プラスチック基板上に潤滑性被覆材を生成する方法であり、当該方法は以下の手順からなる:基板表面付近における、有機ケイ素前駆体と随意にO2および随意に希ガスからなるガスの提供、および当該ガス内でのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着PECVDによる基板表面上での被覆材の形成。当該有機ケイ素前駆体が単環シロキサンであり、好ましくはOMCTSである、請求項1に記載の方法。O2が、好ましくは01~051の対有機ケイ素前駆体体積体積比率で存在し、随意に0011~051で存在する、請求項1~2のいずれかに記載の方法。アルゴンが希ガスとして存在する、請求項1~3のいずれかに記載の方法。当該ガスが、1~6の標準体積の有機ケイ素前駆体、1~100の標準体積の希ガス、01~2の標準体積のO2からなる、前記いずれかの請求項に記載の方法。アルゴンと酸素の両方が存在する、前記いずれかの請求項に記載の方法。以下を満たす、前記いずれかの請求項に記載の方法:当該プラズマが01~25Wの電力、好ましくは2~4Wの電力で生成される、およびまたは当該電極電力の対プラズマ量比が10Wml未満、好ましくは6Wml~01Wml、より好ましくは22Wml~1Wmlである。生成される被覆材の粗度が、AFMにより判定されRMSとして表される場合0~25nmであり、好ましくは7~20nmであり、随意に10~20nmであり、随意に13~17nmであり、随意に13~15nmである、前記いずれかの請求項に記載の方法。潤滑性被覆材を塗布する前に基板上に遮断性被覆材を生成する追加手順からなり、当該追加手順が基板表面付近における、有機ケイ素前駆体とO2からなるガスの提供、および当該ガス内でのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着PECVDによる基板表面上でのSiOx遮断性被覆材の形成からなる、前記いずれかの請求項に記載の方法。遮断性被覆材を生成する当該手順において、当該プラズマは好ましくは8~500W、より好ましくは20~400W、さらにより好ましくは35~350W、さらに好ましくは44~300W、最も好ましくは44~70Wの電力を受ける電極で生成される、およびまたは当該電極電力の対プラズマ量比が5Wml以上である、好ましくは6Wml~150Wml、より好ましくは7Wml~100Wml、最も好ましくは7Wml~20Wmlである、およびまたはO2がケイ素含有前駆体に対して11~1001の体積体積比で、好ましくは51~301の比率で、より好ましくは101~201の比率で、さらに好ましくは151の比率で存在する、請求項9に記載の方法。当該遮断性被覆材のための有機ケイ素前駆体が線状シロキサンである、好ましくはHMDSOである、請求項9または10に記載の方法。当該基板がポリカーボネート、オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、およびポリエステルからなる群から選択されるポリマーである、および好ましくは環状オレフィン共重合体、テレフタル酸ポリエチレン、またはポリプロピレンである、さらに好ましくはCOCである、前記いずれかの請求項に記載の方法。当該プラズマが高周波電極により生成され、その周波数が好ましくは10kHz~300MH未満、より好ましくは1~50MHz、さらにより好ましくは10~15MHz、最も好ましくは1356MHzである、前記いずれかの請求項に記載の方法。生成される潤滑性被覆材が、原子比率SiwOxCyまたはSiwNxCywは1、xは約05~24、yは約06~3を有する、前記いずれかの請求項に記載の方法。前記いずれかの請求項に記載の方法により得られる潤滑性被覆材で被覆され、前記いずれかの請求項で定義される特性を持つ、被覆基板。当該潤滑性被覆材が、非被覆表面より低い摩擦抵抗、好ましくは非被覆表面と比較して少なくとも25減、より好ましくは少なくとも45減、さらに好ましくは少なくとも60減の摩擦抵抗を持つ、請求項15に記載の被覆基板。さらに、以下を満たす少なくとも1層のSiOx膜xは15~29からなる、請求項15または16に記載の被覆基板。当該潤滑性被覆材がSiOx層と基板表面の間に位置する、またはその逆、あるいは、当該潤滑性被覆材がSiOx層と基板表面の間に位置する、またはその逆、あるいは、当該SiOx層と潤滑性被覆材がSiwOxCyHzのSiOxへの段階的組成物である、またはその逆。当該SiOx遮断性被覆材の層厚が20~30nmであり、当該潤滑性被覆材の平均層厚が1~5000nm、好ましくは30~1000nm、より好ましくは80~150nmである、請求項17に記載の被覆基板。当該潤滑性被覆材が以下を有する、請求項15~18のいずれかに記載の被覆基板。非被覆表面より低いぬれ張力、好ましくは20~72ダインcm、より好ましくは30~60ダインcm、より好ましくは30~40ダインcm、好ましくは34ダインcmのぬれ張力、およびまたは非被覆表面より高い疎水性。内部表面の少なくとも一部が被覆されている、すなわち請求項15~19のいずれかに記載の被覆基板を形成する容器であり、好ましくは以下の品目である:検体採取管、特に採血管、またはバイアル、またはシリンジまたはシリンジ部品、特定のシリンジバレルまたはシリンジプランジャー、またはシリンジピストン、または導管、またはキュベット。内腔に化合物または組成物を含む、好ましくは生物学的に活性な化合物または組成物または生物学的流体を含む、より好ましくは、クエン酸塩またはクエン酸塩を含む組成物、特にインスリンまたはインスリン組成物である薬剤、または血液または血球を含む、請求項20に記載の被覆容器。内面を有するバレル、当該バレル内面と係合する外面を有するピストンまたはプランジャーからなるシリンジであり、少なくとも1つの前述内面および外面が請求項15~19に記載の被覆基板である、請求項20または21に記載の被覆容器。当該プランジャーの開始力Fiが25~5ポンドであり、当該プランジャーの維持力Fmが25~8ポンドである、請求項22のシリンジ。当該潤滑性被覆材が、原子比率SiwOxCyまたはSiwNxCywは1、xは約05~24、yは約06~3を有する、請求項22または23のシリンジ。当該潤滑性被覆材の平均層厚が10~1000nmである、請求項22~24のいずれかのシリンジ。当該プラスチック基板がCOCであり、手順のガスがオクタメチルシクロテトラシロキサン、O2、アルゴンからなり、当該シリンジ内腔量に関してプラズマを生成する電力が6Wml~01Wmlである、請求項1~14のいずれかに記載の方法で生成されたシリンジ部品の全部または1つ以上である、請求項22~25のいずれかのシリンジ。内腔に化合物または組成物を含む、好ましくは生物学的に活性な化合物または組成物または生物学的流体を含む、より好ましくは、クエン酸塩またはクエン酸塩を含む組成物、特にインスリンまたはインスリン組成物である薬剤、または血液または血球を含む、請求項22~26のいずれかに記載のシリンジ。請求項1~14のいずれかの方法を実行するよう設定される、処理ステーション装備からなる、容器を被覆するための容器処理システム。請求項1~14のいずれかの方法を実行するよう当該容器処理システムを制御する当該プロセッサに指示を出すために適合される、容器処理システムのプロセッサにより実行される、容器被覆のためのコンピュータープログラムが保管されている、コンピューターに読み込み可能な媒体。請求項1~14のいずれかの方法を実行するよう当該容器処理システムを制御する当該プロセッサに指示を出すために適合される、容器処理システムのプロセッサにより実行される、容器被覆のためのプログラム要素。詳細な説明本発明について、とりわけ、複数の実施例を示す添付図面を参照しながら、ここからより詳細な説明を行う。しかし本発明は、多数の形態で実施可能であり、以下に挙げる実施例に制限されるものではない。むしろこれらの実施例は本発明の例であり、請求項の文面により完全な範囲が示される。類似番号は、類似または対応する要素に言及する。以下の開示は、具体的に特定の実施例に制限される場合を除き、すべての実施例に関連する。定義セクション本発明の文脈において、以下の定義および略称を使用する:RFは無線周波数radiofrequency、sccmは標準立方センチメートル毎分standardcubiccentimetersperminuteを指す。本発明の文脈における用語少なくともは、当該用語の後に続く整数以上であることを意味する。用語からなるはその他の要素または手順が含まれる場合があり、単数形物質は別途指定がない限り複数である場合がある。パラメータ範囲が示される場合は常に、当該範囲の限度としておよび、前述範囲内にあるすべてのパラメータ値として与えられた、当該パラメータ値を開示することを意図する。第1および第2または類似の、例えば処理ステーションまたは処理機器を指す用語は、存在する処理ステーションまたは機器の最低数を示すが、必ずしも処理ステーションおよび機器の順番または合計数を表すものではない。これらの用語は、処理ステーションまたは各ステーションで行われる特定の処理の数を制限するものではない。本発明の目的において、有機ケイ素前駆体は以下の結合を少なくとも1つ有する化合物である:または当該結合は、酸素または窒素原子1つおよび有機炭素原子1つ有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子と結合する四価ケイ素原子である。PECVD装置内で蒸気として供給される前駆体として定義される揮発性有機ケイ素前駆体が、随意の有機ケイ素前駆体である。随意に当該有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、およびこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される。PECVD前駆体、ガス状反応物質または処理ガス、搬送ガスの供給量は、本明細書および請求項において標準体積と表現されることがある。ガスの電荷量またはその他の固定量の標準体積は、標準の気温および気圧に占める当該ガスの固定量である。標準体積は、量の異なる単位を利用して測定可能であり、なおも本開示および請求項に従う。例えば、同一固定量のガスは、当該標準立方センチメートルの数値、当該標準立方メートルの数値、または当該標準立方フィートの数値で表される可能性がある。標準体積は、異なる標準気温および気圧を利用して定義可能であり、なおも本開示および請求項に従う。例えば、当該標準気温は0°Cおよび当該標準気圧は760トールである可能性があり、または当該標準気温は20°Cおよび当該標準気圧は1トールである可能性がある。ただし所定の例でどのような標準を利用しようとも、特定のパラメータを指定せずに2種以上の異なるガスの相対量を比較する場合、別途指定がない限り、それぞれのガスについて同一の容積単位、標準気温、標準気圧を利用するべきである。対応するPECVD前駆体、ガス状反応物質または処理ガス、搬送ガスの供給率は、本明細書における時間単位あたりの標準体積で表される。例えば、当該実施例で流量率は、分あたりの標準立方センチメートルsccmとして表されている。その他のパラメータについては、秒または時間といったその他の時間単位を利用可能であるが、2種以上のガス流量率を比較する場合は、別途指定がない限り、一定のパラメータを利用するべきである。本発明の文脈における容器は、少なくとも1つの開口部と内面を定義する壁を有するあらゆる種類の容器である場合がある。基板は、内腔を有する容器の内壁である場合がある。本発明は必ずしも特定量の容器に限定されるものではないが、容器は、内腔の隙容量が05~50mL、随意に1~10mL、随意に05~5mL、随意に1~3mLであると考察されている。当該基板表面は、少なくとも1つの開口部と1つの内面を有する容器の内面の、一部またすべてである場合がある。本発明の文脈における用語少なくともは、当該用語の後に続く整数以上であることを意味する。したがって、本発明の文脈における容器は、1つ以上の開口部を有する。検体管の開口部1つまたはシリンジバレルの開口部2つのように、1つまたは2つの開口部が望ましい。当該容器が2つの開口部を有する場合、それらは同一または異なるサイズである場合がある。開口部が1つ以上である場合、1つの開口部は本発明に記載のPECVD被覆法のガス吸入のために使用し、その他の開口部は蓋をするか開口状態にすることが可能である。本発明に記載の容器は、例えば血液、尿などの生物学的流体を採取保管する検体管、生物学的に活性な化合物または組成物薬剤または医薬組成物を保管搬送するシリンジまたはシリンジバレルなどその一部、生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を保管するバイアル、生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を搬送する導管例えばカテーテル、流体、例えば生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を把持するキュベットである可能性がある。容器はあらゆる形状をとる場合があり、少なくとも1つの開口端に隣接する実質上シリンダー状の壁を有する容器が望ましい通常、当該容器の内部壁は、例えば検体管またはシリンジバレルのようにシリンダー状の形状をしている。検体管またはシリンジまたはその一部例えばシリンジバレルが考察される。本発明の文脈における疎水層は、被覆材で被覆される表面のぬれ張力を、非被覆表面と比較して低下させる被覆材を意味する。疎水性は、したがって、非被覆基板および被覆の両方の機能である。適切な変更を伴う同様のことが、用語疎水性が使用されるその他の文脈に適用される。用語親水性はその反対を意味し、すなわち参照検体と比較してぬれ張力が増大することを意味する。本疎水層は、疎水性および疎水性を提供する処理条件により、主に定義される。また随意に、経験的組成物または総和公式SiwOxCyHzによる組成物を含む場合がある。これは通常、wは1、xは約05~24、yは約06~3、好ましくはwは1、xは約05~15、yは09~20、より好ましくはwは1、xは07~12、yは09~20である原子比率SiwOxCyを有する。当該原子比率は、XPSにより決定可能である。水素分子を考慮に入れると、当該被覆材はある態様において公式SiwOxCyHzで表され、例えばwは1、xは約05~24、yは約06~3、zは約2~9である。通常、当該原子比率は本発明の特定の被覆材において、Si100O80110C100150である。具体的には当該原子比率は、Si100O92107C116133である場合があり、かかる被覆材はしたがって、100炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素36~41を含む可能性がある。これらのw、x、y、zの値は、本明細書を通して経験的組成物SiwOxCyHzに適用可能である。本明細書を通して使用されるw、x、y、zの値は、分子内の原子の数や種類の制限ではなく、比率または経験的公式として理解されるべきである。例えば、分子組成Si4O4C8H24を有するオクタメチルシクロテトラシロキサンは、以下経験的公式により記述可能であり、分子式内の各w、x、y、zを4で割ることにより最大共通因数Si1O1C2H6が求められる。w、x、y、およびzの値は、また整数に限定されるものではない。例えば、分子組成Si3O2C8H24である非環状オクタメチルトリシロキサンは、Si1O067C267H8に約分可能である。ぬれ張力とは、表面の疎水性または親水性の特定の測定値である。本発明の文脈における随意のぬれ張力の測定方法は、ASTMD2578またはASTMD2578内で説明される方法の改良法である。当該方法では、標準のぬれ張力溶液ダイン溶液と呼ばれるを使用して、当該溶液が2秒間でプラスチック膜表面の湿潤状態にどれだけ近づくかを判定する。これが当該膜のぬれ張力である。本明細書内で使用される手順はASTMD2578のものとは異なり、当該基板は平板プラスチック膜ではなく、PET管を成形するためのプロトコルに従い製造され対照を除き管内部を疎水層被覆材で被覆するためのプロトコルに従い被覆された管であるEP2251671A2の実施例9を参照。本発明に記載の潤滑性の層は、非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑性被覆材を指す。言い換えれば、非被覆の参照表面と比較して被覆表面の摩擦抵抗を低下させる被覆材である。本潤滑層は主に、非被覆表面より低い摩擦抵抗および非被覆表面より低い摩擦抵抗を提供する条件により定義され、随意に、本書で定義される経験的組成物SiwOxCyHzに従う組成物を有する場合がある。これは通常、wは1、xは約05~24、yは約06~3、好ましくはwは1、xは約05~15、yは09~20、より好ましくはwは1、xは07~12、yは09~20である原子比率SiwOxCyを有する。当該原子比率は、XPSにより決定可能である。水素分子を考慮に入れると、当該被覆材はある態様において公式SiwOxCyHzで表され、例えばwは1、xは約05~24、yは約06~3、zは約2~9である。通常、当該原子比率は本発明の特定の被覆材において、Si100O80110C100150である。具体的には当該原子比率は、Si100O92107C116133である場合があり、かかる被覆材はしたがって、100炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素36~41を含む可能性がある。摩擦抵抗は、静的摩擦抵抗およびまたは動的摩擦抵抗である場合がある。本発明の随意の実施例の1つに、潤滑層で被覆されたシリンジの部品、例えばシリンジバレルまたはプランジャーが挙げられる。この考察実施例において、本発明の文脈における静的摩擦抵抗は本明細書で定義する起動力であり、本発明の文脈における動的摩擦抵抗は本明細書で定義するプランジャースライド力である。例えば、本明細書で定義し決定するプランジャースライド力は、当該被覆材がシリンジまたはシリンジ部品、例えばシリンジバレル内壁に塗布されるときはいつでも、本発明の文脈における潤滑層被覆材の有無および潤滑特性を決定するのに適する。当該起動力は、充填済みシリンジに対する被覆材作用の評価に特定の関連があり、すなわち、被覆後に充填され当該シリンジを再び動かす起動するまで長期保存数カ月または数年可能であるシリンジに関する。本発明の文脈におけるプランジャースライド力は、例えば吸引または投与の際にシリンジバレル内でのプランジャーの移動を維持するのに必要な力である。これは有利に、本明細書内で述べるおよび当技術分野で周知のISO788611993試験を利用して決定される場合がある。当技術分野で使用されるプランジャースライド力の類義語として、プランジャー力またはプッシュ力が挙げられる。本発明の文脈におけるプランジャー起動力は、例えば充填済みシリンジにおいて、シリンジバレル内でプランジャーを移動させるのに必要な最初の力である。プランジャースライド力とプランジャー起動力およびそれらの測定方法は、後続セクションでより詳細に説明する。これらの2つの力は本書内で、N、ポンド、kg、およびこれらの3つすべての単位で表される場合がある。これらの単位の相関性は以下の通りである1N0102kg02248lbs。スライド力および起動力は本書では、停止部材またはその他の閉包部を容器医療サンプル管またはバイアル内へと前進させ当該停止部材を容器内に装填して当該容器を閉口するのに必要な力を、説明するために使用されている。その使用は、シリンジとそのプランジャーの状況における使用に類似する。また、容器およびその閉包部のこれらの力の測定は、シリンジのそれらの力の測定に類似すると考察される。ただし少なくともほとんどの場合、閉包部を装填位置まで前進させる際に容器から流体が一切排出されない場合を除く。スライド可能にとは、当該プランジャー、閉包部、その他の取り外し可能部品をシリンジバレルまたはその他の容器内でスライドできる状態であることを指す。本発明の文脈において、実質上固定とは、いかなる当該組立部品も互いに大幅に位置を変えることなしに、当該組立部品以下でさらに説明するポート、ダクト、筺体を1つのユニットとして移動可能であることを意味する。具体的には、ホースまたは通常の使用において当該部品同士の実質的な相対的移動を引き起こす類似部材により、接続されている部品はないということである。実質上固定状態のこれらの部品の提供により、当該容器ホルダー上の装填済み容器の位置が、当該筺体に固定されているこれらの部品の位置とほぼ同様に既知かつ正確であることが可能となる。説明セクション本発明の一実施例は、容器80、容器268、停止部材282、シリンジ252などの基板上に、90などの被覆材を塗布する方法である。当該方法は、あらゆる開示実施例で利用可能である。当該方法は、基板の提供例えば、前述の実施例のいずれかのもの、気化可能有機ケイ素前駆体の提供例えば、本明細書で開示されているいずれかのもの、化学蒸着による当該前駆体の当該基板への塗布を含む。当該前駆体は、段落002で引用されたEP用途の、図2、26の装置において、または被覆材を有効に生成する条件であるその他の実施例において、塗布される。ガス状反応物質または処理ガスは、例えば潤滑性被覆材が生成される場合は、以下の標準体積を利用可能である1~6の標準体積の、随意に2~4の標準体積の、随意に6以下の標準体積の、随意に25以下の標準体積の、随意に15以下の標準体積の、随意に125以下の標準体積の当該前駆体、1~100の標準体積の、随意に5~100の標準体積の、随意に10~70標準体積の搬送ガス、01~2の標準体積の、随意に02~15の標準体積の、随意に02~1の標準体積の、随意に05~15の標準体積の、随意に08~12の標準体積の酸化剤。別の実施例は、例えば図7の実施例286の被覆材、または、いずれかの実施例における前述処理により生成される種類と同等の被覆材である。別の実施例は、容器80、容器268、シリンジ252などの基板を定義する表面により定義される内腔を含む容器である。被覆材は、当該基板の少なくとも一部に存在する。当該被覆は、先に定義済みである処理により行なわれる。さらなる別の実施例は、図11の装置28といった、被覆材を基板に塗布するための化学蒸着装置である。図12は、本発明の模範的実施例に記載の容器処理システム20を示す。容器処理システム20は、とりわけ、第1処理ステーション5501からなり、さらに第2処理ステーション5502からなる場合とならない場合がある。かかる処理ステーションの実施例は、例えば、図1の参照数表示で描写される。当該第1容器処理ステーション5501は、装填済み容器80を把持する容器ホルダー38を含む。図12に血液管80が描写されているが、当該容器はシリンジ本体、バイアル、カテーテル、または例えばピペットである場合がある。当該容器は、例えばガラス製またはプラスチック製である場合がある。プラスチック容器の場合、当該第1処理ステーションはまた当該プラスチック容器をモールドするためのモールドからなる場合がある。当該第1処理ステーションでの第1処理当該処理は、当該容器のモールド、当該容器の欠陥検出のための第1検査、当該容器内面の被覆、および当該容器、特に当該内部被覆材の欠陥検出のための第2検査からなるの後に、当該容器ホルダー38を当該容器82と共に第2容器処理ステーション5502に搬送する。この搬送は、コンベヤー装備70、72、74により実行される。例えば、当該容器ホルダー複合体を次の処理ステーション5502に移動させるため、当該容器ホルダー38およびまたは当該容器80を把持する1つの把持部または複数の把持部を用意する場合がある。あるいは、当該把持部なしで当該容器を移動する場合がある。しかし、当該把持部を適合すると当該コンベヤー装備による搬送が可能となるため、当該把持部と当該容器を共に移動することは有利である場合がある。図13は、本発明の別の模範的実施例に記載の容器処理システム20を示す。ここでも、2つの容器処理ステーション5501、5502を用意する。さらに、追加の容器処理ステーション5503、5504を連続して配備し、当該容器を処理、すなわち検査およびまたは被覆できるようにすることが可能である。容器は、ストックから左側の処理ステーション5504へと移動可能である。あるいは当該容器は、第1処理ステーション5504でモールド可能である。どちらの場合も、モールド、検査およびまたは被覆次に第2検査を行う場合があるといった第1容器処理は、当該処理ステーション5504で実行する。その後、当該容器を次の処理ステーション5501に当該コンベヤー装備70、72、74経由で移動する。一般に、当該容器は当該容器ホルダーと共に移動する。第2処理を当該第2処理ステーション5501で実施し、その後、当該容器と把持部を第3処理を実施する次の処理ステーション5502へと移動する。当該容器をその後再び当該把持部と共に、第4処理のために当該第4処理ステーション5503に移動し、その後保管するために搬送する。当該容器を処理する各被覆手順またはモールド手順またはその他の手順の前および後に、当該容器全体の、当該容器の一部の、および特に当該容器の内面の検査を実施する場合がある。各検査の結果を、中央処理装置5505にデータバス5507経由で送信する。各処理ステーションを当該データバス5507と接続する。先に説明したプログラム要素はプロセッサ5505上で実行される場合があり、中央制御調整装置の形態に適合される場合がある当該プロセッサは、当該システムを制御する、さらには、検査データを処理し、当該データを分析し、最後の処理手順が成功であったかどうかを判定するよう適合される場合がある。例えば当該被覆材に孔があるため、または当該被覆材の表面が標準でありまたは十分に平滑でないため、最後の処理手順が不成功であったと判定される場合、当該容器は次の処理ステーションに進むことなく当該製造工程コンベヤーセクション7001、7002、7003、7004から除去されるか、再処理するために返送される。当該プロセッサ5505は、制御調整パラメータを入力するためのユーザーインターフェース5506に接続する場合がある。図14は、本発明の模範的実施例に記載の容器処理ステーション5501を示す。当該ステーションは、当該容器内面を被覆するためのPECVD装置5701からなる。さらに、容器検査用の複数の検出器5702~5707を用意する場合がある。かかる検出器は、例えば電気計測を実施する電極、光学検出器、CCDカメラ類、ガス検出器、または圧力検出器である場合がある。図15は、本発明の模範的実施例に記載の容器ホルダー38と共に、複数の検出器5702、5703、5704およびガス吸入ポート108、110を有する電極を示す。当該電極と当該検出器5702は、当該容器が当該把持部38に装填済みである場合、当該容器80の内腔に移動するよう適合される場合がある。例えば当該装填済み容器80の外部に配置される光学検出器5703、5704を利用して、またはさらには当該容器80の内腔内に配置される光学検出器5705を利用して、特に被覆手順中に、当該光学検査を実施する場合がある。当該検出器はカラーフィルターからなる場合があり、異なる波長を当該被覆処理中に検出可能である。当該処理装置5505は当該光学データを分析し、当該被覆が成功であったか所定の確実性レベルに達していないかどうかを判定する。当該被覆材がおそらく不成功であったと判定される場合、それぞれの容器を当該処理システムから隔離する、または再処理する。また図11を参照に、当該化学蒸着装置には、有機ケイ素前駆体供給源貯留層588など、搬送ガス供給源602など、酸化剤供給源594が含まれる。当該化学蒸着装置にはさらに、1~6の標準体積の当該前駆体、5~100の標準体積の当該搬送ガス、01~2の標準体積の当該酸化剤からなるガス状反応物質または処理ガスを、当該基板へと搬送するための1つ以上の導管導管108、586、590、604、596などが含まれる。当該化学蒸着装置にはさらに、マイクロ波または無線周波エネルギー供給源162、および当該ガス状反応物質または処理ガス内でプラズマを生成するための、当該マイクロ波または無線周波エネルギー供給源による電力適用装置または電極160などが含まれる。さらなる別の実施例は、プランジャー258、バレル250、内面264上の被覆材からなるシリンジ252などである。当該バレル250は容器であり、当該容器内腔274を定義し、スライドする当該プランジャー258を収受する内面264を有する。当該容器の内面264は基板である。当該被覆材は、当該基板264、当該プランジャー258、両方の上の潤滑層であり、化学蒸着により塗布され、1~6の標準体積の有機ケイ素前駆体、5~100の標準体積の搬送ガス、01~2の標準体積の酸化剤からなる当該ガス状反応物質または処理ガスを利用する。この潤滑性被覆材に加えて、当該シリンジは1つ以上のその他の被覆材本書で説明するSiOx遮断性被覆材などを含む場合がある。前述の追加被覆材は、当該潤滑性被覆材の下または上に塗布される場合がある被覆基板付近またはシリンジ内腔付近など。ガラスシリンジからプラスチックシリンジに切替える際の懸念事項は、プラスチックからの浸出物に関するものに集中している。HMDSO自体は微量金属を一切含んでおらず、無機質、金属、有機溶質遮断材として機能するため、これらの物質の基板からシリンジの流体への浸出を防止する。プラスチックシリンジの浸出の制御に加えて、同一のプラズマ被覆技術は、浸出物性レベルがより高い有機オリゴマーや触媒を含有するプラスチック組成物であるエラストマープラスチック組成物であることが通常なプランジャー端部に、溶質遮断性を提供する可能性がある。さらには、合成および生物学的な製剤処方を充填した特定のシリンジは、酸素と湿度の影響を非常に強く受ける。ガラス製シリンジバレルからプラスチック製シリンジバレルへの切替えにおける最重要要素は、プラスチックが酸素および湿度を遮断する機能の向上であろう。酸素および湿度から保護するSiOx遮断性被覆材を提供できる、プラズマ被覆技術が適している。また別の実施例は、ピストン、被覆材、およびプッシュロッドを含むシリンジ252用のプランジャー258である。当該ピストンは前面、通常シリンダー状である基板からなる側面、後部を有する。当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定する。当該被覆材は基板上にあり、側面と接合する潤滑層である。当該潤滑層は、先に定義したガス状反応物質または処理ガスを利用する、化学蒸着処理により生成される。当該プッシュロッドは当該ピストン後部と係合し、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定される。別の実施例は、282などの停止部材である。当該停止部材282には、基板を定義し、停止されるべき開口部内に収受されるよう適合される、スライド表面276が含まれる。当該基板は、有機ケイ素化合物からなる前駆体の提供、および上記で定義されるガス状反応物質または処理ガスを利用する化学蒸着による当該スライド表面の少なくとも一部に当該前駆体の塗布により生成された、潤滑性被覆材288で被覆されている。さらなる別の実施例は、前述実施例のいずれかで定義される基板上に前述実施例のいずれかで定義される被覆材を有する容器を含む、医療診断キットである。随意に、当該キットにはさらに、当該被覆材と接触する当該被覆容器に包含される薬剤または診断薬、およびまたは皮下注射針、両頭針、またはその他の搬送導管、およびまたは使用説明書が含まれる。本発明のその他の態様には、以下の1つ以上が含まれる表面を被覆するための上述で説明したいずれかの実施例に記載の、したがって、当該被覆材と接触する化合物または組成物の表面の機械的およびまたは化学的作用を防止するまたは低減させる、当該被覆材の使用法。潤滑層として、説明したいずれかの実施例に記載の当該被覆材の使用法。当該被覆材と接触する化合物または組成物の、非被覆容器の表面の機械的およびまたは化学的作用からの保護について説明した、いずれかの実施例に記載の、当該被覆材の使用法。当該被覆材と接触する組成物の化合物または成分の、沈殿およびまたは凝固あるいは血小板活性化の防止または低減について説明した、いずれかの実施例に記載の、当該被覆材の使用法。1つのオプションとして、当該組成物の化合物または成分物はインスリンであり、当該インスリンの沈殿が防止または低減される。別のオプションとして、当該組成物の化合物または成分物は血液または血液分画であり、血液凝固または血小板活性化が防止または低減される。別のオプションとして、当該被覆容器は採血管である。随意に当該採血管は、例えばエチレンジアミン四酢酸、そのナトリウム塩、またはヘパリンなどの、血液凝固または血小板活性化を防止するための溶剤を含む場合がある。本発明の利用の追加オプションには、以下の1つ以上が含まれる例えば検体採取管といった容器、例えば採血管およびまたは閉口端検体採取管バイアル導管キュベットまたは容器部品、例えば停止部材またはシリンジまたはシリンジ部品、例えばバレルまたはピストンなどの、化合物または組成物の収受およびまたは保管およびまたは供給を説明した、実施例のいずれかに記載の、被覆基板の使用法。前述実施例のいずれかに記載の被覆基板は、インスリン保管のため使用されることが考察される。前述実施例のいずれかに記載の被覆基板は、血液保管のため使用されることが考察される。随意に当該保管血液は、患者の血管系へと戻すことが可能である。前述実施例のいずれかに記載の被覆材は、非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑層、およびまたは非被覆表面より疎水性が高い疎水層として使用されることが考察される。本発明のその他の態様は、要約セクションにおいて上記で定義される使用法のいずれかを含む。以下に、本発明のより詳細な説明を示す。本発明の潤滑性被覆材および疎水性被覆材の一般的説明から始まり、本発明の被覆材の生成に適した装置を説明し、その後、被覆材の実施例、被覆容器、それらの製造方法を説明する。IA潤滑性被覆材非経口製剤を供給するよう設計された装置は、当該製剤を当該装置から押し出すための動作可能なエラストマー製プランジャーを有する。プランジャーには多くの場合、当該プランジャーを容易に動かすための潤滑性表面が提供されている。遊離シリコン油は従来、潤滑性表面を創り出すために利用されているが遊離油はタンパク質の凝集および変性に関与している。低分子量ポリジメチルシロキサンであるシリコン油は、ガラス表面およびプラスチック表面を潤滑にするための従来の主要方法であり、エラストマー製プランジャーとの相性に優れている。通常、当該装置の内部に噴霧または塗布される。これらの方法では、シリコン油の薄い流体層を付着させる。焼き工程を通して当該油を当該装置表面に恒久的に付着させる試みにより、付着性は向上するが、シリコン油抽出物はなおも見られる。装置上のシリコン油の不均一性が問題となり、シリンジの破損、自動注入装置利用時の投薬失敗に繋がる場合がある。シリコン油の不均一性は当該油の不適切なまたは不良な塗布により発生し、重力の影響およびプランジャーからの圧力を受けて時間と共に沈降浮遊する。プランジャーを当該装置へと真空状態に位置付けると、当該プランジャーは機器上部から下部の当該プランジャーの最終装填位置へとシリコン油を押し出す図3Aを参照。当該プランジャーの肋材と当該装置のガラス表面との間のシリコン油は、時間の経過と共に、当該プランジャーの圧力を受けてプランジャーとシリンジ壁から浸出する。さらにはシリコン油は、当該油の分布を変化させる重力を受けて、沈殿または浸出することが明らかになっている。図3A~3Cは、シリコン油の不均一性の例を示す。シリコン油の不均一性は、蓄積油への製剤の局所的曝露、高いブレークルース力、変化するグライド力が原因の当該装置の非円滑な動作などを含む、さまざまな問題に関与する。変化するグライド力および高いブレークルース力は特に、自動注入装置の場合に問題となる。なぜなら、既知かつ一定の力で動作するよう設計されているからである。本発明の潤滑性被覆材は、均一かつ強く付着された被覆材を作り出すプラズマから生成される。これは、ぬれ張力、プランジャー力、抽出物、浸出物を比較する、既存の潤滑性手法と比較して優れた性能を有する。本発明の潤滑性被覆材は、プラズマを生成するために有機ケイ素前駆体、酸素、高周波、荷電電極を通常利用する、PECVD処理を利用して堆積される。