"[A]下記式1で表される基又は式2で表される基を含む構造単位Iを有する重合体を含有する液晶配向剤。式1中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子又は1価の有機基である。Xは、酸素原子又は硫黄原子である。式2中、R3及びR4は、それぞれ独立して水素原子又は1価の有機基である。[A]重合体が、ポリエステル又はポリチオエステルである請求項1に記載の液晶配向剤。上記構造単位Iが、下記式3、式4又は式5で表される請求項2に記載の液晶配向剤。式3~5中、R1、R2及びXは、上記式1と同義である。Y1~Y3は、それぞれ独立して、2価の有機基である。光配向用である請求項1、請求項2又は請求項3に記載の液晶配向剤。1請求項4に記載の液晶配向剤を用い、基板上に塗膜を形成する工程、及び2上記塗膜に偏光した紫外線を照射し、液晶配向能を付与する工程を含む液晶配向膜の形成方法。請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の液晶配向剤を用いて形成される液晶配向膜。請求項6に記載の液晶配向膜を備える液晶表示素子。下記式3で表される構造単位を有する重合体。式3中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子又は1価の有機基である。Xは、酸素原子又は硫黄原子である。Y1は、2価の有機基である。本発明の目的は、放射線感度に優れ、低照射量の光配向法で良好な液晶配向性を発現できる液晶配向剤を提供することである。また、そのような液晶配向剤を用いた液晶配向膜の形成方法及び液晶配向膜、その液晶配向膜を備え、液晶配向性に加えて電気的特性等の諸性能にも優れる液晶表示素子、さらにはその液晶配向剤の材料となる化合物を提供することである。上記課題を解決するためになされた発明は、[A]下記式1で表される基又は式2で表される基を含む構造単位Iを有する重合体以下、[A]重合体ともいうを含有する液晶配向剤である。式1中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子又は1価の有機基である。Xは、酸素原子又は硫黄原子である。式2中、R3及びR4は、それぞれ独立して水素原子又は1価の有機基である。本発明の液晶配向剤は、上記特定構造の基を有する[A]重合体を含有することで、放射線感度が高くなり、その結果、低照射量で良好な液晶配向性を有する液晶配向膜を形成することができる。なお、上記特定構造の基を有する[A]重合体を含有することで放射線感度がより高くなることの理由は必ずしも明らかではないが、例えば、以下のように推定される。[A]重合体が上記式1で表されるようなシクロブタン骨格を有していることで、例えばディールスアルダー反応により[A]重合体の主鎖の分解が起こることに起因して、偏光による光配向が高感度で起こることが考えられる。さらに、上記シクロブタン骨格に結合するベンゼン環による立体障害のため、均一な光配向がより起こりやすくなり、これらの結果、より少ない照射量での優れた光配向が可能になることが考えられる。このように、当該液晶配向剤によれば、光配向に必要な放射線照射量を低減することができるため、低コスト化が実現できる。さらに、当該液晶配向剤により形成される液晶配向膜を用いると、電気的特性等の諸性能にも優れる液晶表示素子を製造することができる。[A]重合体は、ポリエステル以下、ポリエステルA1ともいう又はポリチオエステル以下、ポリチオエステルA2ともいうであることが好ましい。上記構造単位Iとしては、下記式3、式4又は式5で表されるものが好ましい。式3~5中、R1、R2及びXは、上記式1と同義である。Y1~Y3は、それぞれ独立して、2価の有機基である。当該液晶配向剤は、[A]重合体が上記特定構造の構造単位Iを有することで、より高感度の光配向性を備えることができる。本発明の液晶配向剤は、光配向用として好適に用いられる。当該液晶配向剤は、放射線に対する感度が高く、低照射量の放射線により優れた液晶配向能を有する液晶配向膜を形成することができる。本発明の液晶配向膜の形成方法は、1本発明の液晶配向剤を用い、基板上に塗膜を形成する工程、及び2上記塗膜に偏光した紫外線を照射し、液晶配向能を付与する工程を含む。本発明の形成方法によれば、少量の放射線照射によっても光配向が可能であるため液晶配向膜を効率よく製造でき、生産性が高く、また製造コストの削減に資する。本発明は、当該液晶配向剤により形成される液晶配向膜も含む。本発明の液晶配向膜は、当該液晶配向剤により形成されるため、放射線に対する感度が高く、その形成工程において、低照射量の放射線により液晶配向能を付与することができるため、生産効率がよく、製造コストも削減できる。本発明の液晶表示素子は、当該液晶配向膜を備える。当該液晶表示素子は、上述の放射線感度及び液晶配向性に優れる当該液晶配向膜を備えるため、従来より安価に製造することができ、電気的特性等の諸性能も十分に保持することができる。本発明の重合体は、下記式3で表される構造単位を有する。式3中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子又は1価の有機基である。Xは、酸素原子又は硫黄原子である。Y1は、2価の有機基である。