"対象物を洗浄する洗浄装置で使う洗浄液を管理する液体管理システムであって、アルコールと純水とを混合して洗浄液を作る混合手段を有し、該混合手段で該洗浄液中のアルコール濃度を所定の濃度範囲内に調整し、その濃度調整された洗浄液を前記洗浄装置へ供給する洗浄液供給装置と、前記濃度調整された洗浄液または前記洗浄装置から排出された洗浄液から不純物を除去する精製装置と、前記洗浄装置から排出された洗浄液を回収して前記混合手段へ戻す洗浄液回収手段と、を備えたことを特徴とする液体管理システム。前記精製装置が、イオン交換樹脂塔、イオン吸着膜、精密ろ過膜の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の液体管理システム。前記イオン交換樹脂塔が、混床式イオン交換樹脂塔であることを特徴とする請求項2に記載の液体管理システム。前記洗浄液供給装置は、前記混合手段にアルコールを供給するアルコール供給手段と、前記混合手段に純水を供給する純水供給手段と、前記混合手段によりアルコールと純水を混合した洗浄液のアルコール濃度を測定する濃度測定手段と、前記濃度測定手段の測定結果に基づいて前記アルコール供給手段と前記純水供給手段の双方または一方を制御することにより、前記混合手段によりアルコールと純水を混合した洗浄液のアルコール濃度を所定の濃度範囲内に維持する濃度調整処理を実行する第一の制御手段と、を有することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の液体管理システム。前記混合手段によりアルコールと純水を混合した洗浄液の量を測定する液量測定手段と、前記液量測定手段の測定結果に基づいて前記アルコール供給手段および前記純水供給手段を制御することにより、前記混合手段によりアルコールと純水を混合した洗浄液の量を所定の液量範囲内に維持する液量調整処理を実行する第二の制御手段と、をさらに有することを特徴とする請求項4に記載の液体管理システム。所定の濃度範囲内に調整されたアルコール水溶液を洗浄液として用いて対象物を洗浄する洗浄装置から排出された洗浄液を回収し、再び前記所定の濃度範囲内に調整して該洗浄装置に供給する洗浄液の回収再生装置であって、アルコールと純水とが供給されてアルコール濃度が前記所定の濃度範囲内に調整された洗浄液を作る混合手段を有し、その濃度調整された洗浄液を前記洗浄装置へ供給する洗浄液供給装置と、前記濃度調整された洗浄液または前記洗浄装置から排出された洗浄液から不純物を除去する精製装置と、前記洗浄装置から排出された洗浄液を回収して前記混合手段へ戻す洗浄液回収手段と、を備えたことを特徴とする洗浄液の回収再生装置。前記精製装置が、イオン交換樹脂塔、イオン吸着膜、精密ろ過膜の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項6に記載の洗浄液の回収再生装置。前記イオン交換樹脂塔が、混床式イオン交換樹脂塔であることを特徴とする請求項7に記載の洗浄液の回収再生装置。半導体ウエハ等の洗浄においては、IPA濃度が一定の洗浄液が常に所定量で循環していることが理想である。即ち、混合タンク内の洗浄液の量液面が一定範囲内に維持されていることが理想である。しかし、実際には、混合タンク内の液面は変化する。例えば、系内を循環する洗浄液からはIPAのみでなく水分も蒸発する。また、洗浄液の一部が洗浄対象であるウエハに付着して系外に持ち出されることもある。このような場合、混合タンク内の洗浄液の液面は低下する。一方、水分が洗浄対象であるウエハに付着して系内に持ち込まれることもある。この場合、混合タンク内の洗浄液の液面は上昇する。この点、特許文献1に記載されている半導体ウエハの洗浄乾燥装置では、混合タンク内の洗浄液の液面は管理されていない。