"2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,前記保護基が下記一般式Iで示される,リボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体。式中,Oは,リボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の2’位水酸基の酸素原子を示し,R1及びR2は同一でも異なってもよく,水素原子C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,又はC1-3ハロアルキル基を示しR3及びR4は同一でも異なってもよく,水素原子ハロゲン原子,C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,又はC1-3ハロアルキル基を示しR5,及びR6は同一でも異なってもよく,水素原子,ハロゲン原子C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,C1-3ハロアルキル基,1つ又は2つのC6-12アリール基で置換されたC1-3アルキル基,又は置換基を有してもよいC6-12アリール基を示しR7はハロゲン原子又はC1-3ハロアルキル基を示す。請求項1に記載の2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,R1~R4は同一でも異なってもよく,水素原子メチル基又はエチル基を示しR5及びR6は同一でも異なってもよく,水素原子,ハロゲン原子又はC1-3ハロアルキル基を示しR7はハロゲン原子を示す2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体。請求項1に記載の2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,R1~R4はいずれも水素原子を示しR5及びR6は同一でも異なってもよく,水素原子フッ素原子,塩素原子又は臭素原子を示しR7はフッ素原子,塩素原子又は臭素原子を示す2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体。請求項1に記載の2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,R1~R5はいずれも水素原子を示しR6は水素原子フッ素原子又は塩素原子を示しR7はフッ素原子又は塩素原子を示す2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体。請求項1に記載の2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,R1~R5はいずれも水素原子を示しR6は水素原子又は塩素原子を示しR7は塩素原子を示す2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体。請求項1に記載の2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,核酸塩基Bをアデノシン,グアノシン,シチジン又はウリジンとしたときに2’-O-2-クロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2,2-ジクロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2,2,2-トリクロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2,2-ジフルオロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B,2’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B,2’-O-2-クロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B,2’-O-2,2-ジクロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B,2’-O-2,2,2-トリクロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B,2’-O-2,2-ジフルオロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B,2’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B2’-O-2-クロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト2’-O-2,2-ジクロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,2’-O-2,2,2-トリクロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,2’-O-2,2-ジフルオロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,2’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,2’-O-2-ブロモエトキシメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2,2-ジブロモエトキシメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2,2,2-トリブロモエトキシメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2-ブロモエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,2’-O-2,2-ジブロモエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,又は2’-O-2,2,2-トリブロモエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイトである,2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体。請求項1に記載の2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,核酸塩基Bをアデノシン,グアノシン,シチジン又はウリジンとしたときに2’-O-2-クロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト又は2’-O-2,2-ジクロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイトである,2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体。下記一般式Iで示される2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の製造方法であって,下記一般式IIで示される化合物に下記一般式IIIで示される化合物を作用させる工程を含む,方法。一般式I中,Oは,リボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の2’位水酸基の酸素原子を示し,R1及びR2は同一でも異なってもよく,水素原子C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,又はC1-3ハロアルキル基を示しR3及びR4は同一でも異なってもよく,水素原子ハロゲン原子,C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,又はC1-3ハロアルキル基を示しR5,及びR6は同一でも異なってもよく,水素原子,ハロゲン原子C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,C1-3ハロアルキル基,1つ又は2つのC6-12アリール基で置換されたC1-3アルキル基,又は置換基を有してもよいC6-12アリール基を示しR7はハロゲン原子又はC1-3ハロアルキル基を示す。一般式II中Bは保護基で保護されてもよい核酸塩基を示し,R21,R22R23及びR24は,同一でも異なってもよく,直鎖又は分岐してもよいC1-5アルキル基C1-5アルコキシ基又はC1-5ハロアルキル基を示し,R1及びR2は一般式IにおけるR1及びR2と同義である。