被吸着体を差圧により吸着する吸着部を備え、該吸着部はそれぞれ独立して吸着動作が可能な複数の吸着領域に区画されていることを特徴とする吸着装置。前記吸着領域のそれぞれに、真空排気ラインとガス供給ラインとが連通可能に接続されており、前記真空排気ラインと前記ガス供給ラインとにそれぞれ開閉弁が設けられていることを特徴とする請求項1記載の吸着装置。前記吸着部は、それぞれの吸着領域に吸着用の通気孔が複数設けられていることを特徴とする請求項2記載の吸着装置。前記複数の通気孔に連通する隔室部が前記吸着領域ごとに設けられており、前記真空排気ラインと前記ガス供給ラインとが、前記複数の通気孔および前記隔室部を介して前記吸着領域に連通可能に接続されていることを特徴とする請求項3記載の吸着装置。前記吸着部は、基台に着脱自在に設置された吸着台に設けられていることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の吸着装置。前記基台は、前記吸着台を差圧により吸着して設置固定する吸着台吸着部を備えることを特徴とする請求項5記載の吸着装置。前記被吸着体は、フィルム材であることを特徴とする請求項1~6のいずれかに記載の吸着装置。前記フィルム材は、長尺帯状の形状を有し、前記長尺の方向に沿って間欠的に搬送されつつ、前記吸着部上で前記吸着およびその解除がなされるものであり、前記複数の吸着領域は、前記搬送方向と直交する方向に並び、かつ前記搬送方向に沿って配置されていることを特徴とする請求項7記載の吸着装置。請求項1~8のいずれかに記載の吸着装置と、前記吸着部に吸着された前記被吸着体に対して所定の処理を施す処理部とを備えることを特徴とする処理装置。前記処理部は、前記被吸着体に対してレーザ加工を施すレーザ加工部であることを特徴とする請求項9記載の処理装置。しかしながら、上記のように、サイズの異なる被処理体を吸着して固定する度に、不使用の吸着領域をシール材などで覆ったりしていたのでは、作業効率が低くなるという問題がある。また、被処理体のサイズに応じて試料台自体を変更する場合も、同様に作業効率が低くなるという問題がある。本発明は、上記のような従来の課題を解決するためになされたもので、サイズの異なる被吸着体を高い作業効率で簡単に吸着して固定することができる吸着装置および該吸着装置を備えた処理装置を提供することを目的としている。すなわち、本発明の吸着装置のうち第1の本発明は、被吸着体を差圧により吸着する吸着部を備え、該吸着部はそれぞれ独立して吸着動作が可能な複数の吸着領域に区画されていることを特徴とする。第2の本発明の吸着装置は、前記第1の本発明において、前記吸着領域のそれぞれに、真空排気ラインとガス供給ラインとが連通可能に接続されており、前記真空排気ラインと前記ガス供給ラインとにそれぞれ開閉弁が設けられていることを特徴とする。第3の本発明の吸着装置は、前記第2の本発明において、前記吸着部は、それぞれの吸着領域に吸着用の通気孔が複数設けられていることを特徴とする。第4の本発明の吸着装置は、前記第3の本発明において、前記複数の通気孔に連通する隔室部が前記吸着領域ごとに設けられており、前記真空排気ラインと前記ガス供給ラインとが、前記複数の通気孔および前記隔室部を介して前記吸着領域に連通可能に接続されていることを特徴とする。第5の本発明の吸着装置は、前記第1~第4の本発明のいずれかにおいて、前記吸着部は、基台に着脱自在に設置された吸着台に設けられていることを特徴とする。第6の本発明の吸着装置は、前記第5の本発明において、前記基台は、前記吸着台を差圧により吸着して設置固定する吸着台吸着部を備えることを特徴とする。第7の本発明の吸着装置は、前記第1~第6の本発明のいずれかにおいて、前記被吸着体は、フィルム材であることを特徴とする。第8の本発明の吸着装置は、前記第7の本発明において、前記フィルム材は、長尺帯状の形状を有し、前記長尺の方向に沿って間欠的に搬送されつつ、前記吸着部上で前記吸着およびその解除がなされるものであり、前記複数の吸着領域は、前記搬送方向と直交する方向に並び、かつ前記搬送方向に沿って配置されていることを特徴とする。