低級オレフィンを製造するプロセスであって、M1が1種類以上の塩基性種であり、M2が元素の周期表の第6~8族およびSnから選択された1種類以上の酸化還元元素であり、Pがリンである、M1-M2-P/ZSM-5を含む触媒組成物を、オキシジェネートを含む供給流と接触させることよって、前記低級オレフィンを生成する、オレフィン合成工程を有してなり、前記塩基性種が、前記触媒組成物中の弱ルイス塩基および/または弱ブレンステッド塩基を形成する化学種である、プロセス。前記塩基性種が、アルカリ土類金属、希土類元素、および両性酸化物または両性水酸化物を形成する元素からなる群より選択される、請求項1記載のプロセス。前記塩基性種が、Mg、Ca、Sr、LaおよびZrからなる群より選択される元素、またはMnの両性酸化物または両性水酸化物である、請求項1または2記載のプロセス。前記酸化還元元素が、Fe、Cr、WおよびSn、もしくは両性酸化物または両性水酸化物を形成しないMnからなる群より選択される、請求項1から3いずれか1項記載のプロセス。結合剤をさらに含む、請求項1から4いずれか1項記載のプロセス。前記塩基性種がCaであり、かつ前記酸化還元元素がMnであるか、もしくは前記塩基清酒がMgであり、かつ前記酸化還元元素がCrである、請求項1から5いずれか1項記載のプロセス。前記オキシジェネートが、ジメチルエーテルDME、ジエチルエーテル、メタノールMeOHおよびエタノールEtOHからなる群より選択される、請求項1から6いずれか1項記載のプロセス。前記オキシジェネートを含む供給流が、i合成ガス製造触媒を、炭化水素HC、酸素O2および二酸化炭素CO2を含む炭化水素供給流と接触させることによって、合成ガス組成物を製造する合成ガス製造工程、およびiiオキシジェネート合成触媒を工程iの前記合成ガス組成物と接触させることによって、ジメチルエーテルDME、メタノールMeOHまたはその混合物を製造する、オキシジェネート合成工程、を有してなるプロセスによって、製造される、請求項1から7いずれか1項記載のプロセス。前記プロセスが統合プロセスであり、工程iで製造された前記合成ガス組成物に含まれるCO2および工程iiで製造されたオキシジェネート流に含まれるCO2が分離され、前記炭化水素供給流に再循環され、前記オレフィン合成工程で製造される生成物流に含まれる一酸化炭素COおよび水素H2が分離され、前記オキシジェネート合成供給流に再循環され、前記オレフィン合成工程で製造される生成物流に含まれる前記低級オレフィン、一酸化炭素COおよび水素H2以外の反応生成物が、分離され、前記炭化水素供給流に再循環される、請求項8記載のプロセス。前記合成ガス製造触媒が、Niを含む担持触媒;またはLa-Ni/Al2O3を含む触媒;Ce-Ni/Al2O3を含む触媒;La/Al2O3を含む触媒;Ni-Ce-ZrO2を含む触媒;Ni-ZrO2-CeO2-TiO2を含む触媒;およびRh-CeO2/ZrO2を含む触媒からなる群より選択される触媒である、請求項8または9記載のプロセス。前記オキシジェネート合成触媒が、Cuを含む触媒である、請求項8から10いずれか1項記載のプロセス。前記触媒組成物が、オキシジェネートを含む供給流と接触させる前に、iZSM-5ゼオライトを、M1の可溶性塩、M2の可溶性塩およびリン酸を含む1種類以上の溶液と接触させて、該ZSM-5ゼオライトをM1、M2およびPで改質する工程、およびii改質された前記ZSM-5ゼオライトを酸素含有雰囲気内で乾燥させ、か焼する工程、を含む方法によって調製される、請求項1から11いずれか1項記載のプロセス。前記ZSM-5ゼオライトが、該ZSM-5ゼオライトを、M1の可溶性塩、M2の可溶性塩およびリン酸を含む1種類以上の溶液と接触させる前に、請求項5記載の結合剤と混合される、請求項12記載のプロセス。従来技術のオキシジェネートツーオレフィン触媒には、C2~C3オレフィンの選択率が比較的低い、および/または触媒表面上のコークスの堆積により迅速に失活するという欠点がある。本発明の課題は、オキシジェネートをオレフィンに転化する改良プロセスを提供することにある。