"リムーバブル層を有する多層基板上にパターン層を形成する工程と、前記パターン層、及び前記リムーバブル層を含む前記多層基板のいくつかの部分をエッチングして、特徴を前記パターン層から前記リムーバブル層に転写すると共に、前記エッチングされたリムーバブル層上に、露出された凸部及び凹部を形成する工程と、前記エッチングされたリムーバブル層上に重合可能な材料を配置して、前記エッチングされたリムーバブル層の前記凹部を満たし、前記凸部を被覆する工程と、前記重合可能な材料を凝固させて、前記リムーバブル層の凹部に前記重合材料の柱状部を形成し、前記リムーバブル層にわたって前記重合材料の層を形成する工程と、前記重合材料の部分を除去して、前記エッチングされたリムーバブル層の凸部を露出させる工程及び前記リムーバブル層から前記柱を剥離させて、前記重合材料を含むナノ粒子を形成する工程から成ることを特徴とする、ナノインプリントリソグラフィ法。前記多層基板上に前記パターン層を形成する工程は、前記多層基板上に第2の重合可能な材料を配置し、前記第2の重合可能な材料をナノインプリントリソグラフィテンプレートと接触させ、そして前記第2の重合可能な材料を凝固させて、前記多層基板上に前記パターン層を形成することを含む、請求項1に記載の方法。前記重合可能な材料を凝固させて、前記リムーバブル層の前記凹部に、前記重合材料の柱を形成し、前記リムーバブル層にわたって前記重合材料の層を形成することは、前記重合可能な材料をナノインプリントリソグラフィテンプレートと接触させること、及び前記重合可能な材料を、前記ナノインプリントリソグラフィテンプレートを通して紫外線に曝露することを含む、請求項1又は請求項2に記載の方法。前記リムーバブル層は、無毒水溶性ポリマーを含む、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。前記リムーバブル層は、カルボキシル基、窒素含有基、エポキシド基、ヒドロキシル基、及びポリエチレンオキシド基からなる群から選択される官能基を有するポリマーを含む、請求項4に記載の方法。前記エッチングされたリムーバブル層に配置された前記重合可能な材料は、機能材料である、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。前記機能材料は、生体適合性である、請求項6に記載の方法。前記ナノ粒子は、円形、三角形、及び矩形からなる群から選択される断面形状を有する、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。前記リムーバブル層から前記柱を剥離させて、前記重合材料を含む前記ナノ粒子を形成することは、前記リムーバブル層を溶解することを含む、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。前記ナノ粒子の寸法は、100nm未満である、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。請求項1に記載の方法により形成されたナノ粒子。除去可能な材料を含むリムーバブル層と機能材料を含む機能層を有する多層基板上にパターン層を形成する工程と、前記パターン層の部分及び前記多層基板の部分をエッチングして、前記リムーバブル層の少なくとも1つの部分を露出させ、前記エッチングされた多層基板に前記パターン層の部分で被覆された多層凸部を形成する工程と、前記多層凸部から前記パターン層の部分を除去して、前記機能材料を含む柱を露出させる工程と前記リムーバブル層から前記柱を剥離させて、前記機能材料を含むナノ粒子を形成する工程を含むことを特徴とするナノインプリントリソグラフィ法。前記多層基板上に前記パターン層を形成する工程は、前記多層基板上に重合可能な材料を配置し、前記重合可能な材料をナノインプリントリソグラフィテンプレートと接触させ、前記重合可能な材料を凝固させて、前記多層基板上に前記パターン層を形成する工程である請求項12に記載の方法。前記リムーバブル層は、無毒水溶性ポリマーを含む、請求項12又は13に記載の方法。前記リムーバブル層は、カルボキシル基、窒素含有基、エポキシド基、ヒドロキシル基、及びポリエチレンオキシド基からなる群から選択される官能基を有するポリマーを含む、請求項14に記載の方法。前記機能材料は、生体適合性である、請求項12~15のいずれか一項に記載の方法。前記ナノ粒子は、円形、三角形、及び矩形からなる群から選択される断面形状を有する、請求項12~16のいずれか一項に記載の方法。前記リムーバブル層から前記柱を剥離させて、前記機能材料を含むナノ粒子を形成することは、前記リムーバブル層を溶解することを含む、請求項12~17のいずれか一項に記載の方法。