"式I:[式中、Ar1、Ar2およびAr3のそれぞれは独立に置換または非置換のアリール基である]の液体ビスアシルホスフィンと少なくとも1種のフリーラジカル重合性成分とを含む、光ファイバーコーティング組成物とコンクリート上で放射線硬化可能なコーティング組成物と金属上で放射線硬化可能なコーティング組成物とからなる群から選択される放射線硬化性組成物。Ar1、Ar2およびAr3のそれぞれが、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリアルキルフェニル基、イソプロピルフェニル基、tert-ブチルフェニル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジエトキシフェニル基、イソプロポキシフェニル基、チオメトキシフェニル基、ナフチル基、チオフェニル基およびピリジル基からなる群から独立に選択される、請求項1に記載の放射線硬化性組成物。前記トリアルキルフェニル基がトリメチルフェニル基である、請求項2に記載の放射線硬化性組成物。前記トリメチルフェニル基が2,4,6-トリメチルフェニル基である、請求項3に記載の放射線硬化性組成物。前記ホスフィンが、Ar1がフェニル基でありかつAr2およびAr3のそれぞれが2,4,6-トリメチルフェニル基であるビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンである、請求項1~3のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。前記組成物が光ファイバーコーティング組成物である、請求項1~5のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。前記光ファイバーコーティング組成物が、1次コーティング剤、2次コーティング剤、インクコーティング剤、アップジャケット用コーティング剤、バッファーコーティング剤およびマトリックスコーティング剤からなる群から選択される、請求項6に記載の光ファイバーコーティング組成物。前記組成物がコンクリート上で放射線硬化可能なコーティング組成物である、請求項1~5のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。前記組成物が金属上で放射線硬化可能なコーティング組成物である、請求項1~5のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。式II:[式中、Ar1、Ar2およびAr3のそれぞれは独立に置換または非置換のアリール基である]の液体ビスアシルホスフィンオキシドをさらに含む、請求項1~9のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。Ar1、Ar2およびAr3のそれぞれが、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリアルキルフェニル基、イソプロピルフェニル基、tert-ブチルフェニル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジエトキシフェニル基、イソプロポキシフェニル基、チオメトキシフェニル基、ナフチル基、チオフェニル基およびピリジル基からなる群から独立に選択される、請求項10に記載の放射線硬化性組成物。前記トリアルキルフェニル基がトリメチルフェニル基である、請求項11に記載の放射線硬化性組成物。前記トリメチルフェニル基が2,4,6-トリメチルフェニル基である、請求項12に記載の放射線硬化性組成物。前記ホスフィンオキシドが、Ar1がフェニル基でありかつAr2およびAr3のそれぞれが2,4,6-トリメチルフェニル基であるビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシドである、請求項10~13のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。少なくとも1種のフリーラジカル重合性成分と少なくとも2種類の光開始剤の組合せとを含む、光ファイバーコーティング組成物とコンクリート上で放射線硬化可能なコーティング組成物と金属上で放射線硬化可能なコーティング組成物とからなる群から選択される放射線硬化性組成物であって、少なくとも1種の光開始剤が液体ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンであり、かつ少なくとも1種の光開始剤がビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシドである、放射線硬化性組成物。ビスアシルホスフィンとビスアシルホスフィンオキシドとを組み合わせたものが約15°C以上の温度で液体である、請求項15に記載の放射線硬化性組成物。液体のビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンおよびビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシドが、HPLCで測定した場合に約1:1の比率で存在する、請求項16に記載の放射線硬化性組成物。前記組成物が従来の紫外線源によって生じる紫外線で硬化可能である、請求項1~17のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。