"一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層と、前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置された、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を含む位相差補償板と、を備え、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値をxとし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比をyとするとき、yは次の数式によって近似されることを特徴とする液晶装置。y=0.25x1.5一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層と、前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置された、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を含む位相差補償板と、を備え、前記位相差補償板は、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値が5nm以上15nm以上であり、且つ前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比が3.5以上4.5以下であることを特徴とする液晶装置。一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層と、前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置された、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を含む位相差補償板と、を備え、前記位相差補償板は、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値が15nm以上25nm以上であり、且つ前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比が6以上7以下であることを特徴とする液晶装置。請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の液晶装置であって、前記一対の基板を挟んで配置された一対の偏光板を備え、前記一対の偏光板の間に、前記位相差補償板が配置されていることを特徴とする液晶装置。請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層とを有する液晶装置の前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置される位相差補償板であって、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を備え、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値をxとし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比をyとするとき、yは次の数式によって近似されることを特徴とする位相差補償板。y=0.25x1.5一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層とを有する液晶装置の前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置される位相差補償板であって、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を備え、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値が5nm以上15nm以下であり、且つ前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比が3.5以上4.5以下であることを特徴とする位相差補償板。一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層とを有する液晶装置の前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置される位相差補償板であって、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を備え、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値が15nm以上25nm以下であり、且つ前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比が6以上7以下であることを特徴とする位相差補償板。しかしながら、Oプレートが屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られた蒸着膜によって構成されていることから、液晶装置に水分が含まれた場合など、湿度に起因してOプレートの光学特性例えば、位相差値などが変わってしまうことがある。その結果、適正に位相差補償が行えずコントラストが低下するという信頼性に係わる課題がある。本発明の態様は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。