"Tiの含有量が100ppm以上500ppm以下であり、BまたはCの含有量が1ppm以上50ppm以下である純度が99.9以上のアルミニウムからなり、平均結晶粒径が1mm以下であるアルミニウム原型の表面に、アスペクト比細孔の深さ/細孔間の平均間隔が1以上4以下である複数の細孔からなる微細凹凸構造を有する酸化皮膜が形成された、スタンパ。Feの含有量が、200ppm以下である、請求項1に記載のスタンパ。平均結晶粒径が70μm以下である金属組織を有する、請求項1または2に記載のスタンパ。アルミニウム原型の表面に複数の細孔からなる微細凹凸構造を有する酸化皮膜が形成されたスタンパの製造方法であって、純度99.9以上のアルミニウムにTiを添加して溶解して溶湯とする溶解工程と、前記溶湯に、微細化剤を添加しながら鋳造を行う鋳造工程と、を含むことを特徴とするスタンパの製造方法。前記溶解工程において添加されるTiは、100ppm以上500ppm以下であり、前記鋳造工程において、前記スタンパのBまたはCの含有量が1ppm以上50ppmとなるように、前記溶湯に微細化剤を添加することを特徴とする、請求項4記載のスタンパの製造方法。鋳造工程の後のTi含有量が100ppm以上500ppm以下であり、BまたはC含有量が1ppm以上50ppm以下であることを特徴とする請求項4または5に記載のスタンパの製造方法。前記微細化剤はAl-Ti-C合金であることを特徴とする、請求項4~6のいずれか一項に記載のスタンパの製造方法。前記微細化剤は、Al-Ti-B合金であることを特徴とする、請求項4~6のいずれか一項に記載のスタンパの製造方法。前記鋳造工程の後に、さらに鍛造工程が行われることを特徴とする、請求項4~8のいずれか一項に記載のスタンパの製造方法。前記鋳造工程後の前記アルミニウム原型の平均結晶粒径が1mm以下であり、前記鍛造工程により前記アルミニウム原型の平均結晶粒径を70μm以下とすることを特徴とする、請求項9に記載のスタンパの製造方法。以下の工程aをさらに有する、請求項4~10のいずれか一項に記載のスタンパの製造方法。aアルミニウム原型を電解液中で陽極酸化してアルミニウム原型の表面に酸化皮膜を形成する工程。アルミニウム原型の表面に複数の細孔からなる微細凹凸構造を有する酸化皮膜が形成されたスタンパの製造方法であって、下記の工程aを有し、下記アルミニウム原型として、Tiの含有量が100ppm以上500ppm以下であり、BまたはCの含有量が1ppm以上50ppm以下である純度が99.9以上のアルミニウムを用いる、スタンパの製造方法。aアルミニウム原型を電解液中で陽極酸化してアルミニウム原型の表面に酸化皮膜を形成する工程。前記a工程において、前記アルミニウム原型の表面に形成される酸化被膜の厚みが0.01μm以上30μm以下であることを特徴とする、請求項11または12に記載のスタンパの製造方法。下記の工程bおよび工程cをさらに有する、請求項11~13のいずれか一項に記載のスタンパの製造方法。b前記工程aの後、酸化皮膜を除去する工程。c前記工程bの後、アルミニウム原型を電解液中で再度陽極酸化して複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。下記の工程d~fをさらに有する、請求項14に記載のスタンパの製造方法。d前記工程cまたは下記工程eの後、細孔の径を拡大させる工程。e前記工程dの後、アルミニウム原型を電解液中で再度陽極酸化する工程。f前記工程dと前記工程eとを繰り返し行う工程。請求項1~3のいずれか一項に記載のスタンパ、または請求項4~15のいずれか一項に記載の製造方法で得られたスタンパを用いて、微細凹凸構造が表面に形成された物品を得る、物品の製造方法。しかしながら、純度99.9以上の高純度アルミニウムを単純に鋳造した場合、結晶粒が粗くなり易く、アルミニウムの表面に粗い結晶模様が生じてしまう。このため、表面の結晶模様が粗いままアルミニウムの表面を陽極酸化すると、結晶模様が酸化皮膜の表面にも現れてしまう。そしてその結果、樹脂等の転写物の表面にもこの結晶模様が転写されてしまい、見た目を損なってしまう。この粗い結晶粒は、塑性加工熱処理による再結晶を利用し、微細な再結晶粒とすることができるが、この再結晶粒には元の粗い結晶粒の方位の痕跡が残り、結晶方位の不均一さメタルフロー模様が視覚で認識できる大きさで残ってしまう。そのため、元の粗い結晶粒に起因した結晶方位の不均一さを取り除くために再結晶を繰り返す、すなわち、塑性加工と熱処理とを繰り返す必要があり、工程数が増大して結果的にコスト高になってしまうという傾向があった。本発明は、アルミニウム基材の表面に複数の細孔からなる微細凹凸構造を有する酸化皮膜が形成されたスタンパであって、結晶粒の痕跡に由来する模様の酸化皮膜の表面への出現が抑制され、かつ低コストであるスタンパ、このスタンパを用いて製造された外観の良好な物品およびそれらの製造方法を提供することを目的とする。本発明の第1の態様は、Tiの含有量が100ppm以上500ppm以下であり、BまたはCの含有量が1ppm以上50ppm以下である純度が99.9以上のアルミニウムからなり、平均結晶粒径が1mm以下であるアルミニウム原型の表面に、アスペクト比細孔の深さ/細孔間の平均間隔が1以上4以下である複数の細孔からなる微細凹凸構造を有する酸化皮膜が形成された、スタンパに関する。前記スタンパは、Feの含有量が、200ppm以下であることが好ましい。前記スタンパは、平均結晶粒径が70μm以下である金属組織を有することが好ましい。本発明の第2の態様は、アルミニウム原型の表面に複数の細孔からなる微細凹凸構造を有する酸化皮膜が形成されたスタンパの製造方法であって、純度99.9以上のアルミニウムにTiを添加して溶解して溶湯とする溶解工程と、前記溶湯に、微細化剤を添加しながら鋳造を行う鋳造工程と、を含むことを特徴とするスタンパの製造方法に関する。前記溶解工程において添加されるTiは、100ppm以上500ppm以下であり、前記鋳造工程において、前記スタンパのBまたはCの含有量が1ppm以上50ppm以下となるように、前記溶湯に微細化剤を添加することを特徴とすることが好ましい。前記鋳造工程の後のTi含有量が100ppm以上500ppm以下であり、BまたはC含有量が1ppm以上50ppm以下であることが好ましい。前記微細化剤はAl-Ti-C合金であることが好ましい。前記微細化剤は、Al-Ti-B合金であることが好ましい。前記鋳造工程の後に、さらに鍛造工程が行われることが好ましい。前記鋳造工程後の前記アルミニウム原型の平均結晶粒径が1mm以下であり、前記鍛造工程により前記アルミニウム原型の平均結晶粒径を70μm以下とすることが好ましい。前記スタンパの製造方法は、以下の工程aをさらに有することが好ましい。aアルミニウム原型を電解液中で陽極酸化してアルミニウム原型の表面に酸化皮膜を形成する工程。本発明の第3の態様は、アルミニウム原型の表面に複数の細孔からなる微細凹凸構造を有する酸化皮膜が形成されたスタンパの製造方法であって、下記の工程aを有し、下記アルミニウム原型として、Tiの含有量が100ppm以上500ppm以下であり、BまたはCの含有量が1ppm以上50ppm以下である純度が99.9以上のアルミニウムを用いる、スタンパの製造方法に関する。aアルミニウム原型を電解液中で陽極酸化してアルミニウム原型の表面に酸化皮膜を形成する工程。前記a工程において、前記アルミニウム原型の表面に形成される酸化被膜の厚みが0.01μm以上30μm以下であることが好ましい。前記スタンパの製造方法は、下記の工程bおよび工程cをさらに有することが好ましい。b前記工程aの後、酸化皮膜を除去する工程。c前記工程bの後、アルミニウム原型を電解液中で再度陽極酸化して複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。前記スタンパの製造方法は、下記の工程d~fをさらに有することが好ましい。d前記工程cまたは下記工程eの後、細孔の径を拡大させる工程。e前記工程dの後、アルミニウム原型を電解液中で再度陽極酸化する工程。f前記工程dと前記工程eとを繰り返し行う工程。本発明の第4の態様は、本発明の第1の態様のスタンパ、または本発明の第2の態様もしくは第3の態様の製造方法で得られたスタンパを用いて、微細凹凸構造が表面に形成された物品を得る、物品の製造方法に関する。なお、本発明におけるアルミニウム基材は、アルミニウム中に他の元素を積極的に含ませてはいるが、実質3N以上の純度のアルミニウム金属塊により形作られているため、本明細書では、合金とは記さず、金属と記すことにする。本発明のスタンパは、結晶粒の痕跡に由来する模様の酸化皮膜の表面への出現が抑制され、かつ低コストである。本発明のスタンパの製造方法によれば、結晶粒の痕跡に由来する模様の酸化皮膜の表面への出現が抑制されたスタンパを低コストで製造できる。本発明の物品は、結晶粒の痕跡に由来する模様の酸化皮膜の表面への出現が抑制されたスタンパを用いて得られてものであるため、外観が良好である。本発明の物品の製造方法によれば、結晶粒の痕跡に由来する模様の酸化皮膜の表面への出現が抑制されたスタンパを用いているため、外観の良好な物品を製造できる。<アルミニウム原型>純度99.9以上の純アルミニウムを一般的なDC鋳造法等によって鋳造した場合、柱状晶が得られ結晶粒の大きさはセンチメートルオーダーである。この粗い結晶粒を有する鋳塊に塑性加工および熱処理を施し、再結晶を利用して微細結晶粒を得ることは可能である。しかしながら、この再結晶組織には鋳塊の粗い結晶粒の痕跡が残り、結晶粒径は目視不可能なレベルまで微細しても、方位の不均一さに起因した目視できる大きさの不均一さメタルフロー模様が残ってしまう。