"式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。[式IA中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R1及びR2は互いに結合してNとともにC4~C20環を形成してもよい。]式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩が、式IBで表されるカチオンを有するスルホニウム塩である請求項1記載のレジスト組成物。[式IB中、R3~R5は、それぞれ独立に、水酸基、ハロゲン原子、C1~C12アルコキシ基、C1~C30脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、C1~C12アルコキシ基又はC6~C18芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該飽和環状炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、C2~C4アシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1~C36脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC1~C12アルコキシ基で置換されていてもよい。mx~mzは、それぞれ独立に、0~5の整数を表す。]R1及びR2は、それぞれ独立に、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R1及びR2は互いに結合してNとともにC4~C20環を形成してもよい請求項1又は2記載のレジスト組成物。R1は、水素原子、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R2は、C7~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R1及びR2は互いに結合してNとともにC4~C20環を形成してもよい請求項1又は2記載のレジスト組成物。1請求項1~4のいずれか記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、2塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、3組成物層に露光機を用いて露光する工程、4露光後の組成物層を加熱する工程、5加熱後の組成物層を、現像装置を用いて現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。式Iで表される塩。[式I中、R3~R5は、それぞれ独立に、水酸基、ハロゲン原子、C1~C12アルコキシ基、C1~C30脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、C1~C12アルコキシ基又はC6~C18芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該飽和環状炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、C2~C4アシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1~C36脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC1~C12アルコキシ基で置換されていてもよい。mx~mzは、それぞれ独立に、0~5の整数を表す。W1は、置換基を有していてもよい複素環を表す。]従来のレジスト組成物では、得られるパターンのフォーカスマージンDOFが必ずしも満足できない場合があった。本発明は、以下の発明を含む。1式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。[式IA中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R1及びR2は互いに結合してNとともにC4~C20環を形成してもよい。]2式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩が、式IBで表されるカチオンを有するスルホニウム塩である1記載のレジスト組成物。[式IB中、R3~R5は、それぞれ独立に、水酸基、ハロゲン原子、C1~C12アルコキシ基、C1~C30脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、C1~C12アルコキシ基又はC6~C18芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該飽和環状炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、C2~C4アシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1~C36脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC1~C12アルコキシ基で置換されていてもよい。mx~mzは、それぞれ独立に、0~5の整数を表す。]3R1及びR2は、それぞれ独立に、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R1及びR2は互いに結合してNとともにC4~C20環を形成してもよい1又は2記載のレジスト組成物。4R1は、水素原子、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R2は、C7~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R1及びR2は互いに結合してNとともにC4~C20環を形成してもよい1又は2記載のレジスト組成物。511~4のいずれか記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、2塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、3組成物層に露光機を用いて露光する工程、4露光後の組成物層を加熱する工程、5加熱後の組成物層を、現像装置を用いて現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。6式Iで表される塩。[式I中、R3~R5は、それぞれ独立に、水酸基、ハロゲン原子、C1~C12アルコキシ基、C1~C30脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、C1~C12アルコキシ基又はC6~C18芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該飽和環状炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、C2~C4アシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1~C36脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC1~C12アルコキシ基で置換されていてもよい。mx~mzは、それぞれ独立に、0~5の整数を表す。W1は、置換基を有していてもよい複素環を表す。]本発明のレジスト組成物によれば、優れたフォーカスマージンDOFを有するパターンを得ることができる。本発明のレジスト組成物は、式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含む。[式IA中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R1及びR2は互いに結合してNとともにC4~C20環を形成してもよい。]R1及びR2は、それぞれ独立に、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R1及びR2は互いに結合してNとともにC4~C20環を形成してもよいことが好ましい。R1は、水素原子、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R2は、C7~C20飽和環状炭化水素基、C6~C20芳香族炭化水素基又はC7~C21アラルキル基を表し、該飽和環状炭化水素基、該芳香族炭化水素基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基、ニトリル基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよく、R1及びR2は互いに結合してNとともにC4~C20環を形成してもよいことが好ましい。C1~C12脂肪族炭化水素基としては、メチル基IR-1、エチル基IR-2、n-プロピル基IR-3、イソプロピル基IR-4、n-ブチル基IR-5、sec-ブチル基IR-6、tert-ブチル基IR-7、n-ペンチル基IR-8、n-ヘキシル基IR-9、ヘプチル基IR-10、オクチル基IR-11、2-エチルヘキシル基IR-12、ノニル基IR-13、デシル基IR-14、ウンデシル基IR-15、ドデシル基IR-16等が挙げられる。C3~C20飽和環状炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基IR-21、シクロブチル基IR-22、シクロペンチル基IR-23、シクロヘキシル基IR-24、シクロヘプチル基IR-25、シクロオクチル基IR-26、シクロノニル基IR-27、シクロデシル基IR-28、1-ノルボルニル基IR-29、1-アダマンチル基IR-30、2-アダマンチル基IR-31、2-イソボルニル基IR-32、2-ノルボルニル基IR-39、下記に示す基等が挙げられる。C6~C20芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基IR-51、1-ナフチル基IR-52、1-アントニル基IR-53、p-メチルフェニル基IR-54、p-tert-ブチルフェニル基IR-55、p-アダマンチルフェニル基IR-56、2-ナフチル基IR-57、2-アントニル基IR-58、9-アントニル基IR-59等が挙げられる。C7~C21アラルキル基としては、例えば、ベンジル基IR-61等が挙げられる。ヒドロキシル基で置換された脂肪族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。ニトリル基で置換された脂肪族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。フッ素原子で置換された脂肪族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。ニトロ基で置換された脂肪族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。ヒドロキシル基で置換された飽和環状炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。ニトリル基で置換された飽和環状炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。フッ素原子で置換された飽和環状炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。ニトロ基で置換された飽和環状炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。ヒドロキシル基で置換された芳香族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。ニトリル基で置換された芳香族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。フッ素原子又は、トリフルオロメチル基で置換された芳香族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。ニトロ基で置換された芳香族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。ヒドロキシル基で置換されたアラルキル基としては、以下の基が挙げられる。ニトリル基で置換されたアラルキル基としては、以下の基が挙げられる。フッ素原子で置換されたアラルキル基としては、以下の基が挙げられる。ニトロ基で置換された芳香族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。-CH2-が-O-で置き換わった脂肪族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。-CH2-が-CO-で置き換わった脂肪族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。-CH2-が-CO-及び-O-で置き換わった脂肪族炭化水素基としては、以下の基が挙げられる。