"アルカリ現像性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤を含有する感光性組成物であって、前記アルカリ現像性樹脂が、ウレタン基により連結されたポリウレタン樹脂であり、かつ前記ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に少なくとも1つのカルボキシル基を有し、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有することを特徴とする感光性組成物。ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に2つ以上5つ以下のカルボキシル基を有する請求項1に記載の感光性組成物。ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に下記一般式Iで表される構造を有する請求項1から2のいずれかに記載の感光性組成物。-L1-COOHn一般式Iただし、前記一般式I中、L1は、n1価の有機連結鎖を表し、nは1以上の整数を示す。アルカリ現像性樹脂が、ポリウレタン樹脂の側鎖にカルボキシル基を有するアルカリ現像性ユニットを有する請求項1から3のいずれかに記載の感光性組成物。アルカリ現像性ユニットが下記一般式IIで表される請求項4に記載の感光性組成物。ただし、前記一般式II中、R1は、水素原子又はアルキル基を表し、R2及びR3は、各々独立に、単結合、エーテル基、エステル基、アミド基、カーボネート基を有していてもよいアルキレン基、及びカーボネート基を有していてもよいアリーレン基のいずれかを表す。アルカリ現像性樹脂が、下記一般式VIで表される構造単位を有する請求項1から5のいずれかに記載の感光性組成物。ただし、前記一般式VI中、Xは、直接結合、-CH2-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-CO-、又は-O-を示す。Yは、-NH-、-NHCO-、-NHCOO-、-CONH-、又は-OCONH-を示す。R11、R12、R13、及びR14は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、それぞれ水素原子、一価の有機基、ハロゲン原子、-OR15、―NR16R17、又は-SR18を表し、R15、R16、R17、及びR18は、水素原子、又は一価の有機基を表す。エチレン性不飽和基を有する官能基がメタアクリロイル基である請求項1から6のいずれかに記載の感光性組成物。アルカリ現像性樹脂が、ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に、少なくとも1つのカルボキシル基を有するカルボン酸化合物を導入してなる請求項1から7のいずれかに記載の感光性組成物。アルカリ現像性樹脂が、ジイソシアネート化合物、ジオール化合物、及び少なくとも1つのカルボキシル基を有するカルボン酸化合物を重合して得られる請求項1から8のいずれかに記載の感光性組成物。カルボン酸化合物がジカルボン酸化合物である請求項8から9のいずれかに記載の感光性組成物。ジイソシアネート化合物が芳香族系ジイソシアネート化合物である請求項10に記載の感光性組成物。アルカリ現像性樹脂の重量平均分子量が5,000~60,000である請求項1から11のいずれかに記載の感光性組成物。請求項1から12のいずれかに記載の感光性組成物を含む感光層を支持体上に有してなることを特徴とする感光性フィルム。基体上に請求項1から12のいずれかに記載の感光性組成物を含む感光層を有することを特徴とする感光性積層体。請求項1から12のいずれかに記載の感光性組成物により形成された感光層に対して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とする永久パターン形成方法。請求項15に記載の永久パターン形成方法により永久パターンを形成されてなることを特徴とするプリント基板。本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、現像残渣除去性が高く、微細パターンが形成でき、耐熱性、強靭性、解像性、及び絶縁性に優れている感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板を提供することを目的とする。前記課題を解決するため本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、アルカリ現像性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤及び熱架橋剤を含有する感光性組成物において、前記アルカリ現像性樹脂として、ウレタン基により連結されたポリウレタン樹脂であり、かつ前記ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に少なくとも1つのカルボキシル基を有し、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有するものを用いることにより、反応性が向上し、良好な現像性を付与できることを知見した。本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段はとしては、以下の通りである。即ち、<1>アルカリ現像性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤を含有する感光性組成物であって、前記アルカリ現像性樹脂が、ウレタン基により連結されたポリウレタン樹脂であり、かつ前記ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に少なくとも1つのカルボキシル基を有し、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有することを特徴とする感光性組成物である。<2>ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に2つ以上5つ以下のカルボキシル基を有する前記<1>に記載の感光性組成物である。<3>ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に下記一般式Iで表される構造を有する前記<1>から<2>のいずれかに記載の感光性組成物である。-L1-COOHn一般式Iただし、前記一般式I中、L1は、n1価の有機連結鎖を表し、nは1以上の整数を示す。<4>アルカリ現像性樹脂が、ポリウレタン樹脂の側鎖にカルボキシル基を有するアルカリ現像性ユニットを有する前記<1>から<3>のいずれかに記載の感光性組成物である。<5>アルカリ現像性ユニットが下記一般式IIで表される前記<4>に記載の感光性組成物である。ただし、前記一般式II中、R1は、水素原子又はアルキル基を表し、R2及びR3は、各々独立に、単結合、エーテル基、エステル基、アミド基、カーボネート基を有していてもよいアルキレン基、及びカーボネート基を有していてもよいアリーレン基のいずれかを表す。<6>アルカリ現像性樹脂が、下記一般式VIで表される構造単位を有する前記<1>から<5>のいずれかに記載の感光性組成物である。ただし、前記一般式VI中、Xは、直接結合、-CH2-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-CO-、又は-O-を示す。Yは、-NH-、-NHCO-、-NHCOO-、-CONH-、又は-OCONH-を示す。R11、R12、R13、及びR14は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、それぞれ水素原子、一価の有機基、ハロゲン原子、-OR15、―NR16R17、又は-SR18を表し、R15、R16、R17、及びR18は、水素原子、又は一価の有機基を表す。<7>エチレン性不飽和基を有する官能基がメタアクリロイル基である前記<1>から<6>のいずれかに記載の感光性組成物である。<8>アルカリ現像性樹脂が、ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に、少なくとも1つのカルボキシル基を有するカルボン酸化合物を導入してなる前記<1>から<7>のいずれかに記載の感光性組成物である。<9>アルカリ現像性樹脂が、ジイソシアネート化合物、ジオール化合物、及び少なくとも1つのカルボキシル基を有するカルボン酸化合物を重合して得られる前記<1>から<8>のいずれかに記載の感光性組成物である。<10>カルボン酸化合物がジカルボン酸化合物である前記<8>から<9>のいずれかに記載の感光性組成物である。<11>ジイソシアネート化合物が芳香族系ジイソシアネート化合物である前記<10>に記載の感光性組成物である。<12>アルカリ現像性樹脂の重量平均分子量が5,000~60,000である前記<1>から<11>のいずれかに記載の感光性組成物である。<13>前記<1>から<12>のいずれかに記載の感光性組成物を含む感光層を支持体上に有してなることを特徴とする感光性フィルムである。<14>基体上に前記<1>から<12>のいずれかに記載の感光性組成物を含む感光層を有することを特徴とする感光性積層体である。<15>前記<1>から<12>のいずれかに記載の感光性組成物により形成された感光層に対して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とする永久パターン形成方法である。<16>前記<15>に記載の永久パターン形成方法により永久パターンを形成されてなることを特徴とするプリント基板である。本発明によると、従来における諸問題を解決でき、現像残渣除去性が高く、微細パターンが形成でき、耐熱性、強靭性、解像性、及び絶縁性に優れている感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板を提供することができる。感光性組成物本発明の感光性組成物は、アルカリ現像性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。<アルカリ現像性樹脂>前記アルカリ現像性樹脂は、ウレタン基により連結されたポリウレタン樹脂であり、かつ前記ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に、少なくとも1つのカルボキシル基を有し、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有する。-主鎖の末端のカルボキシル基-前記ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に、少なくとも1つのカルボキシル基を有し、2つ以上5つ以下のカルボキシル基を有することが好ましく、2つのカルボキシル基を有することが現像性に優れ、微細パターン形成性の点で特に好ましい。なお、前記ポリウレタン樹脂における主鎖の末端は、2つあるが、片末端に少なくとも1つのカルボキシル基を有することが好ましく、両末端に少なくとも1つのカルボキシル基を有していてもよい。前記ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に、下記一般式Iで表される構造を有することが好ましい-L1-COOHn一般式Iただし、前記一般式I中、L1は、n1価の有機連結鎖を表し、nは1以上の整数を示し、1~5が好ましく、2が特に好ましい。L1で表される有機連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子から選択される1以上の原子を含んで構成され、具体的には、L1で表される有機連結基の主骨格を構成する原子数は、1~30が好ましく、1~25がより好ましく、1~20が更に好ましく、1~10が特に好ましい。なお、前記有機連結基の主骨格とは、後述する一般式IIIにおけるL2と末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を意味し、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。前記ポリウレタン樹脂の主鎖の末端に、少なくとも1つのカルボキシル基を導入する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリウレタン樹脂製造の原料として、少なくとも1つのカルボキシル基を有するカルボン酸化合物を用いる方法などが挙げられる。