"少なくとも1層のカーボンナノチューブ層aと、ガラス転移温度が20°C以上のメタアクリル酸エステル重合体ブロックAを少なくとも一つとガラス転移温度が0°C以下のメタアクリル酸エステル重合体ブロックBを少なくとも一つ含有するアクリル系ブロック共重合体を含有する樹脂層bを備える積層体であって、カーボンナノチューブ層aが、分散媒または溶媒に分散または溶解させたカーボンナノチューブ組成物を塗布することにより形成される、積層体。樹脂層bの全光線透過率が80以上である、請求項1に記載の積層体。樹脂層bがさらにアクリル系樹脂を含有する、請求項1または2に記載の積層体。しかして、本発明の目的は、製造工程を簡略化することができ、屈曲性、柔軟性、伸縮性に優れ、かつ透明性にも優れる積層体を提供することである。詳細には、カーボンナノチューブに表面処理等しなくてもカーボンナノチューブ層と樹脂層との密着性が高く、樹脂層の厚みが増加しても、透明性を維持できる積層体を提供することである。本発明によれば、上記の目的は、[1]少なくとも1層のカーボンナノチューブ層aと、ガラス転移温度が20°C以上のメタアクリル酸エステル重合体ブロックAを少なくとも一つとガラス転移温度が0°C以下のメタアクリル酸エステル重合体ブロックBを少なくとも一つ含有するアクリル系ブロック共重合体を含有する樹脂層bを備える積層体であって、カーボンナノチューブ層aが、分散媒または溶媒に分散または溶解させたカーボンナノチューブ組成物を塗布することにより形成される、積層体;[2]樹脂層bの全光線透過率が80以上である、[1]の積層体;[3]樹脂層bがアクリル系樹脂をさらに含有する[1]または[2]の積層体;を提供することにより達成される。本発明によれば、製造工程を簡略化でき、屈曲性、柔軟性、伸縮性に優れ、かつ透明性に優れる積層体が得られる。詳細には、カーボンナノチューブに表面処理等しなくてもカーボンナノチューブ層と樹脂層との密着性が高く、樹脂層の厚みが増加しても、透明性を維持できる積層体が得られる。本発明は、少なくとも1層のカーボンナノチューブ層aと、特定のアクリル系ブロック共重合体を含有する樹脂層bを備える積層体である。本発明の積層体を構成するカーボンナノチューブ層aは、成分として、カーボンナノチューブ以下、CNTと略称するを含有する。CNT層aは、CNTのみからなるものでもよいし、導電性能を維持できる限り、水、アルコール等の分散媒や、バインダ樹脂等が含まれるものであってもよい。CNTとしては、1枚のグラファイトシートグラフェンが円筒状に巻かれた単層CNT以下SWCNTと称する、2枚のグラフェンが同心円状に巻かれた2層CNT以下DWCNTと称する、複数のグラフェンが、同心円状に巻かれた多層CNT以下MWCNTと称するが挙げられる。本発明においては、SWCNT、DWCNT、MWCNTの1種を単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも、導電性に優れる観点からSWCNT、DWCNTが好ましく、SWCNTがより好ましい。CNTの製造方法としては、アーク放電法、レーザー蒸発法、化学気相堆積法CVD法などがある。但し、結晶性の観点から、アーク放電法による製造方法で得られたSWCNTが好ましい。そして、このものは入手も容易である。アーク放電法による場合、例えば特許文献5の方法により製造することができる。CNTを製造する際には、ニッケル、鉄、コバルト、イットリウムなどの触媒金属も残存するので、これらの不純物を除去し精製することが好ましい。不純物の除去には、硝酸、硫酸、フッ酸、塩酸、リン酸あるいはこれらの混合物による酸処理、またはテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、アンモニア、水酸化カリウムなどによる塩基処理とともに、超音波処理が有効であり、またフィルターによるろ過や、遠心分離による分離を併用することは純度を向上させる上でさらに好ましい。酸処理をする場合には、硝酸、あるいは硝酸と硫酸との混酸を用いた酸処理が好ましい。ろ過をする場合には、吸引ろ過、加圧ろ過、クロスフローろ過など各種ろ過方法が使用できる。CNT層aの厚みに厳密な意味での制限はないが、通常、CNT層aの厚みは、5nm~300nmが好ましく、30nm~250nmがより好ましい。該厚みが5nm未満であると、所望の導電性を有する連続被膜が形成され難いことがある。CNT層aが300nmを超えると、透明性に劣る傾向にある。