"水耕栽培システム10の養液を浄化する浄化装置であって、前記養液の温度を調節するヒートポンプ21と、前記養液の浄化を行う浄化ユニット60と、制御部103とを備え、前記浄化ユニット60は、前記養液中で放電を行う放電部62及び前記養液に超音波を照射する超音波発生部94を有し、前記放電部62は、前記養液中で前記放電を生起する電極対6465、464465、564565、664665と、前記電極対6465、464465、564565、664665に電圧を印加する電源部70とを有し、前記放電によって前記養液中に水酸ラジカルを生成するように構成されており、前記超音波発生部94は、生成した水酸ラジカルが変化して生成する前記養液中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換するように構成されており、前記制御部103は、前記ヒートポンプ21の温度調節、前記放電部62の動作及び前記超音波発生部94動作を制御することを特徴とする浄化装置。前記制御部103は、前記養液中の過酸化水素の濃度が所定の範囲内となるように、前記放電部62及び超音波発生部94の運転及び停止を制御することを特徴とする請求項1に記載の浄化装置。前記制御部103は、前記養液中の過酸化水素の濃度が、予め設定した下限値に達するまでは、前記放電部62を運転状態とし、前記超音波発生部94を停止状態とし、前記下限値に達した後、予め設定した上限値に達するまでは、前記放電部62及び前記超音波発生部94を運転状態とし、前記上限値に達した後、前記下限値に達するまでは、前記放電部62を停止状態とし、前記超音波発生部94を運転状態とすることを特徴とする請求項2に記載の浄化装置。前記養液中の過酸化水素の濃度を測定するセンサをさらに備えていることを特徴とする請求項2又は3に記載の浄化装置。前記電極対564565は、互いに対向するよう配置された板状の電極により構成され、前記電源部70は、前記電極対564565にパルス電圧を印加するパルス電源であり、前記放電部62は、前記電極対564565の間において前記養液中に気泡を発生させる気泡発生部520を有していることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の浄化装置。前記水耕栽培システム10は、植物14を植えつける栽培床12と、養液が循環する養液通路1181とを有し、前記浄化ユニット60は、前記養液通路1181内に配置されていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の浄化装置。前記ヒートポンプ21は、圧縮機23と膨張機25と熱源側熱交換器26と利用側熱交換器27とを有し、冷媒を可逆に循環させて冷凍サイクルを行う冷媒回路22を有し、前記利用側熱交換器27は、前記養液通路11内に配置されていることを特徴とする請求項6に記載の浄化装置。前記浄化ユニット60は、前記養液通路81を循環する養液を貯水する貯水タンク82内に配置されていることを特徴とする請求項6又は7に記載の浄化装置。しかしながら、従来の水耕栽培においては、養液の温度を一定に維持するためヒートポンプチラーと、養液用のパイプ内の養液の除菌をするオゾン発生器とは、別々に構成され、養液の温度制御と除菌動作とは、別々に制御されていた。このため、ヒートポンプチラーとオゾン発生器とを両方設置するため、設置面積設置容積が拡大するという問題があった。一方で、オゾン発生器は、送気ポンプ、及び排気回収装置等の付加部材を要するため、さらに設置場所が拡大するという問題があった。本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、水耕栽培において、養液の温度調節、及び浄化を一体の装置によって行うようにすることを目的とする。本発明に係る浄化装置の第1の態様は、水耕栽培システム10の養液を浄化する浄化装置を対象とし、養液の温度を調節するヒートポンプ21と、養液の浄化を行う浄化ユニット60と、制御部103とを備え、浄化ユニット60は、養液中で放電を行う放電部62及び養液に超音波を照射する超音波発生部94を有し、放電部62は、養液中で放電を生起する電極対6465、464465、564565、664665と、電極対6465、464465、564565、664665に電圧を印加する電源部70とを有し、放電によって養液中に水酸ラジカルを生成するように構成されており、超音波発生部94は、生成した水酸ラジカルが変化して生成する養液中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換するように構成されており、制御部103は、ヒートポンプ21の温度調節、放電部62の動作及び超音波発生部94動作を制御する。第2の態様として、制御部103は、養液中の過酸化水素の濃度が所定の範囲内となるように、放電部62及び超音波発生部94の運転及び停止を制御してもよい。この場合において、制御部103は、養液中の過酸化水素の濃度が、予め設定した下限値に達するまでは、放電部62を運転状態とし、超音波発生部94を停止状態とし、下限値に達した後、予め設定した上限値に達するまでは、放電部62及び超音波発生部94を運転状態とし、上限値に達した後、下限値に達するまでは、放電部62を停止状態とし、超音波発生部94を運転状態とすることが好ましい。この場合において、養液中の過酸化水素の濃度を測定するセンサをさらに備えていることが好ましい。第3の態様として、電極対564565は、互いに対向するよう配置された板状の電極により構成され、電源部70は、電極対564565にパルス電圧を印加するパルス電源であり、放電部62は、電極対564565の間において養液中に気泡を発生させる気泡発生部520を有していてもよい。