"基板上に陽極、陰極と、該陽極と該陰極との間に少なくとも正孔輸送層、発光層及び電子輸送層を含む複数の有機層と、該電子輸送層と該陰極との間に電子注入層を有する有機エレクトロルミネッセンス部材において、該電子注入層が、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種と、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種とより形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス部材。前記電子注入層が、前記融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種より形成される第一電子注入層と、前記融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種より形成される第二電子注入層とから構成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス部材。前記第一電子注入層が前記電子輸送層の前記陰極側面に隣接して形成され、前記第二電子注入層が前記第一電子注入層と前記陰極の間に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス部材。前記電子注入層を形成した後、または前記陰極を形成した後、80°C以上でかつ前記有機層に用いる有機材料のガラス転移温度以下の温度で加熱処理を行うことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス部材。封止基板上に熱硬化型接着剤を配置した封止部材の熱硬化型接着剤面と、請求項1から4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス部材の陰極面とが接するように貼合し、80°C以上で、かつ該有機エレクトロルミネッセンス部材を構成する有機層に用いる有機材料のガラス転移温度以下の温度で加熱処理した後、該熱硬化型接着剤を硬化して密着封止構造を形成して有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、熱安定性に優れ、低電圧で駆動可能で、高輝度でかつ発光寿命の長い有機エレクトロルミネッセンス部材及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することにある。本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。1.基板上に陽極、陰極と、該陽極と該陰極との間に少なくとも正孔輸送層、発光層及び電子輸送層を含む複数の有機層と、該電子輸送層と該陰極との間に電子注入層を有する有機エレクトロルミネッセンス部材において、該電子注入層が、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種と、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種とより形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス部材。2.前記電子注入層が、前記融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種より形成される第一電子注入層と、前記融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種より形成される第二電子注入層とから構成されていることを特徴とする前記1に記載の有機エレクトロルミネッセンス部材。3.前記第一電子注入層が前記電子輸送層の前記陰極側面に隣接して形成され、前記第二電子注入層が前記第一電子注入層と前記陰極の間に形成されていることを特徴とする前記2に記載の有機エレクトロルミネッセンス部材。4.前記電子注入層を形成した後、または前記陰極を形成した後、80°C以上で、かつ前記有機層に用いる有機材料のガラス転移温度以下の温度で加熱処理を行うことを特徴とする前記1から3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス部材。5.封止基板上に熱硬化型接着剤を配置した封止部材の熱硬化型接着剤面と、前記1から4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス部材の陰極面とを接するように貼合し、80°C以上で、かつ該有機エレクトロルミネッセンス部材を構成する有機層に用いる有機材料のガラス転移温度以下の温度で加熱処理した後、該熱硬化型接着剤を硬化して密着封止構造を形成して有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。本発明により、熱安定性に優れ、低電圧で駆動可能で、高輝度でかつ発光寿命の長い有機エレクトロルミネッセンス部材及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することができた。以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、基板上に陽極、陰極と、該陽極と該陰極との間に少なくとも正孔輸送層、発光層及び電子輸送層を含む複数の有機層と、該電子輸送層と該陰極との間に電子注入層を有する有機エレクトロルミネッセンス部材において、該電子注入層が、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種と、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種とより形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス部材により、熱安定性に優れ、低電圧で駆動可能で、高輝度でかつ発光寿命の長い有機エレクトロルミネッセンス部材を実現することができることを見出し、本発明に至った次第である。