セメント硬化体の表面を研磨する第一研磨工程と、炭素、酸素、水素、窒素以外の元素の合計含有量が0.1質量以下であって炭素の含有量が20質量以上である炭素含有充填剤を、前記研磨したセメント硬化体の表面に開口する空隙内に充填させる充填工程と、前記空隙内に充填させた炭素含有充填剤を硬化させる硬化工程と、前記炭素含有充填剤を硬化させたセメント硬化体の表面を研磨する第二研磨工程と、前記第二研磨工程で研磨したセメント硬化体の表面を複数の小区画に区分し、電子線を前記表面に照射して、前記表面より発生する信号によって前記各小区画における炭素濃度を測定する測定工程と、前記炭素濃度が所定以上である小区画を空隙であると判定する判定工程と、前記判定工程で空隙であると判定された小区画の数をカウントし、前記空隙であると判定した小区画の数の全小区画の数に占める割合を空隙率として算出する算出工程と、を実施することを特徴とする空隙率の測定方法。前記充填工程において、前記セメント硬化体の表面に前記炭素含有充填剤を付着させ、該炭素含有充填剤が付着したセメント硬化体を圧力5×102torr以下1×1011torr以上の低圧雰囲気に所定時間置いた後、前記低圧雰囲気から常圧雰囲気に取り出して、前記炭素含有充填剤を前記空隙内に充填させる請求項1に記載の空隙率の測定方法。前記炭素含有充填剤に常温硬化型樹脂が含まれている請求項1または2に記載の空隙率の測定方法。前記常温硬化型樹脂が、ポリエステル樹脂、シアノアクリレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂からなる群から選択される少なくとも1の樹脂である請求項3に記載の空隙率の測定方法。前記炭素、酸素、水素、窒素以外の元素が、ハロゲン元素、カルシウム、珪素、アルミニウム、鉄、マグネシウム、イオウ、ナトリウム、カリウム、チタン、鉛、クロム、水銀、バリウムおよびマンガンからなる群から選択される少なくとも1の元素であって、前記元素の合計含有量が0質量を超えて0.1質量以下である請求項1乃至4のいずれか一項に記載の空隙率の測定方法。前記測定工程において、前記各小区画におけるハロゲン元素、カルシウム、珪素、アルミニウム、鉄、マグネシウム、イオウ、ナトリウム、カリウム、チタン、鉛、クロム、水銀、バリウムおよびマンガンからなる群から選択される少なくとも1の元素の濃度を、前記表面に電子線を照射して前記表面より発生する信号によって測定し、前記判定工程において、前記空隙であると判定された小区画以外の小区画における前記元素の濃度から、空隙以外の小区画における成分を推定する推定工程を実施する請求項1乃至5のいずれか一項に記載の空隙率の測定方法。本発明は、上記問題点等に鑑み、セメント硬化体の空隙の空隙率を精度よく測定でき、且つ測定用の試料を有効に使用することができる空隙率の測定方法を提供することを課題とする。上記課題を解決すべく、本発明に係る空隙率の測定方法は、セメント硬化体の表面を研磨する第一研磨工程と、炭素、酸素、水素、窒素以外の元素の合計含有量が0.1質量以下であって炭素の含有量が20質量以上である炭素含有充填剤を、前記研磨したセメント硬化体の表面に開口する空隙内に充填させる充填工程と、前記空隙内に充填させた炭素含有充填剤を硬化させる硬化工程と、前記炭素含有充填剤を硬化させたセメント硬化体の表面を研磨する第二研磨工程と、前記第二研磨工程で研磨したセメント硬化体の表面を複数の小区画に区分し、電子線を前記表面に照射して、前記表面より発生する信号によって前記各小区画における炭素濃度を測定する測定工程と、前記炭素濃度が所定以上である小区画を空隙であると判定する判定工程と、前記判定工程で空隙であると判定された小区画の数をカウントし、前記空隙であると判定した小区画の数の全小区画の数に占める割合を空隙率として算出する算出工程と、を実施することを特徴としている。