"有機性排水を嫌気処理する嫌気処理槽と、嫌気処理槽の処理液を好気処理槽で好気処理し、膜分離モジュールで固液分離して処理水を得る排水処理装置において、膜分離モジュールが槽外型膜分離モジュールであることを特徴とする有機性排水の処理装置。請求項1において、前記有機性排水の全有機物のうち炭素数4以下の有機物の割合が70以上であることを特徴とする有機性排水の処理装置。請求項1又は2において、前記有機性排水が液晶ディスプレイまたは半導体製造工場から排出されるものであることを特徴とする有機性排水の処理装置。上述の通り、電子産業工場排水の嫌気処理では、BOD300~500mg/L程度の排水に対しても95以上の高い除去率で処理することができ、処理液は著しく有機物濃度が低くなる。従って、電子産業排水の嫌気処理の後段の膜分離モジュールとして浸漬型を用いると、膜モジュールを浸漬させるスペースの確保のために曝気槽容量が大きくなり、好気処理槽は極めて低いBOD負荷及び槽内汚泥濃度で運転されることになる。浸漬型膜モジュールを有した好気処理槽内の汚泥濃度が2,000mg/L以下のように低いと、膜表面に濾過ケーク層が形成されず、逆に目詰まりしやすくなる他、汚泥の引抜き量を少なくして過度にSRTを長くした場合、汚泥が分散化して目詰まりしやすくなる。このように、電子産業排水の嫌気処理の後段に設けた、浸漬型膜モジュールを有する好気処理槽では、膜汚染が激しく、洗浄頻度が増加してしまうという問題があった。本発明は、有機性排水を嫌気処理する嫌気処理槽と、嫌気処理槽の処理液を好気処理槽で好気処理し、膜分離モジュールで固液分離して処理水を得る排水処理装置において、膜分離モジュールの膜汚染を抑制し、洗浄頻度を少なくすることを目的とする。請求項1の有機性排水の処理装置は、有機性排水を嫌気処理する嫌気処理槽と、嫌気処理槽の処理液を好気処理槽で好気処理し、膜分離モジュールで固液分離して処理水を得る排水処理装置において、膜分離モジュールが槽外型膜分離モジュールであることを特徴とするものである。請求項2の有機性排水の処理装置は、請求項1において、前記有機性排水の全有機物のうち炭素数4以下の有機物の割合が70以上であることを特徴とするものである。請求項3の有機性排水の処理装置は、請求項1又は2において、前記有機性排水が液晶ディスプレイまたは半導体製造工場から排出されるものであることを特徴とするものである。本発明は、有機性排水を嫌気処理する嫌気処理槽と、嫌気処理槽の処理液を好気処理槽で好気処理し、膜分離モジュールで固液分離して処理水を得る排水処理装置において、該膜分離モジュールを槽外型とする。これにより、好気処理槽容積が膜の設置スペースに影響されず、好気処理槽のBOD負荷、汚泥濃度、SRTを膜汚染の少ない適切な条件で運転できるようになり、膜洗浄頻度が少なくなる。図1は本発明の有機性排水の処理装置のフローを示すものであり、有機性排水は嫌気処理槽1で嫌気処理された後、好気処理槽2に導入され、散気管2aから散気される空気によって曝気されて好気処理される。好気処理液がポンプ3により槽外の膜モジュール4に供給され、透過水が処理水として取り出される。濃縮水は好気処理槽2に返送される。本発明が処理対象とする有機性排水は、液晶ディスプレイまたは半導体製造工場から排出されるものであって、全有機物のうち炭素数4以下の有機物の割合重量割合が70以上である排水が好適である。このような炭素数4以下の有機物としては、イソプロピルアルコールIPA、エチルアルコール、モノエタノールアミンMEA、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドTMAH、ジメチルスルホキシドDMSOなどが例示される。嫌気処理槽の処理方式は限定されないが、UASB、EGSBのようなグラニュールを用いたものや、流動床、固定床のような担体を存在させたものが、CODcr負荷5kg/m3d以上の高負荷処理ができるという点から好ましい。なお、嫌気処理槽の前段に酸生成槽を設けてもよい。嫌気性生物処理水を好気的に生物処理するための好気処理槽としては、有機物の分解効率に優れるものであれば良く、既知の好気性生物処理方式の生物反応槽が使用できる。例えば、活性汚泥を槽内に浮遊状態で保持する浮遊方式、活性汚泥を担体に付着させて保持する生物膜方式などを採用することができる。また、生物膜方式では固定床式、流動床式、展開床式など任意の微生物床方式でよく、更に担体として、活性炭、種々のプラスチック担体、スポンジ担体などがいずれも使用できる。好気処理槽は、CODcr負荷0.5~2kg/m3d、特に0.7~1.5kg/m3dBOD負荷0.3~1.5kg/m3d、特に0.5~1kg/m3dとなるようにするのが好ましい。