本発明の重合体は上記特定構造を有するため、当該液晶配向剤における[A]重合体として好適に用いられ、本発明の重合体を含有する当該液晶配港剤は、放射線に対する感度が高く、低照射量の放射線により優れた液晶配向能を有する液晶配向膜を形成することができる。なお、ここで光配向用における光と、放射線とは、同義で用いられ、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線、荷電粒子線等を含む概念である。本発明の液晶配向剤は、放射線感度が高く、低照射量の放射線照射で、優れた液晶配向性を有する液晶配向膜を形成することができるため、その生産効率がよく、生産コストを削減することができる。さらに、本発明の液晶配向剤を用いて形成される液晶配向膜を備える液晶表示素子は、電気的特性等の諸性能にも優れる。従って、本発明の液晶配向剤、液晶配向膜、この液晶配向膜の形成方法及び液晶表示素子は、IPS型、FFS型等の液晶表示素子に好適に用いられる。<液晶配向剤>本発明の液晶配向剤は、上記式1で表される基又は式2で表される基を含む構造単位Iを有する[A]重合体を含有する。当該液晶配向剤は、上記特定構造の基を有する[A]重合体を含有することで、放射線感度が向上し、低照射量の放射線で、優れた液晶配向性を有する液晶配向膜を形成することができる。またこの液晶配向膜を備える液晶表示素子は、電気的特性等の諸性能にも優れている。本発明の液晶配向剤は、本発明の効果を損なわない限り、必須成分である[A]重合体以外に、その他の成分を含有することができる。以下、各成分について詳述する。<[A]重合体>[A]重合体は、構造単位Iを有する重合体である。[A]重合体としては、上記構造単位Iを有する重合体であれば特に限定されないが、ポリエステルA1又はポチオエステルA2であることが好ましい。[A]重合体が、上記構造単位Iを有するポリエステルA1又はポリチオエステルA2であることにより、当該液晶配向剤は、優れた液晶配向性を有する液晶配向膜を形成することができる。[構造単位I]構造単位Iは、上記式1で表される基又は式2で表される基を含む。上記式1中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基である。Xは、酸素原子又は硫黄原子である。上記式2中、R3及びR4は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基である。上記R1~R4で表される1価の有機基としては、例えば炭素数1~10の鎖状炭化水素基、炭素数3~10の脂環式炭化水素基、炭素数6~10の芳香族炭化水素基、これらの基とヘテロ原子とを組み合わせてなる基等が挙げられる。上記炭素数1~10の鎖状炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、i-ペンチル基等が挙げられる。上記炭素数3~10の脂環式炭化水素基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基等が挙げられる。上記炭素数6~10の芳香族炭化水素基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。上記ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。上記R1~R4としては、水素原子、炭素数1~10の鎖状炭化水素基及び炭素数3~10の脂環式炭化水素基が好ましく、水素原子がより好ましい。Xとしては、酸素原子であることが好ましい。構造単位Iとしては、上記式1で表される基又は式2で表される基を含む構造単位であれば、特に限定されないが、上記式3~5で表される構造単位であることが好ましく、式3で表される構造単位であることがより好ましい。上記式3~5中、R1、R2及びXは、上記式1と同義である。Y1~Y3は、それぞれ独立して、2価の有機基である。上記Y1~Y3で表される2価の有機基としては、例えば炭素数1~20の2価の鎖状炭化水素基、炭素数3~20の2価の脂環式炭化水素基、炭素数6~20の2価の芳香族炭化水素基、これらの基とヘテロ原子とを組み合わせてなる基等が挙げられる。上記炭素数1~20の2価の鎖状炭化水素基としては、例えばメチレン基、エタンジイル基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、オクタンジイル基等が挙げられる。上記炭素数3~20の2価の脂環式炭化水素基としては、例えばシクロプロパンジイル基、シクロブタンジイル基、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられる。上記炭素数6~20の2価の芳香族炭化水素基としては、例えばフェニレン基、ナフタレニレン基、アントラセニレン基等が挙げられる。上記Y1~Y3で表される2価の有機基が有してもよい上記ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。これらのうち、酸素原子が好ましい。上記Y1~Y3としては、炭素数1~20の2価の鎖状炭化水素基、炭素数3~20の2価の脂環式炭化水素基又は炭素数6~20の2価の芳香族炭化水素基とヘテロ原子とを組み合わせてなる基が好ましく、炭素数1~20の2価の鎖状炭化水素基とヘテロ原子とを組合せてなる基がより好ましく、炭素数2~4の2価の鎖状炭化水素基と酸素原子とを組合せてなる基がさらに好ましく、-CH2-O-CH2n-O-CH2-で表される基であることが特に好ましい。