電子線源と前記電子線源から放出された電子を電子線として試料に対して照射する電子光学系と前記試料を透過した電子線を検出する検出器と前記電子光学系の収差を補正する収差補正器とを備えた鏡体と、前記鏡体内の前記各構成要素を制御する制御ユニットと、前記検出器の検出信号を処理する情報処理装置とを備えた走査透過電子顕微鏡において、前記情報処理装置は、前記検出器により取得されたロンチグラムを複数領域に分割し、前記複数領域毎に求まる軸外デフォーカスと、前記ロンチグラム中心から前記複数領域の中心までの距離とから、軸上2次コマ収差の大きさと方向を反映した特徴ベクトルを算出することを特徴とする走査透過電子顕微鏡。請求項1に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記試料はアモルファス試料であり、前記複数領域毎に求まる前記軸外デフォーカスは、前記複数領域に対してそれぞれ計算された自己相関関数の強度分布の等高線を表す楕円の面積の-1/2乗として近似されることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。請求項1に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記試料は、大きさの揃った微粒子試料であり、前記複数領域毎に求まる前記軸外デフォーカスは、前記複数領域でのそれぞれの前記微粒子の面積の-1/2乗として近似されることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。複数のレンズにより構成される収差補正器と、前記収差補正器により収差の補正された電子線を試料に対して走査する電子光学系と、前記試料を透過した電子線を検出する検出器と、前記検出器の検出信号を処理して走査透過電子線像を形成する情報処理装置を備えた走査透過電子顕微鏡において、前記検出器により取得されたロンチグラム及び軸上2次コマ収差の大きさと方向を反映した特徴ベクトルを表示する画像表示手段を備えたことを特徴とする走査透過電子顕微鏡。請求項4に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記画像表示手段は、特徴ベクトルと共に基準円を表示するものであることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。請求項5に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記特徴ベクトルは、前記基準円の外と内にある場合で色を変えて表示されるものであることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。請求項1に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記制御ユニットは、軸上2次コマ収差のX成分、Y成分を増減する増減手段に接続され、前記増減手段からの入力に基づき前記収差補正器を制御することにより、軸上2次コマ収差の補正を行うものであることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。請求項7に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記増減手段は、前記特徴ベクトルのX成分が最小となるように前記軸上2次コマ収差のX成分を増減し、前記特徴ベクトルのY成分が最小となるように前記軸上2次コマ収差のY成分を増減するものであることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。請求項1に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記複数領域は、前記複数領域の各々の中心座標について、X成分に関する和、及びY成分に関する和がそれぞれゼロになることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。請求項9に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記複数領域は、中心を除く3×3のマトリックス領域であることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。収差を測定する方法は特許文献1以外にも様々なものが考案されており、上記特許文献を含め、それらのほとんどが電子線の照射角度やフォーカスを変えて取得した複数の電子顕微鏡像を必要とする。