"インプリント用のモールド樹脂もしくはレプリカモールド樹脂を形成できる硬化性樹脂または硬化性モノマーに対して、硬化性のフッ素系ポリマーA0.1~10重量を含むことを特徴とする、インプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物。硬化性のフッ素系ポリマーAが、a1炭素数4~6のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレート[α位の置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CFX1X2基但し、X1およびX2は、水素原子、フッ素原子または塩素原子、シアノ基、炭素数1~20の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基、置換または非置換のベンジル基、置換または非置換のフェニル基、あるいは炭素数1~20の直鎖状または分岐状アルキル基である。]100重量部、およびa2ホモポリマー状態でのガラス転移点または軟化点が50°C以上を示す高軟化点モノマー5~120重量部を繰り返し単位として含んでなり重量平均分子量が3,000~20,000であるフッ素系ポリマーA1である、請求項1に記載の材料組成物。フッ素系ポリマーA1の繰り返し単位が、さらに、a3エポキシ基a3-1または水酸基a3-2のいずれかを含む架橋基含有モノマー5~30重量部を含む請求項2に記載の材料組成物。フッ素系ポリマーA1のエポキシ基に不飽和有機酸を反応させてある請求項3に記載の材料組成物。フッ素系ポリマーA1の水酸基にイソシアネート基含有不飽和化合物を反応させてある請求項3に記載の材料組成物。フッ素系ポリマーA1の繰り返し単位が、さらに、a3-1エポキシ基を含む架橋基含有モノマー5~30重量部、およびa4SiO含有モノマー2~20重量部を含む請求項2に記載の材料組成物。硬化性のフッ素系ポリマーAが、a1炭素数4~6のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレート[α位の置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CFX1X2基但し、X1およびX2は、水素原子、フッ素原子または塩素原子、シアノ基、炭素数1~20の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基、置換または非置換のベンジル基、置換または非置換のフェニル基、あるいは炭素数1~20の直鎖状または分岐状アルキル基である。]100重量部、a3-1エポキシ基を含む架橋基含有モノマー5~60重量部、およびa5:式R1OnR2[式中、R1は-2-または-3-、R2は水素またはメチル基、nは1~10である。]で示されるアルキレンオキシ基含有モノマー10~40重量部を繰り返し単位として含んでなり重量平均分子量が3,000~20,000であるフッ素系ポリマーA2である、請求項1に記載の材料組成物。フッ素系ポリマーA2の繰り返し単位が、さらに、a4SiO含有モノマー2~20重量部を含む請求項7に記載の材料組成物。フッ素系ポリマーA2のa5アルキレンオキシ基含有モノマーの末端水酸基にイソシアネート基含有不飽和化合物を反応させてある請求項7または8に記載の材料組成物。フッ素系ポリマーA、A1またはA2、硬化性モノマーもしくはポリマーB、架橋触媒C、要すれば溶媒D、要すれば架橋剤Eを含有してなる請求項1~9のいずれか1つに記載の材料組成物。硬化性モノマーもしくはポリマーBが紫外光硬化性モノマーもしくはポリマーBであり、架橋触媒Cが光架橋触媒Cである、請求項10に記載の材料組成物。フルオロアルキル基が炭素数4のパーフルオロアルキル基である請求項2~11のいずれか1つに記載の材料組成物。高軟化点モノマーa2が、ホモポリマーの状態でガラス転移点または融点が100°C以上のモノマーである請求項2~6、10~12のいずれか1つに記載の材料組成物。高軟化点モノマーa2が、式:CH2CCOOR2[R1はHまたはCH3であり、R2は炭素数4~20で水素原子に対する炭素原子の比率が058以上の飽和アルキル基]で表されるメタアクリレートモノマーである請求項2~6、および10~12のいずれか1つに記載の材料組成物。モールドインプリント用離型剤組成物である、請求項1~14のいずれか1つに記載の材料組成物。樹脂レプリカモールドの製造方法であって、請求項1~14のいずれか1つに記載の材料組成物をシリコン基板または樹脂基板もしくは樹脂フィルムに塗布して被膜を形成する工程、該被膜に、微細パターンを表面に形成した無機材質モールド原版を押し付けて転写パターンを形成する工程、該転写パターンを硬化させる工程、および、モールド原版からパターン転写された樹脂レプリカモールドを離型する工程を有してなる、樹脂レプリカモールドの製造方法。転写パターンを硬化させる工程が紫外光で露光硬化させる工程である、請求項16に記載の製造方法。樹脂モールドの製造方法であって、請求項1~14のいずれか1つに記載の材料組成物をシリコン基板または樹脂基板もしくは樹脂フィルムに塗布して被膜を形成する工程、該被膜に、微細パターンを表面に形成した樹脂レプリカモールドを押し付けて転写パターンを形成する工程、該転写パターンを硬化させる工程、および、樹脂レプリカモールドからパターン転写された樹脂モールドを離型する工程を有してなる、樹脂モールドの製造方法。転写パターンを硬化させる工程が紫外光で露光硬化させる工程である、請求項18に記載の製造方法。パターニングされたシリコン半導体基板の製造方法であって、請求項1~14のいずれかに記載の方法で製造された樹脂モールド材料組成物を、シリコン基板上に塗布しレジスト層とし、これに微細パターンを表面に形成した無機材質モールド原版を押し付けて微細パターンを転写する工程、該転写パターンを硬化させて微細構造パターンを有するレジスト硬化物を得る工程、パターン転写されたレジスト硬化物から微細パターンを表面に形成した無機材質モールド原版を離型する工程、レジスト硬化物層を酸素アッシングしてレジスト硬化物層の凸部パターンのみを残存させる工程、およびフッ素ガスによるエッチングにより微細構造パターンが形成されたシリコン半導体基板を得る工程を有してなる、シリコン半導体基板の製造方法。転写パターンを硬化させて微細構造パターンを有するレジスト硬化物を得る工程が、電磁波で露光硬化させて微細構造パターンを有するレジスト硬化物を得る工程である、請求項20に記載の製造方法。本発明の目的は、離型性に優れたインプリント用の樹脂モールド材料および樹脂レプリカモールド材料組成物の提供、該材料組成物を含んでなる樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド並びにそれらの製造方法の提供にある。本発明の更なる目的は、優れた離型性に加えて、コスト的にも有利なインプリント用の樹脂モールド材料および樹脂レプリカモールド材料組成物の提供にある。即ち、本発明は、インプリント用のモールド樹脂もしくはレプリカモールド樹脂を形成できる硬化性樹脂または硬化性モノマーに対して、硬化性のフッ素系ポリマーA0.1~10重量を含むことを特徴とする、インプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物を提供する。