よって、特許文献1に記載されている半導体ウエハの洗浄乾燥装置では、洗浄液の濃度調整の際に混合タンク内の洗浄液の量液面が考慮されることはない。しかし、混合タンク内の洗浄液の液面が上昇している状態、即ち、系内の洗浄液量が増加している状態で洗浄液の濃度調整を実行すると、濃度調整に必要なIPAの量が増加してしまう。なお、特許文献1に記載されている半導体ウエハの洗浄乾燥装置における混合タンク内には複数のレベルセンサが設けられているが、かかるレベルセンサは、混合タンクに供給される超純水の量を計測するものであって、超純水とIPAとが混合された洗浄液の量液面を管理するためのものではない。また、特許文献1に記載されている半導体ウエハの洗浄乾燥装置では、IPAの補充によって洗浄液の濃度調整が行われる。しかし、IPA濃度が所定値を超えてしまった場合、これを回復することはできない。よって、洗浄液の濃度を調整する際には、IPA濃度が所定値を超えないように、IPAの補充と濃度測定を何度も繰り返しながら、所定濃度に徐々に近づける必要があり、一回のIPA補充量も少量とならざるを得ない。総じて、洗浄液の濃度調整に時間と手間を要する。特に、半導体ウエハの洗浄では、洗浄液の濃度を高精度に管理する必要があるため、洗浄液の濃度調整には多大な時間と手間を要する。さらに、特許文献1には、交互に切り換えて使用可能な複数の混合タンクを設けることが記載されている。しかし、洗浄液の循環を停止させることなく混合タンクを切り換えると、切り換えの前後で循環液量の変動が生じるなど、安定した洗浄液の供給が困難となる。また、混合タンクの切り換え前後で、洗浄液が切り換わるので、洗浄液の状態濃度、温度、汚染状態などが変化し、プロセス洗浄、乾燥に影響が出るおそれがある。本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、アルコールと純水を含む洗浄液のアルコール濃度を一定の範囲内に維持でき、かつ、高純度の洗浄液を安定して洗浄装置へ供給することを目的とする。本発明の一つの態様としては、対象物を洗浄する洗浄装置で使う洗浄液を管理する液体管理システムが提供される。この液体管理システムは、洗浄液供給装置と精製装置と洗浄液回収手段を備える。本態様の洗浄液供給装置は、アルコールと純水とを混合して洗浄液を作る混合手段を有し、該混合手段内で該洗浄液中のアルコール濃度を所定の濃度範囲内に調整し、その濃度調整された洗浄液を洗浄装置へ供給するものである。精製装置は、濃度調整された洗浄液または洗浄装置から排出された洗浄液から不純物を除去する装置である。さらに、洗浄液回収手段は、洗浄装置から排出された洗浄液を回収して混合手段へ戻す手段である。また別の態様として、所定の濃度範囲内に調整されたアルコール水溶液を洗浄液として用いて対象物を洗浄する洗浄装置から排出された洗浄液を回収し、再び前記所定の濃度範囲内に調整して該洗浄装置に供給する洗浄液の回収再生装置が提供される。この回収再生装置もまた、洗浄液供給装置と精製装置と洗浄液回収手段を備える。本態様の洗浄液供給装置は、アルコールと純水とが供給されてアルコール濃度が前記所定の濃度範囲内に調整された洗浄液を作る混合手段を有し、その濃度調整された洗浄液を該混合手段から前記洗浄装置へ供給するものである。精製装置は、濃度調整された洗浄液または洗浄装置から排出された洗浄液から不純物を除去する装置である。さらに、洗浄液回収手段は、洗浄装置から排出された洗浄液を回収して混合手段へ戻す手段である。本発明によれば、アルコールと純水を含む洗浄液のアルコール濃度を一定の範囲内に維持することができる。また、洗浄液の精製を行うことで、高純度の洗浄液を安定して洗浄装置に供給することができる。第一の実施形態以下、本発明の第一の実施形態について詳細に説明する。図1は、本実施形態に係る液体管理システムの基本構成を示すブロック図である。