静磁場発生源と傾斜磁場印加部とから発生する磁場空間に被検体を配置し、照射パルスが印加された該被検体から放出されるMRI信号に基づいて、該被検体の対象部位の画像を生成する磁気共鳴イメージング装置において、前記傾斜磁場印加部は、前記静磁場発生源から発生する静磁場および前記傾斜磁場印加部から発生する傾斜磁場のうちの少なくとも一方の磁場を補正する磁場補正手段を備え、前記磁場補正手段は、基板の一主面に配置され電流を流して磁場を発生させる第1導体部と、該基板を介して対向する他主面に配置され電流を流して磁場を発生させる第2導体部とを有し、前記第1および第2導体部の一部に前記第1導体部から発生する磁場の向きと前記第2導体部から発生する磁場の向きとが逆方向である領域を含むことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項1記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記第1及び第2導体部のそれぞれは、前記基板上を渦巻き状に周回する複数の周回部と、前記周回部の一つと該一つの周回部に隣接する周回部との間を接続する接続部とを有し、前記接続部は、前記基板を介して対向するように前記基板の両主面に配置され、両主面の前記接続部を流れる電流が互いに逆方向に流れるように配置されることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項2記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記基板の一主面に設けられた接続部と、該基板を介して対向する他主面に設けられた接続部とが、互いに平行をなすように配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項2記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記基板の一主面上に敷設された複数の第1導体部と、該一主面に該基板を介して対向する他主面に敷設された第2導体部と有し、前記複数の第1導体部の一つを構成する第1周回部が、外側から順々に内側に周回する第1の配線パターンを有し、前記複数の第1導体部の他の一つを構成する第2周回部が、内側から順々に外側に周回する第2の配線パターンを有する場合に、前記第1周回部と対向する位置に配置され前記第2導体部の一つを構成する第3周回部は、前記第2の配線パターンを有し、前記第2周回部と対向する位置に配置され前記第2導体部の他の一つを構成する第4周回部は、前記第1の配線パターンを有することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項1記載のイメージング装置において、前記第1及び第2導体部は、前記基板を貫通して設けられた貫通孔に配置された接続部により電気的に接続されることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項1記載のイメージング装置において、前記基板は、単一シートで構成され少なくとも一種類の補正磁場を発生させることが可能であることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項1記載のイメージング装置において、前記基板は、屈曲性を有するフレキシブル材料で構成されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。請求項1記載のイメージング装置において、前記磁場補正手段は、その表面に絶縁性シートが貼付けされていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。磁気共鳴イメージング装置における静磁場発生源および傾斜磁場印加部から発生する磁場のうちの少なくとも一方を補正する磁場補正用コイルの製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板の両主面に導体シートを貼り付ける工程と、両主面に貼り付けられた前記導体シートのそれぞれの表面に感光性有機物質を塗布し定着させる工程と、前記磁場補正用コイルの形状を有するマスクを両主面上の前記感光性有機物質の表面に貼り付ける工程と、前記マスク上から光を照射して前記感光性有機物質を感光し現像する工程と、現像された前記形状を有する前記感光性有機物質をエッチング用マスクとして用いて、前記導体シートをエッチングし前記形状を有する磁場補正用コイルを前記基板の両面上に形成する工程とを有し、該磁場補正用コイルが形成された後に、前記基板の所定の位置に貫通孔を設け、両面上のそれぞれの磁場補正用コイルを電気的に接続する接続部を設けることを特徴とする磁場補正用コイルの製造方法。