基材の表面に感光材を塗布し、露光現像せしめてレジストパターンを形成し、該基材及びレジストパターンの表面にDLC被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたDLC被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、基材の表面にDLCパターンを形成してなることを特徴とするパターン付ロール。前記感光材が塗布される基材が、Ni、ステンレス鋼、Ti、Cu、Alからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなることを特徴とする請求項1記載のパターン付ロール。前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えることを特徴とする請求項1又は2記載のパターン付ロール。前記感光材が塗布される基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなることを特徴とする請求項1記載のパターン付ロール。前記感光材が、ネガ型感光性組成物であることを特徴とする1~4いずれか1項記載のパターン付ロール。前記DLC被覆膜の厚さが、0.1μm~数10μmであることを特徴とする請求項1~5いずれか1項記載のパターン付ロール。前記パターン付ロールが、グラビア印刷用ロールであることを特徴とする請求項1~6いずれか1項記載のパターン付ロール。請求項7記載のパターン付ロールによって印刷されたことを特徴とする製品。前記パターン付ロールが、成形用エンボスロールであることを特徴とする請求項1~6いずれか1項記載のパターン付ロール。請求項9記載のパターン付ロールによって成形されたことを特徴とする製品。前記パターン付ロールが、連続めっき用ロールであることを特徴とする請求項1~6いずれか1項記載のパターン付ロール。請求項11記載のパターン付ロールによってめっきされたことを特徴とする製品。基材を準備する工程と、該基材の表面に感光材を塗布し、露光現像せしめてレジストパターンを形成する工程と、該基材及びレジストパターンの表面にDLC被覆膜を形成する工程と、該レジストパターン上に形成されたDLC被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめる工程と、を含むことを特徴とするパターン付ロールの製造方法。前記感光材が塗布される基材が、Ni、ステンレス鋼、Ti、Cu、Alからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなることを特徴とする請求項13記載のパターン付ロールの製造方法。前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えることを特徴とする請求項13又は14記載のパターン付ロールの製造方法。前記感光材が塗布される基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション性を有する材料からなることを特徴とする請求項13記載のパターン付ロールの製造方法。前記感光材が、ネガ型感光性組成物であることを特徴とする13~16いずれか1項記載のパターン付ロールの製造方法。前記DLC被覆膜の厚さが、0.1μm~数10μmであることを特徴とする請求項13~17いずれか1項記載のパターン付ロールの製造方法。本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもので、サイドエッチングの問題を解消したパターン付ロール及びその製造方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するため、本発明のパターン付ロールは、基材の表面に感光材を塗布し、露光現像せしめてレジストパターンを形成し、該基材及びレジストパターンの表面にDLC被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたDLC被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、基材の表面にDLCパターンを形成してなることを特徴とする。このようにして、レジストパターン上に形成されたDLC被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめるため、サイドエッチングの問題が解消される利点がある。すなわち、本発明では、エッチングではなくいわゆるリフトオフとよばれる手法を用いているため、従来のようなサイドエッチングの問題が生じないのである。前記感光材が塗布される基材が、Ni、ステンレス鋼、Ti、Cu、Alからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えるのが好ましい。前記クッション層としては、シリコンゴム等の合成ゴムやポリウレタン、ポリスチレン等の弾力性のある合成樹脂を使用することができる。このクッション層の厚さはクッション性即ち弾力性を付与できる厚さであればよく、特別の限定はないが、例えば、1cm~5cm程度の厚さがあれば充分である。ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えたグラビア版の例としては、例えば特許文献5などがある前記感光材が塗布される基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるように構成してもよい。より具体的には、シリコンゴム等の合成ゴムやポリウレタン、ポリスチレン等の弾力性のある合成樹脂を基材として使用することができる。前記感光材としては、ポジ型感光性組成物又はネガ型感光性組成物のいずれも適用可能であるが、ネガ型感光性組成物が好ましい。前記DLC被覆膜の厚さが、0.1μm~数10μmであるのが好ましい。より具体的には、0.1μm~20μmが好ましく、0.1μm~5μmがさらに好ましい。前記パターン付ロールが、グラビア印刷用ロールであるのが好適である。サイドエッチングの問題がないため、従来よりも濃度範囲を広げることが可能であるからである。本発明に係る製品は、前記グラビア印刷用ロールによって印刷されたことを特徴とする。前記パターン付ロールが、成形用エンボスロールであるのが好ましい。本発明に係る製品は、前記成形用エンボスロールによって成形されたことを特徴とする。前記パターン付ロールが、連続めっき用ロールであるのが好ましい。本発明に係る製品は、前記連続めっき用ロールによってめっきされたことを特徴とする。本発明のパターン付ロールの製造方法は、基材を準備する工程と、該基材の表面に感光材を塗布し、露光現像せしめてレジストパターンを形成する工程と、該基材及びレジストパターンの表面にDLC被覆膜を形成する工程と、該レジストパターン上に形成されたDLC被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめる工程と、を含むことを特徴とする。