"複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材の表面に一次強化層を形成する一次強化工程と、前記ガラス基板母材の前記一次強化層に対して、入力位置を検出するためのパターン層を外側に積層する形で形成するパターン形成工程と、前記ガラス基板母材を分割して複数の前記ガラス基板を取り出す分割工程と、取り出された前記ガラス基板の端面に、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成する二次強化工程とを備えている位置入力装置の製造方法。前記二次強化工程には、前記ガラス基板の端面を加熱する加熱工程と、加熱された前記ガラス基板の端面に間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させる化学強化処理工程とが含まれている請求項1記載の位置入力装置の製造方法。前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面に対してレーザ光を照射するようにしている請求項2記載の位置入力装置の製造方法。前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面の加熱温度を、前記ガラス基板の軟化点よりも低いものとしている請求項2または請求項3記載の位置入力装置の製造方法。前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面を全周にわたって加熱しており、前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板の端面を全周にわたって化学強化処理するようにしている請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の位置入力装置の製造方法。前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板の端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている請求項2から請求項5のいずれか1項に記載の位置入力装置の製造方法。前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板をその板面に沿う方向に搬送するとともにその搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置された複数のノズルから前記端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている請求項6記載の位置入力装置の製造方法。前記加熱工程では、前記化学強化処理工程に係る前記複数のノズルに対して前記ガラス基板の搬送方向における上流側に配した加熱装置により前記ガラス基板の端面を加熱するようにしている請求項7記載の位置入力装置の製造方法。前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板を挟んだ両側から前記端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている請求項6から請求項8のいずれか1項に記載の位置入力装置の製造方法。前記化学強化処理工程では、前記化学強化処理液を霧状にして前記ガラス基板の端面に対して吹き付けるようにしている請求項6から請求項9のいずれか1項に記載の位置入力装置の製造方法。前記化学強化処理工程では、前記化学強化処理液として、アルカリ金属イオンを含有する溶融塩を用いるようにしている請求項2から請求項10のいずれか1項に記載の位置入力装置の製造方法。前記一次強化工程では、前記ガラス基板の表面に化学強化処理または風冷強化処理を施すことで、前記一次強化層として圧縮層を形成している請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の位置入力装置の製造方法。前記一次強化工程では、前記ガラス基板の表面にイオン交換による化学強化処理を施すようにしている請求項12記載の位置入力装置の製造方法。前記分割工程と前記二次強化工程との間に、前記ガラス基板の端部を加工して外形を整える端部加工工程を備える請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の位置入力装置の製造方法。複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材の表面に一次強化層を形成する一次強化装置と、前記ガラス基板母材の前記一次強化層に対して、入力位置を検出するためのパターン層を外側に積層する形で形成するパターン形成装置と、前記ガラス基板母材を分割して複数の前記ガラス基板を取り出す分割装置と、取り出された前記ガラス基板の端面に、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成する二次強化装置とを備えている位置入力装置の製造装置。前記二次強化装置は、前記ガラス基板をその板面に沿って搬送する搬送装置と、前記搬送装置による前記ガラス基板の搬送方向について相対的に上流側に配されるとともに前記ガラス基板の端面を加熱する加熱装置と、前記搬送方向について相対的に下流側に配されるとともに前記ガラス基板の端面に化学強化処理液を吹き付ける化学強化処理装置とを備え、前記化学強化処理装置は、前記化学強化処理液を噴射可能とされるとともに前記ガラス基板の搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置される複数のノズルを有するものとされる請求項15記載の位置入力装置の製造装置。前記ノズルは、前記搬送装置を前記搬送方向と交差する方向から挟む形で一対を一組として、前記搬送方向に沿って間隔をあけて複数組ずつ並列して配されている請求項16記載の位置入力装置の製造装置。前記搬送装置は、前記ガラス基板をその板面に沿う一方向に搬送する第1搬送装置と、前記ガラス基板をその板面に沿い且つ前記第1搬送装置による搬送方向と直交する方向に搬送する第2搬送装置とから構成されるのに対し、前記加熱装置及び前記化学強化処理装置は、それぞれ前記第1搬送装置に対応する第1加熱装置及び第1化学強化処理装置と、前記第2搬送装置に対応する第2加熱装置及び第2化学強化処理装置とから構成される請求項16または請求項17記載の位置入力装置の製造装置。前記搬送装置は、前記ガラス基板をその板面に沿う一方向に搬送する第1搬送装置と、前記ガラス基板を前記第1搬送装置と同じ方向に搬送する第2搬送装置と、前記第1搬送装置と前記第2搬送装置との間に配されるとともに前記ガラス基板をその板面に沿って回動させる姿勢変換装置とから構成されるのに対し、前記加熱装置及び前記化学強化処理装置は、それぞれ前記第1搬送装置に対応する第1加熱装置及び第1化学強化処理装置と、前記第2搬送装置に対応する第2加熱装置及び第2化学強化処理装置とから構成される請求項16または請求項17記載の位置入力装置の製造装置。発明が解決しようとする課題上記した特許文献1に記載されたものでは、タッチパネルに加えて別部品のカバーガラスを用いていたため、部品点数が多くなりがちとなり、低コスト化、軽量化、薄型化などを図る上で限界があった。本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる位置入力装置の製造方法及び位置入力装置の製造装置を提供することを目的とする。課題を解決するための手段本発明の位置入力装置の製造方法は、複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材の表面に一次強化層を形成する一次強化工程と、前記ガラス基板母材の前記一次強化層に対して、入力位置を検出するためのパターン層を外側に積層する形で形成するパターン形成工程と、前記ガラス基板母材を分割して複数の前記ガラス基板を取り出す分割工程と、取り出された前記ガラス基板の端面に、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成する二次強化工程とを備えている。このような位置入力装置の製造方法によると、パターン形成工程では、複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材にパターン層を形成するようにしているので、仮に分割工程を行った後に個々のガラス基板にそれぞれ個別にパターン層を形成した場合に比べると、効率的な処理を行うことができて製造コストの低廉化が可能となる。さらには、先に一次強化工程にてガラス基板母材に一次強化層を形成してから、パターン形成工程にてガラス基板母材にパターン層を形成するようにしているので、一次強化層を形成する上で作用し得る高温などがパターン層に作用するのを回避することができ、もってパターン層がダメージを受けるのを防ぐことができる。上記のようにガラス基板母材に先に一次強化層を形成してからパターン層を形成し、その後に個々のガラス基板を分割する、といった手順での製造を行うと、分割工程に伴って個々のガラス基板の端面には一次強化層が存しなくなる可能性があるものの、本発明では二次強化工程にてガラス基板の端面に二次強化層を形成するようにしているので、強度低下を抑制することができ、もって十分に高い強度を確保することができる。その上で、二次強化工程では、ガラス基板の端面にイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成するようにしているから、例えば風冷強化処理のようにガラス基板全体を加熱する必要がなく、またガラス基板を軟化点に達するまで加熱せずとも二次強化層を形成することが可能とされる。これにより、ガラス基板に形成されたパターン層にダメージを与えることなく、二次強化層を形成することが可能とされる。また、仮にガラス基板の端面にコーティング層を形成することで強化を図った場合に比べると、化学強化処理によって形成された二次強化層は、摩擦などによって欠損することがなく、高い強度を経時的に維持することができる。そして、二次強化工程では、イオン交換による化学強化処理を、間隔をあけて複数回にわたって行うようにしているので、以下の作用及び効果を得ることができる。すなわち、仮に化学強化処理を間隔をあけずに一度に行うと、化学強化処理に伴ってガラス基板の端面が急冷されるおそれがあり、そうなるとガラス基板に熱歪みを生じさせ、その結果端面に元来から存在する僅かな傷やクラックの成長を促してガラス基板に割れなどを生じさせる可能性がある。そうかといってガラス基板の端面を急冷しないよう化学強化処理を抑制して行うと、形成される二次強化層の厚みが十分でなくなり、強度不足となる可能性がある。その点、上記のように二次強化工程にて間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を行うようにすることで、ガラス基板の端面を急冷することなく十分な厚みを持った二次強化層を形成することが可能となる。これにより、二次強化工程においてガラス基板に割れなどが生じるのを回避することができるとともにガラス基板の強度を十分に高くすることができる。以上のようにパターン層を形成したガラス基板の強度を十分に高いものとすることができるから、従来のように、各強化層を有さないガラス基板からなる位置入力装置とは別途に強化ガラスを用いてその位置入力装置の保護を図る場合に比べると、部品点数を削減することができ、もって低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。本発明に係る位置入力装置の製造方法の実施態様として、次の構成が好ましい。1前記二次強化工程には、前記ガラス基板の端面を加熱する加熱工程と、加熱された前記ガラス基板の端面に間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させる化学強化処理工程とが含まれている。このようにすれば、加熱工程にてガラス基板の端面を加熱した上で化学強化処理工程にてガラス基板の端面に間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることで、ガラス基板の端面において効率的にイオン交換を生じさせて化学強化を図ることができる。2前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面に対してレーザ光を照射するようにしている。このようにすれば、ガラス基板のうち端面を局所的に且つ効率的に加熱することができる。3前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面の加熱温度を、前記ガラス基板の軟化点よりも低いものとしている。