R2としては、C3~C20飽和環状炭化水素基が好ましく、アダマンチル基がより好ましい。R1及びR2が互いに結合してNとともに環を形成する場合、-NR1R2としては例えば以下の基が挙げられる。ただし下記式中、はSとの結合手を表す。スルホニウム塩とは、3価硫黄原子上に陽電荷をもつカチオンとアニオンからなる塩をいう。式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩が有するカチオンとしては、例えば式IBで表されるカチオン及び式ICで表されるカチオンが挙げられる。[式IB中、R3~R5は、それぞれ独立に、水酸基、ハロゲン原子、C1~C12アルコキシ基、C1~C30脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、C1~C12アルコキシ基又はC6~C18芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該飽和環状炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、C2~C4アシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1~C36脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC1~C12アルコキシ基で置換されていてもよい。mx~mzは、それぞれ独立に、0~5の整数を表す。]式IBで表されるカチオンの具体例としては、以下のものが挙げられる。[式IC中、R6及びR7は、それぞれ独立に、C1~C36脂肪族炭化水素基又はC3~C36飽和環状炭化水素基を表すか、R6及びR7は互いに結合してSとともにC3~C12環を形成し、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-で置き換わっていてもよい。R8は、水素原子、C1~C36脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表す。R9は、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C18飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表し、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、C1~C12脂肪族炭化水素基、C1~C12アルコキシ基、C3~C18飽和環状炭化水素基又はC1~C12アルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。R8及びR9は互いに結合して-CH-CO-とともにC3~C12環を形成していてもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-で置き換わっていてもよい。]式ICで表されるカチオンの具体例としては、以下のものが挙げられる。R6~R8の脂肪族炭化水素基の炭素数は、好ましくは1~12であり、飽和環状炭化水素基の炭素数は、好ましくは3~18、より好ましくは4~12である。式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩としては、式Iで表される塩が好ましい。[式I中、R3~R5は、それぞれ独立に、水酸基、ハロゲン原子、C1~C12アルコキシ基、C1~C30脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、C1~C12アルコキシ基又はC6~C18芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該飽和環状炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、C2~C4アシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1~C36脂肪族炭化水素基、C3~C36飽和環状炭化水素基又はC1~C12アルコキシ基で置換されていてもよい。mx~mzは、それぞれ独立に、0~5の整数を表す。W1は、置換基を有していてもよい複素環を表す。]式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩としては、以下のスルホニウム塩が挙げられる。例えば、表におけるIR-1とは、上記の式IR-1で表される基を表し、IB-1とは、上記の式IB-1で表されるカチオンを表す。また、I-1を、式I-1で表される塩という場合がある。上記の塩うち、式I-26、式I-29、式I-98式I-150、式I-151、式I-166、式I-205、式I-206、式I-214、式I-216、式I-226、式I-227、式I-313、式I-317、式I-321、式I-337、式I-341、式I-349、式I-354、式I-366、式I-401、式I-405、式I-409、式I-410、式I-414、式I-417、式I-420で表される塩が好ましく、式I-151、I-205、式I-216、式I-309、式I-313、式I-349、式I-354、式I-366、式I-401、式I-409、式I-414、式I-417、式I-420で表される塩がより好ましく、式I-205、式I-216、式I-313、式I-349、式I-354、式I-366、式I-401、式I-409、式I-414、式I-417、式I-420で表される塩が特に好ましい。式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩が、式IBで表されるカチオンを有するスルホニウム塩の製造方法を下記に示す。[式IA中、R1及びR2は上記と同じ意味を表す。式IB中、R3~R5、mx~mzは上記と同じ意味を表す。][R1及びR2、R3~R5、mx~mzは上記と同じ意味を表す。XA1はアンモニウムカチオンを表し、XB1―はCl、Br、Iから選ばれるハロゲンアニオン及びアルキル硫酸イオン、硫酸イオン、カルボキシラートアニオン、アルコキシアニオン、水酸化物イオンを表す。]式IA-R1で表されるアミン類とクロロ硫酸または硫酸塩硫酸トリエチルアンモニウムなど、三酸化イオウから選ばれる含イオウ化合物とを溶媒中、塩基性条件で反応させることにより、式IA―R2で表される塩を得ることができる。得られた式IA―R2で表される塩と式IB―R1で表される塩を溶媒中、攪拌することで、式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩が、式IBで表されるカチオンを有するスルホニウム塩を得ることができる。溶媒としてはクロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロメタン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン等の有機溶媒が挙げられる。使用する塩基としてはトリエチルアミン、DBU、ジメチルアミノピリジン、ピリジン等が挙げられる。式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩の含有量は、組成物の樹脂10質量部に対して0.01~1.5質量部であることが好ましく、0.05~0.5部であることがさらに好ましい。樹脂以下樹脂Aという場合がある。樹脂Aは、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂である。酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂は、酸に不安定な基を有するモノマー以下酸に不安定な基を有するモノマーa1という場合があるを重合することによって製造でき、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る。アルカリ水溶液で溶解し得る、つまり酸の作用によりアルカリ可溶となるとは、酸との接触前ではアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸との接触後にはアルカリ水溶液に可溶となることを意味する。酸に不安定な基を有するモノマーa1は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。アクリル樹脂とは、アクリル酸及びその誘導体を重合した樹脂をいう。酸に不安定な基を有するモノマーa1酸に不安定な基とは、酸と接触すると脱離基が開裂して、親水性基例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基を形成する基を意味する。酸に不安定な基としては、例えば、-O-が3級炭素原子但し橋かけ環状炭化水素基の橋頭炭素原子を除くと結合した式1で表されるアルコキシカルボニル基即ち、3級アルコール残基を有するエステル結合が挙げられる。なお以下では、式1で表される基を酸に不安定な基1という場合がある。式1中、Ra1~Ra3は、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素基又は飽和環状炭化水素基を表すか或いはRa1及びRa2は互いに結合してCとともに環を形成しする。は結合手を表す以下同じ。飽和環状炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、例えば、シクロアルキル基例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの単環式の飽和環状炭化水素基;縮合芳香族炭化水素基を水素化して得られる基例えば、ヒドロナフチル基、橋かけ環状炭化水素基例えば、アダマンチル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基などが挙げられる。さらに下記のような、橋かけ環例えばノルボルナン環と単環例えばシクロヘプタン環、シクロヘキサン環又は多環例えば、デカヒドロナフタレン環とが縮合した基又は橋かけ環同士が縮合した基;これらが組み合わせられた基メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基等が挙げられる。式1では、飽和環状炭化水素基は、好ましくはC3~C20であり、より好ましくはC3~C12である。Ra1及びRa2が互いに結合してCとともに形成する環としては、飽和環状炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。このような環は、好ましくはC3~C20であり、より好ましくはC3~C12である。酸に不安定な基1としては、例えば、1,1-ジアルキルアルコキシカルボニル基基1中、Ra1~Ra3がアルキル基であるもの、好ましくはtert-ブトキシカルボニル基、2-アルキル-2-アダマンチルオキシカルボニル基式1中、Ra1、Ra2及び炭素原子がアダマンチル基を形成し、Ra3がアルキル基であるもの及び1-1-アダマンチル-1-アルキルアルコキシカルボニル基式1中、Ra1及びRa2がアルキル基であり、Ra3がアダマンチル基であるものなどが挙げられる。酸に不安定な基を有するモノマーa1は、好ましくは、酸に不安定な基1と炭素-炭素二重結合とを有するモノマー、より好ましくは酸に不安定な基1を有するメタアクリル系モノマーである。酸に不安定な基1を有するメタアクリル系モノマーの中でも、C5~C20飽和環状炭化水素基を有するものが好ましい。飽和環状炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマーa1を重合して得られる樹脂を使用すれば、レジストの解像度を向上させることができる。酸に不安定な基1と飽和環状炭化水素基とを有するメタアクリル系モノマーの中でも、式a1-1又は式a1-2で表される酸に不安定な基を有するモノマーが好ましい。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。式a1-1及び式a1-2中、La1及びLa2は、それぞれ独立に、-O-又は-O-CH2k1-CO-O-を表し、k1は1~7の整数を表す。但しLa1及びLa2で列挙した-O-等は、それぞれ、左側で式a1-1及び式a1-2の-CO-と結合し、右側でアダマンチル基又はシクロへキシル基と結合することを意味する。Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。Ra6及びRa7は、それぞれ独立に、C1~C8脂肪族炭化水素基又はC3~C10飽和環状炭化水素基を表す。m1は0~14の整数を表す。n1は0~10の整数を表す。式a1-1及び式a1-2においては、La1及びLa2は、好ましくは、-O-又は-O-CH2f1-CO-O-であり前記f1は、1~4の整数である、より好ましくは-O-である。Ra4及びRa5は、好ましくはメチル基である。Ra6及びRa7の脂肪族炭化水素基は、好ましくはC6以下である。飽和環状炭化水素基は、好ましくはC8以下、より好ましくはC6以下である。