第1及び第2の向かい合った主面10a、10bを備えた、無機ガラス製の透明基材10であり、ガラス質の無機バインダー20とこのバインダー中に分散した散乱用構成要素21、22とを含む散乱層2でその第2面10bを被覆された基材10を連続して含む有機発光ダイオードデバイス1のための支持体であって、前記ガラス質のバインダー20が40~60wtの酸化ビスマスBi2O3、あるいは45~58wtの酸化ビスマスBi2O3を含むこと、及び前記ガラス質バインダー20の比率が前記散乱層2の総重量の少なくとも20であること、を特徴とする有機発光ダイオードデバイスのための支持体。前記バインダーが、水溶性酸化物、特に、合計含有量が15wt未満、好ましくは5wt未満であるナトリウム及びカリウムタイプのアルカリ金属酸化物、で構成される組成を有することを特徴とする、請求項1記載の支持体。前記ガラス質バインダー20が、wtで、0~10、好ましくは0~5のSiO2、0~5、好ましくは0~1のAl2O3、8~25、好ましくは10~22のB2O3、0~10、好ましくは0~5のCaO、0~20、好ましくは0~15のBaO、0~5、好ましくは0~3のLi2O、0~10、好ましくは0~5のNa2O、0~5、好ましくは0~3のK2O、0~5、好ましくは0~4のZrO2、0~5のSrO、0~5のLa2O3、を含むことを特徴とする、請求項1又は2記載の支持体。前記ガラス質バインダー20が、5~30wtのZnO、好ましくは10~25wtのZnOを含むことを特徴とする、請求項1~3の1つに記載の支持体。前記散乱用構成要素が体積中の気孔22を含むことを特徴とする、請求項1~4の1つに記載の支持体。前記散乱用構成要素が、好ましくは前記散乱層2の総重量の60未満の比率の、散乱用粒子21を含み、任意選択的に体積中の気孔22を含むことを特徴とする、請求項1~5の1つに記載の支持体。前記散乱用構成要素が無機の散乱用粒子21、特に次の粒子、すなわち、アルミナ、ジルコニアZrO2、シリカSiO2、酸化チタンTiO2、CaCO3又はBaSO4の粒子、のうちの1つ以上から選ばれるものを含むことを特徴とする、請求項1~6の1つに記載の支持体。前記ガラス質バインダー20の比率が、前記散乱層2の総重量の40~80、特に50~75であり、アルミナで作られた前記選ばれた散乱用粒子21の比率が、前記散乱層2の総重量の20~60、特に25~50であることを特徴とする、請求項6又は7記載の支持体。前記散乱層2が、200μmの分析長さにわたって500nmより大きい、あるいは900nmより大きい粗さパラメーターRaにより定義される粗さを有する、粗くて大気に対して開放している主たる外表面を有することを特徴とする、請求項1~8の1つに記載の支持体。前記散乱層2で被覆された前記基材10が少なくとも50の光透過率と、少なくとも80、あるいは少なくとも90の曇り度を有することを特徴とする、請求項1~9の1つに記載の支持体。前記基材10の第1の面10aに、単数又は複数の層の形をした、第1の透明電極11が被着されていることを特徴とする、請求項1~10の1つに記載の支持体。可視範囲の放射線、好ましくは多色放射線を放射する有機発光系12、特に有機被膜を、前記第1の電極11の上に含み、且つ、前記第1の電極11の反対側の前記有機系12の上に、単数又は複数の層の形をした第2の電極13が被着されていることを特徴とする、請求項1~11の1つに記載の支持体。照明のための有機発光ダイオードデバイス1における支持体としての、請求項1~12の1つに記載の散乱層2を備えた支持体の使用。請求項1~12の1つに記載の支持体を含む、有機発光ダイオードデバイス1。