"直線偏光層と、第1位相差層と、透明導電膜を有するタッチパネル層と、第2位相差層とが、順に積層されてなるタッチパネルであって、前記第1位相差層及び第2位相差層の少なくとも一方が、シクロオレフィンコポリマーを成分として形成される未延伸フィルムの表面上に、複数の光重合性の液晶分子が硬化されてなる位相差コート層が積層された位相差フィルムからなり、前記位相差フィルムにおける前記位相差コート層が積層された表面と反対側の表面上に、前記タッチパネル層を構成する透明導電膜が形成されていることを特徴とするタッチパネル。前記位相差コート層は、前記複数の液晶分子がその方位を揃えて配列された状態で鎖状に結合されて構成されていることを特徴とする請求項1記載のタッチパネル。前記未延伸フィルムにおける前記位相差コート層が積層された表面にはラビング処理が施され、前記複数の液晶分子は、ラビング処理が施された方向に沿って配向していることを特徴とする請求項1または2記載のタッチパネル。前記シクロオレフィンコポリマーは、ノルボルネンとエチレンとの共重合比率が80:20~90:10、MVRメルトボリュームレートが0.8~2.0cm3/10分である、環状オレフィンの付加共重合体を成分とすることを特徴とする請求項1~3のいずれか記載のタッチパネル。前記タッチパネル層は、間隙をおいて対向配置された1対の透明導電膜を有する抵抗膜式タッチパネルからなることを特徴とする請求項1~4のいずれか記載のタッチパネル。前記タッチパネル層は、1層または2層の位置検出用の透明導電膜を有する静電容量式タッチパネルからなることを特徴とする請求項1~4のいずれか記載のタッチパネル。このように位相差フィルムを用いた光学TTPを製造するときに、位相差フィルムの上に透明導電膜を形成する場合には、位相差フィルムがタッチパネルのベースフィルムを兼ねた構成とすることでタッチパネルの厚みを低減できて好ましいが、透明導電膜を低抵抗にするべく150°C以上の高温で加熱すると、位相差フィルムも必然的に高温加熱されて、そのリタデーション値が変化してしまう。そして、位相差フィルムのリタデーション値が変化したタッチパネルをディスプレイ上に貼り付けると、ディスプレイからの光透過性が妨げられたり、あるいは外光の反射を抑制する効果が損なわれたりする。このような背景のもとで、従来の円偏光構成のタッチパネルにおいては、その製造工程において、透明導電膜の加熱処理をあまり高温では行わず、従って、低抵抗の透明導電膜を形成しにくい問題がある。本発明は、上記課題に鑑み、高温で加熱してもリタデーション値に変化が生じにくい位相差フィルムを提供し、それによって、円偏光構成のタッチパネルにおいて、透明導電膜を低抵抗値にし、且つ厚みを低減できるタッチパネルを提供することを目的とする。上記目的を達成するため、本発明にかかるタッチパネルは、直線偏光層と、第1位相差層と、透明導電膜を有するタッチパネル層と、第2位相差層とが、順に積層されてなるタッチパネルであって、前記第1位相差層及び第2位相差層の少なくとも一方が、シクロオレフィンコポリマーを成分として形成される未延伸フィルムの表面上に、複数の光重合性の液晶分子が硬化されてなる位相差コート層が積層された位相差フィルムからなり、前記位相差フィルムにおける前記位相差コート層が積層された表面と反対側の表面上に、前記タッチパネル層を構成する透明導電膜が形成されていることを特徴とする。なお、上記第1位相差層が、複数の位相差層からなる場合もある。上記位相差コート層は、複数の液晶分子がその方位を揃えて配列された状態で鎖状に結合されて構成されていることが好ましい。未延伸フィルムにおける位相差コート層が積層された表面にラビング処理を施しておいて、複数の液晶分子を、ラビング処理が施された方向に沿って配向させることが好ましい。上記シクロオレフィンコポリマーとして、ノルボルネンとエチレンとの共重合比率が80:20~90:10、MVRメルトボリュームレートが0.8~2.0cm3/10分である、環状オレフィンの付加共重合体を成分とすることが好ましい。上記タッチパネル層が、間隙おいて対向配置された1対の透明導電膜を有する抵抗膜式である場合には、本発明が特に有効である。タッチパネル層が、1層または2層の位置検出用の透明導電膜を有する静電容量式タッチパネルからなる場合にも、本発明は有効である。