上記CNT層aは、分散媒または溶媒に分散または溶解させたCNT組成物を塗布することにより形成される。形成の際は、直接樹脂層b上に塗布してもよいし、樹脂層bとは別の基板上に、上記方法によりCNT層aを形成させ、それを樹脂層bに転写ラミネートしてもよい。ここで、CNT組成物とは、CNTを含有する組成物であり、CNTのみからなっていてもよく、バインダ樹脂、界面活性剤など、他の成分が含有されたものでもよい。上記塗布する方法としては、シリコンウエハーやガラス等の基板上または樹脂層b上に、CNT組成物を分散媒または溶媒に分散または溶解したものを、スピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、コンマコーター等を用いての塗布、スプレー塗布、ディッピング塗布などの方法がある。この分散媒または溶媒を乾燥させることで、CNT層aを得ることができる。分散媒または溶媒として重合性単量体を使用した場合、重合開始剤を添加しておくことにより、塗布後にUVや熱等により硬化させてCNT層aとすることもできる。分散媒としては、水、アルコール系分散媒、ケトン系分散媒、アミド系分散媒、エステル系分散媒および非プロトン系分散媒などの群から選ばれた少なくとも1種を使用することができる。また、バインダ樹脂としては、スチレン系樹脂、エステル系樹脂、エーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、メタアクリル酸エステル系樹脂などの群から選ばれた少なくとも1種を使用することができる。樹脂層bは、特定のアクリル系ブロック共重合体を含有する。上記アクリル系ブロック共重合体は、ガラス転移温度が20°C以上のメタアクリル酸エステル重合体ブロックAを少なくとも一つとガラス転移温度が0°C以下のメタアクリル酸エステル重合体ブロックBを少なくとも一つ含有するブロック共重合体である。上記重合体ブロックAは、ガラス転移温度が20°C以上のメタアクリル酸エステル重合体であり、その構成単位は、メタアクリル酸エステルを主体とする。重合体ブロックAを構成するメタアクリル酸エステルとしては、単独重合体のガラス転移温度が20°C以上となるメタアクリル酸エステルであれば特に限定されず、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸イソボルニルなどのメタクリル酸エステル;アクリル酸メチル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソボルニルなどのアクリル酸エステルなどが挙げられる。上記メタクリル酸エステル又はアクリル酸エステルは1種を単独で用いても良いし、2種以上を混合して用いてもよい。上記重合体ブロックBは、ガラス転移温度が0°C以下のメタアクリル酸エステル重合体であり、その構成単位は、メタアクリル酸エステルを主体とするものである。かかる重合体ブロックBを構成するメタアクリル酸エステルとしては、単独重合体のガラス転移温度が0°C以下であれば特に限定されず、例えばメタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸フェノキシエチル、メタクリル酸2-メトキシエチルなどのメタクリル酸エステル;アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェノキシエチル、アクリル酸2-メトキシエチルなどのアクリル酸エステルなどが挙げられる。上記メタアクリル酸エステルは1種を単独で用いても良いし、2種以上を混合して用いてもよい。上記重合体ブロックA中に、重合体ブロックAの特性を損なわない範囲で、重合体ブロックBを構成するメタアクリル酸エステルに由来する構成単位が含まれていてもよいし、上記重合体ブロックB中に、重合体ブロックBの特性を損なわない範囲で、重合体ブロックAを構成するメタアクリル酸エステルに由来する構成単位が含まれていてもよい。重合体ブロックAおよび重合体ブロックBには、それぞれの重合体ブロックの特性を損なわない範囲で、上記のメタアクリル酸エステルに加えて、必要に応じて他のモノマーを共重合してもよい。