浴室に設けられた利用対象U1U2に温水を供給するための給湯回路12と、上記給湯回路12に酸性水及びアルカリ水のうちの少なくとも一方を供給するイオン水供給部60とを備え、上記イオン水供給部60は、貯水タンク61と、上記貯水タンク61の水中に電流経路を形成する電極対6464x64y6565x65y、及び該電極対6464x64y6565x65yに電圧を印加する電源部7070a70b70cを有する電極ユニット部62と、超音波発生部94と、上記貯水タンク61内と上記給湯回路12とを繋ぐイオン水路63とを含み、上記電極ユニット部62は、上記電極対6464x64y6565x65y間の電流経路に放電を行うための放電場を形成し、上記放電によって水酸ラジカルを生成するように構成され、上記超音波発生部94は、超音波を上記水中に照射することにより、該水中に生成した水酸ラジカルが変化して生成される過酸化水素を水酸ラジカルに変換することを特徴とする給湯システム。請求項1において、上記イオン水路63は、上記貯水タンク61のうち酸性水が貯留される部分と上記給湯回路12とを繋ぐ酸性水路63a、及び上記貯水タンク61のうちアルカリ水が貯留される部分と上記給湯回路12とを繋ぐアルカリ水路63bを含み、上記酸性水路63a又は上記アルカリ水路63bを選択的に開放する水路開閉機構80を更に備えていることを特徴とする給湯システム。請求項1又は2において、上記給湯回路12は、水を加熱する加熱部32b42bと、上記加熱部32b42bにより加熱された温水を上記貯水タンク61へ供給する温水路21と、を含むことを特徴とする給湯システム。請求項1から3のうちいずれか1つにおいて、上記電極ユニット部62は、上記放電の放電場を上記貯水タンク61の底部寄りに形成するように構成されていることを特徴とする給湯システム。請求項1において、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御する第1制御部1と、上記超音波発生部94の動作を制御する第2制御部5とをさらに備え、上記第1制御部1及び上記第2制御部5は、上記貯水タンク61の上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ及び上記超音波発生部94の動作をそれぞれ制御することを特徴とする給湯システム。請求項5において、上記貯水タンク61の上記水中に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ7をさらに備え、上記第1制御部1は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御し、上記第2制御部5は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする給湯システム。請求項6において、少なくとも上記水中の過酸化水素の濃度が上記上限値を越えた場合には、上記第1制御部1が、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧をオフにして上記放電を停止させるとともに、上記第2制御部5が、上記超音波発生部94を動作させることを特徴とする給湯システム。請求項5から7のうちいずれか1つにおいて、上記第2制御部5は、上記貯水タンク61の上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする給湯システム。請求項1において、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフの制御、及び上記超音波発生部94の動作の制御を行う制御部をさらに備え、上記制御部は、上記貯水タンク61の上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ、及び上記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする給湯システム。請求項9において、上記制御部は、上記貯水タンク61の上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧をオフにして上記放電を停止させ、上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする給湯システム。請求項1から10のうちいずれか1つにおいて、上記貯水タンク61の上記水中に泡を吐出する吐出手段119と、上記吐出手段119に気体を送る送出手段99とをさらに備え、上記電極対6465は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、上記電源部70bは、上記電極対6465にパルス電圧を印加し、上記吐出手段119は、上記電極対6465の間であって、上記貯水タンク61の底部に配置されていることを特徴とする給湯システム。ところで、水道水には、殺菌用として添加された塩素や、塩素が水道水と反応することにより形成される次亜塩素酸が含まれている。この次亜塩素酸には、塩素と同様、殺菌作用がある。しかし、これらの塩素や次亜塩素酸は、例えば40°C以上の高温で加熱されると分解され易い。そうなると、加熱された水中で菌が繁殖してしまうおそれが生じる。本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、比較的高温のアルカリ水や酸性水において菌の繁殖を抑制することである。第1の発明は、給湯システム10と対象とし、浴室に設けられた利用対象U1U2に温水を供給するための給湯回路12と、該給湯回路12に酸性水及びアルカリ水のうちの少なくとも一方を供給するイオン水供給部60とを備え、該イオン水供給部60は、貯水タンク61と、該貯水タンク61の水中に電流経路を形成する電極対6464x64y6565x65y、及び該電極対6464x64y6565x65yに電圧を印加する電源部7070a70b70cを有する電極ユニット部62と、超音波発生部94と、上記貯水タンク61内と上記給湯回路12とを繋ぐイオン水路63とを含み、上記電極ユニット部62は、上記電極対6464x64y6565x65y間の電流経路に放電を行うための放電場を形成し、上記放電によって水酸ラジカルを生成するように構成され、上記超音波発生部94は、超音波を上記水中に照射することにより、該水中に生成した水酸ラジカルが変化して生成される過酸化水素を水酸ラジカルに変換することを特徴とする。第1の発明では、上記貯水タンク61の水中に電極対6464x64y6565x65yが配置されている。この電極対6465に電圧を印加すると、上記電極対6465間に電流経路が形成されるとともに電流経路に放電場が形成される。そして、この電流経路の形成により、上記貯水タンク61の水中で電気分解が起き、この放電場の形成により、放電が起きる。これにより、上記電極対6465における電極A64の近傍で酸性水が生成され、上記電極対6465における電極B65の近傍でアルカリ水が生成される。又、上記放電場では、放電により、過酸化水素が生成される。また、放電により、水酸ラジカル等の活性種も生成される。水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素は、貯水タンク61内の水中で拡散するため、酸性水及びアルカリ水の両方に水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素が含まれる。さらに、水中に照射された超音波により、過酸化水素が水酸ラジカルに変換される。上記酸性水及びアルカリ水の少なくとも一方は、イオン水路63を通じて給湯回路12に供給される。そして、該給湯回路12を流れた酸性水又はアルカリ水は、浴室に設けられた利用対象U1U2へ供給される。浴室の利用対象例えばシャワー等に供給されるのが酸性水である場合、殺菌効果を有する酸性水により、浴槽や人体の皮膚表面等が殺菌される。また、浴室の利用対象に供給されるのがアルカリ水である場合、洗浄効果を有するアルカリ水により、浴室の壁や浴槽等が洗浄される。そして、第1の発明では、上記酸性水やアルカリ水に含まれる過酸化水素によって、酸性水及びアルカリ水が殺菌浄化される。また、上記放電により、水酸ラジカル等の活性種も生成する。この活性種によって、酸性水及びアルカリ水に含まれる有害物質が酸化分解されて除去され、酸性水及びアルカリ水が殺菌浄化される。さらに、超音波照射により、過酸化水素が水酸ラジカルに変換される。殺菌浄化能力は、過酸化水素よりも水酸ラジカルの方が高いため、過酸化水素を水酸ラジカルに変換することにより、殺菌浄化作用が向上する。更に、過酸化水素は、比較的高温の条件下においても、水中に残留し易い。具体的に、過酸化水素は、水温が約40°C以上の条件下で、約1時間経過したとしても、約4程度の濃度しか分解されない。分解されずに残留する過酸化水素は、超音波照射により、水酸ラジカルに変換される。従って、本発明の給湯システム10では、利用対象U1U2に供給される水温が比較的高温であっても、水酸ラジカル及び過酸化水素によって水の殺菌浄化を充分に行うことができる。第2の発明は、第1の発明において、上記イオン水路63は、上記貯水タンク61のうち酸性水が貯留される部分と上記給湯回路12とを繋ぐ酸性水路63a、及び上記貯水タンク61のうちアルカリ水が貯留される部分と上記給湯回路12とを繋ぐアルカリ水路63bを含み、上記酸性水路63a又は上記アルカリ水路63bを選択的に開放する水路開閉機構80を更に備えていることを特徴とする。第2の発明では、水路開閉機構80によって、酸性水路63a又はアルカリ水路63bのうちのいずれか一方が開放される。水路開閉機構80により酸性水路63aの方が開放された場合、貯水タンク61内の酸性水が酸性水路63aを通じて利用対象U1U2へ供給される。一方、水路開閉機構80によりアルカリ水路63bの方が開放された場合、貯水タンク61内のアルカリ水がアルカリ水路63bを通じて利用対象U1U2へ供給される。つまり、第2の発明では、水路開閉機構80を切り替えることにより、酸性水又はアルカリ水が利用対象U1U2へ供給される。