本発明にかかるタッチパネルは、第1位相差層及び第2位相差層の少なくとも一方が、シクロオレフィンコポリマーを成分として形成される未延伸フィルムの表面上に、複数の光重合性の液晶分子が硬化されてなる位相差コート層が積層された位相差フィルムからなり、このシクロオレフィンコポリマーからなる未延伸フィルムは従来から位相差フィルムとして用いられている延伸フィルムと比べると耐熱性が優れ、複数の液晶分子が硬化されてなる位相差コート層も耐熱性に優れる。すなわち、フィルム基材の材料が耐熱性を有するシクロオレフィンコポリマーからなり、また未延伸なので、高温で加熱されても、延伸フィルムと比べて収縮等が発生しにくく、光学的な特性も変化しにくい。また、位相差コート層は、複数の液晶分子が硬化されて形成されているので、高温で加熱されても、液晶分子同士の位置関係が維持されるので、やはり光学的特性が変化しにくい。従って、加熱時における位相差コート層のリタデーション値の変化は少ない。特に、位相差コート層を、複数の液晶分子がその方位を揃えて配列された状態で鎖状に結合された構成にすれば、加熱時においても液晶分子の配列された状態が維持されてリタデーション機能が維持されるので、加熱によるリタデーション値の変化が小さくなる。よって、本発明のタッチパネルにおいては、透明導電膜を低抵抗値にし、且つ光透過性及び反射光の抑制機能も良好にすることができる。上記本発明にかかるタッチパネルにおいて、第1位相差層および/または第2位相差層に用いられている位相差フィルムにおける位相差コート層が積層された表面と反対側の表面上に、タッチパネル層を構成する透明導電膜を形成すれば、位相差フィルムがタッチパネル層の基材を兼ねることができるので、タッチパネルの厚みを低減することができる。このように、位相差フィルムがタッチパネル層の基材を兼ねるタイプのタッチパネルでは、透明導電膜を高温加熱してアニーリングするときに位相差層も高温加熱されるので、透明導電膜の低抵抗化とリタデーション値の変化抑制の両効果を合わせて得ることが難しいが、上記本発明の位相差フィルムは耐熱性を有するので、この位相差フィルム上の透明導電膜を高温で加熱処理することによって、透明導電膜を低抵抗にすることができ、且つリタデーション値の変化抑制効果を得ることができる。本発明のタッチパネルにおいて、位相差コート層が積層された表面に、複数の液晶分子が配向する方向にラビング処理を施しておけば、その表面に液晶分子の組成物をコートすることにより、ラビング処理によって形成された筋に沿って液晶分子を配向させることができるので、良好なリタデーション機能を有する位相差コート層を容易に形成することができる。本発明のタッチパネルにおいて、特に、シクロオレフィンコポリマーとして、ノルボルネンとエチレンとの共重合比率が80:20~90:10、MVRメルトボリュームレートが0.8~2.0cm3/10分である環状オレフィンの付加共重合体を成分とするものは、フィルム製造時に流動性を確保するのと、フィルムの強度を確保する上で好ましい。図1は、実施の形態にかかる偏光板付抵抗膜式透明導電膜式タッチパネル1以下、単にタッチパネル1と言う。の構成と、これに組み合わされるLCDとの構成例を示す組図である。図2は、タッチパネル1のA-A’断面図である。図1に示されるように、タッチパネル1は、上から順に、偏光板10、透明導電膜付位相差フィルム2a、スペーサ16、フレキシブルコネクタ30、透明導電膜付位相差フィルム2bが積層されて構成され、タッチパネル1の透明導電膜付位相差フィルム2bの下に、偏光板50、LCD本体20、偏光板60が、同順に積層され、粘着剤厚み約25μmを介して貼り合わせられており、全体としてLCD一体型のタッチパネルが構成されている。偏光板10、偏光板50、偏光板60は、各々厚み200μmの直線偏光板である。LCD本体20は、例えば、TFT型LCD基板であって、上から下に、不図示の透明層、カラーフィルタ、液晶分子層、TFT基板、透明層が積層されてなるユニット構成である。<タッチパネル1の構成>上記タッチパネル1において、透明導電膜付位相差フィルム2aは、位相差フィルム12の表面に透明導電膜13が積層されてなり、透明導電膜付位相差フィルム2bは、位相差フィルム15の表面に透明導電膜14が積層されてなる。