"逆ミセルスルホン化ブロックコポリマー組成物を有する溶液であって:少なくとも1つの末端ブロックAおよび少なくとも1つの内側ブロックBを有し、各Aブロックが本質的にスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を含有せず、ならびに各BブロックがBブロックのスルホン化感受性モノマー単位の数に基づいて約10から約100molのスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を含有するポリマーブロックである、少なくとも1つのスルホン化ブロックコポリマーを含み、スルホン化ブロックコポリマーが非プロトン性極性溶媒に溶解され、ならびにスルホン化ブロックコポリマーが逆ミセル構造で配置され、逆ミセル構造がミセル構造の外側のスルホン化ブロックコポリマーのスルホン酸またはスルホン酸エステルのセグメントおよびミセル構造の内側のスルホン化ブロックコポリマーの非極性セグメントを有する、逆ミセルスルホン化ブロックコポリマー組成物を有する、溶液。溶液中のスルホン化ブロックコポリマーの濃度が15重量未満である、請求項1に記載の溶液。非プロトン性極性溶媒が少なくとも1つの窒素原子を含有する化合物である、請求項1に記載の溶液。イオン交換能が約2meq/g以下である、請求項1に記載の溶液。イオン交換能が約1.6meq/g以下である、請求項1に記載の溶液。請求項1に記載の溶液から形成されたフィルムまたは膜。請求項1に記載の溶液から形成された水性分散物。請求項6に記載のフィルムまたは膜を製織または不織支持体に積層することによって形成された複合材。20リットル/m2/日以上の反転カップ水蒸気輸送速度および50未満の吸水率を有する、請求項6に記載のフィルムまたは膜。請求項1に記載の溶液であって、スルホン化ブロックコポリマーが一般配置A-B-A、A-B-A-B-A、A-B-AnX、A-BnX、A-D-B-D-A、A-B-D-B-A、A-D-BnX、A-B-DnXまたはこれの混合物を有し、式中、nが2から約30の整数であり、およびXがカップリング剤残基であり、ならびに各Dブロックがスルホン化に抵抗性のポリマーブロックであり、および複数のAブロック、BブロックまたはDブロックが同じであるまたは異なる、請求項1に記載の溶液。請求項1に記載の溶液であって、スルホン化ブロックコポリマーの各Dブロックがi水素添加前に20から80モルパーセントのビニル含有率を有するイソプレン、1,3-ブタジエンより選択される重合または共重合共役ジエン、ii重合アクリレートモノマー、iiiケイ素ポリマー、iv重合イソブチレンおよびvこれの混合物から成る群より選択され、重合1,3-ブタジエンまたはイソプレンを含有するいずれのセグメントも次に水素添加される、請求項1に記載の溶液。スルホン化ブロックコポリマー組成物であって:非プロトン性極性溶媒に、少なくとも1つの末端ブロックAおよび少なくとも1つの内側ブロックBを有し、各Aブロックが本質的にスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を含有せず、ならびに各BブロックがBブロックのスルホン化感受性モノマー単位の数に基づいて約10から約100molのスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を含有するポリマーブロックである、スルホン化ブロックコポリマーを溶解させることを含み、溶媒中のスルホン化ブロックコポリマーが逆ミセル構造で配置され、逆ミセル構造がミセル構造の外側のスルホン化ブロックコポリマーのスルホン酸またはスルホン酸エステルセグメントおよびミセル構造の内側のスルホン化ブロックコポリマーの非極性セグメントを有する、工程によって形成される、スルホン化ブロックコポリマー組成物。溶媒中のスルホン化ブロックコポリマー組成物が40°Cから非プロトン性極性溶媒の沸点の範囲で加熱される、請求項12に記載の組成物。非プロトン性極性溶媒が少なくとも1つの窒素を含有する化合物である、請求項12に記載の組成物。非プロトン性極性溶媒がアミドである、請求項12に記載の組成物。非プロトン性極性溶媒がN,N-ジメチルホルムアミドDMF、N,N-ジメチルアセトアミドDMA、N-メチル-2-ピロリドンNMPである、請求項14に記載の組成物。イオン交換能が約2meq/g以下である、請求項12に記載の組成物。イオン交換能が約1.6meq/g以下である、請求項12に記載の組成物。スルホン化ブロックコポリマーが極性非プロトン性溶媒中に15重量未満で溶解される、請求項12に記載の工程。請求項12に記載のスルホン化ブロックコポリマー組成物から形成されたフィルムまたは膜。請求項12に記載のスルホン化ブロックコポリマー組成物を用いて形成された水性分散物。請求項20に記載のフィルムまたは膜であって、20リットル/m2/日以上の反転カップ水蒸気輸送速度および50未満の吸水率を有する、フィルムまたは膜。請求項12に記載の組成物であって、スルホン化ブロックコポリマーが一般配置A-B-A、A-B-A-B-A、A-B-AnX、A-BnX、A-D-B-D-A、A-B-D-B-A、A-D-BnX、A-B-DnXまたはこれの混合物を有し、式中、nが2から約30の整数であり、およびXがカップリング剤残基であり、ならびに各Dブロックがスルホン化に抵抗性のポリマーブロックであり、および複数のAブロック、BブロックまたはDブロックが同じであるまたは異なる、組成物。スルホン化ブロックコポリマー組成物を形成する方法であって:非プロトン性極性溶媒に、少なくとも1つの末端ブロックAおよび少なくとも1つの内側ブロックBを有し、各Aブロックが本質的にスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を含有せず、ならびに各BブロックがBブロックのスルホン化感受性モノマー単位の数に基づいて約10から約100molのスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を含有するポリマーブロックである、非逆スルホン化ブロックコポリマーを溶解させることを含み、溶媒中のスルホン化ブロックコポリマーが逆ミセル構造で配置され、逆ミセル構造がミセル構造の外側のスルホン化ブロックコポリマーのスルホン酸またはスルホン酸エステルセグメントおよびミセル構造の内側のスルホン化ブロックコポリマーの非極性セグメントを有する、方法。溶解が40°Cから非プロトン性極性溶媒の沸点の範囲での加熱下で行われる、請求項24に記載の方法。非プロトン性極性溶媒が少なくとも1つの窒素、硫黄もしくは酸素原子またはこれの混合物を含有する化合物である、請求項24に記載の方法。非プロトン性極性溶媒がアミドである、請求項24に記載の方法。非プロトン性極性溶媒がN,N-ジメチルホルムアミドDMF、N,N-ジメチルアセトアミドDMA、N-メチル-2-ピロリドンNMPである、請求項24に記載の方法。請求項24に記載のスルホン化ブロックコポリマー組成物から形成されたフィルムまたは膜。請求項24に記載のスルホン化ブロックコポリマー組成物を用いて形成された水性分散物。スルホン化ブロックコポリマー組成物であって:少なくとも1つの末端ブロックAおよび少なくとも1つの内側ブロックBを含み、各Aブロックが本質的にスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を含有せず、ならびに各Bブロックがaポリマーブロックであり、および1.5meq/g以下のイオン交換能を有し、ならびにブロックコポリマーが約20リットル/m2/日を超える反転カップ水分輸送速度を有する、スルホン化ブロックコポリマー組成物。請求項6に記載のフィルムまたは膜を含む電気透析セル。電気透析セルであって:少なくとも1つの陽極および少なくとも1つの陰極と、少なくとも1つの末端ブロックAおよび少なくとも1つの内側ブロックBとを備え、各Aブロックが本質的にスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を含有せず、ならびに各Bブロックがポリマーブロックであり、2.5meq/g以下のイオン交換能を有し、ならびにブロックコポリマーが少なくとも1.0mS/cmの導電率を有する、電気透析セル。上ではポリマーA-2.0およびA-1.5の両方が示され、本明細書の実施例のセクションで述べられている。発明の詳細な説明本発明の実施形態の詳細な説明が本明細書で開示されている;しかし開示された実施形態が本発明の単なる例示にすぎず、本発明が開示された実施形態の多様な形式および代替的な形式で実施することができることを理解されるべきである。ゆえに、本明細書で実施形態を記述する際に扱う具体的な構造上および機能上の詳細事項は、限定するものと解釈すべきではなく、単に請求の範囲の基準として、および本発明を多様に用いることを当業者に教示するための代表的な基準として解釈すべきである。特に具体的に記載のない限り、本明細書で使用するすべての技術用語は、当業者によって一般的に理解される意味を有する。その上、特に具体的に記載のない限り、本明細書で使用する以下の表現は、以下の意味を有すると理解される。平衡という表現は、吸水に関連して本明細書で使用する場合、ブロックコポリマーによる吸水の速度がブロックコポリマーによる水損失の速度と釣り合っている状態を指す。平衡状態は一般に、本発明のスルホン化ブロックコポリマーを水中に24時間の期間1日にわたって浸漬することによって達することができる。平衡状態は、他の湿潤環境でも達することができるが、平衡に達する期間が異なることがある。水和ブロックコポリマーという表現は、本明細書で使用する場合、相当量の水を吸水したブロックコポリマーを指す。非プロトン性という表現は、本明細書で使用する場合、水素原子、例えばO-H基、N-H基またはS-H基を供与できない溶媒を指す。湿潤状態という表現は、本明細書で使用する場合、ブロックコポリマーが平衡に達したまたは24時間の期間にわたって浸漬された状態を指す。乾燥状態という表現は、本明細書で使用する場合、本質的に水を吸収していないまたはわずかな量の水のみ吸収したブロックコポリマーの状態を指す。例えば、雰囲気と接しているだけのスルホン化ブロックコポリマーは一般に、乾燥状態のままである。吸水率値という表現は、本明細書で使用する場合、乾燥材料の元の重量と比較して平衡状態にあるブロックコポリマーによって吸収されている水の重量を指し、パーセンテージとして計算される。より低い吸水率値は、吸水された水がより少ないことを示し、ゆえに寸法安定性がより良好であることに相当する。イオン流束という表現は、スルホン化ブロックコポリマー膜がイオンを輸送する能力を指す。逆ミセルという表現は、本明細書では、極性スルホン化セグメントがミセルの外側コロナに配置され、一方、非極性非スルホン化セグメントがミセルの内側コアに配置されるように構成された、溶媒に溶解したスルホン化ブロックコポリマー組成物を指す。本明細書で言及するすべての刊行物、特許出願および特許は、これらの全体が参照により本明細書に組み入れられている。矛盾がある場合には、定義を含めて、本明細書が制御するものとする。さらに、本明細書で開示されるすべての範囲は、特定の組合せおよび範囲が特に記載されていない場合でも、言及した上限および下限のいずれの組合せも含むものとする。本開示の幾つかの実施形態により、驚くべきことに、スルホン化ブロックコポリマー組成物が非プロトン性極性溶媒に溶解して逆ミセル構造を形成できることが見出されている。即ち、このような溶液に溶解されると、ポリマーのスルホン化セグメントはミセルの外側にこれ自体が配置され、非スルホン化セグメントはミセルの内側にこれ自体が配置される。キャストしてフィルムまたは膜とすると、低いイオン交換能meq/gスルホン酸官能基においても優れた特性が得られる。特定の特性としては、これに限定されるわけではないが:1並外れて高い水蒸気輸送速度;2低吸水率値および低膨潤によって立証される、湿潤条件下での寸法安定性;3湿潤状態での良好な引張強度追加の並外れた特性は、電気によって駆動される工程での使用に関する:1高いイオン流束2良好な導電率3高い選択性4優れた寸法安定性幾つかの実施形態において、非プロトン性極性溶媒への溶解およびこれからのキャスティングに本明細書で使用するスルホン化ブロックコポリマーは、WillisらのUS7,737,224に記載され、この開示全体は参照により本明細書に組み入れられている。さらに、US7,737,224に記載されたスルホン化ブロックポリマーは、DadoらのWO2008/089332またはHandlinらのWO2009/137678の工程に従って調製することができ、この開示全体は参照により本明細書に組み入れられている。1.スルホン化ブロックコポリマースルホン化ブロックコポリマーの調製のためのブロックコポリマーは、アニオン重合、調節moderatedアニオン重合、カチオン重合、チーグラー-ナッタ重合およびリビング連鎖または安定フリーラジカル重合を含む、幾つかの異なる工程によって製造され得る。アニオン重合は、下でさらに詳細に、および参考文献に記載されている。スチレン系ブロックコポリマーを作製するための調節moderatedアニオン重合工程は、例えばUS6,391,981、US6,455,651およびUS6,492,469に開示され、このそれぞれは参照により本明細書に組み入れられている。ブロックコポリマーを調製するためのカチオン重合工程は、例えばUS6,515,083およびUS4,946,899に開示され、このそれぞれは参照により本明細書に組み入れられている。