"所定のライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第1の記録工程と、上記第1の記録工程により上記ディスク原盤に対して記録された信号についての信号品質の評価指標となる評価値の測定を行う第1の評価値測定工程と、上記第1の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第1のディスク作成工程と、上記第1のディスク作成工程により作成した光ディスク記録媒体の記録信号について上記評価値の測定を行う第2の評価値測定工程と、上記第1の評価値測定工程により測定した評価値と上記第2の評価値測定工程により測定した評価値との差分に基づいて、上記ディスク原盤についての上記評価値の目標値を計算する目標値計算工程と、上記ディスク原盤についての評価値が上記目標値に一致するように上記第1の記録工程で設定したライトストラテジを調整し、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行う第1のストラテジ調整工程とを有する原盤ストラテジ調整方法。上記ディスク原盤に対する記録をPTMPhaseTransitionMastering方式により行う請求項1に記載の原盤ストラテジ調整方法。上記評価値は、対象とする符号長ごとに測定するものとされており、少なくとも上記ディスク原盤についての評価値を符号長ごとに測定するにあっては、各符号長の分別を、予め記憶された上記ディスク原盤に記録されるべき記録符号パターンを上記ディスク原盤からの再生信号と同期させた上で、当該同期させた上記記録符号パターンに基づいて行う請求項2に記載の原盤ストラテジ調整方法。上記記録符号パターンの上記再生信号に対する同期は、上記記録符号パターンと上記再生信号とに含まれる各符号長のうち、符号長分布の重なりの無い所定長以上の符号長の一致を見て行う請求項3に記載の原盤ストラテジ調整方法。上記第1のストラテジ調整工程により求まったライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第2の記録工程と、上記第2の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第2のディスク作成工程と、上記第2のディスク作成工程により作成した光ディスク記録媒体の記録信号について上記評価値の測定を行う第3の評価値測定工程とをさらに有する請求項4に記載の原盤ストラテジ調整方法。上記第3の評価値測定工程で測定した評価値とその理想値との差に基づいて、上記目標値の修正を行う目標値修正工程と、上記目標値修正工程で修正した上記目標値に、上記ディスク原盤についての評価値が一致するように、上記第1のライトストラテジ調整工程で求まった上記ライトストラテジを調整し、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記修正後の目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行う第2のストラテジ調整工程とをさらに有する請求項5に記載の原盤ストラテジ調整方法。所定のライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第1の記録工程と、上記第1の記録工程により上記ディスク原盤に対して記録された信号についての信号品質の評価指標となる評価値の測定を行う第1の評価値測定工程と、上記第1の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第1のディスク作成工程と、上記第1のディスク作成工程により作成した光ディスク記録媒体の記録信号について上記評価値の測定を行う第2の評価値測定工程と、上記第1の評価値測定工程により測定した評価値と上記第2の評価値測定工程により測定した評価値との差分に基づいて、上記ディスク原盤についての上記評価値の目標値を計算する目標値計算工程と、上記ディスク原盤についての評価値が上記目標値に一致するように上記第1の記録工程で設定したライトストラテジを調整し、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行う第1のストラテジ調整工程と、上記判別により肯定結果が得られたときに設定されていたライトストラテジに基づくストラテジ設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第3の記録工程と、上記第3の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第3のディスク作成工程とを有するディスク製造方法。しかしながら、上記手法によるストラテジ調整とした場合には、都度、光ディスクの作成を行うため、ストラテジ調整のための作業効率が著しく悪化することとなる。また、ストラテジ調整のために、製品として用いることのできない光ディスクを大量に作成しなければならない虞があり、原盤、スタンパ、及び光ディスクの作成に係る材料の無駄な消費を助長することとなる。