"セラミックブロックにおいて、実質的に均質なxP2O5から実質的になり、ここで095≦x≦105であり、長さLL,幅WW及び高さHHを有し、少なくとも8×10-3m3の体積VVを有し、前記体積の全体にわたり実質的にクラックがなく、標準状態下のY2O3P2O5の理論最大密度の少なくとも85の密度を有し、1250°C及び689MPaにおいてCRのクリープ速度を有し、ここでCR≦80×10-6時間であることを特徴とするセラミックブロック。LL≧20cm,WW≧20cm及びHH≧20cmであることを特徴とする請求項1に記載のセラミックブロック。カルシウムを重量でCaの濃度で含有し、ここでCa≦100ppmであることを特徴とする請求項1または2に記載のセラミックブロック。ジルコニウムを重量でZrの濃度で含有し、ここでZr≦50ppmであることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のセラミックブロック。アルミニウムを重量でAlの濃度で含有し、ここでAl≦60ppmであることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のセラミックブロック。アルカリ金属を実質的に含有していないことを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のセラミックブロック。バリウムを重量でBaの濃度で含有し、ここでBa≦100ppmであることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のセラミックブロック。炭素を実質的に含有していないことを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のセラミックブロック。実質的に均質なxP2O5から実質的になり、ここで095≦x≦105であり、長さLL,幅WW及び高さHHを有し、少なくとも8×10-3m3の体積VVを有し、前記体積の全体にわたり実質的にクラックがなく、標準状態下のY2O3P2O5の理論最大密度の少なくとも85の密度を有し、1250°C及び689MPaにおいてCRのクリープ速度を有し、ここでCR≦80×10-6時間である、セラミックブロックを作製するための方法において、IY2O3の乾燥粉末及びP2O5の乾燥粉末を提供する工程、II均一な粉末混合物を得るために、前記Y2O3粉末と前記P2O5粉末を混合する工程、III工程IIで得られた前記粉末混合物を、xP2O5の組成を有する前駆体セラミック材料を得るために第1の炉内で焼結する工程、IV工程IIIで得られた前記前駆体セラミック材料を、複数の粒子を得るために粉砕する工程、V工程IVで得られた前記複数の粒子を有機結合剤とともに均一に混合することによって前記セラミックブロックの、VVより大きな体積を有する、第1の生地体を形成する工程、VI工程Vで得られた前記第1の生地体を、標準状態下のY2O3P2O5の理論最大密度の少なくとも60の標準状態における密度を有する第2の生地体を得るため、少なくとも50MPaの圧力において等方プレスする工程、及びVII前記第2の生地体を第2の炉内で少なくとも1500°Cの温度に加熱する工程、を含むことを特徴とする方法。工程IVにおいて、前記第2の生地体が標準状態下のY2O3P2O5の理論最大密度の少なくとも65の密度を有することを特徴とする請求項9に記載の方法。工程VII後に、VIII前記セラミックブロックの表面から10cm以内の材料を取り除く工程、をさらに含むことを特徴とする請求項9または10に記載の方法。工程VIIが、VII1前記炉の温度を200°Cから1500°Cまで、50°C時間以下の平均昇温速度で高める工程、及びVII2前記炉の温度を1500°C以上に少なくとも100時間維持する工程、を含むことを特徴とする請求項9から11のいずれかに記載の方法。工程VII1中の初めの100時間の間、前記第2の生地体の重力ベクトルに垂直な方向における線収縮速度が5時間以下に制御されることを特徴とする請求項12に記載の方法。工程III及びVIIにおいて、前記炉の環境が酸化性であり、アルカリ金属を実質的に含んでいないことを特徴とする請求項9から13のいずれかに記載の方法。工程I,II及びVにおいて、Al,Ba,Ca及びZrによる汚染が避けられることを特徴とする請求項9から14のいずれかに記載の方法。アイソパイプのため、YPO4ベースセラミック材料が既に提案されている。しかし、YPO4をベースとする大寸セラミック材料の作製は容易にとりかかれる仕事ではない。したがって、アイソパイプに適する、YPO4をベースとする大寸セラミックブロック及びその作製方法が未だに必要とされている。本発明は上記及びその他の必要を満たす。本発明のいくつかの態様が本明細書に開示される。これらの態様が相互に重なり合うこともあれば重なり合わないこともあることは当然である。したがって、1つの態様の一部が別の態様の範囲内に入ることがあり得るし、逆もあり得る。それぞれの態様は多くの実施形態によって説明され、そのような実施形態には1つ以上の特定の実施形態が含まれ得る。これらの実施形態が相互に重なり合うこともあれば重なり合わないこともあることは当然である。したがって、一実施形態の一部、またはその特定の実施形態が、別の実施形態の一部、またはその特定の実施形態の範囲内に入ることがあり得るし、逆もあり得る。