[適用例1]本適用例に係る液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層と、前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置された、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を含む位相差補償板と、を備え、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値をxとし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比をyとするとき、yは次の数式によって近似されることを特徴とする。y=0.25x1.5本適用例によれば、上記比yは、支持体における屈折率異方性媒質のカラムの法線方向に対する成長方向の角度によって変化する。具体的には、カラムの成長方向の角度が法線方向に近づくほど比yの値は小さくなり、法線方向から遠ざかるほど比yの値は大きくなる。上記数式は支持体上におけるカラムの密集度合いを位相差値xに基づいて規定するものである。上記数式によって近似されるように比yの値を制御する、つまりカラムの密集度合いを制御することにより、水分の影響を受け難い位相差補償板を提供できる。これにより、湿度変化に対する位相差値の変化を抑えることが可能となり、コントラストが変動することを抑えることができる。その結果、液晶装置の表示品質を向上させることができる。[適用例2]本適用例に係る液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層と、前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置された、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を含む位相差補償板と、を備え、前記位相差補償板は、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値が5nm以上15nm以上であり、且つ前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比が3.5以上4.5以下であることを特徴とする。[適用例3]本適用例に係る液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層と、前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置された、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を含む位相差補償板と、を備え、前記位相差補償板は、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値が15nm以上25nm以上であり、且つ前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比が6以上7以下であることを特徴とする。[適用例4]上記適用例に係る液晶装置において、前記一対の基板を挟んで配置された一対の偏光板を備え、前記一対の偏光板の間に、前記位相差補償板が配置されていることが好ましい。本適用例によれば、一対の偏光板の間に、上記に記載の条件を満たす位相差補償板を配置するので、コントラストの変動が抑えられた、例えば、透過型の液晶装置を提供することができる。[適用例5]本適用例に係る電子機器は、上記した液晶装置を備えることを特徴とする。本適用例によれば、上記に記載の液晶装置を備えているので、コントラストの変動が抑えられ表示品質が向上した電子機器を提供することができる。[適用例6]本適用例に係る位相差補償板は、一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層とを有する液晶装置の前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置される位相差補償板であって、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を備え、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値をxとし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比をyとするとき、yは次の数式によって近似されることを特徴とする。y=0.25x1.5本適用例によれば、上記比yは、支持体における屈折率異方性媒質のカラムの法線方向に対する成長方向の角度によって変化する。具体的には、カラムの成長方向の角度が法線方向に近づくほど比yの値は小さくなり、法線方向から遠ざかるほど比yの値は大きくなる。上記数式は支持体上におけるカラムの密集度合いを位相差値xに基づいて規定するものである。上記数式によって近似されるように比yの値を制御する、つまりカラムの密集度合いを制御することにより、水分の影響を受け難い位相差補償板を提供できる。これにより、湿度変化に対する位相差値の変化を抑えることが可能となり、コントラストが変動することを抑えることができる。[適用例7]本適用例に係る位相差補償板は、一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層とを有する液晶装置の前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置される位相差補償板であって、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を備え、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値が5nm以上15nm以下であり、且つ前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比が3.5以上4.5以下であることを特徴とする。