請求項9に記載の磁場補正用コイルの製造方法において、前記基板は、屈曲性を有するフレキシブル材料で構成されていることを特徴とする磁場補正用コイルの製造方法。請求項9に記載の磁場補正用コイルの製造方法において、前記接続部を設けた後に、前記磁場補正用コイルを覆うように絶縁性シートを貼付する工程を、さらに有することを特徴とする磁場補正用コイルの製造方法。請求項9に記載の磁場補正用コイルの製造方法において、前記基板の複数を積層する場合に、各基板を積層する際に使用する位置調整用のアライメントマークを前記磁場補正用コイルと同じ導体シートを加工して形成することを特徴とする磁場補正用コイルの製造方法。MRI装置のワイドボア化に伴い、傾斜磁場コイルを薄型化する傾向にある。しかし、その傾斜磁場コイルの内容物である磁場補正用のシムコイルは、一方でMRI装置の高機能化に伴い、搭載するシムコイル数が増える傾向にある。そのため、シムコイルの薄型化が課題であった。また、通常ひとつの鞍型シムコイルユニットは複数のコイルを接続して形成されるが、搭載されるシムコイルの数が増えると配線作業がより煩雑になる。そのため、傾斜磁場コイルへの搭載作業の簡略化も課題であった。特許文献2に記述された内容は、傾斜コイルに関して絶縁性シートの両面に導体シートを配置するものであるが、本発明で対象にするシムコイルとは異なる上、コイルの周回パターン間を接続する所謂、段落し部の位置が裏表で異なるため、誤差磁場が大きくなる構造となっている。そこで、本発明の目的は、必要な磁場強度を確保しつつ薄型で、シムコイルを簡便に位置精度の高く傾斜磁場発生装置へ積層することが可能で、段落し部での誤差磁場を低減できるシムコイルを提供することである。上記課題を解決するために、本発明による磁気共鳴イメージング装置の主なものは、以下のように構成される。すなわち、静磁場発生源と傾斜磁場印加部とから発生する磁場空間に被検体を配置し、照射パルスが印加された該被検体から放出されるMRI信号に基づいて、該被検体の対象部位の画像を生成する磁気共鳴イメージング装置において、傾斜磁場印加部は、静磁場発生源から発生する静磁場および傾斜磁場印加部から発生する傾斜磁場のうちの少なくとも一方の磁場を補正する磁場補正手段を備え、磁場補正手段は、基板の一主面に配置され電流を流して磁場を発生させる第1導体部と、該基板を介して対向する他主面に配置され電流を流して磁場を発生させる第2導体部とを有し、第1および第2導体部の一部に第1導体部から発生する磁場の向きと第2導体部から発生する磁場の向きとが逆方向である領域を含むことを特徴とする。また、本発明による磁場補正用コイルの製造方法の主なものは、以下のように構成される。すなわち、磁気共鳴イメージング装置における静磁場発生源および傾斜磁場印加部から発生する磁場のうちの少なくとも一方を補正する磁場補正用コイルの製造方法であって、基板を準備する工程と、基板の両主面に導体シートを貼り付ける工程と、両主面に貼り付けられた導体シートのそれぞれの表面に感光性有機物質を塗布し定着させる工程と、磁場補正用コイルの形状を有するマスクを両主面上の感光性有機物質の表面に貼り付ける工程と、マスク上から光を照射して感光性有機物質を感光し現像する工程と、現像された形状を有する感光性有機物質をエッチング用マスクとして用いて、導体シートをエッチングし形状を有する磁場補正用コイルを基板の両面上に形成する工程とを有し、該磁場補正用コイルが形成された後に、基板の所定の位置に貫通孔を設け、両面上のそれぞれの磁場補正用コイルを電気的に接続する接続部を設けることを特徴とする。即ち、本発明は、磁場補正手段、例えば、鞍型シムコイルにおいて、単一のシート上に複数のコイルパターンとそれらを接続する配線が形成されたことを特徴とする。以上、本発明のシムコイルは樹脂基材の両面に導体パターンを形成することにより、必要な磁場強度を確保しつつ薄型にすることが可能である。そのため、従来と同等な性能を維持しつつ傾斜磁場発生装置の開口部を、従来より大きくすること、または従来と同じ大きさの開口部を維持しつつ、より多数のシムコイルユニットを搭載することが可能になる。本発明のシムコイルはシート状に形成されるため、従来の線材を固定する方法に比べて位置精度の高いシムコイルを簡便に傾斜磁場発生装置へ積層することが可能になる。以下、本発明について、発明の実施の形態実施例とともに図面を参照して詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。