"式A1で表される化合物Aと、ナジイミド化合物B、アミド酸誘導体および前記アミド酸誘導体のイミド化物ただし、前記アミド酸誘導体のイミド化物から前記ナジイミド化合物Bを除くから選ばれる少なくとも1種とを含む、インクジェット用インク。[式A1中、R1は炭素数2~20の有機基であり、R2およびR3はそれぞれ独立に炭素数2~12のアルキレンであり、R4およびR5はそれぞれ独立に水素または炭素数1~3のアルキルであり、mおよびnはそれぞれ独立に1~20の整数である。]式A1中のR1が、芳香環を含む炭素数6~20の有機基である、請求項1に記載のインクジェット用インク。ナジイミド化合物Bが、式B1で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物である、請求項1または2に記載のインクジェット用インク。[式B1中、R6およびR7はそれぞれ独立に水素、炭素数1~12のアルキル、炭素数3~6のアルケニル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数6~12のアリールまたはベンジルであり;lは1~2の整数であり;l=1のとき、R8は水素、水酸基、炭素数1~12のアルキル、炭素数1~12のヒドロキシアルキル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数2~12のアルケニル、炭素数2~12のヒドロキシアルケニル、炭素数5~8のヒドロキシシクロアルケニル、-{CqH2qOtCrH2rOuCsH2sX}式中、q、rおよびsはそれぞれ独立に2~6の整数、tは0または1の整数、uは1~30の整数、Xは水素または水酸基であるで表されるポリオキシアルキレンアルキル、炭素数6~12のアリール、-Ra-C6H4-R9式中、aは0または1の整数、Rは炭素数1~4のアルキレン、R9は水素または炭素数1~4のアルキルであるで表される基、-C6H4-T-C6H5{式中、Tは-CH2-、-CCH32-、-CO-、-S-または-SO2-である}で表される基、あるいはこれらの基の芳香環に直結した1~3個の水素が水酸基で置き換えられた基でありl=2のとき、R8は炭素数2~20のアルキレン{ただし、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは-O-または-CH=CH-で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素または水酸基で置き換えられてもよい}、炭素数5~8のシクロアルキレン、炭素数2~20のヒドロキシアルキレン、炭素数5~8のヒドロキシシクロアルキレン、-{CqH2qOtCrH2rOuCsH2s}-式中、q、rおよびsはそれぞれ独立に2~6の整数、tは0または1の整数、uは1~30の整数であるで表されるポリオキシアルキレン、炭素数6~12のアリーレン、-Ra-C6H4-R10-式中、aは0または1の整数、RおよびR10はそれぞれ独立に炭素数1~4のアルキレンまたは炭素数5~8のシクロアルキレンであるで表される基、-C6H4-T-C6H4-、-C6H4-T-C6H4-T-C6H4-または-C6H4-T’-C6H4-T-C6H4-T’-C6H4-{式中、Tは単結合、炭素数1~6のアルキレン、-CCF32-、-CO-、-O-、-S-または-SO2-であり、T’は-CH2-または-O-である}で表される基、これらの基の芳香環に直結する1~3個の水素が水酸基で置き換えられた基、式B2で表される基、あるいは式B3で表される基である。式B2中、xは1~6の整数であり、yは1~70の整数である。]アミド酸誘導体およびそのイミド化物の重量平均分子量が、1,000~9,000である、請求項1~3のいずれか1項に記載のインクジェット用インク。インクジェット吐出温度における粘度が、1~50mPasである、請求項1~4のいずれか1項に記載のインクジェット用インク。請求項1~5のいずれか1項に記載のインクジェット用インクから得られる硬化膜。請求項1~5のいずれか1項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって基板上に塗布して塗膜を形成した後、前記塗膜を硬化処理して得られる硬化膜。請求項1~5のいずれか1項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって基板上に塗布して塗膜を形成する工程、および前記塗膜を硬化処理する工程を有する、硬化膜の製造方法。フィルムおよびシリコンウエハーから選ばれる基板と、前記基板上に形成された請求項6または7に記載の硬化膜とを有する硬化膜付き基板。請求項9に記載の硬化膜付き基板を有する電子部品。本発明の課題は、基板に対する密着性の向上とプロセス中の熱ストレスによって生じる反りの低減とを両立しえる硬化膜を形成することが可能なインクジェット用インクおよびその用途を提供することにある。本発明者等は上記課題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、下記構成を有するインクジェット用インクにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明およびその好適態様は、以下のとおりである。[1]式A1で表される化合物Aと、ナジイミド化合物B、アミド酸誘導体および前記アミド酸誘導体のイミド化物ただし、前記アミド酸誘導体のイミド化物から前記ナジイミド化合物Bを除くから選ばれる少なくとも1種とを含む、インクジェット用インク。[式A1中、R1は炭素数2~20の有機基であり、R2およびR3はそれぞれ独立に炭素数2~12のアルキレンであり、R4およびR5はそれぞれ独立に水素または炭素数1~3のアルキルであり、mおよびnはそれぞれ独立に1~20の整数である。][2]式A1中のR1が、芳香環を含む炭素数6~20の有機基である、前記[1]に記載のインクジェット用インク。[3]ナジイミド化合物Bが、式B1で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物である、前記[1]または[2]に記載のインクジェット用インク。[式B1中、R6およびR7はそれぞれ独立に水素、炭素数1~12のアルキル、炭素数3~6のアルケニル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数6~12のアリールまたはベンジルであり;lは1~2の整数であり;l=1のとき、R8は水素、水酸基、炭素数1~12のアルキル、炭素数1~12のヒドロキシアルキル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数2~12のアルケニル、炭素数2~12のヒドロキシアルケニル、炭素数5~8のヒドロキシシクロアルケニル、-{CqH2qOtCrH2rOuCsH2sX}式中、q、rおよびsはそれぞれ独立に2~6の整数、tは0または1の整数、uは1~30の整数、Xは水素または水酸基であるで表されるポリオキシアルキレンアルキル、炭素数6~12のアリール、-Ra-C6H4-R9式中、aは0または1の整数、Rは炭素数1~4のアルキレン、R9は水素または炭素数1~4のアルキルであるで表される基、-C6H4-T-C6H5{式中、Tは-CH2-、-CCH32-、-CO-、-S-または-SO2-である}で表される基、あるいはこれらの基の芳香環に直結した1~3個の水素が水酸基で置き換えられた基でありl=2のとき、R8は炭素数2~20のアルキレン{ただし、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは-O-または-CH=CH-で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素または水酸基で置き換えられてもよい}、炭素数5~8のシクロアルキレン、炭素数2~20のヒドロキシアルキレン、炭素数5~8のヒドロキシシクロアルキレン、-{CqH2qOtCrH2rOuCsH2s}-式中、q、rおよびsはそれぞれ独立に2~6の整数、tは0または1の整数、uは1~30の整数であるで表されるポリオキシアルキレン、炭素数6~12のアリーレン、-Ra-C6H4-R10-式中、aは0または1の整数、RおよびR10はそれぞれ独立に炭素数1~4のアルキレンまたは炭素数5~8のシクロアルキレンであるで表される基、-C6H4-T-C6H4-、-C6H4-T-C6H4-T-C6H4-または-C6H4-T’-C6H4-T-C6H4-T’-C6H4-{式中、Tは単結合、炭素数1~6のアルキレン、-CCF32-、-CO-、-O-、-S-または-SO2-であり、T’は-CH2-または-O-である}で表される基、これらの基の芳香環に直結する1~3個の水素が水酸基で置き換えられた基、式B2で表される基、あるいは式B3で表される基である。式B2中、xは1~6の整数であり、yは1~70の整数である。][4]アミド酸誘導体およびそのイミド化物Cの重量平均分子量が、1,000~9,000である、前記[1]~[3]のいずれか1項に記載のインクジェット用インク。[5]インクジェット吐出温度における粘度が、1~50mPasである、前記[1]~[4]のいずれか1項に記載のインクジェット用インク。[6]前記[1]~[5]のいずれか1項に記載のインクジェット用インクから得られる硬化膜。[7]前記[1]~[5]のいずれか1項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって基板上に塗布して塗膜を形成した後、前記塗膜を硬化処理して得られる硬化膜。[8]前記[1]~[5]のいずれか1項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって基板上に塗布して塗膜を形成する工程、および前記塗膜を硬化処理する工程を有する、硬化膜の製造方法。[9]フィルムおよびシリコンウエハーから選ばれる基板と、前記基板上に形成された前記[6]または[7]に記載の硬化膜とを有する硬化膜付き基板。[10]前記[9]に記載の硬化膜付き基板を有する電子部品。本発明によれば、基板に対する密着性の向上とプロセス中の熱ストレスによって生じる反りの低減とを両立しえる硬化膜を形成することが可能なインクジェット用インクおよびその用途を提供することができる。以下、本発明の各構成について説明する。1インクジェット用インク:本発明のインクジェット用インクは、式A1で表される化合物Aと、ナジイミド化合物B、アミド酸誘導体および前記アミド酸誘導体のイミド化物から選ばれる少なくとも1種とを含む。本発明のインクジェット用インクは、前記成分のほか、添加剤を含んでいてもよい。式A1で表される化合物Aを単に成分Aともいう。また、ナジイミド化合物Bを単に成分Bともいう。本発明のインクジェット用インクは、有色であっても無色であってもよい。以下、アミド酸誘導体および前記アミド酸誘導体のイミド化物を併せて単にアミド酸誘導体およびそのイミド化物Cあるいは成分Cともいう。成分Bと成分Cは、同時に使用するだけではなく、成分Bと成分Cを別々に使用することもできる。すなわち、本発明のインクジェット用インクにおける成分A~Cの組合せは、成分A成分B、成分A成分Cまたは成分A成分B成分Cである。また、本発明のインクジェット用インクから形成される硬化膜を単に硬化膜ともいう。1.1化合物A:化合物Aは、式A1で表される。式A1中、R1は炭素数2~20の有機基であり、例えば、アルキレン、芳香環を含む炭素数6~20の有機基が挙げられ、硬化膜の耐薬品性が向上することから、好ましくは芳香環を含む炭素数6~20の有機基であり;R2およびR3はそれぞれ独立に炭素数2~12のアルキレンであり、好ましくは1,2-エチレン基または1,2-プロピレン基であり;R4およびR5はそれぞれ独立に水素または炭素数1~3のアルキルであり、好ましくはメチルまたはエチルであり;mおよびnはそれぞれ独立に1~20の整数であり、好ましくは1~10の整数であり、硬化膜の柔軟性が向上することから、特に好ましくは3~10の整数である。芳香環を含む炭素数6~20の有機基としては、硬化膜の耐薬品性が向上することから、式A2で表される有機基が好ましい。式A2中、R11は、炭素数が通常1~8、好ましくは2~8のアルキレン、特に好ましくはイソプロピレン基である。式A1で表される化合物の中でも、銅基板への密着性および低そり性の観点から、式A3で表される化合物が好ましい。式A3中、R4、R5、m、nは式A1中のR4、R5、m、nと同義である。式A3で表される化合物の中でも、R4およびR5が水素であり、mn≒4である化合物[例:ファンクリルFA-324A商品名、日立化成工業株製]、R4およびR5がメチルであり、mn≒10である化合物[例:ファンクリルFA-321M商品名、日立化成工業株製]、R4およびR5がメチルであり、mn≒18である化合物[例:ファンクリルFA-3218M商品名、日立化成工業株製]が好ましい。