"透明基板と、前記透明基板の一方の表面上に形成されたタッチパネルセンサ層および前記タッチパネルセンサ層上に形成された保護層を有するタッチパネルと、前記透明基板の他方の表面上に形成されたカラーフィルタと、を有するタッチパネル付カラーフィルタであって、前記保護層は、密着層用樹脂からなりパターン状に形成された密着層および硬度層用樹脂からなりパターン状に形成された硬度層がこの順に積層されたものであり、前記硬度層が、平面視上、前記密着層の外周より内側に形成されていることを特徴とするタッチパネル付カラーフィルタ。前記硬度層のテーパー部が、前記密着層のテーパー部上に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル付カラーフィルタ。前記硬度層の静摩擦係数が、0.25~0.37の範囲内であり、鉛筆硬度が4H以上であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のタッチパネル付カラーフィルタ。前記密着層の前記タッチパネルセンサ層に対する密着力が、JISK560056で規定するクロスカット評価にてクロスカット部分で評価分類0または1であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のタッチパネル付カラーフィルタ。前記硬度層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位1を有する硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーを含む硬度層形成用組成物を用いてなるものであり、前記密着層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位1を有する密着層形成用ポリマーを含む密着層形成用組成物を用いてなるものであり、前記硬度層形成用ポリマーの前記構成単位1の含有量が前記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の70モル以上であり、前記硬度層形成用多官能性モノマーの重合性の官能基数が、5以上であり、前記密着層形成用ポリマーの前記構成単位1の含有量が前記密着層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の45モル以下であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のタッチパネル付カラーフィルタ。前記硬度層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位1を有する硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーを含む硬度層形成用組成物を用いてなるものであり、前記密着層用樹脂が、密着層形成用多官能性モノマーを含む密着層形成用組成物を用いてなるものであり、前記硬度層形成用ポリマーの前記構成単位1の含有量が前記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の70モル以上であり、前記硬度層形成用多官能性モノマーの重合性の官能基数が、5以上であり、前記密着層形成用多官能性モノマーの重合性の官能基数が、2~4の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のタッチパネル付カラーフィルタ。透明基板の一方の表面上に形成されたタッチパネルセンサ層上に、密着層用組成物の塗膜を露光することにより密着層を形成する密着層形成工程と、前記密着層上に、硬度層用組成物の塗膜を露光することにより硬度層を形成する硬度層形成工程と、を有するタッチパネル付カラーフィルタの製造方法であって、前記硬度層形成工程が、前記密着層形成工程の露光に用いたマスクと同一のマスクを用い、前記硬度層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量が、前記密着層形成工程での前記密着層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量よりも少なくなるように露光するものであることを特徴とするタッチパネル付カラーフィルタの製造方法。本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、硬度および密着性に優れた保護層をタッチパネルの最表面に有するタッチパネル付カラーフィルタを提供することを主目的とする。上記課題を解決するために、本発明は、透明基板と、上記透明基板の一方の表面上に形成されたタッチパネルセンサ層および上記タッチパネルセンサ層上に形成された保護層を有するタッチパネルと、上記透明基板の他方の表面上に形成されたカラーフィルタと、を有するタッチパネル付カラーフィルタであって、上記保護層は、密着層用樹脂からなりパターン状に形成された密着層および硬度層用樹脂からなりパターン状に形成された硬度層がこの順に積層されたものであり、上記硬度層が、平面視上、上記密着層の外周より内側に形成されていることを特徴とするタッチパネル付カラーフィルタを提供する。本発明によれば、上記保護層が硬度に優れた硬度層および密着性に優れた密着層からなることにより、上記保護層を硬度および密着性の両者に優れたものとすることができる。また、硬度層が、平面視上、上記密着層の外周より内側に形成されていることにより、上記硬度層を密着性に優れたものとすることができ、上記保護層を安定性に優れたものとすることができる。したがって、硬度および密着性の両者に優れ、かつ安定性に優れた保護層を有するものとすることができる。本発明においては、上記硬度層のテーパー部が、上記密着層のテーパー部上に形成されていることが好ましい。例えば、上記密着層および硬度層を同一のマスクを用いて形成することができ、低コストで形成可能なものとすることができるからである。本発明においては、上記硬度層の静摩擦係数が、0.25~0.37の範囲内であり、鉛筆硬度が4H以上であることが好ましい。上記硬度層を硬度および滑り性に優れたものとすることができるからである。本発明においては、上記密着層の上記タッチパネルセンサ層に対する密着力が、JISK560056で規定するクロスカット評価にてクロスカット部分で評価分類0または1であることが好ましい。上記密着層の密着力が上述の範囲内であることにより、上記保護層が上記タッチパネルセンサ層から剥離しにくいものとすることができるからである。本発明においては、上記硬度層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位1を有する硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーを含む硬度層形成用組成物を用いてなるものであり、上記密着層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位1を有する密着層形成用ポリマーを含む密着層形成用組成物を用いてなるものであり、上記硬度層形成用ポリマーの上記構成単位1の含有量が上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の70モル以上であり、上記硬度層形成用多官能性モノマーの重合性の官能基数が、5以上であり、上記密着層形成用ポリマーの上記構成単位1の含有量が上記密着層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の45モル以下であることが好ましい。上記保護層が上述の材料を用いてなるものであることにより、硬度および密着性に優れたものとすることができるからである。本発明においては、上記硬度層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位1を有する硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーを含む硬度層形成用組成物を用いてなるものであり、上記密着層用樹脂が、密着層形成用多官能性モノマーを含む密着層形成用組成物を用いてなるものであり、上記硬度層形成用ポリマーの上記構成単位1の含有量が上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の70モル以上であり、上記硬度層形成用多官能性モノマーの重合性の官能基数が、5以上であり、上記密着層形成用多官能性モノマーの重合性の官能基数が、2~4の範囲内であることが好ましい。上記保護層が上述の材料を用いてなるものであることにより、硬度および密着性に優れたものとすることができるからである。本発明は、透明基板の一方の表面上に形成されたタッチパネルセンサ層上に、密着層用組成物の塗膜を露光することにより密着層を形成する密着層形成工程と、上記密着層上に、硬度層用組成物の塗膜を露光することにより硬度層を形成する硬度層形成工程と、を有するタッチパネル付カラーフィルタの製造方法であって、上記硬度層形成工程が、上記密着層形成工程の露光に用いたマスクと同一のマスクを用い、上記硬度層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量が、上記密着層形成工程での上記密着層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量よりも少なくなるように露光するものであることを特徴とするタッチパネル付カラーフィルタの製造方法を提供する。本発明によれば、上記硬度層形成工程を有することにより、上記硬度層が、平面視上、上記密着層の外周より内側に形成されたタッチパネル付カラーフィルタを容易かつ低コストで製造することができる。本発明は、硬度および密着性に優れた保護層をタッチパネルの最表面に有するタッチパネル付カラーフィルタを提供できるといった効果を奏する。本発明は、タッチパネル付カラーフィルタおよびその製造方法に関するものである。以下、本発明のタッチパネル付カラーフィルタおよびタッチパネル付カラーフィルタの製造方法について説明する。A.タッチパネル付カラーフィルタまず、タッチパネル付カラーフィルタについて説明する。本発明のタッチパネル付カラーフィルタは、透明基板と、上記透明基板の一方の表面上に形成されたタッチパネルセンサ層および上記タッチパネルセンサ層上に形成された保護層を有するタッチパネルと、上記透明基板の他方の表面上に形成されたカラーフィルタと、を有するタッチパネル付カラーフィルタであって、上記保護層は、密着層用樹脂からなりパターン状に形成された密着層および硬度層用樹脂からなりパターン状に形成された硬度層がこの順に積層されたものであり、上記硬度層が、平面視上、上記密着層の外周より内側に形成されていることを特徴とするものである。このような本発明のタッチパネル付カラーフィルタについて図を参照して説明する。図1は、本発明のタッチパネル付カラーフィルタの一例を示す概略平面図である。また、図2は、図1のA-A線断面図である。図1および図2に例示するように、本発明のタッチパネル付カラーフィルタ50は、透明基板1と、上記透明基板1の一方の表面上に形成された第1透明電極11、上記第1透明電極11上に形成された電極間絶縁層12、上記電極間絶縁層12上に形成された第2透明電極13がこの順で積層したタッチパネルセンサ層10ならびに上記第2透明電極13上に形成された密着層用樹脂からなる密着層21および硬度層用樹脂からなり平面視上、上記密着層21の外周より内側に形成された硬度層22を有する保護層20を有するタッチパネル30と、上記透明基板1の他方の表面上に形成された開口部を有する遮光部31および上記遮光部31の開口部に形成された着色層32を有するカラーフィルタ40と、を有するものである。また、この例においては、上記タッチパネルセンサ層10は、上記電極間絶縁層12の周囲の上記透明基板1上に形成された取り出し電極14を有するものであり、上記密着層21および硬度層22は上記取出し電極14が露出するようなパターン状に形成されている。なお、図1においては、説明の容易のため、上記電極間絶縁層12および保護層20については省略して示している。本発明によれば、上記保護層が硬度に優れた硬度層および密着層からなることにより、それぞれの層を主に硬化性にのみ優れた材料、および、上記タッチパネルセンサ層、具体的には、上記透明基板上に第1透明電極、電極間絶縁層および第2透明電極がこの順で積層した上記タッチパネルセンサ層に含まれる金属材料からなる第2透明電極との密着性に優れた材料を用いて形成することができる。一方、上記保護層が一層からなるものである場合、上記保護層を構成する材料として、硬度に優れたものとするため硬化性に優れた材料を用いると硬化収縮により上記タッチパネルセンサ層、より具体的には金属材料からなる第2透明電極との密着性が低下してしまい、一方、上記タッチパネルセンサ層との密着性に優れたものとすると十分な硬度を有するものとすることが困難となる。特に、後述するように、タッチパネルの形成後にカラーフィルタを形成する場合、通常、上記カラーフィルタを構成する各色の着色層がフォトリソグラフィー法により形成される。この際に、各色の着色層の形成毎に、露光現像加熱処理が加えられ、その度に上記保護層を構成する材料が熱劣化等を受け、その材料の各性能が低下することになる。このため、上記材料が硬度および密着性の両者に極めて優れたものでないと、上記カラーフィルタの形成途中で硬度および密着性のいずれかまたは両者が所望の性能以下となり、保護層として機能しなくなる恐れがある。これに対して、上述のように、上記保護層を上記タッチパネルセンサ層との密着性に優れた密着層と上記タッチパネルの最表面に配置される硬度層とからなるものとすることにより、それぞれの層に適した材料を用いることができる。したがって、上記保護層を硬度および密着性の両者に優れたものとすることができ、上述のようなカラーフィルタ形成時の熱劣化等により性能が劣化したとしても、十分に高い性能を維持することができるのである。また、上記硬度層が、平面視上、上記密着層の外周より内側に形成されていること、すなわち、上記密着層よりも密着性の低い硬度層が上記タッチパネルセンサ層と直接接しないように形成され、上記密着層を介して上記タッチパネルセンサ層上に形成されていることにより、上記タッチパネル層と上記硬度層との接着面から上記硬度層が剥離してしまうことを防止することができる。また、上記密着層および硬度層の両者が樹脂からなるものであることにより、上記密着層および硬度層の間の密着性も十分に高いものとすることができる。このため、上記保護層を硬度および密着性の両者に優れたものとすることができ、かつ、安定性に優れたものとすることができる。また、このような保護層を有することにより、例えば、透明基板の一方の表面にタッチパネルを有し、上記透明基板の他方の表面にカラーフィルタを有するタッチパネル付カラーフィルタを形成する際に、まず、タッチパネルを形成し、その後、上記透明基板を上記タッチパネル側を裏面にして台や先の尖ったピン状の支持体上に載せたり、これらの上を滑らせて搬送する等、上記タッチパネルが他の部材と接したり、擦れるような状態でカラーフィルタを形成した場合であっても、上記保護層が十分な硬度および密着性を有し、かつ、安定性に優れ、上記カラーフィルタの形成途中に上記硬度層が剥離する等の問題が発生することがないことから、上記タッチパネルに含まれるタッチパネルセンサ層の各構成へのキズ剥れの発生を安定的に防ぐことができる。そして、その結果、上記タッチパネルセンサ層に含まれる電極等にキズ等が発生することを防ぐことができ、断線や感度不良の発生のないものとすることができる。本発明のタッチパネル付カラーフィルタは、上記透明基板、タッチパネルおよびカラーフィルタを少なくとも有するものである。以下、本発明のタッチパネル付カラーフィルタの各構成について詳細に説明する。1.タッチパネル本発明に用いられるタッチパネルは、上記タッチパネルセンサ層および保護層を有するものである。1保護層本発明に用いられる保護層は、パターン状に形成された密着層および硬度層がこの順に積層されたものである。また、上記硬度層が、平面視上、上記密着層の外周より内側に形成されているものである。a密着層本発明に用いられる密着層は、上記タッチパネルセンサ層上にパターン状に形成されたものである。また、上記密着層用樹脂からなるものである。このような密着層の上記タッチパネルセンサ層に対する密着力としては、JISK560056で規定するクロスカット評価にてクロスカット部分で評価分類0または1であることが好ましい。上記密着層の密着力が上述の範囲内であることにより、上記保護層の剥れをより確実に防ぐことができるからである。本発明に用いられる密着層の可視光領域における透過率としては、所望の透明性を有する保護層を形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、80以上であることが好ましく、90以上であることがより好ましい。上記透過率が上記範囲内であることにより、透明性に優れた保護層を形成することができるからである。ここで、密着層の透過率は、標準の光CJISZ8720を用い、JISZ8701色の表示方法XYZ表色系およびX10Y10Z10表色系にて定められた式にて求めた、透過による物体色の三刺激値X,YZのうちのY値を指すものである。このような透過率の測定方法としては、例えば、JISK7361-1プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法により測定することができる。より具体的には、オリンパス株式会社製、分光光度計OSP-SP2000を用いることができる。本発明に用いられる密着層の厚みとしては、所望の密着性を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、1.5μm以下の範囲内とすることができ、なかでも、0.1μm~1.5μmの範囲内とすることができ、特に、0.5μm~0.75μmの範囲内とすることができる。上記厚みが上述の範囲内であることにより上記タッチパネルセンサ層に対する十分な密着性を発揮することができるからである。なお、上記密着層の厚みとは、上記タッチパネルセンサ層の表面から上記密着層の表面までの距離をいうものである。本発明に用いられる密着層の形成個所としては、上記タッチパネルが接触位置を安定に検出できるものとすることができ、かつ、上記タッチパネルセンサ層の各構成を安定的に保護することができる箇所であれば特に限定されるものではないが、上記タッチパネルセンサ層に含まれる電極に接続された取出し電極の一部等、他の基板と接続するために形成される接続端子部のみが露出するように形成されることが好ましい。上記形成個所に形成されることにより、上記タッチパネルセンサ層の各構成を安定に保護し、上記タッチパネルを安定的に動作できるものとすることが容易だからである。本発明に用いられる密着層用樹脂としては、所望の密着性を有し、透明性を有する密着層をパターン状に形成できるものであれば特に限定されるものではないが、感光性を有する感光性材料からなるものであることが好ましい。パターン状の上記密着層を容易に形成することができるからである。このような感光性材料としては、感光性を有し、所望の密着性および透明性を有する密着層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、上記密着層形成用ポリマーまたは密着層形成用多官能性モノマーを少なくとも含む密着層形成用組成物を用いてなるものとすることが好ましく、なかでも、上記密着層形成用組成物が上記密着層形成用ポリマーおよび密着層形成用多官能性モノマーの両者を含むものであることが好ましい。より密着性に優れた密着層を形成できるからである。このような密着層形成用ポリマーとしては、所望の密着性を有する密着層を形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、不飽和二重結合を有する構成単位1を有し、かつ、上記構成単位1の含有量が上記密着層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の45モル以下のものであることが好ましく、なかでも上記構成単位1の含有量が上記全構成単位中の、10モル~40モルの範囲内のものであることが好ましく、特に、15モル~35モルの範囲内のものであることが好ましい。上記構成単位1の含有量が上述の範囲内であることにより、密着性に優れたものとすることができるからである。