一般式III中,R3~R7は,一般式IにおけるR3~R7と同義である。請求項8に記載の2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の製造方法であって,前記一般式IIで示される化合物に前記一般式IIIで示される化合物を作用させ,下記一般式IVで示される化合物を得た後,前記一般式IVで示される化合物と,C1-3アルコールと反応させ,下記一般式Vで示される化合物を得る工程と,前記一般式Vで示される化合物とハロゲン化ジメトキシトリフェニルメチルと反応させ,一般式VIで示される化合物を得る工程を含む,方法。一般式IV中,Bは保護基で保護されてもよい核酸塩基を示し,R1~R7は,一般式IにおけるR1~R7と同義であり,R21~R24は,一般式IIにおけるR21~R24と同義である。一般式V中,Bは保護基で保護されてもよい核酸塩基を示し,R1~R7は,一般式IにおけるR1~R7と同義である。一般式VI中,Bは保護基で保護されてもよい核酸塩基を示し,R1~R7は,一般式IにおけるR1~R7と同義であり,式DMTrは4,4’-ジメトキシトリチル基を示す。る。請求項9に記載の2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の製造方法であって,前記一般式VIで示される化合物を得る工程の後に,前記一般式VIで示される化合物と下記一般式VIIで示される化合物を反応させ,下記一般式VIIIで示される化合物を得る工程を含む,方法。一般式VII中,R31~R34は,同一でも異なってもよく,水素原子C1-3アルキル基又はC1-3ハロアルキル基を示しR35~R36は,同一でも異なってもよく,C1-5アルキル基又はC1-5ハロアルキル基を示しR37は,ハロゲン原子を示す。一般式VIII中,Bは保護基で保護されてもよい核酸塩基を示し,R1~R7は,一般式IにおけるR1~R7と同義でありR31~R36は,一般式VIIにおけるR31~R36と同義であり式DMTrは4,4’-ジメトキシトリチル基を示す。本発明は,高い二重鎖形成能を有する新規の修飾RNAを製造することを目的とする。本発明は,付加する核酸塩基によらずに採用できる修飾RNAの効果的な製造方法を提供することを目的とする。本発明は,基本的には,アルコキシメチル系保護基を有するリボヌクレオシド等の修飾体について,保護基部分にハロゲン原子を置換基として導入することで,高い二重鎖形成能を付与できたという実施例による知見に基づく。先述したとおり,アルコキシメチル系保護基を有するRNAの修飾体は,二重鎖形成能が低かった。しかし本発明のハロゲン置換アルコキシメチル系保護基を有するRNAの修飾体は,核酸の2’-O-メチル修飾体と同程度の高い二重鎖形成能を示した。また本発明は,アルコキシメチル骨格を有するリボヌクレオシド等の修飾体について,保護基部分にハロゲン原子を置換基として導入することで,RNAの核酸塩基の種類によらずRNAの修飾体を容易に合成できるという実施例による知見に基づく。先述したとおり,2’-O-メチル修飾体や2’-O-メトキシエチル修飾体は,RNAに含まれる核酸塩基により適切な合成方法を検討しなければならず,合成できていない修飾体もある。一方本発明の製造方法は,RNAに含まれる核酸塩基によらず,共通の方法で2’-修飾体を製造することができる。すなわち本発明の製造方法は先に説明した高い二重鎖形成能を有する2’-修飾体を,RNA中の核酸塩基の種類によらず容易に合成できる方法であるといえる。本発明の第1の側面は,2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体に関する。そしてリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の2’-位の酸素原子をOとして表現した場合,保護基が下記一般式Iで示される。式中,Oは,リボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の2’位水酸基の酸素原子を示す。なお,上記の式Iにおいて,Oと接続されている部位が保護基部分である。このため上記一般式Iでは,リボース及び核酸塩基を含む部分をかっこで括っている。リボヌクレオチドは,RNAを構成する単位である。そして,リボヌクレオシドは,リボース及び核酸塩基を含む。リボヌクレオシドリン酸がリボヌクレオチドである。リボヌクレオシド又はリボヌクレオチドの誘導体は,RNAを構成するリボヌクレオシド又はリボヌクレオチドに1又は複数の置換基が付加したものである。置換基の例は,リボヌクレオシド又はリボヌクレオチドの水素原子と置換されるC1-3アルキル基又はC1-3ハロアルキル基であるが,これらに限定されない。一般式Iにおいて,R1及びR2は同一でも異なってもよく,水素原子C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,又はC1-3ハロアルキル基を示す。R3及びR4は同一でも異なってもよく,水素原子ハロゲン原子,C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,又はC1-3ハロアルキル基を示す。R5及びR6は同一でも異なってもよく,水素原子,ハロゲン原子C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,C1-3ハロアルキル基,1つ又は2つのC6-12アリール基で置換されたC1-3アルキル基,又は置換基を有してもよいC6-12アリール基を示す。R7はハロゲン原子又はC1-3ハロアルキル基を示す。C1-3アルキル基は,1から3個の炭素原子を持つ直鎖アルキル基,3個の炭素原子を持つ分鎖アルキル基,又は3個の炭素原子を持つ環状アルキル基を意味する。C1-3直鎖アルキル基の例は,メチル基,エチル基,及びプロピル基である。C1-3分鎖アルキル基の例は,イソプロピル基である。C1-3環状アルキル基の例は,シクロプロピル基である。C1-3アルキル基は,直鎖又は分鎖アルキル基が好ましい。C2-3アルケニル基は,2個又は3個の炭素原子を有し,少なくとも1つの二重結合を有する直鎖アルケニル基,3個の炭素原子を有する分鎖アルケニル基を意味する。C2-3アルケニル基の例は,ビニル基及びアリール基である。C2-3アルキニル基とは2個又は3個の炭素原子を有し,少なくとも1つの三重結合を有する直鎖アルキニル基を意味する。C2-3アルキニル基の例は,2-プロピニル基である。ヒドロキシC2-3アルキル基は,少なくとも1つのヒドロキシ基で置換されたC2-3アルキル基を意味する。ヒドロキシC2-3アルキル基の例は,2-ヒドロキシエチル基及び3-ヒドロキシプロピル基である。C1-3ハロアルキル基は,ハロゲノC1-3アルキル基と同義であり,フッ素原子,塩素原子,臭素原子及びヨウ素原子の少なくとも1つで水素原子が置換されたC1-3アルキル基を意味する。C1-3ハロアルキル基の例は,2-クロロエチル基,2-ブロモエチル基,2-ヨ-ドエチル基,及び3-クロロプロピル基である。1つ又は2つのC6-12アリール基で置換されたC1-3アルキル基は,C1-3アルキル基の水素原子の1つ又は2つがC6-12アリール基で置換されたものを意味する。1つ又は2つのC6-12アリール基で置換されたC1-3アルキル基の例は,ベンジル基;ジフェニルメチル基;2-フェニルエチル基;2-フェニルプロピル基;1-メチル-1-フェニルエチル基;2-ニトロベンジル基;3-ニトロベンジル基;4-ニトロベンジル基;2,4-ジニトロベンジル基;2,4,6-トリニトロベンジル基;2-フェニルベンジル基;3-フェニルベンジル基;4-フェニルベンジル基;2-ヒドロキシベンジル基;3-ヒドロキシベンジル基;4-ヒドロキシベンジル基;2-クロロベンジル基;3-クロロベンジル基;4-クロロベンジル基;2-フルオロベンジル基;3-フルオロベンジル基;4-フルオロベンジル基;2-ブロモベンジル基;3-ブロモベンジル基;4-ブロモベンジル基;2-ヨ-ドベンジル基;2,3-ジクロロベンジル基;2,4-ジクロロベンジル基;2,5-ジクロロベンジル基;2,6-ジクロロベンジル基;3,4-ジクロロベンジル基;3,5-ジクロロベンジル基;2-メチルベンジル基;3-メチルベンジル基;4-メチルベンジル基;2-エチルベンジル基;3-エチルベンジル基;4-エチルベンジル基;2-イソプロピルベンジル基;3-イソプロピルベンジル基;4-イソプロピルベンジル基;2-メトキシベンジル基;3-メトキシベンジル基;4-メトキシベンジル基;2,3-ジメトキシベンジル基;2,4-ジメトキシベンジル基;2,5-ジメトキシベンジル基;2,6-ジメトキシベンジル基;3,4-ジメトキシベンジル基;3,5-ジメトキシベンジル基;2-エトキシベンジル基;3-エトキシベンジル基;4-エトキシベンジル基;2-イソプロポキシベンジル基;3-イソプロポキシベンジル基;4-イソプロポキシベンジル基;2-メトキシメチルベンジル基;3-メトキシメチルベンジル基;4-メトキシメチルベンジル基;2-イソプロポキシメチルベンジル基;3-イソプロポキシメチルベンジル基;4-イソプロポキシメチルベンジル基;2-トリフルオロメチル基;3-トリフルオロメチル基;4-トリフルオロメチル基;2-ヒドロキカルボニルベンジル基;3-ヒドロキカルボニルベンジル基;4-ヒドロキカルボニルベンジル基;2-アミノベンジル基;3-アミノベンジル基;4-アミノベンジル基;2-アミノメチルベンジル基;3-アミノメチルベンジル基;4-アミノメチルベンジル基;2-シアノベンジル基;3-シアノベンジル基;4-シアノベンジル基;2-ヒドロキシメチルベンジル基;3-ヒドロキシメチルベンジル基;4-ヒドロキシメチルベンジル基;2-フェノキシベンジル基;3-フェノキシベンジル基;及び4-フェノキシベンジル基である。