第4の態様として、水耕栽培システム10は、植物14を植えつける栽培床12と、養液が循環する養液通路1181とを有し、浄化ユニット60は、養液通路1181内に配置されていてもよい。第5の態様として、ヒートポンプ21は、圧縮機23と膨張機25と熱源側熱交換器26と利用側熱交換器27とを有し、冷媒を可逆に循環させて冷凍サイクルを行う冷媒回路22を有し、利用側熱交換器27は、養液通路11内に配置されていてもよい。第6の態様として、浄化ユニット60は、養液通路81を循環する養液を貯水する貯水タンク82内に配置されていてもよい。本発明に係る浄化装置によれば、水耕栽培において、養液の温度調節、及び浄化を一体の装置によって行うようにすることができる。以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。実施形態1全体構成図1は、本発明の実施形態1に係る水耕栽培システム10の構成を示す図である。この水耕栽培システム10は、いわゆる施設園芸例えばビニールハウスや、閉鎖環境で人工光を用いて植物を栽培する植物工場等で使用される。図1に示すように、水耕栽培システム10は、循環タンク11、ポンプ13、養液処理装置20とを備えている。この水耕栽培システム10では、植物の栽培に必要な養分を含んだ養液Lが循環タンク11を循環する。図1では、養液Lの循環方向を矢印で示してある。循環タンク11は、所定量の養液Lを循環させるタンクであって、本発明に係る養液通路を構成している。循環タンク11の循環通路の一部には、栽培床12が形成されている。この栽培床12には、植物14が植えつけられる。植えつけられた植物14は、栽培床12に溜められた養液Lを吸収し、吸収した養液L中の養分を利用する。また、ポンプ13は、養液Lを循環タンク11内で循環させるためのポンプである。養液処理装置20は、浄化ユニット60、ヒートポンプ21、電源装置31、及び制御部103を備え、本発明に係る浄化装置を構成している。浄化ユニット60は、水中具体的には養液Lでの放電によって水中に水酸ラジカルを経て過酸化水素を生成し、生成した過酸化水素を超音波により水酸ラジカルに変換することにより養液の浄化を行う。養液の浄化とは、溶液中の雑菌の殺菌、溶液中に存在する汚れの発生原因となる有機物の分解等を含む概念である。浄化ユニット60の構成は後に詳述する。この浄化ユニット60は、循環タンク11の養液L中の栽培床12の下流側に配置されている。ヒートポンプ21は、冷媒が循環して蒸気圧縮式冷凍サイクルを構成すると共に、冷媒循環の可逆な冷媒回路22を備えている。冷媒回路22は、圧縮機23と、四路切換弁24と、本発明に係る熱源側熱交換器である室外熱交換器26と、本発明に係る膨張機である膨張弁25と、本発明に係る利用側熱交換器である室内熱交換器27とが冷媒配管によって順に直列に接続されて構成されている。そして、室内熱交換器27は、循環タンク11を循環する養液L内に沈めて配置されている。図2に示すように、電源装置31は、家庭内等に設置されている、いわゆるコンセント30の交流電圧例えば100Vをヒートポンプ21及び浄化ユニット60へ供給するものである。具体的には、電源装置31は、コンセント30の交流電圧をコンバータ32で整流し、インバータ33で交流変換して負荷である圧縮機23のモータ23aへ供給する。また、電源装置31は、コンセント30の交流電圧をコンバータ34で整流した後、昇圧トランス35で所定の高圧電圧例えば1kVを電極対64,65へ供給するものであって、電源部70を構成している。なお、電源部70については後述する。制御部103は、ヒートポンプ21と浄化ユニット60の両方の運転を個別制御する。具体的には、制御部103コントローラは、浄化制御部42と温度制御部43とで構成されている。温度制御部43は、圧縮機23の容量制御や、冷媒回路22の四路切換弁24の切換えを行うことで冷媒回路22の冷媒の循環方向を切換える制御や、膨張弁25の開度調節を行うことでヒートポンプ21による養液温度の調節を制御している。なお、温度制御部43は、循環タンク11に温度センサを接続し、該循環タンク11内の養液温度に基づいてヒートポンプ21を制御するようにしてもよい。浄化制御部42は、浄化ユニット60の浄化動作である運転動作放電部及び超音波発生部のオンオフを制御している。なお、制御部103は、浄化ユニット60の動作に応じてヒートポンプ21を制御したり、ヒートポンプ21の運転動作や養液温度等に応じて浄化ユニット60の運転動作を制御するようにしてもよい。浄化ユニット60の詳細構造養液処理装置20は、浄化ユニット60を備えている。浄化ユニット60は、水中での放電によって水中に水酸ラジカルを経て過酸化水素を生成し、生成した過酸化水素を超音波により水酸ラジカルに変換する。生成した過酸化水素及び水酸ラジカルにより養液の浄化を行う。浄化ユニット60は、循環タンク11内に配置される放電部62と超音波発生部94とを有している図3を参照。なお、循環タンク11の一部を銅部材で構成するようにしてもよい。銅部材の内壁から銅イオンを生成することで、循環タンク11に銅イオンを供給することができる。放電部62は、第1電極64及び第2電極65とからなる電極対64,65と、この電極対64,65に電圧を印加する電源部70と、第1電極64を内部に収容する絶縁ケーシング71とを備えている。電極対64,65は、水中で放電を生起するためのものである。第1電極64は、絶縁ケーシング71の内部に配置されている。第1電極64は、上下に扁平な板状に形成されている。第1電極64は、電源部70の正極側に接続されている。第1電極64は、例えばステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。