真空室中の真空下での材料の堆積を含む、基材の1つまたは複数の面を触媒活性材料でコーティングするための方法において、以下の工程、a真空室に少なくとも1つの基材を装填する工程と、b前記真空室を閉じて脱気する工程と、c気体還元剤を前記真空室中に導入することによって前記基材を清浄化する工程と、d前記気体還元剤を除去する工程と、e真空アーク堆積によって中間層を適用する工程において、同一または同様な材料を含む基材が前記真空室に導入される工程と、f前記真空室を150°C~400°Cの温度に調整する工程と、g真空アーク堆積によってコーティングを適用する工程において、ルテニウム、イリジウム、チタンおよびそれらの混合物の群から選択される少なくとも1つの金属が前記真空室に導入され、酸素がコーティング段階全体を通して供給される工程とが行なわれ、h最後の工程において前記真空室が再充填され、コーティングされた基材が前記真空室から除去され、上の工程および1つの工程から次の工程への移行が、適切ならば、保護ガスによって設定される異なった圧力を適用して真空下で行なわれる方法であって、1つまたは複数の面での基材コーティングの少なくとも99が、前記基材に初期に含有された成分を含有しないよう保持され、前記中間層上に適用された前記コーティングの少なくとも99が、酸化されていない金属を含有しないよう保持されることを特徴とする方法。請求項1に記載の基材コーティングにおいて、前記基材コーティングが、前記基材に初期に含有された成分を全く含有しないよう保持され、前記中間層上に適用された前記コーティングが、酸化されていない金属を全く含有しないよう保持されることを特徴とする基材コーティング。請求項1または2に記載の基材コーティングにおいて、前記基材が、ステンレス鋼およびニッケル族元素ならびにニッケル族元素からコーティングされたステンレス鋼を含む群から選択されることを特徴とする基材コーティング。請求項1~3のいずれか一項に記載の基材コーティングにおいて、前記中間層上に適用された前記コーティングが二酸化ルテニウムからなることを特徴とする基材コーティング。請求項1~3のいずれか一項に記載の基材コーティングにおいて、前記中間層上に適用された前記コーティングが、二酸化ルテニウム:二酸化イリジウム:二酸化チタンの金属酸化物の混合物で構成されることを特徴とする基材コーティング。請求項1~5のいずれか一項に記載の基材コーティングにおいて、前記中間層がその表面上の不均一な領域を特徴とする基材コーティング。請求項1~6のいずれか一項に記載の基材コーティングにおいて、前記中間層上に適用された前記コーティングがその表面上の不均一な領域を特徴とする基材コーティング。請求項1~7のいずれか一項に記載の基材コーティングにおいて、中間層とそれに適用されたコーティングとからなる前記基材コーティングが、1~50μm、好ましくは1~30μm、特に好ましくは1~10μmおよび最も好ましくは1.5~2.5μmの層厚さを有することを特徴とする基材コーティング。本発明の好ましい実施形態において基材コーティングが、基材に初期に含有された成分を全く含有しないよう保持され、中間層上に適用されたコーティングが、酸化されていない金属を全く含有しないよう保持される。これは、プロセスを実施する時に基材に初期に含有された成分の、適用された層への移動を個々のプロセス工程が止めることを意味する。さらに、酸素は、適用された層が高純度金属酸化物層であるような量において供給される。このようにして、外側のコーティングにおいて金属/金属酸化物と基材成分との混合物が生じるのを避ける。用語全く含有しないcompletelyfreeは、これが、最新技術から公知の画定された測定方法の検出の技術的限界の範囲内にあることを意味すると理解される。主クレームの特徴部分の技術的特徴の定量は、XPS分光分析PhysicalElectronicsのXPSシステムPHI5800ESCASYSTEMによって試験される。基材コーティングを製造するために使用された方法において、上の工程および1つの工程から次の工程への移行は、適切ならば異なった圧力を加えることによって真空下で行なわれてもよい。したがって、基材は決して真空から出ず、中間酸化物層の形成または新たなほこりの堆積をより良好に防止する。さらに、前述の真空下の堆積法は、いつでも再生され得る均質な基材表面を製造するのに役立つ。驚くべきことに、酸素の存在下でコーティングプロセスの間、150°C~400°Cの値に温度を調節することが元素ルテニウムと酸素との反応によい影響を与え、酸化されていない金属をほとんど含有せず、且つ本発明による中間層上に適用されることが意図されるコーティングの形成によい影響があることが見出された。真空アーク堆積法がコーティングを適用するために使用される。驚くべきことに、この方法は、高純度金属二酸化物層の製造のために特に適していることが判明した。これにおいて、局所的な堆積は、アーク自体によって発生された蒸気中で燃焼するカソードアークのアーク放電端において行なわれる。この方法は、約100nm/分の高い堆積速度を特徴としていることが最新技術から公知である。この方法は、例えば、米国特許第5317235号明細書に記載されている。それは、金属イオンが堆積されるのと共に金属液滴が堆積するのを防ぐアーク金属堆積装置を開示する。基材は好ましくは、ステンレス鋼およびニッケル族元素ならびにニッケル族元素からコーティングされたステンレス鋼を含む群から選択される。中間層上に適用されたコーティングは有利には、二酸化ルテニウムから製造される。任意選択により、このコーティングは、二酸化ルテニウム:二酸化イリジウム:二酸化チタンの金属酸化物の混合物で構成される。