半導体露光の光源として狭帯域化レーザを使用する場合に、レーザ光のスペクトル幅を調整する狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法において、複数の狭帯域化レーザ装置に共通するスペクトル幅の上限値と下限値とを設定し、半導体露光前に狭帯域化レーザ装置をレーザ発振してスペクトル幅を検出し、狭帯域化レーザ装置に備えられたスペクトル幅調整部を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。前記スペクトル幅調整部は、前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内の光路上に配置され、光の波面のシリンドリカル形状の頂点を結ぶ直線を、前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直にして前記光の波面の曲率半径を調整する波面調整器を有しており、前記波面調整器を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする請求項1記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。前記スペクトル幅調整部は、中心軸がレーザ共振器内の光路上に配置され、また機械軸が前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直に配置されたシリンドリカル凹レンズおよびシリンドリカル凸レンズと、前記光路上に沿って前記シリンドリカル凹レンズと前記シリンドリカル凸レンズとの間隔を変化させるレンズ間隔可変機構と、を有しており、前記レンズ間隔可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする請求項2記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。前記スペクトル幅調整部は、中心軸がレーザ共振器内の光路上に配置され、また機械軸が前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直に配置されたシリンドリカルミラーと、前記シリンドリカルミラーの曲率を変化させるミラー曲率可変機構と、を有しており、前記ミラー曲率可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする請求項2記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。前記スペクトル幅調整部は、波長選択素子として使用されるグレーティングと、前記グレーティングの多数の溝を直線状に維持した状態で当該グレーティングの曲率を変化させるグレーティング曲率可変機構と、を有しており、前記グレーティング曲率可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする請求項2記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。前記スペクトル幅調整部は、レーザ共振器内の光路上に配置され、また前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直方向にビーム拡大する二以上のプリズムと、前記二以上のプリズムの回転角度を変化させてビーム拡大率を変化させるプリズム角度可変機構と、を有しており、前記プリズム角度可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする請求項1記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。前記狭帯域化レーザ装置は、シード光を生成して出力する発振段レーザと、前段のレーザから出力されたレーザ光を入力し増幅して出力する一以上の増幅段チャンバまたは増幅段レーザと、を有し、前記スペクトル幅調整部は、前記発振段レーザと前記増幅段チャンバまたは増幅段レーザの間のレーザ光路上に配置されるスペクトル幅可変機構を有しており、前記スペクトル幅可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする請求項1記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。前記狭帯域化レーザ装置は、シード光を生成して出力する発振段レーザと前段のレーザから出力されたレーザ光を入力し増幅して出力する一以上の増幅段チャンバまたは増幅段レーザと、を有し、前記スペクトル幅調整部は、前記発振段レーザのレーザ共振器内のレーザ光路上に配置されるスペクトル幅可変機構を有しており、前記スペクトル幅可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする請求項1記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。ところで、複数のレーザ装置を用意した場合、各レーザ装置の構成が同じであってもE95幅等のスペクトル幅が一致するとは限らない。むしろ、複数のレーザ装置間ではE95幅等のスペクトル幅はばらつくのが普通である。図23は従来の複数のレーザ装置におけるE95幅のヒストグラムを示す。図23において、E95幅の最大値は0.450pm、最小値は0.210pmであり、平均値0.340pm、標準偏差0.061pmであった。このE95幅のばらつきは、露光装置の光学システムのE95幅の許容範囲、例えば0.350pmと0.450pmの範囲、を超えるものは20台中5台であった。このE95幅の許容範囲を超えた5台のレーザ装置を露光光源に用いると、集積回路パターンの品質が悪化し、デバイスの製作ができないことを示していた。E95幅等のスペクトル幅がばらつく原因はレーザ装置の機差にあると考えられる。