液体源と、第1の基板であり、該第1の基板の一部が、前記液体源からの液体を放出するように適応されたノズルを画成している、第1の基板と、フィルタと、ポートを含む液体チャンバであり、前記ノズル及び前記フィルタと流体的に連通し、且つ前記第1の基板と前記フィルタとの間に位置する液体チャンバと、を有するプリントヘッド。前記液体チャンバは第1の液体チャンバであり、当該プリントヘッドは更に:前記フィルタを通る流体流の方向に対して前記フィルタの上流に位置する第2の液体チャンバであり、ポートを含む第2の液体チャンバを有する、請求項1に記載のプリントヘッド。前記第2の液体チャンバに付随する前記ポートは第1のポートであり、前記第2の液体チャンバは第2のポートを含む、請求項2に記載のプリントヘッド。前記液体チャンバに付随する前記ポートは第1のポートであり、前記液体チャンバは第2のポートを含む、請求項1に記載のプリントヘッド。前記第2のポートは、前記第1のポートの反対側に位置する、請求項4に記載のプリントヘッド。前記ポートを通る前記液体の流れを制御するように適応されたバルブであり、前記ポートに対して外部に位置するバルブ、を更に有する請求項1に記載のプリントヘッド。前記ポートを通る液体の流れを制御するように適応されたバルブであり、前記ポート内に位置するバルブ、を更に有する請求項1に記載のプリントヘッド。前記フィルタは、均一な大きさを有する複数のスルーホールを含む、請求項1に記載のプリントヘッド。前記フィルタは、複数の円柱状スルーホールと複数のテーパー状スルーホールとのうちの一方を含む、請求項1に記載のプリントヘッド。前記フィルタは電鋳金属材料を含む、請求項1に記載のプリントヘッド。前記フィルタは濾過膜及び補強構造を含む、請求項1に記載のプリントヘッド。前記フィルタは平面状の部材を含む、請求項1に記載のプリントヘッド。前記フィルタは、ステンレス鋼材料、セラミック材料、ポリマー材料、金属材料、半導体材料、又はこれらの組み合わせから製造されている、請求項1に記載のプリントヘッド。前記液体チャンバは、ステンレス鋼材料、セラミック材料、ポリマー材料、及びこれらの組み合わせ、のうちの1つから製造されている、請求項1に記載のプリントヘッド。前記フィルタと、ノズルプレートと、前記第1の液体チャンバ及び前記第2の液体チャンバの内表面とのうちの1つの少なくとも一部を超音波振動させるアクチュエータ、を更に有する請求項2に記載のプリントヘッド。従来のプリントヘッドは、粒子汚染に付随する問題を抑制するために、流路の様々な箇所に配置された1つ以上のフィルタ濾過材を含んでいる。それでも、プリントヘッド及び印刷システムにおける粒子汚染を抑制すること、並びに、フィルタでの圧力損失を許容可能なレベルにしながら十分な濾過作用を実現するプリントヘッドフィルタが、依然として望まれる。また、MEMS製造技術を用いてプリントヘッドフィルタを形成する効果的且つ実用的な方法が依然として望まれる。本発明の一態様によれば、プリントヘッドは、液体源、第1の基板、フィルタ、及び液体チャンバを含んでいる。第1の基板の一部は、液体源からの液体を放出するように適応されたノズルを画成している。液体チャンバはポートを含んでいる。液体チャンバは、ノズル及びフィルタと流体的に連通し、且つ第1の基板とフィルタとの間に位置する。ここでの説明は、特に、本発明に係る装置の部分を形成する、あるいは該装置とより直接的に協働する要素に向けられる。理解されるように、特に図示あるいは説明しない要素は、当業者に周知の様々な形態を取り得る。以下の説明及び図面において、可能な場合には、相等しい要素を指し示すために同一の参照符号を使用している。明瞭性のため、本発明の実施形態例は、縮尺通りではなく、模式的に図示されている。当業者は、本発明の実施形態例の要素群の具体的なサイズ及び相互接続を容易に決定することができるであろう。ここに記載されるように、本発明の実施形態例により、典型的にインクジェット印刷システムで使用されるプリントヘッド又はプリントヘッド部品が提供される。しかしながら、精密に計測されて高い空間精度で置かれる必要がある液体インク以外を放出するインクジェットプリントヘッドを使用する数多くのその他の用途も現れつつある。従って、ここでは、用語液体及びインクは、以下に記載のプリントヘッド又はプリントヘッド部品によって吐出されることが可能な如何なる材料をも意味する。図1-3を参照するに、以下に記載の本発明を含む印刷システム及び連続式プリントヘッドの実施形態例が示されている。本発明はまた、例えばドロップオンデマンド式プリントヘッド及び他種類の連続式プリントヘッドを含んだ、その他の種類のプリントヘッド又は噴出モジュールにも適用されるものである。図1を参照するに、連続式印刷システム20は、ラスタ画像データ、ページ記述言語の形態のアウトライン画像データ、又はその他の形態のデジタル画像データを提供する画像源ソース22、例えばスキャナ又はコンピュータなど、を含んでいる。この画像データは、画像処理ユニット24によって、中間調ハーフトーンにされたビットマップ画像データに変換される。画像処理ユニット24はまた、この画像データをメモリに記憶する。複数の液滴形成機構制御回路26が、画像メモリからデータを読み出し、プリントヘッド30の1つ以上のノズルに結合された液滴形成機構28に、時間変化する電気パルスを与える。これらのパルスは、連続したインクジェットストリームから形成される液滴が、画像メモリ内のデータによって指定される適切位置にて記録媒体32上にスポットを形成するように、適切な時に適切なノズルに与えられる。記録媒体32は、記録媒体移送システム34により、プリントヘッド30に対して移動される。記録媒体移送システム34は、マイクロコントローラ38によって制御される記録媒体移送制御システム36によって電子制御される。図1に示した記録媒体移送システムは単なる概略であり、数多くの異なる機械構成も可能である。例えば、記録媒体32へのインク滴の転写を支援するよう、記録媒体移送システム34として転写ローラーが用いられてもよい。そのような転写ローラー技術は技術的に周知である。ページ幅プリントヘッドの場合、静止したプリントヘッドを通り過ぎるように記録媒体32を移動させると非常に好都合である。しかしながら、走査式プリントシステムの場合には通常、相対的なラスタ動作にて、1つの軸副走査方向に沿ってプリントヘッドを移動させ、且つ直交する軸主走査方向に沿って記録媒体を移動させると非常に好都合である。インクは、加圧下のインク容器40に格納される。非印刷状態において、連続的なインクジェット滴ストリームは、当該ストリームを阻止し且つインクリサイクルユニット44によってインクの一部を再利用することを可能にし得るインクキャッチャー42により、記録媒体32に到達することができない。インクリサイクルユニットは、インクを再調整し、それを容器40へと送り戻す。そのようなインクリサイクルユニットは技術的に周知である。