"40~90モルパーセントの式[R12SiO2/2]のジシロキシ単位と、10~60モルパーセントの式[R2SiO3/2]のトリシロキシ単位と、0.5~25モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]と、を有する、オルガノシロキサンブロックコポリマーを含む固体組成物であって、式中、R1は独立してC1~C30ヒドロカルビルであり、R2は独立してC1~C20ヒドロカルビルであり、ここで、前記ジシロキシ単位[R12SiO2/2]は、直鎖状ブロック当たり平均で10~400個のジシロキシ単位[R12SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、前記トリシロキシ単位[R2SiO3/2]は、少なくとも500/gの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、前記非直鎖状ブロックの少なくとも30は互いに架橋されており、主に一緒にナノドメイン内に凝集されており、各直鎖状ブロックは少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、前記オルガノシロキサンブロックコポリマーは少なくとも20,000g/モルの分子量を有し、前記固体組成物は1.5を超える屈折率を有する、固体組成物。前記ジシロキシ単位が式[CH3C6H5SiO2/2]を有する、請求項1に記載の固体組成物。前記オルガノシロキサンブロックコポリマーが少なくとも30重量パーセントのジシロキシ単位を含有する、請求項1又は2に記載の固体組成物。R2がフェニルである、請求項1~3のいずれか一項に記載の固体組成物。前記固体組成物が1.0MPaを超える引張強度と20を超える破断伸度とを有する、請求項1~4のいずれか一項に記載の固体組成物。コーティング組成物が25°C~200°Cの範囲の溶融流動温度を有する、請求項1~5のいずれか一項に記載の固体組成物。前記組成物が、25°Cにて0.01MPa~500MPaの範囲の貯蔵弾性率G’及び25°Cにて0.001MPa~250MPaの範囲の損失弾性率Gを有する、請求項1~6のいずれか一項に記載の固体組成物。前記組成物が、120°Cにて10Pa~500,000Paの範囲の貯蔵弾性率G’及び120°Cにて10Pa~500,000Paの範囲の損失弾性率Gを有する、請求項7に記載の固体組成物。前記組成物が、200°Cにて10Pa~100,000Paの範囲の貯蔵弾性率G’及び200°Cにて5Pa~80,000Paの範囲の損失弾性率Gを有する、請求項7又は8に記載の固体組成物。前記固体組成物が95を超える光透過率の光学的透明度を有する、請求項1~9のいずれか一項に記載の固体組成物。それゆえに、強靭性及び耐久性を残しながら、光学的に透明であるシリコーン系カプセル化剤を同定する必要がある。特に、様々な電子又は発光デバイスの製造において使用するのに好都合であるシリコーン系コーティングを同定する必要がある。理想的には、このシリコーン組成物は、初期コーティングがデバイスアーキテクチャの周りを再流動できる点において、再加工可能であると考えられるべきである。また、このコーティング又は他の固体材料は、特定の物理的特性を有するシリコーン組成物から初期生成され得るが、十分な反応性を有しており、更に硬化して別の構成の物理的特性を有するコーティングをもたらし得る。本開示は、1.5を超える屈折率を有するオルガノシロキサンブロックコポリマーを含む固体組成物に関する。本開示は、40~90モルパーセントの式[R12SiO2/2]のジシロキシ単位と、10~60モルパーセントの式[R2SiO3/2]のトリシロキシ単位と、0.5~25モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]と、を有する、オルガノシロキサンブロックコポリマーを含む、固体組成物を提供し、式中、R1は独立してC1~C30ヒドロカルビルであり、R2は独立してC1~C20ヒドロカルビルであり、ここで、ジシロキシ単位[R12SiO2/2]は、直鎖状ブロック当たり平均で10~400個のジシロキシ単位[R12SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、トリシロキシ単位[R2SiO3/2]は、少なくとも500g/molの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、この非直鎖状ブロックの少なくとも30は互いに架橋されており、主に一緒にナノドメイン内で凝集しており、各直鎖状ブロックは少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、このオルガノシロキサンブロックコポリマーは少なくとも20,000g/モルの分子量を有し、固体組成物は1.5を超える屈折率を有する。本開示は、特定のオルガノシロキサンブロックコポリマーから誘導される1.5を超える屈折率を有する固体組成物に関する。これらのオルガノシロキサンブロックコポリマーは、40~90モルパーセントの式[R12SiO2/2]のジシロキシ単位と、10~60モルパーセントの式[R2SiO3/2]のトリシロキシ単位と、0.5~35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]と、を含み、式中、R1は独立してC1~C30ヒドロカルビルであり、R2は独立してC1~C20ヒドロカルビルであり、ここで、ジシロキシ単位[R12SiO2/2]は、直鎖状ブロック当たり平均で10~400個のジシロキシ単位[R12SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、トリシロキシ単位[R2SiO3/2]は、少なくとも500g/molの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、この非直鎖状ブロックの少なくとも30は互いに架橋されており、各直鎖状ブロックは少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、このオルガノシロキサンブロックコポリマーは少なくとも20,000g/モルの分子量を有する。本開示は、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーとして本明細書に記載されるオルガノポリシロキサンに関する。オルガノポリシロキサンは、R3SiO1/2、R2SiO2/2、RSiO3/2又はSiO4/2シロキシ単位から独立して選択されるシロキシ単位を含有するポリマーであり、式中、Rは任意の有機基であり得る。これらのシロキシ単位は一般にそれぞれ、M、D、T及びQ単位と称される。これらのシロキシ単位は、様々な方法で組み合わせて、環状、直鎖状又は分枝状構造を生成することができる。得られる高分子構造の化学的及び物理的特性は、オルガノポリシロキサン内のシロキシ単位の数及び種類に応じて異なる。直鎖状オルガノポリシロキサンは、典型的には、主としてDすなわちR2SiO2/2シロキシ単位を含有し、その結果、このポリジオルガノシロキサン内のD単位の数により示される重合度すなわちDPに応じ様々な粘度の流体となるポリジオルガノシロキサンを生じる。直鎖状オルガノポリシロキサンは、典型的には、25°Cよりも低いガラス転移温度Tgを有する。樹脂オルガノポリシロキサンは、シロキシ単位の大半がT又はQシロキシ単位から選択される場合に生じる。主にTシロキシ単位を使用してオルガノポリシロキサンを調製する場合には、多くの場合、得られるオルガノシロキサンはシルセスキオキサン樹脂と称される。オルガノポリシロキサン内のT又はQシロキシ単位の量が増えると、典型的には、硬さの増加した及び/又はガラスのような特性を有するポリマーが生じる。樹脂オルガノポリシロキサンは、したがって、より高いTg値を有し、例えば、シロキサン樹脂は多くの場合、50°Cよりも高いTg値を有する。本明細書で使用するとき、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、樹脂Tシロキシ単位と組み合わせた直鎖状Dシロキシ単位を含有するオルガノポリシロキサンを指す。本発明のオルガノシロキサンコポリマーは、ランダムコポリマーとは対照的に、ブロックコポリマーである。同様に、本発明の樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、D及びTシロキシ単位を含有するオルガノポリシロキサンを指し、ここで、D単位はまず一緒に結合して10~400個のD単位を有する高分子鎖を生成し、これは本明細書では直鎖状ブロックと称される。T単位はまず互いに結合して分枝状高分子鎖を生成し、これは非直鎖状ブロックと称される。かなりの数のこれらの非直鎖状ブロックは、更に凝集して、ナノドメインを生成し、このとき、ブロックコポリマーの固体形状がもたらされる。より具体的には、ジシロキシ単位[R12SiO2/2]は直鎖状ブロック当たり平均で10~400個のジシロキシ単位[R12SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、トリシロキシ単位[R2SiO3/2]は少なくとも500g/molの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、非直鎖状ブロックの少なくとも30は互いに架橋されている。