本発明による中間層は好ましくは、その表面上の不均一な領域を特徴とする。結果として、これは、蒸気成分の堆積によって達成される基材の表面の増大につながる。これにおいて、適用される材料は理想的には基材材料と同一である。また、この種の不均一な領域は、中間層上に適用されたコーティング上に存在し得る。真空蒸着の公知の方法は、表面が覆われず、したがって既存の意図された粗さが再び平らにされずに島状の斑点ピークが生み出され、それらが実際の表面の増大となり、後続のやや平面的な層のためのすぐれた接着条件を提供するという大きな利点を有する。有利には、中間層とそれに適用されたコーティングとからなる基材コーティングは、1~50μm、好ましくは1~30μm、特に好ましくは1~10μmおよび最も好ましくは1.5~2.5μmの層厚さを有する。この方法は、コーティング工程gまたは除去工程hの後に、コーティングされた基材を350°C~650°Cの温度において熱処理をするように改良され得る。この熱処理は、本明細書ではさらに詳細に説明されないが、そこで粒界プロセスが起こり、コーティングの長期の結合強さを改良する。また、本発明を具体化する方法は、大気条件下で且つ第1の工程aの前に表面の大きさの増加、表面の構造的造形および/または清浄化のための1つまたは複数のプロセス工程が行なわれるように補われてもよい。理想的な場合において、例えばサンドブラスチングプロセスなどの機械的プロセスおよび/またはエッチングプロセスなどの化学プロセスがこの目的のために使用される。前もって適用された処理に応じて、その後に基材表面が初めて清浄化され、および/または乾燥される。本発明は、図1によって以下に詳細に説明される。それは以下のことを示す。図1:本発明を具体化するカソードコーティングのXPSスペクトルである。実験において、国際公開第98/15675A1号パンフレットに記載された2.7m2のニッケルカソードを真空室中に基材として装填した。真空室において、基材をアルゴンと水素との混合物に暴露し、このように予備清浄化する。第1の工程において、真空室を脱気した10-5バール。次いで、250~350°Cの水素を導入することによって酸化物層を還元した。そのとき、表面の大きさが増加された。元素ニッケルは、基材の材料に相当する材料源として役立った。約10-5バールの真空による真空アーク堆積および250~350°Cの室内温度によって、表面が約50倍の大きさに増加するまでこのニッケルが基材上に中間層として堆積された。その次に、中間層は真空アーク堆積によって二酸化ルテニウムから製造されたコーティングを設けられ、そこにおいてコーティング段階全体を通してパルス化方法で酸素が真空室に導入された。その際に、作業は300°Cの温度において行なわれた。このようにして、国際公開第08/067899A1号パンフレットに開示されているように、insitu製造された二酸化ルテニウムは予想された通り、中間層上に堆積された。これは、XPSスペクトルによって図1に示されたように基材成分を含有していない基材コーティングを生じさせる。これは、緩やかな適用方法によって基材成分が基材コーティング中に移動するのを防ぐことを意味する。さらに、中間層上に適用されたコーティングは、完全に二酸化ルテニウムからなり、酸化されていない基材で汚染されていない。驚くべきことに、金属中間層と、基材成分および酸化されていない金属の両方とも含有しないコーティングとを含み、国際公開第08/067899号パンフレットが扱う複数の可能なコーティングから選択されなければならないこの特殊な基材コーティングは、セル電圧に特によい影響を与えることが見出された。始めに示されたように、先行技術において基材成分の移動が意図的に開始されるか、または基材成分を同様に含有する異なった組成物の混合物が直接に適用されるので、当業者はこれを予想しないだろう。比較実験として、基本的には上記の方法によって製造されたカソードを使用した。しかしながら、酸素の導入はルテニウムによるコーティングにおいて省かれた。この目的のために、ルテニウムを2分超にわたって基材上に堆積させ、その時にだけ、酸素を導入することによって再酸化を行なった。しかしながら、結果として、完全に高純度の二酸化ルテニウム層を得ることはできない。むしろコーティングは二酸化ルテニウムと元素ルテニウムとの混合物からなる。さらに、独国特許第3322169C2号明細書および独国特許第334416C2号明細書に開示された最新技術によって利用可能である市販のカソードを使用した。実験を行うために、電解装置は2.7m2の大きさの15個の要素を備えた。これにおいて、同一のタイプC断面の15個のアノード、タイプN2030の15個の膜、および商用コーティング、すなわち独国特許第第3322169C2号明細書または独国特許第334416C2号明細書もしくは国際公開第08/067899号パンフレットのどれかに従う商用コーティングを有する11個のカソード、そして基材成分および酸化されていない金属を有しない本発明を具体化するコーティングを設けられた4個のカソードを使用した。アノード側に205g/lNaCl溶液があり、カソード側に32重量パーセントの苛性ソーダ溶液がある状態でプラントが運転された。電解装置は、6kA/m2の電流密度および88°Cの温度において75DOLの時間にわたって運転された。セル電圧に関して、定常運転は50DOL後に達成された。驚くべきことに、選択された商用コーティングを有する11個の要素と比較して本発明を具体化する基材コーティングを設けられた4個の要素の場合、30mV低減されたセル電圧90°C、32重量パーセントのNaOHおよび6kA/m2に標準化されたを達成することができ、したがって、電解装置のさらにより経済的な運転モードが得られた。