"入射X線を集光するX線集光光学素子と、前記X線集光光学素子によって集光された集光X線を導波させる、コアとクラッドからなるX線導波路とを具備するX線導波路システムであって、前記X線導波路のコアは、複数の屈折率実部の異なる物質からなる基本構造が周期的に配された周期性構造体であり、前記コアと前記クラッドとの界面における前記集光X線の全反射臨界角が、前記コアの周期に対応するブラッグ角以上であり、且つ前記X線導波路に入射する前記集光X線の集光角度が前記ブラッグ角の2倍よりも大きいことを特徴とするX線導波路システム。前記集光X線の集光角度が、前記ブラッグ角の4倍と、前記コアとクラッドとの界面における集光X線の全反射臨界角とのうちの小さい値未満であることを特徴とする請求項1に記載のX線導波路システム。前記X線集光光学素子が、キャピラリ素子、全反射ミラー、多層膜ミラー、フレネルゾーンプレートまたは結晶ミラーであることを特徴とする請求項1または2に記載のX線導波路システム。前記コアが多層膜であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のX線導波路システム。前記コアがメソポーラス膜であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のX線導波路システム。前記コアを、両親媒性の有機物を含む反応液を用いた自己集合プロセスにより作製することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のX線導波路システム。しかしながら、従来のX線導波路には改善すべき課題があった。非特許文献1及び非特許文献2では、ともにX線の導波損失を小さくするために、導波モードの中でも最も伝搬角度が小さい0次モードを主に利用している。X線帯域の電磁波では、物質間の屈折率差実部が極めて小さいため、0次モードの伝搬角度が小さくなり、その結果X線導波路では極めて微小なコアを作製する必要があった。そのため、伝搬させるX線の面積が小さくなり、X線導波路が出射するX線ビームが小さく、また、導波路の特長の一つである空間的コヒーレンスの空間範囲に制限があった。さらに、非特許文献2のような2次元閉じ込め構造のX線導波路の場合、必要となる数10nm程度の大きさのコアを作製することが非常に困難であった。本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、空間的コヒーレンスの空間範囲の大きなX線を形成することができるX線導波路システムを提供するものである。上記の課題を解決するX線導波路システムは、入射X線を集光するX線集光光学素子と、前記X線集光光学素子によって集光された集光X線を導波させる、コアとクラッドからなるX線導波路とを具備するX線導波路システムであって、前記X線導波路のコアは、複数の屈折率実部の異なる物質からなる基本構造が周期的に配された周期性構造体であり、前記コアと前記クラッドとの界面における前記集光X線の全反射臨界角が、前記コアの周期に対応するブラッグ角以上であり、且つ前記X線導波路に入射する前記集光X線の集光角度が前記ブラッグ角の2倍よりも大きいことを特徴とする。本発明によれば、空間的コヒーレンスの空間範囲の大きなX線を形成することができるX線導波路システムを提供することができる。以下、本発明を詳細に説明する。本発明に係るX線導波路システムは、入射X線を集光するX線集光光学素子と、前記X線集光光学素子によって集光された集光X線を導波させる、コアとクラッドからなるX線導波路とを具備するX線導波路システムであって、前記X線導波路のコアは、複数の屈折率実部の異なる物質からなる基本構造が周期的に配された周期性構造体であり、前記コアと前記クラッドとの界面における前記集光X線の全反射臨界角が、前記コアの周期に対応するブラッグ角以上であり、且つ前記X線導波路に入射する前記集光X線の集光角度が前記ブラッグ角の2倍よりも大きいことを特徴とする。本発明の係るX線導波路システムは、X線導波路と、前記X線導波路に入射するための集光X線を作製するためのX線集光光学素子を具備することを特徴とする。後述のように、本発明に用いられるX線導波路は、コアに周期性構造体を用いるため、空間的コヒーレンスを有する部分の空間範囲が大きなX線ビームを取り出すことができる。さらに前記集光X線が、より効率的に前記周期性構造体と共鳴する導波モードに結合できるように、その集光角度を調整することによって、より強度の強い出射X線を得ることができる。また、本発明で用いられるX線導波路は、前記X線導波路のコアとなる周期性構造体を、両親媒性有機物の自己集合プロセスにより作製する。このことにより、簡単なプロセスで高度な周期性構造体を作製することができ、必要となるコアのサイズが従来よりも大きいため、簡便、短時間、かつ安価に、優れたX線導波路システムを製造することができる。また、この工程での作製条件を調整することにより、X線導波路システムの光学特性を制御することができる。図1は、本発明のX線導波路システムの一実施形態を示す概略図であり、図1aはX線導波路システムの全体図、図1bはX線導波路に入射する集光X線と、出射する出射X線を示す図である。