"インプラント基材が、コーティング材料の薄層でコートされていることを特徴とするインプラントであって、該コーティング材料が、周期系のIVA族の1種以上の金属M、窒素Nおよび酸素Oの化合物を含み、該コーティング材料において2~45の体積が、大きさが0.4nm3~50nm3の範囲のボイドにより形成され、残部体積は、周期系のIVA族の金属:窒素:酸素が1:0.1~1.7:0.1~1.7である組成物を含み、式MNxOy式中x、y=0.1~1.7を有する材料となっていることを特徴とする、インプラント。コーティング材料が下記の1種以上の化合物:-x=0.7~1.2であるMNx、-x=0.7~1.2であるMOx、-M-O系のマグネリ相MnO2n1-MO2-M2N[式中、Mは周期系のIVA族の金属である]を含むことを特徴とする、請求項1に記載のインプラント。コーティング材料が周期系のIVA族の金属の炭素化合物の少量を含有することを特徴とする、請求項1または2に記載のインプラント。化合物が結晶型またはアモルファス型でコーティング材料中に生じることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載のインプラント。0.0709nmの波長のX線に対するコーティング材料の屈折率の実部が、0.9999984~0.9999973の範囲であることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項に記載のインプラント。コーティングの質量密度が3.5~5.4g/cm3の範囲であることを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項に記載のインプラント。周期系のIVA族の金属に加えて、ニオビウム、タンタル、タングステン、モリブデンまたはこれらの金属の合金も含まれることを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項に記載のインプラント。コーティング材料が水素を含有することを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項に記載のインプラント。基材上のコーティング材料の層の厚さが3nm~3mmの範囲であることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項に記載のインプラント。比抵抗が30~300000μΩcmの範囲であることを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項に記載のインプラント。コーティング材料を、粗い基材表面上に薄層として適用することを特徴とし、その粗さが、平均レベルからの偏差のランダムな分布および、0~1500μmの分布範囲の標準偏差により特徴付けられる、請求項1から10までのいずれか1項に記載のインプラント。該薄層が、SiO2、TiO2、ZrO2、HfO2、Al2O3またはY2O3、並びにニオビウム酸化物、モリブデン酸化物、タングステン酸化物またはタンタル酸化物からなる群より選ばれる1種以上の酸化物からなる少なくとも1種のさらなる薄層でコートされることを特徴とする、請求項1から11までのいずれか1項に記載のインプラント。少なくとも1種のさらなる薄層が、好ましくは金属または半導体から作られ、基材およびコーティング間に導入されることを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項に記載のインプラント。コーティング材料を、モリブデン、銀、金、銅、アルミニウム、タングステン、ニッケル、クロム、ジルコニウム、チタニウム、ハフニウム、タンタル、ニオビウム、バナジウム、鉄およびそれらの混合物またはそれらの合金からなる金属性基材上に適用させることを特徴とする、請求項1から13までのいずれか1項に記載のインプラント。コーティング材料を、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタンPUR、ポリエチレンPE、ポリテトラフルオロエチレンPTFEまたはDACRONRからなるプラスチック基材に適用させることを特徴とする、請求項1から13までのいずれか1項に記載のインプラント。