"炭化水素を供給するための炭化水素供給弁を機関排気通路内に配置し、炭化水素供給弁下流の機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を配置し、該排気浄化触媒の排気ガス流通表面上には貴金属触媒が担持されていると共に該貴金属触媒周りには塩基性の排気ガス流通表面部分が形成されており、該排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、該炭化水素濃度の振動周期を該予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が該予め定められた範囲内の振幅となるように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量が制御されると共に、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の周期でもって振動するように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射周期が制御され、炭化水素が供給されると排気ガス中に含まれるNO2をNOに還元しうるNO2還元触媒を排気浄化触媒下流の機関排気通路内に配置し、排気ガス中に含まれるNO2をNOに還元すべきときには排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度変化の振幅を増大させて排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素のすり抜け量を増大させるようにした内燃機関の排気浄化装置。該排気浄化触媒と該NO2還元触媒との間の機関排気通路内にパティキュレートフィルタが配置されており、該パティキュレートフィルタがNO2の生成能力を有しており、パティキュレートフィルタにおいて生成されたNO2をNOに還元すべきときに排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素のすり抜け量が増大せしめられる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。パティキュレートフィルタ上におけるNO2の生成量が予め定められている許容量を超えたときに、パティキュレートフィルタにおいて生成されたNO2をNOに還元すべく排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素のすり抜け量が増大せしめられる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。パティキュレートフィルタ上におけるNO2の生成量は、パティキュレートフィルタ上のパティキュレート堆積量とパティキュレートフィルタ温度との関数であり、パティキュレートフィルタ上におけるNO2の生成量が予め定められている許容量を超えるときのパティキュレート堆積量とパティキュレートフィルタ温度との関係が予め記憶されており、パティキュレート堆積量とパティキュレートフィルタ温度から該記憶された関係に基づいてパティキュレートフィルタ上におけるNO2の生成量が予め定められている許容量を超えたと判断されたときに、パティキュレートフィルタにおいて生成されたNO2をNOに還元すべく排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素のすり抜け量が増大せしめられる請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。パティキュレートフィルタ上におけるNO2の生成量が予め定められている許容量を超えたとしても、該NO2還元触媒が活性化していないときには、排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素のすり抜け量の増大作用が禁止される請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。該NO2還元触媒は、還元触媒、酸化触媒およびNOX選択還元触媒のうちのいずれかからなる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。排気ガス中に含まれるNO2をNOに還元すべきときには炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量を増大することによって排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が増大せしめられ、このとき炭化水素の噴射量が増大するにつれて炭化水素の噴射周期が長くされる請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記排気浄化触媒内において排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とが反応して窒素および炭化水素を含む還元性中間体が生成され、上記炭化水素の噴射周期は還元性中間体を生成し続けるのに必要な周期である請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記炭化水素の噴射周期が0.3秒から5秒の間である請求項8に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記貴金属触媒は白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記排気浄化触媒の排気ガス流通表面上にアルカリ金属又はアルカリ土類金属又は希土類又はNOXに電子を供与しうる金属を含む塩基性層が形成されており、該塩基性層の表面が上記塩基性の排気ガス流通表面部分を形成している請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。しかしながらNOX吸蔵触媒は高温になるとNOX浄化率が低下するという問題がある。本発明の目的は、排気浄化触媒の温度が高温になっても高いNOX浄化率を得ることができかつNOXのうちでも特に問題とされているNO2の排出を抑制することのできる内燃機関の排気浄化装置を提供することにある。本発明によれば、炭化水素を供給するための炭化水素供給弁を機関排気通路内に配置し、炭化水素供給弁下流の機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒を配置し、排気浄化触媒の排気ガス流通表面上には貴金属触媒が担持されていると共に貴金属触媒周りには塩基性の排気ガス流通表面部分が形成されており、排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期を予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が上述の予め定められた範囲内の振幅となるように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量が制御されると共に、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度が上述の予め定められた範囲内の周期でもって振動するように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射周期が制御され、炭化水素が供給されると排気ガス中に含まれるNO2をNOに還元しうるNO2還元触媒を排気浄化触媒下流の機関排気通路内に配置し、排気ガス中に含まれるNO2をNOに還元すべきときには排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度変化の振幅を増大させて排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素のすり抜け量を増大するようにした内燃機関の排気浄化装置が提供される。排気浄化触媒の温度が高温になっても高いNOX浄化率を得ることができかつ炭化水素のすり抜け量を増大することによってNO2の排出を抑制することができる。図1に圧縮着火式内燃機関の全体図を示す。