この方位の不均一さは、後の陽極酸化において方位による酸化皮膜の成長速度の差に起因する凹凸の原因となり、この酸化皮膜の表面を転写した転写物にもこの凹凸が転写されてしまい見た目を損なってしまう。この方位の不均一さを低減するために、塑性加工と熱処理による再結晶とを繰り返すことが有効であるが、工数の増加による製造コストの上昇が難点として挙げられる。そこで、本発明者等は、純度の高いアルミニウムであっても酸化皮膜に均一な凹凸が形成できるように、鋳造組織を極力微細化する手段について鋭意検討を重ねてきた。その過程で、純アルミニウムに前もって適量のTiを添加し、その後にAl-5Ti-1B等の微細化剤を少量添加することによって、微細化した鋳造組織が得られること、また、その後、塑性加工等の回数を減らしても微細な結晶粒が得られ、結晶方位の均一さ、製造コストの削減を達成することができることを見出した。また同時に、添加元素や不純物を最小減に抑えることによって酸化皮膜の欠陥になりうる第2相粒子の低減も達成されることを見出した。以下にその詳細を説明する。鋳造組織の微細化まず、本発明におけるアルミニウム基材を構築しているアルミニウム金属の組織微細化のための成分組成から説明する。鋳塊の結晶粒が粗大であると痕跡が塑性加工および熱処理後にも粗大に残ってしまうため、鋳塊の結晶粒を微細にすることでその痕跡が目立たないようにした。アルミニウムの鋳塊の微細化のためには、一般的には、アルミニウム溶湯に微細化剤を加えることが行われている。微細化剤としては、例えばアルミニウム-チタン合金、アルミニウム-チタン-ボロン合金およびアルミニウム-チタン-カーボン合金があげられ、添加した金属元素に起因する第2相粒子の発生を抑制する観点から、チタン含有微細化剤の中でもアルミニウム-チタン-ボロン合金Al-Ti-B、またはアルミニウム-チタン-カーボン合金Al-Ti-Cを用いることが好ましい。一般的には、アルミニウム溶湯にAl-5Ti-1B、Al-3Ti-1B、Al-5Ti-0.2B等の微細化剤を加えると、TiB2粒子等を核として結晶核の発生数を増え、個々の結晶が大きく成長することを抑制される。しかしながら、純度99.9以上の高純度アルミニウムの場合は、単純に微細化剤を添加するだけでは微細化が難しく、特に純度99.95以上の高純度アルミニウムの場合、Al-5Ti-1Bの通常の微細化剤の添加量0.1~1.0kg/tonでは微細化せず、Ti量に換算して350ppmに相当する7.0kg/tonのAl-5Ti-1Bの微細化剤を添加しても微細化しなかった。また一般的には、Al-Ti-B系の微細化剤の添加は、第2相粒子であるTiB2の増加につながり酸化皮膜の欠陥を増加させるとともに、その後の切削工程でのスクラッチの原因となる。そのため、微細化剤の添加量は、Al-5Ti-1Bにして0.10~2.0kg/tonに抑えBの添加量を最小限とする必要がある。一方、MgやSiといった合金元素を添加することで微細化剤の添加量を抑えることができるが、その場合、合金元素に起因する第2相粒子が生じてしまい酸化皮膜の欠陥が増えてしまう。そこで、鋳造組織の微細化を補助する働きがあるものの第2相粒子を生じ難いTiに着目し、微細化剤の添加の前にTiのみを添加し、その後TiB2などの第2相粒子の原因となる金属元素が増加しないように少なめの微細化剤Al-Ti-B系微細化剤などを添加することで、鋳塊の結晶粒を微細化しつつ、第2相粒子の発生を抑制することができた。また、微細化剤の添加前のTiの添加量を減らした場合には、少なめの微細化剤の添加量では微細化しなかった。Tiの添加量を鋳造組織が微細化するギリギリに抑えることで第2相粒子の生成量を抑えた。添加するTiは合計で100~500ppmが好ましく、110~450ppmがより好ましく、150~350ppmがより好ましい。100ppmに満たないと微細化効果が十分ではなく、500ppmを超える程に多くなるとTiA13のような第2相粒子が生じてしまう。Tiの添加量およびAl-Ti-B系微細化剤の添加量と小型鋳塊の結晶粒の微細化との関係を図1に示す。微細化剤添加前のTiの添加量が50ppm以下の場合は十分に微細化しておらず図1a~d参照、微細化剤添加前のTiの添加量が100ppmにてほぼ微細化している図1e、f参照。一方、前もってTiを添加せず、単純にTi量に換算して350ppmに相当する微細化剤Al-5Ti-1Bのみを7kg/ton添加した場合には微細化していない図1c参照。微細化剤の添加以前にTiを100ppm以上添加し、その後に微細化剤を添加することで微細化する。また、前もってTiを添加することで微細化剤の添加量を低減することができ、TiB2などの第2相粒子を低減できる。この鋳塊の結晶粒径は、図1aで約4700μmb約3500μm,c約2000μmd約1100μm,e約500μm、f約200μmであった。鋳塊の結晶粒が1mm以下であれば、その後の塑性加工によって目視にて結晶粒が目立たなくなる70μm以下まで結晶粒を微細化することができるため好ましい。また、この結果を受けて行った大型鋳塊の結晶粒の微細化について図2を示す。図2aはTiおよび微細化剤添加を行わなかった場合、図2bは微細化剤添加前に300ppmのTiを添加し、その後0.15kg/tonの微細化剤Al-5Ti-1Bを添加した場合である。図2bに見られるように、Tiとその後のAl-Ti-B系微細化剤の添加により、200~300μmの微細な結晶粒となっている。また、Bの添加量は1~50ppmであることが好ましく、3~10ppmが第2相粒子であるTiB2の量を制御できるためより好ましい。1ppmに満たないと微細化剤の微細化効果が作用せず、50ppmを超える程に多くなるとTiB2のような第2相粒子が生じやすくなってしまう。そのため、微細化剤の添加前にTiを添加することで、微細化剤の添加量を低減しBの添加量を抑えることが重要である。微細化剤としてAl-Ti-C系微細化剤を用い、Al-Ti-B系微細化剤を添加した場合と同様の微細化効果を得ることができる。Al-Ti-C系微細化剤を用いる場合、Cの添加量は1~50ppmであることが好ましく、1~30ppmであることがより好ましく、1~6ppmであることがさらに好ましい。C添加量は1ppmに満たないと十分な微細化効果が得られず、50ppmを超える程に多くなると第2相粒子であるTiCの増加につながり好ましくない。第2相粒子の低減のため、Cの添加量は30ppmを超えないようにすることが好ましく、6ppmを超えないようにすることがより好ましい。また、微細化剤として、Al-Ti-BやAl-Ti-Cを用いた場合、前述の通り添加量が多いと第2相粒子であるTiB2またはTiCが増加してしまうが、Al-Ti-Cを用いた場合は、Al-Ti-Bを添加した際よりも、少量の添加量で微細化効果が得られるという特徴がある。また、含有されているその他の不純物は500ppm以下であることが必要である。不純物が500ppmを超える程に多くなると第2相粒子が生じる原因となってしまう。このような組成のアルミニウムを用いることで第2相粒子が少なくかつ鋳造のみで微細化しかつ冷間鍛造後の焼鈍にて結晶が粗大化しないアルミニウム基材を得ることができる。Feは純アルミニウムにおいても不可避的不純物として多く含有されやすくかつアルミニウムに固溶しにくい元素のため、不純物がFe単独の場合でもAl-Fe系の第2相粒子を生成しやすい。そのためFeの含有量は200ppm以下が好ましい。以上に説明したように、アルミニウム溶湯中に添加含有させるTiおよびBまたはCの含有量、さらには不可避的不純物の含有量を細かく規制すれば、通常のDC鋳造法等により、結晶粒が微細化された鋳塊が得られる。塑性加工の方法次に、組織微細化のための処理方法について説明する。上記、成分組成の調整により鋳造組織の微細化が可能となり、この結晶粒の微細化により結晶の方位に起因した不均一さは低減できることになる。しかしながら、結晶粒度がいまだ大きく、目視にて目立たなくなる70μm以下を満たしていない場合は、さらに微細をすることが好ましい。圧延や押出といった塑性加工方法では加工方向が限られているため鋳塊の結晶粒が加工方向に延びた加工組織となり、熱処理による再結晶後にも加工組織の痕跡が加工方向に残ってしまい、筋っぽい組織となってしまう。このような組織は均一ではなく見た目を損なってしまう。一方、自由鍛造は加工方向を自由に選べるため、異方性が無い均一な組織を作る上で有利である。また、圧延や押出は加工方向が限られているため、加工前の素材寸法と最終製品寸法にて加工度が決まってしまう。一方、自由鍛造は加工方向を入れ替えることで塑性加工を繰り返し加えることができるため、より大きな加工度を得ることができる。より大きな加工度は再結晶の駆動力となる歪の蓄積につながり、この歪の蓄積は再結晶組織をより微細とする。このようなアルミニウム基材を陽極酸化し、微細凹凸構造を形成すると、均一な微細凹凸構造が得られ、酸化皮膜の表面を転写した転写物の均一性に寄与する。鍛造方法は、比較的粗い鋳造組織を破壊し均一化を主目的とする熱間鍛造と、熱間鍛造により均一化した素材の微細化を主目的とする冷間鍛造およびその後の熱処理に大別される。高い均一性を要求される場合、まず熱間鍛造にて均一化を図り、その後の冷間鍛造と熱処理にて微細化を図るが、高い均一性を要求されない場合は、熱間鍛造を省くことができる。熱間鍛造に先立つ余熱温度は重要であり、低温すぎると鍛造時に再結晶が起こらないため均一化が期待できず、高温すぎると余熱時の粒成長が顕著となり粗大な結晶粒が生じこれの痕跡が冷間鍛造後も残ってしまう。