重合性液晶化合物、光重合開始剤、及び熱重合開始剤を含有する重合性液晶組成物において、該熱重合開始剤の10時間半減温度が70°C以上93°C以下であることを特徴とする重合性液晶組成物。熱重合開始剤が、シクロヘキサン環を有する請求項1記載の重合性液晶組成物。熱重合開始剤が、一般式a式中、シクロヘキサン環中の炭素原子は、窒素原子、酸素原子で置換されていても良く、水素原子は炭素原子数1から18のアルキル基で置換されていても良いで表される化合物である請求項2記載の重合性液晶組成物。重合性液晶化合物として、単官能重合性液晶化合物又は二官能重合性液晶化合物を用いる請求項1から3の何れか一項に記載の重合性液晶組成物。重合性液晶組成物が一般式I式中、Pは反応性官能基を表し、Spは炭素原子数1~20のスペーサー基を表し、mは0又は1を表し、MGはメソゲン基又はメソゲン性支持基を表し、R1は、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数1~25のアルキル基を表すが、該アルキル基は1つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する1つのCH2基又は隣接していない2つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、O、S、NH、N、CO、COO、OCO、OCOO、SCO、COS又はC≡Cにより置き換えられていても良く、あるいはR1は一般式Ia式中、Pは反応性官能基を表し、Spは炭素原子数1~20のスペーサー基を表し、mは0又は1を表す。で表される構造を表す。を表し、Spがアルキレン基を表し該アルキレン基は1つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する1つのCH2基又は隣接していない2つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、O、S、NH、N、CO、COO、OCO、OCOO、SCO、COS又はC≡Cにより置き換えられていても良い。、MGが一般式Ib式中、A1、A2及びA3はそれぞれ独立的に、14フェニレン基、14シクロヘキシレン基、14シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン25ジイル基、13ジオキサン25ジイル基、テトラヒドロチオピラン25ジイル基、14ビシクロオクチレン基、デカヒドロナフタレン26ジイル基、ピリジン25ジイル基、ピリミジン25ジイル基、ピラジン25ジイル基、1234テトラヒドロナフタレン26ジイル基、26ナフチレン基、フェナントレン27ジイル基、910ジヒドロフェナントレン27ジイル基、12344a910aオクタヒドロフェナントレン27ジイル基又はフルオレン27ジイル基を表し、該14フェニレン基、1234テトラヒドロナフタレン26ジイル基、26ナフチレン基、フェナントレン27ジイル基、910ジヒドロフェナントレン27ジイル基、12344a910aオクタヒドロフェナントレン27ジイル基及びフルオレン27ジイル基は置換基として1個以上のF、Cl、CF3、OCF3、シアノ基、炭素原子数1~8のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数2~8のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基又はアルケノイルオキシ基を有していても良く、Z0、Z1、Z2及びZ3はそれぞれ独立して、COO、OCO、CH2CH2、OCH2、CH2O、CHCH、C≡C、CHCHCOO、OCOCHCH、CH2CH2COO、CH2CH2OCO、COOCH2CH2、OCOCH2CH2、CONH、NHCO又は単結合を表し、nは0、1、2又は3を表す。で表される構造を表し、Pが一般式Ic又は、一般式Id式中、R21、R22、R23、R31、R32、R33はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1~5のアルキル基を表し、nは0又は1を表す。で表される置換基からなる群より選ばれる置換基を表す化合物であることを特徴とする請求項4記載の重合性液晶組成物。単官能重合性化合物が一般式II式中、Z3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、Z4は水素原子又はメチル基を表し、W3は単結合、O、COO又はOCOを表し、vは0~18の整数を表し、uは0又は1を表し、D、E及びFはそれぞれ独立的に、14-フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された14-フェニレン基、14-シクロヘキシレン基、1つ又は隣接しない2つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された14-シクロヘキシレン基、14-シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する14-フェニレン基は炭素原子数1~7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y6及びY7はそれぞれ独立的に単結合、CH2CH2、CH2O、OCH2、COO、OCO、C≡C、CHCH、CFCF、CH24、CH2CH2CH2O、OCH2CH2CH2、CHCHCH2CH2、CH2CH2CHCH、CHCHCOO、OCOCHCH、CH2CH2COO、CH2CH2OCO、COOCH2CH2又はOCOCH2CH2を表し、Y8は単結合、O、COO、OCO又はCHCHCOOを表すが、W3が単結合を表す場合vは2~18の整数を表す。で表される化合物であることを特徴とする請求項4記載の重合性液晶組成物。二官能重合性化合物が一般式III式中、Z5、Z6は水素原子、メチル基を表し、G、H及びIはそれぞれ独立的に、14-フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された14-フェニレン基、14-シクロヘキシレン基、1つ又は隣接しない2つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された14-シクロヘキシレン基、14-シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する14-フェニレン基は炭素原子数1~7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、mは0から3の整数を表し、W1及びW2はそれぞれ独立的に単結合、O、COO又はOCOを表し、Y1及びY2はそれぞれ独立的に単結合、COO、OCO、CH2CH2COO、CH2CH2OCO、COOCH2CH2、OCOCH2CH2を表し、r及びsはそれぞれ独立的に2~18の整数を表すが、式中に存在する14-フェニレン基は炭素原子数1~7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。