第1の部分および第2の部分を備える変位デバイスであって、前記第2の部分が、前記第1の部分に対して、第1の方向、前記第1の方向に対して実質的に垂直な第2の方向、ならびに前記第1および第2の方向の両方に対して垂直な第3の方向に変位可能であり、前記第1の部分が、前記第1および第2の方向に対して実質的に平行に延在するキャリアであって、その上に磁石システムがパターンに従って配置されているキャリアを備え、前記磁石システムが、前記キャリアに対して実質的に垂直な、前記第2の部分へ向かう磁化方向を有する第1の磁石、および前記キャリアに対して実質的に垂直な、前記第2の部分から遠ざかる磁化方向を有する第2の磁石を含み、前記第1および第2の磁石が、前記キャリアに対して実質的に垂直に、前記第1または第2の方向のうち1つに対して約45°の角度を成す行と列とのパターンに従って、各行と各列とが交互に配置されるように、前記第1の磁石と前記第2の磁石とが配置されており、前記第2の部分が、1組のコイルブロックユニットを有する電気的コイルシステムを含み、各コイルブロックユニットが、前記磁石システムの磁界内に配置された、使用時に多相システムによって給電される電流導体を含み、前記コイルブロックユニットの組が、前記第2の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する少なくとも3つの第1のコイルブロックユニットと、前記第1の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する少なくとも2つの第2のコイルブロックユニットとを備え、前記変位デバイスが、前記多相システムを有する前記コイルブロックユニットを駆動することによって前記第1の部分に対する前記第2の部分の位置を制御するように構成された制御デバイスを備え、前記第2の部分が主として前記第2の方向に移動するとき、前記制御ユニットが、第1のコイルブロックユニットのみを使用して、前記第2の部分を、前記第1の部分から前記第3の方向へ空中浮揚させるように構成される変位デバイス。2つの第1のコイルブロックユニットおよび2つの第2のコイルブロックユニットが、前記制御デバイスによって、前記第1の部分に対する前記第2の部分の6自由度制御を可能にするように構成され、残りの前記第1および第2のコイルブロックユニットが、すべての第1および第2のコイルブロックユニットによって決定される力の中心を所望の位置に設定するように構成される請求項1に記載の変位デバイス。第1の方向および第1の方向に対して実質的に垂直な第2の方向へ、互いに対して変位可能な第1の部分および第2の部分を備える変位デバイスであって、前記第1の部分が、前記第1および第2の方向に対して実質的に平行に延在するキャリアであって、その上に磁石システムがパターンに従って配置されているキャリアを備え、前記磁石システムが、前記キャリアに対して実質的に垂直な、前記第2の部分へ向かう磁化方向を有する第1の磁石、および前記キャリアに対して実質的に垂直な、前記第2の部分から遠ざかる磁化方向を有する第2の磁石を含み、前記第1および第2の磁石が、前記キャリアに対して実質的に垂直に、前記第1または第2の方向のうち1つに対して約45°の角度を成す行と列とのパターンに従って、各行と各列とが交互に配置されるように、前記第1の磁石と前記第2の磁石とが配置されており、前記第2の部分が、1組のコイルブロックユニットを有する電気的コイルシステムを含み、各コイルブロックユニットが、前記磁石システムの磁界内に配置された、使用時に多相システムによって給電される電流導体を含み、前記コイルブロックユニットの組が、前記第2の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する第1の主コイルブロックユニットと、前記第1の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する第2の主コイルブロックユニットとを備え、前記第1および第2の主コイルブロックユニットが、前記第1および第2の主コイルブロックユニットが配置されている前記第1の方向において最小限の第1の範囲を画定し、前記第1および第2の主コイルブロックユニットが、前記第1および第2の主コイルブロックユニットが配置されている前記第2の方向において最小限の第2の範囲をさらに画定し、前記コイルブロックユニットの組が、前記第2の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する第1の2次コイルブロックユニットをさらに備え、前記第1の2次コイルブロックユニットが、前記第2の範囲内で前記第1の範囲外に配置され、前記第2の範囲が十分に大きく、その結果、前記第1の2次コイルブロックユニットを、すべてのコイルブロックユニットによって決定される力の中心を前記第2の方向に配置するように、前記第2の範囲内で前記第2の方向で見た複数の別個の位置に配置することができる変位デバイス。前記第1の方向における前記力の中心位置を決定する前記第2の主コイルブロックユニットが、前記第1の方向における前記力の中心位置を、前記第2の部分によって支持される部分を含めて前記第2の部分の前記第1の方向における前記重心の位置と位置合わせするように配置される請求項3に記載の変位デバイス。互いに対して6自由度で変位可能な第1の部分および第2の部分を備える変位デバイスであって、前記第1の部分が面を画定するキャリアを備え、この面上に磁石が配置されて磁界を形成し、前記第2の部分が、前記磁界と協働し、前記第2の部分を前記第1の部分に対して6自由度で変位させるように構成された1次コイルシステムを含み、前記第2の部分が、前記磁界と協働し、前記第1の部分と前記第2の部分との間に少なくとも1自由度で駆動力を与えるように構成された2次コイルシステムをさらに含み、その結果、すべてのコイルシステムによって与えられる力の中心が、使用時に、互いに垂直かつ前記キャリアが画定する前記面に対して実質的に平行な第1および第2の方向で見た重心に実質的に配置される、変位デバイス。前記1次コイルシステムが、前記第2の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する2つの第1の主コイルブロックユニットと、前記第1の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する2つの第2の主コイルブロックユニットとを備え、前記第1の主コイルブロックユニットが2×2の配列の対角線上に位置するように、前記第1および第2の主コイルブロックユニットが前記キャリアによって画定された前記面に対して平行な2×2の配列に配置され、前記2次コイルシステムが、前記第2の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する第1の2次コイルブロックユニット、および前記第1の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する第2の2次コイルブロックユニットを備え、前記第1および第2の主コイルブロックユニットならびに前記第1および第2のコイルブロックユニットが、共に2×3の配列を形成する請求項5に記載の変位デバイス。前記第1および第2の主コイルブロックユニットならびに前記第1および第2の2次コイルブロックユニットが、前記第2の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有するコイルブロックユニットおよび前記第1の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有するコイルブロックユニットが2×3の配列の各行と列において交互に配置されるように配置される請求項6に記載の変位デバイス。リソグラフィ装置用の、ステージシステムと例えばフレームといった参照構造体との組合せであって、前記ステージシステムが前記参照構造体に対して変位可能であるように、請求項1、3または5に記載の変位デバイスが前記ステージシステムと前記参照構造体との間に設けられ、前記変位デバイスの前記第1の部分が前記参照構造体上に設けられ、前記変位デバイスの前記第2の部分が前記ステージシステム上に設けられる組合せ。