複数の発光素子を主走査方向に配列して構成された発光素子アレイと、前記発光素子アレイと像面との間に、前記発光素子から放射された光による像を前記像面に形成するための光学手段と、を有する光書き込みヘッドであって、前記発光素子は、平行光を放射する光源部によって構成され、前記光学手段は、2次元回折格子によって構成されていることを特徴とする光書き込みヘッド。前記2次元回折格子は、遮光部と開口部を有し、前記遮光部中に、前記開口部が前記主走査方向と該主走査方向と直交する副走査方向とに周期的に配置された2次元周期構造を有することを特徴とする請求項1に記載の光書き込みヘッド。前記2次元回折格子は、前記2次元周期構造により周期的な屈折率分布を有することを特徴とする請求項2に記載の光書き込みヘッド、前記2次元回折格子は、前記2次元周期構造の前記主走査方向における開口部の幅と開口部の周期との比が0.7よりも大きいことを特徴とする請求項2または請求項3に記載の光書き込みヘッド。前記主走査方向に複数配列されている各発光素子間における周期は、前記2次元周期構造における開口部の主走査方向の周期の整数倍であることを特徴とする請求項2から4のいずれか1項に記載の光書き込みヘッド。前記発光素子アレイは、前記複数の発光素子を主走査方向と副走査方向の2方向に配列して構成されていることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光書き込みヘッド。請求項1から6のいずれか1項に記載の光書き込みヘッドと、前記光書き込みヘッドからの光の照射により潜像が形成される感光部と、を有することを特徴とする画像形成装置。上記従来のものにおいては、各色のスポット形状の変化を等しくなるようにすることにより、色変わりの低減を図るものであることから、つぎのような課題を有している。すなわち、各色のスポット形状を等しくするためには、各色のスポット形状の変化が等しくなるよう調整する必要がある。そのため、発光素子アレイとロッドレンズアレイの相対的な位置を精密に合わせる必要があることから、精密な位置合わせのための調整手段または組立て時の調整工程が必要となり、光書き込みヘッドが高コスト化する。本発明は、上記課題に鑑み、従来例のように発光素子アレイとロッドレンズアレイ間の精密な位置合わせを必要とせず、簡易な構成で低コスト化を図ることが可能となる光書き込みヘッド及び画像形成装置の提供を目的とする。本発明の光書き込みヘッドは、複数の発光素子を主走査方向に配列して構成された発光素子アレイと、前記発光素子アレイと像面との間に、前記発光素子から放射された光による像を前記像面に形成するための光学手段と、を有する光書き込みヘッドであって、前記発光素子は、平行光を放射する光源部によって構成され、前記光学手段は、2次元回折格子によって構成されていることを特徴とする。また、本発明の画像形成装置は、上記した光書き込みヘッドと、該光書き込みヘッドからの光の照射により潜像が形成される感光部と、を有することを特徴とする。本発明によれば、従来例のように発光素子アレイとロッドレンズアレイ間の精密な位置合わせを必要とせず、簡易な構成で低コスト化を図ることが可能となる光書き込みヘッド及び画像形成装置を実現することができる。以下、本発明の実施形態について、図1を用いて説明する。図1は、光書き込みヘッド100の主走査方向と平行な面での断面概略図を示している。図1において、101aは、基板104上に配列された発光素子である。発光素子101aは、平行光を放射する光源部によって構成されている。また、このような複数の発光素子101aを主走査方向に配列することにより、発光素子アレイ101が構成されている。102は、発光素子アレイ101と像面103との間に配置された光学手段を構成する回折格子である。回折格子102により、発光素子101aから光軸と平行に放射された光105によって、像面103上に像が形成されるように構成されている。発光素子101aとしては、たとえば半導体レーザ、LED、有機ELなど、公知の発光素子を用いることができる。また、像面103を、光の照射により潜像が形成可能な感光ドラム感光部で構成することで、本発明の光書き込みヘッド100を用いた画像形成装置を構成することができる。図2に、本発明の実施形態の光書き込みヘッドにおける回折格子の概略図を示す。