すなわち、本発明の第1の態様は、実質的に均質なxP2O5から実質的になり、ここで095≦x≦105であり、長さLL、幅WW及び高さHHを有し、少なくとも8×10-3m3の体積VVを有し、体積全体にわたって実質的にクラックがなく、標準状態下のY2O3P2O5の理論最大密度の少なくとも85の密度を有し、1250°C及び689Pa1000psiにおいてCRのクリープ速度を有し、ここで、CR≦80×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦70×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦60×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦50×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦40×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦30×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦20×10-6時間である、セラミックブロックに関する。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態においては、100≦x≦105であり、いくつかの態様においては100≦x≦103であり、いくつかの他の態様においては100≦x≦102である。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態において、LL≧20cm、WW≧20cm、及びHH≧20cmである。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態において、LL≧50cm、WW≧30cm、及びHH≧50cmである。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態においては、LL≧100cm、WW≧30cm、及びHH≧50cmである。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態においては、LL≧200cm、WW≧30cm、及びHH≧50cmである。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態においては、LL≧300cm、WW≧30cm、及びHH≧50cmである。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態において、セラミックブロックはカルシウムを重量でCaの濃度で含み、ここで、Ca≦100ppmであり、いくつかの実施形態においてCa≦80ppm、いくつかの実施形態においてCa≦50ppm、いくつかの実施形態においてCa≦40ppmである。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態において、セラミックブロックはジルコニウムを重量でZrの濃度で含み、ここで、Zr≦50ppmであり、いくつかの実施形態においてZr≦40ppm、いくつかの実施形態においてZr≦30ppm、いくつかの実施形態においてZr≦20ppm、いくつかの実施形態においてZr≦10ppmである。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態において、セラミックブロックはアルミニウムを重量でAlの濃度で含み、ここで、Al≦60ppmであり、いくつかの実施形態においてAl≦40ppm、いくつかの実施形態においてAl≦30ppm、いくつかの実施形態においてAl≦20ppmである。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態において、セラミックブロックは実質的にアルカリ金属を含有しない。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態において、セラミックブロックはバリウムを重量でBaの濃度で含み、ここで、Ba≦100ppmであり、いくつかの実施形態においてBa≦80ppm、いくつかの実施形態においてBa≦50ppm、いくつかの実施形態においてBa≦40ppmである。本発明の第1の態様のいくつかの実施形態において、セラミックブロックは実質的に炭素を含有しない。本発明の第2の態様は、実質的に均質なxP2O5から実質的になり、ここで095≦x≦105であり、長さLL、幅WW及び高さHHを有し、少なくとも8×10-3m3の体積VVを有し、体積全体にわたって実質的にクラックがなく、標準状態下のY2O3P2O5の理論最大密度の少なくとも95の密度を有し、1250°C及び689PaにおいてCRのクリープ速度を有し、ここでCR≦80×10-6時間である、セラミックブロックを作製するための、IY2O3の乾燥粉末及びP2O5の乾燥粉末を提供する工程、II均一な粉末混合物を得るためにY2O3粉末とP2O5粉末を混合する工程、III工程IIで得られた粉末混合物をxP2O5組成を有する前駆体セラミック材料を得るために第1の炉内で焼結する工程、IV工程IIIで得られた前駆体セラミック材料を複数の粒子を得るために粉砕する工程、V工程IVで得られた複数の粒子を有機結合剤とともに均一に混合することによりセラミックブロックの、VVより大きな体積を有する、第1の生地体を形成する工程、VI工程Vで得られた第1の生地体を、標準状態下のY2O3P2O5の理論最大密度の少なくとも60の標準状態における密度を有する第2の生地体を得るため、少なくとも500MPaの圧力において等方プレスする工程、及びVII第2の生地体を第2の炉内で少なくとも1500°Cの温度に加熱する工程、を含む方法に関する。本発明の第2の態様のいくつかの実施形態において、方法は工程VIIの後に、VIIIセラミックブロックの表面から10cm以内の材料を取り除く工程、を含む。本発明の第2の態様のいくつかの実施形態において、工程VIIは、VII1炉の温度を200°Cから1500°Cまで、50°C時間以下、いくつかの実施形態において40°C時間以下、いくつかの実施形態において30°C時間以下、いくつかの実施形態において20°C時間以下、いくつかの実施形態では10°C時間以下の、平均昇温速度で高める工程、及びVII2炉の温度を1500°C以上に、少なくとも100時間、いくつかの実施形態において少なくとも200時間、いくつかの実施形態において少なくとも300時間、いくつかの実施形態において少なくとも400時間、いくつかの実施形態において少なくとも500時間、維持する工程を含む。