前記ステージシステムが、前記第2の部分と前記第3の部分の間に配置された位置決めデバイスによって前記第2の部分に対して変位可能な第3の部分を備え、前記位置決めデバイスが、前記第3の部分を前記第2の部分から第3の方向へ空中浮揚させるためのアクチュエータを含み、前記第1および第2の両方向におけるこれらのアクチュエータ間の距離が、同一種類の磁石間の最小距離のn倍、すなわち磁極ピッチのn倍に等しく、nが正の整数である請求項8に記載の組合せ。前記ステージシステムが、前記第2の部分と前記第3の部分の間に配置された位置決めデバイスによって前記第2の部分に対して変位可能な第3の部分を備え、前記位置決めデバイスが、前記第3の部分を前記第2の部分に対して前記第1または第2の方向に変位させるためのアクチュエータを含み、これらのアクチュエータ間の距離が、それぞれ前記第1または第2の方向において、同一種類の磁石間の最小距離のn0.5倍、すなわち前記磁極ピッチのn0.5倍に等しく、nが正の整数である請求項8に記載の組合せ。前記ステージシステムが、前記第2の部分と前記第3の部分の間に配置された位置決めデバイスによって前記第2の部分に対して変位可能な第3の部分を備え、前記位置決めデバイスが、前記第3の部分を前記第2の部分から第3の方向へ空中浮揚させるためのアクチュエータを含み、これらのアクチュエータ間の距離が、それぞれ前記第1および第2の両方向において、同一種類の磁石間の最小距離のn0.5倍、すなわち前記磁極ピッチのn0.5倍に等しく、nが正の整数である請求項8に記載の組合せ。前記ステージシステムが、前記第2の部分と前記第3の部分の間に配置された位置決めデバイスによって前記第2の部分に対して変位可能な第3の部分を備え、前記位置決めデバイスが、前記第3の部分を前記第2の部分に対して前記第1または第2の方向に変位させるためのアクチュエータを含み、前記第1および第2の両方向におけるこれらのアクチュエータ間の距離が、同一種類の磁石間の最小距離のn倍、すなわち前記磁極ピッチのn倍に等しく、nが正の整数である請求項8に記載の組合せ。請求項8に記載の組合せを備えるリソグラフィ装置。放射ビームを調節するように構成された照明システムと、前記放射ビームの断面内にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたサポートと、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記基板のターゲット部分上に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを備えるリソグラフィ装置であって、前記ステージシステムが前記基板テーブルを支持する請求項13に記載のリソグラフィ装置。前記基板テーブルが前記ステージシステムの前記第3の部分である請求項9、10、11または12に記載のリソグラフィ装置。前記第2の部分が、同一種類のコイルブロックユニットのみを使用して、前記第1および第2の方向に対して実質的に垂直な第3の方向に空中浮揚される請求項1、3または5に記載の変位デバイスの第2の部分を位置決めする方法。前記第2の方向における前記ステージシステムの移動中、前記第2の部分が第1のコイルブロックユニットによって空中浮揚される請求項16に記載の方法。改善された変位デバイス、好ましくは大きさの異なる空間またはタイプの異なるコイルブロックユニットを必要とせずに、その力の中心を適合することができるコイルブロックユニットの構成を有する変位デバイスを提供することが望ましい。改善された変位デバイス、好ましくは第1の部分の磁石および/または第2の部分のコイルブロックユニットの他の位置決めデバイスに対するクロストークが低減される変位デバイスを提供することがさらに望ましい。本発明の第1の態様によれば、第1の部分および第2の部分を備える変位デバイスであって、第2の部分が、第1の部分に対して、第1の方向、第1の方向に対して実質的に垂直な第2の方向、ならびに第1および第2の方向の両方に対して垂直な第3の方向に変位可能であり、第1の部分が、第1および第2の方向に対して実質的に平行に延在するキャリアであって、その上に磁石システムがパターンに従って配置されているキャリアを備え、磁石システムが、キャリアに対して実質的に垂直な、第2の部分へ向かう磁化方向を有する第1の磁石、およびキャリアに対して実質的に垂直な、第2の部分から遠ざかる磁化方向を有する第2の磁石を含み、第1および第2の磁石が、キャリアに対して実質的に垂直に、第1または第2の方向のうちの1つに対して約45°の角度を成す行と列とのパターンに従って、各行と各列とが交互に配置されるように、第1の磁石と第2の磁石とが配置されており、第2の部分が、1組のコイルブロックユニットを有する電気的コイルシステムを含み、各コイルブロックユニットは、磁石システムの磁界内に配置された、使用時に多相システムによって給電される電流導体を含み、コイルブロックユニットの組が、第2の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する少なくとも3つの第1のコイルブロックユニットと、第1の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する少なくとも2つの第2のコイルブロックユニットとを備え、変位デバイスが、多相システムを有するコイルブロックユニットを駆動することによって第1の部分に対する第2の部分の位置を制御するように構成された制御デバイスを備え、第2の部分が主として第2の方向に移動するとき、制御ユニットが、第1のコイルブロックユニットのみを使用して、第2の部分を、第1の部分から第3の方向へ空中浮揚させるように構成される変位デバイスが提供される。本発明の第2の態様によれば、第1の方向および第1の方向に対して垂直な第2の方向へ互いに変位可能な第1の部分および第2の部分を有する変位デバイスであって、第1の部分が、第1および第2の方向に対して実質的に平行に延在するキャリアであって、その上に磁石システムがパターンに従って固定されているキャリアを含み、それによって、キャリアに対して垂直な、第2の部分へ向かう磁化方向を有する第1の種類の磁石、およびキャリアに対して垂直な、第2の部分から遠ざかる磁化方向を有する第2の種類の磁石が、キャリアに対して垂直に、第1または第2の方向のうちの1つに対して約45°の角度を成す行と列とのパターンに従って、各行と各列とが交互に配置されるように、第1の種類の磁石と第2の種類の磁石とが配置されており、第2の部分は、1組のコイルブロックユニットを有する電気的コイルシステムを備えており、各コイルブロックユニットが、磁石システムの磁界内にあり多相システムによって給電されている電流導体を有し、コイルブロックユニットの組が、-第2の方向に対して平行に配向された電流導体を有する少なくとも1つの第1の種類の主コイルブロックユニットと、-第1の方向に対して平行に配向された電流導体を有する少なくとも1つの第2の種類の主コイルブロックユニットとを含み、主コイルブロックユニットが、主コイルブロックユニットが配置されている第1の方向において最小限の第1の範囲を画定し、主コイルブロックユニットが、主コイルブロックユニットが配置されている第2の方向において最小限の第2の範囲をさらに画定し、コイルブロックユニットの組が、第2の方向に対して平行に配向された電流導体を有する少なくとも1つの第1の種類の2次コイルブロックユニットをさらに含み、少なくとも1つの2次コイルブロックユニットが、第2の範囲内で第1の範囲外に配置され、第2の範囲が十分に大きく、その結果、少なくとも1つの2次コイルブロックユニットを、すべてのコイルブロックユニットによって決定される力の中心を第2の方向に配置するように、第2の範囲内で、第2の方向で見た複数の別個の位置に配置することができる、変位デバイスが提供される。本発明の第3の態様によれば、互いに対して6自由度で変位可能な第1の部分および第2の部分を備える変位デバイスであって、第1の部分が、面を画定するキャリアを備え、この面上に磁石が配置されて磁界を形成し、第2の部分が、磁界と協働し、第1の部分に対して第2の部分を6自由度で変位させるように構成された1次コイルシステムを含み、第2の部分が、第1の部分と第2の部分との間に少なくとも1自由度で駆動力を与えるために磁界と協働するように構成された2次コイルシステムをさらに含み、その結果、すべてのコイルシステムによって与えられる力の中心が、使用時に、互いに垂直かつキャリアが画定する面に対して実質的に平行な第1および第2の方向で見た重心に実質的に配置される、変位デバイスが提供される。