図2aは主走査方向、及び副走査方向と平行な面における回折格子102の概略図である。図2aにおいて、回折格子102は、背景部202と、周期的に配列された開口部201とから構成されている。図2aの例では、開口部201が主走査方向と該主走査方向と直交する副走査方向の2方向に周期性を有して配置されることで、回折格子102は2次元回折格子を構成している。具体的には、背景部を構成する遮光部中に開口部201を主走査方向と副走査方向の2方向に周期性を有して配置することで、回折格子102を2次元周期構造を有する構造に構成することができる。背景部202は、開口部201とは屈折率の異なる媒質、または発光素子101aからの光を反射吸収する光を透過させない特性を有する遮光性の媒質による遮光部で構成されている。なお、図2a中の203は、開口部201の幅203であり、204は開口部201の周期204である。図2bに、発光素子アレイ101を、主走査方向及び副走査方向と垂直な方向から見た時の模式図を示す。図2bにおいて、発光素子アレイ101は、発光素子101aを光源周期205にて主走査方向に配列し構成されている。画像信号に応じて発光素子アレイ101を変調することで、像面103の位置に配置された感光ドラムに画像記録を行うことができる。図3aは、回折格子102に発光素子101aから放射された光105による、光の回折の様子を説明する図である。回折格子102に光105が入射すると、開口部201および背景部202により回折され、回折光301が生じる。各回折光301が伝搬することにより、像面103上に回折像が形成される。光105が回折格子102に入射する範囲が限られる時、像面103にて図3bに示す光強度分布を得ることができる。図3bは、横軸に主走査方向の像面103上の座標を示し、縦軸に光強度を示している。光105が入射する範囲が限られると高次の回折光強度が低くなり、像面103上において0次回折光302を主としたスポット状の光強度分布を得ることができる。なお、ピーク303、及び304はそれぞれ1次回折光、2次回折光の光強度分布である。図4aは、回折格子102の中心と、発光素子101aから放射された光105の中心が一致しているときの、回折格子102によるスポット中心位置を説明する図である。図4bは回折格子102の中心403と、発光素子101aから放射された光105の中心402がずれたときの、スポット中心位置を説明する図である。図4aでは、光105が回折格子102により回折された透過回折光404は、範囲405から像面103に向かって伝搬し、範囲405の中心位置と等しい位置401にて透過回折光404の位相がそろい、スポット中心を形成する。範囲405と光105の中心位置は等しい位置にあるため、像面103上のスポット中心位置は光105の中心位置と等しくなる。一方図4bでは、光105が回折格子102により回折された透過回折光406は、範囲407から像面103に向かって伝搬し、範囲407の中心位置402にて透過回折光406の位相がそろう。すなわち、範囲407の中心位置と光105の中心位置が等しいときには、像面103上のスポット中心位置は光105の中心位置402と等しくなる。回折格子102の背景部202が、遮光性の媒質で構成されているときには、範囲407の中心位置と光105の中心位置が必ずしも一致しないが、そのずれ量は回折格子102の周期に比べて小さい。すなわち、像面上にて形成されるスポットの中心座標は回折格子102と発光素子101aの相対的な位置関係にはよらず、発光素子101aから放射される光105の中心位置により決まる。以上の本実施形態の光書き込みヘッドの構成によれば、発光素子101aと回折格子102の相対的な位置合わせを精密に行うことを必要とせず、簡易な構成で低コスト化を図ることが可能となる。なお、本発明において、発光素子101aから光軸と平行な光が放射されているが、光軸と完全に平行な光には限定されない。望ましくは、発光素子101aから放射される光の光線束が±1°以内とすることで、スポット径の小さい像を像面103上に形成することができる。以下に、本発明の実施例について説明する。[実施例1]実施例1として、本発明を適用した光書き込みヘッドの構成例について、図5を用いて説明する。