本発明の第2の態様のいくつかの実施形態において、工程VIIにおいて第2の炉の炉環境は酸化性であり、実質的にアルカリ金属を含んでいない。本発明の第2の態様のいくつかの実施形態において、工程I、II及びVにおいてAl,Ba,Ca及びZrによる汚染が避けられる。本発明の第2の態様のいくつかの実施形態において、工程Vにおいて有機結合剤は第2の生地体の重量で多くとも5の量で用いられる。本発明の第2の態様のいくつかの実施形態において、工程Vは、V-1以下の個々の成分の複数の粒子を以下のそれぞれの量、p145μm以下の粒径及び約2μmの中央粒径値を有する粒子を15から35、p245μm以下の粒径及び約5μmの中央粒径値を有する粒子を15から35、及びp345μmから100μmの粒径を有する粒子を45から65、で提供する工程、V-2混和物を形成するために3つの成分p1、p2及びp3を結合剤とともに均一に混合する工程、及びV-3工程V-2で得られた混和物から第1の生地体を形成する工程、を含む。本発明の第2の態様のいくつかの実施形態において、工程IVは、IV-1工程IIIで得られた前駆体セラミックを圧して大径粒子にする工程、IV-2工程IV-1で得られた大径粒子の少なくとも一部を粉砕して微細粒子にする工程、及びIV-3金属粒子を取り除くため、工程IV-2で得られた微細粒子に磁気分離機を通過させる工程、を含む。本発明の第2の態様のいくつかの実施形態では、工程I、II、IV、V及びVIIにおいて、扱われている材料の、CaOを含有しているか、BaOを含有しているかまたはZrO2を含有している材料との直接の接触は避けられる。本開示の1つ以上の実施形態及び/または態様は以下の利点の1つ以上を有する。第1に、大寸のYPO4ベースセラミックブロックを、実質的に含まないように製造することができる。第2に、微量金属汚染物濃度が低いことにより、セラミックブロックは高い動作温度において極めて低レベルのクリープ速度を示し、これは少なくとも2000mm、いくつかの実施形態において少なくとも3000mm、の長さを有するアイソパイプのような、大寸アイソパイプを作製するために特に有利になり得る。第3に、乾式合成手法により、セラミックブロックは実質的に無水分にすることができ、この結果高温において優れたクリープ速度が得られる。本発明のさらなる特徴及び利点は以下の詳細な説明に述べられ、ある程度は、当業者にはその説明から容易に明らかであろうし、記述及び本発明の特許請求の範囲に、また添付図面にも、説明されるように本発明を実施することによって認められるであろう。上述の全般的説明及び以下の詳細な説明が本発明の例示に過ぎず、特許請求されるような本発明の本質及び特質を理解するための概要または枠組みの提供が目的とされていることは当然である。添付図面は本発明のさらに深い理解を提供するために含められ、本明細書に組み入れられて本明細書の一部をなす。そうではないことが示されない限り、本明細書及び特許請求の範囲に用いられる、成分の重量及びモル、寸法及びいくつかの物理特性に対する値のような、数値は全て、全ての場合において語約で修飾されていると理解されるべきである。本明細書及び特許請求の範囲に用いられる精確な数値は本発明の別の実施形態をなすことも当然である。実施例に開示される数値の確度を保証するための努力はした。しかし、測定されたいかなる数値も、それぞれの測定手法に見られる標準偏差によって生じるいくらかの誤差を本質的に含み得る。本明細書に用いられるように、本発明の説明及び特許請求において、不定冠詞‘a’または‘an’は少なくとも1つを意味し、そうではないことが明白に示されない限り、ただ1つに限定されるべきではない。したがって、例えば、金属酸化物への言及は、そうではないことを文脈が明白に示していない限り、1つ、2つまたはさらに多くのそのような金属酸化物を有する実施形態を含む。本出願において、ゼノタイム、YPO4及びY2O3P2O5は、リン酸イットリウムを意味するため、互換で用いられる。YPO4ベース材料は、YPO4に要求される化学量論をこえる過剰な量のY2O3またはP2O5及び材料に見られ得るような重要ではないその他の成分を含んでいるかまたは含んでいない、主としてYPO4からなる材料である。本明細書に用いられるように、xP2O5は、Y2O3及びP2O5を含み、P2O5に対するY2O3のモル比がxである、リン酸イットリウム材料を意味する。本出願において、第1の炉または第2の炉は同じ炉とすることも異なる炉とすることもできる。本明細書に用いられるように、Naのような、与えられた元素Xの濃度Xは、元素金属の総組成に対する、重量による、濃度である。本明細書に用いられる及びppmは全て、別途に指定されないかぎり、重量による。板ガラスを作製するためのオーバーフローダウンドロープロセスは、国際公開第03014032号パンフレット、同第05081888号パンフレット、等に説明されており、これらの該当する内容はそれぞれの全体が本明細書に参照として含められる。図1及び2は通常稼働中のアイソパイプアセンブリ100を簡略に示す。アイソパイプは、上部のトラフ形部102及び下部のくさび形部104を有し、これらは組み合わさって一体成形体100をなす。トラフ形部は、第1の内部トラフ側面121,第2の内部トラフ側面123及びトラフ底面122を有し、これらは合わせて、一般にはその開放端を通して、ガラス融液が送り込まれるトラフとも呼ばれる開放チャネル103を定める。