"格子リブに平行に延在する格子中心軸についてのそれぞれの格子の回転に応じて、又は、それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて傾斜されている位相格子構造を備えていることを特徴とする、格子干渉計。前記傾斜された位相格子構造は、a格子リブに平行に延在する格子中心軸についてのそれぞれの格子の回転に応じて、干渉計構造における格子構造を入射方向に対して傾斜させることによって、及び/又は、bそれぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、前記位相格子の基板上に前記格子構造を傾斜させて製造することによって得られる、請求項1に記載の格子干渉計。入射方向に対する位相格子の傾斜は外部から制御可能乃至調整可能である、請求項1又は2に記載の格子干渉計。交換可能な複数の位相格子を含んでいる、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の格子干渉計。それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に格子構造が傾斜されて配置されていることを特徴とする、干渉計用の位相格子。タルボ効果を基礎とする干渉計乃至用途において位相コントラスト像の画像品質を向上させるための方法において、i格子リブに平行に延在する格子中心軸についてのそれぞれの格子の回転に応じて、干渉計構造において入射方向に対して傾斜されている位相格子を使用する、及び/又は、iiそれぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に格子構造が傾斜されて配置されている位相格子を使用することを特徴とする、位相コントラスト像の画像品質を向上させるための方法。それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に傾斜された格子構造を製造するための方法であって、X線干渉計のための位相格子及び分析格子を同一のマスターマスクから製造する方法において、-分析格子の周期を有するマスターマスクを使用し、-直接的な垂直方向の露光によって分析格子を形成し、-所定の傾斜角度での露光又は配置によって、格子周期を用いた投影によって位相格子を形成することを特徴とする、方法。電子ビームリソグラフィによって製造されたマスターマスクを用いて前記格子を製造する、請求項7に記載の方法。特に画像品質を向上乃至改善するための、干渉計における位相格子としての、格子リブに平行に延在する格子中心軸についてのそれぞれの格子の回転に応じて、又は、それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて傾斜されている位相格子構造の使用。医療技術のX線を基礎とするシステム、材料及び構成要素の非破壊検査のための装置、コンピュータトモグラフのガントリーユニット、マイクロCT装置におけるX線光学系、医療用ラジオグラフィマンモグラフィもしくは血管造影法のためのレントゲン光学システムにおける位相格子としての、格子リブに平行に延在する格子中心軸についてのそれぞれの格子の回転に応じて、又は、それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて傾斜されている位相格子構造の使用。本発明の課題は、従来技術の欠点を回避することである。特に、画像品質、例えば位相コントラスト及びシャープさ、即ち鮮鋭度が簡単な手段によって改善されるべきである。即ち、実験の度に固有の位相格子を使用する必要がなく、従って経済的な利点が得られるように、干渉計はより調整可能に使用できるべきである。この課題は、干渉計の位相格子のための特別な格子乃至格子の配置構成によって、並びに相応の干渉計及び方法及び使用によって解決され、それらの解決手段においては、格子リブに平行に延在する格子中心軸についての格子の回転に応じて、又は、格子中心軸にそれぞれ平行に配置されている、格子の複数の長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、格子構造が入射方向乃至光学軸に関して傾斜している。術語の定義:術語干渉計乃至格子干渉計は、本発明の範囲において、タルボ効果を利用して動作する装置に関する。詳細な説明以下の記述及び添付の図面では、明細書及び図面における同一の部分乃至特徴が同一の参照符号によって表されている。図面は縮尺通りのものではない。