"1分子中に4個のラジカル重合性官能基を有する4官能メタアクリレートモノマーAを50~95質量部と、1分子中に2個のラジカル重合性官能基およびポリアルキレングリコール構造を有し、1分子中に存在する該アルキレングリコール構造の繰り返し単位の合計が4~25である2官能メタアクリレートモノマーBを5~35質量部と、前記4官能メタアクリレートモノマーAおよび2官能メタアクリレートモノマーBと共重合可能で、1分子中に1個のラジカル重合性官能基を有する単官能メタアクリレートモノマーCを15質量部以下含む重合反応性モノマー成分と、前記重合反応性モノマー成分100質量部に対して、0.01~10質量部の活性エネルギー線重合開始剤Dと、0.01~3質量部の離型剤Eと、0.01~3質量部の滑剤Fとを含有する、ナノ凹凸構造用樹脂組成物。前記重合反応性モノマー成分100質量部に対して、0.01~5質量部の紫外線吸収剤および/または光安定剤Gをさらに含有する、請求項1に記載のナノ凹凸構造用樹脂組成物。前記4官能メタアクリレートモノマーAが、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレートのエトキシ変性物、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレートのエトキシ変性物、トリメチロールエタンアクリル酸無水コハク酸の縮合反応物よりなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項1または2に記載のナノ凹凸構造用樹脂組成物。前記2官能メタアクリレートモノマーBのポリアルキレングリコール構造が、ポリエチレングリコール構造である、請求項1~3のいずれか一項に記載のナノ凹凸構造用樹脂組成物。前記離型剤Eが、下記一般式Iで表される少なくとも1種のポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物である、請求項1~4のいずれか一項に記載のナノ凹凸構造用樹脂組成物。式I中、R1はアルキル基を示し、mは1~20の数を示し、nは1~3の数を示す。前記滑剤Fが、ポリエーテル変性されたポリジメチルシロキサン骨格を有する化合物である、請求項1~5のいずれか一項に記載のナノ凹凸構造用樹脂組成物。請求項1~6のいずれか一項に記載のナノ凹凸構造用樹脂組成物を用いて形成されたナノ凹凸構造体を有する、自動車メータカバー用透明部材。請求項1~6のいずれか一項に記載のナノ凹凸構造用樹脂組成物を用いて形成されたナノ凹凸構造体を有する、カーナビゲーション用透明部材。特許文献1に記載のように親水性の高い樹脂組成物から得たナノ凹凸構造体は、防汚性に優れるものの、耐擦傷性や耐候性等の各特性のさらなる向上が求められる。耐擦傷性を発現させる方法としては、樹脂組成物にシリコーン系化合物等の滑剤を配合する方法が知られている。しかし、滑剤を配合した樹脂組成物から得られたナノ凹凸構造体に耐候性試験等を行うと、滑剤がブリードアウトしやすく、接触角が上昇しやすかった。その結果、防汚性、特に指紋拭き取り性が低下しやすかった。滑剤のブリードアウトを防ぐには、滑剤の配合量を減らせばよいが、滑剤の配合量が少量の場合には十分な耐擦傷性が得られない。一方、耐候性を向上させる方法としては、樹脂組成物に紫外線吸収剤や光安定剤を配合する方法が知られている。しかし、紫外線吸収剤や光安定剤を配合した樹脂組成物から得られたナノ凹凸構造体に耐候性試験等を行うと、紫外線吸収剤や光安定剤がブリードアウトしやすく、接触角が上昇しやすかった。その結果、防汚性、特に指紋拭き取り性が低下しやすかった。このように、これまでにナノ凹凸構造体を形成するための樹脂組成物が提案されているが、耐候性等の耐久性を十分に満足するものではなかった。また、防汚性、特に指紋拭き取り性、耐擦傷性および低反射性を有し、かつ耐候性に優れたナノ凹凸構造体を得ることは必ずしも容易ではなかった。本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、優れた防汚性、耐擦傷性および低反射性を有し、かつ耐候性に優れたナノ凹凸構造体を形成できるナノ凹凸構造用樹脂組成物、およびそれを用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材の提供を課題とする。本発明者らは鋭意検討した結果、特定のモノマー成分を用い、耐擦傷性の向上と防汚性を両立させる滑剤や、耐候性試験による撥水化を抑制し、防汚性を維持するための内部離型剤を選定し、特定のモノマー成分にバランスよく配合することで、優れた防汚性、特に指紋拭き取り性、耐擦傷性および低反射性を有し、かつ耐候性に優れたナノ凹凸構造体を形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明のナノ凹凸構造用樹脂組成物は、1分子中に4個のラジカル重合性官能基を有する4官能メタアクリレートモノマーAを50~95質量部と、1分子中に2個のラジカル重合性官能基およびポリアルキレングリコール構造を有し、1分子中に存在する該アルキレングリコール構造の繰り返し単位の合計が4~25である2官能メタアクリレートモノマーBを5~35質量部と、前記4官能メタアクリレートモノマーAおよび2官能メタアクリレートモノマーBと共重合可能で、1分子中に1個のラジカル重合性官能基を有する単官能メタアクリレートモノマーCを15質量部以下含む重合反応性モノマー成分と、前記重合反応性モノマー成分100質量部に対して、0.01~10質量部の活性エネルギー線重合開始剤Dと、0.01~3質量部の離型剤Eと、0.01~3質量部の滑剤Fとを含有することを特徴とする。また、前記重合反応性モノマー成分100質量部に対して、0.01~5質量部の紫外線吸収剤および/または光安定剤Gをさらに含有することが好ましい。