1微小孔フィルター上流に純ガスを導入し、下流に配置された真空容器を高真空ポンプで排気速度CPで排気したとき、上流圧力Puを真空計で、下流圧力Pdを全圧真空計で測定し、式CF=CPPd/Puを使って、上流圧力Puを変えながらCFを求め、CFが一定となる圧力領域を、分子流が実現している領域として校正し、さらに、ガス種を変えてCFを測定し、その比が気体の質量数の1/2乗になっていることにより、分子流が実現しているとして校正する校正方法、又は、2微小孔フィルター上流に標準混合ガスを導入し、下流に配置された真空容器を高真空ポンプでガス種iの排気速度CPiで排気したとき、上流の全圧Puを真空計で測定し、上流の全圧Puを変えながら下流のガス種iの分圧Pdiを分圧真空計で測定し、Pdi/Pu比が一定となる圧力領域を、分子流が実現している領域として校正し、さらに、CPiPdiの値と、CFiPumiの値とここで、CFiはガス種iの微小孔フィルターのコンダクタンス、miは標準混合ガスにおけるガス種iの濃度である、を比較して両者が等しくなっている圧力範囲を、分子流が実現している圧力範囲として校正する校正方法、又は、3微小孔フィルター上流に標準混合ガスを導入し、下流に配置された真空容器を高真空ポンプで排気速度CPiで排気したとき、上流の全圧Puを真空計で測定し、上流の全圧Puを変えながら下流の全圧Pdを全圧真空計で測定し、CFiPumiの値ここで、CFiはガス種iの微小孔フィルターのコンダクタンス、miは標準混合ガスにおけるガス種iの濃度である、を求め、この求めた値をさらにCPiで除した値を全てのガス種iについて求めて総和し、この総和した値が、全圧真空計で測定した下流の全圧Pdと等しくなっている圧力範囲を分子流が実現している圧力範囲として校正する校正方法により、予め微小孔フィルターにより分子流が実現できることが校正されている微小孔フィルターを用いた基準微小ガス流量導入装置であって、当該微小孔フィルター、ガスリザーバ、ガス導入系、真空ポンプ、真空計から構成される装置で、分子流のコンダクタンスと分子流になる圧力を予め校正しておいた前記微小孔フィルターを用い、微小孔フィルターを通る気体の流れが分子流条件を満たす条件を保ちながら、真空装置にガスを導入することにより、本発明の装置一台で、ほぼあらゆるガス種において、既知の微小流量を持つガスを、真空容器に導入できる、且つ、一次圧力と流量の関係が線形なので、異なる流量を容易に発生できる、且つ、混合ガスを使っても、既知の流量のガスを導入できる、且つ、温度依存性が理論的に補正できる、且つ、凝縮性吸着性のある、水蒸気やエタノール蒸気等、これまで既知の流量のガスを導入することが困難であったガスも同様に導入できる、ことを特徴とする基準微小ガス流量導入装置。分子量Mαのガス種αを使い、温度T0で、校正された前記微小孔フィルターの分子流コンダクタンスをCα、ガスリザーバの圧力をPR、導入したい純ガスβの分子量をMβ、導入する時の温度をTとした時、導入される純ガスβの流量Qβを、PRCαMα/Mβ1/2T0/T1/2で、表すことを特徴とする請求項1記載の基準微小ガス流量導入装置。分子量Mαのガス種αを使い、温度T0で、校正された前記微小孔フィルターの分子流コンダクタンスをCα、ガスリザーバの圧力をPR、導入したい混合ガスの中のガス種βの濃度をmβ、分子量をMβ、導入する時の温度をTとした時、導入される混合ガスの中のガス種βの流量Qβを、PRmβCαMα/Mβ1/2T0/T1/2で、表すことを特徴とする請求項1記載の基準微小ガス流量導入装置。従来の標準キャピラリーや標準リークを用いた場合の上記問題点を、本発明者らが先に出願した標準混合ガスリーク用微小孔フィルターの校正方法及び校正装置特許文献1参照で校正した微小孔フィルターを利用したガス導入装置を用いて解決することを目的とし、流れる気体が分子流となるようにした前記微小孔フィルターを用いて、真空容器1Pa以下に、既知の微小流量を持つガスを導入するための装置を提供することにある。この装置を用いることで、ガス種が変わった場合の流量の補正が容易なので、本発明の装置一台で、ほぼあらゆるガス種の既知の微小流量のガスを真空容器に導入できる、且つ、一次圧力と導入流量の関係が線形なので、一次圧力を変えることで異なる既知の流量を容易に導入できる、且つ、混合ガスのそれぞれのガスを独立に扱えるので、混合ガスを使っても既知の流量のガスを導入できる、且つ、導入する流量の温度補正を気体分子運動論に基づいて行える。