複数のモジュールであって、各モジュールが放射線透過材料及び放射線吸収材料を交互に含み、隣接配置されるモジュールが当該モジュール群を組み付けて互いに並置されて集束経路群を形成するようにする、複数のモジュールと、前記複数のモジュールの取り付け先、かつ固定先であるフレームと、を備える、集束グリッド。請求項1記載の集束グリッドにおいて、前記モジュール群は、互いに略同一であり、隣接するリボンから、実質的に空気のみを挟んで分離される放射線吸収重金属材料リボンを含む、集束グリッド。請求項2記載の散乱防止集束グリッドにおいて、複数の薄い重金属リボンを支持するフレームを備え、前記リボン群を並置して、当該リボン群により画成され、かつ当該リボン群の間に画成される空気層を通過する経路群を画成するようにし、前記経路群は、当該経路群を通過する放射線を必ず、1本の集束線に沿って集束させ、前記集束線は、X線源の中心を含む、集束グリッド。請求項3記載の散乱防止集束グリッドにおいて、少なくとも2つの対向ブラケットを収容するフレームを備え、前記対向ブラケット群はそれぞれ、複数のホルダーを備えることにより、前記重金属リボン群を、当該ブラケット群の長軸に直交する平面内で支持し、前記重金属リボン群はそれぞれ、互いに対して傾斜して、1本の集束線に、前記フレームの表面に平行であり、かつX線源の中心を含む平面で集束する、集束グリッド。請求項4記載の散乱防止集束グリッドにおいて、前記リボン群の前記平面群は、隣接スリット群に分岐する平面について、前記集束線から一定の角度を表わすように配列される、集束グリッド。請求項5記載の散乱防止集束グリッドにおいて、前記リボン群の間隔に対する前記リボン群の深さの比は、3:1~20:1の範囲である、集束グリッド。請求項2記載の散乱防止集束グリッドにおいて、前記薄い重金属リボン群は、幅を持つ鉛、ビスマス、タングステン、タンタル、又はこれらの金属の合金により形成され、10ミクロン~1000ミクロンの厚さを有する、集束グリッド。請求項6記載の散乱防止集束グリッドにおいて、前記リボン群は、グリッド集合のすべてのリボンが等しい長さとなるような同じ長さであり、引張力で保持されて、前記焦点に至るこれらのリボンの直線性、及び前記焦点へのこれらのリボンの配向性を保持する、集束グリッド。請求項3記載の集束グリッドにおいて、1つのフレームを備え、前記フレームに、2つの交差配列リボン集合を取り付けて、交差直線形集束グリッドを形成し、両方のリボン集合は、同一平面にある集束線群を有して、これらの集束線がX線源の位置に集束するように配列される、集束グリッド。請求項2記載の集束グリッドにおいて、前記リボン群の間の前記間隔は、0.2mm~1cmである、集束グリッド。請求項1記載の集束グリッドにおいて、前記モジュール群は、少なくとも1つの弓形表面に沿って重金属層で被覆される弓形成形ポリマ材料により形成され、前記モジュール群はそれぞれ、互いに略同一であるので、複数のモジュールが嵌合して合体すると、X放射線が通過する集束経路群を有する球殻断面を形成する、集束グリッド。請求項11記載の集束グリッドにおいて、前記複数のモジュールを組み付けて、隣接配置されるモジュール群が互いに嵌合することにより、前記集束経路群を形成する、集束グリッド。請求項13記載の集束グリッドにおいて、前記モジュール群の各モジュールは、一対の側面を有し、少なくとも一方の側面は、別のこのようなモジュールの側面と嵌合するように適合させた凹凸を有する、集束グリッド。請求項13記載の集束グリッドにおいて、前記少なくとも一方の嵌合面は、V字形溝により形成される波形面を備える、集束グリッド。請求項11記載の集束グリッドにおいて、前記重金属は、鉛、ビスマス、タングステン、又はこれらの金属の合金である、集束グリッド。請求項15記載の集束グリッドにおいて、前記重金属合金は、ビスマス及び鉛、ストロンチウム、カドミウム及びインジウムを混ぜ合わせた低融点合金である、集束グリッド。請求項11記載の集束グリッドにおいて、前記ポリマ材料は、放射線を殆ど透過する材料であり、低原子番号の元素である水素、炭素、酸素、又は窒素によって主として構成され、かつ1.2グラム/立方センチメートル未満の密度を有する剛性ポリマである、集束グリッド。請求項17記載の集束グリッドにおいて、前記剛性ポリマは、ABS、ウレタン、アクリル、又はポリカーボネートから選択される、集束グリッド。0006本発明は、医療分野、獣医学分野、又は工業分野において生成されるX線画像の画像コントラストを向上させる散乱防止集束グリッドに関する装置、及び散乱防止集束グリッドの製造方法を提供する。0007使用状態では、グリッドは、散乱X線を出来る限り吸収し、一次X線を出来る限り透過させることにより、画像コントラストの低下を抑制するように構成される。この点に関するグリッドの性能は、コントラスト改善度ContrastImprovementFactor:CIFにより与えられる:式中、Cg及びC0は、グリッド有りの場合、及びグリッド無しの場合の画像コントラストであり、Ts及びTpは、それぞれグリッドによる散乱放射線の透過率、及び一次放射線の透過率である。設計検討によれば、コントラストの改善は、Tpを大きくし、そしてTsを小さくすることにより達成することができる。本発明の設計では、Tsを小さくしようとし、多くの場合、Tpを更に大きくする。0008本発明によれば、グリッドは、X線及びそれよりも大きいエネルギを持つ放射線を殆ど透過させる複数の経路と、このような大きいエネルギを持つ放射線を吸収することができる材料により形成される一連の壁と、を備え、これらの壁は、これらの経路を画成して、これらの経路を通過する放射線が必ず、離れた1つの直線又は1点に集束するように配置され、かつ位置合わせされる。これらの壁は、グリッドに放射線集束点を通って入射し、かつ集束放射線と交差する方向に伝搬するすべての放射線を吸収する。これらの放射線吸収壁は、輪郭が略矩形のフレームによって支持されることが好ましい。1つの好適な実施形態では、当該フレーム及び当該フレームに収容される当該グリッドは、球の一部を形成する、すなわち球面の一部を形成する。当該グリッドのうちのX線源、及び撮影対象の被検体と対向する方の表面は、Rの半径を有することになり、反対側の表面は、RLの半径、すなわちRこれらの壁の高さの半径を有することになる。受像器に到達する放射線の量Tを多くするために、当該グリッドを、これらの壁を波形にすることにより効果的に長くすることができる。0009本発明の集束グリッドの別の好適な実施形態は、縁取りフレームを備え、当該縁取りフレームは、少なくとも一対の対向辺部材を備え、各辺部材は、グリッド壁を構成する材料からなるリボンを支持し、かつ位置決めする。例えば、各辺部材には、複数のスロット又は他の開口部を設け、これらのスロット又は開口部は、これらの経路を画成する壁群を構成する材料を各端部に正しく位置合わせして好適に保持するように離間させ、配置される。これらのスロットをこのように互いに対して配置して、これらのスロットに保持される壁材料が、グリッドの一方の面で交わる放射線が必ず、グリッドの反対側の表面を超えた位置で焦点に集束する、又は1つの直線に集束するような構成となるようにする。0010好適には、グリッドは、一連の相互接続及び嵌合モジュールにより形成され、各モジュールは、他のモジュール群と略同一である。1つのこのような実施形態では、各モジュールは基本的に、放射線吸収重金属材料からなるリボン又はプレートであり、当該リボン又はプレートは、フレームに保持されて、互いに対して、かつ放射線源及び撮影装置に対してこれらのモジュールが並置される状態を維持するようにする。