したがって、本発明は、低級オレフィン、好ましくはエチレンおよびプロピレンを製造するプロセスであって、M1が1種類以上の塩基性種であり、M2が元素の周期表の第6~8族およびSnから選択された1種類以上の酸化還元元素であり、Pがリンである、M1-M2-P/ZSM-5を含む触媒組成物を、オキシジェネートを含む供給流と接触させることよって、低級オレフィンを生成する、オレフィン合成工程を有してなり、前記塩基性種が、触媒組成物中の弱ルイス塩基および/または弱ブレンステッド塩基を形成する化学種である、プロセスを提供する。本発明に関して、意外なことに、1種類以上の塩基性種例えば、Mg、Ca、Sr、LaおよびZrまたはMnの両性酸化物または両性水酸化物;1種類以上の酸化還元元素例えば、Fe、Cr、WおよびSnまたは両性酸化物または両性水酸化物を形成しないMn;およびリンで改質されたZSM-5ゼオライトを含む触媒組成物が、オキシジェネートを低級オレフィンに転化するのに特に有利であることが発見された。例えば、オキシジェネートツーオレフィンプロセスにおけるC2~C3オレフィンに対する総選択率は、ここに記載されたM1-M2-P/ZSM-5を含む触媒組成物を使用することによって、著しく増加させることができた。本発明の触媒は、コークス形成に対してより耐性であり、シリコアルミノリン酸塩モレキュラーシーブに基づく従来のオキシジェネートツーオレフィン触媒よりも安定な触媒性能を示す。理論により拘束するものではなく、強酸性特性のために、O-H表面中心のより強力なH部位またはより多いH表面部分が関与し、表面上に反応中間体が強力に維持されて、それらが連続的オリゴマー化されることによって、高分子量炭化水素の形成がもたらされると考えられる。したがって、触媒の酸性特性が低下した場合、LPGおよび高分子量炭化水素に対する選択率が低く、コークス形成に耐性である、オキシジェネートから低級オレフィンを製造するためのZSM-5触媒が得られると考えられる。表面のHプロトンを他の塩基性特性の元素と置換することによって、Hプロトンをなくして、金属-ゼオライト骨格を形成し、ゼオライトの酸性特性が低下するであろう。ここに用いた弱塩基性種という用語は、触媒組成物中の弱ルイス塩基すなわち、電子対を提供することができ、それゆえ、ルイス酸に配位することができ、それによって、ルイス付加物を生成する元素および/または弱ブレンステッド塩基すなわち、酸または対応する化学種からプロトンを受容することができる元素を形成する化学種に関する。弱塩基という用語は、当該技術分野において十分に公知であり、水溶液中で十分にはイオン化しない塩基に関する。塩基性種は、アルカリ土類金属、希土類元素よび両性酸化物または両性水酸化物を形成する元素からなる群より選択されることが好ましい。触媒組成物中に含まれることが好ましいであろうアルカリ土類金属すなわち、元素の周期表の第2族元素は、Be、Mg、Ca、SrおよびBaからなる群より選択され、より好ましくは、Mg、CaおよびSrからなる群より選択される。触媒組成物中に含まれてよい好ましい希土類元素すなわち、ランタノイド、ScおよびYtからなる元素の群はLaである。本発明に関して、塩基性種という用語は、両性種、すなわち、塩基として反応できるその上、異なる条件下で酸としても反応できる分子またはイオンも含む。両性種は、当該技術分野で十分に公知であり、金属の酸化物または水酸化物を含む。本発明のプロセスに使用される触媒組成物中に塩基性種として含まれてよい好ましい両性種は、Mnの両性酸化物または両性水酸化物であり、最も好ましくはMnOである。したがって、本発明に関して特に好ましい塩基性種は、Mg、Ca、Sr、LaおよびZrからなる群より選択される元素、またはMnの両性酸化物または両性水酸化物である。本発明の触媒組成物は、好ましくは少なくとも0.5質量、より好ましくは少なくとも1質量、最も好ましくは少なくとも2質量の塩基性種を含み、好ましくは12質量まで、より好ましくは10質量まで、最も好ましくは8質量までの塩基元素を含む。