但し、nは、1~10の整数である。[A]重合体における構造単位Iの含有率としては10モル以上100モル以下が好ましく、60モル以上100モル以下がより好ましく、80モル以上100モル以下がさらに好ましく、90モル以上100モル以下が特に好ましい。[A]重合体における構造単位Iの含有率を上記特定範囲とすることで、当該液晶配向剤は、放射線感度をより向上させることができる。上記構造単位Iは、後述する[A]重合体の合成方法で詳細に説明するように、上記式1で表される基又は式2で表される基を含むジカルボン酸化合物とジエポキシ化合物とを重合させること等により得られる。[A]重合体としては、ポリエステルA1及びポリチオエステルA2であることが好ましく、これらの重合体が有する構造単位Iが、上記式3、式4又は式5で表されることがより好ましい。<[A]重合体の合成方法>[A]重合体の合成方法として、ポリエステルA1及びポリチオエステルA2の合成方法について以下に詳述するが、本発明における[A]重合体の合成方法は、これらの合成方法に限定されるものではない。[ポリエステルA1の合成方法]ポリエステルA1は、例えば上記式1で表される基を含むジカルボン酸化合物と、ジエポキシ化合物とを有機溶媒中で反応させることにより合成できる。上記式1で表される基を含むジカルボン酸化合物は、例えば下記スキームに従って合成することができる。例えばE-桂皮酸を水/エタノール=1:1溶液等の溶媒中で加熱して完全に溶解させ、冷却して再結晶させることで、E-桂皮酸のα-結晶を得ることができる。上記加熱温度としては、70°C~200°Cが好ましく、80°C~120°Cがより好ましい。上記冷却温度としては、20°C~60°Cが好ましく、40°C~55°Cがより好ましい。次に、再結晶で得たα-結晶を乳鉢等で粉末状になるまですり潰し、二枚のパイレックス登録商標ガラス板等で挟み、均等な厚さになるように調製したものに、500W高圧水銀ランプを用いて、光照射することで、上記式B-1で表されるジカルボン酸化合物を合成することができる。上記光照射時間としては、2時間~10時間が好ましく、3時間~6時間がより好ましい。上記ジエポキシ化合物としては、例えば下記式で表される化合物等が挙げられる。ジエポキシ化合物として、3員環のエポキシ基オキシランを有する化合物を用いた場合には、上記式2及び式3で表される構造単位を形成することができる。それに対し、4員環のエポキシ基オキセタンを有する化合物を用いた場合には、上記式4で表される構造単位を形成することができる。本発明で用いられるポリエステルA1の合成には、上記式1で表される基を含むジカルボン酸化合物と共に、他のジカルボン酸化合物を併せて用いることもできる。他のジカルボン酸化合物としては、例えばイソフタル酸、テレフタル酸、ジフェニルエ-テル-4,4’-ジカルボン酸、ジフェニルスルホン-4,4’-ジカルボン酸、ベンゾフェノン-4,4’-ジカルボン酸、4,4’-ビフェニルジカルボン酸、2,2’-ビス4-カルボキシフェニルヘキサフルオロプロパン、1,3-ビスカルボキシフェニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸等が挙げられる。これらの他のジカルボン酸化合物は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。ポリエステルA1の合成反応に用いられるジエポキシ化合物とジカルボン酸化合物上記式1で表される基を含むジカルボン酸化合物、及びその他のジカルボン酸化合物の合計との使用割合としては、ジカルボン酸化合物に含まれるカルボキシ基1当量に対して、ジエポキシ化合物のエポキシ基が0.2当量~2当量が好ましく、0.3当量~1.2当量がより好ましい。合成反応は、有機溶媒中において行うことが好ましい。反応温度としては、0°C~250°Cが好ましく、50°C~180°Cがより好ましい。反応時間としては、0.5時間~24時間が好ましく、2時間~12時間がより好ましい。有機溶媒としては、合成されるポリエステルを溶解できるものであれば特に制限はなく、例えばN-メチル-2-ピロリドンNMP、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等の非プロトン系極性溶媒;m-クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノール等のフェノール系溶媒が挙げられる。有機溶媒の使用量aとしては、ジエポキシ化合物及びジカルボン酸化合物の総量bと有機溶媒の使用量aの合計abに対して、0.1質量~50質量が好ましく、5質量~30質量がより好ましい。ポリエステルA1における上記ジカルボン酸化合物と上記ジエポキシ化合物に由来する上記式3~5で表される構造単位Iの含有割合は、全重合体の全構造単位に対して、50モル~100モルであることが好ましく、60モル~100モルであることがより好ましく、80モル~100モルであることがさらに好ましい。