"ビーム断面全体に非ガウス放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成されたレーザ装置であって、前記レーザビームの非ガウス放射照度分布が前記ビーム断面全体に実質的に均一な放射照度分布を備えるレーザ装置と、前記レーザビームを受光するように光学的に結合された空間光変調器であって、ターゲット物体にデータコードマトリクスをマーキングするためにビーム断面全体に光学的パターンを備える出力レーザビームを生成するように制御される空間光変調器と、最終的な光学的パターンが前記空間的光変調器によって生成された前記光学的パターンの増幅バージョンであるように、前記空間的光変調器からの前記レーザビーム出力を受光して、増幅されたレーザビームを生成するように前記空間的光変調器に結合された光増幅器であって、前記光増幅器からの増幅されたレーザビームがこのビームの断面全体に実質的に均一な増幅を有し、それによって前記増幅されたビームがそのビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を維持する光増幅器と、を備えるレーザマーキングシステム。前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームが所定の閾値を超えるM2値を有する、請求項1のレーザマーキングシステム。前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームが所定の範囲内のリップル変化を有する、請求項2のレーザマーキングシステム。前記レーザ装置が、前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成されたマルチモードレーザ光源を備える、請求項1のレーザマーキングシステム。前記レーザ装置が、ガウス放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成された基本モードレーザ光源を備え、前記レーザ装置が、更に、前記ガウス放射照度分布を有するレーザビームを受光するガウス‐非ガウス放射照度分布変換器であって、前記ビーム断面全体に実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成されたガウス‐非ガウス放射照度分布変換器を備える、請求項1のレーザマーキングシステム。更に、前記基本モードレーザ光源によって供給されたレーザビームをコリメートするように配置された光コリメータを備える、請求項5のレーザマーキングシステム。前記光コリメータが、前記基本モードレーザ光源によって供給されたレーザビームを前記ガウス‐非ガウス放射照度分布変換器に伝達する光ファイバに光学的に結合された屈折率分布GRIN型レンズを備える、請求項6のレーザマーキングシステム。前記光コリメータが、少なくとも1つのコリメータレンズを備える、請求項6のレーザマーキングシステム。前記レーザ装置が、不均一な放射照度分布例えば、ガウス分布を有するレーザビームを供給するように構成された基本モードレーザ光源を備え、前記レーザ装置が、更に、前記不均一放射照度分布を有するレーザビームを受光する光ディフューザであって、前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成された光ディフューザを備える、請求項1のレーザマーキングシステム。前記光学的パターンが、データコードマトリクス及び/又はロゴを備える、請求項1のレーザマーキングシステム。更に、前記光学的パターンの伝搬回折ビームを捕捉し、前記光学的パターンの拡大/縮小バージョンを形成する光コンディショニングシステムを備える、請求項1のレーザマーキングシステム。前記光コンディショニングシステムが、前記空間的光変調器と前記光増幅器との間又は前記光増幅器とターゲット領域との間で前記伝搬回折ビームを捕捉する、請求項11のレーザマーキングシステム。更に、より長い波長が最初に使用されている場合に前記増幅されたレーザビーム及び前記光学的パターンをより短い波長に変換する周波数変換デバイスを備える、請求項1に記載のレーザマーキングシステム。更に、周波数変換デバイスを備え、前記周波数変換デバイスが、前記光学的パターンを備える伝搬回折ビームが前記光コンディショニングシステムを通過する前に行われる後続の周波数変換を行い、前記後続の周波数変換は前記光学的パターンのフレネル回折パターンに対して行われる、請求項11のレーザマーキングデバイス。更に、周波数変換デバイスを備え、前記周波数変換デバイスが、前記光学的パターンを備える伝搬回折ビームが前記光コンディショニングシステムを通過した後に行われる後続の周波数変換を行い、前記後続の周波数変換は実際の光学的パターンに対して行われる、請求項11のレーザマーキングデバイス。