"ハロゲン化シランからのヒドリドシランの製造法であって、ainが3以上であり、かつXがF、Cl、Brおよび/またはIである一般式SinX2n2の少なくとも1つのハロゲン化シランおよびii一般式NRRaRbYc式中、aは、0または1であり、bは、0または1であり、およびcは、0または1であり、かつYは、であり、上記式中、aa-R、Rおよび/またはRは、-C1~C12アルキル、-C1~C12アリール、-C1~C12アラルキル、-C1~C12アミノアルキル、-C1~C12アミノアリール、-C1~C12アミノアラルキルであり、および/または-cが0である場合にR、RおよびRの2個または3個の基は、一緒になってNを含む、環式または二環式のヘテロ脂肪族系またはヘテロ芳香族系を形成し、-但し、基R、RまたはRの少なくとも1個は、-CH3ではないものとし、および/またはbb-cが1である場合のRおよびRおよび/またはRは、-C1~C12アルキレン、-C1~C12アリーレン、-C1~C12アラルキレン、-C1~C12ヘテロアルキレン、-C1~C12ヘテロアリーレン、-C1~C12ヘテロアラルキレンおよび/または-N=であるか、またはcc-a、b、cが0である場合にRは、Rが-C1~C10アルキル、-C1~C10アリールおよび/または-C1~C10アラルキルである≡C-Rであるの少なくとも1つの触媒を、一般式mがnより大きく、かつXがF、Cl、Brおよび/またはIであるSimX2m2およびXがF、Cl、Brおよび/またはIであるSiX4の少なくとも1つのハロゲン化シランを含む混合物の形成下に反応させ、およびb一般式SimX2m2の少なくとも1つのハロゲン化シランを、一般式SimH2m2のヒドリドシランの形成下に水素化し、c一般式SimH2m2のヒドリドシランを、1<y<2m1である一般式SimHXyの部分ハロゲン化されたヒドリドシランと分離し、およびd任意に、工程cで分離された、1<y<2m1である一般式SimHXyの部分ハロゲン化されたヒドリドシランを、再び水素化することを特徴とする、前記製造法。一般式SinX2n2のハロゲン化シランは、直鎖状シランであることを特徴とする、請求項1記載の方法。少なくとも1つのハロゲン化シランは、XがF、Cl、Brおよび/またはIである一般式Si3X8および/またはSi4X10を有する化合物の群から選択された化合物であることを特徴とする、請求項1または2記載の方法。触媒は、さらなるヘテロ原子を有するかまたは有しない環式、二環式または多環式のアミンからなる化合物の群から選択されていることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。触媒は、ジアザビシクロオクタン、ピリジンまたはN,N-1,4-ジメチルピペラジンであることを特徴とする、請求項4記載の方法。水素化前に一般式SimX2m2の少なくとも1つのハロゲン化シランをSiX4と、SiX4の留去または抽出により、-30~100°Cの温度および0.01~1100ミリバールの圧力で分離することを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。水素化を、第1主族~第3主族の金属の金属水素化物の群またはLiAlH4、NaBH4、iBu2AlHからなる水素化物化合物の群から選択された、少なくとも1つの水素化剤を添加することによって行なうことを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。工程bおよびdにおける水素化を溶剤の存在下で実施することを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法により製造可能なヒドリドシラン。電子素子層または光電子素子層を製造するための、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法により製造可能な、少なくとも1つのヒドリドシランの使用。シリコン含有層、特に元素状シリコン層を製造するための、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法により製造可能な、少なくとも1つのヒドリドシランの使用。例実施例1:ハロゲン化シランからの高級ヒドリドシランの合成およびヒドリドシランの縮合水素化剤のH当量の割合:1.2第1の工程において、20°Cおよび1バールで保護ガス雰囲気下で液状ペルクロロシラン混合物304gSi3Cl875質量超、Si4Cl1022質量超に、反応容器中で攪拌しながら、ジエチルエーテル7.1g中に溶解したヘキサン46.7gおよびジアザビシクロ[2.2.2]オクタン0.9gを添加する。この反応器内容物を氷冷却によって20°C未満の温度に温度調節する。この混合物は、40時間内で反応し、固体のSi5Cl12および副生成物のSiCl4になる。前記反応工程後、低沸点物ヘキサン、ジエチルエーテルおよび副生成物SiCl4を50°Cで真空200~1ミリバール中で前記反応混合物から分離する。Si5Cl12243.2gが得られる。