"下記一般式I;式中、R1及びR2はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基またはハロゲン原子であるただし、R1とR2が同時に水素原子になることはない。。で表されるジカルボン酸化合物Iと、周期表の2族及び7~12族に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、下記一般式II;式中、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはハロゲン原子であるか、R4とR5、並びに/或いはR8とR9は一緒になって置換基を有していてもよいアルケニレン基を形成してもよい。で表される該金属イオンに二座配位可能な有機配位子IIとからなる金属錯体。ジャングルジム骨格が二重に相互貫入した構造を有する請求項1に記載の金属錯体。該二座配位可能な有機配位子IIが4,4’-ビピリジル、2,2’-ジメチル-4,4’-ビピリジン及びジアザピレンから選択される少なくとも1種である請求項1または2に記載の金属錯体。該金属イオンが亜鉛イオンである請求項1~3いずれかに記載の金属錯体。請求項1~4のいずれかに記載の金属錯体からなる吸蔵材。該吸蔵材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、水蒸気または有機蒸気を吸蔵するための吸蔵材である請求項5に記載の吸蔵材。請求項1~4いずれかに記載の金属錯体からなる分離材。該分離材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気を分離するための分離材である請求項7に記載の分離材。該分離材が、メタンと二酸化炭素、水素と二酸化炭素、窒素と二酸化炭素、メタンとエタンまたは空気とメタンを分離するための分離材である請求項7に記載の分離材。ジカルボン酸化合物Iと、周期表の2族及び7~12族に属する金属の塩から選択される少なくとも1種の金属塩と、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子IIとを溶媒中で反応させ、金属錯体を析出させる、請求項1に記載の金属錯体の製造方法。したがって、本発明の目的は、従来よりも有効吸蔵量が大きいガス吸蔵材、或いは従来よりも混合ガスの分離性能が優れるガス分離材として使用できる金属錯体を提供することにある。本発明者らは鋭意検討し、特定のジカルボン酸化合物と、少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体により、上記目的を達成することができることを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明によれば、以下のものが提供される。1下記一般式I;式中、R1及びR2はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基またはハロゲン原子であるただし、R1とR2が同時に水素原子になることはない。。で表されるジカルボン酸化合物Iと、周期表の2族及び7~12族に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、下記一般式II;式中、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはハロゲン原子であるか、R4とR5、或いはR8とR9は一緒になって置換基を有していてもよいアルケニレン基を形成してもよい。で表される該金属イオンに二座配位可能な有機配位子IIとからなる金属錯体。2ジャングルジム骨格が二重に相互貫入した構造を有する1に記載の金属錯体。3該二座配位可能な有機配位子IIが4,4’-ビピリジル、2,2’-ジメチル-4,4’-ビピリジン及びジアザピレンから選択される少なくとも1種である1または2に記載の金属錯体。4該金属イオンが亜鉛イオンである1~3いずれかに記載の金属錯体。51~4のいずれかに記載の金属錯体からなる吸蔵材。6該吸蔵材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、水蒸気または有機蒸気を吸蔵するための吸蔵材である5に記載の吸蔵材。71~4いずれかに記載の金属錯体からなる分離材。8該分離材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気を分離するための分離材である7に記載の分離材。9該分離材が、メタンと二酸化炭素、水素と二酸化炭素、窒素と二酸化炭素、メタンとエタンまたは空気とメタンを分離するための分離材である7に記載の分離材。10ジカルボン酸化合物Iと、周期表の2族及び7~12族に属する金属の塩から選択される少なくとも1種の金属塩と、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子IIとを溶媒中で反応させ、金属錯体を析出させる、1に記載の金属錯体の製造方法。本発明により、特定のジカルボン酸化合物と、少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体を提供することができる。本発明の金属錯体は、各種ガスの吸蔵性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、水蒸気または有機蒸気などを吸蔵するための吸蔵材として使用することができる。また、本発明の金属錯体は、各種ガスの分離性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気などを分離するための分離材としても使用することができる。本発明の金属錯体は、ジカルボン酸化合物Iと、周期表の2族及び7~12族に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子IIとからなる。