"被培養物が培養される隔室を形成する窪み部が培養基材表面に複数形成されており、互いに近接する前記窪み部の間の培養基材表面が非平坦面であることを特徴とする培養基材。互いに近接する前記窪み部の間に介在する前記非平坦面が土手部を有することを特徴とする請求項1に記載の培養基材。少なくとも前記窪み部の内面が細胞接着抑制剤により被膜されていることを特徴とする請求項1または2に記載の培養基材。前記窪み部の開口の直径が20μm以上1500μm以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の培養基材。前記窪み部の深さが10μm以上1500μm以下であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の培養基材。前記複数の窪み部が前記培養基材表面に稠密に配置されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の培養基材。前記窪み部が前記培養基材表面のウェル形成領域の表面に複数形成されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の培養基材。前記複数の窪み部が、前記培養基材表面のウェル形成領域の表面に、10個/cm2~10000個/cm2、形成されていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項に記載の培養基材。前記窪み部が前記培養基材表面へのレーザ照射により形成されていることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一項に記載の培養基材。前記培養基材の材質が合成樹脂からなることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか一項に記載の培養基材。請求項1ないし10のいずれか一項に記載の培養基材を備えた培養容器。ところが、上述した従来の培養基材101を用いてスフェロイド培養を行うと、スフェロイド60の他に、単層培養された細胞62や、不均一な大きさのスフェロイドも多く形成されるという問題点が見い出された。この原因は、従来の培養基材101には、図12に示したように、互いに近接する窪み部120間の基板表面に平坦面130が形成されているからと考えられた。このように、この平坦面130が形成されている場合、培養容器内に、細胞が攪拌された培養液50を流し込むと、平坦面130上にも細胞が沈殿する。このような細胞が培養容器内に存在すると、窪み部の大きさに対応したスフェロイド60の他に、二次元的に培養されたり、窪みの大きさの影響を受けないランダムな大きさのスフェロイドが形成されたりするからである。このように、従来の培養基材101では、所望の大きさのスフェロイドを均一に形成させる培養を効率的に行うことができない。これら、単層培養された細胞や、ランダムな大きさのスフェロイドは、窪みの大きさに対応した均一なスフェロイドと比較して、生理機能が異なったり、幹細胞培養の場合には、分化のステージが異なったりなど、培養容器内の細胞群の均一性が低くなり、実験データの評価等に支障をきたす。そこで、本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、所望の大きさのスフェロイドを均一に形成でき、培養を効率的に行える培養基材の提供を目的とする。上記の目的を達成するために、本発明に係る培養基材は、被培養物が培養される隔室を形成する窪み部が培養基材表面に複数形成されており、互いに近接する前記窪み部の間の培養基材表面が非平坦面であることを特徴とする。本発明によれば、スフェロイド培養を効率的に行うことができる。[第1の実施形態]本発明の第1の実施形態に係る培養基材について、図1ないし図6を用いて説明する。図1は、本発明の培養基材を有する培養容器の斜視図である。図2は、培養容器の縦断面図である。図3は、培養基材のウェル形成領域の一部斜視図である。図4は、図3のIV-IV矢視断面図である。図5は、図3のV-V矢視断面図である。図6は、培養基材の表面上に照射するレーザ光の照射スポットを示した平面図である。