反射により見ることができる光学認証コンポーネントであって、屈折率n0の基板20上にインプリントされた少なくともひとつの構造23と、前記構造23に付着した薄い層60であってn0とは異なる屈折率n1を有する誘電体から形成される薄い層60と、薄い層60で覆われた構造23を包む層50であってn0と同様な屈折率n2を有する物質から形成される層50と、を備え、前記構造23は第2パターンによって変調された第1パターン22を含み、第1パターン22は薄浮き彫りであり、この薄浮き彫りは小面24のアレイを有し、それら小面24の形状は対象10の浮き彫りの像を浮き彫りで模するよう決定され、第2パターン26は、薄い層60が付着し前記構造23が包まれた後、第1視角において第1の色を生成すると共に本コンポーネントの方位回転によって得られる第2視角において異なる第2の色を生成するように第1パターン22を変調するよう決定される周期的格子である、光学認証コンポーネント。前記第1パターン22は、本コンポーネントが認証のために観察されるとき認識可能なグラフィックを形成するよう計算される、請求項1に記載の光学コンポーネント。前記薄い層60は高屈折率物質から形成され、屈折率n1と屈折率n0との差である屈折率差Δnは約0.5よりも大きい、請求項1または2に記載の光学コンポーネント。屈折率n1の物質は、硫化亜鉛および二酸化チタンからなるグループから選択された少なくともひとつの物質を含む、請求項1から3のいずれかに記載の光学コンポーネント。第1パターン22の深さは0.5ミクロンと7ミクロンとの間にあり、第2パターンの深さは50ナノメートルと300ナノメートルとの間にある、請求項1から4のいずれかに記載の光学コンポーネント。第2パターン26が有するピッチは200ナノメートルと500ナノメートルとの間にある、請求項1から5のいずれかに記載の光学コンポーネント。第1パターン22の隣接するリッジの対のうちの90以上の間の最小離間距離は第2パターン26のピッチよりも少なくとも2倍大きい、請求項1から6のいずれかに記載の光学コンポーネント。第2パターンは一次元の周期的な格子である、請求項1から7のいずれかに記載の光学認証コンポーネント。第2パターンは二次元の周期的な格子である、請求項1から8のいずれかに記載の光学コンポーネント。薄い層60を形成する物質および基板20は透明である、請求項1から9のいずれかに記載の光学コンポーネント。基板に付着したポリマー層70と、包み層50に付着した不透明層80と、ドキュメントの表面への接着的結合のために、不透明層に付着した接着層90と、をさらに備える、請求項1から10のいずれかに記載の光学コンポーネント。第1パターンのひとつのセクションは2以上のレベルを有する領域を含む、請求項1から11のいずれかに記載の光学コンポーネント。光学認証コンポーネントを製造する方法であって、屈折率n0の基板20上にインプリントされた少なくともひとつの構造23を形成することを含み、前記構造は第2パターン26によって変調された第1パターン22を含み、第1パターン22は薄浮き彫りであり、この薄浮き彫りは小面24のアレイを有し、それら小面24の形状は対象10の浮き彫りの像を浮き彫りで模するよう決定され、第2パターン26は、薄い層60が付着し前記構造23が包まれた後、第1視角において第1の色を生成すると共に本コンポーネントの方位回転によって得られる第2視角において異なる第2の色を生成するように第1パターン22を変調するよう決定される周期的格子であり、本方法はさらに、第1屈折率n1を有する誘電体の薄い層60を前記構造23に付着させるステップと、前記薄い層60で覆われた構造23を、n0と同様な第2屈折率n2を有する物質の層50で覆うことを含む包みステップと、を含む、方法。第1パターンは、浮き彫りをいくつかのグレーレベルに符号化するよう、前記対象10の像を使用して計算される、請求項13に記載の製造方法。