反応後に得られるポリエステルA1溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に用いてもよく、反応溶液中に含まれるポリエステルA1を単離した上で液晶配向剤の調製に用いてもよく、単離したポリエステルを精製した上で液晶配向剤の調製に用いてもよい。ポリエステルA1の単離方法としては、例えば反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで得られる析出物を減圧下乾燥する方法、反応溶液をエバポレーターで減圧留去する方法等が挙げられる。ポリエステルの精製方法としては、単離したポリエステルA1を再び有機溶媒に溶解し、貧溶媒で析出させる方法、エバポレーターで有機溶媒等を減圧留去する工程を1回若しくは複数回行う方法が挙げられる。上記ポリエステルA1の合成において、上記ジエポキシ化合物及びジカルボン酸化合物に加えて、適当な分子量調節剤を用いて末端修飾型の重合体を合成してもよい。かかる末端修飾型の重合体とすることにより、本発明の効果を損なうことなく液晶配向剤の塗布性印刷性をさらに改善することができる。上記分子量調節剤としては、酸一無水物、モノアミン化合物、モノイソシアネート化合物等を挙げることができる。酸一無水物としては、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、n-デシルサクシニック酸無水物、n-ドデシルサクシニック酸無水物、n-テトラデシルサクシニック酸無水物、n-ヘキサデシルサクシニック酸無水物等が挙げられる。モノアミン化合物としては、アニリン、シクロヘキシルアミン、n-ブチルアミン、n-ペンチルアミン、n-ヘキシルアミン、n-ヘプチルアミン、n-オクチルアミン等が挙げられる。モノイソシアネート化合物としては、フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等が挙げられる。分子量調節剤の使用割合は、使用するジエポキシ化合物及びジカルボン酸化合物の合計100質量部に対して、20質量部以下とすることが好ましく、10質量部以下とすることがより好ましい。[ポリチオエステルA2の合成方法]ポリチオエステルA2は、例えば上記式1で表される基を含むジチオ-S-酸化合物及びジエポキシ化合物を有機溶媒中で反応させることにより得られる。上記ジエポキシ化合物としては、ポリエステルA1の合成に用いられるジエポキシ化合物として例示した化合物と同様の化合物が挙げられる。得られたポリチオエステルA2を含有する反応溶液は、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリチオエステルA2を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリチオエステルA2を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。これらの精製操作は公知の方法に従って行うことができる。以上のようにして得られるポリエステルA1及びポリチオエステルA2は、これを濃度10質量の溶液としたときに、20mPas~800mPasの溶液粘度を持つものであることが好ましく、30mPas~500mPasの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。上記[A]重合体の溶液粘度mPasは、当該重合体の良溶媒例えばγ-ブチロラクトン、N-メチル-2-ピロリドン等を用いて調製した濃度10質量の重合体溶液につき、E型回転粘度計を用いて25°Cにおいて測定した値である。<その他の成分>本発明の液晶配向剤は、[A]重合体を必須成分として含有するが、必要に応じてその他の成分を含有していてもよい。かかるその他の成分としては、例えば[A]重合体以外のその他の重合体、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物以下、エポキシ化合物ともいう、官能性シラン化合物等が挙げられる。その他の重合体上記その他の重合体は、溶液特性及び電気特性の改善のために使用することができる。かかるその他の重合体は、上記ポリエステルA1、上記ポリチオエステルA2等の[A]重合体以外の重合体であり、例えばと上記式1で表される構造を有さないジカルボン酸化合物と、ジエポキシ化合物とを反応させて得られるポリエステル以下、他のポリエステルともいう、上記式1で表される構造を有さないポリチオエステル、ポリアミド、ポリシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリスチレン-フェニルマレイミド誘導体、ポリメタアクリレート等を挙げることができる。これらのうち、他のポリエステル、他のポリチオエステルが好ましく、他のポリエステルがより好ましい。上記他のポリエステル又は他のポリチオエステルを合成するために用いられるジカルボン酸化合物としては、ポリエステルA1を合成するために用いられる他のジカルボン酸化合物として上述したものと同様のものを挙げることができる。上記他のポリエステル又は他のポリチオエステルを合成するために用いられるジエポキシ化合物としては、ポリエステルA1及びポリチオエステルA2を合成する際に使用するジエポキシ化合物として例示したものと同様の化合物等が挙げられる。