SiF4の調製のためにHF及び/又はヘキサフルオロケイ酸H2SiF6を用いるステップと、前記SiF4をフッ素化ポリシランに熱的に又はプラズマ化学的に変換するステップと、を含むことを特徴とする、フッ素化ポリシランを調製する方法。リン酸肥料の製造においてリン酸塩鉱物の酸消化で得られるHF及び/又はヘキサフルオロケイ酸を用いることを特徴とする、請求項1に記載の方法。HFは、輸送及び貯蔵形態のH2SiF6に変換されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。H2SiF6の変換からのSiF4の収率が、SiO2含有出発物質の添加により増加することを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の方法。得られたフッ素化ポリシランは、高純度ケイ素の調製のために用いられることを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の方法。得られたフッ素化ポリシランは、水素化ポリシランの調製のために用いられることを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の方法。ヒドリド塩が、水素化のために用いられることを特徴とする、請求項6に記載の方法。NaAlH4が用いられることを特徴とする、請求項6又は7に記載の方法。副生成物として形成されるフッ化物塩が、アルミニウム生産のため又は飲料水のフッ素化のための出発物質として用いられることを特徴とする、請求項1から8のいずれかに記載の方法。前記フッ素化ポリシランは、フッ素化及び/又は部分フッ素化オリゴシランの調製のために用いられることを特徴とする、請求項1から9のいずれかに記載の方法。前記フッ素化ポリシランは、HFとの反応による水素化及び/又は部分水素化オリゴシランの調製のために用いられることを特徴とする、請求項1から10のいずれかに記載の方法。前記HFは、前記フッ素化ポリシランの調製のための重合ステップから少なくとも一部が発生することを特徴とする、請求項11に記載の方法。前記フッ素化ポリシランは、水素を用いて調製されることを特徴とする、請求項1から12のいずれかに記載の方法。炭素を用いない方式で行われることを特徴とする、請求項1から13のいずれかに記載の方法。熱的又はプラズマ化学的変換により形成するHFがリサイクルされることを特徴とする、請求項1から14のいずれかに記載の方法。フッ素化ポリシランを特に効率的且つ安価に調製することができる、フッ素化ポリシランを調製する方法を提供することが本発明の目的である。この目的は、以下のステップ、すなわち、SiF4の調製のためにHF及び/又はヘキサフルオロケイ酸H2SiF6を用いるステップと、SiF4をフッ素化ポリシランに熱的に又はプラズマ化学的に変換するステップとを有するフッ素化ポリシランを調製する方法により本発明により達成される。本発明に係る方法の有利な実施形態及び発展は、従属請求項において特徴づけられており、以下の記述から明らかである。より具体的には、リン酸肥料の製造において鉱物リン酸塩の酸消化で得られるHF及び/又はヘキサフルオロケイ酸を用いる。ヘキサフルオロケイ酸を得るために、本発明に係る方法の1つの実施形態において、HFを輸送及び貯蔵形態のH2SiF6に変換する。これにより、HFを安定して輸送し、貯蔵することが可能となり、輸送及び貯蔵形態のH2SiF6は遊離のHFよりも腐食性及び毒性が低くなる。さらに、H2SiF6は、プラズマ法に必要なSiF4の調製のための直接的な出発物質である。より具体的には、リン酸肥料の製造において鉱物リン酸塩の酸消化で得られるHFを用いる。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、H2SiF6の変換からのSiF4の収率は、SiO2含有出発物質を加えることにより最大50増加させることができ、好ましく用いられるSiO2含有出発物質は石英砂である。有用なさらなる出発物質は、例えば、珪藻土、イネ灰、ケイ酸塩、ケイ酸塩ガラスなどである。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、SiF4の熱的又はプラズマ化学的変換により形成するHFをリサイクルする。結果として、HFは本発明に係る工程にリサイクルされ、HFの処分は不必要である。好ましくは本発明によれば、得られるフッ素化ポリシランは、高純度ケイ素の調製のために用いる。