"液晶パラメータ測定の装置において、光源からの入射光を受け取り並びに該入射光より複数の入射線偏光を抽出する線偏光ジェネレータと、該線偏光ジェネレータに接続されて該線偏光ジェネレータを調整して該線偏光ジェネレータに異なる方位角の該線偏光を発生させる第1電気コントローラと、中心方向軸線が該線偏光と傾斜夾角を形成する測定サンプルと、該測定サンプルを透過した透過光を受け取る偏光分析器と、該偏光分析器に接続されて該偏光分析器を調整し、特定の偏光強度を抽出させる第2電気コントローラと、該装置の後端に置かれ、該偏光分析器より抽出された偏光データを受け取り、液晶分割層理論モデルにより、少なくとも一つの液晶光学パラメータを求めるデータ処理装置と、を包含したことを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該線偏光ジェネレータは、偏光器と第1回転プラットフォームを包含し、該偏光器は該第1回転プラットフォームに固定され、該第1電気コントローラにより該第1回転プラットフォームが制御されることで異なる方位角の線偏光が生成され、並びに設定された傾斜角度で該測定サンプルに投射されることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該偏光分析器は波長板、第2回転プラットフォーム、偏光検出器及び光受信器を包含し、該波長板は該第2回転プラットフォームに固定され、該第2電気コントローラにより該第2回転プラットフォームが制御されて、特定の偏光強度が抽出され、並びに該光受信器により受信された光強度変化が電流或いは電圧情報に変換されることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該線偏光ジェネレータはさらに偏光器、前処理電圧調整位相シフタと波長板を包含し、該偏光器の前に光学フィルタが設置され、且つ該波長板は該光学フィルタの波長の4分の1に対応し、該光学フィルタにより光源の特定波長が抽出され、該線偏光ジェネレータにより線偏光が抽出され、該第1電気コントローラにより該前処理電圧調整位相シフタが制御され、該線偏光ジェネレータに異なる方位角の線偏光を生成させ、並びに設定された傾斜角度で該測定サンプルに投射させることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該偏光分析器は、さらに第2電圧調整位相シフタ、偏光検出器、及び光受信器を包含し、該偏光分析器が該測定サンプルをい透過した透過光を分析し、該第2電気コントローラが該第2電圧調整位相シフタの位相を調整し、特定の偏光強度を抽出し、該光受信器により受信した光強度変化を電流或いは電圧情報に変換することを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該測定サンプルは傾斜機構の上に置かれ、さらに該傾斜機構を回転させる方式により、該測定サンプルの中心方向軸線と該線偏光に傾斜夾角を形成させることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該線偏光ジェネレータを回転させることにより、該測定サンプルの中心方向軸線と該線偏光に傾斜夾角を形成させ、該偏光分析器も対応する回転により該測定サンプルを透過した透過光を受け取ることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該液晶分割層理論モデルはジョーンズマトリクス或いは拡張ジョーンズマトリクスを使用して展開されることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該液晶分割層理論モデルは、M=R-αRφR-△φMj1ΛR-△φM1R-△φM0Rαと表示され、そのうち、RαとR-αは座標系変換表示式とされ、αは第0層液晶分子の配向角度であり、Mkは各1層の液晶の電場表示式を代表することを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、抽出される該特定の偏光強度は、線偏光、異なる楕円率と異なる旋回性の偏光特性を包含することを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、求められる液晶光学パラメータは、配向角度、ねじれ角、液晶厚さ及びプレティルト角の少なくとも一つとされることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、求められる液晶光学パラメータは、配向角度、ねじれ角、液晶厚さ及びプレティルト角の少なくとも一つとされ、該液晶分割層理論モデルと測定信号のフィッティング或いは対比原理により求められることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置。