式6の化合物又はその薬学的に許容される塩と、脱保護試薬とを接触させて、式Aの化合物又はその薬学的に許容される塩を形成するステップを含む方法。Rが、OR1であり、R1が、CHフェニルx、トリアルキルシリル、テトラヒドロピラニル、CH2OCH3、又はCH2OCH2CH2OCH3基であり、及び各R1が、独立に、CHフェニルyである、請求項1に記載の方法。Rが、OR1であり、R1及び各R1が、ベンジル基であり、脱保護試薬が還元試薬であり、nが1であり、並びに式6の化合物をHClの存在下で還元して式Aの化合物の塩酸塩を形成する、請求項1に記載の方法。脱保護試薬が、H2存在下でのPdC若しくはPtC又はそれらの混合物、水酸化パラジウム上のH2、又は触媒的移動水素化試薬条件である、請求項3に記載の方法。式6の化合物が、式5の化合物又はその塩と、次式で特徴付けられるボリル化試薬とを、アルキルリチウム試薬の存在下で、接触させるステップにより調製される、請求項1~4のいずれかに記載の方法。ボリル化試薬が、イソプロピルピナコールボレート又はトリC1ボレート、トリC2ボレート、若しくはトリC3ボレートであり、nが、0~3であり、アルキルリチウム試薬が、nBuLi、nヘキシルリチウム、又はsecBuLiである、請求項5に記載の方法。ボリル化試薬が、イソプロピルピナコールボレート又はトリメチルボレートであり、nが、2であり、アルキルリチウム試薬が、nBuLiである、請求項5又は6に記載の方法。式5の化合物又はその塩が、式10の化合物若しくはその塩のエナンチオ選択的な還元ステップ、又は塩基性の条件下で、R1Xと式4の化合物又はその塩とを接触させるステップのいずれかにより調製される、請求項5に記載の方法。式5の化合物又はその塩が、H2及びNaud触媒又はH2及びNoyori触媒を用いて調製され、nが、2である、請求項8に記載の方法。式5の化合物又はその塩が、炭酸塩又は水酸化物の存在下で、式4の化合物又はその塩と臭化ベンジルとを接触させるステップにより調製される、請求項8に記載の方法。式4の化合物又はその塩が、式2と、ニトロメタンとを、キラル試薬の存在下で接触させて、式3の化合物を形成するステップ、次いで、ニトロ基をアミン基に還元するステップにより調製される、請求項10に記載の方法。キラル試薬が、177トリメチルNビシクロ221ヘプタン2アミン二塩酸塩、4エチル21エチル1445ジヒドロ13オキサゾール2イルプロピル45ジヒドロ13オキサゾール、424メチル45ジヒドロオキサゾール2イルプロパン2イル45ジヒドロオキサゾール、又はN1N2ビス177トリメチルビシクロ221ヘプタ2イル12エタンジアミン及びCu2であり、nが、2である、請求項11に記載の方法。式10の化合物又はその塩が、HN2と、塩基及び式9の化合物とを接触させるステップにより調製される、請求項8に記載の方法。式9の化合物が、式8の化合物の臭素化ステップにより調製される、請求項13に記載の方法。a式2の化合物と、ニトロメタンとを、キラル試薬の存在下で接触させて、式3の化合物を作成するステップ、b式3の化合物を還元して、式4の化合物又はその塩を形成するステップ、c式4の化合物又はその塩とR1X及び塩基とを接触させて、式5の化合物又はその塩を形成するステップ、d式5の化合物又はその塩と、次式で特徴付けられるボリル化試薬とを、nBuLiの存在下で接触させて、式6の化合物又はその薬学的に許容される塩を形成するステップ、並びにe式6の化合物又はその薬学的に許容される塩と脱保護試薬とを接触させて、式Aの化合物又はその薬学的に許容される塩を形成するステップを含む方法。