第3の発明は、第1又は第2の発明において、上記給湯回路12は、水を加熱する加熱部32b42bと、該加熱部32b42bにより加熱された温水を上記貯水タンク61へ供給する温水路21と、を含むことを特徴とする。第3の発明では、イオン水供給部60の貯水タンク61内に、加熱部32b42bにより加熱された温水が供給される。そして、イオン水供給部60では、比較的高温となる温水中で水酸ラジカル及び過酸化水素が生成される。その結果、イオン水供給部60から給湯回路12を通じて利用対象U1U2へ通じる水路には、過酸化水素を含み且つ高温の温水が流れる。過酸化水素は、高温条件下では菌に対する活性が高まるため、上記イオン水供給部60から利用対象U1U2へ通じる水路における温水の殺菌効果が向上する。なお、水酸ラジカルは、短時間で過酸化水素に変化するため、貯水タンク61の温水中に生成された水酸ラジカルは、イオン水供給部60から給湯回路12を通じて利用対象U1U2へ供給されるまでの間に、過酸化水素に変化する場合がある。第4の発明は、第1から第3の発明のうちいずれか1つにおいて、上記電極ユニット部62は、上記放電の放電場を上記貯水タンク61の底部寄りに形成するように構成されていることを特徴とする。第4の発明では、放電が行われる放電場付近の水は、ジュール熱により高温となるため、貯水タンク61内の水中を上方へ移動する。すると、貯水タンク61内の水のうち上側にある比較的低温の水は、下方へ移動する。すなわち、貯水タンク内の水は対流する。ここで、第4の発明では、放電場が、貯水タンク61の底部寄りの位置に形成されるため、貯水タンク内の水は、貯水タンク内の全体に亘って対流する。第5の発明は、第1の発明において、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御する第1制御部1と、上記超音波発生部94の動作を制御する第2制御部5とをさらに備え、上記第1制御部1及び上記第2制御部5は、上記貯水タンク61の上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ及び上記超音波発生部94の動作をそれぞれ制御することを特徴とする。第6の発明は、第5の発明において、上記貯水タンク61の上記水中に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ7をさらに備え、上記第1制御部1は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御し、上記第2制御部5は、上記センサ7によるモニタ結果に応じて上記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする。第7の発明は、第6の発明において、少なくとも上記水中の過酸化水素の濃度が上記上限値を越えた場合には、上記第1制御部1が、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧をオフにして上記放電を停止させるとともに、上記第2制御部5が、上記超音波発生部94を動作させることを特徴とする。第8の発明は、第5から第7の発明のうちいずれか1つにおいて、上記第2制御部5は、上記貯水タンク61の上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする。第9の発明は、第1の発明において、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフの制御、及び上記超音波発生部94の動作の制御を行う制御部をさらに備え、上記制御部は、上記貯水タンク61の上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ、及び上記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする。第10の発明は、第9の発明において、上記制御部は、上記貯水タンク61の上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、上記電極対6464x64y6565x65yに印加する電圧をオフにして上記放電を停止させ、上記水中に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする。第11の発明は、第1から第10の発明のうちいずれか1つにおいて、上記貯水タンク61の上記水中に泡を吐出する吐出手段119と、上記吐出手段119に気体を送る送出手段99とをさらに備え、上記電極対6465は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、上記電源部70bは、上記電極対6465にパルス電圧を印加し、上記吐出手段119は、上記電極対6465の間であって、上記貯水タンク61の底部に配置されていることを特徴とする。上記第1の発明によれば、放電により生成した水酸ラジカル及び過酸化水素、並びに超音波の照射により生成した水酸ラジカルを含む酸性水又はアルカリ水が、浴室の利用対象U1U2に供給される温水に添加されるため、利用対象U1U2に供給される比較的高温の酸性水又はアルカリ水において菌などの有害物質が繁殖するのを抑制できる。上記第2の発明によれば、過酸化水素を含む酸性水又はアルカリ水を選択的に利用対象U1U2へ供給することができる。これにより、浴室において、殺菌効果を有する酸性水と洗浄効果を有するアルカリ水とを目的に応じて使い分けることができる。なお、水酸ラジカルは、短時間で過酸化水素に変化するため、貯水タンク61の温水中に生成された水酸ラジカルは、利用対象U1U2へ供給するまでの間に、過酸化水素に変化する場合がある。上記第3の発明によれば、貯水タンク61に温水が供給されるため、イオン水供給部60から利用対象U1U2に至るまでの水路において、過酸化水素による酸性水又はアルカリ水の殺菌効果を向上できる。上記第4の発明によれば、貯水タンク61内の全体に亘って水が対流するため、貯水タンク61内で生成される水酸ラジカル及び過酸化水素を水中に均一に混合できる。従って、過酸化水素を利用対象U1U2へ安定的に供給できる。上記第5の発明によれば、利用対象U1U2へ供給される水酸性水又はアルカリ水中の過酸化水素の濃度が上限値以下に抑えられるので、過酸化水素を除去するための処理が容易になる。上記第6の発明によれば、第1制御部1及び第2制御部5が、貯水タンク61の水中の過酸化水素濃度に応じて放電の制御及び超音波照射の制御をそれぞれ行うので、水中の過酸化水素濃度が所望の範囲内になるよう制御しつつ、浄化処理を行うことができる。上記第7の発明によれば、水中の過酸化水素の濃度が上限値を超えた場合に放電を停止させて過酸化水素の生成を停止させるので、水中の過酸化水素濃度を上限値以下にすることができ、利用対象U1U2へ供給される水中からの過酸化水素の除去を容易にすることができる。上記第8の発明によれば、水中の過酸化水素濃度を下限値以上に制御することができるので、超音波を照射した場合に水酸ラジカルを効率良く発生させることが可能となる。上記第9の発明によれば、水中の過酸化水素の濃度が上限値を超えないように制御部によって制御されるので、過酸化水素を除去するための処理を容易にすることができる。上記第10の発明によれば、水中の過酸化水素濃度を下限値以上に制御することができるので、超音波を照射した場合に水酸ラジカルを効率良く発生させることが可能となる。上記第11の発明によれば、電極対6465にパルス電圧を印加する場合であっても放電を生起させることができるので、水中で水酸ラジカルを効率的に発生させ、超音波照射と組み合わせることでより高い浄化効果を得ることができる。本願発明者らは、水中での放電による菌の繁殖の抑制効果をさらに検討した結果、水中での放電によって該水中の過酸化水素の濃度が増加すること、及びその際の過酸化水素の濃度は水を電気分解する場合と比べて条件によっては100倍程度にもなることを実験的に確認した。これは、放電によって生じた水酸ラジカルや酸素ラジカルが最終的に過酸化水素になったためと考えられる。さらに、殺菌浄化能力は、過酸化水素よりも水酸ラジカルの方が高いため、水中に超音波を照射して、過酸化水素を水酸ラジカルに変換することにより、殺菌浄化作用が向上することを突き止めた。本願発明者らはこれらのことを考え合わせ、放電と超音波照射とを組み合わせることで、水酸ラジカルによって効果的且つ継続的に水を浄化することができるとともに、水中の過酸化水素濃度を一定範囲に制御することができることに想到した。以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。《発明の実施形態1》本発明の実施形態1に係る給湯システム10の全体構成について、図1を参照しながら説明する。給湯システム10は、利用対象としての浴槽U1やシャワーU2へ温水を供給するシステムである。そして、実施形態1に係る給湯システム10では、利用者が操作パネル図示省略等を操作することにより、浴槽U1やシャワーU2に供給される温水を酸性又はアルカリ性にすることができる。給湯システム10は、いわゆるヒートポンプ式の給湯器であり、熱源ユニット30と給湯ユニット40とを有している。熱源ユニット30は、圧縮機31と加熱熱交換器32と膨張弁33と室外熱交換器34とを備えている。熱源ユニット30では、圧縮機31、加熱熱交換器32、膨張弁33、及び室外熱交換器34が冷媒配管を介して順に接続され、閉回路となる冷媒回路11が構成される。冷媒回路11には、冷媒として二酸化炭素が充填されている。加熱熱交換器32は、一次側伝熱部32aと二次側伝熱部32bとを有している。一次側伝熱部32aは、圧縮機31と膨張弁33との間の高圧ラインに接続されている。二次側伝熱部32bは、給湯ユニット40側の第1循環流路13に接続されている。加熱熱交換器32では、一次側伝熱部32aを流れる冷媒と、二次側伝熱部32bを流れる水とが熱交換する。熱源ユニット30では、二次側伝熱部32bを流れる水と比較すると、一次側伝熱部32aを流れる冷媒の方が温度が高くなる。このため、加熱熱交換器32では、一次側伝熱部32aを流れる冷媒の熱が、二次側伝熱部32bを流れる水へ付与される。