真空雰囲気中でプラズマを発生させつつ基板の表面に薄膜を成膜するアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置におけるアレイアンテナのアンテナ素子に用いられる誘導結合型の二重管電極において、導電材料により構成された断面円形状の電極棒と、前記電極棒の外側に囲むように設けられ、誘電材料により構成された断面環状の外筒と、を備え、前記電極棒の外周面及び前記外筒の内周面のうちの少なくともいずれかに溝が形成され、前記溝が前記電極棒の基端側から先端側にかけて連続して延びていることを特徴とする誘導結合型の二重管電極。前記電極棒の基端部に設けられ、前記アレイアンテナ式のCVDプラズマ装置における真空チャンバーの天井壁に設けられかつ高周波電源に電気的に接続された天井側コネクタに接続可能なアンテナ側コネクタと、前記電極棒の先端部に設けられ、前記電極棒からの前記外筒の離脱を防止するストッパ部材と、を備えたことを特徴とする請求項1に記載の誘導結合型の二重管電極。前記溝は直線状に延びた直線溝又は螺旋溝であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の誘導結合型の二重管電極。真空雰囲気中でプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を基板の表面に付着させることにより、基板の表面に薄膜を形成するアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置において、内部を真空状態に減圧可能な真空チャンバーと、前記真空チャンバーの内部側へ材料ガスを供給するガス供給源と、前記真空チャンバーの内部に設けられ、鉛直状態で同一平面上に前記真空チャンバーの幅方向へ間隔を置いて配列された複数本のアンテナ素子を備え、少なくとも片側に鉛直状態の基板をセット可能な基板エリアが形成され、プラズマを発生させるアレイアンテナと、複数本の前記アンテナ素子に高周波電力を供給する高周波電源と、を備え、各アンテナ素子に請求項1から請求項3のうちのいずれかの請求項に記載の誘導結合型の二重管電極が用いられていることを特徴とするアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置。ところで、薄膜の厚み及び膜質の均一性を十分に図るために、アンテナ素子に誘導結合型の二重管電極を用いることが有効であることが知られている特許文献1参照。ここで、誘導結合型の二重管電極は、ステンレス等の導電材料により構成された断面円形状の電極棒と、電極棒の外側に囲むように設けられかつセラミックス等の誘電材料により構成された断面環状の外筒とを具備している。一方、通常、アンテナ素子に付着した被膜等の除去のために、アンテナ素子を真空チャンバー側から取り外して、アンテナ素子の洗浄メンテナンスが定期的に行われている。また、アンテナ素子に誘導結合型の二重管電極を用いた場合には、洗浄液が電極棒の外周面と外筒の内周面との間の隙間に残らないように、誘導結合型の二重管電極を分解した状態で、アンテナ素子の洗浄メンテナンスを行う必要がある。そのため、アンテナ素子の洗浄メンテナンスに誘導結合型の二重管電極の分解及び組立の作業が加わり、アンテナ素子の洗浄メンテナンスが煩雑化して、アンテナ素子の洗浄メンテナンスの作業時間が長くなるという問題ある。つまり、薄膜の均一性を十分に図りつつ、アンテナ素子の洗浄メンテナンスの煩雑化を抑えて、アンテナ素子の洗浄メンテナンスの作業時間を短縮することは困難であるという問題がある。そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の誘導結合型の二重管電極等を提供することを目的とする。本発明の第1の特徴は、真空雰囲気中でプラズマを発生させつつ基板の表面に薄膜を成膜形成するアレイアンテナ式誘導結合型のCVDプラズマ装置におけるアレイアンテナのアンテナ素子に用いられる誘導結合型の二重管電極において、導電材料により構成された断面円形状の電極棒と、前記電極棒の外側に囲むように設けられ、誘電材料により構成された断面環状の外筒シースと、を備え、前記電極棒の外周面及び前記外筒の内周面のうちの少なくともいずれかに溝が形成され、前記溝が前記電極棒の基端側から先端側前記外筒の基端側から先端側にかけて連続して延びていることを要旨とする。