"ジオルガノジハロシランの製造方法であって、少なくとも2つの金属を含む金属触媒の存在下で、300~800°Cの温度で、式、RSiX3Iによるオルガノトリハロシランを水素と接触させてジオルガノジハロシランを形成する工程を含み、式中、RはC1~C10ヒドロカルビルであり、Xはハロであり、前記少なくとも2つの金属のうちの2つが、i銅及びパラジウム、ii銅及び金、iiiインジウム及びイリジウム、又はivイリジウム及びレニウムから選択される、方法。前記ジオルガノジハロシランは、式R2SiX2に従う、請求項1に記載の方法。ジオルガノジハロシランを回収する工程を更に含む、請求項1又は2に記載の方法。Rはメチルであり、Xは塩素である、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。前記接触する工程は、0~120kPagの圧力におけるものである、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。前記温度は400~700°Cである、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。前記金属触媒が担体を更に含む、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。前記金属触媒は0.1~35w/wの金属を含む、請求項7に記載の方法。前記担体は炭素である、請求項8に記載の方法。前記オルガノトリハロシランに対する前記水素の前記モル比は、3~400である、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。前記オルガノトリハロシランと水素は、0.01秒間~10分間の接触時間を有する、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。前記オルガノトリハロシランと水素とを接触させた後、前記金属触媒を再生する工程を更に含む、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。前記水素と前記オルガノトリハロシランとを前記金属触媒の存在下で接触させる工程に先立って、前記金属触媒を水素で処理することにより、前記金属触媒を活性化する工程を更に含む、請求項1~12のいずれか一項に記載の方法。前記少なくとも2つの金属のうちの前記2つが、銅及びパラジウムである、請求項1~13のいずれか一項に記載の方法。前記少なくとも2つの金属のうちの前記2つが、銅及び金である、請求項1~13のいずれか一項に記載の方法。前記少なくとも2つの金属のうちの前記2つが、銅インジウム及びイリジウムである、請求項1~13のいずれか一項に記載の方法。前記少なくとも2つの金属のうちの前記2つが、イリジウム及びレニウムである、請求項1~13のいずれか一項に記載の方法。したがって、ゼロ価のケイ素の直接使用を回避し、高価な大量の副生成物の処分を必要としない、より経済的なジオルガノジハロシラン類を生産する方法に対する必要性が存在する。本発明は、少なくとも2つの金属を含む金属触媒の存在下で、300~800°Cの温度で、式、RSiX3Iによるオルガノトリハロシランを水素と接触させてジオルガノジハロシランを形成する工程を含み、式中、RはC1~C10ヒドロカルビルであり、Xはハロであり、少なくとも2つの金属のうちの2つが、i銅及びパラジウム、ii銅及び金、iiiインジウム及びイリジウム、又はivイリジウム及びレニウムから選択される、ジオルガノジハロシランの製造方法を目的とする。本発明の方法は、ゼロ価のケイ素を直接採用しないので、この方法は、ジオルガノジハロシランを生産するための、当該技術分野における他の方法よりも経済的であり、エネルギーがより少なくて済む場合がある。この方法は、大量のアルミニウム又は塩化亜鉛を生産することに関する処分の問題も有しない。本発明の方法によって生産されるジオルガノジハロシラン類は、既知のプロセスで加水分解され、多くの産業及び応用で用途が見出されるポリシロキサン類を生産することもある。ジオルガノジハロシランの製造方法であって、少なくとも2つの金属を含む金属触媒の存在下で、300~800°Cの温度で、式、RSiX3Iによるオルガノトリハロシランを水素と接触させてジオルガノジハロシランを形成する工程を含み、式中、RはC1~C10ヒドロカルビルであり、Xはハロであり、少なくとも2つの金属のうちの2つが、i銅及びパラジウム、ii銅及び金、iiiインジウム及びイリジウム、又はivイリジウム及びレニウムから選択される、方法。オルガノトリハロシランは、式、RSiX3Iに従い、式中、RはC1~C10ヒドロカルビルであり、Xはハロであり、例えば、クロロ、ブロモ、フルオロ、又はヨードである。Rで表わされるヒドロカルビル基は、典型的には、1~10個の炭素原子、あるいは1~6個の炭素原子、あるいは1~4個の炭素原子、あるいは1個の炭素原子を有する。非環式ヒドロカルビル基は、少なくとも3つの炭素原子を含有し、分枝状構造又は無分枝状構造を有することができる。