40~90モルパーセントの式[R12SiO2/2]のジシロキシ単位と10~60モルパーセントの式[R2SiO3/2]のトリシロキシ単位とを含む本発明のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、式[R12SiO2/2]a[R2SiO3/2]bにより表すことができ、式中、添字a及びbは、コポリマー内のシロキシ単位のモル分率を表すものとし、aは0.4~0.9、あるいは0.5~0.9、あるいは0.6~0.9で変化するものとし、bは0.1~0.6、あるいは0.1~0.5、あるいは0.1~0.4で変化するものとし、R1は独立してC1~C30ヒドロカルビルであり、R2は独立してC1~C10ヒドロカルビルであり、本発明のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、Mシロキシ単位、Qシロキシ単位、他の特異なD又はTシロキシ単位例えば、R1又はR2以外の有機基を有するなどの追加のシロキシ単位を含有してもよいが、但し、このオルガノシロキサンブロックコポリマーは上記の通りのモル分率のジシロキシ及びトリシロキシ単位を含有しているということが理解されるべきである。換言すれば、添字a及びbにより示されるモル分率の和は、必ずしも合計して1にならなければならないわけではない。abの和は、オルガノシロキサンブロックコポリマー内に存在し得る少量の他のシロキシ単位を考慮した場合に1未満になってもよい。あるいは、abの和は、0.6超、あるいは0.7超、あるいは0.8超、あるいは0.9超である。一実施形態では、オルガノシロキサンブロックコポリマーは、式[R12SiO2/2]のジシロキシ単位と式[R2SiO3/2]のトリシロキシ単位とから本質的になるが、一方でまた0.5~25モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]も含有し、式中、R1及びR2は上記に定義されている通りである。それゆえに、一実施形態では、abの和モル分率を使用してコポリマー内のジシロキシ及びトリシロキシ単位の量を表す場合は、0.95超、あるいは0.98超である。樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーはまた、シラノール基≡SiOHを含有する。オルガノシロキサンブロックコポリマー上に存在するシラノール基の量は、0.5~35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]、あるいは2~32モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]、あるいは8~22モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]で変化するものとする。シラノール基は、オルガノシロキサンブロックコポリマー内の任意のシロキシ単位上に存在し得る。上記の量は、オルガノシロキサンブロックコポリマー内に見出されるシラノール基の合計量を表す。しかしながら、本発明者らは、シラノール基の大半は、トリシロキシ単位、すなわち、ブロックコポリマーの樹脂成分、の上に存在すると考えている。いかなる理論にも束縛されるものではないが、本発明者らは、シラノール基はオルガノシロキサンブロックコポリマーの樹脂成分上に存在して、高温にて更に反応又は硬化すると考えている。本発明のオルガノシロキサンブロックコポリマー内のジシロキシ及びトリシロキシ単位の量は、ブロックコポリマー内のそれぞれの重量パーセントにより記載され得る。このことにより、様々な最終用途への適用のためにオルガノシロキサンブロックコポリマーを特徴付けるのに便利な方法がもたらされる。一実施形態では、オルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも30重量パーセントのジシロキシ単位、あるいは少なくとも50重量パーセント、あるいは少なくとも60重量パーセント、あるいは少なくとも70重量パーセントのジシロキシ単位を含有する。上記ジシロキシ単位の式中、R1は独立して、C1~C30ヒドロカルビルである。この炭化水素基は独立して、アルキル、アリール又はアルキルアリール基であり得る。本明細書で使用するとき、ヒドロカルビルはまた、ハロゲン置換ヒドロカルビルを含む。R1はC1~C30アルキル基であり得、あるいはR1はC1~C18アルキル基であり得る。あるいは、R1は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル又はヘキシルなどのC1~C6アルキル基であり得る。あるいは、R1はメチルであり得る。R1は、フェニル、ナフチル又はアンスリル基などのアリール基であり得る。あるいは、R1は、前述のアルキル又はアリール基の任意の組み合わせであり得る。あるいは、R1は、フェニル、メチル又はこれらの組み合わせである。上記トリシロキシ単位の式中、各R2は独立して、C1~C20ヒドロカルビルである。本明細書で使用するとき、ヒドロカルビルはまた、ハロゲン置換ヒドロカルビルを含む。R2は、フェニル、ナフチル又はアンスリル基などのアリール基であり得る。あるいは、R2は、メチル、エチル、プロピル又はブチルなどのアルキル基であり得る。あるいは、R2は、前述のアルキル又はアリール基の任意の組み合わせであり得る。あるいは、R2は、フェニル又はメチルである。本発明のオルガノシロキサンブロックコポリマーを説明するために本明細書で使用するとき、モル分率を使用する式[R12SiO2/2]a[R2SiO3/2]b及び関連する式は、コポリマー内のジシロキシ[R12SiO2/2]及びトリシロキシ[R2SiO3/2]単位の構造的順序を示すものではない。むしろ、この式は、添字a及びbを介して上記で説明されるモル分率によりコポリマー内の2つの単位の相対量を説明するための便宜的表記法をもたらすことを目的としている。本発明のオルガノシロキサンブロックコポリマー内の様々なシロキシ単位のモル分率並びにシラノール含有量は、実施例において詳細に説明するように、29SiNMR技術により容易に決定することができる。本発明のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの平均分子量Mw、あるいは少なくとも40,000g/モルの平均分子量、あるいは少なくとも50,000g/モルの平均分子量、あるいは少なくとも60,000g/モルの平均分子量、あるいは少なくとも70,000g/モルの平均分子量、あるいは少なくとも80,000g/モルの平均分子量を有する。平均分子量は、実施例において記載されるものなどのゲル透過クロマトグラフィーGPC技術を用いて容易に決定することができる。ジシロキシ及びトリシロキシ単位の構造順序は、以下のように更に説明することができる:ジシロキシ単位[R12SiO2/2]は直鎖状ブロック当たり平均で10~400個のジシロキシ単位[R12SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、トリシロキシ単位[R2SiO3/2]は少なくとも500g/molの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置される。各直鎖状ブロックは、ブロックコポリマーの中の少なくとも1個の非直鎖状ブロックに連結されている。更に、非直鎖状ブロックの少なくとも30は、互いに架橋されており、あるいは、非直鎖状ブロックの少なくとも40は、互いに架橋されており、あるいは、非直鎖状ブロックの少なくとも50は、互いに架橋されている。非直鎖状ブロックの架橋は、様々な化学的機序及び/又は部分を介して達成され得る。例えば、ブロックコポリマー内の非直鎖状ブロックの架橋は、コポリマーの非直鎖状ブロック内に存在する残留シラノール基の縮合から生じ得る。ブロックコポリマー内の非直鎖状ブロックの架橋はまた、遊離樹脂成分と非直鎖状ブロックとの間で生じ得る。遊離樹脂成分は、ブロックコポリマーの調製中に過剰量のオルガノシロキサン樹脂を使用する結果として、ブロックコポリマー組成物中に存在し得る。遊離樹脂成分は、ブロック以外の部分上及び遊離樹脂上に存在する残留シラノール基の縮合により非直鎖状ブロックと架橋し得る。遊離樹脂は、下記のように、架橋剤として添加された低分子量化合物と反応することにより、架橋をもたらし得る。あるいは、ブロックコポリマーの調製中に特定の化合物を添加して、非樹脂ブロックを特異的に架橋することもできる。これらの架橋化合物としては、ブロックコポリマーの生成下記の工程II中に添加される式R5qSiX4-qを有するオルガノシロキサンも挙げられ、式中、R5はC1~C8ヒドロカルビル又はC1~C8ハロゲン置換ヒドロカルビルであり、Xは加水分解可能な基であり、qは0、1又は2である。R5はC1~C8ヒドロカルビル又はC1~C8ハロゲン置換ヒドロカルビルであり、あるいはR5はC1~C8アルキル基又はフェニル基であり、あるいはR5はメチル、エチル又はメチルとエチルの組み合わせである。Xは任意の加水分解性基であり、あるいはXはオキシモ、アセトキシ、ハロゲン原子、ヒドロキシルOH又はアルコキシ基であり得る。一実施形態では、オルガノシランは、アルキルトリアセトキシシラン、例えば、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン又はこれらの組み合わせである。市販の代表的なアルキルトリアセトキシシランとしては、ETS-900DowCorningCorp.Midland,MIが挙げられる。架橋剤として有用な、他の好適な非限定的なオルガノシランとしては、メチル-トリスメチルエチルケトキシムシランMTO、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラオキシムシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジメチルジオキシムシラン、メチルトリスメチルメチルケトキシムシランが挙げられる。