そして、収差を測定する時間の大部分が、それら複数の電子顕微鏡像を取得する時間に費やされる。このため、電子光学系に残存する低次収差が大きい収差補正の初期段階においては、数秒から数分を要する収差測定に頼らずに、装置の使用者が電子顕微鏡像の目視により低次収差を補正している。この目視による低次収差の補正は、主に軸上1次非点収差A1と軸上2次コマ収差B2について行われる。軸上1次非点収差A1の補正では、アモルファス試料で取得された電子顕微鏡像のフーリエ変換パターンの形状や、適当な試料を用いて取得されたロンチグラムの中央付近に見られる歪みの形状が補正の指針となる。これらの指針では、上記フーリエ変換パターンや歪みの真円度からA1の大きさを比較的容易に判断できる。一方、軸上2次コマ収差B2の補正では、ロンチグラムの歪みの偏り具合が指針となるが、その判断にはある程度の熟練を要するために、A1の場合ほど効率的な補正が行えないという課題がある。本発明の目的は、軸上2次コマ収差を短時間で効率的に補正することのできる走査透過電子顕微鏡を提供することにある。上記課題を解決するために、本発明では、ロンチグラムを複数の領域に分割し、各々の領域の中心位置座標ベクトルと当該位置座標における軸外デフォーカスから計算される特徴ベクトルから軸上2次コマ収差の補正条件を求める。本発明では、あるフォーカスで取得された1枚のロンチグラムから上記特徴ベクトルを計算できるため、ロンチグラムの取得直後1秒以内にGUIを介して軸上2次コマ収差の補正条件を装置の使用者に提示することが可能となる。これにより、GUI上に併せて表示されるロンチグラムで補正の効果を確認しながら、軸上2次コマ収差の補正を短時間で効率的に行うことができる。以下、実施例により説明する。第1の実施例について、図を用いて説明する。まず、図1を用いて、本実施例におけるロンチグラムの取得方法について説明する。ロンチグラムとは、電子線の走査を停止し、絞りを開放もしくは孔径の大きな絞りを用いた場合に試料下面で観察される像で、場所により倍率が異なり、収差情報が含まれる。図1は透過電子顕微鏡/走査透過電子顕微鏡におけるロンチグラム取得時の、試料周辺の光学系を示す模式図である。簡単のため、収差としては3次球面収差のみを考慮する。図1において、符号101は対物前磁場レンズ、符号102は対物前磁場レンズ101に入射する電子線の光軸、符号103は試料が配置される試料面、符号104はロンチグラムが観察される像面である奥行きを持たせて書いてある。通常、対物前磁場レンズ101の中心軸と光軸102とは一致するように調整されている。対物前磁場レンズ101の作用により軌道が曲げられた後の電子線が光軸102となす角度を収束角τと定義する。収差の影響により、収束角毎に、すなわち対物前磁場レンズ101の中心軸から異なる距離を通った電子線毎に、焦点を結ぶ高さが異なる。光軸102に沿って測った試料面103と像面104との距離を一定としたとき、像面104に投影される像の倍率は焦点を結ぶ高さと試料面103との距離の関数となるので、ロンチグラムは収差の影響を反映して場所毎に倍率が異なる歪んだ像となる。図1に示した電子線a-a’より光軸102に近い位置を通る電子線は全て試料面103上に焦点を結ぶとすると、ロンチグラム中には倍率が無限大の像に対応したコントラストが一様な領域105が観察される。図1に示すように、ロンチグラム上の位置座標は収束角τと対応しているので、今後ロンチグラム上の位置座標ベクトルをτ=t×expiφと複素数を使って表示する。すなわち、ロンチグラムを2次元直交座標上に配置したとき、X座標はτの実部Re[τ]=t×cosφ、Y座標はτの虚部Im[τ]=t×sinφで与えられる。次に、図2abを用いて、ロンチグラムの倍率とデフォーカスとの関係を説明する。図2aは収差のない場合の光学系を示している。ここで、図2aに示すような電子線束201a、201b、201cと、等間隔な縞模様を持った仮想的な試料202を考える。どの電子線束も試料面103からC10だけ離れた位置に焦点を結び、像面104に投影される像203の倍率Mは一様にM=C10L/C10となる。すなわち、試料は一様に拡大され、縞模様は等間隔のままである。図2bは3次球面収差がある場合の光学系を示している。図2bに示すような電子線束204a、204bを考えると、それぞれの電子線束が焦点を結ぶ高さは収束角=ロンチグラム上の位置座標の関数となり、これを軸外デフォーカスC1τ1と呼ぶ。図2bに示すように、C1τ1<C1τ2となるので、電子線束204aが投影する像の倍率M1=C1τ1L/C1τ1と、電子線束204bが投影する像の倍率M2=C1τ2L/C1τ2との関係はM1>M2となる。