好ましい態様において、本発明は、インプリント用のモールド樹脂もしくはレプリカモールド樹脂を形成できる光熱硬化性樹脂または光熱硬化性モノマーに対して、光硬化性のフッ素系ポリマーA0.1~10重量を含むことを特徴とする、インプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物を提供する。本発明の硬化性の、好ましくは、光硬化性のフッ素系ポリマーAは、10重量以下の添加量で優れた離型性を与えるため、コスト的に有利である。このように少量で効果的なのは、フッ素系ポリマーAが樹脂組成物中において不均一な濃度分布を形成し、フッ素系ポリマーAが硬化前に組成物表面付近により多く分布するためではないかと推察されるが、本発明はその機構に囚われるものではない。本発明はまた、硬化性フッ素系ポリマーAが、a1炭素数4~6のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレート[α位の置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CFX1X2基但し、X1およびX2は、水素原子、フッ素原子または塩素原子、シアノ基、炭素数1~20の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基、置換または非置換のベンジル基、置換または非置換のフェニル基、あるいは炭素数1~20の直鎖状または分岐状アルキル基である。]100重量部、およびa2ホモポリマー状態でのガラス転移点または軟化点が50°C以上を示す高軟化点モノマー5~120重量部を繰り返し単位として含んでなり重量平均分子量が3,000~20,000であるフッ素系ポリマーA1である材料組成物を提供する。本発明のフッ素系ポリマーA1の繰り返し単位は、さらに、a3エポキシ基a3-1または水酸基a3-2のいずれかを含む架橋基含有モノマー5~30重量部を含んでよく、フッ素系ポリマーA1のエポキシ基a3-1に不飽和有機酸を反応させてあってよく、もしくは、フッ素系ポリマーA1の水酸基a3-2にイソシアネート基含有不飽和化合物を反応させてあってよい。本発明のフッ素系ポリマーA1の繰り返し単位は、さらに、a3-1エポキシ基を含む架橋基含有モノマー5~30重量部、およびa4SiO含有モノマー2~20重量部を含んでいてよい。本発明はまた、a1炭素数4~6のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレート[α位の置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CFX1X2基但し、X1およびX2は、水素原子、フッ素原子または塩素原子、シアノ基、炭素数1~20の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基、置換または非置換のベンジル基、置換または非置換のフェニル基、あるいは炭素数1~20の直鎖状または分岐状アルキル基である。]100重量部、a3-1エポキシ基を含む架橋基含有モノマー5~60重量部、およびa5:式R1OnR2[式中、R1は-2-または-3-、R2は水素またはメチル基、nは1~10である。]で示されるアルキレンオキシ基含有モノマー10~40重量部を繰り返し単位とする重量平均分子量が3,000~20,000であるフッ素系ポリマーA2を含有し、フッ素系ポリマーA2の含有量が0.1~10重量の範囲にある、インプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物を提供する。前記フッ素系ポリマーA2の繰り返し単位は、さらに、a4SiO含有モノマー2~20重量部を含んでよく、また、フッ素系ポリマーA2のアルキレンオキシ基含有モノマーa5の末端水酸基にイソシアネート基含有不飽和化合物を反応させてあってよい。本発明はまた、前記材料組成物を用いることを特徴とする樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールドの製造方法並びに該製造方法によって得られた樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールドを提供すると共に、該樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールドを用いることを特徴とするパターニングされた繰り返された微細構造を持つ樹脂成形品の製造方法を提供する。本発明のインプリント用の樹脂モールド材料および樹脂レプリカモールド材料組成物は、高価なフッ素系ポリマーの含有量が少なくても高い離型性を与え、該組成物を用いて得られた樹脂レプリカモールドおよび樹脂モールドは、モールド自体の損傷および微細構造パターンの損傷を招くことなくインプリント工程の高速化に寄与することができ、且つ、モールドの繰り返し使用回数を増加させることができる。本発明で用いる硬化性、好ましくは光硬化性のフッ素系ポリマーAは、光または熱開始剤から発生するラジカルや酸プロトンによって架橋反応を起こす官能基を有するフッ素系ポリマーであれば特に制限されない例えば、ラジカル反応性の官能基としてα位をハロゲンCl、Fなどで置換されてよいアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、酸反応性の官能基としては、エポキシ基、オキセタン基、ビニル基、アリル基、シリル基、シロキサン基等を用いることができる。これらの官能基は、含フッ素モノマー例えば、グリシジルパーフルオロブチルメタアクリレート等として重合されてもよく、また、含フッ素モノマーのコモノマー例えば、グリシジルメタクリレートとして含フッ素モノマーと共重合されてもよい。光硬化性のフッ素系ポリマーAは、光開始剤から発生するラジカルや酸によって架橋反応を起こす官能基を有するフッ素系ポリマーが特に好ましい。フッ素系ポリマー製造に用いるモノマーについて、以下に説明する。本発明のインプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物で使用する硬化性のフッ素系ポリマーA1は、炭素数4~6のフルオロアルキル基を有するα置換アクリレートモノマーa1およびホモポリマー状態でのガラス転移点または軟化点が50°C以上を示す高軟化点モノマーa2を繰り返し単位として含んでなる。モノマー成分a1のα置換アクリレートにおけるα位の置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CFX1X2基但し、X1およびX2は、水素原子、フッ素原子または塩素原子、シアノ基、炭素数1~20の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基、置換または非置換のベンジル基、置換または非置換のフェニル基、あるいは炭素数1~20の直鎖状または分岐状アルキル基である。フッ素系ポリマーA1の成分a1およびa2の組成比は、α位置換アクリレートa1100重量部、および高軟化点モノマーa25~120重量部、好ましくは20~100重量部、より好ましくは20~50重量部である。