"ポリエステルフィルムの表面に、屈折率1.70~1.90かつ膜厚10~30nmの高屈折率層、屈折率1.35~1.48かつ膜厚20~60nmの低屈折率層A、および透明電極パターンがこの順に設けられ、前記ポリエステルフィルムの裏面に、ハードコート層Bおよび低屈折率層Bがこの順に設けられ、前記ハードコート層Bおよび前記低屈折率層Bが反射防止層を構成していることを特徴とする透明電極付き反射防止フィルム。前記透明電極パターンが屈折率1.90~2.10のITOスズドープ酸化インジウムにより形成されていることを特徴とする請求項1に記載の透明電極付き反射防止フィルム。前記高屈折率層および前記ハードコート層Bから選ばれる少なくとも一方の層が、亜鉛、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ランタン、ジルコニウム、スズ、インジウム、アンチモン、およびニオブから選ばれる少なくとも1種の酸化物の粒子を高屈折率粒子として含有することを特徴とする請求項1または2に記載の透明電極付き反射防止フィルム。前記ポリエステルフィルムと前記高屈折率層との間にハードコート層Aを設けたことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の透明電極付き反射防止フィルム。前記低屈折率層Bの屈折率が1.30~1.50であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の透明電極付き反射防止フィルム。しかしながら、上記のような従来のハードコートフィルムでは、透明電極パターンの形状が反射の色目として視認されるという問題点があった。すなわち、透明電極パターンとその下のハードコート層との屈折率差により光学的な干渉ムラとして透明電極パターンの形状が視認されるようになり、外観特性が損なわれるという問題点があった。本発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、透明電極パターンが視認されにくく外観特性に優れ、さらに可視光の透過率を向上させることができ、かつ反射率を低減することができる透明電極付き反射防止フィルムを提供することを課題としている。上記の課題を解決するために、本発明の透明電極付き反射防止フィルムは、ポリエステルフィルムの表面に、屈折率1.70~1.90かつ膜厚10~30nmの高屈折率層、屈折率1.35~1.48かつ膜厚20~60nmの低屈折率層A、および透明電極パターンがこの順に設けられ、ポリエステルフィルムの裏面に、ハードコート層Bおよび低屈折率層Bがこの順に設けられ、ハードコート層Bおよび低屈折率層Bが反射防止層を構成していることを特徴とする。この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、透明電極パターンが屈折率1.90~2.10のITOスズドープ酸化インジウムにより形成されていることが好ましい。この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、高屈折率層およびハードコート層Bから選ばれる少なくとも一方の層が、亜鉛、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ランタン、ジルコニウム、スズ、インジウム、アンチモン、およびニオブから選ばれる少なくとも1種の酸化物の粒子を高屈折率粒子として含有することが好ましい。この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、ポリエステルフィルムと高屈折率層との間にハードコート層Aを設けることが好ましい。この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、低屈折率層Bの屈折率が1.30~1.50であることが好ましい。本発明の透明電極付き反射防止フィルムによれば、透明電極パターンが視認されにくく外観特性に優れている。さらに本発明の透明電極付き反射防止フィルムによれば、可視光の透過率を向上させることができ、かつ反射率を低減することができる。以下に、本発明を詳細に説明する。図1は、本発明の透明電極付き反射防止フィルムの一例を示す断面図である。この透明電極付き反射防止フィルム1は、ポリエステルフィルム2の表面に高屈折率層3、低屈折率層A4および透明電極パターン5がこの順に設けられている。また、ポリエステルフィルム2の裏面には、ハードコート層B6および低屈折率層B7がこの順に設けられ、これらのハードコート層B6および低屈折率層B7は全体として反射防止層を構成している。本発明では、高屈折率層3の屈折率を従来よりも高くして透明電極パターン5の屈折率に近づけ、また膜厚を調整することにより、透明電極パターン5が存在する部分と、透明電極パターン5が存在しない部分との反射率の差が小さくなる。これにより透明電極パターン5が視認されることを抑制している。さらに、ポリエステルフィルム2の裏面に反射防止層を設けることで、可視光の透過率を向上させるとともに反射率を低減することができる。図2は、本発明の透明電極付き反射防止フィルムの別の例を示す断面図である。この透明電極付き反射防止フィルム1は、ポリエステルフィルム2と高屈折率層3との間にハードコート層A8が設けられている。このハードコート層A8を設けることで、透明電極付き反射防止フィルム1の硬度を向上させることができる。本発明において、ポリエステルフィルム2を形成するポリエステルとしては、例えば、芳香族ジカルボン酸とグリコールとから得られる芳香族ポリエステルを用いることができる。芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,6-ヘキサンジオール等を用いることができる。