フラットパネルディスプレイに用いられる基板の製造ラインで使用される基板搬送装置であり、少なくとも、前記製造ラインの流れ方向に基板を搬送する基板搬送機構と、基板頂点部の形状識別機構と、を備えており、前記形状識別機構は、少なくとも前記製造ラインの流れ方向に直交する方向の前記基板の二つの辺に沿って設けられたセンサであることを特徴とする基板搬送装置。前記センサが接触式変位センサであることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。請求項2に記載の搬送装置に使用される接触式変位センサの形状識別方法であって、少なくとも、基板が製造ラインの流れの方向に進むにつれて、まず進行方向側にある前記基板の2つの頂点の形状を測定できる位置に備えられた2つの接触式変位センサが基板に接触する直前から予め設定した時間だけ計測し、更に、前記基板の進行方向とは逆の側にある2つの頂点の形状を同様にして計測し、計測したデータを前記基板の4つの頂点に対応させ、かつ、経過した時間に対応させて記憶する計測工程と、前記計測工程で記憶したデータと、予め記憶してあるデータとを照合することにより、前記基板の4つの頂点についての形状を判定する形状判定工程と、から成ることを特徴とする接触式変位センサの形状識別方法。本発明の課題は、フラットパネルディスプレイに用いられるカラーフィルタ基板やTFT基板の製造ラインで使用されるガラス基板のオリフラを、ガラス基板または製造ラインを停止させることなく、識別できる機能を有する搬送装置を提供することである。上記課題を解決する手段として、請求項1に記載の発明は、フラットパネルディスプレイに用いられる基板の製造ラインで使用される基板搬送装置であり、少なくとも、前記製造ラインの流れ方向に基板を搬送する基板搬送機構と、基板頂点部の形状識別機構と、を備えており、前記形状識別機構は、少なくとも前記製造ラインの流れ方向に直交する方向の前記基板の二つの辺に沿って設けられたセンサであることを特徴とする基板搬送装置である。また、請求項2に記載の発明は、前記センサが接触式変位センサであることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置である。また、請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の搬送装置に使用される接触式変位センサの形状識別方法であって、少なくとも、基板が製造ラインの流れの方向に進むにつれて、まず進行方向側にある前記基板の2つの頂点の形状を測定できる位置に備えられた2つの接触式変位センサが基板に接触する直前から予め設定した時間だけ計測し、更に、前記基板の進行方向とは逆の側にある2つの頂点の形状を同様にして計測し、計測したデータを前記基板の4つの頂点に対応させ、かつ、経過した時間に対応させて記憶する計測工程と、前記計測工程で記憶したデータと、予め記憶してあるデータとを照合することにより、前記基板の4つの頂点についての形状を判定する形状判定工程と、から成ることを特徴とする接触式変位センサの形状識別方法である。本発明のオリフラの識別機能を有する搬送装置をカラーフィルタ基板やTFT基板の製造ラインに使用される搬送装置として使用することにより、これらの基板の全数について基板を停止させることなく、オリフラが形成されている位置と形状を識別することができる。本発明の搬送装置を、図を用いて詳しく説明する。図1は、本発明の搬送装置を基板が流れる方向とは直交する断面で見た概略断面図である。一般に搬送装置は、各処理装置の間にあって、基板を搬送する役割を果している。例えば液晶表示装置に使用されるカラーフィルタの製造ラインにおいては、露光装置から搬出された露光済の基板は、搬送装置によって搬送され、次の処理装置である現像装置に搬送され、現像装置に搬入される。基板のサイズが大型化するのに伴い、現像装置の内部では、製造ラインの流れの方向と直交する方向に斜めに傾けて処理する方法が採用されるようになっているのが通常である。図1は、このことを示す例であり、シャフト4に搬送コロ3が適宜配置されており、シャフト4が斜めに保持されている搬送装置の状況の例を示しているが、斜めに保持されることに限定している訳ではない。