周期表の2族及び7~12族に属する金属のイオンとしては、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、マンガンイオン、鉄イオン、ルテニウムイオン、コバルトイオン、ロジウムイオン、ニッケルイオン、パラジウムイオン、銅イオン、亜鉛イオンまたはカドミウムイオンが好ましく、マグネシウムイオン、マンガンイオン、コバルトイオン、ニッケルイオン、銅イオン、亜鉛イオンまたはカドミウムイオンがより好ましく、亜鉛イオンが特に好ましい。金属イオンは、単一の金属イオンを使用することが好ましいが、2種以上の金属イオンを含む混合金属錯体であってもよい。また、本発明の金属錯体は、単一の金属イオンからなる金属錯体を2種以上混合して使用することもできる。金属錯体は、ジカルボン酸化合物Iと、周期表の2族及び7~12族に属する金属の塩から選択される少なくとも1種の金属塩と、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子IIとを、常圧下、溶媒中で数時間から数日間反応させ、析出させて製造することができる。例えば、金属塩の水溶液または有機溶媒溶液と、ジカルボン酸化合物I及び二座配位可能な有機配位子IIを含有する有機溶媒溶液とを、常圧下で混合して反応させることにより本発明の金属錯体を得ることができる。本発明に用いられるジカルボン酸化合物Iは下記一般式I;で表される。式中、R1及びR2はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基またはハロゲン原子であるただし、R1とR2が同時に水素原子になることはない。。上記R1及びR2を構成することのできる置換基の内、アルキル基またはアルコキシ基の炭素原子数は1~5が好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基などの直鎖または分岐を有するアルキル基が、アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基,n-ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基が、アシロキシ基の例としては、アセトキシ基、n-プロパノイルオキシ基、n-ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基が、アルコキシカルボニル基の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル基が、モノアルキルアミノ基の例としてはメチルアミノ基が、ジアルキルアミノ基の例としては、ジメチルアミノ基が、アシルアミノ基の例としては、アセチルアミノ基が、ハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が、それぞれ挙げられる。また、該アルキル基等が有していてもよい置換基の例としては、アルコキシ基メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基,n-ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基など、アミノ基、モノアルキルアミノ基メチルアミノ基など、ジアルキルアミノ基ジメチルアミノ基など、ホルミル基、エポキシ基、アシロキシ基アセトキシ基、n-プロパノイルオキシ基、n-ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など、アルコキシカルボニル基メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル基など、カルボン酸無水物基-CO-O-CO-R基Rは炭素数1~5のアルキル基であるなどが挙げられる。アルキル基の置換基の数は、1~3個が好ましく、1個がより好ましい。好ましいジカルボン酸化合物Iとしては、2-メチルテレフタル酸、2-メトキシテレフタル酸または2-ニトロテレフタル酸を使用することができ、中でも2-メチルテレフタル酸または2-ニトロテレフタル酸が好ましい。金属錯体の製造に用いる周期表の2族及び7~12族に属する金属の塩としては、マグネシウム塩、カルシウム塩、クロム塩、モリブデン塩、タングステン塩、マンガン塩、鉄塩、ルテニウム塩、コバルト塩、ロジウム塩、ニッケル塩、パラジウム塩、銅塩、亜鉛塩またはカドミウム塩を使用することができ、マグネシウム塩、マンガン塩、コバルト塩、ニッケル塩、銅塩、亜鉛塩またはカドミウム塩が好ましく、亜鉛塩がより好ましい。また、これらの金属塩としては、酢酸塩、ギ酸塩などの有機酸塩、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩などの無機酸塩を使用することができる。本発明に用いられる二座配位可能な有機配位子IIは下記一般式II;で表される。式中、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはハロゲン原子であるか、R4とR5、並びに/或いはR8とR9が一緒になって置換基を有していてもよいアルケニレン基を形成してもよい。上記R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10を構成することのできる置換基の内、アルキル基の炭素原子数は1~5が好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基などの直鎖または分岐を有するアルキル基が、ハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が、それぞれ挙げられる。