余熱温度は370~470°Cが好ましく、420°Cに近いほど好ましい。熱間鍛造は1.5S-2/3U×3サイクルを基本とし、より高い均一性が求められる場合には再余熱後に同様の熱間鍛造を繰り返す。ここで、1.5Sや2/3Uという表記はJISにて定義されているように、1.5Sとは鍛錬成形比1.5の実体鍛練を示し、2/3Uとは鍛錬成形比2/3のスエ込み鍛練を示す。この実体鍛錬とスエ込鍛錬の順序は問わず、逆になってもよい。熱間鍛造のサイクル回数は多い方が均一組織を得られ易いが、鍛造時間の増加による鍛造材の温度の低下が大きくなる。この温度低下により鍛造材の温度が330°C未満になると再結晶を起こし難くなり、熱間鍛造の第一の目的である組織の均一化が達成できなくなる。数度繰り返す熱間鍛造で十分に組織を均一化するためには、その間の余熱温度を高める必要がでてくるが、余熱温度を高めるとこの余熱の際に結晶粒の粗大化が起こりやすくなる。そのため、鍛造のサイクル回数は多い方が良いが3サイクル程度に止めることが好ましい。鍛造のサイクル回数を減らし鍛造中の温度低下を抑え、これにより余熱温度を下げることもできるが、この場合、均一組織を得るためにサイクル回数の減少を熱間鍛造再加熱の回数を増やすことで補うことになり、工業的に現実的では無い。また、熱間鍛造による再結晶の代わりに冷間鍛造焼鈍を繰り返すことによる再結晶も考えられるが、工数が増えてしまい工業的に現実的ではない。また、2S-1/2U×3サイクルのように一度の鍛錬成形比を大きくすると同じサイクル回数でも歪の蓄積が多く結晶粒微細化の点では有利である。しかしながら、鍛造時に表面のシワが内部に巻き込まれやすく、このシワが後の陽極酸化時に欠陥となって現れるため好ましくない。冷間鍛造は再結晶粒の微細化のための歪の蓄積が主目的のため、より高い鍛錬成形比の方が微細化にはよい。しかしながら、鍛錬成形比が高すぎる場合、鍛造時に割れが入るため1.5S-2/3U×3サイクルがよい。また、冷間鍛造時には加工熱により鍛造材の温度が上昇する。歪の開放が顕著となる150°Cを超えた場合は、水冷空冷等により冷却する方が好ましい。鍛造後の焼鈍は、冷間鍛造にて蓄積された歪を駆動力とし再結晶を起こさせるために行う。焼鈍温度は重要であり、低すぎると再結晶が起こらず加工組織が残ってしまう。一方、高すぎると粒成長が起こってしまい粗大な結晶粒は生じてしまう。焼鈍温度は330~380°Cが好ましく、340°Cに近いほどよい。焼鈍時間は短すぎると加工組織が残ってしまい、長すぎると不純物元素に起因した第2相粒子の粗大化を生じる。焼鈍時間は30~120minが好ましい。このようにして製造した鍛造焼鈍材を所望形状に切削加工してアルミニウム基材とする。アルミニウム基材は、板形状でもロール形状でもよいが、本発明による素材は切削加工によって容易に所望の形状を得ることができる。特に、ロール形状に切削したアルミニウム基材の表面を陽極酸化して得られたスタンパを用いることで、微細凹凸構造を連続的に転写でき、生産性を高めることが可能である。スパッタ法等によって、表面にアルミニウムを蒸着したロール形状の素材を作製する場合、ロール形状にアルミニウムをスパッタできる特殊な装置が必要となってしまうため、コストが増大してしまうが、本発明による素材からは容易にロール形状を得ることができる。<スタンパの製造方法>以下に、アルミニウム基材の表面を陽極酸化することによって、平均間隔が可視光の波長以下である複数の細孔からなる微細凹凸構造を有する酸化皮膜が表面に形成されたスタンパを製造する方法について、図4を参考に説明する。本発明のスタンパの製造方法は、下記の工程aを有する方法であり、下記の工程bおよび工程cをさらに有することが好ましく、下記の工程d~fをさらに有することがより好ましい。aアルミニウム基材を電解液中で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程第1の酸化皮膜形成工程。b前記工程aの後、酸化皮膜を除去する工程酸化皮膜除去工程。c前記工程bの後、アルミニウム基材を電解液中で再度陽極酸化して複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する工程第2の酸化皮膜形成工程。d前記工程cまたは下記工程eの後、細孔の径を拡大させる工程孔径拡大処理工程。e前記工程dの後、アルミニウム基材を電解液中で再度陽極酸化する工程酸化皮膜再形成工程。f前記工程dと前記工程eとを繰り返し行う工程繰り返し工程。工程a~fを有する方法によれば、鏡面化されたアルミニウム基材の表面に、開口部から深さ方向に徐々に径が縮小するテーパ形状の細孔が周期的に形成され、その結果、複数の細孔を有する酸化皮膜が表面に形成されたスタンパを得ることができる。工程aの前に、アルミニウム基材の表面の酸化皮膜を除去する前処理を行ってもよい。酸化皮膜を除去する方法としてはクロム酸/リン酸混合液に浸漬する方法等が挙げられる。また、細孔の配列の規則性はやや低下するが、スタンパの表面を転写した材料の用途によっては工程aを行わず、工程cから行ってもよい。以下、各工程を詳細に説明する。工程a工程aでは、鏡面化されたアルミニウム基材の表面を電解液中、定電圧下で陽極酸化し、図4に示すように、アルミニウム基材10の表面に、細孔12を有する酸化皮膜14を形成する。電解液としては、酸性電解液、アルカリ性電解液が挙げられ、酸性電解液が好ましい。酸性電解液としては、シュウ酸、硫酸、リン酸、これらの混合物等が挙げられる。シュウ酸を電解液として用いる場合、シュウ酸の濃度は、0.7M以下が好ましい。シュウ酸の濃度が0.7Mを超えると、陽極酸化時の電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。また、陽極酸化時の電圧は30~80Vの間で適宜設定すればよい。陽極酸化時の電圧を30~60Vとすることにより、平均間隔が100nm程度の規則性の高い細孔を有する酸化皮膜が表面に形成されたスタンパを得ることができる。陽極酸化時の電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にあり、平均間隔が可視光の波長より大きくなることがある。電解液の温度は、60°C以下が好ましく、45°C以下がより好ましい。電解液の温度が60°Cを超えると、いわゆるヤケといわれる現象が起こる傾向にあり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。硫酸を電解液として用いる場合、硫酸の濃度は0.7M以下が好ましい。硫酸の濃度が0.7Mを超えると、陽極酸化時の電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。また、陽極酸化時の電圧を25~30Vとすることにより、平均間隔が63nm程度の規則性の高い細孔を有する酸化皮膜が表面に形成されたスタンパを得ることができる。陽極酸化時の電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向があり、平均間隔が可視光の波長より大きくなることがある。電解液の温度は、30°C以下が好ましく、20°C以下がより好ましい。電解液の温度が30°Cを超えると、いわゆるヤケといわれる現象が起こる傾向にあり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。工程aでは、陽極酸化を長時間施すことで形成される酸化皮膜14が厚くなり、細孔12の配列の規則性を向上させることができるが、その際、酸化皮膜14の厚さを0.01μm30μm以下とすることにより、結晶粒界によるマクロな凹凸がより抑制され、光学用途の物品の製造により適したスタンパを得ることができる。酸化皮膜14の厚さは、0.05~10μmがより好ましく、1~3μmがさらに好ましい。酸化皮膜14の厚さは、電界放出形走査電子顕微鏡等で観察できる。工程b工程aの後、工程aにより形成された酸化皮膜14を除去することにより、図4に示すように、除去された酸化皮膜14の底部バリア層と呼ばれるに対応する周期的な窪み、すなわち、細孔発生点16を形成する。形成された酸化皮膜14を一旦除去し、陽極酸化の細孔発生点16を形成することで、最終的に形成される細孔の規則性を向上させることができる例えば、益田、応用物理、2000年、第69巻、第5号、p.558参照。。酸化皮膜14を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、アルミナを選択的に溶解する溶液によって除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸/リン酸混合液等が挙げられる。工程bにおいては、酸化皮膜14の一部を除去しても構わないが、酸化皮膜14を完全に除去することで、より規則性の高い細孔を形成することができる。工程c細孔発生点16が形成されたアルミニウム基材10を電解液中、定電圧下で再度陽極酸化し、再び酸化皮膜14を形成する。工程cでは、工程aと同様の条件電解液濃度、電解液温度、化成電圧等で陽極酸化すればよい。これにより、図4に示すように、円柱状の細孔12が形成された酸化皮膜14を形成できる。工程cにおいても、陽極酸化を長時間施すほど、深い細孔を得ることができるが、例えば反射防止物品等の光学用の物品を製造するためのスタンパを製造する場合には、ここでは0.01~0.5μm程度の酸化皮膜を形成すればよく、工程aで形成するほどの厚さの酸化皮膜を形成する必要はない。