第1の特徴によると、前記誘導結合型の二重管電極の洗浄メンテナンスを行う場合には、例えば洗浄液に前記誘導結合型の二重管電極を浸漬させることにより、前記誘導結合型の二重管電極に対して洗浄を行う。続いて、前記誘導結合型の二重管電極の基端側又は先端側に向かってすすぎ液を噴射することにより、前記誘導結合型の二重管電極に対してすすぎを行う。これにより、前記誘導結合型の二重管電極に付着した被膜等を除去することができる。ここで、前記電極棒の外周面及び前記外筒の内周面のうちの少なくともいずれかに前記溝が形成され、前記溝が前記電極棒の基端側から先端側にかけて連続して延びているため、前記電極棒の外周面と前記外筒の内周面との間の隙間をすすぎ液が流れ易くなり、前記隙間に対するすすぎ液の抜け性を高めることができる。これにより、前記誘導結合型の二重管電極を前記アレイアンテナの前記アンテナ素子に用いた場合でも、前記誘導結合型の二重管電極を分解することなく、前記アンテナ素子の洗浄メンテナンスを行うことができる。本発明の第2の特徴は、真空雰囲気中でプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を基板の表面に付着させることにより、基板の表面に薄膜を形成するアレイアンテナ式誘導結合型のCVDプラズマ装置において、内部を真空状態に減圧可能な真空チャンバーと、前記真空チャンバーの内部側へ材料ガスを供給するガス供給源と、前記真空チャンバーの内部に設けられ、鉛直状態で同一平面上に前記真空チャンバーの幅方向へ間隔を置いて配列配設された複数本のアンテナ素子を備え、少なくとも片側に鉛直状態の基板をセット可能な基板エリアが形成され、プラズマを発生させるアレイアンテナと、複数本の前記アンテナ素子に高周波電力を供給する高周波電源と、を備え、各アンテナ素子の少なくとも一部に第1の特徴からなる誘導結合型の二重管電極が用いられていることを要旨とする。第2の特徴によると、前記真空チャンバーの内部を真空状態に減圧して、前記基板エリアに基板をセットする。また、前記ガス供給源によって前記真空チャンバーの内部側へ材料ガスを供給する。そして、前記高周波電源によって複数本のアンテナ素子に高周波波電力を供給することにより、前記アレイアンテナの周辺にプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を基板の表面に付着させる。これにより、基板の表面に薄膜を成膜形成することができる。なお、前記基板エリアに基板をセットした状態で、前記真空チャンバーの内部を真空状態に減圧しても構わない。また、各アンテナ素子に第1の特徴からなる誘導結合型の二重管電極が用いられているため、第1の特徴による作用と同様の作用を奏する。本発明によれば、前記誘導結合型の二重管電極を前記アレイアンテナの前記アンテナ素子に用いた場合でも、前記誘導結合型の二重管電極を分解することなく、前記アンテナ素子の洗浄メンテナンスを行うことができるため、薄膜の均一性を十分に図りつつ、前記アンテナ素子の洗浄メンテナンスの煩雑化を抑えて、前記アンテナ素子の洗浄メンテナンスの作業時間を大幅に短縮することができる。本発明の実施形態について図1から図6abを参照して説明する。なお、図面中、FFは前方向、FRは後方向、Lは左方向、Rは右方向、Uは上方向、Dは下方向をそれぞれ指してある。図4及び図5に示すように、本発明の実施形態に係るアレイアンテナ方式誘導結合型のCVDプラズマ装置1は、真空雰囲気中でプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を基板Wの表面に付着させることにより、基板Wの表面に非結晶シリコン膜又は微結晶シリコン膜等の薄膜図示省略を成膜形成する装置である。アレイアンテナ式のCVDプラズマ装置1は、箱型の真空チャンバー3を具備しており、この真空チャンバー3は、真空圧を発生させる真空ポンプ等の真空圧発生源5に接続されてあって、内部を真空状態に減圧可能である。また、真空チャンバー3は、チャンバー本体7を備えており、このチャンバー本体7は、正面側前側にフロント開口部7a、背面側後側にリア開口部7b、両側面側左側面側及び右側面側にサイド開口部7cをそれぞれ有している。更に、チャンバー本体7の正面部前部には、フロント開口部7aを開閉可能なフロント壁9が設けられており、チャンバー本体7の背面部後部には、リア開口部7bを開閉可能なリア壁11が設けられている。