"光を通す下部の担体層10とその上に設けられて実質的に光を通さない少なくとも1つの主層20とを持つ人工又は生体膜40の特性を光学測定するための微小構造化された測定チップ1であって、主層20が、測定室として構成されて上部開口25及び1つの内部側壁26又は複数の内部側壁26を有する複数の凹所30を持っているものにおいて、測定室30の側壁26が凹所27及び/又は隆起28を持っていることを特徴とする、微小構造化された測定チップ。凹所27と隆起28が測定室30の縦軸線の方向において交互に生じ、側壁26が、こうして形成される溝により実質的に波形の表面構造を持っていることを特徴とする、請求項1に記載の微小構造化された測定チップ。交互に生じる凹所27と隆起28又は溝が、0.1~0.6μmの間隔及び/又は20~110nmの深さを持っていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の微小構造化された測定チップ。測定室30が円筒又は円錐台の基本形状を持ち、溝を形成する凹所27及び隆起28が、側壁26を円状に取巻いていることを特徴とする、先行する請求項の1つに記載の微小構造化された測定チップ。下部の光を通す担体層10が、プラスチック又はガラス特にフロート法により製造されている硼珪酸ガラスからなることを特徴とする、先行する請求項の1つに記載の微小構造化された測定チップ。光を通さない主層20が珪素、又は金属又はプラスチックを持っていることを特徴とする、先行する請求項の1つに記載の微小構造化された測定チップ。主層20上に、なるべく二酸化珪素又は窒化珪素から成る覆い層12が設けられて、測定室30の開口25の上に、測定室の開口25より小さい口径を持つ覆い層開口14を持っていることを特徴とする、先行する請求項の1つに記載の微小構造化された測定チップ。測定チップ1の表面が、1つ又は複数の化学反応性及び/又は極性の被覆、特にポリ-エル-リジン及び/又はプロピオン酸及び/又はカルボキシル基及び/又は脂質誘導体及び/又はアミノ反応結合分子を持ち、それにより膜又は輸送系の適当な成分を測定チップ1に共有又は非共有結合することを特徴とする、先行する請求項の1つに記載の微小構造化された測定チップ。測定室30の1つ又は複数の側壁26及び/又は担体層10に近い方にある主層20の下側及び/又は測定室30に近い方にある覆い層12の下側及び/又は主層20の上側が、なるべく金属特に金又はチタンから成るそれぞれ1つの付加的な光を通さない被覆21を持っていることを特徴とする、先行する請求項の1つに記載の微小構造化された測定チップ。測定室30の深さ33と直径31との比が1より大きく、なるべく5特に10~50より大きいことを特徴とする、先行する請求項の1つに記載の微小構造化された測定チップ。測定室30がアレイとして設けられて、特に長円形に形成される測定室30′又は測定室開口25として構成されるなるべく光学的な標識を持っていることを特徴とする、先行する請求項の1つに記載の微小構造化された測定チップ。微小構造化された測定チップ1用の保持体200が、上側201、下側202及び上側から液体を充填可能な1つ又は複数の貯槽203を持つ板を含み、それぞれ1つの貯槽201の底が、板200の下側202に取付けられるそれぞれ1つの測定チップ又は接着される測定チップ1を持つカバーガラスにより形成されることを特徴とする、先行する請求項の1つに記載の微小構造化された測定チップ。基板として珪素を含むウエーハ300が使用されることを特徴とする、先行する請求項の1つに記載の人工膜又は生物膜40の特徴の光学的測定のための微小構造化された測定チップ1の製造方法。下部珪素層311、上部珪素層320及びその間に設けられて埋込まれる層312をもつ珪素ウエーハが使用され、特に絶縁物ウエーハ上のシリコーンであり、埋込まれる層312がなるべく二酸化珪素又は窒化珪素から成っていることを特徴とする、請求項13に記載の方法。測定室30が、なるべくDRIE方で、埋込まれている層312の所まで上部珪素層320へ食刻されることを特徴とする、請求項14に記載の方法。光を通さない被覆21が珪素ウエーハ300へ設けられることを特徴とする、請求項13~15の1つに記載の方法。食刻された測定室30を持つ珪素ウエーハ300の上部珪素層320が、なるべく陽極ボンディングにより担体層10に結合されていることを特徴とする、請求項14~16の1つに記載の方法。