図1において、本発明に係るX線導波路システムは、X線導波路101とX線集光光学素子102とを具備することを特徴とする。X線導波路101は、コア106とクラッド107からなる。入射X線103がX線集光光学素子102によって集光され、集光X線104となって、X線導波路101に照射される。108はX線導波路の端面部であり、集光X線104が端面部108からX線導波路101へ入射される。θsは、集光X線104の集光角度を表す。集光X線104には、多様な角度成分を有するX線が含まれており、それらの角度がX線導波路101内に存在できる導波モードの伝搬角度と一致することで、導波モードに結合してX線導波路101内にX線が入射される。ここで、導波モードとは、前記X線導波路内に形成される固有の電場プロファイルを持ったX線ビームをいう。本発明で用いられるX線導波路101は、後述するように、コアの周期構造と共鳴する導波モード以降、周期共鳴導波モードと記す。の伝搬損失が他の導波モードよりも著しく小さいために、選択的に周期共鳴導波モードによるX線が選択的に透過する。この高いモード選択性ゆえに、選択透過するX線が空間的コヒーレンスを有し、かつ選択的にX線導波路101から出射X線105が出射される。本発明では、X線導波路101への集光X線104の照射には、X線導波路101の端部に入射するフロントカップリングを用いる。他の方法としては、導波路上部から平行度の高いX線を入射させる共鳴カップリングが挙げられる。フロントカップリングは、導波モードの選択性が共鳴カップリングよりも劣るものの、より強い集光X線104を照射でき、また十分に厚いクラッド層により効率的にX線を閉じ込められることから、より強度の強い出射X線105を出射することができる。さらに、2次元閉じ込め構造のX線導波路の場合には、その構造上、共鳴カップリングを用いることができないため、フロントカップリングによってX線をX線導波路へ入射する必要がある。本発明のX線導波路システムでは、フロントカップリングの際に集光X線の集光角度を前記ブラッグ角の2倍以上にすることができる。そのため、集光X線を構成し、かつ周期共鳴導波モードに結合するX線が効率的に周期共鳴導波モードを励起することができ、空間的コヒーレンスの空間範囲の大きな出射X線105をより強い強度で取り出すことができる。入射X線103の波長範囲に0.2nm以上6.2keV以下の波長のX線が含まれる場合、空気によるX線の吸収等が顕著になるため、X線導波路システム全体を真空チャンバーで覆い、システム内を減圧することが好ましい。X線導波路図2は、本発明に用いられるX線導波路の一実施形態を示す概略図である。本発明に係るX線導波路は、物質の屈折率実部が1以下となる波長帯域のX線を導波させるためのコア201と、前記コアに前記X線を閉じ込めるためのクラッド202から構成されている。前記コア201は、屈折率実部が異なる物質からなる基本構造が周期的に配されて形成されている周期性構造体からなる。そして、前記クラッドと前記コアとの界面における前記X線の全反射臨界角θCが、前記コアの周期性構造体の基本構造の周期性に対応するブラッグ角θBよりも大きいことを特徴とする。本発明に用いられるX線導波路は、コア201に周期性構造体を用いることにより、その周期構造の周期に対応する導波モードを選択的に利用することができるX線導波路である。X線本発明において、X線とは、物質の屈折率実部が1以下となる波長帯域の電磁波である。具体的には、本発明におけるX線とは、極端紫外光ExtremeUltraVioletEUV光を含む100nm以下の波長の電磁波を指す。このような短波長の電磁波の周波数が非常に高く物質の最外殻電子が応答できないため、紫外光の波長以上の波長をもつ電磁波可視光や赤外線の周波数帯域と異なる。そして、X線に対しては物質の屈折率の実部が1より小さくなることが知られている。このようなX線に対する物質の屈折率nは一般的に、下記の式1で表されるように、実数部の1からのずれ量δ、吸収に関係する虚数部のを用いて表される。原子固有のエネルギー吸収端が寄与する場合を除き、一般に、δは物質の電子密度ρeに比例するため電子密度の大きい物質ほど屈折率実部が小さくなる。屈折率実部は、となる。さらに、電子密度ρeは原子密度ρaと原子番号Zに比例する。このようにX線に対する物質の屈折率は複素数で表されるが、その実部を本明細書中では屈折率実部または屈折率の実部と称し、虚部を屈折率虚部または屈折率の虚部と称する。本明細書中では、真空も物質の一つとする。屈折率実部が最大となる物質は真空であるが、一般的な環境下では気体でないほぼすべての物質に対して空気の屈折率実部が最大となる。本発明において屈折率実部が異なる2種以上の物質とは、多くの場合電子密度が異なる二種以上の物質であるということもできる。コアとクラッドの関係本発明に用いられるX線導波路は、コアとクラッドの界面における全反射によりX線をコアに閉じ込めてX線を導波させる。この全反射を実現するために、本発明に用いられるX線導波路は、クラッドとの界面に位置するコア材料の屈折率実部がクラッド材料の屈折率実部より大きいものである。本発明において、コアとクラッドの界面の全反射臨界角は、図2に示す様に、コアとクラッドとの界面からの角度として、θCと表す。