第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に形成された液晶層と、を備える液晶表示装置において、前記第1基板の外郭領域に形成され、共通電圧が印加される共通電圧ラインと、前記第2基板に形成された共通電極と、前記共通電圧ラインを覆うように形成されて、前記第1基板と前記第2基板とを合着し、前記共通電圧ラインに印加される共通電圧を伝達する導電ボールを備え、前記共通電圧の印加時に形成される電界によって、前記液晶層のイオン不純物を表面に吸着するシールラインと、を備えることを特徴とする液晶表示装置。前記共通電圧は、極性電圧であることを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示装置。前記共通電圧ラインは、外部から前記共通電圧を印加される第1共通電圧ラインと、前記第1共通電圧ライン及び前記導電ボールに接触する第2共通電圧ラインと、を備えることを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示装置。前記第2共通電圧ラインは、透明な導電性物質で形成されることを特徴とする、請求項3に記載の液晶表示装置。前記第2共通電圧ラインは、ITOまたはIZOで形成されることを特徴とする、請求項4に記載の液晶表示装置。前記共通電圧ラインに印加される共通電圧を前記共通電極に伝達するショートポイントを、さらに備えることを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示装置。第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に形成された液晶層と、を備える液晶表示装置において、前記第1基板の外郭領域に形成され、共通電圧が印加される共通電圧ラインと、前記共通電圧ラインから内側に所定間隔離隔された位置で前記共通電圧ラインに沿って前記第1基板に形成された透明電極ラインと、前記第2基板に形成された共通電極と、前記透明電極ラインの一部領域を覆うように形成され、前記第1基板と前記第2基板とを合着し、前記透明電極ラインに印加される電圧を伝達する導電ボールを備え、前記電圧の印加時に形成される電界によって、前記液晶層のイオン不純物を表面に吸着するシールラインと、を備えることを特徴とする液晶表示装置。前記透明電極ラインは、前記シールラインの外側に延びた部分が前記第1基板に形成された配向膜によって覆われ、前記第2基板に形成された外郭ブラックマトリックス領域内に位置することを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。前記透明電極ラインは、透明な導電性物質で形成されることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。前記透明電極ラインは、ITOまたはIZOで形成されることを特徴とする、請求項9に記載の液晶表示装置。前記共通電圧は、極性電圧であることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。前記透明電極ラインに印加される電圧は、極性電圧であることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。前記透明電極ラインに印加される電圧は、交流電圧であることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。前記共通電圧ラインに印加される共通電圧を前記共通電極に伝達するショートポイントをさらに備えることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。前記共通電圧ラインは、外部から前記共通電圧を印加される第1共通電圧ラインと、前記第1共通電圧ラインが位置する前記第1基板の少なくとも一つのコーナーに形成され、前記第1共通電圧ラインと接触する第2共通電圧ラインと、を備えることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。前記第2共通電圧ラインは、透明な導電性物質で形成されることを特徴とする、請求項15に記載の液晶表示装置。