前記組成物がLED光源によって生じる光で硬化可能である、請求項1~18のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。式I:[式中、Ar1、Ar2およびAr3のそれぞれは独立に置換または非置換のアリール基である]の液体ビスアシルホスフィンであって、前記ビスアシルホスフィンが、低酸素透過性パッケージング、輸送および保管時の冷凍および不活性ガスブランケティングからなる群から選択される少なくとも1種の技法によって安定化される、液体ビスアシルホスフィン。式I:[式中、Ar1、Ar2およびAr3のそれぞれは独立に置換または非置換のアリール基である]の液体ビスアシルホスフィンであって、前記ビスアシルホスフィンが、液体光開始剤、固体光開始剤、液体または固体のホスファイト、液体または固体のチオホスフィン酸、液体または固体のホスフィンスルフィド、液体または固体のホスフィンセレニド、液体または固体のホスフィンテルリド、液体または固体のハロゲン化ホスフィン、液体または固体のイミノホスホラン、および液体または固体のジオキサホスホランからなる群から選択される1種または複数種の化合物との混合物として安定化される、液体ビスアシルホスフィン。前記混合物が、2,4,6-トリメチルベンゾイルエトキシ,フェニルホスフィンオキシド、ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、フェニルグリオキシル酸メチルおよびアクリル化ベンゾフェノンからなる群から選択される少なくとも1種の液体光開始剤を含む、請求項21に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。約25重量~約75重量のビスアシルホスフィンを含む、請求項22に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記ビスアシルホスフィンが、4-メチルベンゾフェノン、p-フェニルベンゾフェノン、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルスルフィド、4,4’-テトラエチルジアミノベンゾフェノン、4,4’-テトラエチルジアミノベンゾフェノン、ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル-ベンジル]-フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-プロピルケトン、カンファーキノンおよび2,4,6-トリメチルベンゾフェノンからなる群から選択される少なくとも1種の固体光開始剤との安定化混合物である、請求項21に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。約25重量~約75重量のビスアシルホスフィンを含む、請求項24に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記混合物が共融混合物である、請求項24または25に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記混合物が、式III:[式中、R1、R2およびR3のそれぞれは、C1~C12アルキル基およびフェニル基からなる群から独立に選択され、前記フェニル基は置換または非置換のフェニル基である]の少なくとも1種の液体または固体のホスファイトを含む、請求項21に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。R1、R2およびR3のそれぞれが独立にアルキルフェニル基である、請求項27に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記液体または固体のホスファイトが、トリスノニルフェニルホスファイト、亜リン酸トリブチル、またはこれらの混合物からなる群から選択される、請求項27または28に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記混合物がホスファイトに関して約1:1以下の混合物である、請求項27~29のいずれか一項に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記混合物が、式IV:[式中、R4およびR5のそれぞれは、アルキル基、アリール基、アシル基、およびヘテロアリール基からなる群から独立に選択され、R4およびR5のそれぞれは任意選択的に置換されている]の少なくとも1種の液体または固体のチオホスフィン酸を含む、請求項21に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記混合物が、式V:[式中、R6、R7、およびR8のそれぞれは、アルキル基、アリール基、アシル基、およびヘテロアリール基からなる群から独立に選択され、R6、R7、およびR8のそれぞれは任意選択的に置換されている]の少なくとも1種の液体または固体のホスフィンスルフィドを含む、請求項21に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記混合物が、式VI:[式中、R1、R2およびR3のそれぞれは、アルキル基、アリール基、アシル基、およびヘテロアリール基からなる群から独立に選択され、R6、R7およびR8のそれぞれは任意選択的