそれぞれ、平坦な表面を有しているのが示されており図4a~4cにおいてそれぞれ表面412b、442b、472bとしてラベルが付けられている、フィルムが適用された後にOLEDの出力表面になることができるのはこの表面である。有利なことに、OLEDの増加した出力を司る、繊細な構造化表面、例えば構造化表面414a、444a、474a、及び476aは、それぞれの場合において、デバイス内に埋め込まれており、可撓性キャリア層図4a~図4cで412、442、472としてラベルが付けられているによって摩耗、汚れ、埃、油、及び他の有害物質から安全に保護される。平坦な出力表面は、多くの用途において有益であると見なすことができるが、いくつかの場合においては、OLED/フィルムの組み合わせ例えば表面412b、442b、472bの出力表面をエンボス加工する、ないしは別の方法でパターン形成し、露出した構造化表面を提供するということが望ましい場合があり、これはデバイスによって放射される光の分散を更に変更する。図5bは、表面発光OLEDに対する1つの具体的な光抽出フィルムの適用を実行する。最初に、本明細書の他所に詳細に記載される光抽出フィルム410、及びやはり本明細書の他所に記載される表面発光OLED510が別々に製造され、開始材料として提供される。剥離ライナー418は抽出フィルムから取り除かれて、光結合表面416aを露出させる。抽出フィルム410及びOLED510は次いで一緒に押圧されて、強化された出力を備える、組み合わされたOLEDデバイス520を形成する。抽出フィルムは、例えば層416を形成するために感圧接着剤又は他の好適な接着剤の使用によって、又は光結合層として好適な光透過性接着剤の使用によって、OLEDに固く接合されるのが好ましい。デバイス520では、抽出フィルムの光結合表面416a、及びOLEDの光放射表面514aは、互いに接触するか、又はこれと一致する。結果として、距離419a、419bは、構造化表面414aから光結合表面416aまでの最小及び最大の軸方向の距離を示すのみだけでなく、またOLEDの構造化表面414aから光放射表面514aまでの最小及び最大それぞれのの軸方向の距離を示す。代替の実施形態では、上記のような薄い光結合層は、表面416a及び表面514aに含まれてもよい。任意の場合において、高屈折率領域514内で生成された光は、埋め込まれた構造化表面の抽出要素によってOLEDデバイスから出て屈折により結合され、最終的に表面412bここではデバイス520の出力表面と見なされ得るを通ってデバイス520を出る。図5cは、表面発光OLED、例えば図5aに関連して説明されたOLEDデバイス510など他の光抽出フィルムこの場合では図4cの抽出フィルム470が組み合わされているOLEDデバイス530の概略側面図又は断面図である。この組み合わせを作る際に、剥離ライナー478は光結合表面480aを露出させるために抽出フィルムから取り外され、光結合表面480aの表面は次いで、OLED510の光放射表面514aに対して押圧される。この拡大図において、構造化表面476aからの光抽出要素482、及び構造化表面474aの光抽出要素475の1つの両方を見ることができ、いくつかの実施形態において屈折要素と回折要素との間に生じ得る、寸法及び厚さの差に関する一定の感覚を提供する。図5cの拡大図はまた、高屈折率領域514に関して、いくつかの追加の詳細を示す。領域514は、少なくとも3つの別々の層515、516及び517を含むものとして示されている。層516は有機光生成層であってもよく、層515、517のうちの1つ又は両方は、透明電極層、例えば透明導電性酸化物TCO、例えば酸化インジウムスズITOから構成されている透明電極層であってもよい。いずれの場合において、層515、516、517の全ては例えば1.6~1.8の範囲で高屈折率材料から構成される。デバイス530では、抽出フィルムの光結合表面480a、及びOLEDの光放射表面514aは、互いに接触するか、又はこれと一致する。結果として、距離489a、489bは、構造化表面476aから光結合表面480aまでの最小及び最大の軸方向の距離を示すのみだけでなく、またOLEDの構造化表面476aから光放射表面514aまでの最小及び最大それぞれのの軸方向の距離を示す。代替の実施形態では、上記のような薄い光結合層は、表面416a及び表面514aに含まれてもよい。任意の場合において、高屈折率領域514内で生成された光は、埋め込まれた構造化表面の抽出要素によってOLEDデバイスから出て屈折により結合され、最終的に表面412bここではデバイス520の出力表面と見なされ得るを通ってデバイス520を出る。図6a~6cは、底面発光OLEDと共に使用することができる光抽出フィルムの概略側面図又は断面図である。これらのフィルムの要素及び機構の多くは、図4a~図4cに関して説明された抽出フィルムの対応する要素及び機構に直接対応するものである。例えば、図6a~図6cの可撓性キャリアフィルムは、図4a~図4cに関して説明された可撓性キャリアフィルムに実質的に対応し得る。TIR光の屈折結合のために適合された、より大きな構造化表面、及び導波モードの回折結合のために適合された、より小さな構造化表面、並びにそれらの構成要素の光抽出要素は、図6a~図6cに示されており、図4a~図4cに関連して説明された類似の構造化表面に実質的に対応し得る。ナノ中空層、及び構造化表面においてナノ中空層と境界を有する他の層が図6a~図6cに示されており、図4a~図4cに関して説明されたナノ中空層及び他の層に実質的に対応し得る。不必要な繰り返しを避けるために、かかる共通要素及び機構の詳細は、本明細書では繰り返されないが、これらの実施形態に同等に当てはまるものとして理解されよう。抽出フィルムとは別個に製造される、自発光型光源に適用されるように適合されている、図4a~図4cの抽出フィルムとは対称的に、図6a~図6cの抽出フィルムは、自発光型光源をその上で製造することができる基材として使用されるように適合される。前の場合では、OLEDからの光は、構造体の上面から外へ放射される、すなわち光抽出フィルムカバーとして機能しているを通じて、かつこれから外に放射されるが、後者の場合では、OLEDからの光は、構造体の底部から外に放射され、すなわち、光抽出フィルムしかしここでは基材として機能するを再度通って、かつこれから外に放射される。逆に明確に指定されない限り、上面、底面、覆う、基材、支える、及び上は、本出願の目的において、重力に関して任意の特定の向きを必要とすると解釈されてはならないことが理解されるであろう。図6aでは、光抽出フィルム610は、可撓性キャリアフィルム612、及びフィルム612によって担持される例えばそれに取り付けられる様々な層を含む。これらの層の中では、ナノ中空層614及び他の層616であり、それらの間には構造化表面614aを形成する埋め込みインターフェースが形成される。ナノ中空層は好ましくは、可視光において従来の高分子材料を遥かに下回る屈折率、例えば1.35又は1.3未満下、又は1.15~1.3の範囲、あるいは1.15~1.35を有する。他の層616は好ましくは、ナノ中空化されておらず、かつナノ中空層のものよりも大きい屈折率を有する高分子材料又は他の好適な材料から構成されるのが好ましい。層614と層616との間の屈折率における差は比較的大きいのが望ましく、例えば少なくとも0.2、又は0.3、又は0.4、又は0.5以上である。屈折率における差は、構造化表面614aが、OLED又は他の自発光型光源からの光を抽出することができる光学インターフェースとして機能することを可能にする。構造化表面614aは、光源からの光抽出に効果的である、すなわち光源から出た無駄となる光を、それが対象用途で使用することができるように結合する、任意の輪郭若しくは形状を有するように調整することができる。代表的な実施形態では、構造化表面は個々の光抽出要素615を画定するように成形されてもよい。要素615は湾曲した表面を有しているのが示されており、これは湾曲した線状プリズム又はレンズ状要素のアレイを示し得るが、抽出要素は一般的に、任意の好適な形状を限定せずに有してもよい。代表的な実施形態では、抽出要素615は中心間距離、すなわち最も近く近隣のものとの間のピッチP1によって特徴付けられる。抽出要素が均一に分配されていない、又は互いから離間されていない場合では、ピッチP1は、抽出要素の中心間距離の平均を示すことができる。