また、該アルキル基が有していてもよい置換基の例としては、アルコキシ基メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基,n-ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基など、アミノ基、モノアルキルアミノ基メチルアミノ基など、ジアルキルアミノ基ジメチルアミノ基など、ホルミル基、エポキシ基、アシロキシ基アセトキシ基、n-プロパノイルオキシ基、n-ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など、アルコキシカルボニル基メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル基など、カルボン酸無水物基-CO-O-CO-R基Rは炭素数1~5のアルキル基であるなどが挙げられる。アルキル基の置換基の数は、1~3個が好ましく、1個がより好ましい。上記アルケニレン基の炭素数は、2が好ましい。アルケニレン基の炭素数が2の場合、R4とR5、並びに/或いはR8とR9はそれらが結合している炭素原子と一緒になって6員環ベンゼンを構成する。また、該アルケニレン基が有していてもよい置換基の例としては、アルコキシ基メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基,n-ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基など、アミノ基、モノアルキルアミノ基メチルアミノ基など、ジアルキルアミノ基ジメチルアミノ基など、ホルミル基、エポキシ基、アシロキシ基アセトキシ基、n-プロパノイルオキシ基、n-ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など、アルコキシカルボニル基メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル基など、カルボン酸無水物基-CO-O-CO-R基Rは炭素数1~5のアルキル基であるなどが挙げられる。二座配位可能な有機配位子IIとしては、例えば、4,4’-ビピリジル、2,2’-ジメチル-4,4’-ビピリジンまたはジアザピレンを挙げることができ、中でも4,4’-ビピリジルが好ましい。ここで、二座配位可能な有機配位子とは非共有電子対で金属イオンに対して配位する部位を2箇所持つ中性配位子を意味する。金属錯体を製造するときのジカルボン酸化合物Iと二座配位可能な有機配位子IIとの混合比率は、ジカルボン酸化合物I:二座配位可能な有機配位子II=1:5~8:1のモル比の範囲内が好ましく、1:3~6:1のモル比の範囲内がより好ましい。これ以外の範囲で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下し、副反応も増えるために好ましくない。金属錯体を製造するときの金属塩と二座配位可能な有機配位子IIの混合比率は、金属塩:二座配位可能な有機配位子II=3:1~1:3のモル比の範囲内が好ましく、2:1~1:2のモル比の範囲内がより好ましい。これ以外の範囲では目的とする金属錯体の収率が低下し、また、未反応の原料が残留して得られた金属錯体の精製が困難になる。金属錯体を製造するための混合溶液におけるジカルボン酸化合物Iのモル濃度は、0.005~5.0mol/Lが好ましく、0.01~2.0mol/Lがより好ましい。これより低い濃度で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下するため好ましくない。また、これより高い濃度では溶解性が低下し、反応が円滑に進行しない。金属錯体を製造するための混合溶液における金属塩のモル濃度は、0.005~5.0mol/Lが好ましく、0.01~2.0mol/Lがより好ましい。これより低い濃度で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下するため好ましくない。また、これより高い濃度では未反応の金属塩が残留し、得られた金属錯体の精製が困難になる。金属錯体を製造するための混合溶液における二座配位可能な有機配位子IIのモル濃度は、0.001~5.0mol/Lが好ましく、0.005~2.0mol/Lがより好ましい。これより低い濃度で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下するため好ましくない。また、これより高い濃度では溶解性が低下し、反応が円滑に進行しない。金属錯体の製造に用いる溶媒としては、有機溶媒、水またはそれらの混合溶媒を使用することができる。具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトン、酢酸エチル、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、水またはこれらの混合溶媒を使用することができる。反応温度としては、253~423Kが好ましい。結晶性の良い金属錯体は、純度が高くて吸着性能が良い。反応が終了したことはガスクロマトグラフィーまたは高速液体クロマトグラフィーにより原料の残存量を定量することにより確認することができる。反応終了後、得られた混合液を吸引濾過に付して沈殿物を集め、有機溶媒による洗浄後、373K程度で数時間真空乾燥することにより、本発明の金属錯体を得ることができる。以上のようにして得られる本発明の金属錯体は、ジカルボン酸化合物Iのカルボキシレートイオンと金属イオンとからなるパドルホイール骨格中の金属イオンのアキシャル位に二座配位可能な有機配位子IIが配位して形成されるジャングルジム骨格が二重に相互貫入した三次元構造を有する。ジャングルジム骨格の模式図を図1に、ジャングルジム骨格が二重に相互貫入した三次元構造の模式図を図2に示す。