"以下の工程を含む、基体の表面上に第一金属を少なくとも部分的に塗布する方法であって:aプラズマ中で前記基体を処理することによってコーティングを塗布する工程であって、前記プラズマは、不飽和モノマー及び10個の炭素原子までのアルカンから選択される少なくとも1つの化合物を含む工程、工程b1及びb2の1つを実施する、前記方法:b1前記基体の表面上にポリマーを生成する工程であって、前記ポリマーは、少なくとも1つの第二金属の吸着イオン及びカルボキシル基を含み、前記イオンを第二金属に還元する工程、b2前記基体の表面上にポリマーを生成する工程であって、前記ポリマーはカルボキシル基を含み、前記基体の表面を、少なくとも1つの第二金属のコロイド金属粒子の少なくとも1つの分散液と接触させ、しかも、前記粒子は5~500nmの範囲の直径を有する工程、c前記第二金属上に前記第一金属を沈着させる工程。前記プラズマが、アルケン、アルキン、アクリル、メタクリル、アンモニア、アミン、イソシアネート、ノルボルネン、アリルエーテル、及びビニルエーテルから選択される少なくとも1つの化合物を含む、請求項1に記載の方法。前記プラズマが、アルケン、アクリル、アリルエーテル、ビニルエーテル、及びノルボルネンから選択される少なくとも1つの化合物を含む、請求項1に記載の方法。前記プラズマがプロパンを含む、請求項1に記載の方法。前記プラズマが、酸素、窒素又はアルゴンから選択される少なくとも1つの化合物を更に含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。前記コーティングが少なくとも1つの層を含む、請求項1~5のいずれか1項に記載の方法。前記コーティングが少なくとも2つの層を含む、請求項1~6のいずれか1項に記載の方法。各層が1つの化合物を含む、請求項6又は7に記載の方法。各層が少なくとも2つの化合物を含む、請求項6又は7に記載の方法。各層が少なくとも1つの化合物を含み、当該少なくとも1つの化合物が、異なる層では同一でない、請求項7に記載の方法。aその少なくとも1つがカルボキシル基を含む、少なくとも1つのタイプのモノマー、bルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及び銅から成る群から選択される少なくとも1つの第二金属の5~500nmの範囲の直径を有するコロイド金属粒子の分散液又はイオン、及びc少なくとも1つの開始剤と、前記表面とを接触させることによって、前記表面上にポリマーを形成させる、請求項1~10のいずれか1項に記載の方法。aその少なくとも1つがカルボキシル基を含む、少なくとも1つのタイプのモノマー、及びb少なくとも1つの開始剤と、前記表面とを接触させ、そしてその後、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及び銅から成る群から選択される少なくとも1つの第二金属の5~500nmの範囲の直径を有するコロイド金属粒子の分散液又はイオンを含む溶液と、前記表面とを接触させることによって、前記表面上にポリマーを形成させる、請求項1~11のいずれか1項に記載の方法。前記少なくとも1つのタイプのモノマーが、アクリル酸及びメタクリル酸から成る群から選択される、請求項11又は12に記載の方法。aその少なくとも1つが潜在的なカルボキシル基を含む、少なくとも1つのタイプのモノマー、及びb少なくとも1つの開始剤と、前記表面とを接触させ、そしてその後、当該潜在的なカルボキシル基をカルボキシル基に変換するのに適した条件に、前記表面をさらし、そして、その後、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及び銅から成る群から選択される少なくとも1つの第二金属の5~500nmの範囲の直径を有するコロイド金属粒子の分散液又はイオンを含む溶液と、前記表面とを接触させることによって、前記表面上にポリマーを形成させる、請求項1~10のいずれか1項に記載の方法。潜在的なカルボキシル基を含む前記モノマーが、tert-ブチルアクリレート、無水マレイン酸、無水メタクリル酸及び無水アクリル酸から成る群から選択される少なくとも1つの物質である、請求項14に記載の方法。潜在的なカルボキシル基をカルボキシル基に変換するのに適した前記条件が、当該表面を光誘導ブレンステッド酸と接触させることによって実現される、請求項14又は15に記載の方法。