最適動作に好適なインク圧は、ノズルの幾何学形状及び熱特性並びにインクの熱特性を含む多数の要因に依存する。インク圧調整器46の制御下でインク容器40に圧力を印加することによって、一定のインク圧を達成することができる。他の例では、インク容器を非加圧のままとする、あるいは更には減圧真空下におくことができ、ポンプを用いてインク容器からプリントヘッド30へインクが送り届けられる。このような一実施形態において、インク圧力調整器46はインクポンプ制御システムを有することができる。図1に示すように、キャッチャー42は、一般的にナイフエッジキャッチャーと呼ばれるタイプのキャッチャーである。インクは、チャネルと呼ばれることもあるインクマニフォールド47を通してプリントヘッド30に配給される。インクは好ましくは、プリントヘッド30のシリコン基板を貫通するようにエッチングされたスロット又は孔を通って、複数のノズルと例えばヒーターなどの液滴形成機構とが位置する該基板の前面へと流れる。プリントヘッド30がシリコンから形成されるとき、液滴形成機構制御回路26はプリントヘッドと集積されることができる。プリントヘッド30はまた、図2及び3を参照して更に詳細に後述する偏向機構を含む。図2を参照するに、連続液プリントヘッドの模式図が示されている。プリントヘッド30の噴出モジュール48は、ノズルプレート49内に形成されたアレイ状あるいは複数のノズル50を含んでいる。図2において、ノズルプレート49は噴出モジュール48に取り付けられている。しかしながら、図3に示すように、ノズルプレート49は噴出モジュール48の、一体化された一部であってもよい。例えばインクである液体が、一般滴に液体ジェット又は液体フィラメント52と呼ばれるストリームを形成するよう、加圧下でアレイの各ノズル50を通して放出される。図2において、アレイ状あるいは複数のノズルは、図の奥及び手前へと延在している。典型的に、ノズル50の開口オリフィスサイズは約5μmから約25μmである。噴出モジュール48は、各ノズルを通して、第1のサイズ又は体積を有する液滴と、第2のサイズ又は体積を有する液滴とを形成するように動作可能である。これを達成するため、噴出モジュール48は、例えばヒーター、圧電アクチュエータ、又は電気流体力学的刺激装置といった液滴刺激装置又は液滴形成装置28を含んでおり、これが、選択的に作動されるときに、例えばインクである各液体ジェット52を乱すことにより、各ジェットの部分群が該ジェットからちぎれ、且つまとまって液滴群54、56を形成するように誘導する。図2において、液滴形成装置28は、ノズル50の片側又は両側でノズルプレート49内に位置した、例えば非対称なヒーター又はリング状のヒーターセグメント化されているかセグメント化されていないかの何れかといったヒーター51である。このタイプの液滴形成は、例えば、2002年10月1日に発行されたHawkins等の米国特許第6457807号、2002年12月10日に発行されたJeanmaireの米国特許第6491362号、2003年1月14日に発行されたChwalek等の米国特許第6505921号、2003年4月29日に発行されたJeanmaireの米国特許第6554410号、2003年6月10日に発行されたJeanmaireの米国特許第6575566号、2003年7月8日に発行されたJeanmaireの米国特許第6588888号、2004年9月21日に発行されたJeanmaireの米国特許第6793328号、2004年12月7日に発行されたJeanmaireの米国特許第6827429号、及び2005年2月8日に発行されたJeanmaireの米国特許第6851796号のうちの1つ以上に記載された特定の態様で知られている。典型的に、ノズルアレイの各ノズルに1つの液滴形成装置28が付随する。しかしながら、液滴形成装置28は複数ノズル50のグループ又はノズルアレイの全ノズル50に付随してもよい。プリントヘッド30が動作しているとき、液滴54、56は典型的に、複数の大きさ又は体積で作り出され、例えば、第1のサイズ又は体積を有する大液滴56と第2のサイズ又は体積を有する小液滴54との形態で作り出される。小液滴54の質量に対する大液滴56の質量の比は、典型的に、およそ2と10との間の整数である。液滴54、56を含む液滴ストリーム58は、液滴の経路又は軌道57を辿る。典型的に、液滴サイズは約1pLから約20pLまでである。プリントヘッド30はまた、液滴軌道57の一部分を通り過ぎるように例えば空気である気体の流れ62を導く気体流偏向機構60を含んでいる。液滴軌道のこの部分のことを偏向ゾーン64と称する。気体流62は、偏向ゾーン64内で液滴54、56と交わるとき、液滴軌道を変化させる。液滴が偏向ゾーン64から出て行くとき、それらは、偏向されないときの液滴軌道57に対して或る角度偏向角と呼ばれるで進行していく。小液滴54は気体流によって大液滴56よりも大きく影響され、その結果、小液滴の軌道66は大液滴の軌道68から逸れたものとなる。すなわち、小液滴54の偏向角は大液滴56のそれより大きい。気体流62は、小液滴軌道66及び大液滴軌道68の一方を遮断するようにキャッチャー42図1及び3に示されているを位置付けることができるように、十分な液滴偏向、ひいては、小液滴軌道と大液滴軌道との十分な逸脱を提供する。それにより、該一方の軌道を辿る液滴はキャッチャー42によって収集され、他方の軌道を辿る液滴はキャッチャーを回避して記録媒体32図1及び3に示されているに衝突する。大液滴軌道68を遮断するようにキャッチャー42が位置付けられるとき、小液滴54は十分に逸らされており、キャッチャー42と接触することなく記録媒体32に突き当たる。小液滴が印刷されるとき、これを小液滴印刷モードと称する。小液滴軌道66を遮断するようにキャッチャー42が位置付けられるときには、大液滴56が印刷液滴である。これを大液滴印刷モードと称する。図3を参照するに、噴出モジュール48は、アレイ状あるいは複数のノズル50を含んでいる。チャネル47図2に示されているを通して供給される液体、例えばインクが、加圧下で、アレイの各ノズル50を通して放出されて液体ジェット52を形成する。図3において、アレイ状あるいは複数のノズル50は図の奥及び手前へと延在している。噴出モジュール48に付随する液適刺激装置又は液滴形成装置28図1及び2に示されているが、選択的に作動されることで、液体ジェット52が乱され、該ジェットの部分群が該ジェットからちぎれて液滴群を形成する。斯くして、記録媒体32に向かって進行する大液滴及び小液滴の形態で、液滴が選択的に作り出される。気体流偏向機構60の正圧気体流構造61が、液滴軌道57の第1の側に位置している。正圧気体流構造61は、下側の壁74と上側の壁76とを含む第1の気体流ダクト導管72を含んでいる。気体流ダクト72は、正圧源92から供給された気体流62を、液体ストリーム52に対しておよそ45°の下向き角θで、液滴偏向ゾーン64図2にも示されているの方に導く。