放射ビームにその断面内でパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板をそれぞれ保持するように構成された少なくとも3つの基板テーブルと、前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システムとを備え、前記少なくとも3つの基板テーブルが、実質的に前記パターン付き放射ビームにほぼ直角の平面内に延びる共通可動領域内で移動可能であり、前記可動領域が少なくとも3つの作業場所を含み、そのうちの少なくとも1つの作業場所が、前記パターン付き放射ビームへの前記基板の露光用に配置され、少なくとも1つの作業場所が非露光目的で配置される、リソグラフィ装置。前記3つの作業場所のうちの少なくとも2つが、前記パターン付き放射ビームへの前記基板の露光用に配置され、少なくとも1つの作業場所が、前記基板のパラメータを測定するために配置される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記基板の前記パラメータが、前記それぞれの基板テーブルに対する前記基板の6自由度位置情報を含む、請求項2に記載のリソグラフィ装置。固定または制限された移動供給部をさらに備え、各基板テーブルが、前記固定または制限された移動供給部に可撓ケーブルおよび/またはホースによって接続され、前記作業場所がほぼ中心点のまわりに分布する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記固定または制限された移動供給部が前記可動領域の中心点に置かれる、請求項4に記載のリソグラフィ装置。前記ケーブルおよび/またはホースが、前記それぞれの基板テーブルの移動に適応するために前記固定または制限された移動供給部に移動可能に接続される、請求項4に記載のリソグラフィ装置。前記ケーブルおよび/またはホースが前記固定または制限された移動供給部に移動可能に接続されて、前記中心点を通って前記平面に直角に延びる軸のまわりに前記ケーブルおよび/またはホースが完全に回転することが可能になる、請求項5または6に記載のリソグラフィ装置。前記固定または制限された移動供給部が基板テーブルごとにサブ供給部を備え、前記それぞれの基板テーブルの各ケーブルおよび/またはホースがそのそれぞれのサブ供給部に接続され、前記サブ供給部が前記平面内の可動範囲の周縁の近くに分布する、請求項4に記載のリソグラフィ装置。各サブ供給部が、前記ケーブルおよび/またはホースが絡まることを回避するために、前記共通可動領域に対して移動可能である、請求項8に記載のリソグラフィ装置。固定または制限された移動供給部をさらに備え、各基板テーブルが前記固定または制限された移動供給部に可撓ケーブルおよび/またはホースによって接続され、少なくとも1本の可撓ケーブルおよび/またはホースがおおむね前記平面内に延び、少なくとも1本の可撓ケーブルおよび/またはホースがおおむね前記平面の外に延びる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。基板の二重露光用に3つの作業場所および3つの基板テーブルが設けられ、前記3つの作業場所のうちの2つが露光用に配置され、他の1つが非露光用に配置され、基板の単一露光用に4つの作業場所および4つの基板テーブルが設けられ、前記4つの作業場所のうちの2つが露光用に配置され、他の2つが非露光用に配置される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。基板ハンドリングデバイスを前記平面に平行な方向に見てそれぞれの基板を基板交換器に対しほぼ固定して保持しながら、基板テーブルと前記基板交換器の間で前記基板を交換するように構成された前記基板交換器を備え、前記基板テーブルの可動領域が、前記基板テーブルが前記基板ハンドリングデバイスの下で移動できるように前記基板交換器の方に延びる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。請求項1に記載のリソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、第1の作業場所においてパターニングデバイスから基板上にパターンを転写する段階と、第2の作業場所において基板テーブルと基板交換器の間で基板を交換する段階と、第3の作業場所において準備動作を基板上で実施する段階とを含み、前記転写する段階、前記交換する段階および前記実施する段階を並行して実施できるように、前記第1、第2および第3の作業場所のそれぞれに基板テーブルが存在し、前記方法はさらに、前記第1の作業場所内の前記それぞれの基板テーブルを前記第2の作業場所に移動する段階と、前記第2の作業場所内の前記それぞれの基板テーブルを前記第3の作業場所に移動する段階と、前記第3の作業場所内の前記それぞれの基板テーブルを前記第1の作業場所に移動する段階とを含み、前記移動する段階がほぼ同時に実施される、方法。前記転写する段階、前記交換する段階および前記実施する段階が一方で、前記移動する段階が他方で順次実施される、請求項13に記載の方法。