"第2金属を露出している加工部品12上に、第1金属の被膜を析出するための方法であって、次のa~gの工程、即ち:a析出すべき第1金属のイオンと、第2金属用に少なくとも一つの錯化剤と、及び、少なくとも一つの酸とを含む浴構成成分を含有する、浴液16を備える工程と、b前記浴液16から前記加工部品12上に第1金属の被膜を析出する工程と、c前記浴液16を沈降タンク18へ供給する工程と、d前記第2金属と前記少なくとも一つの錯化剤とを含む沈殿物と、濾液とを生じるために、前記沈降タンク18内の浴液16を冷却する工程と、e濾過装置20を用いることによって前記濾液から前記沈殿物を分離する工程と、f前記濾液を浴液16に戻す工程と、g前記浴液16に浴構成成分を補充する工程と、を含む方法において、前記沈殿物を前記濾液から分離するために、前記濾過装置20を介して圧力差を生じることを特徴とする、方法。加圧濾過によって沈殿物を濾液から分離することを特徴とする、請求項1に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。チャンバー付フィルタプレス20によって沈殿物を濾液から分離することを特徴とする、請求項1又は2に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。9barから16barの圧力において沈殿物を濾液から分離することを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。第1金属が錫であることを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。第2金属が銅であることを特徴とする、請求項1~5のいずれか一項に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。少なくとも一つの錯化剤が、尿素、チオ尿素、及び、その誘導体から成る群から選択されることを特徴とする、請求項1~6のいずれか一項に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。少なくとも一つの酸が、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、メタンスルホン酸の誘導体、及び、芳香族スルホン酸から成る群から選択されることを特徴とする、請求項1~7のいずれか一項に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。発生した沈殿物が、少なくとも5重量の銅含有量を示すことを特徴とする、請求項1~8のいずれか一項に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。ポリプロピレン繊維から織られたフィルタ布84によって沈殿物から濾液を分離することを特徴とする、請求項1~9のいずれか一項に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。前記工程dとeとの間で、浴液を第1保存タンク42内で一時的に保存することを特徴とする、請求項1~10のいずれか一項に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。前記工程eとfとの間で、濾液を第2保存タンク46内で一時的に保存することを特徴とする、請求項1~11のいずれか一項に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法。請求項1~12のいずれか一項に記載の加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための方法を実施するための装置であって、加工部品12上に第1金属の被膜を析出するための浴液16を保持するための浴タンク11と、前記浴液を冷却して分離すべき沈殿物と濾液とを発生するための装置18と、前記沈殿物を濾液から分離するための濾過装置20と、及び、前記濾液を浴タンクへ戻すための装置とを備えた装置において、前記濾過装置20が、加圧下で稼働可能なことを特徴とする、装置。