芳香族ポリエステルの中でも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレートが好ましい。また、上記に例示した成分の共重合ポリエステルであってもよい。ポリエステルフィルム2は、成膜時のフィルムの巻き取り性や、フィルムの搬送性等を向上させるために、必要に応じて、滑剤としての無機または有機の微粒子を含有させることができる。このような微粒子としては、例えば、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛等の無機微粒子、または架橋アクリル樹脂微粒子、架橋ポリスチレン樹脂微粒子、尿素樹脂微粒子、メラミン樹脂微粒子、架橋シリコーン樹脂微粒子等の有機微粒子を用いることができる。また、ポリエステルフィルム2には、その透明性等を損なわない範囲内において、その他の成分、例えば、着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等を含有させることができる。ポリエステルフィルム2の厚みは、特に限定されないが、例えば、50~200μmである。ポリエステルフィルム2は、ヘイズが好ましくは3以下、より好ましくは1.5以下である。ヘイズが3を超えると、ディスプレイの視認性を損なう等の不具合が起きる場合がある。また、ポリエステルフィルム2は、高屈折率層3、ハードコート層B6、またはハードコート層A8との密着性を向上させる等のために、その表面に、従来より用いられている厚みが例えば150nm以下の薄い易接着層を有するものであってもよい。本発明において、高屈折率層3、ハードコート層B6、およびハードコート層A8は、ポリエステルフィルム2よりも硬度の高い被膜であって、ポリエステルフィルム2の表面の硬度を向上させる。これにより荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、透明電極付き反射防止フィルムの機械的強度を改善することができる。ハードコート層B6およびハードコート層A8の鉛筆硬度は好ましくはH以上、より好ましくは2H以上である。高屈折率層3、ハードコート層B6、およびハードコート層A8は、反応性硬化型樹脂組成物、すなわち、熱硬化型樹脂組成物と電離放射線硬化型樹脂組成物のうち少なくとも一方を用いて形成するのが好ましい。熱硬化型樹脂組成物に配合する熱硬化型樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができる。熱硬化型樹脂組成物には、必要に応じて、例えば、架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を配合することができる。熱硬化型樹脂組成物を用いて高屈折率層3、ハードコート層B6およびハードコート層A8を形成する場合は、熱硬化型樹脂組成物を、ポリエステルフィルム2の表面に塗布した後、加熱により乾燥硬化させるのが好ましい。電離放射線硬化型樹脂組成物に配合する樹脂成分としては、アクリレート系の官能基を有する化合物が好ましく用いられる。アクリレート系の官能基を有する化合物としては、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール樹脂等の多官能メタアクリレートのオリゴマー、プレポリマー等を用いることができる。なお、本明細書においてメタアクリレートはアクリレートまたはメタクリレートを意味する。また、電離放射線硬化型樹脂組成物には、上記のオリゴマーやプレポリマーとともに、反応性希釈剤としてのモノマーを配合することができる。このようなモノマーとしては、例えば、エチルメタアクリレート、エチルヘキシルメタアクリレート、スチレン、メチルスチレン、N-ビニルピロリドン等の単官能モノマー、あるいは、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ヘキサンジオールメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート等の多官能モノマーを用いることができる。さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とする場合には、光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α-アミロキシムエステル、チオキサントン類等を用いることができる。また、光重合開始剤とともに光増感剤を用いてもよい。光増感剤としては、例えば、n-ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-ブチルホスフィン、チオキサントン等を用いることができる。光重合反応する紫外線硬化型樹脂組成物を用いて高屈折率層3、ハードコート層B6、およびハードコート層A8を形成する際には、例えば、紫外線硬化型樹脂組成物を、ポリエステルフィルム2の表面に塗布し乾燥する。その後、紫外線照射により硬化させることによりこれらの層を形成することができる。高屈折率層3は、透明電極パターン5の膜厚、屈折率を考慮し、屈折率1.70~1.90、膜厚10~30nmとされる。また、高屈折率層3の屈折率を増大させるために、高屈折率層3には、高屈折率粒子、すなわち高屈折率の金属酸化物の超微粒子を含有させることができる。高屈折率粒子としては、例えば、屈折率が1.70以上で粒径が0.5~200nmのものを用いることができる。上記の高屈折率粒子としては、例えば、亜鉛、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ランタン、ジルコニウム、スズ、インジウム、アンチモン、およびニオブから選ばれる少なくとも1種の酸化物の粒子を用いることが好ましい。