図1に示すように、本実施形態に係る液体管理システム1Aは、半導体ウエハの洗浄装置100と接続され、該洗浄装置100に対して洗浄乾燥液を供給する。なお、ここでは洗浄装置100に関する詳しい説明は省略するが、該洗浄装置100は、液体管理システム1Aから供給される洗浄乾燥液を用いて半導体ウエハの洗浄を行う洗浄槽を少なくとも備えている。図1に示すように、液体管理システム1Aは、アルコール本実施形態ではIPAと純水本実施形態では超純水を混合した洗浄乾燥液以下、洗浄液と総称する。が調製される混合槽4と、IPAを混合槽4に供給するアルコール供給手段と、超純水を混合槽4に供給する純水供給手段と、混合槽4に接続された濃度測定手段濃度測定装置5と、廃液タンク6と、当該システム1Aを統括的に制御する制御部7とを有する。上記したアルコール供給手段は、図1に示すIPA供給源2、配管10および弁15aを少なくとも有する。IPA供給源2は、例えば、IPAが貯留された容器と、その容器内のIPAを混合槽4に圧送する手段とを有する。IPAを圧送する手段の具体例としては、ガス加圧やポンプ等が挙げられる。配管10は、IPA供給源2と混合槽4とを接続しており、IPA供給源2から混合槽4へIPAを導入するための流路を形成している。弁15aは、配管10に設けられるとともに、制御部7によって制御されており、IPAの導入開始又は導入停止やIPAの導入量などを調節する。上記した純水供給手段は、図1に示す超純水供給源3、配管11および弁15bを少なくとも有する。配管11は、超純水供給源3と混合槽4とを接続しており、超純水供給源3から混合槽4へ超純水を導入するための流路を形成している。弁15bは、配管11に設けられるとともに、制御部7によって制御されており、超純水の導入開始又は導入停止や超純水の導入量などを調節する。超純水供給源3は、配管11を介して混合槽4と直接的に接続された超純水製造装置であってよい。また、超純水供給源3は、超純水製造装置によって製造された超純水を貯留するタンクと、該タンクに貯留されている超純水を配管11を介して混合槽4へ圧送するポンプ等を有していてもよい。IPAと超純水の供給直後の混合槽4内の洗浄液の濃度を均一にするため、混合槽4には攪拌機構が備えられているのが好ましく、例えば、ポンプ等による洗浄液の循環、ガスN2等を吹き込んで攪拌できるようにされているのが好ましい。また、混合槽4の前段にラインミキサーを設け、配管10と配管11を合流させてラインミキサーを介して混合された洗浄液を混合槽4に貯留させてもよい。さらに、混合槽4の代わりにラインミキサーを設けてラインミキサーで混合された洗浄液を直接洗浄装置100に供給してもよい。したがって、特許請求の範囲で言う混合手段には混合槽のみならず、それ以外のものも包含する。混合槽4と濃度測定手段濃度測定装置5とは、配管12を介して互いに接続されている。混合槽4と廃液タンク6とは、配管13を介して互いに接続されている。そして、混合槽4と洗浄装置100とが配管14aを介して互いに接続され、配管14aを含む第一の送液手段により、混合槽4から濃度調整された洗浄液が洗浄装置100へ送られる。ここで、混合槽4内の洗浄液の成分濃度と、混合槽4から流出した直後の洗浄液の成分濃度とは実質的に同一である。よって、配管14a上に濃度測定装置5を設ける場合も、配管14aから分岐させた不図示の配管に濃度測定装置5を接続する場合も、混合槽4内の洗浄液の成分濃度を測定することが可能である。すなわち、本発明における洗浄液の成分濃度測定には、混合槽4内の洗浄液の成分濃度を測定することと、混合槽4から流出した直後の洗浄液の成分濃度を測定することの双方が含まれる。さらに、液体管理システム1Aは、洗浄装置100から排出された洗浄液を精製して混合槽4へ戻す精製装置17を具備する。