"光源からの発散光を回折することで干渉パターンを形成する回折格子と、前記干渉パターンの一部を遮蔽する遮蔽格子と、前記遮蔽格子を経た光を検出する検出器と、前記回折格子及び前記遮蔽格子を移動させる移動手段と、を備え、前記移動手段は、前記回折格子と前記遮蔽格子が相対移動しないように前記回折格子及び前記遮蔽格子とを移動させることで、前記干渉パターンと前記遮蔽格子とを相対移動させ、前記検出器は、前記干渉パターンと前記遮蔽格子との相対移動に対応して、前記光を検出することを特徴とする撮像装置。前記回折格子と前記遮蔽格子が一体的に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。前記移動手段は、前記回折格子を移動させる第1の移動手段と、前記遮蔽格子を移動させる第2の移動手段と、を有することを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。前記移動手段は、前記干渉パターンの明部と暗部との配列方向に前記回折格子及び前記遮蔽格子を移動させることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の撮像装置。光源からの発散光を回折することで干渉パターンを形成する回折格子と、前記干渉パターンの一部を遮蔽する遮蔽格子と、前記遮蔽格子を経た光を検出する検出器と、を備えた撮像装置を用いて被検体を撮像する方法であって、前記回折格子と前記遮蔽格子とが相対移動しないように前記回折格子及び前記遮蔽格子とが移動することで、前記干渉パターンと前記遮蔽格子が相対移動する工程と、前記干渉パターン及び前記遮蔽格子の相対移動に対応して、前記検出器が前記光を検出する工程と、を有することを特徴とする撮像方法。上述したように、特許文献1には回折格子と遮蔽格子の相対位置を変えながら撮像を行う方法が記載されている。この方法を行うためには、1回の撮像毎に遮蔽格子の周期を撮像回数で割った長さ分だけ回折格子と遮蔽格子の相対位置を移動させる必要がある。例えば光としてX線を用いてトールボット干渉法を行う場合、回折格子や遮蔽格子の移動量は数μm程度となるため、それ以下の精度で回折格子や遮蔽格子を移動させることが要求される。一方、特許文献2には光源または光源格子を移動させたり回転させたりする方法が記載されている。この方法を行う場合、1回の撮像毎の光源や線源格子の移動量は、回折格子や遮蔽格子を移動させる方法と比較すると10倍程度大きくなる。しかし、光源または光源格子を移動させると、被検体に入射する光の入射方向が被検体に対して変化する。このことは、被検体と検出器の位置がずれることと等しい。そのため、光源または光源格子の移動に伴って、検出器の検出面上における光の強度分布の位置がずれて、結果として得られる被検体の位相像がぼけてしまう可能性がある。そこで本発明ではトールボット干渉法において、従来よりも回折格子及び遮蔽格子の移動の調整が容易で、かつ被検体に対して入射する光の入射方向の変化による位相像のぼけを抑制して縞走査法を行うことができる撮像装置を提供することを目的とする。上記の目的を達成するために、本発明の一側面としての撮像装置は、光源からの発散光を回折することで干渉パターンを形成する回折格子と、前記干渉パターンの一部を遮蔽する遮蔽格子と、前記遮蔽格子を経た光を検出する検出器と、前記回折格子及び前記遮蔽格子を移動させる移動手段と、を備え、前記移動手段は、前記回折格子及び前記遮蔽格子のうち一方に対して他方が相対移動しないように前記回折格子及び前記遮蔽格子を移動させることで、前記干渉パターン及び前記遮蔽格子のうち一方に対して他方を相対移動させ、前記検出器は、前記干渉パターン及び前記遮蔽格子の相対移動に対応して、前記光を検出することを特徴とする。本発明のその他の側面については、以下で説明する実施の形態で明らかにする。本発明ではトールボット干渉法を用いた撮像装置において、回折格子及び遮蔽格子の移動が容易で、かつ被検体に対して入射する光の入射方向の変化による撮像ぼけを抑制して縞走査法を行うことができる撮像装置を提供することができる。以下、本発明の好ましい実施の形態について添付の図面に基づいて説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。本実施形態では、光としてX線を用いてトールボット干渉法を行う撮像装置について説明する。