ビーム断面全体に非ガウス放射照度分布を有するレーザビームを生成する手段であって、前記レーザビームの非ガウス放射照度分布が前記ビーム断面全体に実質的に均一な放射照度分布を備える手段と、前記レーザビームを受光するように光学的に結合された空間光変調器であって、ターゲット物体にデータコードマトリクスをマーキングするためにビーム断面全体に前記データコードマトリクス、ロゴ、又はその両方を含む光学的パターンを備える出力レーザビームを生成するように制御される空間光変調器と、最終的な光学パターンが、前記空間的光変調器によって生成された前記光学的パターンの増幅バージョンになるように増幅されたレーザビームを生成する光増幅手段であって、前記光増幅手段からの前記増幅されたレーザビームがこのビームの断面全体に実質的に均一な増幅を有し、それによって前記増幅されたビームがそのビーム断面全体に前記実質的に均一の放射照度分布を維持する光増幅手段と、を備えるレーザマーキングシステム。前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームが所定の閾値を超えるM2値を有する、請求項16のレーザマーキングシステム。前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームが所定の範囲内のリップル変化を有する、請求項16のレーザマーキングシステム。前記レーザビームを生成する前記手段が、前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成されたマルチモードレーザ光源を備える、請求項16のレーザマーキングシステム。前記レーザビームを生成する前記手段が、ガウス放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成された基本モードレーザ光源を備え、前記基本モードレーザ光源によって供給されたレーザビームが、前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成されたガウス‐非ガウス放射照度分布変換器に光学的に結合される、請求項16のレーザマーキングシステム。更に、前記基本モードレーザ光源によって供給されたレーザビームをコリメートするように配置された光コリメータを備える、請求項16のレーザマーキングシステム。前記光コリメータが、前記基本モードレーザ光源によって供給されたレーザビームを前記ガウス‐非ガウス放射照度分布変換器に伝達する光ファイバに光学的に結合された屈折率分布GRIN型レンズを備える、請求項21のレーザマーキングシステム。前記光コリメータが、少なくとも1つのコリメータレンズを備える、請求項21のレーザマーキングシステム。前記レーザビームを生成する前記手段が、ガウス放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成された基本モードレーザ光源を備え、前記基本モードレーザ光源によって供給されるレーザビームが、前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成された光ディフューザに光学的に結合される、請求項16のレーザマーキングシステム。前記空間的光変調器が、反射に基づく空間的光変調器及び透過に基づく空間的光変調器よりなる群から選択される、請求項16のレーザマーキングシステム。更に、前記光学的パターンの伝搬回折ビームを捕捉し、前記光学的パターンの拡大/縮小バージョンを形成する光コンディショニングシステムを備える、請求項16のレーザマーキングシステム。前記光コンディショニングシステムが、前記空間的光変調器と前記光増幅手段との間又は前記光増幅手段とターゲット領域との間で前記伝搬回折ビームを捕捉する、請求項26のレーザマーキングシステム。更に、より長い波長が最初に使用されている場合に前記レーザビーム及び前記光学的パターンをより短い波長に変換する周波数変換デバイスを備える、請求項16に記載のレーザマーキングシステム。更に、周波数変換デバイスを備え、前記周波数変換デバイスが、前記光学的パターンを備える伝搬回折ビームが前記光コンディショニングシステムを通過する前に行われる後続の周波数変換を行い、前記後続の周波数変換は前記光学的パターンのフレネル回折パターンに対して行われる、請求項16のレーザマーキングデバイス。更に、周波数変換デバイスを備え、前記周波数変換デバイスが、前記光学的パターンを備える伝搬回折ビームが前記光コンディショニングシステムを通過した後に行われる後続の周波数変換を行い、前記後続の周波数変換は実際の光学的パターンに対して行われる、請求項16のレーザマーキングデバイス。本発明の一以上の実施形態に従い、本明細書ではレーザを用いたマーキングのシステム及び技術を記載する。以下の詳細な説明では、本発明の様々な実施形態が十分理解されるよう、様々な具体的詳細を説明する。しかし、本発明の実施形態はこれらの具体的詳細がなくても実施し得ること、本発明は記載された実施形態に制限されないこと、且つ/又は、本発明の例示的実施形態は様々な別の実施形態で実施し得ることが、当業者であれば理解されるだろう。