必要に応じてのシール84が、噴出モジュール48と気体流ダクト72の上壁76との間の気密を提供する。気体流ダクト72の上壁76は、図2に示されるように液滴偏向ゾーン64まで延在することを必要としない。図3において、上壁76は、噴出モジュール48の壁96の位置で終端している。噴出モジュール48の壁96が、液滴偏向ゾーン64で終端する上壁76の一部として機能する。気体流偏向機構60の負圧気体流構造63が、液滴軌道57の第2の側に位置している。負圧気体流構造は、キャッチャー42と上側の壁82との間に位置した、偏向ゾーン64から気体流を排出する第2の気体流ダクト78を含んでいる。第2のダクト78は、当該第2のダクト78中を流れる気体を除去する助けとなるように使用される負圧源94に接続されている。必要に応じてのシール84が、噴出モジュール48と上壁82との間の気密を提供する。図3に示すように、気体流偏向機構60は正圧源92及び負圧源94を含んでいる。しかしながら、意図される具体的な用途に応じて、気体流偏向機構60は正圧源92及び負圧源94のうちの一方のみを含むこともできる。第1の気体流ダクト72によって供給される気体は、液滴偏向ゾーン64内へと導かれ、そこで、大液滴軌道68を辿る大液滴56と、小液滴軌道66を辿る小液滴54とを生じさせる。図3に示すように、小液滴軌道66はキャッチャー42の正面90によって遮断されている。小液滴54は、面90に接触し、面90を下方に流れ、そして、キャッチャー42とプレート88との間に配置あるいは形成された液体返送ダクト86内へ流れる。収集された液体は、再利用のために再循環されてインク容器40図1に示されているに戻されるか、廃棄されるかの何れかである。大液滴56はキャッチャー42を回避して、記録媒体32の上まで進行する。他の例では、キャッチャー42は大液滴軌道68を遮断するように位置付けられ得る。大液滴56は、キャッチャー42に接触し、キャッチャー42内に配置あるいは形成された液体返送ダクト内へ流れる。収集された液体は、再利用のために再循環されるか、廃棄されるかの何れかである。小液滴54はキャッチャー42を回避して、記録媒体32の上まで進行する。他の例では、非対称なヒーター51を用いて液体ジェット52に非対称に熱を印加することによって、偏向を達成することができる。この立場で用いられるとき、非対称ヒーター51は典型的に、偏向機構に加えて液滴形成機構として動作する。このタイプの液滴形成及び偏向は、例えば、2000年6月27日に発行されたChwalek等の米国特許第6079821号に記載されて知られている。偏向はまた、静電偏向機構を用いて達成されることも可能である。典型的に、静電偏向機構は、米国特許第4636808号に記載されたもののように、液滴の帯電と液滴の偏向とを単一の電極内に組み入れるか、別々の液滴帯電電極と液滴偏向電極とを含むかの何れかである。図3に示すように、キャッチャー42は、一般的にコアンダCoandaキャッチャーと呼ばれるタイプのキャッチャーである。しかしながら、図1に示したナイフエッジキャッチャー及び図3に示したコアンダキャッチャーは相互に置き換え可能であり、何れが実装されてもよい。他の例では、キャッチャー42は、以下に限られないが、多孔面キャッチャー、デリミッテドdelimitedエッジキャッチャー、又は上述のものの組み合わせを含め、好適な如何なる設計のものであってもよい。図4Aを参照するに、本発明の一実施形態例を含むプリントヘッド30の噴出モジュール48の断面図が示されている。プリントヘッド30は、噴出モジュール48の少なくとも1つのノズル250と流体的に連通した液体源260を含んでいる。ノズルプレートと呼ばれることがある第1の基板249の部分群が、液体源260から供給された液体を放出するように適応されたノズル群250を画成している。噴出モジュール48はフィルタ270を含んでいる。液体チャンバ252が、上記少なくとも1つのノズル250及びフィルタ270と流体的に連通している。液体チャンバ252は、第1の基板249の対応する部分によって画成される上記少なくとも1つのノズル250とフィルタ270との間に位置している。液体チャンバ252はポート150を含んでいる。ポート150はフィルタ270に対して下流に位置している。図4Aに示すように、液体源260は液体マニフォールド47を含んでいるが、その他の構成の液体源260も可能である。液体マニフォールド47は、当該マニフォールド47内に位置するポート122を通して、液体容器40図1に示されているに流体的に連通して接続される。ポート122はフィルタ270に対して上流である。液体ジェット253を形成するのに十分な圧力の下で、マニフォールド47からノズル250に液体が供給される。液体マニフォールド47はしばしば第2の液体チャンバと呼ばれ、液体チャンバ252は第1の液体チャンバと呼ばれる。典型的に、ポート150は液体の出口として機能し、ポート122は入口として機能する。本発明の他の実施形態において、噴出モジュール48は、更に詳細に後述するように、より多くのポートを含むことができる。ポート150及び122、並びに更なるポートの機能も変わり得る。これについても更に詳細に後述する。図4Aに示すように、フィルタ270は、別個に形成されたプリントヘッド部品であり、基板249と給液マニフォールド47との間に取り付けられる。フィルタには液体内の様々な微粒子図示せずが与えられ、フィルタ270は、濾過された液体がフィルタ270の1つ以上の部分からノズル群250のうちの何れか又は全てに供給され得るように、ノズル群250によって共用される。フィルタ270は、液体から粒子状物質を濾過するように適応された複数のポア細孔280を含んでいる。各ポア280は、液体がポア280を通って流れるときに所望サイズの粒子状物質を濾過するのに適した大きさ及び形状にされる。例えば、フィルタを挟んでフィルタの上流側と下流側との間で望ましくないレベルの圧力損失又は圧力低下を生じさせることなく、所望サイズの粒子状物質が液体から実効的に濾過されるように、各ポア280の断面積、又は各ポア280の形状に応じて直径が選定される。また、ポア280の個数、大きさ、形状及び間隔は、意図される動作環境に対してフィルタ270の構造上の堅牢性が十分であるように選定される。また、フィルタ270の高さすなわち、厚さも、構造的堅牢性を提供し、且つフィルタ270を挟んで許容できないほどの大きい圧力損失を生じさせることなく液体からの実効的な濾過を行うように選定される。フィルタ270は、単一の材料層内のスルーホールである複数のポアを含んだ、ふるい型のフィルタである。このようなフィルタが好ましいのは、曲がりくねった経路を含んだフィルタポア280と比較して、粒子濾過の許容差がより容易に維持され且つ厳格に守られることが分かっているためである。ポア280は円柱状とすることができる。