ハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、前記セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計するための封口用マスク設計プログラムであって、設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの位置を検出するセル位置検出工程と、前記セル位置検出工程で検出された前記セルそれぞれの位置に基づいて、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程と、を情報処理装置に実行させる封口用マスク設計プログラム。設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程をさらに前記情報処理装置に実行させる、請求項1に記載の封口用マスク設計プログラム。前記マスク孔サイズ決定工程では、設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの大きさを検出し、封口する前記セルそれぞれの大きさよりも設計する前記封口用マスクの前記マスク孔それぞれの大きさが小さくなるように前記マスク孔の大きさを決定する前記マスク孔サイズ決定工程を前記情報処理装置に実行させる、請求項2に記載の封口用マスク設計プログラム。前記セル位置検出工程では、設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの中心位置を検出する前記セル位置検出工程を前記情報処理装置に実行させ、前記マスク孔位置決定工程では、前記セル位置検出工程で検出された前記セルそれぞれの中心位置と、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔それぞれの中心位置とが一致するように、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の位置を決定する前記マスク孔位置決定工程を前記情報処理装置に実行させる、請求項1~3のいずれか1項に記載の封口用マスク設計プログラム。ハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、前記セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計する封口用マスク設計方法であって、設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの位置を検出するセル位置検出工程と、前記セル位置検出工程で検出された前記セルそれぞれの位置に基づいて、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程と、を含む封口用マスク設計方法。設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程をさらに含む、請求項5に記載の封口用マスク設計方法。前記マスク孔サイズ決定工程では、設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの大きさを検出し、封口する前記セルそれぞれの大きさよりも設計する前記封口用マスクの前記マスク孔それぞれの大きさが小さくなるように前記マスク孔の大きさを決定する、請求項6に記載の封口用マスク設計方法。前記セル位置検出工程では、設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの中心位置を検出し、前記マスク孔位置決定工程では、前記セル位置検出工程で検出された前記セルそれぞれの中心位置と、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔それぞれの中心位置とが一致するように、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の位置を決定する、請求項5~7のいずれか1項に記載の封口用マスク設計方法。ところで、予め貫通孔が設けられているタイプのマスクは、ハニカム構造体との位置合わせが必要である。特に、ハニカム構造体がDPFのように、乾燥工程や焼成工程を経て製造される焼結体焼成前のグリーン成形体の場合、製造プロセスにおけるハニカム構造体の収縮や変形により、マスクの貫通孔と封口すべきセルとの位置合わせがより一層困難になる。DPFは、狭いセルピッチ例えば0.8~2.5mm程度を有するものもあり、ハニカム構造体の端面の一部についてはマスクの貫通孔を適切に配置できても、他の部分ではずれが生じる場合もある。本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ハニカム構造体の端面との位置合わせを容易に行うことができ、所定のセルを確実に封口するのに有用なマスクを設計することが可能な封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法を提供することを目的とする。本発明は、ハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計するための封口用マスク設計プログラムであって、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの位置を検出するセル位置検出工程と、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの位置に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程とを情報処理装置に実行させる封口用マスク設計プログラムである。この構成によれば、ハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計するための封口用マスク設計プログラムは、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの位置を検出するセル位置検出工程と、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの位置に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程とを情報処理装置に実行させる。