発光層と、前記発光層上に順に積層された、第1透明誘電体層と、金属層と、第2透明誘電体層と、を有し、前記金属層と前記第1透明誘電体層との界面には、前記発光層から入射した光のうち、偏光方向が該界面の面内の第1の方向と直交する特定の偏光成分により表面プラズモンを励起する表面プラズモン励起手段として機能する、前記第1の方向と該界面内で直交する第2の方向に沿って周期的な凹凸構造が形成され、該凹凸構造の凸部はそれぞれが前記第1の方向に延びており、前記金属層と前記第2透明誘電体層との界面には、前記特定の偏光成分によって前記表面プラズモン励起手段で励起された表面プラズモンに応じて前記金属層と前記第1透明誘電体層との界面で発生する表面プラズモンから、前記特定の偏光成分と同じ偏光成分を有する光を生じさせる光発生手段が形成された、光源。前記光発生手段が、前記第2透明誘電体層と前記金属層との界面に、前記表面プラズモン励起手段と同一の構造を有し、前記第2透明誘電体層が、前記第1透明誘電体層と同じ誘電率を有する、請求項1に記載の光源。前記光発生手段が、前記金属層と前記第2透明誘電体層との間に挿入され、前記第2透明誘電体のよりも小さい屈折率を有する低屈折率層を含む、請求項1に記載の光源。前記第2透明誘電体層の屈折率は、前記第1透明誘電体層の屈折率より小さく、前記金属層の膜厚は、前記第2透明誘電体層の膜厚より薄い、請求項1に記載の光源。前記金属層がAgを含む、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の光源。前記表面プラズモン励起手段が、赤色光の特定の偏光成分により表面プラズモンを励起し、前記凹凸構造の前記第2の方向の周期が、0.2μm~4.2μmの範囲にある、請求項5に記載の光源。前記表面プラズモン励起手段が、緑色光の特定の偏光成分により表面プラズモンを励起し、前記凹凸構造の前記第2の方向の周期が、0.2μm~3.5μmの範囲にある、請求項5に記載の光源。前記表面プラズモン励起手段が、青色光の特定の偏光成分により表面プラズモンを励起し、前記凹凸構造の前記第2の方向の周期が、0.15μm~3.0μmの範囲にある、請求項5に記載の光源。前記金属層がAuまたはAlを含む、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の光源。前記凹凸構造の凸部は、前記第1の方向と直交する断面において、前記凸部の頂点を通り前記第2の方向と直交する線に対して対称である、請求項1ないし9のいずれか1項に記載の光源。前記凹凸構造は、前記第1の方向と直交する断面が矩形波状である、請求項10に記載の光源。前記凹凸構造は、前記第1の方向と直交する断面が階段波状である、請求項10に記載の光源。前記凹凸構造は、前記第1の方向と直交する断面が正弦波状である、請求項10に記載の光源。前記凹凸構造は、前記第1の方向と直交する断面が二等辺三角波である、請求項10に記載の光源。前記第2透明誘電体層内を伝播する光を所定の方向に回折して出射する回折手段を有する、請求項1ないし14のいずれか1項に記載の光源。前記回折手段が、前記第2透明誘電体層における前記光の出射面に形成された複数の構造体であり、各構造体は、前記第1の方向に延び、かつ、前記第2の方向に沿って周期的に配列されている、請求項15に記載の光源。前記回折手段が、ホログラムである、請求項15に記載の光源。前記凹凸構造は、前記第1の方向と直交する断面において、前記凹凸構造の凸部の頂点を通り前記第2の方向と直交する線に対して非対称である、請求項1ないし9のいずれか1項に記載の光源。前記表面プラズモン励起手段の前記凹凸構造は、前記第1の方向と直交する断面が鋸歯波状である、請求項18に記載の光源。前記表面プラズモン励起手段の前記凹凸構造は、前記第1の方向と直交する断面が階段波状である、請求項18に記載の光源。前記発光層における前記第1透明誘電体層の反対側に設けられた反射層を有する、請求項1ないし20のいずれか1項に記載の光源。前記反射層は、光を拡散反射する拡散反射層である、請求項21に記載の光源。前記第2透明誘電体層内を伝播する光の出射面を除く外壁面の少なくとも一部に設けられた、光を反射する反射部を有する、請求項21または22のいずれか1項に記載の光源。