m1は、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は1である。n1は、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は1である。k1は、好ましくは1~4の整数、より好ましくは1である。アダマンチル基を有するモノマーa1-1としては、例えば、以下のものが挙げられる。中でも、2-メチル-2-アダマンチルメタアクリレート、2-エチル-2-アダマンチルメタアクリレート及び2-イソプロピル-2-アダマンチルメタアクリレートが好ましく、メタクリレート形態のものがより好ましい。シクロへキシル基を有するモノマーa1-2としては、例えば、以下のものが挙げられる。中でも、1-エチル-1-シクロヘキシルメタアクリレートが好ましく、1-エチル-1-シクロヘキシルメタクリレートがより好ましい。樹脂における式a1-1又は式a1-2で表されるモノマーに由来する構造単位の含有量は、樹脂の全単位において、通常10~95モルであり、好ましくは15~90モルであり、より好ましくは20~85モルである。酸に不安定な基1と炭素-炭素二重結合とを有するモノマーとしては、例えば、式a1-3で表されるノルボルネン環を有するモノマーが挙げられる。酸に不安定な基を有するモノマーa1-3に由来する構造単位を有する樹脂は、嵩高い構造を有するので、レジストの解像度を向上させることができる。さらに酸に不安定な基を有するモノマーa1-3は、樹脂の主鎖に剛直なノルボルナン環を導入してレジストのドライエッチング耐性を向上させることができる。式a1-3中、Ra9は、水素原子、置換基例えば、ヒドロキシ基を有していてもよいC1~C3脂肪族炭化水素基、カルボキシ基、シアノ基又はアルコキシカルボニル基-COORa13を表し、Ra13は、C1~C8脂肪族炭化水素基又はC3~C8飽和環状炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基及び前記飽和環状炭化水素基の水素原子はヒドロキシ基で置換されていてもよく、前記脂肪族炭化水素基及び前記飽和環状炭化水素基の-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。Ra10~Ra12は、それぞれ独立に、C1~C12脂肪族炭化水素基又はC3~C12飽和環状炭化水素基を表すか、或いはRa10及びRa11は互いに結合してCとともに環を形成し、前記脂肪族炭化水素基及び前記飽和環状炭化水素基の水素原子はヒドロキシ基等で置換されていてもよく、前記脂肪族炭化水素基及び前記飽和環状炭化水素基の-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。ここで、アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシ基にカルボニル基が結合した基が挙げられる。Ra9の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシメチル基、2-ヒドロキシエチル基などが挙げられる。Ra13としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、2-オキソ-オキソラン-3-イル基、又は2-オキソ-オキソラン-4-イル基などが挙げられる。Ra10~Ra12としては、例えば、メチル基、エチル基、シクロへキシル基、メチルシクロへキシル基、ヒドロキシシクロへキシル基、オキソシクロへキシル基、アダマンチル基などが挙げられる。Ra10、Ra11及びこれらが結合する炭素が形成する環としては、例えば、飽和環状炭化水素基が挙げられ、具体的には、シクロへキシル基、アダマンチル基などが挙げられる。ノルボルネン環を有するモノマーa1-3としては、例えば、5-ノルボルネン-2-カルボン酸-tert-ブチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-シクロヘキシル-1-メチルエチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-メチルシクロヘキシル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸2-メチル-2-アダマンチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸2-エチル-2-アダマンチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-4-メチルシクロヘキシル-1-メチルエチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-4-ヒドロキシシクロヘキシル-1-メチルエチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-メチル-1-4-オキソシクロヘキシルエチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-1-アダマンチル-1-メチルエチルなどが挙げられる。樹脂における式a1-3で表されるモノマーに由来する構造単位の含有量は、樹脂の全単位において、通常10~95モルであり、好ましくは15~90モルであり、より好ましくは20~85モルである。酸に不安定な基1と炭素-炭素二重結合とを有するモノマーとしては、式a1-4で表されるモノマーa1-4が挙げられる。[式a1-4中、R10は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいC1~C6アルキル基を表す。R11は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1~C6アルキル基、C1~C6アルコキシ基、C2~C4アシル基、C2~C4アシルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。laは0~4の整数を表す。laが2以上の整数である場合、複数のR11は同一又は異なる。R12及びR13はそれぞれ独立に、水素原子又はC1~C12炭化水素基を表す。Xa2は、単結合又は置換基を有していてもよい2価のC1~C17飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は-CO-、-O-、-S-、-SO2-又は-NRc-で置き換わっていてもよい。Rcは、水素原子又はC1~C6アルキル基を表す。Ya3は、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C18飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基であり、該脂肪族炭化水素基、飽和環状炭化水素基及び芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。]ハロゲン原子を有してもよいアルキル基としては、例えば、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルクロロメチル基、ペルブロモメチル基、ペルヨードメチル基などが挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペントキシ基、n-ヘキトキシ基等が挙げられる。アシル基としては、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル等が挙げられる。アシルオキシ基としては、例えば、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ等が挙げられる。炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基、飽和環状炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントニル基、p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。式a1-4では、R10及びR11のアルキル基としては、C1~C4が好ましく、C1~C2がより好ましく、メチル基が特に好ましい。R11のアルコキシ基としては、C1~C2がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。R12及びR13の炭化水素基としては、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、2-アルキル-2-アダマンチル基、1-1-アダマンチル-1-アルキル基、イソボルニル基等が好ましい。Xa2及びYa3の基に置換されていてもよい基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1~C6アルキル基、C1~C6アルコキシ基、C2~C4アシル基、C2~C4アシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、好ましくはヒドロキシ基である。モノマーa1-4としては、例えば、以下のモノマーが挙げられる。樹脂における式a1-4で表されるモノマーに由来する構造単位の含有量は、樹脂の全単位において、通常10~95モルであり、好ましくは15~90モルであり、より好ましくは20~85モルである。その他の酸に不安定な基を有するモノマーa1として、例えば、式a1-5で表されるモノマーも挙げることができる。式a1-5中、R31は、水素原子、メチル基及びトリフルオロメチル基が好ましい。L1は、酸素原子が好ましい。L2及びL3は、それぞれ独立に酸素原子又は硫黄原子である。L2及びL3は、一方が酸素原子、他方が硫黄原子であると好ましい。s11は、1が好ましい。s12は、0~2の整数が好ましい。Z1は、単結合又は炭素数1~6のアルカンジイル基であり、該アルカンジイル基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Z1としては、単結合又は-CH2-CO-O-が好ましい。モノマーa1-5の具体例は、以下のとおりである。樹脂における式a1-4で表されるモノマーに由来する構造単位の含有量は、樹脂の全単位において、通常10~95モルであり、好ましくは15~90モルであり、より好ましくは20~85モルである。樹脂Aは、好ましくは、酸に不安定な基を有するモノマーa1と、酸に不安定な基を有さないモノマー以下酸安定モノマーという場合があるとの共重合体である。酸安定モノマーは、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。樹脂Aが酸に不安定な基を有するモノマーa1と酸安定モノマーとの共重合体である場合、酸に不安定な基を有するモノマーa1に由来する構造単位は、全構造単位100モルに対して、好ましくは10~80モル、より好ましくは20~60モルである。また、アダマンチル基を有するモノマー特に酸に不安定な基を有するモノマーa1-1に由来する構造単位を、酸に不安定な基を有するモノマーa1100モルに対して15モル以上とすることが好ましい。アダマンチル基を有するモノマーの比率が増えると、レジストのドライエッチング耐性が向上する。酸安定モノマーとしては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するものが好ましい。ヒドロキシ基を有する酸安定モノマー以下ヒドロキシ基を有する酸安定モノマーa2という又はラクトン環を含有する酸安定モノマー以下ラクトン環を有する酸安定モノマーa3というに由来する構造単位を有する樹脂を使用すれば、レジストの解像度及び基板への密着性を向上させることができる。ヒドロキシ基を有する酸安定モノマーa2レジスト組成物をKrFエキシマレーザ露光248nm、電子線あるいはEUV光などの高エネルギー線露光に用いる場合、ヒドロキシ基を有する酸安定モノマーa2として、ヒドロキシスチレン類であるフェノール性水酸基を有する酸安定モノマーa2-0を使用することが好ましい。短波長のArFエキシマレーザ露光193nmなどを用いる場合は、ヒドロキシ基を有する酸安定モノマーa2として、式a2-1で表されるヒドロキシアダマンチル基を有する酸安定モノマーを使用することが好ましい。ヒドロキシ基を有する酸安定モノマーa2は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。フェノール性水酸基を有するモノマーa2-0として、式a2-0で表されるp-又はm-ヒドロキシスチレンなどのスチレン系モノマーが挙げられる。[式a2-0中、R8は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいC1~C6アルキル基を表す。R9は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1~C6アルキル基、C1~C6アルコキシ基、C2~C4アシル基、C2~C4アシルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。maは0~4の整数を表す。maが2以上の整数である場合、複数のR9は同一又は異なる。]