本発明の基準微小ガス流量導入装置は、微小孔フィルター、ガスリザーバ、ガス導入系、真空ポンプ、ガスリザーバ内の圧力PR測定用真空計、バルブ配管から構成され、ガスを導入したい真空容器1Pa以下に接続する。微小孔フィルターは、予め、あるガス種N2などで、分子流が実現する圧力と、分子流のコンダクタンスを校正しておく特許文献1参照。混合ガスを用いる場合には、排気特性にガス種依存性が無い、容積輸送式真空ポンプを用いる必要がある。真空計は、隔膜真空計等、ガス種依存性が無いものを用いるか、導入されるガス種に対して校正されているものを用いる。基準微小ガス流量導入方法について述べる。ガスリザーバに任意の気体を導入する。次に、ガスリザーバ内の圧力を、微小孔フィルターと通るガスが分子流を実現する圧力以下例えば10kPaに調整する。この時、微小孔フィルターを通って、真空容器に導入されるガス流量Qは、Q=PRCαMα/M1/2T0/T1/2となる。ここで、PRはガスリザーバの圧力、Cαは校正された微小孔フィルターのガス種αのコンダクタンス、Mαはガス種αの分子量、Mは導入したい任意のガスの分子量、T0はCαを校正した時の温度、Tは任意のガスを導入する時の温度である。混合ガスを導入する場合は、混合ガスの混合比、又は濃度が既知である必要がある。この場合、ガスリザーバ内のガス種iの分圧PRiは、全圧PRと濃度の積で表されるので、PRの変わりにガスリザーバ内のガス種iの分圧PRiを用いることで、真空容器に導入されるガス種iの流量Qiを求めることができる。導入するガスは、例えば、水やエタノールなど、大気圧では液体の物質であっても可能である。この場合、液体を封入した容器をガスリザーバに接続し、真空ポンプで一定時間排気した後、真空ポンプ前のバルブを封じきる。これにより、ガスリザーバ内の圧力PRは、液体の蒸気圧と等しくなり、他のガスと同様に、真空容器内にガスを導入できる。本発明の基準微小ガス流量導入装置を用いることにより、本発明の装置一台で、ほぼあらゆるガス種の、既知の微小流量を持つガスを真空容器に導入できる、且つ、一次圧を変えることで、異なる既知の流量を容易に導入できる、且つ、混合ガスを使っても既知の流量のガスを導入できる、且つ、導入流量の温度依存性を理論的に補正できる、且つ、凝縮性吸着性のある水蒸気やエタノール蒸気等のガスも同様に導入できる、ことが実現できた。図1に本発明の基準微小ガス導入装置の一実施例である装置を、ガスを導入したい真空容器に接続したものを示す。図に示すように、装置は、微小孔フィルター、ガスリザーバ、ガス導入系、真空ポンプ、ガスリザーバ内の圧力PR測定用真空計、バルブ配管から構成される。微小孔フィルターは、予め、分子流が実現する圧力と、分子流のコンダクタンスを校正しておく。ここでは、あるガス種αに対しての分子流コンダクタンスがCαであったとする。この時、任意のガス分子量Mは、決まった流量Qで、以下の手順で真空容器に導入される。1ガスリザーバに、任意のガスを導入する。2ガスリザーバ内の圧力を、分子流が実現する圧力範囲まで下げる。3この時、導入されるガス流量Qは、以下の式で表される。ここで、PRは真空計で測定されたガスリザーバ内の圧力、T0はCαが校正された時の温度、Tは任意のガスを導入する時の温度である。本発明の基準微小ガス流量導入装置は、図1に一実施例として示したような本発明の装置を、ガスを導入したい真空容器に接続して用いる。図に示すように、装置は、微小孔フィルター、ガスリザーバ、ガス導入系、真空ポンプ、ガスリザーバ内の圧力PR測定用真空計、バルブ配管から構成される。微小孔フィルターは、予め、分子流が実現する圧力と、分子流コンダクタンスの値を校正しておく。ここでは、一例として、微小孔フィルター流れる気体が10kPa以下の時、分子流になるとし、N2の分子流コンダクタンスCN2が1×10-9m3/sであるとする。1純ガスの導入方法ガスリザーバに任意の気体を導入する。次に、ガスリザーバ内の圧力を、微小孔フィルターと通るガスが分子流が実現する圧力以下ここでは10kPa以下に調整する。この時、微小孔フィルターを通って、真空容器に導入されるガス流量Qは、気体分子運動論に基づき、以下の式で表される。ここで、PRはガスリザーバの圧力、MN2はN2の分子量、Mは導入したい任意のガスの分子量、T0はCN2を測定校正した時の温度、Tは任意のガスを導入する時の温度である。