図1に、磁気共鳴イメージング装置以下、MRI装置と称するの側方から見た断面図を示す。MRI装置の構成部品として、静磁場コイル1と、傾斜磁場コイル2と、高周波磁場コイル3、ベッド4がある。静磁場コイル1は、均一磁場領域5を形成する。図示せぬ被検者は、均一磁場領域5に配置され、ベッド4上に横たわっている。傾斜磁場コイル2は、静磁場コイル1と均一磁場領域5との間に固定される。高周波磁場コイル3は、均一磁場領域5と傾斜磁場コイル2の間に固定される。本発明で対象とする鞍型シムコイルは通常、傾斜磁場コイル2内に搭載され、傾斜磁場および静磁場を補正する磁場のうちの少なくとも一方を発生する。図2に、傾斜磁場コイル2内に搭載されたシムコイルを含む各種のコイル構成の一例を示す。本図は、図1の視線方向矢印10で示す方向から傾斜磁場コイル2を見た場合のコイル構成を示している。すなわち、傾斜磁場を発生するメインコイル22の外径方向に絶縁層123を介してシムコイル21が積層され、さらにシムコイル21の外径方向には絶縁層224を介して漏れ磁場を低減するために設けられたシールドコイル20が積層された構成となっている。また、メインコイル22およびシールドコイル20は、それぞれ直交する3軸に対応する傾斜磁場を発生させるコイルを含んでいる。なお、上記の各種コイル構成は、一例であって、必ずしもこの構成である必要はない。傾斜磁場コイル2は、3軸方向に直交する傾斜磁場を発生させるコイルや発熱を抑える冷却管などの構造物を樹脂でモールドして得られる。静磁場が水平方向のMRI装置において傾斜磁場コイルは円筒または楕円筒型の形状をもち、静磁場を発生させる磁石通常筒型の超伝導コイルの内側に搭載される。シムコイルは通常抵抗性のコイルであり、コイルに流す電流を制御することで装置、被検体ごとに静磁場の補正が可能である。通常シムコイルはルジャンドル多項式または球面調和関数成分に対応する空間分布を有する磁場を生成し静磁場を補正する。MRI装置には補正が必要な成分の数だけシムコイルユニットが搭載される。MRIの高機能化に伴い、より高次の成分の磁場補正が必要になればより多くのシムコイルが必要となる。シムコイルの形状は、その磁場の成分によって図3Aのような渦巻状のコイルを傾斜磁場コイルの円筒面31に沿って積層する鞍型シムコイル30と図3Bのような円筒面31に螺旋状に巻層する螺旋状シムコイル32の大きく2種類に分けられる。本発明では図3Aに示す鞍型シムコイルを主な対象とする。鞍型シムコイルのコイルパターンを薄く、正確に作製するには樹脂基材の両面に銅シートが貼られた構造を持つ所謂、銅張積層板をエッチングしてパターンを形成するのが好ましい。<コイルパターンの形成例>以下に、本発明になる鞍型シムコイルのコイルパターンの作成手順を示す。図4Aに、エッチングによるコイルパターン作成工程の例としてフォトリソグラフィ工程4a~4fを示す。まず、工程4aで樹脂製シート基材43の両面に導体シート42が貼付けされた素材の表面および裏面に対し、感光性有機物質レジスト41を塗布し定着させる。次に、工程4bでコイルパターンの形状を描いたマスク44をレジスト41の上から貼り付ける。なお、マスク44は、導体シート42の両面上に定着されている感光性有機物質41のそれぞれの表面に、マスクに描かれたコイルパターンが互いに対向する位置に精度良くアライメントされる。次に、工程4cでマスク44の上から光45を照射しレジスト44を反応させる。ここで、本実施例では、光が照射された領域が現像液により溶解するタイプ、即ち、ポジ型レジストを例に述べるが、ネガ型タイプのレジストを用いることも当然に可能である。なお、その際に、マスクに形成されるパターンは、本実施例で用いるものと、光の透過部、非透過部所謂、白黒領域が逆のパターンとなる。次に、工程4dでマスク44を外し、感光したレジスト46を溶解する溶剤に浸し、コイルパターンとなる部分にレジストを残す。次に、工程4eで導体シート42を溶解する液に浸し、レジスト除去された部分の導体シート42を除去する。最後に、工程4fでレジスト41を剥離し、パターニングされた導体シート42を得る。フォトリソグラフィ工程4a~4fの後は、図4Bで示す二次加工工程へ進む。図4Bの二次工程に関して、以下に説明する。図4Aで形成されたコイルパターン42を有するシート基材43の所定の位置に貫通孔47を開け、シート基材43の裏および表に形成されたコイルパターン42を電気的に接続する裏表接続導体48を設ける。次に、コイルパターン42を覆うようにシート基材43の裏全体および表全体に絶縁シート49を貼付ける。