さらに、前記4官能メタアクリレートモノマーAが、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレートのエトキシ変性物、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレートのエトキシ変性物、トリメチロールエタンアクリル酸無水コハク酸の縮合反応物よりなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。また、前記2官能メタアクリレートモノマーBのポリアルキレングリコール構造が、ポリエチレングリコール構造であることが好ましい。さらに、前記離型剤Eが、下記一般式Iで表される少なくとも1種のポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物であることが好ましい。式I中、R1はアルキル基を示し、mは1~20の数を示し、nは1~3の数を示す。さらに、前記滑剤Fが、ポリエーテル変性されたポリジメチルシロキサン骨格を有する化合物であることが好ましい。また、本発明の自動車メータカバー用透明部材は、前記ナノ凹凸構造用樹脂組成物を用いて形成されたナノ凹凸構造体を有することを特徴とする。また、本発明のカーナビゲーション用透明部材は、前記ナノ凹凸構造用樹脂組成物を用いて形成されたナノ凹凸構造体を有することを特徴とする。本発明によれば、優れた防汚性、耐擦傷性および低反射性を有し、かつ耐候性に優れたナノ凹凸構造体を形成できるナノ凹凸構造用樹脂組成物、およびそれを用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材を提供できる。以下、本発明を詳細に説明する。なお、本発明において、メタアクリレートはアクリレートおよび/またはメタクリレートを意味する。また、活性エネルギー線とは、電子線、紫外線、可視光線、赤外線等のエネルギー線を意味する。[ナノ凹凸構造用樹脂組成物]本発明のナノ凹凸構造用樹脂組成物以下、単に樹脂組成物という場合があるは、活性エネルギー線を照射することで重合反応が進行し、硬化する樹脂組成物である。本発明の樹脂組成物は、重合反応性モノマー成分と、活性エネルギー線重合開始剤Dと、離型剤Eと、滑剤Fと、必要に応じて紫外線吸収剤および/または光安定剤Gとを含有する。以下、各成分について説明する。<重合反応性モノマー成分>重合反応性モノマー成分は、4官能メタアクリレートモノマーAと、2官能メタアクリレートモノマーBと、単官能メタアクリレートモノマーCとを含む。4官能メタアクリレートモノマーA4官能メタアクリレートモノマーA以下、モノマーAという場合がある。は、樹脂組成物の主成分であり、硬化物の機械特性特に耐擦傷性を良好に維持する役割を果たす。モノマーAは、ラジカル重合性官能基を1分子中に4個有する。これにより、樹脂組成物の硬化物の架橋点間分子量が小さくなり、硬化物の弾性率や硬度が高くなり、耐擦傷性に優れた硬化物が得られる。モノマーAとしては、4つのアクリロイルオキシ基が結合した炭化水素化合物を用いることが好ましい。このような化合物は、例えば4つの水酸基が結合した炭化水素化合物に対して、4つのメタアクリル系化合物を反応させることにより得られる。また、モノマーAとしては、前記4つのアクリロイルオキシ基が結合した炭化水素化合物において、アクリロイルオキシ基と炭化水素基の間にエトキシ構造を導入したエトキシ変性物を用いることも好ましい。モノマーAの具体例としては、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレートのエトキシ変性物、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレートのエトキシ変性物、トリメチロールエタンアクリル酸無水コハク酸の縮合反応物などが挙げられる。モノマーAとしては市販品を用いることができ、例えば新中村化学工業社製のNKエステルATM-4EおよびNKエステルA-TMMT、大阪有機化学工業社製のTAS、ダイセルサイテック社製のEBECRYL40等が好適である。これらを使用すれば、耐擦傷性と防汚性、特に指紋拭き取り性のバランスが取りやすい。モノマーAは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。モノマーAの含有量は、重合反応性モノマー成分中の全モノマーの含有量の合計を100質量部としたときに、50~95質量部であり、耐水性や耐薬品性の観点から、好ましくは60~90質量部、より好ましくは65~85質量部である。モノマーAの含有量が上記下限値以上であれば、樹脂組成物の硬化物の弾性率、硬度、耐擦傷性が向上する。一方、モノマーAの含有量が上記上限値以下であれば、硬化物の弾性率が高くなりすぎることを抑制でき、スタンパから剥離する際のひび割れの発生を防止できる。加えて、硬化物が硬くかつ脆くなりすぎることを抑制でき、耐擦傷性に優れたナノ凹凸構造体を形成できる。2官能メタアクリレートモノマーB2官能メタアクリレートモノマーB以下、モノマーBという場合がある。は、ナノ凹凸構造体の表面を親水化する役割を果たし、ナノ凹凸構造体に防汚性を付与する。モノマーBは、ラジカル重合性官能基を1分子中に2個有する。また、ポリアルキレングリコール構造を有し、1分子中に存在するその構造の繰り返し単位の合計は4~25であり、好ましくは9~23、より好ましくは10~20である。繰り返し単位の合計が上記下限値以上であれば、親水性、防汚性が向上する。一方、繰り返し単位の合計が上記上限値以下であれば、モノマーAとの相溶性が向上する。ポリアルキレングリコール構造としては、親水化の点から、ポリエチレングリコール構造が特に好ましい。モノマーBとしては、長鎖ポリエチレングリコール構造を有するジメタアクリレート類が好ましく、特にポリエチレングリコールジアクリレートが好ましい。モノマーBとしては市販品を用いることができ、例えば東亞合成社製のアロニックスシリーズのM240、M260;新中村化学工業社製のNKエステルシリーズのA-400、A-600、A-1000等が挙げられる。モノマーBは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。モノマーBの含有量は、重合反応性モノマー成分中の全モノマーの含有量の合計を100質量部としたときに、5~35質量部であり、好ましくは10~30質量部、より好ましくは15~25質量部である。