"アルカリ可溶性無機微粒子A、重合性二重結合を有する化合物B、及び光重合開始剤Cを含有する感光性組成物。アルカリ可溶性無機微粒子Aの無機元素が、周期表の第1~15族の元素を含む、請求項1に記載の感光性組成物。アルカリ可溶性無機微粒子Aの無機元素が、Si、Ti、Zr、Sr、Al、Ba、Ca、Fe、Hf、In、La、Mg、Mo、Nb、Pb、Sb、Sn、Ta、Zn、W、Y、P、Na、K、Ge、Ga、及びBからなる群から選ばれる一以上を含む、請求項1又は2に記載の感光性組成物。アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対する重合性二重結合を有する化合物Bの含有量が500重量部以下である、請求項1~3のいずれか一項に記載の感光性組成物。アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対する重合性二重結合を有する化合物Bの含有量が10~500重量部である、請求項4に記載の感光性組成物。重合性二重結合を有する化合物Bが、多官能アクリレートである、請求項1~5のいずれか一項に記載の感光性組成物。光重合開始剤Cが、紫外線によってラジカルを発生する化合物である、請求項1~6のいずれか一項に記載の感光性組成物。請求項1~7のいずれか一項に記載の感光性組成物の塗膜を、この塗膜への光照射によって硬化させてなる有機膜。マスクが介在した光照射と現像とによるパターンが形成された請求項8に記載の有機膜。請求項8又は9に記載の有機膜を有する電子部品。本発明は、高い耐熱性を有し、高精細なレリーフパターンを基材上に形成するのに使用することができ、かつ形成される有機膜の光学特性や電気特性のカスタマイズ性に優れる感光性組成物、それからなる有機膜、及びこの有機膜を有する電子部品を提供する。本発明者は、前記課題を解決するため鋭意検討した結果、非常に耐熱性が高く、高精細なパターン形成が可能であり、同時に良好な光学特性と電気特性とを両立することができる感光性組成物を見出し、なおかつ微粒子の添加量を増やしても他の特性に問題が生じず、組成物のカスタマイズ性に優れていることを見出し、前述の課題を高いレベルで解決できる組成物を完成するに至った。本発明者は、アルカリ可溶性無機微粒子A、重合性二重結合を有する化合物B、及び紫外線を照射することにより生じる光重合開始剤Cを組み合わせることで、アルカリ水溶液による現像工程によって、数μm径のネガ型パターンを得ることが可能であり、同時に良好な耐熱性、光学特性、電気特性を示すことを見出した。すなわち、本発明者は、前記のA~Cを含有する感光性組成物によって、高感度と微細なパターン形成とを両立させられる被膜を得ることができ、さらにこの被膜が高耐熱性、高透明性、高屈折率、高誘電率等の諸特性を示すことを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。本発明は、以下のような感光性組成物、それを用いて製造される有機膜、及びこれらを含む電子部品を提供する。[1]アルカリ可溶性無機微粒子A、重合性二重結合を有する化合物B、及び光重合開始剤Cを含有する感光性組成物。[2]アルカリ可溶性無機微粒子Aの無機元素が、周期表の第1~15族の元素を含む、[1]に記載の感光性組成物。[3]アルカリ可溶性無機微粒子Aの無機元素が、Si、Ti、Zr、Sr、Al、Ba、Ca、Fe、Hf、In、La、Mg、Mo、Nb、Pb、Sb、Sn、Ta、Zn、W、Y、P、Na、K、Ge、Ga、及びBからなる群から選ばれる一以上を含む、[1]又は[2]に記載の感光性組成物。[4]アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対する重合性二重結合を有する化合物Bの含有量が500重量部以下である、[1]~[3]のいずれか一項に記載の感光性組成物。[5]アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対する重合性二重結合を有する化合物Bの含有量が10~500重量部である、[4]に記載の感光性組成物。[6]重合性二重結合を有する化合物Bが、多官能アクリレートである、[1]~[5]のいずれか一項に記載の感光性組成物。[7]光重合開始剤Cが、紫外線によってラジカルを発生する化合物である、[1]~[6]のいずれか一項に記載の感光性組成物。[8][1]~[7]のいずれか一項に記載の感光性組成物の塗膜を、この塗膜への光照射によって硬化させてなる有機膜。[9]マスクが介在した光照射と現像とによるパターンが形成された[8]に記載の有機膜。[10][8]又は[9]に記載の有機膜を有する電子部品。本発明の感光性組成物は、アルカリ可溶性無機微粒子Aを含有することから、硬化後に極めて高い耐熱性を有し、高精細なレリーフパターンを基材上に形成するのに使用することができる。また、本発明の感光性組成物は、無機微粒子がアルカリ可溶性を有することから、無機微粒子をアルカリ可溶性ポリマーのモノマー中に分散してなる従来の感光性組成物に比べて、感光性組成物における無機微粒子の含有量をより増やすことができる。したがって、光学特性や電気特性等の有機膜における無機微粒子による特性をアルカリ可溶性無機微粒子Aの含有量によって幅広く調整することができ、このような特性を有する有機膜、及びこの有機膜を有する電子部品に使用することができる。<1感光性組成物>本発明の感光性組成物は、アルカリ可溶性無機微粒子Aと、重合性二重結合を有する化合物Bと、光重合開始剤Cとを含有する。本発明の感光性組成物は、ネガ型感光性組成物として用いることができる。本発明の感光性組成物は、アルカリ可溶性無機微粒子Aを100重量部に対し、重合性二重結合を有する化合物Bを20~300重量部、及び光重合開始剤Cを0.5~10重量部含有することが、本発明の感光性組成物から得られる有機膜の透明性、耐熱性、及び現像性を高める観点から好ましい。特に本発明の感光性組成物は、アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対する重合性二重結合を有する化合物Bの含有量が200重量部以下であることが、前記有機膜の現像性を高める観点から好ましい。<1-1-1アルカリ可溶性無機微粒子>アルカリ可溶性無機微粒子Aは、アルカリ可溶性を有する無機微粒子である。例えばアルカリ可溶性無機微粒子Aは、無機微粒子と金属アルコキシド等の表面処理剤との反応により、アルカリによる加水分解性を有する基を表面に有する無機微粒子であり、このような加水分解性基がアルカリ条件下で加水分解することによって、アルカリに可溶化する。なお、アルカリ可溶性無機微粒子Aにおけるアルカリ可溶性とは、該微粒子を含有する溶液をスピンコートによって基板に塗布し、及び100°Cで2分間の加熱で形成される厚さ0.01~100μmの被膜を、例えば25°C程度の0.4重量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で5分間浸した後に純水ですすいだときに、前記被膜が残こらない程度にアルカリへ溶解する性質を言う。無機微粒子には、金属酸化物の粒子を用いることができる。無機微粒子としては、チタニア、ジルコニア、アルミナ、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、シリカ、酸化亜鉛、及びこれらの複合微粒子が挙げられる。無機微粒子は一種でも二種以上でもよい。無機微粒子には、本発明の有機膜において所望の特性を発現する範囲の一次粒径を有する無機微粒子を用いることができる。無機微粒子は、一次粒径が小さいほど、有機膜の光透過性を高める観点から好ましいが、ある程度の大きさを有することが溶剤中での凝集を防止する観点から好ましい。