"粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液を用いて精製するビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法。粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液を溶解溶液に投入して再結晶化させる請求項1に記載のビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法。粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、溶解溶液を酸水溶液に投入して再結晶化させる請求項1に記載のビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法。ビスアミノヒドロキシフェニル類が、下記式で表され、Xは単結合または、置換または無置換アルキレン、アラルキレン、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、置換または無置換アミノであり、R1、R2は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基、置換されたアミノ基、アシルオキシ基またはハロゲン原子である請求項1~3のいずれかに記載のビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法。ビスアミノヒドロキシフェニル類が、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル、ビス4-アミノ-3-ヒドロキシフェニル、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルエーテル、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン、9,9’-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルフルオレン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルスルホン、または、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシシクロヘキサンである請求項1~3のいずれかに記載のビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法。有機溶媒が、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、アセトン、i-プロパノール、メタノール、または、エタノールである請求項1~5のいずれかに記載のビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法。酸水溶液がPka1.0~8.0の酸水溶液である請求項1~6のいずれかに記載のビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法。金属含有量が200ppb以下である請求項1~7のいずれかに記載のビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法。本発明は、簡易な方法で粗ビスアミノヒドロキシフェニル類中の金属含有量を低減させる精製方法を提供することを目的とする。本発明は、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液を用いて精製するビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法である。本発明によれば、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類中の金属含有量を低減させることができる。そのため得られた精製ビスアミノヒドロキシフェニル類は半導体用絶縁材料として使用できる。以下、本発明の精製方法を詳細に説明する。本発明は、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液を用いて精製するビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法である。本発明で使用するビスアミノヒドロキシフェニル類は、ベンゼン環2つを有し、官能基としてアミノ基とヒドロキシル基をそれぞれ2つもつ化合物である。ビスアミノヒドロキシフェニル類は、好ましくは、下記式で示される。ここで、Xは単結合または結合鎖を表し、R1およびR2は置換基である。Xの結合鎖としては、例えば、置換または無置換アルキレン、アラルキレン、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、置換または無置換アミノ等があげられる。置換または無置換アルキレンとしては、例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、環状アルキル、置換されてもよいフルオレン-9,9-イル、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンが挙げられ、アラルキレンとしては、例えばベンジリデンが挙げられ、置換または無置換アミノとしては、例えばアミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、アニリン等が挙げられる。Xは、好ましくは、無置換アルキレンであり、より好ましくは、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンである。R1またはR2で表される置換基としては、例えば水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基、置換されたアミノ基、アシルオキシ基またはハロゲン原子等が挙げられ、好ましくは、水素原子である。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、2-エチルデシル基、n-デシル基、n-ドデシル基等のC1~C12のアルキル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基である。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルへキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、水酸基等のC1~C12のアルコキシ基が挙げられ、好ましくは、エトキシ基である。アシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基等のC1~C10のアシル基が挙げられ、好ましくは、アセチル基である。アルキルオキシカルボニル基としては、例えば、メチルカルボキシレート基、エチルカルボキシレート基、プロピルカルボキシレート基、ブチルカルボキシレート基、ペンチルカルボキシレート基、ヘキシルカルボキシレート基、2-エチルヘキシルカルボキシレート等が挙げられ、好ましくは、メチルカルボキシレート基である。カルバモイル基としては、例えば、カルボキサミド基、カルボン酸ジメチルアミド基、カルボン酸ジエチルアミド基、カルボン酸メチルアミド基、カルボン酸エチルアミド基等が挙げられ、好ましくは、カルボキサミド基である。置換されたアミノ基としては、例えば、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-メチルエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ基、N-モルホリノ基等が挙げられ、好ましくは、N-メチルアミノ基である。アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられ、好ましくは、アセトキシ基である。ハロゲン原子としては、例えばフッ素、臭素、塩素、ヨウ素等が挙げられ、好ましくは、臭素、塩素である。本発明に用いビスアミノヒドロキシフェニル類は、例えば、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルメタン類、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルプロパン類、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン類、3,3-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルペンタン類、2,2’-ジアミノ-4,4’-ベンジリデンビスフェノール類、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルエーテル類、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルスルフィド類、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルスルホン類、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルスルホキシド類、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルケトン類、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルアミン類、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジヒドロキシビフェニル類等が挙げられる。ビスアミノヒドロキシフェニル類は、好ましくは、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル、ビス4-アミノ-3-ヒドロキシフェニル、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-エトキシフェニルメタン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-アセトキシフェニルメタン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-N,N-ジエチルカルボキサミドフェニルメタン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-6-フロロフェニルメタン、ビス3-アミノ-4,5-ジヒドロキシフェニルメタン、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロロプロパン、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルヘキサフロロプロパン、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-6-プロパノイルフェニルヘキサフロロプロパン、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-N,N-ジエチルアミノフェニルヘキサフロロプロパン、2,2-ビス3-アミノ-4,5-ジヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-ブトキシカルボニルフェニルヘキサフロロプロパン、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-6-クロロフェニルヘキサフロロプロパン、3,3-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルペンタン、3,3-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルペンタン、3,3-ビス3-アミノ-ヒドロキシ-5-クロロフェニルペンタン、2,2’-ジアミノ-4,4’-ベンジリデン-ビスフェノール、2,2’-ジアミノ-4,4’-ベンジリデン-5,5’-ジクロロビスフェノール、2,2’-ジアミノ‐4,4’-ベンジリデン-5,5’-ジエトキシビスフェノール、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルエーテル、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルエーテル、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-N,N-ジエチルアミノフェニルエーテル、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-ブチロキシカルボニルフェニルエーテル、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-6-クロロフェニルエーテル、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルスルフィド、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルスルフィド、ビス3-アミノ-4,5-ジヒドロキシフェニルスルフィド、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-N-メチルアミノフェニルスルフィド、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-ブロモフェニルスルフィド、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルスルホン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-イソブチルフェニルスルホン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-6-プロパノイルフェニルスルホン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-N,N-ジプロピルアミノフェニルスルホン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-6-メチルフェニルケトン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-エトキシフェニルケトン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルケトン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-6-メチルフェニルケトン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-N,N-ジプロピルアミノフェニルケトン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-メトキシフェニルアミン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニルアミン、N,N-ジ3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルアニリン、9,9’-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルフルオレンまたはビス2-アミノ-4-ヒドロキシシクロヘキサンである。