レーザ熱分解の作用により、連続するフラックスの中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するシステムであって、前記システムは、-第一の軸に沿ってレーザ光線を発するレーザと、-第一の相互作用ゾーンにおいて、前記第一の軸に垂直な第二の軸に沿って第1の試薬のフラックスを放出するように構成された、前記レーザから下流の第一の注入装置と、-第二の相互作用ゾーンにおいて、前記第二の軸に沿って第二の試薬のフラックスを放出するように構成された、前記第一の注入装置の下流に置かれた第二の注入装置と、前記レーザ光線のエネルギーを、第一の軸に沿ってその幅もしくは高さが独立して変更可能な細長い断面の光線に分散させる光学手段と、を備え、前記細長い断面の光線は、粉体を製造するため、前記第一の相互作用ゾーンにおいて前記第一の試薬のフラックスと相互に作用し、前記第二の相互作用ゾーンにおいて前記第二の試薬のフラックスと相互に作用し、各相互作用ゾーンに達する前の光線の出力密度が、複数の注入装置の組のうちの各注入装置のレベルで同じであり、前記第一の注入装置及び前記第二の注入装置の位置は、前記レーザ光線の前記第一の軸に沿って変更可能である、システム。細長い断面が長方形である、請求項1に記載のシステム。レーザ熱分解の作用により、連続するフラックス中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造する方法であって、前記方法は、―第一の軸に沿ってレーザ光線を発するようにレーザを構成することと、―前記レーザの下流で、前記第一の軸に垂直な第二の軸に沿って、第一の注入装置から第1の試薬のフラックスを放出することと、-前記第一の注入装置の下流で、前記第二の軸に沿って、第二の注入装置から第二の試薬のフラックスを放出することと、―前記レーザから前記レーザ光線を発し、前記第一の軸に沿って前記レーザ光線を分散させることと、を含み、前記レーザ光線は、相互作用ゾーンにおいて前記レーザ光線のエネルギーが吸収されるように、前記相互作用ゾーンのそれぞれのレベルでその幅もしくは高さが独立して変更可能な細長い断面に分散され、光線の出力密度の吸収による損失を、後続の相互作用ゾーンでエネルギー流を集中させることにより、複数の注入装置の組のうち1つの注入装置のレベルに位置する相互作用ゾーンで補償し、前記第一の注入装置及び前記第二の注入装置の位置は、前記レーザ光線の前記第一の軸に沿って変更可能である、方法。細長い断面が長方形である、請求項3に記載の方法。よって、本発明の課題は、上記のような不都合を排除することである。これは、フラックス中でのレーザ熱分解の原理に基づくナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体の大量合成により、連続フラックス中において、時間当たり500グラムを超える量のこのような粉体を低コストで製造可能にすることにより達成される。本発明は、レーザによって発せられる光線と注入装置によって放出される試薬のフラックスとの少なくとも1つの相互作用ゾーン内において、レーザ熱分解の作用により、連続するフラックスの中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するためのシステムに関し、本システムは、レーザの後ろに光学手段が設けられて、前記少なくとも1つの相互作用ゾーン内で寸法が調節可能な細長い断面、例えば長方形の断面内において、レーザによって発せられる光線のエネルギーを、試薬の各フラックスの軸に対して垂直な軸に沿って分布させることを特徴とする。有利には、複数の注入装置からなる組の各注入装置に関して、各相互作用ゾーンに達する前の光線の出力密度は同じである。本発明はまた、レーザによって発せられる光線と少なくとも1つの注入装置によって放出される試薬のフラックスとの相互作用により、レーザ熱分解の作用下において、連続するフラックスの中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するための方法に関し、光線と、注入装置によって放出される試薬のフラックスとの相互作用ゾーン内で寸法が調節可能な細長い断面、例えば長方形の断面内において、光線のエネルギーを、試薬のフラックスの軸に垂直な軸に沿って分布させることを特徴とする。