本発明において用いられる構成単位1としては、露光時に上記密着層形成用多官能性モノマー等と重合可能な飽和二重結合を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、上記カルボキシル基を有する構成単位2のカルボキシル基に、エポキシ基および不飽和二重結合を有するエポキシ基含有化合物のエポキシ基を反応させてなるものを挙げることができる。本発明に用いられる構成単位2としては、カルボキシル基を有し、上記構成単位1を形成可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば、カルボキシル基および不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有モノマーの不飽和二重結合を重合してなるものを挙げることができる。このようなカルボキシル基含有モノマーとしては、具体的には、アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、ビニル安息香酸、メタアクリル酸のカプロラクトン付加物、ヒドロキシアルキルメタアクリレートに無水フタル酸等の酸無水物を付加させたもの等を用いることができ、なかでも、アクリル酸、メタアクリル酸であることが好ましい。上記エポキシ基含有化合物との反応性に優れ、上記構成単位1を安定的に形成することができるからである。本発明におけるエポキシ基含有化合物としては、上記構成単位2が有するカルボキシル基と反応することができるエポキシ基を有し、不飽和二重結合を有するものとすることができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、グリシジルメタアクリレート、34-エポキシブチルメタアクリレート、2-メチル-34-エポキシ-シクロヘキシルメタアクリレート等を挙げることができる。本発明においては、なかでも、グリシジルアクリレートであることが好ましい。上記エポキシ基含有化合物として、上述の化合物を用いることにより、硬度により優れた保護層を形成可能とすることができるからである。本発明に用いられる密着層形成用ポリマーとしては、上記構成単位1に加えて、上記構成単位2を含むこと、すなわち、側鎖にカルボキシル基を有するものであることが好ましい。上記密着層形成用ポリマーを現像性に優れたものとすることができるからである。本発明に用いられる密着層形成用ポリマーに含まれる構成単位2の含有量としては、所望の現像性を発揮できるものであれば特に限定されるものではないが、上記密着層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の5モル~40モルの範囲内であることがこのましく、なかでも10モル~30モルの範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、現像性に優れたものとすることができるからである。本発明に用いられる密着層形成用ポリマーとしては、他に、アルキル基を有する構成単位3等を含むものとすることができる。本発明におけるアルキル基としては、所望の密着性を発揮する密着層形成用ポリマーとすることができるものであれば特に限定されるものではなく、脂肪族系であっても良く、芳香環やその他の官能基を含むものを用いることができる。本発明においては、なかでも、炭素数が1~12のアルキル基であることが好ましく、特に、炭素数が1~6のアルキル基であることが好ましい。上記アルキル基が上記置換基であることにより、上記密着層形成用ポリマーを安定的に合成することができるからである。本発明における構成単位3としては、上記アルキル基を有するものであれば特に限定されるものではなく、具体的には上記アルキル基および不飽和二重結合を有するアルキル基含有モノマーの不飽和二重結合を重合してなるものを挙げることができる。このようなアルキル基含有モノマーとしては、具体的には、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート等の脂肪族メタアクリレート、フェニルメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート等の芳香族含有メタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレート、メトキシエチルメタアクリレート等の官能基メタアクリレート等を用いることができる。本発明においては、なかでも、シクロヘキシルメタアクリレート、フェニルメタアクリレートであることが好ましい。上記アルキル基含有モノマーとして、上述の化合物を用いることにより、上記密着層形成用ポリマーをより密着性に優れたものとすることができるからである。本発明における構成単位3の含有量は、上記密着層形成用ポリマーを構成する全構成単位の20モル~60モルの範囲内であることが好ましく、なかでも、30モル~50モルの範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、上記密着層形成用ポリマーをより密着性に優れたものとすることができるからである。本発明に用いられる密着層形成用ポリマーの含有量としては、所望の硬化性、現像性等を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、上記密着層形成用組成物の固形分中に、25質量~60質量の範囲内であることが好ましく、なかでも30質量~50質量の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、密着性に優れたものとすることができるからである。ここで、上記固形分中とは、上記密着層形成用組成物に含まれる溶剤以外の全ての成分をいうものである。本発明に用いられる密着層形成用ポリマーの形成方法としては、所望の構成単位を有するものを精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、上記密着層形成用ポリマーが、上記構成単位1を有するものである場合には、上記構成単位を形成可能なカルボキシル基含有モノマーを重合し、その後、上記エポキシ基含有化合物を上記構成単位2のカルボキシル基に反応させる方法を用いることができる。なお、上記エポキシ基含有化合物を上記構成単位2の一部に反応させることにより、上記構成単位1および構成単位2を有するものとすることができる。本発明に用いられる密着層形成用多官能性モノマーとしては、複数の重合性の官能基を有し、光照射により、上記密着層形成用モノマーおよび上記密着層形成用ポリマーを重合させることができるものであれば良い。本発明に用いられる密着層形成用多官能性モノマーの上記重合性官能基の官能基数としては、2以上であれば特に限定されるものではないが、2~4であることが好ましく、なかでも、4であることが好ましい。上記官能基数が上述の範囲内であることにより、密着性に優れたものとすることができるからである。本発明に用いられる密着層形成用多官能性モノマーとしては、通常、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する多官能メタアクリレートが用いられる。このような多官能メタアクリレートとしては、例えばエチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、ヘキサンジオールメタアクリレート、長鎖脂肪族ジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジメタアクリレート、プロピレンジメタアクリレート、グリセロールメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、テトラメチレングリコールジメタアクリレート、ブチレングリコールジメタアクリレート、ジシクロペンタニルジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレンジメタアクリレート、トリグリセロールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジメタアクリレート、アリル化シクロヘキシルジメタアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジメタアクリレート、アクリル化イソシアヌレート、ビスアクリロキシネオペンチルグリコールアジペート、ビスフェノールAジメタアクリレート、テトラブロモビスフェノールAジメタアクリレート、ビスフェノールSジメタアクリレート、ブタンジオールジメタアクリレート、フタル酸ジメタアクリレート、リン酸ジメタアクリレート、亜鉛ジメタアクリレート等の二官能メタアクリレートが挙げられる。また、上記多官能メタアクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、グリセロールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、リン酸トリメタアクリレート、トリスアクリロキシエチルイソシアヌレート、トリスメタクリロキシエチルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、カルボン酸変性ジペンタエリストールペンタメタアクリレート、ウレタントリメタアクリレート、エステルトリメタアクリレート、ウレタンヘキサメタアクリレート、エステルヘキサメタアクリレート等の三官能以上のメタアクリレートが挙げられる。これらの多官能メタアクリレートは、1種のみを単独で使用してもよく、2種以上を併用して使用してもよい。本発明に用いられる密着層形成用多官能性モノマーの含有量としては、所望の密着性の密着層を形成可能とすることができるものであれば良く、上記密着層形成用組成物の固形分中に、15質量~50質量の範囲内であることが好ましく、なかでも、20質量~45質量の範囲内であることが好ましい。上記範囲より少ないと十分に光硬化が進まず、露光部分が溶出する場合があるからであり、上記範囲より多いと、未露光箇所分でも現像できなくなる可能性があるからである。本発明に用いられる密着層形成用組成物としては、上記密着層形成用ポリマーおよび/または密着層形成用多官能性モノマーを含むものであるが、通常、光重合開始剤および溶剤を含むものである。また、エポキシ樹脂を含むことが好ましい。