液晶パラメータ測定の方法において、開始するために少なくとも一つの液晶光学パラメータを入力し、傾斜角度を設定して光源から特定偏光成分を抽出して設定した傾斜角度で測定サンプルに投射し、特定光強度の信号を取得し、各傾斜角度の光強度信号を測定開始し、そのとき偏光分析器を使用して該測定サンプルを透過した特定の偏光強度を抽出し、理論モデルと該特定の偏光強度の信号を対比又はフィッティングし、その時理論モデルと少なくとも一つの測定信号を使用し、該偏光強度とデータ処理装置に構築した液晶分割層理論モデルにより、少なくとも一つの液晶光学パラメータを得、以上のステップを包含することを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法。請求項13記載の液晶パラメータ測定の方法において、抽出される該特定の偏光強度は、線偏光、異なる楕円率と異なる旋回性の偏光特性を包含することを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法。請求項13記載の液晶パラメータ測定の方法において、該液晶分割層理論モデルはジョーンズマトリクス或いは拡張ジョーンズマトリクスを使用して展開されることを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法。請求項13記載の液晶パラメータ測定の方法において、該液晶分割層理論モデルは、M=R-αRφR-△φMj1ΛR-△φM1R-△φM0Rαと表示され、そのうち、RαとR-αは座標系変換表示式とされ、αは第0層液晶分子の配向角度であり、Mkは各1層の液晶の電場表示式を代表することを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法。請求項13記載の液晶パラメータ測定の方法において、求められる液晶光学パラメータは、配向角度、ねじれ角、液晶厚さ及びプレティルト角の少なくとも一つとされることを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法。請求項13記載の液晶パラメータ測定の方法において、求められる液晶光学パラメータは、配向角度、ねじれ角、液晶厚さ及びプレティルト角の少なくとも一つとされ、該液晶分割層理論モデルと測定信号のフィッティング或いは対比原理により求められることを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法。周知の技術の限界と将来の市場の要求に対して、新たな測定方法と装置を開発して高効率で高精度の測定を達成し、並びに解決対策の提供が急がれるべきである。請求項1の発明は、液晶パラメータ測定の装置において、光源からの入射光を受け取り並びに該入射光より複数の入射線偏光を抽出する線偏光ジェネレータと、該線偏光ジェネレータに接続されて該線偏光ジェネレータを調整して該線偏光ジェネレータに異なる方位角の該線偏光を発生させる第1電気コントローラと、中心方向軸線が該線偏光と傾斜夾角を形成する測定サンプルと、該測定サンプルを透過した透過光を受け取る偏光分析器と、該偏光分析器に接続されて該偏光分析器を調整し、特定の偏光強度を抽出させる第2電気コントローラと、該装置の後端に置かれ、該偏光分析器より抽出された偏光データを受け取り、液晶分割層理論モデルにより、少なくとも一つの液晶光学パラメータを求めるデータ処理装置と、を包含したことを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項2の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該線偏光ジェネレータは、偏光器と第1回転プラットフォームを包含し、該偏光器は該第1回転プラットフォームに固定され、該第1電気コントローラにより該第1回転プラットフォームが制御されることで異なる方位角の線偏光が生成され、並びに設定された傾斜角度で該測定サンプルに投射されることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項3の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該偏光分析器は波長板、第2回転プラットフォーム、偏光検出器及び光受信器を包含し、該波長板は該第2回転プラットフォームに固定され、該第2電気コントローラにより該第2回転プラットフォームが制御されて、特定の偏光強度が抽出され、並びに該光受信器により受信された光強度変化が電流或いは電圧情報に変換されることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項4の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該線偏光ジェネレータはさらに偏光器、前処理電圧調整位相シフタと波長板を包含し、該偏光器の前に光学フィルタが設置され、且つ該波長板は該光学フィルタの波長の4分の1に対応し、該光学フィルタにより光源の特定波長が抽出され、該線偏光ジェネレータにより線偏光が抽出され、該第1電気コントローラにより該前処理電圧調整位相シフタが制御され、該線偏