"金型の少なくとも賦形面において、最表層にシラザン膜を備えた表面処理金型であって、前記シラザン膜が、下記構造式で示されるペルフルオロアルキル基含有トリアミノシランをモノマー又は主体モノマーとする縮重合架橋体からなり、かつ、金型母材に又は隣接する中間膜に化学結合していることを特徴とする表面処理金型。CnF2n1CmH2mSiNH23但し:n=2~10、m=1~4前記シラザン膜と金型母材との間に、1000HV以上JIS2244ISO6507の超硬膜で中間膜が形成されていることを特徴とする請求項1記載の表面処理金型。前記中間膜が、前記超硬膜の内側に更に密着膜を備え、該密着膜が第3~5周期の4~11族の群から選択される遷移金属で又はそれらの合金で形成されていることを特徴とする請求項2記載の表面処理金型。前記シラザン膜が耐熱性試験300°C×24hにおける接触角低下度が20以内を示すことを特徴とする請求項1,2又は3記載の表面処理金型。前記シラザン膜が耐熱性試験300°C×24hにおける接触角低下度が10以内を示すことを特徴とする請求項4記載の表面処理金型。前記賦形面がサイズ100μm以下の凹凸を有するとともに、前記シラザン膜の膜厚が5~50nmであることを特徴とする請求項1~5いずれか一記載の表面処理金型。請求項1~6いずれか一記載の表面処理金型の表面処理方法であって、前記シラザン膜を形成するに先立ち、シラザン膜形成面を酸素プラズマ処理することを特徴とする金型の表面処理方法。前記酸素プラズマの条件を、RFパワー50~1000W×5~3600sとすることを特徴とする請求項7記載の金型の表面処理方法。前記シラザン膜の形成を真空蒸着により行うことを特徴とする請求項7又は8記載の金型の表面処理方法。シラザン膜を、表面処理膜として、母材に直接又は中間膜を介して最表層に備えた表面処理構造体光学部材を除く。であって、前記シラザン膜が、下記構造式で示されるペルフルオロアルキル基含有トリアミノシランをモノマー又は主体モノマーとする縮重合架橋体からなり、かつ、前記母材又は隣接する中間膜に化学結合していることを特徴とする表面処理構造体。CnF2n1CmH2mSiNH23但し:n=2~10、m=1~4請求項10記載の表面処理構造体の表面処理方法であって、前記シラザン膜を形成するに先立ち、シラザン膜形成面を酸素プラズマ処理することを特徴とする表面処理構造体の表面処理方法。本発明の目的は、高度の離型耐熱性および離型耐久性を実現し、良好な成形品を繰り返し安定生産できる表面処理金型および金型の表面処理方法を提供することにある。特に、100μm以下の凹凸例えば、導光板やマイクロレンズアレーなどや更にはnmサイズの凹凸例えば、反射防止機能付成形品を持った成形品の成形に適用した場合効果が顕著となる表面処理金型および金型の表面処理方法を提供することを目的とする。本発明者らは、上記目的を達成するために、鋭意開発に努力をした結果、下記構成とすれば、格段に表面処理金型の離型性が向上することを知見した。金型の少なくとも賦形面において、最表層にシラザン膜を備えた表面処理金型であって、前記シラザン膜が、下記構造式で示されるペルフルオロアルキル基含有トリアミノシランをモノマー又は主体モノマーとする縮重合架橋体からなり、かつ、金型母材に又は隣接する中間膜に化学結合していることを特徴とする表面処理金型。CnF2n1CmH2mSiNH23但し:n=2~10、m=1~4金型の少なくとも賦形面において、金型母材に直接又は中間膜を介して最表層にシラザン膜を備えた表面処理金型であって、前記シラザン膜が、下記構造式で示されるペルフルオロアルキル基含有トリアミノシランをモノマー又は主体モノマーとする縮重合架橋体からなり、かつ、前記金型母材又は隣接する中間膜に化学結合していることを特徴とする。なお、上記n及びmの範囲は、シラザン材料の入手乃至合成のし易さから定めたものであり、相対的なものである。