"X線源からのX線を導波する導波路と、前記導波路からのX線を集光する光学素子と、を備え、前記導波路は、コアとクラッドとを有し、前記コアは、周期構造を持ち、前記コアと前記クラッドとは、該コアと該クラッドの界面でのX線の全反射臨界角のほうが前記周期構造に起因するブラッグ角よりも大きくなるように、構成されており、前記光学素子は、少なくとも前記コアと前記クラッドとの界面に平行な方向において、前記導波路からのX線を集光することを特徴とするX線光学系。前記コアは、屈折率実部の異なる複数の部分が周期的に配列された周期構造を持ち、前記コアは、前記ブラッグ角のほうが前記複数の部分の界面でのX線の全反射臨界角よりも大きくなるように、構成されていることを特徴とする請求項1に記載のX線光学系。前記コアは、複数の物質が周期的に積層された1次元周期構造を持つことを特徴とする請求項1または2に記載のX線光学系。前記光学素子は、フレネルゾーンプレート、全反射ミラー、多層膜ミラー、導波路のいずれかを有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のX線光学系。前記光学素子は、前記コアと前記クラッドとの界面に平行な方向においてのみ、前記導波路からのX線を集光することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のX線光学系。前記光学素子は、少なくとも前記コアと前記クラッドとの界面と平行かつ前記導波路から出射したX線の出射方向と垂直な方向において、前記導波路からのX線を集光することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のX線光学系。前記コアは、メソ構造体膜を含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のX線光学系。前記コアは、メソポーラスシリカ膜を含むことを特徴とする請求項7に記載のX線光学系。前記複数の部分は、前記メソポーラスシリカ膜のシリカ部および孔部を含むことを特徴とする請求項8に記載のX線光学系。しかしながら、従来の技術には、いくつかの課題があった。上記、非特許文献、及び特許文献に記載の技術においては、X線集光光学系に用いられる導波路中の、X線が伝搬するコア部位として、20nm未満程度の狭エアギャップや、軽元素から構成される材料の薄膜が用いられている。そのため、X線伝搬部のサイズが、導波路から出射されるX線強度を、低いレベルに制限してしまっていた。また、X線をコアに閉じ込めるためのクラッドは、電子密度の大きい物質により構成されるため、界面におけるX線の伝播損失が大きくなってしまっていた。さらに、クラッドに用いる材料の選択性も低く、さらに酸化されやすい物質が多いため、導波路の酸化劣化などの問題が存在していた。そこで、本発明は、簡易な構成で、位相の揃ったX線を集光することができるX線光学系を提供することを目的とする。その目的を達成するために、本発明の一側面としてのX線光学系は、X線源からのX線を導波する導波路と、前記導波路からのX線を集光する光学素子と、を備え、前記導波路は、コアとクラッドとを有し、前記コアは、周期構造を持ち、前記コアと前記クラッドとは、該コアと該クラッドの界面でのX線の全反射臨界角のほうが前記周期構造に起因するブラッグ角よりも大きくなるように、構成されており、前記光学素子は、少なくとも前記コアと前記クラッドとの界面に平行な方向において、前記導波路からのX線を集光することを特徴とすることを特徴とする。本発明のその他の側面については、以下で説明する実施の形態で明らかにする。本発明のX線光学系によれば、簡易な構成で、位相の揃ったX線を集光することができる。以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。本発明においてX線とは、物質の屈折率実部が1以下となる波長帯域の電磁波を指す。具体的には、極端紫外光ExtremeUltraVioletEUV光を含む100nm以下の波長の電磁波を指す。このような短い波長の電磁波の周波数は、非常に高く、物質の最外郭電子が応答できないため、紫外光の波長以上の波長をもつ電磁波可視光や赤外線の周波数帯域と異なり、X線に対しては物質の屈折率の実部が1より小さくなることが知られている。