レーザ装置の機差としては、1光学素子狭帯域化素子の個体差グレーティングの回折波面のばらつきプリズムの透過波面のばらつき狭帯域化モジュール内の各光学素子の位置および光軸のばらつき2レーザの光軸調整機差チャンバ交換時のチャンバ放電位置と光軸のばらつき狭帯域化モジュールの位置および光軸のばらつきレーザ共振器の光軸のばらつき3レーザチャンバの機差放電位置のばらつき放電位置および放電状態のばらつき等の要素がある。半導体の露光現場ではレーザ装置の故障や寿命に伴いレーザ装置の交換やモジュールの交換が行われる。この際、前述したようにレーザ装置間の機差に起因して、同じ機種のレーザ装置であっても交換前のレーザ装置と交換後のレーザ装置とではE95幅等のスペクトル幅が異なる。また、同じレーザ装置であってもメンテナンス前後でE95幅等のスペクトル幅が変化する。つまり、レーザ装置の交換又はメンテナンスに伴いE95幅等のスペクトル幅が変化し、露光装置の光学システムのE95幅等のスペクトル幅の許容範囲を超える場合、集積回路パターンの品質が悪化し、デバイスの製作ができなくなる。本発明はこうした実状に鑑みてなされたものであり、レーザ装置の製造時の機差によるE95幅等のスペクトル幅のばらつきや、レーザ装置の交換やメンテナンスに伴うE95幅等のスペクトル幅のばらつきを抑制し、半導体の露光装置が形成する集積回路パターンの品質を安定させることを目的とするものである。第1発明は、半導体露光の光源として狭帯域化レーザを使用する場合に、レーザ光のスペクトル幅を調整する狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法において、複数の狭帯域化レーザ装置に共通するスペクトル幅の上限値と下限値とを設定し、半導体露光前に狭帯域化レーザ装置をレーザ発振してスペクトル幅を検出し、狭帯域化レーザ装置に備えられたスペクトル幅調整部を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする。第1発明では、先ず予め複数の狭帯域化レーザ装置に共通するスペクトル幅の上限値と下限値とを設定しておく。そして、狭帯域化レーザ装置のメンテナンス時や出荷時など、狭帯域化レーザ装置を半導体露光の光源として使用する前に、狭帯域化レーザ装置をレーザ発振してスペクトル幅を検出する。この際、スペクトル幅が予め設定した上限値と下限値との間の値になるように、狭帯域化レーザ装置に備えられたスペクトル幅調整部を調整する。こうした処理を行えば、半導体を露光する際に狭帯域化レーザ装置を交換したとしても、交換前の狭帯域化レーザ装置のスペクトル幅と交換後の狭帯域化レーザ装置のスペクトル幅との差を小さくすることができる。また、半導体を露光する際に狭帯域化レーザ装置をメンテナンスしたとしても、メンテナンス前後の狭帯域化レーザ装置のスペクトル幅の差を小さくすることができる。第2発明は、第1発明において、前記スペクトル幅調整部は、前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内の光路上に配置され、光の波面のシリンドリカル形状の頂点を結ぶ直線を、前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直にして前記光の波面の曲率半径を調整する波面調整器を有しており、前記波面調整器を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする。第3発明は、第2発明において、前記スペクトル幅調整部は、中心軸がレーザ共振器内の光路上に配置され、また機械軸が前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直に配置されたシリンドリカル凹レンズおよびシリンドリカル凸レンズと、前記光路上に沿って前記シリンドリカル凹レンズと前記シリンドリカル凸レンズとの間隔を変化させるレンズ間隔可変機構と、を有しており、前記レンズ間隔可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする。第4発明は、第2発明において、前記スペクトル幅調整部は、中心軸がレーザ共振器内の光路上に配置され、また機械軸が前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直に配置されたシリンドリカルミラーと、前記シリンドリカルミラーの曲率を変化させるミラー曲率可変機構と、を有しており、前記ミラー曲率可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする。第5発明は、第2発明において、前記スペクトル幅調整部は、波長選択素子として使用されるグレーティングと、前記グレーティングの多数の溝を直線状に維持した状態で当該グレーティングの曲率を変化させるグレーティング曲率可変機構と、を有しており、前記グレーティング曲率可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする。第6発明は、第1発明において、前記スペクトル幅調整部は、レーザ共振器内の光路上に配置され、また前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直方向にビーム拡大する二以上のプリズムと、前記二以上のプリズムの回転角度を変化させてビーム拡大率を変化させるプリズム角度可変機構と、を有しており、前記プリズム角度可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする。第3発明乃至第6発明は、第1発明においてスペクトル幅を調整する具体的な方法である。第7発明は、第1発明において、前記狭帯域化レーザ装置は、シード光を生成して出力する発振段レーザと、前段のレーザから出力されたレーザ光を入力し増幅して出力する一以上の増幅段チャンバまたは増幅段レーザと、を有し、前記スペクトル幅調整部は、前記発振段レーザと前記増幅段チャンバまたは増幅段レーザの間のレーザ光路上に配置されるスペクトル幅可変機構を有しており、前記スペクトル幅可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする。第7発明は、第1発明において狭帯域化レーザ装置が発振段および増幅段を備えたダブルチャンバシステムである場合のスペクトル幅を調整する具体的な方法である。第8発明は、第1発明において、前記狭帯域化レーザ装置は、シード光を生成して出力する発振段レーザと前段のレーザから出力されたレーザ光を入力し増幅して出力する一以上の増幅段チャンバまたは増幅段レーザと、を有し、前記スペクトル幅調整部は、前記発振段レーザのレーザ共振器内のレーザ光路上に配置されるスペクトル幅可変機構を有しており、前記スペクトル幅可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にすることを特徴とする。第8発明は、第1発明において狭帯域化レーザ装置が発振段および増幅段を備えたダブルチャンバシステムである場合のスペクトル幅を調整する具体的な方法である。本発明によれば、各レーザ装置間のE95幅等のスペクトル幅の偏差を小さくすることができ、また同一のレーザ装置においてもメンテナンス前後のE95幅等のスペクトル幅の偏差を小さくすることができる。そのためレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル幅は露光装置の光学システムのE95幅等のスペクトル幅の許容範囲を超えることはない。したがって、半導体の露光装置が形成する集積回路パターンの品質を安定化させることができるので、デバイスの歩留まりが向上する。さらに、レーザ製造およびメンテナンス時の歩留まりが向上するため、レーザの製造コストおよびメンテナンスコストが低減する。以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、前記した通りスペクトル幅にはFWHMやE95等があるが、以下ではE95を例にして実施形態を説明する。図1は狭帯域化レーザ装置のスペクトル幅を調整するための装置構成の一例を示す。図1に示すように、狭帯域化レーザ装置1においては、レーザチャンバ20のリア側図面右側の光路上にはスリット90rおよび狭帯域化モジュール30が配置され、レーザチャンバ20のフロント側図面左側の光路上にはスリット90fおよびE95幅調整部40が配置され、E95幅調整部40のフロント側図面左側の光路上には入射面にPR膜がコーティングされ出射面にAR膜がコーティングされた出力カプラ50と、モニタモジュール60とが配置されている。狭帯域化モジュール30と出力カプラ50は共振器を構成する。レーザチャンバ20の内部には、所定距離だけ離隔し、互いの長手方向が平行であって、かつ放電面が対向する一対の放電電極21、22が設けられている。また、レーザチャンバ20におけるレーザ光の光軸上にあって、レーザ光出力部分には、ウインドウ23、24が設けられている。ウインドウ23、24は、レーザ光に対する透過性を有する材料、例えばCaF2等によって構成されている。両ウインドウ23、24は、外側の面が互いに平行に配置され、また、レーザ光に対して反射損失を低減すべくブリュースタ角で設置される。レーザチャンバ20にはレーザ媒質としてレーザガスが封入される。F2レーザの場合にレーザガスは、F2ガスと、HeやNe等からなるバッファガスとの混合ガスである。KrFエキシマレーザの場合にレーザガスは、KrガスおよびF2ガスと、HeやNe等からなるバッファガスの混合ガスである。ArFエキシマレーザの場合にレーザガスは、ArガスおよびF2ガスと、HeやNe等からなるバッファガスの混合ガスである。各ガスは、図示しないガス供給排出機構によって供給と排出が制御される。レーザチャンバ20に設けられた放電電極21、22は電源回路70によって高電圧が印加される。放電電極21、22間の電圧が所定電圧を越えると放電が発生する。すると、レーザチャンバ20内のレーザガスは励起されて高エネルギー準位に移行した後に、低エネルギー準位に移行する。このとき光が放出される。狭帯域化モジュール30には、プリズムビームエキスパンダ以下、プリズムという32、33と波長分散素子であるグレーティング31等の光学素子が設けられている。図1には2つのプリズムが設けられているが、その数は自由である。グレーティング31やプリズム32、33は固定部材を介して狭帯域化モジュール30の筐体に固定されるが、回転自在にして固定される場合もある。この場合、プリズム32やグレーティング31は図示しない回転機構に固定される。回転機構の駆動によってグレーティング31やプリズム32、33に対するレーザ光の入射角度が変化する。また、狭帯域化モジュール30は、波長分散素子であるエタロンと全反射ミラー等の光学素子で構成される場合もある。E95幅調整部40はレーザ光のE95幅を調整するための光学素子で構成されている。E95幅調整部40の構成には幾つかの形態が考えられるため、図2~図21を用いてまとめて後述する。モニタモジュール60にはビームスプリッタ61とモニタ62とが設けられている。モニタ62はE95幅や中心波長を検出するモニタと、レーザ光のエネルギーを検出するモニタとからなる。E95幅や中心波長を検出するモニタは、例えば、拡散板、エタロン、集光レンズ、ラインセンサ等を有する分光器を有する。モニタモジュール60に入射したレーザ光はビームスプリッタ61で分割され、一部がモニタ62に入射し、残りが外部に出射される。レーザコントローラ80は、モニタモジュール60のモニタ62で検出されたスペクトルに基づいてレーザ光のエネルギー、波長、スペクトル幅を演算し、演算結果に基づいて、電源回路70の充電電圧の指令信号を出力し、また狭帯域化モジュール30内の各光学素子が固定されている回転機構を駆動するための指令信号を出力する。狭帯域化レーザ装置1の外部には、狭帯域化レーザ装置1から出力されたレーザ光のスペクトルを検出する高分解能分光器4と、狭帯域化レーザ装置から高分解能分光器4までレーザ光を案内する集光レンズ2および光ファイバ3と、高分解能分光器4の検出結果を取り込みレーザ光のスペクトルを表示するパーソナルコンピュータ9と、が設けられている。