モノマーBの含有量が上記下限値以上であれば、樹脂組成物の硬化物の表面を十分に親水化でき、防汚性が向上する。一方、モノマーBの含有量が上記上限値以下であれば、硬化物の表面の弾性率、耐擦傷性が向上する。加えて、硬化物の耐水性が向上するので、水拭きしても良好な光学性能を発揮するナノ凹凸構造体を形成できる。単官能メタアクリレートモノマーC単官能メタアクリレートモノマーC以下、モノマーCという場合がある。は、樹脂組成物のハンドリング性や重合反応性を向上させる役割や、後述する透明基材との密着性向上の役割を果たす。モノマーCは、ラジカル重合性官能基を1分子中に1個有し、前記モノマーAおよびモノマーBと共重合可能な単官能モノマーである。ところで、本発明の樹脂組成物の物性を大きく左右するのは、主成分となるモノマーAである。このモノマーAは粘度が高い傾向にあるので、樹脂組成物のハンドリング性が低下する場合がある。そのような場合には、ハンドリング性を改良するために低粘度の単官能モノマーや2官能モノマーで希釈すればよい。ただし、2官能モノマーは1つのラジカル重合性官能基が反応すると、残りのラジカル重合性官能基の反応性が低下しやすい。従って、樹脂組成物全体での重合反応性を向上させるには、単官能モノマーが適しており、粘度の高いモノマーAを用いる場合には、モノマーCを併用するのが好ましい。また、樹脂組成物は透明基材上で硬化させ、透明基材と一体化させて用いることが一般的である。ここで、モノマーCの中でも特に低分子量の単官能モノマーを用いれば、透明基材と樹脂組成物の硬化物との密着性がより良好となる傾向にある。モノマーC種類は、透明基材の材質によって適宜最適なものを選択すればよいが、透明基材との密着性を向上させるためには、特に、アルキルメタアクリレート、ヒドロキシアルキルメタアクリレートが好適である。また、アクリロイルモルホリン等の粘度調整剤、アクリロイルイソシアネート等も使用できる。また、透明基材としてアクリル系フィルムを使用する場合は、モノマーCとしてはメチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートが特に好ましい。モノマーCは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。モノマーCの含有量は、重合反応性モノマー成分中の全モノマーの含有量の合計を100質量部としたときに、15質量部以下であり、好ましくは5~15質量部である。モノマーCの含有量が上記上限値以下であれば、樹脂組成物の硬化性が向上する。また、硬化後の未反応のモノマーCの残存量を低減し、未反応のモノマーCが可塑剤として作用して硬化物の弾性率を低くしたり、耐擦傷性を低下させたりする問題を防止できる。<活性エネルギー線重合開始剤D>活性エネルギー線重合開始剤Dは、活性エネルギー線を照射することで開裂し、重合反応を開始させるラジカルを発生する化合物である。装置コストや生産性の観点から、活性エネルギー線として紫外線を用いるのが一般的である。活性エネルギー線重合開始剤Dとしては特に限定されない。その具体例としては、ベンゾフェノン、4,4-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、t-ブチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン;2,4-ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン等のチオキサントン類;ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、ベンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシル-フェニルケトン、2-メチル-2-モルホリノ4-チオメチルフェニルプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン等のアセトフェノン類;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド類;メチルベンゾイルホルメート、1,7-ビスアクリジニルヘプタン、9-フェニルアクリジンなどが挙げられる。活性エネルギー線重合開始剤Dは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。特に、吸収波長の異なる2種以上を併用することが好ましい。また必要に応じて、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩、ベンゾイルパーオキシドなどの過酸化物、アゾ系開始剤などの熱重合開始剤を併用してもよい。活性エネルギー線重合開始剤Dの含有量は、重合反応性モノマー成分100質量部に対して0.01~10質量部であり、好ましくは0.1~5質量部、より好ましくは0.2~3質量部である。活性エネルギー線重合開始剤Dの含有量が上記下限値以上であれば、樹脂組成物の硬化性が向上し、硬化物の機械特性特に耐擦傷性が向上する。一方、活性エネルギー線重合開始剤Dの含有量が上記上限値以下であれば、硬化物内の活性エネルギー線重合開始剤Dの残存に起因する硬化物の弾性率や耐擦傷性の低下を抑制できるとともに、着色も防止できる。<離型剤E>離型剤Eとしては、リン酸エステル化合物が挙げられ、接触角の上昇を抑制する点で、下記一般式Iで表される少なくとも1種のポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物以下、化合物Iという。が特に好ましい。式I中、R1はアルキル基である。R1はとしては、炭素数3~18のアルキル基が好ましい。また、式I中、mはエチレンオキサイドの平均付加モル数を示し、1~20の数を示し、1~10が好ましい。一方、nは1~3の数を示す。化合物Iは、モノエステル体、ジエステル体、トリエステル体の何れであってもよい。また、ジエステル体又はトリエステル体である場合、それぞれのポリオキシエチレンアルキル残基が相互に異なっていてもよい。