本発明によれば、セメント硬化体の表面を研磨する第一研磨工程と、炭素、酸素、水素、窒素以外の元素の合計含有量が0.1質量以下であって炭素の含有量が20質量以上である炭素含有充填剤を、前記研磨したセメント硬化体の表面に開口する空隙内に充填させる充填工程と、前記空隙内に充填させた炭素含有充填剤を硬化させる硬化工程と、前記炭素含有充填剤を硬化させたセメント硬化体の表面を研磨する第二研磨工程と、前記第二研磨工程で研磨したセメント硬化体の表面を複数の小区画に区分し、電子線を前記表面に照射して、前記表面より発生する信号によって前記各小区画における炭素濃度を測定する測定工程とを実施することにより、前記第一研磨工程で研磨された平滑なセメント硬化体の表面において開口する空隙内に炭素含有充填剤を充填させることができ、微細な空隙であっても炭素含有充填剤を充填させやすく、且つ、第二研磨工程で研磨された平滑なセメント硬化体の表面を測定工程において測定するためセメント硬化体表面の炭素濃度を精度よく測定しうる。従って、前記炭素濃度が所定以上の濃度である小区画を空隙であると判定する判定工程において、確実に空隙である小区画を判定でき、その結果、前記判定工程で空隙であると判定された小区画の全小区画に占める数の比率を空隙率として算出することで、空隙率を精度よく測定しうる。さらに、前記炭素含有充填剤が、炭素C、酸素O、水素H、窒素N以外の元素の合計含有量が0.1質量以下であって炭素の含有量が20質量以上であるため、かかる炭素含有充填剤を充填させたセメント硬化体を、成分分析などの試料として使用した場合に、セメント硬化体成分の分析に影響が少ない。よって、試料を有効に使用することができる。さらに、セメント硬化体中に含まれるOは、ほとんどが酸化物として存在しているため、成分分析においては酸化と結合している他の元素を測定することで、セメント硬化体中の成分分析を行え、O濃度を測定する必要がない。従って、C、O、H、N以外の元素の合計含有量が0.1質量以下である炭素含有充填剤をセメント硬化体に充填させても、セメント硬化体の成分である元素濃度を精度よく測定でき、空隙率を測定した試料を、同時に成分分析用の試料として用いることができる。尚、本発明でいう炭素含有充填剤は、炭素を20質量以上含有するものであり、セメント硬化体の表面に接触させることで、セメント硬化体の表面の開口する空隙内に充填することが可能である、液体、ペースト状、粉状のものを指す。本発明において、前記充填工程において、前記セメント硬化体の表面に前記炭素含有充填剤を付着させ、該炭素含有充填剤が付着したセメント硬化体を圧力5×102torr以下1×1011torr以上の低圧雰囲気に所定時間置いた後、前記低圧雰囲気から常圧雰囲気に取り出して、前記炭素含有充填剤を前記空隙内に充填させることが好ましい。前記セメント硬化体の表面に前記炭素含有充填剤を付着させ、該炭素含有充填剤が付着したセメント硬化体を圧力5×102torr以下1×1011torr以上の低圧雰囲気に所定時間置いた後、前記低圧雰囲気から常圧雰囲気に取り出して、前記炭素含有充填剤を前記空隙内に充填させることで微細な空隙内にも前記炭素含有充填剤がより充填されやすくなる。尚、本発明において前記所定時間の長さは、前記低圧雰囲気の圧力、炭素含有充填剤の粘度、および空隙の開口の大きさなどにもよっても異なるが、例えば、5分間以上60分間以下前記低圧雰囲気下に前記炭素含有充填剤を付着したセメント硬化体を置き、その後該セメント硬化体を低圧雰囲気から常圧雰囲気に取り出すことで、前記炭素含有充填剤を空隙の内部にまで充填することができる。また、本発明で用いる圧力の単位torrは、1torr=133.322Paである。