フッ素系ポリマーA1は、さらに、エポキシ基a3-1または水酸基a3-2のいずれかを含む架橋基含有モノマーa3を含んでよい。モノマーa1、a2およびa3の構成比は、α位置換アクリレートa1100重量部、高軟化点モノマーa25~120重量部、好ましくは20~100重量部、より好ましくは20~50重量部架橋基含有モノマーa35~30重量部、好ましくは8~25重量部、より好ましくは10~20重量部である。架橋基含有モノマーa3のエポキシ基a3-1には、不飽和有機酸を反応させてあってよい。また、水酸基a3-2にはイソシアネート基含有不飽和化合物を反応させてあってよい。本発明で用いる他の一つのフッ素系ポリマーA2は、α位置換アクリレートa1、エポキシ基を含む架橋基含有モノマーa3-1および式R1OnR2[式中、R1は-2-または-3-、R2は水素またはメチル基、nは1~10である。]で示されるアルキレンオキシ基含有モノマーa5を繰り返し単位として含んでなる。モノマー成分a1は上記と同様の炭素数4~6のフルオロアルキル基を有するα置換アクリレートである。フッ素系ポリマーA2の構成成分a1、a3-1およびa5の構成比は、α位置換アクリレートa1100重量部、エポキシ基を含む架橋基含有モノマーa3-15~60部、好ましくは10~50部、より好ましくは20~40部である。フッ素系ポリマーA2は、上記モノマーa1、a3-1およびa5に加えて、さらに、SiO含有モノマーa4を繰り返し単位として含んでよい。α位置換アクリレートa1100重量部に対してa4の含有比は2~20重量部、好ましくは4~16重量部、特に好ましくは8~12重量部である。アルキレンオキシ基含有モノマーa5の末端水酸基にはイソシアネート基含有不飽和化合物を反応させてあってよい。α位置換アクリレートa1は、フッ素系ポリマーAに対して15~70重量、より好ましくは25~65重量、例えば40~60重量であることが好ましい。フッ素系ポリマーA、A1およびA2において、フッ素濃度が、15~35重量、好ましくは20~35重量、より好ましくは25~30重量、重量平均分子量が3,000~20,000、好ましくは5,000~15,000である。フッ素系ポリマーA、A1およびA2については、フッ素濃度の下限を15重量まで減らすことができる。α位置換アクリレートa1を減らしてエポキシ基a3-1または水酸基a3-2を含む架橋基含有モノマーa3を増量することにより、フッ素系ポリマーのi樹脂モールドまたは樹脂レプリカモールド材料組成物中での相溶性および、ii他の原料との架橋性を改善できる。好ましい態様においては、フッ素系ポリマーA、A1およびA2のフッ素濃度は、15~35重量、好ましくは17~30重量、より好ましくは18~27重量である。フッ素系ポリマーA、A1およびA2を構成するα位置換アクリレートa1が15~70重量であり、かつ、フッ素系ポリマーAのフッ素濃度が15~35重量であると、撥液性離型性が高く、かつ樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料組成物を構成するその他の成分との相溶性が良好である。フッ素系ポリマーAを構成する高軟化点モノマーa2がα位置換アクリレートa1100重量部に対して5~120重量部であると、寸法安定性の効果が良好であり、撥液性離型性も良好である。フッ素系ポリマーA、A1およびA2の重量平均分子量が3,000~20,000であると、樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料組成物中でのフッ素系ポリマーAの表面偏析性が優れ、少ない量で十分な撥液性離型性を付与することができる。フッ素系ポリマーAに、架橋基含有モノマーa3、例えば、エポキシ基含有モノマーa3-1または水酸基含有モノマーa3-2を共重合するとさらに好ましい。エポキシ基含有モノマーa3-1を使用する場合はさらにカルボン酸基含有メタアクリレートをポリマー中のエポキシ基と反応させても良い。また、水酸基含有モノマーa3-2を使用する場合はさらにイソシアネート基含有メタアクリレートをポリマー中の水酸基と反応させても良い。フッ素系ポリマーA、A1およびA2はランダム、交互、ブロック、グラフト共重合体のいずれでも良い。α位置換アクリレートa1は、式:[式中、Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CFX1X2基但し、X1およびX2は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。、シアノ基、炭素数1~21の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基、置換または非置換のベンジル基、置換または非置換のフェニル基、あるいは炭素数1~20の直鎖状または分岐状アルキル基Yは、直接結合、酸素原子を有していてもよい炭素数1~10の脂肪族基、酸素原子を有していてもよい炭素数6~10の芳香族基、環状脂肪族基または芳香脂肪族基、-CH2CH2NSO2-基但し、R1は炭素数1~4のアルキル基である。、-CH2CHCH2-基但し、Y1は水素原子またはアセチル基である。、または、-CH2nSO2-基nは1~10である。Rfは炭素数4~6の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基である。]であることが好ましい。Rfは炭素数4~6のパーフルオロアルキル基、特に炭素数4のパーフルオロアルキル基であることが好ましい。α位置換アクリレートa1の例は、次のとおりである。CH2C-C-O-2-S-RfCH2C-C-O-2-S-2-RfCH2C-C-O-2-SO2-RfCH2C-C-O-2-SO2-2-RfCH2C-C-NH-2-RfCH2C-C-O-2-S-RfCH2C-C-O-2-S-2-RfCH2C-C-O-2-SO2-RfCH2C-C-O-2-SO2-2-RfCH2C-C-NH-2-RfCH2C-C-O-3-S-RfCH2C-C-O-3-SO2-RfCH2C-C-O-2-Rf[式中、Rfは炭素数4~6の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基である。]高軟化点モノマーa2は、一般に、ホモポリマーの状態でガラス転移点または融点が50°C以上、好ましくは100°C以上、特に好ましくは、120°C以上のモノマーである。高軟化点モノマーa2は、CH2CCOOR2[R1はHまたはCH3、R2炭素数4~20で水素原子に対する炭素原子の比率が058以上の飽和アルキル基である。]であることが好ましい。R2の例は、イソボルニル、ボルニル、フェンシル、アダマンチル、ノルボルニルなどの架橋炭化水素環が挙げられる。これらの架橋炭化水素環に水酸基やアルキル基炭素数、例えば1~5が付いていても良い。高軟化点モノマーa2の例は、メチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、ノルボルニルアクリレート、およびアダマンチルアクリレートである。ノルボルニルアクリレートの例は、3メチルノルボルニルメチルアクリレート、ノルボルニルメチルアクリレート、ノルボルニルアクリレート、133トリメチルノルボルニルアクリレート、ミルタニルメチルアクリレート、イソピノカンファニルアクリレート、2{[51’,1’,1’トリフルオロ2’トリフルオロメチル2’ヒドロキシプロピル]ノルボルニル}アクリレートである。