このため、洗浄装置100と精製装置17とが配管14bを介して互いに接続され、配管14bを含む第二の送液手段により、洗浄装置100から排出された洗浄液が精製装置17へ送られる。さらに、混合槽4と精製装置17とが配管14cを介して互いに接続され、配管14cを含む第三の送液手段により、精製装置17で精製された洗浄液が混合槽4へ送られる。また精製装置17から廃液が出る場合、廃液タンク6と精製装置17とが、配管14dを介して互いに接続され、配管14dを含む第四の送液手段により、精製装置17から出る廃液が廃液タンク6へ送られる。各々の送液手段には、目的の方向に液流を起こすポンプなどが必要に応じて設けられる。精製装置17は、除去する対象によって適宜選択される。例えば洗浄装置から排出された洗浄液に金属が含まれる場合は、イオン交換樹脂塔やイオン吸着膜を選択することができ、微粒子が含まれる場合は、フィルタ精密ろ過膜などを選択することができる。また、蒸留缶や蒸発缶を使用することもできる。次に、上記構成を有する液体管理システム1Aの動作について説明する。まず、制御部7によって、図1に示す弁15a、15bが同時に、または順次に開かれるとともに、IPA供給源2および超純水供給源3からIPAおよび超純水が混合槽4へ供給される。ここでは、予め定められている一定の割合でIPAと超純水とが供給される。換言すれば、理想的な成分濃度以下理想濃度と呼ぶ。を有する洗浄液が得られるように予め定められた量のIPAと超純水とがそれぞれ供給される。これにより、混合槽4内でIPAと超純水とが混合され洗浄液が作られる。もっとも、この時点では、混合槽4内の洗浄液の成分濃度が理想濃度と完全に一致しているとは限らない。なぜなら、混合槽4には一定の割合でIPAと超純水とが供給されるが、この割合は計算上の割合だからである。混合槽4にIPAおよび超純水が供給され、所定量の洗浄液が作られると、弁15a、15bが閉じられる。次いで、濃度調整処理が開始される。具体的には、制御部7による制御の下、配管12を介して混合槽4内の洗浄液の一部が抜き取られ、その成分濃度が濃度測定装置5によって測定される。その後、濃度測定装置5による測定結果に応じて弁15aと弁15bの双方または一方が再度開かれるとともに、IPA供給源2と超純水供給源3の双方または一方によって、IPAと超純水の双方または一方が混合槽4へ補充される。より具体的には、混合槽4内の洗浄液の成分濃度を理想濃度に一致させるべく、濃度測定装置5による濃度測定と、IPAおよび/または超純水の補充とが何度か繰り返される。また、所定量の洗浄液を作るためのIPAおよび超純水の混合槽4への供給と、濃度調整処理とを同時に実行することもできる。具体的には、IPAおよび超純水を混合槽4に供給しつつ、混合槽4内の洗浄液の一部を抜き取って成分濃度を測定し、その測定結果に応じて弁15aと弁15bの双方または一方を開閉したり、開度を調整したりしてもよい。いずれにしても、本実施形態における制御部7は、本願請求項4に係る発明の第一の制御手段として機能する。濃度測定のために抜き取られた洗浄液は、汚染の度合いに応じて混合槽4に戻されるか、廃棄廃液タンク6に送ってもよく、別のラインで排出してもよい。される。濃度測定装置5が配管14aから分岐されて接続されている場合は、配管14aに戻すか、洗浄装置100に送ってもよい。もっとも、濃度測定装置5としてカールフィッシャー水分計を用いる場合には、洗浄液に試薬を使用する必要がある。よって、濃度測定後の洗浄液は廃棄することが好ましい。上記のようにして理想濃度またはこれに近似した濃度の洗浄液が作られると、混合槽4から洗浄装置100への洗浄液の供給と、洗浄装置100から混合槽4への洗浄液の回収が開始される。