被露光基板を連続して移動させながら、同一光源からの光を用いて複数の露光ヘッドによって該被露光基板上に所定パターン転写を行うための露光を行う露光装置において、単一のレーザー光源と、前記レーザー光源からの光を略等分に分割して前記複数の露光ヘッドに導光する光学路とを備えることを特徴とする、露光装置。前記光学路は、所定の反射率を有するハーフミラーもしくはビームスプリッターと、全反射ミラーとを含むことを特徴とする、請求項1記載の露光装置。前記光学路には、NDフィルタが設けられることを特徴とする、請求項2記載の露光装置。前記光学路は、前記レーザー光源からの光を略等分に分割して複数の光束として出射するレーザー分配ユニットと、前記レーザー分配ユニットから出射された光束のそれぞれを前記複数の露光ヘッドに導光する光ファイバーとを含むことを特徴とする、請求項1記載の露光装置。このような複数の露光ヘッドを有する従来の露光装置では、光源に点滅フラッシュ光源であるYAGYttriumAluminiumGarnetレーザーを、各露光ヘッドごとに搭載していた。ここで、YAGレーザーでは、ネオジムNdを添加したYAG結晶からなるYAGロッドを発振器とし、レーザー光を発振させる。しかしながら、個々のYAGロッドは固有値を持ち最高出力にばらつきがあり、また、経時劣化による出力減衰が異なるものであり、これが各露光ヘッドの出力に影響を与える。各露光ヘッドの出力がばらつくと、被露光基板上の照度露光量が変わり、露光むらが生ずる。また、複数の発振器の中の1個の発振が止まると、該当する露光ヘッドのおける露光処理ができなくなり、直ちに生産がストップするという不都合があった。本発明の目的は、各露光ヘッドのばらつきを抑えて露光むらを防止できる露光装置を提供することである。本発明にかかる露光装置は、被露光基板を連続して移動させながら、光源からの光を用いて複数の露光ヘッドによって被露光基板上に所定幅の露光を行う露光装置において、ひとつのレーザー光源を共通とし、このレーザー光源からの光を略等分に分割して複数の露光ヘッドに導光する光学路とを備える。本発明によれば、従来のように複数の露光ヘッドにそれぞれYAGロッドを搭載する代わりに、共通のYAGロッドから各露光ヘッドへ露光光が供給される為、従来のような複数のYAGロッドのもちうる固有値に起因する照度露光量バラツキがなく、露光ヘッド間での露光むらが少ない状態でパターン転写が可能となり、被露光基板へのパターン転写ばらつきが抑えられる。以下、図面を参照して、本発明の実施形態について、詳細に説明する。第1の実施形態図1~3を参照して、本発明の第1の実施形態に係る露光装置1について説明する。図1は、本実施形態の露光装置1の光学系を示す概略構成図、図2は図1の構成を見やすく展開した概略構成図である。また、図3は、露光装置1を模式的に示す斜視図である。なお、本実施形態のレーザー発振器3としてはYAGレーザー355nmを用いた。レーザー発振器はYAGに限定されず、Nd:YVO4やNd:YLFなどを用いてもよく、レーザー波長についてもそれぞれの材料用途に応じ適宜選択することができる。図1に示すように、本実施形態の露光装置1の光学系は、露光ヘッド2とレーザー発振器3と光学路4とから構成され、レーザー発振器3からの出射光は光学路4により各露光ヘッド2に分配供給される。そして、本実施形態の露光装置1は、上述した光学系に加え、図3に示すように露光ステージ5と被露光基板6とを備えている。露光ヘッド2は、被露光基板6の上方に配設されている。被露光基板6は露光ステージ5上に載置され、露光ステージ5により矢印方向に搬送される。被露光基板6上には感光性樹脂からなるレジストが塗布されている。被露光基板6は露光ステージ5により矢印方向に移動されながら、露光ヘッド2により所定のパターンがスキャン露光される。以下、矢印と平行な方向をスキャン方向、矢印と直交する方向をクロススキャン方向という。図3に示すように、露光ヘッド2はA列、B列の2列に4個ずつ合計8個が、クロススキャン方向に等間隔に並設されている。A列露光ヘッド2AとB列の露光ヘッド2Bは、クロススキャン方向にずれ、千鳥状に配置されている。また、各露光ヘッド2は、図示しない露光マスクを備え、この露光マスクには露光する部分に対応する所定の露光パターンを有している。光学路4から供給された光により露光マスクが照射され、露光マスクにより遮光されていないパターンが露光パターンとして被露光基板6に転写される。被露光基板6は、まず、A列の露光ヘッド2AおよびB列の露光ヘッド2Bによってこれら被露光機版6に所定のパターンが露光転写される。A列とB列の露光ヘッド2によりそれぞれ露光されたパターンはクロススキャン方向おいてにつなぎ合わされるよう設計されている為、被露光基板6の略全幅の大きさとなる被露光領域が露光ヘッド2によって露光され、大きなパターンが転写される。次に、図1及び図2を用いて、露光ヘッド2とレーザー発振器3とこれらを結ぶ光学路4の構成と動作について説明する。本実施形態の光学路4は、ハーフミラービームスプリッター7と全反射ミラー8とNDフィルタ9とを備えている。図1において、白塗りの斜めの四角形がハーフミラービームスプリッター7、黒塗りの斜めの四角形が全反射ミラー8であり、点線で囲まれハッチングが施された四角形がNDフィルタ9である。本実施形態のハーフミラービームスプリッター7の反射率は50パーセントであり、入射光の半分は反射され、残りの半分は透過する。また、光の光量の変化を線の太さや種類を変え模式的に示している。図1に示すように、レーザー発振器3から出射された出射光はハーフミラービームスプリッター7aに入射し、反射光と透過光に二分割され、このとき光量は半分となる。