"絶縁筒を挟んで設けられた第1導体容器と第2導体容器とを有し、絶縁ガスが内部に充填された密閉タンクと、前記第1導体容器側に設けられた固定アーク接触子と、前記第2導体容器側に設けられて前記固定アーク接触子と接離可能に移動する可動アーク接触子と、前記第1導体容器側に設けられた固定通電接触子と、前記可動アーク接触子の接離に合わせて移動して前記固定通電接触子に接離する可動通電接触子と、前記第2導体容側に設けられて、前記可動通電接触子を内部に収容するシリンダで構成された機械パッファ室が形成されたパッファ部と、を備え、前記パッファ部は、前記絶縁筒と前記第2導体容器との間に配置されて、前記密閉タンクの外周に露出されることを特徴とするガス遮断器。前記パッファ部の外周面には、フィン形状が形成されることを特徴とする請求項1に記載のガス遮断器。前記パッファ部は、前記可動アーク接触子と前記固定アーク接触子との接離部分の周囲を囲む熱パッファ室の少なくとも一部を構成することを特徴とする請求項1または2に記載のガス遮断器。前記パッファ部には、前記機械パッファ室と前記熱パッファ室を連通させる吹出し流路が形成されることを特徴とする請求項3に記載のガス遮断器。前記パッファ部は、前記機械パッファ室を構成する部分と前記熱パッファ室を構成する部分とが一体に形成されており、前記第2導体容器と前記可動通電接触子とが、前記パッファ部によって電気的に接続されることを特徴とする請求項3または4に記載のガス遮断器。前記可動通電接触子および前記機械パッファ室は、前記可動アーク接触子の軸線を中心とする円環形状を呈することを特徴とする請求項1~4のいずれか1つに記載のガス遮断器。絶縁筒を挟んで設けられた第1導体容器と第2導体容器とを有し、絶縁ガスが内部に充填された密閉タンクと、前記第1導体容器側に設けられた固定アーク接触子と、前記第2導体容器側に設けられて前記固定アーク接触子と接離可能に移動する可動アーク接触子と、前記第1導体容器側に設けられた固定通電接触子と、前記可動アーク接触子の接離に合わせて移動して前記固定通電接触子に接離する可動通電接触子と、前記第2導体容器側に設けられて、前記可動通電接触子を内部に収容するシリンダで構成された機械パッファ室が形成されたパッファ部と、を備え、前記パッファ部は、前記絶縁筒の内側に配置されて、前記可動通電接触子と前記絶縁筒との間を塞ぐことを特徴とするガス遮断器。このようなガス遮断器では、通電電流による温度上昇の抑制や、発生した熱の放熱効率の向上が期待されている。本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、通電電流による温度上昇の抑制や、発生した熱の放熱効率の向上を図ることのできるガス遮断器を得ることを目的とする。上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、絶縁筒を挟んで設けられた第1導体容器と第2導体容器とを有し、絶縁ガスが内部に充填された密閉タンクと、第1導体容器側に設けられた固定アーク接触子と、第2導体容器側に設けられて固定アーク接触子と接離可能に移動する可動アーク接触子と、第1導体容器側に設けられた固定通電接触子と、可動アーク接触子の接離に合わせて移動して固定通電接触子に接離する可動通電接触子と、第2導体容側に設けられて、可動通電接触子を内部に収容するシリンダで構成された機械パッファ室が形成されたパッファ部と、を備え、パッファ部は、絶縁筒と第2導体容器との間に配置されて、密閉タンクの外周に露出されることを特徴とする。この本発明によれば、パッファ部を密閉タンクの外周に露出させることで、パッファ部を介して発生した熱を外部に放熱しやすくなり、温度上昇の抑制や放熱効率の向上を図ることができる。以下に、本発明の実施の形態にかかるガス遮断器を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。実施の形態1.図1は、本発明の実施の形態1にかかるガス遮断器の通電状態を示す断面図である。図2は、図1に示すA-A線に沿った矢視断面図である。なお、図1において、パッファ部4以外の構成要素に対するハッチングを省略して示している。ガス遮断器100は、密閉タンク20、開閉部30を備えて構成される。密閉タンク20は、固定側円筒導体第1導体容器1、可動側円筒導体第2導体容器2、絶縁筒3、パッファ部4を有して構成され、内部に開閉部30を収容する密閉空間が形成される。固定側円筒導体1、可動側円筒導体2、パッファ部4は、金属等の導電体で構成されている。固定側円筒導体1および可動側円筒導体2は、絶縁筒3を挟んで配置される。