"光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子を含むバインダーと、光拡散粒子とを少なくとも含有し、前記光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子の屈折率が2.2以上3.0以下であり、前記バインダーの屈折率Aと前記光拡散粒子の屈折率Bとの屈折率差|A-B|が0.2以上1.0以下であり、前記光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子の含有量が、前記バインダーに対し、10体積以上30体積以下であることを特徴とする光拡散層形成材料。光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子が、酸化チタン微粒子表面をアルミナ、シリカ、及びジルコニアの少なくとも1種で被覆した酸化チタン微粒子である請求項1に記載の光拡散層形成材料。被覆した酸化チタン微粒子の被覆表面に樹脂を被覆してなる請求項2に記載の光拡散層形成材料。光拡散粒子が、架橋状態の樹脂粒子である請求項1から3のいずれかに記載の光拡散層形成材料。光拡散粒子の屈折率が、1.0~3.0である請求項1から4のいずれかに記載の光拡散層形成材料。重合開始剤を更に含有する請求項1から5のいずれかに記載の光拡散層形成材料。基板と、該基板上に請求項1から6のいずれかに記載の光拡散層形成材料により形成された光拡散層とを有することを特徴とする光取り出し部材。光拡散層上に、光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子を含むバインダーを含有する平坦化層を有する請求項7に記載の光取り出し部材。光拡散層における光拡散粒子の含有量が30体積以上66体積以下である請求項7から8のいずれかに記載の光取り出し部材。光拡散層の平均厚みが1μm~10μmであり、かつ前記光拡散層と平坦化層の合計平均厚みが2μm~15μmである請求項7から9のいずれかに記載の光取り出し部材。基板と、該基板上に、透明電極と、反射電極と、前記透明電極と前記反射陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置であって、前記基板が、請求項7から10のいずれかに記載の光取り出し部材であり、封止缶内に、少なくとも、前記透明電極、前記反射電極、前記有機電界発光層、及び前記光拡散層が封入されていることを特徴とする有機電界発光装置。基板と、該基板上に、透明電極と、反射電極と、前記透明電極と前記反射陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置であって、前記基板が、請求項8から10のいずれかに記載の光取り出し部材であり、前記透明電極と、前記平坦化層又は前記光拡散層との間に、バリア層を有することを特徴とする有機電界発光装置。基板上に、請求項1から6のいずれかに記載の光拡散層形成材料を塗布し、光拡散層を形成する光拡散層形成工程と、前記光拡散層上に、請求項1から6のいずれかに記載の光拡散層形成材料から光拡散粒子を除いた平坦化層形成材料を塗布し、平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、を少なくとも含むことを特徴とする有機電界発光装置の製造方法。本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、分散性が良好で、成膜性に優れ、経時変化の少ない光拡散層形成材料、該光拡散層形成材料を用いた光取り出し部材、並びに該光取り出し部材を有し、光取り出し効率が向上した有機電界発光装置及び有機電界発光装置の製造方法を提供することを目的とする。前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、<1>光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子を含むバインダーと、光拡散粒子とを少なくとも含有し、前記光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子の屈折率が2.2以上3.0以下であり、前記バインダーの屈折率Aと前記光拡散粒子の屈折率Bとの屈折率差|A-B|が0.2以上1.0以下であり、前記光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子の含有量が、前記バインダーに対し、10体積以上30体積以下であることを特徴とする光拡散層形成材料である。<2>光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子が、酸化チタン微粒子表面をアルミナ、シリカ、及びジルコニアの少なくとも1種で被覆した酸化チタン微粒子である前記<1>に記載の光拡散層形成材料である。<3>被覆した酸化チタン微粒子の被覆表面に樹脂を被覆してなる前記<2>に記載の光拡散層形成材料である。<4>光拡散粒子が、架橋状態の樹脂粒子である前記<1>から<3>のいずれかに記載の光拡散層形成材料である。<5>光拡散粒子の屈折率が、1.0~3.0である前記<1>から<4>のいずれかに記載の光拡散層形成材料である。<6>重合開始剤を更に含有する前記<1>から<5>のいずれかに記載の光拡散層形成材料である。<7>基板と、該基板上に前記<1>から<6>のいずれかに記載の光拡散層形成材料により形成された光拡散層とを有することを特徴とする光取り出し部材である。<8>光拡散層上に、光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子を含むバインダーを含有する平坦化層を有する前記<7>に記載の光取り出し部材である。<9>光拡散層における光拡散粒子の含有量が30体積以上66体積以下である前記<7>から<8>のいずれかに記載の光取り出し部材である。<10>光拡散層の平均厚みが1μm~10μmであり、かつ前記光拡散層と平坦化層の合計平均厚みが2μm~15μmである前記<7>から<9>のいずれかに記載の光取り出し部材である。<11>基板と、該基板上に、透明電極と、反射電極と、前記透明電極と前記反射陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置であって、前記基板が、前記<7>から<10>のいずれかに記載の光取り出し部材であり、封止缶内に、少なくとも、前記透明電極、前記反射電極、前記有機電界発光層、及び前記光拡散層が封入されていることを特徴とする有機電界発光装置である。<12>基板と、該基板上に、透明電極と、反射電極と、前記透明電極と前記反射陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置であって、前記基板が、前記<8>から<10>のいずれかに記載の光取り出し部材であり、前記透明電極と、前記平坦化層又は前記光拡散層との間に、バリア層を有することを特徴とする有機電界発光装置である。<13>基板上に、前記<1>から<6>のいずれかに記載の光拡散層形成材料を塗布し、光拡散層を形成する光拡散層形成工程と、前記光拡散層上に、前記<1>から<6>のいずれかに記載の光拡散層形成材料から光拡散粒子を除いた平坦化層形成材料を塗布し、平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、を少なくとも含むことを特徴とする有機電界発光装置の製造方法である。本発明によると、従来における問題を解決することができ、分散性が良好で、成膜性に優れ、経時変化の少ない光拡散層形成材料、該光拡散層形成材料を用いた光取り出し部材、並びに該光取り出し部材を有し、光取り出し効率が向上した有機電界発光装置及び有機電界発光装置の製造方法を提供することができる。光拡散層形成材料本発明の光拡散層形成材料は、光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子を含むバインダーと、光拡散粒子とを少なくとも含有してなり、重合開始剤、溶媒、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。<バインダー>前記バインダーは、光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子と、ポリマーとを含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。<<光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子>>前記光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子は、光触媒活性を有していなければ特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1酸化チタン微粒子表面をアルミナ、シリカ、及びジルコニアの少なくとも1種で被覆した酸化チタン微粒子、2前記1の被覆した酸化チタン微粒子の被覆表面に樹脂を被覆してなる酸化チタン微粒子などが挙げられる。前記樹脂としては、例えばポリメタクリル酸メチルPMMAなどが挙げられる。前記光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子が、光触媒活性を有さないことの確認は、例えばメチレンブルー法により行うことができる。前記光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子における酸化チタン微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、結晶構造は、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼが主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。前記酸化チタン微粒子は、酸化チタン以外の金属酸化物を添加して複合化させても構わない。前記酸化チタン微粒子に複合化させることができる金属酸化物としては、Sn、Zr、Si、Zn、及びAlから選択される少なくとも1種の金属酸化物が好ましい。前記金属酸化物のチタンに対する添加量は、1モル~40モルが好ましく、2モル~35モルがより好ましく、3モル~30モルが更に好ましい。前記酸化チタン微粒子の一次平均粒径は、1nm~30nmが好ましく、1nm~25nmがより好ましく、1nm~20nmが更に好ましい。前記一次平均粒径が、30nmを超えると、分散液が白濁し、沈降が起きることがあり、1nm未満であると、結晶構造がはっきりせずアモルファスに近いものとなり、経時でゲル化などの変化が起こるようになる。前記一次平均粒径は、例えば、X線回折装置で測定された回折パターンの半値幅からの計算や電子顕微鏡TEM撮影像の直径からの統計計算などにより測定することができる。前記酸化チタン微粒子の形状は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、又は不定形状が好ましい。前記酸化チタン微粒子は、1種を単独で用いてもよいが、2種類以上を併用して用いることもできる。前記光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子は、屈折率が2.2以上3.0以下であり、2.2以上2.8以下がより好ましく、2.2以上2.6以下が更に好ましい。前記屈折率が、2.2以上であれば、光拡散層の屈折率を効果的に高めることができ、前記屈折率が、3.0以下であれば、光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子が着色するなどの不都合がないので好ましい。ここで、前記酸化チタン微粒子のように屈折率が高く1.8以上、平均一次粒径が1~100nm程度の微粒子の屈折率を測定することは困難であるが、次のようにして屈折率を測定することができる。屈折率既知の樹脂材料に前記酸化チタン微粒子をドープし、前記酸化チタン微粒子が分散された樹脂材料をSi基板、又は石英基板上に塗布膜を形成する。前記塗布膜の屈折率をエリプソメーターで測定し、前記塗布膜を構成する樹脂材料と酸化チタン微粒子の体積分率から、前記酸化チタン微粒子の屈折率が判る。