離型剤Eとして化合物Iを用いると、樹脂組成物の硬化物のスタンパからの離型性が良好となり、ナノ凹凸構造体の形成に好適である。また、離型時の負荷が極めて低いので、欠陥の少ないナノ凹凸構造体が高い生産性で得られる。さらに、耐候性試験における撥水化を抑制する効果があり、優れた耐久性を示すナノ凹凸構造体を形成できる樹脂組成物となる。化合物Iとしては市販品を用いることができ、例えば城北化学工業社製のJP-506H;アクセル社製のモールドウイズシリーズのINT-1856;日光ケミカルズ社製のTDP-10、TDP-8、TDP-6、TDP-2、DDP-10、DDP-8、DDP-6、DDP-4、DDP-2、TLP-4、TCP-5、DLP-10が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。離型剤Eの含有量は、重合反応性モノマー成分100質量部に対して0.01~3質量部であり、好ましくは0.05~1質量部、より好ましくは0.1~0.5質量部である。離型剤Eの含有量が上記下限値以上であれば、スタンパからの離型性低下によるスタンパへの樹脂残り離型不良を防止できるとともに、撥水化耐候不良を抑制でき、初期および耐候性試験での防汚性の低下を防止できる。一方、離型剤Eの含有量が上記上限値以下であれば、樹脂組成物の硬化物本来の性能の維持しつつ、後述する透明基材との密着性低下によるスタンパへの樹脂残り離型不良を防止できる。加えて、ナノ凹凸構造体の使用時における透明基材と硬化物との剥離を防止できるとともに、斑や外観不良の発生を抑制できる。さらに、硬化物の耐候性を良好に維持できる。<滑剤F>滑剤Fは、耐擦傷性を向上させる役割を果たす。滑剤Fとしては、ポリエーテル変性されたポリジメチルシロキサン骨格を有する化合物が好ましく、またアクリル基などを有した反応性のものであってもよい。これは、ブロック共重合体でもグラフト共重合体でもよい。滑剤Fとしては市販品を用いることができ、例えばビックケミージャパン社製のBYK-378、BYK-333、BYK-331、BYK-377、BYK-3500、BYK-3510等が挙げられる。滑剤Fは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。滑剤Fの含有量は、重合反応性モノマー成分100質量部に対して0.01~3質量部であり、好ましくは0.05~2質量部、より好ましくは0.1~1.0質量部である。滑剤Fの含有量が上記下限値以上であれば、樹脂組成物の硬化物の耐擦傷性が低下するのを抑制できる。一方、滑剤Fの含有量が上記上限値以下であれば、硬化物と後述する透明基材との密着性が低下するのを抑制でき、斑や外観不良が発生しにくくなり、かつ耐候性試験による撥水化を防止できる。なお、滑剤Fと、滑剤F以外の成分との相溶性が悪い場合には、硬化物の色ムラやヘイズの上昇などを引き起こすことがある。<紫外線吸収剤および/または光安定剤G>本発明の樹脂組成物は、紫外線吸収剤および/または光安定剤G以下、これらを総称してG成分という場合がある。を含有するのが好ましい。G成分は、黄帯色の抑制やヘイズの上昇抑制等の耐候性を付与する役割を果たす。紫外線吸収剤としては、例えばベンゾフェノン系の紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤、ベンゾエート系の紫外線吸収剤等が挙げられる。市販品としては、例えばチバスペシャルティケミカルズ社製のチヌビンシリーズの400、479、109;共同薬品社製のViosorbシリーズの110等が挙げられる。一方、光安定剤としては、例えばヒンダードアミン系の光安定剤等が挙げられる。市販品としては、チバスペシャルティケミカルズ社製のチヌビンシリーズの152、292等が挙げられる。G成分は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。G成分の含有量は、重合反応性モノマー成分100質量部に対して0.01~5質量部であり、好ましくは0.01~3質量部、より好ましくは0.01~1質量部、特に好ましくは0.01~0.5質量部である。G成分の含有量が上記下限値以上であれば、樹脂組成物の硬化物が黄着色するのを抑制できるとともに、ヘイズ上昇を抑制するなどして耐候性が向上する。一方、G成分の含有量が上記上限値以下であれば、樹脂組成物の硬化性の低下、硬化物の耐擦傷性の低下、初期および耐候性試験での防汚性、特に指紋拭き取り性の低下を効果的に防止できる。<その他の添加剤>本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、可塑剤、帯電防止剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、耐衝撃性改質剤等の公知の添加剤を含有してもよい。<樹脂組成物の物性>粘度樹脂組成物は、ナノ凹凸構造体を形成させるスタンパへ流し込むことを考慮すると、25°Cにおける回転式B型粘度計で測定される粘度が、10Pas以下であることが好ましく、より好ましくは5Pas以下、特に好ましくは2Pas以下である。また、樹脂組成物はスタンパへ流し込む際に、予め加温して粘度を下げることが可能である。樹脂組成物の粘度は、モノマーA、モノマーB、およびモノマーCの種類や含有量を調節することで調整できる。具体的には、水素結合などの分子間相互作用を有する官能基や化学構造を含むモノマーを多量に用いると、樹脂組成物の粘度は高くなる傾向にある。また、分子間相互作用のない低分子量のモノマーを多量に用いると、樹脂組成物の粘度は低くなる傾向にある。屈折率樹脂組成物は、後述する透明基材上で硬化させ、透明基材と一体化させて用いることが一般的である。しかし、硬化物と透明基材との屈折率が異なる場合、硬化物と透明基材との界面で反射が起こり、反射率が上昇しやすくなる。このことから、本発明の樹脂組成物を光学用途に用いる場合、使用する透明基材の屈折率に合わせて樹脂組成物の屈折率を調整し、屈折率差を小さくすることが好ましい。