鋼板の片面又は両面に被膜を形成する工程と、前記被膜を形成した鋼板にエッチングを施す工程とを有し、前記被膜には、前記鋼板の一部を露出する鋼板露出部が形成されており、前記鋼板露出部は、板幅方向に向かう第1の領域と、前記第1の領域を起点とした複数の第2の領域とを有し、前記第1及び第2の領域の幅が20μm~100μmであり、前記第2の領域の端部から、隣接する第2の領域の端部までの距離が60μm~570μmであることを特徴とする一方向性電磁鋼板の製造方法。前記エッチングを、前記鋼板の溝深さが10μm~30μmとなり、かつ、前記被膜下部への浸食幅が、溝深さの2倍以上45倍以下となるように制御することを特徴とする請求項1に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。前記エッチングは、電解エッチングであって、エッチング液として濃度が10質量~20質量の塩化ナトリウム水溶液を用いて、液温が40°C~50°C、電流密度が0.1A/cm2~10A/cm2、及び電解時間が10s~500sの条件で行うことを特徴とする請求項1に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。前記エッチングは、無電解エッチングであって、エッチング液として濃度が30質量~40質量の塩化第二鉄水溶液を用いて、液温が40°C~50°C、及び、浸漬時間が10min~25minの条件で行うことを特徴とする請求項1に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。そこで、本発明は、エッチングにより主たる直線状の溝から副たる線分状の微細溝が枝分かれした溝を適切に形成することができる一方向性電磁鋼板の製造方法を提供することを目的とする。本発明は、上記課題を解決するものであり、その要旨は、以下の通りである。1鋼板の片面又は両面に被膜を形成する工程と、前記被膜を形成した鋼板にエッチングを施す工程とを有し、前記被膜には、前記鋼板の一部を露出する鋼板露出部が形成されており、前記鋼板露出部は、板幅方向に向かう第1の領域と、前記第1の領域を起点とした複数の第2の領域とを有し、前記第1及び第2の領域の幅が20μm~100μmであり、前記第2の領域の端部から、隣接する第2の領域の端部までの距離が60μm~570μmであることを特徴とする一方向性電磁鋼板の製造方法。2前記エッチングを、前記鋼板の溝深さが10μm~30μmとなり、かつ、前記被膜下部への浸食幅が、溝深さの2倍以上45倍以下となるように制御することを特徴とする1に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。3前記エッチングは、電解エッチングであって、エッチング液として濃度が10質量~20質量の塩化ナトリウム水溶液を用いて、液温が40°C~50°C、電流密度が0.1A/cm2~10A/cm2、及び電解時間が10s~500sの条件で行うことを特徴とする1に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。4前記エッチングは、無電解エッチングであって、エッチング液として濃度が30質量~40質量の塩化第二鉄水溶液を用いて、液温が40°C~50°C、及び、浸漬時間が10min~25minの条件で行うことを特徴とする1に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。本発明によれば、歪取り焼鈍後にも溝加工効果が消失せず、鉄損特性に優れた一方向性電磁鋼板を提供することができる。以下に、本発明について詳細に説明する。本発明者らは、冷間圧延によって得られた冷間圧延鋼板の表面に、エッチングにより、主溝から複数の副溝が枝分かれした溝を加工する溝加工試験を行った。以下、溝加工試験及びその結果から得られた知見について説明する。溝加工試験においては、冷間圧延鋼板の表面に、図1に示すような枝分かれした副溝を形成することができるように、フォトレジストを用いて、電解エッチングを行った。なお、図1に示す間隔aは、枝分かれした微細溝間の間隔であり、溝幅bは、主溝の溝幅であり、溝長さcは、枝分かれした副溝の奥行きであり、溝深さdは、主溝及び副溝の深さであり、溝幅eは、枝分かれした副溝の溝幅である。従来の直線溝を加工する方法では、いずれも、レジストパターンに関する寸法が規定されていない。