第2電極65は、絶縁ケーシング71の外部に配置されている。第2電極65は、第1電極64の上方に設けられている。第2電極65は、上下に扁平な板状であって、且つ上下に複数の貫通孔66を有するメッシュ形状ないしパンチングメタル形状に構成されている。第2電極65は、第1電極64と略平行に配設されている。第2電極65は、電源部70の負極側に接続されている。第2電極65は、例えばステンレス、真鍮等の導電性の金属材料で構成されている。電源部70は、電極対64,65に所定の電圧を印加する。電源部70は、電極対64,65に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源であってもよいが、電極対64,65に対して常に数キロボルトの電圧を印加する直流電源でかまわない。直流電源の場合には電源部70のうち、第2電極65が接続される負極側を、アースと接続すればよい。また、電源部70には、電極対64,65の放電電力を一定に制御する定電力制御部が設けられている図示省略。なお、電源部70を電極対64,65に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源としてもよい。電源部70が直流電源である場合には、電源部70がパルス電源である場合と比べて放電発生時の音を小さくすることができる。絶縁ケーシング71は、循環タンク11の底部に設置されている。絶縁ケーシング71は、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されている。絶縁ケーシング71は、一面上面が開放された容器状のケース本体72と、該ケース本体72の上方の開放部を閉塞する板状の蓋部73とを有している。ケース本体72は、角型筒状の側壁部72aと、該側壁部72aの底面を閉塞する底部72bとを有している。第1電極64は、底部72bの上側に敷設されている。絶縁ケーシング71では、蓋部73と底部72bとの間の上下方向の距離が、第1電極64の厚さよりも長くなっている。つまり、第1電極64と蓋部73との間には、所定の間隔が確保されている。これにより、絶縁ケーシング71の内部では、第1電極64とケース本体72と蓋部73との間に空間Sが形成される。図3及び図4に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73には、該蓋部73を厚さ方向に貫通する1つの開口74が形成されている。この開口74により、第1電極64と第2電極65との間の電界の形成が許容されている。蓋部73の開口74の内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口74は、電極対64,65の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。以上のように、絶縁ケーシング71は、電極対64,65のうちの一方の電極第1電極64のみを内部に収容し、且つ電流密度集中部としての開口74を有する絶縁部材を構成している。加えて、絶縁ケーシング71の開口74内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡Bが形成される。つまり、絶縁ケーシング71の開口74は、該開口74に気相部としての気泡Bを形成する気相形成部として機能する。超音波発生部94は、板状の圧電セラミックス板95と、圧電セラミックス板95を挟むように設けられた一対の金属板96a,96bとにより構成されている。超音波発生部94を封入するケース97は密閉され、循環タンク11の底部に配置されている。金属板96a,96bには、増幅器309によって増幅された超音波波形発生部308の出力信号交流電圧が供給される。これにより、超音波発生部94は任意の周波数の超音波を循環タンク11内の養液に照射できる。但し、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数が、100kHz以上程度であれることが好ましい。なお、超音波発生部94は、循環タンク11内の液体に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてよい。例えば、図5に示すように、超音波発生部94は循環タンク11の底部外側に設置されていてもよい。超音波発生部94が循環タンク11の底部外側に設置されている場合、超音波は循環タンク11の壁面を介して養液に伝達される。また、超音波発生部94は、図6に示すように、金属ケース97aの上部と金属板96とで板状の圧電セラミックス板95を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよい。なお、養液の循環を連続的に行っている場合には、放電部62を運転しても、循環タンク11内の過酸化水素濃度が、放電部62よりも流入側では高くならない可能性がある。このため、超音波発生部94は、放電部62よりも流出側に設ける方が好ましい。しかし、ポンプ102の停止時に循環タンク11内の養液の殺菌を行うような場合には、超音波発生部94が放電部62よりも流入側に設けられていても問題ない。-水耕栽培システム10の動作-実施形態1の水耕栽培システム10では、ポンプ13がオン状態にされると、養液Lが循環タンク11を循環して栽培床12に供給される。栽培床12では、それぞれの植物14が必要量の養液Lを吸収する。植物14に吸収されなかった養液Lは、栽培床12から循環タンク11を循環して浄化ユニット60を通過する。浄化ユニット60から出た養液Lは、不足した成分や水が補われ、再び栽培床12に流入する。養液Lの成分調整や量の調整を行う装置は、図1では図示を省略してある。