"紙基材面または該紙基材面にオフセット印刷インキで印刷した該印刷面に活性エネルギー線硬化型ワニスを塗布し、該塗布面にポリオレフィンフィルムを貼り合わせ、該ポリオレフィンフィルムを透して活性エネルギー線を照射して前記塗布面のワニスを硬化させ、その後に該ポリオレフィンフィルムを剥離させる積層体の製造方法であって、該活性エネルギー線硬化型ワニスが、1重量平均分子量が5000~12000のスチレン-アクリル樹脂A1を10~39重量但し、前記A1は、スチレン系単量体a170~90重量、a1と共重合可能でカルボキシル基を有するメタアクリル酸単量体a21~20重量、a1およびa2と共重合可能でアミノ基及びカルボキシル基を含まないメタアクリル酸エステル単量体a35~25重量、を共重合させてなり、a1とa2とa3との合計は100重量とする2メタアクリロイル基を少なくとも1個有する光重合性単量体Bを50~85重量、3光重合開始剤Cを0~20重量ならびに4シリコーン系添加剤D1および/または高分子系ワックス添加剤D2の少なくとも1種を0.1~10重量但し、1~4の合計は100重量とするを含有することを特徴とする積層体の製造方法。活性エネルギー線硬化型ワニスが、更にスチレン系単量体a170~95重量、a1と共重合可能なアミノ基を有するメタアクリル酸単量体a45~30重量、を共重合させてなる重量平均分子量が5000~12000のスチレン-アクリル樹脂A2を含むことを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。請求項1または請求項2に記載の製造方法で製造した積層体。脱墨性に関する活性エネルギー線硬化型オーバープリントワニスとして、特許文献3ではアルキッド樹脂を、特許文献4では脱墨性の高極性の光重合性単量体を用いているが、これらをそのまま本表面加工方法に応用すると、通常の印刷速度では美粧性転写フィルムとの剥離が重くなり、ワニスが転写フィルムに取られて美粧性が不足してしまう。剥離を軽くする為に多官能な光重合性単量体を用いることもあるが、そうすると今度は下地への密着性が劣化してしまう。以上のように、本表面加工方法に適した脱墨用オーバープリントワニスはないのが現状である。そこで、これらの問題を解決する手段として、支持基材にワニスを塗工し、繰返し使用できる美粧性転写フィルムを塗工面に重ね合わせた後、活性エネルギー線にて塗膜を硬化させ、美粧性転写フィルムを剥離させる表面加工方法に適していて、かつ厚膜加工時においても脱墨性に優れた活性エネルギー線硬化型オーバープリントワニスの組成物を提供する。本発明者らは、上記の目的を達成する為に鋭意検討した結果、紙基材面または該紙基材面にオフセット印刷インキで印刷した該印刷面に活性エネルギー線硬化型ワニスを塗工し、繰返し使用できる美粧性転写フィルムを塗工面に重ね合わせた後、活性エネルギー線にて塗膜を硬化させ、美粧性転写フィルムを剥離させる表面加工方法を行う際に、特定の組成からなる脱墨用活性エネルギー線硬化性オーバープリントワニスを使用することにより、上記課題を全て解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、第1の発明は、紙基材面または該紙基材面にオフセット印刷インキで印刷した該印刷面に活性エネルギー線硬化型ワニスを塗布し、該塗布面にポリオレフィンフィルムを貼り合わせ、該ポリオレフィンフィルムを透して活性エネルギー線を照射して前記塗布面のワニスを硬化させ、その後に該ポリオレフィンフィルムを剥離させる積層体の製造方法であって、該活性エネルギー線硬化型ワニスが、1重量平均分子量が5000~12000のスチレン-アクリル樹脂A1を10~39重量但し、前記A1は、スチレン系単量体a170~90重量、a1と共重合可能でカルボキシル基を有するメタアクリル酸単量体a21~20重量、a1およびa2と共重合可能でアミノ基及びカルボキシル基を含まないメタアクリル酸エステル単量体a35~25重量、を共重合させてなり、a1とa2とa3との合計は100重量とする2メタアクリロイル基を少なくとも1個有する光重合性単量体Bを50~85重量、3光重合開始剤Cを0~20重量ならびに4シリコーン系添加剤D1および/または高分子系ワックス添加剤D2の少なくとも1種を0.1~10重量但し、1~4の合計は100重量とするを含有することを特徴とする積層体の製造方法に関するものである。また、第2の発明は、活性エネルギー線硬化型ワニスが、更にスチレン系単量体a170~95重量、a1と共重合可能なアミノ基を有するメタアクリル酸単量体a45~30重量、を共重合させてなる重量平均分子量が5000~12000のスチレン-アクリル樹脂A2を含むことを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法に関するものである。また、第3の発明は、第1の発明および第2の発明の製造方法で製造した積層体に関するものである。