"試料分離装置10の流体が流れる部材fluidicmember204内を流体の流動方向202に沿って流動する流体を濾過してデブリを除去するフィルタ200において、前記流体の流動方向202に沿って積層されており、規定の孔サイズを持つ孔600,620,640をそれぞれ有する複数のフィルタ構造、好ましくはフィルタ構造層206,208,210を備えており、積層された前記フィルタ構造206,208,210の前記規定の孔サイズは前記流体の流動方向202に沿って減少するように構成されている、フィルタ200。前記複数のフィルタ構造206,208,210は近接するシート602,622,642の主面において互いに接合されているシートである、請求項1に記載のフィルタ200。前記複数のフィルタ構造206,208,210は一体形成された積層体として互いに接合されている、請求項1または請求項2に記載のフィルタ200。前記複数のフィルタ構造206,208,210の少なくとも一部は均一な規定の孔サイズを持つ孔pores600,620,640を前記層全体に有する、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のフィルタ200。前記積層フィルタ構造206,208,210の前記規定の孔サイズは前記流体の流動方向202に沿って単調に減少する、請求項1~請求項4のいずれか1項に記載のフィルタ200。前記積層フィルタ構造206,208,210の前記規定の孔サイズは0.5μmから100μmの範囲内にあり、好ましくは2μmから30μmの範囲内にある、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載のフィルタ200。前記複数のフィルタ構造206,208,210の少なくとも一部は基板500から成り、または基板500を備えており、前記基板500の第1主面502には第1方向506に沿って延びている複数の長方形第1溝504が設けられており、前記第1主面502に対向する前記基板500の第2主面508には第2方向512に沿って延びている複数の長方形第2溝510が設けられており、前記第1溝504および前記第2溝510は、前記第1溝504と前記第2溝510との交点において前記基板500の貫通孔の配列を形成するような深さd1、d2を前記基板500内部に有しており、前記貫通孔は前記規定の孔サイズを持つ前記孔600,620,640を構成する、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載のフィルタ200。前記第1方向506は前記第2方向512に対して本質的に垂直であるという構成、前記第1溝504および/または前記第2溝510は直線状溝であるという構成、前記第1溝504は互いに平行である、および/または前記第2溝510は互いに平行であるという構成、および同じ基板500の前記第1溝504および前記第2溝510はすべて同じ形状および寸法を有するという構成、のうち少なくとも一つの構成を備える、請求項7に記載のフィルタ200。前記第1溝504および/または前記第2溝510は凹溝である、請求項7または請求項8に記載のフィルタ200。前記複数のフィルタ構造206,208,210のうち相異なるフィルタ構造の溝504,510は少なくとも一つの幾何学パラメータに関して異なっているため、相異なるフィルタ構造206,208,210内には相異なる前記規定の孔サイズを持つ前記孔600,620,640が構成されている、請求項7~請求項9のいずれか1項に記載のフィルタ200。前記複数のフィルタ構造206,208,210はメッシュワイヤ800,820,840から成り、またはメッシュワイヤ800,820,840を備えており、相異なるメッシュワイヤ800,820,840は、前記孔を形成する相異なるメッシュ開口a1,a2,a3を有する、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載のフィルタ200。前記複数のフィルタ構造306,308,310は、相異なるサイズの前記カップ形状フィルタ構造306,308,310を互いに交互配置することにより前記積層配置が形成されるように相異なるサイズを持つカップ形状である、請求項1~請求項11のいずれか1項に記載のフィルタ200。前記複数のフィルタ構造206,208,210は円板形状であり、詳細にはすべて同じ円板直径を有しており、同心円状に積層されて円筒状フィルタを形成している、請求項1~請求項11のいずれか1項に記載のフィルタ200。環状支持構造220を備えており、前記複数のフィルタ構造206,208,210は前記環状支持構造220の凹部222内部に固定されている、請求項1~請求項13のいずれか1項に記載のフィルタ200。600バールより高い圧力、好ましくは1000バールより高い圧力に対して耐性を持つべく構成されている、請求項1~請求項14のいずれか1項に記載のフィルタ200。前記積層フィルタ構造206,208,210の前記孔サイズは、前記流体を濾過して前記デブリを除去する漏斗様濾過を提供すべく前記流体の流動方向202に沿って減少している、請求項1~請求項15のいずれか1項に記載のフィルタ200。前記複数のフィルタ構造206,208,210の数は2から20の範囲内、好ましくは2から8の範囲内、より好ましくは3から5の範囲内にある、請求項1~請求項16のいずれか1項に記載のフィルタ200。試料分離装置10内を流体の流動方向202に沿って流動する流体を処理する流体が流れる部材fluidicmember,20,30,40において、処理すべき前記流体が供給される流体流入口91と、供給された前記流体を処理すべく構成された処理ユニットと、前記処理ユニット20,30,40による処理の後に前記流体が供給される流体流出口93と、前記流体流入口91と前記流体流出口93との間に配置されており前記流体を濾過してデブリを除去する、請求項1~請求項17のいずれか1項に記載の少なくとも一つのフィルタ200と、を備える流体が流れる部材20,30,40。前記流体の化合物を分離すべく構成されている分離ユニット、好ましくはクロマトグラフィカラムとして構成されており、前記フィルタ200は前記分離ユニットの流体流入口91および/または流体流出口93に配置されている、請求項18に記載の流体が流れる部材30。前記流体を駆動すべく構成された移動相駆動部、好ましくはポンピングシステムとして構成されており、前記フィルタ200は前記移動相駆動部の流体流出口に配置されている、請求項18に記載の流体が流れる部材20。前記流体を試料分離経路内に注入する試料注入器として構成されており、前記試料注入器は注入針および台座を備えており、前記注入針は前記流体を前記針と前記台座との間に案内すべく前記台座内に選択的に挿入可能であり、前記注入針は前記台座の外へ選択的に移動可能であり、前記フィルタ200は前記試料注入器の流体流出口に配置されている、請求項18に記載の流体が流れる部材40。前記流体を試料分離経路内に注入する試料注入器40用の流量調節ポンプと、前記流体の分離された化合物を検出すべく構成された検出器50と、前記流体の分離された化合物を回収すべく構成された回収ユニット60と、前記流体の脱気を行う脱気装置25と、ピストン室、および前記ピストン室内部で往復運動を行うべく構成されているピストンを有するピストンポンプ20と、のうち少なくとも一つとして構成されている、請求項18に記載の流体が流れる部材。