ブロックコポリマーを作製するために使用できるリビングチーグラー-ナッタ重合工程は、近年、G.W.Coates,P.D.Hustad,andS.ReinartzによってAngew.Chem.Int.Ed.,41,2236-22572002にて総説され;H.ZhangおよびK.Nomuraによる続いての刊行物J.Am.Chem.Soc.,Comm.,2005は、スチレン系ブロックコポリマーを特に作製するためのリビングチーグラー-ナッタ技法について記載している。窒素酸化物介在リビングラジカル重合化学の分野における広範囲に及ぶ研究が総説されている;C.J.Hawker,A.W.Bosman,andE.Harth,Chem.Rev.,10112,3661-36882001を参照。この総説で概説されているように、スチレン系ブロックコポリマーは、リビングまたは安定フリーラジカル技法によって合成できる。窒素酸化物介在重合法は、前駆体ポリマーの調製時に好ましいリビング連鎖または安定フリーラジカル重合工程である。2.ポリマー構造本開示の一態様は、スルホン化ブロックコポリマーのポリマー構造に関する。一実施形態において、スルホン化ブロックコポリマーは少なくとも2つのポリマー末端または外側ブロックAおよび少なくとも1つの飽和ポリマー内側ブロックBを有し、各Aブロックはスルホン化に抵抗性であるポリマーブロックであり、および各Bブロックはスルホン化に感受性であるポリマーブロックである。好ましい構造は、一般配置A-B-A、A-BnA、A-B-An、A-B-AnX、A-BnX、A-B-D-B-A、A-D-B-D-A、A-D-BnA、A-B-DnA、A-B-DnX、A-D-BnXまたはこれの混合物を有し、式中、nは2から約30の整数であり、Xはカップリング剤残基であり、ならびにA、BおよびDは以下で定義する通りである。最も好ましい構造は、直鎖構造、例えばA-B-A、A-B2X、A-B-D-B-A、A-B-D2X、A-D-B-D-AおよびA-D-B2Xならびに放射状構造、例えばA-BnXおよびA-D-BnXであり、式中、nは3から6である。このようなブロックコポリマーは通例、アニオン重合、安定フリーラジカル重合、カチオン重合またはチーグラー-ナッタ重合によって作製される。好ましくは、ブロックコポリマーはアニオン重合によって作製される。任意の重合において、ポリマー混合物が任意の直鎖および/または放射状ポリマーに加えて、ある量のA-Bジブロックコポリマーを含むことは、当業者によって理解される。それぞれの量は、本発明の実施に不利益であることが見出されていない。Aブロックは、重合したiパラ置換スチレンモノマー、iiエチレン、iii3から18個の炭素原子のアルファオレフィン;iv1,3-シクロジエンモノマー、v水素添加前に35モルパーセント未満のビニル含有率を有する共役ジエンのモノマー、viアクリル酸エステル、viiメタクリル酸エステルおよびviiiこれの混合物より選択される、1つ以上のセグメントである。Aセグメントが1,3-シクロジエンまたは共役ジエンのポリマーである場合、セグメントはブロックコポリマーの重合に続いておよびブロックコポリマーのスルホン化の前に水素添加される。パラ置換スチレンモノマーは、パラ-メチルスチレン、パラ-エチルスチレン、パラ-n-プロピルスチレン、パラ-イソ-プロピルスチレン、パラ-n-ブチルスチレン、パラ-sec-ブチルスチレン、パラ-イソ-ブチルスチレン、パラ-t-ブチルスチレン、パラ-デシルスチレンの異性体、パラ-ドデシルスチレンの異性体および上のモノマーの混合物より選択される。好ましいパラ置換スチレンモノマーはパラ-t-ブチルスチレンおよびパラ-メチルスチレンであり、パラ-t-ブチルスチレンが最も好ましい。モノマーは、特定の源に応じて、モノマーの混合物でもよい。パラ置換スチレンモノマーの全体の純度は、少なくとも90重量、好ましくは少なくとも95重量およびなおさらに好ましくは少なくとも98重量の望ましいパラ置換スチレンモノマーであることが望ましい。Aブロックがエチレンのポリマーセグメントであるとき、上で引用したG.W.Coatesらによる総説論文中の参考文献で教示されているように、チーグラー-ナッタ工程によってエチレンを重合することが有用であり得、これの開示は参照により本明細書に組み入れられている。US3,450,795で教示されているように、アニオン重合技法を使用してエチレンブロックを作製することが好ましく、これの開示は参照により本明細書に組み入れられている。このようなエチレンブロックのブロック分子量は通例、約1,000から約60,000の間である。Aブロックが3から18個の炭素原子のアルファオレフィンのポリマーである場合、このようなポリマーは、G.W.Coatesらによる上で引用した総説論文中の参考文献で教示されているように、チーグラー-ナッタ工程によって調製される。好ましくは、アルファオレフィンはプロピレン、ブチレン、ヘキサンまたはオクタンであり、プロピレンが最も好ましい。このようなアルファオレフィンブロックのそれぞれのブロック分子量は通例、約1,000から約60,000の間である。Aブロックが1,3-シクロジエンモノマーの水素添加ポリマーである場合、このようなモノマーは、1,3-シクロヘキサジエン、1,3-シクロヘプタジエンおよび1,3-シクロオクタジエンから成る群より選択される。好ましくは、シクロジエンモノマーは1,3-シクロヘキサジエンである。このようなシクロジエンモノマーの重合はUS6,699,941に開示され、これの開示は参照により本明細書に組み入れられている。未水素添加重合シクロジエンブロックはスルホン化に感受性であるため、シクロジエンモノマーを使用するときには、Aブロックを水素添加することが必要となる。従って、1,3-シクロジエンモノマーによるAブロックの合成後に、ブロックコポリマーは水素添加される。Aブロックが水素添加前に35モルパーセント未満のビニル含有率を有する共役アクリルジエンの水素添加ポリマーである場合、共役ジエンは1,3-ブタジエンであることが好ましい。水素添加前のポリマーのビニル含有率は35モルパーセント未満、好ましくは30モルパーセント未満であることが必要である。ある実施形態において、水素添加前のポリマーのビニル含有率は25モルパーセント未満、なおさらに好ましくは20モルパーセント未満、およびなお15モルパーセント未満となり、水素添加前のポリマーのより好都合なビニル含有量の1つは10モルパーセント未満である。このようにして、Aブロックは、ポリエチレンの結晶構造に似た結晶構造を有する。このようなAブロック構造はUS3,670,054およびUS4,107,236に開示され、この開示のそれぞれは参照により本明細書に組み入れられている。Aブロックは、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルのポリマーセグメントでもあり得る。このようなポリマーブロックは、US6,767,976に開示された方法に従って作製され、これの開示は参照により本明細書に組み入れられている。メタクリル酸エステルの具体的な例としては、1級アルコールおよびメタクリル酸のエステル、例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、メトキシエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、トリフルオロメチルメタクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート;2級アルコールおよびメタクリル酸のエステル、例えばイソプロピルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレートおよびイソボルニルメタクリレート;ならびに3級アルコールおよびメタクリル酸のエステル、例えばtert-ブチルメタクリレートが挙げられる。アクリル酸エステルの具体的な例としては、1級アルコールおよびアクリル酸のエステル、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、n-ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、トリメトキシシリルプロピルアクリレート、トリフルオロメチルアクリレート、トリフルオロエチルアクリレート;2級アルコールおよびアクリル酸のエステル、例えばイソプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートおよびイソボルニルアクリレート;ならびに3級アルコールおよびアクリル酸のエステル、例えばtert-ブチルアクリレートが挙げられる。必要ならば、1つ以上の原料として、1つ以上の他のアニオン重合性モノマーをメタアクリル酸エステルと共に使用することができる。場合により使用できるアニオン重合性モノマーの例としては、メタクリル酸またはアクリル酸モノマー、例えばトリメチルシリルメタクリレート、N,N-ジメチルメタクリルアミド、N,N-ジイソプロピルメタクリルアミド、N,N-ジエチルメタクリルアミド、N,N-メチルエチルメタクリルアミド、N,N-ジ-tert-ブチルメタクリルアミド、トリメチルシリルアクリレート、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジ-イソプロピルアクリルアミド、N,N-メチルエチルアクリルアミドおよびN,N-ジ-tert-ブチルアクリルアミドが挙げられる。その上、これの分子中に2つ以上のメタクリルまたはアクリル構造、例えばメタクリル酸エステル構造またはアクリル酸エステル構造を有する多官能性アニオン重合性モノマー例えばエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートおよびトリメチロールプロパントリメタクリレートを使用することができる。アクリル酸またはメタクリル酸エステルポリマーブロックを作製するために使用される重合工程において、モノマー、例えばメタアクリル酸エステル1つのみを使用することができ、またはこれの2つ以上を組み合わせて使用することができる。2つ以上のモノマーを組み合わせて使用する場合、ランダム、ブロック、テーパードブロックなどの共重合形態より選択されるいずれの共重合形も、条件、例えばモノマーの組合せおよび重合系にモノマーを添加するタイミング例えば2つ以上のモノマーの同時添加または所定の間隔での別個の添加を選択することによって行うことができる。Aブロックは、15モルパーセントまでのビニル芳香族モノマー、例えば以下でより詳細に扱うBブロック中に存在するビニル芳香族モノマーを含むこともできる。幾つかの実施形態において、Aブロックは、10モルパーセントまでの、好ましくはわずか5モルパーセントまでの、特に好ましくわずか2モルパーセントまでの、Bブロックに関して言及されるようなビニル芳香族モノマーを含むことができる。しかし最も好ましい実施形態において、Aブロックは、Bブロック中に存在するようなビニルモノマーを含有しない。Aブロックにおけるスルホン化レベルは、Aブロック中の全モノマーの0から15モルパーセントまでであり得る。具体的な組合せおよび範囲が本明細書によって列挙されなくても、好適な範囲が指定されたモルパーセントのいずれの組合せも含むことが当業者によって理解される。Bブロックは、各場合において、非置換スチレンモノマー、オルト置換スチレンモノマー、メタ置換スチレンモノマー、アルファ-メチルスチレンモノマー、1,1-ジフェニルエチレンモノマー、1,2-ジフェニルエチレンモノマーおよびこれの混合物より選択される1つ以上の重合ビニル芳香族モノマーのセグメントを含む。上述のモノマーおよびポリマーに加えて、Bブロックは、このようなモノマーと1,3-ブタジエン、イソプレンおよびこれの混合物より選択される共役ジエンとの、20から80モルパーセントの間のビニル含有率を有する部分または完全水素添加コポリマーを含むこともできる。部分または完全水素添加ジエンとのこれらのコポリマーは、ランダムコポリマー、テーパードコポリマー、ブロックコポリマーまたは制御分布コポリマーであり得る。好ましい一実施形態において、Bブロックは選択的に部分または完全水素添加され、共役ジエンと本段落に記載したビニル芳香族モノマーとのコポリマーを含む。別の好ましい実施形態において、Bブロックは、モノマーの性質のために飽和されていて、追加の水素添加工程ステップを必要としない非置換スチレンモノマーブロックである。制御分布構造を有するBブロックはUS7,169,848で開示され、これの開示は参照により本明細書に組み入れられている。US7,169,848は、スルホン化ブロックコポリマーの調製も開示している。スチレンブロックを含むBブロックは本明細書に記載されている。好ましい実施形態において、Bブロックは非置換スチレンで構成され、別個の水素添加ステップを必要としない。本開示の別の態様において、ブロックコポリマーは、20°C未満のガラス転移温度を有する少なくとも1つの衝撃改質剤ブロックDを含む。一実施形態において、衝撃改質剤ブロックDはイソプレン、1,3-ブタジエンおよびこれの混合物より選択される共役ジエンの水素添加ポリマーまたはコポリマーを含み、該ポリマーブロックのブタジエン部分は水素添加前の20から80モルパーセントの間のビニル含有率を有し、該ポリマーブロックは1,000から50,000の間の数平均分子量を有する。このようなDブロックを提供することは、ブロックコポリマーの剛性をより低く、エラストマー性をより高くするのに役立ち得る。別の実施形態において、衝撃改質剤ブロックDは、1,000から50,000の数平均分子量を有するアクリレートまたはシリコーンポリマーを含む。