"Aチタンブラック粒子、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記Aチタンブラック粒子を含む被分散体のBET比表面積が20m2/g~120m2/gの範囲であり、且つ、前記Aチタンブラック粒子を含む被分散体がSi原子を含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有比が0.01~0.45の範囲であり、インクジェット法による塗布に用いられる、固体撮像素子の遮光膜形成用チタンブラック分散組成物。前記B分散剤が、水素原子を除いた原子数が40~10000の範囲であるグラフト鎖を有するグラフト共重合体である請求項1に記載の固体撮像素子の遮光膜形成用チタンブラック分散組成物。前記グラフト共重合体が、下記一般式1~一般式4で表される構造単位から選択された1種以上の構造単位を含む請求項2に記載の固体撮像素子の遮光膜形成用チタンブラック分散組成物。一般式1~一般式4中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Y1、Y2、Y3、及びY4は、それぞれ独立に2価の連結基を表し、Z1、Z2、Z3、及びZ4、は、それぞれ独立に1価の有機基を表す。R3は、直鎖若しくは分岐鎖を有するアルキレン基を表し、R4は水素原子又は1価の有機基を表す。n、m、p、及びqはそれぞれ1~500の整数を表す。一般式1及び一般式2において、j及びkは、それぞれ独立に、2~8の整数を表す。一般式3において、pが2~500のとき、グラフト共重合体中に複数存在するR3は互いに同じであっても異なっていてもよい。一般式4において、qが2~500のとき、グラフト共重合体中に複数存在するX5及びR4は互いに同じであっても異なっていてもよい。前記グラフト共重合体が、前記一般式1~一般式4で表される構造単位から選択された1種以上の構造単位を、該グラフト共重合体の総質量に対し、10質量~90質量の範囲で含む請求項3に記載の固体撮像素子の遮光膜形成用チタンブラック分散組成物。前記Aチタンブラック粒子の90以上が、粒径が15nm~30nmの範囲にある粒子である請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の固体撮像素子の遮光膜形成用チタンブラック分散組成物。請求項1~請求項5のいずれか1項に記載のチタンブラック分散組成物、D重合性化合物、及びE光重合開始剤を含有し、インクジェットで塗布される固体撮像素子の遮光膜形成用感放射線性組成物。請求項6に記載の感放射線性組成物を硬化して得られた固体撮像素子用遮光膜。請求項7に記載の固体撮像素子用遮光膜を備えた固体撮像素子。請求項6に記載の感放射線性組成物を、インクジェット記録装置を用いてシリコン基板上に塗布して感放射線性組成物層を形成する工程と、前記感放射線性組成物層をパターン状に露光する工程と、露光後の前記感放射線性組成物層を現像してパターンを形成する工程と、を有する遮光膜の製造方法。しかしながら、特許文献4には、具体的なインクジェット記録方法については開示されておらず、従来の感放射線性組成物では、インクジェット塗布に対する適性が十分ではなく、凹凸のある基板に対して均一な遮光膜を形成することは困難であった。このため、インクジェット記録装置により必要とされる領域に局所的に正確に塗布しうるとともに、凹凸のある基板に均一な塗布が可能な黒色の感放射線性組成物が望まれていた。本発明は、上記従来の状況に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、固体撮像素子が備える遮光膜の形成に用いられ、インクジェット塗布法で塗布され、凹凸のある基板においても均一な遮光膜の形成が可能な、固体撮像素子の遮光膜形成用の感放射線性組成物に好適なチタンブラック分散組成物及び該チタンブラック分散組成物を含有してなるインクジェット記録装置で塗布しうる感放射線性組成物を提供することにある。また、本発明の更なる目的は、凹凸のある基板においても均一な膜厚の遮光膜を備えた固体撮像素子を提供することにある。前記課題を解決するための手段は以下の通りである。<1>Aチタンブラック粒子、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記Aチタンブラック粒子を含む被分散体のBET比表面積が20m2/g~120m2/gの範囲であり、且つ、前記Aチタンブラック粒子を含む被分散体がSi原子を含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有比が0.01~0.45の範囲であり、インクジェット法による塗布に用いられる、固体撮像素子の遮光膜形成用チタンブラック分散組成物。<2>前記B分散剤が、水素原子を除いた原子数が40~10000の範囲であるグラフト鎖を有するグラフト共重合体である<1>に記載のチタンブラック分散組成物。<3>前記グラフト共重合体が、下記一般式1~一般式4で表される構造単位から選択された1種以上の構造単位を含む<2>に記載のチタンブラック分散組成物。一般式1~一般式4中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Y1、Y2、Y3、及びY4は、それぞれ独立に2価の連結基を表し、Z1、Z2、Z3、及びZ4は、それぞれ独立に1価の有機基を表す。R3及びR4はそれぞれ独立に、直鎖若しくは分岐鎖を有するアルキレン基を表し、R5は水素原子又は1価の有機基を表す。n、m、p、及びqはそれぞれ1~500の整数を表す。一般式1及び一般式2において、j及びkは、それぞれ独立に、2~8の整数を表す。一般式3において、pが2~500のとき、グラフト共重合体中に複数存在するR3は互いに同じであっても異なっていてもよい。一般式4において、qが2~500のとき、グラフト共重合体中に複数存在するX5及びR4は互いに同じであっても異なっていてもよい。<4>前記グラフト共重合体が、前記一般式1~一般式4で表される構造単位から選択された1種以上の構造単位を、該グラフト共重合体の総質量に対し、10質量~90質量の範囲で含む<3>に記載のチタンブラック分散組成物。<5>前記Aチタンブラック粒子の90以上が粒径が15nm~30nmの範囲にある粒子である<1>~<4>のいずれか1項に記載の固体撮像素子の遮光膜形成用チタンブラック分散組成物。<6><1>~<5>のいずれか1項に記載のチタンブラック分散組成物、D重合性化合物、及びE光重合開始剤を含有し、撮像素子部を有するシリコン基板上に設けられインクジェットで塗布される遮光膜形成用の感放射線性組成物。<7><6>に記載の感放射線性組成物を硬化して得られた固体撮像素子用遮光膜。<8><7>に記載の固体撮像素子用遮光膜を備えた固体撮像素子。<9><6>に記載の感放射線性組成物をインクジェット記録装置を用いてシリコン基板上に塗布して感放射線性組成物層を形成する工程と、前記感放射線性組成物層をパターン状に露光する工程と、露光後の前記感放射線性組成物層を現像してパターンを形成する工程と、を有する遮光膜の製造方法。本発明によれば、固体撮像素子が備える遮光膜の形成に用いられ、インクジェット塗布法で塗布され、凹凸のある基板においても均一な遮光膜の形成が可能な、固体撮像素子の遮光膜形成用の感放射線性組成物に好適なチタンブラック分散組成物及び該チタンブラック分散組成物を含有してなるインクジェット記録装置で塗布しうる感放射線性組成物が提供される。また、本発明によれば、凹凸のある基板においても均一な膜厚の遮光膜を備えた固体撮像素子を提供することができる。以下、本発明の遮光膜形成用のチタンブラック分散組成物、それを含有する感放射線性組成物について詳細に説明する。また、本発明の遮光膜形成用のチタンブラック分散組成物は固体撮像素子のみならず、固体撮像素子の一形態であるウエハレベルレンズ用の遮光膜にも好適である。ここでウエハレベルレンズは、撮像ユニットに備えられるレンズであって、基板上に存在する個々のレンズと該レンズの周縁部に設けられた遮光膜とからなるものを意味する。また、該ウエハレベルレンズからなる群をウエハレベルレンズアレイと称する。<遮光膜形成用のチタンブラック分散組成物、及びそれを含有する感放射線性組成物>本発明の遮光膜形成用のチタンブラック分散組成物以下、単に分散組成物とも称する。は、Aチタンブラック粒子、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記Aチタンブラック粒子を含む被分散体のBET比表面積が20m2/g~120m2/gの範囲であり、且つ前記Aチタンブラック粒子を含む被分散体がSi原子を含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有比が0.01~0.45の範囲であり、インクジェット法による塗布に用いられる、遮光膜形成用感放射線性組成物に好適である。また、本発明の遮光膜形成用感放射線性組成物以下、単に感放射線性組成物とも称する。は、本発明のチタンブラック分散組成物、D光重合性化合物、及びE光重合開始剤を含有し、インクジェット法により塗布される感放射線性組成物である。即ち、本発明の感放射線性組成物は、本発明のチタンブラック分散組成物を構成する、Aチタンブラック粒子、B分散剤、及びC有機溶媒を含有し、前記Aチタンブラック粒子を含む被分散体のBET比表面積が20m2/g~120m2/gの範囲であり、且つ前記Aチタンブラック粒子を含む被分散体がSi原子を含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有比が0.01~0.45の範囲であるものである。本発明のチタンブラック分散組成物はチタンブラックを含有する遮光性に優れた硬化膜を形成するための、インクジェット吐出適性に優れた感放射線性組成物に好適に使用される。本発明のチタンブラック分散組成物を含有する感放射線性組成物は、固体撮像素子における遮光膜、例えば、裏面遮光膜やウエハレベルレンズにおける遮光膜の形成に好適に用いられるが、さらに、所謂MEMSMicroElectroMechanicalSystemsと総称される、機械要素部品、センサー、アクチュエータ、電子回路を一つの基板、例えば、シリコン基板、ガラス基板、プラスチック基板などの基板上に集積化したデバイスにおける遮光膜形成用途など、インクジェット法により、遮光性に優れた、高解像度の遮光膜を形成するための各種用途にも適用することができる。以下、本発明のチタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物に含有される各成分について、固体撮像素子の遮光膜を形成する感放射線性組成物を例に挙げて順次説明する。以下、本発明のチタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物に含有される各成分について順次説明する。Aチタンブラック粒子本発明のチタンブラック分散組成物は、Aチタンブラック粒子を含有する。該チタンブラック粒子は、分散組成物中において被分散体として含有されるものであり、本発明においてはAチタンブラック粒子を含む被分散体のBET比表面積が20m2/g~120m2/gの範囲であり、且つ前記Aチタンブラック粒子を含む被分散体がSi原子を含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有比が0.01~0.45の範囲であることを要する。ここで、本発明におけるチタンブラック粒子を含む被分散体は、チタンブラック粒子が一次粒子の状態であるもの、凝集体二次粒子の状態であるものの双方を包含する。本発明における被分散体のBET比表面積は、以下のようにして測定した値である。本発明のチタンブラック分散組成物を任意の基板上に塗布し、乾燥した後遮光膜を設け、得られた遮光膜を基板から削り取り、得られた粉体を電気炉にて酸素雰囲気中で600°Cにて3時間処理することにより分散剤等の有機成分を熱分解除去する。カンタクローム社製Autosurb1MPを使用し、得られた粉体1gをマントルヒーターにて200°Cで12時間予備乾燥し、雰囲気ガスとしてN2を使用しBET3点法により比表面積を測定する。本発明における被分散体のBET比表面積は、20m2/g~120m2/gの範囲であるが、30m2/g~90m2/gの範囲が好ましく、55m2/g~84m2/gの範囲がより好ましい。BET比表面積が、この範囲よりも小さければ大きい粒子の沈降を生じてしまい、大きければ分散剤が不足して分散不安定になる。また、本発明における被分散体中のSi原子とTi原子との含有比Si/Tiは、0.01~0.45の範囲であるが、0.05~0.41の範囲であることが好ましい。この範囲であると、被分散体を使用したチタンブラック分散組成物の製造が容易であり、分散安定性が向上するために、例えば、インクジェット記録装置内に保存した場合でも粒子の沈降や凝集に起因するインクジェット吐出性の低下が抑制されるために、経時後でもインクジェット塗布法による均一な塗膜の形成が可能となり、高い遮光能を有する遮光膜が形成される。被分散体のBET比表面積を20m2/g~120m2/gの範囲にし、かつ、被分散体のSi/Tiを0.01~0.45の範囲とするためには、以下のような手段を用いることができる。例えば、酸化チタンとシリカ粒子とを、例えば、酸化チタン100gに対しシリカ粒子を12.5gの比で混合し、分散機を用いて分散することにより分散組成物を得て、この分散組成物を高温例えば、850~1000°Cにて還元処理することにより、チタンブラック粒子を主成分とし、SiとTiとを含有する被分散体を得ることができる。このときすでに還元処理済みのチタンブラックにシリカ粒子を混合するだけでは本発明の効果を奏するSiとTiとを含有する被分散体を得ることができない。また、例えば、特開2008-266045公報の段落番号00056及び同段落番号0016~0021に記載の方法に類似の方法により作製することができる。本発明の感放射線性組成物は、本発明のチタンブラック分散組成物に由来するAチタンブラック粒子からなる被分散体を含有する。該感放射線性組成物及びこれを硬化して得られた硬化膜遮光膜中に含有されるAチタンブラック粒子を含む被分散体についても、その被分散体のBET比表面積は20m2/g~120m2/gの範囲であり、また、被分散体中のSi原子とTi原子との含有比Si/Tiが0.01~0.45の範囲であり、その好ましい範囲についても、上述と同様である。本発明においては、Aチタンブラック粒子を含む被分散体のBET比表面積は20m2/g~120m2/gの範囲であり、また、被分散体中のSi原子とTi原子との含有比Si/Tiが0.01~0.45の範囲であることで、この被分散体を含む本発明の感放射線性組成物の保存安定性が良好であるために、インクジェット塗布適性が向上する。従って、該感放射線性組成物を用いて遮光膜をインクジェット塗布法により形成した際に、被塗布面に凹凸があった場合でも均一な遮光膜が形成される。また、上記のような被分散体は小粒径となる傾向があり例えば、粒径が30nm以下、さらにインクジェット記録方法による吐出性が向上する。また、この被分散体のSi原子が含まれる成分が増すことにより、被分散体と分散剤との相互作用が大きくなり、パターン成形した上面の現像液耐性が向上することによってパターン上面の表面荒れが低減するという利点をも有するものと推測している。また、チタンブラック粒子は、紫外から赤外までの広範囲に亘る波長領域の光に対する遮光性に優れることから、本発明のチタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物を用いて形成された遮光膜は優れた遮光性を発揮する。本発明のチタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物に含有される被分散体について、BET比表面積を20m2/g~120m2/gの範囲か否かを判断するには、前記した比表面積の測定方法を使用し、得られた比表面積が20m2/g~120m2/gの範囲か否かで判断すればよい。また被分散体中のSi原子とTi原子との含有比Si/Tiが0.01~0.45の範囲であるか否かを判断するには、下記に示す方法1-1又は方法1-2を用いる。<方法1-1>チタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物を、酸素雰囲気中で加熱処理し、Aチタンブラック粒子を含む被分散体を取り出した。チタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物を、20mg秤量し、ここに、HF0.1mL、HNO310aq.1mL、H2SO45aq.1mL、及びHCL3aq.1mLを添加し、マイクロウェーブ溶解を液温180°Cで行う。その後、この混合液に、H2Oを100mLになるまで加え、これをICP-OESAttom、商品名:SII社製に供し、元素分析を行う。得られた結果より、Si/Tiの質量比を算出する。<方法1-2>チタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物を、小型ロータリーキルン株式会社モトヤマ製を用いて酸素雰囲気中で700°Cに加熱し、30分間保持した後に冷却し、粉体を2g得て、得られた粉体を厚さ0.2mmのタングステン板上にのせ、これを、電子線加熱機構を具備した真空チャンバ内に設置し、真空度を10-5Torr以下として電子線加熱により1000°Cで30秒加熱処理する。加熱処理した粉体について、電界放出型走査電子顕微鏡S-4800商品名、日立テクノロジーズ社製及び、エネルギー分散型蛍光X線検出器INCAEnergyPentaFETx3商品名、Oxford社製を用いて、Si原子量、Ti原子量を求め、Si/Ti比を算出する。また、本発明の感放射線性組成物を硬化して得られた硬化膜遮光膜に含有される被分散体について、その被分散体中のSi原子とTi原子との含有比Si/Tiが0.01~0.45であるか否かを判断するには、下記に示す方法2を用いる。<方法2>遮光膜が形成された基板を割ることで、遮光膜の断面を作製し、この断面についてエネルギー分散型蛍光X線分析装置により、遮光膜表面におけるSi原子量とTi原子量を得ることができる。これらの量比を、遮光膜中のSi/Tiとして評価する。この際のエネルギー分散型蛍光X線分析としては、前記の走査型電子顕微鏡として日立ハイテクノロジー社製S-4800商品名、及び、エネルギー分散型蛍光X線検出器としてOxford社製INCAEnergyPentaFETx3商品名を同様に用いることができる。以下、Aチタンブラック粒子について、更に詳細に説明する。本発明においてAチタンブラック粒子とは、チタン原子を有する黒色粒子であり、好ましくは低次酸化チタンや酸窒化チタン等の黒色粒子である。