図1を参照すると、1は機関本体、2は各気筒の燃焼室、3は各燃焼室2内に夫々燃料を噴射するための電子制御式燃料噴射弁、4は吸気マニホルド、5は排気マニホルドを夫々示す。吸気マニホルド4は吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に連結され、コンプレッサ7aの入口は吸入空気量検出器8を介してエアクリーナ9に連結される。吸気ダクト6内にはステップモータにより駆動されるスロットル弁10が配置され、更に吸気ダクト6周りには吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置11内に導かれ、機関冷却水によって吸入空気が冷却される。一方、排気マニホルド5は排気ターボチャージャ7の排気タービン7bの入口に連結される。排気タービン7bの出口は排気管12を介して排気浄化触媒13の入口に連結され、排気浄化触媒13の出口は排気ガス中に含まれるパティキュレートを捕集するためのパティキュレートフィルタ14の入口に連結される。また、パティキュレートフィルタ14の出口はNO2還元触媒15に連結される。このNO2還元触媒15は、還元触媒、酸化触媒およびNOX選択還元触媒のうちのいずれかからなる。図1に示される実施例ではこのNO2還元触媒15は酸化触媒からなる。排気浄化触媒13上流の排気管12内には圧縮着火式内燃機関の燃料として用いられる軽油その他の燃料からなる炭化水素を供給するための炭化水素供給弁16が配置される。図1に示される実施例では炭化水素供給弁16から供給される炭化水素として軽油が用いられている。なお、本発明はリーン空燃比のもとで燃焼の行われる火花点火式内燃機関にも適用することができる。この場合、炭化水素供給弁16からは火花点火式内燃機関の燃料として用いられるガソリンその他の燃料からなる炭化水素が供給される。一方、排気マニホルド5と吸気マニホルド4とは排気ガス再循環以下、EGRと称す通路17を介して互いに連結され、EGR通路17内には電子制御式EGR制御弁18が配置される。また、EGR通路17周りにはEGR通路17内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置19が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置19内に導かれ、機関冷却水によってEGRガスが冷却される。一方、各燃料噴射弁3は燃料供給管20を介してコモンレール21に連結され、このコモンレール21は電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ22を介して燃料タンク23に連結される。燃料タンク23内に貯蔵されている燃料は燃料ポンプ22によってコモンレール21内に供給され、コモンレール21内に供給された燃料は各燃料供給管20を介して燃料噴射弁3に供給される。電子制御ユニット30はデジタルコンピュータからなり、双方向性バス31によって互いに接続されたROMリードオンリメモリ32、RAMランダムアクセスメモリ33、CPUマイクロプロセッサ34、入力ポート35および出力ポート36を具備する。排気浄化触媒13の下流には排気浄化触媒13の温度を検出するための温度センサ24が取付けられている。また、パティキュレートフィルタ14の下流にはパティキュレートフィルタ14の温度を検出するための温度センサ25が取付けられており、パティキュレートフィルタ14にはパティキュレートフィルタ14の前後の差圧を検出するための差圧センサ26が取付けられている。更に、NO2還元触媒15の下流にはNO2還元触媒15の温度を検出するための温度センサ27が取付けられている。これら温度センサ24,25、27、差圧センサ26および吸入空気量検出器8の出力信号は夫々対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル40にはアクセルペダル40の踏込み量Lに比例した出力電圧を発生する負荷センサ41が接続され、負荷センサ41の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。更に入力ポート35にはクランクシャフトが例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ42が接続される。一方、出力ポート36は対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁3、スロットル弁10の駆動用ステップモータ、炭化水素供給弁16、EGR制御弁18および燃料ポンプ22に接続される。図2は排気浄化触媒13の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。この排気浄化触媒13では図2に示されるように例えばアルミナからなる触媒担体50上には貴金属触媒51,52が担持されており、更にこの触媒担体50上にはカリウムK、ナトリウムNa、セシウムCsのようなアルカリ金属、バリウムBa、カルシウムCaのようなアルカリ土類金属、ランタノイドのような希土類および銀Ag、銅Cu、鉄Fe、イリジウムIrのようなNOXに電子を供与しうる金属から選ばれた少なくとも一つを含む塩基性層53が形成されている。排気ガスは触媒担体50上に沿って流れるので貴金属触媒51,52は排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上に担持されていると言える。また、塩基性層53の表面は塩基性を呈するので塩基性層53の表面は塩基性の排気ガス流通表面部分54と称される。一方、図2において貴金属触媒51は白金Ptからなり、貴金属触媒52はロジウムRhからなる。即ち、触媒担体50に担持されている貴金属触媒51,52は白金PtおよびロジウムRhから構成されている。なお、排気浄化触媒13の触媒担体50上には白金PtおよびロジウムRhに加えて更にパラジウムPdを担持させることができるし、或いはロジウムRhに代えてパラジウムPdを担持させることができる。即ち、触媒担体50に担持されている貴金属触媒51,52は白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される。炭化水素供給弁16から排気ガス中に炭化水素が噴射されるとこの炭化水素は排気浄化触媒13において改質される。本発明ではこのとき改質された炭化水素を用いて排気浄化触媒13においてNOXを浄化するようにしている。図3はこのとき排気浄化触媒13において行われる改質作用を図解的に示している。図3に示されるように炭化水素供給弁16から噴射された炭化水素HCは触媒51によって炭素数の少ないラジカル状の炭化水素HCとなる。図4は炭化水素供給弁16からの炭化水素の供給タイミングと排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化とを示している。なお、この空燃比A/Finの変化は排気浄化触媒13に流入する排気ガス中の炭化水素の濃度変化に依存しているので図4に示される空燃比A/Finの変化は炭化水素の濃度変化を表しているとも言える。ただし、炭化水素濃度が高くなると空燃比A/Finは小さくなるので図4においては空燃比A/Finがリッチ側となるほど炭化水素濃度が高くなっている。図5は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させることによって図4に示されるように排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finを変化させたときの排気浄化触媒13によるNOX浄化率を排気浄化触媒13の各触媒温度TCに対して示している。本発明者は長い期間に亘ってNOX浄化に関する研究を重ねており、その研究課程において、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、図5に示されるように400°C以上の高温領域においても極めて高いNOX浄化率が得られることが判明したのである。更にこのときには窒素および炭化水素を含む多量の還元性中間体が塩基性層53の表面上に、即ち排気浄化触媒13の塩基性排気ガス流通表面部分54上に保持又は吸着され続けており、この還元性中間体が高NOX浄化率を得る上で中心的役割を果していることが判明したのである。