珪素ウエーハ300の下部珪素層311がなるべく食刻により除去されることを特徴とする、請求項14~17の1つに記載の方法。埋込まれる層312が、なるべく食刻により、完全に又は測定室30を覆う個所において選択的に除去され、それによりなるべく請求項7の特徴を持つ覆い層開口14が形成されていることを特徴とする、請求項14~18の1つに記載の方法。微小構造化された個々の測定チップ1が珪素ウエーハ300から鋸引きされ、特に請求項12に記載の板200保持体に接着されることを特徴とする、請求項14~19の1つに記載の方法。本発明の課題は、市販の普通の測定装置により、膜又は輸送系の特性を一層高い測定精度及び一層大きい輸送量で測定できる測定チップを提供することである。この課題は、光を通す下部の担体層とその上に設けられて実質的に光を通さない少なくとも1つの主層とを持つ人工又は生体膜の特性を光学測定するための微小構造化された測定チップであって、主層が、測定室として構成されて上部開口及び1つの内部側壁又は複数の内部側壁を有する複数の凹所を持っているものにおいて、測定室の側壁が凹所及び/又は隆起を持っていることによって解決される。これにより励起光が、下から光波長以上の寸法を持つ測定室へ進入して大きい蛍光信号を発生することができるけれども、強く弱められてのみ上部開口へ達する。本発明において、実質的に光を通す層とは、層が光に対して圧倒的に透過性であることを意味する。光を通さない層とは、吸収又は反射により、光に対して圧倒的に又は完全に不透過性であることを意味する。光とは、約400~700nmの電磁放射線の可視範囲を意味する。しかし概念はこれに限定されず、紫外線又は赤外線の隣接範囲も含むことができる。光学測定のために、蛍光灯の非干渉性光を持つ通常の蛍光顕微鏡、ただしレーザ走査顕微鏡も使用することができる。測定は、測定チップの光を通す担体層を通して下から行われる。従って担体層は、蛍光灯の励起光を通す。励起光によって、例えば適当な基質分子が測定室内の蛍光に励起される。それからこの蛍光は、蛍光顕微鏡の光学系に組込まれている適当なカメラにより測定され、続いて評価される。測定チップで得られる測定精度は、蛍光励起のみにより測定室内に発生される放射光がどの程度測定されるかに大きく関係している。即ち測定室外で発生される放射が付加的に測定されると、これは測定結果を悪くするか又は誤らせる妨害放射である。例えば測定室より上の膜又は測定液内の基質分子を励起することができる。この妨害放射を少なくするため、測定室の側壁は滑らかでなく、本発明により凹所及び/又は隆起を持っている。なめらかな鏡面の側壁は、妨害放射を測定室より上からカメラの所まで反射するが、凹所及び隆起は妨害放射を散乱し、従って測定室内での伝搬を最小にする。更に測定室からその上にある膜又は測定液への励起光の伝搬が少なくされる。全体として膜の中又は上の基質分子の放射の望ましくない光学的検出が最小にされ、膜内の基質分子の放射の圧倒的な検出が行われる。これは従来の蛍光顕微鏡でも可能である。有利な構成が従属請求項に示されており、以下に説明される。凹所と隆起が測定室の縦軸線の方向において交互に生じ、側壁が、こうして形成される溝により実質的に波形の表面構造を持っていると、測定精度の一層の改善が行われる。好ましい実施形態では、交互に生じる凹所と隆起又は溝が、0.1~0.6μmの周期的間隔を持っている。しかしこの間隔は数nm~数μmであってもよい。溝の深さ、即ち隆起の最高点と凹所の最低点との間隔は20~110nmであるが、数μmであってもよい。好ましい実施形態では、測定室が円筒又は円錐台の基本形状を持っている。測定室は主層にある凹所によって形成されるので、凹所自体は外形を持っていない。従って本発明の意味において測定室の基本形状とは、主層によって包囲されるその空所を意味する。この意味において測定室の側壁は、円筒又は円錐台の周面によって形成される。両方の実施形態では、溝を形成する凹所及び隆起が、側壁を円状に取巻いており、即ち測定室も溝も、測定室の縦軸線に対して直角な断面においてほぼ円形である。このように波形の表面構造は、珪素の深度食刻のため反応珪素-イオン-深度食刻DRIE、ボッシュ処理によって得られる。これは食刻処理と不働態化段階との交互の連続を含み、食刻方向に対して直角に側壁の波形構造又は櫛形構造を生じる。溝の形状及び間隔は処理設定及び食刻深さに応じて変化する。