アダマンチルアクリレートの例は、2メチル2アダマンチルアクリレート、2エチル2アダマンチルアクリレート、3ヒドロキシ1アダマンチルアクリレート、1アダマンチルαトリフルオロメチルアクリレートである。ガラス転移点、融点は、それぞれJISK71211987プラスチックの転移温度測定方法で規定される補外ガラス転移終了温度、融解ピーク温度Tpmとする。フッ素系ポリマーAの繰り返し単位に、ホモポリマーの状態でガラス転移点あるいは融点が50°C以上、好ましくは100°C以上の高軟化点モノマーa2を用いると、基板を熱処理したときの寸法安定性が優れる効果に加え、フッ素系モノマーAの撥液性を向上する効果もある。フッ素系ポリマーAにおける二種のモノマーに加えてさらに第三モノマーとして共重合してもよいエポキシ基含有モノマーa3-1としては、グリシジルメタアクリレート、3,4-エポキシブチルメタアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレートなどが挙げられる。好ましくは、グリシジルメタアクリレートが挙げられる。水酸基含有モノマーa3-2としては、モノヒドロキシモノメタアクリレート、モノヒドロキシオリゴメタアクリレート、オリゴヒドロキシオリゴメタアクリレートがあるが、反応性の観点からモノヒドロキシアルキルモノメタアクリレートが好ましい。モノヒドロキシアルキルモノメタアクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレート等が挙げられる。特に、ヒドロキシエチルメタアクリレートが好ましい。エポキシ基含有モノマーa3-1を共重合する場合はさらにエポキシ基に不飽和有機酸を反応させても良い。その不飽和有機酸の例としては、少なくとも1つの炭素-炭素二重結合、および少なくとも1つの酸基[例えば、カルボキシル基COOH基]を有するモノマーであり、フッ素系ポリマーAの酸価が40~200mgKOH/gとなるように共重合する。酸価は、JIS007021で定義されるものであり、試料1g中に含有されている遊離脂肪酸、樹脂酸などを中和するのに要する水酸化カリウムのmg数をいう。不飽和有機酸の特に好ましい例は、不飽和カルボン酸、例えば、遊離の不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物である。不飽和有機酸a2の例は、アクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸およびケイ皮酸である。不飽和有機酸を反応させるときに一部エポキシ基を残しても良い。特開2001253928に記載のように、ポリマー中のエポキシ基にアクリル酸のような不飽和有機酸を反応させた後、生成した水酸基にさらにテトラヒドロ無水コハク酸のような酸無水物を反応させても良い。また、水酸基含有モノマーa3-2を共重合する場合はさらに水酸基にイソシアネート基含有不飽和化合物を反応させることが好ましく、そのイソシアネート基含有不飽和化合物はイソシアネート基含有メタアクリレートが好ましい。イソシアネート基含有不飽和化合物を反応させるときに一部水酸基を残しても良い。フッ素系ポリマーAにSiO含有モノマーa4を使用しても良い。SiO含有モノマーa4は、シロキサン結合および少なくとも1つの例えば、1または2の炭素-炭素二重結合を有する化合物である。SiO含有モノマーa4はシリコーンアクリレート、または、アルコキシシラン基含有メタアクリレートであることが好ましい。シリコーンアクリレートは、分子量1000~10000のジメチルポリシロキサンの片末端、あるいは、両末端をメタアクリロイル基で変性したものであり、例えば、下記の式1~3が例示される。式1~3:アルコキシシラン基含有メタアクリレートとしては、3-メタアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランが例示される。SiO含有モノマーa5はα位置換アクリレートa1100重量部に対して2~20重量部が好ましく、エポキシ基含有モノマーa4-1または水酸基含有モノマーa4-2の少なくとも一方好ましい量は5~30重量部と同時に用いることが好ましい。フッ素系ポリマーAにアルキレンオキサイド基を含有するモノマーa5を使用してもよい。アルキレンオキサイド基の例は、-2-または-3-、R2は水素またはメチル基、nは1~10である。]である。アルキレンオキサイド基を含有するモノマーa5としては、CH2=CR3COOR1OnR2[R1は-2-または-3-、R2およびR3は水素またはメチル基、nは1~10である。]を使用しても良い。a5は、具体的には、ヒドロキシエチルメタアクリレート、日本油脂製ブレンマーAPシリーズポリプロピレングリコールモノアクリレートであるAP400:n≒6、AP550:n≒9、AP800:n≒13、ブレンマーPEシリーズポリエチレングリコールモノメタクリレートであるPE90:n≒2、PE200:n≒45、PE350:n≒8、ブレンマーPPシリーズポリプロピレングリコールモノメタクリレートであるPP1OOO:n≒4~6、PP500:n≒9、PP800:n≒13、ブレンマーPMEシリーズメトキシポリエチレングリコールモノメタクリレートであるPME1OO:n≒2、PME200:n≒4、PME400:n≒9、PME1OOO:n≒23、PME4000:n≒90などが例示される。アルキレンオキサイド基を含有するモノマーa5を使用する場合には、高軟化点モノマーa2を使用してもしなくてもどちらでもよいが、高軟化点モノマーa2を使用しないことが好ましい。アルキレンオキサイド基を含有するモノマーa5の量は、α位置換アクリレートa1100重量部に対して、50重量部以下、例えば1~45重量部、特に10~40重量部であることが好ましい。アルキレンオキサイド基を含有するモノマーa5を使用する場合には、a5の末端基の一部に不飽和基含有化合物を反応させて、フッ素系ポリマーA2に不飽和基を導入しても良い。例えば末端の水酸基にイソシアネート基含有メタアクリレートを反応させても良い。本発明のフッ素系ポリマーA2は、エポキシ基を含む架橋基含有モノマーa3-1としてグリシジルメタアクリレート、およびアルキレンオキサイド基を含有するモノマーa5としてヒドロキシエチルメタアクリレートを同時に用いることが特に好ましい。この際、ヒドロキシエチルメタアクリレートの水酸基の一部に不飽和基含有化合物を反応させて、フッ素系ポリマーA2に不飽和基を導入しても良い。例えば末端の水酸基にイソシアネート基含有メタアクリレートを反応させても良い。グリシジルメタアクリレートは樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料組成物中での相溶性、他の原料との架橋性、アルカリ可溶性を改善する効果がある。従来のポリマーにおいては、カルボキシル基とエポキシ基と水酸基を同一分子中に共存させると自己架橋性が強くなるために保存安定性が極めて悪くなる問題があったが、本発明においては、α位置換アクリレートa1を40重量以上含有するフッ素系ポリマー中に、これら三つの架橋性官能基が共存することにより、安定性の問題は回避される。樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料とするべく、フッ素系ポリマーA、A1またはA2例えば、3,4,5または6元の共重合体は、硬化性モノマーもしくはポリマーBに対して0.1~10重量であることが好ましく、1~5重量であることがより好ましい。更に架橋触媒C、要すれば溶媒D、要すれば架橋剤Eから成る組成物とすることが好ましい。硬化性モノマーもしくはポリマーBは、光硬化性または熱硬化性であってよく、それに応じて架橋触媒Cは光架橋触媒または熱架橋触媒であってよい。中でも、光硬化性モノマーもしくはポリマーBが好ましく、それに対応して光架橋触媒Cが好ましい。さらに、光架橋触媒Cは光ラジカル重合開始剤であることが格段に好ましい。次に、フッ素系ポリマーの製造方法について説明する。フッ素系ポリマーは、以下のようにして製造することができる。モノマーおよび必要な成分を溶媒に溶解させ、窒素置換後、重合触媒を加えて20~120°Cの範囲で1~20時間、撹拌する方法が採用される。溶媒は有機溶媒、水溶性有機溶媒、水などが使用できる。溶媒は重合組成物中に50~90重量の範囲で用いられる。フッ素系ポリマーの分子量を調整するためにメルカプタン類、ハロゲン化アルキル類などの連鎖移動剤を添加しても良い。メルカプタン類としては、n-ブチルメルカプタン、n-ドデシルメルカプタン、t-ブチルメルカプタン、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸2-エチルヘキシル、2-メルカプトエタノール、メルカプト酸イソオクチル、チオグリコール酸、3-メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸メトキシブチル、シリコーンメルカプタン信越化学製KF-2001などが、ハロゲン化アルキル類としては、クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。a4-2のような水酸基含有モノマー単体とメルカプタン単体が直接接触すると、溶媒不溶物が生成する場合があるので、これらを併用して重合する場合は予めいずれか一方を溶媒で希釈することが望ましい。フッ素系ポリマーの重量平均分子量は、3,000~20,000、好ましくは5,000~15,000である。フッ素系ポリマーの重量平均分子量は、GPCゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより求めたものである標準ポリスチレン換算。次に、本発明のフッ素系ポリマーを混合する相手であるインプリント用のモールド樹脂を形成する材料もしくはレプリカモールド樹脂を形成する材料について説明する。これらは硬化性樹脂、好ましくは光熱硬化性樹脂もしくは硬化性モノマー、好ましくは光熱硬化性モノマーのいずれであってもよい。硬化性樹脂もしくは硬化性モノマーとしては、紫外光硬化性樹脂もしくは紫外光硬化性モノマーが好ましい。硬化性樹脂としては、耐熱性、強度を有する樹脂であれば特に限定されるものではないが、例えば、アクリル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、ポリアミド系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、環状ポリオレフィン系ポリマー、含フッ素ポリオレフィン系ポリマーPTFE等、含フッ素環状非結晶性ポリマーサイトップ登録商標、テフロンAF登録商標等などが挙げられる。インプリント後に紫外線硬化等の操作が必要な場合には、透明性を有する樹脂が好ましい。具体的には、例えば、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、酢酸ビニル、ビニルピバレート、各種メタアクリレート類:フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロール、プロパントリアクリレート、ペンタアエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エトキシエチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリオキシエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、N,N-ジエチルアミノエチルアクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルアクリレート、N-ビニルピロリドン、ジメチルアミノエチルメタクリレートシリコーン系のアクリレート、無水マレイン酸、ビニレンカーボネート、鎖状側鎖ポリアクリレート、環状側鎖ポリアクリレートポリノルボルネン、ポリノルボルナジエン、ポリカーボネート、ポリスルホン酸アミド、含フッ素環状非結晶性ポリマーサイトップ登録商標、テフロンAF登録商標等等が挙げられる。硬化性モノマーとしては、ウレタンメタアクリレートエポキシメタアクリレートポリエステルメタアクリレートポリエーテルアクリレートシリコーンアクリレートアクリレートモノマーがあげられる。具体的には、例えば、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートジアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリアクリレートに代表されるポリメタアクリロイルオキシアルキルイソシアヌレートエポキシメタアクリレートはエポキシ基にアクリロイル基を付加したものであり、出発原料としてビスフェノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック、脂環化合物を用いたものが一般的である。エチレングリコール、14ブタンジオール、16ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどであり、多塩基酸は、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、トリメリット酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸、アルケニルコハク酸などである。ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールジアクリレートシリコーンアクリレートは、分子量1000~10000のジメチルポリシロキサンの片末端、あるいは、両末端をメタアクリロイル基で変性したものであり、例えば、前記の式1~3が例示される。メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、n-ペンチルメタアクリレート、3-メチルブチルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、2-エチル-n-ヘキシルメタアクリレート、n-オクチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、5-ヒドロキシペンチルメタアクリレート、6-ヒドロキシヘキシルメタアクリレート、4-ヒドロキシシクロヘキシルメタアクリレート、ネオペンチルグリコールモノメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、1,1-ジメチル-3-オキソブチルメタアクリルレート、2-アセトアセトキシエチルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、ネオペンチルグリコールモノメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、グリセリンモノメタアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、16ヘキサンジオールジアクリレート、19ノナンジオールジアクリレート、110デカンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどが例示される。次に、樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料組成物における成分について説明する。樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料組成物における成分は、次の組合せであってよい。フッ素系ポリマーA、A1もしくはA2、硬化性モノマーもしくはポリマーB、架橋触媒C、:フッ素系ポリマーA、A1もしくはA2、硬化性モノマーもしくはポリマーB、架橋触媒C、要すれば溶媒D;フッ素系ポリマーA、A1もしくはA2、硬化性モノマーもしくはポリマーB、架橋触媒C、要すれば溶媒D、要すれば架橋剤Eより好ましくは、次の組合せであってよい。フッ素系ポリマーA、A1もしくはA2、紫外光硬化性モノマーもしくはポリマーB、光架橋触媒C、:フッ素系ポリマーA、A1もしくはA2、紫外光硬化性モノマーもしくはポリマーB、光架橋触媒C、要すれば溶媒D;フッ素系ポリマーA、A1もしくはA2、紫外光硬化性モノマーもしくはポリマーB、光架橋触媒C、要すれば溶媒D、要すれば架橋剤E。以下、樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールドの作製方法について説明する。本発明において、フッ素系ポリマーA、A1またはA2を用いて、例えば、次の方法により、樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールドを作製する。本発明において、まず、i石英等のモールド原版を用いて、本発明に係る樹脂レプリカモールド材料組成物の被膜表面にインプリント法によって樹脂レプリカモールドを作成し、次に、ii前記で得られた樹脂レプリカモールドを用いて本発明に係る樹脂モールド材料組成物被膜表面にインプリント法によって樹脂モールドを作成する。以下、樹脂レプリカモールドの作成方法から説明する。即ち、本発明は樹脂レプリカモールドの製造方法であって、本発明のフッ素系ポリマーA、A1またはA2例えば、3,4,5または6元の共重合体は、硬化性モノマーもしくはポリマーB、架橋触媒C、要すれば溶媒D、要すれば架橋剤Eを含有してなる樹脂レプリカモールド材料組成物を、シリコン基板または樹脂基板もしくは樹脂フィルムに塗布して被膜を形成する工程、該被膜に、微細パターンを表面に形成した無機材質モールド原版例えば、石英モールド原版を押し付けて転写パターンを形成する工程、該転写パターンを硬化させる工程、および、モールド原版からパターン転写された樹脂レプリカモールドを離型する工程を有してなる製造方法によって、樹脂レプリカモールドを製造することができる。好ましくは、本発明は樹脂レプリカモールドの製造方法であって、本発明のフッ素系ポリマーA、A1またはA2例えば、3,4,5または6元の共重合体は、紫外光硬化性モノマーもしくはポリマーB、光架橋触媒C、要すれば溶媒D、要すれば架橋剤Eを含有してなる樹脂レプリカモールド材料組成物を、シリコン基板または樹脂基板もしくは樹脂フィルムに塗布して被膜を形成する工程、該被膜に、微細パターンを表面に形成した無機材質モールド原版例えば、石英モールド原版を押し付けて転写パターンを形成する工程、該転写パターンを紫外光で露光硬化させる工程、および、モールド原版からパターン転写された樹脂レプリカモールドを離型する工程を有してなる製造方法によって、樹脂レプリカモールドを製造することができる。同様に、樹脂モールドの製造方法であって、本発明のフッ素系ポリマーA、A1またはA2例えば、3,4,5または6元の共重合体は、硬化性モノマーもしくはポリマーB、架橋触媒C、要すれば溶媒D、要すれば架橋剤Eを含有してなる樹脂モールド材料組成物を、シリコン基板または樹脂基板もしくは樹脂フィルムに塗布して被膜を形成する工程、該被膜に、微細パターンを表面に形成した前記樹脂レプリカモールドを押し付けて転写パターンを形成する工程、該転写パターンを硬化させる工程、および、モールド原版からパターン転写された樹脂モールドを離型する工程を有してなる製造方法によって、樹脂モールドを製造方法することができる。好ましくは、樹脂モールドの製造方法であって、本発明のフッ素系ポリマーA、A1またはA2例えば、3,4,5または6元の共重合体は、紫外光硬化性モノマーもしくはポリマーB、光架橋触媒C、要すれば溶媒D、要すれば架橋剤Eを含有してなる樹脂モールド材料組成物を、シリコン基板または樹脂基板もしくは樹脂フィルムに塗布して被膜を形成する工程、該被膜に、微細パターンを表面に形成した前記樹脂レプリカモールドを押し付けて転写パターンを形成する工程、該転写パターンを紫外光で露光硬化させる工程、および、モールド原版からパターン転写された樹脂モールドを離型する工程を有してなる製造方法によって、樹脂モールドを製造方法することができる。次に、本発明の樹脂モールド材料組成物を用いたインプリント法による、パターニングされたシリコン半導体基板の作製方法を説明する。本発明において、樹脂モールド材料組成物を、シリコン基板上に塗布しレジスト層とし、これに微細パターンを表面に形成した無機材質モールド原版を押し付けて微細パターンを転写する工程、該転写パターンを硬化させて微細構造パターンを有するレジスト硬化物を得る工程、パターン転写されたレジスト硬化物から微細パターンを表面に形成した無機材質モールド原版を離型する工程、レジスト硬化物層を酸素アッシングしてレジスト硬化物層の凸部パターンのみを残存させる工程、およびフッ素ガスによるエッチングにより微細構造パターンが形成されたシリコン半導体基板を得る工程を有してなる、シリコン半導体基板の製造することができる。好ましくは本発明において、樹脂モールド材料組成物を、シリコン基板上に塗布しレジスト層とし、これに微細パターンを表面に形成した無機材質モールド原版を押し付けて微細パターンを転写する工程、該転写パターンを電磁波で露光硬化させて微細構造パターンを有するレジスト硬化物を得る工程、パターン転写されたレジスト硬化物から微細パターンを表面に形成した無機材質モールド原版を離型する工程、レジスト硬化物層を酸素アッシングしてレジスト硬化物層の凸部パターンのみを残存させる工程、およびフッ素ガスによるエッチングにより微細構造パターンが形成されたシリコン半導体基板を得る工程を有してなる、シリコン半導体基板の製造することができる。以下、硬化工程で用いる架橋触媒Cについて説明する。架橋触媒Cはラジカル重合開始剤C1と酸発生剤C2が例示される。