基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された基板を上方から覆うための天板と、前記天板の下面に対して下方から天板洗浄液を供給する天板洗浄液供給ノズルと、前記天板洗浄液供給ノズルを支持し、前記天板の下方に前記天板洗浄液供給ノズルが位置するような天板洗浄位置と、前記天板の下方の領域から外方に退避した退避位置との間で前記天板洗浄液供給ノズルを移動させる一のノズル支持アームと、を備え、前記天板には、水平面上で当該天板を回転させる天板回転機構が設けられていることを特徴とする液処理装置。前記基板保持部に保持された基板に対して上方から基板に対する処理液を供給する処理液供給ノズルを更に備え、前記一のノズル支持アームは、前記処理液供給ノズルも支持するようになっていることを特徴とする請求項1記載の液処理装置。前記処理液供給ノズルが下方を向いているときに前記天板洗浄液供給ノズルが上方を向くよう、前記天板洗浄液供給ノズルおよび前記処理液供給ノズルがそれぞれ前記一のノズル支持アームにより支持されていることを特徴とする請求項2記載の液処理装置。前記基板保持部に保持された基板に対して上方から基板に対する処理液を供給する処理液供給ノズルと、前記処理液供給ノズルを支持し、前記基板保持部に保持された基板の上方に前記処理液供給ノズルが位置するような進出位置と、前記進出位置から外方に退避した退避位置との間で前記処理液供給ノズルを移動させる他のノズル支持アームと、を更に備えたことを特徴とする請求項1記載の液処理装置。前記天板洗浄液供給ノズルを支持する前記一のノズル支持アームの高さレベルは、前記処理液供給ノズルを支持する前記他のノズル支持アームの高さレベルよりも高くなっていることを特徴とする請求項4記載の液処理装置。前記一のノズル支持アームは、当該一のノズル支持アームの長手方向を中心軸として回転自在となっており、前記一のノズル支持アームが回転して前記天板洗浄液供給ノズルが下方を向いたときに、当該天板洗浄液供給ノズルは前記基板保持部に保持された基板に対して上方から基板に対する処理液を供給することができるようになっていることを特徴とする請求項1記載の液処理装置。前記天板を加熱するための天板加熱機構を更に備えたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の液処理装置。基板を上方から覆うための天板の下方に天板洗浄液供給ノズルを位置させる工程と、前記天板洗浄液供給ノズルを移動させながら、当該天板洗浄液供給ノズルにより前記天板の下面に対して下方から天板洗浄液を供給する工程と、前記天板を水平面に沿って回転させる工程と、備え、前記天板が回転している状態で前記天板洗浄液供給ノズルにより前記天板の下面に対して下方から天板洗浄液を供給することを特徴とする天板洗浄方法。基板に対して上方から基板に対する処理液を供給する処理液供給ノズルが設けられており、前記処理液供給ノズルが下方を向いているときに前記天板洗浄液供給ノズルが上方を向くよう、前記天板洗浄液供給ノズルおよび前記処理液供給ノズルがそれぞれ一のノズル支持アームにより支持されており、前記天板洗浄液供給ノズルにより前記天板の下面に対して下方から天板洗浄液を供給する工程および前記処理液供給ノズルにより基板に対して上方から基板に対する処理液を供給する工程を少なくとも一部の間、同時に行うことを特徴とする請求項8記載の天板洗浄方法。基板に対して上方から基板に対する処理液を供給する処理液供給ノズルが設けられており、前記天板洗浄液供給ノズルは一のノズル支持アームにより支持されるとともに前記処理液供給ノズルは他のノズル支持アームにより支持されており、前記天板洗浄液供給ノズルを支持する前記一のノズル支持アームの高さレベルは、前記処理液供給ノズルを支持する前記他のノズル支持アームの高さレベルよりも高くなっており、前記天板洗浄液供給ノズルにより前記天板の下面に対して下方から天板洗浄液を供給する工程および前記処理液供給ノズルにより基板に対して上方から基板に対する処理液を供給する工程を同時に行うことを特徴とする請求項8記載の天板洗浄方法。前記天板洗浄液供給ノズルは一のノズル支持アームにより支持されており、前記一のノズル支持アームは、当該一のノズル支持アームの長手方向を中心として回転自在となっており、前記一のノズル支持アームが回転して前記天板洗浄液供給ノズルが下方を向いたときに、当該天板洗浄液供給ノズルは基板に対して上方から基板に対する処理液を供給することができるようになっており、前記天板洗浄液供給ノズルにより基板に対して上方から基板に対する処理液を供給する工程を行った後に、前記ノズル支持アームを回転させて前記天板洗浄液供給ノズルを上向きとし、当該天板洗浄液供給ノズルにより前記天板の下面に対して下方から天板洗浄液を供給する工程を行うことを特徴とする請求項8記載の天板洗浄方法。しかしながら、特許文献1に記載のレジスト除去装置においては、カバー部材がヒュームによって汚染されることが考えられる。例えば、カバー部材によって押さえ込まれたヒュームがカバー部材上で凝縮し、カバー部材上に液滴が付着することや、ウエハに向けて吐出されたSPM液が飛散し、SPM液の飛沫がカバー部材に付着することが考えられる。この場合、SPM処理の後に実施される乾燥工程等の他の工程の際に、カバー部材に付着している液滴や飛沫がウエハ上に落下し、これによってウエハが汚染されることが考えられる。このため、従来のレジスト除去装置では、カバー部材の下方に固定ノズルが設けられており、この固定ノズルからカバー部材の下面に向かって純水等の洗浄液が上方に吐出されるようになっている。しかしながら、このような構成のレジスト除去装置では、カバー部材の下面に洗浄液をまんべんなく供給することができず、カバー部材の下面の洗浄後もSPM液の液滴や飛沫等がカバー部材の下面に残留する場合があり、次のSPM処理の際にカバー部材に付着している液滴や飛沫がウエハ上に落下し、これによってウエハが汚染されるおそれがある。本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基板を上方から覆うための天板の下面に天板洗浄液を全面に供給することができ、天板の下面に付着したSPM液の液滴や飛沫等が天板の下面に残留することを抑制することができる液処理装置および天板洗浄方法を提供することを目的とする。本発明の液処理装置は、基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された基板を上方から覆うための天板と、前記天板の下面に対して下方から天板洗浄液を供給する天板洗浄液供給ノズルと、前記天板洗浄液供給ノズルを支持し、前記天板の下方に前記天板洗浄液供給ノズルが位置するような天板洗浄位置と、前記天板の下方の領域から外方に退避した退避位置との間で前記天板洗浄液供給ノズルを移動させる一のノズル支持アームと、を備え、前記天板には、水平面上で当該天板を回転させる天板回転機構が設けられていることを特徴とする。本発明の天板洗浄方法は、基板を上方から覆うための天板の下方に天板洗浄液供給ノズルを位置させる工程と、前記天板洗浄液供給ノズルを移動させながら、当該天板洗浄液供給ノズルにより前記天板の下面に対して下方から天板洗浄液を供給する工程と、前記天板を水平面に沿って回転させる工程と、備え、前記天板が回転している状態で前記天板洗浄液供給ノズルにより前記天板の下面に対して下方から天板洗浄液を供給することを特徴とする。本発明の液処理装置および天板洗浄方法によれば、基板を上方から覆うための天板の下面に天板洗浄液を全面に供給することができ、天板の下面に付着したSPM液の液滴や飛沫等が天板の下面に残留することを抑制することができる。第1の実施の形態以下、図面を参照して本発明の第1の実施の形態について説明する。図1乃至図11は、第1の実施の形態による液処理装置を示す図である。より詳細には、図1は、本発明の各実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上面図である。また、図2は、第1の実施の形態による液処理装置の側面図であり、図3および図4は、それぞれ、図2に示す液処理装置のA-A矢視、B-B矢視による上面図である。