なお、可動側円筒導体2と絶縁筒3との間には、パッファ部4が挟み込まれて配置されている。絶縁筒3は、エポキシ樹脂等の絶縁性材料で構成される。絶縁筒3は、固定側円筒導体1とパッファ部4の間に設けられて、可動側円筒導体2およびパッファ部4と、固定側円筒導体1との間で直接電流が流れるのを防いでいる。密閉タンク20内には6フッ化硫黄SF6等の絶縁ガスが充填されている。密閉タンク20は、支持絶縁物14に支持されている。密閉タンク20の下方には、操作装置15が設けられる。操作装置15により、絶縁部材からなる絶縁操作ロッド13と、リンク機構16とを介して、開閉部30の開閉操作が行われる。次に、開閉部30について説明する。開閉部30は、固定通電接触子12、可動通電接触子11、固定アーク接触子9、可動アーク接触子10を有して構成される。固定通電接触子12は、固定側円筒導体1と電気的に接続されている。この固定通電接触子12と相対向するように可動通電接触子11が設けられている。可動通電接触子11は、リンク機構16に連結されており、操作装置15によって矢印X,Yに示す方向に往復移動可能とされている。可動通電接触子11は、往復移動することで、固定通電接触子12と接離可能とされている。可動通電接触子11は、図1,図2に示すように、円筒形状のピストンとなっている。固定アーク接触子9は、固定側円筒導体1と電気的に接続されている。この固定アーク接触子9と相対向するように可動アーク接触子10が設けられている。可動アーク接触子10は、可動通電接触子11と同様にリンク機構16に連結されており、操作装置15によって可動通電接触子11と連動して、軸線Zに沿って矢印X,Yに示す方向に往復移動可能とされている。可動アーク接触子10は、往復移動することで、固定アーク接触子9と接離可能とされている。なお、可動アーク接触子10は、矢印Xに示す方向に移動する過程で、固定通電接触子12と可動通電接触子11が離間してから、固定アーク接触子9と離間するように構成されている。次に、パッファ部4について説明する。パッファ部4には、可動通電接触子11を内部に収容するシリンダとしての機械パッファ室5が形成されている。機械パッファ室5は、可動通電接触子11の移動によって内部の容積が変化し、特に、固定通電接触子12から離間する方向矢印Xに示す方向に移動することで、内部の容積が減少する。また、パッファ部4は、固定アーク接触子9の周囲に熱パッファ室7を形成する。具体的には、熱パッファ室7を構成する壁面の一部がパッファ部4で構成されている。熱パッファ室7は、パッファ部4、固定側円筒導体1、固定アーク接触子9、および絶縁物8に囲まれた空間として構成される。絶縁物8は、パッファ部4と固定側円筒導体1との間を塞いでいる。絶縁物8は、パッファ部4と固定通電接触子12との間を塞いでいる。なお、固定通電接触子12と絶縁物18との間には隙間が設けられており、この隙間が、固定アーク接触子9と可動アーク接触子10との接触部近傍以下、アーク発生領域というに絶縁ガスを吹き出す吹出口17となる。また、パッファ部4には、機械パッファ室5と熱パッファ室7とを連通させる吹出し流路6が形成されている。また、パッファ部4の外周面は、密閉タンク20の外部に露出している。パッファ部4の外周面には、フィン形状とされた放熱フィン4aが形成されている。パッファ部4は、全体が一体に形成されており、特に機械パッファ室5を構成する部分と熱パッファ室7を構成する部分とが一体に形成されている。これにより、可動側円筒導体2と可動通電接触子11とが、一体に形成された導体としてのパッファ部4によって電気的に接続される。次に、ガス遮断器100の遮断動作について説明する。まず、可動通電接触子11が固定通電接触子12から開離し、その後に可動アーク接触子10が固定アーク接触子9から開離する。この開離動作により可動アーク接触子10と固定アーク接触子9との間のアーク発生領域にアークが発生する。大電流領域の遮断では、アーク発生領域における絶縁ガスはアークエネルギーにより加熱昇圧されて、熱パッファ室7に蓄積される。その後に、電流零点に近づくとアーク発生領域の加熱昇圧が減少するので、熱パッファ室7に蓄えられていた高圧の絶縁ガスが、吹出口17から吹き出して、アーク発生領域のアークに吹付けられることによってアークが消弧され、電流遮断が行われる。また、可動通電接触子11の開離動作に伴って機械パッファ室5の体積が減少する。その際、機械パッファ室5内の絶縁ガスが圧縮され、冷たい絶縁ガスが吹出し流路6を通って熱パッファ室7に流入する。これにより、熱パッファ室7の圧力が上昇し、吹出口17から絶縁ガスが吹き出して、アーク発生領域に吹付けられることによってアークが消弧され、電流遮断が行われる。