前記フィルタ200がデブリにより目詰まりした場合に前記フィルタ200に対してバックフラッシュを行うべく構成されているバックフラッシュユニット95を備えており、前記バックフラッシュユニット95は前記流体の流動方向202に比して反対方向に流動するフラッシュ流体を用いて目詰まりした前記フィルタ200に対してフラッシングを行うべく構成されている、請求項18~請求項22のいずれか1項に記載の流体が流れる部材20,30,40。移動相内の試料流体の化合物を分離する試料分離装置10において、前記移動相を駆動して前記試料分離装置10を通過させるべく構成されている移動相駆動部20、好ましくはポンピングシステムと、前記移動相内の前記試料流体の化合物を分離すべく構成されている分離ユニット30、好ましくはクロマトグラフィカラムと、前記試料流体および前記移動相のうち少なくとも一つを濾過してデブリを除去する、請求項1~請求項17のいずれか1項に記載のフィルタ200と、を備える試料分離装置10。前記試料流体を前記移動相内に注入する試料注入器40用の流量調節ポンプと、注入針および台座を備えており、前記注入針は前記針と前記台座との間に前記試料流体を案内するために前記台座内に選択的に挿入可能であり、前記注入針は前記台座の外へ選択的に移動可能である、前記試料流体を前記移動相内に注入する試料注入器40と、前記試料流体の分離された化合物を検出すべく構成されている検出器50と、前記試料流体の分離された化合物を回収すべく構成されている回収ユニット60と、前記移動相の脱気を行う脱気装置25と、ピストン室、および前記ピストン室内部で往復運動を行うべく構成されているピストンを有するピストンポンプと、のうち少なくとも一つをさらに備える、請求項24に記載の試料分離装置10。試料分離装置10の流体が流れる部材204内を流体の流動方向202に沿って流動する流体を濾過してデブリを除去するフィルタ200を製造する方法において、A複数のフィルタ構造206,208,210のそれぞれにおいて規定の孔サイズを持つ孔600,620,640を形成する工程と、B前記積層フィルタ構造206,208,210の前記規定の孔サイズが前記流体の流動方向202に沿って減少するように前記流体の流動方向202に沿って前記複数のフィルタ構造、好ましくはフィルタ構造層206,208,210を積層する工程と、を備える方法。前記孔600,620,640を形成する工程は、複数の基板500に対して各基板500の第1主面502において第1方向506に沿って延びている複数の長方形第1溝504を形成する工程と、前記第1主面502に対向する各基板500の第2主面508において第2方向512に沿って延びている複数の長方形第2溝510を形成する工程と、前記第1溝504と前記第2溝510との交点において、規定の孔サイズを持つ前記孔600,620,640を構成する、各基板500の貫通孔の配列を形成するような深さd1、d2を各基板500内部に持つ前記第1溝504および前記第2溝510を形成する工程と、を備える、請求項26に記載の方法。前記溝504,510を形成する工程は、マスク、好ましくはエッチングマスクを使用して前記基板500のパターン形成を行う工程を備える、請求項27に記載の方法。前記溝504,510を形成する工程は、前記基板500を前記エッチングマスクに暴露した後に、好ましくは等方性エッチング法により前記基板500のエッチングを行う工程を備える、請求項28に記載の方法。好ましくは拡散接合により、前記複数のフィルタ構造206,208,210を互いに一体接合する工程をさらに備える、請求項26~請求項29のいずれか1項に記載の方法。前記フィルタ構造206,208,210をその融解温度近く、または融解温度辺りに加熱し、加熱された前記フィルタ構造206,208,210を互いに取り付け、取り付けられた前記フィルタ構造206,208,210を冷却することにより前記複数のフィルタ構造206,208,210を互いに接合する工程をさらに備える、請求項26~請求項30のいずれか1項に記載の方法。しかしながら、従来のフィルタでは、ある量のデブリがフィルタ上に溜まった場合に流路閉塞またはフィルタ閉塞に見舞われることがある。これにより、流体流動に望ましくない閉塞が生じる。部分的な閉塞の場合、機械的な力でこのようなフィルタが破損する程度まで圧力低下が増大することがある。本発明の目的は、流路閉塞またはフィルタ閉塞が生じにくく、また使用容積の少ないフィルタを提供することにある。本発明の別の目的は、ある流路閉塞を許容可能な、強固または強力な構造を提供することにある。また別の目的は、容易な洗浄を援助すべく構築されたフィルタを提供することにある。前記目的は本願の独立クレームにより解決される。また本願従属クレームにより更なる実施形態が示されている。本発明の一実施形態によれば、試料分離装置の流体が流れる部材内を流体の流動方向に沿って流動する流体を濾過してデブリを除去するフィルタが提供される。前記フィルタは、前記流体の流動方向に沿って積層されており、規定の孔サイズすなわち、任意のフィルタ構造層等の孔は同一であってもよいし、製作公差以内の違いを有していてもよく、特に平均値から5~10以内の違いを有していてもよく、さらに特に平均値から2以内の違いを有していてもよいを持つ孔をそれぞれ有する複数のフィルタ構造カップ形状要素等の非平面構造または層等を備える。積層フィルタ構造の規定の孔サイズは前記流体の流動方向に沿って減少する。別の実施形態によれば、試料分離装置内を流体の流動方向に沿って流動する流体を処理する流体が流れる部材が提供される。前記流体が流れる部材は、処理すべき流体が供給される流体流入口と、前記流体流入口に供給される流体を処理すべく構成された処理ユニットと、前記処理ユニットによる処理の後に流体が供給される流体流出口と、流体を濾過してデブリを除去するために上述の特徴を有しており前記流体流入口および前記流体流出口の間に配置されているフィルタとを備える。また別の実施形態によれば、移動相内の試料流体の化合物を分離する試料分離装置が提供される。前記試料分離装置は、試料分離装置を通過するように前記移動相を駆動すべく構成された移動相駆動部、特にポンピングシステムと、前記移動相内の試料流体の化合物を分離すべく構成された分離ユニット、特にクロマトグラフィカラムと、前記試料流体および前記移動相のうち少なくとも一方を濾過してデブリを除去するために上述の特徴を有するフィルタとを備える。さらに別の実施形態によれば、試料分離装置の流体が流れる部材内を流体の流動方向に沿って流動する流体を濾過してデブリを除去するフィルタの製造方法が提供される。前記方法は、複数のフィルタ構造フィルタ構造層等のそれぞれに規定の孔サイズを持つ孔を形成する工程と、積層フィルタ構造の規定の孔サイズが前記流体の流動方向に沿って減少するように流体の流動方向に沿って複数のフィルタ構造を積層する工程とを備える。本願明細書において、フィルタという言葉は、あるサイズより大きな粒子のフィルタ通過を防止することができるのに対して、このサイズより小さな粒子はフィルタを通過して流動することができる物理的構造を特に表していてもよい。フィルタを通過できる粒子であるか否かの分離限界粒径は孔サイズにより規定される。本願明細書において、フィルタ構造、詳細にはフィルタ構造層という言葉は、フィルタの一部を形成する、すなわちフィルタの全機能に機能的に寄与する物理的構成要素を特に表していてもよい。