ヒドロカルビル基の例としては、メチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル、ブチル、1-メチルプロピル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルエチル、ペンチル、1-メチルブチル、1-エチルプロピル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、1,2-ジメチルプロピル、2,2-ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、及びデシルなどのアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びメチルシクロヘキシルなどのシクロアルキル、フェニル、及びナプチルなどのアリール、トリル及びキシリルなどのアルカリル、ベンジル、及びフェネチルなどのアラルキル、ビニル、アリル、及びプロペニルなどのアルケニル、スチリル、及びシンナミルなどのアラルケニル、並びにエチニル及びプロイニルなどのアルキニルが挙げられるが、これらに限定されない。オルガノトリハロシランの例としては、メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモシラン、メチルトリフルオロシラン、メチルトリヨードシラン、エチルトリクロロシラン,エチルトリブロモシラン、エチルトリフルオロシラン、エチルトリヨードシラン、プロピルトリクロロシラン、プロピルトリブロモシラン、プロピルトリフルオロシラン、プロピルトリヨードシラン、ブチルトリクロロシラン、ブチルトリブロモシラン、ブチルトリフルオロシラン、ブチルトリヨードシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリブロモシラン、フェニルトリフルオロシラン、フェニルトリヨードシラン、ベンジルトリクロロシラン、ベンジルトリブロモシラン、ベンジルトリフルオロシラン、及びベンジルトリヨードシランが挙げられる。一実施形態では、オルガノトリハロシランは、メチルトリクロロシランである。オルガノトリハロシラン類の製造方法は、当該技術分野において既知である。数多くのこれらの化合物は、市販されている。金属触媒は、少なくとも2つの金属を含み、この少なくとも2つの金属のうちの2つは、i銅及びパラジウム、ii銅及び金、iiiインジウム及びイリジウム、又はivイリジウム及びレニウムのうちの少なくとも1つから選択される。一実施形態では、少なくとも2つの金属は、銅及びパラジウムである。金属の酸化数は、典型的には、0~4、あるいは0~2、あるいは0であり、銅の酸化数は、典型的には、0~2、あるいは0であり、金の酸化数は、典型的には0~3、あるいは0であり、インジウムの酸化数は、典型的には、0~3、あるいは0であり、イリジウムの酸化数は、典型的には、0~4、あるいは0であり、レニウムの酸化数は、典型的には、0~4、あるいは、0である。金属触媒は、典型的には、担体も含む。担体の例としては、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、及びケイ素の酸化物、並びに活性炭、カーボンナノチューブ、フラーレン、グラフェン、及び炭素の他の同素形などの炭素が挙げられるが、これらに限定されない。1つの実施形態においては、担体は、活性炭である。金属触媒の金属は、同じ担体上にあってもよく、又はともに混合された別個の担体上にあってもよい。金属触媒が担体を含む場合には、金属触媒は、典型的には、金属及び担体の総合重量に基づいて、0.1~100w/w未満、あるいは0.1~50w/w、あるいは0.1~35w/wの金属混合物を含む。i銅及びパラジウム、ii銅及び金、iiiインジウム及びイリジウム、又はivイリジウム及びレニウムのうちの少なくとも1つから選択された金属触媒の2つの金属の相互に対する重量比は、典型的には、10,000~0.0001、あるいは1000~0.001、あるいは100~0.01である。金属触媒は、塊、顆粒、フレーク、及び粉末を含むが、これらに限定されない、様々な物理形状を有することができる。金属触媒の例としては、0.5w/wのパラジウムと、33w/wの銅と、66.5w/wの活性炭;15w/wのパラジウムと、15w/wの銅と、70w/wの活性炭;33w/wのパラジウムと、0.5w/wの銅と、66.5w/wの活性炭;及び7.7w/wのパラジウムと、5.8w/wの銅と、86.5w/wの活性炭の活性炭担体上のゼロ価のパラジウム及びゼロ価の銅;0.5w/wの銅と、33w/wの金と、66.5w/wの活性炭;15w/wの銅と、15w/wの金と、70w/wの活性炭;33w/wの銅と、0.5w/wの金と、66.5w/wの活性炭;及び7.7w/wの銅と、5.8w/wの金と、86.5w/wの活性炭の活性炭担体上のゼロ価の銅及びゼロ価の金;0.5w/wのインジウムと、33w/wのイリジウムと、66.5w/wの活性炭;15w/wのインジウムと、15w/wのイリジウムと、70w/wの活性炭;33w/wのインジウムと、0.5w/wのイリジウムと、66.5w/wの活性炭;及び7.7w/wのインジウムと、5.8w/wのイリジウムと、86.5w/wの活性炭の活性炭担体上のゼロ価のインジウム及びゼロ価のイリジウム;並びに0.5w/wのレニウムと、33w/wのイリジウムと、66.5w/wの活性炭;15w/wのレニウムと、15w/wのイリジウムと、70w/wの活性炭;33w/wのレニウムと、0.5w/wのイリジウムと、66.5w/wの活性炭;及び7.7w/wのレニウムと、5.8w/wのイリジウムと、86.5w/wの活性炭の活性炭担体上のゼロ価の銅及びゼロ価のイリジウムを含むが、これらに限定されない。