これらの化合物は混合物であることが好ましい。化合物Aは1種で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。本発明のインクジェット用インク中の化合物Aの含有量は、通常5~50質量、好ましくは10~40質量、更に好ましくは15~40質量である。化合物Aの含有量が前記範囲にあると、硬化膜の金属に対する密着性が高まるばかりでなく、硬化膜が形成された基板の反りも小さくなる点で好ましい。1.2ナジイミド化合物B:ナジイミド化合物Bは、ナジイミドを有していれば特に限定されない。ナジイミド化合物Bとしては、硬化膜の耐熱性および電気絶縁性の観点から、式B1で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物が好ましい。式B1中、R6およびR7はそれぞれ独立に水素、炭素数1~12のアルキル、炭素数3~6のアルケニル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数6~12のアリールまたはベンジルであり;lは1~2の整数である。l=1のとき、R8は水素、水酸基、炭素数1~12のアルキル、炭素数1~12のヒドロキシアルキル、炭素数5~8のシクロアルキル、炭素数2~12のアルケニル、炭素数2~12のヒドロキシアルケニル、炭素数5~8のヒドロキシシクロアルケニル、-{CqH2qOtCrH2rOuCsH2sX}式中、q、rおよびsはそれぞれ独立に2~6の整数、tは0または1の整数、uは1~30の整数、Xは水素または水酸基であるで表されるポリオキシアルキレンアルキル、炭素数6~12のアリール、-Ra-C6H4-R9式中、aは0または1の整数、Rは炭素数1~4のアルキレン、R9は水素または炭素数1~4のアルキルであるで表される基、-C6H4-T-C6H5{式中、Tは-CH2-、-CCH32-、-CO-、-S-または-SO2-である}で表される基、あるいはこれらの基の芳香環に直結した1~3個の水素が水酸基で置き換えられた基である。l=2のとき、R8は炭素数2~20のアルキレン{ただし、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは-O-または-CH=CH-で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素または水酸基で置き換えられてもよい}、炭素数5~8のシクロアルキレン、炭素数2~20のヒドロキシアルキレン、炭素数5~8のヒドロキシシクロアルキレン、-{CqH2qOtCrH2rOuCsH2s}-式中、q、rおよびsはそれぞれ独立に2~6の整数、tは0または1の整数、uは1~30の整数であるで表されるポリオキシアルキレン、炭素数6~12のアリーレン、-Ra-C6H4-R10-式中、aは0または1の整数、RおよびR10はそれぞれ独立に炭素数1~4のアルキレンまたは炭素数5~8のシクロアルキレンであるで表される基、-C6H4-T-C6H4-、-C6H4-T-C6H4-T-C6H4-または-C6H4-T’-C6H4-T-C6H4-T’-C6H4-{式中、Tは単結合、炭素数1~6のアルキレン、-CCF32-、-CO-、-O-、-S-または-SO2-であり、T’は-CH2-または-O-である}で表される基、これらの基の芳香環に直結する1~3個の水素が水酸基で置き換えられた基、式B2で表される基、あるいは式B3で表される基である。式B2中、xは1~6の整数であり、yは1~70の整数である。式B3中、破線は結合手を示す。式B1で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物の中でも、lが2であり、R8が炭素数2~12のアルキレン、炭素数5~8のシクロアルキレン、炭素数6~12のアリーレン、-Ra-C6H4-R10-で表される基、または-C6H4-T-C6H4-式中、Tは-CH2-、-CCH32-、-CO-、-O-、-OC6H4CCH32C6H4O-、-S-または-SO2-であるで表される基であるアルケニル置換ナジイミド化合物が好ましい。式B1で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物の中でも、R6およびR7がそれぞれ独立に水素または炭素数1~6のアルキルであり、lが2であり、R8が-CH26-、式B4で表される基または式B5で表される基であるアルケニル置換ナジイミド化合物が特に好ましい。以下、lが1であるアルケニル置換ナジイミド化合物をナジイミドb1と、lが2であるアルケニル置換ナジイミド化合物をナジイミドb2ともいう。なお、ナジイミドb1およびナジイミドb2の例は、発明を実施するための形態に後述する。ナジイミド化合物Bは1種で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。ナジイミド化合物Bを用いる場合、本発明のインクジェット用インク中のナジイミド化合物Bの含有量は、通常5~30質量、好ましくは5~20質量、更に好ましくは10~20質量である。ナジイミド化合物Bの含有量が前記範囲にあると、インクを溶液状態で長期間保存しても結晶の析出やゲル化が起こらず、インクを安定して使用できる点で好ましい。1.3アミド酸誘導体およびそのイミド化物C:アミド酸誘導体としては、例えば、式C11で表される構成単位を有し、式C12および式C13で表される分子末端基から選ばれる1種以上の分子末端基を有する化合物以下アミド酸誘導体C1ともいう。などの、酸無水物基を2つ以上有する化合物とジアミンとを用いて得られるポリアミド酸;式C2~C4で表される化合物以下アミド酸誘導体C2~C4ともいう。などの、酸無水物基を1つ有する化合物とジアミンとを用いて得られるアミド酸、酸無水物基を2つ有する化合物とモノアミンとを用いて得られるアミド酸、あるいは酸無水物基を1つ有する化合物とモノアミンとを用いて得られるアミド酸;が挙げられる。上記化合物およびその製造方法については、例えば、特開2009-35700号公報、国際公開第2008/123190号パンフレット、特開2009-144138号公報を参照。アミド酸誘導体のイミド化物としては、例えば、上述のポリアミド酸やアミド酸のイミド化物が挙げられ、好ましくはアミド酸誘導体C1~C4のイミド化物が挙げられる。ただし、アミド酸誘導体のイミド化物からは、前記ナジイミド化合物Bは除く。式C11~C13、C2~C4中、各記号の意味は以下のとおりである:X1は炭素数1~100の4価の有機基である。Y1は炭素数1~100の2価の有機基である。X2は炭素数1~100の2価の有機基であり、好ましくは架橋性不飽和結合を有する炭素数2~100の2価の有機基または式aで表される2価の有機基である。Y2は炭素数1~100の1価の有機基であり、好ましくは架橋性不飽和結合を有する炭素数2~100の1価の有機基または式bで表される1価の有機基である。式aおよびb中、複数あるR12はそれぞれ独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたは炭素数1~20のアルコキシであり、R13は炭素数1~20の3価の有機基例:脂肪族基、芳香族基であり、R14は炭素数1~20の2価の有機基例:アルキレン、アリーレンである。本発明において架橋性不飽和結合とは、アルケニル、アルキニル、アルキルジエニル、シクロアルケニルなどが有する不飽和結合をいう。有機基が架橋性不飽和結合を有する場合、架橋性不飽和結合は前記有機基中に、通常1~5個、好ましくは1~3個存在する。アルケニルの炭素数は、通常2~20、好ましくは2~10、より好ましくは2~6であり、その具体例としては、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、2-メチル-1-プロペニル、2-メチルアリル、2-ブテニル等が挙げられる。アルキニルの炭素数は、通常2~20、好ましくは2~10、より好ましくは2~6であり、その具体例としては、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘプチニル等が挙げられる。アルキルジエニルの炭素数は、通常4~20、好ましくは4~10、より好ましくは4~6であり、その具体例としては、1,3-ブタジエニル等が挙げられる。シクロアルケニルの炭素数は、通常3~20、好ましくは4~10であり、その具体例としては、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル等が挙げられる。式C11およびC3中のX1は、下記式で表されるテトラカルボン酸二無水物に由来する基であることが好ましい。なお、テトラカルボン酸二無水物の例は、発明を実施するための形態に後述する。式中、X1は炭素数1~100の4価の有機基である。式C11およびC2中のY1は、ジアミンH2N-Y1-NH2;式中、Y1は炭素数1~100の2価の有機基であるに由来する基であることが好ましい。なお、ジアミンの例は、発明を実施するための形態に後述する。式C12、C2およびC4中のX2は、下記式で表される酸無水物基を1つ有する化合物に由来する基であることが好ましい。式中、X2は炭素数1~100の2価の有機基であり、好ましくは架橋性不飽和結合を有する炭素数2~100の2価の有機基または上記式aで表される2価の有機基である。架橋性不飽和結合を有する炭素数2~100の2価の有機基としては、例えば、炭素数2~20好ましくは2~10、より好ましくは2~6のアルケニレンまたはアルキニレン;炭素数3~20好ましくは4~10のシクロアルケニレン;-OR-、-SR-、-SO2R-前記各式中、Rは前記アルケニレンまたはアルキニレンである;炭素数6~30好ましくは6~20、好ましくは6~12のアリーレン中の1以上の水素を前記アルケニルまたはアルキニルに置き換えてなる基;-OAr-、-SAr-、-SO2Ar-前記各式中、Arは炭素数6~30、好ましくは6~20、より好ましくは6~12のアリーレン中の1以上の水素を前記アルケニルまたはアルキニルに置き換えてなる基であるが挙げられる。前記例示の有機基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、アルキル、アリール、カルボキシル、トリメチルシリル、ホスホニル、ニトロ、カルボニル、スルホ、イミノ、ハロゲノ、アルコキシなどや、エーテル結合、スルフィド結合などが挙げられる。この場合、置換基は、置換可能な位置に1個以上、置換可能な最大数まで導入されていてもよく、好ましくは1~4個導入されていてもよい。置換基数が2個以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。酸無水物基を1つ有する化合物としては、例えば、マレイン酸無水物、2,3-ジメチルマレイン酸無水物、アリルこはく酸無水物、2-ブテン-1-イルこはく酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、4-エチニルフタル酸無水物、4-フェニルエチニルフタル酸無水物、シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、exo-3,6-エポキシ-1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物、アリルナジック酸無水物、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物などの架橋性不飽和結合を有する酸無水物;フタル酸無水物、3-メチルフタル酸無水物、4-メチルフタル酸無水物、4-tert-ブチルフタル酸無水物、3-フルオロフタル酸無水物、4-フルオロフタル酸無水物、グルタル酸無水物、cis-1,2-シクロヘキサンジカルボン酸無水物、4-メチルシクロヘキサン1,2-ジカルボン酸無水物、こはく酸無水物、ブチルこはく酸無水物、n-オクチルこはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物などの架橋性不飽和結合を有しない酸無水物;p-トリメトキシシリルフェニルサクシニックアンヒドリド、p-トリエトキシシリルフェニルサクシニックアンヒドリド、m-トリメトキシシリルフェニルサクシニックアンヒドリド、m-トリエトキシシリルフェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、トリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドなどの式aで表される2価の有機基を有する酸無水物;が挙げられる。