"下記式2aで表される構成単位を有し、かつ、下記式2bおよび2cで表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の分子末端基を有する化合物2、ならびに下記式3~6で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のアミド酸誘導体、またはそのイミド化物を含む成分Aと、下記式1で表されるアミド系溶媒Bとを含むインクジェットインク。[式1中、R1は炭素数1~18の有機基であり、R2およびR3は、下記iまたはiiを満たし、R4は水素またはメチルであり、nは0~3の整数であり、mは0または1である。iR2およびR3は、それぞれ独立に水素または炭素数1~6の有機基であるiiR2およびR3は、互いに結合して環構造を形成する][式2aおよび4中、Xはそれぞれ独立に炭素または炭素数2~100の有機基であり、式2a、3および6中、Yはそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基であり、式5中、Zは炭素数1~100の有機基であり、式2b、3および5中、X’はそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基であり、式2c、4および6中、Y’はそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基である。]前記式1におけるR1が炭素数1~8のアルキルである、請求項1に記載のインクジェットインク。前記化合物2が、下記式2-1~2-3で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、請求項1または2に記載のインクジェットインク。[式2-1~2-3中、Xはそれぞれ独立に式2aおよび4中のXと同義であり、式2-1~2-3中、Yはそれぞれ独立に式2a、3および6中のYと同義であり、式2-1および2-2中、X’はそれぞれ独立に式2b、3および5中のX’と同義であり、式2-2および2-3中、Y’はそれぞれ独立に式2c、4および6中のY’と同義であり、式2-1~2-3中、kはそれぞれ独立に1~8の整数である。]前記式2b、3、5、2-1および2-2におけるX’が、それぞれ独立に不飽和炭化水素基を有する炭素数2~100の有機基または下記式αで表される有機基であり、前記式2c、4、6、2-2および2-3におけるY’が、それぞれ独立に不飽和炭化水素基を有する炭素数2~100の有機基または下記式βで表される有機基である、請求項1~3のいずれか1項に記載のインクジェットインク。[式αおよびβ中、Rは、それぞれ独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたは炭素数1~20のアルコキシであり、式α中、R’は炭素数1~20の有機基であり、式β中、Rは炭素数1~20の有機基である。]さらに、アミド系溶媒B以外の溶媒Bを含む、請求項1~4のいずれか1項に記載のインクジェットインク。前記成分Aが、インクジェットインク100重量に対して5~95重量の量で含まれる、請求項1~5のいずれか1項に記載のインクジェットインク。前記アミド系溶媒Bが、前記アミド系溶媒Bおよび溶媒Bの合計100重量に対して1~100重量の量で含まれる、請求項5または6に記載のインクジェットインク。請求項1~7のいずれか1項に記載のインクジェットインクを用いて形成されたポリイミド膜。請求項1~7のいずれか1項に記載のインクジェットインクを、インクジェット法によって支持体上に塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜を硬化してポリイミド膜を形成する工程とを含むポリイミド膜の形成方法。請求項9に記載の形成方法により形成されたポリイミド膜。パターン状である請求項8または10に記載のポリイミド膜。請求項8、10または11に記載のポリイミド膜を有する、電子材料用基板。請求項12に記載の電子材料用基板を有する電子部品。本発明は、吐出性および保存安定性が良好で、所望のパターンを描画できるインクジェットインクを提供することを課題とする。また、本発明は、粘度、表面張力および溶媒の沸点などのパラメータを、吐出性印刷性などに優れるインクとなるよう容易に最適化できるポリイミド膜形成用インクジェットインクを提供することも課題とする。本発明者らは、前記課題を解決するため鋭意検討した。その結果、インクジェットインクを、特定の構造を有するアミド酸誘導体またはそのイミド化物と、特定のアミド系溶媒とを含む組成とすることで、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち本発明は、以下の通りである。[1]下記式2aで表される構成単位を有し、かつ、下記式2bおよび2cで表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の分子末端基を有する化合物2、ならびに下記式3~6で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のアミド酸誘導体、またはそのイミド化物を含む成分Aと、下記式1で表されるアミド系溶媒Bとを含むインクジェットインク。[式1中、R1は炭素数1~18の有機基であり、R2およびR3は、下記iまたはiiを満たし、R4は水素またはメチルであり、nは0~3の整数であり、mは0または1である。iR2およびR3は、それぞれ独立に水素または炭素数1~6の有機基であるiiR2およびR3は、互いに結合して環構造を形成する][式2aおよび4中、Xはそれぞれ独立に炭素または炭素数2~100の有機基であり、式2a、3および6中、Yはそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基であり、式5中、Zは炭素数1~100の有機基であり、式2b、3および5中、X’はそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基であり、式2c、4および6中、Y’はそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基である。][2]前記式1におけるR1が炭素数1~8のアルキルである、[1]に記載のインクジェットインク。[3]前記化合物2が、下記式2-1~2-3で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、[1]または[2]に記載のインクジェットインク。[式2-1~2-3中、Xはそれぞれ独立に式2aおよび4中のXと同義であり、式2-1~2-3中、Yはそれぞれ独立に式2a、3および6中のYと同義であり、式2-1および2-2中、X’はそれぞれ独立に式2b、3および5中のX’と同義であり、式2-2および2-3中、Y’はそれぞれ独立に式2c、4および6中のY’と同義であり、式2-1~2-3中、kはそれぞれ独立に1~8の整数である。][4]前記式2b、3、5、2-1および2-2におけるX’が、それぞれ独立に不飽和炭化水素基を有する炭素数2~100の有機基または下記式αで表される有機基であり、前記式2c、4、6、2-2および2-3におけるY’が、それぞれ独立に不飽和炭化水素基を有する炭素数2~100の有機基または下記式βで表される有機基である、[1]~[3]のいずれかに記載のインクジェットインク。[式αおよびβ中、Rは、それぞれ独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたは炭素数1~20のアルコキシであり、式α中、R’は炭素数1~20の有機基であり、式β中、Rは炭素数1~20の有機基である。][5]さらに、アミド系溶媒B以外の溶媒Bを含む、[1]~[4]のいずれかに記載のインクジェットインク。[6]前記成分Aが、インクジェットインク100重量に対して5~95重量の量で含まれる、[1]~[5]のいずれかに記載のインクジェットインク。[7]前記アミド系溶媒Bが、前記アミド系溶媒Bおよび溶媒Bの合計100重量に対して1~100重量の量で含まれる、[5]または[6]に記載のインクジェットインク。[8][1]~[7]のいずれかに記載のインクジェットインクを用いて形成されたポリイミド膜。[9][1]~[7]のいずれかに記載のインクジェットインクを、インクジェット法によって支持体上に塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜を硬化してポリイミド膜を形成する工程とを含むポリイミド膜の形成方法。[10][9]に記載の形成方法により形成されたポリイミド膜。[11]パターン状である[8]または[10]に記載のポリイミド膜。[12][8]、[10]または[11]に記載のポリイミド膜を有する、電子材料用基板。[13][12]に記載の電子材料用基板を有する電子部品。本発明によれば、吐出性および保存安定性が良好で、所望のパターンを描画できるインクジェットインクを得ることができる。また、本発明によれば、インクジェットインクの粘度、表面張力および溶媒の沸点などのパラメータを、吐出性印刷性などに優れるインクとなるよう容易に最適化することができる。また、本発明のインクジェットインクを用いれば、インクジェット法により必要な部分のみに描画することで、パターン状のポリイミド膜を形成することができる。これにより、従来のパターン状のポリイミド膜を形成する際に用いていた、フォトレジストやエッチング液等を使用する必要はなく、また、製造に要する工程数を少なくすることができ、多品種大量のポリイミド膜を容易に生産できる。1.インクジェットインク本発明のインクジェットインク以下本発明のインクともいう。は、下記アミド酸誘導体またはそのイミド化物を含む成分Aおよびアミド系溶媒Bを含有するインクジェットインクであれば特に限定されない。本発明のインクは、吐出性印刷性などの点から、粘度、表面張力および溶媒の沸点などのパラメータを最適化することが好ましい。なお、本発明のインクは、本発明の効果を損なわない範囲において、必要に応じて溶媒Bをさらに含み、さらに、必要に応じて他の添加剤を含んでもよい。なお、本発明のインクは、無色、有色のどちらであってもよい。1.1.成分A成分Aは、アミド酸誘導体A1またはそのイミド化物A2を含む。成分Aは、実質的にアミド酸誘導体A1のみからなってもよく、イミド化合物A2のみからなってもよく、アミド酸誘導体A1およびイミド化物A2からなってもよい。成分Aに含まれるアミド酸誘導体A1は、1種であってもよく、2種以上を組み合わせてもよい。また、成分Aに含まれるイミド化物A2は、1種であってもよく、2種以上を組み合わせてもよい。1.1-1.アミド酸誘導体A1前記アミド酸誘導体A1は、下記式2aで表される構成単位を有し、かつ、下記式2bおよび2cで表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の分子末端基を有する化合物2、ならびに、下記式3~6で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である。前記式2aおよび4中、Xはそれぞれ独立に炭素または炭素数2~100の有機基であり、式2a、3および6中、Yはそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基であり、式5中、Zは炭素数1~100の有機基であり、式2b、3および5中、X’はそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基であり、式2c、4および6中、Y’はそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基である。