ここに用いた酸化還元元素という用語は、少なくとも2つの異なる原子価を有する異なる酸化物を形成し、ある原子価から別の原子価に容易に変わることのできる元素に関する。本発明に関する好ましい酸化還元元素は、Fe、Cr、WおよびSnまたはその両性酸化物または両性水酸化物を形成しないMn非両性Mnからなる群より選択され、FeおよびCrまたは非両性Mnからなる群より選択されることがより好ましい。本発明の触媒組成物は、好ましくは少なくとも0.5質量の酸化還元元素、より好ましくは少なくとも1質量の酸化還元元素、さらにより好ましくは少なくとも2質量の酸化還元元素、最も好ましくは少なくとも3質量の酸化還元元素を含み、好ましくは12質量までの酸化還元元素、より好ましくは11質量までの酸化還元元素、最も好ましくは10質量までの酸化還元元素を含む。理論により拘束するものではなく、酸化還元元素の存在により、コークス形成の減少がもたらされると考えられる。本発明の触媒組成物は、好ましくは少なくとも0.5質量のリン、より好ましくは少なくとも1質量のリン、さらにより好ましくは少なくとも2質量のリン、最も好ましくは少なくとも3質量のリンを含み、好ましくは12質量までのリン、より好ましくは11質量までのリン、最も好ましくは10質量までのリンを含む。理論により拘束するものではなく、リンはゼオライトの酸性特性を調節し、それにより、転化率が高くなり、触媒のコークス形成が減少すると考えられる。MFIゼオライトとしても知られている微小孔性アルミノケイ酸塩ゼオライトが、当該技術分野で十分に公知であり、市販されているか、合成することができる;例えば、SinghandDuttainHandbookofzeolitescienceandtechnologyedsAuerbachetalpp2164を参照のこと。当業者は、適切なSi/Al比を有するZSM-5ゼオライトを選択することが容易にできる。Si/Al比が高すぎると、触媒活性が低減する。Si/Al比が低すぎると、触媒のコークス形成が増加する。ZSM-5ゼオライトのSi/Al比は、好ましくは少なくとも20、より好ましくは少なくとも30、好ましくは150まで、より好ましくは80までである。ZSM-5ゼオライトのSi/Al比が約40であることが最も好ましい。本発明のプロセスに使用される触媒組成物はさらに結合剤を含んでもよい。シリカSiO2が好ましい結合剤である。何故ならば、シリカは、オキシジェネートツーオレフィンプロセスに触媒として使用される場合、化学的に中性の性質を有するからである。アルミナAl2O3などの高い酸性特性を有する結合剤はそれほど好ましくない。何故ならば、アルミナは、芳香族化を誘発し、このことは、オキシジェネートツーオレフィンプロセスにおいては好ましくないからである。本発明の触媒組成物は、好ましくは少なくとも10質量、最も好ましくは少なくとも20質量の結合剤を含み、40質量までの結合剤を含むことが好ましい。前記触媒組成物が、塩基性元素Ca、酸化還元元素MnおよびSiO2結合剤を含むことが最も好ましい。本発明のさらに別の最も好ましい実施の形態において、前記触媒組成物は、結合剤は含まずに、塩基性元素Mgおよび酸化還元元素Crを含む。さらに別の態様において、本発明のプロセスに使用される触媒組成物は、iZSM-5ゼオライトを、M1の可溶性塩、M2の可溶性塩およびリン酸を含む1種類以上の溶液と接触させて、ZSM-5をM1、M2およびPで改質する工程、およびii改質されたZSM-5ゼオライトを酸素含有雰囲気内で乾燥させ、か焼する工程、を含む方法によって調製される。したがって、ZSM-5ゼオライトは、1種類以上の塩基性元素M1;1種類以上の酸化還元元素M2;およびリン酸が溶解している溶液と接触させられる。M1およびM2の好ましい可溶性塩は硝酸塩である。塩基性元素M1の好ましい可溶性塩は、MgNO32、CaNO32、SrNO32、LaNO33およびZrNO34からなるリストから選択される。酸化還元元素M2の好ましい可溶性塩は、FeNO32、MnNO32、CrNO32、H3WO4およびSnNO32からなるリストから選択される。