各フィルタ構造、詳細にはフィルタ構造層は規定の孔サイズを特徴としており、前記フィルタ構造、詳細にはフィルタ構造層は基本的に同じサイズを有する複数の、詳細には少なくとも100個の孔を備える。そのため、フィルタ構造内に広いサイズ分布は存在しないが、これと対照的に、一つのフィルタ構造層および同じフィルタ構造層の相異なる孔の孔サイズは各フィルタ構造の製作公差およびその他の公差内で同一であるべきである。本願明細書において、孔という言葉は、流動の軸内で案内しており各孔サイズより小さなサイズを有するデブリ粒子には孔を通過させる各フィルタ構造、詳細にはフィルタ構造層の固体母材内部の空所または凹部を特に表していてもよいのに対して、各孔サイズより大きなサイズを有するデブリ粒子は孔に補足されてもよい。近接するフィルタ構造の孔の少なくとも一部は互いに流体連通していることが望ましく、フィルタに、流体を通過させるフィルタを通して連続した流体経路を形成する。孔のサイズとは、流体の流動方向における孔の面積または直径を特に表していてもよく、各フィルタ構造における流体の流動方向に沿って一定であってもよいまたは変化してもよい。孔のサイズは、孔を通過して流動するデブリ粒子の分離限界粒径を規定する、フィルタ積層体の孔の寸法であってもよい。孔は直線構造であってもよく、またはより複雑な構造湾曲または円弧状軌道等を有していてもよいが、孔を通過するデブリと孔内に固着しているデブリとを区別する分離限界粒径を用いた規定サイズを常に有する。孔サイズの測定は例えば規定サイズのデブリを含有する流体を誘導して孔を通過させ、あるサイズの孔を通過することが可能なデブリ粒子の最大サイズを測定することにより現象学的に行ってもよいし、電子顕微鏡像を検査することにより行ってもよい。本願明細書において、積層されるという言葉は、様々なフィルタ構造、詳細にはフィルタ構造層が互いに接合され、流体の流動方向に沿って孔サイズが連続的または段階的に減少するようにある順序で配置されていることを特に表していてもよい。剛性または強度を向上させるため、そのような積層された層は、フィルタを横切る流路の実質的な部分がデブリにより流路閉塞された場合でもいくらかの圧力低下に対抗して保たれるように互いに固定または装着される。本願明細書において、デブリという言葉は、分析中の流体試料等の流体内の固体不純物を形成する任意の粒子を特に表していてもよい。デブリ粒子の寸法はその生成原因によって、また本発明の相異なる実施形態によって異なっていてもよいが、本発明の好適な一実施形態は、切換え可能な流体弁、高圧ポンプのピストン室内で往復運動を行うピストン、試料の母材における固形物等の摩耗からデブリが生じる液体クロマトグラフィシステムにおける流体の濾過に関する。このような技術的不純物は意図せずに流体内に導入されることがあり、続いてポンピングされた流体からフィルタにより除去することができる。本願明細書において、流体という言葉は、デブリ等の固体粒子を適宜備えた任意の液体、気体、または液体と気体との混合物を特に表していてもよい。また特に、液体クロマトグラフィにおける分析物は液体である必要はなく、溶解固体、非溶解固体または溶解気体であってもよい。本願明細書において、流体の流動方向という言葉は、動作中に流体経路に沿って搬送されるデブリを、詳細には駆動ポンプ等の駆動ユニットにより駆動されて流体が運ぶ実際の方向または目標の方向を特に表していてもよい。そのため、流体の流動方向という言葉は装置の通常ポンピング方向に関する。バックフラッシュ状態の場合、実際の流体は名目上の流体の流動方向に逆らって流動してもよい。本発明の一実施形態によれば、流動流体を濾過してデブリを高性能かつ確定的に除去するフィルタ機能を提供することが可能なフィルタが提供される。まず、積層フィルタ構造のそれぞれの孔サイズを精密に規定することにより、流体を濾過する際に高い再現性が見込まれる。そのため、フィルタ内での規定の孔サイズ配置およびその結果として生じる確定的なフィルタ特性を考慮して、相異なるフィルタにおけるフィルタ性能の統計的なばらつきを排除することができる。また、孔サイズが小さくなるにつれて流体はフィルタを通過して下流のより遠いところまで流動することから、デブリの分留的濾過すなわち、デブリ粒子のサイズに関する選別が得られるという利点がある。デブリの最大粒子はフィルタ構造の積層経路内の比較的早いフィルタ構造においてすでに除去されている。より小さなデブリ粒子は一連の積層フィルタ構造のより下流側に位置するフィルタ構造においてのみ流体から除去されることになる。この選別特性により、フィルタの上流部において基本的に全サイズの全デブリがフィルタに捕捉されるため孔の閉塞が生じるという従来フィルタによる望ましくない結果を防止することができる。本発明の一実施形態に係るフィルタの別の利点は、上述の濾過処理時に蓄積したデブリによる負荷を取り除くためにフィルタに対して適宜バックフラッシュを行うことができることにある。簡易なバックフラッシュフローパルスにより、デブリの最大粒子は流体の流動方向の上流端においてすでにフィルタに捕獲されているためフィルタの孔網目から容易に抜き出されることになる。より小さなデブリ粒子に対しては、それぞれのデブリが捕捉されたより狭いフィルタ構造から離れた後にフィルタの近接するフィルタ構造層またはその他のフィルタ構造層の順次接合されたより大きな孔を通してデブリが容易に抜き出されることになるため、バックフラッシュによる除去も容易な作業である。このように、一方で規定孔寸法を組み合わせて、また流体の流動方向に沿って相異なるフィルタ構造の孔のサイズを段階的または略連続的に減少させることにより、上述の技術的利点を得ることが可能になる。バックフラッシュ時の移動粒子の経路または方向では、漏斗の外へ逆方向に移動する、といったものになる。以下、フィルタの実施形態についてさらに説明する。しかしながら以下の実施形態は流体が流れる部材、試料分離装置、およびフィルタの製造方法にも適用する。一実施形態において、前記複数のフィルタ構造層はシートの近接する主面において互いに接合されている。このようなシートは金属または高分子材料を用いて作成してもよい。このようなシートは例えば円板形状、ストライプ形状または四角形の薄板であってもよい。シートの各二つの主面は最大表面積を有するシートの対向面である。このようなシートを一時的または恒久的に互いに接合することにより、精密に規定された特性を有している一方で容易に製造することができ、またさらに特に流動方向において固く強固な構造であるフィルタが得られる。恒久的な接合は例えば焼結もしくは熱接合により、または適切な接着剤を用いて個々のシートを互いに付着させることにより達成してもよい。一時的な接合はシートを互いに固定する固定要素内部にシート積層体を配置することにより達成してもよい。これを、表面上に構築された要素面ファスナー等により支持することができる。一実施形態において、前記複数のフィルタ構造層は一体形成された積層体として互いに接合されている。一体の積層体、すなわち多数フィルタ構造層の分離不可能な部品の形成により、フィルタは例えば圧力値1200バールが生じることもある液体クロマトグラフィ用途に必要とされるような高圧用途に特に適したものになる。一体形成のおかげで、フィルタは非常に頑強となり、そうした高圧およびそれに関連する力に耐えるだろう。一実施形態において、前記複数のフィルタ構造層の少なくとも一部は一つの均一な規定の孔サイズを持つ孔を有する。均一な規定の孔サイズという言葉は、一つのフィルタ構造層の孔に単一の孔サイズのみが割り当てられていることを特に表していてもよい。