上記エポキシ樹脂を含むことで、金属、具体的には、上記タッチパネルセンサ層を構成する第2透明電極等との密着性を向上させることができるからである。また、必要に応じて種々の添加剤や、上記密着層形成用ポリマーおよび密着層形成用多官能性モノマー以外のポリマーおよびモノマーを含むことができる。本発明に用いられる光重合開始剤としては、光照射により、上記密着層形成用多官能性モノマーおよび上記密着層形成用ポリマーを重合させることができるものであれば特に限定されるものではなく、一般的なものを用いることができる。具体的には、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、4,4 ́-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4 ́-ジメチルアミノベンゾフェノン、2-エチルアントラキノン、フェナントレン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、2-o-クロロフェニル-4,5-フェニルイミダゾール2量体、2-o-クロロフェニル-4,5-ジm-メトキシフェニルイミダゾール2量体、2-o-フルオロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、2-o-メトキシフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、2,4,5-トリアリールイミダゾール2量体、2-o-クロロフェニル-4,5-ジm-メチルフェニルイミダゾール2量体、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン、2-トリクロロメチル-5-スチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-p-シアノスチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-p-メトキシスチリル-1,3,4-オキサジアゾール等のハロメチルチアゾール化合物、2,4-ビストリクロロメチル-6-p-メトキシスチリル-S-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-1-p-ジメチルアミノフェニル-1,3-ブタジエニル-S-トリアジン、2-トリクロロメチル-4-アミノ-6-p-メトキシスチリル-S-トリアジン、2-ナフト-1-イル-4,6-ビス-トリクロロメチル-S-トリアジン、2-4-エトキシ-ナフト-1-イル-4,6-ビス-トリクロロメチル-S-トリアジン、2-4-ブトキシ-ナフト-1-イル-4,6-ビス-トリクロロメチル-S-トリアジン等のハロメチル-S-トリアジン系化合物、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパノン、1,2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン‐1,1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、ベンジル、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-ベンゾイル-4 ́-メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノベンゾエート、P-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、2-n-ブチキシエチル-4-ジメチルアミノベンゾエート、2-クロロチオキサントン、2,4ジエチルチオキサントン、2,4ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、エタノン,1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-o-アセチルオキシム、4-ベンゾイル-メチルジフェニルサルファイド、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-[4-4-モルフォリニルフェニル]-1-ブタノン、2-ジメチルアミノ-2-[4-メチルフェニルメチル]-1-[4-4-モルホリニルフェニル]-1-ブタノン、α-ジメトキシ-α-フェニルアセトフェノン、フェニルビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフォスフィンオキサイド、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-4-モルフォリニル-1-プロパノン、1,2-オクタジオン等の光重合開始剤を挙げることができる。本発明においては、これらの光重合開始剤を単独で、または、2種以上を混合して使用することができる。このような光重合開始剤の含有量としては、上記密着層形成用組成物を所望の硬化速度で光硬化することができるものであれば良く、固形分中に、0.1質量~20質量の範囲内であることが好ましく、なかでも0.7質量~10質量の範囲内であることが好ましい。本発明に用いられる密着層形成用組成物に含まれる溶剤は、上記密着層形成用組成物中の各成分とは反応せず、これらを溶解もしくは分散可能な有機溶剤であれば特に限定されるものではない。具体的には、メタノール、エタノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン等のエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類;プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン等のケトン類;および、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルブタン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート等のエステル類などが挙げられる。これらの溶剤は単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせてもよい。本発明に用いられる溶剤の上記密着層形成用組成物中の含有量としては、所望の塗工性を得られるものであれば特に限定されるものではないが、60質量~95質量の範囲内であることが好ましく、より好ましくは70質量~90質量の範囲内であることが好ましい。このような含有量であることにより、塗布に適した粘度とすることができるからである。本発明に用いられるエポキシ樹脂としては、上記密着層形成用組成物の硬化後に所望の密着性を発揮することができるものであれば特に限定されるものではない。例えば、常温で液状のノボラック系エポキシ、脂環式エポキシ、カルドエポキシ等を挙げることができ、より具体的には、商品名BPEFGナガセケムテックス製、セロキサイド2021P、3000、2000、スチレンオキサイド、エポリードGT300、GT400以上、ダイセル化学工業製、jer901、801P、802、802XA、806、806L、807、815、819、825、827、828、815XA、828EL、828XA、152、604、630以上、油化シェルエポキシ製、SPCA-35X昭和高分子株製等を挙げることができる。本発明においては、なかでも、エポリードGT300、GT400、SPCA-35Xを好ましく用いることができる。密着性に優れた密着層を形成することができるからである。本発明におけるエポキシ樹脂の上記密着層形成用組成物中の含有量としては、所望の密着性を得られるものであれば特に限定されるものではないが、上記密着層形成用組成物の固形分中に20質量~40質量の範囲内であることが好ましく、なかでも30質量~40質量の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、密着性に優れたものとすることができるからである。なお、エポキシ当量は、JISK7236に基づいて求めることができる。本発明に用いられる添加剤としては、顔料、遮光性微粒子、重合停止剤、連鎖移動剤、レベリング剤、可塑剤、界面活性剤、消泡剤、シランカップリング剤等などが挙げられる。本発明に用いられる密着層形成用組成物の形成方法としては、上記各成分を上記溶剤中に均一に分散したものとすることができる方法であれば特に限定されるものではなく、公知の混合分散方法を用いることができる。本発明に用いられる密着層の形成方法としては、上記密着層をパターン精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものでなく、上記密着層形成用組成物を用いる方法、より具体的には、上記密着層形成用組成物を塗布し、乾燥して塗膜を形成した後、上記塗膜に対してパターン状に露光し、現像する方法を用いることが好ましい。密着性に優れた密着層をパターン精度良く形成することができるからである。また、上記密着層用樹脂が非感光性材料からなるものである場合には、上記非感光性材料からなる塗膜を形成した後、レジストをパターン状に形成し、エッチングする方法を用いることができる。b硬度層本発明に用いられる硬度層は、上記硬度層用樹脂からなるものである。また、上記硬度層は、平面視上、上記密着層の外周より内側に形成されるものである。本発明に用いられる硬度層の形成個所としては、上記硬度層が、平面視上、上記密着層の外周より内側に形成されており、上記タッチパネルが接触位置を安定に検出できるものとすることができ、かつ、上記タッチパネルセンサ層の各構成を安定的に保護することができる箇所であれば特に限定されるものではない。本発明においては、なかでも、図3に例示するように、上記硬度層22のテーパー部bが、上記密着層21のテーパー部b上に形成されていること、すなわち、上記硬度層22および密着層21の膜厚が均一な箇所である平坦部aと平坦部aより膜厚が薄くなっているテーパー部bとの境界が平面視上実質的に同一となるように形成されていることが好ましい。平面視上、上記密着層と、上記密着層の外周より内側に形成された硬度層とを、同一のマスクを用いて容易かつ低コストで形成することができるからである。