チタンブラック粒子は、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、粒子表面を修飾することが可能である。粒子表面の修飾としては、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム等で被覆処理が可能であり、また、特開2007-302836号公報に示されるような撥水性物質での処理も可能である。先に述べたSi/Ti比はケイ素を含む表面処理により変動する場合もあるため、ケイ素化合物を含む表面処理においては、先に述べた添加量を調整する必要がある。Aチタンブラック粒子の市販品の例としては、チタンブラック10S、12S、13R、13M、13M-C、13R、13R-N、13M-T商品名:以上、三菱マテリアル株製、ティラックTilackD商品名:赤穂化成株製、MT-01、MT-10EX、MT-05、MT-100TV、MT-100Z、MT-150EX、MT-150W商品名:テイカ製などが挙げられる。Aチタンブラック粒子の製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法特開昭49-5432号公報に記載の方法、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを、水素を含む還元雰囲気中で還元する方法特開昭57-205322号公報に記載の方法、二酸化チタン又は水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法特開昭60-65069号公報、特開昭61-201610号公報に記載の方法、二酸化チタン又は水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法特開昭61-201610号公報に記載の方法などがあるが、これらに限定されるものではない。本発明に適用されるAチタンブラック粒子としては、個々の粒子の一次粒径及び平均一次粒径のいずれもが小さいものであることが好ましい。インクジェット塗布適性の観点からは、インクジェット記録装置のノズル詰まりを抑制する観点から、分散組成物に用いられるチタンブラック粒子は粒径が小さい方が好ましい。この粒径としては平均一次粒子径が小さい場合でも、大粒径の粒子が混在する場合には、当該粒子の存在に起因してノズル詰まりや吐出安定性の低下が懸念されるために、本発明において用いられるチタンブラック粒子からなる被分散体においては、90以上が、粒径が15nm~30nmの範囲にあるチタンブラック粒子を用いることが好ましい。本発明における被分散体の粒径とは、被分散体の粒子直径を意味し、粒子直径とは、粒子の外表面の投影面積と等しい面積をもつ円の直径である。粒子の投影面積は、電子顕微鏡写真での撮影により得られた面積を測定し、撮影倍率を補正することにより得られる。本発明の感放射線性組成物は、本発明のチタンブラック分散組成物に由来するチタンブラック粒子からなる被分散体を含有する。該感放射線性組成物及びこれを硬化して得られた硬化膜遮光膜中に含有されるチタンブラック粒子からなる被分散体についても、その90以上が15nm~30nmの粒径を有するものであることが好ましい。本発明においては、チタンブラック粒子からなる被分散体の90以上が15nm~30nmの粒径を有することで、本発明の感放射線性組成物を用いてインクジェット塗布法により遮光膜を形成する際に、インクジェット塗布時のノズル詰まりに起因する吐出不良が抑制される。また、遮光膜の形成領域外における感放射線性組成物由来の残渣物が低減されるという利点をも有する。なお、残渣物は、チタンブラック粒子、樹脂成分等の感放射線性組成物に由来する成分を含むものである。残渣物が低減される理由は未だ明確ではないが、粒径の小さい被分散体が、遮光膜の形成における未硬化の感放射線性組成物特に、チタンブラック粒子の除去性向上に寄与するためと推測している。本発明のチタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物に含有される被分散体について、その90が30nm以下の粒径を有するか否かを判断するには、下記に示す方法1を用いる。また、本発明の感放射線性組成物を硬化して得られた硬化膜遮光膜に含有される被分散体について、その90が15nm~30nmの粒径を有するか否かを判断するには、下記に示す方法2を用いる。<方法1>チタンブラック分散組成物又は感放射線性組成物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート以下、PGMEAとも略称する。により500倍に希釈し、カーボン薄膜上に滴下、乾燥させて投下型電子顕微鏡を用いて形態観察写真を撮影する。得られた写真から、粒子400個について外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、度数分布を評価する。<方法2>製膜された基板の断面を、走査型電子顕微鏡株日立ハイテクノロジーズ製、S-3400N商品名及びエネルギー分散型X線分析装置EDAX社製Genesis商品名により、形態観察写真及びTiとSiの元素マップを撮影する。得られた写真から、Ti元素が検出されている粒子400個について外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、度数分布を評価する。以下、チタンブラック粒子について、更に詳細に説明する。本発明においてチタンブラック粒子とは、チタン原子を有する黒色粒子であり、好ましくは低次酸化チタンや酸窒化チタン等の黒色粒子である。チタンブラック粒子は、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、粒子表面を修飾することが可能である。粒子表面の修飾としては、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム等で被覆処理が可能であり、また、特開2007-302836号公報に示されるような撥水性物質での処理も可能である。チタンブラック粒子の市販品の例としては、チタンブラック10S、12S、13R、13M、13M-C、13R、13R-N、13M-T商品名:以上、三菱マテリアル株製、ティラックTilackD商品名:赤穂化成株製などが挙げられる。チタンブラック粒子の製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法特開昭49-5432号公報に記載の方法、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを、水素を含む還元雰囲気中で還元する方法特開昭57-205322号公報に記載の方法、二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法特開昭60-65069号公報、特開昭61-201610号公報に記載の方法、二酸化チタン又は水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法特開昭61-201610号公報に記載の方法などがあるが、これらに限定されるものではない。本発明に適用されるチタンブラック粒子としては、一次粒径の小さいものであることが好ましい。本発明のチタンブラック分散組成物及び感放射線性組成物は、Aチタンブラック粒子を1種のみを含有するものであってもよく、2種以上を含有してもよい。また、本発明の効果を損なわない限りにおいて、Aチタンブラック粒子と共に、分散性、着色性等を調整する目的で、Cu、Fe、Mn、V、Ni等の複合酸化物、酸化コバルト、酸化鉄、カーボンブラック、アニリンブラック等からなる黒色顔料を、1種又は2種以上を組み合わせて、被分散体として併用してもよい。この場合、全被分散体中の50質量以上をチタンブラック粒子からなる被分散体が占めることが好ましい。また、後述するように、遮光性の調整等を目的として、本発明の効果を損なわない限りにおいて、Aチタンブラック粒子と共に、他の着色剤有機顔料や染料などを所望により併用してもよい。チタンブラック分散組成物中のAチタンブラック粒子の含有量は、分散組成物の全固形分に対し、5質量~60質量であることが好ましく、10質量~50質量であることが更に好ましい。また、感放射線性組成物中のAチタンブラック粒子の含有量は、感放射線性組成物の全固形分に対し、2.5質量~30質量であることが好ましく、5質量~20質量であることが更に好ましい。ここで分散組成物中の全固形分、及び感放射線性組成物中の全固形分とは、それぞれ分散物または感放射線性組成物に含まれる全質量から有機溶媒を除いた質量のことをいう。本発明においては、チタンブラック粒子を含む被分散体はSi原子を含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との質量換算による含有比Si/Tiが質量換算で0.01~0.45の範囲であることを要する。以下、被分散体にSi原子を導入する際に用いられる材料について述べる。被分散体にSi原子を導入する際には、シリカなどのSi含有物質を用いればよい。本発明に用いうるシリカとしては、沈降シリカ、フュームドシリカ、コロイダルシリカ、合成シリカなどを挙げることができ、これらを適宜選択して使用すればよい。シリカは市販品としても入手可能であり、例えば、新日鉄マテリアルズ製、HS-101、HS-102、HS-103、HS-104、HS-105、HS-106、HS-107、HS-201、HS-202、HS-203、HS-204、HS-205、HS-301、HS-302、HS-303、HS-304、HS-305商品名;宇部日東化成製、ハイプレシカSS、ハイプレシカTS、ハイプレシカBS、ハイプレシカSP、ハイプレシカFQ商品名;キャボット製、CAB-O-SIL登録商標LM-150、CAB-O-SIL登録商標LM-150、CAB-O-SIL登録商標S-17Dなどを用いることができる。さらに、シリカ粒子の粒径が本発明による遮光膜を形成した際に膜厚と同程度の粒径であると遮光性の低下を引き起こすため、シリカ粒子として微粒子タイプのシリカを用いることが好ましい。微粒子タイプのシリカの例としては、例えば、AEROSIL登録商標90、AEROSIL登録商標130、AEROSIL登録商標150、AEROSIL登録商標200、AEROSIL登録商標300、AEROSIL登録商標380、AEROSIL登録商標OX50、AEROSIL登録商標EG50、AEROSIL登録商標TT600、AEROSIL登録商標200SP、AEROSIL登録商標300SP、AEROPERL登録商標300/30、AEROSIL登録商標R972、AEROSIL登録商標R974、AEROSIL登録商標R104、AEROSIL登録商標R106、AEROSIL登録商標R202、AEROSIL登録商標R805、AEROSIL登録商標R812、AEROSIL登録商標R812S、AEROSIL登録商標R816、AEROSIL登録商標R7200、AEROSIL登録商標R8200、AEROSIL登録商標R9200、AEROSIL登録商標MOX80、AEROSIL登録商標MOX170、AEROSIL登録商標COK84、AEROSIL登録商標RY50、AEROSIL登録商標NY50、AEROSIL登録商標RY200、AEROSIL登録商標RY200、AEROSIL登録商標RX50、AEROSIL登録商標NAX50、AEROSIL登録商標RX200、AEROSIL登録商標RX300、AEROSIL登録商標R504、AEROPERL登録商標300/30、VPAEROPERL登録商標P25/20M05;触媒化成製S6、MA1004商品名、以下同様、MA1006、MA1010、MA1013、MX030W、MX050W、MX100W、KE-E30、KE-E40、KE-E50、KE-E70、KE-E150、KE-P10、KE-P30、KE-P50、KE-P100、KE-P150、KE-P250;新日鉄マテリアルズ製HS-101商品名、以下同様、HS-102、HS-103、HS-104、HS-105、HS-106、HS-107、HS-201、HS-202、HS-203、HS-204、HS-205、HS-301、HS-302、HS-303、HS-304、及びHS-305;宇部日東化成製、ハイプレシカSS商品名、以下同様、ハイプレシカTS、ハイプレシカBS、ハイプレシカSP、及びハイプレシカFQ;キャボット製、CAB-O-SIL登録商標、以下同様LM-150、CAB-O-SILLM-150、及びCAB-O-SILS-17Dなどを用いることができるがこれらに限定されない。B分散剤本発明のチタンブラック分散組成物及び感放射線性組成物はB分散剤を含有する。本発明におけるB分散剤としては、高分子分散剤例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリメタアクリレート、メタアクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、及び顔料誘導体等を挙げることができる。本発明におけるB分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、及びブロック型高分子に分類することができる。本発明におけるB分散剤は、チタンブラック粒子及び所望により併用する顔料等の被分散体の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。一方で、本発明におけるB分散剤は被分散体の表面を改質することで、分散樹脂の吸着を促進させる効果を有する。本発明に用いうるB分散剤の具体例としては、BYKChemie社製Disperbyk-101商品名、ポリアミドアミン燐酸塩、107商品名、カルボン酸エステル、110商品名、酸基を含む共重合物、130商品名、ポリアミド、161、162、163、164、165、166、170、180、190商品名、高分子共重合物、BYK-P104、P105商品名、高分子量不飽和ポリカルボン酸、EFKA社製EFKA4047、4050、4010、4165商品名、ポリウレタン系、EFKA4330、4340商品名、ブロック共重合体、4400、4402商品名、変性ポリアクリレート、5010ポリエステルアミド、5765商品名、高分子量ポリカルボン酸塩、6220商品名、脂肪酸ポリエステル、6745商品名、フタロシアニン誘導体、6750商品名、アゾ顔料誘導体、味の素ファインテクノ株製アジスパーPB821、PB822、共栄社化学株製フローレンTG-710ウレタンオリゴマー、ポリフローNo.50E、No.300商品名、アクリル系共重合体、楠本化成株製ディスパロンKS-860、873SN、874、2150商品名、脂肪族多価カルボン酸、7004ポリエーテルエステル、DA-703-50、DA-705、DA-725、花王株製デモールRN、N商品名、ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物、デモールMS、C、SN-B商品名、芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物、ホモゲノールL-18商品名、高分子ポリカルボン酸、エマルゲン920、930、935、985商品名、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、アセタミン86ステアリルアミンアセテート、ルーブリゾール社製ソルスパース5000フタロシアニン誘導体、22000商品名、アゾ顔料誘導体、13240ポリエステルアミン、3000、17000、27000商品名、末端部に機能部を有する高分子、24000、28000、32000、38500グラフト型高分子、日光ケミカル者製ニッコールT106ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、MYS-IEX商品名、ポリオキシエチレンモノステアレート等が挙げられる。また、川研ファインケミカル株製ヒノアクトT-8000Eなどの両性分散剤も挙げられる。これらのB分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。B分散剤の酸価は、5.0mgKOH/g以上200mgKOH/g以下の範囲であることが好ましく、より好ましくは10mgKOH/g以上150mgKOH/g以下の範囲であり、更に好ましくは60mgKOH/g以上150mgKOH/g以下の範囲である。B分散剤の酸価が200mgKOH/g以下であれば、遮光膜を形成する際の現像時におけるパターン剥離がより効果的に抑えられる。また、B分散剤の酸価が5.0mgKOH/g以上であればアルカリ現像性がより良好となる。また、B分散剤の酸価が60mgKOH/g以上であれば、Aチタンブラック粒子の沈降をより抑制でき、粗大粒子数をより少なくすることができ、チタンブラック分散物又は感放射線性組成物の経時安定性をより向上できる。本発明において、B分散剤の酸価は、例えば、分散剤中における酸基の平均含有量から算出することができる。また、B分散剤の構成成分として含まれうる酸基を含有するモノマー単位の含有量を変化させることで所望の酸価を有する樹脂を得ることができる。本発明におけるB分散剤の重量平均分子量は、遮光膜を形成する際において、現像時のパターン剥離抑制と現像性の観点から、10,000以上300,000以下であることが好ましく、15,000以上200,000以下であることがより好ましく、20,000以上100,000以下であることが更に好ましく、25,000以上50,000以下であることが特に好ましい。なお、B分散剤の重量平均分子量は、例えば、GPCによって測定することができる。グラフト共重合体:特定樹脂A本発明においては、B分散剤として、グラフト共重合体以下、特定樹脂Aともいうを用いることも好ましい。B分散剤としてグラフト共重合体を用いることで、分散性及び保存安定性をより向上させることができる。グラフト共重合体としては、水素原子を除いた原子数が40~10000の範囲であるグラフト鎖を有するものが好ましい。この場合のグラフト鎖とは、共重合体の主鎖の根元から、主鎖から枝分かれしている基の末端までを示す。この特定樹脂Aは、チタンブラック粒子に分散性を付与しうる分散樹脂であり、優れた分散性と、グラフト鎖による溶媒との親和性を有するために、チタンブラック粒子の分散性、及び経時後の分散安定性経時安定性に優れる。また、感放射線性組成物としたとき、グラフト鎖の存在により重合性化合物又はその他の併用可能な樹脂などとの親和性を有するので、アルカリ現像で残渣を生じにくくなる。また、この特定樹脂Aに、更に、カルボン酸基などのアルカリ可溶性の部分構造を導入することで、アルカリ現像によるパターン形成のために現像性を付与する樹脂としての機能をも付与することができる。