このような観点から、無機微粒子の一次粒径は、500nm以下であることが好ましく、10~300nmであることがより好ましく、10~100nmであることがさらに好ましく、10~50nmであることがより一層好ましい。なお、本発明では、無機微粒子の一次粒径とアルカリ可溶性無機微粒子Aの一次粒径とは実質的には同一であり、無機微粒子の一次粒径は、アルカリ可溶性無機微粒子Aの一次粒径を意味する。無機微粒子の一次粒径は、通常の方法によって求めることができ、例えばTEM透過型電子顕微鏡による撮影画像の画像解析によって求めることができる。無機微粒子に用いられる好ましい無機元素は、周期表の第1~15族の元素である。さらに好ましい無機元素としては、例えば、Si、Ti、Zr、Sr、Al、Ba、Ca、Fe、Hf、In、La、Mg、Mo、Nb、Pb、Sb、Sn、Ta、Zn、W、Y、P、Na、K、Ge、Ga、B、が挙げられる。<1-1-2アルカリ可溶性無機微粒子Aの調製方法>アルカリ可溶性無機微粒子Aの調製方法は、特に制限されないが、以下に例を示す。無機微粒子としては、市販の無機微粒子分散液を使用することが可能である。例えば、一次粒径が数十nm~数百μm程度の無機微粒子の分散液を、金属アルコキシド、ケイ素アルコキシド、又はシランカップリング剤と反応させ、前記分散液中の無機微粒子を表面修飾し、アルカリ可溶性を付与して使用に供する。市販の無機微粒子分散液の具体例としては、RTSMIBKチタニア微粒子分散液、シーアイ化成株製、RTTGBLチタニア微粒子分散液、シーアイ化成株製、ZRMIBKジルコニア微粒子分散液、シーアイ化成株製、ZRBLジルコニア微粒子分散液、シーアイ化成株製、ALMIBKアルミナ微粒子分散液、シーアイ化成株製、CSC1チタニア複合金属酸化物微粒子分散液、触媒化成工業株製、PL-2L-PGMEシリカ微粒子分散液、扶桑化学工業株製、PMA-STシリカ微粒子分散液、日産化学工業株製が挙げられる。無機微粒子の表面の修飾は、無機微粒子と反応して無機微粒子の表面に加水分解性基を形成する表面処理剤を用いて行うことができる。表面処理剤は一種でも二種以上でもよい。このような表面処理剤としては、例えば金属アルコキシド、ケイ素アルコキシド、及びシランカップリング剤が挙げられる。表面処理剤は、アルカリ可溶性の向上の観点から、二種以上であることが好ましい。表面処理剤には、脱水縮合によって無機微粒子の表面に結合する公知の化合物を用いることができる。前記金属アルコキシドとしては、例えばチタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトラ-n-プロポキシド、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラ-n-ブトキシド、チタニウムテトライソブトキシド、チタニウム-tert-ブトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラプロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシド、ジルコニウムテトライソブトキシド、アルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム-sec-ブトキシド、及びアルミニウム-tert-ブトキシドが挙げられる。前記ケイ素アルコキシドとしては、例えばトリス3-トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレート、オルトケイ酸テトラブチル、オルトケイ酸テトラプロピル、オルトケイ酸テトライソプロピル、オルトケイ酸テトラエチル、及びオルトケイ酸テトラメチル、3-ブロモプロピルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、トリエトキシビニルシラン、トリメトキシビニルシラン、ベンジルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、トリエトキシフェニルシラン、トリメトキシフェニルシラン、トリメトキシp-トリルシラン、トリエトキシメチルシラン、[ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-イル]トリエトキシシラン、トリエトキシ-1H,1H,2H,2H-トリデカフルオロ-n-オクチルシラン、トリエトキシエチルシラン、トリエトキシフルオロシラン、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、トリメトキシ[3-フェニルアミノプロピル]シラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、シクロヘキシルジメトキシメチルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジメトキシジ-p-トリルシラン、エトキシトリエチルシラン、メトキシトリメチルシラン、及びトリメチルエトキシシランが挙げられる。前記シランカップリング剤としては、例えば3-2-アミノエチルアミノプロピルジメトキシメチルシラン、3-アミノプロピルジエトキシメチルシラン、3-クロロプロピルジメトキシメチルシラン、3-グリシジルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、3-メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン、ジエトキシ3-グリシジルオキシプロピルメチルシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、1-[3-トリメトキシシリルプロピル]尿素、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、2-シアノエチルトリエトキシシラン、3-2-アミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、3-2-アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、イソシアン酸3-トリエトキシシリルプロピル、アクリル酸3-トリメトキシシリルプロピル、メタクリル酸3-トリメトキシシリルプロピル、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリエトキシシラン、3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-トリメトキシシリルプロピルクロリド、及び3-ウレイドプロピルトリエトキシシランが挙げられる。前記の表面処理反応において、無機微粒子100重量部に対して、これらの表面処理剤は、総量で、10~300重量部使用することが好ましく、50~200重量部使用することがより好ましく、80~150重量部使用することがさらに好ましい。さらに前記無機微粒子の表面処理は、酸無水物の存在下で行うことが好ましい。酸無水物は、アルカリ可溶性無機微粒子Aの表面を修飾し、アルカリ可溶性無機微粒子Aの経時的な変化を抑制する観点、及びアルカリ可溶性無機微粒子Aのアルカリへの溶解性を高める観点から好ましい。酸無水物は一種でも二種以上でもよい。酸無水物としては、例えば無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、1、2、3、6-テトラヒドロ無水フタル酸、4-メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルビシクロ2.2.1ヘプタン-2、3-ジカルボン酸無水物、及びビシクロ2.2.1ヘプタン-2、3-ジカルボン酸無水物が挙げられる。