"基板の表示領域内に設けられた複数の第1電極と、前記複数の第1電極の間の電極間領域に設けられた補助電極と、前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁と、前記表示領域に設けられると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層と、前記有機層の上面および前記補助電極の上面に設けられた第2電極とを備えた表示装置。前記補助電極は矩形形状を有し、前記隔壁は、前記補助電極の一辺に沿って設けられている請求項1記載の表示装置。前記補助電極は矩形形状を有し、前記隔壁は、前記補助電極の三辺を囲んで設けられている請求項1記載の表示装置。前記第1電極は矩形形状を有すると共に行列状に配列されており、前記補助電極は、前記第1電極の行間かつ列間の領域に設けられている請求項1記載の表示装置。前記隔壁は絶縁性材料により構成されている請求項1記載の表示装置。基板の表示領域内に複数の第1電極を形成する工程と、前記複数の第1電極の間の電極間領域に補助電極を形成する工程と、前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って隔壁を形成する工程と、前記表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を前記有機層から露出させる工程と、前記有機層の上面に第2電極を形成すると共に、前記隔壁および前記補助電極の前記有機層から露出した領域を前記第2電極により被覆する工程とを含む表示装置の製造方法。前記第2電極を、前記基板と蒸発源とを平行にした状態で形成する請求項6記載の表示装置の製造方法。前記有機層を形成する工程において、前記基板の進行方向を、前記隔壁の裏側の側面から前記補助電極に沿う側面に向かう方向とする請求項6記載の表示装置の製造方法。前記有機層を形成する工程において、前記有機層の材料を前記隔壁の前記補助電極に沿う側面の反対側の上方から入射させる請求項6記載の表示装置の製造方法。しかしながら、特許文献1および特許文献2に記載された従来の方法では、レーザで除去された有機物がダスト塵となり、ダークスポット非発光点等、品質不良への影響が懸念されていた。本開示の目的は、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えると共に、非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能な表示装置およびその製造方法を提供することにある。本開示による表示装置は、以下のA~Eの構成要素を備えたものである。A基板の表示領域内に設けられた複数の第1電極B複数の第1電極の間の電極間領域に設けられた補助電極C電極間領域に、補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁D表示領域に設けられると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層E有機層の上面および補助電極の上面に設けられた第2電極本開示の表示装置では、有機層は隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させており、第2電極は有機層の上面および補助電極の上面に設けられている。よって、第2電極と補助電極とが補助電極の上面で電気的に接続され、電源電圧の不均一による画面内のムラが抑えられる。本開示による表示装置の製造方法は、以下のA~Eの工程を含むものである。A基板の表示領域内に複数の第1電極を形成する工程B複数の第1電極の間の電極間領域に補助電極を形成する工程C電極間領域に、補助電極の外形線の一部に沿って隔壁を形成する工程D表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を有機層から露出させる工程E有機層の上面に第2電極を形成すると共に、隔壁および補助電極の有機層から露出した領域を第2電極により被覆する工程本開示の表示装置によれば、有機層は隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させており、第2電極は有機層の上面および補助電極の上面に設けられているようにしている。よって、第2電極と補助電極とを補助電極の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えることが可能となる。本開示の表示装置の製造方法によれば、表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を有機層から露出させたのち、有機層の上面に第2電極を形成すると共に、隔壁および補助電極の有機層から露出した領域を第2電極により被覆するようにしている。よって、第2電極と補助電極とを補助電極の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えることが可能となる。