第9の本発明の処理装置は、前記第1~第8の本発明の吸着装置のいずれかと、前記吸着部に吸着された前記被吸着体に対して所定の処理を施す処理部とを備えることを特徴とする。第10の本発明の処理装置は、前記第9の本発明において、前記処理部は、前記被吸着体に対してレーザ加工を施すレーザ加工部であることを特徴とする。すなわち、本発明によれば、差圧により被吸着体を吸着する吸着部が、それぞれ独立して吸着動作が可能な複数の吸着領域に区画されているので、被吸着体のサイズに応じて、複数の吸着領域のうち、被吸着体の吸着に必要な吸着領域のみを吸着動作させることができる。したがって、吸着すべき被吸着体がサイズの異なるものに変更された場合には、被吸着体のサイズに応じて吸着動作させる吸着領域を適宜変更することにより、被吸着体のサイズの変更に容易に対応することができる。従来の吸着装置とは異なり、本発明の吸着装置では、吸着部における被吸着体の吸着に不要な領域を別途シール材などで覆う必要もない。なお、吸着部を区画する吸着領域の数は、2以上であればよく、本発明としてはその数は限定されない。また、吸着領域の大きさや形状も特に限定されるものではなく、各吸着領域で大きさや形状が異なるものであってもよい。また、吸着動作がなされる1つの吸着領域は、面方向で連続しているものの他、他の吸着領域を挟んで離れて存在するものであってもよい。なお、被吸着体が後述するように長尺形状を有する場合、被吸着体が配置される長尺の方向に吸着領域が伸長し、隣接する吸着領域が上記長尺方向と直交する方向に並設配置するものを例示することができる。この配置形態によれば、長尺形状の被吸着体の幅が異なる場合にも、吸着動作を行う吸着領域の数を変えることで容易に対応することができる。吸着部によって被吸着体を吸着する構成としては、複数の吸着領域のそれぞれに、開閉弁が設けられた真空排気ラインを連通可能に接続した構成を用いることができる。複数の真空排気ラインには、それぞれに開閉弁が設けられているため、共通の真空ポンプに接続することができる。この場合、被吸着体の吸着に必要な吸着領域に接続された真空排気ラインの開閉弁を開放し、他の真空排気ラインの開閉弁を閉止すればよい。なお、少なくとも、吸着が行われる吸着領域に接続された、以下に述べるガス供給ラインの開閉弁は閉止しておく。これにより、開閉弁が開放された真空排気ラインを通じて、被吸着体の吸着に必要な吸着領域だけを真空排気して差圧を発生し、被吸着体を吸着することができる。また、吸着を行わない吸着領域では、ガス供給ラインの開閉弁を開けて雰囲気用にガスを放出することも可能である。真空排気する際の真空度の程度は、被吸着体の吸着に必要とされる吸着力に応じて適宜設定することができる。また、上記真空排気ラインの開閉弁の開閉は、被吸着体のサイズに応じて、作業者が手動で行ってもよいし、制御部により自動的に行ってもよい。また、吸着部に吸着された被吸着体の吸着を解除するための構成としては、複数の吸着領域のそれぞれに、開閉弁が設けられたガス供給ラインを連通可能に接続した構成を用いることができる。複数のガス供給ラインには、それぞれに開閉弁が設けられているため、共通のガス供給源を接続することができる。この場合、上記真空排気ラインの閉会弁は閉止したうえで、被吸着体が吸着している吸着領域に接続されたガス供給ラインの開閉弁を開放し、他のガス供給ラインの開閉弁を閉止する。これにより、開閉弁が開放されたガス供給ラインを通じて、被吸着体が吸着している吸着領域だけにガスを供給して差圧を解消し、被吸着体の吸着を解除することができる。なお、吸着を解除するために供給するガスとしては、被吸着体に影響を与えないものであることが望ましく、例えば、窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガス、クリーンドライエアなどのエアを用いることができる。