ラジカル重合開始剤C1は、熱や光によりラジカルを発生する化合物であり、ラジカル熱重合開始剤およびラジカル光重合開始剤が挙げられる。本発明では、ラジカル光重合開始剤が好ましい。ラジカル熱重合開始剤の例としては、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、ジ-t-ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド類、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス4-t-ブチルシクロヘキシルパーオキシジカーボネート等のパーオキシカーボネート類、t-ブチルパーオキシオクトエート、t-ブチルパーオキシベンゾエート等のアルキルパーエステル類等のパーオキシド化合物、並びに、アゾビスイソブチロニトリルのようなラジカル発生性アゾ化合物が挙げられる。光ラジカル重合開始剤としては、本発明では、以下に例示する光重合開始剤を用いることが好ましい。酸発生剤AcidgeneratorC2は熱や光を加えることによって反応し酸を発生する材料である。熱酸発生剤としては、例えば、ベンゾイントシレート、ニトロベンジルトシレート特に、4-ニトロベンジルトシレート、および他の有機スルホン酸のアルキルエステル等が挙げられるが、本発明では、以下に示す光酸発生剤PhotochemicalacidgeneratorC2を用いることが好ましい。光酸発生剤は、光を吸収する発色団と分解後に酸となる酸前駆体より構成されており、このような構造のPAGに特定波長の光を照射することで、PAGが励起し酸前駆体部分から酸を発生する。以下、光架橋触媒Cおよび光酸発生剤について詳しく説明する。次に、好ましい態様である露光硬化工程で用いる光架橋触媒Cについて説明する。光架橋触媒Cはラジカル光重合開始剤C1と光酸発生剤C2が例示される。ラジカル光重合開始剤C1は、光によりラジカルを発生する化合物であり、例えば、ベンジル、ジアセチル等のα-ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、チオキサントン-4-スルホン酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、アセトフェノン、2-4-トルエンスルホニルオキシ-2-フェニルアセトフェノン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、2,2’-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、p-メトキシアセトフェノン、2-メチル[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノ-1-プロパノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、1,4-ナフトキノン等のキノン類、2-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸n-ブトキシエチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4-ジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ-t-ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。フッ素系ポリマー中にエポキシ基含有モノマーa4-1が含有される場合は、ラジカル光重合開始剤C1として特開200376012公報に記載されるキノンジアジド基含有化合物を用いても良い。ラジカル光重合開始剤C1の市販品としては、IRGACURE651:22ジメトキシ12ジフェニルエタン1オン、IRGACURE184:1ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、IRGACURE2959:14フェニル2ヒドロキシ2メチル1プロパン1オン、IRGACURE127:2ヒロドキシ144ベンジルフェニル2メチルプロパン1オン、IRGACURE907:2メチル12モルフォリノプロパン1オン、IRGACURE369:2ベンジル2ジメチルアミノ14モルフォリノフェニルブタノン1、IRGACURE379:22メチル14フェニル1ブタノン、IRGACURE819:ビスフェニルフォスフィンオキサイド、IRGACURE784:ビスビスフェニルチタニウム、IRGACUREOXE01:12オクタンジオン142、IRGACUREOXE02:エタノン19エチル69Hカルバゾール3イル1、IRGACURE261、IRGACURE369、IRGACURE500、DAROCUR1173:2ヒドロキシ2メチル1フェニルプロパン1オン、DAROCURTPO:246トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、DAROCUR1116、DAROCUR2959、DAROCUR1664、DAROCUR4043、IRGACURE754オキシフェニル酢酸:22オキソ2フェニルアセトキシエトキシエチルエステルとオキシフェニル酢酸、2エチルエステルの混合物、IRGACURE500:IRGACURE184ベンゾフェノン11の混合物、IRGACURE1300:IRGACURE369IRGACURE65137の混合物、IRGACURE1800:CGI403IRGACURE18413の混合物、IRGACURE1870:CGI403IRGACURE18473の混合物、DAROCUR4265:DAROCURTPODAROCUR117311の混合物などが例示される。ここでIRGACUREはチバスペシャルティケミカルズ製、DAROCURはメルクジャパン製である。また、増感剤として、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどを、重合促進剤として、DAROCUREDBエチル4ジメチルアミノベンゾエート、DAROCUREHA2エチルヘキシル4ジメチルアミノベンゾエートなどを併用しても良い。光酸発生剤PhotochemicalacidgeneratorC2は光をあてることによって反応し酸を発生する材料である。PAGは、光を吸収する発色団と分解後に酸となる酸前駆体より構成されており、このような構造のPAGに特定波長の光を照射することで、PAGが励起し酸前駆体部分から酸を発生する。PAGは、例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、CF3SO3、p-CH3PhSO3、p-NO2PhSO3ただし、phはフェニル基等の塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン-ジアジドスルホニルクロリド、またはスルホン酸エステル等を挙げることができる。前記有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸例えば、塩化水素を形成する化合物である。前記の他の光の照射により酸を発生する化合物は、例えば、2-ハロメチル-5-ビニル-1,3,4-オキサジアゾール化合物、2-トリハロメチル-5-アリール-1,3,4-オキサジアゾール化合物、2-トリハロメチル-5-ヒドロキシフェニル-1,3,4-オキサジアゾール化合物である。