"下記一般式Iで表される化合物の重合体を含有する電荷輸送性膜。Ran-Fa-Xa-Fa’-Ra’n’I一般式I中、Fa及びFa’はそれぞれ独立に芳香環を含む電荷輸送サブユニットを示し、Ra及びRa’はそれぞれ独立にFa及びFa’で表される電荷輸送サブユニットの芳香環に直接結合した-CH=CH2又は下記式aで表される基を示し、Xaはアルキレン基、又はアルキレン基、-O-、-S-、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基を示し、n及びn’はそれぞれ独立に0又は1以上の整数を示す但し、nとn’とが同時に0とはならない。LはFa及びFa’で表される電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する、-CH2n-O-CH2-n=1,2で表され、にて電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する連結基を示す。前記一般式Iで表される化合物中のnn’が2以上の整数である請求項1に記載の電荷輸送性膜。前記一般式Iで表される化合物が、下記一般式IIIで表される化合物である請求項1又は請求項2に記載の電荷輸送性膜。一般式III中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5及びAr6はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Xaはアルキレン基、又はアルキレン基、-O-、-S-、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基を示し、Dは-CH=CH2又は下記式a’で表される基を示し、cはそれぞれ独立に0又は1を示し、Dの総数は2以上である。LはFa及びFa’で表される電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する、-CH2n-O-CH2-n=1,2で表され、にて電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する連結基を示す。請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の電荷輸送性膜を備えた光電変換デバイス。請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の電荷輸送性膜を備えた電子写真感光体。前記電荷輸送性膜を最表面層として備えた請求項5に記載の電子写真感光体。前記電荷輸送性膜が熱ラジカル発生剤又はその誘導体を更に含む請求項5又は請求項6に記載の電子写真感光体。請求項5~請求項7のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。請求項5~請求項7のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備える画像形成装置。本発明の課題は、電荷輸送性能の環境依存が低減された電荷輸送性膜を提供することである。上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、請求項1に係る発明は、下記一般式Iで表される化合物の重合体を含有する電荷輸送性膜である。Ran-Fa-Xa-Fa’-Ra’n’I一般式I中、Fa及びFa’はそれぞれ独立に芳香環を含む電荷輸送サブユニットを示し、Ra及びRa’はそれぞれ独立にFa及びFa’で表される電荷輸送サブユニットの芳香環に直接結合した-CH=CH2又は下記式aで表される基を示し、Xaはアルキレン基、又はアルキレン基、-O-、-S-、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基を示し、n及びn’はそれぞれ独立に0又は1以上の整数を示す但し、nとn’とが同時に0とはならない。LはFa及びFa’で表される電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する、-CH2n-O-CH2-n=1,2で表され、にて電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する連結基を示す。請求項2に係る発明は、前記一般式Iで表される化合物中のnn’が2以上の整数である請求項1に記載の電荷輸送性膜である。請求項3に係る発明は、前記一般式Iで表される化合物が、下記一般式IIIで表される化合物である請求項1又は請求項2に記載の電荷輸送性膜である。一般式III中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5及びAr6はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Xaはアルキレン基、又はアルキレン基、-O-、-S-、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基を示し、Dは-CH=CH2又は下記式a’で表される基を示し、cはそれぞれ独立に0又は1を示し、Dの総数は2以上である。LはFa及びFa’で表される電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する、-CH2n-O-CH2-n=1,2で表され、にて電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する連結基を示す。請求項4に係る発明は、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の電荷輸送性膜を備えた光電変換デバイスである。請求項5に係る発明は、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の電荷輸送性膜を備えた電子写真感光体である。請求項6に係る発明は、前記電荷輸送性膜を最表面層として備えた請求項5に記載の電子写真感光体である。請求項7に係る発明は、前記電荷輸送性膜が熱ラジカル発生剤又はその誘導体を更に含む請求項5又は請求項6に記載の電子写真感光体である。請求項8に係る発明は、請求項5~請求項7のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジである。請求項9に係る発明は、請求項5~請求項7のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備える画像形成装置である。請求項1に係る発明によれば、前記一般式Iで表される化合物の重合体を含まない場合に比べ、電荷輸送性能の環境依存が低減された電荷輸送性膜が得られる。請求項2に係る発明によれば、前記一般式I中のnn’が2以上でない場合に比べ、架橋密度が向上した電荷輸送性膜が得られる。請求項3に係る発明によれば、前記一般式IIIで表される化合物でない場合に比べ、電荷輸送能に優れた電荷輸送性膜が得られる。請求項4に係る発明によれば、前記一般式Iで表される化合物の重合体を含む電荷輸送性膜を備えない場合に比べ、環境変化に起因する電気特性の劣化が抑制された光電変換デバイスが得られる。請求項5に係る発明によれば、前記一般式Iで表される化合物の重合体を含む電荷輸送性膜を備えない場合に比べ、環境変化に起因する電気特性の劣化が抑制された電子写真感光体が得られる。請求項6に係る発明によれば、前記一般式Iで表される化合物の重合体を含む電荷輸送性膜が最表面層ではない場合に比べ、長期に亘り繰り返し使用しても電気特性の劣化が抑制された電子写真感光体が得られる。請求項7に係る発明によれば、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含まない場合に比べ、長期に亘り繰り返し使用しても電気特性の劣化が抑制された電子写真感光体が得られる。請求項8、9に係る発明によれば、前記一般式Iで表される化合物の重合体を含む電荷輸送性膜を備えた電子写真感光体を適用しない場合に比べ、環境変化に起因する画像の劣化が抑制されたプロセスカートリッジ、及び画像形成装置が提供できる。電荷輸送性膜本実施形態に係る電荷輸送性膜は、下記一般式Iで表される化合物の重合体を含有する。Ran-Fa-Xa-Fa’-Ra’n’I上記一般式I中、Fa及びFa’はそれぞれ独立に芳香環を含む電荷輸送サブユニットを示し、Ra及びRa’はそれぞれ独立にFa及びFa’で表される電荷輸送サブユニットの芳香環に直接結合した-CH=CH2又は下記式aで表される基を示し、Xaはアルキレン基、又はアルキレン基、-O-、-S-、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基を示し、n及びn’はそれぞれ独立に0又は1以上の整数を示す但し、nとn’とが同時に0とはならない。LはFa及びFa’で表される電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する、-CH2n-O-CH2-n=1,2で表され、にて電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する連結基を示す。従来用いられていた、メタアクリル基を有する電荷輸送性化合物は、重合の際に電荷輸送性能を発現する骨格の部位に対して、メタアクリル基の親水性が強いため、ある種の層分離状態を形成してしまい、ホッピング伝導の妨げとなっていることが考えられる。このため、メタアクリル基を有する電荷輸送性化合物の重合体を含む電荷輸送性膜は、電荷輸送の効率が落ち、更に、部分的な水分の吸着などにより環境安定性が低下するものと考えられる。対して、本実施形態に用いる一般式Iで表される化合物は、親水性の強くないビニル系の連鎖重合性基を有しており、更に、電荷輸送性能を発現する骨格を一分子内に複数有し、その骨格同士を芳香環や共役二重結合などの共役結合を有しない、柔軟性のある連結基で連結している。このような構造を有することから、効率的な電荷輸送性能と高強度化が図れると共に、重合の際の層分離状態の形成が抑制されるものと考えられる。その結果として、この一般式Iで表される化合物の重合体を含む電荷輸送性膜は、電荷輸送性能と機械的強度との両方に優れ、更に、電荷輸送性能の環境依存温湿度依存を低減しうるものと考えられる。一般式I中のFa及びFa’として示される、芳香環を含む電荷輸送サブユニットとしては、芳香環を含む電子輸送性化合物や正孔輸送性化合物に由来するサブユニットであればよく、電荷移動度、酸化安定性などの面で優れる、トリアリールアミンであることがよい。