"下記一般式1で表される単量体Iと2以上のメタアクリロイル基を有し、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基を有さない多価単量体IIとを含む単量体組成物、及び溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の化合物を含有する溶剤を含む混合物を作製する工程、その混合物を基材に塗布した後風を加えながら加熱を伴って少なくとも一部の溶剤を除去する工程、及び単量体I及び単量体IIを含む単量体組成物を重合する工程を含む、外表面のアニオン濃度Saと基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度Daとのアニオン濃度比Sa/Daが1.1以上である基材上に形成されたスルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基から選ばれる少なくとも1つのアニオン性親水基を有する単層膜の製造方法。[X]s[M1]l[M2]m1上記式1中、sは1又は2を表し、l及びmはs=lm/2を満たす整数を表す。M1は、水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオンであり、M2はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。Xは、下記一般式1-1~1-4で示される基から選ばれる少なくとも1つの1価アニオンである。上記式1-1~1-4中、J及びJはそれぞれ独立にH又はCH3であり、nは0又は1を表し、Rはそれぞれ独立に、芳香族基、脂肪族環状基、エーテル基及びエステル基から選ばれる少なくとも1つの基でその炭素が置換されていてもよい炭素数1~600の脂肪族炭化水素基である。上記単量体Iが、下記一般式1-1-1及び一般式1-1-2で表される化合物から選ばれる少なくとも1つの単量体である、請求項1に記載の単層膜の製造方法。式1-1-1及び1-1-2中、JはH又はCH3であり、R1及びR2はそれぞれ独立にH、CH3又はC2H5である。nは1~20の整数を表し、lは2~10の整数を表し、Mは水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオン、又はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンであり、Mが1価のカチオンである場合にはmは1であり、Mが2価のカチオンである場合にはmは2である。上記多価単量体IIが、下記一般式2-1及び一般式2-2で表される化合物から選ばれる少なくとも1つの単量体である請求項1又は2に記載の単層膜の製造方法。上記式2-1及び2-2中、R3及びR5~R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R12及びR13はそれぞれ独立にH又はCH3であり、X1、X2、X3、X4及びX5はそれぞれ独立にO又はSであり、aは2~30の整数を表し、bは0~2の整数を表し、cは0~30の整数を表し、dは0~20の整数を表し、eは0~2の整数を表し、iは1~20の整数を表し、kは1~10の整数を表し、Aは又はから選ばれる1種を表す。ここで、は結合手であり、R10及びR11はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1~6のアルキル基であり、R200及びR201はそれぞれ独立にH、CH3又はフェニル基であり、Rは、ヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン又はキシリレンであり、R50はヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、トルイレン、ジフェニルメタン又はキシリレンであり、VはOH又は結合手を有する酸素原子であり、W1~W3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、ZはOH、結合手を有する酸素原子、COOH又は結合手を有するカルボキシル基COOを表し、V1~V3はそれぞれ独立にH又は結合手であり、n1及びn2はそれぞれ独立に0~8の整数を表し、o1及びo2はそれぞれ独立に1~3の整数を表し、fは1~20の整数を表し、gは0~3の整数を表し、mは0又は1を表し、qは1~7の整数を表し、a1は、2~3の整数を表し、a2は、3~4の整数を表し、a3は、4~6の整数を表し、a4は、2~3の整数を表し、a5は、2~4の整数を表す。上記多価単量体IIが、下記一般式3~8及び10~33で表される化合物から選ばれる少なくとも1つの単量体である請求項1又は2に記載の単層膜の製造方法。上記式3中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1~6のアルキル基であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、n1及びn2はそれぞれ独立に0~8の整数を表す。上記式4中、R3~R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1~6のアルキル基であり、n1及びn2はそれぞれ独立に0~8の整数を表す。上記式5中、R3~R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c1は2~30の整数を表す。上記式6中、R3~R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c2及びc3はそれぞれ独立に1~5の整数を表し、d1は2~20の整数を表す。上記式7中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、d1は2~20の整数を表し、mは0又は1を表す。上記式8中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、o1及びo2はそれぞれ独立1~3の整数を表す。上記式10中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c4及びc5はそれぞれ独立に0~5の整数を表し、mは0又は1を表す。上記式11中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、mは0又は1を表す。上記式12中、R3~R7はそれぞれ独立にH又はCH3である。上記式13中、は結合手であり、R3、R5及びR6それぞれ独立にH又はCH3であり、c6は0~3の整数を表す。上記式14中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0~5の整数を表し、mは0又は1を表す。上記式15中、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c9及びc10はそれぞれ独立に0~30の整数を表す。上記式16中、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c11~c14は1以上の整数を表し、なおかつc11c12c13c14=4~30を満足する。上記式17中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表す。上記式18中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R200及びR201はそれぞれ独立にH、CH3又はフェニル基であり、c4及びc5はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式19中、R3~R5及びR11はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1~b3はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、fは1~20の整数を表す。上記式20中、は結合手であり、VはOH又は結合手を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a1は2又は3を表し、b1は0~2の整数を表し、c15は0~20の整数を表す。上記式21中、は結合手であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a2は3又は4を表し、c16は0~20の整数を表す。上記式22中、は結合手であり、W2及びW3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a3は4~6の整数を表し、c17は0~3の整数を表す。上記式23中、Rはヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、又はキシリレンであり、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、e1及びe2はそれぞれ独立に0~2の整数を表す。上記式24中、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1は0~2の整数を表し、c15は0~20の整数を表し、n100は、1~6の整数を表す。上記式25中、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c9及びc10はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式26中、R3はH又はCH3であり、p1は1~6の整数を表し、a10は3を表す。上記式27中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式28中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式29中、R3及びR5~R13はそれぞれ独立にH又はCH3であり、i1は0~5の整数を表す。上記式30中、R3及びR5~R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a2は3又は4を表し、i1は0~5の整数を表す。上記式31中、R3~R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W2及びW3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a7は1~6の整数を表し、a8は0~5の整数を表し、なおかつa7a8=2~6を満足する。上記式32中、R70はトルイレン、ジフェニルメタン、ヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、N,N‘,N-トリスヘキサメチレン-イソシアヌレート、NNN’-トリスヘキサメチレン-ウレア、NNN‘N’-テトラキスヘキサメチレン-ウレア、又はキシリレンであり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a9は1~4の整数を表し、a10は2~4の整数を表し、b1は0~2の整数を表し、c4は0~5の整数を表す。上記式33中、R70は、トルイレン、ジフェニルメタン、ヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、N,N‘,N-トリスヘキサメチレン-イソシアヌレート、NNN’-トリスヘキサメチレン-ウレア、NNN‘N’-テトラキスヘキサメチレン-ウレア、又はキシリレンであり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a9は1~4の整数を表し、a10は2~4の整数を表し、b1は0~2の整数を表し、c4は0~5の整数を表す。上記単層膜の水接触角が30°以下である請求項1~4のいずれか1項に1記載の単層膜の製造方法。上記単層膜の膜厚が、0.1~100μmである請求項1~5のいずれか1項に記載の単層膜の製造方法。請求項1~6のいずれか1項に記載の製造方法により得られた単層膜からなる防曇材料。請求項1~6のいずれか1項に記載の製造方法により得られた単層膜からなる防汚材料。請求項1~6のいずれか1項に記載の製造方法により得られた単層膜からなる帯電防止材料。基材の少なくとも片面に、請求項1~6のいずれか一項に記載の製造方法により得られた単層膜が形成されてなる積層体。上記基材の一方の表面に単層膜が形成され、単層膜が形成されていない基材表面に粘着層が形成されている請求項10に記載の積層体。上記粘着層の表面にさらに剥離層が形成されてなる請求項11に記載の積層体。上記単層膜の表面に剥離可能な被覆材層が形成されてなる請求項11~12のいずれか1項に記載の積層体。