別のこのような実施形態では、放射線吸収重金属材料からなるリボン又はプレートは、放射線透過材料により形成される適切な形状の支持体の1つの側面に固く固定され、当該放射線透過材料は、これもまた適切なフレームに上記のように保持されることが好ましい。0011各好適な実施形態では、放射線を殆ど透過する材料が、放射線吸収壁群の間に延び、かつ放射線吸収壁群により画成され、当該放射線透過性材料は、最も好ましくは、空気、X線を最も透過する材料のみとする、又は主として空気、X線を最も透過する材料とする。別の構成として、更に別の構造支持体を提供し、剛性を放射線吸収壁に付与する手段として、直ぐ傍の隣接する少なくとも一対の画成壁の間を延在し、かつ少なくとも一対の画成壁に取り付けられるのが固体支持体材料であり、この固体支持体材料も、炭化水素ポリマ又はカルボキシル化炭化水素ポリマのように、X線を殆ど透過し、ポリマがこれらの壁の間の経路を完全に充填するために十分厚い場合、ポリマを発泡させて、放射線透過率を更に高くすることが更に好ましい。グリッド構造は、主として空気をこれらの経路内に収容して、グリッドを通過する一次放射線Tpの透過率が最大となって、患者に許容される放射線線量が、従来のアルミニウム支持グリッド又はスチール支持グリッドよりも低くなるようにすることが最も好ましい。0012これらの経路を画成するX線吸収重金属壁の厚さ、及びこれらの経路の深さ及び、従ってこれらの壁の長さLを変化させて、一次X線透過率を最適化し、所定の放射エネルギを持つ散乱放射線の透過率を低くする、又はゼロにすることができる。0013本発明の1つの好適な方法は、好適なグリッドフレームを、例えばアルミニウム又はスチール、或いは高強度ポリマを鋳込み固化させる、又は成形することによりフレーム辺部を成形することにより形成する工程を含む。フレームの1つの好適な実施形態を形成する方法では、アルミニウムフレーム辺部又はスチールフレーム辺部、或いは剛性ポリマフレーム辺部を精密機械加工し、一連の位置合わせスリットをフレームの対向辺部に形成する。対向フレーム辺部に沿った複数対の対向スリット群の中心線を含む平面群は、図1に示すように、X線管焦点の水平面に達する1つの直線に集束するように位置合わせされ、かつ並置される。0014フレームの対向辺部にあるこれらのスリットは、正確に位置合わせされて、対向辺部にあるこれらのスリットが、これらのスロットが形成されるフレームのこれらの辺部と直角な同一平面にあるようにする。これらの壁は、対向スリット群により引張力でフレームを横切って密着保持される薄い重金属箔リボン群により形成することができる。1つの実施形態は、基本的には従来の直線グリッドであり、この場合、これらの金属箔リボンが、フレームの1つの辺から他方の辺に延びる平面群を形成する。この実施形態では、すべてのリボンが形成する平面群が、1つの直線にX線焦点を通過するように集束する。第2の関連実施形態は、第2の類似フレームが第1のフレームの上に配置され、かつスリット群及びリボン群が第1層のスリット群及びリボン群と直交する構成を除いて、第1の実施形態に基づいている。この構造によって、交差直線グリッドなるものが効果的に得られ、これによって、撮像面に衝突する散乱放射線を一層減少させ、画像を更に改善することができる。グリッド比は、直径に対する経路深さの比であり、通常、5:1~16:1である。0015本発明の別の実施形態は、散乱防止集束グリッドを改善することができ、この散乱防止集束グリッドは、複数の略同一の弓形嵌合モジュールを備え、これらの弓形嵌合モジュールは好ましくは、放射線透過性固体支持材料層及び放射線吸収材料層を交互に含む。好適には、各モジュールは、炭化水素ポリマのような、放射線を殆ど透過する固体材料により作製され、比較的薄い放射線吸収材料層により形成される少なくとも1つの嵌合面を有する。これらのモジュールを組み付けて、グリッドを、好適には複数の集束経路を形成し、各集束経路は、放射線吸収材料によって区切られ、このような経路群のすべては、組み付けモジュール群から特定の距離に位置するように設定される空間中の同じ点に集束する。組み付けモジュール群は、適切な形状のフレームに取り付けられて、本発明の集束グリッドを形成することが好ましい。1つの好適な実施形態では、これらのモジュールは、皺を発生させて波形とし、これらの皺は、集束放射線の方向と直交する平面内で発生させ、グリッドの実効長を、比較的小型のフレーム内で伸ばすように作用することにより、より多量の一次放射線を通過させて受像器に到達させることができる。0016第3の実施形態では、本発明の集束グリッドは、複数の略同一の弓形嵌合モジュールを備え、これらの弓形嵌合モジュールは好ましくは、放射線透過性固体支持材料層及び放射線吸収材料層を交互に含む。好適には、各モジュールは、球の一部の形状に作製され、更に、幅方向に皺を発生させて、連続波形又はノコギリ波形とすることができる。これらのモジュールを組み付けて、X線を殆ど透過する複数の集束経路を有するグリッドを形成し、各集束経路は、当該放射線吸収材料層によって区切られ、このような経路群のすべては、既に述べたように集束する。組み付けモジュール群は、適切な形状のフレームに取り付けられて、本発明のこの実施形態の集束グリッドを形成することが好ましい。0045本発明の好適な実施形態は、経路の散乱放射線吸収壁が単層の重金属箔層として形成され、この重金属箔層がフレームに、支持フレームの対向周縁に密着保持される構成の集束グリッドであって、空気を中間物質とする集束グリッドを提供する。リボン壁群をフレームで保持して、散乱防止グリッドの平面に平行なX線源の平面内の直線に集束するように位置合わせする。好適な実施形態では、当該フレームの剛性は非常に高く、当該フレームは、複数のテープ又は箔リボンを正しく位置合わせしてスリット群内に保持することができ、これらのスリットは、箔テープ又はリボンを支持するように位置合わせされ、そして並置される。0046上に説明した本発明の集束グリッドは、散乱防止グリッドとして使用することにより、例えば医療X線撮影分野及び/又は工業用X線撮影分野において有用なX線撮影を行なうことができる。図1を参照すると、X線は線源10から誘導されて、被検体12内を通過して下方の受像器14に到達する。被検体内又は患者内を通過する際、X線の或る部分は散乱20されることにより、記録画像のコントラストが低下する。本発明のグリッド16を被検体又は患者12と受像器14との間に配置する。グリッドは、一次撮影X線の通過を許容しながら、出来る限り多くの量の散乱放射線を吸収するように設計される。0047X線撮影のために使用されるX線は普通、10keV~1MeVの範囲の光子エネルギを持つ電磁放射線を含む。説明を分かり易くするために、放射線ビームは以後、記載される範囲のX線ビームとして記載される。しかしながら、本発明の請求された集束グリッドのこれらの実施形態のすべては、上に説明した範囲から外れる光子エネルギを持つ電磁放射線を利用して記載の通りに動作させることができ、又は機能することができ、この場合、経路群の境界又は壁は、発生する可能性のあるこのような散乱電磁放射線を吸収することができる材料から作製される。0048図1についての説明を続けると、均一なX線ビーム18は、被検体12の体表に向かって誘導され、被検体12内を伝搬して、被検体12の反対側表面から現われる。