CIEXYZ1931色度図における、0°での放射スペクトルと75°での放射スペクトルの間で5°おきの色度座標で定義される、多色光、特に白色光のスペクトルを出力として放射し、そして0°での放射スペクトルと75°での放射スペクトルの間で、5°きざみの中間の角度を通過する経路長Vc1が、次の式、によって与えられ、この式において、角度θiの各スペクトルについての色度座標はCIEXYZ1931色度図における座標xθi;yθiの対により表されること、並びに、前記基材の第2面上に散乱層がないことによって区別される第1の参照有機発光ダイオードデバイスについて、第2の経路長Vc2が同じようにして定義され、0.25以下、あるいは0.1以下のVc1/Vc2が得られ、好ましくはVc2は101以下であり、及び/又は前記基材の第2面上に散乱層、酸化ビスマスなしのガラス質バインダーによって区別される層、を備えた第2の参照有機発光ダイオードデバイスについて、第3の経路長Vc3が同じようにして定義され、0.9以下、あるいは0.7以下のVc1/Vc3が得られ、好ましくはVc3は101以下であることを特徴とする、請求項14記載の有機発光ダイオードデバイス。本発明の目的は、特に、OLEDの光学的性能特に光の抽出及び/又は、選択された放射多色光、特に白色光の観測の角度の関数としての比色分析値の変動の制限を犠牲にすることなしに、又はそれらを向上さえさせて、あるいは生産上の問題を生じさせることなしに、堅牢なOLEDデバイスをうまく製造することである。もう一つの重要な目的は、OLEDデバイスの製造プロセスとの相性のよいそのようなデバイスの製造を可能にすることである。本発明は、この目的のために、第1及び第2の向かい合った主面を備えた、無機ガラス製の透明基材であり、本質的に無機のバインダーとこのバインダー中に分散した散乱用構成要素とを含む散乱層でその第2面を直接被覆された基材を連続して含む有機発光ダイオードのための支持体であって、当該ガラス質のバインダーは40~60wtの酸化ビスマスBi2O3、あるいは45~58wtの酸化ビスマスBi2O3を含み、当該ガラス質バインダーの比率は前記散乱層の総重量の少なくとも20である、有機発光ダイオードのための支持体を提案する。本発明による散乱層単層又は多層中の酸化ビスマスの前記好適な比率は、増進した耐薬品性を保証する。しかし、OLED製造の状況の中で、散乱層を劣化させることがあり得る様々な工程が行われ、すなわち、基材の洗浄通常、有機溶剤エタノール、アセトン又は塩基性溶液一般に水酸化ナトリウムを使用、第1面上の第1の電極基材に一番近いもののエッチング、エッチングしようとするパターンを画定するのに使用されるレジストの任意選択的な除去通常、有機溶剤エタノール、アセトン等又は塩基性溶液一般に水酸化ナトリウムを使用、が行われる。意外なことに、通常のフリットと違って、酸化ビスマスの含有量が多いそのバインダーを選定することによって、本発明による散乱層はOLEDの生産中に基材が被るこれらの種々の化学的処理に耐える。前記ガラス質のバインダーは、当業者がエナメル又は溶融ガラスフリットと呼ぶものでよい。こうして、本発明による散乱層は、OLEDからの光の抽出を保全すること、OLED製造プロセスの種々の工程との相性がよいこと、を可能にする。散乱層は好ましくは、空気にむき出しの主たる外表面を有する。この明細書の全体を通して、本発明による基材は、第1面を下に向け、第1面に向き合った第2面を上に向けて、水平に横たわっているものと見なされ、よって上及び下との表現の意味するところはこの方向付けに関連して考えられるべきである。具体的に明記しない限り、上及び下との表現は、2つの構成要素が互いに接触した位置にあることを必ずしも意味するものではない。下部及び上部という用語は、ここではこの位置づけに関連して使用される。この明細書を通して、屈折率という用語は、590nmの波長で測定される光学的屈折率を指す。本発明によるガラス質材料の散乱層の耐薬品性は、バインダーの水溶性酸化物の配合量が少ないという事実によって強化される。水溶性酸化物、特にナトリウム及びカリウムタイプのアルカリ金属酸化物の含有量は、好ましくは15wt未満、より好ましくは5wt未満である。