放射ビームにその断面内でパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、実質的に前記パターン付き放射ビームにほぼ直角の平面内に延びる共通可動領域内で移動可能である、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システムと、基板ハンドリングデバイスを前記平面にほぼ平行な方向に見てそれぞれの基板を基板交換器に対しほぼ固定して保持しながら、前記基板テーブルと前記基板交換器の間で前記基板を交換するように構成された前記基板交換器とを備え、前記基板テーブルの可動領域が、前記基板テーブルが前記基板ハンドリングデバイスの下で移動できるように前記基板交換器の方に延びる、リソグラフィ装置。請求項15に記載のリソグラフィ装置を使用して基板テーブルと基板交換器の間で基板を交換する方法であって、前記基板テーブルを前記基板ハンドリングデバイスの下の方に移動する段階と、前記基板テーブルと前記基板交換器の間で基板を交換する段階と、前記基板テーブルを前記基板交換器から離して移動する段階とを含む方法。前記基板テーブルと前記基板交換器の間で基板を交換する段階が、前記基板テーブルおよび/または基板ハンドリングデバイスを前記可動領域の平面に直角の方向に、前記基板テーブルと前記基板交換器が前記基板を介して互いに接触するまで移動することによって実施される、請求項16に記載の方法。0003改善されたリソグラフィ装置、特にスループットが向上されたリソグラフィ装置を提供することが望ましい。0004本発明の一実施形態によれば、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームにその断面内でパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するようにそれぞれ構成された少なくとも3つの基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置が提供され、基板テーブルは、実質的にパターン付きビームに直角の平面内に延びる共通可動領域内で移動可能であり、可動領域は少なくとも3つの作業場所を含み、そのうちの少なくとも1つの作業場所が、パターン付き放射ビームへの基板の露光用に配置され、少なくとも1つの作業場所が準備目的、すなわち非露光目的で配置される。0005本発明の別の実施形態によれば、リソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法が提供され、このリソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームにその断面内でパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するようにそれぞれ構成された少なくとも3つの基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システムとを含み、基板テーブルは、実質的にパターン付きビームに直角の平面内に延びる共通可動領域内で移動可能であり、可動領域は少なくとも3つの作業場所を含み、そのうちの少なくとも1つの作業場所が、パターン付き放射ビームへの基板の露光用に配置され、少なくとも1つの作業場所が準備目的、すなわち非露光目的で配置され、この方法は、1第1の作業場所においてパターニングデバイスから基板上にパターンを転写する段階と、2第2の作業場所において基板テーブルと基板交換器の間で基板を交換する段階と、3第3の作業場所において準備動作を基板上で実施する段階とを含み、工程1、2および3を並行して実施できるように、第1、第2および第3の作業場所のそれぞれに基板テーブルが存在し、この方法はさらに、4第1の作業場所内のそれぞれの基板テーブルを第2の作業場所に移動する段階と、5第2の作業場所内のそれぞれの基板テーブルを第3の作業場所に移動する段階と、6第3の作業場所内のそれぞれの基板テーブルを第1の作業場所に移動する段階とを含み、工程4、5および6はほぼ同時に実施される。0006本発明のさらに別の実施形態によれば、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームにその断面内でパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成され、実質的にパターン付き放射ビームに直角の平面内に延びる共通可動領域内で移動可能な基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システムと、基板ハンドリングデバイスをその平面に平行な方向に見てそれぞれの基板を基板交換器に対しほぼ固定して保持しながら、基板テーブルと基板交換器の間で基板を交換するように構成された基板交換器とを含むリソグラフィ装置が提供され、基板テーブルの可動領域は、基板テーブルが基板ハンドリングデバイスの下で移動できるように基板交換器の方に延びる。0007本発明の別の実施形態によれば、リソグラフィ装置を使用して基板テーブルと基板交換器の間で基板を交換する方法が提供され、このリソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームにその断面内でパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成され、実質的にパターン付き放射ビームに直角の平面内に延びる共通可動領域内で移動可能な基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システムと、基板ハンドリングデバイスをその平面に平行な方向に見てそれぞれの基板を基板交換器に対しほぼ固定して保持しながら、基板テーブルと基板交換器の間で基板を交換するように構成された基板交換器とを含み、基板テーブルの可動領域は、基板テーブルが基板ハンドリングデバイスの下で移動できるように基板交換器の方に延び、この方法は、基板テーブルを基板ハンドリングデバイスの下の方に移動する段階と、基板テーブルと基板交換器の間で基板を交換する段階と、基板テーブルを基板交換器から離して移動する段階とを含む。