リンPは、ZSM-5ゼオライトをリン酸H3PO4溶液例えば、水中89質量のH3PO4と接触させることによって、堆積させてもよい。塩基性元素M1、酸化還元元素M2およびリンPは、ZSM-5ゼオライトを、M1の可溶性塩、M2の可溶性塩、およびリン酸がその中に溶解している単一の溶液と接触させることによって堆積させてもよい。あるいは、塩基性元素M1、酸化還元元素M2およびリンPは、ZSM-5ゼオライトを異なる元素および/またはリンと後で接触させ、それによって、組成物をその後の元素と接触させる前に、組成物を乾燥させて、溶媒を蒸発させることによって、堆積させてもよい。全ての要求される元素を堆積させた後、得られた組成物触媒前駆体は乾燥させられる。本発明の1つの実施の形態において、触媒前駆体は、好ましくは、撹拌しながら、約60~80°Cで約8時間に亘り、空気中で乾燥させられる。乾燥後、塩基性元素M1、酸化還元元素M2およびリンPが上に堆積した、ZSM-5を含む組成物を、酸素含有雰囲気中で、好ましくは水分を含まない大気中でか焼させる。触媒前駆体を、4~6時間に亘り、約450~550°C、および約0.1MPaの圧力でか焼することが好ましい。触媒前駆体を約4時間に亘り約500°Cでか焼することが最も好ましい。結合剤が存在する場合、ZSM-5ゼオライトを、M1の可溶性塩、M2の可溶性塩およびリン酸を含む1種類以上の溶液と接触させる前に、ZSM-5ゼオライトを結合剤と混合することが好ましい。したがって、低級オレフィンを製造する方法であって、本発明の触媒組成物を、オキシジェネートを含む供給流と接触させることによって、低級オレフィンが製造されるオレフィン合成工程を含むプロセスが提供される。オキシジェネートが、ジメチルエーテルDME、ジエチルエーテル、メタノールMeOH、およびエタノールEtOHまたはそれらの混合物からなる群より選択されることが好ましい。また、例えば、DMEおよびMeOHの混合物をオキシジェネート供給流として使用してもよい。本発明のオキシジェネートツーオレフィンプロセスで製造される低級オレフィンが、エチレンC2H4とプロピレンC3H6の混合物であることが好ましい。したがって、本発明は、低級オレフィンを製造するプロセスであって、iZSM-5ゼオライトを、M1の可溶性塩、M2の可溶性塩およびリン酸を含む1種類以上の溶液と接触させて、ZSM-5をM1、M2およびPで改質する工程、ii改質されたZSM-5ゼオライトを酸素含有雰囲気内で乾燥させ、か焼して、ここに定義されたM1-M2-P/ZSM-5を含む触媒を提供する工程、およびiiiM1-M2-P/ZSM-5を含む前記触媒を、オキシジェネートを含む供給流と接触させる工程、を有してなるプロセスを提供する。オキシジェネートをオレフィンに転化させるプロセスに有用なこれらの条件は、当業者が容易に決定することができる;例えば、RayfordGAnthonyCatalyticconversionofoxygenatedCompoundstolowmolecularweightolefinsを参照のこと。したがって、温度は、約350~550°C、好ましくは約500°Cであってよい。さらに、ここに記載されたオキシジェネートツーオレフィンプロセスは、約2.0h1のWHSC重量空間速度および/または大気圧で行われることが好ましい。触媒がコークス堆積に対してより耐性であることが本発明の利点である。それにもかかわらず、本発明のオキシジェネートツーオレフィン触媒M1-M2-P/ZSM-5は、例えば、コークス堆積によって失活すると、従来の方法を使用して、再生することができる。1つの実施の形態において、オキシジェネートツーオレフィン触媒すなわち、本発明のオキシジェネートツーオレフィンプロセスまたはここに定義されたオレフィン合成工程に使用される触媒は、その触媒を約550~600°Cの温度で、大気流などの酸素を含むガス流と接触させることによって、再生される。