その他の重合体の使用割合としては、[A]重合体に対して50質量以下であることが好ましく、40質量以下であることがより好ましく、30質量以下であることがさらに好ましい。エポキシ化合物上記エポキシ化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、2,2-ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビスN,N-ジグリシジルアミノメチルシクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、N,N-ジグリシジル-ベンジルアミン、N,N-ジグリシジル-アミノメチルシクロヘキサン、N,N-ジグリシジル-シクロヘキシルアミン等を好ましいものとして挙げることができる。これらエポキシ化合物の配合割合は、重合体の合計100質量部に対して、好ましくは40質量部以下、より好ましくは0.1~30質量部である。官能性シラン化合物上記官能性シラン化合物としては、例えば3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、2-アミノプロピルトリメトキシシラン、2-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N-エトキシカルボニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-エトキシカルボニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N-トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10-トリメトキシシリル-1,4,7-トリアザデカン、10-トリエトキシシリル-1,4,7-トリアザデカン、9-トリメトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、9-トリメトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、9-トリエトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、9-トリメトキシシリル-3,6-ジアザノナン酸メチル、9-トリエトキシシリル-3,6-ジアザノナン酸メチル、N-ベンジル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ベンジル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、2―グリシドキシエチルトリメトキシシラン、2―グリシドキシエチルトリエトキシシラン、3―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3―グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。これら官能性シラン化合物の配合割合は、重合体の合計100質量部に対して、好ましくは2質量部以下、より好ましくは0.02~0.2質量部である。<液晶配向剤の調製>本発明の液晶配向剤は、上記ポリエステルA1、ポリチオエステルA2等の[A]重合体、及び必要に応じて任意的に配合されるその他の成分が、好ましくは有機溶媒中に溶解含有されて構成される。本発明の液晶配向剤に使用される有機溶媒としては、例えばN-メチル-2-ピロリドン、γ-ブチロラクトン、γ-ブチロラクタム、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ-ト、エチルエトキシプロピオネ-ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール-n-プロピルエーテル、エチレングリコール-i-プロピルエーテル、エチレングリコール-n-ブチルエーテルブチルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等を挙げることができる。これらは単独で又は2種以上を混合して使用することができる。本発明の液晶配向剤における固形分濃度液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合は、粘性、揮発性等を考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1~10質量の範囲である。すなわち、本発明の液晶配向剤は、後述するように基板表面に塗布され、好ましくは加熱されることにより液晶配向膜である塗膜又は液晶配向膜となる塗膜が形成されるが、固形分濃度が1質量未満である場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得ることができず、一方固形分濃度が10質量を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得ることができず、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性が劣るものとなる。特に好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって異なる。