"アクリル酸及び/又はメタアクリル酸からなるモノマー化合物aと、下記一般式I式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は、環状脂肪族骨格を有する炭化水素基を表す。で表されるモノマー化合物bと、下記一般式II式中、R3は水素原子又はメチル基を表し、R4は、炭素数2~10の直鎖若しくは分岐炭化水素鎖で表されるモノマー化合物cと、を含むモノマー混合物を共重合して得られるカルボキシル基含有共重合体のカルボキシル基の一部に、オキシラン環とエチレン性不飽和結合とを有する化合物を付加させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂。酸価が50~150mgKOH/g、アクリル基当量が300~1000g/molである、請求項1記載のカルボキシル基含有感光性樹脂。前記モノマー化合物a中の、アクリル酸の重量分率が0.5以下である、請求項1又は2に記載のカルボキシル基含有感光性樹脂。モノマー化合物bが、イソボニルメタアクリレート、ジシクロペンタジエニルメタアクリレート、4-t-ブチルシクロへキシルメタアクリレート、及びアダマンテートメタアクリレートからなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1~3何れかに記載のカルボキシル基含有感光性樹脂。A請求項1~4何れかに記載のカルボキシル基含有感光性樹脂と、B光重合開始剤と、C希釈剤と、Dエポキシ化合物と、を含有することを特徴とする、感光性組成物。請求項5記載の感光性組成物をソルダーレジストとして用いて得られるプリント配線板。しかしながら、特許文献2記載のソルダーレジスト組成物を用いても、近年益々緻密化する回路基板のパターン形成には十分に対応できない場合があった。そこで、本発明は、特に、ソルダーレジストの成分として使用された場合に、高い解像性を実現することが可能な樹脂を提供することを課題とする。また、本発明は、上記樹脂を含有する感光性組成物並びに当該感光性組成物をソルダーレジストとして使用することにより得られる皮膜を有するプリント配線板を提供することを課題とする。上記課題を解決するために、本発明者が鋭意研究した結果、特定の樹脂を用いることにより、高い解像性を実現することが可能であることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、アクリル酸及び/又はメタアクリル酸からなるモノマー化合物aと、下記一般式I式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は、環状脂肪族骨格を有する炭化水素基を表す。で表される化合物bと、下記一般式II式中、R3は水素原子又はメチル基を表し、R4は、炭素数2~10の直鎖若しくは分岐炭化水素鎖で表されるモノマー化合物cと、を含むモノマー混合物を共重合して得られるカルボキシル基含有共重合体のカルボキシル基の一部に、オキシラン環とエチレン性不飽和結合とを有する化合物を付加させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂に関する。また、本発明は、A前記カルボキシル基含有感光性樹脂と、B光重合開始剤と、C希釈剤と、Dエポキシ化合物と、を含有することを特徴とする、感光性組成物に関する。さらに、本発明は、前記感光性組成物をソルダーレジストとして用いて得られるプリント配線板に関する。本発明により、高い解像性を有する感光性樹脂組成物の提供が可能になる。以下、本発明を、実施形態に即して詳細に説明する。[樹脂]本発明に係るカルボキシル基含有感光性樹脂は、モノマー化合物aと、モノマー化合物bと、モノマー化合物cと、を含むモノマー混合物を共重合して得られるカルボキシル基含有共重合体のカルボキシル基の一部に、オキシラン環とエチレン性不飽和結合とを有する化合物を付加させて得られる。モノマー化合物aは、アクリル酸及び/又はメタアクリル酸からなる。モノマー化合物aは、より高い解像性を実現する観点から、メタアクリル酸を50重量以上、好ましくは70重量以上含むことが好ましい。モノマー化合物aはメタアクリル酸からなることが特に好ましい。モノマー化合物bは、下記一般式I式中、R1は水素原子又はメチル基、好ましくはメチル基を表し、R2は、環状脂肪族骨格を有する炭化水素基を表す。で表される。R2の炭素数としては、特に制限はないが、5~15、特に7~12が好ましい。このような化合物の具体例としては、イソボニルメタアクリレート、ジシクロペンタジエニルメタアクリレート、4-t-ブチルシクロへキシルメタアクリレートなどがあげられる。モノマー化合物bは、一種を単独で用いても良く、複数種を併用しても良い。モノマー化合物b含有量仕込量は、特に制限されないが、高い解像性と硬化塗膜の硬度を両立する観点から、モノマー化合物aの100質量部に対して、10~150質量部、好ましくは50~100質量部、特に好ましくは60~90質量部である。