[適用例8]本適用例に係る位相差補償板は、一対の基板と、前記一対の基板に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層とを有する液晶装置の前記一対の基板のうち少なくとも一方における前記液晶層と反対側に配置される位相差補償板であって、支持体と、前記支持体に対して屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラムの集合体である負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層と、を備え、前記位相差補償板の法線方向の正面位相差値が15nm以上25nm以下であり、且つ前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、前記法線方向を基準として前記カラムの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比が6以上7以下であることを特徴とする。以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。なお、以下の形態において、例えば基板上にと記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、又は基板の上に他の構成物を介して配置される場合、又は基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。本実施形態では、薄膜トランジスターTFT:ThinFilmTransistorを画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリックス型の液晶装置を例に挙げて説明する。この液晶装置は、例えば、後述する投射型表示装置液晶プロジェクターの光変調素子液晶ライトバルブとして好適に用いることができるものである。第1実施形態<液晶装置を構成する液晶パネルの構成>図1は、液晶装置を構成する液晶パネルの構成を示す模式平面図である。図2は、図1に示す液晶パネルのH-H’線に沿う模式断面図である。図3は、液晶パネルの電気的な構成を示す等価回路図である。以下、液晶パネルの構造を、図1~図3を参照しながら説明する。図1及び図2に示すように、本実施形態の液晶パネル100aは、対向配置された素子基板10および対向基板20と、これら一対の基板によって挟持された液晶層15とを有する。素子基板10を構成する第1基板11、および対向基板20を構成する第2基板12は、例えば、ガラス基板、石英基板などの透明基板が用いられている。なお、第1基板11は、シリコン基板を用いるようにしてもよい。素子基板10は対向基板20よりも大きく、両基板は、対向基板20の外周に沿って配置されたシール材14を介して接合され、その隙間に負の誘電異方性を有する液晶が封入されて液晶層15を構成している。シール材14は、例えば、熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材14には、一対の基板の間隔を一定に保持するためのギャップ材が混入されている。シール材14の内側に、複数の画素Pが配列された表示領域Eを有している。シール材14と表示領域Eとの間に表示領域Eを囲むように遮光性の例えば金属あるいは金属酸化物などからなる遮光層18見切り部が配置されている。なお、表示領域Eは、表示に寄与する複数の画素Pを囲むように配置された複数のダミー画素を含んでいてもよい。第1基板11の1辺部と、1辺部に沿ったシール材14との間にデータ線駆動回路22が設けられている。また、該1辺部に対向する他の1辺部に沿ったシール材14の内側に検査回路図示せずが設けられている。さらに、該1辺部と直交し互いに対向する他の2辺部には、2つの走査線駆動回路24が設けられている。該1辺部と対向する他の1辺部には、2つの走査線駆動回路24を繋ぐ複数の配線29が設けられている。これらデータ線駆動回路22及び走査線駆動回路24に繋がる配線は、該1辺部に沿って配列した複数の外部接続端子61に接続されている。以降、該1辺部に沿った方向をX方向とし、該1辺部と直交し互いに対向する他の2辺部に沿った方向をY方向として説明する。図2に示すように、第1基板11の液晶層15側の表面には、画素Pごとに設けられた光反射性を有する画素電極27およびスイッチング素子としての薄膜トランジスター30以降、TFT30と称する。と、信号配線と、これらを覆う第1配向膜28とが形成されている。画素電極27は、光反射性の例えばAlアルミニウムやAg銀またはこれらの金属の合金や酸化物などの化合物を用いて形成することができる。また、TFT30における半導体層に光が入射してスイッチング動作が不安定になることを防ぐ遮光構造が採用されている。このように素子基板10は、少なくともTFT30と画素電極27と第1配向膜28とを有している。第2基板12の液晶層15側の表面には、遮光層18と、これを覆うように成膜された絶縁層13と、絶縁層13を覆うように設けられた共通電極31と、共通電極31を覆う第2配向膜32とが設けられている。共通電極31は、例えばITOIndiumTinOxideなどの透明導電膜からなり、絶縁層などを覆うと共に、図1に示すように対向基板20の四隅に設けられた上下導通部26により素子基板10側の配線に電気的に接続している。画素電極27を覆う第1配向膜28および共通電極31を覆う第2配向膜32は、無機配向膜であって、液晶パネル100aの光学設計に基づいて選定される。例えば、SiOx酸化シリコンなどの無機材料を気相成長法を用いて成膜して、液晶分子に対して略垂直配向させたものが挙げられる。このように対向基板20は、少なくとも共通電極31と第2配向膜32とを有している。このような液晶パネル100aは反射型であって、画素Pが非駆動時に暗表示となるノーマリーブラックモードや、非駆動時に明表示となるノーマリーホワイトモードの光学設計が採用される。