有利には、後続の相互作用ゾーンでエネルギー流を集中させることによって、複数の注入装置からなる組のうち1つの注入装置のレベルに位置する相互作用ゾーン内で、前記光線の出力密度の吸収による損失が補償される。本発明の方法により、連続フラックス中において、大量500グラム/時間超のナノメートルサイズ5~100ナノメートル又はサブミクロンサイズ100~500ナノメートルの粉体を確実に製造できる。本発明の方法は、時間当たりの製造速度に有利であり、レーザエネルギーのほとんど全て90超を消費する。また、複数の異なる相互作用ゾーンの出口において、同じ性質化学組成、構造、サイズ、収率を有する粉体が製造される。最後に、100に近い化学収率で粉体が製造される。本発明の方法では、レーザ光線の軸に沿って注入装置の位置を変化させること又はレーザが出射される際の出力を変化させることにより、粉体の所望の性質に応じて入射出力密度を変化させる。図1に示すように、本発明のシステムは、光線11を供給するレーザ10を備えており、このレーザ10の後ろには光学装置12が配置され、光学装置は、前記光線と少なくとも1つの注入装置14によって放出された前記試薬のフラックス13との少なくとも1つの相互作用ゾーン15内で寸法が調節可能な細長い断面、例えば長方形の断面内の17で、試薬13のフラックスの軸に対して垂直な軸に沿って光線エネルギーを分散させる。粉体の製造は参照番号16で示す。レーザ光線を細長い形状、例えば長方形に形成することは、サイズ、組成及び構造の調節が可能な粉体の時間当たりの製造速度にとって極めて有利である。よって、幅もしくは高さを独立して変更可能な長方形又は楕円形の断面に亘って光線のエネルギーを分散させることができる。上記のような形状によって出力密度が調節可能となることにより、概ね10~500ナノメートルのサイズを有する粉体を形成することが可能となる。粒子サイズの増大も、試薬の速度を急激に減少させることによって達成することができる。有利には、レーザ光線のエネルギーは、連続する複数の相互作用ゾーン15、15’において完全に吸収される。このとき、パラメータの出力密度は、任意のゾーンN-1での吸収による損失を、後続のゾーンNでエネルギーフラックスを集中させることによって補償することにより、全ての相互作用ゾーンで等しく保たれる。相互作用ゾーン15、15’が製造する粉体は次第に少なくなるが、ナノメートルサイズの粉体を製造するためのエネルギー流の殆どは光線が経路を進むにつれて吸収される。よって、最大のエネルギー収率が得られる。従って、本発明の方法は、上記で分析した特許出願の国際公開WO983796に記載の方法と比較して多くの利点を提供する。特に、-試薬の注入断面を側方に拡大することによって、時間当たりの製造速度が増大する。-レーザ光線を細長く、例えば長方形に形成することによって、広範囲の出力密度に亘って時間当たりの製造速度が著しく上昇する。-注入装置の試薬の放出断面を、より広い範囲の出力密度に亘って一定に維持することができる。本発明のシステムの3つの実施形態について以下に説明する。実施例1:5kWレーザを用いたナノメートルサイズのSiC粉体の製造図2の平面図に示すように、この第1の実施例では、本発明のシステムは、10.6μmで発光し、17mmの断面を有する5kWのCO2レーザ18、ペリスコープ19、平坦ミラー20、球面状レンズ21、22及び27、球面状ミラー23及び24、並びに2つのカレイドスコープ25及び26を備えている。レーザ光線の2つの経路30及び31に対応する2つの実施形態が可能である。第1の経路30は、幅50mm、高さ10mmの光線断面を形成する。この光線は、まず平坦ミラー20によって反射され、球面状レンズ22、カレイドスコープ26及び球面状レンズ27を通過する。第2の経路31は、幅50mm、高さ300μmの光線断面に相当する。