前記金属層と前記反射層との間に挿入された、透過した光の偏光状態を変える位相変調層を有する、請求項21ないし22のいずれか1項に記載の光源。前記位相変調層が、透過した光に位相差を付与する位相差板である、請求項24に記載の光源。請求項1ないし25のいずれか1項に記載の光源と、前記光源からの光を映像信号に応じて変調して出射する変調素子と、前記変調素子から出射された光を投射する投射光学系と、を備えた投射型表示装置。特許文献1に記載の平面照明装置では、マイクロプリズムにて光の角度変換が行われるので、導光板内の光は、様々な方向に伝播され、第1の境界に様々な方向から入射することになる。この場合、金属薄膜に様々な方向に伝播する表面プラズモンが生じ、第2の境界で発生する光も様々な方向に出射される。このため、エテンデューが増大し、光源の出射光を効率良く投射光として利用することができない。本発明の目的は、上記の課題である、ランダム偏光を特定の偏光状態に変換する際にエテンデューが増大するという問題を解決できる光源および投射型表示装置を提供することである。本発明による光源は、発光層と、前記発光層上に順に積層された、第1透明誘電体層と、金属層と、第2透明誘電体層と、を有し、前記金属層と前記第1透明誘電体層との界面には、前記発光層から入射した光のうち、偏光方向が該界面の面内の第1の方向と直交する特定の偏光成分により表面プラズモンを励起する表面プラズモン励起手段として機能する、前記第1の方向と該界面内で直交する第2の方向に沿って周期的な凹凸構造が形成され、該凹凸構造の凸部はそれぞれが前記第1の方向に延びており、前記金属層と前記第2透明誘電体層との界面には、前記特定の偏光成分によって前記表面プラズモン励起手段で励起された表面プラズモンに応じて前記金属層と前記第1透明誘電体層との界面で発生する表面プラズモンから、前記特定の偏光成分と同じ偏光成分を有する光を生じさせる光発生手段が形成されている。本発明による投射型表示装置は、上記の光源と、前記光源からの光を映像信号に応じて変調して出射する変調素子と、前記変調素子から出射された光を投射する投射光学系と、を有する。本発明によれば、エテンデューを増大させることなく、ランダム偏光を特定の偏光状態に変換することが可能になる。以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の説明では、同じ機能を有するものには同じ符号を付け、その説明を省略する場合がある。[第1の実施形態]図1は、本発明の第1の実施形態の光源を示す斜視図である。光源10は、サブマウント層11、拡散ミラー層12、発光層13、第1カバー層14、金属層15、第2カバー層16の順番で積層されている。なお、実際の光源における各層の厚さは非常に薄く、また、各層の厚さの違いが大きいので、各層を正確な比率で図示することが困難である。このため、図1では、各層は実際の比率通りには描かれておらず、模式的に示されている。また、図1に示すように、発光層13の上面に平行な面をXY平面とし、XY平面と直交する方向をZ方向とする。ここで、偏光方向がY方向に垂直な直線偏光をTM偏光とし、偏光方向がY方向に平行な直線偏光をTE偏光とする。拡散ミラー層12は、入射した光を拡散反射する。発光層13は、所定の波長の光を発する。より具体的には、発光層13では、p型半導体層であるp型層13A、活性層13B、n型半導体層であるn型層13Cの順番で下から積層されている。そして、外部電源図示せずからp型層13Aとn型層13Cとの間に電圧が印加され、それらの間に電流が流れると、その電流に応じて活性層13Bにて光が発生する。ここで、活性層13Bで発生された光はランダム偏光である。第1カバー層14は、透明誘電体で形成された第1透明誘電体層であり、発光層13からの光がその内部を伝播するようになっている。第1カバー層14の形成材質である透明誘電体としては、PMMAポリメタクリル酸メチル樹脂などの透明アクリル樹脂や、ガラスなどが挙げられる。以下では、本透明誘電体としてガラスが使用されているものとする。金属層15は、Agなどの金属で形成され、第1カバー層14の上にその第1カバー層14と接するように設けられる。第1カバー層14と金属層15との界面は、光を回折する第1回折格子21となっている。ここで、第1回折格子21は、1次元方向以下、X方向とするに周期的な凹凸構造で形成される。