"少なくとも一面以上の光学面を有する光学素子であって,該光学面の少なくとも一面に反射防止膜が形成されていることを特徴とし,かつ該反射防止膜を構成する層のうち少なくとも一つが光学異方性を有する光学干渉層であることを特徴とし,かつ該光学異方性を有する光学干渉層層は0度で入射する偏光よりも30度で入射する偏光の方が屈折率が高いことを特徴とする光学素子。請求項1に記載の光学素子であって,前記光学面の面内がほぼ矩形形状,もしくはほぼ多角形形状であることを特徴とし,該光学面の長辺の方向を第一の方向とし,かつ該光学面の面内に存在しかつ該光学面の短辺の方向を第二の方向としたとき,前記光学異方性を有する光学干渉層層は第一の方向に振動する偏光の0度と30度で入射する屈折率の差よりも,第二の方向に振動する偏光の0度と30度で入射する屈折率の差の方が小さいことを特徴とする光学素子。請求項1に記載の光学素子であって,前記光学面がほぼ円形状であることを特徴とし,かつ該光学面の径方向を第一の方向とし,かつ周方向を第二の方向としたとき,前記光学異方性を有する光学干渉層層は第一の方向に振動する偏光の0度と30度で入射する屈折率の差よりも,第二の方向に振動する偏光の0度と30度で入射する屈折率の差の方が小さいことを特徴とする光学素子。請求項2から3のいずれか一項に記載の光学素子であって,各条件を満たす範囲が,前記光学面のうち50以上の面積を占めることを特徴とする光学素子。少なくとも一面以上の光学面を有する光学素子であって,該光学面の少なくとも一面に反射防止膜が形成されていることを特徴とし,かつ該光学面の面内がほぼ矩形形状,もしくはほぼ多角形形状であることを特徴とし,かつ該反射防止膜を構成する層のうち少なくとも一層に,二種以上の材料が使用する波長に対して細かい構造を成す微細構造層を有し,該光学面の長辺の方向を第一の方向とし,かつ該光学面の面内に存在しかつ該光学面の短辺の方向を第二の方向とし,かつ該光学面の法線方向を第三の方向としたとき,以下の条件を満たすことを特徴とする光学素子。微細構造層をなす材料のうち,屈折率が最も高い材料の第一の方向に対する充填率a微細構造層をなす材料のうち,屈折率が最も高い材料の第二の方向に対する充填率b微細構造層をなす材料のうち,屈折率が最も高い材料の第三の方向に対する充填率ca<b<c少なくとも一面以上の光学面を有する光学素子であって,該光学面の少なくとも一面に反射防止膜が形成されていることを特徴とし,該光学面がほぼ円形状であることを特徴とし,かつ該反射防止膜を構成する層のうち少なくとも一層に,二種以上の材料が使用する波長に対して細かい構造を成す微細構造層を有し,かつ該光学面の径方向を第一の方向とし,かつ周方向を第二の方向とし,かつ該光学面の法線方向を第三の方向としたとき,以下の条件を満たすことを特徴とする光学素子。微細構造層をなす材料のうち,屈折率が最も高い材料の第一の方向に対する充填率a微細構造層をなす材料のうち,屈折率が最も高い材料の第二の方向に対する充填率b微細構造層をなす材料のうち,屈折率が最も高い材料の第三の方向に対する充填率ca<b<c請求項5から6のいずれか一項に記載の光学素子であって,各条件を満たす範囲が,前記光学面のうち50以上の面積を占めることを特徴とする光学素子。請求項5から7のいずれか一項に記載の光学素子であって,前記aもしくはbのいずれかもしくは両者が第三の方向に対して変化することを特徴とする光学素子。請求項1から8のいずれか一項に記載の光学素子を有する光学装置。しかしながら,従来の方法で反射防止性能を付与すると特性が不十分で,余剰光の反射はフレアなどが問題となっていた。また,光学異方性膜を有効利用した反射防止膜の構成は開示されていなかった。そこで,本発明の目的は光学異方性の膜を有効利用することで,従来の方法では得られなかった高性能な反射防止膜を提供することを目的とする。上記目的を達成するために,本発明は,少なくとも一面以上の光学面を有する光学素子であって,該光学面の少なくとも一面に反射防止膜が形成されていることを特徴とし,かつ該反射防止膜を構成する層のうち少なくとも一つが光学異方性を有する光学干渉層であることを特徴とし,かつ該光学異方性を有する光学干渉層層は0度で入射する偏光よりも30度で入射する偏光の方が屈折率が高いことを特徴とする。本発明によれば,従来の方法では得られなかった斜入射特性に優れた反射防止機能が提供できる。以下に,本発明の好ましい実施の形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。図1は,本発明の実施形態にかかわる基本構成図である。基板012上に薄膜層011が成膜されている。薄膜層011は光学干渉層であり,両界面で反射した光が干渉する程度の厚みを持つ。また,薄膜層011は光学異方性を持つことを特徴としている。光学異方性とは,入射する偏光の振動方向によって屈折率が異なる性質のことを指す。これを利用すると,例えば同方向に入射する光であっても偏光の振動方向によって振舞いを変えることが可能となる。