但し、本明細書においてX線とはエネルギーが2~100keVの光を指す。図1は本実施形態における撮像装置の構成を示した模式図である。図1に示した撮像装置1は、X線を発生させるX線源部110と、X線を回折する回折格子310、X線の一部を遮蔽する遮蔽格子410、X線を検出する検出器510、回折格子と遮蔽格子を移動させる移動手段として移動部1010を備えている。更に、撮像装置1の検出結果に基づいて演算を行う演算部610が撮像装置1に接続されており、更に演算部610には演算部の演算結果に基づいた画像を表示する画像表示部910が接続されている。以下、各構成について説明をする。本実施形態の撮像装置は光源としてX線源を備えている。X線源としては、連続X線を出射するX線源を用いても、特性X線を出射するX線源を用いてもよい。また、X線源110から出射したX線の経路上に、X線を細いビームに分割するための線源格子光源格子または波長選択フィルタを配置してもよい。但し、X線源部110から出射されるX線は回折格子310で回折されることにより、干渉パターンを形成する必要があるため、干渉パターンを形成できる程度の空間的コヒーレンス性が求められる。また、X線源部110から出射するX線は、発散光発散X線である。X線源110から出射したX線は、被検体210を透過すると被検体の屈折率及び形状に応じて位相が変化する。図1では、被検体210をX線源110と回折格子310の間に配置しているが、回折格子310と遮蔽格子410の間に配置しても良い。本実施形態に用いられる回折格子310は位相型の回折格子であり、X線の照射を受けて明部と暗部が周期的に配列された干渉パターンを形成する。回折格子として振幅型の回折格子を用いることもできるが、位相型の回折格子の方がX線量光量の損失が少ないので有利である。但し、本明細書では、光の強度が大きい所を明部、小さい所を暗部とする。本実施形態の回折格子310の断面形状を図2に示した。回折格子310は、基板710上に断面が矩形の構造物720が周期p1で配列されており、一次元の周期をもつ。X線源側から見た時、構造物720が存在する個所が位相進行部311、構造物720が存在しない個所が位相遅延部312であり、位相進行部311を透過したX線と位相遅延部312を透過したX線で、位相が一定量シフトしている。一般的に、位相のシフト量がπラジアン又はπ/2ラジアンの回折格子が良く用いられるが、その他のシフト量の回折格子を用いることもできる。回折格子310を構成する材料はX線の透過率が高い物質が好ましく、例えば、シリコンを用いることができる。また、基板710と矩形波状の構造物720は同じ材料から構成されていても良い。また、回折格子310は位相進行部311と位相遅延部312が周期的に配列されていれば良く、図2に示した構造以外の構造をとることもできる。干渉パターンの周期は回折格子310の周期p1と位相のシフト量、撮像装置の拡大率によって決まる。拡大率とは発散光を用いた場合、回折格子によって形成されるパターンがどれだけ拡大されて遮蔽格子上に形成されるかを示すものである。拡大率をM、光源と回折格子の距離をL1、回折格子と遮蔽格子の距離をL2とすると、M=L1L2/L1式1で表される。位相シフト量がπラジアンの位相型回折格子を用いた場合、遮蔽格子上に形成される干渉パターンの周期は、回折格子の周期に1/2と拡大率Mをかけた値になる。また、位相シフト量が1/2πラジアンの位相型回折格子を用いた場合、遮蔽格子上に形成される干渉パターンの周期は回折格子の周期に拡大率Mをかけた値になる。本実施形態の遮蔽格子410は図3に示したような、X線透過率が高い基板730上に矩形波状の構造物740を設置する。矩形波状の構造物740は入射したX線を遮蔽するために、X線透過率が低い材質で作られ、充分な高さh2が必要となる。X線源側から見た時、矩形波状の構造物740が存在する個所がX線を遮蔽する遮蔽部411、矩形波状の構造物740が存在しない個所がX線を透過する透過部412である。尚、遮蔽部はX線を完全に遮蔽しなくても良い。但し、干渉パターンに遮蔽格子を重ねることでモアレが形成される程度にX線を遮蔽する必要がある。その条件を満たせば、矩形波状の構造物740の材質や高さh2は問わない。また、遮蔽格子は透過部と遮蔽部が周期的に配列されていれば良く、図3に示した構造以外の構造をとることもできる。遮蔽格子410の周期P2は回折格子310によって形成される干渉パターンの周期と同一または僅かに異なる値をとることができ、形成したいモアレの周期によって決めることができる。