そのため、このフィルタ構造層のすべての孔は技術的公差等算術平均孔サイズに比して孔サイズの5の製作公差等に関してのみ異なる均一な規定の孔サイズを有することになる。この方法により、最終的なフィルタ積層体の高精度なフィルタ特性を得ることができるようになる。一実施形態において、前記積層フィルタ構造の規定の孔サイズは流体の流動方向に沿って厳密かつ単調に減少する。このような実施形態において、各フィルタ構造は、このフィルタ構造の下流に設置されたすべてのフィルタ構造の孔より大きく、またこのフィルタ構造の上流に配置されたすべての孔より小さいという孔サイズ設計規則を満たす。一実施形態において、前記積層フィルタ構造の規定の孔サイズは約0.5μmから約100μmの範囲内にあり、詳細には2μmから30μmの範囲内にある。各フィルタ構造層はある専用の孔サイズを有していてもよいが、この孔サイズはこの孔サイズのために定められたこれらの範囲、すなわち、ある孔サイズを選択可能な範囲内にあることになる。確かに、孔の正確な寸法または設計目標はフィルタの用途に依存する。しかしながら高圧下で動作する流体分離システム、詳細には液体クロマトグラフィ分離用のフィルタに対しては、定められた範囲は特に有利であることがわかっている。高圧ポンプは、例えば、ある最小サイズの高分子ブロックまたはブリックである磨滅粒子を生成してもよく、この場合フィルタ孔は前記問題に適合するか、または任意の種類の不純物を除去するために比較的小さい最小孔を有するフィルタを退避側に留まるように具備していてもよい。これと対照的に、クロマトグラフィ分離カラムの流出口において従来フリットの代替品としてフィルタを使用した場合、このようなカラム内のビーズがフィルタを通してカラムから流出することを確実に防ぐ必要がある。そのため、孔サイズをビーズのサイズより小さく、例えば最新の高速分離カラムにおいては1.8μmより小さくするか、またはより大きなビーズがカラムに詰め込まれている場合には5μmより小さくしてもよい。3フィルタ構造から成るフィルタの一実施形態において、第1フィルタ構造の孔サイズは第2フィルタ構造の孔サイズより大きく、また後者は同様に第3フィルタ構造の孔サイズより大きいという境界条件のもと、第1フィルタ構造の孔サイズは5μmから30μmの範囲内にあってもよく、第2フィルタ構造の孔サイズは3μmから10μmの範囲内にあってもよく、第3フィルタ構造の孔サイズは0.5μmから5μmの範囲内にあってもよい。一実施形態において、前記複数のフィルタ構造の少なくとも一部は基板を備える。前記基板の第1主面には第1方向に沿って延びている複数の長方形第1溝が設けられていてもよい。前記第1主面に対向する基板の第2主面には第2方向に沿って延びている複数の長方形第2溝が設けられていてもよい。前記第1溝および前記第2溝は、基板の貫通孔の配列を形成するような深さを基板内部に有していてもよい。一つの第1溝と一つの第2溝との各交点において、対応する貫通孔が後者を横切って基板に形成されて二つの対向する主面を接合している。前記貫通孔は規定の孔サイズを持つ孔を構成する。本実施形態は各シートまたは各基板に対して再現可能な規定の孔サイズを保証するという点で特に有利である。同時に、基板の二つの対向する主面に対してパターン形成を行うことにより同一サイズの孔の2次元配置を形成するために基本的に一つのマスクのみを必要とすることから、無理なく製造することができる。このようなパターン形成は当業者に公知のようにリソグラフィとエッチングとの組み合わせにより行ってもよい。適切に選択された深さエッチング剤、エッチング時間等を調整することにより調整することができるを持つ基板の二つの対向する面に直線状の溝相異なる空間方向に沿って延びている、すなわち互いに対して角度を有するに対してエッチングを行うだけで、規定寸法だけではなく、例えばマトリックス状の孔の規定順序配置も得ることができる。一実施形態において、前記第1方向は前記第2方向に対して垂直である。この二方向のこのような垂直配置は、対応する構造を無理なくかつ高精度に形成することができ、また孔の整然としたマトリックス状のパターンをもたらすという利点を有する。一実施形態において、前記第1溝および/または前記第2溝は基板において凹形状を有する。このような凹形状は等方性エッチング法を使用して達成してもよい。溝の凹形底部が互いに接合されて貫通孔を形成する場合、長方形断面を有するトレンチを生成する非等方性エッチングに比して比較的小さい寸法を有する孔を製造することもできる。これにより、特に小さなサイズのデブリを除去する用途に有利になり、結果として生じるフィルタをミクロ流体またはナノ流体の用途にも適したものにすることができる。一実施形態において、複数のフィルタ構造層のうち相異なるフィルタの溝は少なくとも一つの幾何学パラメータに関して異なっているため、相異なるフィルタ構造層において相異なる規定の孔サイズを持つ孔を構成する。溝深さ、溝幅、溝同士の距離、隣接かつ対向する溝同士の角度関係、溝および基板に属するトレンチの形状等の幾何学溝パラメータを生成する際の設計または工程パラメータを調整するだけで、所望の孔サイズ分布を精密に予測し規定することができる。一実施形態において、前記複数のフィルタ構造はメッシュワイヤを備えており、相異なるメッシュワイヤは相異なる値のメッシュ開口孔を形成するを有する。例えば、第1メッシュワイヤは第1方向に沿って延びていてもよく、第2メッシュワイヤは、前記第1方向とは異なっていてもよく詳細には第1方向に対して垂直であってもよい第2方向に沿って延びていてもよい。メッシュワイヤは、例えばメッシュワイヤの織網目を形成することにより、交点にて摩擦により互いに接合されていてもよい。しかしながら、付着、熱接合、または焼結等によりメッシュワイヤを交点で互いに恒久的に結合することも可能である。この方法では、近接するワイヤ間の異なる距離を選択することにより、および/または相異なるフィルタ構造に対する相異なるワイヤ厚さを使用することにより、相異なる開口の様々な平面状メッシュを形成してもよい。その後、相異なる開口を有するメッシュ配置を互いに積層してもよく、互いに接合することによりフィルタを形成してもよい。このようなメッシュ配置は寸法が小さいので非常に小型であってもよく、同時に各メッシュまたはフィルタ構造において精密に規定された孔サイズを提供してもよい。さらに別の実施形態において、単一のパターン形成法により前記孔を基板に形成することが可能である。例えば対応するパターン形成マスクは、リソグラフィおよびエッチングにより除去されるドットの配置を備えていてもよく、これによりエッチングを行うべき基板の貫通孔を生成し、続いて孔を形成する。孔はレーザアブレーションのようなマイクロミリング動作により生成することができる。また別の実施形態において、規定寸法の犠牲構造を基板と一体化し、後に犠牲構造のみを除去し基板材料を除去しない選択的なエッチング法により除去してもよい。一実施例として、このような犠牲構造はカーボンナノワイヤ等のナノワイヤであってもよい。マイクロ技術およびナノ技術によるその他の用途は同様に整列された孔構造の形成に適用してもよい。一実施形態において、複数のフィルタ構造は、相異なるサイズのカップ形状フィルタ構造を互いに交互配置することにより積層配置が形成されるように相異なるサイズを持つカップ形状である。様々なカップは、互いに接合されたときに間隙のない大きなカップ構造を形成するような寸法にしてあってもよい。