見やすくするため、また分かりやすくするために、本発明の幾つかの特徴を過度に大きく、又は概略的な形で図示している場合もあり、従って同様に、慣例もしくは公知の構成要素の幾つかの詳細を図示していない場合もある。本発明の対象は、傾斜された位相構造を備えた格子干渉計である。特に、傾斜された位相格子構造は、a格子リブに平行に延在する格子中心軸についての格子の回転に応じて、干渉計構造における格子構造を入射方向乃至光学軸に対して傾斜させることによって、及び/又は、bそれぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に格子構造を傾斜させて製造することによって得られる。従って、本発明は三つの択一的な構造a,b及びabを含む。aの構造は、有利には、入射方向乃至光学軸に関する位相格子の所定の傾斜角度を得るために、-組み立て後に事後的に所望される傾斜、又は、-組み立て時に所望された傾斜であると解される。本発明の有利な実施の形態においては、誤った調整によって入射方向乃至光学軸に対して干渉計構造における格子構造が傾斜することは意図しておらず、またそのような傾斜は含まれない。この実施の形態において本発明は、干渉計の実際の状態例えば供給状態に対する傾斜によって意図的に惹起された格子の傾斜に関する。従って本発明の対象は、干渉計における位相格子としての傾斜された格子構造の使用でもある。更に本発明の対象は、タルボ効果を基礎とする干渉計乃至用途において位相コントラスト像の画像品質、特にシャープさを向上させるための方法であり、この方法は、位相格子として、i格子リブに平行に延在する格子中心軸についての格子の回転に応じて、入射方向乃至光学軸に対して、干渉計構造において傾斜されている位相格子、及び/又は、iiそれぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に格子構造が傾斜されて配置されている位相格子が使用される。従って、本発明は三つの択一的な実施の形態i,ii及びiiiを含む。同様に、本発明の対象は、格子構造が位相格子の基板上で傾斜されて配置されている位相格子である。特に本発明の対象は、新規の位相格子の使用、干渉計及び方法である。特に本発明は、シンクロトロン放射管における格子干渉計乃至X線放射のための格子干渉計に関する。シンクトロン放射管における格子干渉計の構造では、格子周期における差異が数ナノメートルの範囲、典型的には2nmから10nmの範囲即ち、製造方法の製造公差の範囲の格子周期にあり、このことは数マイクロメートルの周期では周期長の1未満に相当する。X線管を用いる用途、例えばコンピュータトモグラフィにおいては、周期変化は数10nmの範囲、即ち周期長の数パーセントの範囲にある。本発明によれば上記の範囲における周期変化を、格子リブに平行に延在する格子中心軸についての格子の回転に応じて、放射に関する位相格子の傾斜によって達成することができる。ここで、周期変化は傾斜の角度に比例する:p’=1-cosΘp,Δp=pcosΘ例えば、2.5μmの周期長での5nmの周期変化は約3.63°の傾斜を必要とする。タルボ距離又は波長が変化した際の角度の変化はむしろ1/10°の範囲にあり、従って1nmを下回る範囲にある。周期のそのような変化、しかしながら既に数ナノメートルの範囲にある変化も、上述のように製造方法の製造公差の範囲にある。従って、製造時の製造公差を補償調整するために本発明を利用することができる。即ち、本発明を誤差補正に利用することができる。例えば50nmX線管を用いる用途の周期変化及び2.5μmの周期に関して傾斜角度は約12°である。本発明による第1のヴァリエーションiでは、格子構造が基板に垂直に製造され、即ち、通常の位相格子の通常の製造が行われ、続いて、格子リブに平行に延在する格子中心軸についての格子の回転に応じて、干渉計構造において格子構造が所望の角度だけ傾斜される。このヴァリエーションにおいては、放射に対して構造が傾斜しており、矩形の吸収プロファイルは生じない。使用される材料に応じて、また実験において使用されるエネルギーに応じて、位相格子の薄板構造の高さは50μmを遥かに上回ることが考えられる例えばシリコン又はプラスチックを使用する場合。この場合、約1°の角度において既に薄板が覆われることが考えられ、それにより強度プロファイルはもはや一義的ではなくなる。位相格子として高屈折性の材料例えば金属を使用する場合、高さは数マイクロメートルの範囲にあるので、それにより、例えば10μmの高さでは、垂直方向の配向に関して約5°までの角度変化が実現され、その際に覆いが生じることはない。従って、このヴァリエーションiでは位相格子として金属を使用することが有利である。