光ジェネレータに異なる方位角の線偏光を生成させ、並びに設定された傾斜角度で該測定サンプルに投射させることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項5の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該偏光分析器は、さらに第2電圧調整位相シフタ、偏光検出器、及び光受信器を包含し、該偏光分析器が該測定サンプルをい透過した透過光を分析し、該第2電気コントローラが該第2電圧調整位相シフタの位相を調整し、特定の偏光強度を抽出し、該光受信器により受信した光強度変化を電流或いは電圧情報に変換することを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項6の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該測定サンプルは傾斜機構の上に置かれ、さらに該傾斜機構を回転させる方式により、該測定サンプルの中心方向軸線と該線偏光に傾斜夾角を形成させることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項7の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該線偏光ジェネレータを回転させることにより、該測定サンプルの中心方向軸線と該線偏光に傾斜夾角を形成させ、該偏光分析器も対応する回転により該測定サンプルを透過した透過光を受け取ることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項8の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該液晶分割層理論モデルはジョーンズマトリクス或いは拡張ジョーンズマトリクスを使用して展開されることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項9の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、該液晶分割層理論モデルは、M=R-αRφR-△φMj1ΛR-△φM1R-△φM0Rαと表示され、そのうち、RαとR-αは座標系変換表示式とされ、αは第0層液晶分子の配向角度であり、Mkは各1層の液晶の電場表示式を代表することを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項10の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、抽出される該特定の偏光強度は、線偏光、異なる楕円率と異なる旋回性の偏光特性を包含することを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項11の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、求められる液晶光学パラメータは、配向角度、ねじれ角、液晶厚さ及びプレティルト角の少なくとも一つとされることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項12の発明は、請求項1記載の液晶パラメータ測定の装置において、求められる液晶光学パラメータは、配向角度、ねじれ角、液晶厚さ及びプレティルト角の少なくとも一つとされ、該液晶分割層理論モデルと測定信号のフィッティング或いは対比原理により求められることを特徴とする、液晶パラメータ測定の装置としている。請求項13の発明は、液晶パラメータ測定の方法において、開始するために少なくとも一つの液晶光学パラメータを入力し、傾斜角度を設定して光源から特定偏光成分を抽出して設定した傾斜角度で測定サンプルに投射し、特定光強度の信号を取得し、各傾斜角度の光強度信号を測定開始し、そのとき偏光分析器を使用して該測定サンプルを透過した特定の偏光強度を抽出し、理論モデルと該特定の偏光強度の信号を対比又はフィッティングし、その時理論モデルと少なくとも一つの測定信号を使用し、該偏光強度とデータ処理装置に構築した液晶分割層理論モデルにより、少なくとも一つの液晶光学パラメータを得、以上のステップを包含することを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法としている。請求項14の発明は、請求項13記載の液晶パラメータ測定の方法において、抽出される該特定の偏光強度は、線偏光、異なる楕円率と異なる旋回性の偏光特性を包含することを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法としている。請求項15の発明は、請求項13記載の液晶パラメータ測定の方法において、該液晶分割層理論モデルはジョーンズマトリクス或いは拡張ジョーンズマトリクスを使用して展開されることを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法としている。