このようにすれば、仮に加熱温度をガラス基板の軟化点と同じまたはそれよりも高くした場合には、ガラス基板の板面に形成されたパターン層にまで伝熱してパターン層がダメージを受ける可能性があるが、本発明によれば、そのような問題を生じ難くすることができる。4前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面を全周にわたって加熱しており、前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板の端面を全周にわたって化学強化処理するようにしている。このようにすれば、二次強化層をガラス基板の端面の全周にわたって形成することができるから、ガラス基板の強度を一層向上させることができる。5前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板の端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板のうち端面に対して局所的に且つ効率的に化学強化処理液を付着させることができる。6前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板をその板面に沿う方向に搬送するとともにその搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置された複数のノズルから前記端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板を搬送しつつその端面に対して間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。7前記加熱工程では、前記化学強化処理工程に係る前記複数のノズルに対して前記ガラス基板の搬送方向における上流側に配した加熱装置により前記ガラス基板の端面を加熱するようにしている。このようにすれば、ガラス基板を搬送しつつ端面を加熱した後に間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に一層優れる。8前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板を挟んだ両側から前記端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板の端面に対して効率的に化学強化処理液を付着させることができ、製造効率に優れる。9前記化学強化処理工程では、前記化学強化処理液を霧状にして前記ガラス基板の端面に対して吹き付けるようにしている。このようにすれば、化学強化処理液をガラス基板の端面に対して均一な濃度でもって万遍なく付着させることができ、もって均一な厚さの二次強化層を形成することができる。10前記化学強化処理工程では、前記化学強化処理液として、アルカリ金属イオンを含有する溶融塩を用いるようにしている。このようにすれば、化学強化処理液をガラス基板の端面に付着させると、化学強化処理液をなす溶融塩に含有されるアルカリ金属イオンがガラス基板の表面に存するアルカリ金属イオンと交換されることで、ガラス基板の端面に圧縮応力が残留した圧縮層からなる二次強化層が形成される。11前記一次強化工程では、前記ガラス基板の表面に化学強化処理または風冷強化処理を施すことで、前記一次強化層として圧縮層を形成している。このようにすれば、一次強化工程にてガラス基板の表面に一次強化層として圧縮層を形成することで、ガラス基板の強度を十分に高いものとすることができる。12前記一次強化工程では、前記ガラス基板の表面にイオン交換による化学強化処理を施すようにしている。このようにすれば、ガラス基板の強度をさらに高いものとすることができる。13前記分割工程と前記二次強化工程との間に、前記ガラス基板の端部を加工して外形を整える端部加工工程を備える。このようにすれば、端部加工工程にてガラス基板の端部を加工して外形を整えた後に、二次強化工程にてガラス基板の端面に二次強化層を形成することができる。次に、上記課題を解決するために、本発明の位置入力装置の製造装置は、複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材の表面に一次強化層を形成する一次強化装置と、前記ガラス基板母材の前記一次強化層に対して、入力位置を検出するためのパターン層を外側に積層する形で形成するパターン形成装置と、前記ガラス基板母材を分割して複数の前記ガラス基板を取り出す分割装置と、取り出された前記ガラス基板の端面に、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成する二次強化装置とを備えている。このような位置入力装置の製造装置によると、パターン形成装置では、複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材にパターン層を形成するようにしているので、仮に分割装置による分割を行った後に個々のガラス基板にそれぞれ個別にパターン層を形成した場合に比べると、効率的な処理を行うことができて製造コストの低廉化が可能となる。さらには、先に一次強化装置にてガラス基板母材に一次強化層を形成してから、パターン形成装置にてガラス基板母材にパターン層を形成するようにしているので、一次強化層を形成する上で作用し得る高温などがパターン層に作用するのを回避することができ、もってパターン層がダメージを受けるのを防ぐことができる。上記のようにガラス基板母材に先に一次強化層を形成してからパターン層を形成し、その後に個々のガラス基板を分割する、といった手順での製造を行うと、分割工程に伴って個々のガラス基板の端面には一次強化層が存しなくなる可能性があるものの、本発明では二次強化装置にてガラス基板の端面に二次強化層を形成するようにしているので、強度低下を抑制することができ、もって十分に高い強度を確保することができる。その上で、二次強化装置では、ガラス基板の端面にイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成するようにしているから、例えば風冷強化処理のようにガラス基板全体を加熱する必要がなく、またガラス基板を軟化点に達するまで加熱せずとも二次強化層を形成することが可能とされる。これにより、ガラス基板に形成されたパターン層にダメージを与えることなく、二次強化層を形成することが可能とされる。また、仮にガラス基板の端面にコーティング層を形成することで強化を図った場合に比べると、化学強化処理によって形成された二次強化層は、摩擦などによって欠損することがなく、高い強度を経時的に維持することができる。そして、二次強化装置では、イオン交換による化学強化処理を、間隔をあけて複数回にわたって行うようにしているので、以下の作用及び効果を得ることができる。すなわち、仮に化学強化処理を間隔をあけずに一度に行うと、化学強化処理に伴ってガラス基板の端面が急冷されるおそれがあり、そうなるとガラス基板に熱歪みを生じさせ、その結果端面に元来から存在する僅かな傷やクラックの成長を促してガラス基板に割れなどを生じさせる可能性がある。そうかといってガラス基板の端面を急冷しないよう化学強化処理を抑制して行うと、形成される二次強化層の厚みが十分でなくなり、強度不足となる可能性がある。その点、上記のように二次強化装置にて間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を行うようにすることで、ガラス基板の端面を急冷することなく十分な厚みを持った二次強化層を形成することが可能となる。これにより、二次強化層を形成する際にガラス基板に割れなどが生じるのを回避することができるとともにガラス基板の強度を十分に高くすることができる。以上のようにパターン層を形成したガラス基板の強度を十分に高いものとすることができるから、従来のように、各強化層を有さないガラス基板からなる位置入力装置とは別途に強化ガラスを用いてその位置入力装置の保護を図る場合に比べると、部品点数を削減することができ、もって低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。本発明に係る位置入力装置の製造装置の実施態様として、次の構成が好ましい。1前記二次強化装置は、前記ガラス基板をその板面に沿って搬送する搬送装置と、前記搬送装置による前記ガラス基板の搬送方向について相対的に上流側に配されるとともに前記ガラス基板の端面を加熱する加熱装置と、前記搬送方向について相対的に下流側に配されるとともに前記ガラス基板の端面に化学強化処理液を吹き付ける化学強化処理装置とを備え、前記化学強化処理装置は、前記化学強化処理液を噴射可能とされるとともに前記ガラス基板の搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置される複数のノズルを有するものとされる。このようにすれば、搬送装置によりガラス基板を搬送しつつ、加熱装置によりガラス基板の端面を加熱した後、化学強化処理装置が有する複数のノズルから化学強化処理液を噴射することでガラス基板の端面に対して間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。2前記ノズルは、前記搬送装置を前記搬送方向と交差する方向から挟む形で一対を一組として、前記搬送方向に沿って間隔をあけて複数組ずつ並列して配されている。このようにすれば、組をなす一対のノズルから化学強化処理液を噴射することで、一対のノズルに挟まれたガラス基板における一対の端面に対して化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。3前記搬送装置は、前記ガラス基板をその板面に沿う一方向に搬送する第1搬送装置と、前記ガラス基板をその板面に沿い且つ前記第1搬送装置による搬送方向と直交する方向に搬送する第2搬送装置とから構成されるのに対し、前記加熱装置及び前記化学強化処理装置は、それぞれ前記第1搬送装置に対応する第1加熱装置及び第1化学強化処理装置と、前記第2搬送装置に対応する第2加熱装置及び第2化学強化処理装置とから構成される。このようにすれば、第1搬送装置によりガラス基板を搬送しつつ端面に対して第1加熱装置及び第1化学強化処理装置により化学強化処理を施した後、第2搬送装置によってガラス基板を第1搬送装置による搬送方向とは直交する方向に搬送するとともに、第1加熱装置及び第1化学強化処理装置による化学強化処理が施された端面とは異なる端面に対して第2加熱装置及び第2化学強化処理装置により化学強化処理を施すことができる。このようにガラス基板の各端面に対して連続的に化学強化処理を施すことができるので、製造効率に一層優れる。4前記搬送装置は、前記ガラス基板をその板面に沿う一方向に搬送する第1搬送装置と、前記ガラス基板を前記第1搬送装置と同じ方向に搬送する第2搬送装置と、前記第1搬送装置と前記第2搬送装置との間に配されるとともに前記ガラス基板をその板面に沿って回動させる姿勢変換装置とから構成されるのに対し、前記加熱装置及び前記化学強化処理装置は、それぞれ前記第1搬送装置に対応する第1加熱装置及び第1化学強化処理装置と、前記第2搬送装置に対応する第2加熱装置及び第2化学強化処理装置とから構成される。このようにすれば、第1搬送装置によりガラス基板を搬送しつつ端面に対して第1加熱装置及び第1化学強化処理装置により化学強化処理を施した後、姿勢変換装置によりガラス基板をその板面に沿って回動させてガラス基板の姿勢を変換する。そして、姿勢が変換されたガラス基板を第2搬送装置によって第1搬送装置と同じ方向に搬送するとともに、第1加熱装置及び第1化学強化処理装置による化学強化処理が施された端面とは異なる端面に対して第2加熱装置及び第2化学強化処理装置により化学強化処理を施すことができる。このようにガラス基板の各端面に対して連続的に化学強化処理を施すことができるので、製造効率に一層優れる。発明の効果本発明によれば、低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる位置入力装置の製造方法及び位置入力装置の製造装置を提供することができる。