具体的には、上記密着層および硬度層を、同程度の感光性を有する、すなわち、露光に対する硬化性が同程度のである密着層用組成物および硬度層用組成物を用いて形成する場合、上記密着層用組成物の塗膜および上記硬度層用組成物の塗膜を、上記硬度層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量が、上記密着層を形成する工程での上記密着層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量よりも少なくなるように露光することにより、同一の開口部を有するマスクを用いて上記関係の密着層および硬度層を容易かつ低コストで形成することができるからである。なお、上記平坦部とは、膜厚が均一な部位であり、上記各層の中心部を含むものである。また、上記テーパー部とは、既に説明した図3に示すように、上記密着層および保護層の外周の端部に形成されるものであり、膜厚が均一な部位である平坦部と比較し、膜厚の薄くなっている箇所であり、回折光の照射により形成されている場合には、通常、端部に向かって徐々に膜厚が薄くなっている箇所である。また、回折光領域とは、図4に示すように、平面視上、上記マスクの開口部の周囲の領域であり、回折光の照射を受ける領域である。また、上記回折光領域への露光量とは、露光後に形成される上記各層のテーパー部を形成するための露光量をいうものであり、通常、テーパー部への露光量が多いほど、上記テーパー部の平面視面積が広いものとなる。したがって、硬度層用組成物および密着層用組成物として同程度の感光性を有するものを使用する場合、硬度層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量が、密着層形成工程での密着層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量よりも少なくなるように露光することで、硬度層のテーパー部の平面視面積を、密着層のテーパー部の平面視面積よりも狭いものとすることができる。なお、このようなテーパー部の平面視面積は、上述の露光量、すなわち、照射する露光光の強度や時間を調整する方法に限らず、後述するように、両組成物の感光性の違い等に応じて、マスクと塗膜との距離である露光ギャップを調整する方法等を用いることで制御することもできる。さらに、上記硬度層および密着層の境界が平面視上実質的に同一であるとは、上述したような上記密着層および硬度層が同一のマスクを用いて形成された際に形成される境界のズレ幅の範囲内であることをいうものであり、より具体的には、上記硬度層および密着層の境界のズレ幅が平面視上、1μm以内であることをいうものである。本発明における硬度層の外周の密着層の外周からの距離としては、硬度層が、平面視上、密着層の外周より内側に形成されているものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、1μm以上であることが好ましく、なかでも1μm~10μmの範囲内であることが好ましく、特に1μm~5μmの範囲内であることが好ましい。端部間の距離が上述の範囲内であることにより、硬度層を、安定的に、平面視上、密着層の外周より内側に形成されたものとすることができるからである。本発明に用いられる硬度層の鉛筆硬度としては、上記硬度層を含むタッチパネル形成後に上記カラーフィルタを形成した場合であっても、上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ剥離の少ないものとすることができるものであれば特に限定されるものではないが、4H以上のものであることが好ましく、なかでも4H~6Hの範囲内であることが好ましい。上記鉛筆硬度が上述の範囲内であることにより、硬度により優れたものとすることができ、上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ剥がれの少ないものとすることができるからである。なお、硬度の測定方法は、ガラス基板上に硬度層を形成し、JISK5600-5-4の規定に基づいて測定することができる。このような硬度層の静摩擦係数としては、上記硬度層を含むタッチパネル形成後に上記カラーフィルタを形成した場合であっても、上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ剥離の少ないものとすることができるものであれば特に限定されるものではないが、0.25~0.37の範囲内であることが好ましく、なかでも0.25~0.30の範囲内であることが好ましく、特に0.25~0.28の範囲内であることが好ましい。上記静摩擦係数が上述の範囲内であることにより、滑り性により優れたものとすることができ、上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ等のより少ないものとすることができるからである。ここで、上記静摩擦係数の測定方法としては、精度良く測定できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ガラス上に製膜した硬度層について新東科学株式会社製HEIDONトライボギアミューズTYPE:94iを用いて測定する方法を用いることができる。なお、スライダーの材質は黄銅で40gのものを用い、検出器はボイスコイルモーターフォトセンサを使用する方法を用いることができる。本発明に用いられる硬度層の可視光領域における透過率としては、所望の透明性を有する保護層を形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、80以上であることが好ましく、90以上であることがより好ましい。上記透過率が上記範囲内であることにより、透明性に優れた保護層を形成することができるからである。本発明に用いられる硬度層の厚みとしては、所望の硬度および滑り性を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、1.0μm~5.0μmの範囲内であることが好ましく、なかでも1.0μm~1.75μmの範囲内であることが好ましい。上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ剥がれの少ないものとすることができるからである。なお、上記硬度層の厚みとは、上記密着層の表面から上記硬度層の表面までの距離をいうものである。本発明に用いられる硬度層を構成する硬度層用樹脂については、所望の硬度および透明性を有する硬度層をパターン状に形成できるものであれば特に限定されるものではないが、感光性を有する感光性材料からなるものであることが好ましい。パターン状の上記硬度層を容易に形成することができるからである。このような感光性材料としては、感光性を有し、所望の硬度および透明性を有する硬度層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、上記硬度層形成用ポリマーまたは硬度層形成用多官能性モノマーを少なくとも含む硬度層形成用組成物を用いてなるものとすることが好ましく、なかでも、上記硬度層形成用組成物が上記硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーの両者を含むものであることが好ましい。より硬度に優れた硬度層を形成できるからである。このような硬度層形成用ポリマーとしては、所望の硬度を有する硬度層を形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、不飽和二重結合を有する構成単位1を有し、かつ、上記構成単位1の含有量が上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の70モル以上のものであることが好ましく、なかでも、75モル~90モルの範囲内のものであることが好ましい。上記構成単位1の含有量が上述の範囲内であることにより、硬度に優れた硬度層を形成可能なものとすることができるからである。なお、上記構成単位1としては、不飽和二重結合を有するものであれば良く、上記a密着層の項に記載のものと同様とすることができる。本発明における硬度層形成用ポリマーとしては、上記構成単位1に加えて、上記構成単位2を含むことが好ましい。上記硬度層形成用ポリマーを現像性に優れたものとすることができるからである。本発明に用いられる硬度層形成用ポリマーに含まれる構成単位2の含有量としては所望の現像性を得られるものであれば特に限定されるものではないが、上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の10モル~25モルの範囲内であることがこのましく、なかでも15モル~20モルの範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、現像性に優れたものとすることができるからである。なお、上記構成単位2としては、カルボキシル基を有するものであれば良く、上記a密着層の項に記載のものと同様とすることができる。本発明に用いられる硬度層形成用ポリマーとしては、他に、上記構成単位3や、フッ素含有基を有する構成単位4を含むことができる。本発明においては、なかでも、上記構成単位4を含むことが好ましい。上記硬度層を滑り性に優れたものとすることを可能とするからである。本発明における構成単位3の含有量としては、所望の硬度の硬度層を得られるものであれば特に限定されるものではないが、上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位の5モル~10モルの範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、上記硬度層形成用ポリマーを溶剤中での分散安定性に優れたものとすることができるからである。なお、上記構成単位3としては、上記a密着層の項に記載のものと同様とすることができる。本発明におけるフッ素含有基としては、上記硬度層の表面に滑り性を付与することができるものであれば特に限定されるものではなく、具体的には、トリフルオロメチルCF3等を挙げることができる。上記フッ素含有基として上記官能基を含むことにより滑り性に優れた硬度層を形成することができるからである。本発明における構成単位4としては、上記フッ素含有基を有し、所望の滑り性を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、上記フッ素含有基および不飽和二重結合を有するフッ素含有基含有モノマーの不飽和二重結合を重合してなるものを挙げることができる。