具体的には、洗浄液が混合槽4から洗浄装置100と精製装置17を経て再び混合槽4へと循環するように配管14a,14b,14cが設けられており、まず、混合槽4内の濃度調整された洗浄液は配管14aを介して洗浄装置100の洗浄槽へ供給される。続いて、洗浄装置100の洗浄槽から排出された洗浄液は配管14bを介して精製装置17に送られる。洗浄槽では、洗浄液や水分がウエハの付着物として持ち出されたり持ち込まれたり、あるいは、蒸発などの影響により、ウエハ洗浄の過程で、洗浄槽での洗浄液のIPA濃度や不純物量が異なる。しかし一般には純水の混入、IPA蒸発などで、洗浄装置100から排出された洗浄液のIPA濃度は、混合槽4から洗浄装置100に供給される洗浄液のIPA濃度と比べて低下する。また、洗浄装置100、ウエハ付着物、配管などからの不純物により、洗浄液の不純物量は上昇する。したがって、精製装置17で、洗浄装置100から排出された洗浄液の精製を行う、すなわち洗浄液中から不純物を除去する。精製装置17を経た洗浄液は配管14cを介して混合槽4に送られ、精製装置17から廃液が出た場合その廃液は廃液タンク6へ送られる。混合槽4ではIPA供給手段や超純水供給手段により洗浄液のIPA濃度が調整され、この濃度調整された洗浄液は再び配管14aを介して洗浄装置100に送られる。このように、洗浄液は混合槽4から洗浄装置100と精製装置17を経て再び混合槽4へと循環する。これにより、洗浄工程を停止させることなく、理想濃度の洗浄液を洗浄装置100に供給できる。本出願人は、特願2011-084456号および特願2011-084457号に示すように、図1に示す構成において精製装置17を使用せずに供給用配管と回収用配管のみにより、洗浄装置100と混合槽4との間で洗浄液を循環させつつ、該洗浄液の濃度を一定の範囲内に維持可能な液体管理システムを提案している。これらの先願発明では、洗浄液IPAと純水を含む液体の濃度を一定の範囲内に維持するために、アルコール供給手段と純水供給手段からアルコール又は純水の供給制御を行っている。しかし、洗浄装置、洗浄するウエハの条件等によっては、洗浄装置から混合槽へ戻される洗浄液の不純物濃度が高くなり、安定した品質の洗浄液を供給できないことがある点が懸念された。このような先願発明への懸念に対し、本実施形態は、洗浄装置100から混合槽4へ洗浄液を回収するための液体回収路に精製装置17を設けたことにより、洗浄装置100から排出された洗浄液の精製を行いつつ、洗浄液を循環させられるので、不純物が除去された洗浄液を安定して洗浄装置100に供給することができる。さらに、精製装置17により、精製装置17から混合槽4に送られる精製後の洗浄液の流量を一定範囲とすることで、混合槽4での濃度調整を安定的に高精度で行うことができる。なお、上記の先願発明では、洗浄液が不純物で汚染された場合、汚染された洗浄液の一部を配管13を介して廃液タンク6に抜き出し、IPAおよび超純水を混合槽4に供給することによって、不純物濃度を希釈して理想濃度の洗浄液を作ることが提案されている。この手法も洗浄工程を停止させることなく、理想濃度の洗浄液を洗浄装置に供給できる効果がある。しかしながら、混合槽4内の洗浄液の不純物濃度を監視するためのサンプリングラインや微粒子検出器微粒子計などが必要になり、混合槽4内の濃度調整において制御が複雑化する。また、混合槽4内の液体を一部棄てて希釈するので、廃液が増加し、IPAおよび超純水の消費も多い。一方、本実施形態はこのような問題を招かない。また本実施形態においては、混合槽4内の液体の量を所定の液量範囲内に維持する液量調整処理が行われてもよい。この場合、混合槽4内に不図示の液量測定手段レベルセンサが設けられて、混合槽4内の洗浄液の液面液量が連続的または断続的に監視される。制御部7は、レベルセンサの監視結果に基づいて液量調整処理を実行する。