そこで、本試験では、冷間圧延鋼板の表面が露出した部分がエッチングされるように、図2に示すようなレジスト膜1を形成した。図2に示すレジスト膜1には、鋼板が露出している鋼板露出部2が形成されており、鋼板非露出部3においてのみレジスト膜1が形成されている。エッチングする際に用いる電解エッチング液は、濃度が10質量のNaCl水溶液を使用し、液温は40°Cとした。また、電流密度は0.3A/cm2とし、電解時間を10s~500sの範囲で変化させて、溝深さdを制御した。陰極板はチタン白金板を用い、陽極側に、被エッチング材である冷間圧延鋼板を取り付けた。具体的には、図2に示すような形状のレジスト膜1を被覆した冷間圧延鋼板にエッチングを施した。溝加工試験では、エッチングを開始する前に形成したレジスト膜1における鋼板非露出部3の幅pを50μmとし、エッチングにより形成された溝深さd、及び隣接する副溝間のエッチングされていない部分の間隔aを測定した。その結果を図3に示す。図3に示すように、エッチングが進行し、溝深さdが増加するにつれて、隣接する副溝間の間隔aは小さくなることが解る。これは、レジスト膜1の下側までエッチングされるからである。また、鋼板非露出部3の幅pが50μmである場合には、エッチングが進行して、溝深さdが10μmを超えると、エッチング後の隣接する副溝間の間隔aは0になる。その結果、主溝から枝分かれした複数の副溝は消滅する。一方向性電磁鋼板は、鉄損を低減させるために、粗大なFe-Si単結晶粒の結晶方位が揃っている。このため、冷間圧延鋼板はエッチングされると異方性が強く現れ、特に、側面方向への浸食が予想以上に大きいことがこの溝加工試験により定量的に判明した。例えば、一方向性電磁鋼板の鉄損が最小化する溝深さは10μm~30μmである。ところが、上記知見によれば、ただ単にエッチングをするだけでは、溝深さが10μm~30μmの溝を、鋼板表面に形成することはできない。従来は、単純な直線溝を形成することが目的であったので、エッチング用のレジスト膜の形状については特に規定しなくても問題はなかった。ところが、上述したように、従来技術を単に用いるだけでは、主溝から複数の副溝が枝分かれした溝深さが10μm~30μmの溝を形成することはできない。そこで本発明者らは、レジスト膜の形状を精密に規定することにより、冷間圧延鋼板の表面に、主溝から複数の副溝が枝分かれした溝を加工する方法を見いだした。本発明者らは、エッチングによりレジスト膜の下部がどのくらい浸食されるかを調べるための溝加工試験を行った。まず、図2、図4A及び図4Bに示すように、エッチング後の鋼板5の表面の最上部におけるエッチングにより形成された溝6との境界4から、エッチング開始前のレジスト膜における鋼板露出部2と鋼板非露出部3との境界までの距離を浸食長x、y、zと定義した。ここで、浸食長xは、板幅方向における副溝の浸食長を示し、浸食長yは、圧延方向における主溝の浸食長を示し、さらに浸食長zは、圧延方向における副溝の浸食長を示している。溝加工試験では、冷間圧延鋼板の表面にレジストを塗布し、露光、現像、リンス、洗浄などの工程を含むフォトリソ加工を用いて、所要のレジスト膜のパターンを作成した。エッチング液は、濃度が10質量のNaCl水溶液を用い、液温は40°Cとした。さらに、陰極板はチタン白金板とし、陽極側に、被エッチング材である冷間圧延鋼板を取り付けて、溝加工を行った。また、電流密度は0.3A/cm2とし、電解時間を10s~500sの範囲で変化させて、溝深さを制御した。図5には、図2に示すような形状のレジスト膜1を形成した状態でエッチングした場合の鋼板表面の浸食長x、y、z及び溝深さdを測定した結果を示す。浸食長x、y、zについては、光学顕微鏡で測定した。図5に示すように、溝深さが15μmに達すると、浸食長x、y、zは、およそ、30μm~67.5μmの範囲内であり、それぞれ溝深さdの2倍~4.5倍の範囲内にあることが解る。これは、大型鋼板などにレジスト膜を塗布して電解エッチングする場合、電場の不均一性や、エッチング液の局所的な浸透むらなどにより、浸食長に差が生じたからであると考えられる。図6A及び図6Bに、エッチング後の鋼板の態様を示す。図6Aは、レジスト膜直下の平面形状を示し、図6Bは、レジスト膜直下の側面形状を示す。本発明者らは、エッチングを開始する前において、レジスト膜1の鋼板露出部2の幅w1及びw2を20μmとし、鋼板非露出部3の幅pを150μmとし、鋼板露出部2の副溝方向の奥行sを150μmとした場合に良好な結果が得られることを見いだした。