ワークピース上の結露を防ぐためのシステムであって、イオンビームを形成するように構成されたソースと、上記イオンビームを質量分析するように構成されたビームラインアセンブリと、第1環境に繋がる終端部であって、上記イオンビームからのイオン注入時に、上記ワークピースをクランプして、冷却するように構成された、冷凍された静電チャックを有する終端部と、上記終端部に動作可能に接続され、上記第1環境および当該第1環境よりも高い露点を持つ第2環境と選択的流体連通しているロードロックチャンバであって、上記ワークピースの温度を測定するように構成されたワークピース温度監視装置を有する、ワークピースを受け取るためのプラテンを備えるロードロックチャンバと、上記第2環境の温度および相対湿度を測定するように構成された外部監視装置と、上記ワークピース温度監視装置および上記外部温度監視装置からのデータに基づいて、上記ロードロックチャンバから上記第2環境へと上記ワークピースが搬送される時に、上記ワークピース上に結露が生じない場合の上記ワークピースの温度を判断するように構成された制御装置とを備えていることを特徴とするシステム。上記終端部から上記ロードロックチャンバと、上記ロードロックチャンバから上記第2環境とに上記ワークピースを搬送するように構成された1つ以上の搬送機構を備えていることを特徴とする請求項1に記載のシステム。上記第2環境は、上記ロードロックチャンバとFOUPとの間の空中環境inairenvironmentを含むことを特徴とする請求項1に記載のシステム。ワークピース温度監視装置は、プラテンの表面に設けられた熱電対を備えていることを特徴とする請求項1に記載のシステム。上記プラテンは、上記熱電対に対応した被覆領域を備えており、上記熱電対は、上記ワークピースが上記プラテンに載置された時に、処理ガスから略遮断されることを特徴とする請求項4に記載のシステム。上記ロードロックチャンバと流体連通された乾燥ガス源であって、熱した乾燥ガスを上記ロードロックチャンバに対して供給するように構成された乾燥ガス源をさらに備えていることを特徴とする請求項1に記載のシステム。上記乾燥ガス源は、水素、ヘリウム、アルゴン、窒素、および他の気体のうち1つ以上を含むことを特徴とする請求項6に記載のシステム。上記乾燥ガス源は、水素4および窒素96で構成された生成ガスを含むことを特徴とする請求項7に記載のシステム。上記制御装置は、上記ワークピース温度監視装置および上記外部露点温度監視装置からのデータに基づいて、上記乾燥ガス源から選択的に乾燥ガスを供給するように構成されていることを特徴とする請求項6に記載のシステム。上記ロードロックチャンバと流体連通された乾燥ガス源をさらに備え、上記ロードロックチャンバは、低温イオン注入の後に上記ワークピースを加熱するための機構をさらに備えていることを特徴とする請求項1に記載のシステム。イオン注入システムのための結露軽減装置であって、第1環境および第2環境と選択的流体連通され、冷凍されたワークピースを上記第1環境から受け取り、当該ワークピースを上記第2環境に搬送するように構成されたロードロックチャンバであって、上記ワークピースがロードロックチャンバ内に載置された時に、当該ワークピースの温度を測定するように構成されたワークピース温度監視装置を備えたロードロックチャンバと、上記第2環境に設けられ、上記第1環境よりも高い露点を持つ上記第2環境の温度および相対湿度を測定するように構成された外部監視装置と、上記ワークピース温度監視装置および上記外部温度監視装置からのデータに基づいて、上記ロードロックチャンバから上記第2環境へと上記ワークピースが搬送される時に、上記ワークピース上に結露が生じない場合の上記ワークピースの温度を判断するように構成された制御装置とを備えていることを特徴とする結露軽減装置。上記ロードロックチャンバは、上記ワークピースを載置するプラテンを備え、上記ワークピース温度監視装置は、上記ワークピースが上記プラテン上に載置されている時に、当該ワークピースの下面に設けられる熱電対を備えていることを特徴とする請求項11に記載の結露軽減装置。上記プラテンは、上記熱電対に対応した被覆領域を備えており、上記熱電対は、上記ワークピースが上記プラテンに載置された時に、処理ガスから略遮断されることを特徴とする請求項12に記載の結露軽減装置。上記ロードロックチャンバと流体連通された乾燥ガス源であって、熱した乾燥ガスを上記ロードロックチャンバに対して供給するように構成された乾燥ガス源をさらに備えていることを特徴とする請求項11に記載の結露軽減装置。上記乾燥ガス源は、水素、ヘリウム、アルゴン、窒素、および他の気体のうち1つ以上を含むことを特徴とする請求項14に記載の結露軽減装置。上記乾燥ガス源は、水素4および窒素96で構成された生成ガスを含むことを特徴とする請求項15に記載の結露軽減装置。上記制御装置は、上記ワークピース温度監視装置および上記外部監視装置からのデータに基づいて、上記乾燥ガス源から選択的に乾燥ガスを供給するように構成されていることを特徴とする請求項14に記載の結露軽減装置。上記ロードロックチャンバと流体連通された乾燥ガス源をさらに備え、上記ロードロックチャンバは、低温イオン注入の後に上記ワークピースを加熱するための機構をさらに備えていることを特徴とする請求項11に記載の結露軽減装置。ワークピース上の結露を防ぐための方法であって、第1環境からロードロックチャンバへと上記ワークピースを搬送する工程と、上記ロードロックチャンバ内の上記ワークピースを加熱する工程と、上記ロードロックチャンバ内の上記ワークピースの温度を測定する工程と、第2環境の温度および相対湿度を測定する工程と、上記第2環境の露点を算出する工程と、上記ワークピースの温度が上記第2環境の露点よりも高くなった後、上記ロードロックチャンバ内から上記第2環境へと上記ワークピースを搬送する工程とを含むことを特徴とする方法。上記ロードロックチャンバ内の上記ワークピースの温度を測定する工程は、上記ワークピースの下面における1つ以上の位置の温度を測定する工程を含むことを特徴とする請求項19に記載の方法。上記ロードロックチャンバ内から上記第2環境へと上記ワークピースを搬送する工程は、上記ワークピースの温度が上記第2環境の露点よりも予め定めた値だけ高くなった後に発生することを特徴とする請求項19に記載の方法。上記ロードロックチャンバ内から上記第2環境へと上記ワークピースを搬送する工程は、上記ワークピースの温度が上記第2環境の露点よりも予め定めた値だけ高くなってから予め定めた時間が経過した後に発生することを特徴とする請求項19に記載の方法。