図4a~図4cの抽出フィルム及び図6a~図6cの抽出フィルムは全て、フィルムの一方の面上の最外層として透明電極層を有しているのが示されている。透明電極はITO又は他の光透過性の導電性材料から構成されてもよい。図6aの抽出フィルム610の場合では、この層は、層616の上に配置された透明電極層618である。図6a~図6cの実施形態におけるそのような透明電極層は、その上で1つ以上の有機光生成層を形成することができる電極として機能するよう適合されるのが好ましく、これによってOLEDの高屈折率の光生成領域若しくはコアを提供する。したがって、透明電極層は初めは光抽出フィルムの一部として見なされる場合があり、抽出フィルムの上でのOLED形成後には、得られるOLEDデバイスの高屈折率領域若しくはコアの一部であると見なすことができる。構造化表面614a及び/又は抽出要素615は、自発光型光源に連結するように適合される抽出フィルムの表面からの距離又は厚さによって特徴付けられてもよい。抽出フィルム610の場合では、この結合表面は層616の主表面616aであると見なすことができ、なぜならばそれは、後でOLEDの高屈折率の光生成領域となるものの外側表面に接合されるからである。電極層618の表面618aとは異なり、表面616aは外面ではない。2つの特徴的な距離はラベル表示されている。距離619aは、連結表面616aと構造化表面614aとの間の層616の連続ランド部分616の厚さである。他の特徴的な距離619bは、連結表面616aと、連結表面に平行であり、かつ連結表面から最も離れている構造化表面の点において、構造化表面と交差する面との間の距離である。抽出フィルム610が、自発光型光源の最外表面又は境界において全内反射される光の量を低減することにより、光抽出を強化させるように意図されている場合では、本発明者らは、かかるランド部厚さ619aが比較的小さいように抽出フィルム610を設計することが有利であるということを見出した。例えば、ランド部厚さ619aは、50マイクロメートル未満、又は25マイクロメートル未満、又は10マイクロメートル未満であってもよいが、これらの値は限定するものとして解釈されるべきではない。ランド部厚さ619aはまた、可撓性基材612の厚さ未満であってもよい。ランド部厚さ619aは薄すぎて、図2で示されているように、層616がロールツーロールプロセスのシステムで自立している支持フィルムとして適していない場合がある。ランド部厚さ619aはまた必要に応じて、光抽出要素615の実質的な部分が、自発光型光源のエバネセント領域内で配置されないように、十分大きいように選択されてもよい。本発明者らはまた、フィルム610が、TIRを低減することによって光抽出を強化させるように意図されている場合では、それらのピッチP1が比較的大きいように、例えば1マイクロメートル超であるように、抽出機構615を調整することは有利であるということを見出した。機構の高さ、すなわち距離619bと距離619aとの差は、必要に応じて1マイクロメートル超であってもよい。機構の高さ及び横断寸法は、抽出機構の機能性が例えば光回折ではなく光屈折の原理によって主に制御されるように光学十分に大きく、例えば1、5、10、又は20マイクロメートルよりも大きくてもよい。光抽出フィルム610は、連続的な技法及びバッチ技法を含むがこれらに限定されない、多種多様の製造技法を使用して製造することができる。特に有利な製造技法は、図2において概略的に示されているような連続成形及び硬化3Cロールツーロールプロセスである。他の好適な製造技法もまた想到される。しかしながら、図2のものと類似のプロセスを使用して抽出フィルム610が作られる場合、層616は、ナノ中空層614及び構造化表面614aの形成後に作られたバックフィル層を構成し得る。その結果、図3aに関連して説明したように、材料選択及びプロセス条件に応じて、層616はナノ中空層614に相互貫入できる。キャリアフィルム612、ナノ中空層614、層616、及び電極層618は全て、光源からの光に高度に透過性であるのが好ましいが、これらの層のうちの1つ、一部、又は全てにおいて少量~適度の量のヘイズが特定の用途において許容できるか、及び/又は望ましい場合がある。層は、少量の損失を伴って光源によって放射された光を伝達するのが好ましく、光源が抽出フィルムの上に作られた後に、連結表面616aを横断する光源からの光の大部分は、反対の外側表面612bにおいて抽出フィルムからでて、システム照明に寄与する。光抽出フィルム610は勿論、図6aに示されているものに加えて他の層を、並びに、これらの既に説明されたものに加えて他の機構若しくは特性を含んでもよい。例えば、分散を介して光抽出を強化するため又は光をフィルタリングする、カラーシフトさせる又は偏光させるための材料をフィルム内に組み込んでもよい。表面コーティング又は構造体、例えば機能層は、光抽出フィルムの機能性及びおそらく価値を更に増加させるために、光抽出フィルムの空気表面に適用することができる。かかる表面コーティングは、例えば光学的、機械的、化学的又は電気的機能を有することができる。かかるコーティング又は構造体の実施例は以下の機能又は特性:防曇、帯電防止、惑光防止、反射防止、耐摩耗耐引掻、防汚、疎水性、親水性、接着促進、屈折要素、カラーフィルタ、紫外線UVフィルタ、スペクトルフィルタ、色ずれ、色修正、偏光修正線形若しくは円形、光再指向、拡散又は光学回転、を有するものが挙げられる。空気表面に適用される、他の可能な層には、バリア層又は透明な導電性材料が挙げられる。必要に応じて、剥離ライナーは、外側表面612bを保護するために、抽出フィルムの一方の面上に設けられてもよく、別の剥離ライナーは、電極層618を、その表面までのアクセスが必要となるまで、損傷から保護するために抽出フィルム610の他方の面上に設けられてもよい。図6bは、底面発光OLEDと共に使用することができる他の光抽出フィルムの断面図である。図6bでは、光抽出フィルム640は、可撓性キャリアフィルム642、及びフィルム642によって担持される例えばそれに取り付けられる様々な層を含む。これらの層の中では、ナノ中空層644及び他の層646であり、それらの間には構造化表面644aを形成する埋め込みインターフェースが形成される差し込み図を参照。透明電極層648もまた、層646の上に設けられる。ナノ中空層は好ましくは、1.15~1.35の範囲の従来の高分子材料のもの以下の可視光に関する屈折率、例えば1.35又は1.3以下、あるいは1.15~1.3を有する。他の層646は好ましくは、ナノ中空化されておらず、かつナノ中空層のものよりも大きい屈折率を有する高分子材料又は他の好適な材料から構成されるのが好ましい。層644と層646との間の屈折率における差は比較的大きいのが望ましく、例えば少なくとも0.2、又は0.3、又は0.4、又は0.5以上である。屈折率における差は、構造化表面644aが、本明細書の他の箇所において記載されているように、OLED又は他の自発光型光源からの光を抽出することができる光学インターフェースとして機能することを可能にする。構造化表面644aは、光源からの光抽出に効果的である、すなわち光源から出た無駄となる光を、上記のように、それが対象用途で使用することができるように結合する、任意の輪郭若しくは形状を有するように調整することができる。代表的な実施形態では、構造化表面は個々の光抽出要素645を画定するように成形されてもよい。要素645は、矩形の輪郭を有しているのが示されており、これは、2つの直交する方向に配置された平坦な線状畝又は箱型の突出部のアレイを示すが、抽出要素は任意の好適な形状これに限定されないを有してもよい。代表的な実施形態では、抽出要素645は、中心間距離、すなわち最も近く近隣のものとの間のピッチP2によって特徴付けられる。抽出要素が均一に分配されていない、又は互いから離間されていない場合では、ピッチP2は、抽出要素の中心間距離の平均を表示することができる。構造化表面644a及び/又は抽出要素645は、自発光型光源に連結するように適合される抽出フィルムの表面からの距離又は厚さによって特徴付けられてもよい。抽出フィルム640の場合では、この結合表面は層646の主表面646aであると見なすことができ、なぜならばそれは、後ほどOLEDの高屈折率の光生成領域となるものの外側表面に接合されるからである。