光学設計に応じて、光の入射側射出側に偏光板が配置されて用いられる。図3に示すように、液晶パネル100aは、少なくとも表示領域Eにおいて互いに絶縁されて直交する複数の走査線3aおよび複数のデータ線6aと、走査線3aと並行して延在する容量線3bとを有する。走査線3aが延在する方向がX方向であり、データ線6aが延在する方向がY方向である。なお、容量線3bはデータ線6aと並行して延在するように配置することもできる。走査線3aとデータ線6aならびに容量線3bと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極27と、TFT30と、容量素子16とが設けられ、これらが画素Pの画素回路を構成している。走査線3aはTFT30のゲートに電気的に接続され、データ線6aはTFT30のデータ線側ソース/ドレイン領域に電気的に接続されている。画素電極27は、TFT30の画素電極側ソース/ドレイン領域に電気的に接続されている。データ線6aは、データ線駆動回路22図1参照に接続されており、データ線駆動回路22から供給される画像信号D1,D2,...,Dnを画素Pに供給する。走査線3aは、走査線駆動回路24図1参照に接続されており、走査線駆動回路24から供給される走査信号SC1,SC2,...,SCmを各画素Pに供給する。データ線駆動回路22からデータ線6aに供給される画像信号D1~Dnは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣り合う複数のデータ線6a同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路24は、走査線3aに対して、走査信号SC1~SCmを所定のタイミングでパルス的に線順次で供給する。液晶パネル100aは、スイッチング素子であるTFT30が走査信号SC1~SCmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号D1~Dnが所定のタイミングで画素電極27に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極27を介して液晶層15に書き込まれた所定レベルの画像信号D1~Dnは、画素電極27と液晶層15を介して対向配置された共通電極31との間で一定期間保持される。保持された画像信号D1~Dnがリークするのを防止するため、画素電極27と共通電極31との間に形成される液晶容量と並列に容量素子16が接続されている。容量素子16は、TFT30の画素電極側ソース/ドレイン領域と容量線3bとの間に設けられている。図4は、液晶装置の構成を示す模式断面図である。以下、液晶装置の構成について、図4を参照しながら説明する。なお、図4は、斜方蒸着の蒸着方向に沿って切断したときの断面図である。図4に示すように、第1配向膜28および第2配向膜32は、それぞれ対応する基板面に対して例えば酸化シリコンなどの無機配向材料を所定の方向から斜方蒸着して得られた柱状結晶体カラムの集合体である。液晶層15に面した基板面に対する配向膜28,32における蒸着方向の角度θbはおよそ45°である。また、基板面に対するカラムの成長方向の角度θcはおよそ70°となっている。このような第1配向膜28および第2配向膜32によれば、負の誘電異方性を有する液晶分子LCを配向膜面に対して所定の方位角方向に傾斜するプレチルト角θpを与えて略垂直配向させることができる。プレチルト角θpがそれぞれの基板の法線方向に対しておよそ3°~5°となるように第1配向膜28および第2配向膜32が形成されている。このような液晶分子LCの配向状態に起因する液晶層15の厚み方向における光学的な位相差を補償する目的で液晶装置100は、液晶パネル100aの光の射出側に配置された本発明における位相差補償板としてのOプレート55を有している。画素電極27と共通電極31との間に駆動電圧を印加して液晶層15を駆動すると、液晶分子LCがプレチルトの方位角方向に倒れることにより、高いコントラストが得られる光学的な配置となっている。Oプレート55は、光学軸が厚さ方向に沿った負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層を含む位相差補償板である。以下、図5~図7を参照しながら、Oプレート55について具体的に説明する。図5は、Oプレートの光学異方性を説明するための模式図である。図6は、液晶分子の配向方向とワイヤーグリッド偏光板の透過軸とOプレートの遅相軸との関係を示す図である。図7は、Oプレートの具体的な構成を示す模式図である。以下、Oプレートの構造について、図5~図7を参照しながら説明する。図5に屈折率楕円体で示すように、Oプレート55は、各方向の屈折率の関係がnx<ny<nzであり、二軸の屈折率異方性を有する複屈折体である。Oプレート55は、カラム55b図7参照を形成した無機材料屈折率異方性媒質により遅相軸を有している。Oプレート55の遅相軸は、図5に示した屈折率楕円体を、基板の法線方向から見て基板上基板面に投影した楕円形の長軸55cに一致する。図6に示すように、本実施形態においては、液晶パネル100aに入射する光の光軸に沿う方向から見て、液晶分子LCの配向方向と後述するワイヤーグリッド偏光板1263図12参照の透過軸とのなす角度αが例えば45°135°、ワイヤーグリッド偏光板1263の透過軸とOプレート55の遅相軸とのなす角度θが例えば3°に設定されている。また、ワイヤーグリッド偏光板1263の透過軸と補助偏光板1264図12参照の透過軸とは等しい。図7に示すように、Oプレート55は、透光性の例えば石英ガラス製の支持体としての基板55aの一方の面に、Ta2O5等の無機材料屈折率異方性媒質が斜方蒸着されて形成されたものである。Oプレート55は、微視的に見て、無機材料が斜め方向に沿って成長したカラム55b柱状構造体を有する位相差補償層55dを有している。