このため、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の実際の画像に基づいて、マスク孔の位置が決定されることになり、ハニカム構造体のセルそれぞれとの位置合わせを容易に行うことができ、所定のセルを確実に封口するのに有用なマスクを設計することができる。この場合、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程をさらに情報処理装置に実行させることが好適である。この構成によれば、封口用マスク設計プログラムは、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程をさらに情報処理装置に実行させる。このため、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の実際の画像に基づいて、マスク孔の大きさが決定されることになり、所定のセルを確実に封口するのに有用なマスクを設計することができる。この場合、マスク孔サイズ決定工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの大きさを検出し、封口するセルそれぞれの大きさよりも設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの大きさが小さくなるようにマスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程を情報処理装置に実行させることが好適である。この構成によれば、マスク孔サイズ決定工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの大きさを検出し、封口するセルそれぞれの大きさよりも設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの大きさが小さくなるようにマスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程を情報処理装置に実行させる。このため、設計する封口用マスクのマスク孔は、封口する実際のハニカム構造体のセルの大きさに対して封口することに適した大きさに正確に設計することが可能となる。また、セル位置検出工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの中心位置を検出するセル位置検出工程を情報処理装置に実行させ、マスク孔位置決定工程では、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの中心位置と、設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの中心位置とが一致するように、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程を情報処理装置に実行させることが好適である。この構成によれば、セル位置検出工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの中心位置を検出するセル位置検出工程を情報処理装置に実行させ、マスク孔位置決定工程では、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの中心位置と、設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの中心位置とが一致するように、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程を情報処理装置に実行させる。セルの中心位置とマスク孔の中心位置とが一致していることにより、セル同士の間隔やセルそれぞれの大きさが不均一であったとしても、マスク孔の大きさを適切に設計することにより、セルを確実に封口することができるマスクを設計することができる。また、本発明は、ハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計する封口用マスク設計方法であって、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの位置を検出するセル位置検出工程と、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの位置に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程とを含む封口用マスク設計方法である。この場合、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程をさらに含むことが好適である。この場合、マスク孔サイズ決定工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの大きさを検出し、封口するセルそれぞれの大きさよりも設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの大きさが小さくなるようにマスク孔の大きさを決定することが好適である。また、セル位置検出工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの中心位置を検出し、マスク孔位置決定工程では、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの中心位置と、設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの中心位置とが一致するように、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定することが好適である。本発明の封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法によれば、所定のセルを確実に封口するのに有用なマスクを設計することができる。