このようなX線に対する物質の屈折率nは一般的に、下記の式1で表されるように、実数部の1からのずれ量δ、吸収に関係する虚数部のを用いて表される。δは物質の電子密度ρeに比例するため電子密度の大きい物質ほど屈折率の実部が小さくなることになる。また、屈折率実部は、となる。さらに、ρeは原子密度ρaと原子番号Zに比例する。このようにX線に対する物質の屈折率は複素数で表されるが、その実部を本明細書中では屈折率実部または屈折率の実部と称し、虚部を屈折率虚部または屈折率の虚部と称する。次に、本実施形態に用いられるX線導波路について説明する。本実施形態のX線導波路は、図1に模式的に示すように物質の屈折率実部が1以下となる波長帯域のX線を導波させるためのコア部11と、前記コアに界面での全反射によってX線をコア内に閉じ込めるためのクラッド部14より構成される。コア部11は、屈折率実部が異なる複数の部材複数の部分12、13が周期的に配列された周期構造を有する。コア部11とクラッド部14の界面でのX線の全反射臨界角が、コア部11の構造周期に起因するブラッグ角よりも大きくなるように構成されている。クラッド部の外側には、機械的強度向上目的の部材15が設けられることもある。X線の帯域では、屈折率実部が最大の1となる物質は真空であり、空気に代表される気体は真空とほぼ同じ屈折率を持つが、気体以外のほぼすべての物質の屈折率実部は、1よりも小さい値となる。X線に対する物質の屈折率は、物質中の電子密度に依存するため、前述の屈折率実部が異なる複数の部材とは、多くの場合電子密度が異なる複数の部材であるということもできる。本発明に用いられるX線導波路は、コアを形成する部材の周期構造に起因する多重干渉を起こしたX線が、コア内を低伝搬損失で導波する、本発明者らが発見した特異なX線の導波現象を利用している。この特異なX線の導波モードは構造周期性により形成され、X線の電場分布や電場強度分布の腹と節の位置は、基本構造を構成しているそれぞれの物質領域内の位置に一致する。その際、前記周期性構造体の電子密度の小さい物質にX線の電場強度が集中する導波モードの伝搬損失が、他の導波モードに比べて小さくなり、その導波モードを選択的に取り出すことが可能となる。以下、この導波モードを周期共鳴導波モードと称する。この周期共鳴導波モードを可能にする、本発明に用いられるX線導波路を構成するためには、いくつかの条件が満たされる必要がある。これについて以下に詳しく説明する。まず、屈折率実部が異なる複数の部材が周期構造を形成した構造を有するコア部について説明する。ここでいう複数の部材とは、安定な周期構造が定義できるいかなる組み合わせをも包含し、部材の定義には真空や空気も含まれる。つまり、材料とエアギャップが交互に周期構造を形成したような材料も本発明に含まれる。ここでいう周期構造は、構造周期の次元を問わない。つまり、1次元、2次元、3次元、いずれの周期構造をも適用することができる。ここで、1次元周期構造とは、図2Aに示すような、層状の複数の材料が積層方向に周期性をもったものである。2次元周期構造とは、図2Bに示すような、1方向に無限の広がりを有する構造ユニットが、断面において2次元的に規則低配置されているもので、その配置には図示した六方配置、立方配置等がある。3次元周期構造には、例えば図2Cに示す、球のような構成単位が、立方細密充填や六方細密充填したものや、複数の成分が構造規則性をもって相分離して形成されるダブルジャイロイド構造のようなものが含まれる。このような周期構造がある場合、複数の材料の界面において起こるX線の散乱が干渉を起こし、結晶のX線回折のように、散乱X線が強め合って明確な回折を起こし得る。本発明に用いられる導波路のコア部材の構造周期が、X線の波長に匹敵するレベル1ナノメートル~数十ナノメートルの場合には、各部材の中に原子レベルでの構造規則性が無くても、X線回折が観測される。構造規則性が高い場合には、多重干渉が起こる結果、規則構造中でX線は特異な伝搬挙動を示す。前述したように、本発明のX線導波路は、このX線の多重干渉を利用している。