請求項16の発明は、請求項13記載の液晶パラメータ測定の方法において、該液晶分割層理論モデルは、M=R-αRφR-△φMj1ΛR-△φM1R-△φM0Rαと表示され、そのうち、RαとR-αは座標系変換表示式とされ、αは第0層液晶分子の配向角度であり、Mkは各1層の液晶の電場表示式を代表することを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法としている。請求項17の発明は、請求項13記載の液晶パラメータ測定の方法において、求められる液晶光学パラメータは、配向角度、ねじれ角、液晶厚さ及びプレティルト角の少なくとも一つとされることを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法としている。請求項18の発明は、請求項13記載の液晶パラメータ測定の方法において、求められる液晶光学パラメータは、配向角度、ねじれ角、液晶厚さ及びプレティルト角の少なくとも一つとされ、該液晶分割層理論モデルと測定信号のフィッティング或いは対比原理により求められることを特徴とする、液晶パラメータ測定の方法としている。総合すると、本発明の実施例は以下の技術特徴を有する。1偏光測定技術に新規な液晶理論モデルを組合せ、ねじれ角とプレティルト角の厚さ方向の変化を同時に考慮し、複数の液晶パラメータを同時計算できる。2この液晶分割層理論モデルを組み合わせて、異なるタイプの液晶態様の光学特性を解析できる。ゆえに、産業の多元化の要求に符合する。3三次元ディスプレイのマイクロ位相差膜microretarderの光学複屈折特性の測定に応用可能である。これにより、本発明の実施例の提出する液晶パラメータ測定の方法及び装置は、確実にその記載する技術により新規性、進歩性と産業上の利用価値の特許の要件に符合する。本発明はある実施例において、一種の液晶パラメータ測定の装置を提供する。この装置は、線偏光ジェネレータ、該線偏光ジェネレータを調整して異なる方位角の線偏光を生成させる第1電気コントローラ、中心方向軸線が該線偏光と傾斜夾角を形成する測定サンプル、偏光分析器、該偏光分析器を調整する第2電気コントローラ、及びデータ処理装置を包含する。そのうち、該線偏光ジェネレータは、光源からの入射線偏光を抽出し並びに該測定サンプルに投射し、該線偏光ジェネレータの生成する異なる方位角の線偏光は、該第1電気コントローラにより調整され、線偏光を該測定サンプルに投射し、該測定サンプルの中心方向軸線が該線偏光と傾斜夾角を形成し、該測定サンプルを透過した透過光は該偏光分析器により受信され、該偏光分析器は該第2電気コントローラにより調整されて、線偏光、異なる楕円率Ellipticityと異なる旋回性Handednessの偏光を抽出し、後端のデータ処理装置により、並びに液晶分割層モデルを通し、フィッティングにより少なくとも一つの液晶光学パラメータを得る。本発明の別の実施例はまた、液晶光学パラメータ測定の方法を提供し、この方法は、開始の少なくとも一つの液晶光学パラメータを入力し、液晶パネルに、入射光方向に対する傾斜角度範囲及び各隣り合う傾斜角度の間隔を入力し、光源より複数の方位角の線偏光成分を取り出す。各傾斜角度の光強度信号の測定を開始し、それは偏光分析器を使用して液晶パネルを透過する複数の偏光強度を得る、及び理論モデルと少なくとも一つの測定信号を通し、この偏光強度よりデータ処理装置が構築した液晶分割層モデルを利用し、少なくとも一つの液晶光学パラメータを得る。以下に、図面、実施例の詳細な説明を組合せ、本発明のその他の目的を呼び長所を詳しく説明する。ここに記載の実施例は、線偏光ジェネレータLinearPolarizationGeneratorと、偏光分析器PolarizationAnalyzerに基づき、並びに液晶分割層モデルを組合せ、同時にねじれ角とプレティルト角の厚さ方向の変化を考慮し、線偏光ジェネレータで異なる方位角の線偏光を測定サンプルに投射し、並びに偏光分析器が構成する複数組の偏光特性が抽出する光強度を組合せ、フィッティング或いは対比計算により少なくとも一つの液晶光学パラメータを得る。該液晶光学パラメータは各種の定向形態の液晶パネル測定に適用可能である。図2は本発明の液晶パラメータ測定の装置の実施例表示図である。この装置は、線偏光ジェネレータ102、該線偏光ジェネレータ102を調整して異なる方位角の線偏光を生成させる第1電気コントローラ201、中心方向軸線が該線偏光と傾斜夾角を形成する測定サンプル103、偏光分析器104、該偏光分析器104を調整する第2電気コントローラ202、及びデータ処理装置105を包含する。そのうち、該線偏光ジェネレータ102は、光源101からの入射線偏光106を抽出し並びに該測定サンプル103に投射する。該線偏光ジェネレータ102が生成する異なる方位角の線偏光は、該第1電気コントローラ201により調整される。注意するべきことは、測定サンプル103の中心方向軸線が該線偏光と傾斜夾角を形成することにより、線偏光が該測定サンプル103に投射されることである。