また、図5は、図2に示す液処理装置における基板保持部およびその周辺に位置する構成要素を示す縦断面図であり、図6は、図2に示す液処理装置における天板およびその周辺に位置する構成要素を示す縦断面図である。また、図7は、図2に示す液処理装置におけるエアフードおよびその周辺に位置する構成要素を示す縦断面図であり、図8は、図2に示す液処理装置における各ノズルおよび各ノズル支持アームの構成を示す説明図である。また、図9乃至図11は、図2に示す液処理装置により行われるウエハの洗浄処理の一連の工程を順次示す説明図である。まず、図1を用いて、本実施の形態による液処理装置を含む液処理システムについて説明する。図1に示すように、液処理システムは、外部から被処理基板としての半導体ウエハ等の基板W以下、ウエハWともいうを収容したキャリアを載置するための載置台101と、キャリアに収容されたウエハWを取り出すための搬送アーム102と、搬送アーム102によって取り出されたウエハWを載置するための棚ユニット103と、棚ユニット103に載置されたウエハWを受け取り、当該ウエハWを液処理装置10内に搬送する搬送アーム104と、を備えている。図1に示すように、液処理システムには、複数図1に示す態様では4個の液処理装置10が設けられている。次に、本実施の形態による液処理装置10の概略的な構成について図2乃至図4を用いて説明する。図2乃至図4に示すように、本実施の形態による液処理装置10は、ウエハWが収容され、この収容されたウエハWの液処理が行われるチャンバ20と、チャンバ20に隣接して形成された待機領域80と、を備えている。なお、本実施の形態による液処理装置10では、チャンバ20と待機領域80とを隔てる区画壁は設けられておらず、チャンバ20および待機領域80は連通している。図2に示すように、チャンバ20内には、ウエハWを水平状態で保持して回転させるための基板保持部21が設けられており、この基板保持部21の周囲にはリング状の回転カップ40が配設されている。回転カップ40は、ウエハWの液処理を行う際に当該ウエハWに供給された後の処理液を受けるために設けられている。また、図2および図3に示すように、チャンバ20内において回転カップ40の周囲には円筒状のカップ外周筒50が配設されている。後述するように、このカップ外周筒50はウエハWの処理状況に応じて昇降可能となっている。これらの基板保持部21、回転カップ40およびカップ外周筒50の構成の詳細については後に説明する。また、図2に示すように、液処理装置10には、基板保持部21に保持されたウエハWに対して上方から処理液を供給するためのノズル進退ノズル82aおよびこのノズル82aを支持するノズル支持アーム82が設けられている。図3に示すように、1つの液処理装置10には複数具体的には例えば4つのノズル支持アーム82が設けられており、各ノズル支持アーム82の先端にそれぞれノズル82aが設けられている。また、図2に示すように、各ノズル支持アーム82にはアーム支持部82bが設けられており、各アーム支持部82bは図示しない駆動機構によって図2における左右方向に駆動されるようになっている。このことにより、各ノズル支持アーム82は、後述する側面開口50mを介してカップ外周筒50内に進出した進出位置と、カップ外周筒50から退避した退避位置との間で水平方向に直線運動を行うようになっている図2および図3における各ノズル支持アーム82に設けられた矢印参照。また、図2および図4に示すように、基板保持部21に保持されたウエハWを上方から覆うための天板32が水平方向に移動自在に設けられている。より具体的には、天板32は、図4の実線に示すような、基板保持部21により保持されたウエハWを上方から覆う進出位置と、図4の二点鎖線に示すような、水平方向において進出位置から退避した位置である退避位置との間で往復移動を行うようになっている。天板32の構成の詳細については後に説明する。また、図2に示すように、基板保持部21に保持されたウエハWを上方から覆うためのエアフード70が昇降自在に設けられている。このエアフード70から、N2ガス窒素ガスやクリーンエア等の清浄化されたガスが下方向に流されるようになっている。より具体的には、エアフード70は、基板保持部21により保持されたウエハWを上方から覆う下降位置と、下降位置よりも上方に位置する上昇位置との間で昇降自在に設けられている。なお、図2では、エアフード70が上昇位置に位置しているときの状態を示している。エアフード70の構成の詳細については後に説明する。また、図2および図3に示すように、カップ外周筒50の外側における待機領域80の底部には排気部58が設けられており、この排気部58により待機領域80内の雰囲気の排気が行われるようになっている。具体的には、各ノズル支持アーム82を駆動するための駆動機構図示せずから発生するパーティクルを排気部58により引くことができるようになっている。また、図3および図4に示すように、液処理装置10のチャンバ20および待機領域80のメンテナンス用の開口にはシャッター60、62がそれぞれ設けられている。チャンバ20および待機領域80にそれぞれメンテナンス用のシャッター60、62が設けられていることにより、これらのチャンバ20内や待機領域80内の機器を個別にメンテナンスすることができる。また、図3に示すように、液処理装置10の側壁には、搬送アーム104によりチャンバ20内へウエハWを搬入したりチャンバ20からウエハWを搬出したりするための開口94aが設けられており、この開口94aには、当該開口94aを開閉するためのシャッター94が設けられている。次に、図2乃至図4に示すような液処理装置10の各構成要素の詳細について図5乃至図8を用いて説明する。まず、図5を参照して、基板保持部21について説明する。図5は、液処理装置10の各構成要素のうち、基板保持部21およびその周辺に位置する構成要素を示す縦断面図である。図5に示すように、基板保持部21は、ウエハWを保持するための円板形状の保持プレート26と、保持プレート26の上方に設けられた円板形状のリフトピンプレート22とを備えている。リフトピンプレート22の上面には、ウエハWを下方から支持するためのリフトピン23が周方向に等間隔で3つ設けられている。なお、図5では2つのリフトピン23のみを表示している。また、リフトピンプレート22の下方にはピストン機構24が設けられており、このピストン機構24によりリフトピンプレート22が昇降するようになっている。より具体的には、搬送アーム104図1参照によりウエハWをリフトピン23上に載置したりリフトピン23上からウエハWを取り出したりするときには、ピストン機構24によりリフトピンプレート22が図5に示すような位置から上方に移動させられ、このリフトピンプレート22は回転カップ40よりも上方に位置するようになる。一方、チャンバ20内でウエハWの液処理や乾燥処理等を行う際には、ピストン機構24によりリフトピンプレート22が図5に示すような下降位置に移動させられ、ウエハWの周囲に回転カップ40が位置するようになる。保持プレート26には、ウエハWを側方から支持するための保持部材25が周方向に等間隔で3つ設けられている。なお、図5では2つの保持部材25のみを表示している。各保持部材25は、リフトピンプレート22が上昇位置から図5に示すような下降位置に移動したときにこのリフトピン23上のウエハWを側方から支持し、このウエハWをリフトピン23からわずかに離間させるようになっている。また、リフトピンプレート22および保持プレート26の中心部分にはそれぞれ貫通穴が形成されており、これらの貫通穴を通るよう処理液供給管28が設けられている。この処理液供給管28は、保持プレート26の各保持部材25により保持されたウエハWの裏面に薬液や純水等の様々な種類の処理液を供給するようになっている。また、処理液供給管28はリフトピンプレート22と連動して昇降するようになっている。処理液供給管28の上端には、リフトピンプレート22の貫通穴を塞ぐよう設けられたヘッド部分28aが形成されている。