明細書中に記載の発明。従って、低い放射線浸入度を有する高い光学密度の流体を均一に照射する際に極めて有効な、連続的なフローデバイスおよび方法を提供することは、本発明の目的である。高い光学密度を有する流体に対するより均一な放射線照射を促進する流体の制御および予想可能な混合を用いた、滅菌放射線による生物学的流体の病原体不活性化のための連続的なフローデバイスおよび方法を提供することもまた、本発明の目的である。流体フローにおける最小限の圧力低下を伴う流体の放射状の混合を提供する連続的なフローデバイスおよび方法を提供することもまた、本発明の目的である。デバイス内の流体の均一で狭い滞留時間の分布を提供することによって、放射線照射に対するさらに別の制御を提供する、連続的なフローデバイスおよび方法を提供することもまた、本発明の目的である。最小限の空気/流体界面を有することによって、流体中のタンパク質分解を最小限に抑える、連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが、本発明の別の目的である。剪断応力および高タンパク質流体生成物の剪断誘導性分解を最小限に抑える、連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが本発明の別の目的である。拡張性があり、従って生産ラインを製造する助けとなる大容量のスループットが可能である、連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが本発明の別の目的である。経済的で費用効果のある連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが本発明の別の目的である。種々の異なる放射線源に適合可能である連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが本発明の別の目的である。洗浄の容易さを可能にする連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが本発明の別の目的である。バリデーション、すなわち、科学的な原理を通じた有効性、再現性および信頼性の実証が可能である、連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが本発明の別の目的である。これらおよび他の目的は、本明細書の説明および図面を検討した後に容易に明らかになる。発明の要旨本発明は、放射線量の均一性およびこのデバイス内の流体の滞留時間の狭い分布を示す連続的なフローの通路の配置における滅菌放射線を用いた生物学的流体中の病原体を不活性化するためのデバイスおよび方法を提供する。このデバイスはまた、二次流れの生成を通じた制御された予測可能な流体の回転を提供する。この回転は、流体の放射線照射の制御に寄与する。このデバイスは、高い光学密度を有する流体に放射線量の均一性を提供することに関して特に有効である。このデバイスは、管tube内に配置された同心性の円筒形ローターを有する放射線透過性の円筒形の管を備え、これによって、それらの間に比較的細い間隙を提供する。頂部topplateプレートおよび底部プレートbottomplateは、この管をシールする。頂部プレートおよび底部プレートは、タイロッドtierodで共に保持される。底部プレートは、管とローターとの間の細い間隙と流体連通した流体入口fluidinletを有する。頂部プレートは、同様に管とローターとの間の間隙と流体連通した流体出口fluidoutletを有する。底部プレートは、基盤baseに固定されており、基盤は、ドライブコントローラおよびドライブシャフトを有するモーターを備える。ローターシャフトは、円筒形のローターを通じて軸方向に配置されており、そして底部プレート上のローター開口部を通って延びている。このローターシャフトはまた、基盤上の開口部を通って延びており、そしてこのモーターのドライブシャフト上のローターシャフトギアおよびモーターギアを介して、モーターと機械的に連結されている。ポンプまたは他の手段は、底部プレートの入口から頂部プレートの出口への、このデバイスを通過する流体のフローを提供する。流体がこのデバイスを通って上方向へ流れるとき、放射線源は、管を通じて流体を滅菌照射する。放射線源は、特定の流体に対して最適な波長で、滅菌UV線を提供する。管とローターとの間の間隙は、流体フロー中での最小限の圧力降下を伴う高流量の流体を提供するために設計されている。