理論によって拘束されることなく、使用圧力と電力において当該プラズマ処理は、電子衝撃イオン化により引き起こされると確証される。すなわち、当該電子が本化学反応の裏にある駆動力であると確証される。当該処理は高周波を利用して電子を励起し、その結果、プラズマ内で電子にエネルギーを付加するその他の標準的方法である、マイクロ波より低温度となる。高エネルギー電子および当該ガスのイオンの混合物を含有する当該プラズマは、ケイ素および酸素および当該ケイ素に付着するメチル基を含有する被覆材を堆積する。高エネルギー電子が、当該基板表面および、当該表面と当該OMCTSからのケイ素酸素メチル種との間の結合再形成を活性化する。共有結合され均一かつ継続的な被覆材が、当該表面に堆積される。当該被覆材はプラズマから堆積されるため、当該プラズマは当該容器内に分子レベルで均一に充填されるため、均一組成被覆材が得られると確証される。当該潤滑性被覆材は本質的に、ケイ素、酸素、メチル基からなる。AFM、FTIR、TOFSIMS、XPS、および走査電子顕微鏡法により、純度および均一性が確認されている。当該ぬれ張力測定の精度は、3ダインcmである。前述の表Iは、SiOxCyHz潤滑性被覆材で被覆されたCOCシリンジ、シリコン油で被覆されたホウケイ酸ガラスシリンジおよび、Triboglide被覆材で被覆されたCOC容器で測定されたぬれ張力を示す。30ダインcmのぬれ張力は非常に疎水性であると見なされ、70ダインcmのぬれ張力は非常に親水性であると見なされる。したがって、3種類の表面はすべて、相当の疎水性を示す。本発明の潤滑性被覆材は、シリコン油と同様の疎水性を示すが、Triboglideよりは劣っている。発明の潤滑性被覆材はまた、SiOx遮断性被覆材上に塗布可能である。これは、SiO2層上の潤滑性被覆材のTEM画像を含む、図21に示されている。模範的潤滑性被覆材の抽出物特性の判定は、実施例Zで説明されている。当該潤滑性被覆材は、好ましくはシリコン油で被覆されるガラスシリンジより抽出物が少なく、通常は後者より10未満抽出物が少ない。概して、当該潤滑性被覆材抽出物の量は1~500μgLの範囲であり、好ましくは5~300μgLの範囲である。通常、判定の静的方法に基づき、80~300μgLの範囲である場合がある。当該潤滑性被覆材は被覆表面に付着するため、当該被覆材は時間が経過しても均一のままとなり、再生可能なブレークルース力およびグライド力が維持される。模範的なブレークルース力およびグライド力を表IIに示す。当該潤滑性被覆材は随意に、一定のプランジャー力を提供し、ブレークルース力とグライド力との間の差を低減させる。これらの2種類の力は、潤滑性被覆材の有効性に関する重要な性能測定値である。FiおよびFmは低いことが望ましいが、低すぎる値は望ましくない。Fiが低すぎるということは抵抗のレベルが低すぎることを意味し、時期尚早な意図しない浸出が起こり、充填済みシリンジの内容物の予期しない早発重合または制御不能な排出につながる可能性がある。十分な潤滑性を得るには、以下のFiおよびFmの範囲を有利に維持するべきである。Fi5ポンドに対し25、好ましくは49ポンドに対し27、特に47ポンドに対し29、Fm80ポンドに対し25、好ましくは76ポンドに対し33、特に4ポンドに対し33。さらなる有利なFi値およびFm値は、当該実施例の表を参照のこと。当該実施例から、前述の範囲より低いFi値およびFm値が得られる場合が見られる可能性がある。かかる低い値を有する被覆材もまた、本発明に包含されると見なされる。表IIは、本発明に記載の潤滑性被覆材をシリコン油およびTriboglide潤滑性被覆材と比較したものである。当該結果により、好ましい潤滑性被覆材はFiとFmとの間の一定性に優れていることが示される。ブレークルース力およびグライド力は、装置の保存可能期間を通して、特に自動注入装置といった自動機器において重要である。ブレークルース力およびまたはグライド力の変動は、自動注入装置の投薬失敗に繋がる可能性がある。本潤滑性被覆材は随意に、シリコン油で被覆されるシリンジと比較して、ケイ素抽出物が10分の1未満である。当該PECVD処理の間、当該潤滑性被覆材は当該シリンジへと結合する。これにより、劇的に抽出物が低下する。処理の最適化により、当該潤滑性被覆材からのケイ素抽出物総量はさらに低下する場合がある。本発明に記載の潤滑性被覆材は通常、有機ケイ素前駆体およびO2を利用するPECVDにより生成される。特殊な実施例においてこれらの2種類の前駆体は搬送ガス、通常には希ガス、最も通常にはアルゴンと混合される。当該有機ケイ素前駆体は、本説明に記載のいずれかの前駆体である可能性がある。しかし環状有機ケイ素前駆体、特に単環有機ケイ素前駆体、具体的にはOMCTS、は潤滑性被覆材を得るのに特に適している。O2の存在およびまたは搬送ガス、特にアルゴンの存在により、得られる被覆材の潤滑性が増大する場合がある。O2とアルゴンの両方が当該有機ケイ素前駆体と共に存在する場合、特に有利である。通常潤滑性被覆材を得るためには、O2は当該有機ケイ素の量をあまり超えない量、好ましくは当該有機ケイ素より少ない量であることが示される。対照的に、遮断性被覆材を得るためには、O2の量は通常、有機ケイ素前駆体の量より少なくとも1段階高くなる。特に、潤滑性被覆材の有機ケイ素前駆体に対するO2の体積比は、01~11であり、さらに随意に01~051、さらに01~011である。ある程度O2が存在していることが望ましく、当該有機ケイ素前駆体に対して随意に0011~051、さらに随意に0051~041、特に011~021の量が望ましい。当該O2の存在を量で表すと、当該有機ケイ素前駆体に対して約5~35であり、特に約10~20であり、さらには本実施例で示す比率であることが、特に潤滑性被覆材を得るのに適している。本発明の一態様において、搬送ガスは反応混合物内に存在せず、本発明の別の態様では存在する。本発明の特定の態様では当該搬送ガスは存在し、それはアルゴンである。アルゴンが当該搬送ガスである場合、それは当該反応混合物内に存在し、通常は当該有機ケイ素前駆体の量を超える量で存在する。通常、当該PECVD処理において当該プラズマはRF周波数で生成される。当該プラズマは通常01~25Wの電力で生成され、随意に1~22W、随意に1~10W、随意に1~5W、随意に2~4W、例えば3W、随意に3~17W、随意に5~14W、例えば6または75W、随意に7~11W、例えば8Wで生成される。電極電力のプラズマ量に対する比率は、10ml未満、随意に5ml~01ml、随意に6Wml~01Wml、随意に4Wml~01Wml、随意に2Wml~02Wmlである場合がある。低い電力レベルは、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1~3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性被覆材の塗布に適している。より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。当該潤滑性被覆材の基板は通常、プラスチック製の表面である。通常のプラスチック製基板については、本説明内に記載されている。本発明の文脈において特に適した基板はCOC、PET、ポリプロピレンであり、具体的にはCOCが適している。本発明のの特殊な態様において、当該基板は、SiOx遮断性被覆材などの被覆材ですでに被覆されているプラスチックである。前述の既存の被覆材上に、当該潤滑性被覆材が塗布される。またはその逆に、当該潤滑性被覆材は、遮断性被覆材などの別の被覆材で被覆される場合もある。本発明の非常に特殊な態様において、当該潤滑性は、当該潤滑性被覆材の粗度により影響を受ける。驚くべきことに当該被覆材の粗表面は、強化された潤滑性と相関していることが明らかになっている。当該潤滑性被覆材の粗度は、当該プラズマを加圧する電力を低減させること、および先に説明した量内のO2の存在により、増加する。本発明に記載の潤滑性被覆材により被覆される容器は、非被覆容器より高い潤滑性を有する。これらはまた、本書に記載のSiOx被覆材で被覆される容器より高い潤滑を有する。直径18インチの管を有する3mlの検体サイズシリンジで、本発明に記載の潤滑性被覆材を生成する模範的反応条件は以下の通りである流量範囲:OMCTS0550sccm酸素0150sccmアルゴン1020sccm電力0110ワット特定流量率OMCTS20sccm酸素07sccmアルゴン70sccm電力35ワット当該被覆材装置は有利に、加熱された管路供給を、OMCTS貯留層排出部からシリンジへのガス吸入部へと、できる限り接近させることが可能である。当該潤滑性被覆材は、以下のVCでより詳細に説明する。IB疎水性被覆材ケイ素は炭素と同様四価であり、したがって4つ合わさって結合することを好む。ガラスでは、ケイ素は酸素と結合して、それがまた別のケイ素と結合して、その結果SiO2ポリマーとなる。シロキサン結合のネットワークが構成され、シリカを生成する。シリカの表面には、その他のケイ素原子と結合していない酸素原子が、シラノールとして知られるヒドロキシル基として存在している。ガラス表面の末端基は、したがって、1つ以上のOH基またはシロキサン結合を有するシラノールである。本書に記載のSiOx被覆材といった結晶シリカ表面に、孤立シラノールが見られる。従来のガラスといった非晶質シリカには、孤立シラノールおよび近接シラノールの両方が見られる。理論によって拘束されることなく、この界面化学の化学的特性は主に、面上のシラノール基の密度により判定されると確証される。可能な限り最大のシラノールの密度を有する、完全にヒドロキシル化されたガラス表面は、非常に親水性である。当該シラノールが凝結してシロキサン結合を形成する表面は、疎水性の特質を有する。本書に記載の被覆材技術を利用して、当該被覆材表面上のシラノールの密度を制御可能である。プラズマ堆積の化学は、完全にヒドロキシル化した親水性表面または最低限にヒドロキシル化した疎水性表面のいずれかへと、制御可能である。以下の表IIIは、異なる4種類の製剤容器表面のぬれ張力を示したものである。20ダインcmのぬれ張力は非常に疎水性であると見なされ、80ダインcmのぬれ張力は非常に親水性であると見なされる。表IIIのデータは、当SiO2遮断性被覆材が従来のガラスと同等に親水性であることを示す。対照的に、本発明の潤滑性被覆材はCOCのものと同様に疎水性である。当該ぬれ張力測定の精度は、3ダインcmであった。本発明の文脈において疎水性とは、非被覆基板より疎水性であることを意味する。しかし図23に示すように、比較対象の疎水性表面と同等に疎水性であることを意味する場合もある。疎水性は、好ましくは60ダインcm未満のより好ましくは50ダインcm未満の、特に15ダインcm~46ダインcmまたは20ダインcm~35ダインcmの、ぬれ張力を意味する。疎水性表面被覆材のためのPECVD条件は、潤滑性被覆材の条件と同様であると考察され、実際のところ、ある被覆材が両機能を有用な程度に提供することは可能である。疎水性被覆材をSiOx被覆材に塗布する条件における差異は、SiOx被覆材プロトコルを疎水性被覆材プロトコルと比較することで示される。当該装置および当該前駆体は、これらの2つのプロトコルにおいて同一であるが、条件は異なっており、以下の模範的条件が示すように、通常疎水性被覆材についてのほうが緩やかである。パラメータSiOxプロトコル疎水性プロトコルO2流量率90sccm60sccmガス供給中の管内圧力300mトール270mトールPECVDRF電力50ワット39ワット電源ON時間5秒7秒疎水性被覆の有利な特性は、SiOx被覆材およびまたは潤滑性被覆材と同一の装置を利用して、随意に塗布可能であることである。そのためすべてのPECVD被覆材は、条件を微調整して、単一処理内で連続して塗布可能である。疎水性被覆材は、非被覆表面より低いぬれ張力を有する場合があり、随意に20~72ダインcm、随意に30~60ダインcm、随意に30~50ダインcm、30~40ダインcm、随意に34ダインcmのぬれ張力である場合がある。提案されたぬれ張力、具体低には34ダインcmのぬれ張力は、ホウケイ酸ガラス状の流体ケイ素被覆材のものと同等である。図23は、本発明に記載の疎水性被覆の作用および本発明に記載の親水性被覆材の作用を示す。容器ホルダーIIA本発明の被覆材を生成するために、容器ホルダーを用意する。当該容器処理の間、開口部を有する容器を把持および搬送するため、当該携帯型容器ホルダー38、50、および482を用意する。当該容器ホルダーは、容器ポート、第2ポート、ダクト、搬送可能筺体を包含する。IIA当該容器ポートは、相互に通過可能な状態で容器開口部を装填するよう設定される。当該第2ポートは、外気供給を受入または放出するよう設定される。当該ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器開口部と第2ポートの間で1種以上のガスを通気させるよう設定される。当該容器ポート、第2ポート、およびダクトは、当該搬送可能筺体に実質上固定状態で装着される。随意に、当該携帯型容器ホルダーの重量は5ポンド未満である。容器ホルダーを軽量化することで、1つの処理ステーションから次の処理ステーションへとより容易に搬送可能となる。IIA当該容器ホルダーの特定の実施例において、当該ダクトはより具体的には、真空ダクトであり、そして当該第2ポートは、より具体的にには真空ポートである。当該真空ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器内部から容器ポート経由でガスを吸引するよう設定される。当該真空ポートは、当該真空ダクトと外部真空源の間の通過が可能となるよう設定される。当該容器ポート、真空ダクト、および真空ポートは、当該搬送可能筺体に実質上固定状態で装着可能である。IIA当該容器ホルダーは、例えば図1に示される。当該容器ホルダー50は、設定容器80の開口部を収受し装填するよう設定される容器ポート82を有する。装填済み容器80の内面は、容器ポート82経由で処理可能である。当該容器ホルダー50は、容器ポート92には装填済みの容器80からガスを引き出すための、例えば真空ダクト94といったダクトが含まれる。当該容器ホルダーには、当該真空ダクト94と外部真空源、例えば真空ポンプ98の間を通過する第2ポート、例えば真空ポート96が含まれる。当該容器ポート92および真空ポート96は封止素子、例えばオーリング隣接密閉部それぞれ100および102を有する、または当該容器ポート82のシリンダー状の内外壁と当該容器80のシリンダー状の内外壁の間の側密閉部を有する場合があり、それにより当該容器80または外部真空源98と共に密閉部を収受し成形しながら、当該ポートを通しての通過を可能とする。ガスケットまたはその他の密閉装備もまた、使用可能である。IIA当該容器ホルダー50などはあらゆる素材、例えば熱可塑性素材およびまたは非導電性素材で作成可能である。または、当該容器ホルダー50などは、一部をまたは大部分を導電性素材から作成可能であり、例えば当該容器ポート92、真空ダクト94、および真空ポート96より定義される当該経路において非導電素材と対面させることが可能である。当該容器ホルダー50に適切な素材の例は以下の通りポリアセタール例えばデラウェア州ウィルミントンのEIduPontDeNemoursandCompanyが販売するDelrin商標アセタールl素材、ポリテトラフルオロエチレンPTFE例えばデラウェア州ウィルミントンのEIduPontDeNemoursandCompanyが販売するTeflon商標PTFE、超高分子量ポリエチレンUHMWPE、高密度ポリエチレンHDPE、またはその他の当技術分野で既知のまたは新開発された素材。IIA図1により、当該容器ホルダー50などが、当該ポート92上に接近するまたは装填済みである当該容器80をセンタリングするための、カラー116を有する場合があることも図示される。図10は、例えばその他いずれかの図の実施例と併用可能な、容器ホルダー482の別の構造である。当該容器ホルダー482は、結合部488で結合する上部484および底部486からなる。密閉部、例えばオーリング490当該リングの右側はそれを保持する当該ポケット部を説明するよう切除されているは、当該結合部488にある当該上部484と当該底部486の間で拘束される。図示する当該実施例において当該オーリング490は、当該上部484が当該底部486へと結合する場合に当該オーリングを位置付けるために、溝付き釘ポケット部492内に収受される。IIB本実施例において当該オーリング490は、この場合当該ネジ498および500により捕捉され、当該上部484および当該底部486が結合する場合に、当該ポケット部492の一部を定義する当該放射状に伸延する壁496および放射状に伸延する当接部表面494を支持する。当該オーリング490はしたがって、当該上部484と底部486の間に装填される。当該上部484と底部486の間に捕捉される当該オーリング490はまた、当該容器80その他の特徴図示を明確にするため本図においては省略を収受し、当該容器後開口部のオーリング密閉部装備に類似している、当該容器80開口部の当該容器ポート502の第1オーリング密閉部を成形する。IIB本実施例において、必須ではないが、当該容器ポート502は第1オーリング490密閉部と第2軸方向乖離オーリング504密閉部の両方を有し、どちらも当該容器ポート502と容器80などの間を密閉するための容器80などの側壁に類似している外径を収受するサイズの内径506などを有する。当該オーリング490および504の間の空間により、軸方向に乖離する2つの地点で容器80などの支持体が提供され、当該容器80などの当該オーリング490および504または当該容器ポート502による歪曲を防止する。本実施例において、必須ではないが、当該放射状に伸延する当接部表面494は、当該オーリング490および506密閉部および真空ダクト508の周囲の近位部に位置する。容器ホルダーに装填済みの容器の処理IIIA図1は容器80を処理する方法を示す。当該方法は以下の通り実行可能である。IIIA開口部82および内面88を定義する壁86を有する容器80を用意可能である。一実施例として、当該容器80をモールド22など内で成形し、その後除去することが可能である。随意に、当該モールドからの容器の除去後60秒以内、30秒以内、25秒以内、20秒以内、15秒以内、10秒以内、5秒以内、3秒以内、1秒以内に、または処理中に歪曲されることなし高温で製造され漸進的に冷却されると想定に当該容器80を除去した直後に、当該容器開口部82を該容器ポート92上に装填可能である。当該容器80を当該モールド22から当該容器ポート92へと迅速に移動させることで、当該表面88に付着する粉塵またはその他の不純物を削減し、遮断膜またはその他の種類の被覆材90への付着を遮蔽または防止する。また、製造後すぐに当該容器80に真空を引くほど、粒子状不純物が当該内面88に付着する可能性を低下させることができる。IIIA容器ポート92からなる容器ホルダー50などを用意可能である。当該容器80の開口部82は、容器ポート92上に装填可能である。当該容器80の開口部82を当該容器ポート92上に装填する前、最中、後に、例えば図6内の当該容器ホルダー40などを搬送して1つ以上の当該支持面220~240と係合させ、当該処理機器またはステーション24などに関して当該容器ホルダー40を位置付けることが可能である。IIIA当該装填済み容器80の内面88を第1処理ステーションにおける容器ポート92経由で処理可能であり、1つの例として、図2で示す遮断膜塗布またはその他の種類の被覆材塗布の被覆ステーションである場合がある。当該容器ホルダー50および装填済み容器80は、第1処理ステーション28から第2処理ステーション、例えば処理ステーション32へと搬送される。IIIA上記方法のいずれも、第2処理ステーションまたは機器における当該装填済み容器80の内面88の処理の後に、当該容器ホルダー66などから当該容器80を除去する、さらなる手順を含む場合がある。IIIA上記方法のいずれも、当該除去手順の後に、開口部82および内面88を定義する壁86を有する第2容器80を提供する、さらなる手順を含む場合がある。当該第2容器80などの開口部82を、別の容器ホルダー38などの容器ポート92上に装填可能である。当該装填済み第2容器80の内面を、第1処理ステーションまたは機器24などにおける容器ポート92経由で処理可能である。当該容器ホルダー38などおよび装填済み第2容器80は、第1処理ステーションまたは機器24から第2処理ステーションまたは機器26などへと搬送可能である。容器製造のためのPECVD装置IVA容器ホルダー、内部電極、反応チャンバとしての容器を含むPECVD装置IVA本発明の実行に適したPECVD装置は、容器ホルダー、内部電極、外部電極、電力供給を含む。当該容器ホルダーに装填済みの容器は、随意に真空チャンバである、プラズマ反応チャンバを定義する。随意に、真空源、反応性ガス源、ガス供給装置、またはこれら2つ以上の組合せを用意可能である。随意に、必ずしも真空源をを含まないガス排出管を提供し、当該ポートに装填済みの容器内部からへとガスを移送して閉口チャンバを定義する。IVA当該PECVD装置は外気圧PECVDのために使用可能であり、その場合、当該プラズマ反応チャンバは真空チャンバとして機能する必要はない。IVA図1において、当該容器ホルダー50は当該容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送するためのガス吸入ポート104からなる。当該ガス吸入ポート104は、少なくとも1つのオーリング106または一連の2つのオーリングまたは一連の3つのオーリングにより提供されるスライド式密閉部を有し、当該密閉部はシリンダー状のプローブ108が当該ガス吸入ポート104を通して挿入される場合に当該プローブ108に対して装填可能である。当該プローブ108は、ガス供給ポートの遠位端110へと伸延するガス吸入導管である場合がある。図示する当該実施例の当該遠位端110は、1つ以上のPECVD反応物質およびその他の処理ガスを提供するために、当該容器80の奥へと挿入可能である。IVA図11は、例えば図示されたすべての実施例と併用可能な、被覆ステーション28の追加オプション詳細図を示す。当該被覆ステーション28はまた、当該圧力センサー152へと繋がる真空管路576内にメイン真空弁574を有している。手動バイパス弁578を当該バイパス管路580内に用意する。通気弁582は当該通気孔404からの流量を制御する。IVA当該PECVDガス源144からの流量は、当該メイン反応物供給管路586を通して流量を調整するメイン反応性ガス弁584により制御される。当該ガス源144の一構成要素として、有機ケイ素流体貯留層588が挙げられる。当該貯留層588の内容物は、所望の流量率を提供するのに適した長さで提供される当該有機ケイ素キャピラリー線590を通して引かれる。有機ケイ素蒸気の流量は、当該有機ケイ素遮断弁592により制御される。当該流体貯留層588のヘッドスペース614に圧力を適用し、例えば圧力管路618により当該ヘッドスペース614へと接続される圧搾空気といった圧力源616からの0~15psi0~78cmHgの範囲の圧力を適用して、気圧およびその振動に依存しない反復可能な有機ケイ素流体供給を確立する。当該貯留層588は密閉されており、当該キャピラリー接続620は当該貯留層588の底部にあり、当該ヘッドスペース614からの加圧ガスではなく純有機ケイ素流体のみが当該キャピラリー管590を流れるよう確保している。当該有機ケイ素流体は、随意に、温度、有機ケイ素蒸気生成のため当該有機ケイ素流体を蒸発させることが必須または望ましい場合は、気温以上に加熱可能である。質量流量制御装置598で制御され酸素遮断弁600が搭載される酸素供給管路596経由で、当該酸素タンク594から酸素を提供する。IVA特に図1を参照にして、当該処理ステーション28は、処理中に当該容器80内にプラズマを生成するための電界を提供するための無線周波電力供給装置162により供給を受ける、電極160を含む場合がある。この実施例において、当該プローブ108はまた導電性でありかつ接地されており、当該容器80内に対向電極を提供する。あるいはいかなる実施例においても、当該外部電極160は接地可能であり、当該プローブ108は当該電力供給装置162へと直接接続可能である。IVA図1の実施例において、当該外部電極160は、図1および2に図示するように通常シリンダー状であるか、図1に図示するように通常U字型である場合がある図2は、図1の切断線A-Aに沿った断面図の代替実施例である。各図示実施例は、1つ以上の側壁164および166などを、随意に、上端部168を有し、それらは当該容器80に近接して付帯する。IVA図1に示す電極160は、当該ページへの長さを有するU字型チャネルである場合があり、当該パックまたは容器ホルダー50は当該活性電力電極を通して当該処理被覆工程中に移動可能である。外部および内部電極が使用されているため、本装置は、電力供給装置162から当該U字型チャネル電極160に対して適用される周波数50Hz~1GHzの間で利用可能であることに、注意されたい。当該プローブ108は当該電気回路を完了させるため接地可能であり、それにより、電流が当該容器80内の低圧ガスを通るようになる。当該電流の生成するプラズマにより、当該機器の内面88の選択処理およびまたは被覆が可能となる。IVA図1に示す電極は、パルス電力供給装置を動力源電力としている場合もある。パルスにより、反応性ガスの空乏、活性化前の副産物の除去、再度の反応性ガスの空乏が可能となる。パルス電力システムは通常、当該電界および、したがってプラズマが存在する時間を決定する負荷サイクルにより特徴付けられる。電力投入時間は電源遮断時間と相対関係にある。例えば10の負荷サイクルは、当該電力が当該時間の90の間遮断されているサイクルの10の時間の電力に相当する場合がある。特定の実施例として、当該電力は01秒間投入され、1秒間遮断される場合がある。パルス電力システムは、当該遮断時間により処理時間が増加するため、任意の電力供給装置162の有効電力入力を低減する。当該システムがパルスされる場合、生成される被覆材が極めて純粋となる場合がある副産物汚染なし。パルスシステムによる別の結果として、原子層被覆材堆積ALDの可能性が挙げられる。この場合、当該負荷サイクルを調整して、当該電源投入時間により好ましい素材の単層被覆材堆積を生成可能である。本手法において、単一原子層被覆材が各サイクルで堆積されると考えられる。本アプローチにより、高度に純粋で高度に化学構造された被覆材を生成可能であるただし、ポリマー表面への堆積に必要な温度については、随意に低温100°C未満に保つものとし、および低温度被覆材は非晶質である場合がある。IVA代替の被覆ステーションは、外部電極の代わりにマイクロ波空洞部を利用している。適用エネルギーは、例えば245GHzのマイクロ波周波数である場合がある。ただし本発明の文脈においては、高周波が望ましい。V1PECVD被覆用前駆体本発明のPECVD被覆用前駆体材は、有機金属前駆体として広く定義されている。有機金属前駆体は、本明細書において、例えば炭化水素残渣、アミノカーボン残渣、オキシカーボン残渣といった有機残渣を有する、周期表の第III族およびまたは第IV族からの金属元素化合物と定義される。本書で定義する有機金属化合物には、ケイ素またはその他の第III族第IV族金属原子に直接結合する、または随意に酸素または窒素原子を通して結合する、有機部分を有するあらゆる前駆体が含まれる。関連する周期表第III族元素は、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタンであり、アルミニウムおよびホウ素であることが望ましい。関連する周期表第IV族元素は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、およびトリウムであり、ケイ素およびスズであることが望ましい。その他の揮発性有機化合物もまた考えられる。しかしながら、本発明の実行には有機ケイ素化合物が望ましい。有機ケイ素前駆体が考察され、有機ケイ素前駆体は以下の結合を少なくとも1つ有する化合物として本明細書において最も広く定義される:または直前の第1の化学構造は、酸素原子1つおよび有機炭素原子1つ有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子と結合する四価ケイ素原子である。直前の第2の化学構造は、NH結合1つおよび有機炭素原子1つ有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子と結合する四価ケイ素原子である。随意に当該有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、およびこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される。また、前述の2つの公式に当てはまらないが前駆体として考えられるものに、アルキルトリメトキシシランがある。酸素を含む前駆体例:シロキサンを使用する場合、疎水性または潤滑性被覆材を生成する条件下のPECVDから導かれる典型として推定される経験的公式は、SiwOxCyHzwは1、本公式のxは約05~約1、yは約2~約3、zは6~約9である。一方、遮断性被覆材を生成する条件下のPECVDから導かれる典型として推定される経験的公式は、SiOx本公式のxは約15~約29である。窒素を含む前駆体例:シラザンを使用する場合、推定される組成物はSiwNxCyHzである。すなわち、SiwOxCyHzにおいては定義セクションで指定した通り、OはNに置換され指標はNの原子価がOより高くなるよう2ではなく3適合される。後者の適合は通常、シロキサンにおけるw、x、y、およびzがそれに相当するaza構造の指標に対する割合に従う。本発明の特定態様において、SiwNxCyHzのw、x、y、およびzは、シロキサンのw、x、yと同様に定義されるが、水素原子数の逸脱のオプションとして扱われる。上記経験的公式を有する前駆体出発物質の一種に線状シロキサンがあり、例えば以下の公式を有する物質である:当該公式の各Rは独立して、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基から選択され、nは1、2、3、4、またはそれ以上であり、随意に2以上である。考えられる線状シロキサンのいくつかの例は、ヘキサメチルジシロキサンHMDSO、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、またはこれら2つ以上の複合体である。上記化学構造におけるNHを酸素原子に置換した類似シラザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。考えられる線状シラザンのいくつかの例は、オクタメチルトリシラザン、デカメチルテトラシラザン、またはこれら2つ以上の複合体である。VC別の種類に前駆体出発物質に単環シロキサンがあり、例えば以下の構造公式を有する物質である:当該公式のRは線状化学構造のものと同様に定義されaは3~約10であり、または当該類似単環シラザンである。考えられるヘテロ置換および非置換単環シロキサンおよびシラザンのいくつかの例には以下が含まれる:135トリメチル135トリス333トリフルオロプロピルメチルシクロトリシロキサン2468テトラメチル2468テトラビニルシクロテトラシロキサン、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTS、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、メチル333トリフルオロプロピルシクロシロキサン、以下のような環状オルガノシラザンも考えられる:オクタメチルシクロテトラシラザン、1357テトラビニル1357テトラメチルシクロテトラシラザンヘキサメチルシクロトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、デカメチルシクロペンタシラザン、ドデカメチルシクロヘキサシラザン、またはまたはこれら2つ以上の複合体。VC別の種類の前駆体出発物質に多環シロキサンがあり、例えば以下の構造公式のいずれかを有する物質である:当該公式のYは酸素または窒素である場合があり、Eはケイ素であり、Zは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。各Yが酸素である場合、それぞれの化学構造は、左から順に、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトランである。Yが窒素である場合、それぞれの化学構造はアザシラトラン、アザシルクアシラトラン、アザシルプロアトランである。VC別の種類の多環シロキサン前駆体出発物質は、経験的公式RSiO15および当該構造公式を有するポリシルセスキオキサンである当該公式の各Rは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。この種の2つの市販物質は、各RがメチルであるSSTeM01ポリメチルシルセスキオキサン、および当該R群の90がメチル、10が水素原子であるSST3MH11ポリメチルヒドリドシルセスキオキサンである。本物質は、例えばテトラヒドロフランの10溶液において入手可能である。またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。考えられる前駆体のその他の実施例には、CAS番号2288133の各Yが酸素およびZがメチルであるメチルシラトラン、メチルアザシラトラン、各Rが随意にメチルであるポリメチルシルセスキオキサンなど、当該R群の90がメチル、10が水素原子であるSST3MH11ポリメチルヒドリドシルセスキオキサンなど、またはこれらの2つ以上の複合体がある。VC上記化学構造におけるNHを酸素原子に置換した類似ポリシルセスキアザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。考えられるポリシルセスキアザンの例は、各Rがメチルであるポリメチルシルセスキアザン、および当該R群の90がメチル、10が水素原子であるポリメチルヒドリドシルセスキアザンである。またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。VC特に、本発明に記載の潤滑層被覆材のための考えられる前駆体の1つとして、単環シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。特に、本発明に記載の疎水層被覆材のための考えられる前駆体の1つとして、単環シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。特に、本発明に記載の疎水層被覆材のための考えられる別の前駆体として、線状シロキサン、例えばHMDSOが挙げられる。特に、本発明に記載の遮断性被覆材のための考えられる前駆体の1つとして、線状シロキサン、例えばHMDSOが挙げられる。VC本発明に記載のいずれかの被覆方法において、当該塗布手順は随意に、当該前駆体の気化により行われ、当該基板付近に提供される。例えばOMCTSは、当該PECVD装置への塗布前に約50°Cに加熱して気化する。V2一般的PECVD法本発明の文脈においては、以下の手順を含むPECVD法を一般的に適用する:本書で定義する前駆体からなる処理ガス、随意に酸化ガス、随意に搬送ガス、随意に炭化水素の提供、および処理ガスからのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着PECVDによる基板表面上での被覆材の形成。本書で利用する当該プラズマ被覆技術は、プラズマ促進化学蒸着に基づく。前述PECVD被覆の実行に適した方法および装置は、2010年5月12日出願のEP101627552、2010年5月12日出願のEP101627602、2010年5月12日出願のEP101627560、2010年5月12日出願のEP101627586、2010年5月12日出願のEP101627610、2010年5月12日出願の、2010年5月12日出願のEP101627578で説明されている。