次にこのことについて図6Aおよび6Bを参照しつつ説明する。なお、これら図6Aおよび6Bは排気浄化触媒13の触媒担体50の表面部分を図解的に示しており、これら図6Aおよび6Bには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動せしめたときに生ずると推測される反応が示されている。図6Aは排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低いときを示しており、図6Bは炭化水素供給弁16から炭化水素が供給されて排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が高くなっているときを示している。さて、図4からわかるように排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比は一瞬を除いてリーンに維持されているので排気浄化触媒13に流入する排気ガスは通常酸素過剰の状態にある。従って排気ガス中に含まれるNOは図6Aに示されるように白金51上において酸化されてNO2となり、次いでこのNO2は更に酸化されてNO3となる。また、NO2の一部はNO2-となる。この場合、NO3の生成量の方がNO2-の生成量よりもはるかに多い。従って白金Pt51上には多量のNO3と少量のNO2-が生成されることになる。これらNO3およびNO2-は活性が強く、以下これらNO3およびNO2-を活性NOXと称する。一方、炭化水素供給弁16から炭化水素が供給されると図3に示されるようにこの炭化水素は排気浄化触媒13内において改質され、ラジカルとなる。その結果、図6Bに示されるように活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなる。ところで活性NOXが生成された後、活性NOX周りの酸素濃度が高い状態が一定時間以上継続すると活性NOXは酸化され、硝酸イオンNO3-の形で塩基性層53内に吸収される。しかしながらこの一定時間が経過する前に活性NOX周りの炭化水素濃度が高くされると図6Bに示されるように活性NOXは白金51上においてラジカル状の炭化水素HCと反応し、それにより還元性中間体が生成される。この還元性中間体は塩基性層53の表面上に付着又は吸着される。なお、このとき最初に生成される還元性中間体はニトロ化合物R-NO2であると考えられる。このニトロ化合物R-NO2は生成されるとニトリル化合物R-CNとなるがこのニトリル化合物R-CNはその状態では瞬時しか存続し得ないのでただちにイソシアネート化合物R-NCOとなる。このイソシアネート化合物R-NCOは加水分解するとアミン化合物R-NH2となる。ただしこの場合、加水分解されるのはイソシアネート化合物R-NCOの一部であると考えられる。従って図6Bに示されるように塩基性層53の表面上に保持又は吸着されている還元性中間体の大部分はイソシアネート化合物R-NCOおよびアミン化合物R-NH2であると考えられる。一方、図6Bに示されるように生成された還元性中間体の周りを炭化水素HCが取り囲んでいると還元性中間体は炭化水素HCに阻まれてそれ以上反応が進まない。この場合、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低下せしめられ、それによって酸素濃度が高くなると還元性中間体周りの炭化水素は酸化せしめられる。その結果、図6Aに示されるように還元性中間体と活性NOXとが反応するようになる。このとき活性NOXは還元性中間体R-NCOやR-NH2と反応してN2,CO2,H2Oとなり、斯くしてNOXが浄化されることになる。このように排気浄化触媒13では、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を高くすることにより還元性中間体が生成され、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を低くして酸素濃度を高くすることにより活性NOXが還元性中間体と反応し、NOXが浄化される。即ち、排気浄化触媒13によりNOXを浄化するには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させる必要がある。無論、この場合、還元性中間体を生成するのに十分高い濃度まで炭化水素の濃度を高める必要があり、生成された還元性中間体を活性NOXと反応させるのに十分低い濃度まで炭化水素の濃度を低下させる必要がある。即ち、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅で振動させる必要がある。なお、この場合、生成された還元性中間体が活性NOXと反応するまで、十分な量の還元性中間体R-NCOやR-NH2を塩基性層53上に、即ち塩基性排気ガス流通表面部分54上保持しておかなければならず、そのために塩基性の排気ガス流通表面部分54が設けられている。一方、炭化水素の供給周期を長くすると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給されるまでの間において酸素濃度が高くなる期間が長くなり、従って活性NOXは還元性中間体を生成することなく硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されることになる。これを回避するためには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の周期でもって振動させることが必要となる。そこで本発明による実施例では、排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させて窒素および炭化水素を含む還元性中間体R-NCOやR-NH2を生成するために排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上には貴金属触媒51,52が担持されており、生成された還元性中間体R-NCOやR-NH2を排気浄化触媒13内に保持しておくために貴金属触媒51,52周りには塩基性の排気ガス流通表面部分54が形成されており、塩基性の排気ガス流通表面部分54上に保持された還元性中間体R-NCOやR-NH2の還元作用によりNOXが還元され、炭化水素濃度の振動周期は還元性中間体R-NCOやR-NH2を生成し続けるのに必要な振動周期とされる。因みに図4に示される例では噴射間隔が3秒とされている。炭化水素濃度の振動周期、即ち炭化水素HCの供給周期を上述の予め定められた範囲内の周期よりも長くすると塩基性層53の表面上から還元性中間体R-NCOやR-NH2が消滅し、このとき白金Pt53上において生成された活性NOXは図7Aに示されるように硝酸イオンNO3-の形で塩基性層53内に拡散し、硝酸塩となる。即ち、このときには排気ガス中のNOXは硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されることになる。一方、図7BはこのようにNOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されているときに排気浄化触媒13内に流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比又はリッチにされた場合を示している。この場合には排気ガス中の酸素濃度が低下するために反応が逆方向NO3-→NO2に進み、斯くして塩基性層53内に吸収されている硝酸塩は順次硝酸イオンNO3-となって図7Bに示されるようにNO2の形で塩基性層53から放出される。次いで放出されたNO2は排気ガス中に含まれる炭化水素HCおよびCOによって還元される。図8は塩基性層53のNOX吸収能力が飽和する少し前に排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finを一時的にリッチにするようにした場合を示している。なお、図8に示す例ではこのリッチ制御の時間間隔は1分以上である。