本発明の一実施形態によれば、ステージシステムと例えばフレームである参照構造体との組合せがリソグラフィ装置向けに提供され、ステージシステムが参照構造体に対して変位可能であるように、本発明の第1、第2、または第3の態様による変位デバイスがステージシステムと参照構造体との間に設けられ、変位デバイスの第1の部分が参照構造体上に設けられ、変位デバイスの第2の部分がステージシステム上に設けられる。本発明の別の実施形態によれば、本発明によるステージシステムと参照構造体との組合せを備えるリソグラフィ装置が提供される。本発明の別の実施形態によれば、本発明の第1、第2、または第3の態様による変位デバイスの第2の部分を位置決めする方法が提供され、第2の部分が、同一種類のコイルブロックユニットのみを使用して、第1および第2の方向に対して実質的に垂直な第3の方向に空中浮揚される。本発明の別の実施形態によれば、変位デバイスによってフレームに対して移動可能なステージシステムを含むリソグラフィ装置であって、変位デバイスが、フレーム上に配置された第1の部分およびステージシステム上に配置された第2の部分を有し、第1の部分および第2の部分が、第1の方向および第1の方向に対して垂直な第2の方向へ互いに対して変位可能であり、第1の部分が、第1および第2の方向に対して実質的に平行に延在するキャリアであって、その上に磁石システムがパターンに従って固定されているキャリアを含み、それによって、キャリアに対して垂直な、第2の部分へ向かう磁化方向を有する第1の種類の磁石、およびキャリアに対して垂直な、第2の部分から遠ざかる磁化方向を有する第2の種類の磁石が、キャリアに対して垂直に、第1または第2の方向のうちの1つに対して約45°の角度を成す行と列とのパターンに従って、各行と各列とが交互に配置されるように、第1の種類の磁石と第2の種類の磁石とが配置されており、第2の部分は、1組のコイルブロックユニットを有する電気的コイルシステムを備えており、各コイルブロックユニットが、磁石システムの磁界内にあり多相システムによって給電されている電流導体を有し、コイルブロックユニットの組が、-第2の方向に対して平行に配向された電流導体を有する少なくとも1つの第1の種類の主コイルブロックユニットと、-第1の方向に対して平行に配向された電流導体を有する少なくとも1つの第2の種類の主コイルブロックユニットとを含み、主コイルブロックユニットが、主コイルブロックユニットが配置されている第1の方向において最小限の第1の範囲を画定し、主コイルブロックユニットが、主コイルブロックユニットが配置されている第2の方向において最小限の第2の範囲をさらに画定し、コイルブロックユニットの組が、第2の方向に対して平行に配向された電流導体を有する少なくとも1つの第1の種類の2次コイルブロックユニットをさらに含み、少なくとも1つの2次コイルブロックユニットが、第2の範囲内で第1の範囲外に配置され、第2の範囲が十分に大きく、その結果、少なくとも1つの2次コイルブロックユニットを、すべてのコイルブロックユニットによって決定される力の中心を第2の方向に配置するように、第2の範囲内で、第2の方向で見た複数の別個の位置に配置することができる、リソグラフィ装置が提供される。本発明のさらに別の実施形態によれば、リソグラフィ装置のステージシステムを位置決めする方法が提供され、リソグラフィ装置が、本発明の第1、第2、または第3の態様による変位デバイスによってフレームに対して移動可能なステージシステムを含み、第2の部分が、同一種類のコイルブロックユニットを使用して、第1および第2の方向に対して垂直な第3の方向に空中浮揚される。本発明の別の実施形態によれば、変位デバイスを備えるリソグラフィ装置であって、変位デバイスが、互いに対して6自由度で変位可能な第1の部分および第2の部分を含み、第1の部分が、面を画定するキャリアを備え、この面上に磁石が配置されて磁界を形成し、第2の部分が、磁界と協働し、第1の部分に対して6自由度で第2の部分を変位させるように構成された1次コイルシステムを含み、第2の部分が、第1の部分と第2の部分との間に少なくとも1自由度で駆動力を与えるために磁界と協働するように構成された2次コイルシステムをさらに含み、その結果、すべてのコイルシステムによって与えられる力の中心が、使用時に、互いに垂直かつキャリアが画定する面に対して実質的に平行な第1および第2の方向で見た重心に実質的に配置される、リソグラフィ装置が提供される。図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームB例えば紫外線または任意の他の適切な放射を調整するように構成される照明システムイルミネータILと、パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するように構築され、いくつかのパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成される第1の位置決めデバイスPMに連結される、パターニングデバイスサポートまたはサポート構造例えばマスクテーブルMTとを備える。また、この装置は、基板例えばレジストコートウェーハWを保持するように構築され、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成される第2の位置決めデバイスPWに連結される、基板テーブル例えばウェーハテーブルWTまたは基板サポートを備える。さらに、この装置は、基板Wの例えば1つまたは複数のダイを含むターゲット部分C上に、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを投影するように構成される投影システム例えば屈折投影レンズシステムPSを備える。この照明システムは、放射を導くか、整形するか、あるいは制御するために、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気など様々なタイプの光学コンポーネント、または他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組合せを含んでよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、また、例えばパターニングデバイスが真空環境内で保持されるか否かなど他の条件によって決まる仕方でパターニングデバイスを保持する。パターニングデバイスサポートは、機械式、真空、静電気、または他のクランプ技法を使用し、パターニングデバイスを保持することができる。パターニングデバイスサポートは、例えば必要に応じて固定または可動とすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスが、例えば投影システムに対して確実に所望の位置にあるようにすることができる。本明細書においてレチクルまたはマスクという用語を使用することがあれば、それは、パターニングデバイスという、より一般的な用語と同義と見なすことができる。本明細書において使用されるパターニングデバイスという語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用することが可能な任意のデバイスを指すものとして、広義に解釈されたい。放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャすなわちいわゆるアシストフィーチャを含む場合には、基板のターゲット部分の所望のパターンと正確には一致しないことがある点に留意されたい。一般的には、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などの、ターゲット部分中に生成されるデバイスにおける特定の機能層に一致する。パターニングデバイスは、透過型または反射型とすることができる。パターニングデバイスの諸例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、プログラマブルLCDパネルが含まれる。