"下記式1で表される含フッ素ジエン化合物。CF2CFCXYCHmR1niW2hW3jkE4R2CH2CHCH2.........1ただし、式1中の記号は、以下の通りである。R1:単結合、炭素数1~12のアルキレン基、または炭素数1~12のポリフルオロアルキレン基。R2:炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~8のアルコキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはシアノ基。E1:1,4-フェニレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子、またはメチル基で置換されていてもよい。E2,E3,E4:各々独立に、1,4-フェニレン基、トランス-1,4-シクロヘキシレン基、またはトランス-2,6-デカヒドロナフタレニル基であり、これらの基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子、またはメチル基で置換されていてもよい。m:0~3の整数。n:0~3の整数。h,j,k:各々独立に0または1であり、かつ1≦hjkが成り立つ。i:0または1。w1,w2,w3:各々独立に、カルボニル基または単結合。X:フッ素原子または水素原子。Y:フッ素原子または水素原子。Z:CZでカルボニル基を形成する-O-、またはCZでメチレン基を形成する水素原子2個。前記式1において、XおよびYがいずれも水素原子であり、CZがメチレン基である請求項1に記載の含フッ素ジエン化合物。請求項1または2に記載の含フッ素ジエン化合物を含有することを特徴とする重合性液晶組成物。請求項3に記載の重合性液晶組成物を、当該組成物中の前記含フッ素ジエン化合物が、液晶相を示しかつ配向した状態で重合して得られる光学異方性材料。請求項1または2に記載の含フッ素ジエン化合物を環化重合して得られる液晶ポリマーを、配向した状態で含有する光学異方性材料。請求項4または5に記載の光学異方性材料からなる層と、該層を支持する支持体とを有する光学素子。前記光学異方性材料からなる層は、液晶の相転移温度Tc以下の温度で配向処理がなされている請求項6に記載の光学素子。位相板として用いられる請求項7に記載の光学素子。本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、膜厚むらおよび配向乱れが抑制され、室温に放置しても結晶が析出しにくいうえに、耐光性に優れ、広い面積の基板を塗布するのに適した重合性液晶組成物、およびこれを調製するのに適した新規な含フッ素ジエン化合物の提供を目的とする。また、本発明は、耐熱性および耐光性に優れた重合物が得られる重合性液晶組成物、およびこれを用いて製造される光学異方性材料、ならびに光学素子の提供を目的とする。本発明の第1の態様は、下記式1で表される含フッ素ジエン化合物である。CF2CFCXYCHmR1niW2hW3jkE4R2CH2CHCH2.........1ただし、式1中の記号は、以下の通りである。R1:単結合、炭素数1~12のアルキレン基、または炭素数1~12のポリフルオロアルキレン基。R2:炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~8のアルコキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはシアノ基。E1:1,4-フェニレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子、またはメチル基で置換されていてもよい。E2,E3,E4:各々独立に、1,4-フェニレン基、トランス-1,4-シクロヘキシレン基、またはトランス-2,6-デカヒドロナフタレニル基であり、これらの基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子、またはメチル基で置換されていてもよい。m:0~3の整数。n:0~3の整数。h,j,k:各々独立に0または1であり、かつ1≦hjkが成り立つ。i:0または1。w1,w2,w3:各々独立に、カルボニル基または単結合。X:フッ素原子または水素原子。Y:フッ素原子または水素原子。Z:CZでカルボニル基を形成する-O-、またはCZでメチレン基を形成する水素原子2個。本発明の第1の態様の含フッ素ジエン化合物において、前記式1におけるXおよびYはいずれも水素原子であり、CZはメチレン基が好ましい。本発明の第2の態様は、第1の態様の含フッ素ジエン化合物を含有する重合性液晶組成物である。この重合性液晶組成物は、架橋基を有する含フッ素ジエン化合物を含有できる。架橋基としては、水酸基、ビニル基、メタアクリロイル基、オキセタン基が好適する。このような重合性液晶組成物から得られる液晶ポリマーは、第1の態様の含フッ素ジエン化合物に基づく重合単位と前記架橋基を有する含フッ素ジエン化合物に基づく重合単位を有する。そして、このような液晶ポリマーを有する組成物液晶性組成物は、水酸基またはメタアクリロイル基を有する液晶性低分子化合物を含有できる。特に、架橋基として水酸基を有する含フッ素ジエン化合物に基づく重合単位を有する液晶ポリマーを有する組成物は、ポリイソシアネート化合物を含有することが好ましい。本発明の第3の態様は、第2の態様の重合性液晶組成物を、当該組成物中の前記含フッ素ジエン化合物が、液晶相を示しかつ配向した状態で重合して得られる光学異方性材料である。本発明の第4の態様は、第1の態様の含フッ素ジエン化合物を環化重合して得られる液晶ポリマーを含有する光学異方性材料である。本発明の第5の態様は、第3の態様または第4の態様の光学異方性材料からなる層と、該層を支持する支持体とを有する光学素子である。本発明の第5の態様の光学素子において、前記光学異方性材料からなる層は、液晶の相転移温度Tc以下の温度で配向処理がなされていることが好ましい。また、この光学素子は位相板として使用できる。なお、本明細書において、メタアクリロイル基なる語は、アクリロイル基とメタクリロイル基の両方を意味し、メタアクリロオキシ基なる語は、アクリロオキシ基とメタクリロオキシ基の両方を意味する。また、架橋なる語は、低分子化合物を介しての橋架けだけでなく、末端基同士の結合による分子量の増大を含めた広い意味で使用する。本発明によれば、新規な含フッ素ジエン化合物を用いて調製される重合性液晶組成物、もしくは新規な含フッ素ジエン化合物を環化重合させることによって得られる重合体液晶ポリマーを用いて調製される液晶組成物は、基板に塗布した際に膜厚むらおよび配向乱れが抑制され、室温に放置しても結晶が析出しにくく、広い面積の基板に好適に塗布できる。そして、この重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性材料、もしく前記液晶ポリマーを含む組成物から得られる光学異方性材料は、耐熱性および耐光性に優れており、位相板等の光学素子を構成する材料として有用である。以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。本明細書の記載において使用される用語は、下記に従って解釈するものとする。また、式で表される化合物は、その式の番号を付した化合物としても表記し、例えば式で表される化合物は、化合物とも表記する。液晶化合物とは、単独で液晶相を示し得る化合物を意味し、重合性液晶化合物とは、重合性を有し、単独で液晶相を示し得る化合物を意味する。また、重合性液晶組成物とは、重合性を有し、液晶相を示し得る組成物を意味する。Phは1,4-フェニレン基を示し、該基中の炭素原子に結合した水素原子が、フッ素原子、塩素原子、またはメチル基に置換されたものを含み得るものとする。Cyはトランスtrans-1,4-シクロヘキシレン基を示し、Dhnはトランスtrans-2,6-デカヒドロナフタレニル基を示す。これらの基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子、またはメチル基に置換されたものを含み得るものとする。Δnは、屈折率異方性の略記である。なお、以下の記載における波長の値は、記載値±2nmの範囲を含み得るものとする。<含フッ素ジエン化合物>本発明において、重合性液晶組成物の調製に用いられる新規な化合物は、下記式で表される含フッ素ジエン化合物である。CF2CFCXYCHmR1niW2hW3jkE4R2CH2CHCH2.........1式1中の各記号は、以下の通りである。R1:単結合、炭素数1~12のアルキレン基、または炭素数1~12のポリフルオロアルキレン基。R2:炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~8のアルコキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはシアノ基。E1:1,4-フェニレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子、またはメチル基で置換されていてもよい。E2,E3,E4:各々独立に、1,4-フェニレン基、トランス-1,4-シクロヘキシレン基、またはトランス-2,6-デカヒドロナフタレニル基であり、これらの基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子、またはメチル基で置換されていてもよい。m:0~3の整数。n:0~3の整数。h,j,k:各々独立に0または1であり、かつ1≦hjkが成り立つ。i:0または1。w1,w2,w3:各々独立に、カルボニル基または単結合。X:フッ素原子または水素原子。Y:フッ素原子または水素原子。Z:CZでカルボニル基を形成する-O-、またはCZでメチレン基を形成する水素原子2個。この化合物は、複数の6員環による液晶性骨格を含有する含フッ素ジエン化合物であり、重合性と液晶性を併せ持つ。化合物の中には、単独では液晶相を示さないものもあるが、そのような化合物も、他の成分との混合状態では液晶状態を呈することができ、液晶相を示す重合性液晶組成物の構成成分として利用可能である。化合物は、分子のスペーサー部にアルキレン基またはポリフルオロアルキレン基を有する構造を持つ。この基の作用によって、後述する重合性液晶組成物中に含まれる化合物は、重合の際に組成物の膜表面に移行し最表面で硬化する。そのため、重合性液晶組成物のレベリング性が向上し、膜厚むらが解消される。重合性液晶組成物中のフッ素原子を含まない成分との相溶性を低下させないために、化合物において、式1中のR1がアルキレン基またはポリフルオロアルキレン基の場合、それらの基の炭素数は1~12とする。レべリング性と相溶性の関連から、アルキレン基の炭素数は2~8が好ましく、ポリフルオロアルキレン基の炭素数も2~8が好ましい。また、非結晶性を奏することから、アルキレン基の炭素数は2、4、6が好ましい。ポリフルオロアルキレン基の炭素数も2,4、6が特に好ましい。さらに、ポリフルオロアルキレン基の場合は、その末端炭素原子にフッ素原子が1個以上結合していることが好ましく、ペルフルオロアルキレン基であることがより好ましい。ポリフルオロアルキレン基としては、具体的に次の基が挙げられる。-2-、-4-、-6-、-8-、-10-、-12-、-CF2CHF-、-CF2CHF2-、-CF2CHF4-、-CF2CHF2CHFCF2-、-CF2CHF4CHF-、-CF2CH2CH2CF2-、-CF2CHF4CHFCF2-、-CHF6CHF-、-CF2CH2CH2-。式1において、mおよびnは、各々0~3の整数であり、1または2が好ましい。また、化合物の製造容易性の観点から、mとnが同じ値であることが好ましい。h、i、j、kは、各々0または1である。ただし、1≦hjkであり、h、j、kの少なくとも1つは1である。w1、w2、w3は、カルボニル基-CO-または単結合であり、XおよびYはフッ素原子または水素原子である。Zは、CZでカルボニル基を形成する-O-、またはCZでメチレン基を形成する水素原子2個である。すなわち、CZはカルボニル基またはメチレン基である。化合物の好ましい具体例として、下記化合物~を挙げることができる。CF2=CFCH2CHm-R1-nO-Ph-Ph-R2CH2CH=CH2CF2=CFCH2CHm-R1-n-O-Ph-Cy-Ph-R2CH2CH=CH2CF2=CFCH2CHm-R1-n-O-Ph-Cy-Ph-Ph-R2CH2CH=CH2CF2=CFCH2CHm-R1-n-O-Cy-Cy-R2CH2CH=CH2CF2=CFCH2CHm-R1-n-O-CO-Cy-Cy-R2CH2CH=CH2CF2=CFCH2CHm-R1-n-O-Cy-Cy-Cy-R2CH2CH=CH2CF2=CFCH2CHm-R1-n-O-CO-Dhn-Cy-R2CH2CH=CH2CF2=CFCH2CHm-R1-n-O-Dhn-Cy-Cy-R2CH2CH=CH2CF2=CFCH2CHm-R1-n-O-Dhn-Cy-R2CH2CH=CH2CF2=CFCH2CHm-R1-n-O-CO-Dhn-Cy-R2CH2CH=CH2CF2=CFCF2CHm-R1-n-O-CO-Dhn-Cy-R2CH2CH=CH2CF2=CFCF2CHm-R1-n-O-CO-Dhn-Cy-R2CH2CH=CH2CF2=CFCH2CHm-R1-n-CO-Dhn-Cy-R2CH2CH=CH2式~中の記号R1、R2、m、nは、各々、式毎に独立しており、前記した通りである。また、Ph、CyおよびDhnも、各々、式毎に独立して前記した通りである。1分子中における複数のPhおよびCyも、互いに独立して置換または非置換の1,4-フェニレン基および1,4-シクロヘキシレン基を示し得るものとする。より具体的な例として、下記化合物を挙げることができる。ただし、下記式中のrは式毎に独立して1~8の整数を示す。CF2=CFCH2CH2-CH2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-CH2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-CH2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-CH2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH12-CH2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-2-2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-2-3-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-4-2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-4-3-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-6-2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-6-3-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-8-2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-8-3-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-Ph-Ph-CNCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-CH2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-CH2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-CH2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH12-CH2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-2-2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-2-3-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-4-2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-4-3-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-6-2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-6-3-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-8-2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-8-3-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CHrHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-Ph-Cy-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH12-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-2-2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-2-3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-4-2