-カルボン酸化合物-前記カルボン酸化合物としては、カルボキシル基を1つ有するモノカルボン酸化合物、カルボキシル基を2つ有するジカルボン酸化合物、カルボキシル基を3つ有するトリカルボン酸化合物、カルボキシル基を4つ有するテトラカルボン酸化合物、カルボキシル基を5つ有するペンタカルボン酸化合物などが挙げられる。これらの中でも、カルボキシル基を2つ有するジカルボン酸化合物が、現像性に優れ、微細パターン形成性の点で特に好ましい。前記カルボン酸化合物としては、少なくとも1つのカルボキシル基を有すれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、下記一般式IIIで表される化合物が好適である。ただし、前記一般式III中、L1及びnは、前記一般式Iと同じ意味を表す。前記一般式IIIにおけるL2は、単結合又は置換基を有していてもよいアルキレン基を表す。前記アルキレン基としては、炭素原子数1~20のアルキレン基が好ましく、炭素原子数2~10のアルキレン基がより好ましい。前記アルキレン基に導入可能な置換基としては、例えばハロゲン原子-F、-Br、-Cl、-I、置換基を有していてもよいアルキル基、などが挙げられる。前記一般式IIIで表されるカルボン酸化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、乳酸、リンゴ酸、ヒドロキシへキサン酸、クエン酸、ジオール化合物と酸無水物の反応物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、リンゴ酸が特に好ましい。前記ジオール化合物と酸無水物の反応物としては、例えば、下記構造式で表される化合物などが挙げられる。-エチレン性不飽和基-前記アルカリ現像性樹脂としてのポリウレタン樹脂は、側鎖にエチレン性不飽和基を有する。前記エチレン性不飽和基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビニル基などが挙げられる。前記エチレン性不飽和基を有する官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、ビニルフェニル基、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、アリルエステル基などが挙げられる。これらの中でも、架橋硬化膜形成性の点で、メタクリロイル基、アクリロイル基が特に好ましい。前記ポリウレタン樹脂の側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖にエチレン性不飽和基を有するジオール化合物を用いる方法などが挙げられる。前記側鎖にエチレン性不飽和基を含有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものでもよいし、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物等の化合物と、エチレン性不飽和基を含有する、カルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物等の化合物との反応により容易に製造される化合物であってもよい。前記側鎖にエチレン性不飽和基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0057~0060に記載された化合物、下記一般式Gで表される特開2005-250438号公報の段落0064~0066に記載された化合物、などが挙げられる。これらの中でも、下記一般式Gで表される特開2005-250438号公報の段落0064~0066に記載された化合物が好ましい。ただし、前記一般式G中、R1~R3は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、Aは2価の有機残基を表し、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は-NR12-を表し、前記R12は、水素原子、又は1価の有機基を表す。前記一般式G中のR1の1価の有機基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。前記一般式G中のR1としては、水素原子、メチル基が好ましい。前記一般式G中のR2、及びR3の1価の有機基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。前記一般式G中のR2、及びR3としては、水素原子が好ましい。前記一般式G中のAとしては、2価の有機残基であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、置換基を有していてもよい2価のアルキレン基などが挙げられる。前記2価の有機残基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが挙げられる。これらの中でもメチレン基が好ましい。前記一般式G中のXとしては、酸素原子が好ましい。前記一般式G中のR12の1価の有機基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましい。前記一般式Gで表される化合物の具体例を以下に示す。前記エチレン性不飽和基の前記ポリウレタン樹脂における導入量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ビニル基当量としては、0.05mmol/g~3.0mmol/gが好ましく、0.2mmol/g~2.7mmol/gがより好ましく、0.5mmol/g~2.5mmol/gが特に好ましい。-アルカリ現像性ユニット-前記アルカリ現像性樹脂としてのポリウレタン樹脂は、側鎖にカルボキシル基を有するアルカリ現像性ユニットを有することが好ましい。前記アルカリ現像性ユニットとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択できるが、下記一般式IIで表されるユニットが好ましい。ただし、前記一般式II中、R1は、水素原子又はアルキル基を表し、R2及びR3は、各々独立に、単結合、エーテル基、エステル基、アミド基、カーボネート基を有していてもよいアルキレン基、及びカーボネート基を有していてもよいアリーレン基のいずれかを表す。前記一般式IIにおいて、R1におけるアルキル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、炭素数1~10が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、などが挙げられる。前記アルキル基に導入可能な置換基としては、例えばハロゲン原子-F、-Br、-Cl、-I、シアノ基、ニトロ基などが挙げられる。前記一般式IIにおいて、R2及びR3におけるアルキレン基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、炭素数1~10が好ましく、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、などが挙げられる。R2及びR3におけるアリーレン基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、炭素数6~15が好ましく、例えばフェニレン基、などが挙げられる。前記ポリウレタン樹脂の側鎖に、前記アルカリ現像性ユニットを導入する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖にカルボキシル基を有するジオール化合物を用いる方法などが挙げられる。前記側鎖にカルボキシル基を有するジオール化合物としては、例えば、下記一般式IVで表される化合物が挙げられる。ただし、前記一般式IV中、Zは、3価以上の原子を表す。L3及びL4は、各々独立に、単結合又は置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、L3及びL4の双方が単結合となることはない。L5は、単結合又は連結基を表す。nは、1~5の整数を表す。前記一般式IVにおいて、Zは、3価以上の原子を表す。前記3価以上の原子としては、例えば、窒素原子、炭素原子、ケイ素原子、などが挙げられる。これらの中でも、窒素原子、炭素原子が特に好ましい。ここで、Zで表される原子が3価以上であるとは、少なくともZが、L3、L4及びL5を介して末端-COOHが結合する3つの結合手を有することを意味するが、Zは、更に水素原子、又は置換基を有していてもよい。Zに導入可能な置換基としては、水素原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子及びハロゲン原子から選択される原子を含んで構成される置換基が挙げられる。これらの中でも、炭素原子数1~50の炭化水素基が好ましく、炭素原子数1~40の炭化水素基がより好ましく、炭素原子数1~30の炭化水素基が特に好ましい。前記一般式IVにおけるL3及びL4は、各々独立に、単結合又は置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、L3及びL4の双方が単結合となることはない。前記アルキレン基としては、炭素原子数1~20のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数2~10のアルキレン基であることがより好ましい。前記アルキレン基に導入可能な置換基としては、例えばハロゲン原子-F、-Br、-Cl、-I、置換基を有していてもよいアルキル基、などが挙げられる。前記一般式IVにおいて、L5は、単結合又は連結基を表す。L5で表される連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子から選択される1以上の原子を含んで構成される連結基が挙げられる。具体的には、L5で表される連結基の主骨格を構成する原子数が、1~30が好ましく、1~25がより好ましく、1~20が更に好ましく、1~10が特に好ましい。なお、本発明において、前記連結基の主骨格とは、前記一般式IVにおけるZと末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を意味し、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。前記側鎖にカルボキシル基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、3,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA、2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA、2,2-ビス2-ヒドロキシエチルプロピオン酸、2,2-ビス3-ヒドロキシプロピルプロピオン酸、ビスヒドロキシメチル酢酸、ビス4-ヒドロキシフェニル酢酸、2,2-ビスヒドロキシメチル酪酸、4,4-ビス4-ヒドロキシフェニルペンタン酸、酒石酸、N,N-ジヒドロキシエチルグリシン、N,N-ビス2-ヒドロキシエチル-3-カルボキシ-プロピオンアミド、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA、2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPAが特に好ましい。前記一般式IIで表されるアルカリ現像性ユニットの前記ポリウレタン樹脂における含有量は、特に制限はないが、ポリウレタン樹脂の全構造単位を100molとした場合に、前記一般式IIで表されるアルカリ現像性ユニットを80mol以下含有することが好ましく、2mol~70mol含有することがより好ましい。前記アルカリ現像性樹脂としての主鎖の末端に少なくとも1つのカルボキシル基を有し、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリウレタン樹脂は、例えば、ジオール化合物、ジイソシアネート化合物、及び少なくとも1つのカルボキシル基を有するカルボン酸化合物を重合させることにより得られる。-ジオール化合物-前記ジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物、カルボキシル基を有するジオール化合物、側鎖にエチレン性不飽和基を有するジオール化合物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。前記ポリエーテルジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0068~0076に記載された化合物などが挙げられる。