本技術はかかる問題点に鑑み為されたもので、最終製品としての光ディスクの品質低下の防止を図りつつ、ストラテジ調整のための無駄な光ディスクの作成回数の削減を図ることで、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費の防止を図ることをその課題とする。上記課題の解決のため、原盤ストラテジ調整方法として以下に掲げるものを提案する。すなわち、所定のライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第1の記録工程を有するまた、上記第1の記録工程により上記ディスク原盤に対して記録された信号についての信号品質の評価指標となる評価値の測定を行う第1の評価値測定工程を有する。また、上記第1の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第1のディスク作成工程を有する。また、上記第1のディスク作成工程により作成した光ディスク記録媒体の記録信号について上記評価値の測定を行う第2の評価値測定工程を有する。また、上記第1の評価値測定工程により測定した評価値と上記第2の評価値測定工程により測定した評価値との差分に基づいて、上記ディスク原盤についての上記評価値の目標値を計算する目標値計算工程を有する。さらに、上記ディスク原盤についての評価値が上記目標値に一致するように上記第1の記録工程で設定したライトストラテジを調整し、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行う第1のストラテジ調整工程を有するものである。また、ディスク製造方法として以下のものを提案する。つまり、所定のライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第1の記録工程を有する。また、上記第1の記録工程により上記ディスク原盤に対して記録された信号についての信号品質の評価指標となる評価値の測定を行う第1の評価値測定工程を有する。また、上記第1の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第1のディスク作成工程を有する。また、上記第1のディスク作成工程により作成した光ディスク記録媒体の記録信号について上記評価値の測定を行う第2の評価値測定工程を有する。また、上記第1の評価値測定工程により測定した評価値と上記第2の評価値測定工程により測定した評価値との差分に基づいて、上記ディスク原盤についての上記評価値の目標値を計算する目標値計算工程を有する。また、上記ディスク原盤についての評価値が上記目標値に一致するように上記第1の記録工程で設定したライトストラテジを調整し、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行う第1のストラテジ調整工程を有する。さらに、上記判別により肯定結果が得られたときに設定されていたライトストラテジに基づくストラテジ設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第3の記録工程と、上記第3の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第3のディスク作成工程とを有するものである。上記のように本技術では、所定のストラテジ設定により記録を行ったディスク原盤について評価値の測定を行う第1の評価値測定工程と共に、この記録を行ったディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を一旦作成し第1のディスク作成工程、当該光ディスク記録媒体についての評価値測定を行うものとしている第2の評価値測定工程。そして、これら原盤についての測定値と光ディスク記録媒体の測定値と差分に基づいて、ディスク原盤についての評価値の目標値を計算するものとしている目標値計算工程。その上で、ディスク原盤についての評価値が当該目標値に一致するように原盤ストラテジの調整を行い、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行うものとしている第1のストラテジ調整工程。このように一旦光ディスク記録媒体の作成までを行って原盤の評価値と光ディスク記録媒体の評価値との差分から原盤評価値の目標値を計算した上で、当該目標値に評価値を一致させるように原盤ストラテジの調整原盤記録信号についての評価値を上記目標値に追い込むストラテジ調整を行う、という手法を採ることで、ストラテジ調整にあたって必要となる光ディスク記録媒体の作成回数は、少なくとも1回に抑えることができる。つまり、ストラテジ調整のための無駄な光ディスク記録媒体の作成回数の削減を図ることで、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費の防止を図ることができる。