工程d工程cの後、工程cで形成された細孔12の径を拡大させる孔径拡大処理を行って、図4に示すように、細孔12の径を拡径する。孔径拡大処理の具体的方法としては、アルミナを溶解する溶液に浸漬して、工程cで形成された細孔の径をエッチングにより拡大させる方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、5質量程度のリン酸水溶液等が挙げられる。工程dの時間を長くするほど、細孔の径は大きくなる。工程e図4に示すように、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔12の底部から下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔12がさらに形成される。陽極酸化は、工程aと同様な条件で行ってもよく、条件を種々に変更しても構わない。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。工程f工程dと工程eとを繰り返すことにより、図4に示すように、細孔12の形状を開口部から深さ方向に徐々に径が縮小するテーパ形状にでき、その結果、周期的な複数の細孔12を有する酸化皮膜14が表面に形成されたスタンパ18を得ることができる。工程dおよび工程eの条件、例えば、陽極酸化の時間および孔径拡大処理の時間を適宜設定することにより、様々な形状の細孔を形成することができる。よって、スタンパから製造しようとする物品の用途等に応じて、これら条件を適宜設定すればよい。例えば、工程dと工程eとを短い間隔で多数回繰り返すと、略円錐状の細孔を得ることができる。また、工程dおよび工程eの時間を調整することで逆釣鐘状や先鋭形状の細孔を形成することができ、適宜形状を変化させたスタンパを製造することができる。また、このスタンパが反射防止膜等の反射防止物品を製造するものである場合には、このように条件を適宜設定することにより、細孔の平均間隔や深さを任意に変更できるため、最適な屈折率変化を設計することも可能となる。スタンパこうして製造されたスタンパは、多数の周期的な細孔が形成された結果、表面に微細凹凸構造を有するものとなる。そして、この微細凹凸構造における細孔間の平均間隔が可視光の波長以下、すなわち400nm以下であると、いわゆるモスアイ構造となる。細孔間の平均間隔が400nmより大きいと可視光の散乱が起こるため、十分な反射防止機能は発現せず、反射防止膜等の反射防止物品の製造には適さない。細孔間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔間の間隔細孔の中心からこれに隣接する細孔の中心までの距離を50点測定し、これらの値を平均したものである。スタンパが反射防止膜等の反射防止物品を製造するものである場合には、細孔間の平均間隔が可視光の波長以下であるとともに、細孔の深さは、50nm以上であることが好ましく、100nm以上であることがより好ましい。細孔の深さが50nm以上であれば、スタンパの表面の転写により形成された光学用途の物品の表面、すなわち転写面の反射率が低下する。細孔の深さは、電子顕微鏡で観察したときにおける、細孔の開口部から最深部までの距離を測定したものである。スタンパの細孔のアスペクト比深さ/平均間隔は、1.0~4.0が好ましく、1.3~3.5が好ましく、1.8~3.5がさらに好ましく、2.0~3.0が最も好ましい。アスペクト比が1.0以上であれば、反射率が低い転写面を形成でき、その入射角依存性や波長依存性も十分に小さくなる。アスペクト比が4.0より大きいと転写面の機械的強度が低下する傾向がある。スタンパの微細凹凸構造が形成された表面は、離型が容易になるように、離型処理が施されていてもよい。離型処理の方法としては、例えば、シリコーン系ポリマーやフッ素ポリマーをコーティングする方法、フッ素化合物を蒸着する方法、フッ素系またはフッ素シリコーン系のシランカップリング剤をコーティングする方法等が挙げられる。作用効果本発明によれば、高純度のアルミニウムに添加する、微細化機能を有するTiおよびBまたはCの添加量を細かく調整することによって微細化組織を有する鋳塊が得られる。そのため、その後の塑性加工回数を低減しても微細かつ方位の均一な結晶粒が得られるため、併せて他の不可避的不純物の含有量を極力少なくしていることに伴う第2相粒子の出現が抑制されているため、その後に陽極酸化した時に方向性のない均一な模様の表面を有する酸化皮膜が容易に形成され、精度の高いスタンパが、結果的に安価に提供できることとなる。<物品の製造方法>本発明のスタンパを用いて、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法は、本発明のスタンパの表面の微細凹凸構造を、透明基材の表面に転写する方法である。具体的には、本発明のスタンパと透明基材との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を充填し、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて、スタンパの微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層を透明基材の表面に形成し、硬化樹脂層が表面に形成された透明基材をスタンパから剥離する方法いわゆる光インプリント法が挙げられる。透明基材基材の形状としては、フィルム、シート、射出成形品、プレス成形品等が挙げられる。基材の材質としては、例えば、ポリカーボネート、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂トリアセチルセルロース等、ポリオレフィン、ガラス等が挙げられる。製造装置微細凹凸構造を表面に有する物品は、例えば、図5に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。表面に微細凹凸構造図示略を有するロール状スタンパ20と、ロール状スタンパ20の表面に沿って移動する帯状のフィルム42透明基材との間に、タンク22から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。ロール状スタンパ20と、空気圧シリンダ24によってニップ圧が調整されたニップロール26との間で、フィルム42および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、フィルム42とロール状スタンパ20との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状スタンパ20の微細凹凸構造の細孔内に充填する。ロール状スタンパ20の下方に設置された活性エネルギー線照射装置28から、フィルム42を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、ロール状スタンパ20の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層44を形成する。剥離ロール30により、表面に硬化樹脂層44が形成されたフィルム42をロール状スタンパ20から剥離することによって、表面に微細凹凸構造を有する物品40を得る。活性エネルギー線照射装置28としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、100~10000mJ/cm2が好ましい。物品図6は、本発明の製造方法で得られる、微細凹凸構造を表面に有する物品40の一例を示す断面図である。硬化樹脂層44は、後述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる膜であり、表面に微細凹凸構造を有する。本発明のスタンパを用いた場合の物品40の表面の微細凹凸構造は、酸化皮膜の表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる複数の凸部46を有する。微細凹凸構造としては、略円錐形状、角錐形状等の突起凸部が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造が好ましい。突起間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。凸部間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下が好ましい。本発明のスタンパを用いて凸部を形成した場合、凸部間の平均間隔は100nm程度となることから、200nm以下がより好ましく、150nm以下が特に好ましい。凸部間の平均間隔は、凸部の形成のしやすさの点から、20nm以上が好ましい。凸部間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部間の間隔凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離を50点測定し、これらの値を平均したものである。凸部の高さは、平均間隔が100nmの場合は、80~500nmが好ましく、120~400nmがより好ましく、150~300nmが特に好ましい。凸部の高さが80nm以上であれば、反射率が十分低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部の高さが500nm以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。