"Aアルカリ現像性樹脂、B重合性化合物、C光重合開始剤、及びD熱架橋剤を含有する感光性組成物であって、前記A成分のアルカリ現像性樹脂が、ウレタン結合により連結されたポリウレタン樹脂であり、架橋基、現像性基、及び脂肪族環状構造を有し、前記ポリウレタン樹脂中の前記脂肪族環状構造の当量が1.50mmol/g超であることを特徴とする感光性組成物。A成分のアルカリ現像性樹脂の架橋基当量が1.2mmol/g以上である請求項1に記載の感光性組成物。A成分のアルカリ現像性樹脂が、下記一般式1で表される構造単位を有するポリウレタン樹脂である請求項1から2のいずれかに記載の感光性組成物。ただし、前記一般式1中、R1~R3は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Aは、2価の有機残基を表し、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は-NR4-を表し、R4は、水素原子、又は1価の有機基を表す。A成分のアルカリ現像性樹脂が、下記一般式2から4で表される構造単位を有するポリウレタン樹脂であり、該ポリウレタン樹脂と、エポキシ基と架橋性基を有する化合物との反応生成物である請求項1から3のいずれかに記載の感光性組成物。ただし、前記一般式2~中、L1~L3は、二価の有機基を表し、R5は、水素原子、又は一価の有機基を表す。A成分のアルカリ現像性樹脂の脂肪族環状構造が、シクロヘキシレンを構造単位として含む請求項1から4のいずれかに記載の感光性組成物。A成分のアルカリ現像性樹脂の脂肪族環状構造を含むモノマーが、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及び1,4-シクロヘキサンジイソシアネートの少なくともいずれかである請求項1から5のいずれかに記載の感光性組成物。請求項1から6のいずれかに記載の感光性組成物を含む感光層を支持体上に有してなることを特徴とする感光性フィルム。基体上に、請求項1から6のいずれかに記載の感光性組成物を含む感光層を有することを特徴とする感光性積層体。請求項1から6のいずれかに記載の感光性組成物により形成された感光層に対して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とする永久パターン形成方法。請求項9に記載の永久パターン形成方法により永久パターンが形成されることを特徴とするプリント基板。本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、絶縁信頼性、光感度と解像性に優れ、予想外に冷熱衝撃性に優れた感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板を提供することを目的とする。前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、<1>Aアルカリ現像性樹脂、B重合性化合物、C光重合開始剤、及びD熱架橋剤を含有する感光性組成物であって、前記A成分のアルカリ現像性樹脂が、ウレタン結合により連結されたポリウレタン樹脂であり、架橋基、現像性基、及び脂肪族環状構造を有し、前記ポリウレタン樹脂中の前記脂肪族環状構造の当量が1.50mmol/g超であることを特徴とする感光性組成物である。<2>A成分のアルカリ現像性樹脂の架橋基当量が1.2mmol/g以上である前記<1>に記載の感光性組成物である。<3>A成分のアルカリ現像性樹脂が、下記一般式1で表される構造単位を有するポリウレタン樹脂である前記<1>から<2>のいずれかに記載の感光性組成物である。ただし、前記一般式1中、R1~R3は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Aは、2価の有機残基を表し、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は-NR4-を表し、R4は、水素原子、又は1価の有機基を表す。<4>A成分のアルカリ現像性樹脂が、下記一般式2から4で表される構造単位を有するポリウレタン樹脂であり、該ポリウレタン樹脂と、エポキシ基と架橋性基を有する化合物との反応生成物である前記<1>から<3>のいずれかに記載の感光性組成物である。ただし、前記一般式2~中、L1~L3は、二価の有機基を表し、R5は、水素原子、又は一価の有機基を表す。<5>A成分のアルカリ現像性樹脂の脂肪族環状構造が、シクロヘキシレンを構造単位として含む前記<1>から<4>のいずれかに記載の感光性組成物である。<6>A成分のアルカリ現像性樹脂の脂肪族環状構造を含むモノマーが、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及び1,4-シクロヘキサンジイソシアネートの少なくともいずれかである前記<1>から<5>のいずれかに記載の感光性組成物である。<7>D成分の熱架橋剤が、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物にブロック剤を反応させて得られる化合物、メラミン誘導体、オキサゾリン誘導体、及びオキサゾール誘導体から選択される少なくとも1種である前記<1>から<6>のいずれかに記載の感光性組成物である。<8>光重合開始剤が、中性の光重合開始剤である前記<1>から<7>のいずれかに記載の感光性組成物である。<9>光重合開始剤が、中性のオキシムエステル系化合物である前記<1>から<8>のいずれかに記載の感光性組成物である。<10>前記<1>から<9>のいずれかに記載の感光性組成物を含む感光層を支持体上に有してなることを特徴とする感光性フィルムである。<11>基体上に、前記<1>から<9>のいずれかに記載の感光性組成物を含む感光層を有することを特徴とする感光性積層体である。<12>前記<1>から<9>のいずれかに記載の感光性組成物により形成された感光層に対して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とする永久パターン形成方法である。<13>前記<1>から<9>のいずれかに記載の感光性組成物を、基体の表面に塗布し、乾燥して感光層を積層して積層体を形成した後、露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法である。<14>前記<12>から<13>のいずれかに記載の永久パターン形成方法により永久パターンが形成されることを特徴とするプリント基板である。本発明によると、従来における諸問題を解決でき、絶縁信頼性、光感度と解像性に優れ、予想外に冷熱衝撃性に優れた感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板を提供することができる。感光性組成物本発明の感光性組成物は、Aアルカリ現像性樹脂、B重合性化合物、C光重合開始剤、及びD熱架橋剤を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。<Aアルカリ現像性樹脂>前記A成分のアルカリ現像性樹脂は、アルカリ現像性を有し、ウレタン結合により連結されたポリウレタン樹脂であり、前記ポリウレタン樹脂中の前記脂肪族環状構造の当量が1.50mmol/g超であり、1.50mmol/g超5mmol/g以下が好ましく、2mmol/g以上5mmol/g以下がより好ましく、3mmol/g以上5mmol/g以下が特に好ましい。前記脂肪族環状構造の当量が、1.50mmol/g以下であると、冷熱衝撃性が低下することがある。ここで、前記脂肪族環状構造の当量は、脂肪族環状構造のモル数/ポリウレタン樹脂の重量mmol/gから求めた計算値であるが、ポリウレタン樹脂単独の重量をはかり、標品を用いて、NMRを測定し、脂肪族環状構造の含有量を算出した値であってもよい。前記A成分のアルカリ現像性樹脂の架橋基当量は、1.2mmol/g以上が好ましく、1.2mmol/g~3mmol/gがより好ましく、1.5mmol/g~3mmol/gが特に好ましい。前記架橋基当量が、1.2mmol/g未満であると、アナログ露光感度、デジタル露光感度が低下することがある。ここで、前記架橋基当量は、例えば、臭素価を測定することにより求めることができる。前記臭素価は、例えば、JISK2605に準拠して測定することができる。本発明においては、前記A成分のアルカリ現像性樹脂の脂肪族環状構造の当量が1.50mmol/g超であり、かつ架橋基当量が1.2mmol/g以上であることが、感度、解像性、絶縁信頼性を向上させる点で特に好ましい。前記A成分のアルカリ現像性樹脂であるポリウレタン樹脂は、架橋基、現像性基、及び脂肪族環状構造を有する。前記架橋基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。感度の観点から、エチレン性不飽和結合を有する架橋基が好ましい。例えば、アクリル基、メタクリル基、スチリル基、アリル基、などが挙げられる。これらの中でも、感度の点から、アクリル基、メタクリル基が特に好ましい。前記現像性基としては、例えば、カルボキシル基、スルホニル基、エチレンオキサイド基等の酸基、又は極性基、などが挙げられる。これらの中でも、現像性の観点から、カルボキシル基、スルホニル基が好ましく、カルボキシル基が特に好ましい。前記脂肪族環状構造としては、炭素数3~12、好ましくは炭素数5~10のシクロアルカンから水素原子が2つ外れた構造などが挙げられ、例えば、シクロヘキシレン、シクロペンチレン、シクロオクチレン、シクロデカニレンなどが挙げられる。これらの中でも、絶縁信頼性の点から、シクロヘキシレンが特に好ましい。前記脂肪族環状構造を含むモノマーとしては、前記脂肪族環状構造を構造単位として含んでいれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及び1,4-シクロヘキサンジイソシアネートの少なくともいずれかが好ましい。前記A成分のアルカリ現像性樹脂としては、下記一般式1で表される構造単位を含むことが好ましい。ただし、前記一般式1中、R1~R3は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Aは、2価の有機残基を表し、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は-NR4-を表し、R4は、水素原子、又は1価の有機基を表す。上記一般式1において、R1~R3は、それぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基を表すが、R1としては、好ましくは、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。また、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、ラジカル反応性が高いことから、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましく、前記一般式1中のR2、及びR3としては、水素原子が更に好ましい。前記一般式1中のAとしては、2価の有機残基であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、置換基を有していてもよい2価のアルキレン基、などが挙げられる。前記、2価のアルキレン基は、連結鎖として、エーテル基、エステル基、カーボネート基、イミド基、ウレア基、ウレタン基、アミド基を介して連結していてもよい。前記置換基としては、例えば、水素原子、ハロゲン原子-F、-Br、-Cl、-I、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N-アルキルアミノ基、N,N-ジアルキルアミノ基、N-アリールアミノ基、N,N-ジアリールアミノ基、N-アルキル-N-アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N-アルキルカルバモイルオキシ基、N-アリールカルバモイルオキシ基、N,N-ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N-ジアリールカルバモイルオキシ基、N-アルキル-N-アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N-アルキルアシルアミノ基、N-アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’-アルキルウレイド基、N’,N’-ジアルキルウレイド基、N’-アリールウレイド基、N’,N’-ジアリールウレイド基、N’-アルキル-N’-アリールウレイド基、N-アルキルウレイド基、N-アリールウレイド基、N’-アルキル-N-アルキルウレイド基、N’-アルキル-N-アリールウレイド基、N’,N’-ジアルキル-N-アルキルウレイド基、N’,N’-ジアルキル-N-アリールウレイド基、N’-アリール-N-アルキルウレイド基、N’-アリール-N-アリールウレイド基、N’,N’-ジアリール-N-アルキルウレイド基、N’,N’-ジアリール-N-アリールウレイド基、N’-アルキル-N’-アリール-N-アルキルウレイド基、N’-アルキル-N’-アリール-N-アリールウレイド基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N-アルキル-N-アリーロキシカルボニルアミノ基、N-アリール-N-アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N-アルキルカルバモイル基、N,N-ジアルキルカルバモイル基、N-アリールカルバモイル基、N,N-ジアリールカルバモイル基、N-アルキル-N-アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基-SO3H又はその共役塩基基スルホナト基と称す、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N-アルキルスルフィナモイル基、N,N-ジアルキルスルフィナモイル基、N-アリールスルフィナモイル基、N,N-ジアリールスルフィナモイル基、N-アルキル-N-アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N-アルキルスルファモイル基、N,N-ジアルキルスルファモイル基、N-アリールスルファモイル基、N,N-ジアリールスルファモイル基、N-アルキル-N-アリールスルファモイル基、ホスホノ基-PO3H2又はその共役塩基基ホスホナト基と称す、ジアルキルホスホノ基-PO3alkyl2以下、alkylはアルキル基を意味する。