かかる他のモノマーとしては、例えばメタクリル酸;メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸トリメトキシシリルプロピル、メタクリル酸N-イソプロピルアミド等の反応性基を持つメタクリル酸エステル;アクリル酸;アクリル酸グリシジル、アクリル酸アリル、アクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸トリメトキシシリルプロピル、アクリル酸N-イソプロピルアミド等の反応基を持つアクリル酸エステル;スチレン、α-メチルスチレン、p-メチルスチレンなどの芳香族ビニル化合物;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル;酢酸ビニル;エチレン、プロピレン、1-ブテンなどのオレフィン;塩化ビニル;塩化ビニリデン;フッ化ビニル;フッ化ビニリデン;ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン;無水マレイン酸などが挙げられる。上記のアクリル系ブロック共重合体の重合体ブロックAと重合体ブロックBの質量比は特に限定されないが、通常、A/B=15/85~85/15が好ましく、25/75~75/25がより好ましく、40/60~70/30がさらに好ましい。重合体ブロックAの割合が15質量より小さい場合は、アクリル系ブロック共重合体の取り扱い性に劣る傾向にある。重合体ブロックAの割合が85質量より大きい場合は、樹脂層bのフレキシブル性が不十分となる傾向にある。上記のアクリル系ブロック共重合体の重量平均分子量は、樹脂層bの押出成形性を向上させる観点から10,000~500,000が好ましく、30,000~200,000がより好ましい。アクリル系ブロック共重合体の重量平均分子量が10,000よりも小さいと、例えば溶融押出成形において十分な溶融張力を保持できず、厚み精度が低下し、良好な樹脂層bが得られにくい。一方、500,000よりも大きいと、例えば溶融押出成形で得られる樹脂層bの表面に未溶融物高分子量体に起因するブツが発生する傾向がある。また、分子量分布重量平均分子量/数平均分子量の比は、樹脂層bの透明性を向上させる観点から、1.01~1.80が好ましく、1.01~1.50がより好ましい。上記のアクリル系ブロック共重合体の形態としては、A-Bで表されるジブロック共重合体、A-B-AまたはB-A-Bで表されるトリブロック共重合体、A-B-A-Bで表されるテトラブロック共重合体などが挙げられる。中でもトリブロック共重合体や、トリブロック共重合体とジブロック共重合体との混合物が好ましい。上記のアクリル系ブロック共重合体の製造方法としては、リビング重合が好ましい。リビング重合としてはリビングラジカル重合法、リビングカチオン重合法、リビングアニオン重合法が挙げられるが、リビングラジカル重合法、リビングアニオン重合法がより好ましい。リビングラジカル重合法としては、特許文献6のような安定ニトロキシ基化合物を用いたコントロールラジカル重合法CRP、非特許文献1のような原子移動ラジカル重合方法ATRPなどが挙げられる。リビングアニオン重合法としては特許文献7のような有機アルミニウム化合物を用いた重合法や、有機サマリウム錯体を用いた重合法、塩化リチウムやリチウムメトキシエトキシドなどのアルコキシリチウムを用いた重合法が挙げられる。これらの中でも、原子移動ラジカル重合法、有機アルミニウム化合物を用いたリビングアニオン重合法が好ましく、分子量や分子量分布の制御に優れ、未反応モノマー分やオリゴマー成分が少なく、得られるアクリル系ブロック共重合体の透明性に優れることから、有機アルミニウム化合物を用いたリビングアニオン重合法がより好ましい。樹脂層bは、上記アクリル系ブロック共重合体のみから構成されていてもよいが、該アクリル系ブロック共重合体を含む樹脂組成物から構成されていてもよい。その場合、樹脂組成物中アクリル系ブロック共重合体の割合は15~100質量が好ましく、30~100質量がより好ましく、50~100質量がさらに好ましい。アクリル系ブロック共重合体の他に含んでいてもよい成分としては、他の重合体、高分子加工助剤、着色剤、粘着付与樹脂、可塑剤、充填材、酸化防止剤、膠着防止剤などを挙げることができる。他の重合体としては、例えば、メタクリル酸エステル系重合体が挙げられる。ここで、本明細書でメタクリル酸エステル系重合体とは、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸フェノキシエチル、メタクリル酸イソボルニルなどの官能基を有さないメタクリル酸エステルの共重合体を意味する。