以下、図面を参照して本発明の実施形態に係る封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法を説明する。本実施形態に係る封口用マスク設計方法は、DPF用等のハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、予めセルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計するものであって、ワークステーションやPCPersonalComputer等の情報処理装置により実行される。情報処理装置30としては、例えば、図1に示すようなハードウェア構成のものが用いられる。図1に示すように、情報処理装置30は、中央処理装置CentralProcessingUnit:CPU31と、プログラムやデータを格納するためのハードディスク装置32と、主メモリ33と、キーボードやマウス等の入力装置34と、CRTCathodeRayTube等の表示装置35と、磁気テープやROM等の記録媒体37を読み取る読取装置36とを含んで構成されている。ハードディスク装置32、主メモリ33、入力装置34、表示装置35、及び読取装置36は、何れも中央処理装置31に接続されている。この情報処理装置30では、プログラムを格納した記録媒体37が読取装置36に装着され、記録媒体37からプログラムが読み出されてハードディスク装置32に格納される。続いて、ハードディスク装置32に格納されたプログラムが、中央処理装置31により主メモリ33上に展開して実行されて、本実施形態に係る封口用マスク設計方法が実行される。なお、本実施形態に係る封口用マスク設計方法は、上記のようにプログラムによるものでなく装置のみで実行されるものであってもよい。また、以下に述べる一連の処理全てが情報処理装置にて実行されるとしてもよいし、一連の処理のうちの一部が情報処理装置にて実行されるとしてもよい。以下、図2のフローチャートを用いて、本実施形態に係る封口用マスク設計方法の概略について説明する。本実施形態では、ワークとなるDPF用等のハニカム構造体についてセルが開口している端部を撮影して、端部のスキャン画像を取得する。本実施形態の封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30にハニカム構造体のスキャン画像を読み込ませるS10。本実施形態でワークとなる一例のハニカム構造体70は、図3のaに示すように、多数の貫通孔セル70aが略平行に配置された円柱体である。貫通孔70aの断面形状は、図3のbに示すように正方形である。これらの複数の貫通孔70aは、ハニカム構造体70において、端面から見て、正方形配置、すなわち、貫通孔70aの中心軸が、正方形の頂点にそれぞれ位置するように配置されている。貫通孔70aの断面の正方形のサイズは、例えば、一辺0.8~2.5mmとすることができる。また、ハニカム構造体70の貫通孔70aが延びる方向の長さは特に限定されないが、例えば、40~350mmとすることができる。また、ハニカム構造体70の外径も特に限定されないが、例えば、10~320mmとすることできる。ハニカム構造体70の材料は特に限定されないが、高温耐性の観点から、セラミクス材料が好ましい。例えば、アルミナ、シリカ、ムライト、コーディエライト、ガラス、チタン酸アルミニウム等の酸化物、シリコンカーバイド、窒化珪素、金属等が挙げられる。なお、チタン酸アルミニウムは、さらに、マグネシウム及びケイ素の少なくともいずれかを含むことができる。このような、ハニカム構造体70は通常多孔質である。また、ハニカム構造体70は、後で焼成することにより上述のようなセラミック材料となるグリーン成形体未焼成成形体であってもよい。グリーン成形体は、セラミクス原料である無機化合物源粉末、メチルセルロース等の有機バインダ及び必要に応じて添加される添加剤を含む。例えば、チタン酸アルミニウムのグリーン成形体の場合、無機化合物源粉末は、αアルミナ粉等のアルミニウム源粉末、及びアナターゼ型やルチル型のチタニア粉末等のチタニウム源粉末を含み、必要に応じて、さらに、マグネシア粉末やマグネシアスピネル粉末等のマグネシウム源粉末及び酸化ケイ素粉末やガラスフリット等のケイ素源粉末の少なくともいずれかを含むことができる。有機バインダとしては、メチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシアルキルメチルセルロース、ナトリウムカルボキシルメチルセルロースなどのセルロース類;ポリビニルアルコールなどのアルコール類;リグニンスルホン酸塩を例示できる。添加物としては、例えば、造孔剤、潤滑剤および可塑剤、分散剤、溶媒が挙げられる。図2に戻り、本実施形態の封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に以下に詳述する封口用マスク設計方法を実行させるS20。本実施形態の封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に設計した封口用マスクの加工図面を出力させるS30。図4のaに、本実施形態の封口用マスク設計方法による設計に基づき製造されるマスク170の一例を示す。マスク170は、円形の板状部材であり、厚み方向に伸びる多数の貫通孔マスク孔170aを有する。貫通孔170aの断面形状は、図4のbに示すように、ハニカム構造体70の貫通孔70a図3のb参照に対応する正方形である。これらの複数の貫通孔170aは、図4のbに示すように、千鳥配置されており、各貫通孔170aは、図3のbの正方配置された複数の貫通孔70aのうち、互いに上下左右に隣接しない関係にある複数の貫通孔70aのみに対向して配置される。なお、マスク170の貫通孔170aの位置決めを容易にすべく、マスク170には、オリエンテーションフラット170bが形成されていてもよい。マスク170は、例えば、金属から製造されたメタルマスクとすることができる。以上のようなマスク170を用いて図5abに示すような封口装置200を用いて、ハニカム構造体70のセル70aの封口が行なわれる。図5aに示すように、本実施形態に係る封口装置200は、主として、本体部210、弾性板220、ポンプ250を備える。