すなわち、投影された像205の縞模様の間隔は一定ではない。このように、ロンチグラムは場所毎に倍率Mが異なり、Mは軸外デフォーカスC1τと、試料面と像面との距離Lで決まる。ここでLは試料面と像面の間に配置される投影レンズの倍率で決まり、通常はL>>C1τである。図3aにC1τとMとの関係を、図3bにC1τとM-1との関係を示す。C1τに対するMの変化は図3aに示すようなC1τの逆数関数となり、M-1のそれは図3bに示すようなC1τの比例関数となる。次に、ロンチグラム上の位置座標ベクトルτと、当該位置座標における軸外デフォーカスC1τから軸上2次コマ収差の特徴ベクトルを求める原理について説明する。C1τは軸上τ=0の収差係数を使って表され、軸上の収差係数として5次まで考慮した場合にはと表される。ここで右辺のC1は軸上デフォーカス、B2は軸上2次コマ収差、C3は3次球面収差、S3は3次スター収差、B4は軸上4次コマ収差、D4は4次三つ葉収差、C5は5次球面収差、S5は5次スター収差、R5は5次ロゼッタ収差と呼ばれる。は複素共役を取ることを表している。ここで、図4a矩形配置とした場合、図4b円形配置とした場合に示すように、ロンチグラム上の任意の位置座標ベクトルτ=t×expiφ-π≦φ≦πに対して、ロンチグラム中心について点対称位置にある位置座標ベクトル-τ=t×expiφπが存在するτの集合S={τ|∀τ∈S∃-τ∈S}を取ったとき、収束角τと軸外デフォーカスC1τとの積から定義される合成ベクトルW≡Στ∈S{τ×C1τ}は、図4aに示す矩形配置の場合図4bに示す円形配置の場合と表される。ここでt1として微小な量を選ぶことで式2、式3の第2項が無視でき、軸上2次コマ収差B2が含まれる第1項が残る。すなわち、ロンチグラムの中心付近の領域について計算された特徴ベクトルWは、軸上2次コマ収差B2を反映した特徴ベクトルとなる。軸外デフォーカスC1τの値を正確に求めるためには電子線の照射角度やフォーカスを変えて取得した複数の電子顕微鏡像を用いる公知の収差測定を行う必要があるが、図3bに示したように、ロンチグラムの局所的な倍率の逆数が軸外デフォーカスC1τに比例することを利用すれば、ロンチグラムの局所的な領域から倍率の情報を抽出することで軸外デフォーカスC1τの近似値を求めることができる。図5aはアモルファス試料を用いて取得されたロンチグラムから軸外デフォーカスC1τの近似値を計算する例を示している。図5a-1に示すようにロンチグラムの中心付近を格子状の複数領域に分割し、各々の領域について自己相関関数を計算する図5a-2。計算された自己相関関数の強度分布の等高線を表す楕円の面積をσとしたとき、σ-1/2が当該領域における軸外デフォーカスC1τの近似値となる。なお、ここでは複数領域を矩形配置としたが、複数領域は、その複数領域の各々の中心座標について、X成分に関する和、及びY成分に関する和がそれぞれゼロになるように配置されていればよい。したがって、図5a-1では複数領域として中心を除く3×3マトリクス領域8領域としたが、例えば、4×4マトリクスから中心の2×2マトリクスを除いた領域12領域とすることもできる。さらに領域の数を増やすことにより、方位角の精度が上がる。但し、上記中心を除いた3×3マトリクス領域8領域が、中心近傍である点、領域数の点で実用的である。図5bは微粒子試料を用いて取得されたロンチグラムから軸外デフォーカスC1τの近似値を計算する例を示している。図5b-1に示すようにロンチグラムの中心付近を格子状の複数領域に分割し、各々の領域について像強度の等高線を表す楕円を抽出する図5b-2。この楕円の面積微粒子の面積に相当をρとしたとき、ρ-1/2が当該領域における軸外デフォーカスC1τの近似値となる。なお、微粒子の大きさのバラツキは±10以内3σが望ましい。上述の方法で求められるそれぞれの軸外デフォーカスC1τは、分割された領域同士の相対値にのみ意味があり絶対値は任意スケールとなるが、本発明の目的を達成するためには十分である。何故なら、軸外デフォーカスC1τから求められる特徴ベクトルWは軸外デフォーカスC1τの大きさを荷重と見なしたときの重心ベクトルに相当し、その偏り具合にB2の情報が反映されるためである。すなわち、軸外デフォーカスC1τの相対値さえ正しければ、特徴ベクトルWの方向と軸上2次コマ収差B2の方向は一致する。特徴ベクトルWの大きさは、軸外デフォーカスC1τを求めた方法毎に較正しておけばよい。特徴ベクトルWと軸上2次コマ収差B2の関係を調べた一例を図6に示す。