流体が流れるとき、モーターはローターを駆動し、テイラー渦vortexの形態で流体中に二次流れを与え、この二次流れが、管により近い流体とローターにより近い流体とを交換する。このテイラー渦vortexにより引き起こされる制御される予測可能な混合は、このデバイスを通じて流れる流体の均一な放射線量を提供する。このデバイスはまた、デバイス内の流体の滞留時間の狭い分布を示す。別の実施形態において、このデバイスは、放射線透過性の平坦な頂部表面を有する相対的に平坦で剛性の流体チャンバー、内部底部表面ならびに流体入口および流体出口を備える。このチャンバーは、流体入口から外向きに突出している角度付けられた側表面を有し、そしてこの側表面は、入口を通って流れる流体のためのディフューザーdiffuserを形成している。このチャンバーの出口はまた、角度付けられた側表面で構成されており、出口での圧力水頭を減少させ得る。放射線源は、チャンバーの頂部表面に隣接して提供される。カスケード上部表面cascadinguppersurfaceを有するカスケード基盤cascadingbaseは、流体チャンバー内の内部底部表面上に配置される。このカスケード上部表面は、流体チャンバーを通って流れるときに、流体に対するカスケード効果を生成する複数のハンプhumpを有する。流体がチャンバーを通って流れるとき、流体の薄膜が各ハンプに覆い被さり、そして高透明度のプレートを通過する放射線に曝される。カスケード基盤の幾何学は、ウズeddy形成の形態で流体中に二次流れを与える。このウズeddy形成は、流体の制御された予測可能な混合を提供し、流体の均一な放射線照射を保証する。本発明はまた、以下の項目を提供する。項目1流体中の病原体を不活性化するためのデバイスであって、以下:流体フロー中の流体と流体連通している放射線透過性容器;該容器内に配置されたミキサーであって、該流体の制御された予測可能な混合を提供するミキサー;および該容器から固定された距離に配置された放射線源であって、ここで、該放射線源が、該容器を通って移動する該流体を照射する、放射線源を備える、デバイス。項目2上記放射線透過性容器が、石英から作製される、項目1に記載のデバイス。項目3上記放射線透過性容器が、ポリメチルペンテンから作製される、項目1に記載のデバイス。項目4上記放射線源が、紫外線源である、項目1に記載のデバイス。項目5上記放射線源が、電離紫外線レーザーである、項目1に記載のデバイス。項目6上記電離紫外線レーザーが、パルスレーザーである、項目5に記載のデバイス。項目7上記電離紫外線レーザーが、およそ240nmと260nmとの間の紫外光放射を生じる、項目5に記載のデバイス。項目8項目7に記載のデバイスであって、上記紫外光放射のエネルギーが、0.1Jよりも大きい、デバイス。項目9流体中の病原体を不活性化するためのデバイスであって、以下:流体フロー中の流体と流体連通している放射線透過性容器;該容器内に配置されたミキサーであって、該ミキサーと該容器との間に間隙を形成し、ここで、該ミキサーが、該間隙を通って移動する該流体フロー内に二次流れを与える、ミキサー;および該容器から固定された距離に配置された滅菌紫外線源であって、該間隙を通って移動する該流体を照射する、紫外線源を備える、デバイス。項目10上記ミキサーが、回転シリンダーを備える、項目9に記載のデバイス。項目11上記ミキサーが、カスケード表面を備える、項目9に記載のデバイス。項目12上記二次流れが、テイラー渦vortexである、項目9に記載のデバイス。項目13上記二次流れが、幾何学的に誘導されるウズeddy形態である、項目9に記載のデバイス。項目14上記滅菌紫外線源が、紫外線レーザーである、項目9に記載のデバイス。項目15上記紫外線レーザーが、およそ240nmと260nmとの間の紫外光放射を生じる、項目14に記載のデバイス。項目16上記紫外光放射のエネルギーが、0.1Jよりも大きい、項目15に記載のデバイス。項目17流体中の病原体を不活性化するためのデバイスであって、以下:内部表面、流体入口、流体出口を有するシールされた放射線透過性の中空のシリンダーであって、該流体入口および該流体出口が流体フロー中の流体と流体連通している、放射線透過性の中空のシリンダー;該シリンダー内に同心的に配置されている円筒形ローターであって、これによって該ローターと該中空シリンダーの内部表面との間に間隙を形成する、円筒形ローター;該円筒形ローターに連結されたローターシャフト;該ローターシャフトに機械的に連結され、そして該シリンダー内で該ローターの回転を与え得るモーターであって、ここで、該ローターの回転が、該間隙を通って移動する該流体フロー内にテイラー渦vortexを与える、モーター;および該間隙を通って移動する該流体を照射する、該シリンダーから固定された距離に配置された滅菌放射線源を備える、デバイス。