前記の表面処理反応において、無機微粒子100重量部に対して、前記酸無水物は、総量で、1~50重量部使用することが好ましく、1~30重量部使用することがより好ましく、1~10重量部使用することがさらに好ましい。アルカリ可溶性無機微粒子Aの調製における上記の反応では、さらに溶剤を用いてもよい。溶剤は、無機微粒子分散液の分散安定性を崩さないもので、かつ表面修飾させる金属アルコキシド、ケイ素アルコキシド、シランカップリング剤を溶解するものが好ましい。前記溶剤は、一種であってもよいし、二種以上の混合物であってもよい。当該溶剤の具体例としては、例えばメタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、アセトン、2-ブタノン、酢酸エチル、酢酸プロピル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジオキサン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチルが挙げられる。本発明の有機膜の光学特性や電気特性等の諸特性は、アルカリ可溶性無機微粒子Aの種類や含有量によって調整することが可能である。例えば、アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対する重合性二重結合を有する化合物Bの含有量が500重量部以下であることが、前記有機膜に一般に求められている諸特性を満足させる観点から好ましく、10~500重量部であることがより好ましい。また本発明の有機膜の光学特性や電気特性は、アルカリ可溶性無機微粒子Aに用いられる無機微粒子の種類と含有量とによって調整することが可能である。例えば、前記有機膜の屈折率や比誘電率は、アルカリ可溶性無機微粒子Aの種類と含有量とによって調整することができる。例えば、アルカリ可溶性無機微粒子Aに用いられる無機微粒子がチタニア、ジルコニア、アルミナ、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、酸化亜鉛、又はこれらの複合微粒子であり、アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対する重合性二重結合を有する化合物Bの含有量が10~100重量部であることが、有機膜の屈折率及び比誘電率の一方又は両方を高める観点から好ましい。<1-2重合性二重結合を有する化合物B>重合性二重結合を有する化合物Bは、重合性二重結合を一つ以上有する。重合性二重結合を有する化合物Bは一種の化合物であっても、二種以上の化合物の混合物であってもよい。重合性二重結合とは、本発明の感光性組成物の塗膜に光を照射したときに光重合開始剤Cによって重合に供される二重結合であり、炭素間の二重結合であってもよいし、炭素以外の元素間の二重結合であってもよいし、炭素とそれ以外の元素との間の二重結合であってもよい。このような重合性二重結合を含む基としては、例えばアルケニル、アルキニル、及びこれらの基のいずれかを含む基が挙げられ、具体的にはアクリル、メタクリル、マレイミド、ビニル、ビニルエーテル、ビニルケトン、スチリル、及び無水マレイン酸構造を有する一価の基が挙げられる。重合性二重結合を有する化合物Bの具体例としては、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性ジエチレングリコールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性トリエチレングリコールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性テトラエチレングリコールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性ポリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性プロピレングリコールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性ジプロピレングリコールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性トリプロピレングリコールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性テトラプロピレングリコールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、グリセロールアクリレートメタクリレート、グリセロールジメタアクリレート、グリセロールトリメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性-1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ジグリセリンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、アリル化シクロヘキシルジメタアクリレート、ビス[メタアクリロキシネオペンチルグリコール]アジペート、2,2-ビス[4-メタアクリロキシフェニル]プロパン、メタアクリレート、2,2-ビス[4-メタアクリロキシポリエトキシフェニル]プロパン、2,2-ビス[4-メタアクリロキシフェニル]メタン、2,2-ビス[4-メタアクリロキシポリエトキシフェニル]メタン、2,2-ビス[4-メタアクリロキシフェニル]スルホン、2,2-ビス[4-メタアクリロキシポリエトキシフェニル]スルホン、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,3-ブチレングリコールメタアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジメタアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリメタアクリレート、カプロラクトン,エチレンオキシド変性リン酸ジメタアクリレート、カプロラクトン,エチレンオキシド変性リン酸トリメタアクリレート、エピクロルヒドリン変性フタル酸ジメタアクリレート、テトラブロモビスフェノールAジメタアクリレート、トリグルセロールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジメタアクリレート、トリス[メタアクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[メタアクリロキシエチル]イソシアヌレート、メタアクリル化イソシアヌレート、及びウレタンメタアクリレート等が挙げられる。なお、本明細書において、メタアクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。同様に、メタアクリロキシは、アクリロキシ又はメタクリロキシを意味し、メタアクリルは、アクリル又はメタクリルを意味し、メタアクリロイルは、アクリロイル又はメタクリロイルを意味する。重合性二重結合を有する化合物Bは、メタアクリロイル基を一以上有していることが好ましい。重合性二重結合を有する化合物Bは、重合性二重結合を二以上有することがより好ましく、メタアクリロイル基を二つ以上有していることがさらに好ましく、多官能アクリレートであることが特に好ましい。<1-3光重合開始剤C>前記光重合開始剤Cは、重合性二重結合を有する化合物Bの重合性二重結合の重合を、光の照射によって開始させる性質を有する。このような光重合開始剤Cには種々の化合物が知られているが、光重合開始剤Cは、紫外線によってラジカルを発生する化合物であることが好ましい。光重合開始剤Cは一種の化合物であっても、二種以上の化合物の混合物であってもよい。