次いで、一般式I中のRa及びRa’の置換数、即ち、nn’の値は1以上であればよく、積層製膜性、強度の点から、nn’の値が2以上であることがよい。また、nn’の上限値としては、材料安定性の点から、8であることがよい。また、Ra及びRa’で示される前記式aにおいて、Lは、どの位置に置換していてもよく、異性体が混合していてもよい。一般式Iで表される化合物は、電荷移動度、酸化安定性などの面で優れる点で、下記一般式IIIで表される化合物であることがよい。上記一般式III中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5及びAr6はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Xaはアルキレン基、-O-、-S-、エステルから選ばれる基を少なくとも含む2価の基を示し、Dは-CH=CH2又は下記式a’で表される基を示し、cはそれぞれ独立に0又は1を示し、Dの総数は2以上である。LはFa及びFa’で表される電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する、-CH2n-O-CH2-n=1,2で表され、にて電荷輸送サブユニットの芳香環に結合する連結基を示す。一般式III中のAr1乃至Ar4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。ここで、置換アリール基における置換基としては、D以外のものとして、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子等が挙げられる。また、Ar1乃至Ar4としては、下記構造式1乃至7のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記構造式1乃至7は、各Ar1乃至Ar4に連結され得る-DCと共に示す。ここで、-DCは前記一般式IIIにおける-DCと同義であり、望ましい例も同様である。上記構造式1中、R9は、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を表す。上記構造式2及び3中、R10乃至R12は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表す。また、tは1以上3以下の整数を表す上記構造式7中、Arは置換又は未置換のアリーレン基を表す。ここで、式7中のArとしては、下記構造式8又は9で表されるものが望ましい。上記構造式8及び9中、R13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、tは1以上3以下の整数を表す。また、前記構造式7中、Z’は2価の有機連結基を示すが、下記構造下記式10乃至17のうちのいずれかで表されるものが望ましい。また、sはそれぞれ0又は1を表す。上記構造式10乃至17中、R15及びR16は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Wは2価の基を表し、q及びrはそれぞれ独立に1以上10以下の整数を表し、tはそれぞれ1以上3以下の整数を表す。前記構造式16乃至17中のWとしては、下記18乃至26で表される2価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式25中、uは0以上3以下の整数を表す。また、一般式III中のAr5、Ar6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基において、このアリーレン基としては、Ar1乃至Ar4の説明で例示されたアリール基から所定の位置の水素原子を1つ除いたアリーレン基が挙げられる。また、置換アリーレン基における置換基としては、Ar1乃至Ar4の説明で、置換アリール基におけるD以外の置換基として挙げられているものと同様である。次に、一般式III中のXaについて説明する。Xaは、アルキレン基、又はアルキレン基、-O-、-S-、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基であって、芳香環や共役二重結合などの共役結合を含まない連結基である。具体的には、Xaは、炭素数1~10のアルキレン基であるか、炭素数1~10のアルキレン基と-O-、-S-、-O-C=O-、及び-C=O-O-から選ばれる基とを組み合わせてなる2価の基が挙げられる。なお、Xaがアルキレン基である場合、このアルキレン基はアルキル、アルコキシ、ハロゲン等の置換基を有していてもよく、この置換基の2つが互いに結合して、前記Wの具体例として記載の26で表される2価の基のような構造となってもよい。一般式III中のDの総数は2以上であるが、積層性、強度の点から、望ましくは3以上である。また、材料の安定性の点から、Dの総数の上限は、8である。以下に、一般式IIIで表される化合物の具体例を示す。なお、一般式IIIで表される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。ここで、化合物ii-1~ii-34は、一般式IIIにおけるDの総数が2である化合物の具体例であり、化合物iii-1~iii-9は、一般式IIIにおけるDの総数が3である化合物の具体例であり、化合物iv-1~iv-17は、一般式IIIにおけるDの総数が4ある化合物の具体例である。合成方法ii30で示される化合物の合成経路ii2で示される化合物の合成経路本実施形態に用いる一般式Iで表される化合物は、連鎖重合性の官能基の官能数、即ち、nn’の値が異なるものを併用することで、電荷輸送性能を低下させることなく、硬化物の強度を調整してもよい。具体的には、前記した一般式IIIで表される化合物は、電荷輸送性能を低下させることなく、効果物の強度を調整する目的で、Dの総数が4以上の化合物と、Dの総数が1~3である化合物と、を併用してもよい。このような併用の場合、Dの総数が4以上の化合物の含有量は、一般式IIIで表される化合物の総含有量の5質量以上95質量以下望ましくは20質量以上90質量以下の範囲にて設定されればよい。本実施形態に係る電荷輸送性膜は、前記した一般式Iで表される化合物の重合体を少なくとも含むことを特徴とする。この重合体は、一般式Iで表される化合物を、熱、光、電子線などのエネルギーにより重合させることで得られる。また、この重合体を含む電荷輸送性膜は、一般式Iで表される化合物と、必要に応じた他の成分と、を含有する組成物を調製し、この組成物を熱、光、電子線などのエネルギーにより重合硬化させることで得られる。ここで、電荷輸送性膜を形成する際に用いる他の成分としては、電荷輸送性膜の用途に応じて適宜選択されればよく、例えば、硬化重合に関わる化合物として、電荷輸送性能を有しない重合性化合物や、電荷輸送性能を有するものの一般式Iで表される化合物とは異なる化合物であるもの、更には、重合性を有さない電荷輸送性化合物や、後述の電荷輸送層に用いる結着樹脂や界面活性剤等が挙げられる。本実施形態に係る電荷輸送性膜中の一般式Iで表される化合物の重合体の含有量としては、電荷輸送性膜の用途に応じた電荷輸送性能をもとに設定されればよく、一般的には、電荷輸送性膜中に10質量以上100質量以下望ましくは20質量以上100質量以下の範囲にて設定されればよい。なお、本実施形態に係る電荷輸送性膜中には、一般式Iで表される化合物の重合体の他、一般式Iで表される化合物自体未反応の状態が含有されていてもよい。光電変換デバイス本実施形態に係る光電変換デバイスは、前述した本実施形態に係る電荷輸送性膜を備えることを特徴とする。前述したように、本実施形態に係る電荷輸送性膜は、機械的強度及び電荷輸送性能の両方に優れ、更に、電荷輸送性能の環境依存が低減されたものであるため、環境変化があっても、電気特性の劣化が抑制される。本実施形態に係る光電変換デバイスとしては、例えば、電子写真感光体、有機ELデバイス、有機薄膜トランジスタ、有機太陽電池等が挙げられる。具体的には、例えば、有機ELデバイスは、少なくとも一方が透明または半透明である一対の電極と、それら電極間に挾持された一つまたは複数の有機化合物層より構成される。該有機化合物層の少なくとも一層に本発明の電荷輸送膜を用いることができ、その層構成は特に限定されない。具体的には発光層、正孔輸送層、正孔注入層として、前述した本実施形態に係る電荷輸送性膜を適用する。また、例えば、有機薄膜トランジスタは、対向して設けられたソース電極及びドレイン電極の双方に接する有機半導体層と、前記ソース電極及び前記ドレイン電極の双方から離間したゲート電極および前記有機半導体層とゲート電極間に配置される絶縁層を有するものである。前記有機半導体層に少なくとも一層に本発明の電荷輸送膜を用いることができ、その層構成は特に限定されない。電子写真感光体次に、本実施形態に係る電子写真感光体について説明する。本実施形態に係る電子写真感光体は、前述した本実施形態に係る電荷輸送性膜を備えることを特徴とする。前述したように、本実施形態に係る電荷輸送性膜は、機械的強度及び電荷輸送性能の両方に優れ、更に、電荷輸送性能の環境依存が低減されたものであるため、この電荷輸送性膜を適用した電子写真感光体は、環境変化があっても、電気特性の劣化が抑制され、その結果として、安定した画像を得ることができるものと考えられる。特に、この電荷輸送性膜を電子写真感光体の最表面層に適用した場合には、機械的強度が高いこともあり、長期に亘り繰り返し使用しても電気特性の劣化が抑制され、その結果として、安定した画像を継続的に得ることができるものと考えられる。本実施形態に係る電子写真感光体では、本実施形態に係る電荷輸送性膜を備えるもので、この電荷輸送性膜としては、最表面層、及び最表面層以外の層のいずれであってもよいが、上述のように、機械的強度及び電荷輸送性能の両方に優れる点、電荷輸送性能の環境依存が低減されている点から、最表面層であることがよい。ここで、最表面層は、電子写真感光体自体の最上面を形成しているものであり、特に保護層として機能する層、又は、電荷輸送層として機能する層として設けられることが望ましい。最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、及び最表面層として保護層を有し、該保護層が前述した電荷輸送性膜で構成される形態が挙げられる。一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が前述した電荷輸送性膜で構成される形態が挙げられる。