これは、軸上2次コマ収差B2の角度を一定-114degとして軸上2次コマ収差B2の大きさを増やしていったときの、アモルファス試料から得られるロンチグラムのシミュレーション像から、図4aの座標でt1=10mradとして計算したものである。特徴ベクトルWの角度は-120±6度であり、軸上2次コマ収差B2の角度とほぼ一致する。また、軸上2次コマ収差B2の大きさと特徴ベクトルWの大きさとの間には比例関係が認められる。従って、特徴ベクトルWの角度を軸上2次コマ収差B2の角度と見なし、軸上2次コマ収差B2の大きさと特徴ベクトルWの大きさの比例関係を事前に較正しておくことで、特徴ベクトルWから軸上2次コマ収差B2の補正条件を算出することが可能となる。次に、取得したロンチグラムから特徴ベクトルWを求めるための装置の構成例について説明する。本実施例の走査透過電子顕微鏡の外観構成を図7に示す。装置は主に走査透過電子顕微鏡の鏡体701、制御ユニット702、情報処理装置703、ディスプレイ704から構成される。情報処理装置703には、使用者の入力を受け取る入力手段例えば、キーボード705とマウス706が接続される。また、制御ユニット702には、軸上2次コマ収差B2を補正するための制御卓707が接続される。軸上2次コマ収差B2を補正する手法自体は公知であり、例えば特許文献2に記載されている。これらの方法を用いることで、X成分調整つまみ708とY成分調整つまみ709を介してB2のX成分とY成分をそれぞれ補正することができる。尚、制御卓707は、ディスプレイ704上に表示されるGUIGraphicalUserInterfaceで仮想的に実現しても良い。図8に、図7で示した走査透過電子顕微鏡の鏡体701の内部構成を示す。電子線源801から出射された電子線は802a、802b、802cに示す静電レンズにより所定の加速電圧まで加速される。所定の加速電圧まで加速された電子線は803a、803bの集束レンズにより縮小される。集束レンズ803bの下部にある集束絞り804を通った電子線は、収差補正器805を通ることで、球面収差などの収差が補正される。収差補正器805自体は公知であり、多段の多極子レンズ、回転対称レンズ、及び偏向コイルで構成されており、多極子レンズの各極子、及び回転対称レンズの励磁電流を制御することで収差の補正量を調整できる。収差補正器805を通過した電子線は、対物前磁場レンズ807により試料808上に集束され、プローブを形成する。試料808を透過散乱した電子線は対物後磁場レンズ809により試料808下部に電子線回折像を形成し、投影レンズ810によりカメラ814に投影される。暗視野像あるいは明視野像を撮影するときには、収差補正器805の下部にあるスキャンコイル806a、806bにより電子線プローブを試料上で走査させ、それに同期して暗視野像検出器812もしくは明視野像検出器813での信号を像強度に輝度変調して取得する。投影レンズ810の下部に設置したアライメントコイル811は、暗視野像検出器812、明視野像検出器813、カメラ814に対する軸合わせのために用いる。明視野像検出器813は光軸上に設置してあるため、カメラ814を使用する際には光軸上から取り除くことができるような可動機構を備えている。一連の操作における全てのレンズ、コイル、検出器の制御は、情報処理装置703が制御ユニット702を介して行い、ディスプレイ704、キーボード705、マウス706等のユーザーインターフェースを通じて操作者が条件を設定することができる。図9に、軸上2次コマ収差B2の補正を行う際のGUIの一例を示す。まず、本GUIを用いて手動で軸上2次コマ収差B2の補正を行う手法について説明する。装置の使用者は特徴ベクトル表示部902に表示される特徴ベクトル903とそのX成分906とY成分907を見ながら、B2のX成分の増減ボタン908、909とB2のY成分の増減ボタン910、911、あるいは同等の機能を有するX成分調整つまみ708とY成分調整つまみ709を用いて、特徴ベクトル903が基準円904内に収まるように調整を行う。このとき、特徴ベクトル903が基準円904の外と内にある場合で特徴ベクトル903の色を変えて表示することにより、調整の成否が視覚的に明らかにできる。尚、基準円904の大きさは基準円設定テキストボックス905を介して自由に設定できる。調整を行った結果はロンチグラム表示部901と特徴ベクトル表示部902、及びそのX成分906とY成分907に直ちに反映され1秒以内、装置の使用者は調整の効果を確かめながら軸上2次コマ収差B2の補正を行うことができる。即ち、特徴ベクトルを用いることにより、効率的な軸上2次コマ収差の補正が可能となる。