0.4nm3~50nm3の範囲のボイドに加えて、コーティング材料が500nm3より大きいボイドも有することを特徴とする、請求項1から15までのいずれか1項に記載のインプラント。動物またはヒトの体への埋め込み、導入または接着のための、請求項1から16までのいずれか1項に記載のインプラントの使用。それゆえに、本発明の目的は、前記種類のインプラントに、バイオフィルムの形成ならびに血栓の形成をともなう血液凝集の活性化を強力に低減した表面を装備することにある。本目的は請求項1記載のインプラントにより達成される。好適な態様は従属請求項に従う。さらに、該問題点は請求項17の特徴により解決される。本発明の意味するインプラントは動物もしくはヒトの体に埋め込まれるか、またはそれぞれ相対的に長期基準および短期基準にそれらの中に挿入されるかまたは動物もしくはヒトの体に取り付けられることができる全ての装置または全ての手段が含まれる。以下の例が述べられる:カテーテル、プローブ、センサー、ステント、人工心臓弁、気管内のチューブ、心臓のペースメーカー等。インプラントをコーティングするための材料、即ち、コーティング材料は、周期系のIVA族の1種以上の金属、窒素および酸素を0.4nm3=0.064nm3から50nm3=125000nm3、好ましくは0.4nm3から20nm3の大きさの範囲のボイドvoidで形成される体積の2~45、好ましくは10~43、特に好ましくは20~35で含む。しばしば文献例えば、JohnA.Thornton,スプッター-蒸着コーティングの微小構造Themicrostructureofsputter-depositedcoatings,J.Vac.Sci.Technol.A46,1986,3059-3065頁に記載され、カラムナーフィルムグロースKolumnaresSchichtwachstumgebildetにより形成されるギャップは、これらのボイドにより示されない。したがって、それは、関係するカラム間の公知のギャップではなく、むしろ、これらのカラム内のボイドである。これらの真のボイドは、本発明に特異的な性質を生じる。コーティング材料の残部体積98~55、好ましくは90~57、特に好ましくは80~65は、1:0.1~0.7:0.1~1.7、好ましくは1:0.4~1.2:0.1~1.2のような周期系のIVA族の金属:窒素:酸素の組成を有する。材料の式はMNxOyであり、Mは周期系のIVA族の金属であり、xおよびyは、それぞれ0.1~1.7の値を示す。前記の比はそれぞれ粒子数および分子比に関連する。周期系のIVA族の金属は、チタニウム、ジルコニウムまたはハフニウムまたは2種もしくは3種の金属の混合物であり、好ましくはチタニウムである。ボイドの大きさに関しては、それらは、より低い範囲で生じる、即ち、それらは好ましくは15nm3以下が好ましい。材料の残部体積は、好ましくは、MNxx=0.7~1.2、MOxx=0.7~1.2、M-O系のマグネリ相MnO2n1、MO2、M2Nここで、M=周期系のIVA族の金属ならびに周期系のIVA族の金属の炭素化合物の約0~30、好ましくは0.5~5からなる群より選ばれる1種以上の化合物からなる。これらの好ましく付加的に含有された炭素化合物により、コーティングの使用可能なスペクトラムが拡張し、安定性は増加し、それは、例えば尿カテーテルの場合に示された。不純物として少量のチタニウムカーバイドは、通常妨害しないが、それらは該コーティングのより安価な製造を許容する。化学層が好ましくは、結晶型またはアモルファス型中のコーティング材料に存在してもよいという可能性は、血液の血球成分の付着および破壊を妨げ、そのため凝集系の関与する活性化が妨げられる。それゆえにコーティング材料が血栓の形成を妨げる、即ち、抗トロンボゲン形成性質を示す。ボイドのフラクタルサイズ分布を導く可能性は、使用されるもの、例えば、ペースメーカー電極のような表面の本質的な拡張を許容する。より大きな表面は電気的なインピーダンスの低下および従ってより長いペースメーカーバッテリーの供給寿命を許容する。さらに、コーティング材料は好ましくは、0.0709nmのX線波長の屈折率の有効部分が、0.9999984~0.9999973の範囲であることを含む。