"プロセスガスが供給され、レーザ光により該プロセスガスを光化学反応させる光透過性反応用容器と、前記光透過性反応用容器の外側に、該光透過性反応用容器を囲むように配置され、前記レーザ光を反射する金属ミラーと、前記光透過性反応用容器、前記金属ミラー、及び極低温液体を収容可能な構成とされ、前記極低温液体により、前記金属ミラーの温度を極低温に保持するクライオスタットと、を有する光化学反応装置。前記金属ミラーの温度が、100K以下であることを特徴とする請求項1記載の光化学反応装置。前記光透過性反応用容器と前記金属ミラーとの間に、第1の真空断熱空間を有することを特徴とする請求項1または2記載の光化学反応装置。前記金属ミラーを構成する金属が、金、銀、銅、アルミニウムのうちのいずれか1つであることを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記金属の純度が、99.9999以上であることを特徴とする請求項4記載の光化学反応装置。前記金属ミラーが、金属膜であることを特徴とする請求項1ないし5のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記光透過性反応用容器は、石英ガラスまたはアクリル樹脂よりなることを特徴とする請求項1ないし6のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記プロセスガスに、前記レーザ光を照射するレーザ光導波部材を有することを特徴とする請求項1ないし7のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記金属ミラーを構成する金属と同じ種類で、かつ前記金属ミラーを構成する金属よりも純度の低い金属よりなり、前記クライオスタットに収容されると共に、前記光透過性反応用容器を収容する金属容器を有し、前記金属ミラーを、前記金属容器の内面を覆うように配置したことを特徴とする請求項1ないし8のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記クライオスタットに収容され、前記光透過性反応用容器を収容すると共に、前記レーザ光を透過する第1の石英ガラス容器を有し、前記金属ミラーを、前記第1の石英ガラス容器の内面、または前記第1の石英ガラス容器の外面を覆うように配置したことを特徴とする請求項1ないし8のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記第1の石英ガラス容器は、純度99以上、かつ光透過損失0.1dB/m以下の高純度の石英ガラスよりなることを特徴とする請求項10記載の光化学反応装置。前記レーザ光導波部材を、前記光透過性反応用容器内に配置したことを特徴とする請求項8または9記載の光化学反応装置。前記レーザ光導波部材を、前記第1の真空断熱空間に配置したことを特徴とする請求項8ないし11のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記レーザ光導波部材は、光ファイバであることを特徴とする請求項8ないし13のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記光透過性反応用容器の外壁に、ヒータ線を巻きつけたことを特徴とする請求項1ないし14のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記光透過性反応用容器と前記金属ミラーとの間に、前記レーザ光を透過させ、かつ前記光透過性反応用容器を囲む第2の石英ガラス容器を設け、前記光透過性反応用容器と前記第2の石英ガラス容器との間に、前記第1の真空断熱空間を配置したことを特徴とする請求項9記載の光化学反応装置。前記レーザ光導波部材を、前記第2の石英ガラス容器の外側に配置することを特徴とする請求項16記載の光化学反応装置。前記第2の石英ガラス容器は、純度99以上、かつ光透過損失0.1dB/m以下の高純度の石英ガラスよりなることを特徴とする請求項16または17記載の光化学反応装置。前記光透過性反応用容器は、純度99以上、かつ光透過損失0.1dB/m以下の高純度の石英ガラスよりなることを特徴とする請求項1ないし18のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記クライオスタットは、前記極低温液体を収容する第1の容器と、該第1の容器を収容する第2の容器と、前記第1の容器と第2の容器との間に設けられた第2の真空断熱空間と、を有することを特徴とする請求項1ないし19のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。前記第1の容器と接続され、前記極低温液体を再液化させる再液化装置を有することを特徴とする請求項20記載の光化学反応装置。