このような性質を持つ材料は,水晶,方解石などの結晶材料,液晶材料,またはプラスチック,高分子などの有機材料などが主に挙げられる。これらの材料は全て光学異方性を持ち,その異方性の程度は偏光の振動方向に対する屈折率で表される。光学異方性の程度は屈折率楕円体で表現されることがある。屈折率楕円体とは,様々な方向に振動する偏光の屈折率を模式的に表したものであり,中心からの距離がそのまま屈折率を表す形となる。013は薄膜層011の屈折率楕円体である。これはy方向に振動する光よりもz方向に振動する光の方が屈折率が高い膜であることを表している。本発明は,0度で入射する偏光例えばy方向に振動する偏光よりも30度で入射する偏光のほうが屈折率が高いことを特徴としている。これは二つの理由から説明できる。図2は等方性の入射媒質021と光学異方性を持つ射出媒質022の界面の模式図である。ここで,023は入射媒質021の屈折率楕円体,024は射出媒質022の屈折率楕円体,025は入射P偏光の模式図,026は屈折P偏光の模式図,027は反射P偏光の模式図である。また,屈折率楕円体023の屈折率はni,屈折率楕円体024の屈折率はntであり,かつ偏光の振動方向によって屈折率が変わる。各偏光023,024,025はポインティングベクトルS,電場ベクトルE,磁場ベクトルHを表している。界面での振幅反射率はフレネル係数rで与えられる。P偏光におけるフレネル係数rpは以下の式1で表される。ここで入射媒質を等方性とした場合,ni=nrが成り立つため,式1は式2のように簡略化できる。ここで重要なのは,射出媒質022が異方性であるため,θiとθtは単純なスネルの法則で求められないということである。一般的に,入射角度が大きくなると屈折率が大きくなる異方性媒質の場合,θtはスネルの法則で求められる値よりも小さくなる。一方,入射角度が小さくなると屈折率が小さくなる異方性媒質の場合,θtはスネルの法則で求められる値よりも大きくなる。rpの解析例を図3に示す。直線は等方性の媒質のrp,点線は入射角が大きくなると屈折率が大きくなる異方性媒質のrp,一点鎖線は入射角が大きくなると屈折率が小さくなる異方性媒質のrpである。これを見ると,rpは負の値から始まり,ある角度でrpは0になってから正の値を持つ。rpが0になる角度をブリュースター角と呼び,異方性を持つことでこの角度が変わっていることがわかる。つまり一般的に反射防止膜として必要とされるブリュースター角以下の入射角でのrpは,入射角が大きくなると屈折率が大きくなる異方性媒質のほうが小さいことがわかる。また,反射率を決めるもう一つの要素が光学干渉層の光路長である。光を波として捉えると,この光路長の大きさで波同士の干渉の仕方が変化する。光学干渉層の屈折率をn,厚みをd,干渉層の法線と光線のなす角をθtsとしたとき,光路長差Aは以下の式3で表される。光路長差Aは入射角が大きくなると徐々に小さくなる。光路長のずれはそのまま干渉の程度がずれることを意味するため,斜入射で特性が低下する要因の一つとなる。それに対して,入射角が大きくなると屈折率が高くなる異方性媒質の場合,屈折率が高くなるために光路長Aのうちcosθtsが小さくなってもnが大きくなるために光路長差が大きくは変化しないというメリットがある。以上のrpが小さくなる,また光路長差の変化を抑えられるという二点の理由で,斜入射における反射防止性能が良い膜を得ることができる。また,その異方性が強いほど斜入射の特性はより補正される方向になるため,反射率をより低反射にすることができる。通常の光学素子の場合,全ての方向に同じように光線がとおるわけではない。例えば矩形型の光学素子の場合,ほぼ全ての場合で素子の長辺方向はより入射角度のきつい光線が通りやすい。一方,短辺方向は光束が制約されるために入射光の入射角度も制限される。また,球状の円形レンズの場合,曲面の径方向には入射角度のきつい光が入りやすい一方,周方向には入射角度のきつい光束は入りにくい。このように,光学素子の多くはその形状に伴って光線の入射角度が変わってくる。そこで,光学素子の形状に合わせて光学異方性を持たせることで,素子としての光線の透過率を最適化できる。また,光学素子として考えた場合,全方位面で上記の条件を満たす必要は無い。反射防止膜が適用された面の面積の少なくとも50以上,好ましくは70以上が上記条件を満たすことで,反射防止性能向上の効果は十分に発揮できる。他に光学異方性を有する光学干渉層を得る方法として,使用する光の波長よりも十分に細かい構造が挙げられる。使用する光の波長よりも十分に細かい構造では,入射する光はその構造そのものは認識できずに均一な媒質のように振舞うことが知られている。その場合,光はその構造を平均化したような特性を持つ。また,構造そのものに異方性を持たせることで光学的な振舞いも異方性を持つ膜のように振舞うことが知られている。これは一般的に構造異方性と呼ばれている。微細構造層の一例を図4に示す。