"第1基板と、第2基板とを有し、前記第2基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第1基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記第1基板は、走査線を有し、前記第2基板上に形成される前記複数の柱状スペーサは、前記走査線の延長方向に等間隔で配置されておらず、かつ又は、一直線上に配置されておらず、ランダムに配置されていることを特徴とする表示装置。第1基板と、第2基板とを有し、前記第2基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第1基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記第1基板は、走査線を有し、前記第1基板と前記第2基板との間に貼り合わせずれが生じない場合に、前記第2基板に形成される前記複数の柱状スペーサの一部の柱状スペーサは、その先端部の全ての領域において前記第1基板上に形成される凸部に対向しておらず、一部の領域において前記第1基板上に形成される凸部に対向していることを特徴とする表示装置。第1基板と、第2基板とを有し前記第2基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第1基板は、前記柱状スペーサの先端部が対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記第1基板は、走査線を有し、前記第1基板と前記第2基板との間に貼り合わせずれが生じない場合に、前記第2基板に形成される前記複数の柱状スペーサの各々の柱状スペーサは、その先端部の全ての領域において前記第1基板上に形成される凸部に対向しておらず、一部の領域において前記第1基板上に形成される凸部に対向していることを特徴とする表示装置。前記第1基板の、前記柱状スペーサの先端部が対向する凸部は、前記走査線上に形成されることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の表示装置。前記第1基板の、前記柱状スペーサの先端部が対向する凸部には、台座が形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の表示装置。前記第1の基板と前記第2の基板との間には液晶が封止されており、前記第1基板は、前記液晶側の面に配向膜を有し、前記台座層は、第1基板と、前記配向膜との間に配置されることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の表示装置。前記柱状スペーサの先端部は、前記凸部に接触していることを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載の表示装置。第1基板と、第2基板とを有し、前記第2基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第1基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記柱状スペーサうちの隣接する2つの柱状スペーサの中心を結ぶ線と、前記凸部のうち、前記隣接する2つの柱状スペーサに対応する2つの凸部の中心を結ぶ線とが平行ではないことを特徴とする表示装置。例えば、柱状スペーサはCF基板上に形成されるが、ODF方式では、常時、TFT基板とCF基板との間のギャップ間隔を維持する柱状スペーサのTFT基板への接地面積の大小によって不具合が発生する。柱状スペーサのTFT基板への接地面積が大きいと、TFT基板とCF基板間の反発力が強く、液晶表示パネル内に気泡ができ、一方、柱状スペーサのTFT基板への接地面積が小さいときは、押し耐性が低下し輝度むらや、液晶漏れが発生する。そのため、ODF方式を適用する液晶表示パネルでは、メイン柱状スペーサの密度を低くして、メイン柱状スペーサのTFT基板への接地面積を従来と比べて少なくし、サブ柱状スペーサにより、押し耐性低下を防止している。この場合、TFT基板とCF基板との間に貼り合わせずれが生じた場合、密度の低いメイン柱状スペーサのTFT基板への接地面積が変動し、押し耐性の低下による輝度むらや、液晶漏れが発生する。そして、ODF方式では、TFT基板とCF基板との間に貼り合わせずれによる、メイン柱状スペーサのTFT基板への接地面積の変動率が大きく、貼り合わせの裕度が狭くなっている。