前記極低温液体が、液体ヘリウムであることを特徴とする請求項1ないし21のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置。請求項1ないし22のうち、いずれか1項記載の前記光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法であって、前記プロセスガスとしてO3とCF4との混合ガスを、前記光透過性反応用容器内に供給し、その後、前記混合ガスに前記レーザ光を照射して光化学反応させることで、酸素同位体17Oまたは18Oを含む前記O3を選択的に光分解させることを特徴とする光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法。前記光分解させる際の前記レーザ光の波長領域が、500nm以上であることを特徴とする請求項23記載の光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法。前記光分解させる際の前記レーザ光の波長領域が、700~1500nmであることを特徴とする請求項23記載の光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法。ところで、多重反射方式の光化学反応セルについて考えると、ミラーの反射率が0.90程度では、反射を10回5往復させると、最終光強度は0.9010=0.35であり、ミラーにおける光損失は65となることから、光の利用効率をあまり大きくできないという問題がある。例えば、室温例えば、20°Cにおいて、波長1000nmにおける金ミラーの反射率は、0.98であり、室温では大きな反射回数をとれない反射回数50回での最終光強度は、0.9850=0.36。また、反射回数が1000回以上でも光損失が小さいようにするためには、反射率は0.999以上を必要とするこの場合の最終光強度は、0.9991000=0.37。例えば、反射率が0.9999で反射回数を10000回とした場合、最終光強度は0.999910000=0.37となり、1回反射するまでの平均光路長を1mとすると、全光路長は10000m以上となる。誘電体多層膜は、0.9999以上の高い反射率を有するが、入射角が大きいと反射率が低下する問題がある。そのため、多重反射方式の光化学反応装置に誘電体多層膜を適用するためには、レーザの入射方法や光軸調整など難しい課題を有する。例えば、キャビティーリングダウン分光分析に使用される誘電体多層膜は、0.9999以上の高い反射率を有する。しかし、初めに誘電体多層膜に光を透過させて入射させる方式をとる場合、透過率は数以下であるため、透過損失が大きく、分光分析には使用できるが光化学反応には向いていない。このように、従来技術では高い反射率をもつミラーの種類が限られており、全光路長を長くする方法、すなわち光化学反応におけるレーザ光の利用効率を高める方法が限られていた。そこで、本発明は、光化学反応におけるレーザ光の利用効率を高めることの可能な光化学反応装置、及び光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するため、請求項1に係る発明によれば、プロセスガスが供給され、レーザ光により該プロセスガスを光化学反応させる光透過性反応用容器と、前記光透過性反応用容器の外側に、該光透過性反応用容器を囲むように配置され、前記レーザ光を反射する金属ミラーと、前記光透過性反応用容器、前記金属ミラー、及び極低温液体を収容可能な構成とされ、前記極低温液体により、前記金属ミラーの温度を極低温に保持するクライオスタットと、を有する光化学反応装置が提供される。また、請求項2に係る発明によれば、前記金属ミラーの温度が、100K以下であることを特徴とする請求項1記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項3に係る発明によれば、前記光透過性反応用容器と前記金属ミラーとの間に、第1の真空断熱空間を有することを特徴とする請求項1または2記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項4に係る発明によれば、前記金属ミラーを構成する金属が、金、銀、銅、アルミニウムのうちのいずれか1つであることを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項5に係る発明によれば、前記金属の純度が、99.9999以上であることを特徴とする請求項4記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項6に係る発明によれば、前記金属ミラーが、金属膜であることを特徴とする請求項1ないし5のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項7に係る発明によれば、前記光透過性反応用容器は、石英ガラスまたはアクリル樹脂よりなることを特徴とする請求項1ないし6のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項8に係る発明によれば、前記プロセスガスに、前記レーザ光を照射するレーザ光導波部材を有することを特徴とする請求項1ないし7のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項9に係る発明によれば、前記金属ミラーを構成する金属と同じ種類で、かつ前記金属ミラーを構成する金属よりも純度の低い金属よりなり、前記クライオスタットに収容されると共に、前記光透過性反応用容器を収容する金属容器を有し、前記金属ミラーを、前記金属容器の内面を覆うように配置したことを特徴とする請求項1ないし8のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項10に係る発明によれば、前記クライオスタットに収容され、前記光透過性反応用容器を収容すると共に、前記レーザ光を透過する第1の石英ガラス容器を有し、前記金属ミラーを、前記第1の石英ガラス容器の内面、または前記第1の石英ガラス容器の外面を覆うように配置したことを特徴とする請求項1ないし8のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項11に係る発明によれば、前記第1の石英ガラス容器は、純度99以上、かつ光透過損失0.1dB/m以下の高純度の石英ガラスよりなることを特徴とする請求項10記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項12に係る発明によれば、前記レーザ光導波部材を、前記光透過性反応用容器内に配置したことを特徴とする請求項8または9記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項13に係る発明によれば、前記レーザ光導波部材を、前記第1の真空断熱空間に配置したことを特徴とする請求項8ないし11のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項14に係る発明によれば、前記レーザ光導波部材は、光ファイバであることを特徴とする請求項8ないし13のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項15に係る発明によれば、前記光透過性反応用容器の外壁に、ヒータ線を巻きつけたことを特徴とする請求項1ないし14のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項16に係る発明によれば、前記光透過性反応用容器と前記金属ミラーとの間に、前記レーザ光を透過させ、かつ前記光透過性反応用容器を囲む第2の石英ガラス容器を設け、前記光透過性反応用容器と前記第2の石英ガラス容器との間に、前記第1の真空断熱空間を配置したことを特徴とする請求項9記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項17に係る発明によれば、前記レーザ光導波部材を、前記第2の石英ガラス容器の外側に配置することを特徴とする請求項16記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項18に係る発明によれば、前記第2の石英ガラス容器は、純度99以上、かつ光透過損失0.1dB/m以下の高純度の石英ガラスよりなることを特徴とする請求項16または17記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項19に係る発明によれば、前記光透過性反応用容器は、純度99以上、かつ光透過損失0.1dB/m以下の高純度の石英ガラスよりなることを特徴とする請求項1ないし18のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項20に係る発明によれば、前記クライオスタットは、前記極低温液体を収容する第1の容器と、該第1の容器を収容する第2の容器と、前記第1の容器と第2の容器との間に設けられた第2の真空断熱空間と、を有することを特徴とする請求項1ないし19のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項21に係る発明によれば、前記第1の容器と接続され、前記極低温液体を再液化させる再液化装置を有することを特徴とする請求項20記載の光化学反応装置が提供される。また、請求項22に係る発明によれば、前記極低温液体が、液体ヘリウムであることを特徴とする請求項1ないし21のうち、いずれか1項記載の光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法が提供される。