なお、前述した電荷輸送性膜が最表面層以外の層を構成する場合、導電性基体上に、電荷発生層及び最表面層を含む感光層と共に、感光層上に最表面層として保護層を有し、該電荷輸送層が前述した電荷輸送性膜で構成される形態が挙げられる。以下、前述した電荷輸送性膜が最表面層である保護層として機能する層の場合の、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。図1は、実施形態に係る電子写真用感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図2乃至図3はそれぞれ他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。図1に示す電子写真感光体7Aは、いわゆる機能分離型感光体又は積層型感光体であり、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に電荷発生層2、電荷輸送層3、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Aにおいては、電荷発生層2及び電荷輸送層3により感光層が構成されている。図2に示す電子写真感光体7Bは、図1に示す電子写真感光体7Aと同様に電荷発生層2と電荷輸送層3とに機能が分離された機能分離型感光体である。また、図3に示す電子写真感光体7Cは、電荷発生材料と電荷輸送性材料とを同一の層単層型感光層6電荷発生/電荷輸送層に含有するものである。図2に示す電子写真感光体7Bにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に、電荷輸送層3、電荷発生層2、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Bにおいては、電荷輸送層3及び電荷発生層2により感光層が構成されている。また、図3に示す電子写真感光体7Cにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に単層型感光層6、保護層5が順次形成された構造を有するものである。そして、上記図1乃至図3に示す電子写真感光体7A乃至7Cにおいて、保護層5が、導電性基体2から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、前述した電荷輸送性膜で構成された構成となっている。なお、図1乃至図3に示す電子写真感光体において、下引層1は設けてもよいし、設けなくてもよい。以下、代表例として図1に示す電子写真感光体7Aに基づいて、各要素について説明する。導電性基体導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウムITO等の膜を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。なお、導電性基体は、例えば体積抵抗率が107Ωcm未満の導電性を有するものがよい。導電性基体として金属パイプを用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。下引層下引層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。下引層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。下引層に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが望ましく用いられる。下引層には、シリコン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で設定される。下引層には、表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチルPMMA樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等が用いられる。ここで、下引層の構成として、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成が挙げられる。なお、導電性粒子は、例えば体積抵抗率が107Ωcm未満の導電性を有するものがよい。導電性粒子としては、例えば、金属粒子アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子、導電性金属酸化物粒子酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子、導電性物質粒子カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子が好適である。導電性粒子は、2種以上混合して用いてもよい。また、導電性粒子は、疎水化処理剤例えばカップリング剤等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量以上80質量以下であることが望ましく、より望ましくは40質量以上80質量以下である。下引層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引層形成用塗布液が使用される。また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液-液衝突や液-壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。下引層の膜厚は、15μm以上が望ましく、20μm以上50μm以下がより望ましい。ここで、図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層を更に設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独に或いは複数の化合物の混合物或いは重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウム若しくはケイ素を含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど点から好適である。中間層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。なお、中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロッキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こすことがある。したがって、中間層を形成する場合には、0.1μm以上3μm以下の膜厚範囲に設定することがよい。また、この場合の中間層を下引層として使用してもよい。電荷発生層電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。かかる電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも7.4 ゚、16.6 ゚、25.5 ゚及び28.3 ゚に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも7.7 ゚、9.3 ゚、16.9 ゚、17.5 ゚、22.4 ゚及び28.8 ゚に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも7.5 ゚、9.9 ゚、12.5 ゚、16.3 ゚、18.6 ゚、25.1 ゚及び28.3 ゚に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角2θ±0.2 ゚の少なくとも9.6 ゚、24.1 ゚及び27.2 ゚に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は2種以上を混合して用いてもよい。電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプ或いはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル-スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン-アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ-N-ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば10:1乃至1:10の範囲が望ましい。電荷発生層の形成の際には、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。電荷発生層形成用塗布液中に粒子例えば電荷発生材料を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液-液衝突や液-壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。電荷発生層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。電荷発生層の膜厚は、望ましくは0.01μm以上5μm以下、より望ましくは0.05μm以上2.0μm以下の範囲に設定される。電荷輸送層電荷輸送層は、電荷輸送性材料と、必要に応じて結着樹脂と、を含んで構成される。電荷輸送性材料としては、例えば、2,5-ビスp-ジエチルアミノフェニル-1,3,4-オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5-トリフェニル-ピラゾリン、1-[ピリジル-2]-3-p-ジエチルアミノスチリル-5-p-ジエチルアミノスチリルピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、N,N′-ビス3,4-ジメチルフェニルビフェニル-4-アミン、トリp-メチルフェニルアミニル-4-アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N′-ビス3-メチルフェニル-N,N′-ジフェニルベンジジン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3-4′-ジメチルアミノフェニル-5,6-ジ-4′-メトキシフェニル-1,2,4-トリアジン等の1,2,4-トリアジン誘導体、4-ジエチルアミノベンズアルデヒド-1,1-ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、2-フェニル-4-スチリル-キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6-ヒドロキシ-2,3-ジp-メトキシフェニルベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p-2,2-ジフェニルビニル-N,N-ジフェニルアニリン等のα-スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N-エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロアントラキノン等のキノン系化合物、テトラアノキノジメタン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送性材料は、1種又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。