また別の実施形態において、衝撃改質剤ブロックのDブロックは、1,000から50,000の数平均分子量を有するイソブチレンのポリマーブロックである。各Aブロックは約1,000から約60,000の間の数平均分子量を独立して有し、および各Bブロックは約10,000から約300,000の間の数平均分子量を独立して有する。好ましくは、各Aブロックは、2,000から50,000の間の、さらに好ましくは3,000から40,000の間の、およびなおさらに好ましくは3,000から30,000の間の数平均分子量を有する。好ましくは、各Bブロックは、15,000から250,000の間の、さらに好ましくは20,000から200,000の間の、およびなおさらに好ましくは30,000から100,000の間の数平均分子量を有する。具体的な組合せおよび範囲が本明細書によって列挙されなくても、好適な範囲が指定された数平均分子量のいずれの組合せも含むことが当業者によって理解される。これらの分子量は、光散乱測定によって非常に正確に決定され、数平均分子量として表される。好ましくは、スルホン化ポリマーは約8モルパーセントから約80モルパーセントの、好ましくは約10から約60モルパーセントのAブロック、さらに好ましくは15モルパーセントを超えるAブロック、なおさらに好ましくは約20から約50モルパーセントのAブロックを有する。スルホン化ブロックコポリマー中の非置換スチレンモノマー、オルト置換スチレンモノマー、メタ置換スチレンモノマー、アルファ-メチルスチレンモノマー、1,1-ジフェニルエチレンモノマーおよび1,2-ジフェニルエチレンモノマーであるビニル芳香族モノマーの相対量は、約5から約90モルパーセント、好ましくは、約5から約85モルパーセントである。別の実施形態において、該量は約10から約80モルパーセント、好ましくは約10から約75モルパーセント、さらに好ましくは約15から約75モルパーセントであり、最も好ましくは約25から約70モルパーセントである。具体的な組合せが本明細書によって列挙されなくても、好適な範囲が指定されたモルパーセントのいずれの組合せも含むことが当業者によって理解される。好ましい実施形態において、各Bブロック中の非置換スチレンモノマー、オルト置換スチレンモノマー、メタ置換スチレンモノマー、アルファ-メチルスチレンモノマー、1,1-ジフェニルエチレンモノマーおよび1,2-ジフェニルエチレンモノマーであるビニル芳香族モノマーのモルパーセントは、約10から約100モルパーセント、好ましくは約25から約100モルパーセント、さらに好ましくは約50から約100モルパーセント、なおさらに好ましくは約75から約100モルパーセントおよび最も好ましくは100モルパーセントである。具体的な組合せおよび範囲が本明細書によって列挙されなくても、好適な範囲が指定されたモルパーセントのいずれの組合せも含むことが当業者によって理解される。代表的なスルホン化レベルは、各Bブロックが1つ以上のスルホン官能基を含有するようなレベルである。好ましいスルホン化レベルは、各Bブロック中の非置換スチレンモノマー、オルト置換スチレンモノマー、メタ置換スチレンモノマー、アルファ-メチルスチレンモノマー、1,1-ジフェニルエチレンモノマーおよび1,2-ジフェニルエチレンモノマーであるビニル芳香族モノマーのモルパーセントに基づいて、10から100モルパーセント、さらに好ましくは約20から95モルパーセントおよびなおさらに好ましくは約30から90モルパーセントである。具体的な組合せおよび範囲が本明細書によって列挙されなくても、スルホン化の好適な範囲が指定されたモルパーセントのいずれの組合せも含むことが当業者によって理解される。スルホン化レベルは、アルコールおよび水混合溶媒中によるNaOHの標準化溶液を用いた、テトラヒドロフラン中に再溶解されている乾燥ポリマー試料の滴定によって決定する。3.ポリマーを調製するための全体のアニオン工程アニオン重合工程は、リチウム開始剤を用いて溶液中で好適なモノマーを重合することを含む。重合ビヒクルとして使用される溶媒は、生成ポリマーのリビングアニオン鎖末端と反応せず、市販の重合ユニットでの取扱いが容易であり、生成物ポリマーに適切な溶解特性を与える、いずれの炭水化物でもよい。例えば非極性脂肪族炭化水素は、一般にイオン化水素原子が欠けていて、特に好適な溶媒となる。頻繁に使用されるのは環式アルカン、例えばシクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタンおよびシクロオクタンであり、このすべてが相対的に非極性である。他の好適な溶媒は当業者に公知となり、所与の一連の処理条件で有効に機能するように選択することができ、重合温度は考慮される主要な因子の1つである。本発明のブロックコポリマーを調製するための開始物質は、上記のモノマーを含む。アニオン共重合のための他の重要な開始物質は、1つ以上の重合開始剤を含む。本発明において、このような重合開始剤としては、例えばアルキルリチウム化合物、例えばs-ブチルリチウム、n-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム、アミルリチウムなどおよびジ開始剤di-initiatorを含む他の有機リチウム化合物、例えばm-ジイソプロペニルベンゼンのジ-sec-ブチルリチウム付加体が挙げられる。他のこのようなジ開始剤di-initiatorは、US6,492,469に開示され、これは参照により本明細書に組み入れられている。多様な重合開始剤のうち、s-ブチルリチウムが好ましい。開始剤は、所望のポリマー鎖1本に付き開始剤1分子に基づいて計算した量で、重合混合物モノマーおよび溶媒を含む。中にて使用することができる。リチウム開始剤処理は周知であり、例えばUS4,039,593およびRe.27,145に記載され、この開示のそれぞれ参照により本明細書に組み入れられている。本発明のブロックコポリマーを調製するための重合条件は通例、一般にアニオン重合に使用される重合条件と似ている。本発明において、重合は、好ましくは約-30°Cから約150°Cの、さらに好ましくは約10°Cから約100°Cの、および最も好ましくは、工業的な制約の観点から、約30°Cから約90°Cの温度で行われる。重合は不活性雰囲気、好ましくは窒素中で行い、約0.5から約10バールの範囲内の圧力下で達成することもできる。この共重合は一般に、約12時間未満が必要であり、温度、モノマー構成要素の濃度および所望であるポリマーの分子量に応じて約5分から約5時間で達成することができる。2つ以上のモノマーを組み合わせて使用する場合、ランダム、ブロック、テーパードブロック、制御分布ブロックおよび同様の共重合形より選択されるいずれの共重合形も利用できる。ルイス酸、例えばアルミニウムアルキル、マグネシウムアルキル、亜鉛アルキルまたはこれの組合せの添加によりアニオン重合工程が調節され得ることが当業者によって理解される。重合工程に対する添加したルイス酸の効果は1リビングポリマー溶液の粘度を低下させて、より高いポリマー濃度で機能して、このため使用する溶媒が少なくなる工程を可能にすること、2リビングポリマー鎖端の熱安定性を向上させて、より高温での重合を可能にし、再度ポリマー溶液の粘度を低下させて、溶媒の使用を少なくできるようにすること、ならびに3標準アニオン重合工程で使用されたのと同じような、反応熱を除去するための技術を使用しながら、反応の速度を低下させて、より高い温度での重合を可能にすることである。ルイス酸を使用してアニオン重合技法を調節する処理上の利点は、US6,391,981、US6,455,651およびUS6,492,469に開示され、これらは参照により本明細書に組み入れられている。関連情報はUS6,444,767およびUS6,686,423に開示され、このそれぞれは参照により本明細書に組み入れられている。このような調節されたアニオン重合工程によって作製されたポリマーは、従来のアニオン重合工程を使用して調製したポリマーと同じ構造を有することができ、このため、この工程は本発明のポリマーを作製するのに有用であることができる。ルイス酸によって調節されたアニオン重合工程では、100°Cから150°Cの間の反応温度が好ましいのは、これらの温度において、非常に高いポリマー濃度での反応の実施を利用できるためである。化学量論的過剰量のルイス酸を使用することができるが、大半の例では、処理の改善では、過剰なルイス酸の追加コストを妥当なものとするほど十分な利益は得られない。調節されたアニオン重合技法を用いて工程性能を改善するためには、リビングアニオン鎖端1モルに付きルイス酸約0.1から約1モルを使用することが好ましい。放射状分枝ポリマーの調製には、カップリングと呼ばれる重合後ステップが必要である。上の放射状式において、nは3から約30の、好ましくは約3から約15の、さらに好ましくは3から6の整数であり、およびXはカップリング剤の残部または残基である。多種多様のカップリング剤は、当分野で公知であり、本発明のカップリングされたブロックコポリマーの調製で使用することができる。カップリング剤としては、例えばジハロアルカン、ハロゲン化ケイ素、シロキサン、多官能性エポキシド、シリカ化合物、1価アルコールのカルボン酸とのエステル例えば安息香酸メチルおよびアジピン酸ジメチルおよびエポキシ化油が挙げられる。星形ポリマーは例えばUS3,985,830、US4,391,949およびUS4,444,953;ならびにCA716,645に開示されているように、ポリアルケニルカップリング剤を用いて調製され、この開示はそれぞれ参照により本明細書に組み入れられている。好適なポリアルケニルカップリング剤としては、ジビニルベンゼンおよび好ましくはm-ジビニルベンゼンが挙げられる。好ましいのは、テトラ-アルコキシシラン、例えばテトラ-メトキシシランTMOSおよびテトラ-エトキシシランTEOS、トリ-アルコキシシラン、例えばメチルトリメトキシシランMTMS、脂肪族ジエステル、例えばアジピン酸ジメチルおよびアジピン酸ジエチルならびにジグリシジル芳香族エポキシ化合物、例えばビス-フェノールAおよびエピクロロヒドリンの反応から誘導されるジグリシジルエーテルである。直鎖ポリマーも重合後カップリングステップによって調製できる。しかし、放射状ポリマーとは異なり、上の式におけるnは整数2であり、Xはカップリング剤の残部または残基である。4.水素添加ブロックコポリマーを調製する工程記載したように、幾つかの場合において、即ち1B内側ブロック中にジエンが存在するとき、2Aブロックが1,3-シクロジエンのポリマーであるとき、3衝撃改質剤ブロックDが存在するときおよび4Aブロックが35モルパーセント未満のビニル含有率を有する共役ジエンのポリマーであるとき、スルホン化の前にブロックコポリマーを選択的に水素添加して、いずれのエチレン性不飽和も除去することが必要である。水素添加は一般に、最終ポリマーの熱安定性、紫外線安定性、酸化安定性およびゆえに耐候性を改善し、AブロックまたはDブロックをスルホン化するリスクを低減する。水素添加は、従来技術で公知の幾つかの水素添加または選択的水素添加工程のいずれかによって行うことができる。このような水素添加は、例えば,US3,595,942、US3,634,549、US3,670,054、US3,700,633およびRe.27,145で教示されたものなどの方法を使用して達成され、これの開示は参照により本明細書に組み入れられている。これらの方法は、エチレン性不飽和を含有するポリマーに水素添加するよう機能して、好適な触媒の作用に基づいている。このような触媒または触媒前駆体は、好ましくは、好適な還元剤、例えばアルミニウムアルキルまたは元素周期律表の第1族、第2族および第13族より選択される金属、特に、リチウム、マグネシウムもしくはアルミニウムの水素化物と組み合わされた、第8族から第10族金属、例えばニッケルまたはコバルトを含む。この調製は、好適な溶媒または希釈剤中で約20°Cから約80°Cの温度にて達成することができる。有用である他の触媒としては、チタンベース触媒系が挙げられる。水素添加は、共役ジエン二重結合の少なくとも約90パーセントが還元され、およびアレン二重結合の0から10パーセントが還元されるような条件下で行うことができる。好ましい範囲は、共役ジエン二重結合の少なくとも約95パーセントが還元され、およびさらに好ましくは、共役ジエン二重結合の約98パーセントが還元される。水素添加がひとたび完了すると、ポリマー溶液を比較的大量の酸水溶液好ましくは1から30重量パーセントの酸と共に、酸水溶液約0.5部対ポリマー溶液1部の体積比で撹拌することによって、触媒を酸化および抽出することが好ましい。酸の性質は重要ではない。好適な酸としては、リン酸、硫酸および有機酸が挙げられる。窒素中で酸素の混合物を散布しながら、この撹拌を約50°Cにて約30から約60分間継続する。このステップでは、酸素および炭化水素の爆発性混合物の形成が回避されるように注意を払う必要がある。5.スルホン化ポリマーを作製するための工程非プロトン性極性溶媒中でスルホン化ブロックコポリマーの逆ミセル溶液を調製する方法が幾つかある。本明細書で開示する一部の方法は、最初に非ハロゲン化脂肪族溶媒中でスルホン化ブロックコポリマーを調製すること、および場合により、さらに後述するようにこれをキャストして膜とすることを含む。ひとたび脂肪族溶媒中でスルホン化されて、次に場合によりキャストし膜とされると、このようなスルホン化ポリマーは次に非プロトン性極性溶媒に溶解されて、逆ミセルを有する溶液を形成することができる。