コア本発明に用いられるX線導波路は、コアに屈折率実部の異なる物質からなる周期性構造体を用いることを特徴とする。コアが周期構造を有していることにより、導波路中に形成される導波モードが周期構造に共鳴したものとなる。このような異なる屈折率実部の周期構造は、周期数が無限の場合、伝搬定数とX線の角周波数との間でフォトニックバンドを形成し、周期に対応する特定のモードのX線しかこの構造中には存在できないことになる。前記周期性構造体は、基本構造が周期的に配列した構造体であり、1次元周期構造乃至3次元周期構造を例示することができる。具体的には、層状構造を基本構造としてそれらが積層した1次元周期構造、シリンダー状構造を基本構造としてそれらが配列した2次元周期構造、ケージ構造を基本構造としてそれらが配列した3次元周期構造等である。本発明に用いられるX線導波路内に形成される周期構造に共鳴した導波モードは、前記周期性構造体の周期構造の各次元に対応した多重反射に起因する。このような導波モードは周期性との共鳴により形成され、X線の電場強度分布の腹と節の位置は、基本構造を構成しているそれぞれの物質領域内の位置に一致する。その際、前記周期性構造体の電子密度の小さい物質の領域が腹となる。すなわち、X線の電場強度が透過損失の小さい物質に集中するため、この導波モードの伝搬損失が他の導波モードに比べて著しく小さくなり、その導波モードを選択的に取り出すことが可能となる。以下、この導波モードを周期共鳴導波モードと称する。図3は、周期性構造体内でのX線電場強度分布を示す説明図である。図3は、シリカ302中で、一方向に伸びるシリンダー状の空気の孔301が、孔の長さ方向図中z方向に垂直な方向x-y面内方向で3次元三角格子構造を形成している周期性構造体中でのX線の電場強度分布の例を示す。X線の伝搬方向は紙面に垂直な方向z方向である。構造周期303dは、図3のように、導波方向伝搬方向、z方向に垂直な方向x-y平面で周期的に配されて形成される周期構造の周期図3の破線の間隔として定義し、その大きさはその周期構造によって異なる。また、前記周期構造の方向図3におけるx-y平面上で破線に垂直な方向を、本明細書中では周期方向304と定義する。図3のように2次元以上の周期構造の場合には、構造周期303及び周期方向304は複数存在することになる。構造周期303と周期方向304はX線回折によって測定することができる。図3の構造周期303及び周期方向304は4つであるが、これは例示したものであり、これらに限定されない。図3では、破線により構造周期dを表し、シリンダー状の空気の孔301中の白黒の濃淡はX線の電場強度を表し、この材料中に形成される導波モードのうちの一つについての電場強度分布である。黒、白がそれぞれ電場強度の大、小に相当する。電場強度を、白黒の濃淡の変わりに多数の円の間隔により説明する。シリンダー状の空気の孔301中の多数の円の間隔の大小はX線の電場強度305を表し、この材料中に形成される導波モードのうちの一つについての電場強度分布である。多数の円の間隔の小が電場強度の大、間隔の大が電場強度の小に相当する。空気の孔301の中心部分は円の間隔が小で電場強度305が強く、中心部分から孔の周囲の方向に円の間隔が傾斜して大きくなるように変化し、孔の周辺部分は円の間隔が大で電場強度が弱く表れている。電場強度の極大、極小となる領域が、x方向及びy方向で周期的に繰り返されており、電場が周期性構造体の孔周期性構造体の基本構造305に集中する。空気の孔301は、周期性構造体の基本構造を表す。304は周期方向を表す。閉じ込め関係本発明に用いられるX線導波路においては、周期共鳴導波モード以外にも、コア全体を平均的な屈折率をもつ均一な媒質とした場合の導波モードが存在し、以下、これを一様導波モードと称する。一方、この一様導波モードに対し、本発明に用いられるX線導波路中で用いられる周期共鳴導波モードは、近接するモードに比べて損失が少なく、他のモードに対して高い選択透過性を有する。そのため、透過X線のほとんどが周期共鳴導波モード由来のX線となり、その位相が空間的に揃っており、空間コヒーレンスを有する。本発明に用いられるX線導波路は、クラッドとコアの界面における全反射により、一様導波モード以外に、上記の周期共鳴導波モードを形成するために、構造周期303dが次の式2を満たすように設計されている。特に、二つのクラッドによりコアが挟まれた配置となっている場合、図3の周期方向は、導波方向に垂直な方向かつクラッドに垂直な方向と一致させる。θC°はクラッドとコアの界面の全反射臨界角、θB°は周期方向での構造周期dによるブラッグ角、λはX線の波長、navgはコアの平均屈折率の実部である。この条件においては、本発明に用いられるX線導波路中には、一様導波モードだけでなく、周期共鳴導波モードが存在することになる。本発明に用いられるX線導波路中での周期共鳴導波モードは、周期性構造体が有限であるため、周期性構造体が無限であると仮定した際に周期性構造体の中に形成されるモードがクラッドとコアにおける界面の全反射で閉じ込める導波路構造により変調を受けたモードとなる。しかしながら、周期性構造体が無限である場合と概ね変わらず、伝搬方向に垂直な面内における周期共鳴導波モードの電場強度分布の電場強度が極大である腹の部分と節の部分は、それぞれ周期構造の基本構造に一致したものとなる。