このとき、ストラテジの調整は実際に作成した光ディスク記録媒体の評価値を反映して行われるので、その分、光ディスク記録媒体の信号品質は高めることができる。本技術によれば、最終製品としての光ディスク記録媒体の品質低下の防止を図りつつ、ストラテジ調整のための無駄な光ディスク記録媒体の作成回数の削減を図ることで、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費防止を図ることができる。以下、本技術に係る実施の形態について説明していく。なお、説明は以下の順で行う。[1.ディスク製造工程について][2.原盤記録装置の構成例][3.実施の形態のストラテジ調整の概要][4.原盤評価値の信頼性向上について][5.確認処理について][6.具体的なストラテジ調整手法][7.変形例][1.ディスク製造工程について]先ずは図1により、光ディスク記録媒体の製造工程について説明しておく。図1において、光ディスク記録媒体を製造する工程としては、原盤製造工程、記録工程露光工程、現像工程、金型スタンパ作製工程、記録媒体生成工程に大別することができる。なお、本明細書において言う光ディスク記録媒体とは、光の照射によって記録情報が読み出されるディスク状の記録媒体を指すものである。以下、光ディスク記録媒体については単に光ディスクとも表記する。図1aは、光ディスク原盤以下、単にディスク原盤又は原盤とも表記を構成する原盤形成基板100を示している。先ず、この原盤形成基板100の上に、スパッタリング法により無機系のレジスト材料からなる無機レジスト層101を均一に成膜するレジスト層形成工程、図1b。これによって、先ずは無機レジスト原盤102記録前原盤を生成する。本例では、ディスク原盤を製造するマスタリング工程として、無機系のレジスト材料を用いたPTM方式のマスタリングを行う。このとき、レジスト層101に提供される材料としては、遷移金属の不完全酸化物が用いられる。具体的な遷移金属としては、例えばTi、V、Cr、Mn、Fe、Nb、Cu、Ni、Co、Mo、Ta、W、Zr、Ru、Ag等が挙げられる。なお、レジスト層101の具体的な材料としては、いわゆる熱記録を可能とするものレーザ光照射に伴う熱反応により感光するものであれば特に限定されるものではない。ここで、無機レジスト層101の露光感度の改善のために基板100とレジスト層101との間に所定の中間層99を形成しても良く、図1bではその状態を示している。何れにしても、レジスト層101としては、露光時のレーザ光照射に応じて感光できるように、基板100の上層において外部に表出するようにして成膜されればよい。また、この場合、原盤形成基板100としては例えばSiウエハ基板を用い、上記レジスト層101の成膜は、スパッタリングにより行う。この場合、成膜方法としてはDC又はRFスパッタを用いる。次に、レジスト層101に信号パターンに対応した選択的な露光を施し感光させるレジスト層露光工程、図1c。なお、この露光工程記録工程は、後述する原盤記録装置1を利用して行われるものとなる。そして、レジスト層101を現像することによって、所定の凹凸パターンが形成されたディスク原盤103以下、現像済原盤103とも表記を生成するレジスト層現像工程、図1d。当該レジスト層現像工程において、具体的な現像手法としては、浸漬によるディッピング法、或いは、スピナーにて回転させた原盤102に薬液を塗布するなどの手法を挙げることができる。現像液については、例えばTMAH水酸化テトラメチルアンモニウム等の有機アルカリ現像液、KOHNaOH、燐酸系等の無機アルカリ現像液などを用いる。続いて、上記のように生成した現像済原盤103を水洗い後、電鋳槽にてメタル原盤を作製する電鋳工程、図1e。そしてこの電鋳後、現像済原盤103とメタル原盤とを剥離することで、現像済原盤103の凹凸パターンが転写された成型用のスタンパ104を得る図1f。この場合、上記メタル原盤スタンパ104の材料としてはNiを用いる。ここで、図1eの電鋳工程を行う前に、現像済原盤103の表面の離形処理を行って離型性を改善することも可能であり、必要に応じて行う。離型性の改善は、例えば現像済原盤103に対して以下に示す何れかの処理を施すことで行えばよい。140~60°Cに加温したアルカリ液に数分浸漬する。240~60°Cに加温した電解アルカリ液に数分浸漬したまま電解酸化させる。3RIEなどを用いて酸化膜を形成する。4成膜装置を用いて金属酸化膜を成膜する。或いは、離型性の改善は、予め無機レジスト材料として、メタル原盤に対してより離型しやすい酸素組成比率を持つ組成の材料を選定することでも実現できる。なお、スタンパ104を作製後、現像済原盤103は水洗乾燥状態で保管しておき、必要に応じて所望枚数のスタンパ104を繰り返し作製する。続いて、スタンパ104を用いて、射出成型法によって熱可塑性樹脂であるポリカーボネートからなる樹脂製ディスク基板105を成形する図1g。その後、スタンパ104を剥離し図1h、樹脂製ディスク基板105の凹凸面にAg合金などの反射膜106図1iと、膜厚0.1mm程度の保護膜107とを成膜することにより、光ディスクを生成する図1j。