ガラス融液は第1のトラフ壁のトラフ上面125及び第2のトラフ壁の第2のトラフ上面127から溢れ出すことができて、第1の外部トラフ側面129及び第2の外部トラフ側面131を流下し、さらに第1の外部トラフ側面129と連結している傾斜した第1のくさび側表面133及び第2の外部トラフ側面131と連結している傾斜した第2のくさび側表面135を流下する。2つのくさび側表面133及び135が合わさるルート109において、2つのガラスリボンは融合して一体ガラスリボン111になり、ガラスリボン111はさらに方向113にダウンドローされて所望の厚さにされ、冷却されて弾性状態になり、次いで所望の寸法の個々のガラス板片に切断される。簡便な説明のため、I第1のトラフ壁の第1の内部トラフ側面122及びII第2のトラフ壁の第2の内部トラフ側面123への距離の累積差が最小の仮想平面199が開放チャネルトラフの中心平面と定義される。したがって、開放チャネルがトラフの中心線を通る平面に対して対称であれば、中心平面は開放チャネルの2つの側面がそれに対して対称である平面となるであろう。トラフ形部及びくさび形部のいずれもが開放チャネルの中心平面に対称であることが望ましい。そのような状況において、中心平面199はアイソパイプのルート線109も通るであろう。国際公開第06073841号パンフレット及び同第09108296号パンフレットはYPO4ベース材料及びその作製方法を、またそのような材料のアイソパイプへの使用も、開示している。これらのパンフレットのいずれの内容もそれぞれの全体が本明細書に参照として含められる。アイソパイプはガラス板を作製するためのオーバーフローダウンドロープロセスの中枢にある。したがってその形状寸法安定性は長い製造キャンペインにかけて厚さ及び厚さ変動が一貫しているガラス板を作製するために極めて重要である。アイソパイプは一般に、両端だけで支持されながら、長期間にわたって高温、例えば約1200°Cで動作する、長い物体であるから、アイソパイプはクリープ、すなわちアイソパイプ及びアイソパイプに入っているガラス融液の重量による幾何学的変形を受ける。アイソパイプを作製するための耐火材料には厳しい要件が課せられる。そのような要件は、上に挙げた国際公開第06073841号パンフレット及び同第09108296号パンフレットのような、従来技術の参考文献に十分に提供されている。単一アイソパイプ成形体を作製するためには、体積の全体にわたって実質的に均質な組成及び物理特性を有する、セラミック材料の大きく連続な一体ブロックが望ましい。組成及び特性がアイソパイプに適する、5×10-3m3をこえる体積を有するYPO4ベースセラミックブロックはこれまで報告されていない。これは主として、そのような厳しい特性要件、特に1250°Cのような高温における低クリープ速度をもつ、そのような大寸セラミックブロックの作製における困難による。YPO4の耐火性のため、そのようなブロックの作製には必ず比較的長い高温処理工程が必要になるであろう。さらに、それぞれの工程中に多くの要因が、最終組成、組成均一性、汚染レベル、微細構造、応力分布、等に影響を与え、したがってセラミックブロックの組成及び特性に影響を与えるであろう、複数の工程が必要になる。精力的な研究及び開発の努力により、本発明の発明者等は、少なくとも8×10-3m3の体積、低汚染物レベル及び大寸ガラス板を作製するためのアイソパイプの要件を満たす特性、特に1250°Cにおけるクリープ速度を有する、大寸YPO4ベースセラミックブロックの作製に成功した。大寸セラミックブロック及びそのようなセラミックブロックを作製するためのプロセスはいずれも、とりわけ、本発明の様々な態様をなす。セラミックブロックは1250°C及び689MPaにおいて、CR≦80×10-6時間であり、いくつかの実施形態においてCR≦70×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦60×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦50×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦40×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦30×10-6時間、いくつかの実施形態においてCR≦20×10-6時間である、クリープ速度CRを特徴とする。セラミックブロックの化学組成は実質的に一様である。すなわち、主成分Y2O3及びP2O5はバルクの全体積にわたって実質的に一様に分布する。したがって、いくつかの実施形態においてセラミックブロックを構成する材料はバルクにわたって、YPO4相のような、実質的に単一相を含むことができる。しかし、全てがバルク内部に実質的に一様に分布する複数の相を材料が含み得ることも可能である。例えば、セラミックブロックを構成する材料は、主YPO4相に加えて、YPO4相内に実質的に一様に分布する小量のY2O3相を含むことができる。以下で説明されるように、Al2O3,BaO,B2O3,CaO,MgO,MnO,ZrO2,等のような、微量の不純物が様々な量でバルク内に存在し得る。そのような不純物は一般に、上述したように、非常に低い濃度で存在するから、それらの分布は不規則なパターンを示し得る。例えば、ナトリウムの濃度Naは、炉内でのブロックの表面から中心へのナトリウムの高温拡散により、セラミックブロックの表面近傍では高く、ブロックの表面から離れた領域では低くなり得る。セラミックブロックの化学組成は化学式xP2O5で表すことができ、ここでxはY2O3とP2O5の間のモル比であり、095≦x≦105である。したがって、材料は化学量論的YPO4材料であり得るか、あるいは過剰な量のY2O3またはP2O5を含むことができる。それでも、Y2O3のモル量がP2O5より低くならないことがより有利であり、したがって、100≦x≦105,いくつかの実施形態において100≦x≦103,いくつかの他の実施形態において100≦x≦102,であることが望ましい。