C6-12アリール基は,炭素数が6~12の多環芳香族を意味する。C6-12アリール基の例は,フェニル基,1-ナフチル基及び2-ナフチル基である。置換基を有してもよいC6-12アリール基は,C6-12アリール基における1又は2以上の水素原子が,他の原子又は基により置換されたものを意味する。置換基を有してもよいC6-12アリール基における置換基の例は,ハロゲン原子,C1-3アルキル基,C1-3アルコキシ基,及びヒドロキシC2-3アルキル基である。ハロゲン原子の例は,フッ素原子,塩素原子,臭素原子及びヨウ素原子である。ハロゲン原子として,フッ素原子又は塩素原子が好ましく用いられる。第1の側面の好ましい態様は,上記した2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,置換基が以下の基で示されるものである。すなわち,R1~R4は同一でも異なってもよく,水素原子メチル基又はエチル基を示す。R5及びR6は同一でも異なってもよく,水素原子,ハロゲン原子又はC1-3ハロアルキル基を示す。そして,R7はハロゲン原子を示す。第1の側面の好ましい態様は,上記した2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,置換基が以下の基で示されるものである。すなわち,R1~R4はいずれも水素原子を示す。R5及びR6は同一でも異なってもよく,水素原子フッ素原子,塩素原子又は臭素原子を示す。R7はフッ素原子,塩素原子又は臭素原子を示す。第1の側面の好ましい態様は,上記した2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,置換基が以下の基で示されるものである。すなわち,R1~R5はいずれも水素原子を示す。R6は水素原子フッ素原子又は塩素原子を示す。R7はフッ素原子又は塩素原子を示す。第1の側面の好ましい態様は,上記した2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,置換基が以下の基で示されるものである。すなわち,R1~R5はいずれも水素原子を示す。R6は水素原子又は塩素原子を示しR7は塩素原子を示す。後述する実施例により示された通り2-クロロエトキシキメチル基及び2,2-ジクロロエトキシキメチル基を2’-位の保護基として有する核酸は高い二重鎖形成能を有する新規物質である。第1の側面の好ましい態様は,上記した2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体であって,上記一般式IにおいてR7がC1-3ハロアルキル基である場合,C1-3ハロアルキル基の例はクロロメチル基;ジクロロメチル基;トリクロロメチル基;1-クロロエチル基;2-クロロエチル基;1,1,-ジクロロエチル基;1,2-ジクロロエチル;2,2-ジクロロエチル基;1-クロロプロピル基;2-クロロプロピル基;1,1,-ジクロロプロピル基;1,2-ジクロロプロピル;又は2,2-ジクロロプロピル基であることが好ましい。R7がC1-3ハロアルキル基である場合,R1~R6は,水素原子であるものが好ましい。第1の側面の好ましい態様は,核酸塩基Bをアデノシン,グアノシン,シチジン又はウリジンとしたときに以下の化合物である。核酸塩基Bは,リボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体を構成する核酸塩基である。すなわち,好ましい化合物は,2’-O-2-クロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2,2-ジクロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2,2,2-トリクロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2,2-ジフルオロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B,2’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B,2’-O-2-クロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B,2’-O-2,2-ジクロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B,2’-O-2,2,2-トリクロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B,2’-O-2,2-ジフルオロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B,2’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B2’-O-2-クロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト2’-O-2,2-ジクロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,2’-O-2,2,2-トリクロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,2’-O-2,2-ジフルオロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,2’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,2’-O-2-ブロモエトキシメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2,2-ジブロモエトキシメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2,2,2-トリブロモエトキシメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイル核酸塩基B2’-O-2-ブロモエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,2’-O-2,2-ジブロモエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト,又は2’-O-2,2,2-トリブロモエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイトである。2-ブロモエトキシメチル基を含め,臭素置換体は,塩素置換体と同様有用な化合物であると考えられる。第1の側面の好ましい態様は,核酸塩基Bをアデノシン,グアノシン,シチジン又はウリジンとしたときに2’-O-2-クロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト又は2’-O-2,2-ジクロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイル核酸塩基B3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイトである。本発明の第2の側面は,下記一般式Iで示される2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の製造方法に関する。この方法において,リボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体は,第1の側面において説明したいずれの化合物をも採用できる。