そして、このようなレジスト膜を用いて溝深さdが15μmになるようにエッチングを行うと、浸食長x、y、zは、それぞれ50μm近傍となり、溝深さdが15μmに達しても、隣接する副溝間の間隔aが60μmの枝分かれした線分状の副溝を形成することができることを見いだした。以上のように、本発明者らは、結晶性に優れ、エッチングの異方性が強く発現する冷間圧延鋼板において、エッチングによる溝深さ及び浸食長の定量的な相関関係に基づいて主溝及び副溝を形成できることを見いだした。これにより、鋼板に歪取り焼鈍等の熱処理を施しても、溝加工効果が消失せず、優れた鉄損特性を保持できる一方向性電磁鋼板を提供することができる。以下、本発明の実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法について説明する。まず、所定の組成の一方向性電磁鋼板用の珪素鋼素材の鋳造を行ってスラブを作製する。鋳造方法は特に限定されない。珪素鋼素材の成分は、通常の一方向性電磁鋼板のものであれば本発明の効果が得られるが、代表的な成分として、例えば、Si:2.5質量~4.5質量、C:0.03質量~0.10質量、酸可溶性Al:0.01質量~0.04質量、N:0.003質量~0.015質量、Mn:0.02質量~0.15質量、S:0.003質量~0.05質量を含有し、残部がFe及び不可避的不純物からなるような成分とする。このような組成の珪素鋼素材からスラブを作製した後、スラブを加熱する。次いで、スラブの熱間圧延を行うことにより、熱間圧延鋼板を得る。熱間圧延鋼板の厚さは特に限定されず、例えば、1.8mm~3.5mmとする。その後、熱間圧延鋼板の焼鈍を行うことにより、焼鈍鋼板を得る。焼鈍の条件は特に限定されず、例えば、750°C~1200°Cの温度で30秒間~10分間行う。この焼鈍により磁気特性が向上する。続いて、焼鈍鋼板の冷間圧延を行うことにより、冷間圧延鋼板を得る。冷間圧延は1回のみ行ってもよく、複数回の冷間圧延を、間に中間焼鈍を行いながら行ってもよい。中間焼鈍は、例えば750°C~1200°Cの温度で30秒間~10分間行う。なお、上記のような中間焼鈍を行わずに冷間圧延を行うと、均一な特性を得にくくなることがある。また、中間焼鈍を間に行いつつ複数回の冷間圧延を行うと、均一な特性を得やすくなるが、磁束密度が低くなることがある。従って、冷間圧延の回数及び中間焼鈍の有無は、最終的に得られる一方向性電磁鋼板に要求される特性及びコストに応じて決定することが好ましい。次に、以上のような手順によって得られた冷間圧延鋼板に対してレジスト膜を形成し、電解エッチングまたは非電解エッチングにより溝を加工する。鋼板表面に、図2に示すような形状のレジスト膜1を形成するには、例えば、溝パターンが描写されたガラスマスクやフィルムマスクなどによるフォトリソグラフィー技術を用いる。この技術を用いることにより、レジスト膜1において、鋼板表面が露出している鋼板露出部2と、鋼板表面が露出していない鋼板非露出部3とを形成することができる。鋼板露出部2は、鋼板に主溝を形成するための第1の領域と、副溝を形成するための第2の領域とからなり、板幅方向に向かって貫通するように形成されている。なお、鋼板露出部2は、必ずしも板幅方向と平行となるように貫通してなくてもよく、例えば、板幅方向とのなす角が±45°の範囲とする。形成するレジスト膜1における鋼板露出部2の幅w1及びw2は、エッチング液が浸透しやすくするために少なくとも20μmとする。エッチングには、工業的に容易な手法の電解エッチングや無電解エッチングを用いるが、鋼板露出部2の幅w1及びw2が小さすぎると、エッチング液が鋼板露出部2に浸透しない可能性がある。超音波などを利用して、エッチング液を浸透させる方法も考えられるが、この場合、レジスト膜が剥離してしまう問題がある。一方、鋼板露出部2の幅を大きくすると、エッチング液が浸透してエッチングが進行するので、枝分かれした微細溝は形成される。ところが、エッチング部分の割合が多くなり、一方向性電磁鋼板の鉄損値が上がる可能性がある。これまでの溝加工試験によれば、鋼板露出部2の幅w1及びw2が100μm以下であれば、鉄損値に影響がないことが判明している。以上のことから、エッチングを開始する前のレジスト膜1の鋼板露出部2の幅w1及びw2は、20μm~100μmとし、40μm~80μmとすることが好ましい。