"基材および前記基材上に形成された第1電極層を有する有機エレクトロルミネッセンス基材を準備し、前記有機エレクトロルミネッセンス基材の発光領域を画定する画定工程と、前記発光領域内に発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層を構成する有機層のうち、少なくとも1層の有機層を吐出法により形成する有機層形成工程とを有し、前記有機層形成工程が、前記発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプールを形成する高沸点溶媒塗布工程と、有機層材料および溶媒を含有する有機層用塗工液を前記プールが形成された前記発光領域内に吐出法により塗布し、前記プール中に前記有機層材料を拡散させて有機層形成用層を形成する有機層用塗工液塗布工程と、前記有機層形成用層を乾燥させて前記有機層を形成する乾燥工程と、を有する工程であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。前記画定工程が、前記有機エレクトロルミネッセンス基材上に前記発光領域を画定する隔壁を形成する工程であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、吐出法を用いて発光領域内に均一な膜厚を有する有機層を形成することができる有機EL素子の製造方法を提供することを主目的とする。本発明は、上記課題を解決するために、基材および上記基材上に形成された第1電極層を有する有機EL基材を準備し、上記有機EL基材の発光領域を画定する画定工程と、上記発光領域内に発光層を含む有機EL層を構成する有機層のうち、少なくとも1層の有機層を吐出法により形成する有機層形成工程とを有し、上記有機層形成工程が、上記発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプールを形成する高沸点溶媒塗布工程と、有機層材料および溶媒を含有する有機層用塗工液を上記プールが形成された上記発光領域内に吐出法により塗布し、上記プール中に上記有機層材料を拡散させて有機層形成用層を形成する有機層用塗工液塗布工程と、上記有機層形成用層を乾燥させて上記有機層を形成する乾燥工程と、を有する工程であることを特徴とする有機EL素子の製造方法を提供する。本発明によれば、上記有機層形成工程が高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程を有することにより、有機層材料をプール中で十分に拡散させることが可能となることから、吐出法を用いてドット状に有機層用塗工液を塗布した場合であっても、発光領域内に均一な膜厚を有する有機層を形成することが可能となる。したがって、膜厚ムラに起因する発光ムラが生じにくい有機EL素子を製造することが可能となる。本発明においては、上記画定工程が、上記有機EL基材上に上記発光領域を画定する隔壁を形成する工程であることが好ましい。高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程において、高沸点溶媒および有機層用塗工液が発光領域の外側へ漏れることを好適に防止することができるからである。また、有機層形成工程を繰り返し行うことで複数の有機層を積層させて形成する場合に、同一の隔壁を繰り返して用いることが可能となるからである。本発明によれば、吐出法を用いて発光領域内に均一な膜厚を有する有機層を形成することができる有機EL素子の製造方法を提供することができるといった作用効果を奏する。以下、本発明の有機EL素子の製造方法について説明する。本発明の有機EL素子の製造方法は、基材および上記基材上に形成された第1電極層を有する有機EL基材を準備し、上記有機EL基材の発光領域を画定する画定工程と、上記発光領域内に発光層を含む有機EL層を構成する有機層のうち、少なくとも1層の有機層を吐出法により形成する有機層形成工程とを有し、上記有機層形成工程が、上記発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプールを形成する高沸点溶媒塗布工程と、有機層材料および溶媒を含有する有機層用塗工液を上記プールが形成された上記発光領域内に吐出法により塗布し、上記プール中に上記有機層材料を拡散させて有機層形成用層を形成する有機層用塗工液塗布工程と、上記有機層形成用層を乾燥させて上記有機層を形成する乾燥工程と、を有する工程であることを特徴とする製造方法である。ここで、本発明の有機EL素子の製造方法について図を用いて説明する。図1は本発明の有機EL素子の製造方法の一例を示す工程図である。本発明の有機EL素子の製造方法は、まず図1aに例示するように、基材1および基材1上に形成された第1電極層2を有する有機EL基材3を準備し、有機EL基材3上に発光領域を画定する隔壁4を形成する画定工程。次に、上記発光領域内に発光層を含む有機EL層を構成する有機層のうち、少なくとも1層の有機層を吐出法により形成する有機層形成工程。具体的には、図1bに例示するように、発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプール5を形成する高沸点溶媒塗布工程。次に、図1c、dに例示するように、有機材料および溶媒を含有する有機層用塗工液6をプール5が形成された発光領域内にインクジェットノズル20により塗布し、プール5中に有機層材料を拡散させて有機層形成用層6’を形成する有機層用塗工液塗布工程。