つまり、二次側伝熱部32bは、第1循環流路13を流れる水を加熱する加熱部を構成している。室外熱交換器34の近傍には、ファン35が設けられている。室外熱交換器34では、その内部を流れる冷媒と、ファン35が送風する室外空気とが熱交換する。冷媒回路11では、圧縮機31が運転されて冷媒が循環することで、蒸気圧縮式の冷凍サイクルが行われる。即ち、冷媒回路11では、圧縮機31で圧縮された冷媒が、一次側伝熱部32aで放熱し、膨張弁33で減圧される。減圧された冷媒は、室外熱交換器34で蒸発し、圧縮機31に吸入される。この冷凍サイクルは、冷媒としての二酸化炭素を臨界圧力以上まで圧縮する、いわゆる超臨界サイクルである。給湯ユニット40は、給湯タンク41と内部熱交換器42とを備えている。給湯タンク41は、縦長の円筒状の密閉容器で構成されている。給湯タンク41には、円筒形の周壁部41aと、周壁部41aの上側を閉塞する頂壁部41bと、周壁部41aの下側を閉塞する底壁部41cとが形成されている。給湯タンク41には、第1循環流路13と第2循環流路14と供給流路15とが接続されている。また、給湯タンク41には、該給湯タンク41内へ水道水を適宜補給する、給水路20も接続されている。給湯タンク41及び供給流路15は、浴槽U1及びシャワーU2に温水を供給するための給湯回路12を構成している。第1循環流路13の始端は、給湯タンク41の周壁部41aの下部に接続され、給湯タンク41内の底壁部41c寄りに開口している。第1循環流路13の終端は、給湯タンク41の周壁部41aの上部に接続され、給湯タンク41内の頂壁部41b寄りに開口している。第1循環流路13には、第1ポンプ43が設けられている。第1ポンプ43は、第1循環流路13の始端側から終端側の方向図1の矢印で示す方向へ水を搬送する搬送機構である。第1循環流路13には、第1ポンプ43の下流側に二次側伝熱部32bが接続されている。第2循環流路14の始端は、給湯タンク41の周壁部41aの下部に接続され、給湯タンク41内の底壁部41c寄りに開口している。第2循環流路14の終端は、給湯タンク41の頂壁部41bに接続され、給湯タンク41内の頂壁部41b寄りに開口している。第2循環流路14には、第2ポンプ44が設けられている。第2ポンプ44は、第2循環流路14の始端側から終端側の方向図1の矢印で示す方向へ水を搬送する搬送機構である。第2循環流路14には、第2ポンプ44の下流側に内部熱交換器42の第1伝熱管42aが接続されている。内部熱交換器42は、第1伝熱管42aと第2伝熱管42bとを有している。第1伝熱管42aは、第2循環流路14に接続されている。第2伝熱管42bは、供給流路15の第3循環流路16に接続されている。供給流路15は、主供給路17、第1分岐路18、第2分岐路19、及び第3循環流路16を含んでいる。主供給路17の始端は給湯タンク41の頂壁部41bに接続され、給湯タンク41内の頂壁部41b寄りに開口している。主供給路17の終端側は、第1分岐路18と第2分岐路19とに分岐している。主供給路17には、第3ポンプ45が設けられている。第3ポンプ45は、主供給路17の始端側から終端側の方向図1の矢印で示す方向へ水を搬送する搬送機構である。第1分岐路18の終端は、第3循環流路16を介して浴槽U1と連通している。つまり、第1分岐路18は、浴槽U1側へ温水を供給するための浴槽側供給路を構成している。第1分岐路18には、第1開閉弁46が設けられている。第2分岐路19の終端は、シャワーU2と接続している。つまり、第2分岐路19は、シャワーU2へ温水を供給するシャワー側供給路を構成している。第2分岐路19には、第2開閉弁47が設けられている。第3循環流路16は、浴槽U1内の水を循環させる浴槽循環流路を構成している。第3循環流路16は、供給循環路16aと返送循環路16bとを有している。供給循環路16aの流出端は、浴槽U1の内部における上方寄りに開口している。返送循環路16bの流入端は、浴槽U1の内部における下方寄りに開口している。供給循環路16aには、第4ポンプ48が設けられている。第4ポンプ48は、主供給路17側の水、又は返送循環路16b側の水を浴槽U1内へ供給する搬送機構である。返送循環路16bには、内部熱交換器42の第2伝熱管42bが接続され、該第2伝熱管42bの下流側に第3開閉弁49が設けられている。内部熱交換器42では、第1伝熱管42aを流れる水と、第2伝熱管42bを流れる水とが熱交換する。給湯ユニット40では、返送循環路16bを流れる水と比較すると、第2循環流路14を流れる水の温度の方が高くなる。このため、内部熱交換器42では、第1伝熱管42aを流れる水の熱が、第2伝熱管42bを流れる水へ付与される。つまり、第2伝熱管42bは、第3循環流路16を流れる水を加熱する加熱部を構成している。イオン水供給部の詳細構造図1及び図2に示すように、給湯システム10は、イオン水供給部60を備えている。イオン水供給部60は、電気分解によって酸性水とアルカリ水とを生成するとともに、水中での放電及び水中への超音波照射によって水酸ラジカル及び過酸化水素等の浄化成分を生成して上記酸性水及びアルカリ水へ付与する。そして、イオン水供給部60は、この酸性水及びアルカリ水を給湯回路12へ供給する。イオン水供給部60は、貯水タンク61と、電極ユニット部62と、超音波発生部94と、イオン水路63とを備えている。貯水タンク61は、密閉型の容器状に形成されている。貯水タンク61の上部には、主供給路17から分岐する温水路21が繋がっている。貯水タンク61の下部には、主供給路17における第3ポンプ45の下流側の部分へと連通するイオン水路63が繋がっている。上記温水路21には、第5ポンプ50が設けられている。第5ポンプ50は、主供給路17を流れる温水を貯水タンク61内へ供給する搬送機構である。貯水タンク61内の空間は、イオン交換膜61aによって第1室S1と第2室S2とに区画されている。イオン交換膜61aは垂直方向に延びるように配置されている。詳しくは後述するが、貯水タンク61内で行われる電気分解により、第1室S1では酸性水が生成され、第2室S2ではアルカリ水が生成される。従って、第1室S1には酸性水が貯留され、第2室S2ではアルカリ水が貯留される。電極ユニット部62は、電極対6465と電源部70と絶縁ケーシング71とを備えている。電極対6465は、水中で放電を生起するためのものであり、且つ、水中で電気分解を行って酸性水及びアルカリ水を生成するためのものである。電極対は、電極A64及び電極B65で構成されている。電極A64は板状に形成され、電源部70に接続されている。電極A64は、耐腐食性が高い導電性の材料で構成され、例えばステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。電極A64は、箱状に形成された絶縁ケーシング71の内部に収容された状態で、第1室S1に配置されている。電極B65は板状に形成され、電源部70に接続されている。電極B65は、耐腐食性が高い導電性の材料で構成され、例えばステンレス、真鍮等の導電性の金属材料で構成されている。電極B65は、電極A64に対向するように第2室S2に配置されている。電極A64及び電極B65は、貯水タンク61の底部付近に配置される。電源部高電圧発生部70は、電極対6465に所定の電圧例えば直流電圧を印加する電源で構成されていてもよい。即ち、電源部70は、電極対6465に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源ではなく、電極対6465に対して常に数キロボルトの電圧を印加する電源であってもよい。電源部70の正極側に電極A64が接続され、負極側に電極B65が接続されている。又、上記電源部70の負極側はアースと接続されている。この電源部70には、電極対6465の放電電力を一定に制御する定電力制御部が設けられている図示省略。絶縁ケーシング71は、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されている。絶縁ケーシング71は、一面右面が開放された容器状のケース本体72と、該ケース本体72の右側方の開放部を閉塞する板状の蓋部73とを有している。ケース本体72は、角形筒状の筒壁部側壁部72aと、該筒壁部72aの左側開口部を閉塞する底部72bとを有している。電極A64は、底部72bの内面に敷設されている。絶縁ケーシング71では、蓋部73と底部72bとの間の上下方向の距離が、電極A64の厚さよりも長くなっている。つまり、電極A64と蓋部73との間には、所定の間隔が確保されている。これにより、絶縁ケーシング71の内部では、電極A64とケース本体72と蓋部73との間に空間Sが形成される。図2及び図3に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73には、該蓋部73を厚さ方向に貫通する1つの開口74が形成されている。この開口74により、電極A64と電極B65との間の電界の形成が許容されている。この開口74は、図2に示すように、貯水タンク61の底部寄りに配置される。蓋部73の開口74の内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口74は、電極対6465の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。以上のように、絶縁ケーシング71は、電極対6465のうちの一方の電極電極A64のみを内部に収容し、且つ電流密度集中部としての開口74を有する絶縁部材を構成している。加えて、絶縁ケーシング71の開口74内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡Bが形成される。つまり、絶縁ケーシング71の開口74は、該開口74に気相部としての気泡Bを形成する気相形成部として機能する。イオン水路は63は、酸性水路63aとアルカリ水路63bとを備えている。酸性水路63aは、貯水タンク61内の第1室S1と主供給路17とを繋いでいて、アルカリ水路63bは、貯水タンク61内の第2室S2と主供給路17とを繋いでいる。水路開閉機構の詳細構造給湯システム10は、水路開閉機構80を備えている。