有機エレクトロルミネッセンス部材本発明の有機エレクトロルミネッセンス部材とは、基板上に少なくとも陽極、陰極、及び該陽極と陰極との間に発光層を含む複数の有機層を有する構造体のことをいい、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子とは、有機エレクトロルミネッセンス部材を封止部材により封止させた構造体のことをいう。本発明の実施の形態について、図1、図2を交えながら説明するが、本発明はこれら例示する構成にのみ限定されるものではない。図1は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス部材以下、有機EL部材ともいうの構成の一例を示す概略断面図である。図1において、有機EL部材10は、基板11、陽極12、正孔輸送層、発光層、電子輸送層を含む複数の層から構成される有機層13、本発明に係る電子注入層14、及び陰極15から構成されている。電子注入層本発明の有機EL部材においては、電子注入層14が、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種と、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種とにより形成されていることを特徴とする。融点が90°C以上のアルカリ金属、アルカリ土類金属は、アルカリ金属としては、例えば、Li180.5°C、Na97.8°Cから選ぶことができ、アルカリ土類金属では何れの金属元素とも融点が90°C以上であるため、何れのアルカリ土類金属から選ぶことができる。融点が90°C未満のアルカリ金属としては、K63.2°C、Rb39.0°C、Cs28.5°C、Fr26.8;推定値が挙げられるが、金属元素の安定性の観点から、実質的には、K、Rb、Csから選択することが好ましい。更に、電子注入性を高める観点からは、仕事関数が4.0eV以下のアルカリ金属、アルカリ土類金属から選ばれることが好ましい。本発明において、アルカリ金属類、アルカリ土類金属類としては、各単体金属元素、又はそれらを含む化合物の何れも用いることができるが、本発明では、より好ましくはアルカリ金属を含む化合物、あるいはアルカリ土類金属を含む化合物である。アルカリ金属、アルカリ土類金属を含む化合物としては、ハロゲン化物、酸化物、窒化物、過酸化物、金属塩等から選ぶことが好ましいが、更には、ハロゲン化物、酸化物であることが好ましい。特に、融点が90°C未満のアカリ金属を含む化合物としては、KFフッ化カリウムまたはCsFフッ化セシウムを用いることが好ましく、融点が90°C以上のアルカリ金属、アルカリ土類金属を含む化合物としては、例えば、NaFフッ化ナトリウム、LiFフッ化リチウム、CaF2フッ化カルシウム、MgF2フッ化カルシウムを用いることが好ましい。本発明において、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種と、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種は、それぞれ同一層に混在させて電子注入層を形成しても良いが、それぞれ第一電子注入層、第二電子注入層として2層に分けて形成させることが好ましく、更には、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種より第一電子注入層を形成し、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種より第二電子注入層を形成することが好ましい。この場合、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種から形成される第一電子注入層は、電子輸送層の陰極面側に隣接して形成されることが好ましく、また、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種で形成される第二電子注入層は、第一電子注入層と陰極の間に形成されることが好ましい。本発明において、電子注入層14が、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種と、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種との混在層として形成される場合、電子注入層14の膜厚は0.5nm~3.0nmの範囲であることが好ましく、1.0nm~2.0nmであることが更に好ましい。また、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種をAとし、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種をBとしたとき、それぞれの混合比率A:Bは、体積換算で25:75~75:25の範囲であることが好ましい。また、第一電子注入層、第二電子注入層として、2層に分けて形成させる場合には、第一電子注入層の膜厚は0.1nm~3.0nmが好ましく、0.5nm~2.0nmが更に好ましい。第二電子注入層の膜厚も、同様に0.1~3.0nmが好ましく、0.5~2.0nmが更に好ましい。電子注入層14の形成方法としては、例えば、真空蒸着法を用いて形成することができる。本発明の様態の一つである電子注入層が、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種と、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種が共存する混合層である場合には、共蒸着により形成させることできる。共蒸着とは、同一のチャンバー内で2つ以上の蒸着材料を配置し、共通の対象基材に同時に蒸着させる技術のことを言い、材料毎に蒸着レートを設定できるため、組成制御が容易に行える。