"絶縁性基板の一方の面には、裏面電極層と光電変換層と透明電極層とが当該順で積層され、前記絶縁性基板の他方の面には、背面電極層が成膜され、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成することにより前記絶縁性基板が複数のユニットセルに分割され、前記透明電極層と前記背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第1の貫通孔を介して電気的に接続され、前記裏面電極層と前記背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第2の貫通孔を介して電気的に接続され、隣接するユニットセルが直列接続されている薄膜太陽電池において、前記光電変換層と前記透明電極層との間、または前記裏面電極層と前記光電変換層との間であって、前記第2の貫通孔の少なくとも周囲を囲む領域に保護層を設け、前記保護層が形成している領域で第2の貫通孔周囲の透明電極をレーザにより除去することで、透明電極層と背面電極層とが電気的に絶縁されていることを特徴とした薄膜太陽電池。前記絶縁性基板が、フィルム材料から形成されていることを特徴とする請求項1に記載の薄膜太陽電池。前記フィルム材料が、ポリイミド又はポリアミドイミド又はポリエチレンナフタレート、の耐熱性フィルムであることを特徴とする請求項2に記載の薄膜太陽電池。前記光電変換層が、アモルファス半導体或いはアモルファス化合物半導体、色素増感形太陽電池、有機太陽電池のなかのいずれかであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の薄膜太陽電池。絶縁性基板に第2の貫通孔を形成するステップと、前記絶縁性基板の一方の面に裏面電極層を形成するとともに、前記絶縁性基板の他方の面に第1の背面電極層を形成するステップと、前記裏面電極層及び前記第1の背面電極層を形成した後に、前記絶縁性基板に第1の貫通孔を形成するステップと、前記裏面電極層の上に光電変換層を積層するステップと、前記光電変換層の上で、前記第2の貫通孔の少なくとも周囲を囲む領域に保護層を積層するステップと、前記保護層が一部に積層された前記光電変換層上に透明電極層を積層するとともに、前記絶縁性基板の他方の面側から第2の背面電極層を積層するステップと、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成して、前記絶縁性基板を複数のユニットセルに分割するステップと前記透明電極層を前記第2の貫通孔の周囲で分割するステップを含むことを特徴とする薄膜太陽電池の製造方法。絶縁性基板に第2の貫通孔を形成するステップと、前記絶縁性基板の一方の面に裏面電極層を形成するとともに、前記絶縁性基板の他方の面に第1の背面電極層を形成するステップと、前記裏面電極層及び前記第1の背面電極層を形成した後に、前記絶縁性基板に第1の貫通孔を形成するステップと、前記裏面電極層の上で、前記第2の貫通孔の少なくとも周囲を囲む領域に保護層を積層するステップと、前記保護層が一部に積層された前記裏面電極層の上に光電変換層を積層するステップと、前記光電変換層上に透明電極層を積層するとともに、前記絶縁性基板の他方の面側から第2の背面電極層を積層するステップと、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成して、前記絶縁性基板を複数のユニットセルに分割するステップと、前記透明電極層を前記第2の貫通孔の周囲で分割するステップを含むことを特徴とする薄膜太陽電池の製造方法。前記保護層に絶縁材料で且つ、波長532nmの光吸収率20以上のポリイミド樹脂をもちいることを特徴とする請求項5または6に記載の薄膜太陽電池の製造方法。前記透明電極層の分離を、波長193nm~532nmのレーザを用いて行うことを特徴とする請求項5ないし7のいずれかに記載の薄膜太陽電池の製造方法。しかしながら、上述の図9ないし図11の構成では、以下のような問題が生じる。従来の構成では、第2の貫通孔28において透明電極層25と第2の背面電極層26とが接触しないように、透明電極層25を形成する際には、第2の貫通孔28の近傍にマスク処理を行っていた。したがって、図11bに示すように、第2の貫通孔28の近傍には、透明電極層25が形成されないので、従来の構成では、透明電極層25の有効面積が制限されていた。