以上説明した本発明の樹脂組成物は、上述したモノマーA、モノマーBおよびモノマーCを含む重合反応性モノマー成分と、活性エネルギー線重合開始剤Dと、離型剤Eと、滑剤Fとを特定量含有するので、優れた防汚性、特に指紋拭き取り性、耐擦傷性および低反射性を有し、かつ耐候性に優れたナノ凹凸構造体を形成できる。本発明の樹脂組成物は、重合および硬化させて成形品として使用でき、そのような成形品は、特にナノ凹凸構造を表面に有するナノ凹凸構造体として極めて有用である。また、本発明の樹脂組成物は、ナノ凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパを用いた転写法によりナノ凹凸構造を転写する際に用いる樹脂組成物として最適である。以下、本発明により得られるナノ凹凸構造体の一例について、詳しく説明する。[ナノ凹凸構造体]図1は、本発明により得られるナノ凹凸構造体の一実施形態を模式的に示す断面図である。この例のナノ凹凸構造体10は、後述する透明基材11の上に本発明の樹脂組成物の硬化物からなる硬化物層12が積層されている。硬化物層12の表面には、表面が表面反射防止等の機能を発現するナノ凹凸構造を有する。具体的には、硬化物層12の表面に凸部13および凹部14が等間隔で形成されている。良好な反射防止性能を発現するためには、ナノ凹凸構造の隣り合う凸部13または凹部14の間隔図1では、隣り合う凸部13の中心点頂部13aの間隔w1が、可視光の波長以下のサイズである必要がある。ここで可視光とは、波長が380~780nmの光を指す。この間隔w1が380nm以下であれば、可視光の散乱を抑制できる。この場合、本発明により得られるナノ凹凸構造体を反射防止膜などの光学用途に好適に使用できる。また、最低反射率や特定波長の反射率の上昇を抑制する観点から、凸部13の高さまたは凹部14の深さ図1では、凹部14の中心点底点14aから凸部13の中心点頂部13aまでの垂直距離d1が、60nm以上であることが好ましく、90nm以上がより好ましい。ナノ凹凸構造の凸部の形状は特に限定されず、例えば図1に示すように円錐状または角錐状や、図2に示すように釣鐘状などが挙げられる。また、ナノ凹凸構造の凸部の形状はこれらに限定されず、硬化物層12の膜面で切断した時の断面積の占有率が連続的に増大するような構造であればよい。さらに、より微細な凸部が合一してナノ凹凸構造を形成していてもよい。すなわち、図1、2に示す形状以外であっても、空気から材料表面まで連続的に屈折率を増大し、低反射率と低波長依存性を両立させた反射防止性能を示すような形状であればよい。本発明の樹脂組成物から形成される硬化物ナノ凹凸構造体は、防汚性に優れる。また、滑剤を用いているので耐擦傷性に優れる。特に、ナノ凹凸構造の隣り合う凸部同士の距離が可視光の波長380nm以下であれば、反射防止性に優れるので、反射防止物品に好適に使用できる。また、凸部の高さが60nm以上であれば反射防止性により優れる。さらに、耐候性にも優れる。なお、本発明により得られるナノ凹凸構造体は、図1、2に示す実施形態に限定されるものではなく、ナノ凹凸構造は本発明の樹脂組成物の硬化物の片面に形成されていてもよいし、硬化物の全面に形成されていてもよい。また、ナノ凹凸構造は硬化物の全体に形成されていてもよいし、硬化物の一部に形成されていてもよい。<製造方法>ナノ凹凸構造体の製造方法としては、例えば、1ナノ凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパを用いて射出成形やプレス成形する方法、2スタンパと透明基材との間に樹脂組成物を配し、活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化して、スタンパの凹凸形状を転写し、その後スタンパを剥離する方法、3樹脂組成物にスタンパの凹凸形状を転写してからスタンパを剥離し、その後で活性エネルギー線を照射して樹脂組成物を硬化する方法などが挙げられる。これらの中でも、ナノ凹凸構造の転写性、表面組成の自由度の点から、2の方法が特に好ましい。2の方法は、連続生産が可能なベルト状やロール状のスタンパを用いる場合に特に好適であり、生産性に優れた方法である。透明基材透明基材は、光を透過する成形体であれば特に限定されない。透明基材を構成する材料としては、例えば、メチルメタクリレート共重合体、ポリカーボネート、スチレン共重合体、メチルメタクリレート-スチレン共重合体等の合成高分子、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等の半合成高分子、ポリエチレンテレフタラート等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、ガラス等が挙げられる。透明基材の形状や製造方法は、特に限定されない。例えば、射出成形体、押し出し成形体、キャスト成形体を使用できる。また形状は、シート状でもフィルム状でもよい。さらに、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性の改良を目的として、透明基材の表面に、コーティングやコロナ処理が施されていてもよい。スタンパスタンパにナノ凹凸構造を形成する方法は、特に限定されない。その具体例としては、電子ビームリソグラフィー法、レーザー光干渉法が挙げられる。例えば、適当な支持基板上に適当なフォトレジスト膜を塗布し、紫外線レーザー、電子線、X線等の光で露光し、現像することによってナノ凹凸構造を有する型が得られる。この型をそのままスタンパとして使用することもできるが、フォトレジスト層を介して支持基板をドライエッチングにより選択的にエッチングして、レジスト層を除去することで支持基板そのものに直接ナノ凹凸構造を形成することも可能である。また、陽極酸化ポーラスアルミナをスタンパとして利用することも可能である。例えば、アルミニウムをシュウ酸、硫酸、リン酸等を電解液として所定の電圧にて陽極酸化することにより形成される20~200nm間隔の細孔構造をスタンパとして利用してもよい。この方法によれば、高純度アルミニウムを定電圧で長時間陽極酸化した後、一旦酸化皮膜を除去し、再び陽極酸化することで非常に高規則性の細孔が自己組織化的に形成できる。