前記式2aおよび4中、Xはそれぞれ独立に炭素または炭素数2~100の有機基である。この炭素数2~100の有機基としては、例えば、炭素数2~100の炭化水素基が挙げられ、好ましくは炭素数2~50の炭化水素基であり、より好ましくは炭素数2~40の炭化水素基である。なお、前記式2aおよび4中、Xはそれぞれ独立にとは、これらの式のうち、任意の2つの式に存在するXは同一であってもよいし、異なってもよいことを示す。この規則は、他の式においても適用される。前記式2a、3および6中、Yはそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基である。この炭素数1~100の有機基としては、例えば、炭素数1~100の炭化水素基が挙げられ、好ましくは炭素数1~50の炭化水素基であり、より好ましくは炭素数1~40の炭化水素基である。前記式5中、Zは炭素数1~100の有機基である。この炭素数1~100の有機基としては、例えば、炭素数1~100の炭化水素基が挙げられ、好ましくは炭素数1~50の炭化水素基であり、より好ましくは炭素数1~40の炭化水素基である。前記式2b、3および5中、X’はそれぞれ独立に炭素数1~100の有機基であり、好ましくは不飽和炭化水素基を有する炭素数2~100の有機基または下記式αで表される有機基である。この炭素数1~100の有機基としては、例えば、炭素数1~100の炭化水素基が挙げられ、好ましくは炭素数1~50の炭化水素基であり、より好ましくは炭素数1~40の炭化水素基である。本明細書において、不飽和炭化水素基としては、アルケニル、アルキニル、シクロアルキニル、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルケニレン、アルキルジエニル、アクリルおよびメタクリルが挙げられる。前記式α中、Rは独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたは炭素数1~20のアルコキシであり、Rの少なくとも1個はアルコキシであることが好ましい。前記式α中のR’は、炭素数1~20の有機基であり、この炭素数1~20の有機基としては、例えば、炭素数1~20の炭化水素基が挙げられる。前記式3で表される化合物は複数のXを有する。この場合、任意の2つのXは同一であってもよいし、異なってもよい。この規則は、他の式においても適用される。前記式2c、4および6中、Y’はそれぞれ独立して炭素数1~100の有機基であり、好ましくは不飽和炭化水素基を有する炭素数2~100の有機基または下記式βで表される有機基である。この炭素数1~100の有機基としては、例えば、炭素数1~100の炭化水素基が挙げられ、好ましくは炭素数1~50の炭化水素基であり、より好ましくは炭素数1~40の炭化水素基である。前記式β中、Rは、独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたは炭素数1~20のアルコキシであり、Rの少なくとも1個はアルコキシであることが好ましい。前記式β中のRは、炭素数1~20の有機基であり、この炭素数1~20の有機基としては、例えば、炭素数1~20の炭化水素基が挙げられる。本明細書中の炭化水素基において、この炭化水素基の任意の-CH2-は-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR-Rは水素、メチル、エチル、エトキシまたはメトキシである。、-CONH-、-NHCO-、-S-、-S-S-、-SO2-、-SiRR-RおよびRは、それぞれ独立に水素、メチル、エチル、プロピルまたはフェニルである。または>P=ORRは水素、メチル、エチル、ヒドロキシル、エトキシまたはメトキシである。で置き換えられてもよく、任意の-CH22-は-CH=CH-、-C≡C-、-N=N-で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられていてもよい。本明細書中の炭化水素基は、飽和または不飽和の非環式炭化水素基であってもよいし、飽和または不飽和の環式炭化水素基であってもよいし、これらの非環式炭化水素基と環式炭化水素基とを両方含む基であってもよい。前記非環式炭化水素基は、直鎖状でもよいし、分岐鎖状でもよい。また、環を構成する任意の炭素原子は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはP=Oで置き換えられてもよい。具体的には、環を構成する任意の-CH2-は-O-、-N=、-S-または>P=ORRは水素、メチル、エチル、ヒドロキシル、エトキシまたはメトキシである。で置き換えられてもよく、任意の-CH=CH-は-N=N-または-CH=N-で置き換えられてもよい。本発明で用いる任意のは、個数のみならず位置も任意であるが、連続する複数の-CH2-や-CH22-などが同じ基で置き換えられることは好ましくない。環を構成する炭素との結合位置が明確でない置換基は、その結合位置が化学的に問題のない範囲内で自由であることを意味する。以下、本明細書において、2aや3などの同じ符号で表される構成単位、基および化合物中のXやYなどの符号の定義は、特に言及しない限り同じである。なお、以下において、1価の炭化水素基を例示する。本明細書中の2価、3価または4価の炭化水素基としては、以下で例示する炭化水素基において、これらの基から誘導される2価、3価または4価の基等が挙げられる。前記炭化水素基としては、例えば、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルジエニル、アリール、アルキルアリール、アリールアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、アリールオキシ、アミノ、シリル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリールチオ、およびアリールスルホニルが挙げられる。前記アルキルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニルが挙げられる。前記アルケニルとしては、例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、2-メチル-1-プロペニル、2-メチルアリル、2-ブテニルが挙げられる。前記アルキニルとしては、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニルが挙げられる。前記アルキルジエニルとしては、例えば、1,3-ブタジエニルが挙げられる。前記アリールとしては、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリルが挙げられる。前記アルキルアリールとしては、例えば、o-トリル、m-トリル、p-トリル、2,3-キシリル、2,4-キシリル、2,5-キシリル、o-クメニル、m-クメニル、p-クメニル、メシチルが挙げられる。前記アリールアルキルとしては、例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、1-ナフチルメチル、2-ナフチルメチル、2,2-ジフェニルエチル、3-フェニルプロピル、4-フェニルブチル、5-フェニルペンチルが挙げられる。前記シクロアルキルとしては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。前記シクロアルケニルとしては、例えば、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルが挙げられる。前記アルコキシとしては、例えば、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシが挙げられる。前記アリールオキシとしては、例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシが挙げられる。前記アミノとしては、例えば、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフェニルアミノ、フェニルアミノが挙げられる。前記シリルとしては、例えば、ジメチルシリル、ジエチルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、トリフェノキシシリル、ジメチルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリルが挙げられる。前記アルキルチオおよびアルキルスルホニルにおけるアルキルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニルが挙げられる。前記アリールチオおよびアリールスルホニルにおけるアリールとしては、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリルが挙げられる。なお、化合物2は、前記式2aで表される構造単位と、前記式2bおよび2cで表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の分子末端基とを有するポリアミド酸誘導体である。前記分子末端基は、化合物2の主鎖末端に存在する基である。前記式2aで表される構造単位は、例えば、後述するテトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させることにより得ることができる。また、前記式2bで表される分子末端基は、例えば、後述するジカルボン酸無水物とジアミンを反応させることにより得ることができる。さらに、前記式2cで表される分子末端基は、例えば、後述するテトラカルボン酸二無水物とモノアミンを反応させることにより得ることができる。化合物2は、化学的にとり得る化合物であれば特に制限されないが、Iその主鎖の2つの末端のうち、いずれか一方が、前記式2bで表される基または前記式2cで表される基である化合物、IIその主鎖の2つの末端のうち、その両方が、前記式2bで表される基または前記式2cで表される基である化合物、およびIIIその主鎖の2つの末端のうち、その一方が前記式2bで表される基であり、残りが前記式2cで表される基である化合物が挙げられる。前記化合物2としては、これらの化合物の中でも、下記式2-1~2-3で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。前記式2-1~2-3中、Xはそれぞれ独立に式2aおよび4中のXと同義であり、式2-1~2-3中、Yはそれぞれ独立に式2a、3および6中のYと同義であり、式2-1および2-2中、X’はそれぞれ独立に式2b、3および5中のX’と同義であり、式2-2および2-3中、Y’はそれぞれ独立に式2c、4および6中のY’と同義である。前記式2-1~2-3中、kはそれぞれ独立に1~8の整数であり、好ましくは1~5の整数であり、より好ましくは1~3の整数である。前記アミド酸誘導体A1としては、ジアミンと酸無水物基を2つ以上有する化合物とを用いて得られる化合物が挙げられる。好ましくは、例えば、特開2009-35700号公報に記載されている、下記式2aで表される構成単位を有し、かつ、下記式2bおよび下記式2cで表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の分子末端基を有するポリアミド酸が挙げられる。また、前記アミド酸誘導体A1としては、分子内に少なくとも1つのアミド酸構造を有する化合物が挙げられる。好ましくは、例えば、国際公開WO2008/123190号パンフレットに記載されている、下記式3または下記式4で表される化合物、および特開2009-144138号公報に記載されている、下記式6で表される化合物が挙げられる。