"炭素系皮膜が摺動面に被覆されたピストンリングにおいて、前記皮膜は硬度の異なる2種類の層が2層以上積層された積層皮膜であり、前記2種類の層の硬度差は500~1700HVで、硬度の高い層が硬度の低い層の厚さと同一又はそれ以上の厚さを有し、皮膜全体の厚さが5.0μm以上であることを特徴とするピストンリング。前記硬度の高い層の厚さが5~90nmであることを特徴とする請求項1記載のピストンリング。前記皮膜が被覆された面の母材粗さが1.0μmRz以下であることを特徴とする請求項1又は2記載のピストンリング。前記皮膜の最表層が硬度の高い層であることを特徴とする請求項1、2又は3記載のピストンリング。前記皮膜の硬度の低い層が炭素のみ、あるいは炭素の他にCr又はTiが含まれていることを特徴とする請求項1~4の何れかに記載のピストンリング。特許文献1は硬質層と軟質層との硬度差について規定していない。しかしながら、特許文献1は、軟質層はなじみ層としての目的を有し、硬質層は耐摩耗層としての目的を有しているため、硬度は実施例1では軟質層18GPa、硬質層42GPa、実施例2では軟質層20GPa、硬質層41GPaとされ、軟質層と硬質層の硬度差は大きいものとなっている。本発明の目的は、低フリクションと耐摩耗性を有する炭素系皮膜を備えたピストンリングを提供することである。本発明は、炭素系皮膜が摺動面に被覆されたピストンリングにおいて、前記皮膜は硬度の異なる2種類の層が2層以上積層された積層皮膜であり、前記2種類の層の硬度差は500~1700HVで、硬度の高い層が硬度の低い層の厚さと同一又はそれ以上の厚さを有し、皮膜全体の厚さが5.0μm以上であることを特徴とする。前記硬度の高い層の厚さが5~90nmであることが好ましい。前記皮膜が被覆された面の母材粗さが1.0μmRz以下であることが好ましい。前記皮膜の最表層が硬度の高い層であることが好ましい。前記皮膜の硬度の低い層は炭素のみ、あるいは炭素の他にCr又はTiが含まれていることが好ましい。本発明のピストンリングによれば、炭素系皮膜を硬度差が500~1700HVである2種類の層の積層皮膜とすることで、厚膜化が可能になり、低フリクションで耐摩耗性に優れたものになる。硬度差が500HV未満であると、皮膜割れにより摺動表面が荒れ、摩擦係数が大きくなり、相手材の摩耗も多くなる。硬度差が1700HVよりも大きくなると、摺動により低硬度層が摩耗して高硬度層の表面凸部図1b参照に応力が集中して皮膜欠けを起こし、摩擦係数が大きくなるとともに相手材の摩耗も多くなる。皮膜の全体の厚さが5.0μm未満であると耐摩耗性が不足する。以下、本発明の好適な実施形態を図面を参照しながら説明する。ピストンリング1は炭素系皮膜2が外周面に被覆されている。炭素系皮膜2はDLCダイヤモンドライクカーボン皮膜で、硬度の異なる2種類の層A,Bが2層以上積層された積層皮膜である。図1は2種類の層A,Bが6層積層されており、最表層は硬度の高い層Aである。2種類の層A,Bの硬度差は500~1700HVである。硬度の高い層A以下、高硬度層Aという。の膜厚は5~90nmであり、硬度の低い層B以下、低硬度層Bという。の厚さと同一又はそれ以上の厚さを有している。炭素系皮膜2の全体の膜厚は5.0μm以上である。外周面の母材粗さは1.0μmRz以下である。低硬度層BにCr又はTiを含有させてもよく、Cr又はTiが含まれると高硬度層Aとの密着性がより向上する。高硬度層Aの膜厚が5nmより小さいと、摺動後の外周面に露出する高硬度層Aと低硬度層Bの幅図1c参照を充分確保できず、保油性が低下し、低フリクション効果が不充分になる。膜厚が90nmより大きくなると、摺動後の外周面に露出する高硬度層Aと低硬度層Bの幅が大きくなり過ぎ、皮膜割れが発生し、摩擦係数が大きくなるとともに相手材の摩耗も多くなる。外周面の母材粗さが1.0μmRzよりも大きいと、摺動により低硬度層Bが摩耗して高硬度層Aの表面凸部図1b参照に応力が集中して皮膜欠けを起こし、摩擦係数が大きくなるとともに相手材の摩耗も多くなる。最表層が高硬度層Aであると、相手材の表面を早期に平滑化できる。上記の炭素系皮膜2はPVD方式を用いて、スパッタリング低硬度層Bを被覆とイオンプレーティング高硬度層Aを被覆を交互に行うことにより成膜された。各層の厚さは成膜時間を変更することにより調整し、硬度はバイアス電圧を変えることにより調整した。以下、往復動摩擦試験機を使用して、自身の摩耗量、相手材の摩耗量、摩擦係数を測定した試験結果を説明する。図2に、試験に使用した往復動摩擦試験機の概要を示す。ピン状の上試験片10は固定ブロック11により保持され、上方から油圧シリンダ12により下向きの荷重が加えられて、下試験片13に押接される。一方、平盤形状の下試験片13は可動ブロック14により保持され、クランク機構15により往復動させられる。16はロードセルである。試験条件は以下の通りである。荷重:100N速度:600cpm/min潤滑油:5W-20時間:1時間上試験片:DLC皮膜を施したピストンリング用鋼製ピン状試験片下試験片:シリンダライナ用片状黒鉛鋳鉄材"