そして,この方法は,下記一般式IIで示される化合物に下記一般式IIIで示される化合物を作用させる工程を含む。一般式I中,Oは,リボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の2’位水酸基の酸素原子を示し,R1~R7は先に説明したと同義である。一般式II中Bは保護基で保護されてもよい核酸塩基を示し,R21,R22R23及びR24は,同一でも異なってもよく,直鎖又は分岐してもよいC1-5アルキル基C1-5アルコキシ基又はC1-5ハロアルキル基を示し,R1及びR2は一般式IにおけるR1及びR2と同義である。保護基で保護されてもよい核酸塩基における核酸塩基は,RNAに含まれる塩基を含む置換基を意味し,具体的にはアデノシン,グアノシン,シチジン又はウリジンである。本発明における核酸塩基の例は,アデニン,グアニン,シトシン,ウラシル又はそれらの誘導体である。核酸塩基の誘導体の例は,5-メチルシトシン;5-ヒドロキシメチルシトシン;5-フルオロウラシル;チオウラシル;6-アザウラシル;5-ヒドロキシウラシル;2,6-ジアミノプリン;アザアデニン;アザグアニン;及びイソグアニンである。保護基で保護されてもよい核酸塩基における,保護基で保護された核酸塩基の例は,核酸塩基中のアミノ基中の原子が脱離できる基により置換されたものである。核酸塩基中のアミノ基の保護基の例は,アセチル基;プロピオニル基;ブチリル基;イソブチリル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル基;4-メチルベンゾイル基;4-メトキシベンゾイル基;フェニルアセチル基;フェノキシアセチル基;4-tert-ブチルフェノキシアセチル基;4-イソプロピルフェノキシアセチル基等の芳香族アシル基;ハロゲン原子;C1-10アルキル基;C1-10アルキルオキシ基等の置換基を有する脂肪族アシル基又は芳香族アシル基;2-シアノエチル基;2-p-ニトロフェニルエチル基;2-ベンゼンスルホニルエチル基;ジメチルアミノメチレン基;ジブチルアミノメチレン基;2-シアノエトキシカルボニル基;2-p-ニトロフェニルエトキシカルボニル基;2-ベンゼンスルホニルエトキシカルボニル基である。C1-5アルキル基は,炭素数が1個~5個のアルキル基である。C1-5直鎖アルキル基の例はメチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,及びペンチル基である。C1-5分鎖アルキル基の例はイソプロピル基,イソブチル基,1-メチルプロピル基,t-ブチル基,1-メチルブチル基,2-メチルブチル基,3-メチルブチル基,1-エチルプロピル基,1,1-ジメチルプロピル基,2,2-ジメチルプロピル基,1,2-ジメチルプロピル基である。C1-5環状アルキル基の例はシクロプロピル基,シクロブチル基,及びシクロペンチル基である。C1-5アルコキシ基は,炭素数が1個~5個のアルコキシ基である。C1-5アルコキシ基の例は,メトキシ基,エトキシ基,及びプロピルオキシ基である。C1-5ハロアルキル基は,炭素数が1個~5個のハロアルキル基である。R21~R24の好ましい例は,C2-4アルキル基であり,具体的なR21~R24は,エチル基,プロピル基,イソプロピル基,n-ブチル基,sec-ブチル基,イソブチル基,又はter-ブチル基である。一般式III中,R3~R7は,一般式IにおけるR3~R7と同義である。この工程は,たとえば,一般式IIで示される化合物を適切な溶媒により乾燥させた後,溶媒に溶解させる。溶媒の例は,THFである。この溶液に,一般式IIIで示される化合物を加える。そして,溶液を-50°C以上-20°C以下,好ましくは-45°C以上-30°C以下に冷却する。その後,NISやNBSといったハロゲン源及びトルエンスルホン酸やトリフロオロメタンスルホン酸等の有機酸を撹拌しつつ添加する。撹拌時間の例は,30分以上2時間以下である。反応を中止させるためには,トリエチルアミンなどの塩基を添加すればよい。その後,精製する。このようにして後述する一般式IVで示されるリボヌクレオシドを得ることができる。この一般式IVで示される化合物を用いることで,後述するように一般式Iで示される化合物を得ることができる。本発明の第2の側面は,上記の工程の後に以下の工程を含むものが好ましい。すなわち,先に説明した工程で,一般式IIで示される化合物に一般式IIIで示される化合物を作用させ,下記一般式IVで示される化合物を得る。その後,前記一般式IVで示される化合物とC1-3アルコールとを反応させ,脱保護することにより,下記一般式Vで示される化合物を得る。一般式IV中,Bは保護基で保護されてもよい核酸塩基を示し,R1~R7は,一般式IにおけるR1~R7と同義であり,R21~R24は,一般式IIにおけるR21~R24と同義である。保護基で保護されてもよい核酸塩基は,一般式IIにおけるものと同義である。一般式V中,Bは保護基で保護されてもよい核酸塩基を示し,R1~R7は,一般式IにおけるR1~R7と同義である。この工程は,たとえば,一般式IVで示される化合物を乾燥させた後に行う。そして,C1-3アルコール低級アルコールに溶解させる。低級アルコールの例は,メタノール又はエタノールである。溶液に例えばフッ化アンモニウムを添加し,撹拌する。撹拌時の温度は,30°C以上60°C以下であっても,45°C以上55°C以下であってもよい。反応時間は,3時間以上1日以下であり,4時間以上7時間以下でもよい。得られた化合物を公知の方法で濃縮又は抽出する。次に,前記一般式Vで示される化合物とハロゲン化ジメトキシトリフェニルメチルと反応させ,一般式VIで示される化合物を得る。一般式VI中,Bは保護基で保護されてもよい核酸塩基を示し,R1~R7は,一般式IにおけるR1~R7と同義であり,式DMTrは4,4’-ジメトキシトリチル基を示す。ハロゲン化ジメトキシトリフェニルメチルの例は,4,4’-ジメトキシトリチルクロライドである。本発明の第2の側面は,先に説明した工程の後に,さらに以下の工程を有するものが好ましい。すなわち,先に説明した工程で得られた一般式VIで示される化合物と下記一般式VIIで示される化合物を反応させ,下記一般式VIIIで示される化合物を得る工程を含む。一般式VII中,R31~R34は,同一でも異なってもよく,水素原子C1-3アルキル基又はC1-3ハロアルキル基を示しR35及びR36は,同一でも異なってもよく,C1-5アルキル基又はC1-5ハロアルキル基を示しR37は,ハロゲン原子を示す。R31~R34の好ましい例は,同一でも異なってもよく,水素原子,又はメチル基である。なお,R31~R34は,いずれも水素原子であるものが最も好ましい。R35及びR36の好ましい例は,C2-4アルキル基であり,具体的なR21~R24は,エチル基,プロピル基,イソプロピル基,n-ブチル基,sec-ブチル基,イソブチル基,又はter-ブチル基である。R37の好ましい例は,フッ素原子,塩素原子又は臭素原子である。一般式VIII中,Bは保護基で保護されてもよい核酸塩基を示し,R1~R7は,一般式IにおけるR1~R7と同義でありR31~R36は,一般式VIIにおけるR31~R36と同義であり式DMTrは4,4’-ジメトキシトリチル基を示す。この工程は,一般式VIで示される化合物を適宜乾燥させる。この化合物を溶媒に溶解させ,式VIIで示される化合物を滴下する。例えば,20°C以上30°C以下の温度で,30分以上2時間以下撹拌する。反応を停止するためには低級アルコールを加えればよい。本発明は,基本的には,アルコキシメチル系保護基を有するRNAの修飾体について,保護基部分にハロゲン原子を置換基として導入することで,高い二重鎖形成能を付与できる。また本発明は,アルコキシメチル骨格を有するRNAの修飾体について,保護基部分にハロゲン原子を置換基として導入することで,RNAの核酸塩基の種類によらずRNAの修飾体を容易に合成できる。先に説明したとおり,本発明の第1の側面は,2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体に関する。そしてリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の2’-位の酸素原子をOとして表現した場合,保護基が下記一般式Iで示される。式中,Oは,リボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の2’位水酸基の酸素原子を示す。なお,Oと接続されている部位が保護基部分である。このため上記一般式Iでは,リボース及び核酸塩基を含む部分をかっこで括っている。リボヌクレオチドは,RNAを構成する単位である。そして,リボヌクレオシドは,リボース及び核酸塩基を含む。