金属触媒は、塩化パラジウム及び塩化第一銅などの金属塩を、水又は酸などの溶媒中に溶解し、この溶液を、活性炭などの担体に塗布し、担体表面上の塩を還元することによって担体上に調製されてもよい。例えば、塩化パラジウムII、及び塩化銅IIは、塩酸中に溶解され、活性炭と混合することができる。次いで、過剰の溶液を除去し、活性炭、PdCl2、及びCuCl2混合物を乾燥させることができる。次いで、PdCl2及びCuCl2を、水素により、典型的に約500°Cの高温で、活性炭上で還元して金属触媒を得ることができる。金属触媒を調製するために、添加と還元との順序、及び塩の多段階添加、並びにそれに続く還元もまた行うことができることを当業者は理解するであろう。例えば、担体上でパラジウム塩を還元し、銅塩を別個の担体上で還元し、続いてこれら2つの担体を混合することによって金属触媒が調製されてもよいことが企図される。担持触媒の製造方法は、以下の実施例の項にも詳細に記載されている。本発明の方法のための反応器は、気体と液体とを結合するために適した任意の反応器とすることができる。例えば、反応器の構成は、充填床、撹拌床、振動床、移動床、流動床、又は反応管とすることができる。反応を促進するために、反応器には、反応領域の温度を制御する手段が必要である。水素とオルガノトリハロシランとが、金属触媒の存在下で接触する温度は、典型的には、300~800°C、あるいは400~700°C、あるいは500~700°Cである。水素及びオルガノトリハロシランが、金属触媒の存在下で接触する圧力は、大気圧より低くすること、大気圧とすること、又は大気圧より高くすることができる。例えば、圧力は、典型的には、0~1000キロパスカルゲージkPag、あるいは0~500kPag、あるいは0~120kPagである。本明細書で使用するとき、0kPagは、大気圧を意味することが意図される。オルガノトリハロシランに対する水素のモル比は、典型的には、1~2300、あるいは3~2000、あるいは3~1000、あるいは3~400である。水素及びオルガノトリハロシランに対する滞留時間は、ジオルガノジハロシランを形成するのに十分である。例えば、水素及びオルガノトリハロシランに対する十分な滞留時間は、典型的には、少なくとも0.01秒s、あるいは少なくとも0.1s、あるいは0.1s~10分min、あるいは0.1s~1min、あるいは1s~10sである。本明細書で使用するとき、滞留時間は、反応ガスすなわち、水素及びオルガノトリハロシランの1反応器容量が金属触媒を充填した反応器を通過する時間を意味する。望ましい滞留時間は、水素及びオルガノトリハロシランの流量を調節することにより達成されてもよい。水素及びオルガノトリハロシランは、典型的には、反応器へ同時に供給されるが、しかしながら、別個のパルスなどによる他の混合方法も想定される。金属触媒の量は、触媒的に有効な量である。本明細書で使用するとき、触媒的に有効な量は、以下に記載される、金属触媒の存在下で水素及びオルガノトリハロシランが接触するときに、ジオルガノジハロシランを形成するための金属触媒の十分な量である。例えば、触媒的に有効な量の金属触媒は、典型的には、少なくとも0.01mg触媒/cm3の反応器容積、あるいは少なくとも0.5mg触媒/cm3の反応器容積、あるいは1~10,000mg触媒/cm3の反応器容積である。本発明の方法は、連続的に行われてもよく、準連続的に行われてもよい。本明細書で使用するとき、連続的には、反応を続けるために、必要に応じて、金属触媒、オルガノトリハロシラン、及び水素が、反応器へと加えられ、製品、未反応開始材料、及び副生成物が生産されるのとともに除去されることを意味する。本明細書で使用するとき、準連続的には、プロセスが停止され、次いで後で再開される時点までに、オルガノトリハロシラン及び水素が、金属触媒を収容する反応器へと供給される一方で、ジオルガノジハロシラン製品、オルガノトリハロシラン、水素、及びあらゆる副生成物が除去されることを意味する。本発明の方法は、典型的には、準連続ベースで行われる。この方法は、典型的には、ジオルガノジハロシランの生産速度が、所定の限界よりも下に下がるまで行われ、その時点で金属触媒は、交換又は再生される。例えば、この方法は、典型的には、同一運転に対して、ジオルガノジハロシランの生産速度が95より下に下がるまで、あるいは85より下に下がるまで、あるいは初期のジオルガノジハロシラン生産速度の10~85になるまで行われる。初期のジオルガノジハロシラン生産速度は、同一運転のより早い時期のジオルガノジハロシラン生産速度であり、特定の運転の最初のジオルガノジハロシランの生産速度とは異なる場合がある。例えば、初期のジオルガノジハロシラン生産速度は、プロセスが最初に安定状態に達したときの速度であってもよい。本発明の方法は、金属触媒がオルガノトリハロシラン及び水素に接触した後、金属触媒を再生することも含んでもよい。