本発明は、紙基材面または該紙基材面にオフセット印刷インキで印刷した該印刷面に活性エネルギー線硬化型ワニスを塗工し、繰返し使用できる美粧性を有するポリオレフィンフィルムを塗工面に重ね合わせた後、活性エネルギー線にて塗膜を硬化させ、該転写フィルムを剥離させる表面加工方法において、優れた基材印刷インキ密着性、硬化性、美粧性を有し、とりわけ脱墨性に効果的な積層体の製造方法に関する。以下、本発明についてさらに詳細に説明する。表面加工方法としては、紙基材面または該紙基材面にオフセット印刷インキで印刷した該印刷面に活性エネルギー線硬化型ワニスを塗工し、繰返し使用できる美粧性を有するポリオレフィンフィルムを塗工面に重ね合わせた後、活性エネルギー線にて塗膜を硬化させ、該ポリオレフィンフィルムを剥離させる順序を経る。紙基材の種類としては、特に限定されず、コートボール紙、アート紙、ポリエチレンコート紙、マットコート紙等が用いられる。印刷インキとしては、従来から使用されているオフセット印刷用インキなどが例示できる。繰り返し使用できる美粧性を有するポリオレフィンフィルムとしては、ポリエチレンやポリプロピレンなどが使用できる。ポリオレフィンフィルムの表面形状としては、平面柄やホログラム柄、エンボス柄などが用いられる。本発明におけるスチレン-アクリル樹脂A1の、スチレン系単量体a1としては、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルスチレン系のスチレン類などがあり、これらを1種または2種以上を70~90重量含有することが望ましく、スチレン系単量体a1が70重量より少ないと塗膜にした際の光沢感が不足してしまい、スチレン系単量体a1が90重量より多いと、印刷基材への密着性が不足してしまう。スチレン系単量体a1としては、光沢感、塗膜物性およびコストを考慮するとスチレンが好ましい。本発明におけるスチレン-アクリル樹脂A1の、a1と共重合可能でカルボキシル基を有するメタアクリル酸単量体a2としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸、またイタコン酸やシトラコン酸およびこれらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β-メタアクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β-メタアクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β-メタアクリロキシエチルモノエステルなどの他に、脂肪族骨格または芳香族骨格、及び2つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物と、カルボン酸無水物基と反応しうる官能基を有する化合物を反応させてなる、下記一般式1で示されるメタアクリル酸単量体がある。式中、R1~R2は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、R3~R4は、それぞれ独立に非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分岐鎖のアルキレン基を示し、R5は、4価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。脂肪族骨格または芳香族骨格、及び2つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物である下記一般式2で示される脂肪族または芳香族テトラカルボン酸二無水物を、下記一般式3で示される第1のヒドロキシル基含有アクリレート化合物またはメタクリレート化合物、および下記一般式4で示される第2のヒドロキシル基含有アクリレート化合物またはメタクリレート化合物と反応させて、前記一般式1で示される化合物を得ることができる。ここで、一般式3及び一般式4で示される化合物は、カルボン酸無水物基と反応しうる官能基を有する化合物である。ここで、カルボン酸無水物基と反応しうる官能基としては、ヒドロキシ基、アミノ基、グリシジル基などが挙げられるが、反応の制御のし易さから、ヒドロキシ基が特に好ましい。ここで、R5は、一般式1で定義した通りCH2=CR1COOR3OH一般式3ここで、R1およびR3は、一般式1で定義した通りCH2=CR2COOR4OH一般式4ここで、R2およびR4は、一般式1で定義した通り上記一般式2で示される脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、ブタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。一方、芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニル骨格を有するビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン骨格を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物等、フルオレン骨格を有する9,9-ビス3,4-ジカルボキシフェニルフルオレン二無水物、あるいは、9,9-ビス[4-3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル]フルオレン二無水物、テトロヒドロナフタレン骨格を有するテトラヒドロナフタレンカルボン酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビスアンヒドロトリメリテートモノアセテート等が挙げられる。