なお、養液Lの循環は、常に連続的に行ってもよいし、適当な時間間隔をあけて行うようにしてもよい。-浄化ユニット60の動作-実施形態1の水耕栽培システム10では、浄化ユニット60が運転されることで、循環タンク11を流れる水具体的には養液Lの浄化がなされる。このような浄化ユニット60による水の浄化動作について詳細に説明する。なお、浄化ユニット60の運転動作は、制御部103の浄化制御部42によって制御されている。浄化ユニット60の運転の開始時には、図3に示すように、絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。電源部70から電極対64,65に所定の電圧例えば1kVが印加されると、電極対64,65の間に電界が形成される。第1電極64の周囲は、絶縁ケーシング71で覆われている。このため、電極対64,65の間での漏れ電流が抑制されとともに、開口74内の電流経路の電流密度が上昇した状態となる。開口74内の電流密度が上昇すると、開口74内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング71では、開口74の近傍において、水の気化が促進されて気泡Bが形成される。この気泡Bは、図7に示すように、開口74のほぼ全域を覆う状態となり、第2電極65に導通する負極側の水と、正極側の第1電極64との間に気泡Bが介在する。従って、この状態では、気泡Bが、第1電極64と第2電極65との間での水を介した導電を阻止する抵抗として機能する。これにより、第1電極64と第2電極65との間の漏れ電流が抑制され、電極対64,65間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡B内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。以上のようにして、気泡Bで放電が行われると、循環タンク11内の水中具体的には養液中では、水酸ラジカルが発生する。発生した水酸ラジカルは急速に反応して過酸化水素となる。このため、循環タンク11内の過酸化水素濃度が次第に上昇する。過酸化水素濃度が十分に上昇した後、養液に超音波を照射すると、養液中の過酸化水素が分解され再び水酸ラジカルが発生する。超音波照射により発生した水酸ラジカルは再び結合して過酸化水素に戻る。このため、図8に示すように過酸化水素から水酸ラジカルへの変換と、水酸ラジカルから過酸化水素への変換とが循環して生じる。但し、殺菌等の養液の浄化に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は徐々に低下する。過酸化水素により養液を十分に浄化しようとすると、養液中の過酸化水素の濃度を高くしなければならない。過酸化水素は、低濃度では比較的安全であるが濃度が高くなると植物に悪影響をおよぼすおそれがある。一方、水酸ラジカルは、過酸化水素と比べてはるかに高い浄化能力を有している。従って、低い濃度においても養液を十分に浄化することができる。しかし、水酸ラジカルは不安定であり直ぐに反応して過酸化水素となってしまう。このため、水酸ラジカルにより養液の浄化を行うためには、水酸ラジカルを連続的に発生させなければならない。放電の場合、水が分解されて水酸ラジカルが発生するため、連続的に運転を行うと養液中の過酸化水素濃度がどんどん上昇してしまう。一方、超音波照射の場合には、過酸化水素から水酸ラジカルへの変換は生じるが、水の分解は生じない。このため、水酸ラジカルの生成を連続的に行っても、過酸化水素の濃度が上昇することはない。従って、放電により過酸化水素を発生させ、超音波により水酸ラジカルを発生させることにより、放電のみを用いて浄化を行う場合よりもはるかに効率良く浄化を行うことができる。また、過酸化水素の濃度を低く抑えることができるので、より安全な浄化装置を実現することができる。水酸ラジカルは反応性が高いため、栽培床101において栽培している植物200に水酸ラジカルが直接接すると、植物200に悪影響が生じるおそれがある。しかし、水酸ラジカルの寿命は非常に短いため、浄化ユニット60の位置を循環タンク11内において植物200と間隔を置いて設ければ、植物200にほとんど影響を与えることはない。また、低濃度の過酸化水素も、植物200にほとんど影響を与えない。養液中の過酸化水素は、放電に伴う熱によって循環タンク11内を対流する。これにより、水中での活性種や過酸化水素の拡散が促される。また、気泡Bで放電が行われると、この放電に伴ってこの気泡Bでイオン風を生成し易くなる。よって、循環タンク11内では、このイオン風を利用して、活性種や過酸化水素の拡散効果をさらに向上できる。また、上述したように、循環タンク11には、銅部材から溶出した銅イオンが供給される。過酸化水素と銅イオンの存在下では、フェントン反応により、銅イオンが触媒的に作用して水酸ラジカルの生成が促進される。これにより、水酸ラジカルによる水の浄化効率が向上する。加えて、銅イオンは菌の繁殖を抑制する効果があるため、水中での殺菌作用も高くなる。以上のようにして、水中に拡散した水酸ラジカル等の活性種は、水中に含まれる被処理成分例えばアンモニア等を酸化分解して水の浄化に利用される。また、水中に拡散した過酸化水素は、水の殺菌に利用される。放電部62と超音波発生部94とを常に動作状態としてもかまわないが、養液中の過酸化水素濃度が低い場合には、超音波を照射しても十分な水酸ラジカルの発生が望めない。また、放電部62を動作させ続けると養液中の過酸化水素濃度が高くなりすぎるおそれもある。このため、図9に示すような運転を行うことが好ましい。まず、放電部62のみを運転して、循環タンク11内の過酸化水素を上昇させた後、超音波発生部94の運転を開始し水酸ラジカルの生成を開始する。