前記光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子の含有量は、前記バインダーに対し、10体積以上30体積以下であり、10体積以上25体積以下がより好ましく、10体積以上20体積以下が更に好ましい。前記含有量が、10体積未満であると、バインダーの屈折率を上げる作用が小さいため、光取り出し効果が小さくなり、30体積を超えると、レイリー散乱が強くなり、光取り出し効果が抑制されてしまうことがある。<<ポリマー>>前記ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、1熱可塑性樹脂、2反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ、又は3バインダー前駆体後述する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなどと重合開始剤との組み合わせ、などが挙げられる。-1熱可塑性樹脂-前記1の熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビニル-酸ビ共重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリメタアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、イミド樹脂、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、ポリアクリル樹脂、ポリメタクリル樹脂が好ましく、フルオレン構造を有するアクリル又はメタクリルから誘導されるポリアクリル樹脂、ポリメタクリル樹脂がより好ましく、フルオレン構造を有するポリアクリル樹脂が特に好ましい。-2反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ-前記2の反応性硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂及び/又は電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。前記熱硬化型樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂などが挙げられる。前記電離放射線硬化型樹脂には、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラジカル重合性不飽和基{メタアクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、スチリル基、ビニル基等}及び/又はカチオン重合性基エポキシ基、チオエポキシ基、ビニルオキシ基、オキセタニル基等の官能基を有する樹脂で、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの反応性硬化性樹脂に必要に応じて、架橋剤エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ポリアミン化合物、メラミン化合物等、重合開始剤アゾビス化合物、有機過酸化化合物、有機ハロゲン化合物、オニウム塩化合物、ケトン化合物等のUV光開始剤等等の硬化剤、重合促進剤有機金属化合物、酸化合物、塩基性化合物等等の従来公知の化合物を加えて使用する。具体的には、例えば、山下普三、金子東助架橋剤ハンドブック大成社、1981年刊行記載の化合物が挙げられる。-3バインダー前駆体と重合開始剤との組み合わせ-以下、硬化したバインダーの好ましい形成方法である前記3の組み合わせを用いて、光照射により硬化性化合物を架橋又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法について、主に説明する。前記バインダーの前駆体である光硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、ラジカル重合性官能基、及びカチオン重合性官能基のいずれでもよい。前記ラジカル重合性官能基としては、例えばメタアクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基などが挙げられる。これらの中でも、メタアクリロイル基が特に好ましく、分子内に2個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが特に好ましい。前記ラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも2個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に2~6個の末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー即ち2量体、3量体及びオリゴマー又はそれらの混合物、及びそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。前記ラジカル重合性モノマーとしては、例えば不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等や、そのエステル類、アミド類などが挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が特に好ましい。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類やアミド類と、単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との反応物も好適である。更に別の例として、前記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。脂肪族多価アルコール化合物としては、例えばアルカンジオール、アルカントリオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサントリオール、イノシットール、シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセリン等が挙げられる。これら脂肪族多価アルコール化合物と、不飽和カルボン酸との重合性エステル化合物モノエステル又はポリエステルとしては、例えば、特開2001-139663号公報の段落番号0026~0027に記載の化合物が挙げられる。その他の重合性エステルとしては、例えば、ビニルメタクリレート、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、特公昭46-27926号公報、特公昭51-47334号公報、特開昭57-196231号公報等に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開平2-226149号公報等に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1-165613号公報に記載のアミノ基を有するもの等も好適に用いられる。更に脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とから形成される重合性アミドの具体例としては、メチレンビスメタアクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスメタアクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタアクリルアミド、キシリレンビスメタアクリルアミド、特公昭54-21726号公報記載のシクロヘキシレン構造を有するもの等を挙げることができる。更にまた、1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物特公昭48-41708号公報等、ウレタンアクリレート類特公平2-16765号公報等、エチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物特公昭62-39418号公報等、ポリエステルアクリレート類特公昭52-30490号公報等、更に、日本接着協会誌20巻7号300~308頁1984年に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマーも使用することができる。これらラジカル重合性の多官能モノマーは、2種類以上を併用してもよい。次に、前記光拡散層のバインダーの形成に用いることができるカチオン重合性基含有の化合物以下、カチオン重合性化合物又はカチオン重合性有機化合物とも称するについて説明する。前記カチオン重合性化合物は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射したときに重合反応及び/又は架橋反応を生ずる化合物のいずれもが使用でき、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニル炭化水素化合物、ビニルエーテル化合物などを挙げることができる。前記カチオン重合性有機化合物のうちの1種を用いても2種以上を用いてもよい。前記カチオン重合性基含有化合物としては、1分子中のカチオン重合性基の数は2~10個が好ましく、2~5個がより好ましい。前記化合物の重量平均分子量は、3,000以下が好ましく、200~2,000がより好ましく、400~1,500が更に好ましい。前記重量平均分子量が、前記下限値以上であれば、光拡散層形成過程での揮発が問題となるなどの不都合が生じることがなく、前記上限値以下であれば、光拡散層形成材料との相溶性が悪くなるなどの問題を生じないので好ましい。前記エポキシ化合物としては、例えば脂肪族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物などが挙げられる。前記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどを挙げることができる。更に、前記のエポキシ化合物以外にも、例えば、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエンなどを挙げることができる。また、脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも1個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、又は不飽和脂環族環例えば、シクロヘキセン、シクロペンテン、ジシクロオクテン、トリシクロデセン等含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化して得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物などを挙げることができる。前記芳香族エポキシ化合物としては、例えば少なくとも1個の芳香核を有する1価もしくは多価のフェノール、又はそのアルキレンオキサイド付加体のモノもしくはポリグリシジルエーテルを挙げることができる。これらのエポキシ化合物として、例えば、特開平11-242101号公報中の段落番号0084~0086に記載の化合物、特開平10-158385号公報中の段落番号0044~0046に記載の化合物等が挙げられる。これらのエポキシ化合物のうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、脂環式エポキシドが更に好ましい。前記エポキシ化合物の1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。環状チオエーテル化合物としては、前記エポキシ化合物のエポキシ環の代わりに、チオエポキシ環を有する化合物が挙げられる。環状エーテル化合物としてのオキセタニル基を含有する化合物としては、具体的には、例えば特開2000-239309号公報の段落番号0024~0025に記載の化合物等が挙げられる。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用することが好ましい。スピロオルソエステル化合物としては、例えば特表2000-506908号公報等に記載の化合物を挙げることができる。