また、請求項23に係る発明によれば、請求項1ないし22のうち、いずれか1項記載の前記光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法であって、前記プロセスガスとしてO3とCF4との混合ガスを、前記光透過性反応用容器内に供給し、その後、前記混合ガスに前記レーザ光を照射して光化学反応させることで、酸素同位体17Oまたは18Oを含む前記O3を選択的に光分解させることを特徴とする光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法が提供される。また、請求項24に係る発明によれば、前記光分解させる際の前記レーザ光の波長領域が、500nm以上であることを特徴とする請求項23記載の光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法が提供される。また、請求項25に係る発明によれば、前記光分解させる際の前記レーザ光の波長領域が、700~1500nmであることを特徴とする請求項23記載の光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法が提供される。本発明の光化学反応装置、及び光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法によれば、極低温液体を用いて金属ミラーが極低温となるように冷却することで、金属ミラーのレーザ光の反射率を高めることが可能となる。これにより、光化学反応におけるレーザ光の利用効率を高めることができる。赤外及び近赤外における金属の反射率は、下記3式に示すHagen-Rubensの式で求められる。上記3式において、Rは反射率、εは真空の誘電率[F/m]、cは光速度[m/s]、λは光の波長[m]、ρは電気比抵抗Ωmである。ところで、波長λが一定のレーザ光について上記3式は、下記4式で表すことができる。ここで、上記4式において、右辺第2項は渦電流損eddycurrentlossに当り、比抵抗が小さいほど反射率は大きくなる。光は電磁波であり、金属表面で光の磁場変化を打ち消すように渦電流が発生し、電気抵抗=比抵抗×長さ/断面積によりエネルギー損失が起きる。完全伝導体超伝導体ではなく仮想的な物質では渦電流損はゼロで、全反射するR=1。例えば、純度の高い銅は、室温例えば、20°Cで比抵抗ρ≒10-8Ωmであり、波長λを1000nmとすると上記3式の右辺第2項は、0.0364となる。ゆえに、反射率Rは、下記5式に示す値となる。図1は、室温例えば、20°Cにおける金、銀、銅の反射率と波長との関係を示す図である。なお、図1は、理科年表データを引用したものである。図1を参照するに、波長が800nm以上の領域において、比抵抗は銀<銅<金の順であり、反射率は銀>銅>金の順となっており、上記4式が成立している。比抵抗ρは、下記6式で表され、Matthiessenの法則でもよい。また、レーザ光導波部材25から照射されたレーザ光の広がり角や光軸を気にする必要が無く、照射されたレーザ光の大半は、反射回数により減衰するため、極限まで多重反射させることで、光化学反応に利用できる。金属ミラー19としては、例えば、CVDChemicalVaporDeposition法、めっき法、コーティング法、及び蒸着法等の方法により形成された金属膜具体的には、金膜、銀膜、銅膜、アルミニウム膜等を用いることができる。金属ミラー19として金属膜を非金属表面にコーティングする場合、該金属膜の厚さは、例えば、0.02~10μmとすることができる。また、金属ミラー19として金属膜を金属表面にコーティングする場合、該金属膜の厚さは、例えば、20nm~1mm或いは1mm以上とすることができる、光透過性反応用容器21は、管状部35と、反応室36と、を有する。管状部35は、貫通部15Aに固定されており、金属容器16の内部に延在している。管状部35の内径は、反応室36の内径よりも狭くなるように構成されている。管状部35は、一方の端部は、プロセスガスを供給するプロセスガス供給装置図示せずと接続されており、他方の端部が反応室36と接続されている。反応室36は、金属ミラー19に対して隙間を介在させた状態で、金属容器16内に収容されている。反応室36は、管状部35と一体に構成されている。反応室36では、管状部35を介してプロセスガスが供給された際、レーザ光によりプロセスガスを光化学反応させる。光透過性反応用容器21の材料としては、純度99以上、かつ光透過損失0.1dB/m以下の高純度の石英ガラス、或いは、アクリル樹脂を用いるとよい。第1の真空断熱空間23は、光透過性反応用容器21と金属ミラー19との間に設けられている。第1の真空断熱空間23は、真空とされた空間である。このように、光透過性反応用容器21と金属ミラー19との間に、第1の真空断熱空間23を設けることで、極低温液体12により光透過性反応用容器21が冷却されにくくすることが可能となる。これにより、光透過性反応用容器21内に供給されたプロセスガスが固化することを抑制できる。ヒータ線24は、反応室36の外壁36aに巻きつけられている。