その後、循環タンク11内の過酸化水素濃度が十分に上昇した時点で放電部62の運転を休止し、超音波発生部94のみを運転する。循環タンク11内の過酸化水素の濃度が低下した時点で、再び放電部62の運転を開始し、循環タンク11内の過酸化水素濃度を上昇させる。以上のような、制御は予め設定したタイミングに基づいて行ってもよいが、循環タンク11内の過酸化水素濃度の測定値に基づいて図10に示すような制御を行ってもよい。この場合には、図11に示すように過酸化水素濃度を測定するセンサ307を循環タンク11内に設け、センサ出力に基づいて、制御部103により、放電部62及び超音波発生部94を制御すればよい。制御部103は、中央演算装置CPUを備えた演算回路等とすればよい。なお、放電部62の運転中に超音波発生部94の運転を開始する例を示したが、放電部62の運転を休止してから超音波発生部94の運転を開始してもよい。また、放電部62の再運転する場合に、超音波発生部94を休止した状態としてもよい。-ヒートポンプの動作-本実施形態1の水耕栽培システム10では、ヒートポンプ21が運転されることで、循環タンク11を流れる水具体的には養液Lの温度調節がなされる。このようなヒートポンプ21による養液の温度調節について詳細に説明する。なお、ヒートポンプ21の運転動作は制御部103の温度制御部43によって制御される。まず、冷却運転時は、四路切換弁24が実線側に切り換わり、圧縮機23を駆動すると、該圧縮機23から吐出された冷媒は、室外熱交換器26で凝縮した後、膨張弁25で減圧され、その後、室内熱交換器27で蒸発して圧縮機23に戻る。この運転を繰り返して室内熱交換器27により養液を冷却する。また、加熱運転時は、四路切換弁24が破線側に切り換わり、圧縮機23を駆動すると、該圧縮機23から吐出された冷媒は、各室内熱交換器27で凝縮した後、膨張弁25で減圧され、その後、室外熱交換器26で蒸発して圧縮機23に戻る。この運転を繰り返して室内熱交換器27により養液を加熱する。-実施形態1の効果-実施形態1によれば、ヒートポンプ21と浄化ユニット60とを両方制御する制御部103を設けたため、1つの制御部103でもって、両機器21,60を制御することができる。これにより、両機器21,60の部材を共通化簡素化させることができるため、養液処理装置20の設置面積設置容積の拡大を抑えることができる。但し、ヒートポンプ21と浄化ユニット60の制御は独立して行う構成としてもよい。さらに、放電部62と超音波発生部94との制御を独立して行う構成としてもよい。また、本実施形態では、浄化ユニット60は、放電及び超音波照射を行うようにしている。放電及び超音波照射による浄化ユニット60は、従来のオゾン発生器等に比較して、装置構成に必要な部材が少ない。このため、装置構成を簡素化することができるため、浄化装置の設置面積設置容積の拡大を抑えることができる。さらに、本実施形態では、放電を行い過酸化水素を生成するようにしている。過酸化水素は、次亜塩素酸と比較して、水温が上昇しても分解されにくい。このため、水養液Lを過酸化水素によって十分に殺菌浄化することができる。また、放電及び超音波照射により、水中において多量の活性種が生成するため、この活性種により水養液L中の有害物質を効果的に除去できる。また、循環タンク11に浄化ユニット60を配置したため、栽培床12に供給される水養液Lを確実に浄化することができる。一方、冷媒回路22を設け、室内熱交換器27を循環タンク11内に配置したため、該循環タンク11内の水養液Lを加熱、又は冷却することができる。また、室内熱交換器27を循環タンク11内に配置したため、循環タンク11とヒートポンプ21とを水配管で繋ぎ、水養液Lをヒートポンプ21まで送って加熱、又は冷却する必要がない。これにより、ヒートポンプ21と循環タンク11とを接続するための水配管を設けることなく、水養液Lを加熱、又は冷却することができる。これにより、水配管設置に伴うコストの増加、水配管で送られる水養液の汚染、及び循環する養液量の増加を防止することができる。放電部の変形例1実施形態1では、絶縁ケーシング71の蓋部73に1つの開口74が形成されている。しかしながら、例えば図12及び図13に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。この変形例では、絶縁ケーシング71の蓋部73が、略正方形板状に形成され、この蓋部73に複数の開口74が等間隔を置きながら碁盤目状に配列されている。一方、第1電極64及び第2電極65は、全ての開口74に跨るような正方形板状に形成されている。この変形例においても、各開口74が、電流密度集中部、及び気相形成部として機能する。これにより、電源部70から電極対64,65に電圧が印加されると、各開口74の電流密度が上昇し、各開口74で気泡Bが形成される。その結果、各気泡Bでそれぞれ放電が生起され、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素が生成される。放電部の変形例2放電部62は以下のような構成としてもよい。図14に示すように、変形例2の放電部62は、循環タンク11の外側から内部に向かって挿入されて固定される、いわゆるフランジユニット式に構成されている。また、変形例2の放電部62は、第1電極64と第2電極65と絶縁ケーシング71とが一体的に組み立てられている。変形例2の絶縁ケーシング71は、大略の外形が円筒状に形成されている。絶縁ケーシング71は、ケース本体72と蓋部73とを有している。実施形態2のケース本体72は、ガラス質又は樹脂製の絶縁材料で構成されている。ケース本体72は、円筒状の基部76と、該基部76から循環タンク11側に向かって突出する筒状壁部77と、該筒状壁部77の外縁部からさらに循環タンク11側に向かって突出する環状凸部78とを有している。