下記一般式1で表される単量体Iと2以上のメタアクリロイル基を有し、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基を有さない多価単量体IIとを含む単量体組成物、及び溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の化合物を含有する溶剤を含む混合物を作製する工程、その混合物を基材表面の少なくとも一方に塗布する工程、塗布した混合物から風を加えながら加熱を伴って溶剤の少なくとも一部を除去する工程、及び上記工程を経た混合物に含まれる単量体I及び単量体IIを重合する工程を含む外表面のアニオン濃度Saと基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度Daとのアニオン濃度比Sa/Daが1.1以上であるスルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基から選ばれる少なくとも1種のアニオン性親水基を有する単層膜が基材の少なくとも一方の表面に形成された積層体の製造方法。[X]s[M1]l[M2]m1上記式1中、sは1又は2を表し、l及びmはs=lm/2を満たす整数を表す。M1は、水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオンであり、M2はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。Xは、下記一般式1-1~1-4で示される基から選ばれる少なくとも1つの1価アニオンである。上記式1-1~1-4中、J及びJはそれぞれ独立にH又はCH3であり、nは0又は1を表し、Rはそれぞれ独立に、芳香族基、脂肪族環状基、エーテル基及びエステル基から選ばれる少なくとも1つの基でその炭素が置換されていてもよい炭素数1~600の脂肪族炭化水素基である。前記単層膜の水接触角が30°以下である請求項14記載の積層体の製造方法。本発明は、親水性を有し、防曇性、防汚性、帯電防止性、結露防止性などに優れるだけでなく、基材との密着性および外観にも優れる単層膜及び該単層膜を有する積層体をより短時間で製造する方法を提供することを課題とする。本発明者らは上記課題を解決すべく検討を重ねた結果、特定の単量体及び特定の多価単量体を含む単量体混合物と、特定の溶剤とを含む混合物から特定の溶媒の除去条件により製造される単層膜が、親水性を有し、防曇性、防汚性、帯電防止性、結露防止性などに優れるだけでなく、密着性および外観にも優れるとともに、該単層膜をより短時間で製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明のスルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基から選ばれる少なくとも1つのアニオン性親水基を有する単層膜の製造方法は、下記一般式1で表される単量体Iと2以上のメタアクリロイル基を有し、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基を有さない多価単量体IIとを含む単量体組成物、及び溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の化合物を含有する溶剤を含む混合物を作製する工程、その混合物を基材に塗布した後風を加えながら加熱を伴って少なくとも一部の溶剤を除去する工程、及び単量体I及び単量体IIを含む単量体組成物を重合する工程を含む、外表面のアニオン濃度Saと基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度Daとのアニオン濃度比Sa/Daが1.1以上であることを特徴とする。[X]s[M1]l[M2]m1上記式1中、sは1又は2を表し、l及びmはs=lm/2を満たす整数を表す。M1は、水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオンであり、M2はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。Xは、下記一般式1-1~1-4で示される基から選ばれる少なくとも1つの1価アニオンである。上記式1-1~1-4中、J及びJはそれぞれ独立にH又はCH3であり、nは0又は1を表し、Rはそれぞれ独立に、芳香族基、脂肪族環状基、エーテル基及びエステル基から選ばれる少なくとも1つの基でその炭素が置換されていてもよい炭素数1~600の脂肪族炭化水素基である。上記単量体Iとしては、下記一般式1-1-1及び一般式1-1-2で表される化合物から選ばれる少なくとも1つの単量体であることが好ましい。式1-1-1及び1-1-2中、JはH又はCH3であり、R1及びR2はそれぞれ独立にH、CH3又はC2H5である。nは1~20の整数を表し、lは2~10の整数を表し、Mは水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオン、又はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンであり、Mが1価のカチオンである場合にはmは1であり、Mが2価のカチオンである場合にはmは2である。上記多価単量体IIとしては、下記一般式2-1及び一般式2-2で表される化合物から選ばれる少なくとも1つの単量体であることが好ましい。上記式2-1及び2-2中、R3及びR5~R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R12及びR13はそれぞれ独立にH又はCH3であり、X1、X2、X3、X4及びX5はそれぞれ独立にO又はSであり、aは2~30の整数を表し、bは0~2の整数を表し、cは0~30の整数を表し、dは0~20の整数を表し、eは0~2の整数を表し、iは1~20の整数を表し、kは1~10の整数を表し、Aは又はから選ばれる1種を表す。ここで、は結合手であり、R10及びR11はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1~6のアルキル基であり、R200及びR201はそれぞれ独立にH、CH3又はフェニル基であり、Rは、ヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン又はキシリレンであり、R50はヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、トルイレン、ジフェニルメタン又はキシリレンであり、VはOH又は結合手を有する酸素原子であり、W1~W3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、ZはOH、結合手を有する酸素原子、COOH又は結合手を有するカルボキシル基COOを表し、V1~V3はそれぞれ独立にH又は結合手であり、n1及びn2はそれぞれ独立に0~8の整数を表し、o1及びo2はそれぞれ独立に1~3の整数を表し、fは1~20の整数を表し、gは0~3の整数を表し、mは0又は1を表し、qは1~7の整数を表し、a1は、2~3の整数を表し、a2は、3~4の整数を表し、a3は、4~6の整数を表し、a4は、2~3の整数を表し、a5は、2~4の整数を表す。上記多価単量体IIとしては、下記一般式3~8及び10~33で表される化合物から選ばれる少なくとも1つの単量体であることが好ましい。上記式3中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1~6のアルキル基であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、n1及びn2はそれぞれ独立に0~8の整数を表す。上記式4中、R3~R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1~6のアルキル基であり、n1及びn2はそれぞれ独立に0~8の整数を表す。上記式5中、R3~R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c1は2~30の整数を表す。上記式6中、R3~R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c2及びc3はそれぞれ独立に1~5の整数を表し、d1は2~20の整数を表す。上記式7中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、d1は2~20の整数を表し、mは0又は1を表す。上記式8中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、o1及びo2はそれぞれ独立1~3の整数を表す。上記式10中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c4及びc5はそれぞれ独立に0~5の整数を表し、mは0又は1を表す。上記式11中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、mは0又は1を表す。上記式12中、R3~R7はそれぞれ独立にH又はCH3である。上記式13中、は結合手であり、R3、R5及びR6それぞれ独立にH又はCH3であり、c6は0~3の整数を表す。上記式14中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0~5の整数を表し、mは0又は1を表す。上記式15中、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c9及びc10はそれぞれ独立に0~30の整数を表す。上記式16中、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c11~c14は1以上の整数を表し、なおかつc11c12c13c14=4~30を満足する。上記式17中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表す。上記式18中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R200及びR201はそれぞれ独立にH、CH3又はフェニル基であり、c4及びc5はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式19中、R3~R5及びR11はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1~b3はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、fは1~20の整数を表す。上記式20中、は結合手であり、VはOH又は結合手を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a1は2又は3を表し、b1は0~2の整数を表し、c15は0~20の整数を表す。上記式21中、は結合手であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a2は3又は4を表し、c16は0~20の整数を表す。上記式22中、は結合手であり、W2及びW3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a3は4~6の整数を表し、c17は0~3の整数を表す。上記式23中、Rはヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、又はキシリレンであり、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、e1及びe2はそれぞれ独立に0~2の整数を表す。上記式24中、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1は0~2の整数を表し、c15は0~20の整数を表し、n100は、1~6の整数を表す。上記式25中、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c9及びc10はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式26中、R3はH又はCH3であり、p1は1~6の整数を表し、a10は3を表す。上記式27中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式28中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式29中、R3及びR5~R13はそれぞれ独立にH又はCH3であり、i1は0~5の整数を表す。上記式30中、R3及びR5~R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a2は3又は4を表し、i1は0~5の整数を表す。上記式31中、R3~R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W2及びW3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a7は1~6の整数を表し、a8は0~5の整数を表し、なおかつa7a8=2~6を満足する。上記式32中、R70はトルイレン、ジフェニルメタン、ヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、N,N‘,N-トリスヘキサメチレン-イソシアヌレート、NNN’-トリスヘキサメチレン-ウレア、NNN‘N’-テトラキスヘキサメチレン-ウレア、又はキシリレンであり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a9は1~4の整数を表し、a10は2~4の整数を表し、b1は0~2の整数を表し、c4は0~5の整数を表す。