ブロックコポリマー内の架橋は主にシロキサン結合≡Si-O-Si≡であり、上述のようにシラノール基の縮合から生じる。ブロックコポリマー内の架橋の量は、GPC技術などでブロックコポリマーの平均分子量を決定することにより、推定され得る。典型的には、ブロックコポリマーを架橋すると、その平均分子量は増加する。したがって、ブロックコポリマーの平均分子量、直鎖状シロキシ成分の選択すなわち、その重合度により示されるものとしての鎖長及び非直鎖状ブロックの分子量ブロックコポリマーを調製するために使用されるオルガノシロキサン樹脂の選択により主に制御されるが与えられると、架橋の範囲を推定することができる。オルガノシロキサンブロックコポリマーの硬化性組成物は、a上記のようなオルガノシロキサンブロックコポリマーと、b有機溶媒と、を含む、硬化性組成物を提供する。有機溶媒は典型的には、ベンゼン、トルエン又はキシレンなどの芳香族系溶剤である。この硬化性組成物は、オルガノシロキサン樹脂を更に含有し得る。これらの組成物中に存在するオルガノシロキサン樹脂は、オルガノシロキサンブロックコポリマーを調製するために使用されるオルガノシロキサン樹脂である。したがって、オルガノシロキサン樹脂は、その式中に少なくとも60molの[R2SiO3/2]シロキシ単位を有し、式中、各R2は独立してC1~C20ヒドロカルビルである。あるいは、オルガノシロキサン樹脂は、シルセスキオキサン樹脂又はフェニルシルセスキオキサン樹脂である。本発明の硬化性組成物中のオルガノシロキサンブロックコポリマー、有機溶媒及び任意のオルガノシロキサン樹脂の量は、様々であり得る。この硬化性組成物は、40~80重量の上記のようなオルガノシロキサンブロックコポリマーと、10~80重量の有機溶媒と、5~40重量のオルガノシロキサンと、を含有し得るが、但し、これらの成分の重量の和は100を超えないものとする。一実施形態では、硬化性組成物は、上記のようなオルガノシロキサンブロックコポリマーと、有機溶媒と、オルガノシロキサン樹脂と、から本質的になる。この実施形態では、これらの成分の重量は合計して100、又はほぼ100である。この硬化性組成物は、硬化触媒を含有する。硬化触媒は、オルガノシロキサンの縮合硬化に作用する、様々なスズ又はチタン触媒などの当該技術分野において既知の任意の触媒から選択され得る。縮合触媒は、典型的にはヒドロキシ基に結合したケイ素=シラノールの縮合を促進してSi-O-Si連結を生成するために使用される任意の縮合触媒であり得る。例としては、限定されるものではないが、アミン、並びに鉛、スズ、亜鉛及び鉄の錯体が挙げられる。オルガノシロキサンブロックコポリマー及びこのオルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する硬化性組成物は、本開示において下記で更に説明されるような方法により調製され得る。これらの調製の代表例はまた、下記の実施例の項において詳細に説明される。樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する固体組成物は、上記のような硬化性オルガノシロキサンブロックコポリマー組成物から溶媒を除去することにより調製され得る。溶媒は、任意の既知の処理技術により除去され得る。一実施形態では、オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する硬化性組成物のフィルムが生成され、そのフィルムから溶媒を蒸発させることができる。フィルムを高温及び/又は減圧にかけることにより、溶媒除去及び後続の固体硬化性組成物の生成を促進させ得る。あるいは、硬化性組成物を押出成形機に通して、溶媒を除去し、リボン又はペレットの形状の固体組成物を生成してもよい。剥離フィルムに対するコーティング作業もまた、スロットダイコーティング、ナイフオーバーロール、ロッド又はグラビアコーティングにおけるように、使用され得る。また、固体フィルムを調製するにあたりロールツーロールコーティング作業も使用され得る。コーティング作業では、コンベアオーブン又は他の溶液の加熱及び排気手段を使用して、溶媒を除去し、最終的な固体フィルムを得ることができる。いかなる理論にも束縛されるものではないが、本発明者らは、ブロックコポリマーの固体組成物を生成する際、上記のようなオルガノシロキサンブロックコポリマー内のジシロキシ及びトリシロキシ単位の構造順序により、特定の特異な物理的特性特徴を有するコポリマーが生成され得ると考える。例えば、コポリマー内のジシロキシ及びトリシロキシ単位の構造順序は、可視光の高い透過率を可能にする固体コーティングをもたらし得る。構造順序はまた、流動し、加熱時に硬化し、室温にて安定性を保持するオルガノシロキサンブロックコポリマーを可能にし得る。これらはまた、積層技術を使用して加工され得る。これらの特性は、様々な電子物品の耐候性及び耐久性を改善させ、一方で、低コストかつ容易な手順を提供るためのコーティングを生成するのに有用である。本開示は、前述のオルガノシロキサンブロックコポリマーの固体形状及びこのオルガノシロキサンブロックコポリマーを含む上記硬化性組成物から誘導される固体組成物に関する。したがって、本開示は、40~90モルパーセントの式[R12SiO2/2]のジシロキシ単位と、10~60モルパーセントの式[R2SiO3/2]のトリシロキシ単位と、0.5~25モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]と、を含む、オルガノシロキサンブロックコポリマーを提供し、式中、R1は独立してC1~C30ヒドロカルビルであり、R2は独立してC1~C20ヒドロカルビルであり、ここで、ジシロキシ単位[R12SiO2/2]は、直鎖状ブロック当たり平均で10~400個のジシロキシ単位[R12SiO2/2]を有する直鎖状ブロックの中に配置され、トリシロキシ単位[R2SiO3/2]は、少なくとも500g/molの分子量を有する非直鎖状ブロックの中に配置され、この非直鎖状ブロックの少なくとも30は互いに架橋されており、主に一緒にナノドメイン内で凝集しており、各直鎖状ブロックは少なくとも1つの非直鎖状ブロックに連結されており、オルガノシロキサンブロックコポリマーは、少なくとも20,000g/モルの分子量を有し、25°Cにて固体であり、固体組成物は、1.0MPaを超える引張強度と、40を超える破断伸度と、を有する。前述のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、例えば、ブロックコポリマーの有機溶媒溶液のフィルムをキャスティングし、溶媒を蒸発させることにより、固体形態で単離される。固体の乾燥又は生成時に、ブロックコポリマーの非直鎖状ブロックは、更に一緒に凝集して、ナノドメインを生成する。本明細書で使用するとき、主に凝集するは、オルガノシロキサンブロックコポリマーの非直鎖状ブロックの大半が、ナノドメインとして本明細書に記載の固体組成物の特定の領域において見出されることを意味する。本明細書で使用するとき、ナノドメインは、固体ブロックコポリマー組成物内で相分離しており、サイズが1~100ナノメートルである少なくとも1つの寸法を有する、固体ブロックコポリマー組成物内の相領域を指す。ナノドメインの形状は様々であり得るが、但し、ナノドメインの少なくとも1つの寸法は1~100ナノメートルのサイズである。したがって、ナノドメインは、規則的又は不規則的な形状であり得る。ナノドメインは、球状、管状、場合によっては層状であり得る。更なる実施形態では、上記のような固体オルガノシロキサンブロックコポリマーは、第一相と不相溶性第二相とを含有し、第一相は主に上記のようなジシロキシ単位[R12SiO2/2]を含有し、第二相は上記のようなトリシロキシ単位[R2SiO3/2]を含有し、非直鎖状ブロックは、十分凝集して、第一相と不相溶性であるナノドメインとなる。固体組成物が、上記のようにオルガノシロキサン樹脂も含有するオルガノシロキサンブロックコポリマーの硬化性組成物から生成される場合、オルガノシロキサン樹脂もまた主にナノドメイン内で凝集する。本開示の固体ブロックコポリマー内のジシロキシ及びトリシロキシ単位の構造順序、並びに、ナノドメインの特徴は、透過型電子顕微鏡TEM法、原子間力顕微鏡法AFM、中性子線小角散乱法、X線小角散乱法及び走査型電子顕微鏡法などの特定の分析技術を用いて明示的に測定され得る。代表的なオルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する固体コーティングのAFM画像は、図1に示されている。この画像は、位相角を示すタッピングモードを使用して得られた。より明るい領域は、非直鎖状ブロックを含有するナノドメインに対応し、これに対し、より暗い領域は、直鎖状ブロックに富む相に対応する。あるいは、ブロックコポリマー内のジシロキシ及びトリシロキシ単位の構造順序、並びに、ナノドメインの生成は、本発明のオルガノシロキサンブロックコポリマーから生じるコーティングの特定の物理的特性を特徴付けることにより、示され得る。例えば、本発明のオルガノシロキサンコポリマーは、95を超える可視光透過率を有するコーティングをもたらし得る。当業者は、可視光がこのような媒質を通過することができ、かつ150ナノメートルを超えるサイズを有する粒子又は本明細書で使用されるようなドメインにより回折されないでいることができる場合にのみ、このような光学的透明度が2つの相の屈折率が一致する以外に可能であることを理解している。粒径又はドメインが更に小さくなるにつれて、光学的透明度は更に改善され得る。したがって、本発明のオルガノシロキサンコポリマーから誘導されるコーティングは、少なくとも95の可視光透過率を有し得る。