次に、図1eに示すように、有機層形成用層6’を乾燥させて有機層6を形成する乾燥工程。なお、図1においては、有機層6として発光層61を形成する例について示している。また、図示はしないが、有機EL素子は有機EL層上に第2電極層を有することから、本発明においては、通常、有機EL層上に第2電極層を形成する第2電極層形成工程を有する。次に、本発明の製造方法により製造される有機EL素子について説明する。図2は、本発明により製造される有機EL素子の一例を示す概略断面図である。図2に例示するように、有機EL素子10は、基材1および基材1上に形成された第1電極層2を有する有機EL基材3と、有機EL基材3上に形成され、少なくとも発光層61を有する有機EL層と、有機EL層発光層61上に形成された第2電極層7とを有するものである。本発明によれば、上記有機層形成工程が高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程を有することにより、有機層材料をプール中で十分に拡散させることが可能となることから、吐出法を用いてドット状に有機層用塗工液を塗布した場合であっても、発光領域内に均一な膜厚を有する有機層を形成することが可能となる。したがって、膜厚ムラに起因する発光ムラが生じにくい有機EL素子を製造することが可能となる。以下、本発明の有機EL素子の製造方法における各工程について説明する。I.画定工程本発明における画定工程は、基材および上記基材上に形成された第1電極層を有する有機EL基材を準備し、上記有機EL基材の発光領域を画定する工程である。1.発光領域本発明における発光領域は、有機EL層が形成される領域である。なお、上記発光領域は、本発明により製造される有機EL素子が表示装置に用いられる場合においては、個々の画素を構成する発光領域だけでなく、複数の画素における発光領域が設けられる領域を含む概念である。本発明における発光領域の大きさとしては、吐出法により有機層を形成することが可能な程度の大きさであれば特に限定されず、有機EL素子の種類に応じて適宜選択することができる。上記発光領域の大きさとしては、1mm×1mm以上、なかでも10mm×10mm~100mm×100mmの範囲内、特に30mm×30mm~60mm×60mmの範囲内であることが好ましい。上記範囲に満たない場合は、吐出法を用いて有機層自体を形成することが困難となるからである。また、発光領域の大きさの上限としては、特に限定されないが、例えば、150mm×150mm程度である。本発明の有機EL素子の製造方法においては、上記発光領域はより大面積であることが好ましい。発光領域が大面積である程、吐出法を用いて有機層用塗工液をより多くのドット状で塗布する必要があることから、膜厚ムラが生じやすくなるため、本発明の有機EL素子の製造方法の作用効果を大きく発揮することが可能となるからである。2.画定工程上記画定工程としては、所望の発光領域に有機層を形成することが可能となるように有機EL基材を画定することが可能であれば特に限定されない。具体的には、有機EL基材上に発光領域を画定する隔壁を形成する態様第1態様と、有機EL基材上に後述する高沸点溶媒および有機層用塗工液との接触角が小さい濡れ性を呈する親液性領域ならびに上記高沸点溶媒等との接触角が上記親液性領域よりも大きい濡れ性を呈する撥液性領域を有するパターン形成層を形成する態様第2態様とを挙げることができる。本発明においては、なかでも第1態様であることが好ましい。後述する高沸点溶媒塗布工程や有機層用塗工液塗布工程において、高沸点溶媒や有機層用塗工液が発光領域の外側へ漏れることを好適に防止することができるからである。また、本発明における有機層形成工程を複数回行って、複数の有機層を積層させて形成する場合に、隔壁を繰り返して使用することが可能となるからである。以下、各態様について説明する。1第1態様上記画定工程の第1態様は、有機EL基材上に発光領域を画定する隔壁を形成する工程である。本態様に用いられる隔壁としては、所望の大きさを有する発光領域を画定することができれば特に限定されず、有機EL基材から剥離不可能なものであってもよく、剥離可能なものであってもよい。上記隔壁が剥離不可能なものである場合、隔壁の形成材料としては、例えば、感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂、ノボラック系樹脂、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂、および無機材料等を挙げることができる。この場合、隔壁の形成方法としては、フォトリソグラフィー法、印刷法等の一般的な方法を用いることができる。一方、上記隔壁が剥離可能なものである場合、隔壁の形成材料としては、例えば、テフロン登録商標、シリコンゴム、ポリイミドワニス、ドライフィルムなどを挙げることができる。この場合の隔壁の形成方法としては、ラミネーション法、フォトリソグラフィー法、印刷法等の一般的な方法を用いることができる。また、鋳型等を用いて隔壁を別途形成し、有機EL基材上に剥離可能な接着剤等を用いて貼り合わせる方法を挙げることができる。上記隔壁の高さとしては、後述する高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程において塗布される高沸点溶媒および有機層用塗工液を発光領域内に保持することが可能な程度の高さであれば特に限定されない。