コーティング材料の質量密度は、なるべくなら3.5~5.4g/cm3、好ましくは3.7~4.5g/cm3、さらに好ましくは3.8~4.2g/cm3の範囲である。周期系のIVA族の金属に加えて、コーティング材料は付加的な金属としてニオビウム、タンタル、タングステン、モリブデンまたはそれらの合金も含んでよく、それはコーティングの腐食耐性に有利な効果を有する。該材料が水素を含む可能性溶解しているかまたは好ましくは結合型では、アモルファス層中において自由結合が飽和する事実を導く。これは生体適合性により好ましい電子状態分布をもたらす。コーティングの厚さは好ましくは3nm~3mm、より好ましくは10nm~2mm、特に好ましくは30~71nmの範囲である。コーティングは好ましくは、比抵抗が30~30000μΩ.cm、好ましくは100~6000μΩ.cm、特に好ましくは2000~3000μΩ.cmの範囲を有する。比抵抗は、問題点なしで、ボイドフラクションまたはボイドポーションの選択により調整されうる。ボイドなしの材料の比抵抗に基づいて、ボイドが添加される時、それは増加する。例えば、ボイドポーションが3である時、TiN098O02の比抵抗は70μΩ.cmであり、ボイドポーションが40である時、650μΩ.cmの値に増加する。コーティングはインプラントとして適する基材上の薄層として配置される。この基材は、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタンPUR、ポリエチレンPE、ポリテトラフルオロエチレンPTFEまたはDACRONR等のプラスチックまたはモリブデン、銀、金、銅、アルミニウム、タングステン、ニッケル、クロム、ジルコニウム、チタニウム、ハフニウム、タンタル、ニオビウム、バナジウム、鉄もしくはそれらの混合物もしくはその合金等の金属から作られてもよい。薄層として形成されたコーティングは、好ましくは、その粗さが平均レベルからの偏差のランダムな分布により特徴付けられる粗い基材表面上に付けられ、この分布の標準偏差は0~1500nm、好ましくは、40~120nmの範囲である。コーティングは、1種以上の酸化物、好ましくはSiO2、TiO2、ZrO2、HfO2、Al2O3、Y2O3、ニオビウム酸化物、モリブデン酸化物、タングステン酸化物およびタンタル酸化物からなる群より選ばれる少なくとも1種のさらに薄い層でさらにコートされてもよい。好ましい態様において、増加した接着力をもたらす中間層が、基材とコーティングの間に提供される。この中間層は金属、好ましくは、クロム、銅、ニッケル、モリブデン、タンタル、ニオビウム、銀またはこれらの金属の合金、あるいは半導体を含有する。特にインプラントを固定するが生理的な表面の形成を誘導することにも役に立つ内在性の細胞のグローイング-インgrowing-inは、材料表面の組成によりコントロールすることができる。表面コーティングは、異なる外形を有する多くの異なる基本材料基材、例えば、金属、プラスチック等に応用されうる。本発明によるインプラントの特に有利な点は、安価な製造ならびに選ばれた方法の機能として、コーティングがそれらの特別な構造のために加熱に耐性でない材料に応用することもできるという事実により示される。コーティングはCVD法とPVD法の両方の手段により作られるが、特に好ましくはPVD法による。とりわけ、下記の工程が本発明のインプラントの製造に適している。:周期系のIVA族の金属をインプラントとして適切な基材上に蒸着するが、酸化物、窒化物またはカーバイド化合物がN2、O2、CH4などの気体類および/または希ガス類の少なくとも1種を含有するガス雰囲気を維持することにより形成する。この関係において、加熱可能または冷却可能な基材上の金属粒子の伝導性は全気圧ptot、蒸着率r、基材温度Tsubおよび金属源とボイドの体積フラクションが2~45体積であり、その大きさが0.4nm3~50nm3の範囲である基材間に存在する距離1を通じてコントロールされる。下記のように製造パラメーターを選択した:-Tsub=-5~400°C-1=0.01~1.5m-導入した気体N2およびO2の分圧比:PN2/PO2=1~2000,-Ptot=2×105hPa~4×102hPaならびに-r=0.01~60ナノメーター/s。製造工程のために、ボイドポーションが予測できるように製造パラメーターを調整する必要がある。