一部の態様では、本発明の樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、概念的には、有機熱可塑性エラストマーTPEと比較され得る。TPEは、相分離された軟らかいポリマーブロックと硬いポリマーブロックとを有する。本発明の樹脂-直鎖状オルガノポリシロキサンブロックコポリマーを含有する固体組成物は、直鎖状D単位のブロック及び非直鎖状T単位のブロックの凝集体からそれぞれ生じる、相分離された軟らかい区域と硬い区域とを含有するものとして見ることができる。これらのそれぞれの軟らかい区域及び硬い区域は、これらの異なるガラス転移温度Tgにより特徴付けることができる。したがって、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンの直鎖状区域は、例えば、25°C未満の、あるいは0°C未満の、あるいは更には-20°Cといったより低いTgを典型的に有することから、軟らかい区域と考えられ得る。したがって、直鎖状区域は、生じるオルガノシロキサンブロックコポリマーの組成物におけるこれらの流体のような挙動を維持しようとする。逆に、オルガノシロキサンコポリマー内の非直鎖状ブロックは、例えば、30°C超、あるいは40°C超、あるいは更には50°C超といった、より高いTg値を典型的に有することにより、硬い区域と形容され得る。複数回加工できるという点が、本発明の樹脂-直鎖状オルガノポリシロキサンブロックコポリマーの利点であるが、但し、加工温度T加工は、オルガノシロキサンブロックコポリマーの最終硬化に必要とされる温度T硬化よりも低く、すなわち、T加工<T硬化である。しかしながら、オルガノシロキサンコポリマーは、T加工>T硬化である場合、硬化して高温安定性を得る。したがって、本発明の樹脂-直鎖状オルガノポリシロキサンブロックコポリマーは、疎水性、高温安定性、水分/紫外線耐性などの典型的にはシリコーンに関連する利益と共に、再加工可能であるという有意な利点を提供する。一実施形態では、オルガノシロキサンブロックコポリマーの固体組成物は、溶融加工可能と考えられ得る。この実施形態では、オルガノシロキサンブロックコポリマー溶液のフィルムから生成されたコーティングなどの固体組成物は、溶融時に高温にて流体挙動を呈する。オルガノシロキサンブロックコポリマーの固体組成物の溶融加工可能特性は、固体組成物が液体挙動を呈する際の固体組成物の溶融流動温度を測定することにより、モニターされ得る。溶融流動温度は、具体的には、市販の装置を使用して、貯蔵弾性率G’、損失弾性率G及び貯蔵温度の関数としてのtanδを測定することにより決定され得る。例えば、貯蔵弾性率G’、損失弾性率G及び温度の関数としてのtanδを測定するためには、市販のレオメーターTAInstrumentsの、2KSTD標準屈曲旋回軸スプリング変換器を備えるARES-RDAなどと、強制対流炉が使用され得る。試験標本典型的には8mm幅、1mm厚さは平行なプレートの間に装填することができ、25°C~300°Cの範囲で2°C/分にて温度を徐々に上げながら小さなひずみの振動レオロジーを使用して測定され得る振動数1Hz。オルガノシロキサンコポリマーについての典型的なレオロジー曲線は、図2に示されている。流動開始は、G’降下流動と標識されているに入る変曲温度として計算され得、120°Cでの粘度が溶融加工性についての尺度として報告され、硬化開始はG’上昇硬化と標識されているに入る開始温度として計算される。典型的には、固体組成物の流動はまた、オルガノシロキサンブロックコポリマー内の非直鎖状区域すなわち、樹脂成分のガラス転移温度に相関がある。更なる実施形態では、固体組成物は、25°C~200°C、あるいは25°C~160°C、あるいは50°C~160°Cの範囲の溶融流動温度を有するものとして、特徴付けられ得る。本発明者らは、溶融加工可能であるという利益により、デバイスアーキテクチャの周りのオルガノシロキサンブロックコポリマーの固体組成物の再流動が可能になると考えている。この機能は、カプセル化される様々な電子デバイスに対して非常に有益である。一実施形態では、オルガノシロキサンブロックコポリマーの固体組成物は、硬化可能であると考えられ得る。この実施形態では、オルガノシロキサンブロックコポリマー溶液のフィルムから生成されたコーティングなどの固体組成物は、ブロックコポリマーを更に硬化することにより、更なる物理的特性変化を起こし得る。上述のように、本発明のオルガノシロキサンブロックコポリマーは、特定の量のシラノール基を含有する。本発明者らは、ブロックコポリマー上にこれらのシラノール基を存在させることで、更なる反応、すなわち、硬化機序が可能になると考えている。硬化時に、固体組成物の物理的特性は、下記の特定の実施形態において説明されるように、更に変更され得る。あるいは、オルガノシロキサンブロックコポリマーの固体組成物の溶融加工性及び/又は硬化は、様々な温度下でのレオロジー測定値により決定され得る。オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する固体組成物は、25°Cにて0.01MPa~500MPaの範囲の貯蔵弾性率G’及び0.001MPa~250MPaの範囲の損失弾性率G、あるいは25°Cにて0.1MPa~250MPaの範囲の貯蔵弾性率G’及び0.01MPa~125MPaの損失弾性率G、あるいは25°Cにて0.1MPa~200MPaの範囲の貯蔵弾性率G’及び0.01MPa~100MPaの損失弾性率Gを有し得る。オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する固体組成物は、120°Cにて10Pa~500,000Paの範囲の貯蔵弾性率G’及び10Pa~500,000Paの範囲の損失弾性率G、あるいは120°Cにて20Pa~250,000Paの範囲の貯蔵弾性率G’及び20Pa~250,000MPaの損失弾性率G、あるいは120°Cにて30Pa~200,000Paの範囲の貯蔵弾性率G’及び30Pa~200,000MPaの損失弾性率Gを有し得る。オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する固体組成物は、200°Cにて10Pa~100,000Paの範囲の貯蔵弾性率G’及び5Pa~80,000Paの範囲の損失弾性率G、あるいは200°Cにて20Pa~75,000Paの範囲の貯蔵弾性率G’及び10Pa~65,000Paの範囲の損失弾性率G、あるいは200°Cにて30Pa~50,000Paの範囲の貯蔵弾性率G’及び15Pa~40,000Paの範囲の損失弾性率Gを有し得る。固体組成物は、引張強度及び破断伸度などの特定の物理的特性により更に特徴付けられ得る。上述のオルガノシロキサンブロックコポリマーからもたらされる本発明の固体組成物は、1.0MPaを超える、あるいは1.5MPaを超える、あるいは2MPaを超える初期引張強度を有し得る。上述のオルガノシロキサンブロックコポリマーからもたらされる本発明の固体組成物は、40を超える、あるいは50を超える、あるいは75を超える初期破断又は破裂伸度を有し得る。本明細書で使用するとき、引張強度及び初期破断伸度はASTMD412により測定される。固体組成物は、これらが、固体組成物の加熱経時処理において、引張強度及び破断伸度などの特定の物理的特性を保持可能であることにより更に特徴付けられ得る。したがって、更なる実施形態では、前述の固体組成物の引張強度は、200°Cにて1000時間にわたって経時処理したとき、その元の値の20以内、あるいは10以内、あるいは5以内にとどまる。前述の固体組成物の破断伸度は、200°Cにて1000時間にわたって経時処理したとき、少なくとも10、あるいは50、あるいは75である。一実施形態では、オルガノシロキサンブロックコポリマーの固体組成物は、少なくとも30重量パーセントのジシロキシ単位、あるいは少なくとも50重量パーセント、あるいは少なくとも60重量パーセント、あるいは少なくとも70重量パーセントのジシロキシ単位を含有する。更なる実施形態では、ジシロキシ単位は、式[CH32SiO2/2]を有する。更なる実施形態では、ジシロキシ単位は、式[CH3C6H5SiO2/2]を有する。本開示の固体組成物は、これらの屈折率RIにより特徴付けられ得る。本明細書に開示される固体組成物のRIは、ASTMD542に基づく。本発明の固体組成物のRIは、ASTMD542により測定したときに、少なくとも1.5、あるいは1.55の値を有する。前述の樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーは、Ia式R1qE3-qSiOR12SiO2/2nSiE3-qR1qを有する直鎖状オルガノシロキサン式中、各R1は独立してC1~C30ヒドロカルビルであり、nは10~400であり、qは0、1又は2であり、Eは、少なくとも1個の炭素原子を含有する加水分解性基であると、bその式中に少なくとも60molの[R2SiO3/2]シロキシ単位を含むオルガノシロキサン樹脂式中、各R2は独立してC1~C20ヒドロカルビルであると、をc有機溶媒の中で、反応させて、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを生成する工程であって、工程Iで使用されるa及びbの量が、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーに40~90molのジシロキシ単位[R12SiO2/2]及び10~60molのトリシロキシ単位[R2SiO3/2]をもたらすように選択され、工程Iで添加される直鎖状オルガノシロキサンの少なくとも95重量が樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの中に組み込まれる、工程と、II工程Iの樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを反応させて、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーのトリシロキシ単位を十分に架橋させて、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの平均分子量Mwを少なくとも50増加させる工程と、III場合により、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを更に加工して、貯蔵安定性及び/又は光学的透明度を向上させる工程と、IV場合により、有機溶媒を除去する工程と、を含む方法により、調製され得る。