樹脂組成物を塗布する対象の基板を保持するテーブルと、前記テーブルに保持された基板に対向し、樹脂組成物の液滴を前記基板に向かって吐出する複数のノズルが設けられたノズルユニットと、前記テーブルを、前記基板の面内方向に移動させる移動機構と、前記ノズルユニットの複数のノズルから選択された1つのノズル及びその近傍を局所的に加熱する局所加熱装置とを有する樹脂薄膜形成装置。前記局所加熱装置は、前記ノズルにレーザビームを照射するレーザ光源を含む請求項1に記載の樹脂薄膜形成装置。前記レーザ光源は、前記テーブルに固定されており、前記局所加熱装置は、さらに、前記テーブルに固定され、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを、前記ノズルユニットのノズルに向けて反射するミラーを含む請求項2に記載の樹脂薄膜形成装置。前記レーザ光源は、前記ノズルユニットに対して相対位置が固定されており、前記局所加熱装置は、さらに、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを、前記ノズルヘッドの、レーザビームを入射させるべきノズルに位置決めしてレーザビームを入射させるガルバノミラーを含む請求項2に記載の樹脂薄膜形成装置。前記レーザ光源は、前記ノズルユニットに対して相対位置が固定されており、前記局所加熱装置は、さらに、前記テーブルに固定され、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを反射する第1のミラーと、前記第1のミラーで反射された前記レーザビームを、入射させるべきノズルに位置決めして入射させるガルバノミラーとを含む請求項2に記載の樹脂薄膜形成装置。前記レーザ光源は、前記ノズルユニットに対して相対位置が固定されており、前記局所加熱装置は、さらに、前記レーザ光源から出射されたレーザビームの進行方向を前記テーブルに向けるとともに、前記レーザビームを走査するガルバノミラーと、前記テーブルを介して前記ノズルユニットに対向し、前記テーブルが、前記ノズルユニットに対向する位置から退避されたとき、前記ガルバノミラーで走査されたレーザビームを、前記ノズルユニットに向けて反射する固定ミラーとを含む請求項2に記載の樹脂薄膜形成装置。さらに、前記レーザ光源及び前記ノズルユニットを制御する制御装置を有し、前記制御装置は、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを1つのノズルに入射させている期間、当該ノズルから樹脂組成物の液滴が吐出するように前記ノズルユニットを制御する請求項2乃至6のいずれか1項に記載の樹脂薄膜形成装置。樹脂組成物を、塗布対象の基板に向けて吐出させる複数のノズルが設けられたノズルヘッドのうち、樹脂組成物が詰まったノズル及びその近傍を局所的に加熱して、前記ノズルに詰まった樹脂を分解することにより、ノズル詰まりを解消するノズルヘッド修理方法。前記ノズル及びその近傍に、レーザビームを入射させることにより、局所的に加熱する請求項8に記載のノズルヘッド修理方法。前記ノズル詰まりが生じているノズルに、樹脂組成物を吐出させる信号を入力した状態で、当該ノズルにレーザビームを入射させる請求項9に記載のノズルヘッド修理方法。ソルダーレジスト等の樹脂組成物がノズル内に残留して粘度が高くなるか、または硬化してしまう場合がある。染料インクや顔料インクを吐出するインクジェットプリンタの場合には、気泡や異物の混入によってノズルが詰まると、洗浄液を逆流させることにより、詰まりを解消することが可能であった。ところが、樹脂組成物によるノズル詰まりが発生すると、従来の洗浄方法で詰まりを解消することが困難である。本発明の一観点によると、樹脂組成物を塗布する対象の基板を保持するテーブルと、前記テーブルに保持された基板に対向し、樹脂組成物の液滴を前記基板に向かって吐出する複数のノズルが設けられたノズルユニットと、前記テーブルを、前記基板の面内方向に移動させる移動機構と、前記ノズルユニットの複数のノズルから選択された1つのノズル及びその近傍を局所的に加熱する局所加熱装置とを有する樹脂薄膜形成装置が提供される。