電荷輸送層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプ或いはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル-スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン-アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。なお、電荷輸送性材料と上記結着樹脂との配合比は、例えば10:1乃至1:5が望ましい。電荷輸送層は、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。電荷輸送層形成用塗布液中に粒子例えばフッ素樹脂粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液-液衝突や液-壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。電荷輸送層層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。電荷輸送層の膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上40μm以下の範囲に設定される。保護層保護層は、前述した電荷輸送性膜を適用したものであり、前記一般式Iで表される化合物の重合体を含有する。この保護層を形成するにあたって、一般式Iで表される化合物を含有する電荷輸送性組成物を用いるが、一般式Iで表される化合物の総含有量は、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して、例えば、40質量以上が望ましく、より望ましくは50質量以上、更に望ましくは60質量以上である。この範囲とすることで、電気特性に優れ、硬化膜の厚膜化が実現される。また、本実施形態においては、一般式Iで表される化合物と、反応性基を有さない公知の電荷輸送性材料と、を併用してもよい。反応性基を有さない公知の電荷輸送性材料は、電荷輸送を担わない反応性基を有さないため、電荷輸送性材料の成分濃度を高め、電気特性が更に改善されることから有効である。この公知の電荷輸送性材料としては、前述の電荷輸送層を構成する電荷輸送性材料として挙げられたものが用いられる。以下、保護層を形成するための電荷輸送性組成物の他の成分について説明する。保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、製膜性を確保する観点から、下記界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤は、例えば、Aフッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造、B炭素-炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造、Cアルキレンオキサイド構造、D炭素-炭素三重結合及び水酸基を有する構造のうち1種以上の構造を分子内に含む界面活性剤である。この界面活性剤は、分子内に、A乃至Dの構造を1種以上含有していればよく、2種以上を含有していてもよい。以下、上記のA乃至Dの構造と該構造を有する界面活性剤について説明する。Aフッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造Aフッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造としては、特に制限されないが、フルオロアルキル基を有するアクリルモノマーを重合してなる構造であることが望ましく、パーフルオロアルキル基を有するアクリルモノマーを重合してなる構造であることがより望ましい。上記Aの構造を有する界面活性剤としては、具体的には、ポリフローKL-600共栄社化学社製、エフトップEF-351、EF-352、EF-801、EF-802、EF-601以上、JEMCO社製などが挙げられる。B炭素-炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造B炭素-炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造としては、特に制限されないが、下記構造式B1及びB2の少なくとも一方で示される基であることが望ましい。Bの構造を有する界面活性剤としては、アクリル重合体の側鎖に上記構造式B1及びB2の少なくとも一方で示される基を有する化合物、若しくは、下記構造式B3乃至B5のいずれかで示される化合物であることが望ましい。Bの構造を有する界面活性剤がアクリル重合体の側鎖に構造式B1及びB2の少なくとも一方を有する化合物である場合には、アクリル構造が組成物中の他の成分となじみやすい性質を有しているため、均一な最表面層を形成しうる。また、Bの構造を有する界面活性剤が、構造式B3乃至B5のいずれかで示される化合物である場合には、塗布の際のはじきを防止する傾向にあり、塗膜欠陥を抑制しうる。上記構造式B3乃至B5中、v及びwはそれぞれ独立に1以上の整数を示し、R’は水素原子又は1価の有機基を示し、Rfはそれぞれ独立に構造式B1又はB2で示される基を表す。構造式B3乃至B5中、R’が表す1価の有機基としては、例えば、炭素数1以上30以下のアルキル基、炭素数1以上30以下のヒドロキシアルキル基が挙げられる。Bの構造を有する界面活性剤の市販品としては以下のものが挙げられる。例えば、構造式B3乃至B5のいずれかで示される化合物として、フタージェント100、100C、110、140A、150、150CH、A-K、501、250、251、222F、FTX-218、300、310、400SW、212M、245M、290M、FTX-207S、FTX-211S、FTX-220S、FTX-230S、FTX-209F、FTX-213F、FTX-222F、FTX-233F、FTX-245F、FTX-208G、FTX-218G、FTX-230G、FTX-240G、FTX-204D、FTX-280D、FTX-212D、FTX-216D、FTX-218D、FTX-220D、FTX-222Dネオス株式会社製等が挙げられる。また、アクリル重合体の側鎖に構造式B1及びB2の少なくとも一方を有する化合物としては、KB-L82、KB-L85、KB-L97、KB-L109、KB-L110、KB-F2L、KB-F2M、KB-F2S、KB-F3M、KB-FaMネオス株式会社製等が挙げられる。Cアルキレンオキサイド構造Cアルキレンオキサイド構造としては、アルキレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイドを含む。具体的には、アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどがあり、これらのアルキレンオキサイドの繰り返し数が2以上10000以下であるポリアルキレンオキサイドであってもよい。Cアルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤としては、ポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。ポリエチレングリコールとしては、平均分子量が2000以下のものが好ましく、平均分子量が2000以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール2000平均分子量2000、ポリエチレングリコール600平均分子量600、ポリエチレングリコール400平均分子量400、ポリエチレングリコール200平均分子量200等が挙げられる。また、PE-M、PE-L以上、和光純薬工業社製、消泡剤No.1、消泡剤No.5以上、花王社製等のポリエーテル消泡剤も好適な例として挙げられる。Cアルキレンオキサイド構造の他に分子内にフッ素原子を含む界面活性剤としては、アルキレンオキサイド若しくはポリアルキレンオキサイドをフッ素原子を有する重合体の側鎖に有するものや、アルキレンオキサイド若しくはポリアルキレンオキサイドの末端がフッ素原子を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。Cアルキレンオキサイド構造の他に分子内にフッ素原子を含む界面活性剤として具体的には、例えば、メガファックF-443、F-444、F-445、F-446以上、大日本インキ化学工業株式会社製、フタージェント250、251、222F以上、ネオス社製、POLYFOXPF636、PF6320、PF6520、PF656以上、北村化学社製などが挙げられる。Cアルキレンオキサイド構造の他に分子内にシリコーン構造を含む界面活性剤としては、具体的には、KF351A、KF352A、KF353A、KF354A、KF355A、KF615A、KF618、KF945A、KF6004以上、信越化学工業社製、TSF4440、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4452、TSF4453、TSF4460以上、GE東芝シリコン社製、BYK-300、302、306、307、310、315、320、322、323、325、330、331、333、337、341、344、345、346、347、348、370、375、377,378、UV3500、UV3510、UV3570等以上、ビックケミージャパン株式会社社製が挙げられる。D炭素-炭素三重結合及び水酸基を有する構造D炭素-炭素三重結合及び水酸基を有する構造としては特に制限はなく、この構造を有する界面活性剤としては、以下に示す化合物が挙げられる。