本発明の実施形態1に係る液晶表示装置の概略構成を示す断面図液晶表示装置の平面図液晶表示装置に備わるタッチパネルにおけるパターン層の平面構成を概略的に示す平面図図3のiviv線断面図図3のvv線断面図タッチパネルの製造装置の概略構成を表す側面図一次強化工程を行う前のガラス基板母材の平面図一次強化工程を経てガラス基板母材の表面に一次強化層を形成した状態を示す平面図図8のixix線断面図パターン形成工程を経てガラス基板母材にパターン層及び絶縁層を形成した状態を示す平面図分割工程を経てガラス基板母材を分割して複数のガラス基板を取り出した状態を示す平面図端部加工工程を経て各ガラス基板の角部を丸めた状態を示す平面図分割工程または端部加工工程を経たガラス基板における端部を拡大した断面図タッチパネルの製造装置に備えられる二次強化装置の概略構成を表す平面図二次強化工程に含まれる加熱工程にてガラス基板の端面にレーザ光を照射した状態を示す拡大断面図二次強化工程に含まれる化学強化処理工程にてガラス基板の端面に第1ノズルから化学強化処理液を噴射した状態を示す拡大断面図二次強化工程に含まれる化学強化処理工程にてガラス基板の端面に第3ノズルから化学強化処理液を噴射した状態を示す拡大断面図二次強化工程に含まれる化学強化処理工程にてガラス基板の端面に第5ノズルから化学強化処理液を噴射した状態を示す拡大断面図二次強化工程を経てガラス基板の端面に二次強化層を形成した状態を示す平面図ガラス基板を図19のxxxx線に沿って切断したものであって、端部の拡大断面図本発明の実施形態2に係るタッチパネルの製造装置に備えられる二次強化装置の概略構成を表す平面図本発明の実施形態3に係るタッチパネルの製造装置に備えられる二次強化装置の概略構成を表す平面図本発明の実施形態4に係るタッチパネルの製造装置に備えられる二次強化装置の概略構成を表す平面図本発明の実施形態5に係る液晶表示装置の概略構成を示す断面図本発明の実施形態6に係るタッチパネルをX軸方向に沿って切断した断面図タッチパネルをY軸方向に沿って切断した断面図本発明の実施形態7に係るタッチパネルの平面図タッチパネルをX軸方向に沿って切断した断面図本発明の実施形態8に係るタッチパネルをX軸方向に沿って切断した断面図タッチパネルをY軸方向に沿って切断した断面図<実施形態1>本発明の実施形態1を図1から図20によって説明する。本実施形態では、液晶表示装置10に備えられるタッチパネル12の製造方法及び製造装置50について例示する。なお、各図面の一部にはX軸、Y軸及びZ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、上下方向については、図1を基準とし、且つ同図上側を表側とするとともに同図下側を裏側とする。まず、液晶表示装置10の構成について説明する。液晶表示装置10は、図1及び図2に示すように、全体として縦長な方形状をなしており、画像を表示する表示パネルである液晶パネル11と、液晶パネル11の表示面DSの面内における位置情報を入力するためのタッチパネル位置入力装置12と、液晶パネル11に光を供給する外部光源であるバックライト装置13照明装置とを備えている。このうち、タッチパネル12は、液晶パネル11の表側表示面DS側、光出射側に積層する形で配されるとともに接着剤層BLを介して一体化されている。さらに液晶表示装置10は、液晶パネル11と一体化されたタッチパネル12を保持挟持するベゼル14と、ベゼル14が取り付けられるとともに液晶パネル11及びバックライト装置12を収容する筐体15とを備えている。本実施形態に係る液晶表示装置10は、携帯型情報端末電子ブックなどを含む、携帯電話スマートフォンなどを含む、ノートパソコン、携帯型ゲーム機などの各種電子機器図示せずに用いられるものである。このため、液晶表示装置10を構成する液晶パネル11及びタッチパネル12の画面サイズは、数インチ~10数インチ程度とされ、一般的には小型または中小型に分類される大きさとされている。液晶パネル11について説明する。液晶パネル11は、縦長な方形状をなす一対の透明な透光性を有するガラス製の基板11a,11bと、両基板11a,11b間に介在し、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層図示せずとを備え、両基板11a,11bが液晶層の厚さ分のギャップを維持した状態で図示しないシール剤によって貼り合わせられている。なお、液晶パネル11における長辺方向がX軸方向と一致し、短辺方向がY軸方向と一致している。両基板11a,11bのうち表側正面側がCF基板11aとされ、裏側背面側がアレイ基板11bとされる。アレイ基板11bにおける内面側液晶層側、CF基板11aとの対向面側には、スイッチング素子であるTFTThinFilmTransistor及び画素電極が多数個並んで設けられるとともに、これらTFT及び画素電極の周りには、格子状をなすゲート配線及びソース配線が取り囲むようにして配設されている。各配線には、図示しない制御回路から所定の画像信号が供給されるようになっている。画素電極は、ITOIndiumTinOxide:酸化インジウム錫或いはZnOZincOxide:酸化亜鉛といった透明電極からなる。一方、CF基板11aには、各画素に対応した位置に多数個のカラーフィルタが並んで設けられている。カラーフィルタは、R,G,Bの三色が交互に並ぶ配置とされる。各カラーフィルタ間には、混色を防ぐための遮光層ブラックマトリクスが形成されている。カラーフィルタ及び遮光層の表面には、アレイ基板11b側の画素電極と対向する対向電極が設けられている。このCF基板11aは、アレイ基板11bよりも一回り小さい大きさとされる。また、両基板11a,11bの内面側には、液晶層に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜がそれぞれ形成されている。なお、両基板11a,11bの外面側には、それぞれ偏光板が貼り付けられている。タッチパネル12に先じてバックライト装置13について簡単に説明する。バックライト装置13は、いわゆるエッジライト型サイドライト型とされており、光源と、表側液晶パネル11側、光出射側に開口するとともに光源を収容する略箱型のシャーシと、光源が端部に対向状に配されるとともに光源からの光を導光してシャーシの開口部に向けて出射させる導光部材と、シャーシの開口部を覆うようにして配される光学部材とを備える。光源から発せられた光は、導光部材の端部に入射してから導光部材内を伝播してシャーシの開口部へ向けて出射された後、光学部材によって面内の輝度分布が均一な面状の光に変換されてから、液晶パネル11に照射されるようになっている。そして、液晶パネル11が有するTFTの駆動によって液晶パネル11に対する光の透過率が表示面DSの面内において選択的に制御されることで、表示面DSに所定の画像を表示させることができる。なお、光源、シャーシ、導光部材及び光学部材について詳しい図示を省略するものとする。続いて、タッチパネル12について詳しく説明する。本実施形態に係るタッチパネル12は、いわゆる投影型静電容量方式とされており、大まかには、ガラス基板16上に入力位置を検出するためのパターン層17,18を形成してなるとともに、全体として液晶パネル11に表示された画像の目視を妨げない程度の十分な透明性を有している。ガラス基板16は、その材料としてソーダライムガラスが用いられており、ソーダライムガラスは、ケイ砂、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウムを混合して融解することにより得られるものとされ、その軟化点は例えば720度~740度の範囲であって、730度程度とされている。ガラス基板16は、高い透明性を有するとともに液晶パネル11と同様に平面に視て縦長の方形状をなしており、その平面に視た大きさは液晶パネル11をなす基板11a,11bよりも一回り大きなものとされる。既述したようにこのタッチパネル12の画面サイズは、一般的に小型または中小型に分類される大きさとされているため、その製造に際しては、生産効率の高さや生産設備に係るコストなどを考慮して大型のガラス基板母材マザーガラス16Mを用いるようにしており、具体的には1枚のガラス基板母材16Mから合計9枚のガラス基板16を取り出すようにしている図10及び図11参照。なお、この点は液晶パネル11を構成する基板11a,11bに関しても同様である。また、タッチパネル12を構成するガラス基板16は、図2に示すように、四隅に配された角部がそれぞれ平面に視て丸められていて、R形状とされている。タッチパネル12を保持するベゼル14についても同様に四隅の角部が丸みを帯びた形状とされている。パターン層17,18は、図3に示すように、ガラス基板16の板面16a上に積層する形で配されており、X軸方向に沿って延在する複数列の第1パターン層17と、Y軸方向X軸方向と直交交差する方向に沿って延在する複数列の第2パターン層18とからなり、互いに直交交差する両パターン層17,18が平面に視てマトリクス状格子状をなしている。第1パターン層17及び第2パターン層18は、相互の交差部位に囲まれた領域にそれぞれ平面に視て菱形形状をなす電極パッド部17a,18aを有しており、これら第1電極パッド部17aと第2電極パッド部18aとが平面に視て隣り合う形平面に視て交互に並ぶ形となるよう複数ずつ行列状に並列して配されている。逆に言うと、X軸方向に沿って並列する複数の第1電極パッド部17aが相互に接続されることで、1列の第1パターン層17が構成されており、同様にY軸方向に沿って並列する複数の第2電極パッド部18aが相互に接続されることで、1列の第2パターン層17が構成されている。第1パターン層17は、図4及び図5に示すように、ガラス基板16のうち表側を向いた板面使用者によって操作される側の板面、液晶パネル11側とは反対側の板面16aの外側に積層する形で配されており、さらにその外側には第1絶縁層19が積層して配されている。第2パターン層18は、上記した第1絶縁層19の外側に積層する形で配されることで第1パターン層17に対して絶縁状態に保たれており、さらにその外側には第2絶縁層20が積層して配されることで第2パターン層18が外部に露出することが避けられている。つまり、パターン層17,18は、共にガラス基板16の表裏両板面16aのうち使用者によって操作される表側の板面16a片面のみに配されている。なお、図4には、第2パターン層18のうち隣り合う第2電極パッド部18aを繋ぐ部分が図示されており、同様に図5には、第1パターン層17のうち隣り合う第1電極パッド部17aを繋ぐ部分が図示されている。これらのパターン層17,18は、透明導電材料であるITOIndiumTinOxide:酸化インジウム錫からなるものとされており、使用者からは殆ど視認できない程度の高い透明性を有するとともに、図示しない検出回路に接続されている。そして、複数列の第1パターン層17及び複数列の第2パターン層18に順次に電圧を印加した状態で、タッチパネル12の操作面に導電体である使用者の指が接触または接近すると、いずれかのパターン層17,18と使用者の指との間で容量が生じるため、そのパターン層17,18における静電容量値は、他のパターン層17,18における静電容量値とは異なるものとなる。この静電容量の差が生じたパターン層17,18を検出回路により検出することで、そのパターン層17,18の交点の座標が、使用者による操作位置の二次元の位置情報として入力されるようになっている。従って、このタッチパネル12では、使用者が操作面の面内における複数箇所に同時に位置入力した場合の多点検出マルチタッチが可能とされている。これらのパターン層17,18は、タッチパネル12の製造過程において、生産効率の高さや生産設備に係るコストなどを考慮して、複数のガラス基板16が取り出される大型のガラス基板母材16Mにおける各パターン形成領域に一括して形成されるようになっている。ところで、上記したガラス基板16における少なくとも表裏両側の板面表示面DSに沿った面16aには、図4及び図5に示すように、それぞれ一次強化層21が形成されており、それによりガラス基板16の強度が高められている。一次強化層21は、ガラス基板16直接的にはガラス基板母材16Mに化学強化処理を施すことで形成されるものであり、圧縮応力が残留した圧縮層圧縮応力層とされる。ここでいう化学強化処理とは、ガラス基板16を構成するアルカリ金属イオンを、それよりもイオン半径が大きいアルカリ金属イオンとイオン交換により置換することで、ガラス基板16の強化を図る処理をいう。具体的には、本実施形態に係る圧縮層は、ガラス基板16の表面に存在するナトリウムイオンをそれよりもイオン半径が大きな原子であるカリウムイオンに置換することで形成されるイオン交換層とされる。この一次強化層圧縮層、イオン交換層21は、その深さ寸法厚さ寸法が数10μm程度とされ、仮に風冷強化処理によって一次強化層を形成した場合に比べると、相対的に浅い薄いものとされるが、強度の点では風冷強化処理による場合の2倍以上が得られる。この一次強化層21に対して外側に積層する形で上記したパターン層17,18及び絶縁層19,20が形成されている。上記した一次強化層21は、タッチパネル12を製造する過程において、大型のガラス基板母材16Mの全体を、硝酸カリウムを含有した溶融塩化学強化処理液中に浸漬する、いわば浸漬式全体浸漬式の化学強化処理を施すことで形成されている。従って、ガラス基板母材16Mの表面には、表裏の両板面16a及び端面外周端面16bを含む、外周面の全域にわたって万遍なく一次強化層21が形成されることになる。