本発明の他の観点によると、樹脂組成物を、塗布対象の基板に向けて吐出させる複数のノズルが設けられたノズルヘッドのうち、樹脂組成物が詰まったノズル及びその近傍を局所的に加熱して、前記ノズルに詰まった樹脂を分解することにより、ノズル詰まりを解消するノズルヘッド修理方法が提供される。ノズルヘッドを局所的に加熱することにより、ノズルに詰まっていた樹脂を分解して除去することができる。局所的な加熱であるため、ノズルユニットが受ける損傷を抑制することができる。[実施例1]図1に、実施例1による樹脂薄膜形成装置の概略図を示す。定盤20の上に、移動機構21によりテーブル25が保持されている。移動機構21は、Xステージ22、Yステージ23、及びθステージ24を含む。水平面をXY面とし、鉛直方向をZ軸とするXYZ直交座標系を定義する。Xステージ22は、Yステージ23をX軸方向に移動させる。Yステージ23は、θステージ24をY方向に移動させる。θステージ24は、Z軸に平行な軸を回転中心として、テーブル25の回転方向の姿勢を変化させる。テーブル25は、樹脂薄膜を形成すべき基板例えば、プリント配線板50を保持する。テーブル25には、例えば真空チャックテーブルが用いられる。定盤20の上方に、支柱30によって梁31が支えられている。梁31に、ノズルユニット40及び撮像装置32が取り付けられている。ノズルユニット40の構成及び配置の詳細については、後に説明する。撮像装置32及びノズルユニット40は、テーブル25に保持された基板50に対向する。撮像装置32は、基板50の表面に形成されている配線パターン、アライメントマーク、基板50に形成された樹脂薄膜パターン等を撮像する。撮像されて得られた画像データが、制御装置33に入力される。ノズルユニット40に、複数のノズルが設けられている。ノズルごとに吐出信号が印加されると、吐出信号が印加されたノズルから基板50に向けて、紫外線硬化型の樹脂組成物、例えばソルダーレジスト等が液滴の状態で吐出される。吐出された樹脂組成物が、基板50の表面に付着する。局所加熱装置47が、ノズルユニット40のノズル及びその近傍を局所的に加熱する。局所加熱装置47の詳細な構造については、後に説明する。制御装置33が、Xステージ22、Yステージ23、θステージ24、テーブル25、ノズルユニット40、及び局所加熱装置47を制御する。制御装置33は、記憶装置34を含む。記憶装置34に、描画すべき樹脂薄膜パターンのイメージデータ等が記憶されている。オペレータが、入力装置35を通して制御装置33に、種々の指令コマンドや、制御に必要な数値データを入力する。入力装置35には、例えばキーボード、タッチパネル等が用いられる。制御装置33は、出力装置36からオペレータに対して警報等の各種情報を出力する。出力装置36には、液晶ディスプレイ、発音装置等が用いられる。図1では、ノズルヘッド40を定盤20に対して固定し、テーブル25を移動させるように、移動機構21を配置したが、その逆に、テーブル25を定盤20に固定し、ノズルユニット40をテーブル25に対して移動させてもよい。図2Aに、ノズルユニット40の各々の斜視図を示す。支持部材41の底面に、4個のノズルヘッド42A~42Dが取り付けられている。ノズルヘッド42A~42Dは、X軸の負の向きに向かってこの順番に配列している。ノズルヘッド42A~42Dの各々に、複数のノズル45が形成されている。ノズルヘッド42Aよりも外側、及びノズルヘッド42Dよりも外側に、それぞれ光源43が配置されている。光源43は、基板50図1に紫外線を照射する。図2Bに、ノズルヘッド42A~42D、及び光源43の底面図を示す。ノズルヘッド42Aの底面基板50に対向する表面に、2列のノズル列46a、46bが形成されている。ノズル列46a及びノズル列46bの各々は、Y軸方向にピッチ周期8Pで並ぶ複数のノズル45で構成される。