ビニル炭化水素化合物としては、例えばスチレン化合物、ビニル基置換脂環炭化水素化合物ビニルシクロヘキサン、ビニルビシクロヘプテン等、前記ラジカル重合性モノマーで記載の化合物、プロペニル化合物{J.PolymerScience:PartA:PolymerChemistry,32巻2895頁1994年記載等}、アルコキシアレン化合物{J.PolymerScience:PartA:PolymerChemistry,33巻2493頁1995年記載等}、ビニル化合物{J.PolymerScience:PartA:PolymerChemistry,34巻1015頁1996年、特開2002-29162号公報等記載}、イソプロペニル化合物{J.PolymerScience:PartA:PolymerChemistry,34巻2051頁1996年記載等}などが挙げられる。これらは2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。また、前記多官能性化合物は、前記のラジカル重合性基及びカチオン重合性基から選ばれる少なくとも各1種を少なくとも分子内に含有する化合物を用いることが好ましい。例えば、特開平8-277320号公報中の段落番号0031~0052に記載の化合物、特開2000-191737号公報中の段落番号0015に記載の化合物等が挙げられる。本発明に供される化合物は、これらに限定されるものではない。以上述べたラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物:カチオン重合性化合物の質量比率で、90:10~20:80の割合で含有していることが好ましく、80:20~30:70の割合で含有していることがより好ましい。-重合開始剤-前記バインダーには、重合開始剤を含有することが好ましい。前記重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられる。前記重合開始剤は、光及び/又は熱照射により、ラジカルもしくは酸を発生する化合物が好ましい。前記光重合開始剤は、極大吸収波長が400nm以下が好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、取り扱いを白灯下で実施することができる。また、近赤外線領域に極大吸収波長を持つ化合物を用いることもできる。前記ラジカルを発生する化合物は、光及び/又は熱照射によりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独で又は2種以上を併用することができる。前記ラジカルを発生する化合物としては、例えば、従来公知の有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤等の熱ラジカル重合開始剤、有機過酸化化合物特開2001-139663号公報等、アミン化合物特公昭44-20189号公報記載、メタロセン化合物特開平5-83588号公報、特開平1-304453号公報等記載、ヘキサアリールビイミダゾール化合物米国特許第3,479,185号明細書等記載、ジスルホン化合物特開平5-239015号公報、特開昭61-166544号公報等、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機ホウ酸化合物、ホスフィンオキサイド化合物、ホスホナート化合物等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。前記ラジカル発生剤としてより好ましくは、ホスフィンオキサイド化合物、ホスホナート化合物であり、特に好ましくはアシルフォスフィンオキサイド、アシルホスホナート等が挙げられ、具体的にはビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイドである。前記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等のBull.Chem.SocJapan,42巻2924頁1969年、米国特許第3,905,815号明細書、特開平5-27830号公報、M.P.Hutt,J.HeterocyclicChemistry,1巻3号、1970年等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物:s-トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ、ジ又はトリハロゲン置換メチル基がs-トリアジン環に結合したs-トリアジン誘導体が挙げられる。前記カルボニル化合物としては、例えば、最新UV硬化技術60ページ~62ページ[株式会社技術情報協会刊、1991年]、特開平8-134404号公報の段落番号0015~0016、特開平11-217518号公報の段落番号0029~0031に記載の化合物などが挙げられる。また、アセトフェノン系、ヒドロキシアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサン系、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、p-ジメチルアミノ安息香酸エチル、p-ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、ベンジルジメチルケタール、アシルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。前記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特許第2764769号、特開2002-116539号等の各公報、及び、Kunz,Martin,Rad.Tech98.ProceedingApril19~22,1998,Chicago等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物が挙げられる。例えば、前記特開2002-116539号公報の段落番号0022~0027に記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平6-348011号公報、特開平7-128785号公報、特開平7-140589号公報、特開平7-306527号公報、特開平7-292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。これらのラジカル発生化合物は、1種のみを添加しても、2種以上を併用してもよい。添加量としては、ラジカル重合性モノマー全量に対し、0.1質量~30質量が好ましく、0.5質量~25質量がより好ましく、1質量~20質量が更に好ましい。前記添加量の範囲において、光拡散層形成材料の経時安定性が問題なく高い重合性となる。次に、光重合開始剤として用いることができる光酸発生剤について詳述する。前記光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、又はマイクロレジスト等に使用されている公知の光酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。また、前記光酸発生剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物、オニウム化合物などが挙げられる。これらの中でも、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物が特に好ましい。前記有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物の具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。前記オニウム化合物としては、例えばジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、例えば特開2002-29162号公報の段落番号0058~0059に記載の化合物、などが挙げられる。前記酸発生剤としては、オニウム塩が特に好適に用いられ、中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。前記オニウム塩の具体例としては、例えば、特開平9-268205号公報の段落番号0035に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開2000-71366号公報の段落番号0010~0011に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開2001-288205号公報の段落番号0017に記載のチオ安息香酸S-フェニルエステルのスルホニウム塩、特開2001-133696号公報の段落番号0030~0033に記載のオニウム塩等が挙げられる。前記光酸発生剤の他の例としては、特開2002-29162号公報の段落番号0059~0062に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、o-ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物イミノスルフォネート等等の化合物が挙げられる。これらの酸発生剤は、1種のみをそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。前記酸発生剤の添加量は、全カチオン重合性モノマーの全質量に対し0.1質量~20質量が好ましく、0.5質量~15質量がより好ましく、1質量~10質量が更に好ましい。前記添加量が、前記範囲において、光拡散層形成材料の安定性、重合反応性等から好ましい。前記光拡散層形成材料は、ラジカル重合性化合物又はカチオン重合性化合物の合計質量に対して、ラジカル重合開始剤を0.5質量~10質量又はカチオン重合開始剤を1質量~10質量の割合で含有していることが好ましく、ラジカル重合開始剤を1質量~5質量、又はカチオン重合開始剤を2質量~6質量の割合で含有することがより好ましい。-溶媒-前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばアルコール類、ケトン類、エステル類、アミド類、エーテル類、エーテルエステル類、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。具体的には、アルコール例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート等、ケトン例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等、エステル例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、乳酸エチル等、脂肪族炭化水素例えばヘキサン、シクロヘキサン、ハロゲン化炭化水素例えばメチルクロロホルム等、芳香族炭化水素例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等、アミド例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n-メチルピロリドン等、エーテル例えばジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等、エーテルアルコール例えば1-メトキシ-2-プロパノール、エチルセルソルブ、メチルカルビノール等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、芳香族炭化水素、ケトン類が好ましく、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンがより好ましく、トルエン、キシレンが特に好ましい。<<光拡散粒子>>前記光拡散粒子としては、光を拡散可能なものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、有機粒子であっても、無機粒子であってもよく、2種以上の粒子を含有していても構わない。