、ジアリールホスホノ基-PO3aryl2以下、arylはアリール基を意味する。、アルキルアリールホスホノ基-PO3alkylaryl、モノアルキルホスホノ基-PO3alkyl又はその共役塩基基アルキルホスホナト基と称す、モノアリールホスホノ基-PO3Haryl又はその共役塩基基アリールホスホナト基と称す、ホスホノオキシ基-OPO3H2又はその共役塩基基ホスホナトオキシ基と称す、ジアルキルホスホノオキシ基-OPO3Halkyl2、ジアリールホスホノオキシ基-OPO3aryl2、アルキルアリールホスホノオキシ基-OPO3alkylaryl、モノアルキルホスホノオキシ基-OPO3Halkyl又はその共役塩基基アルキルホスホナトオキシ基と称す、モノアリールホスホノオキシ基-OPO3Haryl又はその共役塩基アリールホスホナトオキシ基と称す、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、シリル基などが挙げられる。耐熱性の観点から、水素原子、ハロゲン原子-F、-Br、-Cl、-I、アリーロキシ基、シアノ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、シリル基、アミノ基、N-アルキルアミノ基、N,N-ジアルキルアミノ基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子-F、-Br、-Cl、-I、アリーロキシ基、シアノ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、シリル基、アミノ基、N-アルキルアミノ基、N,N-ジアルキルアミノ基が更に好ましく、水素原子、アルケニル基が特に好ましい。前記2価の有機残基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが挙げられる。これらの中でもメチレン基が好ましい。Xは、酸素原子、硫黄原子、又は-NR12-を表し、R12は、水素原子、又は1価の有機基を表す。ここで、R12は、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。これらの中でも、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基が、ラジカル反応性が高い点で特に好ましい。ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。前記一般式1中のR4の1価の有機基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、置換基を有してもよいアルキル基、などが挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましい。また、前記A成分のアルカリ現像性樹脂は、下記一般式2から4で表される構造単位を含むことが好ましい。ただし、前記一般式2~中、L1~L3は、二価の有機基を表し、R5は、水素原子、又は一価の有機基を表す。前記一般式2~4中、R5としては、水素原子、置換基例えば、シアノ基、ニトロ基、-F、-Cl、-Br、-I等のハロゲン原子、-CONH2、-COOR16、-OR16、-NHCONHR16、-NHCOOR16、-NHCOR16、-OCONHR16ここで、前記R16は、炭素数1~10のアルキル基、又は炭素数7~15のアラルキル基を表す。などの各基が含まれる。を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基を表すものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、水素原子、炭素数1~8個のアルキル基、炭素数6~15個のアリール基が好ましい。前記一般式2~4中、L1、L2、L3は、それぞれ同一でもよいし、相違していてもよく、単結合、置換基例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。を有していてもよい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素基を表すものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、炭素数1~20個のアルキレン基、炭素数6~15個のアリーレン基が好ましく、炭素数1~8個のアルキレン基がより好ましい。また必要に応じて、前記L1~L3中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、カルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。なお、前記R5、L1、L2、L3のうちの2個又は3個で環を形成してもよい。前記一般式3中、Arとしては、置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素基を表すものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、炭素数6~15個の芳香族基が好ましい。前記一般式2~4で表されるカルボキシル基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、3,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸、2,2-ビス2-ヒドロキシエチルプロピオン酸、2,2-ビス3-ヒドロキシプロピルプロピオン酸、ビスヒドロキシメチル酢酸、ビス4-ヒドロキシフェニル酢酸、2,2-ビスヒドロキシメチル酪酸、4,4-ビス4-ヒドロキシフェニルペンタン酸、酒石酸、N,N-ジヒドロキシエチルグリシン、N,N―ビス2-ヒドロキシエチル-3-カルボキシ-プロピオンアミド、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。前記A成分のアルカリ現像性樹脂であるポリウレタン樹脂としては、架橋基、現像性基、及び脂肪族環状構造を有していれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、i側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂、iiカルボキシル基含有ポリウレタンと光重合性基を有する化合物とを反応して得られるポリウレタン樹脂、などが挙げられる。-i側鎖に光重合性基を有する-前記iの側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂は、下記一般式iで表されるジイソシアネート化合物の少なくとも1種と、下記一般式iiで表されるジオール化合物の少なくとも1種と、の反応生成物で表される構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。OCN-X0-NCO一般式iHO-Y0-OH一般式ii前記一般式i及びii中、X0及びY0は、それぞれ独立に2価の有機基を表す。前記一般式iで表されるジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。例えば、ジイソシアネートとトリイソシアネート化合物と、不飽和基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させて得られる生成物、などが挙げられる。前記トリイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0034~0035に記載された化合物、などが挙げられる。前記一般式iで表されるジイソシアネート化合物としては、特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記一般式i中X0は、イソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。前記一般式iで表されるジイソシアネート化合物としては、例えば、2,4-トリレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネートの二量体、2,6-トリレンジレンジイソシアネート、p-キシリレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI、1,5-ナフチレンジイソシアネート、3,3’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジイソシアネート等のような芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’-メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、メチルシクロヘキサン-2,4又は2,6ジイソシアネート、1,3-イソシアネートメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート化合物;1,3-ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等のジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物;4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネートなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、冷熱衝撃性と絶縁信頼性の点から、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネートが特に好ましい。前記不飽和基を有する単官能のアルコール又は前記単官能のアミン化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0037~0040に記載された化合物、などが挙げられる。前記側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂は、重合性組成物中の他の成分との相溶性を向上させ、保存安定性を向上させるといった観点から、前記不飽和基を含有するジイソシアネート化合物以外のジイソシアネート化合物を共重合させることもできる。前記共重合させるジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することでき、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよく、例えば、下記一般式iiiで表されるジイソシアネート化合物である。OCN-L4-NCO一般式iii前記一般式iii中、L4は、置換基を有していてもよい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素基を表す。必要に応じ、L4は、イソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。前記一般式iiiで表されるジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、2,4-トリレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネートの二量体、2,6-トリレンジレンジイソシアネート、p-キシリレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、3,3’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジイソシアネート等のような芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’-メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、メチルシクロヘキサン-2,4又は2,6ジイソシアネート、1,3-イソシアネートメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート化合物;1,3-ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等のジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物;などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。