高屈折率粒子としてこれらの粒子を用いることで、高屈折率層3の屈折率を適切な値まで容易に向上させることができる。上記の高屈折率粒子として、具体的には、例えば、ZnO屈折率1.90、TiO2屈折率2.3~2.7、Al2O3屈折率1.63、CeO2屈折率1.95、Y2O3屈折率1.87、La2O3屈折率1.95、ZrO2屈折率2.05、SnO2、ITOスズドープ酸化インジウム:屈折率1.95、Sb2O5屈折率1.71、Nb2O5屈折率2.2~2.3等の超微粒子を用いることができる。また、高屈折率層3には、本発明の効果を損なわない範囲内において、上記に例示したもの以外の他の成分を含有させることができる。このような他の成分としては、例えば、色素、帯電防止剤等が挙げられる。低屈折率層A4は、透明電極パターン5の膜厚、屈折率を考慮し、屈折率1.35~1.48、膜厚20~60nmとされる。低屈折率層A4の構成材料としては、例えば、珪素アルコキシドの加水分解物、あるいは飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂等を用いることができる。また、これらの分子内にフッ素原子を含む構成単位を有するものを用いることもできる。具体的には、これらの構成材料として、後述の低屈折率層B7において例示したものを用いることができる。珪素アルコキシドとしては、例えば、RmSiOR ́nで表される化合物を用いることができる。ここでR、R ́は炭素数1~10のアルキル基を示し、mおよびnはそれぞれ整数を示し、mnは4である。具体的には、珪素アルコキシドとして、後述の低屈折率層B7において例示したものを用いることができる。本発明において、透明電極パターン5は、例えば、タッチパネル等において従来より知られている構成とすることができる。透明電極パターン5は、例えば、ストライプ形状、線形状、パッド形状等のパターンとされる。透明電極パターン5の材料としては、例えば、スズドープ酸化インジウムITO、アンチモンドープ酸化スズATO、ZnO、アルミニウムドープ酸化亜鉛AZO、SnO2等の金属酸化物等を用いることができる。このような金属酸化物による透明電極パターン5の屈折率は、1.90~2.10が好ましい。中でも、透明電極パターン5が屈折率1.90~2.10のITOスズドープ酸化インジウムにより形成されていることが好ましい。これにより、透明電極パターン5の材料として従来より汎用されているITOを用いても、特定の屈折率と膜厚をもつ高屈折率層3や低屈折率層A4によって、透明電極パターン5が視認されにくくなり、外観特性を向上させることができる。透明電極パターン5の厚みは、例えば10~30nmである。透明電極パターン5は、例えば、従来より知られている各種の方法を用いてパターン化することができる。例えば、パターン形状に対応するマスクを介して上記に例示したような透明でかつ導電性の材料を堆積させる方法や、あるいは、当該材料の薄膜をエッチングする方法を用いることができる。本発明において、反射防止層は、ハードコート層B6と低屈折率層B7とから構成される。ハードコート層B6は、ハードコート層A8と同様に構成することができる。ハードコート層B6の屈折率は、低屈折率層B7との組み合わせにより反射率を低減する等の点から、1.60~1.85が好ましい。ハードコート層B6の厚みは、好ましくは1.0~10μmである。ハードコート層B6の表面には、低屈折率層B7を形成する前に、表面処理を行うことが好ましい。このような表面処理としては、例えば、プラズマ放電処理、コロナ処理、フレーム処理等の物理的表面処理や、カップリング剤、酸、アルカリ等による化学的表面処理等を挙げることができる。このような表面処理を行うことにより、ハードコート層B6と低屈折率層7とのぬれ性、密着性を向上させることができる。本発明において、低屈折率層B7は、ポリエステルフィルム2およびハードコート層B6よりも屈折率の小さい層であって、ハードコート層B6の表面に低屈折率コーティング剤を塗工することにより形成することができる。この低屈折率層B7の屈折率は、1.30~1.50が好ましい。屈折率をこの範囲内にすることで、ハードコート層B6との組み合わせにより反射率を大幅に低減することができる。低屈折率層B7の厚みdは、低屈折率層B7の屈折率をn、入射する光の波長をλとすると、nd=λ/4であることが好ましい。具体的には、低屈折率層B7の厚みは、好ましくは50~400nmであり、より好ましくは50~200nmである。低屈折率コーティング剤は、バインダー材料を含有し、バインダー材料自身が低屈折率である場合はバインダー材料単体で調製することができるが、バインダー材料に低屈折率粒子を配合して調製することもできる。バインダー材料としては、例えば、珪素アルコキシドの加水分解物、あるいは飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂等を用いることができる。また、これらの分子内にフッ素原子を含む構成単位を有するものを用いることもできる。バインダー材料の珪素アルコキシドとしては、例えば、RmSiOR ́nで表される化合物を用いることができる。ここでR、R ́は炭素数1~10のアルキル基を示し、mおよびnはそれぞれ整数を示し、mnは4である。