カルボン酸の結晶を含むスラリーを、圧力下および溶媒の大気圧沸点より高い温度において操作されるフィルターに供給するステップ;不活性ガスを溶媒と混合するステップ;前記不活性ガスと溶媒の混合物をフィルターに供給するステップ;および分離された結晶のケークを取り出すステップを含み、フィルターから取り出される不活性ガスは再循環されない、溶媒中のスラリーからカルボン酸を分離するためのプロセス。スラリー入口、および、カルボン酸結晶のケークのための出口を備える圧力フィルター装置;不活性ガスと溶媒を混合するための手段;前記不活性ガスと溶媒の混合物を圧力フィルターに供給するための手段を含み、前記圧力フィルター装置は、圧力下および溶媒の大気圧沸点より高い温度で操作されるように構成され、かつ、このシステムは、フィルターから取り出される不活性ガスを再循環するための手段を含まない、溶媒中のスラリーからカルボン酸結晶を分離するためのシステム。カルボン酸が芳香族カルボン酸である、請求項1に記載のプロセスまたは請求項2に記載のシステム。粗または高純度テレフタル酸をそれらのスラリーから分離するための、請求項3に記載のプロセスまたはシステム。粗または高純度イソフタル酸をそれらのスラリーから分離するための、請求項3に記載のプロセスまたはシステム。圧力フィルターがロータリー圧力フィルターである、請求項1から5のいずれか一項に記載のプロセスまたはシステム。不活性ガスが窒素を含む、請求項1から6のいずれか一項に記載のプロセスまたはシステム。不活性ガスがカルボン酸の製造プロセスから供給される、請求項1から7のいずれか一項に記載のプロセスまたはシステム。フィルターケーシングの外側および/またはフィルターケーシングの内側でガスが溶媒と混合される、請求項1から8のいずれか一項に記載のプロセスまたはシステム。不活性ガスが溶媒で飽和される、請求項1から9のいずれか一項に記載のプロセスまたはシステム。混合物が、約50の不活性ガスと約50の溶媒、から、約10の不活性ガスと約90の溶媒、を含む、請求項1から10のいずれか一項に記載のプロセスまたはシステム。混合物が、約20の不活性ガスと約80の溶媒を含む、請求項1から10のいずれか一項に記載のプロセスまたはシステム。溶媒がガス状態である、請求項1から12のいずれか一項に記載のプロセスまたはシステム。従って、再循環ガスシステムが必要でなくなるように、フィルターのガス消費を低減することが望まれる。本発明によって、カルボン酸の結晶を含むスラリーを、圧力下および溶媒の大気圧沸点より高い温度において操作されるフィルターに供給するステップ;不活性ガスを溶媒と混合するステップ;前記不活性ガスと溶媒をフィルターに供給するステップ;および分離された結晶のケークを取り出すステップを含み、フィルターから取り出される不活性ガスは再循環されない、溶媒中のスラリーからカルボン酸を分離するためのプロセスが提供される。本発明の第2の態様によって、スラリー入口、および、カルボン酸結晶のケークのための出口を備える圧力フィルター装置;不活性ガスと溶媒を混合するための手段;前記不活性ガスと溶媒を圧力フィルターに供給するための手段を含み、前記圧力フィルター装置は、圧力下および溶媒の大気圧沸点より高い温度で操作されるように構成され、かつ、このシステムは、フィルターから取り出される不活性ガスを再循環するための手段を含まない、溶媒中のスラリーからカルボン酸結晶を分離するためのシステムが提供される。本発明のプロセスおよびシステムは、任意の結晶カルボン酸のために使用するのに適している。特に芳香族カルボン酸のための使用に好適である。特に、酢酸中のスラリーからの粗テレフタル酸の分離、または水中のスラリーからの高純度テレフタル酸の分離に好適である。高純度テレフタル酸は、少なくとも1つの精製工程に掛けられ、従って、テレフタル酸が生成される反応器から取り出された粗テレフタル酸よりも純度が高いテレフタル酸を意味する。