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-4-3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-6-2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-6-3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-8-2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-8-3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CHrHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-CH2-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-CH2-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-CH2-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH12-CH2-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-2-2-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-2-3-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-4-2-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-4-3-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-CH2-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-CH2-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-CH2-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH12-CH2-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-2-2-CO-O-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-2-3-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-4-2-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-4-3-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-O-CO-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-Cy-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-Cy-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-CH2-O-Cy-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-CH2-O-Cy-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-CH2-O-Cy-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH12-CH2-O-Cy-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-2-2-O-Cy-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-2-3-O-Cy-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-4-2-O-Cy-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-4-3-O-Cy-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH12-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-2-2-CO-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-2-3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-4-2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-4-3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-CH2-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-CH2-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-CH2-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH12-CH2-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-2-2-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-2-3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-4-2-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-4-3-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CHrHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-O-CO-Dhn-Cy-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-CH2-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-CH2-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-CH2-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH12-CH2-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-2-2-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-2-3-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-4-2-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-4-3-O-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH8-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH10-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH12-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-2-2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-2-3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-4-2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-4-3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CHrHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH4-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH5-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH6-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CH7-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH2-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH4-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH6-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH8-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH10-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH12-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH2-2-2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH3-2-3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH2-4-2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH3-4-3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CHrHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH4-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH5-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH6-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH7-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH2-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH4-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH6-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH8-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH10-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH12-CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH2-2-2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH3-2-3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH2-4-2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH3-4-3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH2-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH3-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH4-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH5-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH6-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCF2CH7-O-CO-Dhn-Cy-rHCH2CH=CH2CF2=CFCH2CHr2HCH2CH=CH2上記化合物において、rは2~6の整数であることが好ましく、3~5であることがより好ましい。また、Phは非置換の1,4-フェニレン基、またはメチル基で置換された1,4-フェニレン基であり、Cyは非置換のトランス-1,4-シクロヘキシル基であり、Dhnは非置換のトランス-2,6-デカヒドロナフタレニル基であることが好ましい。上記化合物の中でも特に、化合物~、化合物~、化合物~、化合物~、化合物~、化合物~、化合物~、化合物、化合物~、化合物~、化合物~、化合物、化合物~、化合物~、化合物~、化合物~、化合物~、化合物が好ましい。次に、本発明の含フッ素ジエン化合物1の合成方法について、具体例を挙げて説明する。前記化合物の合成方法として、以下の反応式1に示す方法を挙げることができる。例えば、WO2002/065212公報に記載された方法で合成された上記化合物2と、化合物Gr32R,4aR,6S,8aS-6-1r,4R-4-プロピルシクロヘキシルデカヒドロナフタレン-2-カルボン酸を、溶媒存在下または無溶媒で脱水縮合剤と反応させることによって、化合物を得ることができる。脱水縮合剤としては、強酸を使用することもできるが、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミドおよびその塩酸塩等のアミド系縮合剤が好ましく、特に1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミドおよびその塩酸塩の使用が好ましい。また、塩基として、4-ジメチルアミノピリジン等を加えてもよい。反応は無溶媒でもよいが、反応溶媒として、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等の非プロトン系溶媒、またはペンタフルオロジクロロプロパン等のフッ素系溶剤を使用できる。反応温度は0°C~200°Cの範囲が好ましく、10°C~150°Cの範囲が特に好ましい。反応時間は0.5時間~100時間の範囲が好ましく、1時間~20時間の範囲が特に好ましい。反応の圧力は1MPaとすることが好ましい。前記化合物の合成方法としては、下記反応式2に示す方法が挙げられる。まず、上記した化合物と3,4-ジヒドロフランとを、ジクロロメタン等の非プロトン系溶媒中、p-トルエンスルホン酸の存在下で反応させ、上記化合物を生成する。反応温度は0°C~100°Cの範囲が好ましく、0°C~50°Cの範囲が特に好ましい。反応時間は0.5時間~100時間の範囲が好ましく、1時間~20時間の範囲が特に好ましい。反応の圧力は1MPaとすることが好ましい。次に、得られた化合物をn-BuLi-Ph2PClから調製された反応剤で処理した後、ジメチルキノンやテトラフルオロキノン等のキノンと上記化合物2と反応させることで、上記化合物を得る。また、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミドおよびその塩酸塩等のアミド系縮合剤と、トリブチルホスフィンやトリフェニルホスフィンおよびそれらの固体ビーズ担持体等で処理することにより、上記化合物を得ることができる。さらに、上記化合物または化合物2のどちらか一方の水酸基を、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トリフルオロメタンスルホニル基、またはメタンスルホニル基に変換し、残った水酸基をナトリウムやカリウム塩に変換して反応させるWilliamsonエーテル化の条件で、化合物を合成してもよい。反応温度は0°C~200°Cの範囲が好ましく、10°C~150°Cの範囲が特に好ましい。反応時間は0.5時間~100時間の範囲が好ましく、1時間~20時間の範囲が特に好ましい。反応の圧力は1MPaとすることが好ましい。次いで、得られた化合物を、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール等のプロトン性溶媒中、またはこれらのプロトン性溶媒と水との混合溶媒中で、塩酸や硫酸、p-トルエンスルホン酸等と反応させることにより、テトラヒドロピラニル保護基を脱保護した化合物を得る。反応温度は0°C~150°Cの範囲が好ましく、0°C~100°Cの範囲が特に好ましい。反応時間は0.5時間~100時間の範囲が好ましく、1時間~20時間の範囲が特に好ましい。反応の圧力は1MPaで行うことが好ましい。次いで、前記した反応式1に示す方法以下、方法1と示すこともある。における化合物の合成と同様の条件で、化合物と化合物を反応させることにより、化合物を得る。また、化合物の合成方法としては、下記反応式3に示す方法を採ることもできる。すなわち、前記反応式2に示す方法以下、方法2と示すこともある。