具体的には、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ヘキサエチレングリコール、ヘプタエチレングリコール、オクタエチレングリコール、ジ-1,2-プロピレングリコール、トリ-1,2-プロピレングリコール、テトラ-1,2-プロピレングリコール、ヘキサ-1,2-プロピレングリコール、ジ-1,3-プロピレングリコール、トリ-1,3-プロピレングリコール、テトラ-1,3-プロピレングリコール、ジ-1,3-ブチレングリコール、トリ-1,3-ブチレングリコール、ヘキサ-1,3-ブチレングリコール、重量平均分子量1000のポリエチレングリコール、重量平均分子量1500のポリエチレングリコール、重量平均分子量2000のポリエチレングリコール、重量平均分子量3000のポリエチレングリコール、重量平均分子量7500のポリエチレングリコール、重量平均分子量400のポリプロピレングリコール、重量平均分子量700のポリプロピレングリコール、重量平均分子量1000のポリプロピレングリコール、重量平均分子量2000のポリプロピレングリコール、重量平均分子量3000のポリプロピレングリコール、重量平均分子量4000のポリプロピレングリコールなどが挙げられる。前記ポリエステルジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0077~0079、段落0083~0085におけるNo.1~No.8及びNo.13~No.18に記載された化合物などが挙げられる。前記ポリカーボネートジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0080~0081及び段落0084におけるNo.9~No.12で記載された化合物などが挙げられる。前記側鎖にエチレン性不飽和基を有するジオール化合物としては、上述したエチレン性不飽和基で説明した側鎖にエチレン性不飽和基を有するジオール化合物と同様のものが挙げられる。前記カルボキシル基を有するジオール化合物としては、上記一般式IVで示すものが挙げられる。前記ポリウレタン樹脂を得る際には、上述したジオール化合物の他に、イソシアネート基と反応しない置換基を有するジオール化合物を併用することもできる。前記イソシアネート基と反応しない置換基を有するジオール化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0087~0088に記載された化合物などが挙げられる。また、前記ポリウレタン樹脂の合成には、上述したジオール化合物の他に、テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させた化合物を併用することもできる。前記テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させた化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0095~0101に記載された化合物などが挙げられる。-ジイソシアネート化合物-前記ジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することできるが、例えば、下記一般式Vで表されるジイソシアネート化合物などが好ましい。<一般式V>OCN-L6-NCOただし、前記一般式V中、L6は、置換基を有していてもよい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素基を表す。L6は、必要に応じて、イソシアネート基と反応しない他の官能基、例えば、エステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基を有していてもよい。前記一般式Vで表されるジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記アルカリ現像性樹脂としてのポリウレタン樹脂に、下記一般式VIで表される基を含ませることができる点で、下記一般式VIで表される基を含むことが好ましい。ただし、前記一般式VI中、Xは、直接結合、-CH2-、-CCH32-、-SO2-、-S-、-CO-、又は-O-を示す。Yは、-NH-、-NHCO-、-NHCOO-、-CONH-、又は-OCONH-を示す。R11、R12、R13、及びR14は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、それぞれ水素原子、一価の有機基、ハロゲン原子、-OR15、―NR16R17、又は-SR18を表し、R15、R16、R17、及びR18は、水素原子、又は一価の有機基を表す。前記Xとしては、現像性の観点で、-CH2-、-O-が好ましく、-CH2-が特に好ましい。前記R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、及びR18における一価の有機基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルケニル基、-OR19ただし、R19は一価の有機基を表す、アリール基、アリールオキシ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基などが挙げられる。前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素などが挙げられる。前記R11、R12、R13、及びR14としては、解像性の観点から、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、-OR19が好ましく、水素原子が特に好ましい。前記一般式VIで表される芳香族基の質量組成比率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、20質量以上が好ましく、20質量~70質量がより好ましい。なお、前記芳香族基の質量組成比率は、前記一般式VIで表される構造単位を含む場合は、Xは、芳香族に含めて計算する比率を表す。前記一般式Vで表されるジイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することでき、例えば、2,4-トリレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネートの二量体、2,6-トリレンジジイソシアネート、p-キシリレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI、1,5-ナフチレンジイソシアネート、3,3’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’-メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、メチルシクロヘキサン-2,4又は2,6ジイソシアネート、1,3-イソシアネートメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート化合物;1,3-ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等のジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物;などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、硬度の点で芳香族ジイソシアネート化合物が好ましく、2,4-トリレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDIが特に好ましい。また、前記一般式Vで表されるジイソシアネート化合物としては、例えば、トリイソシアネート化合物と、エチレン性不飽和基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させて得られる生成物などが挙げられる。前記トリイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0034~0035に記載された化合物などが挙げられる。前記エチレン性不飽和基を有する単官能のアルコール又は前記単官能のアミン化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開2005-250438号公報の段落0037~0040に記載された化合物などが挙げられる。-主鎖の末端に少なくとも1つのカルボキシル基を有し、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリウレタン樹脂の製造方法-前記ポリウレタン樹脂の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上記ジイソシアネート化合物、上記ジオール化合物、上記カルボン酸化合物、及び必要に応じてその他の共重合成分を、非プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知の触媒を添加し、加熱することにより合成する方法などが挙げられる。合成に使用されるジイソシアネート及びジオール化合物のモル比Ma:Mbとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1:1~1.2:1が好ましく、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、分子量あるいは粘度といった所望の物性の生成物が、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。前記アルカリ現像性樹脂としてのポリウレタン樹脂の重量平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5,000~60,000が好ましく、5,000~50,000がより好ましく、5,000~30,000が特に好ましい。前記重量平均分子量が、5,000未満であると、硬化膜の高温時の十分な低弾性率が得られないことがあり、60,000を超えると、塗布適性及び現像性が悪化することがある。ここで、前記重量平均分子量は、例えば、高速GPC装置東洋曹達株式会社製、HLC-802Aを使用して、0.5質量のテトラヒドロフランTHF溶液を試料溶液とし、カラムはTSKgelHZM-M1本を使用し、200μLの試料を注入し、前記THF溶液で溶離して、25°Cで屈折率検出器又はUV検出器検出波長254nmにより測定する。次に、標準ポリスチレンで較正した分子量分布曲線より重量平均分子量を求めることができる。前記アルカリ現像性樹脂の酸価としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、20mgKOH/g~120mgKOH/gが好ましく、30mgKOH/g~110mgKOH/gがより好ましく、35mgKOH/g~100mgKOH/gが特に好ましい。前記酸価が、20mgKOH/g未満であると、現像性が不十分となることがあり、120mgKOH/gを超えると、現像速度が高すぎるため現像のコントロールが難しくなることがある。前記酸価は、例えば、JISK0070に準拠して測定することができる。ただし、サンプルが溶解しない場合は、溶媒としてジオキサン又はテトラヒドロフランなどを使用する。前記アルカリ現像性樹脂の前記感光性組成物固形分中の含有量は、5質量~80質量が好ましく、30質量~60質量がより好ましい。前記含有量が、5質量以上であれば、現像性、露光感度が良好となり、80質量以下であれば、感光層の粘着性が強くなりすぎることを防止できる。<重合性化合物>前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、エチレン性不飽和基を1つ以上有する化合物が好ましい。前記エチレン性不飽和基を有する官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、ビニルフェニル基、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、アリルエステル基などが挙げられる。前記エチレン性不飽和結合を1つ以上有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、メタアクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも1種が好適に挙げられる。