前記第2共通電圧ラインは、ITOまたはIZOで形成されることを特徴とする、請求項16に記載の液晶表示装置。前記シールラインは、前記共通電圧ラインの少なくとも一部を覆うことを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。本発明が解決しようとする課題は、シーラントと配向膜のイオン不純物との反応によって発生する枠のスポットを改善できるLCDを提供することである。前記課題を達成するために、本発明の望ましい一実施形態によるLCDは、第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に形成された液晶層と、前記第1基板の外郭領域に形成され、共通電圧が印加される共通電圧ラインと、前記第2基板に形成された共通電極と、前記共通電圧ラインを覆うように形成されて、前記第1基板と前記第2基板とを合着し、前記共通電圧ラインに印加される共通電圧を伝達する導電ボールを備え、前記共通電圧の印加時に形成される電界によって、前記液晶層のイオン不純物を表面に吸着するシールラインと、を備えうる。さらに望ましくは、前記共通電圧は、極性電圧であってもよい。さらに望ましくは、前記共通電圧ラインは、外部から前記共通電圧を印加される第1共通電圧ラインと、前記第1共通電圧ライン及び前記導電ボールに接触する第2共通電圧ラインと、を備えてもよい。本発明の望ましい一実施形態によるLCDは、第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に形成された液晶層と、前記第1基板の外郭領域に形成され、共通電圧が印加される共通電圧ラインと、前記共通電圧ラインから内側に所定間隔離隔された位置から前記共通電圧ラインに沿って前記第1基板に形成された透明電極ラインと、前記第2基板に形成された共通電極と、前記透明電極ラインの一部領域を覆うように形成されて、前記第1基板と前記第2基板とを合着し、前記透明電極ラインに印加される電圧を伝達する導電ボールを備え、前記電圧の印加時に形成される電界によって、前記液晶層のイオン不純物を表面に吸着するシールラインと、を備えうる。さらに望ましくは、前記透明電極ラインは、前記シールラインの外側に延びた部分が前記第1基板に形成された配向膜によって覆われ、前記第2基板に形成された外郭ブラックマトリックス領域内に位置しうる。さらに望ましくは、前記透明電極ラインに印加される電圧は、極性電圧または交流電圧であってもよい。さらに望ましくは、前記共通電圧ラインは、外部から前記共通電圧を印加される第1共通電圧ラインと、前記第1共通電圧ラインが位置する前記第1基板の少なくとも一つのコーナーに形成され、前記第1共通電圧ラインと接触する第2共通電圧ラインと、であってもよい。さらに望ましくは、前記シールラインは、前記共通電圧ラインの少なくとも一部を覆ってもよい。本発明は、共通電圧ラインまたは別途の透明電極ラインに共通電圧または変化可能な異なった電圧を印加して、シーラントから起因したイオン不純物をLCDの外郭領域にホールディングさせうる。したがって、イオン不純物が表示領域に分散することが防止されるため、枠のスポットを除去できる。また、シーラントに導電ボールを含んでシールラインを形成することによってシールラインに電界を形成させうるため、前記イオン不純物が表示領域に分散することをさらに効果的に防止できる。以下、本発明の望ましい実施形態を、添付した図面を参照して説明する。図面上の同じ符号は、同じ要素を表す。下記の本発明の説明において、関連した公知機能または構成についての具体的な説明が、本発明の要旨を不明確にする恐れがあると判断される場合には、その詳細な説明を省略する。また、本発明の実施形態を説明する図面において、ある層や領域は、明細書の明確性のために、厚さを拡大して示した。図1は、本発明の望ましい一実施形態による液晶表示装置LCD:LiquidCrystalDisplayDeviceを概略的に示した平面図である。図1を参照すれば、本発明のLCD100は、薄膜トランジスタTFT:ThinFilmTransistor基板110とカラーフィルタ基板150とが合着された構造であって、前記TFT基板110とカラーフィルタ基板150との間には、液晶が注入される。