上記式33中、R70は、トルイレン、ジフェニルメタン、ヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、N,N‘,N-トリスヘキサメチレン-イソシアヌレート、NNN’-トリスヘキサメチレン-ウレア、NNN‘N’-テトラキスヘキサメチレン-ウレア、又はキシリレンであり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a9は1~4の整数を表し、a10は2~4の整数を表し、b1は0~2の整数を表し、c4は0~5の整数を表す。上記単層膜の水接触角は30°以下であることが好ましい。上記単層膜の膜厚は、通常0.1~100μmの範囲である。上記単層膜は、防曇材料、防汚材料、又は帯電防止材料などとして用いることができる。本発明の積層体は基材の少なくとも片面に、上記単層膜が形成されてなることを特徴とする。上記積層体は、上記基材の一方の表面に単層膜が形成され、単層膜が形成されていない基材表面に粘着層が形成されていてもよい。また、上記粘着層の表面にさらに剥離層が形成されていてもよい。上記積層体では、上記単層膜の表面に剥離可能な被覆材層が形成されていてもよい。本発明の積層体の製造方法は、下記一般式1で表される単量体Iと、2以上のメタアクリロイル基を有し、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基を有さない多価単量体IIとを含む単量体組成物、及び溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の化合物を含有する溶剤を含む混合物を作製する工程、その混合物を基材表面の少なくとも一方に塗布する工程、塗布した混合物から風を加えながら加熱を伴って溶剤の少なくとも一部を除去する工程、及び上記工程を経た混合物に含まれる単量体I及び単量体IIを重合する工程を含み、外表面のアニオン濃度Saと基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度Daとのアニオン濃度比Sa/Daが1.1以上であるスルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基から選ばれる少なくとも1種のアニオン性親水基を有する単層膜が基材の少なくとも一方の表面に形成された積層体が製造されることを特徴とする。[X]s[M1]l[M2]m1上記式1中、sは1又は2を表し、l及びmはs=lm/2を満たす整数を表す。M1は、水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオンであり、M2はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。Xは、下記一般式1-1~1-4で示される基から選ばれる少なくとも1つの1価アニオンである。上記式1-1~1-4中、J及びJはそれぞれ独立にH又はCH3であり、nは0又は1を表し、Rはそれぞれ独立に、芳香族基、脂肪族環状基、エーテル基及びエステル基から選ばれる少なくとも1つの基でその炭素が置換されていてもよい炭素数1~600の脂肪族炭化水素基である。上記積層体の製造方法によれば、好ましくは水接触角が30°以下となる単層膜を有する積層体を製造できる。本発明によれば、親水性を有し、防曇性、防汚性、帯電防止性、結露防止性などに優れるだけでなく、クラックなどの外観不良を起こし難く、密着性に優れた単層膜及び該単層膜を有する積層体をより短時間で乾燥を終了させることができ、生産性よく製造できるようになる。本発明の製造方法により得られる単層膜は、特定の単量体組成物を重合することにより得られる。上記単量体組成物には、下記一般式1で表される単量体Iが含まれる。[X]s[M1]l[M2]m1上記式1中、sは1又は2を表し、l及びmはs=lm/2を満たす整数を表す。M1は、水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオンである。なお、本発明でいうアンモニウムイオンとは、アンモニア、1級アミン、2級アミン又は3級アミンに水素イオンが結合してできた陽イオンである。上記アンモニウムイオンとしては、親水性の観点からは、アンモニア及び炭素数の少ないアミンに水素イオンが結合した陽イオンが好ましく、アンモニアに水素イオンが結合して形成されるアンモニウムイオン、メチルアンモニウムがより好ましい。上記アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムなどが挙げられる。上記M1の中でもアルカリ金属イオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びルビジウムイオンがより好ましい。M2は、アルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。Xは、下記一般式1-1~1-4で示される基から選ばれる少なくとも1つの1価アニオンである。上記一般式1-1~1-4中、J及びJはそれぞれ独立にH又はCH3である。nは0又は1を表す。Rはそれぞれ独立に、芳香族基、脂肪族環状基、エーテル基及びエステル基から選ばれる少なくとも1つの基でその炭素が置換されていてもよい炭素数1~600の脂肪族炭化水素基である。上記Rとしては、芳香族基、脂肪族環状基、エーテル基及びエステル基から選ばれる少なくとも1つの基でその炭素が置換されていてもよい炭素数2~100の脂肪族炭化水素基が好ましく、芳香族基、脂肪族環状基、エーテル基及びエステル基から選ばれる少なくとも1つの基でその炭素が置換されていてもよい炭素数2~20の脂肪族炭化水素基がより好ましい。上記単量体Iの中でも、m=0の単量体が好ましい。上記Xの式量は、通常50~18,000、好ましくは100~1,000、より好ましくは170~500である。上記単量体Iの中でも、下記一般式1-1-1及び一般式1-1-2で表される単量体が好ましい。上記式1-1-1及び1-2-1において、Jは、H又はCH3である。R1及びR2は、それぞれ独立に、H、CH3、又はC2H5である。これらR1及びR2の中でも、合成の容易さからHが好ましい。nは1~20の整数を表すが、合成の容易さから、好ましくは2~10の整数、より好ましくは2~4の整数である。lは、2~10の整数を表すが、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~4の整数である。Mは水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオン、又はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。そして、Mが1価のカチオンである場合にはmは1であり、Mが2価のカチオンである場合にはmは2である。上記アンモニウムイオンは、アンモニア、1級アミン、2級アミン又は3級アミンに水素イオンが結合してできた陽イオンである。上記アンモニウムイオンとしては、親水性の観点からは、アンモニア及び炭素数の少ないアミンに水素イオンが結合した陽イオンが好ましく、アンモニアに水素イオンが結合して形成されるアンモニウムイオン、メチルアンモニウムがより好ましい。上記アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムなどが挙げられる。上記アルカリ土類金属としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムなどが挙げられる。これらMの中でも、1価のカチオンが好ましく、アルカリ金属イオンがより好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びルビジウムイオンがさらに好ましい。これら式1-1-1及び1-1-2で表される単量体の中でも、2-スルホニルエチル-メタアクリレート、3-スルホニルプロピル-メタアクリレート及びこれら化合物のアルカリ金属塩が好ましい。上記単量体Iの分子量は、通常168~18000、好ましくは180~1,000、より好ましくは200~500である。上記単量体Iは1種単独で用いてもよいし、2種以上混合して用いてもよい。なお、本発明の単量体組成物には上記単量体Iが含まれるが、上記単量体Iの少なくとも一部が反応してオリゴマーの形になって上記単量体組成物に含まれていてもよい。なお、ここでいうオリゴマーとは上記単量体Iから形成される繰り返し単位を通常2~20含むものである。上記単量体Iは公知の方法又は公知に準ずる方法により製造でき、例えば特公昭49-36214号公報、特公昭51-9732号公報、特開昭63284157号公報、又は米国特許第3024221号明細書に記載された方法により製造できる。例えば、上記式1-1-1で表される単量体は、アルカリ金属炭酸塩の存在下、メタアクリル酸とプルパンスルトンとを反応させることにより製造でき、上記式1-1-2で表される単量体は、ポリオールの一部の水酸基をハロゲン化水素でハロゲン化し、次いで置換されたハロゲンにアルカリ金属スルホネートを反応させて水酸基を有するアルカリ金属スルホネート化合物を合成し、最後にこの水酸基とメタアクリル酸ハライド又はメタアクリル酸とを反応させることにより製造できる。上記単量体組成物には、さらに、2以上のメタアクリロイル基を有し、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基を有さない多価単量体IIが含まれる。この多価単量体IIに含まれるメタアクリロイル基の形態については特に制限はないが、メタアクリロイル基は、例えば、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリロイルチオ基、又はメタアクリルアミド基などの形態で多価単量体IIに含まれるが、好ましくは、メタアクリロイルオキシ基又はメタアクリロイルチオ基の形態で含まれる。上記多価単量体IIとしては、例えば、1以上の水酸基と2以上のメタアクリロイル基とを有する化合物、1以上のエーテル結合又はチオエーテル結合と2以上のメタアクリロイル基とを有する化合物、1以上のエステル結合と2以上のメタアクリロイル基とを有する化合物、1以上の脂肪族環構造又は芳香族環構造と2以上のメタアクリロイル基とを有する化合物、1以上のヘテロ環構造と2以上のメタアクリロイル基を有する化合物などが挙げられる。これら多価単量体IIの中でも、下記一般式2-1及び2-2で表される単量体が好ましい。上記式2-1及び2-2において、R3及びR5~R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R12及びR13はそれぞれ独立にH又はCH3であり、X1、X2、X3、X4及びX5はそれぞれ独立にO又はSである。aは2~30の整数を表し、bは0~2の整数を表し、cは0~30の整数を表し、dは0~20の整数を表し、eは0~2の整数を表す。iは1~20の整数を表し、好ましくは1~10、より好ましくは1~5、さらに好ましくは1~3の整数を表す。kは1~10の整数を表し、より好ましくは2~8、さらに好ましくは2~6の整数を表す。Aは、又はから選ばれる1種を表す。ここで、は結合手である。R10及びR11はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1~6のアルキル基であり、R200及びR201はそれぞれ独立にH、CH3又はフェニル基である。Rは、ヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン又はキシリレンであり、R50はヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、トルイレン、ジフェニルメタン又はキシリレンである。VはOH又は結合手を有する酸素原子であり、W1~W3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、ZはOH、結合手を有する酸素原子、COOH又は結合手を有するカルボキシル基COOを表し、V1~V3はそれぞれ独立にH又は結合手である。n1及びn2はそれぞれ独立に0~8の整数を表し、o1及びo2はそれぞれ独立に1~3の整数を表し、fは1~20の整数を表し、gは0~3の整数を表し、mは0又は1を表す。qは1~7の整数を表し、好ましくは1~5の整数、より好ましくは1~3の整数を表す。a1は、2~3の整数を表し、好ましくは3である。a2は、3~4の整数を表し、好ましくは3である。a3は、4~6の整数を表し、好ましくは5又は6である。a4は、2~3の整数を表し、好ましくは3である。a5は、2~4の整数を表し、好ましくは3又は4である。上記一般式2-1~2-2で表される多価単量体は、公知の方法又は公知に準ずる方法により製造できる。また、市販品として入手可能である。上記式2-1及び一般式2-2で表される多価単量体の中でも、下記一般式3~8及び10~33で表される多価単量体が好ましい。上記式3中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1~6のアルキル基であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、n1及びn2はそれぞれ独立に0~8の整数を表す。上記式4中、R3~R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1~6のアルキル基であり、n1及びn2はそれぞれ独立に0~8の整数を表す。