各位相差フィルム12,15は、いずれも、厚みが約75~200μmのλ4位相差フィルムであり、タッチパネル層40を構成する透明導電膜13,14のベースフィルムとしての役割も果たしている。これによって、タッチパネルの全体的な厚みを薄く約500μmすることができる。透明導電膜13,14は、ITOIndiumTinOxide、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、酸化亜鉛-酸化錫系、酸化インジウム-酸化錫系、或いは各種金属材料等で構成された膜であって約30nmの厚みを持つ。透明導電膜付位相差フィルム2aと透明導電膜付位相差フィルム2bとは、図2の断面図に示すように、リブスペーサ18によって互いの間隙が規定されている。そして、透明導電膜13と透明導電膜14との間には一定の間隙17が確保されている。リブスペーサ18は、例えば、プラスチックフィルムの両面に粘着材層を有する両面テープで形成され、その高さが50μmである。また、位相差フィルム15の表面上には、xy方向に沿ってマトリクス状にスペーサ16が一定間隔毎に配設され、透明導電膜13,14同士が不要に接触するのが抑えられている。以上説明したタッチパネル1において、間隙17を開けて配置された透明導電膜13と透明導電膜14によってタッチパネル層40が構成され、このタッチパネル層40の上下に位相差フィルム12,15が積層され、位相差フィルム12,15の上下に偏光板10及び偏光板50が積層された構成となっている。タッチパネル1の配線について説明する。図1に示す例では、透明導電膜13,14は、位相差フィルム12,15の対向表面において矩形状に形成されている。そして、当該透明導電膜13,14には、y軸,x軸にに沿って、引き出し線131,132,141,142が配設され、xy直交座標が形成されている。引き出し線131、132、141、142には、電極端子131a、132a、141a、142aが設けられている。なお、133は、電極端子132aと引き出し線132を接続する接続線である。透明導電膜13,14の間には、フレキシブルコネクタ30が所定の位置に介設されている。当該フレキシブルコネクタ30は、フレキシブル基板301の表面に、配線302~305が配設されてなり、配線302~305には電極端子302a~305aが形成されている。<タッチパネル1の動作>タッチパネル1は、駆動時において、まずy軸に沿った引き出し線131、132間に0~5V程度の直流電圧を印加しておき、ユーザーによる入力がなされるとx軸に沿った引き出し線141、142を電圧検出電極としてy軸方向の位置データを獲得する。次に、x軸に沿った引き出し線141、142間に電圧印加を行い、y軸に沿った引き出し線131、132を電圧検出電極とすることでx軸方向の位置データを獲得することにより、xy両方の座標情報を得る。タッチパネル1ではこのような検出ステップを交互に繰り返すことにより、逐次的にユーザーからの入力情報を獲得し、GUIGraphicalUserInterfaceとしての機能を発揮する。<タッチパネル1における反射防止機能>LCD本体20から上方に光が出射され偏光板50を通過した直線偏光は、位相差フィルム15を通過して円偏光となり、さらに位相差フィルム12を通過して直線偏光となり、偏光板10を通過して上方に出射される。偏光板10の上方から入射される外光は、偏光板10で直線偏光となり、位相差フィルム12を透過して円偏光となる。そして、この円偏光がタッチパネル層40で反射されると、反射された円偏光が再び位相差フィルム12を通過して直線偏光となり偏光板10に入射されるが、この反射直線偏光の振動面は、上記の入射直線偏光の振動面と垂直なので、偏光板10を通過できない。従って、反射光が抑えられる。<位相差フィルム12,15の構成>上記タッチパネル1に用いられている位相差フィルム12は、図3に示すように、エチレン-ノルボルネン共重合体からなる環状オレフィン系樹脂で形成された無延伸のフィルム基材120の表面上に、重合性液晶ポリマーからなる位相差コート層121が形成された構成である。位相差コート層121は、複数の液晶分子がその方位を揃えて配列された状態で鎖状に結合された構造を有している。また、位相差フィルム15もこの位相差フィルム12と同様の構成である。<タッチパネル1の製造方法>位相差フィルムの製造方法タッチパネル1に用いる位相差フィルム12,15を製造する方法を説明する。