また、補助電極の上面には有機層は形成されないので、レーザを用いて補助電極上の有機層を除去する必要はなくなる。従って、レーザで除去された有機物のダストに起因する非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能となる。以下、本開示の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。1.実施の形態各画素につき一組の補助電極および隔壁を設けた例2.変形例1隔壁を、矩形の三辺をなす形状とした例3.変形例2各副画素につき一組の補助電極および隔壁を設けた例4.変形例3各画素につき一組の補助電極および隔壁を、第1電極の行間の領域に設けた例5.変形例4各副画素につき一組の補助電極および隔壁を、第1電極の行間の領域に設けた例6.変形例5各画素につき一組の補助電極および隔壁を、第1電極の列間の領域に設けた例7.変形例6各副画素につき一組の補助電極および隔壁を、第1電極の列間の領域に設けた例図1は、本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表したものである。この表示装置は、有機ELテレビジョン装置などに用いられるものであり、例えば、ガラスなどの基板11の上に、後述する複数の有機EL素子10R,10G,10Bがマトリクス状に配置されてなる表示領域110が設けられたものである。表示領域110の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路120および走査線駆動回路130が設けられている。表示領域110内には画素駆動回路140が設けられている。図2は、画素駆動回路140の一例を表したものである。この画素駆動回路140は、後述する第1電極20の下層に設けられたアクティブ型の駆動回路である。画素駆動回路140は、例えば、駆動トランジスタTr1および書き込みトランジスタTr2と、キャパシタ保持容量Csと、第1の電源ラインVccおよび第2の電源ラインGNDの間において駆動トランジスタTr1に直列に接続された有機EL素子10R,10G,10Bとを有している。キャパシタCsの一方の電極は駆動トランジスタTr1および書き込みトランジスタTr2の間に接続され、他方の電極は駆動トランジスタTr1および有機EL素子10R,10G,10Bとの間に接続されている。画素駆動回路140において、列方向には信号線120Aが複数配置され、行方向には走査線130Aが複数配置されている。各信号線120Aと各走査線130Aとの交差点が、有機EL素子10R,10G,10Bのいずれか一つ副画素に対応している。各信号線120Aは、信号線駆動回路120に接続され、この信号線駆動回路120から信号線120Aを介して書き込みトランジスタTr2のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線130Aは走査線駆動回路130に接続され、この走査線駆動回路130から走査線130Aを介して書き込みトランジスタTr2のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。図3は、図1に示した表示領域110の一部の平面構成を表したものであり、図4は、図3の一部を拡大して表したものである。基板11の表示領域110内には、複数の有機EL素子10R,10G,10Bの第1電極20が、行列状に、互いに離間して配置されている。第1電極20は一方向に長い矩形形状を有しており、短辺に平行な行方向には、異なる色の有機EL素子10R,10G,10Bの第1電極20が順に配列されている。長辺に平行な列方向には、同一色の有機EL素子10Rまたは10G,10Bの第1電極20が配列されている。隣り合う三つの有機EL素子10R,10G,10Bは一つの画素10を構成しており、各有機EL素子10R,10G,10Bは一つの副画素を構成している。画素10の行方向におけるピッチ中心間距離pは、例えば、対角寸法40インチの場合には228μmである。第1電極20の行方向の間隔L1は、例えば30μm程度であり、列方向の間隔L2は、例えば50μmないし60μm程度である。第1電極20は、複数の有機EL素子10R,10G,10Bの各々ごとに設けられている。第1電極20は、例えば、厚みが50nm程度のチタンTi層と、厚みが350nm程度のAl-Nd合金層とを基板11側からこの順に積層した構成を有し、発光層で発生した光を第2電極70側から取り出すようになっているトップエミッション。なお、第1電極20の構成材料としては、アルミニウムAlまたはその合金のほか、金Au,白金Pt,ニッケルNi,クロムCr,銅Cu,タングステンW,モリブデンMoあるいは銀Agなどの金属元素の単体または合金よりなる反射電極が挙げられる。図5は、図4のV-V線における表示領域110の断面構成を表したものである。なお、図5以降の断面図では、図1に示した信号線駆動回路120,走査線駆動回路130,画素駆動回路140およびこれらを被覆する平坦化絶縁膜を省略している。