この水路開閉機構80は、貯水タンク61内で生成される酸性水又はアルカリ水を、選択的に主供給路17へ供給するためのものである。水路開閉機構80は、酸性水路開閉弁81と、アルカリ水路開閉弁82と、制御部83とを備えている。酸性水路開閉弁81及びアルカリ水路開閉弁82は、例えば電磁弁で構成されている。酸性水路開閉弁81は酸性水路63aに設けられ、アルカリ水路開閉弁82はアルカリ水路63bに設けられている。酸性水路開閉弁81は、制御部83から送信される信号に応じて、酸性水路63aを全開にする開状態と、酸性水路63aを全閉にする閉状態とに切り替えられる。アルカリ水路開閉弁82は、制御部83から送信される信号に応じて、アルカリ水路63bを全開にする開状態と、アルカリ水路63bを全閉にする閉状態とに切り替えられる。制御部83は、外部からの信号に基づいて、酸性水路開閉弁81又はアルカリ水路開閉弁82を選択的に開放するためのものである。制御部83は、酸性水路開閉弁81が開状態となる信号を酸性水路開閉弁81へ送信し且つアルカリ水路開閉弁82が閉状態となる信号をアルカリ水路開閉弁82へ送信するか、又は、酸性水路開閉弁81が閉状態となる信号を酸性水路開閉弁81へ送信し且つアルカリ水路開閉弁82が開状態となる信号を酸性水路開閉弁81へ送信するように構成されている。超音波発生部超音波発生部94は、板状の圧電セラミックス95と、それらの間に圧電セラミックス95を挟むように設けられた一対の金属板96a96bとで構成される。超音波発生部94を封入するケース97は密閉され、貯水タンク61の底部に配置されている。金属板96a96bには、増幅器9によって増幅された超音波波形発生部8の出力信号交流電圧が供給される。これにより、超音波発生部94は任意の周波数の超音波を貯水タンク61内の水中に照射する。ただし、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数が、100kHz以上程度であれば特に好ましい。なお、超音波発生部94は、貯水タンク61内の水中に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてもよい。例えば、図4aに示すように、超音波発生部94が貯水タンク61の底部外側に設置されていてもよい。超音波発生部94が貯水タンク61の底部外側に設置されている場合、超音波は貯水タンク61の底部及び壁面を介して水中に伝達される。また、超音波発生部94の構成は、図2に示す例に限られない。例えば、図4bに示すように、金属ケース97aの上部と金属板96とで板状の圧電セラミックス95を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよい。-給湯システムの運転動作-給湯システム10の基本的な運転動作について図1を参照しながら説明する。この給湯システム10では、浴槽内へ温水を供給する給湯運転と、浴槽内の水を循環させながら加熱する追い炊き運転とが行われる。給湯運転給湯運転では、熱源ユニット30の圧縮機31が運転され、冷媒回路11で冷凍サイクルが行われる。給湯ユニット40では、第1ポンプ43及び第3ポンプ45が運転され、第2ポンプ44及び第4ポンプ48が停止状態となる。また、第1開閉弁46、第2開閉弁47が開放状態となり、第3開閉弁49は閉鎖状態となる。第1ポンプ43が運転されると、給湯タンク41内の水が第1循環流路13へ流出する。この水は、加熱熱交換器32の二次側伝熱部32bを流れる。加熱熱交換器32では、一次側伝熱部32aを流れる冷媒の熱が、二次側伝熱部32bを流れる水へ放出され、この水が所定温度まで加熱される。加熱された水は、第1循環流路13を経由して給湯タンク41内に流入する。これにより、給湯タンク41内部には、所定温度の温水が蓄えられる。第3ポンプ45が運転されると、給湯タンク41内の水温水は、主供給路17に流出し、第1分岐路18と第2分岐路19とに分流する。第1分岐路18を流れた水は、第3循環流路16の供給循環路16aに流入する。この水は、貯水タンク61を通過した後、浴槽U1内へ放出される。これにより、浴槽U1内に所定温度の温水が供給される。一方、第2分岐路19を流れた水は、シャワーU2側に供給される。追い炊き運転追い炊き運転では、熱源ユニット30の圧縮機31が運転され、冷媒回路11で冷凍サイクルが行われる。給湯ユニット40では、第1ポンプ43、第2ポンプ44、及び第4ポンプ48が運転される。また、第1開閉弁46が閉鎖状態となり、第2開閉弁47及び第3開閉弁49が開放状態となる。第1ポンプ43が運転されると、給湯タンク41内の水が第1循環流路13を流れる。これにより、第1循環流路13の水は、加熱熱交換器32で加熱されて給湯タンク41へ返送される。第2ポンプ44が運転されると、給湯タンク41内の水は、第2循環流路14へ流出する。この水は、内部熱交換器42の第1伝熱管42aを流れる。内部熱交換器42では、第1伝熱管42aを流れる水の熱が、第2伝熱管42bを流れる水へ放出される。第1伝熱管42aで放熱した水は、第2循環流路14を経由して給湯タンク41内に流入する。第4ポンプ48が運転されると、浴槽U1の水は第3循環流路16の返送循環路16bへ吸い込まれる。返送循環路16bを流れた水は、内部熱交換器42で加熱された後、貯水タンク61を通過して浴槽U1へ供給される。これにより、浴槽U1内の水の温度が徐々に高くなっていく。-イオン水供給部の運転動作-本実施形態の給湯システム10では、イオン水供給部60が運転されることで、貯水タンク61内で酸性水及びアルカリ水が生成されるとともに、給湯回路12を流れる水の浄化がなされる。第5ポンプ50が運転されると、給湯タンク41内の水は、温水路21を通じて貯水タンク61へ流入する。この水が所定量に達し、上記絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態図2を参照になると、電極ユニット部62が作動する。この作動により、上記電源部70から電極対6465へ所定の直流電圧例えば1kVが印加され、電極対6465の間に電界が形成される。上述したように、上記電極A64の周囲は、絶縁ケーシング71で覆われている。このため、電極対6465の間での漏れ電流が抑制されるとともに、上記絶縁ケーシング71における開口74内の電流経路の電流密度が上昇した状態となる。上記絶縁ケーシング71における開口74内の電流密度が上昇すると、この開口74内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング71では、開口74の近傍において、水の気化が促進されて気泡Bが形成される。この気泡Bは、図4に示すように、開口74のほぼ全域を覆う状態となり、電極B65に導通する負極側の水と、正極側の電極A64との間に気泡Bが介在する。従って、この状態では、気泡Bが、電極A64と電極B65との間での水を介した導電を阻止する抵抗として機能する。これにより、電極A64と電極B65との間の漏れ電流が抑制され、電極対6465間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡B内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。この放電により、電極B65に導通する水から、気泡Bを介して、電極A64に導通する水へ電子が移動する。このように、電子が電極B65から電極A64へ移動するため、貯水タンク61内の水中で電気分解が行われる。上記電極B65では、次式1に示すような反応が行われる。この反応により、第2室S2内で水酸化物イオンOH-が生成される。その結果、PH水素イオン指数が上昇し、第2室S2内でアルカリ水が生成される。4H2O4e-→2H24OH-1一方、上記気泡Bにおける気液界面の近傍では、次式2に示すような反応が行われる。この反応により、第1室S1内で水素イオンHが生成される。その結果、PH水素イオン指数が減少し、第1室S1内で酸性水が生成される。2H2O→O24H4e-2また、以上のように気泡Bで放電が行われると、気泡Bにおける気液界面の近傍すなわち第1室S1内では、水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素等が生成される。さらに、超音波発生部94を作動させて、水中に超音波を照射する。これにより、放電により生成した過酸化水素を分解して、再度、水酸ラジカルに変換する。水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素は、イオン交換膜61aの微細孔を通過して第2室S2にも拡散する。従って、第1室S1で形成される酸性水及び第2室S2で形成されるアルカリ水の双方に、上記活性種や過酸化水素が含まれることになる。なお、水H2O及び過酸化水素H2O2等を含む水中に超音波を照射した場合、水H2Oから直接に水酸ラジカルは生成されないが、過酸化水素H2O2は分解されて水酸ラジカルが生成される。このため、水中の過酸化水素の濃度がある程度高くなった後に、超音波照射を開始することが好ましい。逆に、放電のみを継続すると、水中の過酸化水素の濃度が高くなり過ぎる場合がある。従って、水中の過酸化水素の濃度をモニタすることにより、放電と超音波照射とを制御しながら運転することが好ましい。この好ましい制御方法を、後述の実施形態2において説明する。水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素は、放電に伴う熱によって貯水タンク61内を対流する。これにより、水中での活性種や過酸化水素の拡散が促される。しかも、放電が行われる放電場としての気泡Bは、貯水タンク61の底部寄りに形成されるため、ジュール熱により高温となる気泡B付近の水は、貯水タンク61の底部付近から上昇する一方、貯水タンク61内の水のうち上側にある比較的低温の水は、下方へ移動する。すなわち、貯水タンク61内の水は、上下方向において比較的広範囲に亘って対流するため、水中の活性種や過酸化水素の拡散を更に促すことができる。また、気泡Bで放電が行われると、この放電に伴ってこの気泡Bでイオン風を生成し易くなる。