項目18上記シリンダーが、垂直位置にある、項目17に記載のデバイス。項目19上記シリンダーが、水平位置にある、項目17に記載のデバイス。項目20上記シリンダーが、頂部プレートおよび底部プレートでシールされる、項目17に記載のデバイス。項目21項目20に記載のデバイスであって、上記流体出口が上記頂部プレートを通過し、そして上記流体入口が上記底部プレートを通過する、デバイス。項目22上記ローターが、およそ毎分0回転と毎分200回転との間の速度で回転する、項目17に記載のデバイス。項目23上記ローターが、およそ毎分0回転と毎分100回転との間の速度で回転する、項目17に記載のデバイス。項目24上記ローターが、およそ毎分50回転と毎分100回転との間の速度で回転する、項目17に記載のデバイス。項目25上記ローターが、該ローター上に放射線反射コーティングを有する、項目17に記載のデバイス。項目26上記ローターが、放射線反射物質から作製される、項目17に記載のデバイス。項目27流体中の病原体を不活性化するためのデバイスであって、以下:流体フロー中の流体と流体連通している放射線透過性容器であって、該容器が、該容器の流体通路を通って移動する該流体フロー中に二次流れを与えるカスケード表面を備える流体通路を規定する、放射線透過性容器;および該容器から固定された距離に配置された滅菌放射線源であって、該容器の流体通路を通って移動する該流体を照射する、放射線源を備える、デバイス。項目28上記滅菌放射線源が、紫外線レーザーである、項目27に記載のデバイス。項目29上記紫外線レーザーが、パルスレーザーである、項目28に記載のデバイス。項目30上記滅菌放射線源が、およそ240nmと260nmとの間の紫外光放射を生じる、項目27に記載のデバイス。項目31上記紫外光放射のエネルギーが、0.1Jよりも大きい、項目30に記載のデバイス。項目32上記容器が、平坦な頂面を有する長方形型を有する、項目27に記載のデバイス。項目33上記平坦な頂面が石英から作製される、項目32に記載のデバイス。項目34上記平坦な頂面が、ポリメチルペンテンである、項目32に記載のデバイス。項目35上記容器の上記カスケード表面が、放射線反射物質でコーティングされている、項目27に記載のデバイス。項目36上記容器の上記カスケード表面が、放射線反射物質から作製される、項目27に記載のデバイス。項目37連続的なフローの配置で滅菌放射線によって流体中の病原体を不活性化するための方法であって、以下の工程:連続的な流体フロー中の流体のための流体通路を形成する工程;該流体通路内の該流体の二次流れを与える工程;および該流体通路内の該流体を照射する工程、を包含する、方法。項目38項目37に記載の方法であって、上記与えられた二次流れが、該流体フローの細い流体通路内でのテイラー渦vortexである、方法。項目39項目37に記載の方法であって、上記与えられた二次流れが、幾何学的に誘導されるウズeddy形態である、方法。発明の詳細な説明本発明は、添付の図面を参照して本明細書後半で完全に記載され、その中で特定の実施形態が示されているが、一方で当業者が本明細書に記載される発明を改変し得るがなお本発明の所望の結果を達成し得ることが最初から理解される。従って、以下の説明は、適切な分野の当業者に向けられた広範な参考となる開示であって、本発明の限定ではないと理解されるべきである。図1および図2を参照すると、デバイス10は、デバイス10を通って流れる流体を均一に照射するために提供される。このデバイス10は、管12内に配置された同心円の円筒形ローターを有する放射線透過性の円筒形の管12を備え、それによってそれらの間に細い間隙16を提供する。円筒形の管12は、特定の流体を滅菌するために用いられる放射線のタイプに対して高度に透明である。好ましくは、この円筒形の管12は、溶融石英またはポリメチルペンテンから作製される。頂部プレート18および底部プレート20は、円筒形の管12をシールする。頂部プレート18および底部プレート20は、1つ以上のタイロッド22を用いて共に保持される。底部プレート20は、円筒形の管12とローター14との間の細い間隙16と流体連通した流体入口24を備える。