被検体12内を通る直線経路に沿ったX線減衰量の差によって、X線強度パターンが生成され、このX線強度パターンは、受像器14により記録される画像情報を構成する。受像器14は、写真用フィルム又は任意のX線感光材料層又はX線電子写真感光媒体層に接続される増感スクリーンのような装置とすることができ、当該装置は、1つ以上の工程を経て、X線強度パターンを可視画像又は可視形式に変換する。0049X線18が被検体12内を通過すると、これらのX線は、散乱及び吸収が起こることにより減衰する。被検体14内を通過してきたX線は、集束X線focusedx-rays:これらの集束X線もグリッド16を、本明細書において説明される集束経路に従って通過することを意味するであり、一次X線primaryx-raysとも表記され、一次X線は、画像の形成に寄与する。すなわち、非散乱集束ビーム---被検体12内を真っ直ぐに通過してきている---は殆どが、本発明の集束グリッド16の経路を通過することになる。放射X線を含み、かつ集束経路に沿って伝搬しないで撮影対象の被検体から出て行く放射線は、散乱されるscatteredと表記され、散乱放射線は、経路境界を画成する金属層群又は、放射線吸収層群のうちの1つの金属層と交差することになり、これらの経路境界は、散乱放射線を、境界の組成及び厚さ、及び放射線のエネルギによって異なる度合いで吸収するように設計される。これらの箔の平面に入射する幾つかの集束X線は、これらの箔により吸収されて、これらの箔の影像が、結果として得られる画像に生じ易いことに注目する必要がある。グリッドシステムに、グリッドをX線照射中に移動させる機構を設けて、これらの箔の画像を、無くならないまでも、動きによるピンボケによって、一次画像の解像度を大幅に低下させることなくぼやけさせる。0050放射線吸収経路境界は、構成元素群、すなわち当該境界の構成元素群の異なる原子番号を変えることにより、又は吸収層の厚さ、又は密度を変えることにより、所望の状態、又は好適な状態となって、特定範囲の光子エネルギを持つX線の吸収度に更に良好に適合するように設計することができる。例えば、マンモグラフィにおけるような低エネルギX線を用いる用途では、吸収層は、数十ミクロンに過ぎない厚さとすることができ、29という低い原子番号の元素群を含むことができる。一般的な医療X線撮影のような更に大きいエネルギを必要とする用途では、より厚い吸収層を用いることができ、当該吸収層は、鉛、ビスマス、タングステン、又はタンタルのような65超の原子番号の重金属元素により形成されることが好ましい。0051X線透過材料空気、又は炭化水素ポリマ、もしくは窒素原子又は酸素原子を含むこともできる他の低分子量ポリマのようなとは、材料内に進入する直前のビームの測定可能な強度が、材料から出て行った直後のビームの測定可能な強度に略等しくなるように、X線ビームが材料内を伝搬する場合の当該材料である。それとは異なり、X線吸収材料は、このような材料から出て行くX線の量が、このような材料に入射したX線の強度と比較して、大幅に少なくなるように作用する。撮影対象の被検体内を通過し、そして散乱される、すなわち集束グリッドの経路を通る集束経路に沿って伝搬しないX線は交差するが、集束経路のX線吸収壁境界に衝突するので、これらの壁に吸収される。0052金属製リボン群は、必ずしも単一元素金属である必要はないが、結合剤例えば、ポリマと混合して粉末材料とすることにより、微粉末の形態の比較的高濃度の重金属を結合させる、又は28よりも大きい原子番号の元素を主として含有する化合物として結合させる、又は合金として結合させることができる。散乱防止グリッドが使用される用途によって異なるが、比較的高濃度の重金属は、40重量~98重量の範囲とすることができる。これらの経路境界は、或る程度の引張力を受ける箔により形成されるので、鉛又はビスマス、或いはこれらの金属の合金のような幾つかの種類の所望の高い放射線吸収度を有する重金属は、例えば繊維又はコーティング例えば、マイラーを追加することによる補強を行なって、十分な引張強度を金属製リボンに付与する必要がある。この処理では、ガラス繊維強化鉛箔を使用するか、又は編み織りした薄い高引張強度ガラス繊維材料、ナイロン繊維材料、ポリエステル繊維材料、又は他の繊維材料で覆われた鉛箔を使用することができる。別の構成として、薄テープを重金属リボンに固着させることができ、薄テープは、例えばマイラー又はカプトン、すなわち酸素又は窒素をそれぞれ含有する2種類の市販のポリマ材料により形成される。図1を参照して既に説明したように、本発明の集束グリッドは複数の集束経路を有し、これらの集束経路によって、被検体12内を通過してきた非散乱一次X線ビームを受像器14に到達させることができるので、鮮明な集束画像を形成することができる。0053本発明の集束グリッドのリボンの実施形態の種々の部分を図2~図10に、異なる図として描くことにより、本発明のリボンの実施形態の説明を分かり易くしている。本出願において使用されるこれらの図面は必ずしも寸法通りではないが、これらの図面は、本発明の種々の特徴及び態様を明瞭に描くために提示される。次に、図2を参照すると、金属箔群を支持し、保持し、そして位置合わせするためのスリット群を備えるフレームの基本コンセプトが示されている。図2では、スリット群28は、開放フレームの2つの対向辺24の周縁に沿って形成され、X線源22に至る直線経路26群に沿って位置合わせされる平面群にあり、フレーム24の各辺の側面の全長に亘って延設される。重金属箔リボン30は、フレーム24の対向辺の一対の狭幅スリット群28の間で延伸して、これらのスリットの間を延在する位置合わせ平面内に位置するようになる。0054次に、図3A~図3Cを参照すると、箔リボン群の詳細が図示されている。これらの箔は、適正な引張強度を有し、かつタングステン、タンタル、又はこれらの金属の合金のような高原子番号を有する適切な材料により形成され、所望の厚さの箔群に形成され、切断されて高さd及び十分な長さ32のリボン群とすることにより、図3Aの対向スリット群を含む開放フレームの対向辺の間の距離を延在するようになる。十分なリボンの長さ部分を切り出して、両端部を折り返すことにより、図3Bの側面図、及び図3Cの端面図に示す三角形断面34を有するループとすることができる。折り返し部34を箔リボン群30の両端部に設ける目的は、リボンが、ブラケットスリット群28が引張力を受けることにより引っ張られる現象を防止するためである。リボン群30の両端部の折り返し部の形状は、リボンが引張力を受けたままの状態のときに、箔がブラケットスリットの中心線に、従ってX線管に正確に位置合わせされる状態を維持するように設計される。0055次に、図4及び図4Aを参照すると、両端部34を折り返した状態の箔リボン30は、フレーム24の対向辺に取り付けられるブラケット群44の対応する対向スリット群に挿入される。図から分かるように、両端部の折り返しループ群は大き過ぎて、スリット群28に嵌め込むことができないので、フレームが、引張力がこれらのリボンに加わるようなサイズに形成されている場合に、リボンがブラケットから抜けてしまう現象を防止する。図5の好適な実施形態を参照すると、箔リボン群は、第2可動ブラケット56を外側に向かって調整することによりリボン群を、フレームを横切る方向に引っ張ることができる状態で、固定ブラケット24と周辺フレームとの間に保持されて、これらのリボンが確実に、所望の集束平面に位置合わせされる。00561つの実施形態では、これらのスリットを、グリッドフレーム図6の2つの辺にのみ設けて、従来の直線グリッドにおけるような狭幅の集束経路群を形成する。