狭帯域化レーザ装置1から出射したレーザ光は集光レンズ2で集光される。集光レンズ2から出射された光は光ファイバ3を通過し、高分解能分光器4に入射する。高分解能分光器4内で、光は集光レンズ5を通過し、この光によって入射スリット11が照明される。この入射スリットの透過光は、凹面ミラー6aで反射し、グレーティング7で回折し、凹面ミラー6bで反射する。そして、CCDラインセンサ8上に回折像が結像する。この回折像は波長によってグレーティング7での回折角度が変化して結像位置が変化するため、CCDラインセンサ8では光のスペクトルが検出されることになる。CCDラインセンサ8で検出されたスペクトルは信号化されて、パーソナルコンピュータ9に取り込まれる。パーソナルコンピュータ9には表示装置10が接続されており、この表示装置10にCCDラインセンサ8で検出されたスペクトルが表示される。高分解能分光器4の例として、一般的なツェルニターナ型分光器の場合の例を説明したが、E95幅が十分計測できるような高分解能分光器であればどのようなな分光の方法であっても問題はない。ここで、スペクトル幅調整方法の手順を説明する。先ず、半導体露光に使用する狭帯域化レーザに共通するE95幅の上限値ΔλHLと下限値ΔλLLとを予め設定する。この上限値ΔλHLと下限値ΔλLLは、半導体露光装置の光学システムで許容されるE95幅の範囲内で設定する。狭帯域化レーザ装置1を露光装置の光源として使用する前、例えば狭帯域化レーザ装置1の組立終了後や狭帯域化レーザ装置1のメンテナンス直後など、に狭帯域化レーザ装置1の外部に、図1に示すように集光レンズ2、光ファイバ3、高分解能分光器4、パーソナルコンピュータ9、表示装置10を設置する。そして、狭帯域化レーザ装置1をレーザ発振する。この際、高分解能分光器4でレーザ光のスペクトルを検出し、表示装置10にレーザ光のスペクトルを表示する。作業者は表示装置10を見ながらE95幅が上限値ΔλHLと下限値ΔλLLとの間の値になるように狭帯域化レーザ装置1のE95幅調整部40を調整する。E95幅調整部40の調整に応じてE95幅は変化する。E95幅が上限値ΔλHLと下限値ΔλLLとの間の値になったら、E95調整部40を固定してE95幅の調整を終了する。なお、図1に示す本実施形態では、狭帯域化レーザ装置1の外部に高分解能分光器4を設け、この高分解能分光器4を使用するようにしているが、狭帯域化レーザ装置1の内部に小型のスペクトル検出装置を設け、そのスペクトル検出装置を使用するようにしてもよい。また、狭帯域化レーザ装置1に設けられたモニタモジュール60のモニタ62を使用するようにしてもよい。次に、E95幅調整部40の具体的な形態について説明する。図2は第1の形態に係るE95幅調整部の構成および出力カプラとE95幅調整部とレーザチャンバと狭帯域化モジュールの位置関係を示す。図2aは平面図であり、図2bは側面図である。第1の形態は二つのレンズの間隔を変化させて光の波面を調整するものである。光の波面はシリンドリカル形状であり、そのシリンドリカル形状の頂点を結ぶ直線をレーザ共振器内の波長選択素子グレーティングの波長分散面に対して略垂直にし、シリンドリカル状の光の波面の曲率を変化させることにより、レーザのE95幅を変化させることができる。波長分散面とは、図2において、グレーティング31の回折面に形成された多数の溝に直交する方向をx軸とし、グレーティング31の回折面に形成された多数の溝と平行する方向をy軸とし、グレーティング31の回折面に直交する方向をz軸とした場合のxz平面と一致する。図2に示すE95幅調整部40は、互いに離隔して対向し離隔距離が調整自在であるシリンドリカル凹レンズ41およびシリンドリカル凸レンズ42を有する。シリンドリカル凹レンズ41およびシリンドリカル凸レンズ42は、中心軸がレーザ共振器内の光路上に位置するように、また機械軸がグレーティング31の波長分散面に対して略垂直になるように配置される。シリンドリカル凹レンズ41およびシリンドリカル凸レンズ42の中心軸とは、シリンドリカル面の曲率半径の中心を結ぶ直線である。シリンドリカル凹レンズ41の機械軸とは、当該レンズの凹部の最も凹んだ位置を結ぶ直線である。シリンドリカル凸レンズ42の機械軸とは、当該レンズの凹部の最も高い位置を結ぶ直線である。シリンドリカル凹レンズ41は移動プレート43の上面に固定される。移動プレート43は1軸ステージ44に形成されたリニアガイド45に沿って移動自在である。1軸ステージ44はリニアガイド45の延在方向が光軸と平行になるように配置される。移動プレート43の一側面には凸状に突き出た凸部43aが形成されており、凸部43aの正面にはマイクロメータ46の頭部が当接し、凸部43aの背面には突起部47の頭部が当接している。マイクロメータ46はリニアガイド45の延在方向に伸縮自在であり、伸張によって凸部43aに対して突起部47方向の押圧力を与える。また、突起部47はリニアガイド45の延在方向に伸縮自在のバネが頭部に接続されており、このバネによって凸部43aに対してマイクロメータ46方向の付勢力を与える。したがって、マイクロメータ46の伸縮によって移動プレート43はリニアガイド45に沿って移動する。移動プレート43の他側面には固定ネジ48が設けられている。固定ネジ48は移動プレート43に形成された貫通孔に螺合されており、その先端はリニアガイド45に当接する。固定ネジ48を締めることによって移動プレート43が1軸ステージ43に対して固定される。固定ネジ48を緩めることによって移動プレート43の固定が解放される。なお、マイクロメータ46および突起部47によって移動プレート43が1軸ステージ43に対して十分に固定できるのであれば、固定ネジ48は無くてもよい。E95幅調整部40とレーザチャンバ20と狭帯域化モジュール30は図2に示すような向きに配置される。