従って、前記グラフト共重合体に、アルカリ可溶性の部分構造を導入することで、本発明のチタンブラック分散組成物は、チタンブラック粒子の分散に不可欠の分散樹脂自体がアルカリ可溶性を有することになる。このようなチタンブラック分散物を含有する感放射線性組成物は、露光部の遮光性に優れたものとなり、且つ、未露光部のアルカリ現像性が向上される。グラフト鎖が長くなると立体反発効果が高くなり分散性は向上するが、一方グラフト鎖が長すぎるとチタンブラックへの吸着力が低下して分散性は低下してしまう。このため、本発明で使用されるグラフト共重合体としては、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が40~10000であることが好ましく、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が50~2000であることがより好ましく、グラフト鎖1本あたりの水素原子を除いた原子数が60~500であることが更に好ましい。グラフト鎖のポリマー構造の例としては、ポリメタアクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエーテルなどが挙げられる。グラフト鎖としては、グラフト部位と溶媒との相互作用性を向上させ、それにより分散性を高めるために、ポリメタアクリル、ポリエステル、又はポリエーテルを有するグラフト鎖であることが好ましく、ポリエステル又はポリエーテルを有するグラフト鎖であることがより好ましい。このようなポリマー構造をグラフト鎖として有するマクロモノマーの構造としては、ポリマー主鎖部と反応可能な置換基を有し、且つ本発明の要件を満たしていれば、特に限定されないが、好ましくは、反応性二重結合性基を有するマクロモノマーを好適に使用することができる。特定樹脂Aの合成に好適に用いられる市販のマクロモノマーとしては、AA-6商品名、、AA-10、AB-6、AS-6、AN-6、AW-6、AA-714、AY-707、AY-714、AK-5、AK-30、AK-32、ブレンマーPP-100商品名、日油株製、ブレンマーPP-500商品名、日油株製、ブレンマーPP-800商品名、日油株製、ブレンマーPP-1000商品名、日油株製、ブレンマー55-PET-800日油株製、ブレンマーPME-4000商品名、日油株製、ブレンマーPSE-400商品名、日油株製、ブレンマーPSE-1300商品名、日油株製、ブレンマー43PAPE-600B商品名、日油株製、などが用いられる。このなかでも、好ましくは、AA-6、AA-10、AB-6、AS-6商品名、東亜合成株、AN-6、ブレンマーPME-4000商品名、日油株製などが用いられる。特定樹脂Aにおけるグラフト部位としては、少なくとも前記一般式1、一般式2、一般式3、一般式4以下、適宜、それぞれを、式1、式2、式3、式4と称することがあるのいずれかで表される構造単位を含むことが好ましく、少なくとも、下記式1A、下記式2A、下記式3A、下記式3B、及び前記4のいずれかで表される構造単位を含むことがより好ましい。式1~式4において、W1、W2、W3及びW4はそれぞれ独立に酸素原子或いはNHを表し、特に酸素原子が好ましい。式1~式4において、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基を表す。X1、X2、X3、X4、及びX5としては、合成上の制約の観点からは、好ましくはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1から12のアルキル基であり、それぞれ独立に水素原子又はメチル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。式1~式4において、Y1、Y2、Y3、及びY4は、それぞれ独立に、2価の連結基を表し、該連結基は特に構造上制約されない。Y1、Y2、Y3、又はY4で表される2価の連結基として、具体的には、下記のY-1~Y-21の連結基などが例として挙げられる。下記に示した構造において、A、Bはそれぞれ、式1~式4における左末端基及び右末端基との結合部位を意味する。下記に示した構造のうち、合成の簡便性から、ブタン式II、135トリス135トリアジアン246トリオン式III、及びペンタエリスリトールテトラキス式IV等が挙げられる。これらの多官能チオールは1種または複数組み合わせて使用することが可能である。これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、着色硬化性組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、感度の観点では、1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合は2官能以上が好ましい。また、着色硬化膜の強度を高める観点では、3官能以上のものがよく、4官能以上のものが好ましく、さらに5官能以上のものが好ましい。更に、異なる官能数異なる重合性基例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。さらに、3官能以上のものでエチレンオキサイド鎖長の異なる重合性化合物を併用することが、感放射線性組成物の現像性を調節することができ、優れたパターン形成能が得られるという点で好ましい。また、感放射線性組成物に含有される他の成分例えば、光重合開始剤、着色剤顔料、バインダーポリマー等との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体などの硬質表面との密着性を向上させる観点で特定の構造を選択することもあり得る。本発明の感放射線性組成物中における重合性化合物の含有量は、感放射線性組成物中の固形分に対して1質量~40質量が好ましく、3.0質量~30質量がさらに好ましく、5.0質量~20質量が特に好ましい。E光重合開始剤本発明の感放射線性組成物は、E光重合開始剤を含有する。本発明におけるE光重合開始剤以下、単に重合開始剤ということがある。としては、以下に述べる光重合開始剤として知られているものを用いることができる。本発明における光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。また、光重合開始剤は、約300nm~800nm330nm~500nmがより好ましい。の範囲内に少なくとも約50の分子吸光係数を有する化合物を、少なくとも1種含有していることが好ましい。本発明におけるE光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。これらの中でも、オキシム化合物が好ましい。前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Bull.Chem.Soc.Japan,42、29241969記載の化合物、英国特許1388492号明細書記載の化合物、特開昭53-133428号公報記載の化合物、独国特許3337024号明細書記載の化合物、F.C.SchaeferなどによるJ.Org.Chem.;29、15271964記載の化合物、特開昭62-58241号公報記載の化合物、特開平5-281728号公報記載の化合物、特開平5-34920号公報記載化合物、米国特許第4212976号明細書に記載されている化合物、などが挙げられる。前記米国特許第4212976号明細書に記載されている化合物としては、例えば、オキサジアゾール骨格を有する化合物例えば、2-トリクロロメチル-5-フェニル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-クロロフェニル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-1-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-2-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリブロモメチル-5-フェニル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリブロモメチル-5-2-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール;2-トリクロロメチル-5-スチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-クロルスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-メトキシスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-1-ナフチル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-4-n-ブトキシスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリプロモメチル-5-スチリル-1,3,4-オキサジアゾールなどなどが挙げられる。また、上記以外の重合開始剤として、アクリジン誘導体例えば、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス9,9’-アクリジニルヘプタンなど、N-フェニルグリシンなど、ポリハロゲン化合物例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトンなど、クマリン類例えば、3-2-ベンゾフラノイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-2-ベンゾフロイル-7-1-ピロリジニルクマリン、3-ベンゾイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-2-メトキシベンゾイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-4-ジメチルアミノベンゾイル-7-ジエチルアミノクマリン、3,3’-カルボニルビス5,7-ジ-n-プロポキシクマリン、3,3’-カルボニルビス7-ジエチルアミノクマリン、3-ベンゾイル-7-メトキシクマリン、3-2-フロイル-7-ジエチルアミノクマリン、3-4-ジエチルアミノシンナモイル-7-ジエチルアミノクマリン、7-メトキシ-3-3-ピリジルカルボニルクマリン、3-ベンゾイル-5,7-ジプロポキシクマリン、7-ベンゾトリアゾール-2-イルクマリン、また、特開平5-19475号公報、特開平7-271028号公報、特開2002-363206号公報、特開2002-363207号公報、特開2002-363208号公報、特開2002-363209号公報などに記載のクマリン化合物など、アシルホスフィンオキサイド類例えば、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチル-ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、LucirinTPOなど、メタロセン類例えば、ビスη5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル-ビス2,6-ジフロロ-3-1H-ピロール-1-イル-フェニルチタニウム、η5-シクロペンタジエニル-η6-クメニル-アイアン1-ヘキサフロロホスフェート1-など、特開昭53-133428号公報、特公昭57-1819号公報、同57-6096号公報、及び米国特許第3615455号明細書に記載された化合物などが挙げられる。前記ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、2-メチルベンゾフェノン、3-メチルベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、4-メトキシベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4-ブロモベンゾフェノン、2-カルボキシベンゾフェノン、2-エトキシカルボニルベンゾフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、4,4’-ビスジアルキルアミノベンゾフェノン類例えば、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジシクロヘキシルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジヒドロキシエチルアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4-ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、2-t-ブチルアントラキノン、2-メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、2-クロル-チオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、フルオレノン、2-ベンジル-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-1-ブタノン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルホリノ-1-プロパノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-4-1-メチルビニルフェニルプロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール、アクリドン、クロロアクリドン、N-メチルアクリドン、N-ブチルアクリドン、N-ブチル-クロロアクリドンなどが挙げられる。重合開始剤としては、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アミノアセトフェノン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。より具体的には、例えば、特開平10-291969号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第4225898号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤も用いることができる。ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては、IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959,IRGACURE-127商品名:いずれもチバジャパン社製を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるIRGACURE-907、IRGACURE-369、及び、IRGACURE-379商品名:いずれもチバジャパン社製を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤として、365nmまたは405nm等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開2009-191179公報に記載の化合物も用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるIRGACURE-819やDAROCUR-TPO商品名:いずれもチバジャパン社製を用いることができる。重合開始剤として、より好ましくはオキシム系化合物が挙げられる。オキシム系開始剤の具体例としては、特開2001-233842号記載の化合物、特開2000-80068号記載の化合物、特開2006-342166号記載の化合物を用いることができる。本発明で重合開始剤として好適に用いられるオキシム誘導体等のオキシム化合物としては、例えば、3-ベンゾイロキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイロキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-4-トルエンスルホニルオキシイミノブタン-2-オン、及び2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オンなどが挙げられる。オキシムエステル化合物としては、J.C.S.PerkinII1979年pp.1653-1660、J.C.S.PerkinII1979年pp156-162、JournalofPhotopolymerScienceandTechnology1995年pp.202-232、特開2000-66385号公報記載の化合物、特開2000-80068号公報、特表2004-534797号公報、特開2006-342166号公報の各公報に記載の化合物等が挙げられる。市販品ではIRGACUREOXE-01BASF社製、IRGACUREOXE-02BASF社製も好適に用いられる。また上記記載以外のオキシムエステル化合物として、カルバゾールN位にオキシムが連結した特表2009-519904号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許7626957号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開2010-15025号公報および米国特許公開2009-292039号記載の化合物、国際公開特許2009-131189号公報に記載のケトオキシム系化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許7556910号公報に記載の化合物、405nmに吸収極大を有しg線光源に対して良好な感度を有する特開2009-221114号公報記載の化合物などを用いてもよい。好ましくはさらに、特開2007-231000号公報、及び、特開2007-322744号公報に記載される環状オキシム化合物に対しても好適に用いることができる。環状オキシム化合物の中でも、特に特開2010-32985号公報、特開2010-185072号公報に記載されるカルバゾール色素に縮環した環状オキシム化合物は、高い光吸収性を有し高感度化の観点から好ましい。また、オキシム化合物の特定部位に不飽和結合を有する特開2009-242469号公報に記載の化合物も、重合不活性ラジカルから活性ラジカルを再生することで高感度化を達成でき好適に使用することができる。