に置換されている]の少なくとも1種の液体または固体のホスフィンセレニドを含む、請求項21に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記混合物が、式VII:[式中、R6、R7、R8のそれぞれは、アルキル基、アリール基、アシル基、およびヘテロアリール基からなる群から独立に選択され、R6、R7、およびR8のそれぞれは任意選択的に置換されている]の少なくとも1種の液体または固体のホスフィンテルリドを含む、請求項21に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記混合物が、式VIII:[式中、R9、R10およびR11のそれぞれは、アルキル基、アリール基、アシル基、およびヘテロアリール基からなる群から独立に選択され、X1およびX2のそれぞれは独立にハロゲンであり、R9、R10およびR11のそれぞれは任意選択的に置換されている]の少なくとも1種の液体または固体のハロゲン化ホスフィンを含む、請求項21に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記混合物が、式IX:[式中、R12、R13およびR14のそれぞれは、アルキル基、アリール基、アシル基、およびヘテロアリール基からなる群から独立に選択され、Ar4はアリール基であり、R12、R13、R14、およびAr4のそれぞれは任意選択的に置換されている]の少なくとも1種の液体または固体のイミノホスホランを含む、請求項21に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記混合物が、式X:[式中、R15、R16、R17、R18、R19、R20、およびR21のそれぞれは、アルキル基、アリール基、アシル基、およびヘテロアリール基からなる群から独立に選択され、R15、R16、R17、R18、R19、R20、およびR21のそれぞれは任意選択的に置換されている]の少なくとも1種の液体または固体のジオキサホスホランを含む、請求項21に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。式I:[式中、Ar1、Ar2およびAr3のそれぞれは独立に置換または非置換のアリール基である]の液体ビスアシルホスフィンであって、前記ビスアシルホスフィンが、金属、ドデシルコハク酸無水物、尿素化合物、ルイス酸およびカテコール化合物からなる群から選択される化合物との反応生成物として安定化される、液体ビスアシルホスフィン。前記金属が遷移金属である、請求項38に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記金属が、バナジウムV、鉄Fe、インジウムIn、トリウムTh、水銀Hg、銅Cu、ニッケルNi、イットリウムY、鉛Pb、亜鉛Zn、カドミウムCd、コバルトCo、マンガンMn、カルシウムCa、マグネシウムMg、ストロンチウムSr、バリウムBa、ジルコニウムZr、チタンTi、クロムCr、ルビジウムRb、モリブデンMo、ルテニウムRu、パラジウムPd、銀Ag、カドミウムCd、スズSn、アンチモンSb、バリウムBa、タングステンW、白金Pt、金Au、ビスマスBiおよびベリリウムBeからなる群から選択される、請求項38に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。式XIまたは式XII:[式中、Ar1、Ar2およびAr3のそれぞれは独立に置換または非置換のアリール基であり、Mは金属である]を有する、請求項38~40のいずれか一項に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記ルイス酸が、超分子ポリマー、イミダゾール誘導体およびグアニジン誘導体からなる群から選択される、請求項38に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。式XIIIまたは式XIV:[式中、Ar1、Ar2およびAr3のそれぞれは独立に置換または非置換のアリール基であり、Ra、RbおよびRcのそれぞれは、水素、アルキル基および置換アルキル基からなる群から独立に選択され、前記アルキル基および置換アルキル基は任意選択的に置換されている]を有する、請求項38に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。Ar1、Ar2およびAr3のそれぞれが、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリアルキルフェニル基、イソプロピルフェニル基、tert-ブチルフェニル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジエトキシフェニル基、イソプロポキシフェニル基、チオメトキシフェニル基、ナフチル基、チオフェニル基およびピリジル基からなる群から独立に選択される、請求項20~43のいずれか一項に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記トリアルキルフェニル基がトリメチルフェニル基である、請求項44に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記トリメチルフェニル基が2,4,6-トリメチルフェニル基である、請求項45に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。