基板20上にインプリントされた構造23を形成することは、光学マスタを生成することを含み、光学マスタを生成することは、現像後フォトレジストに第1パターン22を形成するための前記フォトレジストの第1露光と、現像後前記フォトレジストに第2パターン26を形成するための前記フォトレジストの第2露光と、所与の化学溶液を使用した前記フォトレジストの現像と、を含む、請求項13または14に記載の製造方法。しかしながら、人間の目は深さにも敏感であり、そのようなコンポーネントは二次元イメージを可視化するのみである。本発明は、特にサブトラクティブカラーフィルタの全ての利点、特に視角の関数として色が変わる点を有しつつ、追加的に三次元的光学深さ効果を提供できる光学コンポーネントに関する。これは特に、第2の光学的に認識可能な選択基準の追加を可能とするので、観察者はイメージをより容易に認識、記憶することが可能となる。第1の態様によると、本発明は、反射により見ることができる光学認証コンポーネントであって、屈折率n0の基板上にインプリントされた少なくともひとつの構造と、前記構造に付着した薄い層であってn0とは異なる屈折率n1を有する誘電体から形成される薄い層と、薄い層で覆われた構造を包む層であってn0と同様な屈折率n2を有する物質から形成される層と、を備える。前記構造は第2パターンによって変調された第1パターンを含む。第1パターンは薄浮き彫りであり、この薄浮き彫りは小面のアレイを有し、それら小面の形状は対象の浮き彫りの像を浮き彫りで模するよう決定される。第2パターンは、薄い層が付着し前記構造が包まれた後、第1視角において第1の色を生成すると共に本コンポーネントの方位回転によって得られる第2視角において異なる第2の色を生成するように第1パターンを変調するよう決定される周期的格子である、光学認証コンポーネントに関する。ある実施の形態によると、第1パターンは、本コンポーネントが認証のために観察されるとき認識可能なグラフィックを形成するよう計算される。他の実施の形態によると、屈折率n1と屈折率n0との差である屈折率差Δnは約0.5よりも大きい。他の実施の形態によると、屈折率n1の物質は、硫化亜鉛および二酸化チタンからなるグループから選択された少なくともひとつの物質を含む。他の実施の形態によると、第1パターンの深さは0.5ミクロンと7ミクロンとの間にあり、第2パターンの深さは50ナノメートルと300ナノメートルとの間にある。他の実施の形態によると、第2パターンが有するピッチは200ナノメートルと500ナノメートルとの間にある。他の実施の形態によると、第1パターンの隣接するリッジの対のうちの90以上の間の最小離間距離は第2パターンのピッチよりも少なくとも2倍大きい。他の実施の形態によると、第2パターンは一次元の周期的な格子である。他の実施の形態によると、第2パターンは二次元の周期的な格子である。他の実施の形態によると、薄い層を形成する物質および基板は透明である。他の実施の形態によると、コンポーネントは、基板に付着したポリマー層と、包み層50に付着した不透明層と、ドキュメントの表面への接着的結合のために、不透明層に付着した接着層と、をさらに備える。他の実施の形態によると、第1パターンのひとつのセクションは複数のレベルを含む形状を有する。第2の態様によると、本発明は、光学認証コンポーネントを製造する方法に関する。この方法は、屈折率n0の基板上にインプリントされた少なくともひとつの構造を形成することを含む。前記構造は第2パターンによって変調された第1パターンを含む。第1パターンは薄浮き彫りであり、この薄浮き彫りは小面のアレイを有し、それら小面の形状は対象の浮き彫りの像を浮き彫りで模するよう決定される。第2パターンは、薄い層が付着し前記構造が包まれた後、第1視角において第1の色を生成すると共に本コンポーネントの方位回転によって得られる第2視角において異なる第2の色を生成するように第1パターンを変調するよう決定される周期的格子である。本方法はさらに、第1屈折率n1を有する誘電体の薄い層を前記構造に付着させるステップと、前記薄い層で覆われた構造を、n0と同様な第2屈折率n2を有する物質の層で覆うことを含む包みステップと、を含む。