"式I式中、nは1~3の整数を表し、RはCaH2a1-bFbで表される基を表し、aは1~5の整数を表し、bは0~2aの整数を表す。で示される環状ハイドロフルオロカーボン。前記式I中、nが3、aが1、bが0又は1の化合物である、請求項1に記載の環状ハイドロフルオロカーボン。式II式中、nは1~3の整数を表し、RはCaH2a1-bFbで表される基を表し、aは1~5の整数を表し、bは0~2aの整数を表す。で示される環状ハイドロフルオロオレフィンをフッ素化する工程を有する、式I式中、nおよびRは前記と同じ意味を表す。で示される環状ハイドロフルオロカーボンの製造方法。式III式中、nは1~3の整数である。で示される環状パーフルオロオレフィンを、アルキル化又はフルオロアルキル化することにより、式II式中、nおよびRは前記と同じ意味を表す。で示される環状ハイドロフルオロオレフィンを得る工程1と、得られた前記式IIで示される環状ハイドロフルオロオレフィンをフッ素化することにより、式中、nおよびRは前記と同じ意味を表す。で示される環状ハイドロフルオロカーボンを得る工程2を有する、前記式Iで示される環状ハイドロフルオロカーボンの製造方法。式III式中、nは1~3の整数である。で示される環状パーフルオロオレフィンを、アルキル化又はフルオロアルキル化することを特徴とする、式II式中、nは1~3の整数を表し、RはCaH2a1-bFbで表される基を表し、aは1~5の整数を表し、bは0~2aの整数を表す。で示される環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法。前記アルキル化又はフルオロアルキル化する工程が、水混和性エーテル溶媒中、前記式IIIで示される環状パーフルオロオレフィンに、式:RMgX式中、RはCaH2a1-bFbaは1~5の整数を表し、bは0~2aの整数を表す。で表される基を表し、Xはハロゲン原子を表す。で示されるグリニャール試薬を反応させるものである、請求項5に記載の環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法。本発明は、半導体製造時に用いられるドライエッチングガスや、CVD化学気相成長法に用いられるプラズマ反応用ガス、電子部品の洗浄剤等として有用な、新規な環状ハイドロフルオロカーボン、この環状ハイドロフルオロカーボンを簡便かつ効率よく製造する方法、及び、前記環状ハイドロフルオロカーボンの製造原料として有用な環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法を提供することを目的とする。本発明者は前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、3~5員環を有する環状ハイドロフルオロオレフィンと遷移金属フッ素化物を反応させることで、前記環状ハイドロフルオレフィンの炭素-炭素二重結合が選択的にフッ素化され、目的とする環状ハイドロフルオロカーボンが、簡便かつ効率よく得られることを見出した。また、この方法において出発原料として用いる環状ハイドロフルオロオレフィンは、環状パーフルオロオレフィンをアルキル化又はフルオロアルキル化することで、簡便かつ効率よく製造できることを見出し、これらの知見に基づいて、本発明を完成するに至った。かくして本発明の第1によれば、下記1、2の環状ハイドロフルオロカーボンが提供される。1式I式中、nは1~3の整数を表し、RはCaH2a1-bFbで表される基を表し、aは1~5の整数を表し、bは0~2aの整数を表す。で示される環状ハイドロフルオロカーボン。2前記式I中、nが3、aが1、bが0又は1の化合物である、1に記載の環状ハイドロフルオロカーボン。本発明の第2によれば、下記3、4の環状ハイドロフルオロカーボンの製造方法が提供される。3式II式中、nは1~3の整数を表し、RはCaH2a1-bFbで表される基を表し、aは1~5の整数を表し、bは0~2aの整数を表す。で示される環状ハイドロフルオロオレフィンをフッ素化する工程を有する、式I式中、n及びRは前記と同じ意味を表す。で示される環状ハイドロフルオロカーボンの製造方法。4式III式中、nは1~3の整数である。で示される環状パーフルオロオレフィンを、アルキル化又はフルオロアルキル化することにより、式II式中、n及びRは前記と同じ意味を表す。で示される環状ハイドロフルオロオレフィンを得る工程1と、得られた前記式IIで示される環状ハイドロフルオロオレフィンをフッ素化することにより、式中、n及びRは前記と同じ意味を表す。で示される環状ハイドロフルオロカーボンを得る工程2を有する、前記式Iで示される環状ハイドロフルオロカーボンの製造方法。本発明の第3によれば、下記5、6の環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法が提供される。5式III式中、nは1~3の整数である。で示される環状パーフルオロオレフィンを、アルキル化又はフルオロアルキル化することを特徴とする、式II式中、nは1~3の整数を表し、RはCaH2a1-bFbで表される基を表し、aは1~5の整数を表し、bは0~2aの整数を表す。で示される環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法。