中小電流領域の遮断では、アーク発生領域の絶縁ガスはあまり加熱されないために、熱パッファ室7の圧力はそれほど上昇しない。一方、絶縁ガスの加熱の有無に関わらず、機械パッファ室5では可動通電接触子11の開離動作に伴って絶縁ガスが圧縮される。そのため、絶縁ガスがアーク発生領域に吹付けられることによって、アークが消弧されて電流遮断が行われるとともに、絶縁性能が回復する。電流通電投入時には、可動アーク接触子10と固定アーク接触子9とが接続され、その後に可動通電接触子11と固定通電接触子12とが接続されることによって電流が通電される。通電経路の導体ではその電気抵抗によって熱が発生する。本実施の形態1にかかるガス遮断器100では、パッファ部4が絶縁筒3と可動側円筒導体2との間に配置され、その外周面が密閉タンク20の外部に露出しているので、通電によって発生した熱を、パッファ部4を介して外部に放熱しやすくなっている。また、パッファ部4の外周面には、放熱フィン4aが形成されているので、外気への接触面積を増加させることで熱放散面積の増加を図り、冷却効果の向上を図ることができる。また、密閉タンク20の外部に露出させるようにパッファ部4を設けているので、パッファ部4を大きく形成しやすくなる。これにより、パッファ部4における通電面積を大きくして、電気抵抗の低下を図ることができる。そして、電気抵抗の低下を図ることで、パッファ部4における発熱を抑えることができる。また、パッファ部4には、機械パッファ室5、熱パッファ室7、および吹出し流路6が形成され、全体が一体に形成されている。このように構成することで、通電経路における可動側円筒導体2と可動通電接触子11との間の導体を、パッファ部4のみで構成することができる。これにより、導体同士の接続部を減らして、電気抵抗の低下を図ることができる。そして、電気抵抗の低下を図ることで、パッファ部4における発熱を抑えることができる。また、通電経路における可動側円筒導体2と可動通電接触子11との間の導体を、パッファ部4のみで構成することで、部品点数の削減を図り、製造コストの抑制を図ることができる。図3は、実施の形態1の変形例1にかかるガス遮断器100の断面図である。図4は、図3に示すB-B線に沿った矢視断面図である。なお、図4において、パッファ部4以外の構成要素に対するハッチングを省略して示している。本変形例1では、可動通電接触子21が、軸線Zを中心とする円環形状を呈している。そのため、可動通電接触子21が収容されるシリンダとしての機械パッファ室25も軸線Zを中心とする円環形状に形成されている。このように、可動通電接触子21および機械パッファ室25を円環形状に形成することで、複数個の円筒形の機械パッファ室を配置した場合と比べて、軸線Zから機械パッファ室の最外部までの距離を小さくすることができる。そのため、ガス遮断器100を周方向に小型化することができる。なお、機械パッファ室25を円環形状に形成することで、パッファ部4が機械パッファ室25の内側と外側で別体の導体として構成される場合がある。この場合、通電経路における可動側円筒導体2と可動通電接触子11との間に複数の導体が設けられることになるものの、パッファ部4を密閉タンク20の外部に露出させれば、パッファ部4における通電面積を大きくして、電気抵抗の低下を図ることができる。実施の形態2.図5は、本発明の実施の形態2にかかるガス遮断器の通電状態を示す断面図である。なお、上記実施の形態と同様の構成については、同様の符号を付して詳細な説明を省略する。本実施の形態2にかかるガス遮断器200では、密閉タンク20は固定側円筒導体1、可動側円筒導体2、および絶縁筒33で構成されている。そのため、絶縁筒33が可動側円筒導体2と直接接触している。絶縁筒33が可動側円筒導体2と直接接触しているため、固定側円筒導体1と可動側円筒導体2との間が絶縁筒33によって塞がれている。そのため、パッファ部34は、絶縁筒33の内側に配置されて、密閉タンク20の外部に露出していない。しかしながら、本実施の形態2では、可動通電接触子11と絶縁筒33との隙間を塞ぐようにパッファ部34を形成することで、パッファ部34における通電面積を大きくして、電気抵抗の低下を図ることができる。また、通電経路における可動側円筒導体2と可動通電接触子11との間の導体を、パッファ部34のみで構成することで、導体同士の接続部を減らして、電気抵抗の低下を図ることができる。そして、電気抵抗の低下を図ることで、パッファ部34における発熱を抑えることができる。また、通電経路における可動側円筒導体2と可動通電接触子11との間の導体を、パッファ部34のみで構成することで、部品点数の削減を図り、製造コストの抑制を図ることができる。"