本発明の方法における第一工程は、a式R1qE3-qSiOR12SiO2/2nSiE3-qR1qを有する直鎖状オルガノシロキサン式中、各R1は独立してC1~C30ヒドロカルビルであり、nは10~400であり、qは0、1又は2であり、Eは、少なくとも1個の炭素原子を含有する加水分解性基であると、bその式中に少なくとも60molの[R2SiO3/2]シロキシ単位を含むオルガノシロキサン樹脂式中、各R2は独立してアリール又はC1~C10ヒドロカルビルであると、をc有機溶媒の中で、反応させて、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを生成する工程であって、工程Iで使用されるa及びbの量が、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーに40~90molのジシロキシ単位[R12SiO2/2]及び10~60molのトリシロキシ単位[R2SiO3/2]をもたらすように選択され、工程Iで添加される直鎖状オルガノシロキサンの少なくとも95重量が樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの中に組み込まれる、工程を含む。この方法の第一工程の反応は概ね、以下の概略図により表され得る。オルガノシロキサン樹脂上の様々なOH基は、直鎖状オルガノシロキサン上の加水分解性基Eと反応して、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマー及びH-E化合物を生成する。工程Iにおける反応は、オルガノシロキサン樹脂と直鎖状オルガノシロキサンとの間の縮合反応と考えられ得る。直鎖状オルガノシロキサン本発明の方法の工程Iにおける成分aは、式R1qE3-qSiOR12SiO2/2nSiE3-qR1qを有する直鎖状オルガノシロキサンであり、式中、各R1は独立してC1~C30ヒドロカルビルであり、添字nは直鎖状オルガノシロキサンの重合度dpと考えることができ、10~400で変化するものとし、添字qは0、1又は2であるものとし、Eは、少なくとも1個の炭素原子を含有する加水分解性基である。成分aは式R1qE3-qSiOR12SiO2/2nSiE3-qR1qを有する直鎖状オルガノシロキサンと記載されるが、当業者は、TR1SiO3/2シロキシ単位などの少量の代替的シロキシ単位が直鎖状オルガノシロキサンの中に組み込まれ得、それでも成分aとして使用され得ることを理解する。同様に、オルガノシロキサンは、主としてDR12SiO2/2シロキシ単位を有することにより、主に直鎖状であるものとして考えられ得る。更に、成分aとして使用される直鎖状オルガノシロキサンは、複数の直鎖状オルガノシロキサンの組み合わせであり得る。上記直鎖状オルガノシロキサンの式中、R1は独立して、C1~C30ヒドロカルビルである。この炭化水素基は独立して、アルキル、アリール又はアルキルアリール基であり得る。R1はC1~C30アルキル基であり得、あるいはR1はC1~C18アルキル基であり得る。あるいは、R1は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル又はヘキシルなどのC1~C6アルキル基であり得る。あるいは、R1はメチルであり得る。R1は、フェニル、ナフチル又はアンスリル基などのアリール基であり得る。あるいは、R1は、前述のアルキル又はアリール基の任意の組み合わせであり得る。あるいは、R1は、フェニル、メチル又はこれらの組み合わせである。Eは、少なくとも1個の炭素原子を含有する任意の加水分解性基から選択され得るが、典型的にはEはオキシモ基、エポキシ基、カルボキシ基、アミノ基又はアミド基から選択される。あるいは、Eは、式R1C=OO-、R12C=N-O-又はR4C=N-O-を有し、式中、R1は上記で定義された通りであり、R4はヒドロカルビレンである。一実施形態では、EはH3CC=OO-アセトキシであり、qは1である。一実施形態では、EはCH3CH3CH2C=N-O-メチルエチルケトキシであり、qは1である。一実施形態では、直鎖状オルガノシロキサンは、式CH3qE3-qSiO[CH32SiO2/2]nSiE3-qCH3qを有し、式中、E、n及びqは上記で定義した通りである。一実施形態では、直鎖状オルガノシロキサンは、式CH3qE3-qSiO[CH3C6H5SiO2/2]nSiE3-qCH3qを有し、式中、E、n及びqは上記で定義した通りである。成分aとして好適な直鎖状オルガノシロキサンを調製するための方法は、既知である。典型的には、シラノール末端ポリジオルガノシロキサンは、アルキルトリアセトキシシラン又はジアルキルケトキシムなどの末端封鎖化合物と反応する。末端封鎖反応の化学量は、典型的には、ポリジオルガノシロキサン上のすべてのシラノール基と反応させるのに十分な量の末端封鎖化合物が添加されるように、調整される。典型的には、ポリジオルガノシロキサン上のシラノールのモル当たり1モルの末端封鎖化合物が使用される。あるいは、1~10といったわずかにモル過剰の末端封鎖化合物が使用されてもよい。反応は典型的には、シラノールポリジオルガノシロキサンの縮合反応を最小化する無水条件下で行われる。典型的には、シラノール末端ポリジオルガノシロキサン及び末端封鎖化合物を、無水条件下で有機溶媒中に溶解させ、室温又は高温最高で溶媒の沸点にて反応させる。オルガノシロキサン樹脂本発明の方法における成分bは、その式中に少なくとも60molの[R2SiO3/2]シロキシ単位を含むオルガノシロキサン樹脂であり、式中、各R2は独立してC1~C20ヒドロカルビルである。オルガノシロキサン樹脂は、任意の量及び組み合わせの他のM、D及びQシロキシ単位を含有し得るが、但し、オルガノシロキサン樹脂は少なくとも70molの[R2SiO3/2]シロキシ単位を含有し、あるいはオルガノシロキサン樹脂は少なくとも80molの[R2SiO3/2]シロキシ単位を含有し、あるいはオルガノシロキサン樹脂は少なくとも90molの[R2SiO3/2]シロキシ単位を含有し、あるいはオルガノシロキサン樹脂は少なくとも95molの[R2SiO3/2]シロキシ単位を含有する。成分bとして有用なオルガノシロキサン樹脂としては、シルセスキオキサンとして知られるものが挙げられる。各R2は独立してC1~C20ヒドロカルビルである。R2は、フェニル、ナフチル又はアンスリル基などのアリール基であり得る。あるいは、R2は、メチル、エチル、プロピル又はブチルなどのアルキル基であり得る。あるいは、R2は、前述のアルキル又はアリール基の任意の組み合わせであり得る。あるいは、R2は、フェニル又はメチルである。オルガノシロキサン樹脂の分子量Mwは、限定されるものではないが、典型的には1000~10,000、あるいは1500~5000g/molの範囲である。当業者は、このような多量の[R2SiO3/2]シロキシ単位を含有するオルガノシロキサンが特定の濃度のSi-OZを本質的に有し、式中、Zは、水素すなわち、シラノール、アルキル基その結果、OZはアルコキシ基であるであり得、あるいはOZはまた上記のようないずれかのE加水分解性基であり得る。オルガノシロキサン樹脂上に存在するすべてのシロキシ基のモル百分率としてのSi-OZ含有量は、29SiNMRにより容易に決定され得る。オルガノシロキサン樹脂上に存在するOZ基の濃度は、樹脂の調製モード及び後続処理に応じ様々である。典型的には、本発明の方法における使用に好適なオルガノシロキサン樹脂のシラノールSi-OH含有量は、少なくとも5モル、あるいは少なくとも10モル、あるいは25モル、あるいは40モル、あるいは50モルのシラノール含有量を有する。少なくとも60molの[R2SiO3/2]シロキシ単位を含有するオルガノシロキサン樹脂及びこれらの調製方法は、当該技術分野において既知である。これらは典型的には、ケイ素原子上に3個の、ハロゲン又はアルコキシ基などの加水分解性基を有するオルガノシランを有機溶媒中で加水分解することにより、調製される。シルセスキオキサン樹脂の調製についての代表例は、米国特許第5075103号に見出され得る。更に、多くのオルガノシロキサン樹脂は市販されており、固体フレーク又は粉末か又は有機溶媒溶液のいずれかとして販売されている。成分bとして有用な、好適な非限定的な市販のオルガノシロキサン樹脂としては、DowCorning登録商標217フレーク樹脂、233フレーク、220フレーク、249フレーク、255フレーク、Z-6018フレークDowCorningCorporationMidland,MIが挙げられる。当業者は更に、このような多量の[R2SiO3/2]シロキシ単位及びシラノール含有量を含有するオルガノシロキサン樹脂はまた、特に高湿度条件下で、水分子を保持し得る。したがって、工程Iにおける反応に先立ってオルガノシロキサン樹脂を乾燥させることにより、樹脂上に存在する過剰な水を除去することが、多くの場合、有益である。