尚、本明細書におけるモアレとは、その周期が無限長か、もしくは無限長に限りなく近い場合も含む。すなわち特許文献1の実施例で示されているような、一枚の撮像画像内では周期が明瞭に現れない場合も本発明は有効である。本実施形態には、回折格子と遮蔽格子の移動部1010が設けられている。移動部は、回折格子と遮蔽格子のうちどちらか一方に対して他方が相対移動をしないように、回折格子と遮蔽格子の相対位置を固定しながら干渉パターンの明部と暗部の配列方向へ2つの格子を移動させる。この移動により、干渉パターンと遮蔽格子のうちどちらか一方に対して他方が相対移動してモアレが変化するので、この移動の前後で検出を行うことで縞走査を行うことができる。回折格子と遮蔽格子の移動と、干渉パターンと遮蔽格子の相対位置の移動の関係について説明をする。本実施形態の移動部1010は上述のように回折格子と遮蔽格子の相対位置を固定したまま、干渉パターンと遮蔽格子が相対移動するように回折格子と遮蔽格子を移動させる。回折格子と遮蔽格子は相対位置を固定されているため、相対移動は起こらない。回折格子と遮蔽格子は相対移動をせず、干渉パターンと遮蔽格子が相対移動をするためには、回折格子の移動に伴う干渉パターンの移動の速度と遮蔽格子の移動の速度が異なれば良い。このような回折格子と遮蔽格子の移動方法の具体例を以下に2つ挙げる。1つめの方法は、回折格子と遮蔽格子が光軸に垂直な平面上を、干渉パターンの明部と暗部の配列方向に移動する方法である。この時の回折格子、遮蔽格子、干渉パターンの移動速度を夫々考える。回折格子が速度v1で移動した時、遮蔽格子も速度v1で移動し、干渉パターンは回折格子の移動速度に拡大率Mをかけた速度Mv1で移動する。従って、干渉パターンと遮蔽格子の移動速度の差はv1M-1式2となる。その結果、干渉パターンと遮蔽格子の相対位置の変化、つまり干渉パターンと遮蔽格子の相対移動が生じるためモアレが変化し、縞走査を行うことができる。また、この場合、一回の検出毎の位相格子及び遮蔽格子の移動距離は、検出回数をnとすると、P2/{M-1n}式3となる。2つめの方法は、回折格子と遮蔽格子が、ある1点を中心とした円の円周上を、干渉パターンの明部と暗部の配列方向に移動する方法である。但し、円の中心が、回折格子から見てX線源よりも遠くまたは近くにある必要がある。つまり、この円の中心と回折格子の距離をR、X線源と回折格子の距離をL1とすると、R>L1またはR<L1である。これにより、X線源より照射されるX線の波面と、回折格子と遮蔽格子が移動する円の円周曲率が異なるために縞走査が成立する。尚、回折格子と遮蔽格子を移動させる円周の中心は、回折格子のX線が照射される範囲の中心と、X線源焦点の中心を通る直線光軸上にあることが好ましい。上記光軸上にあり、回折格子からX線源方向に距離R離れたある1点を中心とする円の円周上を、回折格子と遮蔽格子を角速度θで移動させた時、2つの格子の移動速度は、回折格子がR×θ、遮蔽格子がRL2×θとなる。回折格子の速度R×θをv2とすると、遮蔽格子の速度はv2×RL2÷Rとなる。干渉パターンの移動速度はv2×Mであるので、干渉パターンと遮蔽格子の移動速度の差はv2{M-RL2/R}式4となり、R≠L1なので干渉パターンと遮蔽格子が相対移動をし、縞走査が成立する。この場合、一回の検出毎の回折格子の移動距離は、検出回数をnとすると、P2/{M-RL2/Rn}式5となり、この移動距離はRがL1に近づくにつれて大きくなり、R=L1で発散する。本実施形態においては、回折格子と遮蔽格子を1つの移動部で移動をさせたが、移動手段が、回折格子を移動させる第1の移動手段移動部と遮蔽格子を移動させる第2の移動手段移動部を有していても良い。また、n回の検出を行う時に回折格子と遮蔽格子が一定の相対位置をとれば良く、例えば検出後に回折格子が式5で表される距離移動し、その後、遮蔽格子が式5で表される距離にRL2÷Rかけた距離移動してから次の検出を行っても良い。但し、これらの移動方法をとる撮像装置よりも、回折格子と遮蔽格子を一体的に構成することで相対位置が変わらないようにしたものを移動部によって移動させる撮像装置の方が好ましい。但し、一体的に構成とは、回折格子と遮蔽格子が例えばネジで留められていたり、張り合わせられていたり、一体成型されていたりと機械的に接合されていることを指す。