本発明は、前記従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、基板間の間隙に液晶を封止する液晶表示装置をはじめ、基板間に間隙を有する有機EL表示装置や他の表示装置において、第1基板と第2基板との間に貼り合わせずれが生じても、柱状スペーサの先端部の第1基板への接地面積の変動率を少なくすることが可能となる技術を提供することにある。本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかにする。本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。1第1基板と、第2基板とを有し、前記第2基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第1基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記第1基板は、走査線を有し、前記第2基板上に形成される前記複数の柱状スペーサは、前記走査線の延長方向に等間隔で配置されておらず、かつ又は、一直線上に配置されておらず、ランダムに配置されている。2第1基板と、第2基板とを有し、前記第2基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第1基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記第1基板は、走査線を有し、前記第1基板と前記第2基板との間に貼り合わせずれが生じない場合に、前記第2基板に形成される前記複数の柱状スペーサの一部の柱状スペーサは、その先端部の全ての領域において前記第1基板上に形成される凸部に対向しておらず、一部の領域において前記第1基板上に形成される凸部に対向している。3第1基板と、第2基板とを有し前記第2基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第1基板は、前記柱状スペーサの先端部が対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記第1基板は、走査線を有し、前記第1基板と前記第2基板との間に貼り合わせずれが生じない場合に、前記第2基板に形成される前記複数の柱状スペーサの各々の柱状スペーサは、その先端部の全ての領域において前記第1基板上に形成される凸部に対向しておらず、一部の領域において前記第1基板上に形成される凸部に対向している。41ないし3の何れかにおいて、前記第1基板の、前記柱状スペーサの先端部が対向する凸部は、前記走査線上に形成される。51ないし3の何れかにおいて、前記第1基板の、前記柱状スペーサの先端部が対向する凸部には、台座が形成されている。64または5において、前記第1の基板と前記第2の基板との間には液晶が封止されており、前記第1基板は、前記液晶側の面に配向膜を有し、前記台座層は、第1基板と、前記配向膜との間に配置される。71ないし6の何れかにおいて、前記柱状スペーサの先端部は、前記凸部に接触している。8第1基板と、第2基板とを有し、前記第2基板は、複数の柱状スペーサを有し、前記第1基板は、前記柱状スペーサの先端部に対向する領域に凸部を有する表示装置であって、前記柱状スペーサうちの隣接する2つの柱状スペーサの中心を結ぶ線と、前記凸部のうち、前記隣接する2つの柱状スペーサに対応する2つの凸部の中心を結ぶ線とが平行ではない。以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。また、以下の実施例は、本発明の特許請求の範囲の解釈を限定するためのものではない。[実施例1]本実施例の液晶表示装置は、一対のガラス基板の一方のガラス基板に形成された画素電極と、対向電極との間で電界を印加して液晶分子を駆動する、所謂、IPSInPlaneSwitching方式の液晶表示パネルを有する液晶表示装置である。図1は、本発明の実施例の液晶表示パネルの電極構成を示す平面図であり、図2は、図1のA-A切断線に沿った断面構造を示す断面図である。本実施例の液晶表示パネルでは、液晶層LCを挟んで、TFT基板本発明の第1基板と、CF基板本発明の第2基板とが設けられる。