前記一般式iiで表されるジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物、カルボキシル基を有するジオール化合物、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものでもよいし、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物等の化合物と、不飽和基を含有する、カルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物等の化合物との反応により容易に製造される化合物であってもよい。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。側鎖に不飽和基を含有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0057~0060に記載された化合物、前記一般式1で表される特開2005-250438号公報の段落0064~0066に記載された化合物、などが挙げられる。これらの中でも、前記一般式1で表される特開2005-250438号公報の段落0064~0066に記載された化合物が好ましい。前記一般式iと前記一般式iiiの構造単位を含むジオールを反応すると、前記一般式1の化合物が得られ、本発明に好適な一般式1の構造単位を含むポリウレタン樹脂が得られる。前記カルボキシル基を有するジオール化合物としては、例えば、前記一般式2~4に示すものが含まれる。このようなカルボキシル基の存在により、アルカリ可溶性を付与できるため、カルボキシル基を有するジオールを含むことが好ましい。より具体的には、前記側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂が、更に側鎖にカルボキシル基を有する樹脂であり、より具体的には、側鎖のビニル基が、0.05mmol/g~3.00mmol/gが好ましく、0.5mmol/g~3.00mmol/gがより好ましく、1.2mmol/g~3.00mmol/gが特に好ましく、かつ、側鎖にカルボキシル基を有することが好ましく、酸価が20mgKOH/g~120mgKOH/gが好ましく、30mgKOH/g~110mgKOH/gがより好ましく、35mgKOH/g~100mgKOH/gが特に好ましい。ここで、前記ポリウレタン樹脂の側鎖に光重合性基を導入する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、前記ジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、トリイソシアネート化合物と不飽和基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させることにより得ることできるジイソシアネート化合物であって、例えば、特開2005-250438号公報の段落0042~0049に記載された側鎖に不飽和基を有する化合物、などが挙げられる。他に、前記ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に不飽和基を含有するジオール化合物を用いる方法が挙げられる。前記側鎖に不飽和基を含有するジオール化合物は、例えば、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものでもよいし、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物等の化合物と、不飽和基を含有する、カルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物等の化合物との反応により容易に製造される化合物であってもよい。前記側鎖に不飽和基を含有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0057~0060に記載された化合物、前記一般式1で表される特開2005-250438号公報の段落0064~0066に記載された化合物、などが挙げられる。これらの中でも、前記一般式1で表される特開2005-250438号公報の段落0064~0066に記載された化合物が好ましい。これらの中でも、感度の観点で、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に不飽和基を含有するジオール化合物を用いる方法が好ましい。前記ポリエーテルジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0068~0076に記載された化合物、などが挙げられる。前記ポリエステルジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0077~0079、段落0083~0085におけるNo.1~No.8及びNo.13~No.18に記載された化合物、などが挙げられる。前記ポリカーボネートジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0080~0081及び段落0084におけるNo.9~No.12で記載された化合物、などが挙げられる。また、前記側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂の合成には、上述したジオール化合物の他に、イソシアネート基と反応しない置換基を有するジオール化合物を併用することもできる。前記イソシアネート基と反応しない置換基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0087~0088に記載された化合物、などが挙げられる。また、側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂の合成には、上述したジオール化合物の他に、テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させた化合物を併用することもできる。前記テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させた化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0095~0101に記載された化合物、などが挙げられる。前記側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂は、前記ジイソシアネート化合物及びジオール化合物を、非プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知の触媒を添加し、加熱することにより合成される。合成に使用されるジイソシアネート及びジオール化合物のモル比Ma:Mbとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1:1~1.2:1が好ましく、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、分子量あるいは粘度といった所望の物性の生成物が、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。前記側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂における導入量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ビニル基当量としては、0.05mmol/g~3.00mmol/gが好ましく、0.5mmol/g~3.00mmol/gがより好ましく、1.50mmol/g~3.00mmol/gが特に好ましい。前記側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂の重量平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、3,000~50,000が好ましく、現像性の観点から3,000~30,000がより好ましい。前記側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂としては、ポリマー末端、又は、主鎖に不飽和基を有するものも好適に使用される。ポリマー末端、主鎖に不飽和基を有することにより、更に、感光性組成物と光重合性基有するポリウレタン樹脂との間、又は側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂間で架橋反応性が向上し、光硬化物強度が増す。ここで、不飽和基としては、架橋反応の起こり易さから、炭素-炭素二重結合を有することが特に好ましい。ポリマー末端に不飽和基を導入する方法としては、以下に示す方法がある。即ち、上述した側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリウレタン樹脂の合成の工程での、ポリマー末端の残存イソシアネート基と、アルコール類又はアミン類等で処理する工程において、不飽和基を有するアルコール類又はアミン類等を用いればよい。このような化合物としては、具体的には、先に、不飽和基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物として挙げられた例示化合物と同様のものを挙げることができる。なお、不飽和基は、導入量の制御が容易で導入量を増やすことができ、また、架橋反応効率が向上するといった観点から、ポリマー末端よりもポリマー側鎖に導入されることが好ましい。導入されるエチレン性不飽和結合基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、架橋硬化膜形成性の点で、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチリル基が好ましく、メタクリロイル基、アクリロイル基がより好ましく、架橋硬化膜の形成性と生保存性との両立の点で、メタクリロイル基が特に好ましい。また、メタクリロイル基の導入量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ビニル基当量としては、0.05mmol/g~3.00mmol/gが好ましく、0.5mmol/g~3.00mmol/gがより好ましく、1.2mmol/g~3.00mmol/gが特に好ましい。主鎖に不飽和基を導入する方法としては、主鎖方向に不飽和基を有するジオール化合物をポリウレタン樹脂の合成に用いる方法がある。前記主鎖方向に不飽和基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばcis-2-ブテン-1,4-ジオール、trans-2-ブテン-1,4-ジオール、ポリブタジエンジオール、などが挙げられる。光感度と絶縁信頼性の観点から、上記一般式1で表されるジオールと重合して得る方法と、カルボキシル基含有ポリウレタンと光重合性基を有するエポキシ化合物と反応して得ることが好ましく、上記一般式1で表されるジオールと重合して得る方法が更に好ましい。多官能エポキシとカルボキシル基と架橋性基を有する化合物の反応で得られるジオールを用いると、絶縁信頼性が低下することがある。-iiカルボキシル基含有ポリウレタンと架橋性基を有する化合物とを反応して得られるポリウレタン樹脂-前記iiのポリウレタン樹脂は、ジイソシアネートと、カルボン酸基含有ジオールとを必須成分とするカルボキシル基含有ポリウレタンと、分子中に光重合性基を有する化合物とを反応して得られるポリウレタン樹脂である。目的に応じて、ジオール成分として、重量平均分子量300以下の低分子ジオール及び重量平均分子量500以上の低分子ジオールを共重合成分として加えてもよい。また、前記iiポリウレタン樹脂としては、置換基を有していてもよい二価の脂肪族及び芳香族炭化水素のジイソシアネートと、C原子及びN原子のいずれかを介してCOOH基と2つのOH基を有するカルボン酸含有ジオールとを必須成分とした反応物であって、得られた反応物と、-COO-結合を介して分子中にエポキシ基と架橋基ビニル基を有する化合物とを反応して得られるものであってもよい。また、前記iiポリウレタン樹脂としては、下記一般式1-1で示されるジイソシアネートと、下記一般式2-1~2-3で示されるカルボン酸基含有ジオールから選ばれた少なくとも1種とを必須成分とし、目的に応じて下記一般式3-1~3-5で示される重量平均分子量が800~3000の範囲にある高分子ジオールから選ばれた少なくとも1種との反応物であって、得られた反応物と、下記一般式4-1~4-16で示される分子中に光重合性基を有する化合物とを反応して得られるものであってもよい。ただし、前記一般式1-1中、R1は、置換基例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲノ基のいずれかが好ましいを有していてもよい二価の脂肪族又は芳香族炭化水素を表す。必要に応じ、前記R1は、イソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、エステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基のいずれかを有していてもよい。ただし、前記一般式2-1中、R2は、水素原子、置換基例えば、シアノ基、二トロ基、ハロゲン原子、-CONH2、-COOR6、-OR6、-NHCONHR6、-NHCOOR6、-NHCOR6、-OCONHR6、-CONHR6ここで、R6は、炭素数1~10のアルキル基、炭素数7~15のアラルキル基のいずれかを表す、などの各基が含まれるを有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、又はアリーロキシ基を表す。