また、上記ガス供給ラインの開閉弁の開閉は、被吸着体のサイズに応じて、作業者が手動で行ってもよいし、制御部により自動的に行ってもよい。吸着部は、それぞれの吸着領域に吸着用の通気孔が複数設けられたものとすることができる。吸着用の通気孔としては、被吸着体を吸着するための差圧を発生することができるものであれば、あらゆる形態の通気孔を用いることができる。例えば、被吸着体が支持される支持体自体を多孔質材で構成し、該多孔質材の気孔を吸着用の通気孔として用いることができる。多孔質材の気孔を吸着用の通気孔として用いることで、吸着用の通気孔として支持部を貫通する複数の貫通孔などを別途設ける必要がない。このため、被吸着体がフィルム材などのような容易に変形し得るものであっても、吸着されたフィルム材の平面度を保つことができるなど、被吸着体の形状を容易に維持することができる。なお、吸着用の通気孔として、被吸着体が支持される支持体を貫通する複数の貫通孔を用いることもできる。貫通孔の孔径は、被吸着体のサイズ、剛性などに応じて適宜設定することができる。複数の通気孔に対しては、該通気孔に連通する隔室部を吸着領域ごとに設けることができ、真空排気ラインとガス供給ラインとは、複数の通気孔および隔室部を介して吸着領域に連通可能に接続することができる。この場合、上記真空排気ラインを通じた吸着領域の真空排気は、隔室部および複数の通気孔を介して行われる。また、上記ガス供給ラインを通じた吸着領域へのガスの供給は、隔室部および複数の通気孔を介して行われる。上記吸着部は、基台に着脱自在に設置された吸着台に設けられているものとすることができる。吸着部が設けられた吸着台が基台に着脱自在に設置されているため、吸着台を容易に交換することができる。そこで、吸着部のサイズの異なる複数の吸着台を用意しておき、吸着動作させるべき吸着領域の変更では対応できないサイズの被吸着体の場合には、その被吸着体のサイズに対応し得るサイズの吸着部が設けられた吸着台に交換する。これにより、吸着動作させるべき吸着領域の変更では対応できないサイズの被吸着体についても容易に対応することができる。吸着台が着脱自在に設置される基台は、吸着台を差圧により吸着して設置固定する吸着台吸着部が設けられてたものとすることができる。吸着台吸着部には、真空排気ラインとガス供給ラインとを連通可能に接続し、各ラインに開閉弁を設けることができる。この場合、基台に吸着台を設置固定する場合には、ガス供給ラインの開閉弁を閉止するとともに、真空排気ラインの開閉弁を開放し、真空排気ラインを通じて吸着台吸着部を真空排気して差圧を発生して吸着台を吸着する。また、吸着台の設置固定を解除する場合には、真空排気ラインの開閉弁を閉止するとともに、ガス供給ラインの開閉弁を開放し、ガス供給ラインを通じて吸着台吸着部にガスを供給して差圧を解消して吸着台の設置固定を解除する。本発明の吸着装置で吸着の対象となる被吸着体は、差圧により吸着することができるものであれば、特に限定されるものではない。被吸着体としては、例えば、フィルム状、シート状、板状のものなどを挙げることができ、特に、フィルム材を好適な被吸着体として挙げることができる。被吸着体としてのフィルム材は、特にその形状その他の形態が限定されるものではないが、例えば、フィルム材としては、長尺帯状の形状を有し、長尺の方向に沿って間欠的に搬送されるものを挙げることができる。間欠的に搬送されるフィルム材には、吸着部上で吸着およびその解除を行うことができる。また、この場合、複数の吸着領域は、フィルム材の搬送方向と直交する方向に並び、かつ搬送方向に沿って配置されているように区画することができる。本発明の吸着装置は、該吸着装置に吸着された被吸着体に対して所定の処理を施す処理部とともに、処理装置を構成することができる。処理部における処理内容は、本発明としては特に限定されるものではないが、例えば、被吸着体に対して、レーザ光による描画、切断、穴あけなどのレーザ加工を施すものなどを例示することができる。