"光源からの照明光を、所定の被照射面に照射するための照明光学装置であって、前記被照射面の所定の一点上に照射される前記照明光の実効入射角度を、前記被照射面内の第1の方向より、前記第1の方向と直交する第2の方向に関して大きい値とするとともに、前記被照射面に照射される前記照明光の形状を、所定の形状に制限する視野絞りを有することを特徴とする照明光学装置。前記第1の面上の所定の一点に照射する前記照明光の実効入射角度の範囲が、前記第1の方向については2[mrad]以下であり、前記第2の方向については2[mrad]より大きいことを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。前記第1の面上の所定の一点に照射する前記照明光の実効入射角度の範囲が、前記第1の方向については1[mrad]以下であり、前記第2の方向については5[mrad]より大きいことを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。前記視野絞りは、前記被照射面の近傍、または前記被照射面に対して共役な面もしくはその近傍に配置されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の照明光学装置。前記被照射面に照射される前記照明光の形状は、前記第1の方向の位置によって前記第2の方向の幅が変化するもの、前記第2の方向の位置によって前記第1の方向の幅が変化するものの、少なくとも一方であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の照明光学装置。前記被照射面内における前記照明光の強度分布を概均一化する照明光均一化手段を有することを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の照明光学装置。前記照明光均一化手段は、前記特定の方向に沿ってレンズエレメントが配列される少なくとも一つのフライアイレンズを含むことを特徴とする請求項6に記載の照明光学装置。前記照明光均一化手段は、前記少なくとも一つのフライアイレンズの中の任意の1つのレンズエレメントに入射する照明光を、前記照明光均一化手段中の前記フライアイレンズよりも前記光源側の所定の面内に分布する照明光のうち、前記第1の方向の所定の範囲に分布する照明光に実質的に制限する集光光学系を有することを特徴とする請求項7に記載の照明光学装置。前記照明光均一化手段は、前記少なくとも一つのフライアイレンズの射出側面に形成される複数の2次光源を、実質的に前記特定の方向に平行な線上に配列せしめる2次光源位置補正手段を有することを特徴とする請求項7又は8に記載の照明光学装置。前記被照射面内に照明される前記照明光の前記第1の方向に関する収束発散状態を可変とする収束発散調整機構を有することを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の照明光学装置。前記被照射面に照射する前記照明光の、前記第1の方向の電場成分と前記第2の方向の電場成分との大小関係を規定する偏光制御部材を有することを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載の照明光学装置。前記照明光の時間的可干渉距離は、100μm以下であることを特徴とする請求項1から11のいずれか一項に記載の照明光学装置。光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光するための露光装置であって、請求項1から請求項12のいずれか一項に記載の照明光学装置と、前記基板を前記照明光学装置に対して位置合わせ可能に保持する基板保持機構とを備えることを特徴とする露光装置。電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、請求項13に記載の露光装置を用いることを特徴とする電子デバイス製造方法。上述の従来の露光方法のうち投影露光方法においては、より高解像度を得るには、より短波長の光源と、より高NAの投影光学系が必要になる。しかしながら、現在最先端の露光装置では、露光光の波長は193nmに短波長化されており、今後の一層の短波長化は使用可能なレンズ材料の観点から困難な状況にある。また、現在最先端の投影光学系のNAは0.92程度に達しており、これ以上の高NA化は困難な状況にあるとともに、露光装置の製造コストを大幅に上昇させる原因となる。一方、干渉露光方法は、形成される干渉縞のコントラスを向上し、かつ照明光の進行方向について広範な範囲で高コントラストな干渉縞を得るためには、干渉せしめる光線束の間に高度な空間的可干渉性が要求される。一方、被露光基板上における露光光照度の均一性を確保するためには、被露光基板上に照射される照明光を、ある程度の入射角度範囲をもって入射させることが必要であり、これは一般的には上記の高度な空間的可干渉性と相反し、両者を同時に実現することは困難であった。本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、微細なパターン、具体的には露光光の波長程度以下の微細パターンを、安価に形成可能な照明技術および露光技術を提供することを第1の目的とする。さらに具体的には、本発明は、被加工基板近傍において照明光の進行方向についての広い範囲で高コントラストな干渉縞を得ると同時に、被加工基板面内の広範囲な部分において均一な照明光照度分布を実現可能な照明技術および露光技術を提供することを第2の目的とする。また、本発明は、上記露光技術を用いた電子デバイスの製造方法を提供することをも目的とする。本発明の実施形態には以下の第1、第2、および第3の露光方法の発明、第1および第2の電子デバイス製造方法の発明、ならびに第1、第2、第3、および第4の露光装置の発明が記載されている。すなわち、本発明に関する第1の露光方法の発明は、光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって、その照明光を、第1の方向に周期方向をその第1の方向と直交する第2の方向に長手方向を有する第1の回折格子に照射する工程と、その第1の回折格子からの回折光を、その第1の回折格子からその光源と反対側に第1の実効距離だけ離れて配置され、その第1の方向に周期方向を有する第2の回折格子に照射する工程と、その第2の回折格子からの回折光を、その第2の回折格子からその第1の回折格子と反対側にその第1の実効距離と概等しい第2の実効距離だけ離れて配置されるその感光性の基板上に照射する工程とを含むとともに、その第1の回折格子上の所定の一点に照射するその照明光は、その進行方向が、その第2の方向を含みかつその第1の回折格子に概垂直な特定平面と概一致する複数の照明光を主成分とすることを特徴とするものである。そして、その第1の回折格子に照射するその照明光の主成分のその進行方向の、その特定平面内方向からのずれは、一例として、実効角度として1[mrad]以内であるものとすることもできる。本発明に関する第2の露光方法の発明は、光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって、その照明光を、第1の方向に周期方向をその第1の方向と直交する第2の方向に長手方向を有する第1の回折格子に照射する工程と、その第1の回折格子からの回折光を、その第1の回折格子からその光源と反対側に第1の実効距離だけ離れて配置され、その第1の方向に周期方向を有する第2の回折格子に照射する工程と、その第2の回折格子からの回折光を、その第2の回折格子からその第1の回折格子と反対側にその第1の実効距離と概等しい第2の実効距離だけ離れて配置されるその感光性の基板上に照射する工程とを含むとともに、その第1の回折格子上の所定の一点に照射するその照明光の実効入射角度の範囲が、その第1の方向については2[mrad]以下であり、その第2の方向については2[mrad]より大きいことを特徴とするものである。そしてさらに、その第1の回折格子上の所定の一点に照射するその照明光の実効入射角度の範囲が、その第1の方向については1[mrad]以下であり、その第2の方向については5[mrad]より大きいものとすることもできる。斯かる本発明の第1の露光方法の発明及び第2の露光方法の発明によれば、第1の回折格子と第2の回折格子の周期方向及び長手方向に対して、照明光の入射角度の実効的範囲を最適化したため、感光性の基板上に、コントラスの高いすなわち高解像度の干渉縞を良好な余裕度をもって形成し、これを感光性の基板上に露光することが可能となる。本発明に関する第3の露光方法の発明は、光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって、その照明光を、第1の方向に周期方向をその第1の方向と直交する第2の方向に長手方向を有する第1の回折格子に照射する工程と、その第1の回折格子からの回折光を、その第1の回折格子からその光源と反対側に第1の実効距離だけ離れて配置され、その第1の方向に周期方向を有する第2の回折格子に照射する工程と、その第2の回折格子からの回折光を、その第2の回折格子からその第1の回折格子と反対側にその第1の実効距離と概等しい第2の実効距離だけ離れて配置されるその感光性の基板上に照射する工程とを含むとともに、その第1の回折格子とその基板との間の光路上に、その回折光の透過率がその回折光の進行方向に応じて変化する回折光選択部材を設けることを特徴とするものである。一例として、その回折光選択部材のその透過率は、その回折光のうち、その第1の回折格子または第2の回折格子から小さな射出角度で射出する回折光に対して低く、第1の回折格子またはその第2の回折格子から大きな射出角度で射出する回折光に対して高いものであるとすることができる。斯かる本発明の第3の露光方法の発明によれば、第1の回折格子または第2の回折格子から発生する回折光のうち、所定の進行方向を有する回折光を他の回折光に対して低減することが可能となり、所望の回折光について相対的に優先して感光性の基板上での干渉縞を形成することが可能となる。従って、より高コントラストのより好ましい干渉縞を形成することが可能となり、これを感光性の基板上に露光することが可能となる。本発明の第1の露光方法の発明、第2の露光方法の発明及び第3の露光方法の発明のいずれにおいても、その第1の回折格子は第1の透過性平板のその光源側の表面上またはその近傍に形成されたものであるとすることができる。また、その第2の回折格子は第2の透過性平板のその第1の回折格子側の表面上またはその近傍に形成されたものであるとすることができる。また、その第1の実効距離及びその第2の実効距離は、共に1mm以上かつ15mm以下であることとすることができる。さらに、その第1の実効距離とその第2の実効距離との差を、一例として100μm以下とすることもできる。本発明の第1の露光方法の発明、第2の露光方法の発明及び第3の露光方法の発明のいずれにおいても、その第1の実効距離とその第2の実効距離の少なくとも一方、またはその第1の実効距離とその第2の実効距離との差を、そのその基板上に照明されるその照明光のその第1の方向に関する収束発散状態、およびその基板の伸縮、あるいはさらに所定の条件に応じて決定するものとすることもできる。