市販品としては新日本理化株式会社製リカシッドTMTA-C、リカシッドMTA-10、リカシッドMTA-15、リカシッドTMEGシリーズ、リカシッドTDA、リカシッドDSDA、などが挙げられる。上記脂肪族または芳香族テトラカルボン酸二無水物と、第1および第2のヒドロキシル基含有メタアクリレート化合物との反応は、脂肪族または芳香族テトラカルボン酸二無水物の有する2つのカルボン酸無水物基と、第1および第2のヒドロキシル基含有メタアクリレート化合物がそれぞれ有するヒドロキシル基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物と第1および第2のヒドロキシル基含有メタアクリレート化合物とを、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセンのような触媒の存在下、50~120°Cの温度で反応させることができる。この場合、反応系に、メトキノンのような重合禁止剤を添加することができる。本発明におけるスチレン-アクリル樹脂A1の、a1と共重合可能でカルボキシル基を有するメタアクリル酸単量体a2の1種または2種以上を1~20重量含有することが望ましい。20重量より多いとメタアクリロイル基を少なくとも1個有する光重合性単量体Bへの溶解が困難となり、また1重量より少ないと脱墨性の付与が難しい。a1と共重合可能で酸価を有するメタアクリル酸単量体a2としては、脱墨性およびコストを考慮するとメタクリル酸が好ましい。本発明におけるスチレン-アクリル樹脂A1の、a1およびa2と共重合可能でアミノ基及びカルボキシル基を含まないメタアクリル酸エステル単量体a3としては、直鎖または分岐のアルキル鎖を有するアルキルメタアクリレート類やヒドロキシル基を有するメタアクリレート類、その他ポリウレタンポリメタアクリレート類、ポリエステルポリメタアクリレート類、ポリエポキシポリメタアクリレート類などがある。アルキルメタアクリレート類として、単官能のメタアクリル系化合物を挙げるることができ、それらの具体例は、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、ペンチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、ヘプチルメタアクリレート、ヘキシルメタアクリレート、オクチルメタアクリレート、ノニルメタアクリレート、デシルメタアクリレート、ウンデシルメタアクリレート、ドデシルメタアクリレート、トリデシルメタアクリレート、テトラデシルメタアクリレート、ペンタデシルメタアクリレート、ヘキサデシルメタアクリレート、ヘプタデシルメタアクリレート、オクタデシルメタアクリレート、ノナデシルメタアクリレート、イコシルメタアクリレート、ヘンイコシルメタアクリレート、ドコシルメタアクリレート等の炭素数1~22のアルキレンメタアクリレートが挙げられる。メトキシエチレングリコールメタアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシテトラエチレングリコールメタアクリレート、エトキシテトラエチレングリコールメタアクリレート、プロポキシテトラエチレングリコールメタアクリレート、n-ブトキシテトラエチレングリコールメタアクリレート、n-ペンタキシテトラエチレングリコールメタアクリレート、トリプロピレングリコールメタアクリレート、テトラプロピレングリコールメタアクリレート、メトキシトリプロピレングリコールメタアクリレート、メトキシテトラプロピレングリコールメタアクリレート、エトキシテトラプロピレングリコールメタアクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコールメタアクリレート、n-ブトキシテトラプロピレングリコールメタアクリレート、n-ペンタキシテトラプロピレングリコールメタアクリレート、ポリテトラメチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、エトキシポリエチレングリコールメタアクリレート等の、末端にアルコキシ基を有しポリオキシアルキレン鎖を有するモノメタアクリレート;フェノキシジエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシトリエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタアクリレート、フェノキシテトラプロピレンエチレングリコールメタアクリレート等の、末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系メタアクリレートが挙げられる。