従って、本発明に用いられるコア部位の構造周期も、1ナノメートル~数十ナノメートルの範囲であることが好ましい。また、コア部位の周期構造の数としては10層乃至500層程度の範囲であることが好ましい。層数が過小な場合には、導波路の透過率が低下する傾向にある。結果的に、コア部位の厚さは、10ナノメートル~10μm程度とすることが好ましいことになる。本実施形態のX線導波路のコア材料としては、人工多層膜や、界面活性剤の分子集合体と無機物とが規則的に配列した構造を有するメソ構造体薄膜、ブロック共重合体のミクロ相分離によって形成される規則構造を有する膜等を用いることができる。しかし、X線の多重干渉を起こし得る材料であれば、これらに限定されることなく使用することが可能である。人工多層膜は、スパッタリングや蒸着等の手法によって複数の材料を所定の厚さで積層したもので、構造体の周期は成膜時間によって自在に制御することができる一方で、形成可能な構造は1次元周期構造に限定されること等の制限がある。メソ構造体膜は、界面活性剤と無機物の前駆体を含む前駆体溶液を基板上に付与し、基板上で界面活性剤と無機種の自己集合を起こさせることで作製される無機-有機複合体で、2ナノメートル~50ナノメートル程度の周期構造を有する膜である。使用する界面活性剤や無機前駆物質、及びその濃度等を変化させることで、膜中の規則構造の次元や対称性、構造周期を変化させることができる。特に、メソポーラス膜は、空気と無機物が3次元的に規則配列した構造体の膜であり、X線が低損失の空洞部位に集中することにより、低損失のX線伝搬を可能にする意味で、本発明に好ましく用いられる部材である。なお、メソポーラス膜は、界面活性剤-無機材料メソ構造体膜から、界面活性剤を除去して作製される。ブロック共重合体の相分離構造は、複数の性質の異なる高分子セグメントが共有結合で連結された高分子化合物で、構成する各成分の性質と分子量によって規則正しいミクロ相分離構造を形成する。各セグメントの分子量を制御することによって得られる規則構造の対称性を制御することも可能である。無機物に転換できる材料を用い、電子密度のコントラストの大きな周期構造体を作製することもできる。ブロック共重合体は、基板に塗布した後に加熱するなどの簡単なプロセスで、規則構造を形成できるという特長がある。次にクラッド部について説明する。前述したように、クラッドは、コアの周期構造によって多重干渉したX線を全反射でコア内に閉じ込める働きを有する。物質に対するX線の全反射臨界角は、使用するX線の波長と、物質の電子密度によって決定され、電子密度が大きい物質ほど屈折率が低くなるために全反射臨界角は大きくなる。前述したように、コアの周期構造に対応するブラッグ角は、全反射臨界角よりも小さい必要があるため、軽元素でクラッドを形成した場合にはコアのブラッグ角を小さくする、すなわち構造周期を大きくする必要がある。しかし、構造周期を大きくすると、構造規則性の低下に繋がることがあるため、一般にクラッド材料は電子密度の大きな物質で形成するのが好ましい。例示すると、タングステン、タンタル、金、ビスマス等が好ましく用いられる。前述したように、本発明のX線導波路は、周期構造を有する材料からなるコア中において多重干渉したX線がコアの外部に出ていかないように、コア-クラッド界面での全反射で、X線をコア内に閉じ込める必要がある。つまり、必然的に、導波路を構成しているコア部材の周期構造に対応するブラッグ角が、コア-クラッド界面における全反射臨界角よりも小さいという前記条件が必要になる。図3Aは、この構成を模式的に示したもので、多重干渉したX線がクラッド界面で全反射する。この条件が満たされない場合には、図3Bに記載したように、多重干渉したX線は、コア部材からクラッド部材に大きく漏れ出し、導波路として機能しなくなる。上記のことは、下記のように数式を用いて表すことができる。クラッドとコアの界面におけるクラッド側の物質の屈折率実部をnclad、コア側の物質の屈折率実部をncoreとした場合の、膜の面に平行な方向からの全反射臨界角θc-total°は、nclad<ncoreとして、と表される。またコアをなす周期構造体の構造周期をdとした場合、コア中での多重回折の有無に関わらず次のようにブラッグ角θB°を定義する。