これらの中でも、水素原子、炭素数1個~3個のアルキル基、炭素数6個~15個のアリール基が好ましい。前記一般式2-1及び2-2中、R3、R4及びR5は、それぞれ同一でも相異していてもよく、単結合、置換基例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲノ基の各基が好ましいを有していてもよい二価の脂肪族又は芳香族炭化水素を表す。これらの中でも、炭素数1~20個のアルキレン基、炭素数6~15個のアリーレン基が好ましく、炭素数1~8個のアルキレン基が更に好ましい。また、必要に応じ、前記R3、R4及びR5中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、カルボニル基、エステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基、エーテル基のいずれかを有していてもよい。なお、前記R2、R3、R4及びR5のうちの2個又は3個で環を形成してもよい。Arは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素を表し、炭素数6個~15個の芳香族基が好ましい。ただし、前記一般式3-1~中、R7、R8、R9、R10及びR11は、それぞれ同一でもよいし、相異していてもよく、二価の脂肪族又は芳香族炭化水素を表す。前記R7、R9、R10及びR11は、それぞれ炭素数2個~20個のアルキレン基又は炭素数6個~15個のアリーレン基が好ましく、炭素数2個~10個のアルキレン又は炭素数6個~10個のアリーレン基がより好ましい。前記R8は、炭素数1個~20個のアルキレン基又は炭素数6個~15個のアリーレン基を表し、炭素数1個~10個のアルキレン又は炭素数6個~10個のアリーレン基がより好ましい。また、前記R7、R8、R9、R10及びR11中には、イソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、エーテル基、カルボニル基、エステル基、シアノ基、オレフィン基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基、又はハロゲン原子などがあってもよい。前記一般式3-4中、R12は、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。水素原子、炭素数1個~10個のアルキル基、炭素数6個~15個のアリール基、炭素数7個~15個のアラルキル、シアノ基又はハロゲン原子が好ましく、水素原子、炭素数1個~6個のアルキル及び炭素数6個~10個のアリール基がより好ましい。また、前記R12中には、イソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、アルコキシ基、カルボニル基、オレフィン基、エステル基又はハロゲン原子などがあってもよい。前記一般式3-5中、R13は、アリール基又はシアノ基を表し、炭素数6個~10個のアリール基又はシアノ基が好ましい。前記一般式3-4中、mは、2~4の整数を表す。前記一般式3-1~中、n1、n2、n3、n4及びn5は、それぞれ2以上の整数を表し、2~100の整数が好ましい。前記一般式中、n6は、0又は2以上の整数を示し、0又は2~100の整数が好ましい。ただし、前記一般式4-1~4-16中、R14は、水素原子又はメチル基を表し、R15は、炭素数1~10のアルキレン基を表し、R16は、炭素数1~10の炭化水素基を表す。pは、0又は1~10の整数を表す。前記、光重合性基を有する化合物としては、感度の観点から、前記一般式4-1及び前記一般式4-2が好ましい。また、前記iiポリウレタン樹脂は、更に第5成分として、カルボン酸基非含有の低分子量ジオールを共重合させてもよく、該低分子量ジオールとしては、前記一般式3-1~3-5で表され、重量平均分子量が500以下のものである。該カルボン酸基非含有低分子量ジオールは、アルカリ溶解性が低下しない限りの範囲で添加することができる。前記iiポリウレタン樹脂としては、特に、前記一般式1-1で示されるジイソシアネートと、前記一般式2-1~2-3で示されるカルボン酸基含有ジオールから選ばれた少なくとも1種とを必須成分とし、目的に応じて、前記一般式3-1~3-5で示される重量平均分子量が800~3000の範囲にある高分子ジオールから選ばれた少なくとも1種、前記一般式3-1~3-5で示される重量平均分子量が500以下のカルボン酸基非含有の低分子量ジオールとの反応物に、更に前記一般式4-1~4-16のいずれかで示される分子中に1個のエポキシ基と少なくとも1個のメタアクリル基を有する化合物を反応して得られる、酸価が20mgKOH/g~120mgKOH/gであるアルカリ可溶性光架橋性ポリウレタン樹脂が好適である。これらの高分子化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。感光性組成物などの全固形分中に含まれる、前記ポリウレタン樹脂の含有量としては、2質量~30質量が好ましく、5質量~25質量がより好ましい。前記含有量が、2質量未満であると、硬化膜の高温時の十分な低弾性率が得られないことがあり、30質量を超えると、現像性劣化及び硬化膜の強靱性低下が起きることがある。-iiカルボキシル基含有ポリウレタンと分子中にエポキシ基とビニル基を有する化合物とを反応して得られるポリウレタン樹脂の合成法-前記iiポリウレタン樹脂の合成方法としては、上記ジイソシアネート化合物及びジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱することにより合成される。使用するジイソシアネート及びジオール化合物のモル比は好ましくは、0.8:1~1.2:1であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、最絡的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。--ジイソシアネート--前記一般式で示されるジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2007-2030号公報の段落0021に記載された化合物、などが挙げられる。--高分子量ジオール--前記一般式3-1~3-5で示される高分子量ジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2007-2030号公報の段落0022~0046に記載された化合物、などが挙げられる。--カルボン酸基含有ジオール--また、前記一般式2-1~2-3で表されるカルボキシル基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2007-2030号公報の段落0047に記載された化合物、などが挙げられる。--カルボン酸基非含有低分子量ジオール--前記カルボン酸基非含有低分子量ジオールとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2007-2030号公報の段落0048に記載された化合物、などが挙げられる。前記カルボン酸基非含有ジオールの共重合量としては、低分子量ジオール中の95モル以下が好ましく、80以下がより好ましく、50以下が特に好ましい。前記共重合量が、95モルを超えると、現像性のよいポリウレタン樹脂が得られないことがある。前記側鎖に光重合性基を有するポリウレタン樹脂における光重合性基の導入量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ビニル基当量としては、0.05mmol/g~3mmol/gが好ましく、0.5mmol/g~3mmol/gがより好ましく、1.5mmol/g~3mmol/gが特に好ましい。前記光重合性基含有ポリウレタン樹脂の重量平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5,000~60,000が好ましく、5,000~50,000がより好ましく、5,000~30,000が特に好ましい。前記重量平均分子量が、5,000未満であると、硬化膜の高温時の十分な低弾性率が得られないことがあり、60,000を超えると、塗布適性及び現像性が悪化することがある。ここで、前記重量平均分子量は、例えば、高速GPC装置東洋曹達株式会社製、HLC-802Aを使用して、0.5質量のTHF溶液を試料溶液とし、カラムはTSKgelHZM-M1本を使用し、200μLの試料を注入し、前記THF溶液で溶離して、25°Cで屈折率検出器又はUV検出器検出波長254nmにより測定することができる。次に、標準ポリスチレンで較正した分子量分布曲線より重量平均分子量を求めた。前記光重合性基含有ポリウレタン樹脂の酸価としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、20mgKOH/g~120mgKOH/gが好ましく、30mgKOH/g~110mgKOH/gがより好ましく、35mgKOH/g~100mgKOH/gが特に好ましい。前記酸価が、20mgKOH/g未満であると、現像性が不十分となることがあり、120mgKOH/gを超えると、現像速度が高すぎるため現像のコントロールが難しくなることがある。ここで、前記酸価は、例えば、JISK0070に準拠して測定することができる。ただし、サンプルが溶解しない場合は、溶媒としてジオキサン又はテトラヒドロフランなどを使用する。前記光重合性基含有ポリウレタン樹脂の前記感光性組成物固形分中の含有量は、5質量~80質量が好ましく、30質量~60質量がより好ましい。前記含有量が、5質量以上であれば、現像性、露光感度が良好となり、80質量以下であれば、感光層の粘着性が強くなりすぎることを防止できる。<重合性化合物>前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、エチレン性不飽和結合を1つ以上有する化合物が好ましい。前記エチレン性不飽和結合としては、例えば、メタアクリロイル基、メタアクリルアミド基、スチリル基、ビニルエステル、ビニルエーテル等のビニル基;アリルエーテル、アリルエステル等のアリル基、などが挙げられる。前記エチレン性不飽和結合を1つ以上有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、メタアクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも1種が好適に挙げられる。前記メタアクリル基を有するモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート等の単官能アクリレート及び単官能メタクリレート;ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ペンタエリトリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリトリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリロイルオキシプロピルエーテル、トリアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリアクリロイルオキシエチルシアヌレート、グリセリントリメタアクリレート、トリメチロールプロパン、グリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドを付加反応した後でメタアクリレート化したもの、特公昭48-41708号、特公昭50-6034号、特開昭51-37193号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類;特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類;エポキシ樹脂とメタアクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレート及びメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリトリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタメタアクリレートが特に好ましい。前記重合性化合物の前記感光性組成物固形分中の含有量は、5質量~50質量が好ましく、10質量~40質量がより好ましい。前記含有量が、5質量以上であれば、現像性、露光感度が良好となり、50質量以下であれば、感光層の粘着性が強くなりすぎることを防止できる。<光重合開始剤>前記光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。また、前記光重合開始剤は、波長約300nm~800nmの範囲内に少なくとも約50の分子吸光係数を有する成分を少なくとも1種含有していることが好ましい。前記波長は330nm~500nmがより好ましい。前記光重合開始剤としては、中性の光重合開始剤が用いられる。また、必要に応じてその他の光重合開始剤を含んでいてもよい。前記中性の光重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、少なくとも芳香族基を有する化合物が好ましく、ビスアシルホスフィンオキシド又はそのエステル類、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物であることがより好ましい。