但し、かかるメタクリル酸エステル系重合体は、前記したメタクリル酸エステルに加えて、メタクリル酸2-メトキシエチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸トリメトキシシリルプロピル、メタクリル酸N-イソプロピルアミドなどの官能基を有するメタクリル酸エステル;アクリル酸;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェノキシエチル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸2-メトキシエチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸アリル、アクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸トリメトキシシリルプロピル、アクリル酸N-イソプロピルアミドなどのアクリル酸エステル;スチレン、α-メチルスチレン、p-メチルスチレンなどの芳香族ビニル化合物;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリル;酢酸ビニル;エチレン、プロピレン、1-ブテンなどのオレフィン;塩化ビニル;塩化ビニリデン;フッ化ビニル;フッ化ビニリデン;ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン;無水マレイン酸などを少量共重合してもよい。樹脂層bが、前記アクリル系ブロック共重合体の他に前記メタクリル酸エステル系重合体を含有する樹脂組成物から構成される場合、該メタクリル酸エステル系重合体の樹脂組成物中の含有量は85質量以下が好ましく、70質量以下がより好ましく、50質量以下がさらに好ましい。樹脂層bの厚みは、本発明の積層体からなる部材の柔軟性、重量や厚みの観点から、1μm~1000μmが好ましく、30μm~200μmがより好ましい。樹脂層bの引張り弾性率は、柔軟性およびCNT層aとの密着性の観点から、1~2000MPaが好ましく、10~1000MPaがより好ましい。樹脂層bは、例えば熱溶融成形法、溶液キャスト法などにより製造できる。熱溶融成形法とは樹脂を熱により溶融させて成形する方法のことであり、例えば、ホットメルト塗工法、Tダイ押出法、インフレーション法、カレンダー成形法などが挙げられる。中でも、生産性、厚み精度、コストなどの点からTダイ法またはインフレーション法が好ましく、Tダイ法がより好ましい。Tダイ法により樹脂層bを製造する場合には、例えば、アクリル系ブロック共重合体を含む樹脂組成物を押出機中で溶融し、当該押出機に備えたTダイからシート状又はフィルム状に押出し、押出されたシート又はフィルムを、少なくとも1つの冷却ドラムに密着して引き取る。上記溶液キャスト法としては、フィルム状又はシート状の部材の製造に用いられる一般的な方法を適用できる。例えば、支持体としてポリエチレンテレフタレート等の耐熱材料やスチールベルト等の平板又はロールを用い、これらの上に、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、コンマコーター等を用いてアクリル系ブロック共重合体またはアクリル系ブロック共重合体を含む樹脂組成物を溶媒に溶解させた溶液を塗工し、乾燥により溶媒を除去する方法等が挙げられる。乾燥により溶媒を除去する方法は特に限定されず、従来公知の方法を用いることができるが、複数の段階に分けて乾燥を行うことが好ましい。複数の段階に分けて乾燥を行う場合には、1段階目の乾燥は、溶媒の急激な揮発による発泡を抑制するために、比較的低い温度で行い、2段階目以降の乾燥は、十分に溶媒を除去するために高温で乾燥を行う方法がより好ましい。上記溶液キャスト法において、アクリル系ブロック共重合体またはアクリル系ブロック共重合体を含む樹脂組成物の溶解に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、酢酸エチル、エチルベンゼン、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、ジメチルスルホキシド、トルエン-エタノール混合溶媒等が挙げられる。なかでもトルエン、エチルベンゼン、酢酸エチル、メチルエチルケトンが好ましい。上記溶液中の、アクリル系ブロック共重合体またはアクリル系ブロック共重合体を含む樹脂組成物の濃度は、溶媒に対する溶解度、得られる溶液の粘度等を考慮して適宜決定されるが、好ましい下限値が5質量、好ましい上限値が50質量である。CNT層aと樹脂層bを積層した本発明の積層体を製造する方法としては、CNT層aの形成方法で上述したように、樹脂層b上に直接CNT層aを形成させる方法や、CNT層aを他の基板上に形成した後、樹脂層bに転写する方法などが挙げられる。