これは、オルガノシロキサン樹脂を有機溶媒中に溶解させ、加熱して還流させ、分離技術例えば、DeanStarkトラップ又は同等の方法により水を除去することによって達成され得る。工程Iの反応で使用されるa及びbの量は、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーに40~90molのジシロキシ単位[R12SiO2/2]及び10~60molのトリシロキシ単位[R2SiO3/2]をもたらすように選択される。成分a及びb内に存在するジシロキシ及びトリシロキシ単位のmolは、29SiNMR技術を使用して、容易に決定され得る。次に、開始時のmolにより、工程Iにおいて使用される成分a及びbの質量を決定する。選択される成分a及びbの量はまた、添加する直鎖状オルガノシロキサンの量に対しオルガノシロキサン樹脂上のシラノール基がモル過剰であることを確保する量でもあるべきである。したがって、工程Iにおいて添加したすべての直鎖状オルガノシロキサンと反応させることができるように、十分な量のオルガノシロキサン樹脂を添加すべきである。同様に、モル過剰のオルガノシロキサン樹脂が使用する。使用する量は、直鎖状オルガノシロキサンのモル当たりに使用されるオルガノシロキサン樹脂のモル数を計算することにより決定され得る。典型的な計算を例示するために、下記の実施例3において使用される通りに成分a及びbの量が詳述される。実施例3では、28重量のDowCorning登録商標217フレーク樹脂約1,200g/molの数平均分子量Mnを有するが使用され、72重量のシラノール末端PDMSGelestDMS-S2713,500g/molを有するが使用される。コポリマーにDowCorning登録商標217フレークを使用した場合、PDMS分子に対する樹脂分子の比4.38[28/1200/72/13500]が得られ、すなわち、すべてのPDMS分子を反応させてコポリマーにするにあたり過剰量の樹脂分子が供給される。上述のように、工程Iにおいて影響がある反応は、直鎖状オルガノシロキサンの加水分解性基とオルガノシロキサン樹脂上のシラノール基との間の縮合反応である。本発明の方法の工程IIにおいて更に反応させるためには、生成した樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーの樹脂成分上に十分な量のシラノール基が残存している必要がある。典型的には、少なくとも10モル、あるいは少なくとも20モル、あるいは少なくとも30モルのシラノールが、本発明の工程Iにおいて製造される樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーのトリシロキシ単位上に残存すべきである。前述のa直鎖状オルガノシロキサンをbオルガノシロキサン樹脂と反応させるための反応条件は、特に限定されない。典型的には、反応条件は、a直鎖状オルガノシロキサンとbオルガノシロキサン樹脂との間の縮合型反応に作用するように、選択される。様々な非限定的な実施形態及び反応条件が下記の実施例において説明される。一部の実施形態では、a直鎖状オルガノシロキサンとbオルガノシロキサン樹脂は、室温にて反応する。他の実施形態では、aとbは、室温を超え、最高で約50、75、100又は更には最高で150°Cの範囲の温度にて反応する。あるいは、aとbは、溶媒の還流下で一緒に反応させることができる。更に他の実施形態では、aとbは、室温より5、10又は更には10°C超低い温度にて反応する。更に他の実施形態では、aとbは、1、5、10、30、60、120若しくは180分、又は更に長い時間にわたって反応する。典型的には、aとbは、窒素又は希ガスなどの不活性雰囲気下で反応する。あるいは、aとbは、一部の水蒸気及び/又は酸素を含む雰囲気下で反応し得る。更に、aとbは、任意のサイズの容器内で、ミキサー、ボルテクサー、スターラー、ヒーターなどの任意の器具を使用して、反応させることができる。他の実施形態では、aとbは、極性又は非極性であり得る1種以上の有機溶媒中で反応する。典型的には、トルエン、キシレン、ベンゼン及びこれらに類するものなどの芳香族系溶剤が利用される。有機溶媒中に溶解させるオルガノシロキサンの量は様々であるが、典型的にはその量は、直鎖状オルガノシロキサンの鎖延長又はオルガノシロキサン樹脂の早すぎる縮合を最小化するように、選択されるべきである。化合物a及びbの添加の順序は様々であり得るが、典型的には、直鎖状オルガノシロキサンは、有機溶媒中に溶解させたオルガノシロキサン樹脂の溶液に添加される。この添加の順序は、直鎖状オルガノシロキサン上の加水分解性基とオルガノシロキサン樹脂上のシラノール基との縮合を向上させ、一方で、直鎖状オルガノシロキサンの鎖延長又はオルガノシロキサン樹脂の早すぎる縮合を最小化すると考えられている。工程Iにおける反応の進行及び樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの生成は、GPC、IR又は29SiNMRなどの様々な分析技術によりモニターされ得る。典型的には、工程Iにおける反応は、工程Iにおいて添加される直鎖状オルガノシロキサンの少なくとも95重量パーセントが樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの中に組み込まれるまで、持続させる。本発明の方法の第二工程は、工程Iから得た樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを更に反応させて、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーのトリシロキシ単位を架橋させて、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーの分子量を少なくとも50、あるいは少なくとも60、あるいは少なくとも70、あるいは少なくとも80、あるいは少なくとも90、あるいは少なくとも100増加させる工程を含む。この方法の第二工程の反応は概ね、以下の概略図により表され得る。本発明者らは、工程Iにおいて生成された樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーのトリシロキシブロックが、工程IIの反応により架橋され、これがブロックコポリマーの平均分子量を増加させると考えている。本発明者らはまた、トリシロキシブロックの架橋により、トリシロキシブロックが凝集し濃縮されたブロックコポリマーが生成され、これが最終的にブロックコポリマーの固体組成物内にナノドメインを生成する助けとなり得ると考えている。換言すれば、このトリシロキシブロックの凝集による濃縮は、ブロックコポリマーがフィルム又は硬化済みコーティングなどの固体形態で単離される場合には、相分離し得る。ブロックコポリマー内のトリシロキシブロックの凝集による濃縮及びその後のブロックコポリマーを含有する固体組成物内でのナノドメインの生成は、これらの組成物の光学的透明度並びにこれらの物質に関連する他の物理的特性の向上をもたらし得る。工程IIにおける架橋反応は、様々な化学的機序及び/又は部分を介して達成され得る。例えば、ブロックコポリマー内の非直鎖状ブロックの架橋は、コポリマーの非直鎖状ブロック内に存在する残留シラノール基の縮合から生じ得る。ブロックコポリマー内の非直鎖状ブロックの架橋はまた、遊離樹脂成分と非直鎖状ブロックとの間で生じ得る。遊離樹脂成分は、ブロックコポリマーの調製工程Iにおいて過剰量のオルガノシロキサン樹脂を使用する結果として、ブロックコポリマー組成物中に存在し得る。遊離樹脂成分は、非直鎖状ブロック上及び遊離樹脂上に存在する残留シラノール基の縮合により非直鎖状ブロックと架橋し得る。遊離樹脂は、下記のように、架橋剤として添加された低分子量化合物と反応することにより、架橋をもたらし得る。本発明の方法の工程IIは、工程Iの樹脂-直鎖状オルガノシロキサンの生成と同時に生じ、又は、工程IIの反応に作用するように条件を修正した分離反応を含む。工程IIの反応は、工程Iと同じ条件下で生じ得る。この状況において、工程IIの反応は、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーが生成されるにつれて、進行する。あるいは、工程Iに使用される反応条件は、更に工程IIの反応にも拡大適用される。あるいは、反応条件は変更することができ、又は、工程IIの反応に作用させるために追加成分を添加することができる。本発明者らは、工程IIの反応条件は、出発物質である直鎖状オルガノシロキサンにおいて使用される加水分解性基Eの選択によって異なることを発見した。直鎖状オルガノシロキサン内のEがオキシム基である場合、工程IIの反応が工程Iと同じ反応条件下で生じる可能性がある。すなわち、直鎖状-樹脂オルガノシロキサンコポリマーが工程Iにおいて生成されると、それは継続して、樹脂成分上に存在するシラノール基の縮合により反応して、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーの分子量を更に増加させる。いかなる理論にも束縛されるものではないが、本発明者らは、Eがオキシモ基である場合には、工程Iにおける反応から生じる加水分解されたオキシモ基例えば、メチルエチルケトキシムは、工程IIの反応のための縮合触媒として作用し得ると考えている。同様に、工程IIの反応は、工程Iと同じ条件下で同時に進行し得る。換言すれば、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーが工程Iにおいて生成されるにつれ、これは更に同じ条件下で反応して、コポリマーの樹脂成分上に存在するシラノール基の縮合反応によりその分子量を更に増加させ得る。