上記構成の表面処理金型は、従来の特許文献1における加水分解性シラン基導入ペルフルオロポリエーテルケイ素含有有機フッ素ポリマー:段落0022参照で被覆したものに比して、格段に離型耐熱性が向上するとともに離型耐久性も向上する。当該離型耐熱性耐久性はシラザン膜形成面がプラズマ処理面である場合は、更に、向上する。なお、金型の賦形面をナノ構造体とする場合は、金型母材自体が硬くても、HV1000以上JIS2244ISO6507の超硬膜で中間膜を形成する必要がある。金型母材自体がHV1000未満の場合は、超硬膜で中間層を形成することにより、金型の賦形面耐久性の向上も期待できる。該超硬膜としては、Siの窒化物炭化物ないし酸化物の1種又は2種以上で形成することが望ましい。また、中間膜が、前記超硬膜と金型母材との密着性が不十分と予測される場合は、第3周期4~10属の群から1種又は2種以上選択される遷移金属で又はそれらの合金で密着膜を形成する。本発明のシラザン膜は、離型耐熱性試験300°C×24hにおける接触角低下度が20以内、望ましくは、10以内を示すものとする。上記各構成の表面処理金型は、賦形面がnmサイズの凹凸を有する金型に適用する場合、シラザン膜の膜厚を5~50nmとすることが望ましい。膜厚が薄すぎると、耐久性を得難く、膜厚が厚すぎると、nmサイズの凹凸が埋まってしまうおそれがある。上記表面処理金型の表面処理方法は、シラザン膜の形成を真空蒸着により行うことが望ましい。シラザン膜の膜均一性レベリング性を、浸漬法に比して確保し易い。更に、前記シラザン膜を形成するに先立ち、シラザン膜形成面を酸素プラズマ処理することが望ましい。シラザン膜の離型耐熱性および離型耐久性が向上する。上記酸素プラズマの条件を、RFパワー50~1000W×5~3600sとする。上記条件の下限値未満では、酸素プラズマによりシラザン膜形成面に所要の親水性を付与し難く、シラザン膜との間に化学結合を得難い。上限値超では、それ以上の親水性の向上を望めず無駄である。本発明の技術的思想は、撥水性耐汚染性が要求される構造体にも適用でき、当該表面処理構造体は、下記の如く表現できる。シラザン膜を、表面処理膜として、金型母材に直接又は中間膜を介して最表層に備えた表面処理構造体光学部材を除く。であって、前記シラザン膜が、下記構造式で示されるペルフルオロアルキル基含有トリアミノシランモノマーの縮重合架橋体からなり、かつ、金型母材又は隣接する中間膜に化学結合していることを特徴とする。CnF2n1CmH2mSiNH23但し:n=2~10、m=1~4また、該表面処理構造体の表面処理方法は、下記の如く表現できる。前記表面処理構造体の表面処理方法であって、前記シラザン膜を形成するに先立ち、シラザン膜形成面を酸素プラズマ処理することを特徴とする。以下、本発明の一実施形態について詳細に説明する。図1に、金型10の部分断面図を示す。金型10は、少なくとも賦形面10aにおいて、金型母材11に直接又は中間膜13を介して最表層にシラザン膜離型膜15を備えた表面処理金型である。なお、金型10の種類は、特に限定されない。例えば、射出成形用、プレス成形用、キャスト成形用、トランスファー成形用、またはナノインプリント成形用の各種金型を挙げることができる。ここで、金型10の形成材としては、特に限定されない。例えば、Fe、Al、Ni、Zr、Si等の金属又はそれらの合金;WC、SiC、NiP等のセラミック;エポキシ、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリカーボネート等の硬質樹脂、その他、無機ガラスや有機ガラスを挙げることができる。特にこれらの内で、NiP、SUS、WCが好ましい。高硬度で耐熱性に優れており、金型材として適しているためである。NiPやSUSは射出成形用の金型材として、WCはガラス成形の金型材としてそれぞれ実績を有する。