不透性でむしろ鏡のように輝く材料から成る側壁にある溝は、入射する励起光及び測定室内の放射光の散乱を生じ、他方滑らかな側壁は、むしろ測定室による光の反映従って光ファイバにおけるような伝送を可能にするであろう。これにより測定チップの下側から入射する励起光は、測定室の上部開口からの漏出から一層よく遮蔽される。同様に測定室より上の妨害放射は、測定室の底からカメラまでの通過によって一層特遮蔽され、測定精度が全体として一層改善される。下部の光を通す担体層は、例えばプラスチック又はガラスから成っている。特にフロート法により又は磨きウエーハとして製造されている硼珪酸ガラスが適していることがわかった。微小構造化されて光を通さずかつ測定室として役立つ凹所を持つ主層が、金属、プラスチック又は珪素を含んでいる。珪素という概念は珪素化合物も含んでいる。珪素は、加工する場合従って凹所を形成する場合、電子マイクロチップの分野から一部公知の方法を使用できる、という利点を持っている。主層上に、なるべく二酸化珪素及び/又は金属から成る覆い層を設けることができる。その場合覆い層は測定室の開口の上に設けられる開口を持っている。覆い層にある開口は、測定室の開口の上に設けられているのがよい。覆い層の開口の口径は、測定室の開口の口径より小さい。これにより覆い層により絞りが形成されて、測定チップの下側から入射する励起光を、測定室の上部開口から出る際一部遮蔽することができる。同様に覆い層の上の妨害放射も遮蔽される。これにより測定精度が更に改善される。別の利点は、測定チップの実施形態が、生物学的に規定される輸送体密度を持つ生体膜に適していることである。生体膜における単位面積当たりの輸送たん白質の数は、直ちには変化しないので、測定室容積が変化しない場合、なるべく1つ又は少数の輸送たん白質だけが覆い層開口上にあるように、覆い層開口の口径を選ぶことができる。これが、延長される測定期間で一層正確な測定を可能にする。測定チップの表面が、1つ又は複数の化学反応性及び/又は極性の被覆、特にポリ-エル-リジン及び/又はプロピオン酸及び/又はカルボキシル基及び/又は脂質誘導体及び/又はアミノ反応結合分子を持ち、それにより人工膜又は自然膜を測定チップに直接又は間接に共有結合又は非共有結合することができる。測定室の1つ又は複数の側壁及び/又は担体層に載っている主層の下側及び/又は測定室に近い方にある覆い層の下側及び/又は主層の上側が、なるべく金属特に金又はチタンから成るそれぞれ1つの付加的な光を通さない被覆を持っている。これは、なるべく公知のPVD法物理蒸着により行われるのがよい。被覆は複数の利点を持っている。主層の残留透光性が存在する限り、これは被覆により回避される。こうして珪素は、600nmまでの可視光の波長に対して透過的でない。深紅光及び赤外光に対して、珪素はますます透過的である。励起光又は妨害放射がこの波長範囲にあると、珪素は妨害となるであろう。光を通さない付加的な被覆は、この場合測定精度を改善する。別の利点は、金から成る被覆では、被覆が接触し、電気的測定又は励起のために電極として利用されることである。更に別の利点は、上記の化学反応又は極性被覆との組合わせで生じる。測定室の側壁にある金から成る被覆に、βメルカプトエタノール又はメルカプトプロピオン酸のようなチオール化合物、ただし受容体活性化の検出システムの成分も結合可能である。珪素又は二酸化珪素から成る層はこれを結合せず、それによりシラン化によって選択的に変更することができる。それにより測定チップの測定室及び上側の異なる変更が可能になり、これが特定の測定課題に対して有利である。測定室の深さと直径との比が1より大きく、なるべく5特に10~50より大きいことによって、測定室の側壁に対して平行に入射する励起光の実質的に僅かな成分だけが、測定室の上部開口を通って伝搬することができる。これに反し側壁に対して平行に入射しない励起光の成分は、測定室を通る途中に側壁で散乱されるか又は吸収されるが、測定室の下部範囲で蛍光を励起する。この効果は、測定室の上方へ小さくなる直径によって強められる。それにより測定精度が更に改善される。本発明は更に上述した微小構造化された測定チップの保持体を含んでいる。保持体は、上側、下側及び上側から液体を充填可能な1つ又は複数の貯槽を持つ板を含んでいる。保持体は、例えば市販の微小滴定板に類似の直方体の形状を持ち、同じように使用することもできる。