前記ナノ粒子の寸法は、100nm未満である、請求項12~18のいずれか一項に記載の方法。請求項12に記載の方法により形成されたナノ粒子。ナノインプリントリソグラフィ法を使用してナノ粒子を形成する。1つの態様では、ナノインプリントリソグラフィ法は、リムーバブル層を有する多層基板上にパターン層を形成することと、パターン層及びリムーバブル層を含む多層基板の部分をエッチングして、特徴をパターン層からリムーバブル層へと転写することとを含む。エッチングされたリムーバブル層は、露出した凸部及び凹部を含む。エッチングされたリムーバブル層に重合可能な材料を配置して、エッチングされたリムーバブル層の凹部を満たし、凸部を被覆する。重合可能な材料を凝固させて、リムーバブル層の凹部に重合材料の柱を形成し、リムーバブル層上に重合材料の層を形成する。重合材料の部分を除去して、エッチングされたリムーバブル層の凸部を露出させ、リムーバブル層から柱を剥離させて、重合材料を含むナノ粒子を形成する。幾つかの実施では、多層基板上にパターン層を形成することは、多層基板上に第2の重合可能な材料を配置すること、第2の重合可能な材料をナノインプリントリソグラフィテンプレートと接触させること、及び第2の重合可能な材料を凝固させて多層基板上にパターン層を形成することを含む。ある実施では、重合可能な材料を凝固させて、リムーバブル層の凹部に重合材料の柱を形成し、リムーバブル層上に重合材料の層を形成することは、重合可能な材料をナノインプリントリソグラフィテンプレートと接触させること、及び重合可能な材料をナノインプリントリソグラフィテンプレートを通して紫外線に曝露させることを含む。別の態様では、パターン層は、除去可能な材料を含むリムーバブル層及び機能材料を含む機能層を有する多層基板上に形成される。本明細書で使用される場合、機能材料は、一般的に、主にその機械特性のためではなく、物理特性又は化学特性等の他の特性のために使用される材料を指す。機能材料は、バイオ分野、太陽電池産業、バッテリー産業、及び他分野で使用される場合がある。例えば、機能材料には、これらに限定されないが、1つ又は複数の生体適合性ポリマー、太陽電池材料、重合可能な材料等が含まれる。太陽電池材料には、例えば、n型材料及びp型材料が含まれる。パターン層及び多層基板の部分は、リムーバブル層の少なくとも1つの部分を露出させるようにエッチングされる。エッチングされた多層基板は、パターン層の部分で覆われた多層凸部を含む。パターン層の部分を多層凸部から除去して、機能材料を含む柱を露出させ、その柱をリムーバブル層から剥離させて、機能材料を含むナノ粒子を形成する。幾つかの実施では、多層基板上にパターン層を形成することは、多層基板上に重合可能な材料を配置すること、重合可能な材料をナノインプリントリソグラフィテンプレートと接触させること、及び重合可能な材料を凝固させて多層基板上にパターン層を形成することを含む。ある実施例では、リムーバブル層は、無毒水溶性ポリマーを含む。リムーバブル層は、カルボキシル基、窒素含有基、エポキシド基、ヒドロキシル基、及びポリエチレンオキシド基からなる群から選択される官能基を有するポリマーを含んでいてもよい。幾つかの場合では、エッチングされたリムーバブル層に配置される重合可能な材料は、機能材料である。機能材料は、生体適合性であってもよい。ナノ粒子は、円形の、三角形の、又は矩形の断面形状を有してもよい。幾つかの場合では、リムーバブル層を溶解することにより、リムーバブル層から柱が剥離され、重合材料又は機能材料を含むナノ粒子が形成される。ナノ粒子の寸法は、100nm未満であってもよい。ある実施は、上述のように形成されたナノ粒子を含む。本明細書に記載のものと類似した又は同等の方法及び材料は、本実施形態の実施又は試験において使用することができるが、好適な方法及び材料を下記に記述する。本明細書で言及された特許出願や他の文献は、本発明を理解する上で有用である。矛盾が生じた場合には、本明細書は、定義を含めて優先されることになる。材料、方法、及び例は、例示に過ぎず、限定することを意図していない。開示された概念及び特定の実施形態は、本明細書に記載されているものと同じ目的を実行するために改変又は他の構造を設計する基礎として容易に利用できることは、当業者に理解されるべきである。また、そのような均等構成は、添付の特許請求の範囲に示されている趣旨及び範囲から逸脱しないことは、当業者に理解されるべきである。図、特に図1及び2を参照すると、そこでは、機能性ナノ粒子及び/又はマイクロ粒子を基板12に形成するために使用されるリソグラフィシステム10が例示されている。基板12は、基板チャック14に固定されていてもよい。例示されているように、基板チャック14は、真空チャックである。