"光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの製造方法であって、臭素化剤としてaハロゲン化リン及び臭化水素の組み合わせ、b1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタン及び一般式I:P式中、R1、R2、及びR3はそれぞれ独立にC610アリール基、C610アリールオキシ基、C110アルキル基、C110アルコキシル基、C36シクロアルキル基、又はC36シクロアルコキシル基を示すで表される有機リン化合物の組み合わせ、又はcN-ブロモコハク酸イミド及びジアルキルスルフィドの組み合わせのいずれかを用いて光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールを臭素化する工程を含む方法。光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールがS-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールであり、かつ光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンがR-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンである請求項1に記載の方法。光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールがR-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールであり、かつ光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンがS-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンである請求項1に記載の方法。ハロゲン化リンが三臭化リンである請求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法。臭化水素として臭化水素酸又は臭化水素の酢酸溶液を用いる請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法。溶媒の非存在下又は存在下で行う請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。溶媒としてヘプタンを用いる請求項6に記載の方法。上記b又はcの組み合わせを用いて溶媒の存在下に臭素化を行う請求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法。溶媒が芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類である請求項8に記載の方法。溶媒がトルエン、ジクロロメタン、又は1,2-ジクロロエタンである請求項9に記載の方法。一般式Iで表される有機リン化合物がトリフェニルホスフィンである請求項8ないし10のいずれか1項に記載の方法。ジアルキルスルフィドがジメチルスルフィドである請求項8ないし10のいずれか1項に記載の方法。光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタン。光学純度が97.0ee~99.5eeである請求項13に記載の光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタン。本発明の課題は光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールを原料として用いて、高い光学純度を維持しつつ光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを効率的かつ高収率に製造する方法を提供することにある。本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意研究を行い、上記非特許文献4の臭素化法を光学活性なR-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールに適用したところ、一旦生じた所望のベンジルブロミドと反応系中に存在する臭化物イオンとの間で臭素の置換交換反応が起こり、得られた1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンはほぼ完全にラセミ化してしまうという結果を得た比較例1参照。また、R-1-[3、5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールに対して上記非特許文献5と同様の条件下で臭素化反応を行ったところ、所望のベンジルブロミドは低収率でしか得られないという結果を得た比較例2参照。これらの臭素化条件では、反応系中に一旦生じた所望のベンジルブロミドと臭化物イオンが共存することになり、目的物が臭化物イオンとさらに反応してラセミ体が生成してしまうものと考えられた。本発明者らはさらに研究を行ったところ、臭素化剤としてaハロゲン化リンと臭化物との組み合わせを用いる手法、b溶媒の存在下にて、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタンとトリフェニルホスフィンなどの有機リン化合物との組み合わせを用いる手法、又はc溶媒の存在下にて、N-ブロモコハク酸イミド及びジアルキルスルフィドの組み合わせを用いる手法のいずれかの手法で、光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールを臭素化することにより、高い光学純度を維持したまま所望の光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを製造できることを見出した。すなわち、本発明により、光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの製造方法であって、臭素化剤としてaハロゲン化リン及び臭化水素の組み合わせ、b1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタン及び一般式I:P式中、R1、R2、及びR3はそれぞれ独立にC610アリール基、C610アリールオキシ基、C110アルキル基、C110アルコキシル基、C36シクロアルキル基、又はC36シクロアルコキシル基を示すで表される有機リン化合物の組み合わせ、又はcN-ブロモコハク酸イミド及びジアルキルスルフィドの組み合わせのいずれかを用いて光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールを臭素化する工程を含む方法が提供される。