このような周期共鳴導波モードは、近接する一様導波モードよりも損失が著しく小さくなるので、モード選択されたX線の導波が可能となる。図4は、周期構造と共鳴する導波モード周期共鳴導波モードを示す図である。図4aは、後述のメソポーラスシリカをコアとし、クラッドを金とした導波路中の周期共鳴導波モードの電場強度のプロファイルを示したものであり、電場強度の極大部分がメソポーラスシリカの空孔部分に一致している。周期共鳴導波モードでは電場強度がコア中心付近に集中し、クラッドへの染み出しが少なく、位相プロファイルが制御された導波モードが実現される。図4bは、X線伝搬損失の伝搬角度依存性を示す図であり、約0.205°の伝搬角度の導波モードが周期共鳴導波モードに対応し、その伝搬損失が他の導波モードの伝搬損失に比べて、著しく小さくなっていることがわかる。周期共鳴導波モードの伝搬角度は周期性構造体のブラッグ角よりわずかに小さいものとなる。これらは、導波路中に存在しうる導波モードを有限要素法によって理論的に算出した結果である。図4bに示すとおり、コアが一様なシリカで構成されているX線導波路では、周期共鳴導波モードが存在せず、伝搬角度の増加に伴って単調に伝搬損失が増加するだけである。一方で、コアに周期性構造体を用いることによって、伝搬損失が著しく小さい周期共鳴導波モードを選択的に取り出すことができる。さらに、本発明に用いられるX線導波路の利点は、コアの周期性構造体の周期数が増えるほど、周期構造との共鳴効果が顕著になって伝搬損失が低下するという点にある。これは、周期性構造体による多重反射の寄与がより大きくなるためであり、対象とするX線波長域や構造周期303の大きさにもよるが、本発明に用いられるX線導波路のコアの周期構造の周期数は10以上、好ましくは50以上が望ましい。周期構造の周期数の増加は、X線導波路101のコアの断面積を増加させることと等価である。そのため、本発明に用いられるX線導波路101では、従来よりもコアの断面積が大きく、空間範囲の大きな空間的コヒーレンスを有するX線ビームの生成が可能であることが、最大の特長である。クラッド材料クラッドとコアの界面におけるクラッド側の物質の屈折率実部をnclad、コアの屈折率実部をncoreとする。この場合における、膜の面に平行な方向からの全反射臨界角θC°は、nclad<ncoreとして、下記の式3で表される。本発明に用いられるX線導波路のクラッド材料は、導波路のその他の構造パラメータ、物性パラメータが、式3を満たすもので構成することができる。例えば、コアに三角格子状に空孔が閉じ込め方向における周期10nmで配列した二次元周期構造であるメソポーラスシリカを用いた場合、Au、W、Taなどでクラッドを構成することができる。ただし、クラッドの材料には、本発明のX線導波路システムが対象とする波長域エネルギー域のX線の吸収率が小さい材料を用いることが好ましい。特に、X線の対象波長域にX線の吸収端がない材料をクラッドに用いることが好ましい。周期性構造体の材料本発明に用いられるX線導波路のコアに用いられる周期性構造体の材料は、特に限定されることなく、従来のトップダウンプロセスや自己集合プロセスによって作製される周期性構造体等を用いることができる。例えば、スパッタや蒸着法によって作製される多層膜や、フォトリソグラフィや電子ビームリソグラフィ、エッチングプロセス、積層や貼り合わせ、などによって作製される周期性構造体等を用いることができる。特に、周期性構造体を構成する物質に酸化物を用いることによって、酸化劣化を防ぐことができる。本発明に用いられるX線導波路のコアとしては、特に、その製造工程の簡便性や規則性の高い周期構造の要請から、コアが有機物質と無機物質からなるメソ構造体膜であることが好ましく、さらに、X線の透過率の観点から、メソポーラス膜であることが好ましい。これについて以下に説明する。本発明におけるメソ構造体膜とは、有機成分と無機成分がナノメートルオーダーのスケールで交互に配置された複合材料膜であり、有機成分は界面活性剤に代表される両親媒性物質が自己集合したものである。両親媒性物質の自己集合を利用することにより、高い構造規則性を有するメソ構造体膜を形成し得る。その構造には、層状構造を基本構造としてそれらが積層した1次元周期構造、シリンダー状構造を基本構造としてそれらが配列した2次元周期構造、ケージ構造を基本構造としてそれらが配列した3次元周期構造がある。メソポーラス膜は、このメソ構造体膜から有機成分を除去したもので、空孔が高い秩序をもって配列した多孔質材料の膜である。ただし、本発明においては、必要とする性能を有する限りにおいて、メソポーラス膜の空孔内に有機成分が残存していいても構わない。メソポーラス膜のメソとは、IUPACInternationalUnionofPureandAppliedChemistryによると、サイズが2から50nmであることを指す。そのため、メソポーラス膜は、その細孔の孔径2から50nmである多孔質膜と定義される。メソ構造体膜、及びメソポーラス膜は、主に酸化物の前駆体と界面活性剤に代表される両親媒性分子を含む反応液を基板上に塗布等のプロセスによって付与することによって、自己集合的に周期構造が形成される。