0019図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームB例えばUV放射または何らかの他の適当な放射を調節するように構成された照明システムイルミネータILと、パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するように構成され、あるパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1の位置決めデバイスPMに接続されたパターニングデバイス支持体または支持構造例えばマスクテーブルMTとを含む。この装置は、基板例えばレジストコートウェーハWを保持するように構成され、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決めデバイスPWに接続された基板テーブル例えばウェーハテーブルWTまたは基板支持体も含む。この装置は、基板Wのターゲット部分C例えば1つまたは複数のダイを含む上にパターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを投影するように構成された投影システム例えば屈折または反射屈折投影システムPSも含む。0020この照明システムは、放射を導くか、形作るか、あるいは制御するために、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気など様々なタイプの光学コンポーネント、または他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組合せを含んでよい。0021パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、また、例えばパターニングデバイスが真空環境内で保持されるか否かなど他の条件によって決まる仕方でパターニングデバイスを保持する。パターニングデバイス支持体は、機械式、真空、静電気、または他のクランプ技法を使用し、パターニングデバイスを保持することができる。パターニングデバイス支持体は、例えば必要に応じて固定または可動とすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスが、例えば投影システムに対して確実に所望の位置にあるようにすることができる。本明細書においてレチクルまたはマスクという用語を使用することがあればそれは、パターニングデバイスという、より一般的な用語と同義と見なすことができる。0022本明細書において使用されているパターニングデバイスという用語は、放射ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板のターゲット部分にパターンを生み出すように使用することができる任意のデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。放射ビームに付与されるパターンは、例えばそのパターンに移相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャが含まれている場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応していない可能性があることに留意されたい。放射ビームに付与されるパターンは、通常、ターゲット部分に生成されるデバイス、例えば集積回路などのデバイス中の特定の機能層に対応している。0023パターニングデバイスは、透過型または反射型とすることができる。パターニングデバイスの諸例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、プログラマブルLCDパネルが含まれる。マスクはリソグラフィで周知であり、バイナリ、レベンソン型alternating位相シフト、ハーフトーン型attenuated位相シフトなどのマスクタイプ、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの一例は、小さな鏡の行列構成を使用し、鏡のそれぞれは、入来放射ビームを様々な方向で反射するように個別に傾けることができる。傾斜式鏡は、鏡行列によって反射される放射ビーム内にパターンを与える。0024本明細書で使用される投影システムという用語は、使用する露光放射、あるいは液浸液の使用または真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁光学システム、および静電光学システム、またはそれらの任意の組合せを始めとする、任意のタイプの投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における用語投影レンズのいかなる使用も、より一般的な用語投影システムと同義と見なされてよい。0025本明細書で記述されるように、装置は透過タイプ例えば透過性マスクを使用するタイプである。