と同様にして化合物を化合物に変換した後、方法2と同様の条件で化合物と化合物とを反応脱水縮合させ、上記化合物を得る。次に、方法2で化合物から化合物に導いた反応条件と同様の条件で、化合物の水酸基の保護基テトラヒドロピラニル保護基を脱保護し、上記化合物を得る。次いで、化合物と化合物2を、方法2で化合物から化合物を得た条件と同じエーテル化の条件で反応させ、化合物を得ることができる。前記化合物は、化合物の合成方法における化合物を、下記化合物に換えることで合成できる。また、化合物および化合物~は、化合物の合成方法における化合物をそれぞれ下記化合物および化合物~化合物に換えることで合成できる。HO-CH2-2-CH2-OHHO-CH2-4-CH2-OHHO-CH2-6-CH2-OHHO-CH2-8-CH2-OHHO-CH2-10-CH2-OHHO-CH2-12-CH2-OHHO-2-2-2-OHHO-3-2-3-OHHO-2-4-2-OHHO-3-4-3-OH前記化合物の合成方法としては、下記反応式4に示す方法が挙げられる。すなわち、まず、前記した化合物の合成方法2において、化合物から化合物へ変換した方法と同様の方法によって、化合物と上記化合物とを反応させることにより、上記化合物を得る。次に、この化合物の水酸基の保護基を、方法2で化合物から化合物に導いた反応条件と同様の条件で脱保護し、上記化合物を得る。次いで、得られた化合物と化合物2を、方法2で化合物から化合物へ変換した方法と同様の方法によって反応させ、化合物を得ることができる。前記化合物は、上記した化合物の合成方法における化合物を、下記化合物に換えることにより合成できる。また、化合物、および化合物~化合物は、上記合成方法における化合物をそれぞれ下記化合物、化合物~化合物に換えることにより合成できる。HO-CH2-2-CH2-OHHO-CH2-4-CH2-OHHO-CH2-6-CH2-OHHO-CH2-8-CH2-OHHO-CH2-10-CH2-OHHO-CH2-12-CH2-OHHO-2-2-2-OHHO-3-2-3-OHHO-2-4-2-OHHO-3-4-3-OHHO-2-6-2-OHHO-3-6-3-OHHO-2-8-2-OHHO-3-8-3-OHHO-CH2-CF2CHF-CH2-OHHO-CH2-CF2CHF2-CH2-OHHO-CH2-CF2CHF4-CH2-OH前記化合物は、以下の式で表される化合物であり、前記した化合物等と同様に合成できる。すなわち、前記化合物は、化合物の合成方法における化合物を、下記化合物に換えることで合成できる。また、化合物、および~は、化合物の合成方法における化合物を、それぞれ下記化合物および化合物~化合物に換えることで合成できる。HO-2-OHHO-4-OHHO-6-OHHO-8-OHHO-10-OH前記化合物の合成方法として、下記反応式6に示す方法を採ることができる。すなわち、上記化合物と化合物2とを、方法2で化合物と化合物とを脱水縮合した条件と同様の条件で反応させ、上記化合物を得る。次に、得られた化合物の水酸基の保護基を、方法2で化合物から化合物に導いた反応条件と同様の条件で脱保護し、上記化合物を得る。次いで、得られた化合物と化合物を前記と同様の条件で脱水縮合させ、化合物を得ることができる。化合物は、化合物の合成方法における化合物を下記化合物に換えることで合成できる。また、化合物~化合物、および化合物~化合物は、上記合成方法における化合物をそれぞれ下記化合物~化合物、および化合物~化合物に換えることで合成できる。HO-CH2-2-CH2-OHHO-CH2-4-CH2-OHHO-CH2-6-CH2-OHHO-CH2-8-CH2-OHHO-CH2-10-CH2-OHHO-CH2-12-CH2-OHHO-2-2-2-OHHO-3-2-3-OHHO-2-4-2-OHHO-3-4-3-OHHO-CCH2OHHO-C2OHHO-C3OHHO-C4OHHO-C5OHHO-C6OHHO-C7OH前記した化合物の合成方法として、下記反応式7に示す方法を採ることができる。すなわち、上記化合物と上記化合物3とを、方法2で化合物と化合物とを脱水縮合した条件と同様の条件で反応させ、化合物を得る。前記化合物は、化合物の合成方法における化合物を下記化合物に換えることで合成できる。また、化合物~化合物、および化合物は、上記合成方法における化合物をそれぞれ下記化合物~化合物、および化合物~化合物に換えることで合成できる。HO-CH2-2-CH2-OHHO-CH2-4-CH2-OHHO-CH2-6-CH2-OHHO-CH2-8-CH2-OHHO-CH2-10-CH2-OHHO-CH2-12-CH2-OHHO-2-2-2-OHHO-3-2-3-OHHO-2-4-2-OHHO-3-4-3-OHHO-2-OHHO-3-OHHO-4-OHHO-5-OHHO-6-OHHO-7-OHHO-8-OH本発明の含フッ素ジエン化合物1を、重合開始源の下で単独重合させることにより、または共重合可能な他のモノマーと共重合させることにより、液晶性を有する含フッ素ポリマーを得ることができる。例えば、本発明の含フッ素ジエン化合物1は、比較的温和な条件下で環化重合し、環化ポリマーが得られる。環化重合により得られるポリマーは、以下のa1~a3のモノマー単位から選ばれる1種以上のモノマー単位を含む重合体と考えられる。なお、下記式中、Q部分は、式1におけるW1mR1niW2hW3jkE4R2を表すものとする。重合開始源としては、含フッ素ジエン化合物1の重合反応をラジカル的に進行させるものであればなんら限定されないが、例えば、ラジカル発生剤、光、電離放射線等が挙げられる。重合開始源としては、特にラジカル発生剤が好ましい。ラジカル発生剤としては、過酸化物、アゾ化合物、過硫酸塩等が例示される。これらのラジカル発生剤の中では、過酸化物が好ましい。具体的な過酸化物としては、以下に示す化合物が挙げられる。なお、以下の式中、-C6H5はフェニル基、-C6F5基はペンタフルオロフェニル基、-C6H10-はシクロヘキシレン基を表す。C6H5-CO-OC-C6H5C6F5-CO-OC-C6F5C3F7-CO-OC-C3F73C-CO-OC-C32CH-CO-OC-CH23C-C6H10-CO-OC-C6H10-C33C-O-CO-OC-O-C32CH-O-CO-OC-O-CH23C-C6H10-O-CO-OC-O-C6H10-C3また、重合の方法も限定されるものではなく、モノマーをそのまま重合に供するいわゆるバルク重合、含フッ素ジエン化合物1および他のモノマーを、溶解または分散可能なフッ化炭化水素、塩化炭化水素、フッ化塩化炭化水素、アルコール、炭化水素、その他の有機溶媒中で重合させる溶液重合、水性媒体中で適当な有機溶媒存在下あるいは非存在下に重合を行う懸濁重合、および水性媒体に乳化剤を添加して重合を行う乳化重合等が例示される。重合を行う温度や圧力も特に限定されないが、モノマーの沸点、加熱源、重合熱の除去等の諸因子を考慮して、適宜設定することが好ましい。例えば、重合温度は、0°C~200°Cの間で好適な温度に設定でき、室温~100°C程度であれば、実用的にも好適な温度設定を行うことができる。また、重合圧力は減圧下でも加圧下でもよく、実用的には常圧~10MPa程度、さらには常圧~1MPa程度の圧力で好適な重合を実施できる。本発明の含フッ素ジエン化合物1を重合させることにより得られる含フッ素液晶ポリマーの数平均分子量Mnは、2,000~50,000の範囲が好ましく、2,500~30,000の範囲がより好ましく、3,000~20,000の範囲が最も好ましい。含フッ素ポリマーの数平均分子量Mnが小さすぎると、結晶性が出やすく、この液晶ポリマーを用いて形成される光学異方性膜の透明性が低くなるおそれがある。分子量が大きすぎると、配向制御に時間を要したり、あるいは液晶の配向度が低くなる結果、光学異方性膜の透明性が低くなるおそれがある。なお、数平均分子量Mnは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPC法により、ポリスチレンを標準物質として測定したものをいう。<重合性液晶組成物>本発明の重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物として、含フッ素ジエン化合物1の1種または2種以上を含有する。重合性液晶組成物は、含フッ素ジエン化合物1以外の重合性液晶化合物を含んでいてもよい。含フッ素ジエン化合物1以外の重合性液晶化合物としては、アクリロイル基またはメタアクリロイル基を有する化合物が好ましく、アクリロイル基を有する化合物がより好ましい。含フッ素ジエン化合物1以外の重合性液晶化合物としては、下記式4で表される化合物の1種または2種以上を使用することが好ましい。CH2CR3COOtpW4E5qsR4.........4ただし、式4中の記号は、以下の通りである。R3:水素原子またはメチル基。R4:炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~8のアルコキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはシアノ基。E5,E6,E7:各々、独立に、1,4-フェニレン基Ph、トランス-1,4-シクロヘキシレン基Cyまたはトランス-2,6-デカヒドロナフタレニル基Dhnである。t:0~8の整数。p:0または1。q,s:各々0または1。w4:カルボニル基または単結合。R3は水素原子であることが好ましい。R3が水素原子であると、この重合性液晶化合物6と本発明の含フッ素ジエン化合物1を含有する重合性液晶組成物を光重合させて光学異方性材料および光学素子を得る際に、重合反応が速やかに進行する。また、重合性液晶化合物4にR4を含有させることによって、重合性液晶組成物の液晶性を示す温度範囲を広くできる。R4がアルキル基の場合、炭素数は2~6が好ましい。また、アルコキシ基の場合も、炭素数は2~6が好ましい。化合物4が液晶性を示す温度範囲を広くできることから、R4がアルキル基あるいはアルコキシ基である場合、該基は直鎖構造が好ましい。このような重合性液晶化合物4としては、下記化合物4AA、4BB、4CCが好ましい。CH2=CR3-COO-Z1-R4.........CH2=CR3-COO-Z2-Z3-R4.........CH2=CR3-COO-t-OCO-Z4-Z5-R4.........式中の記号R3およびR4は式ごとに独立に前記と同じ意味を示す。tは1~8の整数であり、2~6の整数であることが好ましい。Z1~Z5は、それぞれ独立に、トランス-1,4-シクロヘキシレン基Cy、またはトランス-2,6-デカヒドロナフタレニル基Dhnである。ただし、Z2~Z5の少なくとも1つはCyである。より具体的には、下記化合物が好ましい。CH2=CH-COO-Dhn-C3H7.........CH2=CH-COO-Dhn-C5H11.........CH2=CH-COO-Cy-Dhn-C3H7.........CH2=CH-COO-Cy-Dhn-C5H11.........CH2=CH-COO-Cy-Cy-C3H7.........CH2=CH-COO-Cy-Cy-C5H11.........CH2=CH-COO-t-OCO-Cy-Cy-C3H7.........CH2=CH-COO-t-OCO-Cy-Cy-C5H11.........本発明の重合性液晶組成物は非液晶性の成分を含有してもよいが、広い温度領域での液晶性の確保と必要なΔnの発現のために、液晶化合物の含有量は重合性液晶組成物の全量に対して75質量以上であることが好ましく、90質量以上であることがより好ましい。本発明の重合性液晶組成物において、非重合性の液晶化合物を含有してもよい。しかし、重合後のΔnの温度による変化が少ないことから、重合性液晶化合物の含有量は液晶化合物の全量に対して95質量以上であることが好ましい。本発明の重合性液晶組成物においては、含フッ素ジエン化合物1と前記重合性液晶化合物4の合計量が、組成物中の重合性液晶化合物の全量に対して80質量以上であることが好ましく、90~100質量であることがより好ましい。また、含フッ素ジエン化合物1の含有量は、耐光性の観点から、該含フッ素ジエン化合物1と重合性液晶化合物4の合計量に対して80モル以上であることが好ましい。含フッ素ジエン化合物1の含有量が80モル未満であると、耐光性が低下し好ましくない。さらに、含フッ素ジエン化合物1は、以下の式2Mで表わされる架橋基を有する含フッ素ジエン化合物を、含フッ素ジエン化合物1の全量に対して1モル以上20モル未満の割合で含むことが好ましい。架橋基を有する含フッ素ジエン化合物2Mが1モル未満では耐光性が低下する。一方、架橋基を有する含フッ素ジエン化合物2Mが20モル以上では、液晶性が低下し好ましくない。架橋基としては、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、アルコキシシリル基、ビニル基、メタアクリロイル基特に、ウレタン結合を介して結合した一官能または二官能のメタアクリロイル基、エポキシ基、オキセタン基が適している。CF2CFCXYCHnCH2CHCH2.........2M式中、XおよびYは、それぞれ独立にフッ素原子または水素原子であり、nは1~3の整数である。また、Qは、前記架橋基である。本発明に用いる液晶ポリマーは、こうして得られた高分子化合物に対して、メタアクリロイル基を有しかつイソシアネート基を有する化合物を反応させることにより得られる含フッ素液晶性高分子化合物も含む。メタアクリロイル基を有するイソシアネート化合物としては、例えば、1,1-ビスアクリロイルオキシメチルエチルイソシアネート、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等を挙げることができる。また、アクリル酸クロライド、アクリル酸を反応させて得ることも可能である。反応条件としては、トリエチルアミンを2質量部、N,N-ジメチル-4-アミノピリジンを0.15質量部加え、室温で24時間反応させて得ることができる。共重合体の側鎖の水酸基に上記化合物の末端イソシアネート基を反応させることで、側鎖にメタアクリロイル基を導入できる。以下に示す高分子化合物PP3に1,1-ビスアクリロイルオキシメチルエチルイソシアネートを反応させることにより得られる重合体を、下記式PP4に表す。高分子化合物PP3において、含フッ素ジエン化合物1に基づく重合単位とともに含有される、水酸基を有するジエン化合物に基づく重合単位は、側鎖の末端に水酸基を有することが好ましく、さらに上記含フッ素ジエン化合物1と同様に環化重合による5員環または6員環が主鎖に組み入れられた構成であることがより好ましい。また、最終的に得られる含フッ素液晶性高分子化合物の青色レーザー光に対する耐光性の観点から、水酸基を有するジエン化合物に基づく重合単位は主鎖にフッ素原子を有する重合単位であることがより好ましい。このような重合単位を形成する水酸基を有するジエン化合物として、具体的には、以下の式10で表わされる水酸基を有する含フッ素ジエン化合物が挙げられる。CF2CFCX22Y22CHCH2CHCH2.........10ただし、式10中、X22およびY22は、それぞれ独立にフッ素原子または水素原子であり、R2は炭素数1~3のアルキレン基を示す。式PP3および式PP4中の記号も、前記と同じである。上記水酸基を有する含フッ素ジエン化合物10は、前記含フッ素ジエン化合物1と同様に、比較的温和な条件下で環化重合する。式PP3および式PP4において、x2は50~98、y2は2~50の正数をそれぞれ示し、x2y2=100である。なお、x2:y2の値は、高分子化合物PP3における、化合物1に基づく重合単位の含有量:化合物10に基づく重合単位の含有量に相当する。本発明に用いる液晶ポリマーの数平均分子量Mnは、2,000~50,000の範囲が好ましく、2,500~30,000の範囲がより好ましく、3,000~20,000の範囲が最も好ましい。また、分子量分布質量平均分子量Mw/数平均分子量Mnは、1.0~3.0の範囲が好ましく、1.0~2.0の範囲がより好ましい。液晶ポリマーの数平均分子量Mnが小さすぎると、結晶性が出やすく、含フッ素ジエン化合物を含む本発明の重合性液晶組成物を用いて形成される光学異方性膜の透明性が低くなるおそれがある。分子量が大きすぎると、配向制御に時間を要したり、あるいは液晶の配向度が低くなる結果、光学異方性膜の透明性が低くなるおそれがある。このようにして得られた液晶ポリマーは、未反応原料化合物や重合溶媒の除去等の精製処理を得て、本発明の重合性液晶組成物に配合される。本発明の重合性液晶組成物に含有可能な非液晶性の成分以下、他の成分と記す。としては、重合開始剤、架橋剤、カイラル剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等が挙げられる。架橋剤としては、後述するように、液晶性を有する化合物の使用も可能である。重合性液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物の全量、および他の成分の量は、用途によって調整することが好ましい。例えば、他の成分としてカイラル剤を使用する場合、重合性液晶化合物の全量は、重合性液晶組成物の全量に対して20~95質量が好ましく、50~95質量が特に好ましい。カイラル剤は、重合性液晶組成物の全量に対して5~80質量が好ましく、5~50質量が特に好ましい。架橋剤は、重合性液晶組成物中の架橋基を有する重合性液晶化合物耐光性の点から、特に前記架橋基を有する含フッ素ジエン化合物2Mの架橋基と、反応可能な官能基を有する化合物であれば、特に限定されない。このような化合物としては、イソシアナート、アルコール、アミン、グリシジル、アルコキシシラン、メタアクロイル、チオール化合物等が挙げられる。架橋剤の含有量は、重合性液晶組成物の全量に対して1~20質量が好ましく、2~10質量がより好ましい。重合性液晶組成物の組成の好ましい2例を、以下に示す。≪第1の例≫第1の例は、液晶ポリマーが、式2Mで表わされる架橋基が水酸基である含フッ素化合物との共重合体であり、架橋剤がイソシアネート基を有する化合物の場合である。