このように、反応室36の外壁36aにヒータ線24を巻きつけることで、反応室36を加熱することが可能となるので、反応室36内の温度を光化学反応に適した温度に調整することができる。レーザ光導波部材25は、管状部35、及び反応室36の上部に配置されている。レーザ光導波部材25は、その先端25Aにレーザ光を照射するレーザ照射面25aを有する。ここで、レーザ光導波部材25とは、レンズミラー等により構成された光学システム機器であって、レーザ光を光透過性反応用容器21に導入するためのものである。また、このレーザ光導波部材25としては、光ファイバが好適である。なお、図1では、一例として、レーザ照射面25aからレーザ光が広がった状態で照射される場合を図示したが、レーザ光導波部材25の先端25Aにレンズ図示せずを配置することで、レーザ光を平行光にしてもよい。再液化装置26は、クライオスタット11の外部に設けられている。再液化装置26は、クライオスタット11の側壁を貫通し、かつ第1の容器31内の空間31Aと接続された管路27と接続されている。再液化装置26は、蒸発した極低温液体12をパルスチューブ式冷凍機あるいはギフォードマクマホン式冷凍機などで冷却して再液化して極低温液体12へ戻す装置である。このように、第1の容器31内に収容された極低温液体12を再液化させる再液化装置26を設けることにより、連続して極低温液体12を冷却することが可能となるので、金属ミラー19の温度を安定して極低温に保つことができる。第1の実施の形態の光化学反応装置によれば、プロセスガスが供給され、レーザ光によりプロセスガスを光化学反応させる光透過性反応用容器21と、光透過性反応用容器21の外側に、光透過性反応用容器21を囲むように配置され、かつレーザ光を反射する金属ミラー19と、金属容器16、金属ミラー19、光透過性反応用容器21、及び極低温液体12を収容可能な構成とされ、極低温液体12により、金属ミラー19の温度を極低温100K以下の温度に保持するクライオスタット11と、を有することにより、金属ミラー19のレーザ光の反射率を高めることが可能となる。これにより、光化学反応におけるレーザ光の利用効率を高めることができる。また、極低温液体12として液体ヘリウム温度4.2Kを用い、液体ヘリウムの温度に近い温度まで金属ミラー19を冷却することにより、0.9999以上の高い反射率Rを実現可能となるので、光化学反応におけるレーザ光の利用効率を極限まで高めることができる。ここで、図1を参照して、上記構成とされた光化学反応装置10を用いた同位体濃縮方法について説明する。始めに、プロセスガスとしてCF4とオゾンO3との混合ガスを光透過性反応用容器21の反応室36に供給する。次いで、レーザ光導波部材25により、反応室36内に供給された混合ガスにレーザ光を照射して、光化学反応により、オゾン中に含まれる酸素同位体である17Oまたは18Oを含むオゾンのアイソトポローグを選択的に酸素に光分解させる。このとき、先に説明したように、極低温100K以下に冷却された金属ミラー19を用いてレーザ光を反射することで、レーザ光の反射率が高められるので、光化学反応におけるレーザ光の利用効率を高めることができる。光化学反応を行なう際に光ファイバを用いてレーザ光を導入する場合、レーザ光の波長領域は、光ファイバの光損失が小さい500~1500nmが最適である。また、光ファイバを使用しない場合は、反射鏡やレンズを用いてレーザ光を導入するが、この場合、レーザ光の波長領域は、金属ミラー19の反射率が高い800nm以上を用いる。また、オゾンとCF4との混合ガスをプロセスガスとして光化学反応を行なう際のレーザ光の波長領域は、WulfBandと呼ばれる700~1200nmが好ましい。このように、レーザ光の波長領域を700~1200nmとすることで、酸素同位体17Oまたは18Oを含むオゾンを選択的に分解できるという効果を得ることができる。その後、混合ガス中の酸素を、未分解のオゾン及びCF4から分離させ、分離させた酸素中に酸素同位体である17Oまたは18Oを濃縮させる。第1の実施の形態の光化学反応装置を用いた同位体濃縮方法によれば、極低温100K以下に冷却された金属ミラー19によりレーザ光を反射する光化学反応装置10を用いて、オゾンO3とCF4とを混合した混合ガスをプロセスガスとして光透過性反応用容器21の反応室36に供給し、その後、該混合ガスにレーザ光を照射して、酸素同位体17Oまたは18Oを含むオゾンを選択的に光分解させることで、光化学反応におけるレーザ光の利用効率を高めた上で、酸素同位体17Oまたは18Oを濃縮させることができる。第2の実施の形態図4は、本発明の第2の実施の形態に係る光化学反応装置の概略構成を示す断面図である。図4において、図3に示す第1の実施の形態の光化学反応装置10と同一構成部分には同一符号を付す。