mは定数、λはX線の波長である。本発明のX線導波路を構成している物質の物性パラメータ、導波路の構造パラメータ、およびX線の波長は次式を満たす必要がある。本発明においては、もう一つの条件が満たされることが好ましい。これは、特に、コアの周期構造が1次元の場合において重要となる条件である。これについて説明する。周期構造が、屈折率実部が異なる複数の部材から構成される場合、各部材間の界面におけるX線の反射を考慮する必要がある。本発明の集光光学系に用いられるX線導波路が機能するためには、周期構造に由来する多重干渉が起こらなければならない。周期構造を構成する材料の界面で全反射が起こる場合には、図3Cに示すように、積層構造を形成する材料のうちで最も屈折率の高い材料膜中にX線が閉じ込められ、多重干渉が阻害されて本発明の目的を果たすことができなくなる。言い換えれば、周期構造を構成するユニットがマルチ全反射X線導波路として機能することになり、従来の平板型導波路と同じ構造になってしまう。従って、コアの周期構造を形成する屈折率実部が異なる部材間の界面における全反射臨界角が、前記ブラッグ角よりも小さいという条件が必要になる。このことは、数式を用いて下記のように表わすことができる。コアの周期構造を構成する屈折率実部の異なる材料間での全反射臨界角をθC_multi°とする場合、下記の式が満たされる。以上述べたような条件が満たされる場合、クラッドとコアとの界面による全反射により閉じ込められる導波モードを、コア内に局在させることができる。膜に平行な方向から測った有効伝搬角度θEは、導波モードの伝搬方向の波数ベクトル伝搬定数kz、真空中の波数ベクトルk0を用いて次式で表される。以上説明したような、本発明に用いられるX線導波路においては、多重干渉によって規則構造の周期に共鳴する導波モードのX線のみを、選択的に低損失で伝搬させることができる。この導波モードのX線は、位相がコアの厚さ全体にわたって揃っている、つまり、空間的にコヒーレントなX線となり、導波路の端面から小さな発散角で出射される。図4は、本発明に用いられるX線導波路40へのX線の入射と、導波路から出射されるX線を説明するための模式図である。図4において、41はX線源から導波路へ入射するX線ビーム、42は導波路から出射されるX線ビーム、43は周期構造を有する材料から構成されるコア、44はクラッド、45はクラッドの外側に設けられた基材、46はX線入射部の上部クラッドである。また、47は出射したX線のコア/クラッド界面に垂直な方向でのビームサイズ、48は出射したX線のコア/クラッド界面に平行な方向でのビームサイズをそれぞれ示す。図4では、上部クラッド側からX線を入射させる配置が例示されているが、本発明のX線導波路へのX線の入射方法は、この図と同じである必要はなく、例えば導波路端面からX線を入射させる配置等も用いることができる。また、図4では、クラッドの外側に、基材が設けられた構成になっているが、これはX線の導波に影響を与える必須構成要素ではない。図4において、X線導波路から出射されるX線は、端面から、導波路パラメータとX線の波長によって規定される角度の方向に出射される。位相が揃っているために、導波路の厚さ方向の発散角は0.01°未満の非常に小さい値となる。導波路のコア部の厚さを考慮すると、図4に示すように、この方向には非常に小さなサイズ47のX線ビームが得られることになる。しかし、コア/クラッド界面に平行な方向では、導波路から出射されるX線の径は、導波路に入射するX線の径、もしくは膜厚方向に垂直な方向における導波路の幅のいずれかによって規定される幅48になるため、一般にビーム径は小さくならない。単に導波路の幅を小さくする方法は、得られるビームの絶対強度を減少させるため、有効な手法とは言えない。本発明の集光光学系は、以上述べたような、X線導波路から出射される、1方向では微小なビーム径を有する扁平な形状の、位相の揃ったX線ビームを、強度を落とすことなく、小さなビーム径に集光するための光学系である。すなわち、図5に示すように、上述のX線導波路40と、導波路から出射したX線ビーム42を1方向に集光することのできるX線光学素子52を組み合わせたX線光学系50である。