すなわちこれにより、凹凸パターンにより情報が記憶された光ディスク記録媒体が得られる。[2.原盤記録装置の構成例]PTM方式でマスタリングを行う本例の原盤記録装置1の構成例を図2に示す。この原盤記録装置1は、マスタリング工程において、無機レジスト層101を形成した記録前原盤102に対しレーザ光照射による熱記録動作により記録マークの形成を行う。図2において、原盤記録装置1には、ピックアップヘッド10として、一点鎖線部で示す構成を備える。ピックアップヘッド10内において、半導体レーザとしてのレーザ光源11は、製造すべき光ディスク記録媒体の種別に応じた波長が設定される。本例の場合、BDに対応した405nm程度の波長が設定される。レーザ光源11から出射したレーザ光は、コリメータレンズ12で平行光となるようにされた後、アナモルフィックプリズム13でスポット形状が例えば円形に変形され、偏光ビームスプリッタ14に導かれる。そして偏光ビームスプリッタ14を透過した偏光成分は、λ/4波長板15,ビームエキスパンダ16を介して対物レンズ17に導かれ、この対物レンズ17で集光されて無機レジスト原盤102上に照射される。上記のように対物レンズ17を介して原盤102に照射されるレーザ光は、当該原盤102における無機レジスト層101上で焦点を結ぶことになる。無機レジスト層101はレーザビームを吸収することで、照射部の特に中心付近の高温に加熱された部分で多結晶化が生じる。この作用により、露光パターンが無機レジスト層101上に形成されていく。偏光ビームスプリッタ14において反射されたレーザ光は、モニタディテクタ19レーザパワーモニタ用のフォトディテクタに照射される。モニタディテクタ19は、レーザ光の受光光量光強度に応じた光強度モニタ信号SMを出力する。一方、無機レジスト原盤102に照射されたレーザ光の戻り光は、対物レンズ17、ビームエキスパンダ16、λ/4波長板15を通過して偏光ビームスプリッタ14に達する。ここで、先に特許文献1を挙げて説明したように、PTM方式を採用する場合は、無機レジスト層101において露光部分が変形することで、露光部分と非露光部分との差による記録信号を読み出すことが可能となる。すなわち、現像前の段階で記録信号の読み出しが可能となるものである。ここで、上記のように偏光ビームスプリッタ14に達するレーザ光の戻り光は、λ/4波長板15を往路と復路で2回通過していることで偏光面が90°回転されており、偏光ビームスプリッタ14で反射されることになる。偏光ビームスプリッタ14で反射された戻り光は集光レンズ20、シリンドリカルレンズ21を介してフォトディテクタ22の受光面に受光される。フォトディテクタ22の受光面は、例えば4分割受光面を備え、非点収差によるフォーカスエラー信号を得ることができるようにされている。フォトディテクタ22の各受光面では、受光光量に応じた電流信号を出力して反射光演算回路23に供給する。反射光演算回路23は、4分割の各受光面からの電流信号を電圧信号に変換すると共に、非点収差法としての演算処理を行ってフォーカスエラー信号FEを生成する。また、和信号としてのRF信号原盤102の記録信号についての再生信号も生成する。図のようにフォーカスエラー信号FEはフォーカス制御回路24に供給され、RF信号は後述する評価部25に供給される。フォーカス制御回路24は、フォーカスエラー信号FEに基づいて、対物レンズ17をフォーカス方向に移動可能に保持しているアクチュエータ18のサーボ駆動信号FSを生成する。そしてアクチュエータ18がサーボ駆動信号FSに基づいて、対物レンズ17を無機レジスト原盤102に対して接離する方向に駆動することで、フォーカスサーボが実行される。無機レジスト原盤102は、スピンドルモータ8によって回転駆動される。スピンドルモータ8は、スピンドルサーボ/ドライバ5によって回転速度が制御されながら回転駆動される。これによって無機レジスト原盤102は例えば一定線速度で回転される。スライダ7は、スライドドライバ6によって駆動され、無機レジスト原盤102が積載された、スピンドル機構を含む基台全体を移動させる。すなわち、スピンドルモータ8で回転されている状態の無機レジスト原盤102は、スライダ7で半径方向に移動されながら上記光学系によって露光されていくことで、無機レジスト層101に形成される溝部ピット列:トラックがスパイラル状に形成されていくことになる。スライダ7による移動位置、すなわち無機レジスト原盤102の露光位置ディスク半径位置:スライダ半径位置はセンサ9によって検出される。センサ9による位置検出情報SSは後述するコントローラ2に供給される。評価部25は、RF信号に基づき、原盤102の記録信号についての信号品質の評価指標となる所定の評価値を測定する。ここで、本例の場合、上記評価値としては、記録信号中のピットとなるべき部分現像により凹部となる部分の長さ、及びその位置についての評価指標となる値を測定する。具体的には、ピット部のリーディングエッジ前方エッジ位置、トレーリングエッジ後方エッジ位置についての評価値の測定を少なくとも行う。