上記隔壁の高さとしては、具体的に、0.5μm~100μmの範囲内、なかでも0.5μm~30μmの範囲内、特に、0.5μm~10μmの範囲内であることが好ましい。上記隔壁の高さが上記範囲に満たない場合は、高沸点溶媒および有機層用塗工液を発光領域内に保持することが困難となる可能性があるからである。一方、上記隔壁の高さが上記範囲を超える場合は、後述する高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程において、高沸点溶媒および有機層用塗工液を塗布しにくくなる可能性や、画定工程において隔壁が安定に形成されない可能性があるからである。また、隔壁が剥離不可能なものである場合は、有機EL素子を薄膜に形成することが困難となる場合や、有機EL層を構成する層や有機EL層上に形成される第2電極層の形成の妨げになる可能性があるからである。上記隔壁の幅については、後述する高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程において塗布される高沸点溶媒および有機層用塗工液を発光領域内に保持することが可能な程度の幅であれば特に限定されない。また上記隔壁は、その表面が後述する高沸点溶媒、および有機層用塗工液に対して撥液性を有していてもよい。上記撥液性は、例えば上記隔壁に表面エネルギー濡れ性を変化させる表面処理を行うことにより付与することができる。その他、あらかじめ隔壁材料にフッ素化合物等の撥液材料を添加して、撥液性を付与してもよい。2第2態様上記画定工程の第2態様は、有機EL基材上に後述する高沸点溶媒および有機層用塗工液との接触角が小さい濡れ性を呈する親液性領域ならびに上記高沸点溶媒等との接触角が上記親液性領域よりも大きい濡れ性を呈する撥液性領域を有するパターン形成層を形成する工程である。本態様において形成されるパターン形成層としては、濡れ性の差によるパターンが形成されているものであれば特に限定されないが、光触媒の作用からエネルギー照射により濡れ性が変化する性質を有する濡れ性変化層を用いて形成されたものであることが好ましい。また、このような濡れ性変化層としては、パターン形成体層として使用可能な光触媒を含有しない濡れ性変化層であってもよく、光触媒を含有する光触媒含有層であってもよい。上記濡れ性変化層および光触媒含有層について、詳しくは特開2007-000867号公報に記載されたものと同様とすることができる。3.有機EL基材本工程に用いられる有機EL基材は、基材と、第1電極層とを有するものである。1第1電極層本発明に用いられる第1電極層は、陽極であっても陰極であってもよいが、通常は陽極として形成される。第1電極層は、透明性を有していても有していなくてもよい。第1電極層の透明性は、光の取り出し面等によって適宜選択される。例えば、第1電極層側から光を取り出す場合は、第1電極層は透明または半透明である必要がある。第1電極層陽極としては、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料を用いることが好ましく、具体的には、ITO、酸化インジウム、金のような仕事関数の大きい金属、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリアルキルチオフェン誘導体、ポリシラン誘導体のような導電性高分子等を挙げることができる。第1電極層は抵抗が小さいことが好ましく、一般には金属材料が用いられるが、有機化合物または無機化合物を用いてもよい。第1電極層は、基板上にパターン状に形成されていてもよく、取り出し電極等が形成されている領域を除いて基板上にほぼ全面に形成されていてもよい。第1電極層が、取り出し電極等が形成されている領域を除いて基板上にほぼ全面に形成されている場合には、隔壁によって発光領域を所望のパターンに区画することができる。第1電極層の成膜方法としては、一般的な電極の成膜方法を用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のPVD法や、CVD法等を挙げることができる。また、第1電極層のパターニング方法としては、所望のパターンに精度よく形成することができる方法であれば、特に限定されるものではなく、具体的にはフォトリソグラフィー法等を挙げることができる。2基材本発明に用いられる基材は、上述の隔壁、第1電極層などを支持するものであり、所定の強度を有するものであれば、特に限定されない。本発明においては、第1電極層が所定の強度を有する場合には、第1電極層が基材を兼ねるものであってもよいが、通常は、所定の強度を有する基材上に第1電極層が形成される。基材としては、上記の隔壁や第1電極層等が形成可能であれば、特に限定されるものではないが、例えば、光の取り出し面により光透過性が必要か否かで適宜決定される。一般的には、基材側を光の取り出し面とすることが好ましいことから、基材は透明な材料で形成されることが好ましい。このような基材の形成材料としては、例えば、ソーダ石灰ガラス、アルカリガラス、鉛アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラス等のガラス板、またはフィルム状に成形が可能な樹脂基材等を用いることができる。この樹脂基材に用いる樹脂としては、耐溶媒性および耐熱性の比較的高い高分子材料であることが好ましい。