本発明において、前記炭素含有充填剤に常温硬化型樹脂が含まれていることが好ましい。前記炭素含有充填剤が、常温硬化型樹脂を含む場合には、硬化工程において加熱する必要がなく、セメント硬化体が損傷することがない。尚、本発明における、常温硬化型樹脂とは、常温下において硬化し得る樹脂であり、例えば、55°C~35°C程度の温度範囲において5分から48時間で硬化反応を開始する性質の樹脂をいう。本発明において、前記常温硬化型樹脂が、ポリエステル樹脂、シアノアクリレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂からなる群から選択される少なくとも1の樹脂であることが好ましい。前記樹脂は、セメント硬化体の空隙に充填させやすく、且つ、炭素、酸素、水素、窒素以外の元素の合計含有量が0.1質量以下であって炭素の含有量が20質量以上に調整しやすいため、炭素含有充填材の材料として好ましい。本発明において、前記炭素、酸素、水素、窒素以外の元素が、ハロゲン元素、カルシウム、珪素、アルミニウム、鉄、マグネシウム、イオウ、ナトリウム、カリウム、チタン、鉛、クロム、水銀、バリウムおよびマンガンからなる群から選択される少なくとも1の元素であって、前記元素の合計含有量が0質量を超えて0.1質量以下であることが好ましい。前記炭素含有充填材剤に含まれる前記炭素、酸素、水素、窒素以外の元素が、ハロゲン元素、カルシウムCa、珪素Si、アルミニウムAl、鉄Fe、マグネシウムMg、イオウS、ナトリウムNa、カリウムK、チタンTi、鉛Pb、クロムCr、水銀Hg、バリウムBaおよびマンガンMnであり、これらの元素の合計含有量が0質量を超えて0.1質量以下であれば、炭素含有充填剤を充填させた後のセメント硬化体の成分分析を行う場合にも、セメント硬化体中の成分と誤認識して検出することがない。従って、空隙率を測定するのに用いた試料を無駄なく成分分析用の試料としても利用しうる。本発明の、前記測定工程において、前記各小区画におけるハロゲン元素、カルシウム、珪素、アルミニウム、鉄、マグネシウム、イオウ、ナトリウム、カリウム、チタン、鉛、クロム、水銀、バリウムおよびマンガンからなる群から選択される少なくとも1の元素の濃度を、前記表面に電子線を照射して前記表面より発生する信号によって測定し、前記判定工程において、前記空隙であると判定された小区画以外の小区画における前記元素の濃度から、空隙以外の小区画における成分を推定する推定工程を実施することが好ましい。前記測定工程において、前記各小区画におけるハロゲン元素、カルシウムCa、珪素Si、アルミニウムAl、鉄Fe、マグネシウムMg、イオウS、ナトリウムNa、カリウムK、チタンTi、鉛Pb、クロムCr、水銀Hg、バリウムBaおよびマンガンMnからなる群から選択される少なくとも1の元素の濃度を、電子線を照射して前記表面より発生する信号によって測定し、及び、前記判定工程において前記空隙であると判定された小区画以外の小区画における前記元素の濃度から、空隙以外の小区画における成分を推定する推定工程を実施することで、同じ試料を用いてセメント硬化体の空隙率の測定と、セメント硬化体の成分の推定も行いうる。前記炭素含有充填材には、前記炭素、酸素、水素、窒素以外の元素は0.1質量以下しか含有されていないため、セメント硬化体に含まれる前記炭素、酸素、水素、窒素以外の元素であるハロゲン元素、Ca、Si、Al、Fe、Mg、S、Na、K、Ti、Pb、Cr、Hg、BaおよびMnの濃度を測定した場合、セメント硬化体中の各元素濃度として測定することができる。従って、空隙率の測定と、セメント硬化体の成分分析とを同じ試料を用いて精度よく行うことができる。本発明によれば、セメント硬化体の微細な空隙の空隙率を精度よく測定でき、且つ測定用の試料を有効に使用することができる空隙率の測定方法を提供することができる。