またこれらの評価値は、各ピット長符号長ごとに個別に分類して行う。評価部25にて符号長ごとに個別に計算された評価値は、コントローラ2に供給される。コントローラ2は例えばマイクロコンピュータで構成され、原盤記録装置1の全体制御を行う。例えば、スピンドルサーボ/ドライバ5に対するスピンドル回転動作制御、スライドドライバ6によるスライダ7の移動動作の制御等を行うことで、原盤102上での記録位置の制御を行う。また特に本例の場合、図中の表示部27に評価部25による評価値の測定結果等を表す画像表示を実行させたり、また、操作部26からの操作入力情報に基づき、ユーザ作業員からの指示に基づくライトストラテジの設定処理も行う。記録波形生成部3は、入力データに対する所定の記録変調符号化処理を行って記録変調符号列を得ると共に、当該記録変調符号列に応じた記録波形の生成を、コントローラ2により指示されたライトストラテジ設定に基づき行う。レーザドライバ4は、記録波形生成部3によって生成された記録波形記録駆動信号を入力し、ピックアップヘッド10内のレーザ光源11を駆動する。レーザドライバ4は、上記記録駆動信号に応じた発光駆動電流をレーザ光源11に与える。なお、レーザドライバ4に対しては、モニタディテクタ19からの光強度モニタ信号SMも供給される。レーザドライバ4は、この光強度モニタ信号SMと基準値とを比較した結果に基づくレーザ発光制御も併せて行うことができる。[3.実施の形態のストラテジ調整の概要]本実施の形態の原盤ストラテジ調整手法は、図1にて説明した光ディスク記録媒体の製造工程において、原盤記録時に設定すべきライトストラテジとして最適とされるストラテジを求めるための調整手法に係るものである。以下、図3のフローチャートを参照して、実施の形態としての原盤ストラテジ調整手法の概要について説明する。図3において、先ずステップS101においては、所定のストラテジで原盤記録を行う。すなわち、原盤記録装置1により、無機レジスト原盤102に対する所定のテストパターンの記録を、所定のストラテジの設定状態で行うものである。ここで、上記所定のストラテジとしては、例えば初期ストラテジなどの、ストラテジ調整にあたっての初回の原盤記録時に対応して設定されるべきとして予め定められたストラテジを設定すればよい。この際のストラテジ設定や記録開始の指示は、図2に示した操作部26を介した操作入力により行うことができる。続くステップS102では、原盤について、対象TT:チャネルクロックの評価値の測定を行う。すなわち、ステップS101により原盤102に記録したテストパターンとしての記録信号中に含まれる各符号長T長のうち、評価値測定の対象として予め定められた所定の符号長についての評価値の測定を、評価部25が行うものである。ここで、このように原盤102の記録信号について評価部25が測定した評価値については、評価値EVMと表記する。次のステップS103では、記録後の原盤に基づいてディスクを作成する。すなわち、記録後の原盤102に基づき、図1にて説明した現像工程図1d~保護膜107の成膜工程図1jを行って光ディスク記録媒体を作成するものである。そして、次のステップS104では、ディスクについて、対象Tの評価値の測定を行う。すなわち、ステップS103にて作成した光ディスクについて、その記録信号中に含まれる対象Tの評価値の測定を各T長ごとに行うものである。当該ステップS104における光ディスクの評価値の測定は、原盤記録装置1ではなく光ディスクについての評価装置を用いて行う。なお、光ディスクの評価装置エッジ位置や符号長等についての評価値を測定する装置の構成については周知であるため、ここではその図示による説明は省略する。以下、ステップS104にて測定された光ディスクについての評価値を評価値EVDとおく。続くステップS105では、評価値EVMと評価値EVDとの差分Dを計算する。この差分Dの計算は、作業員が行ってもよいし、所定の情報処理装置に各評価値EVの情報を入力して計算させてもよい。次のステップS106では、差分Dに基づき、原盤についての評価値の目標値を計算する。なお、当該目標値の計算についても、作業員自らが行ってもよいし、所定の情報処理装置に情報を入力して計算させてもよい。ここで、差分Dに基づく上記目標値の計算手法について、図4を参照して説明しておく。図4aは、原盤102における或る符号長についての度数分布を示し、図4bはその原盤102に基づき作成した光ディスクについて測定した同符号長についての度数分布を示している。前述もしたように、原盤についての評価値の測定結果と光ディスクについての評価値の測定結果とにはずれが生じる。図4では一例として、原盤における符号長の度数分布の中心平均がその理想値から大きくずれ、光ディスクではその符号長の度数分布の中心がその理想値からそれほど大きくはずれていない場合を例示している。上述のステップS106において評価値EVMと評価値EVDとの差分Dを計算することは、図4に示すDの部分を計算していることに相当する。