撮像装置をこのような構成にすると、回折格子と遮蔽格子の移動をより容易に行うことができる。検出器510は、X線によるモアレの強度情報を検出することのできる撮像素子例えばCCDを有し、回折格子と遮蔽格子の移動に伴って生じる干渉パターンと遮蔽格子の相対移動に対応してモアレの強度情報を検出する。本実施形態では干渉パターンと遮蔽格子の相対移動の前後に強度情報を検出するが、干渉パターンと遮蔽格子の相対移動毎に強度情報の検出を行わなくとも良いし、相対移動中に検出を行っても良い。但し、相対移動中に検出を行うと、検出中の相対移動により検出されるモアレの強度分布がぼける可能性がある。以上が本実施形態における撮像装置の各構成の説明である。本実施形態の撮像装置には演算部が接続されている。演算部610は、検出器510による複数回の検出による検出結果に基づいて演算処理を行う。その結果被検体の位相像または微分位相像が得られる。更に演算部610には画像表示部910が接続されており、演算部610の演算結果に基づく画像を表示することができる。以下具体的な実施例及び比較例について説明をする。実施例1実施例1では回折格子と遮蔽格子の相対位置が常に同じになるようにした状態で回折格子と遮蔽格子を光軸と垂直な平面上を移動させて縞走査を行い、この時の回折格子の合計移動量と、得られる被検体の微分位相像をシミュレーションにより計算した。但し、遮蔽格子と干渉パターンの相対位置の移動量が遮蔽格子の1周期分の長さと等しくなる時の回折格子の移動量を、回折格子の合計移動量とする。実施例1の撮像装置の構成を図4aに示した。X線源120はX線発生領域焦点が直径10μmの微小X線源で、17.5keVの単色X線を発生させる。用いるX線には、回折格子により回折されることで干渉パターンを形成するために高い干渉性が求められる。干渉性はX線源から回折格子までの距離が長い方が高くなるため、実施例1ではX線源から回折格子までの距離L1aを1mとした。このような構成においてはX線源から照射されるX線はほぼ球面波とみなすことができる。回折格子320は1次元の周期を持つ位相型回折格子であり、図2に断面形状を示した回折格子と同様の構造を有する。この回折格子は基板と矩形波状の構造物が共にシリコンで製造されており、位相進行部を透過したX線と位相遅延部を透過したX線の位相シフト量がπラジアンになるように矩形波状の構造物の高さは22.6μmである。また、この回折格子の周期p1aは8μmである。上述のX線源と回折格子を用いると、回折格子から12.7cm離れた位置に干渉パターンが形成されるので、遮蔽格子をこの位置に配置する。干渉パターンは明部と暗部が1次元周期的に並んだ縞状のパターンである。また、本実施例の場合、回折格子の周期p1aが8μm、位相シフト量がπラジアン、拡大率MaがL1a=1m、L2a=0.127mなのでMa=1.127となるため、干渉パターンの周期は、8μm×1/2×1.127=4.5μmである。遮蔽格子420は1次元の周期を持つ遮蔽格子であり、図3に断面形状を示した遮蔽格子と同様の構造を有する。この遮蔽格子は基板がシリコン、矩形波状の構造物が金で製造されており、矩形波状の構造物の高さを50μmとした。周期p2aは干渉パターンの周期と同一の4.5μmにし、無限大の周期を持つモアレを形成した。検出器520は分解能が9μmのものを用いた。検出器で検出した結果をもとに演算装置で演算を行い、被検体の位相像を得た。本実施例の撮像装置は支持部材1110によって回折格子320と遮蔽格子420の相対位置を固定した、格子セット810を用いることで回折格子320と遮蔽格子420の相対位置を常に一定に保っている。この格子セット810が移動部1020によって光軸に対し垂直な平面上を移動することで縞走査法を行う。被検体220として直径400μmのシリコン球を用い、このシリコン球を光源120と回折格子320の間に設置した。その位置は回折格子320に近いほど望ましいが、本実施例では回折格子の手前10cmとした。本実施例の撮像装置を用い、格子セット810を移動させながらX線を4回検出した。その検出結果の夫々を図5a~dに示す。また、この4回の検出結果図5a~dから被検体の位相像を計算したものが図5eであり、本実施例の撮像装置を用いて縞走査法による位相回復を行うことで、被検体の位相像を得られることが示された。格子セット810の合計移動距離は式3より、約35.5μmとなった。