さらに、二回目に陽極酸化する工程で、陽極酸化処理と孔径拡大処理を組み合わせることで、断面が矩形でなく三角形や釣鐘型であるナノ凹凸構造も形成可能となる。さらに、ナノ凹凸構造を有する原型から電鋳法等で複製型を作製し、これをスタンパとして使用してもよい。スタンパそのものの形状は特に限定されず、例えば、平板状、ベルト状、ロール状のいずれでもよい。特に、ベルト状やロール状にすれば、連続的にナノ凹凸構造を転写でき、生産性をより高めることができる。重合硬化条件活性エネルギー線照射による重合硬化方法としては、紫外線照射による重合硬化が好ましい。紫外線を照射するランプとしては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、フュージョンランプが挙げられる。紫外線の照射量は、樹脂組成物中の重合開始剤の吸収波長や含有量に応じて決定すればよい。通常、その積算光量は、100~6000mJ/cm2が好ましく、400~4000mJ/cm2がより好ましい。積算光量が上記下限値以上であれば、樹脂組成物を十分に硬化させることができ、硬化不足による耐擦傷性低下を防止できる。一方、積算光量が上記上限値以下であれば、硬化物の着色や透明基材の劣化を防止できる。照射強度も特に制限されないが、透明基材の劣化等を招かない程度の出力に抑えることが好ましい。このようにして重合硬化して得られるナノ凹凸構造体は、その表面にスタンパのナノ凹凸構造が鍵と鍵穴の関係で転写される。本発明の樹脂組成物の硬化物からなるナノ凹凸構造体は、良好な防汚性と高い耐擦傷性を兼ね備えるとともに、連続的な屈折率の変化によって優れた反射防止性能を発現でき、かつ耐候性にも優れている。従って、本発明により得られるナノ凹凸構造体は、反射防止膜反射防止フィルムを含む、立体形状の反射防止体等の反射防止物品として特に好適である。ナノ凹凸構造体を反射防止膜として使用する場合は、例えば、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置等の画像表示装置、レンズ、ショーウィンドー、自動車メータカバー、カーナビゲーション、タッチパネル、ヘッドアップディスプレイ、ミラーディスプレイ、オーディオディスプレイ、メータ内ディスプレイ、眼鏡レンズ等の対象物に、ナノ凹凸構造体を貼り付けて使用する。ナノ凹凸構造体を貼り付ける部分が立体形状である場合は、あらかじめそれに応じた形状の透明基材を用いてナノ凹凸構造体を製造しておき、これを対象物品の所定部分に貼り付ければよい。また、対象物品が画像表示装置である場合は、その表面に限らず、その前面板に対してナノ凹凸構造体を貼り付けてもよいし、前面板そのものをナノ凹凸構造体から構成することもできる。また、ナノ凹凸構造体は、上述した用途以外にも、例えば、光導波路、レリーフホログラム、太陽電池、レンズ、偏光分離素子、有機エレクトロルミネッセンスの光取り出し率向上部材などの光学用途や、細胞培養シートの用途にも適用できる。[自動車メータカバー用透明部材カーナビゲーション用透明部材]本発明の自動車メータカバー用透明部材およびカーナビゲーション用透明部材は、本発明の樹脂組成物を用いて形成されたナノ凹凸構造体を有する。これら透明部材は反射防止性能に優れるため、視認性が高い。また、良好な防汚性と高い耐擦傷性を兼ね備えるとともに、耐候性にも優れる。以下、本発明について実施例を挙げて具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。スタンパは、以下のようにして製造した。[スタンパの製造]純度99.99のアルミニウム板を、羽布研磨及び過塩素酸/エタノール混合溶液1/4体積比中で電解研磨し鏡面化した。a工程:このアルミニウム板について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16°Cの条件で30分間陽極酸化を行った。b工程:酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、6質量リン酸/1.8質量クロム酸混合水溶液に6時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。c工程:このアルミニウム板について、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16°Cの条件で30秒陽極酸化を行った。d工程:酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、32°Cの5質量リン酸に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。e工程:前記c工程およびd工程を合計で5回繰り返し、周期100nm、深さ180nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得た。得られた陽極酸化ポーラスアルミナを脱イオン水で洗浄し、表面の水分をエアーブローで除去した後、これを、表面防汚コーティング剤ダイキン社製、オプツールDSXを固形分0.1質量になるように希釈剤ハーベス社製、HD-ZVで希釈した溶液に10分間浸漬し、20時間風乾してスタンパを得た。得られたスタンパの細孔を下記の方法により測定した結果、隣り合う細孔の間隔が100nm、細孔の深さが180nmの略円錐形状のテーパー状凹部細孔からなるナノ凹凸構造を表面に形成していた。スタンパの細孔の測定;陽極酸化ポーラスアルミナからなるスタンパの一部の縦断面を1分間Pt蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡日本電子社製、JSM-7400Fにより加速電圧3.00kVで観察し、隣り合う細孔の間隔周期及び細孔の深さを測定した。具体的にはそれぞれ10点ずつ測定し、その平均値を測定値とした。