他の例では、当業者には良く理解されているであろう方法、手順、及びコンポーネントは、不必要で煩雑な説明を避けるため詳述していない。更に、様々な動作が、本発明の実施形態を理解するのに有用な方法で実行される多数の個別のステップとして記載される。しかし、記載の順序は、これらの動作が、示された順序で行われる必要がある、或いは、順序に依存することを意味していると解釈されるべきではない。更に、一実施形態ではという表現を繰り返し使用するのは、同一の実施形態に言及している場合もあるが、必ずしもそうではない。最後に、本出願で使用される備えるcomprising、含むincluding、有するhaving等の用語は特に指示しない限り同義であることを意図している。本発明の態様を具体化したレーザマーキングシステムは、多数の例えば数千の個々にアドレス可能な角度調節可能マイクロミラーピクセルによって空間光変調器SLMとして動作するように構成された、半導体を使用したデジタル制御プログラマブル微小電気機械システムMEMSデバイスを使用する。このようなデバイスの一例は、デジタルマイクロミラーデバイスDMDとして当該技術分野では既知であり、TexasInstrmentsInc.から市販されている。当業者には、その他の種類の空間光変調器例えば、液晶ディスプレイLCDを使用する透過型を使用することも出来るため、本発明の態様は反射に基づくSLMに制限されないことが理解される。更に、本発明の例示的実施形態ではレーザマーキングに関してSLMを使用したレーザ画像増幅システムLIASを記載するが、この画像増幅技術は、制限はしないが、光リソグラフィーやレーザ直接描画、レーザ物質移動法、大型スクリーンホームシアター、シネマシアター等、その他の用途で用いられる画像を投影するために使用することが出来る。図1に示すように、レーザ光源50、例えば、フラットトッププロファイルを有するビームを生成するように構成されたマルチモードレーザ光源は、光源50からのレーザビームが、例えば垂直入射でSLM12例えば、上記DMDに衝突するように配置される。レーザ光源50は、連続波CW源又はパルスレーザ光源であってよい。当業者には、ガウスレーザービーム伝搬下のレーザビーム基本モード又はマルチモードは、最小ビームウエスト位置でコリメートされた状態であり、従って、一例としての実施形態では、ビームがSLM12の受光面で最小ビームウエストを有するように、入射レーザ光源が光学コリメータ111によって制御され得ることが理解される。光学コリメータ111の例としての実施形態は、入射ビームを伝達するファイバに結合されたファイバ屈折率分布型GRINレンズでもよく、或いは、1つ以上の通常のコリメートレンズでもよい。尚、非ガウス放射照度分布を有するマルチモードレーザに関して、最小スポットサイズの位置は、SLM12の受光面でビームのサイズが変化する基本モードの最小スポットサイズの位置とちょうど同じである。当業者に理解されているように、レーザビームは、レーザビーム断面全体に放射照度の空間分布を有する。例えば、マーキング目的で使用されるレーザが単一横モード例えば、基本又はTEM00モードを有する場合、図4に示すように、レーザ放射照度分布はガウス形状である。当然のことながら、レーザビームに関しては、非ガウス放射照度分布を実現することも出来る。例えば、マルチモードレーザ又はより高次のモードのレーザは、非ガウス放射照度分布を有するビームを生成することが出来る。マルチモードレーザビームの非ガウス放射照度分布は、当該技術分野においてM2因子と呼ばれるパラメータによって基本モードビームのガウス放射照度分布と定性的に比較され得る。ガウス分布を有する基本モードレーザビームに関して、M2因子の値は一般的に1に等しい又は近いが、非ガウスビーム分布は一般的に1よりも大きなM2値を有する。図5は、当該技術分野ではフラップトップ又はメサレーザビーム放射照度分布として既知の理想的な非ガウス放射照度分布を説明する。比較として、図4に示すように、ガウス分布を有するレーザ放射照度はビームの中心に最大値を有し、レーザ放射照度はガウス数学関数に従ってビームの中心から外側に向かって放射状に減少する。更に図5に示すように、理想的なフラップトップレーザビームでは、放射照度分布は、ビーム断面全体で完全に均一であり、従って、ターゲット上に設置しようとする画像/バーコードの各セグメントで均一であり、従って、常に均一なマーキング品質を保証する。本発明の例示の実施形態では、本発明の発明者は、実質的に均一な非ガウス放射照度分布即ち、当業者に容易に理解されるように、公称公差又は偏差を除くフラップトップ放射照度分布を有するレーザビームを具体化するレーザマーキングシステム及びSLM12DMDに反射するビームの断面全体に実質的に均一な増幅を行うように構成された光増幅器20即ち、ビームのフラットトップ放射照度分布を保つように構成された光増幅器を革新的に提案する。