あるいは、ポア280は、ポア入口サイズがポア出口サイズと異なり;ポア入口サイズ及びポア出口サイズのうちの小さい方がフィルタポアによって阻止される粒子のサイズを決定するように、傾斜状あるいはテーパー状の壁を含むことができる。ポア280は、フィルタの表面に対して垂直に向けられ得る。あるいは、ポア280は、例えばフィルタの表面に対して角度を付けられ得る。フィルタ270は、2つ以上の材料層を含んでいてもよい。また、高さ又は厚さに関して表されるのが通常であるフィルタ270全体サイズは、曲がりくねった経路を含んだフィルタポア280と比較して小さくなり得る。曲がりくねった経路を有するポア280を含んだフィルタは、一部の用途において、例えば、濾過すべき粒子の大きさがそのようなフィルタ270によって一貫して捕捉されるのに十分な大きさである用途において、十分な濾過を提供する。通常、ポア280は2次元パターンに配列され、そのとき、ポア280は、互いに対して秩序的に、あるいは互いに対してランダムに、の何れかで位置付けられる。複数のポア280をともにグループ化してもよく、そのとき、非多孔質セグメントが複数のポアグループ間に位置付けられ得る。典型的に、ポア280の大きさは1μmから10μmであり、より好ましくは、1μmから5μmである。フィルタ270は平面構造として図示されているが、波形フィルタ又はひだ状フィルタも使用され得る。これらのフィルタは、高められたフィルタ容量を有し、過負荷になる前に、より多くの残骸を捕捉することができる。ポア280は、液体52を濾過するのに適した様々な部分形状を含むことができる。例えば、ポアは、三角形、正方形、楕円形、又は長方形の断面形状を有し得る。ポア280がコーナー部を含むとき、コーナー部は丸められるべきである。尖ったコーナーは機械的堅牢性の観点から望ましくない。ポア280の大きさは、液体52内の粒子状物質の測定あるいは予測される大きさに従って異なったものにされ得る。例えば、円形のポア280が使用されるとき、直径は4μm程度である。三角形のポア280が使用されるとき、辺の長さは5μm程度である。ポア280はまた、1μm程度のセルサイズを有するハニカム構成又はセル状構成を有していてもよい。ポア群280はまた、一様な形状を有しながら、サイズ的に異なっていてもよい。例えば、ポア280は円形にされ得るが、個々のポア280は相互に比較して異なる直径を有し得る。しかしながら、ポアを通過する流体の圧力低下と、フィルタ270の粒子除去能力との双方がポアサイズに関係するので、効果的な濾過とフィルタ270での予測可能な圧力低下とを実現するためには、複数のポア280のうちの各ポアが、該複数のポア280のうちのその他のポアと比較して、実質的に均一な大きさを有することは好ましい。ポア280は、2次元パターンに配列されたスルーホールであり、ポア280は互いに対して秩序的に位置付けられる。フィルタ270は、ステンレス鋼材料、セラミック材料、例えばトラックをエッチングされた高分子膜を含むポリマー材料、又は例えば電鋳金属及びエッチングされた金属などのその他金属から製造され得る。フィルタ270が電気鋳造されるとき、好適な金属には、例えば、Ni、Pd、及びこれらの組み合わせがある。フィルタ270が曲がりくねった経路を含むとき、フィルタ270は通常、織物メッシュ、繊維状マット、発泡材料、又は曲がりくねった経路を実現するのに適したその他材料から製造される。図4Bを参照するに、本発明の他の一実施形態例を含むプリントヘッド30の噴出モジュール48の断面図が示されている。基板85からノズルプレート49が形成されており、基板85の複数部分が複数のノズル50を画成している。基板87からマニフォールド47が形成されている。噴出モジュール48はまた、噴出モジュール48内を流れる液体から粒子状物質を濾過するように適応されたフィルタ100を含んでいる。フィルタ100は基板97内に形成されている。本発明のこの実施形態例において、フィルタ100は濾過膜102及びリブ肋材構造137を含んでいる。ノズル50及びフィルタ100は、液体チャンバ53がノズル50とフィルタ100との間に配設されるように、相互に離隔されている。液体チャンバ53は、フィルタ100とノズル50の一部又は全部とに対して共通である。液体マニフォールド47はしばしば第2の液体チャンバと呼ばれ、液体チャンバ53は第1の液体チャンバと呼ばれる。図4Bには、噴出モジュール48内での液体の典型的な流れ方向が、矢印→を用いて示されている。液体チャンバ53はポート150を含んでいる。ポート150はフィルタ100に対して下流に位置している。液体マニフォールド47は、フィルタ100より上流に位置するポート122を含んでいる。ノズルプレート49、フィルタ100及びマニフォールド47は典型的に、別々の部品として形成され、噴出モジュール48を形成するように組み立てられる。典型的に、ポート150は液体の出口として機能し、ポート122は入口として機能する。本発明の他の実施形態において、噴出モジュール48は、更に詳細に後述するように、より多くのポートを含むことができる。ポート150及び122、並びに更なるポートの機能も変わり得る。これについても更に詳細に後述する。図4Bに示すように、濾過膜102は、円柱状の、形状的に一様に丸められ、均一な直径を有し、且つ1μmから20μmのサイズを有するノズルオリフィスを全体的あるいは部分的に詰まらせ得る、あるいは該ノズルオリフィスに別のように悪影響を及ぼし得る粒子を効果的に濾過する大きさにされた、複数のポア110を含んでいる。ポア110は2次元パターンに配列され、ポア110は互いに対して秩序的に位置付けられている。複数のポア110が、非多孔質セグメントがポアグループ同士の間に位置付けて、ともにグループ化されている。リブ構造137は、これらの非多孔質セグメント内に位置している。フィルタ100の他の実施形態も可能であり、例えば、図4Aを参照して説明した代替形態を含む。液体チャンバ53は、噴出モジュール48を構成する部品のうちの1つ以上の中に、あるいはそれとともに形成される。これは、例えば、基板85、基板97、及びフィルタ100基板97とノズルプレート49基板85との間に位置付けられる基板95、のうちの1つ以上の全て又は一部を含む。図4Bにおいては1枚の基板から製造されるように示されているが、液体チャンバ53、並びに例えばノズルプレート49、フィルタ100及びマニフォールド47などのその他のプリントヘッド部品は各々、2枚以上の基板を用いて形成されてもよい。各基板は単一の材料層又は複数の材料層を含み得る。基板の1つ以上は、堆積プロセスによって形成された少なくとも1つの材料層、又はラミネーションプロセス若しくはそれと堆積プロセスとの組み合わせによって設けられた少なくとも1つの材料層を含み得る。一部の実施形態例においては、1つの基板を別の基板に接着するために更なる接着剤が使用され得るが、他の実施形態例においては、基板同士を相互に接着するために更なる接着材は使用されない。