第2の貫通孔28は、第1の背面電極層23b及び第2の背面電極層26の電気抵抗を考慮して一定間隔をあけて配置されるので、絶縁性基板22上において透明電極層25が形成できない領域が一定の間隔で設けられることになる。したがって、透明電極層25の有効面積が小さくなり、これに比例して薄膜太陽電池21の出力も低下してしまうという問題があった。また、第2の貫通孔28の近傍をマスク処理するので、絶縁性基板22上の透明電極層25などとマスクとが接触することにより絶縁性基板22上の透明電極層25などが損傷する可能性があった。このように絶縁性基板22上にある層が損傷すると、リーク電流などが増加することになり、薄膜太陽電池21を製造する際の不良率が増加してしまうという問題もあった。また、特許文献2に開示された技術では、接続孔を導電性のある材料で塞いでいるので、接続孔における絶縁性が十分でなく、リーク電流が増加してしまうという問題があった。本発明はこのような実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、透明電極層の有効面積を広げて薄膜太陽電池の出力を増加させるとともに、第2の貫通孔における絶縁性を確保して薄膜太陽電池を製造する際の不良率を低下させることが可能な薄膜太陽電池及びその製造方法を提供することにある。上記従来技術の有する課題を解決するために、本発明は、絶縁性基板の一方の面に、裏面電極層、保護層、光電変換層、透明電極層が当該順で積層され、前記絶縁性基板の他方の面には、背面電極層が成膜され、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成することにより前記絶縁性基板が複数のユニットセルに分割され、前記透明電極層と前記背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第1の貫通孔を介して電気的に接続され、前記裏面電極層と前記背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第2の貫通孔を介して電気的に接続され、隣接するユニットセルが直列接続されている薄膜太陽電池において、前記光電変換層と前記透明電極層との間、または前記裏面電極層と前記光電変換層との間であって、前記第2の貫通孔の少なくとも周囲を囲む領域に保護層を設け、前記保護層が形成している領域で第2の貫通孔周囲の透明電極をレーザにより除去することで、透明電極層と背面電極層とが電気的に絶縁されていることを特徴とする。また、前記背面電極層は、第1の背面電極層と第2の背面電極層とを当該順で前記絶縁性基板の他方の面上に積層する構成であってもよく、この場合、前記透明電極層と前記第2の背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第1の貫通孔を介して電気的に接続され、前記裏面電極層と前記第1の背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第2の貫通孔を介して電気的に接続され、第2の貫通孔周囲の透明電極をレーザにより除去することで、透明電極層と第2の背面電極層とが電気的に絶縁されている構造である。そして、本発明の薄膜太陽電池によれば、前記絶縁性基板が、フィルム材料から形成され、フィルム材料が、ポリイミド又はポリアミドイミド又はポリエチレンナフタレート、の耐熱性フィルムである。また、本発明の薄膜太陽電池によれば、前記光電変換層が、アモルファス半導体或いは微結晶を含むアモルファス半導体、色素増感形太陽電池、有機太陽電池のなかのいずれかである。上記従来技術の有する課題を解決するために、本発明の薄膜太陽電池の製造方法は、絶縁性基板に第2の貫通孔を形成するステップと、前記絶縁性基板の一方の面に裏面電極層を形成するとともに、前記絶縁性基板の他方の面に第1の背面電極層を形成するステップと、前記裏面電極層及び前記第1の背面電極層を形成した後に、前記絶縁性基板に第1の貫通孔を形成するステップと、前記裏面電極層の上に光電変換層を積層するステップと、前記光電変換層の上で、前記第2の貫通孔の少なくとも周囲を囲む領域に保護層を積層するステップと、前記保護層が一部に積層された前記光電変換層上に透明電極層を積層するとともに、前記絶縁性基板の他方の面側から第2の背面電極層を積層するステップと、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成して、前記絶縁性基板を複数のユニットセルに分割するステップと、前記透明電極を前記第2貫通孔を囲う形で分離するステップを含む。