凸部の高さは、電子顕微鏡によって倍率30000倍で観察したときにおける、凸部の最頂部と、凸部間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した値である。凸部のアスペクト比凸部の高さ/凸部間の平均間隔は、0.5~5.0が好ましく、0.8~4.5がより好ましく、1.2~4.0が特に好ましい。凸部のアスペクト比が0.5以上であれば、超親水性膜や超撥水性膜として充分に使用できる。凸部のアスペクト比が5.0以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。凸部の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。反射防止物品の場合、硬化樹脂層44の屈折率とフィルム42の屈折率との差は、0.2以下が好ましく、0.1以下がより好ましく、0.05以下が特に好ましい。屈折率差が0.2以下であれば、硬化樹脂層44とフィルム42との界面における反射が抑えられる。表面に微細凹凸構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。硬化樹脂層44の材料が疎水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、90 ゚以上が好ましく、110 ゚以上がより好ましく、120 ゚以上が特に好ましい。水接触角が90 ゚以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。硬化樹脂層44の材料が親水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、25 ゚以下が好ましく、23 ゚以下がより好ましく、21 ゚以下が特に好ましい。水接触角が25 ゚以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。該水接触角は、硬化樹脂層44の吸水による微細凹凸構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、3 ゚以上が好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および/またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。単官能モノマーとしては、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、i-ブチルメタアクリレート、s-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、アルキルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、ステアリルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、アリルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート等のメタアクリレート誘導体;メタアクリル酸、メタアクリロニトリル;スチレン、α-メチルスチレン等のスチレン誘導体;メタアクリルアミド、N-ジメチルメタアクリルアミド、N-ジエチルメタアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルメタアクリルアミド等のメタアクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。多官能モノマーとしては、エチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,5-ペンタンジオールジメタアクリレート、1,3-ブチレングリコールジメタアクリレート、ポリブチレングリコールジメタアクリレート、2,2-ビス4-メタアクリロキシポリエトキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-メタアクリロキシエトキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-3-メタアクリロキシ-2-ヒドロキシプロポキシフェニルプロパン、1,2-ビス3-メタアクリロキシ-2-ヒドロキシプロポキシエタン、1,4-ビス3-メタアクリロキシ-2-ヒドロキシプロポキシブタン、ジメチロールトリシクロデカンジメタアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ジメタアクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物ジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー;ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリメタアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリメタアクリレート等の三官能モノマー;コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリストールペンタメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタアクリレート等の四官能以上のモノマー;二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステルメタアクリレート、ポリエーテルメタアクリレート、ポリオールメタアクリレート、エポキシメタアクリレート、ウレタンメタアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p-メトキシベンゾフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、α,α-ジメトキシ-α-フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、t-ブチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2,4-ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン等のチオキサントン;ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、ベンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシル-フェニルケトン、2-メチル-2-モルホリノ4-チオメチルフェニルプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン等のアセトフェノン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド;メチルベンゾイルホルメート、1,7-ビスアクリジニルヘプタン、9-フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t-ブチルパーオキシオクトエート、t-ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物;前記有機過酸化物にN,N-ジメチルアニリン、N,N-ジメチル-p-トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。重合開始剤の量は、重合性化合物100質量部に対して、0.1~10質量部が好ましい。重合開始剤の量が0.1質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が10質量部を超えると、硬化膜が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物、帯電防止剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤、微粒子、少量の溶媒を含んでいてもよい。非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ-i-プロポキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-t-ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、n-プロピルシリケート、n-ブチルシリケート、n-ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。疎水性材料硬化樹脂層の微細凹凸構造の表面の水接触角を90°以上にするためには、疎水性の材料を形成し得る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。フッ素含有化合物:フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換メタアクリレート、フルオロアルキル基置換メタアクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、フルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、フルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。