より具体的には、第1回折格子21は、Y方向第1の方向に延伸された凸部21AがX方向第2の方向に周期的に複数配列されることで形成される。第1回折格子21は、第1カバー層14を伝播するランダム偏光のうち、金属層15に所定の入射角度で入射するTM偏光によって、第1カバー層14と金属層15との界面に表面プラズモンを励起する表面プラズモン励起手段として機能する。第2カバー層16は、第1カバー層14と同じ誘電率の材質で形成され、金属層15と接するように設けられる。金属層15と第2カバー層14との界面は、第2回折格子22となっている。第2回折格子22は、第1回折格子21と同じ構造を有する。つまり、第2回折格子22は、第1回折格子21の凸部21Aと同じ形状の凸部22Aを有し、凸部22Aが凸部21Aの周期と同じ周期でX方向に複数配列される。第2回折格子22は、第1回折格子21にて励起された表面プラズモンから光を発生させる光発生手段として機能する。第2カバー層16の上面は、光源10における光の出射面となっており、回折部23が形成されている。回折部23は、光発生手段である第2回折格子22で発生した光を所定の方向に回折して出射する。なお、回折部23は、第1回折格子21および第2回折格子22と同様に、Y方向に延伸された構造体例えば、凸部がX方向に周期的に複数配列されることで形成される。次に、表面プラズモンが励起され、その表面プラズモンから光が発生される原理についてより詳細に説明する。表面プラズモンは、金属と誘電体の界面を伝播する電子の集団の疎密波である。表面プラズモンの波数と角周波数との分散関係は、界面の金属および誘電体の誘電率から決定される。表面プラズモンの分散関係が誘電体中を伝播する光の分散関係と一致するときに、すなわち、誘電体中の光の波数が表面プラズモンの波数と等しくなるときに、その光によって表面プラズモンが励起される。しかしながら、金属と誘電体との界面が平坦な場合、表面プラズモンの分散関係と誘電体中の光の分散関係は通常一致しないため、単に光を誘電体から金属に入射しただけでは表面プラズモンは励起されない。したがって、表面プラズモンを励起させるためには、誘電体中の光の分散関係を変化させて、表面プラズモンの分散関係と誘電体中の光の分散関係とを一致させる必要がある。光の分散関係を変化させて表面プラズモンを励起させる方法としては、金属と誘電体との界面に回折格子グレーティングを設けるグレーティング結合法が知られている。グレーティング結合法では、回折格子に所定の入射角度で光が入射されると、その回折格子にて回折された回折光の分散関係と表面プラズモンの分散関係とが一致し、誘電体と金属との界面に表面プラズモンが励起される。また、表面プラズモンが疎密波であることに起因して、ある特定の方向に伝搬する表面プラズモンを励起する入射光は、電界成分がその特定の方向に平行な直線偏光の光のみである。したがって、図1に示したように、第1カバー層14と金属層15との界面にX方向に周期的な凹凸構造が設けられることで、第1カバー層14と金属層15との界面に表面プラズモンを励起できる光を、X方向に電界成分を有し、第1回折格子21に対して所定の入射角度を有する直線偏光に制限することが可能になる。ここで、金属層15を100nm程度以下に十分薄くとすると、金属層15の両面で表面プラズモンのエネルギーの授受が行われ、第2回折格子22側でも第1回折格子21側で励起された表面プラズモンと同じ表面プラズモンが発生する。このため、上記のように表面プラズモンが励起されると、第2回折格子22において、第1回折格子21により表面プラズモンが励起された過程と逆の過程が生じ、第2回折格子22から光が出射されることとなる。これは、第1回折格子および第2回折格子が同じ凹凸構造を有し、かつ、第1カバー層14と第2カバー層16とが同じ誘電率を有しているので、第1カバー層14内の光の分散関係と、第2カバー層16内の光の分散関係とが一致するためである。第2回折格子22から出射される出射光は、表面プラズモンが励起された過程と逆の過程が生じたものであるため、表面プラズモンを励起した光と同じ光、つまり、X方向に電界成分を有するTM偏光となる。このとき、第2回折格子22から出射される出射光の出射角度も、表面プラズモンを励起する光の入射角度と同じになる。