これは、過剰なP2O5が同じ量のより速くYPO4の融解温度を低めることができるからである。セラミックブロックの寸法は、長さLL,幅WW及び高さHHで表すことができる。いくつかの実施形態において、ブロックは、LL≧20cm,WW≧20cm,及びHH≧20cmの大きな寸法を有することが有利である。ブロックは、立方体、直方体、球体、回転楕円体、またはその他の幾何学的形状を有する完全中実ブロックとすることができる。ブロックはアイソパイプの形状、すなわち、相互に連結されたトラフ形上部とくさび形下部を含む形状をとることができる。ブロックは、LL≧50cm,WW≧30cm及びHH≧50cmの形状を有することが有利であり得る。大寸アイソパイプのため、ブロックは、LL≧100cm,いくつかの実施形態においてLL≧200cm,いくつかの他の実施形態においてLL≧300cmの、長さを有することができる。発明者等による精力的な研究及び開発の努力における興味深い知見の1つは、本発明のセラミック体内の汚染物濃度、特にCa,Zr及びAlが低いことである。要因の中でも、汚染物のそのような低いレベルは1250°C及び689MPaにおける低クリープ速度の生因となる。いくつかの実施形態において、本発明のセラミックブロックは、重量で、Ca≦100ppm,いくつかの実施形態においてCa≦80ppm,いくつかの実施形態においてCa≦50ppm,いくつかの実施形態においてCa≦40ppmのカルシウム濃度Caでカルシウムを含むことが有利である。いくつかの実施形態において、本発明のセラミックブロックは、重量で、Zr≦50ppm,いくつかの実施形態においてZr≦40ppm,いくつかの実施形態においてZr≦30ppm,いくつかの実施形態においてZr≦20ppm,いくつかの実施形態においてZr≦10ppmのジルコニウム濃度Zrでジルコニウムを含むことが有利である。いくつかの実施形態において、本発明のセラミックブロックは、重量で、Al≦60ppm,いくつかの実施形態においてAl≦50ppm,いくつかの実施形態においてAl≦40ppm,いくつかの実施形態においてAl≦30ppm,いくつかの実施形態においてAl≦20ppmのアルミニウム濃度Alで、アルミニウムを含むことが有利である。いくつかの実施形態において、本発明のセラミックブロックは、重量で、Ba≦100ppm,いくつかの実施形態においてBa≦80ppm,いくつかの実施形態においてBa≦50ppm,いくつかの実施形態においてBa≦40ppmのバリウム濃度Baでバリウムを含むことが有利である。いくつかの実施形態において、本発明のセラミックブロックは、重量で多くとも500ppm,いくつかの実施形態において重量で多くとも400ppm,いくつかの実施形態において重量で多くとも300ppm,いくつかの実施形態において重量で多くとも200ppm,いくつかの実施形態において重量で多くとも100ppmの、Al,B,Ba,Ca,Fe,Hf,K,Li,Mg,Mn,Na及びZrの総和を特徴とすることが有利である。そのような低レベルの汚染物を有する大寸YPO4ベースセラミック体の作製は、所要の多工程プロセス、取り扱われなければならない材料の大きな体積及び必要とされる高温工程により、決して容易な作業ではない。他方で、汚染物濃度がそのように低いセラミックブロックの合成の成功の結果、優れた特性、特に、1250°Cのような高温において689MPaにおける低クリープ速度が得られた。金属汚染物の欠如に加えて、本発明の耐火ブロックはさらに、いくつかの実施形態において低レベルの炭素を特徴とすることが有利である。炭素は焼結によって作製されるいかなる緻密材料にも、材料取扱いの関係により意図せずに、あるいは有機結合剤がそのような材料を作製するためのプロセスに広く用いられているから意図的に、取り込まれ得る。炭素の存在は本発明のセラミックブロックの機械特性に影響を与え、通常の使用中に望ましくないガス放出をおこさせ得る。本発明のセラミックブロックは、LCDディスプレイのためのガラス基板のような、光電デバイスでの使用が目的とされる無アルカリガラス材料を取り扱うために用いられ得ることが有利である。例えば、セラミックブロックは、アルミノケイ酸ガラスベースLCDガラス基板を作製するためのオーバーフローダウンドロープロセスに用いられる、大寸アイソパイプにつくることができる。そのような用途に対しては、セラミックブロックが実質的にアルカリ金属イオンを含有しないことが、そのようなイオンはガラス基板上に施されるであろう半導体製造プロセスに特に有害であるから、極めて望ましい。本明細書に用いられるように実質的に含有しないは、セラミックブロックがいかなるアルカリ金属も重量で多くとも5ppmしか含んでいないことを意味する。いくつかの実施形態において、本発明のセラミックブロックはいかなるアルカリ金属も、多くとも3ppmしか含まないことが有利であり、多くとも1ppmしか含まないことが一層有利である。本発明のセラミックブロックは標準状態1気圧1013×105Pa,0°C下のYPO4の理論密度の少なくとも85,いくつかの実施形態において少なくとも87,いくつかの実施形態において少なくとも89,いくつかの実施形態において少なくとも90,いくつかの実施形態において少なくとも93,いくつかの実施形態において少なくとも95,いくつかの実施形態において少なくとも97の、公称密度を示すことが有利である。標準状態下のYPO4の理論密度は一般に427gcm-3と見なされている。セラミックブロックの密度が高くなるほど、その多孔度は低くなる。セラミックブロックが複数の粒体を含んでいれば、粒界にあるレベルの細孔が存在すると考えられる。粒界にある細孔はセラミックブロックの、例えば高温におけるクリープ速度並びに室温及び高動作温度における破壊係数MORのような、機械特性にかなりの影響を与え得る。本発明のセラミックブロックはさらにバルク内部の結晶粒内の低レベルのクラックを示す。