前記安定化ホスフィンが、Ar1がフェニル基でありかつAr2およびAr3のそれぞれが2,4,6-トリメチルフェニル基である安定化液体ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンである、請求項44~46のいずれか一項に記載の安定化液体ビスアシルホスフィン。請求項20~47のいずれか一項に記載の安定化液体ビスアシルホスフィンと少なくとも1種のフリーラジカル重合性成分とを含む、放射線硬化性組成物。前記組成物が、光ファイバーコーティング組成物とコンクリート上で放射線硬化可能なコーティング組成物と金属上で放射線硬化可能なコーティング組成物とからなる群から選択される、請求項48に記載の放射線硬化性組成物。前記組成物が光ファイバーコーティング組成物である、請求項49に記載の放射線硬化性組成物。前記光ファイバーコーティング組成物が、1次コーティング剤、2次コーティング剤、インクコーティング剤、アップジャケット用コーティング剤、バッファーコーティング剤およびマトリックスコーティング剤からなる群から選択される、請求項50に記載の光ファイバーコーティング組成物。前記組成物がコンクリート上で放射線硬化可能なコーティング剤である、請求項49に記載の放射線硬化性組成物。前記組成物が金属上で放射線硬化可能なコーティング剤である、請求項49に記載の放射線硬化性組成物。前記組成物が液体である、請求項48~53のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。前記組成物が従来の紫外線源によって生じる紫外線で硬化可能である、請求項48~54のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。前記組成物がLED光源によって生じる光で硬化可能である、請求項48~54のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。[実施例]0149硬化速度FTIR試験RAU。紫外線硬化コーティングの相対硬化速度は、FTIR透過手法を用いて求めることができる。この方法は、紫外線に暴露された時の二重結合の消失によって硬化するコーティング剤系に適用できる。0150赤外分光光度法はよく知られており、任意の赤外線分光計を利用して赤外線スペクトルを取得できる。例えば、Nicoletモデル860フーリエ変換赤外線FTIR分光光度計またはそれと同等のものを、以下のパラメーターで使用できる:TGS検出器、4cm-1の分解能および10回の走査がそれぞれのスペクトルに同時追加co-addedされる。0151水銀紫外線ランプ100W、OrielCorp.6281またはそれと同等のものを使用する。制御された短パルスの放射線を発生させることのできる別の紫外線装置を代わりに使用してもよい。0152試料の調製。テフロンスペ-サーを清浄なNaCl透過窓の表面に置く。精密マイクロリットルピペットを用いて、完全に混ぜ合わせたコーティング剤の小滴をNaClディスクの中心に置く。コーティング剤がスペ-サーの端まで均一に広がるように、また気泡がコーティング剤中に含まれないように、別のNaClディスクをコーティング剤の滴の上部に注意深く置く。0153機器のセットアップ/標準化。紫外線ランプをオンにしてからFTIRをオンにする。IRビーム経路に試料がない状態のバックグラウンドスペクトルを収集する。0154試料分析手順。コーティング剤系の最初の分析では、コーティングの厚さがいずれのコーティング剤系でも一定であるようにするために標準手順に従う。一定の厚さを実現するために、50ミクロンのスペ-サーを使用する。そのため、ピークの最小からピークの最大までの不飽和バンドの正味の吸光度を測定する。ピークの最大は1.0~1.2Åの範囲内であるべきである。正味の吸光度は、ピークの最小によって異なることになる。アクリレート化学に基づくコーティングでは、810cm-1のアクリレート不飽和バンドおよび795cm-1付近の最小でのベースラインを使用する。このステップを3回繰り返し、3つの吸光度値の平均を正味吸光度と見なす。この平均値を、その特定のコーティング剤系の将来の分析すべてで目標吸光度として使用する。この値は、不飽和含量unsaturationcontentの違いがあるため、それぞれのコーティング剤系ごとに異なると考えられる。次いで、不飽和バンドの正味吸光度が、正味吸光度についての上述の平均値の±0.05Åに収まるまで、取り外し可能なセルホルダーのねじを締めて、コーティングの厚さを調整する。スペクトルは、正味吸光度値が安定するまで次々と集めるコーティングは、平衡に達するまで数分かかることがある。0155その後、0.05から5秒の間で暴露時間を変化させて、未硬化液体試料の赤外線スペクトルおよび硬化試料の赤外線スペクトルを得る。暴露時間は、コーティング剤系によって変わりうる例えば、高速硬化コーティング剤系では、必要な暴露時間は短くなる。0156未硬化液体試料のアクリレート不飽和吸光度の正味ピーク面積を測定する。ほとんどのアクリレート系コーティングでは、約810cm-1での吸光度を使用すべきである。しかし、コーティングが、810cm-1かその付近で強く吸収するシロキサンまたは他の成分を含んでいる場合、別のアクリレート吸光度ピークを使用できる。