ところが、製造過程では、一次強化されたガラス基板母材16Mを分割することで、個々のガラス基板16が取り出されるようになっているため、取り出された個々のガラス基板16のうち、表裏の両板面16aには一次強化層21が残されるものの、端面16bには一次強化層21が残されなくなる場合がある図13。仮に、ガラス基板の端面が非強化面のまま露出すると、その非強化面において強度が局所的に低くなるため、ガラス基板に損傷などが生じ易くなるおそれがある。そこで、本実施形態では、個々のガラス基板16における端面16bに対して二次強化層22をそれぞれ形成するようにしている。以下、二次強化層22について詳しく説明する。二次強化層22は、図20に示すように、ガラス基板16の端面16bに対してイオン交換による化学強化処理を施すことで形成されている。詳しくは、二次強化層22は、ガラス基板母材16Mから取り出した各ガラス基板16の端面16bに対して選択的にイオン交換による化学強化処理を施すことで、同端面16bのみに選択的に形成されている。二次強化層22は、ガラス基板16の端面16bの表面に存在するナトリウムイオンをそれよりもイオン半径が大きな原子であるカリウムイオンに置換する化学強化処理を行うことで形成される圧縮層イオン交換層により構成されており、構成上は上記した一次強化層21と同様である。ところが、この二次強化層22は、各ガラス基板16に対して個別に化学強化処理を施すことで形成されている点を含めた形成方法に関して一次強化層21とは異なっている。具体的には、二次強化層22は、ガラス基板16の端面16bを局所的に加熱した上で、そこに少なくとも硝酸カリウムを含有した溶融塩化学強化処理液を局所的に吹き付けて付着させることで形成されている。つまり、この二次強化層22は、各ガラス基板16に対して、いわば局所吹付式の化学強化処理を施すことで選択的な範囲端面16bにのみ形成されている。この二次強化層22は、ガラス基板16における端面16bの全周全幅にわたって途切れなく形成されている。このように、ガラス基板16の板面16a及び端面16bにそれぞれ一次強化層21及び二次強化層22が形成されており、しかも一次強化層21及び二次強化層22が共に化学強化処理による圧縮層からなるものであるため、位置情報入力機能を備えたタッチパネル12の強度を極めて高いものとすることができる。これにより、従来のようにカバーガラスを用いる必要がなくなるから、低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。上記したような構造とされる液晶表示装置10の製造方法について説明する。液晶表示装置10は、それぞれ別途に製造された液晶パネル11及びタッチパネル12のいずれか一方または両方に接着剤を塗布するとともに相互を板面に沿った方向X軸方向及びY軸方向について位置合わせしつつ貼り合わせることで、接着剤層BLを介して液晶パネル11とタッチパネル12とが位置決め状態で一体化される。続いて、タッチパネル12の外周端部をベゼル14により保持挟持させる作業を行う一方、筐体15内にバックライト装置13を収容しておく。そして、ベゼル14を筐体15に取り付けることで、図1に示すように、タッチパネル12に一体化された液晶パネル11が筐体15内に収容されるとともに、液晶パネル11に対してバックライト装置13における光出射面が対向状に配され、もって液晶表示装置10が得られる。以下では、液晶表示装置10の構成部品のうち、特にタッチパネル11の製造方法について詳しく説明するとともにタッチパネル11の製造装置50についても詳しく説明する。タッチパネル12は、大まかには、大型のガラス基板母材16Mの表面に一次強化層21を形成する一次強化工程と、ガラス基板母材16Mの一次強化層21に対して外側に積層する形でパターン層17,18及び絶縁層19,20を形成するパターン形成工程と、ガラス基板母材16Mを分割して複数のガラス基板16を取り出す分割工程と、取り出されたガラス基板16の端部に加工を施す端部加工工程と、ガラス基板16の端面16bに二次強化層22を形成する二次強化工程とを順次に経て製造されるようになっている。上記のような工程を経てタッチパネル12を製造するための製造装置50は、図6に示すように、ガラス基板母材16Mの表面に一次強化層21を形成する一次強化装置51と、ガラス基板母材16Mの一次強化層21に対して外側に積層する形でパターン層17,18及び絶縁層19,20を形成するパターン形成装置52と、ガラス基板母材16Mを分割して複数のガラス基板16を取り出す分割装置53と、取り出されたガラス基板16の端部に加工を施す端部加工装置54と、ガラス基板16の端面16bに二次強化層22を形成する二次強化装置55とを備えている。まず、一次強化工程では、図6に示す一次強化装置51を用いて、図7に示すガラス基板母材16Mの表面にイオン交換による浸漬式の化学強化処理を施すようにしている。詳しくは、一次強化装置51は、硝酸カリウムを含有する溶融塩からなる化学強化処理液で満たした化学強化処理槽図示せずを備えるものであり、一次強化工程では、この化学強化処理槽内にガラス基板母材16Mを投入して化学強化処理液中に全体的に浸漬し、数時間から10数時間の間、380度~450度の温度環境下に保つようにする。この過程では、ガラス基板母材16Mの表面に存在するナトリウムイオンと、化学強化処理液中に存在するカリウムイオンとが交換され、カリウムイオンがガラス基板母材16Mの表面に進入していき、それによりイオン交換層が形成される。そして、このカリウムイオンは、ナトリウムイオンよりもイオン半径が大きい原子であるため、ガラス基板母材16Mの表面に形成されたイオン交換層は、圧縮応力が残存した圧縮層となっている。これにより、ガラス基板母材16Mの表面には、図8及び図9に示すように、全周にわたって圧縮層である一次強化層21が万遍なく形成される。このように一次強化工程では、化学強化法を用いてガラス基板母材16Mの一次強化を図るようにしているので、仮に風冷強化法を用いた場合に比べると、2倍以上の強度を得ることができる。次に、パターン形成工程では、図6に示すパターン形成装置52を用いて、ガラス基板母材16Mの板面一次強化層21の外面のうち、取り出される予定の9枚のガラス基板16に対応した9つのパターン形成領域に既知のフォトリソグラフィ法によりパターン層17,18及び絶縁層19,20を順次に積層形成する。詳しくは、パターン形成装置52は、ガラス基板母材16Mにマスクを用いて露光する露光装置と、露光したガラス基板母材16Mを現像する現像装置とからなり、パターン形成工程では、このパターン形成装置52を用いて、ガラス基板母材16Mの両板面のうち、片側の板面に対して第1パターン層17、第1絶縁層19、第2パターン層18、第2絶縁層20の順でそれぞれパターニングしていく。これにより、ガラス基板母材16Mには、図10に示すように、取り出される予定の9枚のガラス基板16におけるパターン層17,18及び絶縁層19,20が全て一括して形成されることになる。従って、仮に枚葉式の処理装置を用いて個々のガラス基板16に対してパターン層17,18及び絶縁層19,20を形成した場合に比べると、生産効率が極めて高いものとされるのに加えて、生産設備に係るコストの面でも優れ、もって低コストでの生産が可能とされる。その上、一次強化工程を経たガラス基板母材16Mに対してパターン形成工程を行うようにしているので、例えばパターン形成工程を経てから一次強化工程を行った場合のように、パターン層17,18が高温環境下に曝されることがなく、また硝酸カリウムを含む溶融塩中に曝されることもないので、パターン層17,18がダメージを受けるのを回避することができる。続いて、分割工程では、図6に示す分割装置53を用いて、図11に示すように、ガラス基板母材16Mを格子状に分割して9枚のガラス基板16を取り出すようにしている。詳しくは、分割装置53は、例えば炭酸ガスレーザ等のレーザ光を発振して照射するレーザ装置と、水ないしは圧縮空気を噴射する冷却装置とからなり、分割工程では、この分割装置53を用いて、ガラス基板母材16Mの分断予定ラインにレーザ光を照射して加熱してから、水ないしは圧縮空気を噴射して強制冷却することで、ガラス基板母材16M中に生じさせる熱歪みをトリガーとしてガラス基板母材16Mを分断予定ラインに沿って分断することができる。分割工程を経て分割された個々のガラス基板16は、図13に示すように、表裏の両板面16aには、一次強化層21がほぼ全域にわたって残存しているものの、端面16bには、上記した分割に伴って一次強化層21が残存しなくなっている。このため、仮にガラス基板の端面が非強化面のままとされると、その非強化面において強度が局所的に低くなるため、ガラス基板に損傷などが生じ易くなるおそれがある。次に、端部加工工程では、図6に示す端部加工装置54を用いて、図12に示すように、分割された各ガラス基板16の端部のうち、四隅の角部を加工して平面形状を丸めるようにする。詳しくは、端部加工装置54は、例えばグラインダーを有しており、端部加工工程では、グラインダーによってガラス基板16の各角部を研削加工するようにしている。なお、この端部加工工程を経た後でも、ガラス基板16のうち一次強化層21が形成されていない端面16bは、依然として非強化面のままとされる図13。そして、二次強化工程では、図6に示す二次強化装置55を用いてイオン交換による局所吹付式の化学強化処理を行うようにしている。詳しくは、二次強化装置55は、図14に示すように、ガラス基板16を同図矢線方向図14に示す右方へ向けて搬送する搬送装置56と、搬送されるガラス基板16の端面16bを加熱する加熱装置57と、搬送されるガラス基板16の端面16bに硝酸カリウムを含有した溶融塩化学強化処理液を付着させる化学強化処理装置58とから構成されている。この二次強化装置55を用いて行われる二次強化工程は、ガラス基板16の端面16bを加熱する加熱工程図15と、加熱されたガラス基板16の端面16bに硝酸カリウムを含有した溶融塩化学強化処理液を付着させる化学強化処理工程図16から図18とを順次に行うようにしている。以下、二次強化装置55を構成する各装置56~58の具体的な構成、及び二次強化工程を構成する各工程の具体的な内容について説明する。まず、搬送装置56は、図14に示すように、ガラス基板16をその板面16aに沿う一方向X軸方向、図14ではガラス基板16の短辺に沿う方向に向けて直線的に搬送することが可能なベルトコンベアを備えており、その搬送速度はほぼ一定とされる。加熱装置57は、次述する化学強化処理装置58に対して相対的に搬送装置56によるガラス基板16の搬送方向の上流側図14に示す左側に配されており、例えば炭酸ガスレーザやYAGレーザ等のレーザ光を発振するレーザ発振装置図示せずと、レーザ光を照射するレーザヘッド57aとを備えている。このうち、レーザヘッド57aは、搬送装置56搬送されるガラス基板16をその搬送方向と直交する方向Y軸方向から挟み込むようにして両側に一対、対向状に配されている。そして、加熱工程では、搬送装置56により搬送されるガラス基板16のうち、搬送方向X軸方向に沿った両端面16b搬送方向と直交する方向について外側を向いた両端面16bに対して、対をなすレーザヘッド57aからそれぞれレーザ光が照射される。すると、図14及び図15に示すように、ガラス基板16の両端面16bにおけるレーザ光の照射位置が局所的に且つ効率的に加熱され、それにより同端面16bの表面温度が引き続き行われる化学強化処理に適したものとされる。なお、図14及び図15ではレーザ光の照射範囲を一点鎖線にて図示している。このとき、ガラス基板16のうち端面16bのみにレーザ光が照射されて選択的に加熱されるのに対して、ガラス基板16のうち板面16a及びそこに形成された各パターン層17,18には、レーザ光が照射されることがなく、これらが直接加熱される事態が回避されている。しかも、レーザ光によるガラス基板16の端面16bの加熱温度は、ガラス基板16の軟化点よりも十分に低い程度とされているので、レーザ光により直接加熱された端面16bから、板面16aや各パターン層17,18へと伝熱が生じても、各パターン層17,18はダメージを受けるほどの高温状態には至ることが殆どないものとされる。レーザ光によるガラス基板16の端面16bの具体的な加熱温度は、例えば380度~450度の範囲とされるのが好ましく、それにより各パターン層17,18を劣化させるようなダメージを殆ど与えることなく、且つ続いて行われる化学強化処理工程でのイオン交換を効率的に促進させることが可能とされる。この加熱工程では、ガラス基板16は、搬送装置56によって搬送されることで、レーザ光を照射するレーザヘッド57aに対して一定の速度で相対移動されるので、レーザ光をガラス基板16の端面16bに対してその延在方向X軸方向またはY軸方向に沿って走査させることができる。そして、レーザ光をガラス基板16の端面16bに対して全周全幅にわたって照射することで、ガラス基板16の端面16bが全域にわたって加熱される。