ここで041は微細構造層,042は微細構造層をなす構造部,043は空隙部である。ここでは例として構造部と空隙部の二種の材料からなる微細構造層を挙げたが,三種以上の材料,もしくは空隙の無い構造にしてもかまわない。微細構造層041はy方向に周期的であり,かつxz方向に連続的である。このとき,構造部のy方向の大きさaと空隙部のy方向の大きさbから,周期性abは使用する光の波長よりも十分に細かいことを特徴としている。また,ここではy方向に周期的な構造を例としてあげたが,全体的な構造の大きさが使用する波長以下であれば,非周期な構造でもかまわない。この微細構造層041の光学的な異方性の程度は,有効屈折率法と呼ばれる方法で求められる。構造部042の屈折率をno,構造充填率Fff=a/abとすると,x方向の屈折率nxは以下の式4で表される。また,同様にyz方向の屈折率nyzは以下の式5で表される。このように,構造を変化させることで異方性の程度を変化させることができる。また,本発明ではこの微細構造層が以下の式6を満たすことを特徴としている。a<b<c式6ここで,微細構造層をなす材料のうち,屈折率が最も高い材料の第一の方向に対する充填率をa,第二の方向に対する充填率をb,屈折率が最も高い材料の第三の方向に対する充填率をcとしている。これは,第一の方向の充填率が最も低くなることで,第一の方向に振動する光の反射率をより効果的に補正させる意味を持つ。つまり,この構成にすることで,微細構造を用いた反射防止膜では,より効果的な構成が得られると考えられる。以下,実施例により本発明を具体的に説明する。本実施例では可視域を例にあげて記述するが,本発明は掛かる実施例に限定されるものではない。6cm×4cmの長方形の基板を用意した。素子の上面図を図5に示す。ここで051は基板,052は長辺方向であり第一の方向,053は短辺方向であり第二の方向である。基板051の屈折率は波長550nmで1.53だった。その表面に一軸性の異方性膜を成膜し,面内方向xy方向に振動する光の屈折率は1.38,法線方向z方向に振動する光の屈折率は1.50だった。また物理膜厚は100nmだった。波長55nmでの入射角に対するP偏光の反射率特性を図6に示す。ブリュースター角が45度付近となり,反射率が低下している様子がわかる。6cm×4cmの長方形の基板を用意した。素子の模式図を図5に示す。基板051の屈折率は波長550nmで1.53だった。その表面に異方性膜を成膜し,第一の方向052は屈折率1.38,第二の方向053は屈折率1.42,法線方向z方向は屈折率1.50だった。また物理膜厚は100nmだった。波長550nmでの入射角に対するP偏光の反射率特性を図7に示す。実線が第一方向052のP偏光反射率,破線が第二方向053のP偏光反射率である。第一の方向052のほうが異方性が強いためにブリュースター角までの反射率が低いことがわかる。直径30mmの凹曲面をもつレンズを用意した。素子の模式図を図8に示す。ここで081は基板,082は薄膜層,083は異方性膜,084は径方向であり第一の方向,085は周方向であり第二の方向である。基板081の屈折率は波長550nmで1.80だった。凹面に均質層082,異方性膜083を順に成膜した。均質層082の屈折率は2.3,物理膜厚は115nmだった。異方性層083の屈折率は第一の方向084に1.38,第二の方向085に1.42,法線方向に1.50だった。物理膜厚は95nmだった。波長550nmでの入射角に対するP偏光の反射率特性を図9に示す。実線が第一方向084のP偏光反射率,破線が第二方向085のP偏光反射率である。入射角30度までの範囲で,第一方向084の反射率が第二方向085方向に比べて低いことがわかる。6cm×4cmの長方形の基板を用意した。素子の上面図を図5に示す。基板051の屈折率は波長550nmで1.53だった。その表面に波長550nmで屈折率2.3のチタニア膜をピッチ120nmで加工した微細構造層を作成した。その微細構造層の模式図を図10に示す。ここで101は基板,102は微細構造層である。この素子で第一の方向はy方向,第二の方向はx方向である。微細構造層102は,第一の方向052に充填率0.5,第二の方向053に充填率0.7となるようにした。このときの実行屈折率は第一の方向052に1.24,第二の方向053に1.34,法線方向に1.58だった。物理膜厚は130nmだった。波長550nmでの入射角に対するP偏光の反射率特性を図11に示す。実践が第一方向052のP偏光反射率,破線が第二方向053のP偏光反射率である。異方性の強い第一方向052の特性が低下している様子がわかる。また,本実施例では法線方向に第一の方向の充填率,および第二の方向の充填率を一定とした場合を述べた。また,図12のように法線方向z方向に対して,光学面内方向xy方向の充填率が変化してもかまわない。この場合,微細構造層の充填率の式6は,微細構造層の各方向に対する充填率の平均値を比較する必要がある。"