また、図5に示すように、処理液供給管28には処理液供給部29が接続されており、この処理液供給部29により処理液供給管28に様々な種類の処理液が供給されるようになっている。また、保持プレート26にはリング状の回転カップ40が取り付けられており、これによって、図示しない接続部により、回転カップ40は、保持プレート26と一体的に回転するようになっている。回転カップ40は、図5に示すように、保持プレート26の各保持部材25により支持されたウエハWを側方から囲うよう設けられている。このため、回転カップ40は、ウエハWの液処理を行う際にこのウエハWから側方に飛散した処理液を受けることができるようになっている。また、回転カップ40の周囲には、ドレインカップ42および案内カップ44がそれぞれ設けられている。ドレインカップ42および案内カップ44はそれぞれリング状に形成されている。また、ドレインカップ42および案内カップ44はそれぞれ上部に開口を有している。ここで、ドレインカップ42はチャンバ20内においてその位置が固定されている。一方、案内カップ44には昇降シリンダ図示せずが連結されており、この案内カップ44は昇降シリンダにより昇降させられるようになっている。図5に示すように、ドレインカップ42や案内カップ44の下方には、第1排出部46aおよび第2排出部46bがそれぞれ設けられている。そして、案内カップ44の上下方向における位置により、ウエハWの液処理を行う際にこのウエハWから側方に飛散した処理液が、この処理液の種類に基づいて、2つの排出部46a、46bのうちいずれか一つの排出部に選択的に送られるようになっている。具体的には、案内カップ44が上昇位置図5に示すような状態にあるときには、ウエハWから側方に飛散した所定の処理液、例えば後述するSC-1液が第2排出部46bに送られるようになっている。一方、案内カップ44が下降位置にあるときには、ウエハWから側方に飛散した所定の処理液、例えば後述するSPM液が第1排出部46aに送られるようになっている。また、図5に示すように、第1排出部46aおよび第2排出部46bには気液分離部48a、48bがそれぞれ接続されている。そして、第1排出部46aおよび第2排出部46bにおいて排液のみならず排気も行われるようになっており、図5に示すように、気液分離部48a、48bにおいて第1排出部46aおよび第2排出部46bから送られた処理液およびガスが分離されてそれぞれ排液および排気が行われるようになっている。また、図5に示すように、ドレインカップ42には、ウエハWの中心に向かって純水を供給する固定リンスノズル43が設けられている。この固定リンスノズル43により、ウエハWの中心に向かって純水等のリンス液が放物線状に吐出されるようになっている図5の二点鎖線参照。また、本実施の形態の液処理装置10においては、チャンバ20内においてドレインカップ42や案内カップ44の周囲にカップ外周筒50が設けられている。図5に示すように、カップ外周筒50の上部には、このカップ外周筒50を支持するための支持部材53が連結されており、支持部材53には当該支持部材53を昇降させる駆動機構54が設けられている。そして、駆動機構54により支持部材53を昇降させることにより、カップ外周筒50は、図5に示すような、カップ外周筒50の上端が回転カップ40の上方にあるような上昇位置と、上昇位置よりも下方に位置する下降位置との間で昇降可能となっている。また、図3および図5に示すように、カップ外周筒50の側面には、ノズル支持アーム82が通過可能な側面開口50mが設けられている。また、図5に示すように、カップ外周筒50の上部にも上部開口50nが形成されている。この上部開口50nは、カップ外周筒50が上昇位置にあるとともに天板32が進出位置にあるときに、当該天板32により塞がれるようになっている。また、図5に示すように、チャンバ20内には、カップ外周筒50を洗浄するための洗浄部52が設けられている。この洗浄部52は、純水等の洗浄液を貯留するための貯留部分52aを有しており、カップ外周筒50が下降位置にあるときにこのカップ外周筒50が貯留部分52aに貯留された洗浄液に浸されるようになっている。洗浄部52は、貯留部分52aに貯留された洗浄液にカップ外周筒50が浸されることにより、このカップ外周筒50の洗浄を行うようになっている。貯留部分52aには図示しない洗浄液供給管が接続されており、この洗浄液供給管により貯留部分52aに洗浄液が連続的に送られるようになっている。また、貯留部分52aの側部にはドレイン管52bが設けられており、このドレイン管52bにより貯留部分52a内の洗浄液が排出されるようになっている。すなわち、洗浄液供給管により貯留部分52aに洗浄液が連続的に送られ、この貯留部分52a内の洗浄液がドレイン管52bにより排出されることにより、貯留部分52aに貯留される洗浄液が清浄化されるようになっている。図3に示すように、本実施の形態においては、1つの液処理装置10に複数具体的には例えば4つのノズル支持アーム82が設けられており、各ノズル支持アーム82の先端にノズル82aが設けられている。また、図2に示すように、各ノズル支持アーム82にはアーム支持部82bが設けられており、各アーム支持部82bは図示しない駆動機構によって図2における左右方向に駆動されるようになっている。このことにより、各ノズル支持アーム82は、側面開口50mを通過してカップ外周筒50内に進出した進出位置と、カップ外周筒50内から退避した退避位置との間で水平方向に直線運動を行うようになっている図2および図3における各ノズル支持アーム82に設けられた矢印参照。また、図2に示すように、液処理装置10内にはアーム洗浄部88が設けられており、このアーム洗浄部88により各ノズル支持アーム82の洗浄が行われるようになっている。より詳細には、アーム洗浄部88の位置は固定されるとともに、洗浄液が収容される収容部分図示せずがアーム洗浄部88に設けられている。そして、各ノズル支持アーム82が進出位置から退避位置に移動するとき、または退避位置から進出位置に移動するときに、収容部分に収容された洗浄液に各ノズル支持アーム82の一部が接触しながら当該ノズル支持アーム82が移動することによりノズル支持アーム82の洗浄が行われるようになっている。4つのノズル支持アーム8282p~82sのノズル82aからそれぞれ吐出される流体の詳細について、図8を参照して以下に説明する。図8aに示すように、4つのノズル支持アーム82のうち第1のノズル支持アーム82pのノズル82aは下向きとなっており、この第1のノズル支持アーム82pのノズル82aからは硫酸と過酸化水素水とを混合して得たSPM液がウエハWに向かって下方に吐出されるようになっている。より詳細には、第1のノズル支持アーム82p内にはノズル82aに接続された処理液供給管83aが設けられており、並列に設けられた過酸化水素水供給部83bおよび硫酸供給部83cがそれぞれ流量調整弁および開閉弁を介して処理液供給管83aに接続されている。また、硫酸供給部83cから供給された硫酸を加熱するためのヒータ83dが設けられている。そして、過酸化水素水供給部83bおよび硫酸供給部83cから供給された過酸化水素水および硫酸が混合され、この硫酸と過酸化水素水とを混合して得たSPM液が処理液供給管83aを介して第1のノズル支持アーム82pのノズル82aに送られるようになっている。また、硫酸供給部83cから供給された硫酸をヒータ83dにより加熱するとともに、硫酸と過酸化水素水とが混合したときの化学反応により反応熱が生じる。それによって、第1のノズル支持アーム82pのノズル82aから吐出されるSPM液は、例えば100°C以上、好ましくは170°C程度の高温となる。また、図8bに示すように、4つのノズル支持アーム82のうち第2のノズル支持アーム82qのノズル82aは上向きとなっており、このノズル支持アーム82qのノズル82aからは天板32を洗浄するための純水等の天板洗浄液が上方に吐出されるようになっている。より詳細には、第2のノズル支持アーム82q内にはノズル82aに接続された天板洗浄液供給管84aが設けられており、天板洗浄液供給部84bが流量調整弁および開閉弁を介して天板洗浄液供給管84aに接続されている。