第1電極20は、画素間領域20Aに設けられた絶縁膜30により、互いに電気的に分離されている。第1電極20および絶縁膜30上には、発光層を含む有機層40と、第2電極50とが、第1電極20の側からこの順に設けられている。有機層40は、表示領域110の全体に設けられている。第2電極50は、有機層40の上面に設けられている。第1電極20と第2電極50との間に有機層40が挟持されている部分が、上述した有機EL素子10R,10G,10Bを構成している。絶縁膜30は、第1電極20と第2電極50との絶縁性を確保すると共に発光領域を正確に所望の形状にするためのものである。絶縁膜30は、第1電極20の発光領域に対応して開口部30Aを有している。絶縁膜30は、例えば、厚みが2μm2000nm程度であり、ポリイミドなどの感光性絶縁材料により構成されている。有機層40は、第1電極20および絶縁膜30の上に、表示領域110の全体にわたり複数の有機EL素子10R,10G,10Bに共通に設けられている。有機層40は、例えば、第1電極20の側から順に、正孔注入層,正孔輸送層,発光層および電子輸送層を積層した構成を有している。正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層は、例えば、厚みが2nmないし10nmであり、化1に示したヘキサトリルアザトリフェニレンにより構成されている。正孔輸送層は、発光層への正孔注入効率を高めるためのものである。正孔輸送層は、例えば、厚みが30nmであり、化2に示した材料により構成されている。発光層は、例えば、第1電極20の側から順に、厚み10nmの赤色発光層、厚み10nmの発光分離層、厚み10nmの青色発光層、および厚み10nmの緑色発光層いずれも図示せずを順に積層した白色発光用のものである。赤色発光層は、電界をかけることにより、第1電極20から正孔注入層および正孔輸送層を介して注入された正孔の一部と、第2電極50から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、赤色の光を発生するものである。発光分離層は、赤色発光層への電子供給量を減らすためのものである。青色発光層は、電界をかけることにより、第1電極20から正孔注入層,正孔輸送層および発光分離層を介して注入された正孔の一部と、第2電極50から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、青色の光を発生するものである。緑色発光層は、電界をかけることにより、第1電極20から正孔注入層,正孔輸送層および発光分離層を介して注入された正孔の一部と、第2電極50から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、緑色の光を発生するものである。赤色発光層,緑色発光層および青色発光層は、絶縁膜30の開口部30Aに対応した領域で発光するようになっている。赤色発光層は、例えば、赤色発光材料,正孔輸送性材料,電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも1種を含んでいる。赤色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、赤色発光層は、例えば、厚みが5nm程度であり、4,4-ビス2,2-ジフェニルビニンビフェニルDPVBiに2,6-ビス[4’-メトキシジフェニルアミノスチリル]-1,5-ジシアノナフタレンBSNを30重量混合したものにより構成されている。発光分離層は、例えば、化3に示した材料により構成されている。緑色発光層は、例えば、緑色発光材料,正孔輸送性材料,電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも1種を含んでいる。緑色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、緑色発光層は、例えば、厚みが10nm程度であり、DPVBiにクマリン6を5重量混合したものにより構成されている。青色発光層は、例えば、青色発光材料,正孔輸送性材料,電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも1種とを含んでいる。青色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、青色発光層は、例えば、厚みが30nm程度であり、DPVBiに4,4’-ビス[2-{4-N,N-ジフェニルアミノフェニル}ビニル]ビフェニルDPAVBiを2.5重量混合したものにより構成されている。電子輸送層は、発光層への電子注入効率を高めるためのものである。電子輸送層は、例えば、厚みが20nm程度であり、8-ヒドロキシキノリンアルミニウムAlq3により構成されている。第2電極50は、有機層40の上面に、表示領域110の全体にわたり複数の有機EL素子10R,10G,10Bに共通に設けられている。第2電極50は、例えば、第1電極20の側から順に、厚みが約0.3nmでありフッ化リチウムLiFよりなる第1層と、厚みが3nmでありカルシウムCaよりなる第2層と、厚みが5nmでありMg-Ag合金よりなる第3層とを積層した構成を有している。