R8におけるアルキル基としては、C1~C4アルキル基が好ましく、C1~C2アルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。また、アルコキシ基としては、C1~C4アルコキシ基が好ましく、C1~C2アルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。maは0~2が好ましく、0又は1がより好ましく、0が特に好ましい。このようなフェノール性水酸基を有するモノマーに由来する構造単位を有する共重合樹脂を得る場合は、該当するメタアクリル酸エステルモノマーとアセトキシスチレン、及びスチレンをラジカル重合した後、酸によって脱アセチルすることによって得ることができる。フェノール性水酸基を有するモノマーとしては、例えば、以下のモノマーが挙げられる。以上のモノマーのうち、4-ヒドロキシスチレン又は4-ヒドロキシ-α-メチルスチレンが特に好ましい。樹脂における式a2-0で表されるモノマーに由来する構造単位の含有量は、樹脂の全単位において、通常5~90モルであり、好ましくは10~85モルであり、より好ましくは15~80モルである。ヒドロキシアダマンチル基を有する酸安定モノマーとして、式a2-1で表されるモノマーが挙げられる。式a2-1中、La3は、-O-又は-O-CH2k2-CO-O-を表し、k2は1~7の整数を表す。Ra14は、水素原子又はメチル基を表す。Ra15及びRa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。o1は、0~10の整数を表す。式a2-1では、La3は、好ましくは、-O-、-O-CH2f1-CO-O-であり前記f1は、1~4の整数である、より好ましくは-O-である。Ra14は、好ましくはメチル基である。Ra15は、好ましくは水素原子である。Ra16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。o1は、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は1である。ヒドロキシアダマンチル基を有する酸安定モノマーa2-1としては、例えば、以下のものが挙げられる。中でも、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート、3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート及びメタアクリル酸1-3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルオキシカルボニルメチルが好ましく、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレート及び3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタアクリレートがより好ましく、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレート及び3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレートがさらに好ましい。樹脂における式a2-1で表されるモノマーに由来する構造単位の含有量は、樹脂の全単位において、通常3~40モルであり、好ましくは5~35モルであり、より好ましくは5~30モルである。ラクトン環を有する酸安定モノマーa3酸安定モノマーa3が有するラクトン環は、例えば、β-プロピオラクトン環、γ-ブチロラクトン環、δ-バレロラクトン環のような単環でもよく又は単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。これらラクトン環の中で、γ-ブチロラクトン環及びγ-ブチロラクトン環と他の環との縮合環が好ましい。ラクトン環を有する酸安定モノマーa3は、好ましくは、式a3-1、式a3-2又は式a3-3で表される。これらの1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。式a3-1~式a3-3中、La4~La6は、それぞれ独立に、-O-又は-O-CH2k3-CO-O-を表す。k3は1~7の整数を表す。Ra18~Ra20は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。Ra21は、C1~C4脂肪族炭化水素基を表す。p1は0~5の整数を表す。Ra22及びRa23は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又はC1~C4脂肪族炭化水素基を表す。q1及びr1は、それぞれ独立に0~3の整数を表す。p1、q1又はr1が2以上のとき、それぞれ、複数のRa21、Ra22又はRa23は、互いに同一又は異なる。式a3-1~式a3-3では、La4~La6としては、La3で説明したものが挙げられる。La4~La6は、それぞれ独立に、-O-、-O-CH2d1-CO-O-であることが好ましく前記d1は、1~4の整数である、より好ましくは-O-である。但しLa4~La6で列挙した-O-等は、それぞれ、左側で式a3-1~式a3-3の-CO-と結合し、右側でラクトン環と結合することを意味する。Ra18~Ra21は、好ましくはメチル基である。Ra22及びRa23は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。p1~r1は、それぞれ独立に、好ましくは0~2、より好ましくは0又は1である。γ-ブチロラクトン環を有する酸安定モノマーa3-1としては、例えば、以下のものが挙げられる。γ-ブチロラクトン環を有する酸安定モノマーa3-1として、酸不安定モノマーを例示することも可能である。例えば以下のものが挙げられる。γ-ブチロラクトン環とノルボルナン環との縮合環を有する酸安定モノマーa3-2としては、例えば以下のものが挙げられる。γ-ブチロラクトン環とノルボルナン環との縮合環を有する酸安定モノマーa3-2として、酸不安定モノマーを例示することも可能である。例えば以下のものが挙げられる。γ-ブチロラクトン環とシクロヘキサン環との縮合環を有する酸安定モノマーa3-3としては、例えば以下のものが挙げられる。γ-ブチロラクトン環とシクロヘキサン環との縮合環を有するモノマーa3-3として、酸不安定モノマーを例示することも可能である。例えば以下のものが挙げられる。ラクトン環を有する酸安定モノマーa3の中でも、メタアクリル酸5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.037]ノナン-2-イル、メタアクリル酸テトラヒドロ-2-オキソ-3-フリル、メタアクリル酸2-5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.037]ノナン-2-イルオキシ-2-オキソエチルが好ましく、メタクリレート形態のものがより好ましい。樹脂における式a3-1、式a3-2又は式a3-3で表されるモノマーに由来する構造単位の含有量は、樹脂の全単位において、通常5~50モルであり、好ましくは10~45モルであり、より好ましくは15~40モルである。その他の酸安定モノマーa4その他の酸安定モノマーa4としては、例えば、式a4-1で表される無水マレイン酸、式a4-2で表される無水イタコン酸又は式a4-3で表されるノルボルネン環を有する酸安定モノマーなどが挙げられる。式a4-3中、Ra25及びRa26は、それぞれ独立に、水素原子、置換基例えば、ヒドロキシ基を有していてもよいC1~C3脂肪族炭化水素基、シアノ基、カルボキシ基又はアルコキシカルボニル基-COORa27を表すか、或いはRa25及びRa26は互いに結合して-CO-O-CO-を形成し、Ra27は、C1~C18脂肪族炭化水素基又はC3~C18飽和環状炭化水素基を表し、脂肪族炭化水素基及び飽和環状炭化水素基の-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。但し-COORa27が酸不安定基となるものは除く即ちRa27は、3級炭素原子が-O-と結合するものを含まない。Ra25及びRa26の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシメチル基、2-ヒドロキシエチル基などが挙げられる。Ra27の脂肪族炭化水素基は、好ましくはC1~C8、より好ましくはC1~C6である。飽和環状炭化水素基は、好ましくはC4~C18、より好ましくはC4~C12である。Ra27としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、2-オキソ-オキソラン-3-イル基、2-オキソ-オキソラン-4-イル基などが挙げられる。ノルボルネン環を有する酸安定モノマーa4-3としては、例えば、2-ノルボルネン、2-ヒドロキシ-5-ノルボルネン、5-ノルボルネン-2-カルボン酸、5-ノルボルネン-2-カルボン酸メチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸2-ヒドロキシ-1-エチル、5-ノルボルネン-2-メタノール、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物などが挙げられる。樹脂における式a4-1、式a4-2又は式a4-3で表されるモノマーに由来する構造単位の含有量は、樹脂の全単位において、通常2~40モルであり、好ましくは3~30モルであり、より好ましくは5~20モルである。好ましい樹脂Aは、少なくとも、酸に不安定な基を有するモノマーa1、ヒドロキシ基を有する酸安定モノマーa2及び/又はラクトン環を有する酸安定モノマーa3を重合させた共重合体である。この好ましい共重合体において、酸に不安定な基を有するモノマーa1は、より好ましくはアダマンチル基を有するモノマーa1-1及びシクロへキシル基を有するモノマーa1-2の少なくとも1種さらに好ましくはアダマンチル基を有するモノマーa1-1であり、ヒドロキシ基を有する酸安定モノマーa2は、好ましくはヒドロキシアダマンチル基を有する酸安定モノマーa2-1であり、ラクトン環を有する酸安定モノマーa3は、より好ましくはγ-ブチロラクトン環を有する酸安定モノマーa3-1及びγ-ブチロラクトン環とノルボルナン環との縮合環を有する酸安定モノマーa3-2の少なくとも1種である。樹脂Aは、公知の重合法例えばラジカル重合法によって製造できる。樹脂Aの重量平均分子量は、好ましくは、2,500以上より好ましくは3,000以上、50,000以下より好ましくは30,000以下である。樹脂Aの含有量は、組成物の固形分中80質量以上であることが好ましい。なお本明細書において組成物中の固形分とは、後述する溶剤Eを除いたレジスト組成物成分の合計を意味する。組成物中の固形分及びこれに対する樹脂Aの含有量は、例えば、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィーなどの公知の分析手段で測定することができる。酸発生剤以下酸発生剤Bという場合がある酸発生剤Bは、非イオン系とイオン系とに分類される。非イオン系酸発生剤には、有機ハロゲン化物、スルホネートエステル類例えば2-ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、N-スルホニルオキシイミド、N-スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、スルホン類例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン等が含まれる。イオン系酸発生剤は、オニウムカチオンを含むオニウム塩例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等がある。酸発生剤Bとしては、レジスト分野で使用される酸発生剤特に光酸発生剤だけでなく、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、又は光変色剤等の放射線光によって酸を発生する公知化合物及びそれらの混合物も、適宜、使用できる。例えば特開昭63-26653号、特開昭55-164824号、特開昭62-69263号、特開昭63-146038号、特開昭63-163452号、特開昭62-153853号、特開昭63-146029号や、米国特許第3,779,778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用できる。酸発生剤Bは、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式B1で表されるスルホン酸塩である。[式B1中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はC1~C6ペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、単結合又は2価のC1~C17飽和炭化水素基を表し、前記2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。