本発明の積層体は、上記CNT層aと樹脂層bの間に粘着層やクッション層などの他の層を有していてもよいし、CNT層aまたは樹脂層bの互いに対面していない側の面に、さらに別の樹脂層、ガラス基板層など、他の層を有していてもよい。本発明の積層体は、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機EL、電子ペーパーなどのディスプレイや、太陽電池のモジュールなどの電極部材として好適に使用することができる。以下に、実施例等により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。1アクリル系ブロック共重合体の重量平均分子量Mw、数平均分子量Mnおよび分子量分布Mw/Mnゲルパーミエーションクロマトグラフィー以下GPCと略記するにより標準ポリスチレン換算分子量として求めた。装置:東ソー株式会社製GPC装置HLC-8020分離カラム:東ソー株式会社製のTSKgelGMHXL、G4000HXLおよびG5000HXLを直列に連結溶離剤:テトラヒドロフラン溶離剤流量:1.0ml/分カラム温度:40°C検出方法:示差屈折率RI2アクリル系ブロック共重合体中のPMMA含量メタクリル酸メチル単位の含有量、質量1H-NMR測定によって求めた。3引張弾性率以下の実施例または比較例で用いた樹脂層b-I~b-IVを構成する重合体または樹脂組成物以下、原料樹脂と称するをプレス成形機により各原料樹脂の適正な温度で成形した厚み1mmのシートをISO527-3に記載の方法に準拠して、23°Cで、引張速度300mm/minの条件で測定した。4積層体の全光線透過率ヘーズメーターにてJISK7361-1に準じて測定した。5積層体の表面抵抗値抵抗率計にてJISK7194に準じて測定した。6CNT層aと樹脂層bとの密着性CNT層aと樹脂層bとの密着性は碁盤目試験:JISK5400に準じて測定した。なお、JISK5400において碁盤目内に全く剥離が発生しなければ10点と評価し、10点であることが望ましい。また全正方形面積の65以上が剥離した場合は0点と評価した。[樹脂層bの原料樹脂組成物および樹脂層bの製造]以下に、実施例および比較例で用いた原料樹脂組成物I~IVと樹脂層b-I~b-IVの製造の詳細を示す。[原料樹脂I:アクリル系ブロック共重合体]イソブチルビス2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノキシアルミニウムの存在下、sec-ブチルリチウムを重合開始剤として用い、トルエン中で各ブロックに相当するモノマーメタクリル酸メチル、アクリル酸n-ブチル、メタクリル酸メチルを逐次添加してリビングアニオン重合し、用いたアルミニウム分、リチウム分を除去後、脱揮2軸押出機によりアクリル系トリブロック共重合体原料樹脂Iを得た。得られた原料樹脂Iの構造は、メタクリル酸メチル重合体ブロックPMMA-アクリル酸n-ブチル重合体ブロックPnBA-メタクリル酸メチル重合体ブロックPMMAのトリブロック共重合体であり、PMMA含量44質量、重量平均分子量Mw63000、分子量分布重量平均分子量/数平均分子量1.15であった。また、原料樹脂Iの引張弾性率は20MPaであった。[原料樹脂II:アクリル系トリブロック共重合体樹脂組成物]上記で得られた原料樹脂I40質量部および市販のメタクリル酸エステル系重合体:パラペットGF:株式会社クラレ製60質量部を、二軸押出機を用いて210°Cで溶融混練して、アクリル系トリブロック共重合体樹脂組成物原料樹脂IIを得た。原料樹脂IIの引張弾性率は、900MPaであった。[原料樹脂III:アクリル系トリブロック共重合体樹脂組成物]上記原料樹脂I67質量部およびパラペットGF:株式会社クラレ製33質量部を二軸押出機を用いて210°Cで溶融混練して、アクリル系ブロック共重合体樹脂組成物原料樹脂IIIを得た。原料樹脂IIIの引張弾性率は300MPaであった。[原料樹脂IV:多層構造架橋ゴム粒子とメタクリル酸エステル系重合体との組成物]1ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを水相乳化剤とし、ペルオキソ二硫酸カリウムを重合開始剤、ポリオキシエチレンアルキルリン酸ナトリウムをモノマー相乳化剤として用い、アクリル酸n-ブチル30質量部、メタクリル酸メチル14質量部、スチレン6質量部、およびメタクリル酸アリル0.2質量部を乳化重合し、第一層を形成した。