インクを吐出するための複数のエネルギー発生素子と、該エネルギー発生素子へインクを供給するためのインク供給口と、を備える基板と、前記複数のエネルギー発生素子のそれぞれに対応するインクを吐出するための複数の吐出口と、該複数の吐出口のそれぞれと連通する複数のインク流路と、前記複数のインク流路と連通する共通液室と、を有する流路形成部材と、を備えるインクジェット記録ヘッドであって、前記共通液室は、前記吐出口を含む吐出口領域とインクを排出する排出口を含む排出口領域とに遮蔽壁によって仕切られ、該吐出口領域にはフィルタを介してインクが流入し、前記吐出口の径及び前記インク流路の径のうち最小径をAとし、前記フィルタが有する開口の最大径をBとした場合、A≧Bを満たすインクジェット記録ヘッド。前記排出口領域には前記フィルタを介さずにインクが流入する請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド。前記フィルタがポリエーテルアミド樹脂を含む請求項1又は2に記載のインクジェット記録ヘッド。前記複数の吐出口が、第1の吐出口列と、該第1の吐出口列の吐出口から吐出される液滴よりも大きな液滴を吐出するための第2の吐出口列と、からなり、該第1の吐出口列及び該第2の吐出口列は、該第1の吐出口列と該第2の吐出口列との間に対応する位置に前記インク供給口が設けられるように備えられ、前記共通液室の吐出口領域は、支持部材により前記第1の吐出口列を含む第1の吐出口列領域と、前記第2の吐出口列を含む前記第2の吐出口列領域に仕切られ、前記第1の吐出口列の吐出口の径及び該吐出口に連通するインク流路の径のうち最小径をDとし、前記第1の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最大径をEとした場合、D≧Eを満たし、かつ、前記第2の吐出口列の吐出口の径及び該吐出口に連通するインク流路の径のうち最小径をFとし、前記第2の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最大径をGとした場合、F≧Gを満たす請求項1から3のいずれか一項に記載のインクジェット記録ヘッド。前記第2の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最大径をHとし、前記第1の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最大径をIとした場合、H≧Iを満たす請求項4に記載のインクジェット記録ヘッド。前記遮蔽壁に少なくとも一つの開口が設けられ、遮蔽壁に設けられた該開口の最大径をJとした場合、A≧Jを満たす請求項1から3のいずれか一項に記載のインクジェット記録ヘッド。前記遮蔽壁に少なくとも一つの開口が設けられ、前記第1の吐出口列領域の遮蔽壁に設けられた該開口の最大径をKとした場合、D≧Kを満たし、かつ前記第2の吐出口列領域の遮蔽壁に設けられた該開口の最大径をLとした場合、F≧Lを満たす請求項4又は5に記載のインクジェット記録ヘッド。前記第1の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最小径をMとした場合、M≧Kを満たし、かつ、前記第2の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最小径をNとした場合、N≧Lを満たす請求項7に記載のインクジェット記録ヘッド。しかしながら、特許文献1や特許文献2の構成では、フィルタの孔のサイズより大きな異物はインク流路や吐出口に到達することはないが、フィルタに捕集され続ける。フィルタに捕集できる異物の量には許容範囲があり、それを超えた場合には吐出口へのインク供給性が低下し、インク吐出特性が低下する。本発明は前記課題を解決することを目的とし、インク供給性を長期にわたり維持することが可能な、信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを提供する。本発明に係るインクジェット記録ヘッドは、インクを吐出するための複数のエネルギー発生素子と、該エネルギー発生素子へインクを供給するためのインク供給口と、を備える基板と、前記複数のエネルギー発生素子のそれぞれに対応するインクを吐出するための複数の吐出口と、該複数の吐出口のそれぞれと連通する複数のインク流路と、前記複数のインク流路と連通する共通液室と、を有する流路形成部材と、を備えるインクジェット記録ヘッドであって、前記共通液室は、前記吐出口を含む吐出口領域とインクを排出する排出口を含む排出口領域とに遮蔽壁によって仕切られ、該吐出口領域にはフィルタを介してインクが流入し、前記吐出口の径及び前記インク流路の径のうち最小径をAとし、前記フィルタが有する開口の最大径をBとした場合、A≧Bを満たす。本発明によれば、インク供給性を長期にわたり維持することが可能な、信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを提供することができる。