この第2の溶液を次にキャストして、膜またはフィルムを形成することができる。本明細書で開示する複数の実施形態により、上で調製したブロックコポリマーをスルホン化して、非ハロゲン化脂肪族溶液に溶解したスルホン化ポリマー生成物が得られ、溶液中でスルホン化ポリマーはミセル形に配置されている。いずれの特定の理論によっても束縛されることなしに、現在考えられているのは、非ハロゲン化脂肪族溶媒中のスルホン化ブロックコポリマーのミセル構造が、スルホン化ブロックまたは相当量の使用済みスルホン化剤残基を有するブロックを含むコアを有し、コアがスルホン化抵抗性ブロックまたは有機非ハロゲン化脂肪族溶媒によって膨潤したブロックによって包囲されていると記載されたことに従って説明できるということである。以下でより詳細にさらに説明されるように、スルホン化ブロックはスルホン酸および/またはスルホン酸エステル官能基が存在するために、非常に極性が高い。従って、このような溶媒においてスルホン化ブロックは分子のコア中に封鎖され、その傍ら外側スルホン化抵抗性ポリマーブロックは非ハロゲン化脂肪族溶媒によって可溶化されるシェルを形成する。分散したミセルを形成することに加えて、ポリマー凝集体も形成されることがある。いずれの特定の理論によっても拘束されることなしに、ポリマー凝集体は、ミセルに与えられた記載以外の方法でポリマー鎖の会合から生じる分散もしくは非分散構造として、および/または2つ以上の分散ミセルの緩やかに凝集した群として記載することができる。従って、ミセル形の溶媒和スルホン化ブロックコポリマーは分散ミセルおよび/またはミセルの凝集体を含むことができ、このような溶液は場合により、ミセル構造以外の構造を有する凝集ポリマー鎖を含む。本明細書に記載するように、ミセルはスルホン化工程の結果として形成することができるか、またはブロックコポリマーはスルホン化の前にミセル構造で配置され得る。ミセルの形成についての幾つかの実施形態において、DadoらのUS2010/0048817A1に記載されているようなスルホン化工程が用いられ得る。該方法は、WillisらのUS7,737,224に記載されているようなスルホン化スチレン系ブロックコポリマーを調製するのに有用である。重合後、少なくとも1つの非ハロゲン化脂肪族溶媒中でスルホン化試薬、例えば硫酸アシルを使用して、ポリマーをスルホン化することができる。幾つかの実施形態において、前駆体ポリマーは、前駆体ポリマーの製造から生じた反応混合物から単離、洗浄および乾燥した後に、スルホン化することができる。幾つかの他の実施形態において、前駆体ポリマーは、前駆体ポリマーの製造により生じた反応混合物から単離することなくスルホン化することができる。a溶媒有機溶媒は、好ましくは非ハロゲン化脂肪族溶媒であり、コポリマーのスルホン化抵抗性ブロックまたは非スルホン化ブロックの1つ以上を溶媒和するように作用する、第1の非ハロゲン化脂肪族溶媒を含有する。第1の非ハロゲン化脂肪族溶媒は、約5から10個の炭素を有する、置換または非置換環式脂肪族炭化水素を含み得る。非制限的な例としては、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロペンタン、シクロヘプタン、シクロオクタンおよびこれの混合物が挙げられる。最も好ましい溶媒は、シクロヘキサン、シクロペンタン、およびメチルシクロヘキサンである。第1の溶媒は、ポリマーブロックのアニオン重合のための重合ビヒクルとして使用されるのと同じ溶媒でもよい。幾つかの実施形態において、ブロックコポリマーは、第1の溶媒のみを使用する場合でも、スルホン化前にミセル形であり得る。前駆体ポリマーの第1の非ハロゲン化脂肪族溶媒による溶液への第2の非ハロゲン化脂肪族溶媒の添加によって、ポリマーミセルおよび/または他のポリマー凝集体の予備形成を生じるか、または補助することができる。他方、第2の非ハロゲン化溶媒は、好ましくは、この溶媒が第1の溶媒と混和するが、工程温度範囲において前駆体ポリマーのスルホン化感受性ブロックに対して貧溶媒であり、スルホン化反応も妨害しないように選ばれる。言い換えれば、好ましくは、前駆体ポリマーのスルホン化感受性ブロックは、工程温度範囲において第2の非ハロゲン化溶媒に実質的に不溶性である。前駆体ポリマーのスルホン化感受性ブロックがポリスチレンである場合、ポリスチレンにとって貧溶媒であり、第2の非ハロゲン化溶媒として使用できる好適な溶媒としては、約12個までの炭素の直鎖および分枝脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、2-エチルヘキサン、イソオクタン、ノナン、デカン、パラフィン系油、混合パラフィン系溶媒などが挙げられる。第2の非ハロゲン化脂肪族溶媒の1つの好ましい例は、n-ヘプタンである。予備形成されたポリマーミセルおよび/または他のポリマー凝集体によって、第2の溶媒の添加なしに達成できるよりもかなり高い濃度でのゲル化を本質的に不能にすることなく、ポリマーのスルホン化が進行することが可能となる。加えて、この手法は、ポリマースルホン化変換速度および副生成物の最小化に関して、より極性の硫酸アシル類、例えばC3硫酸アシル硫酸プロピオニルの有用性を実質的に改善することができる。言い換えれば、この手法は、より極性のスルホン化試薬の有用性を改善し得る。このような硫酸アシルについてさらに後述する。bポリマー濃度幾つかの実施形態により、高レベルのスチレンスルホン化は、少なくともスルホン化の早期段階の間に前駆体ポリマー濃度を前駆体ポリマーの制限濃度より低く維持することによって、ポリマー沈殿が実質的になく、および反応混合物、反応生成物または両方の中でのゲル化を不能にすることのない方法で達成できる。ポリマー沈殿を実質的に含まない混合物中での処理の間に、溶媒蒸発が局在化した結果として少量のポリマーが表面に沈殿し得ることが当業者によって理解される。例えば、幾つかの実施形態により、混合物で5以下のポリマーが沈殿したとき、混合物はポリマー沈殿を実質的に含まないと見なされる。スルホン化を行うことができるポリマー濃度が開始ポリマーの組成に依存するのは、これより低いとポリマーのゲル化が障害とならない、または無視できる制限濃度がポリマー組成に依存しているためである。上記のように、該限界濃度は他の因子、例えば、使用される溶媒または溶媒混合物の特性および所望のスルホン化度にも依存し得る。一般にポリマー濃度は、好ましくはハロゲン化溶媒を実質的に含まない反応混合物の総重量に基づいて、約1重量から約30重量の、または約1重量から約20重量の、または約1重量から約15重量の、または約1重量から約12重量、または約1重量から約10重量の範囲内となる。具体的な組合せおよび範囲が本明細書によって列挙されなくても、好適な範囲が指定された重量パーセントのいずれの組合せも含むことが当業者によって理解される。本明細書で記載する技術の幾つかの実施形態により、前駆体ポリマーまたは前駆体ポリマーの混合物の初期濃度は、複数の前駆体ポリマーの制限濃度より低く、または反応混合物の総重量に基づいて、約0.1重量から複数の前駆体ポリマーの制限濃度より低い濃度までの、または約0.5重量複数の前駆体ポリマーの制限濃度より低い濃度までの、または約1.0重量から複数の前駆体ポリマーの制限濃度より約0.1重量低い濃度までの、または約2.0重量から複数の前駆体ポリマーの制限濃度より約0.1重量低い濃度までの、または約3.0重量から複数の前駆体ポリマーの制限濃度より約0.1重量低い濃度までの、または約5.0重量から複数の前駆体ポリマーの制限濃度より約0.1重量低い濃度までの範囲に維持すべきである。具体的な組合せおよび範囲が本明細書によって列挙されなくても、好適な範囲が指定された重量パーセントのいずれの組合せも含むことが当業者によって理解される。少なくとも幾つかの実施形態において、ポリマー濃度を制限濃度より低く維持することによって、ゲル化をもたらすより高い濃度条件と比較して、副生成物のカルボン酸の濃度が低下した反応混合物を生じることができる。しかし、本技術の幾つかの実施形態におけるスルホン化ポリマーの製造の間に、とりわけセミバッチまたは連続製造工程において、反応混合物中のポリマーの総濃度が前駆体ポリマーの制限濃度を超過し得ることが当業者によって認識される。cスルホン化剤複数の実施形態により、硫酸アシルは、重合ブロックコポリマーをスルホン化するために使用され得る。アシル基は好ましくは、C2からC8、またはC3からC8、またはC3からC5直鎖、分枝もしくは環式無水カルボン酸または酸塩化物またはこれの混合物より誘導される。好ましくは、これらの化合物は、非芳香族炭素間二重結合、ヒドロキシル基または硫酸アシルと反応性であるもしくはスルホン化反応条件下でただちに分解しない他のいずれの官能基も含有しない。例えばカルボニル官能基からアルファ位に脂肪族第4級炭素を有するアシル基例えばトリメチル酢酸無水物から誘導された硫酸アシルは、ポリマースルホン化反応の間にただちに分解するように見え、および好ましくは本明細書で記載する技術では回避されるべきである。芳香族カルボン酸、無水物および酸塩化物、例えば安息香酸およびフタル酸無水物から誘導されるものも、本技術における硫酸アシルの生成に有用なアシル基の範囲に含まれる。さらに好ましくは、アシル基はアセチル、プロピオニル、n-ブチリルおよびイソブチリルの群より選択される。なおさらに好ましくは、アシル基はイソブチリルである。硫酸イソブチリルは高いポリマースルホン化度および比較的ごく少量の副生物形成を提供することが見出されている。無水カルボン酸および硫酸からの硫酸アシルの形成は、以下の反応によって表すことができる:硫酸アシルは、以下の式のアルファ-スルホン化カルボン酸を形成するスルホン化反応の間に低速の分解を受ける:本明細書で記載する技術の一実施形態において、硫酸アシル試薬は、ポリマーの非ハロゲン化脂肪族溶媒による溶液への添加前の別個の予備生成反応にて行われる反応において、無水カルボン酸および硫酸から得られる。予備生成反応は、溶媒ありでも、溶媒なしでも行うことができる。溶媒を使用して硫酸アシルを予備生成するとき、溶媒は好ましくは非ハロゲン化である。または、硫酸アシル試薬は、ポリマーの非ハロゲン化脂肪族溶媒による溶液中でのインサイチュー反応で得ることができる。本技術のこの実施形態により、無水物の硫酸に対するモル比は、約0.8から約2、および好ましくは約1.0から約1.4であることができる。この好ましい方法で使用する硫酸は、好ましくは約93重量から約100重量の濃度、およびさらに好ましくは約95重量から約100重量の濃度を有する。当業者は、発煙硫酸の強度が反応混合物の意図しない焦げを回避または最小化するために十分に低いという条件で、インサイチュー反応で発煙硫酸を硫酸の代替物として使用して硫酸アシルを生成できることを認識する。本技術の別の実施形態において、硫酸アシル試薬は、ポリマーの脂肪族溶媒による溶液への添加前の個別の予備生成反応にて行われる反応において、無水カルボン酸および発煙硫酸から得ることができ、発煙硫酸の強度は約1から約60の遊離三酸化硫黄の、または約1から約46の遊離三酸化硫黄の、または約10から約46の遊離三酸化硫黄の範囲にあり、無水物の発煙硫酸中に存在する硫酸のモル比は約0.9から約1.2である。加えて、硫酸アシル試薬はまた、無水カルボン酸から硫酸、発煙硫酸または三酸化硫黄のいずれの組合せとの反応によっても調製することができる。さらに硫酸アシル試薬は、カルボン酸からクロロスルホン酸、発煙硫酸、三酸化硫黄またはこれのいずれの組合せとの反応によっても調製することができる。その上、硫酸アシル試薬はまた、カルボン酸塩化物から硫酸との反応によって調製することができる。または、硫酸アシルは、カルボン酸、無水物、および/または酸塩化物のいずれの組合せからも調製され得る。ポリマースチレン系反復単位の硫酸アシルによるスルホン化は、以下の反応によって表すことができる:硫酸アシル試薬は、ポリマー溶液中に存在するスルホン化感受性モノマー反復単位のモル数に対して、軽度にスルホン化されたポリマー生成物での非常に低いレベルから重度にスルホン化されたポリマー生成物の高いレベルにまで及ぶ量で使用され得る。硫酸アシルのモル量は、所与の方法で生成することができる硫酸アシルの理論量として定義することができ、該量は反応において制限試薬によって決定される。本技術の幾つかの実施形態による硫酸アシルのスチレン反復単位即ちスルホン化感受性単位に対するモル比は、約0.1から約2.0の、または約0.2から約1.3の、または約0.3から約1.0の範囲であり得る。本明細書で記載する技術の少なくとも幾つかの実施形態により、ブロックコポリマー中でスルホン化に感受性のビニル芳香族モノマーのスルホン化度イオン交換能は、スルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約0.4ミリ当量meq0.4meq/g以下、またはスルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約0.6meq0.6meq/g以下、またはスルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約0.7meq0.8meq/g以下、またはスルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約1.0meq1.0meq/g以下、またはスルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約1.2meq1.2meq/g以下、またはスルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約1.3meq1.3meq/g以下、またはスルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約1.6meq1.6meq/g以下、またはスルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約1.8meq1.8meq/g以下、またはスルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約2.0meq2.0meq/g以下、またはスルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約2.2meq2.2meq/g以下、またはスルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸約2.5meq2.2meq/g以下である。