SLM20に影響を及ぼす可能性のある増幅された後方反射があれば光学的に遮断するよう、SLM12と光増幅器20との間に光アイソレータ15を配置してもよい。一例としての実施形態では、マルチモードレーザ光源50は、このような光源からのレーザビームの放射照度分布を実質的に均一な放射照度分布とみなすことが出来るようなM2値を提供するように構成される。一例として、ビームは、ビームのM2値がおよそ少なくとも2以上の値を有する場合、および、レーザ放射照度レベルが妥当な波形ripple/均一性を有する、例えば、約±10の範囲内のリップル変化を有する場合、実質的にフラップトップであるとみなされる。図6は、非理想的なフラットトップ放射照度分布を説明し、この分布は、ある程度の放射照度変化を有しているが、ビームの中心域に十分なフラットトップを提供することが出来る例えば、約±5の範囲内のリップル変化を有し得る。以下により詳細に記載する他の一例としての実施形態では、レーザ光源が、ガウス放射照度分布を有し、その後フラットトップ放射照度分布に変換されるビームを供給する基本モードレーザ光源であってもよい。図2に示すように、レーザ光源52は、ガウスビーム分布を提供する基本モードレーザ光源である。レーザ光源52は、光源52からのガウシアンビームが、ビームの放射照度分布に影響を及ぼすように構成されたビームシェイパビーム整形器を通過するように光学的に結合されるように配置される。一例としての実施形態では、ビームシェイパは、ガウス‐フラットトップビーム分布変換器55であってよく、変換器55からの出力ビームが、例えば垂直入射でSLM12例えば、前記DMDによって受光されるようにしてもよい。ガウス‐フラットトップビーム変換器55は、カリフォルニア州のNewportCorporation及びドイツのLIMO,LissotschenkoMikrooptikGmbhから販売されている、屈折ビームシェイパ等の市販のデバイスである。当然のことながら、変換器55は、ガウス‐フラットトップビーム整形を行う特定の技術的方法に制限されず、回折光学素子等の1つ以上の光学素子や、非球面を有する1つ以上のレンズ等を有していてもよい。当然のことながら、他の実施形態では、ビーム放射照度整形機能性を与える、即ち、ガウシアンビームをフラットトップビームに変換するためにディフューザを使用してもよい。尚、特定のビームシェイパを使用するとレーザのコヒーレンスに影響を及ぼす。ガウス‐フラットトップビーム分布変換器55は、レーザビームのコヒーレンスに悪影響を及ぼさないが、ディフューザ等のその他のビーム変換器はレーザビームのコヒーレンスに悪影響を及ぼす。従って、このようなビームシェイパを使用してコヒーレントビーム、部分コヒーレントビーム、又はインコヒーレントビームを与えるようにすることが出来る。いずれの場合も、SLM反射に基づく画像は、均一増幅によって増幅される。コヒーレントビームを使用すると、システム全体がコヒーレント結像光学システムとみなされ、それ相応に分析される。一方、インコヒーレントビームを使用すると、システム全体がインコヒーレント結像光学システムとみなされ、それ相応に分析される。本発明の例示的実施形態は、コヒーレント結像に関して詳細に記載されるが、本発明の例示的実施形態は、インコヒーレント結像システムも同様に対象とすることが理解される。当然のことながら、ガウス‐フラットトップビーム分布変換器55はレーザ光源52の一部として一体化されていてもよく、また、レーザ光源52の下流に位置する別体の光学コンポーネントでもよい。当然のことながら、上記の例示の実施形態は、いずれの場合も、ターゲットに入射したレーザビームの放射照度分布は非ガウス放射照度分布、より具体的には、フラップトップ放射照度分布であるため、先行技術のマーキングの問題を解消する点で有利である。ビーム変換器、ディフューザ、又はマルチモードレーザ光源のいずれかを使用してフラップトップレーザビームを得るための上述のビーム放射照度整形機能性は、均一な光学増幅と共に、このようなビーム放射照度整形機能性がない既知のDMDを使用したレーザマーキングシステムと比較して、大幅に動作を改善させることが期待される。動作中、各マイクロミラーSLM12における個々に制御可能な角度調節可能なミラーピクセルのアレイにおけるは、2つの傾斜状態を取ることが出来る。例えば、マイクロミラーがデバイス表面の法線に対してθ角度傾斜している第1の状態と、マイクロミラーがデバイス表面の法線に対して-θ角度傾斜している第2の状態である。マイクロミラーがθに設定された傾斜状態にあるとき、マイクロミラーはターゲット物体14に向かう方向にレーザ光を反射する。反対に、マイクロミラーが-θの傾斜状態に設定されている時、マイクロミラーは、図1及び図2に示すように、ターゲット物体から離れて、例えば光吸収体/ブロック16に向かってレーザ光を反射する。