頂部プレート18は、同様に円筒形の管12とローター14との間の薄い間隙16と流体連通した流体出口26を備える。流体のフロー方向は、図1における矢印AおよびBにより示される。しかし、流体入口24および流体出口26は、円筒形の管12の任意の位置で提供される。頂部プレート18および底部プレート20は、シリンダーと頂部プレート18ならびにシリンダーと底部プレート20との間の液密シールを提供するように設計される。圧縮型のシールを提供するのに適切な硬度durometerを有するo-リング、グロメットgrommetまたは他の形態の材料示されていないが、シールを提供するために用いられ得る。底部プレート20は、基盤28に固定されており、基盤は、ドライブコントローラ30およびドライブシャフト34を有するモーター32を備える。ローターシャフト36は、円筒形のローター14を通じて軸方向に配置されており、そして底部プレート20のローター開口部38を通って伸びている。ローターシール39は、ローターシャフト36の周囲およびローター開口部38内に同心円状に配置されている。ローターシール39は、流体が円筒形の管12から漏れるのを防ぐ。ローターシャフト36はまた、基盤28上の開口部40を通って延びており、そしてこのモーター32のドライブシャフト34上のローターシャフトギア42およびモーターギア44を介して、モーター32と機械的に連結されている。あるいは、モーター32は、ローターシャフト36に直接的に連結されている。この構成において、モーター32は、直立位置uprightpositionに取りつけられており、そしてローターシャフト36とインラインである。ポンプ示されていないまたは他の手段は、底部プレート20の入口24から頂部プレート18の出口26への、このデバイス10を通過する流体のフローを提供する。流体がこのデバイス10の円筒形の管12を通って上方向へ流れるとき、放射線源示されていないは、円筒形の管12を通じて流体を照射矢印Cにより示されるする。あるいは、流体入口24および流体出口26は、管12上の任意の位置に提供され、任意の方向の流体フローを提供し得る。円筒形の管12とローター14との間の間隙16は、デバイス10を通過する流体の高流量および最小限の圧力低下の助けとなる比較的細い流体通路を提供する。流体が流れるとき、モーター30はローター14を駆動し、テイラー渦vortexの形態で流体に二次流れを与え、この二次流れが、円筒形の管12により近い流体とローター14により近い流体とを交換する。流体通路とテイラー渦vortexにより引き起こされる混合との組合せは、デバイス10内の流体の滞留時間の狭い分布を提供する。デバイス10のローター14は、UV反射物質例えば、金属酸化物でコーティングされるかまたはUV反射物質をプリントされており、流体の均一な放射線照射を提供することに関してさらなる助けとなる。好ましくは、このコーティングは、酸化マグネシウムかまたは酸化チタンである。さらに、光ファイバー技術が、このデバイス10のローター14に組み込まれて、放射線源からの管12を通じた放射線と共に、ローターからの放射線を提供する。この配置は、流体フローの2つの側からの流体の照射を提供する。図3は、デバイス110の形態の別の実施形態を示す。デバイス110は、内部に流体チャンバー113を規定する、相対的に平坦で剛性な流体チャンバーハウジング112を備える。この流体チャンバーハウジング112は、放射線透過性の平坦な頂部表面114、流体入口116および流体出口118を有する。このチャンバー113は、流体入口116から外向きに突出している、角度付けられた側表面120および122を有し、そして図4に示すように、入口116を通って流れる流体のためのディフューザー124を形成している。このチャンバーハウジング112の出口118はまた、角度付けられた側表面で構成されており、出口116での圧力水頭を減少させ得る。流体チャンバーハウジング112の平坦な頂部表面114は、特定の流体を滅菌するための用いられる放射線のタイプに対して高度に透明である材料から作製される。カスケード基盤126は、流体チャンバー113の底部を含む。カスケード基盤126は、流体チャンバー113内に配置されたカスケード上部表面128を有する。このカスケード上部表面128は、流体チャンバー113を通って流れるときに、流体に対するカスケード効果を生成する複数のハンプ130を有する。流体がチャンバー113を通って流れるとき、流体の薄膜が各ハンプ130に覆い被さり、そして高透明度の頂部表面114を通過する放射線図3において矢印Cにより示されるに曝される。