好ましい実施形態では、幅、長さ及び/又は高さに関して、微小滴定板又はカバーガラスに対してANSI規格を満たす規格化された寸法を持っている。しかし市販の微小滴定板とは異なり、貯槽は貫通する通路であり、即ち底を持たず、下部開口を持っている。貯槽の底は、むしろ板の下側に取付けられる測定チップによって初めて形成される。保持体のすべての測定チップは、保持体の大きさの薄いガラス担体上へ初めて接着し、下から貯槽へ沈めることができるので、ガラス担体は保持体の下に接着される。取付けは、耐水及び水密の接着剤によって行うことができ、しかも測定室が貯槽の方向を向くように行うことができる。貯槽へ測定液を充填する際、こうして測定チップの測定室も充填される。UV硬化される接着剤又は接着フィルムを持つチップが、貯槽の下部開口の下へ接着され、調節後接着剤がUV光の照射により硬化されるのがよい。その代わりに付加的なガラス担体を使用する場合、シリコーン接着剤なるべくシルガード184が、ガラス担体上に測定チップを接着するのに適していることがわかった。貯槽は、こうして微小構造化された測定チップのために、適当な測定液用の容器を形成する。光学測定は、保持体の下側から、測定チップの光を通す担体層を通して、又は付加的にガラス担体及び接着剤を通して、上述したように行われる。本発明は更に、上述した特徴を持つ微小構造化された測定チップの製造方法に関する。この場合原材料として又は基板として、集積回路の製造のためマイクロエレクトロニクスにおいて使用されるような珪素ウエーハが使用される。その利点は、例えば写真石版及び食刻のような公知の微小構造化方法を利用できることである。絶縁体ウエーハ上の珪素又は略してSOIウエーハが特に適している。このSOIウエーハは従来技術により公知であり、3つの層、即ち下部珪素層、上部珪素層及びその間に設けられて電気絶縁特性を持ついわゆる埋込み層から成っている。埋込み層は例えば二酸化珪素又は窒化珪素から成っている。SOIウエーハから製造されている電気部品例えば集積回路は、比較的短い開閉時間及び比較的小さい消費電力を持っている。なぜならば、埋込み層により漏れ電流が回避されるからである。驚くべきことに、二酸化珪素から成る埋込まれる層を持つSOIウエーハの使用が、微小構造化される測定チップの製造の際利点を持っていることがわかった。製造方法は次の段階を持っている。即ち測定室が珪素ウエーハの埋込まれる層の所まで上部珪素層へ食刻される。その際珪素のみを選択的に腐食させて溶解する食刻媒体が使用されると、埋込まれる層が食刻過程を有利に停止する。食刻媒体として酸又はガスをなるべくDRIE法で使用することができる。望まれる場合、それから例えばチタン及び/又は金のような光を通さない付加的な被覆が、上部珪素層上に設けられる。それから食刻された測定室を持つ珪素ウエーハの上部珪素層が、なるべく陽極ボンディングにより担体層に結合され、その際測定室の以前の開口が、底としての担体層によりその下側となる。それから珪素ウエーハの下部珪素層がなるべく食刻により除去される。この方法段階においても、選択的に珪素を腐食させて溶解する食刻剤が使用されると、埋込まれる層が食刻過程を有利に停止する。それから埋込まれる層が、なるべく食刻により、完全に又は部分的に除去され、その際埋込まれる層を腐食させて溶解する特別な食刻剤例えば弗化水素酸が使用される。部分的除去の際埋込まれる層は、測定室開口を覆う個所で、写真石版法により選択的に構造化される。埋込まれる層は、それから測定チップの覆い層開口を持つ覆い層を形成する。最後に、微小構造化された個々の測定チップが珪素ウエーハから鋸引きされ、特に2×2mm~10×10mmの大きさにされる。特に好ましい大きさは2.5×2.5mmである。測定チップは個々に使用でき、特に上述した保持体に接着することができる。図面を参照して、本発明が例により説明され、それ以外の有利な詳細が図面の図からわかる。その際機能的に同じ部分は同じ符号を付けられている。図1は本発明により測定チップ1の一部の垂直断面図を示す。図示しない平面図において測定チップ1は正方形で、2.5×2.5mm、従って6.25mm2の全面積を持っている。測定チップ1は互いに結合される層又は材料から成っている。それは、土台として、フロート法で製造されるか又は研磨されて光を通す硼珪酸ガラスから成る担体層10を持っている。ボロフロート30又はパイレックスが適切であることがわかった。