で表される化合物であることを特徴とする請求項4記載の重合性液晶組成物。重合性液晶化合物として、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体又はシクロヘキサン誘導体を分子の中心の母核とし、直鎖のアルキル基、直鎖のアルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基がその側鎖として放射状に置換した構造である円盤状重合性液晶化合物を含有する請求項1から3の何れか一項に記載の重合性液晶組成物。円盤状重合性液晶化合物が一般式IV式中、R5はそれぞれ独立して一般式IVaで表される置換基を表す。式中、R6及びR7はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、R8は炭素原子数1~20アルコキシ基を表すが、該アルコキシ基中の水素原子は一般式Vb、一般式IVc又は一般式IVdで表される置換基によって置換されていても良い。式中、R81、R82、R83、R84、R85、R86はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1~5のアルキル基を表し、nは0又は1を表す。で表される構造を有することがさらに好ましく、一般式IVにおいてR8の内少なくとも一つは一般式IVb、一般式IVcで表される置換基によって置換されたアルコキシ基を表すことが好ましく、R8の全てが一般式IVb、一般式IVcで表される置換基によって置換されたアルコキシ基を表わすで表される請求項8記載の重合性液晶組成物。請求項1から9のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を硬化させた光学異方体。本願発明の目的は、基板に塗布した重合性液晶に、フォトマスクを介して活性エネルギー線を照射して、照射部分のみ重合性液晶を硬化させ、さらに基板を加熱することにより、未硬化状態にある重合性液晶を等方相状態にし、その状態で熱重合させて等方層を形成する工程など、重合性液晶の硬化のために活性エネルギー線の照射と加熱処理を併用する工程を用いて製造する光学素子において、ひび割れや段差、白濁の無い良質な状態を実現できる重合性液晶材料を提供することにある。上記目的を達成するために鋭意検討した結果、ひび割れや段差発生は加熱時における熱重合が進みにくいこと、また白濁は加熱時において、重合性液晶が等方性液体相に完全に転移する前に重合が進行しやすいことに関係していることを明らかにし、重合性液晶材料に特定の熱重合開始剤を添加すればよいことを見出し、本願発明の完成に至った。本願発明は、重合性液晶化合物、光重合開始剤、及び熱重合開始剤を含有する重合性液晶組成物において、該熱重合開始剤の10時間半減温度が70~93°Cであることを特徴とする重合性液晶組成物を提供する。本願発明の重合性液晶組成物を使用すると、熱重合時に発生するひび割れや段差、白濁を抑制でき、良質な光学素子が得られる。本発明において、熱重合開始剤の10時間半減温度とは、熱重合開始剤を10時間その温度においた場合において、半分の分子が分解する温度を意味する。本発明の重合性液晶組成物用いる熱重合開始剤の10時間半減温度は、70°C以上93°C以下であるが、80°C以上92°C以下が好ましく、85°C以上91°C以下が特に好ましい。70°Cより低いと熱重合開始剤が加熱途中で開始剤が開裂するラジカルを発生する可能性が高くなり、得られる光学フィルムが白濁する傾向がある。重合性液晶組成物の透明点より低い温度で、開始剤の開裂が起きると、その白濁は極めて大きくなってしまう。また、93°Cより高いと、加熱しても熱重合開始剤が開裂するタイミングが遅く、その際に望ましくない流動がおき、フィルムに段差が発生する傾向がある。また、熱重合開始剤の分子骨格に、シクロヘキサン環を有することが好ましい。シクロヘキサン環を有すると、重合性液晶材料との相溶性を確保することができる。このような化合物として、特に好ましいのは、式a式中、シクロヘキサン環中の炭素原子は、窒素原子、酸素原子で置換されていても良く、水素原子は炭素原子数1から18のアルキル基で置換されていても良いで表される化合物である。熱重合開始剤の重合性液晶組成物中の添加量は、013質量が好ましく、052質量が更に好ましく、0712質量が特に好ましい。添加量が少ないとひび割れや段差が発生しやすくなり、添加量が多いと重合性液晶組成物の液晶としての性質が損なわれやすくなる。更に、得られる硬化物において光散乱が大きくなってしまう。光重合開始剤としては、この技術分野で光重合開始剤として認識されているものであれば、特に制限なく使用することができる。このような光重合開始剤としては例えば、ベンジルジメチルケタール化合物であるIrgacure651BASFジャパン、α‐ヒドロキシアルキルフェノン化合物であるIrgacure184BASFジャパン、α‐アミノアルキルフェノン化合物であるIrgacure907BASFジャパン:式BIrgacure369BASFジャパン:式Cアシルフォスフィンオキシド化合物であるIrgacure819BASFジャパン:式Dオキシムエステル化合物であるIrgacureOXE01BASFジャパン:式Eをあげることができる。これらの中でも、活性エネルギー線の照射時における空気中での硬化性を確保するUVなどの活性エネルギー線の照射時に、窒素などの不活性ガスで置換をする必要がなくすことを可能にする観点から、α‐アミノアルキルフェノン化合物、もしくはオキシムエステル化合物を選択するのが好ましい。α‐アミノアルキルフェノン化合物としてはIrgacure907を選択するのが好ましく、オキシムエステル化合物としてはIrgacureOXE01を選択するのが好ましい。光重合開始剤の添加量は、活性エネルギー線の照射条件によって異なるが、重合性液晶組成物中において01~5質量が好ましく、1~4が更に好ましく、2~3が特に好ましい。本願発明の重合性液晶組成物に用いられる重合性液晶化合物としては一般式I式中、Pは反応性官能基を表し、Spは炭素原子数1~20のスペーサー基を表し、mは0又は1を表し、MGはメソゲン基又はメソゲン性支持基を表し、R1は、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数1~25のアルキル基を表すが、該アルキル基は1つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する1つのCH2基又は隣接していない2つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、O、S、NH、N、CO、COO、OCO、OCOO、SCO、COS又はC≡Cにより置き換えられていても良く、あるいはR1は一般式Ia式中、Pは反応性官能基を表し、Spは炭素原子数1~20のスペーサー基を表し、mは0又は1を表す。