前記メタアクリル基を有するモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート等の単官能アクリレートや単官能メタクリレート;ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ジシクロペンタンジメチロールジメタアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ペンタエリトリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリトリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリロイルオキシプロピルエーテル、トリアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリアクリロイルオキシエチルシアヌレート、グリセリントリメタアクリレート;トリメチロールプロパン、グリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後でメタアクリレート化したもの;エポキシ樹脂とメタアクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリトリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタメタアクリレート、ジシクロペンタンジメチロールジメタアクリレートが特に好ましい。前記重合性化合物の前記感光性組成物固形分中の含有量は、5質量~50質量が好ましく、10質量~40質量がより好ましい。前記含有量が5質量以上であれば、現像性、露光感度が良好となり、50質量以下であれば、感光層の粘着性が強くなりすぎることを防止できる。<光重合開始剤>前記光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。また、前記光重合開始剤は、波長約300nm~800nmの範囲内に少なくとも約50の分子吸光係数を有する成分を少なくとも1種含有していることが好ましい。前記波長は330nm~500nmがより好ましい。前記光重合開始剤としては、中性の光重合開始剤が好ましい。また、必要に応じてその他の光重合開始剤を含んでいてもよい。前記中性の光重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、少なくとも芳香族基を有する化合物であることが好ましく、ビスアシルホスフィンオキシド又はそのエステル類、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物であることがより好ましい。前記中性の光重合開始剤は、2種以上を併用してもよい。前記光重合開始剤としては、例えば、ビスアシルホスフィンオキシド又はそのエステル類、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物などが挙げられる。これらの中でも、感光層の感度、保存性、及び感光層とプリント配線板形成用基板との密着性等の観点から、オキシム誘導体、ビスアシルホスフィンオキシド又はそのエステル類、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物が好ましい。前記ビスアシルホスフィンオキシド、前記アセトフェノン系化合物、前記ベンゾフェノン系化合物、前記ベンゾインエーテル系化合物、前記ケタール誘導体化合物、前記チオキサントン化合物としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0042に記載されたビスアシルホスフィンオキシド、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物などが挙げられる。前記オキシム誘導体としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0043~0059に記載されたオキシム誘導体などが挙げられる。前記光重合開始剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。前記光重合開始剤の前記感光性組成物固形分中の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1質量~30質量が好ましく、0.5質量~20質量がより好ましく、0.5質量~15質量が特に好ましい。<熱架橋剤>前記熱架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、感光層の硬化後の膜強度を改良するために、現像性等に悪影響を与えない範囲で、例えば、エポキシ化合物例えば、1分子内に少なくとも2つのオキシラン基を有するエポキシ化合物、1分子内に少なくとも2つのオキセタニル基を有するオキセタン化合物を用いることができ、特開2007-47729号公報に記載されているようなオキシラン基を有するエポキシ化合物、β位にアルキル基を有するエポキシ化合物、オキセタニル基を有するオキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート又はその誘導体のイソシアネート基にブロック剤を反応させて得られる化合物ブロック化ポリイソシアネート化合物、オキサゾリン誘導体などが挙げられる。また、前記熱架橋剤として、メラミン誘導体を用いることができる。該メラミン誘導体としては、例えば、メチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミンメチロール基を、メチル、エチル、ブチル等でエーテル化した化合物などが挙げられる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、保存安定性が良好で、感光層の表面硬度あるいは硬化膜の膜強度自体の向上に有効である点で、アルキル化メチロールメラミンが好ましく、ヘキサメチル化メチロールメラミンが特に好ましい。前記エポキシ化合物としては、例えば、1分子中に少なくとも2つのオキシラン基を有するエポキシ化合物、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも1分子中に2つ含むエポキシ化合物などが挙げられる。前記1分子中に少なくとも2つのオキシラン基を有するエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールF型エポキシ樹脂エポトートYDF-170、東都化成株式会社製、ビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂YX4000、ジャパンエポキシレジン社製等又はこれらの混合物、イソシアヌレート骨格等を有する複素環式エポキシ樹脂TEPIC、日産化学工業株式会社製、アラルダイトPT810、チバスペシャルティケミカルズ社製等、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ-ルノボラック型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂例えば低臭素化エポキシ樹脂、高ハロゲン化エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂など、ビスフェノール縮合型エポキシ樹脂VG-3101;プリンテック株式会社製等、アリル基含有ビスフェノールA型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジフェニルジメタノール型エポキシ樹脂、フェノールビフェニレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂HP-7200、HP-7200H;大日本インキ化学工業株式会社製等、グリシジルアミン型エポキシ樹脂ジアミノジフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジグリシジルアニリン、トリグリシジルアミノフェノール等、グリジジルエステル型エポキシ樹脂フタル酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸ジグリシジルエステル等ヒダントイン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアジペート、ジシクロペンタジエンジエポキシド、GT-300、GT-400、ZEHPE3150;ダイセル化学工業株式会社製等、、イミド型脂環式エポキシ樹脂、トリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、グリシジルフタレート樹脂、テトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂、ナフタレン基含有エポキシ樹脂ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、4官能ナフタレン型エポキシ樹脂、市販品としてはESN-190,ESN-360;新日鉄化学株式会社製、HP-4032,EXA-4750,EXA-4700;大日本インキ化学工業株式会社製等、フェノール化合物とジビニルベンゼンやジシクロペンタジエン等のジオレフィン化合物との付加反応によって得られるポリフェノール化合物と、エピクロルヒドリンとの反応物、4-ビニルシクロヘキセン-1-オキサイドの開環重合物を過酢酸等でエポキシ化したもの、線状含リン構造を有するエポキシ樹脂、環状含リン構造を有するエポキシ樹脂、α-メチルスチルベン型液晶エポキシ樹脂、ジベンゾイルオキシベンゼン型液晶エポキシ樹脂、アゾフェニル型液晶エポキシ樹脂、アゾメチンフェニル型液晶エポキシ樹脂、ビナフチル型液晶エポキシ樹脂、アジン型エポキシ樹脂、グリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ樹脂CP-50S,CP-50M;日本油脂株式会社製等、シクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートとの共重合エポキシ樹脂、ビスグリシジルオキシフェニルフルオレン型エポキシ樹脂、ビスグリシジルオキシフェニルアダマンタン型エポキシ樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、1分子中に少なくとも2つのオキシラン基を有する前記エポキシ化合物以外に、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも1分子中に2つ含むエポキシ化合物を用いることができ、β位がアルキル基で置換されたエポキシ基より具体的には、β-アルキル置換グリシジル基などを含む化合物が特に好ましい。前記β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも含むエポキシ化合物は、1分子中に含まれる2個以上のエポキシ基のすべてがβ-アルキル置換グリシジル基であってもよく、少なくとも1個のエポキシ基がβ-アルキル置換グリシジル基であってもよい。前記オキセタン化合物としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0074に記載されたオキセタン化合物などが挙げられる。前記ポリイソシアネート化合物としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0075に記載されたポリイソシアネート化合物などが挙げられる。前記ブロック化ポリイソシアネート化合物としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0076に記載された化合物などが挙げられる。前記オキサゾリン誘導体としては、例えば、1,3-ビス4,5-ジヒドロ-2-オキサゾリルベンゼン、1,4-ビス4,5-ジヒドロ-2-オキサゾリルベンゼン、2,2’-ビス2-オキサゾリンなどが挙げられる。前記メラミン誘導体としては、例えば、特開2010-256399号公報の段落0077に記載されたメラミン誘導体などが挙げられる。前記熱架橋剤の前記感光性組成物固形分中の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1質量~50質量が好ましく、3質量~30質量がより好ましい。前記含有量が、1質量以上であれば、硬化膜の膜強度が向上され、50質量以下であれば、現像性、露光感度が良好となる。<その他の成分>前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、希釈剤、フィラー、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤着色顔料あるいは染料などが挙げられ、更に基材表面への密着促進剤及びその他の助剤類例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤などを併用してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、目的とする感光性フィルムの安定性、写真性、膜物性などの性質を調整することができる。