このような化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ-iso-プロポキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-tert-ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ-iso-プロポキシシラン、テトラペンタ-n-プロポキシシラン、テトラペンタ-n-ブトキシシラン、テトラペンタ-sec-ブトキシシラン、テトラペンタ-tert-ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。また、これらを基本骨格とするオリゴマーやポリマー、あるいはこれらの少なくとも2種以上の共重合体を用いることもできる。バインダー材料は、例えば、上記の珪素アルコキシドを適当な溶剤中に溶解し加水分解して調製することができる。溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素を用いることができる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。珪素アルコキシドは、上記の溶剤中に、珪素アルコキシドが100加水分解および縮合したとして生じるSiO2換算で好ましくは0.1質量以上、より好ましくは0.1~10質量になるように溶解する。珪素アルコキシドの濃度が低過ぎると、形成されるゾル膜が所望の特性を十分に発揮できない場合があり、一方、珪素アルコキシドの濃度が高過ぎると、透明で均質な膜の形成が困難となる場合がある。この溶液に、加水分解に必要な量以上の水を加え、好ましくは15~35°C、より好ましくは22~28°Cの温度で、好ましくは0.5~10時間、より好ましくは2~5時間撹拌を行う。加水分解には触媒を用いることが好ましく、触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸等の酸を用いることができる。これらの酸を好ましくは0.001~20.0N、より好ましくは0.005~5.0Nの水溶液として加え、水溶液中の水分を加水分解用の水分とすることができる。このようにして得られたSiO2ゾルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約1ヶ月の安定な溶液であり、基材に対して濡れ性が良く、塗布適性に優れている。この珪素アルコキシドの加水分解物には、反応性有機珪素化合物またはその部分加水分解物を添加してもよい。このような反応性有機珪素化合物としては、熱または電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量5000以下の有機珪素化合物を用いることができる。具体的には、例えば、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能性ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、あるいはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、ビニル官能性ポリシロキサン等を用いることができる。バインダー材料の飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、架橋したものが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得られたものが好ましい。また、架橋しているバインダー材料のポリマーを得るためには、2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとして、例えば、エチレングリコールジメタアクリレート、1,4-ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,2,3-シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート等の多価アルコールとメタアクリル酸とのエステル;1,4-ジビニルベンゼン、4-ビニル安息香酸-2-アクリロイルエチルエステル、1,4-ジビニルシクロヘキサノン等のビニルベンゼンおよびその誘導体;ジビニルスルホン等のビニルスルホン;メチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド、メタクリルアミド等を用いることができる。2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに、あるいはそれに加えて、架橋性官能基の反応により架橋構造をバインダー材料のポリマーに導入してもよい。このような架橋性官能基としては、例えば、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基、活性メチレン基等が挙げられる。また、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル、およびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして用いることができる。なお、ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーとしては、例えば、多官能エポキシ化合物の開環重合反応により合成したものを用いることができる。バインダー材料のポリマーの重合反応および架橋反応に用いる重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3-ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類等を用いることができる。その他、熱重合開始剤を用いることもできる。上記のバインダー材料に配合される低屈折率粒子は、屈折率が好ましくは1.20~1.45である。低屈折率粒子の平均粒径は100nm以下であることが好ましい。