蒸着は、高真空中10-4Pa以下で行うことが好ましく、気化手段としての加熱方法としては、抵抗加熱法、電子ビーム法等、公知の技術を用いることができる。基板本発明に適用可能な基板11としては、ガラス、プラスチック等、材質の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。基板側から光を取り出す場合には、基板は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい基板は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリエチレンナフタレートPEN等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートCAP、セルロースアセテートフタレートTAC、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホンPES、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン商品名、JSR社製あるいはアペル商品名、三井化学社製といったシクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の皮膜またはその両者のハイブリッド皮膜が形成されていてもよく、JISK7129-1992に準拠した方法で測定した水蒸気透過度温度:25±0.5°C、相対湿度:90±2RHが0.01g/m224h以下のバリア性フィルムであることが好ましく、さらには、JISK7126-1987に準拠した方法で測定した酸素透過度が1×10-3ml/m224hMPa以下、水蒸気透過度が1×10-5g/m224h以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。陰極陰極15を構成する材料としては、仕事関数の小さい4eV以下金属電子注入性金属と称する、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を、電極物質として用いることができる。このような電極物質の具体例としては、例えば、ナトリウム、ナトリウム-カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウムAl2O3混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウムAl2O3混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極は、上記の電極形成物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm~5μm、好ましくは50~200nmの範囲で選ばれる。なお、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極または陰極のいずれか一方が透明または半透明であれば発光輝度が向上し、好適である。陽極陽極12は、仕事関数の大きい4eV以上金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Au等の金属、CuI、インジウムチンオキシドITO、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。また、IDIXOIn2O3-ZnO等非晶質で透明導電膜を製造可能な材料を用いてもよい。陽極は、これらの電極形成物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合には100μm以上程度、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。さらに、膜厚は材料にもよるが、通常10nm~1000nm、好ましくは10nm~200nmの範囲で選ばれる。有機層主に、正孔輸送層、発光層、電子輸送層を含む複数の層で構成される有機層13は、複数の有機化合物層を積層した構成であり、正孔輸送層、発光層、電子輸送層以外に、例えば、正孔注入層、電子阻止層、正孔阻止層、またバッファー層等が適宜所定の層順で積層される。本発明に係る有機層の層構成の好ましい具体例としては、例えば下記の構成が挙げられる。1基板/陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極2基板11/陽極12/正孔注入層13A/正孔輸送層13B/発光層13C/電子輸送層13D/電子注入層14/陰極15図2のaに具体的層構成を記載3基板/陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子注入層/陰極また、本発明においては、電子注入層が、融点が90°C以上のアルカリ金属、融点が90°C以上のアルカリ土類金属、融点が90°C以上のアルカリ金属を含む化合物及び融点が90°C以上のアルカリ土類金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種より形成される第一電子注入層と、融点が90°C未満のアルカリ金属及び融点が90°C未満のアルカリ金属を含む化合物から選ばれる少なくとも1種より形成される第二電子注入層とから構成されている構成であることが好ましく、下記及び図2のbにその構成を示す。図2のbに示すように、第一電子注入層が電子輸送層の陰極側面に隣接して形成され、第二電子注入層が第一電子注入層と陰極の間に形成されている構成であることが好ましい。4基板11/陽極12/正孔注入層13A/正孔輸送層13B/発光層13C/電子輸送層13D/第一電子注入層14A/第二電子注入層14B/陰極15以下、本発明の有機エレクトロルミネッセンス部材を構成する発光層、電子輸送層及びその他の各有機層について、さらに詳細に説明する。