これらで説明するPECVD方法および装置は本発明の実行に適しており、したがって参照することにより本書に含まれる。理論によって拘束されることなく、本発明のPECVD処理において、当該被覆材は当該被覆表面へと共有結合すると仮定される。当該処理はケイ素供給源、酸素、高周波、荷電電極を利用して、当該プラズマを生成する。随意に、アルゴンといった搬送ガスが存在する場合がある。特定の用途においては、炭化水素ガスも存在する場合がある。使用圧力と電力において、当該プラズマ処理が電子衝撃イオン化により引き起こされる。すなわち、当該電子が本反応の駆動力である。当該処理はRFを利用して電子を励起し、その結果、プラズマ内で電子を加圧する従来の標準的方法マイクロ波などより低温度となる。高エネルギー電子および当該ガスのイオンの混合物を含有する当該プラズマは、ケイ素および酸化物を含有する被覆材を当該プラスチック表面へと堆積する。当該プラズマの電子は、プラズマ反応が開始されるとポリマー表面と相互に作用し、CH結合を切断して当該表面にエッチングする。適切な条件の下、これらの位置はその後、当該SiOSi主鎖が当該ポリマーと結合する、核生成点として機能すると確証される。そこから当該被覆材が成長し、最終的に均一で継続的な被覆材が当該ポリマー表面全体に生成される。当該有機ケイ素前駆体内でのケイ素炭素結合は、酸素と反応して当該メチル基とケイ素との間の結合を切断し、当該プラスチック表面または当該表面上に既存のその他のSiO基との結合を再形成する場合がある。当該被覆材はイオン化ガスであるプラズマから生成されるため、当該容器を完全に充填して占め、分子レベルにおいて密で均一かつ共形な被覆材が得られる。図21および22を参照されたい。当該被覆材の純度は、純度の高い前駆体ガスの利用により保証される。本処理により、均一で制御可能なエネルギーを有する表面が生成される。原子間力顕微鏡法、FTIR、TOFSIMS、XPS、X線電子分光法and走査電子顕微鏡法による被覆材の解析評価で、当該純度および均一性を確認可能である。当該PECVD技術の模範的な望ましい実施例は、以下のセクションで説明する。当該処理は、容器内において低圧で酸素と混合可能なケイ素含有蒸気を利用する。例えば1356MHz無線周波範囲で生成される電場を、外部電極と内部接地ガス吸入部との間にかけて、プラズマを生成する。容器被覆に使用する圧力と電力において、当該プラズマ処理が電子衝撃イオン化により引き起こされる。すなわち、当該電子が本化学反応の裏にある駆動力である。具体的に、当該プラズマはケイ素含有物ヘキサメチルジシロキサンHMDSO、またはオクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSといったその他の反応物質、などの電子衝撃イオン化により化学反応を引き起こしており、その結果、当該容器の内面に堆積される二酸化ケイ素またはSiwOxCyHz被覆材を生成している。これらの被覆材は、通常の実施例において、約20ナノメートル以上の層厚である。HMDSOは、6のメチル基がケイ素原子に結合しているSiOSi主鎖からなる。当該処理によりSiC結合が切断され、酸素と反応して二酸化ケイ素が生成される。当該被覆材は原子振動で成長するため、層厚20~30ナノメートルの密で共形な被覆材は顕著な遮断性特性を得る場合がある。当該ケイ素酸化物はガス、湿度、小型有機分子の物理的遮断材として機能し、市販のガラスより純度が高い。OMCTSにより、潤滑性または抗付着性特性を有する被覆材が生成される。これらの平均層厚は通常、SiOx遮断性被覆材の層厚より厚い例平均して30~1000nm。特定の粗度が当該潤滑性被覆の潤滑特性を強化する可能性があり、したがって、被覆材全域において層厚は有利に不均一である。しかし、均一な潤滑性被覆材もまた検討される。当該技術は複数の態様において固有である当該処理は、硬質容器を真空チャンバとして利用する。PECVDは従来、2次的真空容器を利用して、そこに部品を入れ被覆を行なっている。当該容器を真空チャンバとして利用することにより、処理装置が大幅に簡素化され、サイクル処理時間が削減され、したがって製造コストと資本が削減される。またこのアプローチにより、拡張の問題が軽減される。なぜなら拡張は、処理量要件を満たすのに必要なだけ管またはシリンジの数を増やすばかりとなるからである。当該プラズマの高周波励起により、エネルギーがイオン化ガスへと付与され、当該部品の加熱はほとんど観察されない。PECVDで通常使用されるマイクロ波励起エネルギーとは異なり、高周波は多大なエネルギーを部品自体の水分子へと付与し、選択的に当該ポリマー管またはシリンジは加熱しない。熱吸収の制御は、基板温度が上昇して、寸法上の整合性を失わせる、プラスチックガラス遷移温度に接近するのを防止するため重要である。単一層ガス遮断性被覆材当該新技術により、当該部品の内面に直接二酸化ケイ素の単一層を生成可能である。ほとんどのその他遮断性技術では少なくとも2層を必要とする。遮断性潤滑性被覆材の併用当該新技術はSiOxSiwOxCyHz被覆材を併用して、複数の性能属性を提供する。当該潤滑性被覆材はまた、遮断性被覆材で再び被覆可能である。望ましい態様における当該プラズマ堆積技術は、シンプルな製造設定を利用している。当該システムは、被覆ステーションへとから管およびシリンジを搬送するのに利用するパックに基づいている。装置とパックの接合部は重要である。なぜなら、いったん被覆材特性評価条件がパイロット規模で設定されると、全面的な生産へと移行する場合に規模はもはや問題はなく、パックの数を同一処理を通して増やすだけであるからである。当該パックは、ポリマー素材から製造され、電気的に絶縁された底部を持つ。当該容器は、大きいほうの開口部をオーリングに対して密閉するよう、当該パックへと装着される。当該オーリングは、当該部品と当該パックとの間に真空密閉部を提供するため、大気が取り除かれ、当該処理ガスが導入される。当該パックは、当該オーリング密閉部に加え、いくつかの主要機能を有する。当該パックは、真空ポンプ真空ポンプへの接続手段、当該ガス吸入部を当該部品へと正確に位置合わせする手段、および真空密閉部を当該パックとガス吸入部の間に提供する手段を提供する。SiO2堆積については、HMDSOと酸素ガスが、当該接地ガス吸入部を通して当該容器内に入れられ、当該部品内へと拡張する。この時点で、当該パックおよび容器は電極エリアへと移動される。当該電極は導電性素材で構成されており、当該部品が通るトンネルを提供する。当該電極は当該容器または当該パックには物理的に接触しておらず、個別に支持されている。RFインピーダンス一致ネットワークおよび電力供給装置が、当該電極へと直接接続される。当該電力供給装置は、エネルギーを当該インピーダンス一致ネットワークへと提供する。当該RF一致ネットワークは、当該電力供給装置の出力インピーダンスを当該イオン化ガスの複素インピーダンスと一致させるよう機能する。当該一致ネットワークは、当該イオン化ガスへの電力供給を最大化して、二酸化ケイ素被覆材の堆積を確保する。当該容器の被覆が済むと、当該ガスは停止され大気が当該パック容器の内部へと入り、大気圧が回復される。この時点で、当該容器は当該パックから取り外し可能となり、次の処理ステーションへと移動される。上記は明確に、開口部が1つのみの容器を被覆する手段を説明している。シリンジは、当該パックへの装着前および後に、追加の手順を必要とする。シリンジは両端に開口部を有するため、当該針端部は被覆前に密閉されなければならない。前述処理により、反応ガスが当該プラスチック部品内へと入り当該部品内に電流が通り、当該部品内でプラズマが生成される。当該プラズマが、当該化学反応および当該プラズマ被覆材の堆積を引き起こす主体である。当該方法において、当該被覆材特性は有利に、以下の1つ以上の条件により設定される当該プラズマの特性、当該プラズマ適用時の圧力、当該プラズマ生成のために適用する電力、当該ガス状反応物質内のO2の存在および相対量、当該ガス状反応物質内の搬送ガスアルゴンなどの存在および相対量、当該プラズマの量、当該有機ケイ素前駆体。随意に、当該被覆材の特性は、当該ガス状反応物質内のO2の存在および相対量、およびまたは当該ガス状反応物質内の搬送ガスアルゴンなどの存在および相対量、およびまたは当該プラズマ生成のために適用する電力により設定される。本発明のすべての実施例において、当該プラズマは、随意の態様で、特にSiOx被覆材を生成する場合に、非ホロー陰極プラズマである。別の随意の態様において、特に潤滑性被覆材を生成する場合に、ホロー陰極プラズマが見られる。さらに望ましい態様において、プラズマは環境気圧または大気圧と比較して減圧下で生成される。随意に、当該減圧は300mトール未満、随意に200mトール未満、さらに随意に100mトール未満である。当該PECVDは、随意に当該前駆体を含むガス状反応物質を、マイクロ波または無線周波、随意に無線周波の周波数を動力源とする電極で加圧することで実行される。本発明の実施例の実施に望ましい当該無線周波数は、RF周波数とも呼ばれる。本発明の実行における通常の無線周波数範囲は、10kHz~300MH未満、随意に1~50MHz、さらに随意に10~15MHzの周波数である。1356MHzの周波数が最も望ましく、これはPECVD作業実施に関する政府認可の周波数である。マイクロ波源と比べ、RF電力源を使用する場合の利点がいくつかあるRFは低電力で動作するため、当該基板容器の加熱度が減少する。本発明の焦点はプラズマ被覆材をプラスチック基板上に被覆することであるため、当該基板の溶解歪曲を防止するため低温の処理温度が望ましい。マイクロ波PECVD使用時は基板の過熱防止のため、当該マイクロ波PECVDをパルス電力による短時間噴出で塗布する。当該電力パルスにより、当該被覆材のサイクル時間が延び、これは本発明において好ましくない。またより高周波のマイクロ波は、当該プラスチック基板に残存水、オリゴマー、その他の物質といった揮発性物質のオフガスを引き起こす場合がある。このオフガスは、当該PECVD被覆を阻害する恐れがある。PECVDのためのマイクロ波使用における最大の懸念は、当該被覆材の当該基板からの剥離である。剥離は、当該被覆層堆積前に当該マイクロ波が該基板表面に変化を及ぼすことが原因で発生する。剥離の可能性を低減するため、当該被覆材と当該基板の間の良好な結合を達成する、マイクロ波PECVD用の界面被覆層が開発されている。RFPECVDには剥離の恐れはないため、かかる界面被覆層被覆材は必要ない。最後に、本発明に記載の当該潤滑層被覆材および疎水層被覆材は、有利に低電力を使用して塗布される。RF電力は低電力で動作し、当該PECVD処理に対する制御において、マイクロ波電力より優れている。それにもかかわらず、マイクロ波電力は、望ましさの点では劣るが、適切な処理条件下で利用可能である。さらには、本明細書に記載のすべてのPECVD法について、プラズマ生成に使用する電力単位:ワットとプラズマが生成される内腔の容量との間に、特定の相関関係が認められる。一般に当該内腔は、本発明に従い被覆される容器の内腔である。当該RF電力は、同一電極システムを利用する場合、当該容器の容量で計測するべきである。当該前駆体の対O2比率といったガス状反応物質の組成、およびその他すべてのPECVD被覆法パラメータ電力を除くが一旦設定されると、容器の形状が維持され、その容量のみが変化する場合は一般的にそれらの変更は行われない。この場合、当該電力は当該容量に正比例する。したがって、本記載により提供される当該電力の対容量比から開始することで、同一形状かつ異なるサイズの容器内に同一または類似の被覆材を得るために適用するべき電力を、容易に探し出すことが可能である。当該容器形状が適用電力に与える影響を、管の実施例をシリンジバレルの実施例と比較した結果を用いて図示した。本発明のいかなる被覆材についても、当該プラズマは、当該基表面上に被覆材を生成するのに十分な電力を動力源とする電極により生成される。潤滑層被覆材または疎水層被覆材については、本発明の実施例に記載の方法において、当該プラズマは随意に、01~25W、随意に1~22W、随意に1~10W、さらに随意に1~5W、随意に2~4W、例えば3W、、随意に3~17W、さらに随意に5~14W、例えば6または75W、随意に7~11W、例えば8Wの電力を受ける電極で生成される、およびまたは当該電極電力の対プラズマ量比が10Wml未満、随意に6Wml~01Wml、随意に5Wml~01Wml、随意に4Wml~01Wml、随意に3Wml~02Wml、随意に2Wml~02Wmlである場合に生成される。低い電力レベルは、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。遮断性被覆材またはSiOx被覆材については、当該プラズマは随意に、8~500W、随意に20~400W、随意に35~350W、さらに随意に44~300W、随意に44~70Wの電力を受ける電極で生成される、およびまたは当該電極電力の対プラズマ量比が5Wml以上、随意に6Wml~150Wml、随意に7Wml~100Wml、随意に7Wml~20Wmlである場合に生成される。低い電力レベルは、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1~3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性被覆材の塗布に適している。より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。当該容器形状はまた、当該PECVD被覆に使用するガス吸入部の選択にも影響を与える可能性がある。特定の態様において、シリンジは開口管吸入で被覆される場合があり、管は当該管へと伸延する小型孔を有するガス吸入部で被覆される場合がある。PECVDに使用する電力単位:ワットはまた、当該被覆材の性質にも影響を与える。通常、当該電力が増加すると被覆材の遮断性が増加し、当該電力が減少すると被覆材の潤滑性および疎水性が増加する。これは、いくつかの実施例、特に実施例E~Vにおいて実証されている。また、本書で明白に述べた、EP2251455A2の実施例においても実証されている。被覆性を決定するさらなるパラメータとして、プラズマの生成に使用されるガス状反応物質内におけるO2またはその他の酸化剤の対前駆体例:有機ケイ素前駆体比率が挙げられる。通常、当該ガス状反応物質内のO2比が増加すると被覆材の遮断性が増加し、O2比が減少すると被覆材の潤滑性および疎水性が増加する。潤滑層被覆材が所望される場合、O2は当該ガス状反応物質に対する体積体積比で随意に01~51、随意に01~11、さらに随意に01~051、さらに01~011で存在する。O2はある程度存在し、当該有機ケイ素前駆体に対して随意に0011~051、さらに随意に0051~041、特に011~021の比率で存在することが望ましい。当該O2の存在を体積で表すと、当該有機ケイ素前駆体に対して約5~35であり、特に約10~20であり、さらには本実施例で示す比率であることが、特に潤滑性被覆材を得るのに適している。一方、遮断性被覆材またはSiOx被覆材が所望される場合、当該O2のガス状反応物質に対する体積体積比は随意に11~1001ケイ素含有前駆体に対してであり、随意に51~301の比率であり、より好ましくは101の比率であり、さらに随意に151の比率である。VA実質上ホロー陰極プラズマを含まないプラズマを使用する、SiOx遮断性被覆材塗布のためのPECVDVA本発明の特定実施例は、ケイ素、酸素、および随意にその他の元素を含む被覆材として特定の事例において別途指定される場合を除き本明細書内で定義されるSiOx酸素の対ケイ素原子比であるxは約15~約29、あるいは15~約26、あるいは約2の遮断性被覆材の塗布方法を含む。xに関するこれらの代替定義は、本明細書内で使用されるすべての用語SiOxに適用される。当該遮断性被覆材は容器、例えば検体採取管、シリンジバレル、またはその他の種類の容器の内部に塗布される。当該方法はいくつかの手順からなる。VA容器の壁を用意し、またプラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスからなる反応混合物を用意する。VAプラズマが、実質上ホロー陰極プラズマを含まない当該反応混合物内に生成される。当該容器壁は反応混合物と接触し、当該SiOx被覆材は容器壁の少なくとも一部に堆積する。VA特定の実施例においては、SiOx被覆材の生成が酸素に対するよりよい遮断性をもたらす場合もあるため、被覆する容器部分を通してプラズマが均一に生成されることが考察される。均一なプラズマとは、ホロー陰極プラズマ標準プラズマより高い発光強度を有し、当該標準プラズマのより均一な強度に支障を及ぼす強度の高い局部として現れるを大量に含むことのない標準プラズマを意味する。VA当該ホロー陰極作用は、共通のアノードに関して同一の負電位で対立し合う対の導電性表面により、生成される。当該空間が生成され圧力およびガスの種類により異なる当該空間電荷シースがオーバラップする場合、当該対立壁シースの反射電位の間で電子が振動を開始し、当該シース領域の電位勾配により当該電子が加速するにつれて複数衝突が起こる。当該電子は当該空間電荷シースオーバラップ内に収容され、非常に高電離かつ高イオン密度のプラズマが生成される。この現象が、ホロー陰極作用と称される。当技術分野の当事者は、当該電力レベルおよび当該ガスの供給率または圧力といった処理条件を変更して、全域に均一なプラズマを生成すること、またはさまざまな程度のホロー陰極プラズマを含むプラズマを生成することが可能である。VA当該プラズマは通常、前述の理由によりRFエネルギーを利用して生成される。しかしあまり典型的でない代替方法において、マイクロ波エネルギーを利用してPECVD処理においてプラズマを生成する場合がある。しかしながら、熱可塑性容器へと適用されるマイクロ波エネルギーが水分子を励起する振動するため、当該処理条件は異なる場合がある。少量の水が純プラスチック素材内に入っているため、当該プラスチックは当該マイクロ波より加熱される。当該プラスチックが加熱されるにつれ、当該機器外部の気圧と相対的な当該機器内部の真空により創出される大規模な駆動力により、素材が自由にまたは容易に当該内面88へと脱着し、それらは揮発性となる、または当該表面に弱く結合する。弱い結合物質はその後、当該プラズマから堆積される後続の被覆材の当該機器のプラスチック内面88への粘着を防止可能である界面を創出する。VAこの被覆防止作用を否定する方法として、被覆材を非常に低い電力本実施例において5~20ワット、245GHzで堆積して、後続被覆材が接着できるキャッピングを生成することが可能である。これにより、2手順の被覆材処理および2層の被覆材となる。上記実施例において、当該キャッピング層のための当該初期ガス流量は、約2~10秒間5~20ワットの処理電力を有する、2sccm立方センチメートル毎分HMDSOおよび20sccm酸素に変更可能である。その後、上述実施例での流量へと当該ガスを調整し当該電力レベルを例えば20~50ワットに増大することで、SiOx被覆材本公式のxは約15~約29、あるいは約15~約26、あるいは約2を堆積可能である。特定の実施例においてキャッピング層被覆材は、より高い電力でのSiOx被覆材堆積中における素材の容器内面88への移動を阻止することを除き、ほとんどまたはまったく機能しない可能性があることに注意されたい。当該機器壁内物質の容易な脱着の移動は、大部分のRF範囲といった低周波数においては通常問題とならないことにも注意されたい。なぜなら、当該低周波は分子種を励起振動しないからである。VA前述の被覆防止作用を否定する別の方法として、マイクロ波エネルギーを適用する前に滞留水を除去するために当該容器80を乾燥させることが可能である。当該容器80の乾燥は、例えば、電熱器または強制空気加熱を利用した当該容器80の温熱性加熱により、達成可能である。当該容器80の乾燥はまた、乾燥剤への当該容器80の内部の曝露により、または当該容器80の内部のガス接触により、達成可能である。真空乾燥といったその他の容器乾燥手段も使用可能である。当該手段は、図示する1つ以上の当該ステーションまたは機器において、または個別のステーションまたは機器により実行可能である。VAまた上述被覆防止作用は、当該容器80のモールド原料である当該樹脂を選択または処理して当該樹脂が含有する水量を最低限に抑えることで、対処可能である。VB容器の制限的開口部シリンジキャピラリーを被覆するPECVD被覆材VB図8および9は、通常管状である処理対象容器250の制限開口部294、例えばシリンジバレル250の制限前開口部294の内面292を、PECVDにより被覆する方法および装置通常290を示す。前述処理は、当該制限的開口部294の処理容器296への接続により、および随意にその他の修正の実行により、修正される。VB通常管状である処理対象容器250には、外面298、内腔300を定義する内面254、内径を有する大開口部302、内面292により定義されかつ大開口部302の内径より小さな内径を有する制限的開口部294が含まれる。VB当該処理容器296は内腔304および処理容器開口部306を有し、当該開口部は、その他の実施例において随意に処理中は閉口となる第2開口部を提供可能であるが、随意に唯一の開口部である。当該処理容器開口部306を当該容器250の制限的開口部294に接続し、処理される容器250の内腔300と処理容器の内腔の間の通過を制限的開口部294経由で確立する。VB処理される容器250の内腔300および処理容器296の内腔304内で、少なくとも一部を真空状態にする。PECVD反応物質がガス源144から第1開口部302を通り、その後処理される容器250の内腔300、制限的開口部294、処理容器296の内腔304へと流入する。VB内部経路310、近位端312、遠位端314、および遠位開口部316を有する通常管状である内部電極308の提供により、当該PECVD反応物質を当該容器250の大開口部302を通して導入可能である。代替実施例においては、複数の遠位開口部を当該遠位端314に隣接して提供し当該内部経路310と連絡させることが可能である。当該電極308の遠位端は、処理される容器250の大開口部302に隣接しての内部に位置付け可能である。反応性ガスを、当該電極308の遠位開口部316を通して処理される容器250の内腔300へと供給可能である。当該PECVD反応物質導入前の初期に引かれた真空状態より高圧で当該PECVD反応物質が提供される範囲内において、当該反応物質は当該制限的開口部294を通り、その後当該内腔304へと流入する。VB制限的開口部294の内面292上にPECVD反応生成物を堆積するのに効果的な条件下で、プラズマ318を制限的開口部294に隣接して生成する。図8に示す当該実施例において、RFエネルギーを当該通常U字型外部電極160と接地する当該内部電極308とに供給して、当該プラズマを生成する。当該電極への供給および接地接続を無効にすることが可能であるが、当該プラズマ生成時に処理される容器250と当該内部電極308が当該U字型外部電極を通る場合、この無効化により複雑性が生じる可能性がある。本発明の一態様は、2010年6月29日出願の米国特許番号第61359434号に記載の、針、バレルを含むシリンジである。本発明の当該態様の針には、外面、一方の端に供給口、もう1つの端に底部、当該底部から当該供給口へと伸延する内部経路がある。当該バレルには、例えば通常シリンダー状の内面があり、内腔を定義している。また当該バレルには、当該針の外面と接触する流体密閉部の周りおよび内部に前部経路がモールド形成されている。いずれかの固定針実施例のシリンジは随意に、当該針の供給口を環境大気から隔離するよう設定される蓋をさらに含む。いずれかの固定針実施例の蓋は随意に、周縁部により定義され供給口を収受可能なサイズの、開口部を有する内腔をさらに含む。当該周縁部は、当該バレルの外部部位に対して装填可能である。いずれかの固定針実施例のシリンジにおいて、当該バレルは随意に、その前部経路に隣接する通常半球状の内面部位を含む場合がある。いずれかの固定針実施例のシリンジにおいて、当該針の底部は随意に、当該バレル半球状内面部位と共に少なくとも実質上フラッシュ可能である。いずれかの固定針実施例のシリンジは随意に、当該バレルの半球状内面部位の少なくとも1つの上に、PECVD塗布遮断性被覆材をさらに含む場合がある。いずれかの固定針実施例のシリンジにおいて、当該遮断性被覆材は随意に、当該バレルの通常シリンダー状の内面部位の少なくとも1部位の上に伸延する場合がある。いずれかの固定針実施例のシリンジにおいて、当該遮断性被覆材は随意に、当該針の底部と当該バレルの通常シリンダー状の内面部位との間に遮断性を形成する場合がある。図24の固定針実施例において、当該蓋7126は、従来のルアーロック装備で、当該シリンジ7120の鼻部71110上で定位置に固定される。当該シリンジのテーパー状鼻部71110は対応する当該蓋7126のテーパー状のど部71112と嵌合し、当該シリンジは、当該テーパー71110および71112を共にロックする当該蓋7126のドッグ71118および71120を収受する内部ねじ山71116付きのカラー71114を有する。当該蓋7126は、実質上硬質である場合がある。ここで図25を参照して、当該固定針実施例のシリンジバレル71122および蓋71124の変型が示される。本実施例において、当該蓋71124は底部に、当該シリンジバレル71122と湿度密閉部を形成するための柔軟性縁密閉部7172を含む。随意に図24および25の固定針実施例において、当該蓋7126および71124は当該PECVD被覆材処理の間、真空に耐えることが可能である。当該蓋7126および71124は、LDPE製である場合がある。代替の硬質プラスチック素材、例えばポリプロピレンも使用可能である。追加の密閉要素の提供も可能である。図26に示される固定針実施例のもう1つのオプションにおいては、当該蓋71126は柔軟であり、当該シリンジ7120の上端部を覆って密閉するよう設計される。ゴムまたは熱可塑性エラストマーといった、変形可能な素材を当該蓋71126に利用可能である。望ましいTPE素材には、フルオロエラストマー、特に医療グレードのフルオロエラストマーが含まれる。例として、VITON商標およびTECHNOFLON商標が挙げられる。VITON商標は一部の実施例で望ましい。適したゴムの例は、EPDMゴムである。モールドの間、特定の固定針実施例において、少量の当該蓋素材71132が、当該針7122の端部または供給口7134へと引き入れられ、密閉部が生成される。当該素材71132は、適量の素材が当該針7122へと引き入れられ、当該針7122へと引き入れられた当該素材が取り外される時に当該蓋71126へと装着され続け、当該針7122使用時に栓を抜くことができるよう、デュロメーターを有するべきである。別の固定針実施例において、当該蓋素材71132は、当該供給口7134へと引き入れられることなく、当該針7122の供給口をブロックする場合がある。望ましい目的を達成するための適切な材料選択は、当技術分野の当事者の能力の範囲内とされる。追加の密閉部を、当該シリンジバレル内に形成されるアンダーカット71134と当該蓋71126の内部の突起部71138を結合させ、当該蓋71126を維持するための結合部を定義することにより、作成可能である。代替の固定針実施例には、前述の密閉部のいずれかまたは両方が含まれる場合がある。随意に図25を参照して、当該蓋71124は、当該蓋7126を当該バレル上の装填位置へと固定するよう設定される、底部7168および結合部7170を有する。代替としてまたはさらに、柔軟性縁密閉部7172は随意に、当該蓋71124が当該バレル71122上に固定される場合に当該バレル71122に対して装填するため、当該蓋71124の底部7168に提供される場合がある。随意にここで図26を参照して、当該針7122の供給口7134は、当該蓋7126が当該バレル上に固定されている場合、当該蓋71126上に装填可能である。本手段は、必要に応じて、空気またはその他の流体の侵入放出を止めるため当該供給口7134を密閉するのに有用である。随意に当該固定針実施例において、当該結合部7170は、バレル71122および蓋71124いずれかの上の戻り止めまたは溝7174、および別のバレル71122および蓋71124の上の突起部または肋材7176を含む場合がある。当該突起部7176は、当該蓋7126が当該バレル上の装填位置にある場合に、当該戻り止め7174と嵌合するよう適合される。ある考察される実施例において、戻り止め7174は当該バレル上に、突起部7176は当該蓋7126条上にある場合がある。別の考察実施例において、戻り止め7174は当該蓋7126上に、突起部7176は当該バレル上にある場合がある。また別の考察される実施例において、第1戻り止め7174は当該バレル上に、当該戻り止め7174と嵌合する第1突起部7176は当該蓋7126上にある場合があり、一方第2戻り止め7175は当該蓋7126上に、嵌合する当該第2突起部7177は当該バレル上にある場合がある。戻り止め7174は、当該モールド内の7192および7194といった側部吸引を組み入れることにより、アンダーカットとして当該シリンジバレル内にモールドされる場合がある。当該戻り止め7174は、予備突起部7176と嵌合して、当該蓋7126を当該シリンジ7120へと組立てる。この点において当該蓋7126は、当該戻り止め7174および突起部7176をスナップ係合するため十分に変形可能であるよう、十分に柔軟であることが望ましい。当該固定針実施例における7126、71124、71126といった当該蓋は、射出成形またはその他の方法で例えば熱可塑性素材から成形可能である。適切な熱可塑性素材のいくつかの例として、環状オレフィンSiO2ポリマー、環状オレフィン共重合体、ポリプロピレン、ポリエチレンなどが挙げられる。当該蓋7126は、熱可塑性エラストマーまたはその他のエラストマー素材を含むから作られる場合がある。当該蓋7126はまた、テレフタル酸ポリエチレン、ポリカーボネート樹脂、その他の適切な素材から作られる場合がある。随意に当該蓋7126の素材は、真空に耐え当該シリンジ7120内の滅菌性を維持するものを選択可能である。VB処理の少なくとも一部の間に当該容器250内に生成される当該プラズマ318は、当該制限的開口部294およびまたは当該処理容器内腔304の内部に生成されるホロー陰極プラズマを含む。ホロー陰極プラズマ318の生成により、当該制限的開口部294に遮断性被覆材を成功裏に塗布する能力がもたらされる。ただし本発明は、当該作業理論の正確性または適用可能性により制限されるものではない。したがって、作業の考えられる1モードにおいて、当該処理の一部を、均一プラズマを当該容器250および当該ガス吸入全域に生成する条件下で実行可能であり、また一部を、ホロー陰極プラズマを例えば当該制限的開口部294に隣接して生成する条件下で実行可能である。VB本明細書で説明し当該図面で示すように、当該プラズマ318は当該シリンジ内腔300および当該制限的開口部294の実質上全域に伸延するため、当該処理はかかる条件下で動作されることが望ましい。当該プラズマ318もまた、当該シリンジ内腔300、当該制限的開口部294、および当該処理容器296の内腔304の実質上全域に伸延することが望ましい。これにより、容器250の内部254の均一な被覆が望ましいと仮定される。その他の実施例においては、不均一プラズマが望ましい可能性がある。VB当該プラズマ318は、シリンジ内腔300および制限的開口部294が全域において実質上均一な色であること、および好ましくは、当該シリンジ内腔300、当該制限的開口部294、および当該処理容器296の内腔304の実質上全域において実質上均一な色であることが、通常望ましい。当該プラズマは、当該シリンジ内腔300および当該制限的開口部294全域において、および好ましくは当該処理容器296の内腔304全域においても、実質上不変であることが望ましい。VB本方法の手順順序は、重要とは見なされていない。VB図8および9の実施例において、当該制限的開口部294は第1取付部332を有し、当該処理容器開口部306は第1取付部332に装填するよう適合される第2取付部334を有し、処理容器296の内腔304と処理される容器250の内腔300の間の通過を確立する。VB図8および9の実施例において、当該第1および第2取付部は雄および雌ルアーロック取付部332および334であり、それぞれ、当該制限的開口部294および当該処理容器開口部306を定義する構造と一体となっている。当該取付部の1つこの場合は当該雄ルアーロック取付部332は、ねじ式内面を有し軸方向対向の通常溝付き釘第1当接部338を定義するロックカラー336からなり、もう1つの当該取付部334は、当該取付部332および334が係合する場合に当該第1当接部338に向き合う軸方向対向の通常溝付き釘第2当接部340からなる。VB図示する当該実施例において、密閉部、例えばオーリング342は、当該第1取付部332と第2取付部334の間に位置する場合がある。例えば溝付き釘密閉部は、当該第1当接部338と第2当接部340の間で係合する場合がある。当該雌ルアー取付部334はまた、当該ロックカラー336のねじ式内面と係合して当該第1取付部332と第2取付部334の間で当該オーリング342を捕捉するドッグ344も含む。随意に、制限的開口部294経由で、処理される容器250の内腔300と処理容器296の内腔304の間に確立された通過は、少なくとも実質上耐漏出性である。VBさらなるオプションとして、当該ルアーロック取付部332および334のいずれか、または両方を、導電性素材、例えばステンレス鋼から作成することが可能である。当該制限的開口部294を成形するまたは隣接する本構成素材は、当該制限的開口部294内での当該プラズマの生成に寄与する可能性がある。VB当該処理容器296の当該内腔304の望ましい容量は、被覆されていることが好ましい当該製品表面から当該反応物質流量をそらすことがない小容量と、当該内腔304が十分に充填され当該制限的開口部294において当該圧力差を減少させることにより望ましい値より低い流量率へと減少される前に当該制限的開口部294を通る豊富な反応性ガス流量率を支持する大容量との間の、トレードオフとなることが考えられる。当該内腔304の考えられる容量は、ある実施例において、処理される容器250の内腔300の容量の3倍未満であり、または処理される容器250の内腔300の容量の2倍未満であり、または処理される容器250の内腔300の容量未満であり、または処理される容器250の内腔300の容量の50未満であり、またはまたは処理される容器250の内腔300の容量の25未満である。また、それぞれの内腔の容量のその他の効果的関係も考えられる。VB本発明者は、前図に示される当該内部電極の位置ほど当該容器250の内腔300へ侵入しないよう当該電極308の遠位端を当該容器250と関連させて再位置付けすることにより、特定実施例における当該被覆材の均一性が向上することを発見した。例えば、特定の実施例において当該遠位開口部316は、当該制限的開口部294に隣接するように位置付けられる場合があるが、別の実施例において当該遠位開口部316は、当該反応性ガス供給時の処理される容器の大開口部302から当該制限的開口部294までの距離の78未満、随意に34未満、随意に半分未満の箇所に位置付けられる場合がある。または、当該遠位開口部316は、当該反応性ガス供給時の処理される容器の大開口部から当該制限的開口部294までの距離の40未満、30未満、20未満、15未満、10未満、8未満、6未満、4未満、2未満、1未満の箇所に位置付けられる場合がある。VBまたは、当該電極308の遠位端はやや内側または外側に位置付け可能であり、または、当該容器250の内部へと通過し反応性ガスを供給しながら、処理される容器250の大開口部302と共にフラッシュ可能である。処理される容器250と関連する当該遠位開口部316の位置付けは、特定の寸法およびさまざまの位置での試験によるその他の処理条件に関して最適化可能である。