[インクジェット記録ヘッド]インクジェット記録ヘッドの製造時や使用時にはゴミ等の異物がインクジェット記録ヘッド内に発生する。本発明に係るインクジェット記録ヘッドによれば、吐出口へ到達するインクはフィルタに形成された開口を必ず通過することになる。この開口径を共通液室、インク流路及び吐出口を含めたインク経路のうちで最も狭い部分より小さくすることで、開口より大きい異物はインク供給口部のフィルタに捕集されるため、インク流路や吐出口に詰まることがない。さらに排出口径を開口径より大きくすることで、捕集された異物は通常行われるリフレッシング動作により、排出口からインクジェット記録ヘッドの外部へ排出される。これにより、インク供給性を半永久的に維持することが可能となる。本発明に係るインクジェット記録ヘッドの一例を、図1を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを示す模式図である。本実施形態のインクジェット記録ヘッドは、表面に複数のエネルギー発生素子2が所定のピッチで2列に並んで配置されている基板1を備える。基板1には、異方性エッチングすることによって形成されたインク供給口13が、エネルギー発生素子2の2つの列の間に形成されている。基板1上には、流路形成部材9によって、各エネルギー発生素子2に対応する吐出口11と、インク供給口13から各吐出口11に連通するインク流路21不図示が形成されている。また、吐出口11の列の両端部には排出口16が設けられている。このインクジェット記録ヘッドは、吐出口11が形成された面が記録媒体の記録面に対面するように配置される。そして、インク供給口13を介してインク流路21内に充填されたインクに、エネルギー発生素子2によって発生するエネルギーが加えられることによって、吐出口11からインク液滴が吐出される。このインク液滴を記録媒体に付着させることによって記録を行う。第一の実施形態本発明の第一の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを、図2を参照して説明する。図2aは本実施形態のインクジェット記録ヘッドの吐出口11付近の上面透視図、図2bは図2aのA-A断面図である。本実施形態のインクジェット記録ヘッドは、図2aに示すように、所定の径を有する吐出口11からなる2つの吐出口列がインク供給口13を挟むように設けられている。さらにインク供給口13の基板表面側には所定の開口15が形成されているフィルタ7がインク供給口13の一部を塞ぐように配置されている。また、流路形成部材9の吐出口11の列の両端部には排出口16が設けられている。ここで、吐出口11の径及び吐出口11に連通するインク流路21の径のうち最小径をAとし、複数の開口15の最大径をBとした場合、A≧Bを満たす。また、複数の排出口16の最小径をCとした場合、C≧Bを満たすことが好ましい。さらに、複数の排出口16の最大径をOとした場合、O>Aであると、後述するフィルタに捕集された異物を取り除く点で好ましい。複数の排出口16の最小径をQとした場合、Q>Aであることも、フィルタに捕集された異物を取り除く点で好ましい。尚、本発明における径とは、穴の最大径を意味する。例えば吐出口や開口が真円の場合には直径の長さであり、正方形の場合には対角線の長さである。吐出口11及び排出口16に連通する共通液室のうち、排出口領域共通液室Aは排出口16に連通しており、吐出口領域共通液室Bは吐出口11に連通している。吐出口11を含む吐出口領域と、インクを排出する排出口16を含む排出口領域は、遮蔽壁18によって仕切られている。共通液室Bは、流路形成部材9と基板表面と接している遮蔽壁18と開口15を有するフィルタ7とによって共通液室Aと仕切られている。このため、吐出口領域共通液室Bにはフィルタ7を介してインクが流入する。フィルタ7が有する開口15の径より大きな異物は、フィルタ7に設けられた開口15を通過して吐出口11に到達することはない。一方、開口15より小さな異物はフィルタ7に設けられた開口15を通過して吐出口11に到達することはできるが、前述したそれぞれの径の大きさの関係から該異物が吐出口11に詰まることはないため、印字は良好に行われる。一方、排出口領域にはフィルタ7を介さずにインクが流入することが好ましい。図2においては、排出口領域共通液室Aとインク供給口13の間にフィルタ7を存在させないようにしている。これにより、排出口16から異物を排出しやすくし、リフレッシング動作を効率的に行うことができる。通常インクジェット記録ヘッドは使用過程において、吐出口11及びインク流路21内のインクの乾燥による吐出不良を防止するため、流路形成部材9表面側から吸引によりインクジェット記録ヘッド内のインクを吸い出すリフレッシング動作が定期的に行われる。