"第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面との間で光学ビームを前後に反射させる段階を含む方法であって、前記反射させる段階は、前記複数の反射面の反射面の一方で、前記複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後で前記光学ビームを再結像する段階と、前記複数の反射面の両方の反射面の各々での2又はそれ以上の光学ビームの重畳を回避する段階と、を含む方法。前記第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面との間で光学ビームを前後に反射させる段階は、前記光学ビームを前記第1の複数の反射面の第1の反射面から前記第1の複数の反射面の第2の反射面上に再結像する段階を含む、請求項1に記載の方法。前記光学ビームを第1の複数の反射面の第1の反射面から第1の複数の反射面の第2の反射面上に再結像する段階は、前記光学ビームを前記第2の複数の反射面の反射面から反射させる段階を含む、請求項2に記載の方法。前記第1の複数の反射面のうちの前記光学ビームが再結像される前記第2の反射面は、前記第1の複数の反射面の前記第1の反射面に隣接する、請求項2に記載の方法。前記第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面との間で光学ビームを前後に反射させる段階は、前記光学ビームを前記第2の複数の反射面の第1の反射面から前記第2の複数の反射面の第2の反射面上に再結像する段階を含む、請求項1に記載の方法。前記光学ビームを第2の複数の反射面の第1の反射面から第2の複数の反射面の第2の反射面上に再結像する段階は、前記光学ビームを前記第1の複数の反射面の反射面から反射させる段階を含む、請求項5に記載の方法。前記複数の反射面の反射面の一方で、前記複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後で光学ビームを再結像する段階は、前記第1の複数の反射面の反射面と前記第2の複数の反射面の反射面との間にビームウエストを形成する段階を含む、請求項1に記載の方法。前記複数の反射面の反射面の一方で、前記複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後で光学ビームを再結像する段階は、前記第1の複数の反射面の反射面と前記第2の複数の反射面の反射面との間の領域の外側に仮想ビームウエストを形成する段階を含む、請求項1に記載の方法。前記光学ビームを前後に反射させる段階の前に、前記光学ビームを前記第1の複数の反射面内の開口部を通じて前記第2の複数の反射面に向かって導く段階を更に含む、請求項1に記載の方法。前記光学ビームを前後に反射させる段階の後に、前記光学ビームを前記第2の複数の反射面内の開口部を通じて前記第1の複数の反射面から離れるように導く段階を更に含む、請求項1に記載の方法。第1の複数の凹面反射面と、前記第1の複数の凹面反射面との間に領域が形成されるよう、前記第1の複数の凹面反射面と向かい合う第2の複数の反射面と、光学ビームが前記領域に入射するための入力部と、前記光学ビームが前記領域から出射するための出力部と、を備え、前記第1の複数の反射面の反射面と前記第2の複数の反射面の反射面とは、前記光学ビームが、前記複数の反射面の反射面の一方において、前記複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後に再結像され、前記反射面の各々の上での2つ又はそれ以上の光学ビームの重畳が回避されるように互いに配置されることを特徴とする装置。前記第1の複数の反射面の反射面と前記第2の複数の反射面の反射面とは、前記光学ビームが、前記第1の複数の反射面の凹面反射面の各々において、前記第2の複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後に再結像されるように互いに配置される、請求項11に記載の装置。前記第1の複数の反射面の凹面反射面の各々は、別個の基板上に形成される、請求項11に記載の装置。前記第1の複数の反射面の各基板は、前記第1の複数の反射面の他の基板とは独立して移動可能である、請求項13に記載の装置。前記第2の複数の反射面の反射面の各々は、別個の基板上に形成される、請求項11に記載の装置。前記第2の複数の反射面の各基板は、前記第2の複数の反射面も他の基板とは独立して移動可能である、請求項15に記載の装置。前記第1の複数の反射面の凹面反射面の個数は偶数である、請求項11に記載の装置。前記第2の複数の反射面の反射面の個数は偶数である、請求項11に記載の装置。前記第1の複数の反射面の凹面反射面は、該凹面反射面の中心が、所定の円の外周上に存在するように配列される、請求項11に記載の装置。前記第2の複数の反射面の反射面は、該反射面の中心が、所定の円の外周上に存在するように配列される、請求項19に記載の装置。