X線光学素子52は、1方向にX線を集光させるためのX線光学素子であり、コアとクラッドとの界面と平行かつ導波路から出射したX線の出射方向と垂直な方向において導波路からのX線を集光する。X線光学素子52としては、1次元のフレネルゾーンプレート、全反射ミラー、多層膜ミラー等を使用することができる。また、X線導波路を2個用い、1つ目のX線導波路の後方に、ビームの広い方の径を集光できるよう、2つ目のX線導波路を90度回転させて配置させる構成でも良い。この図では模式的に、上記光学素子をX線が透過するような配置が記載されているが、上記光学素子は透過配置での使用に限定されるわけではなく、反射配置で使用するものでも良い。光学素子52を出射したX線は焦点53に集光され、結果的に、強度の強い、微小Xビームが得られることになる。以下、実施例を用いて、さらに詳しく本発明のX線集光光学系を説明するが、本発明は実施例の内容に限定されるわけではない。本実施例は、炭化ホウ素B4CとアルミナAl2O3の多層膜から成るコアを、タングステンのクラッドで挟み込んだ構成のX線導波路から出射されるX線を、1次元のフレネルゾーンプレートを用いて1方向に集光する集光光学系に関する例である。シリコン基板上に20nmのタングステンを成膜した後、スパッタリングによって炭化ホウ素B4CとアルミナAl2O3の交互積層膜を形成した。B4Cの膜厚は12nm、Al2O3の膜厚は3nmで構造周期は15nm、総数は100層である。タングステンと接する材料は、Al2O3である。この多層膜の上に20nmのタングステンをスパッタリングで形成し、導波路を形成した。X線の入射部位は、エッチングによって上部タングステンの膜厚を5nmとなるようにした。また、導波路長は3mmとした。本導波路に10keVのエネルギーのX線を入射させ、X線の導波を観測した。このエネルギーのX線の、Al2O3/W界面における全反射臨界角は0.36°で、一方、構造周期15nmに対応するブラッグ角は0.23°である。また、B4CとAl2O3の界面における全反射臨界角は0.14°である。図4、5のように、X線の進行方向をz、コア/クラッド界面に垂直な方向をy、その両方に垂直な軸をxとした場合、入射X線のビーム径はy方向で0.15mm、x方向で0.4mmである。この導波路のX線透過率は、X線の入射角をy-z平面内で変化させた場合、入射角がブラッグ角にほぼ一致した場合に選択的に大きくなり、周期構造に共鳴した導波モードによるX線の低損失伝搬が確認された。この導波路を出射したX線は、y方向での位相が揃っており、それ故に、y方向の発散角は、0.008°と非常に小さいものである。X線導波路端面におけるコアの断面厚さは1.5μmであるため、得られるX線ビームはy方向には小さな径を有しているが、x方向では入射したX線のサイズと同じ0.4mmの幅を持ったものである。このX線ビームの後方に、10keVのX線に対して焦点距離fが300mmになるように設計された、1次元のフレネルゾーンプレート61を設置する。本実施例の構成を模式的に図6に示す。このフレネルゾーンプレートは、X線ビームの中心に対してx方向に、左右600ずつの直線状のゾーンを有しており、2nλf1/2と{2n1λf}1/2との間にX線を遮蔽する材料が直線的に設けられている。ここでλはX線の波長=0.12nmである。図6に示すように、前記X線導波路を出射したX線42は、このフレネルゾーンプレートに入射した後、x方向に集光され、焦点位置53でのx方向のビーム径は、1μm未満となる。y方向でのビームの発散角は小さいため、300mm離れた点においても、y方向のビーム径は30μm以下の小さな径を保持している。以上の様に、本発明の集光光学系では、位相の揃ったX線の微小ビームを簡単な構成で得ることができる。本実施例は、実施例1で使用したものと同じ構成のX線導波路から出射されるX線を、湾曲多層膜ミラーを用いて1方向に集光する集光光学系に関する。本実施例で用いられるX線導波路は、実施例1で使用したものと同一のサイズと構成を有するもので、導波路へのX線の入射条件も実施例1と同じである。また、使用するX線のエネルギーも、実施例1と同じ10keVである。使用した湾曲多層膜ミラー71は、放物面上にタングステンWと炭化ホウ素B4Cの多層膜が100層形成されたもので、その焦点距離は120mmである。