これらの中でも、硬化膜の耐久性が優れるという点から、架橋性不飽和結合を有する酸無水物および式aで表される2価の有機基を有する酸無水物が好ましく、具体的には、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、アリルナジック酸無水物およびexo-3,6-エポキシ-1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物が例示できる。式C13、C3およびC4中のY2は、モノアミンH2N-Y2:式中、Y2は炭素数1~100の1価の有機基であり、好ましくは架橋性不飽和結合を有する炭素数2~100の1価の有機基または上記式bで表される1価の有機基であるに由来する基であることが好ましい。架橋性不飽和結合を有する炭素数2~100の1価の有機基としては、例えば、前記アルケニル、アルキニル、アルキルジエニル、シクロアルケニル;-OR、-SR、-SO2R前記各式中、Rは前記アルケニルまたはアルキニルである;炭素数6~30好ましくは6~20、好ましくは6~12のアリール中の1以上の水素を前記アルケニルまたはアルキニルに置き換えてなる基;-OAr、-SAr、-SO2Ar前記各式中、Arは炭素数6~30、好ましくは6~20、より好ましくは6~12のアリール中の1以上の水素を前記アルケニルまたはアルキニルに置き換えてなる基であるが挙げられる。前記例示の有機基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、アルキル、アリール、カルボキシル、トリメチルシリル、ホスホニル、ニトロ、カルボニル、スルホ、イミノ、ハロゲノ、アルコキシなどや、エーテル結合、スルフィド結合などが挙げられる。この場合、置換基は、置換可能な位置に1個以上、置換可能な最大数まで導入されていてもよく、好ましくは1~4個導入されていてもよい。置換基数が2個以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。Y2におけるモノアミンとしては、例えば、3-エチニルアニリン、4-エチニルアニリン、プロパルギルアミン、3-アミノブチン、4-アミノブチン、5-アミノペンチン、4-アミノペンチン、7-アミノヘプチン、アリルアミン、m-アミノスチレン、p-アミノスチレン、m-アミノ-α-メチルスチレン、p-アミノ-α-メチルスチレンなどの架橋性不飽和結合を有するモノアミン;2-アミノエタノール、2-2-アミノエトキシエタノール、3-アミノ-1-プロパノール、1-アミノ-2-プロパノール、5-アミノ-1-ペンタノール、2-4-アミノフェニルエチルアルコール、4-2-アミノエチルフェノールなどの架橋性不飽和結合を有しないモノアミン;3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、4-アミノブチルトリメトキシシラン、4-アミノブチルトリエトキシシラン、4-アミノブチルメチルジエトキシシラン、p-アミノフェニルトリメトキシシラン、p-アミノフェニルトリエトキシシラン、p-アミノフェニルメチルジメトキシシラン、p-アミノフェニルメチルジエトキシシラン、m-アミノフェニルトリメトキシシラン、m-アミノフェニルトリエトキシシラン、m-アミノフェニルメチルジエトキシシランなどの式bで表される1価の有機基を有するモノアミン;が挙げられる。これらの中でも、硬化膜の耐久性が優れるという点から、架橋性不飽和結合を有するモノアミンおよび式bで表される1価の有機基を有するモノアミンが好ましく、具体的には、3-エチニルアニリン、4-エチニルアニリン、m-アミノスチレンおよびp-アミノスチレンが例示できる。式C4中、X2が架橋性不飽和結合を有しない炭素数1~100の2価の有機基であり、且つY2が架橋性不飽和結合を有する炭素数2~100の1価の有機基または式bで表される1価の有機基であることも好ましく、あるいは、X2が架橋性不飽和結合を有する炭素数2~100の2価の有機基または式aで表される2価の有機基であり、且つY2が架橋性不飽和結合を有しない炭素数1~100の1価の有機基であることも好ましい。アミド酸誘導体としては、例えば、分子内にアミド酸構造を有するシリコン化合物であるシリコンアミド酸も挙げられる。シリコンアミド酸としては、分子内に少なくとも2つのアミド酸構造を有するシリコンアミド酸、分子内に1つのアミド酸構造を有するシリコンアミド酸が挙げられる例えば、国際公開第2008/123190号パンフレット、特開2009-144138号公報参照。分子内に少なくとも2つのアミド酸構造を有するシリコンアミド酸としては、例えば、上述したとおり、式C2で表される化合物において、式C2中のX2が式aで表されるシリコンアミド酸C2aが挙げられ、また、式C3で表される化合物において、式C3中のY2が式bで表されるシリコンアミド酸C3bが挙げられる。シリコンアミド酸C2aの中でも、式C2a1~C2a4で表されるシリコンアミド酸が好ましい。シリコンアミド酸C3bの中でも、式C3b1~C3b3で表されるシリコンアミド酸が好ましい。式C2a1~C2a4中、複数あるR12はそれぞれ独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたは炭素数1~20のアルコキシであり、複数あるR12の内の少なくとも一つは炭素数1~20のアルコキシであり、aは1~18の整数である。式C2a3中のR15は炭素数1~30の一価の有機基である。式C2a4のR16は水素または炭素数1~20のアルキルである。式C3b1~C3b3中、複数あるR12はそれぞれ独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたは炭素数1~20のアルコキシであり、複数あるR12の内の少なくとも一つは炭素数1~20のアルコキシであり、aは1~20の整数である。アミド酸誘導体およびそのイミド化物Cの重量平均分子量Mwは、通常1,000~9,000、好ましくは1,200~8,500、さらに好ましくは1,500~7,500である。Mwが上述の下限値以上である成分Cは、加熱処理によって蒸発することがなく、化学的機械的に安定である。Mwが上述の上限値以下である成分Cは、溶媒に対する溶解性が特に高いので、インク中の成分Cの濃度を高くすることができ、したがってインクを塗布して得られる塗膜の柔軟性および耐熱性を向上させることができる。すなわちMwが上記範囲にある成分Cは、インクジェット用インクの含有成分として好ましい。成分CのMwはゲル浸透クロマトグラフィGPC法により測定することができる。具体的には、成分CをテトラヒドロフランTHF等で濃度が約1質量になるように希釈し、GPC装置として日本分光株製、JASCOGULLIVER1500インテリジェント示差屈折率計RI-1530を用い、カラムとして東ソー株製カラムG4000HXL、G3000HXL、G2500HXLおよびG2000HXLの4本をこの順序で接続してなるものを用い、カラム温度:40°C、流速:1.0ml/minとし、THFを展開剤として、GPC法により測定を行い、ポリスチレン換算することにより、Mwを求めることができる。アミド酸誘導体およびそのイミド化物Cを用いる場合、本発明のインクジェット用インク中のアミド酸誘導体およびそのイミド化物Cの含有量は、通常1~40質量、好ましくは5~30質量、更に好ましくは10~20質量である。成分Cの含有量が前記範囲にあると、硬化膜の電気的特性が向上するだけでなく、耐熱性および耐薬品性も向上する点で好ましい。1.4添加剤Z:本発明のインクジェット用インクは、目的とする特性によっては、添加剤Zをさらに含んでもよい。添加剤Zとしては、例えば、溶媒、重合性モノマー、重合開始剤、上記成分A~C以外の高分子化合物、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、pH調整剤、防錆剤、防腐剤、防黴剤、酸化防止剤、還元防止剤、蒸発促進剤、キレート化剤、水溶性ポリマー、顔料、染料が挙げられる。なお、硬化膜の絶縁性を確保する観点から、本発明のインクジェット用インクにおいて、導電性を有するフィラーの含有量は、1質量以下が好ましく、0.1質量以下がより好ましく、前記フィラーは不含であることが更に好ましい。前記フィラーとしては、例えば、金、銀、銅、マンガン、ニッケル、鉄、アルミニウム、ステンレスの単独または合金などの粉体が挙げられる。1.4.1溶媒:本発明のインクジェット用インクは、例えば、上記成分A~Cを溶媒に溶解させて得ることができる。したがって、本発明のインクジェット用インクは、上記成分A~Cのいずれかを溶解することができる溶媒を含むことが好ましい。また、単独では上記成分A~Cを溶解しない溶媒であっても、他の溶媒と混合することによって上記成分A~Cを溶解することができる混合溶媒となるのであれば、前記混合溶媒を溶媒として用いることが可能である。溶媒としては、例えば、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、1,3-ジオキソラン、1,4-ジオキサン、γ-ブチロラクトン、アニソール、エチルラクテート、安息香酸メチル、安息香酸エチル、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N-メチルプロピオンアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N,N,N’,N’-テトラメチル尿素、2-ピロリドン、1-メチル-2-ピロリドン、1-エチル-2-ピロリドン、1-ブチル-2-ピロリドン、1-2-ヒドロキシエチル-2-ピロリドン、1-アセチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、N-メチル-ε-カプロラクタム、カルバミド酸エステルが挙げられる。これらの溶媒の中でも、例えば、インクジェットヘッドの耐久性向上の観点から、エチルラクテート、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、γ-ブチロラクトンが好ましい。なお、以上例示した溶媒の中で、インクジェットヘッドの耐久性が問題となる場合、アミド系溶媒の使用を低減することも好ましい。このような場合、アミド系溶媒の含有量は、溶媒全量に対して、0~20質量であることが好ましく、0質量であること、すなわち溶媒が非アミド系溶媒であることがより好ましい。他方、後述する高分子化合物をインク中に含有させる場合、溶解性の観点から、アミド系溶媒の含有量を溶媒全量に対して0質量を超えて20質量以下に設定してもよい。また、インクジェットヘッドの耐久性が問題とならない場合、アミド系溶媒の使用に特に制限はない。アミド系溶媒としては、例えば、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N-メチルプロピオンアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N,N,N’,N’-テトラメチル尿素、2-ピロリドン、1-メチル-2-ピロリドン、1-エチル-2-ピロリドン、1-ブチル-2-ピロリドン、1-2-ヒドロキシエチル-2-ピロリドン、1-アセチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、N-メチル-ε-カプロラクタム、カルバミド酸エステルが挙げられる。溶媒は1種で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。溶媒は、インクジェット用インクにおける固形分濃度が通常15~80質量、特に20~80質量となるように用いられることが好ましい。本発明において固形分濃度とは、溶媒以外の全成分の合計濃度をいう。溶媒の含有量が前記下限値以上であれば、インクジェット用インクの粘度が大きくなり過ぎず、ジェッティング特性が良好となる。溶媒の含有量が前記上限値以下であれば、1回のジェッティングで形成できる硬化膜が薄くなり過ぎることがない。1.4.2重合性モノマー:本発明のインクジェット用インクは、化合物A以外の重合性モノマーをさらに含んでいてもよい。重合性モノマーの使用は、塗膜の厚膜化および柔軟性の観点から好ましい。重合性モノマーとしては、例えば、ヒドロキシル含有単官能メタアクリレート、ヒドロキシルを有しない単官能メタアクリレート、二官能メタアクリレート、三官能以上の多官能メタアクリレートが挙げられる。ヒドロキシル含有単官能メタアクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノメタアクリレートが挙げられ、これらの中でも形成される塗膜が柔軟である点から、4-ヒドロキシブチルアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが特に好ましい。