次に、本GUIを用いて軸上2次コマ収差B2の補正を自動で行う手法について、フローチャート図10を用いて説明する。装置の使用者は、B2のX成分を補正する刻み幅以下αとするとY成分を補正する刻み幅以下βとするをGUI上のテキストボックス912と913を介して設定しておく。補正実行ボタン914を押すと、まずB2のX成分が-側にαだけ補正されるS1。もし、特徴ベクトルのX成分が小さくなればS2、引き続きB2のX成分を-側にαだけ補正しS3、特徴ベクトルのX成分の符合が反転するまでS4S3を繰り返す。符合の反転が起こったときには補正が行き過ぎたことになるので、B2のX成分を側にαだけ補正するS5。ステップS1の後に特徴ベクトルのX成分が大きくなった場合には、ステップS3~S5の場合と補正の符合を反転させたステップS6~S8が行われる。以上、ステップS1~S9で軸上2次コマ収差B2のX成分が補正され、Y成分についても同様の手順がステップS9~S16で行われることで軸上2次コマ収差B2の補正が完了する。尚、ステップS2とステップS10で特徴ベクトルのX成分とY成分がそれぞれ減少する方向を判定する必要があるのは、ロンチグラムを取得するときのデフォーカスの符合が反転すると特徴ベクトルの方向がほぼ180度反転するためである。従って、ロンチグラムを取得するときのデフォーカスを固定しておき、軸上2次コマ収差B2のX成分とY成分それぞれの増減と、特徴ベクトルのX成分とY成分それぞれの増減との対応をあらかじめ調べておけば、ステップS2とステップS10での分岐は不要になる。図11abは図10に示したフローチャートに基づいて軸上2次コマ収差B2が補正される過程の一例について、特徴ベクトルとロンチグラムの変化を示したものであり、aはX成分、bはY成分を示す。図11aのX1を初期状態とする。初期状態からB2のX成分を-側にα=100nmだけ補正するとX0になり、このとき特徴ベクトルのX成分は-側に増加する。つまり補正の方向が逆だったことになるので、B2のX成分を側にαだけ補正していく。特徴ベクトルのX成分は、X3まで符合が負で大きさが減少していき、X4になると符合が正に反転する。よって、X4の一歩手前のX3で特徴ベクトルのX成分が最小となったと判断し、このX3をY成分補正の初期状態Y0とする。次に、B2のY成分を-側にβ=100nmだけ補正すると図11bに示すようにY1となり、特徴ベクトルのY成分は減少する。つまり補正の方向は正しいことになるので、そのまま特徴ベクトルのY成分の符合が負に反転するまでB2のY成分を-側にβだけ補正し続ける。符合の反転したY5の一歩手前のY4で特徴ベクトルのY4成分が最小となったと判断し、B2の補正が完了する。図11aでは、X3で特徴ベクトルのX成分が最小になると判断したが、実際はX3とX4の中間辺りで特徴ベクトルのX成分が最小になっているように見える。このようなズレは、X成分を補正する刻み幅αとY成分を補正する刻み幅βが大きいほど顕著になる。この問題は、図12abに示すように、B2のX成分及びY成分の補正量に対する特徴ベクトルのX成分及びY成分の変化をグラフにし、縦軸が0になる横軸の値をフィッティングと内挿または外挿により求めることで解決できる。次に、走査透過電子顕微鏡における全収差の補正の手順について説明する。収差補正としては従来から、1次収差補正、2次コマ収差補正、3次収差補正、及び残存収差補正が行われている。図13は収差補正のフローチャートであり、本実施例に係る2次コマ収差補正と公知技術による収差測定、及び補正方法と組み合わせて使う場合のフローチャートを示している。まず、ステップS131として、従来の方法により1次収差補正を行う。次いで、本実施例に係る方法により2次コマ収差の補正を行うステップS132。次いで、従来の方法により収差を測定しステップS133、3次収差が許容範囲よりも大きいか確認ステップS134し、大きい場合には3次元収差補正ステップS135の後、ステップS131へ戻り、ステップS132、ステップS133を繰り返す。3次収差が許容範囲であれば従来の方法により残存収差を補正ステップS136して補正終了となる。一般的に、3次収差の補正を行った後には1次収差と2次収差、特に軸上1次非点収差A1と軸上2次コマ収差B2が大きく発生する。これらを残したまま収差測定を行っても測定精度が出ないため、収差測定の前に軸上1次非点収差A1と軸上2次コマ収差B2をある程度補正しておく必要がある。本実施例は、軸上2次コマ収差B2を素早く補正する方法を提供し、公知技術と組み合わせることによって収差補正のプロセスを素早く完了できる。