そして、チャンバー本体7の両側部左側部及び右側部には、サイド開口部7cを開閉可能なサイド壁ゲートバルブを含む13がそれぞれ設けられており、チャンバー本体7の上部には、天井壁15が設けられている。真空チャンバー3の外側の適宜位置には、真空チャンバー3の内部側へ材料ガスを供給するガス供給ボンベ等のガス供給源17が配設されている。真空チャンバー3の内部には、プラズマを発生させる複数のアレイアンテナ19が真空チャンバー3の奥行き方向前後方向に間隔を置いて配設されており、各アレイアンテナ19は、鉛直状態で同一平面上に真空チャンバー3の幅方向左右方向へ間隔を置いて配列配設されたU字形状の複数のアンテナ素子21を備えている。また、各アレイアンテナ19の片側又は両側には、基板Wをセット可能な基板エリアAが形成されている。真空チャンバー3の内部の床面には、左右方向へ延びた一対のガイドレール23が設けられており、一対のガイドレール23には、台車25が左右方向へ移動可能に設けられている。換言すれば、真空チャンバー3の内部の床面には、台車25が一対のガイドレール23を介して左右方向へ移動可能に設けられている。また、台車25は、チャンバー本体7のサイド開口部7cを介して真空チャンバー3の内部に送り出し及び引き出し可能である。そして、台車25には、鉛直状態の1枚又は2枚の基板Wを保持する枠状の複数の基板ホルダ27が前後方向に間隔を置いて立設されてある。なお、台車25を真空チャンバー3の内部における基準の台車送り出し位置図5に実線で示す台車25の位置に送り出すことによって、各基板エリアAに基板Wがセットされるようになっている。なお、本発明の実施形態にあっては、基板エリアAに基板Wをセットするために台車25等を用いているが、別のセット手段を用いて基板エリアAに基板Wをセットするようにしても構わない。図1ab及び図3に示すように、真空チャンバー3の外側の適宜位置には、複数のアンテナ素子21に高周波電力を供給する高周波電源29が配設されている。また、真空チャンバー3の天井壁15には、第1天井側コネクタ31と第2天井側コネクタ33が真空チャンバー3の左右方向に交互に配設されており、換言すれば、真空チャンバー3の天井壁15には、複数の天井側コネクタ複数の第1天井側コネクタ31と複数の第2天井側コネクタ33が左右方向に間隔を置いて配設されている。ここで、各第1天井側コネクタ31は、高周波電源29の供給側非接地側に電気的に接続されており、各第2天井側コネクタ33は、高周波電源29の接地側に電気的に接続されている。続いて、本発明の実施形態の要部であるアンテナ素子21の構成について説明する。図1ab及び図3に示すように、アンテナ素子21は、誘導結合型の二重管電極第1電極35を具備しており、この誘導結合型の二重管電極35は、断面円形状の電極棒37を備えており、この電極棒37は、ステンレス等の電電材料により構成されている。また、電極棒37の外側には、断面環状の外筒シース39が囲むように設けられており、この外筒39は、樹脂又はセラミックス等の誘電材料により構成されている。そして、電極棒37の基端部上端部には、第1アンテナ側コネクタ41が着脱可能に設けられており、第1アンテナ側コネクタ41は、対応関係にある第1天井側コネクタ31に接続可能である。更に、電極棒37の先端部下端部には、電極棒37からの外筒39の離脱を防止規制するストッパ部材43が着脱可能に設けられており、このストッパ部材43は、例えば絶縁材料により構成されている。ここで、外筒39の内周面と電極棒37の外周面との間には、環状の隙間Cが形成されおり、この隙間Cは、誘導結合型の二重管電極35の基端側及び先端側を経由して外部に連通してある。そして、本発明の実施形態にあっては、図1abに示すように、電極棒37の外周面には、複数本の直線溝45が周方向に間隔を置いて形成されており、各直線溝45は、電極棒37の基端側から先端側外筒39の基端側から先端側にかけて直線状に連続して延びている。また、電極棒37の外周面に直線溝45が形成される代わりに、図2abに示すように、電極棒37の外周面に螺旋溝47が形成され、螺旋溝47が電極棒37の基端部から先端部にかけて螺旋状に連続して延びるようにしても構わない。更に、電極棒37の外周面に直線溝45等が形成される代わりに或いは電極棒37の外周面に直線溝45等が形成されると共に、外筒39の内周面に直線溝図示省略又は螺旋溝図示省略が形成されかつ直線溝又は螺旋溝が外筒39の基端部から先端部にかけて直線状又は螺旋状に連続して延びるようにしても構わない。