フッ素含有シランカップリング剤としては、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル-3,3,3-トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリオキシアルキレン基含有モノマーとの共重合体、フルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。シリコーン系化合物:シリコーン系化合物としては、メタアクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。メタアクリル酸変性シリコーンとしては、シリコーンジメタアクリレート等が挙げられ、例えば、信越化学工業社製のシリコーンジアクリレートx-22-164x-22-1602等が好ましく用いられる。親水性材料硬化樹脂層の微細凹凸構造の表面の水接触角を25°以下にするためには、親水性の材料を形成し得る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、少なくとも親水性モノマーを含む組成物を用いることが好ましい。また、耐擦傷性や耐水性付与の観点からは、架橋可能な多官能モノマーを含むものがより好ましい。なお、親水性モノマーと架橋可能な多官能モノマーは、同一すなわち、親水性多官能モノマーであってもよい。さらに、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、その他のモノマーを含んでいてもよい。親水性の材料を形成し得る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、4官能以上の多官能メタアクリレート、2官能以上の親水性メタアクリレート、必要に応じて単官能モノマーを含む組成物を用いることがより好ましい。4官能以上の多官能メタアクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類ダイセルサイテック社製:EBECRYL220、EBECRYL1290、EBECRYL1290K、EBECRYL5129、EBECRYL8210、EBECRYL8301、KRM8200、ポリエーテルアクリレート類ダイセルサイテック社製:EBECRYL81、変性エポキシアクリレート類ダイセルサイテック社製:EBECRYL3416、ポリエステルアクリレート類ダイセルサイテック社製:EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL800、EBECRYL810、EBECRYL811、EBECRYL812、EBECRYL1830、EBECRYL845、EBECRYL846、EBECRYL1870等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。4官能以上の多官能メタアクリレートとしては、5官能以上の多官能メタアクリレートがより好ましい。4官能以上の多官能メタアクリレートの割合は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を構成する全モノマーの合計に対し、10~90質量が好ましく、20~90質量がより好ましく、30~90質量が特に好ましい。4官能以上の多官能メタアクリレートの割合が10質量以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。4官能以上の多官能メタアクリレートの割合が90質量以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。2官能以上の親水性メタアクリレートとしては、アロニックスM-240、アロニックスM260東亞合成社製、NKエステルAT-20E、NKエステルATM-35E新中村化学社製等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、6~40が好ましく、9~30がより好ましく、12~20が特に好ましい。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が6以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が40以下であれば、4官能以上の多官能メタアクリレートとの相溶性が良好となり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が分離しにくい。2官能以上の親水性メタアクリレートの割合は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を構成する全モノマーの合計に対し、3~90質量が好ましく、3~70質量がより好ましい。2官能以上の親水性メタアクリレートの割合が3質量以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。2官能以上の親水性メタアクリレートの割合が90質量以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。親水性単官能モノマーとしては、M-20G、M-90G、M-230G新中村化学社製等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能メタアクリレート、ヒドロキシアルキルメタアクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能メタアクリレート、単官能アクリルアミド類、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン等の粘度調整剤、物品本体への密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。単官能モノマーの割合は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を構成する全モノマーの合計に対し、0~20質量が好ましく、5~15質量がより好ましい。単官能モノマーを用いることにより、基材と硬化樹脂との密着性が向上する。単官能モノマーの割合が20質量以下であれば、4官能以上の多官能メタアクリレートまたは2官能以上の親水性メタアクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。単官能モノマーは、1種または2種以上を共重合した低重合度の重合体として活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に0~35質量部配合してもよい。低重合度の重合体としては、M-230G新中村化学社製等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能メタアクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの40/60共重合オリゴマーMRCユニテック社製、MGポリマー等が挙げられる。用途物品40の用途としては、反射防止物品、防曇性物品、防汚性物品、撥水性物品、より具体的には、ディスプレー用反射防止、自動車メーターカバー、自動車ミラー、自動車窓、有機または無機エレクトロルミネッセンスの光取り出し効率向上部材、太陽電池部材等が挙げられる。作用効果以上説明した本発明の物品の製造方法にあっては、結晶粒の痕跡に由来する模様の酸化皮膜の表面への出現が抑制された本発明のスタンパの表面の微細凹凸構造を、透明基材の表面に転写しているため、外観の良好な物品を製造できる。以下の製造例、比較製造例では、得られた加工品、すなわちアルミニウム基材を、HCl:HNO3:HF=75:25:5のエッチング液にてエッチングし、評価に供している。評価方法は、結晶粒度については求積法を用いた。第2相粒子については、EPMAによる直接観察を行い、その粒子数と面積率にて行った。結晶方位の不均一さについては、エッチング後の外観観察と光沢度による方法を併用した。結晶方位の差は、エッチング時の溶解速度の差として現れ、エッチング後に凹凸となって現れる。結晶粒が微細かつ均一でありその結晶方位がランダムな場合、エッチングによりキメの細かい凹凸が生じるため、乱反射が起こり光沢度は低くなる。製造例1純度99.98のアルミニウムに316ppmのTiを添加し溶解した。この溶湯を508mm厚×1110mm巾のDC鋳造鋳型にて、鋳造温度680°C、鋳造速度52mm/min、冷却水量230L/min/鋳型長さ1m当り、の鋳造条件にて長さ3850mmの鋳塊を鋳造した。この鋳造の際、鋳型へ流れ込む溶湯へ微細化剤Al-5Ti-1Bを溶湯1ton当り0.15kgの比率になるように連続的に添加し、アルミニウムの純度が99.94、Tiの含有量が324ppm、Bの含有量が7ppm、Feの含有量が83ppm、それら以外の不純物の含有量の合計が140ppmの鋳塊とした。この鋳塊より508mm×260mm×213mmを切出し後の鍛造素材とした。この鍛造素材を414°Cまで加熱し2/3U-1.5S×3サイクルの1回目の熱間鍛造を行い281°Cにて終えた。ついで386°Cに再加熱を行った後に2/3U-1.5S×3サイクルの2回目の熱間鍛造を行い277°Cにて終えた。この素材を17°Cまで冷却後、2/3U-1.5S×2サイクル-0.56U-2Sの冷間鍛造を行い、φ240mm×600mmLの形状とし143°Cにて終えた。