本体部210は、金属例えばステンレスやポリマー材料例えば繊維強化プラスチック等の等から形成された剛性部材である。本体部210には、凹部210dが形成され、凹部210dの内面には、多孔質部材210pが貼り付けられている。弾性板220は、凹部210dの開口面を覆うように、本体部210の上に配置されている。弾性板220は、弾性を有し、容易に変形しうる。弾性板220としては、ゴム板が好ましい。弾性板220は、リング部材225により本体部210に固定されている。リング部材225は、本体部210の凹部210dに対応する位置に開口225aを有し、これにより環状形状をなしている。そして、リング部材225は、弾性板220における中央部凹部210dとの対向部が露出するように弾性板220上に配置されている。本体部210は、さらに、凹部210dの底面の多孔質部材210pに連通する連通路210eを有している。連通路210eにはポンプ250が接続されている。ポンプ250は、シリンダ251、及び、シリンダ251内に配置されたピストン253を備える。ピストン253には、ピストン253を軸方向に往復移動させるモータ255が接続されている。弾性板220と、ピストン253と、の間には、本体部210、連通路210e及びシリンダ251により形成される閉鎖空間Vが形成され、閉鎖空間V内には、液体等の流体FLが充填されている。そして、ピストン253を移動させることにより、本体部210の凹部210d内から流体FLを排出して弾性板220を凹部210dの内面に密着させて弾性板220による凹部220dを形成することができ図5のaの状態、また、凹部210d内に流体FLを供給することに弾性板220を凹部210dの底部から引き離すこと図5のbの状態が出来る。そして、予め、図5のaのように、ピストン253を下げることにより、弾性板220による凹部220dを形成し、この凹部220d内に上述のようにして製造した封口ペーストPを貯留しておく。ハニカム構造体70の封口時には、本体部210の凹部210d上に、封口用マスク170が配置される。封口用マスク170のマスク孔170aは、セラミクスハニカム構造体70のセル70aの内、封口すべき孔のみに対向するようにハニカム構造体70に対して、上述のオリエンテーションフラットbにより位置決めされる。続いて、図5のbに示すように、ポンプ250のピストン253を上方に移動させることにより、凹部210d内に流体FLを供給し、これによって、弾性板220をマスク170に向かって移動させる。これにより、封口材Pがマスク170の貫通孔170aを介して、セラミクスハニカム構造体70の一部の貫通孔70a内に供給され、封口部72が形成される。続いて、図示は省略するが、ピストン253をさらに上昇させ弾性板220と本体部210との間にさらに流体FLを供給し、弾性板220を上方向に凸状に変形させ、セラミクスハニカム構造体70及びマスク170を、弾性板220から引き離す。そして、必要に応じて、図示しない反転装置によりハニカム構造体の向きを上下反転させ、同様により、ハニカム構造体70を他の封口部200に載置し、セラミクスハニカム構造体70の他の面に対して同様の封口を行うことができる。そして、封口されたセラミクスハニカム構造体を乾燥、焼成することにより、セラミクスハニカムフィルタを製造することが出来る。このようなセラミクスハニカムフィルタは、例えば、DPFとして用いることができる。以下、本実施形態の封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法における処理について詳述する。図6に示すように、本実施形態の封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に設計するマスク170が封口するハニカム構造体70の端面のスキャン画像を読み込ませるS201。この場合のスキャン画像は、例えば400dpidotperinch程度のグレースケール画像とすることができる。図6及び図7に示すように、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、ハニカム構造体70の端面のスキャン画像であるワーク画像700について、XY座標等の基準を設定させるS202。これにより、ワーク画像700における貫通孔セル700aの位置がXY座標により特定される。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に処理範囲を調整させ、ワーク画像700に写っているハニカム構造体70以外の箇所を処理範囲外として黒マスクをかけさせるS203。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、ワーク画像700の黒及び白の2値化画像を生成させるS204。以上のS201~S204の処理により、ワーク画像700の二値化処理が完了する。図6及び図8に示すように、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、ハニカム構造体70のワーク画像700の中心に十字線Coを表示させるS205。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、ワーク画像700中の貫通孔700aごとにID番号を付与させ、貫通孔700aのラベリングをさせるS206。図6及び図9に示すように、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、設計するマスク170のマスク孔170aのパターンに応じて、ワーク画像700中の貫通孔700aの内で封口の対象とならない貫通孔700aを白抜きさせるS207。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、ノイズ等の影響により、意図せずに白抜きされて塗りつぶしのセルとなっている貫通孔700aを修正させるS208。図6及び図10に示すように、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、ワーク画像700中の貫通孔700aの内で、白抜きされて塗りつぶしとなっていないセルである貫通孔700aの中心座標を検出させ、当該中心座標に十字線Ccを表示させるS209。