マスクはリソグラフィで周知であり、バイナリ、レベンソン型alternating位相シフト、ハーフトーン型attenuated位相シフトなどのマスクタイプ、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの一例は、小さな鏡の行列構成を使用し、鏡のそれぞれは、入来放射ビームを様々な方向で反射するように個別に傾けることができる。傾斜式鏡は、鏡行列によって反射される放射ビーム内にパターンを与える。本明細書に用いられる用語投影システムは、屈折システム、反射システム、反射屈折システム、磁気システム、電磁気システム、および静電気光学システムあるいはそれらの任意の組合せを含むあらゆるタイプの投影システムを包含し、使用される露光放射あるいは液浸液の使用または真空の使用など他の要因に適切なものとして、広義に解釈されたい。本明細書における用語投影レンズのいかなる使用も、より一般的な用語投影システムと同義と見なされてよい。本明細書で記述されるように、装置は透過タイプ例えば透過性マスクを使用するタイプである。あるいは、装置は反射タイプ例えば上記で言及されたプログラマブルミラーアレイを使用するタイプまたは反射性マスクを使用するタイプでよい。リソグラフィ装置は、2つデュアルステージ以上の基板テーブルまたは基板サポートおよび/または2つ以上のマスクテーブルまたはマスクサポートを有するタイプのものとすることができる。そのようなマルチステージ機では、追加のテーブルまたはサポートを同時に使用することができ、あるいは、1つまたは複数の他のテーブルまたはサポートが露光用に使用されている間に、1つまたは複数のテーブルまたはサポート上で準備ステップを実施することができる。リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように比較的高い屈折率を有する液体、例えば水によって基板の少なくとも一部を覆うことができるタイプとすることもできる。液浸液は、リソグラフィ装置の他の空間、例えばマスクと投影システムとの間に適用することもできる。液浸技法を使用して投影システムの開口数を増加させることができる。本明細書で使用されるような液浸という用語は、基板などの構造体が液体中に沈められなければならないことを意味せず、むしろ液体が露光中投影システムと基板との間に置かれていることを単に意味する。図1を参照すると、イルミネータILは放射源SOから放射ビームを受け取る。例えばこの放射源がエキシマレーザであるとき、放射源とリソグラフィ装置は別個の実体でよい。そのような例では、放射源がリソグラフィ装置の一部を形成するとは見なされず、放射ビームは、放射源SOからイルミネータILまで、例えば適当な誘導ミラーおよび/またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムBDを用いて通される。他の例では、例えば放射源が水銀灯であるとき、放射源はリソグラフィ装置の一体型部品でよい。放射源SOおよびイルミネータILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDも一緒に、放射システムと呼ばれてよい。イルミネータILは、放射ビームの角度強度分布を調節するように構成されたアジャスタADを含んでよい。一般に、少なくともイルミネータの瞳面内強度分布の外側および/または内側半径範囲一般にそれぞれσouterおよびσinnerと呼ばれるは調節することができる。さらに、イルミネータILは、インテグレータINおよびコンデンサCOなど様々な他のコンポーネントを含んでよい。イルミネータは、放射ビームがその横断面において所望の均一性および強度分布を有するように調節するのに使用されてよい。放射ビームBは、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMT上に保持されるパターニングデバイス例えばマスクMA上に入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。放射ビームBは、パターニングデバイス例えばマスクMAを横切って、基板Wのターゲット部分C上にビームを集中させる投影システムPSを通過する。基板テーブルWTは、第2の位置決めデバイスPWおよび位置センサIF例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサを用いて、例えば放射ビームBの経路内へ個別のターゲット部分Cを位置決めするように正確に移動させることができる。同様に、第1の位置決めデバイスPMおよび別の位置センサ図1には明示されていないは、例えばマスクライブラリからの機械的検索の後、またはスキャン中に、放射ビームBの経路に対してパターニングデバイス例えばマスクMAを正確に位置決めするのに使用することができる。一般に、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTの動作は、第1の位置決めデバイスPMの一部を形成するロングストロークモジュール粗動位置決めおよびショートストロークモジュール微動位置決めを用いて実現することができる。同様に、基板テーブルWTまたは基板サポートの動作は、第2のポジショナPWの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合にはスキャナとは対照的に、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTがショートストロークアクチュエータのみに接続されてよく、あるいは固定されてよい。パターニングデバイス例えばマスクMAおよび基板Wは、パターニングデバイスのアライメントマークM1、M2および基板のアライメントマークP1、P2を使用して整列させることができる。図示された基板アライメントマークスクライブラインアライメントマークとして既知であるは専用ターゲット部分を占めるが、ターゲット部分の間のスペースに配置されてもよい。同様に、パターニングデバイス例えばマスクMA上に複数のダイが与えられる状況では、パターニングデバイスのアライメントマークはダイ間に配置されてよい。図示される装置は、以下のモードの少なくとも1つにおいて使用することが可能である。1.ステップモードでは、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTまたはマスクサポートおよび基板テーブルWTまたは基板サポートが、実質的に静止状態に保たれ、放射ビームに与えられた全パターンが、一度でターゲット部分C上に投影されるすなわち単一静的露光。次いで、基板テーブルWTまたは基板サポートは、別のターゲット部分Cを露光することが可能となるようにX方向および/またはY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一静的露光において像が形成されるターゲット部分Cのサイズを限定する。2.スキャンモードでは、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTまたはマスクサポートおよび基板テーブルWTまたは基板サポートが、同期してスキャンされ、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影されるすなわち単一動的露光。パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTまたはマスクサポートに対する基板テーブルWTまたは基板サポートの速度および方向は、投影システムPSの拡大率縮小率および像反転特性により決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一動的露光におけるターゲット部分の非スキャニング方向の幅を限定し、スキャニング動作の長さが、ターゲット部分のスキャニング方向の高さを決定する。3.別のモードでは、パターニングデバイスサポート例えばマスクテーブルMTまたはマスクサポートが、プログラマブルパターニングデバイスを保持しつつ実質的に静的状態に保たれ、基板テーブルWTまたは基板サポートが、移動されまたはスキャンされるとともに、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影される。