前記中性の光重合開始剤は、2種以上を併用してもよい。前記光重合開始剤としては、例えば、ビスアシルホスフィンオキシド又はそのエステル類、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、などが挙げられる。これらの中でも、感光層の感度、保存性、及び感光層とプリント配線板形成用基板との密着性等の観点から、オキシム誘導体、ビスアシルホスフィンオキシド又はそのエステル類、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、が好ましい。前記ビスアシルホスフィンオキシドとしては、例えば、2,6-ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸メチルエステル、2,6-ジクロルベンゾイルフェニルホスフィンオキシド、2,6-ジメチトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチル-ペンチルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。前記アセトフェノン系化合物としては、例えば、アセトフェノン、メトキシアセトフェノン、1-フェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、4-ジフェノキシジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オンなどが挙げられる。前記ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、4-フェニルベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、3,3′-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、ジフェノキシベンゾフェノンなどが挙げられる。前記ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテルなどが挙げられる。前記ケタール誘導体化合物としては、例えば、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられる。前記チオキサントン化合物としては、例えば、2-クロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。前記オキシム誘導体としては、例えば、下記一般式Aで表される。ただし、前記一般式A中、R1は、水素原子、置換基を有してもよいアシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、及びアリールスルホニル基のいずれかを表し、R2は、それぞれ独立に置換基を表す。mは、0~4の整数を表し、2以上の場合は、互いに連結し環を形成してもよい。Aは、4、5、6、及び7員環のいずれかを表す。また、Aは、5及び6員環のいずれかであるのが好ましい。なお、前記オキシム化合物については、特開2008-249857号公報、特開2008-242372号公報、特開2008-122546号公報、特開2008-122545号公報等に記載の事項を適用することができる。本発明で用いられるオキシム化合物は、1H-NMRスペクトル、UV-vis吸収スペクトルを測定して同定することができる。前記光重合開始剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。前記光重合開始剤の前記感光性組成物固形分中の含有量は、0.1質量~30質量が好ましく、0.5質量~20質量がより好ましく、0.5質量~15質量が特に好ましい。<熱架橋剤>前記熱架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記感光性フィルムを用いて形成される感光層の硬化後の膜強度を改良するために、現像性等に悪影響を与えない範囲で、例えば、エポキシ化合物を含む化合物例えば、1分子内に少なくとも2つのオキシラン基を有するエポキシ化合物、1分子内に少なくとも2つのオキセタニル基を有するオキセタン化合物を用いることができ、特開2007-47729号公報に記載されているようなオキシラン基を有するエポキシ化合物、β位にアルキル基を有するエポキシ化合物、オキセタニル基を有するオキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート又はその誘導体のイソシアネート基にブロック剤を反応させて得られる化合物、オキサゾリン誘導体、オキサゾール誘導体などが挙げられる。また、前記熱架橋剤として、メラミン誘導体を用いることができる。前記メラミン誘導体としては、例えば、メチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミンメチロール基を、メチル、エチル、ブチル等でエーテル化した化合物等が挙げられる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、保存安定性が良好で、感光層の表面硬度又は硬化膜の膜強度自体の向上に有効である点で、アルキル化メチロールメラミンが好ましく、ヘキサメチル化メチロールメラミンが特に好ましい。前記熱架橋剤の前記感光性組成物固形分中の含有量は、1質量~50質量が好ましく、3質量~30質量がより好ましい。前記含有量が、1質量以上であれば、硬化膜の膜強度が向上され、50質量以下であれば、現像性、露光感度が良好となる。前記エポキシ化合物としては、例えば、1分子中に少なくとも2つのオキシラン基を有するエポキシ化合物、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも1分子中に2つ含むエポキシ化合物などが挙げられる。前記1分子中に少なくとも2つのオキシラン基を有するエポキシ化合物としては、例えば、ビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂YX4000、ジャパンエポキシレジン社製等又はこれらの混合物、イソシアヌレート骨格等を有する複素環式エポキシ樹脂TEPIC、日産化学工業株式会社製、アラルダイトPT810、チバスペシャルティケミカルズ社製等、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ-ルノボラック型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂例えば、低臭素化エポキシ樹脂、高ハロゲン化エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂など、アリル基含有ビスフェノールA型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジフェニルジメタノール型エポキシ樹脂、フェノールビフェニレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂HP-7200,HP-7200H、大日本インキ化学工業株式会社製等、グリシジルアミン型エポキシ樹脂ジアミノジフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジグリシジルアニリン、トリグリシジルアミノフェノール等、グリジジルエステル型エポキシ樹脂フタル酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸ジグリシジルエステル等ヒダントイン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアジペート、ジシクロペンタジエンジエポキシド、GT-300、GT-400、ZEHPE3150;ダイセル化学工業株式会社製等、、イミド型脂環式エポキシ樹脂、トリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、グリシジルフタレート樹脂、テトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂、ナフタレン基含有エポキシ樹脂ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、4官能ナフタレン型エポキシ樹脂、市販品としてはESN-190,ESN-360;新日鉄化学株式会社製、HP-4032,EXA-4750,EXA-4700;大日本インキ化学工業株式会社製等、フェノール化合物とジビニルベンゼン、ジシクロペンタジエン等のジオレフィン化合物との付加反応によって得られるポリフェノール化合物と、エピクロルヒドリンとの反応物、4-ビニルシクロヘキセン-1-オキサイドの開環重合物を過酢酸等でエポキシ化したもの、線状含リン構造を有するエポキシ樹脂、環状含リン構造を有するエポキシ樹脂、α-メチルスチルベン型液晶エポキシ樹脂、ジベンゾイルオキシベンゼン型液晶エポキシ樹脂、アゾフェニル型液晶エポキシ樹脂、アゾメチンフェニル型液晶エポキシ樹脂、ビナフチル型液晶エポキシ樹脂、アジン型エポキシ樹脂、グリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ樹脂CP-50S,CP-50M;日本油脂株式会社製等、シクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートとの共重合エポキシ樹脂、ビスグリシジルオキシフェニルフルオレン型エポキシ樹脂、ビスグリシジルオキシフェニルアダマンタン型エポキシ樹脂などが挙げられるが、これらに限られるものではない。これらのエポキシ樹脂は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、1分子中に少なくとも2つのオキシラン基を有する前記エポキシ化合物以外に、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも1分子中に2つ含むエポキシ化合物を用いることができ、β位がアルキル基で置換されたエポキシ基より具体的には、β-アルキル置換グリシジル基などを含む化合物が特に好ましい。前記β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも含むエポキシ化合物は、1分子中に含まれる2個以上のエポキシ基のすべてがβ-アルキル置換グリシジル基であってもよく、少なくとも1個のエポキシ基がβ-アルキル置換グリシジル基であってもよい。前記オキセタン化合物としては、例えば、1分子内に少なくとも2つのオキセタニル基を有するオキセタン化合物が挙げられる。前記1分子内に少なくとも2つのオキセタニル基を有するオキセタン化合物としては、例えば、ビス[3-メチル-3-オキセタニルメトキシメチル]エーテル、ビス[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチル]エーテル、1,4-ビス[3-メチル-3-オキセタニルメトキシメチル]ベンゼン、1,4-ビス[3-エチル-3-オキセタニルメトキシメチル]ベンゼン、3-メチル-3-オキセタニルメチルアクリレート、3-エチル-3-オキセタニルメチルアクリレート、3-メチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタクリレート又はこれらのオリゴマーあるいは共重合体等の多官能オキセタン類の他、オキセタン基を有する化合物と、ノボラック樹脂、ポリp-ヒドロキシスチレン、カルド型ビスフェノール類、カリックスアレーン類、カリックスレゾルシンアレーン類、シルセスキオキサン等の水酸基を有する樹脂など、とのエーテル化合物が挙げられ、この他、オキセタン環を有する不飽和モノマーとアルキルメタアクリレートとの共重合体なども挙げられる。また、前記ポリイソシアネート化合物としては、特開平5-9407号公報に記載のポリイソシアネート化合物を用いることができ、該ポリイソシアネート化合物は、少なくとも2つのイソシアネート基を含む脂肪族、環式脂肪族又は芳香族基置換脂肪族化合物から誘導されていてもよい。具体的には、2官能イソシアネート例えば、1,3-フェニレンジイソシアネートと1,4-フェニレンジイソシアネートとの混合物、2,4-及び2,6-トルエンジイソシアネート、1,3-及び1,4-キシリレンジイソシアネート、ビス4-イソシアネート-フェニルメタン、ビス4-イソシアネートシクロヘキシルメタン、イソフォロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等、該2官能イソシアネートと、トリメチロールプロパン、ペンタリスルトール、グリセリン等との多官能アルコール;該多官能アルコールのアルキレンオキサイド付加体と、前記2官能イソシアネートとの付加体;ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレン-1,6-ジイソシアネート又はその誘導体等の環式三量体;などが挙げられる。前記ポリイソシアネート化合物にブロック剤を反応させて得られる化合物、即ち、ポリイソシアネート又はその誘導体のイソシアネート基にブロック剤を反応させて得られる化合物における、イソシアネート基ブロック剤としては、アルコール類例えば、イソプロパノール、tert-ブタノール等、ラクタム類例えば、ε-カプロラクタム等、フェノール類例えば、フェノール、クレゾール、p-tert-ブチルフェノール、p-sec-ブチルフェノール、p-sec-アミルフェノール、p-オクチルフェノール、p-ノニルフェノール等、複素環式ヒドロキシル化合物例えば、3-ヒドロキシピリジン、8-ヒドロキシキノリン等、活性メチレン化合物例えば、ジアルキルマロネート、メチルエチルケトキシム、アセチルアセトン、アルキルアセトアセテートオキシム、アセトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等などが挙げられる。