ここでは、金属めっきにより析出することができ、特に格子がLIGA法により製造される場合には、あらゆる金属を使用することができる。有利には、ニッケル、銅、金、タングステン、それらの混合物、合金及び組み合わせから成るグループから選択された金属が使用される。位相格子のための金属として銅及びニッケル、とりわけニッケルが特に有利である。従ってこのヴァリエーションでは、特に、角度変化をその都度の状況に適合させることを考慮することができ、このことは必要に応じて簡単な事前検査によって行うことができる。本発明による第2のヴァリエーションiiでは、格子中心軸にそれぞれ平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、通常の構造もしくはその都度の構造に必要とされる数度の角度周期長を有する構造が基板上に製造され、また、放射に対して基板がその角度でもって取り付けられる。この場合、放射は構造を直線的に通過する。タルボ距離が変化した際の角度変化は小さく、それどころか1°よりも小さい範囲にあるので、この変化を、前述の角度から出発して、画像の品質の極僅かな劣化でもって実現することができる。薄板構造が非常に高い場合であっても覆われることはなく、また吸収プロファイルにおける側縁の勾配も高いままである。X線エネルギーが高い場合、この構成は金属格子においても有利であり、またこの方式をあらゆる実際のX線エネルギーに適用することができる。このヴァリエーションiiによって、第1のヴァリエーションにおいては場合によっては起こり得る覆いの問題を回避することができる。従って、本発明の一つの実施の形態においては、この第2のヴァリエーションiiが有利である。ヴァリエーションiとiiを組み合わせることも、やはり本発明の一部である。ここで、位相格子の製造は特殊性を有しておらず、例えばLIGA法のような通常の方法に従い、UVリソグラフィ又は電子ビームライターを用いて行われるが、UVリソグラフィ及び電子ビームライターは比較的高い2~3μmよりも高い構造には余り適していない。格子構造が支持体上において傾斜していない位相格子は、乾式エッチング法例えばDRIE又はレーザアブレーションによっても製造することができる。従って、本発明は、その種の通常の構造又はその種の傾斜した薄板構造を備えている位相格子が外部から制御可能乃至調整可能である干渉計を含む。即ち、干渉計を開く必要はない。制御乃至調整を純粋に機械的に、例えば制御ダイアルを介して行うことができるか、又は、それらを自動的にコンピュータ支援により行うことができる。特に、実施の形態のコンピュータ支援のヴァリエーションでは、測定が実施されている間に、位相格子の傾斜を非常に精密に制御することができるので、最適な結像能力を達成することができる。従って勿論、本発明による干渉計の外部からの制御を種々の方向においても行うことができる。本発明の別のヴァリエーションには、外部から交換可能であり、また傾斜させることができる複数の位相格子を備えている干渉計が含まれる。即ち、干渉計を制御ダイアル又はコンピュータ制御によって開く必要はない。複数の位相格子を例えばリボルバのマガジンのように、又はスライドプロジェクタのマガジンのように配置することができる。このようにして、非常に大きい角度領域を覆い、干渉計の可変性を更に高めることができる。本発明の顕著な利点は、二つの格子のための構造を同一のプロセス技術リソグラフィ法を用いて、従って同一の電子ビームライターを用いて製造された一次構造体もしくはそこから得られるマスターマスクに基づき製造できることである。これによって、必要とされる周期変化を非常に正確に調整することができ、また一次構造化における公差の影響を受けないという事実の他に、プロセスに起因する目標幾何学からの偏差が同じように二つの格子構造位相格子及び強度格子に転用される。その限りにおいて、プロセスに起因する偏差による悪影響は最小になり、それどころか完全に補償される。従来技術からは同様の解決手段は公知ではない。従来では、各格子構造が周期長において適合された一次構造に基づき製造されていた。従って、それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に傾斜された格子構造を製造するための方法も本発明の対象であり、この製造方法においては、X線干渉計のための位相格子G1及び分析格子G2が、同一のマスターマスクに基づき製造され、特に、電子ビームリソグラフィEBeamLithographieを介して製造され、-分析格子G2の周期を有するマスターマスクが使用され、-直接的な垂直方向の露光によって分析格子G2が形成され、-所定の傾斜角度での露光又は配置によって、格子周期G1を用いた投影によって位相格子G1が形成される、ことを特徴としている。