ノズル列46bは、ノズル列46aに対して、X軸の負の方向にずれており、さらに、Y軸の負の方向にピッチ4Pだけずれている。すなわち、ノズルヘッド42Aのノズル45は、Y方向に関しては、ピッチ4Pで等間隔に分布している。ピッチ4Pは、例えば300dpiの解像度に相当するピッチ、すなわち約84.67μmである。ノズルヘッド42B~42Dの構造は、ノズルヘッド42Aの構造と同一である。ノズルヘッド42B、42C、42Dは、それぞれノズルヘッド42Aに対して、Y軸の負の方向に2P、P、3Pだけずれるように機械的に位置決めされて、支持部材41図2Aに取り付けられている。ノズルヘッド42Aよりも外側、及びノズルヘッド42Dよりも外側に、それぞれ光源43が配置されている。図3に示すように、ノズルヘッド42A~42Dのノズル45を、X軸に垂直な仮想平面56に垂直投影した像55A~55Dは、Y方向に、1200dpiの解像度に相当するピッチP、すなわち約21.17μmのピッチで等間隔に配列する。このため、4個のノズルヘッド42A~42Dから液状材料を吐出することにより、Y軸方向に関して1200dpiの解像度で、薄膜パターンを形成することができる。図4A及び図4Bに、それぞれ局所加熱装置47の平面図及び側面図を示す。局所加熱装置47は、レーザ光源60及びミラー61を含む。レーザ光源60及びミラー61は、テーブル25の側面に固定されている。レーザ光源60は、Y方向にレーザビームを出射する。ミラー61は、レーザ光源60から出射されたレーザビームを反射し、鉛直上方Z軸の正の向きに伝搬させる。テーブル25を移動させることにより、レーザビームをノズルユニット40のノズル45が形成された面に入射させることができる。図5に、ノズル45と、レーザビームのビームスポット62とを示す。ビームスポット62は、1つのノズル45を内包し、当該ノズルに近接する他のノズル45には接触しない大きさを有する。一例として、ノズル45の各々の直径は約30μmであり、最近接の2つのノズル45の中心間距離は約160μmであり、ビームスポット62の直径は約100μmである。テーブル25の位置を調節することにより、所望のノズル45にレーザビームを入射させることができる。Xステージ22及びYステージ23は、どのノズル45にもレーザビームを入射させることができるストロークを有する。樹脂組成物によってノズル詰まりが生じているノズル不良ノズル45にレーザビームを入射させることにより、硬化した樹脂を分解して除去することができる。これにより、ノズル詰まりが解消される。レーザビームには、硬化した樹脂によって吸収されやすい波長域のものを用いることが好ましい。また、樹脂組成物に紫外線硬化型のものが用いられている場合には、レーザ照射によって樹脂が硬化してしまうことを防止するために、波長が405nmよりも長いレーザビームを用いることが好ましい。例えば、赤外域の炭酸ガスレーザを用いることができる。実施例1によるノズルヘッドの修理方法では、ノズルヘッドを局所的に加熱するため、ノズル詰まりが発生していない正常なノズルへの影響を軽減することができる。また、レーザビームを用いることにより、短い時間で必要な熱エネルギーを投入することができる。これにより、熱に起因するノズルヘッドの損傷を抑制することができる。また、ノズルヘッド42A~42D図2A内に収容されている樹脂組成物への熱影響を軽減することができる。ノズル詰まりが生じているノズルにレーザビームを入射させている間は、そのノズルに、液状材料を吐出させる信号を印加しておくことが好ましい。吐出信号を印加しておくと、レーザ照射によって分解した樹脂が、吐出される樹脂組成物と共に外部に排出される。これにより、ノズル詰まりの解消が容易になる。[実施例2]図6に、実施例2による樹脂薄膜形成装置に用いられる局所加熱装置47図1の側面図を示す。局所加熱装置47以外の構成は、実施例1による樹脂薄膜形成装置の構成と同一である。局所加熱装置47は、レーザ光源60及び二次元ガルバノミラー65を含む。