このモードでは、一般的にはパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは基板サポートの各移動の後で、またはスキャン中の連続放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この作動モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に応用することが可能である。前述の使用モードまたはまったく異なった使用モードの組合せおよび/または変形形態も用いられてよい。この実施形態では、第2の位置決めデバイスPWは、あるいはステージシステムと称され、フレームFAに対する基板テーブルWTの粗動位置決めをもたらすように構成されたロングストロークモジュールとしての変位デバイスを含んでいる。この変位デバイスは、フレームFA上に配置された第1の部分および第2の位置決めデバイスPW上に配置された第2の部分を含み、第1の部分および第2の部分は、第1の方向Xおよび第1の方向Xに対して垂直な第2の方向Yへ互いに対して変位可能である。第1の部分FPの一部分が、図2Aに示されている。第1の部分FPは、第1の方向Xおよび第2の方向Yに対して実質的に平行に延在するキャリアCAを含む。第1および第2の方向X、Yは、パターン付き放射ビームに対して、通常は実質的に垂直であり、その結果、第1および第2の方向X、Yに対して実質的に垂直な第3の方向Z1図1を参照されたいは、その場合パターン付き放射ビームに対して平行である。キャリアCA上に、パターンに従って磁石システムが取り付けられており、それによって、キャリアCAに対して実質的に垂直な、第2の部分へ向かう磁化方向すなわち第3の方向Z1を有する第1の種類の磁石N、およびキャリアCAに対して実質的に垂直な、第2の部分から遠ざかる磁化方向すなわち第3の方向Z1を有する第2の種類の磁石Zが、キャリアCAに対して実質的に垂直に、第1または第2の方向X、Yのうちの1つに対して約45°の角度を成す行と列とのパターンに従って、各行と各列とが交互に配置されるように、第1の種類の磁石Nと第2の種類の磁石Zとが配置されている。45°の角度は、図2Aで第1の方向Xに対して示されている。第1の種類の磁石および第2の種類の磁石は、あるいはそれぞれ第1の磁石および第2の磁石と称されることがある。磁極のピッチMPは、別々の種類の2つの互いに隣接した磁石NおよびZの中央点の間の第1または第2の方向における距離、すなわち同一種類の磁石の中央点が位置する、互いに隣接した対角線間の距離によって定義される。磁石システムは、第1および第2の方向によって定義され、第1の種類の磁石の方へ向く面に対して実質的に平行な磁化方向を有する第3の種類の磁石をさらに含んでよく、第3の種類の磁石が、第1の種類の磁石と第2の種類の磁石の各磁石間に存在し、すなわち、いわゆるハルベルク構成である。第2の位置決めデバイスPWの上に配置された第2の部分SPは、1組のコイルブロックユニットを有する電気的コイルシステムを含んでいる。図2Bは、従来技術の電気的コイルシステムを示しており、先ず別々のコンポーネントを示すために用いられることになり、したがって後続の図で参照される。図2Bは、4つのコイルブロックユニットCBを含む1組のコイルブロックユニットを有する電気的コイルシステムを示す。各コイルブロックユニットは電流導体CCを有する。参照CCは、簡易さのために、左上のコイルブロックユニットCBのみに関して示されている。電流導体CCは、単一の巻線として概略的に示されているが、実際には、複数の巻線および別々の構成が使用され得る。電流導体CCは、図2Aに示されるように磁石システムの磁界内に位置しており、多相システムによって給電されている。図2Bに示されるように、コイルブロックユニットCB当たり3つの電流導体CCの存在は3相システムの使用を示唆するが、4相システムまたは他の任意の種類の多相システムなどの代替形態構成も意図される。図2Bの実施形態では、すべての4つのコイルブロックユニットは類似の設計であり、配向と位置だけが異なる。コイルブロックユニットのうち2つ左上および右下のコイルブロックユニットを参照されたいは、主として第2の方向Yに対して平行に配向された電流導体を有し、その結果、これらのコイルブロックユニットは第1の方向Xに力を生成することができる。これらのコイルブロックユニットは、あるいは第1の種類のコイルブロックユニット、第1のコイルブロックユニットまたはXフォーサと称される。その他の2つのコイルブロックユニット右上および左下のコイルブロックユニットを参照されたいは、主として第1の方向Xに対して平行に配向された電流導体を有し、その結果、これらのコイルブロックユニットは第2の方向Yに力を生成することができる。これらのコイルブロックユニットは、あるいは第2の種類のコイルブロックユニット、第2のコイルブロックユニットまたはYフォーサと称される。図2Bの4つのコイルブロックユニットの配列は、第1の方向Xにおける最小限の第1の範囲FRおよび第2の方向Yにおける最小限の第2の範囲SRを定義し、この中にコイルブロックユニットが配置される。第1および第2の範囲FR、SRのそれぞれの境界は破線で示されている。コイルブロックユニットCBは、このように、第1の範囲FRと第2の範囲SRがオーバラップする領域に配置される。この従来技術の実施形態のコイルブロックユニットは、すべてが同一の最大の力を生成することができる。XフォーサおよびYフォーサの両方が、それぞれ第1および第2の方向に同一の最大力を生成するとき、これらの力によって第2の部分に対して加えられるモーメントは、力の中心COFに関してゼロである。対称な構成により、力の中心COFは、4つのコイルブロックユニットの中央に配置される。力の中心を適合させるには、コイルブロックユニットの1つまたは複数を第1または第2の方向に移動するか、あるいはコイルブロックユニット自体を変更する必要があり得る。しかし、1つまたは複数のコイルブロックユニットを移動する場合には、コイルブロックユニットが、第1の範囲および/または第2の範囲の外部に位置決めされることになり、その効果が力の中心と重心との間の初期の不一致に左右される。このことは、好ましくない状態をもたらす。図3は、図1の変位デバイス内に与えることができる電気的コイルシステムを有する第2の部分を示す。電気的コイルシステムは、1次コイルシステムと2次コイルシステムとに分割することができる。1次コイルシステムのコイルブロックユニットの組は、第1の種類の主コイルブロックユニットMCB1、すなわち第2の方向Yに対して実質的に平行に配向された電流導体CCを有する第1の主コイルブロックユニット、および第2の種類の主コイルブロックユニットMCB2、すなわち第1の方向Xに対して実質的に平行に配向された電流導体CCを有する第2の主コイルブロックユニットを含んでいる。第1および第2の主コイルブロックユニットは、第2の部分に対して実質的に固定され、すなわち2次コイルブロックユニットに対する位置決め範囲が限定されており、このことは以下で説明される。第1および第2の主コイルブロックユニットは、第1の方向Xにおける最小限の第1の範囲FRおよび第2の方向Yにおける最小限の第2の範囲SRを定義し、この中に主コイルブロックユニットが配置される。第1および第2の範囲の境界は、対応する破線で示されている。2次コイルシステムは、第1の種類の2次コイルブロックユニットSCB、すなわち第2の方向Yに対して実質的に平行に配向された電流導体を有する第1のコイルブロックユニットを含み、2次コイルブロックユニットが、第2の範囲SR内で第1の範囲FR外に配置される。2次コイルブロックユニットおよび主コイルブロックユニットは、2次コイルブロックユニットおよび主コイルブロックユニットが第3の範囲内かつ第2の範囲内に配置されるように、第1の方向Xに最小限の第3の範囲TRを画定する。第2の範囲SRは、2次コイルブロックユニットが第2の方向で見た別々の位置に配置されるほど十分に大きい。図3では、2次コイルブロックユニットが、第2の範囲の一番上に示され、第2の方向における最先端位置を示すゴーストイメージとして一番下にも示されている。2次コイルブロックユニットを位置決めすることは、第2の方向において、すべてのコイルブロックユニットによって決定される力の中心COFの位置を設定することになる。これは、2次コイルブロックユニットが第2の範囲の一番上にあるときの力の中心位置を示す参照数字COFによって図3に示されている。