次に、エッチングを開始する前のレジスト膜1における鋼板非露出部3の幅p、及び溝深さdの規定範囲に関して説明する。電磁鋼板の表面に形成する枝分かれした副溝の幅は、鉄損値を向上させるために、20μm~300μmとすることが好ましい。また、これまでの溝加工試験の結果から、溝深さは10μm~30μmであることが好ましい。前述したように、浸食長x、y、zは、それぞれ溝深さdの2倍~4.5倍の範囲内に制御ことが好ましい。したがって、溝深さdが10μmの場合の浸食長x、y、zは、少なくとも20μmとなり、枝分かれした副溝の両側の合計で少なくとも40μmの浸食が考えられる。一方、溝深さdが30μmの場合、浸食長x、y、zは、同様に、最大で135μmとなり、枝分かれした副溝の両側の合計で最大270μmの浸食が考えられる。したがって、磁気特性が向上する枝分かれした副溝を形成する観点から、レジスト膜1による鋼板非露出部3の幅pは、60μm~570μmとし、60μm~400μmとすることが好ましい。また、鋼板露出部2の奥行sは、副溝の奥行が大きすぎるとその分冷間圧延鋼板の体積が小さくなりすぎてしまい、鉄損値が上がってしまう。また、副溝の奥行が小さすぎると、前述したように、副溝を設けることにより鉄損値が下がる効果が得られない。したがって、鋼板露出部2の奥行sは、100μm~500μmであることが好ましい。また、冷間圧延鋼板においてある主溝と隣り合う主溝との圧延方向の配列間隔は、1mm~10mmとすることが好ましい。配列間隔が1mmよりも小さいとその分冷間圧延鋼板の体積が小さくなりすぎてしまい、鉄損値が上がってしまう。また、配列間隔が10mmを超えると、副溝の割合が小さくなり、磁気スピンの迂回が生じやすくなる。以上のことから、レジスト膜1においてある鋼板露出部の中心部と隣り合う鋼板露出部の中心との圧延方向の配列間隔も、1mm~10mmとすることが好ましい。そして、エッチングにより形成する溝の溝深さdを設定し、次に、浸食長x、y、zを溝深さdの2倍~4.5倍となるようにエッチングの条件を定めることにより、枝分かれした微細溝を有する溝を適確に加工することができる。また、浸食長x、y、zを溝深さの3倍~4倍とすることがさらに好ましい。このように、フォトリソグラフィー技術を用いる際に、目標とする枝分かれした微細溝の間隔aに浸食長x、y、zの2倍の値を加えて鋼板非露出部3の幅pを設定し、ガラスマスクやフィルムマスクに溝パターンを描画することができる。図7には、エッチング後の鋼板表面及びレジスト膜の別の態様を示す。図7に示すように、レジスト膜の形状は、曲線で区切ったパターンあってもよい。以上、レジスト膜の寸法規定について説明したが、エッチング方法は、電解エッチングまたは無電解エッチングの何れであってもよい。電解エッチングは、電流や電圧を制御することにより、溝深さを制御したりエッチング速度を調整したりすることができるので好ましい。また、無電解エッチングは、塩化第二鉄溶液、硝酸、塩酸、及びそれらの配合を変えた混合溶液など、溶液の種類及び液温によって溝深さを調整できるので好ましい。電解エッチングでは、液温が40°C~50°Cであり、濃度が10質量~20質量の塩化ナトリウム水溶液をエッチング液として使用することが好ましい。そして、電流密度を0.1A/cm2~10A/cm2とし、電解時間を10s~500sとすることが好ましい。前述した溝加工試験によれば、上記液温のエッチング液を用い、上記電流密度で電解エッチングをすれば、冷間圧延鋼板のエッチングが容易に進行することが解った。なお、上記液温及び電流密度は、工業的に制御が容易な条件である。なお、電解時間を10s~500sの範囲にしたのは、上記電流密度の条件下で、溝深さdを10μm~30μmとするのに必要な時間であるからである。また、無電解エッチングでは、液温が40°C~50°Cであり、濃度が30質量~40質量の塩化第二鉄水溶液をエッチング液として使用することが好ましい。そして、浸漬時間を10min~25minとすることが好ましい。上記浸漬時間は、溝深さdを10μm~30μmとするのに必要な時間であるからである。これらの条件は、工業的に制御が容易な条件であるので、より好ましい。以上のような手順により冷間圧延鋼板に溝が加工されると、冷間圧延鋼板をアルカリ溶液に浸漬してレジスト膜を剥離する。次に、冷間圧延鋼板に含まれるCを除去して一次再結晶させるために、冷間圧延鋼板の脱炭焼鈍を行い、脱炭焼鈍鋼板を得る。