金属触媒は、金属触媒を、HCl又はCl2などの、ヒドロクロリン化剤又は塩素化剤と接触させることにより、再生されてもよい。金属触媒は、典型的には、100~800°C、あるいは200~600°C、あるいは250~550°Cの温度で、大気圧から大気圧より高い圧力まで、あるいは0~2000kPag、あるいは5~500kPagで、ヒドロクロリン化剤と接触する。金属触媒の再生は、上に記載及び例示されたように、反応器内で行われてもよい。金属触媒の再生は、典型的には、ヒドロクロリン化剤と金属触媒との接触からケイ素化学種がほとんど又は全く生産されなくなるまで行われる。次いで、再生された金属触媒は、典型的には、本発明のプロセスに再度使用されてもよい。本発明の方法は、水素とオルガノトリハロシランとが接触するのに先立って反応器をパージすることを含んでもよい。本明細書で使用するとき、パージは、不必要な物資を除去するために、金属触媒を含む反応器にガス流を導入することを意味する。不必要な物質は、例えば、O2及びH2Oである。パージは、アルゴン、窒素、若しくはヘリウムなどの不活性ガス、又は水分と反応し、それによって水分を除去する、四塩化ケイ素などの反応性ガスによって達成されてもよい。本発明の方法は、金属触媒の存在下で水素とオルガノトリハロシランとを接触させるのに先立って金属触媒を活性化することも含んでもよい。金属触媒の活性化は、典型的には約500°Cの高温で、典型的には1~3時間の間、金属触媒を水素で処理することによって達成される。方法は、金属触媒の存在下で水素と接触するのに先立って、既知の方法で、オルガノトリハロシランを予熱すること、及びガス化することを更に含んでもよい。あるいは、プロセスは、触媒の存在下で接触するのに先立って、オルガノトリハロシランを蒸気化させるために、オルガノトリハロシランを通して水素をバブリングすることを更に含んでもよい。本発明の方法は、接触がポリシラン類の不在下で行われることを含んでもよい。ポリシラン類は、Si-Si結合を有する化合物である。プロセスは、ジオルガノジハロシランを回収することを、更に含んでもよい。ジオルガノジハロシランは、例えば、ガス状ジオルガノジハロシラン及び任意の他のガスを反応器から取り除き、次いでジオルガノジハロシランを蒸留により分離することによって、回収されてもよい。本発明の方法は、式、R2SiX2を有するジオルガノジハロシランを生産し、式中、R及びXは、オルガノトリハロシランに対して上記で定義及び例示されたものである。本プロセスにより調製されたジオルガノジハロシラン類の例としては、CH32SiCl2、CH32SiBr2、CH32SiI2、CH3CH22SiCl2、CH3CH22SiBr2、CH3CH22SiI2、CH3CH2CH22SiCl2、CH3CH2CH22SiBr2、CH3CH2CH22SiI2、CH3PhSiCl2、CH3PhSiBr2、CH3PhSiI2、CH3CH2PhSiCl2、CH3CH2PhSiBr2、CH3CH2PhSiI2、CH3CH2CH2PhSiCl2、CH3CH2CH2PhSiBr2、及びCH3CH2CH2PhSiI2式中、Phはフェニルを意味する、が挙げられるが、これらに限定されない。本発明の方法は、水素及びオルガノトリハロシランからジオルガノジハロシランを生産する。この方法はゼロ価のケイ素を直接的に使用しないので、この方法は、ゼロ価のケイ素を直接的に使用する方法よりも少ないエネルギーを使用し、より経済的にジオルガノジハロシランを生産することもある。更に、本発明のプロセスは、処分を必要とする大量の金属の副生成物を生産しない。本発明のプロセスは、ポリシロキサン類を生産するための既知のプロセスで加水分解することができる、ジオルガノジハロシランを生産する。ポリシロキサン類は、多くの産業及び応用で用途を見出す。下記の実施例は、本発明の方法をよりよく説明するために示されるものであり、添付の特許請求の範囲内において示される発明を制限するものと考えられるべきではない。特に断りのない限り、実施例に記録されるすべての部及び百分率は重量による。次の表において、実施例で使用される略称を説明する。触媒の生産方法金属塩化物は、水中又は塩酸中で溶解された。この溶液は、活性炭と混合され、20~30分間真空を受けた。過剰な液体は、デカントされ、残った活性炭及び金属塩は、炉内で120~150°Cで乾燥させた。炉で乾燥させた約0.5gの活性炭及び金属塩は、端部が解放されたガラス管に入れられ、1インチ2.54cmのLindberg/BlueMinimite管状炉内に入れられ、30~40sccmのH2と500°Cで2時間、又は5~10sccmのH2と450°Cで約15時間、接触させた。H2は、Airgasからの超高純度のものであった。水素の流量は、MKS1179A質量流量コントローラで制御された。反応装置反応装置は、金属触媒を定位置に保持するための石英ウールを有する、端部が解放されたガラス管を備える。この管は、1インチ2.54cmLindberg/BlueMinimite管状炉、及びガス流を制御するMKS1179A質量流量コントローラを備える流通反応器に接続された。高い圧力での運転で、ガラス管は、このガラス管が適合するためにちょうど十分な内径を有する、鋼管内に挿入された。