あるいはまた、その第1の回折格子上に照明されるその照明光のその第1の方向に関する収束発散状態を、その第1の実効距離およびその第2の実効距離、その基板の伸縮、あるいはさらに所定の条件に応じて決定するものとすることもできる。本発明の第1の露光方法の発明、第2の露光方法の発明及び第3の露光方法の発明のいずれにおいても、その各工程を、その第1の回折格子及びその第2の回折格子とその基板とをその第2の方向に相対走査しつつ露光を行なう、走査露光により行なうものとすることもできる。そしてさらに、その基板上にその照明光が照射される領域の形状は、その第1の方向の位置によってその第2の方向の幅が変化するものであるとすることもできる。また、その第2の回折格子とその基板の間の光路を、その露光波長における屈折率が1.2以上の誘電体で満たすものとすることもできる。あるいは、その第1の回折格子とその基板の間の光路を、その露光波長における屈折率が1.2以上の誘電体で満たすものとすることもできる。本発明に関する第1の電子デバイス製造方法の発明は、電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、上記本発明の露光方法のいずれか一つ用いることを特徴とするものである。そして、本発明に関する第2の電子デバイス製造方法の発明は、電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、投影露光装置を用いた投影露光方法と上記本発明の露光方法のいずれか一つとの合成露光を用いることを特徴とするものである。本発明に関する第1の露光装置の発明は、光源からの照明光と第1の回折格子と第2の回折格子とによって生成される干渉パターンを、感光性の基板上に露光するための露光装置であって、その第1の回折格子の周期方向を第1の方向に一致させ、その第1の回折格子の長手方向をその第1の方向と直交する第2の方向に一致させ、その第1の回折格子を第1の面に概一致させて保持する第1保持機構と、その第2の回折格子の周期方向をその第1の方向に一致させ、その第2の回折格子の長手方向をその第2の方向に一致させ、その第2の回折格子をその第1の面からその光源と反対側に第1の実効距離だけ離れた第2の面に概一致させて保持する第2保持機構と、その基板を、その第2の面からその第1の面と反対側にその第1の実効距離と概等しい第2の実効距離だけ離れた第3の面に概一致させて保持する基板保持機構と、その光源からのその照明光をその第1の面に照射するための照明光学系であって、その第1の面内の所定の一点上に照射されるその照明光の主成分を、その進行方向が、その第2の方向を含みかつその第1の面に概垂直な特定平面と概一致する複数の照明光とする照明光学系とを有することを特徴とするものである。そして、その第1の面に照射するその照明光の主成分のその進行方向の、その特定平面内方向からのずれは、一例として、実効角度として1[mrad]以内であるものとすることもできる。本発明に関する第2の露光装置の発明は、光源からの照明光と第1の回折格子と第2の回折格子とによって生成される干渉パターンを、感光性の基板上に露光するための露光装置であって、その第1の回折格子の周期方向を第1の方向に一致させ、その第1の回折格子の長手方向をその第1の方向と直交する第2の方向に一致させ、その第1の回折格子を第1の面に概一致させて保持する第1保持機構と、その第2の回折格子の周期方向をその第1の方向に一致させ、その第2の回折格子の長手方向をその第2の方向に一致させ、その第2の回折格子をその第1の面からその光源と反対側に第1の実効距離だけ離れた第2の面に概一致させて保持する第2保持機構と、その基板を、その第2の面からその第1の面と反対側にその第1の実効距離と概等しい第2の実効距離だけ離れた第3の面に概一致させて保持する基板保持機構と、その光源からのその照明光をその第1の面に照射するための照明光学系であって、その第1の面内の所定の一点上に照射されるその照明光の実効入射角度の範囲を、その第1の方向については2[mrad]以下であり、その第2の方向については2[mrad]より大きい照明光とする照明光学系とを有することを特徴とするものである。そしてさらに、その第1の面上の所定の一点に照射するその照明光の実効入射角度の範囲が、その第1の方向については1[mrad]以下であり、その第2の方向については5[mrad]より大きいものとすることもできる。斯かる本発明の第1の露光装置の発明及び第2の露光装置の発明によれば、第1の回折格子と第2の回折格子の周期方向及び長手方向と、照明光の入射角度の実効的範囲との関係を最適化した状態でその感光性の基板への露光を行なうことができる。このため、その感光性の基板上に、コントラスの高いすなわち高解像度の干渉縞を良好な余裕度をもって形成し、これを感光性の基板上に露光することが可能となる。また、その照明光学系は、その第1の面内におけるその照明光の強度分布を概均一化する照明光均一化手段を有するものとすることもできる。そして、その照明光均一化手段は、一例として、その第2の方向に沿ってレンズエレメントが配列される少なくとも一つのフライアイレンズを含むものとすることもできる。本発明に関する第3の露光装置の発明は、光源からの照明光と第1の回折格子と第2の回折格子とによって生成される干渉パターンを、感光性の基板上に露光するための露光装置であって、その第1の回折格子の周期方向を第1の方向に一致させ、その第1の回折格子の長手方向をその第1の方向と直交する第2の方向に一致させ、その第1の回折格子を第1の面に概一致させて保持する第1保持機構と、その第2の回折格子の周期方向をその第1の方向に一致させ、その第2の回折格子の長手方向をその第2の方向に一致させ、その第2の回折格子をその第1の面からその光源と反対側に第1の実効距離だけ離れた第2の面に概一致させて保持する第2保持機構と、その基板を、その第2の面からその第1の面と反対側にその第1の実効距離と概等しい第2の実効距離だけ離れた第3の面に概一致させて保持する基板保持機構と、その光源からのその照明光をその第1の面に照射するための照明光学系と、その回折光に対する透過率がその回折光の進行方向に応じて変化する回折光選択部材をその第1の面とその第3の面の間の第4の面に概一致させて保持する第3保持機構とを有することを特徴とするものである。本発明に関する第4の露光装置の発明は、光源からの照明光と第1の回折格子と第2の回折格子とによって生成される干渉パターンを、感光性の基板上に露光するための露光装置であって、その第1の回折格子の周期方向を第1の方向に一致させ、その第1の回折格子の長手方向をその第1の方向と直交する第2の方向に一致させ、その第1の回折格子を第1の面に概一致させて保持する第1保持機構と、その第2の回折格子の周期方向をその第1の方向に一致させ、その第2の回折格子の長手方向をその第2の方向に一致させ、その第2の回折格子をその第1の面からその光源と反対側に第1の実効距離だけ離れた第2の面に概一致させて保持する第2保持機構と、その基板を、その第2の面からその第1の面と反対側にその第1の実効距離と概等しい第2の実効距離だけ離れた第3の面に概一致させて保持する基板保持機構と、その光源からのその照明光をその第1の面に照射するための照明光学系と、その第1の面とその第3の面の間に配置され、その回折光に対する透過率がその回折光の進行方向に応じて変化する回折光選択部材とを有することを特徴とするものである。斯かる本発明の第3の露光装置の発明および本発明の第4の露光装置の発明によれば、第1の回折格子または第2の回折格子から発生する回折光のうち、所定の進行方向を有する回折光を他の回折光に対して低減することが可能となり、所望の回折光について相対的に優先して感光性の基板上での干渉縞を形成することが可能となる。従って、より高コントラストのより好ましい干渉縞を形成することが可能となり、これを感光性の基板上に露光することが可能となる。なお、斯かる本発明の第4の露光装置の発明においては、その回折光選択部材のその透過率は、一例として、その回折光選択部材に小さな入射角度で入射する光に対して低く、その回折光選択部材に大きな入射角度で入射する光に対して高いものとすることができる。また、本発明の第1の露光装置の発明、第2の露光装置の発明、第3の露光装置の発明および第4の露光装置の発明のいずれにおいても、その第1の実効距離及びその第2の実効距離を、一例として共に1mm以上かつ15mm以下とすることができる。そしてさらに、その第1の実効距離とその第2の実効距離との差を、一例として100μm以下とすることもできる。あるいはまた、その第1の実効距離とその第2の実効距離の少なくとも一方、またはその第1の実効距離とその第2の実効距離との差を、その第1の面に照明されるその照明光のその第1の方向に関する収束発散状態、およびその基板の伸縮、あるいはさらに所定の条件に応じて決定するものとすることもできる。また、その第1の面に照明されるその照明光のその第1の方向に関する収束発散状態を、その第1の実効距離およびその第2の実効距離、その基板の伸縮、あるいはさらに所定の条件に応じて決定するものとすることもできる。ところで、本発明の第1の露光装置の発明、第2の露光装置の発明、第3の露光装置の発明および第4の露光装置の発明のいずれにおいても、その第1の保持機構及びその第2の保持機構、またはその基板保持機構のいずれか一方は、その第1の回折格子及びその第2の回折格子とその基板との相対位置関係を、その第2の方向に相対移動せしめる走査機構を有するものとすることができる。あるいはまた、その第1の保持機構及びその第2の保持機構、またはその基板保持機構のいずれか一方は、その第1の回折格子及びその第2の回折格子とその基板との、相対位置関係を、その第1の方向に相対移動せしめる移動機構を有するものとすることができる。なお、本発明の第1の露光装置の発明、第2の露光装置の発明、第3の露光装置の発明および第4の露光装置の発明のいずれにおいても、その第2の面とその第3の面の少なくとも一部分を、その露光波長における屈折率が1.2以上の誘電性液体で満たす液体供給機構を有するものとすることもできる。次に、本発明の第1の態様によれば、光源からの照明光を、所定の被照射面に照射するための照明光学装置が提供される。この照明光学装置は、その被照射面の所定の一点上に照射されるその照明光の実効入射角度の範囲を、その被照射面内の第1の方向については2[mrad]以下であり、その被照射面内のその第1の方向と直交する第2の方向については2[mrad]より大きい値とするとともに、その被照射面に照射されるその照明光の形状を、所定の形状に制限する視野絞りを有することを特徴とするものである。また、その第1の面上の所定の一点に照射するその照明光の実効入射角度の範囲を、その第1の方向については1[mrad]以下であり、その第2の方向については5[mrad]より大きいものとすることもできる。