しかしながら、基板チャック14は、これらに限定されないが、真空、ピン型、溝型、静電気、及び/又は電磁気等を含む任意のチャックであってもよい。例示的なチャックは、米国特許第6873087号、米国特許第7635445号、米国特許出願公開第2006/0172031号、米国特許第7636999号、及び米国特許第7635263号に記載されており、これら文献は全て本発明を理解する上で参考になる。基板12及び基板チャック14は、ステージ16により更に支持されてもよい。ステージ16は、回転運動、並びに/又はx軸、y軸、及びz軸に関する並進運動を提供することができる。また、ステージ16、基板12、及び基板チャック14は、基材上非表示に配置されていてもよい。テンプレート18は、基板12から離間されている。テンプレート18は、そこから基板12に向かって伸長するメサ20を含んでいてもよく、メサ20は、その上にパターン形成表面22を有する。更にメサ20は、型20と呼ばれる場合がある。或いはテンプレート18は、メサ20を用いずに形成されていてもよい。テンプレート18及び/又は型20は、これらに限定されないが、溶融石英、石英、シリコン、有機ポリマー、シロキサンポリマー、ホウケイ酸ガラス、フッ化炭素ポリマー、金属、及び/又は硬化サファイア等を含む材料で形成されてもよい。例示されているように、パターン形成表面22は、複数の離間された凹部24及び/又は凸部26により規定される特徴を含むが、実施形態はそのような構成に限定されない。例えば、パターン形成表面22は、実質的に平坦であってもよい。一般的に、パターン形成表面22は、基板12上に形成されるパターンの基礎を形成する任意の本来のパターンと規定することができる。加えて、テンプレート18は、抗接着剤例えば、MolecularImprints,Inc.社、オースティン、テキサス州から販売されているRELMAT又はトリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチルトリクロロシランFOTSで処理されてもよい。例示的な抗接着剤には、これらに限定されないが、米国特許第6696220号に記載の抗接着剤を使用してもよい。テンプレート18は、チャック28に固定されてもよい。チャック28は、これらに限定されないが、真空、ピン型、溝型、静電気、電磁気、及び/又は他の類似チャックタイプとして構成されてもよい。例示的なチャックは、米国特許第6873087号に更に記載されており、本発明ではこの種のチャックを使用してもよい。更に、チャック28は、チャック28及び/又はインプリントヘッド30が、テンプレート18の運動を容易にするように構成できるように、インプリントヘッド30に固定されていてもよい。加えて、チャック28は、インプリント前に、インプリント中に、及び/又はインプリント後に例えば、分離中に、テンプレート18の構造を調整及び/又は変更するように構成されていてもよい。システム10は、流体分注システム32を更に含んでいてもよい。流体分注システム32を使用して、基板12上に機能材料34aを配置することができる。機能材料34aは、生体適合性材料例えば、ポリエチレングリコール、太陽電池例えば、n型材料、p型材料又はバッテリーに使用される材料、及びナノ粒子形態で望ましい特性を示す他の材料を含む。機能材料34aは、液滴分注、スピンコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティング、化学蒸着CVD、物理蒸着PVD、薄膜蒸着、及び/又は厚膜蒸着等の技術を使用して、基板12に配置することができる。基板12上での機能材料34の位置決めは、廃棄物の量を制限するように構成されていてもよいことは留意されるべきである。例えば、基板12上での機能材料34の位置決めに液滴分注を使用することにより、スピンコーティング等と比較して、機能性ナノ粒子の形成中に使用できない液体の量を制限することができる。基板12は、リムーバブル層50を含んでいてもよい。リムーバブル層50は、本明細書に記載のように、凝固した機能材料34aの基板12からの分離を容易にすることができる。リムーバブル層50に使用される材料の例には、これらに限定されないが、PVA及びPMMAが含まれる。図1及び2を参照すると、システム10は、接続された凝固化源38例えば、エネルギー源を更に含んでいてもよく、凝固化源38は、媒体40例えば、エネルギーを経路42に沿うように導いて、機能材料34aを凝固させる。インプリントヘッド30及びステージ16は、テンプレート18及び/又は基板12が、経路42と重なり合って位置決めされるように構成されてもよい。