あるいは、装置は反射タイプ例えば上記で言及されたプログラマブルミラーアレイを使用するタイプまたは反射性マスクを使用するタイプでよい。0026リソグラフィ装置は、2つデュアルステージ以上の基板テーブルまたは基板支持体および/または2つ以上のマスクテーブルまたはマスク支持体を有するタイプのものとすることができる。そのようなマルチステージ機では、追加のテーブルまたは支持体を同時に使用することができ、あるいは、1つまたは複数の他のテーブルまたは支持体が露光用に使用されている間に、1つまたは複数のテーブルまたは支持体上で準備工程を実施することができる。0027リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように比較的高い屈折率を有する液体、例えば水によって基板の少なくとも一部を覆うことができるタイプとすることもできる。液浸液は、リソグラフィ装置の他の空間、例えばマスクと投影システムとの間に適用することもできる。液浸技法を使用して投影システムの開口数を増加させることができる。本明細書で使用されるような液浸という用語は、基板などの構造体が液体中に沈められなければならないことを意味せず、むしろ液体が露光中投影システムと基板との間に置かれていることを単に意味する。0028図1を参照すると、イルミネータILは放射源SOから放射ビームを受け取る。例えばこの放射源がエキシマレーザであるとき、放射源とリソグラフィ装置は別個の実体でよい。そのような例では、放射源がリソグラフィ装置の一部を形成するとは見なされず、放射ビームは、放射源SOからイルミネータILまで、例えば適当な誘導ミラーおよび/またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムBDを用いて通される。他の例では、例えば放射源が水銀灯であるとき、放射源はリソグラフィ装置の一体型部品でよい。放射源SOおよびイルミネータILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDも一緒に、放射システムと呼ばれてよい。0029イルミネータILは、放射ビームの角度強度分布を調節するように構成されたアジャスタADを含んでよい。一般に、少なくともイルミネータの瞳面内輝度分布の外側および/または内側半径範囲一般にそれぞれσouterおよびσinnerと呼ばれるは調節することができる。さらに、イルミネータILは、インテグレータINおよびコンデンサCOなど様々な他のコンポーネントを含んでよい。イルミネータは、放射ビームがその断面において所望の均一性および輝度分布を有するように調節するのに使用されてよい。0030放射ビームBは、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMT上に保持されるパターニングデバイス例えばマスクMA上に入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。放射ビームBは、パターニングデバイス例えばマスクMAを横切って、基板Wのターゲット部分C上にビームを集中させる投影システムPSを通過する。基板テーブルWTは、第2の位置決めデバイスPWおよび位置センサIF例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサを用いて、例えば放射ビームBの経路内へ個別のターゲット部分Cを位置決めするように正確に移動させることができる。同様に、第1の位置決めデバイスPMおよび別の位置センサ図1には明示されていないは、例えばマスクライブラリから機械的に取り出した後、またはスキャン中に、放射ビームBの経路に対してパターニングデバイス例えばマスクMAを正確に位置決めするのに使用することができる。一般に、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMTの動作は、第1の位置決めデバイスPMの一部を形成するロングストロークモジュール粗動位置決めおよびショートストロークモジュール微動位置決めを用いて実現することができる。同様に、基板テーブルWTまたは基板支持体の動作は、第2のポジショナPWの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合にはスキャナとは対照的に、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMTがショートストロークアクチュエータのみに接続されてよく、あるいは固定されてよい。パターニングデバイス例えばマスクMAおよび基板Wは、パターニングデバイスのアライメントマークM1、M2および基板のアライメントマークP1、P2を使用して整列させることができる。図示された基板アライメントマークけがき線アライメントマークとして既知であるは専用ターゲット部分を占めるが、ターゲット部分の間のスペースに配置されてもよい。同様に、パターニングデバイス例えばマスクMA上に複数のダイが与えられる状況では、マスクアライメントマークはダイ間に配置されてよい。0031図示される装置は、以下のモードの少なくとも1つにおいて使用することが可能である。1.段階モードでは、マスクテーブルMTまたはマスク支持体および基板テーブルWTまたは基板支持体が、実質的に静止状態に保たれ、放射ビームに与えられた全パターンが、一度でターゲット部分C上に投影されるすなわち単一静止露光。