外側の周りのガスの流れを避けるために、Oリングがこのガラス管の上から入り口に適合された。GO調整器からの背圧調整器0~500psi0~3.45MPaは、管状炉の出口において反応器に取り付けられた。試薬水素は、AirgasRadnor,PAからの、超高純度のものであった。活性炭及び金属塩は、SigmaAldrichMilwaukee,WIから購入した。メチルトリクロロシランは、SigmaAldrichMilwaukee,WIからの99のものであった。生成物の分析生成物及び副生成物を含む反応器からの流出物を、廃棄前に、100μLの一定量の注入ループを有する6方作動バルブViciを通した。注入バルブを作動させて試料を反応流から採取し、分析のために100μLの試料を、分析用にTCD及びFIDを備えたAgilentの6890A型GCの注入口に直接通した。流量メチルトリクロロシランの流量比は、蒸気化可能な液体を含むバブラーの動作、並びに標準温度及び圧力における水素の流量を左右する、既知の熱力学の原理を使用して判定された。実施例1流通反応器内で、活性炭上の7.7w/wのPd及び5.8w/wCuを含む、約0.5gの触媒をガラス管内に入れた。金属触媒の活性化は、10sccmのH2によって、450°Cで、約15時間行われた。反応器の温度は、約400°Cに下げられ、MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって反応が開始された。試料は、反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと注入された。反応は、以下の条件、すなわち水素流量、及びMeSiCl3バブラー温度、を変えながら実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。CH32SiCl2が、この条件で生産され、表2に示される結果が得られた。実施例2流通反応器内で、活性炭上の17w/wのPd及び1.2w/wCuを含む、約0.5gの触媒がガラス管内に入れられた。金属触媒の活性化は、75sccmのH2によって、500°Cで、約2.5時間行われた。反応器の温度が、約300°Cに下げられ、MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって反応が開始された。試料は、反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと注入された。反応は、以下の条件、すなわち反応温度、水素流量、及びMeSiCl3バブラー温度、を変えながら実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。CH32SiCl2が、この条件で生産され、表3に示される結果が得られた。実施例3流通反応器内で、活性炭上の20.1w/wのAu及び1.9w/wのCuを含む、約0.8gの触媒がガラス管内に入れられた。金属触媒の活性化は、10sccmのH2によって、450°Cで、約15時間行われた。反応器の温度が、約300°Cに下げられ、MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって反応が開始された。試料は、反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと注入された。反応は、以下の条件、すなわち反応温度、水素流量、及びMeSiCl3バブラー温度、を変えながら実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。CH32SiCl2が、この条件で生産され、表4に示される結果が得られた。実施例4流通反応器内で、活性炭上の5.6w/wのIr及び0.5w/wのInを含む、約0.5gの触媒がガラス管内に入れられた。金属触媒の活性化は、100sccmのH2によって、500°Cで、約2時間行われた。MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって、反応が開始された。試料は、反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと注入された。反応は、以下の条件、すなわち反応温度、水素流量、及びMeSiCl3バブラー温度、を変えながら実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。CH32SiCl2が、この条件で生産され、表5に示される結果が得られた。実施例5流通反応器内で、活性炭上の2.2w/wのIr及び1.9w/wのReを含む、約0.5gの触媒をガラス管内に入れた。金属触媒の活性化は、100sccmのH2によって、500°Cで、約2時間行われた。MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって、反応が開始された。試料は、反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと注入された。反応は、以下の条件、すなわち反応温度、水素流量、及びMeSiCl3バブラー温度、を変えながら実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。