重要な特徴は、二つの格子が同一のマスターマスクから製造され、従って同一のプロセスエラーを有しているということである。位相格子の傾斜によって格子周期を一致させることができる。即ち、格子の製造時のエラーの少なくとも大部分は均一化される。この本発明による方法の特別な利点を以下のように表すことができる:格子の製造公差が例えば10nm格子マスクの製造に使用される電子ビームリソグラフィの公差である場合、独立した格子では周期を絶対的に20nmだけ偏差させることができるか、又は、格子構造全体にわたり20nmだけ変動させることができる。周期が2μmの場合には、このことは、1002μm=200μmの周期を有するモアレパターンが生じることを意味する。二つの格子の周期が面状のX線放射に基づき0.1μmだけ異なっていなければならない場合、これは3°の角度の傾斜でもって達成することができる。0.1°に角度を調整しても問題はないので、4nmの精度で周期を調整することができる。0.01°の精度では周期の精度は0.3nmである。しかしながら、格子が同一の電子ビームマスターマスクを用いて製造される場合には、格子が別個の電子ビームマスターマスクを用いて製造された場合よりも遥かに高い精度を得ることができるので、本発明による方法でもって製造された格子が使用される場合には、遥かに少ないモアレパターンが生じ、結像能力も相応により良いものとなる。同一の電子ビームマスターマスクを用いて製造された二つの格子における周期変動は実際には何の役割も果たさない。何故ならば、それらの周期変動は同一箇所にあり、従って、明るい/暗い変動における比較的大きい周期は比較的大きい格子周期を有する箇所において検出されるからである。このことは異なるマスクを用いて製造された格子に関しては問題である。本発明によって、単一の位相格子を種々の測定に使用することができる。従って本発明によって方法を著しく簡略化することができる。また僅かな位相格子しか必要とされないので、本発明によって、コストを著しく削減することができる。換言すれば、本発明の利点は、位相格子が傾斜によって可変の周期を実現することである。また本発明はX線放射を用いる位相コントラストトモグラフィに関する。本発明において特に有利には、位相コントラスト像がよりシャープになり、付加的な輝度変調を含んでいない。本発明による傾斜された格子を、医療技術のX線を基礎とするシステム例えばレントゲントモグラフィにおいて、また材料及び構成要素の非破壊検査のための装置において使用することができる。本発明の一つのヴァリエーションでは、本発明による傾斜された格子を、コンピュータトモグラフのガントリーユニット、マイクロCT装置におけるX線光学系、医療用ラジオグラフィマンモグラフィもしくは血管造影法のためのレントゲン光学システムに使用することができる。本発明の種々の実施の形態しかしながら例えば種々の独立請求項に記載されている実施の形態に限られるものではないを任意のやり方で相互に組み合わせることができる。図面の説明図1:この図は、垂直方向に構造化された格子における傾斜を示す。格子構造が基板4上に垂直に製造され、続いて格子構造が干渉計構造において所望の角度だけ傾斜された位相格子が表されている。図2:図2は、本発明による第2のヴァリエーションを示す。このヴァリエーションにおいては、通常の構造に必要とされる数度の角度周期長を有する構造が基板4上に製造され、基板がこの角度で同期放射内に設置される。この場合、放射は構造を直線的に通過する。図3:この図は本発明による第2のヴァリエーションの利点を示す。何故ならば、タルボ距離が変化した際の角度変化は小さく、それどころか1°よりも小さい範囲にあるので、この変化を、前述の角度から出発して、画像の品質の極僅かな劣化でもって実現することができるからである。薄板構造の構造が非常に高い場合であっても覆われることはなく、また吸収プロファイルにおける側縁の勾配も高いままである。図4:82keVのX線エネルギーでの硬貨の位相コントラストラジオグラフィの記録を示す。左:発散が補償されていない格子を用いた記録ここで、発散の補償とは傾斜されていること、また状況及び周期に適合されていることを意味する。右:発散がほぼ完全に補償された格子を用いた記録ここで具体的には、155mのソース距離、2.4μmの格子周期、格子間の距離55cmでの5°の発散補償が行われている。位相コントラスト像がよりシャープになり、付加的な輝度変調を含んでいないことがはっきりと見て取れる。"