この組成物中に、もう1種類の架橋剤として、水酸基を有する架橋剤が含まれていてもよい。第1の例の重合性液晶組成物に用いるイソシアネート基を有する化合物としては、ポリイソシアネート化合物が挙げられる。ポリイソシアネート化合物としては、1分子中にイソシアネート基を2個以上有する化合物であれば特に限定されずに使用可能である。具体的には、公知ないしは周知のポリイソシアネート化合物またはその変性体が採用され得る。このようなポリイソシアネート化合物として、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族ポリイソシアネート化合物;m-またはp-フェニレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネートXDI、2,4-または2,6-トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン-4,4’-ジイソシアネートMDI、ナフタレン-1,5-ジイソシアネート、4,4’-ジイソシアネート-3,3’-ジメチルジフェニルなどの芳香族ポリイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート水添XDI、ジシクロヘキシルメタン4,4’-ジイソシアネート水添MDIなどの脂環式ポリイソシアネート化合物;クルードトリレンジイソシアネート、クルードジフェニルメタンジイソシアネートなどのクルードポリイソシアネート化合物;カルボジイミド変性ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリオール変性ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリオール変性ヘキサメチレンジイソシアネートなどの変性ポリイソシアネート化合物が挙げられる。これらのポリイソシアネート化合物は、ビューレット型、イソシアヌレート環型、ウレトジオン型等により、2量体または3量体になっているもの、あるいはイソシアネート基をブロック化剤と反応させたブロック型ポリイソシアネート化合物であってもよい。ブロック化剤としては、アルコール類、フェノール類、カプロラクタム類、オキシム類、活性メチレン化合物類などが挙げられる。ポリイソシアネート化合物は1種を単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。なお、ブロック型ポリイソシアネート化合物を用いると、通常、含フッ素液晶性高分子化合物前記液晶ポリマー等とは概ね140°C以上でないと、その水酸基とは反応しないため、それより低い温度で反応架橋させる場合には、ブロック化されていない非ブロック型ポリイソシアネート化合物を使用することが好ましい。本発明において、水酸基を有する含フッ素液晶ポリマーaおよび後述する水酸基を有する液晶性低分子化合物bと、ポリイソシアネート化合物cの架橋反応は、液晶性組成物中で上記液晶性化合物a、bが配向した状態、すなわち液晶相を示す状態で行われる。後述のように、液晶性組成物が液晶相を示す状態を保つための、雰囲気温度はネマチック相-等方相の相転移温度Tc以下、好ましくはTc-10°C以下Tc-30°C以上であることから、ポリイソシアネート化合物cを選択する際には、化合物a、化合物bとの反応温度が、少なくとも上記Tc以下であるものが選択される。このような観点からいえば、本発明においては、ポリイソシアネート化合物cとして非ブロック型ポリイソシアネート化合物が好ましく用いられる。一方で、水酸基を有する含フッ素液晶ポリマーaおよび水酸基を有する液晶性低分子化合物bが全く配向していない状態や、配向が十分でない状態で、ポリイソシアネート化合物cと反応して架橋することを回避するために、反応温度は室温以上であることが好ましい。反応温度が室温以上Tc-10°C以下の範囲にある化合物a、化合物bとポリイソシアネート化合物cの組合せを選択することにより、配向と架橋を同時に行う、あるいは、配向、架橋をその順に段階的に行う等の調整が可能となる。また、液晶性組成物から形成される光学異方性膜等の光学異方性材料の耐光性の観点から、本発明に用いられるポリイソシアネート化合物cとしては、上記脂肪族ポリイソシアネート化合物または脂環式ポリイソシアネート化合物が好ましい。このようなポリイソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添MDI、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、水添XDI、または、これらのイソシアヌレート変性体、トリメチロール変性体またはトリスビュレット体等や3官能アミン誘導体等が挙げられる。さらに、液晶性組成物の配向性を考慮すると、ポリイソシアネート化合物cは、上記水酸基を有する含フッ素液晶ポリマーaと、水酸基を有する液晶性低分子化合物bの一軸配向を妨げない構造であることが好ましい。1分子中にイソシアネート基を2個有するポリイソシアネート化合物の場合、直鎖状、または直鎖に近い分子構造のポリイソシアネート化合物が好ましい。1分子中にイソシアネート基を3個以上有するポリイソシアネート化合物の場合、分子量が小さいポリイソシアネート化合物が好ましい。具体的には、イソシアヌレート構造を有するポリイソシアネート化合物の場合は、ジイソシアネートモノマー3分子からなる3量体が好ましく、ビウレット構造を有する場合は、1-6-シアナトヘキシル-3-6-イソシアナトヘキシル-1-6-イソシアナトヘキシルカルバモイルウレア等のヘキサメチレン構造を有するビウレットイソシアネート化合物が好ましい。上記耐光性の観点から好ましいポリイソシアネート化合物cとして例示したポリイソシアネート化合物のうち、液晶性組成物の配向性を考慮した好ましい構造のポリイソシアネート化合物cを挙げると、ヘキサメチレンジイソシアネート、水添MDIまたはそれらのイソシアヌレート変性体、トリメチロール変性体、3官能アミン誘導体等が挙げられる。このようなポリイソシアネート化合物cは、従来公知の方法で製造可能である。また、市販品にこれを含む組成物があるので、これを使用することもできる。市販品としては、例えば、イソシアヌレート構造を有するポリイソシアネート化合物の場合は、デスモジュールバイエル社製商品名等、ビウレット構造を有する場合は、デュラネート旭化成社製商品名等から、上記条件に適合した製品を適宜選択できる。具体的には、それぞれ、デスモジュールN3300、TLA-100等が好ましく挙げられる。本発明における上記ポリイソシアネート化合物cの配合量は、液晶性組成物が含有する上記含フッ素液晶ポリマーaが有する水酸基、および液晶性低分子化合物bが有する水酸基の合計モル当量に対して、ポリイソシアネート化合物cが有するイソシアネート基のモル当量が1.0~2.0倍となる配合量が好ましく、1.0~1.5倍となる配合量がより好ましい。上記水酸基の合計モル当量に対するイソシアネート基のモル当量が1.0倍より少ないと、架橋が十分に行われず、安定した配向性が維持できないことがあり、2.0倍より多いと、やはり十分な配向性が得られないことがある。さらに、水酸基を有する架橋剤の好ましい例としては、分子鎖の末端に水酸基が位置するものが好ましい。水酸基の数としては、架橋剤の1分子当たり1個以上有することが好ましく、直線状の分子鎖の両末端に各1個の水酸基を有する構造が特に好ましい。架橋剤として使用可能な水酸基を有する液晶性低分子化合物としては、具体的に、下記式5で表される水酸基を1分子当たり1個有する化合物一官能の化合物、または式6で表される水酸基を1分子当たり2個有する化合物二官能の化合物が挙げられる。二官能の化合物の使用がより好ましい。一官能の化合物HOm3R31n3W31h3W32j3k3E34R32......5ただし、式5中の記号は、以下の通りである。R31:炭素数1~12のアルキレン基、炭素数1~12のポリフルオロアルキレン基、または-CF2-OCF2CF2x-OCF2-で表される基xは1~6の整数。R32:炭素数1~8のアルキル基、炭素数1~8のアルコキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはシアノ基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子はフッ素原子により置換されていてもよい。E31、E32、E33、E34:各々独立に、1,4-フェニレン基、トランス-1,4-シクロヘキシレン基、またはトランス-2,6-デカヒドロナフタレニル基であり、これら基中の炭素原子に結合した水素原子はフッ素原子、塩素原子、またはメチル基により置換されていてもよい。m3:0~3の整数。n3:0~3の整数。h3,j3,k3:各々独立に0または1であり、かつ1≦h3j3k3が成り立つ。W31:エーテル基O、エステル基COO、OCOまたは単結合。W32:エーテル基O、エステル基COO、OCO、CF2O、OCF2または単結合。二官能の化合物HOm4R41n4W41h4W42j4k4E44W4304R42p4OH...6ただし、式6中の記号は、以下の通りである。R41、R42:炭素数1~12のアルキレン基、炭素数1~12のポリフルオロアルキレン基、または-CF2-OCF2CF2x-OCF2-で表される基xは1~6の整数。E41、E42、E43、E44:各々独立に、1,4-フェニレン基、トランス-1,4-シクロヘキシレン基、またはトランス-2,6-デカヒドロナフタレニル基であり、これら基中の炭素原子に結合した水素原子はフッ素原子、塩素原子、またはメチル基により置換されていてもよい。m4:0~3の整数。n4:0~3の整数。o4:0~3の整数。p4:0~3の整数。h4,j4,k4:各々独立に0または1であり、かつ1≦h4j4k4が成り立つ。W41:エーテル基O、エステル基COO、OCOまたは単結合。W42、W43:エーテル基O、エステル基COO、OCO、CF2O、OCF2または単結合。前記化合物5および6は、複数の6員環による液晶性骨格上記式5中、h3W32j3k3E34で、上記式6中、h4W42j4k4E44でそれぞれ示されるを含有する化合物であり、反応性架橋性と液晶性を併せ持つ。化合物5および6は、分子のスペーサー部上記式5中、m3R31n3で、上記式6中、m4R41n4および04R42p4でそれぞれ示されるに、アルキレン基、ポリフルオロアルキレン基、ポリフルオロアルキレンオキシド基から選ばれる少なくとも一つの基を有する。液晶性組成物中のフッ素原子を含まない成分との相溶性を低下させないために、化合物5および6において、式5中のR31および6中のR41がアルキレン基またはポリフルオロアルキレン基の場合、それらの基の炭素数は1~12とする。R31およびR41が-CF2-OCF2CF2x-OCF2-で表されるポリフルオロアルキレンオキシド基の場合、xは1~6の整数とする。レべリング性と相溶性の関連から、アルキレン基の炭素数は2~8が好ましく、ポリフルオロアルキレンオキシド基のxは1~4の整数が好ましく、ポリフルオロアルキレン基の炭素数は2~8が好ましい。また、非結晶性を示すように、アルキレン基の炭素数は2、4、6が好ましい。ポリフルオロアルキレン基の炭素数も2,4、6が特に好ましい。さらに、ポリフルオロアルキレン基の場合は、その末端炭素原子にフッ素原子が1個以上結合していることが好ましく、ペルフルオロアルキレン基であることがより好ましい。ポリフルオロアルキレン基はポリフルオロアルキレンオキシド基より液晶性が良好である。ポリフルオロアルキレン基としては、例えば以下に示す基が挙げられる。-CF22-、-CF24-、-CF26-、-CF28-、-CF210-、-CF212-、-CF2CHF-、-CF2CHFCF22-、-CF2CHFCF24-、-CF2CHFCF22CHFCF2-、-CF2CHFCF24CHF-、-CF2CH2CF2CH2CF2-、-CF2CHFCF24CHFCF2-、-CHFCF26CHF-、-CF2CHCF2CF3CF22CH2-。アルキレン基としては、例えば以下に示す基が挙げられる。-CH22-、-CH24-、-CH26-、-CH28-、-CH210-、-CH212-。化合物5および6は、R32およびR42としてアルキル基、アルコキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはシアノ基を有し、これによって化合物5および6を含む液晶性組成物の液晶性を示す温度範囲が広くなる。R32およびR42がアルキル基、またはアルコキシ基の場合、炭素数2~6が好ましく、3~5がより好ましい。R32およびR42が直鎖構造である場合には、特に化合物5および6が液晶性を示す温度範囲を広くできるので好適である。m3、m4、n3、n4、o4およびp4は、各々0~3の整数であり、1または2が好ましい。また、化合物6の製造容易性の観点から、m4とp4、n4とo4は同じ値であることが好ましい。h3、h4、j3、j4、k3、k4は、各々0または1である。ただし、h3、j3、k3の少なくとも一つは1であり、1≦h3j3k3が成り立つ。また、h4、j4、k4の少なくとも一つは1であり、1≦h4j4k4が成り立つ。W31は、エーテル基O、エステル基COO、OCOまたは単結合であり、W32は、エーテル基O、エステル基COO、OCO、CF2O、OCF2または単結合である。また、W41は、エーテル基O、エステル基COO、OCOまたは単結合であり、W42は、エーテル基O、エステル基COO、OCO、CF2O、OCF2または単結合である。さらにW43も、エーテル基O、エステル基COO、OCO、CF2O、OCF2または単結合である。化合物5の好ましい具体例として、下記化合物3A~3Jが挙げられる。HOm3R31n3OPhPhR32HOm3R31n3OPhCyPhR32HOm3R31n3OPhCyPhPhR32HOm3R31n3OCyCyR32HOm3R31n3OCOCyCyR32HOm3R31n3OCyCyCyR32HOm3R31n3OCODhnCyR32HOm3R31n3OCODhnCyCyR32HOm3R31n3ODhnCyR32HOm3R31n3OCOCyCyCyR32ただし、式3A~3J中の記号R31、R32、m3、n3は、各々式毎に独立しており、前述の規定と同じである。また、Ph、CyおよびDhnも、各々式毎に独立して前記の規定と同じであり、一分子中における複数のPh、Cyも、互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、および置換または非置換のシクロヘキシレン基を示し得るものとする。化合物6の好ましい具体例として、下記化合物4A~4Nが挙げられる。HOm4R41n4OPhPhO04R42p4OHHOm4R41n4OPhCyPhO04R42p4OHHOm4R41n4OPhCyPhPhO04R42p4OHHOm4R41n4OCyCyO04R42p4OHHOm4R41n4OCOCyCyCOO04R42p4OHHOm4R41n4OCyCyCyO04R42p4OHHOm4R41n4OCODhnCyCO004R42p4OHHOm4R41n4OCODhnCyCyCOO04R42p4OHHOm4R41n4ODhnCyO04R42p4OHHOm4R41n4OCOCyCyCyCOO04R42p4OHHOm4R41n4COOCyCyOCO04R42p4OHHOm4R41n4COODhnCyOCO04R42p4OHHOm4R41n4COODhnCyCyOCO04R42p4OHHOm4R41n4COOCyCyCyOCO04R42p4OHただし、式4A~4N中の記号R41、R42、m4、n4、o4、p4は、各々式毎に独立しており、前述の規定と同じである。また、Ph、CyおよびDhnも、各々式毎に独立して前記の規定と同じであり、一分子中における複数のPh、Cyも、互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、および置換または非置換のシクロヘキシレン基を示し得るものとする。前記一官能の化合物5の合成方法は、上記式5において、51W31がカルボニル基-CO-である場合上記好ましい化合物において、化合物3E、化合物3G、化合物3H、化合物3Jに相当と、52W31が単結合である場合上記好ましい化合物において、化合物3A~化合物3D、化合物3F、化合物3Iに相当に分けて説明できる。上記式5において、51W31がカルボニル基-CO-である場合、例えば、化合物3Eは、以下の反応式A-11で化合物01b-4を製造するのと同様にして製造できる。すなわち、まず化合物01bと3,4-ジヒドロフランとをジクロロメタン中、p-トルエンスルホン酸の存在下で反応させ、化合物01b-2を得る。次に、この化合物01b-2と、トランス-4-トランス-4-アルキルシクロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸HO-CO-Cy-Cy-CH2r1H:化合物21AA、ジシクロヘキシルカルボジイミド、および4-N,N-ジメチルアミノピリジンを、クロロホルム中で反応させて化合物01b-3を得る。さらにこの化合物を、p-トルエンスルホン酸と反応させて化合物01b-4を得る。また、化合物3G、化合物3Hおよび化合物3Jは、それぞれ、前記で用いた化合物21AAのかわりに、その-Cy-Cy-を、-Dhn-Cy-、-Dhn-Cy-Cy-、または、-Cy-Cy-Cy-とした化合物をそれぞれ用いることで製造できる。なお、前記合成方法のA-11で示した反応式において、出発物質01bのかわりに、その水酸基で挟まれた二価の基をm3R31n3m3、R31、n3は上記範囲で適宜選択とした化合物を用いることで、化合物5において、W31がカルボニル基-CO-である各種化合物を製造できる。上記式5において、52W31が単結合である場合、例えば、化合物3Aは、以下の反応式A-12で化合物1A0bを製造する際に得られる中間物質01b-6と同様にして製造できる。