本明細書において、ジャングルジム骨格とは、ジカルボン酸化合物Iのカルボキシレートイオンと金属イオンとからなるパドルホイール骨格中の金属イオンのアキシャル位に二座配位可能な有機配位子が配位し、ジカルボン酸化合物Iと金属イオンとからなる二次元格子状シート間を連結することで形成されるジャングルジム様の三次元構造と定義する。本明細書において、ジャングルジム骨格が二重に相互貫入した構造とは、二つのジャングルジム骨格が互いの細孔を埋める形で貫入し合った三次元集積構造と定義する。金属錯体がジャングルジム骨格が二重に相互貫入した構造を有することは、例えば単結晶X線構造解析、粉末X線結晶構造解析などにより確認できる。本発明の金属錯体における三次元構造は、合成後の結晶においても変化できるため、その変化に伴って、細孔の構造や大きさも変化する。この構造が変化する条件は、吸着される物質の種類、吸着圧力、吸着温度に依存する。すなわち、細孔表面と物質の相互作用の差に加え相互作用の強さは物質のLennard-Jonesポテンシャルの大きさに比例、吸着する物質により構造変化の程度が異なるため、高いガス吸蔵性能及び高いガス分離選択性が発現する。吸脱着に伴う構造変化の模式図を図3に示す。本発明では、一般式Iで表されるジカルボン酸化合物を用いてジャングルジム骨格間の立体反発を制御することで、高い分離性能と吸着量の両立が可能となる。吸着された物質が脱着した後は、元の構造に戻るので、細孔の大きさも元に戻る。前記の選択吸着メカニズムは推定ではあるが、例え前記メカニズムに従っていない場合でも、本発明で規定する要件を満足するのであれば、本発明の技術的範囲に包含される。本発明の金属錯体は、各種ガスの吸蔵性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素メタン、エタン、エチレン、アセチレンなど、希ガスヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなど、硫化水素、アンモニア、水蒸気または有機蒸気などを吸蔵するための吸蔵材として好ましい。有機蒸気とは、常温、常圧で液体状の有機物質の気化ガスを意味する。このような有機物質としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類;トリメチルアミンなどのアミン類;アセトアルデヒドなどのアルデヒド類;炭素数5~16の脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;塩化メチル、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。また、本発明の金属錯体は、各種ガスの分離性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素メタン、エタン、エチレン、アセチレンなど、希ガスヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなど、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサンヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなど、水蒸気または有機蒸気などを分離するための分離材としても好ましく、特に、メタン中の二酸化炭素、水素中の二酸化炭素、窒素中の二酸化炭素、メタン中のエタンまたは空気中のメタンなどを、圧力スイング吸着法や温度スイング吸着法により分離するのに適している。有機蒸気とは、常温、常圧で液体状の有機物質の気化ガスを意味する。このような有機物質としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類;トリメチルアミンなどのアミン類;アセトアルデヒドなどのアルデヒド類;炭素数5~16の脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;塩化メチル、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例および比較例における分析および評価は次のようにして行った。1単結晶X線結晶構造解析得られた単結晶をゴニオヘッドにマウントし、単結晶X線回折装置を用いて測定した。測定条件の詳細を以下に示す。<分析条件>装置:ブルカーエイエックスエス株式会社製SMARTAPEXIIUltraX線源:MoKαλ=0.71073Å50kV24mA集光ミラー:HELIOSmultilayeropticsforMoradiation検出器:APEXIICCDコリメータ:Φ0.42mm解析ソフト:SHELX-972粉末X線回折パターンの測定X線回折装置を用いて、回折角2θ=5~50°の範囲を走査速度1°/分で走査し、対称反射法で測定した。分析条件の詳細を以下に示す。<分析条件>装置:株式会社リガク製RINT2400X線源:CuKαλ=1.5418Å40kV200mAゴニオメーター:縦型ゴニオメーター検出器:シンチレーションカウンターステップ幅:0.02°スリット:発散スリット=0.5°受光スリット=0.15mm散乱スリット=0.5°3吸脱着等温線の測定高圧ガス吸着量測定装置を用いて容量法で測定を行った。このとき、測定に先立って試料を373K、50Paで10時間乾燥し、吸着水などを除去した。分析条件の詳細を以下に示す。<分析条件>装置:日本ベル株式会社製BELSORP-HP平衡待ち時間:500秒4混合ガス分離性能の測定三方コックとセプタムを装着したガラス製10mL二口フラスコを用意し、三方コックの一方の口に別の三方コックを介して100mLのシリンジをチューブで接続した。測定は、二口フラスコに試料を入れ、373K、4.0x10-3Paで3時間乾燥し、吸着水などを除去した後に、フラスコに装着している三方コックを閉じ、続いてシリンジ側の三方コックを通じてシリンジに100mLの混合ガスを導入し、最後にフラスコに装着している三方コックを開き、試料に混合ガスを吸着させた。