モノマー化合物cは、下記一般式II式中、R3は水素原子又はメチル基、好ましくはメチル基を表し、R4は、炭素数2~10の直鎖若しくは分岐炭化水素鎖で表される。炭化水素鎖は、ハロゲン原子等により置換されていても良い。具体例としては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシメチル-メタアクリレート、3,5-ジヒドロキシペンチルメタアクリレート、1-ヒドロキシメチル-4-メタアクリロイルメチル-シクロヘキサン、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレートなどがあげられる。モノマー化合物bは、一種を単独で用いても良く、複数種を併用しても良い。モノマー化合物cの含有量仕込量は、特に制限されないが、高い解像性とはんだ耐熱性を付与する観点から、モノマー化合物a100質量部に対して、10~150質量部、好ましくは50~100質量部、特に好ましくは60~90質量部である。モノマー混合物中には、必要に応じて、上記のモノマーa~cと共重合可能なモノマーを含んでも良い。共重合可能なモノマーとしては、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル等のメタアクリル酸アルキルエステル、スチレン、フェノキシエチルメタアクリレート等の芳香環含有モノマー等があげられる。共重合可能なモノマーの含有量仕込量は、特に制限されないが、アルカリ現像性を向上させ、高い解像性を生み出す観点から、モノマー化合物a100質量部に対して、0~70質量部、好ましくは10~50質量部である。モノマー混合物の重合方法は、特に制限されず、溶液重合、懸濁重合、塊状重合等の通常公知の重合方法を採用することができる。重合時には、通常公知の重合開始剤及び連鎖移動剤等を適宜使用することができる。オキシラン環とエチレン性不飽和結合とを有する化合物としては、特に制限されないが、例えばグリシジルメタアクリレート、2-メチルグリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシブチルメタアクリレート、6,7-エポキシヘプチルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメタアクリレート等のメタアクリル酸エポキシアルキルエステル:α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸6,7-エポキシヘプチル等のα-アルキルアクリル酸エポキシアルキルエステル:o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテルなどがあげられる。好適に使用することのできる化合物としては、反応性の観点から、下記一般式ia、ibおよびicR5、R7、R8、R11およびR12は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、R6、R9、R10およびR13は、それぞれ独立して、炭素数1~20のアルキレン基を表す。R6、R10及びR13はメチレン基が好ましく、R9は炭素数2~10のアルキレン基、特にブチレン基が好ましい。からなる化合物群から選択される少なくとも一種が好ましい。これらは、単独で又は2種以上を混合して使用しても良い。上記樹脂と、オキシラン環とエチレン性不飽和結合とを有する化合物の反応条件としては、上記共重合体のカルボキシル基によるオキシラン環の開環が起こる条件であれば特に制限はないが、オキシラン環とエチレン性不飽和結合とを有する化合物が重合することを防止するために、重合禁止剤の存在下行うことが好ましい。このようにして得られた樹脂の諸物性については、特に制限ないが、重量平均分子量としては、極端な粘度上昇を防止して良好な作業性を実現する観点から、3,000~100,000、さらには10,000~50,000、特に16,000~30,000の範囲が好ましい。重量平均分子量が16,000以上であることにより、良好な感度が実現できる。酸価としては、50~150mgKOH/g、アクリル基二重結合当量が300~1000g/mol、さらには500~1000g/molの範囲が好ましい。[感光性組成物]本発明の感光性組成物は、上記の本発明のカルボキシル基含有感光性樹脂Aと、B光重合開始剤と、C希釈剤と、Dエポキシ化合物と、を含有することを特徴とする。光重合開始剤は、一般的に使用されるものであれば特に限定されず、例えば、オキシム系開始剤、ベンゾイン、アセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン等がある。光重合開始剤の使用量は、カルボキシル基含有感光性樹脂A100質量部に対して、5~30質量部、特に6~20質量部が好ましい。希釈剤Cとしては、例えば、反応性希釈剤と呼称される化合物が好適である。反応性希釈剤は、一分子当たり少なくとも2つ以上の重合性二重結合を有する化合物である。