前記有機粒子としては、例えばポリメチルメタクリレート粒子、架橋ポリメチルメタクリレート粒子、アクリル-スチレン共重合体粒子、メラミン粒子、ポリカーボネート粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、ポリ塩化ビニル粒子、ベンゾグアナミン-メラミンホルムアルデヒド粒子、などが挙げられる。前記無機粒子としては、例えばZrO2、TiO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、などが挙げられる。これらの中でも、TiO2、ZrO2、ZnO、SnO2が特に好ましい。これらの中でも、前記光拡散粒子としては、耐溶剤性とバインダー中の分散性の点で架橋状態の樹脂粒子が好ましく、架橋ポリメチルメタクリレート粒子が特に好ましい。前記光拡散粒子が、架橋状態の樹脂粒子であることは、溶剤、例えばトルエン中に分散させ、樹脂粒子の溶け難さを見ることで確認することができる。前記光拡散粒子の屈折率は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1.0~3.0が好ましく、1.2~1.6がより好ましく、1.3~1.5が更に好ましい。前記屈折率が、1.0未満及び3.0を超えると、光拡散散乱が強くなりすぎるため、光取り出し効率が低下することがある。前記光拡散粒子の屈折率は、例えば自動屈折率測定器KPR-2000、株式会社島津製作所製を用い、屈折液の屈折率を測定してから、精密分光計GMR-1DA、株式会社島津製作所製で、シュリブスキー法により測定することができる。本発明においては、前記バインダーの屈折率Aと前記光拡散粒子の屈折率Bとの屈折率差|A-B|絶対値は、0.2以上1.0以下であり、0.2以上0.5以下が好ましく、0.2以上0.4以下が更に好ましい。前記屈折率差|A-B|が、0.2未満であると、光拡散散乱が弱くなり、光取り出し効率が低下することがあり、1.0を超えると、光拡散散乱が強くなり、光取り出し効率が低下することがある。前記光拡散粒子の平均粒径は、0.5μm~10μmが好ましく、0.5μm~6μmがより好ましく、1~3μmが更に好ましい。前記光拡散粒子の平均粒径が、10μmを超えると、光の殆どが前方散乱になり、光拡散粒子による光の角度を変換する能力が低下してしまうことがある。一方、前記光拡散粒子の平均粒径が、0.5μm未満であると、可視光の波長より小さくなり、ミー散乱がレイリー散乱の領域に変化し、光拡散粒子の散乱効率の波長依存性が大きくなり、有機電界発光素子の色度が大きく変わってしまったり、後方散乱が強くなり、光取り出し効率が低下することが予想される。前記光拡散粒子の平均粒径は、例えば日機装株式会社製ナノトラックUPA-EX150等の動的光散乱法を利用した装置や、電子顕微鏡写真の画像処理により測定することができる。光取り出し部材本発明の光取り出し部材は、基板と、該基板上に光拡散層とを有し、平坦化層、更に必要に応じてその他の層を有してなる。<光拡散層>前記光拡散層は、本発明の前記光拡散層形成材料により形成される。前記光拡散層は、本発明の前記光拡散層形成材料を、基板上に、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、エクストルージョンコート法等の公知の薄膜形成方法で塗布し、乾燥、光及び/又は熱照射することにより作製することができる。好ましくは、光照射による硬化が、迅速硬化の点から有利である。更には、光硬化処理の後、光重合開始剤による拡散層の硬化重合反応を止める上で加熱処理することも好ましい。この場合、加熱温度としては、60°C~105°Cが好ましく、70°C~100°Cがより好ましく、70°C~90°Cが更に好ましい。光照射の光源は、光重合開始剤の反応する波長吸収波長付近であればいずれでもよく、吸収波長が紫外領域の場合、光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長350nm~420nmの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。また、吸収波長が赤外領域の場合、光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長750nm~1,400nmの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。光照射による光ラジカル重合の場合は、空気又は不活性気体中で行うことができるが、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、又は重合率を十分に高める等のために、できるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。前記酸素濃度範囲は0~1,000ppmが好ましく、0~800ppmがより好ましく、0~600ppmが更に好ましい。照射する紫外線の照射強度は、0.1mW/cm2~100mW/cm2が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は、100mJ/cm2~10,000mJ/cm2が好ましく、100mJ/cm2~5,000mJ/cm2がより好ましく、100mJ/cm2~1,000mJ/cm2が特に好ましい。前記光照射量が、100mJ/cm2未満であると、光拡散層が十分に硬化せず、光拡散層上に平坦化層を塗布する際に溶解、また、基板洗浄時に崩壊することがある。一方、前記光照射量が、10,000mJ/cm2を超えると、光拡散層の重合が進み過ぎ表面が黄変し、透過率が低下し、光取り出し効率が低下することがある。また、光照射工程での温度は、15°C~70°Cが好ましく、20°C~60°Cがより好ましく、25°C~50°Cが特に好ましい。前記温度が、15°C未満であると、光重合による光拡散層の硬化に時間がかかることがあり、70°Cを超えると、光重合開始剤自体に影響を及ぼし、光重合硬化できなくなることがある。前記光拡散層における光拡散粒子の含有量は、30体積以上66体積以下が好ましく、40体積以上60体積以下がより好ましく、45体積以上55体積以下が特に好ましい。前記含有量が、30体積未満であると、光拡散層に入射してきた光が光拡散粒子に散乱される確率が小さく、光拡散層の光角度を変換する能力が小さいので、光拡散層の厚みを充分に厚くしないと光取り出し効率が低下することがある。また、前記光拡散層の厚みを厚くすることはコストの増加に繋がり、前記光拡散層の厚みのバラツキが大きくなり、発光面内の散乱効果にバラツキが生じるおそれがある。一方、前記含有量が、66体積を超えると、前記光拡散層の表面が大きく荒れ、内部にも空洞が生じることで、前記光拡散層の物理的強度が低下することがある。前記光拡散層の平均厚みは、1μm~10μmが好ましく、2μm~8μmがより好ましく、3μm~6μmが特に好ましい。前記平均厚みが、1μm未満であると、十分な光拡散が得られず、光取り出し効率が低下することがあり、10μmを超えると、光散乱が強くなりすぎ、光取り出し効率が低下することがある。前記光拡散層の平均厚みは、例えば光拡散層の一部を切り取り、走査型電子顕微鏡S-3400N、日立ハイテク株式会社製で測定して、求めることができる。前記光拡散層中のバインダーの屈折率は、1.7~2.2が好ましく、1.7~2.1がより好ましく、1.7~2.0が更に好ましい。前記バインダーの屈折率が、1.7未満であると、光取り出し効率が低下することがあり、2.2を超えると、光拡散層中のバインダー内の光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子量が増えているため、散乱が強くなりすぎ、光取り出し効率が低下することがある。また前記光拡散層中のバインダーの屈折率は、有機電界発光層中の発光層の屈折率と同等乃至高いことが好ましい。前記光拡散層の光出射面が平坦であるか、又は前記光拡散層の光出射面に平坦化層を有すること好ましい。これにより、光拡散粒子の密度を増加させても後方散乱の増加を抑制できる。また、平坦化することで異物付着が防止される。前記光拡散層の光出射面を平坦にする方法としては、例えば前記光拡散層形成材料から前記光拡散粒子を取り除いた平坦化層形成材料を硬化後した前記光拡散層上に積層する方法などが挙げられる。-平坦化層-前記平坦化層としては、前記光拡散層において前記光拡散粒子を含まない組成であることが好ましく、前記光拡散層と同様にして形成することができる。前記平坦化層の平均厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1μm~10μmが好ましく、2μm~8μmがより好ましく、3μm~6μmが特に好ましい。前記平坦化層の平均厚みが、1μm未満であると、突出した元の光拡散層の表面を平坦化できず、10μmを超えると、前記平坦化層の光の吸収により光取り出し能が低下してしまうことがある。前記光拡散層と前記平坦化層の合計平均厚みは、2μm~15μmが好ましく、3μm~14μmがより好ましく、5μm~12μmが特に好ましい。前記合計平均厚みが2μm未満では十分な拡散、平坦化ができず、15μmを超えると、前記平坦化層での吸収、前記光拡散層での過剰な拡散により光取り出し効率が低下することがある。前記平坦化層の屈折率は、1.7~2.2が好ましく、1.7~2.1がより好ましく、1.7~2.0が更に好ましい。前記平坦化層の屈折率が、1.7未満であると、前記平坦化層とバリア層又は透明電極層との界面での全反射が増え、光取り出し効率が低下することがあり、2.2を超えると、前記平坦化層中のバインダー内の光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子量が増えているため、光散乱が強くなりすぎ、光取り出し効率が低下することがある。前記平坦化層の屈折率は、前記光拡散層の屈折率と同等乃至高いことが好ましい。-基板-前記基板としては、その形状、構造、大きさ、材料等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光取り出し部材の大きさ等に応じて適宜選択することができる。前記基板の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イットリア安定化ジルコニアYSZ、ガラス無アルカリガラス、ソーダライムガラス等等の無機材料、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド樹脂PI、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレン-アクリロニトリル共重合体などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、ポリエステル樹脂が好ましく、ロールでの塗布適性の観点からポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPENが特に好ましい。前記基板の表面は、その上に設ける光拡散層との密着性を向上させるため、表面活性化処理を行うことが好ましい。前記表面活性化処理としては、例えばグロー放電処理、コロナ放電処理などが挙げられる。前記基板は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。前記基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、10μm以上が好ましく、50μm以上がより好ましい。前記基板の屈折率は、1.3~1.8が好ましく、1.4~1.7がより好ましく、1.4~1.6が更に好ましい。前記基板の屈折率が、1.3未満であると、前記基板と光拡散層の屈折率差が大きくなり、前記光拡散層からの光が入射する際、フレネル反射が強くなり、光取り出し効率が低下することがあり、1.8を超えると、基板と空気光出射側の屈折率差が大きくなり、フレネル反射が強くなり、光取り出し効率が低下することがある。ここで、図4は、本発明の光取り出し部材の光拡散層2と平坦化層3の拡大図である。この図4に示すように、ポリマー14に光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子13を分散させたバインダー15中に拡散粒子12が分散してなる光拡散層2と、ポリマー14に光触媒不活性処理した酸化チタン微粒子13を分散させてなる平坦化層3とを有している。