すなわち、まず、上記化合物01b-4の合成方法と同様にして化合物01b-2を得る。この化合物01b-2と、4ヒドロキシ-4’-シアノ-ビフェニルHO-Ph-Ph-CN:化合物13Aとを、トリフェニルホスフィン、アゾジカルボン酸ジエチルの存在下、テトラヒドロフラン中で反応させ、化合物01b-5を得る。さらにこの化合物01b-5を、上記化合物01b-4の合成方法と同様にして、上記化合物01b-6を得る。また、化合物3Cは、以下の反応式B-12で化合物1C0bbを製造する際に得られる中間物質81bと同様にして製造できる。また、化合物3B、化合物3D、化合物3Fおよび化合物3Iは、それぞれ、前記で用いた化合物13Aや化合物13Cの代わりに、その水酸基を除いた基を、-Ph-Cy-Ph-R32、-Cy-Cy-R32、-Cy-Cy-Cy-R32または、-Dhn-Cy-R32とした化合物をそれぞれ用いることで製造できる。なお、上記同様、前記合成方法のA-12で示した反応式において、出発物質01bの代わりに、または前記合成方法のB-12で示した反応式において、化合物71bの代わりに、その2個の水酸基で、または水酸基とBrで挟まれた、二価の基をm3R31n3m3、R31、n3は上記範囲で適宜選択とした化合物を用いることで、化合物5において、W31が単結合である各種化合物を製造できる。前記二官能の化合物6は、W41およびW43の結合方法によって、61W41が-CO-O-、W43が-O-CO-である場合上記好ましい化合物において、化合物4K~化合物4Nに相当、62W41が-O-CO-、W43が-CO-O-である場合上記好ましい化合物において、化合物4E、化合物4G、化合物4H、化合物4Jに相当、63W41、W43が-O-である場合上記好ましい化合物において、化合物4A~化合物4D、化合物4F、化合物4Iに相当に分類できる。前記化合物6の合成方法としては、化合物6が上記61W41:-CO-O-、W43:-O-CO-に分類される場合には、化合物4Kを例として、以下の反応式13に示す方法が挙げられる。なお、式中の記号は、前記と同じ意味を示す。また、以下の反応式14で得られた化合物4Kの1種である化合物を、化合物4K-1とする。.........反応式14まず、ビシクロヘキサン-4,4’-ジオール化合物4aと4-ペンテン酸化合物4bを、ジシクロヘキシルカルボジイミド、および4-N,N-ジメチルアミノピリジンの存在下、クロロホルム中で反応させて化合物4cを得る。さらに、化合物4cをテトラヒドロフラン中で、9-ボラビシクロ[3.3.1]ノナン9-BBNと反応させ、さらに過酸化水素の存在下、水酸化ナトリウムと反応させることで化合物4K-1を得る。上記反応において、化合物4aにかえて、その水酸基に挟まれた二価の基-Cy-Cy-を、-Dhn-Cy-、-Dhn-Cy-Cy-、または、-Cy-Cy-Cy-とした化合物をそれぞれ用いれば、化合物4L、化合物4M、または、化合物4Nに分類される化合物が合成できる。また、4-ペンテン酸H2C=CHCH22OOH:化合物4bにおける不飽和炭化水素基の炭素数をかえた不飽和カルボン酸を用いることにより、m4R41n4および04R42p4で示される二価の基の炭素数が異なる化合物6を合成できる。化合物6が上記62W41:-O-CO-、W43:-CO-O-に分類される場合には、化合物4Eを例として、以下の反応式15に示す方法が挙げられる。なお、式中の記号は、前記と同じ意味を示す。また、以下の反応式15で得られた化合物4Eの1種である化合物を、化合物4E-1とする。.........反応式15前記合成方法のA-11で示した反応式において、出発物質01bから化合物01b-2を得たのと同様の反応により、化合物4dから化合物4eを合成する。得られた化合物4eと、4,4’-ビシクロヘキシルジカルボン酸化合物4fを、ジシクロヘキシルカルボジイミド、および4-N,N-ジメチルアミノピリジンの存在下、クロロホルム中で反応させて化合物4gを得る。さらに、この化合物4gをpトルエンスルホン酸と反応させて上記化合物4E1を得る。上記反応において、化合物4fにかえて、そのカルボキシル基に挟まれた二価の基-Cy-Cy-を、-Dhn-Cy-、-Dhn-Cy-Cy-、または、-Cy-Cy-Cy-とした化合物をそれぞれ用いれば、化合物4G、化合物4H、または、化合物4Jに分類される化合物が合成できる。また、上記化合物4dHOCH26OHにおける水酸基に挟まれた二価の基を、m4R41n404R42p4で示される二価の基とすることで、スペーサー部の炭素数が異なる化合物6を合成できる。化合物6が上記63W41:-O-、W43:-O-に分類される場合には、化合物4Dを例として、以下の反応式16に示す方法が挙げられる。なお、式中の記号は、前記と同じ意味を示す。また、以下の反応式16で得られた化合物4Dの1種である化合物を、化合物4D-1とする。.........反応式16上記反応において、化合物4aにかえて、その水酸基に挟まれた二価の基-Cy-Cy-を、-Ph-Ph-、-Ph-Cy-Ph-、-Ph-Cy-Ph-Ph-、-Cy-Cy-Cy-、または、-Dhn-Cy-とした化合物をそれぞれ用いれば、化合物4A、化合物4B、化合物4C、化合物4Fまたは、化合物4Iに分類される化合物が合成できる。また、上記BrCH25OHにおける、Brと水酸基に挟まれた二価の基を、m4R41n404R42p4で示される二価の基とすることで、スペーサー部の炭素数が異なる化合物6を合成できる。本発明の液晶組成物における上記水酸基を有する液晶性低分子化合物架橋剤の配合量は、前記含フッ素液晶性高分子化合物の100質量部に対して1~30質量部が好ましく、1~20質量部がより好ましい。この液晶性低分子化合物の配合量が含フッ素液晶性高分子化合物100質量部に対して1質量部未満では、十分な配向性が得られないことがあり、30質量部を超えると、得られる光学異方性膜の耐光性が十分でないおそれがある。なお、本発明の液晶組成物における上記水酸基を有する液晶性低分子化合物の配合量を、含フッ素液晶性高分子化合物とのモル比で示すと、含フッ素液晶性高分子化合物の1モルに対して1.0~2.0モルの配合量が好ましく、1.0~1.5モルの配合量がより好ましい。≪第2の例≫第2の例は、液晶ポリマーが、式PP4で表わされるメタアクリロイル基を有しかつイソシアネート基を有する化合物を反応させることにより得られる架橋基を有する含フッ素ジエン化合物との共重合体であり、架橋剤がメタアクロイル基を有する化合物の場合である。本発明の液晶組成物においては、配向性向上のために、前記メタアクリロイル基を有する液晶ポリマーPP4とともに、メタアクリロイル基を有する架橋剤が配合される。上記の通り液晶ポリマーPP4は、側鎖に比較的嵩高い液晶骨格を有する高分子化合物であり、分子がランダムに存在する状態から一軸方向に配向させる場合、高密度の状態では液晶ポリマーPP4の分子同士が障害となって配向が促進されない傾向にある。本発明においては、低分子量の架橋剤を上記液晶ポリマーPP4と組合せて用いることで、配向の際に含フッ素液晶性高分子化合物PP4の自由度を増大し配向性を向上させ、さらに架橋剤も液晶性であることから、高分子化合物PP4とともに配向して、液晶性組成物全体として均一な一軸配向が得られるものである。また、架橋剤の有するメタアクリロイル基が液晶ポリマーPP4のメタアクリロイル基と反応して架橋を形成するので、均一に配向した状態が維持されるうえに、良好な耐光性が得られる。ここで、架橋剤とは、分子量が概ね2000以下の化合物をいうものとする。本発明に用いる上記架橋剤の分子量は、上記配向性の観点から100~2000の範囲にあることが好ましく、200~1000の範囲にあることがより好ましい。本発明に用いるメタアクリロイル基を有する架橋剤において、メタアクリロイル基は分子鎖の末端に位置することが好ましい。メタアクリロイル基の数としては、架橋剤の1分子当たり1個以上有することが好ましく、直線状の分子鎖の両末端に各1個のメタアクリロイル基を有する構造が特に好ましい。上記メタアクリロイル基を有する架橋剤としては、下記式7で表されるメタアクリロイル基を1分子当たり1個有する化合物一官能性化合物、または式8で表されるメタアクリロイル基を1分子当たり2個有する化合物二官能性化合物が挙げられる。二官能性化合物の使用がより好ましい。一官能性化合物CH2CRCOOm3R31n3W31h3W32j3k3E34R32......7ただし、式7中の記号は、以下の通りである。R:水素原子またはメチル基。R31、R32、E31、E32、E33、E34、W31およびW32は、それぞれ前記した式5における各記号と同じである。また、m3、n3、h3、j3、k3も、それぞれ前記した式5における各記号と同じである。二官能性化合物CH2CRCOOm4R41n4W41h4W42j4k4E44W4304R42p4OCOCRCH2...8ただし、式8中の記号は、以下の通りである。R:水素原子またはメチル基。R41、R42、E41、E42、E43、E44、W41、W42およびW43は、それぞれ前記した式6における各記号と同じである。また、m4、n4、o4、p4、h4,j4,k4も、それぞれ前記した式6における各記号と同じである。前記化合物7および8は、複数の6員環による液晶性骨格を含有する化合物であり、反応性架橋性と液晶性を併せ持つ。化合物7および8は、分子のスペーサー部に、アルキレン基、ポリフルオロアルキレン基、ポリフルオロアルキレンオキシド基から選ばれる少なくとも一つの基を有する。液晶組成物中のフッ素原子を含まない成分との相溶性を低下させないために、化合物7および8において、式7中のR31および8中のR41がアルキレン基またはポリフルオロアルキレン基の場合、それらの基の炭素数は1~12とする。R31およびR41が-CF2-OCF2CF2x-OCF2-で表されるポリフルオロアルキレンオキシド基の場合、xは1~6の整数とする。レべリング性と相溶性の関連から、アルキレン基の炭素数は2~8が好ましく、ポリフルオロアルキレンオキシド基のxは1~4の整数が好ましく、ポリフルオロアルキレン基の炭素数は2~8が好ましい。また、非結晶性を示すように、アルキレン基の炭素数は2、4、6が好ましい。ポリフルオロアルキレン基の炭素数も2,4、6が特に好ましい。さらに、ポリフルオロアルキレン基の場合は、その末端炭素原子にフッ素原子が1個以上結合していることが好ましく、ペルフルオロアルキレン基であることがより好ましい。ポリフルオロアルキレン基はポリフルオロアルキレンオキシド基より液晶性が良好である。ポリフルオロアルキレン基としては、例えば以下に示す基が挙げられる。-2-、-4-、-6-、-8-、-10-、-12-、-CF2CHF-、-CF2CHF2-、-CF2CHF4-、-CF2CHF2CHFCF2-、-CF2CHF4CHF-、-CF2CH2CH2CF2-、-CF2CHF4CHFCF2-、-CHF6CHF-、-CF2CH2CH2-。アルキレン基としては、例えば以下に示す基が挙げられる。-2-、-4-、-6-、-8-、-10-、-12-。化合物7および8は、R32およびR42としてアルキル基、アルコキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはシアノ基を有し、これによって化合物7および8を含む液晶組成物の液晶性を示す温度範囲が広くなる。R32およびR42がアルキル基、またはアルコキシ基の場合、炭素数2~6が好ましく、3~5がより好ましい。R32およびR42が直鎖構造である場合には、特に化合物7および8が液晶性を示す温度範囲を広くできるので好適である。m3、m4、n3、n4、o4およびp4は、各々0~3の整数であり、1または2が好ましい。また、化合物8の製造容易性の観点から、m4とp4、n4とo4は同じ値であることが好ましい。h3、h4、j3、j4、k3、k4は、各々0または1である。ただし、h3、j3、k3の少なくとも一つは1であり、1≦h3j3k3が成り立つ。また、h4、j4、k4の少なくとも一つは1であり、1≦h4j4k4が成り立つ。W31は、エーテル基O、エステル基COO、OCOまたは単結合であり、W32は、エーテル基O、エステル基COO、OCO、CF2O、OCF2または単結合である。また、W41は、エーテル基O、エステル基COO、OCOまたは単結合であり、W42は、エーテル基O、エステル基COO、OCO、CF2O、OCF2または単結合である。さらにW43も、エーテル基O、エステル基COO、OCO、CF2O、OCF2または単結合である。化合物7の好ましい具体例として、下記化合物7A~7Jが挙げられる。CH2CRCOOm3R31n3OPhPhR32CH2CRCOOm3R31n3OPhCyPhR32CH2CRCOOm3R31n3OPhCyPhPhR32CH2CRCOOm3R31n3OCyCyR32CH2CRCOOm3R31n3OCOCyCyR32CH2CRCOOm3R31n3OCyCyCyR32CH2CRCOOm3R31n3OCODhnCyR32CH2CRCOOm3R31n3OCODhnCyCyR32CH2CRCOOm3R31n3ODhnCyR32CH2CRCOOm3R31n3OCOCyCyCyR32ただし、式7A~7J中の記号R、R31、R32、m3、n3は、各々式毎に独立しており、前述の規定と同じである。また、Ph、CyおよびDhnも、各々式毎に独立して前記の規定と同じである。1分子中における複数のPh、Cyも、互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、および置換または非置換のシクロヘキシレン基を示し得るものとする。化合物8の好ましい具体例として、下記化合物8A~8Nが挙げられる。CH2CRCOOm4R41n4OPhPhO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4OPhCyPhO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4OPhCyPhPhO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4OCyCyO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4OCOCyCyCOO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4OCyCyCyO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4OCODhnCyCO004R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4OCODhnCyCyCOO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4ODhnCyO04R42p4OCOCHCH2CH2CRCOOm4R41n4OCOCyCyCyCOO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4COOCyCyOCO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4COODhnCyOCO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4COODhnCyCyOCO04R42p4OCOCRCH2CH2CRCOOm4R41n4COOCyCyCyOCO04R42p4OCOCRCH2ただし、式8A~8N中の記号R、R41、R42、m4、n4、o4、p4は、各々式毎に独立しており、前述の規定と同じである。また、Ph、CyおよびDhnも、各々式毎に独立して前記の規定と同じであり、1分子中における複数のPh、Cyも、互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、および置換または非置換のシクロヘキシレン基を示し得るものとする。前記一官能性化合物7の合成方法は、上記式7において、71W31がカルボニル基-CO-である場合上記好ましい化合物において、化合物7E、化合物7G、化合物7H、化合物7Jに相当と、72W31が単結合である場合上記好ましい化合物において、化合物7A~化合物7D、化合物7F、化合物7Iに相当に分けて説明できる。上記式7において、71W31がカルボニル基-CO-である場合、例えば、化合物7Eは、前記した反応式A-11において、化合物01b-4を得るのと同様にして水酸基含有化合物を製造した後、得られた化合物に、カルボン酸基を含み主骨格にメソゲンを有する化合物を反応させて、末端の水酸基をメタアクロイルオキシ基に変換することにより製造できる。なお、メソゲンとは、棒状または板状の分子鎖シクロ環、芳香環を含む。のような剛性の分子鎖部分をいう。また、化合物7G、化合物7Hおよび化合物7Jは、それぞれ、前記で用いた化合物21AAのかわりに、その-Cy-Cy-を、-Dhn-Cy-、-Dhn-Cy-Cy-、または、-Cy-Cy-Cy-とした化合物をそれぞれ用いることで製造できる。なお、前記反応式A-11において、出発物質01bのかわりに、その水酸基で挟まれた二価の基をm3R31n3m3、R31、n3は上記範囲で適宜選択とした化合物を用いることで、化合物7において、W31がカルボニル基-CO-である各種化合物を製造できる。上記式7において、72W31が単結合である場合、例えば、化合物7Aは、前記反応式A-12において、1A0bを製造する際の中間物質01b-6と同様にして水酸基含有化合物を製造した後、得られた化合物にアルコールを含むメソゲンを反応させて、末端の水酸基をメタアクロイルオキシ基に変換することにより製造できる。