-希釈剤溶媒-前記希釈剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、ノルマル-プロパノール、イソプロパノール、ノルマル-ブタノール、セカンダリーブタノール、ノルマル-ヘキサノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸-ノルマル-アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、メトキシプロピルアセテート等のエステル類;トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、1,1,1-トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール等のエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホラン等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、公知の界面活性剤を添加してもよい。前記希釈剤の前記感光性組成物中の含有量は、0.5質量~60質量が好ましく、5質量~50質量がより好ましい。前記フィラーについては、例えば特開2008-250074号公報の段落0098~0099に詳細に記載されている。前記熱重合禁止剤については、例えば特開2008-250074号公報の段落0101~0102に詳細に記載されている。前記熱硬化促進剤については、例えば特開2008-250074号公報の段落0093に詳細に記載されている。前記可塑剤については、例えば特開2008-250074号公報の段落0103~0104に詳細に記載されている。前記着色剤については、例えば特開2008-250074号公報の段落0105~0106に詳細に記載されている。前記密着促進剤については、例えば特開2008-250074号公報の段落0107~0109に詳細に記載されている。感光性フィルム本発明の感光性フィルムは、少なくとも、支持体と、該支持体上に本発明の感光性組成物からなる感光層を有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。-支持体-前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光層を剥離可能であり、かつ光の透過性が良好であるものが好ましく、更に表面の平滑性が良好であることがより好ましい。前記支持体は、合成樹脂製で、かつ透明であるものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリメタアクリル酸アルキルエステル、ポリメタアクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、セルロース系フィルム、ナイロンフィルム等の各種のプラスチックフィルムが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。前記支持体の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、2μm~150μmが好ましく、5μm~100μmがより好ましく、8μm~50μmが特に好ましい。前記支持体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、長尺状が好ましい。前記長尺状の支持体の長さは、特に制限はなく、例えば、10m~20,000mの長さのものが挙げられる。-感光層-前記感光層は、感光性組成物からなる層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。また、前記感光層の積層数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、1層であってもよく、2層以上であってもよい。前記感光層の形成方法としては、前記支持体の上に、本発明の前記感光性組成物を、水又は溶剤に溶解、乳化又は分散させて感光性組成物溶液を調製し、該溶液を直接塗布し、乾燥させることにより積層する方法が挙げられる。前記感光性組成物溶液の溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記希釈剤と同様なものを用いることができる。前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーター、スリットスピンコーター、ロールコーター、ダイコーター、カーテンコーター等を用いて、前記支持体に直接塗布する方法が挙げられる。前記乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常60°C~110°Cの温度で30秒間~15分間程度である。前記感光層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、1μm~100μmが好ましく、2μm~50μmがより好ましく、4μm~30μmが特に好ましい。<その他の層>前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、保護フィルム、熱可塑性樹脂層、バリア層、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層等の層が挙げられる。前記感光性フィルムは、これらの層を1種単独で有していてもよく、2種以上を有していてもよい。<<保護フィルム>>前記感光性フィルムは、前記感光層上に保護フィルムを形成してもよい。前記保護フィルムとしては、例えば、前記支持体に使用されるもの、紙、ポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙、などが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムが好ましい。前記保護フィルムの厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、5μm~100μmが好ましく、8μm~50μmがより好ましく、10μm~30μmが特に好ましい。前記支持体と保護フィルムとの組合せ支持体/保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート/ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート/ポリエチレン、ポリ塩化ビニル/セロフアン、ポリイミド/ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート/ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。また、支持体及び保護フィルムの少なくともいずれかを表面処理することにより、層間接着力を調整することができる。前記支持体の表面処理は、前記感光層との接着力を高めるために施されてもよく、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザ光線照射処理などを挙げることができる。また、前記支持体と前記保護フィルムとの静摩擦係数は、0.3~1.4が好ましく、0.5~1.2がより好ましい。前記静摩擦係数が、0.3以上であれば、滑り過ぎによって、ロール状にした場合に巻ズレが発生することを防止でき、1.4以下であれば、良好なロール状に巻くことができる。前記感光性フィルムは、例えば、円筒状の巻芯に巻き取って、長尺状でロール状に巻かれて保管されることが好ましい。前記長尺状の感光性フィルムの長さは、特に制限はなく、例えば、10m~20,000mの範囲から適宜選択することができる。また、ユーザーが使いやすいようにスリット加工し、100m~1,000mの範囲の長尺体をロール状にしてもよい。なお、この場合には、前記支持体が一番外側になるように巻き取られることが好ましい。また、前記ロール状の感光性フィルムをシート状にスリットしてもよい。保管の際、端面の保護、エッジフュージョンを防止する観点から、端面にはセパレーター特に防湿性のもの、乾燥剤入りのものを設置することが好ましく、また梱包も透湿性の低い素材を用いることが好ましい。前記保護フィルムは、前記保護フィルムと前記感光層との接着性を調整するために表面処理してもよい。前記表面処理は、例えば、前記保護フィルムの表面に、ポリオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、ポリビニルアルコール等のポリマーからなる下塗層を形成させる。該下塗層の形成は、前記ポリマーの塗布液を前記保護フィルムの表面に塗布した後、30°C~150°Cで1分間~30分間乾燥させることにより形成させることができる。前記乾燥の際の温度は50°C~120°Cが特に好ましい。感光性積層体前記感光性積層体は、少なくとも基体と、前記基体上に設けられた感光層と、有してなり、目的に応じて適宜選択されるその他の層を積層してなる。前記感光層は、上述の製造方法で作製された前記感光性フィルムから転写されたものであり、上述と同様の構成を有する。<基体>前記基体は、感光層が形成される被処理基体、又は本発明の感光性フィルムの少なくとも感光層が転写される被転写体となるもので、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を持つものまで任意に選択できる。板状の基体が好ましく、いわゆる基板が使用される。具体的には、公知のプリント配線板製造用の基板プリント基板、ガラス板ソーダガラス板など、合成樹脂性のフィルム、紙、金属板などが挙げられる。<感光性積層体の製造方法>前記感光性積層体の製造方法として、本発明の感光性フィルムにおける少なくとも感光層を加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら転写して積層する方法が挙げられる。感光性積層体の製造方法は、前記基体の表面に本発明の感光性フィルムを加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層する。なお、前記感光性フィルムが前記保護フィルムを有する場合には、該保護フィルムを剥離し、前記基体に前記感光層が重なるようにして積層するのが好ましい。前記加熱温度は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、15°C~180°Cが好ましく、60°C~140°Cがより好ましい。前記加圧の圧力は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、0.1MPa~1.0MPaが好ましく、0.2MPa~0.8MPaがより好ましい。前記加熱の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラミネータ例えば、大成ラミネータ株式会社製、VP-II、ニチゴーモートン株式会社製、VP130などが好適に挙げられる。本発明の感光性フィルム及び前記感光性積層体は、膜厚が均一でピンホールやハジキ等の面状欠陥の発生割合が極端に低いため、絶縁性に優れ、高精細な永久パターン保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどを効率よく形成可能である。したがって、電子材料分野における高精細な永久パターンの形成用として広く用いることができ、特に、プリント基板の永久パターン形成用に好適に用いることができる。永久パターン形成方法本発明の永久パターン形成方法は、露光工程を少なくとも含み、更に、必要に応じて適宜選択した現像工程等のその他の工程を含む。<露光工程>前記露光工程は、本発明の感光性積層体における感光層に対し、露光を行う工程である。本発明の感光性積層体については上述の通りである。前記露光の対象としては、前記感光性積層体における感光層である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述のように、基材上に感光性フィルムを加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層して形成した積層体に対して行われることが好ましい。前記露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、デジタル露光、アナログ露光等が挙げられる。