このとき、吸着量はシリンジの目盛りの減少分から算出し死容積はあらかじめヘリウムを用いて測定、ガス組成はガスクロマトグラフィーで分析して算出した。分析条件の詳細を以下に示す。<分析条件>装置:株式会社島津製作所製GC-14Bカラム:ジーエルサイエンス株式会社製WG-100INJ温度:100°CDET温度:50°Cカラム温度:50°Cキャリアガス:ヘリウム注入量:1mL検出器:TCD<合成例1>窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物2.81g9.5mmol、2-ニトロテレフタル酸2.00g9.5mmol及び4,4’-ビピリジル0.739g4.7mmolを容量比でN,N-ジメチルホルムアミド:エタノール=1:1からなるN,N-ジメチルホルムアミドとエタノールの混合溶媒800mLに溶解させ、363Kで48時間攪拌した。析出した金属錯体について単結晶X線構造解析を行った結果を以下に示す。また、結晶構造を図4に示す。図4より、本錯体はジャングルジム骨格が二重に相互貫入した三次元構造を形成していることが分かる。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図5に示す。TriclinicP-1a=11.063Åb=11.143Åc=14.234Åα=94.394°β=90.626°γ=97.846°V=17318Å3Z=2R=0.2112Rw=0.4859続いて、析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで3回洗浄を行った。その後、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体2.89g収率87を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図6に示す。図5と図6の比較から、合成溶媒の吸脱着前後で粉末X線回折パターンが異なるので、本発明の金属錯体は吸脱着に伴い、構造が動的に変化していることが分かる。<合成例2>窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物2.81g9.5mmol、2-メチルテレフタル酸1.70g9.5mmol及び4,4’-ビピリジル0.739g4.7mmolを容量比でN,N-ジメチルホルムアミド:エタノール=1:1からなるN,N-ジメチルホルムアミドとエタノールの混合溶媒800mLに溶解させ、363Kで48時間攪拌した。析出した金属錯体の粉末X線回折パターンを図7に示す。図5と図7の比較から、粉末X線回折パターンが同じであるので、合成例1で得られた金属錯体と同様にジャングルジム骨格が二重に相互貫入した三次元構造を形成していることが分かる。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで3回洗浄を行った。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体2.72g収率89を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図8に示す。図7と図8の比較から、合成溶媒の吸脱着前後で粉末X線回折パターンが異なるので、本発明の金属錯体は吸脱着に伴い、構造が動的に変化していることが分かる。<比較合成例1>窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物2.81g9.5mmol、テレフタル酸1.57g9.5mmol及び4,4’-ビピリジル0.739g4.7mmolを容量比でN,N-ジメチルホルムアミド:エタノール=1:1からなるN,N-ジメチルホルムアミドとエタノールの混合溶媒800mLに溶解させ、363Kで48時間攪拌した。析出した金属錯体について単結晶X線構造解析を行った結果を以下に示す。また、結晶構造を図9に示す。図9より、本錯体はジャングルジム骨格が二重に相互貫入した三次元構造を形成していることが分かる。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図10に示す。TriclinicP-1a=10.8803Åb=10.9183Åc=14.1224Åα=89.33516°β=89.17117°γ=78.38016°V=1643.08Å3Z=2R=0.0655Rw=0.1697続いて、析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで3回洗浄を行った。その後、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体2.75g収率95を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図11に示す。図10と図11の比較から、合成溶媒の吸脱着前後で粉末X線回折パターンが異なるので、本発明の金属錯体は吸脱着に伴い、構造が動的に変化していることが分かる。<比較合成例2>窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物5.00g17mmol、5-ニトロイソフタル酸3.59g17mmol及び4,4’-ビピリジル2.65g17mmolをN,N-ジメチルホルムアミド200mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体について単結晶X線構造解析を行った結果を以下に示す。また、結晶構造を図12に示す。図12より、本錯体はインターデジテイト型構造を形成していることが分かる。