これらの他、特開平6-295060号公報に記載の分子内に少なくとも1つの重合可能な二重結合及び少なくとも1つのブロックイソシアネート基のいずれかを有する化合物などを用いることができる。また、ブロックイソシアネート解離触媒としては、ブロックイソシアネートの解離を促すために、通常使用されている触媒を用いることができ、例えば、オクチル酸亜鉛、ジブチル錫アセテート、ジブチル錫ジラウレート等が挙げられ、市販品としては、ネオスタンU-600日東化成株式会社製の有機金属塩を使用することができる。前記メラミン誘導体としては、例えば、メチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミンメチロール基を、メチル、エチル、ブチルなどでエーテル化した化合物などが挙げられる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、保存安定性が良好で、感光層の表面硬度又は硬化膜の膜強度自体の向上に有効である点で、アルキル化メチロールメラミンが好ましく、ヘキサメチル化メチロールメラミンが特に好ましい。前記オキサゾリン誘導体としては、例えば1,3-ビスベンゼン、1,4-ビスベンゼン、2,2’-ビスなどが挙げられる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、硬化触媒としては、例えば、亜リン酸エステル類、有機酸、有機酸塩の他に、ラジカル触媒、アニオン触媒、有機リン系化合物などが使用できる。具体例としては、カテコール、ビスフェノールA等の多官能フェノール類、p-トルエンスルホン酸、p-フェノールスルホン酸等のスルホン酸類、安息香酸、サリチル酸、シュウ酸、アジピン酸等のカルボン酸類、コバルトIIアセチルアセトネート、アルミニウムIIIアセチルアセトネート、ジルコニウムIVアセチルアセトネート等の金属錯体、酸化カルシウム、酸化コバルト、酸化マグネシウム、酸化鉄等の金属酸化物、水酸化カルシウム、イミダゾール又はその誘導体、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の第三級アミン又はこれらの塩、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィンベンゾキノン誘導体、トリフェニルホスフィントリフェニルボロン塩、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等のリン系化合物又はその誘導体が挙げられる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。<その他の成分>前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フィラー、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤着色顔料あるいは染料などが挙げられ、更に基材表面への密着促進剤及びその他の助剤類例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤などを併用してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、目的とする感光性フィルムの安定性、写真性、膜物性などの性質を調整することができる。前記フィラーについては、例えば特開2008-250074号公報の段落0098~0099に詳細に記載されている。前記熱重合禁止剤については、例えば特開2008-250074号公報の段落0101~0102に詳細に記載されている。前記熱硬化促進剤については、例えば特開2008-250074号公報の段落0093に詳細に記載されている。前記可塑剤については、例えば特開2008-250074号公報の段落0103~0104に詳細に記載されている。前記着色剤については、例えば特開2008-250074号公報の段落0105~0106に詳細に記載されている。前記密着促進剤については、例えば特開2008-250074号公報の段落0107~0109に詳細に記載されている。感光性フィルム本発明の感光性フィルムは、少なくとも、支持体と、該支持体上に本発明の感光性組成物からなる感光層を有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。-支持体-前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光層を剥離可能であり、かつ光の透過性が良好であるものが好ましく、更に表面の平滑性が良好であることがより好ましい。前記支持体は、合成樹脂製で、かつ透明であるものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリメタアクリル酸アルキルエステル、ポリメタアクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、セルロース系フィルム、ナイロンフィルム等の各種のプラスチックフィルムが挙げられ、これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。前記支持体の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、2μm~150μmが好ましく、5μm~100μmがより好ましく、8μm~50μmが特に好ましい。前記支持体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、長尺状が好ましい。前記長尺状の支持体の長さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、10m~20,000mの長さのものが挙げられる。-感光層-前記感光層は、感光性組成物からなる層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。また、前記感光層の積層数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、1層であってもよく、2層以上であってもよい。前記感光層の形成方法としては、前記支持体の上に、本発明の前記感光性組成物を、水又は溶剤に溶解、乳化又は分散させて感光性組成物溶液を調製し、該溶液を直接塗布し、乾燥させることにより積層する方法が挙げられる。前記感光性組成物溶液の溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、ノルマル-プロパノール、イソプロパノール、ノルマル-ブタノール、セカンダリーブタノール、ノルマル-ヘキサノール等のアルコール化合物;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等のケトン化合物;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸-ノルマル-アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、メトキシプロピルアセテート等のエステル化合物;トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素化合物;四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、1,1,1-トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素化合物;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール等のエーテル化合物;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホランなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、公知の界面活性剤を添加してもよい。前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーター、スリットスピンコーター、ロールコーター、ダイコーター、カーテンコーター等を用いて、前記支持体に直接塗布する方法が挙げられる。前記乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常60°C~110°Cの温度で30秒間~15分間程度である。前記感光層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、1μm~100μmが好ましく、2μm~50μmがより好ましく、4μm~30μmが特に好ましい。<その他の層>前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、保護フィルム、熱可塑性樹脂層、バリア層、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層等の層が挙げられる。前記感光性フィルムは、これらの層を1種単独で有していてもよく、2種以上を有していてもよい。<<保護フィルム>>前記感光性フィルムは、前記感光層上に保護フィルムを形成してもよい。前記保護フィルムとしては、例えば、前記支持体に使用されるもの、紙、ポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙、などが挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムが特に好ましい。前記保護フィルムの厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5μm~100μmが好ましく、8μm~50μmがより好ましく、10μm~30μmが特に好ましい。前記支持体と保護フィルムとの組合せ支持体/保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート/ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート/ポリエチレン、ポリ塩化ビニル/セロフアン、ポリイミド/ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート/ポリエチレンテレフタレート、などが挙げられる。また、支持体及び保護フィルムの少なくともいずれかを表面処理することにより、層間接着力を調整することができる。前記支持体の表面処理は、前記感光層との接着力を高めるために施されてもよく、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザ光線照射処理、などが挙げられる。また、前記支持体と前記保護フィルムとの静摩擦係数は、0.3~1.4が好ましく、0.5~1.2がより好ましい。前記静摩擦係数が、0.3以上であれば、滑り過ぎによって、ロール状にした場合に巻ズレが発生することを防止でき、1.4以下であれば、良好なロール状に巻くことができる。前記感光性フィルムは、例えば、円筒状の巻芯に巻き取って、長尺状でロール状に巻かれて保管されることが好ましい。前記長尺状の感光性フィルムの長さは、特に制限はなく、例えば、10m~20,000mの範囲から適宜選択することができる。また、ユーザーが使いやすいようにスリット加工し、100m~1,000mの範囲の長尺体をロール状にしてもよい。なお、この場合には、前記支持体が一番外側になるように巻き取られることが好ましい。また、前記ロール状の感光性フィルムをシート状にスリットしてもよい。保管の際、端面の保護、エッジフュージョンを防止する観点から、端面にはセパレーター特に防湿性のもの、乾燥剤入りのものを設置することが好ましく、また梱包も透湿性の低い素材を用いることが好ましい。前記保護フィルムは、前記保護フィルムと前記感光層との接着性を調整するために表面処理してもよい。前記表面処理は、例えば、前記保護フィルムの表面に、ポリオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、ポリビニルアルコール等のポリマーからなる下塗層を形成させる。該下塗層の形成は、前記ポリマーの塗布液を前記保護フィルムの表面に塗布した後、30°C~150°Cで1分間~30分間乾燥させることにより形成させることができる。前記乾燥の際の温度は50°C~120°Cが特に好ましい。感光性積層体本発明の感光性積層体は、少なくとも基体と、前記基体上に設けられた感光層とを有してなり、目的に応じて適宜選択されるその他の層を積層してなる。前記感光層は、上述の製造方法で作製された前記感光性フィルムから転写されたものであり、上述と同様の構成を有する。<基体>前記基体は、感光層が形成される被処理基体、又は前記感光性フィルムの少なくとも感光層が転写される被転写体となるもので、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を持つものまで任意に選択できる。板状の基体が好ましく、いわゆる基板が使用される。具体的には、公知のプリント配線板製造用の基板プリント基板、ガラス板ソーダガラス板など、合成樹脂性のフィルム、紙、金属板などが挙げられる。<感光性積層体の製造方法>前記感光性積層体の製造方法として、前記感光性フィルムにおける少なくとも感光層を加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら転写して積層する方法が挙げられる。