さらに別の実施の形態において、本発明のオキシジェネートツーオレフィンプロセスに使用されるオキシジェネートを含む供給流は、i合成ガス製造触媒を、炭化水素HC、酸素O2および二酸化炭素CO2を含む炭化水素供給流と接触させることによって、合成ガス組成物を製造する合成ガス製造工程、およびiiオキシジェネート合成触媒を工程iの合成ガス組成物と接触させることによって、ジメチルエーテルDME、メタノールMeOHまたはその混合物を製造する、オキシジェネート合成工程、を有してなるプロセスによって、製造される。ここに用いたように、炭化水素流という用語は、合成ガス製造工程に供給され、さらにO2およびCO2を含む、炭化水素を含む流れに関する。炭化水素流は、合成ガス製造触媒と接触させられるときに、ガス状であることが好ましい。炭化水素流中に含まれる炭化水素はC1~C15炭化水素すなわち、1~15の炭素原子を含む炭化水素であることが好ましい。したがって、ここに記載された炭化水素ツーオレフィンプロセスのさらに別の特徴的な態様は、合成ガス製造工程が、部分酸化、酸化分解および乾式改質を含む異なるプロセスの組合せを表す。必要に応じて、オレフィンなどの、合成ガス製造工程において製造される副生成物は、合成ガス組成物がオキシジェネート合成工程に供給される前に、分離され、製造された合成ガス組成物から除去されるであろう。ここに用いたように、乾式改質という用語は、COへのCO2転化を意味する。酸化乾式分解には、酸素の存在により、発熱反応および熱産生がもたらされ、CO2の乾式改質添加により、CO2を反応に関与させ、同様にCO2からCOを製造できるという利点がある。合成ガス製造工程、オキシジェネート合成工程および/またはオレフィン合成工程において製造された生成物流に含まれるCO2は、例えば、合成ガス製造工程に供給される炭化水素供給流に、戻して再循環させてもよい。オレフィン合成工程で製造される生成物流に含まれるCOおよび/またはH2を、オキシジェネート合成工程に供給される合成ガス組成物に再循環させてもよい。しがって、1つの実施の形態において、本発明は、炭化水素から低級オレフィンを製造する統合プロセスであって、ここに定義された合成ガス製造工程で製造される合成ガス組成物中に含まれるCO2およびここに定義されたオキシジェネート合成工程で製造されるオキシジェネート流に含まれるCO2は、分離され、炭化水素供給流に再循環され;本発明のオキシジェネートツーオレフィンプロセスで製造される生成物流中に含まれる、低級オレフィン、一酸化炭素COおよび水素H2以外の反応生成物は、分離され、合成ガス製造工程の炭化水素流に再循環される。オキシジェネート施合成工程で製造される生成物中に含まれる未反応合成ガスは、分離され、オキシジェネート合成供給流に再循環されることが好ましい。したがって、本発明の統合プロセスで製造される実質的に全ての炭素含有副生成物例えば、CO、CO2、CH4、C2H6、C3H6およびC4炭化水素は、本発明の統合炭化水素ツーオレフィンプロセスに戻して再循環される。それゆえ、本発明の統合プロセスの1つの利点は、追加の下流プロセスを使用せずに、高い炭素利用率の実現である。本発明のオキシジェネートツーオレフィンプロセスにおけるエチレンおよびプロピレンへの総選択率は約72~75モルである。したがって、オレフィン合成工程の生成物流は、約25~28モルの副生成物エチレンおよびプロピレンなどの低級オレフィン以外の、オレフィン合成工程で製造された生成物流中に含まれる生成物しか含まない。これらの副生成物としては、以下に限られないが、低級オレフィン以外の炭化水素、CO2、COおよびH2が挙げられる。副生成物の体積は、先に定義され、合成ガス製造工程に供給される、炭化水素供給流の約20~35体積である。1つの実施の形態において、合成ガス製造触媒は、好ましくは、Ni/Al2O3を含む触媒;Ni/La2O2を含む触媒;Ni/CeO2を含む触媒;Ni/ZrO2を含む触媒からなる群より選択される、Niを含む担持触媒;またはLa-Ni/Al2O3を含む触媒;Ce-Ni/Al2O3を含む触媒;La/Al2O3を含む触媒;Ni-Ce-ZrO2を含む触媒;Ni-ZrO2-CeO2-TiO2を含む触媒;およびRh-CeO2/ZrO2を含む触媒からなる群より選択される触媒である。