よって、貯水タンク61内では、このイオン風を利用して、活性種や過酸化水素の拡散効果を更に向上できる。また、貯水タンク61には、温水路21からの温水が貯留されている。これにより、貯水タンク61内に比較的温度の低い水が貯留されるような場合と比べて、上記開口74における水の温度が上昇しやすくなる。その結果、気泡Bが発生しやすくなるため、水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素を効率的に生成することができる。-水路開閉機構の運転動作-浴槽U1やシャワーU2へ酸性水を供給する場合、制御部83は、酸性水路開閉弁81が開状態となる信号を酸性水路開閉弁81へ送信し、且つ、アルカリ水路開閉弁82が閉状態となる信号をアルカリ水路開閉弁82へ送信する。これにより、酸性水路開閉弁81が開状態となり且つアルカリ水路開閉弁82が閉状態となるため、貯水タンク61内の酸性水のみが主供給路17へ供給される。この酸性水は、給湯システム10の給湯運転時に、浴槽U1やシャワーU2へ供給される。これにより、殺菌効果を有する酸性水で、浴槽U1、浴室の壁、人体の皮膚表面などを殺菌することができる。一方、浴槽U1やシャワーU2へアルカリ水を供給する場合、制御部83は、酸性水路開閉弁81が閉状態となる信号を酸性水路開閉弁81へ送信し、且つ、アルカリ水路開閉弁82が開状態となる信号をアルカリ水路開閉弁82へ送信する。これにより、酸性水路開閉弁81が閉状態となり且つアルカリ水路開閉弁82が開状態となるため、貯水タンク61内のアルカリ水のみが主供給路17へ供給される。このアルカリ水は、給湯システム10の給湯運転時に、浴槽U1やシャワーU2へ供給される。これにより、洗浄効果を有するアルカリ水で、浴槽U1、浴室の壁、人体の皮膚表面などを洗浄することができる。上述のように水路開閉機構80を切り替えることにより、浴槽U1やシャワーU2に供給される水を、酸性水又はアルカリ水のいずれかに切り替えることができる。従って、目的に応じて、酸性水とアルカリ水とを使い分けることができる。また、浴槽U1やシャワーU2に供給される上記酸性水やアルカリ水は、給湯運転により比較的高温の温水となっている。水道水には、殺菌効果を有する塩素や次亜塩素酸が含まれているものの、これらの塩素や次亜塩素酸は、例えば40°C以上の高温下では分解され易い。そうなると、十分に殺菌されていない水が浴槽U1やシャワーU2へ供給されてしまう虞が生じる。これに対して、実施形態1では、浴槽U1やシャワーU2へ供給される比較的温度の高い酸性水やアルカリ水には、水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素が含まれている。過酸化水素は、例えば40°C以上の条件下で、約1時間経過したとしても、約4程度の濃度しか分解されない。分解されずに残留する過酸化水素は、超音波照射により、過酸化水素よりも殺菌浄化能力が高い水酸ラジカルに変換される。従って、実施形態1における給湯システム10では、浴槽U1やシャワーU2へ供給される水を十分に殺菌浄化することができる。また、実施形態1では、貯水タンク61で貯留される温水中で放電が行われ、水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素が生成される。過酸化水素は、給湯回路12を通じて浴槽U1やシャワーU2に供給される。過酸化水素は、高温条件下では菌に対する活性が高まるため、イオン水供給部60から浴槽U1やシャワーU2へ通じる水路における温水の殺菌効果が向上する。なお、水酸ラジカルは、短時間で過酸化水素に変化するため、貯水タンク61の温水中に生成された水酸ラジカルは、貯水タンク61から給湯回路12を通じて浴槽U1やシャワーU2に供給されるまでの間に、過酸化水素に変化する場合がある。-実施形態1の効果-実施形態1では、貯水タンク61の水中において、電気分解を行い酸性水とアルカリ水とを生成するとともに、放電を行い水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素を生成するようにしている。過酸化水素は、次亜塩素酸と比較して、水温が上昇しても分解されにくい。具体的に、過酸化水素であれば、水温が約40°Cの条件下で約1時間放置されても、約4程度しか濃度が低下しない。さらに、実施形態1では、水中への超音波照射により、過酸化水素を、過酸化水素よりも殺菌浄化能力が高い水酸ラジカルに変換する。このため、上記実施形態1では、貯水タンク61の水温が高温となっても、充分な殺菌効果を得ることができる。更に、実施形態1では、水路開閉機構80を切り替えることにより、十分に殺菌された酸性水又はアルカリ水を、目的に応じて使い分けることができる。実施形態1では、貯水タンク61内に貯留される温水中で放電が行われる。これにより、放電が行われる放電場としての気泡Bが発生しやすくなるため、水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素を効率的に生成することができる。更に、イオン水供給部60から利用対象U1U2へ通じる水路には、過酸化水素を含む温水が流れる。過酸化水素は、高温条件下において菌に対する活性が高まる。従って、イオン水供給部60から利用対象U1U2に至る水路を流れる水の殺菌効果を向上できる。実施形態1では、放電が行われる放電場としての気泡Bが、貯水タンク61の底部付近に形成される。これにより、貯水タンク61内の水が上下方向において広範囲に亘って対流するため、貯水タンク61内の水中において水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素を均一に混合できる。実施形態1の変形例上記実施形態1では、絶縁ケーシング71の蓋部73に1つの開口74が形成されている。しかしながら、例えば図6及び図7に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。この変形例では、絶縁ケーシング71の蓋部73が、略正方形板状に形成され、この蓋部73に複数の開口74が等間隔を置きながら碁盤目状に配列されている。一方、電極A64及び電極B65は、全ての開口74に跨るような正方形板状に形成されている。この変形例においても、各開口74が、電流密度集中部、及び気相形成部として機能する。これにより、電源部70から電極対6465に直流電圧が印加されると、各開口74の電流密度が上昇し、各開口74で気泡Bが形成される。その結果、各気泡Bでそれぞれ放電が生起され、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素が生成される。《発明の実施形態2》実施形態2に係る給湯システム10は、上述した実施形態1と比べて、イオン水供給部60の構成が異なるものである。以下には、上記実施形態1と異なる点を主として説明する。図8に示すように、実施形態2に係るイオン水供給部60は、貯水タンク61と、電気分解を行って酸性水とアルカリ水とを生成するための電気分解ユニット部85と、水浄化ユニット6と、制御部4と、イオン水路63とを備えている。電気分解ユニット部85は、陽極86及び陰極87で構成された電極対8687と、陽極86と陰極87との間に電圧を印加する電源部88とを備えている。陽極86は第1室S1内に配置される一方、陰極87は第2室S2内に配置される。電源部88により陽極86と陰極87との間に電圧が印加されると、貯水タンク61内で電気分解が起こり、第1室S1内では酸性水が、第2室S2内ではアルカリ水が、それぞれ生成される。図9に示すように、水浄化ユニット6は、電極ユニット部62と、貯水タンク61の水中に超音波を照射する超音波発生部94とを有している。水浄化ユニット6は、第1室S1及び第2室S2のそれぞれに配置されている。なお、水浄化ユニット6は、第1室S1及び第2室S2のうち少なくとも一方に配置されていてもよい。-電極ユニット部-図9に示すように、電極ユニット部62は、電極対6465と、この電極対6465に接続され、電圧を印加する高電圧発生部電源部70と、電極A64を内部に収容する絶縁ケーシング71とを備えている。電極対6465は、水中で放電を生起するためのものである。電極A64は、絶縁ケーシング71の内部に配置されている。電極A64は、板状に形成されている。電極A64は、高電圧発生部70に接続されている。電極B65は、絶縁ケーシング71の外部に配置されている。この電極B65は、もう一方の電極A64の上方に設けられている。電極B65は、板状に形成され、且つ上下に複数の貫通孔66を有するメッシュ形状ないしパンチングメタル形状に構成されている。電極B65は、電極A64と略平行に配設されている。電極B65は、高電圧発生部70に接続されている。図8に図示された2つの水浄化ユニット6のうち、一方の水浄化ユニット6を構成する電極ユニット部62が第1室S1に配置され、他方の水浄化ユニット6を構成する電極ユニット部62が第2室S2に配置されている。つまり、第1室S1に配置された電極ユニット部62は、第1室S1内に貯留される酸性水中で放電を行う。一方、第2室S2に配置された電極ユニット部S2は、第2室S2内に貯留されるアルカリ水中で放電を行う。なお、第1室S1に配置される電極ユニット部62の電極対6465間では電気分解が行われるため、電極A64近傍では水素イオンが生成され、電極B65近傍では水酸化物イオンが生成される。しかし、これらの水素イオン及び水酸化物イオンは、第1室S1内で拡散して中和されるため、第1室S1における酸性水の生成にはほとんど寄与しない。同様に、第2室S2に配置される電極ユニット部62でも電気分解が行われて水素イオン及び水酸化物イオンが生成されるが、これらは第2室S2におけるアルカリ水の生成にほとんど寄与しない。-超音波発生部-超音波発生部94の具体的な構成は、実施形態1に係るイオン水供給部60に設けた超音波発生部94と同様である。なお、実施形態2において、酸性水又はアルカリ水を連続して生成する場合は、超音波発生部94を電極対6465よりも酸性水路63a又はアルカリ水路63b側に配置すると良い。