本実施例の光書き込みヘッド100においては、図5aおよび図5bに示す回折格子102を用いている。図5aは上面図であり、図5bはA-A’断面図である。回折格子102は、基板506上の開口部501と背景部502による周期的な屈折率分布を有する構造から構成されている。背景部502と開口部501は、互いに屈折率が異なる透明材料により構成され、例えば開口部501を空気、周辺部502は石英などの誘電体材料で構成することができる。本実施例の回折格子102は、開口部501を空気で構成し、幅503が38μmを有し、周期504は40μmを有する。さらに、背景部502は屈折率1.41の透明材料で構成されている。厚さ505は150nmを有している。このような回折格子102に発光素子101aから波長500nmの平行光が半径50μmの領域に照射されている。このような構成の光書き込みヘッド100において、回折格子102から像面103までの距離を6mm離した時の、像面103上の光強度分布を図5cに示した。図5cにおいて、横軸は発光素子101aの中心を基準とした像面上の主走査方向の位置であり、縦軸は光強度である。0次光による半径28μmのスポット状の像が形成される。なお、本発明においては、像面上のピーク光強度の1/exp2にて像の半径を導出している。図5dは、発光素子101aと回折格子102の相対的な位置が主走査方向に10μmずれたときの、像面103上の光強度分布を示している。発光素子101aと回折格子102の相対位置がずれたとしても、像の中心位置は発光素子101aと等しい位置に半径28μmの像が形成されている。このように発光素子101aと回折格子102の相対的な位置がずれた場合にも、発光素子101aの中心位置と等しい像面103上の位置に像を形成することができる。本実施例では、背景部502を開口部501とは屈折率の異なる透明部材により構成することで、位相差を用いた回折格子を構成している。このような位相差式の回折格子においては、光の利用効率を高くすることができ、さらに位相差により1次光の影響を小さくすることができる。そのため、スポット半径の小さい像を形成することができ、より高精細の印字が可能となる。回折格子102は周期的な構造を有しているため、発光素子101aと回折格子102の相対的な位置が回折格子102の周期以上にずれたとしても、スポット中心位置は発光素子101aの中心位置により決まる。したがって、発光素子アレイ101と回折格子102は精密に位置合わせする必要はない。本実施例においては、正方形の開口部を配置したが、回折格子102に入射した光が回折され0次光によるスポット状の光強度分布を所望の像面に形成できればよい。例えば、長方形や三角形などの多角形であってもよく、また円形や楕円形であってもよい。望ましくは作製が容易となる正方形や円形がよい。また、本実施例においては開口部を正方格子の格子点に配置したが、三角格子であっても同様の効果を得ることができる。また、本実施例においては、開口部501よりも背景部502の屈折率が高い構成としたが、開口部501と背景部502の間で位相差があればよく、開口部501の屈折率を背景部502の屈折率より高くしても同様の効果を得ることができる。本実施例の構成では、光105により半径50μmの領域を照射している。その為、発光素子101aを少なくとも100μmの周期で配列する必要がある。本実施例の光書き込みヘッド100により100μm以下の周期で像を形成する場合には、図2bに示した例とは異なり、副走査方向にも複数列発光素子101aを配列する。像面103に配置した感光ドラムの回転と同期して、各列の発光素子101aを変調することで所望の解像度で画像記録を行うことができる。本実施例においては、開口部501の幅503と周期504の比を0.95としたが、この値より大きくても、小さくてもよい。フラウンホーファー回折により、開口部501からの回折光を考慮すると、1次回折光強度は、次式で与えられる。ここで、wは開口部501の幅503であり、pは周期504である。スポット径を小さくするためには、1次回折光強度が1/exp2よりも小さいことが望ましい。すなわち、次式となる。w/p>0.7従って、望ましくは、幅503と周期504の比が0.7よりも大きいことが望ましい。