1.1-2.イミド化合物A2前記イミド化物A2は、前記アミド酸誘導体A1のイミド化物である。前記イミド化物A2としては、アミド酸誘導体A1を完全にイミド化した化合物であってもよく、部分的にイミド化した化合物であってもよい。前記イミド化物A2としては、下記式3で表される化合物のイミド化物、および分子内に少なくとも1つのアルケニル置換ナジイミド構造を有するアルケニル置換ナジイミド化合物が挙げられる。前記アルケニル置換ナジイミド化合物としては、好ましくは、例えば、国際公開WO2008/059986号パンフレットに記載されている、下記式7で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物、および特開2009-203440号公報に記載されているアルケニル置換ナジイミド化合物が挙げられる。式7中、R12およびR13は、それぞれ独立に、水素、炭素数1~12のアルキル、炭素数3~6のアルケニル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数6~12のアリールまたはベンジルであり、nは1または2である。前記式7中のnが1のとき、R14は、水素、炭素数1~12のアルキル、炭素数1~12のヒドロキシアルキル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数6~12のアリール、ベンジル、-{CqH2qOtCrH2rOuCsH2sX}ここで、q、rおよびsはそれぞれ独立に2~6の整数であり、tは0または1の整数であり、uは1~30の整数であり、Xは水素またはヒドロキシルである。で表される基、-Ra-Ph-R15ここで、aは0または1の整数であり、Rは炭素数1~4のアルキレンであり、R15は水素または炭素数1~4のアルキルである。で表される基、-Ph-T-Phここで、Tは-CH2-、-CCH32-、-CO-、-S-または-SO2-である。で表される基、またはこれらの基の芳香環Phに結合した1~3個の水素がヒドロキシルで置き換えられた基である。本明細書において、Phはフェニルまたはフェニレンである。前記式7中のnが2のとき、R14は、-CpH2p-ここで、pは2~20の整数である。で表されるアルキレン、炭素数5~8のシクロアルキレン、-{CqH2qOtCrH2rOuCsH2s}-ここで、q、rおよびsはそれぞれ独立に2~6の整数であり、tは0または1の整数であり、uは1~30の整数である。で表される基、炭素数6~12のアリーレン、-R15a-Ph-R16-ここで、aは0または1の整数であり、R15およびR16は、それぞれ独立に炭素数1~4のアルキレンである。で表される基、-Ph-T-Ph-ここで、Tは-CH2-、-CCH32-、-CO-、-O-、-O-Ph-CCH32-Ph-O-、-S-または-SO2-である。で表される基、またはこれらの基の芳香環Phに結合した1~3個の水素がヒドロキシルで置き換えられた基である。1.1-3.アミド酸誘導体A1またはイミド化物A2の合成方法前記アミド酸誘導体A1は、好ましくは、下記式8で表されるテトラカルボン酸二無水物および下記式10で表されるジカルボン酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸無水物と、下記式9で表されるジアミンおよび下記式11で表されるモノアミンからなる群より選ばれる少なくとも1種のアミンとを反応させることにより得ることができる。この反応は、下記反応溶媒下で行うことが好ましい。前記式8中のXは、前記式2aおよび4中のXと同義であり、前記式9中のYは、前記式2a、3および6中のYと同義であり、前記式10中のX’は、前記式2b、3および5中のX’と同義であり、前記式11中のY’は、前記2c、4および6中のY’と同義である。1.1-3-1.テトラカルボン酸二無水物前記式8で表されるテトラカルボン酸二無水物の具体例としては、ピロメリット酸二無水物、3,3,4,4-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2,3,3-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3,4-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3,4,4-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2,3,3-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3,4-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3,4,4-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物略語:ODPA、2,2,3,3-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3,4-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2-[ビス3,4-ジカルボキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物BPDA、および3,3’,4,4’-ビシクロへキシルテトラカルボン酸二無水物BPDA-Hが挙げられる。これらの中でも得られるインクの下記溶媒溶媒Bを含有し、必要に応じて溶媒Bを含む溶媒に対する溶解性などの点から、ODPA、BPDA-Hが好ましい。前記テトラカルボン酸二無水物は、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。1.1-3-2.ジアミン前記式9で表されるジアミンの具体例としては、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2’-ジアミノジフェニルプロパン、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]プロパン略語:BAPP、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン、m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、ベンジジン、1,1-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]シクロヘキサン、1,1-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]-4-メチルシクロヘキサン、1,1-ビス[4-4-アミノベンジルフェニル]シクロヘキサン、1,1-ビス[4-4-アミノベンジルフェニル]-4-メチルシクロヘキサン、1,1-ビス[4-4-アミノベンジルフェニル]メタン、1,3-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、ジエチレングリコールビス3-アミノプロピルエーテル略語:BAPEEおよび下記式13で表される化合物が挙げられる。前記式13中、R8は独立して炭素数1~3のアルキルまたはフェニルであり、R9は独立してメチレンまたはフェニレンであり、該フェニレンの任意の水素はアルキルで置き換えられていてもよく、xは独立して1~6の整数であり、yは1~70の整数である。これらの中でも得られるインクの下記溶媒溶媒Bを含有し、必要に応じて溶媒Bを含む溶媒に対する溶解性などの点から、BAPP、BAPEEが好ましい。前記ジアミンは、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。1.1-3-3.ジカルボン酸無水物前記式10で表されるジカルボン酸無水物の具体例としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、3-メチルフタル酸無水物、4-メチルフタル酸無水物、4-tert-ブチルフタル酸無水物、3-フルオロフタル酸無水物、4-フルオロフタル酸無水物、4-エチニルフタル酸無水物、4-フェニルエチニルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、こはく酸無水物、ブチルこはく酸無水物、n-オクチルこはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物、テトラプロペニルこはく酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、アリルこはく酸無水物、2-ブテン-1-イルこはく酸無水物、2-ドデセン-1-イルこはく酸無水物、マレイン酸無水物略語:MA、2,3-ジメチルマレイン酸無水物、グルタル酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物、アリルナジック酸無水物、cis-1,2-シクロヘキサンジカルボン酸無水物、4-メチルシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸無水物、cis-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物、1,3-シクロへキサンジカルボン酸無水物、p-トリメトキシシリルフェニルこはく酸無水物、p-トリエトキシシリルフェニルこはく酸無水物、m-トリメトキシシリルフェニルこはく酸無水物、m-トリエトキシシリルフェニルこはく酸無水物、トリメトキシシリルプロピルこはく酸無水物およびトリエトキシシリルプロピルこはく酸無水物略語:TESAが挙げられる。これらの中では、無水フタル酸、無水トリメリット酸、4-メチルフタル酸無水物、4-tert-ブチルフタル酸無水物、4-フルオロフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、テトラプロペニルこはく酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、2-ドデセン-1-イルこはく酸無水物、グルタル酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物、アリルナジック酸無水物、cis-1,2-シクロヘキサンジカルボン酸無水物、4-メチルシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸無水物、cis-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物、MA、TESAおよび1,3-シクロへキサンジカルボン酸無水物が好ましい。これらの中でも得られるインクの下記溶媒溶媒Bを含有し、必要に応じて溶媒Bを含む溶媒に対する溶解性などの点から、MA、TESA、シトラコン酸無水物、アリルナジック酸無水物が好ましく、取り扱い容易性などの点からMAがより好ましい。前記ジカルボン酸無水物は、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。1.1-3-4.モノアミン前記式11で表されるモノアミンの具体例としては、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、4-アミノブチルトリメトキシシラン、4-アミノブチルトリエトキシシラン、4-アミノブチルメチルジエトキシシラン、p-アミノフェニルトリメトキシシラン、p-アミノフェニルトリエトキシシラン、p-アミノフェニルメチルジメトキシシラン、p-アミノフェニルメチルジエトキシシラン、m-アミノフェニルトリメトキシシラン、m-アミノフェニルメチルジエトキシシラン、4-エチニルアニリン、3-エチニルアニリン、プロパルギルアミン、3-アミノブチン、4-アミノブチン、5-アミノペンチン、4-アミノペンチン、アリルアミン、7-アミノヘプチン、m-アミノスチレン、p-アミノスチレン、m-アミノ-α-メチルスチレン、3-アミノフェニルアセチレンおよび4-アミノフェニルアセチレンが挙げられる。