そして、天板洗浄液供給部84bから供給された純水等の天板洗浄液が天板洗浄液供給管84aを介して第2のノズル支持アーム82qのノズル82aに送られるようになっている。また、図8cに示すように、4つのノズル支持アーム82のうち第3のノズル支持アーム82rのノズル82aは下向きとなっており、この第3のノズル支持アーム82rのノズル82aからはアンモニア水と過酸化水素水との混合液以下、SC-1液ともいうや、加熱された純水がウエハWに向かって下方に吐出されるようになっている。より詳細には、第3のノズル支持アーム82r内にはノズル82aに接続された処理液供給管85aが設けられており、並列に設けられた過酸化水素水供給部85b、アンモニア水供給部85c、純水供給部85dおよび純水供給部85fがそれぞれ流量調整弁および開閉弁を介して処理液供給管85aに接続されている。また、純水供給部85dから供給された純水を加熱するためのヒータ85eが設けられている。そして、純水供給部85d、85fに対応する開閉弁が閉止された状態で、過酸化水素水供給部85bおよびアンモニア水供給部85cから供給された過酸化水素水およびアンモニア水が混合してSC-1液が生成され、このSC-1液が処理液供給管85aを介して第3のノズル支持アーム82rのノズル82aに送られるようになっている。また、過酸化水素水供給部85b、アンモニア水供給部85cおよび純水供給部85fに対応する開閉弁をそれぞれ閉止した状態で、純水供給部85dから供給された純水をヒータ85eにより加熱して、処理液供給管85aを介して第3のノズル支持アーム82rのノズル82aに加熱された純水を送ることもできる。また、過酸化水素水供給部85b、アンモニア水供給部85cおよび純水供給部85dに対応する開閉弁をそれぞれ閉止した状態で、純水供給部85fから供給された常温の純水を第3のノズル支持アーム82rのノズル82aに送ることもできる。なお、第3のノズル支持アーム82rのノズル82aから吐出されるSC-1液や純水は、第1のノズル支持アーム82pのノズル82aから吐出されるSPM液よりも低温となっており、具体的には例えば80°C未満となっている。また、図8dに示すように、4つのノズル支持アーム82のうち第4のノズル支持アーム82sのノズル82aは下向きの二流体ノズルとなっている。より詳細には、第4のノズル支持アーム82sのノズル82aには純水供給管86aおよびN2ガス供給管86cがそれぞれ接続されており、純水供給管86aには純水供給部86bが接続されるとともにN2ガス供給管86cにはN2ガス供給部86dが接続されている。そして、純水供給部86bから純水供給管86aを介して供給された純水と、N2ガス供給部86dからN2ガス供給管86cを介して供給されたN2ガスとが二流体ノズル内で混合することにより、この二流体ノズルから純水の液滴が下方に噴霧されるようになっている。また、本実施の形態においては、第2のノズル支持アーム82qの高さレベルは、第3のノズル支持アーム82rの高さレベルよりも高くなっており、第2のノズル支持アーム82qおよび第3のノズル支持アーム82rが同時にカップ外周筒50内に進出したときにアーム同士が衝突または干渉しないようになっている。このため、第2のノズル支持アーム82qのノズル82aにより天板32に対して洗浄液を供給する工程と、第3のノズル支持アーム82rのノズル82aによりウエハWに対してSC-1液や純水を供給する工程を同時に行うことができるようになっている。また、各ノズル支持アーム82が退避位置にあるときに、当該ノズル支持アーム82の先端部分が、上昇位置にあるときのカップ外周筒50の側面開口50mを塞ぐようになっている。このことにより、カップ外周筒50内の雰囲気が側面開口50mからカップ外周筒50の外部に漏れ出ることを防止することができる。次に、天板32およびその周辺に位置する構成要素の詳細の構造について図6を用いて説明する。図6は、天板32およびその周辺に位置する構成要素の構造を示す側断面図である。図6に示すように、天板32は天板保持アーム35により保持されるようになっている。また、天板32の上部には回転軸34が取り付けられており、この回転軸34と天板保持アーム35との間にはベアリング34aが設けられている。このため、回転軸34は天板保持アーム35に対して回転することができるようになっている。また、回転軸34にはプーリ34bが取り付けられている。一方、天板保持アーム35の基端部にはサーボモータ36が設けられており、このサーボモータ36の先端にもプーリ36bが設けられている。そして、回転軸34のプーリ34bおよびサーボモータ36のプーリ36bには1本の無端状のタイミングベルト36aが張架されており、このタイミングベルト36aにより、サーボモータ36による回転駆動力が回転軸34に伝達され、天板32が回転軸34を中心として回転するようになっている。なお、サーボモータ36にはケーブル36cが接続されており、このケーブル36cにより液処理装置10の筐体の外部からサーボモータ36に電力が供給されるようになっている。これらの回転軸34、タイミングベルト36a、サーボモータ36等により、水平面上で天板32を回転させる天板回転機構が構成されている。また、図4および図6に示すように、天板保持アーム35の基端には旋回軸37が設けられており、天板保持アーム35は旋回軸37を中心として回動するようになっている。このことにより、天板32は、図4の実線に示すような、基板保持部21により保持されたウエハWを上方から覆う進出位置と、図4の二点鎖線に示すような、水平方向において進出位置から退避した位置である退避位置との間で往復移動を行うようになる。また、天板32の外径は、カップ外周筒50の内径よりもわずかに小さくなっている。天板32が進出位置に移動した後、カップ外周筒50が下降位置から上昇位置に上昇すると、カップ外周筒50の上端が天板32よりもわずかに高い位置に上昇することができる。そのため、天板32がカップ外周筒50内に収容されるようになっている。また、図2および図4に示すように、液処理装置10の待機領域80には、天板32が退避位置に退避したときに当該天板32を収納する天板収納部38が設けられている。この天板収納部38の側方には開口が形成されており、天板32が進出位置から退避位置に移動したときにこの天板32は天板収納部38の側方の開口を介して天板収納部38内に完全に収納されるようになっている。また、天板収納部38には排気部39が設けられており、天板収納部38内の雰囲気は常に排気部39により排気されるようになっている。このことにより、ウエハWの液処理を行う際に天板32の下面にSPM液等の処理液の液滴が付着した場合でも、この天板32が天板収納部38内に収納されたときにはSPM液等の処理液の雰囲気は排気部39により排気されるので、処理液の雰囲気が待機領域80やチャンバ20内に流出することはない。次に、エアフード70およびその周辺に位置する構成要素の詳細の構造について図7を用いて説明する。図7は、エアフード70およびその周辺に位置する構成要素の構造を示す側断面図である。図7に示すように、エアフード70は、下部が開口したケーシング72と、ケーシング72の下部に設けられ複数の開口77aを有するパンチング板等の下板77とを備えており、ケーシング72内にはフィルター76が一層または複数層設けられている。また、ケーシング72の上部には可撓性のダクト74が接続されており、このダクト74は液処理装置10の筐体の外部の環境に連通している。また、ダクト74の基端部にはケーシング72内にガスを送り込むためのファン図示せずが設けられている。また、下板77には、ケーシング72内のガスを下方に流すための開口77aが設けられている。このことにより、液処理装置10の筐体の外部の環境からダクト74を経由してケーシング72内にガスが送られ、ケーシング72内においてフィルター76によりガスに含まれるパーティクルが除去された後、下板77の開口77aにより清浄化されたガスが下方に流れるようになっている。また、図7に示すように、エアフード70には、当該エアフード70を昇降させるエアフード昇降機構78が設けられている。