感光性樹脂組成物が反応性希釈剤を含有することにより、硬化性樹脂の光硬化を十分にして、耐酸性、耐熱性、耐アルカリ性などの優れた物性を有する硬化膜を形成することができる。反応性希釈剤としては、例えば、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールメタアクリレート;カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の変性ポリオールのメタアクリレート;ビスフェノールA型メタアクリレート及びビスフェノールF型メタアクリレート等のビスフェノール型メタアクリレートエポキシアクリレート;ビスフェノールA型EO変性ジメタアクリレート、ビスフェノールA型PO変性ジメタアクリレート等の変性ビスフェノール型アクリレート変性エポキシアクリレート;メタアクリル基とヒドロキシ基を一つ以上有する化合物とイソシアネート基を2つ以上有する化合物とを反応させることにより得られるウレタンアクリレート等を挙げることができる。希釈剤の使用量は、カルボキシル基含有感光性樹脂A100質量部に対して、2.0~150質量部、特に10~80質量部、さらには10~40質量部が好ましい。また、メタアクリル基を2以上有する希釈剤の場合、そのメタアクリル当量は、柔軟性及び低反り性の点から200g/eq以上が好ましく、300g/eg以上が特に好ましい。エポキシ化合物Dとしては、分子内に2個以上のエポキシ基を有する多官能性エポキシ化合物が好ましく、この様な化合物を使用することにより、硬化塗膜の架橋密度を上げて十分な塗膜硬度を得ることができる。この様な化合物として、例えば、エポキシ樹脂があげられる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、p-tert-ブチルフェノールノボラック型など、ビスフェノールFやビスフェノールSにエピクロルヒドリンを反応させて得られたビスフェノールF型やビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、2,5‐ジ‐tertブチルハイドロキノン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、さらにシクロヘキセンオキシド基、トリシクロデカンオキシド基、シクロペンテンオキシド基などを有する脂環式エポキシ樹脂、核水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、核水添ビフェニル型エポキシ樹脂等の核水添型エポキシ樹脂、トリス2,3-エポキシプロピルイソシアヌレート、トリグリシジルトリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート等のトリアジン環を有するトリグリシジルイソシアヌレート、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂、無水フタル酸ジグリシジルエステル、無水ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等のエステル型エポキシ樹脂、メラミン、メチル化メチロールメラミン、ブチル化メチロールメラミン、イミダゾール、ジシアンジアミド等を挙げることができる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。使用量は、十分な塗膜硬度を得る点から、カルボキシル基含有感光性樹脂A100質量部に対して、10~100質量部、特に10~50質量部が好ましい。本発明の感光性組成物には、上記の成分に加えて、難燃剤、溶剤、顔料、硬化触媒及びその他各種の添加剤を配合することができる。難燃剤としては、特に制限は無いが、リン系難燃剤が好適である。リン系の難燃剤は、例えば、トリスクロロエチルホスフェート、トリス2,3-ジクロロプロピルホスフェート、トリス2-クロロプロピルホスフェート、トリス2,3-ブロモプロピルホスフェート、トリスブロモクロロプロピルホスフェート、2,3-ジブロモプロピル-2,3-クロロプロピルホスフェート、トリストリブロモフェニルホスフェート、トリスジブロモフェニルホスフェート、トリストリブロモネオペンチルホスフェートなどの含ハロゲン系リン酸エステル;トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェートなどのノンハロゲン系脂肪族リン酸エステル;トリフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ジクレジルフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、トリスイソプロピルフェニルホスフェート、イソプロピルフェニルジフェニルホスフェート、ジイソプロピルフェニルフェニルホスフェート、トリストリメチルフェニルホスフェート、トリスt-ブチルフェニルホスフェート、ヒドロキシフェニルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェートなどのノンハロゲン系芳香族リン酸エステル;トリスジエチルホスフィン酸アルミニウム、トリスメチルエチルホスフィン酸アルミニウム、トリスジフェニルホスフィン酸アルミニウム、ビスジエチルホスフィン酸亜鉛、ビスメチルエチルホスフィン酸亜鉛、ビスジフェニルホスフィン酸亜鉛、ビスジエチルホスフィン酸チタニル、テトラキスジエチルホスフィン酸チタン、ビスメチルエチルホスフィン酸チタニル、テトラキスメチルエチルホスフィン酸チタン、ビスジフェニルホスフィン酸チタニル、テトラキスジフェニルホスフィン酸チタンなどのホスフィン酸の金属塩、9,10ジヒドロ9オキサ10ホスファフェナントレン10オキサイド以下HCA、HCAとアクリル酸エステルの付加反応生成物、HCAとエポキシ樹脂の付加反応生成物、HCAとハイドロキノンの付加反応生成物等のHCA変性型化合物、ジフェニルビニルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイド、トリアルキルホスフィンオキサイド、トリスヒドロキシアルキルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系化合物等が挙げられる。これらのうち、環境負荷を抑える点から、ノンハロゲン系のリン酸エステル、ホスフィン酸の金属塩、HCA変性型化合物、ホスフィンオキサイド系化合物が好ましく、少量にて、難燃性だけではなく、耐ブリードアウト性、耐変色性に優れる点からホスフィン酸の金属塩が特に好ましい。リン系の難燃剤の使用量は、カルボキシル基含有感光性樹脂A100質量部に対して3~30質量部であり、十分な難燃性を確保しつつ硬化膜の機械的強度の低下を確実に抑える点から、4~20質量部が好ましい。溶剤としては、有機溶剤が好適であり、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール等のアルコール類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、石油エーテル、石油ナフサ等の石油系溶剤、セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等の酢酸エステル類等を挙げることができる。溶剤の使用量は、塗工方法にもよるが、良好な粘度を実現するため、カルボキシル基含有感光性樹脂A100質量部に対して、10~500質量部、特に20~50質量部の範囲が好ましい。顔料としては、特に制限はないが、例えば、黒色顔料、無機白色顔料があげられる。黒色顔料としては、カーボンブラックがあげられる。無機白色顔料として、例えば、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタンを挙げることができる。アナターゼ型酸化チタンは、ルチル型酸化チタンと比較して白色度は高いものの、光触媒活性を有するので、感光性樹脂組成物中の樹脂の変色を引き起こすことがある。これに対して、ルチル型酸化チタンは光触媒活性をほとんど有さず、ソルダーレジスト膜の変色を防止できる点で好ましい。ルチル型酸化チタンの粒子の平均粒径は特に限定されないが、通常は、0.01~1μmである。また、ルチル型酸化チタン粒子の表面処理剤も特に限定されない。ルチル型酸化チタンには、例えば、富士チタン工業株製TR-600、TR-700、TR-750、TR-840、石原産業株製R-550、R-580、R-630、R-820、CR-50、CR-60、CR-80CR-90、CR-93、チタン工業株製KR-270、KR-310、KR-380、テイカ株製JR-1000等を使用することができる。顔料の使用量は、カルボキシル基含有感光性樹脂A100質量部に対して1~800質量部、特に1~500質量部が好ましい。硬化触媒としては、三フッ化ホウ素-アミンコンプレックス、ジシアンジアミドDICY及びその誘導体、有機酸ヒドラジド、ジアミノマレオニトリルDAMN及びその誘導体、メラミン及びその誘導体、グアナミン及びその誘導体、アミンイミドAI並びにポリアミン等があげられる。硬化触媒の使用量は、カルボキシル基含有感光性樹脂A100質量部に対して0.1~5質量部が好適であり、好ましくは1~5質量部である。また、本発明では、必要に応じて、さらに、種々の添加成分、例えば、消泡剤、分散剤、体質顔料、無機イオンキャッチャー等を適宜配合することができる。消泡剤には、公知のものを使用でき、例えば、シリコーン系、炭化水素系、アクリル系等を挙げることができる。分散剤には、シラン系、チタネート系、アルミナ系等のカップリング剤が挙げられる。体質顔料は、硬化膜の物理的強度を上げるためのものであり、例えば、シリカ、硫酸バリウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、タルク、マイカ等を挙げることができる。