"アジポニトリルの製造方法であって、a1番目の反応ゾーン内で1,3-ブタジエンBDとシアン化水素HCNを含有して成る混合物の反応をゼロ価Niと1番目の燐含有配位子を含有して成る1番目の触媒の存在下で起こさせることで3-ペンテンニトリル3PNと2-メチル-3-ブテンニトリル2M3BNを含有して成る反応生成物を生じさせ、b段階aの2M3BNの少なくとも一部に異性化を2番目の反応ゾーン内でゼロ価Niと2番目の燐含有配位子を含有して成る2番目の触媒の存在下で受けさせることで3PNを含有して成る反応生成物を生じさせ、そしてc3番目の反応ゾーン内で段階bで得た3PNとシアン化水素HCNを含有して成る混合物の反応をゼロ価Niと3番目の燐含有配位子を含有して成る3番目の触媒の存在下およびルイス酸助触媒の存在下で起こさせることでアジポニトリルを含有して成る反応生成物を生じさせる、段階を含んで成り、かつ触媒を前記1番目、2番目および3番目の反応ゾーンの中に反応体および生成物と一緒に流し、反応ゾーンに導入するルイス酸助触媒のいずれも前記反応ゾーンの中を反応体、生成物および触媒と一緒に流れ、前記1番目の反応ゾーンを通って流れた1番目の触媒を前記1番目の反応ゾーンに再循環させ、そして前記3番目の反応ゾーンを通って流れた触媒を前記3番目の反応ゾーンに再循環させ、前記3番目の反応ゾーンZ3の中を通って流れた前記ルイス酸助触媒が前記1番目の反応ゾーンに実質的に入らないようにし、前記3番目の反応ゾーンZ3の中を通って流れた前記ルイス酸助触媒が前記1番目の反応ゾーンZ1に入り込まないように前記再循環させる触媒の流れを制御し、前記1番目の反応ゾーンから流れ出た1番目の触媒を1つ以上の蒸留段階で濃縮しそして少なくとも1つの触媒再循環流れとして前記1番目の反応ゾーンに再循環させ、前記1番目の反応ゾーンに再循環させる前記触媒再循環流れの一部と1番目の抽出用溶媒の接触を1番目の液体/液体抽出段階で起こさせることで溶媒相とラフィネート相を生じさせ、前記1番目の液体/液体抽出段階から出て来た前記溶媒相に前記1番目の触媒が入っておりかつ前記1番目の液体/液体抽出段階から出て来たラフィネート相に触媒分解生成物および反応副生成物が入っており、前記1番目の液体/液体抽出段階で前記3番目の触媒を前記1番目の抽出用溶媒と接触させず、前記3番目の反応ゾーンから流れ出た前記3番目の触媒と抽出用溶媒の接触を前記1番目の液体/液体抽出段階とは異なる別の液体/液体抽出段階で起こさせ、そして前記3番目の触媒を前記別の液体/液体抽出段階から回収しそして前記3番目の反応ゾーンに再循環させるが、前記1番目の反応ゾーンには再循環させない、ことを含んで成る方法。ルイス酸助触媒が前記1番目の反応ゾーンZ1に存在するとメチルグルタロニトリルMGNの生成が助長され、そして前記1番目の反応ゾーンZ1の中のルイス酸助触媒の量をMGNの生成量が前記ルイス酸助触媒が存在しない時に生じるMGNの量に比べて増加する度合が10のみである量より少なくする、請求項1記載の方法。前記ルイス酸助触媒が示す沸点がアジポニトリルのそれよりも高く、前記3番目の反応ゾーンZ3を通って流れる前記反応生成物、3番目の触媒およびルイス酸助触媒と前記抽出用溶媒の接触を前記3番目の触媒の接触で用いる前記別の液体/液体抽出段階で起こさせることで前記3番目の触媒が入っている溶媒相と段階cで生じたアジポニトリル生成物、沸点がアジポニトリルより高い化合物および沸点がアジポニトリルより低い化合物が入っているラフィネート相を生じさせ、そして前記別の液体/液体抽出段階から出て来た前記ラフィネート相に蒸留を1つ以上の蒸留段階で受けさせることで前記ラフィネート相から精製されたアジポニトリル生成物流れを回収しかつルイス酸助触媒を除去する、請求項1記載の方法。