R1及び各R1が、ベンジル基であり、nが、2であり、キラル試薬が、Cu2及び177トリメチルNビシクロ221ヘプタン2アミン二塩酸塩、4エチル21エチル1445ジヒドロ13オキサゾール2イルプロピル45ジヒドロ13オキサゾール、424メチル45ジヒドロオキサゾール2イルプロパン2イル45ジヒドロオキサゾール、又はN1N2ビス177トリメチルビシクロ221ヘプタ2イル12エタンジアミンであり、Xが、Br、Cl、I、トシル、又はトリフリルから選択される脱離基であり、ボリル化試薬が、イソプロピルピナコールボレート又はトリメチルボレートであり、並びに脱保護試薬が、PdC触媒、PtC触媒又はPdCPtC触媒の混合物の存在下での水素化である、請求項15に記載の方法。a式8の化合物を臭素化して、式9の化合物を形成するステップ、b式9の化合物とHN2とを接触させて、式10の化合物又はその塩を形成するステップ、c式10の化合物又はその塩をエナンチオ選択的に還元して、式5の化合物又はその塩を形成するステップ、d式5の化合物又はその塩と、次式で特徴付けられるボリル化試薬とを、nBuLiの存在下で接触させて、式6の化合物又はその薬学的に許容される塩を形成するステップ、並びにe式6の化合物又はその薬学的に許容される塩と脱保護試薬とを接触させて、式Aの化合物又はその薬学的に許容される塩を形成するステップ、を含む方法。式6aの化合物又はその薬学的に許容される塩。R1が、ベンジル、1フェニルエチル、2メトキシベンジル、3メトキシベンジル、4メトキシベンジル、24ジメトキシベンジル、又はジフェニルメチルであり、R1は、OHであり、nは、0、1、2又は3である、請求項18の化合物。R1がベンジルであり、nが2である、請求項18又は19のいずれかに記載の化合物。第1の態様では、本発明は、式6の化合物又はその薬学的に許容される塩を、脱保護条件下で脱保護して、式Aの化合物又はその薬学的に許容される塩を形成するステップを含む方法である。適切なR1保護基の例としては、CHフェニルx、トリアルキルシリル、テトラヒドロピラニル、CH2OCH3、又はCH2OCH2CH2OCH3基が含まれる。他の態様では、R1は、ベンジルである。C1C4アルキルは、C1アルキル、C2アルキル、C3アルキル、C4アルキル、例えば、メチル、エチル、nプロピル、イソプロピル、nブチル、secブチル、及びtブチルを指す。同様に、C1C4アルコキシは、C1アルコキシ、C2アルコキシ、C3アルコキシ、C4アルコキシ、例えば、メトキシ、エトキシ、nプロポキシ、イソプロポキシ、nブトキシ、secブトキシ、及びtブトキシを指す。C1C6アルキルは、C1アルキル、C2アルキル、C3アルキル、C4アルキル、C5アルキル、C6アルキルを指す。適切なR1保護基の例としては、CHフェニルyが含まれる。そのような基の例としては、ベンジル、1フェニルエチル、2メトキシベンジル、3メトキシベンジル、4メトキシベンジル、24ジメトキシベンジル、及びジフェニルメチル基が含まれる。他の態様では、各R1は、ベンジルである。適切な脱保護法としては、金属触媒水素化法、触媒的転移水素化法、又は酸分解が含まれる。R1がベンジルの場合、好ましい脱保護試薬としては、PdC上H2、PtC上H2、水酸化パラジウム上H2、又は蟻酸アンモニウム及びPdCが含まれる。他の態様では、nは、0、1、2又は3であり、好ましくは、nは、2である。本明細書で用いる場合、薬学的に許容される塩という用語は、酸付加塩を指す。適切な酸付加塩の例は、無機酸の塩及び有機塩である。適切な無機酸の塩の例としては、塩素酸、臭素酸、リン酸、メタリン酸、硝酸及び硫酸の塩が含まれる。適切な有機酸の塩の例としては、酒石酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸、リンゴ酸、酪酸、フマル酸、安息香酸、蟻酸、プロピオン酸、グリコール酸、グルコン酸、マレイン酸、コハク酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ステアリン酸、ベンゼンスルホン酸、ブロモベンゼンスルホン酸、及びpトルエンスルホン酸の塩が含まれる。