以下、本発明に係る空隙率の測定方法について説明する。本実施形態の空隙率の測定方法は、セメント硬化体の表面を研磨する第一研磨工程と、炭素、酸素、水素、窒素以外の元素の合計含有量が0.1質量以下であって炭素の含有量が20質量以上である炭素含有充填剤を、前記研磨したセメント硬化体の表面に開口する空隙内に充填させる充填工程と、前記空隙内に充填させた炭素含有充填剤を硬化させる硬化工程と、前記炭素含有充填剤を硬化させたセメント硬化体の表面を研磨する第二研磨工程と、前記第二研磨工程で研磨したセメント硬化体の表面を複数の小区画に区分し、電子線を前記表面に照射して、前記表面より発生する信号によって前記各小区画における炭素濃度を測定する測定工程と、前記炭素濃度が所定以上である小区画を空隙であると判定する判定工程と、前記判定工程で空隙であると判定された小区画の数をカウントし、前記空隙であると判定した小区画の数の全小区画の数に占める割合を空隙率として算出する算出工程とを実施する方法である。本実施形態で空隙率を測定するセメント硬化体としては、セメント水和物と細骨材とが混在したモルタル、セメント水和物と粗骨材と細骨材とが混在したコンクリート、セメント水和物とガラス繊維と細骨材とが混在したガラス繊維強化セメントGRC、あるいはセメント水和物と、結晶性シリカや非結晶性シリカなどのシリカ材料、ガラス材料、アスベスト、高炉スラグおよびフライアッシュ石炭灰等からなる群から選ばれる1種以上とが混材しているセメント硬化物等が挙げられる。本実施形態の空隙率の測定方法においては、前記セメント硬化体を試料として、以下に説明する各工程を順次実施する。第一研磨工程まず、前記試料の表面を研磨する第一研磨工程を実施する。第一研磨工程において試料表面を研磨することで試料表面を平滑にできるため、セメント硬化体の空隙を平滑な表面に開口させることができる。平滑な表面に開口させることで、微細な空隙であっても、前記開口から空隙内部へ前記炭素含有充填剤を充填させやすくなり、後に実施される測定工程において精度よく、炭素元素の濃度を測定しうる。前記第一研磨工程で前記試料を研磨する方法としては物理的、化学的な研磨方法のうちいずれの研磨方法も採用しうる。物理的な研磨方法としては、例えば、バフ研磨方法などが挙げられ、化学的な研磨方法としてはエッチングなどが挙げられる。尚、これらの研磨は、一般的な研磨装置を用いて行うことができる。前記第一研磨工程では、例えば、JISB06011994に規定される算術平均粗さRaが5μm未満となるようにセメント硬化体の表面を研磨することが好ましく、1μm以下となるようにセメント硬化体の表面を研磨する、いわゆる鏡面研磨することがより好ましい。尚、前記算術平均粗さRaは、市販の表面粗さ計を用いて測定することができる。充填工程本実施形態では、前記第一研磨工程の後に、炭素C、酸素O、水素H、窒素N以外の元素の合計含有量が0.1質量以下であって炭素の含有量が20質量以上である炭素含有充填剤を、前記研磨したセメント硬化体の表面に開口する空隙内に充填させる充填工程を実施する。前記炭素含有充填剤としては、C、O、H、N以外の元素の合計含有量が0.1質量以下、好ましくは0.1質量以下、さらに好ましくは0質量であって、炭素元素を20質量以上、好ましくは50質量以上100質量以下含むものであって、セメント硬化体表面に付着させた場合に、研磨後のセメント硬化体の表面に開口する空隙内に充填しうる、液体、ペースト状、粉状のものであれば、特に限定されることはない。前記炭素含有充填剤としては、例えば、常温硬化型樹脂を含むことが好ましい。前記常温硬化型樹脂は常温で硬化し得る樹脂であり、例えば、5°C~35°C程度の温度雰囲気に5分間から60分間置くことで硬化反応を開始する樹脂である。