で表される構造を表す。で表される化合物が好ましい。一般式Iにおいて、Spがアルキレン基を表し該アルキレン基は1つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する1つのCH2基又は隣接していない2つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、O、S、NH、N、CO、COO、OCO、OCOO、SCO、COS又はC≡Cにより置き換えられていても良い。、MGが一般式Ib式中、A1、A2及びA3はそれぞれ独立的に、14フェニレン基、14シクロヘキシレン基、14シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン25ジイル基、13ジオキサン25ジイル基、テトラヒドロチオピラン25ジイル基、14ビシクロオクチレン基、デカヒドロナフタレン26ジイル基、ピリジン25ジイル基、ピリミジン25ジイル基、ピラジン25ジイル基、1234テトラヒドロナフタレン26ジイル基、26ナフチレン基、フェナントレン27ジイル基、910ジヒドロフェナントレン27ジイル基、12344a910aオクタヒドロフェナントレン27ジイル基又はフルオレン27ジイル基を表し、該14フェニレン基、1234テトラヒドロナフタレン26ジイル基、26ナフチレン基、フェナントレン27ジイル基、910ジヒドロフェナントレン27ジイル基、12344a910aオクタヒドロフェナントレン27ジイル基及びフルオレン27ジイル基は置換基として1個以上のF、Cl、CF3、OCF3、シアノ基、炭素原子数1~8のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数2~8のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基又はアルケノイルオキシ基を有していても良く、Z0、Z1、Z2及びZ3はそれぞれ独立して、COO、OCO、CH2CH2、OCH2、CH2O、CHCH、C≡C、CHCHCOO、OCOCHCH、CH2CH2COO、CH2CH2OCO、COOCH2CH2、OCOCH2CH2、CONH、NHCO又は単結合を表し、nは0、1、2又は3を表す。で表される構造を表し、Pが一般式Ic又は、一般式Id式中、R21、R22、R23、R31、R32、R33はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1~5のアルキル基を表し、nは0又は1を表す。で表される置換基からなる群より選ばれる置換基を表すことが好ましい。一般式Iで表される化合物のうち、重合性官能基を一つ有する化合物として具体的には一般式II式中、Z3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、Z4は水素原子又はメチル基を表し、W3は単結合、O、COO又はOCOを表し、vは0~18の整数を表し、uは0又は1を表し、D、E及びFはそれぞれ独立的に、14-フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された14-フェニレン基、14-シクロヘキシレン基、1つ又は隣接しない2つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された14-シクロヘキシレン基、14-シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する14-フェニレン基は炭素原子数1~7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y6及びY7はそれぞれ独立的に単結合、CH2CH2、CH2O、OCH2、COO、OCO、C≡C、CHCH、CFCF、CH24、CH2CH2CH2O、OCH2CH2CH2、CHCHCH2CH2、CH2CH2CHCH、CHCHCOO、OCOCHCH、CH2CH2COO、CH2CH2OCO、COOCH2CH2又はOCOCH2CH2を表し、Y8は単結合、O、COO、OCO又はCHCHCOOを表すが、W3が単結合を表す場合vは2~18の整数を表す。で表される化合物を含有させることが好ましい。一般式IIで表される化合物は、液晶下限温度を下げる効果を有するために有用であるが、その添加量は0~60が好ましく、0~50が更に好ましく、0~40が特に好ましい。添加量が多いと得られる光学フィルムの耐熱性を損なう傾向がある。一般式IIで表される化合物には、液晶性骨格を重合性官能基の間にスペーサーを有する化合物と有さない化合物を含む。一般式IIにおいて、W3が単結合以外の置換基を表し、vが2~18の整数を表す場合がスペーサーを有する化合物に相当し、具体的には以下の一般式II1から一般式II9で表される化合物が好ましい。式中、X1は水素原子又はメチル基を表し、Rは炭素原子数1から20のアルキル基を表す。。X1としては水素原子が好ましく、Sとしては3、4、6が好ましい。そのような化合物の中でも、式IV5、式IV1、式IV6の化合物が好ましい。式IV1の化合物の場合、Rとしてはメチル基が特に好ましい。一方、一般式IIにおいて、W3が単結合を表し、vが0を表す場合がスペーサーを有さない化合物に相当し、具体的に以下の構造が好ましい。式中、シクロヘキサン環はトランスシクロヘキサン環を表し、数字は相転移温度を表し、Cは結晶相、Nはネマチック相、Sはスメクチック相、Iは等方性液体相をそれぞれ表す。一般式Iで表される化合物のうち、重合性官能基を二つ有する化合物としては一般式III式中、Z5、Z6は水素原子、メチル基を表し、G、H及びIはそれぞれ独立的に、14-フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された14-フェニレン基、14-シクロヘキシレン基、1つ又は隣接しない2つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された14-シクロヘキシレン基、14-シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する14-フェニレン基は炭素原子数1~7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、mは0から3の整数を表し、W1及びW2はそれぞれ独立的に単結合、O、COO又はOCOを表し、Y1及びY2はそれぞれ独立的に単結合、COO、OCO、CH2CH2COO、CH2CH2OCO、COOCH2CH2、OCOCH2CH2を表し、r及びsはそれぞれ独立的に2~18の整数を表すが、式中に存在する14-フェニレン基は炭素原子数1~7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。