この実施形態では、箔リボン群60は、固定ブラケット62と、フレームの対向辺にある調整可能な可動ブラケット56との間で引っ張られる。図4に戻って参照するに、この構造の重要な点は、リボン群52の両端部におけるこれらの折り返し部の形状によって確実に、引張力を受けると、箔がブラケットスリットの中心線に、従ってX線源焦点に正確に位置合わせされることである。0057この実施形態では、散乱線除去能は、本発明に従って、主として空気が金属リボン群の間の経路に満たされることによって確実に、一次放射線の伝搬が殆ど阻止されることがなく、従って極めて良好に行なわれることを除き、同じグリッド比、経路壁の同じ金属厚さ、及び組成を持つように従来方法で形成される直線グリッドと同様である。0058図7に示す第2の実施形態では、2組の対向固定ブラケット42及び調整可能ブラケット56を設け、一方の組が他方の組の上方に2層になって配置されて、事実上、クロスハッチパターンが形成される。この実施形態では、両方の組のブラケットの取り付け先の単層の周辺フレームを用いることにより、2組のブラケットは、直角に位置合わせされた状態で、X線焦点の位置に対してロックされる。この実施形態の利点は、散乱線除去能が、従来の直線グリッド、又は第1の実施形態の利点と比較して大幅に向上するが、その理由は、第1層のグリッドリボン群に平行な平面に斜めに放射される散乱が、第2層の直交する方向に延設されるリボン群によって除去されるからである。0059両方の実施形態では、結果として得られるグリッドは好ましくは、上面及び下面の両方が、薄いマイラーポリエステルシートで被覆されて、影像を生じさせる虞のある埃のような異物が開放経路空間に侵入するのを防止する。マイラーフィルムは、X線を殆ど透過する。0060コストを下げることができる可能性のある別の実施形態では、箔リボン群は、鉛箔又はビスマス箔により形成され、場合によっては、錫、アンチモンインジウム、又はアンチモンカドミウムを更に含有するように混合して得られる合金の箔により形成される。これらの事例のうちの少なくとも幾つかの事例では、結果として得られる箔は、引張力が加わっている状態でフレーム24に保持されるために十分な引張強度を持たず、例えば、箔の一方の表面、又は両方の表面に設けられるような、マイラーテープ薄層又はカプトンテープ薄層で補強する必要がある。このようなテープに使用されるマイラーフィルム又はカプトンフィルムは普通、約1ミルの厚さである。別の構成として、同じ厚さの単層のスチール補強リボンsteelreinforcingribbonを使用することができる。0061この補強箔を組み付ける好適なプロセスを図8に示し、この場合、2本のロールに巻いたマイラーテープ又はカプトンテープ70を、鉛箔又は他の重金属箔、或いは合金箔72の両側主面に固着させ、次に圧縮/計測ローラ74に送り込み、次に巻き取りリール76で巻き取る。同様のプロセスは、適切な重金属からなるポリマ担持金属粉末により構成されるテープに適用することができる。0062補強された鉛箔又は合金箔を用いる実施形態では、リボン群の両端を折り返して同様のストップを形成することによりリボンを所定の位置に固定し、当該リボンをブラケットスリットの中心線に位置合わせすることはできない。次に、図9を参照すると、補強された箔リボン群80は、フレームを横切るために必要なだけの正確な長さに切り出され、かつスチールクリップ、真ちゅうクリップ、又は他の適切な金属クリップを三角形の断面82に成形し、補強されたリボンの両端に覆い被さるように圧着する。このようにして、圧着金属クリップ82は、補強された箔リボン群に同様の終端を形成して、ブラケットスリット群の位置を固定し、箔をスリット周縁に一致させる。0063この実施形態の1つの例では、グリッドを作製して、最大43cm×43cmのサイズを有する受像器に向かう散乱放射線を低減し、この場合、受像器14に放射するX線源10の焦点は、100cmの距離に位置する。グリッドリボン群は、10mmの高さL、及び100ミクロンの厚さのタングステン箔により作製され、切り出されて44cmの長さとなる。各端部における4mmの長さ部分を折り返して三角形のストップ34を形成する。ブラケット群44は、スリット群28をワイヤー放電加工ワイヤーEDM又はレーザカットによって切断形成して、これらのスリットが150ミクロンのスリット幅となるように作製される。スリット群28をブラケット群に沿って、X線焦点を通る中心平面群のなす角度が0.0573度となるように離間させ、10.5mmの深さとする。ブラケット群は、厚さが3mmのL字形断面、及び11mmのウェブ径を有する傾斜スチール梁により作製することができる。グリッドフレームは、内側開口面積が45cm×45cm、厚さが3mm、深さが15mmである軟鋼合金により作製される。重金属リボン群は好適には、約1mmの距離だけ離間するように配置する必要がある。0064可動フレームブラケット56を調整する引張機構の1つの実施形態は、図10に示すように、可動ブラケット56の両方の端部に設けられるのが好ましい。当該引張機構は、調整可能なリボンブラケットの各端部に位置するM6ボルト96、コイルばね100を用いて作製される。グリッドフレームの上面及び下面を、引張力で保持される25ミクロンのマイラーシートで被覆することにより、画像アーチファクトを生じる虞のある異物がリボン群の間の空間に侵入するのを防止する。0065この実施形態の別の好適な例では、第1例の外周グリッドフレームの深さを深くして、第2層を収容するようにし、第2層は、スリット間角度がX線管焦点に対して0.0579度に増えることを除いて、第1層における組のブラケット群及びリボン群と略同様の第2組のブラケット群及びリボン群を含む。0066本発明の更に別の実施形態では、改良型散乱防止集束グリッドを製造する装置及び方法が提供される。本発明の集束グリッドのこの実施形態は、複数の略同一の弓形波形嵌合モジュールを備え、これらの嵌合モジュールは好適には、放射線を殆ど透過する透過性固体支持材料層、及び放射線を殆ど吸収する材料層を交互に重ねた状態で含む。好適には、各モジュールは、相対的に薄い放射線吸収材料層で被覆される放射線透過性支持材料により作製される。これらのモジュールを組み付けて、支持材料及び吸収材料を交互に重ねることにより、複数のこのような集束経路を有するグリッドを形成し、各集束経路は、放射線吸収材料により区切られ、このような経路群のすべては、組み付けモジュール群から特定の距離に位置するように設定される空間中の同じ点に集束する。組み付けモジュール群は、適切な形状に形成されるフレームに取り付けられて、本発明の弓形集束グリッドを形成することが好ましい。0067本発明の別の方法は、例えば射出成形により、又は他の熱成形法により、放射線を殆ど透過する材料により形成される複数の略同一の嵌合モジュールを成形する工程と、放射線吸収材料層を、嵌合モジュール群の各嵌合モジュールに塗布する工程と、を含む。次に、これらのモジュールを、嵌め合わせて複数のモジュールの組付体とすることにより、集束経路群を形成し、集束経路群の組付体をフレームに取り付けて、本発明の集束グリッドを形成する。0068本発明の1つの好適な実施形態では、複数の嵌合モジュールを備える集束グリッドが提供され、各モジュールは、放射線吸収材料層で被覆される少なくとも1つの嵌合側面を有し、各モジュールは、放射線透過材料により作製される。