これにより、酸性水路63a又はアルカリ水路63b側に向かって流れる酸性水又はアルカリ水に含まれる過酸化水素を、超音波照射により水酸ラジカルに効果的に変換することができる。また、実施形態2においては、水浄化ユニット6を貯水タンク61の底部に配置したが、底部寄りの壁面上に配置してもよい。また、水浄化ユニット6を構成する電極ユニット部62及び超音波発生部94のうち少なくとも電極ユニット部62を貯水タンク61の底部寄りの壁面上に配置してもよい。-制御部-制御部は、高電圧発生部に接続された放電波形発生部3と、電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部1と、増幅器9を介して超音波発生部94に所定の周波数の交流電圧を供給する超音波波形発生部8と、超音波波形発生部8を介して超音波発生部94の動作を制御する制御部5と、貯水タンク61内の水中の過酸化水素濃度をモニタするセンサ7とを備えている。なお、図示しないが、センサ7のモニタ結果に基づいて制御部15を制御する中央演算装置CPUが設けられていてもよい。制御部15による電極ユニット部62及び超音波発生部94の制御方法については、後に説明する。なお、後述のいわゆるフィードフォワード制御を行う場合、センサ7は必ずしも設けられなくてもよい。-運転動作-図10は、実施形態2に係るイオン水供給部60による運転動作の基本サイクルを示す図である。図10に示すように、貯水タンク61内に溜められた水は、まず、電気分解ユニット部85によって電気分解されて、酸性水及びアルカリ水が生成される。生成された酸性水及びアルカリ水は、電極対6465間に生起される放電によって浄化される。この際、放電によって酸性水及びアルカリ水中に水酸ラジカル等の活性種が生成し、有機物等の分解や殺菌などが行われる図10中のステップSt1、St2。水酸ラジカルは短時間で過酸化水素に変化するステップSt3。次に、超音波発生部94から水中へと超音波を伝搬させ、水中の過酸化水素を分解し、水酸ラジカルに変化させるステップSt4。超音波照射により発生した水酸ラジカルは、再度、過酸化水素に変化する。ただし、除菌等、酸性水及びアルカリ水の浄化反応に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は低下して行くことになる。なお、上記の酸性水及びアルカリ水の生成は、1回ごとに貯水タンク61内の水を全て入れ替える、いわゆるバッチ処理によって行ってもよい。あるいは、温水路21から貯水タンク61への注水と貯水タンク61から酸性水路63a又はアルカリ水路63bへの酸性水又はアルカリ水の流出を連続的に行う連続処理によって行ってもよい。以下、放電と超音波処理とを組み合わせたイオン水供給部60の運転制御の具体例について説明する。図11aは、水中の過酸化水素の濃度を用いてフィードバック制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。以下の方法では、水中の過酸化水素はセンサ7によって検知される。まず、第5ポンプ50が運転されると、給湯タンク41内の水は、温水路21を通じて貯水タンク61へ流入する。この水が所定量に達し、電気分解ユニット部85及び上記絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態になると、電気分解ユニット部85が作動するとともに、電極ユニット部62が作動する。電気分解ユニット部85の作動により、電源部88から陽極86と陰極87との間に電圧が印加されると、貯水タンク61内で電気分解が起こり、第1室S1内では酸性水が、第2室S2内ではアルカリ水が、それぞれ生成される。電極ユニット部62の作動により、上記電源部70から電極対6465へ所定の電圧例えば1kVが印加される制御部1により、電極対間に所定の電圧が印加されると、上記絶縁ケーシング71における開口74内の電流経路の電流密度が上昇する。上記絶縁ケーシング71における開口74内の電流密度が上昇すると、この開口74内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング71では、開口74の近傍において、水の気化が促進されて気泡が形成される。この気泡は、開口74のほぼ全域を覆う状態となり、この状態では、気泡が、電極A64と電極B65との間での水を介した導電を阻止する抵抗として機能する。これにより、電極A64と電極B65との間の漏れ電流が抑制され、電極対6465間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。気泡で放電が行われると、気泡における気液界面の近傍では、水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素等が生成される。なお、この段階では、超音波発生部94はオフ状態にしておく。これにより、水酸性水及びアルカリ水が浄化されるとともに、水中の過酸化水素の濃度が上昇する。次いで、水中の過酸化水素濃度があらかじめ設定された下限値を超えた場合、制御部1は電極対6465への電圧供給を継続させ、制御部は、超音波発生部94をオン状態にして水中に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって水が浄化される。放電によって生成される過酸化水素の量は超音波によって分解される過酸化水素の量よりも多いので、この期間中も水中の過酸化水素の濃度は上昇する。次に、水中の過酸化水素濃度があらかじめ設定された上限値を超えた場合、制御部1は電極対6465への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部5は、引き続き超音波発生部94をオン状態にして水中に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって水が浄化される。この期間中、超音波によって過酸化水素が分解されるので、水中の過酸化水素の濃度は減少する。次いで、水中の過酸化水素濃度が上述の下限値を下回った時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を再開する。これにより、水中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間と超音波照射と放電とを組み合わせる期間とを繰り返すことで、水中の過酸化水素濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化する。-実施形態2の効果-実施形態2に係るイオン水供給部60では、電気分解ユニット部85によって、第1室S1内で酸性水が生成され、第2室S2内でアルカリ水が生成される。そして、第1室S1内に設けられた電極ユニット部62によって第1室S1内で水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素が生成され、第1室S1内に設けられた超音波発生部94によって水酸ラジカルが生成される。同様に、第2室S2内に設けられた電極ユニット部62によって第2室S2内で水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素が生成され、第2室S2内に設けられた超音波発生部94によって水酸ラジカルが生成される。水酸ラジカル等の活性種及び過酸化水素によって、浴槽U1やシャワーU2に供給される温水が十分に殺菌浄化される。さらに、実施形態2の制御方法によれば、制御部1は、運転動作の開始後に水中の過酸化水素濃度が上限値に達するまでは放電を生起させて水酸ラジカルを発生させ、水を浄化することができる。また、制御部5は、水中の過酸化水素濃度が所定の下限値を超える期間中に超音波発生部94をオン状態にする、言い換えれば、過酸化水素濃度が所定の下限値を下回る期間中には超音波発生部94をオフ状態にする。つまり、水中に十分な過酸化水素が存在する場合に超音波によって水酸ラジカルを発生させるので、水を効果的に浄化することができる。さらに、十分な濃度の過酸化水素の存在下で超音波を継続的に照射することで、継続的に水酸ラジカルを生成することができるので、強い浄化能力を所定の期間中維持することができる。さらに、上述の方法によれば、貯水タンク61からイオン水路63へと供給される水中の過酸化水素の濃度を上限値以下に抑えることができるので、過酸化水素を除去するための工程を容易にすることができる。実施形態2に係るイオン水供給部60によれば、上述のように、水中での放電と、水中への超音波照射とを組み合わせることで、水中の過酸化水素濃度を上昇させずに浄化能力の向上を図ることが可能になる。また、図9では、電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部1と、超音波発生部94の動作を制御する制御部5とを別個に設けたが、1つの制御部で電極対6465に印加する電圧のオン又はオフと超音波発生部94の動作とを制御することもできる。なお、実施形態2に係るイオン水供給部60では、放電及び超音波照射によって生じる水酸ラジカルによって、水の浄化処理と同時に貯水タンク61内に繁殖する細菌等を効果的に殺菌することもできる。以下、実施形態2の変形例1に係るイオン水供給部の運転動作について説明する。図11bは、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いてフィードフォワード制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。フィードフォワード制御が行われるイオン水供給部には、必ずしもセンサ7が設けられていなくてもよい。ただし、放電のみを行った場合に貯水タンク61内の水中の過酸化水素濃度が0から下限値に達するまでに要する時間T1、放電と超音波照射とを同時に行った場合に水中の過酸化水素濃度が下限値から上限値になるまでに要する時間T2、超音波照射のみを行った場合に上限値から下限値に達するのに要する時間T3を、それぞれあらかじめ測定しておき、それらの測定データを制御部15内部又は外部に設けられたメモリ図示せずに記憶させておく。