これらの中では、例えば得られるポリイミド膜の耐久性が優れるという点から、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシランおよびp-アミノフェニルトリメトキシシランが好ましく、3-アミノプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。前記モノアミンは、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。1.1-3-5.アミド酸誘導体A1の合成方法前記アミド酸誘導体A1の合成法として、例えば、前記特許文献6~10に記載されている方法が挙げられる。前記アミド酸誘導体A1は、ジアミンおよび/またはモノアミンと、テトラカルボン酸二無水物および/またはジカルボン酸無水物とを、アミノ基と酸無水物基とが反応してアミド酸を形成する穏やかな反応条件で、反応させることで得ることができる。この穏やかな反応条件とは、例えば、常圧下、温度20~60°C、反応時間0.2~20時間で、触媒を使用することなく、反応により酸無水物基が開環して生じたカルボキシル基を活性化させることなく反応させる、という条件である。カルボキシル基の活性化とは、例えば、酸クロリドへの変換である。このような穏やかな反応条件下では、酸無水物基とアミノ基とが反応して生じたカルボキシル基が、さらにジアミンおよび/またはモノアミンのアミノ基と反応することがないため、遊離のカルボキシル基を有するアミド酸誘導体A1が得られる。1.1-3-6.イミド化物A2の合成方法前記イミド化物A2は、前記アミド酸誘導体A1をイミド化することにより得ることができる。具体的には、熱的方法、または、脱水触媒もしくは脱水剤を用いた化学的方法によりアミド酸誘導体をイミド化する方法が挙げられる。好ましくは、精製処理を行なわずにインクの成分として使用できるなどの点から熱的方法でイミド化する方法であり、より好ましくは、テトラカルボン酸二無水物、ジアミン、ジカルボン酸無水物およびモノアミン等の原料を反応溶媒中で反応させた後、還流してイミド化する方法である。還流は、使用する反応溶媒により条件が異なるが、140~230°Cで1.5~10時間の条件で行うことが好ましい。還流温度が前記範囲内であると、イミド化が十分に進むため、得られるイミド化物を含むインクは、強固なポリイミド膜を形成することができる。1.1-3-7.反応溶媒前記アミド酸誘導体A1またはそのイミド化物A2を合成する際に用いられ得る反応溶媒は、特に限定されないが、前記アミド酸誘導体A1およびイミド化物A2、ならびにこれらを合成する際に用いる原料化合物を容易に溶解できる溶媒が好ましい。また、前記アミド酸誘導体A1やイミド化物A2の合成後に得られる溶液は、そのまま、またはさらに必要により下記添加剤を添加して本発明のインクとして用いることが好ましい。このため、前記反応溶媒としては、前記アミド酸誘導体A1やイミド化物A2の合成後に得られる溶液が、保存安定性および吐出性に優れ、所望の形状のポリイミド膜を容易に形成できる以下パターン性ともいう。ような溶媒を用いることが好ましい。前記反応溶媒としては、下記アミド系溶媒Bおよび溶媒Bが挙げられ、下記アミド系溶媒Bを含む溶媒を用いることが、保存安定性、吐出性およびパターン性に優れるインクを得ることができるなどの点から好ましい。これらの中では、エクアミド商品名;出光興産株、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびγ-ブチロラクトンが、前記アミド酸誘導体A1およびイミド化物A2、ならびにこれらを合成する際に用いる原料化合物を容易に溶解できる点で好ましい。反応溶媒は、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を混合して用いてもよい。反応溶媒は、前記アミド酸誘導体A1またはイミド化物A2の合成に用いる原料化合物の合計100重量部に対し、100重量部以上使用すると、該合成反応がスムーズに進行するので好ましい。1.1-4.アミド酸誘導体A1またはイミド化物A2の重量平均分子量前記アミド酸誘導体A1またはイミド化物A2としては、下記アミド系溶媒Bに対する溶解性に優れるなどの点から、重量平均分子量が300~12000である化合物を用いることが好ましい。アミド系溶媒Bに対する溶解性の観点から、アミド酸誘導体A1およびイミド化物A2の重量平均分子量は、より好ましくは400~9000であり、特に好ましくは450~7000である。重量平均分子量が300以上である化合物を用いると、化学的機械的に安定なポリイミド膜が得られる。また重量平均分子量が12000以下の化合物は、アミド系溶媒Bに対する溶解性が特に高いので、本発明のインク中の成分Aの濃度を高くすることができる。このため、該インクから得られるポリイミド膜の柔軟性および耐熱性を向上させることができる。アミド酸誘導体A1およびイミド化物A2の重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィGPC法により測定することができる。例えば、アミド酸誘導体A1またはイミド化物A2とN,N-ジメチルホルムアミドDMFとを混合することでアミド酸誘導体A1またはイミド化物A2の濃度が約1重量である溶液を調製する。その後、この溶液を用いて、カラムとして、東ソー株製カラムG4000HXL、G3000HXL、G2500HXLおよびG2000HXLを、この順で直列に結合したものを用い、カラム温度40°C、流速1.0ml/minの条件で、DMFを展開剤としてGPC法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めることができる。1.1-5.成分Aの含有量本発明のインク中の成分Aの含有量は、該インク100重量に対して、5~95重量であることが好ましく、20~80重量であることがさらに好ましい。本発明のインク中の成分の含有量が前記範囲にあると、吐出性に優れるインクを得ることができる。本発明のインクは、アミド系溶媒Bを含むため、該インク中の成分Aの含有量を多くすることができる。用途によっては、膜厚の厚いポリイミド膜を形成することが求められるため、この場合には、本発明のインク中の成分Aの濃度が高いほど、該インクから得られるポリイミド膜の膜厚が厚くなるため好ましい。また、本発明のインクは、該インク中の成分Aの含有量が多くなっても、インクジェット塗布装置での吐出が可能である。本発明のインクによれば、所望の用途に応じて、インク中の成分Aの含有量を容易に変更することができるため、膜厚の薄いポリイミド膜から膜厚の厚いポリイミド膜までインクジェット塗布装置による1回の吐出で容易に形成することができる。1.2.溶媒本発明のインクは、特定構造のアミド系溶媒Bを含有するインクジェットインクであり、必要に応じて溶媒Bをさらに含んでもよい。このような溶媒を用いることにより、良好な保存安定性、吐出性およびパターン性を有するインクとなり、インクジェットヘッドの劣化等が起こりにくいインクが得られる。1.2-1.アミド系溶媒B前記アミド系溶媒Bは、下記式1で表される溶媒である。前記アミド系溶媒Bは、成分Aを容易に溶かすことができる。また、1-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、およびN,N-ジメチルプロピオンアミドなどの、アミド酸誘導体またはそのイミド化物を溶解させるために用いられてきた従来の溶媒に比べ、成分Aをより容易に溶かすことができる。成分Aとしてマレイン酸またはその誘導体を原料とする化合物を用いる場合には、該化合物は、前記従来の溶媒に溶けにくい場合が多い。このため、成分Aとして該化合物を用いる場合には、特に、前記アミド系溶媒Bを用いる利点が大きい。前記式1中、R1は炭素数1~18の有機基である。この炭素数1~18の有機基としては、例えば、炭素数1~18の炭化水素基が挙げられ、好ましくは炭素数1~10の炭化水素基であり、より好ましくは1~8のアルキルである。これらの中でも、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシルまたはシクロヘキシルが好ましく、メチルまたはn-ブチルがより好ましい。前記式1中、R2およびR3は、下記iまたはiiを満たす。iR2およびR3は、それぞれ独立に水素または炭素数1~6の有機基であるiiR2およびR3は、互いに結合して環構造を形成する前記iにおける炭素数1~6の有機基としては、例えば、炭素数1~6の炭化水素基が挙げられる。この炭素数1~6の炭化水素基としては、好ましくはエーテル結合を有してもよい炭素数1~6の炭化水素基である。これらの中でも、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチルまたはtert-ブチルが好ましく、メチルがより好ましい。前記iiにおける環構造-NR2R3としては、例えばピロリジニル、ピペリジニルが挙げられる。前記式1中、R4は水素またはメチルであり、好ましくは水素である。前記式1中、nは0~3の整数であり、mは0または1である。nmは1~3の整数であることが好ましく、より好ましくは2である。前記アミド系溶媒Bの具体例としては、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド略語:DMMP、3-エトキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-n-プロポキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-イソプロポキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-n-ブトキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-sec-ブトキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-ペンチルオキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-シクロペンチルオキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-へキシルオキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-シクロヘキシルオキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-メトキシ-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-エトキシ-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-n-プロポキシ-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-イソプロポキシ-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-n-ブトキシ-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-sec-ブトキシ-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-ペンチルオキシ-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-シクロペンチルオキシ-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-へキシルオキシ-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-シクロヘキシルオキシ-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-メトキシ-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-エトキシ-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-n-プロポキシ-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-イソプロポキシ-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-n-ブトキシ-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-sec-ブトキシ-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-ペンチルオキシ-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-シクロペンチルオキシ-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-へキシルオキシ-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-シクロヘキシルオキシ-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-メトキシ-2-メチル-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-エトキシ-2-メチル-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-n-プロポキシ-2-メチル-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-イソプロポキシ-2-メチル-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-n-ブトキシ-2-メチル-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-sec-ブトキシ-2-メチル-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-ペンチルオキシ-2-メチル-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-シクロペンチルオキシ-2-メチル-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-へキシルオキシ-2-メチル-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-シクロヘキシルオキシ-2-メチル-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-メトキシ-2-メチル-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-エトキシ-2-メチル-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-n-プロポキシ-2-メチル-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-イソプロポキシ-2-メチル-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-n-ブトキシ-2-メチル-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-sec-ブトキシ-2-メチル-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-ペンチルオキシ-2-メチル-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-シクロペンチルオキシ-2-メチル-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-へキシルオキシ-2-メチル-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-シクロヘキシルオキシ-2-メチル-N,N-ジエチルプロピオンアミド、3-メトキシ-2-メチル-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-エトキシ-2-メチル-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-n-プロポキシ-2-メチル-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-イソプロポキシ-2-メチル-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-n-ブトキシ-2-メチル-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-sec-ブトキシ-2-メチル-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-ペンチルオキシ-2-メチル-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-シクロペンチルオキシ-2-メチル-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-へキシルオキシ-2-メチル-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、3-シクロヘキシルオキシ-2-メチル-N,N-ジプロピルプロピオンアミド、2-メトキシ-N,N-ジメチル酢酸アミド、2-エトキシ-N,N-ジメチル酢酸アミド、2-n-プロポキシ-N,N-ジメチル酢酸アミド、2-イソプロポキシ-N,N-ジメチル酢酸アミド、2-n-ブトキシ-N,N-ジメチル酢酸アミド、2-sec-ブトキシ-N,N-ジメチル酢酸アミド、2-ペンチルオキシ-N,N-ジメチル酢酸アミド、2-シクロペンチルオキシ-N,N-ジメチル酢酸アミド、2-へキシルオキシ-N,N-ジメチル酢酸アミド、2-シクロヘキシルオキシ-N,N-ジメチル酢酸アミド、2-メトキシ-N,N-ジエチル酢酸アミド、2-エトキシ-N,N-ジエチル酢酸アミド、2-n-プロポキシ-N,N-ジエチル酢酸アミド、2-イソプロポキシ-N,N-ジエチル酢酸アミド、2-n-ブトキシ-N,N-ジエチル酢酸アミド、2-sec-ブトキシ-N,N-ジエチル酢酸アミド、2-ペンチルオキシ-N,N-ジエチル酢酸アミド、2-シクロペンチルオキシ-N,N-ジエチル酢酸アミド、2-へキシルオキシ-N,N-ジエチル酢酸アミド、2-シクロヘキシルオキシ-N,N-ジエチル酢酸アミド、2-メトキシ-N,N-ジプロピル酢酸アミド、2-エトキシ-N,N-ジプロピル酢酸アミド、2-n-プロポキシ-N,N-ジプロピル酢酸アミド、2-イソプロポキシ-N,N-ジプロピル酢酸アミド、2-n-ブトキシ-N,N-ジプロピル酢酸アミド、2-sec-ブトキシ-N,N-ジプロピル酢酸アミド、2-ペンチルオキシ-N,N-ジプロピル酢酸アミド、2-シクロペンチルオキシ-N,N-ジプロピル酢酸アミド、2-へキシルオキシ-N,N-ジプロピル酢酸アミド、2-シクロヘキシルオキシ-N,N-ジプロピル酢酸アミド、1-メトキシ-N,N-ジメチル蟻酸アミド、1-エトキシ-N,N-ジメチル蟻酸アミド、1-n-プロポキシ-N,N-ジメチル蟻酸アミド、1-イソプロポキシ-N,N-ジメチル蟻酸アミド、1-n-ブトキシ-N,N-ジメチル蟻酸アミド、1-sec-ブトキシ-N,N-ジメチル蟻酸アミド、1-ペンチルオキシ-N,N-ジメチル蟻酸アミド、1-シクロペンチルオキシ-N,N-ジメチル蟻酸アミド、1-へキシルオキシ-N,N-ジメチル蟻酸アミド、1-シクロヘキシルオキシ-N,N-ジメチル蟻酸アミド、1-メトキシ-N,N-ジエチル蟻酸アミド、1-エトキシ-N,N-ジエチル蟻酸アミド、1-n-プロポキシ-N,N-ジエチル蟻酸アミド、1-イソプロポキシ-N,N-ジエチル蟻酸アミド、1-n-ブトキシ-N,N-ジエチル蟻酸アミド、1-sec-ブトキシ-N,N-ジエチル蟻酸アミド、1-ペンチルオキシ-N,N-ジエチル蟻酸アミド、1-シクロペンチルオキシ-N,N-ジエチル蟻酸アミド、1-へキシルオキシ-N,N-ジエチル蟻酸アミド、1-シクロヘキシルオキシ-N,N-ジエチル蟻酸アミド、1-メトキシ-N,N-ジプロピル蟻酸アミド、1-エトキシ-N,N-ジプロピル蟻酸アミド、1-n-プロポキシ-N,N-ジプロピル蟻酸アミド、1-イソプロポキシ-N,N-ジプロピル蟻酸アミド、1-n-ブトキシ-N,N-ジプロピル蟻酸アミド、1-sec-ブトキシ-N,N-ジプロピル蟻酸アミド、1-ペンチルオキシ-N,N-ジプロピル蟻酸アミド、1-シクロペンチルオキシ-N,N-ジプロピル蟻酸アミド、1-へキシルオキシ-N,N-ジプロピル蟻酸アミド、1-シクロヘキシルオキシ-N,N-ジプロピル蟻酸アミドが挙げられる。これらの中でも、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド、3-n-ブトキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミドが好ましい。前記アミド系溶媒の市販品の例としては、出光興産株製のエクアミド商品名が挙げられる。前記アミド系溶媒Bは、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を混合して用いてもよい。本発明のインクは、アミド系溶媒Bおよび下記溶媒Bの合計100重量に対して、アミド系溶媒Bを、好ましくは1~100重量、より好ましくは20~80重量、さらに好ましくは30~70重量の量で含有する。アミド系溶媒Bの含有量が前記範囲内にあると、良好な保存安定性、吐出性およびパターン性を有するインクとなり、インクジェットヘッドの劣化等が起こりにくいインクが得られる。1.2-2.溶媒B前記溶媒Bは、前記アミド系溶媒B以外の溶媒であり、アミド系溶媒Bと混合することによって前記成分Aを溶解できる化合物であれば、特に制限されない。前記溶媒Bとしては、沸点が、好ましくは150~300°C、より好ましくは150~270°Cの範囲にある溶媒が好ましい。