[実施例1]樹脂組成物の調製モノマーAとしてエトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート新中村化学工業社製、NKエステルATM-4E80質量部、モノマーBとしてポリエチレングリコールジアクリレート新中村化学工業社製、NKエステルA-60020質量部、活性エネルギー線重合開始剤Dとして1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンチバスペシャルティケミカルズ社製、IRGACURE1840.5質量部、および2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニルホスフィンオキサイドチバスペシャルティケミカルズ社製、DAROCURTPO0.5質量部、離型剤Eとしてポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物日光ケミカル社製、NIKKOLTLP-40.1質量部、滑剤Fとしてポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンビックケミージャパン社製、BYK-3780.5質量部、G成分として紫外線吸収剤チバスペシャルティケミカルズ社製、チヌビン4000.1質量部、およびヒンダードアミン系光安定剤チバスペシャルティケミカルズ社製、チヌビン2920.1質量部を混合し、樹脂組成物を調製した。ナノ凹凸構造体の製造スタンパの細孔が形成された表面上に得られた樹脂組成物を数滴垂らし、その上に厚さ100μmのアクリルフィルム三菱レイヨン社製、HBS010で押し広げながら被覆した。その後、フィルム側から高圧水銀灯を用いて1200mJ/cm2のエネルギーで紫外線を照射して硬化させた。ついで、フィルムとスタンパを剥離して、フィルム状のナノ凹凸構造体を得た。得られたナノ凹凸構造体の凹凸を下記の方法により測定した結果、隣り合う凸部もしくは凹部の間隔が100nm、凸部の高さが180nmの略円錐形状のナノ凹凸構造を表面に形成していた。ナノ凹凸構造体の凹凸の測定;ナノ凹凸構造体の縦断面を10分間Pt蒸着し、スタンパの場合と同じ装置および条件にて、隣り合う凸部または凹部の間隔、および凸部の高さを測定した。具体的にはそれぞれ10点ずつ測定し、その平均値を測定値とした。評価得られたナノ凹凸構造体について、下記の1~7の評価を行った。なお、評価の際は、粘着剤スミロン社製、RA-600を用いて、ナノ凹凸構造体のアクリルフィルム側をアクリル板三菱レイヨン社製、アクリライトL、厚さ2.0mmに貼り付け、これをテストサンプルとして使用した。結果を表1に示す。ここで、ナノ凹凸構造が形成されている側のテストサンプルの面を表面、ナノ凹凸構造が形成されていない側のテストサンプルの面を裏面とする。1反射率の測定テストサンプルの表面側から、分光光度計日立製作所社製、U-4100を用いて、入射角5°の条件で波長380nm~780nmの間の相対反射率を測定し、視感度反射率である550nmの反射率を求め、以下の評価基準にて評価した。○:反射率が4.5以下。×:反射率が4.5を超える。2密着性の評価テストサンプルの表面について、JISK5600-5-6に準じて碁盤目剥離試験を行い、以下の評価基準にて評価した。○:剥離部分が5未満。△:剥離部分が5以上、35未満。×:剥離部分が35以上。3耐擦傷性の評価スチールウール擦傷試験磨耗試験機HEIDON社製、Type:30Sを用いて、2cm四方のスチールウール0000に50gの荷重をかけ、往復距離30mm、ヘッドスピード30mm/s、10往復の条件で、テストサンプルの表面を擦傷した。ついで、黒い紙の上にテストサンプルをその裏面が接するように配置し、テストサンプルの表面から外観を目視にて観察し、以下の評価基準にて評価した。○:0~10本の傷が確認される。△:11~20本の傷が確認される。×:無数21本以上の傷が確認される。4防汚性の評価前記特許文献1が引用する特開2006-147149号公報に記載の方法疑似指紋成分1を調製して使用にて、疑似指紋液をテストサンプルの表面に付着させた後、往復磨耗試験機新東科学社製HEIDONType:30Sに、20mm角の圧子に水を滲み込ませたネル布を取り付け、荷重100g、ストローク40mm、10往復の条件でテストサンプルの表面を拭き取った。ついで、黒い紙の上にテストサンプルをその裏面が接するように配置し、テストサンプルの表面から外観を目視にて観察し、以下の評価基準にて評価した。○:汚れが目視では分からない。△:目視で若干の指紋が確認される。×:指紋がのび広がるだけで、ほとんど拭き取られてない。5耐水性の評価クリーニングクロス東レ社製、トレシーに水道水を十分染込ませたものを水滴が滴り落ちなくなる程度まで絞り、これでテストサンプルを拭き取った時の外観を目視にて観察し、以下の評価基準にて評価した。○:良好な反射防止性能を維持している。△:わずかに白く靄がかかっている。×:明らかに白濁している。6水接触角の判定テストサンプルの表面について、接触角測定装置協和界面科学社製、DM-501を用いて水接触角を測定し、以下の評価基準にて評価した。○:水接触角が25°未満。△:水接触角が25°以上、35°未満。×:水接触角が35°以上。7耐候性試験サンシャインウェザオメータースガ試験機社製を用いて、ブラックパネル温度83°C、槽内湿度50、降雨なしの条件で、テストサンプルの耐候性試験を行った。300時間経過後、上記1~6の評価を行った。[実施例2~6、比較例1~10]表1、2に示す配合組成に従って各成分を混合した以外は、実施例1と同様にして樹脂組成物を調製し、ナノ凹凸構造体を製造し、評価した。結果を表1、2に示す。なお、各実施例および比較例で得られたナノ凹凸構造体の表面には、スタンパのナノ凹凸構造が転写されており、隣り合う凸部もしくは凹部の間隔が100nm、凸部の高さが180nmの略円錐形状のナノ凹凸構造が形成されていた。表1、2中の略号等は下記の通りである。