前記シラザン膜15が、下記構造式で示されるペルフルオロアルキル基含有トリアミノシランをモノマー又は主体モノマーとする縮重合架橋体からなり、かつ、金型母材11に又は隣接する中間膜超硬膜13bに化学結合している。CnF2n1CmH2mSiNH23但し:n=2~10、m=1~4ここで、n=1では、重合体繰り返し単位のペルフルオロ基CF2が不足して必要な離型性を得難く、n≧11では、モノマー分子量が大きくなって、溶剤溶解性に問題が発生し易く、取り扱い性が低下する。なお、上市品は、n=8までである。また、m=0のものは合成し難く、mが5以上であると、重合体繰り返し単位のペルフルオロ基CF2が不足して離型性を得難い。なお、入手のし易さ合成のし易さおよび本発明の効果シラザン膜の耐熱性、耐久性密着性の得やすさの見地から、n=4~8、m=2~4とすることが望ましい。ここで、ペルフルオロアルキル基含有トリアミノシランを主体モノマーとした場合、組み合わせるモノマーとしては、ペルフルオロアルキル基を含有する又は他の官能性置換基を有するジアミノシラン、モノアミノシラン等を挙げることができる。それらの各種アミノシランは、本発明の効果シラザン膜の耐熱性、耐久性密着性を阻害しない範囲の量を適宜配合可能である。そして、本発明においてアミノシランは、アミノ基相互が脱アンモニアNH3縮合して縮重合架橋体となるとともに、部分的にアミノ基がシランカップラーと同様に脱水的に金型母材ないし中間膜上の水酸基等の活性水素と化学結合すると考えられる。そして、シラザン膜形成面を、酸素プラズマ処理することにより上記水酸基の表面密度が増大すると考えられ、後述の実施例で示す如く、密着性の増大に伴い、耐熱性とともに耐久性も増大する。ここで、シラザン膜の厚みは、5~50nm、望ましくは5~30nmとする。なお、シラザン膜の成膜は、通常、前記アミノシランの溶解溶液を用いて、慣用の成膜方法で行なう。例えば、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法、気相法および真空蒸着法のいずれでもよい。上記中間膜13は、必然的ではないが、金型母材がビッカース硬さJISZ2244;以下単に硬さという。1000HV未満のとき密着膜13aと超硬膜13bとからなるものとすることが、耐久性特に耐擦り性の見地から望ましい。例えば、ビッカース硬さは、金型に多用されているSCr440クロム鋼で320HV、SKH4高速度工具鋼でも722HVである。そして、上記密着膜13aの形成材としては、第3~5周期の4~11族の群Ti,Ta,Nb,Cu,W,Cr,Ni,Zr,Mo,Pt,Au,Ag,Ir,Re,Pd等から選択される遷移金属およびSiやAl等を使用可能であるが、特に、第三周期の4~10族の群Ti,V,Cr,Mn,Co,Niが、さらには、Ti、Ni、Crが、密着性増大作用が高くて望しい。これらのもの金属間の密着膜として実績を有する。この密着膜は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等により成膜する。上記超硬膜としては、Si3N4,SiC,SiO2,TiN,Al2O3DLC,C3N4等の各種窒化物、炭化物、酸化物などを挙げることができるが、ケイ素の窒化物Si3N4、炭化物SiC、酸化物SiO2が望ましい。シラザン膜との親和性密着性に優れているためである。当該超硬膜の厚みは5~1000nm、望ましくは10~600nmとする。この超硬膜は、反応スパッタリングで成膜することが、超硬膜の形成が容易で望ましい。以下、本発明の効果を確認するために比較例とともに行なった実施例について説明する。A.試験片の調製<実施例1>無機ガラス基板金型母材:26mm×76mm×1mmtに、反応性スパッタリング装置を用いて、密着膜Cr、膜厚10nmを成膜した。