上記式5中、R3~R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c1は2~30の整数を表す。上記式6中、R3~R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c2及びc3はそれぞれ独立に1~5の整数を表し、d1は2~20の整数を表す。上記式7中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、d1は2~20の整数を表し、mは0又は1を表す。上記式8中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、o1及びo2はそれぞれ独立1~3の整数を表す。上記式10中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c4及びc5はそれぞれ独立に0~5の整数を表し、mは0又は1を表す。上記式11中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、mは0又は1を表す。上記式12中、R3~R7はそれぞれ独立にH又はCH3である。上記式13中、は結合手であり、R3、R5及びR6それぞれ独立にH又はCH3であり、c6は0~3の整数を表す。上記式14中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0~5の整数を表し、mは0又は1を表す。上記式15中、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c9及びc10はそれぞれ独立に0~30の整数を表す。上記式16中、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c11~c14は1以上の整数を表し、なおかつc11c12c13c14=4~30を満足する。上記式17中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表す。上記式18中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R200及びR201はそれぞれ独立にH、CH3又はフェニル基であり、c4及びc5はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式19中、R3~R5及びR11はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1~b3はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、fは1~20の整数を表す。上記式20中、は結合手であり、VはOH又は結合手を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a1は2又は3を表し、b1は0~2の整数を表し、c15は0~20の整数を表す。上記式21中、は結合手であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a2は3又は4を表し、c16は0~20の整数を表す。上記式22中、は結合手であり、W2及びW3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a3は4~6の整数を表し、c17は0~3の整数を表す。上記式23中、Rはヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、又はキシリレンであり、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、e1及びe2はそれぞれ独立に0~2の整数を表す。上記式24中、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1は0~2の整数を表し、c15は0~20の整数を表し、n100は、1~6の整数を表す。上記式25中、R3~R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c9及びc10はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式26中、R3はH又はCH3であり、p1は1~6の整数を表し、a10は3を表す。上記式27中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式28中、R3~R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0~2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0~5の整数を表す。上記式29中、R3及びR5~R13はそれぞれ独立にH又はCH3であり、i1は0~5の整数を表す。上記式30中、R3及びR5~R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a2は3又は4を表し、i1は0~5の整数を表す。上記式31中、R3~R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W2及びW3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a7は1~6の整数を表し、a8は0~5の整数を表し、なおかつa7a8=2~6を満足する。上記式32中、R70はトルイレン、ジフェニルメタン、ヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、N,N‘,N-トリスヘキサメチレン-イソシアヌレート、NNN’-トリスヘキサメチレン-ウレア、NNN‘N’-テトラキスヘキサメチレン-ウレア、又はキシリレンであり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a9は1~4の整数を表し、a10は2~4の整数を表し、b1は0~2の整数を表し、c4は0~5の整数を表す。上記式33中、R70は、トルイレン、ジフェニルメタン、ヘキサメチレン、イソホロン1-メチレン-3-エチレン-3-メチル-5,5-ジメチル-シクロヘキサン、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、N,N‘,N-トリスヘキサメチレン-イソシアヌレート、NNN’-トリスヘキサメチレン-ウレア、NNN‘N’-テトラキスヘキサメチレン-ウレア、又はキシリレンであり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手を有する酸素原子であり、a9は1~4の整数を表し、a10は2~4の整数を表し、b1は0~2の整数を表し、c4は0~5の整数を表す。上記一般式3で表される多価単量体IIとしては、例えば、エチレングリコールジメタアクリレート、1,2-プロパンジオールジメタアクリレート、1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、1,10-デカンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、2-メチル-1,8-オクタンジオールジメタアクリレート、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、1,2-ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピルオキシ}エタン、1,2-ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピルオキシ}プロパン、1,3-ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピルオキシ}プロパン、1,4-ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピルオキシ}プタン、1,6-ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピルオキシ}ヘキサンなどが挙げられる。上記一般式4で表される多価単量体IIとしては、例えば、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸ジメタアクリレートなどが挙げられる。上記一般式5で表される多価単量体IIとしては、例えば、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、1,2-ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、1,3-ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、1,4-ポリブチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコール-ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピル}エーテル、1,2-ポリプロピレングリコール-ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピル}エーテルなどが挙げられる。上記一般式6で表される多価単量体IIとしては、例えば、1,2-ポリプロピレングリコール-ビス{メタアクリロイル-ポリオキシエチレン}エーテルなどが挙げられる。上記一般式7で表される多価単量体IIとしては、例えば、1,3-ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、1,4-ポリブチレングリコールジメタアクリレート、1,4-ポリブチレングリコール-ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピル}エーテルなどが挙げられる。上記一般式8で表される多価単量体IIとしては、例えば、ビス{2-メタアクリロイルチオ-エチル}スルフィド、ビス{5-メタアクリロイルチオ-3-チアペンチル}スルフィドなどが挙げられる。上記一般式10で表される多価単量体IIとしては、例えば、シクロヘキサンジオールジメタアクリレート、ビス{メタアクリロイルオキシ-メチル}シクロヘキサン、ビス{7-メタアクリロイルオキシ-2,5-ジオキサヘプチル}シクロヘキサン、ビス{メタアクリロイルオキシ-ポリエチレンオキシ-メチル}シクロヘキサンなどが挙げられる。上記一般式11で表される多価単量体IIとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジメタアクリレートなどが挙げられる。上記一般式12で表される多価単量体IIとしては、例えば、2-プロペノイックアシッド{2-1,1,-ジメチル-2-{1-オキソ-2-プロペニルオキシ}エチル-5-エチル-1,3-ジオキサン-5-イル}メチルエステル日本化薬社製,商品名KAYARADR-604などが挙げられる。上記一般式13で表される多価単量体IIとしては、例えば、N,N‘,N-トリス{2-メタアクリロイルオキシ-エチル}イソシアヌレートなどが挙げられる。上記一般式14で表される多価単量体IIとしては、例えば、キシリレンジオールジメタアクリレート、ビス{7-メタアクリロイルオキシ-2,5-ジオキサヘプチル}ベンゼン、ビス{メタアクリロイルオキシ-ポリエチレンオキシ-メチル}ベンゼンなどが挙げられる。上記一般式15で表される多価単量体IIとしては、例えば、ビスフェノールAジメタアクリレート、ビス{メタアクリロイル-オキシエチル}ビスフェノールA、ビス{メタアクリロイル-オキシプロピル}ビスフェノールA、ビス{メタアクリロイル-ポリオキシエチレン}ビスフェノールA、ビス{メタアクリロイル-ポリオキシ-1,2-プロピレン}ビスフェノールA、ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピル}ビスフェノールA、ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピルーオキシエチル}ビスフェノールA、ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピル-オキシプロピル}ビスフェノールA、ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピル-ポリオキシエチレン}ビスフェノールA、ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピル-ポリオキシ-1,2-プロピレン}ビスフェノールAなどが挙げられる。上記一般式16で表される多価単量体IIとしては、例えば、ビス{メタアクリロイル-オキシエチル-オキシプロピル}ビスフェノールA、ビス{メタアクリロイルポリオキシエチレン-ポリオキシ-1,2-プロピレン}ビスフェノールAなどが挙げられる。上記一般式17で表される多価単量体IIとしては、例えば、ナフタレンジオールジメタアクリレート、ビス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピル-オキシ}ナフタレンなどが挙げられる。