このように、本実施形態では、第1回折格子21と第2回折格子22とを光学的に同じ構成とすることで、第1回折格子21に入射したTM偏光と同じ光を第2回折格子22から出射することが可能となる。なお、X方向以外の伝搬成分を有する光が第1回折格子21に入射した場合でも、その光をZX平面に射影した射影光の入射角度が表面プラズモンの励起条件を満たす角度であれば、X方向に平行な偏光成分によって表面プラズモンが励起される。しかしながら、この場合でも、表面プラズモンの伝搬方向はX方向に制限されるため、第2回折格子22から出射される光は、X方向に電界成分を有するTM偏光となる。次に光源10の動作について説明する。図2は、光源10の動作を説明するための説明図であり、光源10をXZ平面で切った断面を示す。外部電源からp型層13Aとn型層13Cとの間に電圧が印加され、それらの間に電流が流れると、その電流に応じて活性層13Bにてランダム偏光が発生する。活性層13Bで発生されたランダム偏光の一部は、直接第1カバー層14に入射され、残りは、拡散ミラー層12で拡散反射されて第1カバー層14に入射される。第1カバー層14に入射されたランダム偏光のうち、表面プラズモンの励起条件を満たす角度θ1で金属層15に入射するTM偏光は、第1回折格子21を介して金属層15に表面プラズモンを励起する。図中矢印A参照。そして、第2回折格子22においてこの表面プラズモンと同じ表面プラズモンが発生し図中矢印B参照、その表面プラズモンにより第2カバー層16内に光が発生する。ここで発生した光は、第1カバー層14と金属層15との界面で表面プラズモンを励起した光と同一のTM偏光であり、その光の入射角度と同じ角度θ1で出射される図中矢印C参照。一方、第1カバー層14に入射したランダム偏光のうち、表面プラズモンの励起条件を満たさない光例えば、TE偏光や、入射角度θ1と異なる入射角度θ2で金属層15に入射するTM偏光は、第1回折格子21において単に反射または回折されるだけで、表面プラズモンを励起しない。この光は、拡散ミラー層12で拡散反射され、偏光方向や入射角度が変化して再び金属層15に入射する。光がこのような反射を繰り返し、入射角度θ1で金属層15に入射するTM偏光になると、表面プラズモンを励起する。ここで、表面プラズモンを励起するTM偏光としては、ZX平面内で多重反射しながらX方向に伝搬して入射角度θ1で金属層15に入射する場合と、ZX平面内で多重反射しながら-X方向に伝搬して入射角度-θ1で金属層15に入射する場合とがある。そのため、第2カバー層16で発生されるTM偏光の出射方向も2つとなる。この出射方向の異なる光は、第2カバー層16の出射面に形成された回折部23によって回折されて、所定の方向本実施形態では出射面に垂直な方向、図中矢印D、D’参照に出射されることになる。なお、本実施形態の回折部23は、第1回折格子21および第2回折格子22と同一構造を有しているが、これは、第2回折格子22から2つの出射角度θ1および-θ1で出射する光を所定の方向に回折するためである。そのため、回折部23は、Y方向に延伸された構造体がX方向に周期的に配列されていれば、第1回折格子21および第2回折格子22と同じ構造を有している必要はなく、その構造体や形状や構造体間の間隔は、回折部23への入射角度や所望する出射角度に応じて適宜変更可能である。また、表面プラズモンを励起させるための回折格子において、光の分散関係を変化させるパラメータは格子定数ピッチである。このため、第1回折格子21の構成は、図1で示した構成に限定されない。つまり、第1回折格子21における凸部21Aの断面形状は適宜変更可能である。図3は、第1回折格子21の形状例を示す断面図であり、第1回折格子21をXZ平面で切った断面形状を示している。図3で示したように、第1回折格子21の断面形状としては、矩形波状図3a参照、階段波状図3b参照、正弦波状図3c参照および二等辺三角波図3d参照などが挙げられる。このような断面形状は、凸部21Aの頂点を通り、Y方向と直交する線Z方向と平行な線に対して線対称である。なお、図1および図2では、図3aに示す矩形波状の断面を有する第1回折格子21が示されている。また、第2回折格子は、第1回折格子21と同じ構造なので、第2回折格子の断面形状も第1回折格子21の断面形状と同じになる。ここで、2次以上の回折光によって表面プラズモンが励起されると、表面プラズモンに複数のモードが生じる。