また、その被照射面に照射されるその照明光の形状は、その第1の方向の位置によってその第2の方向の幅が変化するものとすることができる。あるいはまた、その被照射面に照射されるその照明光の形状は、その第2の方向の位置によってその第1の方向の幅が変化するものとすることができる。斯かる本発明の照明光学装置の発明は、さらにその被照射面内におけるその照明光の強度分布を概均一化する照明光均一化手段を有するものとすることもできる。そして、その照明光均一化手段は、一例として、その特定の方向に沿ってレンズエレメントが配列される少なくとも一つのフライアイレンズを含むものとすることができる。また、その被照射面内に照明されるその照明光のその第1の方向に関する収束発散状態を可変とする収束発散調整機構を、さらに有するものとすることもできる。また、本発明の第2の態様によれば、光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光するための露光装置であって、本発明の照明光学装置と、その基板をその照明光学装置に対して位置合わせ可能に保持する基板保持機構とを備えることを特徴とする露光装置が提供される。また、本発明の第3の態様によれば、電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、本発明の露光装置を用いることを特徴とする電子デバイス製造方法が提供される。以下、本発明の実施形態について説明する。図1は、本発明の露光装置の第1の実施形態を表わす全体図である。なお、図1中に示したXYZ座標系と、以降の各図で示す座標系とは同一であり、各図中の所定の方向X方向、Y方向、Z方向は、全て同一の方向を示すものである。ArFアルゴンフッ素エキシマーレーザ、KrFクリプトンフッ素エキシマーレーザ、F2フッ素ダイマーレーザ、または波長変換素子を使用する高調波レーザ等の光源1を発した照明光IL1は、第1の光軸AX1に沿って配置される第1のレンズ群を構成するレンズ2,3,4,6により、所定のビームサイズを有する平行光線束平行ビームである照明光IL2に変換される。照明光IL2は、偏光制御素子9により所定の偏光状態に設定され照明光IL3となり、照明光均一化手段の一部を構成する集光光学系10に入射する。そして、集光光学系10を射出した照明光IL5は、照明光均一化手段の一部を構成するフライアイレンズ13等のオプチカルインテグレータに入射する。フライアイレンズ13の射出側面には、必要に応じて開口絞り17が配置される。なお、集光光学系10、フライアイレンズ13、開口絞り17等からなる照明光均一化手段の詳細については後述する。フライアイレンズ13を射出した照明光IL7は、第2の光軸AX2に沿って配置される第2のレンズ群を構成するレンズ19,20,21に入射し、これらのレンズで屈折され照明光IL8となって視野絞り22に達する。視野絞り22については後述する。視野絞り22を透過した照明光は、さらに第2の光軸AX2に沿って配置される第3のレンズ群を構成するレンズ25,26,27により屈折され集光点28に至る。集光点28は、フライアイレンズ13の射出側面と、第2のレンズ群19,20,21及び第3のレンズ群25,26,27を介して共役結像関係となっている。そして、集光点28を通過した照明光IL9は、さらに第4のレンズ群を構成するレンズ29,30,32,35により屈折され照明光IL10となって第1の透光性平板P1に入射する。なお、以上の第1のレンズ群2,3,4,5から第4のレンズ群29,30,32,35に至るまでの照明光IL1~IL10の光路上の光学部材を、以下、照明光学系ISという。この照明光学系ISは、第1の透光性平板P1が配置される面を所定の照射面とする照明光学装置とみることもできる。第1の透光性平板P1の下方-Z方向には、第2の透光性平板P2が設けられる。第2の透光性平板P2は、パターンを形成すべき加工対象である半導体ウエハ等の基板W以降、適宜ウエハともいうに対向して配置される。第1の透光性平板P1には後述する第1の回折格子が形成されており、その第1の回折格子に照明光IL10が照射されることにより発生する回折光は、第2の透光性平板P2に照射される。第2の透光性平板P2には後述する第2の回折格子が形成されており、上記回折光はその第2の回折格子に照射されることになる。そして、第2の回折格子で発生した回折光はウエハWに照射され、ウエハW上に複数の回折光からなる干渉縞による明暗パターンが形成される。ウエハWの表面には、上記明暗パターンを感光し記録するためのフォトレジスト等の感光部材PRを形成しておく。すなわち、ウエハWは感光性の基板とみることができる。ウエハWは、ウエハ定盤50上をXY方向に可動な基板保持機構であるウエハステージ38上に保持され、これによりXY方向に可動となっている。また、ウエハWのX方向の位置はウエハステージ38上に設けられた移動鏡39の位置を介してレーザ干渉計40により計測され、Y方向の位置もウエハステージ38上に設けられた不図示の移動鏡位置を介して不図示のレーザ干渉計により計測される。ウエハマーク検出機構43は、光学顕微鏡からなりウエハW上に形成されている既存の回路パターンあるいは位置合せマークの位置を検出するものであり、ウエハステージ38上に保持されたウエハWは、必要に応じて露光前にウエハステージ38上よりウエハマーク検出機構43の直下に移動され、ウエハW上のパターンまたはマークの位置が検出される。第2の透光性平板P2は、ウエハWと後述する所定の間隔をもって対向して配置するように、第2保持機構37a,37bによって保持される。また、第1の透光性平板P1は、第2の透光性平板P2と後述する所定の間隔をもって対向して配置するように、第1保持機構36a,36bによって保持される。ウエハWの直径は一例として300mmであり、第2の透光性平板P2は一例としてウエハWの表面の全面を覆う直径とする。同様に第1の透光性平板P1も一例として第2の透光性平板P2の表面の全面を覆う直径とする。ただし、後述する様に、第2の透光性平板P2の直径は、ウエハWの直径よりも30mm程度以上大きいことが望ましい。次に、本発明によってウエハW上に形成される干渉縞の明暗パターンについて、図2、図3および図4を用いて説明する。第1の透光性平板P1のZ側すなわち光源1側の表面には、X方向に周期性を有する1次元の位相変調型の回折格子G11が形成されている。ここでX方向は、第1の方向と見ることができる。そして、第2の透光性平板P2のZ側すなわち第1の透光性平板P1側の表面にも、X方向に周期性を有する1次元の位相変調型の回折格子G21が形成されている。まず、これらの回折格子G11,G21について図2を用いて説明する。図2Aは、第1の透光性平板P1をZ側から見た図であり、その表面にはY方向に長手方向を有し、それと直交するX方向に1次元的な周期T1を有する、位相変調型の第1の回折格子G11が形成されている。ここでY方向は、第2の方向と見ることができる。第1の回折格子G11は、いわゆるクロムレス位相シフトレチクルの様に第1の透光性平板P1の表面部分と、当該平板表面をエッチング等により掘り込んだ掘り込み部分図2A中の斜線部からなる。掘り込み部分の深さは、その表面部を透過する照明光と掘り込み部を透過する照明光との間に概ね180度の位相差が形成されるように設定される。両照明光に180度の位相差を形成する場合には、露光光の波長λ,第1の透光性平板P1の屈折率n、任意の自然数mに対し、その掘り込み深さを、式12m-1λ/2n-1とすればよい。また、表面部分と掘り込み部分の幅の比率デューティ比は、概ね1:1とすることが好ましい。ただし、上記位相差及びデューティ比のいずれについても、上記180度及び1:1から異なる値を採用することもできる。図2Bは、第2の透光性平板P2をZ側から見た図であり、その表面第1の透光性平板P1側の面には、Y方向に長手方向を有し、X方向に1次元的な周期T2を有する第2の回折格子G21が形成されている。第2の回折格子G21も、その構造は上述の第1の回折格子G11と同様である。第1の透光性平板P1、第2の透光性平板P2は合成石英等の、紫外線に対する透過性が高く、熱膨張係数線膨張係数が小さく、従って露光光の吸収に伴う熱変形の小さな材料で形成する。その厚さは、自重変形等の変形を防止するために、例えば5mm以上とすることが好ましい。ただし、自重変形等をより一層防止するために、10mm以上の厚さとすることもできる。また、特に光源1としてF2レーザを使用する場合には、フッ素の添加された合成石英を使用することが好ましい。なお、図2A,B中では、説明の便宜上周期T1を第1の透光性平板P1の直径一例として300mm以上の1割程度と表わしているが、実際には周期T1は例えば240nm程度、周期T2は例えば120nm程度であり、第1の透光性平板P1の直径に比して圧倒的に小さい。これは、図2A,B以外の各図においても同様である。以下、図3を用いて、照明光IL10の第1の回折格子G11及び第2の回折格子G21への照射により、ウエハW上に干渉縞の明暗パターンが形成される原理について説明する。図3は、相互に対向して配置された第1の透光性平板P1、第2の透光性平板P2及びウエハWの断面を表わす図である。照明光IL10が照射されると、第1の回折格子G11からはその周期T1に応じた回折光が発生する。第1の回折格子G11が、デューティ比1:1で位相差180度の位相変調型格子であれば、発生する回折光は主に1次回折光LPとー1次回折光LMとなる。ただし、それ以外の次数の回折光も発生する可能性もある。±1次回折光LP,LMの回折角θは、露光光の波長λに対して、式2sinθ=λ/T1により表わされる角である。ただしこれは、±1次回折光LP,LMが第1の透光性平板P1を透過して空気窒素及び希ガスも含む。以下も同様である。中に射出した後の回折角である。すなわち、±1次回折光LP,LMが第1の透光性平板P1中の回折角θは、第1の透光性平板P1の屈折率nを用いて、式3sinθ=λ/n×T1により表わされる角となる。続いて、±1次回折光LP,LMは第2の透光性平板P2上の第2の回折格子G21に入射する。ここで、上述の如く第2の回折格子G21も位相変調型の回折格子であるから、第2の回折格子G21からも主に±1次回折光が発生する。本例においては、第2の回折格子G21の周期T2が第1の回折格子G11の周期T1の半分、すなわちT1=2×T2の条件を満たす。この場合、1次回折光LPの第2の回折格子G21への照射により発生する-1次回折光LP1は、Z方向に対し傾き角θをもって-X方向に傾いて発生する。また、-1次回折光LMの第2の回折格子G21への照射により発生する1次回折光LM1は、Z方向に対し傾き角θをもってX方向に傾いて発生する。なお、第2の回折格子G21によって発生する2次回折光を使用することを前提に、T2=T1である第2の回折格子を使用することもできる。図4に示す如く、上記2本の回折光は、ウエハWの鉛直方向法線方向ZWに対して上記傾き角θを保ってウエハW上に照射され、ウエハWに干渉縞としての明暗パターンIFを形成する。このとき、ウエハW上に形成される干渉縞の明暗パターンIFの周期強度分布の周期T3は、式4T3=λ/2×sinθとなる。