しかしながら、直鎖状オルガノシロキサン上のEがアセトキシ基である場合、生じる加水分解性基酢酸は工程IIの反応を十分に触媒しない。したがって、この状況では、工程IIの反応は、下記の実施形態において説明されるように、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーの樹脂成分の縮合に作用する更なる成分により向上され得る。本発明の方法の一実施形態では、式R5qSiX4-qを有するオルガノシロキサンを工程II中に添加し、式中、R5はC1~C8ヒドロカルビル又はC1~C8ハロゲン置換ヒドロカルビルであり、Xは加水分解可能な基であり、qは0、1又は2である。R5はC1~C8ヒドロカルビル又はC1~C8ハロゲン置換ヒドロカルビルであり、あるいはR5はC1~C8アルキル基又はフェニル基であり、あるいはR5はメチル、エチル又はメチルとエチルの組み合わせである。Xは任意の加水分解性基であり、あるいはXは上記に定義されたようなE、ハロゲン原子、ヒドロキシルOH又はアルコキシ基であり得る。一実施形態では、オルガノシランは、アルキルトリアセトキシシラン、例えば、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン又はこれらの組み合わせである。市販の代表的なアルキルトリアセトキシシランとしては、ETS-900DowCorningCorp.Midland,MIが挙げられる。この実施形態において有用な、他の好適な非限定のオルガノシランとしては、メチル-トリスメチルエチルケトキシムシランMTO、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラオキシムシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジメチルジオキシムシラン、メチルトリスメチルメチルケトキシムシランが挙げられる。工程II中に添加する際の式R5qSiX4-qを有するオルガノシランの量は様々であるが、方法中で使用されるオルガノシロキサン樹脂の量に基づくべきである。使用されるシランの量は、オルガノシロキサン樹脂上のSiのmol当たり2~15molのオルガノシランのモル化学量をもたらすものであるべきである。更に、工程II中に添加される式R5qSiX4-qを有するオルガノシランの量は、オルガノシロキサンブロックコポリマー上のすべてのシラノール基を消費しない化学量が確保されるように制御する。一実施形態では、工程IIにおいて添加されるオルガノシランの量は、0.5~35モルパーセントのシラノール基[≡SiOH]を含有するオルガノシロキサンブロックコポリマーをもたらすように選択される。本発明の方法における工程IIIは任意であり、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを更に加工して、貯蔵安定性及び/又は光学的透明度を向上させることを含む。本明細書で使用するとき、語句更に加工するは、生成された樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーの貯蔵安定性及び/又は光学的透明度を向上させるためのその任意の更なる反応又は処理を指す。工程IIにおいて製造されたときの樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーは、依然としてかなりの量の反応性OZ基すなわち、≡SiOZ基、式中、Zは上記で定義した通りである及び/又はX基ここで、式R5qSiX4-qを有するオルガノシランが工程IIにおいて使用される場合、Xはブロックコポリマーの中に導入されるを含有し得る。この段階で樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマー上に存在するOZ基は、樹脂成分上に元々存在した、あるいは、オルガノシランが工程IIにおいて使用される場合には式R5qSiX4-qを有するオルガノシランとシラノール基の反応から生じ得る、シラノール基であり得る。本発明者らは、このようなOZ又はX基が貯蔵中に更に反応して、貯蔵安定性を制限し得る又は最終使用用途の際の樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーの反応性を減少させ得ると考えている。あるいは、残っているシラノール基の更なる反応は、樹脂ドメインの生成を更に向上させ、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーの光学的透明度を改善し得る。したがって、任意の工程IIIは、工程II中に生じるオルガノシロキサンブロックコポリマー上のOZ又はXを更に反応させて、貯蔵安定性及び/又は光学的透明度を改善するために、実行され得る。工程IIIのための条件は、使用される直鎖状成分及び樹脂成分、これらの量、及び末端封鎖化合物の選択に応じ、様々であり得る。特定の実施形態を以下に記述する。方法の一実施形態では、工程IIIは、工程IIからの樹脂-直鎖状オルガノシロキサンを水と反応させ、工程時に生成される酢酸などの任意の小分子量化合物を除去することにより、実行される。この実施形態では、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーは典型的には直鎖状オルガノシロキサンから生じ、ここで、Eはアセトキシ基であり、並びに/又は、アセトキシシランは工程IIにおいて使用される。いかなる理論にも束縛されるものではないが、本発明者らは、この実施形態において、工程IIにおいて生成される樹脂-直鎖状オルガノシロキサンは、かなりの量の加水分解性Si-O-COCH3基を含有し、これは樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーの貯蔵安定性を制限し得ると考えている。したがって、工程IIから生成される樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーに水を添加してもよく、これは、ほとんどのSi-O-COCH3基を加水分解して、トリシロキシ単位を更に連結し、酢酸を除去する。生成された酢酸及び過剰な水は、既知の分離技術により除去され得る。この実施形態において添加される水の量は様々であり得るが、典型的には、全固形分当たり10重量あるいは5重量が添加される反応媒質中の樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーに基づいたとき。方法の一実施形態では、工程IIIは、工程IIからの樹脂-直鎖状オルガノシロキサンを、アルコール、オキシム又はトリアルキルシロキシ化合物から選択される末端封鎖化合物と反応させることにより、実行される。この実施形態では、樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーは典型的には、Eがオキシム基である直鎖状オルガノシロキサンから生成される。末端封鎖化合物は、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール又は一連の他のものなどのC1~C20アルコールであり得る。あるいは、アルコールはn-ブタノールである。末端封鎖化合物はまた、トリメチルメトキシシラン又はトリメチルエトキシシランなどのトリアルキルシロキシ化合物であってもよい。末端封鎖化合物の量は様々であり得るが、典型的には、反応媒質中の直鎖状樹脂オルガノシロキサンブロックコポリマー固体に対して3~15重量である。本発明の方法の工程IVは任意であり、工程I及びIIの反応において使用される有機溶媒を除去する工程を含む。有機溶媒は任意の既知の技術により除去され得るが、典型的には、大気条件下又は減圧条件下のいずれかで高温にて樹脂-直鎖状オルガノシロキサンコポリマーを加熱する工程を含む。以下の実施例は、本発明の好ましい実施形態を例証するために含まれる。以下に続く実施例に開示される技術は、本発明者らにより本発明の実践において良好に機能することが見出された技術を示し、したがって、その実践のために好ましい態様を構成すると考えられ得ると、当業者により理解されるであろう。しかしながら、当業者は、本開示を考慮すれば、開示される具体的な実施形態において多くの変更を行うことができ、それでもなお本発明の趣旨及び範囲から逸脱せずに同様の又は類似の結果をもたらし得ることを理解すべきである。すべての百分率は、重量単位である。すべての測定は、特に記載のない限り、23°Cにて行った。特性評価法29Si及び13CNMRスペクトル分析法約3グラムの、無溶剤の直鎖状樹脂室温にて一晩サンプルを乾燥させることにより調製と、1gのCDCl3と、4グラムの0.04MCracac3のCDCl3溶液と、をバイアル瓶に量り取り、十分に混合することにより、直鎖状樹脂生成物のNMRサンプルを調製した。次に、サンプルを、ケイ素を含まないNMR管の中に移した。VarianMercury400MHzNMRを使用して、スペクトルを得た。4gのサンプルを4グラムの0.04MCracac3のCDCl3溶液で希釈することにより、217フレーク及びシラノール末端PDMSなどの他の材料のNMRサンプルを調製した。13CNMR実験を以下の方式で行った。サンプルを16mmのガラス製NMR管の中に配置した。5mmのNMR管を16mm管の内側に配置し、ロック溶媒を装填した。12~20分の信号平均化ブロックにおいて13CDEPTNMRを得た。VarianInovaNMRスペクトロメーターにおいて、400MHzの1H動作振動数でデータを得た。29SiNMRスペクトルにおけるTPh,OZ及びTPh,OZ2領域の積分値から直鎖状樹脂生成物のシラノール含有量を計算した。Tアルキル基は、完全に縮合したものと考えられ推定、TPh,OZから差し引かれた。