システム10は、ステージ16、インプリントヘッド30、流体分注システム32、及び/又は源38と伝達するプロセッサ54により制御されてもよく、メモリ56に格納されたコンピューター読取可能なプログラムに基づき作動してもよい。インプリントヘッド30、ステージ16、又はその両方は、機能材料34aにより充填される所望の容積を規定する、型20と基板12との間の距離を変化させることができる。例えば、インプリントヘッド30は、型20が機能材料34aと接触するようにテンプレート18に力を加えることができる。機能材料34aが所望の容積を充填した後、源38は、媒体40、例えば紫外線を発生させ、基板12の表面44及びパターン形成表面22の形状に一致するよう機能材料34aの凝固及び/又は架橋を引き起こし、基板12上にパターン層46を規定することができる。パターン層46は、残留層48及び/又は特徴例えば、凸部47及び凹部49を含んでもよい。凸部47は、厚さt1を有してもよく、残留層48は、厚さt2を有してもよい。図2及び3を参照すると、凝固後、パターン層46に更なる処理を施して、パターン層46を洗浄してもよく、及び/又は更に凸部47を分離させて柱又はナノ粒子52を形成してもよい。例えば、パターン層46に、酸素プラズマエッチングを施してもよい。エッチングは、残留層48の少なくとも1つの部分例えば、幾つか又は実質的に全てを除去することができる。図3は、実質的に全ての残留層48を除去した後の、リムーバブル層50上の凸部47を示す。図3及び4を参照すると、基板12から凸部47を剥離することにより、柱52を形成することができる。例えば、基板12を、これらに限定されないが、水例えば、脱イオン水、有機溶媒、無機酸例えば、希HF、及び/又は塩基性溶液等を含む溶液に曝してもよい。この溶液により、基板12から凸部47が剥離して、厚さt3を有する柱52が形成される。機能材料34aを凝固させた後で凸部47をエッチングすることにより、凸部47の構成が歪められる場合があり、そのため凸部47の厚さt1は、その結果生じる柱52の厚さt3と実質的に異なる。形状の劣化の程度によっては、柱52を形成する際に、寸法の正確性及び/又は精密性が制限される場合がある。そのような歪みは、柱52の設計要件次第では、欠点となる可能性がある。例えば、柱52が、薬物送達デバイスとして使用される機能性ナノ粒子である場合には、体内例えば、ヒト、及び/又は動物等での柱52の送達先の地理的標的化が、形状の変化及び/又は歪みにより、誤って指示される可能性がある。パターン層46からテンプレート18を分離することも、柱52の分離欠陥を引き起こす場合がある。FOTS又はRELMAT等の剥離層を、基板12、テンプレート18、又はその両方に設けてもよいが、テンプレート18に結合されているパターン層46の分離前の表面積が、基板12に結合されているパターン層46の表面積を超える場合がある。剥離層及び/又は機能材料34の物質的性質は、表面積の流動性と併せて、柱52の分離欠陥をもたらす場合がある。図5A~5Eには、劣化及び分離による歪みを最小限に抑えるように選択されたプロセスにおける柱52aの形成の模式的な側面図が例示されている。劣化及び分離による歪みを最小限に抑えることにより、機能性ナノ粒子つまり、柱52aの形成中に、柱形成の正確性及び/又は精密性を制御することができる。柱52aは、機能材料34aから形成される。図5A~5Eには、ナノ粒子の劣化及び分離による歪みを抑制しつつ、機能性ナノ粒子を形成するための、インプリントリソグラフィ技術の使用が例示されている。劣化及び分離による歪みの影響を低減させることは、インプリントリソグラフィ材料例えば、犠牲材料及び接着剤等の特性、機能材料の特性、及び/又はテンプレート18a及び18bの剥離特性等に従ってプロセスを設計することにより達成される。柱又はナノ粒子52aは、1つ又は複数のインプリントリソグラフィプロセスを使用して形成してもよい。図5A及び5Bに示されているように、犠牲材料34bを使用して、図1及び2に関して記述されているプロセス及びシステムによりテンプレート18aを使用して、凸部47a及び凹部49aを形成することができる。例えば、犠牲材料34b例えば、重合可能な組成物を多層基板58上に凝固させて、第1の組の凸部47a及び凹部49aを有するパターン層46aを形成してもよい。図5Cに示されているように、凸部47a及び凹部49aにより形成されるパターンを使用して、リムーバブル層50aに凸部47b及び凹部49bを形成することができる。その後、図5D及び5Eに示されているように、機能材料34aを、リムーバブル層50aの凹部49bに配置して、柱52aを形成することができる。