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、ワーク画像700中の中心座標を検出した貫通孔700aについて、貫通孔700aの中心座標とセル1700aの中心とを合わせつつ所定サイズのセル1700aを貼り付けさせるS210。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、セル1700aとワーク画像700の貫通孔700aとのサイズの適合状態を判断させ、セル1700aのサイズを調整させるS211。図10に示すように、本実施形態の封口用マスク設計プログラムにおいては、設計するマスク170について規格化された複数のサイズのセル1700aが用意されている。本実施形態においては、設計するマスク170のマスク孔170aを介して封口材Pを封口するハニカム構造体70のセル70aに注入するため、ワーク画像700の貫通孔700aのサイズよりも、設計するマスク170のマスク孔170aのサイズが小さい必要がある。現実に製造されるハニカム構造体70のセル70aの大きさにはバラツキがあるため、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、セル1700aとワーク画像700の貫通孔700aとのサイズの適合状態を貫通孔700aそれぞれについて判断させる。図11aに示すように、ワーク画像700の貫通孔700aよりも設計するマスク170のセル1700aが大きい場合は不適である。一方、図11bに示すように、ワーク画像700の貫通孔700aよりも設計するマスク170のセル1700aが小さい場合は適合していると判定される。図6及び図12に示すように、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、上記処理をワーク画像700の貫通孔700aそれぞれ全てについて実行させる。なお、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、規格化された複数のサイズのセル1700aの内で、ワーク画像700中の貫通孔700aそれぞれ全てよりも小さい共通のサイズのセル1700aを設計するマスク170のマスク孔170aと設定させることができる。この場合、実際のマスク170の製造が容易となる。また、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、規格化された複数のサイズのセル1700aの内で、貫通孔700aそれぞれよりもサイズが小さくなるセル1700aの内で最大のサイズのセル1700aをワーク画像700中の貫通孔700aごとに設定させることができる。この場合、実際のハニカム構造体70のセル70aとマスク170のマスク孔170aとの適合状態が良好となる。以上のS205~S211の処理により、図13に示すような所定の封口パターンによりセル1700aが設けられた封口用マスク設計画像1700が得られ、設計の本処理が完成する。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置30に、後処理として、設計された封口用マスク設計画像1700、封口するセル70a及びワークであるハニカム構造体70に関する情報及びそれらのCSVCommaSeparatedValuesファイルを出力させるS212。本実施形態によれば、ハニカム構造体70の端部に開口した複数の貫通孔であるセル70aを封口するために、セル70aに対応した貫通孔であるマスク孔170aが形成された封口用マスク170を設計するための封口用マスク設計プログラムは、設計する封口用マスク170が封口するハニカム構造体70の端部の画像に基づいて、封口するセル70aそれぞれの位置を検出する工程と、検出されたセル70aそれぞれの位置に基づいて、設計する封口用マスク170のマスク孔170aの位置を決定する工程とを情報処理装置30に実行させる。このため、設計する封口用マスク170が封口するハニカム構造体70の実際の画像に基づいて、マスク孔170aの位置が決定されることになり、ハニカム構造体70のセル70aそれぞれとの位置合わせを容易に行うことができ、所定のセル70aを確実に封口するのに有用なマスク170を設計することができる。また、本実施形態によれば、封口用マスク設計プログラムは、設計する封口用マスク170が封口するハニカム構造体70の端部の画像に基づいて、設計する封口用マスク170のマスク孔170aの大きさを決定する工程をさらに情報処理装置30に実行させる。このため、設計する封口用マスク170が封口するハニカム構造体70の実際の画像に基づいて、マスク孔170aの大きさが決定されることになり、所定のセル70aを確実に封口するのに有用なマスク170を設計することができる。また、本実施形態によれば、設計する封口用マスク170が封口するハニカム構造体70の端部の画像に基づいて、封口するセル70aそれぞれの大きさを検出し、封口するセル70aそれぞれの大きさよりも設計する封口用マスク170のマスク孔170aそれぞれの大きさが小さくなるようにマスク孔170aの大きさを決定する工程を情報処理装置30に実行させる。このため、設計する封口用マスク170のマスク孔170aは、封口する実際のハニカム構造体70のセル70aの大きさに対して封口することに適した大きさに正確に設計することが可能となる。また、本実施形態によれば、設計する封口用マスク170が封口するハニカム構造体70の端部の画像に基づいて、封口するセル70aそれぞれの中心位置を検出する工程を情報処理装置30に実行させ、検出されたセル70aそれぞれの中心位置と、設計する封口用マスク170のマスク孔170aそれぞれの中心位置とが一致するように、設計する封口用マスク170のマスク孔170aの位置を決定する工程を情報処理装置30に実行させる。セル70aの中心位置とマスク孔170aの中心位置とが一致していることにより、セル70a同士の間隔やセル70aそれぞれの大きさが不均一であったとしても、マスク孔170aの大きさを適切に設計することにより、セル70aを確実に封口することができるマスク170を設計することができる。尚、本発明は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。