前記ブレンステッド酸が、スルホニウム塩及びヨードニウム塩から成る群から選択される、請求項16に記載の方法。前記開始剤が、チオキサントン、チオキサントン誘導体、カンホロキノン、ベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、4-ベンジルベンゾフェノン、ベンゾイルナフタレン、キサントン、アントラキノン、9-フルオレン、アセトフェノン、ベンゾイルジメチルケタール、ヒドロキシ-シクロ-ヘキシル-アセトフェノン、ビアセチル、3,4-ヘキサン-ジ-オン、2,3-ペンタン-ジ-オン、1-フェニル-1,2-プロパン-ジ-オン、ベンゼン、ベンゾイルギ酸、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、2-ペンタノン、3-ペンタノン、シクロヘキサノン、ベンゾフェノンのメタノールスルホネートエステル及びそれらの混合物から成る群から選択される、請求項11~17のいずれか1項に記載の方法。前記第二金属がパラジウムである、請求項1~18のいずれか1項に記載の方法。前記方法がアンモニウムイオンの使用を更に含む、請求項19に記載の方法。前記第一金属が、銅、銀、金、ニッケル、チタン、及びクロムから成る群から選択される、請求項1~20のいずれか1項に記載の方法。前記表面を、d明確なパターンで前記表面に第三金属を選択的に沈着させる工程、及びe前記第三金属によって覆われていない部分上の前記表面から前記第一金属及び第二金属を除去する工程、に更にさらす、請求項1~21のいずれか1項に記載の方法。前記金属を前記基体上に明確なパターンで塗布する、請求項22に記載の方法。前記金属を基体全体上に塗布する、請求項22に記載の方法。第三金属が銅である、請求項22~24のいずれか1項に記載の方法。請求項1~25のいずれか1項に従って製造された基体を含む物体。前記第一金属の層の厚さが約0.2μm~約30μmである、請求項26に記載の物体。前記物体が回路を含む、請求項26~27のいずれか1項に記載の物体。前記物体がプリント配線板である、請求項26~28のいずれか1項に記載の物体。お互いに電気的に絶縁されている伝導体の層を1層よりも多く含む、請求項26~29のいずれか1項に記載の物体。前記物体が高周波電磁波を対象としたアンテナである、請求項26に記載の物体。前記物体が遠距離通信用アンテナである、請求項26に記載の物体。前記物体が燃料電池である、請求項26に記載の物体。前記物体が太陽電池である、請求項26に記載の物体。前記物体が反射板である、請求項26に記載の物体。前記物体が自動車反射板である、請求項26に記載の物体。概要本発明の目的は、従来技術の不利な点の少なくともいくつかを軽減すること、及び、基体のより広い範囲を良好な接着でコーティングすることが可能でありそして接着を改善する改善された方法を提供すること、である。第一の側面では、以下の工程を含む、基体の表面上に第一金属を少なくとも部分的に塗布する方法を提供する:aプラズマ中で前記基体を処理することによってコーティングを塗布する工程であって、前記プラズマは、不飽和モノマー及び10個の炭素原子までのアルカンから選択される少なくとも1つの化合物を含む工程、工程b1及びb2の1つを実施する、前記方法:b1前記基体の表面上にポリマーを生成する工程であって、前記ポリマーは、少なくとも1つの第二金属の吸着イオン及びカルボキシル基を含み、前記イオンを第二金属に還元する工程、b2前記基体の表面上にポリマーを生成する工程であって、前記ポリマーはカルボキシル基を含み、前記基体の表面を、少なくとも1つの第二金属のコロイド金属粒子の少なくとも1つの分散液と接触させ、しかも、前記粒子は5~500nmの範囲の直径を有する工程、c前記第二金属上に前記第一金属を沈着させる工程。第二の側面では、上述の方法によって製造された物体を提供する。更なる形態は、以下の説明及び引用形式の請求項に詳細に記述される。本発明の有利な点は、プラズマポリマー化材料の塗布された薄いコーティングは防護壁として機能するという理由で、例えば使用される溶液の低いpH/高いpH又は他の特性に敏感なPC/ABSなどの基体を金属でコーティングすることができることを含む。更に有利な点は、プラズマポリマー化材料の塗布された薄いコーティングは抽出可能な水素原子を有するので、抽出可能な水素原子がほとんどないエポキシ樹脂基体をコーティングすることができることである。