カップ形状フィルタ構造の配置は、フィルタ構造が円筒状板等の底壁を有する幾何学構造に関する。この底板はカップ形状構造の側壁を形成する中空円筒状構造に接合されるか、または一体形成されている。フィルタ構造をカップ形状として設けることにより、複数のカップがともに塞がれてもよく、内部カップのサイズは外部カップのサイズよりも小さいという利点を有する。そのため、特に圧力の安定したフィルタ配置が提供されるであろう。このような配置では、より大きなサイズの孔はより小さな寸法を持つカップ形状構造に配置される。流体は続いてカップの内部からカップの外部へ流動する。一実施形態において、前記複数のフィルタ構造は円板形状であり、同心円状に積層されて円筒状フィルタを形成する。円板形状フィルタ構造はその主面で互いに接合してもよい。一実施形態において、前記フィルタは環状支持構造を備えており、前記複数のフィルタ構造は環状支持構造の凹部内部に固定されている。このような環状支持構造により、管理可能な方法でフィルタを提供することが可能になり、周囲の環状構造はフィルタ構造を機械的に支持するだけでなく流体分離システム等の装置にフィルタ部材を装着する装着設備としても機能する。一実施形態において、前記フィルタは約600バールより高い圧力、詳細には約1000バールより高い圧力に対して耐性を持つべく構成されている。詳細には、前記フィルタは400バールから1200バールの圧力範囲、より詳細には800バールから1200バールの圧力範囲において動作可能である。そのため、フィルタは最新のクロマトグラフィに関する用途に適している。以下、流体が流れる部材の更なる実施形態を説明する。しかしながら以下の実施形態はフィルタ、試料分離装置、およびフィルタの製造方法にも適用する。一実施形態において、前記流体が流れる部材は流体の化合物を分離すべく構成された分離ユニット、詳細にはクロマトグラフィカラムとして構成されており、前記フィルタは分離ユニットの流入口および/または流出口に配置されている。クロマトグラフィ分離カラムの流入口にはデブリを含まない純粋な流体を供給する必要がある。そのため、分離カラムの流入口には従来のフリットに代えて本発明の実施形態に係るフィルタを設けることができる。それに加えて、またはその代わりに、前記カラムの流出口には本発明の実施形態に係るフィルタを設けることによりカラム内部の分離ビーズがクロマトグラフィカラムから流出することを抑制することができる。そのため、このような流出口フィルタは、フィルタを通してビーズが流動して使用可能な孔サイズに影響を与えることを抑制する機能を有していてもよい。ビーズは、例えば寸法1.8μmを有して、前記分離カラムの流出口におけるフィルタの孔がこの値よりも小さくなるようにしてもよい。一実施形態において、前記流体が流れる部材は流体を駆動すべく構成された移動相駆動部、詳細にはポンピングシステムとして構成されており、前記フィルタは移動相駆動部の流出口に配置されている。このような高圧ポンプでは、ピストン室に設置された密閉部内部でピストンが往復運動を行うことによりポンピング室において小さな粒子の摩耗を引き起こし、この粒子は続いて意図せずに流体内に導入される。このようなポンピングユニットの流出口に実施形態に係るフィルタを設けることにより、連結された流体流路にデブリが入ることを防止することができる。一実施形態において、前記流体が流れる部材は試料分離経路内に流体を注入する試料注入器として構成され、試料注入器は注入針および台座を備えており、注入針は流体を針と台座との間で案内するために台座内に選択的に挿入可能であり、注入針は台座の外へ選択的に移動可能であり、前記フィルタは試料注入器の流出口に配置されている。試料注入器内部では、分離カラムと移動相駆動部との間の経路により試料注入器を流体連結すべく配置することができる流体弁が回転することによりデブリを流体内に導入することができる。前記試料流体自身は、試料母材の一部であってもよく、それまでの処理工程から生じる固体粒子またはマクロ種を含有することがある。そのため、このような位置に本発明の実施形態に係るフィルタを設けることは同様の利点を有する。一実施形態において、前記流体が流れる部材は、試料分離経路内に流体を注入する試料注入器用の流量調整ポンプ、流体の分離された化合物を検出すべく構成された検出器、流体の分離された化合物を回収すべく構成された回収ユニット、流体の脱気を行う脱気部、および/またはピストン室と前記ピストン室内部で往復運動を行うべく構成されたピストンとを有するピストンポンプとして構成されている。流量調整ポンプにおいても高圧が発生することがあり、摩耗法または摩擦法によりデブリが形成されることがある。そのため、このような流量調整ポンプまたは注射器に本発明の実施形態に係るフィルタを設けることは利点を有する。一実施形態において、前記流体が流れる部材は、デブリにより目詰まりした場合に例えば周期的に、または時々フィルタに対してバックフラッシュを行うべく構成されたバックフラッシュユニットを備える。前記バックフラッシュユニットは流体の流動方向とは逆に流動するフラッシュ流体を用いて目詰まりしたフィルタに対してフラッシュを行うべく構成されていてもよい。バックフラッシュを行うことにより、すなわち流体パルスを流体の流動方向とは逆方向にポンピングしてフィルタを通過させることによりフィルタを効率よく洗浄することができることは本発明の実施形態の特に大きな利点である。流体の流動方向に沿って孔サイズが減少する積層フィルタ構造層の配置のおかげで、バックフラッシュは、連続的に大きくなる孔にデブリが達する方向に捕捉されたデブリのフラッシングを行うことにより、例えばフリット構造から作られた従来のフィルタに比して効率よくフィルタ洗浄を行うことができる。以下、試料分離装置の更なる実施形態を説明する。しかしながら、以下の実施形態はフィルタ、流体が流れる部材、およびフィルタの製造方法にも適用する。一実施形態において、前記流体分離装置はオートサンプラ装置、分留装置、連結されている測定環境において測定を行う測定装置、少なくとも一つの物理的、化学的または生物学的パラメータを測定する測定装置、流体試料の測定を行う測定装置、センサ装置、化学的、生物学的および/または薬学的分析用装置、およびクロマトグラフィ装置液体クロマトグラフィ装置またはガスクロマトグラフィ装置等から成る群のうち少なくとも一つとして構成される。前記流体分離装置は流体をポンピングして前記システムを通過させるポンプを備えていてもよい。流体をバイアルから針内に、さらに細管に吸い込んでもよい。ポンプとしてはピストンポンプ、蠕動ポンプ、渦巻ポンプ、膜ポンプ等を実装してもよい。前記流体分離装置は流体試料を操作するサンプルループを備えていてもよい。このようなサンプルループは液体クロマトグラフィ装置の一部であってもよく、サンプルループの台座から旋回して流体容器内に浸漬することが可能な細管の端部において針を介してサンプルループ内に試料を注入することを可能にしてもよい。流体を取り込んだ後に針を台座内に戻して、注入された流体をサンプルループを介して流体分離用クロマトグラフィカラム上に導入することができる。このような液体分離は続いて、勾配を流れることによりクロマトグラフィカラム上に捕捉される試料の相異なる留分を別々に遊離させて行ってもよく、このとき変動する組成を持つ溶媒をクロマトグラフィカラムを通して案内してもよい。