次いで、基板テーブルWTまたは基板支持体は、別のターゲット部分Cを露光することが可能となるようにX方向および/またはY方向にシフトされる。段階モードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一静止露光においてイメージングされるターゲット部分Cのサイズを限定する。2.スキャンモードでは、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMTまたはマスク支持体および基板テーブルWTまたは基板支持体が、同期してスキャンされ、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影されるすなわち単一動的露光。パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMTまたはマスク支持体に対する基板テーブルWTまたは基板支持体の速度および方向は、投影システムPSの拡大率縮小率および像反転特性により決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一動的露光におけるターゲット部分の非スキャニング方向の幅を限定し、スキャニング動作の長さが、ターゲット部分のスキャニング方向の高さを決定する。3.別のモードでは、パターニングデバイス支持体例えばマスクテーブルMTまたはマスク支持体が、プログラマブルパターニングデバイスを保持しつつ実質的に静止状態に保たれ、基板テーブルWTまたは基板支持体が、移動されまたはスキャンされるとともに、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影される。このモードでは、一般的にはパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは基板支持体の各移動の後で、またはスキャン中の連続放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この作動モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に応用することが可能である。0032上述の使用モードの組合せおよび/または変形、あるいは全く異なる使用モードを使用することもできる。0033図1の実施形態には全部で3つの基板テーブルWTが含まれるが、そのうちの1つだけが示されている。各基板テーブルWTは、実質的にパターン付き放射ビームにほぼ垂直な平面内に延びる共通可動領域内で、例えば対応する位置決めデバイスPWによって移動可能である。これは、各基板テーブルをその平面にほぼ平行な方向に移動できるということであるが、この移動は、可動領域の仮想または実際の縁によって拘束されている。このことは、基板テーブルがその平面にほぼ垂直に移動する可能性を排除するものではない。しかし、一実施形態では、その平面にほぼ垂直な移動範囲は、平面にほぼ平行な方向の移動範囲と比較してほとんど常に小さい。0034可能な可動領域の一例が図2に示されている。図2は、破線で表示された共通可動領域CMAを示している。可動領域CMAは、3つの作業場所1、2、3を含み、その中で基板テーブルを位置決めできる。これらの作業場所は、パターン付き放射ビームへの基板の露光用に、および/または準備目的で配置することができる。この準備目的には、基板テーブルの間を行き来する基板からの移送、あるいは、例えば温度、平坦度、基板テーブルに対する6自由度位置情報などの基板のパラメータを測定するなどの準備作業、および/または基板のパラメータを調整することが含まれうる。少なくとも1つの作業場所が露光用に配置され、少なくとも1つの作業場所が準備目的で配置される。0035ここで本発明の一実施形態が、作業場所のうちの少なくとも2つが双光学部品または立体光学部品による基板の露光用に配置され、作業場所のうちの少なくとも1つが、例えば基板テーブルに対する基板の6自由度位置情報である、基板のパラメータの測定用に配置されるリソグラフィ装置に特に適していることは、明らかに認められる。0036作業場所は、中心点CPのまわりに分布している。一実施形態では、作業場所は中心点のまわりに均等に分布している。別の実施形態では、中心点から1つの作業場所の中心まで延びる線と、中心点から近傍の作業場所の中心まで延びる線との間の中心点の、別の作業場所に面する側の角は、そのうちの1つの角αが図2に一例として示されているが、すべて少なくとも180°である。一実施形態では、少なくとも2つの作業場所の中心点までの各距離は等しい。場合により、各作業場所から中心点までのすべての距離が等しい。0037図3は、実現可能な共通可動領域CMAの別の例を示す。図3は、本発明の一実施形態による共通可動領域CMAが任意の形状を有しうることを示すが、実際には、長方形または円形の可動領域が望ましいといえる。図2の作業場所と類似の3つの作業場所1、2、3もまた示されている。0038これらの作業場所は中心点CPのまわりに分布している。この例では、近傍の作業場所間の、この場合には角度αである1つの角度が180°に近く、他の角度はすべて180°より大きい。0039図4は、共通可動領域CMAのさらに別の例を示し、この実施形態では楕円形である。この例では、中心点CPのまわりに分布する4つの作業場所1、2、3、4が設けられている。この例では、作業場所は点対称で分布している。0040図5は、共通可動領域CMAのさらに別の例を示す。