対向配置された第1基板及び第2基板と、前記第1基板の一面と前記第2基板の一面の間に設けられたシール材と、前記第1基板の一面及び前記第2基板の一面のそれぞれに設けられた垂直配向膜と、平面視において前記シール材に隣接して環状に配置されており、前記垂直配向膜とは異なる基板表面配向状態を生じさせる液晶流入領域と、前記シール材に囲まれて前記第1基板と前記第2基板の間に設けられた液晶層と、を備える、液晶素子。前記液晶流入領域は、前記第1基板の一面と前記第2基板の一面の少なくとも一方に水平配向膜を設けて構成される、請求項1に記載の液晶素子。前記液晶流入領域は、前記第1基板の一面と前記第2基板の一面の少なくとも一方の基板面を露出させて構成される、請求項1に記載の液晶素子。前記液晶流入領域は、平面視における幅が0.2mm以上1mm以下である、請求項1~3の何れか1項に記載の液晶素子。第1基板及び第2基板の各々の一面に垂直配向膜を形成する工程と、前記第1基板と前記第2基板の各々の一面に、平面視において前記垂直配向膜を囲むようにして、前記垂直配向膜とは異なる基板表面配向状態を生じさせる液晶流入領域を形成する工程と、前記第1基板と前記第2基板を各々の一面に、前記液晶流入領域を囲むようにしてシール材を塗布する工程と、前記シール材を介して前記第1基板と前記第2基板を貼り合わせる工程と、前記シール材に囲まれた前記第1基板と前記第2基板の間隙に液晶材料を注入する工程と、前記液晶材料の相転移温度を超えた温度による熱処理を行う工程と、を含む、液晶素子の製造方法。本発明に係る具体的態様は、製造コストを増加させず、かつ簡便な製造プロセスによって液晶材料の注入時間を短縮することが可能な液晶素子とその製造技術を提供することを目的の1つとする。本発明に係る一態様の液晶素子は、a対向配置された第1基板及び第2基板と、b第1基板の一面と第2基板の一面の間に設けられたシール材と、c第1基板の一面及び第2基板の一面のそれぞれに設けられた垂直配向膜と、d平面視においてシール材に隣接して環状に配置されており、垂直配向膜とは異なる基板表面配向状態を生じさせる液晶流入領域と、eシール材に囲まれて第1基板と第2基板の間に設けられた液晶層を備える、液晶素子である。ここで、液晶流入領域は、例えば第1基板の一面と第2基板の一面の少なくとも一方または両方に水平配向膜を設けて構成することができる。また、液晶流入領域は、例えば第1基板の一面と第2基板の一面の少なくとも一方または両方の基板面を露出させて構成することもできる。また、液晶流入領域は、平面視における幅が0.2mm以上1mm以下であることがより好ましい。本発明に係る一態様の液晶素子の製造方法は、a第1基板及び第2基板の各々の一面に垂直配向膜を形成する工程と、b第1基板と第2基板の各々の一面に、平面視において垂直配向膜を囲むようにして、垂直配向膜とは異なる基板表面配向状態を生じさせる液晶流入領域を形成する工程と、c第1基板と第2基板を各々の一面に、液晶流入領域を囲むようにしてシール材を塗布する工程と、dシール材を介して第1基板と第2基板を貼り合わせる工程と、eシール材に囲まれた第1基板と第2基板の間隙に液晶材料を注入する工程と、f液晶材料の相転移温度を超えた温度による熱処理を行う工程を含む、液晶素子の製造方法である。上記した各発明によれば、垂直配向型の液晶表示装置において、垂直配向膜とは異なる配向状態を生じさせる液晶流入領域をシール材に隣接して環状に設けることにより、液晶材料の注入時にこの液晶流入領域へ液晶材料を優先的に流動させることができる。このため、液晶材料の注入時における流動性の向上を図り、液晶材料の注入時間を短縮することが可能となる。このような液晶流入領域は、例えば水平配向膜を形成し、あるいは基板面を露出させることにより実現可能であるので、特別な装置、設備を必要としない。したがって、製造コストを増加させず、かつ簡便な製造プロセスによって液晶材料の注入時間を短縮することが可能となる。以下に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。図1は、一実施形態の液晶表示装置を模式的に示す正面図平面図である。図1に示す本実施形態の液晶表示装置は、一対の基板間に配置された液晶層内の液晶分子が電圧無印加時において各基板に対してほぼ垂直に配向する垂直配向型の液晶表示装置である。