放射ビームを調節する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成可能なパターニングデバイス、を支持するよう構成されたサポートと、基板を保持するよう構成された基板テーブルと、基板テーブルを基準構造に対して位置決めするためのステージシステムと、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、センサ部と光学部とを有する光学測定システムと、を備え、光学部は、パターン付与された放射ビームの一部と光学的に相互作用し、その相互作用の結果を出力としてセンサ部に送信し、光学部は基板テーブルに設けられ、センサ部はステージシステムまたは基準構造に設けられる、リソグラフィ装置。光学部は回折格子を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。センサ部は、光学部の出力を電気信号に変換する検出器を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。検出器は放射感応性の検出面を有し、その検出面はパターン付与された放射ビームと実質的に直交する平面内にある、請求項3に記載のリソグラフィ装置。検出器は放射感応性の検出面を有し、その検出面はパターン付与された放射ビームと実質的に直交しない平面内にある、請求項3に記載のリソグラフィ装置。検出面はパターン付与された放射ビームと実質的に平行である、請求項5に記載のリソグラフィ装置。光学部は平行ビームをセンサ部に向けて出力する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。光学部は相互作用の結果を基準ビームと組み合わせて出力し、その相互作用の結果の空間座標はその基準ビームから導出可能である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。検出器は光検出器またはCCDカメラである、請求項3に記載のリソグラフィ装置。光学測定システムは基板テーブルとパターニングデバイスとの相対位置を測定する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。光学測定システムは投影システムの特性を示す、請求項1に記載のリソグラフィ装置。従来の光学測定システムでは、システムに電力を供給しそこで測定されたデータをデータ処理ユニットに移送するために、電気ワイヤ/ケーブルが必要である。さらに、基板テーブルに設けられたエレクトロニクスの冷却が必要になるかもしれない。後者は特にEUVリソグラフィ装置に当てはまりうる。これら全ては、基板テーブルに働く擾乱力およびトルクを生成しうるので、位置決めの正確性が低減し、したがってオーバーレイおよび結像の性能が低下しうる。改良されたリソグラフィ装置、特にオーバーレイおよび結像の性能を改善したリソグラフィ装置を提供することが望ましい。本発明のある態様によると、リソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、放射ビームを調節する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成可能なパターニングデバイス、を支持するよう構成されたサポートと、基板を保持するよう構成された基板テーブルと、基板テーブルを基準構造に対して位置決めするためのステージシステムと、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、センサ部と光学部とを有する光学測定システムと、を備える。光学部は、パターン付与された放射ビームの一部と光学的に相互作用し、その相互作用の結果を出力としてセンサ部に送信する。光学部は基板テーブルに設けられ、センサ部はステージシステムまたは基準構造に設けられる。図1は、本発明の1つの実施の形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す。この装置は、放射ビームB例えば、紫外線UV放射や他の適切な放射を調整する照明システムイルミネータILと、パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するよう構成され、第1位置決めデバイスPMに接続されたパターニングデバイスサポートもしくはサポート構造例えばマスクテーブルMTと、を含む。第1位置決めデバイスPMは、パターニングデバイスをあるパラメータに従って正確に位置決めする。この装置は、基板例えばレジストコートウエハWを保持するよう構成され、第2位置決めデバイスPWに接続された基板テーブル例えばウエハテーブルWTもしくは基板サポートを含む。第2位置決めデバイスPWは、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするよう構成される。この装置はさらに、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを、基板Wのターゲット部分C例えば1つもしくは複数のダイを含む上に投影する投影システムたとえば屈折投影レンズシステムPSを含む。照明システムは、放射ビームを方向付け、成形し、あるいは制御するために、屈折光学素子、反射光学素子、磁気光学素子、電磁気光学素子、静電光学素子、あるいはこれらの任意の組み合わせなどの様々な種類の光学素子を含んでもよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスの配向やリソグラフィ装置の設計や、たとえばパターニングデバイスが真空環境中で保持されているか否か等の他の条件などに応じた態様でパターニングデバイスを保持している。