この平均粒径が100nmよりも大きくなると、得られる低屈折率層B7においてレイリー散乱によって光が乱反射され、低屈折率層B7が白っぽく見え、そのヘイズ値が増大することがある。また、低屈折率粒子の添加量は、低屈折率化や表面硬度、耐摩耗性等も考慮すると、低屈折率層B7の全量に対して20~99体積であることが好ましい。低屈折率粒子としては、例えば、シリカ微粒子、中空シリカ微粒子等の中空粒子、あるいは、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物微粒子を用いることができる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの低屈折率粒子は、バインダー材料の樹脂等との相溶性を付与するための表面処理を施すことができる。なお、中空粒子は、外殻によって包囲された空洞を有する微粒子である。中空粒子としては、例えば、特開2001-233611号公報に開示されている中空粒子を用いることができる。中空粒子の外殻を構成する材料としては、例えば、SiO2、SiOx、TiO2、TiOx、SnO2、CeO2、Sb2O5、ITO、ATO、Al2O3等を単独で、あるいはこれらの材料のいずれかの組み合わせの混合物の形態のものを用いることができる。また、これらの材料のいずれかの組み合わせの複合酸化物であってもよい。なお、SiOxは、酸化雰囲気中で焼成した場合に、SiO2となるものが好ましい。低屈折率コーティング剤は、例えば、ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、リバースコーティング法、トランスファーロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キャストコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等の液相法により、表面処理を行ったハードコート層B6上に塗工することができる。塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させて低屈折率層B7を形成することができる。以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。<実施例1>ポリエステルフィルムとして、ポリエチレンテレフタレートPETフィルム東洋紡績株式会社製A4300、PETフィルムの厚み100μmを用いた。高屈折率層形成用の紫外線硬化型樹脂組成物として、アクリル系紫外線硬化型樹脂大日精化工業株式会社製PET-HC、固形分60に高屈折率粒子として酸化チタンテイカ株式会社製760-T、固形分48を60質量分散させたものを用いた。上記のポリエステルフィルムの表面に、上記の高屈折率層形成用の紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコーター4番で塗布した。これを80°Cで3分間乾燥させた後に、UV照射500mJ/cm2して硬化させることにより、厚み20nmの高屈折率層を形成した。次に、低屈折率層A用のコーティング剤を高屈折率層の表面に塗布して低屈折率層Aを形成した。低屈折率層A用のコーティング剤は次のようにして作製した。テトラエトキシシラン208質量部にメタノール356質量部を加え、さらに水18質量部および0.1Nの硝酸水溶液18質量部を加えた。これをディスパーで混合して混合液を得た後、この混合液を25°C恒温槽中で2時間攪拌して重量平均分子量を1300に調整して低屈折率層A用のコーティング剤を作製した。この低屈折率コーティング剤を厚み40nmになるようにワイヤーバーコーター4番で高屈折率層の表面に塗布した後、120°C、1分間乾燥させて低屈折率層Aを形成した。次に、低屈折率層Aの表面に、蒸着、パターニングにより厚み20nmのITOの透明電極パターンを形成した。透明電極パターンの形成は、キャノンアネルバ株式会社製RFマグネトロンスパッタリング装置L-250S-FHを用い、ターゲットにITO焼結体を用い、Arガス雰囲気下、スパッタ圧0.5Pa、50~100Wの条件で行った。ハードコート層B形成用の紫外線硬化型樹脂組成物として、アクリル系紫外線硬化型樹脂大日精化工業株式会社製MD-2クリヤー、固形分50に高屈折率粒子として酸化ジルコニウムCIKナノテック株式会社製ZRDMA30WT-M22、固形分30を40質量分散させたものを用いた。上記のポリエステルフィルムの表面に、上記のハードコート層B形成用の紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコーター10番で塗布した。これを80°Cで5分間乾燥させた後に、UV照射500mJ/cm2して硬化させることにより、厚み3.0μmのハードコート層Bを形成した。次に、低屈折率層B用のコーティング剤をハードコート層Bの表面に塗布して低屈折率層Bを形成した。低屈折率層B用のコーティング剤は次のようにして作製した。テトラエトキシシラン208質量部にメタノール356質量部を加え、さらに水18質量部および0.1Nの硝酸水溶液18質量部を加えた。これをディスパーで混合して混合液を得た後、この混合液を25°C恒温槽中で2時間攪拌して重量平均分子量を1300に調整したシリコーンレジンをバインダー材料として用いた。次に、低屈折率粒子として、日揮触媒化成工業株式会社製CS60-IPA固形分20をシリコーンレジンマトリックスの全体量の40体積となる量でシリコーンレジンに配合した。その後、全固形分が3.0質量になるようにメタノールで希釈することによって、低屈折率コーティング剤を調整した。