この光線は、まず前のモードとは位置が異なる平坦ミラー20によって反射され、その後、球面状レンズ21、カレイドスコープ25を通過し、追加された球面状ミラー23及び24によって反射され、球面状レンズ27を通過する。反応装置33内では、注入装置によって放出された試薬合成ゾーンのフラックスとの相互作用ゾーン32内で、幅50mm、高さ10mm又は300μmの長方形に亘って出力が分散される。従って、これによりナノメートルサイズの粉体を大量に製造し、時間当たりの製造速度に影響を与えることなく入射出力密度を30倍超に変化させることができる。第1の実施形態では、この装置は、試薬のフラックスとの相互作用ゾーン内で750W/cm2超を保証する。レーザ光線の軸に対して垂直な軸に沿った細長い例えば幅4cm、深さ2mm注入装置によって、ナノメートルサイズのSiC粉体の時間当たり1キログラムを超える製造が保証される。第2の実施形態では、この装置は、試薬のフラックスとの相互作用ゾーン内で25000W/cm2超を保証する。レーザ光線の軸に対して垂直な軸に沿った細長い例えば幅4cm、深さ2mmの注入装置によって、ナノメートルサイズのSiC粉体の時間当たり1キログラムを超える製造が保証される。第2の実施形態では、時間当たりの製造速度を変えず、試薬の速度を変化させずに、第1の実施形態よりも結晶化の度合いが大きいSiC粉体結晶の数及びサイズに関してが形成される。実施例2:1kWレーザを用いたシランSiH4及びアセチレンC2H2の混合物からのナノメートルサイズのSiC粉体の製造図3に示すように、本発明のシステムは、レーザ40、ペリスコープ41、平坦ミラー42、アフォーカル系43、及び円筒形レンズ46を備えている。アフォーカル系43は、試薬のフラックスとの相互作用ゾーン内で、所望の幅に光線のサイズを拡大するのを助ける。アフォーカル系43は、2つの収束型円筒形レンズ44及び45から構成することができ、その倍率は、これらのレンズの焦点距離の比によって与えられる。光線の断面が拡大された後、円筒レンズ46は、反応装置48内において試薬のフラックスとの相互作用ゾーン47内で光線を集光する。光線の断面幅は、アフォーカル系によって画定される。レンズの位置を長さlだけ変化させることによって、光線の断面の高さを、合成ゾーン内で変化させることができる焦点からある程度離れた位置から見た場合。この結果、多少の出力が試薬流に集中し、よって必要に応じて出力密度を変化させることができる。光学軸を中心としてレンズ46を90°回転させることにより、垂直方向に極めて細長いパッチを得ることができ、これにより火炎中での試薬の滞留時間が増大する。実施例3:5kWレーザを用いたシランSiH4及びアセチレンC2H2の混合物からのナノメートルサイズのSiC粉体の製造この実施例は、上記の実施例を、図4に示すマルチゾーンシステム50及び51に応用した場合に相当する。複数の試薬注入装置は、合成のために最大出力を消費する。この場合、吸収による損失は光線を集中させることによって補償され、この場合に問題なのは、単純に、1つの注入装置から別の注入装置へと試薬ビームが入射する際の出力密度が等しくなるように注入装置を配置することである。前述の実施例では、光線は、レンズ46から放出されると収束する。第1の注入装置を焦点の前に配置することにより、他の注入装置を順次配置することができる。よって、注入装置の相対的な位置を画定するパラメータは出力密度である。これは、光線断面の表面上での入射出力の比である。このパラメータに対する好ましい値は、形成される粉体の性質及び好ましい特性によって決まるが、全ての相互作用ゾーンの入口で同じでなくてはならない。実際、各ゾーンで、エネルギーは吸収によって失われるが、軸に沿って光線を集中させることにより損失が補償され、後続のゾーンで好ましい出力が回復する。以下の表に、結果を示す。粉体1グラムを形成するのに使用されたエネルギーは、1.23W/g4300W/3.5kgであり、1グラムを製造するのに有用なエネルギー1.2W/gに近い値であった。ナノメートルサイズの粉体の製造のためのレーザ光線のエネルギー消費率は85である。