"成分A式I~式IIIで表される基よりなる群から選択された基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂、成分Bエチレン性不飽和化合物、並びに、成分C重合開始剤を含有することを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物。式I~式III中、X、Y及びZはそれぞれ独立に、炭素数1~30のアルキレン基を表し、R1、R4及びR7はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2、R3、R5、R6、R8、R9、R10及びR11はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。前記R2、R3、R5、R6、R8及びR9がそれぞれ独立に、アルキル基である、請求項1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分Aが、式I及び式IIで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂である、請求項1又は2に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分Aが、式Iで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂である、請求項1~3のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。請求項1~4のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版。請求項1~4のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋した架橋レリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版。請求項1~4のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程、を含むレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。前記架橋工程が、前記レリーフ形成層を熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る工程である、請求項7に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法。請求項7又は8に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の架橋レリーフ形成層をレーザー彫刻し、レリーフ層を形成する彫刻工程、を含むフレキソ印刷版の製版方法。請求項9に記載のフレキソ印刷版の製版方法により製版されたレリーフ層を有するフレキソ印刷版。前記レリーフ層の厚さが、0.05mm以上10mm以下である、請求項10に記載のフレキソ印刷版。前記レリーフ層のショアA硬度が、50°以上90°以下である、請求項10又は11に記載のフレキソ印刷版。本発明の目的は、リンス性、インキ着肉性及び耐刷性に優れるフレキソ印刷版を得ることができ、安定性に優れるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたフレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法を提供することである。本発明の上記課題は、以下の解決手段<1>、<5>~<7>、<9>及び<10>により解決された。好ましい実施形態である<2>~<4>、<8>、<11>及び<12>と共に以下に記載する。<1>成分A式I~式IIIで表される基よりなる群から選択された基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂、成分Bエチレン性不飽和化合物、並びに、成分C重合開始剤を含有することを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物、式I~式III中、X、Y及びZはそれぞれ独立に、炭素数1~30のアルキレン基を表し、R1、R4及びR7はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2、R3、R5、R6、R8、R9、R10及びR11はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。<2>前記R2、R3、R5、R6、R8及びR9がそれぞれ独立に、アルキル基である、上記<1>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<3>成分Aが、式I又は式IIで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂である、上記<1>又は<2>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<4>成分Aが、式Iで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂である、上記<1>~<3>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<5>上記<1>~<4>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版、<6>上記<1>~<4>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋した架橋レリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版、<7>上記<1>~<4>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程、を含むレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<8>前記架橋工程が、前記レリーフ形成層を熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る工程である、上記<7>に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、<9>上記<7>又は<8>に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の架橋レリーフ形成層をレーザー彫刻し、レリーフ層を形成する彫刻工程、を含むフレキソ印刷版の製版方法、<10>上記<9>に記載のフレキソ印刷版の製版方法により製版されたレリーフ層を有するフレキソ印刷版、<11>前記レリーフ層の厚さが、0.05mm以上10mm以下である、上記<10>に記載のフレキソ印刷版、<12>前記レリーフ層のショアA硬度が、50°以上90°以下である、上記<10>又は<11>に記載のフレキソ印刷版。本発明によれば、リンス性、インキ着肉性及び耐刷性に優れるフレキソ印刷版を得ることができ、安定性に優れるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたフレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法を提供することができた。以下、本発明について詳細に説明する。なお、本発明において、数値範囲を表す下限~上限の記載は、下限以上、上限以下を表し、上限~下限の記載は、上限以下、下限以上を表す。すなわち、上限及び下限を含む数値範囲を表す。また、成分A式I~式IIIで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂等を単に成分A等ともいう。レーザー彫刻用樹脂組成物本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物以下、単に樹脂組成物ともいう。は、成分A式I~式IIIで表される基よりなる群から選択された基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂、成分Bエチレン性不飽和化合物、並びに、成分C重合開始剤を含有することを特徴とする。式I~式III中、X、Y及びZはそれぞれ独立に、炭素数1~30のアルキレン基を表し、R1、R4及びR7はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2、R3、R5、R6、R8、R9、R10及びR11はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。成分A式I~式IIIで表される基よりなる群から選択された基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂は、重合性基の近傍にウレタン、ウレア、アミドなどの凝集性を有する官能基を有していないので、塗布液安定性が良好である。また、彫刻による熱分解時に発生するシラノールによりリンス性が良化する。また、シリコーンオイルを使用した場合とは異なり、インキ転移性も悪化しない。本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、レーザー彫刻が施されるフレキソ印刷版原版のレリーフ形成層用途以外にも、特に限定なく、他の用途にも広範囲に適用することができる。例えば、以下に詳述する凸状のレリーフ形成をレーザー彫刻により行う印刷版原版のレリーフ形成層のみならず、表面に凹凸や開口部を形成する他の材形、例えば、凹版、孔版、スタンプ等、レーザー彫刻により画像形成される各種印刷版や各種成形体の形成に適用することができる。中でも、適切な支持体上に設けられるレリーフ形成層の形成に適用することが好ましい態様である。なお、本明細書では、フレキソ印刷版原版の説明に関し、成分A及び成分Bを含有し、レーザー彫刻に供する画像形成層としての、表面が平坦な層であり、かつ未架橋の架橋性層をレリーフ形成層と称し、前記レリーフ形成層を架橋した層を架橋レリーフ形成層と称し、これをレーザー彫刻して表面に凹凸を形成した層をレリーフ層と称する。以下、レーザー彫刻用樹脂組成物の構成成分について説明する。成分A式I~式IIIで表される基よりなる群から選択された基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、成分A式I~式IIIで表される基よりなる群から選択された基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂を含有する。なお、以下において、式Iで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂を樹脂A1ともいい、式IIで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂を樹脂A2ともいい、式IIIで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂を樹脂A3ともいう。式I~式III中、X、Y及びZはそれぞれ独立に、炭素数1~30のアルキレン基を表し、R1、R4及びR7はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R2、R3、R5、R6、R8、R9、R10及びR11はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。本発明においてプラストマーとは、高分子学会編新版高分子辞典日本国、朝倉書店、1988年発行に記載されているように、容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する高分子体を意味する。プラストマーは、エラストマー外力を加えたときに、その外力に応じて変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するものに対する言葉である。本発明において、プラストマーは、元の大きさを100としたときに、室温20°Cにおいて小さな外力で200まで変形させることができ、該外力を除いても、130以下に戻らないものを意味する。なお、水あめ状、オイル状、液体状の樹脂は、本定義に該当するものである。更に、本願のプラストマーは、ポリマーのガラス転移温度Tgが20°C未満である。Tgを2つ以上有するポリマーの場合は、全てのTgが20°C未満である。成分Aの20°Cにおける粘度は、0.5Pas~10kPasであることが好ましく、10Pas~10kPasであることがより好ましく、50Pas~5kPasであることが更に好ましい。粘度がこの範囲内の場合には、シート状あるいは円筒状の印刷版原版に樹脂組成物を成形し易く、プロセスも簡便である。本発明において、成分Aがプラストマーであることにより、これから得られるレーザー彫刻用印刷版原版をシート状又は円筒状に成形する際に、良好な厚み精度や寸法精度を達成することができる。成分Aの数平均分子量Mnは、1,000~200,000であることが好ましく、2,000~150,000であることがより好ましく、3,000~100,000であることが更に好ましく、5,000~100,000であることが特に好ましい。この範囲内の数平均分子量を有する成分Aを用いて製造した樹脂組成物は、加工が容易であり、しかも、後に架橋して作製する原版が強度を保ち、この原版から作製したレリーフ画像は強く、繰り返しの使用にも耐えられる。なお、成分Aの数平均分子量は、GPCゲル浸透クロマトグラフ法を用いて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて求めることができる。また、成分Aにおける式I~式IIIで表される基は、いずれもエチレン性不飽和基を少なくとも有する。成分Aは、少なくとも主鎖末端に式I~式IIIで表される基よりなる群から選択された基を有する樹脂であることがより好ましい。本発明において、末端とは、樹脂の主鎖や側鎖において最も端に位置する炭素原子の位置を指す。例えば、末端のエチレン性不飽和基とは、末端に位置する炭素原子と当該炭素原子に隣接する炭素原子間の二重結合を指す。また、例えば、スターポリマー等においても、各デンドリマー鎖の末端が存在することは言うまでもない。成分Aは、直鎖状の樹脂であることが好ましい。また、成分Aが直鎖状の樹脂である場合は、主鎖の両末端に式I~式IIIで表される基よりなる群から選択された基を有する樹脂であることが特に好ましい。また、成分Aとしては、式I~式IIIで表される基の中でも、式I又は式IIで表される基を少なくとも有することが好ましく、式Iで表される基で表される基を少なくとも有することがより好ましい。<樹脂A1>樹脂A1は、式Iで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂であり、a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂とb1エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤とを反応させ得られた式Iで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂であることが好ましい。a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂としては、ポリカーボネートポリオール、末端にヒドロキシル基を有するポリウレタン樹脂、ポリブタジエンポリオール、カルビノール変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル、末端にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂、末端にヒドロキシル基を有するポリエステル樹脂が好ましく挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネートポリオール、末端にヒドロキシル基を有する直鎖状ポリウレタン樹脂、ポリブタジエンポリオールが好ましく、ポリカーボネートポリオール、ポリブタジエンジオールがより好ましい。-ポリカーボネートポリオール-a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂としては、ポリカーボネートポリオールを使用することができ、ポリカーボネートジオールが好ましい。ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、ポリオール成分とジアルキルカーボネート、アルキレンカーボネート、ジアリールカーボネート等のカーボネート化合物との反応によって得られるものを挙げることができる。ポリカーボネートポリオールを構成するポリオール成分としては、ポリカーボネートポリオールの製造において一般的に使用されているもの、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、2,2-ジエチル-1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、2-メチル-1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,5-ペンタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,7-ヘプタンジオール、1,8-オクタンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、2,7-ジメチル-1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、2-メチル-1,9-ノナンジオール、2,8-ジメチル-1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール等の炭素数2~15の脂肪族ジオール;1,4-シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、シクロオクタンジメタノール等の脂環式ジオール;1,4-ビスβ-ヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族ジオール;トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、グリセリン、1,2,6-ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセリン等の1分子当たりの水酸基数が3以上である多価アルコールなどが挙げられる。ポリカーボネートポリオールの製造に当たっては、これらのポリオール成分は、1種類のものを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらのうちでも、ポリカーボネートポリオールの製造に当たっては、2-メチル-1,4-ブタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、2,7-ジメチル-1,8-オクタンジオール、2-メチル-1,9-ノナンジオール、2,8-ジメチル-1,9-ノナンジオールなどのメチル基を側鎖として有する炭素数5~12の脂肪族ジオールをポリオール成分として使用することが好ましい。特にこれらのメチル基を側鎖として有する炭素数5~12の脂肪族ジオールをポリエステルポリオールの製造に用いる全ポリオール成分の30モル以上の割合で使用することが好ましく、全ポリオール成分の50モル以上の割合で使用することがより好ましい。また、ジアルキルカーボネートとしては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどを挙げることができ、アルキレンカーボネートとしては、例えば、エチレンカーボネートなどを挙げることができ、ジアリールカーボネートとしては、例えば、ジフェニルカーボネートなどを挙げることができる。上記したポリエステルポリカーボネートポリオールとしては、例えば、ポリオール成分、ポリカルボン酸成分及びカーボネート化合物を同時に反応させて得られたもの、あるいは予め合成したポリエステルポリオール及びポリカーボネートポリオールをカーボネート化合物と反応させて得られたもの、又は予め合成したポリエステルポリオール及びポリカーボネートポリオールをポリオール成分及びポリカルボン酸成分と反応させて得られたものなどを挙げることができる。ポリカーボネートポリオールは、下記式1で表されるポリカーボネートジオールであることが好ましい。式1中、R1は、各々独立して、炭素骨格中に酸素原子など窒素、硫黄、及び酸素からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含んでいてもよい、炭素数3~50の直鎖、分岐鎖、及び/又は環式の炭化水素基を表し、R1は単一成分であっても複数の成分からなってもよい。nは、1~500の整数であることが好ましい。R1において、炭化水素基は飽和又は不飽和の炭化水素基であるが、飽和炭化水素基であることが好ましい。R1において、炭素骨格とは、炭化水素基を構成する炭素数3~50の構造部分を意味し、炭素骨格中に酸素原子などを含んでいてもよいとは、主鎖又は側鎖の炭素-炭素結合間に酸素原子などが挿入された構造であることを意味する。また、主鎖又は側鎖の炭素原子に結合する酸素原子などを有する置換基であってもよい。R1としての直鎖の炭化水素基としては、例えば、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,7-ヘプタンジオール、1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール、1,12-ドデカンジオール、1,16-ヘキサデカンジオール、1,20-エイコサンジオールなどの炭素数3~50の直鎖脂肪族ジオールに由来する炭化水素基などが挙げられる。R1としての分岐鎖の炭化水素基としては、例えば、2-メチル-1,3-プロパンジオール、2-エチル-1,3-プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、2,2-ジエチル-1,3-プロパンジオール、2-メチル-2-プロピル-1,3-プロパンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、2,2-ジブチル-1,3-プロパンジオール、1,2-ブタンジオール、2-エチル-1,4-ブタンジオール、2-イソプロピル-1,4-ブタンジオール、2,3-ジメチル-1,4-ブタンジオール、2,3-ジエチル-1,4-ブタンジオール、3,3-ジメチル-1,2-ブタンジオール、ピナコール、1,2-ペンタンジオール、1,3-ペンタンジオール、2,3-ペンタンジオール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2-エチル-1,5-ペンタンジオール、3-エチル-1,5-ペンタンジオール、2-イソプロピル-1,5-ペンタンジオール、3-イソプロピル-1,5-ペンタンジオール、2,4-ジメチル-1,5-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、2,3-ジメチル-1,5-ペンタンジオール、2,2,3-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、1,2-ヘキサンジオール、1,3-ヘキサンジオール、1,4-ヘキサンジオール、2,5-ヘキサンジオール、2-エチル-1,6-ヘキサンジオール、2-エチル-1,3-へキサンジオール、2-イソプロピル-1,6-ヘキサンジオール、2,4-ジエチル-1,6-ヘキサンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、2-エチル-1,8-オクタンジオール、2,6-ジメチル-1,8-オクタンジオール、1,2-デカンジオール、8,13-ジメチル-1,20-エイコサンジオールなどの炭素数3~30の分岐鎖脂肪族ジオールに由来する炭化水素基などが挙げられる。R1としての環式の炭化水素基としては、例えば、1,2-シクロヘキサンジオール、1,3-シクロヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジオール、1,2-シクロヘキサンジメタノール、1,3-シクロヘキサンジメタノール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、m-キシレン-α,α’-ジオール、p-キシレン-α,α’-ジオール、2,2-ビス4-ヒドロキシシクロヘキシル-プロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニル-プロパン、ダイマージオールなどの炭素数3~30の環式の脂肪族ジオールに由来する炭化水素基などが挙げられる。炭素数3~50の直鎖脂肪族ジオールに由来する炭化水素基を例示として説明すると、本発明において、炭素数3~50の直鎖脂肪族ジオールに由来する炭化水素基とは、炭素数3~50の直鎖脂肪族ジオールのジオール水酸基以外の部分構造である基を意味する。R1としての窒素、硫黄、及び酸素からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭化水素基としては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、グリセリン、1,2,6-ヘキサントリオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジヒドロキシアセトン、1,4:3,6-ジアンヒドログルシトール、ジエタノールアミン、N-メチルジエタノールアミン、ジヒドロキシエチルアセトアミド、2,2’-ジチオジエタノール、2,5-ジヒドロキシ-1,4-ジチアンなどに由来する炭化水素基などが挙げられ、また、下記式2で表される基などが挙げられる。ポリカーボネートジオールは、例えば、特公平5-29648号公報に記載されるように従来公知の方法により製造することができるが、具体的には、ジオールと炭酸エステルとのエステル交換反応により製造することができる。前記式2において、耐溶剤性の観点から、R1がエーテル結合を少なくとも一つ含んでいることが好ましく、耐溶剤性及び耐久性の観点から、R1がジエチレングリコールに由来する基-CH22-O-CH22-で表される基であることがより好ましい。本実施形態において、ポリカーボネートポリオールは、目的に応じて1種又は2種以上を併用して用いることができるが、1種のポリカーボネートポリオールを用いることが好適である。これらのポリカーボネートポリオールの数平均分子量は、1,000~200,000の範囲内であることが好ましく、1,500~10,000の範囲内であることがより好ましく、2,000~8,000の範囲内であることが更に好ましい。-末端に水酸基を有するポリウレタン樹脂-a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂としては、末端にヒドロキシル基を有するポリウレタン樹脂を使用することができ、主鎖末端にヒドロキシル基を有するポリウレタン樹脂であることが好ましく、主鎖末端にヒドロキシル基を有する直鎖状ポリウレタン樹脂であることがより好ましい。末端にヒドロキシル基を有するポリウレタン樹脂は、ポリイソシアネートの少なくとも1種と、多価アルコール成分の少なくとも1種とを反応させることによって形成されることが好ましい。前記多価アルコール成分は、ポリカーボネートポリオールを含むことが好ましく、ポリカーボネートジオールを含むことがより好ましく、式4で表される構成繰り返し単位を有するポリカーボネートジオールを含むことが更に好ましい。前記式4の構成繰り返し単位においては、直鎖及び/又は分岐した分子鎖を含んでも構わない。前記ポリカーボネートジオールは、対応するジオールより、公知の方法例えば、特公平5-29648号公報により製造することが可能である。末端にヒドロキシル基を有するポリウレタン樹脂は、分子内にカーボネート結合、又は、エステル結合から選ばれる少なくとも1種の結合を有していることが好ましい。成分Aが前記結合を有する場合、印刷で用いられるエステル系溶剤を含有するインキ洗浄剤や炭化水素系溶剤を含有するインキ洗浄剤に対する印刷版の耐性が向上する傾向にあるため好ましい。末端にヒドロキシル基を有するポリウレタン樹脂を製造する方法は特に限定されず、例えば、カーボネート結合、エステル結合を有し、かつ、水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、ケトン基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、環状カーボネート基、アルコキシカルボニル基等の反応性基を複数有する数千程度の分子量の化合物と、上記反応性基と結合し得る官能基を複数有する化合物例えば、水酸基やアミノ基等を有するポリイソシアネート等とを反応させ、分子量の調節及び分子末端の結合性基への変換等を行う方法等を用いることができる。末端にヒドロキシル基を有するポリウレタン樹脂の製造に用いられるカーボネート結合を有するジオール化合物としては、例えば、4,6-ポリアルキレンカーボネートジオール、8,9-ポリアルキレンカーボネートジオール、5,6-ポリアルキレンカーボネートジオール等の脂肪族ポリカーボネートジオール等を挙げることができる。また、芳香族系分子構造を分子内に有する脂肪族ポリカーボネートジオールを用いてもよい。これら化合物の末端のヒドロキシル基に、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、p-フェニレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物、トリフェニルメタントリイソシアネート、1-メチルベンゼン-2,4,6-トリイソシアネート、ナフタリン-1,3,7-トリイソシアネート、ビフェニル-2,4,4’-トリイソシアネート等のトリイソシアネート化合物を縮合反応させることにより、ウレタン結合を導入することができる。-ポリブタジエンポリオール-a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂としては、ポリブタジエンポリオールを用いることができる。ポリブタジエンポリオールとしては、エチレン性不飽和基を有しているポリブタジエンポリオールだけでなく、水添ポリブタジエンポリオールであってもよい。また、これらの変性体であってもよい。また、ポリブタジエンポリオールとしては、ポリブタジエンジオールであることが好ましい。ポリブタジエンポリオールは、1,2-結合単位及び1,4-結合単位の両方を有するものであっても、いずれかを有するものであってもよい。また、ポリブタジエンポリオールは、ブタジエン由来の構成単位以外の構成単位を有していてもよいが、ブタジエン由来の構成単位からなるポリマー鎖の両末端にヒドロキシル基を有するポリブタジエンジオールであることが特に好ましい。ポリブタジエンポリオールの数平均分子量は、1,000~200,000の範囲内であることが好ましく、1,000~10,000の範囲内であることがより好ましく、1,000~8,000の範囲内であることが更に好ましい。