上記方法の好ましい態様によれば、光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールがS-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールであり、かつ光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンがR-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンである上記の方法;光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールがR-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールであり、かつ光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンがS-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンである上記の方法が提供される。上記aの組み合わせを用いる手法の好ましい態様によれば、ハロゲン化リンが三臭化リンである上記の方法;臭化水素として臭化水素酸を用いる上記の方法;臭化水素として臭化水素の酢酸溶液を用いる上記の方法;三臭化リンを光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールに対して0.4~0.6当量の範囲で用いる上記の方法;臭化水素を光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールに対して0.8~1.2当量の範囲で用いる上記の方法;溶媒の非存在下で行う上記の方法;溶媒としてヘプタンを用いる上記の方法;反応温度が10~15°Cである上記の方法が提供される。上記bの組み合わせを用いる手法の好ましい態様によれば、反応を溶媒の存在下に行う上記の方法;一般式Iで表される有機リン化合物がトリフェニルホスフィンである上記の方法;1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタンを光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールに対して1.0~1.2当量の範囲で用いる上記の方法;トリフェニルホスフィンを光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールに対して1.0~1.2当量の範囲で用いる上記の方法;溶媒が芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類である上記の方法;溶媒がトルエン、ジクロロメタン、又は1,2-ジクロロエタンである上記の方法;及び反応温度が0~30°Cである上記の方法が提供される。上記cの組み合わせを用いる手法の好ましい態様によれば、反応を溶媒の存在下に行う上記の方法;ジアルキルスルフィドがジメチルスルフィドである上記の方法;N-ブロモコハク酸イミドを光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールに対して1.4~1.6当量の範囲で用いる上記の方法;ジメチルスルフィドを光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールに対して1.7~1.9当量の範囲で用いる上記の方法;溶媒がハロゲン化炭化水素類である上記の方法;溶媒がジクロロメタンである上記の方法;反応温度が0~30°Cである上記の方法が提供される。別の観点からは、本発明により光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンが提供される。また、本発明により上記の製造方法で得ることができる光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンが提供される。好ましくは、該光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの光学純度は97.0ee~99.5eeである。本発明の方法によれば、医薬、農薬、及び工業製品などの製造原料として有用な光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールから煩雑な操作を伴うことなく原料の光学純度をそのまま保ちつつ一工程で高収率で製造することができる。本発明の方法は、光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの製造方法であって、臭素化剤としてaハロゲン化リン及び臭化水素の組み合わせ、b1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタン及び一般式I:P式中、R1、R2、及びR3はそれぞれ独立にC610アリール基、C610アリールオキシ基、C110アルキル基、C110アルコキシル基、C36シクロアルキル基、又はC36シクロアルコキシル基を示すで表される有機リン化合物の組み合わせ、又はcN-ブロモコハク酸イミド及びジアルキルスルフィドの組み合わせのいずれかを用いて光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールを臭素化する工程を含むことを特徴としている。上記b又はcの組み合わせによる臭素化剤を用いる場合には、反応を溶媒の存在下で行うことが好ましい。本発明の方法において原料として用いる光学活性1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールは、ビス-3,5-トリフルオロメチルフェニルメチルケトンの不斉還元反応、またはビス-3,5-トリフルオロメチルベンズアルデヒドの不斉メチル化反応などの公知の方法により製造することができ、いずれか一方の鏡像体を高い光学純度で得ることができる。上記aの組み合わせを用いる手法について以下詳しく説明する。ハロゲン化リンとしては三臭化リン、五臭化リン、オキシ臭化リンなどの臭化リンを用いることができるが、臭化リンのほか、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リンなどを用いてもよい。2種以上のハロゲン化リンを組み合わせて用いてもよい。これらのうち臭化リンが好ましく、三臭化リンが特に好ましい。臭化水素としては、臭化水素酸のほか、臭化水素の酢酸溶液、例えば30酢酸溶液などを用いることができる。ハロゲン化リン及び臭化水素の組み合わせとしては三臭化リンと臭化水素の酢酸溶液との組み合わせが好ましい。三臭化リンなどのハロゲン化リンは原料アルコールに対して例えば0.5~2.0当量の範囲で使用することができるが、好ましくは0.4~0.6当量を用いるのがよい。臭化水素は原料アルコールに対して例えば0.7~3.0当量の範囲で使用することができるが、好ましくは0.8~1.2当量を用いるのがよい。上記反応は溶媒の存在下又は非存在下で行うことができる。溶媒の存在下で反応を行う場合、使用する溶媒の種類は反応に関与しないものであれば特に制限はない。溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、1,2-ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族炭化水素類;n-ペンタン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、n-デカン等の脂肪族炭化水素類;ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、クロロホルム及び四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。