発光層発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。発光層の構成としては、ホスト化合物、発光ドーパント発光ドーパント化合物とも言うを含有し、ドーパントより発光させることが好ましい。ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、または複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることにより、電荷の移動を調整することが可能となり、有機EL部材を高効率化することができる。また、後述する発光ドーパントを複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。発光ホストとしては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位を持つ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物蒸着重合性発光ホストでもいい。公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が挙げられる。例えば、特開2001-257076号公報、同2002-308855号公報、同2001-313179号公報、同2002-319491号公報、同2001-357977号公報、同2002-334786号公報、同2002-8860号公報、同2002-334787号公報、同2002-15871号公報、同2002-334788号公報、同2002-43056号公報、同2002-334789号公報、同2002-75645号公報、同2002-338579号公報、同2002-105445号公報、同2002-343568号公報、同2002-141173号公報、同2002-352957号公報、同2002-203683号公報、同2002-363227号公報、同2002-231453号公報、同2003-3165号公報、同2002-234888号公報、同2003-27048号公報、同2002-255934号公報、同2002-260861号公報、同2002-280183号公報、同2002-299060号公報、同2002-302516号公報、同2002-305083号公報、同2002-305084号公報、同2002-308837号公報等が挙げられる。次に、有機EL部材に用いられる発光ドーパントについて説明する。発光ドーパントとしては、蛍光性化合物、燐光発光体燐光性化合物、燐光発光性化合物等とも言うを用いることができる。燐光発光体としては、好ましくは、元素の周期表で8~10族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、白金化合物白金錯体系化合物、または希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。以下に、燐光発光体として用いられる化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。これらの化合物は、例えば、Inorg.Chem.40巻,1704~1711に記載の方法等により合成できる。蛍光発光体蛍光性ドーパントの代表例としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、または希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。また、従来公知のドーパントも本発明に用いることができ、例えば、国際公開第00/70655号明細書、特開2002-280178号公報、同2001-181616号公報、同2002-280179号公報、同2001-181617号公報、同2002-280180号公報、同2001-247859号公報、同2002-299060号公報、同2001-313178号公報、同2002-302671号公報、同2001-345183号公報、同2002-324679号公報、国際公開第02/15645号明細書、特開2002-332291号公報、同2002-50484号公報、同2002-332292号公報、同2002-83684号公報、特表2002-540572号公報、特開2002-117978号公報、同2002-338588号公報、同2002-170684号公報、同2002-352960号公報、国際公開第01/93642号明細書、特開2002-50483号公報、同2002-100476号公報、同2002-173674号公報、同2002-359082号公報、同2002-175884号公報、同2002-363552号公報、同2002-184582号公報、同2003-7469号公報、特表2002-525808号公報、特開2003-7471号公報、特表2002-525833号公報、特開2003-31366号公報、同2002-226495号公報、同2002-234894号公報、同2002-235076号公報、同2002-241751号公報、同2001-319779号公報、同2001-319780号公報、同2002-62824号公報、同2002-100474号公報、同2002-203679号公報、同2002-343572号公報、同2002-203678号公報等が挙げられる。発光層の膜厚は、特に制限はないが、形成する膜の均質性や、発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、かつ、駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、2nm~200nmの範囲に調整することが好ましく、さらに好ましくは5nm~100nmの範囲に調整することである。正孔注入層陽極バッファー層本発明の有機EL部材においては、正孔注入層は必要に応じて設けられ、陽極と発光層または正孔輸送層との間に存在させてもよい。