所定の露光位置に被露光基板を移動させ保持する基板ステージと、フォトマスクを保持するフォトマスクホルダと、当該フォトマスクホルダに保持された状態の当該フォトマスクに露光光を照射する露光光照射光学部と、当該フォトマスクホルダに保持された状態の当該フォトマスクと当該被露光基板とのギャップを所定のギャップ検出ポイントにおいて検出するギャップセンサーと、当該フォトマスクホルダに保持された状態の当該フォトマスクと当該被露光基板との位置関係を所定のアライメント検出ポイントにおいて検出するアライメントカメラとを備え、前記フォトマスクのうち前記露光光が照射される露光光照射領域の外側の前記フォトマスクの外縁部領域に、前記ギャップ検出ポイントと前記アライメント検出ポイントとが配設される、露光装置。前記フォトマスクの前記外縁部領域は矩形の額縁状をなし、少なくとも当該外縁部領域の4つの隅の位置と、当該4つの隅のそれぞれ中間の位置と合わせて8か所の位置に、前記ギャップ検出ポイントが設けられる、請求項1記載の露光装置。前記ギャップセンサーは、前記外縁部領域に設けられた8か所の前記ギャップ検出ポイントのうち、少なくとも1つの隅の位置と、当該1つの隅に隣接する中間の位置との3か所の位置において検出を行う、請求項2記載の露光装置。前記外縁部領域に設けられた少なくとも8か所の位置にはアライメント検出ポイントが更に設けられ、前記ギャップセンサーが検出を行う少なくとも3か所の位置において、前記アライメントカメラが検出を行う、請求項3記載の露光装置。前記ギャップセンサーと前記アライメントカメラとは、前記露光装置の固定部に固定されている、請求項1記載の露光装置。しかしながら、従来のステッププロキシミティー露光方式の露光装置では、露光を行うときには、アライメントカメラおよびギャップセンサー検出部が露光照射部に掛かることによりこれらの影がカラーフィルタ用の表示画素部に写り込まないように、検出部を露光照射部の外側に退避させる必要があった。また、フォトマスク上に形成されているアライメントマークおよび露光ギャップ計測用窓についても、表示画素部に写り込まないようするために、露光照射時にはフォトマスクの上方に設けた可動シャッターなどを用いて遮光することが必要だった。また、検出部を退避動作させるための駆動軸などを備える複雑な駆動機構部を露光装置に設けることが必要となり、この駆動機構部の精度が露光位置の再現性に影響を及ぼしていた。更に、露光のたび毎に繰り返す検出部の移動に要する時間が、スループット短縮の障害にもなっていた。本発明の目的は、露光を行うときに検出部を移動させることによる不都合を解決できる露光装置を提供することにある。本発明は、上記の問題を解決するために、以下の構成を採用した。本発明に係る露光装置は、所定の露光位置に被露光基板を移動させ保持する基板ステージと、フォトマスクを保持するフォトマスクホルダと、フォトマスクホルダに保持された状態のフォトマスクに露光光を照射する露光光照射光学部と、フォトマスクホルダに保持された状態のフォトマスクと被露光基板とのギャップを所定のギャップ検出ポイントにおいて検出するギャップセンサーと、フォトマスクホルダに保持された状態のフォトマスクと被露光基板との位置関係を所定のアライメント検出ポイントにおいて検出するアライメントカメラとを備える。フォトマスクのうち露光光が照射される露光光照射領域の外側のフォトマスクの外縁部領域に、ギャップ検出ポイントとアライメント検出ポイントとが配設される。本発明によれば、露光時において、アライメントカメラおよびギャップセンサーを露光照射部の外側に移動する必要がなくなるので、これらの移動に伴う不具合を解消できる。以下、図面を参照して、本発明の実施形態について、詳細に説明する。図1および図2を参照して、本発明の一実施形態の露光装置1について説明する。図1は本発明の一実施形態の露光装置1を上方から見た図であり、図2は前方から見た図である。なお、以下の説明では、図1において紙面に平行な面上での横方向をX方向、縦方向をY方向といい、面に対して垂直な方向をZ方向という。露光装置1は、被露光基板2の上方の所定位置にフォトマスク3を保持しながら露光を行うために、被露光基板2を載置する基板ステージ4、フォトマスク3を保持するフォトマスクホルダ5、アライメント/ギャップ検出部6、UVUltraViolet光照射光学部7を備えている。被露光基板2は、感光性樹脂からなるレジストが塗布されたガラス基板である。基板ステージ4は、被露光基板2を真空吸着保持しXY方向に自在に搬送することにより、所定の露光位置に移動させる。フォトマスクホルダ5はフォトマスク3を真空吸着保持し、その高さおよび傾きを調整することにより、フォトマスク3と被露光基板2との露光ギャップを所定値に保持している。アライメント/ギャップ検出部6検出部には、図示しないギャップセンサーとアライメントカメラが組み込まれている。このギャップセンサーにより、被露光基板2に対するフォトマスク3のZ方向の露光ギャップと傾きを検出する。