ヒドロキシル基を有するメタアクリレート類の例としては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタアクリレート、2-アクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシエチルフタル酸、グリセロールモノメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-アクリロイルオキシプロピルメタアクリレート、グリセロールメタアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート、ジエチレングリコールモノメタアクリレート、トリエチレングリコールモノメタアクリレート、テトラエチレングリコールモノメタアクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ジプロピレングリコールモノメタアクリレート、トリプロピレングリコールモノメタアクリレート、テトラプロピレングリコールモノメタアクリレート、ポリテトラメチレングリコールメタアクリレート、ペンタエリスリトールモノメタアクリレート、ジペンタエリスリトールモノメタアクリレートなどがある。ポリウレタンポリメタアクリレートは、例えば、ジイソシアネートと水酸基を有するメタアクリレート類とを反応させて得られるもの、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有するメタアクリレート類と反応させて得られるものがある。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有するメタアクリレート類と反応させて得ることもできる。ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、1,6-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。水酸基を有するメタアクリレート類としては、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート,2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート等が挙げられる。イソシアネート基を有するメタアクリレート類としては、2-メタアクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタアクリロイルイソシアネート等が挙げられる。ポリエポキシポリメタアクリレートとしては、例えばエポキシ樹脂のエポキシ基にメタアクリル酸のカルボキシル基を反応させてメタアクリロイル基を導入したものであり、ノボラック型エポキシ樹脂のメタアクリル酸付加物等を挙げることができる。ポリエステルポリメタアクリレートとしては、例えばポリエステル樹脂の末端水酸基にメタアクリル酸のカルボキシル基を縮合反応させてメタアクリロイル基を導入したもの、もしくはポリエステル樹脂の末端カルボキシル基にメタアクリル酸グリコールエステル末端の水酸基を縮合反応させてメタアクリロイル基を導入したものなどを挙げることができる。本発明におけるスチレン-アクリル樹脂A1の、a1およびa2と共重合可能でアミノ基及びカルボキシル基を含まないメタアクリル酸エステル単量体a3の1種または2種以上を5~25重量含有することが望ましい。25重量より多いとa1およびa2の含有量が不足してしまい、光沢や密着性、脱墨性の劣化が起こる。5重量より少ないと、油性オフインキに対する密着性が不足する。a1およびa2と共重合可能でアミノ基及びカルボキシル基を含まないメタアクリル酸エステル単量体a3としては、油性オフインキに対する密着性からステアリルメタクリレートが好ましい。本発明におけるスチレン-アクリル樹脂A1の重量平均分子量としては、5000~12000のものを用いる。重量平均分子量が12000より大きいとワニスの粘度が大きくなりすぎてしまい、塗工適性のないものとなってしまう。重量平均分子量が5000より小さいと油性オフインキへの密着性が不足してしまう。スチレン-アクリル樹脂の合成方法は特に限定されず、溶液重合、懸濁重合、乳化重合など公知の方法で製造することができる。分子量は公知の方法、例えば重合開始剤、連鎖移動剤の種類や使用量、分離精製により調節が可能である。本発明におけるスチレン-アクリル樹脂A2の、a1については上記と同様であり、a1と共重合可能なアミノ基を有するメタアクリル酸単量体a4としては、2-N,N-ジメチルアミノエチルメタアクリレートや3-N,N-ジメチルアミノプロピルメタアクリレートなどのアミノ基を有するメタアクリレート類などが挙げられ、特に2-N,N-ジメチルアミノエチルメタアクリレートが好ましい。これらの1種または2種以上を5~30重量共重合させた、重量平均分子量が5000~12000のものを用いることが好ましい。30重量より多いとa1の含有量が不足してしまい、光沢の劣化が起こる。5重量より少ないと、オフセットインキへの密着性が不足する。