正孔注入層陽極バッファー層は、特開平9-45479号公報、同9-260062号公報、同8-288069号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリンエメラルディンやポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。正孔注入層の膜厚は素材によるが、2nm~100nmの範囲に調整することが好ましい。阻止層:正孔阻止層、電子阻止層阻止層は、有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平11-204258号公報、同11-204359号公報、及び有機EL素子とその工業化最前線1998年11月30日エヌティーエス社発行の237頁等に記載されている正孔阻止ホールブロック層がある。正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ、正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで、電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する電子輸送層の構成を、必要に応じて正孔阻止層として用いることができる。一般に、有機EL素子の正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ、電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで、電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。一般に、正孔阻止層、電子輸送層の膜厚としては、好ましくは3~100nmであり、さらに好ましくは5~30nmである。正孔輸送層正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。正孔輸送材料としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また、ポリチオフェン等の導電性高分子が挙げられる。正孔輸送材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′-テトラフェニル-4,4′-ジアミノフェニル;N,N′-ジフェニル-N,N′-ビス3-メチルフェニル-1,1′-ビフェニル-4,4′-ジアミン略称:TPD;2,2-ビス4-ジ-p-トリルアミノフェニルプロパン;1,1-ビス4-ジ-p-トリルアミノフェニルシクロヘキサン;N,N,N′,N′-テトラ-p-トリル-4,4′-ジアミノビフェニル;1,1-ビス4-ジ-p-トリルアミノフェニル-4-フェニルシクロヘキサン;ビス4-ジメチルアミノ-2-メチルフェニルフェニルメタン;ビス4-ジ-p-トリルアミノフェニルフェニルメタン;N,N′-ジフェニル-N,N′-ジ4-メトキシフェニル-4,4′-ジアミノビフェニル;N,N,N′,N′-テトラフェニル-4,4′-ジアミノジフェニルエーテル;4,4′-ビスジフェニルアミノクオードリフェニル;N,N,N-トリp-トリルアミン;4-ジ-p-トリルアミノ-4′-4-ジ-p-トリルアミノスチリルスチルベン;4-N,N-ジフェニルアミノ-2-ジフェニルビニルベンゼン;3-メトキシ-4′-N,N-ジフェニルアミノスチルベンゼン;N-フェニルカルバゾール、更には、米国特許第5,061,569号明細書に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、4,4′-ビスN-1-ナフチル-N-フェニルアミノビフェニル略称:NPD、特開平4-308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4′,4′′-トリスN-3-メチルフェニル-N-フェニルアミノトリフェニルアミン略称:MTDATA等が挙げられる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、p型-Si、p型-SiC等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。また、特開平11-251067号公報、J.Huanget.al.,文献AppliedPhysicsLetters802002,p.139に記載されているようなp型正孔輸送材料を用いることもできる。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm~5μm程度、好ましくは5~200nmである。この正孔輸送層は、上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。また、不純物をドープしたp性の高い正孔輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4-297076号公報、特開2000-196140号公報、同2001-102175号公報、J.Appl.Phys.,95,57732004等に記載されたものが挙げられる。電子輸送層本発明でいう電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。従来、単層の電子輸送層、及び複数層の電子輸送層とする場合は、発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料正孔阻止材料を兼ねるとしては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、8-キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス8-キノリノールアルミニウム略称:Alq、トリス5,7-ジクロロ-8-キノリノールアルミニウム、トリス5,7-ジブロモ-8-キノリノールアルミニウム、トリス2-メチル-8-キノリノールアルミニウム、トリス5-メチル-8-キノリノールアルミニウム、ビス8-キノリノール亜鉛略称:Znq等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、GaまたはPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様に、n型-Si、n型-SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm~5μm程度、好ましくは5~200nmである。