Aの薬学的に許容される塩は、好ましくは、HCl塩である。他の態様では、式6の化合物は、HClの存在下で還元されて、式Aの化合物の塩酸塩が形成される。本発明の他の態様では、式6の化合物は、式5の化合物又はその塩と、ボリル化試薬とを、nBuLi、nヘキシルリチウム、又はsecBuLiなどのアルキルリチウムの存在下で、接触させるステップにより調製される。ボリル化試薬は、次式により特徴付けられる。各R2は、独立に、C1アルキル、C2アルキル、C3アルキル、C4アルキル、C5アルキル、C6アルキルであり、各R3は、C1アルキル、C2アルキル、C3アルキル、C4アルキル、C5アルキル、C6アルキルである。好ましくは、各R2は、同一のアルキル基である。代替としては、R2基は、それらが結合している酸素原子と一緒になって5又は6員環を形成し、それは場合により、縮合してアリール環となっていてもよい。適切なボリル化試薬の例としては、イソプロピルピナコールボレート、2132ベンゾジオキサボロール、及びトリイソプロピルボレート及びトリメチルボレートなどのトリC1ボレート、トリC2ボレート、及びトリC3ボレートが含まれる。他の態様では、ボリル化試薬は、イソプロピルピナコールボレート又はトリメチルボレートである。式5の化合物又はその塩は、塩基性の条件下で、R1Xと式4の化合物又はその塩とを接触させるステップにより調製され得る。適切な塩基としては、炭酸ナトリウム、カリウム及びセシウムなどの炭酸塩又は水酸化テトラブチルアンモニウムなどの水酸化物が含まれる。式4の化合物又はその塩は、式2の化合物と、ニトロメタンとを、キラル試薬の存在下で接触させて、式3の化合物を形成するステップ、次いで、ニトロ基をアミン基に還元するステップにより調製され得る。適切なキラル試薬の例としては、Co2、Cu2、CuCl2、Zn2、又はZn2などの適切な触媒の存在下での、177トリメチルNビシクロ221ヘプタン2アミン二塩酸塩、4エチル21エチル1445ジヒドロ13オキサゾール2イルプロピル45ジヒドロ13オキサゾール、424メチル45ジヒドロオキサゾール2イルプロパン2イル45ジヒドロオキサゾール、又はN1N2ビス177トリメチルビシクロ221ヘプタ2イル12エタンジアミンが含まれる。適切なニトロ基還元試薬の例としては、水素の存在下で、PdC、PtC又はこれらの混合物が含まれ得る。式2の化合物は、便宜的には、適切な塩基の存在下で、R13Xと3ヒドロキシベンツアルデヒドとの反応により調製され、塩基の例としては、水酸化物及び炭酸塩塩基が含まれる。代替として、式5の化合物又はその塩は、式10の化合物又はその塩のエナンチオ選択的な還元により調製し得る。エナンチオ選択的な還元試薬の例としては、H2及び22フェロセニル4イソプロピル2オキサゾリントリフェニルホスフィンルテニウムジクロリド錯体、BINAPRuDPENCl、又はオキサアザボロリジン触媒のボラン還元などのルテニウム、ロジウム又はイリジウムベースの触媒が含まれる。式10の化合物又はその塩は、式9の化合物とHN2とを接触させるステップにより調製され得る。式9の化合物は、式8の化合物を臭素化するステップにより調製され得る。適切な臭素化試薬としては、ジクロロメタン中のBr2、NBS及びテトラnブチルアンモニウムトリブロミドが含まれる。化合物8は、3ヒドロキシアセトフェノンとX3R1及び適切な塩基とを接触させるステップにより調製され、塩基の例としては、水酸化物及び炭酸塩塩基が含まれる。スキーム以下のスキームは、全体として、本発明の方法を例示している。R1、R1及びXは、特に開示されている基に限定されるわけではなく、同様に、方法は、開示されている触媒、塩基、還元試薬及びエナンチオ選択的試薬に限定されるわけではない。スキーム1に従い、3ヒドロキシベンツアルデヒドが、化合物2を形成するために十分な条件の下で適切な塩基の存在下で、XCH2nCH2Rと接触させられる。