液体チャンバ53、並びに例えばノズルプレート49、フィルタ100及びマニフォールド47などのその他のプリントヘッド部品は各々、例えばセラミック、ポリマー、シリコンなどの半導体材料、ステンレス鋼、及びその他の金属材料を含む様々な材料から製造されることができる。金属材料がフィルタ100に選択されるとき、その金属は、例えばNi、Pd及びこれらの組み合わせなど、電着によって堆積される種類とし得る。図4Bにおいて、フィルタ100は、液体チャンバ53の全体にまたがるように、あるいは液体チャンバ53がノズル50を橋渡しブリッジするように配置された、平面状の膜102を含んでいる。従って、液体チャンバ53の部分は、濾過膜102、基板85の部分、及び基板95の部分によって画成されている。液体チャンバ53は、複数のポア110のうちの少なくとも1つと複数のノズル50のうちの少なくとも1つとに流体的に連通している。図示のように、液体チャンバ53内の液体が複数のノズル50の各々に供給される。液体チャンバ53は、液体が、濾過膜102内に位置するポア110を通過した後、且つ液体がノズル50の方に導かれる前に、ノズル50のアレイ全体にわたって液圧及び流れ特性が正常化することを可能にする。図4Bに示すように、各ノズル50は、一般的にノズルボアと呼ばれるノズルオリフィス50Aと流体的に連通した液流路50Bを含んでいる。また、液体チャンバ53と流体的に連通して、各流路50Bは、液体チャンバ53内の液体の一部を対応するオリフィス50Aに供給する。各流路50Bは基板85内に形成されている。流路50Bは、ここに援用する米国特許第7607766号明細書に記載されるように、液体が各ノズル50に入るときに、液体内の乱流の状態を整える助けとなる。図示のように、流路50Bは長方形の形状をしている。流路50Bはその他の形状を含んでいてもよく、また、その他の機能を提供してもよい。例えば、流路50Bのうちの1つ以上は、円形又は楕円形の断面を有していてもよい。流路50Bの壁は、ノズルプレート49の面に対して実質的に垂直とすることができ、あるいは他の例では、これらの壁は、液流をノズル50内に一層良好に導くために、対応するノズルオリフィス50Aの方に延在するにつれて近付き合うようにされ得る。出口150は、噴出モジュール48内で、フィルタ100から下流に位置に配設されている。出口150は、液体がフィルタ100を通過した後に、液体をノズル50から遠方且つ噴出モジュール48外へと導く代替の流れ経路を提供する。出口150は、このポートを通過する流体の流れを制御するバルブを含み得る。液体チャンバ53は1つ以上の出口150を含むことができる。図4Bに示すように、噴出モジュールは出口150A及び出口150Bを含んでいるが、その他の実施形態例は、より少ない、あるいはより多くの出口を含む。噴出モジュール48内で液体チャンバ53の一方側に位置する出口150Aは、ノズル50から遠ざかる液流経路を提供する。出口150Bは、液体チャンバ53の、出口150Aとは反対側に位置している。出口150Bは典型的に、噴出モジュールのクロスフラッシング処理中に、より良好な流れプロファイル特性を達成するために使用される。出口150A及び150Bは、クロスフラッシング処理中に液体チャンバ53内に所望の流体流を提供するのに適した大きさにされる。図4Bに示すように、マニフォールド47は必要に応じて、入口122に加えて出口124を含む。出口124は、フィルタ100の上流に位置付けられ、クロスフラッシング洗浄処理中に、噴出モジュール48の動作中にマニフォールド47内又はフィルタ100上に蓄積した粒子状物質を除去する助けとするために使用される。このタイプのクロスフラッシング処理は、入口122から出口124まで、マニフォールド47内のフィルタ100の上流表面を横切る流れを構築することを含む。このクロスフラッシング処理は、噴出モジュール48の動作中にフィルタ100上に蓄積した粒子状物質を除去する助けとなるので、フィルタ100の上流表面での粒子状物質の蓄積によって生じる圧力低下一般的に損失と呼ばれるの変動が抑制される。クロスフラッシング処理を用いてフィルタ100の上流表面から粒子状物質を周期的に除去することは、フィルタ100での圧力低下を許容可能なレベルに維持する助けとなり得る。出口124が、フィルタ100に対して上流のマニフォールド47内に位置して、マニフォールド47から粒子を洗い流すことを可能にするのに対し、出口150A又は出口150Bは、フィルタ100に対して下流に位置する液体チャンバ53内に位置付けられて、液体チャンバ53から粒子を洗い流すことを可能にする。出口150A又は出口150Bによって提供されるクロスフラッシング動作は、液体の一部が流路50Bの入口を横切って該入口から離れるように流れることを可能にする。有利には、ここに記載したように本発明の実施形態例に出口150A又は出口150Bの一方又は双方を組み込むことは、フィルタ100の下流に位置する液体内に存在する粒子状物質をクロスフラッシングすることによって、プリントヘッドの信頼性及びプリント品質を高める助けとなる。フィルタ100によって液体は既に濾過されているとはいえ、液体内には依然として粒子状物質が存在し得る。例えば、フィルタ100及びノズルプレート49が別々に形成された部品であって、後に、噴出モジュール48を形成するように組み立てられる場合、ノズル50の1つ以上の各々を部分的あるいは完全に塞ぎ得る不所望の粒子状物質が、組立プロセス中に生成され得る。また、プリントヘッド30が或る期間にわたって使用されていないとき、液体に伴う凝固作用により、ノズル50の1つ以上の内部に妨害物が成長することがある。例えば、一部の顔料ベースのインクは、プリントヘッド30が幾らかの時間にわたって動作されないとき、ノズル50内に比較的軟らかい詰め物を形成し得る。出口150A又は出口150Bは、クロスフラッシング動作を生成するために使用されることができ、上述の粒子状物質及び妨害物の除去を支援する。出口150A又は出口150Bは、様々な時にノズル50から液体をクロスフラッシングするために使用されることができる。例えば、クロスフラッシングは、組立試験の一部として製造時点で実行することができる。他の例では、クロスフラッシングが現場でも使用され得るように印刷システムを構成することができる。クロスフラッシングの例について以下にて更に詳細に説明する。一部の実施形態例において、出口150A又は出口150Bは、所定のスケジュールでプリントヘッド30をクロスフラッシングするために使用される。一部の実施形態例において、出口150A又は出口150Bは自動的にプリントヘッド30をクロスフラッシングするために使用され、他の実施形態例においては、出口150A又は出口150Bは、オペレータの介入の結果としてプリントヘッド30をクロスフラッシングするために使用される。一部の実施形態例において、出口150A又は出口150Bは、プリントヘッド30が起動される度にプリントヘッド30をクロスフラッシングするために使用される。