セラミックブロックの微細構造における高レベルの微小クラックの存在は材料のMOR及び動作条件下のクリープ速度を低下させ得ると考えられる。そのような微小クラックは負荷及び応力の下で危険な大きさまで延び広がり、材料破壊に至らせ得る。本発明のセラミックブロックはさらに低水分含有量を特徴とする。本発明のセラミック内の水分は様々な形態、例えば、粒界に捕らえられたH2Oの形態で存在する自由水、あるいは材料及び/または結晶粒の表面またはバルクに結合されたOHの形態、をとることができる。特定の理論に束縛されるつもりはなく、材料のバルク内部の水分の存在は高動作温度の下で微小クラックの形成及びその延び広がりを生じさせ得ると考えられる。したがって、いくつかの実施形態においてセラミックブロック内の総H2O含有量は重量で多くとも300ppm,いくつかの実施形態において重量で多くとも100ppm,いくつかの実施形態において重量で多くとも200ppm,いくつかの実施形態において重量で多くとも50ppmであることが望ましい。上に挙げた有利な組成及び特性を有する本発明のセラミックブロックは、本発明の慎重に制御される合成方法によって作製することができる。そのような大寸で高純度及び高性能のセラミック材料は天然には見られず、したがって合成されなければならないと考えられる。上述したように、YPO4の高融点により、本発明のセラミックブロックの作製には高温工程を避けることができないであろう。他方で、YPO4の高融点により、前駆体材料を融解して液体にし、続いてガラス材料及びある種の結晶材料の形成に一般に用いられるように冷却することによる、そのような大寸ブロックの直接形成は実行不可能であろう。したがって、本発明は焼結法、すなわち複数の密に詰められた所要の最終組成を有する前駆体粒子を加熱して複数の結晶粒を有する緻密化セラミック体にすることによる方法を利用する。上述したように、本発明のセラミックブロック内の大量のH2Oの存在は弱化した機械特性をもたらし得る。したがって、大寸ブロックを作製するための本発明の合成方法は、乾式合成手法を用いる、すなわち、所望の最終組成をもつ前駆体材料を形成するために所望の量で無水P2O5を乾燥Y2O3と反応させることによる、前駆体セラミック材料を形成する第1の工程を含む。第1の工程の反応中に、反応を促進するため、反応体が少なくとも300°C、いくつかの実施形態において少なくとも400°C、いくつかの他の実施形態において少なくとも500°C、いくつかの他の実施形態において少なくとも600°C、のような高温に加熱されることが望ましいことは当然である。P2O5の揮発損失を少なくするため、高温で加熱する前に2つの粉末を十分丁寧に混合して実質的に均一な混合物を形成し、ガスの漏洩を防止するために実質的に密閉された容器内で反応を行わせることが望ましい。さらに、P2O5は吸湿性が極めて高いから、P2O5は実質的に乾燥雰囲気内で扱われ、P2O5の大気への暴露は必要時に限り必要最短の時間に制限されることが望ましい。低金属汚染物レベルを達成するため、Y2O3及びP2O5の原材料は可能な限り純粋であり、それぞれの材料の取扱いで不要な金属が取り込まれないことが望ましい。これには、高反応温度においてもY2O3及びP2O5に対して実質的に不活性な材料で作製された、非常に清浄な容器の使用が必要である。発明者等は、湿式合成手法により、すなわち、前駆体セラミック材料を得るためにY2O3またはそのY3のような前駆体材料を液体H3PO4またはその溶液と反応させることにより、作製したxP2O5粒子の使用を含む、様々な方法を用いて大寸YPO4ベースセラミックブロックの合成を行った。湿式合成手法を用いた場合、極めて純粋な原材料を用い、汚染物の取込みを避けるためにそれらの取扱いを慎重に制御して、他の条件は全て同じとしても、目に見えるクラックは実質的にない、1250°Cのクリープレベルが低い大寸YPO4ベースセラミックブロックの作製には成功できなかった。特定の理論に束縛されるつもりはなく、発明者等は、湿式合成手法のそのような不成功がある程度は、焼結セラミックブロックの最終特性に有害な、前駆体セラミック材料粒子への大量の水の取込みによると考えている。工程IIIにおける焼結が完了すると、Y2O3及びP2O5の原材料は実質的に完全に反応していずれの成分も前駆体材料全体にわたって実質的に均等に分布している網状組織材料を形成する。しかし、そのような前駆体材料は一般にアイソパイプに使用するに必要な多孔度及び機械特性を有していない。したがって、後続の工程IV,V,VI及びVIIが必要になる。低金属汚染物レベルを示す本発明の最終セラミックブロックを得るためには、工程I,II,IV,V,VI及びVIIにおいて、取り扱われている材料の、Al2O3含有材料、CaO含有材料、BaO含有材料またはZrO2含有材料との直接の接触を避けることが望ましい。したがって、例えば、工程IVにおいて前駆体セラミック材料が粒子を作製するために粉砕されるときには、Al2O3,CaO及びBaOを含有していない粉砕媒体が用いられることが望ましい。工程IVにおいて作製された粉砕粒子は一般に平均粒径が異なる複数の画分に分けられ、これらの粒子は、さらに分割、粉砕されるかまたはされずに、所望の粒子充填、粒子密度及び生地体強度を有する第1の生地体を得るために、工程Vにおいて異なる量で混合される。第1の生地体の、以降の取扱いに耐えることができる、強度を得るため、有機結合剤が一般に用いられる。そのような有機結合剤には、例えば、ポリメタアクリレート、METHOCEL、等を含めることができる。上述したように、生地体に有機結合剤を使用する結果、最終セラミックブロックにいくらかのレベルの炭素が残留し、この残留炭素は最終焼結工程VII及びセラミックブロックの最終機械特性に有害であり得る。したがって、工程Vに用いられる結合剤の総量は第1の生地体の、重量で、おおくとも5、いくつかの実施形態において多くとも3、いくつかの他の実施形態において多くとも2、いくつかの他の実施形態において多くとも1、であることが望ましい。