化学強化処理装置58は、図14に示すように、加熱装置57に対して相対的に搬送装置56によるガラス基板16の搬送方向の下流側図14に示す右側に配されており、化学強化処理液硝酸カリウムを含有した溶融塩を噴射可能な複数のノズル58a~58eを備えている。具体的には、ノズル58a~58eは、搬送装置56によるガラス基板16の搬送方向X軸方向に沿って空間的な間隔をあけて5つが並列して配されており、上流側から順に第1ノズル58a、第2ノズル58b、第3ノズル58c、第4ノズル58d、第5ノズル58eとされる。上記搬送方向について隣り合う各ノズル58a~58eの空間的な間隔、つまり各ノズル58a~58eの配列ピッチPTは、ほぼ等しいもの等間隔とされている。各ノズル58a~58eは、レーザヘッド57aと同様に、搬送装置56搬送されるガラス基板16をその搬送方向と直交する方向Y軸方向から挟み込むようにして両側に一対ずつ、それぞれ対向状に配されている。各ノズル58a~58eからは、化学強化処理液を霧状にして吹き付けることが可能とされており、それによりガラス基板16の端面16bに対して極力均一な濃度でもって万遍なく化学強化処理液を付着させることができる。化学強化処理工程では、図14に示すように、搬送装置56により搬送されるガラス基板16のうち、搬送方向X軸方向に沿った両端面16b搬送方向と直交する方向について外側を向いた両端面16bに対して、対をなす各ノズル58a~58eから化学強化処理液が所定の時間的な間隔をあけて5回にわたって間欠的に吹き付けられるものとされる。詳しくは、加熱工程にてレーザヘッド57aによって化学強化処理に適した表面温度にまで加熱されたガラス基板16が第1ノズル58aによる処理位置にまで搬送装置56により搬送されると、図14及び図16に示すように、両端面16bには対向する一対の第1ノズル58aから化学強化処理液が霧状にして吹き付けられるとともに所定量が付着する。それからガラス基板16が次の第2ノズル58bによる処理位置にまで搬送装置56により搬送されるまでの間は、化学強化処理がなされることがなく、いわば非処理期間が設けられている。そして、ガラス基板16は、第2ノズル58bによる処理位置に至ると、両端面16bが一対の第2ノズル58bにより化学強化処理され、その後再び非処理期間を経て第3ノズル58cによる化学強化処理図17がなされ、その後再び非処理期間を経て第4ノズル58dによる化学強化処理がなされ、再び非処理期間を経て第5ノズル58eによる化学強化処理図18がなされる。なお、図14,図16,図17及び図18では化学強化処理液の吹き付け範囲を一点鎖線にて図示している。このように、ガラス基板16は、化学強化処理が行われる処理期間と、化学強化処理が行われない非処理期間とを交互に経て、端面16bに対して少量ずつの化学強化処理液が供給されることで、二次強化層22が徐々に厚み深さを増すよう、成長形成される。ここで、仮に化学強化処理を非処理期間を設けることなく一度に行った場合には、短時間で相対的に大量の化学強化処理液が端面に吹き付けられるため、化学強化処理液によってガラス基板の端面が急冷されるおそれがあり、そうなると分割工程にて説明したのと同様の原理でもってガラス基板に熱歪みを生じさせるとともに端面に元来から存在する僅かな傷やクラックの成長を促してしまい、ガラス基板を割断させるおそれがある。そうかといってガラス基板の端面を急冷しないよう化学強化処理時に吹き付ける化学強化処理液の量を単に少量にしたのでは、形成される二次強化層の厚みが不十分なものとなって、得られる強度が不足するおそれがある。その点、本実施形態では、上記のように化学強化処理を時間的な間隔をあけて5回に分けて繰り返し間欠的に行う、いわばインターバル式の化学強化処理を行うようにし、少量ずつの化学強化処理液を時間をかけてガラス基板16の端面16bに付着させることで二次強化層22を徐々に成長形成させているから、ガラス基板16の端面16bを急冷することがなく、且つ十分な厚み深さを持った二次強化層22を形成することができる。これにより、ガラス基板16に割断が生じるのを回避できるとともにガラス基板16の強度を十分に高めることができる。また、5回の処理期間の間に挿入される4回の非処理期間時間的な間隔は、隣り合う各ノズル58a~58eの配列ピッチ空間的な間隔PTに準ずるものであるから、互いにほぼ等しいものとされる。また、この化学強化処理工程では、ガラス基板16は、搬送装置56によって搬送されることで、化学強化処理液を吹き付ける各ノズル58a~58eに対して一定の速度で相対移動されるので、化学強化処理液をガラス基板16の端面16bに対してその延在方向X軸方向またはY軸方向に沿って連続的に付着させることができる。そして、化学強化処理液をガラス基板16の端面16bに対して全周全幅にわたって付着させることで、図19及び図20に示すように、ガラス基板16の端面16bの全域にわたって二次強化層22が形成される。なお、化学強化処理では、ガラス基板16の端面16bにおける表面に存在するナトリウムイオンと、化学強化処理液中に存在するカリウムイオンとが効率的に交換され、カリウムイオンがガラス基板16の端面16bにおける表面に進入していき、それによりイオン交換層が形成されている。このカリウムイオンは、ナトリウムイオンよりもイオン半径が大きい原子であるため、ガラス基板16の端面16bにおける表面に形成されたイオン交換層は、圧縮応力が残存した圧縮層とされる。このようにして形成された二次強化層22は、化学強化処理によってガラス基板16の端面16bに形成されたものであるから、例えばガラス基板の端面に強化のためのコーティング層を形成した場合に比べると、例えば液晶表示装置10を持ち運んで使用するのに伴う摩擦などによって欠損が生じるようなことが避けられ、もって経時的に高い強度を維持することができる。しかも、この二次強化層22は、局所吹付式の化学強化処理によってガラス基板16の端面16bに形成されているので、仮にパターン層を形成したガラス基板に風冷強化処理や浸漬式の化学強化処理などを行うことで端面に二次強化層を形成した場合に比べると、ガラス基板16全体が高温状態になることがないので、板面16aに形成したパターン層17,18に熱的または化学的なダメージが及ぶのを避けることができる。さらには、二次強化層22は、局所吹付式の化学強化処理によって形成されているので、仮にガラス基板の端面にレーザ光を照射して軟化点まで加熱することで端面を局所的に溶融させて平滑層を形成することで強化を図った場合に比べると、処理温度が相対的に低いものとされるので、パターン層17,18に熱的なダメージが及び難くなっている。以上のようにガラス基板16のうち板面16aに一次強化層21が形成されるとともに端面16bに二次強化層22が形成され、しかもこれら一次強化層21及び二次強化層22が共に化学強化処理によって形成された圧縮層イオン交換層とされているから、ガラス基板16の外周面が全域にわたってムラなく強化されており、もって極めて高い強度を備えたタッチパネル12を得ることができる。従って、従来のようなカバーガラスを用いてタッチパネル12の保護を図るようにした場合に比べると、低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。以上説明したように本実施形態のタッチパネル位置入力装置12の製造方法は、複数のガラス基板16を取り出すことが可能なガラス基板母材16Mの表面に一次強化層21を形成する一次強化工程と、ガラス基板母材16Mの一次強化層21に対して、入力位置を検出するためのパターン層17,18を外側に積層する形で形成するパターン形成工程と、ガラス基板母材16Mを分割して複数のガラス基板16を取り出す分割工程と、取り出されたガラス基板16の端面16bに、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層22を形成する二次強化工程とを備えている。このようなタッチパネル12の製造方法によると、パターン形成工程では、複数のガラス基板16を取り出すことが可能なガラス基板母材16Mにパターン層17,18を形成するようにしているので、仮に分割工程を行った後に個々のガラス基板16にそれぞれ個別にパターン層を形成した場合に比べると、効率的な処理を行うことができて製造コストの低廉化が可能となる。さらには、先に一次強化工程にてガラス基板母材16Mに一次強化層21を形成してから、パターン形成工程にてガラス基板母材16Mにパターン層17,18を形成するようにしているので、一次強化層21を形成する上で作用し得る高温などがパターン層17,18に作用するのを回避することができ、もってパターン層17,18がダメージを受けるのを防ぐことができる。上記のようにガラス基板母材16Mに先に一次強化層21を形成してからパターン層17,18を形成し、その後に個々のガラス基板16を分割する、といった手順での製造を行うと、分割工程に伴って個々のガラス基板16の端面16bには一次強化層21が存しなくなる可能性があるものの、本実施形態では二次強化工程にてガラス基板16の端面16bに二次強化層22を形成するようにしているので、強度低下を抑制することができ、もって十分に高い強度を確保することができる。その上で、二次強化工程では、ガラス基板16の端面16bにイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層22を形成するようにしているから、例えば風冷強化処理のようにガラス基板16全体を加熱する必要がなく、またガラス基板16を軟化点に達するまで加熱せずとも二次強化層22を形成することが可能とされる。これにより、ガラス基板16に形成されたパターン層17,18にダメージを与えることなく、二次強化層22を形成することが可能とされる。また、仮にガラス基板16の端面16bにコーティング層を形成することで強化を図った場合に比べると、化学強化処理によって形成された二次強化層22は、摩擦などによって欠損することがなく、高い強度を経時的に維持することができる。そして、二次強化工程では、イオン交換による化学強化処理を、間隔をあけて複数回にわたって行うようにしているので、以下の作用及び効果を得ることができる。すなわち、仮に化学強化処理を間隔をあけずに一度に行うと、化学強化処理に伴ってガラス基板16の端面16bが急冷されるおそれがあり、そうなるとガラス基板16に熱歪みを生じさせ、その結果端面16bに元来から存在する僅かな傷やクラックの成長を促してガラス基板16に割れなどを生じさせる可能性がある。そうかといってガラス基板16の端面16bを急冷しないよう化学強化処理を抑制して行うと、形成される二次強化層22の厚みが十分でなくなり、強度不足となる可能性がある。その点、上記のように二次強化工程にて間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を行うようにすることで、ガラス基板16の端面16bを急冷することなく十分な厚み深さを持った二次強化層22を形成することが可能となる。これにより、二次強化工程においてガラス基板16に割れなどが生じるのを回避することができるとともにガラス基板16の強度を十分に高くすることができる。以上のようにパターン層17,18を形成したガラス基板16の強度を十分に高いものとすることができるから、従来のように、各強化層を有さないガラス基板16からなるタッチパネル12とは別途に強化ガラスを用いてそのタッチパネル12の保護を図る場合に比べると、部品点数を削減することができ、もって低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。また、二次強化工程には、ガラス基板16の端面16bを加熱する加熱工程と、加熱されたガラス基板16の端面16bに間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させる化学強化処理工程とが含まれている。このようにすれば、加熱工程にてガラス基板16の端面16bを加熱した上で化学強化処理工程にてガラス基板16の端面16bに間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることで、ガラス基板16の端面16bにおいて効率的にイオン交換を生じさせて化学強化を図ることができる。また、加熱工程では、ガラス基板16の端面16bに対してレーザ光を照射するようにしている。このようにすれば、ガラス基板16のうち端面16bを局所的に且つ効率的に加熱することができる。また、加熱工程では、ガラス基板16の端面16bの加熱温度を、ガラス基板16の軟化点よりも低いものとしている。このようにすれば、仮に加熱温度をガラス基板16の軟化点と同じまたはそれよりも高くした場合には、ガラス基板16の板面16aに形成されたパターン層17,18にまで伝熱してパターン層17,18がダメージを受ける可能性があるが、本実施形態によれば、そのような問題を生じ難くすることができる。