一部の実施形態例において、出口150A又は出口150Bは、例えば液体ジェットのミスアライメント又は欠損によって生じるプリント欠陥を軽減するために行われる矯正行為の一部として、プリントヘッド30をクロスフラッシングするために使用される。理解されるように、出口150A又は出口150Bは、インク以外の液体でプリントヘッド30をクロスフラッシングするように動作され得る。例えば、様々な好適な洗浄剤が使用され得る。一部の実施形態例において、液体チャンバ53にも、フィルタ100のポア110とは別に、インク以外の液体を液体チャンバ53に供給するために使用可能な入口が設けられる。図4A及び4Bを参照して上述した実施形態例において、ポート122、124、150A又は150Bのうちの何れか又は全てに関する流体流が、対応するバルブ160によって選択的に塞がれ得る。各バルブ160は、液体の一部の流れを、ノズル50の1つ以上に向かうように、あるいは離れるように、の何れかに選択的に向け直すように操作されることができる。一部の実施形態例において、バルブ160は手動操作されるが、他の実施形態例においては、バルブ160はマイクロコントローラ38図1に示されているの支配下で操作される。バルブ160は、如何なる流体流も発生しない完全な閉位置から、様々な程度の流体流が発生する部分的な開位置又は完全な開位置へと操作されることができる。バルブ160は、意図される流体動作圧及び流速を提供するのに好適な如何なるバルブであってもよい。バルブ160の選択は、それが液体の様々な材料特性と特に適合することによって、あるいはプリントヘッド動作中の粒子生成の可能性を低減するバルブ160の設計特性によって動機付けられ得る。バルブ160は、噴出モジュール48の外部とすることができる。他の例では、バルブ160はMEMSバルブとしてもよく、これは、プリントヘッド30のその他の部品がMEMSプロセスを用いて製造される時に有利になり得る。必要に応じて、チャンバ47及び濾過膜100の上流表面から微粒子を除去するクロスフラッシング処理は、噴出モジュール48又は噴出モジュール48内の液体を超音波振動させることによって強化され得る。そのような振動は、チャンバの表面及び濾過膜100の上流表面から微粒子材料を取り除き、それらが噴出モジュールから掃き出され得るようにすることができる。所望の超音波振動を生成するために、噴出モジュールの外装に接合された圧電素子又はアクチュエータが使用され得る。必要に応じて、例えば欧州特許第1095776号に記載されるようにクロスフラッシングの有効性を更に高めるために、圧電アクチュエータが複数の周波数で駆動される。図4Bに示した実施形態例において、噴出モジュール48の部品群は、噴出モジュール48を形成するように組み立てられる別々の複数の部品とすることができる。これらの部品のうちの1つ以上はまた、後述のようにMEMS製造技術を用いて形成されて組み立てられ得る。噴出モジュール48は、複数の積層された平面状の基板を含んでおり、ノズル50、液体チャンバ53及びフィルタ100がこれらの平面状基板のうちの1つ以上内に形成される。この構成はMEMS製造に適している。従って、本発明のこの実施形態例において、例えばノズル50、液体チャンバ53又はフィルタ100といった噴出モジュール48の複数の機構のうちの1つ以上が、MEMS製造技術を用いて形成される。導電材料層、半導電性材料層及び絶縁体材料層の様々な組み合わせを有する様々な構成要素を形成するために、MEMS製造技術が選択的に採用される。これらの層のうちの一部又は全ては、パターニングされたマスク層によって制御されるのが一般的な様々な材料堆積エッチングプロセスによってその中に形成された造形部を有する。上述のように、ノズル50は、MEMSプロセスを用いて基板85内に形成され得る。MEMSプロセスはまた、基板97からフィルタ100を形成するために使用され得る。この実施形態例において、基板97は半導体材料を含む。例えばシリコンなどの半導体材料は、MEMS製造技術を用いて容易に処理される。基板97は、リブ構造137及び濾過膜102を形成するために例えばシリコンである半導体材料の複数部分を除去するようにパターニングされエッチングされる。基板97の濾過膜102内にポア110が形成される。図4Bに示すように、ポア110は複数のポアグループ120に配列されるが、その他の構成も可能である。ポア110は更なるパターニングエッチングプロセスを用いて形成される。隣接し合うリブ構造137は、濾過膜102内に形成された複数のポアグループのうちの1つによって互いに離間される。典型的なリブ構造137は、少なくとも10μmから約450μmの厚さを有する。典型的な濾過膜102は、約2μmから約10μmの厚さを有する。図4Bに示すように、リブ構造137は、ポアグループ120を2つの側で囲む。他の実施形態例において、1つ以上のポアグループ120は、1つ以上のリブ構造137によって囲まれてもよい。例えば、リブ構造137は、濾過膜102に対して2次元の格子状に配置され得る。リブ構造137は濾過膜102と一体的に形成される。リブ構造137は濾過膜102を補強する助けとなり、それにより、濾過膜102を、その他の場合に可能なものより薄くすることが可能になる。ポアグループ120を通って流れるときの液体に関する圧力低下一般的に損失と呼ばれるが可能な限り低減されることが望ましい。より薄い濾過膜102は、より厚い濾過膜102と比較して、フィルタ100での損失を低減する。故に、より薄い濾過膜102を用いるとき、動作圧を低下させることができる。典型的に、信頼性あるシステム動作を維持するためには、動作圧を可能な限り低く保つことが望ましい。高い動作圧は、望ましくない応力をシステムに及ぼす。さらに、動作圧が高くなると、機器コストも高くなり得る。例えば、ポンプを適切な大きさにしなければならず、それによってシステムにコストが追加される。一部の実施形態例において、フィルタ100での損失が10psi以下であることが望まれる。他の実施形態例において、フィルタ100での損失が5psi以下であることが望まれる。他の実施形態例において、フィルタ100での損失が3psi以下であることが望まれる。フィルタ100での損失は液体の流速の関数として変化し得るものであり、より高い流速は、より高い圧力低下を被る。フィルタ100での圧力低下はまた、例えば、ポア110の大きさ、ポア110の数、及び濾過膜102の厚さなどの因子に依存し得る。ポア110は典型的に、液体内の予測あるいは測定されたサイズの粒子状物質を捕捉するように大きさを定められる。概説すれば、ポアの実効的な直径は、ノズル50のオリフィス50Aの実効的な直径の1/2未満、好ましくは1/3未満にすべきである。例えばノズル又はポアなどの開口の実効的な直径とは、開口面積をπで割ったものの平方根の2倍に等しい。