本実施形態では、インク中の異物やフィルタ7に捕集された異物を、前記リフレッシング動作により生じたインクの流れによって排出口16からインクジェット記録ヘッド外へ排出することができる。吐出口11の径より排出口16の径の方が大きいと、リフレッシング動作時のインク流速は排出口16に向かう方が速く、フィルタ7に捕集されていた異物は排出口16へと誘導される。このため、先に述べた通り、O>Aであることが好ましい。また、Q>Aであることが好ましい。さらに、吐出口11と排出口16とを同時に吸引するのではなく、排出口16のみを吸引する異物排出動作を行えば、インク供給口13から排出口16へと向かうインクの流れのみとなる。このため、より効率よく異物をインクジェット記録ヘッド外へ排出することができるため好ましい。さらに、リフレッシング動作を行う場合、インクを逆流させてフィルタ7に捕集された異物をインク中に浮遊させ、その後で吸引を行うことで、さらに効率よく異物をインクジェット記録ヘッド外へ排出することができるため好ましい。本実施形態では図2aに示すように、排出口16は吐出口11の列の両端部に2つずつ配置されているが、これに限られず、吐出口11の列の両端部に1つ以上設けることができる。また、本実施形態ではC≧Bを満たしているが、複数の排出口16のうち少なくとも一つの排出口16の径がBより大きければよい。第二の実施形態本発明の第二の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを、図3を参照して説明する。図3aは本実施形態のインクジェット記録ヘッドの吐出口付近の上面透視図、図3bは図3aのA-A断面図、図3cは図3aのB-B断面図である。第一の実施形態に対して、第二の実施形態では2つの吐出口列の吐出口径が異なり、吐出口列が第一の吐出口22の列と、第二の吐出口20の列とからなる。第二の吐出口20は第一の吐出口22よりも大きく、第二の吐出口20の列は第一の吐出口22から吐出されるインク液滴よりも大きなインク液滴を吐出することができる。インク供給口13は、第1の吐出口列と第2の吐出口列との間に対応する位置に設けられている。また図3cに示すように、開口が設けられたフィルタ7と、流路形成部材9との間に、フィルタ7と遮蔽壁18とを支持するための支持部材19が設けられている。支持部材19は例えばインクがインク供給口13から勢い良く共通液室B内に流入した場合、フィルタ7がインク流に押されて破損することを防止でき、フィルタ7の物理的な破損に対する強度を高めることができる。この支持部材19によって吐出口領域である共通液室Bは、第一の吐出口列を含む第一の吐出口領域と、第二の吐出口列を含む第二の吐出口領域とに仕切られる。また、フィルタ7に形成された開口の大きさは支持部材19を境にして異なる。第一の吐出口22の径及び第一の吐出口22に連通するインク流路23の径のうち最小径をDとし、第一の吐出口列領域のフィルタ7に設けられた開口25の最大径をEとした場合、D≧Eを満たす。また、第二の吐出口20の径及び第二の吐出口20に連通するインク流路21の径のうち最小径をFとし、第二の吐出口列領域のフィルタ7に設けられた開口24の最大径をGとした場合、F≧Gを満たす。これにより、インク供給口13から第一の吐出口22及び第二の吐出口20にそれぞれ至る経路において、最小径となるのはそれぞれフィルタ7に形成された開口25及び開口24となる。このため、インク流路23、21、第一の吐出口22及び第二の吐出口20において異物が詰まることはない。また、捕集された異物は、実施例1と同様に定期的に排出口16より排出されるため、異物がインクジェット記録ヘッド内に蓄積されることはない。本実施形態において、第二の吐出口列領域のフィルタ7に設けられた開口24の最大径をHとし、第一の吐出口列領域のフィルタ7に設けられた開口25の最大径をIとした場合、H≧Iを満たすことが好ましい。第三の実施形態本発明の第三の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを、図4を参照して説明する。図4は本実施形態のインクジェット記録ヘッドの吐出口11付近の上面透視図、図4bは図4aのA-A断面図である。本実施形態は遮蔽壁18にも開口26を設けている点が第一の実施形態と異なっているが、その他の構成は同じであるため、異なる点のみ説明する。遮蔽壁18に設けられた開口26の最大径をJとした場合、A≧Jを満たす。これにより、吐出口11の径及び吐出口11に連通するインク流路21の径より大きな異物が共通液室B内に侵入することがない。また、遮蔽壁18に開口26が設けられることにより、吐出口11までのインク供給性をより向上させることができる。第四の実施形態本発明の第四の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの説明を、図5を参照して説明する。図5aは本実施形態のインクジェット記録ヘッドの吐出口付近の上面透視図、図5bは図5aのA-A断面図である。