これは下記の手法によってなされうる:下記を、好ましくは100~220°Cの範囲の基材温度および好ましくは0.5~1.2mの範囲の蒸気源と該基材の距離1に適用する:K=Ptotr/1=1~3104mBarnm/smおよび全気圧Ptotが0.7×103hPa~2×102hPaである場合、34のボイド体積フラクションを達成するであろう。K=Ptotr/1=0.2~0.5104mBarnm/smの範囲に選択がなされたとき、20のボイド体積フラクションが達成される。20~34間の体積フラクションが下記の等式によるKの大きさを選ぶことにより調整されてもよい:K=0.04~0.2所望のボイドポーション-0.7104mBarnm/sm。このように、割合r、全気圧Ptotおよび距離1の両方によって本発明の材料に所望のボイドポーションを得る可能性がある。類推によって、以下に示すように、該層におけるボイド体積フラクションは、好ましくは250~400°Cの範囲の基材温度、および好ましくは0.5~1.2mの範囲の1に対して制御されうる:例えば、K=6~8104mBarnm/smおよび2×102hPa~4×102hPaの範囲のPtotである場合、40のボイド体積フラクションが、達成される。K=0.8~1.9104mBarnm/smの範囲でKが選ばれた場合、ボイドの体積フラクションは20になる。体積フラクションの20~40の間に値を実現するために、Kは等式:K=0.12~0.31所望のボイドポーション-0.4104mBarnm/smに従って選ばれなければならない。その間にある体積フラクションは、それぞれの場合において、リニアーインターポレーションにより決定されることができる。小さいボイド体積フラクション2~20は、0.01~0.1nm/sの小さい割合および104~2×104mBarの低い気圧で達成される。かなり大きいボイドポーション40を超えるは、4×102を越える高い全気圧により達成される。:これらの気圧では、材料は遊離化合物として存在する。コーティングは前記のインプラントとして適する基材上でもたされる。プラスチックインプラントの場合、Tsubは、もちろん、プラスチックが変化しないように、すなわちTsubは好ましくはプラスチックの変形温度より5~20ケルビン以下であるように選ばれなければならない。コーティングは、この分野に精通する者にとって常識として、通常の真空蒸着で基材に蒸着される。以前使用された材料と比較して、コーティング材料の有利な点は、特に、異なる状態金属性、誘電性の間に変化する可能性があることにある。結果として、材料の組成は体細胞、血液タンパク質成分または微生物をひきつける、あるいは遠ざける性質を持つように調整することができる。該材料は、所望のように体積フラクションが増加または低下してもよいボイドポーションを有する。ボイドポーションによって、バンド構造は化学組成を変えること無しに要求へ適合させうる。このように、コーティング材料の肯定的な性質は、ボイドの大きさが50nm3を超えると非常に急速に失われる。さらに、ボイドポーションのよく計算された選択により生細胞のグローイング-インもしくは接着を減少または増加させることができる。この関係について、0.4nm3~50nm3の範囲の前記記載のボイドに加えて、コーティングは500nm3を超える、より大きいボイドも含むことが好ましい。このことは、一定の細胞構造中でのインプラントのグローイングEinwachsenまたはコートされた表面上での細胞のグローイングAnwachsenをも支持する。このことは、コートされるインプラント材料すなわち、基材が、粗い表面を有してもよいという事実により支持される。表面の粗さは、0~1500μmの間であることが好ましい。他の有利な点は、該材料が貯蔵物質、好ましくは今度は材料より絶えず放出される凝集を阻害する物質または抗生物質により供給されうる事実にある。本発明のインプラントの表面コーティングは、前記材料が体積電荷の形成がフィブリノーゲンを活性化することを妨げる伝導率を有するため、特に有利である。さらに、前記コーティング材料はフィブリノーゲンからインプラントへの空間電流を許さない状態の電子密度を有する。本性質もフィブリノーゲンの活性化を妨げる。