有利には、本発明による散乱層単層あるいは多層のガラス質バインダーは、wtで、0~10、好ましくは0~5のSiO2、0~5、好ましくは0~1のAl2O3、8~25、好ましくは10~22のB2O3、0~10、好ましくは0~5のCaO、0~20、好ましくは0~15のBaO、0~5、好ましくは0~3のLi2O、0~10、好ましくは0~5のNa2O、0~5、好ましくは0~3のK2O、0~5、好ましくは0~4のZrO2、0~5のSrO、0~5のLa2O3、を含む。本発明によるバインダーは、好ましくは5~30wtのZnO、及び好ましくは10~25wtのZnOを含むことができる。耐薬品性は、それらの特定範囲内のこれらの2つの酸化物の複合作用により更に強化される。本発明による前記散乱層単層あるいは多層の全体の厚さは好ましくは1~50μm、あるいは5~30μmである。散乱用構成要素は、好ましくは、ガラス質媒体中における光の波長に相当する又はそれより大きい特性寸法を有し、それは数百ナノメートルと数ミクロンの間の寸法に相当する。本発明による散乱用構成要素は、体積中の気孔すなわち層内の気孔あるいは表面の気孔を含むことができる。散乱用構成要素は、散乱用粒子、特に屈折率が基材の屈折率と異なる物質の粒子を、好ましくは層の総重量の60未満の比率でもって含むことができ、及び任意選択的に体積中の気孔又は表面の気孔を含むことができる。気孔は必然的に散乱層中に存在する一方で、散乱用粒子は特別な目的のために加えられる。開放気孔が表面での散乱に有利に働く。気孔は、例えば、有機媒体の焼成除去の結果として得られる。特に50nmより大きい大きさの散乱用粒子の存在下では、気孔は大きくて、500nmより大きい大きさを有する。本発明によるもう一つの散乱用構成要素として、散乱層中に必然的に存在する、例えばジルコン又はバデレアイト結晶などの、結晶を挙げることができる。本発明による散乱用構成要素は、特に次の粒子、すなわちアルミナ、ジルコニアZrO2、シリカSiO2、酸化チタンTiO2、CaCO3又はBaSO4の粒子のうちの少なくとも1つから選ばれる、無機の散乱用粒子を含むことができる。本質的に無機のバインダーと好ましくは本質的に無機の散乱用構成要素特に、無機粒子、結晶、気孔を含めて少なくとも80の無機散乱用構成要素を含む本発明による散乱層は、OLEDの全体を製造するための処理の間に劣化しないように、特におよそ400°Cにおいて、非常に良好な耐熱性を有する。1つの好ましい実施形態において、本発明によるガラス質バインダーの比率は散乱層の総重量の40~80、特に50~75であり、アルミナ製の選ばれた散乱用粒子の比率は層の総重量の20~60、特に25~50である。表面散乱にとって有利になるようにするには、本発明による散乱層は、200μmの分析長さにわたって500nmより大きい、あるいは900nmより大きい粗さパラメーターRaにより定義される粗さを有する、粗くて大気に対して開放している主たる外表面を有することができる。基材の粗さは、表面凹凸の算術平均偏差であって、平均の振幅を表す、周知の粗さパラメーターRaにより特徴付けられる。例えば、機械式の表面形状測定装置、例としてVEECO社からのDEKTAK装置のようなもの、が選ばれる。光の抽出に有利なようにするためには、本発明によるこの散乱層で被覆された基材は、少なくとも50の光透過率TLと、少なくとも80、あるいは90の、曇り度すなわちTL/TD比、ここでのTDは散乱透過率とを有することができる。ガラス基材は、1.4と1.6の間の通常の屈折率を有することができ、あるいは高い屈折率を有することができ、従って1.7以上の屈折率を有することができる。ガラス基材は、用途に応じて厚さが例えば0.7~6mmであり、好ましくは0.7~3mmである。それは透明ガラス又は超透明ガラスであることができる。例えば、未被覆の基材は少なくとも80、あるいは90のTLを有する。