電極層648の表面648aとは異なり、表面646aは外面ではない。2つの特徴的な距離はラベル表示されている。距離649aは、連結表面646aと構造化表面644aとの間の層646の連続ランド部の厚さである。他の特徴的な距離649bは、連結表面646aと、連結表面に平行であり、かつ連結表面から最も離れている構造化表面の点において、構造化表面と交差する面との間の距離である。自発光型光源の高屈折率光放射領域において、導波モードとして捕捉される光の量を低減することにより、抽出フィルム640が光抽出を強化することを意図された場合では、ランド部厚さ649aが非常に小さく、例えば、連結表面646aが光源の放射表面に対して配置されたときに、例えば光抽出要素645の実質的な部分が自発光型光源のエバネセント領域内に配置されるように十分小さく、抽出フィルム640を設計することは有利であるということを本発明者らは見出した例えば、OLEDの残りの部分が、かかる層618の上に作られた後に、電極層618の表面に対して。多くの場合では、ランド部厚さ649aは20マイクロメートル未満、又は10マイクロメートル未満、又は5マイクロメートル未満であってもよいが、これらの値は限定するものとして解釈されるべきではない。ランド部厚さ649aはまた、可撓性基材642の厚さよりも小さくてもよく、薄すぎて層646が図2で示されているようなルツーロールプロセスのシステムで自立している支持フィルムとして好適でない場合がある。導波モードから出た光を結合するためには、抽出機構645を、それらのピッチP2が比較的小さい、例えば1マイクロメートル未満であるように調整することは有益であるということも本発明者らは見出した。機構の高さは必要に応じて1マイクロメートル未満であってもよい。機構の高さ及び横断寸法は、抽出機構の機能性が例えば光回折ではなく光回折の原理によって主に制御されるように十分に小さくてもよい。構造化表面644aは、抽出機構の周期的、準周期的、又はランダムな分散を有してもよく、抽出機構はいくつかの場合においてはフォトニック結晶構造体を形成するように配置されてもよい。光抽出フィルム640は、多くの異なる製造技法を使用して作製することができる。図2のものと類似のプロセスを使用して抽出フィルム640が作られる場合、層646は、ナノ中空層644及び構造化表面644aの形成後に作られたバックフィル層を構成し得る。その結果、図3aに関連して説明したように、材料選択及びプロセス条件に応じて、層646はナノ中空層644に相互貫入できる。キャリアフィルム642、ナノ中空層644、層646、及び電極層648は全て、光源からの光に高度に透過性であるのが好ましいが、これらの層のうちの1つ、一部、又は全てにおいて少量~適度の量のヘイズが特定の用途において許容できるか、及び/又は望ましい場合がある。光抽出フィルム640はまた、図6bに示されているものに加えて他の層を、並びに、これらの既に説明されたものに加えて他の機構若しくは特性を含んでもよい。剥離ライナーは、フィルム640の一方又は両方の面上に設けられてもよい。図6cは、底面発光OLEDと共に使用することができる更に他の光抽出フィルムの断面図である。図6cでは、光抽出フィルム670は、可撓性キャリアフィルム672、及びフィルム672によって担持される例えばそれに取り付けられる様々な層を含む。これらの層の中では、ナノ中空層676及び他の層674であり、それらの間には構造化表面674aを形成する埋め込みインターフェースが形成される。第2の構造化表面676a差し込み図を参照を形成する第2の埋め込まれたインターフェースは、ナノ中空層676と他の層680との間に形成される。透明電極層678もまた、層680の上に設けられる。ナノ中空層は好ましくは、可視光において従来の高分子材料を遥かに下回る屈折率、例えば1.35又は1.3未満下、又は1.15~1.3の範囲、あるいは1.15~1.35を有する。他の層674、680は好ましくは、ナノ中空化されておらず、かつナノ中空層のものよりも大きい屈折率を有する高分子材料又は他の好適な材料から構成されるのが好ましい。層674と層676との間、及び層676と680との間の屈折率における差は比較的大きいのが望ましく、例えば少なくとも0.2、又は0.3、又は0.4、又は0.5以上である。屈折率における差は、構造化表面674a、676aのそれぞれが、本明細書の他の箇所において記載されているように、OLED又は他の自発光型光源からの光を抽出することができる光学インターフェースとして機能することを可能にする。構造化表面674a、676aはそれぞれ、光源からの光抽出に効果的である、すなわち光源から出た無駄となる光を、上記のように、それが対象用途で使用することができるように結合する、任意の輪郭若しくは形状を有するように調整することができる。構造化表面674a、676aはそれぞれ、個々の光抽出要素675、682をそれぞれ画定するように成形される。要素675は湾曲した表面を有しているのが示されており、これは湾曲した線状プリズム又はレンズ状要素のアレイを示し得るが、抽出要素675は一般的に、任意の好適な形状を限定せずに有してもよい。要素682は、矩形の輪郭を有しているのが示されており、これは、平坦な線状畝又は箱型の突出部のアレイを示すが、抽出要素682は任意の好適な形状これに限定されないを有してもよい。抽出要素675は、中心間距離又は最も近く隣接するものの間のピッチP1によって特徴付けられてもよく、抽出要素682は、中心間距離又は最も近く隣接するものの間のピッチP2によって特徴付けられる。抽出要素が均一に分配されていない、又は互いから離間されていない場合では、ピッチP1及び/又はP2は、対応する抽出要素の中心間距離の平均を示すことができる。構造化表面674a、676a及び/又はそれらの対応する抽出要素675、682はまた、自発光型光源に連結するように適合される抽出フィルムの表面からの距離又は厚さによって特徴付けられてもよい。抽出フィルム670の場合では、この結合表面は層680の主表面680aであると見なすことができ、なぜならばそれは、後ほどOLEDの高屈折率の光生成領域となるものの外側表面に接合されるからである。電極層678の表面678aとは異なり、表面680aは外面ではない。4つの特徴的な距離は、埋め込まれた構造化表面のそれぞれに対して2つずつ、図でラベル表示されている。構造化表面674aに関して、距離679aは、連結表面680aから構造化表面674aの最も近い部分までの軸方の距離である。この距離は正確には、層676の連続的なランド部の厚さに一致しないという事実にかかわらず層680及び構造化表面676aの存在による、層680が層676よりもはるかに薄い場合は、なおも層676の連続ランド部に実質的に一致すると考えられ得る。距離679bは、連結表面680aから、構造化表面674aの最も遠い部分までの軸方向の距離である。構造化表面676aに関して、距離689aは、連結表面680aと構造化鏡面676aとの間での層680aの連続的なランド部の厚さである。距離689bは、連結表面680aから、構造化表面676aの最も遠い部分までの軸方向の距離である。好ましくは、抽出フィルム670は抽出フィルム610及び640の態様を組み合わせる。例えば、抽出フィルム670は、自発光型光源の最外表面若しくは境界面において構造化表面674aを介して光の量を低減することによって、及び自発光型光源の高屈折率光放射領域における導波モードとして捕捉される光の量を低減すること構造化表面676aの両方によって、OLEDから又は他の自発光型光源からの光抽出を強化するように調整される。この点で、本発明者らは、実質的なランド部厚さ679aが比較的小さく、例えば50マイクロメートル未満、又は25マイクロメートル未満、又は10マイクロメートル未満であるように抽出フィルム670を設計すること、並びにランド部厚さ689aが小さいように、例えば、連結表面680aが光源の放射表面に対して配置されているとき、光抽出要素682の実質的な部分が自発光型光源のエバネセント領域内に配置されるように十分小さいように、フィルム670を設計することは有益であるということを本発明者らは見出した。ランド部厚さ689aは例えば、20マイクロメートル未満、又は10マイクロメートル未満、又は5マイクロメートル未満であってもよく、それは、より大きな構造化表面674aと関連付けられている実質的なランド部厚さ679aのごく一部であってもよい。