言い換えれば、Oプレート55は、屈折率異方性媒質を斜方蒸着して得られたカラム55bの集合体であり、光学軸が基板55aの厚さ方向に沿った負の二軸性の屈折率異方性を有する。このような構造からなる位相差補償層55dは、その微細構造に起因して位相差を生じさせる。本実施形態のOプレート55は、Oプレート55の法線方向の正面位相差値をxRe0とし、法線方向を基準としてカラム55bの成長方向図7においてチルト方向として表示に対し反対方向に30°傾斜した第1方向の位相差値をRe30とし、カラム55bの成長方向に30°傾斜した第2方向の位相差値をRe-30とし、Re-30/Re30の比をyとするとき、yは次の数式1によって近似される。y=0.25x1.5...1具体的には、Re-30/Re30の比y位相差値の比:Re比が3.5以上4.5以下であり、かつ、Oプレート55の法線方向の正面位相差値Re0が5nm以上15nm以下である。図8は、位相差値の比Re比を変えた場合の正面位相差値と位相差変化率との関係を示すグラフである。図9は、Oプレートの位相差値の比とコントラストとの関係を示す図表である。以下、Oプレート55の光学特性について、図8及び図9を参照しながら説明する。図8に示すグラフは、横軸が正面位相差値の値であり、0nm~25nmまでを表示している。一方、縦軸が位相差変化率であり、-6~10までを表示している。具体的には、特に、位相差値の比Re比が2の場合と、4の場合と、6.5の場合とにおける、正面位相差値Re0と位相差変化率との関係を示している。また、Oプレート55の基準温度を25°C相対湿度40程度~100°C相対湿度0程度に変化させたときの30分後の正面位相差値の位相差変化率を示している。湿度変化による位相差変化は、0が望ましいものの、正面位相差値Re0の変動によってもばらついてしまう。Oプレート55の正面位相差値Re0は、斜方蒸着によるカラム55bの成長状態によって変動する。正面位相差値Re0が10nmの場合、Re比2ときの位相差変化率は7を示す。Re比4のときには位相差変化率が0となる。つまりRe比2よりもRe比4の方が、正面位相差値Re0が5nm~15nmの範囲でばらついたとしても、位相差変化率を-4程度~4程度の範囲に納めることができる。Re比が2の場合では、正面位相差値Re0が5nm~15nmの範囲でばらつくと、位相差変化率が2程度~8程度であり、所望の正面位相差値からのずれが大きくなるので光学的な補償の観点で好ましくない。すなわち、Re比2よりもRe比4の方がコントラストの変動を小さくすることができる。このように設定することにより、湿度変化に対するOプレート55の屈折率楕円体の変化が正面位相差値の変化にあまり影響を及ぼさなくなる。言い換えれば、このようなOプレート55を用いることにより、水分の影響を受け難くすることができる。つまり、湿度変化が生じても適正な光学補償を行うことができる。これにより、コントラストが変動することを抑えることができる。その結果、液晶装置100の表示品質を向上させることができる。また、図9に示す図表は、Oプレート55の正面位相差値Re0を一定にし、位相差値の比Re比を変えたときのコントラストの状態を示している。具体的には、正面位相差値Re0を10nmに設定し、位相差値の比を2、4、6.5と変化させたときのコントラストの程度を示している。正面位相差値Re0を10nmに設定した場合において、位相差値の比2のときのコントラストは△である。また、位相差値の比4のときのコントラストは○である。また、位相差値の比6.5のときのコントラストは△である。以上のことから、Oプレート55の位相差補償層55dの形成におけるばらつきを考慮して、正面位相差値Re0を5nm以上15nm以下とした場合、位相差値の比Re比を3.5以上4.5以下とすることが好ましい。<電子機器の構成>図10は、上記した液晶装置を備えた電子機器反射型の投射型表示装置:液晶プロジェクターの構成を示す模式図である。図11は、プロジェクターの液晶ライトバルブ周辺の構成を示す斜視図である。図12は、液晶ライトバルブを保持する三角柱ユニットの構造を示す断面図である。以下、電子機器の構成について、図10~図12を参照しながら説明する。図10に示すように、本実施形態の電子機器としての液晶プロジェクター1500は、システム光軸Lに沿って配置された偏光照明装置1100と、3つのダイクロイックミラー1111,1112,1115と、2つの反射ミラー1113,1114と、3つの光変調素子としての反射型の液晶ライトバルブ1250,1260,1270と、クロスダイクロイックプリズム1206と、投射レンズ1207とを備えている。偏光照明装置1100は、ハロゲンランプなどの白色光源からなる光源としてのランプユニット1101と、インテグレーターレンズ1102と、偏光変換素子1103とから概略構成されている。偏光照明装置1100から射出された偏光光束は、互いに直交して配置されたダイクロイックミラー1111とダイクロイックミラー1112とに入射する。光分離素子としてのダイクロイックミラー1111は、入射した偏光光束のうち赤色光Rを反射する。もう一方の光分離素子としてのダイクロイックミラー1112は、入射した偏光光束のうち緑色光Gと青色光Bとを反射する。反射した赤色光Rは反射ミラー1113により再び反射され、液晶ライトバルブ1250に入射する。一方、反射した緑色光Gと青色光Bとは反射ミラー1114により再び反射して光分離素子としてのダイクロイックミラー1115に入射する。ダイクロイックミラー1115は緑色光Gを反射し、青色光Bを透過する。反射した緑色光Gは液晶ライトバルブ1260に入射する。透過した青色光Bは液晶ライトバルブ1270に入射する。液晶ライトバルブ1250は、反射型の液晶パネル1251と、Oプレート55と、反射型偏光素子としてのワイヤーグリッド偏光板1253とを備えている。