前記材料のこれらの肯定的な性質は、2つの方法により調整される:一方は、請求の範囲内のボイドを変えることにより、もう一方は、化学組成を変えることによる。両方の可能性は、コーティングの状態の電子密度が血液中のタンパク質の状態のエネルギーレベルにあることを達成するために役に立つ。さらに該コーティングが凝集特異的タンパク質およびインプラント表面の間に生じる電荷交換過程を防ぐような方法で開発することが好ましいことを証明する。該インプラントは動物またはヒトの体への埋め込みまたは短期および/または長期の導入または接着に使用されうる。本発明を、図を参考としてさらに詳しくここで述べる:実施例1:基本材料チタニウムから作られた心臓弁プロテーゼの表面をTiNxOyx=1.2およびy=0.6;弾性反跳検出ERDで測定したのコーティングでコートした。以下に示すパラメーターを選択し、反応エバポレーションによりコーティングを製造した:基材温度=250°C、エバポレーターと基材間の距離=45cm、分圧比N2対O2=1500;全圧=7×104hPa;蒸着率=0.2nm/s。コーティング材料中のボイドポーションは、およそ28であり、ボイドの大きさは0.6nm3~0.9nm3の間であった。図1は、コートされた心臓弁プロテーゼを通した断面図を示し、1は基本材料の表面を示し2はコーティングを示す。コーティング2は3μmの厚さを有する。実施例26つの気管内のチューブをコートした。下記のパラメーターの選択により、反応エバポレーションによってコーティングを製造した:基材温度=250°C、エバポレーター金属源と基材間の距離=45cm;全圧=7×104hPa;蒸着率=0.2nm/s。供給された気体の分圧比N2対O2を変化させた。コーティング材料のボイドポーションはおよそ24であり、ボイドの大きさは0.6nm3~0.9nm3の間であった。図2に示したUPSスペクトルを、6つのコーティングから作成した。グラフ1:x=0.5およびy=1.4であるTiNxOyのコーティングは、弾性反跳検出ERDで測定した。分圧比N2対O2は120であった。グラフ2:x=0.9およびy=1.2であるTiNxOyのコーティングを、弾性反跳検出ERDで測定した。分圧比N2対O2は500であった。グラフ3:x=0.9およびy=0.8であるTiNxOyのコーティングを、弾性反跳検出ERDで測定した。分圧比N2対O2は900であった。グラフ4:x=0.9およびy=0.2であるTiNxOyのコーティングを、弾性反跳検出ERDで測定した。分圧比N2対O2は1200であった。グラフ5:x=1.4およびy=0.3であるTiNxOyのコーティングを、弾性反跳検出ERDで測定した。分圧比N2対O2は1600であった。グラフ6:x=1.5およびy=0.15であるTiNxOyのコーティングを、弾性反跳検出ERDで測定した。分圧比N2対O2は2000であった。グラフ2~6に基づくコーティングは、明らかに、伝導率と相関するFermiレベルを示す。実施例3TiNxOyx=1.0およびy=1.1の3つの異なるコーティング材料を、真空蒸着によって気管内のチューブに適用し、3つのコーティングの接触面の写真を作成した。結果は図3に示す。aは40のボイドポーションを有する試料の写真であり、bは22のボイドポーションを有する試料のものであり、cは3のボイドポーションを有する試料のものである。コーティングの製造のために選ばれたパラメーターは:-40のボイドポーションを有する試料においては:金属源と基材間の距離=70cm基材温度Tsub=300°C分圧比PN2/PO2=1200蒸着率r=0.01nm/s全気圧=2×102hPa0.8nm3~2.8nm3の間のボイドの大きさを生じた。-22のボイドポーションを有する試料においては:金属源と基材間の距離=70cm基材温度Tsub=300°C分圧比PN2/PO2=1200蒸着率r=0.25nm/s全気圧=8×104hPa0.6nm3~0.9nm3の間のボイドの大きさを生じた。-3のボイドポーションを有する試料においては:金属源と基材間の距離=70cm基材温度Tsub=300°C分圧比PN2/PO2=1200蒸着率r=0.7nm/s全気圧=2×104hPa0.4nm3~0.8nm3の間のボイドの大きさを生じた。図3に示したように、コーティングの接着性質はボイドポーションを変化させることによりコントロールしうる。"