2次コイルブロックユニットが第2の範囲の一番下にあるときの力の中心位置がゴーストイメージとして示されており、その結果、力の中心の範囲CFRを画定することができ、2次コイルブロックユニットを適切に位置決めすることにより、力の中心がCFR内に位置決めされ得る。換言すれば、2次コイルシステムは、少なくとも1自由度この場合第1の方向Xで駆動力を供給するように、キャリア上の永久磁石によって生成された磁界と協働するように構成され、その結果、すべてのコイルシステムによって与えられる力の中心が、使用時に、キャリアが画定する面に対して実質的に平行な少なくとも1つの方向で、好ましくは2つの方向、例えば互いに垂直かつキャリアが画定する面に対して実質的に平行な第1および第2の方向X、Yで見た重心に実質的に配置される。図3の構成の利益は、上記で示されたような2次コイルブロックユニットの位置決めが、別々の第3の範囲と第2の範囲とをもたらすことにはならないことであり、その結果、第2の部分上のコイルブロックユニットによって必要とされる空間の大きさを適応させる必要なく、重心位置に従って力の中心を位置決めすることができ、それによって、変位デバイスを、ステージシステムに対してより容易に最適化することができる。さらに、コイルブロックユニット担持フレームを使用して、コイルブロックユニットを第2の部分に取り付けることができる。このフレームは、例えば、個別の取付け位置に対して複数の取付け穴を設けることにより、あるいは2次コイルブロックユニットのスライドを可能にする取付け溝を設けることにより、2次コイルブロックユニットの別個の位置への取付けを可能にするように適合することができ、それによって、第2の範囲SR内の任意の所望の位置に2次コイルブロックユニットを取り付けることができる。さらに、特に諸コイルブロックユニットがそれらの最大力を加えるように駆動されない場合、力の中心は、別々のコイルブロックユニットを通る個々の電流が適合される、いわゆるゲインバランスによって重心に対して調整される。これは、あらゆる方向に対して適用することができ、例えば、1つのコイルブロックユニットが、第1の方向の大きな力および第3の方向の小さな力を加えることができ、その一方で同じ種類の別のコイルブロックユニットがこれと反対のことを行なうことができる。図4は、図1のステージシステムで使用するのに適切な変位デバイスの第2の部分の代替実施形態を示す。1次コイルシステムに関連した1組のコイルブロックユニットが第1の種類の主コイルブロックユニットMCB1および第2の種類の2つの主コイルブロックユニットMCB2を伴って示されており、MCB1およびMCB2は、主コイルブロックユニットが配置される第1および第2の範囲FR、SRを共に画定する。第1の種類の主コイルブロックユニットMCB1は、この実施形態では、第2の種類の主コイルブロックユニットMCB2によって生成され得る最大力より、例えば2倍大きな最大力を生成するように構成される。コイルブロックユニットの組は、第2の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する第1の種類の2次コイルブロックユニットSCB1を有する2次コイルシステムを含み、2次コイルブロックユニットSCB1は、第2の範囲内で第1の範囲外に配置される。第2の範囲SRは、第1の種類の2次コイルブロックユニットSCB1を適切に位置決めすることによって力の中心位置を第2の方向に調整することができるほど十分に大きい。コイルブロックユニットの組、すなわち2次コイルシステムは、第1の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有する第2の種類の2次コイルブロックユニットSCB2も含み、2次コイルブロックユニットSCB2は、第1の範囲内で第2の範囲外に配置される。第1の範囲FRは、第2の種類の2次コイルブロックユニットSCB2を適切に位置決めすることによって力の中心位置を第1の方向に調整することができるほど十分に大きい。このコイルブロックユニットの組は、主コイルブロックユニットおよび2次コイルブロックユニットが配置される最小限の第3の範囲TRおよび最小限の第4の範囲FORを画定する。この構成の利益は、第3および第4の範囲を変更する必要なく、両2次コイルブロックユニットを、力の中心位置を設定するための別個の位置に位置決めすることができ、その結果、コイルブロックユニットが占める空間の大きさが一定のままであることである。さらなる利益は、第1および第2の方向の両方で力の中心位置を設定することができることである。また、2次コイルブロックユニットのうちの1つは、必要に応じてオーバラップ範囲OR内に位置決めされ、それによって依然として第3および第4の範囲内に位置していることも可能である。しかし、2次コイルブロックユニットの1つだけがこのオーバラップ範囲に配置され得るので、この領域における力の中心の可能な適合は限定される。したがって、図4の実施形態は、本発明の第2の態様による変位デバイスの第2の部分を示す。図5は、図1の変位デバイスまたはステージシステムで使用することができる、第2の部分上に配置された1組のコイルブロックユニットのさらに別の実施形態を示す。第1の範囲FRおよび第2の範囲SRを画定する、第1の種類の1つの主コイルブロックユニットMCB1および第2の種類の2つの主コイルブロックユニットMCB2が示されている。第2の範囲内ではあるものの第1の範囲外に、第1の種類の2つの2次コイルブロックユニットSCB1が配置されている。第2の範囲SRは、両2次コイルブロックユニットが第2の方向で見た別個の位置に位置決めされるほど十分に大きく、その結果、第2の方向において力の中心を設定することができる。この構成は、2次コイルブロックユニットが1つに限定されないことを明白に示している。したがって、図5の実施形態は、本発明の第2の態様による変位デバイスの第2の部分を示す。しかし、図5の実施形態は、本発明の第1の態様による変位デバイスの第2の部分も示している。すなわち、第2の部分は、第2の方向Yに対して実質的に平行に配向された電流導体を有する3つの第1のコイルブロックユニットMCB1、SCB1、および第1の方向Xに対して実質的に平行に配向された電流導体を有する2つの第2のコイルブロックユニットMCB2を含む。この変位デバイスは、この場合は制御デバイスCDに一体化されている多相システムを有するコイルブロックユニットを駆動することによって第1の部分に対する第2の部分の位置を制御するように構成された制御デバイスCDをさらに含む。制御デバイスの駆動能力は、制御デバイスCDとコイルブロックユニットの間の破線によって概略的に示されている。制御デバイスCDは、第2の部分が主として第2の方向に移動するとき、第1のコイルブロックユニットMCB1、SCB1のみを使用して、第2の部分を、第1の部分から第3の方向Z1へ空中浮揚させるようにさらに構成される。結果的に、第1のコイルブロックユニットに対するコミュテーションは、存在しないかまたはわずかであり、その結果、他の近くの位置決めデバイスに対する影響は、一定であるかまたはせいぜい低周波数の挙動になり、補償するのがはるかに簡単である。さらに、コミュテーションは、第2のコイルブロックユニットに対して起こることになるが、これらのコイルブロックユニットが第2の部分を空中浮揚させるのに使用されないので、特に等速移動するときには必要とされる駆動力が最小限になり、したがって駆動電流が最小限になるので、電流が非常に小さく、したがって影響がかなり低減される。図6は、第2の部分上に配置された1組のコイルブロックユニットのさらに別の実施形態を示す。第1の範囲FRおよび第2の範囲SRを画定する、第1の種類の2つの主コイルブロックユニットMCB1および第2の種類の2つの主コイルブロックユニットMCB2が示されている。第2の範囲内ではあるものの第1の範囲外に第1の種類の2次コイルブロックユニットSCB1が配置されており、第2の方向において力の中心位置を設定するように、第2の範囲で別個の位置に配置され得る。一実施形態では、第2の種類の主コイルブロックユニットは、第1の方向で見た第2の部分の重心位置に位置決めされる。実際、図6の実施形態は図3の実施形態に類似であるが、図6の1次コイルシステムは、より多くの主コイルブロックユニットを備え、第1の部分に対する第2の部分の位置を、より多くの自由度で制御することが可能になる。