これは第1の回折格子G11の周期T1の半分であり、第2の回折格子G21の周期T2に等しい。この明暗パターンIFが、その明暗に応じてウエハWの表面に形成されているフォトレジスト等の感光部材PRを感光し、明暗パターンIFがウエハW上に露光転写される。従って、ウエハW上には、その全面にX方向に周期T3を有するY方向に平行な明暗パターンが形成される。そして、ウエハW上に形成されたフォトレジストPRには、この明暗パターンが照射され露光される。ところで、第2の回折格子G21の周期T2が所定の値より大きい場合には、1次回折光LPの第2の回折格子G21への照射により不図示の1次回折光が発生し、-1次回折光LMの第2の回折格子G21への照射により不図示の-1次回折光が発生することになる。そしてこのような回折光は、不要な回折光として明暗パターンIFのコントラストを低下させることとなる。しかし、周期T1及び周期T2が照明光の波長λ程度またはそれより小さい場合には、1次回折光LPの1次回折光及び-1次回折光LPの-1次回折光の第2の回折格子G21からの射出角の正弦sinは、式2より形式的には1を超えることとなり、すなわちそのような回折光は発生し得ない。このような周期T2の上限値は、式5T2=3λ/2である。また、T1=2×T2より、周期T1の上限値は3λとなる。従って、第1の回折格子G11の周期が3λ以下であれば、上記不要な回折光のウエハWへの照射を防止することができる。ただしこれは、第1の回折格子G11からウエハWまでの光路空間の少なくとも一部が空気によって全面的に満たされている場合の条件であり、後述する様に上記光路空間の全てが実効的に1より大きな屈折率を有する誘電体等の媒質で覆われている場合には、その条件も異なってくる。式3のとおり、媒質の屈折率の増大により回折角が減少するためである。この場合には、第1の回折格子G11からウエハWに至る照明光路上に存在する媒質のうち、最低の屈折率neを有する媒質中における照明光の波長を実効波長λe=λ/neとして、周期T2の上限値は3λe/2、周期T1の上限値は3λeとなる。一方、±1次回折光LP,LMが発生するためには、第1の回折格子G11の周期T1はλe以上でなければならない。この条件を満たさないと、上述の最低の屈折率neを有する媒質中における±1次回折光LP,LMの回折角の正弦が1を超え、±1次回折光LP,LMがウエハWに到達し得なくなるからである。また、T1=2×T2より、第2の回折格子G21の周期T2はλe/2よりも大きくなければならない。続いて、本発明における第1の回折格子G11と第2の回折格子G21の実効距離L1及び第2の回折格子G21とウエハWとの実効距離L2について図5を用いて説明する。上述の如く、±1次回折光LP,LMの進行方向すなわち回折角は、±1次回折光LP,LMが透過する媒質の屈折率により変動する。そして、第1の回折格子G11と第2の回折格子G21の光学的に有効な距離や、第2の回折格子G21とウエハWとの光学的に有効な距離も、これらの間の媒質の屈折率により変動することになる。従って、これらを実際の物理的距離で定義したのでは曖昧であるため、本発明においては、第1の回折格子G11と第2の回折格子G21の間隔、および第2の回折格子G21とウエハWとの間隔について、媒質の屈折率による変動を受けないよう、以下の実効距離を用いて表わすものとする。以下、図5を用いて実効距離について説明する。図5は、第1の回折格子G11が形成された第1の透光性平板P1と、第2の回折格子G21が形成された第2の透光性平板P2とを表わす断面図である。なお、図5中には、上記±1次回折光LP,LMと等価な1次回折光回折光LPA,LPG及び-1次回折光回折光LMA,LMGも示した。ここで、第1の透光性平板P1の厚さはD1であり、第1の透光性平板P1と第2の透光性平板P2の間隔はD2であるので、第1の回折格子G11と第2の回折格子G21の物理的な距離はD1D2である。しかし、第1の回折格子G11と第2の回折格子G21の第1の実効距離L1は、第1の透光性平板P1の厚さD1の空気中換算距離D3と、空気で満たされた第1の透光性平板P1と第2の透光性平板P2の間隔D1との和として定義する。はじめに、空気中換算距離とは以下の距離をいう。第1の回折格子G11上の所定の任意の点である第1の基準点BPから発生した1次回折光LPGは、屈折率nの第1の透光性平板P1中では、第1の基準点BPを通る第1の回折格子G11の法線である第1の基準線BLに対し、式3より求まる回折角θだけ傾いて進行する。しかし、第1の回折格子G11から射出し、屈折率1の空気中に射出した1次回折光LPAは、第1の基準線BLに対し式2より求まる回折角θだけ傾いて進行することとなる。ここで、もし透光性平板P1の屈折率が1であるとして1次回折光LPAの光路を逆に辿った場合の仮想光路LPVを想定すると、仮想光路LPVは透光性平板P1の下面から距離D3だけ上方で第1の基準線BLと交差することになる。従って、厚さD1の屈折率nの透光性平板P1は、空気中で回折角θの方向に進行する回折光に対して、空気中換算でD3の厚さ距離を有することと等価であると考えられる。そこで、D3を透光性平板P1の空気中換算距離と定義する。ここでD1とD3の関係を考察すると、1次回折光LPGが透光性平板P1を射出する点と第1の基準線BLとの距離をD4として、式6D4=D1×tanθ式7D4=D3×tanθが成り立つ。これより、式8D3=D1×tanθ/tanθが得られ、式2,式3を考慮して、式9D3=D1×cosθ/n×cosθが得られる。なお、空気n=1で満たされた空間である第1の透光性平板P1と第2の透光性平板P2の間隔D1の空気中換算距離は、D1に他ならない。従って、第1の回折格子G11と第2の回折格子G21の第1の実効距離L1は、上記D3とD1との和となる。また、第2の回折格子G21とウエハWの第2の実効距離L2についても、上記と同様に実効距離L2を求めることが出来る。この場合、第2の透光性基板P2の空気中換算距離D7は、第1の基準点BPを射出した第1の回折格子G11からの1次回折光LPAが第2の回折格子G21に入射する点を第2の基準点PPとし、第2の基準点PPを通る第2の回折格子G21に対する法線を第2の基準線PLとした場合に、第2の回折格子G21の屈折率を1であると仮定して空気中における-1次回折光LP1Aを遡った場合の光路LP1Vと、上記第2の基準線PLとが交差する点と、第2の透光性基板P2の下面との距離である。そして、第2の透光性平板P2とウエハWの正確にはフォトレジストPRとの間の空間は空気n=1で満たされており、その空気中換算距離はD6そのものである。従って、第2の回折格子G21とウエハWの第2の実効距離L2は、上記D7とD6との和として求められる。以上、1枚の透光性平板P1,P2と空気間隔D2,D6の場合の実効距離の算出方法について説明したが、屈折率が1より大きな媒質を複数個有する場合における実効距離も同様に求めることが出来る。すなわち、各媒質に対してそれぞれ上記の空気中換算距離を求め、その和を求めれれば良い。本発明においては、第1の回折格子G11と第2の回折格子G21の間の第1の実効距離L1と、第2の回折格子G21とウエハWとの間の第2の実効距離L2を、概等しく設定する。これにより、図5に示した如く、第1の回折格子G11上の任意の一点BP上を発した±1次回折光LPLPG,LMLMGを、ウエハWにおいて、第1の基準線BL上の点であるBWに照射させることが可能となる。すなわち、ウエハW上の一点例えばBWに照射される回折光は、第1の回折格子G11上の同一の点例えばBPから発した±1次回折光LP,LMであるから、それらの回折光は必ず干渉し、良好なコントラストをもって干渉縞を形成することが可能となる。ただし、第1の実効距離L1及び第2の実効距離L2は必ずしも正確に一致する必要は無く、ある程度の範囲で一致していれば良い。この第1の実効距離L1と第2の実効距離L2に要求される一致の程度は、第1の透光性平板P1に照射する照明光IL10の入射角度範囲との関係で定まるものである。以下、これについて図6を用いて説明する。図6Aは、図3及び図5と同様に、第1の透光性平板P1、第2の透光性平板P2及びウエハWの断面を表わす図である。また、図6Bは、図4と同様にウエハW上に形成された干渉縞の明暗パターン分布を表わす図であるが、ウエハWのZ位置が第2の実効距離L2が第1の実効距離L1と等しくなるように設定された場合Z=Z0の明暗パターン分布IFa0と、第2の実効距離L2が第1の実効距離L1よりΔZだけ短くなるように設定された場合Z=ZPの明暗パターン分布IFapと、第2の実効距離L2が第1の実効距離L1よりΔZだけ長くなるように設定された場合Z=ZMの明暗パターン分布IFamの、3つの明暗パターン分布を示している。第1の透光性平板P1上の第1の回折格子G11に照射される照明光IL10aが完全に平行な照明光であって、その入射角が0である場合すなわち垂直入射の場合には、ウエハW上に形成される明暗パターン分布IFap,IFa0,IFamの図中X方向の位置は、ウエハWのZ方向によらず、すなわち第1の実効距離L1と第2の実効距離L2の差によらず、変化しない。従って、明暗パターン分布IFap,IFa0,IFamの強度分布のピーク位置は、X=X0で一定である。一方、図6Cは、第1の透光性平板P1上の第1の回折格子G11に照射される完全に平行な照明光IL10bが、回折格子G11の法線方向からX方向に角度φだけ傾いて入射する場合を表わす図である。この場合、各1次回折光LPb,LMb,LP1b,LM1bも照明光IL10bの傾斜に対応して、図6A中の対応する各1次回折光LPa,LMa,LP1a,LM1aに対してそれぞれ傾いた方向に進行することになる。そして、図6Dに示すごとく、ウエハW上に形成される干渉縞の明暗パターン分布のX方向位置も、照射される1次回折光LP1b,LM1bの上記傾斜に対応して、ウエハWのZ位置に対応して変化することとなる。このとき、ウエハWのZ位置が第2の実効距離L2が第1の実効距離L1と等しくなるように設定された場合Z=Z0の明暗パターン分布IFb0の強度分布のピーク位置は、照明光IL10が第1の回折格子G11に垂直入射した場合と同様にX=X0である。しかし、第2の実効距離L2が第1の実効距離L1よりΔZだけ短くなるように設定された場合Z=ZPの明暗パターン分布IFbpの強度分布のピーク位置は、X=X0からδpだけ-X方向にシフトした位置となる。また、第2の実効距離L2が第1の実効距離L1よりΔZだけ長くなるように設定された場合Z=ZMの明暗パターン分布IFbmの強度分布のピーク位置は、X=X0からδmだけX方向にシフトした位置となる。なお、このとき、式10δp=δm=ΔZ×tanφの関係が成り立つ。ところで、第1の回折格子G11に入射する照明光が、上述のX方向に傾いたIL10bだけであるなら、ウエハW上に形成される干渉縞はその位置はX方向にずれるものの、そのコントラストが低下することは無い。