パターニングデバイスサポートは、機械的固定、真空固定、静電固定、またはパターニングデバイスを保持するための他の固定用技術を使用できる。パターニングデバイスサポートは、例えば必要に応じて固定または移動させることができるフレームまたはテーブルであってもよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスを例えば投影システムに対して所望の位置に確実に配置することができる。本明細書におけるレチクルまたはマスクという用語の使用はすべて、より一般的なパターニングデバイスという用語の同義語とみなすことができる。本明細書で使用されているパターニングデバイスという用語は、放射ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板のターゲット部分にパターンを生成するべく使用することができる任意のデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。放射ビームに付与されるパターンは、たとえばそのパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含んでいる場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。放射ビームに付与されるパターンは、通常、ターゲット部分に生成されるデバイス、たとえば集積回路などのデバイス中の特定の機能層に対応している。パターニングデバイスは透過型であっても反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、例えばマスクやプログラマブルミラーアレイ、プログラマブルLCDパネルなどがある。マスクはリソグラフィの分野では周知であり、バイナリマスクやレベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク、更に各種のハイブリッド型マスクが含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例としては、小型のミラーがマトリックス状に配列され、各ミラーが入射してくる放射ビームを異なる方向に反射するように個別に傾斜されるというものがある。これらの傾斜ミラーにより、マトリックス状ミラーで反射された放射ビームにパターンが付与されることになる。本明細書で使用されている投影システムという用語は、たとえば使用する露光放射に適した、もしくは液浸液の使用または真空の使用などの他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系、磁気光学系、電磁気光学系、静電光学系、またはそれらの任意の組合せを含む任意の種類の投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における投影レンズという用語の使用はすべて、より一般的な投影システムという用語の同義語とみなすことができる。本明細書に示されるように、本装置はたとえば透過マスクを用いる透過型である。あるいはまた、本装置はたとえば、上述した種類のプログラマブルミラーアレイを用いた、あるいは反射マスクを用いた反射型であってもよい。リソグラフィ装置は2つ以上2つの場合にはデュアルステージと呼ばれるの基板テーブルもしくは基板サポートおよび/または2つ以上のマスクテーブルもしくはマスクサポートを備えてもよい。このような多重ステージ型の装置においては追加されたテーブルまたはサポートは並行して使用されるか、あるいは1以上のテーブルまたはサポートで露光が行われている間に他の1以上のテーブルまたはサポートで準備工程を実行するようにしてもよい。また、リソグラフィ装置は、基板の少なくとも一部が比較的屈折率の大きい液体、たとえば水で覆われ、それにより投影システムと基板の間の空間が充填されるタイプの装置であってもよい。液浸液はリソグラフィ装置の他の空間、例えばパターニングデバイスと投影システムとの間に導入されてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を大きくするために使用されうる。本明細書で使用されている液浸という用語は、基板などの構造を液体中に浸すべきであることを意味しているのではなく、単に、露光の間、投影システムと基板の間に液体が置かれることを意味しているにすぎない。図1を参照すると、イルミネータILは、放射源SOから放射ビームを受け取っている。例えば放射源がエキシマレーザである場合、放射源およびリソグラフィ装置は、別個の構成要素とすることができる。このような場合、放射ビームは、たとえば適切な誘導ミラーおよび/またはビームエキスパンダを備えたビーム搬送系BDを使用して放射源SOからイルミネータILへ受け渡される。それ以外のたとえば放射源が水銀灯などの場合、放射源はリソグラフィ装置と一体に構成されていてもよい。放射源SOおよびイルミネータILは、またビーム搬送系BDが必要とされる場合にはこれも合わせて、放射システムと称されてもよい。イルミネータILは、放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタADを備えてもよい。一般には、イルミネータの瞳平面における強度分布の少なくとも半径方向外径および/または内径通常それぞれシグマ-アウタσ-outer、シグマ-インナσ-innerと呼ばれるが調整される。加えて、イルミネータILは、インテグレータINおよびコンデンサCOなどの種々の他の要素を備えてもよい。