浴タンク11から浴液16を除去し、且つ、当該浴液を冷却装置18へ移すための装置をさらに備えることを特徴とする、請求項13に記載の装置。冷却装置18と濾過装置20との間に結合された第1保存タンク42をさらに備えることを特徴とする、請求項13又は14に記載の装置。濾過装置20の下流に結合された第2保存タンク46をさらに備えることを特徴とする、請求項13~15のいずれか一項に記載の装置。少なくとも一つの浴構成成分をそれぞれ供給するための、少なくとも一つの添加装置26をさらに備えることを特徴とする、請求項13~16のいずれか一項に記載の装置。したがって本発明の課題は、浴構成成分、特にチオ尿素の添加、及び、全体的浴供給物の添加を単純化する方法を創出することである。この課題は、独立請求項1及び13にしたがう発明事項によって解決される。有利な実施形態を従属請求項中に規定する。本発明に記載の方法は、第二金属を露出する加工部品上に、第一金属の被膜を析出するために用いられる。本方法は、以下の工程を有する。つまり、a浴液を備える工程であって、当該浴液は、析出すべき第一金属のイオン、例えば第一金属の塩を含む浴構成成分と、第二金属のイオン用の少なくとも一つの錯化剤と、少なくとも一つの酸とを含有する、工程と、b第一金属の被膜を前記浴液から前記加工部品上に析出する工程と、c前記浴液を沈降タンクへ送り込む工程と、d沈殿物と濾液を生じるために前記沈降タンク内の浴液を冷却する工程であって、前記沈殿物はイオンの形態である第二金属と少なくとも一つの錯化剤とを含有する、工程と、e濾過装置を用いて前記濾液から前記沈殿物を分離する工程と、f濾液を浴液に戻す工程と、及び、g浴構成成分を浴液に補給する工程、である。本発明に記載の方法は、濾液から沈殿物を分離するために、フィルタを介して圧力差を生じることを特徴とする。前記圧力差は、濾液端面で真空吸引を作り出すことによって、及び/又は、濾過すべき溶液の端面で過剰圧力を加えることによって生じることができる。濾液端面で真空を用いる場合には、吸引濾過と呼ぶ。濾過すべき溶液の端面で過剰圧力が作り出される場合には、加圧濾過と呼ぶ。前記二つの方法は、圧力差を生じるために組み合わせることもできる。必要ならば吸引濾過を更に使用する加圧濾過を用いた、濾液からの沈殿物の除去が特に有効である、というのも、吸引濾過単独言い換えると、加圧濾過を用いることが無いによって生じることが可能な最大圧力差は約1barに過ぎないが、一方で加圧濾過を用いることによってより大きな圧力差を生じることができる。これは、第一に流速の増加が可能であることを意味する。第二に、濾過ケーク濾滓が大きな圧力差で少ない液体含量を表すので、浴構成成分の回収を加圧濾過によって最適化する。濾液からの沈殿物分離のために加圧濾過を用いることは、浴構成成分、特に溶解性の低い浴構成成分の供給を単純化する。これは、著しく大量の浴液が、濾液からの沈殿物の分離中に回収可能であるからである。前記濾液は有用な浴構成成分を含有している。浴への濾液の戻り流れリターンフロー、返送は、したがって特に溶解性の低い浴構成成分の供給を最小に減じ、これにより浴補充が単純化される。これは、加圧濾過無しで浴へ戻るスラッジの液体含量変動が、浴構成成分の濃度を継続的に決定するための当該浴の分析モニタの増加を結果として生じるであろうから、又は、さもなければ、浴構成成分の濃度が継続的に激しく変動することを考慮に入れるべきであろうからである。このことは、本件において実質的に有用となる、というのも、分離した沈殿物が、冷却によって第二金属と錯化剤との錯体から沈降した沈殿物であるからである。冷却による沈殿物の場合、この沈殿物は、非常に高い液体含量を有するスラッジとして生じる。本発明にしたがう前記スラッジの加圧濾過により、沈殿物からの濾液形態での浴液の回収処理費用は実質的に減じることができる。