前記TFT基板110には、スキャン信号を伝達するゲートライン、データ信号を伝達するデータライン、ゲートラインとデータラインとに連結されたTFT、TFTに連結された画素電極からなる画素ピクセルがマトリックス状に形成される。したがって、TFTは、ゲートラインを通じて印加されるスキャン信号によって駆動されて、データ信号を画素電極に印加する。前記TFT基板110の外郭領域には、共通電圧ライン140が備えられる。前記共通電圧ライン140は、外部電圧源から共通電圧を受信し、前記カラーフィルタ基板150に形成された共通電極に前記共通電圧を印加する。図1では、前記共通電圧ライン140がTFT基板110の四つの辺に沿って形成されているが、二つの辺または三つの辺に沿って形成されることもある。前記共通電圧は、極性電圧でありうる。前記カラーフィルタ基板150には、前記画素電極に対向する共通電極及び光によって所定の色に発現されるカラーフィルタが形成される。前記TFT基板110とカラーフィルタ基板150との外郭領域には、前記共通電圧ライン140に沿ってシーラント封止剤がプリンティングされたシールライン180が形成され、前記TFT基板110とカラーフィルタ基板150とを合着する。前記シールライン180には、導電ボールが含まれ、共通電圧ライン140と共通電極とに接触して、前記共通電圧ライン140に印加される共通電圧を共通電極に伝達する。図面には示されていないが、四つのコーナーのうち少なくとも一つのコーナーに、前記共通電圧ライン140と前記カラーフィルタ基板150の共通電極とを連結するショートポイントがさらに形成されうる。この時、前記ショートポイントには、シールラインが形成されないこともある。前記ショートポイントは、共通電圧ライン140から共通電圧を受信し、前記共通電極に前記共通電圧を伝達できる。前記シールライン180によってTFT基板110とカラーフィルタ基板150とは、物理的、電気的に合着されうる。図2は、図1のLCDのA-A’線による断面図である。図2を参照すれば、本発明のLCD100は、TFT基板110、カラーフィルタ基板150及び液晶層130を備える。前記TFT基板110は、表示領域に形成されたTFT120と非表示領域の外郭領域に形成された共通電圧ライン140とを備える。前記TFT120は、活性層121、前記活性層121に対応するゲート電極123、前記活性層121と重畳されたソース電極125、及びドレイン電極127を備える。前記TFT基板110上に半導体材料によって活性層121が所定のパターンに形成される。活性層121が形成される前に、TFT基板110の上面には、不純物イオンが広がることを防止し、水分や外気の浸透を防止し、表面を平坦化するためのバリヤ層及び/またはバッファ層のような絶縁層図示せずがさらに備えられうる。前記活性層121上には、ゲート絶縁膜111が形成され、ゲート絶縁膜111上には、ゲート電極123が所定のパターンに形成される。ゲート電極123上には、ゲート電極123を覆うように層間絶縁膜113が形成される。層間絶縁膜113が形成された後には、ドライエッチングのような工程によって、ゲート絶縁膜111と層間絶縁膜113とをエッチングして、活性層121の領域が露出されるようにコンタクトホールを形成する。コンタクトホールを通じて活性層121と電気的に連結されるように、ソース電極125とドレイン電極127とが形成される。ソース電極125及びドレイン電極127を覆うようにパッシベーション膜115が形成される。パッシベーション膜115をエッチングしてソース電極125またはドレイン電極127と電気的に連結されるように、所定のパターンに画素電極117を形成する。前記画素電極117は、透明性導電物質であるITOIndiumTinOxide:酸化インジウムスズまたはIZOIndiumZincOxide:酸化インジウム-酸化亜鉛で形成されうる。本実施形態では、TFT120の一例として、トップゲート方式のTFTを示している。しかし、これと異なり、ボトムゲート等、または他の構造のTFTが備えられることもある。前記共通電圧ライン140は、前記TFT基板110の外郭領域に四つの辺に沿って形成され、前記層間絶縁膜113上に形成された第1共通電圧ライン141及び前記第1共通電圧ライン141と接触して前記パッシベーション膜115の上部に形成される第2共通電圧ライン145の二層で形成されうる。