液晶ライトバルブ1250は、ワイヤーグリッド偏光板1253によって反射した赤色光Rがクロスダイクロイックプリズム1206の入射面に垂直に入射するように配置されている。また、ワイヤーグリッド偏光板1253の偏光度を補う補助偏光板1254が液晶ライトバルブ1250における赤色光Rの入射側に配置され、もう1つの補助偏光板1255が赤色光Rの射出側においてクロスダイクロイックプリズム1206の入射面に沿って配置されている。なお、反射型偏光素子として偏光ビームスプリッターを用いた場合には、一対の補助偏光板1254,1255を省略することも可能である。このような反射型の液晶ライトバルブ1250の構成と各構成の配置は、他の反射型の液晶ライトバルブ1260,1270においても同じである。液晶ライトバルブ1250,1260,1270に入射した各色光は、画像情報に基づいて変調され、再びワイヤーグリッド偏光板1253,1263,1273を経由してクロスダイクロイックプリズム1206に入射する。クロスダイクロイックプリズム1206では、各色光が合成され、合成された光は投射レンズ1207によってスクリーン1300上に投射され、画像が拡大されて表示される。本実施形態では、液晶ライトバルブ1250,1260,1270における反射型の液晶パネル1251,1261,1271として上記実施形態における液晶パネル100aが適用されている。このような液晶プロジェクター1500によれば、反射型の液晶装置100を液晶ライトバルブ1250,1260,1270に用いているので、位相差補償を行うことが可能となり、高い表示品質を有する反射型の液晶プロジェクター1500を提供できる。本実施形態の場合、図11に示すように、赤色光用画像形成光学系1250a、緑色光用画像形成光学系1260a、青色光用画像形成光学系1270aはいずれもユニット化されており、同様の構成になっている。ユニット化された3つの画像形成光学系1250a,1260a,1270aは、クロスダイクロイックプリズム1206の3つの光入射面に接合されている。ここで、画像形成光学系を代表して、緑色光用画像形成光学系1260aの構成について説明する。図12に示すように、緑色光用画像形成光学系1260aは、補助偏光板1264と、ワイヤーグリッド偏光板1263と、緑色光用液晶ライトバルブ1260と、Oプレート55と、補助偏光板1265と、を備えている。これら構成要素のうち、補助偏光板1264を除いて、ワイヤーグリッド偏光板1263、緑色光用液晶ライトバルブ1260、Oプレート55、および補助偏光板1265は、略三角柱の形状を有する筐体1400に固定されている。筐体1400は、例えばアルミニウム等の熱伝導性の高い材料で構成されている。筐体1400の3つの側面1400a,1400b,1400cには、光を通過させる開口部1400at,1400bt,1400ctがそれぞれ設けられている。筐体1400の3つの側面1400a,1400b,1400cのうち、互いに直角に接する2つの面を第1側面1400a、第2側面1400bとし、第1側面1400aおよび第2側面1400bに対して45°の角度で接する面を第3側面1400cとする。第1側面1400aの外面側には開口部1400atを塞ぐように緑色光用液晶ライトバルブ1260が固定され、第1側面1400aの内面側には開口部1400atを塞ぐようにOプレート55が固定されている。第2側面1400bの外面側には開口部1400btを塞ぐように補助偏光板1265が固定されている。第3側面1400cの外面側には開口部1400ctを塞ぐようにワイヤーグリッド偏光板1263が固定されている。このような構成により、筐体1400の内部は密閉された空間となっている。緑色光用画像形成光学系1260aにおいて、光源光から分離された緑色光LGは補助偏光板1264に入射する。補助偏光板1264は所定の方向に振動する直線偏光を透過するものであり、次に説明するワイヤーグリッド偏光板1263の偏光分離面に対するP偏光を透過するように透過軸が設定されている。以下、ワイヤーグリッド偏光板1263の偏光分離面に対するP偏光を単にP偏光と称し、ワイヤーグリッド偏光板1263の偏光分離面に対するS偏光を単にS偏光と称する。上述したように、インテグレーター光学系1410図10参照を通った光源光は、偏光状態がP偏光に揃えられているため、緑色光LGの略全てが補助偏光板1264を透過してワイヤーグリッド偏光板1263に入射する。本実施形態のワイヤーグリッド偏光板1263は、例えばガラス基板とその上に形成された複数の金属線とにより構成されている図示略。複数の金属線は、全てが一方向に延在しており、互いに略平行に離間してガラス基板上に形成されている。複数の金属線が形成されたガラス基板の主面が偏光分離面となり、複数の金属線の延在方向が反射軸方向であり、複数の金属線の配列方向が透過軸方向である。ワイヤーグリッド偏光板1263と緑色光用液晶ライトバルブ1260との間の光路上にOプレート55が配置されている。ワイヤーグリッド偏光板1263を透過した緑色光LGは、Oプレート55、緑色光用液晶ライトバルブ1260の対向基板20を順次透過し、液晶層15に入射した後に素子基板10上で反射して折り返される。緑色光LGは、液晶層15を透過する間に変調されて変調光となり、対向基板20、Oプレート55を再度透過する。以上詳述したように、第1実施形態の液晶装置100、電子機器、及び位相差補償板Oプレート55によれば、以下に示す効果が得られる。1第1実施形態の液晶装置100及びOプレート55によれば、上記数式1に記載の条件を満たすOプレート55を用いるので、カラム55bの成長方向の角度が制御され、水分の影響を受け難い。言い換えれば、湿度に起因する屈折率楕円体の変化を抑え、適正な光学補償を実現して位相差値の変化がコントラストに与える影響を小さくすることができる。その結果、液晶装置100の表示品質を向上させることができる。