かかる常温硬化型樹脂を含む炭素含有充填剤を用いた場合には、前記試料に充填させた後に、加熱などの処理を行うことなく、硬化させることができ、試料を損傷するおそれがないため好ましい。前記常温硬化型樹脂の中でも、ポリエステル樹脂、シアノアクリレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂からなる群から選択される少なくとも1の樹脂であることが好ましい。また、前記各樹脂は、THFテトラヒドロフラン等の有機溶剤に溶解した樹脂であってもよい。前記各樹脂の中でも、特に、ポリエステル樹脂が硬化後の硬度が試料と近く、鏡面研磨性が良い観点から好ましい。前記炭素含有充填剤のC、O、H、N以外の元素の合計の含有量は0.1質量以下であるが、特に、塩素Cl、フッ素F等のハロゲン元素、カルシウムCa、珪素Si、アルミニウムAl、鉄Fe、マグネシウムMg、イオウS、ナトリウムNa、カリウムK、チタンTi、鉛Pb、クロムCr、水銀Hg、バリウムBaおよびマンガンMnの合計量が0.1質量以下であることが好ましい。Ca、Si、Al、Fe、Mg、S、Na、K、Ti、Baバリウムセメントの場合およびMnは、セメント硬化物のセメント水和物中に、Al2O3、SO4、K2O、Na2O、TiO2、SiO2、CaO、Fe2O3、MgO、MnO、BaOバリウムセメントの場合などの酸化物として多く含まれている。また、Ca、Si、Al、Na、K等はセメント硬化体中の骨材にAl2O3、Na2O、K2O、CaO、SiO2として多く含まれている。さらに、ハロゲン元素は、Cl化合物、NaCl、F化合物としてセメント硬化物中に含まれている。従って、これらの元素が後から充填された試料を用いてセメント硬化体の成分分析をした場合に、元のセメント硬化体の成分を正確に分析することができなくなるおそれがある。具体的には、例えば、前記ハロゲン元素は、セメント硬化体中の鉄筋等を腐食させる要因として分析する場合がある。また、Pb、Cr、Hg、Mnなどの重金属は、セメント硬化体中に含まれている場合に環境への影響があるため、セメント硬化体中のこれらの重金属量を分析する場合がある。従って、前記炭素含有充填剤には、セメント硬化体の成分分析を阻害するこれらの元素が検出限界以下であることが好ましい。本実施形態の炭素含有充填剤は、前記各元素などのC、O、H、N以外の元素の合計の含有量が0.1質量以下であるため、空隙率の測定のために前記炭素含有充填剤を充填させたセメント硬化体の成分分析を行う場合にも正確に前記各元素濃度を測定しうる。本実施形態において好ましい炭素含有充填剤としては、例えば、常温で硬化する接着剤や、試料作製用の冷間埋込樹脂などが好適に用いることができる。前記炭素含有充填剤を、セメント硬化体の表面に開口する空隙内部に充填させるには、例えば、前記試料の研磨した表面に前記炭素含有充填剤を付着させて、開口から空隙内に前記炭素含有充填剤を充填させることができる。前記炭素含有充填剤をセメント硬化体の表面に付着させる手段としては、塗布、噴霧、あるいは、炭素含有充填剤中に試料を浸漬するなど各種手段が採用しうる。本実施形態においては、セメント硬化体に前記炭素含有充填剤を付着させた後に、該炭素含有充填剤を付着させたセメント硬化体を低圧雰囲気に所定時間置き、その後常圧雰囲気に取りだすことで、雰囲気の圧力の差によって、炭素含有充填剤がセメント硬化体表面の空隙内に確実に充填することができる。本実施形態において、前記低圧雰囲気は、圧力5×102torr以下1×1011torr以上、好ましくは圧力5×103torr以下1×1011torr以上の低圧雰囲気であることが好ましい。前記低圧雰囲気下にセメント硬化体を置く所定時間は、5分から48時間、好ましくは40分から60分程度であることが好ましい。