イルミネータは、ビーム断面における所望の均一性及び強度分布を得るべく放射ビームを調整するために用いられる。放射ビームBは、マスクサポート構造例えば、マスクテーブルMTに保持されたパターニングデバイス例えば、マスクMAに入射して、当該パターニングデバイスによりパターンを付与される。パターニングデバイス例えば、マスクMAを透過した後、放射ビームBは、投影システムPSを通過する。投影システムPSは、ビームを基板Wのターゲット部分Cに合焦させる。第2位置決めデバイスPWと位置センサIF例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなどとにより基板テーブルWTは正確に移動され、例えば放射ビームBの経路に異なる複数のターゲット部分Cをそれぞれ位置決めするように移動される。同じように、第1位置決めデバイスPMともう1つの位置センサ図1に明確には示されていないとを用いて、例えばマスクライブラリから機械検索後、または走査中に、パターニングデバイス例えば、マスクMAを放射ビームBの経路に対して正確に位置決めすることができる。通常、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTの移動は、第1位置決めデバイスPMの一部を形成しているロングストロークモジュール粗い位置決め用およびショートストロークモジュール精細な位置決め用を使用して実現することができる。同様に、基板テーブルWTもしくは基板サポートの移動は、第2位置決め器PWの一部を形成しているロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTは、ショートストロークアクチュエータのみに接続され、あるいは固定される。パターニングデバイス例えば、マスクMAおよび基板Wは、パターニングデバイスアライメントマークM1、M2および基板アライメントマークP1、P2を使用して整列させることができる。図では、基板アライメントマークは専用のターゲット部分を占有しているが、基板アライメントマークは、ターゲット部分間のスペースに配置されてもよいこのような基板アライメントマークは、スクライブラインアライメントマークとして知られている。同様に、1つ以上のダイがパターニングデバイス例えば、マスクMA上に設けられる場合、ダイ間にパターニングデバイスアライメントマークが配置されてもよい。図示の装置は、以下に示すモードのうちの少なくとも1つのモードで使用することができる。1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射でターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートおよび基板テーブルWTもしくは基板サポートは、実質的に静止状態とされるすなわち1回の静的な露光。そして基板テーブルWTもしくは基板サポートがX方向及び/またはY方向に移動されて、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズによって、1回の静的露光で結像されるターゲット部分Cの寸法が制限されることになる。2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートおよび基板テーブルWTもしくは基板サポートは、同期して走査されるすなわち1回の動的な露光。パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートに対する基板テーブルWTもしくは基板サポートの速度及び方向は、投影システムPSの拡大縮小特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが1回の動的露光でのターゲット部分Cの非走査方向の幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の走査方向の長さを決定する。3.その他のモードにおいては、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートはプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、基板テーブルWTもしくは基板サポートが移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、基板テーブルWTもしくは基板サポートが移動する毎に、あるいは連続する放射パルス間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。上述の使用モードの組み合わせおよび/または変形、もしくは全く異なった使用モードが使われてもよい。図2は図1の基板テーブルWTおよび位置決めデバイスPWをより詳細に示す模式図である。基板テーブルWTは位置決めデバイスPWによって支持され、その位置決めデバイスPWはフレームFAによって支持される。位置決めデバイスPWは代替的にステージシステムと称されてもよい。基板テーブルWTのフレームFAに対する粗い位置決めのためのロングストロークモジュールLSMは、位置決めデバイスPWとフレームFAとの間に設けられる。したがって、フレームFAは基準構造として機能する。基板テーブルの位置決めデバイスPWに対する、したがってフレームFAに対する精緻な位置決めのためのショートストロークモジュールSSMは、位置決めデバイスPWと基板テーブルWTとの間に設けられる。したがって、ステージシステムは、基板テーブルWTをフレームFAに対して位置決めするために使用される。ロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールは位置決めデバイスPWの一部を形成する。図2において、基板テーブルWTは基板Wを保持する。パターン付与された放射ビームの一部分が基板Wに入射し、別の部分が2つの光学測定システムに入射するように、基板テーブルWTはパターン付与された放射ビームPRBの中で配置される。第1光学測定システムFOMSは図2の右側に配置され、第2光学測定システムSOMSは図2の左側に配置される。各光学測定システムは、基板テーブルWTに設けられた光学部OPと、位置決めデバイスPWすなわちステージシステムに設けられたセンサ部SPと、を含む。光学部OPはパターン付与された放射ビームの一部分と相互作用し、本実施の形態ではパターン付与された放射ビームの外側の部分と相互作用する。光学部はその相互作用の結果をセンサ部SPに向けて出力する。センサ部はその結果を検出することができ、またその出力を電気信号などの別の量に変換することができる。そのような量から情報が取得されうる。ある実施の形態では、光学部OPは相互作用の出力と共に基準ビームを出力してもよい。結果の空間座標をそのような基準ビームから導出することができる。ここで、本実施の形態においては、光学測定システムによる測定と基板の露光とは同時には発生しないことを明確に言及しておく。光学部とパターン付与された放射ビームの一部分との相互作用は、レンズやミラーや回折格子やポラライザやフィルタなどの光学素子によって行われる屈折や干渉や反射や偏光やフィルタリングなどの光学操作を含んでもよい。ある実施の形態では、光学部は少なくとも回折格子を含む。センサ部をステージシステムに設けることの利点は、基板テーブルにケーブルやワイヤやホースを設ける必要がないことである。ケーブルおよびワイヤを必要とするコンポーネントは全てステージシステムに設けられているからである。その結果、ケーブルやワイヤからの基板テーブルへの擾乱は低減され、基板テーブルの位置決めの正確性は向上し、したがってオーバーレイおよび結像の性能が向上する。図3は本発明の別の実施の形態に係るリソグラフィ装置の一部を模式的に示す。その部分は、図1のリソグラフィ装置において使用されうる。位置決めデバイスPWおよび基準構造RSを支持するフレームFAが示される。基準構造はフレームFAによって低周波数的に支持されており、フレームから基準構造への振動の伝達はできる限り抑えられている。低周波数的な支持はバネKによって示されている。位置決めデバイスの基準構造RSに対する粗い位置決めのためのロングストロークモジュールLSMは、フレームと位置決めデバイスPWとの間に設けられる。基板テーブルWTの位置決めデバイスPWに対する、したがって基準構造RSに対する精緻な位置決めのためのショートストロークモジュールSSMは、位置決めデバイスPWと基板テーブルWTとの間に設けられる。したがって、位置決めデバイスPWは、基板テーブルWTを位置決めするためのステージシステムとして使用される。基板テーブルWTは基板Wを保持する。図3において、パターン付与された放射ビームの一部分が基板Wに入射し、パターン付与された放射ビームの一部分が光学測定システムOMSに入射するように、基板テーブルはパターン付与された放射ビームPRBの中で配置される。実際、光学測定システムOMSによる測定中は基板Wをパターン付与された放射ビームで露光せず、パターン付与された放射ビームでの基板の露光中は、光学測定システムは使用されなくてもよい。光学測定システムは光学部OPを含む。光学部OPは、パターン付与された放射ビームPRBの一部と相互作用し、その相互作用の結果を出力としてセンサ部SPに送信する。光学部OPは基板テーブルWTに設けられ、センサ部SPは基準構造RSに設けられる。あるいはまた、センサ部SPはフレームFAに設けられてもよい。センサ部SPを位置決めデバイスPWではなく基準構造またはフレームFAに設けることの利点は、位置決めデバイスPWや基板テーブルWTのような移動コンポーネントにケーブルやワイヤやホースを設ける必要がないことである。したがって、ケーブルやワイヤやホースに起因する位置決めデバイスおよび基板テーブルに対する擾乱は除去され、オーバーレイおよび結像の性能が向上する。図4は本発明のひとつの実施の形態に係る光学測定システムをより詳細に示す模式図である。光学部OPおよびセンサ部SPが示される。光学部は、図1のリソグラフィ装置と同様のZ方向に実質的に平行なパターン付与された放射ビームの一部分、と実質的に直交する回折格子を含む。パターン付与された放射ビームのその部分はリソグラフィ装置のレチクルレベルにおいて別の回折格子と相互作用した後のものであってもよい。および/または、その部分は投影システムを通過した後のものであってもよい。これにより、その部分は投影システムのパラメータおよび性質についての情報を意図的に集めることとなる。回折格子を通過した後つづいて、パターン付与された放射ビームの一部分はミラーMIによって反射され、パターン付与された放射ビームのその部分の主な向きが垂直から水平に変更される。最後に、パターン付与された放射ビームのその部分は第1レンズL1を通過し、パターン付与された放射ビームのその部分は略平行ビームPBに変換される。平行ビームの利点は、光学部OPとセンサ部SPとの距離が、光学部OPからセンサ部SPへの伝送に影響を及ぼさなくなることである。センサ部SPは、平行ビームを検出器DE上に集束させるための第2レンズL2を含む。検出器DEは放射を電気信号に変換し、その電気信号は適切な処理ユニットプロセッサと広く呼ばれているまたは制御ユニットコントローラと広く呼ばれているによって処理されうる。