例えばスピンナー法による場合には固形分濃度1.5~4.5質量の範囲が特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を3~9質量の範囲とし、それにより溶液粘度を12mPas~50mPasの範囲とすることが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を1~5質量の範囲とし、それにより、溶液粘度を3mPas~15mPasの範囲とすることが特に好ましい。本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは10°C~50°Cであり、より好ましくは20°C~30°Cである。<液晶配向膜>本発明の液晶配向膜は、当該液晶配向剤により形成される。そのため形成工程において、低照射量の放射線により優れた液晶配向能を付与することができる。さらに放射線の照射中及び照射後の加熱工程が不要であるため、生産効率がよく製造コストも削減できる。<液晶配向膜の形成方法>本発明の液晶配向剤は、光配向法による液晶配向膜の材料として好適に使用することができる。また、TN型若しくはSTN型の液晶セルを有する液晶表示素子、又はIPS型、FFS型等の液晶セルを有する横電界方式の液晶表示素子に用いられる液晶配向膜を形成するために好適に使用することができる。本発明の液晶配向剤は、特にIPS型、FFS型の液晶セルを有する液晶表示素子に適用したときに、本発明の効果が最大限に発揮されることとなり好ましい。本発明の液晶配向膜の形成方法は、1本発明の液晶配向剤を用い、基板上に塗膜を形成する工程以下、工程1ともいう、及び2上記塗膜に偏光した紫外線を照射し、液晶配向能を付与する工程以下、工程2ともいうを含む。以下、各工程について詳述する。[工程1]ここで、本発明の液晶配向剤を、TN型又はSTN型の液晶セルを有する液晶表示素子に適用する場合、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板2枚を一対として、その各透明性導電膜形成面上に、本発明の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成する。一方、本発明の液晶配向剤を、IPS型、FFS型の液晶セルを有する液晶表示素子に適用する場合には、片面に透明導電膜又は金属膜が櫛歯状にパターニングされた電極を有する基板と、電極が設けられていない対向基板とを一対とし、櫛歯状電極の形成面と、対向基板の片面とに、それぞれ本発明の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成する。いずれの場合も、上記の基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスの如きガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネートの如きプラスチックからなる透明基板等を用いることができる。上記透明導電膜としては、例えばIn2O3-SnO2からなるITO膜、SnO2からなるNESA登録商標膜等を用いることができる。上記金属膜としては、例えばクロム等の金属からなる膜を使用することができる。透明導電膜及び金属膜のパターニングには、例えばパターンなし透明導電膜を形成した後にフォトエッチング法、スパッタ法等によりパターンを形成する方法、透明導電膜を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法等によることができる。基板上への液晶配向剤の塗布に際して基板又は導電膜ないし電極と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板及び電極上に、予め官能性シラン化合物、チタネート等を塗布しておいてもよい。基板上への液晶配向剤の塗布は、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法、インクジェット印刷法等の適宜の塗布方法により行うことができ、次いで、塗布面を予備加熱プレベークし、次いで焼成ポストベークすることにより塗膜を形成する。プレベーク条件は、例えば40°C~120°Cにおいて0.1分~5分であり、ポストベーク条件は、好ましくは120°C~300°C、より好ましくは150°C~250°Cにおいて、好ましくは5分~200分、より好ましくは10分~100分である。ポストベーク後の塗膜の膜厚は、好ましくは0.001μm~1μmであり、より好ましくは0.005μm~0.5μmである。[工程2]このようにして形成された塗膜に、偏光した放射線を照射することにより、液晶配向能を付与する。ここで、放射線としては、例えば150nm~800nmの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができるが、200nm~400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等を使用することができる。上記の好ましい波長領域の紫外線は、上記光源を、例えばフィルター、回折格子等と併用する手段等により得ることができる。本発明の液晶配向剤を用いると、通常10,000J/m2以上の紫外線照射が必要とされるところ、8000J/m2であっても良好な液晶配向能を付与することができ、液晶表示素子の生産性向上と製造コストの削減に資する。