具体的には、レベルセンサによる監視によって、混合槽4内の洗浄液の液量が、所定の液量範囲混合槽4と洗浄装置100との間を循環可能で、洗浄槽における半導体ウエハの洗浄乾燥に十分な量の範囲を超えて減少していることが検知されると、弁15a、15bが開かれ、IPA供給源2および超純水供給源3から混合槽4へIPAおよび超純水が一定の割合で供給される。一方、レベルセンサによる監視によって、混合槽4内の洗浄液の液量が、所定の液量範囲を超えて増加していることが検知されると、制御部7は、廃液手段を制御して、混合槽4内の洗浄液の一部を廃棄させる。具体的には、配管13上の不図示の弁を開かせ、混合槽4内の洗浄液の一部を廃液タンク6へ廃棄させる。このようにして、混合槽4内には、理想濃度またはこれに近似した濃度を有する洗浄液が常に所定量だけ保持される。すなわち、本実施形態における制御部7は、本願請求項5に係る発明の第二の制御手段としても機能する。しかし、上記のように洗浄液が循環する間にも、様々な要因によって洗浄液の成分濃度が変化する。最も一般的な濃度変化は、IPA濃度の低下であるが、それ以外の濃度変化もあり得る。そこで、洗浄液の循環中においても、上記濃度調整処理が連続的または断続的に実行される。具体的には、制御部7の制御の下、洗浄液の成分濃度が濃度測定装置5によって連続的または断続的に測定され、洗浄液の成分濃度が所定の濃度範囲を超えて変化している場合には、IPAと超純水の双方または一方が混合槽4へ補充される。具体的には、濃度測定装置5の測定結果に応じて、弁15aと弁15bの双方または一方が開かれるとともに、IPA供給源2と超純水供給源3の双方または一方が作動されて、IPAと超純水の双方または一方が混合槽4へ補充される。ここで、濃度調整に必要なIPAの量をなるべく少なくする観点からは、濃度調整処理の実行に先立って液量調整処理を実行することが好ましい。さらに、液量調整処理では、混合槽4内の洗浄液の量が所定の液量範囲内であって、かつ、該液量範囲の上限に達しない量に調整し、濃度調整処理では、混合槽4内の洗浄液の量が液量範囲の上限を超えないように、IPAと純水の双方または一方を供給する。濃度測定装置5としては、超音波濃度計、比抵抗計、赤外分光計、ブリックス計、比重計などを用いることもできる。また、液量測定手段としては、ロードセルを用いて混合槽4の荷重から混合槽4内の液量を求めるものでもよい。なお、上述の配管上には必要に応じてポンプや弁が設置される。また、必要に応じてフィルタを設置することもできる。さらに、配管上に熱交換器を設置して洗浄液の温度管理を行ってもよい。第二の実施形態以下、本発明の第二の実施形態について詳細に説明する。図2は、本実施形態に係る液体管理システムの基本構成を示すブロック図である。図2に示される液体管理システム1Bは、洗浄装置100と混合槽4と精製装置17の間での洗浄液の供給/回収用配管の接続構成以外の点は、第一の実施形態に係る液体管理システム1Aと本質的に同一の構成を有する。よって、液体管理システム1Aと共通する構成については図2中に同一の符号を付して説明を省略する。本実施形態では、図2に示すように、洗浄装置100と精製装置17とは連通されておらず、洗浄装置100と混合槽4とが配管14a,14eを介して互いに接続されている。配管14aは、第一の実施形態と同様に混合槽4から濃度調整された洗浄液を洗浄装置100へ送る第一の送液手段を成す。配管14eは、洗浄装置100から使用後の洗浄液を混合槽4へ送る第五の送液手段を成す。さらに、混合槽4と精製装置17とが配管14c,14fを介して互いに接続されている。配管14cは、第一の実施形態と同様に精製装置17で精製された洗浄液を混合槽4へ送る第三の送液手段を成す。配管14fは、洗浄装置100から排出された洗浄液を含む混合槽4内の洗浄液を精製装置17へ送る第六の送液手段を成す。