基板は、その状態で現像装置に搬入され、現像処理が実施される。本発明の搬送装置には、従来の搬送装置には設けられていない形状識別機構またはその具体例としての接触式変位センサ2が図1に示した様に、製造ラインの流れの方向と直交する方向に、少なくとも2つ設置されている。ここで、接触式変位センサ2が設けられている例を示したが、オリフラの形状が識別できるセンサであれば使用することが可能である。図2は、オリフラが形成されたガラス基板1の例を示した。Aはオリフラが形成された頂点、B、C、Dはオリフラが形成されていない頂点である。図2の矢印の方向は、ガラス基板1が流れる方向を示している。図示していないが、図2で示した頂点AとB側の頂点の形状を計測するための形状識別機構または接触式変位センサと、頂点CとD側の頂点の形状を計測するための形状識別機構または接触式変位センサが、少なくとも1個づつ配置されている。図3は、接触式変位センサの出力の例を示したものである。図31は図2の頂点Aに対応した出力の経時的変化の様子を示したグラフである。頂点A、B側に設置された接触式変位センサは、ガラス基板1が接触するまでは、変位が任意のある一定の値を出力しているが、基板が接触し始めると、オリフラの形状に従って変位が計測される。図2の頂点Aの場合は、接触式変位センサの図示していない変位を計測する部分がガラス基板1によって押し込まれることになる。その場合の出力がマイナス方向に変化するとして示している。頂点Aの形状が、直線的に変化する場合、接触式変位センサ2の出力も直線的にマイナス方向に変化する。それから、頂点Bがある辺に到達すると、接触式変位センサ2の出力の変化は止まり、任意の一定値を保持して、時間が経過する。図32は、図2の頂点Dに対応する接触式変位センサ2の出力の例を示したものである。頂点Dの形状は直角をなしている。この頂点Dに接触式変位センサ2にガラス基板1が接触する前は、接触式変位センサ2はある一定の出力を示しているが、頂点Dが接触すると、接触式変位センサ2の変位を計測する部分が基板1によって押し込まれるため、ある一定値の変位を示すようになる。接触式変位センサ2の変位を計測する部分の大きさによって、頂点Dのような直角をなす頂点に対応した接触式変位センサ2の出力の経時的変化の様子は異なる。接触式変位センサ2の変位を計測する部分が十分小さい場合は、図32に示したようにほぼ直角なグラフを描くが、計測する部分がガラス基板1の頂点の大きさと同等であって、例えば、円形をしたものであれば、グラフの直角に変化する部分は、円弧を描くグラフになる。図33は、図2の頂点Bに対応する接触式変位センサ2の出力の例を示したものである。頂点Bの形状は直角をなしている。この頂点Bに接触式変位センサ2にガラス基板1が接触する前は、接触式変位センサ2はある一定の出力を示しているが、頂点Bに到達した後は、接触式変位センサ2の計測をする部分は、ガラス基板1に接触する前と同じフリーな状態に戻り、ある一定の任意の出力を示す。接触式変位センサ2の出力は、図32の時とは逆にプラスに変化する。図34は、図2の頂点Cに対応する接触式変位センサ2の出力の例を示したものである。図33と同等のグラフである。これは、接触式変位センサ2の計測をする部分が、押し込まれた状態からフリーな状態に戻るためであり、接触式変位センサ2の出力はプラスの方向に変化するためである。図2のガラス基板の形状と図31~4を対比すると、オリフラが形成されている頂点Aとオリフラが形成されていない頂点B、C、Dの接触式変位センサの出力を示すグラフは明らかに異なり、オリフラ形成されている頂点Aを識別できることが分かる。また、図31~4のグラフは、ガラス基板1のどの頂点に対応するものであるかについては、予め明らかであるので、ガラス基板1のどの位置にオリフラが形成されているかが、明らかになる。また、図31~4のグラフから、オリフラのサイズとオリフラの形状についても、オリフラの形状とオリフラを形成してある頂点の位置と接触式変位センサのグラフ予め記憶させておくことにより、ガラス基板の品種を特定することが可能となる。