前記両親媒性分子を用いたプロセスでは、それらの自己集合による周期構造が形成されるため、規則性の高い周期性構造体を形成することができる。そのため、従来のトップダウンプロセスのような多数のプロセスを要せず、極めて簡便かつ高いスループットで作製することが可能である。また、数十nmの周期性構造体を形成することは、従来のトップダウンプロセスでは極めて困難であり、特に2次元以上の周期性構造体を作製することはほぼ不可能であると言ってよい。本発明に用いられるメソ構造体膜は、無機成分と有機成分によって周期構造を形成している。無機成分には、無機酸化物が用いられることが好ましく、シリカ、酸化チタン、酸化ジルコニウム等を例示することができる。有機成分には、例えば界面活性剤やブロックポリマーに代表される両親媒性分子、シロキサンオリゴマーのアルキル鎖部分、あるいはシランカップリング剤のアルキル鎖部分等を挙げることができる。界面活性剤としては、C12H25OCH2CH24OH、C16H35OCH2CH210OH、C18H37OCH2CH210OH、Tween60東京化成工業、PluronicL121BASF社、PluronicP123BASF社、PluronicP65BASF社、PluronicP85BASF社等を例示することができる。それらの無機成分および有機成分の種類、分子量、親水部と疎水部の分子量比等を適切に選択することにより周期性構造体の周期構造の次元や構造周期ブラッグ回折から得られる面間隔を調整することができる。表1に用いられる有機物両親媒性分子に対する周期性構造体の構造を例示する。本発明に用いられるメソ構造体膜は、その有機成分と無機成分の前駆体を含む反応液を基板等に付与して自己集合プロセスによって形成される。反応液の付与の方法は、従来公知の方法を用いることができ、基板にスピンコートやディップコートによって塗布する方法や基板に反応液を接触保持して加熱する水熱合成法等を例示することができる。その際、ラビング処理を施したポリイミド膜を基板上に形成させるなど、基板に異方化処理を施したり、反応液の付与時にせん断応力を付加させたりするなど、従来公知の方法を用いることによって、前記基板面内の一方向に配向したメソ構造体膜を形成することができる。その配向の方向をX線の動は方向と一致させることで、より伝搬損失の小さいX線導波路を作製できる。メソ構造体膜からメソポーラス膜を作製するためには、焼成、有機溶媒による抽出、オゾン酸化処理等の従来公知の方法によって有機成分を除去することができる。コアである周期性構造体の材料には、本発明のX線導波路システムが対象とする波長域エネルギー域のX線の吸収率が小さい材料を用いることが好ましい。特に、X線の対象波長域にX線の吸収端がない材料をコアに用いることが好ましい。コアが多層膜であることが好ましい。また、コアがメソポーラス膜であることが好ましい。コアを、両親媒性の有機物を含む反応液を用いた自己集合プロセスにより作製することが好ましい。閉じ込め次元本発明に用いられるX線導波路のX線を閉じ込める次元は、膜状のコアをクラッドで挟み込んだ1次元のものであっても、導波方向に垂直な断面が円や方形等の形状のコアをクラッドで取り囲んだ2次元であってもよい。2次元閉じ込め型導波路では、X線が2次元的に導波路内に閉じ込められることから、1次元閉じ込め型より発散性が抑制され、かつ2次元的に位相が制御されたX線ビームを取り出すことができる。さらに、周期性構造体が2次元構造基本構造:シリンダー状構造や3次元構造基本構造:ケージ構造である場合には、複数存在する周期方向の周期構造に起因する電場強度分布を、コア内により効率的に形成させることができる。すなわち、導波路断面で2次元的な周期共鳴導波モードを選択的に取り出すことができ、強度が強く、かつ2次元的にコヒーレントな出射X線105を提供することができる。2次元的な周期共鳴導波モードを得るための2次元閉じ込め構造のX線導波路に関して、以下に詳細に述べる。この場合の周期性構造体の2次元構造とは、導波方向に垂直な面内において二つの基本ベクトルにより周期性を表現することができる構造のことである。例えば、図5に示すように、z方向にのびる屈折率実部の大きい物質の領域501と屈折率実部の小さい物質の領域502がx-y面内において2次元方向で周期構造をなしているコアをクラッド504が取り囲んでいる構成が挙げられる。X線の導波方向をz方向とした場合、導波方向に垂直なx-y面において、コアが四角格子配列の2次元周期構造を有しており、図中に記した二つの基本ベクトルα1とα2により周期構造の周期性が表現される。図5の周期構造の周期数はx、y方向ともに少ないものとなっているが、これは説明をわかりやすくするためのものである。2次元の周期構造は、基本となる一つの構造の面がα1に平行な方向に、またもう一つの基本となる構造の面がα2に平行な方向に、それぞれ周期|α1|と|α2|で繰り返される構造となっており。基本ベクトルα1とα2は、周期性を表現できる限り任意に選択することができる。つまり同じ周期構造でも選び方を変えたり、基本ベクトルの線形結合を用いて別の基本ベクトルを選ぶことも可能であり、選んだ基本ベクトルに対応した基本となる構造の面を定義することができる。