前記低圧雰囲気中に前記所定時間セメント硬化体を置き、その後、セメント硬化体を常圧雰囲気に取り出すことで、セメント硬化体表面に付着された炭素含有充填剤を、セメント硬化体の表面に開口した微細な空隙に確実に充填させることができる。前記低圧雰囲気に前記セメント硬化体を置くためには、例えば、真空デシケーター等を用いることができる。硬化工程本実施形態では、前記試料表面に開口している空隙に充填された前記炭素含有充填剤を硬化させる硬化工程を実施する。硬化条件としては、前記炭素含有充填剤が前記常温硬化型樹脂である場合には、5°C~35°C、好ましくは20°C~30°Cの環境下に5分~48時間、好ましくは40分~60分程度放置することで硬化させることができる。尚、本実施形態においては、硬化は、後述の第二研磨工程において、炭素含有充填材を充填させたセメント硬化体の表面において、セメント硬化体と炭素含有充填材とが同程度の硬さになるように、炭素含有充填材が硬化すればよい。第二研磨工程本実施形態において、前記炭素含有充填剤を硬化させたセメント硬化体の表面を研磨する第二研磨工程を実施する。前記炭素含有充填材は、前記セメント硬化体の空隙以外の表面にも付着するため、前記硬化工程でかかるセメント硬化体表面の炭素含有充填材も硬化され、前記セメント硬化体表面には凹凸が形成される。かかる表面の凹凸を研磨することで、後に実施される測定工程における炭素濃度の測定の精度を高めうる。第二研磨工程で試料を研磨する方法としては前記第一研磨工程と同様の各種研磨方法を採用しうる。また、第二研磨工程でも前記第一研磨工程と同様に、例えば、JISB06011994に規定される算術平均粗さRaが5μm未満となるようにセメント硬化体の表面を研磨することが好ましく、1μm以下となるようにセメント硬化体の表面を研磨する、いわゆる鏡面研磨することがより好ましい。測定工程本実施形態では、前記第二研磨工程で研磨したセメント硬化体の表面を、複数の小区画に区分し、電子線を前記表面に照射して、前記表面より発生する信号によって前記各小区画における炭素濃度を測定する測定工程を実施する。前記セメント硬化体の表面を、複数の小区画に区分し、前記電子線を照射して、前記表面より発生する信号によって前記各小区画における炭素濃度を測定する方法としては、電子マイクロアナライザーEPMAを用いる方法が好ましい。セメント硬化体中の主な成分には、炭素はほとんど含有されていないため、EPMAで測定された炭素濃度は、ほとんどが炭素含有充填剤由来の炭素であると判断しうる。尚、EPMAによって測定される特定の元素濃度については単にとした場合は、質量を意味する。また、EPMAによる測定では、前記表面より発生する信号であるX線強度から前記炭素濃度質量を算出することができる。尚、セメント硬化体の試料表面をEPMAで測定する場合には、EPMA測定条件として、ピクセルサイズ10μm×10μm~300μm×300μm、ピクセル数33pix×33pix~1024pix×1024pix、加速電圧5~30kV、照射電流1×109~1×105A、ビーム径0~300μm、照射時間1~10000msec/pix程度であることが好ましい。尚、本実施形態の測定工程では、炭素元素濃度を測定するのと同時に、炭素以外の元素濃度を測定してもよい。例えば、セメント硬化体中のセメント水和物の成分を分析する目的でCa、Si、Al、Fe、Mg、S、Na、K、Ti、BaおよびMnなどの元素濃度を測定してもよい。Ca、Si、Al、Fe、Mg、S、Na、K、Ti、BaおよびMnは、セメント硬化物のセメント水和物中の主要元素であり、Al2O3、SO4、K2O、Na2O、TiO2、SiO2、CaO、Fe2O3、MgO、MnO、BaOなどの酸化物として仮定して酸化物濃度に換算することでセメントの種類などが分析しうる。