前記第2の複数の反射面の反射面の各々は凹面反射面である、請求項11に記載の装置。前記第1の複数の反射面の反射面と前記第2の複数の反射面の反射面とは、前記領域の内側に前記光学ビームのビームウエストが形成されるように互いに配置される、請求項21に記載の装置。前記第2の複数の反射面の反射面の各々は凸面反射面である、請求項11に記載の装置。前記第1の複数の反射面の反射面と前記第2の複数の反射面の反射面とは、前記領域の外側に前記光学ビームの仮想ビームウエストが形成されるように互いに配置される、請求項23に記載の装置。前記第1の複数の反射面の凹面反射面の各々の曲率は、前記光学ビームが、前記第2の複数の反射面の反射面からの各反射の後に再結像されるように選択される、請求項11に記載の装置。光学ビームを出力する主発振器と、前記光学ビームを受光する少なくとも1つの増幅器と、前記主発振器と前記少なくとも1つの増幅器との間の光学遅延装置と、を備える光源であって、前記光学遅延装置は、第1の複数の凹面反射面と、前記第1の複数の凹面反射面との間に領域が形成されるように、前記第1の複数の凹面反射面に向かい合う第2の複数の反射面と、前記光学ビームが前記領域に入射するための入力部と、前記光学ビームが前記領域から出射するための出力部と、を備え、前記第1の複数の反射面の反射面と前記第2の複数の反射面の反射面とは、前記光学ビームが、前記複数の反射面の反射面の一方において、前記複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後に再結像され、前記反射面の各々の上での2つ又はそれ以上の光学ビームの重畳が回避されるように互いに配置されることを特徴とする光源。第1の複数の凹面反射面と、前記第1の複数の凹面反射面との間に領域が形成されるように、前記第1の複数の凹面反射面に向かい合う第2の複数の反射面と、前記光学ビームが前記領域に入射するための入力部と、前記光学ビームが前記領域から出射するための出力部と、前記領域内の利得媒質と、を備える増幅器であって、前記第1の複数の反射面の反射面と前記第2の複数の反射面の反射面とは、前記光学ビームが、前記複数の反射面の反射面の一方において、前記複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後に再結像され、前記反射面の各々の上での2つ又はそれ以上の光学ビームの重畳が回避されるように互いに配置されることを特徴とする増幅器。いくつかの概略的な態様において、第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面との間で光学ビームを前後に反射させる段階を含む方法であって、光学ビームを複数の反射面の反射面の一方で、複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後で再結像し、複数の反射面の両方の反射面の各々での2又はそれ以上の光学ビームの重畳を回避するようになっている。実施例は、以下の特徴のうちの1つ又はそれ以上を含むことができる。例えば、光学ビームは、第1の複数の反射面の第1の反射面から第1の複数の反射面の第2の反射面上に光学ビームを再結像することによって、第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面との間で前後に反射させることができる。光学ビームは、第2の複数の反射面の反射面から光学ビームを反射させることによって、第1の複数の反射面の第1の反射面から第1の複数の反射面の第2の反射面上に再結像することができる。第1の複数の反射面の光学ビームが再結像される第2の反射面は、第1の複数の反射面の第1の反射面に隣接することができる。光学ビームは、第2の複数の反射面の第1の反射面から第2の複数の反射面の第2の反射面上に光学ビームを再結像することによって、第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面との間で前後に反射させることができる。光学ビームは、第1の複数の反射面の反射面から光学ビームを反射させることによって、第2の複数の反射面の第1の反射面から第2の複数の反射面の第2の反射面上に再結像することができる。光学ビームは、第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面との間にビームウエストを形成することによって、複数の反射面の反射面の一方に、複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後に再結像することができる。光学ビームは、第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面との間の領域の外側に仮想ビームウエストを形成することによって、複数の反射面の反射面の一方に、複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後に再結像することができる。