各基板を挟んで対向配置される一対の偏光板は、それぞれの吸収軸が直交するように配置されているノーマリーブラックモード。図1に示す本実施形態の液晶表示装置は、任意の画像表示を行うための有効表示領域1と、この有効表示領域1を環状に取り囲む液晶流入領域液晶流入部2と、液晶層を封止するために基板周縁に沿って環状に設けられたシール材3と、外部回路等から駆動信号を供給するための端子部4を備えている。端子部4は、上下基板のいずれか一方の端部に設けられている。シール材3は、平面視において略矩形状であり、その一辺に設けられた開口部6が液晶材料の注入口として用いられる。開口部6は図示しない封止材によって封止されている。図2は、液晶表示装置の断面構造の一例を示す部分断面図である。図2に示す部分断面図は上述した図1に示すII-II線に対応する断面構造を示したものである。図2に示す構成例の液晶表示装置は、対向配置された上側基板第1基板11および下側基板第2基板12と、両基板の間に配置された液晶層17を基本構成として備える。上側基板11および下側基板12は、それぞれ例えばガラス基板、プラスチック基板等の透明基板である。図示のように、上側基板11と下側基板12は、上側電極13と下側電極14が対向するようにして所定の間隙例えば数μm程度を設けて貼り合わされている。上側電極13は、上側基板11の一面側に設けられている。同様に、下側電極14は、下側基板12の一面側に設けられている。上側電極13および下側電極14は、それぞれ例えばインジウム錫酸化物ITOなどの透明導電膜を適宜パターニングすることによって構成されている。これらの上側電極13、下側電極14を介して外部の駆動回路図示省略から液晶層17に駆動信号が供給される。上側電極13と下側電極14は、例えば、互いが重なった領域が所望の文字や図案からなる画素部を形作るように形成されているセグメント表示型の場合。また、上側電極13は、紙面の左右方向に対応する第1方向に延在するストライプ形状に形成され、下側電極14は、上記の第1方向と直交する第2方向に延在するストライプ形状に形成されていてもよい。この場合には、上側電極13と下側電極14が互いに交差した領域のそれぞれが画素部を形作り、全体としては規則的に配列された複数の画素部からなるドットマトリクス表示部が構成される。このように上側電極13と下側電極14が交差して画素部となっている領域をすべて囲い込む領域を有効表示領域1としている。図1においてはすべての表示部を矩形で囲む部分が有効表示領域1となっている。垂直配向膜15は、上側基板11の一面側に上側電極13を覆うようにして設けられている。同様に、垂直配向膜16は、下側基板12の一面側に下側電極14を覆うようにして設けられている。これらの垂直配向膜15、16は、液晶層17の配向状態を規制するものである。各垂直配向膜15、16は、例えばラビング処理等の一軸配向処理が施されており、かつその配向処理の方向が互い違いアンチパラレルとなるように配置されている。液晶層17は、上側基板11と下側基板12の間に設けられている。本実施形態においては、誘電率異方性Δεが負の液晶材料を用いて液晶層17が構成される。液晶層17に図示された太線は、液晶層17における液晶分子の配向方向を模式的に示したものである。本実施形態の液晶層17は、電圧無印加時における液晶分子の配向方向が上側基板11および下側基板12の各基板面に対してわずかなプレティルト角を有して略垂直に配向する垂直配向型に設定されている。水平配向膜18は、上側基板11の一面において、上記した液晶流入領域2に対応する部分に設けられている。同様に、水平配向膜19は、下側基板12の一面において、上記した液晶流入領域2に対応する部分に設けられている。これらの水平配向膜18、19は、液晶表示装置の製造時において液晶層17を形成するために上側基板11と下側基板12の間隙へ液晶材料を注入する際に要する時間をより短くするために設けられたものである。各水平配向膜18、19は、上記した有効表示領域1に対応する部分に設けられた各垂直配向膜15、16に比べて液晶材料の流動を阻害しにくい性質を有する。なお、周知のように水平配向膜とは液晶分子を水平方向へ配向させる規制力を有するものである。上側偏光板21は、上側基板11の外側に配置されている。同様に、下側偏光板22は、下側基板12の外側に配置されている。上側偏光板21と下側偏光板22は、各々の吸収軸が互いに略直交するように配置されている。