シリンジバレル250の処理のために考えられる当該電極308の特定の位置の1つは、当該大開口部302上部の当該容器内腔300内に約14インチ約6mm侵入する当該遠位端314と共にある位置である。VB本発明者は現在、少なくとも当該容器250内の当該電極308の当該遠位端314を位置付けて電極として適切に機能させることが、必ずしも必須ではないにしろ、有利であると考察している。驚くべきことに、容器250内に生成される当該プラズマ318は、当該制限的開口部294を通り処理容器内腔304へとより均一に伸延可能であり、当該電極308は以前の利用と比べて当該内腔300内部に侵入しない。閉口容器の処理といったその他の装備により、当該電極308の遠位端314は一般に、その入口よりも当該容器の閉口端に近接して位置付けられる。VBまた当該電極308の遠位端314は、当該制限的開口部294に、または当該制限的開口部294を超えて、例えば処理容器内腔304内に、位置付けられる場合がある。例えば当該制限的開口部294を通る当該ガス流量を向上させるよう当該処理容器296を成形するといった、さまざまな手段を随意に提供可能である。VBさらに別の考えられる実施例において、当該内部電極308は、図8に示す通り、処理中に移動可能であり、例えば、まず当該処理容器内腔304へと伸延して、その後当該処理を進めるにつれて漸進的に近位へと引き揚げることができる。本手段は、当該容器250が選択された当該処理条件の下で、当該内部電極が当該内面254のより均一な処理を促進する場合に、当該内部電極を細長くすることが特に考えられる。本手段を利用すると、例えばガス供給率、真空吸引率、当該外部電極160に適用する電気エネルギー、当該内部電極308の吸引率、またはその他の要素といった当該処理条件が、当該処理が進むにつれ変化し、処理される容器の異なる部分へと当該処理をカスタマイズできる。VB便宜上、本明細書で説明するその他の処理にあるように、処理される容器250の大開口部302を当該容器支持体320のポート322上に装填することにより、通常管状である処理される容器250の大開口部は容器支持体320上に位置付けられる場合がある。その後、処理される容器250の内腔300内で少なくとも一部を真空状態にする前に、内部電極308を容器支持体320に装填された容器250内に位置付け可能である。VC潤滑性被覆材塗布方法、および潤滑性被覆材本発明の主要な実施例は、有機ケイ素前駆体由来の潤滑層または被覆材を塗布する方法、その結果生成される被覆材および被覆された品目である。潤滑層または類似用語は通常、当該非被覆表面と比較して、当該被覆表面の摩擦抵抗を減少させる被覆材として定義される。当該被覆物体がシリンジまたはシリンジ部品、例えばシリンジバレルまたは通常プランジャーに含まれるその他の品目または当該被覆表面に接触するスライド式可動部品である場合、当該摩擦抵抗は主に2種類の態様起動力およびプランジャースライド力を有する。当該プランジャースライド力試験は、シリンジ内をスライドするプランジャーの摩擦の係数に特化した試験であり、通常平板表面上で測定されるスライド摩擦の係数に関連する標準的な力は、当該プランジャーその他のスライド式構成要素と当該管当該プランジャーのスライドするその他の容器との間の装着性を標準化することにより対応可能であるという事実を説明する。通常計測されるスライド摩擦係数に関連する当該並行力は、本明細書の記載通りに測定された当該プランジャースライド力と比較可能である。プランジャースライド力は例えば、ISO788611993試験で規定される通りに測定可能である。当該プランジャースライド力試験はまた、例えば管内に停止部材を保持する摩擦といったその他の種類の摩擦抵抗を測定するよう、当該装置および手順に適切な変更を加えて適合可能である。ある実施例において、当該プランジャーは閉包部により置換可能であり、当該閉包部を除去または挿入するための吸引力をプランジャースライド力の対照として測定可能である。また、当該プランジャースライド力の代わりに、起動力を測定可能である。当該起動力は、定常プランジャーがシリンジバレル内を移動するよう起動させるのに必要な力、または装填済みの定常閉包部の装填を解除して移動を開始するのに必要な類似の力である。当該起動力は、ゼロまた低い値から始まり当該プランジャーが動きだす時点まで増加する、当該プランジャーに適用する力により測定される。シリンジの保管期間が長いと、当該プランジャーと当該バレルとの間の潤滑剤の分解が原因である、当該充填済みシリンジプランジャーによる介在潤滑剤の押しのけ、または当該バレルへの粘着が起こり、当該起動力が増加する傾向がある。当該起動力は、当該プランジャーとバレルの間の粘着力を指す業界用語であるsticktion粘着摩擦力を打開するのに必要な力であり、これを打開して当該プランジャーを起動し移動を可能としなければなれない。ブレークルース力およびグライド力は、潤滑性被覆材の有効性を測るための、重要な性能測定値である。FiおよびFmは低いことが望ましいが、低すぎる値は望ましくない。Fiが低すぎるということは抵抗のレベルが低すぎることを意味し、時期尚早な意図しない浸出が起こり、充填済みシリンジの内容物の予期しない早発重合または制御不能な排出につながる可能性がある。十分な潤滑性を得るには、以下のFiおよびFmの範囲を有利に維持するべきである。Fi5ポンドに対し25、好ましくは49ポンドに対し27、特に47ポンドに対し29、Fm80ポンドに対し25、好ましくは76ポンドに対し33、特に4ポンドに対し33。さらなる有利なFi値およびFm値は、当該実施例の表を参照のこと。当該潤滑性被覆材は随意に、一定のプランジャー力を提供し、ブレークルース力とグライド力との間の差を低減させる。VC容器全体または一部を潤滑層で被覆するための装備の一部は、例えば選択的に表面においてスライドしながら他の部品と接触し、シリンジ内のピストンまたは検体管内の停止部材といったスライド式構成要素の停止部材または経路の挿入または除去を容易にする。当該容器はガラス製である場合があり、または例えばポリエステル、例えばテレフタル酸ポリエチレンPET、環状オレフィン共重合体COC、ポリプロピレンといったオレフィン、またはその他の素材である、ポリマー材製である場合がある。COCは特にシリンジに適している。PECVDによる潤滑層被覆材の塗布は、PECVD処理による堆積と比較してより多量に適用されることが一般的である有機ケイ素またはその他の潤滑剤の噴霧、浸漬、別方法の塗布で該容器壁または閉包部を被覆する必要性を、回避するまたは低減する場合がある。VC前述の実施例VCのいずれにおいても、プラズマは当該基板付近で生成される。実施例VCのいずれにおいても、当該前駆体は随意に、実質上酸素が存在しない環境へと提供可能である。実施例VCのいずれにおいても、当該前駆体は随意に、絶対圧が1トール未満である環境へと提供可能である。VC実施例VCのいずれにおいても、当該前駆体は随意に、プラズマ発光付近の環境へと提供可能である。VC実施例VCのいずれにおいても、当該被覆材は随意に、当該基板へと1~5000nm、または10~1000nm、または10~500nm、または10~200nm、または20~100nm、または30~1000nm、または30~500nmの層厚で塗布可能である。通常の層厚は30~1000nm、または20~100nm、非常によくある層厚は80~150nmである。特定の粗度が当該潤滑性被覆材の潤滑特性を強化するため、これらの範囲が表すのは、平均層厚である。したがって層厚は、当該被覆材全域にわたり、有利に不均一である。しかし、均一な層厚の潤滑性被覆材もまた検討される。当該潤滑性被覆材の単一測定点における絶対層厚は、当該平均層厚の範囲限界より高いまたは低い場合があり、当該平均層厚からの最大偏差は、好ましくは50、より好ましくは25、さらにより好ましくは15である。しかし通常は、本説明内で平均層厚として述べられた層厚の範囲内で変動する。本被覆材またはその他の被覆材の層厚は、例えば透過電子顕微鏡法TEMで測定可能である。潤滑性被覆材の模範的TEM画像を、図21に示す。SiO2遮断性被覆材の模範的TEM画像を、図22に示す。VCTEMは、例えば以下の通り実行可能である。集束イオンビームFIB断面法のため、2方向に検体を準備する。いずれかの検体をまず炭素の薄層被覆材層厚50100nmで被覆し、その後K575XEmitech被覆システムを利用してプラチナのスパッタ層被覆材層厚50~100nmで被覆可能である。または、当該検体を保護スパッタプラチナ層で直接被覆可能である。当該被覆検体を、FEIFIB200FIBシステムに留置する。関心領域に30kVガリウムのイオンビームをラスターしながら有機金属ガスを射出することで、追加のプラチナ層被覆材をFIB堆積可能である。各検体の関心領域は、シリンジバレルの長さ半分にあたる場所で選択可能である。長さ約15μmマイクロメートル、幅2μm、奥行15μmの断面を、独自の原位置FIBリフトアウト法を利用して、成形型表面から抽出可能である。FIB堆積プラチナを使用して、当該断面を200メッシュ銅製TEMグリッドへと装着可能である。各セクションのサイズ~8μm幅の1~2つのウィンドウを、FEIFIBのガリウムイオンビームを使用して、電子透かしへと薄膜化可能である。VC準備した検体の断面画像分析を、透過電子顕微鏡TEM、または走査型透過電子顕微鏡STEM、または両方を利用して実行可能である。すべての画像データをデジタル記録可能である。STEM画像については、薄肉ホイル付きの当該グリッドをSTEM専用のHitachiHD2300へと転送可能である。転送された電子画像のスキャンは、原子数造影モードZCおよび転送電子モードTEにおいて適切な倍率で取得可能である。以下の機器設定を利用可能である。VCTEM分析については、当該検体グリッドをHitachiHF2000透過電子顕微鏡へと転送可能である。転送された電子画像は、適切な倍率で取得可能である。画像取得の際に使用する関連機器設定は以下のものである場合がある。VC実施例VCのいずれにおいても、当該基板はガラスまたは、例えばポリカーボネートポリマー、オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、ポリプロピレンポリマー、ポリエステルポリマー、テレフタル酸ポリエチレンポリマー、またはこれら2種以上の複合体といったポリマーからなる場合がある。VC実施例VCのいずれにおいても、当該PECVDは随意に、上記で定義される、例えば周波数が10kHz~300MH未満、随意に1~50MHz、さらに随意に10~15MHz、随意に1356MHzである、RF周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することで実行可能である。VC実施例VCのいずれにおいても、潤滑層を成形するのに十分な電力供給を受ける、電極を有する当該前駆体からなるガス状反応物質を加圧することにより、プラズマを生成可能である。随意に当該プラズマは、01~25W、随意に1~22W、随意に1~10W、さらに随意に1~5W、随意に2~4W、例えば3W、随意に3~17W、さらに随意に5~14W、例えば6または75W、随意に7~11W、例えば8Wの電力が供給される電極を有する、当該前駆体を包含する当該ガス状反応物を加圧することにより生成される。当該電極電力の当該プラズマ量に対する比率は、10Wml未満、随意に6Wml~01Wml、随意に5Wml~01Wml、随意に4Wml~01Wml、随意に2Wml~02Wmlである場合がある。低い電力レベルは、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1~3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性被覆材の塗布に適している。より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。VC実施例VCのいずれにおいても、当該酸化ガスとしての酸素および当該搬送ガスとしてのアルゴンの存在下で、ある処理ガスの望ましい複合体に、当該前駆体としてオクタメチルシクロテトラシロキサンまたは別の環状シロキサンが含まれる。本理論の正確性に拘束されることなく、本発明者はこの特定の複合体が有効であると以下の理由から確証する。VCOMCTSまたはその他の環状シロキサン分子は、その他のシロキサン物質より優れるいくつかの利点を提供すると確証される。第1に、その構造により、密度のより低い被覆材が生成される。また当該分子は選択的イオン化を可能とするため、当該最終構造および当該被覆材の化学的組成物を、当該プラズマ電力の適用を通して直接制御可能である。その他の有機ケイ素分子は容易にイオン化されるため、当該分子の元の構造を保持することはより困難である。VCアルゴンガスを追加すると当該潤滑性性能が向上するため、アルゴンの存在における当該分子をさらにイオン化することで潤滑性がもたらされると確証される。当該分子のSiOSi結合は高い結合エネルギーを有し、その後にSiCが続き、CH結合が最も弱い。潤滑性は、当該CH結合のある部位が切断されると得られるようである。これにより、成長に従い当該構造の結合が可能となる。酸素を追加すると、本処理が強化されると理解されている。また少量の酸素により、その他の分子が結合可能なCO結合が提供される。低圧低電力でのCH結合の切断と酸素の追加を組合せると、潤滑性を提供すると同時に強固な化学構造が得られる。本発明の特殊な実施例において、当該潤滑性はまた、当該潤滑性被覆材の粗度により影響を受ける可能性があり、それは当該前駆体および本書に記載の条件を利用するPECVD処理により起こる。驚くべきことに、粗い非継続的OMCTSプラズマ被覆材のプランジャー力は平滑な継続的OMCTSプラズマ被覆材より低いということが、本発明の文脈において、走査電子顕微鏡法および原子間力顕微鏡法の実行により明らかになっている。これは実施例O~Vにより実証されている。理論によって拘束されることなく、当該発明者はこの特定作用はある程度、以下の力学的作用のいずれかまたは両方に基づくと仮定している当該潤滑性被覆材で被覆されるプランジャーの表面接触が少ないほど、当該プランジャー移動の初期およびまたは全体において、全般的に接触すなわち摩擦が低くなる。プランジャー移動の下、当該プランジャーは当初の不均一で粗い被覆材を、非被覆凹部へと広げ平滑化する。当該潤滑性被覆材の粗度は、当該プラズマを加圧する電力を低減させること、および先に説明した量内のO2の存在により、増加する。当該粗度は、AFMにより判定されるRMS粗度またはRMSとして表される。RMSは、AFM画像における最高地点と最低地点の間の差異の標準偏差である。以下の公式により計算するRqΣ2N2Zavgは当該画像内の平均Z値、Z1はZの電流値、およびNは画像内の地点数である。この特殊な実施例における当該RMS範囲は通常、7~20nm、好ましくは12~20nmである。しかしより低いRMSであっても、潤滑特性を満たす場合がある。VC考察された一製品は随意に、実施例VCのいずれか1つ以上の方法により処理されたバレルを有するシリンジである場合がある。前述シリンジは、本発明に記載の潤滑性被覆材のみを有する場合があり、または当該潤滑性被覆材とさらに1つ以上のその他の被覆材例当該潤滑性被覆材の下の上のSiOx遮断性被覆材を有する場合がある。VD流体塗布被覆材PECVD適用被覆材または本明細で開示するその他のPECVD処理と併用して使用可能な、適切な遮断性被覆材またはその他の種類の被覆材の1つの実施例は、流体遮断層、潤滑剤、界面エネルギーテーラリング、または当該容器内面に塗布されるその他の種類の被覆材90である場合があり、当該容器内面への塗布は直接、または本明細書で説明する1種以上の介在性PECVD塗布被覆材SiOxなど、または本発明に記載の潤滑層被覆材、または両方と共に行われる。VD適切な流体遮断膜またはその他の種類の被覆材90はまた、随意に、例えば流体モノマーまたはその他のポリマー、または硬化材料を当該容器80の内面に塗布することにより、当該流体モノマーを硬化、ポリマー化、または交差結合させて間断ないポリマーを成形することにより、塗布可能である。適切な流体遮断またはその他の種類の被覆材90はまた、溶媒ポリマーの当該表面88への塗布および当該溶媒の除去により、提供可能である。VD上記いずれかの方法に、処理ステーションまたは機器28における当該容器ポート92経由で当該容器80の内部88上に被覆材90を成形する手順が含まれる場合がある。一実施例として、流体被覆材、例えば硬化性モノマー、プレポリマー、またはポリマー分散の当該容器80の内面88への塗布、および当該容器80の内容物を内面88から物理的に隔離する膜を成形するための硬化が挙げられる。先行技術により、ポリマー被覆技術はプラスチック製採血管の被覆に適切であると記述される。例えば、参照することにより本書に含まれる米国特許6165566に記載の、アクリルおよびポリ塩化ビニリデンPVdC被覆材および被覆方法を利用可能である。前述方法のいずれかも、容器80の外壁上に被覆材を生成する手順となる場合がある、または同手順として含まれる。適切な被覆材の実施例の1つに、水遮断性および酸素遮断性の両方の機能を有するポリ塩化ビニリデンがある。随意に、当該遮断性被覆材を水系被覆材として塗布可能である。当該被覆材は随意に、当該容器の浸漬、当該容器への噴霧、またはその他の手段により、塗布可能である。上述の外部遮断性被覆材を有する容器もまた、考えられる。VIIPECVD処理容器VII容器は例えば図1に示す遮断性被覆材90を有すると考えられ、当該被覆材は少なくとも2nm、少なくとも4nm、少なくとも7nm、少なくとも10nm、少なくとも20nm、少なくとも30nm、少なくとも40nm、少なくとも50nm、少なくとも100nm、少なくとも150nm、少なくとも200nm、少なくとも300nm、少なくとも400nm、少なくとも500nm、少なくとも600nm、少なくとも700nm、少なくとも800nm、少なくとも900nmの層厚に塗布されるSiOx被覆材である場合がある。当該被覆材は、最大1000nm、最大900nm、最大800nm、最大700nm、最大600nm、最大500nm、最大400nm、最大300nm、最大200nm、最大100nm、最大90nm、最大80nm、最大70nm、最大60nm、最大50nm、最大40nm、最大30nm、最大20nm、最大10nm、最大5nmの層厚である場合がある。上記最小層厚のいずれか1つ、および上記最大層厚のいずれか1つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。SiOxまたはその他の被覆材の層厚は、例えば透過電子顕微鏡法TEMで測定可能であり、その組成物はX線光電子分光法XPSにより測定可能である。VII当該被覆材の透過を妨げる素材の選択および適用するSiOx被覆材の性質によっては、その遮断性に影響が出る可能性が考えられる。例えば、一般に除外を意図する2つの物質の例は、酸素および水水蒸気である。物質は一般に、片方に対してよりもう一方に対する遮断性の方が優れている。これは少なくとも一部はそう信じられており、なぜなら、酸素は水の透過とは異なる機構で当該被覆材を透過するからである。VII酸素の透過は、当該被覆材の層厚、割れの有無、その他の当該被覆材の物理的詳細といった、物理的特徴により影響を受ける。その一方で水の透過は、一般に、物理的要素より化学的要素当該被覆材の原料などにより影響を受けると考えられる。本発明者はまた、少なくとも1つの当該化学的要素は当該被覆材のOH部分の高濃度であり、それにより当該遮断膜を通る水の透過率がより高められると確信している。SiOx被覆材は多くの場合OH部分を包含し、したがってOH部分を多く含む物理的に堅固な被覆材は水に対してより酸素に対しての遮断性の方が優れている。非晶質炭素またはダイヤモンド状炭素DLCといった、物理的に堅固な炭素系遮断膜は一般に、SiOx被覆材より水に対する遮断性に優れる。なぜなら、当該炭素系遮断膜は一般に低濃度のOH部分を有するからである。VIIしかしながら、その酸素遮断性およびガラスや水晶との化学的類似性といったその他の要素により、SiOx被覆材の優先傾向が導き出される。ガラスおよび水晶容器の原材料として使用される場合は、酸素および水に対する高い遮断性を示し、また容器内に一般に含まれる多くの物質を実質的に不活性にすると長く知られてきた2つの物質である。したがって、水分透過遮断層として機能する異なるまたは追加の種類の被覆材を選択するより、SiOx被覆材の水蒸気透過速度WVTRといった水分遮断性を最適化することが、一般に望ましい。VIISiOx被覆材の水蒸気透過速度向上のために検討可能な方法を、以下に示す。VII当該堆積被覆材における有機部分炭素および水素化合物の対OH部分濃度比を、増加可能である。これは例えば、当該供給ガスにおける酸素の比率を増加させる酸素供給率を増加させるまたは1つ以上のその他成分の供給率を減少させることにより、実行可能である。当該OH部分低発現率は、当該酸素供給が当該ケイ素源の当該水素と反応する度合いが増加し、当該PECVD排出内により多くの揮発性水が生成され低濃度のOH部分が当該被覆材に捕捉された組込まれた結果であると、信じられている。VII当該PECVD処理において、当該プラズマ生成電力レベルを上昇させるか、当該電力をより長い期間適用するか、またはその両方により、高エネルギーを適用可能である。当該適用エネルギーの上昇は、当該管が当該プラズマ生成電力を吸収する程度まで当該処理対象容器を歪曲する可能性があるため、プラスチック管またはその他の機器の被覆に使用する場合は注意を払って用いることが必須である。用途の文脈においてRF電力が考察されるのは、このためである。当該医学機器の歪曲は、間に冷却期間を挟む2つ以上の一連のパルスでの当該エネルギーの利用、エネルギー適用中の当該容器の冷却、短時間の当該被覆材の塗布一般に層厚は薄くなる、被覆用に選択した当該基材への吸収が最低限である当該被覆材塗布周波数の選択、およびまたはそれぞれのエネルギー塗布手順の合間の1つ以上の被覆材の塗布により、低減または消失させることが可能である。例えば、当該ガス状反応物質または処理ガスを継続的に供給しながら、負荷サイクルを1ミリ秒オン、99ミリ秒オフにして、高電力パルスを使用可能である。当該ガス状反応物質または処理ガスは、パルスの合間で流れを保持しながらその後冷却剤となる。別の代替方法は、プラズマを収容するための磁気を追加して有効電力適用加熱または不要な被覆材に繋がる無駄な電力とは対照的に、実際被覆材の漸増に繋がる当該電力を増加させることにより、当該電力適用装置を再設定することである。この手段により、適用エネルギーの総ワット数につき、より多くの被覆成形エネルギーを塗布可能となる。例えば米国特許5904952番を参照のこと。VII当該被覆材の酸素後処理を、以前堆積された被覆材からOH部分を除去するために適用可能である。本処理としては、残存揮発性有機ケイ素化合物またはケイ素の除去または追加SiOx成形のための被覆材の酸化も考えられる。VII当該プラスチック基材管は予熱可能である。VIIケイ素の異なる揮発性源、例えばヘキサメチルジシラザンHMDZを一部のまたはすべてのケイ素供給源として使用可能である。HMDZへの供給ガスを変更することで当該問題に対処可能であると考えられる。なぜなら、本化合物は供給時点で酸素部分を一切有しないからである。当該HMDSO源被覆材におけるOH部分の供給源の1つは、未反応HMDSO内に存在する少なくとも一部の酸素原子の水素化であると考えられる。VIISiOxと結合させた炭素系被覆材といった、合成被覆材を使用可能である。これは例えば、当該反応条件を変更することにより、またはアルカン、アルケン、またはアルキンといった置換または非置換炭化水素を当該供給ガスおよび有機ケイ素化合物に追加することにより、実行可能である。例えば米国特許5904952番を参照のこと。この特許では関連部分において以下のように述べている:例えばプロピルといった低炭化水素を含有することで炭素部分を提供し、当該堆積膜のほとんどの性質光透過を除くを改善できる。また結合分析により、当該膜が本来は二酸化ケイ素であることが示される。しかし、メタン、メタノール、アセチレンの使用により、本来はケイ素である膜が生成される。当該ガス流に少量のガス状窒素を含有させることにより、当該堆積膜内に窒素部分を提供し、当該堆積率を増大させ、ガラスの透過および反射光学性質を改善し、さまざまな量のN2に対する反応における屈折率を変化させることができる。亜酸化窒素を当該ガス流に追加することにより、当該堆積率が増大し、当該光学性質が改善するが、当該膜硬度は低下する傾向がある。適切な炭化水素には、メタン、エタン、エチレン、プロパン、アセチレン、これら2種以上の複合体などがある。VIIダイヤモンド状炭素DLC被覆材は、主要のまたは唯一の堆積被覆材として成形可能である。これは例えば、当該反応条件を変更することにより、またはメタン、水素、ヘリウムをPECVD処理へと供給することにより、実行可能である。当該反応供給は酸素を含まないため、OH部分が成形される可能性はない。例えば、SiOx被覆材は管内部またはシリンジバレル内部に塗布可能であり、外部DLC被覆材は管外面またはシリンジバレル外面に塗布可能である。または、SiOxおよびDLC被覆材はどちらも、内部管またはシリンジバレルの単層被覆材または複数層被覆材として、塗布可能である。VII図1を参照して、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90は、当該容器80へのその内面88を通る大気ガスの透過を低減させる。または、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90は、当該容器80の内容物のその内面88への接触を減少させる。当該遮断層またはその他の種類の被覆材は、例えば、SiOx、非晶質例えばダイヤモンド状炭素、またはこれらの複合体からなる場合がある。VII本明細書に記載のいかなる被覆材も、例えばプラスチック表面といった、表面の被覆に使用可能である。さらには、例えば当該遮断膜はガスまたは流体を遮断し、随意に水蒸気、酸素およびまたは大気を遮断する遮断膜といった、遮断層として使用可能である。また、当該表面が非被覆である場合に当該被覆表面化合物または組成物上に及ぼす可能性がある、機械的およびまたは化学的作用を防止または低減させるために使用可能である。例えばインスリン沈殿または血液凝固または血小板活性化といった、化合物または組成の沈殿を防止または低減可能である。VIIA被覆容器本書に記載の被覆材は、プラスチックまたはガラスから作られたさまざまな容器に最も顕著にプラスチック管およびシリンジに塗布可能である。例えば当該シリンジのバレル内部といった基板に潤滑層被覆材を塗布する処理が考えられる。当該処理は、当該記述済み前駆体の1~5000nm、または10~1000nm、または10~500nm、または10~200nm、または20~100nm、または30~1000nm、または30~500nm層厚、または30~1000nm、または20~100nm、または80~150nm層厚での基板上付近への塗布、および潤滑表面を提供するための当該被覆材の、随意にPECVD処理における交差結合またはポリマー化または両方からなる。本処理により塗布される当該被覆材はまた、新規であると考えられる。定義セクションで定義したSiwOxCyHzの被覆材は、疎水層としての実用性を有する場合がある。この種の被覆材は疎水性であると考えられ、潤滑層として機能するかどうかに依存しない。当該表面のぬれ張力を対応する非被覆表面または未処理表面と比較して低下させる場合に、被覆または処理は疎水性であると定義される。疎水性は、したがって、非処理基板および処理の両方の機能である。被覆材の疎水性の度合いは、その組成、性質、または堆積方法により異なる。例えば、炭化水素をほとんどまたはまったく含有しないSiOx被覆材は、定義セクションで定義するSiwOxCyHz被覆材より親水性である。一般に、当該被覆材のCHx部分例:CH、CH2、またはCH3含有量が多いほど、そのケイ素含有量と比較して、重量、容量、またはモル濃度比で、当該被覆材の疎水性が高くなる。疎水層被覆材は極めて薄肉であり、少なくとも4nm、または少なくとも7nm、または少なくとも10nm、または少なくとも20nm、または少なくとも30nm、または少なくとも40nm、または少なくとも50nm、または少なくとも100nm、または少なくとも150nm、または少なくとも200nm、または少なくとも300nm、または少なくとも400nm、または少なくとも500nm、または少なくとも600nm、または少なくとも700nm、または少なくとも800nm、または少なくとも900nmの層厚を有する場合がある。当該被覆材は、最大1000nm、最大900nm、最大800nm、最大700nm、最大600nm、最大500nm、最大400nm、最大300nm、最大200nm、最大100nm、最大90nm、最大80nm、最大70nm、最大60nm、最大50nm、最大40nm、最大30nm、最大20nm、最大10nm、最大5nmの層厚である場合がある。上記最小層厚のいずれか1つ、および上記最大層厚のいずれか1つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。かかる疎水層被覆材の実用性の1つとして、例えばテレフタル酸ポリエチレンPET製の熱可塑性管壁を当該管内の採集血液から隔離することが挙げられる。当該疎水層被覆材は、当該管内面の親水性SiOx被覆材の上に塗布可能である。当該SiOx被覆材は熱可塑性管の遮断性を増加させ、当該疎水層被覆材は管壁を伴う血液接触面の界面エネルギーを変化させる。当該疎水層被覆材は、本明細書で同定されるものから選択される前駆体を提供することにより、生成可能である。例えば、当該疎水層被覆材前駆体はヘキサメチルジシロキサンHMDSOまたはオクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSからなる場合がある。疎水層被覆材の別の使用法として、ガラス製細胞調製管の作成が挙げられる。当該管は内腔を定義する壁、および当該ガラス壁の内面の疎水層被覆材を有し、クエン酸塩試薬を包含する。当該疎水層被覆材は、本明細書で同定されるものから選択される前駆体を提供することにより、生成可能である。別の例として、当該疎水層被覆材前駆体はヘキサメチルジシロキサンHMDSOまたはオクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSからなる場合がある。疎水層の別の原材料として、以下公式のアルキルトリメトキシシランが挙げられる:RSi3当該公式の各Rは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tブチル、ビニル、アルキン、エポキシド、その他といったアルキル基である。またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。上述のアルキルトリメトキシシラン前駆体を使用して、酸または塩基触媒作用と加熱を組合わせることにより、当該前駆体を凝結ROH副産物を除去させて、交差結合ポリマーを成形可能である。これは随意に、代替方法経由でさらに交差結合可能である。特定実施例の1つとして、ShimojimaetalJMaterChem200717658663が挙げられる。潤滑層は、SiOx遮断性被覆材を容器80の内面88に塗布した後の後続被覆材として塗布し、特に当該潤滑層被覆材が流体オルガノシロキサン化合物である場合に当該被覆材処理の最後に潤滑層を提供可能である。随意に、潤滑層被覆材の塗布後に、PECVD処理後の後硬化が可能である。紫外線開始型フリーラジカルまたはカチオン系、電子光線E光線およびDevelopmentOfNovelCycloaliphaticSiloxanesForThermalAndUVCurableApplicationsRubyChakrabortyDissertationcan2008で記述される温熱性を含む、放射線硬化アプローチを利用可能である。潤滑層被覆材を提供する別のアプローチとして、潤滑被覆する当該熱可塑性容器を射出成形する場合のケイ素離型剤の使用が挙げられる。例えば、当該モールド処理中に原位置温熱性潤滑層被覆材の形成を生じさせる、あらゆる当該離型剤および潜在的モノマーを使用可能であると考えられる。または、上述モノマーを伝統的な離型剤にドープして、同一結果を達成可能である。潤滑層は特に、以下でさらに述べるように、当該シリンジバレルの内面のために考えられる。シリンジバレルの潤滑性内面により、シリンジ操作中にバレル内のプランジャーを前進させるのに必要なプランジャースライド力、または、例えば当該プランジャーと当該バレルとの間の潤滑剤の分解が原因で起こる当該充填済みシリンジプランジャーによる介在潤滑剤の押しのけ、または当該バレルへの粘着の発生後に、プランジャーの移動を開始させるための起動力を、減少させることができる。また本明細書別箇所で説明する通り、潤滑層被覆材は、当該容器80の内面88に塗布して後続SiOx被覆材の付着力も改善可能である。したがって当該被覆材90は、SiOx層被覆材および潤滑層被覆材およびまたは疎水性層からなる場合があり、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる。当該潤滑層被覆材およびまたはSiwOxCyHz疎水層被覆材は、当該SiOx層被覆材と当該容器の内面との間に堆積可能である。またはSiOx層被覆材は、当該潤滑層被覆材およびまたは疎水層被覆材と当該容器の内面との間に堆積可能である。または、SiOx層被覆材および当該潤滑層被覆材およびまたは疎水層の、2種の被覆材組成の間で交互に切換わるまたは累遷する3種以上の層も、利用可能である。当該SiOx層被覆材は、当該潤滑層被覆材およびまたは疎水層被覆材に隣接させて、または少なくとも1種のその他の素材の介在層被覆材と共に遠隔で、堆積可能である。または、SiOx層被覆材は、当該容器内面に隣接させて堆積可能である。または、当該潤滑層被覆材およびまたは疎水層被覆材は、当該容器の内面に隣接させて堆積可能である。本書における、隣接するSiOx層および潤滑層被覆材およびまたは疎水性層として考えられる別の手段は、定義セクションで定義する通りのSiwOxCyHzの段階的合成物である。段階的組成物は、潤滑層被覆材およびまたは疎水層被覆材とSiOxの間の中間組成の遷移または界面を伴うそれらの分離層であるか、潤滑層被覆材およびまたは疎水層被覆材とSiOxの間の中間組成物の中間特異層を伴うそれらのの分離層であるか、当該被覆が通常方向に進むにつれ潤滑層被覆材およびまたは疎水層被覆材の組成からよりSiOxのものへと継続的にまたは段階的に変化する単層である可能性がある。当該段階的合成物の段階は、どちらの方向にも進む場合がある。例えば、潤滑層被覆材およびまたは疎水層被覆材は当該基板へと直接塗布可能であり、SiOx表面から離れている組成物へと累遷可能である。または、当該組成物SiOxは当該基板へと直接塗布可能であり、潤滑層被覆材およびまたは疎水層被覆材の表面から離れている組成物へと累遷可能である。累遷被覆材は特に、ある組成の被覆材がその他のものより当該基板への付着性に優れる場合に考えられ、その場合、当該付着性に優れる組成は例えば当該基板に直接塗布される場合がある。当該段階的被覆材のより離れた部分は、当該段階的被覆材の隣接部と比べて当該基板との相性に劣ると考えられている。なぜなら当該被覆材のあらゆる点において性質は徐々に変化するからであり、その結果、当該被覆材とほとんど同一の深さにある隣接部はほとんど同一の組成を有し、実質上異なる深さにあり物理的により離れている部分はより多様な性質を有する場合がある。また、当該基板へのから物質搬送に対してより良い遮断性を成形する被覆部は、当該基板上に直接塗布して、機能に劣る遮断膜を成形するより遠隔にある被覆部が当該遮断膜が除外または妨害しようとする物質により汚染されるのを防止可能であると考えられる。当該被覆材は段階的である代わりに、随意に組成の実質的勾配なしにある層被覆材から別の層被覆材へと急激に遷移する可能性がある。かかる被覆材は例えば、当該ガスを提供して非プラズマ状態で定常流動である層被覆材を生成し、その後プラズマ放電で短時間加圧して当該基板上に被覆材を成形することにより、生成可能である。