最も好ましくは、特開2007-269779号公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開2009-191061号公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。具体的には、オキシム系重合開始剤としては、下記式OX-1で表される化合物が好ましい。なお、オキシムのN-O結合がE体のオキシム化合物であっても、Z体のオキシム化合物であっても、E体とZ体との混合物であってもよい。式OX-1中、R及びBは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表す。前記式OX-1中、Rで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。前記一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、1以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基を有していてもよいアルキル基としては、炭素数1~30のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、1-エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、2-エチルヘキシル基、フェナシル基、1-ナフトイルメチル基、2-ナフトイルメチル基、4-メチルスルファニルフェナシル基、4-フェニルスルファニルフェナシル基、4-ジメチルアミノフェナシル基、4-シアノフェナシル基、4-メチルフェナシル基、2-メチルフェナシル基、3-フルオロフェナシル基、3-トリフルオロメチルフェナシル基、及び、3-ニトロフェナシル基が例示できる。置換基を有していてもよいアリール基としては、炭素数6~30のアリール基が好ましく、具体的には、フェニル基、ビフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、9-アンスリル基、9-フェナントリル基、1-ピレニル基、5-ナフタセニル基、1-インデニル基、2-アズレニル基、9-フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、キシリル基、o-クメニル基、m-クメニル基及びp-クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、並びに、オバレニル基が例示できる。置換基を有していてもよいアシル基としては、炭素数2~20のアシル基が好ましく、具体的には、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、1-ナフトイル基、2-ナフトイル基、4-メチルスルファニルベンゾイル基、4-フェニルスルファニルベンゾイル基、4-ジメチルアミノベンゾイル基、4-ジエチルアミノベンゾイル基、2-クロロベンゾイル基、2-メチルベンゾイル基、2-メトキシベンゾイル基、2-ブトキシベンゾイル基、3-クロロベンゾイル基、3-トリフルオロメチルベンゾイル基、3-シアノベンゾイル基、3-ニトロベンゾイル基、4-フルオロベンゾイル基、4-シアノベンゾイル基、及び、4-メトキシベンゾイル基が例示できる。置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数2~20のアルコキシカルボニル基が好ましく、具体的には、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、及び、トリフルオロメチルオキシカルボニル基が例示できる。置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基として具体的には、フェノキシカルボニル基、1-ナフチルオキシカルボニル基、2-ナフチルオキシカルボニル基、4-メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4-フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4-ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4-ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2-クロロフェニルオキシカルボニル基、2-メチルフェニルオキシカルボニル基、2-メトキシフェニルオキシカルボニル基、2-ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3-クロロフェニルオキシカルボニル基、3-トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3-シアノフェニルオキシカルボニル基、3-ニトロフェニルオキシカルボニル基、4-フルオロフェニルオキシカルボニル基、4-シアノフェニルオキシカルボニル基、及び、4-メトキシフェニルオキシカルボニル基が例示できる。置換基を有していてもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子若しくはリン原子を含む、芳香族又は脂肪族の複素環が好ましい。具体的には、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3-b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H-ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H-インドリル基、インドリル基、1H-インダゾリル基、プリニル基、4H-キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH-カルバゾリル基、カルバゾリル基、β-カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、及び、チオキサントリル基が例示できる。置換基を有していてもよいアルキルチオカルボニル基として具体的には、メチルチオカルボニル基、プロピルチオカルボニル基、ブチルチオカルボニル基、ヘキシルチオカルボニル基、オクチルチオカルボニル基、デシルチオカルボニル基、オクタデシルチオカルボニル基、及び、トリフルオロメチルチオカルボニル基が例示できる。置換基を有していてもよいアリールチオカルボニル基として具体的には、1-ナフチルチオカルボニル基、2-ナフチルチオカルボニル基、4-メチルスルファニルフェニルチオカルボニル基、4-フェニルスルファニルフェニルチオカルボニル基、4-ジメチルアミノフェニルチオカルボニル基、4-ジエチルアミノフェニルチオカルボニル基、2-クロロフェニルチオカルボニル基、2-メチルフェニルチオカルボニル基、2-メトキシフェニルチオカルボニル基、2-ブトキシフェニルチオカルボニル基、3-クロロフェニルチオカルボニル基、3-トリフルオロメチルフェニルチオカルボニル基、3-シアノフェニルチオカルボニル基、3-ニトロフェニルチオカルボニル基、4-フルオロフェニルチオカルボニル基、4-シアノフェニルチオカルボニル基、及び、4-メトキシフェニルチオカルボニル基が挙げられる。前記式OX-1中、Bで表される一価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基を表す。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。なかでも、特に好ましくは以下に示す構造である。下記の構造中、Y、X、及び、nは、それぞれ、後述する式OX-2におけるY、X、及び、nと同義であり、好ましい例も同様である。前記式OX-1中、Aで表される二価の有機基としては、炭素数1~12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基が挙げられる。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。中でも、式OX-1におけるAとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基例えば、メチル基、エチル基、tert-ブチル基、ドデシル基で置換されたアルキレン基、アルケニル基例えば、ビニル基、アリル基で置換されたアルキレン基、アリール基例えば、フェニル基、p-トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基で置換されたアルキレン基が好ましい。前記式OX-1中、Arで表されるアリール基としては、炭素数6~30のアリール基が好ましく、また、置換基を有していてもよい。置換基としては、先に置換基を有していてもよいアリール基の具体例として挙げた置換アリール基に導入された置換基と同様のものが例示できる。なかでも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。式OX-1においては、前記式OX-1中のArとそれに隣接するSとで形成されるSArの構造が、以下に示す構造であることが感度の点で好ましい。なお、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表す。オキシム化合物は、下記式OX-2で表される化合物であることが好ましい。式OX-2中、R及びXは各々独立に一価の置換基を表し、A及びYは各々独立に二価の有機基を表し、Arはアリール基を表し、nは0~5の整数である。式OX-2におけるR、A、及びArは、前記式OX-1におけるR、A、及びArと同義であり、好ましい例も同様である。前記式OX-2中、Xで表される一価の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、複素環基、ハロゲン原子が挙げられる。また、これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。これらの中でも、式OX-2におけるXとしては、溶剤溶解性と長波長領域の吸収効率向上の点から、アルキル基が好ましい。また、式2におけるnは、0~5の整数を表し、0~2の整数が好ましい。前記式OX-2中、Yで表される二価の有機基としては、以下に示す構造が挙げられる。なお、以下に示される基において、は、前記式OX-2において、Yと隣接する炭素原子との結合位置を示す。中でも、高感度化の観点から、下記に示す構造が好ましい。さらにオキシム化合物は、下記式OX-3で表される化合物であることが好ましい。式OX-3中、R及びXは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表し、nは0~5の整数である。式OX-3におけるR、X、A、Ar、及び、nは、前記式OX-2におけるR、X、A、Ar、及び、nとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。以下好適に用いられるオキシム化合物の具体例C-4~C-14を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。オキシム化合物は、350nm~500nmの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、360nm~480nmの波長領域に吸収波長を有するものであることが好ましく、365nm及び455nmの吸光度が高いものが特に好ましい。オキシム化合物は、365nm又は405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、1000~300,000であることが好ましく、2000~300,000であることがより好ましく、5000~200,000であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計Varian社製Carry-5spctrophotometerにて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。本発明に用いられる重合開始剤は、必要に応じて2種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明の感放射線性組成物に用いられるE重合開始剤としては、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン-ベンゼン-鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、3-アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。さらに好ましくは、トリハロメチルトリアジン化合物、α-アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物であり、トリハロメチルトリアジン化合物、α-アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が最も好ましい。特に、本発明の感放射線性組成物を固体撮像素子のカラーフィルタの作製に使用する場合には、微細なパターンをシャープな形状で形成する必要があるために、硬化性とともに未露光部に残渣がなく現像されることが重要である。このような観点からは、重合開始剤としてはオキシム化合物を使用することが特に好ましい。特に、固体撮像素子において微細なパターンを形成する場合、硬化用露光にステッパー露光を用いるが、この露光機はハロゲンにより損傷される場合があり、重合開始剤の添加量も低く抑える必要があるため、これらの点を考慮すれば、固体撮像素子の如き微細パターンを形成するにはE重合開始剤としては、オキシム化合物を用いるのが最も好ましい。本発明の感放射線性組成物に含有されるE重合開始剤の含有量は、感放射線性組成物の全固形分に対し0.1質量以上50質量以下であることが好ましく、より好ましくは0.5質量以上30質量以下、更に好ましくは1質量以上20質量以下である。この範囲で、良好な感度とパターン形成性が得られる。Fその他の添加剤本発明の感放射線性組成物には、本発明のチタンブラック分散組成物、D光重合性化合物、及びE光重合開始剤に加え、目的に応じて、種々の添加剤を使用することができる。F-1バインダーポリマー本発明の感放射線性組成物においては、皮膜特性向上などの目的で、必要に応じて、更にF-1バインダーポリマーを含むことができる。F-1バインダーポリマーとしては、線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような線状有機ポリマーとしては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とするために、水或いは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水、或いは有機溶媒からなる現像液現像剤に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーの例としては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特開昭54-92723号、特開昭59-53836号、特開昭59-71048号に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独或いは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独或いは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解若しくはハーフエステル化若しくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーの例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、4-カルボキシルスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーの例としては、無水マレイン酸等が挙げられる。また、同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体も例として挙げられる。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。また、特公平7-12004号、特公平7-120041号、特公平7-120042号、特公平8-12424号、特開昭63-287944号、特開昭63-287947号、特開平1-271741号、特願平10-116232号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、低露光適性の点で有利である。また、欧州特許第993966号、欧州特許第1204000号、特開2001-318463号等の各公報に記載の酸基を有するアセタール変性ポリビニルアルコール系バインダーポリマーは、膜強度、現像性のバランスに優れており、好適である。更に、この他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また、硬化皮膜の強度を上げるために、アルコール可溶性ナイロンや2,2-ビス-4-ヒドロキシフェニル-プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。特に、これらの中でも、ベンジルメタアクリレート/メタアクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー共重合体、及びアリルメタアクリレート/メタアクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー共重合体は、膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。本発明の感放射線性組成物に使用されるF-1バインダーポリマーの重量平均分子量は、現像時のパターン剥離抑制と現像性の観点から、1,000~300,000であることが好ましく、1,500~250,000であることがより好ましく、2,000~200,000であることが更に好ましく、2,500~100,000であることが特に好ましい。F-1バインダーポリマーの数平均分子量については、好ましくは1000以上であり、更に好ましくは1500~25万の範囲である。F-1バインダーポリマーの多分散度重量平均分子量/数平均分子量は、1以上が好ましく、更に好ましくは1.1~10の範囲である。