Yは、置換基を有していてもよいC1~C18脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよいC3~C18飽和環状炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基及び前記飽和環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-SO2-又は-CO-で置き換わっていてもよい。Zは、有機カチオンを表す。]ペルフルオロアルキル基としては、例えば、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。式B1では、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、好ましくはペルフルオロメチル基又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。2価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルキレン基、分岐状アルキレン基、単環式又は多環式の飽和環状炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組み合わせたものでもよい。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基、ヘプタデカン-1,17-ジイル基、メチリデン基、エチリデン基、プロピリデン基、2-プロピリデン基等の直鎖状アルキレン基;直鎖状アルキレンに、アルキル基特に、C1~C4アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の側鎖を有したもの、例えば、1-メチル-1,3-プロピレン基、2-メチル-1,3-プロピレン基、2-メチル-1,2-プロピレン基、1-メチル-1,4-ブチレン基、2-メチル-1,4-ブチレン基等の分岐状アルキレン;1,3-シクロブチレン基、1,3-シクロペンチレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,5-シクロオクチレン基等のシクロアルキレン基である単環式の飽和環状炭化水素基;1,4-ノルボルニレン基、2,5-ノルボルニレン基、1,5-アダマンチレン基、2,6-アダマンチレン基等の多環式の飽和環状炭化水素基等が挙げられる。Lb1の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-が-O-又は-CO-で置き換わった基としては、例えば、式b1-1~式b1-6が挙げられる。Lb1は、好ましくは式b1-1~式b1-4のいずれか、さらに好ましくは式b1-1又は式b1-2が挙げられる。なお、式b1-1~式b1-6は、その左右を式B1に合わせて記載しており、左側でCQ1Q2-と結合し、右側で-Yと結合する。以下の式b1-1~式b1-6の具体例も同様である。式b1-1~式b1-6中、Lb2は、単結合又はC1~C15アルキレン基を表す。Lb3は、単結合又はC1~C12アルキレン基を表す。Lb4は、C1~C13アルキレン基を表す。但しLb3及びLb4の炭素数上限は13である。Lb5は、C1~C15アルキレン基を表す。Lb6及びLb7は、それぞれ独立に、C1~C15アルキレン基を表す。但しLb6及びLb7の炭素数上限は16である。Lb8は、C1~C14アルキレン基を表す。Lb9及びLb10は、それぞれ独立に、C1~C11飽和炭化水素基を表す。但しLb9及びLb10の炭素数上限は12である。中でも、式b1-1で表される2価の基が好ましく、Lb2が単結合又は-CH2-である式b1-1で表される2価の基がより好ましい。式b1-1で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。式b1-2で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。式b1-3で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。式b1-4で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。式b1-5で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。式b1-6で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。Lb1の飽和炭化水素基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、C6~C18芳香族炭化水素基、C7~C21アラルキル基、C2~C4アシル基又はグリシジルオキシ基などが挙げられる。アラルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、トリチル、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。Yの脂肪族炭化水素基としては、C1~C6アルキル基が好ましい。脂肪族炭化水素基及び飽和環状炭化水素基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子但しフッ素原子を除く、ヒドロキシ基、オキソ基、C1~C12脂肪族炭化水素基、ヒドロキシ基含有C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C16飽和環状炭化水素基、C1~C12アルコキシ基、C6~C18芳香族炭化水素基、C7~C21アラルキル基、C2~C4アシル基、グリシジルオキシ基又は-CH2j2-O-CO-Rb1基式中、Rb1は、C1~C16脂肪族炭化水素基、C3~C16飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表す。j2は、0~4の整数を表す。などが挙げられる。Yの置換基である脂肪族炭化水素基、飽和環状炭化水素基、芳香族炭化水素基及びアラルキル基等は、さらに置換基を有していてもよい。ここでの置換基は、例えば、アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基等が挙げられる。ヒドロキシ基含有脂肪族炭化水素基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基などが挙げられる。Yの脂肪族炭化水素基及び飽和環状炭化水素基における-CH2-が-O-、-SO2-又は-CO-で置き換わった基としては、例えば、環状エーテル基-CH2-が-O-で置き換わった基、オキソ基を有する飽和環状炭化水素基-CH2-が-CO-で置き換わった基、スルトン環基隣り合う2つの-CH2-が、それぞれ、-O-又は-SO2-で置き換わった基又はラクトン環基隣り合う2つの-CH2-が、それぞれ、-O-又は-CO-で置き換わった基等が挙げられる。特に、Yの飽和環状炭化水素基としては、式Y1~式Y26で表される基が挙げられる。なかでも、好ましくは式Y1~式Y19のいずれかで表される基であり、より好ましくは式Y11、式Y14、式Y15又は式Y19で表される基であり、さらに好ましくは式Y11又は式Y14で表される基である。脂肪族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYとしては、例えば以下のものが挙げられる。ヒドロキシ基又はヒドロキシ基含有脂肪族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYとしては、例えば以下のものが挙げられる。芳香族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYとしては、例えば以下のものが挙げられる。-CH2j2-O-CO-Rb1基が置換された飽和環状炭化水素基であるYとしては、例えば以下のものが挙げられる。Yは、好ましくは置換基例えば、オキソ基等を有していてもよいアダマンチル基であり、より好ましくはアダマンチル基又はオキソアダマンチル基である。式B1で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、例えば、置換基Lb1が式b1-1である以下の式b1-1-1~式b1-1-1-9で表されるアニオンが好ましい。以下の式においては、置換基の定義は上記と同じ意味であり、置換基Rb2及びRb3は、それぞれ独立にC1~C4脂肪族炭化水素基好ましくは、メチル基を表す。脂肪族炭化水素基又は無置換の飽和環状炭化水素基であるYと式b1-1で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオン又は脂肪族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-1で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。-CH2j2-O-CO-Rb1基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-1で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。ヒドロキシ基又はヒドロキシ基含有脂肪族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-1で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。芳香族炭化水素基又はアラルキル基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-1で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。環状エーテルであるYと式b1-1で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。ラクトン環であるYと式b1-1で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。オキソ基を有する飽和環状炭化水素であるYと式b1-1で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。スルトン環であるYと式b1-1で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。脂肪族炭化水素基又は無置換の飽和環状炭化水素基であるYと式b1-2で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオン又は脂肪族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-2で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。-CH2j2-O-CO-Rb1基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-2で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。ヒドロキシ基又はヒドロキシ基含有脂肪族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-2で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。芳香族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-2で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。環状エーテルであるYと式b1-2で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。ラクトン環であるYと式b1-2で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。オキソ基を有するYと式b1-2で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。スルトン環であるYと式b1-2で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。脂肪族炭化水素基又は無置換のYと式b1-3で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオン又は脂肪族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-3で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。アルコキシ基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-3で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。