前記溶媒Bの具体例としては、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル略語:EDM、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル1-メトキシ-2-プロパノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル1-エトキシ-2-プロパノール、プロピレングリコールモノブチルエーテル1-ブトキシ-2-プロパノール、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、アニソール、シクロヘキサノン、γ-ブチロラクトン略語:GBL、1,3-ジオキソラン、1,4-ジオキサン、2-ピロリドン、1-メチル-2-ピロリドン略語:NMP、1-エチル-2-ピロリドン、1-ブチル-2-ピロリドン、1-ビニル-2-ピロリドン、1-2-ヒドロキシエチル-2-ピロリドン、1-アセチル-2-ピロリドン、N-メチル-ε-カプロラクタム、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミドおよび1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンが挙げられる。これらの中では、インクジェットヘッドの劣化が起こりにくい点で、乳酸エチル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチルおよびγ-ブチロラクトンが好ましい。前記溶媒Bは、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を混合して用いてもよい。本発明のインクは、前記アミド系溶媒Bおよび溶媒Bの合計100重量に対して、溶媒Bを、好ましくは0~99重量、より好ましくは20~80重量、さらに好ましくは30~70重量の量で含有する。溶媒Bの含有量が前記範囲内であると、適度な粘度を有し、吐出性が良好なインクが得られる。1.3.添加剤本発明のインクは、目的とする特性によっては、本発明の効果を損なわない範囲で、成分A、アミド系溶媒B、および溶媒B以外の添加剤を含有してもよい。このような添加剤としては、例えば、高分子化合物、エポキシ化合物、アクリル樹脂、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、エポキシ硬化剤、pH調整剤、防錆剤、防腐剤、防黴剤、酸化防止剤、還元防止剤、蒸発促進剤、キレート化剤、水溶性ポリマー、顔料、チタンブラック、カーボンブラックおよび染料が挙げられる。1.3-1.高分子化合物前記高分子化合物としては、特に限定されないが、例えば、ポリアミド酸アミド酸誘導体A1を除く、可溶性ポリイミドイミド化物A2を除く、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアミド酸エステル、ポリエステル、アクリル酸ポリマー、アクリレートポリマー、ポリビニルアルコールおよびポリオキシエチレンが挙げられる。前記高分子化合物としては、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。前記高分子化合物としては、前記アミド系溶媒Bに対する溶解性に優れるなどの点から、重量平均分子量が1,000~200000である高分子化合物を用いることが好ましい。アミド系溶媒Bに対する溶解性の観点から、高分子化合物の重量平均分子量は、より好ましくは1,000~180,000であり、さらに好ましくは1,000~160000であり、特に好ましくは1,000~150,000である。重量平均分子量が1,000以上である高分子化合物を用いると、該高分子化合物は、ポリイミド膜を形成する際に行う加熱処理によって蒸発することがなく、化学的機械的に安定なポリイミド膜が得られる。また重量平均分子量が200,000以下の高分子化合物は、アミド系溶媒Bに対する溶解性が特に高いので、本発明のインク中の高分子化合物の濃度を高くすることができる。このため、該インクから得られるポリイミド膜の柔軟性および耐熱性を向上させることができる。高分子化合物の重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィGPC法により測定することができる。例えば、高分子化合物とN,N-ジメチルホルムアミドDMFとを混合することで高分子化合物の濃度が約1重量である溶液を調製する。その後、この溶液を用いて、カラムとして、東ソー株製カラムG4000HXL、G3000HXL、G2500HXLおよびG2000HXLを、この順で直列に結合したものを用い、カラム温度40°C、流速1.0ml/minの条件で、DMFを展開剤としてGPC法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めることができる。本発明のインク中の高分子化合物の濃度は、通常0~20重量であり、好ましくは0~10重量である。このような濃度範囲であると、絶縁膜としての良好な特性を有するポリイミド膜が得られる傾向にある。1.3-2.エポキシ化合物前記エポキシ化合物は、オキシランやオキセタンを有する化合物であれば特に限定されないが、オキシランを2つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、オキシランを有するモノマーの重合体、およびオキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。オキシランを有するモノマーの具体例としては、グリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメタアクリレートおよびメチルグリシジルメタアクリレートが挙げられる。オキシランを有するモノマーと共重合させる他のモノマーの具体例としては、メタアクリル酸、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、iso-ブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタアクリレート、N-シクロヘキシルマレイミドおよびN-フェニルマレイミドが挙げられる。オキシランを有するモノマーの重合体およびオキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体の好ましい具体例としては、ポリグリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体、n-ブチルメタクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート-グリシジルメタクリレート共重合体、およびスチレン-グリシジルメタクリレート共重合体が挙げられる。本発明のインクがこれらのエポキシ化合物を含有すると、耐熱性に優れるポリイミド膜が得られるため好ましい。エポキシ化合物の具体例としては、商品名jER807、jER815、jER825、jER827、jER828、jER190P、jER191P、jER1004、jER1256三菱化学株、商品名アラルダイトCY177、アラルダイトCY184ハンツマンジャパン株、商品名セロキサイド2021P、セロキサイド3000、EHPE-3150ダイセル化学工業株、商品名テクモアVG3101L三井化学株、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビスN,N-ジグリシジルアミノメチルシクロヘキサン、およびN,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタンが挙げられる。これらの中でもアラルダイトCY184、セロキサイド2021P、テクモアVG3101LまたはjER828を用いると、平坦性が特に良好なポリイミド膜が得られるため好ましい。エポキシ化合物の具体例として、さらに下記式I~VIで表される化合物が挙げられる。これらの中では、下記式I、VおよびVIで表される化合物が、平坦性が特に良好なポリイミド膜が得られるため好ましい。前記式V中、Rf、RgおよびRhは、それぞれ独立に水素または炭素数1~30の有機基である。この炭素数1~30の有機基としては、例えば、炭素数1~30の炭化水素基が挙げられる。前記式VI中、Rcは炭素数2~100の有機基である。この炭素数2~100の有機基としては、例えば、炭素数2~100の炭化水素基が挙げられる。前記式VI中、Rdは独立に、炭素数1~30の有機基である。この炭素数1~30の有機基としては、例えば、炭素数1~30の直鎖状もしくは分枝鎖状の炭化水素基が挙げられ、環構造または酸素を含んでいてもよい炭化水素基が好ましい。環構造としては、フェニル、シクロヘキシル、ナフチル、シクロヘキセニルおよびトリシクロ[5.2.1.026]デカニルなどが挙げられる。前記式VI中、Reは独立に、オキセタン、オキシランまたは1,2-エポキシシクロヘキサンを有する有機基であり、好ましくは下記式VII~IXからなる群より選ばれる有機基である。前記式VII中、Riは水素または炭素数1~3のアルキルである。前記式VIで表される化合物の好ましい例として、下記式Xで表される化合物が挙げられる。前記エポキシ化合物は、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明のインク中にエポキシ化合物が含まれる場合、該インク中のエポキシ化合物の濃度は、特に限定されないが、好ましくは0.1~20重量、より好ましくは1~10重量である。前記濃度範囲であると、得られるポリイミド膜の耐熱性、耐薬品性および平坦性が良好となる。1.3-3.アクリル樹脂前記アクリル樹脂は、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する樹脂であれば特に限定されないが、例えば、ヒドロキシル基を有する単官能重合性メタアクリレート;ヒドロキシル基を有しない単官能重合性メタアクリレート;二官能メタアクリレート;三官能以上の多官能メタアクリレート;オキセタンまたはエポキシオキシランを分子内に含む単官能メタアクリレート;オキセタンまたはエポキシオキシランを分子内に含む多官能メタアクリレート等のモノマーの単独重合体、およびこれらモノマーの共重合体が挙げられる。なお、本明細書において、メタアクリレートは、アクリレートとメタクリレートの両者または一方を示す。また、重合性を有する基の数が1つである場合を単官能、2つある場合を二官能と表現する。三官能や多官能の意味も、重合性基の数に基づく表現である。前記ヒドロキシル基を有する単官能重合性モノマーの具体例としては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、グリセロールモノメタアクリレートおよび1,4-シクロヘキサンジメタノールモノメタアクリレートが挙げられる。これらの中では、形成されるポリイミド膜を柔軟にできる点から、4-ヒドロキシブチルアクリレートおよび1,4-シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが好ましい。前記ヒドロキシル基を有しない重合性モノマーの具体例としては、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、iso-ブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、トリシクロ[5.2.1.026]デカニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート、5-テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチルメタアクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物のメタアクリレート、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレート、3-メチル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、ビニルトルエン、N-アクリロイルモルホリン、N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミド、メタアクリルアミド、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、メタアクリル酸、クロトン酸、α-クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、コハク酸モノ[2-メタアクリロイロキシエチル]、マレイン酸モノ[2-メタアクリロイロキシエチル]およびシクロヘキセン-3,4-ジカルボン酸モノ[2-メタアクリロイロキシエチル]が挙げられる。