上記一般式18で表される多価単量体IIとしては、例えば、9,9-フルオレンジオールジメタアクリレート、9,9-ビス{4-2-メタアクリロイルオキシ-エチル-オキシ}フルオレン、9,9-ビス{3-フェニル-4-メタアクリロイルオキシ-ポリエチレンオキシ}フルオレンなどが挙げられる。上記一般式19で表される多価単量体IIとしては、例えば、フェノールノボラック型エポキシメタアクリレート新中村化学製,商品名NKオリゴEA-6320,EA-7120,EA-7420などが挙げられる。上記一般式20で表される多価単量体IIとしては、例えば、グリセリン-1,3-ジメタアクリレート、1-アクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-3-メタクリロイルオキシ-プロパン、2,6,10-トリヒドロキシ-4,8-ジオキサウンデカン-1,11-ジメタアクリレート、1,2,3-トリス{3-メタアクリロイルオキシ-2-ヒドロキシ-プロピル-オキシ}プロパン、1,2,3-トリス{2-メタアクリロイルオキシ-エチル-オキシ}プロパン、1,2,3-トリス{2-メタアクリロイルオキシ-プロピル-オキシ}プロパン、1,2,3-トリス{メタアクリロイルオキシ-ポリエチレンオキシ}プロパン、1,2,3-トリス{メタアクリロイルオキシ-ポリ1,2-プロピレンオキシ}プロパンなどが挙げられる。上記一般式21で表される多価単量体IIとしては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパン-トリス{メタアクリロイルオキシ-エチル-オキシ}エーテル、トリメチロールプロパン-トリス{2-メタアクリロイルオキシ-プロピル-オキシ}エーテル、トリメチロールプロパン-トリス{メタアクリロイルオキシ-ポリエチレンオキシ}エーテル、トリメチロールプロパン-トリス{メタアクリロイルオキシ-ポリ1,2-プロピレンオキシ}エーテル、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトール-テトラキス{メタアクリロイルオキシ-エチル-オキシ}エーテル、ペンタエリスリトール-テトラキス{2-メタアクリロイルオキシ-プロピル-オキシ}エーテル、ペンタエリスリトール-テトラキス{メタアクリロイルオキシ-ポリエチレンオキシ}エーテル、ペンタエリスリトール-テトラキス{メタアクリロイルオキシ-ポリ1,2-プロピレンオキシ}エーテルなどが挙げられる。上記一般式22で表される多価単量体IIとしては、例えば、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパン-テトラキス{メタアクリロイルオキシ-エチル-オキシ}エーテル、ジトリメチロールプロパン-テトラキス{2-メタアクリロイルオキシ-プロピル-オキシ}エーテル、ジトリメチロールプロパン-テトラキス{メタアクリロイルオキシ-ポリエチレンオキシ}エーテル、ジトリメチロールプロパン-テトラキス{メタアクリロイルオキシ-ポリ1,2-プロピレンオキシ}エーテル、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトール-ヘキサ{メタアクリロイルオキシ-エチル-オキシ}エーテル、ジペンタエリスリトール-ヘキサ{2-メタアクリロイルオキシ-プロピル-オキシ}エーテル、ジペンタエリスリトール-ヘキサ{メタアクリロイルオキシ-ポリエチレンオキシ}エーテル、ジペンタエリスリトール-ヘキサ{メタアクリロイルオキシ-ポリ1,2-プロピレンオキシ}エーテルなどが挙げられる。上記一般式23で表される多価単量体IIとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、又は4-ヒドロキシブチルメタアクリレートなどのヒドロキシルアルキルメタアクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートとの反応物、ヒドロキシルアルキルメタアクリレートとイソホロンジイソシアナートとの反応物、ヒドロキシルアルキルメタアクリレートとビスイソシアナトメチルノルボルナンとの反応物、ヒドロキシルアルキルメタアクリレートとノルビス4-イソシアナトシクロヘキシルメタンとの反応物、ヒドロキシルアルキルメタアクリレートと1,3-ビスイソシアナトメチルシクロヘキサンとの反応物、ヒドロキシルアルキルメタアクリレートとm-キシリレンジイソシアナートとの反応物などが挙げられる。本発明の単量体Iと多価単量体IIとのモル比単量体I/多価単量体IIは、好ましくは1/30以上15/1以下、より好ましくは1/25以上2/1以下、さらに好ましくは1/23以上1/1以下、特に好ましくは1/20以上1/1以下、最も好ましくは1/15以上1/3以下である。単量体Iと多価単量体IIとのモル比が上記範囲の単量体組成物を用いた場合、親水性を有し、防曇性、防汚性、帯電防止性、結露防止性などに優れるだけでなく、基材との密着性および外観にも優れる単層膜が得られる。上記単量体組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、単量体I及び単量体II以外の他の単量体IIIが含まれていてもよい。上記他の単量体IIIとしては、例えば、メタアクリル酸などの単量体I以外のカルボキシル基又はカルボン酸塩基含有単量体;ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレートなどのヒドロキシアルキルメタアクリレート;メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸イソボルニルなどのアルキルモノメタアクリレート;N,N-ジメチル-アミノエチル-メタアクリレート、N,N-ジメチル-アミノエチル-メタアクリレート塩酸塩などのアミノ基又はアンモニウム塩基含有単量体;2-メタアクリロイルオキシ-エチル-燐酸などの単量体I以外のリン酸基又はリン酸塩基含有単量体;、ビニルスルホン酸ナトリウム、スチレンスルホン酸、スチレンスルホン酸ナトリウム、スチレンスルホン酸カリウム、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸カリウムなどの単量体I以外のスルホン酸基又はスルホン酸塩基含有単量体;アリルメタアクリレート、ジエチレングリコーリビスアリルカーボネート、ジアリルフタレート、ジビニルベンゼン、ジビニルスルホン、グリシジルメタアクリレート、3-イソプロペニル-α,α-ジメチル-ベンジルイソシアナート、メタアクリロイルイソシアナート、メタアクリロイルオキシエチルイソシアナート、キシリレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、ビスイソシアナトメチルノルボルナン、イソホロンジイソシアナート、1,3-ビスイソシアナトメチルシクロヘキサン、ビス4-イソシアナト-シクロヘキシルメタンなどが挙げられる。また、単層膜の屈折率の値を大きくしたい場合には、上記単量体IIIとして、2,5-ビスアクリロイルチオメチル-1,4-ジチアン、1,8-ビスアクリロイルチオ-5-アクリロイルチオメチル-3,6-ジチアオクタン、2,5-ビスアクリロイルチオメチル-1,4-ジチアン、1,11-ビスアクリロイルチオ-4,8-ビスアクリロイルチオメチル-3,6,9-トリチアウンデカンなどの硫黄原子を有する単量体を用いてもよい。上記単量体IIIの単量体組成物中の含有量は本発明の効果を損なわない限り特に制限はないが、単量体I及び単量体IIの合計100モルに対し、通常100モル以下、好ましくは49モル以下、より好ましくは40モル以下の量で使用する。このような含有量で単量体組成物に含ませることにより、柔軟性、靭性、屈折率などの物性を調整できる。本発明では、上記単量体組成物と溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の化合物を含有する溶剤との混合物を作製する。溶解度パラメーターσcal/cm3は、以下1~4の値から計算できる。11mol当たりの蒸発潜熱Hb=21×273Tb単位:cal/mol,Tb:溶剤の沸点°C225°Cでの1mol当たりの蒸発潜熱H25=Hb×{10.175×Tb-25/100}単位:cal/mol,Tb:溶剤の沸点°C3分子間結合エネルギーE=H25-596単位:cal/mol4溶剤1mlcm3当たりの分子間結合エネルギーE1=E×D/Mw単位:cal/cm3,D:密度g/cm3,Mw:溶剤の分子量5溶解度パラメーターσ=E112単位:cal/cm3このような溶解度パラメーターσcal/cm3が9.3以上の化合物を含有する溶剤が単量体組成物との混合物に含まれていることにより、単量体Iに由来するアニオン性親水基と一定の相互作用を有するため、この混合物を基材に塗布して、その混合物から溶剤を除去する際に、塗布された混合物の外気に接する表面に溶剤と同伴してアニオン性親水基単量体Iが移動して、その表面にアニオン性親水基が濃縮されることになり、本発明で得られる単層膜外表面にアニオン性親水基が集中した構造傾斜構造が形成される。一方、溶解度パラメーターσcal/cm3が9.3未満であると、上述のような相互作用が弱くなるため、上述の傾斜構造が十分には形成されない。この傾斜構造をより形成しやすくする観点からは、上記溶解度パラメーターσcal/cm3は9.5以上であることが好ましい。また、上述の傾斜構造がより形成させやすいという点では、上記溶剤の中でも、沸点が30~170°Cの溶剤、沸点が50~140°Cの溶剤がより好ましく、沸点が60~125°Cの溶剤がさらに好ましい。なお、上記溶剤が2以上の化合物を含む混合溶剤である場合には、これら混合溶剤の最高沸点が上記範囲にあればよい。上記溶剤として用い得る、溶解度パラメーターσcal/cm3が9.3以上かつ沸点が30~170°Cの化合物としては、例えば、メタノール、エタノール、2-メトキシエタノール、シクロヘキサノール、1-プロパノール、IPAイソプロパノール、2-エトキシエタノール、1-ブタノール、イソブタノール、1-メトキシ-2-プロパノール、2-ブタノール、1-ペンタノール、2-メチル-1-ブタノール、イソペンタノール3-メチル-1-ブタノールなどのアルコール;シクロヘキサノン、2-メチルシクロヘキサノン、アセトンなどのケトン;蟻酸、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸;酢酸メチルなどのカルボン酸エステル;ジオキサン、アニソール、THFテトラヒドロフランなどのエーテル;DMFN,N’-ジメチルホルムアミド、DMACN,N’-ジメチルアセトアミドなどのアミド;アセトニトリルなどのニトリル;及び水等が挙げられる。これら化合物の中でもアルコールが好ましく、アルコールの中でも、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、1-ブタノール、1-ペンタノール、2-メチル-1-ブタノール、イソペンタノール3-メチル-1-ブタノールなどの1級アルコールが好ましい傾向にある。溶剤に含まれる溶解度パラメーターσcal/cm3が9.3以上の上記化合物は、単独で用いても混合して用いてもよい。また、上記溶剤が2以上の化合物を含む混合溶剤である場合には、少なくともその1つが、上記溶解度パラメーターの条件を満たしていればよい。溶剤中に含まれるその1つの化合物の溶解度パラメーターが上記条件を満たしている場合には、単量体Iに由来するアニオン性親水基とその1つの化合物とが一定の相互作用を有するため、この混合物を基材に塗布して、その混合物から溶剤を除去する際に、塗布された混合物の外気に接する表面にその1つの化合物と同伴してアニオン性親水基単量体Iが移動することには変わりはなく、その結果として、表面にアニオン性親水基が濃縮されることになるからである。2以上の化合物を含む混合溶剤である場合、沸点が最も高い化合物が傾斜構造の形成に影響を与えやすい傾向にある。そのため、混合溶剤に含まれる沸点が最も高い化合物の溶解度パラメーターσcal/cm3が9.3以上であることが好ましい。また、2以上の化合物を含む混合溶剤である場合は、溶解度パラメーターσcal/cm3が上記条件を満たす化合物:それ以外の化合物の重量比が、好ましくは99.9:0.1~1:99、より好ましくは99:1~10:90、さらに好ましくは98:2~30:70の範囲である。ただし、溶剤に含まれる溶解度パラメーターσcal/cm3が9.3以上の化合物の中でも、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N-エチル-エタノールアミン、N-2-エチルヘキシルエタノールアミン、N-ブチル-ジエタノールアミン、N-ヘキシル-ジエタノールアミン、N-ラウリル-ジエタノールアミン、N-セチル-ジエタノールアミンなどのヒドロキシエチルアミノ構造を有するエタノールアミン系化合物NRaRbCH2CH2OH:Ra及びRbは独立して、水素、炭素数1~15のアルキル基、又はCH2CH2OH基である。は望ましくない。上記エタノールアミン系化合物は、単量体Iに由来するアニオン性親水基との相互作用が強すぎるため、エタノールアミン系化合物とアニオン性親水基とが、あたかもひとつの分子のような状態典型的には塩を形成し、アニオン性親水基の見かけ上の分子量を増大させる。