最も好ましい範囲は、スルホン化ポリマー1gにつきスルホン酸1.0meq1.0meq/g以下である。ポリマーのスルホン化レベルを説明する別の手段は、モルパーセントスルホン化に言及している。代表的なスルホン化のレベルは、各Bブロックが1つ以上のスルホン官能基を含有する場合である。スルホン化の好ましいレベルは、各Bブロックにおけるスルホン化感受性ビニル芳香族モノマーのモルパーセントに基づいて、約10から約100モルパーセント、または約20から95モルパーセント、または約30から90モルパーセントおよびまたは約40から約70モルパーセントであり、スルホン化感受性ビニル芳香族モノマーは例えば、非置換スチレンモノマー、オルト置換スチレンモノマー、メタ置換スチレンモノマー、アルファ-メチルスチレンモノマー、1,1-ジフェニルエチレンモノマー、1,2-ジフェニルエチレンモノマー、これの誘導体またはこれの混合物であることができる。具体的な組合せおよび範囲が本明細書によって列挙されなくても、スルホン化レベルの好適な範囲が指定されたモルパーセントのいずれの組合せも含むことが当業者によって理解される。スルホン化ポリマーのスルホン化のレベルまたは程度は、当業者に公知であるようなNMRおよび/もしくは滴定法ならびに/または以下の実施例に記載するような2つの別個の滴定を使用する方法によって測定することができ、当業者によって認識され得る。例えば、本技術の方法から生じる溶液は、1H-NMRによって約60°C±20°Cにて分析することができる。スチレンスルホン化のパーセンテージは、1H-NMRスペクトルの芳香族シグナルの積分から計算することができる。別の例では、反応生成物を2つの別々の滴定2滴定法によって分析して、スチレン系ポリマースルホン酸、硫酸および非ポリマー副生成物スルホン酸例えば2-スルホアルキルカルボン酸のレベルを決定して、次に物質収支に基づいてスチレンスルホン化の程度を計算することができる。または、スルホン化のレベルは、アルコールおよび水の混合物中のNaOHの標準化溶液を用いて、テトラヒドロフランに再溶解させた乾燥ポリマー試料を滴定することによって決定できる。後者の場合では、好ましくは、副生成物の酸の厳密な除去が確保される。スルホン化ポリマーの実施形態が硫酸アシル試薬に関連して上述されているが、他のスルホン化試薬の有用性も考慮されている。例えば三酸化硫黄のリン酸エステル、例えばトリエチルホスファートとの錯化/反応から誘導されたこれらのスルホン化試薬の使用が本技術で明示されている。このようなスルホン化試薬の化学作用は、かなりの程度のスルホン酸アルキルエステルの取り込みを伴う芳香族スルホン化をもたらすことが、当分野で公知である。このため、生じたスルホン化ポリマーは、スルホン酸基およびスルホン酸アルキルエステル基の両方を含有しやすい。他の考慮されるスルホン化試薬としては、これに限定されるわけではないが、三酸化硫黄と五酸化リン、ポリリン酸、1,4-ジオキサン、トリエチルアミンなどとの反応または錯化から誘導されたものが挙げられる。d反応条件硫酸アシルとスルホン化感受性ブロックコポリマー、例えば芳香族含有ポリマー例えばスチレン系ブロックコポリマーとの間のスルホン化反応は、約20°Cから約150°Cの、または約20°Cから約100°Cの、または約20°Cから約80°Cの、または約30°Cから約70°Cのまたは約40°Cから約60°Cの範囲の反応温度にて例えば約50°Cにて行うことができる。反応時間は、反応温度に応じて、およそ1分未満からおよそ24時間以上の範囲であることができる。無水カルボン酸および硫酸のインサイチュー反応を利用する、幾つかの好ましい硫酸アシルの実施形態において、反応混合物の初期温度は、意図するスルホン化反応温度とほぼ同じであることができる。または初期温度は、意図する次のスルホン化反応温度よりも低いことがある。好ましい実施形態において、硫酸アシルはインサイチューで約20°Cから約40°Cにて例えば約30°Cにて約0.5から約2時間、または約1から約1.5時間にわたって生成することができ、次に反応混合物を約40°Cから約60°Cまで加熱して反応完了を促進することができる。要求されないが、例えば水またはヒドロキシル含有化合物、例えばメタノール、エタノールもしくはイソプロパノールであることができる反応停止剤の添加によって、任意の反応停止ステップを行うことができる。通例、このようなステップでは、残留した未反応硫酸アシルと反応するのに少なくとも十分な反応停止剤の量が添加され得る。本明細書で記載する技術の幾つかの実施形態において、非ハロゲン化脂肪族溶媒中での芳香族含有ポリマーのスルホン化は、バッチ反応またはセミバッチ反応で芳香族含有ポリマーをスルホン化試薬と接触させることによって行うことができる。本技術の他の幾つかの実施形態において、スルホン化は、連続撹拌タンク反応装置または一連の2つ以上の連続撹拌タンク反応装置を使用することによって可能となる、連続反応で実施することができる。スルホン化の結果として、ミセルコアは、ブロックコポリマーのスルホン化抵抗性ブロックを含有する外側シェルに包囲された、スルホン酸および/またはスルホン酸エステル官能基を有するスルホン化感受性ブロックを含有する。溶液中でのミセル形成を引き起こすこの相分離の駆動力は、スルホン化ブロックコポリマーのスルホン化ブロックの極性と非スルホン化ブロックとの極性の間にかなりの差があることによるものであった。非スルホン化ブロックは、非ハロゲン化脂肪族溶媒、例えば上で開示された第1の溶媒に自由に溶解できる。他方、スルホン化ポリマーブロックは、ミセルのコア内に集中するように配置され得る;本明細書では、この組成物を従来のミセル構造と呼ぶ。この構造は、以下で議論する逆ミセル構造とは区別される。スルホン化反応がひとたび完了すると、ブロックコポリマーを単離する必要なしに、ブロックコポリマーを直接キャストして物品の形例えば膜にすることができる。この特定の実施形態において、ポリマーフィルム例えば膜は水中に浸漬させることが可能であり、水中ではこれの形固体を維持する。言い換えれば、ブロックコポリマーは水に溶解または水に分散しない。6.スルホン化ブロックコポリマーの溶解上の工程に従って形成されたスルホン化ブロックコポリマーは、改良ポリマー組成物を得るために、非プロトン性極性溶媒にさらに溶解させることができる。非プロトン性極性溶媒に溶解させると、スルホン化ブロックコポリマーはこれ自体が逆ミセル構造に配置される。スルホン化ブロックコポリマーを溶解させる方法は、スルホン化ブロックコポリマーが1固体形例えばフィルム、膜またはクラムとしてであるか、または2セメントとしても知られる、溶液即ち1つ以上の非ハロゲン化脂肪族溶液であるかによって変わる。aスルホン化ブロックコポリマーフィルムまたは膜の溶解上記のように非ハロゲン化脂肪族溶液からキャストしたスルホン化ブロックコポリマーに関して、これらは本明細書で開示する方法に従って溶解させることができる。特に、工程は以下の通りであり得る:1非プロトン性極性溶媒を脱水すること;2スルホン化ブロックコポリマーを溶媒に加えること;3混合物を加熱すること;4場合によりキャストしてフィルムを形成すること。スルホン化ブロックコポリマー膜を溶解させるために使用する溶媒としては、非プロトン性極性溶媒が挙げられる。好ましくは、このような溶媒は、スルホン化ブロックコポリマーの極性スルホン化セグメントを優先的に可溶化することができる。幾つかの実施形態において、非プロトン性極性溶媒は、スルホン化ブロックコポリマーの極性スルホン化セグメントならびに非極性非スルホン化セグメント例えばt-ブチルスチレンの両方を高温にて可溶化するための親和性を有することが好ましい。しかし、このような非プロトン性極性溶媒は、より低温即ち室温の時に、スルホン化極性セグメントを優先的に可溶化する。ゆえに高温にて、スルホン化ブロックコポリマーは溶液中に溶解するが、より低温まで降下させると、極性セグメントが優先的に可溶化されて、ゆえにスルホン化ブロックコポリマー自体が逆ミセル構造に配置されるのを促進する。溶媒は、アミド、エステル、ケトン、ニトリル、3級アミン、硫酸塩およびスルホキシドを含む、1つ以上の非プロトン性極性溶媒を含むことができる。幾つかの実施形態において、ケトンおよびエステルは、1から20個の炭素原子を有する環式または非環式であることができる。エステルとしては、1から20個の炭素原子、好ましくは1から8個の炭素原子、さらに好ましくは1から4個の炭素原子を有する、カルボン酸のエステル、硫酸、アミド、カルボン酸、無水カルボン酸、スルホキシド、ニトリルおよびケトンのエステルを挙げることができる。特に非プロトン性極性溶媒は、例えば,ジメチルアセトアミドDMA、N,N-ジメチルホルムアミドDMF、アセトニトリル、ジメチルケトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、N-メチルピロリドンNMP、ジメチルスルホキシドDMSO、ジメチルケトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルスルファートおよびジメチルスルファートを挙げることができる。さらに好ましいのは、少なくとも1つの窒素原子を含有する非プロトン性極性化合物、例えばアミドである。アミドは、環式または非環式アミドであり、1-12個の炭素原子分枝または非分枝、環式もしくは非環式または芳香族置換基によって場合により置換することができる。従って、最も好ましい非プロトン性極性溶媒はDMA、DMFおよびNMPである。非プロトン性極性溶媒は、非プロトン性非極性溶媒と同様に混合することもできる。しかし、溶液は非プロトン性極性溶媒がブロックコポリマーの極性スルホン化スチレンセグメントを可溶化するようにあるべきであるが、他方、非スルホン化非極性セグメントは十分に可溶化されていないため、逆ミセル構造を形成させる。従って、非プロトン性極性溶媒は非プロトン性非極性溶媒に対して、19:1から1:1、または9:1から2:1、または5:1から3:1の比であるべきである。さらに、使用した溶媒は好ましくは、スルホン化ブロックコポリマーの官能化された極性セグメントを可溶化するために十分な極性を有する。特に、約1.2以上の、または約1.5以上の、好ましくは約1.9以上の、さらに好ましくは約2.0以上の、さらに好ましくは約2.3以上の、さらに好ましくは約2.5以上の、さらに好ましくは約2.7以上の、さらに好ましくは約3.0以上の、さらに好ましくは約3.2以上の、さらに好ましくは3.4以上の、さらに好ましくは約3.7以上の、さらに好ましくは約3.8以上の双極子モーメントが好ましい。非プロトン性極性溶媒は、使用前に好ましくはモレキュラーシーブによって脱水すべきである。モレキュラーシーブは当分野で公知であり、溶媒から水を除去するために使用することができる。これらとしては、アルミナ、アルミナシリケート、鉱物、粘土、多孔性ガラス、微孔性木炭、活性炭、乾燥剤、石灰、シリカゲルおよび/またはゼオライトを挙げることができる。非プロトン性極性溶媒を脱水した後、スルホン化ブロックコポリマーを溶解させるためにここに配置することができる。本明細書で開示する実施形態において、混合物に例えば乾燥炉の使用により熱が加えられる。最高温度の範囲は、使用する非プロトン性極性溶媒の沸点によって制限される。一般に、温度は少なくとも40°C、または少なくとも50°C、または少なくとも60°C、または少なくとも70°C、または少なくとも80°Cから用いた溶媒によって許容される程度まででなければならない。従って最高加熱は、200°Cまで、または175°Cまで、または150°Cまで、または125°Cまで、または100°Cまでとすることができる。加熱のための許容される範囲は、上記の範囲の組合せを含む。加熱は、一晩または24時間の期間にわたって行うことができる。より短い時間を用いることができるが、時間は固体スルホン化ブロックコポリマー膜、フィルム、クラムまたは物品の溶解を可能にするのに十分であるべきである。bロトバップによるスルホン化ブロックコポリマーの溶解スルホン化ブロックコポリマーはさらに、固体として回収されることなく、上記の非ハロゲン化溶液から直接調製することができる。溶媒中でのスルホン化ブロックコポリマーの調製後、スルホン化ブロックコポリマーをフィルムもしくは膜にキャストすることまたは他の工程によって固体として回収する代わりに、非プロトン性極性溶液を添加することができ、非ハロゲン化脂肪族溶媒を蒸発除去することができる。これを行う1つの方法は、ロトバップの使用による。従って、非ハロゲン化脂肪族溶媒本明細書では初期溶液と呼ぶ中で調製したスルホン化ブロックコポリマーは、容器内で非プロトン性極性溶媒例えばDMAと化合される。