グラフトプロセスを部分的に非活性化する臭素のようなハロゲン原子を含有するポリマー材料も、使用できる。更に有利な点は、ガラス、SiO2を含むがそれに限定されない無機材料を基体で使用してコーティングするのに成功可能なことである。詳細な記述本発明を詳細に開示及び記述する前に、ここで開示された特定の化合物、構成、方法工程、基体及び材料は、いくらか変化するかもしれないので、そのような化合物、構成、方法工程、基体及び材料に本発明は限定されないことを理解すべきである。本発明の範囲は添付の特許請求の範囲及びそれとの均等物によってのみ限定されているので、ここで使用されている用語は、限定される意図ではなく、特定の形態のみを記述する目的で使用されていることも、理解すべきである。この明細書及び添付の特許請求の範囲で使用されているように、明確に反対の意味が示されていない限り、単数形の1個、1つ及び当該は、複数の参照を含むことに、注意しなければならない。他のものが定義されないならば、ここで使用されるいかなる技術用語及び科学用語は、本発明が関連する当業者によって一般的に理解される意味を持つことが意図される。特許請求の範囲及び明細書中で数値に関連して使用される用語約は、当業者に許容され精通された精度の間隔を示す。前記間隔は、±10である。明細書及び特許請求の範囲中で使用されるように、用語プラズマは、イオンビーム又はガスのようなクラウドの形態を取る、電磁場に選択的に及び強力に応答する荷電粒子の収集、明確な相のマターを示す。プラズマ中の粒子は電荷を帯びているので一般的に電子がストリップされている、それはイオン化ガスとして、しばしば記述される。第一の側面では、以下の工程を含む、基体の表面上に第一金属を少なくとも部分的に塗布する方法を提供する:aプラズマ中で前記基体を処理することによってコーティングを塗布する工程であって、前記プラズマは、不飽和モノマー及び10個の炭素原子までのアルカンから選択される少なくとも1つの化合物を含む工程、工程b1及びb2の1つを実施する、前記方法:b1前記基体の表面上にポリマーを生成する工程であって、前記ポリマーは、少なくとも1つの第二金属の吸着イオン及びカルボキシル基を含み、前記イオンを第二金属に還元する工程、b2前記基体の表面上にポリマーを生成する工程であって、前記ポリマーはカルボキシル基を含み、前記基体の表面を、少なくとも1つの第二金属のコロイド金属粒子の少なくとも1つの分散液と接触させ、しかも、前記粒子は5~500nmの範囲の直径を有する工程、c前記第二金属上に前記第一金属を沈着させる工程。プラズマは、薄いコーティング層プラズマポリマーを形成する。本発明では、コーティングを塗布するためにプラズマを使用する。プラズマでは重合反応が起こり、プラズマガス中に存在するモノマーによって形成されるポリマーを含むポリマー化コーティングを与える。プラズマ重合層の厚さは変化し得る。1つの形態では、1つのプラズマ重合層の厚さは、2nm~50nmである。ガス中のモノマーは、均一ポリマーを与える1タイプであり得る。あるいは、不均一ポリマーを与えるガス中のモノマーの混合物が存在する。1つの形態では、少なくとも1つの第二金属の吸着イオン及びカルボキシル基を含むポリマーを、前記基体の表面上に生成し、その後、前記イオンを第二金属に還元することによって、第二金属を表面に塗布する。これを、工程b1と呼ぶ。あるいは、カルボキシル基を含むポリマーを、前記基体の表面上に生成し、その後、前記基体の表面を、少なくとも1つの第二金属のコロイド金属粒子の少なくとも1つの分散液と接触させ、しかも、前記粒子は5~500nmの範囲の直径を有することによって、第二金属を表面に塗布する。この形態では、第二金属は、第二金属の小粒子のコロイド分散液から沈着させる。これを、工程b2と呼ぶ。工程b1を実施するかあるいは工程b2を実施する。工程b1及び工程b2を持つ両方法は、なお別個の方法として包含される。プラズマ重合コーティングは、さまざまなやり方で実施できる。プラズマ重合コーティングの例には以下のものが含まれるが、それらには限定されない:1つの化合物から成る1層のプラズマポリマー化コーティング、2以上の化合物から成る1層のプラズマポリマー化コーティング、各層が1つの化合物から成る2以上の層のプラズマポリマー化コーティング、各層が2以上の化合物から成る2以上の層のプラズマポリマー化コーティング、各層が1つの化合物又は2以上の化合物のどちらかから成る2以上の層のプラズマポリマー化コーティング。