図2に示すように、TFT基板は、透明基板例えば、ガラス基板SUB1を有し、透明基板SUB1の液晶層側には、透明基板SUB1から液晶層LCに向かって順に、走査線ゲート線ともいうGL、ゲート絶縁膜PAS1、aSi半導体層MTL、映像線ソース線またはドレイン線ともいうDL、画素電極に接続される電極ドレイン電極またはソース電極SD、層間絶縁膜PAS2、画素電極との間で電界を生じさせるための対向電極CTL、配向膜AL1が形成される。なお、透明基板SUB1の外側には偏光板POL1が形成される。図2では図示されていないが、対向電極上には絶縁膜と画素電極とが形成されており、画素電極は層間絶縁膜PAS2と前記絶縁膜とに設けられたコンタクトホールを介して電極SDに接続されている。また、TFT基板とCF基板とは、液晶を封止するために所定の距離離間された状態で固定されている。固定は、周辺部に設けられた樹脂製のシール剤の接着により行われている。CF基板は、透明基板例えば、ガラス基板SUB2を有し、透明基板SUB2の液晶層側には、透明基板SUB2から液晶層LCに向かって順に、遮光膜BM、赤緑青のカラーフィルタCF、平坦化膜OC、配向膜AL2が形成される。なお、透明基板SUB2の外側には偏光板POL2が形成される。また、本実施例の液晶表示装置では、透明基板SUB2の主表面側が観察側となっている。本実施例では、対向電極CTLは面状に形成され、対向電極と液晶層との間に設けられる画素電極PXには複数のスリットSLTが形成される。本実施例の液晶表示装置では、画素電極PXと、対向電極CTLとが、層間絶縁膜を介して積層されており、画素電極PXと対向電極CTとの間に形成されるアーチ状の電気力線が液晶層LCを貫くように分布することにより液晶層LCを配向変化させる。画素電極PXおよび対向電極CTLは、例えば、ITOIndiumTinOxide等の透明導電膜で構成される。さらに、画素電極PXと対向電極CTLとが、層間絶縁膜を介して重畳しており、これによって保持容量を形成している。尚、画素電極と対向電極との配置はこれに限定されず、層間絶縁膜PAS2を介して画素電極を対向電極とを配置する構造であってよく、また、ゲート絶縁膜を介して画素電極と対向電極を配置する構造であってもよい。また、画素電極と対向電極との配置を逆転させ、画素電極を面状とし、対向電極にスリットを設ける構造であってもよい。尚、本実施形態では、層間絶縁膜PAS2は有機膜を想定しているが、上述のような種々の構成を採用する上では有機膜から無機膜へと変更することも可能性である。図1に示すように、走査線GLと、映像線DLとで囲まれる矩形状の領域内に、1サブピクセルが形成される。この1サブピクセルが形成される領域は、CF基板SUB2側に形成される遮光膜BMによって遮光されることから、実質的な1サブピクセルが形成される領域として機能する領域は、遮光膜BMの開口部図2において太線で示しているとなる。また、図1において、TFTは、アクティブ素子を構成する薄膜トランジスタである。透明基板SUB2の、図1の10の位置には、一対の透明基板SUB1,SUB2間のギャップを一定に保持するための柱状スペーサSPAが形成される。この柱状スペーサSPAは、図2に示すように、TFT基板SUB1側では、薄膜トランジスタTFTが形成される位置に形成される。柱状スペーサSPAは、感光性樹脂で構成され、透明基板SUB2の遮光膜BM上に形成される。なお、遮光膜BM上に形成される柱状スペーサSPAは、実際の製品では複数個形成される。また、TFT基板SUB1の、走査線GL上の柱状スペーサSPAの先端部が接触する領域には、TFTのaSi半導体層MTLが形成される。つまり、aSi半導体層を中心に、映像線DLと画素電極に接続される電極SDとによって柱状スペーサの台座が構成される。なお、柱状スペーサの先端部が接触する箇所を、TFT形成領域から離間させた走査線GL上に形成してもよい。この場合、柱状スペーサの先端部が接触する箇所にアルミニウムAl等の金属膜、あるいは、アモルファスシリコン層で形成した台座を設けることも可能である。図1に示す柱状スペーサSPAは、常時、TFT基板とCF基板との間のギャップ間隔を支持するメイン柱状スペーサである。[従来技術の問題点]図7は、従来の液晶表示パネルの柱状スペーサの配置方法を説明するための図である。図7は、CF基板を液晶LC側から見た図であるが、図7では、遮光膜BM、柱状スペーサSPA以外の、赤緑青のカラーフィルタCF、平坦化膜OC、および、配向膜AL2の図示は省略している。図7において、PBMは遮光膜BMに形成された開口部を示し、各サブピクセルの開口部を表している。さらに、図7において、X方向は、走査線GLの延長方向であり、Y方向は、走査線GLと直交する方向所謂、映像線DLの延長方向である。