前記第1共通電圧ライン141は、前記層間絶縁膜113上に前記ソース電極125またはドレイン電極127の形成時、同一工程によって、または別個の工程によって形成されうる。前記第1共通電圧ライン141は、多様な導電性物質で形成されうる。例えば、Mg、Al、Ni、Cr、Mo、W、MoWまたはAuなどの物質で形成されうる。前記第1共通電圧ライン141を覆うようにパッシベーション膜115が形成される。前記パッシベーション膜115をエッチングして前記第1共通電圧ライン141と電気的に連結されるように、所定のパターンに第2共通電圧ライン145を形成する。前記第2共通電圧ライン145は、透明性導電物質であるITOまたはIZOで形成されうる。前記第2共通電圧ライン145は、前記画素電極117と別個の工程によって、または同一工程によって形成されうる。前記共通電圧ライン140は、入力される共通電圧を共通電極155に印加でき、前記共通電圧は、極性を帯びる直流電圧DC:DirectCurrentでありうる。前記画素電極117を覆うように、前記TFT基板110に液晶層130を配向する第1配向膜119が形成されうる。図2では、前記第2共通電圧ライン145の上部には、第1配向膜119を形成していないが、前記画素電極117と共に前記第2共通電圧ライン145を覆うように、前記TFT基板110の前面に前記第1配向膜119が形成されうる。前記カラーフィルタ基板150は、前記TFT基板110と対向する面にカラーフィルタ153とブラックマトリックスBM:BlackMatrix151を備える。前記カラーフィルタ153は、光によって赤色、緑色、青色に発現されるRGBカラーフィルタを備え、カラーフォトレジスト層を写真エッチング工程を通じてパターニングして形成するか、またはカラーインクを噴射して形成できる。前記ブラックマトリックス151は、所望しない液晶配列による透過光を遮断してLCDのコントラストを向上させ、TFT120への直接的な光照射を遮断してTFT120の光漏れ電流を防止する。前記ブラックマトリックス151は、有機インクを噴射して形成するか、または金属層を写真エッチング工程を通じてパターニングして形成できる。また、前記ブラックマトリックス151は、前記共通電圧ライン140がLCDの画面上に投影されることを防止するために、シールライン180が形成される周辺部に形成されうる。前記ブラックマトリックス151は、クロムCr、クロム酸化膜CrOxまたは有機BMで形成されうる。前記ブラックマトリックス151及び前記カラーフィルタ153を備える前記カラーフィルタ基板150上に、共通電極155を形成する。前記共通電極155は、透明電極層をパターニングする工程なしに、前記カラーフィルタ基板150の全面をカバーするように形成されうる。前記共通電極155を形成する物質の例としては、ITO、IZOを挙げられる。前記共通電極155が形成される前に、前記ブラックマトリックス151及び前記カラーフィルタ153を備える前記カラーフィルタ基板150上に、アクリル樹脂でオーバーコーティング層図示せずを形成できる。前記共通電極155が形成された前記カラーフィルタ基板150上に、第2配向膜157を形成する。図2では、シールライン180の周辺部には、第2配向膜157を形成していないが、前記第2配向膜157は、前記共通電極155が形成された前記カラーフィルタ基板150の全面をカバーできる。前記TFT基板110と前記カラーフィルタ基板150とを合着するために、前記共通電圧ライン140の上部にシーラントをプリンティングしてシールライン180を形成する。前記シールライン180は、共通電圧ライン140に沿って連続的に形成され、TFT基板110とカラーフィルタ基板150とを合着させることによって、液晶材料を封じ込めると同時に、外部の空気や水分が液晶層130に浸透することを防止する。前記シールライン180は、約500ないし2000μmの幅に形成され、前記第1配向膜119及び前記第2配向膜157と約0ないし2000μmの幅にオーバーラップされるように形成されうる。前記シーラントは、導電性シーラントであり、銀Ag、金Auなどの導電性物質で形成された導電ボール185を備え、前記共通電圧ライン140をカラーフィルタ基板150に形成された共通電極155と電気的に連結させる。したがって、前記第1共通電圧ライン141に印加された電圧は、第2共通電圧ライン145と導電ボール185とを通じて共通電極155に伝えられる。