この鍛造塊を340°Cにて60min焼鈍し、これよりφ240mm×20mmLを切出し、切断面を平坦とするためのフライス加工を行った。その後、研磨面をEPMAにて確認したところ、第2相粒子の面積率が0.03、粒子数が118個/mm2と少なかった。得られた加工品をHCl:HNO3:HF=75:25:5のエッチング液にてエッチングし、各種の評価に供した。その評価結果を表4に示す。結晶方位の不均一さは、鋳造時に微細化していることと熱間鍛造冷間鍛造を組み合わせたため目立たず、光沢度の平均が8.9となった。この実物を図3aに示す。また平均結晶粒径は、49μmと微細であった。製造例2純度99.98のアルミニウムに316ppmのTiを添加し溶解した。この溶湯を508mm厚×1110mm巾のDC鋳造鋳型にて、鋳造温度680°C、鋳造速度52mm/min、冷却水量230L/min/鋳型長さ1m当り、の鋳造条件にて長さ3850mmの鋳塊を鋳造した。この鋳造の際、鋳型へ流れ込む溶湯へ微細化剤Al-5Ti-1Bを溶湯1ton当り0.15kgの比率になるように連続的に添加し、アルミニウムの純度が99.94、Tiの含有量が324ppm、Bの含有量が7ppm、Feの含有量が83ppm、それら以外の不純物の含有量の合計が140ppmの鋳塊とした。この鋳塊より508mm×260mm×213mmを切出し後の鍛造素材とした。熱間鍛造を行わずこの素材が15°Cの状態から2/3U-1.5S×2サイクル-0.56U-2Sの冷間鍛造を行い、φ240mm×600mmLの形状とし135°Cにて終えた。この鍛造塊を340°Cにて60min焼鈍し、これよりφ240mm×20mmLを切出し、切断面を平坦とするためのフライス加工を行った。その後、研磨面をEPMAにて確認したところ、第2相粒子の面積率が0.03、粒子数が120個/mm2と少なかった。得られた加工品をHCl:HNO3:HF=75:25:5のエッチング液にてエッチングし、各種の評価に供した。その評価結果を表4に併せて示す。結晶方位の不均一さは、鋳造時に微細化しているため目立たず、製造例1には及ばないものの光沢度は13.7となった。この実物を図3bに示す。また平均結晶粒径は、52μmと十分微細であった。製造例3純度99.98のアルミニウムに316ppmのTiを添加し溶解した。この溶湯を508mm厚×1110mm巾のDC鋳造鋳型にて、鋳造温度680°C、鋳造速度52mm/min、冷却水量230L/min/鋳型長さ1m当り、の鋳造条件にて長さ3850mmの鋳塊を鋳造した。この鋳造の際、鋳型へ流れ込む溶湯へ微細化剤Al-5Ti-0.25Cを溶湯1ton当り0.28kgの比率になるように連続的に添加し、アルミニウムの純度が99.94、Tiの含有量が330ppm、Cの含有量が2ppm、Feの含有量が83ppm、それら以外の不純物の含有量の合計が140ppmの鋳塊とした。この鋳塊より508mm×260mm×213mmを切出し後の鍛造素材とした。熱間鍛造を行わずこの素材が15°Cの状態から2/3U-1.5S×2サイクル-0.56U-2Sの冷間鍛造を行い、φ240mm×600mmLの形状とし135°Cにて終えた。この鍛造塊を340°Cにて60min焼鈍し、これよりφ240mm×20mmLを切出し、切断面を平坦とするためのフライス加工を行った。その後、研磨面をEPMAにて確認したところ、第2相粒子の面積率が0.03、粒子数が123個/mm2と少なかった。得られた加工品をHCl:HNO3:HF=75:25:5のエッチング液にてエッチングし、各種の評価に供した。その評価結果を表4に併せて示す。結晶方位の不均一さは、鋳造時に微細化しているため目立たず、製造例1には及ばないものの光沢度は11.0となった。また平均結晶粒径は、51μmと十分微細であった。比較製造例1純度99.9のアルミニウムにTiを添加せずに溶解した。この溶湯を508mm厚×1110mm巾のDC鋳造鋳型にて、鋳造温度680°C、鋳造速度50mm/min、冷却水量315L/min/鋳型長さ1m当り、の鋳造条件にて長さ3850mmの鋳塊を鋳造した。この鋳造の際、鋳型へ流れ込む溶湯へ微細化剤Al-5Ti-1Bを溶湯1ton当り3.60kgの比率になるように連続的に添加し、アルミニウムの純度が99.9、Tiの含有量が75ppm、Bの含有量が7ppm、Feの含有量が501ppm、それら以外の不純物の含有量の合計が487ppmの鋳塊とした。この鋳塊より508mm×500mm×500mmを切出し後の鍛造素材とした。この鍛造素材を380°Cまで加熱し2.97Sの1回目の熱間鍛造を行い350°Cにて終えた。ついで380°Cに再加熱を行った後に1/2U-2S×2サイクルの2回目の熱間鍛造を行い320°Cにて終えた。この素材を室温まで冷却後、1/2U-2S×2サイクルの冷間鍛造を行い、φ230mm×3060mmLの形状とした。この鍛造塊を340°Cにて60min焼鈍し、これよりφ230mm×20mmLを切出し、切断面を平坦とするためのフライス加工および研磨を行った。その後、研磨面をEPMAにて確認したところ、Feの501ppmとFe、Ti、B以外の不純物の484ppmに起因する第2相粒子の面積率が0.20、粒子数が832個/mm2となり、製造例1、2に比べて多かった。また、HCl:HNO3:HF=75:25:5のエッチング液にてエッチングしたところ、結晶方位の不均一さは、鋳造時に微細化剤を添加したため目立たず光沢度は4.4となった。この実物を図3cに示す。Tiの含有量が製造例1、2よりも少ないにも関わらず不均一さが目立たないのは、微細化剤のみで鋳造組織が微細化しているためである。平均結晶粒径は、41μmと十分微細であった。しかし、結晶粒は微細かつ均一であり結晶方位もランダムなものの、第2相粒子が多かった。比較製造例2純度99.95のアルミニウムを溶解した。この溶湯を508mm厚×1110mm巾のDC鋳造鋳型にて、鋳造温度680°C、鋳造速度52mm/min、冷却水量230L/min/鋳型長さ1m当り、の鋳造条件にて長さ3850mmの鋳塊を鋳造した。この際、微細化剤は投入せず、アルミニウムの純度が99.95、Tiの含有量が1ppm、Bの含有量が9ppm、Feの含有量が161ppm、それら以外の不純物の含有量の合計が319ppmの鋳塊とした。この鋳塊より300mm×300mm×300mmを切出し後の鍛造素材とした。この鍛造素材を414°Cまで加熱し2S-1/2U×2サイクルの1回目の熱間鍛造を行い354°Cにて終えた。ついで393°Cに再加熱を行った後に2S-1/2U×2サイクルの2回目の熱間鍛造を行い323°Cにて終えた。この素材を32°Cまで冷却後、2S-1/2U×2サイクルの冷間鍛造を行い、300mmT×250mmW×360mmLの形状とし144°Cにて終えた。この鍛造塊を340°Cにて60min焼鈍し、これより300mmT×200mmW×20mmLを切出し、切断面を平坦とするためのフライス加工および研磨を行った。その後、研磨面をEPMAにて確認したところ、161ppmのFeと、Fe、Ti、B以外の不純物の319ppmに起因する第2相粒子の面積率が0.08、粒子数が169個/mm2となり、比較製造例1よりも第2相粒子が低減された。また、HCl:HNO3:HF=75:25:5のエッチング液にてエッチングしたところ、結晶方位の不均一さは、鋳造時に微細化剤を添加しなかったため目立ち、光沢度は27.3となった。この実物を図3dに示す。また平均結晶粒径は、40μmと十分微細であった。比較製造例3純度99.99のアルミニウムを溶解した。この溶湯を508mm厚×1110mm巾のDC鋳造鋳型にて、鋳造温度680°C、鋳造速度52mm/min、冷却水量230L/min/鋳型長さ1m当り、の鋳造条件にて長さ3850mmの鋳塊を鋳造した。この際、微細化剤は投入せず、アルミニウムの純度が99.99、Tiの含有量が0ppm、Bの含有量が0ppm、Feの含有量が15ppm、それら以外の不純物の含有量の合計が84ppmの鋳塊とした。この鋳塊より300mm×300mm×300mmを切出し後の鍛造素材とした。この鍛造素材を420°Cまで加熱し2S-1/2U×2サイクルの1回目の熱間鍛造を行い360°Cにて終えた。ついで423°Cに再加熱を行った後に2S-1/2U×2サイクルの2回目の熱間鍛造を行い356°Cにて終えた。この素材を31°Cまで冷却後、2S-1/2U×2サイクルの冷間鍛造を行い、300mmT×250mmW×360mmLの形状とし128°Cにて終えた。この鍛造塊を340°Cにて60min焼鈍し、これより300mmT×200mmW×20mmLを切出し、切断面を平坦とするためのフライス加工および研磨を行った。その後、研磨面をEPMAにて確認したところ、15ppmのFeと、Fe、Ti、B以外の不純物の84ppmに起因する第2相粒子の面積率が0.01、粒子数が57個/mm2となり、比較製造例3よりも第2相粒子が低減された。また、HCl:HNO3:HF=75:25:5のエッチング液にてエッチングしたところ、結晶方位の不均一さは、鋳造時に微細化剤を添加しなかったため目立ち光沢度は50.4となった。この実物を図3eに示す。しかしながら、不純物を低減したため冷間鍛造後の焼鈍時に結晶粒成長が起こりやすくなり、平均結晶粒径は86μmと粗大になり始めた。比較製造例4純度99.98のアルミニウムを溶解した。この溶湯を508mm厚×1110mm巾のDC鋳造鋳型にて、鋳造温度680°C、鋳造速度52mm/min、冷却水量230L/min/鋳型長さ1m当り、の鋳造条件にて長さ3850mmの鋳塊を鋳造した。