以上のとおり、本発明によれば、被吸着体を差圧により吸着する吸着部を備え、該吸着部はそれぞれ独立して吸着動作が可能な複数の吸着領域に区画されているので、サイズの異なる被吸着体を高い作業効率で簡単に吸着して固定することができる。本発明の一実施形態の吸着装置を図1、2に基づいて説明する。図1は本実施形態の吸着装置を示す平面図、図2は本実施形態の吸着装置を含むレーザ加工装置を示す正面図である。本実施形態の吸着装置3は、フィルム材2にレーザ加工を施すレーザ加工装置1に備えられたものであり、レーザ加工を施すフィルム材を吸着して固定する。レーザ加工装置1は、本発明の処理装置の一実施形態でもある。図2に示すように、レーザ加工装置1は、フィルム材2を吸着して固定する吸着装置3と、吸着装置3に吸着固定されたフィルム材2にレーザ加工を施すレーザ加工部4とを備えている。吸着装置3は、平板状の基台5と、基台5上に着脱自在に設置された直方体形状の吸着台6とを有している。基台5は、内側に空洞部51を有しており、空洞部51には、基台5の外部一側方から内部に貫通する真空排気ライン7の一端が接続されている。真空排気ライン7は、開閉弁8が介設され、他端に真空ポンプ9が接続されている。また、空洞部51には、基台5の外部他側方から内部に貫通するガス供給ライン10の一端が接続されている。ガス供給ライン10は、開閉弁11が介設され、他端にガス供給源12が接続されている。基台5の上面部には、吸着台6を差圧により吸着する吸着台吸着部52が基台5の表面に露出して設けられている。吸着台吸着部52には、吸着台吸着部52の上面に開口し、空洞部51に連通するように貫通する吸着用の通気孔不図示が複数設けられている。吸着台吸着部52の複数の通気孔は、好適には、面方向において均等に配列されている。なお、基台5の上面部における吸着台吸着部52が設けられる領域を多孔質材で構成し、この多孔質材の気孔により吸着台吸着部52の複数の通気孔を構成することもできる。吸着台6の上層部には、フィルム材2を差圧により吸着する吸着部61が吸着台6の表面に露出して設けられており、吸着部61は、それぞれ独立して吸着動作可能な4つの吸着領域62a、62b、62c、62dに区画されている。吸着部61は、矩形状の形状を有し、上面が平面になっている。吸着領域62a、62b、62c、62dは、吸着部61を短辺方向において複数に区画したものであり、各吸着領域62a、62b、62c、62dは、吸着部61の長辺方向に沿って吸着部61の全長に亘っている。この実施形態では、吸着領域62a、62b、62c、62dは同一形状を有している。ただし、本発明としては各吸着領域が同一形状を有することを要しない。吸着台6は、各吸着領域62a、62b、62c、62dに対応して内部に隔室部63a、63b、63c、63dを有している。また、吸着領域62a~62dのそれぞれには、吸着領域62a~62dの外部に開口し、かつ前記隔室部63a~63dに連通するように吸着用の通気孔不図示が複数設けられている。なお、吸着領域62aは、上記通気孔によって隔室部63aにのみ連通し、吸着領域62bは、上記通気孔によって隔室部63bにのみ連通し、吸着領域62cは、上記通気孔によって隔室部63cにのみ連通し、吸着領域62dは、上記通気孔によって隔室部63dにのみ連通している。吸着部6は、多孔質材で構成されており、この多孔質材の気孔により前記通気孔が構成されている。吸着部61が多孔質材で構成されていることにより、フィルム材2は良好な平面度を有したままで吸着され、より高い精度でレーザ加工を行うことができる。なお、吸着部6を多孔質材で構成しないで、各吸着領域62a~62dの複数の通気孔を面方向に均等に配列した複数の貫通孔により構成することもできる。隔室部63a~63dには、吸着部61の短辺側外側壁の外方から吸着部61内に貫通する真空排気ライン13a~13dの一端がそれぞれ接続されている。すなわち、隔室部63aに真空排気ライン13aが接続され、隔室部63bに真空排気ライン13bが接続され、隔室部63cに真空排気ライン13cが接続され、隔室部63dに真空排気ライン13dが接続されている。