測定対象からの光を屈折させて集光させる第一のレンズと、前記第一のレンズを透過した光の光路長を調整する光路調整部と、前記光路調整部からの光を撮像素子上に集光させる第二のレンズと、を有し、前記光路調整部は、回転板と、前記回転板を駆動する駆動部と、前記回転板上に配置される回転反射部材と、を有する断層像測定装置。前記光路調整部は、前記第一のレンズを透過した光を前記回転反射部材に入射させるビームスプリッタと、前記回転反射部材により反射された光を当該回転反射部材に反射させる固定反射部材と、を有し、前記回転反射部材は、固定反射部材からの光を反射させて前記第二のレンズに入射させる請求項1記載の断層像測定装置。測定対象からの光が入射され、当該光の光路長を調整する光路調整部と、前記光路調整部からの光を撮像素子上に集光させる第二のレンズと、を有し、前記光路調整部は、回転板と、前記回転板を駆動する駆動部と、前記回転板上に配置される回転反射部材と、を有する断層像測定装置。前記光路調整部からの光を反射させて前記第二のレンズに入射させる固定反射部材と、を有する請求項3記載の断層像測定装置。しかしながら、本発明者は、上記OCTを利用して光学素子の欠陥の測定を行ったところ、高感度のOCT装置を用いた場合であっても、発見するのが困難であることを見出した。これは、多くの欠陥がOCTのビームスポットサイズ10μm~30μm程度よりも小さいため、干渉信号を十分に得ることができなかったためと考えられる。従って、OCT以外でより詳細に光学素子の欠陥を発見することのできる方法、装置を見出すことが好ましい。そこで、本発明は、上記課題を鑑み、光学素子の欠陥を簡便に発見、測定することのできる断層像測定装置を提供することを目的とする。上記課題を解決する本発明の第一の観点に係る断層像測定装置は、測定対象からの光を屈折させて集光させる第一のレンズと、第一のレンズを透過した光の光路長を調整する光路調整部と、光路調整部からの光を撮像素子上に集光させる第二のレンズと、を有し、光路調整部は、回転板と、回転板を駆動する駆動部と、回転板上に配置される回転反射部材と、を有する。なお、本観点において、限定されるわけではないが、光路調整部は、第一のレンズを透過した光を回転反射部材に入射させるビームスプリッタと、回転反射部材により反射された光をこの回転反射部材に反射させる固定反射部材と、を有し、回転反射部材は、固定反射部材からの光を反射させて第二のレンズに入射させるように構成しておくことが好ましい。また、本発明の第二の観点に係る断層像測定装置は、測定対象からの光が入射され、当該光の光路長を調整する光路調整部と、光路調整部からの光を撮像素子上に集光させる第二のレンズと、を有し、光路調整部は、回転板と、回転板を駆動する駆動部と、回転板上に配置される回転反射部材と、を有する。本発明により、光学素子の欠陥を簡便に発見、測定することのできる断層像測定装置を提供することができる。以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を用いて詳細に説明する。ただし、本発明は多くの異なる形態による実施が可能であり、以下に示す実施形態の例示にのみ狭く解釈されるものではない。実施形態1図1は、本実施形態に係る断層像測定装置以下本装置という。1の概略を示す図である。本図で示すとおり、本装置1は、測定対象Mからの光を屈折させて集光させる第一のレンズ2と、第一のレンズ2を透過した光の光路長を調整する光路調整部3と、光路調整部3からの光を撮像素子5上に集光させる第二のレンズ4と、を有する。本実施形態において、測定対象Mは、限定されるわけではないがレンズ等の光学素子である。この光学素子には、脈理やボイドといった欠陥が含まれうる。また本装置1は、光源6を有しており、光源6から測定対象Mに光が入射され、測定対象Mからの反射光又は透過光を得ることで、測定対象M内の断層像を得ることができる。光源6の配置は、特に限定されるわけではないが、測定対象M近傍であることが好ましく、より好ましくは、測定対象Mと第一のレンズ2の間に配置しておくことが好ましい。このようにしておくことで他の構成部材による光の損失を抑えることができるといった利点がある。なお本実施形態において、光源6としては、限定されるわけではないが、可視領域の光を放出することのできるものであることが好ましく、限定されるわけではないが、例えば、図2の例で示すように、複数のLEDを中空のリング状にして配置したLEDリング照明を第一のレンズ2の周囲に配置して測定することが好ましい一例である。また本装置1は、第一のレンズ2を有している。第一のレンズ2は、上記のとおり測定対象Mからの光を屈折させて集光させるために用いられるものである。第一のレンズ2の形状としては、限定されるわけではないが、凸レンズ又はフレネルレンズを用いることが好ましい。なお第一のレンズ2の材質としては特に制限されるものではないが、透過性のあるガラスやプラスチック等により構成されていることが好ましい。なお、ここで第一のとは、後述する第二のレンズとの差異を明確にするために用いられる修飾語に過ぎず、これ以上の意味はもたない。