以上述べたように、本実施例によれば、特徴ベクトルは軸上2次コマ収差で近似されるため、特徴ベクトルを用いることにより、軸上2次コマ収差を短時間で効率的に補正することが可能な走査透過電子顕微鏡を提供することができる。以上、本願発明を詳細に説明したが、以下に主な発明の形態を列挙する。1電子線源と前記電子線源から放出された電子を電子線として試料に対して照射する電子光学系と前記試料を透過した電子線を検出する検出器と前記電子光学系の収差を補正する収差補正器とを備えた鏡体と、前記鏡体内の前記各構成要素を制御する制御ユニットと、前記検出器の検出信号を処理する情報処理装置とを備えた走査透過電子顕微鏡において、前記情報処理装置は、前記検出器により取得されたロンチグラムを複数領域に分割し、前記複数領域毎に求まる軸外デフォーカスと、前記ロンチグラム中心から前記複数領域の中心までの距離とから、軸上2次コマ収差の大きさと方向を反映した特徴ベクトルを算出することを特徴とする走査透過電子顕微鏡。2上記1に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記試料はアモルファス試料であり、前記複数領域毎に求まる前記軸外デフォーカスは、前記複数領域に対してそれぞれ計算された自己相関関数の強度分布の等高線を表す楕円の面積の-1/2乗として近似されることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。3上記1に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記試料は、大きさの揃った微粒子試料であり、前記複数領域毎に求まる前記軸外デフォーカスは、前記複数領域でのそれぞれの前記微粒子の面積の-1/2乗として近似されることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。4複数のレンズにより構成される収差補正器と、前記収差補正器により収差の補正された電子線を試料に対して走査する電子光学系と、前記試料を透過した電子線を検出する検出器と、前記検出器の検出信号を処理して走査透過電子線像を形成する情報処理装置を備えた走査透過電子顕微鏡において、前記検出器により取得されたロンチグラム及び軸上2次コマ収差の大きさと方向を反映した特徴ベクトルを表示する画像表示手段を備えたことを特徴とする走査透過電子顕微鏡。5上記4に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記画像表示手段は、特徴ベクトルと共に基準円を表示するものであることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。6上記5に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記特徴ベクトルは、前記基準円の外と内にある場合で色を変えて表示されるものであることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。7上記1に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記制御ユニットは、軸上2次コマ収差のX成分、Y成分を増減する増減手段に接続され、前記増減手段からの入力に基づき前記収差補正器を制御することにより、軸上2次コマ収差の補正を行うものであることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。8上記7に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記増減手段は、前記特徴ベクトルのX成分が最小となるように前記軸上2次コマ収差のX成分を増減し、前記特徴ベクトルのY成分が最小となるように前記軸上2次コマ収差のY成分を増減するものであることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。9上記1に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記複数領域は、前記複数領域の各々の中心座標について、X成分に関する和、及びY成分に関する和がそれぞれゼロになることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。上記9に記載の走査透過電子顕微鏡において、前記複数領域は、中心を除く3×3のマトリックス領域であることを特徴とする走査透過電子顕微鏡。