該測定サンプル103を透過した透過光107は該偏光分析器104により受信され、該偏光分析器104は第2電気コントローラ202により調整され、線偏光、異なる楕円率、及び異なる旋回性の偏光が抽出され、最後に、後端のデータ処理装置105により、液晶分割層理論モデル115を通し、フィッティングにより少なくとも一つの液晶光学パラメータ125が得られる。注意すべきことは、測定サンプル103の中心方向軸線と該線偏光に傾斜夾角を形成させる方式は異なるメカニズムにより実施され得ることであり、本発明は特定手段に限定していない。たとえば、傾斜機構を利用し、該測定サンプル103を該傾斜機構上に置き、さらに該傾斜機構を回転させる方式により、該測定サンプル103の中心方向軸線と該線偏光に傾斜夾角を形成させることができる。図2中に示されるXはすなわち、該傾斜機構の回転軸である。別の実施手段は、線偏光ジェネレータ102を回転させることにより、該測定サンプル103の中心方向軸線と該線偏光に傾斜夾角を形成させ、偏光分析器104も対応して回転させられて、該測定サンプル103を透過した透過光107を受け取る、というものである。図2中に示される点線回転矢印は、この実施手段を示す。以下の記述は、傾斜機構を実施手段として説明するが、その他の同等の実施手段も本発明に適用できる。図3は本発明の液晶パラメータ測定の装置の動作例の表示図である。線偏光ジェネレータ102は偏光器301が回転プラットフォーム302に固定されることで実現され、並びに第1電気コントローラ201が回転プラットフォーム302を制御して異なる方位角の線偏光を生成させ、並びに傾斜機構に取付けられた測定サンプル103に投射させる。一方で、偏光分析器104は波長板303、偏光検出器305及び光受信器306を回転プラットフォーム304に固定することにより実現され、第2電気コントローラ202により回転プラットフォーム304が制御されて、線偏光、異なる楕円率と異なる旋回性の偏光が抽出され、並びに光受信器306により光強度変化が受信されて電流或いは電圧情報に変換された後、後端のデータ処理装置105に送られて、液晶分割層モデルを利用し、フィッティングにより少なくとも一つの液晶光学パラメータ125が得られる。図4は本発明の液晶パラメータ測定の装置の別の動作例の表示図である。線偏光ジェネレータ102は偏光器301、前処理電圧調整位相シフタ308と波長板309により実現される。該偏光器301の前に光学フィルタOpticalFilter307が設置され、且つ波長板309は光学フィルタ307の波長の4分の1に対応する。その操作は、光学フィルタ307により光源の特定波長を抽出し、線偏光ジェネレータ102により線偏光を抽出し、第1電気コントローラ201により前処理電圧調整位相シフタ308を制御して、線偏光ジェネレータ102に異なる方位角の線偏光を生成させ、並びに傾斜機構108に付加された測定サンプル103に投射させる。一方で、偏光分析器104は、電圧調整位相シフタ310、偏光検出器305及び光受信器306により実現され得る。偏光分析器104により測定サンプル103を透過した透過光107が分析される。第2電気コントローラ202により電圧が印加されて電圧調整位相シフタ310の位相が調整され、線偏光、異なる楕円率及び異なる旋回性の偏光が抽出され、並びに光受信器306により光強度変化が受信され並びに電流或いは電圧情報に変換され、さらに後端のデータ処理装置105に送られ、液晶分割層モデルにより、フィッティングにより少なくとも一つの液晶光学パラメータ125が得られる。液晶パネルは、製品応用上の要求により、周知の技術の結晶構造理論モデルでは使用に十分ではなく、その原因の一つは、結晶構造の仮説は、僅かに全体の平均特性を代表するだけであり、液晶のプレティルト角が厚さ方向に対称漸次変化構造を現出するとたとえば、π-cell液晶パネル、周知の結晶構造理論モデルは光学上の対称相殺の分析能力を喪失してしまう可能性がある。さらに、ねじれネマティック型液晶パネルは、ねじれ角のe-wave及びo-waveに対する効果を考慮する必要があり、上述の多種の状況はいずれも周知の結晶理論モデルを修正することで、液晶パラメータ計算の精度を高める必要があった。図5に示されるのは、本発明中、ねじれネマティック液晶の三次元構造の実施例の表示図である。仮に、プレティルト角を固定値θとし、並びにねじれ角は厚さd方向に沿った変数とする。もし、厚さd方向に全部でj層に分割すると、第k層k=0,1,2,...,j-1ねじれ角は、φk=αk/jφと表示可能で、そのうち、αは第0層液晶分子1の配向角度であり、第0層液晶分子1と第k層液晶分子3の遅軸slowaxisのx-y平面上の投影の差の値はすなわちねじれ角φとされ、ゆえに、隣り合う液晶分子のねじれ角差は、△θ=φ/jとされる。図6に示されるのは本発明の、π-cell液晶パネルの三次元構造の実施例表示図である。