具体的には、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ABS樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリミクロイキシレンジメチレンテレフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル-スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。また、上記の他にも所定の条件を満たす高分子材料であれば、使用可能であり、2種類以上の共重合体を用いることもできる。さらに、必要に応じて水分、酸素等のガスを遮断するガスバリア性を有する基材を用いてもよい。3その他の構成本発明における有機EL基材は、上述した基材と、第1電極層とを有していれば特に限定されない。例えば、本発明により製造される有機EL素子が表示装置に用いられるものである場合は、以下の構成を形成することができる。例えば、基材上に第1電極層がパターン状に形成されている場合には、第1電極層のパターンの端部を覆うように絶縁層が形成されていてもよい。また、絶縁層は画素を画定するように形成されていてもよい。絶縁層としては、有機EL素子における一般的なものを用いることができる。また、例えば基材上にTFT素子が形成されていてもよい。TFT素子としては、有機EL素子における一般的なものを用いることができる。また、上記有機EL素子がフルカラーまたはマルチカラーの表示装置に用いられる場合には、基材上に画素用隔壁が形成されていてもよい。画素用隔壁が形成されている場合には、メタルマスク等を用いなくとも陰極をパターン状に形成することが可能となる。画素用隔壁の材料としては、上述した隔壁の材料と同様とすることができる。発光層をパターン状に形成するに際して、画素用隔壁には表面エネルギー濡れ性を変化させる表面処理を予め行ってもよい。上述した絶縁層、TFT素子、および画素用隔壁は、上記発光領域内に複数形成されていてもよい。II.有機層形成工程本発明における有機層形成工程は、上記発光領域内に発光層を含む有機EL層を構成する有機層のうち、少なくとも1層の有機層を吐出法により形成する工程である。また、上記有機層形成工程は高沸点溶媒塗布工程と、有機層用塗工液塗布工程と、乾燥工程とを有する工程である。以下、本工程により形成される有機層と、各工程とに分けて説明する。1.有機層本工程において形成される有機層は、少なくとも発光層を有する有機EL層を構成するものである。ここで本発明における、有機EL層とは、少なくとも発光層を含む層であり、その層構成が有機層1層以上の層をいう。このような有機層としては具体的には、発光層、正孔注入層、電子注入層、正孔輸送層、電子輸送層等を挙げることができる。正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合がある。また、電子輸送層は、電子注入層に電子輸送の機能を付与することにより、電子注入層と一体化される場合がある。さらに、有機EL層を構成する有機層としては、キャリアブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。以下、各層についてそれぞれ説明する。1発光層本発明における発光層に用いられる材料としては、例えば、色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料等の発光材料を挙げることができる。色素系材料としては、シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等を挙げることができる。また、金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロビウム錯体等、中心金属にAl、Zn、Be等、または、Tb、Eu、Dy等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。さらに、高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール等、ポリフルオレン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、およびそれらの共重合体等を挙げることができる。上記発光層中には、発光効率の向上、発光波長を変化させる等の目的でドーピング剤を添加してもよい。このようなドーピング剤としては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン、キノキサリン誘導体、カルバゾール誘導体、フルオレン誘導体等を挙げることができる。発光層の厚みとしては、電子と正孔との再結合の場を提供して発光する機能を発現することができる厚みであれば、特に限定されるものではなく、例えば、1nm~500nm程度とすることができる。2正孔注入層上述したように、正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合がある。すなわち、正孔注入層は、正孔注入機能のみを有していてもよく、正孔注入機能および正孔輸送機能の両機能を有していてもよい。正孔注入層に用いられる材料としては、発光層内への正孔の注入を安定化させることができる材料であれば、特に限定されるものではなく、上記発光層の発光材料に例示した化合物の他、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリフェニレンビニレン誘導体等を用いることができる。