"アンモニアの存在においてエチレンシアノヒドリンと水素との反応時に生ずる3-アミノプロパノールを含有した反応生成物の精製方法であって、3-アミノプロパノールを含有した前記反応生成物を2段階またはそれより多くの多段階で蒸留し、その際、第1の蒸留段階に導入する前の、3-アミノプロパノールを含有した前記反応生成物のアンモニア含有量は1質量またはそれ未満であり、各蒸留段階の温度は135°Cを越えないことを特徴とする方法。前記第1の蒸留段階に導入される3-アミノプロパノールを含有した前記流入流は0.1質量またはそれ未満のアンモニア含有量を有することを特徴とする、請求項1に記載の方法。エチレンシアノヒドリンは酸化エチレンと青酸との反応によって製造されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。アンモニアの存在におけるエチレンシアノヒドリンと水素との反応は触媒前駆体の還元によって得られる触媒の存在において行なわれることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。前記触媒前駆体は触媒活性成分としてCoO,NiO,CuO,RuOOHxまたはLiCoO2を含んでいることを特徴とする、請求項4に記載の方法。前記触媒前駆体の前記触媒活性物質は、水素による還元前に、CoOとして計算して55~98質量のCo、H3PO4として計算して0.2~15質量のリン、MnO2として計算して0.2~15質量のマンガンおよび、M2OM=アルカリ金属として計算して0.2~15質量のアルカリ金属を含んでいることを特徴とする、請求項5に記載の方法。アンモニアの存在におけるエチレンシアノヒドリンと水素との反応は固定床型反応器で行なわれることを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。使用されるアンモニアと使用されるエチレンシアノヒドリンとのモル比は1:1~50:1の範囲にあることを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。3-アミノプロパノールを含有した前記反応生成物のアンモニア含有量は、前記第1の蒸留段階に供給される前に、脱気によって低下されることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。前記脱気は、精留塔内で、ストリップガスの導入下で行なわれることを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項に記載の方法。前記第1および/または第2の蒸留段階における塔底部温度は100~125°Cであることを特徴とする、請求項1から10までのいずれか1項に記載の方法。アンモニアの存在におけるエチレンシアノヒドリンと水素との反応による3-アミノプロパノールの製造方法であって、3-アミノプロパノールを含有した前記反応生成物の精製を請求項1から11までのいずれか1項に記載の方法によって実施することを特徴とする方法。3-アミノプロパノール誘導体の製造方法であって、使用される3-アミノプロパノールの製造は請求項1から12までのいずれか1項に記載の方法によって行なわれることを特徴とする方法。パンテノール、アカンプロセート、メフェノレックス、ドンペリドン、イフォスアミドまたはウラピジルの製造方法であって、使用される3-アミノプロパノールの製造は請求項1から12までのいずれか1項に記載の方法によって行なわれることを特徴とする方法。"