ここで、F-1バインダーポリマーの重量平均分子量は、例えば、GPCによって測定することができる。これらのF-1バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。本発明で用いうるF-1バインダーポリマーは、従来公知の方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。また、F-1バインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が挙げられる。本発明において、F-1バインダーポリマーとして、側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂を用いることで、特に露光部の硬化性と未露光部のアルカリ現像性の双方を向上させることができる。側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂は、その構造その中に、樹脂がアルカリ可溶となるための酸基と、少なくとも1つの不飽和二重結合を有することで、非画像部除去性などの諸性能を向上させる。このような構造を有する樹脂は、特開2003-262958号公報に詳細に記載され、ここに記載の樹脂を本発明におけるバインダーポリマーとして使用することができる。本発明の感放射線性組成物におけるバインダーポリマーの含有量は、組成物の全固形分中に対して、0.1質量~7.0質量であることが好ましく、遮光膜の剥がれ抑制と現像残渣抑制の両立の観点からは、0.3質量~6.0質量であることがより好ましく、1.0~5.0質量であることがさらに好ましい。F-2着色剤本発明の感放射線性組成物には、所望の遮光性を発現させるべく、公知の有機顔料や染料などの無機顔料以外のF-2着色剤を併用することが可能である。併用することができるF-2着色剤としては、有機顔料では、例えば、特開2008-224982号公報段落番号0030~0044に記載の顔料や、C.I.PigmentGreen58、C.I.PigmentBlue79のCl置換基をOHに変更したものなどが挙げられ、これらの中でも、好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し、本発明に適用しうるF-2着色剤は、これらに限定されるものではない。C.I.PigmentYellow11、24、108、109、110、138、139、150、151、154、167、180、185、C.I.PigmentOrange36、38、62、64、C.I.PigmentRed122、150、171、175、177、209、224、242、254、255、C.I.PigmentViolet19、23、29、32、C.I.PigmentBlue15:1、15:3、15:6、16、22、60、66、C.I.PigmentGreen7、36、37、58、C.I.PigmentBlack1、7また、F-2着色剤として使用可能な染料の例としては、特に制限はなく、公知の染料を適宜選択して使用できる。例えば、特開昭64-90403号公報、特開昭64-91102号公報、特開平1-94301号公報、特開平6-11614号公報、特登2592207号、米国特許第4,808,501号明細書、米国特許第5,667,920号明細書、米国特許第5,059,500号明細書、特開平5-333207号公報、特開平6-35183号公報、特開平6-51115号公報、特開平6-194828号公報、特開平8-211599号公報、特開平4-249549号公報、特開平10-123316号公報、特開平11-302283号公報、特開平7-286107号公報、特開2001-4823号公報、特開平8-15522号公報、特開平8-29771号公報、特開平8-146215号公報、特開平11-343437号公報、特開平8-62416号公報、特開2002-14220号公報、特開2002-14221号公報、特開2002-14222号公報、特開2002-14223号公報、特開平8-302224号公報、特開平8-73758号公報、特開平8-179120号公報、特開平8-151531号公報等に記載の色素が挙げられる。染料が有する化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の化学構造が挙げられる。本発明の感放射線性組成物におけるF-2着色剤としては、該組成物が必須に含有するAチタンブラック粒子と組み合わせた場合に、硬化性と遮光性を両立しうるという観点から、オレンジ顔料、赤色顔料、及び、バイオレット顔料からなる群より選択される1種以上の有機顔料が好ましく、最も好ましくは赤色顔料との組み合わせである。本発明におけるAチタンブラック粒子と組み合わせて用いられるオレンジ顔料、赤色顔料、及びバイオレット顔料としては、例えば、前記で例示したC.I.PigmentOrange、C.I.PigmentRed、C.I.PigmentVioletに属する各種顔料を、目的とする遮光性に応じて適宜選択すればよい。遮光性向上の観点からは、C.I.PigmentViolet29、C.I.PigmentOrange36,38,62,64、C.I.PigmentRed177,254、255などが好ましい。F-3増感剤本発明の感放射線性組成物には、E光重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、F-3増感剤を含有していてもよい。F-3増感剤としては、用いられるE光重合開始剤を、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。F-3増感剤の好ましい例としては、特開2008-214395号公報の段落番号0085~0098に記載された化合物を挙げることができる。F-3増感剤の含有量は、感度と保存安定性の観点から、感放射線性組成物の全固形分に対し、0.1質量~30質量の範囲内であることが好ましく、1~20質量の範囲内であることがより好ましく、2~15質量の範囲内であることが更に好ましい。F-4重合禁止剤本発明の感放射線性組成物には、該組成物の製造中或いは保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量のF-4重合禁止剤を添加することが望ましい。F-4重合禁止剤としては、公知の熱重合防止剤を用いることができ、具体的には、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、t-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-t-ブチルフェノール、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられ、なかでも、p-メトキシフェノールが好ましい。F-4熱重合防止剤の含有量は、感放射線性組成物の全固形分に対し、約0.01質量~約5質量が好ましい。また、必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で塗布膜の表面に高級脂肪酸誘導体等を偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5質量~約10質量が好ましい。F-5密着向上剤本発明の感放射線性組成物には、支持体などの硬質表面との密着性を向上させるために、F-5密着向上剤を添加することができる。F-5密着向上剤としては、シラン系カップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。シラン系カップリング剤としては、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましく挙げられる。F-5密着向上剤の含有量は、感放射線性組成物の全固形分中0.5質量30質量であることが好ましく、0.7質量~20質量であることがより好ましい。F-6界面活性剤本発明の感放射線性組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。特に、本発明の感放射線性組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性特に、流動性がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。即ち、フッ素系界面活性剤を含有する感放射線性組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3質量~40質量が好適であり、より好ましくは5質量~30質量であり、特に好ましくは7質量~25質量である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、感放射線性組成物中における溶解性も良好である。フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F176、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437、同F475、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781以上、DIC株製、フロラードFC430、同FC431、同FC171以上、住友スリーエム株製、サーフロンS-382、同SC-101、同SC-103、同SC-104、同SC-105、同SC1068、同SC-381、同SC-383、同S393、同KH-40以上、旭硝子株製等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステルBASF社製のプルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1、ソルスパース20000日本ルーブリゾール株製等が挙げられる。カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体商品名:EFKA-745、森下産業株製、オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業株製、メタアクリル酸系共重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95共栄社化学株、W001裕商株製等が挙げられる。アニオン系界面活性剤として具体的には、W004、W005、W017裕商株社製等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レダウコーニング株トーレシリコーンDC3PA、トーレシリコーンSH7PA、トーレシリコーンDC11PA,トーレシリコーンSH21PA,トーレシリコーンSH28PA、トーレシリコーンSH29PA、トーレシリコーンSH30PA、トーレシリコーンSH8400、モメンティブパフォーマンスマテリアルズ社製TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452、信越シリコーン株式会社製KP341、KF6001、KF6002、ビックケミー社製BYK307、BYK323、BYK330等が挙げられる。界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。界面活性剤の添加量は、本発明の感放射線性組成物の全質量に対して、0.001質量~2.0質量が好ましく、より好ましくは0.005質量~1.0質量である。F-7その他の添加剤更に、感放射線性組成物は、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、或いは酸素による光重合性化合物の重合阻害を抑制する等の目的で共増感剤を含有してもよい。また、硬化皮膜の物性を改良するために、希釈剤、可塑剤、感脂化剤等の公知の添加剤を必要に応じて加えてもよい。チタンブラック分散組成物の調製本発明のチタンブラック分散組成物の調製態様は、特に制限されないが、例えば、Aチタンブラック粒子、B分散剤、及びC有機溶媒を、攪拌機、ホモジナイザー、高圧乳化装置、湿式粉砕機、湿式分散機、等を用いて分散処理を行なうことにより調製することができるが、その方法はこれらに限定されない。分散処理は、2回以上の分散処理多段分散により行ってもよい。感放射線性組成物の調製本発明の感放射線性組成物の調製態様についても特に特に制限されないが、例えば、本発明のチタンブラック分散組成物、D重合性化合物、E光重合開始剤、及び、所望により併用される各種の添加剤を混合し、調製することができる。上記のようにして調製された感放射線性組成物は、好ましくは孔径0.01μm~3.0μm、より好ましくは孔径0.05μm~0.5μm程度のフィルタなどを用いて濾別した後、使用に供することもできる。本発明の感放射線性組成物は、インクジェットで塗布されるため、インクジェット記録装置に適用するのに好適な物性を有することが好ましい。即ち、本発明の感放射線性組成物をインクジェット記録方法に用いる場合には、吐出性吐出性を考慮し、吐出時の温度でのインク粘度が100mPas以下であることが好ましく、50mPas以下であることがより好ましく、前記範囲になるように適宜組成比を調整し決定することが好ましい。なお、25°C室温での感放射線性組成物の粘度は、0.5mPas以上200mPas以下、好ましくは1mPas以上100mPas以下であり、より好ましくは2mPas以上50mPas以下である。室温での粘度を高く設定することにより、凹凸のある基板に適用した場合でも、感放射線性組成物の液だれが防止され、その結果として均一な遮光膜の形成が可能となる。25°Cでの粘度が200mPasより大きいときには、感放射線性組成物の搬送装置内での液の輸送状態に問題が生じる場合がある。本発明の感放射線性組成物の表面張力は、好ましくは20mN/m~40mN/m、より好ましくは23mN/m~35mN/mである。シリコン基板や金属配線表面に適用する場合、液だれ抑制の観点から20mN/m以上が好ましく、と基板等との密着性、親和性の観点から35mN/m以下が好ましい。遮光膜の形成次に、本発明における遮光膜及びその製造方法について説明する。本発明における遮光膜は、シリコン基板などの所定の上に、本発明の感放射線性組成物を用いて形成されることを特徴とする。本発明の好適な態様である固体撮像素子用の遮光膜を形成する場合には、固体撮像素子を構成するシリコン基板上に形成される。シリコン基板は予め一方の面に撮像素子を形成したものでも、遮光膜形成後に撮像素子を形成してもよい。また、着色画素を備えるカラーフィルタ用途においては遮光膜形成後に着色画素を形成してもよいし、遮光膜の形成前に着色画素を形成してもよい。遮光膜の膜厚としては特に限定はないが、本発明による効果をより効果的に得る観点からは、乾燥後の膜厚で、0.2μm~15μmの範囲が好ましく、0.5μm~10μmの範囲がより好ましく、0.9μm~8.0μmの範囲が更に好ましい。パターン形成後の遮光膜のサイズ一辺の長さとしては、本発明による効果をより効果的に得る観点からは、0.2μm~100000μmの範囲が好ましく、1μm~80000μmの範囲がより好ましく、5μm~50000μmの範囲が更に好ましい。<遮光膜の製造方法>本発明における遮光膜の好ましい製造方法は、本発明における感放射線性組成物をインクジェット記録装置を用いてシリコン基板などの遮光膜を形成しようとする基板上に塗布して感放射線性組成物層を形成する工程以下、適宜感放射線性組成物層形成工程と略称する。と、前記感放射線性組成物層をパターン状に露光する工程以下、適宜露光工程と略称する。と、露光後の前記感放射線性組成物層を現像してパターンを形成する工程以下、適宜現像工程と略称する。と、を有することを特徴とする。以下、本発明における遮光膜の製造方法における各工程について説明する。感放射線性組成物層形成工程まず、感放射線性組成物層形成工程で用いられる基板について説明する。本発明の感放射線性組成物を用いて遮光膜を形成する際に用いられる基板としては、例えば、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えば、シリコン基板、ガラス基板、プラスチック基板等が挙げられる。また、プラスチック基板は、その表面に、ガスバリヤー層及び/又は耐溶剤性層を有していることが好ましい。本発明の感放射線性組成物層形成工程においては、感放射線性組成物はインクジェット記録装置を用いて基板に吐出される。感放射線性組成物層形成工程においては、上記感放射線性組成物を40°C~80°Cに加熱して、粘度を30mPas以下とした後、吐出することが好ましく、この方法を用いることにより高い吐出安定性を実現することができる。チタンブラック粒子、多官能モノマー、バインダーポリマーを含有する本発明の感放射線性組成物では、概して一般に用いられるインクジェット用インクよりも粘度が高くなる傾向にあり、このため、吐出時の温度変動による粘度変動幅が大きい。感放射線性組成物の粘度変動は、そのまま液滴サイズ、液滴吐出速度に対して大きな影響を与え、これにより均一な吐出性が損なわれる可能性があるため、吐出時の感放射線性組成物の温度はできるだけ一定に保つことが必要である。温度の制御幅は設定温度±5°Cとすることが好ましく、設定温度±2°Cとすることがより好ましく、設定温度±1°Cとすることが特に好ましい。感放射線性組成物層形成工程において、インクジェット記録方法に用いられるインクジェット記録装置には、インク組成物温度の安定化手段を備えることが一つの特徴であり、一定温度にする部位はインクタンク中間タンクがある場合は中間タンクからノズル吐出面までの配管系、部材の全てが対象となる。温度コントロールの方法としては、特に制約はないが、例えば、温度センサーを各配管部位に複数設け、インク組成物流量、環境温度に応じた加熱制御をすることが好ましい。また、加熱するヘッドユニットは、装置本体を外気からの温度の影響を受けないよう、熱的に遮断もしくは断熱されていることが好ましい。加熱に要するプリンター立上げ時間を短縮するため、あるいは熱エネルギーのロスを低減するために、他部位との断熱を行うとともに、加熱ユニット全体の熱容量を小さくすることが好ましい。本発明に用いられるインクジェット記録装置としては、特に制限はなく、市販のインクジェット記録装置が使用できる。即ち、本発明においては、市販のインクジェット記録装置を用いて感放射線性組成物を基板に適用することができる。また、例えば、特開2010-230698号に記載される如き、2次元的に配列された複数のノズルと、感放射線性組成物の吐出対象である基板であって、該基板と、インクジェットヘッドとを相対移動させる移動手段とを有するインクジェット記録装置を使用してもよい。