本実施形態に係る培養基材1は、細胞を培養して三次元的に凝集させてなるスフェロイド細胞凝集塊を作製する培養容器の主要部である。まず、本実施形態に係る培養基材1の構成について説明する。培養容器は、図1および図2に示したように、容器本体10および蓋12を備えている。この例において、容器本体10の内側の底板部14が、培養基材1に相当する部分となる。かかる容器本体10の内側の底板部14、すなわち培養基材1は、例えばポリスチレンなどの合成樹脂材から構成されている。本実施形態では、培養基材1は、合成樹脂材料を用いた射出成形により得られる。容器本体10は、円板状の底板部14、および、環状の側壁部16を有している。側壁部16は、底板部14の外周縁から起立している。本実施形態では、底板部14の直径は、85mm、底板部14の厚さは、1mmに設計されている。また、側壁部16の高さは、20mmに設計されている。蓋12は、容器本体10に上方の開口部に対応した形状に形成されている。蓋12は、細胞の培養環境を維持するために、容器本体10に被せられて使用される。底板部14の上面すなわち、容器本体10の内側の面に相当する培養基材の上面のウェル形成領域24すなわち、被培養物が培養される隔室が形成される領域には、図2ないし図5に示したように、複数の窪み部20が形成されている。窪み部20の内面は、滑らかな凹面になっている。窪み部20は、被培養物が培養される隔室ウェル:wellを形成する。本実施形態では、直径85mmの円形のウェル形成領域24に14200個程度約250個/cm2の窪み部20が形成されている。本実施形態では、窪み部20は、培養基材表面のウェル形成領域24に対してレーザ光を照射することにより形成される。レーザ照射は、図6に示したように、x-y面上に設置された底板部14の上面に対して、レーザ光をz軸方向に照射して行う。まず、レーザ照射装置の照射部をx軸の正方向に走査させつつ、一定の間隔例えば800μmごとにレーザ光を照射して、x軸方向に並んだ複数の窪み部20を形成する。続けて、照射部をy軸方向に一定の距離例えば400μmだけ走査させた後、照射部をx軸の負方向に走査させつつ、一定の間隔例えば800μmごとにレーザ光を照射して、x軸方向に並んだ複数の窪み部20を形成する。同様に、照射部をy軸方向に一定の距離例えば400μmだけ走査させる。これを繰り返して、底板部14の上面に規則的に配列された複数の窪み部20を形成する。本実施形態では、図6に示したように、照射スポットAの中心座標x,yを原点0,0とすると、照射スポットAに近接した照射スポットBの中心は、0.8,0、照射スポットCの中心は、0.4,0.4、照射スポットDの中心は、-0.4,0.4に位置する。このように、照射スポットA,Bのx座標と照射スポットC,Dのx座標とをずらすことにより、ウェル形成領域24に複数の窪み部20を稠密に形成することができる。窪み部20は、培養基材1のウェル形成領域24の単位面積あたり、10個/cm2~10000個/cm2、形成するのが好ましい。さらに好ましくは、20個/cm2~8000個/cm2、さらに好ましくは、20個/cm2~3000個/cm2である上記した数値範囲を示す~とは、特段の定めがない限り、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用され、以下本明細書において~は、同様の意味をもって使用される。本実施形態では、レーザ光源には、CO2レーザを用い、レーザ光は、出力10W、照射速度6100mm/minでパルス照射される。照射スポットの形状は、円形であり、その直径は、約400μmである。スフェロイドは、小さすぎると所望の生理機能が生じず、また、大きすぎるとスフェロイドの中心部が壊死してしまう。これを考慮すると、照射スポットの直径は、20~1500μmが適当である。なお、照射スポットの形状は、円形であるのに対して、窪み部20の開口形状は、略楕円形に偏平している。この開口形状の偏平は、容器本体10の成形時において金型に合成樹脂材を流し込む方向に起因するものと考えられる。培養基材表面底板部14の上面にレーザ光が照射されると、底板部14を構成する合成樹脂材が溶解して、窪み部20が形成される。