得られたSi5Cl1242.7gを保護ガス雰囲気下にジイソブチルアルミニウムクロリド20.0g中に分散させる。その後に、水素化剤ジイソブチルアルミニウムヒドリド149gを順次に攪拌しながら添加する。反応の発熱のために、反応器を水素化の際に氷冷却によって温度調節し、したがって、反応器中の温度は、20°Cを上廻らない。この反応混合物をさらに18時間氷冷却下に攪拌する。その後に、20°Cで常圧1.013バール下および保護ガス雰囲気下で揮発性成分、例えばSiH4を反応混合物から除去する。すぐ次の工程において、ヒドリドシランを20°Cで真空圧力1ミリバール未満下で蒸発によって、分散剤のジイソブチルアルミニウムクロリドおよび未反応のジイソブチルアルミニウムヒドリドと分離する。前記縮合物は、ヒドリドシランを含有している。前記縮合物中のヒドリドシランの定性分析による測定は、GC-MS分析により行なわれた。前記縮合物は、98.0面積超の割合を有するヒドリドシランを含有している。質量に対する収率使用されたペルクロロシラン混合物1g当たりの縮合物としてのヒドリドシランのg数:20.8ヒドリドシラン11.1g/ペルクロロシラン混合物53.4g留出物として得られたヒドリドシランの塩化物含量:塩化物470ppm。実施例2:ハロゲン化シランからの高級ヒドリドシランの合成および当該高級ヒドリドシランの熱的後精製水素化剤のH当量の割合:1.1第1の工程において、20°Cおよび1バールで保護ガス雰囲気下で液状ペルクロロシラン混合物1567gSi3Cl875質量超、Si4Cl1022質量超に、反応容器中で攪拌しながら、ジエチルエーテル14.2g中に溶解したヘキサン225.7gおよびジアザビシクロ[2.2.2]オクタン1.85gを添加する。この反応器内容物を氷冷却によって20°C未満の温度に温度調節する。この混合物は、40時間内で反応し、固体のSi5Cl12および副生成物のSiCl4になる。この反応工程後、主にSi5Cl12を含有する混合物に分散剤としてのジイソブチルアルミニウムクロリド1015gを添加する。次に、低沸点物ヘキサン、ジエチルエーテルおよび副生成物SiCl4を真空200~1ミリバール下に分離する。ジイソブチルアルミニウムクロリド中に分散されたSi5Cl12に、保護雰囲気下に順次に攪拌しながら、水素化剤ジイソブチルアルミニウムヒドリド4137gを添加する。反応の発熱のために、反応器を水素化の際に氷冷却によって温度調節し、したがって、反応器中の温度は、20°Cを上廻らない。この反応混合物をさらに18時間氷冷却下に攪拌する。その後に、20°Cで常圧1.013バール下および保護ガス雰囲気下で揮発性成分、例えばSiH4を反応混合物から除去する。短路蒸発器中で、真空圧力1ミリバール未満下に72°Cでジイソブチルアルミニウムクロリドおよび塔底生成物としての未反応のジイソブチルアルミニウムヒドリドを分離する。短路蒸発器からの塔頂生成物留出物を精留工程においてバッチ式精留により10~100ミリバールの圧力および95°Cの蒸発器バブルトレイ中の温度でさらに後精製する。ヒドリドシランをバッチ式精留からの留出物として取り出す。前記留出物中のヒドリドシランの定性分析による測定は、GC-MS分析により行なわれた。前記留出物は、99.0面積超の割合を有するヒドリドシランを含有している。質量に対する収率使用されたペルクロロシラン混合物1g当たりの留出物としてのヒドリドシランのg数:14.6ヒドリドシラン228g/ペルクロロシラン混合物1567g留出物として得られたヒドリドシランの塩化物含量:塩化物41ppm。実施例3:塩化物含量を減少させるための高級ヒドリドシランの後水素化および当該高級ヒドリドシランの熱的後精製より高い塩化物値を有する例2からの留出物留分は、一つにまとめられ、前記混合物の塩化物値は、測定された。このヒドリドシラン混合物をここに記載された試験において、出発物質として使用する。457ppmの塩化物含量を有するヒドリドシラン混合物185gヒドリドシラン99.0面積超に、保護ガス雰囲気下に順次に攪拌しながらジイソブチルアルミニウムヒドリド84gを添加する。反応の発熱のために、反応器を水素化の際に氷冷却によって温度調節し、したがって、反応器中の温度は、20°Cを上廻らない。この反応混合物をさらに18時間氷冷却下に攪拌する。水素化後に、20°Cで常圧1.013バール下に揮発性成分、例えばSiH4を前記反応混合物から除去する。この反応混合物を精留工程においてバッチ式精留により10~100ミリバールの圧力および95°Cの蒸発器バブルトレイ中の温度でさらに後精製する。この留出物は、望ましいヒドリドシランを含有している。質量に対する収率使用されたヒドリドシラン混合物1g当たりの留出物としてのヒドリドシランのg数:87.3留出物としてのヒドリドシラン161.5g/ヒドリドシラン混合物185g留出物として得られたヒドリドシランの塩化物含量:塩化物16ppm。前記留出物中のヒドリドシランの定性分析による測定は、GC-MS分析により行なわれた。前記留出物は、99.0面積超の割合を有するヒドリドシランを含有している。"