ハーフミラービームスプリッター7aを透過した光はハーフミラービームスプリッター7bに入射し、二分割され、このとき光量は元の出射光の四分の一となる。ハーフミラービームスプリッター7bに反射された光はハーフミラービームスプリッター7cに入射し、二分割され、このとき光量は元の出射光の八分の一となる。ハーフミラービームスプリッター7cを透過した光はA1の露光ヘッド2に入射し、反射した光は全反射ミラー8aを経てA2の露光ヘッド2に入射する。同様にして、他の露光ヘッド2にも光が入射する。このようにして、各露光ヘッド2には、元の出射光の八分の一の略均等な光量に分割された光が供給される。図1に示すように、本実施形態では、入射光が各露光ヘッド2に入射される前の位置に、NDNeutralDensityフィルタ9が装着可能にされている。すなわち、露光装置1は、図示しないNDフィルタ取り付け部を、各露光ヘッド2毎に有している。NDフィルタ9は、必要に応じて装着すればよいものであり、すべての露光ヘッド2の前にNDフィルタを装着する必要はなく、まったく装着しなくてもよい。入射光の光量が他と比較して多い露光ヘッド2の前にのみNDフィルタ9を入れて減光を行い調光すればよい。NDフィルタ9を装着することにより、より精密に、均一な光量の入射光を各露光ヘッド2に供給できる。図2は、図1で示す光学路4を分かり易く展開した図である。光の光量の変化を線の太さや種類を変え模式的に示している。図2からも分かるように、レーザー発振器3から出射された出射光は八分割され、各露光ヘッド2にそれぞれ略均等な光量で供給される。以上のように、本実施形態によれば、一つのレーザー発振器3からの光学路4により略等分に分光しているので、ばらつきが少なく均一な入射光を、各露光ヘッド2へ供給することができる。これにより、各露光ヘッド2の被露光基板6への照度露光量にばらつきが抑えられ、被露光基板6上にパターンを露光むらが少ない状態で露光することが可能となる。また、一つのレーザー発振器3の出射光を、ハーフミラービームスプリッター7などで均等に分光したので、複数のレーザー発振器3を個々の露光ヘッドに搭載する必要がなくなる為、従来方法に比べて露光ヘッドも簡単な構成となり、露光装置1も小型化することが可能となる。また、複数のレーザー発振器3の設置は不要となるので、設置スペースの制限が解消され、レーザー出力やレーザー光源波長などについての自由度が向上する。また、露光ヘッド2のそれぞれにレーザー発振器3を設けなくてよいので、露光ヘッド2の小型化が可能となる。また、NDフィルタ9を装着可能に構成することによって、各露光ヘッド2に入光する入射光の光量の精密な調整を簡単に行うことが可能となる。NDフィルタ取り付け部を備えることにより、光学路4のハーフミラービームスプリッター7などを調整のため所定の反射率のものに交換したりすることをせずに、必要に応じ後からNDフィルタ9を装着することが可能となる。そして、調整後はNDフィルタ9を露光装置1にそのまま固定させておけばよいので、取り扱いが複雑になるということもない。なお、本実施形態のハーフミラービームスプリッター7は、反射率が50パーセントのものを用いたが、これに限定されない。例えば、反射率が33パーセントのハーフミラービームスプリッター7を用いて、光を1:2に分割し、更にこの透過光を50パーセントの反射率のハーフミラービームスプリッターで二分することにより、光を三分割することができる。このように、所定の反射率のハーフミラービームスプリッター7を用いることにより、任意の個数の露光ヘッド2に、略均等に光を供給することが可能となる。第2の実施形態図4を参照して、本発明の第2の実施形態について説明する。この第2の実施形態でも、基本的な露光装置1の構成は第1の実施形態と同様であり、第1の実施形態と同じ構成要素には同一符号を付して説明を簡略化し、異なっている部分のみを主に説明する。図4に示すように、この実施形態では、光学路4としてレーザー分配ユニット10と光ファイバー11とを備える。太い破線が光ファイバー11を示す。レーザー発振器3から出射された出射光は、レーザー発振器3と光学的に結合されたレーザー分配ユニット10に入光する。レーザー分配ユニット10と各露光ヘッド2とはそれぞれ光ファイバー11により連結され、各露光ヘッド2には光ファイバー11を経て略均等な光量の光が供給される。また、図4において、NDフィルタを装着可能に構成することにより、光ファイバー11と各露光ヘッド2との間に図示しないNDフィルタ9を設けて、より精密に光量を調節した入射光を各露光ヘッド2へ供給するように構成してもよい。以上のように、本実施形態によれば、一つのレーザー発振器3からの出射光をレーザー分配ユニット10により略等分に分光しているので、ばらつきなく均一な入射光を、各露光ヘッド2へ供給することができる。これにより、各露光ヘッド2の被露光基板6への照度露光量にばらつきが抑えられ、被露光基板6上にパターンを露光むらが少ない状態で露光することが可能となる。また、光学路4としてレーザー分配ユニット10と光ファイバー11とを備えることにより、光ファイバー11により連結して光を分配する各露光ヘッド2の個数や、配置に対して、柔軟に対応することが可能となる。なお、本発明の露光装置は、その細部が上述した実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、本実施形態の露光ヘッド2は2列に4個ずつ合計8個のものであったが、これに限定されず、3列以上のものであってもよいし、1列の露光ヘッド2の数も増減させてもよい。また、それぞれの列によって、露光ヘッド2の個数の異なる構成としてもよい。