つまり、原盤について測定される評価値は、この差分Dだけディスク側の評価値との間でオフセットしていると捉えることができるので、原盤ストラテジ調整においては、理想値を目標とするのではなく、当該理想値をこの差分Dに基づきオフセットさせた値つまり差分Dにより校正をかけた値を目標とすることで、結果として、光ディスク側で測定される評価値が理想値と一致するように図ることができる。具体的に、例えば原盤での度数分布中心が理想値から1.0だけずれており、ディスク側では理想値から0.5のずれしかないとすれば、原盤での目標値を、理想値から0.5だけずれた値と設定することで、ディスク側にて中心位置と理想値とが一致するように図ることができる。説明を図3に戻す。ステップS106において差分Dに基づく目標値の計算を行った後は、ステップS107において、目標値に一致するようにストラテジを調整する。ここで、原盤に対する記録に関し、目標値の算出によりピット位置を動かすべき量が判明したとしても、その量だけ動かすためにどの程度ストラテジを調整すべきであるかは必ずしも一義的に定まっているものではない。例えば、前方エッジを動かしたときにはその影響で後方エッジ側も動いてしまうといった現象が生じ得るものであり、ストラテジの調整量と実際にピット位置が動く量との関係を予め導出しておくことは非常に困難である。このような事情から、本例では、目標値に一致させるためのストラテジの調整は、作業員が目標値から推測されるストラテジを原盤記録装置1に指示入力し、それにより記録された信号の評価値を測定させ、当該測定結果からさらに修正が必要とされる場合は修正後のストラテジの再設定指示を行って再度の記録を実行させるというように、いわゆるトライアンドエラーを基本として行うものとしている。具体的に、上記ステップS107において目標値に一致するようにストラテジを調整作業員によるストラテジの設定指示した後は、ステップS108において、当該調整後のストラテジの設定状態で原盤記録を行い、さらに次のステップS109では、対象Tの評価値を測定する。そして、続くステップS110において、目標値とのずれを計算する。なお、このようなステップS109の測定結果と目標値とのずれの計算については、原盤記録装置1に実行させてもよいし、表示部27に表示される測定結果の情報に基づいて作業員等が行うものとしてもよい。続くステップS111では、ステップS110で計算したずれが許容範囲内であるか否かを判別する。すなわち、該計算したずれ量が予め設定された所定の範囲内の値となっているか否かを判別する。ステップS111において、上記計算したずれ量が許容範囲内ではないとして否定結果が得られた場合は、先のステップS107に戻る。これにより、ずれ量が許容範囲内に収まるまで、ステップS107~S110までの処理、すなわちずれ量に応じたストラテジの再調整、再調整後のストラテジによる原盤記録、評価値の測定、目標値とのずれ量の計算が実行されることになる。換言すれば、原盤評価値を目標値を基準とした所定の許容範囲内に追い込むためのストラテジ調整が行われるものである。一方、ステップS111において、上記計算したずれ量が許容範囲内であるとして肯定結果が得られた場合は、この図に示す原盤ストラテジ調整のための手順は完了となる。ここで、図3に示す原盤ストラテジ調整のための手順が完了したすなわち最適とされるストラテジの導出が完了した後は、最終的に調整されたストラテジ許容範囲内となったときのストラテジの設定状態で、新たな無機レジスト原盤102に対する記録を行う。以降、記録後の原盤102について、図1にて説明した現像工程図1d~保護膜107の成膜工程図1jまでを行って、製品としての光ディスク記録媒体を作成する。これにより、実際に作成した光ディスク記録媒体の評価値に基づき導出した、最適とされるストラテジにより記録を行った原盤に基づいて光ディスク製品が作成されるものとなり、結果、高品質な光ディスク製品を実現できる。上記により説明した原盤ストラテジ調整手法によれば、ストラテジ調整にあたって必要となる光ディスク記録媒体の作成回数は、1回に抑えることができ、結果、図8にて説明した従来のストラテジ調整手法とする場合と比較してストラテジ調整に係る作業工程を大幅に簡略化でき、作業効率の向上が図られる。また、光ディスク作成回数の削減により、光ディスク作成に係る材料の浪費防止が図られる。また、前述のように上記による原盤ストラテジ調整手法によれば、実際に作成した光ディスク記録媒体の評価値に基づいて高品質な光ディスク記録媒体を実現できる。このように実施の形態の原盤ストラテジ調整手法によれば、最終製品としての光ディスクの品質低下の防止を図りつつ、ストラテジ調整のための無駄な光ディスクの作成回数の削減を図ることで、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費防止を図ることができる。また、本例では、原盤の記録工程に関してPTM方式を採用しているので、原盤の評価値の測定にあたって、都度、原盤の現像処理を施す必要はないものとできる。