幾つかの場合には、機能材料34aをリムーバブル層50aに配置し、図1及び2に関して記述されているプロセス及びシステムを使用して、第2のテンプレート18bによりパターン化して、リムーバブル層50aに柱52aを形成してもよい。その後、柱52aをリムーバブル層50aから剥離させて、ナノ粒子を得ることができる。図5Aを参照すると、犠牲材料34bを、多層基板58上に配置してもよい。犠牲材料34bは、これらに限定されないが、米国特許第7157036号及び/又は米国特許出願公開第2005/0187339号に記載の単量体混合物を含む重合可能な液体を含む材料で形成されていてもよく、これら両方の文献は本発明を理解する上で有用である。多層基板58は、基層12a、リムーバブル層50a、保護層60、及び接着層62を含んでいてもよい。基層12aは、図1に関して記述されている基板12に類似していてもよい。基層12aは、これらに限定されないが、溶融石英、石英、シリコン、有機ポリマー、シロキサンポリマー、ホウケイ酸ガラス、フッ化炭素ポリマー、金属、及び/又は硬化サファイア等を含む材料で形成されてもよい。リムーバブル層50aは、基層12aに隣接して配置されていてもよい。リムーバブル層50aは、図3に関して記述されているリムーバブル層50に類似していてもよい。例えば、リムーバブル層50aを、これらに限定されないが、水例えば、脱イオン水、有機溶媒、無機酸例えば、希HF、及び/又は塩基性溶液等を含む溶液に曝すと、柱52aを剥離させることができる。幾つかの場合では、リムーバブル層50aは、生体適合性であってもよい。例えば、機能材料34aが、薬物送達デバイス等のバイオ粒子を形成するために使用される生体適合性材料である場合、リムーバブル層50a等の、機能材料34aに接触する材料は、水溶性及び無毒性であってもよい。リムーバブル層50aに使用することができる無毒水溶性の物質には、以下のものが含まれていてもよい。例えば、カルボキシル基を有するポリマー例えば、ポリアクリル酸PAA、ポリメタクリル酸PMA等、ポリマーの側鎖及び/又は主鎖の一部に窒素を有するポリマー例えば、ポリビニルピロリドンPVP、ポリ[2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン]PMPC、ポリN-イソプロピルアクリルアミドPNIPAAm、及びポリ[N-2-ヒドロキシプロピルメタクリルアミド]PHPMA等、ポリマーの側鎖及び/又は主鎖の一部にカルボキシル基及び窒素を有するポリマー例えば、ポリN,N-ジメチルアクリルアミド-コ-アクリル酸PDAm-コ-PAA等、及びヒドロキシルとポリエチレンオキシド基を有するポリマー例えば、ポリビニルアルコールPVA、ポリエチレングリコールPEG等である。無毒水溶性ポリマーのカルボキシル基は、ポリマーと水との間の極性相互作用を可能にし、それによりポリマーの水溶解度を上昇させる。そのため、有利には、水を使用してリムーバブル層50aを溶解し、その結果生じる機能性ナノ粒子を洗浄してもよい。また、カルボキシル基は、機能材料34aと相互作用し、それにより機能性ナノ粒子の処理中に機能材料とリムーバブル層との間の接着性が向上する。例えば、生体適合性機能材料34aは、活性物質用の結合剤として、1つ又は複数の極性官能基を有するアクリラート及びメタクリラート例えば、PEGアクリラート等の水適合性ポリマー材料を含んでいてもよい。また、生体適合性機能材料34aは、生体適合性粒子を重合及び結合させて、リムーバブル層50aに円柱52aを形成することができる、アクリル酸、メタクリル酸、エポキシ、ビニルエーテル、及び/又はチオール基等を有する化合物等の他の極性成分を含んでいてもよい。また、機能材料中の重合可能な材料は、機能材料34aの重合中に、リムーバブル層50aの表面に露出した官能基と相互作用を形成し、それによりリムーバブル層50aに対する機能材料34aの接着性を向上させることができる。また、リムーバブル層50aのカルボキシル基は、水性機能材料34aによるリムーバブル層例えば、凹部47bを含むの湿潤性を向上させ、凹部47bに機能材料34aをより効率的に充填することを可能にする。図5A及び5bに示されているように、保護層60を、リムーバブル層50aに隣接して配置してもよい。保護層60の組成は、インプリント及び/又はエッチング中のリムーバブル層50aの損傷及び/又は歪みを最小限に抑えるように選択することができる。例えば、保護層60は、プラズマCVD酸化ケイ素等の材料で形成されていてもよい。接着層62を、保護層60に隣接して配置してもよい。また、接着層62は、米国特許第7759407号に記載の組成物で形成されていてもよい。パターン層46aの処理中、接着層62は、パターン層46aからテンプレート18を分離する間に、パターン層46aを多層基板58に接着させることにより、分離による歪みを最小限に抑えることを支援することができる。