前記好ましい吐出条件によれば、本発明の感放射線性組成物は加温、降温を繰り返すことになるが、本発明の感放射線性組成物は、チタンブラック粒子の分散安定性に優れ、粒子の凝集や沈降が抑制されるために、このような温度条件下で保存された場合でも、チタンブラック竜藍の分散性の低下が抑制され、長期間にわたり均一塗布が可能となり、且つ、顔料の凝集に起因する吐出性の低下も抑制されるという利点をも有する。基板上に感放射線性組成物による塗布膜を形成する際、固体撮像素子用のカラーフィルタの場合であれば、塗布膜の厚みプリベーク処理後は、0.2μm~15μmの範囲が好ましい。感放射線性組成物層形成工程において、通常は、塗布後にプリベーク処理を施す。必要によっては、プリベーク前に真空処理を施すこともできる。真空乾燥の条件は、真空度が、通常、0.1torr13.3Pa~1.0torr133.3Pa、好ましくは0.2torr26.7Pa~0.5torr66.7Pa程度である。また、プリベーク処理は、ホットプレート、オーブン等を用いて50°C~140°Cの温度範囲で、好ましくは70°C~110°C程度であり、10秒~300秒の条件にて行うことができる。なお、プリベーク処理には、高周波処理などを併用してもよい。高周波処理は単独でも使用可能である。露光工程露光工程では、前述のようにして形成された感放射線性組成物からなる感放射線性組成物層に対し、所定のマスクパターンを介して露光を行う。露光の際に使用される放射線としては、g線、h線、i線、j線等の紫外線が好ましい。特に、固体撮像素子用のカラーフィルタを製造する際には、ステッパー露光機にて、主として、i線を使用することが好ましい。現像工程現像工程では、露光後の感放射線性組成物層の未露光部未硬化部を現像液に溶出させ、硬化分のみを基板上に残存させる。現像温度としては、通常20°C~30°Cであり、現像時間としては20秒~90秒である。現像液としては、未硬化部における感放射線性組成物の塗布膜を溶解する一方、硬化部を溶解しないものであれば、いずれのものも用いることができる。具体的には、種々の有機溶媒の組合せやアルカリ性の水溶液を用いることができる。現像に用いられる有機溶媒としては、本発明における感放射線性組成物を調製する際に使用できる既述のC有機溶媒が挙げられる。また、アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8-ジアザビシクロ-[5,4,0]-7-ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が0.001質量~10質量、好ましくは0.01質量~1質量となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。好ましくは有機アルカリ性の水溶液である。アルカリ性水溶液には、例えば、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤等を適量添加することもできる。現像方式は、パドル方式、デイップ方式、シャワー方式、スプレー方式などいずれでもよく、これにスウィング方式、スピン方式、超音波方式などを組み合わせてもよい。現像液に触れる前に、被現像面を予め水等で湿しておいて、現像ムラを防ぐこともできる。また、基板を傾斜させて現像することもできる。後硬化工程上記した現像によりパターンを形成する工程の後に、さらに、得られたパターンをより硬化させる後硬化工程を実施することが好ましい。後硬化工程は、加熱及び/又は露光紫外線照射によって行うが、得られたパターンをさらに硬化させ、着色画素形成のパターン形成工程でのパターンの溶解等を防止したり、パターン形成された遮光膜の画素の耐溶剤性を向上したりすることができる。後硬化工程は、紫外線照射によることが好ましい。加熱処理後加熱、ポストベークによる後硬化工程は、余剰の現像液を洗浄除去するリンス処理を経て、乾燥を施した後に施される。リンス処理は、通常は純水で行うが、省液のために、最終洗浄で純水を用い、洗浄初期は使用済の純水を使用したり、また、基板を傾斜させて洗浄したり、超音波照射を併用したりする方法を用いてもよい。リンス処理後、水切り、乾燥をした後に、通常、約200°C~250°Cの加熱処理を行う。この加熱処理ポストベークは、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン熱風循環式乾燥機、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式或いはバッチ式で行うことができる。加熱処理時間は、30秒~30000秒が好ましく、更に好ましくは、60秒~1000秒である。露光後露光による後硬化工程紫外線照射工程は、g線、h線、i線、KrF、ArF、紫外光、電子線、X線等により行うことができるが、g線、h線、i線、UV光が好ましく、特に、紫外光が好ましい。現像工程後のパターンに、前期露光工程における露光量の10倍以上の照射光量の紫外光を照射することが望ましい。紫外光の照射光量は、前期露光工程の露光量の12倍以上200倍以下が好ましく、15倍以上100倍以下がより好ましい。光源としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ等を使用することができる。後硬化工程においては、後露光と後加熱は、併用してもよく、この場合はどちらを先に行ってもよいが、後加熱に先立って、後露光を実施することが好ましい。後露光で硬化を促進させることにより、後加熱過程で見られるパターンの熱ダレやすそ引きによる形状の変形を抑止するためである。このようにして得られた遮光膜を有するシリコン基板上に色分解用の着色画素が形成され、固体撮像素子として用いられる。着色画素は、複数の色相の画素で構成されるが、前記パターン形成工程及び必要に応じて後硬化工程を所望の色数に合わせて繰り返すことにより、所望数の色相に構成された色分解用のカラーフィルタを作製することができる。<固体撮像素子>本発明における固体撮像素子は、既述の本発明の感放射線性組成物により形成された遮光膜ブラックマトリクスと、必要により他の色3色あるいは4色の画素からなるパターン状皮膜と、を有するカラーフィルタを備えて構成される。本発明における固体撮像素子は、周辺部における遮光能の低下が抑制され、しかも得られたパターンの残渣が低減され、しかもパターンの直線性が良好なので、ノイズを低減でき、色再現性を向上させることができる。本発明における固体撮像素子の構成としては、前述の遮光膜ブラックマトリクスが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、基板上に、固体撮像素子CCDイメージセンサー、CMOSイメージセンサー、等の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有し、基板の受光素子形成面の反対側の面に本発明に係るブラックマトリックスが備えられた構成等が挙げられる。<固体撮像素子用ウエハレベルレンズ>本発明の黒色感放射線性組成物は、ウエハレベルレンズ用の遮光膜としても有用である。ウエハレベルレンズは、基板上に存在するレンズの周縁部に、本発明の黒色感放射線性組成物を硬化して得られた遮光膜を有する。以下、ウエハレベルレンズについて説明する。図1は、複数のウエハレベルレンズを有するウエハレベルレンズアレイの構成の一例を示す平面図である。図1中、10は基板であり、該基板10上にレンズ12が設けられている。複数のレンズ12は、基板10に対して1次元又は2次元に配列されている。図2は、図1に示すA-A線断面図である。図2に示すように、ウエハレベルレンズアレイは、基板10と、該基板10に配列された複数のレンズ12とを備えている。複数のレンズ12の間には、レンズ以外の箇所からの光透過を防止する遮光膜14が設けられている。ウエハレベルレンズは、基板10上に存在する一つのレンズ12とその周縁部に設けられた遮光膜14により構成される。本発明の感放射線性組成物は、この遮光膜14の形成に用いられる。以下、図1のように、複数のレンズ12が、基板10に対して2次元に配列されているウエハレベルレンズアレイの構成を例に説明する。レンズ12は、一般的には、基板10と同じ材料から構成され、該基板10上に一体的に成形されるか、或いは、別の構造体として成形され、基板上に固定化されたものである。ここでは、一例を挙げたが、ウエハレベルレンズは、この態様に限定されず、多層構造をとるもの、ダイシングによりレンズモジュールに分離されたものなど種々の態様をとり得る。レンズ12を形成する材料の他の例としては、ガラスを挙げることができる。ガラスは種類が豊富であり、高屈折率を有するものを選択できるので、大きなパワーを持たせたいレンズの素材に好適である。また、ガラスは耐熱性に優れ、撮像ユニット等へのリフロー実装に耐えるという利点をも有する。レンズ12を形成する他の材料としては、樹脂が挙げられる。樹脂は加工性に優れており、型等を用いてレンズ面を簡易且つ安価に形成するのに適している。ウエハレベルレンズの形成には、エネルギー硬化性の樹脂を用いることが好ましい。該エネルギー硬化性の樹脂は、熱により硬化する樹脂、あるいは活性エネルギー線の照射例えば、熱、紫外線、電子線照射により硬化する樹脂のいずれであってもよい。撮像ユニットのリフロー実装を考慮すると、軟化点が例えば200°C以上といった、軟化点の比較的高い樹脂が好ましく、軟化点が250°C以上の樹脂がより好ましい。以下、レンズ材料として好適な樹脂について説明する。紫外線硬化性樹脂の例としては、紫外線硬化性シリコン樹脂、紫外線硬化性エポキシ樹脂、アクリル樹脂等を例示することができる。エポキシ樹脂は、線膨張係数が40~80[10-6/K]で、屈折率が1.50~1.70、好ましくは1.50~1.65のエポキシ樹脂であってもよい。熱硬化性樹脂の例としては、熱硬化性シリコン樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂、熱硬化性フェノール樹脂、熱硬化性アクリル樹脂等を例示できる。例えば、シリコン樹脂は、線膨張係数が30~160[10-6/K]で、屈折率が1.40~1.55のシリコン樹脂であってもよい。エポキシ樹脂は線膨張係数が40~80[10-6/K]で、屈折率が1.50~1.70、好ましくは1.50~1.65のエポキシ樹脂であってもよい。フェノール樹脂は、線膨張係数が30~70[10-6/K]で、屈折率が1.50~1.70のフェノール樹脂であってもよい。アクリル樹脂は、線膨張係数が20~60[10-6/K]で、屈折率が1.40~1.60、好ましくは1.50~1.60のアクリル樹脂であってもよい。これらの熱硬化性樹脂としては、市販品を用いることができ、具体的には、例えば、富士高分子工業株式会社製SMX-7852SMX-7877商品名、株式会社東芝製IVSM-4500商品名、東レダウコーニング社製SR-7010商品名、等を例示することができる。熱可塑性樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂等を例示することができる。ポリカーボネートは、線膨張係数が60~70[10-6/K]で、屈折率が1.40~1.70、好ましくは1.50~1.65のものを用いることができる。ポリサルフォン樹脂は、線膨張係数が15~60[10-6/K]で、屈折率が1.63のものを用いることができる。ポリエーテルサルフォン樹脂は、線膨張係数が20~60[10-6/K]で、屈折率が1.65のものを用いることができる。なお、一般に、光学ガラスの線膨張係数は20°Cで4.9~14.3[10-6/K]であり、屈折率は波長589.3nmで1.4~2.1である。また、石英ガラスの線膨張係数は0.1~0.5[10-6/K]であり、屈折率は約1.45である。レンズの形成に適用される硬化性の樹脂組成物は、モールド形状の転写適性等、成形性の観点から、硬化前には適度な流動性を有していることが好ましい。具体的には、常温で液体であり、粘度が1000~50000mPas程度の硬化性樹脂組成物が好ましい。一方、レンズの形成に適用される硬化性の樹脂組成物は、硬化後にはリフロー工程を通しても熱変形しない程度の耐熱性を有していることが好ましい。かかる観点から、硬化物のガラス転移温度は200°C以上であることが好ましく、250°C以上であることがより好ましく、300°C以上であることが特に好ましい。樹脂組成物にこのような高い耐熱性を付与するためには、分子レベルで運動性を束縛することが必要であり、有効な手段の例としては、1単位体積あたりの架橋密度を上げる手段、2剛直な環構造を有する樹脂を利用する手段例えばシクロヘキサン、ノルボルナン、テトラシクロドデカン等の脂環構造、ベンゼン、ナフタレン等の芳香環構造、9,9’-ビフェニルフルオレン等のカルド構造、スピロビインダン等のスピロ構造を有する樹脂、具体的には例えば、特開平9-137043号公報、同10-67970号公報、特開2003-55316号公報、同2007-334018号公報、同2007-238883号公報等に記載の樹脂、3無機微粒子など高Tgの物質を均一に分散させる手段例えば特開平5-209027号公報、同10-298265号公報等に記載等が挙げられる。これらの手段は複数併用してもよく、流動性、収縮率、屈折率特性など他の特性を損なわない範囲で耐熱性を調整することが好ましい。形状転写精度の観点からは、硬化反応による体積収縮率が小さい樹脂組成物が好ましい。樹脂組成物の硬化収縮率としては、10以下であることが好ましく、5以下であることがより好ましく、3以下であることが特に好ましい。硬化収縮率の低い樹脂組成物の例としては、例えば、1高分子量の硬化剤プレポリマ-などを含む樹脂組成物例えば特開2001-19740号公報、同2004-302293号公報、同2007-211247号公報等に記載、高分子量硬化剤の数平均分子量は200~100,000の範囲であることが好ましく、より好ましくは500~50,000の範囲であり、特に好ましくは1,000~20,000の場合である。また該硬化剤の数平均分子量/硬化反応性基の数で計算される値が、50~10,000の範囲にあることが好ましく、100~5,000の範囲にあることがより好ましく、200~3,000の範囲にあることが特に好ましい。、2非反応性物質有機/無機微粒子,非反応性樹脂等を含む樹脂組成物例えば特開平6-298883号公報、同2001-247793号公報、同2006-225434号公報等に記載、3低収縮架橋反応性基を含む樹脂組成物例えば、開環重合性基例えばエポキシ基例えば、特開2004-210932号公報等に記載、オキセタニル基例えば、特開平8-134405号公報等に記載、エピスルフィド基例えば、特開2002-105110号公報等に記載、環状カーボネート基例えば、特開平7-62065号公報等に記載等、エン/チオール硬化基例えば、特開2003-20334号公報等に記載、ヒドロシリル化硬化基例えば、特開2005-15666号公報等に記載等、4剛直骨格樹脂フルオレン、アダマンタン、イソホロン等を含む樹脂組成物例えば、特開平9-137043号公報等に記載、5重合性基の異なる2種類のモノマーを含み相互貫入網目構造いわゆるIPN構造が形成される樹脂組成物例えば、特開2006-131868号公報等に記載、6膨張性物質を含む樹脂組成物例えば、特開2004-2719号公報、特開2008-238417号公報等に記載等を挙げることができ、本発明において好適に利用することができる。また上記した複数の硬化収縮低減手段を併用すること例えば、開環重合性基を含有するプレポリマーと微粒子を含む樹脂組成物などが物性最適化の観点からは好ましい。ウエハレベルレンズの形成には、高-低2種類以上のアッベ数の異なる樹脂組成物の使用が望ましい。高アッべ数側の樹脂は、アッベ数νdが50以上であることが好ましく、より好ましくは55以上であり特に好ましくは60以上である。屈折率ndは1.52以上であることが好ましく、より好ましくは1.55以上であり、特に好ましくは1.57以上である。このような樹脂組成物に含有される樹脂としては、脂肪族の樹脂が好ましく、特に脂環構造を有する樹脂例えば、シクロヘキサン、ノルボルナン、アダマンタン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の環構造を有する樹脂、具体的には例えば、特開平10-152551号公報、特開2002-212500号公報、同2003-20334号公報、同2004-210932号公報、同2006-199790号公報、同2007-2144号公報、同2007-284650号公報、同2008-105999号公報等に記載の樹脂が好ましい。低アッべ数側の樹脂は、アッベ数νdが30以下であることが好ましく、より好ましくは25以下であり特に好ましくは20以下である。屈折率ndは1.60以上であることが好ましく、より好ましくは1.63以上であり、特に好ましくは1.65以上である。このような樹脂としては芳香族構造を有する樹脂が好ましく、例えば9,9’‐ジアリールフルオレン、ナフタレン、ベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール等の構造を含む樹脂具体的には例えば、特開昭60-38411号公報、特開平10-67977号公報、特開2002-47335号公報、同2003-238884号公報、同2004-83855号公報、同2005-325331号公報、同2007-238883号公報、国際公開2006/095610号公報、特許第2537540号公報等に記載の樹脂等が好ましい。また、ウエハレベルレンズの形成に使用される樹脂として、屈折率を高める目的やアッベ数を調整する目的のために、無機微粒子をマトリックス中に分散させてなる有機無機複合材料を含有することも好ましい態様である。無機微粒子の例としては、酸化物微粒子、硫化物微粒子、セレン化物微粒子、テルル化物微粒子が挙げられる。より具体的な例としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、硫化亜鉛等の微粒子を挙げることができる。より具体的には、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化ランタン、酸化イットリウム、硫化亜鉛等の微粒子を挙げることができる。特に上記のごとき高アッべ数の樹脂中には、酸化ランタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等の微粒子を分散させることが好ましく、低アッベ数の樹脂中には、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム等の微粒子を分散させることが好ましい。無機微粒子は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。また、複数の成分による複合物であってもよい。