このエアフード昇降機構78により、エアフード70は、基板保持部21に保持されたウエハWを上方から覆う下降位置と、下降位置よりも上方に位置する上昇位置との間で昇降するようになっている。なお、前述したように、図2では、エアフード70が上昇位置に位置しているときの状態を示している。また、図2に示すように、液処理装置10は、その全体の動作を統括制御するコントローラ200を有している。コントローラ200は、液処理装置10の全ての機能部品例えば、基板保持部21、ピストン機構24、サーボモータ36、エアフード昇降機構78等の動作を制御する。コントローラ200は、ハードウエアとして例えば汎用コンピュータと、ソフトウエアとして当該コンピュータを動作させるためのプログラム装置制御プログラムおよび処理レシピ等とにより実現することができる。ソフトウエアは、コンピュータに固定的に設けられたハードディスクドライブ等の記憶媒体に格納されるか、あるいはCD-ROM、DVD、フラッシュメモリ等の着脱可能にコンピュータにセットされる記憶媒体に格納される。このような記憶媒体が図2において参照符号201で示されている。プロセッサ202は必要に応じて図示しないユーザーインターフェースからの指示等に基づいて所定の処理レシピを記憶媒体201から呼び出して実行させ、これによってコントローラ200の制御の下で液処理装置10の各機能部品が動作して所定の処理が行われる。コントローラ200は、図1に示す液処理システム全体を制御するシステムコントローラであってもよい。次に、上述した液処理装置10を用いて、ウエハWの上面にある不要なレジスト膜を除去する洗浄処理の一連の工程について図9乃至図11を用いて説明する。以下に示す洗浄処理の一連の工程は、コントローラ200が液処理装置10の各機能部品の動作を制御することにより行われる。まず、図9aに示すように、天板32を退避位置に移動させ、この天板32を天板収納部38に収納させる。また、エアフード70を図2に示す上昇位置から下降させ、下降位置に位置させる。また、カップ外周筒50を下降位置に移動させ、基板保持部21の側方を開くようにする。このような状態で、基板保持部21におけるリフトピンプレート22および処理液供給管28を図5に示す位置から上方に移動させることと、チャンバ20の開口94aに設けられたシャッター94をこの開口94aから退避させることにより開口94aを開くことを行う。そして、液処理装置10の外部からウエハWが搬送アーム104により開口94aを介してチャンバ20内に搬送され、このウエハWがリフトピンプレート22のリフトピン23上に載置され、その後、搬送アーム104はチャンバ20から退避する。この際に、各ノズル支持アーム82はチャンバ20から退避した退避位置に位置している。すなわち、各ノズル支持アーム82は待機領域80で待機している。また、エアフード70からチャンバ20内にクリーンエア等のガスが常にダウンフローで送られ、このガスが排気されることにより、チャンバ20内の雰囲気の置換が行われるようになっている。次に、リフトピンプレート22および処理液供給管28を下方に移動させ、これらのリフトピンプレート22および処理液供給管28を図5に示すような下降位置に位置させる。この際に、保持プレート26に設けられた各保持部材25が、リフトピン23上のウエハWを側方から支持し、このウエハWをリフトピン23からわずかに離間させる。その後に、またはリフトピンプレート22が下降した後に、図9bに示すように、エアフード70を下降位置から上昇位置に移動させ、その後、天板32を退避位置から進出位置に移動させる。このことにより、基板保持部21により保持されたウエハWは天板32によって覆われるようになる。また、天板32が進出位置に移動した後、サーボモータ36によって天板32に回転駆動力を与えることにより、天板32を水平面に沿って回転軸34を中心として回転させる。その後、図9cに示すように、カップ外周筒50を下降位置から上昇させて上昇位置に位置させる。より詳細には、カップ外周筒50の上端が天板32よりもわずかに高い位置になるよう、天板32をカップ外周筒50内に収容するようにする。このことにより、ウエハWの周囲には、天板32とカップ外周筒50とによって外部から隔離された空間が形成される。以下の説明において、天板32およびカップ外周筒50の内側に形成される、外部から隔離された空間のことを第1の処理空間と称する。後述するように、この第1の処理空間は、硫酸と過酸化水素水とを混合して得たSPM液によりウエハWに対して液処理が行われる空間である。そして、カップ外周筒50が上昇位置に移動した後、待機領域80で待機している4つのノズル支持アーム82のうち第1のノズル支持アーム82pがカップ外周筒50の側面開口50mを介してチャンバ20内に進出する図9d参照。この際に、第1のノズル支持アーム82pは直線運動を行う。次に、基板保持部21における保持プレート26およびリフトピンプレート22を回転させる。このことにより、保持プレート26の各保持部材25により支持されているウエハWも回転する。そして、ウエハWが回転した状態で、カップ外周筒50内に進出した第1のノズル支持アーム82pのノズル82aからウエハWの上面にSPM液を供給する。ここで、ウエハWの上面に供給されるSPM液は高温、具体的には例えば100°C以上、好ましくは170°C程度となっている。このようにして、ウエハWの上面にSPM液が供給され、ウエハWのSPM処理が行われる。この液処理工程によって、ウエハWの表面のレジストがSPM液によって剥離され、SPM液とともに剥離されたレジストが、回転するウエハWの遠心力によって第1排出部46aに送られて回収される。具体的には、ウエハWに対してSPM処理が行われる際には、案内カップ44が下降位置に位置するようになっており、このことにより、SPM液や剥離されたレジストは、第1排出部46aに送られて回収される。ここで、第1のノズル支持アーム82pのノズル82aからウエハWに向かってSPM液を吐出させながらこのノズル82aを図9dにおける左右方向に移動させることにより、ウエハWの全域にわたってまんべんなく均一にSPM液を供給することができるようになる。ウエハWに対してSPM処理が行われるときに、天板32およびカップ外周筒50の内側に第1の処理空間が形成されていることにより、この第1の処理空間内の雰囲気が外部に出ることを防ぐことができ、かつ、外部の雰囲気が第1の処理空間内に入るのを防ぐことができる。また、天板32が水平面に沿って回転していることにより、天板32に付着したSPM液等の処理液の液滴は遠心力によってカップ外周筒50の内壁面に送られ、このカップ外周筒50の内壁面に沿って自重により落下することにより、SPM液等の処理液の液滴がウエハWに再付着することが抑制される。その後、ウエハWに対するSPM処理が終了すると、図9eに示すように、カップ外周筒50内に進出した第1のノズル支持アーム82pはこのチャンバ20から退避して待機領域80で待機するようになる。この際に、ウエハWおよび天板32は回転し続けている。また、第1のノズル支持アーム82pがカップ外周筒50内から退避して退避位置に移動する際に、アーム洗浄部88により第1のノズル支持アーム82pの洗浄が行われる。このことにより、第1のノズル支持アーム82pに付着したSPM液等の汚れを除去することができる。次に、待機領域80で待機している4つのノズル支持アーム82のうち第3のノズル支持アーム82rがカップ外周筒50の側面開口50mを介してチャンバ20内に進出する図9f参照。この際に、第3のノズル支持アーム82rは直線運動を行う。そして、ウエハWおよび天板32が回転した状態で、カップ外周筒50内に進出した第3のノズル支持アーム82rのノズル82aからウエハWの中心に向けて、加熱された純水例えば、80°Cを供給する。この際に、ウエハWの下面裏面に向かって処理液供給管28から加熱された純水を供給する。このことにより、ウエハWに対してホットリンス処理が行われる。なお、ウエハWに対するSPM処理図9d参照とホットリンス処理図9f参照との間には、以下に示すような中間処理工程が行われるようになっている。この中間処理工程は、第1の中間処理工程、振切処理工程、および第2の中間処理工程から構成されている。具体的には、まず、第1の中間処理工程において、SPM液の液温未満かつリンス液の液温よりも高い温度の第1の中間処理液をウエハWの表面に供給する。より詳細には、図8aに示すような第1のノズル支持アーム82pにおいて、硫酸供給部83c側の開閉弁を開放状態としたまま過酸化水素水83b側の開閉弁だけを閉止状態として、ヒータ83dで加熱した硫酸だけを第1のノズル支持アーム82pのノズル82aからウエハWの表面中心部に向けて所定時間吐出させる。このときに、過酸化水素水が供給されないために、過酸化水素水と硫酸との化学反応が生じず、ウエハWの表面には、SPM液の液温例えば、170°C未満で、かつ、リンス液純水の液温例えば、80°C以上の温度例えば、140°Cの硫酸が供給されることになる。この第1の中間処理工程を行うことで、ウエハWの温度をSPM処理における温度からリンス処理における温度へと急激に下降させるのではなく、その中間の温度に徐々に下降させることができる。その結果、ウエハWの急激な温度変化に伴う熱変形を防止することができる。これにより、ウエハWを基板保持部21により良好に保持することができる。次に、ウエハWを回転させることで、ウエハWの表面から硫酸を振り切って除去する振切処理工程を行う。この際に、SPM処理および第1の中間処理工程よりも高速でウエハWを所定時間回転させる。その後、第1の中間処理液硫酸の液温未満かつリンス液の液温以上の温度の第2の中間処理液をウエハWの裏面に供給する第2の中間処理工程を実行する。より詳細には、処理液供給部29から処理液供給管28に、第1の中間処理液硫酸の液温例えば、140°C未満かつリンス液の液温例えば、80°C以上の温度例えば、80°Cの純水を供給することにより、この処理液供給管28のヘッド部分28aからウエハWの裏面に80°Cの純水が吐出されるようになる。この第2の中間処理工程を行うことで、ウエハWの裏面からこのウエハWの温度をリンス処理における温度近傍へゆるやかに下降させることができる。特に、ウエハWの裏面に純水を供給しているために、ウエハWの表面に第1の中間処理液硫酸が残留していたとしてもリンス液純水との急激な化学反応の発生を抑制することができ、これにより、化学反応に伴う反応生成物の飛散を防止してカップ外周筒50内の汚染を防止することができる。以上のように、ウエハWに対するSPM処理とホットリンス処理との間に、第1の中間処理工程、振切処理工程、および第2の中間処理工程から構成されている中間処理工程を行うことにより、SPM液とリンス液純水との急激な化学反応の発生を抑制することができ、これにより、化学反応に伴う反応生成物の飛散を防止してカップ外周筒50内の汚染を防止することができる。ウエハWに対するホットリンス処理が終了すると、図10gに示すように、カップ外周筒50内に進出した第3のノズル支持アーム82rはこのカップ外周筒50内から退避して待機領域80で待機するようになる。この際に、ウエハWは回転し続けている。また、第3のノズル支持アーム82rがカップ外周筒50内から退避して退避位置に移動する際に、アーム洗浄部88により第3のノズル支持アーム82rの洗浄が行われる。このことにより、第3のノズル支持アーム82rに付着した汚れを除去することができる。また、第3のノズル支持アーム82rがカップ外周筒50内から退避する前から、固定リンスノズル43によりウエハWの中心に向かって純水例えば、80°Cが供給されるようになる。固定リンスノズル43によりウエハWの表面に液膜が形成されるので、ウエハWの表面が露出しないようになり、ウエハWの表面にパーティクルが付着することを防止することができるようになる。そして、図10hに示すように、カップ外周筒50が上昇位置から下降して下降位置に位置するようになる。その後、天板32の回転を止める。この際に、固定リンスノズル43はウエハWの中心に向かって純水例えば、80°Cを供給し続けている。カップ外周筒50が下降位置に移動すると、このカップ外周筒50は洗浄部52の貯留部分52aに貯留された洗浄液に浸されるようになる。このことにより、カップ外周筒50の洗浄が行われ、ウエハWのSPM処理を行う際に飛散したSPM液等の処理液の液滴がカップ外周筒50の内側壁に残留してしまうことを防止することができる。その後、図10iに示すように、天板32を進出位置から退避位置に移動させ、この天板32を天板収納部38に収納させる。ここで、天板収納部38内の雰囲気は常に排気部39により排気されるようになっているため、ウエハWのSPM処理を行う際に天板32の下面にSPM液等の処理液の液滴が付着した場合でも、この天板32が天板収納部38内に収納されたときにはSPM液等の処理液の雰囲気は排気部39により排気されるので、SPM液の雰囲気が待機領域80やチャンバ20内に流出することはない。そして、図10jに示すように、洗浄部52により洗浄されたカップ外周筒50が下降位置から上昇して上昇位置に位置するようになる。この際に、固定リンスノズル43はウエハWの中心に向かって純水例えば、80°Cを供給し続けている。その後、図10kに示すように、エアフード70が上昇位置から下降して下降位置に位置するようになる。より詳細には、カップ外周筒50の上端が、エアフード70の下板77の下面に接触または近接するようにする。このことにより、ウエハWの周囲には、エアフード70とカップ外周筒50とによって外部から隔離された空間が形成される。以下の説明において、エアフード70およびカップ外周筒50の内側に形成される、外部から隔離された空間のことを第2の処理空間と称する。後述するように、この第2の処理空間は、エアフード70により清浄化されたガスが下方向に流れる空間である。その後、待機領域80で待機している4つのノズル支持アーム82のうち第3のノズル支持アーム82rがカップ外周筒50の側面開口50mを介してチャンバ20内に進出する図10l参照。この際に、第3のノズル支持アーム82rは直線運動を行う。そして、ウエハWが回転するとともにエアフード70により清浄化されたガスが第2の処理空間内で流れている状態で、カップ外周筒50内に進出した第3のノズル支持アーム82rのノズル82aからウエハWの中心に向けてSC-1液を供給する。このことにより、ウエハWの表面に残るレジスト残渣を取り除くことができる。なお、ウエハWに対してSC-1液による液処理が行われる際には、案内カップ44が上昇位置に位置するようになっており、このことにより、SC-1液やレジスト残渣は、第2排出部46bに送られて排出される。ウエハWに対してSC-1液による液処理が行われるときに、エアフード70およびカップ外周筒50の内側に第2の処理空間が形成されていることにより、この第2の処理空間内の雰囲気が外部に出ることを防ぐことができ、かつ、外部の雰囲気が第2の処理空間内に入るのを防ぐことができる。また、第2の処理空間が閉じた空間となっていることにより、処理が実施される空間の容積を小さくすることができる。これによって、第2の処理空間内における、清浄化されたガスの置換効率を向上させることができる。ウエハWに対するSC-1液による液処理が終了すると、図11mに示すように、カップ外周筒50内に進出した第3のノズル支持アーム82rはこのカップ外周筒50内から退避して待機領域80で待機するようになる。この際に、ウエハWは回転し続けている。また、第3のノズル支持アーム82rがカップ外周筒50内から退避して退避位置に移動する際に、アーム洗浄部88により第3のノズル支持アーム82rの洗浄が行われる。このことにより、第3のノズル支持アーム82rに付着したSC-1液等の汚れを除去することができる。また、第3のノズル支持アーム82rがカップ外周筒50内から退避した後も、エアフード70により清浄化されたガスが第2の処理空間内で流れ続けている。その後、待機領域80で待機している4つのノズル支持アーム82のうち第3のノズル支持アーム82rがカップ外周筒50の側面開口50mを介してチャンバ20内に進出する。この際に、第3のノズル支持アーム82rは直線運動を行う。