-カルビノール変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル-a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂としては、カルビノール変性シリコーンオイルやフェノール変性シリコーンオイルを使用することができる。主鎖を形成するシリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ジメチルシロキサンメチルフェニルシロキサン共重合体等の低粘度から高粘度のオルガノポリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、テトラメチルテトラハイドロジェンシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラフェニルシクロテトラシロキサン等の環状シロキサン、高重合度のガム状ジメチルポリシロキサン、ガム状のジメチルシロキサンメチルフェニルシロキサン共重合体等のシリコーンゴム、及び、シリコーンゴムの環状シロキサン溶液、トリメチルシロキシケイ酸、トリメチルシロキシケイ酸の環状シロキサン溶液、ステアロキシリコーン等の高級アルコキシ変性シリコーン、高級脂肪酸変性シリコーンなどが挙げられる。中でも、カルビノール変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン鎖を有する樹脂であることが好ましい。カルビノール変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイルは、上記のシロキサン結合を有する化合物を変性することによって好適に得ることができる。例として、カルビノール変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル、シラノール変性シリコーンオイル、ジオール変性シリコーンオイルが挙げられる。これら2つ以上のヒドロキシル基を有するシリコーンオイルを用いることができる。カルビノール変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイルとしては、両末端カルビノール変性シリコーンオイル、両末端フェノール変性シリコーンオイルが好ましく挙げられる。また、片末端変性シリコーンオイルや側鎖変性シリコーンオイルも使用することができる。中でも反応性、臭いや刺激性などの取り扱い性の観点から両末端カルビノール変性シリコーンオイルが好ましい。カルビノール変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイルとしては、上市されている製品を採用することもでき、両末端カルビノール変性シリコーンオイルとしては、X-22-160AS、KF-6003以上、信越化学工業株製、BY16-004東レダウコーニング株製が例示できる。-末端にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂-a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂としては、末端にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂を使用することができる。末端にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂の合成に用いられるアクリル単量体としては、例えば、メタアクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類メタアクリルアミド類であって、分子内にヒドロキシル基を有するものが好ましい。このような単量体の具体例としては例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート等が挙げられる。末端にヒドロキシル基を有する樹脂は、ヒドロキシル基を有するアクリル単量体の単独重合体であっても、共重合体であってもよいが、ヒドロキシル基を有するアクリル単量体とヒドロキシル基を有するアクリル単量体以外のアクリル単量体との共重合体であることが好ましい。ヒドロキシル基を有するアクリル単量体と共重合可能な、ヒドロキシル基を有するアクリル単量体以外のアクリル単量体としては、メタアクリル酸エステル類としては、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、アセトキシエチルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、2-2-メトキシエトキシエチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルメタアクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルメタアクリレート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、エチレングリコールとプロピレングリコールとの共重合体のモノメチルエーテルメタアクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルメタアクリレート、N,N-ジエチルアミノエチルメタアクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピルメタアクリレート等が挙げられる。更に、ウレタン基やウレア基を有するアクリル単量体を含んで構成される変性アクリル樹脂も好ましく使用することができる。これらの中でも、インキ転移性の観点で、ラウリルメタアクリレートや2-エチルヘキシルメタアクリレートなどのアルキルメタアクリレート類、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレートなどのエーテル結合を側鎖に有するメタアクリレート類、t-ブチルシクロヘキシルメタクリレートなど脂肪族環状構造を有するメタアクリレート類が特に好ましい。-末端にヒドロキシル基を有するポリエステル樹脂-a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂としては、末端にヒドロキシル基を有するポリエステル樹脂を使用することができる。なお、末端にヒドロキシル基を有するポリエステル樹脂は、主鎖末端にヒドロキシル基を有するポリエステル樹脂であることが好ましい。末端にヒドロキシル基を有するポリエステル樹脂は、多塩基酸成分の少なくとも1種と多価アルコール成分の少なくとも1種とから、エステル化反応又はエステル交換反応によって形成される樹脂である。前記多塩基酸成分の具体例としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、コハク酸、フマル酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸などの二塩基酸、トリメリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸、ピロメリット酸などの3価以上の多塩基酸、及びこれらの酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸などが挙げられる。前記多塩基酸成分としては、上述の二塩基酸から選ばれる1種以上の二塩基酸、これらの酸の低級アルキルエステル化合物、及び酸無水物が主として用いられる。また必要に応じて、安息香酸、クロトン酸、p-t-ブチル安息香酸などの一塩基酸や、無水トリメリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸、無水ピロメリット酸などの3価以上の多塩基酸などを更に併用することができる。本発明における多塩基酸成分としては、インキ転移性の観点から、少なくともアジピン酸を含むことが好ましい。前記多価アルコール成分の具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,5-ペンタンジオール、3-メチルペンタンジオール、1,4-ヘキサンジオール、1,6-ヘキサンジオールなどの2価アルコールや、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどの3価以上の多価アルコールが挙げられる。前記多価アルコール成分としては、上述の2価アルコールが主に用いられ、必要に応じて、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどの3価以上の多価アルコールを更に併用することができる。これらの多価アルコールは単独で、あるいは2種以上を混合して使用することができる。本発明における多価アルコール成分としては、保存安定性の観点から、少なくとも3-メチルペンタンジオールを含むことが好ましい。多塩基酸成分及び多価アルコール成分のエステル化反応又はエステル交換反応は、通常用いられる方法を特に制限なく用いて行うことができる。b1エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤b1エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤は、エチレン性又はアセチレン性不飽和基と反応可能なシリル基を有し、かつa1末端にヒドロキシル基を有する樹脂と反応し成分Aを形成することができること以外には特に制限はない。なお、本発明においては、Si原子に、アルコキシ基、ヒドロキシル基又はハロゲン原子が少なくとも1つ直接結合した官能基をシランカップリング基と呼び、このシランカップリング基を分子中に1つ以上有している化合物をシランカップリング剤と称する。前記シランカップリング剤が有するエチレン性又はアセチレン性不飽和基としては、前述した成分Aにおけるエチレン性又はアセチレン性不飽和基と同義であり、好ましい態様も同様である。前記シランカップリング剤が有するエチレン性又はアセチレン性不飽和基の数は、特に制限はないが、1~3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。前記シランカップリング剤が有するシリル基としては、下記式5で表されるシリル基であることが好ましい。-SiR1R2R35式中、R1~R3はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は、ハロゲン原子を表す。ただし、R1~R3のうち少なくとも1つは、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は、ハロゲン原子である。これらの中でも、前記シランカップリング剤が有するシリル基としては、モノアルコキシジアルキルシリル基、ジアルコキシモノアルキルシリル基、又は、トリアルコキシシリル基が好ましく挙げられ、モノアルコキシジアルキルシリル基、又は、ジアルコキシモノアルキルシリル基がより好ましく挙げられ、モノアルコキシジアルキルシリル基が特に好ましく挙げられる。上記態様であると、保存安定性、及び、得られる印刷版の耐刷性により優れる。前記アルキル基、及び、前記アルコキシ基の炭素数としてはそれぞれ独立に、リンス性と耐刷性の観点から、炭素数1~30であることが好ましく、炭素数1~8であることがより好ましく、炭素数1~4であることが更に好ましく、炭素数1、すなわち、メチル基、メトキシ基であることが特に好ましい。また、樹脂A1は、下記式Iで表される基を有することが好ましい。式I中、Xは炭素数1~30のアルキレン基を表し、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2及びR3はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。式IにおけるXとしては、炭素数2~20の直鎖アルキレン基であることが好ましく、炭素数3~10の直鎖アルキレン基であることが更に好ましく、1,3-プロピレン基であることが特に好ましい。式IにおけるR1としては、メチル基であることが好ましい。式IにおけるR2及びR3はそれぞれ独立に、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。また、R2及びR3が共にアルキル基であることが更に好ましい。また、R2及びR3におけるアルキル基又はアルコキシ基の炭素数は、1~8であることが好ましく、1~4であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。b1エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤としては、式Iで表される化合物であることが好ましい。式中、Xは炭素数1~30のアルキレン基を表し、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2及びR3はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、R’はアルコキシ基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表す。式IにおけるX及びR1~R3は、式IにおけるX及びR1~R3とそれぞれ同義であり、好ましい態様もそれぞれ同様である。式IにおけるR’は、保存安定性、及び、得られる印刷版の耐刷性の観点から、アルコキシ基であることが好ましく、炭素数1~8のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数1~4のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。樹脂A1の製造において、a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂、及び、b1エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤はそれぞれ、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂とb1エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤との使用比は、特に制限はないが、末端にヒドロキシル基が十分に反応する量のb1エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤を使用することが好ましく、a1末端にヒドロキシル基を有する樹脂のヒドロキシル基1モルに対し、b1エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤のシリル基が1~1.5モルであることがより好ましい。<樹脂A2>樹脂A2は、式IIで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂であり、a2末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する樹脂とb2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物とを反応させ得られた式IIで表される基を有し、20°Cでプラストマーである樹脂であることが好ましい。a2末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する樹脂a2末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する樹脂としては、末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、アクリル樹脂、及び、ポリエステル樹脂が好ましく挙げられる。