さらに驚くべきことに、濾液は実質的に全ての浴構成成分を含有する一方で、沈殿中には浴液中に存在したであろうあらゆる汚染物が検出されたということを示した。加圧濾過を用いることにより、スラッジは大いに脱水されて濾液の処理材料から分離され、その結果乾燥される一方で汚染物が分離される。前記汚染物は、主に回路基板の製造において用いられた材料から発生する。例えば、ハンダレジストマスク、標識付け材料、及び、接着性改良材料である。接着性改良剤は、例えば銅とプリプレグとの間、又は、ハンダレジストマスクと銅表面との間の接着性を改良するように設計される。汚染物は、例えば硬化するための、又は、後続の冷却用に用いられた材料からも発生する。後続の冷却用に用いられうる材料の一例は、アルミニウムである。さらに多くの材料が充填剤、特に硫酸バリウム、二酸化珪素、又は、酸化アルミニウムを含有している。これらも放出されて、浴を汚染しうる。例えば軽石pumiceのような機械洗浄剤の残留物も存在する。これら物質の全てが前記沈殿物と共に沈降可能であるので、濾過によって浴から除去されうる。浴内でのこれら材料の濃度におけるあらゆる増加は、効率と処理能力の、特に析出スピードと濡れ特性の緩やかな低下を導く。濾過がこれら問題を抑制する。浴液は、処理工程dにおいて20から30°Cの浴温度から10°C未満の温度まで、好ましくは4から8°Cまで、特に概ね6°Cまで冷却することが好ましい。これは、第二金属と錯化剤とで構成された沈殿物の溶解性を減少し、結果として沈殿物を生じる。本発明に係る方法の好ましい実施形態では、チャンバー付フィルタプレスを用いて沈殿物を分離する。チャンバー付フィルタプレスは、一連のフィルタ部分フィルタセグメント、フィルタ区分を備えており、当該フィルタ部分は、分離手段としてフィルタ布を有し、当該フィルタ布は前記部分セグメント、区分の内側にライニングを施す。この方法により、濾過用に大きな有効面積を得る。また、前記複数の部分セグメント、区分を高圧下で、典型的には100bar以上圧締圧で一緒に圧縮するので、濾過液の過剰圧力下での導入中ですら、当該複数の部分セグメント、区分は互いに密接に閉じている。前記区分化された構造は、洗浄が非常に迅速で容易であるために、沈殿によって生じた濾過ケークが迅速且つ効率的に圧搾濾過器から除去できることを意味する。このために、複数の部分は離れるように動かされて、高圧下で濾過流体がチャンバー付フィルタプレスに導入されたところの高い圧力によりほぼ乾燥している濾過ケークを、効率良く取り除くことができる。そのようなチャンバー付フィルタプレスは、排水処理技術分野において公知であり、とりわけAndrizAGATによって製造されている。本発明に係る方法の別の好ましい実施形態では、9から16barの圧力において沈殿を分離する。第一に、濾過ケークを成長させることにより流れ抵抗を増加させる場合にも、この圧力範囲においては、濾過装置に作用する力は装置を破壊するほど十分に大きくない。第二に、この圧力範囲内の圧力は、しかしながらスラッジ様沈殿物からできるだけ多くの濾液を回収するためには十分に高いのである。本発明に係る方法の更に別の好ましい実施形態では、錫を第一金属として選択する。SnIIイオンの形態の錫が特に好ましい。SnOCOCH32と、トルエンスルホン酸の錫II塩、メタンスルホン酸の錫II塩、置換されたメタンスルホン酸を含む、メタンスルホン酸誘導体の錫II塩、及び、芳香族スルホン酸の錫II塩、特にフェノールスルホン酸の錫II塩が特に好ましい。本発明に係る方法の別の好ましい実施形態では、第二金属は、例えば回路基板の回路軌跡又は接触領域を構成している銅である。錫は、錯化剤の存在下で銅表面上に析出される、というのも、銅は、銅I/錯化剤の錯体を形成することによって溶解するからである。この方法は電流が無くても開始する。