また、上側偏光板21と下側偏光板22の各吸収軸は、配向処理の方向に対応して定義される液晶層17の層厚方向の略中央における液晶分子の配向方向に対して略45°の角度をなす位置に設定される。なお、各偏光板と各基板との間には適宜Cプレート等の光学補償板が配置されてもよい。例えば本実施形態では、上側基板11と上側偏光板21の間、下側基板12と下側偏光板22の間のそれぞれに光学補償板23、24が配置されている。図3は、液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。上記した図2に示した液晶表示装置とは液晶流入領域2の構造のみが異なっている。以下、共通する構成については同一符号を用いたうえでそれらの説明は省略し、相違点について説明する以降も同様。図3に示す液晶表示装置では、液晶流入領域2に対応する部分のうち、上側基板11にのみ水平配向膜18が設けられており、下側基板12の一面上には垂直配向膜16が設けられている。このような構造によっても、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。図4は、液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。上記した図2に示した液晶表示装置とは液晶流入領域2の構造のみが異なっている。図4に示す液晶表示装置では、液晶流入領域2に対応する部分のうち、上側基板11にのみ水平配向膜18が設けられており、この水平配向膜18と対向する下側基板12の一面上には何も設けられずに基板面19aが露出している。なお、この露出した基板面19aには、予めSiO2膜を設けるなどの平滑化処理が行われていてもよい。このような構造によっても、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。図5は、液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。上記した図2に示した液晶表示装置とは液晶流入領域2の構造のみが異なっている。図5に示す液晶表示装置では、液晶流入領域2に対応する部分のうち、下側基板12の一面上には何も設けられずに基板面19aが露出しており、この露出した基板面19aと対向する上側基板11の一面上には垂直配向膜15が設けられている。上記と同様にこの露出した基板面19aには、予めSiO2膜を設けるなどの平滑化処理が行われていてもよい。このような構造によっても、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。図6は、液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。上記した図2に示した液晶表示装置とは液晶流入領域2の構造のみが異なっている。図6に示す液晶表示装置では、液晶流入領域2に対応する部分について、上側基板11および下側基板12のそれぞれの一面上には何も設けられずに、基板面18a、基板面19aがそれぞれ露出している。上記と同様にこれらの露出した基板面18a、基板面19aには、予めSiO2膜を設けるなどの平滑化処理が行われていてもよい。このような構造によっても、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。図7は、液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。この液晶表示装置は、上記した図6に示した液晶表示装置と同様、液晶流入領域2に対応する部分について、上側基板11および下側基板12のそれぞれの一面では基板面18a、基板面19aがそれぞれ露出しているが、さらにこれらの基板面18a、基板面19aには垂直配向膜15a、垂直配向膜16aが設けられている。垂直配向膜15aは、例えば環状に設けられていてもよいし、複数の膜片を間欠的に配置して環状に並べたものであってもよいし、部分的に垂直配向膜15と繋がっていてもよい。垂直配向膜16aも同様である。このような構造によっても、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。特に、液晶流入領域2の内部にも垂直配向膜15a、16aを部分的に設けることにより、これらによる配向規制力を利用して液晶流入領域2における配向乱れをより抑制することができる。