また、このアライメントカメラにより、被露光基板2とフォトマスク3とのXY方向のアライメントを検出する。図1に示すように、フォトマスク3は矩形形状をなし、後述するUV光照射領域7露光光照射領域ハッチングが施された領域と、その外側の四角い額縁状をした外縁部領域8とに区分される。アライメント/ギャップ検出部6は、図2に示すように、この外縁部領域8の上方に配設されている。アライメント/ギャップ検出部6は、Z方向から見たとき、外縁部領域8の4つの隅と、この4つの隅のそれぞれ中間の略中点の位置に1か所ずつ、合計8か所の位置に配設されている。アライメント/ギャップ検出部6により、この8か所における露光ギャップとアライメントとを、同時に検出することが可能となる。ここで、8か所のアライメント/ギャップ検出部6について、左上から反時計回りに順番に6a、6b、6c、...6hと番号を付ける。なお、アライメント/ギャップ検出部6は、露光装置1の図示しない固定部に固定されている。図2に示すように、UV光照射光学部9露光光照射光学部は、図示しない露光ランプから出射されたUV光を、いずれも図示しない集光鏡とインテグレーターレンズを経て平行UV光10露光光斜めのハッチングを施した領域として整える。平行UV光10は、平面鏡11により矢印方向に反射し、フォトマスク3上に照射される。フォトマスク3上において、平行UV光10が照射されている矩形形状の領域が、UV光照射領域7である。図1に示すように、フォトマスク3は、UV光照射領域10の内側の部分に露光パターンマスク12を備えている。露光パターンマスク12は横長矩形の形状をして、Y方向に2つ並んで設けられている。図2に示すように、フォトマスク3が平行UV光10で照射されると、露光パターンマスク12を通過した光が透過光13縦縞のハッチングを施した領域となり、被露光基板2を露光して、カラーフィルタ用の表示画素パターンである露光パターンを被露光基板2に転写する。図3は、本実施形態の露光装置1を上方から見た図であり、フォトマスク3と被露光基板2とを示している。この図では、フォトマスク3は、被露光基板2の左上の部分である第1の露光位置に位置している。なおここで、説明を分かりやすくするため、基板ステージ4とフォトマスクホルダ5とアライメント/ギャップ検出部6の記載は省略してある。図3に示すように、フォトマスク3上のUV照射領域7の外側の外縁部領域8であって、アライメント/ギャップ検出部6の検出位置の下方に位置する8か所の部分には、アライメント/ギャップ観察窓14観察窓が設けられている。ここで、8か所のアライメント/ギャップ観察窓14について、左上から反時計回りに順番に14a、14b、14c、...14hと番号を付ける。被露光基板2上には、ブラックマトリクスBMパターン15がX方向2個×Y方向4個の合計8個が、被露光基板2の外形により位置決めされた位置に予め形成されている。本実施形態の露光においては、このBMパターン15を基準にして露光を行い、カラーフィルタ用の表示画素パターンをBMパターン15の上に形成していく。フォトマスク3には2つの露光パターンマスク12が形成されているので、4回の露光を行うことによって、被露光基板2全面に露光することができる。すなわち、被露光基板2を、左上、右上、右下、左下の4つの露光位置に基板ステージ4により順次ステップ移動させて、それぞれの位置で露光を行う。図3は、被露光基板2を左上に基板ステージにより移動して、第1の露光位置において露光する場合について示している。図3において、アライメント/ギャップ観察窓14d乃至14fは被露光基板2の内側に位置している。この3か所のアライメント/ギャップ観察窓14d乃至14fを用いて、露光ギャップと位置合わせの微調整を行う。アライメント/ギャップ検出部6d乃至6fに組み込まれた図示されないギャップセンサーにより、アライメント/ギャップ観察窓14d乃至14fギャップ検出ポイントを介して、3か所の被露光基板2とフォトマスク3との露光ギャップを検出する。そして、フォトマスクホルダ5により、露光ギャップを所定の値になるよう調節する。ここで、露光ギャップを検出した3か所は、同一直線上ではなく、三角形状に配置されているので、被露光基板2とフォトマスク3との2つの面のギャップと相対的な面の傾きを求めることができる。同様に、アライメント/ギャップ検出部6d乃至6fに組み込まれた図示されないアライメントカメラにより、アライメント/ギャップ観察窓14d乃至14fアライメント検出ポイントを通して、3か所の被露光基板2とフォトマスク3とのXY方向のアライメントを検出する。図4を用いて、本実施形態におけるアライメント/ギャップ検出部6に組み込まれたアライメントカメラによる、被露光基板2とフォトマスク3とのXY方向のアライメントの検出方法について説明する。図4は、アライメント/ギャップ観察窓14eおよび14fにおいてアライメントカメラで観察したアライメント検出用画像16の概略図である。