この場合には排気ガスの空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層53内に吸収されたNOXは、排気ガスの空燃比A/Finが一時的にリッチにされたときに塩基性層53から一気に放出されて還元される。従ってこの場合には塩基性層53はNOXを一時的に吸収するための吸収剤の役目を果している。なお、このとき塩基性層53がNOXを一時的に吸着する場合もあり、従って吸収および吸着の双方を含む用語として吸蔵という用語を用いるとこのとき塩基性層53はNOXを一時的に吸蔵するためのNOX吸蔵剤の役目を果していることになる。即ち、この場合には、機関吸気通路、燃焼室2および排気浄化触媒13上流の排気通路内に供給された空気および燃料炭化水素の比を排気ガスの空燃比と称すると、排気浄化触媒13は、排気ガスの空燃比がリーンのときにはNOXを吸蔵し、排気ガス中の酸素濃度が低下すると吸蔵したNOXを放出するNOX吸蔵触媒として機能している。図9は、排気浄化触媒13をこのようにNOX吸蔵触媒として機能させたときのNOX浄化率を示している。なお、図9の横軸は排気浄化触媒13の触媒温度TCを示している。排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合には図9に示されるように触媒温度TCが300°Cから400°Cのときには極めて高いNOX浄化率が得られるが触媒温度TCが400°C以上の高温になるとNOX浄化率が低下する。このように触媒温度TCが400°C以上になるとNOX浄化率が低下するのは、触媒温度TCが400°C以上になると硝酸塩が熱分解してNO2の形で排気浄化触媒13から放出されるからである。即ち、NOXを硝酸塩の形で吸蔵している限り、触媒温度TCが高いときに高いNOX浄化率を得るのは困難である。しかしながら図4から図6A,6Bに示される新たなNOX浄化方法では図6A,6Bからわかるように硝酸塩は生成されず或いは生成されても極く微量であり、斯くして図5に示されるように触媒温度TCが高いときでも高いNOX浄化率が得られることになる。そこで本発明では、炭化水素を供給するための炭化水素供給弁16を機関排気通路内に配置し、炭化水素供給弁16下流の機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒13を配置し、排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上には貴金属触媒51,52が担持されていると共に貴金属触媒51,52周りには塩基性の排気ガス流通表面部分54が形成されており、排気浄化触媒13は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期をこの予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、それにより排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒13において還元するようにしている。即ち、図4から図6A,6Bに示されるNOX浄化方法は、貴金属触媒を担持しかつNOXを吸収しうる塩基性層を形成した排気浄化触媒を用いた場合において、ほとんど硝酸塩を形成することなくNOXを浄化するようにした新たなNOX浄化方法であると言うことができる。実際、この新たなNOX浄化方法を用いた場合には排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合に比べて、塩基性層53から検出される硝酸塩は極く微量である。なお、この新たなNOX浄化方法を以下、第1のNOX浄化方法と称する。次に図10から図15を参照しつつこの第1のNOX浄化方法についてもう少し詳細に説明する。図10は図4に示される空燃比A/Finの変化を拡大して示している。なお、前述したようにこの排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化は同時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化を示している。なお、図10においてΔHは排気浄化触媒13に流入する炭化水素HCの濃度変化の振幅を示しており、ΔTは排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期を示している。更に図10においてA/Fbは機関出力を発生するための燃焼ガスの空燃比を示すベース空燃比を表している。言い換えるとこのベース空燃比A/Fbは炭化水素の供給を停止したときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比を表している。一方、図10においてXは、生成された活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸蔵されることなく還元性中間体の生成のために使用される空燃比A/Finの上限を表しており、活性NOXと改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるには空燃比A/Finをこの空燃比の上限Xよりも低くすることが必要となる。別の言い方をすると図10のXは活性NOXと改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるのに必要な炭化水素の濃度の下限を表しており、還元性中間体を生成するためには炭化水素の濃度をこの下限Xよりも高くする必要がある。この場合、還元性中間体が生成されるか否かは活性NOX周りの酸素濃度と炭化水素濃度との比率、即ち空燃比A/Finで決まり、還元性中間体を生成するのに必要な上述の空燃比の上限Xを以下、要求最小空燃比と称する。図10に示される例では要求最小空燃比Xがリッチとなっており、従ってこの場合には還元性中間体を生成するために空燃比A/Finが瞬時的に要求最小空燃比X以下に、即ちリッチにされる。これに対し、図11に示される例では要求最小空燃比Xがリーンとなっている。この場合には空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させることによって還元性中間体が生成される。この場合、要求最小空燃比Xがリッチになるかリーンになるかは排気浄化触媒13の酸化力による。この場合、排気浄化触媒13は例えば貴金属51の担持量を増大させれば酸化力が強まり、酸性を強めれば酸化力が強まる。従って排気浄化触媒13の酸化力は貴金属51の担持量や酸性の強さによって変化することになる。さて、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、空燃比A/Finが低下せしめられたときに炭化水素が完全に酸化されてしまい、その結果還元性中間体を生成することができなくなる。これに対し、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると空燃比A/Finがリッチにされたときに一部の炭化水素は完全に酸化されることなく部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして還元性中間体が生成されることになる。従って酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリッチにする必要がある。一方、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、一部の炭化水素は完全に酸化されずに部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして還元性中間体が生成される。これに対し、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると多量の炭化水素は酸化されることなく単に排気浄化触媒13から排出されることになり、斯くして無駄に消費される炭化水素量が増大することになる。従って酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリーンにする必要がある。即ち、要求最小空燃比Xは図12に示されるように排気浄化触媒13の酸化力が強くなるほど低下させる必要があることがわかる。