本発明に係る方法のさらに別の好ましい実施形態では、尿素CH4N2O,CAS[57-13-16]、チオ尿素CH4N2S,CAS[62-56-6]、又はその誘導体が、錯化剤として選択される。これら誘導体の例は、N-アルキル尿素、N-アルキルチオ尿素、N,N-ジアルキル尿素、N,N-ジアルキルチオ尿素、N,N’-ジアルキル尿素、及び、N,N’-ジアルキルチオ尿素であり、アルキルは、メチル、エチル、プロピル、メチルエチル、ブチル、1-メチルプロピル、2-メチルプロピル、及び、ジメチルエチルから成る群から夫々互いに独立した残基から選択される。芳香族誘導体の例は、N-アリール尿素、N-アリールチオ尿素、N,N’-ジアリール尿素、及び、N,N’-ジアリールチオ尿素であり、アリールは、フェニル、ベンジル、メチルフェニル、及び、ヒドロキシフェニルから成る群から夫々互いに独立した残基から選択される。本発明に係る方法のさらに別の好ましい実施形態では、少なくとも一つの酸が、メタンスルホン酸、置換されたメタンスルホン酸を含むメタンスルホン酸誘導体、ならびに、芳香族スルホン酸、特にフェノールスルホン酸から成る群から選択される。メタンスルホン酸が特に好ましい、というのは、これは高い溶解度を示し、且つ、最小の液含量の沈殿物を生じるからである。また、メタンスルホン酸を含有する浴液中の銅/チオ尿素錯体の溶解度、つまり20°Cで約8g/lは、浴液がトルエンスルホン酸を含有する場合のもの、つまり20°Cでたったの約2g/lよりも相当大きい。メタンスルホン酸を含有する浴液中のより良い溶解度は有利である、というのも、これは銅/チオ尿素錯体が浴液中で沈殿物として沈殿する危険性を減じるからである。本発明に係る方法の別の好ましい実施形態では、沈殿物の濾過中、当該沈殿物が、少なくとも5重量の、特に好ましくは少なくとも7重量の、そして最も好ましくは少なくとも8重量の銅含有量を有する濾過ケークを発生するのが好ましい。このことは、第一に濾液形態の浴液の効率的な返送戻り供給、returnfeedを可能にし、第二に濾過ケークからの処理材料の最適な別処理と回収とを可能にする。本発明に係る方法のさらに別の好ましい実施形態では、濾過は、フィルタ布を用いることにより実施する。前記フィルタ布は、ポリプロピレン繊維で織られているのが好ましい。ポリプロピレン製フィルタ布の利点は滑らかな表面であり、それによって沈殿物、特に濾過ケークが濾過材料内に侵入することを防ぐ。さらに、浴液の最大返送を獲得するために、メッシュ幅を変更することも可能である。本発明に係る方法の別の好ましい実施形態では、浴液は、処理工程dとeの間に第一保存タンク内に保存される。この一時的保存の利点は、沈殿物、特に濾過ケークの除去の繰りかえしに基づく沈殿物の分離が断続的に進行する間に、浴液の冷却を継続的に進行することができることである。また、濾過により、流体速度は形成した沈殿物、特に濾過ケークの厚みに依存し、したがって、濾過中に生じる変動とは無関係に、沈降タンク内の沈殿物形成中に析出処理を一定に保つことができるように変化する。別の利点として、第一保存タンクが用いられる場合に、沈殿物がより簡単に濾過されうるということが見いだされた。このことは、濾過ケークがより高い固形物含量を含有しており、したがって、第一保存タンクを用いない場合よりも失われる浴化学物質が少ない。さらに、この場合の濾過装置はより少ない過剰圧力で操作可能であるので、装置から沈殿物を取り除かねばならなくなる前までより長い間稼働可能となる。第一保存タンク内で冷却された浴液には晶出するための時間があり、それによって沈殿物が容易に濾過できると考えられる。沈降タンク内で形成された沈殿物が部分的に又は完全に溶解しないということをさらに保証するために、例えば第一保存タンク内において、本発明の別の好ましい実施形態では、保存された浴液を、当該第一保存タンク内で冷却することもできる。このために、冷却材を第一保存タンク内に備えることも可能である、例えば、冷却コイルを第一保存タンク内に設置する、又は、第一保存タンクが一つ以上の冷却されたタンク壁を備えることである。