これらは約10:1の1:10の、または約3:1から1:3の、または約2:1から1:2の初期溶液の非プロトン性極性溶媒に対する比で、および最も好ましくはおよそ約1:1の比で化合させることができる。次に、初期溶媒を除去するために、容器をロトバップ回転蒸発器に連結することができる。温度は、初期溶媒の沸点より高いが、非プロトン性極性溶媒の沸点を下回るようにすべきである。従って、初期溶媒が蒸発して、これによりスルホン化コポリマーが非プロトン性極性溶媒中に残る。幾つかの実施形態において、初期溶媒が完全に除去されずに、代わりに泥状のスラリが生じるようにロトバップを用いることができる。このような実施形態において、ロトバップ工程が行われるよりも高い温度の乾燥炉に生成物を入れることによって、初期溶媒をさらに除去することができる。次に生成物は、より透明および粘性になると考えられ、所望の濃度に達するまで乾燥を続けることができる。c膜のキャスティング上記の非プロトン性極性溶媒にひとたび溶解されると、スルホン化ブロックコポリマーはこれ自体が逆ミセル構造に配置される。非プロトン性極性溶媒中のスルホン化ブロックコポリマーの濃度は、約15以下、または約13以下、または約12以下、または約10以下、または約8以下、または約7以下、または約5以下、または約3以下、または約2以下であることが所望である。これらの溶液を次に公知の工程に従ってキャストして、フィルムまたは膜にすることができる。上記のように調製した組成物のフィルムを、窒素パージした箱内でシリコーン処理silicanizedガラス板に室温にてキャストすることができる。次に、溶媒が蒸発するまで、フィルムをこの方法で乾燥させる。乾燥時間は、使用した特定の溶媒ならびに膜のサイズおよび厚さによって変わるが、一般に少なくとも16時間の期間にわたることがある。本明細書に記載するように、非プロトン性極性溶液からキャストしたスルホン化ブロックコポリマー膜は、高い水蒸気輸送速度MVTRを低い吸水率および水の存在下での良好な引張強度などの、良好な機械的特性を有する。本開示によるフィルムの水蒸気輸送速度は、層またはフィルムを通じて輸送される水のグラム数および1日に当りの1m2の露出表面積によって定量され得るg/m2/日。水蒸気輸送速度は、ASTME96/E96Mに従って直立カップまたは反転カップ法で決定され得る。直立カップ測定法では、層またはフィルムの一方の表面を水蒸気に接触させるのに対して、反対側の表面には温度25°Cおよび相対湿度50を有する空気を吹付ける。反転カップ測定法では、層またはフィルムの一方の表面を水と接触させるのに対して、反対側の表面には温度25°Cおよび相対湿度50を有する空気を吹付ける。ASTME96からの逸脱としては、直立カップ配置における推奨されている空隙よりも大きいことと、気流が規格と一致していないこととが挙げられる。従って、水蒸気輸送速度を決定するためのこの方法を修正ASTME96/E96M法または反転カップ法と呼ぶことができる。報告された測定値はすべて一貫した条件下で行う。本開示の好ましい実施形態によるコーティング分散物を使用して得たコーティングの反転カップ水蒸気輸送速度は一般に、少なくとも約25リットル/m2/日、または少なくとも約22リットル/m2/日、または少なくとも約20リットル/m2/日、または少なくとも約15リットル/m2/日、または少なくとも約10リットル/m2/日である。概して、吸水率は、乾燥ポリマーの重量に基づいて10重量から90重量の間である。幾つかの実施形態において、吸水率は、平衡膨潤条件下で乾燥ポリマーの重量に基づいて40重量未満、または30重量未満、または20重量未満、または15重量未満、または10重量未満、または9重量未満、または8重量未満、または0.5重量と5重量との間であり得る。本開示によりコーティングした層およびフィルム層は、乾燥状態で靭性、伸展性および低いヤング率の平衡が良好であり、このことは通気性布および本明細書に記載する他の用途で使用される構成要素にとって所望である。これらの材料の引張強度は通例、少なくとも200psi、およびより通常は1,000psi超、およびさらには1,500psi超である。これの破断時伸びは通例、少なくとも40から100である。加えて、ヤング率値は通例、約1,000から約60,000psiの範囲にある。膜の面積抵抗は、直流DC測定値によってまたは交流AC測定値によって決定することができる。DCによって測定した抵抗が通例、ACによって測定した抵抗よりも高いのは、DCによって測定した抵抗が境界層効果を含むためである。境界層効果は現実の用途では常に存在するので、DC法による抵抗データは、実際の用途での材料の性能をより綿密に示している。膜抵抗の測定では、図1に概略的に示す装置で、ハーバー-ルギン毛細管当分野ではルギンまたはルギン-ハーバー毛細管とも呼ばれる。の間の電位降下を電流密度の関数として、膜を用いてまたは用いないで測定する。抵抗は、電流対電圧降下の傾きで与えられる。膜抵抗を得るために、膜を用いない抵抗を膜を用いた抵抗から引く。図2は、膜抵抗を得る方法を示す。膜抵抗は傾きの差である。幾つかの実施形態において、厚さ約20-45μmを有する修飾ブロックコポリマーの膜は、5Ωcm2を超えない面積抵抗を示す。さらなる実施形態において、各膜の面積抵抗は2.5Ωcm2を超えない。詳細な実施形態において、各膜の面積抵抗は1.0Ωcm2以下である。非常に詳細な実施形態において、各膜の面積抵抗は最大でも0.85Ωcm2または最大でも0.75Ωcm2である。その上、イオン流を必要とする電動工程または用途に関して、本明細書で開示する膜は、高いイオン流束ならびに高い導電率および選択性を有する。例えば、比導電率は、少なくとも0.4から約11mS/cm、または0.8から8mS/cm、または1.5から5mS/cm、または2から4mS/cm、または2.5から3であり得る。加えて、比導電率は、少なくとも0.5mS/cm、または少なくとも1.0mS/cm、または少なくとも1.5mS/cm、または少なくとも2.0mS/cm、または少なくとも2.0mS/cm、または少なくとも2.5mS/cmであり得る。上の範囲の組合せを用いることができる。幾つかの実施形態において、驚くべきことに、修飾ブロックコポリマーの膜が選択透過性であることが見出された。膜の選択透過率は、異なる電解質濃度を有する2つの電解質溶液を分離する膜での電位勾配の測定に基づいて、見かけの選択透過率として決定することができる。当業者は、見かけの選択透過率が実際の条件下で選択透過率よりも常に大きいのは、測定によって境界層効果が説明できないためであることを認識する。しかし、測定した選択透過率値と実際の条件下の選択透過率との間の差は一般に小さい。図3は、選択透過率を測定するための実験装備を概略的に示す。図3の説明のための装備では、膜の片側の電解質溶液は0.5MKClの濃度を有し、膜の反対側の溶液の電解質濃度は1MKClである。輸率1の膜では、膜での電位差は0.0158ボルトであるはずである。これに基づき、実際の膜の選択透過率を以下の式に従って計算することができる:選択透過率=膜での電位降下/0.0158もちろん他の溶液および濃度も使用できる。しかし、異なる濃度ならびに溶液のイオン移動度の相違に対して補正が必要である。加えて、選択性は少なくとも50から100、または少なくとも80から100、または少なくとも90から100、または少なくとも95から100、または少なくとも97から100、または少なくとも98から100または少なくとも99から100であり得る。7.追加の構成要素さらに本明細書で開示するコポリマー組成物を、コポリマー特性またはスルホン化ブロックコポリマーから形成された膜に悪影響を及ぼさない他の構成要素と化合させることができる。さらに、開示されたブロックコポリマーは、オレフィンポリマー、スチレンポリマー、粘着性付与樹脂、親水性ポリマーおよびエンジニアリング熱可塑性樹脂を含む多様な他のポリマーと、ポリマー液、例えばイオン性液体、天然油、芳香剤ならびに充填剤、例えばナノクレイ、カーボンナノチューブ、フラーレンおよび在来の充填剤、例えばタルク、シリカなどとブレンドすることができる。加えて、本発明のスルホン化ポリマーは、従来のスチレン/ジエンおよび水素添加スチレン/ジエンブロックコポリマー、例えばクレイトンポリマーLLCより入手可能なスチレンブロックコポリマーとブレンドすることができる。これらのスチレンブロックコポリマーとしては、直鎖水素添加および非水素添加S-B-S、S-I-S、S-EB-S、S-EP-Sブロックコポリマーが挙げられる。イソプレンおよび/またはブタジエンと共にスチレンをベースとする放射状ブロックコポリマーおよび選択的に水素添加された放射状ブロックコポリマーも挙げられる。加えて、スチレンブロックコポリマーS-B-S、S-I-S、S-EB-S、S-EP-Sを例えばモノカルボン酸またはポリカルボン酸化合物、例えばマレイン酸または誘導体、例えば無水マレイン酸によって官能化することができる。好ましい酸化合物は、好ましくは少なくとも1つのオレフィン系不飽和を有する不飽和モノカルボキシルおよびポリカルボキシル含有酸C3-C10、ならびにこのような酸からの無水物、塩、エステルおよび他の置換誘導体である。このような物質の例としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、アクリル酸、アクリル酸ポリエステル、無水アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、メサコン酸、アンゲリカ酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸および無水シトラコン酸が挙げられる。スチレン系ブロックコポリマーを官能化するのに好ましいモノマーは、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸およびこれらの誘導体である。これらの官能化スチレン系ブロックコポリマーF-SBCは、スルホン化ブロックコポリマーS-SBCと、20/80から80/20、さらに好ましくは30/70から70/30または最も好ましくは60/40から40/60の比F-SBC/S-SBCでブレンドすることができる。加えて、他の酸官能基も当分野で公知であるように使用することができる。オレフィンポリマーとしては、例えばエチレンホモポリマー、エチレン/アルファ-オレフィンコポリマー、プロピレンホモポリマー、プロピレン/アルファ-オレフィンコポリマー、高衝撃性ポリプロピレン、ブチレンホモポリマー、ブチレン/アルファ-オレフィンコポリマーおよび他のアルファ-オレフィンコポリマーまたはインターポリマーが挙げられる。代表的なポリオレフィンとしては、例えばこれに限定されるわけではないが、実質的に直鎖のエチレンポリマー、均一分枝直鎖エチレンポリマー、不均一分枝直鎖エチレンポリマーが挙げられ、不均一分枝直鎖エチレンポリマーは直鎖低密度ポリエチレンLLDPE、極または超低密度ポリエチレンULDPEまたはVLDPE、中密度ポリエチレンMDPE、高密度ポリエチレンHDPEおよび高圧低密度ポリエチレンLDPEを含む。以下に含まれる他のポリマーは、エチレン/アクリル酸EEAコポリマー、エチレン/メタクリル酸EMAAアイオノマー、エチレン/酢酸ビニルEVAコポリマー、エチレン/ビニルアルコールEVOHコポリマー、エチレン/環式オレフィンコポリマー、ポリプロピレンホモポリマーおよびコポリマー、プロピレン/スチレンコポリマー,エチレン/プロピレンコポリマー、ポリイソブチレン、エチレン一酸化炭素インターポリマー例えばエチレン/一酸化炭素ECOコポリマー、エチレン/アクリル酸/一酸化炭素ターポリマーなどである。以下に含まれるまた他のポリマーは、ポリ塩化ビニルPVCおよびPVCと他の材料とのブレンドである。スチレンポリマーとしては、例えば結晶性ポリスチレン、高衝撃性ポリスチレン、中衝撃性ポリスチレン、スチレン/アクリロニトリルコポリマー、スチレン/アクリロニトリル/ブタジエンABSポリマー、シンジオタクチックポリスチレン、スルホン化ポリスチレンおよびスチレン/オレフィンコポリマーが挙げられる。代表的なスチレン/オレフィンコポリマーは、好ましくは少なくとも20重量パーセントの、さらに好ましくは25重量パーセント以上の共重合スチレンモノマーを含有する、実質的にランダムなエチレン/スチレンコポリマーである。追加の構成要素として使用できる例示的な物質としては、制限なく:1顔料、抗酸化剤、安定剤、界面活性剤および流動促進剤;2微粒子、充填剤および油;ならびに3組成物の加工性および取扱いを向上させるために添加される溶媒および他の物質が挙げられる。顔料、抗酸化剤、安定剤、界面活性剤および流動促進剤に関して、これらの構成要素は、本発明のスルホン化ブロックコポリマーを有する組成物中で利用されるときに、組成物の総重量に基づいて、10までで、10を含む、即ち0から10の量で含むことができる。これらの構成要素のいずれか1つ以上が存在するとき、これらは約0.001から約5の、およびなおさらに好ましくは約0.001から約1の量で存在することができる。微粒子、充填剤および油に関して、このような構成要素は、組成物の総重量に基づいて50までで、50を含む、0から50の量で存在することができる。これらの構成要素のいずれか1つ以上が存在するとき、これらは約5から約50の、好ましくは約7から約50の量で存在できる。8.用途本明細書に記載する非プロトン性極性キャストスルホン化ブロックコポリマー組成物は、多種多様の用途および最終使用で用いることが可能であり、ならびにこれらの特性プロフィールによって、高い水輸送性を提供しながら、湿潤環境において良好な寸法安定性を良好な引張強度および機械的特性と共に必要とする用途での材料に特に適するようになる。