このようなフッ素含有基含有モノマーとしては、上記フッ素含有基を有するものとすることができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート、2-パーフルオロブチルエチルメタクリレート、2-パーフルオロヘキシルエチルメタクリレート、α-ブチル-ω-3-メタクリロキシプロピル-ポリジメチルシロキサンを挙げることができ、なかでも、2-パーフルオロヘキシルエチルメタクリレート、α-ブチル-ω-3-メタクリロキシプロピル-ポリジメチルシロキサンを挙げることができる。上記フッ素含有基含有モノマーとして、上述の化合物を用いることにより、上記フッ素含有基を有する構成単位4を精度良く上記ポリマーに導入することができるからである。本発明における構成単位4の含有量としては、硬度および滑り性に優れた硬度層を形成できるものであれば、特に限定されるものではないが、上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の0.1モル~8モルの範囲内であることが好ましく、なかでも1モル~6モルの範囲内であることが好ましく、特に、2モル~4モルの範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、特に滑り性に優れた硬度層を形成できるからである。本発明に用いられる硬度層形成用ポリマーの含有量としては、所望の硬化性、現像性等を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、上記硬度層形成用組成物の固形分中に、10質量~50質量の範囲内であることが好ましく、なかでも15質量~35質量の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、硬度に優れた硬度層とすることができるからである。本発明に用いられる硬度層形成用ポリマーの形成方法としては、所望の構成単位を有するものを精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、上記硬度層形成用ポリマーが、上記構成単位1および構成単位4を有するものである場合には、上記構成単位を形成可能なカルボキシル基含有モノマーおよびフッ素含有基含有モノマーを重合し、その後、上記エポキシ基含有化合物を上記構成単位2のカルボキシル基に反応させる方法を用いることができる。本発明に用いられる硬度層形成用多官能性モノマーとしては、複数の重合性の官能基を有し、光照射により、上記硬度層形成用モノマーおよび上記硬度層形成用ポリマーを重合させることができるものであれば良い。このような硬度層形成用多官能性モノマーの上記官能基数としては、2以上であれば特に限定されるものではないが、5以上であることが好ましく、なかでも、5~6であることが好ましい。上記官能基数が上述の範囲内であることにより硬度に優れたものとすることができるからである。本発明に用いられる硬度層形成用多官能性モノマーとしては、通常、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する多官能メタアクリレートが用いられる。このような多官能メタアクリレートとしては、上記a密着層の項に記載のものと同様とすることができる。本発明に用いられる硬度層形成用多官能性モノマーの含有量としては、所望の硬度の硬度層を形成可能とすることができるものであれば良く、上記硬度層形成用組成物の固形分中に、40質量~90質量の範囲内であることが好ましく、なかでも、50質量~80質量の範囲内であることが好ましく、特に60質量~75質量の範囲内であることが好ましい。上記範囲より少ないと十分に光硬化が進まず、露光部分が溶出する場合があるからであり、上記範囲より多いと、未露光箇所でも現像できなくなる可能性があるからである。本発明に用いられる硬度層形成用組成物としては、上記硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーを含むものであるが、通常、光重合開始剤および溶剤を含むものである。また、必要に応じて種々の添加剤や、上記硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマー以外のポリマーおよびモノマーを含むことができる。このような光重合開始剤、溶剤および添加剤ならびにこれらの含有量については、上記a密着層の項に記載の内容と同様とすることができる。本発明に用いられる硬度層の形成方法としては、上記硬度層をパターン精度良く形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、上記a密着層と同様の方法を用いることができる。2タッチパネルセンサ層本発明に用いられるタッチパネルセンサ層は、上記透明基板上に形成されるものである。このようなタッチパネルセンサ層としては、一般的なタッチパネルに用いられるものを使用することができ、例えば、上記透明基板上に形成され透明性を有する金属材料等からなる第1透明電極、上記第1透明電極上に形成される電極間絶縁層、上記電極間絶縁層上に形成され、透明性を有する金属材料等からなる第2透明電極を有するもの、すなわち、上記タッチパネルは、上記第1透明電極、電極間絶縁層、第2透明電極および保護層がこの順で積層したものを挙げることができる。また、上記透明基板上に形成される取出し電極を含むものである。このような第1透明電極、電極間絶縁層、第2透明電極および取出し電極、ならびにその形成方法としては、一般的なタッチパネルに用いられるものと同様とすることができる。具体的には、上記第1透明電極および第2透明電極を構成する金属材料としては、例えば、インジウム錫酸化物ITO、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛-酸化錫系、酸化インジウム-酸化錫系、酸化亜鉛-酸化インジウム-酸化マグネシウム系などの金属酸化物を挙げることができる。本発明においては、これらの金属酸化物が2種以上複合されてもよい。また、取出し電極等の不透明電極材料としては、透明電極材料より高い電気伝導率を有する金属材料が用いられてもよい。例としては、アルミニウム、モリブデン、パラジウム、銀、クロム、銅等の金属及びそれらを主成分とする合金、あるいはそれら合金を含む積層体が挙げられる。なお、上記電極は、上記金属材料からなるものである場合、その表面がUVオゾンや、酸素プラズマ等の表面処理等が施されたものであっても良いが、上述のように本発明に用いられる密着層は、上記電極材料との間で高い密着性を発揮するので、これらの処理を不要とすることができる。2.カラーフィルタ本発明に用いられるカラーフィルタは、上記透明基板の他方の表面上に形成されるものである。このようなカラーフィルタとしては、液晶表示装置やエレクトロルミネッセンス表示装置等に一般的に用いられるものと同様とすることができ、通常、上記透明基板上に形成され、開口部を有する遮光部、上記遮光部の開口部に形成される着色層、スペーサ、オーバーコート層、透明電極、配向膜等を有するものである。このようなカラーフィルタの各構成および形成方法については一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができ、例えば、特開2010-014870号公報記載の内容と同様とすることができる。3.透明基板本発明に用いられる透明基板は、上記タッチパネルおよびカラーフィルタを支持するものである。このような透明基板を構成する材料としては、タッチパネルやカラーフィルタに用いられる透明基板と同様とすることができ、例えば、特開2010-014870号公報記載の内容と同様とすることができる。本発明における透明基板の厚さとしては、上記タッチパネルおよびカラーフィルタを支持することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、0.3μm~1.6μmの範囲内等のタッチパネルに一般的に用いられるものと同様とすることができる。4.タッチパネル付カラーフィルタ本発明のタッチパネル付カラーフィルタは、上記透明基板、タッチパネルおよびカラーフィルタを少なくとも含むものであるが、必要に応じて、その他の構成を有するものであっても良い。本発明のタッチパネル付カラーフィルタの製造方法としては、上記各構成を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、上記密着層および硬度層を、開口部のサイズの異なるマスクを介して露光することにより形成する方法を挙げることができるが、後述する同一のマスクを用いて形成する方法を好ましく用いることが好ましい。上記硬度層が、平面視上、上記密着層の外周より内側に形成されたタッチパネル付カラーフィルタを容易かつ低コストで製造することができるからである。本発明のタッチパネル付カラーフィルタの用途としては、例えば、タッチパネル付表示装置、具体的には、タッチパネル付液晶表示装置やタッチパネル付有機エレクトロルミネッセント表示装置等を挙げることができ、なかでも、タッチパネルの各構成にキズ剥がれがなく、感度不良の少ないタッチパネル付表示装置に用いることが好ましい。B.タッチパネル付カラーフィルタの製造方法次に、本発明のタッチパネル付カラーフィルタの製造方法について説明する。本発明のタッチパネル付カラーフィルタの製造方法は、透明基板の一方の表面上に形成されたタッチパネルセンサ層上に、密着層用組成物の塗膜を露光することにより密着層を形成する密着層形成工程と、上記密着層上に、硬度層用組成物の塗膜を露光することにより硬度層を形成する硬度層形成工程と、を有するタッチパネル付カラーフィルタの製造方法であって、上記硬度層形成工程が、上記密着層形成工程の露光に用いたマスクと同一のマスクを用い、上記硬度層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量が、上記密着層形成工程での上記密着層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量よりも少なくなるように露光するものであることを特徴とするものである。