これらのモジュールを組み付けて、X線を通過させる複数の集束経路を有するグリッドを形成し、このような各経路は、放射線透過材料を収容し、かつ放射線吸収材料により区切られ、このような各経路は、空間中の同じ点に集束し、前記点は、組み付けモジュール群から特定の距離に位置する。これらの組み付けモジュールを適切な形状に形成されるフレームに取り付けて、本発明の集束グリッドを形成する。00691つの好適な実施形態では、集束グリッドの形状は、正方形を特定の半径Rを有する球の表面に投影することにより得られる。結果として得られる構造は、半径Rを有する主内径面maininnersurfaceと、半径R’を有する主外径面mainoutersurfaceと、第1端部及び第2端部と、を備える球殻部sphericalsegment:すなわち、球面の一部である。球殻部は更に、外側側面群を有する。0070球殻部は、放射線透過材料により作製される複数の略同一の弓形モジュールにより形成されるのが好ましく、各モジュールは外径R’を有する。各モジュールは、溝又は、波形表面のような嵌合構造を有する嵌合対向側面と、弓形上面と、弓形下面と、第1端部及び第2端部と、を備える。更に、好適には、各弓形モジュールに対応して、これらの嵌合側面例えば、溝側面又は波形側面のうちの少なくとも1つの嵌合側面は、当該嵌合側面に固着する重金属フィルム又は重金属コーティングのような放射線吸収材料層を有する。0071弓形モジュール群の組付体は、隣接配置される弓形モジュール群を有し、これらの弓形モジュールは互いに、これらの弓形モジュールの嵌合側面を介して嵌合することにより、経路群を放射線吸収金属被覆側面群の間に形成するので、例えば放射X線を誘導する通路を設けることができる。隣接配置される弓形モジュール群は更に、互いに固着させることができる。このような各経路は、放射線透過材料を並べることにより画成される構造すなわち、弓形モジュールを有し、当該放射線透過材料では、当該放射線透過材料の溝側面群のうちの一方の溝側面を放射線吸収層例えば、金属層で被覆し、かつ当該放射線透過材料の反対側の溝側面を、隣接配置される弓形モジュールの被覆金属層のような放射線吸収材料で被覆される溝側面と嵌合させる、又は係合させることにより、当該放射線透過材料が放射線吸収材料すなわち、金属側面群によって区切られるようにする。0072これらの経路の各経路は、少なくとも1つの集束軸を有し、この場合、各集束軸は、グリッドの内径面から特定の距離にある空間中の1点を始点として、球殻部の内径面上の1点にまで延び、放射線透過材料例えば、弓形モジュールを通過して球殻部の外径面上の1点にまで、経路境界群を画成する放射線吸収材料層で被覆される表面群のいずれの表面とも交差することなく延びる通路好適には、直線通路によって画成され、このような通路は集束通路focusedpath又は集束経路focusedchannelと表記される。球殻部の主内径面から特定距離に位置し、かつ当該点から放射線が放出される空間中のこの点は本明細書では、放射線源点radiationsourcepointとして定義される。好適には、当該放射線源点は、球殻部の主内径面からRに等しい距離に位置する。Rは、ゼロよりも大きい任意の実数とすることができる。当該放射線源点を球殻部の主内径面からR以外の距離に位置させてもよいことは容易に理解できるであろう。0073モジュール群の組付体は、適切な形状に形成されるフレームに取り付けられ、当該フレームは1つの構造を有し、この構造が、球殻部の第1及び第2端部、及び当該球殻部の外側側面に接続される、又は係合することにより、本発明の集束グリッドが得られる。当該フレームの形状は、正方形を球の表面に投影することによっても得られる。0074弓形モジュール群の組み付け上面群は、球殻部の主内径面を形成し、弓形モジュール群の組み付け下面群は、球殻部の主外径面を形成する。組み付け弓形モジュール群の第1及び第2端部は、球殻部の第1及び第2端部をそれぞれ形成する。組み付け弓形モジュール群の外側弓形モジュール群の外側側面群は、球殻部の側面群を形成する。球殻部の外側側面群は、皺が寄っていないことが好ましいのに対し、嵌合面群は、或る程度の深さの皺を有することができ、かつ有することが好ましいことに留意されたい。各弓形モジュールの中心は、球殻部の中心であり、この球殻部の中心は、球殻部が形成されるときの基準となる球体の中心でもあり、前記中心は、球殻部の主内径面上の任意の点、及びすべての点から距離Rだけ離間して位置する空間中の点であり、Rは従って、弓形モジュール群の各弓形モジュールの半径、及び球殻部の半径である。0075図11を参照すると、本発明の固体モジュール形態の集束グリッド100は、当該グリッドの両端部のうちの一方の端部から見たときの様子であり、弓形モジュール群の端部の略台形の形状を示している。これらのモジュールの両端部のうちの一方の端部から見たときのモジュール群の断面の各断面も略台形の形状であり、グリッドフレームを図1に含めずに、説明及び図示を分かり易くしていることにも留意されたい。グリッド100は、図示のように、撮影対象の被検体200例えば、人体の一部及び受像器300の直ぐ傍に配置される様子が示されている。放射線源管400は、放射線ビーム500が、図示のように、放射線源点300から出射して集束グリッド100に向かうように配置される。0076図1についての説明を続けると、X線の均一ビーム500は、被検体200の体表に向けて誘導され、被検体200内を通過して被検体200の反対側の体表から出射する。被検体200内を通過する直線通路に沿ったX線減衰量の差によって、受像器300により記録される画像情報を構成するX線強度パターンが生成される。受像器300は、写真フィルム、又は任意のX線感光材料層、或いはX線電子写真感光媒体層に接続される増感スクリーンのような装置とすることができ、当該装置は、1つ以上の工程を経て、X線強度パターンを可視画像又は可視形式に変換する。0077X線を殆ど透過し、且つ、この実施形態の弓形モジュール群の本体を形成する固体材料は、射出成形法--以下に説明される--射出成形法では、成形材料は、比較的低い原子番号の元素例えば、水素及び炭素、ならびに場合によっては酸素及び窒素から主として構成される剛性ポリマであり、好ましくは、1.2g/cm3未満の物理密度を有することにより、X線を殆ど透過する。これらの材料のX線透過率は、発泡剤又は微小泡をポリマ調製物に、成形プロセス中に混入させることにより一層高くして、密度を更に低くすることにより、最終材料の透過率を高めることができる。0078散乱されない集束ビームは、検査対象の被検体内を通過するときに減衰してしまう、又は減衰されない可能性がある。検査対象の被検体内を通過するときに散乱されたX線は、集束グリッドの経路群を通過する集束通路に沿って進まないので、これらの集束経路のX線吸収境界と交差し、衝突することにより、これらの層によって吸収される。これらの吸収層は、鉛、ビスマス、タングステン、又はタンタルのような重金属により形成されることが好ましい。これらの金属層は、鉛、ストロンチウム、カドミウム、及びインジウムを種々組み合わせたビスマス合金であるLow117、Low251、及びLow281のような低融点合金により形成することもできる。これらの金属層は必ずしも単一元素金属とする必要はなく、かつ結合剤例えば、ポリマを含有することにより、微粉末の形態の比較的高濃度の重金属を結合させる、又は40よりも高い原子番号の元素を主として含有する化合物として結合させる必要がある。散乱防止グリッドが使用されている用途によって異なるが、比較的高濃度の重金属は、40重量~98重量、又は40体積~98体積の範囲の濃度を吸収層中に占めることができる。