ここで、前記パターニングラインを形成するステップと分離するステップの順は逆でも良い。そして、前記保護層は、前記光電変換層と前記透明電極層の間に設けても良いが、前記裏面電極層と前記光電変換層の間に設けてもよい。すなわち、絶縁性基板に第2の貫通孔を形成するステップと、前記絶縁性基板の一方の面に裏面電極層を形成するとともに、前記絶縁性基板の他方の面に第1の背面電極層を形成するステップと、前記裏面電極層及び前記第1の背面電極層を形成した後に、前記絶縁性基板に第1の貫通孔を形成するステップと、前記裏面電極層の上で、前記第2の貫通孔の少なくとも周囲を囲む領域に保護層を積層するステップと、前記保護層が一部に積層された前記裏面電極層の上に光電変換層を積層するステップと、前記光電変換層上に透明電極層を積層するとともに、前記絶縁性基板の他方の面側から第2の背面電極層を積層するステップと、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成して、前記絶縁性基板を複数のユニットセルに分割するステップと、前記透明電極層を前記第2の貫通孔の周囲で分割するステップを含んでも良い。また、前記保護層に波長532nmの光吸収率20以上のポリイミドなどの樹脂材料から形成されている。さらに、前記透明電極を波長193nm~532nmのレーザにより第2の貫通孔を囲う形で分離加工を行うようにすると良い。本発明に係る薄膜太陽電池によれば、絶縁性基板の一方の面には、裏面電極層と光電変換層と透明電極層とが当該順で積層され、前記絶縁性基板の他方の面には、背面電極層が成膜され、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成することにより前記絶縁性基板が複数のユニットセルに分割され、前記透明電極層と前記第2の背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第1の貫通孔を介して電気的に接続され、前記裏面電極層と前記背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第2の貫通孔を介して電気的に接続され、隣接するユニットセルが直列接続されている薄膜太陽電池において、前記光電変換層と前記透明電極層との間、または前記裏面電極層と前記光電変換層との間であって、前記第2の貫通孔の少なくとも周囲を囲む領域に保護層を設けるようにしたので、前記透明電極が前記第2の貫通孔の周囲をレーザで分離でき、透明電極層の有効面積を広げて薄膜太陽電池の出力を増加させることができる。また、本発明の薄膜太陽電池によれば、前記絶縁性基板が、フィルム材料から形成されているので、搬送用のロールで絶縁性基板を搬送する方式例えば、ロールツーロールRolltoRoll方式で製造することができ、効率的に薄膜太陽電池の製造を行うことができる。また、本発明の薄膜太陽電池の製造方法によれば、絶縁性基板に第2の貫通孔を形成するステップと、前記絶縁性基板の一方の面に裏面電極層を形成するとともに、前記絶縁性基板の他方の面に第1の背面電極層を形成するステップと、前記裏面電極層及び前記第1の背面電極層を形成した後に、前記絶縁性基板に第1の貫通孔を形成するステップと、前記裏面電極層の上に光電変換層を積層するステップと、前記光電変換層の上で、前記第2の貫通孔の少なくとも周囲を囲む領域に保護層を積層するステップと、前記保護層が一部に積層された前記光電変換層上に透明電極層を積層するとともに、前記絶縁性基板の他方の面側から第2の背面電極層を積層するステップと、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成して、前記絶縁性基板を複数のユニットセルに分割するステップと、前記透明電極が前記第2の貫通孔を囲う形で分離されることで、前記透明電極と前記裏面電極が絶縁する工程を含むか、あるいは、第1の貫通孔を形成するステップの後が、前記裏面電極層の上で、前記第2の貫通孔の少なくとも周囲を囲む領域に保護層を積層するステップと、前記保護層が一部に積層された前記裏面電極層の上に光電変換層を積層するステップと、前記光電変換層上に透明電極層を積層するとともに、前記絶縁性基板の他方の面側から第2の背面電極層を積層するステップと、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成して、前記絶縁性基板を複数のユニットセルに分割するステップと、前記透明電極層を前記第2の貫通孔の周囲で分割するステップを含むので、従来のように第2の貫通孔の近傍にマスク処理を行う必要がなくなり、薄膜太陽電池の製造時の歩留まりが向上する。