この分子量の増大は、媒体中の移動速度を低下させるため、基材上に塗布し、単量体組成物との混合物から溶剤を除去する際に、アニオン性親水基を外気と接する表面に移動しにくくさせる。また、仮にエタノールアミン系化合物と同伴してアニオン性親水基が外気に接する表面に移動しても、エタノールアミン系化合物が相互作用したアニオンは見かけ上の分子量が増大しているため、エタノールアミン系化合物と相互作用していないアニオンよりも必然的に単位表面積あたりのアニオン濃度が低下することになり、結果として表面に濃縮されにくくなる。さらに上述の強い相互作用に加えてエタノールアミン系化合物は比較的沸点が高く約170°C以上蒸発し難いため、フリーのエタノールアミン系化合物であっても表面への移動が起こりにくく、内部に残留しやすい。そのため、より分子量が増大したエタノールアミン系化合物とアニオンとの相互作用により生じた物質はさらに表面へ移動しにくくなる傾向にある。即ち、上記エタノールアミン系化合物を含む溶剤を用いると、アニオンの外気に接する表面への移動が抑制され、単量体組成物との混合物中単層膜内部に残存しやすいため、本発明で得られる単層膜外表面にアニオン性親水基が集中した構造傾斜構造が形成されにくくなる傾向にあり、得られる単層膜の親水性等が低下する傾向にある。さらに、これらエタノールアミン系化合物を溶剤として用いると、単量体I及び多価単量体IIなどに含まれるエステル結合の分解加水分解、アルコール分解、及びエタノールアミン系化合物の1級又は2級アミノ基による直接的な分解などを起こしたり、単量体I及び多価単量体IIに含まれるメタアクリロイル基にエタノールアミン系化合物の1級又は2級アミノ基が直接反応マイケル付加してしまい、単量体混合物の重合不良、単層膜における架橋密度の低下などが起こる等望ましくない副反応が起こる場合がある。上記単量体組成物と溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の溶剤を含む混合物には必要に応じて、重合開始剤が含まれていてもよい。例えば、基材上で上記混合物に含まれる単量体組成物を、放射線、例えば紫外線で重合する場合には、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、及び光アニオン重合開始剤などの光重合開始剤が、上記単量体組成物と溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の溶剤を含む混合物に含まれていてもよい。上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4-フェニルベンゾフェノン、2,4-ジエチルチオキサントン、イルガキュアー651チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー184チバスペシャリティーケミカルズ社製、ダロキュアー1173チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー500チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー2959チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー127チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー907チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー369チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー1300チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー819チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー1800チバスペシャリティーケミカルズ社製、ダロキュアーTPOチバスペシャリティーケミカルズ社製、ダロキュアー4265チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアーOXE01チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアーOXE02チバスペシャリティーケミカルズ社製、エサキュアーKT55ランベルティー社製、エサキュアーKIP150ランベルティー社製、エサキュアーKIP100Fランベルティー社製、エサキュアーKT37ランベルティー社製、エサキュアーKTO46ランベルティー社製、エサキュアー1001Mランベルティー社製、エサキュアーKIP/EMランベルティー社製、エサキュアーDP250ランベルティー社製、及びエサキュアーKB1ランベルティー社製などが挙げられる。これら光ラジカル重合開始剤の中でも、イルガキュアー184チバスペシャリティーケミカルズ社製、ダロキュアー1173チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー500チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー819チバスペシャリティーケミカルズ社製、ダロキュアーTPOチバスペシャリティーケミカルズ社製、エサキュアーKIP100Fランベルティー社製、エサキュアーKT37ランベルティー社製及びエサキュアーKTO46ランベルティー社製が好ましい。上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、イルガキュアー250チバスペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュアー784チバスペシャリティーケミカルズ社製、エサキュアー1064ランベルティー社製、CYRAUREUVI6990ユニオンカーバイト日本社製、アデカオプトマーSP-172旭電化社製、アデカオプトマーSP-170旭電化社製、アデカオプトマーSP-152旭電化社製、及びアデカオプトマーSP-150旭電化社製などが挙げられる。上記光重合開始剤の中でも、光ラジカル重合開始剤が好ましい。上記光重合開始剤の使用量は、単量体組成物に含まれる単量体I、多価単量体II及び必要に応じて含まれる単量体IIIの合計100重量部に対して、好ましくは0.1~20重量部、より好ましくは0.5~10重量部、さらに好ましくは1~5重量部の範囲である。上記光重合開始剤に加えてさらに光重合促進剤が上記混合物には含まれていてもよい。上記光重合促進剤としては、例えば、2,2-ビス2-クロロフェニル-4,5-テトラフェニル-2H-<1,2>ビイミダゾルイル、トリス4-ジメチルアミノフェニルメタン、4,4-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、2-エチルアントラキノン、及びカンファーキノンなどが挙げられる。また、上記単量体組成物と溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の溶剤を含む混合物には、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤HALSが含まれていてもよい。本発明により得られる単層膜を長期間外部に曝されても変質しない防汚材料、防曇材料などとして使用したい場合には、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤HALSを上記混合物に添加して、得られる単層膜の耐候性を向上できる。上記紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、プロパンジオック酸エステル系紫外線吸収剤、及びオキサニリド系紫外線吸収剤などの種々の一般的な紫外線吸収剤を用いることができる。上記紫外線吸収剤としては、例えば、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-p-クレゾール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-tert-ブチルフェノール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4,6-ジ-tert-ブチルフェノール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4,6-ビス1-メチル-1-フェニルエチルフェノール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-1,1,3,3-テトラメチル-ブチル-6-1-メチル-1-フェニルエチルフェノール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-3-オン-4-オキサ-ドデシル-6-tert-ブチル-フェノール、2-{5-クロロ2H-ベンゾトリアゾール-2-イル}-4-3-オン-4-オキサ-ドデシル-6-tert-ブチル-フェノール、2-{5-クロロ2H-ベンゾトリアゾール-2-イル}-4-メチル-6-tert-ブチル-フェノール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4,6-ジ-tert-ペンチルフェノール、2-{5-クロロ2H-ベンゾトリアゾール-2-イル}-4,6-ジ-tert-ブチルフェノール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-tert-オクチルフェノール、2-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-4-メチル-6-n-ドデシルフェノール、メチル-3-{3-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-5-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル}プロピオネート/ポリエチレングリコール300の反応性生物などのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤;2-4-フェノキシ-2-ヒドロキシ-フェニル-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-オキサ-ヘキサデシロキシ-4,6-ジ2、4-ジメチル-フェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-オキサ-ヘプタデシロキシ-4,6-ジ2、4-ジメチル-フェニル-1,3,5-トリアジン、2-2-ヒドロキシ-4-iso-オクチロキシ-フェニル-4,6-ジ2、4-ジメチル-フェニル-1,3,5-トリアジン、商品名チヌビン400チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、商品名チヌビン405チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、商品名チヌビン460チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、商品名チヌビン479チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製などのトリアジン系紫外線吸収剤;2-ヒドロキシ-4-n-オクトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系紫外線吸収剤;2,4-ジ-tert-ブチルフェニル-3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエートなどのベンゾエート系紫外線吸収剤;及びプロパンジオック酸-{4-メトキシフェニル-メチレン}-ジメチルエステル、商品名ホスタビンPR-25クラリアントジャパン株式会社製、商品名ホスタビンB-CAPクラリアントジャパン株式会社製などのプロパンジオック酸エステル系紫外線吸収剤;2-エチル-2-エトキシ-オキサニリド、商品名SanduvorVSUクラリアントジャパン株式会社製などのオキサニリド系紫外線吸収剤などが挙げられる。これら紫外線吸収剤の中でもトリアジン系紫外線吸収剤が好ましい傾向にある。上記紫外線吸収剤の使用量は、単量体組成物に含まれる単量体I、多価単量体II及び必要に応じて含まれる単量体IIIの合計100重量部に対して、通常0.1~20重量部、好ましくは0.5~10重量部の範囲である。紫外線吸収剤の使用量が上記下限値未満である場合には、得られる単層膜の耐候性の改良効果が小さくなる傾向にある。また、紫外線吸収剤の使用量が上記上限値を超える場合には、重合が不十分な場合がある。上記ヒンダードアミン系光安定剤HinderedAminLightStabilizers:HALSは、一般にHALSと略称されている通常、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン骨格を有する化合物の総称であり、分子量により、低分子量HALS、中分子量HALS、高分子量HALS及び反応型HALSに大別されている。