図4において、中央部の上下に設けられた2つの点状のマークは、フォトマスク3上に設けられたアライメントマーク17である。このアライメントマーク17のフォトマスク3上での所定位置や形状については、露光装置1に予め登録しておく。図4において、太い横縞状のパターンと2本の細い縦縞状のパターンとの組み合わせは、被露光基板2上に設けられたBMパターン15の所定位置の部分を拡大した図である。これらのパターンが交わる縦長矩形の破線で囲まれた部分がブラックマトリクスBM認識パターン18であり、2つの横並びの略十字状の形をしている。このBM認識パターン18のBMパターン15上での所定位置や形状については、露光装置1に予め登録しておく。図3において、アライメント/ギャップ観察窓14dの部分は2つのBMパターン15の間にあり、BMパターン15をBM認識パターン18として用いることができない。この場合、例えば2つの横並びの略十字状の形などの図示しないアライメント用の専用パターンやマークを被露光基板2上に予め形成しておいて、この専用パターンなどを用いて位置を認識する。このように検出した3か所の位置データから、被露光基板2のXY平面上における位置を求める。以上のようにして、アライメント/ギャップ観察窓14d乃至14fの3か所における被露光基板2とフォトマスク3とのXY方向のアライメントを検出する。この検出した位置関係から、必要に応じて被露光基板2の露光位置を調整する。露光ギャップおよび露光位置を調整後、被露光基板2をその位置で静止させる。そして、平行UV光10を所定の時間照射することにより、第1の露光位置での露光を行う。第1の露光位置での露光の終了後、図5で示すように、基板ステージ4により露光基板2を右側に搬送し、第2の露光位置へ移動させる。第2の露光位置においては、アライメント/ギャップ観察窓14f乃至14hを用いて、露光ギャップとアライメントの微調整を行う。以降同様に基板ステージ4の移動と露光を計4回繰り返し実施して、被露光基板2上に全てのパネルを露光する。その際、アライメントマーク観察とギャップ計測は、少なくとも8か所のうち3か所以上を用いて実施する。これをレイヤー毎に繰り返し、カラーフィルタ用の表示画素パターンを被露光基板2上に形成する。ここで、ギャップ計測の場合には、被露光基板2とフォトマスク3との2つの面のギャップと相対的な面の傾きを求めるためには、少なくとも3か所での計測が必要となる。一方、アライメントマーク観察の場合には、XY平面上における位置合わせだけならば1か所だけでもよい。また、回転方向のずれの見定めには2か所を観察すればよい。しかし、例えば3か所を観察すれば、X方向やY方向の歪みや伸び縮みにも対応可能となり、より正確に位置合わせをすることができる。以上のようにアライメント/ギャップ観察窓14を外縁部領域8に設けることにより、露光を行うときにアライメント/ギャップ検出部6をUV光照射領域7の外側に移動するための駆動機構部が不要となり、構成が簡単になる。また、検出部を駆動することによる露光位置精度のバラツキが低減する。更にまた、検出部移動の動作が不要になるため、スループットが短縮できる。また、本実施形態では、アライメント/ギャップ検出部6にギャップセンサーとアライメントカメラとが組み込まれているので、ギャップセンサーとアライメントカメラとを別々に露光装置1に取り付けるのに比べ、取り付けが簡単になる。また、検出用窓をアライメント/ギャップ観察窓14として、一つにまとめることができる。なお、本実施形態では、アライメント/ギャップ検出部6とアライメント/ギャップ観察窓14とを8か所に配設したが、その数を増やしてもよい。例えば、側部を3等分して、2つの隅の間の中間の位置を2か所に配設してもよい。この場合、中間の位置のアライメント/ギャップ観察窓14の部分は2つの隅に対してオフセンターの位置になり、BMパターン15上に位置することになるので、BMパターン15をBM認識パターン18として用いることができる。またこの場合、ギャップセンサーとアライメントカメラとを一まとめにしないで、例えば、ギャップセンサーは8か所、アライメントカメラは側部の中間の位置を2か所として10か所というように構成してもよい。ギャップセンサーの数を増やさず、アライメントカメラの数を増やすことができる。なお、本実施形態では、被露光基板2を4分割し、基板ステージ4の移動と露光を計4回繰り返し実施して1レイヤー分を露光するよう構成されているが、この構成に限定されない。例えば、被露光基板2を6分割したり9分割して、基板ステージ4の移動と露光を計6回または計9回繰り返し実施して1レイヤー分を露光するよう構成してもよい。なお、本発明の露光装置1は、上述した実施形態に限定されず、種々の変形ができる。例えば、本実施形態の露光装置1は表示装置用カラーフィルタの製造に用いられるものとして説明したが、これに限定されず、プラズマディスプレイや有機ELElectroLuminescenceの表示パネルの製造などに用いることも可能である。