本発明者らはまた、抽出機構675を、それらのピッチP1が比較的大きいように、例えば1マイクロメートル等に調整し、一方で抽出機構682を、それらのピッチP2が比較的小さく、例えば1マイクロメートル未満であるように調整することが有益であるということが見出した。抽出機構675の機構の高さ及び横断寸法は十分に大きくてもよく、これによってそれらの機能性が、光回折ではなく光屈折の原理によって主に制御され、その一方で、抽出機構682の機構高さ及び横断寸法は、抽出機構の機能性が光屈折ではなく光回折の原理によって制御されるように、十分小さくてもよい。光抽出フィルム670は、多くの異なる製造技法を使用して作製することができる。可撓性キャリアフィルム672は、図2の基材216と類似の自立フィルムとして好適であるようにする物理特性を有してもよい。いくつかの場合においては、構造化表面674a及び/又は構造化表面676aは、鋳造及び硬化技法ではなく、所望の層において所望の抽出機構を作ることができる任意の他の好適な技法を用いて作ることができる。しかしながら、抽出フィルム670が図2のものと類似のプロセスを使用して作製される場合、ナノ中空層676は、層674及び構造化表面674aの形成後に作られたバックフィル層を構成してもよく、層680は同様に、ナノ中空層676及び構造化表面676aの形成後に作られた他のバックフィル層を構成してもよい。その結果、図3aに関連して説明したように、材料選択及びプロセス条件に応じて、層680はナノ中空層676に相互貫入してもよく、その一方でナノ中空層676は層674に相互貫入しなくてもよい。キャリアフィルム672、ナノ中空層676、層474、480、及び透明電極層678は全て、光源からの光に高度に透過性であるのが好ましいが、これらの層のうちの1つ、一部、又は全てにおいて少量~適度の量のヘイズが特定の用途において許容できるか、及び/又は望ましい場合がある。光抽出フィルム470はまた、図6cに示されているものに加えて他の層を、並びに、これらの既に説明されたものに加えて他の機構若しくは特性を含んでもよい。剥離ライナーは、抽出フィルム670の一方又は両方の面上に設けられてもよい。図7aは、図6a~図6cの光抽出フィルムのいずれかが、底面発光OLED又は他の好適な自発光型光源とどのように組み合わせることができるかということを示し、この自発光型光源は抽出フィルムとは別に製造され、これによって強化された光放射光学デバイス720を作製する。そのような組み合わせを作る第1のステップは、光抽出フィルム600を提供することであり、光抽出フィルム600は上記の抽出フィルム610、640、670又はその変形例のいずれかであってもよい。これらのフィルムはそれぞれ、その一方の面上に透明電極層を含む。この層の上に、少なくとも1つの有機光生成層、及び透明であり得るか、透明でない場合がある第2の光学電極層を含む、他の高屈折率層が設けられてもよい。これらの追加の高屈折率層は、概略層714aによって図に示されている。これらの層は、光抽出フィルムからの透明電極層と組み合わせて、印加された電流又は場に応答して、所望の波長の光を生成する高屈折率の光放射領域714を形成してもよい。この領域はまた典型的に非常に薄く、例えば、およそ光の波長、又は1若しくは2マイクロメートル未満であるが、他の厚さが使用されてもよい。層712によって図に概略的に示されている1つ以上の他の層は、高屈折率領域714の上に形成されてもよく、又は適用されてもよい。層712は、支持フィルム及び/又はバリアフィルムを含み得る。代表的な実施形態では、層712は、例えば米国特許第5,440,446号Shawら、同第5,877,895号Shawら、及び同第6,010,751号Shawらに記載されているような超バリアフィルム、又はダイヤモンド樣のスパッタリングされた層を含んでもよい。あるいは、層712は省略されて、不活性ガス若しくは真空で置換されてもよく、これはOLEDと好適なカバーガラス部材との間の密閉されたチャンバで維持されてもよい。デバイス720は底面発光OLEDであるため、高屈折率領域714で生成された光は、抽出フィルム600を通って移動し、図7aの透視図から分かるように底面を通じて、例えば表面612b、又は表面642b、又は表面672bを通じてデバイスを出る。いくつかの場合においては、デバイス720は、デバイスの反対側の面から放射される光をほとんど放射しない、又は全く放射しないように設計されてもよい。これらの場合では、層712の構成要素の1つ、一部、又は全ては実質的に不透明であってもよい。他の場合では、デバイス720は、層712の構成要素が全て光透過性であると、両方の面から光を放射することができる。かかる場合では、両方の面からデバイスが放射する場合では、抽出機構をデバイスの両方の面上に適用するのが有用であろう。ここで図7bに戻って、光学デバイス730の概略側面若しくは断面図を見て、ここでは底面発光OLEDは特定の光抽出フィルム、すなわち図6cの抽出フィルム670上に形成されている。抽出フィルムの最外層透明電極層678の上に形成されるか、ないしは別の方法で薄い高屈折率層716、717を追加し、1つ以上の他の層が、層712によって概略的に再び示されている。層716、717の少なくとも1つは、本明細書の他で記載されるような有機光生成層を含み、層716、717のうちの1つはまた電極これは透明であっても、透明でなくてもよいもまた含み得る。層717、718は、抽出フィルムの透明電極層678と組み合わせて、印加された電流又は場に応答して、所望の波長の光を生成する高屈折率の光放射領域714を形成してもよい。領域714の構成層の屈折率は、例えば、全て1.6~1.8の範囲内に全てあってもよい。この領域714はまた典型的に非常に薄く、例えば、およそ光の波長、又は1若しくは2マイクロメートル未満であるが、他の厚さが使用されてもよい。層712存在する場合を含む層は典型的に、高屈折率領域714のものよりも実質的に低い低屈折率のものであり、それらは典型的にはるかに厚い。図7bの拡大図において、構造化表面676aからの光抽出要素682、及び構造化表面674aの光抽出要素675の1つの両方を見ることができ、いくつかの実施形態において屈折要素と回折要素との間に生じ得る、寸法及び厚さの差に関する一定の感覚を提供する。デバイス730では、高屈折率の光放射領域714は、透明電極層678の主表面に対応するため、抽出フィルムの光結合表面680aはOLEDの光放射表面と一致する。結果として、距離689a、689bは、構造化表面676aから光結合表面680aまでの最小及び最大の軸方向の距離を示すのみだけでなく、またOLEDの構造化表面676aから光放射表面680aまでの最小及び最大それぞれのの軸方向の距離を示す。高屈折率領域714内に生成された光の一部は、その領域において導波モードに捕捉され、光抽出要素682によりその領域714から外へ回折して連結されてもよく、その後に光抽出要素675から外に反射して連結されてもよく、かかる光は表面672bこれはここでは、デバイス730の外側表面であると見なされ得るを通ってデバイス730を最終的に出る。デバイス730は底面発光OLEDであるため、高屈折率領域714で生成された光は、抽出フィルム670を通って移動し、図7bの透視図から分かるように底面を通じて、すなわち表面672bを通じてデバイスを出る。いくつかの場合においては、デバイス720は、デバイスの反対側の面から放射される光をほとんど放射しない、又は全く放射しないように設計されてもよい。これらの場合では、層712の構成要素の1つ、一部、又は全ては実質的に不透明であってもよい。他の場合では、デバイス720は、層712の構成要素が全て光透過性であると、両方の面から光を放射することができる。かかる場合では、両方の面からデバイスが放射する場合では、抽出機構をデバイスの両方の面上に適用するのが有用であろう。画素化されたOLEDデバイス本開示の光抽出フィルム、及びフィルム/OLEDの組み合わせは、一般的に照明用途で使用され得基づいて画素化されたOLEDを含め、多種多様の広範な既知のOLEDを用いて実施することができる。図8は、典型的な画素化されたOLED810の概略平面図である。OLED810は、パターン形成されて個別の光放射領域812a、812b、812c、及び放射領域間の非放射領域を形成する。