D炭素-炭素三重結合及び水酸基を有する構造を有する界面活性剤としては、分子中に三重結合及び水酸基を有する化合物が挙げられ、具体的には、例えば、2-プロピン-1-オール、1-ブチン-3-オール、2-ブチン-1-オール、3-ブチン-1-オール、1-ペンチン-3-オール、2-ペンチン-1-オール、3-ペンチン-1-オール、4-ペンチン-1-オール、4-ペンチン-2-オール、1-ヘキシン-3-オール、2-ヘキシン-1-オール、3-ヘキシン-1-オール、5-ヘキシン-1-オール、5-ヘキシン-3-オール、1-ヘプチン-3-オール、2-ヘプチン-1-オール、3-ヘプチン-1-オール、4-ヘプチン-2-オール、5-ヘプチン-3-オール、1-オクチン-3-オール、1-オクチン-3-オール、3-オクチン-1-オール、3-ノニン-1-オール、2-デシン-1-オール、3-デシン-1-オール、10-ウンデシン-1-オール、3-メチル-1-ブチン-3-オール、3-メチル-1-ペンテン-4-イン-3-オール、3-メチル-1-ペンチン-3-オール、5-メチル-1-ヘキシン-3-オール、3-エチル-1-ペンチン-3-オール、3-エチル-1-ヘプチン-3-オール、4-エチル-1-オクチン-3-オール、3,4-ジメチル-1-ペンチン-3-オール、3,5-ジメチル-1-ヘキシン-3-オール、3,6-ジメチル-1-ヘプチン-3-オール、2,2,8,8-テトラメチル-3,6-ノナジイン-5-オール、4,6-ノナデカジイン-1-オール、10,12-ペンタコサジイン-1-オール、2-ブチン-1,4-ジオール、3-ヘキシン-2,5-ジオール、2,4-ヘキサジイン-1,6-ジオール、2,5-ジメチル-3-ヘキシン-2,5-ジオール、3,6-ジメチル-4-オクチン-3,6-ジオール、2,4,7,9-テトラメチル-5-デシン-4,7-ジオール、-1,6-ビス2-クロロフェニル-1,6-ジフェニル-2,4-ヘキサジイン-1,6-ジオール、--1,6-ビス2-クロロフェニル-1,6-ジフェニル-2,4-ヘキサジイン-1,6-ジオール、2-ブチン-1,4-ジオールビス2-ヒロドキシエチル、1,4-ジアセトキシ-2-ブチン、4-ジエチルアミノ-2-ブチン-1-オール、1,1-ジフェニル-2-プロピン-1-オール、1-エチニル-1-シクロヘキサノール、9-エチニル-9-フルオレノール、2,4-ヘキサジインジイル-1,6-ビス4-フェニルアゾベンゼンスルフォネート、2-ヒドロキシ-3-ブチン酸、2-ヒドロキシ-3-ブチン酸エチルエステル、2-メチル-4-フェニル-3-ブチン-2-オール、メチルプロパラギルエーテル、5-フェニル-4-ペンチン-1-オール、1-フェニル-1-プロピン-3-オール、1-フェニル-2-プロピン-1-オール、4-トリメチルシリル-3-ブチン-2-オール、3-トリメチルシリル-2-プロピン-1-ol等が挙げられる。また、上記の化合物の水酸基の一部又は全部にエチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドが付加した化合物例えば、サーフィノール400シリーズ信越化学社製等が挙げられる。D炭素-炭素三重結合及び水酸基を有する構造を有する界面活性剤としては、下記一般式D1及びD2のいずれかで示される化合物が望ましい。上記一般式D1及びD2中、Ra、Rb、Rc、及びRdは、それぞれ独立に、1価の有機基を示し、x、y、及びzは、それぞれ独立に、1以上の整数を示す。上記一般式D1又はD2で示される化合物の中でも、Ra、Rb、Rc、Rdが、アルキル基であるものが望ましい。また、Ra及びRbの少なくとも一方、Rc及びRdの少なくとも一方が分岐アルキル基であるものがより望ましい。更に、zは1以上10以下であることが望ましい。x及びyは、それぞれ1以上500以下であることが望ましい。一般式D1又はD2で示される化合物の市販品としては、サーフィノール400シリーズ信越化学社製が挙げられる。上述したA乃至Dの構造を有する界面活性剤は、1種を単独で用いてもよいが、複数種を混合して用いてもよい。また、複数種を混合して用いる場合、効果を損なわない範囲において、A乃至Dの構造を有する界面活性剤とは異なる構造の界面活性剤を併用してもよい。併用しうる界面活性剤としては、以下に挙げるフッ素原子を有する界面活性剤やシリコーン構造を有する界面活性剤が挙げられる。即ち、A乃至Dの構造を有する界面活性剤と併用しうるフッ素原子を有する界面活性剤としては、パーフルオロアルキルスルホン酸類例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など、パーフルオロアルキルカルボン酸類例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、及びパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩及びそのアミド変性体であってもよい。パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えば、メガファックF-114大日本インキ化学工業株式会社製、エフトップEF-101、EF102、EF-103、EF-104、EF-105、EF-112、EF-121、EF-122A、EF-122B、EF-122C、EF-123A以上、JEMCO社製、フタージェント100、100C、110、140A、150、150CH、A-K、501以上、ネオス社製などが挙げられる。パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えば、メガファックF-410大日本インキ化学工業株式会社製、エフトップEF-201、EF-204以上、JEMCO社製などが挙げられる。パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックF-493、F-494以上、大日本インキ化学工業株式会社製エフトップEF-123A、EF-123B、EF-125M、EF-132、以上、JEMCO社製などが挙げられる。なお、A乃至Dの構造を有する界面活性剤と併用しうるフッ素原子を有する界面活性剤としては、上記に限られず、例えば、フッ素原子含有ベタイン構造化合物例えば、フタージェント400SW、ネオス社製、両性イオン基を持つ界面活性剤例えば、フタージェントSWネオス社製も好適に用いられる。A乃至Dの構造を有する界面活性剤と併用しうるシリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーンや、それらの誘導体の如く一般的なシリコーンオイルが挙げられる。界面活性剤の含有量は、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して、望ましくは0.01質量以上1質量以下、より望ましくは0.02質量以上0.5質量以下である。界面活性剤の含有量が0.01質量未満の場合は塗膜欠陥防止効果が不十分となる傾向にある。また、界面活性剤の含有量が1質量を超えると、界面活性剤と硬化成分一般式Iで示される化合物やその他のモノマー、オリゴマーなどの分離により、得られる硬化膜の強度が低下する傾向にある。また、全界面活性剤中、A乃至Dの構造を有する界面活性剤は、1質量以上含まれることが望ましい、10質量以上含まれることがより望ましい。また、保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、該組成物の粘度、膜の強度、かとう性、平滑性、クリーニング性などの制御を目的とし、電荷輸送能を持たないラジカル重合性のモノマー、オリゴマー等が添加されていてもよい。1官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、t-ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2-エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo-フェニルフェノールアクリレート、o-フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等が挙げられる。2官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、1,9-ノナンジオールジアクリレート、2-n-ブチル-2-エチル-1,3‐プロパンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタクリレート等が挙げられる。3官能以上のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパンEO付加トリアクリレート、グリセリンPO付加トリアクリレート、トリスアクロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレートが挙げられる。また、ラジカル重合性のオリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。電荷輸送能を持たないラジカル重合性のモノマー、オリゴマーは、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して0質量以上50質量以下含有することが望ましく、0質量以上40質量以下含有することがより望ましく、0質量以上30質量以下含有することが更に望ましい。また、保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を添加することが望ましい。つまり、保護層には、熱ラジカル発生剤又はその誘導体が含まれていることが望ましい。ここで、熱ラジカル発生剤の誘導体とは、熱ラジカル発生剤がラジカルを発生した後の生成物もしくは重合部位の末端に結合したものを意味する。ここで、保護層を構成する硬化膜架橋膜は、上記各成分を含む電荷輸送性組成物を、熱、光、電子線など様々な方法にて硬化することで得られるが、硬化膜の電気特性、機械的強度等の特性のバランスを取るためには熱硬化が望ましい。通常、一般的なアクリル塗料などを硬化する際には無触媒で硬化が可能な電子線、短時間で硬化が可能な光重合が好適に用いられる。しかしながら、電子写真感光体は最表面層の被形成面となる感光層が感光材料を含むため、この感光材料にダメージを与え難くするため、また、得られる硬化膜の表面性状を高めるため、穏やかに反応を進められる熱硬化が望ましい。