後続被覆材を塗布する場合、最初の被覆材のためのガスを除去してから次の被覆材のためのガスを当該プラズマを加圧する前に定常方法で塗布して、再度、当該界面におけるほとんど段階的遷移なしに当該基板表面の離れた層被覆材またはその最外部の最初の被覆材を成形する。VIIA1a模範的容器VIIA1a図1を参照して、容器80などをさらに詳細に示す。当該図示容器80は通常管状である可能性があり、当該容器の一端に開口部82を、反対側に閉口端84を有する。当該容器80はまた、内面88を定義する壁86を有する。当該容器80の一実施例は、例えば、医学研究で使用する患者血液の静脈穿刺検体を収受するために一般に瀉血専門医により使用される、真空採血管といった医学検体管である。VIIA1a当該容器ホルダー80は、例えば熱可塑性素材を原料とする場合がある。適切な熱可塑性素材の実施例の一部として、例えばポリプロピレンまたは環状ポリオレフィン共重合体といった、テレフタル酸ポリエチレンまたはポリオレフィンが挙げられる。VIIA1a当該容器80は、射出成形、ブロー成形、機械加工、管ストックからの製造、またはその他の適切な手段といった、あらゆる適切な方法により製造可能である。PECVDは、SiOxの内面上に被覆材を成形するために使用可能である。VIIA1a真空採血管としての利用を意図する場合、当該容器80は、760トールの外圧または気圧およびその他の被覆材処理条件に曝露しても実質上変形しない実質上全内部真空に耐える強度を有することが望ましい。本性質は熱可塑性容器80において、例えば直径および素材に関して十分な壁厚を有するシリンダー状の壁86といった、適切な寸法および当該被覆材処理の温度より高いガラス遷移温度を有する適切な素材で製造された容器80を提供することにより、提供可能である。VIIA1a検体採取管およびシリンジといった医療用容器コンテナは比較的小型であり、当該大気圧により圧潰されることなく真空化可能である比較的厚肉の壁で射出成形される。したがって、炭酸ソフトドリンクボトルまたはその他のより大きいより薄壁のプラスチック容器より堅固である。真空容器として利用するために設計される検体採取管は通常、保管期間中に全真空に耐えるよう構成されており、真空チャンバとして使用可能である。VIIA1aかかる容器をそれ自体の真空チャンバへと適合させることで、通常極めて低圧で実行される当該容器のPECVD処理用真空チャンバ内への留置の必要性がなくなる可能性がある。容器をそれ自体の真空チャンバとして利用することにより、処理時間が迅速となり個別の真空チャンバからの部品の搭載非搭載が不要なため、装置設定の簡略化が可能となる。さらに特定の実施例については、当該機器をガス管やその他の装置へと位置合わせするため把持し、当該機器を当該容器ホルダーを真空ポンプへと装着して当該真空を創出可能とするため密閉し、およびモールドと後続処理手順との間で当該機器を移動する、容器ホルダーが考えられる。VIIA1a真空採血管として使用する容器80は、意図する塗布のために有用な減圧へと内部が真空化されている一方で、保存可能期間中に大気またはその他の大気中ガスが大幅に当該管当該閉包部をバイパスすることによりへと漏出するまたは当該壁86を通して透過することなしに、外部気圧に耐えるよう設計されているべきである。モールドされた時点での容器80がこの要件に満たない場合、遮断膜またはその他の種類の被覆材90で当該内面88を被覆することで処理可能である。これらの機器検体採取管やシリンジバレルなどの内面を処理およびまたは被覆して、既存のポリマー機器を超える利点を提供するおよびまたは既存のガラス製品を模倣するさまざまな性質を付与することが望ましい。処理または被覆の前およびまたは後に、当該機器のさまざまな性質を測定することが望ましい。さらなる模範的容器は、本書に記載のシリンジである。VIIA1b疎水性被覆材で被覆された壁を有する容器VIIA1b別の実施例は、疎水層被覆材で被覆される壁をその内面に有し、含水ソジウムクエン酸塩試薬を包含する容器である。当該疎水層被覆材は、当該容器内面の親水性SiOx被覆材の上にも塗布可能である。当該SiOx被覆材は当該プラスチック容器の遮断性を増加させ、当該疎水層被覆材は容器壁を有する当該容器内の組成物または化合物の接触面の界面エネルギーを変化させる。VIIA1b当該壁は熱可塑性素材を原料とし、内腔を定義する内面を有する。VIIA1b実施例VIIA1bに記載の容器は、本明細書での説明の通りに適用される当該管内面上の第1SiOx層被覆材を有し、酸素遮断層として機能して熱可塑性素材製真空採血管の保存可能期間を延長することが可能である。定義セクションで定義される通りの特徴を持つ疎水層の第2層被覆材を、当該容器内面の遮断層被覆材上に塗布して、疎水性表面を提供可能である。採血管またはシリンジにおいて、当該被覆材は随意に、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に曝露したクエン酸ナトリウム添加剤処理済みの血漿の血小板活性化を減少させるのに有効である。VIIA1bPECVDは、当該内面上に疎水層被覆材を成形するために使用される。従来のクエン酸塩採血管とは異なり、本書で定義する疎水層を有する採血管は、管の疎水性表面を生成するのに通常用いられる、容器壁のケイ素上で焼成する被覆材を必要としない。両方の層を、例えばHMDSOまたはOMCTSといった同一前駆体、および異なるPECVD反応条件を使用して塗布可能である。VIIA1b採血管またはシリンジを生成する場合、クエン酸ナトリウム抗凝固剤をその後当該管内に入れ、閉包部を用いて真空化および密閉化して真空採血管を生成可能である。当該剤の成分および公式は、当技術分野の当事者にとって既知である。当該含水ソジウムクエン酸塩試薬は、管内に導入される血液の凝固を阻害するのに有効な量で、管内腔に付着する。VIIA1cSiOx遮断膜被覆される2層壁プラスチック容器COC、PET、SiOx層VIIA1c別の実施例は、内腔を少なくとも一部封入する壁を有する容器である。当該壁は、外部ポリマー層で封入された内部ポリマー層被覆材を有する。1つのポリマー層被覆材は、少なくとも層厚01mmの、水蒸気遮断性を定義する環状オレフィン共重合体COC樹脂の層である。別のポリマー層は、少なくとも層厚01mmの、ポリエステル樹脂の層被覆材である。VIIA1c当該壁には、約10~500オングストロームの層厚を有するSiOx酸素遮断層被覆材が含まれる。VIIA1c代替実施例において、当該容器80は内壁408および外壁410を有する二重壁容器である場合があり、それぞれ同一のまたは異なる物質を原料とする場合がある。この種の特定実施例の1つは、環状オレフィン共重合体COCからモールドされた壁およびテレフタル酸ポリエチレンPETといったポリエステルからモールドされたその他の壁で構成され、当該内面412上に前述のSiOx被覆材を有する場合がある。必要に応じて、連結被覆材または連結層を当該内壁と外壁との間に挿入して、それらの間の付着力を促進可能である。この壁構造の利点として、異なる性質を有する壁を組合わせて各壁のそれぞれの性質を有する合成物を成形可能であることが挙げられる。VIIA1c一実施例として、当該内壁408はSiOx遮断層を有する内面412上のPET被覆から生成可能であり、当該外壁410はCOCから生成可能である。本明細書内別箇所で示す通り、SiOxを有するPET被覆は優良な酸素遮断層であり、一方COCは優良な水蒸気遮断層であり、それにより水蒸気遷移速度WVTRが低下する。本合成容器は、酸素および水蒸気の両方について優良な遮断性を有する場合がある。本構造は、例えば製造時に水性試薬を包含しかつ実質的な保存可能期間を有する真空化された医療用検体採取管のために考えられており、保存可能期間に合成壁を通る水蒸気の外方向への搬送または酸素またはその他のガスの内方向への搬送を防止するための遮断性を有するものとする。VIIA1c別の実施例として、当該内壁408はSiOx遮断層を有する内面412上のCOC被覆から生成可能であり、当該外壁410はPETから生成可能である。本構造は、例えば製造時に水性無菌液を包含する充填済みシリンジのために考えられている。当該SiOx遮断層は、酸素がその壁を通りシリンジに侵入するのを防止する。当該COC内壁は、例えば水といったその他の物質の侵入または放出を防止し、したがって当該水性無菌液内の水が当該壁素材から当該シリンジへと浸出するのを防止する。当該COC内壁はまた、水性無菌液由来の水が当該シリンジから透過するしたがって当該水性無菌液が望ましくなく濃縮されることを防止するために考えられており、非無菌液または当該シリンジ外部のその他の流体が当該シリンジ壁を通って侵入し当該含有物が非無菌液となることを、防止する。また当該COC内壁は、当該シリンジの内壁に対する当該プランジャーの破断力または摩擦を減少させるのに有用であると考えられる。VIIA1d2層壁プラスチック容器の製造方法COC、PET、SiOx層VIIA1d別の実施例は、外部ポリマー層により封入される内部ポリマー層被覆材を有し1つの層被覆材がCOC製でもう1つの層被覆材がポリエステル製である壁を有する、容器の製造方法である。当該容器は、COC層とポリエステル樹脂層を同心射出ノズルを通して射出成形モールドへ導入する過程を含む処理により製造される。VIIA1dオプションの追加手順として、内部被覆材、外部被覆材、または当該層の間に位置する中間層被覆材としての、非晶質炭素被覆材の当該容器へのPECVDによる塗布が挙げられる。VIIA1dオプションの追加手順として、前述通りにSiOxが定義される当該容器壁内面へのSiOx遮断層被覆材の塗布が挙げられる。別のオプションの追加手順として、本質的に酸素からなりおよび本質的に揮発性ケイ素化合物を含まないガス状反応物質または処理ガスによるSiOx層被覆材の後処理が挙げられる。VIIA1d随意に、当該SiOx被覆材は、少なくとも一部においてシラザン供給ガスから成形可能である。VIIA1d容器80は、一例として、第1モールド空洞部に当該内壁を射出成形して、その後当該核およびモールドされた内壁を第1モールド空洞部からより大きい第2モールド空洞部へと取り出し、その後当該第2モールド空洞部において当該内壁に対して当該外壁を射出成形することにより、内から外へ成形可能である。随意に、当該外壁を当該連結層へとオーバーモールドする前に、モールドされた内壁の外面へと連結層被覆材を提供可能である。VIIA1dまたは容器80は、一例として、当該モールド空洞部内に第1核を挿入し、当該モールド空洞部内で当該外壁を射出成形し、その後当該第1核をモールドした第1壁から取り出しより小さい第2核を挿入し、その後当該モールド空洞部にそのまま内在している当該外壁に対して該内壁を射出成形することにより、外から中へ成形可能である。随意に、当該内壁を当該連結層へとオーバーモールドする前に、モールドされた外壁の内面へと連結層被覆材を提供可能である。VIIA1dまたは容器80は、2段成形で製造される場合がある。これは、一例として、当該内壁用の部材を内部ノズルからおよび当該外壁用の部材を同心の外部ノズルから射出成形することにより、実行可能である。随意に、当該内部ノズルと外部ノズルの間に付帯する第3同心ノズルから、連結層被覆材を提供可能である。当該複数ノズルにより、それぞれの壁材料を同時に供給可能である。有用な手段の1つとして、当該内部ノズルを通して当該内壁材料を供給する少し前に、当該外部ノズルを通して当該外壁材料を供給し始めることが挙げられる。中間同心ノズルが存在する場合、工程順は当該外部ノズルから始まり、順に当該中間ノズルから、そして当該内部ノズルからと続く。または、供給開始順は当該内部ノズルから始まり、前述のものとは反対に外方向へと進めることが可能である。VIIA1eガラスを原料とする容器または被覆材VIIA1e別の実施例は、容器、遮断性被覆材、および閉包部を含む容器である。当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。当該容器は、当該内腔と接合する内面を有する壁で少なくとも一部が境界される、口および内腔を有する。少なくとも本質的に連続するガラス製遮断被覆材が、当該壁の内面に存在する。閉包部が当該口を覆い、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。VIIA1e当該容器80は例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、またはその他のガラス処方といった、医療または研究に使用されるいかなる種類のガラスを原料とすることが可能である。いかなる材料から製造されるいかなる形状またはサイズを有するその他の容器もまた、当該システム20での使用のために考えられる。ガラス容器の被覆の機能の1つとして、当該ガラスから当該容器の含有物真空採血管内の試薬または血液などへの、意図的または不純物ナトリウム、カルシウム、その他としてのイオンのガラス内への侵入を低減させることが挙げられる。例えば選択的に表面においてスライドしながら他の部品と接触するといった、ガラス容器全体または一部を被覆することの別の機能は、例えばシリンジ内のピストンといったスライド式構成要素の停止部材または経路の挿入または除去を容易にするために、当該被覆材に潤滑性を提供することである。ガラス容器を被覆するさらに別の理由として、当該容器内の試薬または意図する検体血液などの当該容器壁への付着、または当該容器壁に接触する血液の凝固率増加を防止することが挙げられる。VIIA1ei関連する実施例として、当該遮断性被覆材がソーダ石灰ガラス製またはホウケイ酸ガラス製またはその他の種類のガラスである、前段落で説明する容器が挙げられる。VIIA2停止部材VIIA2図5~7は、周囲環境から当該内腔274を隔離する閉包部270を有する真空採血管である場合がある、容器268を図示する。当該閉包部270は、当該容器268の内腔274に曝露する内部表面272および当該容器壁280の内面278に接触する接触内面276からなる。図示する当該実施例において、当該閉包部270は停止部材282および遮蔽体284のアセンブリである。VIIA2a潤滑層被覆材の真空チャンバ内停止部材への塗布方法VIIA2a別の実施例として、エラストマー製停止部材282などの上に被覆材を塗布する方法が挙げられる。当該停止部材282を当該容器268から離して、実質上真空チャンバ内に留置する。プラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスを含む反応混合物を用意する。当該停止部材に接触する反応混合物内にプラズマを生成させる。定義セクションで定義した通りに特徴付けられる、潤滑およびまたは疎水層が、停止部材の少なくとも一部に堆積する。VIIA2a図示する当該実施例において、当該閉包部270の壁接触内面276を潤滑層被覆材286で被覆する。VIIA2a一部の実施例において、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる潤滑およびまたは疎水層は、当該停止部材の1つ以上の構成要素停止部材または容器壁の金属イオン構成要素などの容器腔への透過性を減少させる効果がある。停止部材282の製作に有用な種類の特定のエラストマー組成には、微量の1種以上の金属イオンが含まれる。当該イオンは、特に当該検体容器268が微量金属分析の検体採集に使用される場合、当該内腔274へと移行するべきではない、または当該容器含有物に多量に接触するべきではない場合がある。例えば、比較的有機含有物をほとんど含まないすなわち、定義セクションで定義する通りSiwOxCyHzのyおよびzが低量またはゼロである被覆材は、本用途において金属イオン遮断膜として特に有用であることが考えられる。金属イオン遮断膜としてのケイ石粉については、例えば、言及することで本書に記載済みの、AnupamaMallikarjunan、JasbirJuneja、GuangrongYang、ShyamPMurarka、およびTohMingLuによるTheEffectofInterfacialChemistryonMetalIonPenetrationintoPolymericFilmsMatResSocSympProcVol734ppB9601toB9606、米国特許5578103および6200658、欧州出願EP0697378A2を参照されたい。しかしながら一部の有機含有物は、より弾性の被覆材を提供し、当該被覆材を当該停止部材282のエラストマー表面に付着させるのに、有用である可能性があるVIIA2a一部の実施例において、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる潤滑およびまたは疎水層は、第1内部層被覆材288がエラストマー製停止部材282と結合する第1層および第2層を有する材質の合成物である可能性があり、当該停止部材282の1種以上の構成要素の容器腔への透過性を減少させる効果がある。当該第2層被覆材286は当該容器の内壁280と接合可能であり、当該停止部材282が当該容器268上内に装填済である場合に、潤滑層被覆材として当該停止部材282と当該容器の内壁280との間の摩擦を減少させるのに効果的である。かかる合成物については、本明細書内の別箇所において、シリンジ被覆材に関連して記述する。VIIA2aまたは、当該第1層288および第2層286は累遷性被覆材により定義され、その場合、当該第1層被覆材における定義セクションで定義のyおよびzの値は当該第2層のものより大きくなる。VIIA2a当該潤滑およびまたは疎水層被覆材は、例えば、前述の通り実質上PECVDにより塗布可能である。当該潤滑およびまたは疎水層被覆材は、例えば層厚05~5000nm5~50000オングストローム、または層厚1~5000nm、または層厚5~5000nm、または層厚10~5000nm、または層厚20~5000nm、または層厚50~5000nm、または層厚100~5000nm、または層厚200~5000nm、または層厚500~5000nm、または層厚1000~5000nm、または層厚2000~5000nm、または層厚3000~5000nm、または層厚4000~10000nmである可能性がある。VIIA2aプラズマ被覆潤滑層に関して、より厚い1ミクロン以上従来の噴霧塗布式ケイ素潤滑剤より優れる、特定の利点が考えられる。プラズマ被覆材は血液への遊走性が噴霧またはミクロンケイ素と比べてはるかに低い。なぜなら、プラズマ被覆物質が非常に低量であり、当該被覆表面へのより密接な塗布および所定の位置におけるより良い結合である可能性があるからである。VIIA2a当該プラズマ被覆材はより平滑な表面を提供する傾向があるため、隣接面のスライドまたは隣接流体の流量のミクロ被覆材より低い抵抗を提供するための、PECVDによる塗布としてのナノ被覆が考えられる。VIIA2aまた別の実施例は、潤滑およびまたは疎水層被覆材をエラストマー製停止部材上に塗布する方法である。当該停止部材は、例えば前述容器を閉口するために使用可能である。当該方法はいくつかの部分からなる。停止部材を実質上真空チャンバ内に留置する。プラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスからなる反応混合物を用意する。プラズマが当該反応混合物内に生成される。当該停止部材は反応混合物と接触し、当該停止部材の少なくとも一部上に潤滑およびまたは疎水層被覆材が堆積される。VIIA2a本方法の実践において、定義セクションで定義される通りより高いyまたはzの値を得るため、さらに上述および後述するように、当該反応混合物は炭化水素ガスからなる場合があると考えられる。随意に、yおよびzの値が低いまたはxの値が高いと考えられる場合、当該反応混合物は酸素を含む場合がある。または、特に酸化を低減させyおよびzの値を増加させるため、当該反応混合物は本質的に酸化ガスを含まない可能性がある。VIIA2a本方法の実践において、例えば当該停止部材282といった当該停止部材の特定の実施例を被覆するため、当該反応混合物を当該停止部材凹面に投射することは不要であると考えられる。例えば、当該停止部材282の壁に接触する表面276および内部に対向する表面272は、本質的に凸面であり、したがってバッチ処理により簡単に処理できる。その場合、多数の停止部材282などは実質上真空である単一反応チャンバ内に位置し処理される可能性がある。さらに一部の実施例において、当該被覆材286および288は酸素または水に対して、当該容器268の内面280上の遮断性被覆材ほど強力な遮断膜として示される必要がないと考えられる。なぜなら、当該停止部材282の材質がこの機能の大半を担うからである。VIIA2a当該停止部材および当該停止部材の被覆処理の多くの変型が考えられる当該停止部材282は当該プラズマに接触可能である。または当該プラズマは、プラズマ生成物を生成する当該停止部材282の上流に成形可能であり、当該プラズマ生成物は当該停止部材282に接触可能である。当該プラズマは、電磁エネルギーおよびまたはマイクロ波エネルギーを用いて当該反応混合物を励起させることにより、生成可能である。VIIA2a当該反応混合物の変型が考えられる。当該プラズマ生成ガスは不活性ガス本書内で搬送ガスとも呼称されるを含む場合がある。当該不活性ガスは、例えばアルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン、クリプトン、これら2種以上の複合体である場合がある。特に、当該不活性ガスは、ネオン、アルゴン、ヘリウムである場合がある。当該有機ケイ素化合物ガスは、HMDSO、OMCTS、本開示で述べるその他の有機ケイ素化合物、またはこれら2種以上の複合体であるを含む場合がある。当該酸化ガスは、酸素、本開示で述べるその他のガス、またはこれら2種以上の複合体である場合がある。当該炭化水素ガスは、例えばメタン、メタノール、エタン、エチレン、エタノール、プロパン、プロピレン、プロパノール、アセチレン、またはこれら2種以上の複合体である場合がある。VIIA2bPECVDによる第III族または第IV族元素および炭素の被覆材の停止部材上への塗布VIIA2b別の実施例は、炭素または1種以上の第III族または第IV族元素を含む組成物の被覆材をエラストマー製停止部材に塗布する方法である。本方法を実行するには、停止部材を堆積チャンバ内に位置付ける。VIIA2b第III族元素、第IV族元素、またはそれら2つ以上の複合体である気体源を有するプラズマ生成ガスを含む反応混合物を、堆積チャンバに用意する。当該反応混合物は、随意に酸化ガスを包含し、随意に1種以上のCH結合を有するガス状化合物を包含する。当該反応混合物内にプラズマが生成され、当該停止部材が当該反応混合物に接触する。第III族元素または化合物、第IV族元素または化合物、またはそれら2つ以上の複合体である被覆材を、当該停止部材の少なくとも一部に堆積させる。VIIA324カ月95の真空状態を維持する遮断性被覆材を有する停止部材付きプラスチック容器VIIA3別の実施例は、容器、遮断性被覆材、および閉包部を含む容器である。当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。当該容器は、少なくとも一部が壁で境界される口および内腔を有する。当該壁は、当該内腔と接合する内面を有する。少なくとも本質的に連続する遮断性被覆材を、当該壁の内面に塗布する。当該遮断性被覆材は、実質的保存可能期間の提供に効果的である。当該容器の口を覆うを閉包部を用意して、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。VIIA3図5~7を参照に、例えば真空採血管またはその他の容器といった、容器268を示す。VIIA3当該容器は、本実施例において、少なくとも本質的に継続的な遮断性被覆材および閉包部を有する、通常管状の容器である。当該容器は熱可塑性素材を原料とし、当該内腔と接合する内面を有する壁で少なくとも一部が境界される、口および内腔を有する。当該遮断性被覆材は当該壁内面に堆積され、少なくとも24カ月、随意に少なくとも30カ月、随意に少なくとも36カ月の保存可能期間中に、当該容器の最初の真空レベルの少なくとも95を、または少なくとも90を維持するのに有効である。閉包部が当該容器の口を覆い、当該容器の内腔を環境大気から隔離する。VIIA3当該閉包部、例えば図内に図示する当該閉包部270またはその他の種類の閉包部は、一部真空を維持するため、およびまたは検体を包含するため、およびその酸素への曝露または汚染を制限防止するために提供される。図57は、米国特許6602206番に含まれる図に基づいているが、本発見はこれまたはその他のいかなる特定の種類の閉包部にも制限されない。VIIA3当該閉包部270は、当該容器268の内腔274に曝露する内部表面272および当該容器壁280の内面278に接触する接触内面276からなる。図示する当該実施例において、当該閉包部270は停止部材282および遮蔽体284のアセンブリである。VIIA3図示する当該実施例において、当該停止部材282は当該壁接触内面276および当該内面278を定義し、その一方で当該遮蔽体は大部分または全体が当停止された容器268の外部にあり、当該停止部材282の把持を保持および提供し、例えば当該容器268が開口され当該圧力差を均等化するため大気が急に増減する場合の当該容器268の内部と外部の圧力差が原因で当該容器268から放出される含有物に当該閉包部270を除去する人物が曝露しないよう遮蔽する。VIIA3さらには、当該容器壁280上の当該被覆材および当該停止部材の当該壁接触表面276を整合させることが可能であると考えられる。当該停止部材は潤滑性ケイ素層で被覆可能であり、例えばPET製またはガラス製である当該容器壁280はより硬質なSiOx層または下層のSiOx層被覆材および潤滑性保護膜で被覆可能である。VIIBシリンジVIIB以上の記述は主に、例えば採血管またはより一般的には検体収受管80といった1つの恒久的閉口端を有する管への遮断性被覆材の塗布に言及している。当該装置はかかる機器に制限されない。VIIB図4に示す、適切な容器の別の実施例は医療用シリンジ252のためのシリンジバレルである。かかるシリンジ252は、医療技術で使用される食塩水、医薬品、または同種のもので充填済みである場合がある。事前充填済みシリンジ252も、例えば保存中のシリンジバレル250のように、事前充填済みシリンジ252の内容物がシリンジのプラスチックに接触しないよう維持できる、内面254上のSiOx遮断層またはその他の種類の被覆材から、利益を得られると考えられる。当該遮断膜またはその他の種類の被覆材は、当該プラスチック成分が当該内面254を通して当該バレルの含有物へと浸出するのを防止するために使用可能である。VIIBシリンジバレル250はモールド時には一般に、プランジャー258を収受する後端部256と、当該シリンジ252の含有物を投与するための物質を当該シリンジ252へと収受するための皮下注射針、ノズル、またはタブを収受する前端部260の両方が開口している場合がある。しかし当該充填済みシリンジ252が使用される前に、当該前端部260には随意に蓋が付けられ、当該プランジャー258は随意に所定の位置に装着され、当該バレル250の両端は閉口される場合がある。蓋262を設置する目的は、当該シリンジバレル250または組立てられたシリンジを処理するため、または当該蓋262を除去し随意に皮下注射針または当該シリンジ252の使用準備のためその他の搬送導管を当該前端部260に装着する時まで当該充填済みシリンジ252を保管期間中の所定位置に維持するため、のいずれかである場合がある。図24~26に示す適切な容器の別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、および固定針を含むシリンジである。当該針は空洞で、通常サイズは18~29ゲージである。当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。当該固定針は、シリンジの射出成形中にシリンジへと取り付けられる。または、接着剤を利用して成形済みシリンジへと組立てられる。当該固定針にはカバーがかけられ、当該シリンジアセンブリを封入する。当該シリンジアセンブリは、当該シリンジ内の真空状態を維持し当該PECVD被覆処理を有効とするため、封入されなければならない。当該固定針シリンジの針には、外面、一方の端に供給口、もう1つの端に底部、当該底部から当該供給口へと伸延する内部経路がある。当該バレルには、例えば通常シリンダー状の内面があり、内腔を定義している。また当該バレルには、当該針の外面と接触する流体密閉部の周りおよび内部に前部経路がモールド形成されている。いずれかの固定針実施例のシリンジは随意に、当該針の供給口を環境大気から隔離するよう設定される蓋をさらに含む。いずれかの固定針実施例の蓋は随意に、周縁部により定義され供給口を収受可能なサイズの、開口部を有する内腔をさらに含む。当該周縁部は、当該バレルの外部部位に対して装填可能である。いずれかの固定針実施例のシリンジにおいて、当該バレルは随意に、その前部経路に隣接する通常半球状の内面部位を含む場合がある。いずれかの固定針実施例のシリンジにおいて、当該針の底部は随意に、当該バレル半球状内面部位と共に少なくとも実質上フラッシュ可能である。いずれかの固定針実施例のシリンジは随意に、当該バレルの半球状内面部位の少なくとも1つの上に、PECVD塗布遮断性被覆材をさらに含む場合がある。いずれかの固定針実施例のシリンジにおいて、当該遮断性被覆材は随意に、当該バレルの通常シリンダー状の内面部位の少なくとも1部位の上に伸延する場合がある。いずれかの固定針実施例のシリンジにおいて、当該遮断性被覆材は随意に、当該針の底部と当該バレルの通常シリンダー状の内面部位との間に遮断性を形成する場合がある。図24の固定針実施例において、当該蓋7126は、従来のルアーロック装備で、当該シリンジ7120の鼻部71110上で定位置に固定される。当該シリンジのテーパー状鼻部71110は対応する当該蓋7126のテーパー状のど部71112と嵌合し、当該シリンジは、当該テーパー71110および71112を共にロックする当該蓋7126のドッグ71118および71120を収受する内部ねじ山71116付きのカラー71114を有する。当該蓋7126は、実質上硬質である場合がある。ここで図25を参照して、当該固定針実施例のシリンジバレル71122および蓋71124の変型が示される。本実施例において、当該蓋71124は底部に、当該シリンジバレル71122と湿度密閉部を形成するための柔軟性縁密閉部7172を含む。随意に図24および25の固定針実施例において、当該蓋7126および71124は当該PECVD被覆材処理の間、真空に耐えることが可能である。当該蓋7126および71124は、LDPE製である場合がある。代替の硬質プラスチック素材、例えばポリプロピレンも使用可能である。追加の密閉要素の提供も可能である。図26に示される固定針実施例のもう1つのオプションにおいては、当該蓋71126は柔軟であり、当該シリンジ7120の上端部を覆って密閉するよう設計される。ゴムまたは熱可塑性エラストマーといった、変形可能な素材を当該蓋71126に利用可能である。望ましいTPE素材には、フルオロエラストマー、特に医療グレードのフルオロエラストマーが含まれる。例として、VITON商標およびTECHNOFLON商標が挙げられる。VITON商標は一部の実施例で望ましい。適したゴムの例は、EPDMゴムである。モールドの間、特定の固定針実施例において、少量の当該蓋素材71132が、当該針7122の端部または供給口7134へと引き入れられ、密閉部が生成される。当該素材71132は、適量の素材が当該針7122へと引き入れられ、当該針7122へと引き入れられた当該素材が取り外される時に当該蓋71126へと装着され続け、当該針7122使用時に栓を抜くことができるよう、デュロメーターを有するべきである。別の固定針実施例において、当該蓋素材71132は、当該供給口7134へと引き入れられることなく、当該針7122の供給口をブロックする場合がある。望ましい目的を達成するための適切な材料選択は、当技術分野の当事者の能力の範囲内とされる。追加の密閉部を、当該シリンジバレル内に形成されるアンダーカット71134と当該蓋71126の内部の突起部71138を結合させ、当該蓋71126を維持するための結合部を定義することにより、作成可能である。代替の固定針実施例には、前述の密閉部のいずれかまたは両方が含まれる場合がある。随意に図25を参照して、当該蓋71124は、当該蓋7126を当該バレル上の装填位置へと固定するよう設定される、底部7168および結合部7170を有する。代替としてまたはさらに、柔軟性縁密閉部7172は随意に、当該蓋71124が当該バレル71122上に固定される場合に当該バレル71122に対して装填するため、当該蓋71124の底部7168に提供される場合がある。随意にここで図26を参照して、当該針7122の供給口7134は、当該蓋7126が当該バレル上に固定されている場合、当該蓋71126上に装填可能である。本手段は、必要に応じて、空気またはその他の流体の侵入放出を止めるため当該供給口7134を密閉するのに有用である。随意に当該固定針実施例において、当該結合部7170は、バレル71122および蓋71124いずれかの上の戻り止めまたは溝7174、および別のバレル71122および蓋71124の上の突起部または肋材7176を含む場合がある。当該突起部7176は、当該蓋7126が当該バレル上の装填位置にある場合に、当該戻り止め76と嵌合するよう適合される。ある考察される実施例において、戻り止め7174は当該バレル上に、突起部7176は当該蓋7126上にある場合がある。別の考察実施例において、戻り止め7174は当該蓋7126上に、突起部7176は当該バレル上にある場合がある。また別の考察される実施例において、第1戻り止め7174は当該バレル上に、当該戻り止め7174と嵌合する第1突起部7176は当該蓋7126上にある場合があり、一方第2戻り止め7175は当該蓋7126上に、嵌合する当該第2突起部7177は当該バレル上にある場合がある。戻り止め7174は、当該モールド内の7192および7194といった側部吸引を組み入れることにより、アンダーカットとして当該シリンジバレル内にモールドされる場合がある。当該戻り止め7174は、予備突起部7176と嵌合して、当該蓋7126を当該シリンジ7120へと組立てる。この点において当該蓋7126は、当該戻り止め7174および突起部7176をスナップ係合するため十分に変形可能であるよう、十分に柔軟であることが望ましい。当該固定針実施例における7126、71124、71126といった当該蓋は、射出成形またはその他の方法で例えば熱可塑性素材から成形可能である。適切な熱可塑性素材のいくつかの例として、環状オレフィンSiO2ポリマー、環状オレフィン共重合体、ポリプロピレン、ポリエチレンなどが挙げられる。当該蓋7126は、熱可塑性エラストマーまたはその他のエラストマー素材を含むから作られる場合がある。当該蓋7126はまた、テレフタル酸ポリエチレン、ポリカーボネート樹脂、その他の適切な素材から作られる場合がある。随意に当該蓋7126の素材は、真空に耐え当該シリンジ7120内の滅菌性を維持するものを選択可能である。通常当該シリンジバレルを被覆する場合、当該被覆基板表面を当該バレルの内面の一部または全部とし、当該PECVD反応のためのガスが当該バレルの内部内腔に充填され、当該プラズマが当該バレルの内部内腔の一部または全部に生成されるよう、本書に記載のPECVD被覆方法を実行する。VIIB1a潤滑層で被覆されるバレル付きシリンジVIIB1a当該種の潤滑層を有するシリンジは、以下の工程により生成可能である。VIIB1a上記で定義される前駆体を用意する。VIIB1a当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較してプランジャースライド力または起動力を低減する潤滑表面を生成する。VIIB1a実施例VIIおよび下位部分に関して、当該塗布手順は随意に、当該前駆体の気化により行われ、当該基板付近に提供される。VIIB1aプラズマが当該基板付近で生成される。随意に、当該前駆体を実質上窒素が存在しない環境へと提供する。随意に、当該前駆体を絶対圧が1トール未満である環境へと提供する。