オキセタンまたはエポキシオキシランを分子内に含む単官能メタアクリレート、オキセタンまたはエポキシオキシランを分子内に含む多官能メタアクリレートの具体例としては、グリシジルメタアクリレート、メチルグリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメタアクリレート、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタアクリレート、3-エチル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、3-メチル-3-メタアクリロキシエチルオキセタン、3-エチル-3-メタアクリロキシエチルオキセタン、2-フェニル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、2-トリフロロメチル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、4-トリフロロメチル-2-メタアクリロキシメチルオキセタン、p-ビニルフェニル-3-エチルオキセタ-3-イルメチルエーテルが挙げられる。前記二官能メタアクリレートの具体例としては、ビスフェノールFエチレンオキシド変性ジメタアクリレート、ビスフェノールAエチレンオキシド変性ジメタアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレートモノステアレート、ジペンタエリスリトールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールジメタアクリレート、2-n-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレートおよびトリメチロールプロパンジメタアクリレートが挙げられる。前記三官能以上の多官能メタアクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、グリセロールトリメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリメタアクリレート、ジグリセリンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリメタアクリレート、トリス[メタアクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[メタアクリロキシエチル]イソシアヌレート、およびウレタンメタアクリレートが挙げられる。前記アクリル樹脂は、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明のインク中にアクリル樹脂が含まれる場合、該インク中のアクリル樹脂の濃度は、特に限定されないが、好ましくは0.1~20重量、より好ましくは1~10重量である。前記濃度範囲であると、耐熱性、耐薬品性および平坦性に優れるポリイミド膜が得られる。1.3-4.界面活性剤前記界面活性剤は、本発明のインクの塗布対象物例えば支持体への濡れ性、レベリング性または吐出性を向上させるために使用することができる。界面活性剤としては、本発明のインクの吐出性を向上できる点から、例えば、商品名BYK-300、BYK-306、BYK-335、BYK-310、BYK-341、BYK-344、BYK-370ビックケミー株等のシリコン系界面活性剤;商品名BYK-354、BYK-358、BYK-361ビックケミー株等のアクリル系界面活性剤;商品名DFX-18、フタージェント250、フタージェント251ネオス株等のフッ素系界面活性剤が挙げられる。前記界面活性剤は、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明のインク中に界面活性剤が含まれる場合、該インク中の界面活性剤の濃度は、好ましくは0.01~1重量である。1.3-5.帯電防止剤前記帯電防止剤は、本発明のインクの帯電を防止するために使用するものである。前記帯電防止剤としては、特に限定されず、公知の帯電防止剤を用いることができるが、具体的には、酸化錫、酸化錫酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩などが挙げられる。前記帯電防止剤は、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明のインク中に帯電防止剤が含まれる場合、該インク中の帯電防止剤の濃度は、好ましくは0.01~1重量である。1.3-6.カップリング剤前記カップリング剤としては、特に限定されず、公知のカップリング剤を用いることができ、シランカップリング剤を用いることが好ましい。シランカップリング剤の例としては、トリアルコキシシラン化合物およびジアルコキシシラン化合物が挙げられる。トリアルコキシシラン化合物またはジアルコキシシラン化合物としては、γ-ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ-ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-アミノエチル-γ-イミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの中では、γ-ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシランおよびγ-イソシアナートプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。前記カップリング剤は、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明のインク中にカップリング剤が含まれる場合、該インク中のカップリング剤の濃度は、好ましくは0.01~3重量である。1.3-7.エポキシ硬化剤前記エポキシ硬化剤は、特に限定されず、公知のエポキシ硬化剤を用いることができ、具体的には、有機酸ジヒドラジド化合物、イミダゾールおよびその誘導体、ジシアンジアミド類、芳香族アミン、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水物などを用いることができる。なお、多価カルボン酸とは、1分子中にカルボキシル基を2つ以上有する化合物のことをいう。前記エポキシ硬化剤として、さらに具体的には、ジシアンジアミド等のジシアンジアミド類;アジピン酸ジヒドラジド、1,3-ビスヒドラジノカルボエチル-5-イソプロピルヒダントイン等の有機酸ジヒドラジド化合物;2,4-ジアミノ-6-[2’-エチルイミダゾリル-1’]-エチルトリアジン、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体;無水フタル酸、無水トリメリット酸、1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸-1,2-無水物等の多価カルボン酸無水物;およびトリメリット酸等の多価カルボン酸などが挙げられる。これらの中では、トリメリット酸および1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸-1,2-無水物が好ましい。前記エポキシ硬化剤は、1種のみを用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明のインク中にエポキシ硬化剤が含まれる場合、該インク中のエポキシ硬化剤の濃度は、好ましくは0.2~5重量である。1.4.インクの粘度本発明のインクの、インクジェット塗布装置から吐出するときの温度吐出温度における粘度は、好ましくは1~50mPas、より好ましくは5~20mPas、さらに好ましくは8~15mPasである。粘度が前記範囲内であると、吐出精度に優れるインクが得られる。粘度が15mPasより低いと、吐出不良が起こりにくいため好ましい。また、例えば、7日間保存した後のインクの粘度も前記範囲にあることが好ましい。インク調製時と7日間静置後のインクの粘度の変化は、15以内にあることが好ましい。15を超えると、吐出条件の変更が必要となることが多く、吐出不可能になる可能性がある。インクの粘度は、用いる成分Aに応じて、溶媒の種類や使用量を適宜選択することで調整することができる。また常温25°Cで吐出を行う場合も多いため、本発明のインクの25°Cにおける粘度も、前記吐出温度における好ましい粘度の範囲と同様の範囲にあることが好ましい。1.5.インクの表面張力本発明のインクの表面張力は、好ましくは20~70mN/m、より好ましくは20~40mN/mである。表面張力が前記範囲内であると、吐出の際に所望の大きさ形状の液滴を容易に形成でき、吐出性のよいインクが得られるため好ましい。インクの表面張力は、用いる成分Aに応じて、溶媒の種類や使用量を適宜選択すること、必要により界面活性剤を使用することで調整することができる。2.ポリイミド膜本発明のポリイミド膜は、前記本発明のインクから形成される。前記ポリイミド膜は、耐熱性および電気絶縁性に優れ、電子部品の信頼性および歩留まりを向上させることができる。2.1.ポリイミド膜の形成方法前記ポリイミド膜は、好ましくは、本発明のインクをインクジェット法によって支持体上に塗布して塗膜を形成する工程以下塗膜形成工程ともいう。と、該塗膜を硬化する工程以下硬化工程ともいう。とを含む方法により、支持体全面にポリイミド膜を形成することができる。また、同様の方法で、所定のパターン状たとえばライン状のポリイミド膜を形成することもできる。本発明のインクをパターン状に吐出すると、パターン状のポリイミド膜を形成できる。本明細書では、特に言及のない限り、ポリイミド膜はパターン状のポリイミド膜を含むものとする。2.1-1.塗膜形成工程前記塗膜形成工程は、インクジェット塗布装置を用いたインクジェット法により行うことができる。前記インクジェット法における吐出方法としては、例えば、圧電素子型、バブルジェット登録商標型、連続噴射型および静電誘導型の吐出方法が挙げられ、好ましくは、圧電素子型の吐出方法である。本発明のインクは、含まれる各成分を適正に選択することにより、様々な方法で吐出が可能であり、予め定められたパターン状に塗布することができる。前記インクジェット塗布装置としては、インクジェットヘッドとインク収容部とが別体となった構成に限らず、それらが分離不能に一体になった構成であってもよい。また、インク収容部は、インクジェットヘッドに対して、分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるものでもよく、装置の固定部位に設けられてもよい。後者の場合、インク供給部材、例えば、チューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。また、インクジェットヘッドに対して、好ましい負圧を作用させるための構成をインクタンクに設ける場合には、インクタンクのインク収容部に吸収体を配置した形態、または可撓性のインク収容袋と、これに対しその内容積を拡張する方向の力を作用させるバネ部とを有した形態などを採用することができる。