図4を参照するに、第2の実施の形態の光化学反応装置40は、第1の実施の形態の光化学反応装置10の構成に、ガス供給管41を設けると共に、レーザ光導波部材25を第1の真空断熱空間23光透過性反応用容器21と金属ミラー19との間に配置し、さらに光化学反応装置10に設けられたヒータ線24を構成要素から除いた以外は、光化学反応装置10と同様に構成される。ガス供給管41は、鉛直方向に延在しており、光透過性反応用容器21内に配置されている。ガス供給管41は、プロセスガスを供給するプロセスガス供給源図示せずと接続されている。ガス供給管41の先端41A反応室36内にプロセスガスを供給する部分は、反応室36の底部に配置されている。第2の実施の形態の光化学反応装置40では、ガス供給管41と管状部35との隙間からガスを排出する。これにより、第2の実施の形態では、プロセスガスを連続的に流通させることが可能であり、光化学反応の連続処理を行なうことができる。また、プロセスガスの導入時の温度を設定することにより、反応室36の温度を制御できる。第2の実施の形態の光化学反応装置によれば、光透過性反応用容器21と金属ミラー19との間に設けられた第1の真空断熱空間23にレーザ光導波部材25を配置することで、プロセスガスがレーザ光導波部材25と接触することがなくなるため、レーザ光導波部材25に起因するプロセスガスの汚染を防止できる。また、第2の実施の形態の光化学反応装置40は、第1の実施の形態の光化学反応装置10と同様な効果を得ることができる。具体的には、金属ミラー19のレーザ光の反射率を高めることが可能となるので、光化学反応におけるレーザ光の利用効率を高めることができる。また、第2の実施の形態の光化学反応装置40を用いた同位体濃縮方法は、第1の実施の形態で説明した光化学反応装置10を用いた同位体濃縮方法と同様な手法により行なうことができ、また、光化学反応装置10を用いた同位体濃縮方法と同様な効果を得ることができる。なお、第2の実施の形態の光化学反応装置40において、図1に示すヒータ線24を設けてもよい。第3の実施の形態図5は、本発明の第3の実施の形態に係る光化学反応装置の概略構成を示す断面図である。図5において、図4に示す第2の実施の形態の光化学反応装置40と同一構成部分には同一符号を付す。図5を参照するに、第3の実施の形態の光化学反応装置45は、第2の実施の形態の光化学反応装置40に設けられた金属容器16に替えて、第1の石英ガラス容器46を設けた以外は、光化学反応装置40と同様に構成される。第1の石英ガラス容器46は、クライオスタット11に収容されると共に、光透過性反応用容器21を収容している。第1の石英ガラス容器46は、レーザ光を透過し、かつ純度99以上、かつ光透過損失0.1dB/m以下の高純度の石英ガラスよりなる。第1の石英ガラス容器46を構成する石英ガラスは、金属容器16を構成する金属例えば、金、銀、銅、アルミニウム等と比較して熱容量が小さくすることができる。金属ミラー19は、第1の石英ガラス容器46の内面46aを覆うように設けられている。本実施の形態の場合、金属ミラー19としては、コーティング法または蒸着法により形成された金属膜例えば、純度が99.9999以上とされた金膜、銀膜、銅膜、アルミニウム膜等を用いることができる。該金属膜の厚さは、例えば、0.02~10μmとすることができる。第3の実施の形態の光化学反応装置によれば、金属容器16に替えて、光透過性反応用容器21を収容する第1の石英ガラス容器46を設けることにより、石英ガラスは金属と比較して熱容量が小さいため、極低温液体12により金属ミラー19を効率よく冷却することができる。また、第1の石英ガラス容器46の内面46aに金属ミラー19を設けることにより、第1の石英ガラス容器46と金属ミラー19との熱膨張係数の違いによる引張応力を小さくすることが可能となるので、金属ミラー19の反射率Rの低下を抑制できる。なお、第3の実施の形態の光化学反応装置45を用いた同位体濃縮方法は、第1の実施の形態で説明した光化学反応装置10を用いた同位体濃縮方法と同様な手法により行なうことができる。また、第3の実施の形態の光化学反応装置45において、図1に示すヒータ線24を設けてもよい。図6は、本発明の第3の実施の形態の変形例に係る光化学反応装置の概略構成を示す断面図である。図6において、図5に示す第3の実施の形態の光化学反応装置45と同一構成部分には同一符号を付す。図6を参照するに、第3の実施の形態の変形例に係る光化学反応装置50は、第3の実施の形態の光化学反応装置45に設けられた金属ミラー19を、第1の石英ガラス容器46の外面46bを覆うように設けた以外は、光化学反応装置45と同様に構成される。このような構成とされた第3の実施の形態の変形例に係る光化学反応装置50は、光透過性反応用容器21を収容する第1の石英ガラス容器46を有することにより、極低温液体12により金属ミラー19を効率よく冷却することができる。なお、第3の実施の形態の変形例に係る光化学反応装置50を用いた同位体濃縮方法は、第1の実施の形態で説明した光化学反応装置10を用いた同位体濃縮方法と同様な手法により行なうことができる。