好気処理槽は、SRTが5~100d、特に10~60dとなる範囲で余剰汚泥の引抜きを行い、MLSS濃度2,000~15,000mg/L、特に3,000~6,000mg/Lを維持するようにすることが膜濾過性の点から好ましい。好気処理槽を多段にし、前段を脱窒槽、後段を硝化槽として、硝化槽から脱窒槽に汚泥を循環するようにしてもよい。この実施の形態では、膜モジュール4を槽外型としているので、好気処理槽容積が膜の設置スペースに影響されず、好気処理槽のBOD負荷、汚泥濃度、SRTを膜汚染の少ない適切な条件で運転できるようになり、膜洗浄頻度が少なくなる。膜分離モジュールの膜はMF、UFが好適である。汚泥とともに空気などのガスを散気することで膜表面の掃流速を高め、濾過性を向上することができる。膜表面の汚泥、ガスの掃流速は0.3~3m/sec、特に0.5~1m/secが、濾過性の向上と消費動力の観点から好ましい。以下、実施例及び比較例について説明する。[実施例1]図1に示すフローに従って、下記原水を下記条件で処理した。<原水>電子部品製造工場の排水有機成分MEA、TMAH、IPA水質:BOD350mg/L、T-N20mg/L、T-P1mg/Lその他の無機塩とともに栄養剤として添加水量:4.1m3/d<嫌気処理槽>槽容量300Lφ600×H1100mmの円筒状温度25°Cビール工場の排水処理施設のグラニュールを種汚泥として60L、ポリプロピレン製円筒状担体φ3mm×5mmを120L投入し、上向流にて通水。2ヶ月馴養の後、処理水を好気槽に導入した。<好気処理槽>槽容量150L温度25°C電子部品製造工場排水処理設備の活性汚泥を種汚泥として立ち上げ、pH6.8になるように20NaOHで調整した。SRT50dとなるように汚泥を引抜いた。<膜モジュール>槽外型チューブラUF膜Norit製、孔径0.03μm、膜面積5.1m2/本×2本好気槽から4.2m3/hr/本で汚泥好気処理液を循環するとともに、モジュール下部より空気を4.2Nm3/hr/本導入。5min吸引/10sec逆洗のサイクルで濾過及び逆洗を行った。処理水吸引時流量は0.26m3/hr/本、逆洗流量は1.5m3/hr/本である。吸引終了時の膜間差圧が40kPaを超えた時点で膜濾過を停止し、薬品洗浄NaOCl溶液有効塩素0.3、NaOHでpH12に調整をモジュールに導入し、2hr滞留を行った。[比較例1]実施例1において、好気処理槽及び膜モジュールの代わりに浸漬型中空糸MF膜ユニット三菱レイヨン製、孔径0.4μm、膜面積6m2/枚×3枚を槽内に浸漬配置した下記の好気MBRを用いた。槽容量650L温度25°C電子部品製造工場排水処理設備の活性汚泥を種汚泥として立ち上げ。pH6.8になるように20NaOHで調整。30日目まではSRT50dで汚泥を引抜き、それ以降は150dになるように引抜き量を減らした。膜ユニット下部から0.25Nm3/minで曝気。7min吸引/1min停止のサイクルで、処理水吸引時流量0.51m3/hr平均フラックス0.6m/d。吸引終了時の膜間差圧が40kPaを超えた時点で膜濾過を停止し、膜を引き上げ、薬品洗浄NaOCl溶液有効塩素0.3、NaOHでpH12に調整に2hr浸漬を行った。[結果]嫌気処理槽では、比較例、実施例のいずれも、試験期間を通じて95以上の除去率が安定して得られ、嫌気処理水のBODは10mg/L前後で、また好気MBRの処理水BODは3mg/L以下で安定して推移した。好気処理槽の運転開始後、3週間後運転日数0から膜間差圧の推移を測定し、図2に示した。実施例1では薬品洗浄頻度を1回月程度で運転できたのに対し、比較例1では当初1回/2週間程度の洗浄が必要であった。好気槽の汚泥濃度は、実施例1では5,500mg/L前後で推移したのに対し、比較例1では1,200~1,500mg/Lであった。汚泥濃度が低すぎるため、膜が詰まりやすくなっていると考え、30日目からSRTを50→150dに延ばしたところ、汚泥濃度は4,000~4,500mg/Lまで上昇した。しかし、膜の交換頻度は、SRT延長直後、1回/3週間程度に延びる傾向が見られたが、その後、再び1回/2週間程度に戻ってしまった。槽内TOCが、実施例1や30日目までの比較例では80~100mg/Lであったのに対し、比較例1でSRTを延ばして1ヶ月が経過した以降は300mg/L前後まで上昇しており、SRTを長くしたことで汚泥の自己消化産物が蓄積したことが影響したと考えられる。以上の実施例及び比較例からも明らかな通り、嫌気処理と好気処理及び膜分離を組み合わせた有機性排水処理において、槽外膜を用いることにより、膜汚染の少ない適切な条件で運転できるようになり、膜の洗浄頻度を下げたり、より高いフラックスで運転したりできるようになる。"