このような本発明のタッチパネル付カラーフィルタの製造方法を図を参照して説明する。図5は、本発明のタッチパネル付カラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。図5に例示するように、上記透明基板1を準備し、上記透明基板1の一方の表面上に、上記第1透明電極、電極間絶縁層、第2透明電極および取出し電極を有するタッチパネルセンサ層10を形成し、次いで、上記第2透明電極上に、上記密着層形成用組成物を塗工乾燥して密着層用塗膜21 ́を形成した後、露光し図5a、その後、現像することにより密着層21を形成し、次いで、上記密着層21上に上記硬度層形成用組成物を塗工乾燥し硬度層用塗膜22 ́を形成した後、上記硬度層用塗膜22 ́に、上記密着層用塗膜21 ́への露光に用いたマスクと同一のマスクおよび露光強度で上記密着層用塗膜21 ́に露光する際のギャップよりも狭くして露光することにより、上記硬度層用塗膜22 ́の回折光領域への露光量が上記密着層用塗膜21 ́の回折光領域への露光量よりも少なくなるように露光し図5b、その後、現像することにより、平面視上、上記密着層21内となるように硬度層22を形成し、保護層20を得る。これによりタッチパネル30を形成する図5c。その後、図5dに示すように、上記透明基板1の他方の表面上に、上記開口部を有する遮光部31および上記遮光部31の開口部に形成された着色層32を有するカラーフィルタ40を形成し、タッチパネル付カラーフィルタ50を製造するものである。なお、図5aが密着層形成工程であり、図5bが硬度層形成工程である。本発明によれば、上記硬度層形成工程を有することにより、上記硬度層が、平面視上、上記密着層の外周より内側に形成されたタッチパネル付カラーフィルタを容易かつ低コストで製造することができる。本発明のタッチパネル付カラーフィルタの製造方法は、上記密着層形成工程および硬度層形成工程を少なくとも含むものである。以下、本発明のタッチパネル付カラーフィルタの製造方法に含まれる各工程について詳細に説明する。1.密着層形成工程本発明における密着層形成工程は、密着層用組成物の塗膜を露光することにより密着層を形成する工程である。本工程において、上記密着層用組成物の塗膜を露光することにより上記密着層を形成する方法としては、所望のパターンの密着層を精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、上記密着層用組成物の塗膜を形成し、上記塗膜を露光現像する方法が挙げられる。本工程に用いられる密着層用組成物については、所望のパターンを有する密着層をフォトリソ法で形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、上記A.タッチパネル付カラーフィルタの項に記載されたものを用いることができる。本工程において、上記密着層用組成物の塗膜を形成する方法としては、上記密着層用組成物を塗布して、均一の膜厚の塗膜を形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、ビードコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法等公知の塗布方法を用いることができる。また、本工程においては、上記密着層用組成物の塗布後に、形成された塗膜を乾燥する乾燥処理を施してもよい。上記密着層用組成物に含まれる溶媒等を早期に除去することにより、生産性を向上させることができるからである。上記乾燥処理の方法として、例えば、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥、赤外線加熱乾燥等、一般的な方法を用いることができる。本工程において、上記密着層用組成物の塗膜を露光する方法については、一般的なフォトリソグラフィー法に用いられる方法を使用することができ、例えば、上記密着層用組成物がネガ型の感光性材料である場合には、上記密着層を形成する箇所に開口部を有するマスクを介して露光する方法を使用することができる。本工程においては、なかでも、上記マスクを、上記密着層用組成物の塗膜と所定のギャップを有するように配置して露光する方法を用いることが好ましい。一つのマスクを用いて、上記硬度層よりも平面視上の面積の広い密着層を容易に形成することができるからである。本工程における上記塗膜と上記マスクとのギャップとしては、所望のパターンの密着層を形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、100μm~400μmの範囲内とすることが好ましく、なかでも、150μm~350μmの範囲内とすることが好ましい。上記ギャップが上述の範囲内であることにより、上記硬度層よりも平面視面積の広い密着層を安定的に形成することが容易だからである。本工程において上記露光後の塗膜を現像する方法としては、フォトリソグラフィー法に一般的に用いられる方法を使用することができ、現像液中に浸漬または現像液を塗布する方法を用いることができる。また、現像液としては、アルカリ水溶液を用いることができる。本工程により形成される密着層については、上記タッチパネルセンサ層上に密着性良く形成されるものであれば良く、上記A.タッチパネル付カラーフィルタの項に記載の内容と同様とすることができる。2.硬度層形成工程本発明における硬度層形成工程は、上記密着層上に、硬度層用組成物の塗膜を露光することにより硬度層を形成する工程であり、上記密着層形成工程の露光に用いたマスクと同一のマスクを用い、上記硬度層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量が、上記密着層形成工程での上記密着層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量よりも少なくなるように露光するものである。本工程において、上記硬度層用組成物の塗膜を露光することにより上記硬度層を形成する方法としては、平面視上、上記密着層の外周より内側に上記硬度層を精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、上記硬度層用組成物の塗膜を形成し、上記塗膜を露光現像する方法が挙げられる。なお、上記塗膜を形成する方法および上記塗膜を現像する方法については、上記1.密着層形成工程の項に記載の方法と同様とすることができる。本工程に用いられる硬度層用組成物としては、所望のパターンを有する硬度層をフォトリソ法で形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、上記A.タッチパネル付カラーフィルタの項に記載されたものを用いることができる。本工程において上記硬度層用組成物の塗膜の露光方法は、上記密着層形成工程の露光に用いたマスクと同一のマスクを用い、上記硬度層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量が、上記密着層形成工程での上記密着層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量よりも少なくなるように露光する方法である。本工程において、上記硬度層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量が、上記密着層形成工程での上記密着層用組成物の塗膜の回折光領域への露光量よりも少なくなるように露光する方法としては、同一のマスクを用い上記回折光領域への露光量を小さくでき、平面視上、上記硬度層のテーパー部を上記密着層のテーパー部内に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、既に説明した図5に示すように、上記密着層用組成物の塗膜と上記マスクとのギャップより、上記硬度層用組成物の塗膜と上記マスクとのギャップを狭くする方法や、上記塗膜と上記マスクとのギャップを同一とし、露光時間を上記密着層形成工程での露光時間よりも短くする方法、上記塗膜と上記マスクとのギャップおよび露光時間を同一とし、露光強度を上記密着層形成工程での露光強度よりも弱くする方法等を挙げることができる。本工程により形成される硬度層については、上記密着層の外周より内側に精度良く形成されるものであれば良く、上記A.タッチパネル付カラーフィルタの項に記載の内容と同様とすることができる。3.タッチパネル付カラーフィルタの製造方法本発明のタッチパネル付カラーフィルタの製造方法は、上記密着層形成工程および硬度層形成工程を少なくとも有するものであるが、通常、上記密着層がその上に形成されるタッチパネルセンサ層を上記透明基板の一方の表面上に形成するタッチパネルセンサ層形成工程や、上記透明基板の他方の表面上にカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程を有するものである。また、必要に応じてその他の工程を有するものとすることができる。なお、このようなタッチパネルセンサ層およびカラーフィルタならびにこれらの形成方法については、上記A.タッチパネル付カラーフィルタの項に記載した内容と同様とすることができる。本発明においては、上記カラーフィルタ形成工程が上記硬度層形成工程後に行われること、すなわち、上記保護層を含むタッチパネルを形成した後に、上記カラーフィルタを形成することが好ましい。上記カラーフィルタを安定的に形成することができるからである。また、その際の、上記カラーフィルタ形成工程におけるカラーフィルタの形成方法としては、上記カラーフィルタの各構成の形成を、上記硬度層形成工程後の透明基板が上記タッチパネル側を裏面にして台等の上に載せられた状態、すなわち、上記保護層が他の部材と接触した状態で行われることが好ましい。上記カラーフィルタを安定的に形成することができるからである。また、上記密着層形成工程および硬度層形成工程は、硬度および密着性に優れた保護層を形成することができるものであるため、上記保護層が他の部材と接触した状態で、本工程が行われる場合であっても、上記タッチパネルに含まれる各構成へのキズや剥れの発生を防止することができるからである。したがって、本発明の効果をより効果的に発揮することができるからである。本発明におけるその他の工程としては、例えば、上記硬度層形成工程後の透明基板を、上記タッチパネル側を裏面にして台等の搬送部材上に載せ、搬送する搬送工程を含むことが好ましい。