LCDの枠のスポットは、外郭領域に存在するシールラインを形成するシーラントのイオン不純物が表示領域に広がって配向膜と反応することによって発生する。前記実施形態は、導電ボール185を備えるシーラントでシールライン180を形成し、共通電圧ライン140に極性電圧を印加して、前記極性電圧と反対極性を帯びるイオン不純物190をシールライン180に吸着させる。共通電圧ライン140に極性を帯びる共通電圧を印加することによって、シールライン180に電界が形成され、印加された電圧の極性と反対極性のイオン不純物190がシールライン180に吸着されうる。例えば、前記共通電圧ライン140に正極性の電圧、例えば、10Vの電圧を印加すれば、正極性の電圧が導電ボール185に印加され、負極性-のイオン不純物190がシールライン180に吸着されうる。また、LCDのVIVisualInspection検査時、共通電圧ライン140に高い極性電圧を印加して、短時間にシールライン180に電界を形成させ、シールライン180にイオン不純物190を吸着させうる。前記実施形態は、既存のレイアウト変更なしに導電ボール185を備えるシールライン180を電界形成経路として利用して、イオン不純物190をシールライン180に吸着させうる。したがって、イオン不純物190を外郭領域にホールディングさせるあるいは拘束することによって、イオン不純物190が表示領域に広がって第1配向膜119及び/または第2配向膜157と反応することを防止できるため、枠のスポットを防止できる。図3は、本発明の他の実施形態によるLCDを概略的に示した平面図である。以下、図1のLCDと同じ構成についての詳細な説明は、省略する。図3を参照すれば、本発明のLCD300は、TFT基板310とカラーフィルタ基板350とが合着された構造であって、前記TFT基板310とカラーフィルタ基板350との間には、液晶が注入される。前記TFT基板310は、表示領域にTFT及び画素電極を備え、外郭領域には、共通電圧ライン340、ショートポイント370、及び前記共通電圧ライン340と所定間隔離隔された透明電極ライン360を備える。前記カラーフィルタ基板350は、カラーフィルタ、ブラックマトリックス及び共通電極を備える。前記共通電圧ライン340は、外部電圧源から共通電圧を受信し、前記カラーフィルタ基板350に形成された共通電極に前記共通電圧を印加する。前記透明電極ライン360は、外部電圧源から印加される別途の電圧を受信して、前記共通電極に伝達できる。前記ショートポイント370は、TFT基板110の四つのコーナーのうち少なくとも一つのコーナーに形成され、前記共通電圧ライン340と前記カラーフィルタ基板350の共通電極とを連結する。前記ショートポイント370は、前記共通電圧ライン340上に導電ペーストを塗布した後、ホットプレスすることによって形成されうる。前記ショートポイント370は、共通電圧ライン340から共通電圧を受信し、前記共通電極に前記共通電圧を伝達する。前記TFT基板310とカラーフィルタ基板350との外郭領域には、シーラントがプリンティングされたシールライン380が形成され、前記TFT基板310とカラーフィルタ基板350とを合着する。前記シールライン380は、透明電極ライン360の一部を覆い、共通電圧ライン340の少なくとも一部までさらに覆うように形成されうる。他の実施形態で、前記シールライン380は、前記透明電極ライン360のみを覆うように形成されうる。前記シールライン380には、導電ボールが含まれ、透明電極ライン360に印加される極性電圧または交流電圧を共通電極に伝達できる。図4は、図3のLCDのC-C’線による外郭領域の断面図である。図4を参照すれば、本発明のLCD300は、TFT基板310、カラーフィルタ基板350及び液晶層330を備える。前記TFT基板310は、表示領域に形成されたTFT、外郭領域に形成された共通電圧ライン340、ショートポイント370及び透明電極ライン360を備える。前記カラーフィルタ基板350は、前記TFT基板310に対向する面に、カラーフィルタとブラックマトリックスBM351とを備える。前記TFTの構造は、図1に示されたTFTと同一であるので、これについての詳細な説明は、省略する。前記共通電圧ライン340は、前記TFT基板310の外郭領域に四つの辺に沿って形成される。