加えて、第2の貫通孔の近傍にマスク処理を行う必要がなくなるので、マスクと基板上の層とが接触して基板上の層が損傷することもなくなる。これにより、薄膜太陽電池においてリーク電流が増加することもなくなり、薄膜太陽電池を製造する際の不良率を低下させることができる。しかも、第2の貫通孔の周囲で少なくとも透明電極が分離されて、発電領域荷における透明電極層と背面電極層が分離されるため第2の貫通孔における絶縁性も確保することができる。以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。図1は、実施形態に係る薄膜太陽電池の平面図である。図2のaは、図1のE-E線断面図であり、bは、aにおけるH部の拡大図である。また、図3のaは、図1のG-G線断面図であり、bは、aにおけるJの拡大図である。図1に示すように、本発明の実施形態に係る薄膜太陽電池1は、複数の第1の貫通孔7と、第2の貫通孔8が設けられており、薄膜太陽電池1の表面側受光面側が第1のパターニングライン9で、複数に分割した単位太陽電池を形成している。この第1のパターニングライン9は、第1の貫通孔7と第2の貫通孔8とのまとまりで区切るように、構成している。そして、薄膜太陽電池1の表面側非受光面側は、第1のパターニングライン9で区切られた第1の貫通孔7と第2の貫通孔8に対して、第1の貫通孔7と第2の貫通孔8を分離する位置に第2パターニングライン10が設けられて分割する構成となっている。図1で示す本発明の実施形態に係る薄膜太陽電池1と、従来の図10に示す薄膜太陽電池21との平面図での相違点は、図10では、薄膜太陽電池21の両側に透明電極層25を成膜しない領域が存在したが、図1においては、そのような箇所は無く、全面に透明電極層5が存在する点にある。次に、本発明の実施形態に係る薄膜太陽電池1の断面構造について、図2と図3により、説明する。本実施形態に係る薄膜太陽電池1は、絶縁性基板2を備えている。この絶縁性基板2は、フィルム材料から形成されており、例えば、ポリイミドやポリアミドイミド又はポリエチレンナフタレート、あるいはアラミド等の材料から形成されている。図2に示すように、絶縁性基板2の両面には、Ag等の金属からなる金属電極層3が形成されている。ここで、絶縁性基板2のF側である受光側面上の金属電極層3は、裏面電極層3aとして機能し、絶縁性基板2のR側である非受光側面上の金属電極層3は、第1の背面電極層3bとして機能する。そして、裏面電極層3a上には、光電変換層4と透明電極層5を当該順で積層し、絶縁性基板2の他方の面上の第1の背面電極層3b上には、第2の背面電極層6を積層する。図2bの第1の貫通孔7においては、その孔の内面において、透明電極層5と第2の背面電極層6が電気的に接続している。次に、第2の貫通孔8においては、図3に示すように、絶縁性基板2のF側である受光側面上にある裏面電極層3aには、光電変換層4と保護層絶縁層11と透明電極層5とが当該順で積層されている。保護層11は、第2の貫通孔8と同等の穴を有して、透明電極層5上の第2の貫通孔8の周囲に、所定の幅を有して配置している。そして、保護層11は、円径で中央付近に第2の貫通孔8と同等の穴を有しても良いし、矩形であっても良い。図4には、本発明の実施形態における第2の貫通孔8付近の拡大平面図を示す。図4においては、第2の貫通孔8の周囲を取り巻くように、矩形で、中央に第2の貫通孔8と同等の穴を有する保護層11が表面の透明電極層5の下に配置されている。さらに、第2の貫通孔8の外周でかつ、保護層11が配置されている範囲内には、第3のパターニングライン分離溝12を設ける。この第3のパターニングライン12は、図3bに示すように、透明電極層5をレーザ加工などで除去し、保護層11によって、その下に位置する光電変換層4や裏面電極層3aは、露出および分離加工がされないように構成している。図3bに示す断面構造が、本発明に係る第1の実施形態の特徴部分である。ここで、光電変換層4としては、アモルファス半導体やアモルファス化合物半導体、色素増感形太陽電池、又は有機太陽電池を用いることができる。