<その他の工程>前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材の表面処理工程、現像工程、硬化処理工程、ポスト露光工程などが挙げられる。<<現像工程>>前記現像としては、前記感光層の未露光部分を除去することにより行われる。前記未硬化領域の除去方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像液を用いて除去する方法などが挙げられる。前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤などが挙げられ、これらの中でも、弱アルカリ性の水溶液が好ましい。該弱アルカリ水溶液の塩基成分としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、硼砂などが挙げられる。前記弱アルカリ性の水溶液のpHは、例えば、8~12が好ましく、9~11がより好ましい。前記弱アルカリ性の水溶液としては、例えば、0.1質量~5質量の炭酸ナトリウム水溶液又は炭酸カリウム水溶液などが挙げられる。前記現像液の温度は、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約25°C~40°Cが好ましい。前記現像液は、界面活性剤、消泡剤、有機塩基例えば、エチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等や、現像を促進させるため有機溶剤例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類等などと併用してもよい。また、前記現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶剤を混合した水系現像液であってもよく、有機溶剤単独であってもよい。<<硬化処理工程>>前記硬化処理工程は、前記現像工程が行われた後、形成されたパターンにおける感光層に対して硬化処理を行う工程である。前記硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。前記全面露光処理の方法としては、例えば、前記現像後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を露光する方法が挙げられる。該全面露光により、前記感光層を形成する感光性組成物中の樹脂の硬化が促進され、前記永久パターンの表面が硬化される。前記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などのUV露光機が好適に挙げられる。前記全面加熱処理の方法としては、前記現像の後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を加熱する方法が挙げられる。該全面加熱により、前記永久パターンの表面の膜強度が高められる。前記全面加熱における加熱温度は、120°C~250°Cが好ましく、120°C~200°Cがより好ましい。該加熱温度が120°C以上であれば、加熱処理によって膜強度が向上し、250°C以下であれば、前記感光性組成物中の樹脂の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることを防止できる。前記全面加熱における加熱時間は、10分間~120分間が好ましく、15分間~60分間がより好ましい。前記全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、IRヒーターなどが挙げられる。前記永久パターンの形成方法が、保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する永久パターン形成方法である場合には、プリント配線板上に前記永久パターン形成方法により、永久パターンを形成し、更に、以下のように半田付けを行うことができる。即ち、前記現像により、前記永久パターンである硬化層が形成され、前記プリント配線板の表面に金属層が露出される。該プリント配線板の表面に露出した金属層の部位に対して金メッキを行った後、半田付けを行う。そして、半田付けを行った部位に、半導体、部品などを実装する。このとき、前記硬化層による永久パターンが、保護膜又は絶縁膜層間絶縁膜、ソルダーレジストとしての機能を発揮し、外部からの衝撃や隣同士の電極の導通が防止される。プリント基板本発明のプリント基板は、少なくとも基体と、前記永久パターン形成方法により形成された永久パターンと、を有してなり、更に、必要に応じて適宜選択した、その他の部材を有する。その他の部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材と前記永久パターン間に、更に絶縁層が設けられたビルドアップ基板などが挙げられる。以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の合成例における酸価、及び重量平均分子量は、以下の方法により測定した。<酸価>前記酸価は、JISK0070に準拠して測定した。ただし、サンプルが溶解しない場合は、溶媒としてジオキサン又はテトラヒドロフランを使用した。<重量平均分子量>前記重量平均分子量は、高速GPC装置東洋曹達社製、HLC-802Aを使用して測定した。即ち、0.5質量のTHFテトラヒドロフラン溶液を試料溶液とし、カラムはTSKgelGMH62本を使用し、200μLの試料を注入し、前記THF溶液で溶離して、25°Cで屈折率検出器により測定した。次に、標準ポリスチレンで較正した分子量分布曲線より重量平均分子量を求めた。合成例1-ポリウレタン樹脂U-1の合成-コンデンサー、及び撹拌機を備えた500mLの3つ口丸底フラスコ内に、乳酸1.62g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA8.00g0.054モルとグリセロールモノメタクリレート15.38g0.096モルをシクロヘキサノン73gに溶解した。これに、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モル、1,4-フェニレンジイソシアネートPDI4.80g0.03モル、2,6-ジ-t-ブチルヒドロキシトルエン0.1g、及び触媒として商品名:ネオスタンU-600日東化成株式会社製0.2gを添加し、75°Cで5時間加熱撹拌した。その後、メチルアルコール9.61mLにて希釈して30分間撹拌し、165gの下記式で表されるポリウレタン樹脂U-1溶液固形分45質量を得た。得られたポリウレタン樹脂U-1溶液は、固形分酸価が68mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量が8,500であった。<ポリウレタン樹脂U-1>ただし、前記式中、a1、b1、c1、d1、及びe1は、組成比率質量を表す。合成例2-ポリウレタン樹脂U-2の合成-合成例1において、乳酸1.62g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA8.00g0.054モルとグリセロールモノメタクリレート15.38g0.096モルを、リンゴ酸2.41g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA5.23g0.039モルとグリセロールモノメタクリレート17.78g0.111モルに変え、シクロヘキサノン73gを74gに変え、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モルと1,4-フェニレンジイソシアネートPDI4.80g0.03モルを、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モルとヘキサメチレンジイソシアネートHMDI5.05g0.03モルに変えた以外は、合成例1と同様にして、下記式で表されるポリウレタン樹脂U-2溶液固形分45質量を合成した。得られたポリウレタン樹脂U-2溶液は、固形分酸価が64mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量ポリスチレン標準が6,500であった。<ポリウレタン樹脂U-2>ただし、前記式中、a2、b2、c2、d2、及びe2は組成比率質量を表す。合成例3-ポリウレタン樹脂U-3合成-合成例1において、乳酸1.62g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA8.00g0.054モルとグリセロールモノメタクリレート15.38g0.096モルを、リンゴ酸2.68g0.020モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA3.46g0.023モルとグリセロールモノメタクリレート22.96g0.143モルに変え、シクロヘキサノン73gを78gに変え、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モルと1,4-フェニレンジイソシアネートPDI4.80g0.03モルを、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートTMHDI35.05g0.167モルに変えた以外は、合成例1と同様にして、下記式で表されるポリウレタン樹脂U-3溶液固形分45質量を合成した。得られたポリウレタン樹脂U-3溶液は、固形分酸価が52mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量ポリスチレン標準が7,000であった。<ポリウレタン樹脂U-3>ただし、前記式中、b3、c3、d3、及びh3は、組成比率質量を表す。合成例4-ポリウレタン樹脂U-4の合成-合成例1において、乳酸1.62g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA8.00g0.054モルとグリセロールモノメタクリレート15.38g0.096モルを、ヒドロキシへキサン酸3.1g0.02モルと2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA11.2g0.08モルとグリセロールモノメタクリレート23g0.14モルとポリプロピレングリコールPPG10004.7g0.01モルに変え、シクロヘキサノン73gを60gに変え、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モルと1,4-フェニレンジイソシアネートPDI4.80g0.03モルを、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI58g0.23モルに変えた以外は、合成例1と同様にして、下記式で表されるポリウレタン樹脂U-4溶液固形分45質量を合成した。得られたポリウレタン樹脂U-4溶液は、固形分酸価が58mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量ポリスチレン標準が9,000であった。<ポリウレタン樹脂U-4>ただし、前記式中、a4、c4、d4、e4、及びh4は、組成比率質量を表す。合成例5-ポリウレタン樹脂U-5の合成-合成例1において、乳酸1.62g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA8.00g0.054モルとグリセロールモノメタクリレート15.38g0.096モルを、リンゴ酸1.9g0.01モルと2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA8.4g0.06モルとグリセロールモノメタクリレート12.7g0.08モルとポリプロピレングリコールPPG100010.6g0.01モルとヘキサメチレングリコール10.2g0.07モルに変え、シクロヘキサノン73gを60gに変え、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モルと1,4-フェニレンジイソシアネートPDI4.80g0.03モルを、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI48.1g0.19モルとヘキサメチレンジイソシアネートHMDI8.1g0.05モルに変えた以外は、合成例1と同様にして、下記式で表されるポリウレタン樹脂U-5溶液固形分45質量を合成した。