図5Bを参照すると、システム10に関して記述されている第1のテンプレート18a並びに図1及び2に記述されているプロセスを使用して、パターン層46aの特徴例えば、47a及び49aを多層基板58上に形成することができる。これらに限定されないが、光リソグラフィ、X線リソグラフィ、極端紫外線リソグラフィ、走査プローブリソグラフィ、原子間力顕微ナノリソグラフィ、及び/又は磁気リソグラフィ等を含む他のナノリソグラフィ技術により、パターン層46aを形成してもよいことに留意するべきである。図5C及び5Dを参照すると、多層基板58上にパターン層46aを形成した後、パターン層46aにある特徴例えば、47a及び49aは、リムーバブル層50aに特徴例えば、47b及び49bを形成することを支援することができる。例えば、特徴例えば、47a及び49aを多層基板58にエッチングして、リムーバブル層50aに特徴例えば、47b及び49bを形成してもよい。例示的な技術には、これらに限定されないが、米国特許第7179396号及び米国特許第7396475号に記載の技術を使用することも可能である。図5D及び5Eを参照すると、機能材料34a例えば、生体適合性材料を、パターンが形成されたリムーバブル層50aに配置してもよい。機能材料34aは、設計要件に応じて、液滴分注、スピンコーティング、ディップコーティング、化学蒸着CVD、物理蒸着PVD、薄膜蒸着、厚膜蒸着、及び/又はそのような技術を使用して配置することができる。例えば、液滴分注技術を使用して機能材料34aを配置することにより、リムーバブル層50aに配置される機能材料34aの量を一定に保つことができる。機能材料34aをリムーバブル層50aの凹部49bに充填して、柱52aを形成することができる。1つの実施形態では、リムーバブル層50aに配置された機能材料34aの部分を除去して、柱52aを形成することができる。機能材料34aの部分を除去することにより、柱52aを露出させるクラウン層66例えば、実質的に平坦な層がもたらされる。機能材料34aの部分は、これらに限定されないが、ブランケットエッチング、化学的機械的平坦化、及び/又は類似の方法を含む技術を使用して除去することができる。例えば、機能材料34aが金属で形成されている場合、クラウン層66は、これらに限定されないが、Cl2、BCl3、及び/又は他の塩素含有エッチング液等を含む金属エッチング液により形成されてもよい。金属エッチング液は、塩素含有エッチング液に限定されないことに留意すべきである。例えば、タングステン等の幾つかの金属は、フッ素含有エッチング液を使用してエッチングしてもよい。クラウン層66は、インプリントレジストをマスクとして使用してエッチングすることにより、又はパターン転写用の硬質マスクを使用することにより形成することができる。例えば、クラウン層66は、これらに限定されないが、Cr、酸化ケイ素、及び/又は窒化ケイ素等を含む材料で形成された硬質マスクを使用することにより形成することができる。幾つかの場合では、機能材料34aがシリコン含有材料で形成されている場合、クラウン層66は、これらに限定されないが、CF4、CHF3、SF6、Cl2、HBr、及び/又は他のフッ素、塩素、及び臭素含有エッチング液等を含む一般的なシリコンエッチング液を使用してエッチングすることができる。ある場合では、クラウン層66は、インプリントレジストを、マスク、パターン転写用の硬質マスク等として使用してエッチングすることができる。例えば、クラウン層66は、これらに限定されないが、Cr、酸化ケイ素、及び/又は窒化ケイ素等を含む材料で形成された硬質マスクを使用してエッチングすることができる。幾つかの実施形態では、第2のテンプレート18bを使用して、リムーバブル層50aに配置された機能材料34aから柱52aを形成することができる。テンプレート18bは、リムーバブル層50a上の機能材料34aと重なり合うように配置してもよい。テンプレート18bを、機能材料34aと接触させることができ、機能材料34aを凝固させることができる。その後、テンプレート18bを、凝固した機能材料34aから分離することができる。任意選択で、テンプレート18bは、本明細書に記載のように、凝固した機能材料34aからのテンプレート18bの分離を支援するコーティング例えば、FOTS等の剥離コーティングを含んでいてもよい。テンプレート18bは、凝固した機能材料34a上に実質的に平坦な表面又は縁部を形成することができる。凝固した機能材料34aとテンプレート18bとの間の表面積は、凝固した機能材料34aとリムーバブル層50aとの間の表面積より小さくなるように選択することができる。例えば、テンプレート18bは、実質的に平坦であってもよい。