化合物2は、ニトロメタン及び177トリメチルNビシクロ221ヘプタン2アミン二塩酸塩、4エチル21エチル1445ジヒドロ13オキサゾール2イルプロピル45ジヒドロ13オキサゾール、424メチル45ジヒドロオキサゾール2イルプロパン2イル45ジヒドロオキサゾール又はN1N2ビス177トリメチルビシクロ221ヘプタ2イル12エタンジアミンなどの適切なキラル試薬を用いて、Cu2などの適切な触媒の存在下で、対応する2ニトロ1フェニルエタノールに変換される。化合物3は、次いで、対応する一級アミンに変換され、次いで、R1Xで保護されて、化合物5が形成される。この中間体は、遊離塩基又は塩として、好ましくは、塩酸塩として単離されてもよい。化合物5又はその塩は、nBuLi、nヘキシルリチウム又はsecBuLiなどの強塩基の存在下で、適切なボリル化試薬でボリル化され、化合物6が形成される。この中間体は、脱保護されて、アミノメチルベンゾオキサボロール、好ましくは、37オキシ21ベンゾオキサボロール1オールが形成される。この生成物は、塩酸塩として有利に単離され、再結晶によりさらに精製され得る。スキーム2に従い、3ヒドロキシアセトフェノンが、化合物8を形成するに十分な条件下で、適切な塩基の存在下で、XCH2nCH2Rと接触させられる。適切な臭素化剤での臭素化反応により、ブロモケトンの形成をもたらし、順に、保護されたアミンを形成するために十分な条件下で、HN2と接触させられる。化合物10又はその塩は、エナンチオ選択的還元条件下で、対応する2アミノ1フェニルエタノールへエナンチオ選択的に還元される。化合物5又はその塩は、次いで、ボリル化され、スキーム1で記載されたように脱保護され、アミノメチルベンゾオキサボロール、好ましくは、37オキシ21ベンゾオキサボロール1オールが、好ましくは、塩酸塩として形成される。以下の実施例は本発明の方法の例示であり、本発明の範囲を限定することを意図したものではない。37オキシ21ベンゾオキサボロール1オール塩酸塩の調製1A3オキシプロピルオキシベンツアルデヒドの調製3Lの反応容器に、炭酸セシウム、3ヒドロキシベンツアルデヒド、ジメチルホルムアミド及び3ブロモプロピルフェニルメチルエーテルを充填し、周囲温度で約18時間撹拌した。水、続いてtertブチルメチルエーテルを加えた。底部の水性層を分離し、有機層を1N水酸化ナトリウム及び水で洗浄した。有機溶液を最少量まで濃縮し、その後、エタノールを加え、溶液を最少量まで濃縮し、1μmのフィルターを通してろ過した。1B2ニトロ13オキシプロピルオキシフェニルエタノールの調製酢酸銅及びカンファーアミノメチルピリジンビス塩酸塩を、反応容器に充填し、続いてエタノール及びジイソプロピルエチルアミンを加えた。内容物を室温で1時間撹拌し、その間に、3オキシプロピルオキシベンツアルデヒドのエタノール中溶液を充填した。反応混合物を30°C~40°Cにまで冷却し、温度を30°C未満に保ちながら、反応物にニトロメタンを徐々に加え、続いてジイソプロピルエチルアミンを加えた。反応温度を、24~48時間、30°Cに保った。反応が完了した後、トリフルオロ酢酸を反応物に充填し、内容物を、1NHCl及びtブチルメチルエーテルの室温溶液を含む別の反応容器に移した。添加が完了した後、層が分離するに任せ、水性相を除去した。有機相を水で洗浄した後、水性相を除去した。次いで、生成物のTBME中溶液を、TBMEでリンスしたシリカゲル充填層を通してろ過した。生成物は、TBME中溶液として冷蔵し、続く水素化ステップの前にエタノールと交換した。1C12アミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノールの調製エタノール溶液中、2ニトロ13オキシプロピルオキシフェニルエタノールを、PdPtC触媒を用いて水素化した。出発物質及びヒドロキシルアミン中間体の消費に伴い、エタノール中の反応生成物をろ過した。