この場合、第2カバー層16において、表面プラズモンの各モードに対応する複数の方向のそれぞれに出射される光が生じ、光源10からの出射光の放射角度が広くなり、光源10のエテンデューが増加する。このため、1次回折光の回折効率を向上させることで、光源10の出射光の利用効率を向上させることができる。例えば、図3bに示す階段波状の断面を有する第1回折格子21では、その階段形状のステップを増やすことで一次回折光の回折効率を向上させることができる。例えば、ステップ数が4の場合、一次回折光の回折効率は81程度となる。また、図3cに示す正弦波状の断面を有する第1回折格子21は、ステップ数が無数の階段波状の回折格子とみなすこともでき、一次回折光の回折効率が理論上100となる。このため、光源10の出射光の利用効率の観点からは、第1回折格子21は、正弦波状の断面を有するものであることが望ましい。次に第1回折格子21のピッチについて説明する。上述のように、表面プラズモンの分散関係は、その表面プラズモンが発生する界面を挟む誘電体および金属の誘電率に応じて決定される。そのため、表面プラズモンを励起する回折格子に対する励起条件や、表面プラズモンを励起する光の入射角度は、金属および誘電体の材質に応じて変化する。特に、この励起条件や入射角度は、金属の材質に応じて大きく変化することが知られている。以下では、誘電体としてはガラスを用いる。また、金属としては、赤色光、緑色光および青色光の周波数帯域よりプラズマ周波数が高く、表面プラズモンを励起させる光以外の光を高効率で反射するAgを用いるものとする。図4および図5は、表面プラズモンおよび光の分散関係を示す図である。図4および図5では、横軸は波数を示し、縦軸は周波数を示す。また、赤色光波長:630nm、緑色光波長:530nm、青色光波長:450nmに対応する周波数のそれぞれを示している。また、図4および図5の陰影部分は、第1カバー層14内X方向に伝搬する光が金属層15に0°<θ1<90°の入射角度で入射するときの、その光の分散関係の取り得る範囲を示している。これに対して、実線太線、-SP-1は、第1回折格子21による1次回折光によって励起される表面プラズモンの分散関係を示している。したがって、この実線と陰影部分とが交わる領域があれば、その領域に相当するエネルギーの光によって、1次回折光から表面プラズモンを励起することができる。図4は、第1回折格子21の格子定数Lを0.2μmとしたときの、表面プラズモンおよび光の分散関係を示す図である。図4では、実線が赤色光、緑色光および青色光のそれぞれに対応する周波数帯域の全てで陰影部分と交わっている。つまり、第1回折格子21のピッチLが0.2μmの場合、赤色光、緑色光、および青色光のそれぞれの1次回折光から表面プラズモンを励起することができる。図5は、第1回折格子21の格子定数Lを0.15μmとしたときの、表面プラズモンおよび光の分散関係を示す図である。図5では、実線が青色光に対応する周波数帯域でのみ陰影部分と交わっている。つまり、第1回折格子21のピッチLが0.15μmの場合、青色光の1次回折光から表面プラズモンを励起することができる。したがって、第1回折格子21のピッチを、赤色光および緑色光では0.2μm以上、青色光では0.15μm以上にすることで、1次回折光を利用して表面プラズモンを励起することができる。また、第1回折格子21のピッチを大きくしていくと、2次以上の回折光でも表面プラズモンが励起されるようになり、さらに大きくしていくと、2次以上の回折光によってのみ表面プラズモンが励起され、1次回折光では表面プラズモンを励起することができなくなる。したがって、第1回折格子21のピッチは、1次回折光を利用して表面プラズモンを励起できる範囲、すなわち、入射光が赤色光の場合、0.2μm≦L≦4.2μm、緑色光の場合、0.2μm≦L≦3.5μm、青色光の場合、0.15μm≦L≦3.0μmの範囲にあることがより好ましく、さらには1次回折光のみを利用して表面プラズモンを励起できる範囲、すなわち、入射光が赤色光の場合、0.2μm≦L≦0.35μm、緑色光の場合、0.2μm≦L≦0.3μm、青色光の場合、0.15μm≦L≦0.25μmの範囲にあることが最も好ましい。また、第1回折格子21のピッチとして、2次以上の回折光によって表面プラズモンが励起されるようなピッチを用いる場合には、第1回折格子21の断面形状を正弦波形状またはそれに近づけることで、1次回折光の回折効率を100またはそれに近づけることが好ましい。