ここでは代表的に位相差フィルム12を製造する方法について、図4を参照しながら説明する。位相差フィルム12は、エチレン-ノルボルネン共重合体からなる環状オレフィン系樹脂でフィルム基材となる無延伸フィルムを作製し、その表面をラビング処理して、その上に重合性液晶ポリマーによる層を形成する方法で製造する。各工程について以下に詳しく説明する。無延伸フィルムの製造:フィルム基材の材料となる樹脂は、エチレン-ノルボルネン共重合体からなる環状オレフィン系樹脂である。エチレン-ノルボルネン共重合体は、市販品を用いることができる。市販品としては、TOPASAdvancedPolymers社製、商品名TOPAS等を挙げることができる。ノルボルネンとエチレンとの共重合比率については、170°C以上の高いガラス転移温度を得る上で、ノルボルネンの比率は80以上が好ましい。また、フィルムの強度を得る上で、エチレンの比率は10以上が好ましい。従ってエチレン、ノルボルネンの重量比率には注意が必要である。この点について、エチレンとのノルボルネンの重量比率を変更した場合の耐熱評価データを表1に示す。評価方法としては、A5サイズ148mm×210mmにフィルムをカットした後、150°Cに設定された熱風循環炉の中に30分間入れて、フィルムの変形の有無を調べた。なお、フィルムは4隅に立てたピンの上に置き、フィルムの中央部が垂れ下がった場合に、フィルムの軟化による変形が発生していると判断した。環状オレフィンコポリマーCOCフィルムとしてTAPポリプラスチックス株式会社製TOPASを使用ノルボルネンとエチレンとの共重合体に、紫外線吸収剤、無機や有機のアンチブロッキング剤、滑剤、静電気防止剤、安定剤等各種公知の添加剤を添加してもよい。ノルボルネンとエチレンとの共重合体の吸水率23°C/24時間は、通常、0.005~0.1程度であるのが好ましい。ノルボルネンとエチレンとの共重合体の屈折率は、通常、1.49~1.55程度であり、光線透過率は、93.0~90.8程度である。MVRメルトボリュームレートは、JISK7210に準拠して温度260°C、荷重2.16kgの条件での10分当たりの吐出体積cm3が、0.8cm3/10分以下では、流動性が低く、原料製造時あるいはフィルム製造時に成形機内の圧力が高くなりすぎて製造できない。またMVRが2.0cm3/10分以上では、得られるフィルムの強度が弱くなり、必要な後加工コーティング、薄膜形成等工程に耐えることができない。よって、適切なMVR値を用いるべきである。この点について、各MVR値での製造における官能試験を行い、得られたデータを表2に示す。環状オレフィンコポリマーCOCフィルムとしてTAPポリプラスチックス株式会社製TOPASを使用上記環状オレフィン系樹脂をフィルム状に成形して、無延伸フィルムを作製する。フィルム成形する方法としては、例えば溶液流延法、押出し法、カレンダー法等が挙げられる。フィルムの厚みは20μm~300μmが好ましい。フィルムの表面には、コロナ処理等の表面改質処理を行ってもよい。ラビング処理:上記のように作成されたフィルム基材の表面をラビング処理する。図4aはこのラビング処理する様子を示す図である。水平移動可能なステージの上にフィルム基材が積置されている。ステージ上方には、回転軸が位置が固定されたローラーがあり、その周面にはラビング用の布例えばレーヨン製の布が巻き付けられている。このローラーを矢印a方向に一定の速度で回転させながら、ステージを矢印b方向に水平移動させる。水平移動が進むにつれて、回転するローラ外周のラビング布が、フィルム基材の表面をラビングする。これによって、フィルム基材の表面全体に、ラビング方向に沿った傷が形成される。液晶ポリマー組成物の塗布:次に、フィルム基材におけるラビング処理した表面上に、液晶ポリマー組成物を塗布し、硬化させて、液晶ポリマーからなる位相差コート層121を形成する。液晶ポリマー組成物としては、多官能性液晶性ポリマー組成物、あるいは、液晶と光硬化性モノマーの混合物を用いる。多官能性液晶性ポリマー組成物には、光重合性液晶モノマー組成物は、液晶分子及びモノマーが含まれている。光重合性液晶モノマー組成物は、少なくとも光重合性基を1つ以上持ち、同時にメソゲン構造を少なくとも1つ以上併せ持つ材料により構成される。