また、高純度または粗イソフタル酸を含むスラリーの分離にも適する。任意の好適な圧力フィルターを使用することができ、ロータリー圧力フィルターが特に好ましい。圧力フィルターが使用されるため、濾過されるスラリーを冷却する必要がある真空システムとは異なり、圧力フィルターは溶媒の沸点より高い温度で操作される。従って、例えば、プロセスが酢酸からの粗テレフタル酸の分離に関する場合、フィルターは大気圧における酢酸の沸点より高い温度で操作されることになる。同様に、プロセスが水からの高純度テレフタル酸の分離に関する場合、フィルターは大気圧における水の沸点より高い温度で操作されることになる。フィルターが操作される温度および圧力は、分離される結晶によって決まることになる。結晶が粗テレフタル酸の結晶である場合に特に好適な一態様では、フィルター温度は110°Cから約160°Cであってよく、かつ、圧力は2から5バールbaraであってよい。135°Cから145°Cの範囲の温度が特に好ましい。分離される結晶が高純度テレフタル酸の結晶である場合の一態様では、フィルターの温度は約125°Cから約160°Cであってよく、圧力は2から5バールであってよい。特に好ましい温度は、約145°Cから約150°Cの範囲であってよい。本発明のプロセスおよびシステムでは、不活性ガスを溶媒と混合することにより必要な不活性ガス量が低減され、再循環システムはもはや必要ない。従って、本発明のプロセスにより、ガスを1回通過させるoncepass構成で使用することが可能となることが理解されるであろう。従って、これによりプロセスおよびシステムの資本および運転コストが低減され、かつ先行技術の構成における問題が解決される。さらに、必要な不活性ガス量が著しく減少するため、フィルターのために必要な反応器からのオフガス量は最小限に抑えられ、従って、電力を発生するために膨張器に送られるガス量を最大限に増加させ、システムの経済性をさらに向上させることができる。任意の好適な不活性ガスを使用することができる。一般に、窒素は好適な不活性ガスである。これは、カルボン酸が製造される反応器からのオフガスの一部として取り出すことができ、あるいは他の供給源から供給してもよい。混合されたとは、ガスが、フィルターケークを通過する前に溶媒と混合されることを意味する。従って、混合は、フィルターケーシングの外側で行われてもまたはフィルターケーシングの内側で行われてもよい。代替の態様では、必要な全溶媒の一部を、フィルターケーシングの外側で不活性ガスと混合することができる。必要な溶媒の残りの分は、フィルターケーシングの内側で加えることができる。任意の好適な量の溶媒を不活性ガスと混合することができる。一態様では、不活性ガスは溶媒で飽和されてよい。代替の態様では、得られる混合物は、不活性ガス約50と溶媒約50、から、不活性ガス約10と溶媒約90、を含む。好ましい態様では、フィルターに供給される混合物は、不活性ガス約20と溶媒約80を含むことになる。溶媒は、ガス状態で供給されてよく、不活性ガスと混合される。1つの代替の態様では、溶媒は、液体状態で供給されてよく、不活性ガスと混合された時点で気化し、ガス状混合物がフィルターに供給される。溶媒が液体として加えられる場合は、不活性ガスの熱により溶媒を気化させてもよい。しかしながら、必要であれば追加の加熱手段を備えることもできる。不活性ガスと混合される溶媒は、カルボン酸の結晶がフィルターに添加されるときにスラリー化される溶媒によって決まることになる。一般に溶媒は、結晶がスラリー化される溶媒と同じである。あるいは、溶媒自体は異なっていてもよいが、一般に相互に相溶性である。従って、スラリーが酢酸中の粗テレフタル酸である場合、不活性ガスと混合される溶媒は、好ましくは酢酸である。同様に、スラリーが水中の高純度テレフタル酸である場合、不活性ガスと混合される溶媒は、好ましくは水である。供給される不活性ガスがプロセスの他の場所から回収されたものである場合、ある特定の状況では、必要とされる溶媒蒸気の一部を既に含んでいる場合もある。