あるいは、化合物7Cは、前記反応式B-12において化合物81bを得るのと同様にして水酸基含有化合物を製造した後、得られた化合物にハロゲンを含むメソゲンを反応させて、末端の水酸基をメタアクロイルオキシ基に変換することにより製造できる。化合物7B、化合物7D、化合物7Fおよび化合物7Iは、それぞれ、前記で用いた化合物13Aや化合物13Cのかわりに、その水酸基を除いた基を、-Ph-Cy-Ph-R32、-Cy-Cy-R32、-Cy-Cy-Cy-R32または、-Dhn-Cy-R32とした化合物をそれぞれ用いることで製造できる。なお、上記同様、前記反応式A-12において、出発物質01bのかわりに、または前記反応式B-12において、化合物71bのかわりに、その2個の水酸基で、または水酸基とBrで挟まれた二価の基を、m3R31n3m3、R31、n3は上記範囲で適宜選択とした化合物を用いることで、化合物7において、W31が単結合である各種化合物を製造できる。前記二官能性化合物8は、W41およびW43の結合方法によって、81W41が-CO-O-、W43が-O-CO-である場合上記好ましい化合物において、化合物8K~化合物8Nに相当、82W41が-O-CO-、W43が-CO-O-である場合上記好ましい化合物において、化合物8E、化合物8G、化合物8H、化合物8Jに相当、83W41、W43が-O-である場合上記好ましい化合物において、化合物8A~化合物8D、化合物8F、化合物8Iに相当に分類できる。前記化合物8の合成方法としては、化合物8が上記81W41:-CO-O-、W43:-O-CO-に分類される場合には、化合物8Lを例として、以下の反応式に示す方法が挙げられる。なお、式中の記号は、前記と同じ意味を示す。また、以下の反応式で得られた化合物8Lの1種である化合物を、化合物8L-1とする。6-4-ヒドロキシシクロヘキシルデカヒドロナフタレン-2-オール4Laと3-アクリロイルオキシブタン酸を、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジメチルアミノピリジンの存在下、ジクロロメタン中で反応させて、化合物8L-1を得る。化合物8K、化合物8M、および化合物8Nは、それぞれ前記で用いた化合物4Laの代わり、その2つの水酸基で挟まれた基を、-Cy-Cy-、-Dhn-Cy-Cy-、または-Cy-Cy-Cy-とした化合物をそれぞれ用いることで製造できる。化合物8が上記82W41:-O-CO-、W43:-CO-O-に分類される場合には、化合物8Eの1種である化合物8E-1を例として製造方法を説明すると、前記反応式15に示す方法により水酸基含有化合物4E-1を製造する。すなわち、前記反応式A-11において、出発物質01bから化合物01b-2を得たのと同様の反応により、化合物4dから化合物4eを合成する。得られた化合物4eと、4,4’-ビシクロヘキシルジカルボン酸化合物4fを、ジシクロヘキシルカルボジイミド、および4-N,N-ジメチルアミノピリジンの存在下、クロロホルム中で反応させて化合物4gを得る。さらに、この化合物4gをpトルエンスルホン酸と反応させて上記化合物4E1を得る。次いで、水酸基含有化合物4E-1にメタアクロイル酸クロライドを反応させて、末端の水酸基をメタアクロイルオキシ基に変換することにより化合物8E-1を製造できる。上記反応において、化合物4fにかえて、そのカルボキシル基に挟まれた二価の基-Cy-Cy-を、-Dhn-Cy-、-Dhn-Cy-Cy-、または、-Cy-Cy-Cy-とした化合物をそれぞれ用いれば、化合物8G、化合物8H、または、化合物8Jに分類される化合物が合成できる。また、上記化合物4dHOCH26OHにおける水酸基に挟まれた二価の基を、m4R41n404R42p4で示される二価の基とすることで、スペーサー部の炭素数が異なる化合物8を合成できる。化合物8が上記83W41:-O-、W43:-O-に分類される場合には、化合物8Dの1種である化合物8D-1を例として製造方法を説明すると、まず前記反応式16に示す方法により水酸基含有化合物4D-1を製造する。次いで、水酸基含有化合物4D-1にメタアクロイル酸クロライドを反応させて、末端の水酸基をメタアクロイルオキシ基に変換することにより化合物8D-1を製造できる。上記反応において、化合物4aにかえて、その水酸基に挟まれた二価の基-Cy-Cy-を、-Ph-Ph-、-Ph-Cy-Ph-、-Ph-Cy-Ph-Ph-、-Cy-Cy-Cy-、または、-Dhn-Cy-とした化合物をそれぞれ用いれば、化合物8A、化合物8B、化合物8C、化合物8Fまたは、化合物8Iに分類される化合物が合成できる。また、上記BrCH25OHにおける、Brと水酸基に挟まれた二価の基を、m4R41n404R42p4で示される二価の基とすることで、スペーサー部の炭素数が異なる化合物8を合成できる。本発明の液晶組成物における上記メタアクリロイル基を有する架橋剤液晶性低分子化合物の配合量は、前記含フッ素液晶性高分子化合物の100質量部に対して1~30質量部が好ましく、1~20質量部がより好ましい。この液晶性低分子化合物の配合量が含フッ素液晶性高分子化合物100質量部に対して1質量部未満では、十分な配向性が得られないことがあり、30質量部を超えると、得られる光学異方性膜の耐光性が十分でないおそれがある。なお、本発明の液晶組成物における上記メタアクリロイル基を有する液晶性低分子化合物の配合量を、含フッ素液晶性高分子化合物とのモル比で示すと、含フッ素液晶性高分子化合物の1モルに対して1.0~2.0モルの配合量が好ましく、1.0~1.5モルの配合量がより好ましい。他の成分として、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等を使用する場合、これらの成分の含有量は、重合性液晶組成物の全量に対して5質量以下が好ましく、2質量以下が特に好ましい。その場合、重合性液晶化合物の含有量の合計は、重合性液晶組成物の全量に対して95~100質量が好ましく、98~100質量が特に好ましい。なお、本発明の重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物による重合反応としては、光重合反応および熱重合反応等が挙げられ、光重合反応が好ましい。光重合反応に用いる光としては、紫外線または可視光線が好ましい。光重合反応を行う場合は光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾイン類、ベンジル類、ミヒラーケトン類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、およびチオキサントン類等から適宜選択され、1種または2種以上を使用できる。光重合開始剤の含有量は、重合性液晶組成物の全量に対して0.1~5質量が好ましく、0.3~2質量が特に好ましい。<光学異方性材料>本発明の光学異方性材料は、本発明の重合性液晶組成物を、この重合性液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合反応を行わせることによって得ることができる。重合性液晶組成物が液晶相を示す状態に保つためには、雰囲気温度をネマチック相-等方相の相転移温度Tc、以下透明点ともいう。以下にすればよいが、Tcに近い温度では重合性液晶組成物のΔn値が極めて小さいので、雰囲気温度はTc-10°C以下とすることが好ましい。また、本発明の光学異方性材料は、本発明の含フッ素ジエン化合物1を、重合開始源の下で単独重合させるか、あるいは共重合可能な他のモノマーと共重合させることによって得られる前記した環化重合体液晶ポリマーを、配向した状態で含有することができる。このような光学異方性材料においては、前記液晶ポリマーとともに他の成分を混合することが好ましい。他の成分としては、架橋剤、酸化防止剤、光安定剤等が挙げられる。架橋剤は、架橋基を有する重合性液晶化合物の架橋基と、反応可能な官能基を有する化合物であれば、特に限定されない。このような化合物としては、2官能以上のイソシアナート、アミン、グリシジル、アルコキシシラン化合物等が挙げられる。架橋剤の含有量は、例えば、液晶ポリマーの全量に対して1~20質量が好ましく、2~10質量がより好ましい。他の成分として、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等を使用する場合、これらの成分は液晶ポリマーに対して5質量以下が好ましく、2質量以下が特に好ましい。また、前記重合性液晶組成物に架橋剤、酸化防止剤、光安定剤等を配合して重合させ、光学異方性材料を得ることもできる。架橋剤は、架橋基を有する重合性液晶化合物の架橋基と、反応可能な官能基を有する化合物であれば、特に限定されない。このような化合物としては、2官能以上のイソシアナート、アミン、グリシジル、アルコキシシラン化合物等が挙げられる。架橋剤の含有量は、例えば、重合性液晶組成物の全量に対して1~20質量が好ましく、2~10質量がより好ましい。<光学素子光学異方性膜>本発明の光学素子は、前記重合性液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合反応を行い、一軸に配向した光学異方性膜を得ることで形成される。本発明の重合性液晶組成物から光学異方性膜を形成するには、以下の~に示す一般的な製膜方法を使用できる。セルに注入する方法重合性液晶組成物を、その透明点Tc以上の温度に加熱してセルの注入口から注入する。Tc以上に加熱すると重合性液晶組成物の粘度が低下し、注入時間が短くなる。また、Tc以下で注入すると注入むらが生じるため、Tc以上での注入が好ましい。また、重合性液晶組成物が重合しないように、重合性液晶組成物は重合禁止剤を含有することが好ましい。光学異方性膜の膜厚は、セル厚により制御される。注入後、重合性液晶組成物の配向が可能な温度、例えばTc-10°C程度の温度で1~10分間程度アニールすると、液晶の配向度が高くなる。その後、光重合や熱重合により重合性液晶組成物を重合させて、光学異方性膜を得る。溶融キャスト法重合性液晶組成物を、その透明点Tc以上の温度に加熱され配向処理が施された基板の上に配置する。その後、基板ギャップを一定にするために、シリカスペーサーを液晶組成物上に置く。さらにその上に、配向処理が施された別の基板を載せ、この基板がシリカスペーサーに当接するまでプレスする。こうして形成される光学異方性膜の膜厚は、シリカスペーサーの直径により制御することができる。重合性液晶組成物の配向が可能な温度、例えばTc-10°C程度の温度で1~10分程度アニールすると、液晶の配向度が高くなる。その後、光重合や熱重合により重合性液晶組成物を重合させて、光学異方性膜を得る。溶液キャスト法重合性液晶組成物を溶解可能な有機溶媒に5~40質量の濃度になるように溶解させ、この溶液を、配向処理が施された基板上にスピンコーティングによって塗布する。製膜後、比較的低い温度でゆっくりと有機溶媒を揮発させる。その後、重合性液晶組成物の配向変化が可能な温度、例えばTc-10°C程度の温度で1~10分間程度アニールすると、液晶の配向度が高くなる。次いで、光重合や熱重合により重合性液晶組成物を重合させて、光学異方性膜を得る。重合性液晶組成物の溶液の濃度やスピンコートの回転数によって、膜厚を制御できるが、この方法では、前記セル注入法および溶融キャスト法よりも膜厚のむらが生じやすい。溶融キャスト法および溶液キャスト法においては、例えば、綿、羊毛、ナイロン、ポリエステル等の繊維等でラビング処理した基板;表面に有機薄膜を形成して布等でラビング処理した基板;SiO2を斜方蒸着した配向膜を有する基板等を使用できる。また、セル注入法では、このような基板から形成されたセルが用いられる。このように配向処理が施された基板の上に重合性液晶組成物を配置することによって、基板上の重合性液晶組成物は配向した状態になる。基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していてもよい。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わず使用できる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレン/テトラフルオロエチレンコポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられる。また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。綿、羊毛、ナイロン、ポリエステル等の繊維等で基板をラビングすることによっては適当な配向性を得られない場合には、公知の方法に従ってポリイミド薄膜またはポリビニルアルコール薄膜等の有機薄膜を基板表面に形成し、これを布等でラビングするとよい。重合性液晶組成物の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることも有効である。ポリイミド薄膜等の中間層は、重合性液晶組成物と基板との密着性が良くない場合に、密着性を向上させる手段としても有効である。溶液キャスト法において、本発明の重合性液晶組成物の溶液を基板上に塗布する方法としては、前述のスピンコーティングの他に、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。また有機溶媒としては、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘキサン、メタノール、エタノール、ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、セロソルブ類を挙げることができる。これらは単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよく、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すればよい。また、有機溶媒の添加量は90質量以下が好ましい。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を使用できる。本発明の光学素子は、本発明の含フッ素ジエン化合物1を重合開始源の下で単独重合または共重合可能な他のモノマーと共重合させることによって得られた含フッ素液晶ポリマーを、一軸に配向させて得られる。具体的には、前記液晶ポリマーを、配向処理が施された基板に塗布して加熱処理し配向させることによって、基板に支持された光学異方性膜が得られ、この光学異方性膜をそのまま光学素子として使用できる。液晶ポリマーから光学異方性膜を形成する方法としては、以下の~に示す一般的な製膜方法を使用できる。セルに注入する方法液晶ポリマーを、その透明点Tc以上の温度に加熱してセルの注入口から注入する。Tc以上に加熱すると液晶ポリマーの粘度が低下し、注入時間が短くなる。また、Tc以下で注入すると注入むらが生じるため、Tc以上での注入が好ましい。液晶ポリマーが酸化されないように、窒素フロー下で注入を行うことが好ましい。液晶ポリマーが酸化されると、着色が生じたり、耐光性が悪くなることがある。光学異方性膜の膜厚は、セル厚により制御される。注入後、液晶ポリマーの配向変化が可能な温度、例えばTc-10°C程度の温度で1~10分間程度アニールすると、液晶の配向度が高くなる。その後、室温まで徐冷して液晶ポリマーの配向した液晶セルを得ることができる。この配向した液晶ポリマーが光学異方性膜となる。溶融キャスト法液晶ポリマーを、その透明点Tc以上の温度に加熱され配向処理が施された基板の上に配置する。液晶ポリマー中の残存溶媒等に由来する泡などを取り除いた後、基板ギャップを一定にするために、シリカスペーサーを液晶ポリマー上に置く。さらにその上に、配向処理が施された別の基板を載せ、この基板がシリカスペーサーに当接するまでプレスする。こうして形成される光学異方性膜の膜厚は、シリカスペーサーの直径により制御することができる。液晶ポリマーの配向変化が可能な温度、例えばTc-10°C程度の温度で1~10分程度アニールすると、液晶の配向度が高くなる。その後、室温まで徐冷して、液晶ポリマーの配向した光学異方性膜を得ることができる。溶液キャスト法液晶ポリマーを溶解可能な有機溶媒に5~40質量の濃度になるように溶解させ、この溶液を、配向処理が施された基板上にスピンコーティングによって塗布する。製膜後、比較的低い温度でゆっくりと有機溶媒を揮発させる。その後、液晶ポリマーの配向変化が可能な温度、例えばTc-10°C程度の温度で1~10分間程度アニールすると、液晶の配向度が高くなる。次いで、室温まで徐冷して、配向した液晶ポリマー層である光学異方性膜を得る。液晶ポリマーの溶液の濃度やスピンコートの回転数によって、膜厚を制御することができる。この方法では、前記セル注入法や溶融キャスト法よりも膜厚のむらが生じやすい。溶融キャスト法および溶液キャスト法において、配向処理が施された基板としては、前記した重合性液晶組成物から光学異方性膜を形成する方法で記載したものと同様な基板を使用できる。また溶液キャスト法において、液晶ポリマーの溶液を基板上に塗布する方法としては、上記スピンコーティングに代えて、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を採ることができる。有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム等を使用できる。これらの有機溶媒は、単独でも2種以上を組み合わせて用いてもよく、その蒸気圧と液晶ポリマーの溶解性とを考慮して適宜選択すればよい。有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を使用できる。<架橋反応>本発明の含フッ素ジエン化合物1を単独重合または共重合させて得られた含フッ素液晶ポリマーは、架橋により高い耐光性を発現することができる。液晶ポリマー中に含まれる架橋に関与する基としては、ヒドロキシル基、エポキシ基、オキセタン基、エステル基、カルボニル基、不飽和結合メタアクロイル基等が挙げられる。