<液晶表示素子>本発明の液晶表示素子は、当該液晶配向剤を用いて形成される液晶配向膜を備えるため、従来より少ない放射線照射量で液晶配向能を付与することができる。そのため、当該液晶配向膜を備える液晶表示素子は、従来より安価に製造することができる。本発明の液晶表示素子は、例えば以下のようにして製造することができる。上記のようにして液晶配向膜が形成された一対の基板を準備し、この一対の基板間に液晶が狭持された構成の液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば以下の2つの方法が挙げられる。第一の方法は、従来から知られている方法である。それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙セルギャップを介して2枚の基板を対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造することができる。第二の方法は、ODFOneDropFill方式と呼ばれる手法である。液晶配向膜を形成した2枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに液晶配向膜面上に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造することができる。いずれの方法による場合でも、次いで、液晶セルを、用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去することが望ましい。そして、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより、本発明の液晶表示素子を得ることができる。ここで、液晶配向膜が形成された2枚の基板における、照射した直線偏光放射線の偏光方向のなす角度及びそれぞれの基板と偏光板との角度を適当に調整することにより、所望の液晶表示素子を得ることができる。上記シール剤としては、例えばスペーサーとしての酸化アルミニウム球及び硬化剤を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。上記液晶としては、例えばネマティック型液晶、スメクティック型液晶等を用いることができる。ネマティック型液晶を形成する正の誘電異方性を有するものが好ましく、例えばビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶等が用いられる。また上記液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネート等のコレステリック液晶;商品名C-15、CB-15以上、メルク社製として販売されているようなカイラル剤;p-デシロキシベンジリデン-p-アミノ-2-メチルブチルシンナメート等の強誘電性液晶等を、さらに添加して使用してもよい。液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させたH膜と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、又はH膜そのものからなる偏光板等を挙げることができる。このようにして製造された本発明の液晶表示素子は、表示特性、電気特性等の諸性能に優れるものである。<重合体>本発明の液晶配向剤が含有する重合体は、上記式1又は式2で表される基を含む構造単位Iを有する。この重合体としては、ポリエステル又はポリチオエステルであることが好ましく、上記構造単位Iが、上記式3、式4又は式5で表される構造単位であることがより好ましく、上記式3で表される構造単位であることがさらに好ましい。本発明の重合体は上記特定構造を有するため、当該液晶配向剤における[A]重合体として好適に用いられ、本発明の重合体を含有する当該液晶配港剤は、放射線に対する感度が高く、低照射量の放射線により優れた液晶配向能を有する液晶配向膜を形成することができる。なお、本発明の重合体については、当該液晶配向剤が含有する[A]重合体の説明を適用できるため、ここでの詳細な説明は省略する。以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。<ジカルボン酸の合成>下記スキームに従って、下記式B-1で表される化合物を合成した。[合成例1]E-桂皮酸2.00gを水/エタノール=1/1溶液10mLに加え、オイルバスで90°Cに加熱し、完全に溶解させた。オイルバスの設定を50°Cにし、徐々に結晶化させ、1.3g収率65のE-桂皮酸のα-結晶を得た。再結晶で得られたα-結晶150mgを乳鉢で粉末状になるまですり潰し、2枚のパイレックス登録商標ガラス板で挟み、均等な厚さになるように調製した。500W高圧水銀ランプを用いて、4h光照射し、上記式B-1で表される化合物B-1147mgを得た。なお、上記のスケールで合成を繰り返すことにより、以降のポリエステルの合成例における必要量を確保した。<ポリエステルA1の合成>ポリエステルの合成に用いたジエポキシ化合物を下記に示す。