このとき、鋼板中のN含有量を増加させるために、脱炭焼鈍と同時に窒化焼鈍を行ってもよく、脱炭焼鈍の後に窒化焼鈍を行ってもよい。脱炭焼鈍と窒化焼鈍とを同時に行う脱炭窒化焼鈍の場合には、水素、窒素及び水蒸気を含む湿潤雰囲気中に、さらにアンモニア等の窒化能のあるガスを含有させた雰囲気で脱炭窒化焼鈍を行う。この雰囲気において脱炭と窒化とを同時に実施して、二次再結晶に適した鋼板組織及び組成にする。その際の脱炭窒化焼鈍は例えば800°C~950°Cの温度で実施する。また、脱炭焼鈍と窒化焼鈍とを連続して実施する場合には、水素、窒素及び水蒸気を含む湿潤雰囲気中でまず脱炭焼鈍を行う。その後、水素、窒素及び水蒸気に、さらにアンモニア等の窒化能のあるガスを含有させた雰囲気下において窒化焼鈍を行う。このとき、脱炭焼鈍は例えば800°C~950°Cの温度で実施し、その後の窒化焼鈍は例えば700°C~850°Cの温度で実施する。次に、脱炭焼鈍鋼板の表面にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を水スラリーにて塗布し、脱炭焼鈍鋼板をコイル状に巻き取る。そして、コイル状の脱炭焼鈍鋼板にバッチ式の仕上げ焼鈍を行うことにより、コイル状の仕上げ焼鈍鋼板を得る。この仕上げ焼鈍により二次再結晶が生じ、また、仕上げ焼鈍鋼板の表面にグラス被膜が形成される。この後、軽酸洗、水洗及びブラッシング等により除粉を行い、例えばリン酸塩とコロイダルシリカとを主成分とした絶縁被膜剤を塗布して焼き付けることにより、絶縁被膜付き一方向性電磁鋼板の製品を得る。以上、エッチング対象物を一方向性電磁鋼板の中間生成物である冷間圧延鋼板として説明したが、エッチングの対象物は、脱炭焼鈍後の脱炭焼鈍鋼板でもよい。また、鉄以外の元素であるSi、Al、Ni、Coなどを主に含む鉄系磁性合金板であってもよい。さらに、鉄系磁性合金板は、単結晶板でも多結晶板でもよい。次に、本発明の実施例について説明するが、実施例での条件は、本発明の実施可能性及び効果を確認するために採用した一条件例であり、本発明は、この一条件例に限定されるものではない。本発明は、本発明の要旨を逸脱せず、本発明の目的を達成する限りにおいて、種々の条件を採用し得るものである。Siを約3質量含有し、残部がFe及びその他の不純物からなる冷間圧延鋼板を用意し、以下の表1に示すような条件で鋼板露出部2の幅w1及びw2、鋼板非露出部3の幅p、及び鋼板露出部2の奥行sからなるフォトレジスト用の被膜を冷間圧延鋼板の表面に塗布した。次に、図1に示すような主溝から複数の副溝が枝分かれした溝を形成するために、圧延方向に垂直に、4mmピッチの間隔で主溝が形成されるように、表1に示す条件に従って電解エッチング又は無電解エッチングにより溝を加工した。電解エッチングでは、エッチング液として液温が40°Cで濃度が10質量のNaCl水溶液を用い、電流密度を0.3A/cm2とした。また、電解時間を10s~500sの範囲で変化させて、表1に示すような溝深さに調整した。このとき、陰極板はチタン白金板を用い、陽極側に、被エッチング材である冷間圧延鋼板を取り付けた。また、無電解エッチングでは、エッチング液として、液温が50°Cで濃度が34質量のFeCl3溶液を用いた。また、浸漬時間を10min~25minの範囲で変化させて、表1に示すような溝深さに調整した。以上のような手順により溝を加工した冷間圧延鋼板に対して脱炭焼鈍、仕上げ焼鈍を経て、絶縁膜をコーティングし、一方向性電磁鋼板を得た。そして、得られた一方向性電磁鋼板において、周波数50Hz、磁束密度1.7Tにおける鉄損値W17/50を、単板磁気装置を用いて測定した。表1に示すように、本発明例の試験番号1~3、7は、いずれも、冷間圧延鋼板の表面に枝分かれした微細溝が形成されており、鉄損値W17/50も良好であった。一方、比較例である試験番号4及び5は、レジスト膜の鋼板非露出部の幅pが小さかったため、浸食長xが幅pの半分に達した時点で副溝が消滅した。この結果、浸食長yは鋼板露出部の奥行sからさらに浸食長zだけ浸食された値となり、鉄損値W17/50も大きな値となった。さらに、比較例である試験番号6は、レジスト膜の鋼板露出部の幅w1及びw2が小さすぎたため、電解エッチングを実行しても、鋼板露出部分にエッチング液が浸透せず、溝が形成されなかった。したがって、鉄損値W17/50も大きな値となった。