0079図11を参照して既に説明したように、本発明の集束グリッドは、1つ以上の集束経路を有し、これらの集束経路によって、被検体200内を通過してきた非散乱一次X線ビームを受像器300に到達させることができる。集束グリッド100の端面図を描いて、弓形モジュール1001、...、100Mの各モジュールの断面を、当該断面が略台形であるものとして示している。図示のように、Mを2以上の整数とした場合に、M個の弓形モジュールが球殻部を構成している。0080本発明の集束グリッドの種々の部分を図12~図18に異なる形態で描くことにより、本発明の1つの実施形態についての説明を分かり易くしている。本出願において使用されるこれらの図面は、必ずしも寸法通りには描かれていないが、これらの図面は、本発明の種々の特徴及び態様を明瞭に描くために提示される。0081本発明の集束グリッドの球殻部の斜視図を図14~図14Dに示す。図14A及び図14Bは、個々の弓形モジュール100を示しており、これらの弓形モジュールを組み付けて、例えば図13に示すような球殻部を形成する。球殻部100Aは、参照番号106及び108でそれぞれ一括指示される主内径面及び主外径面を有し、これらの主内径面及び主外径面は、嵌合弓形モジュール1001~100Mにより形成される。弓形モジュール1001~100Mの各弓形モジュールは、該当する第1端部1121~112M、該当する第2端部1141~114M、及び該当する側面1221~122M、及び1201~120Mを有する。球殻部は、外側側面1221及び120M部分的に示しているを有する。球殻部100は、M個の略同一の弓形モジュールを備え、これらの弓形モジュールを組み付けて、隣接配置されるモジュール群がそれぞれ、これらのモジュールの側面に沿って嵌合する、又は係合するようにする。好適な例では、これらの側面は、皺のような異なる形状を有する波形側面である。切断線C-Cに沿って切断したときの本発明の球殻部を図11に示すが、これらの弓形モジュールの各モジュールの断面は、略台形の形状である。0082次に、図13を参照すると、図12の部分分解図が示されており、これにより、弓形モジュール1001、1002、1003~100Mの各弓形モジュールは、隣接配置される別の弓形モジュールと、当該各モジュールの波形側面に沿って嵌合する。これらのモジュールの各モジュールに対応するこれらの波形この波形は、図示のように、V字形溝とすることができるは、弓形モジュール群の組付体すなわち、図2の球殻部100が、図示のように、位置合わせされる第1及び第2端部を有するように形成される。図示のように、1つの波形の頂部は、別の波形の溝に丁度収まる。これらの弓形モジュールの寸法に対するこれらの波形の寸法は、必ずしも寸法通りには描かれていないことに留意されたい。これらの弓形モジュールは、該当する第1端部1121、1122、1123、~112M、第2端部1141、1142、1143、~114M、上面1061、1062、1063、~106M、両側の側面1221、...、122M、及び側面1201、...、120M、及び下面1081、...、108Mを有する。モジュール群のこれらの組み付け上面が主内径面106を形成し、これらの組み付け下面が主外径面108を形成していることに注目されたい。0083次に、図14~図14Dを参照すると、本発明のグリッドの異なる弓形モジュール1002の斜視図が示されている。図12~図14を参照して説明される本発明の実施形態では、任意の1つのグリッドに含まれる弓形モジュール1001、...、100Mは、互いに略同一であることが容易に理解できるであろう。従って、弓形モジュール1002に属する、又は弓形モジュール1002について説明される幾何学的、物理的、及び/又は化学的特徴群のすべては、残りの弓形モジュール群すなわち、弓形モジュール1001、1003、...、100Mについても当てはまる。弓形モジュール1002は、上面1062と、凹状ではなく凸状であることを除き上面1062と形状が同様である下面1082図示せずと、を有する。最も好ましくは、上面及び下面は同心円状である。各弓形モジュール、例えば弓形モジュール1002は、前面1122A、側面1122B及び1122C、上面1122E及び下面1122Dを有する第1端部1122と、前面1142A、両側の側面1142B及び1142C、上面1142E及び下面1142Dを有する第2端部1142と、を有する。側面1222は、波形面を有する側面1202図示せずと同様に構成され、これらの波形面は、図示のように、V字形溝とするか、又はより円滑な他の曲線を有する波形面とすることができる。本発明の集束グリッドの深さは、モジュール1002に対応してLで図示される同一弓形モジュール群の各弓形モジュールの深さに一致する。図14では、これらの溝面又は波形面の傾斜側面部は、各弓形モジュールの表面を形成し、これらの溝部は、図示の寸法sを有し、これらの溝部は、互いに90度の角度をなしている。0084図14を参照し続けると、幅wは、図示のように、1つの溝の頂部から反対側に位置する別の溝の谷部までを測定することにより得られる。測定値wは、グリッドの集束経路群の各集束経路の幅であると言える。モジュール1002の側面1222は、X線のような放射線を吸収することができる重金属上に説明したようなによって被覆することができる。1つの側面1202は、被覆されないままの状態とすることができる。従って、他の弓形モジュール群の該当する側面1221、1223、...、122Mは同様に、金属層によって被覆され、他の弓形モジュール群の反対側の該当する側面1201、1203、...、120Mは同様に、被覆されないままの状態とされる。0085図12及び図13に戻ってこれらの図を参照すると、弓形モジュール1002は、弓形モジュール1001の側面に嵌合する、又は係合する様子が示され、図12及び図13に示すように、弓形モジュール1003の側面にも係合する。次に、図12、図13、及び図14を参照すると、弓形モジュール1002の側面1202が被覆されないのに対し、弓形モジュール1002の側面1202が嵌合する方の隣接モジュール1003の側面1223図示せずは被覆されるので、1つの経路は、金属層が弓形モジュール1002すなわち、放射線透過材料の側面1222すなわち、当該経路の第1境界を被覆し、かつ金属層が隣接弓形モジュール1003の対向側面すなわち、当該経路の第2境界を被覆するように形成される。これらの集束経路の各集束経路は従って、1つの弓形モジュールが、当該経路の側面群のうちの金属層で被覆される方の側面によって区切られ、かつ隣接配置される弓形モジュールを被覆する金属層によって区切られるように形成される。0086図14~図14Dに戻ってこれらの図を参照すると、弓形モジュール1002を、すべてが同じ側面凹凸を持つ必要がある残りのM-1個の弓形モジュールに組み付けて、図12に示す球殻部100が得られ、前記球殻部100が、Rを球殻部の半径としたときに、放射線源点300から距離R図14に参照番号118で指示されるだけ離れて配置され、球殻部のこれらの経路は放射線源点300に集束する。既に説明したように、距離118は、Rに等しくする必要はないが、本発明の集束グリッドが、本明細書に記載の通りに動作するか、又は機能するような、すなわち散乱X線を除去することができるような任意の適切な距離とすることができることを容易に理解できるであろう。