第2電極50は、表示領域110の外側の領域で、図示しない補助配線に接続されている。この補助配線は、表示領域110を囲む枠状の導電膜により構成されている。このような有機EL素子10R,10G,10Bは、必要に応じて、窒化ケイ素SiNなどの保護膜図示せずにより被覆されている。保護膜上には、接着層図示せずを間にして、ガラスなどよりなる封止用基板図示せずが全面にわたって貼り合わせられている。封止用基板には、必要に応じて、カラーフィルタおよびブラックマトリクスとしての遮光膜などが設けられている。次に、図3および図4に戻り、複数の第1電極20の間の電極間領域20Aに設けられた補助電極60および隔壁70について説明する。補助電極60および隔壁70は、各画素10につき一組、例えば有機発光素子10G,10Bの列間に設けられている。補助電極60は、表示領域110中央付近における第2電極50の電気抵抗の増大を抑えるためのコンタクト部であり、図示しないが、下層において上述した第2電極50の補助配線に接続されている。隔壁70は、後述する製造工程において補助電極60の上面に有機層40が成膜されないようにするためのものであり、補助電極60および隔壁70は対で配置される。隔壁70は、補助電極60の外形線の一部に沿って設けられている。具体的には、補助電極60は矩形形状を有し、隔壁70は、補助電極60の一方の長辺に沿って設けられている。補助電極60は、例えば、幅w1が10μm、奥行きd1が5μm、厚みが50nmであり、チタンTiにより構成されている。なお、絶縁膜30には、補助電極60に対向して開口部30Bが設けられている。隔壁70は、例えば、幅w2が12μm、奥行きd2が10μm、高さhが6μmであり、ポリイミド等の感光性絶縁材料により構成されている。なお、隔壁70は絶縁膜30と一体をなしており、隔壁70の高さhは絶縁膜30の厚みを含むものである。隔壁70の高さhは、必要な補助電極60の面積および有機層40を構成する有機材料の蒸着時の入射角度に基づいて算出することが可能であるが、その詳細については後述する。補助電極60および隔壁70は、例えば、第1電極20の行間かつ列間の領域四つの第1電極20の頂点で囲まれた領域20B、すなわち、行間領域20Cと列間領域20Dとの重なり合う領域に設けられていることが好ましい。これにより、後述する製造工程において、有機層40の厚みムラを小さくすることが可能となる。図6は、図4のVI-VI線における断面構成を表したものである。電極間領域20Aにおいては、有機層40は、隔壁70の補助電極60に沿う側面70Aおよび補助電極60の上面を露出させている。この露出した補助電極60の上面に第2電極50が設けられることにより、補助電極60と第2電極50とが電気的に接続されている。これにより、この表示装置では、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えると共に、非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能となっている。この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。まず、上述した材料よりなる基板11の表示領域110に、例えばスパッタリング法によりチタンTi膜を形成し、例えばフォトリソグラフィおよびドライエッチングにより所定の形状に成形する。これにより、図7に示したように、画素間領域20Aに補助電極30を形成する。なお、同じ工程で、第1電極20の下層のチタン層も形成することが可能である。次いで、例えばスパッタリング法によりAl-Nd合金膜を形成し、例えばフォトリソグラフィ法およびドライエッチングにより所定の形状に成形する。これにより、同じく図7に示したように、表示領域110内に、チタン層とAl-Nd合金層とを積層した第1電極20が、互いに離間して形成される。続いて、図8に示したように、第1電極20および補助電極60が設けられた基板11にポリイミド等の感光性絶縁材料を塗布し、フォトリソグラフィによる露光および現像を行う。これにより、開口部30A,30Bを有する絶縁膜30を形成すると共に、電極間領域20Aに、補助電極60の外形線の一部に沿って隔壁70を形成する。その際、フォトリソグラフィを2回行うか、またはハーフトーンマスクを使用することにより、絶縁膜30および隔壁70を一体に形成することが可能である。そののち、図9に示したように、表示領域110に、上述した構成の有機層40を斜め蒸着法により形成する。有機層40の材料は、図9の矢印A1に示したように、隔壁70の補助電極60に沿う側面70Aの反対側の上方から入射させる。これにより、入射側の側面70Bには有機層40が形成されるが、隔壁70の補助電極60に沿う側面70Aおよび補助電極60の上面は有機層40から露出する。蒸着方法としてはライン状の蒸着源を用いた蒸着が好ましい。