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、該方法において得られる高純度ケイ素は、半導体の特性に障害を与える不純物及び/又はそれぞれが10ppm未満、好ましくは1ppm未満、より好ましくは1ppb未満の割合を有するドーパントを有する。これらの不純物及び/又はドーパントは、周期表の第3、4及び/又は5主族の元素、特にホウ素、アルミニウム、鉛、リン、スズ、ヒ素、アンチモン、並びに第2主族の金属、例えば、カルシウム、並びに遷移金属、例えば、鉄である。そのような不純物及び/又はドーパントは、元素分析又は質量分光分析、より具体的には、誘導結合プラズマを用いる質量分光測定法ICP-MSにより測定することができる。高純度ケイ素は、例えば、半導体産業及び/又は光起電力技術に用いることができる。フッ素化ポリシランPFSへの変換は、プラズマ化学手段によって行うことができ、この場合、SiF4をプラズマ中で水素と反応させる。この場合、HF及びPFSを形成する還元は、ほぼ次の反応式に従って起こる。SiF4H2→SiF22HF次いで、SiF2は、次のように重合してPFSを生ずる。nSiF2→SiF2n次いで、PFSは、例えば、ケイ素及びSiF4に熱的に変換することができ、後者は、リサイクルして工程に戻すことができる。さらなる実施形態において、SiF4及び水素は、10Wcm3未満、好ましくは0.2~2Wcm3のエネルギー密度を有するプラズマ反応に関連して機能するプラズマの生成に伴いフッ素化ポリシランに変換される。ここで、エネルギー密度は、励起気体体積で除した気体放電の瞬間の入射電力を意味すると理解される。本発明に係る方法のために、プラズマは、例えば、電圧又は交流電磁場を用いて生成することができる。比較的低い圧力数hPaにおける高周波数グロー放電が好ましい。さらに、本発明に係る方法は、従来技術と比較して出発混合物中の水素含量が低いことを特徴とする。例えば、本発明は、1:0~1:2のフルオロシラン:水素の混合比で機能し、その結果として、分解されるフルオロシランの当量当たりの入射エネルギーもまた明らかに減少する。これは、好ましくは約800~20000kJ/モル、特に850~1530kJ/モルフルオロシランである。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、用いる気体混合物フルオロシラン及び水素は、不活性ガスによりさらに希釈され、及び/又はプラズマの生成を促進する添加物を含んでいてもよい。しかし、不活性ガスの添加は、本発明に係る方法において必須ではない。本発明に係る方法の別の実施形態において、フルオロシランは、水素流がプラズマ帯域リモートプラズマを通過した後に水素流に加える。この場合、水素ガス又はフルオロシランはいずれも、不活性ガスにより希釈され、及び/又はプラズマの生成を促進する添加物を含んでいてもよい。フルオロシランは、水素で希釈して用いることもできる。本発明のさらなる実施形態において、フッ素化ポリシランへのプラズマ化学的変換のための工程に用いる作業圧力は、0.1~100hPa、好ましくは0.5~20hPa、より好ましくは0.6~2hPaの範囲にあり得る。さらなる実施形態において、フッ素化ポリシランPFSへの熱的又はプラズマ化学的変換を行うことができ、その場合、本発明に係る方法が実施され、フッ素化ポリシランが堆積する反応器部分の温度は、-70°C~300°C、特に-20°C~280°Cに維持する。一般的に、ケイ素の形成を避けるために温度を比較的低く維持する。次いで、PFSを、例えば熱的手段によりさらにケイ素及びSiF4に変換することができ、その場合、後者をリサイクルして工程に戻すことができる。本発明のさらなる実施形態において、フッ素化ポリシランへの熱的変換のための工程に用いる作業圧力は、0.1~1000hPaの範囲、例えば、100hPaであり得る。本発明のさらなる実施形態において、SiF4の熱的変換は、1050°Cを超える、好ましくは1200°C~1500°C、より好ましくは1200°C~1300°Cの温度にあり得る。したがって、具体的には、肥料産業からの廃棄物H2SiF6及び/又はHFをSiF4の調製に用いることが本発明に係る方法の1つの実施形態の特徴である。SiF4は、フッ素化シランに変換される。例えば、光起電力技術に用いられる高純度ケイ素などの価値ある生成物をこれから得ることが可能である。本発明に係る方法、すなわち、全体的な方法は、炭素を含まない方式、例えば、公知のCO2問題が無関係であるような再生可能な電気エネルギーを用いて行うことができる。