すなわち、狭帯域化モジュール30に設けられたシリンドリカル凹レンズ41およびシリンドリカル凸レンズ42の各シリンドリカル面の曲率半径中心がレーザ光軸上にあり、かつシリンドリカル凹レンズ41およびシリンドリカル凸レンズ42の各機械軸がグレーティング31の回折面に形成された多数の溝と平行となるように、E95幅調整部40とレーザチャンバ20と狭帯域化モジュール30が配置される。図3は第2の形態に係るE95幅調整部の構成を示す。図3aは平面図であり、図3bは側面図である。本実施形態では、図2に示すシリンドリカル凹レンズ41の代わりに平凹シリンドリカルレンズ101が設けられ、図2に示すシリンドリカル凸レンズ42の代わりに平凸シリンドリカルレンズ102が設けられている。平凹シリンドリカルレンズ101および平凸シリンドリカルレンズ102を除いた他の構成は図2に示す第1の形態と同一である。本実施形態の場合は、平凸シリンドリカルレンズ102が出力カプラの機能を有するため、図1に示す出力カプラ50は不要である。平凸シリンドリカルレンズ102の入射面レーザチャンバに近い側の面には反射防止AR膜がコーティングされ、出射面レーザチャンバから遠い側の面には部分反射PR膜がコーティングされている。平凹シリンドリカルレンズ101および平凸シリンドリカルレンズ102の曲率半径中心がレーザ光軸上にあり、かつ平凹シリンドリカルレンズ101および平凸シリンドリカルレンズ102の各機械軸がグレーティング31の回折面に形成された多数の溝と平行となる点も図2に示す構成と同様である。図4は第2の形態に係るE95幅調整部を用いた場合のマイクロメータの相対目盛とE95幅およびレーザ出力相対値の関係を示す。図4においては、平凹シリンドリカルレンズ101と平凸シリンドリカルレンズ102とが所定距離だけ離れた状態をマイクロメータ46の相対目盛横軸の1としている。また、マイクロメータ46の相対目盛が増加すると共に、平凹シリンドリカルレンズ101が平凸シリンドリカルレンズ102から離れていくものとする。図4に示されるように、マイクロメータの相対目盛が増加するに伴い、E95幅は0.23pmから1.2pmまで単調増加した。一方、マイクロメータの相対目盛が1から9まで増加するに伴い、レーザ出力の相対値は0.42から1.63まで単調増加し、マイクロメータの相対目盛が9から11まで増加するに伴い、レーザ出力は1.63から1.2まで単調減少した。例えば、E95幅の目標値を0.4pmとする場合は、マイクロメータ46の相対目盛が4.2になるように調整する。この状態におけるレーザの出力の相対値は0.95となる。E95幅が目標値になったら、固定ネジ48を締めて移動プレート43を固定する。図5は第2の形態に係るE95幅調整部を用いた場合のレーザ機差によるE95幅のヒストグラムを示す。試料としては複数の狭帯域化レーザ装置を用意し、E95幅の下限値ΔλLLを0.30pmと設定し、上限値ΔλHLを0.50pmと設定した。そして、各狭帯域化レーザ装置を発振し、E95幅が設定した上限値ΔλHLと下限値ΔλLLとの間に値になるようにE95幅調整部を調整した。E95幅の最大値は0.440pm、最小値は0.360pm、平均値は0.405pm、標準偏差は0.029pmであった。この機差によるばらつきは、例えば、E95幅の許容範囲0.350pm~0.450pmの範囲に十分入った。図6は第3の形態に係るE95幅調整部の構成およびE95幅調整部とレーザチャンバと狭帯域化モジュールの位置関係を示す。図6は平面図である。第3の形態はシリンドリカルミラーの曲率を変化させて光の波面を調整するものである。図6に示すE95幅調整部40は、曲率が調整自在であるシリンドリカルミラー111を有する。本実施形態の場合は、シリンドリカルミラー111とレーザチャンバ20との間にはビームスプリッタ117が配置される。ここでビームスプリッタ117は出力カプラの機能を果たしている。シリンドリカルミラー111の背面の両端には二つのロッド112の一端が接続され、シリンドリカルミラー111の背面の中央にはバネ113の一端が接続される。二つのロッド112の他端はシリンドリカルミラー111の背後に配置されたプレート114に接続され、バネ113の他端はシリンドリカルミラー111の背後に配置されたマイクロメータ115の頭部に接続される。マイクロメータ115はプレート114に対して固定される。マイクロメータ115には伸縮を固定する固定ネジ116が設けられる。シリンドリカルミラー111は、シリンドリカル面の曲率半径中心がレーザ光軸上にあり、かつシリンドリカル面の機械軸がグレーティング31の回折面に形成された多数の溝と平行になるようにつまり波長分散面に対して略垂直となるように配置される。シリンドリカル面の機械軸の定義は、前記したシリンドリカル凹レンズ41等の機械軸の定義と同じである。マイクロメータ115が伸張するとバネ113を介してシリンドリカルミラー111の中央が押され、マイクロメータ115が縮退するとバネ113を介してシリンドリカルミラー111の中央が引っ張られる。こうしてシリンドリカルミラー111のシリンドリカル面の曲率が調整される。ここまではE95幅調整部をレーザチャンバのフロント側に配置する形態について説明した。しかし、図7に示すように、E95幅調整部をレーザチャンバのリア側に配置してE95幅を調整することも可能である。次にこの形態について説明する。図8は第4の形態に係るE95幅調整部の構成を示す。図8a、bは同一のE95幅調整部において、それぞれ異なるパターンの波面調整をした様子を示している。図8a、bに示すE95幅調整部40′の構成は、多くの点で図2に示すE95幅調整部40と一致する。異なるのはシリンドリカル凹レンズ121が移動プレートに固定されるのではなく、シリンドリカル凸レンズ122が移動プレートに固定されている点である。図8に示すE95幅調整部40′は、互いに離隔して対向し離隔距離が調整自在であるシリンドリカル凹レンズ121およびシリンドリカル凸レンズ122を有する。