6前記アルキル化又はフルオロアルキル化する工程が、水混和性エーテル溶媒中、前記式IIIで示される環状パーフルオロオレフィンに、式:RMgX式中、RはCaH2a1-bFbaは1~5の整数を表し、bは0~2aの整数を表す。で表される基を表し、Xはハロゲン原子を表す。で示されるグリニャール試薬を反応させるものである、5に記載の環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法。本発明の第1によれば、半導体製造時に用いられるドライエッチングガスや、CVD化学気相成長法に用いられるプラズマ反応用ガス、電子部品の洗浄剤等として有用な、新規な環状ハイドロフルオロカーボンが提供される。本発明の第2によれば、本発明の環状ハイドロフルオロカーボンを簡便かつ効率よく製造する方法が提供される。本発明の第3によれば、本発明の環状ハイドロフルオロカーボンの製造原料として有用な、環状ハイドロフルオロオレフィンを簡便かつ効率よく製造する方法が提供される。以下、本発明を、1環状ハイドロフルオロカーボン、2環状ハイドロフルオロカーボンの製造方法、3環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法、に項分けして説明する。1環状ハイドロフルオロカーボン本発明の第1は、前記式Iで示される環状ハイドロフルオロカーボンである。前記式I中、nは1~3の整数を表す。すなわち、nが、1、2、3のとき、式Iは、それぞれ、3員環化合物、4員環化合物、5員環化合物を表す。これらの中でも、nが3である5員環化合物が好ましい。Rは、CaH2a1-bFbで表される基であって、aは、1~5のいずれかの整数、好ましくは1~3のいずれかの整数、より好ましくは1であって、bは、0~2aのいずれかの整数であって、好ましくは0である。Rで表される基CaH2a1-bFbで表される基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等の炭素数1~5のアルキル基や、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、1,1,1-トリフルオロ-2-プロピル基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル基、2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロブチル基等の炭素数1~5のフルオロアルキル基が挙げられる。これらの中でも、炭素数1のアルキル基又は炭素数1のフルオロアルキル基が好ましく、メチル基又はフルオロメチル基がより好ましい。式Iで示される化合物の具体例としては、1-メチル-1,2,2,3,3-ペンタフルオロシクロプロパン、1-フルオロメチル-1,2,2,3,3-ペンタフルオロシクロプロパン、1-エチル-1,2,2,3,3-ペンタフルオロシクロプロパン等の3員環化合物;1-メチル-1,2,2,3,3,4,4-ヘプタフルオロシクロブタン、1-フルオロメチル-1,2,2,3,3,4,4-ヘプタフルオロシクロブタン、1-エチル-1,2,2,3,3,4,4-ヘプタフルオロシクロブタン等の4員環化合物;1-メチル-1,2,2,3,3,4,4,5,5-ノナフルオロシクロペンタン、1-フルオロメチル-1,2,2,3,3,4,4,5,5-ノナフルオロシクロペンタン、1-エチル-1,2,2,3,3,4,4,5,5-ノナフルオロシクロペンタン等の5員環化合物;等が挙げられ、なかでも、式I中、nが3、aが1、bが0又は1である化合物すなわち、1-メチル-1,2,2,3,3,4,4,5,5-ノナフルオロシクロペンタン、又は1-フルオロメチル-1,2,2,3,3,4,4,5,5-ノナフルオロシクロペンタンが好ましい。式Iで示される化合物は、例えば、後述する方法によって製造することができる。式Iで示される化合物は、半導体製造時に用いられるドライエッチングガスや、CVD化学気相成長法に用いられるプラズマ反応用ガス、電子部品の洗浄剤成分等として有用である。2環状ハイドロフルオロカーボンの製造方法本発明の第2は、前記式IIで示される環状ハイドロフルオロオレフィンを、フッ素化する工程を有する、前記式Iで示される環状ハイドロフルオロカーボンの製造方法である。本発明に用いる環状ハイドロフルオロオレフィンは、前記式IIで示される化合物である。式II中、R、nは、それぞれ、前記式IのR、nと同じ意味である。式IIで示される化合物の具体例としては、例えば、1-メチル-2,3,3-トリフルオロシクロプロペン、1-フルオロメチル-2,3,3-トリフルオロシクロプロペン、1-エチル-2,3,3-トリフルオロシクロプロペン等の3員環化合物;1-メチル-2,3,3,4,4-ペンタフルオロシクロブテン、1-フルオロメチル-2,3,3,4,4-ペンタフルオロシクロブテン、1-エチル-2,3,3,4,4-ペンタフルオロシクロブテン等の4員環化合物;1-メチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテン、1-フルオロメチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテン、1-エチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテン等の5員環化合物;等が挙げられ、なかでも、式II中、nが3、aが1、bが0又は1である化合物すなわち、1-メチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテン、又は1-フルオロメチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテンが好ましい。