ヒドロキシルを有しない単官能重合性メタアクリレートとしては、例えば、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート、トリシクロ[5.2.1.026]デカニルメタアクリレート、グリセロールモノメタアクリレート、5-テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチルメタアクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物のメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、メチルグリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメタアクリレート、3-メチル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、3-メチル-3-メタアクリロキシエチルオキセタン、3-エチル-3-メタアクリロキシエチルオキセタン、p-ビニルフェニル-3-エチルオキセタ-3-イルメチルエーテル、2-フェニル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、2-トリフロロメチル-3-メタアクリロキシメチルオキセタン、4-トリフロロメチル-2-メタアクリロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-オキセタニルメチルメタアクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、ビニルトルエン、N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミド、メタアクリルアミド、N-アクリロイルモルホリン、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、メタアクリル酸、クロトン酸、α-クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレート、コハク酸モノ[2-メタアクリロイロキシエチル]、マレイン酸モノ[2-メタアクリロイロキシエチル]、シクロヘキセン-3,4-ジカルボン酸モノ[2-メタアクリロイロキシエチル]が挙げられる。二官能メタアクリレートとしては、例えば、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、1,9-ノナンジオールジアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、2-n-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレートが挙げられる。三官能以上の多官能メタアクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、グリセロールトリメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリメタアクリレート、ジグリセリンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリメタアクリレート、トリス[メタアクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[メタアクリロキシエチル]イソシアヌレート、ウレタンメタアクリレートが挙げられる。重合性モノマーは1種で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。本発明のインクジェット用インク中の重合性モノマー濃度は、好ましくは0.1~30質量、より好ましくは1~20質量である。このような濃度範囲であると、本発明のインクジェット用インクから形成された硬化膜の耐熱性が良好となる。1.4.3重合開始剤:重合開始剤は、本発明のインクジェット用インクの硬化性を向上させるために使用することができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、塗膜乾燥時のタック性がなくハンドリング性に優れることから、アゾビス系のラジカル重合開始剤がより好ましい。アゾビス系のラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、ジメチル-2,2’-アゾビス2-メチルプロピオネート、2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリル、2,2’-アゾビス[N-2-プロペニル-2-メチルプロピオンアミド]、2,2’-アゾビスN-ブチル-2-メチルプロピオンアミド、α,α’-アゾビスイソブチロニトリルが挙げられ、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリル、2,2’-アゾビス[N-2-プロペニル-2-メチルプロピオンアミド]が好ましい。重合開始剤は1種で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。本発明のインクジェット用インク中の重合開始剤濃度は、好ましくは0.01~10質量、より好ましくは0.1~5質量である。このような濃度範囲であると、本発明のインクジェット用インクは、塗膜乾燥時のタック性がなくハンドリング性に優れる。1.4.4上記成分A~C以外の高分子化合物:上記成分A~C以外の高分子化合物以下、単に高分子化合物ともいう。としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル、アクリル酸ポリマー、アクリレートポリマー、ポリビニルアルコールおよびポリオキシエチレンが挙げられる。高分子化合物の重量平均分子量Mwは、通常1,000~10,000、好ましくは1,000~7,500、さらに好ましくは1,000~5,000、特に好ましくは1,000~2,000である。Mwが上述の下限値以上である高分子化合物は、加熱処理によって蒸発することがなく、化学的機械的に安定である。Mwが上述の上限値以下である高分子化合物は、溶媒に対する溶解性が特に高いので、インク中の高分子化合物の濃度を高くすることができ、したがってインクを塗布して得られる塗膜の柔軟性および耐熱性を向上させることができる。すなわちMwが上記範囲にある高分子化合物は、インクジェット用インクの含有成分として好ましい。高分子化合物のMwはゲル浸透クロマトグラフィGPC法により測定することができる。具体的には、高分子化合物をテトラヒドロフランTHF等で濃度が約1質量になるように希釈し、GPC装置として日本分光株製、JASCOGULLIVER1500インテリジェント示差屈折率計RI-1530を用い、カラムとして東ソー株製カラムG4000HXL、G3000HXL、G2500HXLおよびG2000HXLの4本をこの順序で接続してなるものを用い、カラム温度:40°C、流速:1.0ml/minとし、THFを展開剤として、GPC法により測定を行い、ポリスチレン換算することにより、Mwを求めることができる。本発明のインクジェット用インク中の高分子化合物濃度は、好ましくは0~20質量、より好ましくは0~10質量である。このような濃度範囲であると、絶縁膜として良好な特性を付与できることがある。1.4.5界面活性剤:界面活性剤は、本発明のインクジェット用インクの下地基板への濡れ性、レベリング性、または塗布性を向上させるために使用することができ、本発明のインクジェット用インク中、0.005~1質量の量で用いられることが好ましい。界面活性剤としては、本発明のインクジェット用インクの塗布性を向上できる点から、例えば、商品名Byk-300、Byk-306、Byk-335、Byk-310、Byk-341、Byk-344、Byk-370ビックケミー株製等のシリコン系界面活性剤;商品名Byk-354、ByK-358、Byk-361ビックケミー株製等のアクリル系界面活性剤;商品名DFX-18、フタージェント250、フタージェント251株ネオス製等のフッ素系界面活性剤が挙げられる。界面活性剤は1種で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。1.4.6帯電防止剤:帯電防止剤は、本発明のインクジェット用インクの帯電を防止するために使用することができ、本発明のインクジェット用インク中、0.01~1質量の量で用いられることが好ましい。帯電防止剤としては、公知の帯電防止剤を用いることができる。具体的には、酸化錫、酸化錫酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫酸化インジウム複合酸化物などの金属酸化物;四級アンモニウム塩が挙げられる。帯電防止剤は1種で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。1.4.7カップリング剤:カップリング剤は、公知のカップリング剤を用いることができ、本発明のインクジェット用インク中、0.01~3質量の量で用いられることが好ましい。カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、例えば、トリアルコキシシラン化合物、ジアルコキシシラン化合物が挙げられる。トリアルコキシシラン化合物またはジアルコキシシラン化合物としては、例えば、γ-ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ-ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-アミノエチル-γ-イミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。これらの中でも、γ-ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。カップリング剤は1種で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。1.5インクジェット用インクの調製方法:本発明のインクジェット用インクは、化合物Aと、ナジイミド化合物Bおよび成分Cから選ばれる少なくとも1種と、必要に応じて添加剤Zとを均一に混合することによって、調製することができる。また、本発明のインクジェット用インクは、成分Cの合成時に得られた反応液をそのまま用い、化合物Aと必要に応じてナジイミド化合物Bや添加剤Zとを均一に混合することによって、調製することもできる。また、本発明のインクジェット用インクは、化合物Aと必要に応じてナジイミド化合物Bや添加剤Zとの存在下に、成分Cを合成することによって、調製することもできる。本発明のインクジェット用インクにおいては、粘度、表面張力、溶媒の沸点等の様々なパラメータをインクジェット印刷用に最適化することができ、インクジェットヘッドの耐久性を低下させない溶媒を使用できる。また、本発明のインクジェット用インクは、良好なインクジェット印刷性例:描画性、厚膜形成を示し、保存安定性にも優れる。また、本発明のインクジェット用インクは、固形分濃度がインク全質量の20以上という高濃度で調製することができ、1回のジェッティングで比較的厚い膜厚2μm以上を有する硬化膜を形成することができる。本発明のインクジェット用インクを用いることにより、熱的電気的機械的特性が良好で、耐薬品性およびマイグレーション耐性を有し、基板と良好な密着性を有し、プロセス中の熱ストレスによって生じる反り量の小さい硬化膜を形成できる。1.6インクジェット用インクの粘度:本発明のインクジェット用インクの、インクジェットヘッドから吐出するときの温度吐出温度における粘度は、通常1~50mPas、好ましくは5~30mPas、より好ましくは5~20mPas、更に好ましくは5~15mPasである。粘度が前記範囲にあると、インクジェット塗布方法によるジェッティング精度が向上する。粘度が前記上限値以下であると、インクジェット吐出不良が生じにくい。常温25°Cでジェッティングを行う場合も多いため、本発明のインクジェット用インクの25°Cにおける粘度は、通常1~50mPas、好ましくは5~30mPas、より好ましくは5~20mPas、更に好ましくは5~15mPasである。25°Cにおける粘度が前記範囲にあると、インクジェット塗布方法によるジェッティング精度が向上する。25°Cにおける粘度が前記上限値以下であると、インクジェット吐出不良が生じにくい。なお、粘度の測定方法は実施例に記載のとおりである。