凝固した機能材料34a及びリムーバブル層50aの表面積と比較して、凝固した機能材料34a及びテンプレート18bの表面積を削減することにより、凝固した機能材料34aの分離欠陥を低減することができる。図5Eを参照すると、凝固した機能材料34a及び/又はリムーバブル層50aを除去して、クラウン層66を設けることができる。例えば、凝固した機能材料34a及び/又はリムーバブル層50aを、ブランケットエッチング、CMP研磨、及び/又は類似の方法により除去して、クラウン層66例えば、平坦化された層を設けることができる。柱52aを、リムーバブル層50aの凹部49bに配置してもよい。図を5E及び5Fを参照すると、柱52aを、リムーバブル層50aから剥離することができる。例えば、リムーバブル層50aを、例えば、水例えば、脱イオン水、有機溶媒、無機酸例えば、希HF、及び/又は塩基性溶液等を含む溶液に曝して、リムーバブル層から柱52aを剥離させてもよい。凝固した機能材料34aを被覆することによりもたらされる寸法、及びリムーバブル層50aによりもたらされる寸法は、柱52aの表面又は縁部、したがって柱52aの容積を規定することができる。これら寸法を調整することにより、様々な形状及びサイズを有する柱52aを構築することができる。例えば、図6A~6Cに例示されているように、柱52b、52c、及び52dを、これらに限定されないが、円形、三角形、矩形、奇抜な形、等のような形を含む形状として構築することができる。リムーバブル層50aの寸法及び凝固した機能材料34aの平坦化を制御することにより、柱52aの形状、形成の正確性及び精密性も制御することができる。更に、柱52aは、米国特許出願公開第2010/0120251号に記載の例示的な技術を使用して形成することができる。図7には、インプリントリソグラフィシステムを使用して、柱又はナノ粒子52aを形成するための方法68のフローチャートが例示されている。柱52aの形成は、1つ又は複数のリソグラフィステップ例えば、ナノインプリントリソグラフィを含んでいてもよい。ステップ70では、犠牲材料34bを多層基板58上にパターン形成してもよい。例えば、犠牲材料34bは、第1のテンプレート18aを使用した第1のインプリントリソグラフィプロセスを使用してパターン形成し、特徴47a及び49aを有するパターン層46aを提供することができる。ステップ72では、特徴47a及び49aを使用して、リムーバブル層50aに特徴47b及び49bを形成することができる。例えば、特徴47a及び49bを多層基板58にエッチングして、リムーバブル層50aに特徴47b及び49bを形成することができる。ステップ74では、機能材料34a例えば、生体適合性材料を、リムーバブル層50aに配置して凝固させることができる。ステップ76では、機能材料34aの部分をパターン形成及び/又は除去して、柱52aを露出させるクラウン表面66を提供することができる。ステップ78では、柱52aを多層基板58から剥離させることができる。図8A~8Eには、柱又はナノ粒子52bを形成するための実施形態の簡便化された側面図が例示されている。柱52bの形成は、1つ又は複数のリソグラフィステップを含んでいてもよい。図8Aを参照すると、犠牲材料34bを、多層基板58b上に配置してもよい。犠牲材料34bは、これらに限定されないが、米国特許第7157036号及び米国特許出願公開第2005/0187339号に記載の単量体混合物を含む重合可能な液体を含む材料で形成されてもよく、この公報に開示した材料を使用してもよい。多層基板58bは、基層12b、リムーバブル層50b、機能層34a、及び接着層62bを含んでいてもよい。基層12bは、図1に関して記述されている基板12に類似していてもよい。例えば、基層12bは、これらに限定されないが、溶融石英、石英、シリコン、有機ポリマー、シロキサンポリマー、ホウケイ酸ガラス、フッ化炭素ポリマー、金属、及び/又は硬化サファイア等を含む材料で形成されてもよい。リムーバブル層50b、機能層34a、及び接着層62bは、図5A~5Eに関して記述されているものと類似した材料で形成されていてもよい。リムーバブル層50bは、基層12bに隣接して配置されていてもよい。リムーバブル層50bは、図3に関して記述されているリムーバブル層50の特性に類似した特性を有していてもよい。例えば、リムーバブル層50bは、これらに限定されないが、水例えば、脱イオン水、有機溶媒、無機酸例えば、希HF、及び/又は塩基性溶液等を含む溶液に曝されると、柱52aを剥離することができる。機能材料34a例えば、シリコンを、リムーバブル層50bに隣接して配置してもよい。接着層62bを、機能材料34aに隣接して配置してもよい。