このように、一例としての高解像度二値画像が、コントローラ18からの制御信号に応じてSLM12によって生成されるとき、SLM12における個々に制御可能なアレイのマイクロミラーは夫々、任意の二値画像における論理1に対応する各ビットに関して夫々θ傾斜した状態に設定される。同様に、SLM12における個々に制御可能なアレイのマイクロミラーは夫々、任意の二値画像における論理ゼロに対応する各ビットに関して夫々-θ傾斜した状態に設定される。当然のことながら、ターゲット物体14は、光増幅器20によって増幅された後に意図された2Dマトリクスコード又は高解像度画像でマーキングされるため、吸収体/ブロック16に入射したビームは、データコードマトリクスの論理補数又は相補的コード情報である光学パターンを含む。従って、相補的2Dマトリクスコードが望ましいマーキング用途に関しては、吸収体/ブロック16を取り除き、図3に示すように、製品141及び142をマーキングするために両ビーム例えば、θ傾斜した状態に応じて生成される第1のビームと-θ傾斜した状態に応じて生成される第2のビームを使用することが出来る。即ち、一方のビームを元のデータコードマトリクスをマーキングするために使用し、他方のビームを元のデータコードマトリクスの論理補数をマーキングするために使用する。後者の場合、図3から分かるように、吸収体/ブロック16の代わりに、使用する光学コンポーネントは、ミラーがθ傾斜した状態のときに結果として生じるビームの光路に示す光学コンポーネントと基本的に同じである。先に論じたように、入射レーザビーム放射照度の大きさは、適正なレベルの範囲に維持されていなければ、SLM12を損傷する可能性がある。本発明の発明者は、マイクロミラーの損傷を回避し、均一なビーム放射照度を維持するという問題に対する革新的解決法をSLM12DMDに反射するビームの断面全体に実質的に均一な増幅を行うように構成された光増幅器と組み合わせてフラップトップ放射照度分布を有するビームを提供するように構成された光学デバイスを使用することによって確認した。尚、本発明の例示的実施形態の発明者が提案する解決法の態様は、ビーム拡大及びビーム縮小を条件としない。更に、本発明の例示的実施形態の態様は、入射レーザビームプロファイルがフラップトップ放射照度分布を有することが出来るようにし、SLM12の反射後、光増幅器20は、ビームのフラップトップ放射照度分布が増幅後に維持されるように、レーザビーム断面全体に均一な増幅を行うように構成されることが出来るようにする。従って、ビームの最終的な放射照度を、均一増幅によってSLM12の損傷閾値よりも大幅に大きくすることが出来、ビームの断面の範囲内で伝達されるデータは基本的に変化しないままである。また、本発明の例示的実施形態は、結像及び増幅システム性能への回折の影響を分析し、これらの影響が、必要なエンジニアリング解によって処理され得るようにする。その結果、本発明の態様は、直接的な方法で、SLMを用いた先行技術のマーキングシステムで生じる実際的空間的な回折及び放射照度制限を克服する。SLM12の実用的制約に従い、SLM12に入射するレーザビームに関して、適切なレベルのエネルギー例えば、信頼出来るDMD動作に必要な事前に定義された閾値レベル未満を設定し、このようなデバイスが損傷せず、かなり高いレベルの信頼性で機能するようにする。一例としての実施形態では、市販のDMDSLM12は、例えば約420nm~約700nmの波長範囲で10W/cm2の入射光パワーを支障なく許容するように調整される。更に、例えばパルスレーザ動作の場合、このようなデバイスに関して、信頼出来る動作エネルギーレベルは約0.1J/cm2であると報告されている。このように、この例の場合では、入射レーザビームのエネルギーレベルはこの閾値エネルギーレベル未満に維持すべきである。当然のことながら、上記レベルは、限定的な意味ではなく、一例という意味で解釈されるべきである。図7は、SLM12によって構成される2Dデータコードマトリクスの各例を説明する。θ傾斜した状態の各マイクロミラーは、データコードマトリクスを含む光学的パターンを備える出力レーザビームの形成に寄与する。このビームは光増幅器20の方に向けられている。光アイソレータ15は、図1及び図2で説明するように、SLMを損傷する可能性のある増幅された後方反射を遮断するためにSLMと光増幅器20との間に置かれる。例えば図7に示す2Dデータコードマトリクスの場合に関して、図8は、SLM12に反射したビームの結果として生じる放射照度プロファイルの一例を示す。図8は、SLM12に入射する均一/フラットトップビームがパターン/画像情報によって空間的にコードされていること、及び、パターン/画像の各セグメントが均一な放射照度レベルを有していることを示している。本発明の例示的実施形態の態様によれば、光増幅器20はレーザビーム強度を均一に高めるように構成されている、即ち、増幅率がビーム断面全体で均一である。