基本ベクトルの絶対値が最小になるものが最も基本的な周期性を表現するものであり、そのような基本ベクトルに平行な方向において周期性の効果が大きくなり、これらの方向を特定の方向として定義するのが周期共鳴導波モードを形成するために効果的である。図5の例で基本ベクトルをα1とα2に選べば、基本となる構造の面はα1とα2に対してそれぞれ面507および508となり、x方向、y方向で周期的に繰り返されているものとなる。コアが2次元の周期構造よりなる場合にも、本発明に用いられるX線導波路においては、X線の導波方向に垂直な少なくとも一つの特定の方向における、前記周期構造の周期性に対応するブラッグ角が、前記クラッドと前記コアの少なくとも1つの界面における全反射臨界角よりも小さくなるようにコアとクラッドを構成するものとする。図5に示す例の場合、導波方向に垂直なx-y面において、一つの特定の方向をy方向とすると、y-z面内でのコアとクラッドの界面505におけるX線の全反射臨界角θCとy方向の周期性により得られるブラッグ角θBの間で、前記式2が満たされるようにクラッドとコアを構成するものである。また、コアが2次元の周期構造である場合、基本的な周期性が二つの基本ベクトルで表わされる二つの特定の方向で得られるため、それぞれの方向における周期に対応する二つのブラッグ角を定義することができる。例えば、図5の構成のX線導波路の場合、二つの特定の方向を基本ベクトルα1とα2に平行なx方向とy方向とする。基本ベクトルα1とα2に平行な二つの特定の方向における周期構造の周期性に対応するブラッグ角θB1、θB2はそれぞれ、と表される。n1avg、n2avgはそれぞれ、コア中の、基本ベクトルα1とα2に平行な二つの特定の方向における平均屈折率である。また、基本ベクトルα1とα2に平行な二つの特定の方向におけるコアとクラッドとの界面506、505での全反射臨界角を、θ1C、θ2Cとする。それぞれの方向における周期共鳴導波モードを形成するために、前記式2と同様に、それぞれの方向において、θ1B<θ1C、θ2B<θ2Cとなるように、材料や構造パラメータを決定する。θ1B<θ1C、θ2B<θ2Cが満たされ、かつそれぞれの方向におけるコア中の物質界面での全反射臨界角がそれぞれのブラッグ角よりも小さくなるように構成することにより、二つの特定の方向において周期共鳴導波モードを形成することができる。このような導波路中で得られる周期共鳴導波モードは、二つの基本ベクトルに平行な二つの特定の方向における周期共鳴導波モードが干渉した2次元の周期共鳴導波モードとなる。図6は図5のX線導波路のz方向に垂直な面におけるコア中の周期共鳴導波モードの電場強度分布を示す。601は屈折率実部の大きい領域、602は屈折率実部の小さい領域、603はクラッドとコアの界面を表す。図6において、より黒い斜線部分、より白い部分はそれぞれ、電場強度がより大きい部分、電場強度がより小さい部分を表している。つまり、2次元の周期構造をコアとするX線導波路中に形成される2次元の周期共鳴導波モードの電場強度分布は2次元の分布となり、より吸収などの損失の小さい領域屈折率実部の大きい領域601に電場が集中することにより、周期共鳴導波モードの伝搬損失が小さいということがわかる。1次元の周期共鳴導波モードと同様に、2次元の周期共鳴導波モードについても設計により他の導波モードよりも損失を小さくでき、2次元方向において制御された単一の導波モードを形成できることになる。2次元の周期共鳴導波モードの電場や磁場分布は、導波方向に垂直な2次元面内で規則的に制御されていて、電場や磁場の位相もコア内全体にわたって、規則的なものになる。コアをなす2次元の周期構造の周期性を定義する基本格子は、四角格子に限らない。図5のような周期構造が四角格子の場合の例では、特定の方向を二つの基本ベクトルに平行な二つの特定の方向を考えたが、このような方向に限るものではなく、基本ベクトルの線形結合を用いたベクトルに平行な方向も特定の方向として用いることができる。さらに、2次元面内での特定の方向の数は、二つの方向に限るものではなく、周期構造の周期性によって三つ以上となる場合も存在する。例えば、三角格子状の2次元周期構造の場合、基本ベクトルα1とα2に平行な二つの特定の方向に加え、α1-α2で表わされる3つ目のベクトルに平行な特定の方向を考えることにより、三つの方向の垂直成分をもつX線が干渉して、2次元の周期共鳴導波モードを形成することになる。この場合の、周期共鳴導波モードの電磁場強度分布は三角格子状になり、より吸収損失が小さい部分へ電磁場が集中する分布となる。さらに、コアをなす周期構造は2次元の周期構造に限らず、3次元の周期構造とすることによってもX線導波路を形成することができる。導波方向に垂直な面内での周期共鳴導波モードを形成するための考え方は1次元および2次元のものと同等である。3次元の周期構造の場合、導波方向にも周期性を有していることにより、導波するX線が周期構造と共鳴し、導波方向においてX線の位相がそろいやすくなる効果がある。入射X線集光X線入射X線103は、放射光X線、金属ターゲットに電子が衝突した際に発生するX線、材料からの蛍光X線等を本発明のX線導波路システムで用いることができる。