前記感光材が塗布される基材が、Ni、ステンレス鋼、Ti、Cu、Alからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。前記基材が、上述したゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えるのが好ましい。前記感光材が塗布される基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション性を有する材料からなる構成としてもよい。前記感光材としては、ポジ型感光性組成物又はネガ型感光性組成物のいずれも適用可能であるが、ネガ型感光性組成物が好ましい。前記DLC被覆膜の厚さが、0.1μm~数10μmであるのが好ましい。本発明によれば、サイドエッチングの問題を解消したパターン付ロール及びその製造方法を提供することができるという著大な効果を有する。以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。図1において、符号10はパターン付ロールを示す。符号12は基材を示し、Ni、ステンレス鋼、Ti、Cu、Alからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるものを用いることができる。また、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えるようにしてもよい。さらに、基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション性を有する材料からなるように構成することもできる。該クッション層は、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなり、1mm~10cm程度の均一な厚さで表面の平滑度が高いシート状のものを、継ぎ目に隙間が開かないように基材12に強固に接着し、その後精密円筒研削、鏡面研磨される。まず、基材12の表面に感光材14を塗布する図1a及び図2のステップ100。露光現像せしめてレジストパターン16を形成する図1b及び図2のステップ102。感光材として用いる感光性組成物はネガ型及びポジ型のいずれでも使用可能であるが、ネガ型感光性組成物を用いるのが好ましい。次に、該基材12及びレジストパターン16の表面にDLC被覆膜18を形成する図1c及び図2のステップ104。DLC被覆膜はCVDChemicalVaporDeposition法やスパッタ法によって形成すればよい。次いで、該レジストパターン上に形成されたDLC被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、基材の表面にDLCパターン20を形成する図1d及び図2のステップ106。以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。実施例1円周600mm、面長1100mmの版母材アルミ中空ロールを準備し、ブーメランライン株式会社シンクラボラトリー製全自動レーザーグラビア製版ロール製造装置を用いて下記する銅メッキ層及びニッケルメッキ層の形成までを行った。まず、版母材アルミ中空ロールを銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて20A/dm2、6.0Vで80μmの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を4ヘッド型研磨機株式会社シンクラボラトリー製研磨機を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。次いで、ニッケルメッキ槽に装着し、メッキ液に半没させて2A/dm2、7.0Vで3μmのニッケルメッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一なニッケルメッキ層を得た。上記形成したニッケルメッキ層を基材としてその表面に感光膜サーマルレジスト:TSER-NS株式会社シンクラボラトリー製を塗布ファウンテンコーター、乾燥した。得られた感光膜の膜厚は膜厚計FILLMETRICS社製F20、松下テクノトレーデイング社販売で計ったところ、7μmであった。ついで、画像をレーザー露光し現像した。上記レーザー露光は、LaserStreamFXを用い露光条件300mJ/cm2で所定のパターン露光を行った。また、上記現像は、TLD現像液株式会社シンクラボラトリー製現像液を用い、現像液希釈比率原液1:水7で、24°C90秒間行い、所定のレジストパターンを形成した。該ニッケルメッキ層及びレジストパターンの表面にDLC被覆膜をCVD法で形成した。雰囲気アルゴン/水素ガス雰囲気、原料ガスにヘキサメチルジシロキサン、成膜温度80-120°C、成膜時間60分で膜厚0.1μmの中間層を成膜した。次に、原料ガスにトルエン、成膜温度80-120°C、成膜時間180分で膜厚5μmのDLC層を成膜した。次いで、該中空ロールを水酸化ナトリウム水溶液中で超音波処理を30分行った。そして、該レジストパターン上に形成されたDLC被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、基材の表面にDLCパターンが形成されたグラビア印刷用ロールを得た。このグラビア印刷用ロールの表面を光学顕微鏡で観察したところ、図3に示す高精細なグラビア版が観察された。図3において、DLCパターン20の線幅は10μmであり、グラビアセル22は、一辺が100μmであった。また、グラビアセル22の深度は5μmであった。実施例2パターニング形状を変えた以外は実施例1と同様にして、成形用エンボスロールを得た。得られた成形用エンボスロールを光学顕微鏡で観察したところ、図4に示す高精細なDLCパターンが観察された。図4において、DLCパターン20の線幅は30μmであった。実施例3パターニング形状を変えた以外は実施例1と同様にして、連続めっき用ロールを得た。得られた連続めっき用ロールを電子顕微鏡で観察したところ、図5に示す高精細なDLCパターンが観察された。図5において、DLCパターン20の線幅は8μmであった。実施例4レジストパターン形成の表面の基材をステンレス鋼とした以外は実施例1と同様にして、グラビア印刷用ロールを得た。得られたグラビア印刷用ロールを電子顕微鏡で観察したところ、高精細なDLCパターンが観察された。実施例5レジストパターン形成の表面の基材をチタンとした以外は実施例1と同様にして、グラビア印刷用ロールを得た。得られたグラビア印刷用ロールを電子顕微鏡で観察したところ、高精細なDLCパターンが観察された。基材として、シリコンゴム上に板厚0.4mmのニッケルスリーブを嵌着せしめたロールを使用した以外は実施例1~3と同様にしてパターン付ロールを作製した。得られたパターン付ロールを電子顕微鏡で観察したところ、高精細なDLCパターンが観察された。基材として、シリコンゴムを用いたロールを使用した以外は実施例1と同様にしてパターン付ロールを作製した。得られたパターン付ロールを電子顕微鏡で観察したところ、高精細なDLCパターンが観察された。