したがって、実施形態は液体クロマトグラフィ装置の試料注入モジュールにおいて実施してもよく、前記試料注入モジュールは流体容器から試料を取り込んでもよく、このような試料を導管内に注入して分離カラムに供給してもよい。このとき、試料は例えば常圧から例えば数百バールまたは1000バール以上もの高圧に圧縮してもよい。オートサンプラは試料をバイアルからサンプルループ内に自動注入してもよい。前記オートサンプラの先端または針は流体容器内に浸漬してもよく、流体を細管内に吸い込んでもよく、続いてサンプルループの台座内に戻って例えば切換え可能な流体弁を介して液体クロマトグラフィ装置の試料分離部に向けて流体を注入してもよい。一実施形態において、前記流体分離装置は細管と流体連通している装置内に流体試料を注入するオートサンプラとして構成されるか、または備えていてもよい。このようなオートサンプラは、例えば相異なるバイアルを制御する専用機構に従って特定の方法で流体を自動操作することを可能にして特定の試料組成を調整してもよい装置またはモジュールであってもよい。一実施形態において、オートサンプラにより実現される上述の装置はクロマトグラフィカラムであってもよい。そのため、オートサンプラは試料を取り込んでもよく、前記試料を試料分離用クロマトグラフィカラムに向けて注入してもよい。前記流体分離装置は分離材料を充填した処理要素クロマトグラフィカラム等と協働するか、または含んでいてもよい。固定相と呼ばれてもよいこのような分離材料は、試料との相互作用の度合いを調整することを可能にしてこのような試料の相異なる成分を分離することができる任意の材料であってもよい。分離材料はポリスチレン、ゼオライト、ポリビニルアルコール、ポリテトラフルオロエチレン、ガラス、高分子粉体、二酸化ケイ素およびシリカゲル、またはこれらの表面に化学修飾被覆、キャッピング等を行ったものから成る群のうち少なくとも一つを備えた液体クロマトグラフィカラム充填材料または詰め込み材料であってもよい。しかしながら、例えば分析物の留分と詰め込み材料との間の異種の相互作用または親和力によって、この材料を通過する分析物を相異なる成分に分離することを可能にする材料特性を有する任意の詰め込み材料を使用することもできる。前記処理要素の少なくとも一部には流体分離材料が充填されていてもよく、前記流体分離材料は本質的に1μmから本質的に50μmの範囲内のサイズを有するビーズを備えていてもよい。このように前記ビーズは小粒子であってもよく、マイクロ流体装置の分離部内部に充填されていてもよい。前記ビーズは本質的に0.01μmから本質的に0.2μmの範囲内のサイズを有する孔を有していてもよい。前記流体試料は孔を通過してもよく、前記流体試料と孔との間に相互作用が生じてもよい。前記流体分離装置は試料の成分を分離すべく構成されていてもよい。流体試料を含んだ移動相が例えば高圧で前記流体装置を通過するとき、カラムの充填物と流体試料との間の相互作用は、液体クロマトグラフィ装置において行われるように試料の相異なる成分の分離を可能にする。しかしながら、前記分析システムは流体試料を精製する流体精製システムとして構成されていてもよい。流体試料の相異なる留分の空間分離を行うことにより多成分試料、例えばタンパク質溶液を精製してもよい。タンパク質溶液を生化学研究室で作製した場合、前記溶液は未だ複数の成分を備えている。この多成分液体のうち例えば単一のタンパク質のみが研究対象である場合、この試料を前記カラムを通して送ってもよい。相異なるタンパク質留分がカラムの充填物と相異なる相互作用を行うことによって、相異なる試料を区別し、一つの試料または試料群を精製試料として選択的に単離してもよい。液体移動相の代わりに、気体移動相または固体粒子を含む移動相を前記流体分離装置を使用して処理してもよい。また、相異なる層固体、液体、気体の混合物である材料を実施形態を使用して処理してもよい。前記流体分離装置は高圧下で、詳細には600バール以上で、より詳細には1200バール以上で前記システムを通して前記移動相を案内すべく構成されていてもよい。前記分析システムはマイクロ流体装置として構成してもよい。マイクロ流体装置という言葉は、500μmより小さい、詳細には200μmより小さい、より詳細には100μmより小さい、または50μm以下の規模の寸法を有するマイクロチャネルを通して流体を搬送することを可能にする、本書記載の流体装置を特に表していてもよい。前記分析システムはナノ流体装置として構成されていてもよい。ナノ流体装置という言葉は、100nl/分より遅い、詳細には10nl/分より遅い流速を持つナノチャネルを通して流体を搬送することを可能とする、本書記載の流体装置を特に表していてもよい。弁への流体入力流動を弁からの複数の交互の出力流動のうち一つに選択的に送り出す多方向切換弁を設けていてもよい。このような回転弁は弁回転子を固定弁固定子に対して個々の角度位置まで回転することにより流体の流動方向を決定してもよい。二重回転弁は一つの弁体に二つの弁を設け、この二つの弁はともに弁回転子の位置決めにより同時に操作される。このような回転切換弁は例えばHPLCおよびその他の分析方法に使用されて一または複数の流体の流れ方向を交互の経路に沿って分析装置または格納容器に決定する。本発明の実施形態に伴う多くの利点や上述以外の目的は、添付図面に関連する実施形態の以下のより詳細な説明を参照することによりまもなく明らかにされ、よりよく理解されるであろう。実質的にまたは機能的に同一または同様の特徴には同じ参照符号を付すこととする。図面における図示は模式的である。本発明の実施形態は、3次元構造における液体の濾過、詳細には設計されたフィルタにおいて徐々に縮小する孔サイズを実装する工程に関する。本発明の実施形態を詳述する前に、本発明の実施形態が発展する基となった本発明者の基本的な考えを要約する。勾配液体クロマトグラフィLCシステムにおいてはしばしば、圧力に逆らってポンピングしながら洗浄液を分配するとともに可能な限り低遅延量を有するよう求められる。近年、最新のUHPLCシステムではこのような要求が絶えず増大している。ピーク容量時間間隔あたりのピーク総数を増加させるためには、より小サイズの詰め込み材料、より小さなカラム、分離時の溶質のより速い線速度、より速い組成勾配、より長い分離台等のようにいくつかのパラメータを最適化してもよい。一方ではより高い圧力に対する必要性が増加し、他方では全流量をさらに減らすことが求められている。流量が非常に低減された体系では流れにおける任意の残留物の量がより有意なものとなり、しばしばLCシステムの性能を制限してしまう。圧力に逆らって流体を駆動するためにピストンポンプを使用するため密封体の摩耗を生じることが多く、ついには分離カラムを傷めることがある。高価な部品を保護するためにある種の保護フリットをカラムの上流で使用したとしても、すぐに流路閉塞が起きてしまう。分析での使用の中断と頑強性の制限のせいで、所有コストが増加する。流動液体から汚れおよびデブリを取り除くために濾紙を使用することも可能ではあるが、高圧により容易に破損が生じることがある。長い間、ポンピングシステムの流出口のどこかにフィルタフリットを追加するのが一般的だったが、このようなフィルタにはしばしば強力に結合した圧縮粒の塊が生成される。フィルタフリットは任意の構造であるが、あらゆるサイズを持つ。さて、容積の低減を図るため、直径および/または厚さを低減してもよいが、どちらも重大な欠点を有する。直径を低減すると、汚れ粒子の回収を行うことが可能な面積も低減する。