1.7インクジェット用インクの表面張力:本発明のインクジェット用インクの25°Cにおける表面張力は、通常20~70mN/m、好ましくは20~40mN/mである。表面張力が前記範囲にあると、ジェッティングにより良好な液滴が形成でき、かつメニスカスを形成することができる。2硬化膜:本発明の硬化膜は、上述のインクジェット用インクから得られる。例えば、本発明のインクをインクジェット塗布方法によって基板上に塗布して塗膜を形成した後、前記塗膜を硬化処理して得られる。インクジェット用インクをパターン状例:ライン状、正方形状に印刷した場合には、パターン状の硬化膜が形成される。本明細書では特に言及のない限り、硬化膜はパターン状の硬化膜を含むものとする。本発明のインクジェット用インクでは、上述のように固形分濃度を高く設定できる。このため、本発明では1回のインクジェッティングで厚みが通常2μm以上、好ましくは2~10μmの硬化膜を得ることができ、当該膜厚は従来のインクから得られる硬化膜の膜厚よりも大きい。例えば、10μm程度の厚い絶縁膜を形成する場合、本発明のインクを用いることにより、従来のインクよりも重ね塗りの回数を減らすことができ、絶縁膜の製造工程を短縮することができる。本発明の硬化膜は、半導体用途およびプリント配線板用途等の様々な用途特にフレキシブルプリント配線板用途で良好な基板との密着性を示し、且つプロセス中の熱ストレスによって生じる基板の反りが小さいという特徴を有する。また、本発明の硬化膜は、例えば、耐熱性および電気絶縁性が高く、充分な機械的強度を有し、電子部品の信頼性や歩留まりを向上させることができる。3硬化膜の製造方法:本発明の硬化膜の製造方法は、1本発明のインクをインクジェット塗布方法によって基板上に塗布して塗膜を形成する工程塗膜形成工程、および2前記塗膜を硬化処理する工程硬化処理工程を有する。3.1塗膜形成工程:インクジェット塗布方法としては、インクの吐出方法により各種のタイプがある。吐出方法としては、例えば、圧電素子型、バブルジェット登録商標型、連続噴射型、静電誘導型が挙げられる。本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行う際の好ましい吐出方法は、圧電素子型である。この圧電素子型のヘッドは、複数のノズルを有するノズル形成基板と、ノズルに対向して配置される圧電材料と導電材料からなる圧力発生素子と、この圧力発生素子の周囲を満たすインクとを備えた、オンデマンドインクジェット塗布ヘッドであり、印加電圧により圧力発生素子を変位させ、インクの小液滴をノズルから吐出させる。インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが別体となった構成に限らず、それらが分離不能に一体になった構成を用いてもよい。また、インク収容部は、塗布ヘッドに対して、分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えば、チューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。また、塗布ヘッドに対して、好ましい負圧を作用させるための構成をインクタンクに設ける場合には、インクタンクのインク収納部に吸収体を配置した形態、あるいは可撓性のインク収容袋とこれに対しその内容積を拡張する方向の付勢力を作用させるバネ部とを有した形態などを採用することができる。塗布装置は、シリアル塗布方式を採るもののほか、塗布媒体の全幅に対応した範囲にわたって塗布素子を整列させてなるラインプリンタの形態をとるものであってもよい。なお、本発明のインクジェット用インクの粘度が高い場合、インクジェットヘッドを好ましくは30~80°Cで加熱することにより、インクを加熱し、インクの粘度を下げたうえで塗布を行えばよい。本発明のインクをインクジェット塗布方法によって基板上に塗布した後、ホットプレートまたはオーブンなどで乾燥溶媒を除去することにより、塗膜を形成することができる。前記乾燥により、基板上に形状を保持できる程度の塗膜が形成される。乾燥条件はインクの含有成分の種類および配合割合によって異なるが、通常70~120°Cで、オーブンを用いた場合には5~15分間、ホットプレートを用いた場合には1~15分間である。3.2硬化処理工程:硬化処理は、塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性、さらには充分な機械的強度を得るために、例えば、ホットプレートまたはオーブンなどで行い、これにより、全面または所定のパターン状例:ライン状、正方形状の硬化膜が形成される。硬化処理は、通常150~350°C、好ましくは150~300°Cで行う。硬化処理時間加熱時間は、例えば、オーブンを用いた場合には30~120分間、ホットプレートを用いた場合には5~30分間である。また、硬化処理としては、加熱処理に限定されず、UV処理やイオンビーム、電子線、ガンマ線等の照射などの処理でもよい。以上のようにして、硬化膜が形成される。パターン状の硬化膜を製造する場合、本発明ではインクジェット印刷により必要な部分のみにインクを吐出描画するため、従来の硬化膜の形成に採用されていたフォトリソグラフィーにおけるエッチング等の他の方法に比べて、材料使用量が圧倒的に少なく、またフォトマスクを使用する必要もない。このため、本発明では、多品種の硬化膜の大量生産が可能であり、また製造に要する工程数も低減できる。本発明の硬化膜からなる絶縁膜は、例えば、プリント配線板用途あるいは半導体用途で、基板との良好な密着性を示し、反り量が少なく、耐熱性および電気絶縁性が高く、充分な機械的強度を有し、電子部品の信頼性や歩留まりを向上させることができる。4硬化膜付き基板:本発明の硬化膜付き基板は、フィルムおよびシリコンウエハーから選ばれる基板と、前記基板上に形成された上述の硬化膜とを有する。硬化膜付き基板は、例えば、配線が形成されたフィルム例:ポリイミドフィルムまたはシリコンウエハー上に、上述の硬化膜の製造方法に従って硬化膜を形成することにより、製造することができる。本発明では、硬化膜の形成対象として、ポリイミドフィルムやシリコンウエハーの他、公知の基板を用いることができる。本発明に適用可能な基板としては、例えば、FR-1、FR-3、FR-4、CEM-3、またはE668等の各種規格に適合する、ガラスエポキシ基板、ガラスコンポジット基板、紙フェノール基板、紙エポキシ基板、グリーンエポキシ基板およびBTレジン基板が挙げられる。本発明に適用可能な他の基板としては、例えば、銅、黄銅、リン青銅、ベリリウム銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、スズ、クロム、ステンレス等の金属からなる基板それらの金属を表面に有する基板であってもよい;酸化アルミニウムアルミナ、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウムジルコニア、ジルコニウムのケイ酸塩ジルコン、酸化マグネシウムマグネシア、チタン酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸鉛PT、チタン酸ジルコン酸鉛PZT、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛PLZT、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、硫化カドニウム、硫化モリブデン、酸化ベリリウムベリリア、酸化ケイ素シリカ、炭化ケイ素シリコンカーバイト、窒化ケイ素シリコンナイトライド、窒化ホウ素ボロンナイトライド、酸化亜鉛、ムライト、フェライト、ステアタイト、ホルステライト、スピネル、スポジュメン等のセラミックスからなる基板それらのセラミックスを表面に有する基板であってもよい;PETポリエチレンテレフタレート樹脂、PBTポリブチレンテレフタレート樹脂、PCTポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレート樹脂、PPSポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、テフロン登録商標、熱可塑性エラストマー、液晶ポリマー等の樹脂からなる基板それらの樹脂を表面に有する基板であってもよい;シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素等の半導体基板;ガラス基板;酸化スズ、酸化亜鉛、ITO酸化インジウムスズ、ATO酸化アンチモンスズ等の電極材料が表面に形成された基板;αGELアルファゲル、βGELベータゲル、θGELシータゲル、γGELガンマゲル以上、株タイカの登録商標等のゲルシートが挙げられる。5電子部品:本発明の電子部品は、上述の硬化膜付き基板を有する電子部品である。このように本発明のフィルム基板を有する硬化膜付き基板を利用して、フレキシブルな電子部品が得られる。また、本発明のシリコンウエハー基板を有する硬化膜付き基板を利用して、半導体電子部品が得られる。本発明の活用法としては、例えば、フレキシブル配線基板用絶縁膜、それを用いた電子部品が挙げられる。6好適態様の例示:以下、ナジイミド化合物Bにおけるナジイミドb1およびナジイミドb2の例、ならびにアミド酸誘導体およびそのイミド化物Cにおけるテトラカルボン酸二無水物およびジアミンの例を記載する。6-1ナジイミドb1およびナジイミドb2の例示:ナジイミドb1としては、以下の化合物が挙げられる。アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ヒドロキシ-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ヒドロキシ-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ヒドロキシ-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ヒドロキシ-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2-エチルヘキシル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、N-2-エチルヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-フェニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、N-フェニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-ヒドロキシエチル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-ヒドロキシエチル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-ヒドロキシエチル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、N-2’,2’-ジメチル-3’-ヒドロキシプロピル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’,2’-ジメチル-3’-ヒドロキシプロピル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’,3’-ジヒドロキシプロピル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’,3’-ジヒドロキシプロピル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-3’-ヒドロキシ-1’-プロペニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-4’-ヒドロキシ-シクロヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、N-4’-ヒドロキシフェニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-4’-ヒドロキシフェニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-4’-ヒドロキシフェニル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-4’-ヒドロキシフェニル-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-3’-ヒドロキシフェニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-3’-ヒドロキシフェニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-p-ヒドロキシベンジル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{2’-2’-ヒドロキシエトキシエチル}-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、N-{2’-2’-ヒドロキシエトキシエチル}-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{2’-2’-ヒドロキシエトキシエチル}-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{2’-2’-ヒドロキシエトキシエチル}-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-{2’-2-ヒドロキシエトキシエトキシ}エチル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-{2’-2-ヒドロキシエトキシエトキシ}エチル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2’-{2’-2-ヒドロキシエトキシエトキシ}エチル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{4’-4’-ヒドロキシフェニルイソプロピリデンフェニル}-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{4’-4’-ヒドロキシフェニルイソプロピリデンフェニル}-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-{4’-4’-ヒドロキシフェニルイソプロピリデンフェニル}-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。ナジイミドb1は1種で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。ナジイミドb1として、好ましいものはN-メチル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2-エチルヘキシル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド等が挙げられる。また、N-2-エチルヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-シクロヘキシル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-フェニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド等があげられる。また、N-フェニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ベンジル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド等が挙げられる。ナジイミドb1として、更に好ましいものは、N-メチル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-メチル-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2-エチルヘキシル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド等が挙げられる。また、N-2-エチルヘキシル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-アリル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-イソプロペニル-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド等が挙げられる。ナジイミドb2の具体例としては、以下のものが挙げられる。N,N’-エチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-トリメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、1,2-ビス{3’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}エタン、1,2-ビス{3’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}エタン、1,2-ビス{3’-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}エタン、ビス2’-{3’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}エチルエーテル、ビス2’-{3’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}エチルエーテル、1,4-ビス{3’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}ブタン、1,4-ビス{3’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}ブタン、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、N,N’-p-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-{1-メチル-2,4-フェニレン}-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、2,2-ビス4’-{4’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン、1,6-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-3-ヒドロキシ-ヘキサン、1,12-ビスメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-3,6-ジヒドロキシ-ドデカン、1,3-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-5-ヒドロキシ-シクロヘキサン、1,5-ビス{3’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドプロポキシ}-3-ヒドロキシ-ペンタン、1,4-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-2-ヒドロキシ-ベンゼン、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、1,4-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-2,5-ジヒドロキシ-ベンゼン、N,N’-p-2-ヒドロキシキシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-2-ヒドロキシキシリレン-ビスアリルメチルシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-2-ヒドロキシキシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-2-ヒドロキシキシリレン-ビスメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-2,3-ジヒドロキシキシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。また、2,2-ビス4’-{4’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-2’-ヒドロキシ-フェノキシ}フェニルプロパン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-2-ヒドロキシ-フェニル}メタン、ビス{3-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-4-ヒドロキシ-フェニル}エーテル、ビス{3-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド-5-ヒドロキシ-フェニル}スルホン、1,1,1-トリ{4’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド}フェノキシメチルプロパン、N,N’,N-トリエチレンメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドイソシアヌレート、およびこれらのオリゴマー等が挙げられる。さらに、非対称なアルキレンフェニレン基を含む次のようなものでもよい。ナジイミドb2は1種で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。ナジイミドb2として、好ましいものはN,N’-エチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-トリメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド等が挙げられる。また、N,N’-p-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-{1-メチル-2,4-フェニレン}-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、2,2-ビス4’-{4’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン等が挙げられる。また、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}エーテル、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン等が挙げられる。また、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}スルホン等が挙げられる。ナジイミドb2として、更に好ましいものは、N,N’-エチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-エチレン-ビスメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-トリメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ヘキサメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-ドデカメチレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-シクロヘキシレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド等が挙げられる。また、N,N’-p-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-フェニレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-{1-メチル-2,4-フェニレン}-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-p-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N,N’-m-キシリレン-ビスアリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド等が挙げられる。また、2,2-ビス4’-{4’-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、2,2-ビス4’-{4’-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェノキシ}フェニルプロパン、ビス{4-アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン等が挙げられる。