担体層10の厚さは約140~200μmであるが、それより厚くても薄くてもよい。担体層10は励起光80又は放射される蛍光8を通す。担体層10上には、実質的に光を通さない珪素から成る主層20が設けられて、測定チップ1の上側17を形成している。完全性を期するため書き留めておくべきことは、珪素から成る主層20が外面を空気により酸化され、こうして表面のnmの厚さの二酸化珪素層が形成される。主層20は陽極ボンディングにより担体層10に固定的に結合されている。主層20は円筒状の連続する凹所を持っている。凹所は円筒状空所により測定室30を形成している。測定室30の一方の内部側壁26は、いわば円筒の周面により形成され、円形の上部開口25はその天井面により形成される。主層20は貫通する凹所を持っているので、各測定室320の底18は、光を通す担体層10の上側又は上面により形成される。測定室30は10~30μmの深さ33を持っているが、数nm~mmの深さも可能である。測定室30の直径31は約1μmであるが、数nm~1mmの直径も可能である。個々の測定室30の縦軸線の間隔32は2.5μm~4μmであるが、数nm~1mmの間隔32も可能である。各測定室30の側壁26は滑らかでなく、波形又はひだ付き表面構造を形成する交互の凹所28及び隆起27を持っている。波の周期は100~600nmの大きさであるが、数nm~数μmであってもよい。図2は測定室1の他の実施例の測定室の詳細図を縦断面図で示す。この実施例では、測定室30の深さ22と直径31との比は約1:10である。これにより測定室壁26に対して実質的に平行に入射する励起光80のみが、測定室の開口を通って伝搬することができる。測定室30の側壁26は、測定室30の中心軸線の方向に反復する隆起27及び凹所28によって形成される波形の表面構造を持っている。滑らかな鏡面の側面は、測定室30へ入射する光を更に上方へ反射することになる。これに反し波形の表面構造によって、測定室30内又は測定室30からの励起光80又は妨害放射82図示せず、図3参照の望ましくない伝搬が減少されるこれは、基質分子60のみが測定室30内で励起されて検出されるようにするので、望ましくない。この効果は、ちょうど下から入射して凹所27及び隆起28により散乱又は転向される図示しない蛍光灯の励起光80の不干渉光束によって明らかにされる。これにより、測定室30を通ってその上にある膜及び測定液図示せず、図3参照への励起光80の伝搬が著しく少なくされる。図3は、図1におけるような測定チップの一部を示す。測定の際測定チップ1と共に使用される脂質膜40も示されている。脂質膜40は測定チップの上側17へ取付けられているので、少なくとも若干の測定室開口25が脂質膜により覆われて閉鎖される。膜40は、負荷される際自動的にチップ表面に融合して膜40を形成できる人工のプロテオリポソームから製造されている。膜40は、輸送分析のため、個々の輸送たん白質50例えばチャネルたん白質を含んでいる。膜40の上に、固有の蛍光を発するか又は蛍光色素で標識付けされて光学的に検出可能な基質分子60が付加される。膜40へ入れられる輸送たん白質50により、測定チップ1の測定室30へ基質分子60の輸送は、輸送たん白質50に対して特有であり、測定室30における蛍光の検出によって測定することができる。これは、輸送割合及び透過性のように特別なパラメータの逆推論を可能にし、例えば医薬用添加剤候補の評価を可能にする。測定は水性媒体中で行われ、即ち測定室30、膜40、たん白質50及び基質たん白質60は、図示しない測定液体側たとえば適当な塩含有緩衝液により包囲されている。図示されているように、測定のため保持体200図示せず、図9参照が使用されると、測定チップ1は、測定チップ1の上に測定液を満たされている貯槽203の底を形成する。測定は例えば蛍光顕微鏡図示せずによって行われ、それにより基質分子60の蛍光を励起する励起光80用の蛍光灯又はレーザが提供される。その際励起光80破線で示すは、下からほぼ直角に光を通す担体層10を通って測定室30へ入射されて、測定チップ1の上側から膜40を通って測定室30へ搬送される基質分子60を蛍光となるように励起する。励起される基質分子60から出る蛍光放射81点線で示すは、測定室30から光を通す担体層10を通って放射され、適当なカメラ又は蛍光顕微鏡の検出器図示せずにより測定される。