1C22ビスアミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノール塩酸塩の調製粉末化した炭酸カリウムを250mLの反応容器に充填し、続いて2アミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノールのエタノール溶液を加えた。スラリー中へ追加のエタノールを充填した。臭化ベンジルを反応容器に充填し、スラリーを20~25°Cで、18~24時間撹拌した。その後、固形分をろ過し、エタノールで洗浄した。ろ液を水で希釈し、50°Cに加熱した。濃塩酸を反応容器に充填し、生成物の塩酸塩の沈殿を得た。沈殿の開始と同時にスラリーを、30分間50°Cに保ち、次いで、0°Cに冷却し、さらに30分間、0°Cに保った。生成物をろ過し、0°Cで、20の水性メタノール溶液で洗浄した。1D3ビスアミノメチル7オキシプロピルオキシ21ベンゾオキサボロール1オールの調製2ビスアミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノール塩酸塩及びトルエンを250mLの反応容器に充填した。内容物を約5分間で完全に混合し、その後、反応容器を真空下において混合物を脱ガスし、窒素で埋め戻した。これを2回行った。懸濁液を50~55°Cに加熱し、その間にnBuLiを約1時間にわたって激しく撹拌しながら加えた。次いで、混合物を、50~55°Cで約1時間撹拌した。その間に、出発物質が消費されるのが観察された。次いで、混合物を、20~40°Cに冷却し、10当量のnBuLiを、温度を20°C未満に保持できる速度で加えた。添加の完了後、温度を30~40°Cに調整し、nBuLiを、添加の間温度は20°C未満に保持したまま、できるだけ迅速に加えた。温度を20~25°Cに調整し、1時間撹拌した。混合物を75~80°Cに冷却し、全量を直接CD3OD中で急冷した。LCMSで調べて重水素導入の完了が観測された後、THFを直接添加し、続いてホウ酸塩を急いで加えた。混合物を、30分~1時間の間に15~25°Cに温め、次いで5のNaHCO3水溶液を加え、混合物を約15分間激しく撹拌した。得られた懸濁液をろ過し、ケーキを少なくとも30mLのTBMEで洗浄した。ろ液が分離するに任せ、次いで、有機層を水で3、4回洗浄し、最終洗浄物を少なくとも1時間、沈むに任せた。有機層を約40mLに濃縮した。1E37オキシ21ベンゾオキサボロール1オール塩酸塩の調製トルエン中の37オキシ21ベンゾオキサボロール1オール塩酸塩の溶液に、メタノール、1NHCl水溶液及び5PdC触媒を加えた。得られた混合物を、50°C、100psigの水素ガスで処理した。モノNベンジルアミン中間体の消費後に、ろ過材を通して反応溶液をろ過し、次いで1μmのろ過を行った。次いで、粗生成物のろ液を蒸留し、2プロパノールを加え、最小撹拌可能容量まで再び蒸留した。この濃厚溶液を室温で結晶化させ、次いでろ過して2プロパノールで洗浄した。1HNMRd748701693537418378359292200正イオン電子スプレイイオン化を用いてプロトン化分子MHの正確な質量が、mz2381247と測定された。このイオンの計算質量は、mz2381251である。キラル純度は、キラルHPLCを用いて、999であることが判った。37オキシ21ベンゾオキサボロール1オール塩酸塩の調製2A3オキシプロピルオキシベンツアルデヒドの調製3Lの反応容器に、炭酸カリウム、3ヒドロキシベンツアルデヒド、ジメチルホルムアミド及び3クロロプロピルフェニルメチルエーテルを充填し、90°Cで約18時間撹拌した。水、続いてtertブチルメチルエーテルを加えた。底部の水性層を分離し、有機層を1N水酸化ナトリウム及び水で洗浄した。有機溶液を最少量まで濃縮し、その後エタノールを加え、溶液を最少量まで濃縮し、1μmろ紙でろ過した。