入射X線103が、X線集光光学素子102によって集光され、集光X線104となり、X線導波路101の端面部108から入射される。端面部108から集光X線104が入射されることにより、伝搬角の異なる複数の導波モードに同時に結合され、その中から導波損失の小さい周期共鳴導波モードに由来するX線ビームが選択的に出射X線105として出射する。入射X線103の端面部108への入射の際には、必要に応じて適宜角度を変えて入射してもよい。集光X線104は、その波長の周期性構造体の周期構造に対応したブラッグ角の2倍より大きい集光角度でX線導波路101に端面部108から入射される。この場合、周期共鳴導波モードの伝搬角度に相当する入射角度を有する2方向からのX線が集光X線104内に含まれるため、周期共鳴導波モードに十分に結合することが可能である。そのため、より強い強度の多波長X線105を取り出すことができる。本明細書中では、集光角度は、集光X線の集光角度に対する強度プロファイルにおける半値幅として定義する。一方で、前記集光角度は、上記条件に加えて、前記ブラック角の4倍と、X線導波路101のコアとクラッドの界面における集光X線の全反射臨界角のうち、小さい値未満であることが好ましい。集光角度に上限を設定することで、X線集光光学素子102の大型化を抑制することができる。集光角度が前記ブラック角の4倍未満であると、本発明のX線導波路システムが対象としている周期共鳴導波モードが共鳴する周期構造の高次構造と共鳴する導波モードによるX線電場プロファイルがX線導波路101内に形成されない。この高次構造と共鳴する導波モードも比較的低伝搬損失となるため、集光角度が前記ブラック角の4倍よりも大きい場合、本発明のX線導波路システムが対象としている周期共鳴導波モードによるX線の選択的透過性が制限される。さらに、X線導波路101のコアとクラッドの界面の全反射臨界角以上の入射角度のX線をX線導波路101に入射しても導波モードに結合せず、X線導波路101からX線が漏れ出ることになる。そのため、集光X線104が全反射臨界角以上に集光角度を有していなくても良い。X線集光光学素子本発明のX線導波路システムで用いられるX線集光光学素子102は、前述の集光角度の要件を満たす限り、従来公知のX線用のX線集光光学素子を用いることができる。例えば、フレネルゾーンプレート、全反射ミラーKirkpatrick-Baezミラー、KBミラー、多層膜ミラー、結晶ミラー、ポリキャピラリ、モノキャリラリ等を挙げることができる。中でも、全反射ミラー、ポリキャピラリ、モノキャリラリは、X線の全反射を利用したX線集光光学素子で、その集光効率が比較的優れており、本発明で用いられるX線集光光学素子として好ましい。ポリキャピラリやモノキャリラリ等のキャピラリ素子は、比較的小型な光学系を構築できることから、本発明で用いられるX線集光光学素子としてさらに好ましい。以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されない。実施例1本実施例では、クラッドをタングステン、コアをB4CとAl2O3からなる多層膜とするX線導波路とX線集光光学素子にポリキャピラリ、モノキャリラリ及びフレネルゾーンプレートを用いたX線導波路システムの導波特性を評価する。本実施例のX線導波路の作製方法は、スパッタ法による以下のような工程が挙げられる。aクラッド層の形成Si基板上にマグネトロンスパッタリングによってタングステンを30nmの厚さで形成する。b多層膜の形成マグネトロンスパッタリングによってAl2O3、B4Cの順に交互に成膜して多層膜を作製する。Al2O3とB4Cの厚さは、それぞれ4.0nmと16.0nmとし、多層膜の最下部、及び最上部の層はAl2O3とする。Al2O3とB4Cは、それぞれ101層と100層形成する。cクラッド層の形成マグネトロンスパッタリングによってタングステンを30nmの厚さで形成する。d導波路長の決定導波路長が4mmになるように、ダイシング装置を用いてX線導波路を切断する。得られるX線導波路は、コアがクラッドにより挟まれた形となっており、コアとクラッドの界面での全反射によりX線をコアに閉じ込めるものである。この構成によれば、コアである多層膜の周期と、それをなす物質の屈折率実部の関係が、前記式2を満たしている。例えば、10keVのX線に対して、X線はクラッドおよびとコアとの界面における全反射によりコア中に閉じ込められ、閉じ込められたX線が多層膜のもつ周期性の影響を受けた導波モードを形成することができる。コアとクラッドの界面における全反射臨界角は0.390°である。コアの周期性構造体の基本構造の周期性に対応するブラッグ角は0.178°である。X線集光光学素子として用いるポリキャピラリで集光された集光X線エネルギー:10keVを前記X線導波路の端部から入射し、導波路終端部から出射される出射X線105が導波路の後方カメラ長:1500mmで形成する干渉パターンをX線2次元検出器で測定する。図7aは、異なる集光角度性能を有するポリキャピラリを用い、集光X線の集光角度が0.24°、0.50°及び0.74°の場合に測定される干渉パターンを例として示している。干渉パターンは、導波路終端面からの角度回折角αfに検出される出射X線強度の分布である。