また、第1回折格子21のピッチLと表面プラズモンを励起する光の入射角度θ1との関係は、例えば、赤色光ではL=0.35μmのときθ1=6°、緑色光ではL=0.3μmのときθ1=4°、青色光ではL=0.25μmのときθ1=7°となる。また、金属層15には、Agの代わりに、例えばAlやAuなどで形成されてもよい。金属層15がAlで形成されている場合、1次回折光のみによって表面プラズモンを励起できる第1回折格子21のピッチは、入射光が赤色光の場合、0.25μm≦L≦0.4μm、緑色光の場合、0.2μm≦L≦0.3μm、青色光の場合、0.2μm≦L≦0.3μmである。また、金属層15がAuで形成されている場合、1次回折光のみによって表面プラズモンを励起できる第1回折格子21のピッチは、入射光が赤色光の場合、0.2μm≦L≦0.35μm、緑色光の場合、0.2μm≦L≦0.3μm、入射光が青色光、0.15μm≦L≦0.25μmである。なお、上記の説明に用いた表面プラズモンおよび光の分散関係はZX平面でのグレーティング結合法に基づいて行ったものである。つまり、本分散関係は、図2に示す第1回折格子21に対して、凸部21A間の間隔第1回折格子21のピッチを変化させたときの、第1カバー層14と金属層15との界面における、X方向に平行な表面プラズモンと光の分散関係を計算したものである。なお、金属層15の誘電率は、Drude-Lorentzモデルに従うものとした。次に光源10を備えたプロジェクタについて説明する。図6は、本実施形態のプロジェクタの構成の一例を示す配置図である。図6において、プロジェクタ100は、光源101R、101Gおよび101Bと、光学素子102R、102Gおよび102Bと、液晶パネル103R、103Gおよび103Bと、クロスダイクロイックプリズム104と、投射光学系105とを備える。光源101R、101Gおよび101Bのそれぞれは、図1に示した光源10と同じ構造を有する。光源101R、101Gおよび101Bのそれぞれの発光層13は、波長がそれぞれ異なる光を発生するものとする。以下、光源101Rから赤色光が出射され、光源101Gから緑色光が出射され、光源101Bから青色光が出射されるものとする。光学素子102R、102Gおよび102Bのそれぞれは、光源101R、101Gおよび101Bからの各色光を、液晶パネル103R、103Gおよび103Bのそれぞれに導いて入射する。液晶パネル103R、103Gおよび103Bは、入射された各色光を映像信号に応じて変調して出射する空間光変調素子である。クロスダイクロイックプリズム104は、液晶パネル103R、103Gおよび103Bのそれぞれから出射された各変調光を合成して出射する。投射光学系105は、クロスダイクロイックプリズム104から出射された合成光をスクリーン200に投射して、スクリーン200上に映像信号に応じた映像を表示する。図7は、本実施形態のプロジェクタの構成の別の例を示す配置図である。図7において、プロジェクタ100’は、光源101R、101Gおよび101Bと、導光体106と、液晶パネル107と、投射光学系108とを有する。導光体106は、光源101R、101Gおよび101Bからの各色光を合成して液晶パネル107に出射する。液晶パネル107は、入射された合成光を映像信号に応じて変調して出射する空間光変調素子である。投射光学系108は、液晶パネル107から出射された変調光をスクリーン200に投射して、スクリーン200上に映像信号に応じた映像を表示する。なお、図6および図7では、空間光変調素子として液晶パネルを用いたが、変調素子は液晶パネルに限らず適宜変更可能である。例えば、図7で示したプロジェクタでは、液晶パネル107の代わりに、DMDDigitalMicromirrorDeviceを用いてもよい。以上説明したように本実施形態によれば、光源10は、発光層13と、発光層13に順に積層された、第1カバー層14と、金属層15と、第2カバー層16とを有する。金属層15と第1カバー層14との界面にはX方向に周期的な凹凸構造が形成される。また、第1カバー層15と第2カバー層16の誘電率が等しい。