1つの形態では、プラズマは、アルケン、アルキン、アクリル、メタクリル、アンモニア、アミン第一級、第二級、及び第三級を含む、イソシアネート、ノルボルネン、アリルエーテル、及びビニルエーテルから選択される少なくとも1つの化合物を含む。1つの形態では、プラズマは、アルケン、アクリル、アリルエーテル、ビニルエーテル、及びノルボルネンから選択される少なくとも1つの化合物を含む。1つの形態では、プラズマはプロパンを含む。1つの形態では、プラズマは、酸素、窒素又はアルゴンから選択される少なくとも1つの化合物を更に含む。1つの形態では、aその少なくとも1つがカルボキシル基を含む、少なくとも1つのタイプのモノマー、bルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及び銅から成る群から選択される少なくとも1つの第二金属の5~500nmの範囲の直径を有するコロイド金属粒子の分散液又はイオン、及び、c少なくとも1つの開始剤と、前記表面とを接触させることによって、前記表面上にポリマーを形成させる。別の形態では、aその少なくとも1つがカルボキシル基を含む、少なくとも1つのタイプのモノマー、及び、b少なくとも1つの開始剤と、前記表面とを接触させ、そして、その後、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及び銅から成る群から選択される少なくとも1つの第二金属の5~500nmの範囲の直径を有するコロイド金属粒子の分散液又はイオンを含む溶液と、前記表面とを接触させることによって、前記表面上にポリマーを形成させる。1つの形態では、前記少なくとも1つのタイプのモノマーが、アクリル酸及びメタクリル酸から成る群から選択される。更に別の形態では、aその少なくとも1つが潜在的なカルボキシル基を含む、少なくとも1つのタイプのモノマー、及び、b少なくとも1つの開始剤と、前記表面とを接触させ、そして、その後、当該潜在的なカルボキシル基をカルボキシル基に変換するのに適した条件に、前記表面をさらし、そして、その後、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及び銅から成る群から選択される少なくとも1つの第二金属の5~500nmの範囲の直径を有するコロイド金属粒子の分散液又はイオンを含む溶液と、前記表面とを接触させることによって、前記表面上にポリマーを形成させる。1つの形態では、潜在的なカルボキシル基を含む前記モノマーが、tert-ブチルアクリレート、無水マレイン酸、無水メタクリル酸及び無水アクリル酸から成る群から選択される少なくとも1つの物質である。1つの形態では、潜在的なカルボキシル基をカルボキシル基に変換するのに適した前記条件が、当該表面を光誘導ブレンステッド酸と接触させることによって実現される。1つの形態では、前記ブレンステッド酸が、スルホニウム塩及びヨードニウム塩から成る群から選択される。潜在的なカルボキシル基とは、カルボキシル基を形成する化学反応を受ける能力を有する化学基を呼ぶ。1つの形態では、前記開始剤が、チオキサントン、チオキサントン誘導体、カンホロキノン、ベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、4-ベンジルベンゾフェノン、ベンゾイルナフタレン、キサントン、アントラキノン、9-フルオレン、アセトフェノン、ベンゾイルジメチルケタール、ヒドロキシ-シクロ-ヘキシル-アセトフェノン、ビアセチル、3,4-ヘキサン-ジ-オン、2,3-ペンタン-ジ-オン、1-フェニル-1,2-プロパン-ジ-オン、ベンゼン、ベンゾイルギ酸、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、2-ペンタノン、3-ペンタノン、シクロヘキサノン、ベンゾフェノンのメタノールスルホネートエステル及びそれらの混合物から成る群から選択される。1つの形態では、前記第二金属がパラジウムである。1つの形態では、前記方法がアンモニウムイオンの使用を更に含む。1つの形態では、アンモニウムイオンは、パラジウムイオンと同じ溶液中にある。適切な対イオンはイオンを含む溶液中に存在することを、当業者は認識する。1つの形態では、当該イオンは、7より上のpHで吸着される。別の形態では、当該イオンは、10より上のpHで吸着される。1つの形態では、第一金属が、銅、銀、金、ニッケル、チタン、及びクロムから成る群から選択される。