当該成膜条件は、真空度:0.5Pa、基板温度:300°Cとした。該密着膜上に、反応性スパッタリング装置で、超硬膜Si3N4、膜厚500nmを成膜した。当該成膜条件は、密着膜の場合と同じとした。その後、酸素プラズマ処理RF:500W、処理時間600sし、ペルフルオロアルキル基含有シラザン化合物KP801M信越化学工業株式会社製を用いて、真空蒸着法でシラザン膜膜厚15nmを成膜して試験片とした。当該成膜条件は、真空度:2×103Pa、基板温度:60°Cとした。なお、上記ペルフルオロアルキル基含有シラザン化合物特定有機ケイ素化合物は、モノマーペルフルオロアルキル基含有トリアミノシランおよびそのオリゴマーの混合物である。<実施例2>上記実施例1において、酸素プラズマ処理の工程を無くした以外は、同様にして試験片を調製した。<比較例1>上記実施例1において、シラザン化合物の代わりに加水分解性シラン基含有ペルフルオロエーテルKY130信越化学工業株式会社製を用いた以外は、同様にして試験片を調製した。B.評価試験上記各試験片について、下記1離型耐熱性試験と、2離型耐久性試験こすり試験とを行なった。1離型耐熱性試験:300°Cのオーブンに試験片を入れ、各経過時間後の接触角の測定を行った。接触角の測定は、接触角計協和界面化学株製:CA-D型を用いて、蒸留水による液滴法で測定した。図2に試験結果を示す。図2から、本発明のシラザン膜は比較例の加水分解性シラン基含有ペルフルオロエーテルの処理膜に比して格段予想以上に離型耐熱性に優れていることが分かる。特に、プラズマ処理をした実施例1は24時間経過後も殆ど接触角が低下せず、さらに離型耐熱性に優れていることが分かる。即ち、耐熱性試験300°C×24hにおける実施例1の接触角低下度は10以内を、実施例2の接触角低下度は20以内を示すことが確認できた。これに対して、比較例1では、接触角低下度は12時間で約80であった。2離型耐久性試験こすり試験:こすり試験器ラビングテスターを用いて、1Kg荷重でコットン木綿布でこすり試験を行って、100回毎に、前記方法で接触角を測定し、3000回まで行った。図3にこすり試験の結果を示す。図3から、本発明の実施例12は、比較例に比して明らかに離型耐久性が優れていることが分かる。特に、プラズマ処理をした実施例1は、さらに離型耐久性に優れていることが分かる。C.実機金型における離型耐久性試験ステンレスSUS304製の金型3インチ平面金型母材のキャビティ面に上記と同様の条件で、反応性スパッタリング装置を用いて密着膜Cr、膜厚10nmを成膜後、超硬膜Si3N4、膜厚500nmを成膜し、更に、成形品に反射防止凹凸の転写を行うためにナノメートルサイズの凹凸を賦形面所要部位に形成した。該凹凸は可視域の波長間隔以下に制御されたもの反射防止構造とした。該反射防止構造は、例えば、300nm以下の間隔で制御された凹凸間隔で、高さ160nmの凹凸を形成する。これら超硬膜へのナノメートルサイズの凹凸形成方法は、マスクマスク材:Ag後、慣用のドライエッチングにより形成した。その後、酸素プラズマ処理RF:500W、処理時間600sし、ペルフルオロアルキル基含有シラザン化合物KP801M信越化学工業株式会社製を用いて、真空蒸着法でシラザン膜膜厚15nmを成膜して試験片とした。真空蒸着の条件は、前記実施例12と同様である。続いて、上記のようにして調製した実機金型を用いて、下記条件で1万回の成形耐久性実験を行った。成形機:全電動射出成形機住友重機械工業株式会社製成形材料:PMMA成形条件:金型温度110°C、樹脂温度280°C、保圧60mPaその実験結果を図4に示す。図4から、1万回連続成形を行っても成形品の反射率特性がほぼ同じでほとんど変動していないことが分かる。このことは、離型膜シラザン膜の劣化が無かったことを示しており、実機金型においても充分に離型耐久性があることが確認できた。"