例えばアクリル基を1つ、ビフェニル基を1つ持つ単官能液晶アクリレートから構成される液晶ポリマーを、アクリル基を2つ、ビフェニル基を1つ持つ2官能液晶アクリレートで希釈し、光重合性開始剤を混合した組成物などを用いることができる。さらに具体的に言えば、特開2010-132724号公報に開示されている光重合性液晶モノマー組成物を使用することができる。液晶ポリマー組成物を、フィルム基材120上に塗布する方法としては、スピンコート法、バーコート法、ダイコーター法、スクリーン印刷法、スプレーコーター法、グラビアコート法など、一般的に知られている塗布方法を用いることができる。図4bに示すように、塗布された液晶ポリマー組成物層121aの中には、液晶分子が多数含まれているが、各液晶分子は、フィルム基材120の表面上において、ラビング方向に沿った方位に配向される。このように液晶分子が配向されるのは、フィルム基材120の表面には、ラビング方向に沿った傷が形成されており、各液晶分子は、この傷に沿った方向を向く方が安定するためと考えられる。塗布された組成物の硬化:液晶ポリマー組成物層121aから溶剤を除去して乾燥させ、液晶ポリマー組成物層121aを固定化する。液晶ポリマー組成物層121aに光を照射して重合させる。光照射の光源としては,キセノンランプ,高圧水銀ランプ,エキシマレーザー,ナトリウムランプ,ハロゲンランプ,ブラックライト等を用いることができる。紫外線を照射することにより、光硬化性モノマーが反応して、配列されている液晶分子が架橋される。配列されている液晶分子の方位が揃った状態で固定される。以上で、フィルム基材120の上に位相差コート層121が積層された位相差フィルムが作製される。なお、上記の液晶ポリマー組成物の塗布工程における塗布量については、形成される位相差コート層121のリタデーション値が、視覚に最も作用する波長λ=550nmの14である約138nmとなるように設定する。透明導電膜の成膜作製されたフィルム基材120の表面に、ITOなどの透明電極材料で透明導電膜13を成膜する。この成膜工程は、透明導電膜材料を、スパッタリング法をはじめとして、CVD、BVD、真空蒸着法、プラズマ法等、各種の薄膜形成方法で行うことができる。通常、成膜時においては、フィルム基材120を加熱しながら、その表面上に薄膜形成を行うことが好ましい。以上で、位相差フィルム12に透明導電膜13が積層された透明導電膜付位相差フィルム2aが形成される。位相差フィルム15に透明導電膜14が積層された透明導電膜付位相差フィルム2bも同様にして形成される。なお、上記のフィルム基材を作製する工程から透明導電膜形成工程まで、ロールツーロールで連続的に行うこともできる。また、透明導電膜の光学特性を調節するために、成膜後的に、透明導電膜付き位相差フィルムを加熱してアニーリングを行ってもよい。一般に透明導電膜に対して150°C以上の高温度でアニーリングを行うことによって、透明導電膜の低抵抗化を促進することができる。タッチパネル1の組立以上のように作製した位相差フィルム12に透明導電膜13を形成した透明導電膜付位相差フィルム2a、及び、位相差フィルム15に透明導電膜14を形成した透明導電膜付位相差フィルム2bを用いて、タッチパネル1を組み立てる。この組立工程においては、偏光板10、透明導電膜付位相差フィルム2a、スペーサ16、フレキシブルコネクタ30、透明導電膜付位相差フィルム2bを、透明粘着剤を介して積層して貼り合わせることによってタッチパネル1を作製する。<実施形態による効果>上記タッチパネル1によれば、位相差フィルム12が、環状オレフィン樹脂からなる未延伸のフィルム基材120の表面上に、複数の光重合性の液晶分子が硬化されてなる位相差コート層121が積層された構成であり、位相差フィルム15も同様である。この環状オレフィン樹脂からなる未延伸フィルムは、延伸フィルムと比べると耐熱性に優れる。すなわち、環状オレフィン樹脂からなる未延伸フィルムは、高温で加熱されても収縮等が発生しにくく、光学的な特性も変化しにくい。また、位相差コート層も、複数の液晶分子が硬化されて形成されているので、高温で加熱されても、液晶分子同士の位置関係が維持される。特に、位相差コート層121が、複数の液晶分子がその方位を揃えて配列された状態で鎖状に結合された構成にしているので、加熱時においても液晶分子の配列された状態が維持されてリタデーション機能が維持される。