光重合開始剤Cとしては、例えばベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-エチルアントラキノン、アセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-4’-イソプロピルプロピオフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オンIRGACURE907;商品名、チバジャパン株製、以下IRGACURE907と記すことがある、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン-1IRGACURE369;商品名、チバジャパン株製、以下IRGACURE369と記すことがある、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4,4’-ジt-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、3,4,4’-トリt-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2-4’-メトキシスチリル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-3’,4’-ジメトキシスチリル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-2’,4’-ジメトキシスチリル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-2’-メトキシスチリル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-4’-ペンチルオキシスチリル-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、4-[p-N,N-ジエトキシカルボニルメチル]-2,6-ジトリクロロメチル-s-トリアジン、1,3-ビストリクロロメチル-5-2’-クロロフェニル-s-トリアジン、1,3-ビストリクロロメチル-5-4’-メトキシフェニル-s-トリアジン、2-p-ジメチルアミノスチリルベンズオキサゾール、2-p-ジメチルアミノスチリルベンズチアゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、3,3’-カルボニルビス7-ジエチルアミノクマリン、2-o-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラキス4-エトキシカルボニルフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4-ジブロモフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4,6-トリクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、3-2-メチル-2-ジメチルアミノプロピオニルカルバゾール、3,6-ビス2-メチル-2-モルホリノプロピオニル-9-n-ドデシルカルバゾール、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビスη5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル-ビス2,6-ジフルオロ-3-1H-ピロール-1-イル-フェニルチタニウム、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニル-ブタノン-1、3,3’,4,4’-テトラt-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラt-ヘキシルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’-ジメトキシカルボニル-4,4’-ジt-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、3,4’-ジメトキシカルボニル-4,3’-ジt-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシカルボニル-3,3’-ジt-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、及び1,2-オクタンジオン-1-[4-フェニルチオフェニル-2-O-ベンゾイルオキシム]IRGACUREOXE01;商品名、チバジャパン株製、以下OXE01と記すことがあるが挙げられる。これらの中でも、光重合開始剤Cが、IRGACURE907、及びIRGACURE369の一方又は両方を光重合開始剤Cの全重量に対して20重量以上含有すると、得られる感光性組成物の感度を高める観点から好ましい。また、光重合開始剤Cが、3,3’-ジメトキシカルボニル-4,4’-ジt-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、3,4’-ジメトキシカルボニル-4,3’-ジt-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、及び4,4’-ジメトキシカルボニル-3,3’-ジt-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノンからなる群から選ばれる一種以上を、光重合開始剤Cの全重量に対して20重量以上含有すると、得られる感光性組成物から得られる有機膜の密着性を良好にする観点と前記感光性組成物の現像マージンを広くする観点とから好ましい。<1-4溶剤>本発明の感光性組成物は、粘度や濃度の調整のために溶剤をさらに含有していてもよい前記溶剤は、一種の化合物であってもよいし、二種以上の化合物の混合物であってもよい。前記溶剤は、沸点が100°C~300°Cである化合物、又はこの化合物を20重量以上含有する混合溶剤であることが好ましい。沸点が100°C~300°Cである溶剤としては、例えば酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3-オキシプロピオン酸メチル、3-オキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、2-オキシプロピオン酸メチル、2-オキシプロピオン酸エチル、2-オキシプロピオン酸プロピル、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-メトキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-エトキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸メチル、2-オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、γ-ブチロラクトン、及びN,N-ジメチルアセトアミドが挙げられる。これらの溶剤の中でもプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、及び乳酸エチルから選ばれる少なくとも一つを用いると、塗布均一性が高くなるのでより好ましい。特にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、及び乳酸エチルから選ばれる溶剤を用いると、塗布均一性が高く、人体への安全性が高くなるため、より一層好ましい。<1-5その他の成分><1-5-1添加剤>本発明の感光性組成物には、解像度、塗布均一性、現像性、接着性を向上させるために、各種の添加剤を添加することができる。