本発明の光取り出し部材は、基板、及び光拡散層、更に平坦化層を有しており、光取り出し効率を高めることができるので、各種有機電界発光装置などに用いることができるが、以下の本発明の有機電界発光装置に用いることが特に好ましい。有機電界発光装置及び有機電界発光装置の製造方法本発明の有機電界発光装置は、第1の形態では、基板と、該基板上に、透明電極と、反射電極と、前記透明電極と前記反射陰極の間に有機電界発光層とを備え、前記基板が、本発明の前記光取り出し部材であり、封止缶内に、少なくとも、前記透明電極、前記反射電極、前記有機電界発光層、及び前記光拡散層が封入されている。なお、封止缶内に、前記透明電極、前記反射電極、前記有機電界発光層、前記平坦化層、及び前記光拡散層が封入されていることが好ましい。本発明の有機電界発光装置は、第2の形態では、基板と、該基板上に、透明電極と、反射電極と、前記透明電極と前記反射陰極の間に有機電界発光層とを備え、前記基板が、本発明の前記光取り出し部材であり、前記透明電極と、前記平坦化層又は前記光拡散層との間に、バリア層を有する。本発明の有機電界発光装置の製造方法は、基板上に、本発明の前記光拡散層形成材料を塗布し、光拡散層を形成する光拡散層形成工程と、前記光拡散層上に、本発明の前記光拡散層形成材料から光拡散粒子を除いた平坦化層形成材料を塗布し、平坦化層を形成する平坦化層形成工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。前記光拡散層形成工程が、光拡散層形成材料に重合開始剤を添加してから24時間以内に行われ、前記平坦化層形成工程が、平坦化層形成材料に重合開始剤を添加してから24時間以内に行われることが、前記光拡散層形成材料及び前記平坦化層形成材料の重合が進行して徐々に粘度が変化し、塗布後の膜厚異常、硬化不足などを防ぐことができる点で好ましい。-有機電界発光層-前記有機電界発光層としては、少なくとも発光層を有する。前記発光層以外の機能層としては、正孔輸送層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。前記有機電界発光層は、陽極と発光層との間に正孔輸送層を有することが好ましく、陰極と発光層との間に電子輸送層を有することが好ましい。更に、正孔輸送層と陽極との間に正孔注入層を設けてもよく、電子輸送層と陰極との間に電子注入層を設けてもよい。また、前記発光層と正孔輸送層との間に正孔輸送性中間層電子ブロック層を設けてもよく、発光層と電子輸送層との間に電子輸送性中間層正孔ブロック層を設けてもよい。各機能層は複数の二次層に分かれていてもよい。前記発光層を含むこれらの機能層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、湿式塗布方式、転写法、印刷法、インクジェット方式等のいずれによっても好適に形成することができる。--発光層--前記発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。前記発光層は、発光材料を含む。前記発光層は発光材料のみで構成されていてもよいし、ホスト材料と発光材料の混合層でもよい後者の場合、発光材料を発光性ドーパントもしくはドーパントと称する場合がある。前記発光材料は蛍光発光材料でも燐光発光材料であってもよく、2種以上が混合されていてもよい。ホスト材料は電荷輸送材料が好ましい。ホスト材料は1種であっても2種以上であってもよい。更に、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。前記発光層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、2nm~500nmであるのが好ましく、外部量子効率の観点で、3nm~200nmであるのがより好ましく、5nm~100nmであるのが更に好ましい。また、前記発光層は1層であっても2層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。---発光材料---前記発光材料は、燐光発光材料、蛍光発光材料等のいずれも好適に用いることができる。前記発光材料は、ホスト化合物との間で、イオン化ポテンシャルの差ΔIpと電子親和力の差ΔEaが、1.2eV>△Ip>0.2eV、及び/又は1.2eV>△Ea>0.2eVの関係を満たすドーパントであることが、駆動耐久性の観点で好ましい。前記発光層中の発光材料は、前記発光層中に一般的に発光層を形成する全化合物質量に対して、0.1質量~50質量含有されるが、耐久性、外部量子効率の観点から1質量~50質量含有されることが好ましく、2質量~50質量含有されることがより好ましい。<燐光発光材料>前記燐光発光材料としては、一般に、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体を挙げることができる。前記遷移金属原子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、金、銀、銅、及び白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、及び白金であり、更に好ましくはイリジウム、白金である。前記錯体の配位子としては、例えば、G.Wilkinson等著,ComprehensiveCoordinationChemistry,PergamonPress社1987年発行、H.Yersin著,PhotochemistryandPhotophysicsofCoordinationCompoundsSpringer-Verlag社1987年発行、山本明夫著有機金属化学-基礎と応用-裳華房社1982年発行等に記載の配位子などが挙げられる。前記錯体は、化合物中に遷移金属原子を一つ有してもよいし、また、2つ以上有するいわゆる複核錯体であってもよい。異種の金属原子を同時に含有していてもよい。これらの中でも、燐光発光材料としては、例えば、US6303238B1、US6097147、WO00/57676、WO00/70655、WO01/08230、WO01/39234A2、WO01/41512A1、WO02/02714A2、WO02/15645A1、WO02/44189A1、WO05/19373A2、WO2004/108857A1、WO2005/042444A2、WO2005/042550A1、特開2001-247859、特開2002-302671、特開2002-117978、特開2003-133074、特開2002-235076、特開2003-123982、特開2002-170684、EP1211257、特開2002-226495、特開2002-234894、特開2001-247859、特開2001-298470、特開2002-173674、特開2002-203678、特開2002-203679、特開2004-357791、特開2006-93542、特開2006-261623、特開2006-256999、特開2007-19462、特開2007-84635、特開2007-96259等の各公報に記載の燐光発光化合物などが挙げられる。これらの中でも、Ir錯体、Pt錯体、Cu錯体、Re錯体、W錯体、Rh錯体、Ru錯体、Pd錯体、Os錯体、Eu錯体、Tb錯体、Gd錯体、Dy錯体、Ce錯体が好ましく、Ir錯体、Pt錯体、又はRe錯体がより好ましく、金属-炭素結合、金属-窒素結合、金属-酸素結合、金属-硫黄結合の少なくとも一つの配位様式を含むIr錯体、Pt錯体、又はRe錯体が更に好ましく、発光効率、駆動耐久性、色度等の観点で、3座以上の多座配位子を含むIr錯体、Pt錯体、又はRe錯体が特に好ましい。前記燐光発光材料の具体例として、以下の化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。<蛍光発光材料>前記蛍光発光材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、スチリルベンゼン、ポリフェニル、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、ナフタルイミド、クマリン、ピラン、ペリノン、オキサジアゾール、アルダジン、ピリジン、シクロペンタジエン、ビススチリルアントラセン、キナクリドン、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジン、シクロペンタジエン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン化合物、縮合多環芳香族化合物アントラセン、フェナントロリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、又はペンタセンなど、8-キノリノールの金属錯体、ピロメテン錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン、又はこれらの誘導体などを挙げることができる。---ホスト材料---前記ホスト材料としては、正孔輸送性に優れる正孔輸送性ホスト材料正孔輸送性ホストと記載する場合がある及び電子輸送性に優れる電子輸送性ホスト化合物電子輸送性ホストと記載する場合があるを用いることができる。<正孔輸送性ホスト材料>前記正孔輸送性ホスト材料としては、例えば、以下の材料を挙げることができる。即ち、ピロール、インドール、カルバゾール、アザインドール、アザカルバゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、ポリアリールアルカン、ピラゾリン、ピラゾロン、フェニレンジアミン、アリールアミン、アミノ置換カルコン、スチリルアントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、シラザン、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリN-ビニルカルバゾール、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、有機シラン、カーボン膜、又はそれらの誘導体などが挙げられる。これらの中でも、インドール誘導体、カルバゾール誘導体、芳香族第三級アミン化合物、チオフェン誘導体、分子内にカルバゾール基を有するものが好ましく、t-ブチル置換カルバゾール基を有する化合物がより好ましい。<電子輸送性ホスト材料>前記電子輸送性ホスト材料としては、例えば、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、フルオレノン、アントラキノジメタン、アントロン、ジフェニルキノン、チオピランジオキシド、カルボジイミド、フルオレニリデンメタン、ジスチリルピラジン、フッ素置換芳香族化合物、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン、又はそれらの誘導体他の環と縮合環を形成してもよい、8-キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等を挙げることができる。これらの中でも、耐久性の点から金属錯体化合物が好ましく、金属に配位する少なくとも1つの窒素原子又は酸素原子又は硫黄原子を有する配位子をもつ金属錯体がより好ましい。前記金属錯体電子輸送性ホストとしては、例えば特開2002-235076号公報、特開2004-214179号公報、特開2004-221062号公報、特開2004-221065号公報、特開2004-221068号公報、特開2004-327313号公報等に記載の化合物が挙げられる。前記正孔輸送性ホスト材料、電子輸送性ホスト材料の具体例として、以下の化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。--正孔注入層、正孔輸送層--前記正孔注入層、又は前記正孔輸送層は、陽極又は陽極側の層から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。これらの層に用いられる正孔注入材料、正孔輸送材料は、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。