これらの中でも、末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する、シリコーン樹脂、及び、ポリブタジエン樹脂がより好ましく、末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有するポリブタジエン樹脂が更に好ましい。シリコーン樹脂の製造方法としては、特に制限はなく、公知の方法により製造することができる。また、シリコーン樹脂以外の末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する樹脂の製造方法としては、特に制限はないが、例えば、前述した末端にヒドロキシル基を有する樹脂に、末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有するイソシアネート化合物を反応させることにより、好適に製造することができる。末端にヒドロキシル基を有する樹脂としては、前述したものを好適に用いることができる。末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有するイソシアネート化合物としては、例えば、アルコキシシリル基及び/又はシラノール基とイソシアナト基とをアルキレン基で連結した化合物、例えば、KBE-9007信越化学工業株製などが好ましく例示できる。b2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物b2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物は、エチレン性又はアセチレン性不飽和基とヒドロキシル基とを有し、かつa2末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する樹脂と反応し成分Aを形成できること以外には特に制限はない。b2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物が有するエチレン性又はアセチレン性不飽和基としては、前述した成分Aにおけるエチレン性又はアセチレン性不飽和基と同義であり、好ましい態様も同様である。b2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物が有するエチレン性又はアセチレン性不飽和基の数は、特に制限はないが、1~3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。また、b2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物が有するヒドロキシ基の数は、特に制限はないが、1~3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。b2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物としては、エチレン性又はアセチレン性不飽和基とヒドロキシル基とをアルキレン基で連結した化合物であることが好ましく、1つのエチレン性又はアセチレン性不飽和基と1つのヒドロキシル基とをアルキレン基で連結した化合物であることがより好ましい。上記アルキレン基は、直鎖状であっても、分岐状であっても、環構造を有していてもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。また、上記アルキレン基の炭素数は、1~30であることが好ましく、2~20であることがより好ましく、2~10であることが更に好ましい。また、樹脂A2は、下記式IIで表される基を有することが好ましい。式II中、Yは炭素数1~30のアルキレン基を表し、R4は水素原子又はメチル基を表し、R5及びR6はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。式IIにおけるYとしては、炭素数2~30のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2~20の直鎖アルキレン基アルキレン基であることがより好ましく、炭素数2~10の直鎖アルキレン基であることが更に好ましく、炭素数2~4のアルキレン基であることが特に好ましい。式IIにおけるR4としては、メチル基であることが好ましい。式IIにおけるR5及びR6はそれぞれ独立に、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。また、R5及びR6が共にアルキル基であることが更に好ましい。また、R5及びR6におけるアルキル基又はアルコキシ基の炭素数は、1~8であることが好ましく、1~4であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。b2エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤としては、式IIで表される化合物であることが好ましい。式中、Yは炭素数1~30のアルキレン基を表し、R4は水素原子又はメチル基を表す。式IIにおけるY及びR4は、式IIにおけるY及びR4とそれぞれ同義であり、好ましい態様もそれぞれ同様である。樹脂A2の製造において、a2末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する樹脂、及び、b2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物はそれぞれ、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。a2末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する樹脂とb2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物との使用比は、特に制限はないが、末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基が十分に反応する量のb2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物を使用することが好ましく、a2末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する樹脂のアルコキシシリル基及びシラノール基1モルに対し、b2ヒドロキシル基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和化合物のヒドロキシル基が1~4.5モルであることがより好ましい。<樹脂A3>樹脂A3は、式IIIで表される基を有する、20°Cでプラストマーである樹脂であり、a2末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する樹脂とb1エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤とを反応させ得られたエチレン性又はアセチレン性不飽和基を有し、20°Cでプラストマーである樹脂であることが好ましい。a2末端にアルコキシシリル基及び/又はシラノール基を有する樹脂は、樹脂A2において前述したものと同義であり、好ましい態様も同様である。また、b1エチレン性又はアセチレン性不飽和基を有するシランカップリング剤は、樹脂A1において前述したものと同義であり、好ましい態様も同様である。また、樹脂A3は、下記式IIIで表される基を有することが好ましい。式III中、Zは炭素数1~30のアルキレン基を表し、R7は水素原子又はメチル基を表し、R8~R11はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。式IIIにおけるZとしては、炭素数1~30のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2~20の直鎖アルキレン基であることがより好ましく、炭素数3~10の直鎖アルキレン基であることが更に好ましく、1,3-プロピレン基であることが特に好ましい。式IIIにおけるR7としては、メチル基であることが好ましい。式IIIにおけるR8~R11はそれぞれ独立に、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。また、R8~R11がいずれもアルキル基であることが更に好ましい。また、R8~R11におけるアルキル基又はアルコキシ基の炭素数は、1~8であることが好ましく、1~4であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。これらの中でも、成分Aとしては、インキ転移性の観点からは、主鎖がシリコーン鎖でないことが好ましく、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、又は、ポリカーボネート樹脂であることがより好ましく、ポリブタジエン樹脂、又は、ポリカーボネート樹脂であることが更に好ましく、ポリブタジエン樹脂であることが特に好ましい。また、安定性、インキ転移性及び耐刷性の観点からは、樹脂A1、又は、樹脂A2であることが好ましく、樹脂A1であることがより好ましい。本発明の樹脂組成物における成分Aは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。成分Aの樹脂組成物中の含有量は、全固形分に対して、5~90重量であることが好ましく、15~85重量であることがより好ましく、30~80重量であることが更に好ましい。成分Aの含有量が上記範囲内であると、彫刻カスのリンス性に優れ、柔軟なレリーフ層が得られるので好ましい。本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、成分A以外のバインダーポリマー樹脂成分を含有してもよい。成分A以外のバインダーポリマーとしては、特開2011-136455号公報に記載されている非エラストマーや、特開2010-208326号公報に記載されている不飽和基含有ポリマー等が例示される。本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、成分Aをバインダーポリマーの主成分として含有することが好ましく、他のバインダーポリマーを含有する場合、成分Aのバインダーポリマー全体に対する含有量は、60重量以上であることが好ましく、70重量以上であることがより好ましく、80重量以上であることが更に好ましい。なお、上限は特に限定されないが、他のバインダーポリマーを含有する場合、99重量以下であることが好ましく、97重量以下であることがより好ましく、95重量以下であることが更に好ましい。成分Bエチレン性不飽和化合物本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層は、成分Bエチレン性不飽和化合物以下、単にモノマーともいう。を含有する。また、本発明に用いることができるエチレン性不飽和化合物は、分子量又は重量平均分子量が5,000未満であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物とは、エチレン性不飽和基を少なくとも1個以上有する化合物である。エチレン性不飽和化合物は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、エチレン性不飽和化合物に属する化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの共重合体、並びにそれらの混合物などの化学的形態をもつ。成分Bとしては、2官能以上のエチレン性不飽和化合物多官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。以下、エチレン性不飽和結合を分子内に1つ有する単官能モノマー、及び、エチレン性不飽和結合を分子内に2個以上有する多官能モノマーについて説明する。前記レリーフ形成層は、膜中に架橋構造を付与するために、多官能モノマーが好ましく使用される。これらの多官能モノマーの分子量は、200~2,000であることが好ましい。単官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等と一価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と一価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。また、多官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。更に、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、さらにハロゲノ基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適に使用できる。中でも、単官能モノマーとしては、エチレン性不飽和基を有するオリゴマーが好ましく挙げられ、メトキシポリエチレングリコールメタクリレートが特に好ましく挙げられる。多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和基を2個~20個有する化合物が好ましい。多官能モノマーにおけるエチレン不飽和基が由来する化合物の例としては、不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などや、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基や、エポキシ基、等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、ビニル化合物、アリル化合物、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。上記の多官能モノマーに含まれるエチレン性不飽和基は、反応性の観点でアクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、アリル化合物の各残基が好ましく、アクリレート、メタクリレートが特に好ましい。脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリロイルオキシプロピルエーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4-シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等が挙げられる。メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3-ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビスp-3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシフェニルジメチルメタン、ビスp-メタクリルオキシエトキシフェニルジメチルメタン等が挙げられる。中でも、トリメチロールプロパントリメタクリレートが特に好ましい。その他のエステルの例として、例えば、特公昭46-27926号、特公昭51-47334号、特開昭57-196231号各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59-5240号、特開昭59-5241号、特開平2-226149号各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1-165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。