式IIで示される化合物は、例えば、後述する方法によって製造することができる。式IIで示される化合物をフッ素化するには、式IIで示される化合物をフッ素化剤と反応させればよい。用いるフッ素化剤としては、フッ化水素、フッ素ガス、遷移金属フッ化物等が挙げられる。遷移金属フッ化物を用いる場合には、フッ化水素やフッ素ガスを用いる方法に比べて、より安全かつ簡便に行うことができるため好ましい。また、遷移金属フッ化物を用いる方法によれば、前記の問題が全て解決されるため、短工程で、環状ハイドロフルオロカーボンを高収率、高選択率で製造することができ、また、本発明の製造方法は工業的にも適している。遷移金属フッ化物としては、三フッ化コバルト、三フッ化マンガン、二フッ化銀、四フッ化セリウムなどが好適に用いられ、反応性の観点から三フッ化コバルトが特に好ましい。遷移金属フッ化物は公知の方法により製造することができ、また、市販品を用いることもできる。遷移金属フッ化物の使用量は、式IIで示される化合物1モルに対し、通常1~20モル、好ましくは2~10モルである。式IIで示される化合物のフッ素化反応は、式IIで示される化合物の炭素-炭素二重結合にフッ素原子が付加する反応である。この反応においては、用いるフッ素化剤の種類により反応温度を適宜選択することにより、反応選択性を高めることができる。式IIで示される化合物とフッ素化剤とを反応させるときの好ましい反応温度は、用いるフッ化剤により異なる。例えば、三フッ化コバルトを用いる場合の反応温度は、通常30~190°Cであり、好ましくは80~180°C、さらに好ましくは120~170°Cである。いずれのフッ素化剤を用いる場合であっても、反応温度があまりに高い場合、環状ハイドロフルオロカーボンのフッ素化反応の選択性が低下し、副生成物が生成する。一方、反応温度があまりに低い場合、反応速度が遅く、環状ハイドロフルオロカーボンの収率が大きく低下するおそれがある。フッ素化反応の反応時間は、通常0.001~10時間、好ましくは0.001~1時間の範囲である。フッ素化剤として遷移金属フッ化物を用いる場合、式IIで示される化合物と遷移金属フッ化物との反応は、窒素やヘリウムなどの不活性な希釈用ガスの存在下に行うことも好ましい。希釈ガス量は、式IIで示される化合物1モルに対して、通常0.001~100モル、好ましくは0.01~50モルである。フッ素化剤として遷移金属フッ化物を用いる場合、式IIで示される化合物と遷移金属フッ化物との反応は、遷移金属フッ化物を充填した反応器の中を、気体状態の式IIで示される化合物を連続的に流通させてフッ素化反応を行うフロー式であっても、遷移金属フッ化物を充填した反応器の中に、一定量の式IIで示される化合物液体状物であっても気体状物であってもよい。を添加してフッ素化反応を行うバッチ式であってもよい。効率の観点からはフロー式が好ましい。より具体的には、フロー式の場合、例えば、気化器を通過させることにより気体状態とした式Iで示される化合物を、遷移金属フッ化物が攪拌された状態の反応器内を通過させることで、式Iで示される化合物をフッ素化させる。次いで、反応生成物を含む反応混合物ガスを-50~0°Cの捕集器内で凝縮させることで、液体状態の反応混合物を得ることができる。バッチ式の場合、例えば、反応器内に遷移金属フッ化物と式IIで示される化合物とを所定量添加して、所定温度、所定圧力で反応器内を撹拌することで、式IIで示される化合物をフッ素化させることができる。反応の進行は、例えば、ガスクロマトグラフィーや液体クロマトグラフィー等の通常の分析手段により確認することができる。反応終了後は、有機合成で通常使用されている手法によって、反応液から目的物を分離、精製することができる。例えば、副生物であるハロゲン化水素を除去するために、反応液に、水又はアルカリ性溶液例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の水溶液を加えて、撹拌、静置し、有機層を分取した後、定法により洗浄、乾燥し、次いで蒸留することで、目的物を単離すことができる。また、この抽出操作をすることなく、直接蒸留を行うことで目的物を得ることもできる。式IIで示される化合物をフッ素化する工程によって、前記式Iで示される環状ハイドロフルオロカーボンを得ることができる。また、式Iで示される化合物は、前記式IIIで示される化合物をアルキル化又はフルオロアルキル化する工程1と、前記工程1で得られた、前記式IIで示される化合物をフッ素化する工程2とを有する製造方法によっても得ることができる。ここで、式IIIで示される化合物を、アルキル化又はフルオロアルキル化する工程においては、後述する方法本発明の第3を利用することができ、式IIで示される化合物をフッ素化する工程においては、先に説明した方法を利用することができる。