さらに、できるだけ効率的な冷却処理を保証するために、第一保存タンク内の浴液を動かす手段、たとえば、撹拌機が設けられてもよい。しかしながら前記手段は過剰な動きを導入すべきでない、というのは、これが粗い結晶沈殿物の成果を損なうからである。本発明に係る方法の別の好ましい実施形態では、濾液は処理工程eとfとの間に第二保存タンク内で保存する。第二保存タンクの利点は、濾液を浴へ継続的に供給することが可能であり、且つ、浴への濾液の供給がフィルタ洗浄の結果変わることがない、又は、沈殿物形成、特に濾過ケークの形成により流速を変えることがないことである。これは、浴タンク内浴液の一定の液面と、これにより簡単な浴供給を導く。第一ならびに第二保存タンクの両方を用いることが特に好ましい。これは、全システムにおいて濾過の準継続的稼働をもたらす。第一金属の被膜を加工部品上に析出するための方法を実施するために用いられる、本発明に係る装置は、第一金属の被膜を加工部品上に析出するための浴液を保持するための少なくとも一つの浴タンクと、沈殿物と分離されるべき濾液とを生じるために浴液を冷却する装置と、沈殿物を濾液から分離するための濾過装置と、及び、濾液を浴タンクへ戻すための装置とを備えている。本発明に記載のようにして、濾過装置は加圧下で稼働可能であり、且つ、このために少なくとも一つの適切な圧力発生手段例えば、ポンプを備えている。圧力発生手段は、過剰圧力加圧濾過を目的としてを発生する、又は、真空吸引濾過を目的としてを発生するための装置でありうる。このために、市販のポンプシステムを使用することができる。本発明に係る装置の好ましい実施形態では、当該装置は、浴タンクから浴液を除去し、且つ、当該浴液を冷却用装置に移送するための装置も備えている。本発明に係る装置は、一つの又は平行して稼働される複数の浴タンクに対して配置可能であるので、沈降タンクを通過する浴液の循環と濾過装置とが、一つの又は複数の浴タンクに同時に割り当てられる。浴液への濾液の返送が、次に複数の浴タンクに平行して分配され、又は、直列に連結した複数の浴タンクに次々に供給されうる。沈殿物を形成するために、沈降タンクを冷却する。前記沈降タンクから濾過装置へスラッジ様沈殿物を効率良く供給するために、前記沈降タンクは、下向きに直径を減じて、特にテーパ状に形成される。これは、スラッジの供給を容易にさせる。前記沈降タンクを冷却ジャケットで囲むと更に好ましい。代わりに、又は、更に、前記沈降タンク内部に冷却コイルを取り付けてもよい。この場合、壁は外に向かって断熱されうると好ましい。沈降タンクには、浴液から少なくとも一つの冷却材へ効率の良い熱伝導を可能にするために、浴液を動かすための手段、例えば撹拌機をさらに設けてもよい。本発明に係る装置の別の好ましい実施形態では、当該装置は、冷却用装置と濾過装置との間に結合された第1保存タンクをさらに備えている。この一時的な保管の利点は、濾過ケークの通常の除去に基づく沈殿物の分離が断続的に進行する間に、冷却を連続的に進めることができる点である。濾過による流速も、形成した濾過ケークの厚みに依存する。さらなる利点として、冷却された浴液は前記第1保存タンク内で結晶化するための時間を有しているので、沈殿物はより容易に濾過されることが見いだされた。このために、当該タンクは断熱されるか、又は、積極的に冷却されてもよい。本発明に係る装置のさらに別の好ましい実施形態では、当該装置は、濾過装置の下流に結合された第2保存タンクをさらに備えている。前記第2保存タンクの利点は、濾過ケークの形成によるフィルタ洗浄又は流速変更による変化と無関係に、浴タンクへ戻される浴液の供給を連続的に進めることができる点である。これは、浴内の一定の浴液面をもたらし、その結果、生ずる沈殿物の改善をもたらす。最後に、本発明に係る装置は、浴液中の前記浴構成成分の濃度を一定の濃度に保つために、少なくとも一つの浴構成成分をそれぞれに供給するための、少なくとも一つの投薬添加装置をさらに備えている。前記添加装置はコンピュータ制御可能である。