従来の液晶表示パネルでは、図7に示すように、柱状スペーサSPAは、遮光膜BM上に形成された平坦化膜OC上に、規則的に、X方向およびY方向に一直線に配列されている。図8は、従来の液晶表示パネルにおいて、TFT基板とCF基板との間に貼り合わせずれが生じた場合の柱状スペーサのTFT基板への接地面積の変動率を説明するための模式図である。この図8において、C-SUBはCF基板であり、柱状スペーサSPA以外の、透明基板SUB2、遮光膜BM、赤緑青のカラーフィルタCF、平坦化膜OC、および、配向膜AL2の図示は省略したものである。また、T-SUBはTFT基板であり、柱状スペーサSPAが常時当接する凸部図2では、台座により突出する凸部に対応するPDA以外の、透明基板SUB1、走査線GL、対向電極CT、映像線DL、薄膜トランジスタTFT、層間絶縁膜PAS1,PAS2、画素電極PX、配向膜AL1の図示は省略したものである。図8aは、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれがない場合を、図8bは、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じた場合を図示したものである。従来の液晶表示パネルの柱状スペーサSPAでは、柱状スペーサSPAが規則的に配置されているため、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じなかった場合、柱状スペーサSPAの先端部が、TFT基板T-TFTに形成された凸部PDAと接触する接触面積は、S31、S32、S33、S34の有効接地面積の合計値S31S32S33S34となる。従来の液晶表示パネルにおいて、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じた場合、柱状スペーサSPAの先端部が、凸部PDAと接触する接触面積はS41、S42、S43、S44の有効接地面積の合計値S41S42S43S44へと変動する。このとき、このときの有効接地面積の変動率は下記1式で表される。S41S42S43S44×100/S31S32S33S341図3は、本実施例の液晶表示パネルの柱状スペーサの配置方法を説明するための図である。図3は、CF基板を液晶LC側から見た図であるが、図3では、遮光膜BM、柱状スペーサSPA以外の、赤緑青のカラーフィルタCF、平坦化膜OC、および、配向膜AL2の図示は省略している。図7と同様に、図3において、PBMは遮光膜BMに形成された開口部を示し、各サブピクセルの開口部を表している。さらに、図3において、X方向は、走査線GLの延長方向であり、Y方向は、走査線GLと直交する方向所謂、映像線DLの延長方向である。本実施例の液晶表示パネルでは、図3に示すように、柱状スペーサSPAは、遮光膜BM上に形成された平坦化膜OC上に、規則的に、X方向およびY方向に一直線に配列されておらず、正規の位置よりXY方向にずらしてランダムに配置される。このため、後述する図4に示すように、本実施例では、柱状スペーサSPAの先端部の全ての領域が、TFT基板T-SUBに形成された凸部PDAと接触するのではなく、柱状スペーサSPAの先端部の一部の領域が前述の凸部PDAと接触する。なお、TFT基板T-SUBに形成された凸部PDAは、上述の台座により形成されるもの以外に、例えば、信号線同士の交差により形成されるものであってもよい。また、ランダムに配置とは、柱状スペーサが配置された箇所を結ぶ線が、走査線や映像線の延在方向や、台座が形成されている箇所を結ぶ線と平行でないことを意味している。つまり、少なくとも、隣接する2つの柱状スペーサの中心を結ぶ線と、前記隣接する2つの柱状スペーサに対応する2つの凸部の中心を結ぶ線とが平行ではないことを意味している。尚、ランダム配置された数個の柱状スペーサを繰り返す配置することであってもよい。本実施形態では、柱状スペーサは、サブピクセルに1つ形成されているが、複数のサブピクセルに1つの割合で形成されるものであっても本発明の効果を得ることが出来る。また、例えば、青のサブピクセルの柱状スペーサをメインスペーサ、青以外のサブピクセルの柱状スペーサをサブスペーサとし、通常はメインスペーサがTFT基板と接触し、サブスペーサはTFT基板と接触していない構成であってもよい。メインスペーサとサブスペーサを何色のサブピクセルに配置するかは限定されるものではなく、メインスペーサとサブスペーサの双方をランダム配置してもよく、一方のみをランダム配置してもよい。