電子ビーム発生装置100のための制御グリッド112であって、幅方向に複数の行を有し、高さ方向に複数の列を有して配置された複数の開口部122を備え、1つの行の前記開口部の大多数は、同一の大きさを有し、少なくとも1つの行の前記開口部の大きさは、別の行の前記開口部の大きさと異なっている、制御グリッド112。前記幅方向に平行な、前記制御グリッド112の中心線Cに近い行の方が、前記中心線Cから離れている行よりも、より小型の大きさの開口部を有している、請求項1に記載の制御グリッド112。1つの行の前記開口部の大多数は均一な高さ及び均一な幅を有し、前記制御グリッドの前記開口部の大多数は同一の幅を有しており、少なくとも1つの行の前記開口部の高さは、別の行の前記開口部の高さと異なっている、請求項1に記載の制御グリッド112。前記幅方向に平行な、前記制御グリッドの中心線Cに近い行の方が、前記中心線Cから離れている行よりも、高さがより小さい開口部を有している、請求項3に記載の制御グリッド112。前記制御グリッド112の前記中心線Cに合致している行126の方が、前記中心線Cから離れている行よりも、高さH1がより小さい開口部を有している、請求項4に記載の制御グリッド112。隣接する各行は、1つの行に属する隣接した開口部の中心相互間距離の半分だけ、前記幅方向にずらされており、1つの行の中の開口部は、隣接する行に属する隣り合った2つの開口部それぞれからの距離が等しい形で配置されるようになっている、請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の制御グリッド112。前記開口部112は六角形の形状を有している、請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載の制御グリッド112。前記行の前記開口部は、ハニカム形状の構造を形成している、請求項7に記載の制御グリッド112。前記ハニカム形状構造の前記開口部相互間の材料厚は、0.4~1.2mmの範囲である、請求項8に記載の制御グリッド112。前記制御グリッド112は、0.4~1.2mmの範囲の材料厚を有する薄板材料プレートで作製されている、請求項1から請求項9までのいずれか一項に記載の制御グリッド112。本発明は、電子ビーム発生装置用に、幅方向の行及び高さ方向の列の形に配列された開口部であって、1つの行の開口部の大多数が同一の大きさを有し、少なくとも1つの行の開口部の大きさが別の行の開口部の大きさと異なるようになされている開口部を備えた制御グリッドを提供することによって、上記課題の解決を図るものである。開口部の大きさを変える上記の手法は、電子ビーム発生装置からの出力ビームプロファイルを調整するのに適切な態様であることが判明した。大多数なる文言は、通常の意味での過半数を意味する。制御グリッド周辺では、ビームプロファイルを制御するのに特別な対策をとる必要があると考えられるが、実際の例では、同じ大きさを有するという基準に従わない開口部だけを、制御グリッド周辺沿いの開口部としている。1つ又は複数の実施例では、幅方向に平行な制御グリッドの中心線に近い行の方が、中心線から離れている行よりも、より小型の大きさの開口部を有している。1つ又は複数の実施例では、1つの行の開口部の大多数は、均一な高さ及び幅を有し、制御グリッドの開口部の大多数は、同一の幅を有する。この場合、少なくとも1つの行の開口部の高さは、別の行の開口部の高さと異なっている。開口部の高さは変えるが、幅は変えずに維持する上記の手法は、電子ビーム発生装置からの出力ビームプロファイルを調整するのに適切な態様であることが判明した。上述したように、大多数なる文言は、過半数を意味する。制御グリッド周辺では、ビームプロファイルを制御するのに特別な対策をとる必要があると考えられるが、同じ幅を有するという基準に従わない開口部だけを、制御グリッド周辺沿いの開口部としている。1又は複数の実施例では、幅方向に平行な制御グリッドの中心線に近い行の方が、中心線から離れている行よりも、高さがより小さい開口部を有している。1又は複数の実施例では、制御グリッドの前記中心線に合致している行の方が、中心線から離れている行よりも、高さがより小さい開口部を有している。1又は複数の実施例では、隣接する各行は、1つの行に属する隣接した開口部の中心相互間距離の半分だけ、幅方向にずらされており、したがって、1つの行の中の開口部は、隣接する行に属する隣り合った2つの開口部それぞれからの距離が等しい形で配置されている。1又は複数の実施例では、開口部は六角形の形状を有している。1又は複数の実施例では、行の開口部が、ハニカム形状の構造を形成している。ハニカム構造は、電子の透過性が高いため、制御グリッドに非常に適していることが分かった。これは、その構造が、材料厚が薄い場合でも高い機械的強度を有していることによるものである。1又は複数の実施例では、ハニカム形状構造の開口部相互間の材料厚は、0.4~1.2mmの範囲である。1又は複数の実施例では、制御グリッドは、0.4~1.2mmの範囲の材料厚を有する薄板材料プレートで作製されている。以下に、本発明の目下の好適な実施例について、添付図面を参照してより詳細に説明する。図1及び図2については、背景技術の段落で既に説明を行なっており、ここではそれ以上の説明は行なわない。それらの図はさておき、図3aについて説明すると、本発明の第1の実施例に係る制御グリッド112の平面図を示している。図3bに、簡易化した平面図を示す。制御グリッド112は、開口部122が備わった、本質的に長方形のプレート120である。そのプレートは、好ましくは0.4~1.2mmの範囲の材料厚を有する薄板で作製されることが好ましい。