この例では、中心点CPのまわりにやはり点対称で分布する4つの作業場所1、2、3、4が同様に設けられるが、図4の実施形態とは異なる。0041これら4つの作業場所は、各作業場所のうちの2つが基板の露光のためであり、他の2つの作業場所が準備目的のためであるように構成することができる。0042ここでは図示の作業場所が長方形の形状を有することに注意されたい。しかし、この形状は任意の形状にすることができ、かつ露光作業または準備作業が行われうる場所に対応している。作業場所で実施される作業中に基板テーブルが共通可動領域に対して固定されているときには確かに、作業場所が、作業場所内に位置決めされたときの基板テーブルの実質上の像になりうるように、作業場所の形状が、平面図で作業場所内に位置決めされた基板テーブルの形状に対応していることが可能である。したがって、作業場所の具体的な形状は本発明にとって重要ではない。0043図6は、本発明の別の実施形態によるリソグラフィ装置の一部分を示す。共通可動領域CMA内で移動可能な3つの基板テーブルA1、B1、C1が示されている。共通可動領域は、3つの作業場所1、2、3を含む。この構成の利点は、図6に示されるように、各基板テーブルが1つの作業場所を同時に占有できることである。これは、これらの作業場所で実施される処理/作業を同時に、すなわち並行して実施できるということであり、そのため時間が節減され、したがってリソグラフィ装置のスループットが向上する。0044この装置はさらに、可動領域の中心点に置かれた固定供給部FSを含む。一実施形態では、供給部FSはまた限定的に可動とすることもできる。固定供給部は、動力、水など何でも基板テーブルに供給することができる。したがって、各基板テーブルは、組み合わせてケーブルスラップcableslapにできるそれぞれの可撓ケーブルおよび/またはホースH1、H2、H3によって、固定供給部に接続することができる。0045一実施形態では、電力がケーブルを介して基板テーブルに供給されない。こうすることは、電力を必要とする構成要素を基板テーブル上で避けることによって、例えば、基板テーブルを支持するフレーム上に電磁アクチュエータのコイルを設け、基板テーブル上に永久磁石を設けることによって可能であり、その結果電力は、基板テーブル上には配置されていないコイルに供給されるだけになる。そうすることはまた、基板テーブルに無線で電力を供給することによっても可能である。上記の原理は、本発明のすべての実施形態に適用することができる。00461つの作業場所での処理が完了した後、該当する基板テーブルは、別の作業場所に移動することができる。一実施形態では、すべての作業テーブルが同時に別の作業場所に移動するが、これは不要のことがあり、特に基板テーブルよりも多くの作業場所がある場合には不要になりうる。可撓ケーブルおよび/またはホースH1~H3は、例えば基板テーブルA1が作業場所2に移動し、続いて同じ方向で作業場所3に移動することを可能にできる。しかし、移動が中心点のまわりに同じ方向で続くならば、該当するケーブルおよび/またはホースH1は、固定供給部のまわりに巻き付くことになりかねない。したがって、基板テーブルの移動には、中心点のまわりを反対方向に移動し最初の作業台に戻ることが含まれることがある。一実施形態では、1つの作業場所から別のところへ同時に移動する間、すべての基板テーブルが中心点に対して同じ角度方向に移動して、絡まりを回避することができる。0047一実施形態では、ケーブルおよび/またはホースH1、H2、H3と固定供給部の間の接続部を可動として、接続部がそれ自体を基板テーブルの移動に適合させることが可能になりうる。一実施形態では、共通可動領域にほぼ直角の垂直軸のまわりにケーブルおよび/またはホースが回転することを可能にすることによって。図6の場合では、可動性は、中心点を通って可動領域の平面にほぼ直角に延びる軸のまわりにケーブルおよび/またはホースが完全に回転する可能性として表される。このようにして、基板テーブルは、ケーブルおよび/またはホースの巻き付きおよび絡まりを回避するのに、必ずしも異なる方向に続けて移動しなくてもよい。その場合、基板テーブルは、1つまたは複数の完全回転を中心点のまわりで両方向に行うことができる。0048図7は、本発明の別の実施形態によるもう1つのリソグラフィ装置の一部分を示す。3つの基板テーブルA1、B1、C1が示されており、これらは、3つの作業場所1、2、3を含む共通可動領域CMA内で移動可能である。基板テーブルA1、B1、C1は、それぞれ3つの作業場所1、2、3に置かれて示されている。これら3つの作業場所1~3は、中心点CPのまわりに分布している。0049この装置はまた、リソースを基板テーブルに供給するための固定または制限された移動供給部も含む。この場合、固定または制限された移動供給部には、3つのサブ供給部FS1、FS2、FS3が基板テーブルの1つごとに含まれる。基板テーブルA1~C1は、それぞれのケーブルおよび/またはホースH1、H2、H3により、それぞれのサブ供給部FS1~FS3に接続される。0050装置の動作目的のためには、基板テーブルが作業場所1から、次に作業場所2に、最後に作業場所3に続けて移動し、その後作業場所1に戻ってこの順序をもう一度開始することが必要になりうる。図7で、各基板テーブルは、別々の作業場所に、したがって別々の処理点に置かれる。これにより複数の工程が並行して行われるので、スループットが向上する。0051図8は、基板テーブルA1~C1がそれぞれ作業場所2、3、1に置かれたときの図7の装置を示す。