添加剤には、アクリル系、スチレン系、ポリエチレンイミン系又はウレタン系の高分子分散剤、アニオン系、カチオン系、ノニオン系又はフッ素系の界面活性剤、シリコン系塗布性向上剤、シランカップリング剤等の密着性向上剤、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤、エポキシ化合物、メラミン化合物又はビスアジド化合物等の熱架橋剤、有機カルボン酸等のアルカリ溶解性促進剤等が挙げられる。前記添加剤は、一種の化合物であってもよいし、二種以上の化合物の混合物であってもよい。前記添加剤の添加量は、添加剤の種類に応じて決めることができ、概ね感光性組成物全量に対して、それぞれ0.005~10重量であることが好ましい。前記高分子分散剤、界面活性剤、及びシリコン系塗布性向上剤としては、例えばポリフローNo.45、ポリフローKL-245、ポリフローNo.75、ポリフローNo.90、ポリフローNo.95以上いずれも商品名、共栄社化学株製、ディスパーベイクDisperbyk161、ディスパーベイク162、ディスパーベイク163、ディスパーベイク164、ディスパーベイク166、ディスパーベイク170、ディスパーベイク180、ディスパーベイク181、ディスパーベイク182、BYK300、BYK306、BYK310、BYK320、BYK330、BYK344、BYK346以上いずれも商品名、ビックケミージャパン株製、KP-341、KP-358、KP-368、KF-96-50CS、KF-50-100CS以上いずれも商品名、信越化学工業株製、サーフロンSC-101、サーフロンKH-40以上いずれも商品名、セイミケミカル株製、フタージェント222F、フタージェント251、FTX-218以上いずれも商品名、株ネオス製、EFTOPEF-351、EFTOPEF-352、EFTOPEF-601、EFTOPEF-801、EFTOPEF-802以上いずれも商品名、三菱マテリアル株製、メガファックF-171、メガファックF-177、メガファックF-475、メガファックR-08、メガファックR-30以上いずれも商品名、DIC株製、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、フルオルアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、ジグリセリンテトラキスフルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、フルオロアルキルアミノスルホン酸塩、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラウレート、ポリオキシエチレンオレレート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ソルビタンラウレート、ソルビタンパルミテート、ソルビタンステアレート、ソルビタンオレエート、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンオレエート、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、アルキルベンゼンスルホン酸塩、及びアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩が挙げられる。前記密着性向上剤としては、例えば3-グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート、及びテトライソプロピルビスジオクチルホスファイトチタネートが挙げられる。前記紫外線吸収剤としては、例えばチヌビンP、チヌビン120、チヌビン144、チヌビン213、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン571、チヌビン765以上いずれも商品名、チバジャパン株製が挙げられる。前記熱架橋剤としては、例えばjER807、jER815、jER825、jER827、jER828、jER190P、jER191P、jER1004、jER1256、jERYX8000登録商標;ジャパンエポキシレジン株製、アラルダイトCY177、アラルダイトCY184商品名;チバジャパン株製、セロキサイド2021P、EHPE-3150商品名;ダイセル化学工業株製、テクモアVG3101L商品名;三井化学株製が挙げられる。前記アルカリ溶解性促進剤としては、例えば無水トリメリット酸、無水フタル酸、及び4-メチルシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸無水物等の多価カルボン酸、及び、2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン、2,4,6-トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,3’,4-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、ビス2,4-ジヒドロキシフェニルメタン、ビスp-ヒドロキシフェニルメタン、トリp-ヒドロキシフェニルメタン、1,1,1-トリp-ヒドロキシフェニルエタン、ビス2,3,4-トリヒドロキシフェニルメタン、2,2-ビス2,3,4-トリヒドロキシフェニルプロパン、1,1,3-トリス2,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル-3-フェニルプロパン、4,4’-[1-[4-[1-[4-ヒドロキシフェニル]-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール、ビス2,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル-2-ヒドロキシフェニルメタン、3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインデン-5,6,7,5’,6’,7’-ヘキサノール、及び2,2,4-トリメチル-7,2’,4’-トリヒドロキシフラバン等のフェノール化合物が挙げられる。これらから選ばれる少なくとも一つを前記添加剤に用いることが好ましい。これらの添加剤の中でも、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、フルオルアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、ジグリセリンテトラキスフルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、及びフルオロアルキルアミノスルホン酸塩等のフッ素系の界面活性剤、及びBYK306、BYK344、BYK346、KP-341、KP-358、及びKP-368等のシリコン系塗布性向上剤の中から選ばれる少なくとも一種が添加されると、前記感光性組成物の塗布均一性を高める観点から好ましい。<1-5-2多価カルボン酸>本発明の感光性組成物には、無水トリメリット酸、無水フタル酸、4-メチルシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸無水物等の多価カルボン酸を添加してもよい。多価カルボン酸は一種でも二種以上でもよい。これらの多価カルボン酸の中でも無水トリメリット酸が好ましい。本発明の感光性組成物に前記多価カルボン酸が添加されて加熱されると、多価カルボン酸のカルボキシルは、感光性組成物にエポキシが含まれる場合に、感光性組成物から有機膜を得る際にこれらと反応して、前記有機膜の耐熱性、耐薬品性をさらに向上させることができる。