液晶ポリマーがこれらの基の少なくとも1種を含むことが好ましく、ヒドロキシル基、不飽和結合メタアクロイル基を含むことがより好ましい。架橋反応は熱反応でも光反応でもよいが、ヒドロキシル基を含む場合は、多官能イソシアナート化合物との熱反応が用いられる。この場合、反応を促進するために、DBTDLジラウリルジブチルスズ等の触媒を用いてもよい。また、不飽和結合としてはアクリル基が好ましく、アクリル基同士の光重合を用いることがより好ましい。アクリル基同士の光重合においては、反応を促進するために、イルガキュア184商品名;チバスペシャリティーケミカル社製等の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。以下、本発明の実施例について記載するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、数平均分子量Mnおよび分子量分布重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnは、テトラヒドロフランTHFを溶媒とするGPC装置HLC8220、東ソー社製を用いて測定した。また、共重合組成比は、重クロロホルムを溶媒とし、1H-NMRAL300、日本電子社製を用いて測定した。さらに、ネマチック相-等方相の相転移温度Tcは、示差走査熱容量計DSC8000、パーキンエルマー社製を用いて測定した。さらに、水平配向性は、リタデーション測定装置RETS-100、大塚電子社製を使用し、リタデーションの入射角依存性を測定することにより確認した。≪液晶ポリマーの合成≫合成例1[含フッ素ジエン化合物1MOx0の合成]還流装置、撹拌機を装備した2Lの4つ口フラスコに、WO2002/065212公報に記載された方法で合成された下記式2で表される化合物35gと、前記式Gr3で表される化合物2R,4aR,6S,8aS-6-1r,4R-4-プロピルシクロヘキシルデカヒドロナフタレン-2-カルボン酸60g、THF1000mL、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩36g、およびジメチルアミノピリジン2.4gを加え、室温で17時間撹拌して反応させた。反応終了後、水およびジエチルエーテルを加えて分液し、有機層を回収した。回収された有機層を、飽和塩化ナトリウム水溶液400mLで洗浄した後水洗し、再び有機層を回収した。次いで、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧ろ過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。ろ液を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶に、酢酸エチルとヘキサンとの混合溶媒を加えてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、下記式1MOx0で表される化合物77gを得た。収率は84質量であった。合成例2[液晶ポリマーaの合成]還流装置、撹拌機、窒素導入装置を装備した1Lの4つ口フラスコに窒素を導入した後、WO2002/065212公報に記載された方法で合成された上記式2で表される化合物2gと、合成例1で得られた含フッ素ジエン化合物1MOx050g、トルエン500mL、熱重合開始剤であるV601和光純薬社製0.05gを加え、窒素下70°Cで36時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液をメタノール2Lに注ぎ込み、得られた白色の沈殿物を減圧ろ過によって回収し、液晶ポリマーaを得た。得られた液晶ポリマーaの収率、数平均分子量Mn、分子量分布Mw/Mn、共重合組成比、および相転移温度Tcを表1に示す。なお、表1において、収率は質量で表したものである。また、共重合組成比は、化合物2に由来するモノマー単位と化合物1MOx0に由来するモノマー単位とのモル比を示す。合成例3[液晶ポリマーbの合成]化合物2および化合物1MOx0の仕込み量を表1に示す値に変更した以外は合成例2と同様にして、液晶ポリマーbを得た。得られた液晶ポリマーbの収率、数平均分子量Mn、分子量分布Mw/Mn、共重合組成比、および相転移温度Tcを表1に示す。合成例4[液晶ポリマーcの合成]化合物2および化合物1MOx0の仕込み量を表1に示す値に変更した以外は合成例2と同様にして、液晶ポリマーcを得た。得られた液晶ポリマーcの収率、数平均分子量Mn、分子量分布Mw/Mn、共重合組成比、および相転移温度Tcを表1に示す。合成例5[液晶ポリマーdの合成]反応溶媒であるトルエンをジオキサンに変更した以外は合成例2と同様にして、液晶ポリマーdを得た。得られた液晶ポリマーdの収率、数平均分子量Mn、分子量分布Mw/Mn、共重合組成比、および相転移温度Tcを表1に示す。合成例6[含フッ素液晶性高分子化合物P2の合成]合成例1で得られた含フッ素ジエン化合物1MOx0および上記式2で示される含フッ素ジエン化合物を原料単量体として以下の方法で重合を行い、水酸基を有する含フッ素液晶性高分子化合物P2を製造した。すなわち、20mlの試験管に窒素を導入した後、WO2002/065212公報に記載された方法で合成された上記式2で表される化合物41mgと、合成例1で得られた含フッ素ジエン化合物1MOx0959mg、ジオキサン1250mg、熱重合開始剤であるV40和光純薬社製50mgを加え、窒素下80°Cで72時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液をメタノール50mlに注ぎ込み、得られた白色の沈殿物を遠心分離により回収し、水酸基を有する含フッ素液晶性高分子化合物P2を得た。得られた含フッ素液晶性高分子化合物P2の収率は64質量、数平均分子量Mnは6000、分子量分布Mw/Mnは1.64、および相転移温度Tcは138°Cであった。共重合組成比1MOx0/化合物2は、87/13モル比であった。なお、原料単量体の仕込み量比は、1MOx0/化合物2で90/10モル比であった。得られた含フッ素液晶性高分子化合物P2の平均組成の構造を、原料単量体の組成比で以下に示す。合成例7[含フッ素液晶性高分子化合物P4の合成]環流装置、撹拌装置を備えた50mlのフラスコに窒素を導入した後、合成例6で得られた液晶性共重合体含フッ素液晶性高分子化合物P2を1000mg、1,1-ビスアクリロイルオキシメチルエチルイソシアナート商品名カレンズBEI、昭和電工社製110mg、DBTDL20mg、およびジクロロメタン20gを加え、室温で24時間撹拌した。反応液を3gになるまで濃縮した後50mlのメタノール中に注ぎ込み、得られた白色沈澱を、遠心分離により回収し、室温で8時間減圧乾燥した。こうして、原料単量体の組成比が以下の式P4で表される、側鎖にアクリロイル基を有する液晶性共重合体含フッ素液晶性高分子化合物を980mg収率88得た。共重合体P2中の水酸基の反応率は100であり、得られた液晶性共重合体P4の数平均分子量Mnは3900、分子量分布Mw/Mnは1.68であった。また、Tgは85°C、Tcは127°Cであった。≪架橋剤の合成≫合成例8[架橋性化合物9の合成]還流装置、撹拌機を装備した1Lの4つ口フラスコに、4,4 ́-ヒドロキシル-ビシクロヘキシル50g、3-アクリロイルオキシプロピオン酸75g、ジシクロヘキシルカルボジイミド40g、ジメチルアミノピリジン4.2g、およびジクロロメタン500mlを加え、室温で20時間撹拌して反応させた。反応終了後、水およびジエチルエーテルを加えて分液し、有機層を回収した。回収された有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液400mLで洗浄した後水洗し、再び有機層を回収した。次いで、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧ろ過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。ろ液を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶に酢酸エチルとヘキサンとの混合溶媒を加えてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、式9で表される化合物78gを得た。収率は63質量であった。.........9合成例9[アクリロイル基含有液晶性低分子化合物8の合成]還流装置、撹拌機を装備した1Lの4つ口フラスコに、6-4-ヒドロキシシクロヘキシルデカヒドロナフタレン-2-オールを50g、3-アクリロイルオキシブタン酸75g、ジシクロヘキシルカルボジイミド40g、ジメチルアミノピリジン4.2g、およびジクロロメタン500mlを加え、室温で20時間撹拌して反応させた。反応終了後、水およびジエチルエーテルを加えて分液し、有機層を回収した。回収された有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液400mLで洗浄した後水洗し、再び有機層を回収した。次いで、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧ろ過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。ろ液を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶に酢酸エチルとヘキサンとの混合溶媒を加えてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、式8L-1で表される分子量532.3の化合物78gを得た。収率は63質量であった。合成例10[液晶性低分子化合物4L-1の合成]二官能水酸基の液晶性低分子化合物6に分類される液晶性低分子化合物4Lにおいて、スペーサー部がブチレン基の化合物以下の構造式4L-1に示されるを下記反応式に示す通り製造した。還流装置、撹拌機を装備した1Lの4つ口フラスコに、6-4-ヒドロキシシクロヘキシルデカヒドロナフタレン-2-オール6decahydronaphthalen2ol式中4hで示されるを2.0g、4-ペンテン酸を1.9g、ジメチルアミノピリジンを0.08g投入し、これにジクロロメタン100mlを加え0°Cに冷却した。ここに、ジシクロヘキシルカルボジイミド3.92gをジクロロメタン100mlに溶解した溶液を5分間かけて滴下し、室温にて24時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液をろ過し、水および酢酸エチルを加えて分液し、有機層を回収した。回収された有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液400mLで洗浄した後水洗し、再び有機層を回収した。次いで、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧ろ過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。ろ液を濃縮することによって粉末を得た。この粉末に酢酸エチルとヘキサンとの混合溶媒1:4を加えてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、上記反応式中4iで表される化合物6cyclohexyldecahydronaphthalen2ylpent4enoate3gを得た。収率は91質量であった。還流装置、撹拌機を装備した1Lの4つ口フラスコに、上記で得られた化合物4i6cyclohexyldecahydronaphthalen2ylpent4enoateの2.85gをテトラヒドロフラン30mlに溶かし0°Cに冷却し、0.5Mで9-BBNを含むTHF溶液30mlを15分かけて滴下し、室温にて2時間撹拌した。この反応液を再び0°Cに冷却し3Mの水酸化ナトリウム水溶液を5mlと30の過酸化水素水5mlを順次滴下し、室温で2時間撹拌した。反応終了後、飽和塩化ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加えて分液し、有機層を回収した。さらに有機層を塩化アンモニウム水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄する。次いで、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧ろ過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。ろ液を濃縮することによって粉末を得た。この粉末に酢酸エチルとメタノールとの混合溶媒50:1を加えてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、反応式中4L-1で表される両末端に水酸基を1個ずつ有する、分子量452.3の液晶性低分子化合物2.24gを得た。収率は72質量であった。合成例11[液晶性低分子化合物3G-1の合成]一官能水酸基の液晶性低分子化合物5に分類される液晶性低分子化合物3Gにおいて、スペーサー部がヘキセン基、R32がプロピル基の化合物以下の構造式3G-1に示されるを下記反応式に示す通り製造した。還流装置、撹拌機を装備した1Lの4つ口フラスコに、5pentan1ol式中3aで示されるを10g、6decahydronaphthalene2carboxylicacidを15g、ジメチルアミノピリジン0.2gにテトラヒドロフラン300mlを加え0°Cに冷やし、ジシクロヘキシルカルボジイミド21gにテトラヒドロフラン100ml溶液を10分間かけて滴下し、室温にて18時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液をろ過し、水およびトルエンを加えて分液し、有機層を回収した。回収された有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液400mLで洗浄した後水洗し、再び有機層を回収した。次いで、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧ろ過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。ろ液を濃縮することによって液体を得た。この液体に酢酸エチルとヘキサンとの混合溶媒1:10を加えてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、上記反応式中3bで表される化合物6hexyl6decahydronaphthalene2carboxylate5gを得た。収率は19質量であった。還流装置、撹拌機を装備した1Lの4つ口フラスコに、上記で得られた化合物3b6hexyl6decahydronaphthalene2carboxylateの4.8gをパラトルエンスルホン酸1水和物0.17gにテトラヒドロフラン50mlとメタノール50mlを加え24時間撹拌した。反応終了後、濃縮し、水および酢酸エチルを加えて分液し、有機層を回収した。回収された有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液400mLで洗浄した後水洗し、再び有機層を回収した。次いで、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧ろ過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。ろ液を濃縮することによって粉末を得た。この粉末を酢酸エチルとヘキサンとの混合溶媒にて再結晶し、反応式中3G-1で表される片末端に水酸基を1個有する、分子量406.3の液晶性低分子化合物3.3gを得た。収率は83質量であった。合成例12[液晶性低分子化合物4K-1の合成]二官能水酸基の液晶性低分子化合物6に分類される液晶性低分子化合物4Kにおいて、スペーサー部がブチレン基の化合物前記構造式4K-1に示されるを、前記反応式14に示す通り製造した。すなわち、還流装置、撹拌機を装備した1Lの4つ口フラスコに、ビシクロヘキサン-4,4-ジオールbi44diolを10g、4-ペンテン酸12g、ジメチルアミノピリジン0.49gにジクロロメタン200mlを加え0°Cに冷やし、ジシクロヘキシルカルボジイミド24.8gにジクロロメタン300ml溶液を15分間かけて滴下し、室温にて24時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液をろ過し、水およびを加えて分液し、有機層を回収した。回収された有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液400mLで洗浄した後水洗し、再び有機層を回収した。次いで、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧ろ過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。ろ液を濃縮することによって粉末を得た。この粉末に酢酸エチルとヘキサンとの混合溶媒1:4を加えてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、上記反応式中4cで表される化合物bi44diyldipent4enoate15gを得た。収率は83質量であった。次いで、還流装置、撹拌機を装備した1Lの4つ口フラスコに、上記で得られた化合物4cbi44diyldipent4enoateの1.0gをテトラヒドロフラン10mlに溶かし0°Cに冷却した。0.5Mで9-BBNを含むTHF溶液12mlを5分かけて滴下し、室温にて2時間撹拌した。