モノマーA:4官能メタアクリレートモノマーAモノマーB:2官能メタアクリレートモノマーBモノマーC:単官能メタアクリレートモノマーC重合開始剤D:活性エネルギー線重合開始剤DG成分:紫外線吸収剤および/または光安定剤GA-TMMT:ペンタエリスリトールテトラアクリレート新中村化学工業社製、NKエステルA-TMMTTAS:トリメチロールエタンアクリル酸無水コハク酸の縮合反応物大阪有機化学工業社製、TASATM-4E:エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート新中村化学工業社製、NKエステルATM-4EA-400:ポリエチレングリコールジアクリレート新中村化学工業社製、NKエステルA-400A-600:ポリエチレングリコールジアクリレート新中村化学工業社製、NKエステルA-600M260:ポリエチレングリコールジアクリレート東亜合成社製、アロニックスM260HEA:ヒドロキシエチルアクリレートMMA:メチルメタクリレートMA:メチルアクリレートDPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートC6DA:1,6-ヘキサンジオールジアクリレートIrg.184:1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンチバスペシャルティケミカルズ社製、IRGACURE184Irg.819:ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイドチバスペシャルティケミカルズ社製、IRGCURE819Dar.1173:2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オンチバスペシャルティケミカルズ社製、DAROCURE1173Dar.TPO:2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニルホスフィンオキサイドチバスペシャルティケミカルズ社製、DAROCURTPOINT1856:ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物アクセル社製、モールドウイズINT-1856TLP4:ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物日光ケミカル社製、NIKKOLTLP-4BYK378:滑剤ビックケミージャパン社製、BYK-378BYK333:滑剤ビックケミージャパン社製、BYK-333BYK3500:滑剤ビックケミージャパン社製、BYK-3500TV400:紫外線吸収剤チバスペシャルティケミカルズ社製、チヌビン400TV479:紫外線吸収剤チバスペシャルティケミカルズ社製、チヌビン479Viosorb110:紫外線吸収剤共同薬品社製、Viosorb110TV292:ヒンダードアミン系光安定剤チバスペシャルティケミカルズ社製、チヌビン292表1の結果から明らかなように、実施例1~6で得られたナノ凹凸構造体は、良好な密着性、耐擦傷性、防汚性、耐水性と低反射を有し、かつ耐候性試験後も同様の結果が得られた。なお、実施例1の場合、重合反応性モノマー成分はモノマーCを含有していないが、モノマーAおよびモノマーBをバランスよく含み、かつ重合開始剤D、離型剤Eおよび滑剤Fを所定量含有するので、良好な密着性を有していた。一方、比較例1で得られたナノ凹凸構造体は、重合反応性モノマー成分がモノマーAのみで構成されているため、水接触角が高くなり、防汚性が発現しなかった。また、樹脂組成物が滑剤Fを含有しないため、良好な耐擦傷性が得られなかった。比較例2で得られたナノ凹凸構造体は、樹脂組成物中の重合反応性モノマー成分がモノマーBを含有しないため、水接触角が高くなり、防汚性が発現しなかった。また、樹脂組成物が滑剤Fを含まないため、良好な耐擦傷性が得られなかった。比較例3で得られたナノ凹凸構造体は、重合反応性モノマー成分中のモノマーBの含有量が多いため、防汚性は発現するものの、耐水性に劣り、水拭きによって光学性能を損なってしまった。また、重合反応性モノマー成分がモノマーCを含まないため、密着性も悪かった。さらに、樹脂組成物が滑剤Fを含まないため、良好な耐擦傷性が得られなかった。比較例4で得られたナノ凹凸構造体は、重合反応性モノマー成分中のモノマーCの含有量が多く、かつ樹脂組成物が滑剤Fを含有しないため、良好な耐擦傷性が得られなかった。また耐水性に劣り、水拭きによって光学性能を損なってしまった。比較例5で得られたナノ凹凸構造体は、樹脂組成物が滑剤Fを含まないため、良好な耐擦傷性が得られなかった。また、樹脂組成物が離型剤Eを含んでおらず、かつ、紫外線吸収剤の含有量が比較的多いので、水接触角が高くなり、初期および耐候性試験において防汚性が発現しなかった。比較例6で得られたナノ凹凸構造体は、樹脂組成物が滑剤Fを含まないため、耐擦傷性が得られなかった。比較例7で得られたナノ凹凸構造体は、樹脂組成物中の滑剤Fの含有量が多いので初期の密着性が低下し、また耐候性試験によって水接触角が上昇し、防汚性を損ねた。比較例8で得られたナノ凹凸構造体は、樹脂組成物中の離型剤Eの含有量が多いので表面が斑になり外観不良を起こし、かつ耐候性試験後に反射率が上昇した。また樹脂組成物が滑剤Fを含まないため、良好な耐擦傷性が得られなかった。比較例9で得られたナノ凹凸構造体は、良好な初期性能を有しているが、樹脂組成物が離型剤Eを含んでいないので、耐候性試験によって水接触角が上昇し、防汚性が悪化した。比較例10で得られたナノ凹凸構造体は、重合反応性モノマー成分がモノマーAを含まず、かつ樹脂組成物が滑剤Fを含有しないが、重合反応性モノマー成分が6官能モノマーであるDPHAジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを含んでいたため、各実施例と同等の耐擦傷性が得られた。加えて、重合反応性モノマー成分中のモノマーBの含有量が多いものの、耐水性も有していた。しかし、DPHAは、基材との密着性が低く、密着性向上成分であるモノマーCを含むにもかかわらず、得られたナノ凹凸構造体は、基材フィルムとの初期密着性が不良であり、商品として使用するには不向きであった。なお、比較例1~4、10は、初期評価で良好な性能が得られず実用性に乏しいものでであったため、耐候性試験は行わなかった。"