本発明の感光性組成物において、多価カルボン酸を添加する場合には、アルカリ可溶性無機微粒子Aと重合性二重結合を有する化合物Bの総量100重量部に対し、多価カルボン酸が1~20重量部であることが好ましい。<1-6感光性組成物の保存>本発明の感光性組成物は、温度5°C~25°Cの範囲で遮光して保存すると、組成物の経時安定性が良好となり好ましい。保存温度が5°C~10°Cであれば、析出物もなく一層好ましい。本発明の感光性組成物は、電子部品における有機膜の形成に用いられる重合体組成物に対して一般的に求められている特性をさらに有している。この一般に求められている特性とは、例えば形成される有機膜の高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、下地との密着性等である。<2.本発明の有機膜>本発明の有機膜は、前述した本発明の感光性組成物の塗膜を、この塗膜への光照射によって硬化させてなる有機膜である。本発明の有機膜は、パターニングの際の解像度が高く、小さな径のパターンを形成するのに最適である。本発明の有機膜は、本発明の感光性組成物を用いる以外は、通常のネガ型感光性組成物から有機膜を得る公知の方法を用いて得ることできる。すなわち、本発明の有機膜は、本発明の感光性組成物の塗膜を形成する工程と、得られた塗膜に光を照射する工程とを含む方法によって得られる。本発明の有機膜の製造では、必要に応じて、感光性組成物の塗膜を乾燥させる工程や、光照射又は現像後の塗膜を焼成する工程をさらに含んでいてもよい。本発明の有機膜は、パターンが形成されていることが、電子部品に形成される様々な用途の被膜に適用する観点から好ましい。パターンが形成されている本発明の有機膜は、前記光を照射する工程が、マスクを介して前記感光性組成物の塗膜に光を照射する工程であり、さらには、光照射された塗膜を現像液で現像する工程をさらに含む前記の方法によって得られる。本発明の有機膜は、透明であることが、パターンが形成されている場合と同様に、電子部品に形成される様々な用途の被膜に適用する観点から好ましい。透明な本発明の有機膜は、本発明の感光性組成物に顔料等の粉体を含有しない本発明の感光性組成物を用いることによって得られる。また前述したように、透明な本発明の有機膜は、例えば一次粒径が500nm以下であるジルコニア、アルミナ、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、又はこれらの複合微粒子をアルカリ可溶性無機微粒子Aとして含有し、かつアルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対して、重合性二重結合を有する化合物Bを50重量部以上含有する本発明の感光性組成物を用いることによって得ることができる。より具体的には本発明の有機膜は以下のようにして形成される。まず、本発明の感光性組成物をスピンコート、ロールコート、スリットコート等により、ガラス等の基板上に塗布する。基板としては、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス等の透明ガラス基板、ポリカーボネート、ポリエステル、アクリル、塩化ビニール、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等のシート、フィルム又は基板、アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板等の金属基板、その他セラミック板、及び、光電変換素子を有する半導体基板を挙げることができる。これらの基板には所望により、シランカップリング剤等の薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の前処理を行うことができる。基板への感光性組成物の塗布は、スピンコート法、ロールコート法、ディッピング法等の、従来からの公知の方法により行うことができる。次に、基板上に得られた塗膜を、ホットプレート又はオーブンで通常60~120°C、1~5分間乾燥する。乾燥した基板上の前記塗膜に、必要に応じて所望のパターン形状のマスクを介して紫外線を照射する。照射量はi線で5~1,000mJ/cm2が適当である。前記基板にマスクを介して紫外線を照射した場合では、紫外線の当たった部分は重合性二重結合を有する化合物Bの重合により三次元化架橋体となり、現像液に対して不溶化するので、紫外線を照射した後の基板を現像液で現像し、基板上の前記塗膜のうち、紫外線が当たっていない部分を基板から除去する。より具体的には、シャワー現像、スプレー現像、パドル現像、ディップ現像等の、前記有機膜における現像で通常用いられている方法により前記基板を現像液に浸し、不溶部分を溶解除去する。このようにして得られたパターン状透明膜は、パターン状絶縁膜として用いることもできる。絶縁膜に形成される穴の形状は、真上から見た場合、正方形、長方形、円形又は楕円形であることが好ましい。さらに、該絶縁膜上に透明電極を形成し、エッチングによりパターニングを行った後、配向処理を行う被膜を形成させてもよい。該絶縁膜は、耐スパッタ性が高いため、透明電極を形成しても絶縁膜にしわが発生せず、高い透明性を保つことができる。現像液としては、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ類、及びテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、及びテトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の有機アルカリ類のアルカリ性の水溶液が挙げられる。また、前記現像液にメタノール、エタノール、界面活性剤等を適当量添加して用いることもできる。例えば現像液には、現像残渣の低減やパターン形状の適性化を目的として、界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤はアニオン系、カチオン系、ノニオン系から選択して使用することができる。特にノニオン系のポリオキシエチレンアルキルエーテルを添加すると、パターン形状が良好になるので好ましい。基板に形成された感光性組成物の塗膜にマスクを介さないで紫外線を照射した場合には、紫外線照射後に基板を180~250°Cで10~120分間置き、基板上の塗膜を焼成することにより、透明膜を得ることができる。前記塗膜にマスクを介して紫外線照射を照射した場合には、現像後に基板を180~250°Cで10~120分間置き、基板上の塗膜を焼成することにより、所望のパターンを有する透明膜を得ることができる。以上、本発明の有機膜について、基板上に形成される形態を具体的に示したが、本発明の有機膜は、基板上に形成された層や電極上にも、基板上に形成される形態と同様に形成することができる。また本発明では、粒径の大きなアルカリ可溶性無機微粒子Aを使用し、又は無機微粒子に顔料等の着色性の無機微粒子を使用し、又は顔料やカーボンブラック等の着色材を本発明の感光性組成物にさらに配合することにより、不透明な有機膜を得ることができる。本発明の感光性組成物は、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性、耐熱性、透明性に優れる有機膜を形成することができることから、当該感光性組成物を用いた有機膜は、透明膜、絶縁膜、保護膜等の、表示素子等の電子部品における種々の用途の被膜に用いることができる。また本発明の有機膜は、その製造後工程において溶剤、酸、アルカリ溶液等の液への浸漬や接触、及び熱処理等の後処理がなされても、有機膜に表面荒れが発生しにくい。その結果、本発明の有機膜は、光の透過率が高く、透明膜に好適に用いることができる。