また本装置1は、第一のレンズ2の近傍、本実施形態の例では第一のレンズ2の背面測定対象Mとは反対の側に視野絞り7を有している。このようにすることで、不必要な方向に進む光を遮断することが可能となり、より精密な測定を可能とすることができる。また本装置1は、光路調整部3を有している。光路調整部3は、上記のとおり、第一のレンズ2を透過した光の光路長を調節することができるものであり、少なくとも回転板31と、回転板31を駆動する駆動部32と、回転板上に配置される回転反射部材33と、を有している。なお図3は、本装置1の光路調整部3の回転板31及び駆動部32の概略の側面図である。また本装置1において、光路調整部3は、第一のレンズ2を透過した光を回転反射部材33に入射させるビームスプリッタ34と、回転反射部33により反射された光を回転反射部材33にそのまま反射させる固定反射部材35と、を有しており、回転反射部材33は、固定反射部材35からの光を反射させて第二のレンズ4に入射させる。本装置1において、上記第一のレンズ2を透過した光は、ビームスプリッタ34により一部が透過し、一部が反射される。反射された光は、回転反射部材33に入射される。本実施形態において、ビームスプリッタ34は、上記の機能を有する限りにおいて限定されるわけではないが、例えばハーフミラーやプリズムからなる偏光ビームスプリッタであることは好ましい一例である。本装置1において、回転板31は、駆動部32により回転可能なものであり、上に回転反射部材33を配置することができる限りにおいて限定されるわけではないが、円形状の板であることが好ましい。回転板31の大きさは調整する光学距離に応じて適宜可能である。また本装置1において、駆動部32は、回転板31を一定速度で回転させることができるものであり、この機能を有する限りにおいて限定されるわけではないが、回転板31の中心に固定される軸部材と、この軸部材を回転させるモータとを有していることが好ましい。なおモータとしては、サーボモータであっても、ステッピングモータであってもよい。本装置1において、回転反射部材33は、固定反射部材35に光を入射させるために用いられるものである。回転反射部材33は後述のとおり、固定反射部材35によって反射された光を再び光路調整部3外に出射させるため、複数のミラー又はプリズムを組み合わせたものであることが好ましい一例であり、より具体的には、図1で示すように反射面がなす角が90度となるように組み合わされた一対のミラーで構成されていることが好ましい。このようにすることで、回転反射部材33は、入射された光と平行な反射光を出すことができるようになる。本装置1において、固定反射部材35は、回転板とは別に固定して設けられる部材であり、入射された光をそのまま反射させる部材である。固定反射部材35の材質はこの機能を有する限りにおいて限定されるわけではないが、例えばミラーであることは好ましい一例である。このようにすることで固定反射部材35は、回転反射部材33に光をそのまま返すことができる。なお本装置1において、固定反射部材35から反射された光は再びビームスプリッタ34に入射され、一部は反射し、一部は透過し、いずれか一方が第二のレンズ4に入射される。図1の例では透過した光が第二のレンズ4に入射されることとなっている。本装置1において、第二のレンズ4は、光路調整部3からの光を撮像素子5上に集光させるためのものである。第二のレンズ4としては、限定されるわけではないが、凸レンズ又はフレネルレンズを用いることが好ましい。なお第二のレンズ2の材質としては特に制限されるものではないが、透過性のあるガラスやプラスチック等により構成されていることが好ましい。なお、ここで第二のとは、上述の第一のレンズとの差異を明確にするために用いられる修飾語に過ぎず、これ以上の意味はもたない。また本装置1は、第二のレンズ4の近傍、本実施形態の例では第二のレンズ4の背面撮像素子5側に視野絞り7を有している。このようにすることで、不必要な方向に進む光を遮断することが可能となり、より精密な測定を可能とすることができる。本装置1において撮像素子5は、第二のレンズ4によって集光された光を撮影することのできるものである。撮像素子5としては、像を得ることができる限りにおいて限定されず、例えばCCDChargeCoupledDeviceを用いることは好まし一例である。ここで、上記記載から明らかであるが、本装置1による断層像測定の原理について説明する。まず、光源6から放出された光は、測定対象Mにより反射され、第一のレンズ2に入射される。この場合において、測定対象Mにより反射される光のうち測定対象Mのある一点を始点として放射線状に広がる光は、第一のレンズ2に入射される。次に、この光はビームスプリッタ34により一部が反射され、光路調整部3における回転反射部材33に入射され、固定反射部材35側に反射される。そして固定反射部材35は再び回転反射部33側に反射し、再びビームスプリッタ34に入射される。そしてビームスプリッタ34を透過した光は、第二のレンズ4により集光され、撮像素子5により像が作成される。