ある実施の形態によると、第1パターンは、浮き彫りをいくつかのグレーレベルに符号化するよう、前記対象の像を使用して計算される。他の態様によると、基板上にインプリントされた構造を形成することは、光学マスタを生成することを含み、光学マスタを生成することは、現像後フォトレジストに第1パターンを形成するための前記フォトレジストの第1露光と、現像後前記フォトレジストに第2パターンを形成するための前記フォトレジストの第2露光と、所与の化学溶液を使用した前記フォトレジストの現像と、を含む。図2は、本発明のある実施の形態に係る光学認証コンポーネントの製造方法のステップを模式的に示す図である。図2で説明されるような方法は、一般に、屈折率n0を有する物質から形成される基板上にインプリントされた構造を形成する第1ステップS1を含む。基板は例えば透明で熱成形可能なラッカであり、インプリントされた構造はエンボス加工により基板に形成される。基板の物質が有する屈折率n0は典型的には約1.5である。後に詳述されるように、インプリントされた構造は第2パターンによって変調された第1パターンを含む。インプリントされた構造の第1パターンは、像を浮き彫りで模するよう決定された薄浮き彫りを形成する。インプリントされた構造の第2パターンは周期的格子を形成する。この周期的格子は、屈折率n1の物質の薄い層が付着しn0と同様な屈折率n2を有する物質のなかに包まれた後、第1角度において反射で第1の色を生成すると共にコンポーネントの方位回転によって得られる第2角度において反射で第2の色を生成するよう決定される。屈折率n1は屈折率n0との間に屈折率差Δnを生じさせる。したがって、所与の入射角および反射角において、コンポーネントはコンポーネントの延在面と直交する軸の周りで回転するとき、その色を変える。第2パターンによる第1パターンの変調は、第1および第2パターンの重ね合わせであってもよい。第2パターンは一次元または二次元の周期的格子であってもよく、矩形または正弦波状の断面を有してもよい。典型的には、第2パターンを形成する周期的格子のピッチおよび深さはそれぞれ、250ナノメートルから400ナノメートルの間および50ナノメートルから300ナノメートルの間にある。したがって、一次元格子の場合、約90度の方位回転角について色の変化を観測することができる。二次元格子の場合、深さは50ナノメートルから300ナノメートルの間であってもよく、ピッチは典型的には250ナノメートルから400ナノメートルの間であってもよい。格子の寸法は、例えば両方の寸法において同一であってもよい。これによると、対称的なコンポーネントを得ることができる。観測される色はコンポーネントに約90度の方位回転が施された場合に安定的である。対照的に、この例では、本出願人は、約45度の方位回転で色の変化を得ることができることを実証した。次に、方法は、屈折率n1の物質の薄い層を蒸着するステップS2を含む。屈折率n1は、基板を形成する物質の屈折率との間で屈折率差Δnを生じさせる。典型的には、屈折率差は0.5よりも大きくなるよう選択される。例えば、基板が有する屈折率は約1.5であり、薄い層は高屈折率物質により形成される。そのような高屈折率物質は例えば約2.2の屈折率を有する硫化亜鉛ZnSや約2.5の屈折率を有する二酸化チタンTiO2である。典型的には、薄い層の厚さは50nmから150nmの間にある。格子のピッチおよび深さ並びに薄い層の厚さは、既知の手法により、コンポーネントに対して望まれている反射における色に依存して選択される。したがって、例えば、格子ピッチがより小さい場合300nmよりも小さい場合、青みがかった/緑がかった色が得られ、ピッチがより大きい場合、緑がかった/赤みのある色が得られる。次に、方法は、前記薄い層で覆われた構造を、n0と同様な屈折率n2を有する物質で覆うことを含む包みステップS3を含む。他の実施の形態では、コンポーネントは、薄い中間物質層の屈折率よりも高い屈折率を有する基板および包み層を使用して生成されてもよいΔn<0。