また、ビス{4-メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン、ビス{4-メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミドフェニル}メタン等が挙げられる。6-2テトラカルボン酸二無水物の例示:テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、2,2-[ビス3,4-ジカルボキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ジヒドロ-1,3-ジオキソ-5-イソベンゾフランカルボン酸,[2,2,2-トリフルオロ-1-トリフルオロメチルエチリデン]ジ-4,1-フェニレンエステル、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパンジベンゾエート-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物、1,3-ジヒドロ-1,3-ジオキソ-5-イソベンゾフランカルボン酸オキシジ-4,1-フェニレンエステル、p-フェニレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、4-2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビシクロへキシルテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]オクタン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、5-2,5-ジオキソテトラヒドロフリル-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物が挙げられる。また、4,4’-[イソプロピリデンビスp-フェニレンオキシ]ジフタル酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物、3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-1-ナフタレン琥珀酸二無水物および下記式1-1~1-56で表される化合物が挙げられる。テトラカルボン酸二無水物の上記具体例の中でも、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、2,2-[ビス3,4-ジカルボキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、p-フェニレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビシクロへキシルテトラカルボン酸二無水物、4,4’-[イソプロピリデンビスp-フェニレンオキシ]ジフタル酸二無水物が好ましい。また、インクジェット用インクの用途によっては高い透明性が必要とされるが、このような場合には、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2-[ビス3,4-ジカルボキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、p-フェニレンビストリメリット酸モノエステル酸無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビシクロへキシルテトラカルボン酸二無水物、4,4’-[イソプロピリデンビスp-フェニレンオキシ]ジフタル酸二無水物が特に好ましい。6-3ジアミンの例示:ジアミンとしては、例えば、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミンおよび式I~VIIで表される化合物が挙げられる。式I中、A1は、-CH2m-であり、ここでmは1~6の整数である。式III、VおよびVII中、A2は、単結合、-O-、-S-、-S-S-、-SO2-、-CO-、-CONH-、-NHCO-、-CCH32-、-CCF32-、-CH2n-、-O-CH2n-O-または-S-CH2n-S-であり、ここでnは1~6の整数である。式VIおよびVII中、2つ存在するA3は、それぞれ独立に単結合、-O-、-S-、-CO-、-CCH32-、-CCF32-または炭素数1~3のアルキレンである。以上の式I~VIIにおいて、シクロヘキサン環またはベンゼン環が有する少なくとも一つの水素は、-Fまたは-CH3で置き換えられていてもよい。式Iで表される化合物としては、例えば、式I-1~I-3で表される化合物が挙げられる。式IIで表される化合物としては、例えば、式II-1~II-2で表される化合物が挙げられる。式IIIで表される化合物としては、例えば、式III-1~III-3で表される化合物が挙げられる。式IVで表される化合物としては、例えば、式IV-1~IV-5で表される化合物が挙げられる。式Vで表される化合物としては、例えば、式V-1~V-30で表される化合物が挙げられる。式VIで表される化合物としては、例えば、式VI-1~VI-6で表される化合物が挙げられる。式VIIで表される化合物としては、例えば、式VII-1~VII-11で表される化合物が挙げられる。式I~VIIで表される化合物の上記具体例の中でも、好ましくは式IV-1~IV-5、式V-1~V-12、式V-26、式V-27、式VI-1、式VI-2、式VI-6および式VII-1~VII-5で表される化合物であり、より好ましくは式V-1~V-12で表される化合物である。ジアミンの中でも、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]プロパン、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン、m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、2,2’-ジアミノジフェニルプロパン、ベンジジン、1,1-ビス[4-4-アミノベンジルフェニル]メタンが好ましい。ジアミンとしては、さらに式VIIIで表される化合物が挙げられる。式VIII中、A4は、単結合、-O-、-COO-、-OCO-、-CO-、-CONH-または-CH2p-であり、ここでpは1~6の整数である。R17は、ステロイド骨格を有する基、または、シクロヘキサン環およびベンゼン環からなる群より選ばれる少なくとも1種の環構造を有する基である。なお、ベンゼン環に結合している2つのアミノ基の位置関係がパラ位のときは、R17は炭素数1~30のアルキルであってもよく、前記位置関係がメタ位のときは、R17は炭素数1~10のアルキル、または-F、-CH3、-OCH3、-OCH2F、-OCHF2もしくは-OCF3で置き換えられていてもよいフェニルであってもよい。R17における上記炭素数1~30のアルキルおよび炭素数1~10のアルキルは、直鎖状であっても分岐状であってもよい。これらのアルキルにおいては、任意の-CH2-が-CF2-、-CHF-、-O-、-CH=CH-または-C≡C-で置き換えられていてもよく、任意の-CH3が-CH2F、-CHF2または-CF3で置き換えられていてもよい。式VIIIにおいて、2つのアミノ基はフェニル環炭素に結合しているが、2つのアミノ基の結合位置関係は、メタ位またはパラ位であることが好ましい。さらに2つのアミノ基はそれぞれ、R17-A4-のベンゼン環への結合位置を1位としたときに、3位および5位、または2位および5位に結合していることが好ましい。式VIIIで表される化合物としては、例えば、式VIII-1~VIII-11で表される化合物が挙げられる。式VIII-1、VIII-2、VIII-7およびVIII-8中、R18は炭素数1~30の有機基であり、炭素数3~12のアルキルまたは炭素数3~12のアルコキシであることが好ましく、炭素数5~12のアルキルまたは炭素数5~12のアルコキシであることがさらに好ましい。式VIII-3~VIII-6およびVIII-9~VIII-11中、R19は炭素数1~30の有機基であり、炭素数1~10のアルキルまたは炭素数1~10のアルコキシであることが好ましく、炭素数3~10のアルキルまたは炭素数3~10のアルコキシであることがさらに好ましい。式VIIIで表される化合物としては、さらに、例えば、式VIII-12~VIII-17で表される化合物が挙げられる。式VIII-12~VIII-15中、R20は炭素数1~30の有機基であり、炭素数4~16のアルキルであることが好ましく、炭素数6~16のアルキルであることがさらに好ましい。式VIII-16および式VIII-17中、R21は炭素数1~30の有機基であり、炭素数6~20のアルキルであることが好ましく、炭素数8~20のアルキルであることがさらに好ましい。式VIIIで表される化合物としては、さらに、例えば、式VIII-18~VIII-38で表される化合物が挙げられる。式VIII-18、VIII-19、VIII-22、VIII-24、VIII-25、VIII-28、VIII-30、VIII-31、VIII-36およびVIII-37中、R22は炭素数1~30の有機基であり、炭素数1~12のアルキルまたは炭素数1~12のアルコキシであることが好ましく、炭素数3~12のアルキルまたは炭素数3~12のアルコキシであることがさらに好ましい。式VIII-20、VIII-21、VIII-23、VIII-26、VIII-27、VIII-29、VIII-32~VIII-35およびVIII-38中、R23は水素、-F、炭素数1~12のアルキル、炭素数1~12のアルコキシ、-CN、-OCH2F、-OCHF2または-OCF3であり、炭素数3~12のアルキルまたは炭素数3~12のアルコキシであることが好ましい。式VIII-33とVIII-34中、A5は炭素数1~12のアルキレンである。式VIIIで表される化合物としては、さらに、例えば、式VIII-39~VIII-48で表される化合物が挙げられる。式VIIIで表される化合物のうち、式VIII-1~式VIII-11で表される化合物が好ましく、式VIII-2、式VIII-4、式VIII-5および式VIII-6で表される化合物がさらに好ましい。ジアミンとしては、さらに式IX~Xで表される化合物が挙げられる。式IXおよびX中、R24は水素または-CH3であり、2つ存在するR25はそれぞれ独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたは炭素数2~20アルケニルであり、2つ存在するA6はそれぞれ独立に単結合、-C=O-または-CH2-である。式X中、R26およびR27はそれぞれ独立に水素、炭素数1~20のアルキルまたはフェニルである。式IX中、ステロイド核のB環に結合したNH2-Ph-A6-O--Ph-は、フェニレンを示すは、ステロイド核の6位の炭素に結合していることが好ましい。また、2つのアミノ基は、それぞれフェニル環炭素に結合しているが、A6のフェニル環への結合位置に対して、メタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。式X中、2つのNH2-R27-Ph-A6-O--Ph-は、フェニレンを示すは、それぞれフェニル環炭素に結合しているが、該フェニル環にステロイド核およびNH2-R27-Ph-A6-O-が結合していると考えた場合、ステロイド核とNH2-R27-Ph-A6-O-との位置関係は、メタ位またはパラ位であることが好ましい。また、2つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、A6に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。式IXで表される化合物としては、例えば、式IX-1~IX-4で表される化合物が挙げられる。式Xで表される化合物としては、例えば、式X-1~X-8で表される化合物が挙げられる。ジアミンとしては、さらに式XIおよびXIIで表される化合物が挙げられる。式XI中、R28は水素または炭素数1~20のアルキルであり、該アルキルにおいて、任意の-CH2-は、-O-、-CH=CH-または-C≡C-で置き換えられていてもよく、2つ存在するA7はそれぞれ独立に-O-または炭素数1~6のアルキレンであり、A8は単結合または炭素数1~3のアルキレンであり、環Tは1,4-フェニレンまたは1,4-シクロヘキシレンであり、hは0または1である。式XII中、R29は炭素数2~30のアルキルであり、これらの中でも炭素6~20のアルキルが好ましい。R30は水素または炭素数1~30のアルキルであり、これらの中でも炭素1~10のアルキルが好ましい。