しかし、第1の回折格子G11,G12に入射する照明光が、それぞれX方向への傾斜角入射角が異なる複数の進行方向を有する照明光である場合には、それらの照明光により形成される干渉縞の位置も、式9よりそれぞれ異なるものとなり、それらの強度的な重ね合わせにより最終的に形成される干渉縞のコントラストは低下する。従って、このような条件下では、十分なZ方向の余裕度をもってウエハW上に良好なパターンを露光することが難しくなる場合もある。そこで、第1の実効距離L1と第2の実効距離との差以下Z位置差というを所定の値以下とする、すなわちウエハWをZ方向の所定の範囲内に設定するとともに、第1の回折格子G11に照射する照明光IL10のX方向の入射角度範囲を所定の値以下とすることにより、所定のZ方向の範囲内に設定されたウエハW上に対し良好なパターンを露光することを可能とした。上記Z位置差は、一例として30[μm]以下とする。そして、上記X方向の入射角度範囲は、一例として2[mrad]以下とする。このとき、照明光IL10のうちX方向に最大、すなわち1[mrad]傾斜して第1の回折格子G11に入射する照明光により、Z=Z0から30[μm]離れた位置に設定されるウエハW上に生じる干渉縞の明暗パターンIFbpの強度分布のピーク位置δpは、式9より30[nm]となる。一方、照明光IL10のうち-X方向に最大、すなわち-1[mrad]傾斜して第1の回折格子G11に入射する照明光により、上記Z位置に設定されるウエハW上に生じる干渉縞の明暗パターンIFbpの強度分布のピーク位置δpは、式9より-30[nm]となる。照明光IL10の中には、X方向に概垂直に第1の回折格子G11に入射する照明光も含まれるため、上記入射角度範囲及びZ位置差の条件を満たす場合には、これらの照明光により形成される干渉縞の明暗パターンIFの総和強度加算は、その周期T3が150[nm程度以上の明暗パターンについて、良好なコントラストを保ってウエハW上のフォトレジストPRに露光することが可能となる。なお、より微細な周期T3の明暗パターンIFを露光する必要がある場合には、上記入射角度範囲及びZ位置差の条件をより厳しく設定する必要がある。また、形成される明暗パターンIFのコントラストの低下は、式10より、入射角度範囲及びZ位置差の積で決まるものであるから、その積を所定の値以下に設定することが望ましい。この積は、上記条件では、2[mrad]×30[μm]=60[mradμm]であったが、例えばその半分程度に設定すれば、その周期T3が75[nm程度以上の明暗パターンについて、良好なコントラストを保ってウエハW上のフォトレジストPRに露光することが可能となる。これは、一例として、上記X方向の入射角度範囲を1[mrad]以下とし、Z位置差を30[μm]以下とすることで達成できる。あるいは、上記X方向の入射角度範囲をさらに小さな値とすることにより、Z位置差を100[μm]程度にまで緩和することもできる。ところで、照明光IL10の入射角のY方向へ傾斜によっては、ウエハW上における干渉縞IFのY方向位置は変化するものの、第1の回折格子G11及び第2の回折格子G21のXY面内の形状に応じて、干渉縞の明暗パターンIFはY方向に概一様な干渉縞であるから、そのY方向位置変化は、全く問題となるものではない。すなわち、照明光IL10の入射角のY方向へ傾斜によって、干渉縞IFの実質的な位置ずれが生じることも無く、照明光IL10がそれぞれY方向への傾斜角が異なる複数の進行方向を有する照明光である場合であっても干渉縞IFのコントラストの低下は生じない。従って、第1の回折格子G11上の任意の一点に照射される照明光IL10はX方向の入射角度については、上述の通り所定の範囲内であることが必要であるが、Y方向については広範な入射角度範囲を有してよいことになる。これは、換言すれば、第1の回折格子G11の任意の一点上に照射される照明光IL10は、Y方向を含みかつその一点を含む平面以降特定平面という内にそれぞれ異なる進行方向を有する複数の照明光であっても良いことになる。また、X方向の入射角度範囲すなわち進行方向の角度範囲も、上述の通り±1[mrad]程度以内であれば、すなわち角度範囲としては2[mrad]程度以内であれば、上記特定平面からずれていても良い。照明光IL10のY方向の入射角度範囲の上限については特段の制限はないが、第1の回折格子G11の照明光IL10の照度の均一性を向上するためには、Y方向の入射角度範囲を広範に設定することが望ましい。そこで一例として、照明光IL10のY方向の入射角度範囲は2[mrad]より大きいことが望ましい。また、上述の如く照明光IL10のX方向の入射角度範囲を1[mrad]程度以下に制限する場合、第1の回折格子G11の照明光IL10の照度の均一性を確保するために、Y方向の入射角度範囲は5[mrad]より大きく設定することが望ましい。以下、図7及び図8を用いて、このような条件を満たす照明光IL10を実現する照明光均一化手段の実施形態を説明する。図7Cは当該照明光均一化手段をX方向から見た側面図を示し、図7Dは当該照明光均一化手段を-Y方向から見た側面図を示す。本例の照明光均一化手段は、インプットフライアイレンズ11とコンデンサーレンズ12からなる集光光学系10と、遮光性の部材14上にレンズエレメントF1,F2,F3,F4,F5,F6,F7,F8がY方向に沿って一列に配列されるフライアイレンズ13よりなるものである。図7Aはインプットフライアイレンズ11をZ方向から見た図であり、図7Bはフライアイレンズ13をZ方向から見た図である。インプットフライアイレンズ11は、一例として、X方向に8列のレンズエレメントJ1、J2、J3、J4、J5、J6、J7、J8J4からJ7は符号の図示を省略を有し、Y方向にも8列のレンズエレメントK1、K2、K3、K4、K5、K6、K7、K8K5からK7は符号の図示を省略を有する、64個のレンズエレメントからなるものとする。図8Aは、フライアイレンズ13、照明系後群レンズ35a、第1の透光性平板P1、第2の透光性平板P2をX方向から見た図であり、図8Bはこれを-Y方向から見た図である。なお、簡略化のために照明系の各レンズを1枚の総括レンズ35aで表わしているが、その実態は図1中の照明光学系の第2のレンズ群19,20,21,第3のレンズ群25,26,27及び第4のレンズ群29,30,32,35を総括して表わしたものである。インプットフライアイレンズ11に照明光IL2が照射されると、その照明光は後述す如くフライアイレンズ13上の各レンズアレイに照射される。そして、フライアイレンズ13を射出した照明光IL7は、図8A及び図8Bに示す如くレンズ35aに入射する。そして総括レンズ35aで屈折され照明光IL10となって第1の透光性平板P1に入射する。ただし、フライアイレンズ13がY方向に沿って一列に配置された複数のレンズエレメントF1~F8からなるものであるため、照明光IL10の第1の透光性平板P1への入射角度特性は、X方向とY方向とで異なったものとなる。総括レンズ35aは、その入射側焦点面がフライアイレンズ13の射出面と一致し、その射出側焦点面が第1の透光性平板P1の上面Zと一致する様に配置される。従って、総括レンズ35aは、いわゆるフーリエ変換レンズを構成する。フライアイレンズ13の各レンズエレメントを射出した照明光IL7は、総括レンズ35aにより屈折され、照明光IL10となって第1の透光性平板P1上に重畳して照射される。従って、第1の透光性平板P1上の照明光の強度分布は、当該重畳による平均化効果により均一化される。第1の透光性平板P1上に任意の一点IPへの照明光IL10のY方向についての入射角度範囲φは、フライアイレンズ13のY方向への配列に応じて図7Aに示す如き所定の値となる。一方、フライアイレンズ13がX方向については1列しかないことから、X方向についての入射角度範囲を、所定の値以下に設定できる。従って、一点IPへの照明光IL10を、Y方向を含み、かつ一点IPを含む平面すなわち上述の特定平面IPPの面内に進行方向を有し、かつ、その進行方向が互いに平行ではない複数の照明光とすることができる。また、必要に応じて、フライアイレンズ13の射出面に、図8Cに示す如くY方向に長くX方向に狭いスリット状の開口部18を有する開口絞り17を設け、照明光IL10のX方向への進行方向を、特定平面IPPと平行な面内に、より一層限定することもできる。また、この開口絞り17は、フライアイレンズ13の射出面と共役な、図1中の集光点28の位置に設けることもできる。ここで、インプットフライアイレンズ11の構成について詳述する。インプットフライアイレンズ11を構成する各レンズエレメントに入射した照明光IL3は、各レンズエレメントのレンズ作用により集光される。また、各レンズエレメントの射出面には、照明光をY方向に偏向させる、好ましくはブレーズド型のあるいは多段型の回折格子DGが形成されている。ここで、インプットフライアイレンズ11中で同一のX方向配列位置に並ぶレンズエレメント上に形成される回折格子DGは、全て同一の回折角度特性を有するものとしている。従って、Y方向の配列位置K1~K8の各レンズエレメントを射出する照明光は、各レンズエレメントの集光作用及び回折格子DGによるY方向への回折偏向作用を受ける。図7C及び図7D中には、一例としてX方向の配列位置J3で、Y方向の配列位置K3及びK4を射出する照明光IL4a,IL4bこれらを総合してIL4cを示してある。図示した如く照明光IL4a,IL4b,IL4cは、レンズエレメントを射出した後、一旦集光点15a,15b,15cに集光する。そして、その入射側焦点面が当該集光点15a,15b,15cと一致する様に、また、その射出側焦点面がフライアイレンズ13の入射面と一致する様に配置されたコンデンサーレンズ12に入射する。すなわちコンデンサーレンズ12は、いわゆるフーリエ変換レンズを構成する。そして、インプットフライアイレンズ11の各レンズエレメントの入射面と、それに対応するフライアイレンズ13の各レンズエレメントの入射面とは、共役関係結像関係となっている。従って、各レンズエレメントK1~K8を射出した各照明光IL4a,IL4bこれらを総称してIL4cの、フライアイレンズ13への入射位置は、以下の通りとなる。そのX方向位置は、レンズエレメントK1~K8射出時に各照明光IL4cがX方向の偏向角を有しないことから、図7Dに示す如く光軸AX1の近傍に照射される。一方、そのY方向位置は、レンズエレメントK1~K8射出時に各照明光IL4a,IL4bには回折格子DGによりY方向に所定の偏向角が生じていることから、図7Cに示す如くその偏向角に比例した量だけ光軸AX1からY方向に偏心し、従って、レンズエレメントF3に照射されることとなる。上述の通り、X方向の配列位置J3上に配列された各レンズエレメントK1~K8を射出する各照明光のY方向への偏向角は同一であるので、各レンズエレメントK1~K8を射出した照明光は、すべてレンズエレメントF3に重畳して照射されることとなる。そして、レンズエレメントF3の入射面の照明光量分布は、上記重畳効果により平均化され概均一化されたものとなる。なお、インプットフライアイレンズ11の各レンズエレメントの射出面に形成された回折格子DGの偏向特性は、X方向の配列位置が同一であれば同一であり、X方向の配列位置が異なれば異なる。