放射領域のそれぞれは、好ましくは電子的にアドレス可能であるのが好ましい。光放射領域は、繰り返しパターンで配置され、大きなアレイ、例えばいずれかの所与の光放射領域、又はアレイ内の領域のセットが、任意の所与の回数点灯されて静止画像又はビデオ画像を提供することができる。単色ディスプレイでは、領域812a~812cは同じスペクトル成分又は色の光を放射してもよい。この場合では、それぞれの個々の領域812a、812b、812cは単一画素を表す。カラーディスプレイでは、領域812a~812cは異なる色の光を放射してもよく、例えば領域812aは赤い光を放射してもよく、領域812bは緑色の光を放射してもよく、領域812cは青色の光を放射してもよい。他の色及び色の組み合わせもまた可能であり、OLEDは、画素化されたディスプレイの技術分野で既知であるように、3つよりも多い、又は3つよりも少ない異なる色の領域を含んでもよい。カラーディスプレイでは、異なる色の領域は一般的に一緒にグループ化されて画素を形成し、この場合では、所与の画素内の個々の放射領域は、サブピクセルとして呼ばれることがある。OLED810がカラーディスプレイ用に適用され、領域812aが赤い光を放射し、領域812bが緑色の光を放射し、及び領域812cが青い光を放射する場合、領域814は、一実施形態において、単一画素であると見なされる場合がある。その画素の寸法は、様々な横断寸法、即ち図の面において測定された寸法によって特徴付けられてもよい。画素が公称で矩形の形状を有する場合では、2つの関連性のある寸法は矩形の長さより長い面の距離及び幅短い面の距離であり得る。寸法820は画素814の幅を示す。他の関連性のある寸法は、矩形画素の長さなど、最大の横断寸法であってもよい。各戸別の領域812a等が画素であるように、OLED810が単色の光を放射した場合、より小さな画素は、画素814と同じ長さであるが、画素814の1/3の幅を有する。あるいは、OLED810が3つではなく画素を構成するために4つの隣接する放射領域が必要である場合、その画素は画素814と同じ長さを有するが、画素814の幅の4/3倍の幅を有するであろう。図9a及び図9bは、普通の構造化フィルムその構造化表面は大気に露出されている埋め込まれていないによる画素化された表面発光OLEDからの光抽出と、開示のナノ中空層及び埋め込まれた構造化表面を組み込む抽出フィルムによる同じ画素化された表面発光OLEDからの光抽出との差異を実証する。簡単に言うと、ナノ中空層及び埋め込まれた構造化表面の使用は、他のフィルムよりも、構造化表面をOLEDにはるかに近くに配置できるようにする。これは、ナノ中空層が、図9bの抽出フィルムが図9aのものに対してその上に反転できるようにし、よってキャリアフィルムがOLEDと構造化表面との間に介在する必要がないためである。代わりに、埋め込まれた構造化表面は、キャリアフィルムとOLEDとの間に配置することができ、埋め込まれた構造化表面とOLEDとの間の抽出フィルムのランド部分は、一般的なキャリアフィルムのものよりも有意に少ない厚さ例えば50、25、又は10マイクロメートル未満を有するように作ることができる。画素化されたOLEDに近づけて構造化表面を位置付けることは、特に小さな画素寸法を有するOLEDに関し、画素のぼやけを低減する有意な利点を有することができる。抽出フィルムの構造化表面が異なる方向に光を散乱させる屈折構造体を含むときに、画素のぼやけが生じる場合がある。かかる散乱と、ワックス付きの紙の一般的なシートによって作られる散乱との類似性を引用することができる。ワックス付きの紙のシートが、印刷されたテキストのページの上に直接配置された場合、観察者は依然として、ワックス付きの紙を通してテキストを識別することができる場合がある。しかしながら、テキストと、散乱するワックス付きの紙との間の距離が増加するように、ワックス付きの紙がゆっくりと持ち上げられた場合、テキストの文字の境界は、ワックス付きの紙の散乱作用によってぼやけすぎるため、テキストはすぐに判読できなくなる。これに類似して、図9bの埋め込まれた構造化表面は、後者の構造化表面のものと比べた、OLEDに対しする前者の構造化表面のはるかに近い近接性により、図9aの構造化表面と比較して、画素化されたOLEDのぼやけをほとんど又は全く生じさせない。したがって、図9aは、画素化された表面発光OLED920に適用される、通常の光抽出フィルム930から得られるデバイス910の部分を示し、図9bは、光抽出フィルム960から得られるデバイス950の部分を示し、これは、同じ画素化された表面発光OLED920に適用されている、ナノ中空層及び埋め込まれた構造化表面を組み込む。図においては、OLED920のラベルの付いた構成要素は、ドライバ/コントローラ922、光放出領域例えば画素924、有機光生成層926、透明導電体928、及び平坦な光放射表面929aを設けるためにOLEDを平坦化する光結合層929を含む。図9aでは、露出された構造化表面934aを有する抽出フィルム930がOLEDに適用される。抽出フィルム930は、キャリアフィルム932、キャリアフィルムをOLEDに取り付けるための接着層931、及びエンボス加工された、ないしは別の方法で形成されて構造化表面934aを設けるためのコーティング層934これは、屈折の原理に基づいて機能するのに十分大きいレンズ状プリズム又はレンズなど、光抽出要素を画定するような形状であり得るを含む。抽出フィルム930の個々の層のいずれもナノ中空層ではない。対称的に、抽出フィルム960は、例えば図4aに関して記載されているものと同様の構造体を有してもよい。フィルム960はしたがって、キャリアフィルム912、ナノ中空層914これは1.15~1.35、又は1.15~1.3の範囲の屈折率を有し得る、ナノ中空層914よりも高い屈折率の層916であって、層916は好ましくは、バックフィルを有し、抽出要素915を備え構造化表面914aを画定するナノ中空層との境界面を有する、層916を含み、ここで要素915は屈折の原理に基づいて機能するのに十分大きなレンズ状プリズム又はレンズであってもよい。構造化表面914aと表面916aとの間の層916のランド部分は、例えば50マイクロメートル未満、又は25マイクロメートル未満、又は10マイクロメートル未満であってもよい。画素化されたOLEDは、それぞれの場合では、抽出フィルムの最上面図9a及び図9bの視点からの表面から、図9aの構造化表面934a、及び図9bの平坦な表面912bから放射される。画素化されたOLEDとの使用に好適な光抽出フィルムに関する更なる情報は、本願と同日に出願され、その全体において本明細書に援用するものである、本願と同一出願人に譲渡された米国特許出願XXX号、LightExtractionFilmsforIncreasingPixelatedOLEDOutputWithReducedBlurr代理人整理番号67021US002において見出すことができる。上記のように、抽出フィルム960が構造化表面を、抽出フィルム930よりも画素化されたOLEDにより近く位置付ける能力は、抽出フィルム960のぼやけを減少させる利点となり得る。更に、フィルム960の構造化表面の埋め込まれた特性は、フィルム930の構造化表面の露出された特性に対し、堅牢性、又は摩耗による損傷若しくは他の有害な物質に対する耐性という利点をもたらす。以下の実施例内において、全ての部分、割合、比率などは、特に記載がない限り、重量によるものとする。用いた溶媒及びその他の試薬は、異なる指定がない限り、Sigma-AldrichChemicalCompanyMilwaukee,Wisconsinから入手した。実施例1:50/60の砲弾型の抽出器、接着剤バックフィル、超低屈折率ULIにおいてヘイズなし光線追跡法を及びモデルパッケージLIGHTTOOLSOpticalResearchAssociatesPasadena,CAから市販されているを使用して、埋め込込まれた抽出層を備えるOLEDに関してコンピュータシミュレーションが実施された。シミュレーションした構成は全体的に、図5bのOLEDデバイス520のように示されている。超低屈折率ULIの、微細複製されたナノ中空材料例えば図5bの層414を参照は、屈折率1.2及びヘイズはゼロを有してモデル化された。キャリアフィルム又は基材例えば図5bの層412を参照の屈折率は、ポリエチレンテレフタレートPET基材をモデル化するために、1.65になるように選択された。