1つの形態では、前記表面を、e明確なパターンで前記表面に第三金属を選択的に沈着させる工程、及び、f前記第三金属によって覆われていない部分上の前記表面から前記第一金属及び第二金属を除去する工程、に更にさらす。1つの形態では、前記金属を前記基体上に明確なパターンで塗布する。1つの形態では、前記金属を基体全体上に塗布する。1つの形態では、第三金属が銅である。第二の側面では、上述のように製造された基体を含む物体を提供する。金属を塗布する方法に関するすべての形態及び特徴は、基体を含む物体にも適用可能である。1つの形態では、前記第一金属の層の厚さが約0.2μm~約30μmである。別の形態では、前記第一金属の層の厚さが約0.2μm~約10μmである。金属コーティングされた物体は、多くの異なる分野で多数適用される。ここでは、いくつかの適用の例を示すが、それらには限定されない。1つの形態では、前記物体が回路を含む。1つの形態では、前記物体がプリント配線板である。1つの形態では、前記物体が高周波電磁波を対象としたアンテナである。1つの形態では、前記物体が遠距離通信用アンテナである。1つの形態では、前記物体が燃料電池である。1つの形態では、前記物体が太陽電池である。1つの形態では、前記物体が反射板である。1つの形態では、前記物体が自動車反射板である。1つの形態では、前記物体が、お互いに電気的に絶縁されている伝導体の層を1層よりも多く含む。伝導性金属のいくつかの層をその間に絶縁材料で塗布することによって、いくつかの層の回路を形成する可能性が提供される。実施例例18×8cmのサイズを有する5つの異なるポリマー基体を、プラズマコーティングした:1Polyclad登録商標、エポキシベース材料、2エポキシマトリックスを含む、パナソニックPanasonicハロゲンフリーガラスエポキシ多層材料ラミネートR-1566登録商標、3PC/ABSポリカーボネート/アクリロニトリルブタジエンスチレン、及び4エポキシマトリックス中に粒子を含む、GX13、AjinomotoBuild-upFilmABF-GX13登録商標、5PA6ポリアミド6。基体を、イソプロパノールPA中で15分間超音波洗浄し、その後、プラズマポリマー化コーティング試験前にエタノールですすいだ。基体を、その後、選択された基体上へのプロピレンのプラズマ重合にさらした。プロピレンガスを減圧でプラズマチャンバー内に導入した。外部適用された電磁場の影響の下、その後、プロピレンガスをプラズマに励起し、断片化し、そして、極薄のプラズマポリマー化プロピレンPPPコーティングとして、サンプル基体上に沈着させる。プラズマ重合試験は、小さなプラズマ反応器中で実施した。プラズマ条件:当該PPPコーティングを、3つの異なるプラズマ条件で調製し、そして、各タイプのコーティングを、4つの異なる基体上に沈着させた。各基体の3つのサンプルを、各プラズマ条件でコーティングした。以下のプラズマ条件を使用した:プラズマ-1中間強度:前駆体:プロピレンプラズマ周波数:13.56MHzプラズマパワー:150Wプロピレン流:45-55sccmベース圧力:3-6mtorr圧力.プロピレン:80mtorrプラズマ中の圧力:81-82mtorrプラズマ-2低強度:前駆体:プロピレンプラズマ周波数:13.56MHzプラズマパワー:50Wプロピレン流:45-55sccmベース圧力:3-6mtorr圧力.プロピレン:80mtorrプラズマ中の圧力:80-81mtorrプラズマ-3高強度:前駆体:プロピレンプラズマ周波数:13.56MHzプラズマパワー:250Wプロピレン流:15-20sccmベース圧力:3-6mtorr圧力.プロピレン:40mtorrプラズマ中の圧力:41-42mtorrプラズマポリマー化サンプルを、アクリル/ビニルモノマー混合物でグラフトし、そしてその後、アルカリ性塩化パラジウム溶液にさらし、還元媒体中でパラジウム金属に還元された。当該サンプルをその後、化学銅中にさらした。20分後、サンプルは銅フィルム層で覆われた。プラズマコーティングした合計36個のサンプルを、接着に関して評価した。接着は、プラズマフィルム上に加わった化学銅フィルム上でのテープ法残った沈着層のパーセントで試験した。