具体的には、ビスN-1-ナフチル-N-フェニルベンジジンα-NPD、4,4,4-トリス3-メチルフェニルフェニルアミノトリフェニルアミンMTDATA、ポリ3,4エチレンジオキシチオフェン-ポリスチレンスルホン酸PEDOT-PSS、ポリビニルカルバゾールPVCz等が挙げられる。また、正孔注入層の厚みとしては、正孔注入機能や正孔輸送機能が十分に発揮される厚みであれば、特に限定されないが、具体的には、0.5nm~1000nmの範囲内、中でも、10nm~500nmの範囲内であることが好ましい。3電子注入層上述したように、電子輸送層は、電子注入層に電子輸送の機能を付与することにより、電子注入層と一体化される場合がある。すなわち、電子注入層は、電子注入機能のみを有していてもよく、電子注入機能および電子輸送機能の両機能を有していてもよい。電子注入層に用いられる材料としては、発光層内への電子の注入を安定化させることができる材料であれば、特に限定されるものではなく、上記発光層の発光材料に例示した化合物等を用いることができる。また、電子輸送性の有機材料にアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属をドープした金属ドープ層を形成し、これを電子注入層とすることもできる。上記電子輸送性の有機材料としては、例えば、バソキュプロイン、バソフェナントロリン、フェナントロリン誘導体等を挙げることができ、ドープする金属としては、Li、Cs、Ba、Sr等が挙げられる。上記電子注入層の厚みとしては、電子注入機能や電子輸送機能が十分に発揮される厚みであれば、特に限定されない。4電子輸送層電子輸送層に用いられる材料としては、陰極から注入された電子を発光層内へ輸送することが可能な材料であれば、特に限定されるものではなく、例えば、バソキュプロイン、バソフェナントロリン、フェナントロリン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリス8-キノリノラトアルミニウム錯体Alq3の誘導体等を挙げることができる。上記電子輸送層の厚みとしては、電子輸送機能が十分に発揮される厚みであれば、特に限定されない。2.有機層形成工程における各工程1高沸点溶媒塗布工程本発明における高沸点溶媒塗布工程は、上記発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプールを形成する工程である。本工程においては、発光領域内にプールを形成することができればよく、プールの下層としては第1電極層であってもよく、有機EL層を構成する層であってもよい。ここで、高沸点溶媒とは、後述する有機層材料を溶解または分散させることができ、本発明における高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程における温度湿度条件で発光領域内のプールを所定の深さに保持することができる程度の沸点を有する溶媒を指す。このような高沸点溶媒については、高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程における温度湿度条件、有機層材料の種類等に応じて適宜選択され、特に限定されるものではないが、極性溶媒の場合、沸点が70°C~300°Cの範囲内、なかでも80°C~250°Cの範囲内、特に90°C~230°Cの範囲内の溶媒であることが好ましい。一方、非極性溶媒の場合、沸点が100°C~300°Cの範囲内、なかでも130°C~280°Cの範囲内、特に150°C~270°Cの範囲内の溶媒であることが好ましい。沸点が上記範囲に満たない場合は、高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程における温度湿度条件が制限され、生産性が低下する可能性があるからである。一方、沸点が上記範囲を超える場合は、後述する乾燥工程において有機層を劣化させることなく、高沸点溶媒を除去することが困難となる可能性があるからである。また、上記高沸点溶媒の蒸気圧としては、高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程における温度湿度条件においてプールを所定の深さに維持することが可能な程度であれば特に限定されないが、0.05hPa~10hPaの範囲内、なかでも、0.05hPa~4.5hPaの範囲内、特に0.05hPa~1.0hPaの範囲内であることが好ましい。このような高沸点溶媒としては、極性溶媒であってもよく、非極性溶媒であってよい。極性溶媒としては、例えば、水、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール等の1価アルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等の2価アルコール類、グリセリン等の3価アルコール類が挙げられ、水酸基と炭素の付き方によって、第一級、第二級、第三級の3種類の級数に分類されるが特に限定されるものではない。その他、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリドン、シクロヘキサノン等挙げることができる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。