このように要求最小空燃比Xは排気浄化触媒13の酸化力によってリーンになったり、或いはリッチになったりするが、以下要求最小空燃比Xがリッチである場合を例にとって、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅や排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期について説明する。さて、ベース空燃比A/Fbが大きくなると、即ち炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高くなると空燃比A/Finを要求最小空燃比X以下とするのに必要な炭化水素の供給量が増大し、それに伴って還元性中間体の生成に寄与しなかった余剰の炭化水素量も増大する。この場合、NOXを良好に浄化するためには前述したようにこの余剰の炭化水素を酸化させる必要があり、従ってNOXを良好に浄化するためには余剰の炭化水素量が多いほど多量の酸素が必要となる。この場合、排気ガス中の酸素濃度を高めれば酸素量を増大することができる。従ってNOXを良好に浄化するためには、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いときには炭化水素供給後の排気ガス中の酸素濃度を高める必要がある。即ち、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅を大きくする必要がある。図13は同一のNOX浄化率が得られるときの、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度と炭化水素濃度の振幅ΔHとの関係を示している。図13から同一のNOX浄化率を得るためには炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させる必要があることがわかる。即ち、同一のNOX浄化率を得るにはベース空燃比A/Fbが高くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを増大させることが必要となる。別の言い方をすると、NOXを良好に浄化するためにはベース空燃比A/Fbが低くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを減少させることができる。ところでベース空燃比A/Fbが最も低くなるのは加速運転時であり、このとき炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm程度あればNOXを良好に浄化することができる。ベース空燃比A/Fbは通常、加速運転時よりも大きく、従って図14に示されるように炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm以上であれば良好なNOX浄化率を得ることができることになる。一方、ベース空燃比A/Fbが最も高いときには炭化水素濃度の振幅ΔHを10000ppm程度にすれば良好なNOX浄化率が得られることがわかっている。従って本発明では炭化水素濃度の振幅の予め定められた範囲が200ppmから10000ppmとされている。また、炭化水素濃度の振動周期ΔTが長くなると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給される間、活性NOX周りの酸素濃度が高くなる。この場合、炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなると活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収され始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなるとNOX浄化率が低下することになる。従って炭化水素濃度の振動周期ΔTは5秒以下とする必要がある。一方、炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になると供給された炭化水素が排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上に堆積し始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になるとNOX浄化率が低下する。そこで本発明では炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間とされている。次に図16から図19を参照しつつ排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法について具体的に説明する。このように排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法を以下、第2のNOX浄化方法と称する。この第2のNOX浄化方法では図16に示されるように塩基性層53に吸蔵された吸蔵NOX量ΣNOXが予め定められた許容量MAXを越えたときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finが一時的にリッチにされる。排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされると排気ガスの空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層53内に吸蔵されたNOXが塩基性層53から一気に放出されて還元される。それによってNOXが浄化される。吸蔵NOX量ΣNOXは例えば機関から排出されるNOX量から算出される。本発明による実施例では機関から単位時間当り排出される排出NOX量NOXAが噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図17に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されており、この排出NOX量NOXAから吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。この場合、前述したように排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされる周期は通常1分以上である。この第2のNOX浄化方法では図18に示されるように燃焼室2内に燃料噴射弁3から燃焼用燃料Qに加え、追加の燃料WRを噴射することによって排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされる。なお、図18の横軸はクランク角を示している。この追加の燃料WRは燃焼はするが機関出力となって現われない時期に、即ち圧縮上死点後ATDC90°の少し手前で噴射される。この燃料量WRは噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図19に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。無論、この場合炭化水素供給弁16からの炭化水素の供給量を増大させることによって排気ガスの空燃比A/Finをリッチにすることもできる。さて、再び第1のNOX浄化方法についての説明に戻ると、第1のNOX浄化方法を用いてNOXを良好に浄化するためには前述したように炭化水素濃度の振幅ΔHおよび振動周期ΔTを適切に制御する必要がある。即ち、第1のNOX浄化方法を用いてNOXを良好に浄化するためには、排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finが要求最小空燃比X以下となるように炭化水素濃度の振幅ΔHを制御し、炭化水素濃度の振動周期ΔTを0.3秒から5秒の間に制御する必要がある。この場合、本発明では炭化水素濃度の振幅ΔHは炭化水素供給弁16からの炭化水素の噴射量を制御することに制御され、炭化水素濃度の振動周期ΔTは炭化水素供給弁16からの炭化水素の噴射周期を制御することによって制御される。