本発明による支持体は、いくつかの散乱層を含むことができ、特に前記酸化ビスマスを基礎材料とするガラス質バインダーを基礎材料とし、それぞれが、散乱用粒子の特性を抑圧し及び/又は変更することにより、及び/又は散乱用粒子の濃度を変更することにより、散乱が異なりあるいは耐薬品性が異なる、いくつかの散乱層を含むことができる。少なくとも最後の散乱層は耐薬品性でなければならない。以下においては、通常の散乱層を、特にホウ酸亜鉛フリットを基礎材料とするものを、任意選択的に選ぶことができる。例えば、基材と空気との間の2段階以上2層以上の屈折率の段階的な低下を作り出すことが可能である。しかし、ガラス質材料の少なくとも2つの層が本発明の範囲内にとどまりながら酸化ビスマスBi2O3の比率が同じでないということが可能である。従って、第1の散乱層が40~60wtの酸化ビスマスBi2O3を含み、第2の散乱層基材から遠い方のは45~58wtの酸化ビスマスBi2O3を含むということが可能である。更に、散乱層単層あるいは、別個のバインダーを含むか又は含まず、別個の散乱用構成要素を含むか又は含まない多層が、基材の第2面上に直接存在することが好ましい。OLEDの製造のためには、単層又は複数層の形の、第1の透明電極を、基材の第1面に被着させ、第1の電極の上に、可視範囲内の放射線、好ましくは多色放射線を放射する有機の発光系、特に有機の被覆物と、単層又は複数層の形の第2の電極を、第1の電極の反対側の当該有機系の上に被着させ、単層又は複数層の形の第2の電極を、第1の電極の反対側の当該有機系の上に被着させる。本発明はまた、先に定義したとおりの散乱層を有する支持体を、照明特に一般的な照明のための有機発光ダイオードデバイスにおける支持体として使用することにも関する。本発明による散乱層は、特に耐薬品性の層を構成する一方で、本発明による散乱OLEDデバイスから出てゆく光の抽出の有意の増加をもたらす。本発明による散乱層によってもたらされるもう一つの利点は、本発明による散乱OLEDデバイスに向き合う観測者により知覚される比色分析値の変動を更に減少させることである。OLEDは、出力として、多色光、特に白色光のスペクトルを放出できることが好ましい。白色光を生じさせるためには、いくつかの方法が可能であり、特に、成分赤色光、緑色光、青色光放射を単一層で混合する、3つの有機構造体赤色光、緑色光、青色光放射を重ねる、又は2つの有機構造体黄色と青色、一組の3つの隣り合う有機構造体赤色光、緑色光、青色光放射を重ねることが可能である。色の角度依存性特に多色光についてを評価するためには、OLEDを製造したならば、例えば分光光度計を用いて、CIEXYZ1931色度図における比色分析値の変動Vcを、観測の角度の、すなわち経路直線又は円弧などのいろいろな形状のの長さの、関数として、0°での放射スペクトルと75°での放射スペクトルの間で5°おきに求める。角度θiの各スペクトルについての色度座標をCIEXYZ1931色度図における座標xθi;yθiの対により表す。こうして、0°での放射スペクトルと75°での放射スペクトルの間における、5°きざみの中間の角度を通過する本発明によるデバイスについての経路長Vc1を、次の公知の式を使って計算することができる。経路長はできるだけ短くあるべきである。よって、第2面上に散乱層又は何らかのその他の加えられた散乱用構成要素、例えばガラスに接着して結合された散乱用プラスチックフィルムなどがないことによって区別される第1の参照有機発光ダイオードデバイスについて、第2の経路長Vc2が同じようにして定義され、0.25以下、あるいは0.2以下、また0.1以下のVc1/Vc2が得られ、好ましくはVc2は101以下であり、及び/又は第2面上に散乱層、酸化ビスマスなしのガラス質バインダーを含む散乱層によって区別される層、を備えた第2の有機発光ダイオードデバイスについて、第3の経路長Vc3が同じようにして定義され、0.9以下、あるいは0.7以下、また0.5以下のVc1/Vc3が得られ、好ましくはVc3は101以下である。