この点においても、原盤ストラテジ調整作業の効率向上が図られる。このとき、本実施の形態では、原盤評価値についての目標値を設定した後は、原盤評価値が当該目標値を基準とした許容範囲内となるまでストラテジ調整記録評価値測定を行うS107~S111ものとしているが、このような目標値に応じたストラテジ調整処理が設けられることで、PTM記録の利点、すなわち、現像工程前の原盤に対する信号読出が可能となることによる作業効率向上という利点をさらに生かすことができる。[4.原盤評価値の信頼性向上について]ここで、これまでの説明からも理解されるように、記録後の原盤102についての評価値の測定は、記録後の原盤102に対してレーザ光を照射し、その反射光に基づき再生信号RF信号を得ることで行うものとしている。このような手法により原盤102からの再生信号を得る場合には、符号長の分離を適切に行うことが困難となり、符号長ごとの評価値の測定結果の信頼性が低下する虞がある。図5は、この点について説明するための図であり、図5aは符号長の分離が良好な状態での符号長ごとの度数分布2T~7Tについての各符号長の度数分布を示し、図5bは原盤102に対して直接レーザ光を照射して再生信号を得た場合の符号長ごとの度数分布同様に2T~7Tについてを例示している。原盤102に対して直接レーザ光を照射して再生信号を得た場合は、特に2Tや3Tといった短い符号長において符号長の分離が悪く、このため、図5bに示すように、本来は2Tの符号長として分類されるべき評価値が3Tの評価値として分類されてしまったり、又はその逆の現象が起こるなどして、符号長ごとの評価値の測定結果に信頼性の低下が生じる虞がある。そこで本例では、このような原盤評価値の信頼性の低下の防止を図るべく、符号長ごとの評価値の測定を以下のようにして行う。すなわち、原盤102に記録される符号パターンをメモリ等に格納しておき、この記録符号パターンを、実際に原盤102に記録した符号パターンを読み出して得た再生信号と同期させることで、現在読み出している再生信号中の符号長が何れの符号長に該当するかを適切に把握するというものである。換言すれば、記録符号パターンと再生信号とのパターンマッチングを行って、現在の符号長を適切に把握しようとするものである。図6は、このようなパターンマッチングによる符号長の把握を可能とした評価部25の内部構成を例示している。図6において、この場合の評価部25には、2値化回路30、クロック生成回路31、同期現符号長指示部32、メモリ33、及び符号長ごとの評価値測定部34が備えられている。先ずこの場合には、メモリ33内に、原盤102に対して記録されるべき記録符号パターン33Aが格納される。この記録符号パターン33Aとしての情報は、同期現符号長指示部32により読み出し可能とされている。この場合、図1に示した反射光演算回路23からのRF信号は、2値化回路30とクロック生成回路31とに入力される。2値化回路30はRF信号を2値化する。2値化されたRF信号以下、2値化RF信号とも表記は同期現符号長指示部32及び符号長ごとの評価値測定部34に供給される。クロック生成回路31は、RF信号に基づき、当該RF信号と同期した再生クロックを生成する。当該再生クロックは、同期現符号長指示部32及び符号長ごとの評価値測定部34に供給される。同期現符号長指示部32は、2値化RF信号と記録符号パターン33Aとの同期をとる。具体的に、この場合の同期は、先の図5にて説明した符号分離の問題を考慮し、符号分離が良好とされる符号長分布の重なりの無い所定長以上の符号長の信号部分の一致を見て行う。具体的に、本例のようにBDとしての光ディスクを作成する場合には、例えば7Tの信号部分の一致を見て2値化RF信号と記録符号パターンとの同期をとる。同期現符号長指示部32は、同期後の記録符号パターン33Aに基づき、符号長ごとの評価値測定部34に現在の符号長を指示する。確認のため述べておくと、同期現符号長指示部32は、このような同期後の記録符号パターン33Aに基づく現在の符号長の指示を再生クロックに従って行う。符号長ごとの評価値測定部34は、同期現符号長指示部32から指示される現在の符号長の情報に従って、2値化RF信号に基づく評価値の測定を符号長ごとに行う。換言すれば、2値化RF信号に基づき測定した評価値を、同期現符号長指示部32から指示される現在の符号長の情報に従って符号長ごとに分類して保持する。この場合、評価値としては、少なくともリーディングエッジ位置及びトレーリングエッジ位置に係る評価値を測定するものとされ、符号長ごとの評価値測定部34は、これらの評価値の測定にあたって再生クロックを使用する。上記のような構成により、原盤102からの再生信号について、パターンマッチングによる符号長の適切な把握が可能となり、その結果、原盤評価値の信頼性の向上を図ることができる。また、評価値測定結果の信頼性が増すことで、目標値への追い込みを効率的に行うことができ、その結果として、ストラテジ調整作業の更なる効率向上が図られる。[5.