リボヌクレオシドリン酸がリボヌクレオチドである。リボヌクレオシド又はリボヌクレオチドの誘導体は,RNAを構成するリボヌクレオシド又はリボヌクレオチドに1又は複数の置換基が付加したものである。置換基の例は,リボヌクレオシド又はリボヌクレオチドの水素原子と置換されるC1-3アルキル基又はC1-3ハロアルキル基である。一般式Iにおいて,R1及びR2は同一でも異なってもよく,水素原子C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,又はC1-3ハロアルキル基を示す。R3及びR4は同一でも異なってもよく,水素原子ハロゲン原子,C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,又はC1-3ハロアルキル基を示す。R5及びR6は同一でも異なってもよく,水素原子,ハロゲン原子C1-3アルキル基,C2-3アルケニル基,C2-3アルキニル基,ヒドロキシC2-3アルキル基,C1-3ハロアルキル基を示す。R7はハロゲン原子又はC1-3ハロアルキル基を示す。本発明は,上記のリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体を含むオリゴリボ核酸オリゴRNAをも提供する。そして,オリゴリボ核酸オリゴRNAは,アンチセンスRNA,siRNA,及びアプタマーを含む医薬品素材となる。このため,本発明は,上記のリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体を含む試薬,アンチセンスRNA用試薬,siRNA用試薬,及びアプタマー用試薬をも提供する。先に説明したとおり,本発明の第2の側面は,2’-位に保護基を有するリボヌクレオシドリボヌクレオチド,またはそれらの誘導体の製造方法に関する。この製造方法については,後述する実施例に基づいて,当業者が公知の方法を適宜採用することで調整した者も本発明の第2の側面に含まれる。以下,実施例を示し,本発明を具体的に説明する。しかしながら,本発明は,実施例に限定されず,当業者に自明な範囲で適宜修正したもの本発明に含まれる。測定系NMR[1HNMR300MHz31PNMR121MHz]測定には,ヴァリアンマーキュリー300VarianMERCURY300300MHzを用いた。1HNMRはCDCl3中テトラメチルシランtetramethylsilaneを外部標準として用いた。31PNMRは85H3PO4を外部標準として用いた。UV/visスペクトル測定には,JASCOV-550UV/visスペクトロフォトメータspectrophotometerを用いた。モルディタイムオブフライト質量分析MALDI-TOF-MS測定には,アプライドバイオシステム社製ボイジャーDESTRスペクトロメータAppliedBiosystemsVoyager-DESTRspectrometerを用いた。薄相クロマトグラフィーには,TLCプレートシリカゲルTLCplatesSilicagel60F254メルクNo5715を用いた。シリカゲルカラムクロマトグラフィーには,カントーシリカゲルKantosilicagel60Nsphericalneutral63-210マイクロmを用いた。逆相Reversed-phaseHPLCには,マイクロボンドアスフェアμBondasphere5μmC18column,またはソース5RPCST46150を用いた。反応に用いた溶媒は,市販のものを適切に蒸留し,ナトリウムまたはモレキュラーシーブMSで乾燥したものを用いた。反応は全てアルゴンAr雰囲気下に行った。2’-O-ハロアルコシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイトの合成2 ́-O-haloalchoxymethyl-5 ́-O-uridine3 ́-以下のスキーム1~3をOhgiTKitagawaHYanoJCurrentProtocolsinNucleicAcidChemistry20082151-21519に記載の方法を参照して行った。2’-O-ハロアルコシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジン2a-eの調整2 ́-O-haloalchoxymethyl-3 ́5 ́-O-uridineスキーム1スキーム1において,NISは,N-ヨードスクシンイミドを示す。TfOHは,トリフルオロメタンスルホン酸を示す。THFは,テトラヒドロフランを示す。2’-O-2-クロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジン2a2 ́-O-ethoxymethyl-3 ́5 ́-O-uridine式1で示される化合物2’-O-メチルチオメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジン12 ́-O-methylthiomethyl-3 ́5 ́-O-uridineをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,THFに溶解させた。これに2-クロロエタノールを加え,-40°Cに冷却した。その後,N-ヨードスクシンイミドを加え,トリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。反応混合物を-40°Cで1時間撹拌した後,トリエチルアミンを7ml加えて反応を停止した。これにジクロロメタンを加え,10Na2S2O3水溶液,飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー3×10cm30gのシリカゲルジクロロメタン-メタノールdichloromethane-methanolによって精製することにより,式2aで示される化合物を得た。1HNMRd951d790d575d569d505d499d429-367d111-0932’-O-2,2-ジクロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジン2b2 ́-O-ethoxymethyl-3 ́5 ́-O-uridine上記式1で示される2’-O-メチルチオメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,THFに溶解させた。これに22-ジクロロエタノール,モレキュラーシーブス4Aを加え,-40°Cに冷却した後,N-ヨードスクシンイミドを加え,トリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。反応混合物を-40°Cで1時間撹拌した後,トリエチルアミンを5ml加えて反応を停止した。これにジクロロメタンを加え,10Na2S2O3水溶液,飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー2×10cm20gofsilicageldichloromethane-methanolによって精製することにより,式2bで示される化合物を得た。1HNMRd809d789d586d572d569-566d509d502d429-396d111-0932’-O-2,2,2-トリクロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジン2c2 ́-O-ethoxymethyl-3 ́5 ́-O-uridine上記式1で示される2’-O-メチルチオメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,THFに溶解させた。これに222-トリクロロエタノール,モレキュラーシーブス4A,及びN-ヨードスクシンイミドを加え,-40°Cに冷却した後,トリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。反応混合物を-40°Cで1時間撹拌した後,トリエチルアミンを15ml加えて反応を停止した。これにジクロロメタンを加え,10Na2S2O3水溶液,飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー3×17cm25gofsilicageldichloromethane-methanolによって精製することにより式2cで示される化合物を得た。1HNMRd835d789d575d568d523d516d435-396d111-0962’-O-2,2-ジフルオロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジン2d2 ́-O-ethoxymethyl-3 ́5 ́-O-uridine上記式1で示される2’-O-メチルチオメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,THFに溶解させた。