光学ビームは、光学ビームを前後に反射させる段階の前に、第1の複数の反射面の開口部を通じて第2の複数の反射面に向かって導くことができる。光学ビームは、光学ビームを前後に反射させる段階の後に、第2の複数の反射面の開口部を通じて第1の複数の反射面から離れるように導くことができる。別の一般的な態様において、装置は、第1の複数の凹面反射面と、第1の複数の凹面反射面との間に領域が形成されるよう第1の複数の凹面反射面と向かい合う第2の複数の反射面と、光学ビームが領域に入射するための入力部と、光学ビームが前記領域から出射するための出力部とを備える。第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面とは、光学ビームが、複数の反射面の反射面の一方において、複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後に再結像され、反射面の各々の上での2つ又はそれ以上の光学ビームの重畳が回避されるように互いに配置される。実施例は、以下の特徴のうちの1つ又はそれ以上を含むことができる。例えば、第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面とは、光学ビームが、第1の複数の反射面の凹面反射面の各々において、第2の複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後に再結像されるように互いに配置することができる。第1の複数の反射面の凹面反射面の各々は、別個の基板上に形成することができる。第1の複数の反射面の各基板は、第1の複数の反射面の他の基板とは独立して移動可能である。第2の複数の反射面の反射面の各々は、別個の基板上に形成することができる。第2の複数の反射面の各基板は、第2の複数の反射面も他の基板とは独立して移動可能である。第1の複数の反射面の凹面反射面の個数は偶数とすることができる。第2の複数の反射面の反射面の個数は偶数とすることができる。第1の複数の反射面の凹面反射面は、該凹面反射面の中心が、所定の円の外周上に存在するように配列することができる。第2の複数の反射面の反射面は、該反射面の中心が、所定の円の外周上に存在するように配列することができる。第2の複数の反射面の反射面の各々は凹面反射面とすることができる。第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面とは、領域の内側に光学ビームのビームウエストが形成されるように互いに配置することができる。第2の複数の反射面の反射面の各々は凸面反射面とすることができる。第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面とは、領域の外側に光学ビームの仮想ビームウエストが形成されるように互いに配置することができる。第1の複数の反射面の凹面反射面の各々の曲率は、光学ビームが、第2の複数の反射面の反射面からの各反射の後に再結像されるように選択することができる。別の一般的な態様において、光源は、光学ビームを出力する主発振器と、光学ビームを受光する少なくとも1つの増幅器と、主発振器と前記少なくとも1つの増幅器との間の光学遅延装置とを備える。光学遅延装置は、第1の複数の凹面反射面と、第1の複数の凹面反射面との間に領域が形成されるように、第1の複数の凹面反射面に向かい合う第2の複数の反射面と、光学ビームが領域に入射するための入力部と、光学ビームが領域から出射するための出力部とを備える。第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面とは、光学ビームが、複数の反射面の反射面の一方において、複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後に再結像され、反射面の各々の上での2つ又はそれ以上の光学ビームの重畳が回避されるように互いに配置される。別の一般的な態様において、増幅器は、第1の複数の凹面反射面と、第1の複数の凹面反射面との間に領域が形成されるように第1の複数の凹面反射面に向かい合う第2の複数の反射面と、光学ビームが領域に入射するための入力部と、光学ビームが領域から出射するための出力部と、領域内の利得媒質とを備える。第1の複数の反射面の反射面と第2の複数の反射面の反射面とは、光学ビームが、複数の反射面の反射面の一方において、複数の反射面の反射面の他方からの1回だけの反射の後に再結像され、反射面の各々の上での2つ又はそれ以上の光学ビームの重畳が回避されるように互いに配置される。図1を参照すると、光学系100は、ある目的で光学ビーム110を用いる外部機器フォトリソグラフィ装置等の115に光学ビーム110を送達する光生成システム105を含む。光学系100は、光生成システム105と機器115との間で、光学ビーム110を拡大、操向、パルス成形、又は成形する等の1つ又はそれ以上の光学変換を行う光学系を有するビーム調節ユニット120を含むこともできる。