そして、ウエハWおよび天板32が回転した状態で、カップ外周筒50内に進出した第3のノズル支持アーム82rのノズル82aからウエハWの中心に向けて、常温の純水を供給する。この際に、ウエハWの下面裏面に向かって処理液供給管28から常温の純水を供給する。このことにより、ウエハWに対してリンス処理が行われる。その後、ウエハWを高速回転させることにより、第2の処理空間内でウエハWの乾燥処理が行われる。なお、ウエハWに対するSC-1液による液処理が終了し、第3のノズル支持アーム82rがカップ外周筒50内から退避した後、ウエハWの乾燥処理を行う前に、第4のノズル支持アーム82sをカップ外周筒50内に進出させ、この第4のノズル支持アーム82sの二流体ノズルによりウエハWに対して純水の液滴を噴霧することによってウエハWのリンス処理を行ってもよい。この場合には、ウエハWに対するリンス処理が終了し、第4のノズル支持アーム82sがカップ外周筒50内から退避した後も、エアフード70により清浄化されたガスが第2の処理空間内で流れ続けている。その後、ウエハWを高速回転させることにより、第2の処理空間内でウエハWの乾燥処理が行われる。ウエハWの乾燥処理が終了すると、図11nに示すように、カップ外周筒50が上昇位置から下降して下降位置に位置するようになり、基板保持部21の側方が開かれるようになる。その後、基板保持部21におけるリフトピンプレート22および処理液供給管28を図5に示す位置から上方に移動させることと、チャンバ20の開口94aに設けられたシャッター94をこの開口94aから退避させることにより開口94aを開くことを行う。そして、開口94aを介して液処理装置10の外部から搬送アーム104がチャンバ20内に入り、リフトピンプレート22のリフトピン23上にあるウエハWが搬送アーム104に移載される。その後、搬送アーム104により取り出されたウエハWは液処理装置10の外部に搬送される。このようにして、一連のウエハWの液処理が完了する。次に、天板32の洗浄処理について図11oを用いて説明する。天板32を洗浄する際には、エアフード70を下降位置から上昇位置に移動させ、その後、天板32を退避位置から進出位置に移動させる。また、天板32が進出位置に移動した後、サーボモータ36によって天板32に回転駆動力を与えることにより、天板32を水平面に沿って回転軸34を中心として回転させる。その後、カップ外周筒50を下降位置から上昇させて上昇位置に位置させる。そして、カップ外周筒50が上昇位置に移動した後、待機領域80で待機している4つのノズル支持アーム82のうち第2のノズル支持アーム82qがカップ外周筒50の側面開口50mを介してチャンバ20内に進出する。この際に、第2のノズル支持アーム82qは直線運動を行う。その後、天板32が回転した状態で、カップ外周筒50内に進出した第2のノズル支持アーム82qのノズル82aから天板32に向かって純水等の天板洗浄液を吐出する。このことにより、天板32に付着したSPM液等が除去されるようになる。ここで、第2のノズル支持アーム82qのノズル82aから天板32に向かって純水等の天板洗浄液を吐出させながらこのノズル82aを図11oにおける左右方向に移動させることにより、天板32の全域にわたってまんべんなく均一に洗浄を行うことができるようになる。また、天板32に対して洗浄処理が行われるときに、天板32およびカップ外周筒50の内側には閉じた空間が形成されていることにより、第2のノズル支持アーム82qのノズル82aから吐出された天板洗浄液がカップ外周筒50の外部に出ることを防ぐことができる。上述したような天板32の洗浄処理は、ウエハWに対するレジスト膜の除去処理および洗浄処理の後に毎回行ってもよく、あるいは定期的に行うようにしてもよい。また、天板32の洗浄処理は、図9fに示すようなウエハWのホットリンス処理と並行して行うことができる。天板32の洗浄処理とウエハWのホットリンス処理を同時に行う場合には、カップ外周筒50内に第2のノズル支持アーム82qおよび第3のノズル支持アーム82rが同時に進出する。この際に、第2のノズル支持アーム82qの高さレベルは、第3のノズル支持アーム82rの高さレベルよりも高くなっており、第2のノズル支持アーム82qおよび第3のノズル支持アーム82rが同時にカップ外周筒50内に進出したときにアーム同士が衝突または干渉しないようになっている。このため、第2のノズル支持アーム82qのノズル82aにより天板32に対して純水等の天板洗浄液を供給する工程と、第3のノズル支持アーム82rのノズル82aによりウエハWに対して加熱された純水を供給する工程を同時に行うことができる。以上のように本実施の形態の液処理装置10によれば、天板32の下面に対して下方から純水等の天板洗浄液を供給するノズル天板洗浄液供給ノズル82aが第2のノズル支持アーム82qにより支持されており、この第2のノズル支持アーム82qは、天板32の下方にノズル82aが位置するような天板洗浄位置と、天板32の下方の領域から外方に退避した退避位置との間で移動するようになっている。また、天板32には、水平面上で当該天板32を回転させる天板回転機構具体的には、回転軸34、タイミングベルト36a、サーボモータ36等が設けられている。このため、天板32を回転させるとともに、第2のノズル支持アーム82qのノズル82aから天板32に向かって純水等の天板洗浄液を吐出させながらこのノズル82aを移動させることにより、天板32の全域にわたって洗浄を行うことができるようになる。また、本実施の形態の液処理装置10においては、基板保持部21に保持されたウエハWに対して上方からウエハWに対する処理液具体的には、SC-1液や加熱された純水を供給するノズル処理液供給ノズル82aが第3のノズル支持アーム82rにより支持されており、この第3のノズル支持アーム82rは、基板保持部21に保持されたウエハWの上方にノズル82aが位置するような進出位置と、進出位置から外方に退避した退避位置との間で移動するようになっている。また、天板32に対して天板洗浄液を供給するノズル82aを支持する第2のノズル支持アーム82qの高さレベルは、ウエハWに対してSC-1液や加熱された純水等の処理液を供給するノズル82aを支持する第3のノズル支持アーム82rの高さレベルよりも高くなっている。このことにより、第2のノズル支持アーム82qが天板洗浄位置に移動したときに第3のノズル支持アーム82rが進出位置に移動することができるようになり、第2のノズル支持アーム82qに支持されたノズル82aにより天板32の下面に対して下方から天板洗浄液例えば、純水等を供給する工程および第3のノズル支持アーム82rに支持されたノズル82aによりウエハWに対して上方からウエハWに対する処理液例えば、加熱された純水等を供給する工程を同時に行うことができるようになる。なお、本実施の形態による液処理装置は、上記の態様に限定されるものではなく、様々の変更を加えることができる。例えば、図12Aに示すように、天板32を加熱するための天板加熱機構として、LEDランプ33が天板保持アーム35に設けられていてもよい。このときに、天板32が回転する際にもLEDランプ33は回転しないようになる。前述したように、SPM液は、ウエハWの上面に設けられたレジスト膜を除去するためにウエハWの上面に吐出されるが、SPM液がレジスト膜を除去する能力は、SPM液の温度が高いほど高められる。このため、天板32近傍にLEDランプ33を設け、このLEDランプ33により天板32を加熱することにより、基板保持部21に保持されたウエハW周囲の雰囲気も加熱され、ウエハWの上面に吐出されるSPM液も加熱される。このことにより、SPM液がレジスト膜を除去する能力を向上させることができるようになる。また、天板32の下面にSPM液が付着した場合でも、LEDランプ33によりこのSPM液を蒸発させることができる。また、図12Bに示すように、天板32の外径がカップ外周筒50の内径よりも大きくなっていてもよい。この場合には、天板32の下面には溝部32aが形成されており、天板32が進出位置に移動した後、カップ外周筒50が下降位置から上昇位置に上昇すると、天板32の下面に形成された溝部32aにカップ外周筒50の上端が入り込むようになる。