従って、幾つかの実施形態において、本明細書に記載する非プロトン性極性溶液からキャストされたスルホン化ブロックコポリマーは特に、湿潤または水性環境で用いられる水蒸気輸送膜のための材料として用いられる。このような膜は、例えば湿度を制御するデバイス、順電気透析のためのデバイス、逆電気透析のためのデバイス、圧力遅延浸透のためのデバイス、順浸透のためのデバイス、逆浸透のためのデバイス、灌注用途のように水を選択的に添加するためのデバイス、乾燥用途のように水を選択的に除去するためのデバイス、膜での水の輸送が有用である各種の医療用途およびバッテリで有用である。本発明の一実施形態において、非プロトン性極性溶液からキャストされたスルホン化ブロックコポリマーは、イオン輸送性能が重要とされる電気化学用途、例えば燃料電池セパレータ相、燃料電池用プロトン交換膜、燃料電池用のものを含む、電極アセンブリで使用するためのスルホン化ポリマーセメント中の金属含浸炭素粒子の分散物、水電解装置電解質、酸電池電解質セパレータ、超コンデンサ電解質、金属回収工程用の分離セル電解質バリア、センサ特に湿度を検知するためのなどで使用することができる。アミンスルホン化ブロックコポリマーも脱塩膜として、および多孔性膜のコーティングに使用される。ガスの輸送におけるこれらの選択性によって、これらはガス分離用途で有用となる。加えて、スルホン化ブロックコポリマーは防護服および通気性布用途で使用され、この用途において膜、コート布および布積層体は、多様な環境要素風、雨、雪、化学薬品、生物因子からの保護バリアを提供して、同時に水を膜または布の片側から反対側に迅速に移動させるこれの能力の結果としてある水準の快適さを提供すること、例えば発汗による水分を着用者の皮膚表面から膜または布の外側へおよび布の外側から皮膚表面へ逃がすことができる。このような膜および布から作製された全身包囲スーツによって、煙、化学物質流出または多様な化学薬品もしくは生物因子への曝露が生じる可能性のある非常事態現場で、初期対応者を保護することができる。医療用途、特に生物学的危害への曝露がリスクである外科で、同様の必要性が生じる。これらの種類の膜から作られた外科用手袋およびドレープは、医療環境で有用となり得る他の用途である。これらのタイプの膜から作られた物品は、US6,537,538、US6,239,182、US6,028,115、US6,932,619およびUS5,925,621で報告されているように抗菌および/または抗ウイルスおよび/または抗微生物特性を有することができ、ここではスルホン酸ポリスチレンがHIVヒト免疫不全ウイルスおよびHSV単純疱疹ウイルスに対して阻害剤として作用することが注目される。個人衛生用途では、発汗による水蒸気を輸送して、同時に他の体液の漏れに対するバリアを提供して、これの強度特性を湿潤環境でいまだに保持している本発明の膜または布が好都合である。おむつおよび成人用失禁用構造物におけるこれらのタイプの材料の使用は、既存の技術の改善となる。従って幾つかの実施形態において、本明細書に記載する非プロトン性極性溶液からキャストされたスルホン化ブロックコポリマーは特に、湿潤または水性環境で用いられる水蒸気輸送膜のための材料として用いられる。このような膜は、例えば湿度を制御するデバイス、順電気透析のためのデバイス、逆電気透析のためのデバイス、圧力遅延浸透のためのデバイス、順浸透のためのデバイス、逆浸透のためのデバイス、水を選択的に添加するためのデバイス、水を選択的に除去するためのデバイスおよびバッテリで有用である。a電気透析電気透析セルは、当分野で公知である。このような電気透析セルの一般例は、参照により本明細書に組み入れられている、US5,868,916、およびUS7,790,016の図1ならびにUS6,017,433の図1に記載されている。しかし、本明細書で開示するような非プロトン性極性溶液からキャストした膜は、イオン輸送に対する抵抗が低く、ゆえに電気透析脱塩を含む電気透析用途にとりわけ有用である。電気透析用途の幾つかの実施形態において、陽極および陰極を有するセルが用いられる。陽極と陰極との間には交換膜があり、これはアニオンおよびカチオンを選択的に通過させる。膜は、互いの間にコンパートメントを形成して、多ユニットセルは陽極と陰極との間にこのようなコンパートメントを多く有するスタックとも呼ばれる。。水、即ち処理される供給流をセル中および膜間に供給することができる。従って、金属イオンが膜を通じて輸送される濃縮流ならびにアニオンおよびカチオンが消耗される第2の精製水流の、2種類の流れがある。脱塩用途において、イオンはNaおよびCl-を含むことができるが、他の金属イオン、例えばアルカリ金属およびアルカリ土類金属を含む、周期律表の第1族および第2族も同様に除去することができる。本明細書で開示する膜は、高いイオン流束ならびに選択性を、水の存在下での良好な寸法安定性および機械的特性と共に有する。従って、本明細書で開示する膜は、電気透析および電気透析脱塩用途でとりわけ有用である。面積抵抗は、直流DC測定値によってまたは交流AC測定値によって決定することができる。DCによって測定した抵抗が通例、ACによって測定した抵抗よりも高いのは、DCによって測定した抵抗が境界層効果を含むためである。境界層効果は実際に常に存在するため、DC法からの抵抗データは、実際の性能をより綿密に表している。膜抵抗を直流法によって、図1に示したような装備を使用して測定した。ハーバー-ルギン毛細管の間の電位降下を電流密度の関数として、膜を用いてまたは用いないで測定した。電圧対電流の傾きから抵抗を決定した。膜抵抗を得るために、膜を用いない抵抗を膜を用いた抵抗から引いた。図2は、膜抵抗を得る方法を示す。膜抵抗は傾きの差である。膜面積抵抗は厚さに依存する。ゆえに、厚さの異なる膜の面積抵抗は比較できない。真の膜特性を得るために、膜導電率がよく使用される。膜導電率は、膜厚を膜面積抵抗で割ることによって計算した。真の膜選択透過率は、電気透析システムを通過する電流の量を測定することによる、濃縮溶液および希釈溶液の両方のイオン濃度変化の測定に基づくべきである。しかしこの方法は時間がかかる。別法は、異なる濃度の2つの電解質溶液を分離している膜での電位勾配の測定に基づいて、見かけの選択透過率を測定することである。見かけの選択透過率が、境界層効果を考慮していないために実際の選択透過率よりも常に大きいことを指摘するのは、価値のあることである。しかしこの差は一般に小さい。実験装備を図3に概略的に示す。異なる濃度の2つの電解質溶液の間の電位、即ち膜電位φmは、電圧計を用いて測定した。膜電位φmは、以下の式によって表すことができる:式中、Tcouは対イオンの膜輸率であり、a1およびa2は2つのKCl溶液の活量であり、Rは気体定数であり、Tは温度であり、ならびにFはファラデー定数である。厳密な選択透過性膜ここでTcouは1である。では、膜電位は以下の通りである:膜ψの見かけの選択透過率は、KCl溶液中で測定されるときに、以下の式によって与えられる:上の例では、膜の片側は0.1MKClであり、膜の反対側は0.5MKClであり、およびφm,spは36.2mVである。ゆえに膜の見かけの選択透過率は、以下の式によって計算することができる:もちろん他の溶液および濃度も使用できる。しかし、異なる濃度ならびに溶液のイオン移動度の相違に対して補正が必要である。塩透過率を測定するための実験装備を図4に示す。膜は、2つのセル:供給セルおよび受容セルの間に挟まれていた。実験開始時に、供給セルは既知濃度の塩溶液を含有し、および受容セルは純水を含有していた。塩が供給セルから膜を通じて受容セルに透過されると、受容セルの塩濃度が上昇し、この濃度が導電率プローブによって時間に対して監視される。塩透過率は以下の式から推定することができ、式中、Psは塩透過率であり、tは時間であり、VRはセルの体積であり、δは膜厚であり、Aは膜面積であり、CD[0]は供給セル中の開始塩濃度であり、およびCR[t]は受容セル中の試験時間にわたる塩濃度である。幾つかの膜では、Psは開始塩濃度CD[0]に依存し、ゆえにCD[0]はPsと共に報告されることが多い。我々の試験では、CD[0]は2000ppmNaClであった。透過率を測定するための実験装備を図4に概略的に示す。E.実施例以下の実施例は、例証を意図するだけのものであり、本開示の範囲を決して制限することを意図するものではなく、または制限すると解釈されるべきでない。E.1方法本明細書に記載するような乾燥状態における、ヤング率、引張強度および破断時伸びを含む機械的特性は、ASTMD412に従って測定した。本明細書に記載するような湿潤状態における、ヤング率、引張強度および破断時伸びを含む機械的特性は、ASTMD412による方法と同様に、試験前に24時間水で平衡にして、試験のために完全に水中に浸漬させたサンプルを使用して測定した。すべての引張データを74°F23.3°Cおよび50相対湿度の環境制御室にて収集した。本開示を代表する材料について報告するような膨潤は、次のように測定した。およそ9インチ2の大きさの乾燥フィルム片を秤量して、次におよそ蒸留水250mLを含む瓶に入れた。フィルム片を少なくとも16時間の期間にわたって水和させた。次にフィルム片を瓶から取出し、両面を吸収性ワイプで数秒間の期間にわたって拭き取って乾燥させて、フィルム片を再秤量した。膨潤は、湿潤重量と乾燥重量の差を元の重量で割り、100を掛けることによって計算した。サンプルは少なくとも2通り実験した。本明細書に記載するMVTRは、ASTME96BWと同様に測定した。より小型のバイアルを使用すること、水10mlを用いることおよびASTM法が推奨する3000mm2に対して160mm2の露出膜面積を有することによって、ASTM法を修正した。水を添加して、膜試験片を含むバイアルを密封した後、バイアルを反転させて、制御環境チャンバに置き、チャンバでは温度25°Cおよび相対湿度50の空気を膜に吹付けた。時間に対する重量損失を測定して、水輸送速度を測定値に基づいてリットル/m2/日として計算した。測定値は通例、6-8時間の期間にわたって、線形輸送挙動を確保するために複数のデータ点を用いて得た。本明細書に記載するようなおよび滴定によって決定されるようなスルホン化度は、以下の電位差滴定手順によって測定した。スルホン化反応生成物溶液を2つの別個の滴定2滴定法によって分析して、スチレン系ポリマースルホン酸、硫酸および非ポリマー副生成物スルホン酸2-スルホイソ酪酸のレベルを決定した。各滴定では、反応生成物溶液約5グラムの一定分量をテトラヒドロフラン約100mLおよび水約2mLに溶解させて、メタノール約2mLを添加した。第1の滴定では、メタノール中0.1Nシクロヘキシルアミンによって溶液に電位差滴定を行い、2つの終点を得た;第1の終点は、サンプル中のすべてのスルホン酸基および硫酸の第1の酸性プロトンに相当して、第2の終点は硫酸の第2の酸性プロトンに相当する。第2の滴定において、約3.5:1のメタノール:水中の0.14N水酸化ナトリウムによって溶液に電位差滴定を行い、3つの終点を得た:第1の終点は、サンプル中のすべてのスルホン酸基ならびに硫酸の第1および第2の酸性プロトンに相当した;第2の終点は、2-スルホイソ酪酸のカルボン酸に相当した;ならびに第3の終点はイソ酪酸に相当した。第2の滴定における2-スルホイソ酪酸のカルボン酸の選択的検出と共に、第1の滴定における硫酸の第2の酸性プロトンの選択的検出によって、酸構成要素濃度の計算が可能となる。b非逆スルホン化ブロックコポリマーの調製配置A-D-B-D-Aを有するペンタブロックコポリマーは逐次アニオン重合によって調製され、Aブロックはパラ-tert-ブチルスチレンptBSのポリマーブロックであり、Dブロックは水素添加イソプレンIpのポリマーブロックより成り、およびBブロックは非置換スチレンSのポリマーブロックより成っていた。シクロヘキサン中でのt-ブチルスチレンのアニオン重合は、sec-ブチルリチウムを使用して開始され、分子量15,000g/molを有するAブロックが得られる。イソプレンモノマーを次に添加して、分子量9,000g/molを有する第2のブロックを得るptBS-Ip-Li。続いて、スチレンモノマーをリビングptBS-Ip-Liジブロックコポリマー溶液に添加して重合させて、リビングトリブロックコポリマーptBS-Ip-S-Liを得る。ポリマースチレンブロックはポリスチレンのみより成り、分子量28,000g/molを有する。この溶液にイソプレンモノマーの一定分量を添加して、分子量11,000g/molを有するイソプレンブロックを得る。従ってこれによりリビングテトラブロックコポリマー構造ptBS-Ip-S-Ip-Liが得られる。パラ-tertブチルスチレンモノマーの第2の一定分量を添加して、メタノールを添加することによってこれの重合を終結させて、分子量約14,000g/molを有するptBSブロックを得る。次に標準Co2/トリエチルアルミニウム法を使用して、ptBS-Ip-S-Ip-ptBSに水素添加を行い、ペンタブロックのイソプレン部分のC=C不飽和を除去する。次に無水i-酪酸/硫酸試薬を使用して、ブロックポリマーを直接さらなる処理なしで、酸化、洗浄または仕上げせずにスルホン化した。水素添加ブロックコポリマー溶液をヘプタンブロックコポリマー溶液の単位体積当りほぼ等体積のヘプタンの添加により固体約10まで希釈した。十分な無水i-酪酸および硫酸1/1mol/molを添加して、所望のスルホン化官能基レベルを得た。