例示的なビーム調節ユニット120に関する詳細は、2006年8月8日に付与された米国特許第7,087,914号及び2007年1月16日に付与された米国特許第7,164,144号、並びに2009年12月15日出願の米国出願番号12/638,092BEAMTRANSPORTSYSTEMFOREXTREMEULTRAVIOLETLIGHTSOURCE代理人整理番号2009-0029-01に見出すことができ、これらの開示内容全体は引用によって本明細書に組み込まれている。光生成システム105は、いくつかある特徴部の中で特に、この場合は光学装置125の内部光学素子及び設計に依存する時間だけ光学ビーム130を遅延させる機能を果たすマルチパス光学装置125を含む。従って、約3×108メートル毎秒の推定光速度を用いると、光学装置125の単位メートル毎のビーム遅延は、光学ビーム130に対して3.33ナノ秒の伝搬時間を追加する。以下に詳細に説明するように、光学装置125は、少なくとも第1の反射面セットと凹面の第2の反射面セットとを含み、両者は概してお互いに向き合い、光学ビーム130が、第1の複数の反射面と第2の複数の反射面との間の領域内で前後に反射されるようにお互い対して配置されている。光学ビーム130は、一方の複数の反射面の各々において、他方の複数の反射面の各々からの一回の反射の後で再結像される。更に、反射面の各々での2つ又はそれ以上の光学ビームの重畳が回避される。すなわち、各反射面におけるビーム重畳を回避し、光学ビームのコヒーレント加算に起因してピーク強度が損傷レベルに達する可能性を低減するために、各反射面からの1回だけの反射しか許されない。光学装置125は、小型で実用的なデザインであり、光学装置125内のいずれかの反射面上での光学ビームの重畳を回避することによって内部光学系に対する損傷を回避し、光学装置125を通じてビームを繰り返し再結像することによって光学ビーム130のビームサイズを維持する。いくつかの実施例では、光学装置125は、低圧又は低湿の環境等の管理された環境内に維持される。光学系100は、レーザー生成プラズマ光源等の極紫外EUV光源とすることができる。EUV光は、50nm又はそれ以下前後の波長を有する電磁放射線であり場合によってはソフトx線とも呼ばれる、約13nmの波長の光を含む。光学系100からのEUV光は、例えばシリコンウェハである基板に極めて小さな特徴部を生成するためのフォトリソグラフィ工程で用いることができる。光学系100がEUV光源である場合、光生成システム105は、光学装置125を通って増幅器140に向かうビーム経路上に導かれる出力ビーム光学ビーム130を生成する主発振器135を含むこともできる。増幅器140から出力される光学ビーム110は、続いて機器115に向かって導かれ、機器115は、特定の実施例では、光学ビーム110によって照射されるターゲット材料材料の小滴、流れ、又は集塊等を含む真空チャンバ等の密封容器である。レーザー生成プラズマデザインにおいて、EUV光は、ターゲット材料を、EUV範囲内に輝線を有する元素、例えば、キセノン、リチウム、又は錫を有するプラズマ状態へと変換することによって生成される。ターゲット材料は、光学ビーム増幅された光ビームである110を用いてターゲット材料を照射することによってプラズマ状態へと変換される。プラズマは、真空チャンバである機器115内で生成され、様々な種類の計測機器を用いて監視することができる。プラズマによって生成されるEUV光は、光学系100からフォトリソグラフィ工程の基板に向かって出力される。機器115が真空チャンバを含む実施例では、ターゲット材料送達システムは機器115の一部でもあり、該ターゲット材料送達システムは、ターゲット材料の小滴を真空チャンバ内部で照射領域へと送達するように構成され、小滴は、光学ビーム110と相互作用し、最終的にプラズマを生成してEUV放出を発生させることになる。様々な小滴ディスペンサの構成及びその利点に関する詳細は、2010年11月25日公開の米国特許公開第2010/0294953号LASERPRODUCEDPLASMAEUVLIGHTSOURCE、2009年9月17日公開の米国特許公開第2009/0230326号SYSTEMSANDMETHODSFORTARGETMATERIALDELIVERYINALASERPRODUCEDPLASMAEUVLIGHTSOURCE、2009年1月15日公開の米国特許公開第2009/0014668号LASERPRODUCEDPLASMAEUVLIGHTSOURCEHAVINGADROPLETSTREAMPRODUCEDUSINGAMODULATEDDISTURBANCEWAVE、2006年11月16日公開の米国特許公開第2006/0255298号LaserproducedplasmaEUVlightsourcewithpre-pulse、及び米国特許第7,405,416号並びに米国特許第7,372,056号に見出すことができ、これらの開示内容全体は、引用によって本明細書に組み込まれている。