二次加工工程が完了すると、シート状に形成されたコイルは傾斜磁場コイルのスペーサなどを介して構造物の間の適切な位置に巻きつけて形成される。シート基材43上に形成されるコイルパターンは、図5のようにシート基材43上を周回し、磁場発生の役割を担うコイルパターン周回部51とそれをつなぐコイルパターン段落し部52とで構成される。なお、シート基材が複数あって、それらを順次積層する際には、図5で示すように、各層を積層する際に使用する位置調整用の目印となるアライメントマーク53を用いる。このアライメントマーク53は、コイルパターンと同じ導体でエッチングパターンとして形成することで積層作業を簡便にすることが可能である。図6に、図5で示すコイルパターン段落し部が隣接する領域500を拡大した図を示す。コイルパターン段落し部52は、不必要な誤差磁場の発生を抑えるため、裏表のパターンが重なり、さらに電流経路60が逆向きになるように配置されている。すなわち、aに示すように、表側から見た場合に、表パターン実線で表示を電流60が図の右方からコイルパターン周回部51aを流れて、コイルパターン段落し部52aを上方へ流れる。また、表パターンを電流60が図の下方からコイルパターン段落し部52bを流れて、コイルパターン周回部51bを左方へ流れる。一方、bに示すように、表側から透過して裏パターン点線で表示を見た場合には、表パターンを電流60が図の右方からコイルパターン周回部51cを流れて、コイルパターン段落し部52cを下方へ流れる。また、表パターンを電流60が上方からコイルパターン段落し部52dを流れて、コイルパターン周回部51dを左方へ流れる。ここで、電流の流れる向きを考察すると、コイルパターン周回部51aとコイルパターン周回部51c、あるいは、コイルパターン周回部51bとコイルパターン周回部51dに流れる電流の向きは、同方向である。一方、コイルパターン段落し部52aとコイルパターン段落し部52d、あるいは、コイルパターン段落し部52bとコイルパターン段落し部52cに流れる電流の向きは、逆方向である。電流に誘起されて発生する磁場は、電流の向きが同じの場合は、重畳されて倍化するが、電流の向きが逆の場合には、磁場は相殺される。したがって、コイルパターン周回部において、磁場はほぼ倍化し、一方、コイルパターン段落し部においては、磁場は相殺される方向となる。図7に、単一の渦巻きコイルにおける両面パターンの電流経路模式図を示す。該パターンでは周回する磁場発生用パターンの最内周で絶縁シート43に貫通孔を開けて裏表接続導体で裏面のパターン71へ接続される図4の工程4gに対応。裏パターンでは表パターンと同じ向きに周回しながら外周へ向かう。このような構造により、片面のみにコイルを形成する場合の倍の磁場が得られる。次に、複数のコイルを繋いだ場合のコイル間を接続する接続線に流れる電流について以下に説明する。鞍型シムコイルは通常ひとつの磁場補正成分につき複数のコイルが接続されたユニットで構成される。図8、図9にひとつのシムコイルユニットに8つの渦巻状コイルが必要な場合の電流経路の展開図を例示する。図8は表側から見た表パターン実線で表示であり、図9は表側から見た裏パターン点線で表示である。図中のアルファベットb、b’やc、c’などで示された点はすべて表裏のパターンが電気的に接続される箇所であり、図8と図9を重ねるとb点とb’点は同じ位置に、c点とc’点は同じ位置になる。同様に、各アルファベットは同じ位置で対応する。図8に示す表パターンにおいて、上段に複数回の周回がなされた渦巻き状のコイルパターンが順に並置され、同様に下段に複数回の周回がなされた渦巻き状のコイルパターンが順に並置されている。それぞれのコイルパターンは、コイルパターン周回部70と、コイルパターン段落とし部90とで構成され、コイルパターン段落とし部90は、一周一巻きした一つのコイルパターン周回部70と、次段で一周一巻きしたコイルパターン周回部70とを電気的に接続する接続部である。まず、図中の上段において、入口側の初段のコイルパターンは、外側から順に内側に周回し、図中のb点で、後述する図9で示すコイルパターンのb’点と電気的に接続される。次に、入口側の次段のコイルパターンは、図9で示すc’点と図中のc点で電気的に接続され、c点内側から順に外側に周回し、最外周のコイル配線に至る。さらに、入口側の第3段目のコイルパターンは、初段に示すコイルパターンと同様に、外側から順に内側に周回し、図中のd点で、図9で示すコイルパターンのd’点と電気的に接続される。なお、次段を周回して最外周のコイル配線は、第3段目のコイルパターンの最外周のコイル配線にコイル間接続線80によって接続されている。