随意に、当該前駆体をプラズマ発光付近の環境へと提供する。随意に、当該前駆体およびその反応生成物を当該基板へと1~5000nm、または10~1000nm、または10~500nm、または10~200nm、または20~100nm、または30~1000nm、または30~500nm、または30~1000nm、または20~100nm、または80~150nmの平均層厚で塗布する。随意に、当該基板はガラスからなる。随意に当該基板は、ポリマーから、随意にポリカーボネートポリマーから、随意にオレフィン重合体から、随意に環状オレフィン共重合体から、随意にポリプロピレンポリマーから、随意にポリエステルポリマーから、随意にテレフタル酸ポリエチレンポリマーからなる。COCは特に、シリンジおよびシリンジバレル用として検討される。VIIB1a随意に当該プラズマを、上記で定義される、例えば周波数が10kHz~300MH未満、随意に1~50MHz、さらに随意に10~15MHz、随意に1356MHzである、RF周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することで生成する。VIIB1a当該プラズマは、随意に01~25W、随意に1~22W、随意に3~17W、さらに随意に5~14W、随意に7~11W、特に8Wの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成される。当該電極電力の対プラズマ量比は10Wml未満であり、随意に6Wml~01Wml、随意に5Wml~01Wml、随意に4Wml~01Wml、随意に2Wml~02Wmlである場合がある。低い電力レベルは、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1~3mLの空隙容量を有する類似形状容器への潤滑層の塗布に適している。より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。VIIB1a別の実施例は、シリンジバレルの内壁上の本発明の潤滑性被覆材である。当該被覆材は、以下の素材および条件を使用してPECVD処理により生成される。随意に環状前駆体を利用し、本明細書内別箇所で潤滑層に関して定義する、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、またはこれら2つ以上の複合体から選択する。適切な環状前駆体の一実施例は、随意に、その他の前駆体原料といかなる割合で混合された、オクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSからなる。随意に当該環状前駆体は、本質的にオクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSからなり、すなわちその他の前駆体は生成された潤滑層の基本的および新しい性質を変化させる例:当該被覆表面のプランジャースライド力または起動力を減少させることのない量で示される可能性がある。VIIB1a十分にプラズマを生成する電力入力、例えば本明細書の1つ以上の実施例において成功裏に使用されるまたは本明細書に記述されるいかなる電力レベルを供給して、被覆材生成を誘導する。VIIB1a利用する当該素材および条件は、当該シリンジバレル内を移動するシリンジプランジャーのスライド力または起動力を、非被覆シリンジバレルと比較して少なくとも25パーセント、あるいは少なくとも45パーセント、あるいは少なくとも60パーセント、あるいは60パーセント以上減少させるのに効果的である。プランジャースライド力または起動力を20~95パーセント、あるいは30~80パーセント、あるいは40~75パーセント、あるいは60~70パーセント減少させる範囲が考えられる。VIIB1a別の実施例は、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層を、当該内壁上に有する容器である。当該被覆材は、類似組成の潤滑被覆材に関する説明通りに、しかし未処理基板と比較して高い接触角を有する疎水性表面を生成するのに効果的な条件下で生成される。VIIB1a実施例VIIA1aiiに関して、当該基板はガラスまたはポリマーからなる。当該ガラスは、随意にホウケイ酸ガラスである。当該ポリマーは、随意にポリカーボネートポリマー、随意にオレフィン重合体、随意に環状オレフィン共重合体、随意にポリプロピレンポリマー、随意にポリエステルポリマー、随意にテレフタル酸ポリエチレンポリマーである。VIIB1a別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、および潤滑層を含むシリンジである。当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を含有する。当該潤滑層または被覆材は、当該シリンジバレルの内面の一部または全部の上に付帯される。当該潤滑層被覆材は1000nm未満の層厚である場合があり、起動力またはバレル内でプランジャーを移動させるために必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。当該プランジャースライド力の減少は、あるいは当該バレル内での当該プランジャーのスライド摩擦係数の減少または当該プランジャー力の減少これらの用語は本明細書内において同義であると見なすとして表現される。VIIB1a当該シリンジ544は、プランジャー546およびシリンジバレル548からなる。当該シリンジバレル548は、当該プランジャー546をスライド可能に収受する内面552を有する。当該シリンジバレル548の内面552はさらに、潤滑層被覆材554からなる。当該潤滑層被覆材は1000nm未満、随意に500nm未満、随意に200nm未満、随意に100nm未満、随意に50nm未満の層厚であり、保管後のプランジャーの付着状態を打開するのに必要な起動力、または起動後にバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。当該潤滑層被覆材は、当該非被覆表面より低いプランジャースライド力または起動力を有することにより特徴付けられる。VIIB1a上記いずれかの前駆体を単体で、または2種以上の複合体で使用して潤滑層を提供可能である。VIIB1a真空処理の利用に加えて、低温度大気非真空プラズマ処理も利用して、随意にヘリウムまたはアルゴンなど非酸化大気において、前駆体モノマー蒸気供給を通しての分子イオン化および堆積を誘導可能である。個別に、温熱性CVDを閃光熱分解堆積経由で検討可能である。VIIB1a上記アプローチは、当該表面被覆および交差結合機構が同時に生じる可能性がある真空PECVDに類似する。VIIB1aいかなる被覆材または本明細書に記載の被覆材に関するまた別の考えられる手段として、容器の内部88全体に不均一に塗布される被覆材が挙げられる。例えば、異なるまたは追加の被覆材を、選択的に当該容器内部のシリンダー状部分へと塗布し、当該容器内部の閉口端84にある半球状部分と比較する、またはその逆が可能である。本手段は特に、以下に記述するシリンジバレルまたは検体採取管に関して考えられる。当該シリンジバレルにおいて、当該プランジャーまたはピストンまたは閉包部がスライドするが別箇所はスライドしない当該バレルのシリンダー状部分の一部または全部に、潤滑層被覆材を提供可能である。VIIB1a随意に、窒素の存在下で、実質的非存在下で、または非存在下で、当該前駆体を提供可能である。考えられる一実施例において、当該前駆体単体を当該基板へと搬送し、PECVDを施し被覆材を塗布硬化するVIIB1a随意に、当該前駆体を絶対圧が1トール未満である環境へと提供する。VIIB1a随意に、当該前駆体をプラズマ発光付近の環境へと提供する。VIIB1a上記実施例のいずれにおいても、当該基板はガラスまたは、例えば1種以上のポリカーボネートポリマー、オレフィン重合体例えば環状オレフィン共重合体またはポリプロピレンポリマー、ポリエステルポリマー例えばテレフタル酸ポリエチレンポリマーといったポリマーからなる場合がある。VIIB1a上記実施例のいずれにおいても、本記述で定義するRF周波数を動力源とする電極を有する当該前駆体を包含する当該ガス状反応物を加圧することにより、当該プラズマを生成する。VIIB1a上記実施例のいずれにおいても、潤滑層の生成に十分な電力の供給を受ける電極を有する当該前駆体を包含する当該ガス状反応物を加圧することにより、当該プラズマを生成する。当該プラズマは、随意に01~25W、随意に1~22W、随意に3~17W、さらに随意に5~14W、随意に7~11W、特に8Wの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成される。当該電極電力の対プラズマ量比は10Wml未満であり、随意に6Wml~01Wml、随意に5Wml~01Wml、随意に4Wml~01Wml、随意に2Wml~02Wmlである場合がある。低い電力レベルは、潤滑性被覆材を生成するのに最も有利であると、発明者により確証されている。当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1~3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑層の塗布に適している。より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。VIIB1a被覆材の重合、交差結合またはまたはその両方により当該被覆材を硬化して、未処理基板と比較してプランジャースライド力または起動力を低減させる潤滑表面を生成可能である。硬化は、例えばPECVDといった当該塗布処理の間に起こる可能性があり、または別処理により実行されるまたは少なくとも完了される場合がある。VIIB1a当該被覆材の特性を明示するため本書ではプラズマ堆積を使用しているが、当該出発物質の化学的組成を維持し当該底部基板に付着する間断ない膜を堆積することが可能である限り、別の堆積方法を使用可能である。VIIB1a例えば、当該被覆材の噴霧または当該基板の当該被覆材への浸漬により、当該被覆材原料を流体状態から当該シリンジバレル上に塗布可能であり、その場合、当該被覆材は当該純前駆体または溶媒希釈前駆体より薄い被覆材の機械的堆積を可能とするのいずれかである。当該被覆材は随意に、温熱性エネルギー、UVエネルギー、電子光線エネルギー、プラズマエネルギー、またはこれらの複合体を利用して交差結合可能である。VIIB1a上述のケイ素前駆体の表面への塗布とその後の個別の硬化手順もまた考えられる。塗布および硬化の当該条件は、商標TriboGlide商標の下で実践される処理である被覆前ポリフルオロアルキルエーテルの当該大気プラズマ硬化に使用されているものと類似している場合がある。本処理の詳細については、httpwwwtriboglidecomprocesshtmを参照されたい。VIIB1aかかる処理において、被覆対象部位の領域を随意に大気プラズマで前処理可能である。本前処理により当該表面がが浄化および活性化されるため、次手順で噴霧される当該潤滑剤を受容可能となる。VIIB1a当該潤滑性流体、この場合前述前駆体または重合前駆体の1つを、その後処理対象表面に噴霧する。例えば、IVEK精密分配技術を使用して、当該流体を正確に霧化し均一な被覆材を創出可能である。VIIB1aその後当該被覆材を、再度大気中プラズマ場を利用して、当該部分へと結合または交差結合する。これにより、当該被覆材を固定し当該潤滑剤のパフォーマンスを改善できる。VIIB1a随意に、当該大気プラズマを当該容器内の環境大気から生成可能であり、その場合、ガス供給装置および真空化装置は不要である。しかしながら当該容器は随意に、当該電力要件を最小限とし当該プラズマの当該容器外部の表面素材への接触を防止するため、少なくともプラズマ生成中は実質上閉口である。VIIB1ai潤滑層SiOx遮断層、潤滑層、表面処理表面処理VIIB1ai別の実施例は、内腔を定義するバレルからなり、プランジャーをスライド可能に収受する、すなわち当該内面へのスライド接触のためのプランジャーを収受する、内面を有するシリンジである。VIIB1ai当該シリンジバレルは、熱可塑性基材を原料とする。VIIB1ai随意に、本明細書内別箇所で記述する通り、当該バレル内面をSiOx遮断層被覆材で被覆する。VIIB1ai潤滑層被覆材を、バレル内面の一部または全部、プランジャー、または両方、または先に塗布されたSiOx遮断層に塗布する。当該潤滑層被覆材を、実施例VIIB1aまたは本明細書内別箇所で定義するとおりに提供、塗布または硬化可能である。VIIB1ai例えば当該潤滑層被覆材は、あらゆる実施例において、PECVDにより塗布される場合がある。当該潤滑層被覆材は有機ケイ素前駆体を原料として堆積され、層厚1000nm未満である。VIIB1ai潤滑層被覆材上での表面処理を、潤滑層、熱可塑性基材、または両方の浸出または抽出物を低減させるのに効果的な量で実行する。当該処理表面は、したがって溶質保持部材として機能する場合がある。本表面処理は結果としてスキン塗となる場合があり、例えば1nm以上の層厚、100nm未満の層厚、または50nm未満の層厚、または40nm未満の層厚、または30nm未満の層厚、または20nm未満の層厚、または10nm未満の層厚、または5nm未満の層厚、または3nm未満の層厚、または2nm未満の層厚、または1nm未満の層厚、または05nm未満の層厚のスキン塗となる可能性がある。VIIB1ai本書で使用される浸出とは、例えば容器壁といった基板から例えばシリンジといった容器の含有物への、物質の搬送を指す。一般に浸出物は、意図する含有物で充填された当該容器を保管し、その後当該含有物を分析して当該容器壁から意図する含有物へと浸出した物質を判定することにより、測定する。抽出とは、当該容器の意図する含有物の他に溶媒または分散媒質を導入して当該試験条件下で当該基板から抽出媒質へと除去可能な物質を判定することによる、基板からの物質の除去を指す。VIIB1ai随意に溶質保持部材をもたらす表面処理は、本明細書で既に定義済みであるSiOx層被覆材、または定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層である可能性がある。一実施例において、当該表面処理はSiOxまたは疎水性層のPECVD堆積により塗布可能である。随意に、当該潤滑層の生成で使用するものより高い電力、より強い酸化条件、または両方を使用して、当該表面処理を塗布可能であり、したがってより硬質、薄肉、継続的な溶質保持部材539を提供可能である。表面処理は、当該潤滑層の深部100nm未満、随意に50nm未満、随意に40nm未満、随意に30nm未満、随意に20nm未満、随意に10nm未満、随意に5nm未満、随意に3nm未満、随意に1nm未満、随意に05nm未満、随意に01~50nmである場合がある。VIIB1ai当該溶質保持部材は、当該下層潤滑性および必要に応じて当該基板を含むその他の層に対して、低い溶質浸出性を提供すると考えられる。本保持部材は、ガスO2N2CO2水蒸気遮断層ではなく、溶質大分子およびオリゴマー例えば、HMDSO、OMCTSといったシロキサンモノマー、それらの断片および潤滑剤由来の移動性オリゴマー、例えば浸出物保持部材に対する溶質保持部材であることのみが求められる。溶質保持部材は、しかしながら、ガス遮断膜例えば本発明に記載のSiOx被覆材である可能性もある。真空または大気中PECVD処理により、ガス遮断性を伴わない良好な浸出物保持部材を創出可能である。当該浸出物遮断膜が十分に薄肉であることが望ましく、シリンジプランジャーの移動については、当該プランジャーがスライド式プランジャー突起を直下の潤滑層被覆材に曝露しながら溶質保持部材へ容易に侵入し、未処理基板と比較してプランジャースライド力または起動力を低下させる潤滑表面を生成する。VIIB1ai別の実施例において、プラズマ環境における当該表面の酸素への曝露のように、以前塗布した潤滑層の表面の酸化により実施可能である。本明細書で説明する当該プラズマ環境を使用して、SiOx被覆材を成形可能である。または、酸素環境において大気プラズマ条件を利用可能である。VIIB1ai当該潤滑層被覆材および溶質保持部材は、しかしながら成形され、随意に、同時に硬化可能である。別の実施例において、当該潤滑層被覆材は少なくとも一部を硬化可能であり、随意に全体を硬化可能であり、その後、当該表面処理を提供塗布可能および当該溶質保持部材を硬化可能である。VIIB1ai当該潤滑層被覆材および溶質保持部材は、起動力、プランジャースライド力、または両方を、潤滑層被覆材および表面処理なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供する。言い換えれば、当該溶質保持部材の層厚および組成は、当該潤滑層被覆材からの物質の当該シリンジ含有物への浸出を低下させ、当該下層潤滑層被覆材で当該プランジャーを潤滑化するためのものである。当該溶質保持部材は容易に剥離し、当該潤滑層被覆材は当該プランジャーの移動を潤滑化する機能を果たすのに十分な薄さであることが考えられる。VIIB1ai考えられる一実施例において、当該潤滑性処理および表面処理は、当該バレル内面に塗布可能である。考えられる別の実施例において、当該潤滑性処理および表面処理は、当該プランジャーに塗布可能である。考えられるまた別の実施例において、当該潤滑性処理および表面処理は、当該バレル内面とプランジャーの両方に塗布可能である。当該実施例のいずれかにおいて、当該シリンジバレル内部のオプションSiOx遮断層被覆材は存在または非存在である可能性がある。VIIB1ai考えられる一実施例は、当該シリンジバレルの内面に塗布する複数層例えば3層設定である。層被覆材1は、酸化性大気内でMDSO、OMCTSまたは両方のPECVDにより生成されるSiOxガス遮断膜である場合がある。かかる大気は例えば、本明細書に記載のPECVD被覆装置へのHMDSOおよび酸素ガスの供給により、提供可能である。層被覆材2は、非酸化性大気内で塗布するOMCTSを使用する潤滑層被覆材である場合がある。かかる非酸化性大気は例えば、本明細書に記載のPECVD被覆装置へのOMCTSの供給により、随意に実質上または完全な酸素非存在下で、提供可能である。二次溶質保持部材を、SiOxの表面薄層被覆材または疎水層被覆材を生成する処理により、OMCTSおよびまたはHMDSOを使用してより高い電力と酸素を使用する溶質保持部材として、成形可能である。VIIB1ai特定の当該複数層被覆材は、少なくともある程度、以下の1つ以上のオプション利点を有していると考えられる。当該溶質保持部材は当該内部ケイ素を収容し、当該シリンジの含有物または別箇所へと移動するのを防止する可能性があるため、それらにより報告されているケイ素取扱い困難性に対処できる可能性がある。その結果、当該可能な当該シリンジの含有物内のケイ素粒子が減少し、当該潤滑層被覆材と当該シリンジの含有物との間の相互作用の機会が低下する。また、当該潤滑層被覆材が潤滑点から離れて移動する問題に対処して、当該シリンジバレルと当該プランジャー間の界面の潤滑性を改善できる可能性がある。例えば、当該打破力が低下し、当該移動プランジャー上の抗力が低下し、随意に両方が低下する場合がある。VIIB1ai当該溶質保持部材が破損している場合、当該溶質保持部材は該潤滑層被覆材および当該シリンジバレルへと付着し続け、いかなる粒子の当該シリンジの搬送可能含有物内への取り込みも阻害する可能性がある、と考えられる。VIIB1aiまた、特定の当該被覆材は製造上の利点を、特に当該遮断性被覆材、潤滑層被覆材、および表面処理が当該同一装置、例えば当該図示するPECVD装置において塗布される場合に提供する。随意に、当該SiOx遮断性被覆、潤滑層、および表面処理はすべて1つのPECVD装置において適用可能であり、したがって取扱い要件が大幅に削減される。当該遮断性被覆材、潤滑層、および溶質保持部材を当該同一前駆体を使用して生成することにより、および当該処理を修正することにより、さらなる利点を取得可能である。例えば、SiOxガス遮断層被覆材は高電力高O2の条件下でOMCTS前駆体を使用して塗布可能となり、そして潤滑層被覆材は低電力およびまたは実質上または完全な無酸素の条件下でlOMCTS前駆体を使用して塗布可能となり、最後に表面処理は中間電力および酸素の条件下でOMCTS前駆体を使用して塗布可能となる。VIIB2プランジャーVIIB2a遮断性被覆ピストン前面VIIB2a別の実施例は、ピストンおよびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。当該ピストンは、前面、通常シリンダー状である側面、および後部を有しており、当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定される。当該前面は遮断性被覆材を有する。当該プッシュロッドを当該後部と係合させ、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定する。VIIB2b側面と接合する潤滑層被覆材VIIB2bまた別の実施例は、ピストン、潤滑層、およびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。当該ピストンは前面、通常シリンダー状である側面、後部を有する。当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定する。当該潤滑層被覆材は当該側面と接合させる。当該プッシュロッドは当該ピストン後部と係合し、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定される。VIIB3a2部構成シリンジおよびルアー取付部VIIB3a別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、およびルアー取付部を含むシリンジである。当該シリンジは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有するバレルを含有する。当該ルアー取付部には、内面により定義される内部経路を有するルアーテーパーが含まれる。当該ルアー取付部はシリンジバレルとは個別の部材として成形され、カップリングによりシリンジバレルと結合する。当該ルアーテーパーの内部経路は、随意にSiOx遮断性被覆材を有する。VIIB3b固定針シリンジVIIB3b別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、および固定針を含むシリンジである。当該針は空洞で、通常サイズは18~29ゲージである。当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。当該固定針は、シリンジの射出成形中にシリンジへと取り付けられる。または、接着剤を利用して成形済みシリンジへと組立てられる。当該固定針にはカバーがかけられ、当該シリンジアセンブリを封入する。当該シリンジアセンブリは、当該シリンジ内の真空状態を維持し当該PECVD被覆処理を有効とするため、封入されなければならない。VIIB4潤滑層被覆材一般VIIB4a工程別および潤滑性別の生成物VIIB4aまた別の実施例は、潤滑層である。本被覆材は、本書に記載の潤滑性被覆材を生成する工程により作られる種類のものである場合がある。VIIB4a本明細書内別箇所で述べる潤滑性被覆材のためのあらゆる当該前駆体を、単体でまたは複合体で使用可能である。当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較してプランジャースライド力または起動力を低減する潤滑表面を生成する。VIIB4a別の実施例は、潤滑層を塗布する方法である。有機ケイ素前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較してプランジャースライド力または起動力を低減する潤滑表面を生成する。VIIB4b工程別および分析特性別の生成物VIIB4bさらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、随意に有機ケイ素前駆体からなる、随意に線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑層被覆材である。当該被覆材の密度は、X線反射率XRRにより決定される通り、125~165gcm3、随意に135~155gcm3、随意に14~15gcm3、随意に144~148gcm3である場合がある。VIIB4bさらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、随意に有機ケイ素前駆体からなる、随意に線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑層被覆材である。当該被覆材は、ガスクロマトグラフィー質量分析法により判定されるとおり、ガス放出成分、反復2SiO部分を含む1種以上のオリゴマーを有する。随意に、当該被覆材は実施例VIIB4aのいずれかの制限を満たす。随意に、当該被覆材ガス放出成分は、ガスクロマトグラフィー質量分析法により判定される通り、実質上トリメチルシラノールを含まない。VIIB4b随意に、当該被覆ガス放出成分は、以下の試験条件を使用するガスクロマトグラフィー質量分析法により判定されるとおり、反復2SiO部分を含む少なくとも試験あたり10ngのオリゴマーを有する。GCカラム:30mX025mmDB5MSJWScientific、025μm膜層厚流量:10mlmin、定流量モード検出器:質量選択検出器MSD射出モード分割射出分割率101ガス放出条件112インチ37mmチャンバ、3時間、85°C、60ml分の流量でパージ炉温度40°C5分から始め10°C分で300°Cまで加熱、300°Cを5分間保持。VIIB4b随意に、当該ガス放出成分は、反復2SiO部分を含む少なくとも試験あたり20ngのオリゴマーを含む場合がある。VIIB4b随意に当該供給ガスは、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体、例:オクタメチルシクロテトラシロキサンからなる。あらゆる実施例の当該潤滑層被覆材は、透過電子顕微鏡法TEMにより測定される1~5000nm、または10~1000nm、または10~200nm、または20~100nm、または30~1000nm、または30~500nmの層厚を有する場合がある。望ましい範囲は30~1000nmおよび20~100nm、および特に望ましい範囲は80~150nmである。当該被覆材の単一測定点における絶対層厚は、当該平均層厚の範囲限界より高いまたは低い場合がある。しかし通常は、平均層厚として述べられた層厚の範囲内で変動する。VIIB4b本発明の別の態様は、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑層被覆材である。当該被覆材は、100炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素の原子濃度を有し、X線光電子分光法XPSにより判定される通り、当該供給ガスの原子公式における炭素の原子濃度を上回る。随意に、当該被覆材は実施例VIIB4aまたはVIIB4bAの制限を満たす。VIIB4b随意に、当該炭素の原子濃度は、潤滑性被覆材生成時の当該有機ケイ素前駆体内の炭素の原子濃度に対して1~80原子パーセントEP2251455の実施例15のXPS条件に基づき計算、あるいは10~70原子パーセント、あるいは20~60原子パーセント、あるいは30~50原子パーセント、あるいは35~45原子パーセント、あるいは37~41原子パーセント増加する。VIIB4b本発明の追加の態様は、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑層被覆材である。当該被覆材は、100炭素、酸素、ケイ素に正規化したケイ素の原子濃度を有し、X線光電子分光法XPSにより判定される通り、当該供給ガスの原子公式におけるケイ素の原子濃度を下回る。EP2251455の実施例15を参照されたい。VIIB4b随意に、当該ケイ素の原子濃度は1~80原子パーセントEP2251455の実施例15のXPS条件に基づき計算、あるいはfrom10~70原子パーセント、あるいは20~60原子パーセント、あるいは30~55原子パーセント、あるいは40~50原子パーセント、あるいは42~46原子パーセント減少する。VIIB4b断面図VIIB4に列挙される2つ以上の性質の複合体を有する潤滑層もまた、明示的に考えられる。VIIC容器一般VIIC本明細書に記載のおよびまたは本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器または容器は、化合物または組成物の収受およびまたは保管およびまたは供給のために使用可能である。当該化合物または組成物は、例えば大気感受性、酸素感受性、湿度感受性およびまたは機械的作用感受性といった感度が高い場合がある。生物学的に活性な化合物または組成物、例えばインスリンまたはインスリンからなる組成物といった薬剤である場合がある。別の態様において、生物学的流体、随意に血液または血液分画といった体液である場合がある。本発明の特定の態様において、当該化合物または組成物は、それらを必要としている被検者に投与される生成物、例えば血液供血者から受血者への輸血または患者から採取した血液の当該患者への再導入またはインスリンといった注入生成物である。VIIC本明細書に記載のおよびまたは本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器または容器はさらに、内腔に含まれる化合物または組成物の非被覆容器素材表面の機械的およびまたは化学的作用からの保護のために使用可能である。例えばインスリン沈殿または血液凝固または血小板活性化といった、当該化合物または組成物成分の沈殿およびまたは凝固または血小板活性化を防止または低減させるのに使用可能である。VIICさらには、例えば当該容器周辺の環境からの1つ以上の化合物の当該容器内腔への侵入を防止または低減させることで、内部に包含する化合物または組成物を当該容器外部の環境から保護するために使用可能である。かかる環境化合物はガスまたは流体、例えば酸素、大気、およびまたは水蒸気を包含する大気中ガスまたは流体である場合がある。VIIC本明細書に記載の被覆容器はまた、真空であり真空状態で保管される場合がある。例えば当該被覆材は、対応する非被覆容器と比べて、当該真空状態をより良好に維持可能である。本実施例の一態様において、当該被覆容器は採血管である。当該管は、例えばEDTAまたはヘパリンといった、血液凝固または血小板活性化を防止するための薬剤を包含する場合がある。VIICあらゆる上述実施例は、例えば当該容器として長さ約1cm~約200cm、随意に約1cm~約150cm、随意に約1cm~約120cm、随意に約1cm~約100cm、随意に約1cm~約80cm、随意に約1cm~約60cm、随意に約1cm~約40cm、随意に約1cm~約30cmの管を提供し、後述の通りプローブ電極と共に処理することにより、実行可能である。特に上述範囲における長さが長いほど、被覆材成形中の当該プローブと当該容器との間の相対運動が有用である可能性があると考えられる。これは例えば、当該プローブに対して当該容器を移動する、または当該容器に対して当該プローブを移動することにより、実行可能である。VIICこれらの実施例において、当該被覆材は薄肉である、または遮断性被覆材として望ましいものと比較して完全性に劣る場合があると考えられる。なぜなら、一部実施例における当該容器は真空採血管の高い遮断性完全性を必要としないからである。VIIC当該前述実施例のオプション機能として、当該容器は中心軸を有する。VIIC当該前述実施例のオプション機能として、当該容器の外径の100倍を超えない大きさの当該中心軸での曲げ半径に対して少なくとも実質的に直線である範囲において、温度20°Cで壁を破損することなく少なくとも1回屈曲するのに十分なたわみを、当該容器壁は有する。VIIC当該前述実施例のオプション機能として、当該中心軸での曲げ半径は当該容器外径の90倍を超えない、または80倍を超えない、または70倍を超えない、または60倍を超えない、または50倍を超えない、または40倍を超えない、または30倍を超えない、または20倍を超えない、または10倍を超えない、または9倍を超えない、または8倍を超えない、または7倍を超えない、または6倍を超えない、または5倍を超えない、または4倍を超えない、または3倍を超えない、または2倍または1倍を超えない大きさである。VIIC当該前述実施例のオプション機能として、当該容器壁は可撓性素材を原料とする流体接触表面である場合がある。VIIC当該前述実施例のオプション機能として、当該容器内腔はポンプの流体流路である場合がある。VIIC当該前述実施例のオプション機能として、当該容器は血液を医療用途の場合の良好な条件に保持するよう適合される血液バッグである場合がある。VIICVIID当該前述実施例のオプション機能として、ポリマー素材は、2例として、シリコンエラストマーまたは熱可塑性ポリウレタンである、または血液またはインスリンと接触するのに適したあらゆる素材である場合がある。VIICVIIDオプション実施例において、当該容器は少なくとも2mm、または少なくとも4mmの内径を有する。VIIC当該前述実施例のオプション機能として、当該容器は管である。VIIC当該前述実施例のオプション機能として、当該内腔は少なくとも2つの開口端を有する。VIIC1有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材を有する生存血液包含容器VIIC1さらなる別の実施例は、血液包含容器である。かかる容器の非限定的例の一部として、輸血バッグ、検体を採集するための血液検体採集容器、人工心肺の管、可撓性壁の採血バッグ、手術中に患者血液を採集し当該血液を当該患者の血管系へと再導入する管などが挙げられる。当該容器が血液を送り出すポンプである場合、特に適切なポンプは遠心式ポンプまたは蠕動式ポンプである。当該容器は壁を有し、当該壁は内腔を定義する内面を有する。当該壁の内面は、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層で、少なくとも一部が被覆される。当該被覆材は単分子の層厚と同様に薄く、または最大層厚約1000nmである。当該容器には、当該疎水性層と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。VIIC1一実施例は、壁を包含し内腔を定義する内面を有する、血液包含容器である。当該内面は疎水層で少なくとも一部が被覆される。当該被覆材はSiOxxは本明細書で定義からなる、または本質的にSiOxからなる可能性がある。当該被覆材の層厚は内面上で単分子~約1000nmの範囲内である。当該容器には、当該疎水性層被覆材と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。VIIC2容器内血液の凝固または血小板活性化を減少させる有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材VIIC2別の実施例は、壁を有する容器である。当該壁は内腔を定義する内面を有し、当該壁は疎水層随意にw、x、y、およびzは先に定義セクションで定義した通りで少なくとも一部が被覆される。当該被覆材の層厚は内面上で単分子~約1000nmである。当該被覆材は、疎水層で被覆されていない同種類の壁と比較して、当該内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。VIIC2疎水層被覆材の組込みにより、未処理のポリマーまたはSiOx表面に接触する血液の性質と比較して、血液の付着力または凝塊成形性質が減少すると考えられる。本性質は、心臓手術中に人工心肺を使用する場合に、当該患者からの血液除去とその後の当該患者への再導入を必要とする種類の手術を受ける患者において必要なヘパリンの血液濃度を低減させることにより、血液のヘパリン処理の必要性を低減させる潜在的になくすと考えられる。