米国特許出願公開第2006/0216227号明細書、国際公開第2008/055776号パンフレット、および米国特許出願公開第2008/0260628号明細書も参照のこと。合成ガス製造工程に有用なプロセス条件は、当業者が容易に決定できる;例えば、HydrogenandSyngasProductionandPurificationTechnologiesedsKeLuetalを参照のこと。したがって、温度は、約500~1200°C、好ましくは約850~900°Cであってよい。さらに、ここに記載された合成ガス製造工程は、約0.2~2.5MPaの圧力で行われることが好ましい。1つの実施の形態において、オキシジェネート合成触媒は、好ましくは、Cu/ZnOを含む触媒;Cu/ZnO/Al2O3を含む触媒;CuO/ZnO/Al2O3を含む触媒;Cu/ZnO/Cr2O3を含む触媒;Cu/ZrO2を含む触媒;CuO/ZnO/Al2O3を含む触媒;およびCuO/ZnO/Al2O3/SiO2を含む触媒から選択される、Cuを含む担持触媒である;国際公開第2009/132449号パンフレットも参照のこと。オキシジェネート製造工程において有用なプロセス条件は、当業者が容易に決定できる;例えば、国際公開第2009/132449号パンフレットも参照のこと。したがって、温度は、約220~320°C、好ましくは約220~250°Cであってよい。さらに、ここに記載されたオキシジェネート製造工程は、約0.5~7.5MPa、好ましくは約6MPaの圧力で行われることが好ましい。ここで、以下の非限定的具体例により、本発明をより詳しく説明する。具体例1Si-Ca-La-Sr-Cr-P/ZSM-5触媒組成物2.28質量のSi-5質量のCa-5質量のLa-5質量のSr-5質量のCr-5質量のP/ZSM-5触媒を以下のように調製した。適量のゼオライトZSM-5MFIをSiO2ゲル水中40質量のSiO2ゲルと混合した。その後、CaNO32およびLaNO33およびH3PO4水中89質量の各水溶液を、準備のできた触媒において5質量のCa、5質量のLaおよび5質量のPとなる量で混合物に加えた。次いで、混合物を、撹拌しながら、60°Cで8時間に亘り維持して、水を蒸発させた。得られた固体材料を120°Cで一晩さらに乾燥させた。乾燥した固体材料に、その後、準備のできた触媒において5質量のCrおよび5質量のSrとなるようにCrNO33およびSrNO32の水溶液を含浸させた。次いで、この含浸させた触媒前駆体混合物を、撹拌しながら、8時間に亘り60°Cに維持して、水を蒸発させた。この含浸させた固体材料を120°Cで一晩乾燥させ、大気中において400°Cで4時間に亘りか焼して、2.28質量のSi-5質量のCa-5質量のLa-5質量のSr-5質量のCr-5質量のP/ZSM-5触媒組成物を得た。その後、調製した2.28質量のSi-5質量のCa-5質量のLa-5質量のSr-5質量のCr-5質量のP/ZSM-5触媒組成物を使用して、DMEをオレフィンに転化させた。したがって、0.2mlの固体触媒材料を固定床反応器に装填し、62cc/分の総流量および470°Cの温度での、44モルのDMEおよび56モルのN2を含むオキシジェネート含有供給流に切り換える前に、470°Cで1時間に亘り空気で処理した。ガスクロマトグラフィー分析に基づいて測定した、出口ガス中の炭化水素分布が、以下に提供される表1に要約されている。計算は、DMEの完全な転化での炭素数に基づく。具体例2Fe-Mn-P/ZSM-5触媒組成物具体例1に記載したのと同じ方法を使用して、3質量のFe-8質量のMn-10質量のP/ZSM-5触媒組成物を調製した。手短に言えば、適量のZSM-5ゼオライトをFeNO33およびMnNO32およびH3PO4水中89質量の各水溶液と混合して、準備のできた触媒において8質量のMnおよび10質量のPをもたらした。次いで、混合物を、撹拌しながら、8時間に亘り60°Cに維持して、水を蒸発させた。得られた固体材料をさらに120°Cで一晩乾燥させた。乾燥した固体材料を、大気中において400°Cで4時間に亘りか焼した。