先に定義された支持体を製造する一つの例においては、散乱層を第2面に被着させてから第1面に第1の電極を被着させ、前記散乱層は、好ましくは有機媒体を含む、ガラスフリットから、スクリーン印刷により被着させ、そしてそのガラスフリットを、ガラス質バインダーを作るため、好ましくは散乱用粒子を含む散乱用構成要素の存在下で、溶融させる。既に述べたように、耐薬品性は特定範囲内の酸化ビスマスの作用により得られる。詳しく言えば、この耐薬品性は、先に検討したOLEDデバイスを製造するためのプロセスにおいて、いろいろなクリーニング作業の際に、特に第1の電極を被着する前の基材のクレーニングの際に、好ましくは散乱層の後に被着された第1の電極の化学エッチング工程の際に、散乱層で被覆された基材を使用するのを可能にする。基材は、まず第一に、浴中での手作業による又は自動化したクリーニング処理に耐えなければならない。これらのクリーニング処理は、有機発光系を被着させる前に、支持体からいずれの微量の有機又は無機物質も、そしてまたいずれの微量の粒子も除去しなければならない。従って、各基材は、塩基性及び酸性の洗浄剤溶液に次々に接触し、各工程の間には中間のすすぎ洗いがある。クリーニング能力は、多くの場合、洗浄剤及び/又は超音波の存在により、及び/又はほぼ40°Cに近い温度の使用により、やはり高められる。よって、一連の浴の一つの例は、表面に付着し又は濃縮した有機物質を溶解することを目的とする、アルカリ性洗浄剤を含む脱イオン水の溶液の第1の浴、次に、可能性のある微量のアルカリ性洗浄剤をすすぎ洗いし除去することを目的とする、硬水によるすすぎ洗いのための第2の浴、次に、可能性のある汚染物質、例えば無機物質の塩や金属酸化物などを溶解するのを目的とする、酸性洗浄剤を含む脱イオン水の溶液の第3の浴、次に、可能性のある微量の酸性洗浄剤をすすぎ洗いし除去することを目的とする、硬水の第4の浴、次に、硬水の第4の浴に由来し、特にガラス基材上の疵の原因となることがよく知られている、可能性のある無機塩を除去するための脱塩水の第5及び第6の浴、からなることができる。各浴は少なくとも30~40°Cの温度に調節され、先に挙げた洗浄剤の浴には、活性溶液の再生を促進しクリーニング効率を上昇させる超音波源を装備してもよい。第5の浴は、固形粒子又は繊維の除去を目的として高周波数の超音波源を有することができる。本発明による1つ又は2つ以上の散乱層を被着する前に基材をクリーニングすることを目的とする一連の処理のこの例を、第1の面の側に補助的な層又は積重体OLED側の抽出層、第1の電極などを被着する前に、又は第1の面の側に補助的な層又は積重体を被着した後に、ガラス質材料の前記層をクリーニングするために使用することができる。次に、全くの説明用の例であって本発明の範囲を少しも限定するものでない例と、添付の図面を活用して、本発明を説明する。図1に表示された種々の構成要素間の比率は、その読み取りを容易にするため、留意されていないことを明記しておく。図1に縮尺不同で模式的に図示したOLED1は、本発明による散乱層2を備えた透明基材10、電極を形成する第1の透明導電性被膜11、有機物質の層単層又は多層12、この有機層に面しそして好ましくは、有機層12により放出された光を透明基材10のそれの反対方向に送り返すことを目的とする反射又は半反射表面を形成する第2の電極を形成する、第2の導電性被膜13、を連続して含む。透明基材10は、所望の最終用途照明デバイスにとって好適な厚さを有する。ガラスは標準的な組成のものであり、あるいは光の吸収を最小限にするため既知のように超透明ガラスと呼ばれるガラスであってもよい。基材10は、その最大の寸法に沿って、第1の面10aと反対側の第2の面10bとを含み、第1の面10aは第1の電極11を含むのに対し、反対側の第2の面10bは散乱層2を備えている。