それにより、液晶流入領域2の幅をより広く確保することが可能となり、液晶材料の注入時における流動性をより高めることが可能となる。具体的には、上記した図2~図6に示したような各垂直配向膜15a、16aを設けない場合における液晶流入領域2の幅は、シール材3による影響を考慮して配向状態を維持し得る条件として0.2mm以上1mm以下であることが好ましいが、各垂直配向膜15a、16aを設けることにより液晶流入領域2の幅を1mm以上としてもシール材3による影響を抑制することが可能となる。なお、垂直配向膜15aと垂直配向膜16aのいずれか一方のみを設けるようにしてもよい。なお、上記した各実施形態のうち、特に液晶流入領域2に垂直配向膜を設けない実施形態の液晶表示装置においては、液晶流入領域2の液晶層17が必ずしも垂直配向とはならず、クロスニコル配置とした上側偏光板21と下側偏光板22によるノーマリーブラック状態が保証されない。これに対しては、例えば第1基板11の外側に遮光のための印刷物等を設けて光抜けを防止する方法や、バックライトの構造を工夫する方法などによって対処することが可能である。次に、上記した各実施形態の液晶表示装置の好適な一例の製造方法を説明する。図8は、液晶表示装置の製造方法の一例を説明するための流れ図である。まず、上側基板11の一面上に上側電極13を形成し、下側基板12の一面上に下側電極14を有する形成する図8:ステップS11。具体的には、片面が研磨処理され、その表面にSiO2アンダーコートが施された後、ITOインジウム錫酸化物からなる透明導電膜が成膜された一対のガラス基板を用意する。これらのガラス基板の透明導電膜に対してフォトリソグラフィ工程及びエッチング工程を行うことにより所望の形状にパターニングする。なお、必要に応じて、透明導電膜をパターニングして得られた上側電極13や下側電極14の各々の一部表面上にSiO2などによる絶縁層平滑層を形成してもよい。その後、上側基板11および下側基板12をそれぞれ弱アルカリ溶液および純水にてブラシ洗浄後、基板乾燥し、低圧水銀ランプまたは酸素キャリアを用いた大気圧プラズマ等によるドライ洗浄を行う。次に、各基板にフレキソ印刷法にて所望パターンの垂直配向膜材料を塗布し、これを焼成することによって垂直配向膜15、16を形成する図8:ステップS12。具体的には、上記した図2に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板11と下側基板12のそれぞれの液晶流入領域2に対応する領域には垂直配向膜材料が塗布されず有効表示領域1にのみ塗布されるようにする。また、上記した図3に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板11の液晶流入領域2に対応する領域には垂直配向膜材料が塗布されず有効表示領域1にのみ塗布されるようにし、下側基板12には有効表示領域1と液晶流入領域2のそれぞれに対応する領域に渡って垂直配向膜材料が塗布されるようにする。また、上記した図4に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板11と下側基板12のそれぞれの液晶流入領域2に対応する領域には垂直配向膜材料が塗布されず有効表示領域1にのみ塗布されるようにする。また、上記した図5に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板11には有効表示領域1と液晶流入領域2のそれぞれに対応する領域に渡って垂直配向膜材料が塗布されるようにし、下側基板12には液晶流入領域2に対応する領域には垂直配向膜材料が塗布されず有効表示領域1にのみ塗布されるようにする。また、上記した図6に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板11と下側基板12のそれぞれにおいて液晶流入領域2に対応する領域には垂直配向膜材料が塗布されず有効表示領域1にのみ塗布されるようにする。また、上記した図7に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板11と下側基板12のそれぞれにおいて、有効表示領域1に対応する領域は各垂直配向膜15、16に対応する垂直配向膜材料が塗布され、液晶流入領域2に対応する領域には各垂直配向膜15a、16aに対応する垂直配向膜材料が塗布されるようにする。