パターン層46b図8Bに示されているの処理中、接着層62bは、パターン層46bからテンプレート18を分離する間に、パターン層46bを多層基板58bに接着させることにより、分離による歪みを最小限に抑えることを支援することができる。図8Bを参照すると、システム10に関して記述されているテンプレート18並びに図1及び2に記述されているプロセスを使用して、パターン層46bの特徴例えば、47c及び49cを多層基板58bに形成することができる。幾つかの場合では、これらに限定されないが、光リソグラフィ、X線リソグラフィ、極端紫外線リソグラフィ、走査プローブリソグラフィ、原子間力顕微ナノリソグラフィ、及び/又は磁気リソグラフィ等を含む他のナノリソグラフィ技術により、パターン層46bを形成してもよい。図8Cを参照すると、特徴例えば、図8Bに示されている47c及び49cを、多層基板58bにエッチングして、リムーバブル層50bに特徴例えば、47d及び49dを形成してもよい。例示的な技術には、これらに限定されないが、米国特許第7179396号及び米国特許第7396475号に記載の発明を本発明に利用することができる。例えば、部分は、これらに限定されないが、ブランケットエッチング、化学的機械的平坦化、及び/又は類似の方法を含む技術を使用して除去することができる。例えば、これらに限定されないが、Cl2、BCl3、及び/又は他の塩素含有エッチング液等を含む金属エッチング液を使用してもよい。金属エッチング液は、塩素含有エッチング液に限定されないことに留意すべきである。例えば、タングステン等の幾つかの金属は、フッ素含有エッチング液を使用してエッチングしてもよい。加えて、特徴例えば、47d及び49dは、インプリントレジストをマスクとして使用してエッチングすることにより、又はパターン転写用の硬質マスクを使用することにより形成してもよい。例えば、特徴例えば、47d及び49dは、これらに限定されないが、Cr、酸化ケイ素、及び/又は窒化ケイ素等を含む材料で形成された硬質マスクを使用することにより形成することができる。或いは、これらに限定されないが、CF4、CHF3、SF6、Cl2、HBr、並びに他のフッ素、塩素、及び/又は臭素含有エッチング液等を含むシリコンエッチング液を使用してもよい。加えて、特徴例えば、47d及び49dは、インプリントレジストを、マスク、パターン転写用の硬質マスク等として使用してエッチングすることができる。例えば、特徴例えば、47d及び49dは、これらに限定されないが、Cr、酸化ケイ素、及び/又は窒化ケイ素等を含む材料で形成された硬質マスクを使用してエッチングすることができる。図8C~8Eを参照すると、パターン層46b及び接着層62bを形成するために使用した犠牲材料34bは、機能材料34aから剥がすことができる。機能材料34aが多層基板58から取り外され、1つ又は複数の柱又はナノ粒子52bつまり機能性ナノ粒子が形成されるように、リムーバブル層50bを化学的プロセス例えば、HFディップにかけてもよい。図9には、インプリントリソグラフィシステムを使用して、柱又はナノ粒子52aを形成するための方法82のフローチャートが例示されている。柱52aの形成は、1つ又は複数のリソグラフィステップ例えば、ナノインプリントリソグラフィを含んでいてもよい。ステップ84では、犠牲材料34bを多層基板58b上に配置してもよい。例えば、犠牲材料34bは、ナノインプリントリソグラフィテンプレートを使用した第1のインプリントリソグラフィプロセスを使用してパターン形成し、特徴47c及び49cを有するパターン層46bを提供することができる。ステップ86では、特徴47c及び49cを使用して、リムーバブル層50bに至る又はリムーバブル層50bを含む多層基板に特徴47d及び49dを形成することができる。ステップ88では、機能材料34bを特徴47dから除去し、リムーバブル層50bから伸長する機能材料34aの凸部を後に残すことができる。ステップ90では、例えば、リムーバブル層50bを溶解することにより、柱52bを多層基板58bから剥離させる。種々の態様の更なる改変及び代替的実施形態は、当業者であれば、本記載を考慮すると明白であろう。したがって、本記載は、例示的に過ぎないと解釈されるべきである。本明細書に表示及び記述された形態は、実施形態の例として受け取られるものとして理解されるべきである。要素及び材料は、本明細書に例示及び記述されたものから置き換えられてもよく、部品及びプロセスは、逆にしてもよく、ある特徴は、独立して利用してもよく、全ては、当業者であれば本記載の利益を得た後で明白となるであろう。本明細書に記載されている要素における変更は、以下の特許請求の範囲に記載の趣旨及び範囲から逸脱せずに行うことができる。"