図3は、本発明のある実施の形態に係る基板上にインプリントされた構造を形成するのに使用されるステップを模式的に示す。一般に、方法は、最終基板上にインプリントされるよう意図された構造の形状を決定する第1ステップS11を含む。以下の説明において、最終基板という表現は、インプリントされた構造が形成された光学コンポーネントの部分を指し示すものとして理解される。最終基板は例えば屈折率n0の物質を含む。上述の通り、最終基板に形成される構造は、第2パターンによって変調された第1パターンを含む。構造の第1パターンは、対象の表面の反射における特徴を模するよう決定されてもよい。例えば、第1パターンは、対象の表面の複数領域を変換した結果得られる薄浮き彫りを形成してもよい。この第1パターンは、これらの領域の特徴を反射において模することが望まれている。第1パターンの形状を決定するために、フレネルレンズを形成するのに使用される方法が用いられてもよい。第1パターンを決定するステップについての詳細は、図4A、図4B、図5A、図5Bおよび図6A、図6Bに関する説明において与えられる。第1パターンは例えば、認識可能なグラフィックを浮き彫りで再現するよう、または認識可能な浮き彫りを有するテクスチャを再現するよう、決定されてもよい。再現されるべき深さ効果を有する対象を使用して、または深さデータを組み入れた対象の表現を使用して、第1パターンが決定されてもよい。例えば、第1パターンは浮き彫りにおける対象の像を使用して決定されてもよく、グレーレベルで深さデータを符号化してもよい。前記構造の第2パターンは、上述されたような一次元または二次元の周期的格子を形成する。図3に示されるような方法はテンプレートステップS12と称される第2ステップを含む。このテンプレートステップS12はオリジナルのテンプレートを生成することを含む。このオリジナルのテンプレートは光学マスタとも称される。光学マスタは例えば前記構造が形成される光学基板である。光学マスタは周知のeビームや光学リソグラフィ方法によって形成されてもよい。例えば、第1の実施の形態によると、光学マスタは電子感応性レジストを電子ビームを使用してエッチングすることにより得られる。したがって、エッチングが望まれているゾーンに入射する電子ビーム束を直接変化させることにより、電子感応性レジストに浮き彫りを形成できる。この実施の形態では、シリーズ法を使用することで、第2パターンによって変調された第1パターンを含む構造を単一のステップでエッチングすることができる。他の実施の形態では、光学リソグラフィまたはフォトリソグラフィ技術が使用されてもよい。この例では、光学マスタはフォトレジストのシートである。テンプレートステップは、位相マスクおよび/または振幅マスクなどの投影マスクを使用して1回以上そのシートを露光し、次に適切な化学溶液で現像することにより実行される。例えば、第1露光は振幅マスクを通じて実行される。振幅マスクの透過係数は、現像後、第1パターンに対応する浮き彫りが形成されるよう選択される。次に、位相マスクタイプの第2マスクを使用して第2ブランケット露光が実行される。周知の方法によると、現像後に第2パターンに対応する浮き彫りを形成するよう、このマスクの位相変化が前もって計算されてもよい。第1パターンおよび第2パターンが形成される順序は重要ではなく、変更されてもよい。次に現像ステップが実行される。したがって、現像後に光学マスタが得られ、この光学マスタは第1パターンと第2パターンとの重ね合わせの結果得られる構造を含む。第1および第2パターンの重ね合わせの結果得られる光学マスタは、現像後、マイクロ浮き彫りに重ね合わされたナノ浮き彫りを含む。ナノ浮き彫りは、色付きミラー効果を生成することができる。ナノ浮き彫りの色は視角によって変化する。マイクロ浮き彫りは規定された対象の光学深さ効果を再現する。ある実施の形態では、深さ効果はテクスチャに対応し、このテクスチャはランダムなまたは繰り返しの性質を有してもよい。図3に示されるような方法は、例えば電気めっきによって光学マスタの金属複製を製造するステップS13を含む。