例えば、プリントヘッド30の各ノズル50は、そのノズル50を通る流体流の方向で見たときに実効的な直径を有し、各ポア110は、そのポア110を通る流体流の方向に沿って見たときに実効的な直径を有する。ポア110の実効的な直径は、ノズル50の面積の半分より小さい。一部の実施形態例において、ポア110の数は、液体がフィルタ100を通って流れるときに予期される圧力低下を低減する助けとなるように増加される。他の実施形態例において、フィルタ100での予期される圧力低下を低減するよう、濾過膜102の厚さが制御される。従って、非常に薄い濾過膜102が要求され得る。一部の例において、非常に薄い厚さを有する濾過膜102は、フィルタ100がプリントヘッド30に取り付けられるときにハンドリングダメージを生じやすい。そのような厚さを有する濾過膜102は、濾過膜102を挟んで液体52によって生成される圧力差の影響に耐えることにあまり適していないものとなり得る。本発明に従って形成されるリブ構造137は濾過膜102を有利に補強し、それにより、それらの繊細な構造の損傷の可能性が低減される。比較的厚い膜を含み、それに対応する大きい圧力低下を伴う従来のプリントヘッドフィルタシステムと異なり、リブ構造137の形成は有利なことに、濾過膜での圧力低下を不利に増大させずにダメージに耐えることが可能な補強された濾過膜102の形成を可能にする。典型的に、濾過膜102の厚さは<10μm、好ましくは<5μm、より好ましくは<2μmである。図5及び6A-6Gを参照するに、本発明の一実施形態例に従った濾過膜100の部分を製造する方法300を表すフローチャートが示されている。また、図5のフローチャートによって表される方法に関する様々な処理工程が、図6A、6B、6C、6D、6E、6F及び6Gに例示されている。工程310にて、第1表面141と第2表面142とを有する第1の基板140が用意される。この実施形態例において、第1の基板140は、例えばシリコンといった半導体材料を含む。工程315にて、図6Aに示すように、第1表面141上に材料層155が設けられる。この実施形態例において、材料層155は、第1表面を二酸化シリコンで被覆することによって形成される二酸化シリコン層である。例えばオルトケイ酸テトラエチルTEOS、窒化シリコン、酸窒化シリコン及び炭化シリコンといった、その他の材料が使用されてもよい。一部の実施形態例において、例えば窒化シリコンSiN層、酸窒化シリコン層又は炭化シリコン層といった、1つ以上の更なる層も設けられる。工程320にて、材料層155内に複数のポアグループ120が形成される。この実施形態例において、図6Bに示すように、例えばフォトレジストといった第1のマスク層156が、材料層155の表面に堆積されてパターニングされる。そして、パターニングされた第1のマスク層156によって露出された材料層155が、エッチャントを用いてエッチングされて、図6Cに示すような複数のポアグループ120が形成される。第1のマスク層156は、この時点で、あるいは、そうすることが望ましい場合には後の時点で除去されることができる。この実施形態例において、材料層155は、形成された濾過膜102を組み込んだプリントヘッド30に所望の液体が流されるときに予期される圧力低下、を低減するように選定された厚さを有する。工程325にて、第1の基板140内に複数のリブ構造137が形成される。この実施形態例において、図6Dに示すように、例えばフォトレジストといった第2のマスク層157が第1の基板140の第2表面142に堆積されてパターニングされる。そして、パターニングされた第2のマスク層157によって露出された第1の基板140の部分が、エッチャントを用いてエッチングされて、図6Eに示すような複数のリブ構造137が第1の基板140内に形成される。リブ構造137は、連続したポアグループ120同士の間に位置するように配置される。本発明のこの実施形態例において、リブ構造137は、ポアグループ120に近接した材料層155の部分を補強するために形成される。図6Eにおいて、第2のマスク層157は除去されている。一実施形態例において、ポアグループ120のアスペクト比は4:1であり、リブ構造137の大きさはおよそ20μmであるが、これらの値は材料の種類及び厚さに応じて変わり得る。好ましくは、濾過膜102構造の損傷の可能性を低減するため、ポアグループ120のリブ構造137同士間の間隔は濾過膜102の厚さの200倍以下、より好ましくは、濾過膜102の厚さの75倍以下にされる。工程330にて、第1表面171と第2表面172とを有する第2の基板170が用意される。この実施形態例において、図6Fに示すように、例えばフォトレジストといった第3のマスク層158が第2の基板170の第1表面171に堆積されてパターニングされる。工程335にて、パターニングされた第3のマスク層158によって露出された第2の基板170の部分を、エッチャントを用いてエッチングすることによって、図6Gに示すように、第2の基板170内に液体チャンバ53が形成される。液体チャンバ53は、複数のポアグループ120のうちの少なくとも1つとの流体的な連通を可能にするように位置付けられる。図6Gにおいて、第3のマスク層158は除去されている。液体チャンバ53は、1つのフィルタ100及び例えばノズルプレート49といった1つ以上の更なる基板と結合され、それによりプリントヘッド30が形成される。液体チャンバ53が出口150を含んだ一部の実施形態において、このポートの幾何学構成は、基板170、基板140及び材料層155のエッチング部分を定めるために使用される上記マスクのうちの1つ以上に所望のポート形状を含めることによって、これと同じプロセスを用いて作り出され得る。ポートは、基板170の側面を貫通して形成されることができ、あるいは代替的に、ポートは基板140と材料層155とを通り抜けてもよい。図4Bに示した基板87内に形成される流路の部分と共にポート150を形成する層95及び層97内に形成される流路の部分は、この手法で形成され得る。一部の実施形態例において、第1の基板140の第2表面142は、第2の基板170の第1表面171及び第2表面172のうちの一方に、更なる接着剤を用いて接着される。一部の実施形態例において、第1の基板140を第2の基板170に付着させることに、更なる接着剤は使用されない。一部の実施形態例において、第1の基板140及び第2の基板170は、第1の基板140と第2の基板170との間に配置されたエッチストップ層を含んだ第3の基板一体化基板と称するへと一体化される。そのような一体化基板の一例は、シリコンオンインシュレータSOI基板である。他の例では、エッチストップ層を使用しない時間制御のエッチングも、好適な構造を形成することができる。製造方法300は、例えばSOI基板などの一体化基板を処理するために様々に変更され得る。例えば、液体チャンバ53は、パターニングされた第3のマスク層158によって露出された第2の基板を、エッチストップ層まで貫通させてエッチングすることによって形成され得る。