この場合でも、ウエハWの周囲に、天板32とカップ外周筒50とによって外部から隔離された空間を形成することができ、この空間は、硫酸と過酸化水素水とを混合して得たSPM液によりウエハWに対して液処理が行われる空間として用いられるようになる。また、図13に示すように、天板収納部38には、当該天板収納部38に収納された天板32を洗浄するための天板洗浄機構38aが設けられていてもよい。具体的には、天板洗浄機構38aは、上方向を向いた複数のノズルからなり、各ノズルから純水等の洗浄液が上方に吐出されるようになっている。そして、天板32が天板収納部38に収納されたときに、天板洗浄機構38aの各ノズルから洗浄液が上方に吐出されることにより、天板32の下面の洗浄が行われる。また、天板収納部38には排液部38bが設けられており、天板洗浄機構38aの各ノズルから天板32に供給された純水等の洗浄液はこの排液部38bにより排出されるようになっている。また、本実施の形態の液処理装置10においては、4つのノズル82aを支持する各ノズル支持アーム82がカップ外周筒50内の進出位置とこの進出位置から退避した退避位置との間で水平方向に移動するような構成の代わりに、ウエハWに対してSPM液を供給する処理液供給ノズルが天板32の下面に設置されていてもよい。この場合には、SPM液を供給するノズル82aやこのノズル82aを支持するノズル支持アーム82の設置を省略することができる。また、ウエハWに対する洗浄工程において、SC-1液による液処理を省略することもできる。この場合には、図9fに示すようなウエハWに対するホットリンス処理が行われた後、天板32を退避位置に移動させるとともにエアフード70を下降位置に移動させる。その後、図11mに示すように、カップ外周筒50内の空間にエアフード70により清浄化されたガスを流しながらウエハWを高速回転させることにより、ウエハWの乾燥処理が行われるようになる。第2の実施の形態以下、図14を参照して本発明の第2の実施の形態による液処理装置を説明する。第2の実施の形態による液処理装置では、第1の実施の形態による液処理装置と比較して、純水等の天板洗浄液を上方に吐出するノズル、およびSC-1液や加熱された純水を下方に吐出するノズルが一つのノズル支持アームにより支持されるようになっている。以下、第2の実施の形態による液処理装置を説明するにあたり、第1の実施の形態による液処理装置と同一の部分についてはその説明を省略する。図8a~dに示すような第1の実施の形態による液処理装置10の4つのノズル支持アーム82p~82sと比較して、第2の実施の形態による液処理装置では、図14aに示すように、第2のノズル支持アーム82qには上向きおよび下向きの2つのノズル82c、82dが設けられている。そして、上向きのノズル82cからは天板32を洗浄するための天板洗浄液が上方に吐出されるようになっており、下向きのノズル82dからはSC-1液や加熱された純水が下方に吐出されるようになっている。また、第2の実施の形態による液処理装置では、第1の実施の形態による液処理装置10における第3のノズル支持アーム82rの設置を省略することができる。より詳細には、第2のノズル支持アーム82q内には、上向きのノズル82cに接続された天板洗浄液供給管87aが設けられており、天板洗浄液供給部87bが流量調整弁および開閉弁を介して天板洗浄液供給管87aに接続されている。そして、天板洗浄液供給部87bから供給された純水等の天板洗浄液が天板洗浄液供給管87aを介して上向きのノズル82cに送られるようになっている。また、第2のノズル支持アーム82q内には、下向きのノズル82dに接続された処理液供給管87cが設けられており、並列に設けられた過酸化水素水供給部87d、アンモニア水供給部87eおよび純水供給部87fがそれぞれ流量調整弁および開閉弁を介して処理液供給管87cに接続されている。また、純水供給部87fから供給された純水を加熱するためのヒータ87gが設けられている。そして、純水供給部87fに対応する開閉弁が閉止された状態で、過酸化水素水供給部87dおよびアンモニア水供給部87eから供給された過酸化水素水およびアンモニア水が混合してSC-1液が生成され、このSC-1液が処理液供給管87cを介して下向きのノズル82dに送られるようになっている。また、過酸化水素水供給部87dおよびアンモニア水供給部87eに対応する開閉弁をそれぞれ閉止した状態で、純水供給部87fから供給された純水をヒータ87gにより加熱して、処理液供給管87cを介して下向きのノズル82dに、加熱された純水を送ることもできる。このように、図14aに示すような例では、天板32の下面に対して下方から純水等の天板洗浄液を供給する上向きのノズル天板洗浄液供給ノズル82cを支持するノズル支持アーム82qに、基板保持部21に保持されたウエハWに対して上方からウエハWに対する処理液を供給するノズル処理液供給ノズル82dも支持されるようになっている。そして、ウエハWに対する処理液を供給するノズル82dが下方を向いているときに、天板32に天板洗浄液を供給するノズル82cが上方を向くようになっている。このような構成によれば、ノズル支持アーム82qをカップ外周筒50内に進出させたときに、上向きのノズル82cにより天板32の下面に対して下方から天板洗浄液例えば、純水を供給する工程および下向きのノズル80dによりウエハWに対して上方からウエハWに対する処理液例えば、加熱された純水を供給する工程を同時に行うことができるようになる。また、他の例としては、図14bに示すように、第2のノズル支持アーム82qは、当該第2のノズル支持アーム82qの長手方向を中心として回転自在となっていてもよい。この場合には、第2のノズル支持アーム82qに設けられたノズル82eが上方を向いたときに天板32の下面に対して下方から天板洗浄液を供給することができ、また、このノズル82eが下方を向いたときにウエハWに対して上方からウエハWに対する処理液を供給するようになる。また、この場合には、第1の実施の形態による液処理装置10における第3のノズル支持アーム82rの設置を省略することができる。より詳細には、第2のノズル支持アーム82q内にはノズル82eに接続された処理液供給管87hが設けられており、並列に設けられた純水供給部87i、過酸化水素水供給部87kおよびアンモニア水供給部87lがそれぞれ流量調整弁および開閉弁を介して処理液供給管87hに接続されている。また、純水供給部87iから供給された純水を加熱するためのヒータ87jが設けられている。そして、純水供給部87iに対応する開閉弁が閉止された状態で、過酸化水素水供給部87kおよびアンモニア水供給部87lから供給された過酸化水素水およびアンモニア水が混合してSC-1液が生成され、このSC-1液が、ウエハWに対する処理液として、処理液供給管87hを介してノズル82eに送られるようになっている。また、過酸化水素水供給部87kおよびアンモニア水供給部87lに対応する開閉弁をそれぞれ閉止した状態で、純水供給部87iから供給された純水を、天板32を洗浄するための天板洗浄液としてノズル87eに送ることもできる。さらに、純水供給部87iから供給された純水をヒータ87jにより加熱して、処理液供給管87hを介してノズル82eに、加熱された純水をウエハWに対する処理液として送ることもできる。このように、図14bに示すような例では、ノズル支持アーム82qは、当該ノズル支持アーム82qの長手方向を中心として回転自在となっており、ノズル支持アーム82qが回転してノズル82eが上方を向いたときに、このノズル82eは天板32に対して純水等の天板洗浄液を供給することができ、また、ノズル82eが下方を向いたときに、このノズル82eは基板保持部21に保持されたウエハWに対して上方からウエハWに対する処理液を供給することができる。このことにより、ノズル支持アーム82qのノズルeによりウエハWに対して上方からウエハWに対する処理液例えば、SC-1液や加熱された純水を供給する工程を行った後に、ノズル支持アーム82qを回転させてノズル82eを上向きとし、このノズル82eにより天板32の下面に対して下方から天板洗浄液例えば、純水を供給する工程を行うことができる。