図4は、本実施例の液晶表示パネルにおいて、TFT基板とCF基板との間に貼り合わせずれが生じた場合の柱状スペーサのTFT基板への接地面積の変動率を説明するための模式図である。この図4において、C-SUBは、前述の図8で説明したCF基板であり、また、T-SUBも、前述の図8で説明したTFT基板である。また、PDAは、柱状スペーサSPAが常時当接する凸部図2では、台座により突出する凸部に対応するである。図4aは、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれがない場合を、図4bは、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じた場合を図示したものである。本実施例の液晶表示パネルにおいて、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じなかった場合、柱状スペーサSPAの先端部が、TFT基板T-TFTに形成された凸部PDAと接触する接触面積は、S11、S12、S13、S14の有効接地面積の合計値S11S12S13S14となる。本実施例の液晶表示パネルにおいて、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じた場合、柱状スペーサSPAの先端部が、凸部PDAと接触する接触面積はS21、S22、S23、S24の有効接地面積の合計値S21S22S23S24へと変動する。このとき、このときの有効接地面積の変動率は下記2式で表される。S21S22S23S24×100/S11S12S13S142本実施例の液晶表示パネルでは、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じなかった場合に、柱状スペーサSPAの先端部が、TFT基板T-TFTに形成された凸部PDAと接触する接触面積は、従来の液晶表示パネルよりも小さくなる。しかしながら、前述の2式で表される本実施例の液晶表示パネルの有効接地面積の変動率は、前述の1式で表される従来の液晶表示パネルの有効接地面積の変動率より少なくすることができる。例えば、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが規格内±3μmの場合で、柱状スペーサSPAの先端部が、TFT基板T-TFTに形成された凸部PDAと接触する接触面積の変動率は、従来の液晶表示パネルが、98.36と、変動率が約-6.14減であるのに対して、本実施例の液晶表示パネルでは、96.42と、変動率が約-3.58減であり、本実施例では、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが規格内±3μmの場合に、柱状スペーサSPAの先端部が、TFT基板T-TFTと接触する接触面積の変動率を従来よりも小さくすることが可能である。尚、上記では、柱状スペーサの先端部が凸部に接触することを前提としているが、状況によっては、常に接触している訳ではなく、何かしらの力がかかっていない状態では接触していない場合もある。そのため、接触面積とは、柱状スペーサの先端部が凸部に接触するであろう面積、つまり、柱状スペーサの先端部が凸部に対向している面積を示している。図8bに示す、従来の液晶表示パネルにおいて、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じた場合の状態と、図4aに示す、本実施例の液晶表示パネルにおいて、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じない場合の状態とは、一見同じように見える。しかしながら、従来の液晶表示パネルでは、図7に示すように、柱状スペーサSPAは、規則的に、X方向およびY方向に一直線に配列されているので、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じた場合に、TFT基板T-TFTに形成された凸部PDAの中心から、柱状スペーサSPAの中心までのズレ方向あるいは、移動方向は、全ての柱状スペーサSPAにおいて同じ方向となる。これに対して、本実施例の液晶表示パネルでは、図3に示すように、柱状スペーサSPAは、規則的に、X方向およびY方向に一直線に配列されておらず、正規の位置よりXY方向にずらしてランダムに配置されるので、本実施例の液晶表示パネルにおいて、TFT基板T-SUBとCF基板C-SUBとの間に貼り合わせずれが生じない場合に、TFT基板T-TFTに形成された凸部PDAの中心から、柱状スペーサSPAまでのズレ方向あるいは、移動方向は、各々の柱状スペーサSPA毎にランダムな方向となる。