このため、金属層15と第1カバー層14との界面がX方向に周期的な凹凸構造となっているので、第1カバー層14と金属層15との界面に表面プラズモンを励起できる光を、X方向に電界成分を有し、第1回折格子21に対して所定の入射角度を有する光に制限することが可能になる。また、第1カバー層14と第2カバー層16とが等しい誘電率を有しているので、第1回折格子21により表面プラズモンが励起された過程と逆の過程が生じ、第2カバー層16から、表面プラズモンを励起した光と同じ光、つまり、X方向に電界成分を有し、出射角度が表面プラズモンを励起する光の入射角度と同じTM偏光が出射される。したがって、出射角度を揃えることができるので、エテンデューを増大させることなく、ランダム偏光を特定の偏光状態に変換することが可能になる。[第2の実施形態]図8は、本発明の第2の実施形態の光源を模式的に示す斜視図である。図8に示す光源30は、図1で示した光源10に対して光発生手段の構成を変更したものである。より具体的には、光源30は、金属層15と第2カバー層16との間に、第2回折格子22の代わりに低屈折率層31を有する点で光源10と比べて異なる。低屈折率層31は、第2カバー層16の屈折率より小さい屈折率を有する。本実施形態では、金属層15、第2カバー層16および低屈折率層31が光発生手段を構成する。この光発生手段では、いわゆるオット光学配置が実現されており、表面プラズモンと光とを結合させて、表面プラズモンから光を発生させる方法として、全反射減衰ATR:AttenuatedTotalReflection法が用いられている。ATR法によれば、誘電体と低屈折率層との界面で光が全反射する際に、その界面においてエバネッセント光が発生し、そのエバネッセント光によって、低屈折率層と金属との界面に表面プラズモンが励起される。したがって、第1回折格子21で表面プラズモンが励起されると、金属層15と低屈折率層31との界面には、その表面プラズモンと同じ表面プラズモンが誘起される。そして、その表面プラズモンから、低屈折率層31と第2カバー層16との界面に発生するエバネッセント光を介して光が生成され、第2カバー層16へと出射される。以上説明したように本実施形態でも第1の実施形態と同じ効果が得られる。[第3の実施形態]図9は、本発明の第3の実施形態の光源を模式的に示す斜視図である。図9に示す光源40は、図1で示した光源10に対して光発生手段の構成を変更したものである。より具体的には、光源40は、金属層15の代わりに金属層41を有する点で光源10と異なる。また、第2カバー層16が第1カバー層14の屈折率より小さい屈折率を有する。そして、金属層41は、第2カバー層の膜厚よりも極めて小さい膜厚を有する。なお、金属層41と第2カバー層16との間に回折格子は形成されていない。本実施形態では、第2カバー層16および金属層41が光発生手段を構成する。この光発生手段では、いわゆるクレッチマン光学配置が実現されており、第2の実施形態と同様にATR法が用いられて、表面プラズモンから光が発生されている。つまり、第1回折格子21で表面プラズモンが励起されると、金属層41と第2カバー層16との界面には、その表面プラズモンと同じ表面プラズモンが誘起される。そして、その表面プラズモンから、金属層41と第2カバー層16との界面に発生するエバネッセント光を介して、第2カバー層16内に光が出射される。したがって、本実施形態でも第1の実施形態と同じ効果が得られる。[第4の実施形態]図10は、本発明の第4の実施形態の光源を模式的に示す斜視図である。図10に示す光源50は、図1で示した光源10に対して第2カバー層16の出射側の構成を変更したものである。より具体的には、光源50は、第2カバー層16の回折部23の代わりに、第2カバー層16に積層されたホログラム層51を有する点で光源10と比べて異なる。ホログラム層51は、第1回折格子21による2次以上の回折光によって励起される表面プラズモンの複数のモードに起因する、ホログラム層51への複数の入射角を有する各光を全て同一方向に回折して出射する複数のホログラムが積層された多重ホログラムである。したがって、第1回折格子21による2次以上の回折光によって表面プラズモンが励起されても、光源50のエテンデューの増大化を抑制することができる。