2B2ニトロ13オキシプロピルオキシフェニルエタノールの調製酢酸銅一水和物及びビスカンファーエチレンジアミン177トリメチルビシクロ221ヘプタ2イル12エタンジアミンを反応容器に充填し、続いてエタノールを加えた。内容物を、約1時間で50~60°Cに、又はすべての固体が溶解するまで温め、次いで、室温に冷却し撹拌した。その間、3オキシプロピルオキシベンツアルデヒドのエタノール溶液を充填した。反応混合物を、10~20°Cに冷却し、温度を10°C未満に保ちながら、反応物にニトロメタンを徐々に添加し、続いてジイソプロピルエチルアミンを加えた。反応温度を、約22~30時間、10°Cに保った。反応が完了した後、1NHCl及びtブチルメチルエーテルの室温の溶液を反応容器に充填した。添加に続いて、内容物を約5分間撹拌し、20°Cにし、層が分離するに任せ、水性相を除去した。次いで、有機相を水で2回洗浄したが、毎回、水性相を除いた。次いで、TBMEを蒸留して除き、脱水エタノールで置換した。2C12アミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノールの調製2ニトロ13オキシプロピルオキシフェニルエタノールのエタノール中溶液を、PdPtC触媒を用いて水素化した。出発物質及びヒドロキシルアミン中間体の消費後に、エタノール中の反応生成物をろ過した。2C22ビスアミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノール塩酸塩の調製粉末化した炭酸カリウムを250mLの反応容器に充填し、続いて2アミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノールのエタノール溶液を加えた。スラリー中へ追加のエタノールを充填した。臭化ベンジルを反応容器に充填し、スラリーを20~25°Cで、18~24時間撹拌した。その後、固形分をろ過し、エタノールで洗浄した。ろ液を水で希釈し、50°Cに加熱した。濃塩酸を反応容器に充填し、生成物の塩酸塩の沈殿を得た。沈殿の開始と同時にスラリーを、30分間50°Cに保ち、次いで、0°Cに冷却し、さらに30分間、0°Cに保った。生成物をろ過し、0°Cで、20の水性メタノール溶液で洗浄した。2D3ビスアミノメチル7オキシプロピルオキシ21ベンゾオキサボロール1オールの調製2ビスアミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノール塩酸塩及びトルエンを250mLの反応容器に充填した。内容物を約5分間で完全に混合し、その後、反応容器を真空下において混合物を脱ガスし、窒素で埋め戻した。これを2回行った。懸濁液を50~55°Cに加熱し、その間にnBuLiを約1時間にわたって激しく撹拌しながら加えた。混合物を、50~55°Cで約1時間撹拌した。その間に、出発物質が消費されるのが観察された。次いで、混合物を、20~40°Cに冷却し、10当量のnBuLiを、温度を20°C未満に保持できる速度で加えた。添加の完了後、温度を30~40°Cに調整し、nBuLiを、添加の間温度は20°C未満に保持したまま、できるだけ迅速に加えた。温度を20~25°Cに調整し、1時間撹拌した。混合物を75~80°Cに冷却し、全量を直接CD3OD中で急冷した。LCMSで調べて重水素導入の完了が観測された後、THFを直接添加し、続いてホウ酸塩を急いで加えた。混合物を、30分~1時間の間に15~25°Cに温め、次いで5のNaHCO3水溶液を加え、混合物を約15分間激しく撹拌した。得られた懸濁液をろ過し、ケーキを少なくとも30mLのTBMEで洗浄した。ろ液が分離するに任せ、次いで、有機層を水で3、4回洗浄し、最終洗浄物を少なくとも1時間、沈むに任せた。有機層を約40mLに濃縮した。