また、ケース本体72には、環状凸部78の先端側に先端筒部79が一体に形成されている。基部76の軸心部には、円柱状の挿入口76aが軸方向に延びて貫通形成されている。筒状壁部77の内側には、挿入口76aと同軸となり、且つ挿入口76aよりも大径となる円柱状の空間Sが形成されている。実施形態2の蓋部73は、略円板状に形成されて環状凸部78の内側に嵌合している。蓋部73は、セラミックス材料で構成されている。蓋部73の軸心には、実施形態1と同様、蓋部73を上下に貫通する円形状の1つの開口74が形成されている。第1電極64は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極で構成されている。第1電極64は、基部76の挿入口76aに嵌合している。これにより、第1電極64は、絶縁ケーシング71の内部に収容されている。実施形態2では、第1電極64のうち循環タンク11とは反対側の端部が、循環タンク11の外部に露出される状態となる。このため、循環タンク11の外部に配置される電源部70と、第1電極64とを電気配線によって容易に接続することができる。第1電極64のうち循環タンク11側の端部64aは、絶縁ケーシング71の内部の空間Sに臨んでいる。なお、図14に示す例では、第1電極64の端部64aが、挿入口76aの開口面よりも上側循環タンク11側に突出しているが、この端部64aの先端面を挿入口76aの開口面と略面一としてもよいし、端部64aを挿入口76aの開口面よりも下側に陥没させてもよい。また、第1電極64は、実施形態1と同様、開口74を有する蓋部73との間に所定の間隔が確保されている。第2電極65は、円筒状の電極本体65aと、該電極本体65aから径方向外方へ突出する鍔部65bとを有している。電極本体65aは、絶縁ケーシング71のケース本体72に外嵌している。鍔部65bは、循環タンク11の壁部に固定されて放電部62を保持する固定部を構成している。放電部62が循環タンク11に固定された状態では、第2電極65の電極本体65aの一部が浸水された状態となる。第2電極65は、電極本体65aよりも小径の内側筒部65cと、該内側筒部65cと電極本体65aとの間に亘って形成される連接部65dとを有している。内側筒部65c及び連接部65dは、循環タンク11内の水中に浸漬している。内側筒部65cは、その内部に円柱空間67を形成している。内側筒部65cの軸方向の一端は、蓋部73と当接して該蓋部73を保持する保持部を構成している。また、電極本体65aと内側筒部65cと連接部65dの間には、ケース本体72の先端筒部79が内嵌している。内側筒部65cの軸方向の他端側には、円柱空間67を覆うようにメッシュ状の漏電防止材68が設けられている。この漏電防止材68は、第2電極65と接触することで、実質的にアースされている。これにより、漏電防止材68は、循環タンク11の内部の空間水中のうち、円柱空間67の内側から外側への漏電を防止している。第2電極65は、電極本体65aの一部が循環タンク11の外部に露出される状態となる。このため、電源部70と第2電極65とを電気配線によって容易に接続することができる。-浄化ユニットの運転動作-変形例2においても、浄化ユニット60が運転されることで、循環タンク11を流れる水の浄化がなされる。浄化ユニット60の運転の開始時には、図14に示すように、絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。電源部70から電極対64,65に所定の電圧例えば1kVが印加されると、開口74の内部の電流密度が上昇してく。図14に示す状態から、電極対64,65へさらに電圧が継続して印加されると、開口74内の水が気化されて気泡Bが形成される図15を参照。この状態では、気泡Bが開口74のほぼ全域を覆う状態となり、円柱空間67内の負極側の水と、第1電極64との間に気泡Bの抵抗が付与される。これにより、第1電極64と第2電極65との間の電位差が保たれ、気泡Bで放電が発生する。その結果、水中では、水酸ラジカルを経て過酸化水素が生成される。放電部の変形例3変形例2では円板状の蓋部73の軸心に1つの開口74を形成しているが、この蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。図16に示す例では、蓋部73の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、5つの開口74が等間隔置きに配列されている。このように蓋部73に複数の開口74を形成することで、各開口74の近傍でそれぞれ放電を生起させることができる。なお、実施形態1及び各変形例の電源部70には、放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部を用いている。しかし、定電力制御部に代えて、放電時の放電電流を一定に制御する定電流制御部を設けることもできる。この定電流制御を行うと、洗浄水の導電率によらず放電が安定するため、スパークの発生も未然に回避できる。また、実施形態1及び各変形例において、電源部70が直流電源の場合には正極に第1電極64を接続し、電源部70の負極に第2電極65を接続すればよい。しかし、電源部70の負極に第1電極64を接続し、電源部70の正極に第2電極65を接続して、電極対64,65の間で、いわゆるマイナス放電を行うようにしてもよい。なお、電源部70は交流電源又はパルス電源等であってもよい。実施形態2図17は、実施形態2に係る浄化ユニット60Bを示す構成図である。図17では、実施形態1の浄化ユニット60と同様の構成については図3と同じ符号を付している。また、図17では、制御部103等の記載は省略している。