集光角度が周期性構造体の基本構造の周期性に対応するブラッグ角0.18°よりも大きい場合集光角度:0.50°には、周期共鳴導波モードに由来する出射X線の干渉パターンの強度ピーク実線矢印が明瞭に検出されていることがわかる。他の導波モードのX線に比べて、選択的に低伝搬損失で透過していることが確認できる。一方で、前記ブラッグ角の4倍以上の集光角度の時集光角度:0.74°には、前記周期性構造体の基本構造の高次構造と共鳴した導波モード由来のX線の干渉ピーク点線矢印も比較的顕著になるため、対象とする周期共鳴導波モードの選択透過性が比較的制限されることになる。X線集光光学素子として同等のX線の集光角度を達成できるモノキャピラリ及びフレネルゾーンプレートに変更しても、上記の図7aと同様の結果が得られる。実施例2本実施例では、クラッドをタングステン、コアをメソポーラスシリカ膜とするX線導波路、X線集光光学素子として全反射ミラー、多層膜ミラー及び結晶ミラーを用いたX線導波路システムの導波特性等の光学特性を評価する。このメソポーラス材料は、X線の導波方向に垂直な方向xy面内方向で空孔が3次元周期構造を形成している。孔以外の部分の材料はシリカである、メソポーラスシリカである。このメソポーラスシリカを含む本実施例のX線導波路の作製方法を、以下に示す。aクラッド層の形成Si基板上にマグネトロンスパッタリングによってタングステンを20nmの厚さで形成する。bメソ構造体膜の前駆体溶液調製メソポーラスシリカ膜は、スピンコート法で調製される。メソ構造体の前駆体溶液は、ブロックポリマーをテトラヒドロフランで撹拌して分散させたのち、エタノール、水、0.1M塩酸、テトラエトキシシランの順に加え1時間攪拌することで調製される。ブロックポリマーは、Polyisobutylene-b-ethyleneoxideを用いる。混合比モル比は、ブロックポリマー:0.0025、テトラヒドロフラン:9、エタノール:10、水:4、塩酸:0.006、テトラエトキシシラン:1.2とする。cメソ構造体膜の成膜タングステンをスパッタした基板に、スピンコート装置を用いて1000rpmの回転数で前記前駆体溶液をスピンコートする。このときの温度は、25°C、相対湿度は、5以下である。成膜後、膜は25°C、相対湿度40の恒温恒湿槽で18時間以上保持される。その後、エタノール、テトラヒドロフラン、水等を用いた溶媒抽出や焼成工程によって、ブロックポリマーを除去する。dメソポーラスシリカ膜の評価調製されたメソ構造体膜をBragg-Brentano配置のθ-2θスキャニングX線回折を行う。その結果、このメソ構造体膜は,基板面の法線方向に秩序性をもち、その面間隔つまり閉じ込め方向における構造周期が、17.8nmであることが確認される。その膜厚はおよそ470nmである。eクラッド層の形成マグネトロンスパッタリングによってタングステンを20nmの厚さで形成する。f導波路長の決定導波路長が4mmになるように、ダイシング装置を用いてX線導波路を切断する。得られたX線導波路は、周期は17.8nmであるために、前記式2を満たしている。例えば、10keVのX線に対して、X線はクラッドおよびとコアとの界面における全反射によりコア中に閉じ込められ、閉じ込められたX線がメソポーラスシリカのもつ周期性の影響を受けた導波モード周期共鳴導波モードを形成することができる。コアとクラッドの界面における全反射臨界角は0.397°である。コアの周期性構造体の基本構造の周期性に対応するブラッグ角は0.20°である。X線集光光学素子として用いる全反射ミラーで集光された集光X線エネルギー:10keVを前記X線導波路の端部から入射し、導波路終端部から出射される出射X線105が導波路の後方カメラ長:1500mmで形成する干渉パターンをX線2次元検出器で測定する。図7bは、異なる集光角度性能を有する全反射ミラーを用い、集光X線の集光角度が0.24°、0.50°及び0.84°の場合に測定される干渉パターンを例として示している。干渉パターンは、導波路終端面からの角度回折角αfに検出される出射X線強度の分布である。集光角度が周期性構造体の基本構造の周期性に対応するブラッグ角0.20°よりも大きい場合集光角度:0.50°には、周期共鳴導波モードに由来する出射X線の干渉パターンの強度ピーク実線矢印が明瞭に検出されていることがわかる。他の導波モードのX線に比べて、選択的に低伝搬損失で透過していることが確認できる。ただし、コアとクラッドの全反射臨界角以上の集光角度0.84°の時には、集光角度が0.50°の時と干渉パターンが同様であることがわかる。これは、全反射臨界角以上の角度成分のX線がX線導波に寄与していないためであり、前記全反射臨界角以下に集光X線の集光角度を設定することでX線集光光学素子を大型化の抑制が可能である。X線集光光学素子として同等のX線の集光角度を達成できる多層膜ミラー及び結晶ミラーに変更しても、上記の図7bと同様の結果が得られる。実施例1のX線導波路システムの光学特性図7左列と本実施例2のX線導波路システムの光学特性図7bを比較すると、本実施例2のX線導波路システムの方が強い出射X線105を取り出すことができることがわかる。これは、コアである周期性構造体がX線吸収率の小さいメソポーラスシリカであり、特にその空孔のX線吸収率が小さいためである。"