ヒドロキシ基又はヒドロキシ基含有脂肪族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-3で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。オキソ基を有するYと式b1-3で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。脂肪族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-4で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。アルコキシ基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-4で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。ヒドロキシ基又はヒドロキシ基含有脂肪族炭化水素基が置換された飽和環状炭化水素基であるYと式b1-4で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。オキソ基を有する飽和環状炭化水素基であるYと式b1-4で表される2価の基とを含むスルホン酸アニオンとしては、例えば以下のものが挙げられる。なかでも、式b1-1で表される2価の基を有する以下のスルホン酸アニオンがより好ましい。酸発生剤Bに含まれるカチオンは、オニウムカチオン、例えば、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン、ホスホニウムカチオンなどが挙げられる。これらの中でも、スルホニウムカチオン及びヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。式B1中のZは、好ましくは式b2-1~式b2-4のいずれかで表される。これらの式b2-1~式b2-4において、Rb4~Rb6は、それぞれ独立に、C1~C30脂肪族炭化水素基、C3~C18飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表す。前記脂肪族炭化水素基は、ヒドロキシ基、C1~C12アルコキシ基又はC6~C18芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、前記飽和環状炭化水素基は、ハロゲン原子、C2~C4アシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、前記芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1~C18脂肪族炭化水素基、C3~C18飽和環状炭化水素基又はC1~C12アルコキシ基で置換されていてもよい。Rb7及びRb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、C1~C12脂肪族炭化水素基又はC1~C12アルコキシ基を表す。m2及びn2は、それぞれ独立に0~5の整数を表す。Rb9及びRb10は、それぞれ独立に、C1~C18脂肪族炭化水素基又はC3~C18飽和環状炭化水素基を表す。Rb11は、水素原子、C1~C18脂肪族炭化水素基、C3~C18飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表す。Rb9~Rb11の脂肪族炭化水素基は、好ましくはC1~C12であり、飽和環状炭化水素基は、好ましくはC3~C18、より好ましくはC4~C12である。Rb12は、C1~C12脂肪族炭化水素基、C3~C18飽和環状炭化水素基又はC6~C18芳香族炭化水素基を表す。前記芳香族炭化水素基は、C1~C12脂肪族炭化水素基、C1~C12アルコキシ基、C3~C18飽和環状炭化水素基又はC1~C12アルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。Rb9とRb10と、及びRb11とRb12とは、それぞれ独立に、互いに結合して-CH-CO-とともに3員環~12員環好ましくは3員環~7員環を形成していてもよく、これらの環の-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-で置き換わっていてもよい。Rb13~Rb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、C1~C12脂肪族炭化水素基又はC1~C12アルコキシ基を表す。Lb11は、-S-又は-O-を表す。o2、p2、s2、及びt2は、それぞれ独立に、0~5の整数を表す。q2及びr2は、それぞれ独立に、0~4の整数を表す。u2は0又は1を表す。アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n-プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n-ブチルカルボニルオキシ基、sec-ブチルカルボニルオキシ基、tert-ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び2-エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。好ましい脂肪族炭化水素基は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基である。好ましい飽和環状炭化水素基は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基、2-アルキル-2-アダマンチル基、1-1-アダマンチル-1-アルキル基、及びイソボルニル基である。好ましい芳香族炭化水素基は、フェニル基、4-メチルフェニル基、4-エチルフェニル基、4-tert-ブチルフェニル基、4-シクロへキシルフェニル基、4-メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基である。置換基が芳香族炭化水素基である脂肪族炭化水素基アラルキル基としては、ベンジル基などが挙げられる。Rb9及びRb10が形成する環としては、例えば、チオラン-1-イウム環テトラヒドロチオフェニウム環、チアン-1-イウム環、1,4-オキサチアン-4-イウム環などが挙げられる。Rb11及びRb12が形成する環としては、例えば、オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環などが挙げられる。カチオンb2-1~カチオンb2-4の中でも、カチオンb2-1が好ましく、式b2-1-1で表されるカチオンがより好ましく、トリフェニルスルホニウムカチオン式b2-1-1中、v2=w2=x2=0がさらに好ましい。式b2-1-1中、Rb19~Rb21は、それぞれ独立に、ハロゲン原子より好ましくはフッ素原子、ヒドロキシ基、C1~C18脂肪族炭化水素基、C3~C18飽和環状炭化水素基又はC1~C12アルコキシ基を表す。脂肪族炭化水素基は、好ましくはC1~C12であり、飽和環状炭化水素基は、好ましくはC4~C18である。前記脂肪族炭化水素基は、ヒドロキシ基、C1~C12アルコキシ基又はC6~C18芳香族炭化水素基で置換されていてもよい。前記飽和環状炭化水素基は、ハロゲン原子、C2~C4アシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよい。v2~x2は、それぞれ独立に0~5の整数好ましくは0又は1を表す。なかでも、Rb19~Rb21は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子より好ましくはフッ素原子、ヒドロキシ基、C1~C12アルキル基、又はC1~C12アルコキシ基である。カチオンb2-1-1の具体例としては、以下のものが挙げられる。カチオンb2-2の具体例としては、以下のものが挙げられる。カチオンb2-3の具体例としては、以下のものが挙げられる。カチオンb2-4の具体例としては、以下のものが挙げられる。酸発生剤B1は、上述のスルホン酸アニオン及び有機カチオンの組合せである。上述のアニオンとカチオンとは任意に組み合わせることができるが、アニオンb1-1-1~アニオンb1-1-9のいずれかとカチオンb2-1-1との組合せ、並びにアニオンb1-1-3~b1-1-5のいずれかとカチオンb2-3との組合せが好ましい。好ましい酸発生剤B1は、式B1-1~式B1-17で表されるものである。中でもトリフェニルスルホニウムカチオンを含む酸発生剤B1-1、B1-2、B1-6、B1-11、B1-12、B1-13及びB1-14がより好ましい。酸発生剤Bの含有量は、樹脂A100質量部に対して、好ましくは1質量部以上より好ましくは3質量部以上、好ましくは30質量部以下より好ましくは25質量部以下である。塩基性化合物以下塩基性化合物Cという場合がある本発明のレジスト組成物は、塩基性化合物Cを含有していることが適している。塩基性化合物Cの含有量は、レジスト組成物の固形分量を基準に、0.01~1質量程度であることが好ましい。塩基性化合物Cは、好ましくは塩基性の含窒素有機化合物例えば、アミンである。アミンは、脂肪族アミンでも、芳香族アミンでもよい。脂肪族アミンは、1級アミン、2級アミン及び3級アミンのいずれも使用できる。芳香族アミンは、アニリンのような芳香族環にアミノ基が結合したものや、ピリジンのような複素芳香族アミンのいずれでもよい。好ましい塩基性化合物Cとして、式C2で表される芳香族アミン、特に式C2-1で表されるアニリンが挙げられる。ここで、Arc1は、芳香族炭化水素基を表す。Rc5及びRc6は、それぞれ独立に、水素原子、脂肪族炭化水素基好ましくはアルキル基又はシクロアルキル基、飽和環状炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。但し前記脂肪族炭化水素基、前記飽和環状炭化水素基又は前記芳香族炭化水素基の水素原子は、ヒドロキシ基、アミノ基、又はC1~C6アルコキシ基で置換されていてもよく、前記アミノ基は、C1~C4アルキル基で置換されていてもよい。前記脂肪族炭化水素基は、好ましくはC1~C6程度であり、前記飽和環状炭化水素基は、好ましくはC5~C10程度であり、前記芳香族炭化水素基は、好ましくはC6~C10程度である。Rc7は、脂肪族炭化水素基好ましくはアルキル基、アルコキシ基、飽和環状炭化水素基好ましくはシクロアルキル基又は芳香族炭化水素基を表す。但し脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、飽和環状炭化水素基及び芳香族炭化水素基の水素原子は、上記と同様の置換基を有していてもよい。m3は0~3の整数を表す。m3が2以上のとき、複数のRc7は、互いに同一又は異なる。Rc7の脂肪族炭化水素基、飽和環状炭化水素基及び芳香族炭化水素基の好ましい炭素数は、上記と同じであり、Rc7のアルコキシ基は、好ましくはC1~C6程度である。芳香族アミンC2としては、例えば、1-ナフチルアミン及び2-ナフチルアミンなどが挙げられる。アニリンC2-1としては、例えば、アニリン、ジイソプロピルアニリン、2-,3-又は4-メチルアニリン、4-ニトロアニリン、N-メチルアニリン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。中でもジイソプロピルアニリン特に2,6-ジイソプロピルアニリンが好ましい。塩基性化合物Cとしては、式C3~式C11で表される化合物が挙げられる。ここで、Rc8は、上記Rc7で説明したいずれかの基を表す。窒素原子と結合するRc9、Rc10、Rc11~Rc14、Rc16~Rc19及びRc22は、それぞれ独立に、Rc5及びRc6で説明したいずれかの基を表す。芳香族炭素と結合するRc20、Rc21、Rc23~Rc28は、それぞれ独立に、Rc7で説明したいずれかの基を表す。o3~u3は、それぞれ独立に0~3の整数を表す。Rc15は、脂肪族炭化水素基、飽和環状炭化水素基又はアルカノイル基を表す。n3は0~8の整数を表す。n3が2以上のとき、複数のRc15は、互いに同一又は異なる。Rc15の脂肪族炭化水素基は、好ましくはC1~C6程度であり、飽和環状炭化水素基は、好ましくはC3~C6程度であり、アルカノイル基は、好ましくはC2~C6程度である。Lc1及びLc2は、それぞれ独立に、2価の脂肪族炭化水素基好ましくはアルキレン基、-CO-、-C=NH-、-C=NRc3-、-S-、-S-S-又はこれらの組合せを表す。前記2価の脂肪族炭化水素基は、好ましくはC1~C6程度である。Rc3は、C1~C4アルキル基を表す。化合物C3としては、例えば、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス2-2-メトキシエトキシエチルアミン、トリイソプロパノールアミンエチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’-ジアミノ-1,2-ジフェニルエタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチルジフェニルメタンなどが挙げられる。化合物C4としては、例えば、ピペラジンなどが挙げられる。化合物C5としては、例えば、モルホリンなどが挙げられる。化合物C6としては、例えば、ピペリジン及び特開平11-52575号公報に記載されているピペリジン骨格を有するヒンダードアミン化合物などが挙げられる。化合物C7としては、例えば、2,2’-メチレンビスアニリンなどが挙げられる。化合物C8としては、例えば、イミダゾール、4-メチルイミダゾールなどが挙げられる。化合物C9としては、例えば、ピリジン、4-メチルピリジンなどが挙げられる。化合物C10としては、例えば、1,2-ジ2-ピリジルエタン、1,2-ジ4-ピリジルエタン、1,2-ジ2-ピリジルエテン、1,2-ジ4-ピリジルエテン、1,3-ジ4-ピリジルプロパン、1,2-ジ4-ピリジルオキシエタン、ジ2-ピリジルケトン、4,4’-ジピリジルスルフィド、4,4’-ジピリジルジスルフィド、2,2’-ジピリジルアミン、2,2’-ジピコリルアミンなどが挙げられる。化合物C11としては、例えば、ビピリジンなどが挙げられる。溶剤以下溶剤Eという場合がある本発明のレジスト組成物は、溶剤Eを、組成物中90質量以上の量で含有していてもよい。溶剤Eを含有する本発明のレジスト組成物は、薄膜レジストを製造するために適している。溶剤Eの含有量は、組成物中90質量以上好ましくは92質量以上、より好ましくは94質量以上、99.9質量以下好ましくは99質量以下である。溶剤Eの含有量は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィーなどの公知の分析手段で測定できる。溶剤Eとしては、例えば、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートのようなグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルのようなグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチルのようなエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン及びシクロヘキサノンのようなケトン類;γ-ブチロラクトンのような環状エステル類;などを挙げることができる。溶剤Eは、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。その他の成分以下その他の成分Fという場合がある本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、その他の成分Fを含有していてもよい。成分Fに特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料などを利用できる。レジストパターンの製造方法本発明のレジストパターンの製造方法は、1上述した本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、2塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、3組成物層に露光機を用いて露光する工程、4露光後の組成物層を加熱する工程、5加熱後の組成物層を、現像装置を用いて現像する工程を含む。レジスト組成物の基体上への塗布は、スピンコーターなど、通常、用いられる装置によって行うことができる。塗布後の組成物を乾燥させて溶剤を除去する。溶剤の除去は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させることにより行われるか、あるいは減圧装置を用いて行われ、溶剤が除去された組成物層が形成される。この場合の温度は、例えば、50~200°C程度が例示される。また、圧力は、1~1.0×105Pa程度が例示される。得られた組成物層は、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。この際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源としては、KrFエキシマレーザ波長248nm、ArFエキシマレーザ波長193nm、F2レーザ波長157nmのような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源YAG又は半導体レーザ等からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの等、種々のものを用いることができる。露光後の組成物層は、脱保護基反応を促進するための加熱処理が行われる。加熱温度としては、通常50~200°C程度、好ましくは70~150°C程度である。加熱後の組成物層を、現像装置を用いて、通常、アルカリ現像液を利用して現像する。ここで用いられるアルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド通称コリンの水溶液等が挙げられる。現像後、超純水でリンスし、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。用途本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、EB用のレジスト組成物又はEUV露光機用のレジスト組成物として好適である。次に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。実施例及び比較例中、含有量ないし使用量を表す及び部は、特記ないかぎり質量基準である。また重量平均分子量は、ポリスチレンを標準品として、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー東ソー株式会社製HLC-8120GPC型、カラムはTSKgelMultiporeHXL-M3本、溶媒はテトラヒドロフランにより求めた値である。また、化合物の構造はNMRGX-270型又はEX-270型;日本電子製、質量分析LC;Agilent製1100型、MASS;Agilent製LC/MSD型又はLC/MSDTOF型で確認した。式I-313で表される塩の合成式I-313-aで表される化合物東京化成株社製75.0部とクロロホルム600部との溶液に、10水酸化ナトリウム水溶液240部を加えて、室温で1時間攪拌した。反応混合溶液の水層を分液により除去し、有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥した。乾燥した反応混合溶液に、トリエチルアミン106部加え、-10°Cに冷却し、式I-313-cで表される化合物51.2部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-313-dで表される塩を加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水205部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液を減圧濃縮し、アセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液にて再結晶を行い、式I-313で表される塩124.0部を得た。MSESISpectrum:M=305.1C21H21S=305.1MSESI-Spectrum:M-=230.1C10H16NO3S-=230.1式I-349で表される塩の合成式I-349-bで表される化合物東京化成株社製2.2部とクロロホルム50部との溶液に、トリエチルアミン2.8部加え、-10°Cに冷却し、式I-349-cで表される化合物1.6部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-349-dで表される塩4.0部を加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水20部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液を減圧濃縮し、アセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液にて再結晶を行い、式I-349で表される塩3.5部を得た。MSESISpectrum:M=305.1C21H21S=305.1MSESI-Spectrum:M-=260.1C12H22NO3S-=260.1式I-409で表される塩の合成式I-409-bで表される化合物東京化成株社製1.7部とクロロホルム50部との溶液に、トリエチルアミン2.8部加え、-10°Cに冷却し、式I-409-cで表される化合物1.6部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-409-dで表される塩を4.0部加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水20部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液を減圧濃縮し、アセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液を加え、デカンテーションにて上澄みを除去し、乾燥することで式I-409で表される塩5.4部を得た。MSESISpectrum:M=305.1C21H21S=305.1MSESI-Spectrum:M-=218.1C9H16NO3S-=218.1式I-366で表される塩の合成式I-366-bで表される化合物東京化成株社製4.0部とクロロホルム40部との溶液に、トリエチルアミン6.6部加え、-10°Cに冷却し、式I-366-cで表される化合物3.18部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-366-dで表される塩を7.0部加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水13部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液をイオン交換水にて洗浄した後、減圧濃縮を行ない、アセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液を加え、デカンテーションにて上澄みを除去し、乾燥することで、式I-366で表される塩7.1部を得た。MSESISpectrum:M=305.1C21H21S=305.1MSESI-Spectrum:M-=240.0C7H5F3NO3S-=240.0式I-216で表される塩の合成式I-216-bで表される化合物東京化成株社製2.5部とクロロホルム25部との溶液に、トリエチルアミン4.8部加え、-10°Cに冷却し、式I-216-cで表される化合物2.30部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-216-dで表される塩を5.0部加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水13部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液をイオン交換水にて洗浄した後、減圧濃縮を行なった。残渣にアセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液を加え、デカンテーションにて上澄みを除去し、乾燥することで式I-216で表される塩7.1部を得た。MSESISpectrum:M=263.1C18H15S=263.1MSESI-Spectrum:M-=218.1C9H16NO3S-=218.1式I-354で表される塩の合成I-354-cの合成式I-354-aで表される化合物東京化成株社製20.0部とクロロホルム160部との溶液に、トリエチルアミン19.0部加え、室温にて終夜攪拌した。反応混合液をろ過した後、ろ液にトリエチルアミン41.6部加え-10°Cに冷却し、式I-354-bで表される化合物20.0部を加え、2時間攪拌した。反応混合液をろ過した後、減圧濃縮を行ない、式I-354-cで表される塩27.9部を得た。I-354-fの合成式I-354-cで表される化合物24.6部とジクロロエタン160部との溶液に、式1-354-dで表される化合物20.0部と式1-354-eで表される化合物1.36部加え、加熱還流下で17時間攪拌した。反応混合溶液を濃縮した後、残渣をシリカゲルクロマトクロロホルム:メタノール=5:1により精製を行い式I-354―fで表される塩10.1部を得た。I-354の合成式I-354―fで表される化合物5.25部とクロロホルム28部との溶液に、式I-354-gで表される塩を4.0部を加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水5.0部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液をイオン交換水にて洗浄した後、減圧濃縮を行なった。