本発明を、一例として、添付する図面を参照して、以下に説明する。図面は模式図であり、商業プラントにおいては、他の機器、例えば、還流ドラム、ポンプ、真空ポンプ、コンプレッサー、ガスリサイクルコンプレッサー、温度センサー、圧力センサー、圧力リリーフバルブ、制御バルブ、フローコントローラ、レベルコントローラ、保持タンク、貯蔵タンクなどが必要とされうることは当業者には理解されるであろう。そのような付属の機器を設けることは、本発明の一部ではなく、従来の化学エンジニアリングの通例に従う。例として、本発明のプロセスおよびシステムを、酢酸からのテレフタル酸の分離に関して説明する。図2に図示するように、酢酸中のテレフタル酸のスラリーは、テレフタル酸の結晶が圧力下で酢酸から分離されるロータリー圧力フィルター31に向けてライン30に送られる。ブローバックガスはライン32に導入され、ケーシングガスはライン33に導入される。濾液およびガスはライン34に取り出される。テレフタル酸の結晶のケークはライン35に取り出され、処理のために次に送られる。ケークの移動方向を矢印Tにより図示する。ライン32のブローバックガスおよびライン33中のケーシングガスは、ライン36に供給される不活性ガスとライン37に供給される溶媒とが混合されたものから形成される。一般に、溶媒は、不活性ガスに加えられる前に加熱され、気化することになる。あるいは、ガスと溶媒を混合した後に、溶媒の沸点より高い所望の温度に加熱してもよい。ライン34に取り出された濾液およびガスは、気液分離器38に送られる。ガスはパージとしてライン39に取り出され、濾液はポンプ41によりライン40に取り出される。従って、装置に必要とされるものは、図1に示される先行技術の構成より相当少ないことが理解されるであろう。代替の態様を図3に図示する。ここで対応する装置は同じ数字で特定されている。この態様では、溶媒はライン36の不活性ガス中には添加されず、フィルターケーシングに向けてライン42に供給され、溶媒蒸気と不活性ガスはケーシング内で混合される。プロセスは、溶媒蒸気がライン37と42の両方に添加される、図2および3に示される構成の組合せを含んでいてもよいことが理解されるであろう。不活性ガスおよび/または蒸気は反応スキームの上流から供給されてもよい。この一例を図4に示す。p-キシレンは反応器50で酸化されて、粗テレフタル酸が生成され、ライン51を通って結晶化ゾーン52へ送られる。結晶はポンプ54によりライン53に取り出され、フィルター供給ドラムfilterfeeddrum55に送られる。そこから、ポンプ56によりライン1を通ってロータリー圧力フィルター2へ送られる。ケーシングガスとして使用される不活性ガスは、結晶化ゾーン52に向けてライン57に導入されてよく、結晶化ゾーンで酢酸蒸気を捕捉する。次いで、混合された不活性ガスと酢酸蒸気は、ライン58を通ってフィルター2へ送られる。追加的にまたは代替的に、この流れをブローバックガスとして使用することができることが理解されるであろう。同様に、必要に応じて追加の蒸気および/または不活性ガスを供給することができる。実施例1および比較例2テレフタル酸を製造するためのプロセスを準備し、粗製の酸を酢酸中のスラリーとして、実施例1ではロータリー圧力フィルターを用いて本発明のシステムに送り、比較例2ではロータリー真空フィルターを用いて先行技術のシステムに送る。実施例1では、フィルターを3.5バール、差圧0.5で操作する。ガス流速は135°Cで7835kg/hrである。ガス組成は窒素25と酢酸75である。必要な窒素の流速は1950kg/hrである。比較例2では、フィルターを1.1バール、差圧0.5で操作する。ガス流速は55°Cで7200kg/hrである。ガス組成は窒素75と酢酸25である。必要な窒素の流速は5400kg/hrである。従って、本発明は、必要とされる不活性ガスの流速を64減少できることが理解される。