また、EPMAの特性X線の検出器の窓材料は、通常ベリリウムBeが用いられているため、Beより原子数が小さいHはEPMAでは検出されない。また、C、O、Nは、LDE1やLDE2Hなどの分光結晶でしか分光検出できないことから、その他の分光結晶でその他元素を測定する場合、特性X線ピークが重ならず高精度の測定が可能である。また、C、O、N、Hは比較的原子数が小さい元素のため、ZAFの誤差を生みにくい。さらに、そもそもC、Nはセメント硬化体中にはほとんど含まれていないため、測定工程で検出されるC、Nはすべて炭素含有充填剤由来のC、Nであると判断できる。従って、前記炭素含有充填材中に含まれるC、O、H、Nが、セメント水和物の成分分析において分析の邪魔になることがなく、前記Ca、Si、Al、Fe、Mg、S、Na、K、Ti、BaおよびMnなどの元素濃度を精度よく測定することができる。判定工程次に、前記測定工程で得られた各小区画の炭素濃度から、小区画が空隙であるか、セメント硬化体が存在する部分であるかを判定する。前記したとおりセメント硬化体中の主な成分には、炭素はほとんど含有されていないため、測定された炭素はほとんど炭素含有充填剤由来の炭素であると考えられる。従って、炭素濃度が所定濃度以上の小区画はセメント硬化体の存在しない小区画、すなわち空隙であると判定できる。小区画が空隙であると判断する基準となる炭素濃度としては、例えば、X線強度として100counts/4msミリ秒以上、好ましくは336counts/4ms以上の範囲、すなわち、炭素濃度として20以上好ましくは50以上である。かかる炭素濃度の範囲の小区画は空隙であるとして判定し、この炭素濃度に満たない小区画は固体セメント硬化体であると判定することができる。算出工程前記判定工程で空隙であると判定された小区画の数をカウントし、全小区画に占める数の割合を空隙率として算出する算出工程を実施する。すなわち、EPMAで炭素元素濃度を測定した小区画数が65535個で、且つ、前記判定工程で空隙であると判定された小区画数が8035個である場合には、空隙率は12.3であると算出できる。推定工程本実施形態においては、前記測定工程において測定したハロゲン元素、カルシウム、珪素、アルミニウム、鉄、マグネシウム、イオウ、ナトリウム、カリウム、チタン、鉛、クロム、水銀、バリウムおよびマンガンからなる群から選択される少なくとも1の元素濃度を基に、前記空隙であると判定された小区画以外の小区画における前記各元素濃度から、空隙以外の小区画、すなわちセメント硬化体の成分を推定する推定工程を実施してもよい。例えば、前記測定工程で各小区画のハロゲン元素、Ca、Si、Al、Fe、Mg、S、Na、K、Ti、Pb、Cr、Hg、BaおよびMnを測定した場合、前記空隙であると判断された小区画以外の小区画、すなわちセメント硬化体であると判断された小区画の前記各元素濃度をそれぞれ合計することで、セメント硬化体中の各元素濃度の比率が測定できる。Ca、Si、Al、Fe、Mg、S、Na、K、Ti、BaおよびMnは、セメント硬化物のセメント水和物中の主要元素であり、Al2O3、SO4、K2O、Na2O、TiO2、SiO2、CaO、Fe2O3、MgO、MnO、BaOなどの酸化物として仮定して酸化物濃度に換算することでセメントの成分を推測することができる。通常、セメントは種類によって特徴的な組成があり、例えば、Fを含むセメントであればジェットセメント商品名、住友大阪セメント社製などとして判断できる。また、Mgを含むことで高炉セメントであると判断したり、Baを含むことでバリウムセメントであると判断したりすることが可能である。今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は前記説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。