残渣にアセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液を加え、デカンテーションにて上澄みを除去し、乾燥することで式I-354で表される塩5.2部を得た。MSESISpectrum:M=305.1C21H21S=305.1MSESI-Spectrum:M-=318.1C13H20NO6S-=318.1式I-417で表される塩の合成式I-417-bで表される化合物東京化成株社製2.5部とクロロホルム50部との溶液に、トリエチルアミン2.5部加え、-10°Cに冷却し、式I-417-cで表される化合物2.4部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-417-dで表される塩を5.0部加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水17部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液をイオン交換水にて洗浄した後、減圧濃縮を行なった。残渣に、アセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液を加え、デカンテーションにて上澄みを除去し、乾燥することで式I-417で表される塩5.4部を得た。MSESISpectrum:M=305.1C21H21S=305.1MSESI-Spectrum:M-=212.0C9H10NO3S-=212.0式I-205で表される塩の合成式I-205-bで表される化合物東京化成株社製2.0部とクロロホルム40部との溶液に、トリエチルアミン3.7部加え、-10°Cに冷却し、式I-205-cで表される化合物3.6部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-205-dで表される塩を8.0部加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水20部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液をイオン交換水にて洗浄した後、減圧濃縮を行なった。残渣に、アセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液を加え、デカンテーションにて上澄みを除去し、乾燥することで式I-205で表される塩5.1部を得た。MSESISpectrum:M=263.1C18H15S=263.1MSESI-Spectrum:M-=150.0C4H8NO3S-=150.0式I-414で表される塩の合成式I-414-bで表される化合物東京化成株社製2.0部とクロロホルム40部との溶液に、トリエチルアミン3.7部加え、-10°Cに冷却し、式I-414-cで表される化合物3.6部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-414-dで表される塩を8.0部加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水20部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液をイオン交換水にて洗浄した後、減圧濃縮を行なった。残渣に、アセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液を加え、デカンテーションにて上澄みを除去し、乾燥することで式I-414で表される塩3.1部を得た。MSESISpectrum:M=305.1C21H21S=305.1MSESI-Spectrum:M-=150.0C4H8NO3S-=150.0式I-401で表される塩の合成式I-401-bで表される化合物東京化成株社製2.0部とクロロホルム40部との溶液に、トリエチルアミン2.3部加え、-10°Cに冷却し、式I-401-cで表される化合物3.0部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-401-dで表される塩を8.0部加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水20部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液を減圧濃縮し、アセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液を加え、デカンテーションにて上澄みを除去し、乾燥することで式I-401で表される塩10.6部を得た。MSESISpectrum:M=305.1C21H21S=305.1MSESI-Spectrum:M-=164.0C5H10NO3S-=164.0式I-420で表される塩の合成式I-420-bで表される化合物東京化成株社製2.5部とクロロホルム25部との溶液に、トリエチルアミン2.3部加え、-10°Cに冷却し、式I-420-cで表される化合物2.24部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-420-dで表される塩を5.0部加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水20部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液を減圧濃縮し、アセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液を加え、デカンテーションにて上澄みを除去し、乾燥することで式I-420で表される塩5.4部を得た。MSESISpectrum:M=305.1C21H21S=305.1MSESI-Spectrum:M-=222.0C7H12NO5S-=222.0式I-412で表される塩の合成式I-412-bで表される化合物東京化成株社製2.5部とクロロホルム50部との溶液に、トリエチルアミン4.8部加え、-10°Cに冷却し、式I-412-cで表される化合物2.3部を加えた後、室温にて1時間攪拌した。反応混合溶液に式I-412-dで表される塩を5.0部加え、終夜攪拌した。反応混合溶液にイオン交換水20部を加え、クロロホルムにより抽出した。クロロホルム溶液を減圧濃縮し、アセトニトリルと2メトキシ2メチルプロパンとの混合溶液にて再結晶を行い、乾燥することで式I-412で表される塩4.0部を得た。MSESISpectrum:M=207.1C12H15OS=207.1MSESI-Spectrum:M-=218.1C9H16NO3S-=218.1樹脂A1の合成式M-1で表される化合物を15.00部、式M-2で表される化合物を4.89部、式M-6で表される化合物を11.12部、式M-3で表される化合物を8.81部仕込みモル比35:12:23:30、全モノマー量の1.5重量倍のジオキサンを加えて溶液とした。そこに開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対してそれぞれ1mol、3mol添加し、77°Cで約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水の混合溶媒に注いで沈殿させる動作を3回行いうことで精製し、重量平均分子量が約8.1×103の共重合体を収率78で得た。この共重合体は、次式の各構造単位を有するものであり、これを樹脂A1とする。樹脂A2の合成窒素雰囲気下、攪拌機冷却管温度計を備えたフラスコにモノマーM-1を18.00部、モノマーM-10を5.39部、モノマーM-11を3.85部、モノマーM-3を12.66部仕込み、全モノマー量の1.5重量倍の1,4-ジオキサンを加えて溶液とした。そこに開始剤として2,2’-アゾビスイソブチロニトリルと2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対してそれぞれ1mol、3mol添加し、75°Cで約5時間加熱した。その後、反応液を大量のメタノールと水の混合溶媒に注いで沈殿させる操作を行い、濾別した固体はメタノールで洗浄し、重量平均分子量が7.9×103の共重合体を収率81で得た。この共重合体は、次式の各構造単位を有するものであり、これを樹脂A2とする。実施例及び比較例<樹脂>樹脂A1<酸発生剤>酸発生剤B1:ラインアンドスペースでの評価結果<式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩>I-313:式I-313で表される塩<塩基性化合物>C1:2,6-ジイソプロピルアニリン<溶剤1>プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート210.0部2-ヘプタノン20.0部プロピレングリコールモノメチルエーテル20.0部γ-ブチロラクトン3.5部12インチのシリコン製ウェハー上に、有機反射防止膜用組成物[ARC-29;日産化学株製]を塗布して、205°C、60秒の条件でベークすることによって、厚さ780Åの有機反射防止膜を形成させた。次いで、前記の有機反射防止膜の上に、上記のレジスト組成物を乾燥後の膜厚が110nmとなるようにスピンコートした。レジスト組成物塗布後、得られたシリコンウェハをダイレクトホットプレート上にて、表のPB欄に記載された温度で60秒間プリベークPBした。こうしてレジスト組成物膜を形成したウェハーに、液浸露光用ArFエキシマスキャナー[XT:1900Gi;ASML社製、NA=120、3/4AnnularX-Y偏向]を用いて、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパターンを液浸露光した。露光後、ホットプレート上にて、表のPEB欄に記載された温度で60秒間ポストエキスポジャーベークPEBを行い、さらに2.38質量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行った。各レジスト膜において、55nmのラインアンドスペースパターンが1:1となる露光量となる露光量を実効感度とした。ラインウィズスラフネス評価LWR:リソグラフィプロセス後のレジストパターンの線幅を走査型電子顕微鏡で観察し、レジストパターンの線幅の振れ幅が5.0nm以下であるものを○、5.0nmを超えるものを×とした。焦点深度評価DOF:55nmのラインアンドスペースパターンが1:1となる実効感度におけるフォーカスマージンを評価した。フォーカスを振った場合、線幅が55nm±2nmの範囲でかつ、LWRが6.0以下になるフォーカス範囲をDOFとし、DOFが220nmを超えるものを○、220nm以下のものを×とした。実施例及び比較例コンタクトホールでの評価結果<樹脂>樹脂A2<酸発生剤>酸発生剤B2:<式IAで表されるアニオンを有するスルホニウム塩>II-1:ビスt-ブチルフェニルヨードニウムシクラメート<塩基性化合物>C1:2,6-ジイソプロピルアニリン<溶剤2>プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート220.0部2-ヘプタノン10.0部プロピレングリコールモノメチルエーテル20.0部γ-ブチロラクトン3.0部12インチのシリコン製ウェハー上に、有機反射防止膜用組成物[ARC29SR;日産化学株製]を塗布して、205°C、60秒の条件でベークすることによって、厚さ930Åの有機反射防止膜を形成させた。次いで、前記の有機反射防止膜の上に、上記のレジスト組成物を乾燥後の膜厚が120nmとなるようにスピンコートした。レジスト組成物塗布後、得られたシリコンウェハをダイレクトホットプレート上にて、表のPB欄に記載された温度で60秒間プリベークPBした。こうしてレジスト組成物膜を形成したウェハーに、液浸露光用ArFエキシマスキャナー[XT:1900Gi;ASML社製、NA=120、Quadrupoleonaxisσout/σin=0.97/0.77、X-Y偏向]を用いて、露光量を段階的に変化させてコンタクトホールパターンを液浸露光した。露光後、ホットプレート上にて、表のPEB欄に記載された温度で60秒間ポストエキスポジャーベークPEBを行い、さらに2.38質量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行った。各レジスト膜において、Pitch500nmで160nmのHoleのマスクを使用し、140nmのホールパターンを形成する露光量を実効感度とした。焦点深度評価DOF:Pitch500nmで160nmのHoleのマスクを使用し、140nmのホールパターンを形成する実効感度におけるフォーカスマージンを評価した。フォーカスを振った場合、Hole径が135nm~140nmになるフォーカス範囲をDOFとし、DOFが135nmを超えるものを○、135nm以下120nmを超えるのものを×、120nm以下のものを××とした。式I-409で表されるアニオンを有するスルホニウム塩に変えて式I-412で表されるアニオンを有するスルホニウム塩を用いる以外は実施例8と同様にしてレジスト組成物を調整し、実施例8と同様に評価を行い、パターンを得る。"