好ましくは、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタンを用いることができ、n-ヘプタンをより好ましく用いることができる。これらの溶媒は単独又は組み合わせて使用することもでき、溶媒の使用量は特に制限されない。反応温度は特に限定されないが、通常は-50~150°Cの範囲で行えばよく、-20~80°Cがより好ましく、0~15°Cが特に好ましい。反応時間は、通常5分~48時間が好ましく、30分~36時間がより好ましく、12~24時間が特に好ましい。反応終了後、通常の後処理操作を行うことにより、粗生成物を得ることができる。得られた粗生成物は、必要に応じて、活性炭処理、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の精製操作を行うことにより、光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを高い化学純度及び光学純度で得ることができる。光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの光学純度としては、例えば95ee以上、好ましくは96ee以上であるが、特に限定されることはない。なお、上記aの組み合わせを用いる方法で用いる三臭化リンなどのハロゲン化リン及び臭化水素酸などの臭化水素は一般的な臭素化反応に用いられており、カイニン酸、クエン酸ペントキシベリン、ホスフェストロール、及びメシル酸ベタヒスチン等の製造第13改正日本薬局方解説書、1996年、廣川書店にも用いられているように工業的規模での生産にも適した汎用試薬であることから、本発明の方法は工業的な応用に適した方法である。上記bの組み合わせを用いる手法について以下詳しく説明する。一般式Iで表される有機リン化合物において、C610アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アズレニル基等が挙げられる。C610アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、アズレニルオキシ基等が挙げられる。C110アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。C110アルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、s-ブトキシ基、イソブトキシ基、t-ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基等が挙げられる。C36シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。C36シクロアルコキシル基としては、例えば、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。一般式Iで表される有機リン化合物としては、R1、R2、及びR3がC610アリール基であることが好ましく、R1、R2、及びR3がフェニル基である場合、すなわちトリフェニルホスフィンがより好ましい。1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタンは原料アルコールに対して例えば1.0~3.0当量の範囲で使用することができるが、好ましくは1.0~1.2当量を用いるのがよい。一般式Iで表される有機リン化合物、例えばトリフェニルホスフィンは原料アルコールに対して例えば1.0~3.0当量の範囲で使用することができるが、好ましくは1.0~1.2当量を用いるのがよい。上記反応は、好ましくは溶媒の存在下で行うことができる。溶媒の存在下で反応を行う場合、使用する溶媒の種類は反応に関与しないものであれば特に制限はない。溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、1,2-ジクロロベンゼン、及びニトロベンゼン等の芳香族炭化水素類;n-ペンタン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、及びn-デカン等の脂肪族炭化水素類;ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、クロロホルム、及び四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。これらのうち、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、又は1,2-ジクロロエタンが好ましく、トルエン、ジクロロメタン、又は1,2-ジクロロエタンがより好ましい。これらの溶媒は単独又は組み合わせて使用することもでき、溶媒の使用量は特に制限されない。反応温度は特に限定されないが、通常は-50~150°Cの範囲で行えばよく、-20~80°Cがより好ましく、0~30°Cが特に好ましい。反応時間は、通常5分~48時間が好ましく、30分~36時間がより好ましく、1~12時間が特に好ましい。反応終了後、通常の後処理操作を行うことにより、粗生成物を得ることができる。得られた粗生成物は、必要に応じて、活性炭処理、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の精製操作を行うことにより、光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを高い化学純度及び光学純度で得ることができる。光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの光学純度としては、例えば95ee以上、好ましくは96ee以上であるが、特に限定されることはない。上記cの組み合わせを用いる手法について以下詳しく説明する。ジアルキルスルフィドにおける2個のアルキル基は同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。アルキル基としては上記のC110アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。好ましくは2個のアルキル基としてメチル基を用いることができる。N-ブロモコハク酸イミドは原料アルコールに対して例えば1.0~3.0当量の範囲で使用することができるが、好ましくは1.0~1.8当量、より好ましくは1.4~1.6当量を用いるのがよい。ジアルキルスルフィド、例えばジメチルスルフィドは原料アルコールに対して例えば1.0~3.0当量の範囲で使用することができるが、好ましくは1.5~2.0当量、より好ましくは1.7~1.9当量を用いるのがよい。上記反応は、好ましくは溶媒の存在下で行うことができる。溶媒の存在下で反応を行う場合、使用する溶媒の種類は反応に関与しないものであれば特に制限はない。溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、1,2-ジクロロベンゼン、及びニトロベンゼン等の芳香族炭化水素類;n-ペンタン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、及びn-デカン等の脂肪族炭化水素類;ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、クロロホルム、及び四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。これらのうち、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、又は1,2-ジクロロエタンが好ましく、トルエン、ジクロロメタン、又は1,2-ジクロロエタンがより好ましい。これらの溶媒は単独又は組み合わせて使用することもでき、溶媒の使用量は特に制限されない。反応温度は特に限定されないが、通常は-50~150°Cの範囲で行えばよく、-20~80°Cがより好ましく、0~30°Cが特に好ましい。反応時間は、通常5分~48時間が好ましく、30分~36時間がより好ましく、1~12時間が特に好ましい。反応終了後、通常の後処理操作を行うことにより、粗生成物を得ることができる。得られた粗生成物は、必要に応じて、活性炭処理、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の精製操作を行うことにより、光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを高い化学純度及び光学純度で得ることができる。光学活性1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの光学純度としては、例えば95ee以上、好ましくは96ee以上であるが、特に限定されることはない。以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例により限定されるものではない。以下の例1に示した1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの絶対配置は、例1-4及び1-5に示すように、絶対配置既知の市販されているα-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エチルアミンに導き、比旋光度の符号を比較することで決定した。また、所望の1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの光学純度はキラルHPLC分析CHIRALPAK登録商標AS-RH;移動相:エタノール/水=60/40;流速:0.5mLmin;カラム温度:25°C;検出波長:220nm;保持時間:第一ピーク/R21.8min、第二ピーク/S26.0minにより決定した。S-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールとしては光学純度99.5及び98のS-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールを用い、生成物については光学純度eeのほか、光学純度が維持された相対的割合を示すための数値転化率を記載した。転化率=生成物のee/原料アルコールのeeである。例1-1アルゴン雰囲気下、S-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノール1.0g3.87mmol、>99.5eeに水浴上、20°C以下で三臭化リン0.52g,1.94mmolを滴下し、19~22°Cで30分撹拌した。反応液を冷却し、0°C以下で臭化水素30酢酸溶液0.76mL,3.87mmolを滴下し、13~15°Cで18時間撹拌した。反応液を氷水に注加し、n-ヘキサン15mL×2で抽出した。有機層を合わせ、飽和重曹水15mL×1で洗浄、次いで飽和食塩水15mL×1で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗体をカラムクロマトグラフィーシリカゲル8g、展開溶媒:n-ヘキサンで精製することにより1.06gのR-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを無色油状物として得た。収率:85キラルHPLC分析:光学純度96.8ee第一ピーク、転化率97.3αD2556.6c=1.18,CHCl31HNMR:δ208521781787例1-2アルゴン雰囲気下、R-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノール1.0g3.87mmol、>99.5eeに水浴上、20°C以下で三臭化リン0.52g,1.94mmolを滴下し、19~22°Cで30分撹拌した。反応液を冷却し、0°C以下で臭化水素30酢酸溶液0.76mL,3.87mmolを滴下し、13~15°Cで18時間撹拌した。反応液を氷水に注加し、n-ヘキサン15mL×2で抽出した。有機層を合わせ、飽和重曹水15mL×1で洗浄、次いで飽和食塩水15mL×1で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗体をカラムクロマトグラフィーシリカゲル8g、展開溶媒:n-ヘキサンで精製することにより1.13gのS-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを無色油状物として得た。収率:91キラルHPLC分析:光学純度96.3ee第二ピーク、転化率>96.8αD25-55.6c=1.23,CHCl31HNMRスペクトルは例1-1に示したものと同じであった。例1-3アルゴン雰囲気下S-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノール1.0g3.87mmol、>99.5eeのヘプタン懸濁液2mLに0~5°Cで三臭化リン0.52g,1.94mmolを滴下し、0~5°Cで30分撹拌した。反応液に0~5°Cで臭化水素30酢酸溶液0.76mL,3.87mmolを滴下し、10°Cで17時間撹拌した。反応液を氷水に注加し、n-ヘキサン15mL×2で抽出した。有機層を合わせ、飽和重曹水洗浄15mL×1、飽和食塩水洗浄15mL×1し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し得られた粗体をカラムクロマトグラフィーシリカゲル8g、展開溶媒:n-ヘキサンで精製することにより1.12gのR-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを無色油状物として得た。収率:90キラルHPLC分析:光学純度97.7ee第二ピーク、転化率>98.21HNMRスペクトルは例1-1に示したものと同じであった。例1-4例1-1で得られた1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタン第一ピーク:96.8ee,102mg0.32mmolのジメチルホルムアミド溶液1mLにアジ化ナトリウム62.0mg,0.95mmolを加え-18~-15°Cにて3時間撹拌した。