確認処理について]また、先の図3により説明した原盤ストラテジ調整手法の概要では、原盤102について測定した評価値が目標値を基準とした許容範囲内となったことに応じてストラテジ調整を完了するものとしたが、より確実に光ディスクの品質向上を図る意味で、このように原盤評価値が許容範囲内となった後に、再度、光ディスクの作成及びその評価値の測定を行い、当該評価値が理想値を基準とした所定の許容範囲内となるか否かを確認するということもできる。そして、このような確認処理を行った結果、光ディスクの評価値が上記許容範囲内とならない場合には、再度、ストラテジの調整を行う。具体的には、光ディスクの評価値と理想値とのずれ量に応じて、原盤評価値についての目標値を修正し、当該修正した目標値に基づき、再度、原盤評価値が当該修正後の目標値に一致するようにストラテジの調整を行う。このような確認処理、及びその結果に応じた再度の原盤ストラテジ調整を行うことで、より確実に光ディスクの品質向上が図られるようにできる。[6.具体的なストラテジ調整手法]図7は、上記により説明した原盤評価値の信頼性向上のための処理パターンマッチングと確認処理とを含んだ具体的な原盤ストラテジ調整手法について説明するためのフローチャートである。なお図7において、既に図3において説明したものと同内容となる手順については同一のステップ番号を付して説明を省略する。先の図3と比較して分かるように、この場合は、図3におけるステップS102に代えてステップS201の手順を、またステップS109に代えてステップS202の手順を実行する。さらにこの場合は、ステップS111において肯定結果が得られた場合、すなわち原盤評価値が目標値に基づく許容範囲内であるとされた場合に、ステップS203~S205、及び必要に応じてステップS206の手順を実行することになる。先ず、ステップS201及びステップS202は、共に記録後の原盤102についての評価値測定に係る手順となる。具体的に、ステップS201はステップS101としての初回原盤記録後に、またステップS202はステップS109としての目標値設定後の原盤記録後にそれぞれ実行される手順である。これらステップS201S202では、原盤についての評価値測定として、パターンマッチングを用いて対象Tの評価値EVMを測定する。すなわち、図6に示した評価部25が、前述したパターンマッチングを用いて対象とされる各符号長ごとに評価値を測定するものである。また、ステップS111において肯定結果が得られた後のステップS203では、記録後原盤に基づいてディスクを作成する。すなわち、評価値が目標値を基準とする許容範囲内と判別された後の原盤102に基づき、光ディスクを作成する。続くステップS204では、作成した光ディスクについて、対象Tの評価値を測定する。ここでの評価値の測定対象は、ステップS111にて許容範囲内であると判別されたときのストラテジの設定状態で記録された原盤上の記録区間と対応する区間である。そして、次のステップS205において、評価値が許容範囲内であるか否かを判別する。つまり、ステップS204で測定された評価値が、理想値を基準とした許容範囲内にあるか否かを判別する。ステップS205において、評価値が許容範囲内ではないとして否定結果が得られた場合は、ステップS206に進み、理想値とのずれ量に基づき目標値を修正する。すなわち、ステップS204で測定された評価値と理想値とのずれがキャンセルされるように、目標値の修正を行う。目標値を修正した後は、図のようにステップS107に戻る。これにより、修正後の目標値に基づいて、原盤ストラテジの再調整が行われる。一方、ステップS204において許容範囲内であるとの肯定結果が得られた場合は、この図に示す原盤ストラテジ調整のための手順は完了となる。[7.変形例]以上、本技術に係る実施の形態について説明したが、本技術はこれまでに説明した具体例に限定されるべきものではない。例えば、原盤に対する記録方式は、PTM方式に限定されるものではない。原盤の記録信号についての読み出しに現像を要する場合は、現像を経た後の原盤103について、レーザ光を照射して信号読出評価値測定を行うものとすればよい。また、原盤評価値の信頼性向上を図るためにパターンマッチングを用いた評価値測定手法を採用する場合を例示したが、このようなパターンマッチングを用いた評価値測定手法は、光ディスクについての評価値測定時にも適用することができる。また、これまでの説明では、原盤や光ディスクの記録信号品質の評価指標となる評価値としてエッジ位置についての評価値ピット長さについての評価値も含むを測定する例を挙げたが、例えばジッターJitterやアシンメトリなど他の評価値に基づいてストラテジ調整を行うようにすることもできる。何れにしても評価値としては、記録信号品質の評価指標となるものを用いればよい。また本技術は、ピット/ランドの組み合わせで情報が記録される光ディスクの製造に好適に適用できるものであり、いわゆるROMタイプの光ディスクの製造のみでなく、追記型や書換可能型の光ディスクであってもピット/ランドの組み合わせで情報が記録される部分を有する光ディスクであれば、その製造について適用可能である。"