真空排気ライン13a~13dは、それぞれ開閉弁14a~14dが介設され、他端に共通の真空ポンプ15が接続されている。なお、真空ポンプ15および真空ポンプ9として、共通の真空ポンプを用いてもよい。また、隔室部63a~63dには、吸着部61の短辺側外側壁の外方から吸着部61内に貫通するガス供給ライン16a~16dの一端がそれぞれ接続されている。すなわち、隔室部63aにガス供給ライン16aが接続され、隔室部63bにガス供給ライン16bが接続され、隔室部63cにガス供給ライン16cが接続され、隔室部63dにガス供給ライン16dが接続されている。ガス供給ライン16a~16dは、それぞれ開閉弁17a~17dが介設され、他端に共通のガス供給源18が接続されている。なお、ガス供給源18およびガス供給源12として、共通のガス供給源を用いてもよい。フィルム材2は長尺帯状の形状を有しており、吸着台6の両側には、フィルム材2をその長手方向に沿って間欠的に搬送する搬送ローラ19aおよび搬送ローラ19bがそれぞれ配置されている。搬送ローラ19a、19bは、搬送ローラ19a側から搬送ローラ19b側に向けて、吸着部61上を通過するようにフィルム材2を搬送することができる。なお、搬送ローラ19aの上流側には、レーザ加工を施すフィルム材2を巻き出す巻出機不図示が設けられている。また、搬送ローラ19bの下流側には、レーザ加工が施されたフィルム材2を巻き取る巻取機不図示が設けられている。吸着台6の上方には、レーザ加工部4が配置されている。レーザ加工部4は、加工用のレーザ光41を出力するレーザ光源42と、レーザ光源42から出力されたレーザ光41を吸着装置3に吸着固定されたフィルム材2に照射する光学系43とを備えている。レーザ光源42には、例えばCO2レーザなどを用いることができるが、本発明としてはレーザの種別が特に限定されるものではない。光学系43には、レーザ光41を吸着台6上のフィルム材2へ反射して導波するミラー43aなどを有している。光学系43は、そのほか、ホモジナイザやシリンドリカルレンズなどの適宜の光学系部材を有することができる。また、光学系43は、レーザ光41のフィルム材2上における照射位置を相対的に変化させることができ、レーザ光41によりフィルム材2に描画などのレーザ加工を施すことができる。次に、上記図1、2に示す吸着装置3およびこれを備えるレーザ加工装置1の動作について説明する。以下では、フィルム材2が、吸着領域62a~62dのうちの2領域分の幅のものである場合について説明する。レーザ加工に先立ち、基台5上には、吸着部61を有する吸着台6が設置されている。次いで、ガス供給ライン10の開閉弁11を閉止するとともに、真空排気ライン7の開閉弁8を開放する。この状態で、真空排気ライン7の他端に接続された真空ポンプ9により空洞部51内を真空排気する。これにより、吸着台吸着部52は、吸着台吸着部52に設けられた複数の通気孔および空洞部51を介して真空排気され、差圧により吸着台6が基台5上に吸着されて設置固定される。次いで、搬送ローラ19a、19bにより吸着部61上でフィルム材2を搬送し、レーザ加工を施すフィルム材2の部分を吸着部61上に位置させて、フィルム材2の搬送を停止する。この際、吸着領域62a~62dのうちの2領域分の幅を有するフィルム材2が、例えば吸着領域62b、62cの2領域と重なるように、フィルム材2と吸着装置3との相対位置を予め設定しておく。次いで、フィルム材2が重なっている吸着領域62b、62cに対応する隔室部63b、62cに接続された真空排気ライン13b、13cの開閉弁14b、14cを開放し、他の真空排気ライン13a、13dの開閉弁14a、14dを閉止する。なお、ガス供給ライン16a~16dの開閉弁17a~17dは、すべて閉止しておく。次いで、真空ポンプ15により真空排気ライン13b、13cを通して隔室部63b、63cの真空排気を行う。