カスケード基盤126は、ウズeddy形成の形態で流体中に二次流れを与える。このウズeddy形成は、流体の制御された予測可能な混合を提供し、流体チャンバー113内の流体の均一な放射線照射を保証する。カスケード基盤126は、種々の一般に入手可能なプラスチック例えば、ABS、改質アクリル樹脂および改質PETから射出成形され得る。これらの樹脂はまた、UV照射に対して高度な反射性を有する色素例えば、無機酸化物とブレンドされ得る。あるいは、カスケード上部表面128は、UV反射物質例えば、金属酸化物でコーティングされるかまたはプリントされ、流体の均一な放射線照射を提供することに関してさらなる助けとなる。好ましくは、このコーティングは、酸化マグネシウムまたは酸化チタンである。流体を滅菌するために用いられる放射線源は、好ましくは紫外線UV源例えば、電離UVレーザーまたはパルスレーザーである。しかし、γ線または電子β線もまた用いられ得る。滅菌放射線のタイプは、滅菌される特定の流体に基き変化し得る。滅菌放射線のこれらのタイプの全ては、広範な病原体に対して有効であることが見出されている。図5で示されるグラフは、UV線に対する波長の範囲にわたるヒト血漿の吸収性を表わす。好ましくは、240nmと250nmとの間の波長を有するUV線が、ヒト血漿を処理するために用いられる。多くの生物学的流体への滅菌放射線の浸入度は、極めて浅い。図6は、20、40、および100の吸光度absorbanceでの光の強度を浸入度の関数として表わすグラスを示す。250nmの波長でのUV線は、約0.15mm6milsの浸入度のヒト血漿において強度の半分を失う。このことは、流体中での特に、流体チャンバー壁での非均一な放射線量の分布をもたらし得る。デバイス10により流体中に与えられるテイラー渦vortexおよびデバイス110のカスケード基盤126により与えられるウズeddy形形成は、この効果を実質的に最小化し、それによってより均一な流体の放射線照射を提供する。従って、これらのデバイスは、高い光学密度を有する流体に均一な放射線量を提供することに関して特に有効である。デバイス10内の流体の滞留時間の分布における減少は、以下の実施例により実証される。実施例少量の青色色素溶液を、流体流がデバイスに侵入するときに流体流に注入した。この青色色素を用いて、デバイス内の流体の滞留時間を分光光度計を使用して測定した。流体流がデバイスの流体出口を通って出るときに流体流の吸光度を、時間の関数としてモニターした。吸光度を、データ取得システムに備え付けられたフロースルー分光光度計を用いてモニターした。特別な注入弁injectorvalveを用いて、反復ごとに同量の色素が用いられることを保証した。グリセロール-水溶液を用いて、血漿の流動抵抗4°Cにて約3cpをシミュレートした。測定されたグリセロール-水溶液の流動抵抗は、2.77cpであった。この実験に関して、流量は、102ml/分であり、そしてローターとシリンダーとの間の間隙は、0.1088インチであった。吸光度の読み出しを、0.5秒ごとに行った。図7に示されるグラフは、この実験の結果を図示し、この結果を表1において表にする。収集された吸光度-時間のデータを、以下のように分析した。正規化された分布Atiを、以下の式を用いて生分布Rtiからまず算出した。ここで、Δtは、吸光度の読み出し間の時間である。次いで平均滞留時間μを以下のように算出した。標準偏差は、Atiの二次モーメントの平方根:として本明細書中で定義される。歪度の係数分布の非対称性の尺度は、以下のように定義される。ここで、m3は、Atiの三次モーメントである。テイラー渦vortexが存在するか否かを決定するテイラー数は、以下から与えられる。ここで、ωはローターの角速度であり、gは間隙であり、ηは管半径に対するローター半径の比であり、そしてνは流体の動粘性率である。渦vortexは、1724以上のテイラー数で存在する。図7のグラフの上部にあるバーは、流量102ml/分でのデバイス10内の流体の滞留時間の80を表わす。これらの時間の決定方法は、図8に例示目的で図示されている。図8に示される曲線は、図7で示された50rpmの曲線である。この例は、デバイスのローターが0rpmと100rpmとの間で作動した場合に、最も短い滞留時間の分布が達成されたことを証明する。特定の実施形態が説明および記載されているが、多くの改変が、本発明の精神から大きく逸脱することなく想到され、そして保護の範囲は、添付の特許請求の範囲によってのみ限定される。