反応溶液を酢酸エチル/ヘキサン1:1で希釈し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮することで118.8mgの1-アジド-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの粗生成物を得た。1HNMR:δ161479778784例1-5例1-4で得られた1-アジド-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの粗生成物にパラジウム-フィブロイン18mgとメタノール6mLを加え水素で置換し、室温で撹拌した。1時間撹拌後、セライトろ過、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム:メタノール=50:1~5:1にて精製し、58.9mgのα-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エチルアミンを無色油状物として得た。収率:742工程αD25-15.4c=1.01,CHCl31HNMR:δ142158430775785標品:S-α-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エチルアミンセントラル硝子社製Lot.0102000光学純度:99eeαD25-15.9c=1.15,CHCl3市販されている標品のアミンと比旋光度の符号を比較することにより、例1-5で得られたα-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エチルアミンはS体であることが判明した。すなわち、当該アミンはアジ化物イオンの求核置換反応を経て1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンから得られていることから、例1-1で得られた1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンはR体キラルHPLC分析:第一ピークであることを確認した。例1-1及び1-2と同様にして表1に示す条件で三臭化リンを用いた臭素化反応を行った。単離収率、光学純度ee、及び転化率を表1に示す。注DCM:ジクロロメタン、Pyr:ピリジン表1に示された結果から明らかなように、特にNo.1~3及びNo.22の反応条件において極めて高収率で、かつ高い光学純度を保ったまま目的物を得ることができた。以下の例2に示した1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの絶対配置は、例2-5及び2-6に示すように、絶対配置既知の市販されているα-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エチルアミンに導き、比旋光度の符号を比較することで決定した。また、所望の1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの光学純度はキラルHPLC分析CHIRALPAK登録商標AS-RH;移動相:エタノール/水=60/40;流速:0.5mLmin;カラム温度:25°C;検出波長:220nm;保持時間:第一ピーク/R21.8min、第二ピーク/S26.0minにより決定した。S-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールとしては光学純度99.5及び98のS-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノールを用い、生成物については光学純度eeのほか、光学純度が維持された相対的割合を示すための数値転化率を記載した。転化率=生成物のee/原料アルコールのeeである。例2-1アルゴン雰囲気下、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタン7.57g,23.2mmolをトルエン12.5mLに溶解し、0°Cにてトリフェニルホスフィン6.1g,23.2mmolを加え30分間撹拌した。S-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノール5.0g,19.4mmol,>99.5eeのトルエン溶液12.5mLを0°Cで10分以上かけて滴下した後、室温まで昇温し、同温にて1時間撹拌した。反応液にn-ヘキサン25mLを加え、セライトろ過した。ろ液を水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧留去した。得られた残渣を減圧蒸留56oC,0.7mmHgすることで、5.52gのR-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを無色油状物として得た。収率:89キラルHPLC分析:光学純度>99.5ee第一ピーク,転化率>99.5[α]D2559.1c=1.03,CHCl31HNMR:δ208521781787例2-2アルゴン雰囲気下、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタン7.57g,23.2mmolをトルエン12.5mLに溶解し、0°Cにてトリフェニルホスフィン6.1g,23.2mmolを加え30分間撹拌した。R-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノール5.0g,19.4mmol,>99.5eeのトルエン溶液12.5mLを0°Cで10分以上かけて滴下した後、室温まで昇温し、同温にて1時間撹拌した。反応液にn-ヘキサン25mLを加え、セライトろ過した。ろ液を水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧留去した。得られた残渣を減圧蒸留56oC,0.7mmHgすることで、5.45gのS-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを無色油状物として得た。収率:88キラルHPLC分析:光学純度99.0ee第二ピーク,転化率>9951HNMRスペクトルは例2-1に示したものと同じであった。例2-3アルゴン雰囲気下、Nブロモコハク酸イミド206mg,1.16mmolの無水ジクロロメタン3.8mL懸濁液に、氷冷下にてジメチルスルフィド105μL,1.40mmoLを3分間かけて滴下した。-20°Cにて、S-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノール200mg,0.78mmol、>99.5eeの無水ジクロロメタン2mL溶液を滴下し、室温にて9時間攪拌した。反応液にn-ヘキサンを加え、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:n-ヘキサンで精製し、144mgのR-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを無色油状物として得た。