バックフィル層例えば図5bの層416参照の屈折率は、Soken2032感圧接着剤SokenChemicalEngineeringCo.,Ltd,日本から市販されているをモデル化するために、1.48になるように選択された。基材は厚さ100μmを有するように想定された。抽出構造体例えば、図5bの構造化表面を参照は、50μmのピッチを備える、砲弾型の抽出要素のアレイであり、アレイは上面又は平面図において抽出要素の六角形の配置を有する。それぞれの抽出要素の形状は、軸を中心として円の区分を回転することによって生じる旋回の表面によってもたらされ、図10a及び10bを参照することにより、より十分に説明される。実施例1の砲弾型を画定するために使用される湾曲区分1012は、円の中心を通過する円の面において、軸1005から測定されたときに、角度θ1と角度θ2との間にある円1010の区分であった。実施例1の砲弾型において、θ1は50度であり、θ2は60度であった。区分1012は次いで軸1015を中心に回転し、軸1015は軸1005に平行であるが、湾曲区分の端点を交差し、これによって回転1020の砲弾型の表面を生じさせる。OLEDの基材面に接合されたこの光抽出フィルムの光学性能は、シミュレーションされ、色の均一性は、CIE1976Luv色空間CIE規格S014-5/E:2009における最大角度色偏差として測定された。u’,v’色度座標に関して、色の偏差は、以下の式によって与えられ、式中、u’0,v’0は、角度による色の均一性を評価するための、基準ソースこの場合ではOLEDの軸方向の輝度の色度座標である。積分ゲインは、抽出フィルムを備えるOLEDと、抽出フィルムを有さないOLEDとの積分された出力比として計算された。シミュレーションで使用されたOLEDのパラメータは、PhilipsLumibladeOLEDPhilipsLightingU.S.Somerset,NJから市販されているの実験的な測定値に基づいた。本発明者らは、モデル及び最適化における、実験的に測定されたOLEDを使用した。OLEDは、まず最低1cm×1cmの表面積で穿孔され、次いで屈折率整合オイルを使用して基材面において、球面が反射防止コーティングされた直径2.5インチ6.4cmのBK7半珠レンズに光学的に連結された。OLED基材の屈折数は、BK7半球レンズと緊密に一致し、外側基材表面における反射及び屈折は排除され、基材内へのOLEDの放射、及びOLED/基材の境界面におけるOLEDの反射の正確な測定を可能にする。具体的に、OLEDの角度の付いたスペクトル輝度及び反射率は、シミュレーションにおいて特徴付けられ、かつ使用される。コンピュータで設計された抽出層プロファイルと組み合わせて、OLEDデバイスは、正しくモデル化することができる。角度の変数として計算された色の偏差は、以下の表1に示されており、ここで角度はモデル化されたデバイスの光学軸又は面法線に対する、空中における観察角である。埋め込まれた抽出フィルムを備える場合、及び埋め込まれた抽出フィルムを備えない場合の、最大の角度による色の非均一性は、それぞれ0.0115及び0.0242だった。モデル化された抽出フィルムを備えて、積分ゲインは1.48だった。結果は図11aに表示され、曲線1110はモデル化されたOLED/抽出フィルムの組み合わせの色偏差であり、曲線1112は、抽出フィルムを有さないOLEDの色偏差である。実施例2:50/60の砲弾型の抽出器、接着剤バックフィル、超低屈折率ULIにおけるヘイズいくらかのヘイズが、ナノ中空超低屈折率ULI層に含まれたことを除いて、光抽出フィルムを備えるOLEDが実施例1と同じ方法でシミュレーションされた。これは、シミュレーションされたナノ中空層に散乱中心を加えることによってシミュレーションされ、ここで、散乱中心は、光を主に前方45度の円錐角に散乱させ、散乱確立は、20に設定されたすなわち、光線が層を通って移動するときに少なくとも1回分散される確率は20に設定された。シミュレーションされた抽出フィルムのナノ中空層に、このようにヘイズが組み込まれると、角度による色の非均一性は0.010まで減少され、積分ゲインは1.51に向上した。実施例3:50/60の砲弾型の抽出器、HRIバックフィル、超低屈折率ULIにおいてヘイズなしナノ中空超低屈折率ULI材料の屈折率が1.261.2ではなくに設定され、バックフィル材料例えば図5bの層416を参照が1.651.48としてよりもであるように選択されたことを除いて、光抽出フィルムを備えるOLEDは実施例1と同じ方法でシミュレーションされた。バックフィル材料は、例えば米国特許第7,547,476号Jonesらに説明されているもののような、ナノジルコニア充填UV硬化性アクリル樹脂などの、高屈折率の硬化性樹脂の代表である。色の非均一性及び積分ゲインは実施例1でのように測定された。計算された色偏差は表2に示される。最大角度の色の非均一性は埋め込まれた光抽出フィルムを備えて、及び埋め込まれた光抽出フィルムを備えないで、それぞれ0.0083及び0.0242だった。抽出フィルムを備えて、積分ゲインは1.55だった。結果は図11bに表示され、曲線1120はモデル化されたOLED/抽出フィルムの組み合わせの色偏差であり、曲線1122は、抽出フィルムを有さないOLEDの色偏差である。実施例4:50/60の砲弾型の抽出器、HRIバックフィル、超低屈折率ULIにおけるヘイズいくらかのヘイズが、ナノ中空超低屈折率ULI層に含まれたことを除いて、光抽出フィルムを備えるOLEDが実施例3と同じ方法でシミュレーションされ、実施例2で説明されたものと同じヘイズだった。色の非均一性及び積分ゲインは実施例1と同じように測定された。角度による色の非均一性は0.007まで減少され、積分ゲインは1.57に向上した。実施例5:砲弾型の抽出器一次元のプリズムアレイ抽出フィルムを備えるOLEDが、一次元のプリズムフィルムプリズムの頂部はOLED層から外を向いている、OLED層の反対の面上基材例えば図5bの表面412bを参照に追加されたことを除いて、実施例1と同じ方法でシミュレーションされた。プリズムアレイのピッチは50μmであった。プリズム材料の屈折率は、基材と同じであるように選択されn=1.65、他のデバイスパラメータは実施例1にあるものと同じであった。計算された色偏差は表3に示される。最大の色の非均一性は0.0126であり、積分ゲインは1.34であった。積分ゲインは実施例1及び2よりも低いが、放射された光はこの実施例では実質的にコリメートされた。結果は図11cに表示され、曲線1130はモデル化されたOLED/抽出フィルムの組み合わせの色偏差であり、曲線1132は、抽出フィルムを有さないOLEDの色偏差である。実施例6:低ヘイズULI、含浸したPSAバックフィル光抽出フィルムは、以下に説明されるように微細複製されたナノ中空材料用いて作製された超低屈折率、すなわちULI材料とも呼ばれる。微細複製されたULI及び微細複製されたULIを作製するプロセスに関する詳細な情報は、本明細書の他の箇所で参照される同一出願人による米国特許出願代理人整理番号66015US005に見出すことができる。砲弾型の微細複製されたツール砲弾型の微細複製ツールは、米国特許第6,285,001号Flemingらに説明されるように、エキシマレーザーによる機械加工プロセスを使用して、この実施例6のために作製された。得られるパターンは、反転した砲弾型を有する銅ロールに変換され、ここでは砲弾型機構は、50μmピッチを有する密集した六角形のパターンに配置され、砲弾の形状は、旋回の表面を画定する湾曲した弧が、角度θ1=25度及びθ2=65度によって画定されていることを除いて、砲弾の形状は、実質的に実施例1で説明されているものであった。銅ロールは次いで、Accentrim樹脂Cognisから入手可能な75重量のPHOTOMER6210、AldrichChemicalCo.から入手可能な25の1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、及びCibaSpecialtyChemicalsからの1重量の光開始剤Darocur1173の組成物を有する、UV硬化性アクリル樹脂を含むウレタンを使用して、連続鋳造及び硬化プロセスのために複製マスターとして使用された。