従って、位相差フィルム12,15は、150°C以上の高温で加熱しても、そのリタデーション値の変化は少ない。このように、位相差フィルム12,15が耐熱性を有するので、位相差フィルム12,15の上に、透明導電膜13,14を形成した後に、150°C以上の高温でアニーリングを施して透明導電膜を低抵抗化することができ、且つリタデーション値の変化が小さく安定している。従って、位相差フィルム12,15を用いれば、低抵抗の透明導電膜を表面に形成し、且つ、リタデーション値が安定した透明導電膜付きの位相差フィルムを形成することができる。よって、位相差フィルム12,15を用いたタッチパネル1は、透明導電膜を低抵抗にすることができ、且つ光透過性及び反射光の抑制機能も良好に得ることができる。<変形例など>1.上記実施の形態では、位相差フィルム12,15が、タッチパネル層40を構成する透明導電膜13,14を支持するベースフィルムを兼ねていたが、タッチパネル層40において、透明導電膜13,14を支持するベースフィルムを、位相差フィルム12,15とは別に設けてもよい。あるいは位相差フィルム12,15のいずれか一方だけが透明導電膜を支持するベースフィルムを兼ねるようにして、他方はベースフィルムを別途に設けるようにしてもよい。2.上記実施の形態では、位相差フィルム12,15を用いて透明導電膜式のタッチパネル1を構成したが、位相差フィルム12,15と同様の位相差フィルム、すなわち無延伸フィルム上に複数の光重合性の液晶分子が硬化されてなる位相差コート層を積層した位相差フィルムを用いて、静電容量式のタッチパネルを構成することもできる。静電容量式の場合、タッチパネル層40において、12層の位置検出用の透明導電膜が絶縁層を介して積層して設けられるか、21層の位置検出用の透明導電膜が設けられる。1タッチパネル層40を、2層の透明導電膜が絶縁層を介して積層された構成とする場合には、例えば、図6aに示されるようにベースフィルム上にX方向検出用透明電極パターン71aを形成した透明電極付フィルム70と、図6bに示されるようにベースフィルム上にY方向検出用透明電極パターン81を形成した透明電極付フィルム80を、粘着材等を介して積層することによってタッチパネル層40が構成される。この場合、各透明電極パターン71、81の形状は、単なるライン状でも可能であるが、タッチ時の感度向上の為、各透明電極パターン71,81には、ひし形部分71a,81aを直線上に並べて形成している。各ひし形部分71a,81aは、全体でマトリックス状に配列され、X方向検出用パターン71のひし形部分71aと、Y方向検出用パターン81のひし形部分81は互いに重ならない配置にしている。この静電容量式のタッチパネル層においても、位相差フィルム12,15と同様の位相差フィルムを、各透明電極パターンを形成するベースフィルムとして兼用させることできる。2タッチパネル層40において、透明導電膜を1層形成する場合は、図6c,dに示すように、1つのベースフィルム上に、X方向検出用透明電極パターン91及びY方向検出用透明電極パターン92を設けている。各透明電極パターン91,92には、ひし形部分91a,92aが並べて形成されている。ひし形部分91a,92aは、全体でマトリック状に配置され、ひし形部分91a、92a同士は互いに重ならないよう配置されている。透明電極パターン91においては、ひし形部分91a同士の間に導通部91b存在し、透明電極パターン92においても、ひし形部分92a同士の間に導通部92b存在している。そして、X方向検出用透明電極パターン91における導通部91bとY方向検出用透明電極パターン92における導通部92bとが、絶縁パターン層93を介して交差している。このようにX方向検出用透明電極パターン91と、Y方向検出用透明電極パターン92とは、互いに交差する箇所において絶縁パターン層93が介在して絶縁されている。この静電容量式のタッチパネル層においても、位相差フィルム12と同様の位相差フィルムを、透明電極パターンを形成するベースフィルムとして兼用させることできる。3.上記実施の形態では、未延伸のフィルム基材120の表面をラビング処理する方法を用いて、フィルム基材120の表面上に塗布される組成物に含まれる液晶分子の方位を揃えたが、ラビング処理以外の方法でも、フィルム基材120の表面に1方向に微細な傷をつければ、同様に、液晶分子の方位を制御することが可能と考えられる。