上記エステルモノマーは混合物としても使用することができる。また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-アクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54-21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式iで示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。CH2=CRCOOCH2CHR’OHiただし、R及びR’は、それぞれ、H又はCH3を示す。また、特開昭51-37193号、特公平2-32293号、特公平2-16765号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号、特公昭56-17654号、特公昭62-39417号、特公昭62-39418号各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63-277653号、特開昭63-260909号、特開平1-105238号各公報に記載される、分子内にアミノ構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、短時間で硬化組成物を得ることができる。その他の例としては、特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とメタアクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46-43946号、特公平1-40337号、特公平1-40336号各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2-25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61-22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに、日本接着協会誌vol.20、No.7、300~308ページ1984年に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。これらの中でも、成分Bがポリアルキレングリコールジメタアクリレートを含むことが好ましく、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート及び/又はポリエチレングリコールポリプロピレングリコールジメタアクリレートを含むことがより好ましく、ポリエチレングリコールジメタアクリレートを含むことが特に好ましい。本発明の樹脂組成物中における成分Bの含有量は、1~90重量が好ましく、10~80重量がより好ましく、20~75重量が更に好ましく、30~70重量が特に好ましい。上記範囲であると、レーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層は耐刷性に優れる。成分C重合開始剤本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、成分C重合開始剤を含有する。重合開始剤は、当業者間で公知のものを制限なく使用することができる。以下、好ましい重合開始剤であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。成分C重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましい。また、重合開始剤としては、光重合開始剤であっても、熱重合開始剤であってもよいが、熱重合開始剤であることが好ましい。本発明において、好ましい重合開始剤としては、a芳香族ケトン類、bオニウム塩化合物、c有機過酸化物、dチオ化合物、eヘキサアリールビイミダゾール化合物、fケトオキシムエステル化合物、gボレート化合物、hアジニウム化合物、iメタロセン化合物、j活性エステル化合物、k炭素ハロゲン結合を有する化合物、lアゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記a~lの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明においては、彫刻感度と、フレキソ印刷版原版のレリーフ形成層に適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、c有機過酸化物及びlアゾ系化合物がより好ましく、c有機過酸化物が特に好ましい。前記a芳香族ケトン類、bオニウム塩化合物、dチオ化合物、eヘキサアリールビイミダゾール化合物、fケトオキシムエステル化合物、gボレート化合物、hアジニウム化合物、iメタロセン化合物、j活性エステル化合物、及びk炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、特開2008-63554号公報の段落0074~0118に挙げられている化合物を好ましく用いることができる。また、c有機過酸化物及びlアゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。c有機過酸化物本発明に用いることができる重合開始剤として好ましいc有機過酸化物としては、3,3’,4,4’-テトラターシャリーブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラターシャリーアミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラターシャリーヘキシルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラターシャリーオクチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラクミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラp-イソプロピルクミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、ジ-ターシャリーブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。lアゾ系化合物本発明に用いることができる重合開始剤として好ましいlアゾ系化合物としては、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビスプロピオニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリル、2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、4,4’-アゾビス4-シアノ吉草酸、2,2’-アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’-アゾビス2-メチルプロピオンアミドオキシム、2,2’-アゾビス[2-2-イミダゾリン-2-イルプロパン]、2,2’-アゾビス{2-メチル-N-[1,1-ビスヒドロキシメチル-2-ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’-アゾビス[2-メチル-N-2-ヒドロキシエチルプロピオンアミド]、2,2’-アゾビスN-ブチル-2-メチルプロピオンアミド、2,2’-アゾビスN-シクロヘキシル-2-メチルプロピオンアミド、2,2’-アゾビス[N-2-プロペニル-2-メチルプロピオンアミド]、2,2’-アゾビス2,4,4-トリメチルペンタン等を挙げることができる。なお、本発明においては、前記c有機過酸化物が本発明における重合開始剤として、膜レリーフ形成層の架橋性及び彫刻感度向上の観点で特に好ましい。彫刻感度の観点からは、このc有機過酸化物と、成分B及び後述する光熱変換剤とを組み合わせた態様が特に好ましい。これは、有機過酸化物を用いてレリーフ形成層を熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物は、自己反応性の添加剤として働き、レーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなったと推定される。なお、光熱変換剤の説明において詳述するが、この効果は、光熱変換剤としてカーボンブラックを用いる場合に著しい。これは、カーボンブラックから発生した熱がc有機過酸化物にも伝達される結果、カーボンブラックだけでなく有機過酸化物からも発熱するため、成分A等の分解に使用されるべき熱エネルギーの発生が相乗的に生じるためと考えている。本発明の樹脂組成物における成分Cは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。本発明の樹脂組成物中に含まれる成分Cの含有量は、全固形分量に対して、0.1~5重量が好ましく、0.3~3重量がより好ましく、0.5~1.5重量が特に好ましい。成分D光熱変換剤本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、更に、光熱変換剤を含有することが好ましい。すなわち、本発明における光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することで、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。このため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を用いて製造したレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を、700~1,300nmの赤外線を発するレーザーYAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等を光源としてレーザー彫刻に用いる場合に、光熱変換剤としては、700~1,300nmに極大吸収波長を有する化合物を用いることが好ましい。本発明における光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば染料便覧有機合成化学協会編集、昭和45年刊等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、700~1,300nmに極大吸収波長を有するものが挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が好ましく挙げられる。本発明において好ましく用いられる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素及び特開2008-63554号公報の段落0124~0137に記載の染料を挙げることができる。本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックスC.I.便覧、最新顔料便覧日本顔料技術協会編、1977年刊、最新顔料応用技術CMC出版、1986年刊、印刷インキ技術CMC出版、1984年刊に記載されている顔料が利用できる。また、顔料としては、特開2009-178869号公報の段落0122~0125に記載の顔料が例示できる。これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。カーボンブラックは、組成物中における分散性などが安定である限り、ASTMによる分類のほか、用途例えば、カラー用、ゴム用、乾電池用などの如何に拘らずいずれも使用可能である。カーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどが含まれる。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。また、カーボンブラックとしては、特開2009-178869号公報の段落0130~0134に記載されたものが例示できる。本発明の樹脂組成物における成分Dは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。レーザー彫刻用樹脂組成物中おける光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、前記樹脂組成物の固形分全重量の0.01~30重量の範囲が好ましく、0.05~20重量がより好ましく、0.1~10重量が特に好ましい。成分E可塑剤本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、可塑剤を含有してもよい。なお、本発明において、成分Aを含有することにより、得られるレリーフ層は柔軟性に優れるため、可塑剤を添加しなくてもよい。可塑剤は、レーザー彫刻用樹脂組成物により形成された膜を柔軟化する作用を有するものであり、バインダーポリマーに対して相溶性のよいものである必要がある。可塑剤としては、例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、アジピン酸ビスブトキシエチル等や、ポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコールモノオール型やジオール型、ポリプロピレングリコールモノオール型やジオール型等が好ましく用いられる。これらの中でも、アジピン酸ビスブトキシエチルが特に好ましい。本発明の樹脂組成物における成分Eは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。柔軟な膜物性を保つ観点から、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物中に可塑剤の含有量は、全固形分濃度の50重量以下が好ましく、30重量以下がより好ましく、10重量以下が更に好ましく、添加しないことが特に好ましい。成分F溶媒本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製する際に、成分F溶媒を用いることが好ましい。溶媒としては、有機溶媒を用いることが好ましい。非プロトン性有機溶媒の好ましい具体例は、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドが挙げられる。プロトン性有機溶媒の好ましい具体例は、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、1-メトキシ-2-プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3-プロパンジオールが挙げられる。これらの中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましく例示できる。溶媒の添加量としては、特に制限はなく、レリーフ形成層の作製等に必要な量を添加すればよい。なお、樹脂組成物の固形分量とは、樹脂組成物中の溶媒を除いた量である。<その他の添加剤>本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物には、公知の各種添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜配合することができる。