なお、本実施形態では、第1の実施形態の光源10に対して第2カバー層16の出射側の構成を変更したものを説明したが、第2および第3の実施形態の光源30および40のそれぞれに対して第2カバー層16の出射側の構成を本実施形態と同様に変更してもよい。[第5の実施形態]図11は、本発明の第5の実施形態の光源を模式的に示す斜視図である。図11に示す光源60は、図1で示した光源10に対して、光の出射面である上面および下面を除いた外壁面つまり光源の側面を覆うように反射部61を追加したものである。反射部61は、発光層13で発生した光を反射する。これにより、発光層13の側面から光が出射されることを抑制することができるので、発光層13で発生した光を、図1で示した光源10と比べて無駄なく金属層15に入射することが可能になり、ランダム偏光を効率良くTM偏光に変換して出射することが可能となる。なお、反射部61は、光源60の全ての側面に設けられていたが、その側面のうち一部の面にのみ設けられていてもよい。この場合でも、発光層13で発生した光を、図1で示した光源10と比べて無駄なく金属層15に入射することは可能である。また、反射部61は、光を拡散反射するものであってもよい。なお、本実施形態では、第1の実施形態の光源10に対して反射部61を追加したものを説明したが、第2~第4の実施形態の光源30、40および50のそれぞれに対して反射部61を追加してもよい。[第6の実施形態]図12は、本発明の第6の実施形態の光源を模式的に示す斜視図である。図11に示す光源70は、図1に示した光源10に対して回折格子の構成を変更したものである。より具体的には、光源70は、第1回折格子21および第2回折格子22の代わりに第1回折格子71および第2回折格子72を備える点で図1に示した光源10と異なる。第1回折格子71は、ブレーズド回折格子である。つまり、第1回折格子71は、X方向に周期的な凹凸構造で形成され、その凹凸構造は、Y方向から見て鋸歯波状の断面形状を有している。また、第2回折格子72は、第1回折格子71と同じ構造を有する。ブレーズド回折格子では、そのブレーズ方向に応じて、入射角度θで入射する光と入射角度-θで入射する光の一方のみが回折される。本実施形態の第1回折格子71では、入射角度θ1で入射する光と入射角度-θ1で入射する光のうち、入射角度θ1で入射する光のみを回折する。このため、入射角度θ1で金属層15に入射するTM偏光のみによって表面プラズモンが励起されるので、第2回折格子72から出射される出射光の出射角度はθ1のみとなる。このとき、金属層15との界面で表面プラズモンを励起できる入射角度θ1は、上述したように、金属層15の誘電率や第1回折格子71および第2回折格子72のピッチなどによって変更可能である。したがって、これらの誘電率やピッチなどを調節し、第2回折格子72から出射される出射光の出射角度θ1を、第2カバー層16の全反射角度よりも小さくすることで、第2カバー層16に回折部23を設けることなく、光源70から所定の方向に光を出射させることが可能になる。なお、本実施形態における第1回折格子の凸部は、Y方向と直交する断面において、凸部の頂点を通りZ方向に平行な線に対して非対称であれば、鋸歯波状に限らず、階段波状などでもよい。[第7の実施形態]図13は、本発明の第7の実施形態の光源を模式的に示す斜視図である。図13に示す光源80は、図1に示した光源10に対して、拡散ミラー層12と金属層15との間に位相変調層81が挿入されたものである。位相変調層81は、透過した光に対して位相変調を行い、その光の偏光状態を変える。位相変調層81は、例えば、λ/4板のような透過した光に位相差を付与する位相差板である。本実施形態によれば、位相変調層81にて偏光状態が変換されるので、発光層13で発生した光を、図1で示した光源10と比べて無駄なく表面プラズモンを励起する光とすることができる。なお、本実施形態では、第1の実施形態の光源10に対して位相変調層81を追加したものを説明したが、第2~第6の実施形態の光源30、40、50、60および70のそれぞれに対して位相変調層81を追加してもよい。以上説明した各実施形態において、図示した構成は単なる一例であって、本発明はその構成に限定されるものではない。この出願は、2010年8月24日に出願された日本出願特願2010-187149号公報を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。