この中でも、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル、ビス4-アミノ-3-ヒドロキシフェニル、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルエーテル、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン、9,9’-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルフルオレン、ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルスルホンまたはビス2-アミノ-4-ヒドロキシシクロヘキサンがより好ましい。ビスアミノヒドロキシフェニル類は、さらにより好ましくは、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルプロパン、または、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンである。本発明の精製方法では、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液を用いて精製する有機溶媒は、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類が溶解する溶媒が好ましく、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、アセトン、メタノール、エタノール、n-プロパノール、i-プロパノール、n-ブタノール、sec-ブタノール、i-ブタノール、t-ブタノール等の炭素数1~4の低級脂肪酸アルコール類がより好ましい。本発明の精製方法では、有機溶媒として、エチレングリコール、プロピレングリコール等の低級ジオール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環式エーテル類またはジエチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等の非環式エーテル類を、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、アセトン、炭素数1~4の低級脂肪酸アルコール類と併用して用いることができる。本発明の精製方法では、有機溶媒は、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、アセトン、i-プロパノール、メタノール、エタノールがさらにより好ましい。特に安価に入手でき、精製後の乾燥に適した溶媒としてジメチルホルムアミド、i-プロパノールが最も好ましい。有機溶媒の使用量は、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類に対して1.0から10.0重量倍が好ましく、2.0から4.0重量倍がより好ましい。有機溶媒の溶解温度は、0°Cから溶媒沸点が好ましく、作業上25°Cから40°Cが取り扱いやすい。本発明のビスアミノヒドロキシフェニル類の精製方法では、好ましくは、粗ビスアミノヒドロキシフェニルを窒素雰囲気下、有機溶媒に溶解させる。本発明では、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液を用いて精製する。粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液を用いて精製することにより、金属含有量を低減させることができる。酸水溶液で用いる酸は、PKaが、1.0~8.0が好ましい。PKaは、より好ましくは、3.0~5.0である。酸水溶液で用いる酸は、無機酸、三塩基酸、二塩基酸、一塩基酸が好ましい。無機酸は、リン酸、フッ化水素酸が好ましい。三塩基酸としてはクエン酸が好ましい。二塩基酸としては、リンゴ酸、コハク酸、しゅう酸、マレイン酸が好ましい。一塩基酸は酢酸、乳酸、ギ酸が好ましい。これらの中で特に、クエン酸、リンゴ酸、ギ酸がより好ましい。酸水溶液で用いる酸の使用量は、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類に対して0.01当量から4.0当量が好ましい。より好ましくは、0.10当量から1.0当量である。本発明では、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液を溶解溶液に投入して再結晶化させることが好ましい。また、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、溶解溶液を酸水溶液に投入して再結晶化させることが好ましい。粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液と混合し再結晶化することで、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類中の金属含有量をさらに低減することができる。本発明では、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、濾過を行ってもよい。溶解後濾過をする場合、例えば減圧濾過、保温濾過、固液分離で行う。作業上減圧濾過が取り扱いやすい。本発明では、好ましくは、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液を溶解溶液に投入して再結晶化させる。また、本発明では、好ましくは、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類を有機溶媒に溶解後、溶解溶液を酸水溶液に投入して再結晶化させる。本発明における再結晶温度は0°C以上溶媒沸点以下が好ましく、より好ましくは結晶の粒子の形状を大きくするため、25°Cから50°Cの範囲である。本発明において再結晶化させる溶媒の投入時間は、再結晶化で析出する粒子の形状を大きくするために時間をかけて行うのがよい。中でも30分から2時間で行うのが好ましい。本発明では、好ましくは、再結晶化させたビスアミノヒドロキシフェニル類を単離して乾燥し精製物を得る。本発明における精製物を単離する際の洗浄溶媒として、イオン交換水やアルコール類から選ばれる少なくとも1種類の溶媒で洗浄を行うことが好ましい。この中でもイオン交換水がより好ましく、使用量は粗ビスアミノヒドロキシフェニル類に対して1.0重量倍から10.0重量倍が好ましく、2.0重量倍から5.0重量倍がより好ましい。結晶の乾燥は、例えば、棚段乾燥、ナウター型乾燥、コニカル型乾燥で行ってもよい。中でもナウター型乾燥または棚段乾燥が好ましい。乾燥温度は溶媒の沸点から100°Cが好ましく、65度から100°Cがより好ましい。本発明では、粗ビスアミノヒドロキシフェニル類に含まれるほとんどの金属含有量を低減させることができる。本発明では、好ましくは、金属含有量は200ppb以下である。本発明では、金属とは、Li、Na、Mg、Al、K、Ca、Cr、Mn、Fe、Ni、Co、Cu、Znである。本発明において、金属含有量が200ppb以下とは、それぞれの金属含有量が200ppb以下であることを示し、すべての金属の含有量の総計が200ppb以下であるとは限らない。例えば、Feの含有量が150ppb、Naの含有量が50ppb、かつ、Alの含有量が50ppbの場合も、金属含有量が200ppb以下であると判断する。