散乱層2は、スクリーン印刷又は任意の好適な技術、例えば塗布、溶液への浸漬ディップコーティング、スプレーなどにより、基材へ付加される。散乱層2は、ガラス質のバインダー20と散乱用構成要素21とを含む。散乱層2は好ましくは、この層の総重量の30の比率の、大きさが600nm程度のアルミナの散乱用粒子21を含有している。ガラス質バインダー20の比率は、層2の総重量のほぼ70である。ガラス質バインダーは、40~60wtの酸化ビスマスBi2O3、あるいは45~58wtの酸化ビスマスBi2O3を含む。組成と試験散乱層のガラス質バインダーの組成の2つの例を表1に示すガラス質バインダーのwtで。各組成割合の合計は測定誤差の範囲内で100に等しい例1は高含有量のBi2O3を有する本発明による例であり、比較例はZnOを有しBi2O3を含まないガラス質バインダーを含む層であり、この比較例の散乱層は、例1の層と同じように、層の総重量の30の比率のアルミナの散乱用粒子を含有している。これらの2つの例のおのおのを、酸例えば電極エッチング用に使用、塩基例えばレジストマスク除去用又は基材クリーニング用に使用、市販の洗浄剤及び溶剤例えば基材クリーニング用に使用を用いた、下記の表2に総括した全部の試験処理にかけ。クリーニング浴の市販洗浄剤は、表2に挙げた体積希釈率で使用した。洗浄剤のFranklabNeutraxは酢酸などの有機酸と金属イオン封鎖剤との混合物からなり、それを1に希釈すると媒体をおおよその値が4の中程度の酸性pHにする。洗浄剤のFranklabTFD66は、金属イオン封鎖剤を含有しているわずかに発泡性のアルカリ性洗浄剤であり、4に希釈することで11程度のpHを与える。RES2は、イオン性及び非イオン性リン酸塩及びポリリン酸塩洗浄剤の混合物の濃度2体積の塩基性アルカリ溶液であって、11程度のpHを有する。各試験は、左側の欄に示した浴に、幅4cm、高さ7cm、厚さ2mmの試験片を各試験片がその高さの80まで浴中に浸漬するように漬けて行い、試験片は約15μmの散乱層を被覆した基材のみからなる。2つの例の耐薬品性を、下記の耐性スケールに従って目視で評価する。レベルN5:層の完全な喪失レベルN4:溶解による局部的消失を伴う強い劣化レベルN3:虹色、色あせ又は白色化などの色の変化を伴うかなりの劣化レベルN2:液-空気界面に対応する部分的浸漬の境界を画定する線の出現を伴う攻撃の開始レベルN1:目に見える攻撃なし変化は、光透過率TL及び散乱透過率TDの値の変動によっても評価される。これらの値はHazemeterBYKタイプの装置で測定される。酸化ビスマスを含有しているマトリックス例1によれば、光透過率TLと散乱透過率TDのレベルは、空気側での抽出のために所望される範囲内にとどまる。表2において分かるように、酸化ビスマスを含んでいる例1の層は、次の浴、すなわち、pHが4の酸:塩酸、硫酸、リン酸、市販洗浄剤:FranklabNeutrax1pH4、FranklabTED664pH11、及び2のRBS25、の浴中に25°C又は40°Cで10分の浸漬に耐える。例1のこれらの層は、次の浴、すなわち、25°CのpHが2の酸:塩酸、リン酸、25°C及び40°Cの市販洗浄剤:FranklabNeutrax1pH4、FranklabTED664pH11、及び2のRBS、の浴中に10分間浸漬する間、比較例の層に関して増大した耐性を有する。良好な耐薬品性のこれらの結果は、pHが11と13の水酸化ナトリウム中での試験で確認され、そしてまた超音波試験でも確認された。満足のできる結果が、例1aでも得られ、これは例1と同じ組成のバインダーを含み散乱用粒子を添加していない散乱層である。気孔及び結晶が散乱用構成要素を構成する。ガラス質バインダーの別の2つの組成を次の表3に示し、これらのバインダーを含み散乱用粒子を添加していない散乱層を酸、塩基、市販の洗浄剤及び溶剤を用いて試験して、例1のものと同様の結果が得られた。