さらに、窪み部20の開口周辺には、図3ないし図5に示したように、溶解した合成樹脂材が盛り上がって、土手部22が形成される。本実施形態では、互いに隣り合った2個の窪み部20は、1個または2個の土手部22を介して形成されており、互いに近接する窪み部20間の培養基材表面には、平坦面が残らない。すなわち、互いに近接する窪み部20間の培養基材表面が非平坦面30になっている。なお、図4に示した図3のIV-IV矢視断面において、隣り合った2個の窪み部20の間に介在する2個の土手部22は、互いに連結していて、非平坦面30を形成している。レーザ光の照射位置や出力量などの照射条件を調節することにより、近接する窪み部20間の距離、窪み部20の径深さ、土手部22の幅高さなどを調節できる。本実施形態では、互いに近接する窪み部20間の培養基材表面に平坦面が残らないように、すなわち、互いに近接する窪み部20間の培養基材表面が非平坦面30になるように、レーザ光の照射条件が設定されて、レーザ照射が行われる。なお、窪み部20の深さすなわち、図4、5に示したように、レーザ照射前の底板部14すなわち、培養基材の上面を基準とした深さdは、10~1500μmに設計されることが望ましく、本実施形態では、200±20μmに設計されている。なお、底板部14の厚さは、深さdに応じて貫通しないよう適宜設計される。また、略楕円形の窪み部20の開口の長径レーザ照射前の底板部14の上面での長径Dは、10~1500μmに設計されることが望ましく、本実施形態では、500±20μmに設計されている。さらに、土手部22の高さすなわち、図4、5に示したように、レーザ照射前の底板部14の上面を基準とした高さhは、10~50μmに設計されることが望ましく、本実施形態では、25±5μmに設計されている。底板部14の上面、すなわち培養基材相当部分の表面は、細胞接着抑制剤図示省略により被膜されているのが好ましい。培養基材細胞接着抑制剤は、細胞が底板部14の上面、特に、窪み部20の内面に接着するのを抑制する役割を果たす。細胞接着抑制剤としては、例えば、リン脂質ポリマー、ポリヒドロキシエチルメタアクリレート、あるいは、ポリエチレングリコールなどが用いられる。次に、本実施形態に係る培養基材1を用いた被培養物の培養方法について説明する。被培養物であるスフェロイド前駆体としての細胞を培養液50に入れて、撹拌する。撹拌後、培養液50を容器本体10内に流し入れる図2参照。そうすると、培養液50中の細胞は、沈殿して、窪み部20内に収まる。その後、容器本体10に蓋12を被せて、数日~数十日間放置する。窪み部20内の細胞は、培養され、増殖する。このとき、窪み部20の内面が細胞接着抑制剤により被膜されているため、細胞は、窪み部20の形状大きさに対応して、三次元的に凝集する。こうして、スフェロイドが得られる。次に、本実施形態に係る培養基材1の効果について説明する。本実施形態によれば、互いに近接する窪み部20間の培養基材表面が非平坦面30になっている。そのため、沈殿する被培養物が窪み部20に収まりやすい。従来の培養基材101では、隣接する窪み部120間の培養基材表面に平坦面130が形成されている。そのため、平坦面130において、細胞が単層培養されたり、窪み部120の大きさの影響を受けないランダムな大きさのスフェロイドが形成してしまう。一方、本実施形態に係る培養基材1では、隣接する窪み部20間の培養基材表面は、非平坦面30になっている。そのため、単層培養されたり、不均一なスフェロイドが形成されにくく、均一なスフェロイドが形成される確率が高く、スフェロイド培養を効率良く行うことができる。スフェロイドの用途や培養する細胞の種類などに応じて、作製すべきスフェロイドの大きさはそれぞれ異なる。そのため、スフェロイドの作製にあたっては、所望するスフェロイドの大きさに対応した窪み部20を備えた培養基材1を用意する必要がある。ここで、本実施形態では、レーザ照射により窪み部20および土手部22を形成する。したがって、照射位置や出力量などの照射条件を調節することによって、培養基材1に任意の大きさの窪み部20および土手部22を容易に形成することができる。