例えば、充填剤、ワックス、香料、紫外線吸収剤、滑剤、潤滑剤、プロセス油、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、重合禁止剤、着色剤等が挙げられ、これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。充填剤としては、無機粒子が挙げられる。無機粒子は、数平均粒子径が0.01μm以上10μm以下であることが好ましい。また、無機粒子は、多孔質粒子、又は、無孔質粒子であることが好ましい。前記多孔質粒子とは、粒子中に細孔容積が0.1ml/g以上の微小細孔を有する粒子、あるいは微小な空隙を有する粒子と定義する。前記多孔質粒子は、比表面積が10m2/g以上1,500m2/g以下、平均細孔径が1nm以上1,000nm以下、細孔容積が0.1ml/g以上10ml/g以下、吸油量が10ml/100g以上2,000ml/100g以下であることが好ましい。比表面積は-196°Cにおける窒素の吸着等温線からBET式に基づいて求められる。また、細孔容積及び平均細孔径の測定には、窒素吸着法を用いることが好ましい。吸油量の測定は、JIS-K5101により好適に行うことができる。多孔質粒子の数平均粒子径は、0.01μm以上10μm以下であることが好ましく、0.5μm以上8μm以下であることがより好ましく、1μm以上5μm以下であることが更に好ましい。多孔質粒子の形状は、特に限定するものではなく、球状、扁平状、針状、無定形、あるいは表面に突起のある粒子などを使用することができる。また、粒子の内部が空洞になっている粒子やシリカスポンジ等の均一な細孔径を有する球状顆粒体などを使用することも可能である。特に限定するものではないが、例えば、多孔質シリカ、メソポーラスシリカ、シリカ-ジルコニア多孔質ゲル、ポーラスアルミナ、多孔質ガラス等を挙げることができる。また、層状粘土化合物のように、層間に数nmから数百nmの空隙が存在するものについては、細孔径を定義できないため、本実施形態においては層間に存在する空隙の間隔を細孔径と定義する。更に多孔質粒子の表面をシランカップリンング剤、チタンカップリング剤、その他の有機化合物で被覆し表面改質処理を行い、より親水性化あるいは疎水性化した粒子を用いることもできる。これらの多孔質粒子は、1種又は2種以上のものを選択できる。前記無孔質粒子とは、細孔容積が0.1ml/g未満の粒子と定義する。無孔質粒子の数平均粒子径は、1次粒子を対象とする数平均粒子径であり、10nm以上500nm以下が好ましく、10nm以上100nm以下がより好ましい。充填剤の添加量は特に制限されないが、成分A100重量部に対して、1~100質量部が好ましい。レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の第1の実施態様は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有する。また、本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の第2の実施態様は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を架橋した架橋レリーフ形成層を有する。本発明においてレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版とは、レーザー彫刻用樹脂組成物からなる架橋性を有するレリーフ形成層が、架橋される前の状態、並びに、光及び/若しくは熱により硬化された状態の両方又はいずれか一方のものをいう。本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、熱架橋した架橋レリーフ形成層を有するものであることが好ましい。本発明においてレリーフ形成層とは、架橋される前の状態の層をいい、すなわち、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、必要に応じ、乾燥が行われていてもよい。本発明において架橋レリーフ形成層とは、前記レリーフ形成層を架橋した層をいう。前記架橋は、光及び/又は熱により行われることが好ましい。また、前記架橋は樹脂組成物が硬化される反応であれば特に限定されず、成分A同士の反応による架橋構造を含む概念であるが、成分Aが他の成分と反応して架橋構造を形成していてもよい。また、重合性化合物を用いる場合には、前記架橋には、重合性化合物の重合による架橋も含まれる。架橋レリーフ形成層を有する印刷版原版をレーザー彫刻することによりフレキソ印刷版が作製される。また、本発明においてレリーフ層とは、フレキソ印刷版におけるレーザーにより彫刻された層、すなわち、レーザー彫刻後の前記架橋レリーフ形成層をいう。本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、前記のような成分を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有する。架橋レリーフ形成層は、支持体上に設けられることが好ましい。レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、必要により更に、支持体と架橋レリーフ形成層との間に接着層を、また、架橋レリーフ形成層上にスリップコート層、保護フィルムを有していてもよい。<レリーフ形成層>レリーフ形成層は、前記本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、架橋性の層である。レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版によるフレキソ印刷版の作製態様としては、レリーフ形成層を架橋させて架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版とした後、架橋レリーフ形成層硬質のレリーフ形成層をレーザー彫刻することによりレリーフ層を形成してフレキソ印刷版を作製する態様であることが好ましい。レリーフ形成層を架橋することにより、印刷時におけるレリーフ層の摩耗を防ぐことができ、また、レーザー彫刻後にシャープな形状のレリーフ層を有するフレキソ印刷版を得ることができる。レリーフ形成層は、レリーフ形成層用の前記の如き成分を有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、シート状又はスリーブ状に成形することで形成することができる。レリーフ形成層は、通常、後述する支持体上に設けられるが、製版、印刷用の装置に備えられたシリンダーなどの部材表面に直接形成したり、そこに配置して固定化したりすることもでき、必ずしも支持体を必要としない。以下、主としてレリーフ形成層をシート状にした場合を例に挙げて説明する。<支持体>レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル例えばPETポリエチレンテレフタレート、PBTポリブチレンテレフタレート、PANポリアクリロニトリルやポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン-ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂エポキシ樹脂やフェノール樹脂などが挙げられる。支持体としては、PETフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。支持体の形態は、レリーフ形成層がシート状であるかスリーブ状であるかによって決定される。<接着層>レリーフ形成層を支持体上に形成する場合、両者の間には、層間の接着力を強化する目的で接着層を設けてもよい。接着層に用いることができる材料接着剤としては、例えば、I.Skeist編、HandbookofAdhesives、第2版1977に記載のものを用いることができる。<保護フィルム、スリップコート層>レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面への傷や凹み防止の目的で、レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面に保護フィルムを設けてもよい。保護フィルムの厚さは、25~500μmが好ましく、50~200μmがより好ましい。保護フィルムは、例えば、PETのようなポリエステル系フィルム、PEポリエチレンやPPポリプロピレンのようなポリオレフィン系フィルムを用いることができる。またフィルムの表面はマット化されていてもよい。保護フィルムは、剥離可能であることが好ましい。保護フィルムが剥離不可能な場合や、逆にレリーフ形成層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロシキアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版におけるレリーフ形成層の形成は、特に限定されるものではないが、例えば、レーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用塗布液組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法が挙げられる。あるいは、レーザー彫刻用樹脂組成物を、支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して樹脂組成物から溶媒を除去する方法でもよい。中でも、本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程、を含む製造方法であることが好ましく、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、前記レリーフ形成層を熱架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程、を含む製造方法であることがより好ましい。その後、必要に応じてレリーフ形成層の上に保護フィルムをラミネートしてもよい。ラミネートは、加熱したカレンダーロールなどで保護フィルムとレリーフ形成層を圧着することや、表面に少量の溶媒を含浸させたレリーフ形成層に保護フィルムを密着させることによって行うことができる。保護フィルムを用いる場合には、先ず保護フィルム上にレリーフ形成層を積層し、次いで支持体をラミネートする方法を採ってもよい。接着層を設ける場合は、接着層を塗布した支持体を用いることで対応できる。スリップコート層を設ける場合は、スリップコート層を塗布した保護フィルムを用いることで対応できる。<層形成工程>本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程を含むことが好ましい。レリーフ形成層の形成方法としては、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用樹脂組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法や、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して溶剤を除去する方法が好ましく例示できる。レーザー彫刻用樹脂組成物は、例えば、成分A及び成分B、並びに、任意成分を適当な溶媒に溶解させ、次いで、成分Cを溶解させることによって製造することができる。レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版における架橋レリーフ形成層の厚さは、架橋の前後において、0.05mm以上10mm以下が好ましく、0.05mm以上7mm以下がより好ましく、0.05mm以上3mm以下が更に好ましい。<架橋工程>本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法は、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程を含む製造方法であることが好ましい。レリーフ形成層が光重合開始剤を含有する場合には、光重合開始剤のトリガーとなる活性光線をレリーフ形成層に照射することで、レリーフ形成層を架橋することができる。光は、レリーフ形成層全面に行うことが好ましい。光活性光線ともいう。としては可視光、紫外光、及び電子線が挙げられるが、紫外光が最も好ましい。レリーフ形成層の支持体等、レリーフ形成層を固定化するための基材側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が活性光線を透過する透明なフィルムであれば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下では重合阻害が生じる恐れがあるので、レリーフ形成層に塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、活性光線の照射を行ってもよい。レリーフ形成層が熱重合開始剤を含有する場合には上記の光重合開始剤が熱重合開始剤にもなり得る。、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を加熱することで、レリーフ形成層を架橋することができる熱により架橋する工程。加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。レリーフ形成層の架橋方法としては、レリーフ形成層を表面から内部まで均一に硬化架橋可能という観点で、熱による架橋の方が好ましい。レリーフ形成層を架橋することで、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。未架橋のレリーフ形成層をレーザー彫刻すると、レーザー照射部の周辺に伝播した余熱により、本来意図していない部分が溶融、変形しやすく、シャープなレリーフ層が得られない場合がある。また、素材の一般的な性質として、低分子なものほど固形ではなく液状になり、すなわち粘着性が強くなる傾向がある。レリーフ形成層を彫刻する際に発生する彫刻カスは、低分子の材料を多く用いるほど粘着性が強くなる傾向がある。低分子である重合性化合物は架橋することで高分子になるため、発生する彫刻カスは粘着性が少なくなる傾向がある。前記架橋工程が、光により架橋する工程である場合は、活性光線を照射する装置が比較的高価であるものの、印刷版原版が高温になることがないので、印刷版原版の原材料の制約がほとんどない。前記架橋工程が、熱により架橋する工程である場合には、特別高価な装置を必要としない利点があるが、印刷版原版が高温になるので、高温で柔軟になる熱可塑性ポリマーは加熱中に変形する可能性がある等、使用する原材料は慎重に選択する必要がある。熱架橋の際には、熱重合開始剤を加えることが好ましい。熱重合開始剤としては、遊離基重合freeradicalpolymerization用の商業的な熱重合開始剤として使用され得る。このような熱重合開始剤としては、例えば、適当な過酸化物、ヒドロペルオキシド又はアゾ基を含む化合物が挙げられる。代表的な加硫剤も架橋用に使用できる。熱架橋性heat-curableの樹脂、例えばエポキシ樹脂、を架橋成分として層に加えることにより熱架橋も実施され得る。フレキソ印刷版及びその製版方法本発明のフレキソ印刷版の製版方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程、及び、前記架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程、を含むことが好ましく、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を熱架橋し架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程、及び、前記架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程、を含むことがより好ましい。