無機イオンキャッチャーとしては、リン酸ジルコニウム系化合物等を挙げることができる。これら各種添加剤の配合量は、合計で、カルボキシル基含有感光性樹脂A100質量部に対して、0.1~100質量部、さらには0.1~30質量部、特に0.1~10質量部の範囲が好ましい。上記した本発明の感光性組成物の製造方法は、特定の方法に限定されないが、例えば、上記各成分を所定割合で配合後、攪拌機で予備混合し、室温にて三本ロールにより混合分散させて製造することができる。[プリント配線板]次に、上記した本発明の感光性樹脂組成物の使用方法について説明する。上記のようにして得られた本発明の感光性樹脂組成物を光硬化させる場合には、例えば銅箔をエッチングして形成した回路パターンを有するプリント配線板上に、スクリーン印刷法、スプレーコート法等の方法を用いて所望の厚さに塗布し、硬化性樹脂組成物中の溶剤を揮散させるために60~100°C程度の温度で15~60分間程度加熱する予備乾燥を行う。その後、塗布した感光性樹脂組成物上に、前記回路パターンのランド以外を透光性にしたパターンを有するネガフィルムを密着させ、その上から紫外線を照射させる。そして、前記ランドに対応する非露光領域を希アルカリ水溶液で除去することにより塗膜が現像される。現像方法には、スプレー法、シャワー法等が用いられ、使用される希アルカリ水溶液としては0.5~10の炭酸ナトリウム水溶液が一般的であるが、他のアルカリも使用可能である。次いで、130~170°Cの熱風循環式の乾燥機等で20~80分間ポストキュアを行うことにより、プリント配線板上に目的とする硬化膜を形成させることができる。以下、本発明を、実施例に基づき更に詳細に説明する。[樹脂合成例]測定条件酸価:合成した樹脂を量りとり、溶剤にて溶解させる。そして、フェノールフタレイン溶液を指示薬として0.5mol/LKOHにて滴定し、測定した。二重結合当量:合成した樹脂の固形分重量g/オキシラン環とエチレン性不飽和結合とを有する化合物のモル数g/molにより算出分子量:東ソー社製GPC装置を用いて測定した。測定条件は下記の通り。カラム:TSKgel東ソー社製、SuperH4000、SuperHZ2500検出器:示差屈折展開溶媒:テトラヒドロフラン溶質濃度:10mgmL標準物質:標準ポリスチレンVARIAN社製、EASICALPS2単分散試料流速:0.3mLmin温度:40°C合成例1撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート、窒素または空気導入管を備えた1リットルセパラブルフラスコに、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル三洋化成品社製DPM500gを仕込み、100°Cに昇温後、メタクリル酸140.5g、イソボルニルメタクリレート113.5g、フェノキシエチルメタクリレート49.0g、2-ヒドロキシエチルメタクリレート115.5g、及びジメチル2,2’‐アゾビス2-メチルプロピオネート和光純薬社製V-60115.0gを混合した溶液を3時間かけて滴下し、滴下後3時間窒素雰囲気下で反応を続けて熟成させた。さらに、酸化防止剤として、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-フォスファフェナントレン-10-オキシド三光社製HCAを5.0g加えて30分ほど撹拌した。次に、空気雰囲気下でグリシジルメタアクリレートGMA82.0g、トリフェニルホスフィン1.0g、メトキシフェノール0.3gを加えて110°Cで8時間反応させた。これにより、酸価120mgKOH/g、二重結合当量870g/eq、重量平均分子量21000のカルボキシル基含有感光性樹脂Aを得た。合成例2撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート、窒素または空気導入管を備えた1リットルセパラブルフラスコに、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル三洋化成品社製DPM500gを仕込み、100°Cに昇温後、メタクリル酸140.5g、イソボルニルメタクリレート113.5g、フェノキシエチルメタクリレート49.0g、2-ヒドロキシエチルメタクリレート115.5g、及びジメチル2,2’‐アゾビス2-メチルプロピオネート和光純薬社製V-6015.0g、連鎖移動剤としてトリメチロールプロパントリス-3-メルカプトプロピオネートSC有機化学TMMP15.0gを混合した溶液を3時間かけて滴下し、滴下後3時間窒素雰囲気下で反応を続けて熟成させた。さらに、酸化防止剤として、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-フォスファフェナントレン-10-オキシド三光社製HCAを5.0g加えて30分ほど撹拌した。次に、空気雰囲気下でGMA82.0g、トリフェニルホスフィン1.0g、メトキシフェノール0.3gを加えて110°Cで8時間反応させた。