また、無機微粒子には光触媒活性低減、吸水率低減などの種々の目的から、異種金属をドープしたり、表面層をシリカ、アルミナ等異種金属酸化物で被覆したり、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、有機酸カルボン酸類、スルホン酸類、リン酸類、ホスホン酸類等または有機酸基を持つ分散剤などで無機微粒子の表面を修飾してもよい。無機微粒子の数平均粒子サイズは、小さすぎると物質の特性が変化する場合がある。また、樹脂マトリックスと無機微粒子の屈折率差が大きい場合には、無機微粒子の数平均粒子サイズが大きすぎるとレイリー散乱の影響が顕著となる。このため、無機微粒子の数平均粒子サイズは通常1nm~1000nm程度とすればよいが、小さすぎると物質の特性が変化する場合があり、大きすぎるとレイリー散乱の影響が顕著となるため、1nm~15nmが好ましく、2nm~10nmが更に好ましく、3nm~7nmが特に好ましい。また、無機微粒子の粒子サイズ分布は狭いほど望ましい。このような単分散粒子の定義の仕方はさまざまであるが、例えば、特開2006-160992号に記載されるような数値規定範囲が好ましい粒径分布範囲に当てはまる。ここで、上述の数平均1次粒子サイズは、例えば、XRDX線回折、X線小角散乱SmallangleXrayscattering、X線散漫散乱Xraydiffusescattering、斜入射X線散乱GrazingincidencesmallangleXrayscattering、走査型電子顕微鏡SEM、或いは、透過型電子顕微鏡TEMなどで測定することができる。無機微粒子の屈折率としては、22°C、589.3nmの波長において、1.90~3.00であることが好ましく、1.90~2.70であることが更に好ましく、2.00~2.70であることが特に好ましい。無機微粒子の樹脂に対する含有量は、透明性と高屈折率化の観点から、5質量以上であることが好ましく、10質量~70質量が更に好ましく、30質量~60質量が特に好ましい。有機無機複合材料に用いられる、マトリックスとなる樹脂としては、ウエハレベルレンズの材料として前記した紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂がいずれも使用できる。また、特開2007-93893号に記載された屈折率1.60より大きい樹脂、特開2007-211164号に記載された疎水性セグメント及び親水性セグメントで構成されるブロック共重合体、特開2007-238929号、特願2008-12645号、同2008-208427号、同2008-229629号、同2008-219952号に記載された高分子末端または側鎖に無機微粒子と任意の化学結合を形成しうる官能基を有する樹脂、特願2008-197054号、同2008-198878号に記載された熱可塑性樹脂等を挙げることができる。有機無機複合材料には、必要に応じて、可塑剤、分散剤等の添加剤を加えることができる。ここで、マトリックスである樹脂と無機微粒子との好ましい組み合わせとしては以下のようなものがある。即ち、上記のごとき高アッベ数の樹脂をマトリックスとした場合には、無機微粒子として、酸化ランタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等の微粒子を分散させることが好ましく、低アッベ数の樹脂をマトリックスとした場合には、無機微粒子として、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム等の微粒子を分散させることが好ましい。樹脂組成物に微粒子を均一に分散させるためには、例えばマトリックスを形成する樹脂モノマーとの反応性を有する官能基を含む分散剤例えば特開2007-238884号公報実施例等に記載、疎水性セグメント及び親水性セグメントで構成されるブロック共重合体例えば特開2007-211164号公報に記載、あるいは高分子末端または側鎖に無機微粒子と任意の化学結合を形成しうる官能基を有する樹脂例えば特開2007-238929号公報、特開2007-238930号公報等に記載等を適宜用いて微粒子を分散させることが望ましい。また、ウエハレベルレンズの形成に用いられる樹脂組成物には、シリコン系、フッ素系、長鎖アルキル基含有化合物等の公知の離型剤やヒンダードフェノール等の酸化防止剤等の添加剤を適宜含有してもよい。ウエハレベルレンズの形成に用いられる樹脂組成物は、必要に応じて硬化触媒又は開始剤を含有することができる。その具体例としては、特開2005-92099号公報段落番号0065~0066等に記載の熱又は活性エネルギー線の作用により硬化反応ラジカル重合或いはイオン重合を促進する化合物を挙げることができる。これらの硬化反応促進剤の添加量は、触媒や開始剤の種類、或いは硬化反応性部位の違いなどによって異なり一概に規定することはできないが、一般的には樹脂組成物の全固形分に対して0.1~15質量程度であることが好ましく、0.5~5質量程度であることがより好ましい。ウエハレベルレンズの作製に用いる樹脂組成物は、上記成分を適宜配合して製造することができる。この際、液状の低分子モノマー反応性希釈剤等に他の成分を溶解することができる場合には別途溶剤を添加する必要はないが、このケースに当てはまらない場合には溶剤を用いて各構成成分を溶解することにより樹脂組成物を製造することができる。該樹脂組成物に使用できる溶剤としては、組成物が沈殿することなく、均一に溶解または分散されるものであれば特に制限はなく適宜選択することができ、その具体例としては、ケトン類例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等、エステル類例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等、エーテル類例えば、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等アルコール類例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール等、芳香族炭化水素類例えば、トルエン、キシレン等、水等を挙げることができる。樹脂組成物が溶剤を含む場合には該組成物を基板及び/又は型の上にキャストし溶剤を乾燥させた後にモールド形状転写操作を行うことが好ましい。基板10は、レンズ12の成形材料と同じものを用いることができる。また、基板10が可視光に対して透明なガラスなどの材料からなるものであれば、レンズ12の成形材料とは異なる材料により形成されていてもよい。この場合には、基板10を形成する材料としては、レンズ12を形成する材料と線膨張係数が同じか又は極めて近い材料であることが好ましい。レンズ12を形成する材料と基板10を形成する材料との線膨張係数が互いに同じか近似する場合には、撮像ユニットへのウエハレベルレンズのリフロー実装において、線膨張率が異なることで生じる加熱時のレンズ12の歪みや割れを抑制しうる。なお、図1及び2中に図示してはいないが、基板10の光入射側の面には、赤外線フィルタIRフィルタが形成されていてよい。ウエハレベルレンズの形成以下、ウエハレベルレンズの形成について、ウエハレベルレンズアレイの形成例により具体的に説明する。-レンズの形成-図3は、基板10に成形材料である樹脂図3中にMと記載を供給している状態を示す図である。図3に示すように、基板10のレンズを成形する部位にディスペンサ50を用いて成形材料Mを滴下する。ここでは、供給する1つの部位には、1つのレンズ12に相当する量の成形材料Mが供給される。基板10に成形材料Mを供給した後、図4Aに示すように、レンズを成形するための型60を配置する。型60には、レンズ12の形状を転写するための凹部62が、所望のレンズ12の数に応じて設けられている。図4Bに示すように、型60を基板1上の成形材料Mに押し付け、成形材料Mを凹部の形状に倣って変形させる。そして、型60を成形材料Mに押し付けた状態で、成形材料Mが熱硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂の場合には型の外側から熱又は紫外線を照射することで、成形材料Mを硬化させる。成形材料Mを硬化させた後、図4Cに示すように、型60から基板1及びレンズ12を離型する。図5Aから図5Cは、レンズが成形された基板に遮光膜を設ける工程を示す概略断面図である。-遮光膜の形成方法-次に、レンズ12の周縁部に遮光膜14を形成する方法について説明する。遮光膜14の形成方法は、基板10上に、本発明の感放射線性組成物を塗布して遮光性塗布層14Aを形成する遮光性塗布層形成工程と、該遮光性塗布層14Aを、マスク16を介してパターン露光する露光工程と、露光後の遮光性塗布層14Aを現像して未硬化部を除去し、パターン状の遮光膜14を形成する現像工程とを含む。遮光膜の形成は、レンズ12を作製する前でも、レンズ12を作製した後でも任意に行うことができる。<固体撮像素子用裏面遮光膜>本発明の黒色感放射線性組成物は、表面オモテ面に撮像素子部を有するシリコン基板の裏面撮像素子部を有しない側に設けられた遮光膜であって、赤外光を遮光する遮光膜を形成する用途即ち、固体撮像素子の基体であるシリコン基板の裏面側から入射される赤外光を遮光するための遮光膜を形成する用途の形成にも有用である。固体撮像素子の中でも、後述する一実施形態に係る固体撮像素子の構造は、前記裏面側から入射される赤外光を遮光する必要性、及び、金属電極上の現像残渣を低減する必要性が強い構造である。このため、赤外遮光能が良好でインクジェット塗布性に優れる本発明の感放射線性組成物は、後述する一実施形態に係る固体撮像素子の遮光膜の形成に特に好適である。上記裏面遮光膜の膜厚としては、特に限定はなく、本発明による効果をより効果的に得る観点から、0.1μm~10μmが好ましく、0.3μm~5.0μmがより好ましく、0.5μm~3.0μmが特に好ましい。また、遮光膜のパターンサイズとしては、特に限定はなく、本発明による効果をより効果的に得る観点から、1000μm以下が好ましく、500μm以下がより好ましく、300μm以下が特に好ましい。下限については、1μmが望ましい。また、本発明に係る裏面遮光膜の分光特性としては特に限定はないが、赤外遮光能をより向上させる観点、可視域と赤外域との遮光能のバランスの観点等から、波長1200nmにおける光学濃度OD1200と波長365nmにおける光学濃度OD365との比OD1200/OD365が、0.5以上3以下であることが好ましい。光学濃度ODは、株島津製作所製UV3600を用い、得られた膜の透過率測定を行ない、得られた透過率Tを下記式Bにより変換しOD値とする。OD値=-LogT/100...式B遮光膜の製造方法固体撮像素子用裏面遮光膜の製造方法は、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に既述の本発明の感放射線性組成物をインクジェット法により付与して感放射線性組成物層を形成する工程と、前記感放射線性組成物層をパターン状に露光する工程と、露光後の前記感放射線性組成物層を現像してパターンを形成する工程と、有するもので、塗布対象が変わる他は、前記黒色感放射線性組成物からなる尾パターン形成と同様にして形成される。次に、固体撮像素子の一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に、前記本発明の黒色感放射線性組成物からなる遮光膜を有する態様について説明する。当該固体撮像素子は、本発明の感放射線性組成物を用いて形成された遮光膜を備えるため、撮像素子部が設けられた面の反対側の面からシリコン基板固体撮像素子の基体に入射される赤外光によるノイズや、残渣物によるノイズが低減される。この裏面遮光膜が導入される固体撮像素子の構造は、シリコン基板の一方の面に撮像素子部詳しくは、複数の撮像素子が例えばマトリクス状に配列されて構成された撮像素子部が設けられ、該シリコン基板の他方の面に前記本発明の遮光膜が設けられた構造であれば特に限定はない。また、前記オモテ面に設けられる撮像素子は、CCDであってもCMOSであってもよい。なかでも、特開2009-99591号公報や特開2009-158863号公報に記載されているような、撮像素子部が形成された面の反対側の面に、実装基板以下、回路基板ともいうとの接続用の金属電極を有する固体撮像素子の構造が好適である。即ち、このような固体撮像素子の好適な一実施形態は、一方の面以下、第1の主面ともいうに撮像素子部を有するシリコン基板と、前記シリコン基板の他方の面以下、第2の主面ともいうに設けられ、前記撮像素子部と電気的に接続された金属電極と、前記シリコン基板の前記金属電極が設けられた面に設けられ、前記金属電極の少なくとも1部が露出するようにパターニングされた前記本発明の黒色感放射線性組成物から形成された遮光膜と、を有する固体撮像素子である。下記固体撮像素子の一実施形態では、ハンダボール等の接続材料を介して実装基板以下、回路基板ともいうに接続されるものである。上記一実施形態の固体撮像素子と前記回路基板との接続は、前記固体撮像素子と前記回路基板とを、前記金属電極と回路基板上の接続用電極とが対向する向きに配置し、接続材料により前記金属電極と前記接続用電極とを接続することにより行われる例えば、後述する図1及び図2参照。このような裏面側の金属電極により回路基板と接続される固体撮像素子を用いた場合、金属電極の厚みや接続材料例えば、ハンダボール60の大きさに起因して、固体撮像素子と回路基板との間に隙間例えば、図1中の隙間Sが生じやすく、この隙間からシリコン基板に対し赤外光が入射されやすい。また、例えば後述するカメラモジュール200の場合、遮光兼電磁シールド44が設けられているものの、ハンダボール60の体積バラツキ等の影響で、加工精度上、遮光兼電磁シールド44と回路基板70との間の隙間Sを完全に無くすことは極めて困難である。更に、裏面に金属電極を有する固体撮像素子は、該金属電極と、回路基板との接続ための接続材料と、の接続性が要求される構造である。従って、このような構造においては、本発明の効果残渣物低減の効果及び残渣物によるノイズ低減の効果がより効果的に奏される。前記一実施形態では、更に、前記遮光膜の下層側シリコン基板に近い側であって前記金属電極の上層側シリコン基板から離れた側に、ソルダーレジスト層等の保護絶縁層を有していてもよい。即ち、前記一実施形態は、前記金属電極が形成された第2の主面上に設けられ、前記金属電極の少なくとも1部を露出するようにパターニングされた保護絶縁層を有し、前記遮光膜が、前記保護絶縁層を覆うようにして設けられ、かつ、前記金属電極の少なくとも1部を露出するようにパターニングされた形態であってもよい。なお、前記一実施形態において電気的に接続されたとは、直接的に接続されている形態に限られず、周辺回路等を介して間接的に接続されている状態も含む。以下、前記一実施形態の具体例について、図6及び図7を参照しながら説明するが本発明は以下の具体例によって限定されることはない。なお、図6及び図7にわたり、共通する部分には共通する符号を付す。また、説明に際し、上、上方及び上側は、シリコン基板10からみて遠い側を指し、下、下方及び下側は、はシリコン基板10に近い側を指す。図6は、前記一実施形態の具体例に係る固体撮像素子を備えたカメラモジュールの構成を示す概略断面図である。図6に示すカメラモジュール200は、実装基板である回路基板70に接続部材であるハンダボール60を介して接続されている。詳細には、カメラモジュール200は、シリコン基板の第1の主面に撮像素子部を備えた固体撮像素子基板100と、固体撮像素子基板100の第1の主面側上方に配置されるガラス基板30光透過性基板と、ガラス基板30の上方に配置される赤外線カットフィルタ42と、ガラス基板30及び赤外線カットフィルタ42の上方に配置され内部空間に撮像レンズ40を有するレンズホルダー50と、固体撮像素子基板100及びガラス基板30の周囲を囲うように配置された遮光兼電磁シールド44と、を備えて構成されている。各部材は、接着剤20、41、43、45により接着されている。カメラモジュール200では、外部からの入射光hνが、撮像レンズ40、赤外線カットフィルタ42、ガラス基板30を順次透過した後、固体撮像素子基板100の撮像素子部に到達するようになっている。また、カメラモジュール200は、固体撮像素子基板100の第2の主面側で、ハンダボール60接続材料を介して回路基板70に接続されている。図7は、図6中の固体撮像素子基板100を拡大した断面図である。固体撮像素子基板100は、基体であるシリコン基板10、撮像素子12、層間絶縁膜13、ベース層14、赤色のカラーフィルタ15R、緑色のカラーフィルタ15G、青色のカラーフィルタ15B、オーバーコート16、マイクロレンズ17、遮光膜18、絶縁膜22、金属電極23、ソルダーレジスト層24、内部電極26、及び素子面電極27を備えて構成されている。ここで遮光膜18が前記本発明の感放射線性組成物により形成された遮光膜である。但し、ソルダーレジスト層24は省略されていてもよい。まず、固体撮像素子基板100の第1の主面側の構成を中心に説明する。図7に示すように、固体撮像素子基板100の基体であるシリコン基板10の第1の主面側に、CCDやCMOS等の撮像素子12が2次元に複数配列された撮像素子部が設けられている。撮像素子部における撮像素子12上には層間絶縁膜13が形成されており、層間絶縁膜13上にはベース層14が形成されている。更にベース層14上には、撮像素子12に対応するように、赤色のカラーフィルタ15R、緑色のカラーフィルタ15G、青色のカラーフィルタ15B以下、これらをまとめてカラーフィルタ15ということがあるがそれぞれ配置されている。赤色のカラーフィルタ15R、緑色のカラーフィルタ15G、青色のカラーフィルタ15Bの境界部、及び撮像素子部の周辺には、図示しない遮光膜が設けられていてもよい。この遮光膜は、例えば、公知のブラックのカラーレジストを用いて作製できる。カラーフィルタ15上にはオーバーコート16が形成され、オーバーコート16上には撮像素子12カラーフィルタ15に対応するようにマイクロレンズ17が形成されている。また、第1の主面側の撮像素子部の周辺は、周辺回路不図示及び内部電極26が設けられており、内部電極26は、周辺回路を介して撮像素子12と電気的に接続されている。さらに、内部電極26上には、層間絶縁膜13を介して素子面電極27が形成されている。内部電極26と素子面電極27間の層間絶縁膜13内には、これら電極間を電気的に接続するコンタクトプラグ不図示が形成されている。素子面電極27は、コンタクトプラグ、内部電極26を介して電圧の印加及び信号の読み出しなどに使用される。素子面電極27上には、ベース層14が形成されている。ベース層14上にはオーバーコート16が形成されている。