また、図1に示すように、絶縁性基板2のF側である受光側面上に積層された層裏面電極層3a、光電変換層4、透明電極層5は、レーザ加工による第1のパターニングライン9により複数に分割されている。そして、絶縁性基板2のR側である非受光側面上に積層された層第1の背面電極層3b、第2の背面電極層6も同様に、レーザ加工による第2のパターニングライン10により複数に分割されている。ここで、第1のパターニングライン9及び第2パターニングライン10は、絶縁性基板2において互い違いに配置されている。図1及び図2に示すように、絶縁性基板2には、絶縁性基板2を貫通する第1の貫通孔7が設けられている。透明電極層5と第2の背面電極層6とは、第1の貫通孔7の側壁部上で互いに重なり合うような形で接続している。これにより、絶縁性基板2のF側である受光側面上の各層とR側である非受光側面上の各層とからなるユニットセル単位太陽電池が形成されている。また、図1及び図3に示すように、絶縁性基板2には、絶縁性基板2を貫通する第2の貫通孔8が設けられている。裏面電極層3aと第1の背面電極層3bとは、第2の貫通孔8の側壁部を介して電気的に接続されている。すなわち、隣接し合うユニットセルが第2の貫通孔8により電気的に接続されている。詳細には、第1及び第2の貫通孔7,8は、第1及び第2の背面電極層3b,6→第1の貫通孔7→透明電極層5→光電変換層4→裏面電極層3a→第2の貫通孔8→第1の背面電極層3bの順に接続するために利用されている。以上のように、隣接し合うユニットセルを電気的に直列接続することにより、薄膜太陽電池1が構成されている。そして、本実施形態の特徴としては、図3に示すように、透明電極5の発電部は第2の貫通孔8の周囲において第3のパターニングライン12において分離されている。以上のような構成から、透明電極層5と第2の背面電極層6とは、第2の貫通孔8周囲の透明電極5に設けられた第3のパターニングライン12により電気的に絶縁されている。次に、本発明の実施形態に係る薄膜太陽電池の製造方法について図面を参照して説明する。図5は、本実施形態に係る薄膜太陽電池1を製造する際のフローチャートである。本実施形態に係る薄膜太陽電池1は、絶縁性基板2として上述したようなフィルム材料を用いる。薄膜太陽電池1を製造する方法としては、ロールツーロール方式やインクジェットによる印刷技術を用いる。例えば、ロールツーロール方式は、フィルム材料の基板が複数のロール搬送手段によって搬送され、連続して配置された成膜室内において基板上に連続的に薄膜を成膜する方式である。薄膜太陽電池1を製造する際には、図5に示すように、まずステップS1において、絶縁性基板2の前処理を行う。具体的には、絶縁性基板2をプラズマ中に曝す事によって表面を洗浄する等の前処理を行う。次に、ステップS2において、絶縁性基板2に第2の貫通孔8を形成する。第2の貫通孔8はパンチング穿孔法により形成する。第2の貫通孔8の形状としては、直径が1mmの円形としている。第2の貫通孔8は、円形の直径を0.05-1mmの範囲で設定され、穿孔数は設計に応じて調整することができる。次に、ステップS3において、スパッタリング処理を行うことにより絶縁性基板2の両面に裏面電極層3a及び第1の背面電極層3bを形成する。この際、裏面電極層3a及び第1の背面電極層3bが第2の貫通孔8を介して電気的に接続することになる。その後、ステップS4において、絶縁性基板2の両面に形成した層をレーザ加工により直線状に除去して1次パターングライン図示せずを形成する。この際、絶縁性基板2の両面に形成するラインは、互いにずらして形成される。そして、ステップS5において、絶縁性基板2に第1の貫通孔7を形成する。第1の貫通孔7はパンチングにより形成する。次に、ステップS6において、絶縁性基板2の裏面電極層3a上に光電変換層4を形成し、その後、ステップS7において、保護層11絶縁層を形成し、更にステップS8で保護層11絶縁層上および保護層11が配置されていない光電変換層4上に透明電極層5を形成する。次に、ステップS9において、絶縁性基板2の第1の背面電極層3b上に第2の背面電極層6を形成する。次に、ステップS10において、ステップS4で形成した1次パターニングライン上の光電変換層4及び透明電極層5を、レーザ加工により再度直線状に除去して第1のパターニングライン9を形成する。さらに、ステップS11において、ステップS4で形成した1次パターニングライン上の第2の背面電極層6を、レーザ加工により再度直線状に除去して第2のパターニングライン10を形成する。