AccentrimはPET支持フィルムDuPont618PETフィルム、厚さ5ミル127マイクロメートルに成形され、次いで、紫外線光を使用して精密な円筒形のツールに対して硬化させた。A-174処理されたシリカナノ粒子凝縮器と温度計を備えた2リットル三口フラスコ内で、960グラムのIPA-ST-UP有機シリカ細長粒子NissanChemicalInc.Houston,TXから入手可能、19.2グラムの脱イオン水、及び350グラムの1-メトキシ-2-プロパノールを、高速攪拌で混合した。細長粒子は、約9nm~約15nmの範囲の直径、及び約40nm~約100nmの範囲の長さを有するものであった。これらの粒子を、15.2重量のIPA中に分散させた。次に、22.8gのSilquestA-174シランGEAdvancedMaterialsWilton,CTから入手可能をフラスコに加えた。得られた混合物を30分間撹拌した。この混合物を16時間81°Cに保った。次に、この溶液を室温に冷却した。次に、40°Cの水浴下でロータリーエバポレータを使用して、溶液中の約950グラムの溶媒を除去し、その結果、1-メトキシ-2-プロパノール中に41.7重量のA-174改質細長シリカの透明な分散液を得た。低ヘイズ、低屈折率配合ULI樹脂1-メトキシ-2-プロパノール中のA-174で処理された、41.78重量のシリカナノ粒子IPA-ST-UP溶液の194.1gが琥珀色のガラス瓶に添加された。そのジャーには、SartomerSR444が64.87g、SartomerCN9893が40.5g両方ともSartomerCompanyExton,PAから入手可能がエチルアセテート中の40溶液として添加され、Irgacure184が1.458g、Irgacure819が0.48g両方ともCibaSpecialtyChemicalsCompanyHighPoint,NCから入手可能、及びTEGO登録商標Rad2250EvonikTegoChemieGmbHEssen,Germanyから入手可能が1.5g添加された。配合物の内容物は十分に混合され、50.5重量固形物のUV硬化性ULI及び樹脂を得た。超低屈折率ULI構造体上記の連続鋳造及び硬化プロセスからの砲弾型のフィルムが取られ、剥離のために処理された。剥離のための処理は、まずフィルムを200Wで20秒間、500ccmO2の酸素プラズマ処理し、その後、150Wで90秒間、200ccmTMSでテトラメチルシランTMSプラズマ処理を行った。フィルムは次いで、超低屈折率ULI構造体を微細複製するために、連続鋳造及び硬化プロセスのための複製マスターとして使用された。ULI樹脂は、50.5固形物であり、3ミル76.2マイクロメートル厚さのプライムコートされたPETフィルムだった。樹脂は、35.3V及び5.85アンペアで動作しているLED硬化システムを使用して硬化させた。微細複製されたULIフィルムは、FusionLampHバルブを使用して後硬化させた。微細複製したULIフィルム層の屈折率はMetriconModel2010プリズムカプラーMetriconCorporationPennington,NJから入手可能を使って計測され、約1.25であることが判った。図10cは作製されたULIフィルム複製の構造化表面1030の光学顕微鏡写真を示し、ここで個々の砲弾型の抽出要素1032ははっきりと見える。抽出フィルムULIフィルムは、230°Fのローラーを備える加熱ローラーラミネータを使用して、圧力下で積層することによって、Soken2032感圧接着剤SokenChemicalEngineeringCo.,Ltd,日本でバックフィルされた。ULI砲弾型のテンプレートへのPSAの完全な充填は光学顕微鏡によって確認された。フィルムはまた、レーザーポインターを使用して調査され、並びに同様な屈折パターンは、オリジナルの銅製ツールから複製された砲弾型のフィルムのツールに関して観察された。この光抽出フィルムの光学性能は、抽出フィルムのバックフィルされた接着層をPhilipsLumibladeOLED試験ビヒクルPhilipsLightingU.S.Somerset,NJからの入手可能の基材面に接合することによって評価された。積分ゲインは、抽出フィルムを備えるOLEDと、抽出フィルムを有さないOLEDとの積分された出力比として測定された。埋め込まれた抽出フィルムを備える最大の角度による色非均一性は、埋め込まれた抽出フィルム有さないOLEDに対して改善を示した。埋め込まれた抽出フィルムを備えて、積分ゲインは1.28だった。実施例7:ULIベースの内部抽出フィルムを備えるOLED400nmの一次元構造体この実験的な実施例7に関して使用される微細複製ツールは、金属の円筒形のツールパターンからの成形及び硬化によって作製されたフィルム複製であった。鋸歯状の一次元構造体のフィルムツール400nmnピッチで線状に延びるプリズムを作製するために使用されるツールは、精密ダイヤモンド切削機を使用して、ツールの銅表面に切り込まれた、修正されたダイヤモンド切削金属円筒形パターンであった。精密な鋸歯状の切削形状を備える図12に示されるSEM画像、生じる銅製円筒は、ニッケルでメッキされ、PA11-4でコーティングされた。銅マスター円筒をメッキし、コーティングするプロセスは、微細複製プロセス時に、硬化した樹脂の取り外しを促進するために使用される一般的な実施である。フィルム複製品は、アクリレートモノマーCognicsから入手可能な75重量のPHOTOMER6210、及びAldrichChemicalCo.から入手可能な25重量の1,6-ヘキサンジオールジアクリレートを含むアクリレート樹脂組成物、及びPET支持フィルム厚さ5ミル127マイクロメートル上にキャスティングされた光開始剤CibaSpecialtyChemicalsからの1重量の光開始剤Darocur1173を使用して作製され、次いで紫外線光を使用して精密円筒形のツールに対して硬化された。得られた構造化されたフィルムの表面を、プラズマ強化化学蒸着PECVDプロセスを使用して、シラン離型剤テトラメチルシランでコーティングした。取り外す処理は、第1に、フィルムを200Wで20秒間、500ccmO2の酸素プラズマ処理し、その後、150Wで90秒間、200ccmTMSでテトラメチルシランTMSプラズマ処理を行った。次いで、表面処理した構造化されたフィルムを、フィルムの一片を、構造化された側を外にして、キャスティングロールの表面に巻き付け及び固着することによって、ツールとして使用した。低ヘイズ、低屈折率配合物A-174で処理されたIPA-ST-UPシリカナノ粒子が、実施例6のように調製された。1-メトキシ-2-プロパノール中のA-174で処理された、40重量のシリカナノ粒子IPA-ST-UP溶液の131.25gが琥珀色のガラス瓶に添加された。そのジャーには、SartomerSR444が42g、SartomerCN9893が10.5g両方ともSartomerCompanyExton,PAから入手可能、Irgacure184が0.2875g、Irgacure819が0.8g両方ともCibaSpecialtyChemicalsCompanyHighPoint,NCから入手可能、及びTEGO登録商標Rad2250EvonikTego登録商標ChemieGmbHEssen,Germanyから入手可能が1g、並びにエチルアセテート25.5gが添加された。配合物の内容物は十分に混合され、50.5重量固形物のUV硬化性ULI及び樹脂を得た。一次元のULI超低屈折率構造体400nmの一次元構造体で上記の400nmピッチの、鋸歯状のフィルムは、取り外しのために処理された。取り外す処理は、フィルムを200Wで20秒間、500ccmO2の酸素プラズマ処理し、その後、150Wで90秒間、200ccmTMSでテトラメチルシランTMSプラズマ処理を行った。次いで、表面処理した構造化されたフィルムを、フィルムの一片を、構造化された側を外にして、キャスティングロールの表面に巻き付け及び固着することによって、ツールとして使用した。フィルム微細複製装置を採用して、連続したフィルム基材上に微細構造化ナノボイド化構造を作製した。装置は、コーティング溶液を塗布するためのニードルダイ及びシリンジポンプと、円筒形の微細複製ツールと、ツールに対するゴムニップロールと、微細複製ツールの表面周囲に配設された一連のUV-LEDアレイと、連続したフィルムを供給し、張力を掛け、巻き取るためのウェブ取扱システムとを含んだ。