制御部15は測定データに基づいて以下の制御を行う。制御部15の内部又は外部には、時間をカウントするタイマを設けておく。本変形例に係る制御方法において、まず制御部1は、電極対間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部94はオフ状態にしておく。これにより、水が浄化されるとともに、水中の過酸化水素の濃度が上昇する。次いで、運転開始から時間T1が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を継続させ、制御部は、超音波発生部94をオン状態にして水中に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって水が浄化される。この期間中も水中の過酸化水素の濃度は上昇する。次に、時間T2が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部5は、引き続き超音波発生部94をオン状態にして水中に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって水が浄化される。この期間中、水中の過酸化水素の濃度は減少する。次いで、さらに時間T3が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を再開し、この状態を時間T2の間継続する。これにより、水中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間時間T3と超音波照射と放電とを組み合わせる期間時間T2とを繰り返すことで、水中の過酸化水素濃度を下限値以上且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化する。以上の制御方法によっても水中の過酸化水素の濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化することができる。なお、これは運転動作の一変形例であって、他の方法によっても水の浄化を行うことができる。《発明の実施形態3》図12は、本発明の実施形態3に係るイオン水供給部を構成する水浄化ユニット6を示す断面図である。図12では、実施形態2に係る水浄化ユニット6と同様の構成については図9と同じ符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図12では図示を省略しているが、実際には本実施形態に係るイオン水供給部に設けられている。以下では、主に実施形態2に係る水浄化ユニット6と異なる点について説明する。本実施形態に係る水浄化ユニット6は、貯水タンク61内に配置された電極対64x65xと、電極対64x65xに接続された高電圧発生部電源部70aと、貯水タンク61の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。電極64xは絶縁ケーシング71aの内部に収納され、電極65xは絶縁ケーシング71bの内部に収納されている。電極64x及び電極65xは、それぞれ板状に形成されている。また、電極64x及び電極65xは耐腐食性が高い導電性の金属材料で構成されている。高電圧発生部70aは、数キロボルト程度の電圧を電極対64x65xに供給する。絶縁ケーシング71a71bは、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されており、図2に示す絶縁ケーシング71と同様の構成を有している。すなわち、絶縁ケーシング71aは、一面図12では右側の面が開放された容器状のケース本体180aと、該ケース本体180aの開放部を閉塞する板状の蓋部73aとを有している。また、絶縁ケーシング71bは、一面図12では左側の面が開放された容器状のケース本体180bと、該ケース本体180bの開放部を閉塞する板状の蓋部73bとを有している。絶縁ケーシング71aの蓋部73aには、該蓋部73aを厚さ方向に貫通する1つの開口74aが形成されている。絶縁ケーシング71bの蓋部73bにも、該蓋部73bを厚さ方向に貫通する1つの開口74bが形成されている。これらの開口74a74bにより、電極64xと電極65xとの間の電界の形成が許容されている。開口74a74bの内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口74a74bは、電極対64x65xの間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。絶縁ケーシング71a71bは、貯水タンク61内に、蓋部73a73b同士が対向するように設置されている。言い換えれば、電極64xと電極65xとは互いに対向するよう配置されている。絶縁ケーシング71a71bの開口74a74b内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡が形成される。つまり、絶縁ケーシング71a71bの開口74a74bは、該開口74a74bに気相部としての気泡を形成する気相形成部として機能する。この構成により、電圧が電極対64x65xに供給された場合に電極対64x65x間の気泡内に放電を生起させることができる。なお、超音波発生部94の具体的な構成は、実施形態1に係るイオン水供給部60に設けた超音波発生部94と同様である。-実施形態3の効果-本実施形態に係るイオン水供給部を、図11a又はbに示す制御方法で運転することにより、水中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、貯水タンク61内の水を効果的に浄化することができる。《発明の実施形態4》図13は、本発明の実施形態4に係るイオン水供給部を構成する水浄化ユニット6を示す断面図である。図13では、実施形態2に係る水浄化ユニット6と同様の構成については図9と同じ符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図13では図示を省略しているが、実際には本実施形態に係るイオン水供給部に設けられている。以下では、主に実施形態2に係る水浄化ユニット6と異なる点について説明する。実施形態4に係る水浄化ユニット6は、貯水タンク61内に配置された電極対6465と、電極対6465に接続された高電圧発生部電源部70bと、貯水タンク61の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。実施形態4に係る水浄化ユニット6においては、電極A64及び電極B65がそれぞれ高電圧発生部70bの正極側及び負極側にそれぞれ接続され、高電圧発生部70bから電極対6465に高電圧のパルス電圧が供給される。また、電極A64を囲む絶縁ケーシングは設けられない。電極A64及び電極B65は共に板状に形成され、貯水タンク61内に、互いに対向するように設置される。さらに、水浄化ユニット6には、例えば貯水タンク61の底部など、少なくとも電極対6465の間であって、電極対6465よりも低い位置に設けられたノズル吐出手段119と、ノズル119に空気等の気体を送るエアポンプ送出手段99とが設けられている。エアポンプ99によって貯水タンク61内の気体は、ノズル119を介して循環される。ただし、エアポンプ99によって貯水タンク61内に外部から気体を供給してもよい。超音波発生部94の具体的な構成は、実施形態1に係るイオン水供給部60に設けた超音波発生部94と同様である。超音波発生部94は、貯水タンク61の底部に設置されていてもよいが、貯水タンク61内の水中に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。少なくとも放電処理を行う期間中、ノズル119から水中へと泡が吐出される。水中に泡が存在する状態で電極対6465にパルス電圧を供給することにより、泡の内部で放電が生起され、水酸ラジカルが生成する。本実施形態に係るイオン水供給部では、実施形態2に係るイオン水供給部60と基本的に同じ制御方法、すなわち図11a又はbに示す制御方法で、放電と超音波照射とを組み合わせた水酸性水及びアルカリ水の浄化が行われる。ただし、図11a及びbに示す放電処理の期間中は、高電圧発生部70bから電極対6465へとパルス電圧が間欠的に供給され、電極対6465間に間欠的に放電が生起される。-実施形態4の効果-以上の構成及び方法によれば、電極対6465間にパルス放電を発生させる場合でも効率良く水酸ラジカルを発生させることができるので、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。《発明の実施形態5》図14は、本発明の実施形態5に係るイオン水供給部を構成する水浄化ユニット6を示す断面図である。図14では、実施形態2及び実施形態3に係る水浄化ユニット6と同様の構成については図9及び図12と同じ符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図14では図示を省略しているが、実際には本実施形態に係るイオン水供給部に設けられている。以下では、主に実施形態3に係るイオン水供給部と異なる点について説明する。本実施形態に係る水浄化ユニット6は、貯水タンク61内に配置された電極対64y65yと、電極対64y65yに接続された高電圧発生部電源部70cと、貯水タンク61の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。電極64yと電極65yとは、それぞれ貯水タンク61内に、互いに対向するように設置されている。電極64yは、少なくとも1つの導電部164と、導電部164を囲む絶縁部165とを有している。電極65yは、少なくとも1つの導電部166と、導電部166を囲む絶縁部167とを有している。以上のように、電極64yにおける導電部164の露出面、及び電極65yにおける導電部166の露出面の面積は小さいので、電圧を電極対64y65yに供給した場合には導電部164166の表面で電流密度の集中部が形成される。そのため、導電部164166の表面では水がジュール熱によって気化して気泡が形成される。