図3に示すように、アンテナ素子21は、誘導結合型の二重管電極35に対して平行な誘導結合型の電極第2電極49を具備しており、この電極49は、ステンレス等の導電材料により構成されている。また、電極49の基端部上端部には、第2アンテナ側コネクタ51が着脱可能に設けられており、第2アンテナ側コネクタ51は、対応関係にある第2天井側コネクタ33に接続可能である。アンテナ素子21は、誘導結合型の二重管電極35の先端部下端部と誘導結合型の電極49の先端部下端部との間に接続するように設けられた接続金具53を具備しており、この接続金具53は、ステンレス等の導電材料により構成されている。また、接続金具53の一端部は、誘導結合型の二重管電極35における電極棒37の先端部に着脱可能に連結されており、接続金具53の他端部は、誘導結合型の電極49の先端部に着脱可能に連結されている。本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。成膜処理に関する作用まず、真空圧発生源5によって真空チャンバー3の内部を真空状態に減圧する。次に、台車25を真空チャンバー3の内部における基準の台車送り出し位置に送り出すことにより、各基板Wを対応関係にある基板エリアAにセットする。また、ガス供給源17によって真空チャンバー3の内部側へ材料ガスを供給する。そして、高周波電源29によって複数本のアンテナ素子21に高周波波電力を供給することにより、各アレイアンテナ19の周辺にプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を各基板Wの表面に付着させる。これにより、各基板Wの表面に非結晶シリコン膜又は微結晶シリコン膜等の薄膜を成膜形成することができる。ここで、アンテナ素子21に誘導結合型の二重管電極35を用いているため、薄膜の厚み及び膜質の均一性を十分に図ることができる。洗浄メンテナンスに関する作用誘導結合型の二重管電極35の洗浄メンテナンスを行う場合には、図6aに示すように、容器55に貯留した洗浄液Lに誘導結合型の二重管電極35を浸漬させることにより、誘導結合型の二重管電極35に対して洗浄を行う。なお、誘導結合型の二重管電極35の洗浄後に、誘導結合型の二重管電極35を容器55から取り出す。続いて、図6bに示すように、誘導結合型の二重管電極35の先端側に向かってすすぎ液例えば純水をウォータージェットノズル57から噴射することにより、誘導結合型の二重管電極35に対してすすぎを行う。このとき、すすぎ液は、誘導結合型の二重管電極55の先端側から電極棒37の外周面と外筒39の内周面との間の隙間Cに供給され、誘導結合型の二重管電極55の基端側から排出されるようになっている。以上により、誘導結合型の二重管電極35に付着した被膜等を除去することができる。なお、誘導結合型の二重管電極35の先端側に向かってすすぎ液を噴射する代わりに、誘導結合型の二重管電極35の基端側に向かってすすぎ液を噴射するようにしても構わない。ここで、電極棒37の外周面に直線溝45又は螺旋溝47が形成され、直線溝45又は螺旋溝47が電極棒37の基端側から先端側にかけて連続して延びているため、電極棒37の外周面と外筒39の内周面との間の隙間Cをすすぎ液が流れ易くなり、電極棒37の外周面と外筒39の内周面との間の隙間Cに対するすすぎ液の抜け性を高めることができる。これより、誘導結合型の二重管電極35を分解することなく、アンテナ素子21の洗浄メンテナンスを行うことができる。本発明の実施形態の効果以上の如き、本発明の実施形態によれば、誘導結合型の二重管電極35を分解することなく、アンテナ素子21の洗浄メンテナンスを行うことができるため、薄膜の厚み及び膜質の均一性を十分に図りつつ、アンテナ素子21の洗浄メンテナンスの煩雑化を抑えて、アンテナ素子21の洗浄メンテナンスの作業時間を大幅に短縮することができる。なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限るものでなく、例えば、アレイアンテナ19にU字形状の複数本のアンテナ素子21を用いる代わりに、I字形状の複数本のアンテナ素子を用いる等、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。