上記HALSとしては、例えば、商品名チヌビン111FDLチバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、ビス1-オクチロキシ-2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルセバケート商品名チヌビン123チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、商品名チヌビン144チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、商品名チヌビン292チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、商品名チヌビン765チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、商品名チヌビン770チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、N,N-ビス3-アミノプロピルエチレンジアミン-2,4-ビス[N-ブチル-N-1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルアミノ]-6-クロロ-1,3,5-トリアジン縮合物商品名CHIMASSORB119FLチバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、商品名CHIMASSORB2020FDLチバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、コハク酸ジメチル-1-2-ヒドロキシエチル-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン重縮合物商品名CHIMASSORB622LDチバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、ポリ[{6-1,1,3,3-テトラメチルブチルアミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル}{2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルイミノ}ヘキサメチレン{2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジルイミノ}]商品名CHIMASSORB944FDチバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、商品名Sanduvor3050Liq.クラリアントジャパン株式会社製、商品名Sanduvor3052Liq.クラリアントジャパン株式会社製、商品名Sanduvor3058Liq.クラリアントジャパン株式会社製、商品名Sanduvor3051Powder.クラリアントジャパン株式会社製、商品名Sanduvor3070Powder.クラリアントジャパン株式会社製、商品名VPSanduvorPR-31クラリアントジャパン株式会社製、商品名ホスタビンN20クラリアントジャパン株式会社製、商品名ホスタビンN24クラリアントジャパン株式会社製、商品名ホスタビンN30クラリアントジャパン株式会社製、商品名ホスタビンN321クラリアントジャパン株式会社製、商品名ホスタビンPR-31クラリアントジャパン株式会社製、商品名ホスタビン845クラリアントジャパン株式会社製、及び商品名ナイロスタッブS-EEDクラリアントジャパン株式会社製などが挙げられる。上記HALSの使用量は、単量体組成物に含まれる単量体I、多価単量体II及び必要に応じて含まれる単量体IIIの合計100重量部に対して、通常0.1~10重量部、好ましくは0.5~5重量部、さらに好ましくは1~3重量部の範囲である。HALSの使用量が上記下限値未満である場合には、得られる単層膜の耐候性の改良効果が小さくなる傾向にある。また、HALSの使用量が上記上限値を超える場合には、重合が不十分な場合がある。また、上記単量体組成物と溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の化合物を含有する溶剤を含む混合物には、さらに必要に応じて、赤外線吸収剤、ラジカル補足剤、酸化防止剤、重合禁止剤、色素、バインダー、内部離型剤、レベリング剤、触媒、種々の金属酸化物、金属、金属塩、ヨウ素、及びヨードニウム塩などのその他添加剤が含まれていてもよい。機械強度又は熱安定性などを向上させたり、光応答性又は殺菌性などを付与する目的等で、シリカ、酸化チタンなどの金属又は金属酸化物等を添加できる。さらに、殺菌性又は抗菌性などを付与する目的で、銀塩、リチウム塩などの金属塩、ヨウ素、又はヨードニウム塩等を添加できる。これらその他添加剤の添加量は、その目的に応じ適宜設定できるが、単量体組成物に含まれる単量体I、多価単量体II及び必要に応じて含まれる単量体IIIの合計100重量部に対して、通常0.01~200重量部、好ましくは0.1~100重量部の囲である。本発明では、上記単量体組成物と溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の化合物を含有する溶剤との混合物を作製し、これを基材に塗布する。上記基材となる材料としては、例えば、シリカ、金属、金属酸化物などの結晶性又は非晶性などの無機材料;ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂などのポリマー材料、紙、パルプなどの有機材料、及びガラスフィラーとポリエチレンテレフタレートの混合物に代表される無機材料と有機材料のハイブリッド材料などが挙げられる。本発明の基材となる材料としては上述の材料が例示できるが、本発明で使用される基材は無機材料、有機材料などからなる基材の表面に塗料等が塗布されたものであってもよい。また上記基材の表面は、必要に応じて、物理的又は化学的処理、プライマー処理、などの表面処理が施されていてもよい。この表面処理は、例えば、基材と単層膜との接着性密着性を改良するために基材の表面を活性化することなどを目的として行われる。物理的又は化学的処理としては、例えば、コロナ処理、オゾン処理、酸素ガス又は窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いて行う酸化処理などが挙げられる。プライマー処理は、いわゆるプライマーコート剤、アンダーコート剤、又はアンカーコート剤などを称されるコート剤を基材表面に塗布、乾燥することにより行われる。上記コート剤としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂、メタアクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン及びポリプロピレンなどのポリオレフィン、変性ポリオレフィン、セルロース系樹脂などの重合体をビヒクルの主成分とする重合体組成物が挙げられる。上記コート剤としては、例えば、上記重合体を溶剤に溶解した溶剤型コート剤、上記重合体を水などの水性溶剤に分散したラテックスタイプ又はディスパーションタイプの水性型コート剤が挙げられる。上記水性型コート剤に含まれる重合体としては、ポリオレフィン、ポリエチレンビニルアルコール、ポリエチレンイミン、ポリブタジエン、ウレタンアクリル樹脂及びポリエステル系ポリウレタンなどのポリウレタン、ポリ塩化ビニル、シリコンアクリル樹脂、酢酸ビニルアクリル樹脂、アクリル樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体、アクリルニトリル-ブタジエン共重合体、メチルメタアクリレート-ブタジエン共重合体、クロロプレンゴム、ポリブタジエンなどのゴム、ポリアクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、及びこれら樹脂をカルボン酸等で変性した重合体などが挙げられる。これらコート剤の中でも、ポリウレタン含むコート剤が好ましい。ポリウレタンとしては、重合体の主鎖又は側鎖のいずれにウレタン結合を有していてもよく、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール又はアクリルポリオールなどのポリオールとイソシアネート化合物とを反応させることにより得られるポリウレタンを用いることができる。また、上記ポリウレタンを含むコート剤としては、ポリオールを含む液と、イソシアネート化合物を含む液とをその場で混合してコートする二液型のコート剤を用いることもできる。この二液型のコート剤の場合、基材上にプライマーが形成される限り、ポリオールを含む液とイソシアネート化合物を含む液の混合方法は特に限定されない。また、基材上にプライマーが形成される限り、ポリオールとイソシアネート化合物との配合比も特に限定されないが、ポリオールに含まれるOH基/イソシアネート化合物に含まれるNCO基の値は、当量換算で、通常2/1~1/40の範囲である。これらポリウレタンを含むコート剤の中でも、基材と単層膜との密着性に優れ、剥離強度が高いという点でポリオールとして縮合系ポリエステルポリオール、ラクトン系ポリエステルポリオールなどのポリエステルポリオールを用い、イソシアネート化合物としてトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネートなどを用いたポリウレタンを含むコート剤が好ましい。上記コート剤を基材に塗布する方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースロールコート法、ナイフコート法、キスコート法などが挙げられる。コート剤の塗布量は、乾燥状態で、通常0.01g/m2~10g/m2、好ましくは0.05g/m2~5g/m2である。その後、基材に塗布された上記混合物から少なくとも一部の溶剤を除去する。上記混合物からの溶剤の除去が不十分であると、得られる単層膜のアニオンの傾斜が不十分となるため親水性が低下する場合があり、また、単層膜と基材との密着性も低下する傾向にある。したがって、基材上で単量体組成物を重合する直前の上記混合物に含まれる溶剤の残存量は、通常約20重量未満、好ましくは10重量未満、より好ましくは5重量未満、さらに好ましくは2重量未満、最も好ましくは1重量未満である。本発明の製造方法では、上記混合物からの溶剤の除去方法は風を加えながら加熱を伴って行うことに特徴がある。加熱を伴い溶剤を除去する場合、風を加えると蒸発速度が速くなり、溶剤の残存量の低下、乾燥時間の短縮、乾燥温度の低下などが可能となり、しかも溶剤を除去する際の基材からの膜剥れ密着性低下、クラック膜割れなどが抑制される傾向にある。上記方法としては、温風により基材に塗布された上記混合物から溶剤を除去する方法、上記混合物を塗布された基材を加熱しながらさらに温風により上記混合物から溶剤を除去する方法などが挙げられる。上記加熱温度は、通常室温を超え200°C以下、好ましくは30°C以上150°C以下、より好ましくは40°C以上100°C以下の範囲である。風を加える際の風速は、好ましくは0.1m/秒~30m/秒の範囲、より好ましくは0.1m/秒~10m/秒の範囲、さらに好ましくは0.2m/秒~5m/秒の範囲である。風速が上記上限値を超えると均一な塗布面が得られにくくなる傾向にある。一方、上記下限値未満では、風を加える場合の効果が不十分になる傾向にある。溶剤除去を行う雰囲気は、大気であっても窒素などの不活性ガスでも構わない。しかし、雰囲気の湿度は低い方が好ましい向にある。雰囲気の湿度は好ましくは70以下、より好ましくは60以下、さらに好ましくは55以下である。溶剤除去を行う際の圧力は特に限定されないが、常圧又は減圧下で溶剤除去を行うことが比較的好ましい。なお、溶剤除去は微加圧下で行ってもよい。溶剤除去のための時間も、好ましい溶剤の残存量の観点などから適宜設定できるが、生産性を考慮した場合には、短時間の方が好ましい傾向にあり、例えば5分以下、典型的には3分以下、より典型的には2分以下の時間で溶剤除去を行う。このように基材に塗布して、少なくとも一部の溶剤を除去された後、単量体I及び単量体IIを含む単量体組成物を重合する。単量体組成物の重合方法に制限はないが、通常、熱又は放射線により、あるいは熱及び放射線の両者により単量体組成物を重合させることができる。重合は大気下で行ってもよいが、重合時間を短縮させる観点からなどは、窒素などの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。熱によりに重合する場合には、単量体組成物に必要に応じて有機過酸化物などの熱ラジカル発生剤を加え、通常室温以上300°C以下の範囲で加熱することにより重合できる。放射線により重合する場合、放射線としては、波長領域が通常0.0001~800nm範囲のエネルギー線を用いることができる。このような放射線としては、例えば、α線、β線、γ線、X線、電子線、紫外線、可視光などが挙げられる。これら放射線は、上述の単量体組成物の組成、さらには必要に応じて使用する光重合開始剤、光重合促進剤に応じて適宜選択して用いることができる。これら放射線の中では波長領域が200~450nmの紫外線が好ましい。単量体組成物と溶解度パラメーターσが9.3cal/cm3以上の化合物を含有する溶剤を含む混合物に紫外線吸収剤又はHALSを添加した後、放射線により単量体組成物を重合する際には、240~270nm又は370~430nmの範囲に出力ピークを有する放射線ランプを用いることが好ましい。