浴タンクは従来の浸漬タンクとして形成できる。代わりに、前記浴タンクは水平システムにおける処理区間として実施されてもよく、したがって、加工部品が水平に又は垂直に配列されて水平の供給方向に動かされる。この場合のタンクは、加工部品が一端で進入して他の端から出るように再度送られる堰き止められた液溜めとして、又は、加工部品がその中に運ばれて、浴液を加工部品に噴射するノズルによって浴液と接触するようにもたらされる処理空間として形成することができる。それぞれ、例えばキャンドルフィルタのような濾過設備を備えた、例えば外部ポンプによって発生された強制循環型システムexternalpumpgeneratedforcedcirculationsystemにおける、通常の設備が浴タンクに備えられる。前記浴タンクは、加熱又は冷却要素、ならびに、液を動かしたり均一化するための設備をさらに有してもよい。本発明の例示的実施形態を添付の図面を参照しながら次に記載する。個々の図面は以下のとおり。図1は本発明に係る装置の概略図を表す。浴液16をその中に含有する浴タンク11で形成された浴10内では、加工部品12、例えば銅14で被覆された回路基板が、前記浴液16と接触するようにもたらされる。前記浴液16は、中でも浴構成成分のメタンスルホン酸SnII塩、チオ尿素及びメタンスルホン酸を含有する。当該浴液16は、酸化作用に対してSnIIイオンを安定化するための還元剤、ならびに、不純物としての当該還元剤の酸化生成物に対してSnIIイオンを安定化するための還元剤をさらに含有してもよい。チオ尿素により銅14の酸化還元電位が変化し、チオ尿素と錯形成しながらCuIイオンが溶解する間に錫が析出する。これにより、SnIIイオンとチオ尿素は消費される。前記浴液16は、20°Cから30°Cの温度を呈する。前記浴液16からCuI/チオ尿素錯体を除去するために、浴液16の一部を浴タンク11から除去して、沈降タンク18へ移す。このために、約25l/hrsの体積流量を有する第1ポンプ30を用いて、前記沈降タンク18へ浴液16を移す。沈降タンク18では、浴液16の温度を低下させて、CuI/チオ尿素錯体を沈降させる。前記沈降タンク18は、冷却ジャケット32と撹拌機34とを備えている。前記冷却ジャケット32には、冷却ユニット36によって冷媒を供給される。冷却を制御するために、温度センサ例えば温度計38を用いる。前記冷却ジャケット32により、沈降タンク18中の浴液16の温度は約6°Cに調整される。6°Cまで冷却され、且つ、沈殿物の形態をした銅/チオ尿素結晶化錯体を含有するためにスラッジ様の粘稠性を有する浴液16は、第2ポンプ40、例えば蠕動ポンプを用いて第1保存タンク42に供給される。前記第1保存タンク42は、濾過ケークを濾過装置20から取り除く時、且つ、そのために濾過装置はさらなる処理材料を受け入れる準備が出来ていない時であっても、沈降タンク18の継続した稼働を可能にするために用いられる。また、前記第1保存タンク42内の比較的静穏な媒体は結晶成長の発現を可能にする。第1保存タンクの構造を図3中に概略的に示す。前記保存タンクは、冷却水、撹拌装置モーターM97、及び、液面センサL98によって稼働される冷却装置96を呈している。参照番号95は、沈降タンク晶出装置18から出るラインを参照し、且つ、参照番号94は、濾過装置20に至るラインを参照する。浴液16は、9から16barの圧力下で、第3ポンプ44によって前記第1保存タンク42から濾過装置20へ供給される。前記濾過装置20はチャンバー付フィルタプレスである。浴液は、加圧下のフィルタ布をプレススルー圧縮通過する。当該処理で濾過ケークを形成する。濾液は浴10へ返送戻り供給される。このために、濾液が濾過装置20から第2保存タンク46へ移され、そこから第4ポンプ48を用いて浴10へポンプで送り込むことができる。前記保存タンク46により、一定の濾液返送が、したがって、単純化した浴供給が可能となる。