図2に示すように、波形の表面構造により、測定室30から励起光80の望ましくない伝搬が少なくされる。しかし励起光80の若干の残り成分が測定室30及び膜40を通って放射されることがあると、測定チップ1の上方従って測定室30外にあって膜40を経て測定室30へ輸送されなかった基質分子60も望ましくないように励起されて、妨害放射82を生じる。波形表面構造27,28により、測定室30を通って測定チップ1より上の妨害放射82がカメラへ伝搬するのを最小にされる。これにより測定精度の著しい改善が行われる。図4は、図1に示すものにほぼ一致しているけれども付加的な覆い層12を持つ測定チップ1の別の好ましい実施例を示す。覆い層12は主層20上に設けられている。覆い層12は、測定室30の開口25の上に設けられている開口14を持っている。覆い層12にあるそれぞれの開口14は、測定室30の開口の中心の上に設けられている。覆い層12の開口14の口径は、測定室30の開口25の口径より小さい。その利点は、図4に示す測定チップ1の実施例が、生物学的に規定される輸送体密度を持つ生体膜に対して特に適していることである。単位面積当たりの輸送たん白質50の数が人工膜40におけるようには変化しないので、測定室30の容積が変化しない場合、なるべく1つ又は少数の輸送たん白質50しか覆い層開口14の上に存在しないように、覆い層開口14の口径を選びかつ最適化することができる。測定精度は覆い層12によって高められる。なぜならば、単位時間当たり少数の基質分子が測定室30内へ輸送され、高い輸送速度のため覆い層開口14なしでは不可能になる時間的に分解される測定が行われるからである。図5は、二酸化珪素から成る覆い層12及びチタン及び/又は金から成る付加的な光を通さない被覆21を持つ測定チップ1の別の実施例の詳細な垂直断面図を示す。金が使用される場合、チタンは接着媒体として役立つ。金属被覆21を持つ測定チップ1の構成部分が、図5に太い線で示されている。これは測定室30の側壁26、測定室30に近い方にある覆い層12の下側16、及び担体層10に載っている主層20の下側24である。金属被覆21は複数の利点を持っている。まず覆い層12として、光を通す二酸化珪素を使用することができる。これは、測定チップ1を製造する場合利点を持っている。珪素から成る主層20は、600nmまでの可視光の波長に対して実質的に不透明である。しかし深紅の光及び赤外光に対して、珪素は次第に透明になる。これは、励起光80又は妨害放射82図示せずがこの波長範囲にある時、有害になる。しかしチタン及び金は、赤外光の波長範囲の中まで光を通さない。それにより被覆される覆い層12により絞りが形成されて、測定チップ1の下側から入射される励起光80図示せず、図2参照を、測定室30から出る際一部遮蔽する。同様に覆い層12より上の妨害放射が遮蔽される。付加的な光を通さない金属被覆21は、従って測定精度を改善する。その代わりに、覆い層12より上の金属被覆によって同じ効果を得ることができる。別の利点は、金属被覆21が接触を行い、電気測定又は励起のために電極として利用可能なことである図示せず。こうして金属被覆21は、膜40、細胞層又は膜にある輸送システム図示せずの電気特性の特徴づけのために使用することができる。その際測定チップ1は、その上に張られる膜40又は細胞図示せずのインピーダンスを測定できるように使用することができる。これにより膜40、細胞層又は組織層の密度を求めることができる。しかし測定チップ1を、金属被覆21により、更に電界の発生のためにも、特に電圧に感応する輸送システムの制御のために使用することができる。これは、例えば電圧に関係するイオンチャネル、即ち膜電圧の特定の限界値において開閉するイオンチャネルである。印加される電界の変化により、結果として膜40を介する基質分子60の輸送70の変化が生じる図示せずことになる機能的開閉過程が開始される。その場合基質分子60を、測定室30において蛍光により検出することができる。測定チップ1の別の使用は、測定チップ1の上部覆い層12が孔たん白質例えばイオンチャネルを含む脂質膜で覆われていることである。測定のため、測定チップの金属チップ上側17の金被覆21又は付加的な金属被覆として作用する電極へ、電界が印加される。膜より上の溶液内の他の電極は膜電位を生じる。印加される電圧はイオンチャネルを活性化する。