電子輸送層は上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。また、不純物をドープしたn性の高い電子輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4-297076号公報、同10-270172号公報、特開2000-196140号公報、同2001-102175号公報、J.Appl.Phys.,95,57732004等に記載されたものが挙げられる。以上説明した各有機層で用いられる有機化合物は、ガラス転移温度が90°C以上である化合物から選ばれることが好ましく、さらに好ましくは120°C以上であることが好ましい。これら各層の形成方法としては、真空蒸着法、湿式塗布法等、各層の有機化合物材料に適した方法で形成することができる。湿式塗布の方法としては、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、スプレー法、印刷法、押し出し塗布法等があるが、大面積化、生産性を考慮するとインクジェット法、スプレー法、押し出し法による成膜が好ましい。有機エレクトロルミネッセンス素子図3は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子以下、有機EL素子ともいうの構成の一例を示す概略断面図である。以下、図3に示した密着封止構造を有する有機EL素子について説明する。図3において、有機EL素子20は、基板21、陽極22、正孔輸送層、発光層、電子輸送層を含む複数の層から構成される有機層23、電子注入層24、陰極25から構成される有機EL部材を有し、それぞれは上述の図1における11~15と同義である。図3において、26は封止基板、27は接着剤である。本発明の有機EL素子は、有機EL部材の陰極25面に接着剤27を介して封止基材26で密着封止した構造となっている。本発明の有機EL素子20の封止構造としては、発光層を覆うように封止基板26が密着して配置されていることが好ましく、したがって封止基板26は平板状であることが好ましい。封止基板26としては、具体的には、ガラス板、ポリマー板フィルム、金属板フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウムストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属または合金からなるものが挙げられる。本発明においては、有機EL素子を薄膜化できるということからポリマーフィルム、金属フィルムを好ましく使用することができる。金属フィルムの場合は、加工性や経済性の観点からアルミニウムが好ましい。膜厚は、1~100μm程度、好ましくは30μm~50μm程度が望ましい。また、ポリマーフィルムの場合は、JISK7126-1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が1×10-3ml/m2/24h以下、JISK7129-1992に準拠した方法で測定された水蒸気透過度温度:25±0.5°C、相対湿度:90±2RHが、1×10-3g/m2/24h以下のものであることが好ましい。接着剤27を形成する樹脂としては、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレート等の各種アクリレートを主成分とする光ラジカル重合性樹脂や、エポキシ、ビニルエーテル等の樹脂を主成分とする光カチオン重合性樹脂や、チオールエン付加型樹脂等の光硬化性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、アクリル樹脂、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ジアクリルフタレート樹脂、セルロース系プラスチック、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等や、これらの2種または3種以上の共重合体等の熱可塑性樹脂や、熱硬化型樹脂等が挙げられる。本発明においては、発光特性、生産効率の観点から、熱硬化型接着剤を用いることが好ましい。熱硬化型接着剤の硬化温度としては、80°C以上で有機層に用いる有機材料のガラス転移温度以下の温度であることが好ましい。また、接着剤としては液状タイプ、シート状タイプを用いることができる。接着剤の厚さは、液状タイプ、シート状タイプ共に硬化反応時間、有機層への影響、端部からの水分浸透等を考慮し、5~100μmが好ましい。接着剤を配置し、密着封止構造とする方法としては、使用する接着剤が液状タイプとシート状タイプの場合があるため、接着剤の種類に応じて対応することが可能である。例えば接着剤が液状タイプの場合、封止基板の片面に予め接着剤をスクリーン印刷、またはディスペンサー等により塗設し、その後、接着剤が有機エレクトロルミネッセンス部材の陰極面に接するように封止部材を貼合し、密着封止構造を形成することができる。シート状タイプの場合は、必要とする大きさにしたシート状接着剤を切り出しておき、必要であれば予め封止基板の片面側に完全硬化しない程度に仮ラミネーションしておき、その後、接着剤が有機エレクトロルミネッセンス部材の陰極面に接するように封止部材を貼合し、密着封止構造を形成することができる。