基板11の進行方向蒸着方向は、図3の矢印A2に示したように、隔壁70の裏側の側面70Bから補助電極60に沿う側面70Aに向かう方向有機EL素子10R,10G,10Bの列方向とする。また、基板11が大型基板である場合には、基板11を傾ける方法も考えられるが、ライン状の蒸着源を斜めにして蒸着するほうが望ましい。隔壁70の高さhは、図10に示したように、補助電極60の幅をw1、奥行きをd1とし、有機材料の蒸着時の入射角をθとすると、数1を満たすことが好ましい。このようにすれば、補助電極60の上面を確実に有機層40から露出させ、補助電極60と第2電極50との接触を確保することが可能となるからである。数1h=d1×tanθ×1.01数1では、入射角θに依存する有機材料の蒸着分布を考慮して、算出された隔壁70の高さの1分を追加している。同様に、隔壁70の幅w2についても、蒸着分布を考慮すると、数2のように表される。数2w2=w1×1.02隔壁の奥行きd2については、これに依存する有機材料の蒸着分布感度が低いので、プロセス上のルールが優先される。有機層40を形成したのち、図11に示したように、有機層40の上面に第2電極50を形成すると共に、隔壁70および補助電極60の有機層40から露出した領域を第2電極50により被覆する。具体的には、隔壁70の補助電極60に沿う側面70Aおよび補助電極60の上面を、第2電極50により被覆する。成膜方法は、ライン状の蒸着源を用いた蒸着、回転蒸着、スパッタ法など、いずれの方法も使用することが可能である。また、図11に示したように、第2電極50を、基板11と蒸発源図示せずとを平行にした状態で、すなわち成膜材料の入射角度を矢印A3に示したように基板11に対して垂直にした状態で、形成する。以上により、図3および図5に示した有機EL素子10R,10G,10Bが形成されると共に、図6に示したように補助電極60と第2電極50とが補助電極60の上面で電気的に接続される。なお、第2電極50が隔壁70の側面70Aで途切れた場合でも、隔壁70の周囲では第2電極50は連続しているので断線のおそれはない。そののち、必要に応じて、例えばCVD法またはスパッタ法により、有機EL素子10R,10G,10Bの上に上述した材料よりなる保護膜図示せずを形成する。また、カラーフィルタ等を形成した封止用基板図示せずを用意し、この封止用基板を、保護膜の上に、接着層図示せずにより貼り合わせる。以上により、図1ないし図3に示した表示装置が完成する。この表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路130から書き込みトランジスタTr2のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路120から画像信号が書き込みトランジスタTr2を介して保持容量Csに保持される。すなわち、この保持容量Csに保持された信号に応じて駆動トランジスタTr1がオンオフ制御され、これにより、各有機EL素子10R,10G,10Bに駆動電流Idsが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、第2電極50,保護膜,接着層,カラーフィルタおよび封止用基板第2電極50以外はいずれも図示せずを透過してトップエミッション取り出される。ここでは、有機層40は隔壁70の補助電極60に沿う側面70Aおよび補助電極60の上面を露出させており、第2電極50は有機層40の上面および補助電極60の上面に設けられている。よって、第2電極50と補助電極60とが補助電極60の上面で電気的に接続され、電源電圧の不均一による画面内のムラが抑えられる。このように本実施の形態の表示装置では、有機層40は隔壁70の補助電極60に沿う側面70Aおよび補助電極60の上面を露出させており、第2電極50は有機層40の上面および補助電極60の上面に設けられているようにしている。よって、第2電極50と補助電極60とを補助電極60の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑え、表示品位を向上させることが可能となる。特に大型の表示装置の場合に好適である。本実施の形態の表示装置の製造方法では、表示領域110に、発光層を含む有機層40を斜め蒸着法により形成すると共に、隔壁70の補助電極60に沿う側面70Aおよび補助電極60の上面を有機層40から露出させたのち、有機層40の上面に第2電極50を形成すると共に、隔壁70および補助電極60の有機層40から露出した領域を第2電極50により被覆するようにしている。よって、第2電極50と補助電極60とを補助電極60の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑え、表示品位を向上させることが可能となる。また、補助電極60の上面には有機層40は形成されないので、レーザを用いて補助電極60上の有機層40を除去する必要はなくなる。従って、装置および工程を簡素化し、コスト削減および歩留まり向上が可能となると共に、レーザで除去された有機物のダストに起因する非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能となる。