本発明では、さらに好ましくは、Feの含有量は、100ppb以下である。本発明では、さらに好ましくは、Na含有量は、50ppb以下、K含有量は、10ppb以下、Alの含有量は、10ppb以下、Ca含有量は、10ppb以下、Cu含有量は、50ppb以下である。次に実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。実施例1温度計、ジムロート冷却器および攪拌機を備えた1L四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、DMFジメチルホルムアミド280.2g3.83モルと2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン100.4g0.27モル蝶理株社製を仕込んだ。実施例1で使用した2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンを、未精製2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン1とする。未精製2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン1の金属含有量を表1に示した。25~30°Cで攪拌して溶解後、反応液を濾過し、反応液中に1.6クエン酸水溶液500.3gクエン酸0.15当量用いた酸は、和光純薬株社製を25~45°C内の反応液中に1時間かけて滴下して結晶化を行った。滴下終了後1時間攪拌後、結晶を濾別し、イオン交換水300.0gで洗浄後、100°Cで乾燥し、金属含有量の低減された精製物2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンを得た収量94.0g、収率94、液体クロマト分析値99.8面積。表2に示したように金属含有量を十分に低減できた。実施例2実施例1において、酸水溶液で使用する酸をギ酸0.63当量用いた酸は、宇野辺興産株社製を用いる以外は実施例1と同様の操作をして、金属含有量の低減された2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンを得た収量94.0g、収率94、液体クロマト分析値99.8面積。表2に示したように金属含有量を十分に低減できた。実施例3実施例1において、有機溶媒をi-プロパノール4.33モルを用いる、酸水溶液として使用する酸としてギ酸0.44当量用いた酸は、宇野辺興産株社製、酸水溶液濃度1.1を用いる以外は実施例1と同等の操作をして、金属含有量の低減された2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンを得た収量68.3g、収率68、液体クロマト分析値99.8面積。表2に示したように金属含有量を十分に低減できた。実施例4実施例1において、表1に示した未精製2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン2を用い、DMFジメチルホルムアミドの使用量300g4.10モル、酸水溶液で使用する酸のクエン酸の濃度を0.8用いた酸は、和光純薬株社製、イオン交換水500g用いる以外は実施例1と同等の操作をして、金属含有量の低減された2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンを得た収量92.0g、収率92、液体クロマト分析値99.8面積。表2に示したように金属含有量を十分に低減できた。実施例5実施例1において用いた原料をビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-イソブチルフェニルスルホン東京化成株社製を用いる以外は実施例1と同等の操作をして、金属含有量の低減されたビス3-アミノ-4-ヒドロキシ-5-イソブチルフェニルスルホンを得た収量94.0g、収率94、液体クロマト分析値99.8面積。表2に示したように金属含有量を十分に低減できた。実施例6実施例1において再結晶化させる操作として、溶解溶液を酸水溶液に投入する以外は実施例1と同様の操作をして、金属含有量の低減された2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンを得た収量95.0g、収率95、液体クロマト分析値99.8面積。表2に示したように金属含有量を十分に低減できた。比較例1温度計、ジムロート冷却器および攪拌機を備えた1L四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、DMFジメチルホルムアミド300.1g411モルと、表1に示した未精製2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン2150.4g0.41モル蝶理株社製を仕込んだ。60°Cで攪拌して溶解後、50°Cまで冷却しその後、反応液中にイオン交換水600.0gを45~50°C内の反応液中に1時間かけて滴下し、結晶化を行った。滴下終了後1時間攪拌後、結晶を濾別し、イオン交換水600.0gで洗浄後、100°Cで乾燥し、金属含有量の低減された2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンを得た収量1452g、収率97、液体クロマト分析値99.8面積。表2に示したように金属含有量を十分に低減できなかった。比較例2比較例1において、有機溶媒をメタノール225.0gとし、反応液に投入する溶媒としてイオン交換水600.0gを用いた以外は比較例1と同様の操作をして、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンを得た収量140.6g、収率94、液体クロマト分析値99.8面積。表2に示したように金属含有量を十分に低減できなかった。比較例3温度計、ジムロート冷却器および攪拌機を備えた1L四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、塩酸41.5g0.40モルと、表1に示した未精製2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン238.0g0.10モル蝶理株社製を仕込んだ。60°Cで攪拌して溶解後、20°Cまで冷却し、濾過を行い、未反応物を除去した。濾液に20NaOH75.1gを30分かけて滴下し、中和PH7を行った。次いで濾過を行って結晶をとり、イオン交換水300mlで2回洗浄し、乾燥し、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンを得た収量35.0g、収率92、液体クロマト分析値99.3面積。表2に示したように金属含有量を十分に低減できなかった。比較例4温度計、ジムロート冷却器および攪拌機を備えた1L四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、イオン交換水200.0gと、表1に示した未精製2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパン140.0g0.11モル蝶理株社製を仕込んだ。このスラリー溶液を30分攪拌した後、イオン交換水100gで洗浄し、結晶を濾別した。そこへ0.8のクエン酸水溶液クエン酸0.08当量用いた酸は、和光純薬株社製を200.0g加えた。30分攪拌後、イオン交換水100gで洗浄し結晶を濾別し、100°Cで乾燥し、2,2-ビス3-アミノ-4-ヒドロキシフェニルヘキサフロロプロパンを得た収量37.7g、収率94、液体クロマト分析値99.8面積。表2に示したように金属含有量を十分に低減できなかった。"