例えば、ガスリザーバの圧力PRにArガス分子量40を封入し、10kPaに保ったとすると、真空容器に導入されるArガス流量QArは、となり、マスフローコントローラーより、はるかに低い流量のガスを、真空容器に導入することができる。ガスリザーバの圧力を低くすることで、さらに低い流量も容易に発生できる。ガス種を変えても、同様にして、既知の微小流量を導入することが出来る。2混合ガスの導入方法混合ガスを導入する場合は、真空容器に導入されるガス種iの流量Qiは、PRの変わりに、ガスリザーバ内のガス種iの分圧PRiとすることで、同様に、1式を使って求めることが出来る。例えば、95窒素、5水素の混合ガスを、ガスリザーバに10kPaまで、導入した場合、ガスリザーバ内のそれぞれの分圧PR-N2、PR-H2は、10kPa×0.95、10kPa×0.05となるから、それぞれのガス流量QN2とQH2は以下のようになる。3水やエタノール等、大気では液体であるが、圧力を下げると気体になる物質の導入方法液体を封入した容器をガスリザーバに接続し、真空ポンプで一定時間排気した後、真空ポンプ前のバルブを封じきる。これにより、ガスリザーバ内の圧力PRは、液体の蒸気圧と等しくなる。導入される気体のガス流量は、上記1式で同様に計算できる。図3に、水蒸気を導入した時の、ガス流量を示す。水の蒸気圧は、23°Cの時、2784Paであるから、導入される水蒸気の流量QH2Oは、以下の通りになる。図2は、本発明で用いる予め校正した微小孔フィルターについて、その校正装置及び校正方法を説明するための図であって、校正装置を示した図である。図2の校正装置は、本発明者らが先に出願した特許文献1の装置と同じであって、微小孔フィルターの上流に、標準混合ガス及び純ガスのガス導入系、容積輸送式真空ポンプ等の真空ポンプ、上流圧力Pu測定用の隔膜真空計等の真空計を配置し、微小孔フィルターの下流に、真空容器を配置し、前記真空容器には排気用高真空ポンプ、下流圧力Pd測定用全圧真空計、下流圧力Pd測定用分圧真空計を接続した微小孔フィルター校正装置において、微小孔フィルターを介して、真空容器に気体を導入した際、真空容器内部の圧力が、全圧真空計、分圧真空計の動作圧力範囲内にあるように、高真空ポンプの排気速度を選択して微小孔フィルターで分子流が実現されているかどうかを校正できるようにしたものである。図2の校正装置を用いて微小孔フィルターを校正する方法には、上記特許文献1に記載されているように、1微小孔フィルター上流に純ガスを導入し、下流に配置された真空容器を高真空ポンプで排気速度CPで排気したとき、上流圧力Puを隔膜真空計等の真空計で、下流圧力Pdを全圧真空計で測定し、式CF=CPPd/Puを使って、上流圧力Puを変えながらCFを求め、CFが一定となる圧力領域を、分子流が実現している領域として校正し、さらに、ガス種を変えてCFを測定し、その比が気体の質量数の1/2乗になっていることにより、分子流が実現しているとして校正する、2微小孔フィルター上流に標準混合ガスを導入し、下流に配置された真空容器を高真空ポンプでガス種iの排気速度CPiで排気したとき、上流の全圧Puを隔膜真空計等の真空計で測定し、上流の全圧Puを変えながら下流のガス種iの分圧Pdiを分圧真空計で測定し、Pdi/Pu比が一定となる圧力領域を、分子流が実現している領域として校正し、さらに、CPiPdiの値と、CFiPumiの値とここで、CFiはガス種iの微小孔フィルターのコンダクタンス、miは標準混合ガスにおけるガス種iの濃度である、を比較して両者が等しくなっている圧力範囲を、分子流が実現している圧力範囲として校正する、3微小孔フィルター上流に標準混合ガスを導入し、下流に配置された真空容器を高真空ポンプで排気速度CPiで排気したとき、上流の全圧Puを隔膜真空計等の真空計で測定し、上流の全圧Puを変えながら下流の全圧Pdを全圧真空計で測定し、CFiPumiの値ここで、CFiはガス種iの微小孔フィルターのコンダクタンス、miは標準混合ガスにおけるガス種iの濃度である、を求め、この求めた値をさらにCPiで除した値を全てのガス種iについて求めて総和し、この総和した値が、全圧真空計で測定した下流の全圧Pdと等しくなっている圧力範囲を分子流が実現している圧力範囲として校正する、以上の3つの校正方法が考えられる。そして、本発明の基準微小ガス流量導入装置には、上記のいずれかの校正方法で予め分子流が実現されることが校正されている微小孔フィルターを用いることを特徴としている。