加えて、製造可能な位相差値の比を有するOプレート55を利用して位相差を補償することができる。また、液晶層15を入射光と反射光が通過してプレチルトの影響を受けやすい反射型の液晶装置100にOプレート55を用いることにより、透過型の液晶装置と比べてコントラスト変動の影響を最小限にすることができる。2本実施形態の電子機器によれば、上記に記載の液晶装置を備えているので、コントラストの変動が抑えられ表示品質を向上させることが可能な電子機器を提供することができる。第2実施形態<液晶装置の構成>図13は、第2実施形態の液晶装置の構成を示す模式断面図である。以下、液晶装置の構成について、図13を参照しながら説明する。第2実施形態の液晶装置200は、上述の第1実施形態の液晶装置100と比べて、Oプレートの正面位相差値が異なり、その他の構成については概ね同様である。このため第2実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。図13に示すように、第2実施形態に係る液晶装置200は、第1実施形態に示したように、液晶パネル100aの光の射出側にOプレート155が配置されている。第2実施形態のOプレート155は、上記したように、光学軸が厚さ方向に沿った負の二軸性の屈折率異方性を有する位相差補償層を含む位相差補償板である。本実施形態のOプレート155は、位相差値の比Re比:Re-30/Re30が6以上7以下であり、かつ、Oプレートの法線方向の正面位相差値が15nm以上25nm以下である正面位相差値は、20nm±5nmの範囲に制御されている。正面位相差値を変える方法としては、例えば、Oプレート155を構成するカラム55bの成長角度を調整することにより可能となる。図14は、位相差値の比Re比を変えた場合の正面位相差値と位相差変化率との関係を示すグラフである。図15は、Oプレートの位相差値の比とコントラストとの関係を示す図表である。以下、Oプレートの光学特性について、図14及び図15を参照しながら説明する。図14に示すグラフは、横軸が正面位相差値であり、0nm~25nmまでを表示している。一方、縦軸が位相差変化率であり、-6~10までを表示している。具体的には、位相差値の比Re比を2の場合と、4の場合と、6.5の場合とにおける、正面位相差値Re0と位相差変化率との関係を示している。また、Oプレート155の基準温度を25°C~100°Cに変化させたときの30分後の正面位相差値の位相差変化率を示している。湿度変化による位相差変化は、0が望ましいものの、正面位相差値Re0の変動によってもばらついてしまう。Oプレート155の正面位相差値Re0は、斜方蒸着によるカラム55bの成長状態によって変動する。正面位相差値Re0が20nmでRe比が6.5であれば、位相差変化率は略0となる。具体的には、正面位相差値Re0が15nm~25nmの範囲でばらついたとしても、位相差変化率を-4程度~4程度の範囲に納めることができる。このように設定することにより、湿度変化に対するOプレート155の屈折率楕円体の変化が正面位相差値の変化にあまり影響を及ぼさなくなる。言い換えれば、このようなOプレート155を用いることにより、水分の影響を受け難くすることができる。つまり、湿度変化が生じても適正な光学補償を行うことができる。これにより、コントラストが変動することを抑えることができる。また、図15に示す図表は、Oプレート155の正面位相差値Re0を一定にし、位相差値の比Re比を変えたときのコントラストの状態を示している。具体的には、正面位相差値Re0を20nmに設定し、位相差値の比を2、4、6.5と変化させたときのコントラストの程度を示している。正面位相差値Re0を20nmに設定した場合において、位相差値の比2のときのコントラストは×である。また、位相差値の比4のときのコントラストは△である。また、位相差値の比6.5のときのコントラストは○である。以上のことから、位相差層の形成ばらつきを考慮して正面位相差値を15nm以上25nmとした場合、位相差値の比を6以上7以下とすることが好ましい。位相差変化率を-4~4の範囲内に納めることができる。以上詳述したように、第2実施形態の液晶装置200及びOプレート155によれば、以下に示す効果が得られる。3第2実施形態の液晶装置200及びOプレート155によれば、上記に記載の条件を満たすOプレート155を用いるので、カラム55bの成長方向を制御することができ、水分の影響を制御することができる。言い換えれば、屈折率楕円体の変化を湿度に起因して位相差などに影響させないようにすることができる。つまり、光学補償を行うことができる。これにより、湿度変化に対する位相差値の変化を抑えることが可能となり、コントラストが変動することを抑えることができる。その結果、液晶装置200の表示品質を向上させることができる。加えて、製造可能な位相差値の比を有するOプレート155を利用して位相差を補償することができる。第3実施形態<液晶装置の構成>図16は、第3実施形態の液晶装置の構成を示す模式断面図である。図17aは、Cプレートの光学異方性を説明するための模式図である。図17bは、Oプレートの光学異方性を説明するための模式図である。以下、第3実施形態の液晶装置の構成について、図16及び図17を参照しながら説明する。第3実施形態の液晶装置300は、上述の第1実施形態と比べて、位相差補償板としてOプレート55にCプレート56を組み合わせている部分が異なり、その他の構成については概ね同様である。このため第3実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。図16に示すように、第3実施形態に係る液晶装置300は、第1実施形態に示したように、液晶パネル100aの光の射出側に位相差補償板が配置されている。本実施形態の位相差補償板は、石英ガラス製の基板の一方の面にOプレート55が形成され、Oプレート55の上にCプレート56が形成されたものである。