金属複製を製造するステップによって、光学マスタの形状をより強靱な金属基板に複製することができ、その結果前記構造が形成された金属マスタを得ることができる。したがって、光学マスタはニッケルなどの金属のシートで覆われてもよい。このシートは光学マスタによって形成される構造を再現する。金属マスタを複製するステップ不図示は一般に、構造を工業的量で複製することができる大量生産ツールを得るために使用されうる金属マスタのアレイを形成するために実行される。この複製ステップは、例えば、かなり大きな金属面に亘って複数回金属マスタを再生成することで金属マスタのアレイを得ることを含む。次に、最終基板に構造を形成するために、金属マスタまたは適切である場合は金属アレイを複製するステップS14が実行される。ある実施の形態では、金属マスタは例えば熱せられたシリンダに嵌められてもよく、最終基板への構造のエンボス加工が可能となる。複製がエンボス加工により実行される実施の形態では、最終基板は、屈折率n0が約1.5のエンボスラッカで覆われたプラスチック基板を含んでもよい。他の実施の形態では、複製ステップはUV紫外光を使用した硬化ステップを使用して実行されてもよい。これはUV硬化とも称される。複製がUV硬化により得られる実施の形態では、最終基板は、屈折率n0が約1.5でありUVフラッシュ硬化により硬化可能なラッカで覆われたプラスチック基板を含んでもよい。UV硬化による複製は特に、大きな深さ振幅を伴う構造の再現を可能とし、複製の忠実性を向上させることができる。一般に、複製ステップにおいては、従来知られている他の任意の高解像度複製方法が使用されてもよい。図4A、図4B、図5A、図5B、および図6A、図6Bは、本発明の種々の実施の形態において、像を浮き彫りで模するよう第1パターンの形状をどのように決定するかをより具体的に示す。より正確には、図4Aは対象10の半等角斜視図である。対象10の深さ効果を模することが望まれている。図4Bはよりわかりやすくするために対象10の断面を示す。第1パターン22の形状図5Aおよびそれ以降の図は、第1ステップにおいて一定ピッチの対象10のグリッド400を決定することにより得られうる。図4Aで示されるような対象10に対して基板面Pが決定されてもよい。対象10のグリッド400は、平面Pと直交し互いに平行なひとつ以上の第1エレメンタリ平面12によって、および、平面Pおよび第1エレメンタリ平面12と直交するひとつ以上の第2エレメンタリ平面13によって、形成されてもよい。図4Bに示される表現では、断面11は前記第2エレメンタリ平面のうちのひとつであってもよい。ある実施の形態では、グリッドは対象10の対称性を利用するような異なる形態を有してもよく、および/または規則的でなくてもよい。グリッド400は対象10の外表面を区分けする。グリッド400の各ゾーン410セルとも称されるについて、対象の外表面をグリッドで分けることにより得られるエレメンタリ領域14が決定されうる。グリッド400は、エレメンタリ領域14が傾斜面に相当するよう選択されてもよい。例えば、グリッドは正方形のセクションを形成してもよく、その正方形セクションの一辺の長さは10ミクロンから25ミクロンであってもよい。第1パターン22の形状は、より小さな厚さの薄浮き彫りの形で第1パターンを得るよう、各セルにおいてエレメンタリ領域14を変換することによって得られうる。その薄浮き彫りの小面24図5Aおよびそれ以降の図はエレメンタリ領域14の形状を再現する。図5Aに示される実施の形態では、第1パターンの小面24の頂部が基板20の面から所与の高さにある面P1内に位置するように、各セルにおける変換が行われる。そのような実施の形態はエンボス加工により複製を行う文脈において有利である。第1パターンにおける厚さの変動が制限されるからである。図5Bに示される他の実施の形態では、結果として得られる第1パターンの小面24の体積が最小化されるように、各セルにおける変換が行われる。