次に、上側基板11と下側基板12の少なくとも一方の一面上に、液晶流入領域2を形成する図8:ステップS13。具体的には、上記した図2に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板11と下側基板12のそれぞれの液晶流入領域2に対応する領域に、フレキソ印刷法などによって水平配向膜材料を塗布し、これを焼成することにより、水平配向膜18、19を形成する。また、上記した図3または図4に示した各構造例の液晶表示装置であれば、上側基板11の液晶流入領域2に対応する領域にのみ、フレキソ印刷法などによって水平配向膜材料を塗布し、これを焼成することにより、水平配向膜18を形成する。なお、上記した図5~図7に示した各構造例の液晶表示装置であれば、本工程では上側基板11と下側基板12のそれぞれの液晶流入領域2に対応する領域には何も形成しない。なお、いずれの場合においても、液晶流入領域2に対応する領域に設けられる水平配向膜材料の外縁が部分的に有効表示領域1の外縁と重なってもよい。また、液晶流入領域2の形成工程と垂直配向膜の形成工程との順序を入れ替えてもよい。次に、垂直配向膜15、16のそれぞれに対して一軸配向処理を行う図8:ステップS14。本実施形態では、代表的な配向処理であるラビング処理を垂直配向膜15、16の双方に対して行う。なお、各水平配向膜18、19、あるいは各垂直配向膜15a、16aが設けられている場合図7参照には、それらに対しても一軸配向処理がなされる。次に、一方の基板上例えば、下側基板12の一面上に、所定粒径の球状スペーサーを乾式散布法等の方法によって散布する図8:ステップS15。また、他方の基板例えば上側基板11には、例えばスクリーン印刷法によってシール材3を印刷する図8:ステップS16。シール材3は、上側基板11と下側基板12が重なる領域の外形よりわずかに小さい枠状に形成される。スペーサー散布およりシール材形成の後、上側基板11と下側基板12を貼り合わせて熱圧着することによりシール材3を固着させる図8:ステップS17。熱圧着の条件は、例えば120°Cで1時間以上とする。次に、真空注入法等の方法によって、上側基板11と下側基板12の間隙に液晶材料を注入し、その注入口を紫外線硬化樹脂等によって封止する図8:ステップS18。これにより液晶層17が形成される。このとき、液晶材料は各水平配向膜18、19等の形成された液晶流入領域2へ優先的に流動し、その後垂直配向膜15、16の形成された領域へ流動して上側基板11と下側基板12の間隙に浸透する。そのため、液晶材料の注入速度が上がり、液晶材料の注入時間が短縮される。次に、液晶層17を再配向させるための熱処理を行う図8:ステップS19。詳細には、上側基板11および下側基板12を貼り合わせて得られたセルに対して、液晶材料のネマティック相と等方相の間の相転移温度よりも高い温度で60分間以上の熱処理が行われる。その後、上側基板11および下側基板12を貼り合わせて得られたセルを中性洗剤等で洗浄し、さらに純水でリンスし、乾燥させる。そして、上側基板11の外側に上側偏光板21および光学補償板23を貼り合わせ、かつ下側基板12の外側に下側偏光板22および光学補償板24を貼り合わせる図8:ステップS20。最後に、フレキシブル基板またはリードフレームを適宜に取り付けることにより液晶表示装置が完成する。以上のような本実施形態によれば、垂直配向型の液晶表示装置において、有効表示領域とシール材との間に垂直配向膜とは異なる配向状態を生じさせる液晶流入領域を設けることにより、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。したがって、特別な装置、設備を必要としないことから製造コストを増加させず、かつ簡便な製造プロセスによって液晶材料の注入時間を短縮することが可能となる。なお、本発明は上述した実施形態の内容に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々に変形して実施をすることが可能である。例えば、上記した実施形態においては一例として液晶表示装置、すなわち表示用途に用いられる液晶素子について説明していたが、本発明の適用範囲はこれに限定されず広く液晶素子一般に適用可能である。