得られたポリウレタン樹脂U-5溶液は、固形分酸価が48mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量ポリスチレン標準が11,000であった。<ポリウレタン樹脂U-5>ただし、前記式中、a5、b5、c5、d5、e5、f5、及びh5は、組成比率質量を表す。合成例6-ポリウレタン樹脂U-6の合成-合成例1において、乳酸1.62g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA8.00g0.054モルとグリセロールモノメタクリレート15.38g0.096モルを、クエン酸2.9g0.02モルと2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA9.4g0.07モルとグリセロールモノメタクリレート28.9g0.18モルに変え、シクロヘキサノン73gを63gに変え、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モルと1,4-フェニレンジイソシアネートPDI4.80g0.03モルを、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI37.7g0.15モルとトリメチルヘキサメチレンジイソシアネートTMHDI21.1g0.10モルに変えた以外は、合成例1と同様にして、下記式で表されるポリウレタン樹脂U-6溶液固形分45質量を合成した。得られたポリウレタン樹脂U-6溶液は、固形分酸価が63mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量ポリスチレン標準が16,000であった。<ポリウレタン樹脂U-6>ただし、前記式中、a6、b6、c6、d6、及びh6は、組成比率質量を表す。合成例7<ポリウレタン樹脂U-7の合成>-カルボン酸化合物の合成-コンデンサー、及び撹拌機を備えた1Lの3つ口丸底フラスコ内に、2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA73.8g0.55モル、及び水素添加トリメリット酸三菱ガス化学社製99.1g0.5モルをテトラヒドロフランTHF400mLに加えて、60°Cで8時間撹拌した。反応終了後、ヘキサン2Lに反応溶液を滴下し、結晶を析出させた。1日静置後、固体を濾取した。真空乾燥し、下記式で表されるカルボン酸化合物A158.6gを得た。<カルボン酸化合物A>-ポリウレタン樹脂U-7の合成-合成例1において、乳酸1.62g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA8.00g0.054モルとグリセロールモノメタクリレート15.38g0.096モルを、カルボン酸化合物A9.4g0.01モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA4.91g0.03モルとグリセロールモノメタクリレート17.43g0.11モルとヘキサメチレングリコール10.99g0.03モルに変え、シクロヘキサノン73gを61gに変え、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モルと1,4-フェニレンジイソシアネートPDI4.80g0.03モルを、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI53.27g0.21モルとヘキサメチレンジイソシアネートHMDI3.98g0.02モルに変えた以外は、合成例1と同様にして、下記式で表されるポリウレタン樹脂U-7溶液固形分45質量を合成した。得られたポリウレタン樹脂U-7溶液は、固形分酸価が66mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量が12,000であった。<ポリウレタン樹脂U-7>ただし、前記式中、a、b、c、d、f、及びkは、組成比率質量を表す。合成例8-ポリウレタン樹脂U-Xの合成-合成例1において、乳酸1.62g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA8.00g0.054モルとグリセロールモノメタクリレート15.38g0.096モルを、2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA16.7g0.12モルとグリセロールモノメタクリレート26.8g0.17モルに変え、シクロヘキサノン73gを67gに変え、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モルと1,4-フェニレンジイソシアネートPDI4.80g0.03モルを、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI39.3g0.16モルとヘキサメチレンジイソシアネートHMDI17.6g0.10モルに変えた以外は、合成例1と同様にして、下記式で表されるポリウレタン樹脂U-X溶液固形分45質量を合成した。得られたポリウレタン樹脂U-X溶液は、固形分酸価が72mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量ポリスチレン標準が8,500であった。<ポリウレタン樹脂U-X>ただし、前記式中、a10、b10、c10、及びd10は、組成比率質量を表す。合成例9-ポリウレタン樹脂U-Yの合成-合成例1において、乳酸1.62g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA8.00g0.054モルとグリセロールモノメタクリレート15.38g0.096モルを、ポリブチレングリコール16.2g0.09モルと2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA5.23g0.09モルに変え、シクロヘキサノン73gを65gに変え、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モルと1,4-フェニレンジイソシアネートPDI4.80g0.03モルを、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI33.2g0.14モルに変えた以外は、合成例1と同様にして、下記式で表されるポリウレタン樹脂U-Y溶液固形分45質量を合成した。得られたポリウレタン樹脂U-Y溶液は、固形分酸価が75mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量ポリスチレン標準が8,200であった。<ポリウレタン樹脂U-Y>ただし、前記式中、a11、b11、及びc11は、組成比率質量を表す。合成例10-ポリウレタン樹脂U-Zの合成-合成例1において、乳酸1.62g0.018モルと2,2-ビスヒドロキシメチルブタン酸DMBA8.00g0.054モルとグリセロールモノメタクリレート15.38g0.096モルを、リンゴ酸0.89g0.007モルと2,2-ビスヒドロキシメチルプロピオン酸DMPA8.05g0.06モルとポリプロピレングリコールPPG100033.51g0.033モルとヘキサメチレングリコール7.08g0.061モルに変え、シクロヘキサノン73gを103gに変え、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI30.03g0.12モルと1,4-フェニレンジイソシアネートPDI4.80g0.03モルを、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI20.85g0.083モルとヘキサメチレンジイソシアネートHMDI14.02g0.083モルに変えた以外は、合成例1と同様にして、下記式で表されるポリウレタン樹脂U-Z溶液固形分45質量を合成した。得られたポリウレタン樹脂U-Z溶液は、固形分酸価が40mgKOH/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにて測定した重量平均分子量ポリスチレン標準が18,000であった。<ポリウレタン樹脂U-Z>ただし、前記式中、a7、b7、c7、e7、f7、及びh7は、組成比率質量を表す。合成例11-ポリエステル樹脂E-1の合成-テレフタル酸ジメチル699質量部、イソフタル酸ジメチル524質量部、アジピン酸ジメチル226質量部、セバシン酸ジメチル553質量部、2,2-ジメチルプロパンジオール417質量部、ブタンジオール324質量部、エチレングリコール769質量部、酸化防止剤として、イルガノックス1330チバジャパン株式会社製2質量部、及びテトラブチルチタネート0.9質量部を反応器内で混合させ、攪拌下室温から260°Cまで2時間かけて昇温し、その後260°Cで1時間加熱しエステル交換反応を行った。次いで、反応器内を徐々に減圧にすると共に昇温し、30分間かけて245°C、0.5~2torrにして初期重縮合反応を行った。更に、245°C、0.5~2torrの状態で4時間重合反応を行った後、乾燥窒素を導入しながら30分間かけて常圧へ戻し、ポリエステルをペレット状に取り出し、ポリエステル樹脂E-1を得た。得られたポリエステル樹脂E-1をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートにて60質量の固形分濃度となるように希釈溶解し、ポリエステル樹脂E-1溶液を得た。得られたポリエステル樹脂E-1のゲルパーミエーションクロマトグラフィーにて測定した重量平均分子量ポリスチレン標準は3.4万であった。実施例1-感光性フィルムの製造-支持体としての厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルム東レ株式会社製、16FB50上に、下記の組成からなる感光性組成物溶液1を塗布し、乾燥させて、前記支持体上に厚み30μmの感光層を形成した。前記感光層上に、保護層として、厚み20μmのポリプロピレンフィルム王子特殊紙株式会社製、アルファンE-200を積層し、感光性フィルムを製造した。-感光性組成物溶液1の組成-合成例1のポリウレタン樹脂U-1溶液固形分45質量37.2質量部重合性化合物A-DPH、新中村化学工業株式会社製11.15質量部熱架橋剤エポトートYDF-170、東都化成株式会社製、ビスフェノールF型エポキシ樹脂2.0質量部下記構造式C-1で表される光重合開始剤1.0質量部ジエチルチオキサントン0.7質量部顔料分散液以下、G-1という36.1質量部メガファックF-780F大日本インキ化学工業株式会社製の30質量メチルエチルケトン溶液0.13質量部メチルエチルケトン溶媒12.0質量部なお、前記顔料分散液G-1は、シリカアドマテックス株式会社製、SO-C230質量部と、合成例1のポリウレタン樹脂U-1溶液48.2質量部と、フタロシアニンブルー0.51質量部と、アントラキノン系黄色顔料C.I.PY240.14質量部と、シクロヘキサノン59.0質量部とを予め混合した後、モーターミルM-250アイガー社製で、直径1.0mmのジルコニアビーズを用い、周速9m/sにて3時間分散して調製した。-基体への積層-前記基体として、銅張積層板スルーホールなし、銅厚み12μmの表面に化学研磨処理を施して調製した。該銅張積層板上に、前記感光性フィルムの感光層が前記銅張積層板に接するようにして前記感光性フィルムにおける保護フィルムを剥がしながら、真空ラミネータニチゴーモートン株式会社製、VP130を用いて積層させ、前記銅張積層板と、前記感光層と、前記ポリエチレンテレフタレートフィルム支持体とがこの順に積層された積層体を調製した。圧着条件は、真空引きの時間40秒、圧着温度70°C、圧着圧力0.2MPa、加圧時間10秒とした。得られた積層体について、以下のようにして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。<表面硬度の測定>基板上に各感光性組成物からなるソルダーレジスト層を形成した。これにJISK-5400の試験法に従って鉛筆硬度試験機を用いて荷重1kgを掛けた際の皮膜にキズが付かない最も高い硬度を、下記基準により評価した。評価基準○:4H超であり、表面硬度が優れる△:3H~4Hであり、表面硬度がやや劣る×:2H以下であり、表面硬度が劣る<微細パターン形成性の評価>作製した永久パターン形状における、微細パターン形成性を評価するために永久パターン形成後の感光性積層体を切断し、図1に示す永久パターン10の切断面から支持体1側の面2と永久パターンの側面3とのなす角θを、走査型電子顕微鏡S-4100、日立製作所製を用いて断面観察を行った。