リブ構造137は、第2の基板170の様々な領域の除去後に露出されたエッチストップ層の領域をエッチングすることを含むプロセスによって、第1の基板140内に形成され得る。製造方法300にて例示した工程群は、単なる例として与えられたものである。追加あるいは代替の工程又は工程シーケンスも本発明の範囲内にある。図7-9を参照するに、本発明を含むプリントヘッド30又は噴出モジュール48とともに使用するのに好適な流体システムの実施形態例が示されている。これらの流体システムは、上述の噴出モジュール48のクロスフラッシングを遂行するために使用され得る。大雑把に言えば、クロスフラッシングは、捕捉された粒子又は蓄積した残骸をポートのうちの1つを介して噴出モジュールから除去するように、チャンバを貫通して流体を移動させることを含む。図7を参照するに、バルブ380が開いているとき、流体容器40からの流体が、ポンプ46Aによって、フィルタ350を介して噴出モジュール48の入口122に送り込まれる。流体は、入口122から、フィルタ100、270の上流に位置する流体チャンバ又はマニフォールド47に流れ込む。流体は、噴出モジュール48に集積あるいは一体化されたフィルタ100、270を通り過ぎて流体チャンバ53に入る。バルブ360が閉じると、流圧が上昇して、流体チャンバ53と流体的に連通した複数のノズル50から流体が吐出される。バルブ360が開くと、流体は、ポート150Bを介して流体チャンバ53から引き出され、流体容器40へと戻される。真空ポンプ370によって流体容器40に印加される真空が、ポート150Bから流体容器40へと戻る流体の流れを支援する。ポート122から流体チャンバ53を貫いてポート150Bを介して出て行く流体の流れは、流体チャンバ53からの粒子の除去を可能にする。図8は、流体システムの他の一実施形態を示している。図7を参照して説明した流体システムと同様に、噴出モジュール48の流体チャンバ又はマニフォールド47に、フィルタ100、270の上流に位置する入口122を介して、流体が供給される。フィルタ100、270より下流に位置する流体チャンバ53は、第1のポート150A及び第2のポート150Bを含んでいる。ポート150A及び150Bを通る流体の流れを制御するために、ポート150A及び150Bに結合されたバルブ360及び390が使用される。双方のバルブ360及び390が閉じている場合、流圧が上昇して、流体チャンバ53に流体的に連通した複数のノズル50から流体が噴出される。バルブ360、390の一方又は双方が開いている場合、流体は、対応するポート150B、150Aを通って流れ、流体容器40に戻される。これは、ポート150A、150Bの何れか又は双方を介して流体チャンバ53から粒子を除去することを可能にする。一実施形態において、第1のポート150A及び第2のポート150Bに結合されたバルブ360及び390の双方が同時に開くことで、流体チャンバ53から流体を迅速に流し出すことが可能になる。他の一実施形態において、一度に1つのバルブ360又は390が開くことで、先ず流体チャンバ53の一端から、次いで流体チャンバ53の他端から、順次に流体を流し出すことが可能になる。これは、開いたポート150A又は150B内に、より高い流速を達成することを可能にし、それにより、流体チャンバ53の対応する端部の一層効果的なフラッシングが実現される。図9を参照するに、流体システムの他の一実施形態において、噴出モジュール48は、フィルタ100、270の上流の2つのポート122及び124と、フィルタ100、270の下流に位置する2つのポート150A及び150Bとの、4つのポートを含む。図9に示した流体システムは、噴出モジュール48の流体チャンバ53及び47をフラッシングするための、より多くの選択肢を提供する。例えば、バルブ360、390及び410が閉じていながら、バルブ380及び400が開いている場合、流体は、マニフォールド47によって提供される流体チャンバから粒子を流し出すことができる。これは、フィルタ100、270の上流面から粒子を剥がし流す働きをすることができ、フィルタ100、270での圧力低下を許容可能なレベルに保つことの助けとなる。バルブ390、400及び380を閉じておきながら、バルブ410及び360を開くと、液体が流体チャンバ53をクロスフラッシングすることを引き起こし、該チャンバ内の粒子の除去に役立つ。流体システムから直接的に流体チャンバ53内に粒子を持ち込む虞を最小化するため、流体チャンバ53にフィルタ100、270の下流でポート150Aから直に流体を供給するライン内に、フィルタ420が置かれている。図9は、流体チャンバ53をクロスフラッシングするために供給される流体が、マニフォールド47に供給されるのと同じ流体である一実施形態を示しているが、流体チャンバ53をクロスフラッシングするために第2の流体容器から第2の流体を供給可能とすることも意図される。その他に、第1及び第2の流体チャンバの双方を同時にクロスフラッシングするために、バルブ410を閉じて、バルブ380、400、390及び360を開くことができる。バルブ410及びポート150Aを介して流体チャンバ53に流体を供給しながら、ポート124及びバルブ400を介してマニフォールド47から流体を引き出すことにより、フィルタ100、270をバックフラッシングすることができる。このクロスフラッシング処理の間、バルブ380、390及び360は閉じられる。上述のフラッシング処理のうちの何れかのためにポート150Aを介して第2の流体チャンバに流体を導入するのに先立ち、先ず、或る期間にわたってバルブ380、390及び410を開き且つバルブ360及び400を閉じて、フィルタ420及び対応する流体ラインを通して流体を流すことが望ましい。この処理は、ポート150Aを介して第2の流体チャンバに粒子が注入される虞を低減する助けとなる。必要に応じて、マニフォールド47、チャンバ53、フィルタ100、270及びノズルプレート49の表面又は表面群から微粒子を除去するための様々なフラッシング処理は、フィルタ100、270、ノズルプレート49、並びに第1の液体チャンバ53及びマニフォールド第2の液体チャンバ47の内表面のうちの少なくとも1つ又は一部を超音波振動させることによって強化され得る。そのような振動は、これらの表面から微粒子材料を取り除き、粒子が噴出モジュール48から流し出され得るようにすることができる。所望の超音波振動を生成するために、噴出モジュール48の外装に接合された圧電素子又はアクチュエータが使用され得る。必要に応じて、例えば欧州特許第1095776号に記載されるようにクロスフラッシングの有効性を更に高めるために、圧電アクチュエータが複数の周波数で駆動され得る。上述のように、フィルタ100、270は好ましくは、より効果的な粒子除去フラッシング処理を可能にするために、曲がりくねった経路を有するポアではなく、当該フィルタを貫通する直線的なポアを有する材料のシートを含む。