CH32SiCl2が、この条件で生産され、表6に示される結果が得られた。比較実施例1流通反応器内で、活性炭上の17.1w/wのCuを含む、約1.0gの触媒がガラス管内に入れられた。金属触媒の活性化が、6sccmのH2によって、400°Cで、約15時間、次いで40sccmのH2によって、2時間行われた。反応器の温度が、約200°Cに下げられ、MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって反応が開始された。反応は、500°Cにおいて、24.9°CのMeSiCl3バブラー温度で、6sccmのH2で実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。3つの試料が反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと異なる時点で注入された。CH32SiCl2が、1未満の収率割合で生産された。比較実施例2流通反応器内で、活性炭上の16.9w/wのAuを含む、約0.8gの触媒をガラス管内に入れた。金属触媒の活性化は、6sccmのH2によって、450°Cで、約15時間行われた。反応器の温度が、約300°Cに下げられ、MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって反応が開始された。反応は、300°Cにおいて、6sccmの水素流量で、26.7°CのMeSiCl3バブラー温度で、実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。試料が反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと注入され、CH32SiCl2が、0.2の収率で生産された。比較実施例3流通反応器内で、活性炭上の18.8w/wのIrを含む、約0.6gの触媒をガラス管内に入れた。金属触媒の活性化は、10sccmのH2によって、450°Cで、約15時間行われた。反応器の温度が、約300°Cに下げられ、MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって反応が開始された。試料は、反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと注入された。反応は、反応温度を400~700°Cに、水素流量を5~10sccmに、MeSiCl3バブラー温度を-13~28°Cに変化させながら実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。CH32SiCl2は、1.6未満の収率で生産された。比較実施例4流通反応器内で、活性炭上の22.6w/wのInを含む、約0.5gの触媒をガラス管内に入れた。金属触媒の活性化は、100sccmのH2によって、500°Cで、約2時間行われた。MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって、反応が開始された。反応は、600°Cの反応温度で、1000sccmの水素流量で、23°CのMeSiCl3バブラー温度で実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。試料は、反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと注入された。CH32SiCl2は、0.2の収率で生産された。比較実施例5流通反応器内で、活性炭上の5.9w/wのReを含む、約0.6gの触媒をガラス管内に入れた。金属触媒の活性化は、10sccmのH2によって、450°Cで、約15時間行われた。反応器の温度が、200°Cに下げられ、MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって反応が開始された。反応は、反応温度を300~500°Cで変化させながら、水素流量は10sccmで、MeSiCl3バブラー温度を-15~28°Cで変化させながら実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。試料は、反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと注入された。CH32SiCl2は、1.7の最高収率で生産された。比較実施例6流通反応器内で、活性炭上の9.2w/wのPd及び1.1w/wのRhを含む、約0.5gの触媒をガラス管内に入れた。金属触媒の活性化は、5sccmのH2によって、450°Cで、約15時間行われた。反応器の温度が、約300°Cに下げられ、MeSiCl3バブラーを介してH2を通すことによって反応が開始された。試料は、反応流から採取され、オンライン切り替えバルブを使用して分析するためにGC内へと注入された。反応は、以下の条件、すなわち反応温度、水素流量、及びMeSiCl3バブラー温度、を変えながら実行された。金属触媒の活性化及び反応は、系に対して背圧を印加せずに行われた。CH32SiCl2は、様々な温度条件、及び収率で生産された。"