この反応液を再び0°Cに冷却し3Mの水酸化ナトリウム水溶液を2mlと30の過酸化水素水2mlを順次滴下し、室温で2時間撹拌した。反応終了後、飽和塩化ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加えて分液し、有機層を回収した。さらに有機層を塩化アンモニウム水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄する。次いで、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧ろ過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。ろ液を濃縮することによって粉末を得た。この粉末に酢酸エチルとメタノールとの混合溶媒50:1を加えてシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、反応式中4K-1で表される両末端に水酸基を1個ずつ有する、分子量404.3の液晶性低分子化合物0.3gを得た。収率は29質量であった。実施例1[液晶組成物A1の調製]化合物2、合成例1で得られた含フッ素ジエン化合物1MOx0、および合成例8で得られた架橋性化合物9を、1:9:0.5のモル比で混合して、液晶組成物A0を得た。得られた液晶組成物A0は、80°Cでネマチック相を示した。また、ネマチック相から等方相への相転移温度Tcは135°Cであった。次に、この液晶組成物A0に、光重合開始剤であるイルガキュア754チバスペシャリティーケミカルズ社製を液晶組成物A0に対して0.5質量の割合で添加し、重合性液晶組成物A1を得た。実施例2[液晶組成物B1の調製]合成例2で得られた液晶ポリマーaを5gと、多官能イソシアナート商品名:デスモジュールN3300;バイエル社製0、4g、およびDBTDL0.05gをTHF200mlに溶解し、エバポレーターにより溶媒を留去した。こうして、液晶組成物B1を得た。この液晶組成物B1は80°Cでネマチック相を示した。また、ネマチック相から等方相への相転移温度Tcは135°Cであった。実施例3[液晶組成物B2の調製]合成例2で得られた液晶ポリマーaの代わりに、合成例3で得られた液晶ポリマーbを用いた以外は実施例2と同様にして、液晶組成物B2を得た。この液晶組成物B2は80°Cでネマチック相を示した。また、ネマチック相から等方相への相転移温度Tcは133°Cであった。実施例4[液晶組成物B3の調製]合成例2で得られた液晶ポリマーaの代わりに、合成例4で得られた液晶ポリマーcを用いた以外は実施例2と同様にして、液晶組成物B3を得た。この液晶組成物B3は80°Cでネマチック相を示した。また、ネマチック相から等方相への相転移温度Tcは131°Cであった。実施例5[液晶組成物B4の調製]合成例2で得られた液晶ポリマーaの代わりに、合成例5で得られた液晶ポリマーdを用いた以外は実施例2と同様にして、液晶組成物B4を得た。この液晶組成物B4は80°Cでネマチック相を示した。また、ネマチック相から等方相への相転移温度Tcは136°Cであった。実施例6[液晶性組成物30の調製]合成例7で得られたアクリロイル基を有する含フッ素液晶性高分子化合物P4を100mgと、合成例9で得られたアクリロイル基含有液晶性低分子化合物である化合物8L-1を10mgモル比として1:1混合し、これに光ラジカル反応開始剤として、ジクロロメタンで100倍に希釈したイルガキュア754商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製100mgを混ぜ、室温で12時間真空乾燥させ、液晶性組成物30を得た。得られた液晶性組成物30は、126°Cでネマチック相から等方相への相転移を示した。実施例7[液晶性組成物40の調製]合成例7で得られたアクリロイル基を有する含フッ素液晶性高分子化合物P4を100mgと、合成例9で得られたアクリロイル基含有液晶性低分子化合物8L-1を5mgモル比として2:1混合し、実施例6と同様にして液晶性組成物40を得た。得られた液晶性組成物40は、120°Cでネマチック相から等方相への相転移を示した。実施例8[液晶性組成物S3の調製]合成例6で得られた水酸基を有する含フッ素液晶性高分子化合物P2、および合成例10で得られた水酸基を有する液晶性低分子化合物4L-1、ジクロロメタンで100倍に希釈したポリイソシアネート化合物デュラネートTLA-100商品名、旭化成社製:メチルヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性体を、モル比として1:0.5:2化合物P2と化合物4L1の合計水酸基:イソシアネート基のモル比として1:1となるように100mg、5mg、170mg、触媒としてジクロロメタンに10000倍に希釈したDBTDLジラウリルジブチルスズ200mgを混ぜ、室温にて12時間真空乾燥させ、液晶性組成物S3を得た。得られた液晶性組成物S3は、121°Cでネマチック相から等方相への相転移温度Tcを示した。実施例9[液晶性組成物S4の調製]実施例8において、化合物P2:化合物4L-1:TLA-100のモル比を1:0.5:2から1:1:3化合物P2と化合物4L1の合計水酸基:イソシアネート基のモル比として1:1に変更した以外は実施例8と同様にして、液晶性組成物S4を得た。得られた液晶性組成物S4は、112°Cでネマチック相から等方相への相転移温度Tcを示した。比較例1~3実施例8において、化合物P2:化合物4L-1:TLA-100のモル比を1:0.5:2から比較例1では1:0:0に、比較例2では1:1:0に、比較例3では1:0:1に変更した以外は実施例8同様にして、比較例1~3の液晶性組成物CS1~CS3を得た。ネマチック相から等方相への相転移温度Tcは、比較例1で得られた液晶性組成物CS1では132°C、比較例2で得られた液晶性組成物CS2では118°C、比較例3で得られた液晶性組成物CS3では127°Cであった。実施例10[光学素子Aの作製および評価]縦5cm、横5cm、厚さ0.5mmのガラス基板に、ポリイミド溶液をスピンコータで塗布し乾燥した後、ナイロンクロスで一定方向にラビング処理し、支持体基板を作製した。こうして作製された2枚の基板を、配向処理が施された面が向い合うように接着剤を用いて貼り合わせ、セルを作製した。接着剤には、直径4μmのガラスビーズを添加し、基板の間隔が4μmになるように調整した。次に、前記セル内に、実施例1で調製された液晶組成物A1を100°Cで注入した。次いで、50°Cにおいて、強度80mW/cm2の紫外線を積算光量が5300mJ/cm2となるよう照射して光重合反応を行わせ、光学素子Aを作製した。得られた光学素子Aは、リタデーションの入射角依存性の測定により、基板のラビング方向に水平配向していることがわかった。また、光学素子Aは可視光域で透明であり、散乱も認められなかった。次に、この光学素子AにKrレーザー波長407nm、413nmのマルチモードを照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度80°C、積算曝露エネルギー600Wh/mm2とした。加速試験前の透過率に対する試験後の透過率の低下は2未満であったことから、光学素子Aは青色レーザー光に対する耐久性に優れることが確認された。実施例11[光学素子Bの作製および評価]実施例10で作製されたセル内に、実施例2で調製された液晶組成物B1を145°Cで注入した。次いで、120°Cで2時間アニールを行い、光学素子Bを作製した。得られた光学素子Bは、リタデーションの入射角依存性の測定により、基板のラビング方向に水平配向していることがわかった。また、光学素子Bは可視光域で透明であり、散乱も認められなかった。次に、この光学素子BにKrレーザー波長407nm、413nmのマルチモードを照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度80°C、積算曝露エネルギー600Wh/mm2とした。加速試験前の透過率に対する試験後の透過率の低下は2未満であったことから、光学素子Bは青色レーザー光に対する耐久性に優れることが確認された。実施例12[光学素子C1の作製および評価]直径6インチ、厚さ0.55mmのガラス基板に、ポリイミド溶液をスピンコータで塗布し乾燥した後、ナイロンクロスで一定方向にラビング処理し、支持体基板を作製した。次いで、この基板上に、実施例2で調製された液晶組成物B1の10wtキシレン溶液を滴下し、スピンコータで塗布した後、120°Cで1時間アニールを行い、一軸配向した厚さ2μmの薄膜を形成した。さらに、光学接着剤商品名アロニックスLCR0631;東亜合成社製を薄膜上に滴下し、スピンコータで塗布した後、その上に直径6インチ、厚さ0.55mmのガラス基板を載せ、強度20mW/cm2の紫外線を積算光量が600mJ/cm2となるよう照射し、光学素子C1を作製した。得られた光学素子C1は、リタデーションの入射角依存性の測定により、基板のラビング方向に水平配向していることがわかった。また、光学素子C1は可視光域で透明であり、散乱も認められなかった。次に、この光学素子C1にKrレーザー波長407nm、413nmのマルチモードを照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度80°C、積算曝露エネルギー600Wh/mm2とした。加速試験前の透過率に対する試験後の透過率の低下は2未満であったことから、光学素子C1は青色レーザー光に対する耐久性に優れることが確認された。実施例13[光学素子C2の作製および評価]実施例2で調製された液晶組成物B1の10wtキシレン溶液の代わりに、実施例3で調製された液晶組成物B2の10wtキシレン溶液を用いた以外は実施例12と同様にして、膜厚2μmの光学素子C2を作製した。得られた光学素子C2は、リタデーションの入射角依存性の測定により、基板のラビング方向に水平配向していることがわかった。また、光学素子C2は可視光域で透明であり、散乱も認められなかった。次に、この光学素子C2にKrレーザー波長407nm、413nmのマルチモードを照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度80°C、積算曝露エネルギー600Wh/mm2とした。加速試験前の透過率に対する試験後の透過率の低下は2未満であったことから、光学素子C2は青色レーザー光に対する耐久性に優れることが確認された。実施例14[光学素子C3の作製および評価]実施例2で調製された液晶組成物B1の10wtキシレン溶液の代わりに、実施例4で調製された液晶組成物B3の10wtキシレン溶液を用いた以外は実施例12と同様にして、膜厚2μmの光学素子C3を作製した。得られた光学素子C3は、リタデーションの入射角依存性の測定により、基板のラビング方向に水平配向していることがわかった。また、光学素子C3は可視光域で透明であり、散乱も認められなかった。次に、この光学素子C3にKrレーザー波長407nm、413nmのマルチモードを照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度80°C、積算曝露エネルギー600Wh/mm2とした。加速試験前の透過率に対する試験後の透過率の低下は2未満であったことから、光学素子C3は青色レーザー光に対する耐久性に優れることが確認された。実施例15[光学素子C4の作製および評価]実施例2で調製された液晶組成物B1の10wtキシレン溶液の代わりに、実施例5で調製された液晶組成物B4の10wtキシレン溶液を用いた以外は実施例12と同様にして、膜厚2μmの光学素子C4を作製した。得られた光学素子C4は、リタデーションの入射角依存性の測定により、基板のラビング方向に水平配向していることがわかった。また、光学素子C4は可視光域で透明であり、散乱も認められなかった。次に、この光学素子C4にKrレーザー波長407nm、413nmのマルチモードを照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度80°C、積算曝露エネルギー600Wh/mm2とした。加速試験前の透過率に対する試験後の透過率の低下は2未満であったことから、光学素子C4は青色レーザー光に対する耐久性に優れることが確認された。実施例16[光学素子50の作製および評価]直径6インチ、厚さ0.55mmのガラス基板2枚に、それぞれポリイミド溶液をスピンコータで塗布し乾燥した後、ナイロンクロスで一定方向にラビング処理し、支持体基板を2枚作製した。2枚の基板を縦2cm、横2.5cmに切断して、光学素子作製用の配向膜付き基板を得た。次いで、この2枚の基板を配向膜が対向するように配置し、その基板間に実施例6で得られた液晶性組成物30を2mg挟み込み、170°C、2MPaで5分間熱圧着した。その後、20分間かけて除冷してから、110°Cで3時間アニールを行った後、強度260mW/cm2の紫外線を積算光量が1300mJ/cm2となるよう照射して架橋反応を行わせ、一軸配向した厚さ7μmの薄膜を形成した。こうして、2枚の配向膜付き基板間に光学異方性膜を形成し、光学素子50を作製した。得られた光学素子50は、リタデーションの入射角依存性の測定により、基板のラビング方向に水平配向していることがわかった。また、この光学素子50は可視光域で透明であり、散乱も認められなかった。次に、この光学素子50にKrレーザー波長407nm、413nmのマルチモードを照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度80°C、積算曝露エネルギー700Wh/mm2とした。加速試験前の透過率に対する試験後の透過率の低下は2未満であったことから、光学素子50は青色レーザー光に対する耐久性に優れることが確認された。実施例17[光学素子60の作製および評価]実施例6で調製された液晶性組成物30の代わりに、実施例7で調製された液晶性組成物40を用いた以外は実施例16と同様にして、光学素子60を作製した。得られた光学素子60は、リタデーションの入射角依存性の測定により、基板のラビング方向に水平配向していることがわかった。また、この光学素子60は可視光域で透明であり、散乱も認められなかった。次に、この光学素子60にKrレーザー波長407nm、413nmのマルチモードを照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度80°C、積算曝露エネルギー700Wh/mm2とした。加速試験前の透過率に対する試験後の透過率の低下は2未満であったことから、この光学素子60は青色レーザー光に対する耐久性に優れることが確認された。比較例4[光学素子100の作製および評価]合成例7で得られたアクリロイル基を有する含フッ素液晶性高分子化合物P4を、そのままアクリロイル基含有液晶性低分子化合物8を加えることなく液晶性組成物90として使用した。そして、実施例6で調製された液晶性組成物30の代わりに、この液晶性組成物90を用いた以外は実施例16と同様にして、光学素子100を作製した。得られた光学素子100は、リタデーションの入射角依存性の測定により、基板のラビング方向への水平配向性が十分でないことがわかった。実施例18~19[光学素子の作製および評価]径6インチ、厚さ0.55mmのガラス基板に、ポリイミド溶液をスピンコータで塗布し乾燥した後、ナイロンクロスで一定方向にラビング処理した、支持体基板を2枚作製した。2枚の基板を縦2cm、横2.5cmに切断して、光学素子作製用の配向膜付き基板を得た。次いで、この2枚の基板を配向膜が対向するように配置し、その基板間に実施例8で得られた液晶性組成物S3を2mg挟み込み、170°C、2MPaで5分間熱圧着させた。その後、20分かけて除冷し、110°Cで3時間アニールを行い、一軸配向した7μmの薄膜、すなわち光学異方性膜を2枚の配向膜付き基板間に形成し、光学素子Ex18を作製した。なお、液晶性組成物S3において架橋反応が進行する温度は、30~150°C程度であり、上記110°C、3時間のアニールの際に、液晶性組成物の配向とともに、架橋反応も実行されていた。この光学素子Ex18は、リタデーションの入射角依存性の測定により、基板のラビング方向に水平配向していることがわかった。また、光学素子Ex18は可視光域で透明であり、散乱も認められなかった。配向性の評価は、この方法で得られた結果から、以下に示す基準で行った。配向性の評価基準○:可視光域で透明であり、散乱も認められない。△:可視光域で透明であるが、散乱が認められる。×:可視光域で不透明であり、散乱が認められる。次に、この光学素子にKrレーザー波長407nm、413nmのマルチモードを照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度80°C、積算曝露エネルギー700Wh/mm2とした。加速試験前の透過率に対する試験後の透過率の低下は2未満であったことから、光学素子Ex18は青色レーザー光に対する耐久性に優れることが確認された。耐光性はこの方法で得られた結果から、以下に示す加速試験前の透過率に対する試験後の透過率の低下率を基準に行った。耐光性の評価基準○:透過率の低下が2未満である。△:透過率の低下が2以上5未満である。×:透過率の低下が10以上である。アニール温度を作製に用いる液晶性組成物のTc-10°Cとする以外は、上記実施例18と同様にして、実施例8で得られた液晶性組成物S3の代わりに実施例9で得られた液晶性組成物S4を用いて光学素子Ex19を作製した。また、得られた光学素子に対して上記同様の評価を行った。結果を表2に示す。比較例5~7[光学素子の作製および評価]アニール温度を作製に用いる液晶性組成物のTc-10°Cとする以外は、上記実施例18と同様にして、比較例1~3で得られた液晶性組成物CS1~CS3を用いて光学素子Cf5~Cf7を作製した。また、得られた光学素子に対して上記同様の評価を行った。結果を表2に示す。"