シリンドリカル凸レンズ122は、シリンドリカル面の曲率半径中心がレーザ光軸上にあり、かつシリンドリカル面の機械軸がグレーティング31の回折面に形成された多数の溝と平行になるようにつまり、機械軸が波長分散面と略直交するようにレーザチャンバ20のリア側に配置され、シリンドリカル凹レンズ121はシリンドリカル面の曲率半径中心がレーザ光軸上にあり、かつシリンドリカル面の機械軸がグレーティング31の回折面に形成された多数の溝と平行になるようにつまり、機械軸が波長分散面と略直交するようにシリンドリカル凸レンズ122のリア側に配置される。シリンドリカル凸レンズ122は移動プレート123の上面に固定される。移動プレート123は1軸ステージ124に形成されたリニアガイド125に沿って移動自在である。1軸ステージ124はリニアガイド125の延在方向が光軸と平行になるように配置される。移動プレート123の一側面には凸状に突き出た凸部123aが形成されており、凸部123aの正面にはマイクロメータ126の頭部が当接し、凸部123aの背面には突起部127の頭部が当接している。マイクロメータ126はリニアガイド125の延在方向に伸縮自在であり、伸張によって凸部123aに対して突起部127方向の押圧力を与える。また、突起部127はリニアガイド125の延在方向に伸縮自在のバネが頭部に接続されており、このバネによって凸部123aに対してマイクロメータ126方向の付勢力を与える。したがって、マイクロメータ126の伸縮によって移動プレート123はリニアガイド125に沿って移動する。移動プレート123の他側面には固定ネジ128が設けられている。固定ネジ128は移動プレート123に形成された貫通孔に螺合されており、その先端はリニアガイド125に当接する。固定ネジ128を締めることによって移動プレート123が1軸ステージ123に対して固定される。固定ネジ128を緩めることによって移動プレート123の固定が解放される。なお、マイクロメータ126および突起部127によって移動プレート123が1軸ステージ123に対して十分に固定できるのであれば、固定ネジ128は無くてもよい。なお、図9に示すように、図8に示すE95幅調整部40′を狭帯域化モジュール30に設けられたプリズム33とグレーティング31との間に設けても良い。図10は第5の形態に係るE95幅調整部の構成を示す。図10a、bは同一のE95幅調整部において、それぞれ異なるパターンの波面調整をした様子を示している。図10a、bに示すE95幅調整部40′の構成は、多くの点で図6に示すE95幅調整部40と一致する。異なるのはビームスプリッタが存在しない点と、光の入射方向と反射方向とが異なるという点である。図10に示すE95幅調整部40′は、曲率が調整自在であるシリンドリカルミラー131を有する。シリンドリカルミラー131の背面の両端には二つのロッド132の一端が接続され、シリンドリカルミラー131の背面の中央にはバネ133の一端が接続される。二つのロッド132の他端はシリンドリカルミラー131の背後に配置されたプレート134に接続され、バネ133の他端はシリンドリカルミラー131の背後に配置されたマイクロメータ135の頭部に接続される。マイクロメータ135はプレート134に対して固定される。マイクロメータ135には伸縮を固定する固定ネジ136が設けられる。シリンドリカルミラー131は、レーザ光の入射方向と反射方向とが異なるような向きにして配置される。シリンドリカルミラー131は、シリンドリカル面の機械軸がグレーティング31の回折面に形成された多数の溝と平行になるように配置される。シリンドリカル面の機械軸の定義は、前記したシリンドリカル凹レンズ41等の機械軸の定義と同じである。マイクロメータ135が伸張するとバネ133を介してシリンドリカルミラー131の中央が押され、マイクロメータ135が縮退するとバネ133を介してシリンドリカルミラー131の中央が引っ張られる。こうしてシリンドリカルミラー131のシリンドリカル面の曲率が調整される。なお、図11に示すように、図10に示すE95幅調整部40′を狭帯域化モジュール30に設けられたプリズム32とプリズム33との間に設けても良い。この場合、マイクロメータ135の操作部分を狭帯域化モジュール30の筐体外に設けておくことが望ましい。図12は第6の形態に係るE95幅調整部の構成を示す。第6の形態は狭帯域化モジュールに設けられたグレーティングの曲率を変化させて光の波面を調整するものであり、第3、第5の形態に使用されるマイクロメータ等の構造をグレーティングの曲率調整に適用するものである。グレーティング31の背面の両端には二つのロッド142の一端が接続され、グレーティング31の背面の中央にはバネ143の一端が接続される。二つのロッド142の他端はグレーティング31の背後に配置されたプレート144に接続され、バネ143の他端はグレーティング31の背後に配置されたマイクロメータ145の頭部に接続される。マイクロメータ145はプレート144に対して固定される。マイクロメータ145には伸縮を固定する固定ネジ146が設けられる。マイクロメータ145が伸張するとバネ143を介してグレーティング31の中央が押され、マイクロメータ145が縮退するとバネ143を介してグレーティング31の中央が引っ張られる。こうしてグレーティング31の多数の溝を直線状に維持した状態で回折面の曲率が調整される。図13は第6の形態に係るE95幅調整部を用いた場合のマイクロメータの相対目盛とE95幅およびレーザ出力の相対値の関係を示す。図13においては、グレーティング31が所定の曲率を有する状態をマイクロメータ145の相対目盛横軸の1としている。また、マイクロメータ145の相対目盛が増加すると共に、グレーティング31の中央が押し出されていくものとする。図13に示されるように、マイクロメータの相対目盛が1から6まで増加するに伴い、E95幅は0.40pmから0.23pmまで単調減少し、マイクロメータの相対目盛が6から11まで増加するに伴い、E95幅は0.23pmから0.5pmまで単調増加した。一方、マイクロメータの相対目盛が1から6まで増加するに伴い、レーザ出力の相対値は0.1から0.5まで単調増加し、マイクロメータの相対目盛が6から11まで増加するに伴い、レーザ出力の相対値は0.5から0.1まで単調減少した。