図7は、既に図6で部分的に示されたステージシステムを示す概略側面図である。図7は、図2Aに類似の磁石システムを有する第1の部分FPおよび位置決めデバイスPWとも称される第2の部分SPをより明白に示す図1を参照されたい。したがって、第2の部分SPと第1の部分を含むフレームとの間の粗動位置決めをもたらすために、変位デバイスがロングストロークモジュールとして設けられる。高精度位置決めをもたらすように構成されたショートストロークモジュール、すなわち位置決めデバイスが、第2の部分と基板テーブルWTすなわち第3の部分との間に設けられる。図7には、第1および第2の方向に対して実質的に垂直な第3の方向Z1へ基板テーブルを空中浮揚させるアクチュエータACTだけが示されている。ショートストロークモジュールは、完全な6自由度位置決めを可能にするために、好ましくは第1および第2の方向X、Yに力を加えるためのアクチュエータも含む。各アクチュエータACTは、第2の部分SP上に配置されたコイルCLを含み、コイルCLは、基板テーブルWT上に配置された少なくとも1つの磁石MAGと協働する。全部で4つのアクチュエータACTが設けられ、図7ではそのうち2つだけを見ることができる。アクチュエータACTは、コイルブロックユニットの上に設けられる。コイルブロックユニット上へのアクチュエータの投影が図6に示されている。第1の部分FP上の磁石システムおよび第2の部分SP上のコイルブロックユニットの両方が、第3の方向Z1を含む全方向に広がる磁界を生成する。したがって、アクチュエータACTはこれらの磁界の中に配置される。この磁界は、コイルCLと磁石MAGの間の相互作用に影響を及ぼし、アクチュエータACTの位置精度を低下させ、また、基板テーブルWTを変形させる可能性のある外乱力として現われる。磁界強度が、磁界生成コンポーネントからの距離の増加に伴って低下するので、アクチュエータACTは、磁界生成コンポーネントの近くで最大の影響を受け、その結果、図7において、左側のアクチュエータACTは、主としてアクチュエータの下の第2の種類の主コイルブロックユニットMCB2の影響を受け、他のコイルブロックユニットによる影響はより小さく、右側のアクチュエータACTは、主としてアクチュエータの下の第1の種類の主コイルブロックユニットMCB1による影響を受ける。ショートストロークモジュールのアクチュエータACTの配向と組み合わせて示されたコイルブロックユニットの構成は、従来技術の構成に対していくつかの利点をもたらす。まず第一に、図7で最もよく理解することができるように、2次コイルブロックユニットSCB1の上にはアクチュエータACTが存在しないので、第2の方向Yにおける力の中心位置が、2次コイルブロックユニットSCB1によって、コイルブロックユニットの組が必要とする空間の大きさを変えることなく、アクチュエータACTへの2次コイルブロックユニットSCB1の影響の変化も最小限で設定され得る。別の利益は、第2の部分を空中浮揚させるのにすべてのコイルブロックユニットを使用する必要がないことであり、その結果、空中浮揚に使用する必要のないコイルブロックユニットの電流が減少することになり、それによって、生成される磁界の強度が最小化し、したがって影響の大きさが低下する。一実施形態では、空中浮揚は、好ましくはできる限り同一種類である2次コイルブロックユニットを含む同一種類の主コイルブロックユニットのみを使用してもたらされる。同一種類の主コイルブロックユニットのどれを使用するかということは、空中浮揚の移動方向次第であり得る。適切に選択されれば、コミュテーションによる影響の周波数成分も低減するかまたは除去することができ、その結果、制御の観点から補償するのがより簡単な静的影響だけが経験される。例えば、第2の部分SPを空中浮揚させるのに、第1の種類の主コイルブロックユニットMCB1および第1の種類の2次コイルブロックユニットSCB1を使用することができ、また、個々の空中浮揚力を制御することにより、第3の方向Z1における第2の部分の位置を制御することができるばかりでなく、互いに非平行ではあるが、どちらも第1および第2の方向に広がる/定義される面に対して平行である2つの回転軸のまわりで第2の部分の位置を制御することもできる。第2の種類の主コイルブロックユニットMCB2を空中浮揚に使用する必要がないので、対応する電流導体を通る電流がより小さく、したがって、それぞれのコイルブロックユニットの上のアクチュエータACTに対する影響がより小さい。さらに、第2の方向Yにおける第2の部分SPの移動がもたらす第1の種類の主コイルブロックユニットMCB1および第1の種類の2次コイルブロックユニットSCB1の電流のコミュテーションが最小限になるはずであり、その結果、第2の部分SPの第2の方向Yにおける移動中の、第1の種類の主コイルブロックユニットMCB1の影響は、ある程度一定であり、移動の結果としての周波数成分は実質的に存在しない。一方、第2の種類の主コイルブロックユニットMCB2にコミュテーションが起こることになるが、空中浮揚力がないため、特に摩擦および外乱を克服するために小さな力しか必要でない第2の方向で等速移動しているとき、電流は実質的により小さい。図1を参照しながら説明されたように、第2の方向が基板露光中のスキャン方向であるとき、コイルブロックユニットを駆動するこの方法は特に有利である。第2の種類の2つの主コイルブロックユニットMCB2および2次コイルブロックユニットSCB1を使用して、第2の部分SPを空中浮揚させることも可能であり、また、第3の方向ならびに第1および第2の方向によって定義される面に対して平行な2つの非平行回転軸のまわりで、第2の部分の位置を制御することがさらに可能である。その結果、第1の種類の主コイルブロックユニットMCB1を空中浮揚に使用する必要がなく、電流がより小さくなり、したがってそれぞれのコイルブロックユニットMCB1の上のアクチュエータに対する影響がより小さくなる。さらに、第1の方向Xの移動、特に等速移動は、ある程度第2の種類の主コイルブロックユニットおよび2次コイルブロックユニットSCB1にコミュテーションをもたらさなくなり、その結果、影響は実質的に周波数成分がなく一定であり、制御の観点から補償するのがより簡単であり、また、第1の種類の主コイルブロックユニットの電流は、空中浮揚力がないため小さく場合により、等速であるためさらに小さく、その結果、第1の種類の主コイルブロックユニットの影響が最小化される。4つのアクチュエータACTを用いて、2つのアクチュエータを1つのアクチュエータとして働くように直列に接続することにより、3DOFシステムとして、基板テーブルの位置を第3の方向に制御することができる。一実施形態では、同一の種類、すなわち第1の種類または第2の種類のコイルブロックユニットの上に配置されたアクチュエータは、アクチュエータに対するコイルブロックユニットの影響が実質的に同一になるはずであるので、1つのアクチュエータとして働くように接続される。しかし、一実施形態では、4つのアクチュエータは、すべて独立して制御することができる。一実施形態では、2つのアクチュエータの間隔は、第1の部分の磁石システムの磁石のピッチMPの2×n倍であり図2Aを参照されたい、nは正の整数である。その場合、2つのアクチュエータに対する磁石システムの影響は、実質的に同一である。図6および図7の構成のさらなる利益は、第2の方向より第1の方向に、より大きな加速度を生成できることとすることができ、これは、図1を参照しながら説明されたように、第2の方向がスキャン方向である場合に必要とされることがある。この構成の別のさらなる利益は、磁石システムおよび/またはコイルブロックユニットの残りの影響により、外乱力が基板テーブルWTを変形させることなく、基板テーブルの位置および配向を変化させるだけとなり、この外乱力は、アクチュエータACTの適切な制御を用いることにより、測定して補償するのがより簡単であることとすることができる。変位デバイスの性能は、米国特許出願第US2002/0000904号の開示に従って、同一種類のコイルブロックユニットの電流導体に対して垂直な方向で見た質量中心を位置決めすることによりさらに改善され、この出願の内容は参照によって本明細書に組み込まれる。したがって、図6および図7の実施形態は、本発明の第1および第2の態様による変位デバイスを有するステージシステムを示す。