3環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法本発明の第3は、前記式IIIで示される環状パーフルオロオレフィンをアルキル化又はフルオロアルキル化する工程を有する、前記式IIで示される環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法である。本発明に用いる環状パーフルオロオレフィンは、前記式IIIで示される化合物である。式III中、nは1~3の整数を表し、好ましくは3である。式IIIで示される化合物の具体例としては、テトラフルオロシクロプロペン、ヘキサフルオロシクロブテン、オクタフルオロシクロペンテン等が挙げられ、好ましくは、オクタフルオロシクロペンテンである。式IIIで示される化合物は、公知の方法により製造することができる。式IIIで示される化合物を、アルキル化又はフルオロアルキル化する方法としては、式IIIで示される化合物をアルキル化剤と反応させる方法が挙げられる。アルキル化剤は、CaH2a1-bFbで表される基aは、1~5の整数、好ましくは1~3の整数、より好ましくは1、bは、0~2aの整数、好ましくは0である。を有する化合物であって、モノフルオロビニレン基-CH=CF-のフッ素原子Fを前記のCaH2a1-bFbで表される基に置換しうるものである。なお、本明細書においては、フルオロアルキル基に置換する化合物もアルキル化剤という。前記のCaH2a1-bFbで表される基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基等の炭素数1~5のアルキル基や、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、1,1,1-トリフルオロ-2-プロピル基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル基、2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロブチル基等の炭素数1~5のフルオロアルキル基が挙げられる。これらの中でも、炭素数1のアルキル基又は炭素数1のフルオロアルキル基が好ましく、メチル基又はフルオロメチル基がより好ましい。アルキル化剤としては、前記のCaH2a1-bFbで表される基を有する有機金属化合物が挙げられる。有機金属化合物としては、有機リチウム化合物、有機亜鉛化合物、有機ハロゲン化マグネシウム化合物グリニャール試薬等が挙げられ、なかでも、生産性、費用、安全性等の観点から、有機亜鉛化合物又は有機ハロゲン化マグネシウム化合物が好ましく、有機ハロゲン化マグネシウム化合物がより好ましい。有機亜鉛化合物や有機ハロゲン化マグネシウム化合物は、亜鉛やマグネシウムと、ハロゲン化アルキル化合物ブロモメタン、クロロメタン、ブロモフルオロメタン、クロロフルオロメタン等と反応させることにより、調製することができる。アルキル化剤の使用量は、式IIIで示される化合物1モルに対して、通常1~3モル、好ましくは1~2モル、より好ましくは1~1.2モルである。式IIIで示される化合物とアルキル化剤とを反応させる時の反応温度は、通常-50~10°Cであり、好ましくは-30~5°Cである。反応温度が高すぎると、望ましくない副生成物が生成する傾向がある。反応時間は、通常2~8時間、好ましくは3~5時間である。式IIIで示される化合物とアルキル化剤との反応は、通常溶媒の存在下で行われる。用いる溶媒としては、アルキル化反応に不活性な溶媒であれば特に制限されない。例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、1,3-ジオキソラン、1,4-ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;及びこれらの溶媒の2種以上からなる混合溶媒;が挙げられる。これらの中でも、収率よく目的部が得られることから、エーテル系溶媒が好ましく、収率が向上し、さらに、生成物と溶媒の分離が容易になることから、テトラヒドロフラン等の水混和性のエーテル系溶媒がより好ましい。反応溶媒の使用量は、反応速度及び収率の観点から、式IIIで示される化合物に対して、質量比で、通常0.5~30倍、好ましくは1~15倍、より好ましくは1~10倍である。反応終了後は、有機合成で通常使用されている手法によって、反応液から目的物を分離、精製することができる。例えば、反応液を冷却し、塩酸や硫酸水溶液を添加して反応を完結させた後、有機層を分取し、この有機層に水、炭酸ナトリウム水溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶液等を加えて撹拌、静置し、再度有機層を分取し、この有機層を水で十分に洗浄することで水溶性溶媒等を除去することができる。次いで、有機層を無水硫酸ナトリウム等の乾燥剤で乾燥した後、蒸留精製することにより、目的物を高純度で得ることができる。以下に、実施例を挙げてさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りが無い限り、実施例中の部は重量部を意味する。反応生成物の分析は、ガスクロマトグラフィーGC法及びガスクロマトグラフ質量分析GC-MS法及び核磁気共鳴分光NMR法で行った。