工程IVで形成される第2の生地体の公称密度が、工程VIIの完了時のセラミックブロックの公称密度、したがってセラミックブロックの機械特性に影響することが分かった。第2の生地体の密度は、標準状態下のYPO4結晶の理論密度の少なくとも60、いくつかの実施形態において少なくとも63、いくつかの他の実施形態において少なくとも65、いくつかの他の実施形態において少なくとも67、いくつかの他の実施形態において少なくとも69、いくつかの他の実施形態において少なくとも70、であることが望ましい。工程V及びVIにおける粒子の緻密充填は第1及び第2の生地体の高い公称密度を達成するために必要とされる。緻密充填を達成するため、粒子は粒子の充填を容易にする粒径分布を有することが望ましい。この目的のため、粒子は、p115から35の、45μm以下の粒径及び約2μmの粒径中央値を有する粒子、p215から35の、45μm以下の粒径及び約5μmの粒径中央値を有する粒子、及びp345から65の、45μmから100μmの粒径を有する粒子、の成分を含むことができる。一プロセス例において、前駆体セラミック材料の大寸バルクは金属プレートを用いて大径粒子に粉砕され、次いで、粒径が100μm以上の第1のパート、粒径が100μm未満で45μm以上の第2のパート及び粒径が45μm未満の第3のパートの、3つのパートに移し替えられる。第2のパートは上記のp3として用いられる。第3のパートは2つのサブパート、サブパートI及びサブパートIIに分けられる。サブパートIは粒径中央値が2μmになるまでさらに粉砕されて、p1として用いられ、サブパートIIは粒径中央値が5μmになるまでさらに粉砕されて、p2として用いられる。上記の、微粒子成分p1、中間径粒子成分p2及び粗粒子成分p3の存在及び量は、工程VIにおける粒子の緻密な充填を保証し得る。さらに、この分布の結果、意図されたMOR及びクリープ速度及びアイソパイプのその他の機械特性に望ましい、最終セラミックブロックにおける望ましい結晶粒径分布が得られるであろう。所望の粒径分布及び量の粒子及び結合剤は次いで相互に完全に、また一様に、混合されて、柔軟な袋に入れられ、袋は圧密を可能にするために真空引きされて揺すられ、次いで工程VIにおける等方プレスのために密封される。工程VIにおいて、第1の生地体は高圧の等方プレスプロセスにかけられる。この工程の目的には、とりわけ、公称密度が高い第2の生地体を得るため及び第2の生地体全体にわたって等方性密度プロファイルを達成するために、第1の生地体を緻密化することがある。第2の生地体の非等方性密度プロファイルは、最終セラミックブロックの等方性密度プロファイルが最終セラミックブロックにも極めて望ましいであろうから、最終セラミックブロックの最終特性に対して有害であろう。等方プレスプロセスは一般に、124MPa1800psiもの高圧に加圧することができる容器及び液体を備える、等方プレスと呼ばれる機械で実施される。次いで、密封された袋内の第1の生地体が液体内に入れられ、全方向から少なくとも50MPa,いくつかの実施形態において少なくとも80MPa,いくつかの他の実施形態において少なくとも100MPa,いくつかの他の実施形態において少なくとも120MPa、の圧力に加圧される。最終焼結工程VIIの温度プロファイルはセラミックブロックの最終の特性及び組成にかなり強く影響する。温度上昇が速すぎると、第2の生地体の表面からコアにかけて大きな熱勾配が生じ、この結果、工程VIIの終了前に第2の生地体を割ってしまい得るかなりの熱応力が生じるであろう。さらに、急峻すぎる温度上昇曲線は表面近傍において望ましくない細孔の早期段階閉鎖をおこさせ、この結果、セラミック体内部への、水分、炭素、一酸化炭素及び二酸化炭素の閉込めがおこり、これらのガス種による圧力蓄積による望ましくない特性及び/または後期段階割れを生じさせる。したがって、工程VIIは、VII1炉の温度を200°Cから1500°Cまで、50°C時間以下、いくつかの実施形態において40°C時間以下、いくつかの実施形態において30°C時間以下、いくつかの実施形態において20°C時間以下、いくつかの実施形態では10°C時間以下の、平均昇温速度で高める工程、及びVII2炉の温度を1500°C以上に、少なくとも100時間、いくつかの実施形態において少なくとも200時間、いくつかの実施形態において少なくとも300時間、いくつかの実施形態において少なくとも400時間、いくつかの実施形態において少なくとも500時間、維持する工程、を含む。すなわち、工程VII1において、緩やかな温度上昇速度により、第2の生地体の表面からコアにかけてかかる温度勾配は小さく、徐々に閉じる開放細孔を介する脱ガスが可能になって、水分及び炭素ベース汚染物の閉込めが、また熱勾配による割れのチャンスも、減じられる。有機材料を実質的に完全に取り除くため、工程VIIの少なくとも初期段階において、有機材料が実質的に完全に酸化され、生地体が完全に固結する前に生地体のバルクから取り除かれるように、空気のような、酸化雰囲気内で焼結が実施される。焼結の最終工程中、第2の生地体は細孔を排除することで緻密化する。そのような緻密化は体積の減少、すなわち収縮で示される。第2の生地体の公称密度が高くなるほど、セラミックブロックの与えられた最終密度を達成するための焼結工程の終了時における第2の生地体の総収縮は小さくなる。収縮の初期速度は主として生地体の温度によって決定される。初期温度が高くなるほど、第2の生地体が受けるであろう収縮の速度は速くなる。しかし、初期炉温が高くなるほど、第2の生地体の表面からコアにかけて生じる温度勾配が大きくなるであろう。上述したように、特に焼結工程の開始段階においては、緩やかな温度上昇速度が、有害な熱勾配の低下及び第2の生地体の初期収縮速度の低下に有益である。したがって、収縮量及び収縮速度はいずれも、セラミックブロックの最終の多孔度、密度及び特性に大きく影響し得る。