その結果として、含まれたMnが、触媒組成物中の塩基性種を形成する。その後、調製された3質量のFe-8質量のMn-10質量のP/ZSM-5触媒組成物を使用して、DMEをオレフィンに転化させた。したがって、0.2mlの固体触媒材料を前記反応器に装填し、62cc/分の総流量および470°Cの温度での、44モルのDMEおよび56モルのN2を含むオキシジェネート含有供給流に切り換える前に、470°Cで1時間に亘り空気で処理した。出口ガス中の炭化水素分布が、以下に提供される表1に要約されている。具体例3比較ZSM-5触媒組成物この具体例において、DME転化についての実験を、未改質のZSM-5触媒の存在下で、具体例1におけるように実施した。未改質のゼオライトの存在下では、エチレンの選択率は非常に低く、出口ガス流中に含まれる主な低級オレフィンはプロピレンであることに留意する必要がある。具体例4比較Mg-P/ZSM-5触媒組成物La、Sr、Mnの各塩の代わりに、触媒を調製するためにMgO粉末を使用したことを除いて、具体例1におけるように、Mg-P/ZSM-5触媒組成物を調製した。したがって、適量のMgO粉末をH3PO4水溶液に溶解させ、これを10gのZSM-5ゼオライトに加えた。その後、組成4質量のMg-6質量のP/ZSM-5を有する触媒を得た。その後、調製された4質量のMg-6質量のP/ZSM-5触媒組成物を使用して、DMEをオレフィンに転化させた。したがって、0.2mlの固体触媒組成物材料を前記反応器に装填し、62cc/分の総流量および470°Cの温度での、44モルのDMEおよび56モルのN2を含むオキシジェネート含有供給流に切り換える前に、470°Cで1時間に亘り空気で処理した。出口ガス中の炭化水素分布が、以下に提供される表1に要約されている。具体例5比較Zr-P/ZSM-5触媒組成物10gのZSM-5を200mlの水と混合した。正確な量のZrCl4およびH3PO4をこの混合物に加えて、準備のできた触媒において12質量のZrおよび5質量のPを得た。この懸濁液を60°Cで8時間に亘り撹拌した。水が蒸発したときに、乾燥材料を120°Cに一晩維持し、その後、400°Cで4時間に亘りか焼した。その後、調製された12質量のZr-5質量のP/ZSM-5触媒組成物を使用して、DMEをオレフィンに転化させた。したがって、0.5mlの固体触媒組成物材料を前記反応器に装填し、62cc/分の総流量および470°Cの温度での、44モルのDMEおよび56モルのN2を含むオキシジェネート含有供給流に切り換える前に、470°Cで1時間に亘り空気で処理した。出口ガス中の炭化水素分布が、以下に提供される表1に要約されている。表1に示されるように、本発明のプロセスを使用することによって、C2~C3オレフィンへの総選択率が少なくとも75モルに増加させられることが分かった。さらに、触媒性能が約10時間に亘り安定であることが分かった。SAPO-34などのシリコアルミノリン酸塩モレキュラーシーブに基づく従来のオキシジェネートツーオレフィン触媒は、2時間以内で失活することが知られており、これにより、循環式流動床反応器を使用する必要がある;例えば、CaietalAppliedCatal1252938を参照のこと。本発明の具体例において、触媒を470°Cで50cc/分の空気流と接触させることによって、その触媒を再生した。具体例6Si-Ca-La-Sr-Cr-P/ZSM-5触媒を使用したジエチルエーテル転化ジメチルエーテルDMEの代わりに、オキシジェネートのジエチルエーテルを供給流に使用したことを除いて、具体例6は具体例1と同一である。ジエチルエーテルの転化率は100モルであった。具体例7~11Ni-酸化ランタン触媒を使用した合成ガスの調製具体例7Ni-酸化ランタン触媒の調製メタンの酸化分解のための3質量のNi/La2O3酸化分解触媒を以下のように調製した:25~40メッシュサイズのLa2O3粒子2mlを、内径12mmおよび長さ45cmの石英反応器内に装填した。この装填済み反応器に、450°Cで、約28.4モルのCH4約11モルのO2約17.4モルのCO2約42.8モルのN2からなる混合ガスを供給した。