2E37オキシ21ベンゾオキサボロール1オール塩酸塩の調製トルエン中の37オキシ21ベンゾオキサボロール1オール塩酸塩の溶液に、メタノール、1NHCl水溶液及び5PdC触媒を加えた。得られた混合物を、50°C、100psigの水素ガスで処理した。モノNベンジルアミン中間体の消費後に、ろ過材を通して反応溶液をろ過し、次いで1μmのろ過を行った。粗生成物のろ液を蒸留し、2プロパノールを加え、最小撹拌可能容量まで再び蒸留した。この濃厚溶液を室温で結晶化させ、次いでろ過して2プロパノールで洗浄した。1HNMRd748701693537418378359292200正イオン電子スプレイイオン化を用いてプロトン化分子MHの正確な質量が、mz2381247と測定された。このイオンの計算質量は、mz2381251である。キラル純度は、キラルHPLCを用いて、999であることが判った。37オキシ21ベンゾオキサボロール1オール塩酸塩の代替調製法3A13オキシプロピルオキシフェニルエタノンの調製ジメチルホルムアミド中の3ヒドロキシアセトフェノンの溶液に、周囲温度で、3ブロモプロピルフェニルメチルエーテルを添加し、続いて炭酸セシウムを加えた。懸濁液を24時間撹拌し、水、続いて酢酸エチルを加えた。有機層を分離し水性層を酢酸エチルで抽出した。有機層を合一し、2N水酸化ナトリウムで2回、塩水で4回洗浄し、減圧下でオイルにまで濃縮し、表題化合物を得た。3B2ブロモ13オキシプロピルオキシフェニルエタノンの調製13オキシプロピルオキシフェニルエタノンのテトラヒドロフラン溶液にメタノール及びテトラヒドロフラン中のテトラブチルアンモニウムトリブロミドを加えた。反応物を45分間周囲温度で撹拌し、その間に、テトラブチルアンモニウムトリブロミドを、続いて、追加の06gを加えた。反応物に、ナトリウムチオサルフェートの10水溶液を加え、混合物を、減圧下で最少量まで濃縮した。酢酸エチルを加え、得られた有機溶液をナトリウムチオサルフェート水溶液で洗浄し、重炭酸ナトリウム及び塩水で飽和させ、オイルにまで濃縮して表題化合物を得た。3C2ビスアミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノンの調製2ブロモ13オキシプロピルオキシフェニルエタノン、ジベンジルアミン及びジクロロメタンの混合物を、水中の炭酸ナトリウム溶液に加えた。反応混合物を周囲温度で1夜撹拌した。有機層を分離し最少量まで濃縮し、tertブチルメチルエーテルを加えた。有機層を希薄酢酸で、01N水酸化ナトリウムで1回、塩水で1回洗浄した。有機溶液を乾燥まで濃縮した。オイルをメタノールで洗浄し、クロマトグラフィーで精製して、表題化合物を得た。3D2ビスアミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノールの調製テトラヒドロフラン中の2ビスアミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノン、触媒SKN0032z及び1M水酸化ナトリウムの混合物を、4時間、150psiの水素下に置いた。次いで、シリカゲルを通して反応混合物をろ過した。粗ろ液を、tertブチルメチルエーテルヘキサンを用いるクロマトグラフィー溶出で精製して所望の生成物を黄色のオイルとして得た。3E3ビスアミノメチル7オキシプロピルオキシ21ベンゾオキサボロール1オールの調製5mLのトルエン中の2ビスアミノ13オキシプロピルオキシフェニルエタノールを、20°Cで、約5分間で、ヘキサン中のnBuLi、175mmolに加えた。次いで、混合物を2時間撹拌し、新しく蒸留したトリメチルボレートで急冷した。冷温浴を取り除き、混合物を室温に温めた。反応物を10mLのTBMEで希釈し、次いで、飽和NaHCO3溶液5mLを加えた。約30分間激しく撹拌した後、有機層を5mLの01MNaH2PO4、次いで5mLの飽和NaHCO3溶液で洗浄した。次いで、有機層をNa2SO4上で脱水し、濃縮した。