これに22-ジフルオロエタノール,及びモレキュラーシーブス4Aを加え,-40°Cに冷却した後,N-ヨードスクシンイミドを加え,トリフルオロメタンスルホン酸を滴下した。反応混合物を-40°Cで1時間撹拌した後,トリエチルアミンを10ml加えて反応を停止した。これにジクロロメタンを加え,10Na2S2O3水溶液,飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー4×16cm80gofsilicageldichloromethane-methanolによって精製することで式2dで示される化合物を得た。1HNMRd890d790d617-577d573d569d506d497d429-377d114-0912’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジン2e2 ́-O-ethoxymethyl-3 ́5 ́-O-uridine上記式1で示される2’-O-メチルチオメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,THFに溶解させた。これに222-トリフルオロエタノール,モレキュラーシーブス4Aを加え,-40°Cに冷却した後,N-ブロモスクシンイミドを加え,p-トルエンスルホン酸を滴下した。反応混合物を-40°Cで1時間撹拌した後,トリエチルアミンを3ml加えて反応を停止した。これにジクロロメタンを加え,10Na2S2O3水溶液,飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー4×8cm40gofsilicageldichloromethane-methanolによって精製を行なった。式2eで示される化合物を得ることはできたものの,アノマー異性体と考えられる副生成物の除去が困難であったため,これ以上の精製は行なわずこのまま次の反応に用いた。2’-O-ハロアルコシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン4a-eの合成2 ́-O-haloalchoxymethyl-5 ́-O-uridineスキーム2上記スキーム2において,MeOHはメタノールを示す。DMTrClは,4,4’-ジメトキシトリチリルクロライドを示す。Pyridineはピリジンを示す。rtは室温を示す。2’-O-2-クロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン4a2 ́-O-ethoxymethyl-5 ́-O-uridine式2aで示される2’-O-2-クロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジンをピリジン,及びによって共沸乾燥を行ない,メタノールに溶解させた。これにフッ化アンモニウムを加え,50°Cで7時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し,アセトニトリルを加え,不溶物をろ過により除去した。これをヘキサンで洗浄し,集めた洗液をアセトニトリルで抽出した。集めた有機層を減圧下濃縮し,これ以上の精製は行なわず次の反応に用いた。粗精製物をピリジンによって共沸乾燥を行ない,ピリジンに溶解させた。これに4,4’-ジメトキシトリチリルクロライド44 ́-dimethoxytritylchloride:DMTrClを加え,室温で3日間撹拌した。メタノールで反応を停止した後,溶媒を減圧下留去し,ジクロロメタンを加えた。これを飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー3×14cm40gofsilicageldichloromethane-methanol-pyridineによって精製することにより式4aで示される化合物を得た。1HNMRd935d794d740-682d603d533-530d503d493d450d436-433d409-407d389-363d354-352d2742’-O-2,2-ジクロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン4b2 ́-O-ethoxymethyl-5 ́-O-uridine式2bで示される化合物2’-O-2,2-ジクロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジンをピリジン,及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,メタノールに溶解させた。これにフッ化アンモニウムを加え,50°Cで4時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し,アセトニトリルを加え,不溶物をろ過により除去した。これをヘキサンで洗浄し,集めた洗液をアセトニトリルで抽出した。集めた有機層を減圧下濃縮し,これ以上の精製は行なわず次の反応に用いた。粗精製物をピリジンによって共沸乾燥を行ない,ピリジンに溶解させた。これにDMTrClを加え,室温で10時間撹拌した。メタノールで反応を停止した後,溶媒を減圧下留去し,ジクロロメタンを加えた。これを飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー3×14cm40gofsilicageldichloromethane-methanol-pyridineによって精製することで式4bで示される化合物を得た。1HNMRd824d796d739-683d601d580d578-531d511d498d453-446d435-432d406-404d402-400d380d361-351d2412’-O-2,2,2-トリクロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン4c2 ́-O-ethoxymethyl-5 ́-O-uridine式2cで示される化合物2’-O-2,2,2-トリクロロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,メタノールに溶解させた。これにフッ化アンモニウムを加え,50°Cで7時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し,アセトニトリルを加え,不溶物をろ過により除去した。これをヘキサンで洗浄し,集めた洗液をアセトニトリルで抽出した。集めた有機層を減圧下濃縮し,これ以上の精製は行なわず次の反応に用いた。粗精製物をピリジンによって共沸乾燥を行ない,ピリジンに溶解させた。これにDMTrClを加え,室温で18時間撹拌した。メタノールで反応を停止した後,溶媒を減圧下留去し,ジクロロメタンを加えた。これを飽和食塩水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー2×10cm25gofsilicageldichloromethane-methanol-pyridineによって精製することにより式4cで示される化合物を得た。1HNMRd827d795d740-683d604d533-529d522d511d452-448d441-439d429-420d410-408d380d357-353d2422’-O-2,2-ジフルオロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン4d2 ́-O-ethoxymethyl-5 ́-O-uridine式2dで示される化合物2’-O-2,2-ジフルオロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,メタノールに溶解させた。これにフッ化アンモニウムを加え,50°Cで7時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し,アセトニトリルを加え,不溶物をろ過により除去した。これをヘキサンで洗浄し,集めた洗液をアセトニトリルで抽出した。集めた有機層を減圧下濃縮し,これ以上の精製は行なわず次の反応に用いた。粗精製物をピリジンによって共沸乾燥を行ない,ピリジンに溶解させた。これにDMTrClを加え,室温で3日間撹拌した。メタノールで反応を停止した後,溶媒を減圧下留去し,ジクロロメタンを加えた。これを飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をクロロホルムで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー3×8cm20gofsilicageldichloromethane-methanol-pyridineによって精製することにより,式4dで示される化合物を得た。