すなわち、本実施形態では、Cプレート56とOプレート55とは一体化されている。Cプレート56は、スパッタ法等によって基板上に高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された多層膜からなり、光学軸が厚さ方向に沿う一軸性の負の屈折率異方性を有する複屈折率体である。Cプレート56は、表面に対して垂直な光学軸を有し、緑色光用液晶ライトバルブ1260液晶パネル1261から射出された斜め方向の光の位相差を補償する。高屈折率層は相対的に高屈折率の誘電体であるTiO2やZrO2等からなり、低屈折率層は低屈折率の誘電体であるSiO2やMgF2等からなる。このような構成のCプレート56は、これを透過する光が各層間で反射して干渉するのを防ぐため、各屈折率層の厚さは薄いことが好ましい。Cプレート56は、位相差値Re30が20nmになるように設定されている。本実施形態のOプレート55は、第1実施形態と同様に、位相差値の比:Re比が3.5以上4.5以下であり、かつ、Oプレート55の法線方向の正面位相差値が5nm以上15nm以下である。図17aに屈折率楕円体で示すように、Cプレート56の各方向の屈折率の関係は、nx=ny>nzであり、Cプレート56の光学軸に平行に入射する光に対しては等方的であることから、位相差を補償することができない。すなわち、緑色光用液晶ライトバルブ1260からCプレート56に垂直に入射した光に対しては、位相差を補償することができない。一方、緑色光用液晶ライトバルブ1260から射出された光のうち、斜め成分の光、つまりVAモードの液晶の斜め成分については、その位相差を光学補償する。なお、Cプレート56は、nx=nyを完全に満たす必要はなく、僅かに位相差を有していてもよい。ただし、nx、nyは、図17aに示したCプレート56において、面方向の主屈折率を示し、nzは、同じく厚さ方向の主屈折率を示している。一方、図17bに示すOプレート55の構成は、第1実施形態と同様である。このように設定することにより、湿度変化に対するOプレート55の屈折率楕円体の変化が正面の位相差値変化にあまり影響を及ぼさなくなる。言い換えれば、このようなOプレート55を用いることにより、カラム55bの成長方向の角度が制御され、水分の影響を受け難くなる。つまり、湿度変化が生じても適正な光学補償が行われる。これにより、コントラストが変動することを抑えることができる。その結果、液晶装置300の表示品質を向上させることができる。以上詳述したように、第3実施形態の液晶装置300及び位相差補償板Oプレート55Cプレート56によれば、以下に示す効果が得られる。4第3実施形態の液晶装置300及び位相差補償板によれば、上記に記載の条件を満たすOプレート155を用いるので、カラム55bの成長方向を制御することができ、水分の影響を制御することができる。言い換えれば、屈折率楕円体の変化を湿度に起因して位相差などに影響させないようにすることができる。つまり、光学補償を行うことができる。これにより、湿度変化に対する位相差値の変化を抑えることが可能となり、コントラストが変動することを抑えることができる。その結果、液晶装置300の表示品質を向上させることができる。Oプレート55による光学補償に加えて、Cプレート56により液晶層15を斜めに透過する光の位相差が補償されるので、広い視野角に亘って高いコントラストを得ることができる。なお、本発明の態様は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、本発明の態様の技術範囲に含まれるものである。また、以下のような形態で実施することもできる。変形例1上記したように、反射型の液晶装置100~300にOプレート55,155を適用することに限定されず、例えば、図18に示すように、透過型の液晶装置400に上記したOプレート55を適用するようにしてもよい。これによれば、反射型の液晶装置100~300に比べてコントラストの変動が見えにくいと思われる透過型の液晶装置400に関しても、湿度変化に対する位相差値の変化を抑えることが可能となり、コントラストが変動することを抑えることができる。その結果、液晶装置400の表示品質を向上させることができる。言い換えれば、反射型の液晶装置100~300に本実施例のOプレート55,155を適用する方がメリットが高い。また、透過型の液晶装置400の場合、液晶パネル100aに対して光の射出側にOプレート55を配置することに限定されず、例えば、入射側に配置するようにしてもよいし、入射側と射出側の両方に配置するようにしてもよい。本適用例によれば、一対の偏光板51,52の間に、上記に記載の条件を満たす位相差補償板Oプレート55を配置するので、コントラストの変動が抑えられた透過型の液晶装置400を提供することができる。また、液晶パネル100aの素子基板10側から光を入射しているが、対向基板20側から光を入射するようにしてもよい。変形例2上記した液晶装置100~400は、Oプレート55,155やCプレート56に反射防止ARコートを積層するようにしてもよい。変形例3上記したように、電子機器として投射型表示装置1500プロジェクターを例に説明してきたが、これに限定されず、例えば、ビューワー、ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイなどに適用するようにしてもよい。また、液晶テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニター直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、モバイル型のパーソナルコンピューター、テレビ電話、POS端末、ページャー、電卓、タッチパネルなどの各種電子機器、また、電子ペーパーなどの電気泳動装置、カーナビゲーション装置等に適用するようにしてもよい。"