図2を参照すると、1つの実施例において、例示的な光学装置225は、光学ビーム130が伝搬する領域202を定義する凹面反射面210の第1のセット200と凹面反射面215の第2のセット205とを含む。第1のセット200及び第2のセット205の反射面210、215は、概してお互いに向き合う。これらの反射面210、215は、以下に説明するように、第1のセット200における凹面反射面のうちの少なくとも1つが、第2のセット205の第1の凹面反射面から反射された光学ビームを第2のセット205の第2の凹面反射面に再結像して、各セット200、205の凹面反射面の各々で2つ又はそれ以上の光学ビームの重畳が回避されるように、互いに配置される。同様に、第2のセット205における凹面反射面のうちの少なくとも1つは、第1のセット200の第1の凹面反射面から反射された光学ビームを第1のセット200の第2の凹面反射面に再結像する。更に、反射面210、215の各々の曲率半径は、反射面からの1回だけの反射の後の再結像を可能にするように選択される。また、光学装置225は、光学ビーム130を受光するための入射口220と、光学ビーム130が、第1のセット200と第2のセット205との間の領域202で前後に反射した後に通過する出射口222とを含む。それぞれのセット200、205の反射面210、215は、それぞれの基部230、235に取り付けられた基板上に取り付けることができる以下に示す。本実施例に示すように、入射口220は第1のセット200に隣接し、出射口222は第2のセット205に隣接する。しかしながら、他の実施例では、入射口220を第2のセット205に隣接させること及び出射口を第1のセット200に隣接させることができる。また、光学装置225は、それぞれの基部230、235の間に一定の距離を維持する1つ又はそれ以上の剛体スペーサ250、251、252、253を含むことができる。剛体スペーサ250、251、252、253と基部230、235との組み合わせをシステムフレームと呼ぶことができ、システムフレームは、光学装置225の光学構成要素を支持する機能を果たす。光学ビーム130は、光学装置225に導入され、入射口220において、及び入射口220の反対の第1の反射面において受け入れ可能なビームサイズを有し、受け入れ可能ビームサイズは、光学ビーム130が、過度に高い強度に到達することもなく、反射面を過度に満たすこともないことを意味する。次に、光学装置225内の再結像は、後続の反射面上にこれらのビームプロフィールを再現する。1つの特定の実施例では、光学ビーム130は、領域202内の平面概して図7にライン204で示すに沿ってビームウエストを形成するので、光学ビーム130は、反射面210又は215のうちの一方からの反射の後にビームウエストに向かって収束し、その後、光学ビーム130は、次の反射面215又は210に向かって発散する。反射面210、215が全て同じ曲率半径及び同じ焦点距離を有する場合、ビームウエスト204は、反射面210、215の間のほぼ中間点となる。この場合、光学ビーム130は、一端から他端へと繰り返し再結像される。光学装置225は、小型で実用的なデザインであり、セット200、205の反射面上での光学ビーム130の重畳を回避することによってセット200、205の反射面等の内部光学系に対する損傷を回避し、反射面からの各反射の後に光学装置925を通るビームを繰り返し再結像することによって光学ビーム130のビームサイズを維持する。図3を参照すると、第1のセット200の反射面210の各々は、基板300上のコーティングとして形成することができる。高い光学スループット効率を得るために、コーティングは、使用波長において高い反射性を有する必要がある。コーティングは、光学ビーム130の波長に応じて、誘電体多層コーティング、誘電体強化金属コーティング、又は露出金属コーティングとすることができる。基板300は、一般的にミラー加工に用いられる任意の金属材料又はガラス材料とすることができる。いくつかの実施例では、コーティングは、米国ペンシルバニア州サクソンバーグ所在のII-IVInfraredで製造される最強金属反射体MMR等の高反射性コーティングとすることができ、基板300はシリコンとすることができる。利用できる他のコーティングは、金及び銀を含み、コーティングを付加することができる他の基板300は、高伝導度無酸素OFHC銅基板、モリブデン、及びアルミニウムを含む。各基板300は、アルミニウム等の適切な材料で作られたプレート305に取り付けられる例えば、接着又は組み付け。適切な場合には、基板300をプレート305と共に単一の構成要素に統合することができる。第1のセット200の反射面210同様に第2のセット205の反射面215の各々は、図4の断面図に示すように、面が基板300に向かって内向きに膨らんでいる点で凹面である収束性のものとも呼ぶ。凹形状は、反射面の各々の焦点距離及び光学ビーム130のビームサイズに応じて、球面又は別の適切な形状とすることができる。