0087集束軸の例は、通路116が、放射線源点300を起点として延在して上面1062に到達し、弓形モジュール1002X線透過材料により形成されるを通過して、外側表面1082に到達するものとして図示されており、この場合、前記通路は、金属層境界、すなわち弓形モジュール1002の側面1222、及び弓形モジュール1002の側面1202と嵌合する隣接配置弓形モジュール1003の側面1223図示せずと交差する、又は衝突することが全くない。従って、弓形モジュール1002が、本明細書において画成される通りの集束経路を形成し、この場合、このような経路は、Lの経路深さ、及びwの経路幅を有する。当該集束経路は、モジュール1002に接合されるX線吸収層1222、及びモジュール1003に接合される層1223によって区切られる。0088次に、図15を参照すると、図12の一部の分解上面図が示され、互いに隣接配置される弓形モジュール1002及び1003を示している。弓形モジュール1003は、第1端部1123と、第2端部1143と、上面1063と、側面1223及び1203と、を有する。弓形モジュール1002は、第1端部1122と、第2端部1142と、上面1062と、側面1222及び1202と、を有する。側面1223に設けられる金属被覆層1213は、特定の厚さtを有し、図示及び説明を分かり易くするために、層1213の厚さは、弓形モジュール1003の幅w図15には図示せず、図14を参照に対して寸法通りに描いた場合の厚さよりも厚く描かれている。同様に、弓形モジュール1002の場合、側面1222に設けられる金属被覆層1212は、特定の厚さtを有し、この場合も同じように、図示及び説明を分かり易くするために、層1212の厚さは、弓形モジュール1002の幅w図15には図示せず、図14を参照に対して寸法通りには描かれていない。0089図15を参照し続けると、1つの経路は、金属層1212と、弓形モジュール1002と、金属層1213と、を含む。概括すると、特定の実施形態について説明する場合、本発明のグリッドのこれらの経路の各経路は、2つの金属層の間に配置されるX線透過材料を含み、これらの金属層のうちの一方の金属層は、X線透過材料の一方の側面に設けられる層であり、他方の金属層は、隣接配置される嵌合弓形モジュールに設けられる層である。球殻部100の対応する弓形モジュール群のすべては、これらの弓形モジュールの側面1221、1222、1223、...、123Mのうちの1つの側面に固着する被覆金属層1211、...、121Mをそれぞれ有する。0090それぞれの側面1201、1202、1203、...、120M-1の各側面は、被覆されないままの状態とすることができる、又は必要に応じて被覆されるようにしてもよい。図12に戻ってこの図を参照すると、弓形モジュール100Mは、他の1つの弓形モジュール、すなわち弓形モジュール100M-1とのみ係合し、従って1つの弓形モジュールを集束経路として機能させるために、外側側面120Mが更に金属層で被覆されることは明らかに分かるであろう。0091弓形モジュール1001も他の1つの弓形モジュールすなわち、モジュール1002とのみ係合するのであるが、当該弓形モジュール1001は、当該弓形モジュール1001が側面1221及び1222反対側の側面--図示されず上の金属層によって区切られるので、集束経路として機能することに注目されたい。0092次に、図16を参照すると、内側周縁スロット602、604、606、及び608をそれぞれ有する辺部610、612、614、及び616を備えるフレーム600が図示されている。スロット602のみが図6に明確に図示され、対向配置されるスロット606は、スロット602と同様に構成される。図6及び図2を一時的に参照すると、対向配置されるスロット602及び606は、球殻部100の外側表面120M及び1221をそれぞれ収容するように構成される。M個の弓形モジュールの各弓形モジュールの端部114及び112はそれぞれ、フレーム600のスロット604及び608にそれぞれ嵌め込まれる。すなわち、スロット608図示せずは、M個の弓形モジュールのそれぞれの端部1121、...、112Mを摩擦力で挿入するように構成される。同様に、かつ図7に弓形モジュール1001について図示されるように、スロット604は、球殻部100のM個の弓形モジュールの第2端部1141、...、114Mを摩擦力で挿入するように構成される。フレームの形状はこの場合も、正方形を、半径Rを有する球の表面に投影することにより得られる。0093説明を分かり易くするために、図12及び図13に示す球殻部100、ならびに図14及び図15に示す球殻部の一部は、第1端部1121、...、112Mが同じ方向に向いているのと同じようにして向いている。図11フレーム600を取り外しているに示す本発明の集束グリッドは、M個の弓形モジュールの前面1121A、...、112MAを示している。0094図18は、フレーム600を含む本明細書に記載される本発明のグリッドの斜視図を示している。本発明の集束グリッドの種々の実施形態のうちの1つの実施形態を製造する1つの例は、以下の工程を含む。弓形モジュール群の各弓形モジュールは、図19及び図20に示す互いに対向する溝面を有する一対のプレート700及び800からなる型枠を用いる射出成形法を利用して製造される。これらの対向プレートは、弓形モジュール群の半径を持つように湾曲させ、前記対向プレート群は、図示のように、V字形溝を、これらのプレートの対向面に有する。これらの溝は、長さsの溝部を含み、前記溝部は、互いに対して90°の角度をなす。結果として得られる弓形モジュールは、これらの対向プレートの半径に等しい半径Rを有することになる。0095殆どの医療X線撮影用途では、これらの対向プレートを湾曲させて、0.5メートル~2.0メートルの半径を持つようにすることができる。これらの型枠の深さ、従って結果として得られる弓形モジュールの深さ図14のLで示されるは、変えることにより、所望の性能が得られる。これらのプレートは、射出成形金型を作製するために広く使用されるアルミニウム又はスチール合金から機械加工によって作製される。これらの溝の機械加工では、コンピュータ制御ワイヤー放電加工ワイヤーEDM法又は他の高分解能/高精度加工技術を用いる。90°の角度をなすこれらの溝は、湾曲プレート群の表面となるように機械加工により形成されて、これらの溝の頂部及び通路に沿った直線群が放射線源点に、このような点が、球殻部100の内径面から距離Rだけ離れて位置する場合に集束するようにする。0096第1工程では、図19及び図20に示すように、これらの対向プレートを互いに対して、一方のプレートの溝が、別のプレートの頂部に一致するように位置合わせし、隙間を、位置合わせしたプレート群の間に残して型枠を形成する。これらのプレートの間に残る隙間900を図20に示す。0097別の構成として、これらの対向プレートは、一方のプレートの表面にある頂部を、別のプレートの表面の頂部に位置合わせして、波形の隙間ではなく、菱形の隙間図示せずを形成することができる。第2工程では、放射線透過材料例えば、ポリマ材料のようなX線透過材料を型枠に、すなわち対向プレート群の間の隙間に流し込むことにより、図14に示すような弓形嵌合モジュールを射出成形法により製造する。前に説明したように、型枠に流し込む材料は、X線透過性であり、このようなX線透過性は、発泡剤又は微小泡を材料例えば、ポリマ調製物に成形プロセス中に混入させることにより高めることができる。