感光性積層体の製造方法は、前記基体の表面に前記感光性フィルムを加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層する。なお、前記感光性フィルムが前記保護フィルムを有する場合には、該保護フィルムを剥離し、前記基体に前記感光層が重なるようにして積層するのが好ましい。前記加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、15°C~180°Cが好ましく、60°C~140°Cがより好ましい。前記加圧の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、0.1MPa~1.0MPaが好ましく、0.2MPa~0.8MPaがより好ましい。前記加熱の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラミネータ例えば、大成ラミネータ株式会社製、VP-II、ニチゴーモートン株式会社製、VP130などが好適に挙げられる。前記感光性フィルム及び前記感光性積層体は、膜厚が均一でピンホール、ハジキ等の面状欠陥の発生割合が極端に低いため、絶縁信頼性に優れ、高精細な永久パターン保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどを効率よく形成可能である。したがって、電子材料分野における高精細な永久パターンの形成用として広く用いることができ、特に、プリント基板の永久パターン形成用に好適に用いることができる。永久パターン形成方法本発明の永久パターン形成方法は、露光工程を少なくとも含み、更に、必要に応じて適宜選択した現像工程等のその他の工程を含む。<露光工程>前記露光工程は、前記感光性積層体における感光層に対し、露光を行う工程である。前記感光性積層体については上述の通りである。前記露光の対象としては、前記感光性積層体における感光層である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述のように、基材上に感光性フィルムを加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層して形成した積層体に対して行われることが好ましい。前記露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、デジタル露光、アナログ露光等が挙げられる。<その他の工程>前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材の表面処理工程、現像工程、硬化処理工程、ポスト露光工程などが挙げられる。<<現像工程>>前記現像としては、前記感光層の未露光部分を除去することにより行われる。前記未硬化領域の除去方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像液を用いて除去する方法などが挙げられる。前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤などが挙げられ、これらの中でも、弱アルカリ性の水溶液が好ましい。該弱アルカリ水溶液の塩基成分としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、硼砂などが挙げられる。前記弱アルカリ性の水溶液のpHは、例えば、8~12が好ましく、9~11がより好ましい。前記弱アルカリ性の水溶液としては、例えば、0.1質量~5質量の炭酸ナトリウム水溶液又は炭酸カリウム水溶液などが挙げられる。前記現像液の温度は、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約25°C~40°Cが好ましい。前記現像液は、界面活性剤、消泡剤、有機塩基例えば、エチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等、現像を促進させるため有機溶剤例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類等などと併用してもよい。また、前記現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶剤を混合した水系現像液であってもよく、有機溶剤単独であってもよい。<<硬化処理工程>>前記硬化処理工程は、前記現像工程が行われた後、形成されたパターンにおける感光層に対して硬化処理を行う工程である。前記硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。前記全面露光処理の方法としては、例えば、前記現像後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を露光する方法が挙げられる。該全面露光により、前記感光層を形成する感光性組成物中の樹脂の硬化が促進され、前記永久パターンの表面が硬化される。前記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などのUV露光機が好適に挙げられる。前記全面加熱処理の方法としては、前記現像の後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を加熱する方法が挙げられる。該全面加熱により、前記永久パターンの表面の膜強度が高められる。前記全面加熱における加熱温度は、120°C~250°Cが好ましく、120°C~200°Cがより好ましい。前記加熱温度が、120°C以上であれば、加熱処理によって膜強度が向上し、250°C以下であれば、前記感光性組成物中の樹脂の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることを防止できる。前記全面加熱における加熱時間は、10分間~120分間が好ましく、15分間~60分間がより好ましい。前記全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、IRヒーターなどが挙げられる。前記永久パターンの形成方法が、保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する永久パターン形成方法である場合には、プリント配線板上に前記永久パターン形成方法により、永久パターンを形成し、更に、以下のように半田付けを行うことができる。即ち、前記現像により、前記永久パターンである硬化層が形成され、前記プリント配線板の表面に金属層が露出される。該プリント配線板の表面に露出した金属層の部位に対して金メッキを行った後、半田付けを行う。そして、半田付けを行った部位に、半導体、部品などを実装する。このとき、前記硬化層による永久パターンが、保護膜、又は絶縁膜層間絶縁膜、ソルダーレジストとしての機能を発揮し、外部からの衝撃及び隣同士の電極の導通が防止される。プリント基板本発明のプリント基板は、少なくとも基体と、前記永久パターン形成方法により形成された永久パターンと、を有してなり、更に、必要に応じて適宜選択した、その他の構成を有する。前記その他の構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材と前記永久パターン間に、更に絶縁層が設けられたビルドアップ基板などが挙げられる。以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。合成例1-光重合性基含有ポリウレタン樹脂の合成-コンデンサー、及び撹拌機を備えた500mLの3つ口丸底フラスコに、2,2-ビスヒドロキシメチル酪酸DMBA10.00g0.0675モルと、グリセロールモノメタクリレートGLM29.23g0.183モルと、DL-リンゴ酸4.02g0.03モルとをシクロヘキサノン156mLに溶解した。これに、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートH12MDI52.47g0.200モル、ヘキサメチレンジイソシアネートHDI8.41g0.05モル、及び2,6-ジ-t-ブチルヒドロキシトルエン0.31g、触媒として商品名:ネオスタンU-600日東化成株式会社製0.31gを添加し、75°Cにて、5時間加熱撹拌した。その後室温25°Cで30分間撹拌し、260gのポリウレタン樹脂溶液固形分40質量を得た。得られた光重合性基含有ポリウレタン樹脂は、固形分酸価が69mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量が6,000であり、架橋基当量が1.75mmol/gであった。脂肪族環状構造のモル数/ポリウレタン樹脂の質量から求めた脂肪族環状構造の当量は、3.84mmol/gであった。前記架橋基当量は、臭素価をJISK2605に準拠して測定することにより求めた。前記酸価は、JISK0070に準拠して測定した。ただし、サンプルが溶解しない場合は、溶媒としてジオキサン又はテトラヒドロフランなどを使用した。前記重量平均分子量は、高速GPC装置東洋曹達株式会社製、HLC-802Aを使用して測定した。即ち、0.5質量のTHF溶液を試料溶液とし、カラムはTSKgelGMH62本を使用し、200μLの試料を注入し、前記THF溶液で溶離して、25°Cで屈折率検出器により測定した。次に、標準ポリスチレンで較正した分子量分布曲線より重量平均分子量を求めた。合成例2~9及び比較合成例3~4-光重合性基含有ポリウレタン樹脂の合成-合成例1と同様の方法により、下記表1で示す組成モル比の合成例2~9及び比較合成例3~4の光重合性基含有ポリウレタン樹脂を合成した。得られたポリウレタン樹脂について、合成例1と同様にして、架橋基当量及び脂肪族環状構造の当量を求めた。結果を表2に示す。表1中の数値は各成分の仕込みのモル数を表す。合成例10-光重合性基含有ポリウレタン樹脂の合成-コンデンサー、及び撹拌機を備えた500mLの3つ口丸底フラスコに、2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA24.14g0.180モルをシクロヘキサノン112mLに溶解した。これに、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートH12MDI31.48g0.12モル、ヘキサメチレンジイソシアネートHDI5.05g0.03モル、2,6-ジ-t-ブチルヒドロキシトルエン0.2g、及び触媒として商品名:ネオスタンU-600日東化成株式会社製0.2gを添加し、75°Cにて5時間加熱撹拌した。その後、トリフェニルホスフィン0.37gとグリシジルメタクリレートGMA14.07g0.099モルを加えて、100°Cで4時間撹拌した。その後、室温で30分間撹拌し、166gの光重合性基含有ポリウレタン樹脂溶液固形分40質量を得た。得られた光重合性基含有ポリウレタン樹脂は、固形分酸価が61mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量が8,200であり、架橋基当量が1.32mmol/gであった。脂肪族環状構造のモル数/ポリウレタン樹脂の質量から求めた脂肪族環状構造の当量は、3.21mmol/gであった。比較合成例1撹拌装置、温度計、及びコンデンサーを備えた反応容器に、ポリカーボネートジオールBとしてUM-CARB901/1ジオール成分が1,4-シクロヘキサンジメタノール/1,6-ヘキサンジオール=1/1で含まれる共重合体、宇部興産株式会社製、分子量約90044.6g=0.050mol、カルボキシル基を有するジヒドロキシル化合物Cとしてジメチロールブタン酸日本化成株式会社製14.9g=0.100mol、溶媒としてプロピレングリコールメチルエーテルアセテートダイセル化学工業株式会社製111gを仕込み、90°Cで全ての原料を溶解した。反応液の温度を70°Cまで下げ、ポリイソシアネートAとしてデスモジュールW住化バイエルウレタン株式会社製46.0g=0.0175molを10分間かけて滴下し、滴下終了後85°Cで2時間反応を行った。ほぼ理論量のイソシアネートが反応したことを確認した後、反応液の温度を80°Cまで下げ、モノヒドロキシ化合物Dとして2-ヒドロキシエチルアクリレート東京化成工業株式会社製6.0g=0.051mol、更にIrganox1010チバスペシャルティケミカルズ株式会社製0.0466g混合したものを滴下し、更に90°Cで2.5時間反応を行った。その後、室温にて、固形分が40質量になるようにプロピレングリコールメチルエーテルアセテートで希釈して、カルボキシル基含有ウレタン樹脂を得た。得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂の重量平均分子量は5000、固形分酸価は50.5mgKOH/gであった。比較合成例2攪拌装置、及び還流管を付けた2Lフラスコ中に、分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物aとして、ジャパンエポキシレジン社製エピコート8282官能ビスフェノール-A型エポキシ樹脂、エポキシ当量:182.2g/当量を364.4g、分子中にエチレン性不飽和二重結合を有するモノカルボン酸化合物bとしてアクリル酸分子量:72.06を144.1g、熱重合禁止剤として2-メチルハイドロキノンを0.24g、及び反応触媒としてトリフェニルフォスフィンを1.45g仕込み、98°Cの温度で反応液の酸価が0.5mgKOH/g以下になるまで反応させ、エポキシカルボキシレート化合物A理論分子量:508.5を得た。