これにより、フィルム材2が重なっている吸着領域62b、62cでは、吸着領域62b、62cに設けられた複数の通気孔を通じて差圧が生じ、フィルム材2が吸着領域62b、62cに吸着されて固定される。フィルム材2を吸着領域62b、62cに吸着して固定した後、レーザ光源42からレーザ光41を出力する。レーザ光41は、光学系43により、レーザ加工の内容に応じて所定の軌跡を描きつつ吸着台6上のフィルム材2に照射される。こうして、フィルム材2に対して、レーザ光41によりレーザ加工が施される。レーザ加工の終了後、隔室部63b、63cに接続された真空排気ライン13b、13cの開閉弁14b、14cを閉止し、隔室部63b、63cに接続されたガス供給ライン16b、16cの開閉弁17b、17cを開放する。なお、他のガス供給ライン16a、16dの開閉弁17a、17dは、閉止状態を維持する。次いで、ガス供給源18によりガス供給ライン16b、16cを通して隔室部63b、63cにガスを供給する。ガス供給源18により供給するガスとしては、例えば、窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガス、クリーンドライエアなどのエアを用いる。これにより、フィルム材2が吸着されている吸着領域62b、62cには、吸着領域62b、62cに設けられた複数の通気孔を通じてガスが供給され、前記した差圧が解消されてフィルム材2の吸着が解除される。また、ガスの供給量によっては、フィルム材2を吸着部61から押し剥がす作用も得られる。フィルム材2の吸着が解除された後、開閉弁17b、17cを閉止する。次いで、搬送ローラ19a、19bにより、吸着が解除されたフィルム材2を搬送し、次に処理を行う部分を吸着部61上に位置させて、同様に処理を行う。以後、上記と同様にして、フィルム材2の吸着、レーザ加工、フィルム材2の吸着の解除、およびフィルム材2の搬送を順次繰り返すことにより、長尺帯状のフィルム材2の各部分にレーザ加工を施すことができる。次に、レーザ加工を施すフィルム材2が、吸着領域62a~62dのうちの3領域分の幅のものに変更された場合について説明する。まず、搬送ローラ19a、19bにより、幅の広いフィルム材2を搬送し、フィルム材2aのレーザ加工を施す部分を吸着部61上に位置させる。その後、フィルム材2の搬送を停止する。この際、吸着領域62a~62dのうちの3領域分の幅を有するフィルム材2が、例えば吸着領域62a、62b、62cの3領域と重なるように、フィルム材2と吸着装置3との相対位置を予め設定しておく。次いで、フィルム材2が重なっている吸着領域62a、62b、62cに対応する隔室部63a~63cに接続された真空排気ライン13a、13b、13cの開閉弁14a、14b、14cを開放し、他の真空排気ライン13dの開閉弁14dを閉止する。なお、ガス供給ライン16a~16dの開閉弁17a~17dは、すべて閉止しておく。次いで、真空ポンプ15により真空排気ライン13a、13b、13cを通して隔室部63a、63b、63cの真空排気を行う。これにより、フィルム材2が重なっている吸着領域62a、62b、62cでは、吸着領域62a、62b、62cに設けられた複数の通気孔を通じて差圧が生じ、フィルム材2が吸着領域62a、62b、62cに吸着されて固定される。フィルム材2を吸着領域62a、62b、62cに吸着して固定した後、レーザ光源42からレーザ光41を出力する。レーザ光41は、光学系43により、レーザ加工の内容に応じて所定の軌跡を描きつつ吸着台6上のフィルム材2に照射される。こうして、フィルム材2に対して、レーザ光41によりレーザ加工が施される。レーザ加工の終了後、隔室部63a、63b、63cに接続された真空排気ライン13a、13b、13cの開閉弁14a、14b、14cを閉止し、隔室部63a、63b、63cに接続されたガス供給ライン16a、16b、16cの開閉弁17a、17b、17cを開放する。なお、他のガス供給ライン16dの開閉弁17dは、閉止状態を維持する。