一方、非極性溶媒としては、トルエン、キシレン、メシチレン、1,2,4-トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、アニソール、安息香酸ブチル、安息香酸エチル、安息香酸メチル、テトラリン、1-メチルナフタレン、ジフェニルエーテル、ジフェニルメタン、ジフェニルエチレン、ジフェニルスルフィド等の芳香族炭化水素類を挙げることができる。本工程においては、必要に応じて、上記高沸点溶媒中に界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤については、一般的な有機EL素子の製造方法において用いられているものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。本工程により形成されるプールの深さとしては、後述する有機層用塗工液塗布工程において塗布される有機層用塗工液中の有機層材料を均一に拡散させることが可能な程度の深さであれば特に限定されず、発光領域の大きさや、後述する有機層用塗工液に用いられる有機材料および溶媒等により適宜選択することができる。上記プールの深さとしては、具体的には、0.5μm~50μmの範囲内、なかでも0.5μm~15μmの範囲内、特に0.5μm~5μmの範囲内とすることができる。上記プールの深さが上記範囲に満たない場合は、後述する有機層用塗工液塗布工程において塗布された有機層用塗工液中の有機層材料を均一に拡散させることが困難となる可能性があるからであり、上記プールの深さが上記範囲を超える場合は、乾燥工程にかかる時間が長くなることから、製造効率が低下する可能性があるからである。本工程におけるプールの深さとは、プールの下層表面からプールの最大深さまでの距離を指し、例えば図3a、bにおいて、Qで示される距離を指す。なお、図3a、bは、図1bのA-A線断面図である。また、上記プールの深さは、例えば、ウェットフィルム膜厚計により直接測定する、または非接触膜厚計で測定することにより求めることができる。また、本工程において発光領域が隔壁で区画されている場合、プールの深さと隔壁の高さの関係としては、プールの深さが隔壁の高さよりも小さくてもよく図3a参照、プールの深さと隔壁の高さとが同等であってもよく図示なし、プール深さが隔壁の高さよりも大きくてもよい図3b参照。ここで、プールの深さが隔壁の高さよりも大きい場合は、プールの深さは、後述する有機層用塗工液を吐出法により塗布した場合にプールが決壊して有機層用塗工液が発光領域外へ広がらない程度の深さであれば特に限定されず、隔壁材料や高沸点溶媒を選択することにより調整することができる。一方、発光領域が親液性領域および撥液性領域を有するパターン形成層で区画されている場合も、プールの深さは、後述する有機層用塗工液を吐出法により塗布した場合にプールが決壊して有機層用塗工液が発光領域外へ広がらない程度の深さであれば特に限定されず、撥液性領域の撥液性の度合いや、高沸点溶媒を選択することにより調整することができる。本工程に用いられる高沸点溶媒の塗布方法としては、発光領域内に高沸点溶媒を塗布することが可能な方法であれば特に限定されない。本工程においては、インクジェット法、ディスペンサ法等の吐出法を好適に用いることができ、なかでもインクジェット法であることが好ましい。2有機層用塗工液塗布工程本発明における有機層用塗工液塗布工程は、上記有機層材料および溶媒を含有する有機層用塗工液を上記プールが形成された上記発光領域内に吐出法により塗布し、上記プール中に上記有機層材料を拡散させて有機層形成用層を形成する工程である。本工程においては、通常、有機層材料と溶媒とを含有する有機層用塗工液が調製される。上記有機層材料としては、形成される有機層に応じて適宜選択することができる。具体的には上述した1.有機層の項で説明したため、ここでの説明は省略する。上記溶媒としては、上述した高沸点溶媒と相溶性を有し、有機層材料を溶解または分散させることができ、吐出法を用いて所望の有機層を形成することが可能な溶媒であれば特に限定されない。ここで、本発明において溶媒が高沸点溶媒と相溶性を有するとは、例えば、室温または有機層用塗工液塗布工程を行う温度において300mlビーカーに上記高沸点溶媒50mlと上記溶媒50mlとを入れ、スターラーを用いて300rpmで1分間攪拌した後に混合溶媒を1分間静置した場合に、上記混合溶媒の分離が観察されないことを指す。また、上記溶媒としては、上述した高沸点溶媒と同種の溶媒であってもよく、異種の溶媒であってもよい。上記溶媒として異種溶媒を用いた場合、本発明においては、例えば上記溶媒が比較的沸点が低い溶媒以下、低沸点溶媒と称する。である場合も、プール中に有機層用塗工液を塗布するため、有機層材料を高沸点溶媒中で均一に拡散させることができることから、発光領域に均一に有機層材料が分散された有機層用着色層を形成することが可能となる。したがって、プールを形成しない従来の吐出法による有機層の形成工程において用いることができなかった低溶媒についても用いることができるため、材料選択の幅を広げることが可能となる。なお、本発明における低沸点溶媒とは、極性溶媒である場合は沸点が70°C未満の溶媒を指し、非極性溶媒である場合は沸点が100°C未満の溶媒を指すものとする。なお、上記溶媒が高沸点溶媒と異種溶媒である場合は、低沸点溶媒に限られない。上記溶媒としては、有機層材料の種類により適宜選択され、具体的には上述した高沸点溶媒と同様の溶媒を用いることができる。また、上記高沸点溶媒の項で例示した溶媒以外にも、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン等の低沸点溶媒を用いることができる。