材料プラズマ条件接着テープ試験接着テープ試験プラズマなしプラズマありPolycladプラズマ115100Panasonicプラズマ120100PC/ABSプラズマ1表面アタック、0100GX-13プラズマ10100PA6プラズマ190100材料プラズマ条件接着テープ試験接着テープ試験プラズマなしプラズマありPolycladプラズマ215100Panasonicプラズマ220100PC/ABSプラズマ2表面アタック、0100GX-13プラズマ20100材料プラズマ条件接着テープ試験接着テープ試験プラズマなしプラズマありPolycladプラズマ31580Panasonicプラズマ32090PC/ABSプラズマ3表面アタック、0100GX-13プラズマ3070例2GX13基体上のPPPコーティングの表面エネルギーは、2つの異なる処理時間を使用する酸素プラズマ後処理によって、増加した。グラフト試験のために条件後処理なし、1秒O2プラズマ及び5秒O2プラズマ当たり3個のレプリカを調製し、湿潤性試験のために各条件の1個のサンプルを調製した。以下のプロピレンプラズマパラメーターを使用した。プラズマ周波数:13.56MHzプラズマパワー:150Wプロピレン流:45-55sccmベース圧力:3-6mtorr圧力.プロピレン:80mtorrプラズマ中の圧力:81-82mtorr沈着時間:2分O2プラズマ後処理前後のPPPコーティングの表面エネルギー、Dyne数での表示サンプルDyne数mN/mPPPコーティング、O2プラズマ後処理なし34-36PPPコーティング、O2プラズマ後処理1秒60-62PPPコーティング、O2プラズマ後処理5秒60-62表に示されるように、非常に短い約1秒O2プラズマ処理でさえも、PPPコーティングの表面エネルギーへの劇的な影響を及ぼした。接着試験材料テープ接着試験GX130PPPコーティング、O2プラズマ後処理なし100PPPコーティング、O2プラズマ後処理1秒100PPPコーティング、O2プラズマ後処理5秒100すべてのプラズマ処理GX13パネルで、テープ試験での接着が、0接着から100接着に改善される。例3小さなプラズマ反応器中で標準のプラズマ条件を使用してGX13基体上にプラズマポリマー化重合したアクリル酸層PPAを沈着させた。以下のプラズマパラメーターを使用した。プラズマ周波数:163kHzプラズマパワー:10Wアクリル酸流:1.6-2.0sccmベース圧力:5-8mtorr圧力.アクリル酸:25mtorrプラズマ中の圧力:33mtorr沈着時間:2分プラズマポリマー化重合したサンプルを、アクリル/ビニルモノマー混合物でグラフトし、そしてその後、アルカリ性塩化パラジウム溶液にさらし、還元媒体中でパラジウム金属に還元された。当該サンプルをその後、化学銅中にさらした。20分後、サンプルは銅フィルム層で覆われた。材料テープ接着試験クロスハッチ接着試験GX1300PPPコーティング、O2プラズマ後処理なし10090PPPコーティング、O2プラズマ後処理1秒100100PPAコーティング100100例4DienerElectronic,Gmbh,Germanyから市販の24リットルプラズマ反応器Nano中で標準プラズマ条件を使用してPC/ABS基体上にプラズマポリマー化アンモニア層PPNH3を沈着させた。以下のプラズマパラメーターを使用した。プラズマ周波数:40kHzプラズマパワー:150W最大の50アンモニア流:3.0-4.0sccmベース圧力:0.2mbar圧力.アンモニア:0.3mbarプラズマ中の圧力:0.3mbar沈着時間:1.5分プラズマポリマー化サンプルを、アクリル/ビニルモノマー混合物でグラフトし、そしてその後、アルカリ性塩化パラジウム溶液にさらし、還元媒体中でパラジウム金属に還元された。当該サンプルをその後、化学銅中にさらした。20分後、サンプルは銅フィルム層で覆われた。材料テープ接着試験クロスハッチ接着試験PC/ABSN/AN/APPNH3コーティング100100結論:グラフトプロセス化学薬品に対するPC/ABS感度は、その上部の上のPPNH3層によって、避けられる。プラズマ処理後にすぐれた接着結果となることも示している。例5DienerElectronic,Gmbh,Germanyから市販の24リットルプラズマ反応器Nano中で標準プラズマ条件を使用してGX-13基体上にプラズマポリマー化アンモニア層PPNH3を沈着させた。以下のプラズマパラメーターを使用した。プラズマ周波数:40kHzプラズマパワー:150W最大の50アンモニア流:3.0-4.0sccmベース圧力:0.2mbar圧力.アンモニア:0.3mbarプラズマ中の圧力:0.3mbar沈着時間:1.5minプラズマポリマー化サンプルを、アクリル/ビニルモノマー混合物でグラフトし、そしてその後、アルカリ性塩化パラジウム溶液にさらし、還元媒体中でパラジウム金属に還元された。