本実施形態は遮蔽壁18にも開口26を設けている点が第二の実施形態と異なっているが、その他の構成は同じであるため、異なる点のみ説明する。第1の吐出口列領域の遮蔽壁18に設けられた開口の最大径をKとした場合、D≧Kを満たす。また、第2の吐出口列領域の遮蔽壁18に設けられた開口の最大径をLとした場合、F≧Lを満たす。これにより、遮蔽壁18に設けられた開口26を通過した異物は、インク流路23から第一の吐出口22及びインク流路21から第二の吐出口20に至る経路において、最も狭い部分を通過できるため、異物詰まりが発生することがない。また、遮蔽壁18に開口26が設けられることにより、第一の吐出口22及び第二の吐出口20へのインク供給性を向上させることができる。第1の吐出口列領域のフィルタ7に設けられた開口の最小径をMとした場合、M≧Kを満たし、かつ、第2の吐出口列領域のフィルタ7に設けられた開口の最小径をNとした場合、N≧Lを満たすことが好ましい。[インクジェット記録ヘッドの製造方法]図6を参照して、第一、第二の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法を説明する。図6は、第一の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法の各工程を、図2のA-A断面で示した断面図である。図6aに示すように、シリコンで形成され、結晶方位が<100>面の基板1を用意し、基板1の一方の面に複数のエネルギー発生素子不図示及び電気信号回路不図示と、インク供給口13を形成するための犠牲層31を形成する。犠牲層31の材質は、アルカリ水溶液でエッチングできるものであればよく、例えばアルミニウムやポリシリコンを用いることができる。またアルミシリコン、アルミ銅、アルミシリコン銅等のアルミニウム含有化合物であってもよい。さらに犠牲層31の上にエネルギー発生素子2及び電気信号回路の保護膜としてSiN膜30を全面にわたって形成する。次に、基板1の他方の面に、後述する異方性エッチングの工程で必要となるエッチングマスク材28を形成する。エッチングマスク材28としては、半導体製造工程における熱酸化工程で形成される熱酸化膜やプラズマCVD等によるSiN膜が望ましい。なお、エッチングマスク材28は異方性エッチング液に耐える材料例えばレジスト等であれば特に限定されず、その製造方法も特に限定されない。次いで、図6bに示すように、基板1の前記一方の面側にフィルタ7を形成する。フィルタ7の材料としては熱可塑性樹脂であるポリエーテルアミド樹脂を用いることが、流路形成部材9との密着性を向上させることができるため好ましい。フィルタ7の材料をスピンコート等によって基板1の表面上に塗布し、その上に不図示のポジ型レジストをパターニングする。その後パターニングしたポジ型レジストをマスクとしてフィルタ7をエッチングすることによって、フィルタ7に開口15を形成することができる。次いで、図6cに示すように、基板1の前記一方の面側に、インク流路21不図示を形成するための溶解可能な樹脂材料からなる型材27を塗布し、インク流路21及び遮蔽壁18の形状に合わせてパターニングする。なお、第二の実施形態に示す支持部材19は、インク流路21や遮蔽壁18と同様に本工程で型材27をパターニングすることで形成することができる。次いで、図6dに示すように、流路形成部材9を、型材27を覆うようにして基板1の前記一方の面側に形成し、インク吐出口11と排出口16とを形成する。なお、流路形成部材9には、感光性材料を使用することができ、露光現像によりインク吐出口11と排出口16とをパターニングすることができる。次いで、図6eに示すように、エッチングマスク材28の一部を残し、インク供給口13に対応する裏面開口領域29を除去する。さらに後述する基板1のエッチング工程において基板1の所望の部分以外がアルカリ水溶液によって破損しないように、基板1を保護材12で覆う。次いで、図6fに示すように、エッチングマスク材28をエッチングマスクとして、アルカリ水溶液を用いた異方性エッチングを行うことで基板1の部分的な除去を行い、インク供給口13を形成する。次いで、図6gに示すように、インク供給口13領域のSiN膜30と、保護材12とを除去し、最後に型材27を除去する。以上により本実施形態に係るインクジェット記録ヘッドが完成する。次に図7を参照して、第三、第四の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法を説明する。遮蔽壁18に開口26を設ける工程以外は図6に示す前記方法と同様であるため、異なる工程についてのみ説明する。図7は、第三の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法の遮蔽壁18に開口26を設ける工程を、図4のB-B断面で示した断面図である。図6cの型材27をパターニングする工程において、型材にポジ型レジストを用いて遮蔽壁18に設ける開口26に相当する部分を露光する。