そのような実施の形態はUV硬化により光学基板を複製する文脈において有利である。UV硬化は小さな厚さ変動に敏感であるからである。図6Aおよび図6Bに示される他の実施の形態では、第1パターン22の形状は、第1パターン22の厚さHを所与の値に制限するよう決定されてもよい。グリッドはスライスの形態を取る平面状セルを含む。図6Aおよび図6Bは、そのような対象10のグリッドの断面を示す。対象10のグリッドにより、グリッド面17間の一定間隔Eを制御することによって、第1パターン22の厚さHを制御することが可能となる。グリッド面17は互いに平行であり、かつ対象10の基板面Pとも平行である。したがって、結果として得られる第1パターン22の厚さは一定に保たれる。上述の通り、第1パターン22の形状は、より小さな厚さの薄浮き彫りの形で第1パターンを得るよう、エレメンタリ領域14を変換することによって得られうる。その薄浮き彫りの小面24はエレメンタリ領域14の形状を再現する。そのような実施の形態はエンボス加工により複製を行う文脈において有利である。結果として得られる第1パターンにおける厚さの変動が制限されるからである。したがって、一般に、得られる第1パターン22の表面は全体が滑らかというわけではなく、不連続性により分離された複数の小面24を含む。第1パターンの小面24の頂部は交互に現れるリッジを形成し、それらリッジの大半は鋭い。一般に、第1パターンの小面の高さは0.5ミクロンから7ミクロンの間にある。第1パターンの形状は前もって決定され、第1パターンは上述の方法のうちのひとつを使用して基板20に形成されてもよい。したがって、基板の第1パターン22を見ることにより得られる深さの感覚は、対象10を見ることにより得られる深さの感覚に非常に近い。これにより、特に、ほぼ平坦な表面を使用して深さ効果を得ることが可能になる。典型的には、第1パターンの結果としての厚さは数ミクロンよりも小さく、1ミクロンより小さいと有利である。図7は代替的な実施の形態を示す。この実施の形態では、基板20の第1パターン22の小面の形状は2以上のレベルを有する領域240によって近似される。各レベルのピッチは典型的には約500ナノメートルから2ミクロンである。連続的なプロファイルと比較して、マルチレベル領域やバイナリ2レベル領域は多かれ少なかれ得られる効果を減耗させるであろう。しかしながら、それらは製造がより簡単である。したがって、所望の効果に依存して良い妥協点を探るとよい。図8Aおよび図8Bは、本発明のある実施の形態に係る光学コンポーネントの断面図である。光学コンポーネントはインプリントされた構造23を含む。その構造23は基板20または最終基板へのエンボス加工による金属マスタの複製の結果得られる。金属マスタには前記構造が上述の方法を使用して形成されている。インプリントされた構造23は第1パターン22を含む。第1パターン22の形状は上述の方法を使用して決定されていてもよい。第1パターン22は薄浮き彫りである。その薄浮き彫りの小面24はエレメンタリ領域14の形状を模写する。エレメンタリ領域14は対象をグリッドで分けることにより得られる。第1パターンは第2パターンによって変調される。上述されたように、第2パターンは第1パターンに重ね合わされた周期的格子26を形成する。ある実施の形態では、本発明に係るコンポーネントは、基板上の様々な位置にインプリントされ上述の方法を使用して形成された複数の構造を含んでもよい。第1パターンの隣接するリッジの対のうちの90以上の間の最小離間距離は第2パターンのピッチよりも少なくとも2倍大きいと有利である。図8Bはインプリントされた構造23の一部の拡大図である。第2パターン26の回折要素は第1パターン22の小面24に重ね合わされている。インプリントされた構造23は高い屈折率n1を有する物質の薄い層60によって覆われている。高い屈折率n1は典型的には約2.2であり、例えば硫化亜鉛ZnSである。薄い層60は真空蒸着プロセスを使用して蒸着されてもよい。