1HNMRd825d796d739-683d610-573d600d532-528d507d493d453-447d434-431d408-406d388-378d360-351d2392’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン4e2 ́-O-ethoxymethyl-5 ́-O-uridine式2eで示される化合物2’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシキメチル-3’,5’-O-1,1,3,3,-テトライソプロピルジシロキサン-1,3ジイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,メタノールに溶解させた。これにフッ化アンモニウムを加え,50°Cで8時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し,アセトニトリルを加え,不溶物をろ過により除去した。これをヘキサンで洗浄し,集めた洗液をアセトニトリルで抽出した。集めた有機層を減圧下濃縮し,これ以上の精製は行なわず次の反応に用いた。粗精製物をピリジンによって共沸乾燥を行ない,ピリジンに溶解させた。これにDMTrClを加え,室温で17時間撹拌した。メタノールで反応を停止した後,溶媒を減圧下留去し,クロロホルムを加えた。これを飽和食塩水で洗浄し,集めた洗液をクロロホルムで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー1×15cm10gofsilicageldichloromethane-methanol-pyridineによって精製することにより,式4eで示される化合物を得た。1HNMRd806d795d739-684d600d51d510d496d448d435-433d408-395d380d357-353d2332’-O-ハロアルコシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト5a-eの調整2 ́-O-haloalchoxymethyl-5 ́-O-uridine3 ́-スキーム3スキーム3中,DIPEAは,ジイソプロピルアミンを示す。2’-O-2-クロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト5a2 ́-O-ethoxymethyl-5 ́-O-uridine3 ́-式4aで示される2’-O-2-クロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,ジクロロメタンに溶解させた。これにジイソプロピルアミンを加え,2-シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミジドを滴下した。室温で1時間撹拌し,エタノールで反応を停止した。これにジクロロメタンを加え,飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー2×10cm15gofaminosilicagelhexane-ethylacetateによって精製することで,ジアステレオマー混合物の目的物である式5aで示される化合物を得た。1HNMRd915d799-792d741-684d606d530-523d506-493d458-456d447-442d427-418d399-3442CH-NCH2Cl-CH2-ONC-CH2CH2-d269-241d117-1022CH-N31PNMRd15135d150482’-O-2,2-ジクロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト5b2 ́-O-ethoxymethyl-5 ́-O-uridine3 ́-式4bで示される2’-O-2,2-ジクロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,ジクロロメタンに溶解させた。これにジイソプロピルアミンを加え,2-シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミジドを滴下した。室温で15時間撹拌し,エタノールで反応を停止した。これにジクロロメタンを加え,飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー2×6cm10gofaminosilicagelhexane-ethylacetateによって精製することで,ジアステレオマー混合物の目的物である式5bで示される化合物を得た。1HNMRd816d799-794d741-684d604-601d586-579d529-520d502-486d458-454d444-441d427-418d413-3422CH-NCHCl2-CH2-ONC-CH2CH2-d268-244d125-1032CH-N31PNMRd15149d150432’-O-2,2,2-トリクロロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト5c2 ́-O-ethoxymethyl-5 ́-O-uridine3 ́-式4cで示される2’-O-2,2,2-トリクロロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,ジクロロメタンに溶解させた。これにジイソプロピルアミンを加え,2-シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミジドを滴下した。室温で1時間撹拌し,エタノールで反応を停止した。これにジクロロメタンを加え,飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー2×6cm10gofaminosilicagelhexane-ethylacetateによって精製することで,ジアステレオマー混合物の目的物である式5cで示される化合物を得た。1HNMRd811d796-794d741-684d606d530-506d459-447d429-3412CH-NCCl3-CH2-ONC-CH2CH2-d268-242d126-1032CH-N31PNMRd15149d150432’-O-2,2-ジフルオロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト5d2 ́-O-ethoxymethyl-5 ́-O-uridine3 ́-式4dで示される2’-O-2,2-ジフルオロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,ジクロロメタンに溶解させた。これにジイソプロピルアミンを加え,氷浴下で2-シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミジドを滴下した。室温で1時間撹拌し,反応混合物にクロロホルムを加えた。これをリン酸バッファーで洗浄し,集めた洗液をクロロホルムで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー1×8cm5gofaminosilicagelhexane-ethylacetateによって精製することで,ジアステレオマー混合物の目的物である式5dで示される化合物を得た。1HNMRd810d800-794d739-684d610-573d528-520d503-489d461-456d443-441d427-420d393-3422CH-NCHF2-CH2-ONC-CH2CH2-d265-244d129-0852CH-N31PNMRd15156d150382’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジン3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト5e2 ́-O-ethoxymethyl-5 ́-O-uridine3 ́-式4eで示される2’-O-2,2,2-トリフルオロエトキシキメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリイルウリジンをピリジン及びトルエンによって共沸乾燥を行ない,ジクロロメタンに溶解させた。これにジイソプロピルアミンを加え,2-シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミジドを滴下した。