なおこの場合、炭化水素供給弁16からの炭化水素の噴射量は、炭化水素供給弁16からの炭化水素の噴射時間又は噴射圧の少なくとも一方を制御することに制御される。ところで第1のNOX浄化方法によりNOXの浄化作用が行われているときに、最も要求されることはどのような運転状態でも高いNOX浄化率を得ることができ、供給された炭化水素が排気浄化触媒13をすり抜けないようにすることである。この点について検討を重ねた結果、排気浄化触媒13において完全に酸化される炭化水素の量と部分酸化される炭化水素の量がNOX浄化率と炭化水素のすり抜け量を支配していることが判明したのである。次にこのことについて図20を参照しつつ説明する。図20には、炭化水素供給弁16から同一の噴射圧のもとで異なる噴射時間でもって噴射された炭化水素の三つの噴射パターンA,B,Cが示されている。この場合、噴射時間は噴射パターンAが最も短く、噴射パターンCが最も長くなっている。また、図20には各噴射パターンA,B,Cにより噴射が行われた後、排気浄化触媒13に流入する排気ガス中の炭化水素濃度の時間的な変化が示されている。更に図20には各噴射パターンA,B,Cによる噴射が行われたときのNOX浄化率と排気浄化触媒13の炭化水素のすり抜け量とが示されている。さて、排気浄化触媒13に流入する排気ガス中の炭化水素濃度、即ち単位排気ガス量当りの炭化水素量が少ないときにはこの炭化水素は排気浄化触媒13において完全に酸化されてしまう。一方、排気ガス中の炭化水素濃度、即ち単位排気ガス量当りの炭化水素量が増大すると排気浄化触媒13において全ての炭化水素を完全に酸化しえなくなる。このとき一部の炭化水素は部分酸化されることになる。このように排気ガス中の炭化水素濃度には排気浄化触媒13において全ての炭化水素が完全に酸化される限界が存在し、この限界が図20においてXAで示されている。即ち、図20において炭化水素濃度が限界XAよりも低いときには全ての炭化水素が完全に酸化されるので図20において限界XAよりも下方のハッチング領域RAでは全ての炭化水素が完全に酸化されることになる。この場合、ハッチング領域RAの面積は炭化水素量を表しており、従ってハッチング領域RAに相当する量の炭化水素が完全に酸化されることになる。なお、以下この限界XAを完全酸化限界と称する。一方、図20において完全酸化限界XAよりも上方の領域RBでは排気浄化触媒13において炭化水素の部分酸化作用が行われる。この場合、図20においてハッチング領域RBは部分酸化される炭化水素量を表わしている。この部分酸化された炭化水素から還元性中間体が生成されるのでこの部分酸化された炭化水素により第1のNOX浄化方法によるNOXの浄化作用が行われることになる。なお、実際にはこの部分酸化された炭化水素の一部は還元性中間体の生成に使用されずに酸化されてしまい、部分酸化された残りの炭化水素によって還元性中間体が生成される。一方、排気浄化触媒13に流入する排気ガス中の炭化水素濃度、即ち単位排気ガス量当りの炭化水素量が更に増大せしめられると一部の炭化水素は排気浄化触媒13において完全に酸化されないどころか部分酸化もされなくなり、この場合酸化もされない一部の炭化水素は排気浄化触媒13をすり抜けることになる。この炭化水素のすり抜けを生ずる炭化水素の限界が図20においてXBで示されており、以下この限界XBをすり抜け限界と称する。図20においてこのすり抜け限界XBよりも上方のハッチング領域RCは炭化水素のすり抜け量を表している。排気ガス中に含まれるNOXを第1のNOX浄化方法を用いて浄化するためには排気ガス中に含まれるNOX量に対して十分な量の炭化水素が部分酸化されることが必要であり、部分酸化される炭化水素量RBが不十分である場合にはNOX浄化率が低下することになる。図20における噴射パターンAはこのように部分酸化される炭化水素量RBが不足している場合を示しており、この場合には図20に示されるようにNOX浄化率が低下することになる。一方、図20において噴射パターンBは部分酸化される炭化水素量RBを増大するために噴射パターンAに比べて噴射時間が長くされた場合を示している。噴射時間が長くされると部分酸化される炭化水素量RBが増大するために図20に示されるようにNOX浄化率が高くなる。なお、図20は噴射パターンBであっても部分酸化される炭化水素量RBが若干不足している場合を示している。図20において噴射パターンCは部分酸化される炭化水素量RBを更に増大するために噴射パターンBに比べて噴射時間が更に長くされた場合を示している。この場合、図20に示されるようにNOX浄化率は向上する。しかしながらこの場合、炭化水素濃度がすり抜け限界XBを越えるので炭化水素のすり抜けが発生することになる。第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用を行う際には通常は炭化水素のすり抜けが生じないようにする必要がある。従って本発明では第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用を行う際には通常は図20に示される例において炭化水素濃度のピークがすり抜け限界XBとなる噴射パターンBが用いられる。無論、噴射パターンAに示されるように炭化水素濃度のピークがすり抜け限界XBに達していなくても十分高いNOX浄化率が得られる場合には噴射パターンAが用いられる。即ち、本発明では第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用を行う際には通常は噴射パターンAか噴射パターンBのいずれかが用いられることになる。さて、排気浄化触媒13の温度が上昇すると排気浄化触媒13において単位時間当り酸化される炭化水素量が増大し、即ち炭化水素に対する酸化速度が増大し、その結果排気浄化触媒13の温度が上昇すると完全酸化限界XAが上昇する。一方、排気浄化触媒13の温度が上昇すると、温度が上昇する前にはすり抜けていた炭化水素が部分酸化されるようになるのですり抜け限界XBも上昇することになる。即ち、排気浄化触媒13の温度が上昇すると完全酸化限界XAとすり抜け限界XBが共に上昇することになる。従って第1のNOX浄化方法によりNOXの浄化を行う際にはこのことを考慮して炭化水素の噴射制御を行う必要がある。図21および図22はこのことを考慮して炭化水素の噴射制御を行うようにしたときの一例を示している。なお、図21に示す例は、噴射圧を一定に維持した状態で噴射時間を制御することにより炭化水素の噴射量を制御するようにした場合を示しており、図22に示す例は、噴射圧および噴射時間の双方を制御することにより炭化水素の噴射量を制御するようにした場合を示している。また、図21および図22においてA1は機関回転数および負荷が比較的低いときの噴射パターンを示しており、A3は機関回転数および負荷が比較的高いときの噴射パターンを示しており、A2は機関回転数および負荷が夫々A1で示される場合とA3で示される場合の中間である場合の噴射パターンを示している。即ち、機関回転数および負荷が高くなるにつれて噴射パターンはA1からA3に向けて変化せしめられる。さて、機関回転数および負荷が高くなるほど排気浄化触媒13の温度が高くなり、従って機関回転数および負荷が高くなるほど完全酸化限界XAおよびすり抜け限界XBも高くなる。一方、回転数および負荷が高くなるほど機関からの単位時間当りの排出NOX量が増大し、従って機関回転数および負荷が高くなるほど部分酸化される炭化水素量RBを増大する必要がある。この場合、部分酸化される炭化水素量RBを増大させるには炭化水素の噴射量を増大させる必要がある。従ってNOXの浄化に必要な量の部分酸化炭化水素を生成しうるように図21に示される例では機関回転数および負荷が高くなるにつれ噴射時間を長くすることにより噴射量が増量せしめられ、図22に示される例では機関回転数および負荷が高くなるにつれて噴射圧および噴射時間を共に長くすることによって噴射量が増量せしめられる。このように噴射量は噴射時間のみを制御することによっても、或いは噴射圧および噴射時間の双方を制御することによっても制御することができるが、以下噴射時間のみを制御することによって噴射量を制御するようにした場合を例にとって本発明を説明する。図23Aはこのように噴射時間のみを制御することによって噴射量を制御するようにした場合に、NOXの浄化に必要な量の部分酸化炭化水素を生成することのできる等噴射時間線を示している。