実施例2実施例2では、実施例1における格子セット810を平行移動ではなく、ある円周上を滑らせるように移動させて縞走査を行い、この時の回折格子の合計移動量を計算した。実施例2の撮像装置の構成を図4bに示した。移動部1030と格子セット810の移動方法以外は実施例1と同じである。上述のように、格子セット810を移動させる円周の中心820から格子セット810までの距離Rは少なくともL1より遠方に設置する必要がある。本実施例においてはRa=2mとしたので、格子セット810の回折格子の合計移動距離は式5より、約71.0μmとなる。実施例2は実施例1よりも回折格子の合計移動距離が大きくなるため、より格子セットの移動が容易になる。比較例1比較例1では特許文献1に従い、回折格子と遮蔽格子を互いに相対的に平行に移動させて縞走査を行い、この時の回折格子の合計移動量を計算した。本比較例では遮蔽格子420を固定し、回折格子320のみを移動部1040によって移動させた。格子セット810がないことと、格子の移動部1040と回折格子の移動方法以外は実施例1と同じであり、本比較例の撮像装置の構成を図6aに示した。回折格子320の合計移動量は遮蔽格子の周期と等しいため、本比較例では4.5μmとなる。比較例2比較例2では特許文献2に従い、X線源120を移動部1050によって移動させることで縞走査法を行い、この時のX線源120の合計移動量を計算した。移動部1050と、格子セット810の代わりにX線源120を移動させること以外は実施例1と同じであり、本比較例の撮像装置の構成を図6bに示した。図6bには被検体へ入射するX線150の入射角度変化によるX線強度分布のずれを説明するためにX線源120が2つ記載されているが、実際の構成ではX線源は1つであり、α1からα2までの距離を何回かに分けて移動する。回折格子320は固定されているため、合計移動量は0であり、その代わりにX線源が移動する。本比較例のX線源の合計移動量α1とα2の距離はP2L1/L2式7で表されるため、本比較例では約35.4μmとなる。比較例2の場合は実施例1,2及び比較例1と異なりX線源を移動させるため、被検体に対するX線の入射角度が変化する。このX線の入射角度の変化によりX線強度分布にずれが生じ、複数回の検出から得られる被検体の位相像にぶれが存在してしまうことで、微小な構造が再現されない可能性がある。被検体に対するX線の入射角度変化によるX線強度分布のずれについて説明をする。X線源120がα1の位置にある時、被検体220の最も光源側を透過したX線は検出器のある位置β1で検出される。一方、X線源120がα2の位置にある時、被検体220の最も光源側を透過したX線は検出器のある位置β2で検出される。このように、被検体の同じ位置を透過したX線が複数回の検出毎に検出器の異なる位置β1とβ2で検出されるため、この異なる位置β1とβ2の距離がずれとなって得られる被検体の位相像に現れる。本比較例では被検体220が回折格子の手前10cmの場所に位置しているため、複数回のX線源120の移動の結果最も回折格子側部分で8.9μm程度のずれが生じる。被検体の厚みが10cmとすると最も光源側部分、つまり回折格子の手前20cmの位置では、ずれの大きさが14.5μmになる。このようなずれは解像度に影響を与える可能性がある。以上今回の実施例と比較例を比べると以下の表のようになる。検出毎の回折格子又はX線源の移動量は、合計移動量を検出回数で割ったものである。実施例1同様に実施例2及び比較例1,2でも夫々4回ずつ検出を行うとすると、表1の合計移動量の1/4が検出毎の回折格子又はX線源の移動量である。この移動量が小さいほど回折格子またはX線源の位置調整に精密さが要求される。表1から、実施例1、2は比較例1と比較として合計移動量が約10倍であり、その分回折格子と遮蔽格子の移動が容易である。一方、実施例1,2と比較例2を比べると、比較例2はX線源が移動するため被検体に対するX線の入射角度が変化し、この変化により被検体のぶれが生じるため、解像度の限界が生じる。すなわち実施例においては、回折格子、遮蔽格子又はX線源の移動が容易でかつ被検体に対するX線の入射角度入射波面の変化による被検体のぶれが存在しない縞走査法が提供されることが分かる。本実施形態ではX線を用いた撮像装置について説明をしたが、本発明にはX線以外の光例えば紫外線または可視光を用いることもできる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。"