仮にプレティルト角を厚さd方向に沿った変数とし、厚さd方向に沿って、全部でj層に分割したとすると、第k層k=0,1,2,...,j-1プレティルト角は、θk=θ-2θk/jと表示可能で、そのうち、θは第0層液晶分子1のプレティルト角とされ、すなわち、隣り合う液晶分子のプレティルト角差は、△θ=-2θ/jと表示できる。以上の例は液晶ねじれ角と液晶プレティルト角がいずれも厚さ方向に沿っての変数とされてもよい。或いは第0層液晶分子1と第j-1層液晶分子3のプレティルト角の差異を導入して、上下ガラスのプレティルト角誤差を代表させてもよく、これによりさらに良好なフィッティング結果を獲得できる。上述の新理論モデルの記載を受けて、本発明の液晶分割層モデル表示は、M=R-αRφR-△φMj1ΛR-△φM1R-△φM0Rαと表示され、そのうち、RαとR-αは座標系変換表示式とされ、αは第0層液晶分子の配向角度である。Mは各1層の液晶の電場表示式であり、分割層数量が十分に多くなると、各1層の液晶は均質Homogeneous特性であると見なすことができる。分割層の計算過程中、ねじれ角差は座標系変換表示式R-△φにより修正されなければならない。プレティルト角差は各1層を計算する時、θkの数値を修正する。この分割層理論モデルのマトリクスは、さらにジョーンズJonesマトリクス或いは拡張Extendedジョーンズマトリクスを使用して展開され得る。図2、図3及び図4の構造により、光強度理論方程式は、と表示され得て、S[pt,βt,rt]はそれぞれ入射線偏光106の方位角pt、波長板303或いは電圧調整位相シフタ310の方位角βt、及び波長板303或いは電圧調整位相シフタ310の位相rtの時間変化に伴う関数であり、Aは偏光検出器305の電場表示式で、この実施例のAは透過軸TransmissionAxis角度が0度に固定され、波長板303或いは電圧調整位相シフタ310の電場表示式はC[βt,rt]とされ、E[pt]は入射線偏光106の電場表示式とされる。実際の光受信器306が測定する光強度は、I[pt,βt,rt]と表示でき、このとき、液晶光学パラメータ125は以下の例によりフィッティングにより求められる。例1:電圧調整位相シフタ310の方位角αが不変で、線偏光ジェネレータ301の入射線偏光方位角pと電圧調整位相シフタ310の位相rは時間に伴い変化する関数の方式でフィッティングにより求められる。方程式1の左式の分子は右式の分子に対応し、右式の分子が対応するのは時間t1時の理論方程式である。左式の分母は右式の分母に対応し、右式の分母が対応するのは時間t2時の理論方程式である。例1は複数組の時間の測定結果を導入して、少なくとも一つの液晶光学パラメータを求める。例2:波長板303の位相rが不変で、入射線偏光106方位角pと波長板303の方位角αが時間に伴い変化する関数の方式でフィッティングにより求められる。方程式2の左式の分子は右式の分子に対応し、右式の分子が対応するのは時間t3時の理論方程式である。左式の分母は右式の分母に対応し、右式の分母が対応するのは時間t4時の理論方程式である。例2は複数組の異なる時間の測定結果を導入して、少なくとも一つの液晶光学パラメータを求める。例3:偏光総強度I[45°,45°,0°]I[45°,45°,90°]を考慮して正規化演算を行う。方程式3の左式は右式の時間t5時の理論方程式に対応する。この例3は複数組の異なる時間の測定結果を導入して、少なくとも一つの液晶光学パラメータを求める。例4:偏光総強度I[45°,45°,90°]I[45°,135°,90°]を考慮して正規化演算を行う。方程式4の左式は右式の時間t6時の理論方程式に対応する。この例4は複数組の異なる時間の測定結果を導入して、少なくとも一つの液晶光学パラメータを求める。図7は本発明の液晶パラメータ測定の方法の実施例のフローチャートである。まずステップ711に示されるように、開始するのに少なくとも一つの液晶光学パラメータを入力する。続いて、ステップ712のように、入射角度範囲を設定し、このステップにおいては、液晶パネルの入射光方向に対する傾斜角度範囲と各隣り合う傾斜角度の間隔を入力し、それは光源より複数の方位の線偏光成分を抽出し、設定された入射角度の入射光を液晶パネルに投射する。さらにステップ713のように、各傾斜角度の光強度信号の測定開始し、それは偏光分析器を利用して液晶パネルを透過した複数の偏光の強度を抽出する。さらにステップ714のように、理論モデルと測定信号のフィッテイング或いは対比により、この偏光強度からデータ処理装置に構築された液晶分割層理論モデルを用い、少なくとも一つの液晶光学パラメータを求める。注意すべきことは、本発明は使用状況により各種の変化が可能であることである。たとえば、異なる種類の偏光器301、電圧調整位相シフタ310、偏光検出器305及び光受信器306の使用、或いは波長板303、異なる方位角の切り換えを行う偏光検出器305及び光受信器306の形成する偏光分析器104の使用等である。以上述べたことは、本発明の実施例にすぎず、本発明の実施の範囲を限定するものではなく、本発明の特許請求の範囲に基づきなし得る同等の変化と修飾は、いずれも本発明の権利のカバーする範囲内に属するものとする。"