前記共通電圧ライン340は、層間絶縁膜313上に形成された第1共通電圧ライン341、及び前記第1共通電圧ライン341が位置する前記TFT基板310の少なくとも一つのコーナーに、前記第1共通電圧ライン341と接触し、パッシベーション膜315の上部に形成される第2共通電圧ライン345の二層に形成されうる。前記第1共通電圧ライン341は、層間絶縁膜313上にTFTのソース電極またはドレイン電極の形成時、同一工程によって、または別個の工程によって形成されうる。前記第1共通電圧ライン341は、多様な導電性物質で形成できる。例えば、Mg、Al、Ni、Cr、Mo、W、MoWまたはAuなどの物質で形成できる。前記第1共通電圧ライン341を覆うパッシベーション膜315をエッチングして、第1共通電圧ライン341を露出させた後、所定のパターンに第2共通電圧ライン345を形成する。前記第2共通電圧ライン345は、ショートポイント370が形成されたコーナーに形成される。前記第2共通電圧ライン345は、透明性導電物質であるITOまたはIZOで形成され、前記第1共通電圧ライン341と接触して、前記第1共通電圧ライン341と電気的に連結される。前記第2共通電圧ライン345は、画素電極と別個の工程によって、または同一工程によって形成されうる。前記共通電圧ライン340は、共通電圧を受信して、ショートポイント370を通じて共通電極355に印加できる。前記共通電圧は、極性を帯びる直流電圧DCでありうる。前記ショートポイント370は、前記第2共通電圧ライン345と前記共通電極355とを電気的に連結し、前記第1共通電圧ライン341に印加される共通電圧を前記共通電極355に印加する。前記透明電極ライン360は、前記共通電圧ライン340と所定間隔離隔されて、前記パッシベーション膜315の上部に形成される。前記透明電極ライン360は、シールライン380の外側に表示領域方向に延びた部分が、第1配向膜319によって覆われて第1配向膜319とオーバーラップされ、前記第2基板350に形成された外郭ブラックマトリックス351の領域内に対応して位置する。前記透明電極ライン360は、透明性導電物質であるITOまたはIZOで形成されうる。前記透明電極ライン360は、約100ないし2000μmの厚さに形成されうる。前記シールライン380は、透明電極ライン360に沿って連続して形成され、透明電極ライン360の一部を覆う。前記シールライン380は、共通電圧ライン340の少なくとも一部までさらに覆うように形成されうる。前記シールライン380は、約500ないし2000μmの幅に形成され、第1配向膜319及び第2配向膜357と約0ないし2000μmの幅にオーバーラップされるように形成されうる。前記シーラントは、導電性シーラントであり、銀Ag、金Auなどの導電性物質で形成された導電ボール385を備える。前記導電ボール385は、透明電極ライン360と共通電極355とに接触して前記透明電極ライン360に印加される電圧を共通電極355に伝達する。前記共通電圧ライン340に印加される共通電圧は、前記ショートポイント370を通じて共通電極355に伝えられ、前記透明電極ライン360に印加される電圧は、前記導電ボール385を通じて共通電極355に伝えられうる。前記透明電極ライン360は、外郭ブラックマトリックス351の領域内に位置し、極性電圧または交流電圧が印加されうる。前記透明電極ライン360に極性電圧を印加すれば、反対極性のイオン不純物390がシールライン380と外郭ブラックマトリックス351の領域内の第1配向膜319とに吸着されて、イオン不純物390が表示領域に広がることを防止する。前記透明電極ライン360に交流電圧を印加すれば、第1配向膜319にイオン不純物390が吸着されることを防止できる。したがって、イオン不純物390をシールライン380及び/または透明電極ライン360の付近にホールディングさせることによって、イオン不純物390が表示領域に広がって、第1配向膜319及び/または第2配向膜357と反応することを防止できるため、枠のスポットを防止できる。以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到しうることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。