低屈折率コーティング剤を厚み100nmになるようにワイヤーバーコーター4番でハードコート層Bの表面に塗布した後、120°C、3分間乾燥させて低屈折率層Bを形成した。このようにして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<実施例2>実施例1において、高屈折率層の屈折率を1.90として、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付反射防止フィルムを得た。<実施例3>実施例1において、高屈折率層の屈折率を1.70として、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<実施例4>実施例1において、高屈折率層の膜厚を10nmとして、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<実施例5>実施例1において、高屈折率層の膜厚を30nmとして、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<実施例6>実施例1において、低屈折率層Aの屈折率を1.35として、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<実施例7>実施例1において、低屈折率層Aの屈折率を1.48として、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<実施例8>実施例1において、ポリエステルフィルムの表面におけるポリエステルフィルムと高屈折率層との間にハードコート層Aを設け、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。また、ハードコート層A形成用の紫外線硬化型樹脂組成物として、アクリル系紫外線硬化型樹脂大日精化工業株式会社製PET-HC301、固形分60を溶媒トルエンにより30質量に希釈したものを用いた。上記のポリエステルフィルムの表面に、上記のハードコート層B形成用の紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコーター10番で塗布した。これを80°Cで5分間乾燥させた後に、UV照射500mJ/cm2して硬化させることにより、厚み3.0μmのハードコート層Aを形成した。<実施例9>実施例1において、低屈折率層Aの厚みを20nmとして、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<実施例10>実施例1において、低屈折率層Aの厚みを60nmとして、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<比較例1>実施例1において、高屈折率層の屈折率を1.65として、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<比較例2>実施例1において、高屈折率層の膜厚を40nmとして、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<比較例3>実施例1において、低屈折率層Aの屈折率を1.50として、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<比較例4>実施例1において、低屈折率層Aの膜厚を80nmとして、それ以外は実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。<比較例5>実施例1において、ハードコート層Bおよび低屈折率層Bを設けなかった以外は、実施例1と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。屈折率分光光度計株日立製作所製U-4100を用いて、波長400~800nmの全光線透過率を測定し、シミュレーションとのフィッティングにより屈折率を測定した。全光線透過率分光光度計株日立製作所製U-4100を用いて、波長400~800nmの全光線透過率を測定した。平均視感反射率分光光度計株日立製作所製U-4100を用いて、JISR-3106に基づき、サンプル裏面を黒塗りした後に、5度の正反射で測定した。平均視感反射率は透明電極面と反射防止面のそれぞれについて測定した。透明電極パターン視認性透明電極面と反対側の面を黒色塗料で黒塗りし、3波長蛍光灯下で目視観察した。◎:透明電極パターンが視認できない○:ほとんど透明電極パターンが視認できない△:透明電極パターンが少し視認できる×:透明電極パターンがはっきりと視認できる評価結果を表1に示す。表1より、実施例1~10では、ポリエステルフィルムの表面に、高屈折率層、低屈折率層A、および透明電極パターンをこの順に設けた。さらにポリエステルフィルムの裏面に、ハードコート層Bおよび低屈折率層Bをこの順に設けて反射防止層を構成した。そして高屈折率層の屈折率を1.70~1.90、膜厚を10~30nmとしたことで、実施例1~10では、透明電極パターンが視認されにくかった。また透過率が大きく反射率が小さいものであった。一方、高屈折率層の屈折率が上記の範囲外である比較例1、および膜厚が上記の範囲外である比較例2では、透明電極パターンが顕在化した。そして実施例1~10では、低屈折率層Bの屈折率を1.35~1.48、膜厚を20~60nmとしたことで、透明電極パターンが視認されにくかった。また透過率が大きく反射率が小さいものであった。一方、低屈折率層Bの屈折率が上記の範囲外である比較例3、膜厚が上記の範囲外である比較例4では、透明電極パターンが顕在化した。また反射防止層を設けなかった比較例5では、透過率が低下し、反射率が大きくなった。"