また、加熱工程では、ガラス基板16の端面16bを全周にわたって加熱しており、化学強化処理工程では、ガラス基板16の端面16bを全周にわたって化学強化処理するようにしている。このようにすれば、二次強化層22をガラス基板16の端面16bの全周にわたって形成することができるから、ガラス基板16の強度を一層向上させることができる。また、化学強化処理工程では、ガラス基板16の端面16bに対して化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板16のうち端面16bに対して局所的に且つ効率的に化学強化処理液を付着させることができる。また、化学強化処理工程では、ガラス基板16をその板面16aに沿う方向に搬送するとともにその搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置された複数のノズル58a~58eから端面16bに対して化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板16を搬送しつつその端面16bに対して間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。また、加熱工程では、化学強化処理工程に係る複数のノズル58a~58eに対してガラス基板16の搬送方向における上流側に配した加熱装置57によりガラス基板16の端面16bを加熱するようにしている。このようにすれば、ガラス基板16を搬送しつつ端面16bを加熱した後に間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に一層優れる。また、化学強化処理工程では、ガラス基板16を挟んだ両側から端面16bに対して化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板16の端面16bに対して効率的に化学強化処理液を付着させることができ、製造効率に優れる。また、化学強化処理工程では、化学強化処理液を霧状にしてガラス基板16の端面16bに対して吹き付けるようにしている。このようにすれば、化学強化処理液をガラス基板16の端面16bに対して均一な濃度でもって万遍なく付着させることができ、もって均一な厚さの二次強化層22を形成することができる。また、化学強化処理工程では、化学強化処理液として、アルカリ金属イオンを含有する溶融塩を用いるようにしている。このようにすれば、化学強化処理液をガラス基板16の端面16bに付着させると、化学強化処理液をなす溶融塩に含有されるアルカリ金属イオンがガラス基板16の表面に存するアルカリ金属イオンと交換されることで、ガラス基板16の端面16bに圧縮応力が残留した圧縮層からなる二次強化層22が形成される。また、一次強化工程では、ガラス基板16の表面に化学強化処理または風冷強化処理を施すことで、一次強化層21として圧縮層を形成している。このようにすれば、一次強化工程にてガラス基板16の表面に一次強化層21として圧縮層を形成することで、ガラス基板16の強度を十分に高いものとすることができる。また、一次強化工程では、ガラス基板16の表面にイオン交換による化学強化処理を施すようにしている。このようにすれば、ガラス基板16の強度をさらに高いものとすることができる。また、分割工程と二次強化工程との間に、ガラス基板16の端部を加工して外形を整える端部加工工程を備える。このようにすれば、端部加工工程にてガラス基板16の端部を加工して外形を整えた後に、二次強化工程にてガラス基板16の端面16bに二次強化層22を形成することができる。しかも、本実施形態に係るタッチパネル12の製造装置50は、複数のガラス基板16を取り出すことが可能なガラス基板母材16Mの表面に一次強化層21を形成する一次強化装置51と、ガラス基板母材16Mの一次強化層21に対して、入力位置を検出するためのパターン層17,18を外側に積層する形で形成するパターン形成装置52と、ガラス基板母材16Mを分割して複数のガラス基板16を取り出す分割装置53と、取り出されたガラス基板16の端面16bに、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層22を形成する二次強化装置55とを備えている。このようなタッチパネル12の製造装置50によると、パターン形成装置52では、複数のガラス基板16を取り出すことが可能なガラス基板母材16Mにパターン層17,18を形成するようにしているので、仮に分割装置53による分割を行った後に個々のガラス基板16にそれぞれ個別にパターン層17,18を形成した場合に比べると、効率的な処理を行うことができて製造コストの低廉化が可能となる。さらには、先に一次強化装置51にてガラス基板母材16Mに一次強化層21を形成してから、パターン形成装置52にてガラス基板母材16Mにパターン層17,18を形成するようにしているので、一次強化層21を形成する上で作用し得る高温などがパターン層17,18に作用するのを回避することができ、もってパターン層17,18がダメージを受けるのを防ぐことができる。上記のようにガラス基板母材16Mに先に一次強化層21を形成してからパターン層17,18を形成し、その後に個々のガラス基板16を分割する、といった手順での製造を行うと、分割工程に伴って個々のガラス基板16の端面16bには一次強化層21が存しなくなる可能性があるものの、本実施形態では二次強化装置55にてガラス基板16の端面16bに二次強化層22を形成するようにしているので、強度低下を抑制することができ、もって十分に高い強度を確保することができる。その上で、二次強化装置55では、ガラス基板16の端面16bにイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層22を形成するようにしているから、例えば風冷強化処理のようにガラス基板16全体を加熱する必要がなく、またガラス基板16を軟化点に達するまで加熱せずとも二次強化層22を形成することが可能とされる。これにより、ガラス基板16に形成されたパターン層17,18にダメージを与えることなく、二次強化層22を形成することが可能とされる。また、仮にガラス基板16の端面16bにコーティング層を形成することで強化を図った場合に比べると、化学強化処理によって形成された二次強化層22は、摩擦などによって欠損することがなく、高い強度を経時的に維持することができる。そして、二次強化装置55では、イオン交換による化学強化処理を、間隔をあけて複数回にわたって行うようにしているので、以下の作用及び効果を得ることができる。すなわち、仮に化学強化処理を間隔をあけずに一度に行うと、化学強化処理に伴ってガラス基板16の端面16bが急冷されるおそれがあり、そうなるとガラス基板16に熱歪みを生じさせ、その結果端面16bに元来から存在する僅かな傷やクラックの成長を促してガラス基板16に割れなどを生じさせる可能性がある。そうかといってガラス基板16の端面16bを急冷しないよう化学強化処理を抑制して行うと、形成される二次強化層22の厚みが十分でなくなり、強度不足となる可能性がある。その点、上記のように二次強化装置55にて間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を行うようにすることで、ガラス基板16の端面16bを急冷することなく十分な厚み深さを持った二次強化層22を形成することが可能となる。これにより、二次強化層22を形成する際にガラス基板16に割れなどが生じるのを回避することができるとともにガラス基板16の強度を十分に高くすることができる。以上のようにパターン層17,18を形成したガラス基板16の強度を十分に高いものとすることができるから、従来のように、各強化層を有さないガラス基板16からなるタッチパネル12とは別途に強化ガラスを用いてそのタッチパネル12の保護を図る場合に比べると、部品点数を削減することができ、もって低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。また、二次強化装置55は、ガラス基板16をその板面16aに沿って搬送する搬送装置56と、搬送装置56によるガラス基板16の搬送方向について相対的に上流側に配されるとともにガラス基板16の端面16bを加熱する加熱装置57と、搬送方向について相対的に下流側に配されるとともにガラス基板16の端面16bに化学強化処理液を吹き付ける化学強化処理装置58とを備え、化学強化処理装置58は、化学強化処理液を噴射可能とされるとともにガラス基板16の搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置される複数のノズル58a~58eを有するものとされる。このようにすれば、搬送装置56によりガラス基板16を搬送しつつ、加熱装置57によりガラス基板16の端面16bを加熱した後、化学強化処理装置58が有する複数のノズル58a~58eから化学強化処理液を噴射することでガラス基板16の端面16bに対して間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。また、ノズル58a~58eは、搬送装置56を搬送方向と交差する方向から挟む形で一対を一組として、搬送方向に沿って間隔をあけて複数組ずつ並列して配されている。このようにすれば、組をなす一対のノズル58a~58eから化学強化処理液を噴射することで、一対のノズル58a~58eに挟まれたガラス基板16における一対の端面16bに対して化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。<実施形態2>本発明の実施形態2を図21によって説明する。この実施形態2では、タッチパネルの製造装置のうち二次強化装置155の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。本実施形態に係る二次強化装置155を構成する搬送装置156は、図21に示すように、平面に視て方形状をなすガラス基板16をその短辺に沿う方向X軸方向に搬送する第1搬送装置156Aと、ガラス基板16をその長辺に沿う方向Y軸方向、つまり第1搬送装置156Aによる搬送方向と直交する方向に搬送する第2搬送装置156Bとから構成され、全体として平面に視てL字型をなしている。これに対応して、加熱装置157及び化学強化処理装置158は、それぞれ第1搬送装置156Aに沿って配される第1加熱装置157A及び第1化学強化処理装置158Aと、第2搬送装置156Bに沿って配される第2加熱装置157B及び第2化学強化処理装置158Bとから構成されている。詳しくは、この搬送装置156は、ガラス基板16を一定の姿勢短辺がX軸方向に並行し且つ長辺がY軸方向に並行する姿勢のまま搬送するものであり、第1搬送装置156Aの最下流部と、第2搬送装置156Bの最上流部とが互いに接続されることで、ガラス基板16を互いに直交する2方向に順次に搬送することが可能とされる。第1加熱装置157Aのレーザヘッド157Aa及び第1化学強化処理装置158Aの各ノズル158Aa~158Aeは、第1搬送装置156Aによるガラス基板16の搬送方向に沿って空間的な間隔をあけて並列して配されるとともに第1搬送装置156Aをその搬送方向と直交する方向Y軸方向から挟み込む形で両側に一対ずつ配されるとともに、搬送されるガラス基板16における短辺側の両端面16b1に対して対向状をなす。同様に第2加熱装置157Bのレーザヘッド157Ba及び第2化学強化処理装置158Bの各ノズル158Ba~158Beは、第2搬送装置156Bによるガラス基板16の搬送方向に沿って空間的な間隔をあけて並列して配されるとともに第2搬送装置156Bをその搬送方向と直交する方向X軸方向から挟み込む形で両側に一対ずつ配されるとともに、搬送されるガラス基板16における長辺側の両端面16b2に対して対向状をなす。二次強化工程では、第1搬送装置156Aによってガラス基板16をその短辺に沿う方向に搬送するとともにその短辺側の両端面16b1に対して第1加熱装置157Aをなす一対のレーザヘッド157Aaからレーザ光が照射されることで、短辺側の両端面16b1が加熱され、引き続いて第1化学強化処理装置158Aをなす一対ずつの各ノズル158Aa~158Aeによって時間的な間隔をあけて5回にわたって間欠的に化学強化処理が行われることで、短辺側の両端面16b1に二次強化層22が形成される図20を参照。第1搬送装置156Aから第2搬送装置156Bへとガラス基板16が受け渡されると、第2搬送装置156Bによりガラス基板16は、その長辺に沿う方向に搬送される。搬送されるガラス基板16のうち、長辺側の両端面16b2には、先に第2加熱装置157Bをなす一対のレーザヘッド157Baからレーザ光が照射されることで、長辺側の両端面16b2が加熱され、引き続いて第2化学強化処理装置158Bをなす一対ずつの各ノズル158Ba~158Beによって時間的な間隔をあけて5回にわたって間欠的に化学強化処理が行われることで、長辺側の両端面16b2に二次強化層22が形成される。