次いで、アクリル酸n-ブチル20質量部、メタクリル酸メチル10質量部、スチレン4質量部およびメタクリル酸アリル0.1質量部を滴下重合し、第二層を形成した。さらに、メタクリル酸メチル24質量部、アクリル酸メチル1.3質量部およびn-オクチルメルカプタン0.25質量部滴下重合し、第三層を形成した。得られたラテックスを-30°Cに24時間冷却して凍結凝集させた後、凝集物を融解させ取り出した。50°Cで2日間減圧乾燥して、粉末状の3層型の多層構造架橋ゴム粒子を得た。2上記で得られた多層構造架橋ゴム粒子20質量部およびパラペットGF:株式会社クラレ製を80質量部を、二軸押出機を用いて210°Cで溶融混練して原料樹脂IVを得た。得られた原料樹脂IVの引張弾性率は、2300MPaであった。[樹脂層b-I~b-IVの製造]上記の原料樹脂I~IVを、φ40mmの単軸押出機メイン押出機、およびφ22mmの単軸押出機サブ押出機を用いて、Tダイ押出成形機によりシリンダー温度およびダイス温度220°Cで押出し、次いでポリシングロールに片面が接するようにして冷却し、厚み0.1mmの樹脂層b-I~b-IVを製造した。実施例1アーク放電により合成されたSWCNTを酸処理、水洗浄、遠心分離、ろ過を含む工程により精製した。次に精製したSWCNTに、界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム東京化成工業製0.2wt水溶液を加えてチップ型超音波でCNTを分散させ、遠心分離を行い、SWCNT分散液を得た。得られたSWCNT分散液に塗工助剤BYK345を固形分として0.1wt添加し、十分攪拌してSWCNT分散コーティング液を得た。ウェット膜厚乾燥前の分散媒を含んだ状態での膜厚が27.4μmとなるように、得られたSWCNT分散コーティング液をワイヤーバーにて樹脂層b-II上にコーティングし、80°Cで2分間乾燥した。その後、メタノールで洗浄し、再度80°Cで1分間乾燥することでSWCNTを導電性層として有する積層体を得た。得られた積層体の全光線透過率は86.7、表面抵抗値は940Ω□、密着性は10点であった。実施例2実施例1においてSWCNT分散コーティング液のウェット膜厚を36.6μmにした以外は実施例1と同じ操作を行った。得られた積層体の全光線透過率は84.0、表面抵抗値は600Ω□、密着性は10点であった。実施例3実施例1においてSWCNT分散コーティング液のウェット膜厚を50.3μmにした以外は実施例1と同じ操作を行った。得られた積層体の全光線透過率は80.7、表面抵抗値は340Ω□、密着性は10点であった。実施例4実施例1において樹脂層b-IIの代わりに樹脂層b-IIIを用いた以外は実施例1と同じ操作を行った。得られた積層体の全光線透過率は87.0、表面抵抗値は1,610Ω□、密着性は10点であった。実施例5実施例2において樹脂層b-IIの代わりに樹脂層b-IIIを用いた以外は実施例2と同じ操作を行った。得られた積層体の全光線透過率は84.2、表面抵抗値は880Ω□、密着性は10点であった。実施例6実施例3において樹脂層b-IIの代わりに樹脂層b-IIIを用いた以外は実施例3と同じ操作を行った。得られた積層体の全光線透過率は83.4、表面抵抗値は840Ω□、密着性は10点であった。実施例7実施例3において樹脂層b-IIの代わりに樹脂層b-Iを用いた以外は実施例3と同じ操作を行った。得られた積層体の全光線透過率は851、表面抵抗値は1,050Ω□、密着性は10点であった。比較例1実施例2において樹脂層b-IIの代わりに樹脂層b-IVを用いた以外は実施例2と同じ操作を行った。得られた積層体の全光線透過率は86.2、表面抵抗値は510Ω□、密着性は0点であった。一般的なアクリル系フィルムと同様の組成である樹脂層b-IVを用いた比較例1では、全光線透過率、表面抵抗値の点では問題ないものの、SWCNT層aの密着性が悪かった。また、切削時に端面に欠けが生じて良品が得られなかった。一方、実施例1~7は、SWCNT層aの樹脂層b-I~b-IIIとの密着性に優れる。また、切削時に端面の欠け欠点もなく、導電層を付与後も全光線透過率80以上を保持しており、透明性に優れていた。また、実施例1~7の表面抵抗値は、タッチパネル部材などに十分適用できる値であった。また、実施例7ではSWCNT層aを有する面の樹脂層b-Iの反対面は粘着性を有しており、そのまま他の被着体に接着させることが可能であった。"