前記塗布装置は、シリアルプリンタであってもよく、塗布媒体の全幅に対応した範囲にわたって塗布素子を整列させてなるラインプリンタであってもよい。本発明のインクを吐出する際の吐出温度は、用いるインクの粘度により適宜調整すればよいが、好ましくは10~50°Cであり、より好ましくは15~40°Cである。前記支持体としては、例えば、FR-1、FR-3、FR-4、CEM-3またはE668等の各種規格に適合する、ガラスエポキシ支持体、ガラスコンポジット支持体、紙フェノール支持体、紙エポキシ支持体、グリーンエポキシ支持体およびBTレジン支持体が挙げられる。さらに、例えば、銅、黄銅、リン青銅、ベリリウム銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、スズ、クロムまたはステンレス等の金属からなる支持体これらの金属からなる層を表面に有する支持体であってもよい;酸化アルミニウムアルミナ、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウムジルコニア、ジルコニウムのケイ酸塩ジルコン、酸化マグネシウムマグネシア、チタン酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸鉛PT、チタン酸ジルコン酸鉛PZT、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛PLZT、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、硫化カドミウム、硫化モリブデン、酸化ベリリウムベリリア、酸化ケイ素シリカ、炭化ケイ素シリコンカーバイト、窒化ケイ素シリコンナイトライド、窒化ホウ素ボロンナイトライド、酸化亜鉛、ムライト、フェライト、ステアタイト、ホルステライト、スピネルまたはスポジュメン等の無機物からなる支持体これらの無機物からなる層を表面に有する支持体であってもよい;PETポリエチレンテレフタレート樹脂、PBTポリブチレンテレフタレート樹脂、PCTポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレート樹脂、PPSポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、テフロン登録商標、熱可塑性エラストマーまたは液晶ポリマー等の樹脂からなる支持体これらの樹脂からなる層を表面に有する支持体であってもよい;シリコン、ゲルマニウムまたはガリウム砒素等からなる半導体支持体例シリコンウエハー;ガラス支持体;酸化スズ、酸化亜鉛、ITO酸化インジウムスズまたはATO酸化アンチモンスズ等の電極材料配線が表面に形成された支持体;αGELアルファゲル、βGELベータゲル、θGELシータゲルまたはγGELガンマゲル以上、株タイカの登録商標等のゲルシートが挙げられる。前記ポリイミド膜は、好ましくは上述したポリイミド樹脂からなる支持体、特にポリイミド樹脂からなるフィルム状の支持体、およびシリコンウエハー上に形成される。前記塗膜形成工程では、本発明のインクをインクジェット法により支持体上に塗布した後、該インク付支持体をホットプレートまたはオーブン等を用いて加熱することによりインク中の溶媒を気化等させて除去し、乾燥させる工程を含むことが好ましい。この加熱条件は、インクに含まれる各成分の種類および配合割合によって異なるが、通常70~150°Cで、オーブンを用いる場合は5~15分、ホットプレートを用いる場合は1~5分である。得られる塗膜の厚みは、所望の用途に応じて適宜調整すればよいが、好ましくは、1~20μmであり、より好ましくは1~10μmである。2.1-2.硬化工程前記硬化工程では、塗膜形成工程で得られた塗膜を硬化させる。この硬化工程は、塗膜を加熱処理することで行ってもよいし、前記成分Aが、実質的にイミド化物A2のみからなる場合には、加熱処理に限定されず、紫外線、イオンビーム、電子線またはガンマ線などを照射することで行ってもよい。前記加熱処理は、耐熱性、耐薬品性、平坦性に優れ、さらには十分な機械的強度を有するポリイミド膜を得るために、好ましくは150~350°C、より好ましくは200~300°Cで、オーブンを用いる場合は30~90分間、ホットプレートを用いる場合は5~30分間行う。このようにして得られたポリイミド膜の厚みは、所望の用途に応じて適宜調整すればよいが、通常2μm以上であり、好ましくは2~5μmである。本発明のインクは、成分Aを高濃度で含むことが可能なため、従来のインクより膜厚の厚いポリイミド膜を容易に形成することができる。このように本発明のインクによれば、1回の吐出で厚いポリイミド膜を得ることができる。このため、例えば10μm程度の厚いポリイミド膜を形成する場合には、従来のインクジェットインクよりも、重ね塗りの回数を減らすことができ、ポリイミド膜の製造工程を短縮することができる。本発明のポリイミド膜は、用途に応じて、支持体から容易に剥離しないことが好ましい場合があり、この場合、その密着性は、支持体に対するポリイミド膜の密着強度で表すことができる。密着強度は、好ましくは0.2Nmm以上であり、より好ましくは0.5Nmm以上であり、特に好ましくは0.5~1.5Nmmである。密着強度が0.2Nmm以上であると、ポリイミド膜が支持体から容易に剥離することがなく好ましい。3.電子材料用基板本発明の電子材料用基板は、上述のポリイミド膜を有する。本発明の電子材料用基板としては、フィルム基板、半導体ウェハ基板などが挙げられる。前記フィルム基板としては、例えば、インクジェット法などにより予め配線が形成されたポリイミドフィルムなどのフィルム状の支持体上に、本発明のインクをインクジェット法によって全面または所定のパターン状ライン状等に塗布して塗膜を形成し、その後、当該塗膜を乾燥加熱することによって、得られる基板が挙げられる。4.電子部品本発明の電子部品は、上述の基板を有する。以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例および比較例で用いる、反応原料および溶媒の名称を略号で示す。以下の記述にはこの略号を使用する。テトラカルボン酸無水物ODPA:3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物ジアミンBAPP:2,2-ビス[4-フェニル]プロパンジカルボン酸無水物MA:無水マレイン酸TESA:トリエトキシシリルプロピルこはく酸無水物溶媒EDM:ジエチレングリコールエチルメチルエーテルNMP:1-メチル-2-ピロリドンGBL:γ-ブチロラクトンDMMP:3-メトキシ-N,N-ジメチルプロピオンアミド[実施例1]100mLの反応容器中に攪拌子を入れて、以下に示すとおりに原料を仕込み、室温で6時間攪拌後、淡黄色なポリアミド酸の25重量溶液以下インクAともいう。を得た。ODPA:0.712gBAPP:5.66gMA:1.12gEDM:13.5gDMMP:9g得られたポリアミド酸の重量平均分子量Mwは1050であった。重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィGPC法により測定した。得られたインクAとN,N-ジメチルホルムアミドDMFとを混合することでポリアミド酸の濃度が約1重量である溶液を調製した。その後、この溶液を用いて、カラムとして、東ソー株製カラムG4000HXL、G3000HXL、G2500HXLおよびG2000HXLを、この順で直列に結合したものを用い、カラム温度40°C、流速1.0ml/minの条件で、DMFを展開剤としてGPC法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めた。[実施例2]100mLの反応容器中に攪拌子を入れて、以下に示すとおりに原料を仕込み、室温で2時間攪拌後、淡黄色なポリアミド酸の30重量溶液以下インクBともいう。を得た。ポリアミド酸インクAの代わりにインクBを用いた以外は実施例1と同様に測定したところ、得られたポリアミド酸の重量平均分子量は1600であった。BAPP:3.62gTESA:5.37gEDM:10.5gDMMP:10.5g[比較例1]100mLの反応容器中に攪拌子を入れて、以下に示すとおりに原料を仕込み、室温で6時間攪拌後、淡黄色なポリアミド酸の25重量溶液以下インクCともいう。を得た。ポリアミド酸インクAの代わりにインクCを用いた以外は実施例1と同様に測定したところ、得られたポリアミド酸の重量平均分子量は1140であった。ODPA:0.712gBAPP:5.66gMA:1.12gEDM:22.5g[比較例2]100mLの反応容器中に攪拌子を入れて、以下に示すとおりに原料を仕込み、室温で6時間攪拌後、淡黄色なポリアミド酸の25重量溶液以下インクDともいう。を得た。ポリアミド酸インクAの代わりにインクDを用いた以外は実施例1と同様に測定したところ、得られたポリアミド酸の重量平均分子量は1220であった。ODPA:0.712gBAPP:5.66gMA:1.12gEDM:11.25gGBL:11.25g[比較例3]100mLの反応容器中に攪拌子を入れて、以下に示すとおりに原料を仕込み、室温で4時間攪拌後、淡黄色なポリアミド酸の30重量溶液以下インクEともいう。を得た。ポリアミド酸インクAの代わりにインクEを用いた以外は実施例1と同様に測定したところ、得られたポリアミド酸の重量平均分子量は1680であった。BAPP:3.62gTESA:5.37gEDM:10.5gGBL:10.5g粘度保存安定性前記インクA~Eの粘度は、25°Cにて、E型粘度計TOKYOKEIKI製VISCONICEHDを用いて測定した。なお、インクA~Eを調製した時の粘度と、インク調製から7日間室温下で静置後の粘度を測定した。インクA~Eの粘度変化から、インクの保存安定性を評価した。評価方法は、7日経過後のインクの粘度変化が15以下の場合を○とし、15を超えて粘度が変化した場合を×とした。吐出性インクA~Eそれぞれを、FUJIFILMDimatix社製インクジェット塗布装置DMP2831を用いて、吐出電圧ピエゾ電圧16V、ヘッド温度30°C、駆動周波数5kHzの吐出条件で、0.8mm厚のガラス基板上にパターン塗布長さ5cmのライン、150μm間隔を行った。なお、塗布回数は、インク中のポリアミド酸の濃度が25重量を超える場合には1回とし、また、インク中のポリアミド酸の濃度が25重量以下の場合には2回とした。また、インクジェットヘッドとして、1滴の吐出量が1pLピコリットルのヘッドDMC-11601FUJIFILMDimatix社製を用いた。吐出の際に16個並列して並んだすべてのノズルからインクが吐出した場合を○とし、少なくとも1つのノズルからインクが吐出しなかった場合を×とした。ノズルからの吐出の様子は、前記インクジェット塗布装置に内蔵されたカメラで観察した。インクCを用いた場合、インクジェット塗布装置からの吐出が安定せず、パターンを形成できなかった。さらに、パターン性を、以下のようにしてポリイミド膜の形状から評価した。インクを塗布後、得られたインク付基板を80°Cのホットプレート上に置き、該インクを5分間乾燥させた。その後、乾燥後のインク付基板を230°Cのオーブンで30分間加熱して、ライン状のポリイミド膜を得た。得られたポリイミド膜のライン幅を光学顕微鏡で観察した。長さ5cmで150μm間隔のパターン状のポリイミド膜を作製できたときを○、長さ5cmで150μm間隔のパターン状のポリイミド膜を作製できないとき、およびパターン塗布できないときを×とした。上記の実施例および比較例の結果から明らかなように、本発明のインクジェットインクは吐出性および保存安定性が良好であり、所望のパターン状のポリイミド膜を容易に形成することができる。"