第2ポンプ40が沈降タンク18の下流に直接結合されるので、当該第2ポンプ40は洗浄回路も備えている。このために、前記第2ポンプ40は、第1バルブ50によって沈降タンクから分離することが可能であり、且つ、第2バルブ52によって第1保存タンク42からも分離することが可能である。洗浄溶液、特に、浴液16と同一の流体が、第3バルブ56を介して、保存タンク54から第2ポンプ40へ、且つ、第4バルブ58を介して保存タンク54へ供給される。濾過ケーキが非常に大きく且つ押し固められたために、流れ抵抗の結果としてフィルタ布を通る流体がもはや十分な流速が可能でなくなった際には、濾過ケークを濾過装置20から除去する。当該処理の後、加工部品12を浴10から取り除く。加工部品12の被膜14は、今やその銅被膜表面が錫で覆われている。錫の析出により、且つ、CuIイオンとの錯形成によるチオ尿素の消費により浴液の組成が変化するので、浴10の継続的稼働をするために補充化学物質を浴液16に追加しなければならない。このために添加装置が用いられるが、そのような化学物質補充用の添加装置26が概略的に示されている。そのような添加装置の一例は、補充化学物質、例えば前記化学物質の溶液用の保存タンクと、添加ポンプと、選択した化学物質の浴液16への供給用の供給ラインとを備えているのが典型的である。図1は、単に供給ライン26の形でこの装置を表している。図2はチャンバー付フィルタプレス20を通る断面図を示している。当該チャンバー付フィルタプレス20は、中央窪み83を備えたフィルタ板82を備えており、当該フィルタ板82は隣り合って置かれている。前記フィルタ板82は、実質的に全ての側面をフィルタ手段、好ましくはPP-布で構成されるフィルタ布84で夫々覆われる。フィルタ布84と接触しているフィルタ板82の主要側面は、フィルタ布84と、当該主要側面の主な部分を覆って延びる止め具間の隙間との間で、夫々前記フィルタ布84下に凹みが形成されるように、止め具が付けられる。これら凹みは、結合溝85によって、フィルタ板82上の出口開口部92へ結合されるので、濾過浴の濾液はフィルタ布84を圧縮通過して出口開口部92を通り抜けて第2保存タンクへ流れることが可能である。前記フィルタ板82は、第1圧縮板86と第2圧縮板88との間に置かれ、当該圧縮板86と88は、約100barの圧締圧力で互いに圧縮される。この手段によって、液密閉鎖fluidtightclosureがフィルタ板82の間に実現される。前記第1圧縮板86は、懸濁液を沈降タンク18から又は第1保存タンク42から出すための入口開口部90を備えており、当該入口開口部90を通って、浴液は、9から16barの圧力で矢印の方向に沿って、稼働可能状態で一つの中央溝を形成するフィルタ板82の中央窪み83へ供給される。沈殿物93は、濾過ケークの形態でフィルタ布84上に沈降し、一方で濾液は、凹み、結合溝85、及び、出口開口部92を通ってチャンバー付フィルタプレス20を出る。チャンバー付フィルタプレス20の洗浄には、第1圧縮板86と第2圧縮板88との間にかけられていた圧力が解除され、フィルタ板82が外されて、フィルタ布84に接着している濾過ケーク93が前記プレスから取り除かれる。簡素化した浴供給の利点を、従来の浴供給と本発明に係る浴供給とを比較することによって、以下に示す。比較実験1銅で被膜した回路基板上に錫を析出するために、15g/l濃度のメタンスルホン酸錫II塩と、錯化剤として100g/l濃度のチオ尿素と、120g/l濃度のメタンスルホン酸の組成を有する浴液を用いた。さらに、当該浴液は、SnIIイオンの酸化を防ぐために還元剤を含有した。30m2/hr回路基板の処理用に設計され、且つ、浴タンク11に加え、図1に係る銅/チオ尿素錯体沈殿物用に冷却沈降タンク18を備えているが、フィルタ布84を有する圧力差を備えた濾過装置20は備えていない、装置において、前記浴から回路基板が取り除かれる際に回路基板にこの液が付着することにより、一時間辺り2.1lの浴液が、引き出すことによって浴から失われた。