具体的には、ピロール誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、チオフェン誘導体、有機シラン誘導体、カーボン、等を含有する層が好ましい。前記正孔注入層、又は前記正孔輸送層には、電子受容性ドーパントを含有させることができる。前記正孔注入層、又は正孔輸送層に導入する電子受容性ドーパントとしては、電子受容性で有機化合物を酸化する性質を有すれば、無機化合物でも有機化合物でも使用できる。具体的には、無機化合物は塩化第二鉄や塩化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、五塩化アンチモンなどのハロゲン化金属、五酸化バナジウム、及び三酸化モリブデンなどの金属酸化物などが挙げられる。有機化合物の場合は、置換基としてニトロ基、ハロゲン、シアノ基、トリフルオロメチル基などを有する化合物、キノン系化合物、酸無水物系化合物、フラーレンなどを好適に用いることができる。これらの電子受容性ドーパントは、単独で用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。電子受容性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、正孔輸送層材料に対して0.01質量~50質量が好ましく、0.05質量~40質量が更に好ましく、0.1質量~30質量が特に好ましい。前記正孔注入層、又は正孔輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。--電子注入層、電子輸送層--前記電子注入層、又は前記電子輸送層は、陰極又は陰極側の層から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。これらの層に用いる電子注入材料、電子輸送材料は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。具体的には、ピリジン誘導体、キノリン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、フタラジン誘導体、フェナントロリン誘導体、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8-キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、シロールに代表される有機シラン誘導体、等を含有する層が好ましい。前記電子注入層、又は電子輸送層には、電子供与性ドーパントを含有させることができる。前記電子注入層、又は電子輸送層に導入される電子供与性ドーパントとしては、電子供与性で有機化合物を還元する性質を有していればよく、Liなどのアルカリ金属、Mgなどのアルカリ土類金属、希土類金属を含む遷移金属や還元性有機化合物などが好適に用いられる。金属としては、特に仕事関数が4.2eV以下の金属が好適に使用でき、具体的には、Li、Na、K、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Y、Cs、La、Sm、Gd、及びYbなどが挙げられる。また、還元性有機化合物としては、例えば、含窒素化合物、含硫黄化合物、含リン化合物などが挙げられる。これらの電子供与性ドーパントは、単独で用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。電子供与性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、電子輸送層材料に対して0.1質量~99質量が好ましく、1.0質量~80質量が更に好ましく、2.0質量~70質量が特に好ましい。前記電子注入層、又は前記電子輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。--正孔ブロック層、電子ブロック層--前記正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が陰極側に通り抜けることを防止する機能を有する層であり、通常、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として設けられる。一方、前記電子ブロック層は、陰極側から発光層に輸送された電子が陽極側に通り抜けることを防止する機能を有する層であり、通常、発光層と陽極側で隣接する有機化合物層として設けられる。前記正孔ブロック層を構成する化合物の例としては、BAlq等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、BCP等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。電子ブロック層を構成する化合物の例としては、例えば前述の正孔輸送材料として挙げたものが利用できる。前記正孔ブロック層及び電子ブロック層の厚みは、1nm~500nmであるのが好ましく、5nm~200nmであるのがより好ましく、10nm~100nmであるのが更に好ましい。また、前記正孔ブロック層及び電子ブロック層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。--電極--前記有機電界発光素子は、透明電極及び反射電極、即ち陽極と陰極とを含む。有機電界発光素子の性質上、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は透明が好ましい。通常、陽極は有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、陰極は有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよい。その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。電極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、又はこれらの混合物等が好適に挙げられる。前記電極としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、その陽極、陰極において、前記反射金属、前記半透明部材としての半透明金属を構成することが好ましい。前記陽極を構成する材料の具体例としては、例えば、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫ATO、FTO、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫ITO、酸化亜鉛インジウムIZO等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、更にこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとITOとの積層物などが挙げられる。この中で好ましいのは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からはITOが好ましい。前記陰極を構成する材料としては、例えば、アルカリ金属例えば、Li、Na、K、Cs等、アルカリ土類金属例えば、Mg、Ca等、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム-カリウム合金、リチウム-アルミニウム合金、マグネシウム-銀合金、インジウム、及びイッテルビウム等の希土類金属などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、2種以上を好適に併用することができる。これらの中でも、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと0.01質量~10質量のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物例えば、リチウム-アルミニウム合金、マグネシウム-アルミニウム合金などをいう。前記電極の形成方法については、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式などの中から、前記電極を構成する材料との適性を考慮し、適宜選択した方法に従って前記基板上に形成することができる。例えば、陽極の材料としてITOを選択する場合には、直流又は高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に従って形成することができる。陰極の材料として金属等を選択する場合には、その1種又は2種以上を同時又は順次にスパッタ法等に従って形成することができる。なお、前記電極を形成する際にパターニングを行う場合は、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。-バリア層-前記バリア層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよく、有機材料からなる有機層単独、又は無機材料からなる無機層単独であってもよいが、有機材料からなる有機層と、無機材料からなる無機層とを積層した多層構造であってもよい。前記無機材料としては、例えばSiNx、SiON、SiO2、Al2O3、TiO2などが挙げられる。前記有機材料としては、例えばシリコーン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマーなどが挙げられる。前記バリア層の形成方法としては、特に制限はなく、材料に応じて適宜選択することができ、例えば、塗布法、CVD法、真空蒸着法、スパッタ法などが挙げられる。前記バリア層の屈折率多層構造の場合は、平均屈折率は、1.7以上が好ましく、1.8~2.2がより好ましい。前記バリア層の屈折率が、1.7未満であると、透明電極とバリア層の界面で、有機電界発光層からの光の全反射が多くなり、光取り出し効率が低下することがある。前記バリア層の光学的性質は、光線透過率が80以上が好ましく、85以上がより好ましく、90以上が更に好ましい。前記バリア層の平均厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1μm~10μmが好ましく、0.1μm~5μmがより好ましく、0.2μm~3μmが更に好ましい。前記バリア層の平均厚みが、0.1μm未満であると、大気中の酸素及び水分の透過を防ぐ封止機能が不充分であることがあり、10μmを超えると、光線透過率が低下し、透明性を損なうこと、また、無機材料を単層で用いる場合、応力差により割れ、隣接層との剥離等、バリア性が損なわれることがある。-封止缶-前記封止缶としては、前記透明電極、前記反射電極、前記有機電界発光層、前記平坦化層、及び前記光拡散層からなる積層体が封入できる大きさ、形状、構造などを有していれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記封止缶と前記透明電極、前記反射電極、前記有機電界発光層、前記平坦化層、及び前記光拡散層からなる積層体の間の空間には、水分吸収剤又は不活性液体を封入してもよい。前記水分吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化バリウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、五酸化燐、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、フッ化セシウム、フッ化ニオブ、臭化カルシウム、臭化バナジウム、モレキュラーシーブ、ゼオライト、酸化マグネシウムなどが挙げられる。前記不活性液体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、パラフィン類、流動パラフィン類;パーフルオロアルカン、パーフルオロアミン、パーフルオロエーテル等のフッ素系溶剤;塩素系溶剤、シリコーンオイル類などが挙げられる。ここで、図1は、本発明の有機電界発光装置の一例を示す概略図である。この図1の有機電界発光装置10は、ガラス基板1上に、光拡散層2と、平坦化層3とを有する光取り出し部材11の平坦化層3上に、透明電極4と、有機電界発光層5と、反射電極6とを有し、透明電極4、有機電界発光層5、及び反射電極6が封止缶7で封止されたものである。