また装置は高価だが、0.01~0.002nmの範囲に出力ピークを有する電子線により重合すると、短時間で重合が完結でき、同様に好ましい。また、酸素による重合阻害を回避する目的で、上記混合物の基材への塗布、溶剤の少なくとも一部の除去を行った後に、この混合物の塗布層をフィルムなどの被覆材で被覆してから重合を行ってもよい。被覆材で塗布層を被覆する際には、塗布層と被覆材との間に空気酸素を含まないように密着することが望ましい。空気、特に酸素を含まないようにすることで、放射線により重合を行う場合には放射線照射量を減らすことができる場合があり、また、光重合開始剤などの重合開始剤を使用して重合を行う場合には、重合開始剤量を減らすことができる。上記被覆材としては、酸素が遮断される限り特に制限なく種々の材料を様々な形態で使用できるが、操作性の面からフィルムが好ましく、放射線により重合を行う場合には、重合を阻害しない放射線透過率の高い透明性フィルムが好ましい。上記被覆材の材料としては、例えば、ポリビニルアルコールPVA及びエチレン-ビニルアルコール共重合体などのビニルアルコール系重合体、ポリアクリルアミド、ポリイソプロピルアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネートPC、ポリメチルメタクリレートPMMA、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリスチレンPS、二軸延伸ポリプロピレンOPPなどが挙げられる。上記被覆材、典型的にはフィルムの厚さは、通常3~200μm、好ましくは5~100μm、より好ましくは10~50μmの範囲である。なお、本発明により得られる単層膜、及び、該単層膜を少なくとも基材の一方の面に形成した積層体では、上述の被覆材をそのまま被覆した状態にしておいてもよい。被覆材を単層膜上に形成しておくと、単層膜又は積層体を輸送、保管、陳列等する際の単層膜の傷つき、汚れを防止できる。このようにして得られた本発明の基材上に形成された単層膜は、スルホン酸基SO3、カルボキシル基及びリン酸基PO4から選ばれる少なくとも1つのアニオン性親水基を有し、外表面のアニオン濃度Saと基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度Daとのアニオン濃度比Sa/Daが1.1以上となる。ここで、基材に接する内表面と外表面との中間地点とは、単層膜の膜厚方向でみたときに、基材に接する内表面部分と外気に接する外表面部分との1/2の地点をいう。上記アニオン濃度比は、基材上に設けられた単層膜を斜めに切断し、単層膜の外気に接する外表面のアニオン濃度と内表面と外表面との中間地点のアニオン濃とを、飛行時間型二次イオン質量分析装置TOF-SIMSを用いて測定して求める。このような本発明により得られる単層膜は、単層膜中の上述のアニオンが、基材側の内表面部分から外気に接する外表面部分まで濃度差を持って分布しており、外気と接する外表面部分に最も多くのアニオンが分布するようなアニオンの濃度差を有している。このようなアニオンの濃度差が膜厚方向に生じる理由は、単層膜形成の過程で親水性の上述のアニオンが外気と接する表面に自己集合するためであると推定される。上記単層膜は、このようにその単層膜の外表面に高親水性基のアニオンが高濃度で存在するので、防曇性、防汚性又はセルフクリーニング性、帯電防止性、埃付着防止性等に優れる。上記アニオン濃度比Sa/Daは、好ましくは12以上、より好ましくは1.3以上である。アニオン濃度比が上記値以上である場合には、防曇性、防汚性又はセルフクリーニング性、帯電防止性、埃付着防止性等により優れる傾向にある。なお、アニオン濃度比Sa/Daは、通常20.0程度以下である。本発明により得られる単層膜の水接触角は、通常30°以下、好ましくは20°以下、より好ましくは10°以下である。水接触角が上記上限値以下である単層膜は、親水性が高く、水となじみ濡れやすく親水性材料として優れている。したがって、例えば防曇材料、防曇被膜以下、防曇コートとも言う、防汚材料、防汚被膜又はセルフクリーニングコート、帯電防止材、速乾性材料又は速乾性コート、及び帯電防止被膜又はほこり付着防止コートなどに有用である。例えば、防曇コートとして用いると膜表面に水滴が広がり水膜を形成させることができるため防曇効果に優れ、またセルフクリーニングコートとして用いると水が汚れとコーティング面の間に入り込み汚れを浮かせて除去することができるため防汚効果に優れている。また、本発明のアニオン性親水基を有する単層膜は、従来のノニオン性親水基を有する被膜に比べ帯電防止性に優れており、帯電防止材、及び帯電防止被膜又はほこり付着防止コートなどにも有用である。上記単層膜の厚さは、用途により適宜設定できるが、通常0.1~100μm、好ましくは0.5~20μm、より好ましくは1~10μmの範囲である。本発明により得られる単層膜は、上記基材の形状を工夫するなどすることにより、種々の形態の単層膜とすることができる。本発明により得られる単層膜は、その基材と一体となった積層体としても使用できる。この本発明の積層体は、基材の少なくとも一方の面に上述の方法により単層膜を形成することにより製造できる。上記積層体の単層膜が形成されていない基材の他方の面には粘着層を設けてもよい。このように粘着層を設けた積層体は、例えば防曇フィルム及び防汚フィルムなどとして、ガラス、浴室などの鏡、ディスプレイ、テレビなどの表示材料表面、看板、広告、案内板などの案内板、鉄道、道路などの標識、建物の外壁及び内壁、窓ガラス等に容易に貼付することができる。粘着層は単層膜が形成されていない基材の他方の面に粘着剤を塗布し、さらに必要に応じ溶剤を除去することにより、基材上に形成できる。この粘着剤は特に制限なく使用できる。上記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニルエーテルポリマー系粘着剤、及びシリコーン粘着剤などが挙げられる。粘着層の厚さは、通常2~50μm、好ましくは5~30μmの範囲である。なお、上記粘着層の上にさらに剥離層が設けられていてもよい。また、本発明の積層体は上記単層膜の表面に剥離可能な被覆材層がさらに設けられていてもよい。本発明の積層体は、基材の形状を工夫するなどすることにより、種々の形態の積層体とすることができる。例えば、本発明により得られる単層膜及び積層体は、フィルム、シート、テープなどの形態で使用できる。なお、上記単層膜は、プライマー層として用いることもできる。本発明により得られる単層膜及び積層体は親水性に優れ、防曇材料、防汚材料、帯電防止材料などとして有用である。例えば、透明樹脂、ガラスなどの透明材料からなる基材に上記単層膜を積層した積層体は、透明性、親水性、防曇性、防汚性、さらには、帯電防止性、速乾性、結露防止性に優れた積層体として用いることができる。そのため、本発明により得られる単層膜及び積層体は、ボディー、ホイール、外装材、及び内装材などの自動車、船舶、航空機に代表される輸送機器用材;外壁材、内壁材、床材、家具材、浴室用材、洗面化粧室用材、換気扇などのキッチン用資材、トイレ用資材、配管用材、などの建築材及び住宅資材;高速道路などに設置される遮音板などの建設用材;衣服、布及び繊維などの衣料用材;窓材、鏡、光学フィルム、光ディスク、眼鏡、コンタクトレンズ、ゴーグル、反射フィルム、及び反射板などの光学材;ランプ用材及びライト用材などの照明用材;冷却フィンなどの産業資材;電化製品用材、配線用材、タッチパネルフラットパネルなどのディスプレイ用材、及びフォトレジストなどの電気電子材料;インクジェット記録版、印刷印字用プライマーなどの印刷材料;化粧品容器などの日用品用材などの用途に用いることができる。以下、実施例等により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明がこれら実施例のみに限定されるものではない。なお、本発明において被膜の物性評価は、下記のようにして行った。<水接触角の測定>協和界面科学社製の水接触角測定装置CA-V型を用いて、1サンプルについて3箇所測定し、これら値の平均値を水接触角の値とした。<ヘーズの測定>日本電色工業社製のヘーズメーターNDH2000を用いて、1サンプルについて4箇所測定し、これら値の平均値をヘーズの値とした。<耐擦傷性試験>スチールウール0000を用いて、ある一定の荷重をかけて10往復擦る。傷が入らなかった場合を〇、1~5本の傷が入った場合を△、6本~無数に傷が入った場合を×とした。<密着性の評価>碁盤目剥離試験により評価した。<防曇性の評価>呼気により曇らなかった場合を〇、曇った場合を×とした。<防汚性の評価>ゼブラ株製の油性マーカーマッキー極細黒,品番MO120MCBKでマークし、その上に水滴を垂らして30秒間放置し、テッシュペーパーでふき取る。マークがふき取れた場合を〇、ふき取れずに残った場合を×とした。<アニオン及びカチオン濃度比の測定>図1に示す試料調製の通りサンプルを斜めに切断し、飛行時間型2次イオン質量分析装置を用いて、上記外表面のアニオン濃度Saと上記中間地点とのアニオン濃度Daとを測定し、その値から外気に接する単層膜の外表面と単層膜の内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度比Sa/Daを求めた。分析装置と測定条件TOF-SIMS;IONTOF社製TOF-SIMS51次イオン;Bi32測定面積;400μm2測定には帯電補正用中和銃を使用試料調製等図1に示す通りに切削方向30に向かって、基材10の表面にコート層20が設けられたサンプルを斜めに切断し、切断されたサンプルに対して精密斜め切削を行った後、10×10mm2程度の大きさに切り出し、測定面にメッシュを当て、サンプルホルダーに固定し、外気と接するコート層表面40および単層膜の内部であるコート層内部50膜厚1/2の地点、基材10に接するコート層の内表面で飛行時間型2次イオン質量分析装置を用いてアニオン濃度を測定した。評価評価は以下の計算式で行った。尚、各測定点のイオン濃度は、相対強度トータル検出イオンに対するを用いた。アニオン濃度比傾斜度=コート層表面40でのアニオン濃度/コート層20の膜厚1/2の地点でのアニオン濃度実施例1溶液1の調製下記表1の配合比に従い、固形分80wtの均一な単量体組成物を含む溶液1を調製した。単層膜形成用混合物1の調製重合開始剤イルガキュアー1270.6gに2-メトキシエタノール0.9gを加えて混合溶解し、次に固形分80wtの溶液125.0gを加え、さらに希釈溶剤としてメタノール5.0g及びメトキシエタノール10.0gを加えて再度混合溶解し、固形分50wtの単層膜形成用混合物1を得た。単層膜の形成単層膜形成用混合物1を基材となる易接着PETフィルム東レ株,ルミラー100-U34にバーコーター07で塗布後、直ちに43~47°Cの温風が流れる乾燥機で表2に記載の風速を変更して2分間乾燥した。ただし、風速0m/秒風なしの乾燥は、IR赤外線乾燥機により行った。乾燥後、UVコンベアーフュージョンUVシステムズジャパン株式会社,無電極放電ランプHバルブ,コンベアー速度6m/分を1回通過させて積算光量900mJ/cm2、易接着PETフィルム上に膜厚約5μmの単層膜を形成させた。最後に外気と接する単層膜の外表面の汚れを除去する目的で流水洗浄を行い、エアブローで膜表面を乾燥し、単層膜の評価を行った。結果を表2に示す。実施例2溶液2の調製下記表3の配合比に従い、固形分80wtの均一な単量体組成物を含む溶液2を調製した。単層膜形成用混合物2の調製固形分80wtの溶液212.5gに、重合開始剤エサキュアーKTO-460.3gを加えて混合溶解し、固形分80wtの単層膜形成用混合物2を得た。単層膜の形成単層膜形成用混合物2を基材となるポリカーボネート板タキロン株式会社製にバーコーター05で塗布後、直ちに40~45°Cの温風が風速2m/秒で流れる乾燥機で表3に記載の時間を変更して乾燥した。ただし、風速0m/秒風なしの乾燥は、IR赤外線乾燥機により行った。乾燥後、UVコンベアーフュージョンUVシステムズジャパン株式会社,無電極放電ランプDバルブ,コンベアー速度5m/分を1回通過させて積算光量1200mJ/cm2、ポリカーボネート板上に膜厚約5μmの単層膜を形成させた。最後に外気と接する単層膜の外表面の汚れを除去する目的で流水洗浄を行い、エアブローで膜表面を乾燥し、単層膜の評価を行った。結果を表4に示す。実施例3溶液3の調製下記表5の配合比に従い、固形分80wtの均一な単量体組成物を含む溶液3を調製した。単層膜形成用混合物3の調製重合開始剤イルガキュアー1270.3gにメタノール0.3gを加えて混合溶解し、次に固形分80wtの溶液312.5gと2-メトキシエタノール7.5gを加えて再度混合溶解し、固形分50wtの単層膜形成用混合物3を得た。単層膜の形成単層膜形成用混合物3を基材となるポリカーボネート板タキロン株式会社製にバーコーター07で塗布後、直ちに45~50°Cの温風が風速2.5m/秒で流れる乾燥機で2分間乾燥した。乾燥後、UVコンベアーフュージョンUVシステムズジャパン株式会社,無電極放電ランプHバルブ,コンベアー速度6m/分を1回通過させて積算光量900mJ/cm2、ポリカーボネート板上に膜厚約5μmの単層膜を形成させた。最後に外気と接する単層膜の外表面の汚れを除去する目的で流水洗浄を行い、ポリカーボネート板上に形成された単層膜について、膜切削面の相対イオン強度比アニオン濃度の分布を、TOF-SIMSにより分析した。結果を表6に示す。"