薄い層60によって覆われているインプリントされた構造23は最終的には屈折率n2を有する物質の層50によって覆われる。屈折率n2は基板20を形成する物質の屈折率と同程度である。そのようにして得られたコンポーネントはカラーディフラクティブサブトラクティブフィルタとして機能する一方、対象の光学深さ効果をも再現する。そのようなコンポーネントはより容易に認識可能であり、観測者に憶えられやすい加えて、光学コンポーネントによって反射された光は直線偏光している。これにより、直線偏光フィルタを使用しての認証が非常に簡単になる。さらに、第1パターンの小面と第2パターンの回折要素とを重ね合わせることにより、光点の下で第2パターンを見やすくなる。図9は本発明に係る光学コンポーネントを示す。この光学コンポーネントは追加的に、基板20に付着したポリマー層70と、包み層50に付着した不透明層80と、ドキュメントDの表面への接着的結合のために、不透明層に付着した接着層90と、を備える。不透明層80はコントラスト効果を強化するものであり、省略されてもよい。接着層90はコンポーネントをドキュメントDに接着的に結合させることを可能とし、ポリマー層はコンポーネントの取り扱いをより容易にすることができる。ポリマー層は例えばポリエチレンテレフタレートPETであってもよく、コンポーネントがドキュメントDに取り付けられた後剥がされてもよい。図10Aから図10Cはそれぞれ、ある実施の形態について、本発明に係るコンポーネント110を示す図図10Aおよび2つの異なる顕微鏡拡大率での前記コンポーネントを形成する構造23の部分の2つの原子間力顕微鏡AFM写真図10B、図10Cである。構造23は第2パターン26周期的格子によって変調された第1パターン22薄浮き彫りを含む。オブジェクトは本例では羅針図であり、そのオブジェクトの浮き彫りを模することが望まれている。本例では、図10Bは構造23の薄浮き彫り22を示しており、その薄浮き彫り22は小面24のアレイを含む。小面24の形状は、羅針図によって形成されるオブジェクトの浮き彫りを模するよう計算されたものである。本例では、図10Bを参照すると、小面間のピッチが変化しているので、例えば図6A、図6Bに関して説明された平面的スライスを使用して小面が得られたことが分かる。特に、図10Bは、60μm×60μmの領域に亘って羅針図の先端のひとつを模する薄浮き彫りの一部を示す。第1パターン22は第2パターン26によって変調される。第2パターン26は周期的に構成された回折要素260によって形成される。図10Cは回折要素260をより大きな拡大率で示す。特に、図10Cは図10Bに示される構造の一部の像を示す。図10Cでは、回折格子を形成する線が見えるよう拡大されている。典型的には、図10Cは約1.5μm×1.5μmの領域を有する構造の一部を示す。したがって、この例示的な実施の形態は、第2パターンの規則的な構造、およびそれとは対照的な、対象の浮き彫りにおける像を浮き彫りで模するよう計算された薄浮き彫り第1パターンの不規則的な構造を示す。図10は、上述のように構造23をカプセル化した後生成されたコンポーネントのシミュレート図を示す。この図では、第2パターンに起因し通常は見ることができる色効果は見ることができない。しかしながら、構造の第1パターンに起因する浮き彫り効果は見ることができる。このようにして得られる本発明に係る光学コンポーネントは、反射により見ることができるコンポーネントであり、非常に高レベルのセキュリティを提供する。特に、視覚的なチェックが容易でありながら、用いられる製造方法の技術的特性に起因して偽造が非常に困難である。さらに、そのような光学コンポーネントを製造する方法は、セキュリティコンポーネントで使用される他のスタンダードな光学効果と互換性がある。複数の実施の形態を使用して説明されたが、本発明に係る光学コンポーネントおよび製造方法は多くの変形例、変更例および改良例を含む。それらの例は当業者には明らかであろう。これらの種々の変形例、変更例および改良例は、以下の請求の範囲によって規定されるような本発明の範囲の一部である。