以下においては、主に実施形態1に係る浄化ユニット60と異なる点について説明する。本実施形態の浄化ユニット60Bは、循環タンク11内に配置された放電部62と、超音波発生部94とを備えている。放電部62は、電極対464,465と、電極対464,465に接続された電源部70とを有している。超音波発生部94は、循環タンク11の底部に設置されている。電極464は絶縁ケーシング471aの内部に収納され、電極465は絶縁ケーシング471bの内部に収納されている。電極464及び電極465は、それぞれ扁平な板状に形成されている。また、電極464及び電極465はステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。電源部70は、数キロボルト程度の交流電圧を電極対464,465に供給する。絶縁ケーシング471a,471bは、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されており、図3に示す絶縁ケーシング71と同様の構成を有している。すなわち、絶縁ケーシング471aは、一面図17では右側の面が開放された容器状のケース本体480aと、該ケース本体480aの開放部を閉塞する板状の蓋部473aとを有している。また、絶縁ケーシング471bは、一面図17では左側の面が開放された容器状のケース本体480bと、該ケース本体480bの開放部を閉塞する板状の蓋部473bとを有している。絶縁ケーシング471aの蓋部473aには、該蓋部473aを厚さ方向に貫通する1つの開口474aが形成されている。絶縁ケーシング471bの蓋部473bにも、該蓋部473bを厚さ方向に貫通する1つの開口474bが形成されている。これらの開口474a,474bにより、電極464と電極465との間の電界の形成が許容されている。開口474a,474bの内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口474a,474bは、電極対464,465の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。絶縁ケーシング471a,471bは、循環タンク11内の互いに対向する位置に、蓋部473a,473b同士が対向するように設置されている。言い換えれば、電極464と電極465とは互いに対向するよう配置されている。絶縁ケーシング471a,471bの開口474a,474b内では、電流経路の電流密度が上昇することで、液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。つまり、絶縁ケーシング471a,471bの開口474a,474bは、該開口474a,474bに気相部としての気泡を形成する気相形成部として機能する。この構成により、交流電圧が電極対464,465に供給された場合に電極対464,465間の気泡内に放電を生起させることができる。なお、超音波発生部94の具体的な構成は実施形態1と同様にすればよく、循環タンク11の底部に設置されていることが好ましいが、循環タンク11内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。以上の構成をとることにより、交流電圧を電極対464,465に供給する場合でも、電極対464,465間に放電を生起させることができ、過酸化水素の濃度を抑えながら高い浄化能力を発揮させることができる。なお、電源部70から電極対464,465へは交流電圧を印加してもよいが、矩形波を印加しても電極対464,465間に放電を生起することができる。本実施形態の浄化ユニット60Bにおいても、図9又は図10に示すような制御を行うことが好ましい。実施形態3図18は、本発明の実施形態3に係る浄化ユニット60Cを示す構成図である。図18では、実施形態1の浄化ユニット60と同様の構成については図3と同じ符号を付している。また、図18では、制御部103等の図示は省略している。以下においては、主に実施形態1に係る浄化ユニットと異なる点について説明する。本実施形態の浄化ユニット60Cは、循環タンク11内に配置された放電部62と、超音波発生部94とを備えている。放電部62は、循環タンク11内に設けられた電極対564,565と、電極対564,565に接続された電源部70と、気泡発生部520とを有している。超音波発生部94は、循環タンク11の底部に設置されている。本実施形態の浄化ユニット60Cにおいては、電源部70は、第1電極64及び第2電極565に高電圧のパルス電圧が供給される。また、第1電極564を囲む絶縁ケーシングは設けなくてよい。第1電極564及び第2電極565は共に板状であり、循環タンク11内に、互いに対向するように設置される。気泡発生部520は、例えば循環タンク11の底部など、少なくとも電極対564,565の間であって、電極対564,565よりも低い位置に設けられたノズル吐出手段519と、ノズル519に空気等の気体を送るエアポンプ送出手段518とを有している。エアポンプ518によって送出された気体は、ノズル519を介して循環タンク11内に送り込まれ循環タンク11内に気泡を発生させる。なお、循環タンク11内の気体を循環させる構成としても、外部から気体を取り入れる構成としてもよい。超音波発生部94の構成は実施形態1と同様にすればよく、循環タンク11の底部に設置されていることが好ましいが、循環タンク11内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。少なくとも放電処理を行う期間中、ノズル519から養液中へ気体が送り込まれ、気泡が発生する。