上述のように、上記密着層形成工程および硬度層形成工程により、上記密着層および硬度層を有する保護層を最表面に有するタッチパネルを有するものであるため、上記タッチパネル側を裏面にして搬送部材上に載せた場合であっても、上記タッチパネルに含まれる各構成にキズや剥れが生じることを防止することができる。このため、上述のような搬送工程を有するものであっても、品質に優れたタッチパネル付カラーフィルタを安定的に製造することができるからである。なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。1.ポリマーの製造方法合成例1攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および還流冷却管を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルPGME120質量部、メチルメタクリレートMMA10質量部、メタクリル酸MAA80質量部、2-パーフルオロヘキシルエチルメタクリレート10質量部を仕込み、フラスコ内に窒素ガスを導入しながら30分攪拌して窒素置換を行った後、フラスコの内容物を90°Cまで昇温した。ついで、フラスコ内の内容物を90°Cに維持しながら、βメルカプトプロピオン酸BMPA4質量部とジメチル2,2-アゾビス2-メチルプロピネート0.1質量部添加し、重合を開始した。重合開始から1時間毎に2,2-アゾビス2-メチルプロピネート0.4質量部を計3回添加した。重合開始から6時間後、PGME50質量部を添加し、室温まで冷却した。重合物を10時間程度放置した後、フラスコ内の酸素濃度が20程度にもどっていることを確認した後、フラスコ内にメトキノンMEHQ0.1質量部とグリシジルメタクリレートGMA140質量部とPGME100質量部を追加し、95°Cまで昇温した。ついで、フラスコの内容物を95°Cに維持しながらトリエチルアミンTEA1質量部を添加してから7時間後、室温まで冷却した。冷却後、無水マレイン酸22質量部、MEHQ0.3質量部、およびPGME10質量部を追加し、再度95°Cまで昇温した。ついで、フラスコの内容物を95°Cに維持しながら、ジメチルアミノピリジンDMAP1質量部を添加してから7時間後、PGME80質量部を添加し、室温まで冷却して、ポリマーAを得た。ポリマー濃度は38であった。得られた重合物の重量平均分子量は1.5万で、樹脂酸価は70mgKOH/gであった。合成例2攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および還流冷却管を備えたフラスコに、PGME120質量部、メチルメタクリレートMMA60質量部、メタクリル酸MAA40質量部を仕込み、フラスコ内に窒素ガスを導入しながら30分攪拌して窒素置換を行った後、フラスコの内容物を90°Cまで昇温した。ついで、フラスコ内の内容物を90°Cに維持しながら、BMPA4質量部およびジメチル2,2-アゾビス2-メチルプロピネート0.1質量部添加し、重合を開始した。重合開始から1時間毎に2,2-アゾビス2-メチルプロピネート0.4質量部を計3回添加した。重合開始から6時間後、PGME50質量部を添加し、室温まで冷却した。重合物を10時間程度放置した後、フラスコ内の酸素濃度が20程度にもどっていることを確認した後、フラスコ内にMEHQ0.1質量部とGMA25質量部とPGME100質量部を追加し、95°Cまで昇温した。ついで、フラスコの内容物を95°Cに維持しながらTEA1質量部を添加してから7時間後、室温まで冷却して、ポリマーBを得た。ポリマー濃度は38であった。得られた重合物の重量平均分子量は2.7万で、樹脂酸価は95mgKOH/gであった。2.レジストの配合方法以下に示す配合にてレジストAおよびレジストBを調製した。レジストA溶媒:PGME含有量80質量ポリマー:ポリマーA含有量4質量固形分換算モノマー:化合物名DPHAジペンタエリスリトールヘキサアクリレート日本化薬製含有量14質量開始剤:製品名Irg907、BASF社製含有量1質量エポキシ樹脂:製品名GT401ダイセル化学工業製含有量1質量レジストB溶媒:PGME含有量80質量ポリマー:ポリマーB含有量6質量固形分換算モノマー:化合物名東亜合成株式会社製M408ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート含有量7質量開始剤:製品名Irg819、BASF社製含有量1質量エポキシ樹脂:製品名GT401ダイセル化学工業製含有量6質量実施例1上記で得られたレジストBをITO電極基板上に乾燥後の厚みが1.0μmとなるようにスピンコートし、90°Cホットプレート上にて3分間静置予備乾燥し、下記の条件で、一辺が50μmの正方形をしたマスクを用い露光を行った。次いで、現像液として、0.05水酸化カリウム水溶液を用いて60秒現像を行い、未硬化部の除去を行った。その後、基板を230°Cの雰囲気下に30分間放置することにより、加熱処理を施して、正方形パターンを形成した。これにより、密着層を形成した。露光機:プロキシミティアライナ露光機マスク:クロムマスク露光ギャップ:350μm光源:超高圧水銀灯露光量:50mJ/cm2次いで、前記で得られた基板上にレジストAを乾燥後の厚みが1.5μmとなるようにスピンコートし、90°Cホットプレート上にて3分間静置予備乾燥し、前記と同一のマスクを用いて下記の条件で露光を行った。次いで、現像液として、0.05水酸化カリウム水溶液を用いて60秒現像を行い、未硬化部の除去を行った。その後、基板を230°Cの雰囲気下に30分間放置することにより、加熱処理を施して、レリーフパターンを形成した。これにより、硬度層を形成し、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。露光機:プロキシミティアライナ露光機マスク:クロムマスク露光ギャップ:100μm光源:超高圧水銀灯露光量:50mJ/cm2実施例2レジストAとBの露光条件が下記である以外は実施例1と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。露光ギャップ:150μm露光量:200mJ/cm2露光ギャップ:150μm露光量:30mJ/cm2比較例1レジストBをITO電極基板上に乾燥後の厚みが1.0μmとなるようにスピンコートし、90°Cホットプレート上にて3分間静置予備乾燥し、下記の条件でマスク露光を行った。次いで、現像液として、0.05水酸化カリウム水溶液を用いて60秒現像を行い、未硬化部の除去を行った。その後、基板を230°Cの雰囲気下に30分間放置することにより、加熱処理を施して、レリーフパターンを形成した。これにより密着層のみからなる保護層を形成した。露光機:プロキシミティアライナ露光機マスク:クロムマスク露光ギャップ:350μm光源:超高圧水銀灯露光量:50mJ/cm2比較例2レジストAをITO電極基板上に乾燥後の厚みが1.5μmとなるようにスピンコートし、90°Cホットプレート上にて3分間静置予備乾燥し、下記の条件でマスク露光を行った。次いで、現像液として、0.05水酸化カリウム水溶液を用いて60秒現像を行い、未硬化部の除去を行った。その後、基板を230°Cの雰囲気下に30分間放置することにより、加熱処理を施して、レリーフパターンを形成した。このようにして、硬度層のみからなる保護層を形成した。露光機:プロキシミティアライナ露光機マスク:クロムマスク露光ギャップ:150μm光源:超高圧水銀灯露光量:50mJ/cm2比較例3レジストAとBの露光条件が下記である以外は実施例1と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。露光ギャップ:150μm露光量:50mJ/cm2露光ギャップ:150μm露光量:100mJ/cm2比較例4レジストAとBの露光条件が下記である以外は実施例1と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。露光ギャップ:150μm露光量:50mJ/cm2露光ギャップ:300μm露光量:50mJ/cm2比較例5レジストAをITO電極基板上に乾燥後の厚みが1.0μmとなるようにスピンコートし、90°Cホットプレート上にて3分間静置予備乾燥し、下記の条件で、一辺が50μmの正方形をしたマスクを用い露光を行った。次いで、現像液として、0.05水酸化カリウム水溶液を用いて60秒現像を行い、未硬化部の除去を行った。その後、基板を230°Cの雰囲気下に30分間放置することにより、加熱処理を施して、正方形パターンを形成した。これにより、密着層を形成した。露光機:プロキシミティアライナ露光機マスク:クロムマスク露光ギャップ:350μm光源:超高圧水銀灯露光量:50mJ/cm2次いで、前記で得られた基板上にレジストBを乾燥後の厚みが1.5μmとなるようにスピンコートし、90°Cホットプレート上にて3分間静置予備乾燥し、前記と同一のマスクを用いて下記の条件で露光を行った。次いで、現像液として、0.05水酸化カリウム水溶液を用いて60秒現像を行い、未硬化部の除去を行った。その後、基板を230°Cの雰囲気下に30分間放置することにより、加熱処理を施して、レリーフパターンを形成した。これにより、硬度層を形成し、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。露光機:プロキシミティアライナ露光機マスク:クロムマスク露光ギャップ:100μm光源:超高圧水銀灯露光量:50mJ/cm2評価実施例および比較例で得られた基板について、ITO基板と保護層との密着性、および、保護層表面の鉛筆硬度について評価を行った。1密着性密着性の評価方法はJISK560056により行った。また、評価については下記の基準にて判断した。結果を下記表1に示す。○:評価分類の0または1×:評価分類の2~52鉛筆硬度硬度の測定方法は、ITO電極基板上に形成した保護層について、JISK5600-5-4の規定に基づいて測定した。結果を下記表1に示す。表1に示すように、実施例1~2で得られた保護層については、密着性および硬度の両者に優れていることが確認できた。また、実施例1~2で得られた保護層は、硬度層の幅が密着層の幅よりも狭く、硬度層が、平面視上、密着層の外周より内側に形成されたものとすることができた。"