大寸の第2の生地体にとって極めて重要であり得る、焼結中の第2の生地体の収縮に合わせるため、心棒が固定されているかまたはいない互いに隔てられた複数のローラーからなる機構体に第2の生地体がおかれることが望ましい。すなわち、第2の生地体の表面がバルク収縮の結果として移動すると、ローラーが表面の移動に合わせるために回転し、よって生地体にかかる前進力及び摩擦力を低減して、望ましくない外部干渉無しに完全な緻密化を可能にする。上述したように、焼結工程中、第2の生地体の汚染物含有材料との直接の接触はないことが望ましい。この目的のため、ローラーは、例えば、ローラーの表面への汚染物の移動に対する障壁としての白金層で被覆することができる。一般に、クラックの形成を避け、所望のクリープ速度及びその他の機械特性を得るため、第2の生地体の温度を200°Cから1500°Cに上げるための第2の生地体の加熱プロセスの初めの100時間の間の、重力ベクトルに実質的に垂直な方向での第2の生地体の初期線収縮速度は10mm時間未満、いくつかの実施形態において8mm時間未満、いくつかの他の実施形態において5mm時間未満、いくつかの他の実施形態において3mm時間未満に制御されることが有利である。さらに、第2の生地体の温度を200°Cから1500°Cに上げるための第2の生地体の加熱プロセスの初めの100時間の間の、重力ベクトルに実質的に垂直な方向での第2の生地体の初期線収縮速度は5時間未満、いくつかの実施形態において4時間未満、いくつかの他の実施形態において3時間未満、いくつかの他の実施形態において2時間未満に制御されることが有利である。本発明のセラミックブロックに用いられるセラミック材料の耐火性により、工程VIIにおいて完全な緻密化及び所望の最終密度を得ることができるためには、第2の生地体は1600°Cより高い温度に、少なくとも24時間、いくつかの実施形態において少なくとも72時間、いくつかの実施形態において少なくとも144時間、いくつかの他の実施形態において少なくとも240時間、いくつかの他の実施形態において少なくとも360時間、いくつかのまた他の実施形態において少なくとも480時間、保持されることが望ましい。第2の生地体が実質的に完全に緻密化された後、焼結工程VIIの終了時に、第2の生地体は、冷却の結果、セラミックブロックのバルク内部に、割れを発生させ得る大きな熱勾配が生じないように、例えば1600°Cから200°Cまで200°C時間以下、いくつかの実施形態では100°C時間以下であることが有利であり、いくつかの他の実施形態において50°C時間以下であることが有利であり、いくつかの他の実施形態において10°C時間以下であることが有利である低冷却速度で冷却される。室温まで冷却された後、セラミックブロックの、1cmまたは2cm、さらには3cmの深さの、表皮層が、表皮層は不相応に高いレベルの、ナトリウム、カリウム、等のような、アルカリ金属を含有し得るから、取り除かれることも望ましい。本発明は以下の非限定的実施例及び対照実施例によってさらに説明される実施例複数本のYPO4ベースロッドを作製し、特性を明らかにした。全ての実施例は、化学量論的バッチ材料から作製し、化学量論的YPO4と同じかまたは近い化学組成を有すると考えられる。実施例7及び8は、前駆体セラミック材料を合成するための原材料として無水P2O5及び無水Y2O3を用いる乾式プロセスで作製した。実施例1,2,3,4,5,6,9及び10は湿式プロセスを用いる、すなわち前駆体セラミック材料を合成するための原材料としてY2O3及びH3PO4を用いることで作製した。次いでロッドを、1180°C及び689MPaにおけるクリープ速度CR並びに1250°C及び689MPaにおけるCRについて、それぞれ測定した。クリープ速度のデータを下の表Iに報告する。さらに汚染金属の濃度についてロッドを測定した。結果を下の表IIに報告する。表I及びIIから明らかなように、いずれも本発明である実施例7及び8は、1180°C及び1250°Cにおいて最も低いレベルのクリープ速度を示し、最も低いレベルのAl,Ba,Ca,Mg及びZrを示す。1180°C及び1250°Cにおけるクリープ速度と汚染物の濃度の総和,AlBBaCaFeHfKLiMgMnNaZrとの関係を示すグラスを図3に示す。縦軸にこれらの金属の濃度の総和が示され、横軸に1180°Cにおけるクリープ速度が示される。この図はクリープ速度がこれらの汚染物の濃度の総和との強い相関を有することを明白に示している。図4に、これらの実施例についてのCa及びZrと1180°Cにおけるクリープ速度の間の関係が示され、左縦軸はCaの影響を曲線401で示し、右縦軸はZrの影響を曲線403で示す。図3及び4のいずれにおいても、クリープ速度が最も低いデータ点は、上述したように、実施例7及び8に対するデータ点である。多くの別の実施例において、上記知見に基づき、本発明にしたがって、すなわち前駆体セラミック材料を合成するために乾式手法を用いて、ただし粒子の粒径分布を若干異ならせて、第1及び第2の生地体の作製に用いた。これらの実施例の粒径分布の詳細を下の表IIIに与える。上の表IIIにおいて、成分1は48~100μmの粒径を有し、成分2は約5μmの粒径中央値を有し、成分3は約2μmの粒径中央値を有しており、成分2及び3の粒子は全て45μmより小さい。実験は、実施例14及び17が1180°Cにおけるクリープ速度に関してより高い性能を有していることを示した。次いで、これらの材料を、約50cm×50cm×20cmの寸法を有する、大寸セラミックブロックの生地体を作製するために用いた。図5は実施例14及び17の焼結温度プロファイルを示す。本発明の範囲及び精神を逸脱することなく本発明に様々な改変及び変更がなされ得ることが当業者には明らかであろう。したがって、本発明の改変及び変形が添付される特許請求項及びそれらの等価形態の範囲内に入れば、本発明はそのような改変及び変形を包含するとされる。"