以上により、平面に視て方形状をなすガラス基板16における4辺の各端面16b1,16b2に対して連続的に且つ効率的に二次強化層22を形成することができる。以上説明したように本実施形態によれば、搬送装置156は、ガラス基板16をその板面16aに沿う一方向に搬送する第1搬送装置156Aと、ガラス基板16をその板面16aに沿い且つ第1搬送装置156による搬送方向と直交する方向に搬送する第2搬送装置156Bとから構成されるのに対し、加熱装置157及び化学強化処理装置158は、それぞれ第1搬送装置156Aに対応する第1加熱装置157A及び第1化学強化処理装置158Aと、第2搬送装置156Bに対応する第2加熱装置157B及び第2化学強化処理装置158Bとから構成される。このようにすれば、第1搬送装置156Aによりガラス基板16を搬送しつつ端面16b1に対して第1加熱装置157A及び第1化学強化処理装置158Aにより化学強化処理を施した後、第2搬送装置156Bによってガラス基板16を第1搬送装置156Aによる搬送方向とは直交する方向に搬送するとともに、第1加熱装置157A及び第1化学強化処理装置158Aによる化学強化処理が施された端面16b1とは異なる端面16b2に対して第2加熱装置157B及び第2化学強化処理装置158Bにより化学強化処理を施すことができる。このようにガラス基板16の各端面16b1,16b2に対して連続的に化学強化処理を施すことができるので、製造効率に一層優れる。<実施形態3>本発明の実施形態3を図22によって説明する。この実施形態3では、上記した実施形態2から二次強化装置255の構成をさらに変更したものを示す。なお、上記した実施形態1,2と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。本実施形態に係る二次強化装置255を構成する搬送装置256は、図22に示すように、ガラス基板16をX軸方向に沿って搬送する第1搬送装置256Aと、ガラス基板16をX軸方向、つまり第1搬送装置256Aによる搬送方向と同じ方向に搬送する第2搬送装置256Bと、第1搬送装置256Aと第2搬送装置256Bとの間に介在する形で配されるとともにガラス基板16をその板面16aに沿って約90度の角度範囲で回転回動させることが可能なターンテーブル姿勢変換装置59とから構成されている。詳しくは、ターンテーブル59は、第1搬送装置256Aの最下流部と、第2搬送装置256Bの最上流部とに対してそれぞれ接続されることで、第1搬送装置256Aによって搬送されたガラス基板16の姿勢を、約90度回転させた姿勢に変換した上で、第2搬送装置256Bに受け渡すことができるものとされる。具体的には、第1搬送装置256Aによるガラス基板16の搬送姿勢は、短辺をX軸方向に並行させ且つ長辺をY軸方向に並行させた第1の姿勢とされるのに対し、第2搬送装置256Bによるガラス基板16の搬送姿勢は、ターンテーブル59による姿勢変換を経ることで、短辺をY軸方向に並行させ且つ長辺をX軸方向に並行させた第2の姿勢とされる。なお、図22では、ターンテーブル59上に配されたガラス基板16について、回転前の第1の姿勢を実線にて示しているのに対し、回転後の第2の姿勢を二点鎖線にて示している。これに対し、加熱装置257及び化学強化処理装置258は、それぞれ第1搬送装置256Aに沿って配される第1加熱装置257A及び第1化学強化処理装置258Aと、第2搬送装置256Bに沿って配される第2加熱装置257B及び第2化学強化処理装置258Bとから構成されている。第1加熱装置257Aのレーザヘッド257Aa及び第1化学強化処理装置258Aの各ノズル258Aa~258Aeは、第1搬送装置256Aによるガラス基板16の搬送方向X軸方向に沿って空間的な間隔をあけて並列して配されるとともに第1搬送装置256Aをその搬送方向と直交する方向Y軸方向から挟み込む形で両側に一対ずつ配されるとともに、第1の姿勢で搬送されるガラス基板16における短辺側の両端面16b1に対して対向状をなす。同様に第2加熱装置257Bのレーザヘッド257Ba及び第2化学強化処理装置258Bの各ノズル258Ba~258Beは、第2搬送装置256Bによるガラス基板16の搬送方向X軸方向に沿って空間的な間隔をあけて並列して配されるとともに第2搬送装置256Bをその搬送方向と直交する方向Y軸方向から挟み込む形で両側に一対ずつ配されるとともに、第2の姿勢で搬送されるガラス基板16における長辺側の両端面16b2に対して対向状をなす。二次強化工程では、第1の姿勢としたガラス基板16を、第1搬送装置256Aによって短辺に沿う方向X軸方向に搬送するとともにその短辺側の両端面16b1に対して第1加熱装置257Aをなす一対のレーザヘッド257Aaからレーザ光が照射されることで、短辺側の両端面16b1が加熱され、引き続いて第1化学強化処理装置258Aをなす一対ずつの各ノズル258Aa~258Aeによって時間的な間隔をあけて5回にわたって間欠的に化学強化処理を行うことで、短辺側の両端面16b1に二次強化層22が形成される図20を参照。第1搬送装置256Aの最下流部に達したガラス基板16は、ターンテーブル59に載せられてから約90度回転されることで、第2の姿勢とされ、その状態で第2搬送装置256Bの最上流部に受け渡される。第2の姿勢とされたガラス基板16は、第2搬送装置256Bにより長辺に沿う方向X軸方向に搬送される。搬送されるガラス基板16のうち、長辺側の両端面16b2には、先に第2加熱装置257Bをなす一対のレーザヘッド257Baからレーザ光が照射されることで、長辺側の両端面16b2が加熱され、引き続いて第2化学強化処理装置258Bをなす一対ずつの各ノズル258Ba~258Beによって時間的な間隔をあけて5回にわたって間欠的に化学強化処理を行うことで、長辺側の両端面16b2に二次強化層22が形成される。以上により、平面に視て方形状をなすガラス基板16における4辺の各端面16b1,16b2に対して連続的に且つ効率的に二次強化層22を形成することができる。以上説明したように本実施形態によれば、搬送装置256は、ガラス基板16をその板面16aに沿う一方向に搬送する第1搬送装置256Aと、ガラス基板16を第1搬送装置256Aと同じ方向に搬送する第2搬送装置256Bと、第1搬送装置256Aと第2搬送装置256Bとの間に配されるとともにガラス基板16をその板面16aに沿って回動させるターンテーブル姿勢変換装置59とから構成されるのに対し、加熱装置257及び化学強化処理装置258は、それぞれ第1搬送装置256Aに対応する第1加熱装置257A及び第1化学強化処理装置258Aと、第2搬送装置256Bに対応する第2加熱装置257B及び第2化学強化処理装置258Bとから構成される。このようにすれば、第1搬送装置256Aによりガラス基板16を搬送しつつ端面16b1に対して第1加熱装置257A及び第1化学強化処理装置258Aにより化学強化処理を施した後、ターンテーブル59によりガラス基板16をその板面16aに沿って回動させてガラス基板16の姿勢を変換する。そして、姿勢が変換されたガラス基板16を第2搬送装置256Bによって第1搬送装置256Aと同じ方向に搬送するとともに、第1加熱装置257A及び第1化学強化処理装置258Aによる化学強化処理が施された端面16b1とは異なる端面16b2に対して第2加熱装置257B及び第2化学強化処理装置258Bにより化学強化処理を施すことができる。このようにガラス基板16の各端面16b1,16b2に対して連続的に化学強化処理を施すことができるので、製造効率に一層優れる。<実施形態4>本発明の実施形態4を図23によって説明する。この実施形態4では、上記した実施形態1から二次強化装置355を構成する化学強化処理装置358における各ノズル358a~358eの配列ピッチPT1~PT4を変更したものを示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。本実施形態に係る化学強化処理装置358が有する各ノズル358a~358eの配列ピッチPT1~PT4は、図23に示すように、搬送装置356によるガラス基板16の搬送方向における上流側から下流側に行くに従って次第に狭くなる設定とされている。詳しくは、各ノズル358a~358eのうち、最上流位置に配される第1ノズル358aとその下流側に隣り合う第2ノズル358bとの間の配列ピッチPT1が最大となるのに対し、第2ノズル358bとその下流側に隣り合う第3ノズル358cとの間の配列ピッチPT2が2番目の大きさとされ、第3ノズル358cとその下流側に隣り合う第4ノズル358dとの間の配列ピッチPT3が3番目の大きさとされ、第4ノズル358dとその下流側に隣り合い且つ最下流位置に配される第5ノズル358eとの間の配列ピッチPT4が最小となっている。そして、各ノズル358a~358eによってガラス基板16に対して化学強化処理がなされる5回の処理期間の間に挿入される4回の非処理期間時間的な間隔は、隣り合う各ノズル358a~358eの配列ピッチ空間的な間隔PT1~PT4に準ずるものであるから、二次強化工程が進行するに連れて次第に短くなる傾向とされる。具体的には、第1ノズル358aによる化学強化処理がなされてから、ガラス基板16が第2ノズル358bによる処理位置へと搬送装置356によって搬送されるまでの間が、化学強化処理がなされない第1の非処理期間とされるが、この第1の非処理期間が配列ピッチPT1の大きさに準じて最長とされる。第2ノズル358bによる化学強化処理がなされてから、ガラス基板16が第3ノズル358cによる処理位置へと搬送されるまでの間の第2の非処理期間は、配列ピッチPT2の大きさに準じて2番目の長さとされる。同様に、第3ノズル358cによる化学強化処理がなされてから、ガラス基板16が第4ノズル358dによる処理位置へと搬送されるまでの間の第3の非処理期間は、配列ピッチPT3の大きさに準じて3番目の長さとされる。それから、第4ノズル358dによる化学強化処理がなされてから、ガラス基板16が第5ノズル358eによる処理位置へと搬送されるまでの間の第4の非処理期間は、配列ピッチPT4の大きさに準じて最短とされる。このようにすることで、例えば加熱工程にて加熱装置357のレーザヘッド357aによって加熱されたガラス基板16の表面温度が搬送の進行に伴って経時的に低下した場合であっても、その温度低下に合わせて、適切なタイミングでもって化学強化処理装置358の各ノズル358a~358eによって化学強化処理を施すことができる。<実施形態5>本発明の実施形態5を図24によって説明する。この実施形態5では、上記した実施形態1にて示したベゼル14を省略した液晶表示装置410を示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。本実施形態に係る液晶表示装置410では、図24に示すように、タッチパネル412を筐体415に対して直接取り付けることで、実施形態1のようなベゼル14を用いない、ベゼルレス構造となっている。詳しくは、タッチパネル412は、その外周端部の裏面側が筐体415の受け部415aに対して直接載せられるとともに接着剤や両面テープなどの固着層FLを介して固着されている。このようなベゼルレス構造では、タッチパネル412を構成するガラス基板416の外周端部が外部に露出することになる。そこで、本実施形態では、ガラス基板416の外周端部のうち、表側、つまり使用者による操作側のエッジ部分に面取り部CPを形成している。この面取り部CPは、タッチパネル412の製造工程のうち、端部加工工程において、ガラス基板416の端部のうち、四隅の角部を丸める加工を行うのに加えて、表側のエッジ部分に面取り加工を施すことで形成されている。このようにガラス基板416の外周端部における表側のエッジ部分に面取り部CPを形成することで、外部に露出したガラス基板416の外周端部に使用者の手指が触れた場合における安全性を担保することができる。<実施形態6>本発明の実施形態6を図25または図26によって説明する。この実施形態6では、パターン層517,518及び絶縁層519,520の配置を変更したものを示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。本実施形態に係るタッチパネル512では、図25及び図26に示すように、ガラス基板516の一次強化層521が形成された表裏両板面516aのうち、表側一方の板面516aに第1パターン層517及び第1絶縁層519が積層して形成されているのに対し、裏側他方の板面516aに第2パターン層518及び第2絶縁層520が積層して形成されている。<実施形態7>本発明の実施形態7を図27または図28によって説明する。この実施形態7では、タッチパネル612として表面型静電容量方式のものを示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。