前記1番目の燐含有配位子が単座燐含有配位子であり、前記2番目の燐含有配位子が単座燐含有配位子または二座燐含有配位子であり、そして前記3番目の燐含有配位子が二座燐含有配位子である、請求項1記載の方法。前記2番目の燐含有配位子が単座燐含有配位子であり、そして前記1番目の燐含有配位子と前記2番目の燐含有配位子が同じである、請求項4記載の方法。前記1番目および2番目の反応ゾーンを通って流れた前記1番目および2番目の触媒を前記1番目の反応ゾーン、前記2番目の反応ゾーンまたは前記1番目と2番目両方の反応ゾーンに再循環させるが、前記3番目の反応ゾーンには再循環させず、そして前記3番目の触媒を前記3番目の反応ゾーンに再循環させるが、前記1番目の反応ゾーンにも前記2番目の反応ゾーンにも再循環させない、請求項1記載の方法。前記ルイス酸助触媒が塩化亜鉛またはトリフェニルホウ素である請求項1記載の方法。前記ルイス酸助触媒が塩化亜鉛である請求項1記載の方法。前記精製されたアジポニトリル生成物流れの一部を前記1番目の触媒に抽出を受けさせる目的で用いる前記1番目の液体/液体抽出段階に再循環させるが、前記3番目の触媒に抽出を受けさせる目的で用いる前記別の液体/液体抽出段階には再循環さない請求項3記載の方法。前記精製されたアジポニトリル生成物流れを前記1番目の触媒に抽出を受けさせる目的で用いる前記1番目の液体/液体抽出段階にも前記3番目の触媒に抽出を受けさせる目的で用いる前記別の液体/液体抽出段階にも再循環さない請求項3記載の方法。前記1番目の触媒に抽出を受けさせる目的で用いる前記1番目の液体/液体抽出段階から出て来たラフィネートおよび前記3番目の触媒に抽出を受けさせる目的で用いる前記別の液体/液体抽出段階から出て来たラフィネートに蒸留を同じ蒸留装置内で受けさせる請求項3記載の方法。前記1番目の触媒に抽出を受けさせる目的で用いる前記1番目の液体/液体抽出段階から出て来たラフィネートおよび前記3番目の触媒に抽出を受けさせる目的で用いる前記別の液体/液体抽出段階から出て来たラフィネートに蒸留を別々の蒸留装置内で受けさせる請求項3記載の方法。段階aの反応生成物が更にアジポニトリルADNおよびメチルグルタロニトリルMGNも含有して成り、前記1番目の液体/液体抽出段階が前記触媒再循環流れの一部、抽出用溶媒流れおよびアジポニトリルADNを包含するジニトリル再循環流れを1番目の液体/液体抽出ゾーンに導入することを含んで成り、前記1番目の液体/液体抽出段階が更に前記1番目の液体/液体抽出ゾーン内の液体を分離させて1番目の抽出用溶媒および触媒を含有して成る1番目の溶媒相とアジポニトリルADN、メチルグルタロニトリルMGN、沸点がアジポニトリルADNのそれよりも高い化合物および沸点がメチルグルタロニトリルMGNのそれよりも低い化合物を含有して成る1番目のラフィネート相を生じさせることを含んで成り、前記1番目の液体/液体抽出段階で得た前記1番目の溶媒相に由来する触媒を前記1番目の反応ゾーンまたは前記2番目の反応ゾーンまたは前記1番目と2番目両方の反応ゾーンに再循環させ、前記1番目のラフィネート相に蒸留を1つ以上の蒸留段階で受けさせることでアジポニトリルADNおよびメチルグルタロニトリルMGNを沸点がアジポニトリルADNのそれよりも高い化合物および沸点がメチルグルタロニトリルMGNのそれよりも低い化合物から分離することで1番目の精製ジニトリル流れを得、前記1番目の精製ジニトリル流れにさらなる蒸留を受けさせることでメチルグルタロニトリルMGNを前記1番目の精製ジニトリル流れから除去することでアジポニトリルが豊富に存在する2番目の精製ジニトリル流れを得、前記2番目の精製ジニトリル流れの少なくとも一部を前記ジニトリル再循環流れとして前記1番目の液体/液体抽出段階に再循環させる、請求項1記載の方法。"