この泡によって導電部164166の露出面が覆われた状態で高電圧発生部70cからの電圧供給を継続することにより、泡の内部で放電が生起される。なお、超音波発生部94の具体的な構成は、実施形態1に係るイオン水供給部60に設けた超音波発生部94と同様である。-実施形態5の効果-本実施形態に係るイオン水供給部を、図11a又はbに示す制御方法で運転することにより、水中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、貯水タンク61内の水を効果的に浄化することができる。以上の構成によっても、電極対64y65y間での放電と、超音波照射と組み合わせることで、水中の過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。実施形態2の変形例2実施形態2の変形例2は、上記実施形態2と、電極ユニット部の構成が異なるものである。以下には、上記実施形態2と異なる点を主として説明する。図15に示すように、実施形態2の変形例2における電極ユニット部62は、貯水タンク61の外側から内部に向かって挿入されて固定される、いわゆるフランジユニット式に構成されている。また、電極ユニット部62は、電極A64と電極B65と絶縁ケーシング71とが一体的に組立てられている。この電極ユニット部62は、図16に示すように、貯水タンク61における第1室S1側の底部と、第2室S2側の底部とに取り付けられている。なお、図16では、放電波形発生部3、制御部1及びセンサ7は図示を省略しているが、実際には本変形例に係るイオン水供給部に設けられている。絶縁ケーシング71は、大略の外形が円筒状に形成されている。絶縁ケーシング71は、ケース本体72と蓋部73とを有している。ケース本体72は、ガラス質又は樹脂製の絶縁材料で構成されている。ケース本体72は、円筒状の基部76と、該基部76から貯水タンク61側に向かって突出する筒状壁部77と、該筒状壁部77の外縁部から更に貯水タンク61側に向かって突出する環状凸部78とを有している。また、ケース本体72には、環状凸部78の先端側に先端筒部79が一体に形成されている。基部76の軸心部には、円柱状の挿入口76aが軸方向に延びて貫通形成されている。筒状壁部77の内側には、挿入口76aと同軸となり、且つ挿入口76aよりも大径となる円柱状の空間Sが形成されている。蓋部73は、略円板状に形成されて環状凸部78の内側に嵌合している。蓋部73は、セラミックス材料で構成されている。蓋部73の軸心には、実施形態1と同様、蓋部73を上下に貫通する円形状の1つの開口74が形成されている。電極A64は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極で構成されている。電極A64は、基部76の挿入口76aに嵌合している。これにより、電極A64は、絶縁ケーシング71の内部に収容されている。実施形態2の変形例2では、電極A64のうち貯水タンク61とは反対側の端部が、貯水タンク61の外部に露出される状態となる。このため、貯水タンク61の外部に配置される電源部70と、電極A64とを電気配線によって容易に接続することができる。電極A64のうち貯水タンク61側の端部64aは、絶縁ケーシング71の内部の空間Sに臨んでいる。なお、図15に示す例では、電極A64の端部64aが、挿入口76aの開口面よりも上側貯水タンク61側に突出しているが、この端部64aの先端面を挿入口76aの開口面と略面一としてもよいし、端部64aを挿入口76aの開口面よりも下側に陥没させてもよい。また、電極A64は、実施形態1と同様、開口74を有する蓋部73との間に所定の間隔が確保されている。電極B65は、円筒状の電極本体65aと、該電極本体65aから径方向外方へ突出する鍔部65bとを有している。電極本体65aは、絶縁ケーシング71のケース本体72に外嵌している。鍔部65bは、貯水タンク61の壁部に固定されて電極ユニット部62を保持する固定部を構成している。電極ユニット部62が貯水タンク61に固定された状態では、電極B65の電極本体65aの一部が浸水された状態となる。電極B65は、電極本体65aよりも小径の内側筒部65cと、該内側筒部65cと電極本体65aとの間に亘って形成される連接部65dとを有している。内側筒部65c及び連接部65dは、貯水タンク61内の水中に浸漬している。内側筒部65cは、その内部に円柱空間67を形成している。内側筒部65cの軸方向の一端は、蓋部73と当接して該蓋部73を保持する保持部を構成している。また、電極本体65aと内側筒部65cと連接部65dの間には、ケース本体72の先端筒部79が内嵌している。内側筒部65cの軸方向の他端側には、円柱空間67を覆うようにメッシュ状の漏電防止材68が設けられている。この漏電防止材68は、電極B65と接触することで、実質的にアースされている。これにより、漏電防止材68は、貯水タンク61の内部の空間水中のうち、円柱空間67の内側から外側への漏電を防止している。電極B65は、電極本体65aの一部が貯水タンク61の外部に露出される状態となる。このため、電源部70と電極B65とを電気配線によって容易に接続することができる。-イオン水供給部の運転動作-実施形態2の変形例2の給湯システム10においても、イオン水供給部60が運転されることで、給湯回路12を流れる水の浄化がなされる。イオン水供給部60の運転の開始時には、図15に示すように、2つの電極ユニット部62は、ともに絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。電源部70から電極対6465に所定の直流電圧例えば1kVが印加されると、開口74の内部の電流密度が上昇していく。図15に示す状態から、電極対6465へ更に直流電圧が継続して印加されると、図17に示すように、開口74内の水が気化されて気泡Bが形成される。この状態では、気泡Bが開口74のほぼ全域を覆う状態となり、円柱空間67内の負極側の水と、電極A64との間に気泡Bによる抵抗が付与される。これにより、電極A64と電極B65との間の電位差が保たれ、気泡Bで放電が発生する。その結果、第1室S1に設けられた電極ユニット部62は、第1室S1内に貯留される酸性水中で水酸ラジカルや過酸化水素を生成し、第2室S2に設けられた電極ユニット部62は、第2室S2内に貯留されるアルカリ水中で水酸ラジカルや過酸化水素を生成する。さらに、超音波発生部94を作動させて、水中に超音波を照射する。これにより、放電により生成した水酸ラジカルが変化して生成される過酸化水素を分解して、再度、水酸ラジカルに変換する。水酸ラジカル及び過酸化水素等の成分が水の浄化に利用される。なお、上記実施形態2の変形例2において、円板状の蓋部73の軸心に1つの開口74を形成しているが、この蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。図18に示す例では、蓋部73の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、5つの開口74が等間隔置きに配列されている。このように蓋部73に複数の開口74を形成することで、各開口74の近傍でそれぞれ放電を生起させることができる。《その他の実施形態》上述した実施形態においては、以下のような他の構成とすることもできる。給湯システムの構成上記実施形態の給湯システム10を図19に示すような、他の方式としてもよい。具体的に、図19に示す例の給湯システム10は、加熱熱交換器32と第1ポンプ43とが、熱源ユニット30や給湯ユニット40と異なるユニットハイドロボックス30aに収容されている。また、この例では、給湯タンク41の内部に、コイル型熱交換器13aが収容されている。コイル型熱交換器13aは、給湯タンク41の底壁部41c寄りに配設されている。コイル型熱交換器13aでは、熱媒体としての水が流れる伝熱管が、給湯タンク41の周壁部41aに沿うように螺旋状に形成されている。コイル型熱交換器13aは、一端が第1循環流路13の始端に接続し、他端が第1循環流路13の終端に接続している。図19に示す給湯システム10では、加熱熱交換器32で加熱された水が、コイル型熱交換器13aを流れる。これにより、コイル型熱交換器13aの伝熱管を流れる水の熱が、伝熱管の外部へ放出される。その結果、給湯タンク41内に貯留された水が加熱され、温水が生成される。電極ユニット部の構成上述した実施形態1の電源部70には、放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部を用いている。しかしながら、定電力制御部に代えて、放電時の放電電流を一定に制御する定電流制御部を設けることもできる。この定電流制御を行うと、水の導電率によらず放電が安定するため、スパークの発生も未然に回避できる。また、上述した実施形態1では、電源部70の正極に電極A64を接続し、電源部70の負極に電極B65を接続している。しかしながら、電源部70の負極に電極A64を接続し、電源部70の正極に電極B65を接続することで、電極対6465の間で、いわゆるマイナス放電を行うようにしてもよい。イオン水供給部の配置上記各実施形態では、イオン水供給部60を主供給路17に接続しているが、この限りでなく、例えば図20に示すように、イオン水供給部60を第3循環流路16に接続してもよい。これにより、給湯運転時だけでなく、追い炊き運転時であっても、浴槽U1に過酸化水素を含む酸性水又はアルカリ水を供給できる。イオン交換膜上記各実施形態では、貯水タンク61内の空間を、イオン交換膜61aによって第1室S1と第2室S2とに区画しているが、この限りでなく、例えば、イオン交換膜61aの代わりに、板状に形成された絶縁性の仕切板を用いても良い。この場合、仕切板に、第1室S1と第2室S2とを連通させるための少なくとも1つの開口を設ければ良い。これにより、該開口を介して電極対6465間に電流経路が形成されるため、放電や電気分解が行われる。更に、イオン交換膜61aや仕切板が設けられていなくても良い。イオン交換膜61aや仕切板を設けなくとも、陽極としての電極A64付近では酸性水が生成され、陰極としての電極B65付近ではアルカリ水が生成される。