図7の状態から図8の状態への基板テーブルの移動は、ケーブルおよび/またはホースH1~H3が絡まることが起こらないように行われる。0052図9は、基板テーブルA1~C1がそれぞれ作業場所3、1および2に置かれたときの図7の装置を示す。基板テーブルの移動はやはり、ケーブルおよび/またはホースH1~H3が絡まることが起こらないように行われる。この状態の後、基板テーブルは図7の状態に戻ることができる。0053すべての移動は、制御された基板テーブルの移動によって、ケーブルおよび/またはホースH1~H3が絡まることなく実行される。さらに、ケーブルおよび/またはホースH1~H3は、共通可動領域CMAによって画定される平面にほぼ直角の方向で見て異なる高さに置くことができ、その結果、基板テーブルとケーブルおよび/またはホースは、別のケーブルおよび/またはホースの下を通過できるようになる。したがって、ケーブルおよび/またはホースの少なくとも1つが、その平面の外側に延びなければならない。0054図6および図7~9の実施形態の原理の組合せではまた、サブ供給部が共通可動領域の外周に沿って移動可能なものも実現可能であり、その結果、サブ供給部は、対応する基板テーブルの移動に少なくとも部分的に追従して絡まりを回避するようになる。サブ供給部の移動は、回転式コンベアのようにして行うことができ、一実施形態ではサブ供給部間の相互間隔が固定され、それによって、1つのアクチュエータおよび/または移動要素を使用して、例えばサブ供給部が取り付けられた回転フレームを使用して、すべてのサブ供給部を移動させることが可能になる。0055図2~9に示された実施形態では、各作業場所で実施されるべき動作は以下のようになりうる。第1の作業場所において、パターンがパターニングデバイスから基板の上に転写される。第2の作業場所において、基板が基板テーブルと基板交換器の間で交換される。第3の作業場所において、準備動作が基板上で実施される。0056一実施形態では、これらの動作を並行して実施できるように、基板テーブルが第1、第2および第3の作業場所のそれぞれに同時に存在する。各動作が実施された後、第1の作業場所内のそれぞれの基板テーブルは第2の作業場所に移され、第2の作業場所内のそれぞれの基板テーブルは第3の作業場所に移され、第3の作業場所内のそれぞれの基板テーブルは第1の作業場所に移され、これらの移動は好ましくは同時に実施される。次に、各動作がそれぞれの作業場所で実施され、その後、基板テーブルを再び移動させることができ、その結果、各作業場所での一連の動作の実施および基板テーブルの移動が行われるようになる。0057リソグラフィ装置が基板テーブルの二重露光で使用される場合、すなわち基板がパターン付き放射ビームに2回露光される場合、パターン付き放射ビームは、両露光で必ずしも同じではなく、露光には2つの作業場所を使用し、基板の測定には1つの作業場所を使用することが望ましく、そのため合計で3つの基板テーブルを使用してスループットを最適化することになりうる。その場合、基板はまず第1の作業場所で測定され、その後次の作業場所に移され、ここでパターン付き放射ビームに露光され、最後に最終の作業場所に移され、ここで別のパターン付き放射ビームに露光される。3つの基板テーブルがあるので、3つの基板をほとんど並行して処理し、それによって、各作業場所を完全に使用するとともに、ほぼその時点ですべての作業場所が占有されることを確実にすることができる。0058リソグラフィ装置が基板テーブルの単一露光で使用される場合、すなわち基板がパターン付き放射ビームに1回露光される場合、4つの作業場所を使用することが望ましく、そのうちの2つが基板の露光用に配置され、2つが基板の測定用に配置されてスループットが最適化される。その場合には4つの基板テーブルが望ましく、その結果、例えば2つの基板テーブルが交互に露光作業場所の1つと測定作業場所の1つに存在し、別の2つの基板テーブルが交互に露光作業場所の別の1つと測定作業場所の別の1つに存在するようになる。ケーブルおよび/またはホースの絡まりが起こりうることに応じて、他の構成もまた実施可能である。2つの露光または測定の作業場所を有することにはまた、露光または測定の作業場所のうちの1つが動作不能の時間中に別の対応する作業場所が取って代わることができ、そのためスループットの低下が生じるだけで装置の完全な停止は生じないという利点がありうる。0059図10は、本発明のさらに別の実施形態によるリソグラフィ装置の一部分を概略的に示す。2つの基板テーブルA1、B1が示されており、これらは、それぞれの基板テーブルと基部フレームBFの間に設けられた位置決めデバイス、例えばアクチュエータを使用して、測定基準器MRに対して位置付けられる。1つの基板テーブルの移動が、基板テーブルA1の位置とは異なる位置A1’にも基板テーブルA1を示すことによって表示されている。0060位置決めデバイスは、基板テーブル上に配置されたコイルと、基部フレームBF上に配置された永久磁石とを含むことができる。あるいは、コイルを基部フレーム上に配置し、永久磁石を基板テーブル上に配置して、基板テーブルと基部フレームまたは測定基準器との間のケーブルおよび/またはホースの総量を最少にすることができる。基部フレーム上の位置決めデバイスの構成によって基板テーブルの移動の範囲が決まり、したがって、共通可動領域は、基板テーブルが移動可能な基部フレームに対してほぼ平行に画定される。