<GC測定条件>装置:ヒューレットパッカード社製、HP6890カラム:ジーエルサイエンス社製、InertCap1登録商標、長さ60m、内径250μm、膜厚1.50μmインジェクション温度:150°Cディテクター温度:250°Cキャリアーガス:窒素53.0mL/分メイクアップガス:窒素30mL/分、水素50mL/分、空気400mL/分スプリット比:100/1昇温プログラム:1100°Cで10分保持、240°C/分で昇温、3250°Cで26分保持。<GC-MS測定条件>装置:ヒューレットパッカード社製、HP6890カラム:フロンティアラボ社製、UltraALLOY登録商標、UA-1s、長さ30m、内径250μm、膜厚1.50μmインジェクション温度:150°Cキャリアーガス:ヘリウム282mL/分スプリット比:170/1昇温プログラム:140°Cで20分保持、240°C/分で昇温、3250°Cで15分保持。<NMR測定条件>装置:日本電子社製核磁気共鳴装置、JNM-ECA400型実施例11-メチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテンの製造攪拌子、温度計、滴下漏斗、デュワー瓶型トラップドライアイス-エタノール:-78°Cを備えた反応器に、オクタフルオロシクロペンテン45部、及びテトラヒドロフラン50部を入れ、反応溶液を-10~0°Cに保ちながら、メチルマグネシウムブロマイド-テトラヒドロフラン溶液1モル/L250部を2時間かけて滴下した。滴下終了後、反応溶液を5°C以下に保ちながら攪拌を2時間継続した。次に反応溶液を-20~-10°Cに保ちながら、塩酸4モル/L65部を30分で滴下し、滴下終了後1時間攪拌を継続した。攪拌終了後、有機層を分離し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20部を加えて中和した後、水200部で3回洗浄した。有機層に無水硫酸マグネシウム15部を加えて乾燥させた後、硫酸マグネシウムをろ別した。得られた粗生成物の一部をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1-メチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテンとその他の不純物の混合物であることがわかった。1-メチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテンの含有量は、GCピーク面積で、92.5であった。粗生成物を常圧蒸留することにより、1-メチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテンを37部収率70得た。1-メチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテンのスペクトルデータ1H-NMRTMS、CDCl3:δ1.94s,3H,CH319F-NMRC6F6、CDCl3:δ26.2m,1F,CF,32.1s,2F,CF2,43.3m,2F,CF2,49.0t,2F,CF2GC-MS:m/z208C6H3F7,193C5F7,189C6H3F6,158C5H3F5,143C4F5,139C5H3F4,108C4H3F3,93C3F3,69CF3,31CF実施例21-メチル-1,2,2,3,3,4,4,5,5-ノナフルオロシクロペンタンの製造攪拌羽根、温度計、原料導入用気化器、デュワー瓶型トラップドライアイス-エタノール:-78°Cを備えた100mlの反応器を2基直列に接続し、それぞれに三フッ化コバルト20部を入れた。気化器を70°Cに加熱し、三フッ化コバルト反応器の内温を140°Cに調整し、実施例1で得られた1-メチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテンを0.2部/分の速度で、窒素ガスを1ml/分の速度で、それぞれ気化器に導入した。1-メチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテンの合計導入量は5部であった。三フッ化コバルト反応器を通過した反応ガスをトラップで捕集した。反応終了後、捕集された粗生成物は4.5部であった。同様な反応を5回実施した。得られた粗生成物をガスクロマトグラフィーで分析したところ、未反応の1-メチル-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテン21と目的物である1-メチル-1,2,2,3,3,4,4,5,5-ノナフルオロシクロペンタン71とその他の不純物の混合物であった。粗生成物を蒸留することにより、1-メチル-1,2,2,3,3,4,4,5,5-ノナフルオロシクロペンタンを13.5部収率45得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、純度は98であった。1-メチル-1,2,2,3,3,4,4,5,5-ノナフルオロシクロペンタンのスペクトルデータ1H-NMRTMS、CDCl3:δ1.67d,3H,CH319F-NMRC6F6、CDCl3:δ25.1t,1F,CF,29.7s,2F,CF2,31.9d,2F,CF2,35.5d,2F,CF2,39.4d,2F,CF2GC-MS:m/z246C6H3F9,227C6H3F8,177C5H3F6,131C3F5,127C4H3F4,100C2F4,96C3H3F3,77C3H3F2,69CF3,31CF"