また、図2に示すように、光拡散層2、平坦化層3、透明電極4、有機電界発光層5、及び反射電極6が封止缶7内に封入することにより、経時安定性を向上させることができる。また、図3に示すように、図1において、光取り出し部材11の平坦化層3上にバリア層8を形成することにより、経時安定性を向上させることができる。前記有機電界発光装置は、フルカラーで表示し得る装置として構成することができる。前記有機電界発光装置をフルカラータイプのものとする方法としては、例えば月刊ディスプレイ、2000年9月号、33~37ページに記載されているように、色の3原色青色B、緑色G、赤色Rに対応する光をそれぞれ発光する層構造を基板上に配置する3色発光法、白色発光用の層構造による白色発光をカラーフィルタ層を通して3原色に分ける白色法、青色発光用の層構造による青色発光を蛍光色素層を通して赤色R及び緑色Gに変換する色変換法、などが知られている。この場合は、青色B、緑色G、赤色Rの画素ごとにレーザーパワー、厚みを適宜調整することが好ましい。また、上記方法により得られる、異なる発光色の層構造を複数組み合わせて用いることにより、所望の発光色の平面型光源を得ることができる。例えば、青色及び黄色の発光素子を組み合わせた白色発光光源、青色B、緑色G、及び赤色Rの有機電界発光素子を組み合わせた白色発光光源、等である。前記有機電界発光装置は、例えば、照明機器、コンピュータ、車載用表示器、野外表示器、家庭用機器、業務用機器、家電用機器、交通関係表示器、時計表示器、カレンダ表示器、ルミネッセントスクリーン、音響機器等をはじめとする各種分野において好適に使用することができる。以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。以下に説明する実施例及び比較例において、光拡散層の平均厚み、平坦化層の平均厚み、及びバインダーの屈折率については、以下のようにして測定した。<光拡散層及び平坦化層の平均厚み>前記光拡散層及び平坦化層の平均厚みは、例えば光拡散層又は平坦化層の一部を切り取り、走査型電子顕微鏡S-3400N、日立ハイテク株式会社製を用いて、求めることができる。<屈折率の測定>前記光拡散層及び平坦化層を構成するバインダーの屈折率は、Si基板、又は石英基板上に光の波長程度の厚さに前記バインダーを成膜し、その成膜した基板上のバインダーをエリプソメーター測定して屈折率を求めることができる。調製例1-シリカ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子の調製-硫酸チタニアを加水分解し得られた、含水酸化チタン酸化チタン30質量10kgを水酸化ナトリウム水溶液50質量15kgで処理した。更にその材料を塩酸中で加熱し、更に平均粒径15nmの酸化チタン微粒子が1Lあたり150gとなるように調整した強塩酸のチタニアゾル15Lに珪酸ナトリウム水溶液0.2Lを加え攪拌し、その後、濾過、水洗浄を行った。水洗浄した前記材料1,000gにイソプロピルアルコール2,000gを加え、更に蒸留水とアンモニア水質量比15:1の混合液400gを入れ攪拌した。攪拌されたものをナノマイザーナノマイザー株式会社製を用い、微粒化凝集を解くし、微粒化後の材料にMKCシリケートMS51三菱化学株式会社製100gとイソプロピルアルコール50gを攪拌しながら加えた。得られた材料を真空加熱し、更にジェットミル装置スイスミクロマチナチオーネ社製で粉砕し、シリカで被覆された酸化チタン微粒子を得た。次に、シリカ被覆された酸化チタン100gを蒸留水400gにナノマイザーを用い分散させ、得られた分散液に界面活性剤としてラウリル酸ナトリウム水溶液5gを加え、更にナノマイザーを用い分散させ、シリカ被覆酸化チタン微粒子分散液を得た。得られたシリカ被覆酸化チタン微粒子分散液300gにペルオキソ二硫酸アンモニウム3質量の水溶液2gとメタクリル酸メチル5gを加え、更に窒素ガスを加え加熱80~90°Cしながら攪拌を行った。次に、遠心分離機により微粒子のみを分離、真空加熱により乾燥を行うことで、酸化チタン微粒子のシリカ被膜の表面にポリメタクリル酸メチルが被覆されたシリカ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子屈折率2.38を得た。調製例2-アルミナ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子の調製-調製例1において、珪酸ナトリウム水溶液をアルミン酸ナトリウム水溶液に代えることで、酸化チタンの表面にアルミナ被覆が得られた。ここで用いたアルミン酸ナトリウム水溶液の代わりに硫酸アルミニウム水溶液等の水溶性アルミニウム塩類から適宜選択して用いてもよい。その後、調製例1と同様にして、アルミナ被覆酸化チタン微粒子の外側をポリマーで被覆してなるアルミナ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子屈折率2.42を得た。作製した調製例1のシリカ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子、調製例2のアルミナ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子、並びに表面をアルミナ及びジルコニアで被覆した酸化チタン分散液平均直径15nmの酸化チタンのナノ粒子が分散、屈折率2.45材料名:酸化チタン分散トルエン、商品名:高透明性酸化チタンスラリーHTD-760Tについて、以下のようにして、光触媒活性の有無を測定した。その結果、いずれの粒子も光触媒活性が抑制され、光触媒効果の無い酸化ジルコニウム粒子と同等であることが分かった。<光触媒活性の測定>光触媒活性の測定は、一般的な方法として公知のメチレンブルー法を用いる。メチレンブルー法は石英管にメチレンブルー水溶液を入れ、その中に各粒子をドープし、光照射前の透過率を測定後、光照射を行い、メチレンブルー水溶液の透過率の変化を確認することで光触媒活性を定量的に測定した。実施例1<有機電界発光装置の作製>-バインダー1平坦化層形成材料1の調製-調製例1で得られたシリカ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子10gを、分散材料4-オクチル安息香酸1.3gと共にトルエン10gに混合し、オムニミキサー、超音波ソニファイヤー、ブランソン社製を用い、十分に攪拌し、分散させ、酸化チタン分散液を得た。前記酸化チタン分散液、樹脂材料材料名:フルオレン誘導体、商品名:オグソールEA-020010g、及びトルエン6gをローラーミキサー、スターラーにより攪拌して溶解し、更に超音波によりシリカ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子を分散させて、バインダー1を得た。得られたバインダー1は、そのまま平坦化層の形成材料となるので、以下、平坦化層形成材料1と称することもある。-光拡散層形成材料1の作製-得られたバインダー1を19gに光拡散粒子平均直径1.5μmの架橋アクリル系粒子、屈折率1.49材料名:EX-1504.2g、及びトルエン14gをスターラーにて攪拌しながら添加し、超音波ソニファイヤーにて光拡散粒子をバインダー1に十分に分散させ、更にスターラーで攪拌し、光拡散粒子の含有量が40体積となる光拡散層形成材料1を得た。次に、作製した平坦化層形成材料1及び光拡散層形成材料1に重合開始剤IRGACURE819、Ciba社製を波長450nm以下の光がカットされた環境にて、それぞれポリマー固形分に対し2質量添加し、十分に攪拌した。-光取り出し部材1の作製-次に、ガラス基板コーニング社製、EagleXG、屈折率1.51を洗浄容器に入れ、中性洗剤中で超音波洗浄した後、純水中で超音波洗浄し、120°Cで120分間加熱乾燥を行った。ガラス基板にワイヤーバーを用いて光拡散層形成材料1を塗布し、その後、窒素雰囲気下でUV照射365nmを10分間行い硬化させ、平均厚み5μmの光拡散層を作製した。次に、光拡散層の上にワイヤーバーを用いて平坦化層形成材料1を塗布し、UV照射を行い硬化させ、平均厚み5μmの平坦化層を形成し、光取り出し部材1を作製した。なお、有機電界発光装置を組み立てた際に、光拡散層及び平坦化層が封止缶内に収まる大きさとなるように塗布した。その後、作製した光取り出し部材1をイソプロピルアルコールIPA、純水の順に超音波洗浄を行い、120°Cで2時間、乾燥した。-有機電界発光素子1の作製-次に、作製した光取り出し部材1の平坦化層上に、スパッタ法によりITOIndiumTinOxideを厚みが100nmとなるように成膜した。次に、前記ITO上に、下記構造式で表される4,4’,4-トリスN,N-2-ナフチル-フェニルアミノトリフェニルアミン2-TNATAに、下記構造式で表されるF4-TCNQを0.3質量ドープした正孔注入層を厚みが250nmになるように共蒸着した。次に、前記正孔注入層上に、正孔輸送層としてα-NPDBisN--N-phenylbenzidineを厚みが7nmとなるように真空蒸着法にて形成した。次に、前記正孔輸送層上に、下記構造式で表される有機材料Aを真空蒸着して、厚み3nmの第2の正孔輸送層を形成した。次に、第2の正孔輸送層上に、ホスト材料として下記構造式で表されるmCP13Bisbenzeneと、該mCPに対して40質量の燐光発光材料である下記構造式で表される発光材料Aをドープした発光層を30nmの厚みに真空蒸着した。次に、発光層上に電子輸送層として下記構造式で表されるBAlqBis-2-methyl-8-quinolinolato-4-phenyl-phenolate-aluminiumIIIを厚みが39nmとなるように真空蒸着した。次に、電子輸送層上に、下記構造式で表されるBCP2,9-ジメチル-4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリンを電子注入層として、厚みが1nmとなるように蒸着した。次に、電子注入層上にバッファ層としてLiFを厚みが1nmとなるように蒸着し、該バッファ層上にアルミニウムを電極層として厚みが100nmとなるように蒸着し、積層体を作製した。次に、作製した積層体を、窒素ガス雰囲気中にて乾燥剤を貼り付け、基板との設置面に封止材を塗った封止ガラス缶にて基板の有機層側を封止した。以上により、有機電界発光装置1を作製した。作製した有機電界発光装置1について、以下のようにして、光取り出し効率、経時変化、及び製造中の状態を評価した。結果を表1に示す。<外部量子収率の測定及び光取り出し効率の算出>外部量子収率の測定は、浜松ホトニクス株式会社製の外部量子効率測定装置C9920-12を用いて、直流定電流を各有機電界発光装置に印加して発光させ測定した。光取り出し効率は、下式で定義する。光取り出し率=各実施例及び比較例の外部量子効率/比較例7の外部量子効率×100<有機電界発光装置の経時変化の評価方法>発光面積のシュリンク測定にて有機電界発光装置の経時変化の評価を行った。温度40°C、湿度90RH中に各有機電界発光装置を入れ、1週間放置した。1週間放置前後の発光面積の変化を比較し、変化が大きければ経時に弱く、変化が少なければ経時に強い結果となる。<有機電界発光装置の製造中の状態の評価方法>光拡散層、及び平坦化層を成膜プロセス毎に、目視にて表面を観察することで、表面の凹凸、剥離等を確認した。実施例2-有機電界発光装置の作製-実施例1において、調製例1のシリカ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子を、調製例2のアルミナ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子に代え、前記アルミナ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子9gを、分散材料4-オクチル安息香酸1.3gと共にトルエン10gに混合し、実施例1と同様に、オムニミキサー、超音波ソニファイヤーを用い、十分に攪拌し、分散させ、酸化チタン分散液を得た。前記酸化チタン分散液、樹脂材料オグソールEA-020010g、及びトルエン6gをローラーミキサー、スターラーにより攪拌して溶解し、更に超音波によりシリカ/ポリマー被覆酸化チタン微粒子を分散させて、バインダー2を得た。