で表される化合物が好ましい。更に具体的には以下に挙げることができる。式中、j、k、l及びmはそれぞれ独立的に2~18の整数を表す。以上のような化合物の中でも、III30であらわされる化合物が好ましい。III30は、溶解性に優れ、液晶下限温度がおよそ50~70°Cであるので組成物中の成分として有効である。組成物中の濃度として、5以上が好ましく、10以上が更に好ましく、15以上が特に好ましい。また、III9であらわされる化合物も好ましい。III9の化合物も溶解性に優れ、また配向性に優れるので組成物中の成分として有効である。組成物中の濃度として、5以上が好ましく、10以上が更に好ましく、15以上が特に好ましい。III30であらわされる化合物、およびIII9であらわされる化合物濃度の和は、10以上であることが好ましく、20以上であることが更に好ましく、30以上であることが特に好ましい。j、kは3、4、6である化合物を用いることが化合物製造コスト及び液晶温度範囲を適切に設定できる点から好ましい。また、本発明の重合性液晶組成物に円盤状化合物を添加しても良い。このような円盤状化合物としては、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体又はシクロヘキサン誘導体を分子の中心の母核とし、直鎖のアルキル基、直鎖のアルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基がその側鎖として放射状に置換した構造であることが好ましく、一般式IV式中、R5はそれぞれ独立して一般式IVaで表される置換基を表す。式中、R6及びR7はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、R8は炭素原子数1~20アルコキシ基を表すが、該アルコキシ基中の水素原子は一般式Vb、一般式IVc又は一般式IVdで表される置換基によって置換されていても良い。式中、R81、R82、R83、R84、R85、R86はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1~5のアルキル基を表し、nは0又は1を表す。で表される構造を有することがさらに好ましく、一般式IVにおいてR8の内少なくとも一つは一般式IVb、一般式IVcで表される置換基によって置換されたアルコキシ基を表すことが好ましく、R8の全てが一般式IVb、一般式IVcで表される置換基によって置換されたアルコキシ基を表すことが特に好ましい。さらに、一般式は具体的には一般式式中nは2~9の整数を表すで表される構造を有することが特に好ましい。本発明の重合性液晶組成物には、塗布したときに良好なプラナー配向を迅速に得ることを目的として、一般式V式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、該炭化水素基中の水素原子は1つ以上のハロゲン原子で置換されていても良い。で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が100以上である化合物を含有させることが好ましい。一般式Vで表される化合物は、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、パラフィン、流動パラフィン、塩素化ポリプロピレン、塩素化パラフィン、又は塩素化流動パラフィンが挙げられる。これ以外にも、フッ素原子が導入された化合物はムラ抑制の観点からも有効である。一般式Vで表される繰り返し単位を有する化合物のうち、好適な構造として、式Va~式Vfで表される繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。中でも、式Va~式Veで表される構造がより好ましく、式Va及び式Vcで表される構造が特に好ましい。又、式Va~式Vfで表される繰り返し単位を有する化合物を2種以上共重合させた共重合体も好ましい。この場合、式Va及び式Vbを有する共重合体、式Va及び式Vcを有する共重合体、式Va及び式Vfを有する共重合体、及び、式Va、Vb及び式Vfを有する共重合体がより好ましく、式Va及び式Vbを有する共重合体、及び、式Va、Vb及び式Vfを有する共重合体が特に好ましい。該化合物の重量平均分子量は、小さすぎるとチルト角を減じる効果が乏しくなり、大きすぎると配向が長時間安定しないため最適な範囲が存在する。具体的には、200~1000000であることが好ましく、300~100000であることがさらに好ましく、400~80000であることが特に好ましい。又、該化合物を、重合性液晶組成物中に0.01~5質量含有することが好ましく、0.05~2質量含有することがより好ましく、0.1~1質量含有することが特に好ましい。本発明の重合性液晶組成物はキラルネマチック相を得ることを目的としてキラル化合物を含有しても良い。キラル化合物のなかでも、分子中に重合性官能基を有する化合物が特に好ましい。キラル化合物中の重合性官能基としては、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。キラル化合物の添加量は、化合物の螺旋誘起力によって適宜調整することが必要であるが、12以下が好ましい。キラル化合物の具体的例としては、式の化合物が好ましい。この場合、nは2もしくは4が合成コストの観点からもっとも好ましい。重合性液晶組成物には、塗布した際に表面の平滑性を確保することを目的として、界面活性剤を添加することが好ましい。界面活性剤は、イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤の区別はない。含有することができる界面活性剤としては、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類、シリコーン誘導体等をあげることができ、特に含フッ素界面活性剤、シリコーン誘導体が好ましい。更に具体的にはMEGAFACF-110、MEGAFACF-113、MEGAFACF-120、MEGAFACF-812、MEGAFACF-142D、MEGAFACF-144D、MEGAFACF-150、MEGAFACF-171、MEGAFACF-173、MEGAFACF-177、MEGAFACF-183、MEGAFACF-195、MEGAFACF-824、MEGAFACF-833、MEGAFACF-114、MEGAFACF-410、MEGAFACF-493、MEGAFACF-494、MEGAFACF-443、MEGAFACF-444、MEGAFACF-445、MEGAFACF-446、MEGAFACF-470、MEGAFACF-471、MEGAFACF-474、MEGAFACF-475、MEGAFACF-477、MEGAFACF-478、MEGAFACF-479、MEGAFACF-480SF、MEGAFACF-482、MEGAFACF-483、MEGAFACF-484、MEGAFACF-486、MEGAFACF-487