本実施例の構成を模式的に図7に示す。図7に示すように、前記X線導波路を出射したX線42は、この湾曲多層膜ミラーに入射した後、x方向に集光され、焦点位置53でのx方向のビーム径は、約5μmとなる。y方向でのビームの発散角は小さいため、120mm離れた点においても、y方向のビーム径は15μm以下の小さな径を保持している。以上の様に、本発明の集光光学系では、位相の揃ったX線の微小ビームを簡単な構成で得ることができる。本実施例は、実施例1、2で使用したものと同じ構成のX線導波路から出射されるX線を、全反射楕円ミラーを用いて1方向に集光する集光光学系に関する。本実施例で用いられるX線導波路は、実施例1、2で使用したものと同一のサイズと構成を有するもので、導波路へのX線の入射条件も実施例1、2と同じである。また、使用するX線のエネルギーも、実施例1、2と同じ10keVである。使用した全反射楕円ミラーは、表面が楕円面になるように形状加工された石英ガラスの表面に、白金をスパッタリングにより形成したもので、その焦点距離は70mmである。その配置は、図7に示したものと同じであり、X線導波路を出射したX線は、この全反射楕円ミラーに入射した後、x方向に集光され、焦点位置でのx方向のビーム径は、約5μmとなる。y方向でのビームの発散角は小さいため、70mm離れた点においても、y方向のビーム径は約8μmの小さな径を保持している。以上の様に、本発明の集光光学系では、位相の揃ったX線の微小ビームを簡単な構成で得ることができる。本実施例は、実施例1-3で使用したものと同じ構成のX線導波路を、互いに垂直に2個連結して配置することによって、位相の揃った微小ビームを形成し得る集光光学系を作製する例である。本実施例で用いられるX線導波路は、実施例1、2で使用したものと同一のサイズと構成を有するもので、導波路へのX線の入射条件も実施例1~3と同じである。また、使用するX線のエネルギーも、実施例1~3と同じ10keVである。本実施例における2つのX線導波路の配置を図8に示す。第一の導波路を出射したX線42は、第一の導波路のコア/クラッド界面に垂直な方向には狭い発散角を有しているが、界面に配向な方向には広がったビーム形状をしている。このX線に対して、図8に示すように、第二の導波路81を、そのコア/クラッド界面が第一の導波路のコア/クラッド界面と直交するように配置する。第1の導波路と第二の導波路の距離は10mmである。この配置のX線集光光学系により得られたX線ビームの径は、第二の導波路の出口から50mmの位置において、x方向、y方向ともに約5μmの小さな径を保持している。以上の様に、本実施例の集光光学系では、位相の揃ったX線の微小ビームを簡単な構成で得ることができる。本実施例は、界面活性剤の自己集合によって形成される、ナノスケールの構造規則性を有する材料である、メソポーラスシリカ膜をコアとし、これをタングステンクラッドでサンドイッチした構造のX線導波路を用いる。つまり、本実施例では、コアを構成する複数の部材は、メソポーラスシリカ膜のシリカ部と孔部である。また、本実施例は、この導波路から出射されるX線を実施例1で使用したのと同じ、1次元のフレネルゾーンプレートを用いて集光する。シリコン基板上に、スパッタリングによって15nmの膜厚のタングステンを成膜し、その上に2次元ヘキサゴナル構造を有するシリカメソ構造体膜を、以下の手順に従って作製する。エタノール、0.01M塩酸、テトラエトキシシランを加え20分間混合した溶液にブロックポリマーのエタノール溶液を加え、3時間攪拌して前駆体溶液を作製する。ブロックポリマーとしては、エチレンオキサイド20プロピレンオキサイド70エチレンオキサイド20以降、EO20PO70EO20と記載するカッコ内は、各ブロックの繰り返し数を用いる。本実施例では、溶媒にエタノールを使用しているが、エタノールにかえてメタノール、プロパノール、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルを使用することも可能である。前駆体溶液中の各成分の組成比モル比は、テトラエトキシシラン:1.0、塩酸:0.0011、エタノール:5.2、ブロックポリマー:0.0096、エタノール:3.5とする。