均一増幅によって、出力パターン/画像の全てのセグメントが放射照度の均一性を維持しながらより高い放射照度レベルを有することが出来るようになる。図9、図10及び図11は、先行技術のレーザマーキングシステムで一般的に使用される光増幅技術に対して本発明の例示的実施形態の態様を相対的に概念化するのに使用される。この例では、図8に示すパターン/画像は、光学的に増幅される光入力の一例を表す。図9は、増幅器の設計によって、先行技術のレーザマーキングシステムで一般的に行われるビーム断面全体の、例えばガウス関数図4を参照によって定義された不均一増幅が行われる場合の一例としての出力パターン/画像を示す。このような増幅器からの出力パターン放射照度によって、不合格品質のマークに、2Dバーコードパターンの場合は読取不能なコードになると考えられる。図10は、増幅器の設計によって、本発明の態様に従い、ビーム断面全体に理想的な均一増幅、例えば図5で説明するような理想的なフラットトップ応答が行われる場合の一例としての出力パターン/画像を示す。図11は、増幅器の設計によって、例えば図6で説明するようなビーム断面全体に約±10の範囲のリップル変化を有するフラットトップ応答によって規定される理想的ではないが十分に均一な増幅が行われる場合の一例としての出力パターン/画像を示す。当然のことながら、図10で説明する応答の例は理論的応答を備え、図11に示す一例としての出力パターン放射照度はある程度許容可能な変化の範囲内の現実的な均一増幅を表している。このように、光増幅器20の光学設計は、コードされたパターン/画像を伝達する入射ビーム断面全体を均一増幅するように構成される。即ち、光増幅器20によって生成された増幅レーザビームは、空間光変調器12によって生成された情報と同一の情報データコードマトリックスの先に述べた例のようなを含むが、より高く、空間的に均一な放射照度を有する。本発明の態様を具体化したシステムを使用して、マーキングにより高い放射照度を必要とする物質にアブレーション又は非アブレーションマーキングを行うことが出来る点が有益であると考えられる。非アブレーションマーキングは、入射レーザ放射照度の影響下で、実際にマーキングされた物体又はコーティングの色変化によって達成されることは、当業者であれば容易に理解するであろう。一般的に、光増幅器は、利得媒質、ポンプ源/機構、及び/又は光学素子レンズ、光学素子、格子等から構成されることは、当業者であれば理解するであろう。光増幅器は、ワンパス増幅器、マルチパス増幅器、又は再生増幅器等の種類に大まかに分類することが出来る。必要な増幅度、利得媒質の利得及び飽和特性、入力ビームの特徴等、様々な相互依存因子は、増幅器の光学設計によって、所望の結果を得るように構成されなければならない。光学設計によって、ポンプ源と吸収利得媒質とがカップリングされる。光学設計は、利得媒質におけるポンプパワー分布にも関与し、ひいては出力ビームの均一性及び光学的歪みに影響を及ぼす。一例としての実施形態では、光増幅器としてワンパス光増幅器を使用する。ワンパス増幅器では、入力ビームは、図12で説明するように、ポンプ源によって均一に励起されて誘導放出を可能にする利得媒質を1度だけ通過する。光増幅器の利得媒質は、誘導放出下、増幅器に進入する入力ビームに多数の光子を追加し、それによって、出力ビームのエネルギー含量を増加する。このようにして、空間的に均一な放射照度の入力ビームは、その断面全体にコードされた情報を有する状態で、均一に増幅される。出力ビームは、その断面全体にコードされた情報の信号対ノイズ比コントラスト比がほとんど低下することなく、より高い放射照度を有する、即ち、全ピクセルがほぼ同じレベルの放射照度を有する。他の例としての実施形態では、光増幅器としてマルチパス光増幅器を使用する。レーザ増幅器の利得媒質を通過する回数が増えるごとに入力ビームは漸増的に増幅されるため、ミラーアレイ32を有するマルチパス増幅器30は、図13で説明するように、光増幅器として使用され得る。この場合、利得/増幅媒質もポンプ源によって均一に励起される。バルクミラーのアレイ32は、入射時の通過レーザビームに対して選択的に位置決めされて、例えば、両方向矢印34によって表す傾斜制御装置を介して増幅媒質を通って何度も通過レーザビームを反射させ得る。図13から分かるように、通過ビームは、毎回異なる光路を通って媒質を伝搬し、増幅媒質の利用可能な体積を有効活用する。マルチパス光増幅器は、一般的に、シングルパス増幅器よりもより多く増幅するが、低い信号対ノイズ比も与える。当然のことながら、システム設計には、入力ビーム断面全体に均一な増幅を行うという必要条件を満足する限り、様々な光増幅器構成を使用してよい。ビームの断面全体の実質的に均一な増幅を行い、その結果、増幅されたビームがそのビーム断面全体の実質的に均一な放射照度分布を維持するために当業者が用いることの出来る光増幅器及び増幅技術の様々な例を以下に示す。以下に示す例は、レーザビームに実質的に均一な増幅を行うよう構成された光増幅器に関連する先端技術の実例と解釈されるべきである。