、MEGAFACF-489、MEGAFACF-172D、MEGAFACF-178K、MEGAFACF-178RM、MEGAFACR-08、MEGAFACR-30、MEGAFACF-472SF、MEGAFACBL-20、MEGAFACR-61、MEGAFACR-90、MEGAFACESM-1、MEGAFACMCF-350SF以上、DIC株式会社製、フタージェント100、フタージェント100C、フタージェント110、フタージェント150、フタージェント150CH、フタージェントA、フタージェント100AK、フタージェント501、フタージェント300、フタージェント310、フタージェント320、フタージェント400SW、FTX400P、フタージェント251、フタージェント215M、フタージェント212MH、フタージェント250、フタージェント222F、フタージェント212D、FTX218、FTX209F、FTX213F、FTX233F、フタージェント245F、FTX208G、FTX240G、FTX206D、FTX220D、FTX230D、FTX240D、FTX207S、FTX211S、FTX220S、FTX230S、FTX750FM、FTX730FM、FTX730FL、FTX710FS、FTX710FM、FTX710FL、FTX750LL、FTX730LS、FTX730LM、FTX730LL、FTX710LL以上、ネオス社製、BYK-300、BYK-302、BYK-306、BYK-307、BYK-310、BYK-315、BYK-320、BYK-322、BYK-323、BYK-325、BYK-330、BYK-331、BYK-333、BYK-337、BYK-340、BYK-344、BYK-370、BYK-375、BYK-377、BYK-350、BYK-352、BYK-354、BYK-355、BYK-356、BYK-358N、BYK-361N、BYK-357、BYK-390、BYK-392、BYK-UV3500、BYK-UV3510、BYK-UV3570、BYK-Silclean3700以上、ビックケミージャパン社製、TEGORad2100、TEGORad2200N、TEGORad2250、TEGORad2300、TEGORad2500、TEGORad2600、TEGORad2700以上、テゴ社製等の例をあげることができる。界面活性剤の好ましい添加量は、重合性液晶組成物中に含有される界面活性剤以外の成分や、使用温度等によって異なるが、重合性液晶組成物中に0.01~1質量含有することが好ましく、0.02~0.5質量含有することがさらに好ましく、0.03~0.1質量含有することが特に好ましい。含有量が0.01質量より低いときは膜厚ムラ低減効果が得にくい。一般式VIで表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が100以上である化合物の含有量と界面活性剤の含有量の合計が0.02~0.5質量であることが好ましく、0.05~0.4質量含有することがさらに好ましく、0.1~0.2質量含有することが特に好ましい。本発明の重合性液晶組成物には100~2000ppmの重合性禁止剤を含有させることが好ましい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β-ナフチルアミン類、β-ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。より具体的にはメトキシフェノール、26ジtertブチルフェノールを挙げることができる。本発明の光学異方体は、例えば、本発明の重合性液晶組成物を基板上に坦持させて、材料が配向した後、紫外線もしくは電子線を照射により硬化させることによって得ることができる。重合性液晶組成物を坦持させる場合には、重合性液晶組成物を溶媒に溶解させ、これを基板上に塗布し、さらに溶媒を揮発させる方法を挙げることができる。重合性液晶を溶剤に溶解させないで、そのまま、基板上に塗布することも可能である。好適な有機溶媒として例えばトルエン、キシレン、クメンなどのアルキル置換ベンゼンやプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、シクロヘキサノン、シクロペンンタノン等を挙げることができる。さらにこれらの溶媒にジメチルホルムアミド、γ-ブチロラクトン、Nメチルピロリジノン、メチルエチルケトン、酢酸エチル等を添加しても良い。溶媒を揮発させる方法としては60~150°C、さらに好ましくは80°C~120°Cでの加熱を、15~120秒、さらに好ましくは30~90秒の間行う方法を例示することができる。この加熱の他に、減圧乾燥を組み合わせることもできる。塗布の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。基板としてはガラスなどの無機材料、プラスチックフィルムなどの有機材料のどちらを使用しても良い。これらの基板は、配向処理を施すことが好ましい。配向処理としては、基板を布などで擦るラビング処理やポリイミドなどの有機薄膜を基板上に形成してからのラビング処理、もしくは光配向膜を基板上に形成してから更に偏光紫外線を照射する光配向処理などを挙げることができる。活性エネルギー線としては、電子線、UV光を使用することができる。UV光としては、波長280~360nmの光を使用できる。強度としては、1~100mWcm2が好ましく、2~50mWcm2が更に好ましく、5~30mWcm2が特に好ましい。照射エネルギーとしては5~200mJcm2が好ましく、10~150mJcm2が更に好ましく、20~120mJcm2が特に好ましい。活性エネルギー線をパターンマスクを通して照射する場合、パターンマスクと重合性液晶組成物層との距離は10~300μmが好ましく、50~200μmが更に好ましく、100~150μmが特に好ましい。距離が小さいほど、パターンの分解能は向上するが、小さくすると重合性液晶組成物層がマスクに付着してしまう危険がある。活性エネルギー線を照射した後の加熱処理温度は、100~240°Cが好ましく、150~235°Cが更に好ましく、180~230°Cが特に好ましい。加熱時間は10~80分が好ましく、20~70分が更に好ましく、30~60分が特に好ましい。加熱時間が短いと、熱重合が十分に進行せずに信頼性が悪化する傾向があり、加熱時間が長いと熱劣化が進行する傾向がある。以下、実施例を挙げて本願発明を更に詳述するが、本願発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、は質量を表す。正面位相差Reは大塚電子製のRETS100にて測定した波長は589nm。参考例1重合性液晶組成物の調製式III8aの液晶性アクリレート化合物1000式III9aの液晶性アクリレート化合物4000式III30aの液晶性アクリレート化合物2500式II30bの液晶性アクリレート化合物2500からなる重合性液晶組成物A0を調製した。