フリット構造の厚さを低減すると、より大きなデブリまたは粒子を通過させるより大きな孔開口を有することになるという様々な危険性を増加させる。濾し器または布メッシュ構造の共通の問題は、容量が限定されている点にある。フィルタ領域に汚れが堆積し、まもなく圧力下で崩れて直ちに流れの妨げとなる。このような場合、急速に力が強まり続いてメッシュの破断を引き起こす。このような場合、回収された汚れは流路の突然の漏出を引き起こし、ひいては下流の部品に重大な損失を引き起こす。本発明の一実施形態では、以下の両方の寸法で作動する設計された3次元構造において孔サイズを徐々に減少させることができる:A一方では、規定均質孔サイズを有することができ、厚さが連続して孔をランダム化する必要の無いように最小孔サイズを最大許容粒子に正確に一致させることができる。B他方では、デブリを格納する空間が豊富にある上面が作動空間であるだけでなく、3次元構造のおかげで、圧力が上昇する前により多くの汚れをフィルタ内に留めることができる。また、本発明の実施形態は、汚れおよびデブリが充分な量の濾し層に衝突する前に選別され、個々の層の間に汚れまたはデブリ粒子周辺の流動を迂回させるであろう放射状流路があり、フィルタ内で汚れが溜まるにつれて圧力低下が徐々に増加し汚れの堆積物が崩れることを避けるかまたは少なくとも大きく減少させ圧力増加を監視することによりフィルタが完全に目詰まりする前にユーザにバックフラッシュを促す、積層構造の、ある種の漏斗様挙動によりバックフラッシュが援助されるという更なる利点を有する。さて、図面をより詳細に参照して、図1は液体分離装置10の全体模式図を描いている。ポンプ20は、脱気することにより移動相に溶解している気体の量を減少させる脱気部27を介して溶媒供給部25から移動相を受け入れる。前記ポンプ20は移動相駆動部として移動相を駆動して、固定相を備えた分離装置30クロマトグラフィカラム等を通過させる。試料採取ユニット40図1に模式的に描かれている針/台座配置を有するは、試料流体を前記移動相に委ねまたは添加するしばしば試料導入と呼ばれるために前記ポンプ20と前記分離装置30との間に設けられている。分離装置30の固定相は試料液体の化合物を分離すべく構成されている。試料流体の分離された化合物を検出するために検出器50を設けてある。試料流体の分離された化合物を排出すべく分留ユニット60を設けることができる。前記移動相は1種類の溶媒のみを備えることもできるし、また複数種類の溶媒から混合してもよい。このような混合は低圧混合でありポンプ20の上流に設けられてもよく、ポンプ20は混合された溶媒をすでに移動相として受け入れてポンピングしてもよい。あるいは、ポンプ20は複数の個別のポンプユニットを備えていてもよく、複数のポンプユニットがそれぞれ相異なる溶媒または混合物を受け入れてポンピングを行い移動相の混合分離装置30により受け入れられるがポンプ20またはその一部の下流において高圧下で生じてもよい。移動相の組成物混合物は経時的に一定に保たれる所謂アイソクラティックモードに保たれてもよいし、経時的に変動する所謂グラジエントモードに保たれてもよい。データ処理ユニット70は、従来のPCまたはワークステーションを用いて構成されていてもよく、情報を受信するため、および/または動作を制御するために液体分離システム10の一または複数の装置と連結点線矢符により表されているされていてもよい。データ処理ユニット70は例えばポンプ20例えば設定制御パラメータの動作を制御し、そこから実際の動作状態例えばポンプの流出口における排出圧力、流速等に関する情報を受信する。データ処理ユニット70はまた溶媒供給部25例えば供給すべき溶媒または溶媒混合物を設定および/または脱気部27例えば真空準位等の制御パラメータを設定の動作を制御してもよく、そこから実際の動作状態経時的に供給される溶媒組成物、流速、真空準位等に関する情報を受信してもよい。データ処理ユニット70はさらに試料採取ユニット40の動作を制御例えばポンプ20の状態を操作して試料注入または同期試料注入を制御してもよい。分離装置30はまたデータ処理ユニット70により制御例えば特定の流路またはカラムを選択、動作温度を設定等され、次に情報例えば動作状態をデータ処理ユニット70に送信してもよい。したがって、検出器50はデータ処理ユニット70により例えばスペクトルまたは波長設定、設定時定数、開始/停止データ取得に関して制御され、情報例えば検出された試料化合物についてをデータ処理ユニット70に送信してもよい。データ処理ユニット70はまた分留ユニット60の動作を例えば検出器50から受信したデータと併せて制御し、データを戻してもよい。図1は液体クロマトグラフィシステム10の流体経路内部の様々な位置におけるフィルタ200を模式的に示している。詳細には、図1に模式的に示されているように、実施形態に係るフィルタ200は分離カラム30の流入口および流出口、ポンプ20の流出口、および試料注入器40に設けられていてもよい。しかしながら、他の位置にフィルタ200を配することも同様に可能である。図1はさらに、分離カラム30に割り当てられたフィルタ200がデブリにより目詰まりした場合にこのフィルタ200に対してバックフラッシュを行うべく構成されたバックフラッシュポンプ95を示している。バックフラッシュ法を作動させるためには、流体が液体クロマトグラフィシステム10の通常動作すなわち試料分離モード時にポンピングされる通常流体の流動方向202とは逆方向にバックフラッシュポンプ95により流体をポンピングして分離カラム30に対してバックフラッシュを行うようにスイッチ33,35の切換えを行う。すなわち、ポンプ20は流体の成分分離時には通常流体の流動方向202に沿ってすなわち流入口91から流出口93へ流体をポンピングし、バックフラッシュポンプ95は本発明の実施形態に係るそれぞれのフィルタ200を洗浄するバックフラッシュモード時には通常流体の流動方向202と逆方向かつ後方にすなわち流出口93から流入口91へ流体をポンピングする。図2は、デブリを有する液体試料が流体流出口256に向けて流動する際に通過する流体流入口254を有する流体が流れる部材204を示している。流動方向は参照符号202により示されている。流体流入チャネル254は第1ハウジング部250内部に形成されているのに対して、流体流出チャネル256は第2ハウジング部252内部に形成されている。第1ハウジング部250と第2ハウジング部252との間には、本発明の実施形態に係るフィルタ200を収容する間隙が設けられている。フィルタ200は流体が流れる部材204内部を流体の流動方向202に沿って流動する液体を濾過して磨滅もしくは摩耗粒子またはその他の工業不純物等のデブリを除去すべく構成されている。フィルタは流体の流動方向202に沿って積層され一体形成された第1フィルタ構造206、第2フィルタ構造208および第3フィルタ構造210を備える。各フィルタ構造206,208,210は割り当てられた規定の孔サイズを有する。すなわち、第1フィルタ部206の母材材料273により囲まれた孔271は第1サイズd1を有し、近接する第2フィルタ構造208の母材材料277により囲まれた孔275は第2孔サイズd2を有し、第3フィルタ構造210の母材材料281により囲まれた孔279は第3サイズd3図2の詳細図255参照を有する。前記第1サイズd1は第2サイズd2より大きく、また第2サイズd2は第3サイズd3より大きい。そのため、積層フィルタ構造206,208,210の規定の孔サイズd1、d2、d3は流体の流動方向202に沿って減少する。