本発明におけるメタアクリロイル基を少なくとも1個有する光重合性単量体Bとしては、分子内にメタアクリロイル基を少なくとも1個有するモノマー、オリゴマーなどが挙げられる。分子内にメタアクリロイル基を2個有するモノマーとしては、例えば、ビスフェノールAジメタアクリレート、ビスフェノールFジメタアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,3-ブチレングリコールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、グリセロールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、などがある。エチレンオキサイドEO又はプロピレンオキサイドPOで変性されたものとしては、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどが例示できる。分子内にメタアクリロイル基を3個以上有するモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,2,3-シクロヘキサンテトラメタアクリレート等の多価アルコールとメタアクリル酸とのエステル化合物;ポリウレタンポリメタアクリレート、ポリエステルポリメタアクリレート、ポリエーテルポリメタアクリレート、ポリアクリルポリメタアクリレート、ポリアルキッドポリメタアクリレート、ポリエポキシポリメタアクリレート、ポリスピロアセタールポリメタアクリレート、ポリブタジエンポリメタアクリレート、ポリチオールポリエンポリメタアクリレート、ポリシリコンポリメタアクリレート等の多官能のポリメタアクリレート化合物;多価アルコールと多塩基酸およびメタアクリル酸とから合成されるエステル化合物、たとえばトリメチロールエタン/コハク酸/アクリル酸=2/1/4モル比から合成されるエステル化合物等などがある。これらのエチレンオキサイドEO又はプロピレンオキサイドPOで変性されたものなども使用でき、トリメチロールプロパンEO変性トリメタアクリレートなどが例示できる。必要に応じて分子内にメタアクリロイル基を少なくとも1個有するモノマーも使用することができ、例えば、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレートなどのアルキルメタアクリレート;ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレートなどのアラルキルメタアクリレート;ブトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレートなどのアルコキシアルキルメタアクリレート;ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルのメタアクリル酸エステル;ヘキサエチレングリコールモノフェニルエーテルなどのポリアルキレングリコールモノアリールエーテルのメタアクリル酸エステル;その他イソボニルメタアクリレート;グリセロールメタアクリレート;2-ヒドロキシエチルメタアクリレートなどがある。エチレンオキサイドEO又はプロピレンオキサイドPOで変性されたものとしては、2-エチルヘキシルEO変性アクリレートなどが例示できる。本発明における光重合性単量体がメタアクリロイル基を少なくとも1個有する含窒素環状化合物としては、モルフォリンアクリレートやイソシアヌレート型アクリレート、イミドアクリレート、テトラメチルピペリジルメタクリレート、ペンタメチルピペリジルメタクリレート、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ジビニルエチレンウレア、1-ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトンなどが挙げられる。ワニス粘度や塗工適性を考慮すると、好ましくはモルフォリンアクリレートを用いる。分子内にメタアクリロイル基を少なくとも1個有するオリゴマーとしては、上記モノマーの1種または2種以上をイソシアネートやエポキシ基を介して適宜反応させて得られたものを用いることができる。上記光重合性単量体Bは、1種又は2種以上を用いることができる。光重合性単量体Bの配合量としてはワニス組成物中に50~85重量である。配合量が50より少ないとワニス粘度を下げることが困難になってしまう。85より多いとスチレン-アクリル樹脂A1の配合量が減ってしまうことで、光沢感が不足してしまう。好ましくはポリオキシアルキレンポリオール誘導体を用いる。光重合開始剤Cとしては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物などが使用できる。