29SiNMRからのDMe2の積分値に比率合成の組成に使用されるPDMSに含まれるSiモル量に対するカップリング剤に含まれるSiモル量を乗じることにより、Tアルキル含有量を計算した。217フレーク由来のイソプロポキシは、低濃度であるため、OZ値から差し引かなかった。したがって、総OZ=総OHとみなされた。GPC分析GPC等級のTHFを用い0.5重量/体積でサンプルを調製し、0.45umのPTFEシリンジフィルターで濾過し、ポリスチレン標準と比較して分析した。分子量決定に使用される比較検量線三次フィットは、580~2,320,000ダルトンの分子量範囲の16のポリスチレン標準によるものであった。クロマトグラフィー装置は、真空脱気装置を装備したWaters2695セパレーションモジュールと、Waters2410示差屈折計と、ガードカラムが前に設置された2つ300mm×7.5mmのPolymerLaboratoriesMixedCカラム分子量分離範囲:200~3,000,000と、からなる。流量が1.0mL/分になるようプログラムし、GPC等級のTHFを使用して、分離を行なった。充填量は100μLに設定し、カラム及び検出器は35°Cに加熱した。データ収集は25分行い、処理は、Atlas/Cirrusソフトウェアを使用して行った。遊離樹脂含有量を測定するために、低分子量側の遊離樹脂ピークを積分して、面積を得た。レオロジー分析TAInstrumentsから市販されているレオメーター2KSTD標準屈曲旋回軸スプリング変換器を備えるARES-RDATAInstrumentsNewCastle,DE19720を強制対流炉と共に使用して、貯蔵弾性率G’、損失弾性率G及び温度の関数としてのtanδを測定した。試験標本典型的には8mm幅、1mm厚さを平行なプレートの間に装填し、25°C~300°Cの範囲で2°C/分にて温度を徐々に上げながら小さなひずみの振動レオロジーを使用して測定した振動数1Hz。コポリマーを特性評価するために、流動開始をG’降下流動と標識されているに入る変曲温度として計算し、120°Cでの粘度を溶融加工性についての尺度として報告し、硬化開始をG’上昇硬化と標識されているに入る変曲温度として計算した。オルガノシロキサンコポリマーについての典型的なレオロジー曲線は、図1に示されている。本明細書に開示されている代表例のレオロジー評価の結果は、下記の表1に要約される。光学的透明度本発明の組成物のキャストシートの厚さ1mmのサンプルを通して測定された、約350~1000ナノメートルの波長での光透過率として、光学的透明度を評価した。概して、少なくとも95の透過率を有するサンプルは、光学的に透明であると考えた。引張強度及び伸度ASTMD412に従って、インストロンテスターを使用して、引張強度及び破断伸度を測定した。初期生成時のサンプル並びに加熱経時処理サンプルについて引張強度及び伸度を測定した。強制空気炉内でサンプルを1000時間にわたって200°Cにさらすことにより、サンプルを経時処理した。熱安定性TAInstrumentsQ500を使用して、熱重量分析TGAによりオルガノシロキサンコポリマーの熱安定性を測定した。サンプルをPtパンに配置し、分析したところ、典型的なサンプル重量は約5mgであった。サンプルは徐々に800°Cに上げて分析した。分析前にPt箔で覆って、噴出を防止した。サンプルを空気中で室温から10°C/分で800°Cに加熱し、劣化温度を決定した。Td5は、元のサンプル重量の5が損失された温度として定義される。同様にサンプルは250°Cに加熱し、700分にわたって保持した。重量損失曲線時間の関数としての重量の傾きを計算し、100~700分の時間範囲で/分として記録する。また、250°C及び空気雰囲気への700分の暴露時の総損失重量を重量単位で700分損失として記録する。屈折率ASTMD542に従って、屈折率RIを測定した。実施例160g固体手順:500mL三口丸底フラスコにトルエン71.4gと217フレーク16.9gとを充填した。このフラスコに、温度計と、teflon撹拌パドルと、水冷凝縮器に取り付けたDeanStark装置と、を装備させた。窒素封入を行った。DeanStarkに予めトルエンを充填した。加熱には油浴を使用した。還流させながら30分にわたって加熱した。108°Cポット温度に冷却した。トルエン40.0gとシラノール末端PhMeポリマー43.2gの溶液をMTOで末端封鎖した。これは、MTOをポリマーに添加し、室温にて2時間にわたって混合することにより、窒素下でグローブボックス内で調製した同日。このポリマー溶液を217フレーク溶液に108°Cにて迅速に添加した。還流させながら6.5時間にわたって加熱した。フィルムをこの溶液からキャスティングした。NMRによる組成:DPhMe0.722TMe0.013TPh0.265OZ=7.11mol実施例260g固体手順:500mL三口丸底フラスコにトルエン80.82gと217フレーク27.1gとを充填した。このフラスコに、温度計と、teflon撹拌パドルと、水冷凝縮器に取り付けたDeanStark装置と、を装備させた。窒素封入を行った。DeanStarkに予めトルエンを充填した。加熱には油浴を使用した。還流させながら30分にわたって加熱した。108°Cポット温度に冷却した。トルエン30.58gとシラノール末端PhMeポリマー33.0gの溶液をMTOで末端封鎖した。これは、MTOをポリマーに添加し、室温にて2時間にわたって混合することにより、窒素下でグローブボックス内で調製した同日。このポリマー溶液を217フレーク溶液に108°Cにて迅速に添加した。還流させながら3時間にわたって加熱した。フィルムをこの溶液からキャスティングした。NMRによる組成:DPhMe0.544TMe0.010TPh0.446OZ=17.3mol実施例360g固体手順:500mL三口丸底フラスコにトルエン86.4gと217フレーク33.0gとを充填した。このフラスコに、温度計と、teflon撹拌パドルと、水冷凝縮器に取り付けたDeanStark装置と、を装備させた。窒素封入を行った。DeanStarkに予めトルエンを充填した。加熱には油浴を使用した。還流させながら30分にわたって加熱した。108°Cポット温度に冷却した。トルエン25.0gとシラノール末端PhMeポリマー27.0gの溶液をMTOで末端封鎖した。これは、MTOをポリマーに添加し、室温にて2時間にわたって混合することにより、窒素下でグローブボックス内で調製した同日。このポリマー溶液を217フレーク溶液に108°Cにて迅速に添加した。還流させながら3時間にわたって加熱した。フィルムをこの溶液からキャスティングした。NMRによる組成:DPhMe0.440TMe0.008TPh0.552OZ=17.0mol実施例4480g固体、33.63gの酢酸生成手順:2L三口丸底フラスコにトルエン544.0gと217フレーク216.0gとを充填した。このフラスコに、温度計と、teflon撹拌パドルと、水冷凝縮器に取り付けたDeanStark装置と、を装備させた。窒素封入を行った。DeanStarkに予めトルエンを充填した。加熱マントルを加熱に使用した。還流させながら30分にわたって加熱した。108°Cポット温度に冷却した。トルエン176.0gとシラノール末端PhMeシロキサン264.0gの溶液を50/50MTA/ETA4.84g、0.0209molのSiで末端封鎖した。これは、MTA/ETAをポリマーに添加し、室温にて2時間にわたって混合することにより、窒素下でグローブボックス内で調製した同日。このポリマー溶液を217フレーク溶液に108°Cにて迅速に添加した。還流させながら2時間にわたって加熱した。108°Cに冷却した。50/50のMTA/ETA38.32g、0.166molのSiを添加した。還流させながら2時間にわたって加熱した。90°Cのポット温度に冷却し、その後、DI水33.63gを添加した。還流させながら1時間にわたって加熱した水の除去は行わなかった。還流させながら加熱し、共沸蒸留により水を除去した。大部分の水は1時間で除去した。還流させながら3時間にわたって加熱を継続した。この時点でDeanStarkにはそれ以上の水は凝縮しなかった。100°Cに冷却し、その後、予め乾燥させたDarcoG60カーボンブラック4.80gを添加した。撹拌しながら室温に冷却し、次に室温にて一晩撹拌した。0.45μmフィルターを通して加圧濾過した。比較例1理論的収率:40molのOHで95.1g65.35gのHClを生成手順:底部排水口を有する1L三口丸底IntendedMorton型フラスコにDI水196.1gを充填した。このフラスコに、温度計と、teflon撹拌パドルと、水冷凝縮器と、を装備させた。添加漏斗にPhSiCl382.95gとPhMeSiCl258.87gとトルエン142.65gとを充填した。クロロシラン溶液を添加し、室温にてゆっくりと反応を開始させた。発熱して78°Cになった。15分にわたって混合した。水相を除去した。分離は良好であった。水洗浄によりHClを除去した。以下のプロセスを複数回繰り返した。25mLのDI水を添加し、80°Cにて15分にわたって加熱した。水相を除去した。加熱して還流させ、共沸蒸留により水を除去した。一部の溶媒96.5gを蒸留して、固体含有量を上昇させた。120°C及び約0.5mmHg約66.7Paの油浴にて樹脂から揮発物を除去して乾固した。NMRによる組成:DPhMe0.437Tシクロヘキシル0.007TPh0.556OH=44.5mol5.55重量;FW=136g/molのSi上記実施例で調製されたオルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する固体組成物を次にこれらの機械的及びRI特性について評価した。結果は以下の表1に要約されている。"