また、例えば有機層材料が発光材料である場合は、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、テトラリン、メシチレン等を好適に用いることができる。本工程に用いられる有機層用塗工液中の粘度については、吐出法を用いて有機層用塗工液と塗布することが可能な程度であれば特に限定されない。また、上記有機層用塗工液の粘度については、有機層材料、溶媒の種類や、有機層用塗工液の固形分量等により適宜調整することができる。本工程に用いられる吐出方法としては、発光領域内に所望の膜厚を有する有機層を形成することが可能な量の有機層用塗工液を塗布することが可能な方法であればよく、具体的にはインクジェット法やディスペンサ法等を挙げることができる。本発明においては、なかでもインクジェット法であることが好ましい。本工程においては有機層用塗工液の塗布後に、有機層形成用層中への有機層材料の分散を促進するために、有機EL基材に超音波振動を与える処理を行ってもよい。また、有機層用塗工液の塗布後に、有機層形成用層の膜厚を均一にしたり、有機層形成用層中への有機材料の分散を十分に行うために有機層形成層を一定時間保持する保持工程を行ってもよい。またこの際、有機層形成用層の乾燥を防止するために、有機層形成用層を覆うキャップを配置する、加圧条件下に置く、温度条件を有機層用塗工液塗布中の温度よりも下げる等の乾燥防止処置を行ってもよい。なお、上記乾燥防止処置における加圧条件や温度条件については、有機層材料、溶媒、および高沸点溶媒等の種類により適宜調整することができる。3乾燥工程本発明における乾燥工程は、上記有機層形成用層を乾燥させて上記有機層を形成する工程である。本工程に用いられる乾燥方法としては、有機層形成用層から溶媒、高沸点溶媒を除去することが可能な方法であれば特に限定されない。本工程においては、有機EL基材を加熱して乾燥してもよく、加熱しないで乾燥してもよいが、有機EL基材を加熱することが好ましい。減圧条件、加熱条件については、溶媒および高沸点溶媒の種類等に応じて適宜選択することができる。有機EL基材が剥離可能な隔壁を有する場合は、有機EL層形成用層の乾燥後に上記隔壁を剥離してもよい。4有機層形成工程本発明における有機層形成工程においては、上述した正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層、電子輸送層のいずれか1層を形成することができれば特に限定されないが、なかでも発光層を形成することが好ましい。また、本発明においては、上記有機層形成工程を繰り返すことにより、複数の有機層を形成することも可能である。本発明において複数の有機層を形成する場合は、隣接する二の有機層を形成する際に用いられる高沸点溶媒および溶媒の性質を異ならせることが好ましい。より具体的には、2層の有機層の積層体を形成する場合には、1層目の有機層を第1電極層上に形成する際に用いられる高沸点溶媒および溶媒としては極性溶媒であることが好ましく、2層目の有機層を1層目の有機層上に形成する際に設けられる高沸点溶媒および溶媒としては非極性溶媒であることが好ましい。III.有機EL素子の製造方法本発明における有機EL素子の製造方法は、上述した画定工程および有機層形成工程を有していれば特に限定されない。また、本発明においては、通常、上記有機層形成工程を含む有機EL層形成工程、および第2電極層形成工程を有する。以下、各工程について説明する。1.有機EL層形成工程本発明における有機EL層形成工程は、上述した有機層形成工程を含む工程である。また、上記有機EL層形成工程においては、有機EL層を構成する有機層のうち少なくとも1層の有機層を上述した有機層形成工程で形成すればよく、吐出法以外の方法を用いて有機EL層を構成する他の層を形成してもよい。本発明において、吐出法以外の方法で形成する他の層としては、発光層以外の層であることが好ましい。このような層としては、例えば、正孔注入層、電子注入層、電子輸送層等が挙げられる。正孔注入層に用いられる材料としては、発光層内への正孔の注入を安定化させることができる材料であれば、特に限定されるものではなく、上述した正孔注入層の材料の他にも、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン等の酸化物を挙げることができる。電子注入層に用いられる材料としては、発光層内への電子の注入を安定化させることができる材料であれば、特に限定されるものではなく、上述した電子注入層の材料の他にも、アルミリチウム合金、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、リチウム、セシウム、フッ化セシウム等のようにアルカリ金属類、およびアルカリ金属類のハロゲン化物、アルカリ金属の有機錯体等を用いることができる。電子注入輸送層について上述した点以外は、有機層形成工程の項で説明したものと同様とすることができる。電子輸送層の材料については、上述した1.有機層の項で説明したものと同様とすることができる。吐出法以外の方法としては、湿式法であってもよく乾式法であってもよい。湿式法としては、塗工液を塗布する方法が挙げられる。塗布方法としては、例えば、ディップコート法、ロールコート法、ブレードコート法、スピンコート法、バーコート法、ワイヤーバーコート法、キャスト法、LB法等を挙げることができる。また、熱転写法等の転写法や、印刷版を用いた印刷法などを挙げることができる。