図23Aからわかるように炭化水素の噴射時間は燃焼室2内への燃料噴射量Qが増大するほど、即ち機関負荷が増大するほど長くなり、機関回転数Nが高くなるほど長くなる。この噴射時間WTは燃料噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図23Bに示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。また、最適な炭化水素濃度の振動周期ΔT、即ち炭化水素の噴射周期ΔTも同様に噴射量Qおよび機関回転数Nの関数として図23Cに示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。機関運転時に炭化水素供給弁16から図23Bに示される噴射時間WTijおよび図23Cに示される噴射周期ΔTijでもって炭化水素が噴射されると第1のNOX浄化方法による良好なNOX浄化作用が行われる。図24はこのように第1のNOX浄化方法による良好なNOX浄化作用が行われているときの炭化水素の噴射パターンと炭化水素濃度変化を示している。このときには図24において領域RAに示される量の炭化水素が完全酸化せしめられており、このときこの炭化水素の酸化反応熱によって排気浄化触媒13は活性化した状態に維持されている。ところでこのように第1のNOX浄化方法による良好なNOX浄化作用が行われているときでも、浄化しえなかったNOが、少量ではあるが排気浄化触媒13から排出される。この場合、図1に示される実施例では排気浄化触媒13の下流にパティキュレートフィルタ14が配置されており、従って排気浄化触媒13から排出されたNOはパティキュレートフィルタ14内に流入することになる。一方、パティキュレートフィルタ14上には白金Ptのような貴金属触媒が担持されており、従ってパティキュレートフィルタ14は酸化機能を有している。その結果、パティキュレートフィルタ14に流入したNOはパティキュレートフィルタ14内においてNO2に変換せしめられ、従って、パティキュレートフィルタ14からはNO2が流出することになる。次いでこのNO2はNO2選択触媒15に流入する。ところで、NOXのうちで特にNO2が大気汚染からみて問題であり、従ってNO2が大気中に排出されるのをできるだけ抑制する必要がある。ところがこのNO2は周囲に炭化水素が存在すると、酸化触媒や還元触媒等の触媒上において容易にNOに還元させることができる2HC5NO2→2CO25NOH2O。即ち、このNO2は周囲に炭化水素が存在すれば、NO2還元触媒15上において容易にNOに還元させることができることになる。一方、前述したように第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われているときには通常、図24からもわかるように炭化水素の噴射量は排気浄化触媒13を炭化水素がすり抜けないように制御されている。そこで本発明では、排気ガス中に含まれるNO2をNOに還元すべきときには図25に示されるように炭化水素の濃度変化の振幅を増大させて排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素のすり抜け量RCを増大させ、すり抜けた炭化水素によりNO2還元触媒15上においてNO2をNOに還元させるようにしている。即ち、一般的に表現すると本発明では、炭化水素が供給されると排気ガス中に含まれるNO2をNOに還元しうるNO2還元触媒15を排気浄化触媒13下流の機関排気通路内に配置し、排気ガス中に含まれるNO2をNOに還元すべきときには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅を増大させて排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素のすり抜け量RCを増大させるようにしている。この場合、本発明による実施例では図25においてWTKで示されるように、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われているときの噴射時間TW図24に比べて噴射時間が長くされ、それにより噴射量を増大させて炭化水素のすり抜け量RCを増大するようにしている。このように噴射量が増大されると、図24と比較すれば明らかなように、部分酸化される炭化水素量RBも増大し、従ってこのとき十分な量の還元性中間体が生成される。従ってこのときには第1のNOX浄化方法による良好なNOX浄化作用が行われる。なお、噴射量が増大されると排気浄化触媒13において完全酸化される炭化水素量RAが増大するために酸化反応熱が増大し、その結果排気浄化触媒13の温度が上昇することになる。しかしながらこのとき排気浄化触媒13自体は特に昇温させる必要はなく、排気浄化触媒13の温度はそのときの温度に維持すれば十分である。この場合、排気浄化触媒13の温度をそのまま維持するためには単位時間当りに完全酸化される炭化水素量を一定に維持することが必要となる。単位時間当りに完全酸化される炭化水素量は一噴射当りの完全酸化炭化水素量RAを噴射周期ΔTKで徐した値RA/ΔTKで表すことができる。この場合、一噴射当りの完全酸化炭化水素RAは噴射量に比例し、噴射量は噴射時間WTKに比例するので単位時間当りに完全酸化される炭化水素量は噴射時間WTKを噴射周期ΔTKで徐した値WTK/ΔTKでもって代表することができる。従って排気浄化触媒13の温度をそのまま維持するためにはこの値WTK/ΔTKを図24に示される場合のWT/ΔTと等しくすればよいことになる。WTK/ΔTK=WT/ΔTとしたときの関係が図26に示されている。図26からわかるように排気浄化触媒13の温度をそのまま維持するためには噴射時間がWTからWTKに増大されたときには噴射周期をΔTからΔTKに増大することが必要となる。即ち、本発明による実施例では、排気ガス中に含まれるNO2をNOに還元すべきときには炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量を増大することによって排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が増大せしめられ、このとき炭化水素の噴射量が増大するにつれて炭化水素の噴射周期が長くされる。さて、図1に示される実施例では、排気浄化触媒13とNO2還元触媒15との間の機関排気通路内にパティキュレートフィルタ14が配置されており、前述したようにこのパティキュレートフィルタ14はNO2の生成能力を有している。従って、この実施例では、パティキュレートフィルタ14において生成されたNO2をNOに還元すべきときに排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素のすり抜け量が増大せしめられる。この場合、具体的に言うと図1に示される実施例では、パティキュレートフィルタ14上におけるNO2の生成量が予め定められている許容量を超えたときに、パティキュレートフィルタ14において生成されたNO2をNOに還元すべく排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素のすり抜け量が増大せしめられる。このことについて図27Aから27Cを参照しつつ説明する。図27Aは、パティキュレートフィルタ14からの全排出NOX量に対する排出NO2量を示す排出NO2比率NO2/NOXとパティキュレートフィルタ14の温度TC2との関係を示している。パティキュレートフィルタ14上におけるNO酸化反応NO1/2O2→NO2の酸化速度はパティキュレートフィルタ14が高温になるにつれて増大するが、この酸化反応は400°C程度で平衡に達し、パティキュレートフィルタ14の温度TC2が400°Cを超えると今度は酸化速度が低下する。従って、図27Aに示されるように、パティキュレートフィルタ14の温度TC2が400°C程度のときにパティキュレートフィルタ14からの排出NO2量はピークとなる。一方、図27Bは、パティキュレートフィルタ14からの全排出NOX量に対する排出NO2量を示す排出NO2比率NO2/NOXとパティキュレートフィルタ14上のパティキュレート堆積量Gとの関係を示している。