当該サンプルをその後、化学銅中にさらした。20分後、サンプルは銅フィルム層で覆われた。材料テープ接着試験クロスハッチ接着試験GX1300GX13上のPPNH3コーティング100100結論:10nmのPPNH3層を持つGX-13は、プラズマ処理後にすぐれた接着結果となることを示している。例6DienerElectronic,Gmbh,Germanyから市販の24リットルプラズマ反応器Nano中で標準プラズマ条件を使用してPolyclad基体上に沈着させた層PPPNが、アンモニア及びプロパンのプラズマポリマー化混合物から形成された。以下のプラズマパラメーターを使用した。プラズマ周波数:40kHzプラズマパワー:225Wアンモニア流:3.0-4.0sccmプロパン流:5.0sccmベース圧力:0.2mbar圧力.ガス混合物:0.3mbarプラズマ中の圧力:0.3mbar沈着時間:2.0分プラズマポリマー化サンプルを、アクリル/ビニルモノマー混合物でグラフトし、そしてその後、アルカリ性塩化パラジウム溶液にさらし、還元媒体中でパラジウム金属に還元された。当該サンプルをその後、化学銅中にさらした。20分後、サンプルは銅フィルム層で覆われた。材料テープ接着試験クロスハッチ接着試験Polyclad1520PPPNコーティング10095結論:上部の上にPPPN層を持つPolycladは、プラズマ処理後にすぐれた接着結果となることを示している。例7DienerElectronic,Gmbh,Germanyから市販の24リットルプラズマ反応器Nano中で標準プラズマ条件を使用してPC/ABS基体上に、第一層PPP=プラズマポリマープロパン及び第一層の上部の上の第二層PPNH3=プラズマポリマー化アンモニアのプラズマポリマー化2層材料PP2を沈着させた。以下のプラズマパラメーターを使用した。プラズマ周波数:40kHzプラズマパワー:150W両方のガスでプロパン流:5.0sccmアンモニア流:3.0-4.0sccmベース圧力:0.2mbar圧力.プロパン:0.3mbar圧力.アンモニア:0.3mbarプラズマ中での圧力:0.3mbar沈着時間:プロパンで2.0分アンモニアで1.5分プラズマポリマー化サンプルを、アクリル/ビニルモノマー混合物でグラフトし、そしてその後、アルカリ性塩化パラジウム溶液にさらし、還元媒体中でパラジウム金属に還元された。当該サンプルをその後、化学銅中にさらした。20分後、サンプルは銅フィルム層で覆われた。材料クロスハッチ接着試験PC/ABSN/APP2コーティング100結論:グラフトプロセス化学薬品に対するPC/ABS感度は、その上部の上のPP2層によって、避けられる。プラズマ処理後にすぐれたクロスハッチ接着結果となることも示している。例8DienerElectronic,Gmbh,Germanyから市販の24リットルプラズマ反応器Nano中で標準プラズマ条件を使用してGX-13基体上にプラズマポリマー化アンモニア層PPNH3を沈着させた。以下のプラズマパラメーターを使用した。プラズマ周波数:40kHzプラズマパワー:150W最大の50アンモニア流:3.0-4.0sccmベース圧力:0.2mbar圧力.アンモニア:0.3mbarプラズマ中の圧力:0.3mbar沈着時間:1.5分材料テープ接着試験クロスハッチ接着試験GX-1300GX-13上のPPNH3コーティング100100プラズマポリマー化サンプルを、アクリル/ビニルモノマー混合物でグラフトし、そしてその後、コロイドパラジウム溶液にさらした。コロイド溶液、コンディショナーConditioner及び予備浸漬Predipは、RohmHaasからのものである。RohmHaasからの化学薬品は、CircupositConditioner3320Mild酸性コンディショナー、CircupositPredip3340/4400塩予備浸漬であり、有害なドラッグから触媒を保護し、そして、信頼できる最適の被覆率及び無電解銅の接着を確保するコロイドパラジウム-スズ触媒であるCIRCUPOSIT登録商標CATALYST3344/4444である。当該サンプルをその後、化学銅浴中にさらした。20分後、サンプルは銅フィルム層で覆われた。結論:銅沈着、コロイド金属、グラフト層及び10nmPPNH3層を持つGX-13は、プラズマ処理後にすぐれた接着結果となることを示している。"