スルホン化反応をエタノールの添加2molエタノール/無水i-酪酸1molによって終結させた。電位差滴定によって、生じたポリマーはポリマーの-SO3H/gの1.0、1.5および2.0meqのイオン交換能IECを有することが見出された。これらを以下の表1に示す:スルホン化ポリマーのミセル溶液は、ヘプタン、シクロヘキサンおよびi-酪酸エチルの混合物中約10重量の固体レベルを有する。上記のように調製したポリマーA-1、A-1.5およびA-2.0のフィルムを窒素パージした箱内でシリコーン処理silicanizedガラス板に室温にてキャストした。フィルムをこの方式で少なくとも16時間の期間にわたって乾燥させた。フィルムのさらなる後処理は、特定の試験手順によって特に要求されるものを除いて行わなかった。この手順で得られた代表的なフィルム厚は、1.0から2.0ミルの範囲である。E.3極性溶媒へのスルホン化ブロックポリマーの溶解性スルホン化ポリマーのキャストフィルムの溶解性を非プロトン性極性溶媒中で試験した。試験は、厚さ1ミルを有する、面積1/8インチ×1インチのポリマーA-2.0のフィルム1片を、3つの異なる非プロトン性極性溶媒約20mlを含む瓶に入れることによって行った。混合物を室温にて一晩静置した。以下の表に結果を示す:上の表に記載したように、キャストした未修飾スルホン化ブロックコポリマーの溶媒DMFおよびDMPへの溶解性は観察されなかった。DMAに関しては、多少の非常に少量の溶解性があったが、溶液の濃度は実質的に1重量未満であった。非プロトン性極性溶媒中でのポリマー膜の溶解性について追加の試験を行った。驚くべきことに、スルホン化ブロックコポリマー膜は脱水溶媒中に入れて加熱したときに、溶解可能であることが見出された。従って試験フィルムを溶解させる前に、モレキュラーシーブを使用してDMAを脱水した。続いて、表1に記載したスルホン化ブロックコポリマーフィルムを小片に切断して、ボトルに入れた。密閉した容器を加熱した乾燥炉内に一晩置いた。以下の表に結果をまとめる:表3に示した実験では、提供された極性溶媒にそれぞれが溶解可能であった。特に、1重量固体の実験4および5は透明溶液を生じた。実験6-10に示す5重量固体含有率でも透明溶液が得られたが、乳光色で粘度が低く、および微粒子を含んでいなかった。これらはまたキャストされて、良好な特性を備え、透明度、均一な色を有し、ゲルまたは粒子のない高品質の膜となった。7.5重量の固体含有率では、実験11は透明であるが、著しく乳光色であり、またキャストされて高品質の膜となった。サンプルをより高温まで加熱すると、フィルムの溶媒への溶解が加速される。例えば100°Cのサンプルは60°Cまで加熱したサンプルと同一の溶液を生じたが、溶解まで必要な時間は短かった。従って、サンプルの加熱は、使用した溶媒の沸点のみによって制限される。しかし、10重量および15重量における実験14および15は、不透明な白色のグリース様物質である溶液を生じた。実験14および15の生成物をキャストして膜としたが、ゲル様粒子および低い機械強度を有していた。E.3溶解ポリマーの構造上述のように、スルホン化ブロックコポリマーは先に調製されて、シクロヘキサンまたはシクロヘキサン/ヘプタン溶液に溶解されている。このような溶液中で、スルホン化ブロックコポリマーはこれ自体をミセル形成へと構成して、ミセル形成では極性スルホン化スチレンセグメントはミセルの内側コアに配置され、同時に非極性非スルホン化スチレンセグメントはミセルの外側コロナに配置された。しかし、スルホン化ブロックコポリマーの非プロトン性極性溶媒への溶解後に、スルホン化ブロックコポリマーはこれ自体を逆ミセル構造に配置され、逆ミセル構造では極性スルホン化セグメントはミセルの外側コロナにあり、非極性非スルホン化セグメントはミセルの内側コアに配置されている。このような逆ミセル構造は、本明細書で開示する極性溶液で見出される。これを確認するために、DMAに溶解させたA-1.5の5重量溶液10mlを小型ガラスバイアルに入れて実験を行った。加えて、第2のバイアルは、シクロヘキサン/ヘプタン混合物に溶解させたA-1.5より成っていた。強塩基性物質であるトリ-s-ブトキシドアルミニウムs-BuO3Al;純度98をこれらの溶液の両方に滴加した。s-BuO3AlをDMA溶解ポリマーを含有する溶液に添加したとき、沈殿が得られた。しかし同じ試薬をシクロヘキサン/ヘプタン溶解ポリマーに添加したとき、沈殿は観察されなかった。従って、このような結果によって、同じコポリマーが両方の溶液中にあるが、DMA溶解ポリマーは、シクロヘキサン/ヘプタン混合物中のポリマーとは異なる構造を有することが明示されている。さらに、結果は、ミセルの外側にイオン性セグメントを有するこのため逆の、DMA中の溶解スルホン化ポリマーミセルと一致している。塩基性Al試薬の添加により、ミセルは共にイオン性架橋反応を介してミセルのコロナ上のスルホン酸部位と結合され、これによりポリマーの沈殿が引き起こされる。強塩基の添加に反応したポリマーの凝固は、イオン性セグメントが今やミセルの外側にあることの証拠である。さらなる確認試験は、表面水約20インチ2を有する浅い皿を調製することである。さらに、A-1.5の5重量DMA溶液1滴を水表面に添加する。添加したときに、皿の水表面全体にポリマーが迅速に広がるのが観察された。このDMA溶液は水に迅速に溶解するように見えたが、フィルム形成の証拠はなかった。さらに数滴添加すると、乳光色/白色水相が生成されたが、フィルムの証拠は観察されなかった。従って、ポリマーは水表面に迅速に広がったが、フィルムを形成しなかった;むしろ、逆ミセルの水性分散物がこの実験の生成物であった。比較試験では、シクロヘキサンに溶解したA-1.5の溶液も水の表面に滴加した。この場合、液滴は共に玉状になって、分散しなかった。このことは、A-1.5ポリマーはDMA中では、シクロヘキサンに溶解されているときとは異なる構造を有することを示している。このような構造は、逆ミセルの水性分散の形成を伴い、フィルム形成を伴わずに水面での広がりを促進するので、このことは、極性スルホン化セグメントは、DMA中に溶解しているときにミセルの外側にあるという考えと一致している。E.3特性5重量溶液までの、DMAに溶解したスルホン化ブロックコポリマーの溶液を使用して、フィルムを調製した。加えて、いずれの極性溶媒も用いず、シクロヘキサン/ヘプタン混合物CH/Hep中に溶解したスルホン化ブロックコポリマーを用いて、フィルムの比較セットを調製した。フィルムを形成するために、溶液を窒素パージした箱内でシリコーン処理silicanizedガラス板に室温にてキャストして、放置して乾燥させた。これらのシクロヘキサンフィルムの特性の幾つかを表3-6にまとめる。各方法によって生じたフィルムのMVTR反転カップ法および吸水率に関する結果を、表3および4に示す。DMAならびにCH/Hep溶液中のスルホン化ブロックコポリマーのMVTRおよび膨潤吸水率の結果を表4に示す。驚くべきであると共に、予想外なのは、実験15および16で示されたMTVRの上昇であった。これらのポリマーの間の主な相違は、スルホン化レベルが異なるということである。即ち、IECは1.5から1.0まで低下しているが、MVTRは25リットル/m2/日から26リットル/m2/日に上昇している。比較すると、CH/Hep溶液からキャストしたポリマーフィルムを有する実験C-2およびC-3は、MVTRの降下を示した。即ち、実験C-2およびC-3のポリマーでは、IECは1.5から1.5まで低下している。しかし、IECが低下しているため、MVTRも21から1まで減少する。従って予想外および驚くべきなのは、DMA溶媒に溶解したポリマーを有する溶液からキャストされたフィルムでは、IECが1.0の官能基でも非常に高いMVTRがあるということである。このような特性は、実際に、DMA溶液からキャストされたこのようなスルホン化ポリマーフィルムは、従来のCH/Hep溶液からキャストされたフィルムとは異なる構造を有することも証明している。その上、結果は、吸水率に関して得られた結果の観点から、なおさらに予想外であり、驚くべきである。吸水率膨潤としても公知である。は、ポリマー膜の寸法安定性の示度である。一般に言えば、吸水率が上昇すると、ポリマーの寸法安定性は低下する。従って、フィルムが水の存在下となる用途では、より寸法安定性のフィルムが所望である。表4に示すように、DMAを含有する溶媒からキャストされたポリマーフィルムは、非常に高いMVTR値と共に低い吸水率を示す。例えば実験17は、わずか9の吸水率を有する、IEC1.0のポリマーA-1.0を示している。この低い吸水率値は、25リットル/m2/日のMVTRを有するのと同時に達成される。他方、比較データは異なる結果を示している。例えば実験C-2は、38の吸水率を21リットル/m2/日のMVTRと共に示す。このため、C-2はより低いMVTRを有し、同時に実験17の吸水率の4倍を超える吸水率を有する。その上、ポリマーが1.0のIECを有する実験C-3は、15の吸水率を有する実験17の吸水率と近い。しかし、この低い吸水率値にもかかわらず、実験C-3はわずか1リットル/m2/日のMVTRを有し、ゆえに水の輸送は全く良好ではない。ゆえに表4に示すデータは、2つの異なる傾向を示している。即ち、本発明の複数の実施形態による実験15-17は、IECが2.0から1.0まで低下するときに、MVTRは高い速度で留まるが、同時に吸水率が非常に低いパーセンテージまで低下することを示している。他方、実験C-1からC-3は、IECが2.0から1.0まで低下するときに、膨潤吸水率が低下しても、MVTRが著しく低下することを示している。このため比較例では、吸水率が低下すると、MVTRは著しく低下する。しかし驚くべきことに、本明細書で開示する発明による実施例は、吸水率が低下するときに、およびIECが低下するときに、MVTRの対応する低下を示さない。従ってスルホン化ポリマーをDMAに溶解させることによって、優れた寸法安定性を有し、同時に確実に高いMVTRを有するポリマー膜が達成可能である。表5および6は、DMA溶液ならびにCH/Hep溶液からキャストされた膜の機械的特性を明示する。DMA溶液からキャストされた膜は、多くの用途にとって十分な機械強度を呈することが示されている。その上、DMA溶液からキャストされた膜の特性は、CH/Hep溶液からのキャストされた膜の特性とは異なり、このため膜の構造が異なることがさらに確認される。表5、実験18に示すように、湿潤ポリマーで示されている傾向は、官能性が低下するとIECが低下すると、ヤング率が上昇して、このためより硬い膜が示されるということである。その上、表5は、CH/Hep溶液から形成されたポリマーよりも伸長がやや少ないが、それでもこれらが許容範囲内であることを示している。さらに表5に示した引張強度の範囲も、多くの用途にとって十分である。その上、引張強度およびヤング率は、官能性が低下すると上昇する。従って、DMA溶液からキャストされた膜は、高いMVTR、良好な寸法安定性を有し、表5によって証明されるように、良好な機械的特性も有する膜を形成できることを示している。逆ミセル溶液からキャストされた膜も、電気透析などの用途で使用できる。上述の膜の電気透析用途への有効性を試験するために、膜に電荷を印加して、選択性および導電率の両方を試験した。結果を表7に示す。表7aに示すように、本明細書で開示するような非プロトン性極性溶媒からキャストした膜は、驚くべきことに、とりわけ高い比導電率ならびに選択性を有し、なお低い吸水率を維持している。例えば実験24に示すように、膜の比導電率は2.6mS/cmであるが、選択性も94.40と高い。さらにこれらの結果は、20.2の低い吸水率によって達成され、このため寸法安定性を維持しながら高いイオン流束を示している。他方、実験番号C-13の比較ポリマーは、非常に低い比導電率である00.7mS/cmおよび0.017mS/cmH2SO4処理後を、より高い吸水率の27.4と共に示している。従って、本明細書で開示する非プロトン性極性溶媒からキャストされたポリマーは、驚くほど高い導電率を有する。加えて、ポリマーA-1.51.5のIECを有する。を用いた実験25は、10.6mS/cmという、とりわけ高い導電率を有する。実験28では、異なるIECを有する膜の組合せを溶媒に溶解させて、実験24と同様の、2.3の導電率を生じた。このような高い導電率は低い吸水率と共に、膜が脱塩を含む電気透析用途にとりわけ有用であることを明示する。このような結果は、膜が構造完全性を維持しながら、望ましくないイオンを水から除去するために効果的に使用できることを示している。表7aと同様に、表7bは、非プロトン性極性溶媒からキャストされた膜がとりわけ高い比導電率および選択率を有しながら、低い吸水率を有することを示す。他方、CH/Hepからキャストした膜は、低すぎる導電率を示すか、または導電率が上昇しているときには吸水率値が許容できないほど高いかのどちらかである。例として、CH/Hepからキャストされ、1.0のIECを有する実験番号C-14およびC-15は、許容できないほど低い導電率を生じる。しかし、IECが2.0が上昇するとき、導電率は改善されるが、吸水率値が高くなりすぎる。例えば、実験番号C-16およびC-20は高い導電率を有するが、吸水率値は200を超える。または、非プロトン性極性溶媒からキャストした膜によって、高い導電率および低い吸水率が達成されるようにこのような特性が改善される。例として、実施例30-34に示すように、良好な導電率が示されながら、吸水率値はすべて40より低い。従って、驚くべきほど好都合な特性は、非プロトン性極性溶媒からキャストされた膜から得られる。"