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、高純度ケイ素の調製は、HF及び/又はヘキサフルオロケイ酸H2SiF6から炭素の添加なしに行うことができ、その場合、SiF4をHF及び/又はヘキサフルオロケイ酸H2SiF6から調製し、これをフッ素化ポリシランに、次いでケイ素に熱的又はプラズマ化学的に変換する。これは、炭素を頻繁に加えなければならない塩素化ポリシランからのケイ素の調製と比較して、高純度ケイ素の環境によりやさしい調製を可能にするものである。得られたフッ素化ポリシランを水素化ポリシランの調製のために用い、したがって水素化ポリシランを特に効率的、安価且つ環境にやさしい方法で調製することが、本発明に係る方法のさらなる実施形態の特徴である。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、フッ素化ポリシランの水素化により、部分的水素化及び過水素化化合物フッ素原子の一部又は全部が水素原子により置換されたことを意味するが得られる。水素化は、例えばエーテル、トルエン等の不活性溶媒中で行うことができ、また水素化は、形成するポリシランの分解を抑制するために最低限の温度RT以下で行われるべきである。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、水素化は、LiH、NaH又はCaH2などのヒドリド塩を用いて達成される。好ましくは、本発明に係る方法の少なくとも1つのさらなる実施形態において、水素化は、複合水素化物、好ましくはNaAlH4、LiAlH4、NaBH4、より好ましくはNaAlH4を用いて、或いは水素又は適切な水素担体化合物を用いた適切な接触法を用いて達成される。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、水素化における反応条件は、フッ素化ポリシランにおけるケイ素原子の数nが減少しないように選択する。より具体的には、温度を好ましくは-40°C~25°Cの範囲内、より好ましくは-20°C~15°Cの範囲内、特には-10°C~5°Cの範囲内に保つ。言い換えれば、水素化においてフッ素化ポリシランのSi-Si結合の間の分裂がない。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、水素化における反応条件は、フッ素化ポリシランのSi-Si結合が分裂し、水素化ポリシランが形成し、水素化ポリシランにおけるケイ素原子の数nがフッ素化ポリシランにおけるケイ素原子の数nと比較して小さくなるように選択する。言い換えれば、形成する水素化ポリシランが、用いたフッ素化ポリシランより短鎖である。これは、好ましくは、0°Cを超える温度でのフリーラジカル水素化によるか、又は好ましくはHFを用いてSi-Si結合へハロゲン化水素を挿入することによる部分水素化により達成される。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、副生成物として形成するフッ化物塩をアルミニウムの生産のため又は飲料水のフッ素化のための出発物質として用いる。これにより、フッ化物塩の処分及び処分費用が省かれ、フッ化物塩がさらに安価に処理される。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、フッ素化ポリシランをフッ素化及び/又は部分フッ素化オリゴシランの調製のために用いられる。本発明に係る方法のさらなる実施形態において、フッ素化ポリシランをHFとの反応により水素化及び/又は部分水素化オリゴシランの調製のために用い、HFは、フッ素化ポリシランの調製のための重合ステップに少なくとも一部は由来する。肥料の製造からのH2SiF6溶液を10~15質量の石英砂と混合する。さらなるガスが吸収されなくなるまで、HFガスを混合物中に通す。濃H2SiF6溶液をSiO2含有物質の残りとともに耐酸金属容器に移し、撹拌しながら濃H2SO4と徐々に混合する。出て行くガスを液体窒素で冷却した冷トラップに収集する。反応が終結した後、注意深く解凍することによりSiF4を再凝縮させ、水及びHFの残留物を除去する。2LバルーンにH2とSiF4との混合物1:1、45mmolを満たす。形成された気体混合物を13mmの内径を有する石英管に10~20hPaの圧力で通し、2つの電極間の高電圧により弱いグロー放電約10Wを管内で発生させる。その後、4.2cmの距離にわたり、800Wのパルスエネルギー及び1ミリ秒のパルス時間と、続く19ミリ秒の休止を有するパルス状マイクロ波放射を導入する40Wの平均電力に相当する。約7時間後に、フッ素化ポリシランを含む0.63g理論値の約20の白色から茶色がかった固体が得られる。減圧下で800°Cへ加熱する間に、物質が分解してケイ素を形成する。