評価基準◎:なす角θが80°より小さい○:なす角θが80°以上90°未満○△:なす角θが90°以上100°未満△:なす角θが100°以上110°未満×:なす角θが110°以上<解像性の評価>前記感光性積層体を室温23°Cで55RHにて10分間静置した。得られた感光性積層体のポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上から、丸穴パターンを用い、丸穴の直径の幅50μm~200μmの丸穴が形成できるよう、パターン形成装置を用いて最適光エネルギー量で露光を行った。室温にて10分間静置した後、前記感光性積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム支持体を剥がし取った。銅張積層板上の感光層の全面に、現像液として30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧0.15MPaにて前記最短現像時間の2倍の時間スプレーし、未硬化領域を溶解除去した。このようにして得られた硬化樹脂パターン付き銅張積層板の表面を光学顕微鏡で観察し、パターン部の捲くれ乃至剥がれなどの異常が無く、かつスペース形成可能な最小の丸穴パターン幅を測定し、これを解像度とし、下記基準で評価した。評価基準◎:直径80μm以下の丸穴が解像可能で、解像性に優れている○:直径100μm以下の丸穴が解像可能で、解像性が良好である△:直径200μm以下の丸穴が解像可能で、解像性がやや劣る×:丸穴が解像不可で、解像性が劣る<絶縁性の評価>厚み12μmの銅箔をガラスエポキシ基材に積層したプリント基板の銅箔にエッチングを施して、ライン幅/スペース幅が50μm/50μmであり、互いのラインが接触しておらず、互いに対向した同一面上の櫛形電極を得た。この基板の櫛形電極上にソルダーレジスト層を定法にて形成し、最適露光量300mJ/cm2~1J/cm2で露光を行った。次いで、常温で1時間静置した後、30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液にて60秒間スプレー現像を行い、更に80°Cで10分間加熱乾燥した。続いて、オーク製作所製紫外線照射装置を使用して1J/cm2のエネルギー量で感光層に対する紫外線照射を行った。更に感光層を150°Cで60分間加熱処理を行うことにより、ソルダーレジストを形成した評価用基板を得た。加熱後の評価用積層体の櫛形電極間に電圧が印加されるように、ポリテトラフルオロエチレン製のシールド線をSn/Pbはんだによりそれらの櫛形電極に接続した後、評価用積層体に5Vの電圧を印可した状態で、該評価用積層体を130°Cで85RHの超加速高温高湿寿命試験HAST槽内に200時間静置した。その後の評価用積層体のソルダーレジストのマイグレーションの発生程度を100倍の金属顕微鏡により観察した。評価基準◎:マイグレーションの発生が確認できず、絶縁性に優れる○:マイグレーションの発生が銅上僅かに確認されるが、絶縁性が良好である△:マイグレーションの発生が確認され、絶縁性にやや劣る×:電極間が短絡し、絶縁性に劣る<現像残渣除去性の評価>前記解像性の評価にて、形成された丸穴パターンのうち、80μm、及び120μmの丸穴の底部の残渣をSEMにて観察し、このようにして得られた硬化樹脂パターン付き銅張積層板の表面を光学顕微鏡で観察し、パターンの丸穴底部に残渣が無いこと、パターン部の捲くれ剥がれなどの異常が無く、かつスペース形成可能な最小の丸穴パターン幅を測定し、下記基準で評価した。評価基準◎:直径80μmの丸穴の基板上に現像残渣はなく、現像残渣除去性に優れている○:直径120μmの丸穴の基板上に現像残渣はなく、現像残渣除去性が良好である△:直径120μmの丸穴の基板上に僅かに現像残渣があり、現像残渣除去性がやや劣る×:直径120μmの丸穴の基板上に現像残渣があり、現像残渣除去性が劣る<耐熱性>基板上に各感光性組成物からなるソルダーレジスト層を形成しロジン系フラックスを塗布した評価基板を、予め260°Cに設定したはんだ槽に30秒間浸漬し、変性アルコールでフラックスを洗浄した後、目視によるレジスト層の膨れ、剥れ、及び変色について、下記基準により評価した。評価基準◎:全く変化が認められず、耐熱性に特に優れる○:膨れ、剥がれ、変色の何れかが僅かに見られるものの、耐熱性に優れる○△:膨れ、剥がれが僅かに見られるものの、耐熱性が良好である△:一部膨れ、剥がれが見られ、耐熱性が劣る×:塗膜に膨れ、剥れがある<強靭性>厚み12μmの銅箔をガラスエポキシ基材に積層したプリント基板上にソルダーレジスト層を有する前記感光性積層体を、定法にて形成し、2mm角フォトマスクを介し、オーク製作所製HMW-201GX型露光機を使用して、2mm角パターンが形成できる最適露光量300mJ/cm2~1J/cm2で露光を行った。次いで、常温で1時間静置した後、30°Cの1質量炭酸ナトリウム水溶液にて60秒間スプレー現像を行い、更に80°Cで10分間加熱乾燥した。続いて、オーク製作所製紫外線照射装置を使用して1J/cm2のエネルギー量で感光層に対する紫外線照射を行った。更に感光層を150°Cで60分間加熱処理を行うことにより、2mm角の矩形開口部を有するソルダーレジストを形成した評価用基板を得た。得られた基板を-65°Cの大気中に15分間晒した後、次いで、150°Cの大気中に15分間晒した後、再度-65°Cの大気中に晒す熱サイクルを1,000回繰り返した。熱サイクルを通した評価用基板のソルダーレジスト上のひび皹及び剥離程度を光学顕微鏡により観察し、下記基準で評価した。評価基準◎:ソルダーレジストにひび皹、剥れが無く、強靭性に特に優れる○:ソルダーレジストにひび皹、剥れの何れかが僅かにあるが、強靭性が良好である△:ソルダーレジストに僅かにひび皹、剥れがあり、強靭性がやや劣る×:ソルダーレジストに明らかなひび皹、剥れがあり、強靭性が劣る実施例2-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例1において、合成例1のポリウレタン樹脂U-1溶液固形分45質量を、合成例2のポリウレタン樹脂U-2溶液固形分45質量に代えた以外は、実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。実施例3-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例1において、合成例1のポリウレタン樹脂U-1溶液固形分45質量を、合成例3のポリウレタン樹脂U-3溶液固形分45質量に代えた以外は、実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。実施例4-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例1において、合成例1のポリウレタン樹脂U-1溶液固形分45質量を、合成例4のポリウレタン樹脂U-4溶液固形分45質量に代えた以外は、実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。実施例5-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例1において、合成例1のポリウレタン樹脂U-1溶液固形分45質量を、合成例5のポリウレタン樹脂U-5溶液固形分45質量に代えた以外は、実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。実施例6-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例1において、合成例1のポリウレタン樹脂U-1溶液固形分45質量を、合成例6のポリウレタン樹脂U-6溶液固形分45質量に代えた以外は、実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。実施例7-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例1において、感光性組成物溶液1を下記の感光性組成物溶液2に代えた以外は、実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。-感光性組成物溶液2の組成-下記の各成分を混合し、感光性組成物溶液2を調製した。合成例4のポリウレタン樹脂U-4溶液固形分45質量20.3質量部重合性化合物:DCP-A共栄社化学社製5.3質量部熱架橋剤:エポトートYDF-170東都化成社製2.9質量部開始剤:イルガキュア907BASF社製0.6質量部増感剤:DETX-S日本化薬社製0.005質量部反応助剤:EAB-F保土ヶ谷化学社製0.019質量部顔料分散液以下、G-2という30.1質量部塗布助剤:メガファックF-780F0.2質量部大日本インキ化学工業社製:30質量メチルエチルケトン溶液エラストマー:合成例11のポリエステル樹脂E-1固形分60質量2.7質量部なお、前記顔料分散液G-2は、シリカアドマテックス社製、SO-C232.0質量部と、ソルスパース24000GRルーヴリゾール社製0.44質量部と、合成例4のポリウレタン樹脂U-4溶液固形分45質量12.0質量部と、フタロシアニンブルー0.21質量部と、アントラキノン系黄色顔料C.I.PY240.06質量部と、IXE-6107東亞合成社製1.65質量部と、メラミン和光純薬工業社製0.35質量部と、シクロヘキサノン77.4質量部とを予め混合した後、モーターミルM-250アイガー社製で、直径1.0mmのジルコニアビーズを用い、周速9m/sにて3時間分散して調製した。実施例8-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例7において、合成例4のポリウレタン樹脂U-4溶液固形分45質量を合成例5のポリウレタン樹脂U-5溶液固形分45質量に変更した以外は、実施例7と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。実施例9-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例7において、合成例4のポリウレタン樹脂U-4溶液固形分45質量を合成例7のポリウレタン樹脂U-7溶液固形分45質量に代えた以外は、実施例7と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。実施例10-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例7において、熱架橋剤エポトートYDF-170、東都化成株式会社製、ビスフェノールF型エポキシ樹脂を、熱架橋剤TECHMOREVG-3101、プリンテック株式会社製、ビスフェノール縮合型エポキシ樹脂に代えた以外は、実施例7と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。比較例1-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例1において、熱架橋剤エポトートYDF-170、東都化成株式会社製、ビスフェノールF型エポキシ樹脂を添加しなかった以外は、実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。比較例2-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例1において、合成例1のポリウレタン樹脂U-1溶液固形分45質量を、合成例10のポリウレタン樹脂U-Z溶液固形分45質量に代えた以外は、実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。比較例3-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例1において、合成例1のポリウレタン樹脂U-1溶液固形分45質量を、合成例8のポリウレタン樹脂U-X溶液固形分45質量に代えた以外は、実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。比較例4-感光性フィルム、積層体、及び永久パターンの製造、並びに評価-実施例1において、合成例1のポリウレタン樹脂U-1溶液固形分45質量を、合成例9のポリウレタン樹脂U-Y溶液固形分45質量に代えた以外は、実施例1と同様にして、感光性フィルム、積層体、及び永久パターンを製造した。得られた積層体について、実施例1と同様にして、表面硬度、微細パターン形成性、解像性、絶縁性、現像残渣除去性、耐熱性、及び強靭性の評価を行った。結果を表1に示す。表1の結果から、実施例1~10は、比較例1~4に比べて、現像残渣除去性が高く、微細パターンが形成でき、解像性、耐熱性、強靭性、及び絶縁性に優れていることが分かった。"