即ち、これらの例は、限定的な意味ではなく、一例という意味で解釈されるべきである。例えば、ある光増幅器は、利得媒体が均一に励起される均一増幅を行う。この利得媒体は、マルチモード光源を使用して基本的に均一に励起され、その結果、利得媒質において均一な増幅及び均一な温度プロファイルがもたらされる。均一な温度プロファイルを有することは、熱変形を回避又は減少するので、更なる利益となる。例となる増幅器は、固体の利得媒質と、均一な利得/増幅をもたらすように構成されたダイオードバー配列とを有してもよい。当業者であれば、上記例が、レーザ空洞に均一な励起を行うという状況で論じられるものもあることが理解されるだろう。しかし、当業者であれば、そのような例を、光増幅器を励起するよう容易に適応可能であることも理解されるだろう。SLM12及びその他の高解像度SLM内の要素のサイズは、一般的に小さく、例えばマイクロメータ単位であり、光回折効果に繋がることは当業者に既知である。SLMを使用するシステムを適切に設計するためには、この回折効果を考慮しなければならない。例えば、SLM12は、周期的な間隔で配置されたミラーの2次元アレイであってもよい。このアレイは、レーザを照射されると、反射回折格子として機能する。基本的には、この回折によって、SLM12によって生成された画像の複製が多数生成される。しかし、図15で説明するように、SLM12を特定の角度傾けることによって、入射レーザパワーの大部分がある特定の回折次数に結合され得、入射レーザパワーの大部分が一つに結合される。次に、選択された次数/画像は光学的に増幅される。図1のシステムの一実施形態では、コヒーレント光又はレーザをSLMと併用し、このSLMがビームの断面全体でレーザビームの振幅を変調し、この変調信号がSLM12によって生成される画像となる。従って、システム全体は、コヒーレント光の伝搬及び回折に基づくコヒーレント光学システム分析を必要とするコヒーレント光学システムである。上記のように、SLM12をある角度傾けることによって、反射光の大部分を一つの回折次数に結合することが出来る。この回折次数のビームに含まれる画像は、ホイヘンスフレネルの原理下で伝搬するときに回折を受ける。光学コンディショニングシステム22は、伝搬する回折ビームを捕捉し、レンズの公式によって規定されるような最終的な画像平面におけるSLM12画像の拡大/縮小バージョンを形成する。この回折次数のビームが伝搬するときに、このビームがその断面全体で伝達する情報が回折によって変化する。SLM12の表面では、前記情報はSLM12によって生成された画像であるが、前記ビームが光学コンディショニングシステム22に進入する前は、前記ビームが伝達する情報は、フレネル回折パターンによって表され得る。前記ビームがレンズを通って伝搬し、最終的な画像平面に近づいた後、このビームが伝達する情報がフレネル回折パターンからSLM12が生成した画像の拡大/縮小バージョンに変化する。前記情報は、光学コンディショニングシステム22の前又は後で均一に増幅され得る。図16aは、光学コンディショングシステム22の前に均一増幅を行って、フレネル回折パターンを増幅する方法を説明し、図16bは、光学コンディショングシステム22の後に均一増幅を行って、前記画像を増幅する方法を説明している。いずれの場合も最終的な結果は同じであり、SLM12によって生成された画像の均一増幅された拡大縮小バージョンである。図1を参照すると、光学コンディショニングシステムは、コリメートレンズ及びアプラナート焦点レンズから構成され得る。光学分野における通常の知識を有する者であれば、アプラナートレンズは、実質的に球面及び/又はコマ波面誤差又は収差がないように設計されていることを認識している。これらいずれかの収差の存在によって、光学透過波面が歪む可能性があり、マーキングされた試験物体の表面上の最終画像が不規則に整形されたりぼやけたりする可能性がある。最終的に増幅された画像は、SLM12によって伝達された一例としての高解像度画像又は2Dマトリクスコード例えば、論理1ビットに対して高強度レーザ、論理ゼロビットに対して無光という意味でを有する光学パターンを含む。一例としての実施形態では、光学コンディショニングシステム22は、マーキングターゲットである物体14の表面上に光学パターンを投影して結像するように配置される。一例としての実施形態では、光学コンディショニングシステム22は、SLM12の表面にその最小ビームウエストを有するビームを捕捉することによって結像する。一例としての実施形態では、ターゲット物体の表面上で高強度レーザ光を受光する例えば、論理1ビットに対応する領域がマーキング又はアブレーションされるが、一方、例えば、論理ゼロビットに対応するその他の領域は変化しない。従って、このようにして、2Dデータコードマトリックスがターゲット物体の表面上にマーキングされる。