各々の送液手段には、目的の方向に液流を起こすポンプなどが必要に応じて設けられる。図2に示される液体管理システム1Bでは、まず、混合槽4で濃度管理された洗浄液は配管14aを介して洗浄装置100の洗浄槽へ供給される。洗浄装置100から排出された洗浄液は配管14eを介して混合槽4に送られる。洗浄槽では、洗浄液や水分がウエハの付着物として持ち出されたり持ち込まれたり、あるいは、蒸発などの影響により、ウエハ洗浄の過程で、洗浄槽内の洗浄液のIPA濃度や不純物量が異なる。しかし一般には純水の混入、IPA蒸発などで、洗浄装置100から排出された洗浄液のIPA濃度は、混合槽4から洗浄装置100に供給される洗浄液のIPA濃度と比べて低下する。また、洗浄装置100、ウエハ付着物、配管などからの不純物により、洗浄液の不純物量は上昇する。したがって、混合槽4内のIPA濃度は低下し、不純物量は上昇する傾向を示す。そこで、混合槽4内の洗浄液を配管14f経由で精製装置17に送り、該液体の精製を行う。精製装置17は、除去する対象によって適宜選択される。例えば洗浄装置から排出された洗浄液に金属が含まれる場合は、イオン交換樹脂塔やイオン吸着膜を選択することができ、微粒子が含まれる場合は、フィルタ精密ろ過膜などを選択することができる。また、蒸留缶や蒸発缶を使用することもできる。精製装置17を経た洗浄液は配管14cを介して混合槽4に送られ、精製装置17から廃液が出る場合はその廃液は廃液タンク6へ送られる。混合槽4ではIPA供給手段や純水供給手段により洗浄液のIPA濃度が調整され、この濃度調整された洗浄液は再び配管14aを介して洗浄装置100に送られる。このように、洗浄液は混合槽4と洗浄装置100の間、ならびに混合槽4と精製装置17の間で循環するようになっている。これにより、洗浄工程を停止させることなく、理想濃度の洗浄液を洗浄装置100に供給できる。本実施形態は、洗浄装置100から排出された洗浄液を含む混合槽4内の洗浄液を抜き出して該洗浄液中の不純物を除去する精製装置17を設けたことにより、第一の実施形態と同様、不純物が除去された洗浄液を安定して洗浄装置100に供給することができる。とりわけ本実施形態は、洗浄装置100から回収した洗浄液を含む混合槽4内の洗浄液を抜き出して精製装置17で不純物除去した後に混合槽4に戻す構成であるため、混合槽4でのIPA濃度範囲の許容値を大きくとれる場合に適用できる。また、混合槽4では、第一の実施形態と同様の液量調整処理を行うことが好ましい。第三の実施形態以下、本発明の第三の実施形態について詳細に説明する。図3は、本実施形態に係る液体管理システムの基本構成を示すブロック図である。図3に示される液体管理システム1Cは、洗浄装置100と混合槽4と精製装置17の間での洗浄液の供給/回収用配管の接続構成以外の点は、第一の実施形態に係る液体管理システム1Aと本質的に同一の構成を有する。よって、液体管理システム1Aと共通する構成については図3中に同一の符号を付して説明を省略する。本実施形態では、図3に示すように、洗浄装置100と混合槽4とが配管14eを介して互いに接続されている。配管14eは、第二の実施形態と同様に洗浄装置100から使用後の洗浄液を混合槽4へ送る第五の送液手段を成す。さらに、混合槽4と精製装置17とが配管14fを介して互いに接続されている。配管14fは、第二の実施形態と同様に洗浄装置100から排出された洗浄水を含む混合槽4内の洗浄液を精製装置17へ送る第六の送液手段を成す。そして、精製装置17と洗浄装置100とが配管14gを介して互いに接続され、配管14gを含む第七の送液手段により、精製装置17で精製された洗浄液が洗浄装置100へ送られる。なお、精製装置17から廃液が出る場合、廃液タンク6と精製装置17とが、配管14dを介して互いに接続され、配管14dを含む第四の送液手段により、精製装置17から出る廃液が廃液タンク6へ送られる。