例えば、E95幅の目標値を0.4pmとする場合は、マイクロメータ145の相対目盛が1になるように調整する。この状態におけるレーザの出力の相対値は0.1となる。E95幅が目標値になったら、固定ネジ146を締めてマイクロメータ145を固定する。ここで、図4の結果と図13の結果とに基づきE95幅の調整をレーザチャンバのフロント側で行う場合とリア側で行う場合の何れが有利であるかについて検討する。ここで、図4と図13のレーザ出力の相対値は、同一基準の値で示してあるので、レーザ出力の相対比較が可能なように表示している。E95幅調整部をレーザチャンバのフロント側に配置する装置構成によると、図4で示すように、マイクロメータの目盛の増加に伴いE95幅が単調増加するという特性が得られる。したがって、E95幅を広げたい場合には単純にマイクロメータを伸張させればよく、E95幅を狭めたい場合には単純にマイクロメータを縮退させればよいことが判る。一方、E95幅調整部をレーザチャンバのリア側に配置する装置構成によると、図13で示すように、マイクロメータの目盛の増加に伴いE95幅が単調増加するが、マイクロメータの目盛がある程度増加すると、それ以降は目盛を増加させると単調減少するという特性が得られる。したがって、E95幅を広げたい場合や狭めたい場合にマイクロメータをどのように操作すべきかは、実際にマイクロメータを操作した後にE95幅がどのように変化するかを見てからでないと判断できない。以上から、レーザチャンバのフロント側にE95調整部を配置する方が調整し易いといえる。また、図4と図13とでレーザ出力の相対値を比較すると、レーザチャンバのフロント側にE95調整部を配置する方が大きなレーザ出力が得られることが判る。したがって、E95幅の調整をレーザチャンバのフロント側で行う方が有利であるという結論に至る。図14は第7の形態に係るE95幅調整部の構成を示す。第7の形態は狭帯域化モジュールに設けられたプリズムの回転角度を変化させてグレーティング31に入射するビームの拡大倍率を調整するものである。入射するビームをグレーティング31の波長分散面と垂直な方向に拡大するとビーム広がり角度が小さくなるため、スペクトル線幅が狭くなる。プリズム32は回転プレート151に固定され、回転プレート151は回転ステージ152に軸支される。回転プレート151の側面には凸状に突き出た凸部151aが形成されており、凸部151aの正面にはマイクロメータ153の頭部が当接し、凸部151aの背面には突起部154の頭部が当接している。マイクロメータ153は伸張によって凸部151aに対して突起部154方向の押圧力を与える。また、突起部154は伸縮自在のバネが頭部に接続されており、このバネによって凸部151aに対してマイクロメータ153方向の付勢力を与える。したがって、マイクロメータ153の伸縮によって回転プレート151は回転する。プリズム33は回転プレート156に固定されているが、その構造はプリズム32が回転プレート151に固定される構造と同一であるため、説明を省略する。E95幅を調整する場合は、レーザの発振波長が変化しないようにしつつ、マイクロメータ153を調整して回転プレート151およびプリズム32を回転させ、またマイクロメータ158を調整して回転プレート156およびプリズム33を回転させる。この際、回転プレート151およびプリズム32の回転方向と回転プレート156およびプリズム33の回転方向を逆方向にし、さらにそれぞれの回転角度を一致させる。すると、プリズム32、33によるビーム拡大倍率が変化する。倍率が小さくなるとE95幅は広くなり、倍率が大きくなるとE95幅は狭くなる。ところで、図15に示すように、本発明は二つのレーザチャンバを有する狭帯域化レーザ装置、所謂ダブルチャンバシステムにおいてE95幅を調整することも適用対象としている。次にダブルチャンバシステムにおけるE95幅調整部の形態について説明する。例えば、ダブルチャンバシステムは、シードレーザ光を発生させるMO発振段レーザ200と、MO200から出力されたレーザ光を増幅するPO増幅段レーザ300とを有する。MO200においては、レーザチャンバ220のリア側に狭帯域化モジュール230が配置され、フロント側に出力カプラ250が配置される。狭帯域化モジュール230には、グレーティング231とプリズム232、233とが設けられる。PO300においては、レーザチャンバ320のリア側にリアミラー331が配置され、フロント側に出力カプラ350が配置される。この実施例ではリアミラー331は部分反射PR膜がコーティングされており、この膜の反射率は例えば80~90となっている。この実施例ではMO200は出力カプラ250とE95幅調整部とレーザチャンバ220と狭帯域化モジュール230を有する。MO200から出力されたスペクトル幅が狭いレーザ光はミラー501、502で反射され、PO300に注入される。PO300内ではリアミラー331に裏面からシードレーザ光が注入され、一部はこのリアミラー331を透過し、増幅段のレーザのリアミラー331とレーザチャンバ320と出力カプラ350の間でシード光が増幅され、レーザ発振する。PO300から出力されたレーザ光はビームスプリッタ503で分離され、一方のレーザ光は外部に出力され、他方のレーザ光はモニタモジュール560に入力される。モニタモジュール560では、ビームスプリッタ561でレーザ光が分離され、波長モニタ562でE95幅や中心波長が検出され、エネルギモニタ563でパルスエネルギが検出される。前述した第1~第7の形態をMO200に設けられているレーザチャンバ220のフロント側又はリア側に設けてもよい。図15はダブルチャンバシステムに第1~第3の形態を適用する場合の配置を示している。図16は第8の形態に係るE95幅調整部とレーザチャンバと狭帯域化モジュールの位置関係を示す。図17は第8の形態に係るE95幅調整部の構成を示し、図16に示すA方向からみたE95幅調整部を示している。第8の形態はスリットの間隔を調整するものである。