TriclinicP-1a=10.04310Åb=10.1009Åc=10.65110Åα=77.32611°β=66.24610°γ=80.50710°V=961.216Å3Z=2R=0.0649Rw=0.1459析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、エタノールで3回洗浄した。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体5.34g収率73を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図13に示す。<比較合成例3>窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物5.00g17mmol、5-メチルイソフタル酸2.80g17mmol及び4,4’-ビピリジル2.65g17mmolをN,N-ジメチルホルムアミド200mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体について単結晶X線構造解析を行った結果を以下に示す。また、結晶構造を図14に示す。図14より、本錯体はインターデジテイト型構造を形成していることが分かる。monoclinicP12/c1a=10.0348318Åb=11.40542Åc=16.75293Åα=90.0000°β=103.07207°γ=90.0000°V=1867.716Å3Z=1R=0.0525Rw=0.1381析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、エタノールで3回洗浄した。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体6.09g収率90を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図15に示す。<実施例1>合成例2で得た金属錯体について、273Kにおける二酸化炭素の吸脱着等温線を測定した。結果を図16に示す。<比較例1>比較合成例3で得た金属錯体について、273Kにおける二酸化炭素の吸脱着等温線を測定した。結果を図17に示す。図16と図17の比較より、本発明の金属錯体は0.1~1.0MPaの圧力範囲における二酸化炭素の有効吸蔵量が多く、かつその脱着を0.1MPa常圧で行うことができ、0.1MPa以下に減圧する必要がないため、再生に要するエネルギーが少なくて済む。そのため、二酸化炭素の吸蔵材として優れていることは明らかである。<実施例2>合成例2で得た金属錯体について、273Kにおけるエチレンの吸脱着等温線を測定した。結果を図18に示す。<比較例2>比較合成例1で得た金属錯体について、273Kにおけるエチレンの吸脱着等温線を測定した。結果を図19に示す。<比較例3>比較合成例3で得た金属錯体について、273Kにおけるエチレンの吸脱着等温線を測定した。結果を図20に示す。図18と図19~20より、本発明の金属錯体は0.1~1.0MPaの圧力範囲におけるエチレンの有効吸蔵量が多く、かつその脱着を0.1MPa常圧で行うことができ、0.1MPa以下に減圧する必要がないため、再生に要するエネルギーが少なくて済む。そのため、エチレンの吸蔵材として優れていることは明らかである。<実施例3>合成例1で得た金属錯体について、273Kにおけるメタンの吸脱着等温線を測定した。結果を図21に示す。<比較例4>比較合成例1で得た金属錯体について、273Kにおけるメタンの吸脱着等温線を測定した。結果を図21に示す。<比較例5>比較合成例2で得た金属錯体について、273Kにおけるメタンの吸脱着等温線を測定した。結果を図21に示す。図21より、本発明の金属錯体は0.1~1.0MPaの圧力範囲での有効吸蔵量が多く、かつその脱着を0.1MPa常圧で行うことができ、0.1MPa以下に減圧する必要がないため、再生に要するエネルギーが少なくて済む。そのため、メタンの吸蔵材として優れていることは明らかである。<実施例4>合成例1で得た金属錯体について、容量比でメタン:二酸化炭素=25:75からなるメタンと二酸化炭素の混合ガスを用い、273K、0.1MPaにおける分離性能を測定した。結果を表1に示す。<実施例5>合成例2で得た金属錯体について、容量比でメタン:二酸化炭素=25:75からなるメタンと二酸化炭素の混合ガスを用い、273K、0.1MPaにおける分離性能を測定した。結果を表1に示す。<比較例6>比較合成例1で得た金属錯体について、容量比でメタン:二酸化炭素=25:75からなるメタンと二酸化炭素の混合ガスを用い、273K、0.1MPaにおける分離性能を測定した。結果を表1に示す。<比較例7>比較合成例2で得た金属錯体について、容量比でメタン:二酸化炭素=25:75からなるメタンと二酸化炭素の混合ガスを用い、273K、0.1MPaにおける分離性能を測定した。結果を表1に示す。表1より、本発明の金属錯体は高い二酸化炭素選択吸着能を有するので、メタンと二酸化炭素の分離材として優れていることは明らかである。本明細書において、CO2選択率とは、吸着した全ガス中に占める二酸化炭素の割合と定義する。<実施例6>合成例2で得た金属錯体について、メタン及びエタンの273Kにおける吸脱着等温線を容量法により測定した結果を図22に示す。<比較例8>比較合成例1で得た金属錯体について、メタン及びエタンの273Kにおける吸脱着等温線を容量法により測定した結果を図23に示す。<比較例9>比較合成例3で得た金属錯体について、メタン及びエタンの273Kにおける吸脱着等温線を容量法により測定した結果を図24に示す。図22と図23~24の比較より、本発明の金属錯体はエタンを選択的に吸着し、かつその脱着を0.1MPa常圧で行うことができ、0.1MPa以下に減圧する必要がないため、再生に要するエネルギーが少なくて済む。そのため、エタンとメタンの分離材として優れていることは明らかである。"