例えば、約10よりも大きいf数ビームサイズ光学ビーム130の直径に対する反射面の焦点距離の比では、凹形状は、光学ビーム130の軸外収差球面収差又はコマ収差等を低減するために軸外放物面とすることができる。また、図5を参照すると、各プレート305は、プレート305の背面の開口に摩擦嵌合することができる取り付けデバイス310によって基部230に可動式に取り付けられる。更に、プレート305は、自由度の1つ又はそれ以上を他の可能性のある自由度と相互作用することなく独立して調節可能にするような方法で、基部230に取り付けることができる。取り付け手段は、強固で、外部からの振動擾乱に左右され難く、調節時にバックラッシュがないことが必要である。取り付け手段の温度変化は、取り付け部の材料を適切に選択することによって低減することができる。1つの実施例において、プレート305は、3つの調節可能なアクチュエータ315、316、317を含むチップ-チルト機構を用いて基部230に取り付けられる。この場合、各アクチュエータ315、316、317は、回転させることで軸方向に移動させることができ、プレート305の背面に接触する先端部を有し、それによって各アクチュエータ315、316、317の回転が、それぞれのアクチュエータ315、316、317との接触点においてプレート305従って、プレート305に取り付けられる基板300を移動させるようになっている。他の取り付け方法も可能である。基板300及び、反射面215が取り付けられた基板は、反射面215に入射する光学ビーム130の出力に応じて、プレート305によって冷却することができる。いくつかの実施例では、受動的又は能動的とすることができる任意の適切な冷却システムを用いて基部230を冷却することによって、追加の冷却を行うことができる。いくつかの実施例では、基部230は、例えば、基部230の孔を通じて水又は任意の他の適切な冷却剤を流すことによって、熱媒液を用いて冷却される。また、図6を参照すると、第2のセット205の反射面215の各々は、基板600上のコーティングとして形成することができる。第2のセット205の構成及び材料は、第1のセット200のものと同様であり、ここでは再度説明しない。更に、第2のセット205の反射面215の各々は、図4の断面図に示すように凹面である。各基板600は、プレート605に取り付けられる例えば、接着又は組み付け。各プレート605の取り付け及び冷却は、各プレート305の取り付け及び冷却と同様であり、ここでは再度詳細に説明しない。特に、プレート605は、取り付けデバイス610を用いて基部235に取り付けられ、3つの調節可能なアクチュエータ615、616、617を含むチップ-チルト機構を用いて基部235に対して移動させることができる。第2のセット205のプレート605の各々従って、反射面215の各々は、第2のセット205の他のプレート605とは独立して又は個別に移動させることができる。各反射面210、215のコーティングがSi基板300、600上のMMRコーティングである特定の実施例では、各基板300、600は、7/8インチの直径及び約0.118インチの厚みを有し、反射面は、2.12mの曲率半径及び最大20mmの開放口を有する。それぞれの基部230、235上の反射面210、215のアレイの全体寸法は10インチx10インチであり、基部230、235の間の距離は約2.5mである。各基部230、235が24個の反射面210又は215従って、光学装置225内には合計で48個が存在するを収容する場合、遅延経路長は約104mであり、光学装置225を通じての遅延は約350nsである。位置合わせ時、それぞれのセット200、205のプレート305、605は、調節可能なアクチュエータを用いて調節することができ、最初の位置合わせ後に、プレート305、605を固定することができる。基板300、600の各々、従って反射面210、215の各々の曲率半径は一致させることができる。また、図7を参照すると、基部230と基部235との間の間隔700従って、反射面210、215の間の相対間隔は、疑似共焦点間隔を与え、光学ビーム130が光学装置225の各反射面210、215から反射する際に光学ビーム130のビームサイズを維持するように選択することができる。この間隔は、光学ビーム130が、セット205又は200のうちの第2のセットの1つ反射面から反射した後に、セット200又は205のうちの第1のセットの反射面を出射して、セット200又は205のうちの第1のセットの別の反射面に向かって戻される光学ビーム130の再結像を可能にする点で疑似共焦点のものである。疑似共焦点は、反射面の各々の焦点が、2つのセット200と205との間のラインに沿った同じ位置に存在するが、焦点が、反射面の傾斜によってラインから側方にオフセットして、結果的にビーム経路が、反射面から反射面へと進行することが可能になることを意味する。更に、光学ビーム130が各反射面210、215で反射する際の光学ビーム130の合焦は、基部230、235の間の間隔を調節することによって調節することができる。