さらに、重合性液晶組成物A0が97.54、流動パラフィンが03、レベリング剤FTX218株式会社ネオス社製が005、レベリング剤BYK333ビックケミージャパン社製が001、光重合開始剤IrgacureOXE01BASFジャパン社製が200、重合禁止剤pメトキシフェノールが010からなる重合性液晶組成物A1を調製した。実施例1参考例1で調製した重合性液晶組成物A1が9900、式aの熱重合開始剤11Azobisが1.00からなる重合性液晶組成物A2を調製した。式aの熱重合開始剤の10時間半減温度は、88°Cである。更に重合性液晶組成物A235、シクロペンタノン65からなる重合性液晶溶液A3を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート800回転分、15秒した。スピンコートした基板を80°Cで2分間加熱して溶媒を揮発させた後、2分間室温で放置した。この状態で重合性液晶組成物層を観察したところ、水平1軸配向していることが確かめられた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線バンドパスフィルターを通したもの。波長365nmにおいて強度20mWcm2を空気中でマスクパターン一部に1mmピッチのラインパターンを持つと通して031秒照射した。マスクパターンと重合性液晶組成物層の間の距離は150μmに保った。このようにして、一部に1mmの幅で紫外線が照射されたところと、1mmの幅で紫外線が未照射のところが繰り返された状態にした。これを230°Cのオーブンに1時間静置して、紫外線が未照射だった部分を熱重合させた。このようにして得られた光学異方体を室温まで冷却したのちに観察したところ、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、等方性液体相の状態で熱重合したために、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は338nmであった。実施例2実施例1において、UV照射時間を063秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は353nmであった。実施例3実施例1において、UV照射時間を125秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は377nmであった。実施例4実施例1において、UV照射時間を25秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は394nmであった。比較例1参考例1で調製した重合性液晶組成物A135、シクロペンタノン65からなる重合性液晶溶液B3を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート800回転分、15秒した。スピンコートした基板を80°Cで2分間加熱して溶媒を揮発させた後、2分間室温で放置した。この状態で重合性液晶組成物層を観察したところ、水平1軸配向していることが確かめられた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線バンドパスフィルターを通したもの。波長365nmにおいて強度20mWcm2を空気中でマスクパターン一部に1mmピッチのラインパターンを持つと通して031秒照射した。マスクパターンと重合性液晶組成物層の間の距離は150μmに保った。このようにして、一部に1mmの幅で紫外線が照射されたところと、1mmの幅で紫外線が未照射のところが繰り返された状態にした。これを230°Cのオーブンに1時間静置して、紫外線が未照射だった部分を熱重合させた。このようにして得られた光学異方体を室温まで冷却したのちに観察したところ、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、等方性液体相の状態で熱重合したために、位相差を持っていないことが確かめられた。しかし、パターン部にひび割れが多数観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は293nmであった。比較例2比較例1において、UV照射時間を063秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。パターン部にひび割れが観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は309nmであった。比較例3比較例1において、UV照射時間を125秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は325nmであった。比較例4比較例1において、UV照射時間を25秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は333nmであった。比較例5参考例1で調製した重合性液晶組成物A1が9900、式r1の熱重合開始剤22Azobisが1.00からなる重合性液晶組成物C2を調製した。式r1の熱重合開始剤の10時間半減温度は、60°Cである。更に重合性液晶組成物C235、シクロペンタノン65からなる重合性液晶溶液C3を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート800回転分、15秒した。スピンコートした基板を80°Cで2分間加熱して溶媒を揮発させた後、2分間室温で放置した。この状態で重合性液晶組成物層を観察したところ、水平1軸配向していることが確かめられた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線バンドパスフィルターを通したもの。波長365nmにおいて強度20mWcm2を空気中でマスクパターン一部に1mmピッチのラインパターンを持つと通して031秒照射した。マスクパターンと重合性液晶組成物層の間の距離は150μmに保った。このようにして、一部に1mmの幅で紫外線が照射されたところと、1mmの幅で紫外線が未照射のところが繰り返された状態にした。これを230°Cのオーブンに1時間静置して、紫外線が未照射だった部分を熱重合させた。このようにして得られた光学異方体を室温まで冷却したのちに観察したところ、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、等方性液体相の状態で熱重合したために、位相差を持っていないことが確かめられた。しかし、パターン部にひび割れが多数観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は278nmであった。比較例6比較例5において、UV照射時間を063秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。パターン部にひび割れは若干観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は308nmであった。