約1410cm-1および約1635cm-1での吸光度は、満足のゆくものであることが見いだされた。正味ピーク面積は、ピークのどちらかの側の吸光度の最小に接するようにベースラインを引くという、よく知られているベースライン手法を用いて測定できる。ベースラインの上にありかつピークより下にある面積が、正味ピーク面積である。0157一部のコーティング剤系では、紫外線暴露による不飽和吸光度の消失により、平らなベースラインではなくスペクトルの谷が生じる。そのような試料では、減算係数subtractionfactorの1.00を用いて、前述のスペクトルのそれぞれから最終暴露のスペクトル減算を行うのが望ましい。その後、減算されたスペクトルを、面積測定に使用すべきである。0158以下の式を用いて、それぞれの暴露についての反応アクリレート不飽和のパーセントRAUを計算する:RAU=[Aliq-Aexposed]/Aliq×100。ここで、Aliqは液体コーティングの810cm-1バンドの正味面積であり、Aexposedは暴露後の810cm-1バンドの正味面積である。0159毎回の暴露での三重分析の平均RAUを求める。[実施例1および比較例A]0160この実施例は、式Iの液体ビスアシルホスフィンとフリーラジカル重合性成分とを含む、本発明の放射線硬化性光ファイバーコーティング組成物を示す。0161実施例1の放射線硬化性光ファイバーコーティング組成物は以下のものを含む:表1に列挙した成分を含む60重量のオリゴマー;SR504D、SR339A、SR349Dおよびビニルカプロラクタムを含んでいるモノマーブレンド;0.10重量の光安定剤としてのTINUVIN商標123;0.60重量の酸化防止剤としてのIRGANOX商標1035;および1.00重量の接着促進剤としてのγ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン。実施例1の硬化性コーティング組成物はまた、2.00重量の光開始剤としての液体LMBAPOも含む。0162比較例Aの放射線硬化性光ファイバーコーティング組成物は、実施例1のコーティング組成物と同じであるが、液体LMBAPOの代わりに2のIRGACURE登録商標819BAPOを固体光開始剤として含む。0163放射線硬化性光ファイバーコーティング組成物を調製した後、それぞれのコーティング組成物のRAUを、本明細書に記載しているようにして測定する。結果を表1に示す。0164表1に示されているように、液体光開始剤を含んでいる実施例1の放射線硬化性光ファイバーコーティング組成物は、固体光開始剤を含んでいる比較例Aのコーティング組成物と比較した場合に、RAUで示された場合の硬化速度が同等かつ満足のゆくものであることを、RAUの測定結果は示している。[実施例2]0165この実施例は、本発明による液体ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルホスフィンの調製方法を示す。0166不活性雰囲気下において湿気を排除した状態で、105°Cにおいて高速タービン撹拌機11,000rpmで撹拌して、ナトリウム11.5g、0.50molをトルエン100mL中に分散させたものを作ると、主粒径が50μm未満であるナトリウムが得られる。混合物は撹拌せずに30~35°Cまで冷却する。その後、タービン撹拌機を再び始動し、クロロベンゼン2.8g、0.025molを滴加すると、フラスコの内容物は温まって45~50°Cになる。得られた黒色の懸濁液を100°Cに加熱し、その温度でP,P-ジクロロフェニルホスフィン19.7g、0.11molを滴加する発熱挙動を伴う。P,P-ジクロロフェニルホスフィンの全体量の1/4を加えた後、反応は停止して熱を発する。この時点でn-ブタノール0.05mLを加えると、発熱反応が再開する。P,P-ジクロロフェニルホスフィンの残りの添加の間ずっと発熱したままである。得られた緑色の懸濁液を100~110°Cで30分間撹拌する。混合物を75°Cまで冷やし、2,4,6-トリメチルベンゾイルクロリド43.8g、0.24molを、この温度で30分間にわたって滴加する。発熱反応が観察される。茶色の懸濁液にトルエン200mLを加え、その混合物を70~85°Cで60分間撹拌する。混合物は水150mLによって加水分解され、相が分離する。生成物の相を31P-NMRで分析する。これにより、所望のビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンであることが分かる。0167刊行物、特許出願、および特許を含め、本明細書で引用した文献はすべて本明細書に援用するが、それは各文献が本明細書に個別かつ明確に組み込まれることを示しかつその全体が明記された場合と同等である。0168本発明を実施するのに最良であることが本発明者らに知られている形態を含め、本発明の好ましい実施形態を本明細書に記載してある。こうした好ましい実施形態の変形形態は、前述の説明を読めば当業者に明らかになるであろう。本発明者らは、当業者が適宜そのような変形形態を用いることを予期しており、本発明者らは、本明細書に具体的に記載した通り以外にも本発明が実施されることを意図している。したがって本発明は、適用法令で許される、本明細書に添付の特許請求の範囲に記載の内容の変更形態および同等形態すべてを含む。さらに、本明細書に特に記載がない限り、あるいは明らかに文脈と矛盾しない限り、上述の要素のあらゆる可能な変形形態における上述の要素の任意の組合せが本発明に包含される。"