これにより、酸価120mgKOH/g、二重結合当量870g/eq、重量平均分子量17000のカルボキシル基含有感光性樹脂Bを得た。合成例3撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート、窒素または空気導入管を備えた1リットルセパラブルフラスコに、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル三洋化成品社製DPM500gを仕込み、100°Cに昇温後、アクリル酸60.4g、メタクリル酸70.0g、イソボルニルメタクリレート113.5g、フェノキシエチルメタクリレート59.0g、2-ヒドロキシエチルメタクリレート115.5g、及びジメチル2,2’‐アゾビス2-メチルプロピオネート和光純薬社製V-60115.0gを混合した溶液を3時間かけて滴下し、滴下後3時間窒素雰囲気下で反応を続けて熟成させた。さらに、酸化防止剤として、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-フォスファフェナントレン-10-オキシド三光社製HCAを5.0g加えて30分ほど撹拌した。次に、空気雰囲気下でGMA82.0g、トリフェニルホスフィン1.0g、メトキシフェノール0.3gを加えて110°Cで8時間反応させた。これにより、酸価120mgKOH/g、二重結合当量870g/eq、重量平均分子量17000のカルボキシル基含有感光性樹脂Cを得た。[感光性組成物の調製例]表1の配合比重量比に従って、各成分を配合後、3本ロールにより混合することにより、感光性組成物を調製した。[性能評価方法]評価試験片作製ガラスエポキシ基板FR-4、1.6mmt、銅箔厚50μmに回路パターンを形成しプリント配線板を作成した。プリント配線板を希硫酸3により表面処理後、スクリーン印刷法にて、各配合物を塗布後、BOX炉にて80°Cで20分の予備乾燥を行った。予備乾燥後塗膜上に露光装置オーク社製HMW-680GWにて500mJ/cm2露光した後、30°C1炭酸ナトリウム現像液にて現像後、BOX炉にて150°Cで60分のキュアを行うことで、銅張積層板上に硬化塗膜を形成した。硬化塗膜の厚みは、20~23μmであった。感度上述の塗工基板を80°C、20分予備乾燥した後の塗工基板に感度測定用ステップタブレットコダック21段を設置し、ステップタブレットを通しメインピ-クが365nmの波長の紫外線の照射光量をオ-ク製作所社製の積算光量計を用い500mJ/cm2照射したものをテストピ-スとし、1の炭酸ナトリウム水溶液を用い、2.0kg/cm2のスプレ-圧で60秒間現像を行った後の露光部分の除去されない部分を数字ステップ数で表した。ステップ数が大きいほど感光特性が良好であることを示す。解像性所定のフォトマスクライン30~120μmを介して形成した露光部の残存ラインを目視にて確認、評価した。塗膜硬度基板の銅箔上の硬化塗膜の鉛筆硬度を、JISK-5600-5-4の試験方法に従って評価した。はんだ耐熱性はんだ耐熱性は、試験片の硬化塗膜を、JISC-6481の試験方法に従って、260°Cのはんだ槽に30秒間浸せき後、セロハンテープによるピーリング試験を1サイクルとし、これを1~3回繰り返した後の塗膜状態を目視により観察し、以下の基準に従って評価した。◎:3サイクル繰り返し後も塗膜に変化が認められない。○:3サイクル繰り返し後の塗膜にほんの僅か変化が認められる。△:2サイクル繰り返し後の塗膜に変化が認められる。×:1サイクル繰り返し後の塗膜に剥離が認められる。[評価結果]評価結果を表1に示した。表1から、本発明の樹脂を用いることにより、良好な解像性が実現できていることが分かる。なお、イソボニルメタアクリレートに代えて、イソボニルアクリレート、ジシクロペンタジエニルメタアクリレート、4-t-ブチルシクロへキシルメタアクリレートを用いて実験を行った場合にも、イソボニルメタアクリレートと同様の優れた解像性を実現できることを確認した。備考リポキシSP-4621:昭和高分子製、多塩基酸変性クレゾールノボラック型エポキシアクリレート樹脂イルガキュア907:2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、チバスペシャリティーケミカルズ製、イルガキュア369:チバスペシャリティーケミカルズ社製、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オンカヤキュアDETX:日本化薬株製、ジエチルチオキサントンDPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートEPICLON850:DIC株製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂TEPIC:日産化学株製、トリグリシジルイソシアヌレートDICY-7:ジャパンエポキシレジン社製、ジシアンジアミド"