次に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。まず、表1に示す成分の普通セメントJISR5204に定めるものを450gおよび細骨材JISR5201セメント強さ試験用標準砂、社団法人セメント協会研究所製1350gの混合物を用いて、以下の方法で試料としてのモルタル硬化体1:3モルタルを作製した。まず、前記混合物に水225gを加え、混練機HOBARTCANADA社製、N-50で4分間混練し、4×4×16cmの型枠にいれ、気中養生20°C、24時間、水中養生20°C、6日間で硬化させてモルタル硬化体試料を得た。前記試料を、40×40×10mmに切断し、一面を研磨してJISB06011994に規定される算術平均粗さRaが1μmとなるように研磨装置を用いて研磨した。研磨装置は、平面研磨装置マルトー社製、機器名:MG-403のコア抜き刃を、ダイヤモンドカップ刃に取替えて使用。及び回転式乾式鏡面研磨装置ムサシノ電子社製、機器名:MA-300Dを用いた。次に、炭素含有充填材として、丸本ストルアス社製の冷間埋込樹脂No.105、主成分ポリエステル系樹脂40gを前記研磨面に塗布し、真空デシケーターアズバイオ社製45mm×45mm×35mm、ロータリー真空ポンプMASUDASEISAKUSHO.CO.LTD製RP-S30Lを用いて真空脱気して、圧力5×103torrの低圧雰囲気下に60分間置き、取り出した。さらに、常圧雰囲気20°Cにおいて24時間放置して、前記樹脂を完全硬化させた。その後、前記と同様の研磨装置を用いて、前記試料の樹脂を塗布した面を研磨して前記算術平均粗さRaが1μmとなるように前記研磨装置を用いて研磨した。続いて、EPMA装置日本電子社製製品名JXA-8200を用いて、前記試料の研磨した一面の炭素濃度を測定した。測定条件等は、以下の通りである。測定条件フィラメント:W対物絞り:3加速電圧:15kV照射電流:2×107Aビーム径:50μmピクセル数:500pix×500pixピクセルサイズ:40μm×40μm照射時間:4msec/pix標準試料販売元:日本電子データム株式会社製標準試料と測定元素BariteO4:SK-FeldsparM5:Al、Na、KWollastoniteM8:Ca、SiEnstatiteM12:Mg、Fe、MnPotassiumTitaniumPhosphateM13:Tiまた、測定する元素濃度は、CおよびCa、Si、Al、Fe、Mg、S、Na、K、Ti、Mnの11種類であった。尚、EPMAで測定された炭素以外の各元素濃度を、該酸化物濃度へ換算する方法は、比例法を用いて換算する。前記比例法において濃度換算に用いる換算係数は、測定前にEPMA装置日本電子社製製品名JXA-8200を用いて、標準試料の点分析を実施し算出する。換算式:試料中の酸化物濃度mass=試料中の元素の信号強度×標準試料中の酸化物濃度mass÷標準試料中の元素の信号強度前記測定結果から、まず炭素濃度が20質量以上であるピクセル数を空隙のピクセルとしてカウントしたところ、8035であった。一方、前記測定を行った全ピクセルは65534であった。従って、空隙ピクセル数÷全ピクセル×100=12.3が試料の空隙率であった。さらに、前記空隙以外のピクセルのCa、Si、Al、Fe、Mg、S、Na、K、Ti、Mn濃度を各々合計して、試料中のCa、Si、Al、Fe、Mg、S、Na、K、Ti、Mn濃度を算出し、かかる濃度から試料のモルタル硬化体各成分の比率を推定した結果を表2に示す。表1および表2から、本実施例で得られた推定のモルタル硬化体の成分比率は、実際のモルタル硬化体の組成と近似する組成であることがわかる。