具体的には、モノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4-メチル-ベンゾフェノン、246-トリメチルベンゾフェノン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、4-4-メチルフェニルチオフェニル-エタノン、33 ́-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4-1,3-アクリロイル-1,3,3 ́-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4-13-アクリロイル-14710,13-ペンタオキソトリデシルベンゾフェノン、3,3 ́4,4 ́-テトラt-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、4-ベンゾイル-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、4-ベンゾイル-N,N-ジメチル-N-2-1-オキソ-2-プロペニルオキシエチルメタアンモニウムシュウ酸塩、2-/4-イソ-プロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-ヒドロキ-3-3,4-ジメチル-9-オキソ-9Hチオキサントン-2-イロキシ-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン-3-メチルナフト1,2-dチアゾリン等が挙げられる。ジカルボニル化合物としては、1,2,2-トリメチル-ビシクロ[211]ヘプタン-2,3-ジオン、ベンザイル、2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、メチル-α-オキソベンゼンアセテート、4-フェニルベンザイル等が挙げられる。アセトフェノン化合物としては、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-ジ2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-スチリルプロパン-1-オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,2-ジエトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-o-エトキシカルボニルオキシム、3,6-ビス2-メチル-2-モルホリノ-プロパノニル-9-ブチルカルバゾール等が挙げられる。ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイゾブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。アシルホスフィンオキシド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-n-プロピルフェニル-ジ2,6-ジクロロベンゾイルホスフィンオキシド等が挙げられる。アミノカルボニル化合物としては、メチル-4-ジメトキシアミノベンゾエート、エチル-4-ジメチルアミノベンゾエート、2-n-ブトキシエチル-4-ジメチルアミノベンゾエート、イソアミル-4-ジメチルアミノベンゾエート、2-ジメチルアミノエチルベンゾエート、4,4 ́-ビス-4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4 ́-ビス-4-ジエチルアミノベンゾフェノン、2,5 ́-ビス4-ジエチルアミノベンザルシクロペンタノン等が挙げられる。光重合開始剤の市販品としてはチバスペシャリティケミカルズ株製イルガキュア184、651、500、907、127、369、784、2959、BASF社製ルシリンTPO、日本シイベルヘグナー株製エサキュアワン等が挙げられる。光重合開始剤Cは、上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があれば、どのようなものでも構わない。これらの光重合開始剤は、一種類で用いられるほか、二種類以上を混合して用いてもよい。増感剤として、公知の有機アミン等を加えることもできる。さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかに、カチオン重合用の開始剤を併用することもできる。本発明で言う活性エネルギー線とは、電子線、紫外線あるいはγ線の如き、電離性放射線や電磁波などを総称するものである。上記光重合開始剤Cは、1種又は2種以上を用いることができる。光重合開始剤Cはワニス組成中に0~20重量用いる。光重合開始剤Cは電子線で硬化させる際には不要であり、またLED光源の紫外線により硬化させる場合には10~20重量必要とする。20重量より多いと塗膜中の開始剤の量が多すぎてしまい、耐擦性などの塗膜強度が不足してしまう。一般光源の紫外線により硬化させる場合には1~10重量必要とする。シリコーン系添加剤D1としては、慣用公知の添加剤を用い、シリコーン系添加剤であれば、例えばポリシロキサン、変性シリコーンオイル、トリメチルシロキシケイ酸を含有するポリシロキサン、シリコーン系アクリル樹脂等である。高分子系ワックス添加剤D2としては、例えばポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンやアマイド、カルナバなどが用いられる。