したがって、熱硬化は無触媒で行ってもよいが、上記熱ラジカル発生剤又はその誘導体を触媒として用いることが望ましい。これにより、繰り返し使用による、ゴーストの発生が抑制され易くなる。熱ラジカル発生剤又はその誘導体は特に限定されないが、保護層の形成時における感光層中の感光材料のダメージを抑制するために、10時間半減期温度が40°C以上110°C以下のものが望ましい。熱ラジカル発生剤の市販品としては、V-3010時間半減期温度:104°C、V-40同:88°C、V-59同:67°C、V-601同:66°C、V-65同:51°C、V-70同:30°C、VF-096同:96°C、Vam-110同:111°C、Vam-111同:111°C、VE-073以上、和光純薬工業製、OTAZO-15同:61°C、OTAZO-30、AIBN同:65°C、AMBN同:67°C、ADVN同:52°C、ACVA同:68°C以上、大塚化学社製等のアゾ系開始剤;パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH,パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT-K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーへヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ以上、日油化学社製、カヤケタールAM-C55、トリゴノックス36-C75、ラウロックス、パーカドックスL-W75、パーカドックスCH-50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH-70、ペルカドックスBC-FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD-E85、パーカドックス12-XL25、パーカドックス12-EB20、トリゴノックス22-N70、トリゴノックス22-70E、トリゴノックスD-T50、トリゴノックス423-C70、カヤエステルCND-C70、カヤエステルCND-W50、トリゴノックス23-C70、トリゴノックス23-W50N、トリゴノックス257-C70、カヤエステルP-70、カヤエステルTMPO-70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP-65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF-C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH-C70、カヤカルボンEH-W60、カヤカルボンI-20、カヤカルボンBIC-75、トリゴノックス117、カヤレン6-70以上、化薬アクゾ社製、ルペロックスLP同:64°C、ルペロックス610同:37°C、ルペロックス188同:38°C、ルペロックス844同:44°C、ルペロックス259同:46°C、ルペロックス10同:48°C、ルペロックス701同:53°C、ルペロックス11同:58°C、ルペロックス26同:77°C、ルペロックス80同:82°C、ルペロックス7同:102°C、ルペロックス270同:102°C、ルペロックスP同:104°C、ルペロックス546同:46°C、ルペロックス554同:55°C、ルペロックス575同:75°C、ルペロックスTANPO同:96°C、ルペロックス555同:100°C、ルペロックス570同:96°C、ルペロックスTAP同:100°C、ルペロックスTBIC同:99°C、ルペロックスTBEC同:100°C、ルペロックスJW同:100°C、ルペロックスTAIC同:96°C、ルペロックスTAEC同:99°C、ルペロックスDC同:117°C、ルペロックス101同:120°C、ルペロックスF同:116°C、ルペロックスDI同:129°C、ルペロックス130同:131°C、ルペロックス220同:107°C、ルペロックス230同:109°C、ルペロックス233同:114°C、ルペロックス531同:93°C以上、アルケマ吉富社製などが挙げられる。熱ラジカル発生剤又はその誘導体は、電荷輸送性組成物中の反応性化合物一般式Iで表される化合物その他の反応性化合物に対して0.001質量以上10質量以下含有することが望ましく、0.01質量以上5質量以下含有することがより望ましく、0.1質量以上3質量以下含有することが更に望ましい。また、保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、放電生成ガスを吸着しすぎないように、添加することで放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的から、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を添加してもよい。また、保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、更に、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、カップリング剤、ハードコート剤、含フッ素化合物を添加してもよい。これらの添加剤として具体的には、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-βアミノエチルγ-アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が用いられる。また、市販のハードコート剤としては、KP-85、X-40-9740、X-8239以上、信越シリコーン社製、AY42-440、AY42-441、AY49-208以上、東レダウコーニング社製等が用いられる。更に、撥水性等の付与のために、トリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3-ヘプタフルオロイソプロポキシプロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H-パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H-パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H-パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の含フッ素化合物を加えてもよい。シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で0.25倍以下とすることが望ましい。この使用量を超えると、架橋膜の成膜性に問題が生じる場合がある。また、保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、保護層の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などや、粒子分散性、粘度コントロールの目的で、熱可塑性樹脂を加えてもよい。ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂たとえば積水化学社製エスレックB、K等、ポリアミド樹脂、セルロ-ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性の点でポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。当該樹脂の重量平均分子量は2,000以上100,000以下が望ましく、5,000以上50,000以下がより望ましい。樹脂の分子量が2,000未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、100,000を超えると溶解度が低下して添加量が制限され、更には塗布時に製膜不良を招く傾向にある。また、当該樹脂の添加量は1質量以上40質量以下が望ましく、1質量以上30質量以下がより望ましく、5質量以上20質量以下が更に望ましい。当該樹脂の添加量が1質量未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、40質量を超えると高温高湿下例えば28°C、85RHでの画像ボケが発生しやすくなる。保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、保護層の帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を添加することが望ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長い時間接触することになるため、従来より強い酸化耐性が要求される。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては20質量以下が望ましく、10質量以下がより望ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、2,5-ジ-t-ブチルヒドロキノン、N,N’-ヘキサメチレンビス3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシヒドロシンナマイド、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ベンジルフォスフォネート-ジエチルエステル、2,4-ビス[オクチルチオメチル]-o-クレゾール、2,6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,2’-メチレンビス4-エチル-6-t-ブチルフェノール、4,4’-ブチリデンビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール、2,5-ジ-t-アミルヒドロキノン、2-t-ブチル-6-3-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル-4-メチルフェニルアクリレート、4,4’-ブチリデンビス3-メチル-6-t-ブチルフェノール等が挙げられる。更に、保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、保護層の残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径1nm以上100nm以下、望ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、又はエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して、0.1質量以上50質量以下、望ましくは0.1質量以上30質量以下の範囲で用いられる。ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは1nm以上500nm以下、より望ましくは10nm以上100nm以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、更に十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中にバラツキが生じることなくに取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。保護層中のシリコーン粒子の含有量は、電荷輸送性組成物溶媒の除く全固形分質量に対して、望ましくは0.1質量以上30質量以下、より望ましくは0.5質量以上10質量以下である。また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集p89に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ZnO-Al2O3、SnO2-Sb2O3、In2O3-SnO2、ZnO2-TiO2、ZnO-TiO2、MgO-Al2O3、FeO-TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物が挙げられる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5-トリメチル-1.3.5-トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7-テトラメチル-1,3,5,7-テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9-ペンタメチル-1,3,5,7,9-ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;3,3,3-トリフルオロプロピルメチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。また、保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の点で0.3μm以下、特に0.1μm以下が望ましい。保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物は、保護層形成用塗布液として調製されることが好ましく、この保護層形成用塗布液は、無溶媒であってもよいし、必要に応じて、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を含有していてもよい。かかる溶剤は1種を単独で又は2種以上を混合して使用可能であるが、望ましくは沸点が100度以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも1種以上の水酸基を持つ溶剤例えば、アルコール類等を用いることが望ましい。保護層を形成するために用いる電荷輸送性組成物からなる保護層形成用塗布液は、電荷輸送層の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布され、必要に応じて、例えば、温度100度以上170度以下で加熱して重合硬化させることで、膜が得られる。その結果、この膜からなる保護層が得られる。なお、保護層形成用塗布液の重合硬化中の酸素濃度は1以下が望ましく、1000ppm以下がより望ましく、500ppm以下が更に望ましい。以上、電子写真感光体として機能分離型の例を説明したが、図3に示される単層型感光層6電荷発生/電荷輸送層中の電荷発生材料の含有量は、10質量以上85質量以下程度、望ましくは20質量以上50質量以下である。また、電荷輸送性材料の含有量は5質量以上50質量以下とすることが望ましい。単層型感光層6電荷発生/電荷輸送層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。単層型感光層電荷発生/電荷輸送層6の膜厚は5μm以上50μm以下程度が望ましく、10μm以上40μm以下とするのが更に望ましい。また、本実施形態では、前述した電荷輸送性膜からなる最表面層が保護層である形態を説明したが、保護層がない層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が該最表面層となり、当該層に電荷輸送性膜を適用してもよい。また、保護層があっても、その下層の電荷輸送層として前述した電荷輸送性膜を適用してもよい。画像形成装置/プロセスカートリッジ図4は、実施形態に係る画像形成装置100を示す概略構成図である。図4に示される画像形成装置100は、電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置静電潜像形成手段9と、転写装置転写手段40と、中間転写体50と、を備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光可能な位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。ここで、電子写真感光体7として、前述した本実施形態に係る電子写真感光体が用いられる。本実施形態に係る電子写真感光体は前述したように、環境変化があっても電気特性の劣化が抑制されるものであるので、この電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジ、及び画像形成装置は、環境変化による画像の劣化が抑制され、長期に亘り安定した画像を提供しうる。図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置帯電手段8、現像装置現像手段11、及びクリーニング装置13を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレードクリーニング部材を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。なお、プロセスカートリッジ300は、電子写真感光体7を備え、画像形成装置に着脱される構成であれば、特に制限はなく、必要に応じて電子写真感光体7以外の装置例えば、帯電装置帯電手段8、現像装置現像手段11、及びクリーニング装置13から選択される一つを電子写真感光体7と共に一体に支持した構成であってもよい。また、図4では、クリーニング装置13として、潤滑材14を感光体7の表面に供給する繊維状部材132ロール状を備え、また、クリーニングをアシストする繊維状部材133平ブラシ状を用いた例を示してあるが、これらは必要に応じて使用される。帯電装置8としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。なお、図示しないが、画像の安定性を高める目的で、電子写真感光体7の周囲には、電子写真感光体7の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。露光装置9としては、例えば、感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザーや青色レーザーとして400nm以上450nm以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビーム出力が可能なタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。現像装置11としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの中間転写ベルトが使用される。また、中間転写体50の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いられる。画像形成装置100は、上述した各装置の他に、例えば、感光体7に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。図5は、他の実施形態に係る画像形成装置120を示す概略断面図である。図5に示される画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式のカラー画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。本実施形態に係る画像形成装置は、上記構成に限られず、他の周知の方式の画像形成装置を適用してもよい。以下実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。[実施例A1]ガラス基板上にITO膜を備えるITOガラス基板を用意し、そのITO膜を2mm幅の短冊状にエッチングしてITO電極陽極を形成した。このITOガラス基板を、イソプロパノール電子工業用、関東化学社製で超音波洗浄した後、スピンコーターで乾燥させた。次に、ITOガラス基板のITO電極が形成されている面上に、昇華精製した銅フタロシアニンを真空蒸着することにより厚さ0.015μmの薄膜を形成した。次いで、一般式IIIで表される化合物上記化合物iv-92質量部、安定剤不含テトラヒドロフランTHF100質量部に溶解し、更に開始剤V-601和光純薬社製0.3質量部を溶解させ保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で150°C、40分加熱し、厚さ0.050μmの薄膜を形成した。次に、上記正孔輸送層上に、発光材料としての下記式で表される化合物Alq3を蒸着することにより厚さ0.060μmの発光層を形成した。更に、上記発光層上に、Mg-Ag合金を共蒸着により蒸着して、2mm幅、0.13μm厚の短冊状のMg-Ag電極陰極を形成し、有機電界発光素子を得た。なお、ITO電極とMg-Ag電極とは、それぞれの延在方向が直交するように形成した。得られた有機電界発光素子の有効面積は0.04cm2であった。真空中0.133Paで、ITO電極をプラス陽極、Mg-Ag電極をマイナス陰極とし、これらの間に直流電圧を印加して発光させた。そのときの最高輝度は820cdm2、駆動電流は8.4mAcm2、素子寿命は35時間であった。本結果から明らかなように、本発明の有機電界発光素子は、優れた電気特性を得ることができ、モルホルジー変化がなく長寿命な素子を形成可能であることが確認された。