次いで、ガス供給源18によりガス供給ライン16a、16b、16cを通して隔室部63a、63b、63cにガスを供給する。これにより、フィルム材2が吸着されている吸着領域62a、62b、62cには、吸着領域62a、62b、62cに設けられた複数の通気孔を通じてガスが供給され、前記した差圧が解消されてフィルム材2の吸着が解除される。また、ガスの供給によっては、フィルム材2を吸着部61から押し剥がす作用も得られる。フィルム材2の吸着が解除された後、開閉弁17a、17b、17cを閉止する。次いで、搬送ローラ19a、19bにより、吸着が解除されたフィルム材2を搬送し、次に処理を行う部分を吸着部61上に位置させて、同様に処理を行う。以後、上記と同様にして、フィルム材2の吸着、レーザ加工、フィルム材2の吸着の解除、およびフィルム材2の搬送を順次繰り返すことにより、長尺帯状のフィルム材2の各部分にレーザ加工を施すことができる。以上のように、フィルム材2が幅の異なるものに変更された場合であっても、フィルム材2の幅に応じて、吸着動作させる吸着領域62a~62dを適宜変更することで容易に対応することができる。したがって、フィルム材2の吸着固定の作業効率を向上することができ、ひいてはレーザ加工の作業効率をも向上することができる。なお、フィルム材2の幅が、吸着領域62a~62dの幅に対応しない場合、例えば、フィルム材の幅方向端部が吸着領域の央部などに位置する場合には、吸着台6を、吸着領域の幅がフィルム材2の幅に合ったものに交換することにより対応することができる。吸着台6を交換する場合には、以下のようにして、基台5上に設置固定されている吸着台6を取り外した後、新たな吸着台を基台5上に設置固定する。まず、真空排気ライン7の開閉弁8を閉止するとともに、ガス供給ライン10の開閉弁11を開放する。この状態で、ガス供給ライン10の他端に接続されたガス供給源12からガスの供給を行う。これにより、吸着台吸着部52には、ガス供給ライン10、空洞部51、および吸着台空着部52に設けられた複数の通気孔を通じてガスが供給される。この結果、吸着台6を吸着する差圧が解消されて、吸着台6の吸着が解除される。その後、吸着が解除された吸着台6を基台5上から取り外す。次いで、基台5上に、レーザ加工を施すフィルム材2のサイズに対応したサイズの吸着領域を有する新たな吸着台図示しないを設置する。次いで、ガス供給ライン10の開閉弁11を閉止するとともに、真空排気ライン7の開閉弁8を開放する。この状態で、真空排気ライン7の他端に接続された真空ポンプ9により真空排気する。これにより、吸着台吸着部52は、吸着台吸着部52に設けられた複数の通気孔および空洞部51を介して真空排気される。この結果、差圧により新たな吸着台が基台5上に吸着されて設置固定される。このように、吸着台を容易に交換することができるため、吸着動作させるべき吸着領域62a~62dの変更では対応できないサイズのフィルム材2についても容易に対応することができる。また、変更した吸着台では、吸着領域の幅に合えば、さらにサイズの異なるフィルム材2に対しレーザ加工を行うことができる。なお、上記実施形態では、長尺帯状の形状を有するフィルム材2を吸着するものについて説明したが、フィルム材2は、長尺帯状の形状を有するものに限定されるものではなく、あらゆる形状を有するものであってよい。また、上記実施形態では、フィルム材2を吸着装置3に吸着し、フィルム材2に対してレーザ加工を施すものについて説明したが、吸着装置2に吸着される被吸着体は、フィルム材に限定されるものではなく、差圧により吸着することができるものであればよい。また、被吸着体に施す処理もレーザ加工に限定されるものでなく、種々の処理を施すことができる。また、上記実施形態では、吸着部61が4つの吸着領域62a~62dに区画されているものについて説明したが、吸着領域の数や吸着部の区画の態様は、上記内容に限定されるものではなく、吸着すべき被吸着体のサイズ、形状などに応じて適宜変更することができる。