その結果、流体の流動方向202に沿って流動する液体はまず最大孔271を有する第1フィルタ構造206において濾過されて、デブリのうち最大粒子のみがここで捕捉される。より小さな残留デブリを含む残りの液体はさらに、残留デブリ粒子のうちより大きいものが除去される中間フィルタ構造208に向けて移動することになる。続いて最小孔279を持つ第3フィルタ構造210において、最小デブリ粒子が除去されてデブリ寸法に関するデブリの選択的選別および除去がフィルタ200により行われる。フィルタ構造206,208,210は、焼結処理で互いに接合され一体構造を形成している孔271,275,279のパターンを持つ金属層である。各フィルタ構造206,208,210は円板形状または円筒状板として実現することができる。続いてフィルタ構造206,208,210のペレット様配置を角度支持構造220内に例えば付着挿入することができる。そのため、部品206,208,210,220から有形部材が形成される。図2の実施形態において、第1フィルタ構造206の孔271は寸法30μmを有し、第2フィルタ構造208の孔275は寸法10μmを有し、第3層構造210の孔279は寸法2μmを有する。図2の配置は、例えば液体クロマトグラフィ装置の試料注入器の流出口におけるフィルタとして、または液体クロマトグラフィ装置の分離カラムの流入口におけるフィルタとして実装してもよい。図3は本発明の別の実施形態に係る流体が流れる部材300を示している。第1ハウジング部322内に形成された流体流入チャネル320を介して流体を部材300内に導入する。第2ハウジング部324は第1ハウジング部322に取り付けられており、流体が案内されて通過する流体流出チャネル326を有する。ハウジング部322,324は、本発明の別の実施形態に係るフィルタ200が充填される中空空間を取り囲む。図3の実施形態において、ここでも3任意の数が可能であるフィルタ構造306,308,310を互いに接合して、孔サイズ列が流体の流動方向に沿って、すなわち流体流入チャネル320からフィルタ200を介して流体流出チャネル326に流動する流体の方向に沿って単調に減少する一体構造を形成する。3層構造306,308,310はいずれも、同心円軸を持って互いに積層されたカップ形状要素として形成されている。そのため、流体流入チャネル320の端部に存在する流体はカップ形状フィルタ200を通して移動し、そのため効率よく濾過されることになる。図3の配置は例えば、液体クロマトグラフィ装置の移動相駆動部すなわち高圧ポンプの流出口におけるフィルタとして実装されてもよい。図4は本発明のさらに別の実施形態に係るフィルタ200を示している。ここで、板400は、互いに平行に配置された凹板402とともに流体経路を画定する。板400,402間に形成されている間隙は流体流入チャネル404を構成する。流体流出チャネルは凹板402内部で凹部406により画定される。流体流入チャネル404と流体流出チャネル406との間にはフィルタ200が挟まれている。このフィルタ200は二つの層構造のみ、すなわち第1層構造410および第2層構造408から形成されており、第1層構造410は第2フィルタ構造408の孔より大きな孔を有する。ここで、流動方向は第1層構造410から第2層構造408に向かう方向である。一般的に、本発明の相異なる実施形態は、大幅に異なる数の、接合されてフィルタを形成する層構造を使用して実施されてもよい。この数は例えば2から20までの範囲内、より詳細には2から8までの範囲内であってもよい。いくつかの実施形態では、3層、4層または5層構造が接合されてフィルタを形成する。図5Aないし図5Cは、層構造内部に正確に規定された一つだけのサイズの孔を有する、フィルタ用土台としての層構造が形成される様子を図示している。図5Aは、対応する孔が形成されている金属板等の基板500の断面図を示している。また、電気絶縁体または半導体基板を使用してもよい。図5Bは、基板500の下主面508の底面図を示している。図5Cは、基板500の上主面502の上面図を示している。図5Aから明らかなように、基板500の上主面502には、図5Cにおいても示されているように水平第1方向506に沿って延びている複数の長方形第1溝504が設けられている。上主面502に対向する基板500の下主面508には、図5B参照のように、これも水平である第2方向512に沿って延びている複数の長方形第2溝510が設けられている。第1方向506および第2方向512は本質的に互いに垂直である。第1溝504および第2溝510は、第1溝504と第2溝510との交点に基板500の貫通孔550の配列を形成するように基板500内部にそれぞれ深さb1,b2を有する。したがって、貫通孔550は規定の孔サイズを持つ孔を構成する。特に図5Aから明らかなように、溝504,510は凹形状を有しており、凹形状溝504,510のみの底部の交点により孔が画定されている。溝504,510は従来のマスクを使用してパターン形成およびエッチング法を行うことにより形成することができる。溝504,510の深さb1,b2は10μm代の値であり、非常に簡易なリソグラフィ法を実施することができる。しかしながら、図5Aないし図5Cに示されているタイプの多数シートを相異なる孔サイズを用いて製造した後、これらの相異なるシートは例えば接着、溶着、熱接合または焼結により互いに接合される。例えば金属基板500を融点近くまたは融点以上に加熱し、それぞれの基板500の表面の溶融を開始させてもよい。この状態において、パターン形成された基板500をともに圧着し、続いて冷却することにより、本発明の実施形態に係る一体フィルタを形成してもよい。図6A、図6Bおよび図6Cは孔600,620および640を持つ、上述のようにそれぞれ処理された3枚の板602,622および642を示している。3枚の板602,622および642を互いに接合することにより長方形の外形を持つフィルタ部が形成される。図7は、3フィルタ構造206,208,210が孔サイズp1>p2>p3を持って液圧流動方向に沿って連続的に積層されており、各層構造206,208,210がそれぞれただ一つの均一な規定の孔サイズp1,p2およびp3を有する本発明の別の実施形態のフィルタを示している。そのため、濾過性能に関して一種の漏斗構造700を得ることができる。図8Aないし図8Cはそれぞれ垂直に交わるメッシュワイヤ802,804,822,824および842,844により画定されたメッシュ800,820,840を示している。図8A、図8B、図8Cから明らかなように、メッシュ800,820,840のメッシュ開口a1>a2>a3は、近接するワイヤ802/804、822/824および842/844間の異なる距離を考慮して互いに異なるように選択される。メッシュ800,820,840を例えば熱接合で接合することにより、メッシュ800を流動流体に関してフィルタの上流端に配置しメッシュ840を下流端に配置しメッシュ820をメッシュ800と840との間に挟むように配置した場合に規定の孔サイズが単調に減少する本発明の別の実施形態に係るフィルタが生成されることになる。なお、本明細書で備えるという言葉は、他の要素または特徴を除外するものではなく、また一つのという言葉は複数性を除外するものではない。また相異なる実施形態に関連して説明した要素を組み合わせてもよい。また、特許請求の範囲における参照符号は特許請求の範囲を限定するものと解釈されるべきではない。"