[実施例2]実施例2として、実施例1とは異なるより簡易に作製可能な回折格子102を用いた構成例について、図6を用いて説明する。本実施例の光書き込みヘッド100においては、図1に示す光書き込みヘッド100において、回折格子102は正方形の開口部を正方格子の格子点に配列した構成を有する。図6aは、回折格子102の上面図であり、背景部602と開口部601から構成されている。また図6bは回折格子102のA-A’断面図であり、透明基板606上に回折格子102が配置されている。背景部602は、発光素子アレイ101から放射される光を反射吸収し、透過させない特性を有すればよい。例えば、銀などの金属を用いることができる。透明基板600は、発光素子アレイ101から放射される光に対して透明であればよく、たとえば石英などを用いることができる。本実施例の回折格子102は、開口部の幅603が36μm、周期604が40μm、厚さ605が100nmを有する周期的に開口部が配置された構造である。発光素子101aは、波長500nmの平行光が射出され、回折格子102上にて50×50μmの領域に照射されている。図6cに、このような構成の光書き込みヘッド100において、回折格子102から像面103までの距離を5.5mm離した時の、像面103上の光強度分布を示した。図6cにおいて、横軸は発光素子101aの中心位置を基準にした像面上の主走査方向の位置であり、縦軸は光強度である。0次回折光と1次回折光による半径46μmの像が形成されている。図6dは、発光素子101aと回折格子102の相対的な位置が主走査方向に10μmずれたときの、像面103上の光強度分布を示している。図6dにおいて、横軸は発光素子101aの中心位置を基準にした像面上の主走査方向の位置であり、縦軸は光強度である。半径48μmの像が、発光素子101aの中心から4μmずれて形成されている。本実施例の回折格子102では、背景部602が遮光性の媒質にて構成されているため、光強度分布の非対称性が大きくなり、発光素子101aの中心位置から4μmずれて像を形成している。しかし、回折格子102と発光素子101aの相対的な位置が大きくずれたとしても、回折格子102は周期的な構造を有しているために、像面103上に形成される像の中心位置は回折格子102の周期以上にずれることはない。また、発光素子アレイ101における主走査方向に複数配列されている各発光素子間の周期である光源周期205図2bを、回折格子102の格子周期の整数倍とすることで、各発光素子101aによる像の中心位置のずれが等しくなる。その結果、像が形成される周期は発光素子アレイ101と等しくなる。このように本実施例の光書き込みヘッド100においては、発光素子アレイ101と回折格子102は精密に位置合わせする必要はなくなる。本実施例の回折格子102では、背景部602を遮光性の媒質による遮光部で構成している。遮光性の媒質としては、加工性のよい金属材料や均一な膜形成が可能な有機材料を用いることができるため、回折格子102をより容易に作製することができる。本実施例においては、正方形の開口部を配置したが、回折格子102に入射した光が回折され0次光によるスポット状の光強度分布を所望の像面に形成できればよい。例えば、長方形や三角形などの多角形であってもよく、また円形や楕円形であってもよい。望ましくは作製が容易となる正方形や円形がよい。また、本実施例においては開口部を正方格子の格子点に配置したが、三角格子であっても同様の効果を得ることができる。本実施例においては、開口部601の幅603と周期604の比を0.90としたが、この値より大きくても、小さくてもよい。望ましくは、開口部601の幅603と周期604の比を0.7よりも大きくすることで、像面103に形成されるスポットの中心位置と、発光素子101aの中心位置の差を小さくすることができる。図7aおよび図7bに、本発明に適用することができる発光素子101aを示す。図7aは、面発光型の半導体レーザであり、活性層701をDBR反射部702及び703で挟んだ構成を有している。このような構成においては、発光素子101aから平行光が放射される。図7bはLEDまたは有機ELによる発光部704と光学素子705が一体形成された発光素子101aである。発光部704からの発散光をレンズで構成した光学素子705にて平行光に変換している。