本実施形態に係るタッチパネル612では、図27及び図28に示すように、ガラス基板616の一次強化層621が形成された表裏両板面616aのうち、表側一方の板面616aにパターン層23及び絶縁層24が積層して形成されているのに加え、4つの電極部25が形成されている。パターン層23は、透明導電材料であるITOからなるとともに、ガラス基板616の板面616aにおいて中央側の使用者による操作領域の全域にわたる面状のベタパターンとされており、平面に視て縦長の方形状をなしている。絶縁層24は、パターン層23の外側に積層する形で形成されている。電極部25は、パターン層23における平面に視た四隅の角位置にそれぞれ配されている。そして、パターン層23に対してその面内において均一な電界を発生させておき、その状態で使用者の指がタッチパネル612の操作面に接触または接近すると、パターン層23と指との間に容量が生じて静電容量値が変化するため、パターン層23の四隅に配された各電極部25には、上記指までの距離に比例した電流が流れる。これにより、タッチパネル612の操作面に対する使用者による二次元の入力位置を検出することができる。<実施形態8>本発明の実施形態8を図29または図30によって説明する。この実施形態8では、タッチパネル712として抵抗膜方式のものを示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。本実施形態に係るタッチパネル712では、図29及び図30に示すように、ガラス基板716の一次強化層721が形成された表裏両板面716aのうち、表側一方の板面716aに、基板側パターン層26が積層して形成されているのに加え、その基板側パターン層26のさらに表側にフィルム側パターン層27を備えたフィルム28が対向状に配されている。基板側パターン層26は、X軸方向に沿って延在するよう複数列が形成されている。これに対し、フィルム側パターン層27は、Y軸方向X軸方向と直交交差する方向に沿って延在するよう複数列が形成されている。従って、基板側パターン層26及びフィルム側パターン層27は、互いに直交交差するとともに平面に視てマトリクス状格子状をなしている。また、基板側パターン層26及びフィルム側パターン層27は、共に透明導電材料であるITOからなる。フィルム28は、透明性に優れるとともに可撓性を有する合成樹脂製とされており、図示しないスペーサを介してガラス基板716の表側の板面716aに対して所定の隙間を維持した状態で貼り付けられている。そして、複数列ずつの基板側パターン層26及びフィルム側パターン層27に電圧を印加した状態で、使用者の指またはタッチペンがタッチパネル712におけるフィルム28を押圧すると、その圧力によってフィルム28が撓むとともに操作位置に存するフィルム側パターン層27が対向する基板側パターン層26に接触することで、電流が流れる。これにより、タッチパネル712の操作面に対する使用者による二次元の入力位置を検出することができる。<他の実施形態>本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。1上記した各実施形態では、化学強化処理装置のノズルが搬送装置によるガラス基板の搬送方向について5つ並んで配されるものを例示したが、上記搬送方向について並んで配されるノズルの数については少なくとも2つあればよく、2つ~4つの間であっても、6つ以上であっても構わない。2上記した各実施形態では、化学強化処理装置のノズルが搬送装置を挟んだ両側に一対ずつ配されるものを例示したが、ノズルが搬送装置の片側のみに配されるものも本発明に含まれる。3上記した各実施形態では、化学強化処理装置における対をなすノズルが搬送装置を挟んで正対する配置とした場合を図示したが、対をなすノズルが正対することがなく、搬送装置によるガラス基板の搬送方向についてオフセットした配置とされたものも本発明に含まれる。このような配置は、加熱装置における対をなすレーザヘッドに関しても同様に適用可能である。4上記した実施形態1,4では、搬送装置によって搬送されるガラス基板の姿勢が、短辺をX軸方向に並行させ且つ長辺をY軸方向に並行させた姿勢とされた場合を図示したが、短辺をY軸方向に並行させ且つ長辺をX軸方向に並行させた姿勢でガラス基板を搬送装置により搬送するようにしても勿論構わない。5上記した実施形態2では、第1搬送装置及び第2搬送装置によって搬送されるガラス基板の姿勢が、短辺をX軸方向に並行させ且つ長辺をY軸方向に並行させた姿勢とされた場合を図示したが、短辺をY軸方向に並行させ且つ長辺をX軸方向に並行させた姿勢でガラス基板を第1搬送装置及び第2搬送装置により搬送するようにしても勿論構わない。6上記した実施形態3では、第1搬送装置によって搬送されるガラス基板の姿勢が、短辺をX軸方向に並行させ且つ長辺をY軸方向に並行させた第1の姿勢とされる一方、第2搬送装置によって搬送されるガラス基板の姿勢が、短辺をY軸方向に並行させ且つ長辺をX軸方向に並行させた第2の姿勢とされた場合を図示したが、第1搬送装置によってガラス基板を上記した第2の姿勢で搬送するとともに、第2搬送装置によってガラス基板を上記した第1の姿勢で搬送するようにしても構わない。7上記した実施形態3では、ターンテーブルによってガラス基板を約90度の角度範囲で回転させるようにしたものを示したが、ターンテーブルによるガラス基板の具体的な回転角度範囲は、90度以外にも適宜に変更可能である。8上記した実施形態4では、化学強化処理装置を構成するとともに搬送装置によるガラス基板の搬送方向について隣り合う各ノズルの配列ピッチが全て異なるものを例示したが、各ノズルの配列ピッチに等しくなるものが一部存在していても構わない。9上記した実施形態4では、化学強化処理装置を構成するとともに搬送装置によるガラス基板の搬送方向について隣り合う各ノズルの配列ピッチが、上流側から下流側に向けて次第に狭くなる傾向のものを例示したが、それとは逆に、各ノズルの配列ピッチが上流側から下流側に向けて次第に広くなる傾向としたものも本発明に含まれる。10上記した実施形態4では、化学強化処理装置を構成するとともに搬送装置によるガラス基板の搬送方向について隣り合う各ノズルの配列ピッチが、上流側から下流側に向けて次第に狭くなる傾向のものを示したが、この構成を実施形態1~3,5~8に記載したものに適用することも勿論可能である。11上記した各実施形態では、化学強化処理装置として化学強化処理液を吹き付けるノズルを備えたものを用いるとともに、二次強化工程において局所吹付式の化学強化処理を施すことでガラス基板の端面に二次強化層を形成した場合を示したが、例えば、化学強化処理装置として化学強化処理液で満たした化学強化処理槽を備えたものを用いるとともに、二次強化工程においてガラス基板の端面をレーザ光などにより局所的に加熱した加熱工程後、上記した化学強化処理槽中の化学強化処理液に対してガラス基板の端面のみを浸漬させる化学強化処理工程ことで、ガラス基板の端面のみを選択的に化学強化処理して二次強化層を形成する、いわば局所浸漬式の化学強化処理を施すようにしても構わない。その場合、ガラス基板を化学強化処理槽内に入れて端面を化学強化処理液に浸漬する処理期間と、ガラス基板を化学強化処理槽外に取り出す非処理期間とを交互に繰り返し行うことで、インターバル式の化学強化処理を施すことが可能とされる。12上記した各実施形態では、加熱装置を構成するレーザヘッドが搬送装置によるガラス基板の搬送方向について1つのみ配されたものを例示したが、レーザヘッドを上記搬送方向について複数配することも勿論可能である。13上記した各実施形態では、加熱装置としてレーザ光を照射するレーザヘッドを備えるものを用いることで、加熱工程においてガラス基板の端面を局所的に加熱するようにしたものを示したが、加熱装置としてレーザ光以外の加熱手段を備えるものを用いることも可能である。14上記した各実施形態では、二次強化工程においてガラス基板の端面を全周にわたって加熱した加熱工程上で化学強化処理液を付着させる化学強化処理工程ことで、ガラス基板の端面の全周にわたって二次強化層を形成した場合を示したが、例えば二次強化工程においてガラス基板の端面を部分的に加熱した上でその加熱部分に化学強化処理液を付着させることで、ガラス基板の端面における一部に二次強化層を形成したものも本発明に含まれる。なお、二次強化工程においてガラス基板の端面を全周にわたって加熱した上で部分的に化学強化処理液を付着させることで、部分的に二次強化層を形成することも可能である。15上記した各実施形態では、製造装置を構成する分割装置として、レーザ式のものを例示したが、分割装置として機械式のものを用いることも可能である。機械式の分割装置は、例えばダイヤモンドチップや炭化物切断ホイール等の溝きり刃を備えており、分割工程では、ガラス基板母材の分断予定ラインに、溝きり刃を用いて溝きりスクライビングをして表面に線状クラックを入れてから、この線状クラックに沿ってガラス基板母材を機械的に割断させるようにすればよい。16上記した各実施形態では、一次強化工程及び二次強化工程においてガラス基板ガラス基板母材の表面に存在するナトリウムイオンと、化学強化処理液である溶融塩中に存在するカリウムイオンとを交換させることで、イオン交換による化学強化処理を行うようにした場合を示したが、一次強化工程及び二次強化工程において例えばガラス基板の材料として表面にリチウムイオンが存在するものを用いるとともに、化学強化処理液としてナトリウムを含有する溶融塩を用いるようにし、ガラス基板のリチウムイオンと、化学強化処理液のナトリウムイオンとを交換させることで、イオン交換による化学強化処理を行うようにしても構わない。17上記した各実施形態では、分割工程においてガラス基板母材から9枚のガラス基板を取り出すようにしたものを示したが、ガラス基板母材から取り出すガラス基板の具体的な枚数は、8枚以下でも10枚以上であってもよく、任意に変更することが可能である。18上記した各実施形態では、端部加工工程によりガラス基板の角部を丸めるようにした場合を示したが、端部加工工程を省略することも可能である。その場合、平面に視て角部が丸みを帯びない形状のガラス基板を得ることができる。19上記した各実施形態では、一次強化工程において化学強化法を用いることで、ガラス基板母材の表面に一次強化層である圧縮層圧縮応力層を形成した場合を示したが、それ以外にも、例えば風冷強化法物理強化法により一次強化層である圧縮層を形成するようにしても構わない。風冷強化法では、ガラス基板母材を700度程度まで加熱した後、その表面に空気を吹き付けて表面を急激に且つ均一に冷却することで、表面に圧縮層を形成するようにしている。20上記した各実施形態では、パターン層に用いる透明導電材料としてITOを例示したが、透明導電材料としてZnOZincOxide:酸化亜鉛を用いることも勿論可能である。21上記した実施形態1では、投影型静電容量方式のタッチパネルにおいて1枚のガラス基板に第1パターン層及び第2パターン層を形成した場合を示したが、2枚のガラス基板を貼り合わせて用いるようにし、一方のガラス基板における他方のガラス基板との対向面に第1パターン層を、他方のガラス基板における一方のガラス基板との対向面に第2パターン層をそれぞれ形成するようにしても構わない。22上記した各実施形態では、タッチパネルとして投影型静電容量方式、表面型静電容量方式、抵抗膜方式のものをそれぞれ例示したが、要はガラス基板の板面にパターン層が積層して形成されるものであればよく、例えば電磁誘導方式のタッチパネルにも本発明は適用可能である。23上記した各実施形態では、タッチパネルに液晶パネルのみを一体化した液晶表示装置を示したが、タッチパネルに液晶パネル及びバックライト装置を共に一体化することも可能である。その場合、例えば予め液晶パネルに対してバックライト装置を一体化しておき、その液晶パネルをタッチパネルに一体化するようにして製造すればよい。24上記した各実施形態では、液晶表示装置が備えるバックライト装置としてエッジライト型のものを例示したが、直下型のバックライト装置を用いるようにしたものも本発明に含まれる。25上記した各実施形態では、表示画面が縦長なタイプの液晶表示装置を例示したが、表示画面が横長なタイプの液晶表示装置についても本発明に含まれる。また、表示画面が正方形とされる液晶表示装置も本発明に含まれる。26上記した各実施形態では、液晶表示装置のスイッチング素子としてTFTを用いたが、TFT以外のスイッチング素子例えば薄膜ダイオードTFDを用いた液晶表示装置にも適用可能であり、カラー表示する液晶表示装置以外にも、白黒表示する液晶表示装置にも適用可能である。27上記した各実施形態では、表示パネルとして液晶パネルを用いた液晶表示装置を例示したが、他の種類の表示パネルPDPや有機ELパネルなどを用いた表示装置にも本発明は適用可能である。その場合、バックライト装置を省略することも可能である。"