レーザ光源60及び二次元ガルバノミラー65は、テーブル25を挟んでノズルユニット40に対向する位置に配置され、定盤20に支持されている。すなわち、レーザ光源60及び二次元ガルバノミラー65は、ノズルユニット40に対して相対位置が固定されている。レーザ光源60から出射したレーザビームが、二次元ガルバノミラー65によって2次元方向に走査される。テーブル25をノズルユニット40の下方から側方に退避させると、二次元ガルバノミラー65で走査されたレーザビームを、ノズルユニット40に入射させることができる。二次元ガルバノミラー65でレーザビームを走査することにより、所望のノズル45にレーザビームを入射させることができる。[実施例3]図7A及び図7Bに、それぞれ実施例3による樹脂薄膜形成装置に用いられる局所加熱装置47図1の平面図及び側面図を示す。局所加熱装置47以外の構成は、実施例1による樹脂薄膜形成装置の構成と同一である。局所加熱装置47は、レーザ光源60、固定ミラー66、及び一次元ガルバノミラー67を含む。レーザ光源60は、定盤20図1に支持されており、固定ミラー66及び一次元ガルバノミラー67は、テーブル25に支持されている。レーザ光源60から出射されたレーザビームは、X軸に平行に伝搬し、固定ミラー66によってY軸に平行な方向に向かって反射される。テーブル25のY軸方向の位置は、固定ミラー66がレーザビームの光路上に位置するように調整されている。固定ミラー66で反射されたレーザビームが、一次元ガルバノミラー67によってノズルヘッド40に向かって反射される。テーブル25をX軸方向に移動させることにより、レーザビームの入射位置をX軸方向に移動させることができる。一次元ガルバノミラー67は、レーザビームをY軸に平行な1次元方向に走査する。一次元ガルバノミラー67でレーザビームを走査することにより、レーザビームの入射位置をY軸方向に移動させることができる。テーブル25の位置、及び一次元ガルバノミラー67を制御することにより、所望のノズル45にレーザビームを入射させることができる。[実施例4]図8に、実施例4による樹脂薄膜形成装置に用いられる局所加熱装置47図1の概略図を示す。局所加熱装置47以外の構成は、実施例1による樹脂薄膜形成装置の構成と同一である。局所加熱装置47は、レーザ光源60、二次元ガルバノミラー68、及び固定ミラー69を含む。レーザ光源60及び二次元ガルバノミラー68は、梁31に支持されており、固定ミラー69は定盤20図1に支持されている。すなわち、レーザ光源60、二次元ガルバノミラー68、及び固定ミラー69は、ノズルユニット40に対して相対位置が固定されている。レーザ光源60及び二次元ガルバノミラー68は、テーブル25の上方に配置され、固定ミラー69は、テーブル25の下方に配置されている。ノズルユニット40にレーザ照射するときには、テーブル25は、ノズルユニット40の下方から側方に退避される。レーザ光源60から出射されたレーザビームが、二次元ガルバノミラー68によって2次元方向に走査され、固定ミラー69に入射する。固定ミラー69は、ガルバノミラー68で走査されたレーザビームを、ノズルユニット40に向けて反射する。二次元ガルバノミラー68を制御することにより、所望のノズル45にレーザビームを入射させることができる。上記実施例1~4では、局所加熱装置47の熱エネルギ源としてレーザ光源を用いたが、その他の熱エネルギ源を用いてもよい。また、上記実施例では、ノズルヘッド42A~42D、またはその集合体であるノズルユニット40図2Aを梁31図1に取り付けた状態で修理を行った。レーザ照射等による修理は、ノズルヘッド42A~42Dまたはノズルユニット40を梁31から取外りし、適当な修理台に載置した状態で行なってもよい。この場合にも、従来は除去困難であったノズルに詰まった樹脂を除去することにより、故障したノズルヘッドを復活させることができる。以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。