装置は、ツール温度、ツール回転、ウェブ速度、ゴムニップロール/ツール圧力、塗料溶液流量、及びUV-LED放射照度を含む、いくつかのコーティングパラメータを手動で制御するように構成された。例示のプロセスが図2に示される。コーティング溶液上記参照を、ツールとフィルムとの間に形成されるニップに隣接する、3ミル76.2ミクロンPETフィルム両面が下塗りされたDuPontMelinexフィルムに塗布した。溶液の流量は、溶液の連続した回転バンクがニップで維持されるように、約0.25mL/分に調節し、ウェブ速度は、1ft/分に設定した。UV-LEDバンクは、一列当たり16のLEDNichiaNCCU001、ピーク波長=385nmを備える8つの列を使用した。LEDは、各回路基板の面が、微細複製ツールのロールの表面に接するように位置付けられた4つの回路基板上で構成され、LEDの距離は、0.5~1.5インチ1.3~3.8cmの距離に調節することができた。LEDは、直列の8つLEDの16の平行な束で駆動された。UV-LEDバンクは、デバイス電流を調節することによって制御された。本明細書で記載されている実験に関して、電流は35.4Vで約5.6アンペアに設定され、LEDから微細複製ツールまでの距離は0.5~1.0インチだった1.3~2.54cm。放射照度は校正しなかった。コーティング溶液は、フィルムとして存在する溶液及びUVLEDのバンクを通過して回転するツールを用いて硬化され、ツール構造体の凹状、すなわち三次元の反転又は補完に一致する微細複製されたナノ多孔質構造体のアレイを形成する。構造化フィルムを、ツールから分離し、巻き取りロール上で回収した。ナノ構造化コーティングは、コーティングの機械的特性を改善するように、UV照射によって、更に硬化した後処理硬化。後処理硬化は、Hバルブを装着したFusionSystemsModelI300PGaithersburgMDを用いて達成した。UVチャンバは酸素約50ppmまで窒素で不活性化した。ULIベースの内部抽出フィルムを備えるOLEDPET上にナノ複製したULI層が、プラズマ強化化学蒸着法PECVD,OxfordInstrumentsYatton,UKから入手したModelPlasmaLab商標System100によって窒化ケイ素の1000nm厚の層でバックフィルされ、簡単に極性化された。PECVD法に使用したパラメータを表4に説明する。窒化ケイ素層の屈折率はMetriconModel2010プリズムカプラーMetriconCorporationPennington,NJから入手可能を使って計測され、約1.78であることが判った。ナノ構造化層におけるULIと窒化ケイ素バックフィルとの屈折率の対比屈折率における差は約0.5だった。平坦化された基材上でのOLED製造は、アノード寸法を画定する5×5mmの活性領域のシャドーマスクを介して、窒化ケイ素バックフィルでコーティングされた一次元の構造体の上に、約110nm厚のITOの堆積によって開始された。その後、緑の有機放射積層体及びカソードを堆積させてOLEDを完成させた。OLEDは、シャドーマスクを通じて基準圧約10-6トールの真空システム内で、シャドーマスクのセットを通じて、標準的な堆積によって製造した。以下のOLED構造体を堆積した:HIL300nm/HTL40nm/EML30nm,6/ETL20nm/LiF1nm/Al200nm、ここでHILは正孔注入層であり、HTLは正孔輸送層であり、EMLは放射層であり、ETLは電子輸送層である。完了後、OLEDは、米国特許第7,018,713号Padiyathらで記載されているように、不活性雰囲気下でSAES脱水分及び脱酸素ゲッターSAESGettersUSA,Inc.ColoradoSprings,COから入手可能を封入フィルムとOLEDの間に使用してバリア封入フィルムを積層することによって封入した。サンプルはAutronicコノスコープAutronic-MelchersGmbHKarlsruhe,Germanyから入手可能上で試験し、輝度及び傾斜度を測定した。表5は、いくつかのサンプルの測定の結果を示す。トータルゲインの測定値及び軸上のゲインは、図13a及び図13bそれぞれの最も右の列に要約してあり、樹脂Bと表示されている。図中のダイヤモンド形状のマークは、データの群の統計測定値を表す。比較実施例1:Accentrim系の内部抽出フィルムを備えるOLEDナノ複製フィルムは、非ナノ中空Accentrim樹脂Cognisから入手可能な75重量のPHOTOMER6210、AldrichChemicalCo.から入手可能な25重量の1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、及びCibaSpecialtyChemicalsからの1重量の光開始剤Darocur1173が、ナノ中空かULIフィルム材料の代わりに使用されたことを除いて、実施例7に記載されているように作製された。400nmピッチの鋸歯状構造体がAccentrim樹脂に形成され、これは次いでプラズマ強化化学蒸着法PECVD,OxfordInstrumentsYatton,UKから入手したModelPlasmaLab商標System100によって窒化ケイ素の1000nm厚の層でバックフィルされ、簡単に極性化された。PECVD法に使用したパラメータは実施例7で説明した通りである。窒化ケイ素層の屈折率はMetriconModel2010プリズムカプラーMetriconCorporationPennington,NJから入手可能を使って計測され、約1.78であることが判った。Accentrim樹脂の屈折率は約1.48であった。Accentrimベースのナノ構造体とナノ構造体層における窒化ケイ素バックフィルとの屈折率の対比は約0.2だった。OLEDは、バックフィルされた基材上で作られ、実施例7で説明した通りバリアフィルムで封入した。サンプルはAutronicコノスコープAutronic-MelchersGmbHKarlsruhe,Germanyから入手可能上で試験し、輝度及び傾斜度を測定した。表6は、いくつかのサンプルの測定結果を示す。これらの比較実施形態のトータルゲインの測定値及び軸上のゲインは、図13a及び図13bそれぞれの中央列に要約してあり、樹脂Aと表示されている。比較実施例2:ガラス上のOLED対照サンプルのOLEDは、一次元のナノ構造体サンプルを備えて比較のためにガラス上に作製された。光抽出フィルムが使用されていないことを除いては、製造及び封入は実施例7の通りであった。サンプルはAutronicコノスコープAutronic-MelchersGmbHKarlsruhe,Germanyから入手可能上で試験し、輝度及び傾斜度を測定した。表7は、いくつかのサンプルの測定の結果を示す。これらの比較実施形態のトータルゲインの測定値及び軸上のゲインは、図13a及び図13bそれぞれの最も左の列に要約してあり、ガラスと表示されている。特記しない限り、本明細書及び特許請求の範囲で使用されている量、性質の測定などを表現する全ての数は、用語約により改変されていると理解されるべきである。したがって、反することが示されない限り、本明細書及び添付特許請求の範囲に記載の数値的パラメータは、本発明の教示を利用して当業者により得ることが求められる所望の性質に応じて変化する近似値である。均等論を特許請求の範囲の範疇に適用することを制限しようとする試みとしてではなく、各数値パラメータは少なくとも、記録された有効数字の桁数を考慮して、又通常の四捨五入を適用することによって解釈されるべきである。本発明の広範な範囲を示す数値範囲及びパラメータは近似であるにもかかわらず、いかなる数値も本明細書で述べられる具体的な例で示される程度に、これらは妥当に可能な限り精確に報告される。しかしながら、いかなる数値も試験及び測定の限界に関連する誤差を含み得る。本発明の様々な修正及び変更は、本発明の範囲及び趣旨から逸脱せずに当該技術分野の当業者に明らかとであり、本発明は、ここに記載された例示的な実施形態に限定されないことが理解されるべきである。例えば、1つの開示実施形態の特徴は、別に記載のない限り、他の開示実施形態全てにも適用され得ることを、読者は推定すべきである。また、本明細書において参照された全ての米国特許、公開特許出願、並びに他の特許及び非特許文書は、それらが上述の開示に矛盾しない範囲において、参照によって全てが組み込まれることが理解されるべきである。"