なおこの場合において、測定対象Mの点M1から放射線状に放出された光は、第一のレンズ2により屈折を受け集光し始め、ビームスプリッタ34に反射されてから再びビームスプリッタ34に戻ってくるまでに一度焦点を通過する。そしてこの焦点を通過した後、再び光は広がり、ビームスプリッタ34を透過した後、第二のレンズ4により再び屈折を受け、集光し、撮像素子5上において再び集光し、像を形成する。すなわち、測定対象Mの点M1から放射線状に放出された光は、一度焦点を通過した後、撮像素子5に再び集光する。ところで、本装置1において、光路調整部3は、回転することにより光路長を変化させることができる。即ち、回転反射部材33が固定反射部材35に遠い位置にある場合は光路長が長く、回転反射部材が固定反射部材側に近い位置にある場合は光路長が短くなる。この光路長の長さは焦点位置の変化となる。より具体的には、測定対象Mにより反射される光の点の位置深さが変化することになる。この結果、光路調整部3における回転板31の回転に応じて、測定対象Mの光出射の始点の位置が変わることを意味する。これは、レンズ内部の断層像を深さ方向に対して移動することができ、その各々の位置において測定することができることを意味する。以上、本装置1によると、光学素子の欠陥を簡便に発見、測定することのできる断層像測定装置となる。実施形態2本実施形態は、実施形態1における第一のレンズ2、第一のレンズ2側の視野絞り7、及び、ビームスプリッタ34がない点、並びに、第一の反射固定部材の回転板31に対する向きが異なる以外は実施形態1と同様である。図4に本実施形態に係る断層像測定装置の概略を示し、以下詳細に説明する。本実施形態に係る断層像測定装置以下本装置という。1は、測定対象Mからの光が入射され、当該光の光路長を調整する光路調整部3と、光路調整部3からの光を撮像素子5上に集光させる第二のレンズ4と、を有し、光路調整部3は、回転板31と、回転板31を駆動する駆動部32と、回転板31上に配置される回転反射部材33と、を有する。また本装置1は、更に、光路調整部3からの光を反射させて第二のレンズ4に入射させる固定反射部材35と、測定対象M近傍に設けられた光源6を有する。本装置1において、固定反射部材35は、回転板31上にはなく独立して存在する反射部材であり、上記実施形態1と同様の材料によって構成されているが、光を反射させる方向が実施形態1と異なる。具体的に説明すると本実施形態に係る固定反射部材35は、固定反射部3における回転反射部材33からの光を第二のレンズ4に入射させる方向に反射させる。ここで、上記記載から明らかであるが、本装置1による断層像測定の原理について説明する。まず、光源6から放出された光は、測定対象Mにより反射され、第一のレンズ2に入射される。この場合において、測定対象Mにより反射される光のうち測定対象Mのある一点を始点として放射線状に広がる光は光路調整部3に入射される。次に、この光は光路調整部3における回転反射部材33に入射され、固定反射部材35側に反射される。そして固定反射部材35は第二のレンズ4側に反射され、第二のレンズ4により集光され、撮像素子5により像が作成される。ところで、本装置1において、光路調整部3は、回転することにより光路長を変化させることができる。即ち、回転反射部材33が測定対象Mに遠い位置にある場合は光路長が長く、回転反射部材が測定対象Mに近い位置にある場合は光路長が短くなる。この光路長の長さは焦点位置の変化となる。より具体的には、測定対象Mにより反射される光の点の位置深さが変化することになる。この結果、光路調整部3における回転板31の回転に応じて、測定対象Mの光出射の始点の位置が変わることを意味する。これは、レンズ内部の断層像を深さ方向に対して移動することができ、その各々の位置において測定することができることを意味する。以上、本装置1によっても、上記実施形態1と同様、光学素子の欠陥を簡便に発見、測定することのできる断層像測定装置となる。実施形態3本実施形態は、ほぼ実施形態2と同様であるが、固定反射部材35が無く、代わりに回転反射部材33が、反射面がなす角が90度となるように組み合わされた一対のミラーを二組有し、一方の組のミラーの反射面と他方の組のミラーの反射面とが平行して配置されていることが特徴的となっており、それ以外の構成はほぼ実施形態2と同様である。図5に本実施形態に係る断層像測定装置以下本装置という。1の概略を示す。本実施形態によると、固定反射部材を設けずとも、測定対象から入射される光を撮像素子5に入射させることができる一方、回転板31の回転に伴い光路を調整することが可能となるといった利点がある。なお、実施形態2の例では、測定対象Mから放出される光の進行方向と撮像装置5に入射される光の進行方向は略垂直な方向とすることができているが、本実施形態では、測定対象Mから放出される光の進行方向と撮像装置5に入射される光の進行方向はほぼ平行となる様配置されている。以上、本装置1によっても、上記実施形態1と同様、光学素子の欠陥を簡便に発見、測定することのできる断層像測定装置となる。