従って測定チップ1の図示した実施例は、生物学的輸送系が電気的に機能するように開閉され、同時にそれにより生じる膜40を介する輸送が、蛍光により光学的に測定可能である、という利点を持っている。更に別の利点が、図示しない化学反応性又は極性被覆との組合わせで生じる。測定室30の側壁26にある金属被覆21に、標準化されて、βメルカプトエタノール又はメルカプトプロピオン酸のようなチオ化合物が、ただし受容体活性化の検出系の成分も結合することができる。珪素から成る主層20又は酸化珪素から成る覆い層12は、これらを結合せず、従ってシラン化により選択的に変更することができる。それにより測定室30の側壁26及び測定チップの上側17の異なる変更が可能になり、これは特定の測定課題のために有利である。図5は更に覆い層12の作用を示す。測定室30の開口25の上の中心に、覆い層12の開口14が設けられている。励起光束80が下から入射されると、それが覆い層12により一部絞られるか、又は覆い層12の下側16にある金被覆21により反射されて、減少した強さでのみ測定チップ1より上の範囲へ達し、それが測定精度を高める。測定チップ1より上の妨害放射は、図示した実施例では、二酸化珪素から成る光を通す覆い層21を貫通するが、金被覆21により反射される。図6は、円錐台状測定室30を持ち珪素から成る主層20を持つ測定チップ1の別の実施例の垂直断面図を示す。円錐台状とは、測定室30の下部直径35が、担体層10の測定室底18から測定室上部開口25まで減少していることを意味する。この場合測定室1の下側から入射する励起光80は、測定室30の上部開口25から出るのを一層よく防止される。図6は、側壁26の波形の表面構造により、上方へ先細になる測定室30に関連して、下から入射する励起光80の大部分が測定室開口25からもはや出ないことを示している。同様に妨害放射82図示せずが、主層20より上で小さい上部開口25により一層よく遮蔽される。両方の特徴の共同作用によって、測定チップ1により得られる測定精度が更に著しく高められる。図7は測定チップ1の平面図を示す。図は、測定チップ1の部分図で、アレイの形で設けられている測定室30,30′を示している。図示した測定室30は1μmの直径31を持っているが、数nm~数100μmの直径を持つ実施例も可能である。測定室の中心の間隔32は2.5~4μmであるが、数nmも可能である。測定室30は円筒の基本形状を持っている。しかし図7に示すように、測定チップ1は、異なる形状、図示した平面図では断面が長円形の測定室30′を持っている。その際選ばれた数、図示した測定チップでは11個の測定室30の後に周期的に、それぞれ1つの長円形の測定室30′が設けられ、しかもアレイの縦方向にも横方向にも設けられている。これらの測定室30′は、カメラにより認識可能な光学標識として役立ち、測定室30の位置の簡単化された一義的な対応や、測定中における測定チップ1の側方移動の手段又は自動修正を可能にする。図8aは、上述した微小構造化された測定チップ1用保持体200の垂直断面図を示す。保持体200は、上部開口205を通して充填可能な貯槽203を持つ直方体状板、なるべく市販の微小滴定板に類似しているが長さ及び幅を対象担体サイズに合わせた類似の室を含んでいる。保持体200はなるべく微小滴定板の標準化された高さを持っている。しかし市販の微小滴定板とは異なり、貯槽203は貫通する通路を持ち、即ちそれは底を持たず、下部開口210を持っている。貯槽203の底は、板の下側に例えば紫外線で硬化する接着剤で取付けられる測定チップ1により初めて形成され、その際接着剤は、測定チップ1の調節後紫外光により硬化される。貯槽203は、このようにして微小構造化された測定チップ1により、所望の測定液を満たすことができる室を形成する。測定チップ1は、その上側17の図示しない測定室開口が貯槽203の方を向き、それにより測定室30が貯槽203を通して充填可能であるように設けられている。光学測定は、保持体200の下側202から、測定チップ1の光を通す下部担体層10を通して行われる。図8aは更に、貯槽203の直径がその下の部分で上方へ増大することによって、その容積が大きくされることを示し、即ち貯槽203の上部開口205の直径がその下部開口210の直径より大きく、この下部開口が測定チップ1の面積より若干小さく、それにより測定チップが下部開口210の下へ密封するように接着可能である。図8bは保持体200の上側201の平面図を示す。保持体200は市販のスライドガラスの長さ及び幅を持っている。