これらの中でいずれも単独あるいは複数のものを組み合わせて使用することができる。シリコーン系添加剤D1および/または高分子系ワックス添加剤D2はワニス組成物中0.1~10重量用いる。0.1重量より少ないと、塗膜の耐擦過性やスリップ性が不足してしまい、反対に10重量より多いと塗工直後に泳ぎが発生したり、塗膜に曇が見られる場合がある。本発明の塗工方法としては、グラビアコート、グラビアリバースコート、マイクログラビアコート、グラビアオフセットコート、スピンコート、ロールコート、リバースロールコート、ダイコート、キスコート、ディップコート、シルクスクリーンコート、ワイヤーバーコート、フローコート、コンマコート、かけ流しコート、スプレーコート等の公知の手段が適用できる。好ましくは、溶剤希釈を必要としない手段である。溶剤希釈すると表面加工時に使用するポリオレフィンフィルムの柄層が徐々に溶解してしまい、該ポリオレフィンフィルムの繰返し使用回数が少なくなり、結果として加工費の上昇に繋がってしまう。本発明に用いる活性エネルギー線硬化型ワニスには、必要に応じて、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、防菌防かび剤、帯電防止剤等を配合することができる。紫外線吸収剤としては、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤等の有機系紫外線吸収剤、或いは酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムの微粒子からなる無機系紫外線吸収剤が挙げられる。光安定剤としては、HALSヒンダードアミン系光安定剤が挙げられる。具体的な例としては、ビス1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジニルセバケート、1-メチル-8-セバケート、デカン二酸ビス2,2,6,6-テトラメチル-1-オクチルオキシ-4-ピペリジニルエステル、ビス-[[3,5-ビス11-ジメチルエチル]-4-ヒドロキシフェニル]メチル-ブチルマロネート、コハク酸ジメチル-1-2-ヒドロキシエチル-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン重縮合物等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤HALSは、組成物中に任意の量で添加されても良いが、コスト面から組成物の全量を基準として05~5重量の範囲で添加されることが好ましい。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が挙げられる。防菌防かび剤としては、銀系無機化合物、バイナジン、プリベントール、チエベンダドール、ベンズイミダゾール、チアゾリルスルファミド化合物等が挙げられる。帯電防止剤としては、アルキルアミンサルフェート型、第4級アンモニウム塩型、ピリジニウム塩型等の陽性イオン型、アルキルベタイン型、アルキルイミダゾリン型等の両性イオン型がある。特に第4級アンモニウム塩型が好ましく、その例として低分子の界面活性剤、第4級アンモニウム塩基含有のアクリレート共重合体がある。その他、着色剤、滑剤、充填剤、潜在性硬化剤、難燃剤、赤外線吸収剤、触媒、重合促進剤、チキソトロピー剤、可塑剤等を配合することもできる。以下に実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施に限定されるものではない。なお、実施例中、部、はそれぞれ、重量部、重量を意味する。本発明に用いた活性エネルギー線硬化型ワニス中のスチレン-アクリル樹脂の合成方法を下記に示す。合成例溶剤に酢酸エチル、重合開始剤に2、2-アゾビスを用い、以下の単量体の配合で公知の溶液重合を行い、酢酸エチルを蒸発、乾固させて、固形のスチレン-アクリル樹脂A1-1~12、A2、A3を得た。重量平均分子量は重合開始剤の配合量により調節を行った。スチレン-アクリル樹脂A1A1-1:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=85/5/10の共重合体、重量平均分子量8000A1-2:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=70/5/25の共重合体、重量平均分子量8000A1-3:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=70/20/10の共重合体、重量平均分子量8000A1-4:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=90/5/5の共重合体、重量平均分子量8000A1-5:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=85/5/10の共重合体、重量平均分子量5000A1-6:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