膜厚調整は、この前駆体溶液に溶媒を添加し、粘度を変化させることによって可能であるが、その場合、攪拌時間等の他のパラメータを、適宜最適化する。タングステンを形成した上記基板に、ディップコート装置を用いて0.5~2mms-1の引き上げ速度で、前記前駆体溶液を塗布する。ディップコートを行う環境の温度は、25°C、相対湿度は、40である。製膜後、膜は、25°C、相対湿度50の恒温恒湿槽で24時間保持される。この工程の後、基板上の膜は、80°Cにおいて、クロロトリメトキシシラン蒸気に12時間暴露した後、エタノールに浸漬して細孔内の界面活性剤を抽出除去し、中空の細孔を有するメソポーラスシリカ膜とする。界面活性剤の除去は、赤外吸光分析で確認される。このメソポーラスシリカ膜を、ブラッグ-ブレンターノ配置のエックス線回折分析によって評価し、このメソ構造体膜は,基板面の法線方向に高い秩序性をもち、その面間隔つまり閉じ込め方向における周期が、10.2nmであることが確認される。膜厚はおよそ400ナノメートルである。形成されたメソ構造体膜の模式図を図9に示す。図に示すように、チューブ状の細孔93がメソ構造体膜92全体にわたって規則的に配列しており、基板91に対して垂直な方向における周期構造が形成されているものである。本実施例において使用したメソ構造体膜においては、図9Aに示したように、細孔の面内配向は制御されていないが、膜厚方向の規則性を有しているので、本発明に良好に用いることができる。もちろん、図9Bに示したように、細孔の面内配向が制御されていても良い。このメソポーラスシリカ膜上に、上部クラッド材料であるタングステンを、15nmの膜厚で、スパッタリングによって作製し、X線導波路を形成する。実施例1~4と同様に、X線の入射部位は、エッチングによって上部タングステンの膜厚を5nmとなるようにした。また、導波路長は3mmとした。本導波路に10keVのエネルギーのX線を入射させ、X線の導波を観測する。このエネルギーのX線の、SiO2/W界面における全反射臨界角は0.40°で、一方、構造周期10.2nmに対応するブラッグ角は0.34°である。また、SiO2/空気界面における全反射臨界角は0.16°である。図4、5と同じように、X線の進行方向をz、コア/クラッド界面に垂直な方向をy、その両方に垂直な軸をxとした場合、入射X線のビーム径はy方向で0.15mm、x方向で0.4mmである。この導波路のX線透過率は、X線の入射角をy-z平面内で変化させた場合、入射角がブラッグ角にほぼ一致した場合に選択的に大きくなり、周期構造に共鳴した導波モードによるX線の低損失伝搬が確認される。この導波路を出射したX線は、y方向での位相が揃っており、それ故に、y方向の発散角は、0.008°と非常に小さいものである。本実施例で用いるX線導波路端面におけるコアの断面厚さは0.4μmであるため、得られるX線ビームはy方向には小さな径を有しているが、x方向では入射したX線のサイズと同じ0.4mmの幅を持ったものである。このX線ビームの後方に、実施例1で使用したものと同じ、10keVのX線に対して焦点距離fが300mmになるように設計された、1次元のフレネルゾーンプレートを設置する。このフレネルゾーンプレートは、X線ビームの中心に対してx方向に、左右600ずつの直線状のゾーンを有しており、2nλf1/2と{2n1λf}1/2との間にX線を遮蔽する材料が直線的に設けられている。ここでλはX線の波長=0.12nmである。本実施例において、前記X線導波路を出射したX線は、このフレネルゾーンプレートに入射した後、x方向に集光され、焦点位置でのx方向のビーム径は、1μm未満となる。y方向でのビームの発散角は小さいため、300mm離れた点においても、y方向のビーム径は8μm以下の小さな径を保持している。以上の様に、本発明の集光光学系では、位相の揃ったX線の微小ビームを簡単な構成で得ることができる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時の請求項に記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。"