変形例1なお、上記実施の形態では、隔壁70が、矩形形状の補助電極60の一方の長辺に沿って設けられている場合について説明したが、隔壁70は、図12に示したように、矩形形状の補助電極60の三辺に沿って三辺を囲んで設けられていることも可能である。このようにすれば、有機層40を斜め蒸着する際に、補助電極60の上面の露出面積を大きくすることが可能となる。本変形例は、第1電極20の行方向の間隔L1および列方向の間隔L2が十分にとれる場合に有効である。変形例2また、上記実施の形態では、補助電極60および隔壁70が、各画素10につき一組設けられている場合について説明した。しかしながら、補助電極60および隔壁70は、図13に示したように、各副画素である有機EL素子10R,10G,10Bにつき一組設けられていることも可能である。このようにすれば、レイアウトの制限から補助電極60の面積を確保しにくい場合にも、第2電極50と補助電極60との接続箇所を増やすことが可能となり、より高い効果を得ることが可能となる。変形例3更に、上記実施の形態では、補助電極60および隔壁70が、第1電極20の行間かつ列間の領域20Bに設けられている場合について説明した。しかしながら、補助電極60および隔壁70は、図14に示したように、第1電極20の行間領域20C、例えば有機EL素子10Bの短辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。本変形例は、第1電極20の行方向の間隔L1が狭い場合や、レイアウトの制約から配置が制限される場合に好適である。変形例4加えて、変形例3と変形例2とを組み合わせることも可能である。すなわち、図15に示したように、補助電極60および隔壁70は、各副画素である有機EL素子10R,10G,10Bにつき一組、第1電極の行間領域20C、例えば有機EL素子10R,10G,10Bの短辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。変形例5更にまた、補助電極60および隔壁70は、図16に示したように、第1電極20の列間領域20D、例えば有機EL素子10G,10Bの長辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。本変形例は、第1電極20の列方向の間隔L2が狭い場合や、レイアウトの制約から配置が制限される場合に好適である。また、本変形例では、有機層40を形成する工程における基板11の進行方向蒸着方向は、図16の矢印A2に示したように、隔壁70の裏側の側面70Bから補助電極60に沿う側面70Aに向かう方向有機EL素子10R,10G,10Bの行方向とする。変形例6加えてまた、変形例5と変形例2とを組み合わせることも可能である。すなわち、図17に示したように、補助電極60および隔壁70は、各副画素である有機EL素子10R,10G,10Bにつき一組、第1電極20の列間領域20D、例えば有機EL素子10R,10G,10Bの長辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。本変形例においても、有機層40を形成する工程における基板11の進行方向蒸着方向は、変形例5と同様である。すなわち、図17の矢印A2に示したように、隔壁70の裏側の側面70Bから補助電極60に沿う側面70Aに向かう方向有機EL素子10R,10G,10Bの行方向とする。モジュールおよび適用例以下、上述した実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置,デジタルカメラ,ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。モジュール上記実施の形態の表示装置は、例えば、図18に示したようなモジュールとして、後述する適用例1~5などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板11の一辺に、上記実施の形態における封止用基板80から露出した領域210を設け、この露出した領域210に、信号線駆動回路120および走査線駆動回路130の配線を延長して外部接続端子図示せずを形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板FPC;FlexiblePrintedCircuit220が設けられていてもよい。適用例1図19は、上記実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル310およびフィルターガラス320を含む映像表示画面部300を有しており、この映像表示画面部300は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。