検出器DEは放射感応性の検出面DEPを含み、その検出面はパターン付与された放射ビームPRBと平行な平面内にある。平行ビームPBおよび検出面DEPの他の向きも可能であり、例えば水平に対して45度の角度であったり、垂直であったりしてもよい。検出器に電力を供給するため、および、検出器によって取得されたデータをセンサ部から例えば処理ユニットに移送するため、ケーブルCAが設けられる。ある実施の形態では、センサ部の冷却が望まれるので、ケーブルは水などの冷媒をセンサ部とやりとりするためのホースを含む。図5は図2のリソグラフィ装置の代替的な実施の形態を模式的に示す。図2では、ステージシステムすなわち位置決めデバイスPWが基板テーブルWTを支持する。図5に示されるリソグラフィ装置の一部では、基板テーブルWTはステージシステムPWによってフレームFAに対して位置決めされ、基板テーブルWTはステージシステムPWではなくフレームFAによって支持される。ステージシステムをフレームFAに対して粗く位置決めするためのロングストロークモジュールLSMは、ステージシステムPWとフレームとの間に設けられる。基板テーブルをステージシステムに対して、したがってフレームFAに対して精緻に位置決めするためのショートストロークモジュールSSMは、ステージシステムPWと基板テーブルWTとの間に設けられる。図5において、基板テーブルは基板Wを保持する。パターン付与された放射ビームの一部分が基板に入射し、別の部分が光学測定システムOMSに入射するように、基板テーブルは配置される。実際、光学測定システムにおける測定は、パターン付与された放射ビームによる基板の露光と同時には行われない。図2のリソグラフィ装置と同様に、光学測定システムOMSは、基板テーブルに設けられた光学部OPと、ステージシステムに設けられたセンサ部SPと、を含む。ここで、図に示される実施の形態はロングストロークモジュールと共にショートストロークモジュールを使用するが、本発明は基板テーブルを位置決めするためにモジュールをひとつのみ使用する実施の形態にも適用可能であることを明確に言及しておく。例えば、図3の実施の形態を、基板テーブルWTをステージシステムPWに統合することでショートストロークモジュールSSMを除去し、ロングストロークモジュールLSMを基板テーブルを粗くかつ精緻に位置決めするためのモジュールによって置き換えるよう変更できる。本明細書ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、リソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用ガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどがある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書におけるウエハあるいはダイという用語がそれぞれ基板あるいはターゲット部分という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。基板は露光前または露光後においてトラック典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置、メトロロジツール、及び/またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ICを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味する。ここでは特に光リソグラフィを本発明に係る実施の形態に適用したものを例として説明しているが、本発明は例えばインプリントリソグラフィなど文脈が許す限り他にも適用可能であり、光リソグラフィに限られるものではない。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが基板に生成されるパターンを決める。パターニングデバイスのトポグラフィが基板に塗布されているレジスト層に押し付けられ、電磁放射や熱、圧力、あるいはこれらの組み合わせによってレジストが硬化される。レジストが硬化されてから、パターニングデバイスは、パターンが生成されたレジストから外されて外部に移動される。本明細書において放射およびビームという用語は、紫外UV放射例えば約365nm、248nm、193nm、157nm、または126nmの波長を有するおよび極端紫外EUV放射例えば5nm-20nmの範囲の波長を有するを含むあらゆる種類の電磁放射、およびイオンビームや電子ビームなどの粒子線を示す。レンズという用語は、文脈が許す限り、屈折光学素子、反射光学素子、磁気的光学素子、電磁気的光学素子、静電的光学素子を含む1つまたは各種の光学素子の組み合わせを指し示すものであってもよい。本発明の具体的な実施の形態が上述のように説明されたが、本発明は上述の形式以外の形式でも実施可能であると理解されたい。例えば、本発明はコンピュータプログラムの形式を取ってもよい。このコンピュータプログラムは機械に読み取り可能な命令の1つもしくは複数のシーケンスを含む。命令は、上述の方法を記述する。あるいはまた、本発明は、そのようなコンピュータプログラムを記憶保持するデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気もしくは光学ディスクの形式を取ってもよい。上述の記載は例示を目的としており、それに限定されるものではない。したがって下記の請求の範囲から逸脱することなく記載された発明に変更を加えることができるということは、関連技術の当業者には明らかなことであろう。