[実施例1]化合物B-10.1モル29.62gと、上記式E-1で表されるジエポキシ化合物E-10.1モル17.72gとをN-メチル-2-ピロリドン110.46gに溶解し、140°Cで9時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールと混合し、反応生成物を沈殿させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧下40°Cで15時間乾燥させてポリエステルA-1を45.9g収率97.0得た。[実施例2]ジエポキシ化合物を上記式E-2で表される化合物E-2とした以外は実施例1と同様にしてポリエステルA-2を得た。[比較合成例1]1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物0.1モル19.61gと、下記ジアミン化合物D-10.1モル41.05gとをN-メチル-2-ピロリドン343.74gに溶解し、室温で6時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールと混合し、反応生成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗浄し、減圧下40°Cで15時間乾燥して、ポリアミック酸a-1を60g収率98.9得た。[比較合成例2~3]ジアミン化合物をそれぞれ下記D-2又はD-3とした以外は比較合成例1と同様にしてそれぞれのポリアミック酸a-2及びa-3を得た。[ジアミン化合物]D-1:2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]プロパンD-2:p-フェニレンジアミンD-3:4,4’-ジアミノジフェニルエーテル<液晶配向剤の調製>[実施例3]上記合成例1で得たポリエステルA-1を含有する溶液に、N-メチル-2-ピロリドンNMP及びブチルセロソルブBCを加え、さらにエポキシ化合物としてN,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタンをポリアミック酸A1-1の合計100質量部に対して20質量部加えて十分に撹拌し、溶媒組成がNMP:BC=60:40質量比、固形分濃度2.5質量の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いて濾過することにより、液晶配向剤S-1を調製した。[実施例4及び比較例1~3]実施例3において、ポリエステルA-1に代えて、それぞれポリエステルA-2、ポリアミック酸a-1~a-3をそれぞれ使用した以外は実施例3と同様にして液晶配向剤S-2、s-1~s-3を調製した。<液晶表示素子の製造>上記で調製した液晶配向剤S-1~S-2及びs-1~s-3をそれぞれITO膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面上に、膜厚が0.1μmになるようにスピンナーを用いて塗布し、200°Cで1時間乾燥して塗膜を形成した。この塗膜表面に、Hg-Xeランプを用いて、254nmの輝線を含む偏光の紫外線8,000J/m2、10,000J/m2、又は50,000J/m2を、基板法線方向から照射し、液晶配向膜を形成した。次に、上記光照射処理を行った一対の基板について、液晶配向膜を形成した面の縁に液晶注入口を残して直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した後、光照射方向が反平行となるように基板を重ね合わせて圧着し、150°Cで1時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、一対の基板間に液晶注入口よりネマティック型液晶メルク社製、ZLI-1565を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを150°Cで加熱してから室温まで徐冷した。次に、基板の外側両面に、偏光板を、その偏光方向が互いに直交し、かつ、液晶配向膜の偏光紫外線の光軸の基板面への射影方向と一方は直交し、もう一方は平行となるように貼り合わせて液晶表示素子を作製した。上記それぞれの液晶表示素子について、下記評価を行った。結果を表1に示す。<評価>[液晶配向性]液晶表示素子において、電圧をオンオフ印加解除したときの異常ドメインの有無を偏光顕微鏡で観察し、異常ドメインのない場合を良好、異常ドメインがひとつでもある場合を不良と判定した。[電圧保持率]偏光紫外線照射量8,000J/m2で作製した液晶表示素子に5Vの電圧を60マイクロ秒の印加、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率を測定した。測定装置は東陽テクニカ社製VHR-1を使用した。電圧保持率が90以上の場合を良好、それ以外の場合を不良と判断した。表1に示すように、実施例の液晶配向剤は、放射線に対する感度が高く、8,000J/m2の低照射量でも、得られる液晶配向膜を備える液晶表示素子の液晶配向性は良好となった。また、電圧保持率も良好であった。それと比較して、比較例では8,000J/m2の低照射量では異常ドメインが観察され、液晶配向性は不良となった。以上より本発明の液晶配向剤は、放射線感度に優れ、低照射量の放射線照射で、優れた液晶配向性を有する液晶配向膜を形成することができることが明らかとなった。"