入口側の第4段目は、次段と同様なコイルパターン形状を有し、最外周のコイル配線は、f点とf’点と電気的に接続され、図9に示す裏パターンに接続される。次に、図9の裏パターンについて説明する。裏パターンも表パターンと同様に、外側から内側へ掛けて周回するコイルパターンと、内側から外側へ掛けて周回するコイルパターンが交互に組み合わせれている。例えば、表パターンのf点で接続された図9の下段で出口側から第4番目のコイルパターンは、コイルパターン周回部71とコイルパターン段落とし部91を有し、外側から内側へ掛けて周回し、g’点で表パターンのg点に接続される。コイルパターン間の接続は、図8の表パターンと同様にコイル接続線81にて接続される。電流は、入口からb→b’→c’→c→d→d’→e’→e→f→f’→g’→g→h→h’→i’→i→j→j’の順で流れ出口に達する。本発明になるシムコイルユニットは、図8に示す表パターンと図9に示す裏パターンとを図示するままの向きで重ね合わせて形成される。即ち、表パターンの初段のコイルパターンと裏パターンにおける出口側の初段パターンは、基板を介して同じ位置に重畳される。この時、図中の矢印で示すように、表パターンと裏パターンにおいて対向するコイルパターン同士のコイルパターン周回部70における電流の向きは、表パターンと裏パターンとで同じである。従って、電流により誘起される磁場は重畳されて倍化する効果がある。一方、図8および図9に示すコイルパターン段落とし部接続部90、91において、コイルパターン段落とし部接続部90、91では、上記のコイルパターン周回部と異なり、表パターンと裏パターンにおいて対向するコイルパターン同士のコイルパターン段落とし部接続部90、91における電流の向きは、互いに逆方向となるように配置されている。従って、電流により誘起される磁場は相殺される効果がある。なお、表パターンと裏パターンのコイルパターン段落とし部接続部90、91は、互いに平行になるように配置されている。図8および図9に示すコイルパターンの形成方法に関しては、それぞれのコイル間を繋ぐ配線も裏表同時にエッチングで形成することができるため、ひとつのシムコイルユニットを単一のシート上へ形成することが可能である。図6では、パターン段落し部における、電流の向きが逆になるようにパターンが配置されていることを述べたが、図8、図9でも磁場補正に寄与しないコイル間を接続するコイル間接続線80、81を流れる電流経路は表裏で逆向きの電流が流れるよう配置され誤差磁場を抑える構造としている。次に、シムコイルを搭載する基板に関して説明する。本発明のシムコイルは、筒型の傾斜磁場コイルへ巻層するため、十分な屈曲性が必要で、例えば、基材の絶縁シートにガラスエポキシ積層板を用いた場合、厚さが0.3mm以下であることが好ましい。また、エッチングされる銅は厚すぎるとシート面方向にもエッチングされパターン形状の正確性が損なわれる恐れがあるため、銅の厚さは0.2mm以下であることが好ましい。異なる磁場成分をもつ複数のシムコイルユニットが積層される際、互いの導体が接触しないよう、ユニット間を絶縁する。そのため、図4の工程4hのように絶縁層の形成方法のひとつとしてPETポリエチレンテレフタレートのようなフィルムを基材とした粘着シートをコイルパターン形成後に貼り付けるという手法がある。シムコイルは傾斜磁場コイル内に搭載されその他の構造物と同じく樹脂でモールドされるため、樹脂の流路となる貫通孔をコイルパターンの形成されていない絶縁シートに多数設ける。モールド樹脂の流路を確保する貫通孔は絶縁層にも設ける。前述のように絶縁層としてコイルに粘着シートを貼り付けた場合は貼付け後にコイルの基材である絶縁シートごと穴加工を施す。以上の構成にすることにより薄型でかつ、傾斜磁場コイルへの積層作業性の良いシムコイルを得ることができる。第2の実施例では、図8で示した表パターンを実施例1と同様に用いるが、裏パターンは図8の場合と異なるパターンを用いる。すなわち、図10に示すような片面裏面に設けられたコイルパターンを用いる。図10の裏パターンにはコイルパターン周回部がなく、各貫通穴の接続線100のみのパターンがシート基材43上に形成されている。実施例1で述べたような、表パターンのコイルパターン周回部と裏パターンのコイルパターン周回部に流れる電流がなく、表パターンにのみコイルパターン周回部があるので、電流に誘起されて発生する磁場が、重畳されて倍化することはない。従って、表パターンに流れる電流のみで磁場が確保できる場合に適用する実施例である。なお、前記接続線100は実施例1と同様に、渦巻状パターンの段落し部およびコイル間接続線と電流が逆向きになるよう配置される。このような配置により、誤差磁場を抑える構造としている。