0098適切な剛性ポリマの例として、ABSポリマ、ポリアセタール、ポリアクリレート、ポリアミドナイロン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、剛性ビニルポリマだけでなく、メラミン、ポリエステル、エポキシ、及びABS/ポリカーボネート、ABS/PVCポリ塩化ビニル、PVC/アクリルポリマのような混合ポリマ、及びスチレン/ブタジエンコポリマのようなコポリマを挙げることができる。0099第3工程では、本明細書において説明される種々の金属及び/又は合金のうちの任意の1つの材料により形成される金属コーティングのような放射線吸収材料を、モジュールの一方の嵌合側面例えば、溝面に塗布し、当該側面に固着させ、金属被覆層は、厚さtを有する。当該層を形成する幾つかの方法のうちの任意の1つの方法を用いることができる。例えば、当該層は、金属をモジュールに電着させる方法を用いて形成することができる。また、低融点重金属合金を鋳込み成形又は射出成形により形成して、当該層を形成することができる。当該層を形成する別の方法では、薄い延展性金属層を型枠に載置して、又は放射線透過材料に直接載せて、打ち抜き成形する、真空成形する、又は加圧成形するプロセスである。用いることができる更に別の層形成方法は溶射プロセスである。0100溶射プロセスの1つの例がプラズマ溶射プロセスであり、このプラズマ溶射プロセスでは、プラズマガスを、2つの電極から発生するアーク放電によって加熱する。プラズマガスがアーク放電によって加熱されると、当該ガスが膨張し、形状ノズルを通って加速されて、非常に高い速度の熱プラズマが生成される。金属材料又は、金属材料及び粉末状又は溶融状の1種類以上のポリマの混合物を高速プラズマに注入する。当該材料を高速に加熱し、非常に高い速度に加速して、被覆対象表面に衝突させ、急速に冷却してコーティングを形成する。0101第4工程では、一方の側面が金属層で被覆される複数すなわち、Mを2に等しい、又は2よりも大きい整数とした場合のM個のモジュールを組み付ける。接着剤を使用して、隣接配置される弓形嵌合モジュール群を互いに固着させて例えば、図12参照組付体とし、このような組付体をフレームに、これらのモジュールの両端部を当該フレームの収容スロットに摺接挿入して当該フレームに摩擦力で取り付けることにより取り付けることができ、このようにして取り付けた各モジュールを隣接配置されるモジュール群に当接させる。当該組付体は、外側表面を有する外側モジュール群を有する。モジュール群の組付体例えば、図2に示すような球殻部の外側モジュール群の外側側面も、フレームの収容スロット群に摩擦力で圧入することができる。0102接着剤を用いて、組み付けモジュール群の外側表面すなわち、外側モジュール群---外側側面1221を有する第1モジュール1001、及び最後のモジュール---外側側面120Mを有するモジュール100Mの外側側面をフレーム600に取り付けることができる。これらの外側側面は、フレームに接着剤で取り付けることもでき、必ずしも、スロットに摩擦力で圧入する必要はない。適切な接着剤は、グリッドモジュール群及びフレームを構成する材料によって異なる。2パーツ構成及び1パーツ構成のエポキシ接着剤は、シアノアクリレート接着剤及びポリウレタン接着剤のように、非常に多岐に亘る種類のポリマに対して有用である。0103結果として得られるグリッドは、図18に示すように、図2の球殻部100が図16のフレーム600に取り付けられるものとして図示される。0104現在入手可能なグリッド群は通常、グリッド比として指定される、すなわち経路の直径又は幅に対する経路の深さの比として指定される。同じ手法を、グリッド比がL/Wすなわち、経路の幅Wに対する経路の深さLの比である本発明の集束グリッドに対して用いることができる。グリッド--特に、X線撮影目的に広く使用されるグリッド--に関する所望の一連の寸法は、経路の幅、すなわちWが約1mmである。従って、グリッド比の所望の範囲が8:1~16:1である場合、経路の深さは、8~16mmの範囲に収まることになる。0105グリッドに固有の重要な性能は、一次X線透過率Pと表記され、一次X線透過率Pは、以下の数式により定義される:式中、tは、図5に示す金属層厚さであり、W=s√2であると仮定する。方程式の第2項、すなわちe-μELは、X線が本発明の集束グリッドを通過するときのX線の減衰率を表わす表現項であり、Lは、集束グリッドの深さであり、μEは、弓形モジュール群の原材料であるX線透過材料内におけるエネルギEを持つX線光子の線形減衰係数である。0106一次X線透過率Pは、材料が特定の幅W、及び深さLを有し、かつ金属層厚さがtである場合のX線透過材料を通過する透過X線の割合を表わす。経路の幅Wが1.414mmである場合、金属層厚さは、一次X線透過率Pの範囲がX線透過材料無しで、95~80となるのに対応して、それぞれ0.0525~0.25mmとなる。経路がポリマ材料により形成される場合、減衰係数μEは、X線エネルギとともに変化し、1.2g/cm3未満とすることが望ましいポリマ密度とともに変化する。ポリマ材料の形状及び減衰率について考察すると、50keVにおける合計一次X線透過率は、金属厚さt及びポリマ材料の密度によって異なるが、61~72の範囲となる。0107図12~図18に戻って、これらの図を参照すると、本発明が請求する集束グリッドに従って設計され、製造される1つの特定のグリッドは、R=985mmの半径を有し、L=13mm、W=1.4mm、t=0.1mmである本発明の弓形モジュール群により構成されるグリッドであり、溝群は90°の角度をなし、溝部に関して、s=1.0mmの関係があり、弓形モジュール群は、ABSAcrylonitrileButidieneStyrene:アクリロニトリルブタジエンスチレンポリマ詳細には、50keVにおいてμE=0.208cm-1の関係を有し、かつビスマス金属層でプラズマ被覆したTPIPorene登録商標GradeABS-SP-100-BKのような超高衝撃性ABSプラスチックを成形して作製される。最終的に得られるグリッドを、450mm×450mmの寸法を有し、かつ互いに接着接続される430個の個々のモジュールを収容するフレームに取り付ける。接着剤の使用を回避し、これらのモジュールを単に機械的に押圧してフレーム内で合体させることができることを理解されたい。0108これまでのこの説明全体を通じて、変数R、L、W、t、及びsの値は、ゼロよりも大きい実数である。0109本発明の集束グリッドの全体形状は、N辺多角形を、少なくとも1つ以上の焦点を持つ幾何学形状面に投影することにより得られることを容易に理解できるであろう。上に説明した球の場合、1つの焦点が球の中心にある。矩形、三角形、又は任意の公知のN辺多角形Nは、3に等しいか、又は3よりも大きい整数を球の表面に、又は他の任意の3次元表面例えば、回転楕円体又は楕円体の表面に投影して、集束グリッドの形状が得られることに留意されたい。従って、本発明が請求する集束グリッドの形状は、球殻部に限定されないことを容易に理解できるであろう。0110本発明の装置及び方法の種々の態様、特徴、及び構造について、本明細書において記載される実施形態に関連して説明してきた。本明細書において開示される実施形態は、決して本発明の範囲を限定しないことを容易に理解できるであろう。本発明が属するこの分野の当業者であれば、本開示を一読した後に、本発明の装置及び方法を、本明細書において開示される実施形態とは異なり、かつ以下の請求項により規定される通りに特許請求する発明の範囲に十分含まれる他の実施形態を用いて容易に実施することができる。