なお、封止基板に接着剤を配置する前に、封止基板に異物付着を避けるため、例えば、粘着式ロールクリーナ、UVオゾン洗浄等で清掃することが好ましい。また、接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。乾燥剤としては、例えば、金属酸化物例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等、硫酸塩例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等、金属ハロゲン化物例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等、過塩素酸類例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。接着剤の配置から接着剤の硬化処理までは、有機EL素子の劣化による寿命低減を防止する観点より、水分濃度、酸素濃度が低いことが重要であり、好ましくは水分濃度10ppm以下、酸素濃度10ppm以下の環境下で行うことが好ましい。貼合は、気泡の混入を考慮し、1Pa~30kPaの減圧環境下で行うことが好ましい。また、本発明の有機エレクトロニクス部材、あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子は、電子注入層形成後、若しくは陰極形成後に、80°C以上で、かつ有機層に用いる有機材料のガラス転移温度以下で加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理時間は、5分以上、5時間以下が好ましく、10分以上、2時間以下が更に好ましい。加熱処理は、上述の封止工程で熱硬化型の接着剤を用いる場合、熱硬化型接着剤の硬化処理と合わせて実施することが、生産効率が高くより好ましい。以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において部あるいはの表示を用いるが、特に断りがない限り質量部あるいは質量を表す。実施例1《有機EL部材の作製》有機EL部材101の作製陽極の形成ガラス上に、陽極としてITOインジウムチンオキシドを厚さ100nmで成膜した透明支持基板NHテクノグラス社製:NA-45をパターニングした後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をiso-プロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。正孔輸送層の形成この透明支持基板上に、ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン-ポリスチレンスルホネート略称:PEDOT/PSS、Bayer社製、BaytronPAI4083を純水で50に希釈した溶液を、3000rpm、30秒でスピンコート法により製膜した後、150°Cにて30分保持し、膜厚60nmの正孔輸送層を設けた。発光層の形成上記基板を、窒素ガスグレードG1を用いた窒素雰囲気下に移し、下記組成の発光層組成物を1500rpm、30秒で、スピンコート法により製膜した後、120°Cで30分間保持して、膜厚50nmの発光層を形成した。発光層組成物溶媒:トルエン100質量ホスト材料:H-Aガラス転移温度129°C1質量青色材料:Ir-A0.10質量緑色材料:Irppy30.004質量赤色材料:Irpiq30.005質量電子輸送層の形成次いで、タンタル製抵抗加熱ボートにAlq3ガラス転移温度128°C、フッ化カリウム、タングステン製抵抗加熱ボートにアルミニウムをそれぞれ装填し、真空蒸着装置に取り付けた。上記発光層まで形成した基板を、大気に曝露することなく真空蒸着装置へ取り付け、真空槽を5×10-5Paまで減圧した後、Alq3の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.15nm/秒で、膜厚40nmの厚さになるように蒸着し、電子輸送層を設けた。電子注入層の形成次に、フッ化カリウムの入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.02nm/秒で、膜厚2nmの厚さになるように蒸着し、電子注入層を設けた。陰極の形成引き続き、アルミニウムを厚さ100nmで蒸着して陰極を形成し、有機EL部材101を得た。上記有機EL部材101の作製に用いた各化合物の構造を、以下に示す。有機EL部材102~104の作製表1に記載の各電子注入材料をタンタル製抵抗加熱ボートに入れたものを真空蒸着装置に取り付けた。上記有機EL部材101の作製において、電子輸送層としてAlq3を膜厚40nm形成したした後、表1に記載の電子注入材料を0.02nm/秒で蒸着して、膜厚2nmの電子注入層を形成した以外は同様にして、有機EL部材102~104を得た。なお、表1に記載の電子注入層における蒸着比率は、体積比で表す。有機EL部材105~111の作製表1記載の2種類の電子注入材料をタンタル製抵抗加熱ボートに入れたものをそれぞれ真空蒸着装置に取り付けた。上記有機EL部材101の作製において、電子輸送層としてAlq3を膜厚40nm形成したした後、2種類の電子注入材料が入ったボートをそれぞれ独立に通電して加熱して、それぞれ0.02nm/秒で電子輸送層上に共蒸着して、膜厚2nmの電子注入層を形成した以外は同様にして、有機EL部材105~111を得た。有機EL部材112の作製フッ化リチウムをタンタル製抵抗加熱ボートに入れたものを真空蒸着装置に取り付けた。上記有機EL部材101の作製において、真空槽を5×10-5Paまで減圧した後、Alq3の入った加熱ボートとフッ化リチウムの入った加熱ボートをそれぞれ独立に通電して加熱し、Alq3、フッ化リチウムの蒸着速度をそれぞれ0.15nm/秒、0.01nm/秒で膜厚40nmの厚さになるように共蒸着して電子輸送層を設けた。