なお、図3、図7では、柱状スペーサSPAは、円柱の場合について説明したが、柱状スペーサSPAは円柱に限らず、3角形柱、4角形柱等の多角形柱であってもよい。さらに、図4では、全ての柱状スペーサSPAが、その先端部の一部の領域において、TFT基板T-TFTに形成された凸部PDAと接触しているが、複数の柱状スペーサSPAの中の2個以上の柱状スペーサSPAが、その先端部の一部の領域が、TFT基板T-TFTに形成された凸部PDAと接触するようにしてもよい。図5は、本発明の実施例の液晶表示パネルの変形例の概略断面構造を示す要部断面図である。図5に示す液晶表示パネルは、液晶層LCを挟んで、TFT基板とCF基板とが設けられる。図5に示すように、TFT基板は、透明基板例えば、ガラス基板SUB1を有し、透明基板SUB1の液晶層側には、透明基板SUB1から液晶層LCに向かって順に、走査線ゲート線ともいうGL、ゲート絶縁膜PAS1、映像線図示せず、画素電極PXおよび画素電極PXに接続される電極ドレイン電極またはソース電極SD、層間絶縁膜PAS2、対向電極CT、CTL、配向膜AL1が形成される。また、透明基板SUB1の外側には偏光板POL1が設けられる。透明基板SUB2の液晶層側には、透明基板SUB2から液晶層LCに向かって順に、遮光膜BM、赤緑青のカラーフィルタCF、平坦化膜OC、配向膜AL2が形成される。また、透明基板SUB2の外側には偏光膜POL2が設けられる。また、図5において、SLはシール材、FPCはフレキシブル配線基板である。なお、図5に示す液晶表示パネルでは、画素電極PXは面状に形成され、対向電極CT、CTLは、複数のスリットを有する電極とされる。図6は、図5に示す液晶表示パネルの1画素構成を説明するための図である。図6において、DLは映像線、GLは走査線であり、走査線GLと映像線DLとは交差するように配置される。走査線GLと映像線DLとが交差する位置に薄膜トランジスタTFTが配置される。薄膜トランジスタTFTのゲート電極は、走査線GLに接続され、薄膜トランジスタTFTのドレイン電極または、ソース電極は、映像線DLに接続される。対向電極CT、CTLには、対向電圧が供給される。例えば、液晶表示パネルLCDの交流駆動方法が、ドット反転法などのコモン対称法の場合、対向電極CT、CTLには、一定の電位例えば、GNDの接地電位が供給される。また、前述の説明では、本発明を、IPS方式の液晶表示装置に適用した実施例について説明したが、本発明は、これに限定されず、例えば、TNTwistedNematic方式、ECBElectricallyControlledBirefringence方式、あるいは、VAVerticallyAligned方式の液晶表示装置にも適用可能である。但し、本発明を、これらの液晶表示装置に適用する場合には、対向電極CTはCF基板SUB2側に形成される。尚、以上では、TFT基板に対向する基板にカラーフィルタを設ける構成としているが、TFT基板側にカラーフィルタを設ける構造であってもよい。この場合、CF基板を対向基板と称することも可能である。また、CF基板に設けられた遮光膜はマトリクス状に形成されているが、特に制限される訳ではなく、映像線と平行な方向にのみ形成したストライプ状の遮光膜であってもよい。柱状スペーサは、TFT上、走査線上に限らず、映像線上に設けてもよいことは言うまでもない。また、本実施形態では、柱状スペーサに対応するTFT基板上には台座を設けることを前提に記述しているが、前述した通り、信号線の交差箇所の段差により形成される凸部を利用することも可能である。更には、走査線や映像線等の配線等が形成されている箇所自体が他の箇所に対して段差を有しているため、それら段差により形成される凸部を利用することも可能である。上記では、液晶表示装置に関する実施例を記載しているが、本発明は液晶表示装置以外、有機発光素子が設けられたTFT基板と他の基板対向基板とを所定間隔を離間させた状態で張り合わせたような有機EL表示装置や、MENSのような機械的な駆動素子を設けた第1の基板と第2の基板とを離間した状態で張り合わせ、基板間に気体や液体を封止したような表示装置に適用することも可能である。以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。"