それ以外の部分は図6cと同じように露光を行う。具体的には図7aに示すように、先ず図6の型材27の厚さの1/2の第一の型材32を塗布し、遮蔽壁18、開口26、インク流路21を形成するための露光を行う。次に図7bに示すように、第一の型材32上に感光波長の異なる第二の型材33であるポジ型レジストを塗布する。この時、第一の型材32と第二の型材33とを合わせた厚さが図6cの型材27と同じ厚さとなるようにすることによって、インク流路21の高さが図6と同じになる。その後、第二の型材33に対し異なる波長で遮蔽壁18、開口26、インク流路21を形成するための露光を行い、第一の型材32、第二の型材33を現像することによって、感光部分を除去しパターニングを行う。図7bに示すように、第一の型材32と第二の型材33とで用いるポジ型レジストの感光波長を変えることによって、第二の型材33の露光時に下層にある第一の型材32は影響を受けることがない。ここで、第一の型材32と第二の型材33の厚さは同じとしているが、厚さの比は特に制限されない。その後は図6d以降と同じ工程を経ることでインクジェット記録ヘッドが完成する。ここでは遮蔽壁18に設ける開口26とインク流路21等のその他の部分とを同一の工程でパターニングを行ったが、遮蔽壁18及び遮蔽壁18に設けられた開口26とそれ以外とを別の工程で形成してもよい。この場合は、工程が増えるが、遮蔽壁18及び開口26以外のパターニングは一度の露光で完了するため、アライメントによる形状ズレがなく形状精度の高いパターニングが可能となる。以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこれらに限定されない。実施例1前記第一の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを製造した。図6aに示すように、シリコンで形成され、結晶方位が<100>面の基板1を用意した。基板1の一方の面に複数のエネルギー発生素子不図示及び電気信号回路不図示と、インク供給口を形成するための犠牲層31を形成した。犠牲層31にはアルミニウムを用いた。犠牲層31の上にエネルギー発生素子2及び電気信号回路の保護膜としてSiN膜30を全面にわたって形成した。次に、基板1の他方の面にエッチングマスク材28を形成した。エッチングマスク材28には、半導体製造工程における熱酸化工程で形成されるシリコンの熱酸化膜を用いた。次いで、図6bに示すように、基板1の前記一方の面側にフィルタ7を形成した。フィルタ7の材料としてはポリエーテルアミド樹脂を用いた。ポリエーテルアミド樹脂をスピンコート法により基板1の表面上に塗布し、その上に不図示のポジ型レジストをパターニングした。その後該ポジ型レジストをマスクとしてフィルタ7をエッチングし、フィルタ7に開口15を形成した。なお、フィルタ7の膜厚は2μmとした。次いで、図6cに示すように、基板1の前記一方の面側に、インク流路21不図示を形成するための溶解可能な樹脂材料からなる型材27を塗布し、インク流路21及び遮蔽壁18の形状に合わせてパターニングした。次いで、図6dに示すように、感光性材料を用いて流路形成部材9を、型材27を覆うようにして基板1の前記一方の面側に形成し、露光現像により吐出口11と排出口16とを形成した。次いで、図6eに示すように、エッチングマスク材28の一部を残し、インク供給口13に対応する裏面開口領域29を除去した。さらに基板1を保護材12で被覆した。次いで、図6fに示すように、エッチングマスク材28をエッチングマスクとして、アルカリ水溶液を用いた異方性エッチングを行い、基板1にインク供給口13を形成した。次いで、図6gに示すように、インク供給口13領域のSiN膜30と、保護材12とを除去し、更に型材27を除去した。これにより、インクジェット記録ヘッドを作製した。該インクジェット記録ヘッドは、吐出口11の径及びインク流路21の径のうち最小径をA、開口15の最大径をBとした場合、A≧Bを満たした。実施例2前記第三の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを作製した。実施例1の図6cに示す工程以外の工程は実施例1と同様に行ったため、当該異なる工程についてのみ説明する。図7は、図4aのB-B断面を示す図である。図7aに示すように、ポジ型レジストを塗布して第一の型材32を形成し、遮蔽壁18、開口26、インク流路21を形成するための露光を行った。次に、図7bに示すように、第一の型材32上に、感光波長の異なるポジ型レジストを塗布し、第一の型材32と同じ膜厚の第二の型材33を形成した。第二の型材33に対し前記露光とは異なる波長で遮蔽壁18、開口26、インク流路21を形成するための露光を行った。その後、第一の型材32、第二の型材33を現像することにより、感光部分を除去しパターニングを行った。これにより、インクジェット記録ヘッドを作製した。