養液中に気泡が存在する状態で電極対564,565にパルス電圧を供給すると、気泡の内部において放電が生起され、水酸ラジカルが生成し、水酸ラジカルから過酸化水素が生成する。本実施形態の浄化ユニット60Bにおいても、図9又は図10に示すような制御を行うことが好ましい。以上の構成及び方法によれば、電極対564,565間にパルス放電を発生させる場合でも、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素の濃度を抑えながら高い浄化能力を発揮させることができる。実施形態4図19は、本発明の実施形態4に係る浄化ユニット60Dを示す構成図である。図19では、実施形態1の浄化ユニット60と同様の構成については図3と同じ符号を付している。また、図19では、制御部103等の記載は省略している。以下においては、主に実施形態1に係る浄化ユニット60と異なる点について説明する。本実施形態の浄化ユニット60Dは、循環タンク11内に配置された放電部62と、超音波発生部94とを備えている。放電部62は、電極対664,665と、電極対664,665に接続された電源部70とを有している。超音波発生部94は、循環タンク11の底部に設置されている。電源部70は、例えば交流電源で構成されているが、直流電源で構成されていてもよいし、矩形波やパルス電圧を供給する電源で構成されていてもよい。電極664と電極665とは、それぞれ循環タンク11内に、互いに対向するように設置されている。電極664は、少なくとも1つの導電部654と、導電部654を囲む絶縁部655とを有している。電極665は、少なくとも1つの導電部656と、導電部656を囲む絶縁部657とを有している。以上のように、電極664における導電部654の露出面、及び電極665における導電部656の露出面の面積は小さいので、電圧を電極対664,665に供給した場合には導電部654,656の表面で電流密度の集中部が形成される。そのため、導電部654,656の表面では液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。この泡によって導電部654,656の露出面が覆われた状態で電源部70からの電圧供給を継続することにより、気泡の内部で放電が生起される。なお、超音波発生部94の具体的な構成は実施形態1と同様にすればよく、循環タンク11の底部に設置されていることが好ましいが、循環タンク11内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。以上の構成によっても、電極対664,665間での放電と、超音波照射とを組み合わせることにより、過酸化水素濃度を抑えながら高い浄化能力を発揮させることができる。本実施形態の浄化ユニット60Dにおいても、図9又は図10に示すような制御を行うことが好ましい。実施形態5次に、本発明の実施形態5について説明する。図20に示すように、本実施形態に係る水耕栽培システム10は、実施形態1とは異なり、室内熱交換器27が栽培床12と離れた場所に配置されている。具体的には、本実施形態3の水耕栽培システム10は、養液タンク81、配管83,84、貯水タンク82を備えている。養液タンク81は、所定量の養液を溜めることで栽培床12を形成するものである。配管83,84は、養液タンク81に対して養液を流入させる流入配管83と、養液タンク81から養液を流出させる流出配管84とで構成されている。流入配管83及び流出配管84は、それぞれ液体配管であって、一端が養液タンク81に接続され、他端が貯水タンク82に接続されている。また、流入配管83は、その途中の部分伝熱部83aがヒートポンプ21の室内熱交換器27の近傍に配置されている。つまり、伝熱部83aにおいて、養液Lと室内熱交換器27とが熱交換することにより、養液Lの温度が調節される。なお、流入配管83又は流出配管84を銅管で構成するようにしてもよい。流入配管83又は流出配管84は、その内壁から銅イオンを生成することで、循環タンク11に銅イオンを供給することができる。貯水タンク82は、養液Lを一時的に溜めるためのものである。つまり、本実施形態3の水耕栽培システム10は、ポンプ13によって貯水タンク82の養液が流入配管83を介して養液タンク81の栽培床12に供給され、流出配管84を介して再度貯水タンク82に回収されるような循環を行うよう構成されている。浄化ユニット60は、貯水タンク82内に配置され、該貯水タンク82内の水具体的には養液Lを浄化するように構成されている。本実施形態3によれば、貯水タンク82に浄化ユニット60を配置したため、貯水タンク82内の水の浄化を確実に行うことができる。その他の構成、作用効果は、実施形態1と同様である。なお、浄化ユニット60の構成は、実施形態2~4のようにしてもよい。イオン供給部の構成上述した各実施形態では、循環タンク11の一部、又は配管83,84を銅部材とすることで、銅部材を銅イオンのイオン供給部としている。しかしながら、イオン供給部としては、例えば鉄イオンを生成する鉄製の部材を用いることもできる。鉄イオンも銅イオンと同様、過酸化水素の存在下でフェントン反応を促進させるため、水酸ラジカルの生成量を増大できる。銅部材や鉄部材は、循環タンク11や養液タンク81と連通する水流路であれば、他の箇所に設けることもできる。具体的に、各実施形態におい、例えば室内熱交換器27の伝熱管を銅管で構成することができる。また、例えば銅片や鉄片を循環タンク11内に浸漬することで、これらをイオン供給部とすることもできる。なお、イオン供給部は設けなくてもよい。また、各実施形態について、図21に示すように、制御部103をヒートポンプ21の内部に組み込むように構成してもよい。なお、以上の実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。"