パティキュレートフィルタ14上ではパティキュレート、即ちカーボンCがNO2に対して還元剤として作用するのでC2NO2→CO22NO、図27Bに示されるようにパティキュレート堆積量Gが増大するほど排出NO2量は減少する。図27Aおよび27Bからわかるように、パティキュレートフィルタ14上におけるNO2の生成量は、パティキュレートフィルタ14上のパティキュレート堆積量Gとパティキュレートフィルタ14の温度TC2との関数となる。図27Cのハッチングは、パティキュレートフィルタ14上におけるNO2の生成量が予め定められている許容量を超える領域を示しており、この領域はパティキュレート堆積量Gとパティキュレートフィルタ14の温度TC2から定まる。本発明による実施例ではパティキュレート堆積量Gとパティキュレートフィルタ14の温度TC2がこの領域内にあるときにNO2をNOに還元すべく炭化水素の供給量が増大せしめられる。従って、本発明による実施例ではこの領域は増量領域と称される。即ち、本発明による実施例では、別の言い方をすると、パティキュレートフィルタ14上におけるNO2の生成量が予め定められている許容量を超えるときのパティキュレート堆積量Gとパティキュレートフィルタ14の温度TC2との関係が予め記憶されており、パティキュレート堆積量Gとパティキュレートフィルタ14の温度TC2からこの記憶された関係に基づいてパティキュレートフィルタ14上におけるNO2の生成量が予め定められている許容量を超えたと判断されたときに、パティキュレートフィルタ14において生成されたNO2をNOに還元すべく排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素のすり抜け量が増大せしめられることになる。なお、パティキュレートフィルタ14上におけるNO2の生成量が予め定められている許容量を超えたとしても、NO2還元触媒15が活性化していないときに炭化水素のすり抜け量を増大させると炭化水素がそのまま大気中に放出されてしまうことになる。そこで本発明による実施例では、パティキュレートフィルタ14上におけるNO2の生成量が予め定められている許容量を超えたとしても、NO2還元触媒15が活性化していないときには、排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素のすり抜け量の増大作用を禁止するようにしている。図28および29にNOX浄化制御ルーチンを示す。このルーチンは一定時間毎の割込みによって実行される。図28を参照するとまず初めにステップ60において温度センサ24の出力信号から排気浄化触媒13の温度TC1が活性化温度TC1Zを越えているか否かが判別される。TC1≧TC1Zのとき、即ち排気浄化触媒13が活性化しているときにはステップ61に進んで図23Bに示されるマップから運転状態に応じた噴射時間WTが算出される。次いでステップ62において図23Cに示されるマップから運転状態に応じた噴射周期ΔTが算出される。次いでステップ63では、炭化水素のすり抜け量を増大すべきことを示す増量フラグがセットされているか否かが判別される。増量フラグがセットされていないときには、ステップ64に進んで差圧センサ26の出力信号に基づきパティキュレート堆積量Gが算出される。次いでステップ65では温度センサ25により検出されたパティキュレートフィルタ14の温度TC2が読込まれる。次いでステップ66では図27Cにおいてハッチングで示される増量領域か否かが判別される。増量領域でないときにはステップ69にジャンプし、ステップ61において算出された噴射時間WTおよびステップ62において算出された噴射周期ΔTでもって炭化水素の供給処理が行われる。このとき第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が実行される。次いで処理サイクルを完了する。これに対し、ステップ66において増量領域であると判別されたときにはステップ67に進んで温度センサ27の出力信号に基づきNO2還元触媒15の温度TC3が活性化温度TC3Zよりも高いか否かが判別される。NO2還元触媒15の温度TC3が活性化温度TC3Zよりも高いときには、即ちNO2還元触媒15が活性化しているときにはステップ68に進んで増量フラグがセットされる。これに対し、ステップ67においてNO2還元触媒15の温度TC3が活性化温度TC3Zよりも低いと判別されたとき、即ちNO2還元触媒15が活性化していないときには増量フラグがセットされことなく、ステップ69にジャンプする。増量フラグがセットされるとステップ63からステップ70に進んで炭化水素のすり抜け量の増大作用が開始される。即ち、まず初めにステップ70において炭化水素の増量係数KWが算出される。この増量係数KWは1.0よりも大きい値であって機関の運転状態に応じ予め記憶されている。次いでステップ71では、ステップ61において算出された噴射時間WTにこの増量係数KWを乗算することによって増量時の炭化水素の噴射時間WTK=KWWTが算出される。次いでステップ72では次式に基づいて増量時の炭化水素の噴射周期ΔTKが算出される。ΔTK←WTK/WTΔT上式からわかるように増量時における噴射周期ΔTKは増量時の噴射時間WTKが増大されるほど長くされる。次いでステップ73ではステップ71において算出された噴射時間WTKおよびステップ72において算出された噴射周期ΔTKでもって炭化水素の供給処理が行われる。このとき第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が実行されつつNO2をNOに還元する還元処理が行われる。次いでステップ74では図27Cにおいてハッチングで示される増量領域か否かが判別される。増量領域であると判別されたときにはステップ75に進んで温度センサ27の出力信号に基づきNO2還元触媒15の温度TC3が活性化温度TC3Zよりも高いか否かが判別される。NO2還元触媒15の温度TC3が活性化温度TC3Zよりも高いときには、即ちNO2還元触媒15が活性化しているときには処理サイクルを完了する。これに対し、ステップ74において増量領域でないと判断されたとき、又はステップ75においてNO2還元触媒15の温度TC3が活性化温度TC3Zよりも低いと判別されたときにはステップ76に進んで増量フラグがリセットされる。増量フラグがリセットされると増量作用が停止される。一方、ステップ60においてTC1<TC1Zであると判断されたときには第2のNOX浄化方法を用いるべきであると判断され、ステップ80に進む。ステップ80では図17に示すマップから単位時間当りの排出NOX量NOXAが算出される。次いでステップ81ではΣNOXに排出NOX量NOXAを加算することによって吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。次いでステップ82では吸蔵NOX量ΣNOXが許容値MAXを越えたか否かが判別される。ΣNOX>MAXになるとステップ83に進んで図19に示すマップから追加の燃料量WRが算出され、追加の燃料の噴射作用が行われる。次いでステップ84ではΣNOXがクリアされる。図30に別の実施例を示す。この実施例ではNO2還元触媒15としてNOX選択還元触媒を用いた場合を示している。この場合には図30に示されるようにNO2還元触媒15の上流に尿素水供給弁28が配置され、尿素水供給弁28から排気ガス中に尿素水が供給される。排気ガス中に含まれるNOXは尿素水から生成されたアンモニアによってもNOX選択還元触媒において還元される。この実施例においても、排気ガス中に含まれるNO2をNOに還元すべきときには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅を増大させることにより排気浄化触媒13をすり抜ける炭化水素のすり抜け量が増大せしめられる。このNOX選択還元触媒15は炭化水素の吸着機能を有しており、従ってこの実施例では排気浄化触媒13をすり抜けた炭化水素は一旦NOX選択還元触媒15に吸着される。排気ガス中に含まれるNO2はNOX選択還元触媒15に吸着されている炭化水素によってNOに還元される。なお、別の実施例として排気浄化触媒13上流の機関排気通路内に炭化水素を改質させるための酸化触媒を配置することもできる。"