図3bの制御グリッドは、代表的制御グリッドを単に簡易化しただけであり、図にある縦横比及び大きさは、電子ビーム発生装置に合わせるべく、必要に応じて変更できることは、当業者であれば分かることである。例えば、制御グリッドは、図3aのような外観とすることができる。図3bには、制御グリッド112の長さ方向に延伸する中心線Cが表示されている。開口部122は、制御グリッドの中心区域にわたって実質的に均等に分布されており、制御グリッド112の周辺部には、開口部が存在しない枠体124が残っている。電子ビーム発生装置のフィラメントは、図1及び図2から、制御グリッド112の中心線Cに並んで、それと平行な方向に延在している。そのため、電子ビームの強度は、制御グリッド112の中心で最強になる。図4の概略平面図では、制御グリッド112のある区分だけを示している。なお、かかる区分を複数並置することによって図3aのような完全な制御グリッドを実現できることは、当業者であれば分かることである。開口部122は六角形の形状を有しており、開口部122が一体となって、ハニカム形状構造を形成している。図3において、開口部122は、Wで示される幅方向の行R、及びHで示される高さ方向の列Cの形で配置されている。図から分かるように、幅方向Wは、中心線Cの方向と一致している。第1の行126は、中心線Cに合致して配置されている。図4参照。他の行128~136は、中心線Cから次々とより離れる形で配置されている。ハニカム形状の構造にするために、隣接する各行は、1つの行に属する隣接した開口部の中心相互間距離の半分だけ、幅方向Wにずらされており、したがって、1つの行の中の開口部は、隣接する行に属する隣り合った2つの開口部それぞれからの距離が等しい形で配置されている。好ましくは、1つの行の開口部の大多数が、同一の大きさを有する。少なくとも1つの行の開口部の大きさは、別の行の開口部の大きさと異なっている。第1の実施例において、1つの行の開口部の大多数は、均一な高さ及び幅を有している。六角形形状の高さとは、本明細書では、直接的に対向し六角形形状を2つの等脚台形に分割する、2つの角部相互間の最大距離と規定されている。そのため、六角形形状の幅は、六角形形状の2本の平行な辺相互間を測ったものとなる。異なる行126~136の各開口部の高さは、H1~H6で表された矢印で示されている。この第1の実施例では、六角形形状は、高さ方向Hが制御グリッド112の中心線Cに垂直になるような形で配向されている。制御グリッド112の全開口部122の大多数は、同一の幅Wを有している。しかし、少なくとも1つの行の開口部の高さは、別の行の開口部の高さと異なっている。この第1の実施例では、制御グリッド112の中心線Cに近い行の方が、中心線Cから離れている行よりも、より小型の大きさの開口部を有している。これは、その行では、隣り合う行と比べ、制御グリッド材料が比較的より多く、開口部面積が比較的より少なくなっていることを意味する。この性質は、とりわけ電子の透過性に影響が及ぶ。電子の透過性は、制御グリッド材料が多く存在するほど低くなる。図3b及び図4にあるように、中心線Cに合致した行126の開口部の方が、例えば行128のような中心線Cから離れた行よりも、高さH1がより小さい六角形形状を有している。中心線Cでは、ビーム強度は非常に強くなっており、したがって、適切な電流密度プロファイルを形成する目的には、その区域の透過性を低くした方が好都合であると考えられる。開口部の六角形形状の高さは、高さ方向に対して平行になっている六角形の平行な両辺の長さを縮めることによって変更することが好ましい。1つのかかる平行な辺を、図4にsで示している。このようにして、実質的に均一なハニカム形状構造を依然として保持しながら、1つの行が他の行と異なる高さを有することができる。第2の実施例の一部を図5に示しているが、この実施例では逆に、高さの方が中心線Cに平行になるように、六角形形状を配向することができる。この例では、制御グリッドの高さ方向及び幅方向は、開口部/六角形形状の高さ方向及び幅方向に対応していない。それでもやはり、ハニカム形状構造を保持するために、六角形形状の大きさは、六角形形状の高さHに沿って調整されることが好ましい。図4に示す実施例の開口部122相互間の材料厚、即ち、六角形形状開口部及びハニカム形状構造の縁部を形成している枠組は、0.4~1.2mmの範囲である。これにより、材料厚を薄くしたままで、機械強度が強くなる。更に、高さH1~H6は、3~4mmの範囲である。ある行と、隣り合う行との間の高さの差を、わずか0.1mmにすることが可能である。開口部の幅Wは、3.5~4.5mmの範囲である。図6は、理想的な制御グリッドのシミュレーションの結果を示したものであり、電流密度プロファイル点線及びその結果の箔片温度破線を空間位置の関数として示している。温度が一様なプロファイルを有していることを認識することができる。箔片の寿命を延ばす上でこのことが重要であることが、判明している。電流密度と温度との間に相関関係が見られない理由は、支持プレートの境界付近で熱輸送速度が遥かに高くなっていることである。これは、電流密度が均質であっても、所望の温度プロファイルを得られることにはならないことを意味している。図7は、空間位置の関数として表した、シミュレーションによる2つの異なる制御グリッド構造の電流密度プロファイルのグラフである。点線は本発明の第1の実施例に係る制御グリッドを表しており、破線は従来技術の制御グリッドを表している。後者の制御グリッドは、規則正しく配置された円形の孔を備えている。明らかなように、本発明の第1の実施例に係る制御グリッドは、理想に近い電流密度プロファイルを生じさせている。一方、従来技術のプロファイルは、特に境界付近で冷却速度が増大することによって縁部の勾配効果が高まることを考えると、内部変動が大きいビームプロファイルを生じさせることになるであろう。