各組成割合の合計は測定誤差の範囲内で100に等しい図2は、例1の散乱層の1000倍の倍率の断面傾斜SEM図図上20μmの目盛りを示すを示している。大きな気孔22が容易に観察できる。図2bは、例1の散乱層2の5000倍の倍率の断面傾斜SEM図図上5μmの目盛りを示すを示している。ミクロンサイズの気孔が示されており、アルミナの粒子21も観察される。図3は、例1の散乱層2の5000倍の倍率の上面SEM図図上20μmの目盛りを示すを示している。表面の粗さが容易に観察できる。粗さパラメーターRaは機械式の表面形状測定装置で測定され、200μmの分析長さにわたって、特に0.05μmきざみの測定で、Ra=1350nmが得られる。図4は、例1aに相当している、酸化ビスマスを含有しているガラス質バインダー20と気孔22とを含み散乱用粒子を添加していない本発明による散乱層の1000倍の倍率の断面傾斜SEM図を示している。気孔は大きさがより小さく、表面はより滑らかである。粗さパラメーターRaは機械式の表面形状測定装置で測定され、200μmの分析長さにわたって、特に0.05μmきざみの測定で、Ra=30nmが得られる。製造耐薬品性を強化した散乱層の製造は、様々な工業的方法により、好ましくはスクリーン印刷によって、行うことができる。ペーストスクリーン印刷用のペーストは、粒子に塗布スクリーンを通過させるためのキャリアとして働く、10と50の間の重量比率のスクリーン印刷用媒体からなる。この媒体は、焼成シリカなどの微細な無機粒子あるいはセルロースエーテルと一緒にされてペーストに限界流動特性を与えるアルコール、グリコール、エステル又はテルピネオールからなる有機の媒体でよい。有機媒体の燃焼によって気孔が生じる。使用するペーストは、例えば、Ferro社により市販される媒体80840などのグリコールの混合物から構成される標準的なスクリーン印刷用媒体にガラスフリットを分散させて調製される。ペーストをスクリーン印刷により使用するためのレオロジー特性を、焼成シリカ又はセルロースエーテルを使って最適化する。固形分ガラス質バインダーを構成するは、層に耐薬品性を与える先に示した高い比率の酸化ビスマスを含むガラスフリットである。構成成分のペースト化は、遊星型ミキサーとディスクディスパーサーでもって高速度で行う。高速作業の前であれ後であれ、低速度の装置を併せて使用することもできる。これらの低速装置は、ニーダー又はビータータイプの攪拌機、あるいは毎分数回転の低速で動かされるローラーミキサーに数時間の間載置されるビーズを収容したフラスコからなる。ペーストの品質は、ヘグマンゲージを使って粒子又は凝集体が存在しないことにより評価される。被着被着装置は、縮小した構成の電子タイプのものEKRA、DEKでもよく、例えば板ガラス用などの工業規模のものTHIEMEでもよい。スクリーンは、布帛例えばポリエステル又は金属の網からなる。マスクは、感光性レジスト又は金属板からなることができる。コーティングツールとドクターターブレードは、ポリマー、カーボン又は金属製である。ガラス基材上に被着する厚さは10μmと100μmの間である。厚さは、まず第一に、スクリーンのメッシュ及びその張力の選定によって制御される。厚さはまた、スクリーンと基材との間隔の調整そしてまたブレードに加えられる圧力と移動の速度の調整によっても制御される。厚さは、被覆領域と非被覆領域との間でRodenstockタイプのレーザー光学ベンチを使って制御される。被着物は、使用した媒体の特性に応じて、赤外線又は紫外線トンネル中で100~150°C程度の温度で乾燥させる。散乱層の被着は、スクリーン印刷以外の方法で、例えばロール塗布、浸漬塗布、ナイフ塗布、スプレー塗布、スピン塗布、あるいは流し塗布によって、行ってもよい。組成物のレオロジーを選定した被着方法に適応させるのに、粉体-液比の変更及び添加剤の使用を利用する。同様であるか、あるいは異なる組成を有するか、あるいは1以上の成分の勾配を有する層の積重体を作るために、2つの異なる被着方法を連続して使用してもよい。