本発明のフレキソ印刷版は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層を架橋及びレーザー彫刻して得られたレリーフ層を有するフレキソ印刷版であり、本発明のフレキソ印刷版の製版方法により製版されたフレキソ印刷版であることが好ましい。本発明のフレキソ印刷版は、水性インキを印刷時に好適に使用することができる。本発明のフレキソ印刷版の製版方法における層形成工程及び架橋工程は、前記レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法における層形成工程及び架橋工程と同義であり、好ましい範囲も同様である。<彫刻工程>本発明のフレキソ印刷版の製版方法は、前記架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程を含むことが好ましい。彫刻工程は、前記架橋工程で架橋された架橋レリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、架橋された架橋レリーフ形成層に対して、所望の画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成することが好ましい。また、所望の画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、架橋レリーフ形成層に対して走査照射する工程が好ましく挙げられる。この彫刻工程には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、架橋レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやYAGレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、架橋レリーフ形成層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を3次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度で架橋レリーフ形成層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。彫刻工程に用いられる赤外線レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザーCO2レーザー又は半導体レーザーが好ましい。特に、ファイバー付き半導体赤外線レーザーFC-LDが好ましく用いられる。一般に、半導体レーザーは、CO2レーザーに比べレーザー発振が高効率かつ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。半導体レーザーとしては、波長が700~1,300nmのものが好ましく、800~1,200nmのものがより好ましく、860~1,200nmのものが更に好ましく、900~1,100nmのものが特に好ましい。また、ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、本発明における彫刻工程には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、レーザーハンドブック第2版レーザー学会編、実用レーザー技術電子通信学会等に記載されている。また、本発明のフレキソ印刷版原版を用いたフレキソ印刷版の製版方法に好適に用いることができるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、特開2009-172658号公報及び特開2009-214334号公報に詳細に記載され、これを本発明に係るフレキソ印刷版の製版に使用することができる。本発明のフレキソ印刷版の製版方法では、彫刻工程に次いで、更に、必要に応じて下記リンス工程、乾燥工程、及び/又は、後架橋工程を含んでもよい。リンス工程:彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程。乾燥工程:彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。後架橋工程:彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。前記工程を経た後、彫刻表面に彫刻カスが付着しているため、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻されたレリーフ形成層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。更に、必要に応じてレリーフ形成層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。本発明に用いることができるリンス液のpHは、9以上であることが好ましく、10以上であることがより好ましく、11以上であることが更に好ましい。また、リンス液のpHは14以下であることが好ましく、13.5以下であることがより好ましく、13.1以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、取り扱いが容易である。リンス液を上記のpH範囲とするために、適宜、酸及び/又は塩基を用いてpHを調整すればよく、使用する酸及び塩基は特に限定されない。本発明に用いることができるリンス液は、主成分として水を含有することが好ましい。また、リンス液は、水以外の溶媒として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶媒を含有していてもよい。リンス液は、界面活性剤を含有することが好ましい。本発明に用いることができる界面活性剤としては、彫刻カスの除去性、及び、フレキソ印刷版への影響を少なくする観点から、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物等のベタイン化合物両性界面活性剤が好ましく挙げられる。また、界面活性剤としては、公知のアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤等も挙げられる。更に、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、リンス液の全重量に対し、0.01~20重量であることが好ましく、0.05~10重量であることがより好ましい。以上のようにして、支持体等の任意の基材表面にレリーフ層を有するフレキソ印刷版が得られる。フレキソ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々の印刷適性を満たす観点からは、0.05mm以上10mm以下が好ましく、より好ましくは0.05mm以上7mm以下、特に好ましくは0.05mm以上3mm以下である。また、フレキソ印刷版が有するレリーフ層のショアA硬度は、50°以上90°以下であることが好ましい。レリーフ層のショアA硬度が50°以上であると、彫刻により形成された微細な網点が凸版印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアA硬度が90°以下であると、印圧がキスタッチのフレキソ印刷でもベタ部での印刷かすれを防止することができる。なお、本明細書におけるショアA硬度は、25°Cにおいて、測定対象の表面に圧子押針又はインデンタと呼ばれるを押し込み変形させ、その変形量押込み深さを測定して、数値化するデュロメータスプリング式ゴム硬度計により測定した値である。本発明のフレキソ印刷版は、フレキソ印刷機による水性インキでの印刷に特に好適であるが、凸版用印刷機による水性インキ、油性インキ及びUVインキ、いずれのインキを用いた場合でも、印刷が可能であり、また、フレキソ印刷機によるUVインキでの印刷も可能である。本発明のフレキソ印刷版は、リンス性に優れており彫刻カスの残存がなく、かつ、得られたレリーフ層が弾性に優れるため、水性インキ転移性及び耐刷性に優れ、長期間にわたりレリーフ層の塑性変形や耐刷性低下の懸念がなく、印刷が実施できる。以下に実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、以下の記載における部とは、特に断りのない限り重量部を示し、は重量を示すものとする。なお、実施例におけるポリマーの数平均分子量Mnは、特に断りのない限りにおいて、GPC法で測定した値を表示している。<樹脂の数平均分子量Mnの測定>樹脂の数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ法GPC法を用いて、分子量既知のポリスチレンで換算して求めた。高速GPC装置東ソー株製HLC-8020とポリスチレン充填カラム東ソー株製TSKgelGMHXLを用い、テトラヒドロフランTHFで展開して測定した。カラムの温度は40°Cに設定した。GPC装置に注入する試料としては、樹脂濃度が1重量のTHF溶液を調製し、注入量10μlとした。また、検出器としては、樹脂紫外吸収検出器を使用し、モニター光として254nmの光を用いた。<樹脂におけるエチレン性不飽和基の数の測定>樹脂の分子内に存在するエチレン性不飽和基の平均数は、未反応の低分子成分を、液体クロマトグラフ法を用いて除去した後、核磁気共鳴スペクトル法NMR法、BrukeBiospin社製AVANCE600を用いて分子構造解析し求めた。なお、樹脂におけるエチレン性不飽和基の数とは、樹脂に存在するエチレン性不飽和基の樹脂1つあたりの平均数を意味する。まず、プラストマーの合成について、以下に説明する。<樹脂A1-1の合成>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに旭化成株製ポリカーボネートジオールである、商標PCDLT4672数平均分子量2,059、OH価54.51,318部と下記b1-1168.8g部、4-ヒドロキシ-TEMPO4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、東京化成工業株製1.5部、DBU1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、東京化成工業株製3部を添加し、生成するメタノールを留去しつつ常圧1気圧、以下においても同様である。、80°Cにて約3時間反応させた。これにより、末端メタクリル基を含有する分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均約1.9個数平均分子量約2,500の樹脂A1-1を調製した。この樹脂は室温20°C、以下においても同様である。では液状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<樹脂A1-2の合成>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに旭化成株製ポリカーボネートジオールである、商標PCDLT4672数平均分子量2,059、OH価54.51,318部とトリレンジイソシアナート76.8部を加え、80°C加温下で約3時間反応させた後、前記b1-173.4部、4-ヒドロキシ-TEMPO4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、東京化成工業株製1.5部、DBU1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、東京化成工業株製3部を添加し、生成するメタノールを留去しつつ常圧1気圧、以下においても同様である。、80°Cにて約3時間反応させた。これにより、末端メタクリル基を含有する分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均約1.8個数平均分子量約8,000の樹脂A1-2を調製した。この樹脂は室温では液状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<樹脂A1-3の合成>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに出光興産株製水酸基末端ポリブタジエンポリオールである、商標PolybdR-45HT数平均分子量2,800、OH価46.6500部と前記b1-189.8部、4-ヒドロキシ-TEMPO4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、東京化成工業株製1.8部、DBU1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、東京化成工業株製3.7部を添加し、生成するメタノールを留去しつつ常圧、80°Cにて約3時間反応させた。これにより、末端メタクリル基を含有する分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均1.9個である数平均分子量3,100の樹脂A1-3を調製した。この樹脂は室温では液状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<樹脂A1-4の合成>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに出光興産株製水酸基末端ポリブタジエンポリオールである、商標PolybdR-45HT数平均分子量2,800、OH価46.6500部と下記b1-284.0部、4-ヒドロキシ-TEMPO4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、東京化成工業株製1.8部、DBU1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、東京化成工業株製3.7部を添加し、生成するメタノールを留去しつつ常圧、65°Cにて約5時間反応させた。これにより、末端メタクリル基を含有する分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均1.6個である数平均分子量3,200の樹脂A1-4を調製した。この樹脂は室温では液状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<樹脂A1-5の合成>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに出光興産株製水酸基末端ポリブタジエンポリオールである、商標PolybdR-45HT数平均分子量2,800、OH価46.6500部と下記b1-396.5部、4-ヒドロキシ-TEMPO4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、東京化成工業株製1.8部、DBU1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、東京化成工業株製3.7部を添加し、生成するメタノールを留去しつつ常圧、70°Cにて約2時間反応させた。これにより、末端メタクリル基を含有する分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均1.6個である数平均分子量3,200の樹脂A1-5を調製した。