次に、フッ化カリウムの入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.02nm/秒で、膜厚2nmの厚さになるように蒸着し、電子注入層を設けた。引き続き、アルミニウム100nmを蒸着して陰極を形成した以外は同様にして、有機EL部材112を得た。なお、表1に記載の電子輸送層における蒸着比率は、体積比で表す。《有機EL部材の評価》上記作製した有機EL部材101~112について、窒素ガスグレードG1を用いた窒素雰囲気下に移し、40°Cにて12時間保持した後、窒素雰囲気下で、下記の正面輝度、駆動電圧、寿命特性を評価した。正面輝度、駆動電圧の評価23°C、乾燥窒素雰囲気下で2.5mA/cm2定電流を印加したときの正面輝度を測定した。測定には分光放射輝度計CS-1000コニカミノルタセンシング社製を用いた。なお、正面輝度は、有機EL部材101の測定値を100とした相対値で表した。また、駆動電圧については、正面輝度が1000cd/m2になるときの値を測定した。寿命特性の評価23°C、乾燥窒素雰囲気下で初期輝度1000cdを与える一定電流で連続駆動したときに、輝度が半減するのに要した時間を測定し、これを半減寿命時間τ0.5として寿命の指標とした。測定は、分光放射輝度計CS-1000コニカミノルタセンシング社製を用い、有機EL部材101の測定値を100とした相対値で表した。以上により得られた評価結果を、表1に示す。表1に記載の結果より明らかなように、本発明の有機EL部材は、高温環境に晒されたあとにおいても、正面輝度が高く、低電圧で、寿命特性が優れていることが分かる。実施例2《有機EL部材の作製》有機EL部材201の作製実施例1に記載の有機EL部材107の作製において、発光層形成後、タンタル製抵抗加熱ボートにAlq3ガラス転移温度128°C、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム、タングステン製抵抗加熱ボートにアルミニウムをそれぞれ装填し、真空蒸着装置に取り付けた。発光層まで形成した基板を大気に曝露することなく真空蒸着装置へ取り付け、真空槽を5×10-5Paまで減圧した後、Alq3の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.15nm/秒で、膜厚40nmの厚さになるように蒸着し、電子輸送層を設けた。次に、フッ化ナトリウムの入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.02nm/秒で、膜厚1nmの厚さになるように蒸着し、第一電子注入層を設けた。次に、フッ化カリウムの入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.02nm/秒で、膜厚1nmの厚さになるように蒸着し、第二電子注入層を設けた。引き続き、アルミニウム100nmを蒸着して陰極を形成し、有機EL部材201を得た。《有機EL部材の評価》上記作製した有機EL部材201を、実施例1に記載の方法と同様にして、窒素ガスグレードG1を用いた窒素雰囲気下に移し、40°Cにて12時間保持した後、窒素雰囲気下で、同様にして正面輝度、駆動電圧、寿命特性を評価し、得られた結果を、実施例1で作製した有機EL部材107の結果と共に、表2に示す。表2に記載の結果より明らかなように、電子注入層を2層にし、融点が90°Cより高いアルカリ金属であるナトリウムのフッ化物を第一電子注入層として電子輸送層に隣接して配置し、融点が90°Cより低いアルカリ金属であるカリウムのフッ化物を第二電子注入層として第一電子注入層と陰極の間に配置した本発明の有機EL部材201は、高温環境に晒されたあとにおいて、有機EL部材107に対し、更に正面輝度が高く、低電圧で、寿命特性が向上していることが分かる。実施例3《有機EL部材の作製》有機EL部材301の作製実施例2に記載の有機EL部材201の作製において、陰極形成後に窒素雰囲気下で、100°Cで30分間加熱した以外は同様にして、有機EL部材301を得た。有機EL部材302の作製実施例2に記載の有機EL部材201の作製において、第二電子注入層を形成した後、窒素雰囲気下に移動して100°Cで30分間加熱処理したのち、真空蒸着装置に戻して、アルミニウムを厚さ100nmで蒸着して陰極を形成した以外は同様にして、有機EL部材302を得た。《有機EL部材の評価》上記作製した有機EL部材301、302を、実施例1に記載の方法と同様にして、窒素ガスグレードG1を用いた窒素雰囲気下に移し、40°Cにて12時間保持した後、窒素雰囲気下で、同様にして正面輝度、駆動電圧、寿命特性を評価し、実施例2で作製した有機EL部材201の結果と共に、表3に示す。表3に記載の結果より明らかなように、電子注入層を形成後、又は陰極を形成後、80°C以上でかつ有機層に用いる有機材料のガラス転移温度以下で加熱処理した本発明の構成からなる有機EL部材は、高温環境に晒されたあとにおいて、有機EL部材201に対し、更に正面輝度が高く、低電圧で、寿命特性が優れていることが分かる。実施例4《有機EL素子の作製》実施例2に記載の有機EL部材201を作製した後、窒素雰囲気化で下記の方法に従って封止で行い、有機EL素子401を作製した。封止封止基板としてガラスを用い、発光領域を覆う大きさに断裁した後、一方の面に熱硬化型の液状接着剤エポキシ樹脂系をスクリーン印刷法にて厚さ30μmで全面配置した。その後、準備した有機EL部材201の発光領域及び発光領域の周囲を覆い被せるように貼合して固着し、100°Cで30分加熱硬化処理を行った。得られた有機EL素子401について、実施例1と同様にして正面輝度、駆動電圧、高温環境下での寿命特性を評価したところ、実施例3の有機EL部材301とほぼ同様の優れた性能を示した。実施例2の有機EL部材201の加熱処理を封止作業時に行うことで、正面輝度、駆動電圧、高温環境下での寿命特性の向上と共に生産性を効率化することを確認することができた。"