乾式法としては、真空蒸着法等の一般的な蒸着方法を用いることができる。2.第2電極層形成工程本発明における第2電極層形成工程は、有機EL層上に第2電極層を形成する工程である。第2電極層は、陽極であっても陰極であってもよいが、通常は陰極として形成される。また、第2電極層は、透明性を有していても有していなくてもよく、光の取り出し面等によって適宜選択される。例えば、第2電極層側から光を取り出す場合は、第2電極層は透明または半透明である必要がある。第2電極層陰極としては、電子が注入し易いように仕事関数の小さい導電性材料を用いることが好ましく、例えば、MgAg等のマグネシウム合金、AlLi、AlCa、AlMg等のアルミニウム合金、Li、Caをはじめとするアルカリ金属類およびアルカリ土類金属類、または、アルカリ金属類およびアルカリ土類金属類の合金などが挙げられる。また、第2電極層は抵抗が小さいことが好ましく、一般には金属材料が用いられるが、有機化合物または無機化合物を用いてもよい。本工程においては、上記有機EL層上に、金属材料を成膜して第2電極層を形成することが好ましい。第2電極層の材料としては抵抗が低いものであればよく、金属材料が最も適しているからである。金属材料の成膜方法としては、一般的な電極の形成方法を用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の一般的な蒸着法や、金属ペーストを塗布する方法等が挙げられる。中でも、真空蒸着法、金属ペーストを塗布する方法が好ましい。真空蒸着法は、ドライプロセスで有機EL層へのダメージが少ない方法であり、積層に適している。また、金属ペーストを塗布する方法はウェットプロセスであり、ウェットプロセスはドライプロセスよりも大面積の対応に適している。ウェットプロセスであっても、有機EL層に影響を与えない溶媒が配合された金属ペーストは使用可能である。すなわち、有機EL層の耐溶剤性などによって有機EL層に影響を与えないように工夫することで、ウェットプロセスも適用可能となる。3.その他の工程本発明においては、上述した有機EL層形成工程、第2電極層形成工程以外の工程についても必要に応じて行うことができる。例えば、上記有機EL基材を形成する工程等を挙げることができる。IV.有機EL素子本発明の製造方法により製造される有機EL素子について説明する。上記有機EL素子は、基材および上記基材上に形成された第1電極層を有する有機EL基材と、少なくとも発光層を有する有機EL層と、有機EL層上に形成された第2電極層とを有するものである。上記有機EL層としては、少なくとも発光層を有していればよく、必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層を有していてもよい。本発明により製造される有機EL素子は、陽極側から光を取出すボトムエミッション型であってもよく、陰極側から光を取出すトップエミッション型であってもよく、陽極および陰極の両側から光を取出す両面発光型であってもよい。上記有機EL素子は、表示装置および照明装置に好適に用いることができる。本発明においては、特に上記有機EL素子は照明装置に用いる有機ELパネルであることが好ましい。なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。以下、本発明について、実施例および比較例を挙げて説明する。[実施例1]評価用有機ELパネルの作製ITOからなる透明電極層を長方形に形成した透明基板上に、フォトレジストからなる厚さ3μmの隔壁形成用層をスピンコート法により形成した。隔壁形成用層のパターニングは、フォトリソグラフィー法により行い、発光領域50mm角、隔壁幅3mmとなるマスクパターンを用い、露光現像により隔壁のパターニングを行った。次に、発光領域内にグラビア印刷法を用いて、厚さ60nmの正孔注入層PEDOTを形成した。次いで、発光領域内に高沸点溶媒としてテトラリンを用いて、厚さ3μmの隔壁と同等となるようプールを形成した。このとき、装置にはインクジェット装置DMP3000Dimatix製を用いた。さらに、プールが乾燥する前に、発光領域内にDMP3000で発光層用塗工液を塗布した。発光層用塗工液はプール内で拡散し、均一なウェット膜を形成した。次に、IRヒーターを用い80°Cで仮乾燥、その後ホットプレートを用い180°Cで本乾燥させドライ膜として発光層を得た。なお、発光層用塗工液は、溶媒にメシチレン沸点:165°C、有機発光材料にはADS232GEを用い、固形分1.0wtで溶液化したものを使用した。続いて、上記発光層上に、厚さ10nmの金属カルシウムと厚さ500nmの銀を真空蒸着法により積層させて対向電極層を形成した。以上の手順により、評価用有機ELパネルを得た。評価評価用有機ELパネルの発光状態を観察した結果、発光領域内が均一に発光していることが分かった。[比較例1]高沸点溶媒によるプールを形成しないで、発光層用塗工液を塗布したこと以外は、実施例と同様にして評価用有機ELパネルを作製した。得られた評価用有機ELパネルの発光状態を観察したところ、インクジェットの塗布方向に沿ったスジ状のムラが観察された。[比較例2]テトラヒドロフラン沸点66°Cでプールを形成し、発光層用塗工液を塗布したこと以外は、実施例と同様にして評価用有機ELパネルを作製したところ、上記発光層用塗工液の塗布完了までプールを保持出来なかった。また得られた評価用有機ELパネルの発光状態を観察したところ、インクジェットの塗布方向に沿ったスジ状のムラが観察された。"