より具体的に、本発明の有機膜は、液晶表示素子の用途としては、例えばTFTのゲート絶縁膜や、液晶駆動用の補助容量を形成するために用いることができ、プリント配線基板用途としては、例えばポリイミド材料の代替として、絶縁膜やカバーレイに用いることができる。<3.本発明の電子部品>本発明の電子部品は、前述した本発明の有機膜を有する。本発明の電子部品には、例えば液晶表示素子、プリント配線基板等が挙げられる。本発明の電子部品において、本発明の有機膜は、耐熱性、光学特性、電気特性、及びパターンの形成を要する種々の膜に好適に用いることができる。例えば、電子部品における絶縁材料や半導体装置では、パッシベーション膜、バッファーコート膜、層間絶縁膜、及び平坦化膜に用いることができ、液晶表示素子では、さらに高屈折率膜及び高誘電率膜に用いることができる。本発明の電子部品での用途に応じた本発明の有機膜は、アルカリ可溶性無機微粒子Aの種類や含有量によって実現することができる。例えばパッシベーション膜には、アルカリ可溶性無機微粒子Aの無機微粒子がアルミナ、ジルコニア、又はこれらの複合微粒子であり、アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対して重合性二重結合を有する化合物Bを50~200重量部含有する本発明の感光性組成物による有機膜を用いることが好ましい。また、バッファーコート膜には、アルカリ可溶性無機微粒子Aの無機微粒子がチタニア、ジルコニア、アルミナ、又はこれらの複合微粒子であり、アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対して重合性二重結合を有する化合物Bを50~100重量部含有する本発明の感光性組成物による有機膜を用いることが好ましい。また、層間絶縁膜には、アルカリ可溶性無機微粒子Aの無機微粒子がジルコニア、アルミナ、又はこれらの複合微粒子であり、アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対して重合性二重結合を有する化合物Bを50~200重量部含有する本発明の感光性組成物による有機膜を用いることが好ましい。また、平坦化膜には、アルカリ可溶性無機微粒子Aの無機微粒子がチタニア、ジルコニア、アルミナ、又はこれらの複合微粒子であり、アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対して重合性二重結合を有する化合物Bを100~300重量部含有する本発明の感光性組成物による有機膜を用いることが好ましい。また、高屈折率膜とは、1.6以上の屈折率を有する透明膜である。高屈折率膜には、アルカリ可溶性無機微粒子Aの無機微粒子がチタニア、ジルコニア、アルミナ、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、酸化亜鉛、又はこれらの複合微粒子であり、アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対して重合性二重結合を有する化合物Bを50重量部以上含有する本発明の感光性組成物による有機膜を用いることが好ましい。また、高誘電率膜とは、6以上の誘電率を有する有機膜である。高誘電率膜には、アルカリ可溶性無機微粒子Aの無機微粒子がチタニア、ジルコニア、アルミナ、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、酸化亜鉛、又はこれらの複合微粒子であり、アルカリ可溶性無機微粒子A100重量部に対して重合性二重結合を有する化合物Bを50重量部以上含有する本発明の感光性組成物による有機膜を用いることが好ましい。なお、本発明では、本発明の有機膜を400°C以上の温度で焼成することによって、アルカリ可溶性無機微粒子Aからなる膜を得ることが可能である。したがって、実質的にアルカリ可溶性無機微粒子Aからなる、パターンが形成された膜を得ることが可能であり、またこのような膜を、特性に応じた用途で電子部品に用いることも可能である。以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。[合成例1]アルカリ可溶性無機微粒子A1の合成攪拌器付4つ口フラスコに有機溶剤として1-メトキシ-2-プロパノール、無機微粒子としてチタニア分散液一次粒径:20nm、15重量ガンマブチロラクトン溶液、シーアイ化成株製、商品名ナノテック、シランカップリング剤として3-アミノプロピルトリエトキシシラン、金属アルコキシドとしてオルトチタン酸テトラブチル、ケイ素アルコキシドとしてオルトケイ酸テトラブチル、酸無水物としてフタル酸無水物を下記のように仕込んで1時間攪拌し、その後、110°Cまで昇温し、3時間反応させた。1-メトキシ-2-プロパノール30.0gチタニア分散液63.7g3-アミノプロピルトリエトキシシラン1.7gオルトチタン酸テトラブチル5.2gオルトケイ酸テトラエチル1.6gフタル酸無水物1.1gなお、本実施例において、無機微粒子の一次粒径としてはカタログ値を採用した。反応液を室温まで冷却し、反応液を収得した。得られた反応液を800rpmで10秒間、ガラス基板上にスピンコートし、100°Cのホットプレートで2分間乾燥を行った後、0.4重量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に60秒間浸漬し、膜が全て溶解することを確認した。[合成例2]アルカリ可溶性無機微粒子A2の合成無機微粒子として、ジルコニア分散液一次粒径:20nm、15重量ガンマブチロラクトン溶液、シーアイ化成株製、商品名ナノテックと、金属アルコキシドとしてジルコニウムテトラノルマルブトキシドを使用した以外は、合成例1と同様の成分を、下記の重量で仕込み、同様の条件で反応させた。1-メトキシ-2-プロパノール30.0gジルコニア分散液68.0g3-アミノプロピルトリエトキシシラン1.7gジルコニウムテトラノルマルブトキシド5.8gオルトケイ酸テトラエチル1.6gフタル酸無水物1.1g[合成例3]アルカリ可溶性無機微粒子A3の合成無機微粒子として、チタニア複合金属酸化物微粒子分散液一次粒径:10nm、30重量ガンマブチロラクトン溶液、触媒化成工業株製、商品名クインタイタニック、シランカップリング剤として、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ケイ素アルコキシドとしてオルトケイ酸テトラエチルを下記のように仕込み、室温で1時間攪拌し、その後80°Cまで昇温し、3時間反応させた。1-メトキシ-2-プロパノール30.0gチタニア複合金属酸化物微粒子分散液30.0g3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン1.0gオルトケイ酸テトラエチル1.0g反応液を室温まで冷却し、反応液を収得した。得られた反応液を800rpmで10秒間、ガラス基板上にスピンコートし、100°Cのホットプレートで2分間乾燥を行った後、0.4重量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に60秒間浸漬し、膜が全て溶解することを確認した。[比較合成例1]アルカリ可溶性ポリマーの合成と無機微粒子の分散C1攪拌器付き4つ口フラスコに、1-メトキシ-2-プロパノール、ブチルメタクリレート、メタクリル酸、2,2’-アゾビスイソ酪酸ジメチルを下記重量で仕込み、90°Cの重合温度で2時間加熱して重合を行った。1-メトキシ-2-プロパノール20.0gブチルメタクリレート8.5gメタクリル酸1.5g2,2’-アゾビスイソ酪酸ジメチル0.8g得られた反応液を室温まで冷却し、重合体溶液を得た。反応液の一部をサンプリングし、GPC分析ポリエチレンオキシド標準により重量平均分子量を測定した。その結果、重量平均分子量は3,200であった。