素子面電極27上に形成されたベース層14及びオーバーコート16が開口されて、パッド開口部が形成され、素子面電極27の一部が露出している。以上が固体撮像素子基板100の第1の主面側の構成である。固体撮像素子基板100の第1の主面側において、撮像素子部の周辺には接着剤20が設けられ、この接着剤20を介し、固体撮像素子基板100とガラス基板30とが接着される。また、シリコン基板10は、該シリコン基板10を貫通する貫通孔を有しており、貫通孔内には、金属電極23の一部である貫通電極が備えられている。この貫通電極により、撮像素子部と回路基板70とが電気的に接続されている。次に、固体撮像素子基板100の第2の主面側の構成を中心に説明する。該第2の主面側には、第2の主面上から貫通孔の内壁にわたり絶縁膜22が形成されている。絶縁膜22上には、シリコン基板10の第2の主面上の領域から貫通孔の内部に至るようにパターニングされた金属電極23が設けられている。金属電極23は、固体撮像素子基板100中の撮像素子部と回路基板70との接続用の電極である。前記貫通電極は、この金属電極23のうち、貫通孔の内部に形成された部分である。貫通電極は、シリコン基板10及び層間絶縁膜の一部を貫通して内部電極26の下側に至り、該内部電極26に電気的に接続されている。更に、第2の主面側には、金属電極23が形成された第2の主面上を覆い、かつ、該金属電極23上の1部を露出する開口部を有するソルダーレジスト層24保護絶縁膜が設けられている。更に、第2の主面側には、ソルダーレジスト層24が形成された第2の主面上を覆い、かつ、該金属電極23上の1部が露出する開口部を有する遮光膜18が設けられている。この遮光膜18として、前述の本発明の遮光膜を用いる。これにより、第2の主面側裏面側からシリコン基板10に入射する赤外光を遮光できる。更に、遮光膜18の開口部金属電極23が露出されている部分では、現像残渣が抑制される。このため、金属電極23とハンダボール60との接続性、ひいては撮像素子12から構成される撮像素子部と回路基板70との接続性も良好に維持される。なお、図7では、遮光膜18は、金属電極23の1部を覆い、残りの部分を露出させるようにパターニングされているが、金属電極23の全部を露出させるようにパターニングされていてもよいソルダーレジスト層24のパターニングについても同様である。また、ソルダーレジスト層24は省略されていてもよく、金属電極23が形成された第2の主面上に、遮光膜18が直接形成されていてもよい。露出された金属電極23上には、接続部材としてのハンダボール60が設けられ、このハンダボール60を介し、固体撮像素子基板100の金属電極23と、回路基板70の不図示の接続用電極と、が電気的に接続される。以上、固体撮像素子基板100の構成について説明したが、固体撮像素子基板100のうち遮光膜18以外の各部は、特開2009-158863号公報中段落0033~0068に記載の方法や、特開2009-99591号公報中段落0036~0065に記載の方法など、公知の方法により形成できる。遮光膜18の形成は、既述の本発明の遮光膜の製造方法によって形成できる。層間絶縁膜13、カラーフィルタ15、オーバーコート16及びベース層14、マイクロレンズ17、ソルダーレジスト層24、ハンダボール60及び金属電極23などは、公知の方法により形成され、また、シリコン基板10としては特に限定されないが、基板裏面を削ることによって薄くしたシリコン基板を用いることができる。基板の厚さは限定されないが、例えば、厚み20μm~200μm好ましくは30μm~150μmのシリコンウエハを用いる。シリコン基板10の貫通孔は、例えば、フォトリソグラフィー及びRIEReactiveIonEtchingにより形成すればよい。以上、前記一実施形態の具体例である固体撮像素子基板100について図6及び図7を参照して説明したが、前記一実施形態は図1及び図2の形態に限られず、裏面側に金属電極及び遮光膜を有する構成であれば、その構成に特に限定はない。以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部は質量基準である。また、室温は25°Cを指す。-チタンブラックの作製-粒径10nmの酸化チタンMT-10EX商品名:テイカ製を100g、BET比表面積300m2/gのシリカ粒子AEROSIL登録商標300SPエボニック製を15g、及びDisperbyk190商品名:ビックケミー社製を100g秤量し、イオン電気交換水71gを加えてKURABO製MAZERSTARKK-400Wを使用して、公転回転数1360rpm、自転回転数1047rpmにて60分間処理することにより均一な混合物水溶液を得た。この水溶液を石英容器に充填し、小型ロータリーキルン株式会社モトヤマ製を用いて酸素雰囲気中で910°Cに加熱した後、窒素で雰囲気を置換し、同温度でアンモニアガスを100mL/minで5時間流し、得られた粉体を乳鉢で粉砕し、粉末状の比表面積74m2/gのチタンブラックAを得た。また,同様にしてシリカ粒子の添加量を12.5g、10g、30g、および25gとすることにより、それぞれチタンブラックB、チタンブラックC、チタンブラックD、及びチタンブラックFを得た。<分散剤の合成>500mL三口フラスコに、ε-カプロラクトン600.0g、2-エチル-1-ヘキサノール22.8gを導入し、窒素を吹き込みながら、攪拌溶解した。モノブチル錫オキシド0.1gを加え、100°Cに加熱した。8時間後、ガスクロマトグラフィーにて原料が消失したのを確認後、80°Cまで冷却した。2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール0.1gを添加した後、2-メタクリロイロキシエチルイソシアネート27.2gを添加した。5時間後、1H-NMRにて原料が消失したのを確認後、室温まで冷却し、固体状の前駆体M1下記構造を200g得た。M1であることは、1H-NMR、IR、質量分析により確認した。前記前駆体M1を30.0gと、NKエステルCB-1β-MethacryloylOxyethylHydrogenPhthalateを70.0gと、ドデシルメルカプタン2.3gと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート233.3gとを、窒素置換した三口フラスコに導入し、攪拌機新東科学株:スリーワンモータにて攪拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して75°Cまで昇温した。これに、2,2-アゾビス2-メチルプロピオン酸ジメチル和光純薬株製のV-6010.2gを加え、75°Cにて2時間加熱攪拌を行なった。2時間後、さらにV-601を0.2g加えて3時間、加熱攪拌の後、下記構造の分散剤1の30溶液を得た。分散剤1は例示化合物12の組成比を変更したものである。分散剤1の組成比、酸価、及び重量平均分子量Mwは、以下の通りである。なお、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフGPCにより測定し、ポリスチレン換算で算出した値である。GPCは、HLC-8020GPC東ソー株製を用い、カラムをTSKgelSuperHZM-H、TSKgelSuperHZ4000、TSKgelSuperHZ200東ソー社製として測定した。組成比:x=33質量、y=67質量酸価:85mgKOH/gMw:35,000[実施例1]<チタンブラック分散組成物の調製>下記組成1に示す成分を、攪拌機IKA社製EUROSTARを使用して、15分間混合し、分散混合物を得た。組成1AチタンブラックA粉体25部B分散剤1の30質量PGMEA溶液49.9部C有機溶媒:PGMEA15部C有機溶媒:酢酸ブチル10部F-4重合禁止剤:p-メトキシフェノール0.1部得られた分散混合物に対し、シンマルエンタープライゼス社製ビーズミルNPMならびに循環式の配管および投入タンクを使用し,下記条件にて分散処理を行って、チタンブラック分散組成物Aを2000g得た。<分散条件>ビーズ径:φ0.05mmビーズ充填率:60体積ミル周速:10m/sec分散処理する混合液量:5000g循環流量ポンプ供給量:30kg/hour処理液温度:25°C~30°C冷却水:水道水処理時間30パスさらに、組成1において使用したチタンブラックAを、先に作製したチタンブラックB、チタンブラックC、チタンブラックD、市販品である三菱マテリアル製13M-T、及びチタンブラックFに換えたほかは前記チタンブラック分散液Aの調製と同様にして、それぞれチタンブラック分散液B、チタンブラック分散液C、チタンブラック分散液D、チタンブラック分散液E及びチタンブラック分散液Fを得た。<チタンブラック分散組成物の評価>得られたチタンブラック分散組成物の各々を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いて500倍希釈し、カーボン薄膜上に滴下、乾燥させて、TEM株日立ハイテクノロジーズ製により、各分散物中に含まれる粒子被分散体の形態観察写真を撮影した。得られた写真から、粒子400個について外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、度数分布を評価した。また、各分散液に含有されるチタンブラック粒子被分散体の15nm~30nmの粒子の割合については、TEM写真より粒子像を400個サンプリングして、外表面の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を算出し、400個中の各粒径のうち、15nm~30nmの粒子数をカウントし、その割合を求めた。結果を表1に示す。<黒色感放射線性組成物の調製>下記組成2の成分を攪拌機で混合して、黒色感放射線性組成物Aを調製した。組成2チタンブラック分散組成物A49.9部F-1バインダーポリマー:ベンジルメタアクリレートBzMA/メタアクリル酸MAA共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液BzMA/MAA=60/40モル比、Mw:30,000、固形分40質量15.0部D重合性化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートKAYARADDPHA、日本化薬株式会社製3.0部E光重合開始剤:下記構造の化合物3.0部C有機溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート10部C有機溶媒:エチル-3-エトキシプロピオネート10部F-4重合禁止剤:p-メトキシフェノール0.1部[実施例2~3、比較例1~3]<黒色感放射線性組成物の調製>実施例1のチタンブラック分散組成物の調製におけるチタンブラック分散物Aを、チタンブラック分散物B、チタンブラック分散物C、チタンブラック分散物D、チタンブラック分散物E三菱マテリアル製13M-Tを含有、及び、チタンブラックFにそれぞれ変更した以外は実施例1の黒色感放射線性組成物の調製と同様にして、黒色感放射線性組成物B実施例2、黒色感放射線性組成物C実施例3、黒色感放射線性組成物D比較例1、黒色感放射線性組成物E比較例2、および黒色感放射線性組成物F比較例3を得た。各実施例、および比較例に用いた黒色感放射線性組成物の種類を表1に示す。遮光能、粘度、表面張力、および分散安定性の評価実施例1、2、3及び比較例1、2、3にて得られた感放射線性組成物を2Lのプラスティックス容器中に室温にて6ヶ月静置保管し、静置保管前後の分散組成物をガラス基板上にスピンコーターにて乾燥後の厚さが3.0μmとなるように塗布し遮光膜を作製した。得られた遮光膜の吸光度を島津製作所製分光器UV3600により550nmの波長における吸光度をそれぞれ測定した。静置保管前後の吸光度の比から下記式により求めた100分率によって、分散安定性下記表1に経時安定性と記載を評価した。また、波長550nmにおける吸光度によって遮光能を評価した。東機産業製E型粘度計でTVE35L形粘度計により粘度を測定した。全ての組成物は粘度10mPa~50mPsであり、インクジェット塗布適性を有することを確認した。表面張力は、協和界面化学DY-700を使用して測定した。結果を表1に示す。分散安定性経時安定性=1-静置後の550nmにおける吸光度/静置前の550nmにおける吸光度×100基板としてガラス基板の代わりにシリコン基板を用い、塗布液として各黒色感放射線性組成物を用いる以外は、分散安定性の評価と同様にして遮光膜を形成して、得られた感放射線性組成物層を、i線ステッパーを用い、100mJ/cm2、200mJ/cm2、300mJ/cm2、400mJ/cm2、および500mJ/cm2の各露光量にてラインアンドスペースが10μm/10μmとなるマスクを使用してパターン露光した。次に、露光後の感放射線性組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.3水溶液を用い、室温にて60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した後にホットプレート上にて200°Cで5分間硬化処理を行い、パターン成形した遮光膜を得た。BET比表面積の測定前記分散安定性の評価に用いた静置保管前の実施例1~3、及び比較例1~3の各黒色感放射線性組成物によって得られた遮光膜中における被分散体の比表面積m2/gを、以下のようにして測定した。遮光膜を、スパチュラを用いて基板から削り取り、得られた粉体を電気炉にてO2雰囲気中で600°Cにて3時間処理することにより分散剤等の有機成分を熱分解除去した。カンタクローム社製Autosurb1MPを使用し、得られた粉体1gをマントルヒーターにて200°Cで12時間予備乾燥し、雰囲気ガスとしてN2を使用し、BET3点法により比表面積を測定した。結果を表1に示す。Si/Ti比また、前記分散安定性の評価に用いた静置保管前の実施例1~3、及び比較例1~3の各黒色感放射線性組成物によって得られた遮光膜中におけるSi/Tiを、以下のように測定した。遮光膜を、スパチュラを用いて基板から削り取り、得られた黒色粉体を電気炉にてO2雰囲気中で600°Cにて3時間処理することにより分散剤等の有機成分を熱分解除去した。得られた粉体をパーキンエルマー社製X線光電子分析装置PHI5400MCによりSi原子の2p結合、およびTi原子の2p結合起因のピークよりそれぞれSi原子およびTi原子のatmを測定、これにより、Si/Ti=Si原子atm/Ti原子atmを得た。結果を表1に示す。表1から、実施例1~3の分散組成物を使用して作成した遮光膜は、比較例の分散組成物から得られた遮光膜に比べて、遮光能が優れるものであり、また分散組成物の経時安定性が良好であることがわかる。インクジェットプリンター適性評価表1に示すインクジェット用感放射線性組成物を用いて、インクジェットプリンタPM900Cセイコーエプソン社製により、記録媒体ガラス基板に対して、Duty10~100で印字した。吐出性を目視で判断したところ、いずれも問題はなかった。インクジェットプリンターによる吐出性の評価実施例1~3比較例1~3の黒色感放射線性組成物を用いて、また、上記と同様の方法により、24時間後、48時間後、及び72時間後に10cm×10cmのガラス基板全面に塗布した。図8に示す破線で囲んだ領域、即ち、遮光膜を形成した基板の9カ所において、島津製作所製分光器UV3600により吸光度を測定し、領域内での濃度のムラを算出した。濃度のムラが小さいものを、吐出安定性良好であり目詰まりなしと判断し、濃度のムラが大きいものを、吐出安定性不良であり、目詰まりがあるものと判断した。濃度のムラは10以下で実用上問題のないレベルであると判断する。結果を下記表2に示す。上記実施例1、2、及び3、比較例1、2及び3の評価結果から、チタンブラック粒子からなる被分散体のBET比表面積が20~120m2/g、Si/Ti比が0.01~0.45であることで、インクジェット吐出時の目詰まりが抑制されることがわかった。ウエハレベルレンズ用遮光膜の評価上記で得られた実施例1~3、比較例1~3の黒色感放射線性組成物を、基板であるガラスウエハCorning1737、Corning社製にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で、120°Cで2分加熱して黒色感放射線性組成物塗布層を得た。また、基板の上に、下記組成3の硬化性樹脂組成物を用いて硬化性樹脂層を形成し、レンズ形状を持つ石英モールドで形状を該硬化性樹脂層に転写して、高圧水銀ランプにより400mJcm2の露光量で該硬化性樹脂層を硬化させることにより、ウエハレベルレンズを複数有するウエハレベルレンズアレイを作製した。組成3N-ビニルピロリドン35部エポキシアクリレートエポキシエステル80MF、共栄社化学株製40部ペンタエリスリトールテトラアクリレート20部イルガキュア907BASFジャパン製5部塗布均一性の評価ガラス基板及び上記の組成3を用いて作製したウエハレベルレンズアレイにおけるウエハレベルレンズ基板上に、インクジェットプリンタPM900Cセイコーエプソン社製によりDuty100にて、実施例1、実施例2及び比較例3で得た黒色感放射線性組成物を膜厚が3.0umとなるように塗布した。塗布後に膜厚を実測し、平滑なガラス基板上の膜厚とウエハレベルレンズによる段差上の膜厚の差異を計測し、平滑なガラス基板上の膜厚に対するウエハレベルレンズによる段差上の膜厚が90を超えるものを塗布性良好とし、85以上90以下を塗布可能なレベル、85未満を塗布性不良とした。結果を表3に示す。なお、表3には塗布性と記載する。比較例4実施例1におけるチタンブラック分散物Aを、下記カーボンブラック分散物表3中には、CBと記載に代えた以外は同様にして黒色感放射線性組成物CBを調整し、同様にして塗布性を評価した。<カーボンブラック分散物CBの調整>前記チタンブラック分散物Aの調製に用いたチタンブラックAに代えて、カーボンブラックカーボンブラックMA-100R三菱化成工業株製を等量用いた他は、チタンブラック分散物AIと同様にしてカーボンブラック分散物CBを得た。参考例1、比較例5実施例1の黒色感放射線性組成物A、及び、比較例4で用いた黒色感放射線性組成物CBを、それぞれスピンコートにより膜厚が3.0μmとなるように塗布し、実施例1と同様にして塗布性を評価した。結果を表3に示す。表3に記載のように、本発明の黒色感放射線性組成物によれば、インクジェットによる塗布法により、平滑な基板においても局面のような凹凸を有する面においても、均一な遮光膜の形成が可能であることが分かる。なお、本発明の黒色感放射線性組成物を用いることにより、固体撮像素子の裏面遮光膜を形成する場合においても同様の効果が得られる。また、本発明の黒色の感放射線性組成物A、B、C、および実施例1~3の感放射線性組成物を、MEMSにおける遮光用途に用いたところ、良好なデバイスが得られた。"