反射面210、215の幾何学配列は、光学ビーム130が、反射面210、215の任意の一部の箇所でそれ自体に重畳することを阻止するように選択される。また、図8を参照すると、基部230の入射口220から入射する光学ビーム130は、第2のセット205の反射面215のうちの1つから反射し、その後、第1のセット200の反射面210のうちの1つから反射する。この実施例では、光学ビーム130は、第1のセット200の反射面210の各々から、第2のセット205の反射面215からの各反射の後に第1のセット200の次の反射面210に至る軌跡800を辿ることができ、光学ビーム130は、単一の反射面210又は215に一度だけしか当たらないか又は重畳しない。例えば第1のセット200の2つの隣接する反射面805、810に注目すると、光学ビーム130は、第1のセット200の反射面805から反射し、基部230、235の間の領域202を横切って伝搬した後、第2のセット205の反射面図示せずから反射し、その後、基部230、235の間の領域202を横切って伝搬して戻り、反射面810に入射する。第2のセット205の反射面の形状は、光学ビーム130が、面805から面810へと再結像されるようなものであり、これらの両方の面805、810は、この場合、第1のセット200である同じセットの中にある。更に、第2のセット205の反射面上での光学ビーム130の重畳が回避される。この再結像は、光学ビーム130が入射口220を通過して最初の反射面で反射した後、出射口222を通過する前に、セット200、205の各々における反射面の各々において発生することに注意されたい。更に、光学ビーム130の断面サイズは、光学ビーム130がこれらのセットの間で伝搬する間に、これらのセットのうちの一方の各反射面において概ね維持される。例示的な軌跡800を示しているが、他の軌跡も可能であり、軌跡の経路は、セット200、205の反射面の幾何学構成、サイズ、及び焦点距離に依存することができる。反射面の間の軸外角度を最小に保つことが好ましく、このことは、光学装置225を通る軌跡が、隣接する又は近隣の反射面に特定のパターンで進むことを意味する。更に、セット200、205の各々における反射面の幾何形状は、光学装置225のf数すなわち、反射面の焦点距離と、光学ビーム130の光学軸に対して垂直な平面に沿った有効開口直径又はビームサイズに依存することができる。従って、例えば、3のような低いf数を有する反射面では25mmの有効開口直径及び75mmの焦点距離、反射面において直線アレイ図2~図8に示すようなよりも円形パターン図9に示すようなをより適切とすることができる。1つの実施例では、反射面は、25mmの有効開口直径及び1mの焦点距離で40のf数を有する。図9を参照すると、前述したように、別の実施例において、光学装置925は、第1のセット900において凹面反射面910の円形パターンを含み、第2のセット905において凹面反射面915の同様の円形パターンを含み、これらの両方が領域902を定める。この実施例では、各それぞれのセット900、905の反射面910、915は、反射面910、915の中心が円の外周上に存在するように配列される。第1のセット900は第1の基部930に取り付けられ、第2のセット905は第2の基部935に取り付けられる。更に、入射口920は、第1の基部930に形成された開口部によって定められ、出射口922は、第2の基部935に形成された開口部によって定められる。光学ビーム130は、入射口920を通って伝搬して光学装置925に入射し、出射口922を通って光学装置925から出射する。反射面910及び915は、図2から8に示す基板及びプレートと同様の方式で、それぞれの基部930、935に取り付けることができるプレートに取り付けられたそれぞれの基板に固定することができる。図10、11A、及び11Bに示すように、光学ビーム130は、入射口920を通って光学装置925に入射し、領域902を横切って伝搬し、続いて第2のセット905の反射面915のうちの1つから反射し、この時点で第1のセット900の反射面910に向かって反射して戻り、反射面910、915のうちのいずれにも1回よりも多くの回数当たることなく、出射口922を通過して光学装置925を出射するまで前後に行き来する。図11Aに示すように、光学ビーム130は、第1のセット900の反射面910の各々から反射する時に軌跡1100を辿る。図11Bに示すように、光学ビーム130は、第2のセット905の反射面915の各々から反射する際に同様に軌跡1150を辿る。例えば、第1のセット900の隣接反射面1105、1110及び第2のセット905の1つの反射面1155に注目すると、光学ビーム130は、第1のセット900の反射面1105から反射して基部930、935の間の領域902を横切って伝搬し、続いて第2のセット905の反射面1155から反射し、その後、基部930、935の間の領域902を横切って伝搬して戻り、反射面1110に入射する。