また、培養基材として、ポリスチレンなどの透明な合成樹脂材を使用し、この合成樹脂材に対して、レーザ光照射加工により窪み部を形成した場合、窪み部20の断面形状は上開きとなり、かつ、レーザ光の熱により窪み部20の内面が滑らかになって、透過光が乱反射するのを低減することができ、窪み部20内で培養されるスフェロイドの顕微鏡による観察を、容易に行うことができる。[第2の実施形態]本発明の第1の実施形態に係る培養基材について、図7を用いて説明する。図7は、培養基材のウェル形成領域の一部断面図である。なお、本実施形態は、第1の実施形態の変形例であって、第1の実施形態と同一部分または類似部分には、同一符号を付して、重複説明を省略する。第1の実施形態では、複数の窪み部20および土手部22は、培養基材表面にレーザ光を照射することにより形成された。一方、本実施形態では、培養基材1は、複数の窪み部20を形成する凸部および土手部22を形成する凹部を備えた金型を用いて、合成樹脂材料を射出成形して得られる。複数の窪み部20および土手部22は、培養基材1の成形と同時に形成される。本実施形態では、図7に示したように、培養基材1の培養基材表面には、半球状の窪み部20および断面半円状の土手部22が形成されている。金型を用いて射出成型により培養基材1を製造することにより、より均一性の高い窪み部20を形成することができ、形成されるスフェロイドの均一性を高くすることができる。[第3の実施形態]本発明の第1の実施形態に係る培養基材について、図8を用いて説明する。図8は、培養基材がシャーレ内に設置された状態の縦断面図である。なお、本実施形態は、第1の実施形態の変形例であって、第1の実施形態と同一部分または類似部分には、同一符号を付して、重複説明を省略する。第1の実施形態に係る培養基材1は、培養容器の内側の底面底板部14の上面に複数の窪み部20が形成されている。一方、本実施形態に係る培養基材1は、円板状に形成された合成樹脂材からなる。培養基材1は、合成樹脂材料を円板状の基板に射出成形された後、その一方の表面に対してレーザ光が照射されて、培養基材1の一方の表面に複数の窪み部20が形成されている。本実施形態に係る培養基材1は、図8に示したように、例えばガラス製のシャーレ40内に設置されて使用される。本実施形態によれば、第1の実施形態に比べて、培養基材1の成形が容易であり、製造コストを抑えることができる。[第4の実施形態]本発明の第4の実施形態に係る培養基材について、図9および図10を用いて説明する。図9は、培養基材の平面図である。図10は、培養基材を備えた容器本体と蓋を有する培養容器の縦断面図である。なお、本実施形態は、第1の実施形態の変形例であって、第1の実施形態と同一部分または類似部分には、同一符号を付して、重複説明を省略する。本実施形態に係る培養基材1は、図9に示したように、容器本体10の底板部14が相当し、この底板部14の上面に4つの円形のウェル形成領域24を有している。4つのウェル形成領域24は、互いに間隔を空けて配置されている。そして、培養基材1のウェル形成領域24のそれぞれに被培養物が培養される隔室を形成する窪み部が基材表面に複数形成されており、互いに近接する前記窪み部の間の基材表面が非平坦面とされている。本実施形態では、ピペットなどを用いて、スフェロイド前駆体としての細胞が入れられ、撹拌された培養液50や受精卵を含む培養液50を4つのウェル形成領域24上に滴下する。続いて、図10に示したように、容器本体10内にミネラルオイル52を流し入れる。このとき、培養液50とミネラルオイル52とは、混ざり合わない。この状態で数日~数十日間放置して、スフェロイドを作製したり、受精卵を培養したりする。本実施形態によれば、1つの培養基材1で数種類のスフェロイドを作製することができる。[他の実施形態]上記の各実施形態は、代表的な例示であって、本発明は、これらに限定されるものではない。例えば、培養基材1の材料は、合成樹脂材ではなく、ガラスであっても良い。また、培養基材1の形状大きさについては、任意に設計できる。さらに、窪み部20および土手部22の形状大きさについても、培養する細胞や所望するスフェロイドの形状大きさに応じて、任意に設計できる。また、上記の実施形態を組み合わせても良い。例えば、第3の実施形態に係る円板状の培養基材1の窪み部20を、第2の実施形態で説明したように、射出成形により形成しても良い。"