[実施例1]電子写真感光体の作製-下引層の作製-酸化亜鉛:平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m2/g100質量部をトルエン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤KBM503:信越化学社製1.3質量部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120°Cで3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤で表面処理を施した酸化亜鉛を得た。表面処理を施した酸化亜鉛110質量部を500質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン0.6質量部を50質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50°Cにて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、更に60°Cで減圧乾燥を行い、アリザリンを付与させた酸化亜鉛を得た。このアリザリンを付与させた酸化亜鉛:60質量部と、硬化剤ブロック化イソシアネートスミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製:13.5質量部と、ブチラール樹脂エスレックBM-1、積水化学社製:15質量部と、をメチルエチルケトン85質量部に混合した液38質量部とメチルエチルケトン:25質量部とを混合し、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005質量部、及びシリコーン樹脂粒子トスパール145、GE東芝シリコーン社製:40質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材上に塗布し、170°C、40分の乾燥硬化を行い、厚さ20μmの下引層を得た。-電荷発生層の作製-電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度2θ±0.2°が少なくとも7.3 ゚,16.0 ゚,24.9 ゚,28.0 ゚の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15質量部、結着樹脂としての塩化ビニル酢酸ビニル共重合体樹脂VMCH、日本ユニカー社製10質量部、及びn-酢酸ブチル200質量部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn-酢酸ブチル175質量部、及びメチルエチルケトン180質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温25°Cで乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。-電荷輸送層の作製-N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス3-メチルフェニル-[1,1’]ビフェニル-4,4’-ジアミン以下、TPDと表記48質量部、及びビスフェノールZポリカーボネート樹脂以下、PCZ500と表記、粘度平均分子量:5万52質量部をクロルベンゼン800質量部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、130°C、45分の乾燥を行って膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。-保護層の作製-一般式IIIで表される化合物上記化合物iv-420質量部、安定剤不含テトラヒドロフランTHF100質量部に溶解し、更に開始剤V-601和光純薬社製熱ラジカル発生剤3.5質量部を溶解させ保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で150°C、40分加熱し、厚み7μmの保護層を形成した。以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体1とする。評価1帯電電位表面電位及び残留電位の測定得られた電子写真感光体を、高温、高湿下28.5°C、65RHで下記工程A~Cに供した。A:グリッド印加電圧-700Vのスコロトロン帯電器で電子写真感光体を帯電させる工程B:工程Aの1秒後に波長780nmの半導体レーザーを用いて10.0erg/cm2の光を照射する露光工程C:工程Aの3秒後に50.0erg/cm2の赤色LED光を照射する除電工程このとき、レーザープリンター改造スキャナー富士ゼロックス製XP-15を改造したものを用いて、上記の工程を100Kcycle繰り返した。初期および100Kcycle後のVH工程Aにて帯電された後の感光体の表面電位、VL工程Bにて露光された後の感光体の表面電位、及びVRP工程Cにて除電された後の感光体の表面電位残留電位を測定し、初期のVH、VL、及びVRP、初期からの変動量ΔVH、ΔVL、及びΔVRPを求めた。なお、表面電位残留電位の測定には、表面電位計MODEL344トレックジャパン社製を用いた。評価指標は以下の通りである。VLの評価指標A:-240V以上B:-280V以上-240V未満C:-300V以上-280V未満D:-300V未満VRPの評価指標A:-130V以上B:-150V以上-130V未満C:-170V以上-150V未満D:-170V未満ΔVH、ΔVL、及びΔVRPの評価指標A:10V以下B:10Vより大きく20V以下C:20Vより大きく30V以下D:30Vより大きいこれらの結果を表2に示す。2ゴーストの評価作製した電子写真感光体をの評価を行った後、富士ゼロックス社製ApeosPort-IIIC4400に装着し、28.5°C、65RHの環境下において、ゴーストの評価を行った。その後、28.5°C、65RHの環境下において、15ハーフトーンのプリントテストを1万枚行い、以下のようにしてゴーストの評価を行った。なお、この評価には、富士ゼロックス社製P紙A4サイズ、短手方向送りを用いた。-ゴーストの評価-ゴーストは、図6Aに示したGと黒領域を有するパターンのチャートをプリントし、黒領域部分にGの文字の現れ具合を目視にて評価した。A:図6Aのように良好乃至軽微である。B:図6Bのように若干目立つ程度であるC:図6Cのようにはっきり確認されることを示す。3表面観察作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製ApeosPort-IIIC4400に装着し、28.5°C、65RHの環境下において、15ハーフトーンのプリントテストを1万枚行った前後の電子写真感光体表面を観察し、以下のようにして表面観察テスト1を行った。なお、この評価には、富士ゼロックス社製P紙A4サイズ、短手方向送りを用いた。-表面観察-電子写真感光体表面を観察し、以下のように評価した。A:20倍に拡大しても傷、付着ともに見らせず良好。B:20倍に拡大すると付着物が見られるC:20倍に拡大するとわずかな傷が見られるD:肉眼でもわずかに傷、若しくは付着物が見られる。[実施例2~26、比較例2、3]電子写真感光体の作製電荷輸送層までは実施例1と同様に作製し、保護層の形成に用いられる材料の組成を表1のように変更して、保護層形成用塗布液を得た。それぞれの塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で145°C、40分加熱し、厚さ7μmの保護層を形成した。以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体2~26、比較感光体2とする。ここで、比較例2において電荷輸送能を有する化合物として用いられたRefCT-1を、以下に示す。また、比較例3において電荷輸送能を有する化合物として用いられたRefCT-2を、以下に示す。評価得られた感光体について、実施例1と同様な評価を行った。結果を表2に示す。[実施例27]電子写真感光体の作製電荷輸送層までは実施例1と同様に作製し、保護層の形成に用いられる材料の組成を表1のように変更して、保護層形成用塗布液を得た。その塗布液を電荷輸送層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で、メタルハライドランプウシオ電機社製を用いて、照度700mW/cm2365nm基準、照射時間120秒にてUV照射を行った。150°C、40分加熱し、厚さ7μmの保護層を形成した。以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体27とする。評価得られた感光体について、実施例1と同様な評価を行った。結果を表2に示す。[実施例28]電子写真感光体の作製電荷発生層までは実施例1と同様に作製し、電荷輸送層の形成に用いられる材料の組成を表1に示すように変更し、更に、使用溶剤量を250質量部に変更して、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、酸素濃度約80ppmの雰囲気下で145°C、40分加熱し、厚さ20μmの電荷輸送層を形成した。以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体28とする。評価得られた感光体について、実施例1と同様な評価を行った。結果を表2に示す。[比較例1]電子写真感光体の作製電荷発生層までは実施例1と同様に作製し、更に、実施例1と同様な手順で、厚さのみ25μmに変えた電荷輸送層を形成した。以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を比較感光体1とする。上記結果から、本実施例は、比較例に比べ、高温高湿時におけるゴースト、表面観察において良好な結果が得られた。本実施例は、比較例2に比べ、残留電位が少なく抑えられていることが分かる。上記表1に記載の略記について以下に説明する。電荷輸送能を有さないモノマーSR351:トリメチロールプロパントリアクリレートSartomer社製SR399:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートSartomer社製SR348:ETHOXYLATEDBISPHENOLADIMETHACRYLATESartomer社製熱可塑性樹脂PCZ-400:三菱ガス化学社製のビスフェノールZポリカーボネート樹脂粘度平均分子量4万"