収率:58キラルHPLC分析:光学純度>99.5ee第一ピーク,転化率>99.51HNMRスペクトルは例2-1に示したものと同じであった。例2-4アルゴン雰囲気下、Nブロモコハク酸イミド103mg,0.58mmolの無水ジクロロメタン2.0mL懸濁液に、氷冷下にてジメチルスルフィド53μL,0.70mmoLを3分間かけて滴下した。-20°Cにて、R-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタノール100mg,0.39mmol、>99.5eeの無水ジクロロメタン1mL溶液を滴下し、室温にて6時間攪拌した。反応液にn-ヘキサンを加え、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:n-ヘキサンで精製し、82mgのS-1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを無色油状物として得た。収率:66キラルHPLC分析:光学純度>99.5ee第二ピーク,転化率>99.51HNMRスペクトルは例2-1に示したものと同じであった。例2-5例2-1で得られた1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタン第一ピーク:>99.5ee,106mg0.33mmolのジメチルホルムアミド溶液1mLにアジ化ナトリウム64.4mg,0.99mmolを加え-18~-15°Cにて4時間撹拌した。反応溶液を酢酸エチル/ヘキサン1:1で希釈し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮することで111.5mgの1-アジド-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの粗生成物を得た。1HNMR:δ161479778784例2-6例2-5で得られた1-アジド-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンの粗生成物にパラジウム-フィブロイン18mgとメタノール6mLを加え水素で置換し、室温で撹拌した。1時間撹拌後、セライトろ過、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム:メタノール=50:1~5:1にて精製し、77.6mgのα-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エチルアミンを無色油状物として得た。収率:912工程αD25-15.9c=1.31,CHCl31HNMR:δ142158430775785標品:S-α-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エチルアミンセントラル硝子社製Lot.0102000光学純度:99αD25-15.9c=1.15,CHCl3市販されている標品のアミンと比旋光度の符号を比較することにより、例2-6で得られたα-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エチルアミンはS体であることが判明した。すなわち、当該アミンはアジ化物イオンの求核置換反応を経て1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンから得られていることから、例2-1で得られた1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンはR体キラルHPLC分析:第一ピークであることを確認した。例2-1及び2-2と同様にして、表2に示す条件で臭素化条件で反応を行った。単離収率、光学純度ee、及び転化率を表2に示す。注DCM:ジクロロメタン、12DCE:12ジクロロエタン、NBS:Nブロモコハク酸イミド、THFテトラヒドロフラン、DMF:NNジメチルホルムアミド、TMSCl:塩化トリメチルシリル、PyHBr3:ピリジニウムトリブロミド、HMDS:111222ヘキサメチルジシラン、DEAD:ジエチルアゾジカルボキシレート表2に示された結果から明らかなように、特にNo.1~4の反応条件において極めて高収率で、かつ高い光学純度を保ったまま目的物を得ることができた。例3比較例日本国特許第3938651号を参考に、R-1-3,5-ビストリフルオロメチルフェニルエタノール光学純度>99.5ee1.6g6.20mmolのジクロロメタン20mL溶液に氷冷攪拌下、塩化メタンスルホニル0.58mL,7.44mmol、トリエチルアミン1.30mL,9.3mmol、ジメチルアミノピリジン76mg,0.62mmolを加え、同温にて30分間攪拌した。反応液に同温にて1N塩酸とクロロホルムを加え有機層を分取した。水層をクロロホルム20mL×3で抽出し、有機層を合わせ飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧濃縮し、無色油状物としてR-メタンスルホン酸1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エチルエステル2.23gを得た。次に得られたR-メタンスルホン酸1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エチルエステル2.23gのN,N-ジメチルホルムアミド20mL溶液に臭化ナトリウム1.26g,12.25mmoLを加え、50°Cにて1時間攪拌した。反応液に室温にて水30mLを加え、ヘキサン30mL×3で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン:酢酸エチル=101にて精製し、1.85gの1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを無色油状物として得た。比旋光度より、得られた1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンがラセミ化していることを確認した。収率:932工程[α]D25-0.19c=1.01,CHCl31HNMRスペクトルは例1-1に示したものと同じであった。例4比較例R-1-3,5-ビストリフルオロメチルフェニルエタノール光学純度>99.5ee,100mg,0.39mmolの脱水ジエチルエーテル1.0mL溶液にアルゴン雰囲気下、脱水ピリジン69.4mg,0.89mmolを加えた。-15~-20°Cにて三臭化リン117.2mg0.43mmolの脱水ジエチルエーテル0.5mL溶液をゆっくり滴下し、同温にて2時間攪拌した後、-5°Cで48時間静置させた後、氷冷下、反応液に冷却水を加え室温で15分攪拌した後、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を減圧濃縮し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーシリカゲル3.0g展開溶媒:n-ヘキサンで精製し、17.6mgの1-ブロモ-1-[3,5-ビストリフルオロメチルフェニル]エタンを無色油状物として得た。収率:141HNMRスペクトルは例1-1に示したものと同じであった。"