室温で15時間撹拌し,エタノールで反応を停止した。これにジクロロメタンを加え,飽和重曹水で洗浄し,集めた洗液をジクロロメタンで抽出した。集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後,ろ過し,減圧下濃縮乾燥したものをシリカゲルクロマトグラフィー2×7cm11gofaminosilicagelhexane-ethylacetateによって精製することで,ジアステレオマー混合物の目的物である式5eで示される化合物を得た。1HNMRd900d799-794d739-684d601d530-521d505-497d462-455d444d427-418d410-3422CH-NCCl3-CH2-ONC-CH2CH2-d264-241d126-1022CH-N31PNMRd15174d150402’-O-2-フルオロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリチルウリジン3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト5fの調整2 ́Oethoxymethyl5 ́Ouridine3 ́スキーム4スキーム4中,NISは,N-ヨードスクシンイミドを示す。TfOHは,トリフルオロメタンスルホン酸を示す。THFは,テトラヒドロフランを示す。MeOHはメタノールを示す。DMTrClは,4,4’-ジメトキシトリチリルクロライドを示す。Pyridineはピリジンを示す。rtは室温を示す。2’-O-2-フルオロエトキシメチル-3’,5’-O-1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン-1,3-ジイルウリジン2f2 ́Oethoxymethyl3 ́5 ́Ouridine2fの粗精製物は1と2フルオロエタノールから、2aと同様の手法により得た。シリカゲルクロマトグラフィー3×17cm50gofsilicagelhexaneethylacetateによって精製を行い、2fを得た。1HNMR9577905765695045004684534293861100912’-O-2-フルオロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリチルウリジン4fethoxymethyl5 ́Ouridine4fの粗精製物は,2 ́Oethoxymethyl3 ́5 ́Ouridine2fを原料とし、4aと同様の手法により得た。シリカゲルクロマトグラフィー25×15cm22gofsilicageldichloromethanemethanolpyridineによって精製を行い4fを得た。1HNMR8037937396826025305285044934674464364344104083943803533522612’-O-2-フルオロエトキシメチル-5’-O-4,4’-ジメトキシトリチルウリジン3’-2-シアノエチルジイソプロピルホスホロアミダイト5fethoxymethyl5 ́Ouridine3 ́2 ́Oethoxymethyl5 ́Ouridine4fを原料とし、5aと同様に合成、精製を行い、ジアステレオマー混合物の5fを得た。1HNMRd834d795790d741684d606d530523d501486d467443d3973402CHNCH2FCH2ONCCH2CH2d268241d1281032CHN31PNMRd1511d1508DNA合成機ABIエクセペダイト8909を用いた固相合成鎖長伸長サイクルは,2 ́-O-TBDMSRNA02マイクロモルスケールのプロトコルにより行なった。合成試薬は全て,グレンリサーチGlenResearch社より購入したABI用のものを用いた。固相担体には,グレンリサーチより購入したURNACPGを用いた。アミダイトユニットは,ジクロロメタンに溶解させ用いた。合成後,CPGの充填されているカラムに対しアンモニア水を加え,室温で3時間反応させた。溶液を減圧下濃縮し,凍結乾燥によって乾固させた。これを水に溶かし,逆相HPLCを用いて分析,精製した。RNA合成のプロトコル合成したオリゴヌクレオチドの配列と性質U12-A12デュープレックスの融解温度解析合成したU12オリゴマーと,rA12またはdA12オリゴマー各々03nmolを10mMphosphate-100mMNaCl-01mMEDTAbuffer150mlに溶かした。オリゴマー溶液を8連セルに100ml加え,室温から5°Cminの速度で90°Cまで上昇させた後,90°Cの状態を10分間保持し,-2°Cの速度で0°Cになるまで温度を下降させ,アニーリングを行なった。オリゴマー溶液を4°Cで1時間静置した後,融解温度Tm値の測定を行なった。オリゴマー溶液をセルに入れ,減圧下15分間脱気した後,窒素気流下,05°Cminの速度で90°Cまで温度を上昇させながら,05°C間隔で260nmにおける吸光度を測定した。アルコキシメチル骨格修飾に対する置換基の影響アルコキシメチル骨格修飾に対する置換基の影響を検討した。その結果を図1に示す。図1は,アルコキシメチル骨格修飾に対する置換基の影響を示す図面に替わるグラフである。図中,縦軸は相対的な吸収量を示す。Uは核酸塩基がウラシルである核酸を示す。DFEMは核酸の2,2-ジフルオロエトキシメチル修飾体を示す。DCEMは,核酸の2,2-ジクロロエトキシメチル修飾体を示す。EOMは核酸の2’-O-エトキシメチル修飾体を示す。またこれらの特性を下表に示す。上記の表から2’-O-エトキシメチル修飾により,二重鎖融解温度Tmが減少することが改めて示された。一方ハロ置換2’-O-エトキシメチル修飾により二重鎖融解温度Tmが上昇することが示された。特に,2,2-ジクロロエトキシメチル修飾体は,きわめて高い二重鎖結合能を有することが示された。アルコキシメチル骨格修飾に対する置換基の個数の影響フッ素を含む修飾体フッ素を含む修飾体の置換基の個数の影響を検討した。その結果を図2に示す。図2は,フッ素を含む修飾体の置換基の個数の影響を示す図面に替わるグラフである。図中,縦軸は相対的な吸収量を示す。Uは核酸塩基がウラシルである核酸を示す。DFEMは核酸の2,2-ジフルオロエトキシメチル修飾体を示す。TFEMは,核酸の2,2,2-トリクロロエトキシメチル修飾体を示す。EOMは核酸の2’-O-エトキシメチル修飾体を示す。またこれらの特性を下表に示す。上記の表から,フッ素原子で置換したハロエトキシメチル基を保護器とするリボヌクレオシドは,二重鎖形成能力を有するがそれほど高くないことがわかる。塩素を含む修飾体塩素を含む修飾体の融解温度を測定した。その結果を図3に示す。図3は,塩素原子を含む修飾体の置換基の個数の影響を示す図面に替わるグラフである。上記の表から,塩素原子の1置換体及び2置換体において,融解温度が極めて顕著に増加することがわかる。ハロアルコキシメチル修飾体とCEM体,Me体との比較次に,上記の通り,顕著な融解温度を示す塩素原子の1置換体及び2置換体と,2-シアノエトキシメチルCEM置換体及びメチル置換体とを比較した。その結果を図4に示す。図4は,塩素原子の1置換体及び2置換体と,シアノ基置換体及びメチル置換体を比較する図面に替わるグラフである。上記のとおりであるから,塩素原子の1置換体及び2置換体は,2-シアノエトキシメチルCEM置換体に比べて融解温度が優位に上昇することがわかる。また,塩素原子の1置換体及び2置換体は,メチル置換体と同程度の高い溶解温度を示すことがわかる。DNAに対する親和性の検討フッ素を含む修飾体次に,フッ素を含む修飾体のDNAに対する親和性を検討した。その結果を図5に示す。図5は,フッ素を含む修飾体のDNAに対する親和性を示す図面に替わるグラフである。フッ素原子を含む修飾体はDNAに対する親和性を示さなかった。塩素を含む修飾体次に,塩素を含む修飾体のDNAに対する親和性を検討した。その結果を図6に示す。図6は,塩素原子を含む修飾体のDNAに対する親和性を示す図面に替わるグラフである。塩素原子を含む修飾体はDNAに対する親和性を示さなかった。アルコキシメチル骨格修飾に対するフッ素置換基の影響フッ素を含む修飾体の置換基の影響を検討した。その結果を図7に示す。図7は,フッ素を含む修飾体の置換基の影響を示す図面に替わるグラフである。図中,縦軸は相対的な吸収量を示す。Uは核酸塩基がウラシルである核酸を示す。EOMは核酸の2’-O-エトキシメチル修飾体を示す。MFEMは,核酸の2’-O-フルオロエトキシメチル修飾体を示す。またこれらの特性を下表に示す。上記の表から,フッ素原子で置換したハロエトキシメチル基を有するリボヌクレオシドは,天然型RNAよりも高い二重鎖形成能力を有するが、安定化の効果はそれほど大きくない。"