ステップS12において、ステップ8において形成した透明電極をステップS2で形成した第2貫通孔周囲をレーザ加工により分離する。これにより第3のパターニングライン12で囲われた部分の外側の透明電極層5と金属電極層3が分離され、第1及び第2のパターニングライン9,10により絶縁性基板2上の層が複数のユニットセルに分離され、薄膜太陽電池1の直列接続が完成する。本発明の実施形態に係る薄膜太陽電池1によれば、絶縁性基板2のF側である受光側面には、裏面電極層3aと光電変換層4と透明電極層5とが当該順で積層され、絶縁性基板2R側である非受光側の面には、第1の背面電極層3bと第2の背面電極層6とが当該順で積層され、絶縁性基板2の両面に積層した層に対して互い違いに第1及び第2のパターニングライン9,10を形成することにより絶縁性基板2が複数のユニットセルに分割され、透明電極層5と第2の背面電極層6とが、絶縁性基板2を貫通する第1の貫通孔7を介して電気的に接続され、裏面電極層3aと第1の背面電極層3bとが、絶縁性基板2を貫通する第2の貫通孔8を介して電気的に接続され、隣接するユニットセルが直列接続されている薄膜太陽電池1において、透明電極5が第2の貫通孔8の周囲において分離もしくは除去されることで、発電領域における透明電極と裏面電極3や背面電極6と分離される。次に、別の実施例である本発明の第2の実施形態に係る薄膜太陽電池11について、図6により説明する。図6aは、図1におけるG-G断面に相当する第2の実施形態に係る薄膜太陽電池11の断面であり、図6aのK部分の拡大断面図を図6bに示す。第1の実施形態である図3bとの相違点は、保護層11aが、裏面電極層23aの上に存在し、その後、光電変換層4と透明電極層5を、当該順で積層していることである。このため、第3のパターニングライン12aは、透明電極層5だけで無く、光電変換層4も一緒に分離されている。このように、第2の貫通孔8部の周囲において、透明電極層5を分離して発電領域における透明電極と裏面電極3や背面電極6と分離できる構成であれば、保護層11、11aは、光電変換層4と透明電極層5の間にあっても良いし、裏面電極層23aと光電変換層4の間のいずれに配置しても良い。本発明の第2の実施形態に係る薄膜太陽電池の製造方法について、図7に薄膜太陽電池11を製造する際のフローチャートを示す。本発明の第1の実施形態に係る薄膜太陽電池1を製造する際のフローチャートである図5との相違点は、ステップS6とステップS7の、光電変換層4の形成と保護層11、11aの形成する工程が入れ替わったことである。図7では、保護層11aの形成工程をステップS6としているが、保護層11aの形成工程は、ステップS3の裏面電極層3a及び第1の背面電極層3bを形成の後から、ステップS7の光電変換層4の形成の間に実施すれば良い。次に、第3のパターニングライン12、12aの形成手段について説明する。透明電極5と裏面電極3aと背面電極3bと分離する手段として、レーザを用いる。しかし、透明電極膜は図8の例のように、照射する光の波長が長いと、透過率が高く例えば波長532nmのYAG-SHGで透過率75なる。透過したレーザ光が下層の光電変換層4に照射されると光電変換層は熱的ダメージを受ける。熱的ダメージとは、熱により結晶化して抵抗率が低くなり、絶縁性が低下することである。本発明では光電変換層4の熱的ダメージを軽減するため、光電変換層4と透明電極層5の間に絶縁材料を使用した保護層11を入れた層構造とした。絶縁材料には耐真空性、耐熱、耐発塵性、耐脱ガス性を備えた、液体のポリイミドを用い、光電変換層4上の図4に示す保護層11の範囲にディスペンサー法で塗布した。絶縁材料の塗布方法はこれに限らない。上記層構造で波長532nmレーザにより透明電極層5の加工を実施した。結果、透明電極層5の加工ラインの内側と外側の分離抵抗は数MΩあった。保護層12がない場合は、裏面電極層3aと光電変換層4が溶融し、分離抵抗は100Ωであり、十分な絶縁分離がなされていることを確認した。以上のように、本発明により、透明電極層5を貫通孔8の周囲で分離する工程を含むので、従来のように第2の貫通孔の近傍にマスク処理を行う必要がなくなり、薄膜太陽電池1の製造時の歩留まりが向上する。加えて、第2の貫通孔8の近傍にマスク処理を行う必要がなくなるので、マスクと絶縁性基板2上の層とが接触して絶縁性基板2上の層が損傷することもなくなる。これにより、薄膜太陽電池1においてリーク電流が増加することもなくなり、薄膜太陽電池1を製造する際の不良率を低下させることができる。"