すなわち共通可動領域は、基部フレームBFにほぼ平行な平面に延びている。0061この装置はさらに、基板ハンドリングデバイスSHDを共通可動領域の平面に平行な方向に見てそれぞれの基板を基板交換器に対しほぼ固定して保持しながら、基板テーブルと基板交換器の間で基板を交換するように構成された基板交換器SEを備える。基板テーブルの可動領域は、基板テーブルが基板ハンドリングデバイスの下で移動できるように基板テーブルA1で示されるように、基板交換器の方に延びる。0062この構成の利点は、従来技術のシステムで行われるように基板ハンドリングデバイスが基板に向かって移動するのではなく、基板テーブルが基板ハンドリングデバイスに向かって移動できることである。基板テーブルは基板ハンドリングデバイスよりもずっと速く移動できるので、その作業を速めることができ、したがってスループットが向上する。0063さらに、基板ハンドリングデバイスを基板テーブルに向けて基板テーブルと測定基準器の間で移動させなくてもよいので、最大占有空間に関する基板ハンドリングデバイスの要件の厳しさが減ることもある。0064基板テーブルは、その平面にほぼ直角の方向に移動して、基板テーブルが基板および/または基板ハンドリングデバイスに接触すること、および交換を実施することが可能になりうる。また基板ハンドリングデバイスは、1つまたは複数の方向の移動を可能にして、基板の交換および基板に対する基板の位置決めを支援することもできる。しかし、一実施形態では、これらの移動能力は基板テーブル自体の移動能力と比べると小さい。0065基板ハンドリングデバイスは、機械的接触グリッパ、真空グリッパおよび/または基板フローティングシステムを含む任意の種類のハンドリングデバイスとすることができ、基板に接触することなくほぼ固定して基板を保持する。0066基板テーブルについて具体的に言及したが、本発明はまた、基板テーブルと、この基板テーブルを位置付けるための、位置決めデバイスが基板テーブルに沿って移動する位置決めデバイスとを含む基板台にも適用する。したがって、妥当な場合には、基板テーブルを指したものを基板台と置き換えることができる。0067本文中では、IC製造時におけるリソグラフィ装置の使用に具体的に言及することがあるが、本明細書で説明したリソグラフィ装置には、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用の誘導パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッド等の製造など、他の用途がありうることを理解されたい。当業者なら、そのような代替用途の文脈では、本明細書における用語ウェーハまたはダイのいかなる使用も、それぞれ、より一般的な用語基板またはターゲット部分と同義なものと見なしてよいことを理解するであろう。本明細書で言及する基板は、露光前または露光後に、例えばトラック一般に基板にレジストの層を与え、露光済レジストを現像するツール、メトロロジーツールおよび/またはインスペクションツール内で処理されてよい。適用可能であれば、本開示は、そのようなものおよび他の基板処理ツールに適用されてよい。その上、基板は、例えば多層ICを作成するために複数回処理されてよく、そのため、本明細書に用いられる用語の基板は、既に複数の処理済の層を含む基板も意味してよい。0068本発明の実施形態の使用に対して、光リソグラフィの文脈において上記で特定の参照がなされていても、本発明は、他の用途、例えばインプリントリソグラフィおよび状況が許すところで使用されてよく、光リソグラフィに限定されないことが理解されよう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが、基板上に作成されるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に与えられたレジストの層へ押しつけられてよく、その後、レジストは、電磁放射、熱、圧力またはそれらの組合せを与えることによって硬化される。パターニングデバイスは、レジストが硬化された後、レジスト中にパターンを残してレジストから離される。0069本明細書に使用される用語放射およびビームは、イオンビームまたは電子ビームなどの粒子線と同様に紫外線UV放射例えば365、248、193、157または126nmの、またはそのくらいの波長を有するおよび極端紫外線EUV放射例えば5~20nmの範囲の波長を有するを含むすべてのタイプの電磁放射を包含する。0070用語レンズは、文脈上可能であれば、屈折、反射、磁気、電磁気、および静電気の光学部品を含む様々なタイプの光学部品の任意のものまたはその組合せを意味してよい。0071本発明の特定の実施形態が上記に説明されてきたが、本発明は、説明されたものと異なる様式で実行されうることが理解されよう。例えば、本発明は、上記に開示された方法を記述した機械可読命令の1つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラムの形式、またはそのようなコンピュータプログラムが格納されているデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気ディスクまたは光ディスクの形式をとってよい。0072上記の記述は、例示を意図したものであり、限定するものではない。したがって、以下に詳述される特許請求の範囲から逸脱することなく、説明された本発明に修正を加えることができることが当業者には明白であろう。