任意のマーキング用途のニーズによって、2Dコードマトリクス又はその他の任意の高解像度画像を含む光学パターンのサイズを拡大又は縮小するように光学コンディショニングシステム22を調整することが出来る。動作中、SLM12のマイクロミラーの方位、従って2Dコード情報を含む光学パターンを、コントローラ18によって素早く変化させることが出来る。任意の2Dコードをコードフレームとして表すことが出来れば、SLM12がそのミラーの方位を転換し、かなり高いフレームレートで新しいコードフレームを投影する能力によって、本発明の態様を具体化した画像増幅システムが、連続的に変化するコードマトリクスを製品にマーキングすることが出来るようになり、従って、かなり高速で製品のシリアライズされたレーザマーキングが出来るようになる点で有益である。この高マーキング速度によって、多くの産業が関連する生産プロセスに影響を及ぼすことなく、既存の産業生産ラインにマーキングシステムを組み込むことが出来る。当然のことながら、シリアライズされた例えば、連続的レーザマーキング処理中、DMDは、そのマイクロミラーの方位を変化させることによってその空間的光変調動作が行われるため、固定されている。一例としての実施形態では、マーキング対象の製品は物体を移動させるためのコンベヤベルトや類似の機構上に設置され、そのような製品は、移動するときに、空間的に均一に増幅されたレーザ放射照度の作用下でマーキングされる。一例としての実施形態では、SLM12は、紫外UV、可視及び近赤外IRスペクトル領域等、様々な光の周波数スペクトル領域で動作することが出来る。このように、入射レーザビームの波長は、マーキングされる材料の種類に基づいて適宜調整することが出来る。当然のことながら、レーザ放射照度によって生じるマーキングの様々な特徴も同様に調整され得る。限定ではなく一例として、適宜調整されるその他のレーザパラメータとしては、エネルギー/出力、スポットサイズ連続波及びパルスレーザの両方に関する、パルス幅、パルス繰り返し数、及びパルス数パルスレーザに関するが挙げられる。先に述べたが、SLM12は、紫外UV、可視及び近赤外IRスペクトル領域等、様々な光の周波数スペクトル領域で動作することが出来る。しかし、より短い光学波長、特にUVでは、光子のエネルギーがはるかに高く、そのSLM12を損傷する力も強いため、より短い波長でのSLM12の損傷閾値がはるかに低いのはそのためである。これにより、性能特性が制限され、場合によっては、より短い波長での画像投影を用いた多くの応用システムの多様性までもが制限される。レーザ画像増幅技術を使用すれば、より長い波長を使用する画像を生成して均一に増幅し、その後、非線形光学原理周波数変換によって、レーザ及び画像をより短い波長に変換することが出来る。例えば、SLM12に入射する1064nmの波長のレーザが画像を生成し、その後、その画像は均一に増幅される。増幅された1064nmの画像は、次に、周波数変換非線形光学素子/媒質を用いて、532nm可視緑の波長の画像周波数倍増に、又は355nmUVの波長の画像周波数三倍化に変換され得る。このようにして、SLM12はより弱い損傷力のより長い波長のみを扱うが、最終的な画像は、より短いより一層強力な波長である。これにより、UV等のより短い光学波長ではるかに高い放射照度レベルの投影画像を使用する応用が可能になる。周波数変換は、図17a及び17bで説明するように、増幅後に、限定はしないが非線形光学NLO媒質60等の周波数変換デバイスを使用して行うことが出来、NLO媒質60は、光学コンディショニングシステム22の前又は後に物理的に位置する。このように、図17aは、光学的コンディショニングシステム22の前のフレネル回折パターンの均一増幅及びそれに続く周波数変換を説明し、図17bは、光学的コンディショニングシステム22の後の画像の均一増幅及びそれに続く周波数変換を説明している。いずれの場合も最終的な結果は同じであり、SLM12によって生成された画像の、均一増幅され、拡大縮小され、周波数変換されたバージョンである。尚、マルチパス均一増幅の場合、周波数変換は、増幅器によって画像伝達ビームの最終パスの後に行われる。様々な例示的実施形態を参照して本発明を記載したが、当業者には、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、様々に変更、省略、及び/又は追加を行ってもよく、本発明の要素の代わりにその等価物を用いてもよいことが理解される。更に、本発明の範囲から逸脱することなく、特定の状況又は材料を本発明の教示に適応させるように多くの改良を行ってもよい。従って、本発明は、本発明を実施するために考えられた最良の形態として開示された具体的な実施形態に制限されないが、本発明は、添付の請求項の範囲に含まれる全実施形態を含むことが意図されている。更に、特に記載しない限り、第1、第2等の用語の使用は、順番や重要度を表しているのではなく、第1、第2等の用語は、ある要素を別の要素と区別するために使用している。"