この樹脂は室温では液状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<樹脂A1-6の合成>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに出光興産株製水酸基末端ポリブタジエンポリオールである、商標PolybdR-45HT数平均分子量2,800、OH価46.6500部と下記b1-4103.1部、4-ヒドロキシ-TEMPO4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、東京化成工業株製1.8部、DBU1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、東京化成工業株製3.7部を添加し、生成するメタノールを留去しつつ常圧、70°Cにて約2時間反応させた。これにより、末端メタクリル基を含有する分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均1.6個である数平均分子量3,250の樹脂A1-6を調製した。この樹脂は室温では液状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<樹脂A2-1の合成>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに信越化学工業株製直鎖状オルガノポリシロキサン化合物である、商標KF-9701数平均分子量3,000、Si当量1,500g/mol1,000部と2-ヒドロキシエチルメタクリレート東京化成工業株製86.8部、4-ヒドロキシ-TEMPO4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、東京化成工業株製1.1部、DBU1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、東京化成工業株製3.3部を添加し、生成する水を留去しつつ常圧、80°Cにて約3時間反応させた。これにより、末端メタクリル基を含有する分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均1.7個である数平均分子量4,500の樹脂A2-1を調製した。この樹脂は室温では液状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<樹脂A2-2の合成>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに出光興産株製水酸基末端ポリブタジエンポリオールである、商標PolybdR-45HT数平均分子量2,800、OH価46.6500部と3-イソシアネートプロピルジメチルメトキシシラン71.9部、DBU1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、東京化成工業株製3部を添加し、常圧、60°Cにて約3時間反応させた後、4-ヒドロキシ-TEMPO4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、東京化成工業株製1.8部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート東京化成工業株製54.1部を加え、生成するメタノールを留去しつつ常圧、80°Cにて約3時間反応させた。これにより、末端メタクリル基を含有する分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均1.8個である数平均分子量3,500の樹脂A2-2を調製した。この樹脂は室温では液状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<樹脂A3-1の合成>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに信越化学工業株製直鎖状オルガノポリシロキサン化合物である、商標KF-9701数平均分子量3,000、Si当量1,500g/mol500部と前記b1-172.0部、4-ヒドロキシ-TEMPO4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、東京化成工業株製1.8部、DBU1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、東京化成工業株製3部を添加し、生成する水を留去しつつ常圧、80°Cにて約3時間反応させた。これにより、末端メタクリル基を含有する分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均約1.9個数平均分子量約5,000の樹脂A3-1を調製した。この樹脂は室温では液状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<樹脂A3-2の合成>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに出光興産株製水酸基末端ポリブタジエンポリオールである、商標PolybdR-45HT数平均分子量2,800、OH価46.6500部と3-イソシアネートプロピルジメチルメトキシシラン71.9部、DBU1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、東京化成工業株製3部、蒸留水7.4部を添加し、常圧、60°Cにて約3時間反応させた後、4-ヒドロキシ-TEMPO4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、東京化成工業株製1.8部、前記b1-189.9部を加え、生成する水、メタノールを留去しつつ常圧、80°Cにて約3時間反応させた。これにより、末端メタクリル基を含有する分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均1.8個である数平均分子量4,500の樹脂A3-2を調製した。この樹脂は室温では液状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<比較ポリマーCP-1の調製>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに旭化成株製ポリカーボネートジオールである、商標PCDLT4672数平均分子量2,059、OH価54.51,318部とトリレンジイソシアナート76.8部を加え、80°C加温下で約3時間反応させた後、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート52.6部を添加し、更に約3時間反応させて、末端がメタアクリル基分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均約1.7個である数平均分子量約7,000の樹脂CP-1を調製した。この樹脂は20°Cでは水飴状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。<比較ポリマーCP-2の調製>温度計、撹拌機、還流器を備えたセパラブルフラスコに信越化学工業株製、両末端型カルビノール変性反応性シリコーンオイルである、KF-6003数平均分子量5,100、OH価22.0を413.72部とトリレンジイソシアナート11.05部を加え、80°C加温下で約3時間反応させた後、2-アクリロイルオキシエチルイソシアネート4.99部を添加し、更に約3時間反応させて、末端がアクリル基分子内のエチレン性不飽和基が1分子あたり平均約1.8個である数平均分子量約20,000の樹脂CP-2を調製した。この樹脂は20°Cでは水飴状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。また、下記実施例で使用した、成分Aの詳細は以下の通りである。アクリル樹脂1:シクロヘキシルメタクリレート/メタクリル酸2-ヒドロキシエチル70/30モル共重合体、Mn=1.5万アクリル樹脂2:シクロヘキシルメタクリレート/メタクリル酸アリル70/30モル共重合体、Mn=2万エスレックBM-2:ポリビニルブチラール、Tg67°C、積水化学工業株製TR2000:スチレン/ブタジエンブロック共重合体、熱可塑性エラストマー、JSR株製なお、アクリル樹脂1、アクリル樹脂2、及び、エスレックBM-2は、いずれも20°Cでは固体であった。実施例11.レーザー彫刻用樹脂組成物の調製撹拌羽及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に、成分AとしてA1-1を50部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート47部を入れ、撹拌しながら70°Cで120分間加熱しポリマーを溶解させた。その後、溶液を40°Cにし、更にエチレン性不飽和化合物としてブレンマーPDE-200日油株製25部及びトリエチレングリコールジメタクリレートTEGDMA東京化成工業株製10部、重合開始剤としてt-ブチルパーオキシベンゾエート商品名:パーブチルZ、日油株製を0.5部、光熱変換剤としてケッチェンブラックEC600JDカーボンブラック、ライオン株製を1部、を添加して30分間撹拌した。この操作により、流動性のある架橋性レリーフ形成層用塗布液1レーザー彫刻用樹脂組成物1を得た。2.レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の作製PET基板上に所定厚のスペーサー枠を設置し、上記より得られた架橋性レリーフ形成層用塗布液1をスペーサー枠から流出しない程度に静かに流延し、70°Cのオーブン中で3時間乾燥させた。その後80°Cで3時間、更に100°Cで3時間加熱してレリーフ形成層を熱架橋し、厚さがおよそ1mmのレリーフ形成層を設け、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版1を作製した。3.フレキソ印刷版の作製架橋後のレリーフ形成層架橋レリーフ形成層に対し、以下の2種のレーザーにより彫刻した。炭酸ガスレーザー彫刻機として、レーザー照射による彫刻を、高品位CO2レーザーマーカML-9100シリーズ株キーエンス製を用いた。炭酸ガスレーザー彫刻機で、出力:12W、ヘッド速度:200mm/秒、ピッチ設定:2,400DPIの条件で、1cm四方のベタ部分をラスター彫刻し、ハイライト1~10の網点を形成した。半導体レーザー彫刻機として、最大出力8.0Wのファイバー付き半導体レーザーFC-LDSDL-6390JDSU社製、波長915nmを装備したレーザー記録装置を用いた。半導体レーザー彫刻機でレーザー出力:7.5W、ヘッド速度:409mm/秒、ピッチ設定:2,400DPIの条件で、1cm四方のベタ部分をラスター彫刻し、ハイライト1~10の網点を形成した。得られたフレキソ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、およそ1mmであった。実施例2~10、及び、比較例1~61.レーザー彫刻用架橋性樹脂組成物の調製実施例1で用いた樹脂A1-1を、下記表1に記載のものに変更した以外は、実施例1と同様にして、架橋性レリーフ形成層用塗布液レーザー彫刻用樹脂組成物2~10、及び、比較架橋性レリーフ形成層用塗布液レーザー彫刻用樹脂組成物1~6をそれぞれ調製した。2.レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の作製実施例1における架橋性レリーフ形成層用塗布液1を、架橋性レリーフ形成層用塗布液2~10、比較架橋性レリーフ形成層用塗布液1~6に各々変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版2~10、及び、比較例のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版1~6をそれぞれ得た。3.フレキソ印刷版の作製実施例のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版2~10、及び、比較例のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版1~6のレリーフ形成層を、実施例1と同様にして、熱架橋した後、彫刻してレリーフ層を形成することにより、実施例のフレキソ印刷版2~10、及び、比較例のフレキソ印刷版1~6をそれぞれ得た。これらのフレキソ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、およそ1mmであった。実施例11~131.レーザー彫刻用架橋性樹脂組成物の調製実施例3で用いたエチレン性不飽和化合物を、下記表1に記載のものに変更した以外は、実施例3と同様にして、架橋性レリーフ形成層用塗布液レーザー彫刻用樹脂組成物11~13をそれぞれ調製した。なお、実施例13で使用したPEGDAは、ポリエチレングリコールジアクリレートALDRICH社製である。2.レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の作製実施例3における架橋性レリーフ形成層用塗布液3を、架橋性レリーフ形成層用塗布液11~13に各々変更した以外は、実施例3と同様にして、実施例のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版11~13をそれぞれ得た。3.フレキソ印刷版の作製実施例のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版11~13を、実施例3と同様にして、熱架橋した後、彫刻してレリーフ層を形成することにより、実施例のフレキソ印刷版11~13をそれぞれ得た。これらのフレキソ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、およそ1mmであった。4.フレキソ印刷版の評価以下の項目でフレキソ印刷版の性能評価を行い、結果を表1に示す。なお、炭酸ガスレーザーで彫刻を行った場合の評価結果と、半導体レーザーで彫刻を行った場合の評価結果は、同じであった。4-1リンス性レーザー彫刻したフレキソ印刷版を水に浸漬し、彫刻部を歯ブラシライオン株製、クリニカハブラシフラットで10回こすった。その後、光学顕微鏡でレリーフ層の表面におけるカスの有無を確認した。カスがないものを◎、カスがほとんどないものを○、少し残存しているものを○△、カスが残存しているが、実用上問題のないレベルであるものを△、カスが除去できておらず実用上問題のあるレベルのものを×とした。4-2インキ転移性得られたフレキソ印刷版を印刷機ITM-4型、株伊予機械製作所製にセットし、インキとして、水性インキアクアSPZ16紅東洋インキ製造株を希釈せずに用いて、印刷紙として、フルカラーフォームM70日本製紙株製、厚さ100μmを用いて印刷を継続し、印刷開始から1,000mにおける印刷物上のベタ部におけるインキの付着度合いを目視で比較した。評価基準は、濃度ムラがなく均一なものを○、ムラがあるものを×、○と×との中間の程度を△とした。4-3塗布液安定性塗布液レーザー彫刻用樹脂組成物を70°Cにて1時間加熱し、加熱前後での粘度の変化を、目視で塗布液の流動性を観察することにより評価した。目視で増粘が確認できないものであれば○、目視で増粘が確認できるものであれば△、ほとんど流動しなくなるか、ゲル化したものは×とした。4-4耐刷性得られたフレキソ印刷版を印刷機ITM-4型、株伊予機械製作所製にセットし、インキとして、水性インキアクアSPZ16紅東洋インキ製造株を希釈せずに用いて、印刷紙として、フルカラーフォームM70日本製紙株製、厚さ100μmを用いて印刷を継続し、ハイライト1~10を印刷物で確認した。印刷されない網点が生じたところを刷了とし、刷了時までに印刷した紙の長さメートルを指標とした。数値が大きいほど耐刷性に優れると評価する。"