安定相組成物を得るために、反応混合物で担体を処理した後24時間以内、0.1~0.3のNiNO32の水溶液によるLa2O3担体の含浸を開始した。したがって、0.1~0.3のNiNO32の水溶液を、ガス流中に注入することによって、La2O3担体に供給して、La2O3担体にNi塩を徐々に含浸させた。計算量で3質量のNi/La2O3基準に到達するまで、La2O3のNiNO32含浸を続けた。NiNO32含浸工程中にNO2の形成が観察され、これは、Niの酸化物がLa2O3担体内に形成されたことを示す。NiNO32含浸工程が完了した後、反応温度を660°Cに上昇させて、Ni酸化物をメタン含有混合ガス上述で還元させた。その結果としてその場で調製した分解触媒は、最初に、メタンをCO2に完全に酸化させた。しかしながら、定常状態条件に到達した後、3のNi/La2O3触媒は、COおよびH2を形成した。具体例8Ni-酸化ランタン触媒を使用したメタンの転化28.4モルのCH4、17.4モルのCO2、42.8モルのN2および11.0モルのO2からなる供給流を上述した3質量のNi/La2O3触媒と750°Cで接触させることによって、合成ガスを製造した。0.5mlの触媒床に通した供給流の流量は60cc/分であった。出口の反応混合組成物は、28.6モルのCO、36.9モルのH2、1.94モルのCH4、2.55モルのCO2、0.37モルのO2および29.5モルのN2からなった。CH4の転化率は90.1モルであり、CO2の転化率は78.7モルであった。具体例9Ni-酸化ランタン触媒を使用したエタンの転化エタンを含む供給流を使用したことを除いて、具体例9は具体例8と同一である。したがって、具体例9の供給流は、21.8モルのCO2、39.4モルのN2、24モルのCH4、10.2モルのO2および4.4モルのC2H6からなった。具体例9の出口組成は、27.4モルのCO、3.61モルのCO2、31.5モルのN2、2.01モルのCH4、34.9モルのH2、0.42モルのO2および0.0005モルのC2H6からなった。CH4の転化率は89.5モルであり、CO2の転化率は79.3モルであり、C2H6の転化率は100モルであった。具体例10Ni-酸化ランタン触媒を使用したイソブタンの転化イソブタンおよびイソブテンを含む供給流を使用したことを除いて、具体例10は具体例8と同一である。したがって、具体例10の供給流は、21.4モルのCO2、39.0モルのN2、24.4モルのCH4、10.0モルのO2、2モルのi-C4H8および3モルのi-C4H10からなった。具体例10の出口組成は、32.1モルのCO、3.06モルのCO2、27.5モルのN2、3.28モルのCH4、33.5モルのH2、0.4モルのO2、0.009モルのi-C4H8および0.012モルのi-C4H10からなった。CH4の転化率は81.0モルであり、CO2の転化率は79.7モルであり、i-C4H8の転化率は100モルであり、i-C4H10の転化率は100モルであった。具体例11Ni-酸化ランタン触媒を使用した軽質ナフサの転化この具体例において、具体例7に記載した触媒を使用して、合成ガスを生成するための炭化水素供給物として、軽質ナフサを使用した。反応温度は800°Cであり、CO2空気の流量は43cc/分であり、液体軽質ナフサの流量は0.1cc/分であった。具体例11の出口組成は、22モルのH2、6モルのCO、7モルのN2、11.9モルのC2H4、4.19モルのC2H6、28.6モルのCH4、7.08モルのCO2、0.38モルのC3H6、0.48モルのC4、8.18モルのベンゼンおよび5.05モルのキシレンからなった。軽質ナフサの転化率は100モルであった。これらの実験は、触媒性能が5時間超に亘り安定であることを示した。5時間後、ナフサを含まずに空気のみを触媒に供給した場合の触媒のスクリーニングは、CO2の形成を示さなかった。この実験は、5時間以内では、ナフサCO2O2の混合物中にコークス留分は形成されず、これは空気による処理中にCO2に酸化され得ることを示した。