第2のセット905の反射面1155の形状は、光学ビーム130が第1のセット900の面1105から、第1のセット900の面1110に再結像されるような形状である。更に、第2のセット905の反射面1155上での光学ビーム130の重畳が回避される。より一般的には、両方のセット900、905の反射面の各々の上での光学ビーム130の重畳が回避される。光学ビーム130の再結像は、光学ビーム130が入射口920を通過して第2のセット905の最初の反射面から反射した後、出射口922を通過する前に、各組900、905の各々における反射面の各々において生じる。更に、光学ビーム130のビームサイズは、光学ビーム130が反射面1105から出射して、反射面1155から反射された後に反射面1110まで伝搬する間に維持されるすなわち、反射面1110での光学ビーム130のビームサイズは、両方のセット900、905の反射面の凹性により、反射面1105のビームサイズと略同一である。光学装置125又は925等の光学装置は、第1のセット200又は900のそれぞれにおいて偶数個の反射面210又は910を用いて構成することができる。同様に、システム125又は925等の光学装置は、第2のセット205又は905のそれぞれにおいて偶数個の反射面215又は915を用いて構成することができる。図12を参照すると、ラッキングに鈍感にとなるようにデザインすることができ、光学装置125は、反射面を支持する各基部が、外力によって同じように移動する、すなわち、基部が同じ方向に角度Θだけ傾斜するようになっている。光学装置125が、各基部において偶数個の反射面を有する場合、このラッキングは、光学装置125を通る光学ビーム130の軌跡において顕著な変化を引き起こすことはないので、光学装置125を出射する光学ビーム130の位置又は方向は、変化しない又は実質的に変化しないままである。更に、偶数個の反射面では、光学ビーム130が最後の反射面から反射して光学装置125の出射口を通って出射する際の光学ビーム130の向きは、光学装置125がラッキングを受ける場合でも変化しない。図13を参照すると、光学装置125は、基部と、各基部を連結する剛体スペーサとを含むシステムフレームの熱膨張差によって発生する可能性がある曲げに鈍感となるようにデザインすることができる。システムフレームの曲げは、光学装置125の各端部の1つおきの反射面上で光学ビーム130の偏移を引き起こす可能性がある。光学装置125が、第1及び第2のセットの各々において偶数個の反射面を用いてデザインされる場合、光学装置125から出力される光学ビーム130は、システムフレームの曲げに鈍感になる。光学装置125は、主発振器135と増幅器140との間のEUV光学源の一部としての構成で示したが、光学装置125は、深紫外DUV光学源又は他の種類の光学配列で用いることができる。例えば、図14を参照すると、別の実施例において、光学装置1425は光学増幅器として実装される。この場合、光学装置1425は、第1の反射面セット1400と第2のセット1405との間の領域1402に利得媒質1403を含む。光学装置1425は、主発振器又はビーム調節ユニット等の他の構成要素を含む大型システムの一部として含めることができる。光学装置1425の出力は、概して機器1415に向かって導かれる。また、図15A及び15Bを参照すると、別の実施例において、光学装置1525は、反射面の各セットの一方が凸面反射面を有するように設計される。この実施例では、第1のセット1500が凸面反射面1510を有する。第1のセット1500の反射面1510の各々は、基板1800のコーティングとして形成することができる。第1のセット1500の反射面1510の各々は、図15Bの断面図で示されるように、面が基板1800から外向きに離れるように膨らんでいる点で凸発散性のものとも呼ぶである。凸形状は、反射面の各々の焦点距離及び光学ビーム130のビームサイズに応じて球面又は別の適切な形状とすることができる。各基板1800は、前述と同様の方式で基部1530に可動式に取り付けられたプレート1805に取り付けることができる。反射面の2つのセットは疑似共焦点のものであり、光学ビーム130は、領域1502の外側で1504と表記した平面に沿って仮想ビームウエストを形成する。このデザインでは、真のビームウエストが存在しないので、中間焦点の存在を回避し、それによって高パワー光学ビーム130における空気の絶縁破壊に付随する問題が低減されるという利点を有する。しかしながら、反射面の各セットにおける光学ビーム130のサイズは異なる。他の実施例では、光学装置125、225、1425、1525の反射面は、楕円構成、多角形構成、又は別のアレイ構成で配列することができる。他の実施例では、反射面は、非点収差の形状とすることができ、光学ビーム130の光学軸に対して垂直な2つの方向に異なる曲率を有する。このシステムでは、各方向の一方におけるビームウエストは、光学軸に沿って他方の方向におけるビームウエストとは異なる箇所に配置することができる。他の実施例は、特許請求の範囲に含まれる。"