比較例7比較例5において、UV照射時間を125秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は332nmであった。比較例8比較例5において、UV照射時間を25秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は354nmであった。比較例9参考例1で調製した重合性液晶組成物A1が9900、式r2の熱重合開始剤22Azobisが1.00からなる重合性液晶組成物D2を調製した。式r2の熱重合開始剤の10時間半減温度は、66°Cである。更に重合性液晶組成物D235、シクロペンタノン65からなる重合性液晶溶液D3を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート800回転分、15秒した。スピンコートした基板を80°Cで2分間加熱して溶媒を揮発させた後、2分間室温で放置した。この状態で重合性液晶組成物層を観察したところ、水平1軸配向していることが確かめられた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線バンドパスフィルターを通したもの。波長365nmにおいて強度20mWcm2を空気中でマスクパターン一部に1mmピッチのラインパターンを持つと通して031秒照射した。マスクパターンと重合性液晶組成物層の間の距離は150μmに保った。このようにして、一部に1mmの幅で紫外線が照射されたところと、1mmの幅で紫外線が未照射のところが繰り返された状態にした。これを230°Cのオーブンに1時間静置して、紫外線が未照射だった部分を熱重合させた。このようにして得られた光学異方体を室温まで冷却したのちに観察したところ、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、等方性液体相の状態で熱重合したために、位相差を持っていないことが確かめられた。しかし、パターン部にひび割れが多数観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は343nmであった。比較例10比較例9において、UV照射時間を063秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。パターン部にひび割れは観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は376nmであった。比較例11比較例9において、UV照射時間を125秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは若干観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は392nmであった。比較例12実施例9において、UV照射時間を25秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は419nmであった。比較例13参考例1で調製した重合性液晶組成物A1が9900、式r3の熱重合開始剤22AzobisN2methylpropionamideが1.00からなる重合性液晶組成物E2を調製した。式r3の熱重合開始剤の10時間半減温度は、96°Cである。更に重合性液晶組成物D235、シクロペンタノン65からなる重合性液晶溶液D3を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート800回転分、15秒した。スピンコートした基板を80°Cで2分間加熱して溶媒を揮発させた後、2分間室温で放置した。この状態で重合性液晶組成物層を観察したところ、水平1軸配向していることが確かめられた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線バンドパスフィルターを通したもの。波長365nmにおいて強度20mWcm2を空気中でマスクパターン一部に1mmピッチのラインパターンを持つと通して031秒照射した。マスクパターンと重合性液晶組成物層の間の距離は150μmに保った。このようにして、一部に1mmの幅で紫外線が照射されたところと、1mmの幅で紫外線が未照射のところが繰り返された状態にした。これを230°Cのオーブンに1時間静置して、紫外線が未照射だった部分を熱重合させた。このようにして得られた光学異方体を室温まで冷却したのちに観察したところ、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、等方性液体相の状態で熱重合したために、位相差を持っていないことが確かめられた。しかし、パターン部にひび割れが観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は335nmであった。比較例14比較例13において、UV照射時間を063秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。パターン部にひび割れが若干観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は359nmであった。比較例15比較例13において、UV照射時間を125秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は396nmであった。比較例16実施例13において、UV照射時間を25秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は408nmであった。比較例17参考例1で調製した重合性液晶組成物A1が9900、式r4の熱重合開始剤22Azobisが1.00からなる重合性液晶組成物F2を調製した。式r4の熱重合開始剤の10時間半減温度は、110°Cである。更に重合性液晶組成物F235、シクロペンタノン65からなる重合性液晶溶液F3を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート800回転分、15秒した。スピンコートした基板を80°Cで2分間加熱して溶媒を揮発させた後、2分間室温で放置した。この状態で重合性液晶組成物層を観察したところ、水平1軸配向していることが確かめられた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線バンドパスフィルターを通したもの。波長365nmにおいて強度20mWcm2を空気中でマスクパターン一部に1mmピッチのラインパターンを持つと通して031秒照射した。マスクパターンと重合性液晶組成物層の間の距離は150μmに保った。このようにして、一部に1mmの幅で紫外線が照射されたところと、1mmの幅で紫外線が未照射のところが繰り返された状態にした。これを230°Cのオーブンに1時間静置して、紫外線が未照射だった部分を熱重合させた。