得られたバインダー2を18gに、光拡散粒子EX-1504.2g及びトルエン14gを実施例1と同様にスターラーにて攪拌しながら添加し、超音波ソニファイヤーにて光拡散粒子をバインダー2に十分に分散、更にスターラーで良く攪拌し、平坦化層形成材料2、及び光拡散粒子の含有量が40体積となる光拡散層形成材料2を作製した。次に、実施例1と同様にして、重合開始剤IRGACURE819を光拡散層形成材料2、及び平坦化層形成材料2に添加し、これらを用いた以外は、実施例1と同様にして、光取り出し部材2、及び有機電界発光装置2を作製した。実施例3-有機電界発光装置の作製-実施例1において、酸化チタン分散液の代わりに、表面をアルミナ及びジルコニアで被覆した酸化チタン分散液平均直径15nmの酸化チタン微粒子が分散、屈折率2.45材料名:酸化チタン分散トルエン、商品名:高透明性酸化チタンスラリーHTD-760Tを用いた。前記酸化チタン分散液21gにオグソールEA-020011g、及びトルエン6gを混合し、超音波ソニファイヤー、スターラーを用い、十分に攪拌し、分散させ、バインダー3を得た。次に、バインダー3を19g用い、光拡散粒子EX-1503.8g、及びトルエン7gを加え、実施例1と同様にして、平坦化層形成材料3、光拡散粒子の含有量が40体積となる光拡散層形成材料3を作製した。次に、実施例1と同様にして、重合開始剤IRGACURE819を光拡散層形成材料3、及び平坦化層形成材料3に添加し、これらを用いた以外は、実施例1と同様にして、光取り出し部材3、及び有機電界発光装置3を作製した。実施例4-有機電界発光装置の作製-実施例3で作製したバインダー3を19gに光拡散粒子EX-1505.6g、及びトルエン11gをスターラーにて攪拌しながら添加し、超音波ソニファイヤーにて光拡散粒子をバインダー3に十分に分散させ、更にスターラーで攪拌し、光拡散粒子の含有量が50体積となる光拡散層形成材料4を得た。次に、実施例1と同様にして、重合開始剤IRGACURE819を光拡散層形成材料4、及び平坦化層形成材料3に添加し、これらを用いた以外は、実施例1と同様にして、光取り出し部材4、及び有機電界発光装置4を作製した。実施例5-有機電界発光装置の作製-実施例4において作製した光拡散層形成材料3をガラス基板全面上に塗布し、光拡散層を作製し、この光拡散層全面上に平坦化層形成材料4を塗布し、光拡散層、平坦化層をガラス基板全面上に形成した以外は、実施例4と同様にして、光取り出し部材5を作製した。次に、作製した光取り出し部材5の平坦化層の表面にCVD法によりSiN層を厚み1,000nmに成膜したバリア層形成。次に、SiN層上に、実施例1と同様にして、積層体を作製した。次に、作製した積層体を、窒素ガス雰囲気中にて乾燥剤を貼り付け、基板との設置面に封止材を塗った封止ガラス缶にて基板の有機層側を封止した。以上により、有機電界発光装置5を作製した。実施例6-有機電界発光装置の作製-実施例3で作製した光拡散層形成材料3、及び平坦化層形成材料3をUV365nmで24時間照射した。その後、実施例1と同様にして、重合開始剤IRGACURE819を光拡散層形成材料3、及び平坦化層形成材料3に添加し、これらを用いた以外は、実施例1と同様にして、光取り出し部材6、及び有機電界発光装置6を作製した。実施例7-有機電界発光装置の作製-実施例3で作製した光拡散層形成材料3、及び平坦化層形成材料3を用い、実施例1と同様にして、重合開始剤IRGACURE819を光拡散層形成材料3、及び平坦化層形成材料3に添加し、ガラス基板にワイヤーバーを用いて光拡散層形成材料3を塗布し、その後、窒素雰囲気下でUV照射365nmを10分間行い硬化させ、平均厚み10μmの光拡散層を作製した。次に、光拡散層の上にワイヤーバーを用いて平坦化層形成材料3を塗布し、UV照射を行い硬化させ、平均厚み8μmの平坦化層を形成し、光取り出し部材7を作製した。その後は実施例1と同様にして、有機電界発光装置7を作製した。比較例1-有機電界発光装置の作製-酸化ジルコニウム微粒子一次平均粒径15nm、屈折率2.0513gを分散材料4-オクチル安息香酸1.3gと共にトルエン10gに混合し、オムニミキサー、超音波ソニファイヤーを用い、十分に攪拌し、分散させて酸化ジルコニウム分散液を得た。実施例1と同様にして、前記酸化ジルコニウム分散液24.3gと樹脂材料EA-020010g、及びトルエン6gをローラーミキサー、スターラーにより攪拌し、溶解し、更に超音波ソニファイヤーにより酸化ジルコニウム粒子を十分に分散させ、バインダー4を得た。バインダー4の硬化後の固形物の割合酸化ジルコニウム分散液の固形分と樹脂材料の固形分の体積分率が実施例1の酸化チタン分散液の固形物の割合酸化チタン分散液の固形分:樹脂材料の固形分=20:80と同等となった。分散剤を含む酸化ジルコニウム分散液の固形分の屈折率2.05は実施例1~4の酸化チタン分散液の固形分の屈折率2.3~2.5より低いため、バインダー4の屈折率は1.69であった。次いで、実施例1と同様にして、バインダー4を20gに光拡散粒子EX-1504.2gとトルエン14gをスターラー、超音波ソニファイヤーにて攪拌し、分散させ、平坦化層形成材料4と硬化後の固形物の光拡散粒子の含有量が40体積となる光拡散層形成材料5を得た。その後、実施例1と同様にして、重合開始剤IRGACURE819を光拡散層形成材料5、平坦化層形成材料4に添加し、これらを用いた以外は、実施例1と同様にして、光取り出し部材8、及び有機電界発光装置8を作製した。比較例2-有機電界発光装置の作製-比較例1と同様にして、酸化ジルコニウム微粒子一次平均粒径15nm、屈折率2.0528gを分散材料4-オクチル安息香酸1.4gと共にトルエン10gに混合し、オムニミキサー、超音波ソニファイヤーを用い、十分に攪拌し、分散させて酸化ジルコニウム分散液を得た。酸化ジルコニウム分散液39.4gと樹脂材料EA-02007.5g、及びトルエン6gをローラーミキサー、スターラーにより攪拌し、溶解した。更に、超音波ソニファイヤーにより酸化ジルコニウム微粒子をバインダーに十分に分散させ、屈折率が1.78のバインダー5、平坦化層形成材料5を得た。分散剤を含む酸化ジルコニウム分散液の固形分の屈折率2.05は実施例1~4の酸化チタン分散液の固形分の屈折率2.3~2.5より低いため、バインダー5中の割合は40体積であった。次いで、実施例1と同様にして、バインダー5を26gに光拡散粒子EX-1505gとトルエン14gをスターラー、超音波ソニファイヤーにて攪拌し、分散させ、光拡散粒子の含有量が40体積である光拡散層形成材料6を得た。その後、実施例1と同様にして、重合開始剤IRGACURE819を光拡散層形成材料6、及び平坦化層形成材料5に添加し、これらを基板上に順に塗布し、硬化させたが、一部分で光拡散層及び平坦化層の剥離が発生した。これは、バインダー5に含まれる酸化ジルコニウム微粒子の割合が多く、樹脂EA-0200の結合が低下し、脆くなったためと推測される。以上により、光取り出し部材9を作製した。次に、作製した光取り出し部材8を用いた以外は、実施例1と同様にして、有機電界発光装置9を作製した。比較例3-有機電界発光装置の作製-比較例1において、酸化ジルコニウム微粒子を酸化チタン微粒子一次平均粒径15μm、屈折率2.7に代え、比較例1と同様にして、前記酸化チタン微粒子10gを分散材料4-オクチル安息香酸1.3gと共にトルエン10gに混合し、オムニミキサー、超音波ソニファイヤーを用い、十分に攪拌し、分散させて酸化チタン分散液を得た。次に、比較例2と同様にして、酸化チタン分散液22.3gと樹脂材料EA-020010g、及びトルエン6gをローラーミキサー、スターラーにより攪拌し溶解して、超音波ソニファイヤーにより酸化チタン微粒子を十分に分散させ、屈折率が1.78のバインダー6、及び平坦化層形成材料6を得た。次いで、実施例1と同様にして、バインダー6を18gに光拡散粒子EX-1504.2gとトルエン14gをスターラー、超音波ソニファイヤーにて攪拌し、分散させて、光拡散粒子の含有量が40体積となる光拡散層形成材料7を得た。次に、実施例1と同様にして、重合開始剤IRGACURE819を光拡散層形成材料7、及び平坦化層形成材料6に添加し、これらを用いた以外は、実施例1と同様にして、光取り出し部材10、及び有機電界発光装置10を作製した。比較例4-有機電界発光装置の作製-実施例3と同様にして、バインダー3を19gに光拡散粒子をEX-150からオプトビーズ2000M、平均直径2μm、屈折率1.695.2gに変更し、トルエン7gと共にスターラー、超音波ソニファイヤーにて攪拌し、分散させ、光拡散粒子の含有量が40体積となる光拡散層形成材料8を得た。次いで、実施例1と同様にして、重合開始剤IRGACURE819を光拡散層形成材料8、及び平坦化層形成材料3に添加し、これらを用いた以外は、実施例1と同様にして、光取り出し部材11、及び有機電界発光装置11を作製した。比較例5-有機電界発光装置の作製-実施例4と同様にして、平坦化層形成材料3と光拡散層形成材料4を調製し、それぞれに重合開始剤IRGACURE819を添加し、攪拌後、ガラス基板全面に光拡散層形成材料4、及び平坦化層形成材料3の順に積層し、光取り出し部材12を作製した。次に、作製した光取り出し部材12を用いた以外は、実施例1と同様にして、有機電界発光装置12を作製した。比較例6-有機電界発光装置の作製-比較例3と同様にして平坦化層形成材料6と光拡散層形成材料7を作製した。その後、実施例6と同様にして、UV365nmで24時間照射した後、実施例1と同様にして、重合開始剤IRGACURE819を添加し、ガラス基板上に光拡散層形成材料6、及び平坦化層形成材料7の塗布を行ったが、粘度が少し変わり、膜厚に変動がみられた。以上により、光取り出し部材13を作製した。次に、作製した光取り出し部材13を用いた以外は、実施例1と同様にして、有機電界発光装置13を作製した。比較例7-有機電界発光装置の作製-実施例1において、光取り出し部材1を、洗浄済みのガラス基板コーニング社製、EagleXG、屈折率1.51に代えた以外は、実施例1と同様にして、有機電界発光装置14を作製した。この比較例7の有機電界発光装置14は、光取り出し効率の基準となる。次に、表1に実施例1~7及び比較例1~7の内容について、まとめて記載した。表1の結果から、実施例1~7は、いずれも光取り出し効率が高く、上記有機電界発光装置の経時変化の評価方法による結果も良好であることが分かった。これに対し、比較例1の光取り出し効率は145であり、ほぼ同様な構成で作製された実施例1よりも悪い結果となった。これはバインダー4中に分散した酸化ジルコニウム微粒子の屈折率が低いため、バインダー4全体の屈折率が低くなり、有機電界発光層からの発光の一部が全反射により入らなかったためと推測される。また、比較例2の光取り出し効率は135となり、ほぼ同様な構成で作製された実施例1よりも悪い結果となった。これはバインダー5中に分散した酸化ジルコニウム微粒子の割合が多く、光散乱が強くなったためと推測される。また、比較例3の光取り出し効率は149となり、ほぼ同じ構成の実施例1~3より悪い結果となった。これは、酸化チタン微粒子が光触媒不活性処理を行っていなかったため、バインダー中の樹脂や光拡散粒子の一部が分解し、屈折率が変化し光学的なバランスが崩れ、光取り出し効率が低下しものと推測される。また、比較例4の光取り出し効率は143となり、ほぼ同じ構成の実施例1~3より悪い結果となった。使用した光拡散粒子の屈折率が大きく、バインダー3の屈折率1.78と近いため|A-B|=0.13、実施例1~3と同じ光拡散粒子の割合ではあるが、光拡散性能が低下し、よって光取り出し効率が低下したものと推測される。また、比較例5の光取り出し効率は、バリア層を有さない以外ほぼ同構成の実施例5と同等の175を示した。しかし、比較例5では、上記有機電界発光装置の経時変化の評価方法による結果において、光取り出し効率の低下は無かったが、発光面積のシュリンク縮小が見られた。また、比較例6の光取り出し効率は145となり、ナノ粒子が酸化チタン微粒子である以外は、ほぼ同じ構成の実施例1~3より悪い結果となった。これは、比較例3と同じく、酸化チタン微粒子が光触媒不活性処理を行っていなかったため、バインダー中の樹脂や光拡散粒子の一部が分解し、屈折率が変化し光学的なバランスが崩れ、光取り出し効率が低下したものと推測される。"