また、液晶分子の方位を揃える方法として、フィルム基材120の表面に傷をつける以外に、例えばケミカルラビングによって、フィルム基材120の表面の化学的構造を一方向に配向させる方法、あるいは、ナノインプリントによって、フィルム基材120の表面に一方向に沿った微細なラインを形成するといった方法でも、液晶分子の方位を揃えることが可能と考えられる。上記実施の形態に基づいて、実施例及び比較例にかかる位相差フィルムを作製し、その耐熱性について試験した。実施例:フィルム基材120を作製する材料については、下記A,Bの2種類を用いた。A:商品名TOPASTOPASAdvancedPolymers社製を用い、ノルボルネンとエチレンとの共重合比率が82:18であり、ガラス転移温度Tg180°C、MVR=1.5の共重合体を、溶融押出法にて樹脂温度300°C、引取りロール温度130°Cで成形することによって、厚みが100μmのフィルムを作製したフィルム基材A。ここで、ガラス転移点Tgは、JISK7121に準拠して示差走査熱量測定器株式会社島津製作所製DSC-60により測定した。位相差コート層121を形成する材料は、大阪有機化学工業株式会社製光重合性液晶性ポリマー組成物SIRシリーズを用いた。上記位相差コート材料を、コロナ処理を行ったフィルム基材A上にバーコート法で塗工した後、100°C5分で乾燥させ、高圧水銀ランプで積算光量100mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させ、厚み1μmの位相差コート層を形成した。リタデーションを、王子計測機器製自動複屈折計KOBRA21ADHで測定したところ、138nmであった。上記フィルム基材Aを用いて作製した位相差フィルムをA1とする。比較例1:B:フィルム基材120として、シクロオレフィンポリマー樹脂からなる、厚みが100μm、ガラス転移温度Tgが160°Cのフィルム基材日本ゼオン株式会社製ZF16を準備したフィルム基材B。上記フィルム基材B上に、実施例1と同様に、厚み1μmの位相差コート層を形成して作製した位相差フィルムをB1とする。リタデーションを測定したところ、138nmであった。比較例2及び3:上記A,Bの2種類のフィルム基材120を延伸することによって、比較例にかかる位相差フィルムA2厚み86μm、B2厚み91μmを作製した。リタデーションを測定したところ、いずれも138nmであった。耐熱試験の方法作製した実施例にかかる位相差フィルムA1,B1及び比較例にかかる位相差フィルムA2,B2について、それぞれ35mm角のサイズに切った試験片を作製し、その試験片を、110°C~170°Cの各温度で30分間づつ加熱して、加熱前と加熱後のリタデーション値を測定して、各温度におけるリターションの変化を求めた。表3及び図5は、実施例及び比較例にかかる位相差フィルムA1,B1,A2,B2について、各温度におけるリタデーション値の変化を示す図表である。このリタデーション値の変化は、加熱前と比べて加熱後において位相差フィルムにおけるλ4の値が138nmからどの程度変化したかを示すものであって、このリタデーション値の変化が大きいと、位相差フィルムを用いてタッチパネルを組み立てたときに、タッチパネルの透明性が低下したり反射防止効果が低下する原因となる。図5から、比較例にかかる位相差フィルムA1,B1では、加熱温度150°C以上においてリタデーション値の変化が顕著に見られるのに対して、位相差フィルムA1,B1は、150°C以上でもリタデーション値の変化が小さいことがわかる。この結果は、フィルム材料を延伸することによって作製した位相差フィルムをと比べると、無延伸のフィルム上に複数の光重合性の液晶分子が硬化されてなる位相差コート層を積層した位相差フィルムの方が、耐熱性が優れることを示している。また、位相差フィルムA1,B1はいずれも150°C以上でもリタデーション値の変化が小さかったものの、比較例にかかる位相差フィルムB1は150°C以上ではフィルムの変形が目視で確認された。従って、位相差フィルム12,15として実施例の位相差フィルムを用いることによって、タッチパネルの光透過性及び反射光の抑制機能を良好に得ることができることを裏付けている。"