従って、インプットフライアイレンズ11上のX方向の配列位置が同一であるレンズエレメントから射出した照明光は、全てフライアイレンズ13上の同一のレンズエレメントに重畳して入射することとなり、その入射面上の照明光量分布は、上記重畳効果により平均化され概均一化されたものとなる。なお、インプットフライアイレンズ11及びコンデンサーレンズ12は、フライアイレンズ13上の一つのレンズエレメントに入射する照明光を、インプットフライアイレンズ11が配置される所定の面内に分布する照明光のうち、X方向の所定の範囲に分布する照明光に制限する光学系であるとみることもできる。ここで、インプットフライアイレンズ11上でX方向の所定の範囲に分布する照明光は、X方向に所定の角度傾いて、フライアイレンズ13上の所定のレンズエレメント例えばF3に入射する。ここでレンズエレメントF3もフーリエ変換レンズであるから、フライアイレンズ13の射出面に形成されるこれらの照明光の集光点2次光源は、X方向への所定の入射角に応じてX方向にシフトすることとなる。また、各レンズエレメントF1~F8に入射する照明光のX方向への入射角は、上述の如くそれぞれ異なるから、フライアイレンズ13の射出面に形成される2次光源の位置は、各レンズエレメントF1~F8毎に、それぞれX方向に微少量シフトし、同一のX座標上には形成されないこととなる。この各2次光源位置のX方向へのばらつきは、照明光IL10を構成する各照明光のX方向への進行方向のばらつきを生じさせるが、この値が例えば上記許容値一例として2[mrad]を超えるような場合には、ウエハW上に形成される干渉縞のコントラストを低下させる要因ともなりうる。そこで、この微小シフトを解消するために、図9A及び図9Bに示すように、各レンズエレメントF1~F8の入射面近傍に、照明光IL5aをX方向に偏向させ、その進行方向をYZ面内に一致させるための楔プリズム161,162,163,168を設けることもできる。勿論、楔プリズムの楔角は、それぞれ異なる角度とする。これにより、照明光IL6aは各レンズエレメントF1~F8に対し、X方向については垂直入射することとなり、各レンズエレメントF1~F8の射出部に形成される2次光源群を同一のX座標上に配列させることが可能となる。あるいは、図10Aに示す如く、フライアイレンズ13を構成する各レンズエレメントF1a~F8a自体の配列を、それぞれX方向に微少量シフトすることで、その射出面の形成される2次光源群を同一のX座標上に形成すること、すなわち、図中の破線CL上に形成することも可能である。また、図10Bに示す如く、フライアイレンズ13を構成する各レンズエレメントF1b~F8bを、その外形に対してレンズ中心図中に示した円の中心を偏心させたレンズで構成し、これによって、その射出面の形成される2次光源群を同一のX座標上に形成すること、すなわち、図中の破線CL上に形成することも可能である。以上の手段によって、各2次光源位置のX方向へのばらつきを低減し、照明光IL10を構成する各照明光のX方向への進行方向のばらつきを所定の許容値以下に低減することが可能である。なお、このような2次光源群のX方向位置の補正は、フライアイレンズ13を構成する各レンズエレメントF1~F8の一つに入射する照明光が、インプットフライアイレンズ11が配置される所定の面内に分布する照明光のうちX方向の所定の範囲に分布する照明光に制限されているために、すなわち一定のX方向の入射角度を有する照明光に制限されているために容易に行なえるものである。ただし、上記の制限は必ずしも完全である必要は無い。すなわち、各レンズエレメントF1~F8の一つに入射する照明光のうちの大部分の照明光例えば光量的に90以上の照明光が、インプットフライアイレンズ11が配置される所定の面内に分布する照明光のうちX方向の所定の範囲に分布する照明光であるならば、実質的に同様の効果が得られるからである。また、インプットフライアイレンズ11の射出面に配置する回折格子DGからは、ある程度の所望でない回折光等の迷光も発生するため、これらの迷光がレンズエレメントF1~F8のうちの所望の一つ以外に入射することを完全に防止することは困難でもある。しかしながら、上記と同様に、その迷光の光量が全照明光の光量に対して10程度以下であれば、実質的に同様の効果が得られることは言うまでも無い。なお、集光光学系10の実施形態はこれに限られるものではなく、例えば図11に開示する如く、XY面内の所定の領域で、そのテーパー角度が異なっているプリズムアレイ100を採用することもできる。プリズムアレイ100のXY面内の構造は、例えば正方形のプリズムが、図7Aに示したインプットフライアイレンズ11と同様にXY方向に2次元的に配列されるものであるが、その断面は図11A及び図11Bに示す如く、各プリズムのテーパー角度がX方向の配列の位置J1~J8及びY方向の配列の位置K1~K8に応じて変化する。プリズムアレイ100に入射した照明光IL3は、このテーパー角度に応じた屈折作用、すなわち偏向作用を受け、フライアイレンズ13上の所定のレンズエレメントF1~F8上に照射されることとなる。なお、本例においてもレンズエレメントF1~F8の一つに入射する照明光は、プリズムアレイ100上で同一のX方向配列位置に並ぶプリズム群からの照明光に限定されることが好ましいことは言うまでも無い。これにより、フライアイレンズ13射出面の2次光源群を同一のX座標上に形成するための、図9及び図10に示した手法を容易に採用することが可能となるからである。ところで、第1の回折格子G11の第1の実効距離L1および第2の回折格子G21とウエハWの第2の実効距離L2自体の長さについては、原理的な制約は無いが、これらの実効距離L1,L2が長いと光路における空気揺らぎ,媒質の熱変動に伴う屈折率変動の影響により、ウエハW上に形成される干渉縞の位置安定性あるいはコントラストが低下する恐れがある。一方、第1の回折格子G11を形成する第1の透光性基板P1及び第2の回折格子G21を形成する第2の透光性基板P1をあまりに薄くすると、撓み等が生じて良好な干渉縞を得ることができなくなる。そこで、本発明に於いては、第1の実効距離L1及び第2の実効距離L2は、一例として共に1mm以上かつ15mm以下であるものとする。ただし、より高精度に干渉縞の明暗パターンIFを形成するために、第1の実効距離L1及び第2の実効距離L2は、共に2mm以上かつ10mm以下とすることもできる。そして、さらに高精度に干渉縞の明暗パターンIFを形成するために、第1の実効距離L1及び第2の実効距離L2は、共に3mm以上かつ7mm以下とすることもできる。第1の実効距離L1及び第2の実効距離L2の長さは、上記安定性と干渉縞の明暗パターンIFに要求される安定性とから定めることができる。ところで、1次元的な周期を有する干渉縞の明暗パターンIFを形成する場合、その形成に用いる照明光IL10は、その偏光方向電場方向が明暗パターンIFの長手方向に平行、すなわち第1の回折格子G11及び第2の回折格子G21の長手方向に平行な直線偏光光であることが好ましい。この場合に、干渉縞IFのコントラストを最高にすることができるからである。ただし、照明光IL10は、完全な直線偏光光でなくとも、第1の回折格子G11長手方向Y方向の電場成分が、周期方向X方向のの電場成分よりも大きな照明光であれば、上述のコントラスト向上効果を得ることができる。照明光IL10のこのような偏光特性は、照明光学系中に設けた光制御素子9により実現される。光制御素子9は、例えば光軸AX1を回転軸方向として回転可能に設けられた偏光フィルターポラロイド板や偏光ビームスプリッターであり、その回転により照明光IL3の偏光方向を所定の直線偏光とすることができる。光源1がレーザ等の概ね直線偏光に偏光した照明光IL1を放射する光源である場合には、光制御素子9として、同じく回転可能に設けられた1/2波長板を用いることもできる。また、それぞれ独自に回転可能に直列に設けられた2枚の1/4波長板を採用することもできる。この場合には、照明光IL3~IL10の偏光状態を、概ね直線偏光光とするのみでなく、円偏光及び楕円偏光の偏光光とすることもできる。なお、上記いずれの照明光学系においても、照明光IL10の照射される範囲は、第1の透光性平板P1の全面を包含しなくても良いことはいうまでもない。すなわち、第1の透光性平板P1上に形成された第1の回折格子G11の中心部を含み、それを透過する照明光がウエハWに達する所定の領域において、照明光IL10の強度分布が均一になるように照明されていれば良い。また、照明光IL10の照射される範囲は、ウエハW上の全面を包含するものでなくても良い。以下、図12,図13を用いて、本発明の別の実施形態について説明する。図12は、本発明の別の実施形態による露光装置の概要を表わす図である。ただし、光源1、照明光学系IS及び第1の透光性平板P1,第2の透光性平板P2は、図1に示した露光装置と同様であるため図示を省略し、コンデンサーレンズ35のみ破線で示した。本例においては、第1の透光性平板P1に照射される照明光IL10の領域は、ウエハWよりも小さな照明領域42に制限される。ただし、照明領域42のX方向の幅はウエハWの直径より大きい。そして、ウエハWへの露光は、光源1,照明光学系IS及び第1の透光性平板P1,第2の透光性平板P2に対して、ウエハWをウエハステージ35によりY方向に走査して行なうものとする。上述の通り、ウエハW上には照明光IL10,第1の透光性平板P1上の第1の回折格子G11及び第2の透光性平板P2上の第2の回折格子G21によりX方向に周期を有し、Y方向に長手方向を有する干渉縞の明暗パターンIFが形成されているから、当該Y方向への走査は干渉縞の明暗パターンIFの長手方向に沿って行なわれることになる。上記走査露光に際しては、ウエハWのX方向及びY方向の位置や回転は、ウエハステージ38に設けられたX移動鏡39X及びY移動鏡39Yを介して、Xレーザ干渉計40X1及び40X2、Yレーザ干渉計40Y1及び40Y2を用いて計測し、不図示のステージ制御機構により制御される。このような走査露光により、ウエハWには第1の回折格子G11及び第2の回折格子G21により形成される明暗パターンIFがY方向に積算されて露光されることになるため、これらの回折格子の欠陥や異物の影響が緩和され、ウエハW上には、欠陥のない良好なパターンが露光される。また、照明領域42内に残存する恐れのある照度の不均一性についても、その誤差がY方向に積算され平均化されるため、実質的により高い均一性を実現することができる。さらに、照明領域42の形状を、X方向の位置によってY方向の幅が変化するものであるとすることもできる。これにより、照明領域42の形状自体を変化させることにより、照明領域42内の照明光照度分布のY方向積算値を一層均一化することができるからである。このような照明領域42の形状は、照明光学系IS中の視野絞り22に設ける開口23の形状により決定することができる。なお、視野絞り22は、第1の透光性基板P1の光源側の近傍に配置しても良い。図13Aに、視野絞り22及び開口23の形状の一例を示す。