E95幅調整部240は、グレーティング231の分散方向に移動自在の2枚のブレード401、402によってスリットを形成する。ブレード401およびブレード402は図示しないリニアガイドレールに移動自在に取り付けられている。ブレード401はバネが内蔵されたプランジャネジ403によってブレード402方向の付勢力を受け、ブレード402はバネが内蔵されたプランジャネジ404によってブレード401方向の付勢力を受ける。ブレード401とブレード402の間には三角部材405の頭部が挿入される。三角部材405はブレード401、402と同程度の厚みを持つ板状部材であり、レーザチャンバ220の放電方向と平行する方向に移動自在である。三角部材405の側面はブレード401、402に対して摺動自在に接し、三角部材405の底面はマイクロメータ406の頭部に接する。図17bに示すように、マイクロメータ406が伸張すると、三角部材405がブレード401、402間を進む。すると三角部材405の側面に沿ってブレード401、402が離隔する方向に移動する。図17aに示すように、マイクロメータ406が縮退すると、三角部材405がブレード401、402間から退く。すると三角部材405の側面に沿ってブレード401、402が接近する方向に移動する。このようにしてスリット間隔が変化する。グレーティング231が角度分散素子なので、分散方向に対してMO200のレーザ発振する領域を調整することにより、MO200のE95幅を調整することができる。なお、図16の構成では第8の形態に係るE95幅調整部240をレーザチャンバ220のフロント側に配置しているが、第8の形態に係るE95幅調整部240をレーザチャンバ220のリア側や狭帯域化モジュール230の内部に配置してもよい。図18に示すように、ダブルチャンバシステムにおいては、MO200とPO300の間の光路にE95幅調整部を配置してもよい。図19はMOとPOの間にシリンドリカルレンズが配置された様子を示す。MO200とPO300の間の光路には平凸シリンドリカルレンズ411と平凹シリンドリカルレンズ412とが互いに対向して配置されている。平凸シリンドリカルレンズ411と平凹シリンドリカルレンズ412の何れかは光軸に沿って移動自在にされている。移動機構としては例えば図2に示す機構と同一のものを用いればよい。また、平凸シリンドリカルレンズ411と平凹シリンドリカルレンズ412の代わりに、シリンドリカル凸レンズとシリンドリカル凹レンズを用いてもよい。平凸シリンドリカルレンズ411と平凹シリンドリカルレンズ412の間隔を調整することによって、PO300に注入されるビームの広がりのうち、MO200に搭載される分散素子グレーティング231の分散方向のビームの広がりを調整できる。結果としてPO300で増幅発振されるレーザ光のE95幅を変化させることができる。平凸シリンドリカルレンズ411と平凹シリンドリカルレンズ412の間隔を調整することによってビームを分散方向に対して広げると、E95幅は狭くなる。これに対して、平凸シリンドリカルレンズ411と平凹シリンドリカルレンズ412の間隔を調整することによってビームをグレーティング231の分散方向に対して狭めると、E95幅は広くなる。図20はMOとPOの間にプリズムが配置された様子を示す。MO200とPO300の間の光路には二つのプリズム421、422が配置されている。二つのプリズム421、422は回転自在にされている。回転機構としては例えば図14に示す機構と同一のものを用いればよい。プリズム421の回転方向とプリズム422の回転方向を逆方向にし、さらにそれぞれの回転角度を一致させる。すると、プリズム421、422によるビーム拡大倍率が変化する。ビーム拡大倍率を調整することによって、PO300に注入されるビーム幅のうち、MO200に搭載される分散素子グレーティング231の分散方向のビーム幅を調整できる。結果としてPO300で増幅発振されるレーザ光のE95幅を変化させることができる。プリズム421、422の回転角度を調整することによってビームの拡大倍率を大きくすると、E95幅は狭くなる。これに対して、プリズム421、422の回転角度を調整することによってグレーティング231の分散方向に対してビームの拡大倍率を小さくすると、E95幅は広くなる。図21はMOとPOの間にスリットが配置された様子を示す。MO200とPO300の間の光路にはスリット431が配置されている。スリット431としては例えば図17と同一のものを用いればよい。スリット431の間隔を調整することによって、PO300で増幅発振されるレーザ光のE95幅を変化させることができる。スリット431の間隔を広げると、E95幅は広くなる。これに対して、スリット431の間隔を狭めると、E95幅は狭くなる。PO300において、放電幅よりも狭いビームが注入されても、ビームに広がり角があれば、PO300の光共振器を光が往復することによって出力レーザ光は広がることが可能である。なお、本発明は三以上のレーザチャンバを有する狭帯域化レーザ装置に適用することも可能である。この場合もE95幅調整部をMOに設けたり、各段の間に設けたりすればよい。さらに、実施例ではダブルチャンバシステムとしてMOPO方式の例を示したが、本発明は、増幅段にレーザ共振器が設置されず、シード光をそのまま増幅するMOPA方式のダブルチャンバシステムにも適用可能である。本発明によれば、各レーザ装置間のE95幅等のスペクトル幅の偏差を小さくすることができ、また同一のレーザ装置においてもメンテナンス前後のE95幅等のスペクトル幅の偏差を小さくすることができる。そのためレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル幅は露光装置の光学システムのE95幅等のスペクトル幅の許容範囲を超えることはない。したがって、半導体の露光装置が形成する集積回路パターンの品質を安定化させることができるので、デバイスの歩留まりが向上する。さらに、レーザ製造およびメンテナンス時の歩留まりが向上するため、レーザの製造コストおよびメンテナンスコストが低減する。