ヘパリンの使用に起因する出血性合併症を低減させることにより、かかる容器を通る血液経路に関する手術の合併症が減少すると考えられる。VIIC2別の実施例は、壁を包含し内腔を定義する内面を有する容器である。当該内面は疎水層で少なくとも一部が被覆されており、当該被覆材の層厚は内面上で単分子~約1000nmの厚さである。当該被覆材は、当該内面に曝露する血液の凝固または血小板活性化を低減させるのに効果的である。VIIC3第III族または第IV族元素の被覆材を有する生存血液包含容器VIIC3別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含む血液包含容器である。当該内面は少なくとも一部が、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材で被覆される。当該被覆材の層厚は、両立的に、内面上で単分子~約1000nmである。当該容器には、当該疎水性層と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。VIIC4容器内血液の凝固または血小板活性化を減少させる第III族または第IV族元素の被覆材VIIC4随意に、前段落の容器において、第III族または第IV族元素の被覆材は、当該容器壁内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。VIID医薬品供給容器VIID本書に記載の被覆容器または容器は、当該容器に含まれる化合物または組成物の当該容器周辺の環境への漏出を防止または低減させるために使用可能である。また、本明細書に記載の当該被覆材および容器のさらなる利用は、当該部の記述および請求項から明らかであると考えられる。VIID1有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材を有するインスリン包含容器VIID1別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。当該内面は、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層で、少なくとも一部が被覆される。当該被覆材の層厚は内面上で単分子~約1000nmである。インスリンは、SiwOxCyHz被覆材と接触する内腔内に充填される。VIID1また別の実施例は、壁を包含し、かつ内腔を定義する内面を有するインスリン包含容器である。当該内面は、定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層の被覆材で少なくとも一部が被覆されており、当該被覆材の層厚は内面上で単分子~約1000nmの厚さである。インスリン例えばヒトへの使用についてFDA認可済みの薬剤インスリンを、疎水層と接触する内腔内に充填する。VIID1定義セクションで定義した通りに特徴付けられる疎水層の組込みにより、未処理のポリマー表面に接触するインスリンの性質と比較して、インスリンポンプの供給管内インスリンの付着力または沈殿成形性質が減少すると考えられる。本性質は、当該供給管を通るインスリンをフィルタリングして固体沈殿物を除去する必要性を低減させる潜在的に消失させると考えられる。VIID2容器内のインスリン沈殿を減少させる有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材VIID2随意に、前段落の容器において、当該疎水層被覆材は同種類の疎水層非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。VIID2さらに別の実施例は、再び、壁を包含しかつ内腔を定義する内面を有する容器である。当該内面は疎水層で少なくとも一部が被覆される。当該被覆材の層厚は内面上で単分子~約1000nmの範囲内である。当該被覆材は、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を低減させるのに有効である。VIID3第III族または第IV族元素被覆材を有するインスリン包含容器VIID3別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。当該内面は少なくとも一部が、炭素、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材で被覆される。当該被覆材の層厚は内面上で単分子~約1000nmである。インスリンは、当該被覆材と接触する管腔内に充填される。VIID4容器内インスリンの沈殿を減少させる第III族または第IV族元素の被覆材VIID4随意に、前段落の容器において、炭素、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材は、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。すべての実施例に関する共通条件本書で考察されるあらゆる実施例において、例えば以下のいずれか、またはいかなる組合せの、多くの共通条件を利用可能である。あるいは、本明細書または請求項の別箇所で説明するいかなる異なる条件も利用可能である。あらゆる実施例の基板IAあらゆる実施例の容器当該容器は、採血管、シリンジ、シリンジ部品例えばバレル、ピストン、プランジャーといった検体採取管、バイアル、導管、キュベットである場合がある。当該基板は、医療用検体採取管といった閉口端管である場合がある。当該基板は内腔を有する容器の内壁である場合があり、当該内腔の空隙容量は05~50mL、随意に1~10mL、随意に05~5mL、随意に1~3mLである。当該基板表面は少なくとも1つの開口部と内面を有する容器内面の一部または全部である場合があり、当該ガス状反応物質は当該容器の内部内腔を満たし、当該プラズマが当該容器の内部内腔の一部または全部において生成される場合がある。IBシリンジおよび部品当該基板はシリンジバレルである場合がある。当該シリンジバレルは、プランジャーがスライドする表面を有する場合があり、当該被覆材は当該プランジャースライド表面の一部上に付帯される場合がある。当該被覆材は潤滑層である場合がある。当該潤滑層被覆材は当該バレル内面上に被覆される場合がある。当該潤滑層被覆材は当該プランジャー上に被覆される場合がある。特定の態様において、当該基板は固定針シリンジまたは固定針シリンジの部品である。IC停止部材を収受する容器当該基板は、容器口における停止部材収受表面である場合がある。当該基板は、停止部材を収受するよう適合される、通常円錐状またはシリンダー状の容器開口部内面である場合がある。ID停止部材当該基板は、停止部材のスライド表面である場合がある。当該基板は、単一の実質的真空容器内に位置する多数の停止部材を提供することで被覆される場合がある。当該化学蒸着はプラズマ強化された化学蒸着である場合があり、当該停止部材は当該プラズマに接触する場合がある。当該化学蒸着は、プラズマ強化された化学蒸着である場合がある。当該プラズマは、プラズマ生成物を生成する当該停止部材の上流に成形可能であり、当該プラズマ生成物は当該停止部に接触可能である。閉包部は被覆材で被覆された基板を定義する場合があり、随意に停止部材は潤滑層で被覆される。当該基板は内腔を定義する容器内に装填される閉包部である場合があり、当該内腔に対向する閉包部表面は当該被覆材で被覆される場合がある。当該被覆材は、当該停止部材の金属イオン構成要素の当該容器の内腔への透過性を減少させる効果がある場合がある。IEあらゆる実施例の基板当該基板は容器壁である場合がある。閉包部の壁接触表面と接触する容器壁の部位は、当該被覆材で被覆される場合がある。当該被覆材は、第1層および第2層を有する素材の組成物である場合がある。当該第1層被覆材は、当該エラストマー製停止部材と接合する場合がある。当該被覆材の第1層は、当該停止部材1種以上の構成要素の当該容器内腔への透過性を、減少させる効果がある場合がある。当該第2層被覆材は、当該容器の内壁と接合する場合がある。当該第2層は、当該停止部材が当該容器上に装填可能である場合、当該停止部材と当該容器内壁との間の摩擦を、減少させる効果がある場合がある。あるいは、いかなる実施例の第1層および第2層も、炭素および水素を含有する累遷性被覆材により定義される場合があり、その場合、当該第1層被覆材における炭素および水素の比率は当該第2層のものより大きくなる。いかなる実施例の被覆材も、プラズマ促進化学蒸着により塗布可能である。いかなる実施例の基板も、ガラス、あるいは、ポリマー、あるいはポリカーボネートポリマー、あるいはオレフィンポリマー、あるいは環状オレフィン共重合体、あるいはポリプロピレンポリマー、あるいはポリエステルポリマー、あるいはテレフタル酸ポリエチレンポリマー、あるいはポリエチレンナフタレートポリマー、あるいは上記2種以上の複合体組成物混合体といったポリマーからなる場合がある。あらゆる実施例のガス状反応物質または処理ガスの制限IIAあらゆる実施例の堆積条件PECVDを使用する場合、当該PECVDのためのプラズマは減圧下で生成され、当該減圧は300mトール未満、随意に200mトール未満、さらに随意に100mトール未満である場合がある。当該被覆材の物理的および化学的性質は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、およびまたはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される場合がある。IIBあらゆる実施例のガスの相対的比率当該処理ガスは、潤滑性被覆材を生成するため以下の比率のガスを含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、1~100標準体積の搬送ガス、01~2標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、1~100標準体積の搬送ガス、01~2標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、3~70標準体積の搬送ガス、01~2標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、3~70標準体積の搬送ガス、01~2標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、1~100標準体積の搬送ガス、02~15標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、1~100標準体積の搬送ガス、02~15標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、3~70標準体積の搬送ガス、02~15標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、3~70標準体積の搬送ガス、02~15標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、1~100標準体積の搬送ガス、02~1標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、1~100標準体積の搬送ガス、02~1標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、3~70標準体積の搬送ガス、02~1標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、3~70標準体積の搬送ガス、02~1標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、5~100標準体積の搬送ガス、01~2標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、5~100標準体積の搬送ガス、01~2標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、10~70標準体積の搬送ガス、01~2標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、10~70標準体積の搬送ガス、01~2標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、5~100標準体積の搬送ガス、05~15標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、5~100標準体積の搬送ガス、05~15標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、10~70標準体積の搬送ガス、05~15標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、10~70標準体積の搬送ガス、05~15標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、5~100標準体積の搬送ガス、08~12標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、5~100標準体積の搬送ガス、08~12標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である1~6標準体積の当該前駆体、10~70標準体積の搬送ガス、08~12標準体積の酸化剤。あるいは以下の比率を含有可能である2~4標準体積の当該前駆体、10~70標準体積の搬送ガス、08~12標準体積の酸化剤。IICあらゆる実施例の前駆体当該有機ケイ素前駆体については、本説明の別箇所で述べられている。当該有機ケイ素化合物は、特に潤滑性被覆材が生成され、オクタメチルシクロテトラシロキサンからなる、特定の態様である場合がある。前述特定態様の実施例のための当該有機ケイ素化合物は、本質的にオクタメチルシクロテトラシロキサンからなる場合がある。当該有機ケイ素化合物は、特に遮断性被覆材が生成され、ヘキサメチルジシロキサンであるからなる、特定の態様である場合がある。また当該反応ガスは、炭化水素を含む場合がある。炭化水素は、メタン、エタン、エチレン、プロパン、アセチレン、これら2種以上の複合体からなる場合がある。当該有機ケイ素前駆体は、6sccm以下、随意に25sccm以下、随意に15sccm以下、随意に125sccm以下の速度で供給される場合がある。より大きな容器またはその他の条件規模の変更により、より多くの少ない前駆体が必要となる場合がある。当該前駆体は、絶対圧が1トール未満である環境へと提供される場合がある。IIDあらゆる実施例の搬送ガス当該搬送ガスは、例えばアルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオンといった不活性ガス、当該堆積条件の下で当該処理ガスのその他の構成要素に対して不活性である別のガス、またはこれら2種以上の複合体からなる場合がある。IIEあらゆる実施例の酸化ガス当該酸化ガスは、酸素、亜酸化窒素、または当該条件を利用するPECVD中に当該前駆体を酸化させるその他のガスからなる場合がある。当該酸化ガスは、約1標準体積の酸素からなる。当該ガス状反応物質または処理ガスは、少なくとも実質上窒素を含まない場合がある。あらゆる実施例のプラズマあらゆるPECVD実施例のプラズマは、当該基板付近で形成可能である。当該プラズマは特定の場合に、特にSiOx被覆材を生成する場合に、非ホロー陰極プラズマである場合がある。別の特定の場合において、特に潤滑性被覆材を生成する場合には、非ホロー陰極プラズマは望ましくない。当該プラズマは、減圧下で当該ガス状反応物質から形成可能である。プラズマを生成するのに十分な電力を、当該基板上への被覆材形成を誘導するため、提供可能である。あらゆる実施例のRF電力当該前駆体は、周波数10kHz~245GHz、あるいは約13~14MHzで電力供給される電極により、当該前駆体付近を加圧して生成するプラズマと接触する場合がある。当該前駆体は、随意に周波数10kHz~300MHz未満、随意に1~50MHz、さらに随意に10~15MHz、随意に1356MHzの高周波で電力供給される電極により、当該前駆体付近を加圧して生成するプラズマと接触する場合がある。当該前駆体は、01~25W、随意に1~22W、随意に1~10W、随意に1~5W、随意に2~4W、例えば3W、随意に3~17W、さらに随意に5~14W、例えば6または75W、随意に7~11W、例えば8Wの電力を受ける電極により、当該前駆体付近を加圧して生成するプラズマと接触する場合がある。当該前駆体は、10Wmlのプラズマ量、あるいは6Wml~01Wmlのプラズマ量、あるいは5Wml~01Wmlのプラズマ量、あるいは4Wml~01Wmlのプラズマ量、あるいは2Wml~02Wmlのプラズマ量の電力密度を受ける電極により、当該前駆体付近を加圧して生成するプラズマと接触する場合がある。当該プラズマは、電磁エネルギーあるいはマイクロ波エネルギーを用いて当該反応混合物を励起させることにより、生成可能である。あらゆる実施例のその他工程オプション当該基板へと被覆材を塗布する塗布手順は、前駆体の気化および当該基板付近への提供により行なわれる場合がある。利用する化学蒸着はPECVDである場合があり、当該堆積時間は1~30秒、あるいは2~10、あるいは3~9である場合がある。随意に堆積時間を制限する目的は、当該基板の過熱を防止し、生産速度を向上させ、処理ガスおよびその構成要素の利用量を削減するためである場合がある。随意に堆積時間を延長する目的は、特定の堆積条件のためにより厚い被覆材を提供するためである場合がある。あらゆる実施例の被覆材特性VIAあらゆる実施例の潤滑特性本発明に記載の潤滑性被覆材により被覆される容器は、非被覆容器より高い潤滑性を有する。これらはまた、本書に記載のSiOx被覆材で被覆される容器より高い潤滑を有する。実施例は、未処理の基板よりスライド力または起動力が低い当該基板の潤滑表面生成に効果的な条件下で実行可能である。随意に、当該素材および条件は当該ライド力または起動力を、非被覆シリンジバレルと比較して少なくとも25パーセントパーセント、あるいは少なくとも45パーセント、あるいは少なくとも60パーセント、あるいは60パーセント以上減少させるのに効果的である可能性がある。言い換えれば当該被覆材は、非被覆表面より低い摩擦抵抗、随意に非被覆表面と比較して少なくとも25減、随意に少なくとも45減、さらに随意に少なくとも60減の摩擦抵抗を有する場合がある。ブレークルース力およびグライド力は、潤滑性被覆材の有効性を測るための、重要な性能測定値である。FiおよびFmは低いことが望ましいが、低すぎる値は望ましくない。Fiが低すぎるということは抵抗のレベルが低すぎることを意味し、時期尚早な意図しない浸出が起こり、充填済みシリンジの内容物の予期しない早発重合または制御不能な排出につながる可能性がある。十分な潤滑性を得るには、以下のFiおよびFmの範囲を有利に維持するべきである。Fi5ポンドに対し25、好ましくは49ポンドに対し27、特に47ポンドに対し29、Fm80ポンドに対し25、好ましくは76ポンドに対し33、特に4ポンドに対し33。さらなる有利なFi値およびFm値は、当該実施例の表を参照のこと。当該潤滑性被覆材は随意に、一定のプランジャー力を提供し、ブレークルース力とグライド力との間の差を低減させる。VIBあらゆる実施例の疎水特性実施例は、当該基板上での疎水層被覆材生成に効果的な条件下で実行可能である。当該被覆材の疎水性は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、およびまたはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される場合がある。随意に、当該被覆材は非被覆表面より低いぬれ張力を有する場合があり、随意に20~72ダインcm、随意に30~60ダインscm、随意に30~40ダインscm、随意に34ダインcmのぬれ張力を有する場合がある。随意に、当該被覆材は非被覆表面より疎水性が高い場合がある。VICあらゆる実施例の層厚随意に、当該被覆材は、透過電子顕微鏡法により判定される、本開示で述べるいかなる量の層厚を有する場合がある。本書に記載の当該潤滑性被覆材については、特定の粗度が当該潤滑性被覆材の潤滑特性を強化するため、当該層厚範囲に示されているのは平均層厚である。したがって、当該潤滑性被覆材の層厚は当該被覆材全域において有利に不均一である。しかし、均一な層厚の潤滑性被覆材もまた検討される。当該潤滑性被覆材の単一測定点における絶対層厚は、当該平均層厚の範囲限界より高いまたは低い場合があり、当該平均層厚からの最大偏差は、好ましくは50、より好ましくは25、さらにより好ましくは15である。しかし通常は、本説明内で平均層厚として述べられた層厚の範囲内で変動する。VIDあらゆる実施例の組成随意に、当該潤滑性被覆材はSiwOxCyHzまたはSiwNxCyHzの組成からなる場合がある。これは通常、wは1、xは約05~24、yは約06~3、好ましくはwは1、xは約05~15、yは09~20、より好ましくはwは1、xは07~12、yは09~20である原子比率SiwOxCyを有する。当該原子比率は、XPSにより決定可能である。水素分子を考慮に入れると、当該被覆材はある態様において公式SiwOxCyHzで表され、例えばwは1、xは約05~24、yは約06~3、zは約2~9である。通常、当該原子比率は本発明の特定の被覆材において、Si100O80110C100150である。具体的には当該原子比率は、Si100O92107C116133である場合があり、かかる被覆材はしたがって、100炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素36~41を含む可能性がある。あるいは、wは1、xは約05~15、yは約2~3、zは6~9である場合がある。あるいは、当該被覆材は100炭素、酸素、ケイ素に正規化した原子濃度を有し、X線光電子分光法XPSにより判定される通り、50未満炭素および25を超えるケイ素原子濃度を有する場合がある。あるいは、当該原子濃度は25~45炭素、25~65ケイ素、10~35酸素である。あるいは、当該原子濃度は30~40炭素、32~52ケイ素、20~27酸素である。あるいは、当該原子濃度は33~37炭素、37~47ケイ素、22~26酸素である。随意に、100炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素の原子濃度は、X線光電子分光法XPSにより判定される通り、当該有機ケイ素前駆体の原子公式における炭素の原子濃度を上回る可能性がある。例えば、当該炭素の原子濃度が1~80原子パーセント、あるいは10~70原子パーセント、あるいは20~60原子パーセント、あるいは30~50原子パーセント、あるいは35~45原子パーセント、あるいは37~41原子パーセント増加する実施例が考えられる。随意に、当該被覆材内の酸素に対する炭素の原子比率は、有機ケイ素前駆体と比較して増加する場合があり、およびまたはケイ素原子に対する酸素の原子比率は、有機ケイ素前駆体と比較して減少する可能性がある。随意に、当該被覆材は、100炭素、酸素、ケイ素に正規化したケイ素の原子濃度を有し、X線光電子分光法XPSにより判定される通り、当該供給ガスの原子公式におけるケイ素の原子濃度を下回る場合がある。例えば、当該ケイ素の原子濃度が1~80原子パーセント、あるいは10~70原子パーセント、あるいは20~60原子パーセント、あるいは30~55原子パーセント、あるいは40~50原子パーセント、あるいは42~46原子パーセント減少する実施例が考えられる。被覆材のもう1つのオプションとして、有機ケイ素前駆体の総和公式と比較して原子比率COが増加するおよびまたは原子比率SiOが減少する総和公式により特徴付けられる場合がある、被覆材が考えられる。VIEあらゆる実施例のガス放出種当該潤滑性被覆材は、ガスクロマトグラフィー質量分析法により判定されるとおり、ガス放出成分、反復2SiO部分を含む1種以上のオリゴマーを有する場合がある。当該被覆材ガス放出成分は、ガスクロマトグラフィー質量分析法により判定可能である。例えば当該被覆材ガス放出成分は、以下の試験条件を利用して判定される通り、反復2SiO部分を含む少なくとも10ng試験のオリゴマーを、あるいは反復2SiO部分を含む少なくとも20ng試験のオリゴマーを有する場合があるGCカラム30mX025mmDB5MS、025μm膜層厚流量10mlmin、定流量モード検出器:質量選択検出器MSD射出モード分割射出分割率101ガス放出条件112インチ37mmチャンバ、3時間、85°C、60ml分の流量でパージ炉温度:40°C5分から始め10°C分で300°Cまで加熱、300°Cを5分間保持。随意に、当該潤滑性被覆材は、少なくとも実質上トリメチルシラノールを含まないガス放出成分を有する場合がある。VIEあらゆる実施例のその他の被覆材特性当該被覆材の密度は、X線反射率XRRにより決定される通り、125~165gcm3、あるいは135~155gcm3、あるいは14~15gcm3、あるいは14~15gcm3、あるいは144~148gcm3である場合がある。随意に、当該有機ケイ素化合物はオクタメチルシクロテトラシロキサンである場合があり、当該被覆材は、同一のPECVD反応条件下でHMDSOを有機ケイ素化合物として生成した被覆材の密度より、高い密度を有する場合がある。当該被覆材は随意に、当該非被覆表面およびまたは前駆体としてHMDSOを利用する遮断性被覆表面と比較して、当該被覆材と接触する化合物または組成の沈殿を防止または低減可能であり、特にインスリン沈殿または血液凝固を防止または低減可能である。当該基板は、非被覆基板表面の機械的およびまたは化学的作用から当該被覆容器内に含有されるまたは収受される化合物または組成物を保護するための、容器である場合がある。当該基板は、容器内面と接触する化合物または組成成分の沈殿およびまたは凝固を防止および削減するための、容器である場合がある。当該化合物または組成物は、生物学的に活性な化合物または組成物、例えば薬剤、例えばインスリンからなる化合物または組成物である場合があり、その場合、インスリン沈殿は低減または防止される可能性がある。あるいは、当該化合物または組成物は生物学的流体、例えば体液、例えば血液または血液分画である場合があり、その場合、血液凝固は低減または防止される可能性がある。追加のSIOX被覆材、あらゆる実施例のオプション基板例えば容器壁の上の被覆材は、潤滑性被覆材からなると共に、さらに、少なくとも1層以上のSiOx被覆材からなる場合がある。この場合SiOxxは15~29は、当該基板上の被覆材に隣接する、あるいは当該被覆材と当該基板の間に位置する、あるいは当該基板とは反対側の当該被覆材上に位置する場合がある。随意に、SiOx層と当該被覆材はシャープな界面またはSiwOxCyHzのSiOxへの段階的組成物またはその逆のいずれかを生成する場合がある。潤滑性被覆材で被覆された当該基板はさらに、当該被覆材、当該基板、または両方の浸出を低減させるのに効果的な量での当該被覆材の表面処理を構成する場合がある。例えば当該被覆材および表面処理は、起動力、スライド力、または両方を、当該被覆材および表面処理なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供することが可能である。随意に、当該表面処理は、当該潤滑層深部100nm未満、あるいは50nm未満、あるいは40nm未満、あるいは30nm未満、あるいは20nm未満、あるいは10nm未満、あるいは5nm未満、あるいは3nm未満、あるいは1nm未満、あるいは05nmである場合がある。別の考えられるオプションとして、当該表面処理は当該潤滑層深部01~50nmである場合がある。当該オプション表面処理は、xが約15~29であるSiOxからなる場合がある。随意に、少なくとも第2層またはSiOx被覆材xは15~29は当該被覆材と当該基板表面との間に塗布可能である。内腔および外面を定義する内面を有する容器が当該基板である、実施例が考えられる。当該潤滑性被覆材は当該容器の内面上に被覆されている場合があり、当該容器はSiOxxは15~29の外面上に少なくとも1層以上の層被覆材を含む可能性があるあるいは、当該外面上のさらなる層被覆材は、ポリ塩化ビニリデンからなる場合がある。当該外面上のさらなる層被覆材は随意に、遮断性被覆材である場合がある。容器追加内容物由来の生成物、あらゆる実施例のオプションあらゆる実施例において、当該基板は内腔および外面を定義する内面を有する容器である場合があり、当該被覆材は当該容器の内面上に被覆されている場合があり、当該容器は化合物または組成物インスリンまたはインスリン含有組成物などをその内腔に包含する場合がある。インスリンといった注入可能なまたはその他の流体薬剤を包含する、充填済みシリンジが特に検討される。実施例以下の実施例は、ある程度EP2251455ですでに開示済みである。不必要な重複を避けるため、本書ではEP2251455A2に記載の全実施例は繰り返されていないが、明確な参照は行なわれている。シリンジバレルを成形被覆するための基本プロトコル後続実施例において試験された容器は、個別の実施例において別途表示がない限り、以下の模範的プロトコルに従って成形および被覆された。以下の基本プロトコル内で与えられる特定のパラメータ値例えば当該電力、ガス状反応物質または処理ガス流量、などは一般値である。当該一般値と比較してパラメータ値が変更された場合はいつでも、当該後続実施例内において表示する。当該ガス状反応物質または処理ガスの種類および組成についても同様とする。管内部をSiOxで被覆するためのプロトコル特定の考えられる実施例である、図10の封止機構を有する図1で示す装置を使用した。当該容器ホルダー50は、米国デラウェア州ウィルミントンのEIduPontDeNemoursandCoが市販するDelrin商標アセタール樹脂を原料として、外径175インチ44mmおよび高さ175インチ44mmで作成した。当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極160への出入りを可能とするDelrin商標構造内に格納した。当該電極160は、銅およびDelrin商標遮蔽体から作成した。当該Delrin商標遮蔽体は、当該銅電極160の外部周辺に共形させた。当該電極160の寸法は、内部高さ約3インチ76mmであり、幅は約075インチ19mmであった。当該容器80として使用した当該管を当該容器ホルダー50底部へと挿入して、Viton商標オーリング490、504Viton商標は米国デラウェア州ウィルミントンのDuPontPerformanceElastomersLLCの商標であるで当該管図10の外部周辺を密閉した。当該管80を、伸延された定常の18インチ3mm径真鍮プローブまたは対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付けた。当該銅プラズマ遮蔽体610は、当該管の外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材米国イリノイ州、シカゴのKSEngineering、部品番号:LXMUW5coppermeshで、当該管挿入図10を参照の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定した。当該銅メッシュ2枚を当該真鍮プローブまたは対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該管内部へと約70mm伸延し、80番ワイヤ直径00135インチまたは0343mmを配列した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該容器ホルダー50下部にあるSwagelok商標取付部米国オハイオ州ソロンのSwagelokCoが市販を通して伸延し、当該容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を、当該RF一致ネットワークのケーシングへと接地した。当該ガス供給ポート110は、当該管4側面上の3つが互いに90度に配向されるの長さに沿った当該プローブまたは対向電極108における12の孔、および当該ガス供給ポート110の端部に差し込まれる当該アルミニウム蓋における2つの孔であった。当該ガス供給ポート110を、当該真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計およびバイパス弁を内蔵するSwagelok商標取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続した。さらに、当該ガスシステムを当該ガス供給ポート110に接続して、当該ガス状反応物質または処理ガス、酸素およびヘキサメチルジシロキサンHMDSOが当該ガス供給ポート110処理圧力下でを通り当該管内部に流入するようにした。当該ガスシステムは、Aalborg商標GFC17質量流量計部品番号:EW3266134、米国イリノイ州バーリントンのColeParmerInstrumentCo製からなり、当該流量計は、酸素を90sccmまたは特定実施例で報告された特定流量で当該処理および長さ495インチ126mのポリエーテルエーテルケトンPEEKキャピラリー外径116インチ15mm、内径0004インチ01mmに制御可能に流入させるためのものであった。当該PEEKキャピラリー端部を、流体ヘキサメチルジシロキサンHMDSO、AlfaAesar商標部品番号L16970、NMR、Grade、ロンドンのJohnsonMattheyPLC製へと挿入した。当該流体HMDSOを、処理中の当該管内の低圧力により、当該キャピラリーを通して吸引した。当該HMDSOはその後、当該低圧力領域に到達する際に当該キャピラリー終端で蒸気となった。この点を超えた当該流体HMDSOの結露を防止するため、Swagelok商標登録3方弁経由での処理のため当該管内部へと流入しない当該ガス流酸素を含むを当該ポンプラインへと迂回させた。当該管設置後に、当該真空ポンプ弁を当該容器ホルダー50および当該管内部へと開口した。Alcatel回転翼真空ポンプおよびブロワーで、当該真空ポンプシステムを構成した。当該ポンプシステムは、当該ガス状反応物質または処理ガスを当該表示率で流入しながら、当該管内部を200mトール未満の圧力に低減することを可能とした。当該底部真空レベル達成後に、当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリ内に移動した。当該ガス流酸素およびHMDSO蒸気を、当該真鍮ガス供給ポート110当該3方弁を当該ポンプラインから当該ガス供給ポート110へ調整に流入させた。当該管内の圧力は、当該真空を制御する弁に近接する当該ポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータMKSにより測定される通り、約300mトールであった。当該管圧力に加えて、当該ガス供給ポート110およびガスシステム内の圧力もまた、当該ガスシステムに接続される当該熱電対真空計で測定した。本圧力は通常、8トール未満であった。当該ガスを当該管内部に流入させた後に、当該RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整した。ENIACG6600ワットのRF電力供給装置を、調整された約50ワットの電力レベルにおいて1356MHzで使用した。当該出力電力については、この後述のすべてのプロトコルおよび実施例において、当該被覆装置の作業中に当該電力供給装置のRF出力に接続されたBirdCorporationモデル43のRF電力計を使用して、キャリブレートした。当該電力供給装置上のダイヤル設定と当該出力電力との間に以下の関係が見られた:RF電力出力55xダイヤル設定。先行塗布の対現行塗布比において係数100を使用したが、それは誤りであった。