さらに銅の沈殿により、144g/hrでチオ尿素が、銅/チオ尿素錯体形成による沈殿物の形で取り除かれた。306g/hrでチオ尿素を浴に追加した、というのも、浴液が、銅/チオ尿素錯体の粘性沈殿物に付着したからである。したがって、浴中のチオ尿素濃度を維持するためには一時間辺り660gのチオ尿素を浴液に添加しなければならない。本発明本発明に係る浴液の処理のために、図2に係る構造を有するチャンバー付フィルタプレスを備えた図1に示す装置を用いた。チャンバー付フィルタプレス20を用いることにより、スラッジ様沈殿物を濾過ケーク93と濾液とに分離した。濾液は浴10へ返送した。本発明に従って実施された方法により、沈殿物に付着するチオ尿素の量は、加圧濾過によって103g/hrまで減じることができた。したがって、一時間辺り添加すべきチオ尿素の量は、457g/hrまで31減じられた。他の浴組成物と共に、廃棄物の削減、及び、フィルタケークのより単純な回収は、約30の費用削減を生じた。本発明浴液の処理のために、図3の構造を備えた第1保存タンクスラッジタンク42を有する図1に図示した実験装置を用いた。前記スラッジタンクには、冷却水4°Cで稼働された冷却装置96と、撹拌装置97と、及び、液面センサ98とを備えた。参照番号95は、沈降タンク晶出装置18から出るラインを参照し、且つ、参照番号94は、濾過装置20に至るラインを参照する。冷却装置96による冷却は、一時的に保存した浴液を周囲環境条件とは関係なく冷却したまま維持することができた。沈降タンク18によって作り出されたスラッジ含量含有量cと、浴液中の残留銅含量含有量cは温度依存的であった。浴液中の残留銅含量と、固形物含量とを決定するために、次の実験を実施した。7g/l銅粉末<63μm粒サイズを、比較実験1と同様の組成を有する200lの浴液にさらに追加した。70°Cで且つ約24時間の滞留時間で、銅を浴液中に完全溶解させ、銅の溶解中に形成した同量の金属錫が残留した。形成された錫を濾過によって除去し、且つ、消費した錫化合物の補充後に、晶出装置18を出る浴液をスラッジタンク42へ供給した。冷却及び/又は加熱により様々な温度が前記スラッジタンク内に設定され、分析用に試料を取り出した。取り出された試料を、それらの固形物含量c、及び、濾液中の残留銅含量cについて検査した。このために、50mlの試料を3000rpmで15分間遠心分離機において沈殿させた。全体積に対する沈殿物量の比から、固形物含量cを体積volで決定した。濾液中の残留銅含量cをg/lで決定するために、上澄み液からさらに試料を抽出した。表1は得られた測定値を表す。冷却無しで、且つ、浴液中のより高い周辺環境温度では、全銅スラッジが再溶解し、したがってそれ以上の銅の分離は生じないことが見いだされた。分離した沈殿物中の銅含量を決定するために、実施例3で用いた浴液を沈降タンク内で冷却し、沈殿物を調査した。このために、沈殿物を含む浴液を、沈殿物を分離するために様々な方法でさらに処理した。第1の実験では、圧力差を用いる吸引濾過によって浴液を濾過し濾液端面において減圧を加えた、非常に硬い乾燥した濾過ケークが形成した。別の実験では、多かれ少なかれ湿った沈殿物が、純粋な重力濾過比較実験によって得られた。得られた沈殿物は、それらの銅含量を分析するために次に分析された。実験結果を表2に示す。当該表は、試料濾過ケーク中の沈殿物の量に対する、夫々分離した沈殿物の固形分の量も示している。純粋な重力濾過により、つまり、さらに圧力差を生じない濾過により、沈殿物を介して少量の銅が分別されるに過ぎないことが見いだされた。ここに記載の実施例及び実施形態が図示を目的としているのみであり、その見地から様々な修正及び変更、ならびに、本願に記載の特徴の組み合わせが当業者に示唆され、且つ、記載の発明の精神且つ範囲内に、ならびに、添付の請求項の範囲内に含まれ得ることが理解される。ここに挙げた全ての出版物、特許及び特許出願は参照することによりここに包含する。"