また、第3の実施の形態の変形例に係る光化学反応装置50において、図1に示すヒータ線24を設けてもよい。第4の実施の形態図7は、本発明の第4の実施の形態に係る光化学反応装置の概略構成を示す断面図である。図7において、図4に示す第2の実施の形態の光化学反応装置40と同一構成部分には同一符号を付す。図7を参照するに、第4の実施の形態の光化学反応装置55は、第2の実施の形態の光化学反応装置40の構成に第2の石英ガラス容器57を設け、レーザ光導波部材25の一部を空間31Aに配置し、光化学反応装置40に設けられた金属容器16に替えて金属容器61を設け、さらに、光化学反応装置40に設けられた環状部材15及びフランジ17を構成要素から除いた以外は、光化学反応装置40と同様に構成される。第2の石英ガラス容器57は、光透過性反応用容器21と金属ミラー19との間に設けられている。第2の石英ガラス容器57は、光透過性反応用容器21を囲むように配置されている。第2の石英ガラス容器57は、レーザ光を透過させる。第2の石英ガラス容器57は、純度99以上、かつ光透過損失0.1dB/m以下の高純度の石英ガラスにより構成されている。第4の実施の形態の光化学反応装置55では、光透過性反応用容器21と第2の石英ガラス容器57との間に、第1の真空断熱空間23が設けられている。また、第2の石英ガラス容器57と金属ミラー19との間の空間は、真空とされていない。金属容器61は、第2の石英ガラス容器57を囲むように第1の容器31に固定されている固定方法については図示せず。金属容器61には、金属容器61の外側から第2の石英ガラス容器57と金属ミラー19との間に設けられた空間に、レーザ光導波部材25の先端25Aを配置するための貫通部62が設けられている。レーザ光導波部材25は、第2の石英ガラス容器57の外側に配置されている。金属容器61の材料としては、第2の実施の形態で説明した金属容器16と同じ金属を用いることができる。第4の実施の形態の光化学反応装置によれば、光透過性反応用容器21を囲む第2の石英ガラス容器57を設けると共に、光透過性反応用容器21と第2の石英ガラス容器57との間に第1の真空断熱空間23を配置することにより、金属容器61内を真空にする必要がなくなる。言い換えれば、金属容器61内を気密する必要がない。これにより、複数の分割された部材を組み立てることで、金属容器61を構成することができる。なお、図7には、図示していないが、レーザ光導波部材25である光ファイバを一定の温度で使用するための断熱ジャケットを配置する空間を十分に確保することができる。また、光ファイバを用いることなく、直接レーザ照射装置図示せずからのレーザ光を光透過性反応用容器21に照射することも可能である。この場合、金属容器61及びクライオスタット11に、レーザ光を照射するための窓レーザ光を透過可能な窓及びレーザ光を反射するミラー等を適宜設ける。また、第4の実施の形態の光化学反応装置55において、図1に示すヒータ線24を設けてもよい。以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形変更が可能である。例えば、第1~第4の実施の形態で説明した光化学反応装置10,40,45,50,55では、レーザ光導波部材25として1つの光ファイバを用いる場合を例に挙げて説明したが、複数本の光ファイバを設けてもよい。実施例第4の実施の形態の光化学反応装置55連続的に光化学反応を起こさせる装置を用いると共に、プロセスガスとしてオゾンO3とCF4とを混合した混合ガスを用いてオゾン分子中の酸素同位体17Oを濃縮する際のプロセス計算例を表1に示す。なお、表1に記載のプロセス計算例は、先に説明した特許文献2特開2006-272090号公報における酸素同位体濃縮プロセスについてのものである。表1には、高純度酸素を原料として16O、17O、18Oは天然存在比の濃度、2度のレーザ光により光化学反応を行う2段濃縮を行ったときの1段目、2段目、及び総合結果を示す。原料酸素はオゾナイザーにより、オゾン-酸素系ガスに変換し、CF4を導入した蒸留塔へ導入させた後、当該蒸留塔の底でオゾン-CF4系ガスとして導出させた。このオゾン-CF4系ガスが本発明のプロセスガスとなる。光透過性反応用容器21では、17Oが濃縮され、最終的に製品となる酸素中の17Oは、10atom以上に濃縮された。なお、17Oを含むオゾンアイソトポローグ16O16O17Oのターゲット吸収波長は約1000nmにあり、レーザ光導波部材25である光ファイバが低損失で使用できる波長領域にある。これは使用する光ファイバが容易に入手可能であり、レーザ光の損失を極力小さくして光化学反応を行うことができる点で重要である。また、第2及び第3の実施の形態で説明した光化学反応装置40,45,50連続的に光化学反応を起こさせる装置を用いて、プロセスガスとしてオゾンO3とCF4とを混合した混合ガスを用いてオゾン分子中の酸素同位体17Oを濃縮した場合も表1に示すような結果となる。"