各々の送液手段には、目的の方向に液流を起こすポンプなどが必要に応じて設けられる。図3に示される液体管理システム1Cでは、まず、洗浄装置100で使用された洗浄液が配管14eを介して混合槽4に送られる。これにより、混合槽4の洗浄液中には、洗浄装置100から排出された洗浄液が一部含まれる。洗浄槽では、洗浄液や水分がウエハの付着物として持ち出されたり持ち込まれたり、あるいは、蒸発などの影響により、ウエハ洗浄の過程で、洗浄槽内の洗浄液のIPA濃度や不純物量が異なる。しかし一般には純水の混入、IPA蒸発などで、洗浄装置100から排出された洗浄液のIPA濃度は、混合槽4で調整された洗浄液のIPA濃度と比べて低下する。また、洗浄装置100、ウエハ付着物、配管などからの不純物により、洗浄液の不純物量は上昇する。したがって、混合槽4内のIPA濃度は低下し、不純物量は上昇する傾向を示す。そこで、混合槽4ではIPA供給手段や純水供給手段により洗浄液のIPA濃度が調整される。それから、この濃度調整された洗浄液が配管14fを介して精製装置17に送られて、該洗浄液の精製が行われる。精製装置17は、除去する対象によって適宜選択される。例えば洗浄装置から排出された洗浄液に金属が含まれる場合は、イオン交換樹脂塔やイオン吸着膜を選択することができ、微粒子が含まれる場合は、フィルタ精密ろ過膜などを選択することができる。また、蒸留缶や蒸発缶を使用することもできる。精製装置17を経た洗浄液は配管14gを介して洗浄装置100に送られ、精製装置17から廃液が出る場合はその廃液は廃液タンク6へ送られる。このように、洗浄液は洗浄装置100と混合槽4と精製装置17を順次循環するようになっている。これにより、洗浄工程を停止させることなく、理想濃度の洗浄液を洗浄装置100に供給できる。本実施形態は、洗浄装置100から排出された洗浄液を含む混合槽4内の洗浄液を抜き出して該洗浄液から不純物を除去する精製装置17を設けたことにより、第一の実施形態と同様、不純物が除去された洗浄液を安定して洗浄装置100に供給することができる。また、混合槽4では、第一の実施形態と同様の液量調整処理を行うことが好ましい。なお、精製装置17を設置する位置は図1~図3に示した場所に限られない。精製装置17は洗浄装置100から排出された洗浄液を回収して混合槽4へ戻すラインまたは、洗浄装置100へ濃度調整された洗浄液を供給するラインに設けてあればよい。本発明の実施例を説明する。本実施例は上述した第一および第二の実施形態のより具体的な例である。枚葉スピン洗浄装置の洗浄槽に6インチのシリコンウエハをセットし、この洗浄槽に、IPAと純水を混合させてIPA濃度95とした洗浄液と、純水とを交互に供給した。なお、洗浄されるシリコンウエハはクリーンルーム中に1週間放置したものである。純水の洗浄槽への流量は2L/min、上記IPA濃度の洗浄液の洗浄槽への流量は1Lminとし、これらの供給時間はともに1分とした。この洗浄槽には排液ラインが設けられており、上記の洗浄液供給中はこの排液ラインから洗浄液を回収し、上記の純水供給中に排液ラインに排出される液については回収せずに系外へ排出した。このような洗浄槽に対する洗浄液と純水の交互供給を繰り返し、使用後の洗浄液を10L回収した。このときの洗浄液中および回収液中の金属濃度をICP質量分析装置ICP-MSで測定した。測定結果を表1に示す。洗浄装置やウエハからの不純物が原因で、供給した洗浄液の金属濃度よりも回収液の金属濃度の方が高い結果となった。そこで、この回収液をイオン交換樹脂塔アニオン樹脂とカチオン樹脂を一つの塔に充填した混床式にて精製した。精製後の回収液の金属濃度を表1に示す。この表から、精製処理により、供給時の洗浄液と同等の金属濃度へと精製可能であることがわかる。"