開口23のY方向の両端を規定する辺23a,23bは曲線であって、その間隔Y方向の幅はX方向の位置に応じて変化するものとなっている。また、照明領域42は、そのX方向の長さがウエハWの直径よりも小さなものであっても良い。この場合にも、ウエハWをX方向にステップ移動しつつ上記Y方向への走査露光を繰り返し行なうことで、ウエハWの全面への干渉縞の明暗パターンIFの露光を行なうことが可能となる。以下、このような露光方法について、図14を用いて説明する。図14は、本発明のさらに別の実施形態による露光装置の概要を表わす図である。ただし、光源1、照明光学系IS及び第1の透光性平板P1,第2の透光性平板P2は、図1に示した露光装置と同様であるため図示を省略し、コンデンサーレンズ35のみ破線で示した。また、Xレーザ干渉計40X1,40X2、Yレーザ干渉計40Y1,40Y2等も図12に示した露光装置と同様であるため図示を省略している。本例の露光装置では、照明領域42aは、そのX方向の長さがウエハWの直径よりも小さい。そこで、ウエハWへの露光は、上記と同様なウエハステージ38によるウエハWのY方向への走査に併せて、ウエハWをX方向にステップ移動して行なうものとする。具体的には、照明領域42aとウエハWとの相対位置関係を、破線経路45及び実線経路46の如く移動し、Y方向への走査露光とその走査露光の各合間におけるX方向へのステップ移動とを組み合わせて行なうものとする。上記Y方向の走査露光を行なう回数は2回以上の何度であってもよく、照明領域42aのX方向の長さは、ウエハWの直径を走査露光の回数で割った長さより大きな長さとしておく。なお、ウエハW上の、照明領域42aのX方向の境界に位置する部分では、隣接する上記Y方向への走査露光により形成されるパターンが位置ずれすることなく繋ぎ合わされるために、また、照明領域42aの境界における半影ボケの影響を低減するために、両走査露光の照明領域42aがある程度重畳して露光されることが望ましい。そこで、照明領域42aの形状を、Y方向の位置によってX方向の幅が変化するものであるとすることもできる。このような照明領域42aは、照明光学系IS中の視野絞り22に設ける開口24の形状を図13Bに示す如くすることにより形成できる。すなわち、開口24のX方向の両端を規定する辺24a,24bはY方向に平行でない直線あるいは曲線であって、その間隔X方向の幅はY方向の位置に応じて変化するものとなっている。このような開口24で規定される照明領域42aを用いることで、ウエハW上でY方向への走査露光の繋ぎ合わせによりパターンが形成される領域においても、パターンが位置ずれすることなく、また半影ボケの影響を低減した露光が可能となる。なお、上記Y方向への走査及びX方向へのステップ移動は、いずれもウエハステージ38によりウエハWを移動するものとしたが、反対に照明光学系IS,第1の透光性基板P1及び第2の透光性基板P2を一体的に保持し、これを移動する構成としても良い。また、ウエハWと第1の透光性基板P1及び第2の透光性基板P2を一体的に保持し、これに対して照明光学系ISを相対的に走査する構成としても良い。また、上記のような走査露光ではなく、Y方向へ及びX方向へのステップ移動を行いつつ複数回の多重露光を行なうこともできる。この場合、各露光間のY方向へ相対移動は任意の長さでよいが、X方向へ相対移動はウエハW上に形成される干渉縞の明暗パターンの周期T3の整数倍に限定される。なお、露光装置で露光すべきウエハW上には、以前の露光工程フォトリソグラフィー工程のおいて既にパターンが形成されており、新たな露光工程においては、そのパターンの所定の位置関係を保ってパターンを形成する必要があるのが一般的である。そして、ウエハW上の既存のパターンは、ウエハWへの成膜工程,エッチング工程に伴う熱変形や応力変形により、設計地に比べある程度の伸縮が生じている場合が多い。そこで、露光装置には、このようなウエハWの伸縮に適用して、新たなパターンをある程度伸縮補正してウエハW上に形成することが求められる。本発明の露光装置では、ウエハWを設定するZ位置または照明光IL10の収束発散状態のいずれか一方または両方を変更することにより、ウエハW上に形成する明暗パターンの伸縮補正を行なうことができる。始めに、照明光IL10の収束発散状態について図15を用いて説明する。図15Aは、照明光IL10が平行な光線束である場合、すなわち収束も発散もしない状態を表わす図である。このとき照明光IL10の照明領域42等のX方向の外縁LEa,LEbは第1の透光性平板P1に対して垂直であり、照明光IL10c,照明光IL10d,照明光IL10eは、第1の透光性平板P1内の場所によらず第1の透光性平板P1に垂直に入射する。一方、図15Bは、照明光IL10が発散する光線束である場合を表わす図であり、外縁LEa1,LEb1で規定される照明光IL10は全体として発散光路となる。このとき外縁LEa1,LEb1は、鉛直方向LEa,LEbからそれぞれψe傾いて発散している。従って、照明光IL10の第1の透光性平板P1への入射角は、その位置に応じて変化することとなる。すなわち外縁LEa1に近い光路部分を通って照射される照明光IL10fは、やや外向きに傾斜して第1の透光性平板P1に入射することになる。そして傾斜角をψfとすると、照明光IL10fによってウエハW上に形成される干渉縞の明暗パターンの位置は、式10に従ってΔZ×tanψfだけ-X方向にずれた位置に形成される。ここでΔZとは、上記と同様にウエハWと第2の回折格子G21との第2の実効距離L2の、第1の回折格子G11と第2の回折格子G21との第1の実効距離L1からの差である。また、上記におけるX方向の基準位置は、ψf=0において上記干渉縞の明暗パターンが形成される位置である。一方、外縁LEb1に近い光路部分を通って照射される照明光IL10hがウエハW上に形成する干渉縞の明暗パターンの位置は、照明光IL10hの外向きの傾斜角ψhにより、式10に従ってΔZ×tanψhだけX方向にずれた位置に形成される。また、中心に近い光路部分を通って照射される照明光IL10gがウエハW上に形成する干渉縞の明暗パターンの位置は、照明光IL10gがほぼ垂直入射することから位置ずれは生じない。従って、ウエハWに露光される干渉縞パターンIFの第1の回折格子G11に対する大きさの関係は、ΔZが正の場合には、照明光IL10が発散光束とすることにより拡大されたものとすることができ、収束光束とすることにより縮小されたものとすることができ、従ってウエハWに露光される干渉縞パターンIFの伸縮補正を行なうことができる。そして、本発明の露光装置においては、図1に示した通り、照明光学系中の第4のレンズ群を構成するレンズ29,30,32,35のうち、負レンズ30にはレンズ駆動機構31a,31bが取り付けられ、正レンズ32にはレンズ駆動機構33a,33bが取り付けられている。そして、これらのレンズ駆動機構31a,b、33a,bは、固定軸34a,34b上をZ方向に可動であり、これによりレンズ30及びレンズ32もそれぞれ独立してZ方向に可動である。すなわち第4のレンズ群29,30,32,35は、全体としていわゆるインナーフォーカスレンズを構成することとなり、その焦点距離または焦点位置が可変となる。これにより、照明光IL10の収束発散状態を可変とすることができる。なお、これに併せて、照明光学系ISの第1のレンズ群2,3,4,6についてもZ位置調製機構を設け、上記第4のレンズ群29,30,32,35と併せて、照明光IL10の収束発散状態を可変とすることもできる。これは、図1に示した通り、第1のレンズ群2,3,4,6中の負レンズ4にはレンズ駆動機構5a,5bが取り付けられ、正レンズ6にはレンズ駆動機構7a,7bが取り付けられている。そして、これらのレンズ駆動機構5a,5b,7a,7bは、固定軸8a,8b上をZ方向に可動であり、これによりレンズ4及びレンズ6もそれぞれ独立してZ方向に可動とすることができる。また、式10より、照明光IL10の収束発散状態は上記のように可変とすることなく所定の収束状態または発散状態に固定しておき、ウエハWを配置するZ位置を変更すること、すなわち第2の実効距離L2を第1の実効距離L1に対して変更することにより上記伸縮補正を行なうこともできる。これらの伸縮補正は、ウエハWの露光に先立ち、ウエハマーク検出機構43によりウエハW上の複数箇所に形成されている既存の回路パターンあるいは位置合せマークの位置を検出することにより予め計測したウエハWの伸縮量に基いて行なうことが望ましい。なお、ウエハWの伸縮量等の計測に先立って、ウエハマーク検出機構43の検出位置44の基準位置をウエハステージ上の基準マーク41等を用いて行なっておくことが望ましい。また、露光装置には、ウエハマーク検出機構43による上記位置計測精度を向上するために、ウエハマーク検出機構43の位置でウエハステージ38の位置計測を可能とする検出機構レーザ干渉計40Y3等を設けておくことが望ましい。なお、ウエハマーク検出機構43には、ウエハWの表面の凹凸形状を含めたZ位置を計測可能なZ位置センサーも備えることが好ましい。これにより、ウエハWの表面のZ位置を計測し、その値に基いてウエハステージ38をZ方向に駆動して、あるいはさらにウエハステージ38のチルト制御を行ない、上記第2の実行距離を設定することができる。勿論、上記Z位置センサーは、ウエハマーク検出機構43とは別に、例えば第2保持機構37a,37b等に設けても良い。ところで、第1の回折格子G11からは上述の所望の回折光である±1次回折光LM,LPのみでなく、0次回折光直進光も僅かながら発生する。そしてこの0次回折光はさらに第2の回折格子G21をも透過してウエハWに達する恐れがある。そして、このような0次回折光は、迷光として、ウエハW上に形成される所望の干渉縞の明暗パターンIFのコントラストを低下させことになる。そこで本発明に於いては、この0次回折光を遮蔽吸収または反射するために、第1の回折格子G11と第2の回折格子G21の間に、多層膜干渉フィルター等からなる回折光選択部材を設けることもできる。図16は、第1の透光性平板P1の第1の回折格子G11とは反対の面に回折光選択部材C1を、第2の透光性平板P2の第2の回折格子G21とは反対の面に回折光選択部材C2を設けた例を表わす図である。ここで、回折光選択部材C1,C2への入射角度に対する透過率の特性は、図17に示す如きものである。すなわち、透過率TR1は、回折光選択部材C1,C2に小さな入射角度ρで入射する光線に対しては低く、大きな入射角度ρで入射する光線に対しては高く設定される。これにより、回折光選択部材C1,C2は、これに入射する回折光透過率を、その進行方向に応じて変化させることができる。具体的には、第1の回折格子G11を小さな射出角で射出する0次回折光の透過率を、第1の回折格子G11から大きな射出角で射出する1次回折光の透過率に対して低くすることができる。従って、ウエハWに達する0次回折光の光量を低減することができ、ウエハW上に形成される所望の干渉縞の明暗パターンIFのコントラストの低下を防止することができる。このような回折光選択部材C1,C2は、例えば高屈折率の酸化物からなる膜と低屈折率の酸化物からなる膜とを交互に多層に亘って形成した薄膜により実現することができる。