得られた重合体溶液10gを、チタニア分散液一次粒径:20nm、15重量ガンマブチロラクトン溶液、シーアイ化成株製、商品名ナノテック22.2gに1時間かけて滴下混合し、無機微粒子分散アルカリ可溶性ポリマーC1を得た。[実施例1][感光性組成物の製造]アルカリ可溶性無機微粒子として合成例1で得られたアルカリ可溶性無機微粒子A1、重合性二重結合を有する化合物Bとしてトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート、光重合開始剤CとしてIRGACURE907商品名、チバジャパン株製、添加剤としてフッ素系界面活性剤であるメガファックR-08商品名、DIC株製、以下R-08と略す、溶剤としてジエチレングリコールメチルエチルエーテルを下記の重量で混合溶解し、感光性組成物を得た。ジエチレングリコールメチルエチルエーテル0.4193gアルカリ可溶性無機微粒子A12.0270gトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート0.3000gIrgacure9070.0150gR-080.0031g[評価方法]1パターン状透明膜の形成ガラス基板上に実施例1で調製された感光性組成物を800rpmで10秒間スピンコートし、100°Cのホットプレート上で2分間乾燥した。この基板を空気中で、ドットパターン形成用のマスクを介して、株トプコン製プロキシミティー露光機TME-150PRCを使用し、露光ギャップ100μmで露光した。露光量はウシオ電機株製積算光量計UIT-102、受光器UVD-365PDで測定して100mJ/cm2とした。露光後のガラス基板を、0.4重量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間ディップ現像し、露光部の組成物を除去した。現像後の基板を純水で60秒間洗ってから100°Cのホットプレートで2分間乾燥した。この基板を230°Cのオーブンで30分間ポストベイクし、膜厚1.5μmのパターン状透明膜を形成した。膜厚はKLA-TencorJapan株製触針式膜厚計プロファイラーP15を使用して測定し、3箇所の測定値の平均値を膜厚とした。2現像後残膜率上記1の基板において、現像の前後で膜厚を測定し、次式から計算した。現像後膜厚/現像前膜厚×1003解像度上記1で得られたポストベイク後のパターン状透明膜の基板を光学顕微鏡で1,000倍にて観察し、ドットパターンの底面のサイズを確認した。ドットパターンが形成できていない場合は不良NG:NoGoodとした。4透明性有限会社東京電色製TC-1800を使用し、透明膜を形成していないガラス基板をリファレンスとして波長400nmでの光透過率を測定した。5耐熱性上記1で得られたパターン状透明膜の基板を300°Cのオーブンで30分間追加ベイクし、加熱の前後において上記4と同様に光透過率を測定し、ポストベイク後追加ベイク前の光透過率をT1とし、追加ベイク後の光透過率をT2とした。ポストベイク後から追加ベイク後の光透過率の低下が少ないほど良好と判定できる。また加熱の前後で膜厚を測定し、膜厚変化率を次式から計算した。追加ベイク後膜厚/ポストベイク後膜厚×1006比誘電率透明膜の上下に電極を作製し、アジレントテクノロジー株製LCRメーター4284Aを使用し、比誘電率測定を行った。前記透明膜の作製方法は以下の通りである。アルミを蒸着したガラス基板上に感光性組成物を800rpmで10秒間スピンコートし、100°Cのホットプレート上で2分間乾燥した。この基板を空気中で、株トプコン製プロキシミティー露光機TME-150PRCを使用して全線露光した。露光量はウシオ電機株製積算光量計UIT-102、受光器UVD-365PDで測定して300mJ/cm2とした。この基板を230°Cのオーブンで30分間ポストベイクし、膜厚1.5μmの透明膜を形成した。さらにその上にアルミを蒸着した。膜厚はKLA-TencorJapan株製触針式膜厚計プロファイラーP15を使用して測定し、3箇所の測定値の平均値を膜厚とした。評価は1kHzで行った。7屈折率大塚電子株製反射分光膜厚計FE-3000を使用し、透明膜の屈折率を測定した。屈折率の測定波長は600nmとした。前記透明膜の作製方法は以下の通りである。ガラス基板上に感光性組成物を800rpmで10秒間スピンコートし、100°Cのホットプレート上で2分間乾燥した。この基板を空気中で、株トプコン製プロキシミティー露光機TME-150PRCを使用して全線露光した。露光量はウシオ電機株製積算光量計UIT-102、受光器UVD-365PDで測定して300mJ/cm2とした。この基板を230°Cのオーブンで30分間ポストベイクし、膜厚1.5μmの透明膜を形成した。8膜の表面粗さKLA-TencorJapan株製触針式膜厚計プロファイラーP15を使用し、透明膜の表面粗さ表面粗度を測定した。前記透明膜の作製方法は以下の通りである。ガラス基板上に感光性組成物を800rpmで10秒間スピンコートし、100°Cのホットプレート上で2分間乾燥した。この基板を空気中で、株トプコン製プロキシミティー露光機TME-150PRCを使用して全線露光した。露光量はウシオ電機株製積算光量計UIT-102、受光器UVD-365PDで測定して300mJ/cm2とした。この基板を230°Cのオーブンで30分間ポストベイクした。上記の評価結果を表1に示す。[実施例2]感光性組成物の製造アルカリ可溶性無機微粒子として、合成例2で得られたアルカリ可溶性無機微粒子A2を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で感光性組成物を得た。得られた感光性組成物を実施例1と同様の方法で評価した。結果を表1に示す。[実施例3]感光性組成物の製造アルカリ可溶性無機微粒子として、合成例3で得られたアルカリ可溶性無機微粒子A3を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で感光性組成物を得た。得られた感光性組成物を実施例1と同様の方法で評価した。結果を表1に示す。[比較例1]無機微粒子としてチタニア分散液一次粒径:20nm、シーアイ化成株製、商品名ナノテック、化合物Bとしてトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート、光重合開始剤CとしてIRGACURE907商品名、チバジャパン株製、添加剤としてフッ素系界面活性剤であるメガファックR-08商品名、DIC株製、以下R-08と略す、溶剤としてジエチレングリコールメチルエチルエーテルを下記の重量で混合溶解し、感光性組成物を得た。得られた感光性組成物を実施例1と同様の方法で評価した。結果を表1に示す。ジエチレングリコールメチルエチルエーテル0.1350gチタニア分散液2.0270gトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート0.3000gIrgacure9070.0150gR-080.0031g[比較例2]無機微粒子としてジルコニア分散液一次粒径:20nm、シーアイ化成株製、商品名ナノテックを用いた以外は比較例1と同様にして、下記の重量で混合溶解し、感光性組成物を得た。得られた感光性組成物を実施例1と同様の方法で評価した。結果を表1に示す。ジエチレングリコールメチルエチルエーテル0.1350gチタニア分散液2.0270gトリスアクリロキシエチルイソシアヌレート0.3000gIrgacure9070.0150gR-080.0031g[比較例3]無機微粒子としてチタニア分散液のかわりに比較合成例1で得た無機微粒子分散アルカリ可溶性ポリマーC1を使用した以外は比較例1と同様にして、感光性組成物を得た。得られた感光性組成物を実施例1と同様の方法で評価した。結果を表1に示す。"