例えば下に接着される測定チップ1を持つ16個の貯槽203が設けられている。上部開口205の中心の間隔は9mmであり、上部開口206の直径は6mmであり、直径は下方へ先細になっているので、下部開口210は2mmの直径を持っている。下部開口210の下には、辺長が3×3mmの正方形の測定チップ1が接着されている。図9は保持体200bの別の好ましい実施例の垂直断面図を示す。保持体200bは、図8aに示したように、上部開口205を通して充填可能な貯槽203を持つ直方体状板を含んでいる。しかし貯槽203の底は、約50~200μmの厚さのカバーガラス215により形成されている。このためまずすべての測定チップ1が、透明な非蛍光接着剤なるべくシリコーン接着剤特にシルガード184により、カバーガラス215上へ全面で接着される。それからカバーガラス215全体が保持体200bの下へ接着され、すべての貯槽203を密封し、測定チップ1が貯槽203へ埋込まれる。こうして貯槽203が、カバーガラス215により、所望の測定液を充填できる室を形成する。測定チップ1が下部開口210に場所をとることができるようにするため、下部開口210は図8aに示す保持体200におけるより少し大きい。カバーガラス215は光を通すので、カバーガラス215を通して下から光学測定を行うことができる。図10は、従来技術によりこうちのSOIウエーハ300の一部の垂直断面図を示す。これは、従来技術によれば電子部品及び集積回路の製造用原材料又は基板として使用される。しかし本発明では、これは微小構造化された測定チップ1の製造用原材料又は基板として用いられる。本発明による製造では、写真石版法及び食刻のように電子部品の公知の製造方法が有利に使用される。公知のSOIウエーハ300は、サンドイッチのように、互いに固定的に結合された3つの層から構成されている。即ち下部の厚く光を通さない珪素層311、上部の薄く光を通さない珪素層320、及びその間に設けられて電気絶縁特性を持ちかつ光を通す二酸化珪素から成る非常に薄いいわゆる埋込まれる層312。図10に示すSOIウエーハ300から本発明による微小構造化された測定チップ1を製造する方法は、大体において図11~15により以下に説明される段階を含んでいる。上部の薄く光を通さない珪素層320へ、まず写真石版法及びDRIEボッシュ処理又は湿式化学食刻のような適当な食刻法により、後で測定室として役立つ凹所30が形成される。ボッシュ処理を使用すると、その際交代する通常の食刻段階と不働態化段階により交代する凹所27と隆起28が側壁26に形成されて、大体において波形の表面構造を生じされる。食刻の際、珪素のみを溶解するが二酸化珪素を溶解しない食刻媒体が使用される。従って食刻は、いわば停止層として作用して食刻過程を停止させる埋込まれる二酸化珪素層312の所までのみ有利に行われる。図11は、上部珪素層320に食刻されて波形の側壁を持つ測定室30を有する図10のウエーハ300を示す。所望の場合、例えばチタン又は金から成る金属被覆を上部珪素層上へ設けることができる。その後図12に示すように硼珪酸ガラスから成り光を通す担体層10が、陽極ボンディングにより上部珪素層320上へ取付けられる。それから図13に示すように、下部珪素層311が食刻により除去される。この方法段階においても、食刻が、食刻過程を停止させる埋込まれた二酸化珪素層312の所までのみ有利に行われる。図14は、このように処理されるSOIウエーハ300がその後ひっくり返されて、転倒位置にある。それにより担体層10が最下層になり、SOIウエーハ300の上部珪素層320が測定チップ1の後になっての主層20になる。SOIウエーハ300の最初に埋込まれる層312は最上層であり、測定チップ1の後になっての覆い層12を形成する。その後、測定チップ1の覆い層12を形成する埋込まれた層312が、写真石版法及び適当な食刻法により部分的に構造化されるか又は完全に除去されるので、測定室30の上方のなるべく中心に設けられて絞りとして作用する開口14が形成される。これが図4に相当する図15に示される。埋込まれる層312は完全に除去することもでき、それにより図1に示すような測定チップ1の実施例が製造される。最後にSOIウエーハから個々の測定チップ1が鋸引きされる。測定チップ1は個々に使用するか、又は図8に示すように上述した保持体200の下へ接着することができる。"