また、高屈折率のフッ化物からなる膜と低屈折率のフッ化物からなる膜とを交互に多層に亘って形成した薄膜により実現することもできる。ところで、第1の回折格子G11及び第2の回折格子G21の上に付着した異物等による悪影響を低減するために、図16に示す通り、第1の透光性平板P1の光源側近傍、または第2の透光性平板P2とウエハWの間に、第1の回折格子G11および第2の回折格子G21への異物付着防止用の薄膜ペリクルPE1,PE2を設けることもできる。そして、ペリクルPE1,PE2を、例えば所定枚数を枚数のウエハWを露光する毎に交換することで、異物の除去を行なうこともできる。ペリクルPE1,PE2としては、例えば投影露光装置で使用されるレチクルへの異物付着防止に使用される有機樹脂製のペリクルを使用することができる。あるいは、ペリクルPE1,PE2として、合成石英等の無機材料からなる透光性の平板を使用することもできる。なお、以上の例においては、第1の回折格子G11,G12は位相変調型回折格子であり、第2の回折格子G21は強度変調型回折格子であるとしたが、両回折格子の構成は、これに限るものではない。例えば、いずれの回折格子も、ハーフトーン位相シフトレチクルAttenuatedPhaseShiftMaskの如く、透過光の位相及び強度の双方を変調する回折格子を用いることもできる。なお、以上の例においては、第1の回折格子G11,G12と第2の回折格子G21はそれぞれ別の透光性平板上に形成されるものとしたが、両回折格子を同一の透光性平板上に形成することもできる。図18は、第1の回折格子G13と第2の回折格子G14を、それぞれ一つの透光性平板P3の光源側及びウエハW側に形成した例を示す図である。なお、本例においても、各回折格子の構造や製法は上述の例と同様である。また、レンズ35およびその上流の照明光学系も、上述の例と同様である。なお、図18中の透光性平板P4は、第2の回折格子G14の汚染防止、及び第1の実行距離L1と第2の実行距離L2とを等しくするために設けているものである。また、第1の回折格子および第2の回折格子は、いずれも透光性平板の表面にのみ設けられるものに限られるわけではない。例えば、図19に示す如く、第2の回折格子G16は第2の透光性平板P6の表面に形成するものの、その上に薄い第3の透光性平板P7を貼り合わせ、第2の回折格子G16を実効的に透光性平板の内部に形成することもできる。なお、図19中の第2の透光性平板P5及び第1の回折格子G15は、図3に示したものと同様である。なお、これらの透光性平板P7等を使用する場合にも、第1の実効距離L1及び第2の実効距離L2は上述の方法で定義され、求まるものであることに変わりは無い。なお、上記いずれの例に於いても、第1の回折格子G11と及び第2の回折格子G21は、ウエハW上に露光すべき干渉縞の明暗パターンの周期T3に応じて、交換する必要がある。図21は、その交換機構の一例を示す図であり、図21AはそれをーZ方向から見た図、図21Bは、図21A中のA-B部分近傍の断面図を表わす。第2の回折格子が設けられた第2の透光性平行板P2の周縁部P2Eを真空吸着等の手段により保持するチャック部53a,53b,53c,53dが設けられた平板ローダー52は、X方向にスライド可能であるともに、Z方向に上下動可能である。交換前において、第2の透光性平行板P2は、第2の保持機構37a,37b,37cにより保持される。この状態に対し、平板ローダー52がX方向からに第2の透光性平行板P2の下部に侵入し、上方に上昇する。そして、チャック部53a,53b,53c,53dが、第2の透光性平行板P2の周縁部P2Eを吸着する。その後、第2の保持機構37a,37b,37cは、図中白抜き矢印で示す如き放射方向に退避し、その状態で平板ローダー42がX方向に退避して第2の透光性平行板P2を持ち去る。そして、新たに装填すべき別の第2の透光性平行板は、上記と逆の動作を経て第2の保持機構37a,37b,37c上に設置され、第2の透光性平行板の交換が完了する。第1の透光性平行板P1の交換機構も上記と同様の構成とする。なお、第1の透光性平行板P1と第2の透光性平行板P2の間隔が短いことから、その間隔内に上記平板ローダーを挿入することは難しい。そこで、図20に示す如く、第1の保持機構36a等及び第2の保持機構37a等も、支持部材51によりXY面内方向にある上記放射方向及びZ方向に可動としておくことが好ましい。これにより上記平板ローダーの装填クリアランスを確保することができる。なお、第1の保持機構36a等及び第2の保持機構37a等の上記Z駆動機構は、第2の回折格子G21とウエハWとの第2の実行距離L2、及び第1の回折格子G11と第2の回折格子G21との第1の実行距離L1を所定値に設定する際にも使用することができる。なお、図20に示した通り、第1の透光性平行板P1の周縁部P1E及び第2の透光性平行板P2の周縁部P2Eは、それらの中心部に対して薄くなるように段付け加工されている。そして、第1の保持機構36a等に設けられた真空吸着部P1V及び第2の保持機構37a等に設けられた真空吸着部P2Vは、これらの段付け加工された周縁部P1E及びPE2を介して第1の透光性平行板P1及び第2の透光性平行板P2を保持するものとしている。ところで、以上の例においては、第2の透光性平板P2とウエハWの間には、空気が存在するものとしていたが、これに代わり、所定の誘電体を満たすこととしても良い。これにより、ウエハWに照射される照明光回折光の実質的な波長を、上記誘電体の屈折率分だけ縮小することができ、ウエハW上に形成される干渉縞の明暗パターンの周期T3を一層縮小することが可能となる。なお、そのためには、第2の回折格子G21の周期T2及び第1の回折格子G11の周期T1も、それに比例して縮小する必要があることは言うまでも無い。図22Aは、これに適したウエハステージ38a等の例を示す図である。ウエハステージ38aの周囲には、連続的な側壁38b,38cが設けられ、側壁38b,cで囲まれた部分には水等の液体56を保持可能となっている。これにより、ウエハWと第2の透光性平板P2の間は水に満たされ、照明光の波長は、水の屈折率波長193nmの光に対して1.46だけ縮小される。なお、給水機構54及び排水機構55も併設され、これにより側壁38b,cで囲まれた部分には汚染の無い新鮮な水が供給されかつ排水される。また、図22Bに示す如く、ウエハステージ38aの側壁38d,38eの最上面を第1の透光性平板P1の下面より高くし、第1の透光性平板P1と第2の透光性平板P2の間の空間にも水を満たすこともできる。給水機構54a及び排水機構55bの機能はは上述と同様である。これにより、第1の回折格子G11からウエハWに至る全光路を、空気以外の誘電体で覆うことが可能となり、上述の照明光の実効波長λを、水の屈折分だけ縮小することが可能となる。そしてこれにより、一層微細な周期を有するパターンの露光が可能となる。なお、図22Bに示す露光装置において、第2の透光性平板P2及び第2の回折格子G21として図3に示した如き格子を使用すると、第2の回折格子G21の掘り込み部に水が侵入し所望の位相差が得られなくなり、位相格子として機能しなくなる恐れがある。そこで、このような露光装置に対しては、図19に示した如き第2の透光性平板P6、第2の回折格子G16及び透光性平板P7を使用することが望ましい。事実上、透光性平板の内部に形成された第2の回折格子G16を使用することにより水の浸入を防止でき、位相格子としてに機能を確保できるからである。あるいは、位相格子として、高屈折率部材と低屈折部材を交互に第1の方向に周期的に配列した位相格子を用いることもできる。これは、例えば図3に示した第2の回折格子G21の如く石英ガラス等の透光性平板上に周期的に掘り込み部を形成することで形成した回折格子の掘り込み部に対し、その透光性平板の材質とは屈折率が異なる材料を埋め込むことにより形成することができる。埋め込むべき材料としては、石英ガラス等の屈折率が1.7以下の材質からなる透光性平板を使用する場合には、屈折率が1.8以上の材質を用いることが、適正な位相差を形成する点で好ましい。また、サファイア等の高屈折率の基板に対し、低屈折率の材料を埋め込んで位相格子を形成しても良い。なお、第2の透光性平板P2とウエハWの間に満たす誘電体は水に限らず、他の誘電瀬液体であっても良いことは言うまでも無い。その場合、その誘電瀬液体の屈折率は、1.2以上であることが、干渉縞の明暗パターンの周期の縮小の点から好ましい。なお、本発明の露光装置では、各種透光性平板を光路に沿って近接して配置することになるため、その各表面での表面反射に伴う多重干渉による悪影響のおそれがある。そこで、本発明においては、光源1からの照明光IL1~IL10として、その時間的な可干渉距離光の進行方向についての可干渉距離が、100[μm]以下の光を使用することが好ましい。これにより多重干渉に伴う不要な干渉縞の発生を避けることができる。光の時間的な可干渉距離は、その光の波長をλ、その光の波長分布における波長半値幅をΔλとしたとき、概ねλ2/Δλで表わされる距離である。従って、露光波長λがArFレーザからの193nmの場合には、その波長半値幅Δλを370pm以上程度である照明光IL1~IL10を使用することが望ましい。また、照明光IL1~IL10の波長としても、より微細な干渉縞パターンIFを得るために200[nm]以下の照明光を使用する事が望ましい。上記の如くして干渉縞による明暗パターンの露光されたウエハWは、不図示のウエハローダーにより露光装置外に搬送され、現像装置に搬送させる。現像により、ウエハW上のフォトレジストには、露光された明暗パターンに応じたレジストパターンが形成される。そして、エッチング装置において、このレジストパターンをエッチングマスクとして、ウエハWまたはウエハW上に形成された所定の膜をエッチングすることにより、ウエハWに所定のパターンが形成される。半導体集積回路、フラットパネルディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等の電子デバイスの製造工程は、上記の如き微細パターンを多数層に亘って形成する工程を含む。本発明の露光装置による上記露光方法を、そのような多数回のパターン形成工程の中の少なくとも1つの工程に使用して、電子デバイスを製造することができる。また、上記少なくとも1つの工程において、本発明の露光装置による上記露光方法を用いて干渉縞による明暗パターンを露光したウエハW上のフォトレジストPRに対し、一般的な投影露光装置により所定形状のパターンを合成露光して、合成露光されたフォトレジストPRを現像し、上記パターン形成を行なうこともできる。なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。また、明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約を含む2005年2月25日付け提出の日本国特許出願第2005-052158の全ての開示内容は、そっくりそのまま引用して本願に組み込まれている。"