このようにして得られた光学異方体を室温まで冷却したのちに観察したところ、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、等方性液体相の状態で熱重合したために、位相差を持っていないことが確かめられた。しかし、パターン部にひび割れが観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は264nmであった。比較例18比較例17において、UV照射時間を063秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。パターン部にひび割れが観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は278nmであった。比較例19比較例17において、UV照射時間を125秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は295nmであった。比較例20実施例17において、UV照射時間を25秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は313nmであった。実施例5参考例1で調製した重合性液晶組成物A1が9950、式aの熱重合開始剤11Azobisが050からなる重合性液晶組成物G2を調製した。更に重合性液晶組成物G235、シクロペンタノン65からなる重合性液晶溶液G3を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート800回転分、15秒した。スピンコートした基板を80°Cで2分間加熱して溶媒を揮発させた後、2分間室温で放置した。この状態で重合性液晶組成物層を観察したところ、水平1軸配向していることが確かめられた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線バンドパスフィルターを通したもの。波長360nmにおいて強度20mWcm2を空気中でマスクパターン一部に1mmピッチのラインパターンを持つと通して031秒照射した。マスクパターンと重合性液晶組成物層の間の距離は150μmに保った。このようにして、一部に1mmの幅で紫外線が照射されたところと、1mmの幅で紫外線が未照射のところが繰り返された状態にした。これを230°Cのオーブンに1時間静置して、紫外線が未照射だった部分を熱重合させた。このようにして得られた光学異方体を室温まで冷却したのちに観察したところ、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、等方性液体相の状態で熱重合したために、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れが若干観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は337nmであった。実施例6実施例5において、UV照射時間を063秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは若干観察された。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は357nmであった。実施例7実施例5において、UV照射時間を125秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は384nmであった。実施例8実施例5において、UV照射時間を25秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられた。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は400nmであった。実施例9参考例1で調製した重合性液晶組成物A1が9950、式aの熱重合開始剤11Azobisが200からなる重合性液晶組成物H2を調製した。更に重合性液晶組成物H235、シクロペンタノン65からなる重合性液晶溶液H3を調製した。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板にスピンコート800回転分、15秒した。スピンコートした基板を80°Cで2分間加熱して溶媒を揮発させた後、2分間室温で放置した。この状態で重合性液晶組成物層を観察したところ、水平1軸配向していることが確かめられた。このようにして得られた重合性液晶組成物層に、高圧水銀ランプから発生する紫外線バンドパスフィルターを通したもの。波長360nmにおいて強度20mWcm2を空気中でマスクパターン一部に1mmピッチのラインパターンを持つと通して031秒照射した。マスクパターンと重合性液晶組成物層の間の距離は150μmに保った。このようにして、一部に1mmの幅で紫外線が照射されたところと、1mmの幅で紫外線が未照射のところが繰り返された状態にした。これを230°Cのオーブンに1時間静置して、紫外線が未照射だった部分を熱重合させた。このようにして得られた光学異方体を室温まで冷却したのちに観察したところ、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、等方性液体相の状態で熱重合したために、位相差を持っていないことが確かめられたが、若干の白濁があった。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は322nmであった。実施例6実施例9において、UV照射時間を063秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられたが、若干の白濁があった。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は353nmであった。実施例7実施例9において、UV照射時間を125秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられたが、若干の白濁があった。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は377nmであった。実施例8実施例5において、UV照射時間を25秒にした以外は同様にして実験を行った。得られた光学異方体において、重合性液晶材料は面積全体にわたって硬化していること、紫外線が未照射だった部分は、位相差を持っていないことが確かめられたが、若干の白濁があった。また、パターン部にひび割れは観察されなかった。UV照射した部分は光学異方性を持っており、位相差は387nmであった。以上の結果を表1にまとめた。これらの結果から、UV照射量が少ないと、ひび割れが誘起されやすいが、本発明の重合性液晶組成物はひび割れが起きにくく、良質な硬化膜が得られることがわかる。ひび割れの基準○:無、△:若干有、×:有、××:多数有