当該RF電力供給装置を、当該プラズマの複素インピーダンス当該管において創出するためを50オームの当該ENIACG6RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDELCPMX1000自動整合装置に接続した。順方向電力は50ワットまたは特定実施例で報告された特定値および反射電力は0ワットであったため、適用電力は管内部に送達された。当該RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、当該電力をオンにする時間は5秒または特定実施例で報告された特定の期間に設定した。当該RF電力を開始し、均一プラズマを当該管内部に定着させた。当該RF電力が当該タイマーにより遮断されるまで、当該プラズマを完全に5秒間保持した。当該プラズマにより、層厚約20nmの酸化ケイ素被覆材または特定実施例で報告された特定の層厚を当該管表面内部に生成した。被覆後に、当該ガス流入を当該真空管路へ戻し、当該真空弁を閉口した。当該通気弁をその後開口し、当該管内部を大気圧約760トールに戻した。当該管をその後、当該容器ホルダー50アセンブリから当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリから除去した後に慎重に除去した。COCシリンジバレルを成形するためのプロトコルそれぞれ総容積28mL当該ルアー取付部を除くおよび名目的出し容積1mLを有する伸延バレルシリンジ用のシリンジバレルCOCシリンジバレル、CV把持部品11447、またはプランジャー変位、ルアー適合種類を、ドイツ、フランクフルトのHoechstが市販するTopas商標800704環状オレフィン共重合体COC樹脂を原料として以下のを寸法で射出成形した:前長約51mm、シリンジバレル内径86mm、当該シリンダー状部分の壁の厚さ127mm、合わせて長さ95mmの1つの端部にモールドされた針キャピラリールアーアダプタおよびもう1方の端部近隣にモールドされた2つのフィンガーフランジ。COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル射出成形COCシリンジバレルの内部をSiOxで被覆可能である。図1で示す装置を、当該COCシリンジバレル底部で密閉を行う当接部でCOCシリンジバレルを把持するよう修正した。また蓋を、ステンレス鋼ルアー取付部および当該COCシリンジバレル端部を密閉する図8に図示ポリプロピレン蓋から作成し、当該COCシリンジバレル内部を真空にすることを可能とした。当該容器ホルダー50は、Delrin商標アセタール樹脂を原料として、外径175インチ44mmおよび高さ175インチ44mmで作成可能である。当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極160への出入りを可能とするDelrin商標構造内に格納可能である。当該電極160は、銅およびDelrin商標遮蔽体から作成可能である。当該Delrin商標遮蔽体は、当該銅電極160の外部周辺に共形可能である。当該電極160の寸法は、内部高さ約3インチ76mmであり、幅は約075インチ19mmである場合がある。当該COCシリンジバレルを当該容器ホルダー50に挿入し、底部をViton商標オーリングで密閉可能である。COCシリンジバレルを、当該伸延された定常の18インチ3mm径真鍮プローブまたは対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付け可能である。当該銅プラズマ遮蔽体は、当該COCシリンジバレルの外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材KSEngineering、部品番号:LXMUW5Coppermeshで、当該COCシリンジバレル挿入の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定可能である。当該銅メッシュ2枚を当該真鍮プローブまたは対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。当該プローブまたは対向電極108を当該COCシリンジバレル内部へと約20mm伸延し、その端部を開口可能である。当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該容器ホルダー50下部にあるSwagelok商標取付部を通して伸延し、当該容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を、当該RF一致ネットワークのケーシングへと接地可能である。当該ガス供給ポート110を、当該真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計およびバイパス弁を内蔵するSwagelok商標取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続可能である。さらに、当該ガスシステムを当該ガス供給ポート110に接続して、当該ガス状反応物質または処理ガス、酸素およびヘキサメチルジシロキサンHMDSOが当該ガス供給ポート110処理圧力下でを通り当該COCシリンジバレル内部に流入するようにできる。当該ガスシステムは、Aalborg商標GFC17質量流量計ColeParmer部品番号:EW3266134からなる場合があり、当該流量計は、酸素を90sccmまたは特定実施例で報告された特定流量で当該処理および長さ495インチ126mのPEEKキャピラリー外径116インチ3mm、内径0004インチ01mmに制御可能に流入させるためのものであった。当該PEEKキャピラリー端部を、流体ヘキサメチルジシロキサンAlfaAesar商標部品番号L16970、NMR、Gradeへと挿入可能である。当該流体HMDSOを、処理中の当該COCシリンジバレル管内の低圧力により、当該キャピラリーを通して吸引可能である。当該HMDSOはその後、当該低圧力領域に到達した時点で当該キャピラリー終端で蒸気となる場合がある。この点を超えた当該流体HMDSOの結露を防止するため、Swagelok商標3方弁経由での処理のため当該COCシリンジバレル内部へと流入しない当該ガス流酸素を含むを、当該ポンプラインへと迂回可能である。当該COCシリンジバレル設置後に、当該真空ポンプ弁を当該容器ホルダー50および当該COCシリンジバレル内部へと開口可能である。Alcatel回転翼真空ポンプおよびブロワーで、当該真空ポンプシステムを構成した。当該ポンプシステムは、当該ガス状反応物質または処理ガスを当該表示率で流入しながら、当該COCシリンジバレル内部を150mトール未満の圧力に低減することを可能とした。当該管とは対照的に、当該COCシリンジバレルを用いて低いポンプ圧力を達成可能である。なぜなら、当該COCシリンジバレルはより少量の内容量を有するからである。当該底部真空レベル達成後に、当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリ内に移動した。当該ガス流酸素およびHMDSO蒸気を、当該真鍮ガス供給ポート110当該3方弁を当該ポンプラインから当該ガス供給ポート110へと調整に流入させた。当該COCシリンジバレル内の圧力は、当該真空を制御する弁に近接する当該ポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータMKSにより測定される通り、約200mトールである。当該COCシリンジバレル圧力に加えて、当該ガス供給ポート110およびガスシステム内の圧力もまた、当該ガスシステムに接続される当該熱電対真空計で測定する。本圧力は通常、8トール未満である。当該ガスを当該COCシリンジバレル内部に流入させた後に、当該RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整する。ENIACG6600ワットのRF電力供給装置を、調整された約30ワットの電力レベルにおいて1356MHzで使用する。当該RF電力供給装置を、当該プラズマの複素インピーダンス当該COCシリンジバレルにおいて創出するためを50オームの当該ENIACG6RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDELCPMX1000自動整合装置に接続する。順方向電力は30ワットまたは実施例で報告されているいかなる値および反射電力は0ワットであるため、電力はCOCシリンジバレル内部に送達される。当該RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、当該電力をオンにする時間は5秒または特定実施例で報告された特定の期間に設定する。当該RF電力を開始し、均一プラズマを当該COCシリンジバレル内部に定着させる。当該RF電力が当該タイマーにより遮断されるまで、当該プラズマを完全に5秒間または特定実施例において指示されたその他の被覆時間保持する。当該プラズマにより、層厚約20nmの酸化ケイ素被覆材または特定実施例で報告された層厚を当該COCシリンジバレル表面内部に生成した。被覆後に、当該ガス流入を当該真空管路へと戻し、当該真空弁を閉口する。当該通気弁をその後開口し、当該COCシリンジバレル内部を大気圧約760トールに戻す。当該COCシリンジバレルをその後、当該容器ホルダー50アセンブリから当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリから除去した後に慎重に除去する。COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層被覆材で被覆するためのプロトコル先に同定したCOCシリンジバレルを、潤滑層で内部被覆した。図1で示す装置を、当該COCシリンジバレル底部で密閉を行う当接部でCOCシリンジバレルを把持するよう修正する。また蓋を、ステンレス鋼ルアー取付部および当該COCシリンジバレル端部を密閉する図8に図示ポリプロピレン蓋から作成する。ブナNオーリングを当該ルアー取付部に設置することで、気密な密閉が可能となり、当該COCシリンジバレル内部を真空にすることが可能となった。当該容器ホルダー50は、Delrin商標アセタール樹脂を原料として、外径175インチ44mmおよび高さ175インチ44mmで作成する。当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極160への出入りを可能とするDelrin商標構造内に格納する。当該電極160は、銅およびDelrin商標遮蔽体から作成する。当該Delrin商標遮蔽体は、当該銅電極160の外部周辺に共形させる。当該電極160の寸法は、内部高さ約3インチ76mmであり、幅は約075インチ19mmである。当該COCシリンジバレルを当該容器ホルダー50に挿入し、当該フィンガーフランジの底部および当該COCシリンジバレルの縁をViton商標オーリングで密閉する。COCシリンジバレルを、当該伸延された定常の18インチ3mm径真鍮プローブまたは対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付ける。当該銅プラズマ遮蔽体は、当該COCシリンジバレルの外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材KSEngineering、部品番号:LXMUW5Coppermeshで、当該COCシリンジバレル挿入の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定する。当該銅メッシュ2枚を当該真鍮プローブまたは対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。当該プローブまたは対向電極108を当該COCシリンジバレル内部へと別途指示がない限り約20mm伸延し、その端部を開口する。当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該容器ホルダー50下部にあるSwagelok商標取付部を通して伸延し、当該容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を、当該RF一致ネットワークのケーシングへと接地する。当該ガス供給ポート110を、当該真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計およびバイパス弁を内蔵するSwagelok商標取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続する。さらに、当該ガスシステムを当該ガス供給ポート110に接続して、当該ガス状反応物質または処理ガスおよびオクタメチルシクロテトラシロキサンOMCTSまたは特定実施例で報告された特定のガス状反応物質または処理ガスが当該ガス供給ポート110処理圧力下でを通り当該COCシリンジバレル内部に流入するようにできる。当該ガスシステムを、当該OMCTSを約100°Cにまで高温化する市販のHoribaVC1310SEF8240OMCTS10SC4CR熱質量流量気化システムで構成する。当該Horibaシステムを、内径116インチ15mmである外径18インチ3mmのPFA管を通して、流体オクタメチルシクロテトラシロキサンAlfaAesar商標、部品番号:A12540、98へと接続する。当該OMCTS流量は125sccmまた特定実施例で報告された特定の有機ケイ素前駆体の流量に設定する。この点を超えた当該気化OMCTSの結露を防止するため、Swagelok商標3方弁経由での処理のため当該COCシリンジバレル内部へと流入しない当該ガス流を、当該ポンプラインへと迂回させる。当該COCシリンジバレル設置後に、当該真空ポンプ弁を当該容器ホルダー50および当該COCシリンジバレル内部へと開口する。Alcatel回転翼真空ポンプおよびブロワーで、当該真空ポンプシステムを構成する。当該ポンプシステムは、当該ガス状反応物質または処理ガスを当該表示率で流入しながら、当該COCシリンジバレル内部を100mトール未満の圧力に低減することを可能とする。本事例において、前述の管およびCOCシリンジバレルの実施例と比較してより低い圧力を実現できる。なぜなら本事例におけるガス状反応物質または処理ガス流量は全般的に低いからである。当該底部真空レベル達成後に、当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリ内に移動する。当該ガス流OMCTS蒸気を、当該真鍮ガス供給ポート110当該3方弁を当該ポンプラインから当該ガス供給ポート110へと調整に流入させる。当該COCシリンジバレル内の圧力は、当該真空を制御する弁に近接する当該ポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータMKSにより測定される通り、約140mトールである。当該COCシリンジバレル圧力に加えて、当該ガス供給ポート110およびガスシステム内の圧力もまた、当該ガスシステムに接続される当該熱電対真空計で測定する。本圧力は通常、6トール未満である。当該ガスを当該COCシリンジバレル内部に流入させた後に、当該RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整する。ENIACG6600ワットのRF電力供給装置を、調整された約6ワットまた特定実施例で指示されるその他の電力レベルの電力レベルにおいて1356MHzで使用する。当該RF電力供給装置を、当該プラズマの複素インピーダンス当該COCシリンジバレルにおいて創出するためを50オームの当該ENIACG6RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDELCPMX1000自動整合装置に接続する。順方向電力は6ワットおよび反射電力は0ワットであるため、6ワットの電力または任意実施例で搬送される異なる電力レベルは当該COCシリンジバレル内部に送達される。当該RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、当該電力をオンにする時間は10秒または任意実施例で述べられた異なる期間に設定する。当該RF電力を開始し、均一プラズマを当該COCシリンジバレル内部に定着させる。当該RF電力が当該タイマーにより遮断されるまで、当該プラズマを全被覆時間の間保持する。当該プラズマにより、潤滑層被覆材を当該COCシリンジバレル表面内部に生成した。被覆後に、当該ガス流入を当該真空管路へと戻し、当該真空弁を閉口する。当該通気弁をその後開口し、当該COCシリンジバレル内部を大気圧約760トールに戻す。当該COCシリンジバレルをその後、当該容器ホルダー50アセンブリから当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリから除去した後に慎重に除去する。COCシリンジバレル内部をHMDSO被覆材で被覆するためのプロトコルまた、HMDSOをOMCTSで置換する場合を除き、COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層被覆材で被覆するためのプロトコルを使用して、HMDSO被覆材を塗布した。潤滑性試験のためのプロトコルVIIB1a以下の部材を本試験で使用する:市販のBDHypak商標PRTCガラス製事前充填可能シリンジ、Luerlok商標端部付きca1mL;COCシリンジバレルを成形するためのプロトコルに従って作成した、COCシリンジバレル;BectonDickinson製品番号306507から採取した市販のプラスチックシリンジプランジャー、エラストマー端部付き生理食塩水事前充填シリンジとして取得;標準生理食塩水BectonDickinson製品番号306507事前充填シリンジから採取;AdvancedForceゲージモデルAFG50N付きDillon試験台;シリンジ把持部材および排出管ジグ当該Dillon試験台に装着するよう組立て。VIIB1a以下の手順を本試験で使用する。VIIB1a当該ジグを当該Dillon試験台に設置する。当該プラットフォームプローブの移動を6インチ分25mm秒に調整し、上部および下部の停止位置を設定する。当該停止位置を、空のシリンジバレルを利用して確認した。当該市販生理食塩水充填シリンジをラベル付けし、当該プランジャーを取り外し、当該食塩水を当該シリンジバレルの開口端経由で排出する再利用するため。当該COCおよびガラスバレルで使用するための、予備のプランジャーを同一方法で取得した。VIIB1aシリンジプランジャーを当該COCシリンジバレルに挿入し、各プランジャーの当該第2水平モールド点を当該シリンジバレル縁当該端部から約10mmと均等にする。別のシリンジと針アセンブリを使用して、当該キャピラリー端部経由で食塩水2~3mlを当該試験シリンジに充填した。その際、当該キャピラリー端部を最上に位置付けた。当該シリンジ側部を軽く叩いて当該プランジャー流体界面および当該壁に沿って付いた大きめの気泡を除去し、当該プランジャーをその垂直配向に維持しながら当該気泡を当該シリンジから慎重に排出させた。VIIB1a各充填済みシリンジバレルプランジャーアセンブリを当該シリンジジグに設置する。当該試験台のダウンスイッチを押下して当該試験を開始し、移動式金槌を当該プランジャーの方へと前進させる。当該移動式金槌が当該プランジャー上部に接触する5mm以内となったら、Dillonモジュール上のデータボタンを繰り返し押して、当該シリンジプランジャーとの初期接触前から当該プランジャーが当該シリンジバレル前壁と接触して停止するまでの、各データボタンを押下した期間の当該力を記録する。VIIB1aすべてのベンチマークおよび被覆シリンジバレルについて、5回反復して行った毎回新しいプランジャーおよびバレルを使用。VIIB1aCOCシリンジバレルを成形するためのプロトコルに従い作成したCOCシリンジバレルを、COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層被覆材で被覆するためのプロトコルに従いただし電力は75ワットOMCTS潤滑層で被覆し、組立後生理食塩水で充填し、潤滑層に関して本実施例で上述した通りに試験した。COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層被覆材で被覆するためのプロトコルに従い使用した当該ポリプロピレンチャンバは、当該OMCTS蒸気および追加される場合は酸素の当該シリンジバレルを通しておよび当該シリンジキャピラリーを通しての当該ポリプロピレンチャンバへの流入を可能にしたただし潤滑層被覆材は、本事例の当該シリンジの当該キャピラリー部には不必要な場合がある。異なる被覆条件を試験した。すべての堆積を、同一製造バッチからのCOCシリンジバレル上に行った。VIIB1a当該検体は、COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層で被覆するためのプロトコルに従いCOCシリンジバレル被覆することにより、創出した。本書記載の当該技術の代替実施例は、例えばCOCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコルに従い被覆した、SiOxといった別の薄膜被覆上に当該潤滑層被覆材を塗布する場合がある。Dillon試験台および排出管ジグの代わりに、GenesisPackagingプランジャー力試験器を、FiおよびFmの測定に関する製造業者の指示に従って、利用することも可能である。当該Genesis試験器で使用するパラメータは以下の通り開始10mm速度100mm分範囲20単位ニュートン実施例本発明の実施例としても理解されている、EP2251455A2で示された当該実施例に追加。検体A-Dシリンジ検体を以下のように作成した。COC8007伸延バレルシリンジを、COCシリンジバレルを成形するためのプロトコルに従い作成した。COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコルに従い、SiOx被覆材を一部のシリンジに塗布した。以下のように変更されたCOCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層で被覆するためのプロトコルに従い、潤滑性被覆材をSiOx被覆シリンジに塗布した。当該OMCTSは、揮発度が低かったため噴霧器により供給された。アルゴン搬送ガスを使用した。当該工程条件は以下のように設定されたOMCTS3sccmアルゴンガス65sccm電力6ワット時間10秒当該被覆器は、当該表内で同定される当該L2検体の作成中に、小規模の漏れがあることが後に判定され、当該漏れは推定酸素流量10sccmであった。当該L3検体は酸素を導入することなく作成した。数個のシリンジの潤滑性を、潤滑性試験のためのプロトコルに従い、GenesisPackagingプランジャー力試験器を利用して試験した。開始力および維持力の両方について非被覆検体と比較して言及し、表1に報告した。シリコン油で被覆されるシリンジは現在の業界標準であるため、参照として含めた。検体EHシリンジ検体を以下のように作成した。COC8007伸延バレルシリンジを、COCシリンジバレルを成形するためのプロトコルに従い作成した。COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコルに従い、SiOx被覆材を当該シリンジバレルに塗布した。以下のように変更されたCOCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑層で被覆するためのプロトコルに従い、潤滑性被覆材をSiOx被覆シリンジに塗布した。当該OMCTSは、揮発度が低かったため噴霧器により供給された。表2で言及したアルゴン搬送ガスおよび酸素を利用した。以下の通り、または表2で言及した通りに工程条件を設定したOMCTS3sccmアルゴンガス78sccm酸素038sccm電力3ワット電源ON時間10秒これらの条件で作成されたシリンジEおよびF、潤滑性被覆材を除くこれらの条件で作成されたシリンジG、およびシリンジHの潤滑性を、潤滑性試験のためのプロトコルに従い、GenesisPackagingプランジャー力試験器を利用して、試験した。開始力および維持力の両方について非被覆検体と比較して言及し、表2に報告した。シリコン油で被覆されるシリンジは現在の業界標準であるため、参照として含めた。当該潤滑性結果を表2にに示し、これらの試験条件に加えて、シリンジEおよびF上の潤滑性被覆材が潤滑性被覆材の欠如したシリンジGと比較して顕著に潤滑性が向上したことを図示した。またシリンジEおよびF上の潤滑性被覆材は、業界標準の潤滑性被覆で被覆されるシリンジHと比較して顕著に潤滑性が向上した。また誘導結合質量分析法を利用して、シリンジE、F、Gを試験して総抽出物ケイ素レベルを判定した。塩水温浸法を利用してケイ素を抽出した。各シリンジプランジャーの端部をPTFEテープで被覆して、エラストマー製端部物質からの抽出を防止し、その後当該シリンジバレル底部へと挿入した。当該シリンジバレルに、当該シリンジのルアー端部を通して挿入した皮下注射針経由で、2mlの09水性食塩液を充填した。これは抽出物に適した試験である。なぜなら充填済みシリンジの多くは、食塩液を含み供給するために利用されるからである。当該ルアー端部を、適切な直径のPTFEビーディング部に差し込んだ。当該シリンジをルアー端部付きPTFE試験スタンドに上向きに設置し、50°Cの炉内に72時間留置した。その後、静的モードまたは動的モードを利用して、当該食塩液を当該シリンジバレルから取り除いた。表2に示される当該静的モードに従い、当該シリンジプランジャーを当該試験スタンドから取り外し、当該シリンジ内の流体を容器へと静かに移した。表2に示される当該動的モードに従い、当該ルアー端部密閉部を取り外し、当該プランジャーを押圧して当該シリンジバレルを通して流体を押し出し、当該内容物を容器へと放出した。どちらの場合も、各シリンジバレルから得られる流体は182MΩcmの脱イオン水を利用して50mlの量にし、さらに2倍に希釈して分析中のナトリウムのバックグラウンドを最低限にした。当該CVHバレルの容量は2ml、当該市販バレルの容量は232mlであった。次に、誘導結合プラズマ質量分析法を利用して、各シリンジからら回収された流体の抽出物ケイ素を試験した。使用した装置は、CetacASX520自動サンプラーを搭載したPerkinElmerElanDRCIIであった。以下のICP‐MS条件を利用した噴霧器QuartzMeinhard噴霧チャンバCyclonicRF電力1550ワットアルゴン流量150L分補助Ar流量12L分噴霧器ガス流量088L分積分時間80秒走査モード凸部ホッピングCeOとしてのセリウムのRPq2シリンジE、F、Gから得られた水性希釈物のアリコートを注入して、マイクログラムLの濃度単位でSiを分析した。本試験の結果は表2に記載する。当該結果は定量的ではないが、当該潤滑性被覆材からの抽出物が当該SiOx遮断層のみからの抽出物より高くないことを明確に示す。また当該静的モードは、予想通り、当該動的モードよりはるかに少ない抽出物を産生した。検体IK3種の異なる潤滑性被覆材を利用するシリンジ検体I、J、Kは、以下のまたは表3に示す条件を除き、検体EHと同様に作成したOMCTS25sccmアルゴンガス76sccm酸素038sccm電力3ワット電源ON時間10秒シリンジIは、OMCTS、酸素、搬送ガスを利用した3成分被覆材で被覆した。シリンジJは、搬送ガスを除く、OMCTS、酸素、を利用した2成分被覆材で被覆した。シリンジKは1成分被覆材で被覆した。シリンジI、J、Kの潤滑性をその後、検体EHに記載の通りに試験した。当該潤滑性結果を表3に示す。OMCTS、酸素、搬送ガスを利用する3成分被覆材で被覆されるシリンジIは、開始力と維持力の両方について最も優れた潤滑性結果を示した。搬送ガスを除外したシリンジJは、中間の結果を示した。1成分被覆材で被覆されたシリンジKは、最も低い潤滑性を示した。本検体により、当該試験条件の下、搬送ガスおよび酸素の両方を当該処理ガスに追加することで、潤滑性が向上することが明らかになった。検体LNOMCTS前駆体ガスを利用した検体IKを、検体LNにおいて反復した。ただし、検体LNで前駆体として利用したHMDSOを除く。当該結果は表3に示す。試験した3成分、2成分、1成分潤滑性被覆材について、当該OMCTS被覆材はより低い抵抗を示し、したがって当該HMDSO被覆材より潤滑性に優れていたことが、当該結果により示されており、潤滑性被覆材のための当該前駆体ガスとしてのOMCTSの値を実証している。検体OV、W、X、Yこれらの検体において、当該潤滑性被覆材の表面粗度は潤滑性性能と相関していた。OMCTS被覆材を先に説明した装置により、特定の指示工程条件で、1mLのCOC6013モールドシリンジバレルに塗布した。プランジャー力測定を、先に説明した装置により同一のプロトコルで行なった。走査電子分光法顕微鏡写真および原子間力顕微鏡法二乗平均平方根およびその他の粗度判定を、後述手順を利用して行なった。平均RMS値を、当該表面の3種の異なるRMS測定値から得る。表5で報告した当該プランジャー力試験、AFM、SEM試験は、全試験を1つの検体で行なうことを禁止する個々の試験特性により、異なる検体で実施した。SEM顕微鏡写真に対するFiFmとAFM平均RMS値とを比較すると、非継続的で粗度の高いOMCTSプラズマ被覆表面でより低いプランジャー力が実現されることが明確に示されている。姉妹検体実施例W、X、Yについて順に実施例Q、T、Vと同様の条件の下でさらなる試験を実施して、当該AFM粗度データに対応するFi値およびFm値を示した。方面粗度の高い検体WのFiおよびFm摩擦値は、検体XまたはYより低い。表6で示すFm試験は、当該Fm値が高すぎたため、当検体XおよびYのFm測定値に到達する前に中断された。SEM手順SEM検体作成各シリンジ検体を長辺に沿って半分に切断した。当該検体を小さくするため、当該シリンジ上部を切り落とした。当該検体を当該検体ホルダーに導電性グラファイト接着剤で装着した。その後DentonDeskIVSEM検体作成システムへと留置し、薄肉厚肉金被覆材を当該シリンジの内面にスパッタリングした。当該金被覆材は、測定中に当該表面に帯電が起こらないようにするため、必要である。当該検体を当該スパッタシステムから取り外し、JeolJSM6390SEMの当該検体ステージに装着した。当該検体を、検体コンパートメント内で1x106トール以下に減圧した。当該検体が必要な真空レベルに到達したら、当該スリット弁を開いて当該検体分析ステーションへと移動させた。当該検体はまず粗い解像度で画像化され、その後、より倍率の高い画像を蓄積した。当該図に示されているSEM画像は、端から端まで5μmである。AFM手順。NanoScopeIIIDimension3000装置を利用して、AFM画像を収集した。当該装置は、NISTトレーサブル標準を用いて較正した。エッチングされたケイ素の走査プローブ顕微鏡法端部を利用した。自動平板化、面適合化、畳み込みを含む画像処理手順を利用した。10μmx10μmの面積を画像化した。粗度分析を行い以下により表した二乗平均平方根粗度、RMS;平均粗度、Ra;および最大高さ、Rmax、すべて単位nmで測定。当該粗度分析のため、各検体を10μmx10μmの面積を超えて画像化し、その後当該10μmx10μm画像内の特徴を通って切断するよう3種の断面を分析者が選択した。当該特徴の垂直深さは、断面ツールを利用して測定した。各断面については、二乗平均平方根粗度を単位ナノメートルで報告した。これらのRMS値は、各検体の3種の断面の平均と共に表5に記載する。図18~20により表される当該10μmx10μm画像の追加の分析を行なった。本分析のため、3種の断面を各画像から抽出した。当該断面の位置は、当該画像の特徴を通って切断するよう分析者が選択した。当該特徴の垂直深さは、断面ツールを利用して測定した。当該DigitalInstrumentsNanoscopeIIIAFMSTMは、表面の3D描写をデジタル形式で取得し保管する。これらの表面は、さまざまな方法で分析可能である。NanoscopeIIIソフトウェアは、あらゆるAFMまたはSTM画像の粗度分析を実行可能である。本分析の生成物は単色ページであり、上部ビューにおいて選択画像が再生成される。当該画像の右上は画像統計値ボックスとなっており、ここには、全画像から阻止帯域により除外された面積を減じて計算した特性が表示される。同様の追加統計値を、当該画像の選択部位について計算可能であり、これらは当該ページの右下のボックス統計値内に表示される。以下は、これらの統計値の記述および説明である。画像統計値Z範囲当該画像内の最高地点および最低地点の間の差異である。本値は当該画像の面において傾斜が補正されていないため、当該データの面適合化または平板化により値が変化する。平均当該画像面積におけるすべてのZ値の平均である。本値は当該画像の面において傾斜が補正されていないため、当該データの面適合化または平板化により値が変化する。RMS当該画像におけるZ値の標準偏差である。以下の公式により計算するRqΣ2NZavgは当該画像内の平均Z値、Z1はZの電流値、およびNは画像内の地点数である。本値は当該画像の面において傾斜が補正されていないため、当該データの面適合化または平板化により値が変化する。平均粗度当該表面の中央面に対する平均値であり、以下の公式を利用して計算するRa=1/∫oLy∫oLx{f}dxdyfは中央面に対する当該表面、LxおよびLyは当該表面の寸法である。最大高さt平均面に対する当該表面の最大最低地点間の高さの差異である。表面面積当該画像面積の3D表面の面積である。当該画像全域の3つの隣り合うデータポイントにより形成される、三角形の面積を合計することにより計算される。表面面積差異当該表面面積が当該画像面積を超過している量である。パーセントで表され、以下の公式に従って計算する表面面積差異1001S1は当該スキャン面積から阻止帯域により除外されら面積を減じたものの長さである。中央面当該平均面に対して平行な平面である。中央面の上および下の当該画像表面により囲まれた量は同一である。平均面当該画像データは本平板面について最低変数が設定されている。一次最小二乗から求められ、当該Zデータに適合する。潤滑性測定値の概要表8は、前述OMCTS被覆材およびそれらのFi値およびFm値の概要を示す。初期の潤滑性被覆材検体は、達成可能な最低のプランジャー力を同定するためのものであった、と理解されるべきである。後続の市場情報により、達成可能な最低のプランジャー力は、一般説明で述べた理由により、必ずしも最も望ましいものではないと判定された。したがって、当該PECVD反応パラメータを変更して、実践的市場利用のためのプランジャー力を得た。検体Z潤滑性被覆材抽出物総ケイ素抽出物を、ICPMS分析法を利用して測定した。当該シリンジを、静的および動的状況の両方において評価した。以下は当該試験手順の説明であるシリンジを2mlの09食塩液で充填するシリンジをスタンドに設置し、50°Cで72時間保管する。72時間後、食塩液の総ケイ素を試験するシリンジを通して食塩液を放出する前および後に総ケイ素を測定。シリコン油被覆ガラスシリンジ、潤滑性被覆およびSiO2被覆COCシリンジからの抽出物のケイ素レベルを、表7に示す。当該ICPMS総ケイ素測定値の精度は、3である。本発明を当該図面および以上の記述において詳細に図示および説明してきたが、かかる図解および説明は実例的または模範的と見なされるべきであり、制限的と見なされるべきではない。本発明は当該開示実施例に制限されるものではない。当該開示実施例のその他の変型が、当該図面、当該開示、および当該添付請求項を研究することから、当技術分野の当事者によりおよび当該請求発明の実行により、理解されもたらされる可能性がある。当該請求項において、用語からなるはその他の要素または手順が含まれる場合があり、単数形物質は複数である場合がある。相互に異なり依存する請求項に特定の測定値が列挙されるという単なる事実は、これらの測定の組合せを利益を得るために使用不可であることを示すものではない。当該請求項の引用符号は、当該範囲を制限すると解釈されるべきではない。