焼成使用する炉は、自動車の後部窓ガラスの焼成用などのようなローラーにより搬送する、動的な炉でもよく、あるいは好ましくは、基材の平坦性を維持するため金属又はガラス-セラミックプレート上に配置する、静的な炉でもよい。焼成温度は580°Cよりも高い。クリーニングに対する耐性電子産業部門では、クリーンルームにおいて、まず第一に浴での手作業による又は自動化されたクリーニング処理に耐えなくてはならない層を含むこともあり含まないこともある基材を、普通に使用する。これらのクリーニング処理は基材から、いずれの微量の有機又は無機物質も、そしてまた粒子も、取り除かなくてはならない。従って、基材は、塩基性及び酸性の洗浄剤溶液と接触し、中間のすすぎ液と接触して、次々に各工程を通過する。クリーニング能力は、洗浄剤、超音波の存在により、そして多くの場合40°Cに近い温度で、高められる。本発明によるガラス質散乱層の酸化ビスマスに富んだ組成は、前述の浴などのようなこれらの攻撃的な媒体中での耐性をそれに与える。同じ製造方法により製造した比較例のガラス質層は、同じクリーニング条件下で完全に破壊される。OLEDの性能本発明の散乱層の役割を説明するために、別の散乱層を加えずに例REF1、及びREF1aとREF1b、酸化ビスマスなしの散乱層を加えながら例REF2、REF2a及びREF2b、あるいは、例1の散乱層を加えながら例A1、A1a、A1b、第2の面に結合したプラスチックの散乱フィルムを取り除いた第1、第2及び第3の商業的に入手できる有機発光ダイオードを使って、光の抽出と比色分析値の変動とについて測定を行った。従って、例えば例REF1、REF2及びA1では、OSRAM社により市販されており白色光を与える、Orbeos商標として知られる照明用の第1の有機発光ダイオードを使用する。例REF1a、REF2a及びA1aの場合は、LUMIOTEC社により市販されており白色光を与える、Lumiotec商標として知られる照明用の第2の有機発光ダイオードを使用する。例REF1b、REF2b及びA1bの場合は、PHILIPS社により市販されており白色光を与える、Lumiblade商標として知られる照明用の第3の有機発光ダイオードを使用する。最初に、抽出の増加が注目される。抽出の増加は、抽出された光の量の相対的な増加として定義され、すなわち、本発明の解決策散乱層の追加ありのデバイスとなしのデバイスにより放出される光の量の差と、解決策なしのデバイスによって放出される光の量との比として定義される。従って、それを測定するためには、解決策を施していないOLEDから出てゆく全光束と解決策を施したOLEDから出てゆくそれとを比較することが重要になる。両方の事例において光束の全部を確実に集めるために、2つのOLEDを公知のやり方でもって一つずつ、積分球内に配置する。Orbeos商標とLumiblade商標の2つのOLEDについては、比較用の散乱層REF2及びREF2bを備えた例又は例1による散乱層A1及びA1b備えた例に関して、増加は実質的に40であり、プラスチック散乱フィルムなしのダイオードREF1及びREF1bに関しては40である。更に、Orbeos商標とLumiblade商標の2つのOLEDについては、散乱用粒子を含まない本発明による散乱層を備えた例の場合に増加は実質的に25であり、プラスチック散乱フィルムなしのダイオードREF1及びREF1bに関しては25である。最後に、下記の表4には前述の例REF1~A1bについての光路長Vc1~Vc3を掲載している。角度による比色分析値の変動は、散乱層ありの場合、特に本発明による散乱層ありの場合に、はるかに小さく、はるかにより均一な白色光を保証するということが認められる。従って、基材上の本発明による散乱層は、OLEDの抽出の増加を増大させるのと、より均一な光を提供するため放出光の比色分析値の変動を減少させるのと、耐薬品性且つ耐熱性であることを、同時に可能にすることが分かる。