次いで、この反応液に反応用溶媒としてメチルエチルケトンを632.2g、分子中に2個の水酸基を有するカルボン酸化合物Bとして、2,2-ビス-プロピオン酸分子量:134.16を255.4g、分子中に2個の水酸基を有するゴム化合物Dとして、AT013宇部興産株式会社製、末端水酸基ブタジエン-アクリロニトリルゴム、水酸基当量から計算した理論分子量:4291.4を58.7g、熱重合禁止剤として2-メチルハイドロキノンを0.90g加え、60°Cに昇温させた。この溶液にジイソシアネート化合物Cとしてのビス4-イソシアナトフェニルメタン分子量:250.26243.4g、及びイソホロンジイソシアネート分子量:222.29108.1gを反応温度が65°Cを超えないように徐々に滴下した。滴下終了後、温度を80°Cに昇温させ、赤外吸収スペクトル測定法により、2250カイザー付近の吸収がなくなるまで6時間反応させた後、室温で樹脂溶液の固形分濃度が40質量になるようにメチルエチルケトンで希釈し、アルカリ水溶液可溶性ウレタン化エポキシカルボキシレート化合物40質量を含むポリウレタン樹脂溶液を得た。固形分酸価を合成例1と同様にして測定したところ、91mgKOH/gであった。次に、合成例1~10及び比較合成例1~4の固形分濃度、及び諸特性について、下記表2にまとめて示す。実施例1-デジタル露光用感光性組成物溶液の組成-合成例1の光重合性基含有ポリウレタン樹脂の溶液固形分40質量37.2質量部重合性化合物A-DPH、新中村化学工業株式会社製11.15質量部熱架橋剤エポトートYDF-170、東都化成株式会社製、ビスフェノールF型エポキシ樹脂2.0質量部下記構造式C-1で表される光重合開始剤1.0質量部顔料分散液以下、G-1という36.1質量部メガファックF-780F大日本インキ化学工業株式会社製の30質量メチルエチルケトン溶液0.13質量部メチルエチルケトン溶媒12.0質量部なお、前記顔料分散液G-1は、シリカアドマテックス株式会社製、SO-C230質量部と、合成例1の光重合性基含有ポリウレタン樹脂溶液48.2質量部と、フタロシアニンブルー0.51質量部と、アントラキノン系黄色顔料C.I.PY240.14質量部と、酢酸ノルマルプロピル59.0質量部とを予め混合した後、モーターミルM-250アイガー社製で、直径1.0mmのジルコニアビーズを用い、周速9m/sにて3時間分散して調製した。-アナログ露光用感光性組成物溶液の組成-合成例1の光重合性基含有ポリウレタン樹脂の溶液固形分40質量32.3質量部着色顔料:HELIOGENBLUED7086BASF社製0.021質量部着色顔料:PariotolYellowD0960BASF社製0.006質量部分散剤:ソルスパース24000GRループリゾール社製0.22質量部重合性化合物:DCP-A共栄社化学株式会社製5.3質量部開始剤:IRG907チバスペシャリティケミカル株式会社製0.6質量部増感剤:DETX-S日本化薬株式会社製0.005質量部反応助剤:EAB-F保土ヶ谷化学化株式会社製0.019質量部硬化剤:メラミン和光純薬工業株式会社製0.16質量部熱架橋剤:エポトートYDF-170東都化成株式会社製2.9質量部フィラー:SO-C2アドマテックス社製16.0質量部イオントラップ剤:IXE-6107東亞合成株式会社製0.82質量部塗布助剤:メガファックF-780F大日本インキ化学工業株式会社製、30質量メチルエチルケトン溶液0.2質量部エラストマー:エスぺル1612日立化成工業株式会社製2.7質量部シクロヘキサノン溶媒38.7質量部-感光性フィルムの製造-支持体としての厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルム東レ株式会社製、16FB50上に、上記組成からなるデジタル露光用又はアナログ露光用感光性組成物溶液をそれぞれ塗布し、乾燥させて、前記支持体上に厚み30μmの感光層を形成した。前記感光層上に、保護層として、厚み20μmのポリプロピレンフィルム王子特殊紙株式会社製、アルファンE-200を積層し、感光性フィルムを製造した。-基体への積層-前記基体として、銅張積層板スルーホールなし、銅厚み12μmの表面に化学研磨処理を施して調製した。該銅張積層板上に、前記感光性フィルムの感光層が前記銅張積層板に接するようにして前記感光性フィルムにおける保護フィルムを剥がしながら、真空ラミネータニチゴーモートン株式会社製、VP130を用いて積層させ、前記銅張積層板と、前記感光層と、前記ポリエチレンテレフタレートフィルム支持体とがこの順に積層された積層体を調製した。圧着条件は、真空引きの時間40秒、圧着温度70°C、圧着圧力0.2MPa、加圧時間10秒とした。得られた各積層体について、以下のようにして、冷熱衝撃性、アナログ露光感度、デジタル露光感度、耐めっき性、現像性、解像性、及び絶縁信頼性の評価を行った。結果を表2に示す。<冷熱衝撃性>信頼性試験項目として、温度サイクル試験TCTによりクラック及び剥れ等の外観と抵抗値変化率を評価した。TCTは気相冷熱試験機を用い、電子部品モジュールを温度が-55°C及び125°Cの気相中に各30分間放置し、これを1サイクルとして1,000サイクル及び1,500サイクルの条件で行い、以下の基準で冷熱衝撃性を評価した。評価基準◎:クラック発生無し○:浅いクラックが発生し、発生率が10未満である△:浅いクラック発生し、発生率が10以上である×:深いクラック発生有り<デジタル露光感度>前記積層体を、室温23°Cで55RHにて10分間静置した。得られた前記積層体の感光層表面に、INPREXIP-3000富士フイルム株式会社製、ピクセルピッチ=1.0μmを用いて、L/Sライン/スペース=50μm/50μmのパターンデータを0.5mJ/cm2から21/2倍間隔で500mJ/cm2までの光エネルギー量の異なる光を照射して露光し、L/Sライン/スペース=50μm/50μmのラインパターンを硬化させた。室温にて10分間静置した後、前記感光性積層体から前記支持体を剥がし取り、銅張積層板上の感光層の全面に、30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧0.15MPaにて最短現像時間の2倍~3倍の時間又は40秒~60秒スプレー現像し、未硬化の領域を溶解除去した。このようにして得られたL=50μmのパターンの線幅を、レーザ顕微鏡VK-9500、キーエンス社製;対物レンズ50倍を用いて測定し、線幅が50μmとなる露光量を感度最適露光量とし、下記基準で評価した。評価基準◎:30mjよりも高感度であり、感度が非常に優れる○:39mj~30mjの感度であり、感度が優れる△:50mj~40mjの感度であり、感度がやや劣る×:50mjよりも低感度であり、感度が劣る<アナログ露光感度>前記積層体を、室温23°Cで55RHにて10分間静置した。得られた前記積層体の感光層表面に、前記調製した積層体における感光層に対し、ポリエチレンテレフタレートフィルム支持体側から、回路基板用露光機EXM-1172オーク製作所製を用いて、L/Sライン/スペース=50μm/50μmのパターンを0.5mJ/cm2から21/2倍間隔で50mJ/cm2までの光エネルギー量の異なる光を照射して露光し、L/Sライン/スペース=50μm/50μmのラインパターンを硬化させた。室温にて10分間静置した後、前記感光性積層体から前記支持体を剥がし取り、銅張積層板上の感光層の全面に、30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧0.15MPaにて最短現像時間の2倍~3倍の時間又は40秒~60秒スプレー現像し、未硬化の領域を溶解除去した。このようにして得られたL=50μmのパターンの線幅を、レーザ顕微鏡VK-9500、キーエンス社製、対物レンズ50倍を用いて測定し、線幅が50μmとなる露光量を感度最適露光量とし、下記基準で評価した。評価基準◎:30mjよりも高感度であり、感度が非常に優れる○:39mj~30mjの感度であり、感度が優れる△:50mj~40mjの感度であり、感度がやや劣る×:50mjよりも低感度であり、感度が劣る<耐めっき性の評価>前記基体として、銅張積層板スルーホールなし、銅厚み12μmの表面に化学研磨処理を施したものを使用した以外は、前記積層体と同様にして作製された積層体の感光層表面に、回路基板用露光機EXM-1172オーク製作所製を用いて、フォトマスク越しに、最適露光量にて30μm~1,000μmまでの独立配線パターンを形成し、室温にて10分間静置した後、前記感光性積層体から前記支持体を剥がし取り、銅張積層板上の感光層の全面に、30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧0.15MPaにて前記最短現像時間の2~3倍の時間又は40秒~60秒スプレー現像し、未硬化の領域を溶解除去した。その後、超高圧水銀灯により200mJ/cm2で全面露光を行い、更に150°Cで1時間加熱処理ポストベークをしてソルダーレジストパターン永久パターンを形成した。-評価基準-◎:まったくはがれなし○:線幅50μm以上の画像でははがれなし△:線幅500μm以上の画像でははがれなし×:線幅500μm以上の画像でも剥がれあり<現像性最短現像時間>前記積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム支持体を剥がし取り、銅張積層板上の前記感光層の全面に30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液を0.15MPaの圧力にてスプレーし、炭酸ナトリウム水溶液のスプレー開始から銅張積層板上の感光層が溶解除去されるまでに要した時間を測定し、これを最短現像時間とし、下記基準で評価した。この最短現像時間が短い程、現像性に優れる。評価基準◎:現像時間が25秒以下であり、現像性が特に良好である。○:現像時間が35秒以下であり、現像性が良好である。△:現像時間が45秒以下であり、現像性がやや劣る。×:現像時間が45秒を超え、現像性が劣る。<解像性の評価>前記感光性積層体を室温23°Cで55RHにて10分間静置した。得られた感光性積層体のポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上から、前記パターン形成装置を用いて、丸穴パターンを用い、丸穴の直径の幅50~200μmの丸穴が形成できるよう露光を行った。この際の露光量は、前記感度の評価における前記感光性フィルムの感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量である。室温にて10分間静置した後、前記感光性積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム支持体を剥がし取った。銅張積層板上の感光層の全面に、前記現像液として30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧0.15MPaにて前記最短現像時間の2倍の時間スプレーし、未硬化領域を溶解除去した。このようにして得られた硬化樹脂パターン付き銅張積層板の表面を光学顕微鏡で観察し、パターンの丸穴底部に残渣が無いこと、パターン部の捲くれ剥がれなどの異常が無く、かつスペース形成可能な最小の丸穴パターン幅を測定し、これを解像度とし、下記基準で評価した。該解像度は数値が小さいほど良好である。評価基準○:直径90μm以下の丸穴が解像可能で、解像性に優れている○△:直径120μm以下の丸穴が解像可能で、解像性良好である△:直径200μm以下の丸穴が解像可能で、解像性がやや劣る×:丸穴が解像不可で、解像性が劣る<絶縁信頼性>12μm厚の銅箔をガラスエポキシ基材に積層したプリント基板の銅箔にエッチングを施して、ライン幅/スペース幅が50μm/50μmであり、互いのラインが接触しておらず、互いに対向した同一面上の櫛形電極を得た。この基板の櫛形電極上にソルダーレジスト層を定法にて形成し、最適露光量300mJ/cm2~1J/cm2で露光を行った。次いで、常温で1時間静置した後、30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液にて60秒間スプレー現像を行い、更に80°Cで10分間加熱乾燥した。続いて、オーク製作所製紫外線照射装置を使用して1J/cm2のエネルギー量で感光層に対する紫外線照射を行った。更に感光層を150°Cで60分間加熱処理を行うことにより、ソルダーレジストを形成した評価用基板を得た。加熱後の評価用積層体の櫛形電極間に電圧が印加されるように、ポリテトラフルオロエチレン製のシールド線をSn/Pbはんだによりそれらの櫛形電極に接続した後、評価用積層体に5Vの電圧を印可した状態で、該評価用積層体を130°Cで85RHの超加速高温高湿寿命試験HAST槽内に200時間静置した。その後の評価用積層体のソルダーレジストのマイグレーションの発生程度を100倍の金属顕微鏡により観察した。評価基準○:マイグレーションの発生が確認できず、絶縁信頼性に優れる○△:マイグレーションの発生が銅上僅かに確認されるが、絶縁信頼性が良好である△:マイグレーションの発生が確認され、絶縁信頼性にやや劣る×:電極間が短絡し、絶縁信頼性に劣る実施例2~10及び比較例1~4実施例1において、合成例1の光重合性基含有ポリウレタン樹脂溶液を、合成例2~10及び比較合成例1~4のポリウレタン樹脂溶液に代えた以外は、実施例1と同様にして、デジタル露光用又はアナログ露光用感光性組成物溶液をそれぞれ調製し、これら感光性組成物を用いて、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた各積層体について、実施例1と同様にして、冷熱衝撃性、アナログ露光感度、デジタル露光感度、耐めっき性、現像性、解像性、及び絶縁信頼性の評価を行った。結果を表3に示す。"