=85/5/10の共重合体、重量平均分子量12000A1-7:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=60/30/10の共重合体、重量平均分子量8000A1-8:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=95/0/5の共重合体、重量平均分子量8000A1-9:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=60/10/30の共重合体、重量平均分子量8000A1-10:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=78/20/2の共重合体、重量平均分子量8000A1-11:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=85/5/10の共重合体、重量平均分子量3000A1-12:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=85/5/10の共重合体、重量平均分子量14000スチレン-アクリル樹脂A2A2:スチレン/2-N,N-ジメチルアミノエチルメタクリレート=90/10の共重合体、重量平均分子量11000カルボキシル基およびアミノ基を含まないスチレン-アクリル樹脂A3A3:スチレン/メタクリル酸/ステアリルメタクリレート=90/0/10の共重合体、重量平均分子量11000実施例1合成したスチレン-アクリル樹脂A1-120重量を、トリメチロールプロパンEO変性トリアクリレートB140重量およびトリプロピレングリコールジアクリレートB233重量で加熱溶解する。その後室温に冷却し、α-ヒドロキシシクロヘキシルアセトフェノンC15重量を配合して溶解を確認した後、BYK-322D12重量を添加して攪拌し、ワニス1を得た。次に、紙基材面に上記ワニス1を5g/cm2の塗布量となるように塗布し、該塗工面にホログラム柄ポリオレフィンフィルムを貼り合わせた。紫外線高圧水銀ランプ、120W/cm、コンベアースピード20m/min、露光量60mJ/cm2に設定を該ポリオレフィンフィルムを透して塗布面のワニスに照射して硬化させた。その後に該ポリオレフィンフィルムを剥離させてホログラム柄塗工物を得た。実施例2~14、比較例1~10実施例2~14、比較例1~10で用いた活性エネルギー線硬化型ワニス2~24の配合を表1、表2に示す。上記のスチレン-アクリル樹脂A1-2~12、A2、A3、上記または下記の光重合性単量体B、光重合開始剤Cを用いてワニス2~24を得た。2光重合性単量体BB3:1,6-ヘキサンジオールEO変性ジアクリレート3光重合開始剤CC2:ジフェニル-2,4,6-トリメチルベンゾイルフォスフィンオキサイド4増感剤E1:ジエタノールメチルアミンワニス2~24を用い、実施例1と同一条件でホログラム柄塗工物を得た。尚、実施例13の硬化方法は、電子線照射装置で125kV、3Mrad、酸素濃度100ppm以下の条件で電子線を照射し硬化させた。また、実施例14および比較例10の硬化方法は、実施例1と同じく紫外線硬化であるが、紫外線の光源がLED松下電工株式会社製LED方式SPOT型紫外線照射装置AICURE、ランプヘッドANUJ61524のものを用いた。得られた塗工物について基材密着性、硬化性、光沢、耐擦過性、脱墨性の評価を行った。評価方法、及び測定方法を下記に示す。評価結果を表1に示す。尚、評価の実用レベルはいずれも4以上である<基材密着性>塗工1日後、塗工面に刃物で支持紙基材に達するまでの深さまで傷を付け、その上にセロハンテープを貼り合わせ、基材の垂直方向に勢いよく剥がした。塗工面の剥がれ具合を評価した。判定基準5:剥がれ無し4:ほとんど剥がれ無し3:若干剥がれ有り2:剥がれ有り1:全て剥がれる<硬化性>塗工1日後にMEKを浸み込ませた綿棒で塗工面を10回擦り、塗膜の侵食具合を目視で評価した。判定基準5:取られ無し4:ほとんど取られ無し3:若干取られ有り2:取られ有り1:全て取られる<光沢>光沢計にて塗工直後と1日後の光沢値を60°反射角で測定した。実用範囲は90以上とした。<耐擦過性>塗工1日後に、塗工面/塗工面を重ね合わせ、学振型摩擦試験機を用い500g荷重にて300回の摩擦を行い、塗工面の傷や取られ具合を評価した。判定基準5:取られ無し4:ほとんど取られ無し3:若干取られ有り2:取られ有り1:全て取られる<脱墨性>RIテスターを用いて油性オフセットプロセス4色を印刷した基材に上記ワニスを塗工し、乾燥を行う。その後60°C1週間強制乾燥させた試料を30×30mmに断裁し、専用の脱墨溶液に投入後20分間攪拌し、その際の紙基材の溶解具合を目視にて評価した。尚、専用の脱墨溶液は、150gの水に対し、3.75のNaOH液を0.7g、1.5に希釈した脱墨剤花王株式会社製DI7020相当品を0.7g加えたものである。判定基準5:溶け残り無し4:ほとんど溶け残り無し3:若干溶け残り有り2:溶け残り有り1:全て残る"