適用例2図20は、上記実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部410、表示部420、メニュースイッチ430およびシャッターボタン440を有しており、その表示部420は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。適用例3図21は、上記実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体510,文字等の入力操作のためのキーボード520および画像を表示する表示部530を有しており、その表示部530は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。適用例4図22は、上記実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部610,この本体部610の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ620,撮影時のスタート/ストップスイッチ630および表示部640を有しており、その表示部640は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。適用例5図23は、上記実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体710と下側筐体720とを連結部ヒンジ部730で連結したものであり、ディスプレイ740,サブディスプレイ750,ピクチャーライト760およびカメラ770を有している。そのディスプレイ740またはサブディスプレイ750は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。以上、実施の形態を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、変形例1は、変形例2ないし変形例6にも適用可能である。例えば、上記実施の形態では、発光層で発生した光を第2電極50側から取り出す場合トップエミッションを例として説明したが、発光層で発生した光を基板11側から取り出すことも可能であるボトムエミッション。この場合には、カラーフィルタは基板11上に設けることが可能である。また、ボトムエミッションの場合には、第1電極20は、ITO,IZO登録商標,またはSnO2などの透明電極により構成され、第2電極50は、金Au,白金Pt,ニッケルNi,クロムCr,銅Cu,タングステンW,アルミニウムAl,モリブデンMoあるいは銀Agなどの金属元素の単体または合金よりなる反射電極により構成されている。また、第2電極50は、上述した反射電極と透明電極との複合膜により構成されていてもよい。加えて、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。なお、本技術は以下のような構成を取ることも可能である。1基板の表示領域内に設けられた複数の第1電極と、前記複数の第1電極の間の電極間領域に設けられた補助電極と、前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁と、前記表示領域に設けられると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層と、前記有機層の上面および前記補助電極の上面に設けられた第2電極とを備えた表示装置。2前記補助電極は矩形形状を有し、前記隔壁は、前記補助電極の一辺に沿って設けられている前記1記載の表示装置。3前記補助電極は矩形形状を有し、前記隔壁は、前記補助電極の三辺を囲んで設けられている前記1記載の表示装置。4前記第1電極は矩形形状を有すると共に行列状に配列されており、前記補助電極は、前記第1電極の行間かつ列間の領域に設けられている前記1ないし3のいずれか1項に記載の表示装置。5前記隔壁は絶縁性材料により構成されている前記1ないし4のいずれか1項に記載の表示装置。6基板の表示領域内に複数の第1電極を形成する工程と、前記複数の第1電極の間の電極間領域に補助電極を形成する工程と、前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って隔壁を形成する工程と、前記表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を前記有機層から露出させる工程と、前記有機層の上面に第2電極を形成すると共に、前記隔壁および前記補助電極の前記有機層から露出した領域を前記第2電極により被覆する工程とを含む表示装置の製造方法。7前記第2電極を、前記基板と蒸発源とを平行にした状態で形成する前記6記載の表示装置の製造方法。8前記有機層を形成する工程において、前記基板の進行方向を、前記隔壁の裏側の側面から前記補助電極に沿う側面に向かう方向とする前記6または7記載の表示装置の製造方法。9前記有機層を形成する工程において、前記有機層の材料を前記隔壁の前記補助電極に沿う側面の反対側の上方から入射させる前記6ないし8のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。"