2つ存在するA9はそれぞれ独立に-O-または炭素数1~6のアルキレンである。式XI中、2つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、A7に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。また、式XII中、2つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、A9に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。式XIで表される化合物としては、例えば、1,1-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]シクロヘキサン、1,1-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]-4-メチルシクロヘキサン、1,1-ビス[4-4-アミノベンジルフェニル]シクロヘキサン、1,1-ビス[4-4-アミノベンジルフェニル]-4-メチルシクロヘキサンなどの、式XI-1~XI-9で表される化合物が挙げられる。式XI-1~XI-3中、R31は水素または炭素数1~20のアルキルである。式XI-4~XI-9中、R32は水素または炭素数1~20のアルキルであり、水素または炭素数1~10のアルキルであることが好ましい。式XIIで表される化合物としては、例えば、式XII-1~XII-3で表される化合物が挙げられる。式XII-1~XII-3中、R33は炭素数2~30のアルキルであり、これらの中でも炭素数6~20のアルキルが好ましく、R34は水素または炭素数1~30のアルキルであり、これらの中でも水素または炭素数1~10のアルキルが好ましい。さらに、ジアミンの例として、ジエチレングリコールビス3-アミノプロピルエーテル、1,2-ビス2-アミノエトキシエタン、1,4-ブタンジオールビス3-アミノプロピルエーテル、3,9-ビス3-アミノプロピル-24810-テトラオキサスピロ[55]ウンデカン、44’-ビス4-アミノフェノキシビフェニル、1,6-ビス4-4-アミノフェニルメチルフェニルヘキサン、1,3-ビス3-アミノプロピルテトラメチルジシロキサン、α,α’-ビス4-アミノフェニル-1,4-ジイソプロピルベンゼン、14-ビス3-アミノプロピルピペラジン,N,N’-ビス3-アミノプロピルエチレンジアミン、1,4-ビスアミノメチルシクロヘキサン、1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサンおよびネオペンチルグリコールビス4-アミノフェニルエーテルも挙げられる。上述のとおり、ジアミンとしては、例えば、上記式I~XIIで表される化合物を用いることができるが、これらの化合物以外の、アミノ基を2つ有する化合物も用いることができる。例えば、ナフタレン構造を有するナフタレン系ジアミン、フルオレン構造を有するフルオレン系ジアミン、またはシロキサン結合を有するシロキサン系ジアミンなどを単独で、または他のアミノ基を2つ有する化合物として挙げた化合物と混合して用いることができる。シロキサン系ジアミンは特に限定されるものではないが、式XIIIで表される化合物が、本発明において好ましく使用され得る。式XIII中、R35およびR36はそれぞれ独立に炭素数1~3のアルキルまたはフェニルであり、R37はメチレンまたは炭素数1~10のアルキルで置き換えられていてもよいフェニレンであり、2つのxはそれぞれ独立に1~6の整数であり、yは1~70の整数である。ポリアミド酸またはそのイミド化重合体の用途によっては高い透明性が必要とされるが、そのような場合には、yは1~15の整数であることが特に好ましい。複数存在するR35、R36およびR37は、それぞれ互いに同じでも異なっていてもよい。ジアミンとして、さらに式11~18で表される化合物が挙げられる。式11~18中、R38およびR39はそれぞれ独立に炭素数3~20のアルキルである。ジアミンは、本明細書に記載された化合物に限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で、他にも種々の形態のジアミンを用いることができる。以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。実施例および比較例で用いる化合物A、ナジイミド化合物B、アミド酸誘導体およびそのイミド化物C、添加剤Zの名称およびその略号を以下に示す。以下の記述にはこの略号を使用する。化合物AFA-3218M:商品名ファンクリルFA-3218M日立化成株製FA-321M:商品名ファンクリルFA-321M日立化成株製EG4DA:テトラエチレングリコールジアクリレートナジイミド化合物BBANI-X:商品名BANI-X丸善石油化学株製BANI-M:商品名BANI-M丸善石油化学株製アミド酸誘導体およびそのイミド化物Cの原料化合物テトラカルボン酸二無水物BSAA:44’ビスジフタル酸二無水物ODPA:33’44’‐ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物BPDA-H:3344ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物酸無水物基を1つ有する化合物MA:マレイン酸無水物ジアミンBAPP:22ビス4フェニルプロパン5HBA:11ビスフェニル4nペンチルシクロヘキサン3o2o2o3DA:ジエチレングリコールビスエーテル重合性モノマーM-327:商品名アロニックスM-327東亞合成株製ε-カプロラクトン変性トリスアクロキシエチルイソシアヌレート4HBA:商品名4HBA日本化成株製4-ヒドロキシブチルアクリレート重合開始剤VF-096:商品名VF-096和光純薬工業株製2,2’-アゾビス[N-2-プロペニル-2-メチルプロピオンアミド]高分子化合物MW30:商品名ニカラックMW-30三和ケミカル株製メチロール化メラミン溶媒EDM:ジエチレングリコールメチルエチルエーテルGBL:γ-ブチロラクトンNMP:1-メチル-2-ピロリドン[実施例1]温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口がつながった環流冷却器を備えた100mlの四つ口フラスコに、溶媒として15.0gのEDM、15.0gのGBL、化合物Aとして13.8891gのFA-3218M、ナジイミド化合物Bとして6.1109gのBANI-Xをこの順に混合した。得られた混合物を室温にて3時間攪拌して、固形分濃度40質量のインクジェット用インクを得た。前記インクの、E型回転粘度計TOKYOKEIKI製VISCONICELDを用いて25°Cで測定される回転粘度は、11.4mPasであった。[実施例2~8、14、比較例1~2、5~6、8]実施例1において、原料の種類および仕込み量を表1に記載のとおりに変更したこと以外は実施例1と同様にして、化合物Aおよび/またはナジイミド化合物Bを含むインクジェット用インクを得た。[実施例9]温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口がつながった環流冷却器を備えた100mlの四つ口フラスコに、溶媒として16.25gのEDM、16.25gのNMP、成分Cの原料成分として6.40gのBAPP、1.27gのMAおよび0.81gのODPAをこの順に混合し、前記原料成分の溶解を確認した後に、化合物Aとして9.02gのFA-3218Mを更に混合した。得られた混合物を室温にて3時間攪拌して、固形分濃度35質量のインクジェット用インクを得た。前記インクの、E型回転粘度計TOKYOKEIKI製VISCONICELDを用いて25°Cで測定される回転粘度は、17.2mPasであった。[実施例10~13、比較例3~4、7]実施例9において、原料の種類および仕込み量を表1に記載のとおりに変更したこと以外は実施例9と同様にして、化合物Aおよび/または成分Cを含むインクジェット用インクを得た。実施例および比較例で得られたインクの評価方法を以下に記す。iインクの保存安定性上記インクの粘度は、E型粘度計TOKYOKEIKI製VISCONICELDを使用して測定した。25°Cでインクの粘度を測定し、続いて当該インクを-20°Cで60日間保存した後に、再び25°Cでインクの粘度を測定した。60日間保存前後でのインクの粘度差が5未満であればAA、5以上であればBBとした。iiインクジェット描画性FUJIFILMDimatix社製インクジェット塗布装置DMP-2831型番および1滴の吐出量が10plのインクジェットヘッドを使用して、上記インクのインクジェット塗布を行った。印刷基板は1.5mm厚のガラスエポキシ樹脂両面銅張り板を使用し、印刷設定は、印刷パターン:1ドット幅でドットピッチ30ミクロンかつ長さ5cmのライン塗布、ピエゾ電圧:18V、印刷層数:1層、吐出温度:25°C、駆動周波数:5kHzとした。本条件で吐出を行うと、1滴の吐出量が9.0~9.5plで吐出可能である。インクジェット塗布を完了した後、印刷基板上に形成されたライン状の塗膜のライン幅を光学顕微鏡で測定した。次に、印刷基板を80°Cのホットプレートで5分間乾燥し、その後180°Cのオーブンで90分間加熱して、印刷基板上にライン状の硬化膜を形成した。KLA-TencorJapan株製の触針式膜厚計αステップ200を使用して3箇所の膜厚を測定し、これらの平均値を膜厚とした。iii銅とインクから形成された硬化膜との密着性印刷層数を3層にすること以外は上記iiインクジェット描画性評価と同様のインクジェット塗布により、上記インクを厚さ35μmの銅箔JX日鉱日石金属株製、型番BHY-22B-Tの光沢面へ塗布した。インクジェット塗布を完了した後、銅箔を80°Cのホットプレートで5分間乾燥し、その後180°Cのオーブンで90分間加熱して、銅箔上にライン状の硬化膜を形成した。銅箔の硬化膜が形成された面に粘着剤のついた支持基板を貼り付けて、銅箔裏面に幅2.5mmのマスキングテープをつけて銅箔をエッチングして、硬化膜上に幅2.5mmの銅箔を形成した。マスキングテープを剥がした後、銅箔と硬化膜との界面で引剥しのきっかけをつくり、株島津製作所製の引張試験機EZGraphにより銅箔を180°方向に引き剥がし、密着強度を測定した。iv電気的特性評価体積抵抗率および絶縁耐力上記iii密着性評価と同様の印刷設定でクロム基板上にインクジェット塗布を行い、80°Cのホットプレートで5分間乾燥し、その後180°Cのオーブンで90分間加熱して、クロム基板上に膜厚2μmの硬化膜を形成した。その後、硬化膜上にアルミニウムを蒸着させて、電極を形成した。体積抵抗率および絶縁耐力は、ディジタル超絶縁/微少電流計DSM-8104日置電機株製を使用して測定した。vアルカリ溶液耐性印刷パターンを40mm×40mmの正方形状のパターンにすること以外は上記iii密着性評価と同様の印刷設定で、銅箔厚さ12.5μmをポリイミド上に積層してなる基板[ネオフレックスNEX-13FE三井化学株製、商品名]上にインクジェット塗布を行い、80°Cのホットプレートで5分間乾燥し、その後180°Cのオーブンで90分間加熱して、銅箔上に硬化膜を形成した。得られた硬化膜を、2規定のNaOH水溶液中に室温で15分間浸漬して、水洗の後に60°Cで30分間乾燥した。硬化膜と銅箔との界面を光学顕微鏡により観察し、以下の評価基準によりアルカリ溶液耐性を評価した。AA:硬化膜と銅箔との界面に染込みが生じず、さらに剥離等の異常がみられない。BB:硬化膜と銅箔との界面に一部染み込みが生じるが、剥離等の異常はみられない。CC:硬化膜と銅箔との界面に染込みが生じ、一部剥離等の異常がみられる。vi反り試験60×60mm基材東レデュポン株製カプトン200H厚さ50μmをインクジェット装置の描画面にエアチャックを使用して固定し、上記iii密着性評価と同様の印刷設定で前記基材上の55×55mmの範囲にインクジェット塗布を行い、80°Cのホットプレートで5分間乾燥した。これを室温に戻してPIテープを剥がして、その後180°Cのオーブンで90分間加熱して、硬化膜を形成した。これを室温に戻して、20°C、60湿度で16時間放置したこのときの硬化膜の膜厚は10±2μmとなった。基材を水平面上に置き、平坦面からの4隅のそり高さを測定し、その平均値を反り量とした。以上の実施例および比較例の製造条件を表1に、評価結果を表2に記す。本発明のインクジェット用インクからは、5μm以上の厚みの硬化膜が得られ、さらに保存安定性、密着性、電気的特性体積抵抗率、絶縁耐力、薬液耐性アルカリ溶液耐性、低反り8.0mm以内に関して良好であった。実施例の硬化膜では、ライン幅はほぼインクを塗布したときの幅を維持しており、ラインのエッジの直線性も良好であり、ラインは充分な厚みを有していた。"