この際、微細化剤は投入せず、アルミニウムの純度が99.99、Tiの含有量が1ppm、Bの含有量が6ppm、Feの含有量が83ppm、それら以外の不純物の含有量の合計が150ppmの鋳塊とした。この鋳塊より480mm×480mm×480mmを切出し後の鍛造素材とした。この鍛造素材を412°Cまで加熱し2/3U-1.5S×3サイクルの1回目の熱間鍛造を行い308°Cにて終えた。ついで379°Cに再加熱を行った後に2/3U-1.5S×3サイクルの2回目の熱間鍛造を行い318°Cにて終えた。この素材を19°Cまで冷却後、2/3U-1.5S×2サイクル-2/3Uの1回目の冷間鍛造を行い120°Cにて終えた。続く冷間鍛造による発熱にて150°Cを超える可能性があったため、再度冷却を行い40°Cにした後、5.72Sの2回目の冷間鍛造を行い132°Cで終えた。続く冷間鍛造による発熱にて150°Cを超える可能性があったため、再度冷却を行い21°Cとした後、1.28Sの3回目の冷間鍛造を行い、φ245mm×2350mmLの形状とし51°Cにて終えた。この鍛造塊を340°Cにて60min焼鈍し、これよりφ240mm×20mmLを切出し、切断面を平坦とするためのフライス加工および研磨を行った。その後、HCl:HNO3:HF=75:25:5のエッチング液にてエッチングしたところ、結晶方位の不均一さは、鍛造時の据込鍛伸回数を増やすことでやや軽減したものの光沢度は28.9となり、工数を増やした割にはTiを添加した製造例1、2に比べ不均一さの軽減が達成不十分であった。この実物を図3fに示す。また、平均結晶粒径は35μmと十分微細であった。以上の製造例および比較製造例について、各例素材の成分組成、製造条件ならびに鍛造焼鈍品の評価結果を、表1~4に示している。これらを見てもわかるように、製造例1、2は方位の不均一さ、光沢度、結晶粒度全てにおいて、規定条件をクリアしていることが分かる。調製例以下に示す割合で各成分を混合し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aを調製した。コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物;45質量部、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート;45質量部、X-22-1602:ラジカル重合性シリコーンオイル信越化学工業社製;10質量部、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンチバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184;3.0質量部、ビス2,4,6‐トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイドチバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア819;0.2質量部。実施例1製造例1にて作製されたアルミニウムを外径:200mm、内径:155mm、長さ:350mmの円筒状に切断し、被加工面の算術平均粗さRaが0.03μm以下となるように表面に鏡面切削加工を行い、円筒状のアルミニウム基材を得た。工程a:アルミニウム基材について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、浴温:16°C、直流:40Vの条件下で30分間陽極酸化を行い、酸化皮膜厚さ:3μmを形成した。工程b:酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、35°Cに調整した6質量のリン酸と1.8質量のクロム酸との混合水溶液に4時間浸漬し、形成された酸化皮膜を溶解除去した。工程c:該アルミニウム基材について、再び工程aと同一条件下において、45秒間陽極酸化を行い、酸化皮膜を形成した。工程d:酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、5質量リン酸水溶液30°C中に9分間浸漬して、酸化皮膜の細孔を拡径する孔径拡大処理を行った。工程e:該アルミニウム基材について、再び工程aと同一条件下において、45秒間陽極酸化を行った。工程f:前記工程dおよび工程eを合計で4回繰り返し、最後に工程dを行い、平均間隔:100nm、深さ:160nmの略円錐形状の細孔を有する酸化皮膜が表面に形成されたロール状スタンパを得た。このようにして得られたロール状スタンパを図5に示す製造装置に設置し、以下のようにして物品を製造した。図5に示すように、ロール状スタンパ20を、冷却水用の流路を内部に設けた機械構造用炭素鋼製の軸芯21にはめ込んだ。ついで、活性エネルギー線硬化性組成物Aをタンク22から室温で供給ノズルを介して、ニップロール26とロール状スタンパ20との間にニップされているフィルム42ポリエチレンテレフタレートPETフィルム、東洋紡社製、A4300上に供給した。この際、空気圧シリンダ24によりニップ圧が調整されたニップロール26によりニップされ、ロール状スタンパ20の細孔内にも活性エネルギー線硬化性組成物Aが充填された。毎分7.0mの速度でロール状スタンパ20を回転させながら、活性エネルギー線硬化性組成物Aがロール状スタンパ20とフィルム42との間に挟まれた状態で、活性エネルギー線照射装置28240W/cmの紫外線照射装置から紫外線を照射し、活性エネルギー線硬化性組成物Aを硬化させ、硬化樹脂層44を形成した後、剥離ロール30により、表面に硬化樹脂層44が形成されたフィルム42をロール状スタンパ20から剥離して、平均間隔:100nm、高さ:150nmの複数の凸部46からなる微細凹凸構造を表面に有する物品40を得た。得られた物品について、外観およびヘイズを評価した。その結果を表5に示す。物品の外観については、目視にてメタルフロー模様に相当する外観が観察されるかを確認した。目視にて結晶粒の痕跡に相当する模様が観察されず、色ムラが小さいものを◎、目視にて結晶粒の痕跡に相当する模様が観察されないものを○、目視にて結晶粒の痕跡に相当する模様が観察されるものを×とした。物品のヘイズは、JISK7361-1に準拠したヘイズメータースガ試験機社製を用いて測定した。ヘイズが1.5以上の物品を×、ヘイズが1.5未満の物品を○とした。凸部の高さは、電子顕微鏡によって倍率30000倍で観察したときにおける、凸部の最頂部と、凸部間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した。実施例2製造例1にて作製されたアルミニウムを用い、工程cにおける陽極酸化の時間を50秒間とし、工程dにおける口径拡大処理の時間を8分間とした以外は、実施例1と同様の方法で、平均間隔:100nm、高さ:200nmの複数の凸部46からなる微細凹凸構造を表面に有する物品40を得た。得られた物品について、外観およびヘイズを評価した。その結果を表5に示す。実施例3製造例2にて作製されたアルミニウムを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、平均間隔:100nm、高さ:150nmの複数の凸部46からなる微細凹凸構造を表面に有する物品40を得た。得られた物品について、外観およびヘイズを評価した。その結果を表5に示す。実施例4製造例2にて作製されたアルミニウムを用い、工程cにおける陽極酸化の時間を50秒間とし、工程dにおける口径拡大処理の時間を8分間とした以外は、実施例1と同様の方法で、平均間隔:100nm、高さ:270nmの複数の凸部46からなる微細凹凸構造を表面に有する物品40を得た。得られた物品について、外観およびヘイズを評価した。その結果を表5に示す。実施例5製造例3にて作製されたアルミニウムを用い、実施例1と同様の方法で平均間隔:100nm、高さ:150nmの複数の凸部46からなる微細凹凸構造を表面に有する物品40を得た。得られた物品について、外観およびヘイズを評価した。その結果を表5に示す。比較例1比較製造例1にて作製されたアルミニウムを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、平均間隔:100nm、高さ:150nmの複数の凸部46からなる微細凹凸構造を表面に有する物品40を得た。得られた物品について、外観およびヘイズを評価した。その結果を表5に示す。比較例2比較製造例2にて作製されたアルミニウムを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、平均間隔:100nm、高さ:150nmの複数の凸部46からなる微細凹凸構造を表面に有する物品40を得た。得られた物品について、外観およびヘイズを評価した。その結果を表5に示す。比較例3比較製造例3にて作製されたアルミニウムを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、平均間隔:100nm、高さ:150nmの複数の凸部46からなる微細凹凸構造を表面に有する物品40を得た。得られた物品について、外観およびヘイズを評価した。その結果を表5に示す。比較例4比較製造例4にて作製されたアルミニウムを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、平均間隔:100nm、高さ:150nmの複数の凸部46からなる微細凹凸構造を表面に有する物品40を得た。得られた物品について、外観およびヘイズを評価した。その結果を表5に示す。"