第3の部分を第2の部分に対して第1または第2の方向に変位させるために、第2の部分SPと第3の部分WTの間に、追加の位置決めデバイスを設けてよく、これらのアクチュエータ間の距離は、それぞれ、第1または第2の方向において、同一種類の磁石間の最小距離のn0.5倍、すなわち磁極ピッチのn0.5倍に等しく、nは正の整数である。上記で説明された、第2の部分を位置決めする一方で同一種類のコイルブロックユニットのみを使用して第2の部分を空中浮揚させる方法は、制御デバイスにより、図5に関して説明されたのと類似のやり方で遂行され得る。両実施形態およびすべての関連した実施形態に関して、第1の部分に対する第2の部分の位置を測定するために、変位デバイスは1つまたは複数のセンサを含むことができ、これは直接的なやり方、すなわち第2の部分と第1の部分の間に設けたセンサで、または間接的なやり方、すなわち位置を直接導出することはできないが相対位置を計算する、または求めるのに使用され得る1つまたは複数のセンサを使用して行なうことができる。これらのセンサの出力は、制御デバイスがフィードバックループを閉じるための入力として用いることができる。しかし、それに加えて、またはその代わりに、センサが不要なフィードフォワード制御を用いることができる。図8は、本発明による変位デバイスの第2の部分の別の実施形態を示す。第2の部分は、図1を参照しながら説明されたように、第1の部分に対して、6自由度、すなわち垂直方向X、YおよびZ1の3つの並進移動および前記垂直方向のまわりの3つの回転で変位可能である。第1の部分は、例えば図2Aのものであるキャリアを備え、同キャリアが画定する面上に磁石が配置されて磁界を形成する。第2の部分は、磁界と協働し、第1の部分に対して6自由度で第2の部分を変位させるように構成された1次コイルシステムを含む。この実施形態では、1次コイルシステムは、第2の方向Yに対して実質的に平行に配向された電流導体を有する2つの第1の主コイルブロックユニットMCB1および第1の方向Xに対して実質的に平行に配向された電流導体を有する2つの第2の主コイルブロックユニットMCB2を備える。第1および第2の主コイルブロックユニットは2×2の配列に配置され、第1の主コイルブロックユニットMCB1は2×2の配列の対角線上に位置する。1次コイルシステムは、第1および第2の主コイルブロックユニットが配置される第1の範囲FRを第1の方向Xにおいて画定し、また、第1および第2の主コイルブロックユニットが配置される第2の範囲SRを第2の方向においてさらに画定する。第2の部分は、キャリア上の磁石が生成した磁界と協働し、第1の部分と第2の部分との間に少なくとも1自由度で駆動力を与えるように構成された2次コイルシステムをさらに含み、その結果、すべてのコイルシステムによって与えられる力の中心が、使用時に、互いに垂直かつキャリアが画定する面に対して平行な2つの方向、すなわち第1および第2の方向X、Yで、第2の部分の重心に実質的に配置される。したがって、2次コイルシステムは、第2の方向Yに対して実質的に平行に配向された電流導体を有する第1の2次コイルブロックユニットSCB1、および第1の方向Xに対して実質的に平行に配向された電流導体を有する第2の2次コイルブロックユニットSCB2を備える。第1および第2の2次コイルブロックユニットは、第1の範囲FRの外部であるが第2の範囲SRの内部に配置される。第1および第2の2次コイルブロックユニットならびに第1および第2の主コイルブロックユニットは、共に2×3の配列に配置される。2次コイルシステムの利点は、コイルブロックユニットの位置を変更する必要なしで、追加の力を、所望の位置でXおよびYの両方向に力の中心を設定するように生成することができることである。さらに、前述のように、力の中心の位置決めは、電流導体を通る電流を制御することにより決定することができる。これは、力の中心を重心に対して微調整するとき有利である。この実施形態では、第1および第2の主コイルブロックユニットならびに第1および第2の2次コイルブロックユニットは、第2の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有するコイルブロックユニットおよび第1の方向に対して実質的に平行に配向された電流導体を有するコイルブロックユニットが、2×3の配列の各行と列において交互に配置されるように配置される。したがって、図8の実施形態は、本発明の第1および第3の態様による変位デバイスの第2の部分を示す。変位デバイスが、基板テーブルの粗動位置決めのみをもたらすように示されてきたが、本発明による変位デバイスは、レチクルステージシステムにも同様に適用することができ、また、例えば基板テーブルまたはレチクルを高精度位置決めするための他のシステムにも適用され得ることが当業者には明らかであろう。さらに、様々な実施形態または態様の特徴は、図に関して既に示されたように、1つの実施形態が本発明の複数の態様に応じることができる適切な場合には、組み合わせることができる。ICの製造におけるリソグラフィ装置の使用に対して本説明に特定の参照がなされてもよいが、本明細書に説明されたリソグラフィ装置が、磁気ドメインメモリ、平面パネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなど向けの集積光学システム、誘導パターンおよび検出パターンの製造など他の用途を有し得ることを理解されたい。当業者なら、そのような代替用途の文脈では、本明細書における用語ウェーハまたはダイのいかなる使用も、それぞれ、より一般的な用語基板またはターゲット部分と同義なものと見なしてよいことを理解するであろう。本明細書で言及する基板は、露光前または露光後に、例えばトラック一般に基板にレジストの層を与え、露出したレジストを現像するツール、メトロロジーツールおよび/またはインスペクションツール内で処理されてよい。適用可能であれば、本開示は、そのようなものおよび他の基板処理ツールに適用されてよい。その上、基板は、例えば多層ICを作成するために複数回処理されてよく、そのため、本明細書に用いられる用語の基板は、既に複数の処理済の層を含む基板も意味してよい。本発明の実施形態の使用に対して、光リソグラフィの文脈において上記で特定の参照がなされていても、本発明は、他の用途、例えばインプリントリソグラフィおよび状況が許すところで使用されてよく、光リソグラフィに限定されないことが理解されよう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが、基板上に作成されるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に与えられたレジストの層へ押しつけられてよく、その後、レジストは、電磁放射、熱、圧力またはそれらの組合せを与えることによって硬化される。パターニングデバイスは、レジストが硬化された後、レジスト中にパターンを残してレジストから離される。本明細書で用いられる用語放射およびビームは、紫外UV放射例えば、365、248、193、157、もしくは126nmの波長、またはほぼこれらの波長を有するおよび極端紫外EUV放射例えば5~20nmの範囲の波長を有するならびにイオンビーム、電子ビームなどの粒子ビームを含むあらゆるタイプの電磁放射を包含する。文脈によって許される場合、レンズという用語は、屈折光学コンポーネント、反射光学コンポーネント、磁気光学コンポーネント、電磁光学コンポーネントおよび静電光学コンポーネントを始めとする様々なタイプの光学コンポーネントのうちの任意の1つまたは組合せを意味している。上記では、本発明の特定の実施形態について述べたが、本発明は、述べられているものとは別の方法で実施することができることが理解されるであろう。例えば、本発明は、上記で開示されている方法を記述する機械可読命令の1つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、あるいは、そのようなコンピュータプログラムが記憶されたデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気ディスク、または光ディスクの形態をとることができる。上記の説明は、制限するものでなく、例示的なものである。したがって、以下で述べられている特許請求の範囲から逸脱することなしに、述べられている本発明に修正を加えることができることが、当業者には明らかであろう。