PAGC2の市販品を以下に例示する。和光純薬製のWPAG-145Bisdiazomethane、WPAG-170Bisdiazomethane、WPAG-199Bisdiazomethane、WPAG-281Triphenylsulfoniumtrifluoromethanesulfonate、WPAG-336Diphenyl-4-methylphenylsulfoniumtrifluoromethanesulfonate、WPAG-367Diphenyl-246-trimethylphenylsulfoniump-toluenesulfonate、チバスペシャルティケミカルズ製のIRGACUREPAG103[acetonitrile]、IRGACUREPAG108[acetonitrile]、IRGACUREPAG121[acetonitrile]、IRGACUREPAG203、CGI725、三和ケミカル製のTFEtriazine[22ethenyl46bisstriazine]、TMEtriazine[22ethenyl46bisstriazine]MPtriazine[246bisstriazine]、dimethoxy[22ethenyl46bisstriazine]などを使用することができる。架橋触媒Cの量は、フッ素系ポリマー、または、フッ素系ポリマーと架橋剤の合計100重量部に対して、0.1~20重量部、特に1~10重量部であることが好ましい。次に、溶媒Dについて説明する。本発明の樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料組成物には必要に応じて溶媒特に、水溶性有機溶媒、有機溶媒特に、油溶性有機溶媒、水を加えても良い。同じ種類の溶媒がフッ素系ポリマーを製造するためにも用いられる。溶媒は、フッ素系ポリマーAに不活性でこれを溶解するものである。溶媒の例は、水溶性有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、酢酸エチル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジアセテート、トリプロピレングリコール、3-メトキシブチルアセテートMBA、1,3-ブチレングリコールジアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、カルビトールアセテート、乳酸エチル、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノールなどが、有機溶媒としては、クロロホルム、HFC141b、HCHC225、ハイドロフルオロエーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、石油エーテル、テトラヒドロフラン、14-ジオキサン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル、1122-テトラクロロエタン、111-トリクロロエタン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、テトラクロロジフルオロエタン、トリクロロトリフルオロエタンなどが挙げられる。これらの溶媒は単独で使用しても2種以上を混合しても良い。溶媒はフッ素系ポリマーおよびレジスト構成原料の溶解性、安全性の観点から、特にPGMEAとMBAが好ましい。溶媒は樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料組成物中に、30~95重量、例えば50~90重量の範囲で用いられることが好ましい。架橋剤成分Eについて説明する。架橋剤は単官能、または、好ましくは二個以上の官能基を有する化合物であり、ラジカル重合反応により硬化するタイプが好ましく、カチオン重合反応により硬化するタイプであっても良い。前者は不飽和二重結合基であるアクリロイル基やビニル基が官能基であり、後者はエポキシ基、ビニルエーテル基、オキセタン基が官能基となり、ウレタンメタアクリレートエポキシメタアクリレートポリエステルメタアクリレートポリエーテルアクリレートシリコーンアクリレートアクリレートモノマーエポキシ系モノマービニルエーテル系モノマーオキセタン系モノマーに分類される。~がラジカル重合反応で硬化するタイプであり、~はカチオン重合反応により硬化するタイプである。~は樹脂にアクリロイル基を付加したものであり、オリゴマー、ベースレジン、プレポリマーなどと表現されることが多い。ウレタンメタアクリレートは分子中にウレタン結合とアクリロイル基を有するものであり、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートジアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリアクリレートに代表されるポリメタアクリロイルオキシアルキルイソシアヌレートなどが例示される。イソシアヌレートは三官能のイソシアネート化合物であり、このうち一つのイソシアネートが、アルキル基炭素数1~20またはフルオロアルキル基炭素数1~6またはパーフルオロポリエーテル基分子量1,000~50,000と水酸基を一分子中に含有する化合物と、ウレタン結合を形成していても良い。エポキシメタアクリレートはエポキシ基にアクリロイル基を付加したものであり、出発原料としてビスフェノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック、脂環化合物を用いたものが一般的である。ポリエステルメタアクリレートは多価アルコールと多塩基酸からなるエステル樹脂にアクリレートを付加したものである。多価アルコールは、エチレングリコール、14ブタンジオール、16ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどであり、多塩基酸は、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、トリメリット酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸、アルケニルコハク酸などである。ポリエーテルアクリレートはジオールのポリエーテル樹脂にアクリレートを付加したものであり、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールジアクリレートなどが例示される。シリコーンアクリレートは、分子量1000~10000のジメチルポリシロキサンの片末端、あるいは、両末端をメタアクリロイル基で変性したものであり、例えば、前記の式1~3が例示される。アクリレートモノマーは、単官能あるいは多官能のアルキルアクリレートや、500mPas25°C以下の低粘度ポリエーテルアクリレートであり、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレート、n-ペンチルメタアクリレート、3-メチルブチルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、2-エチル-n-ヘキシルメタアクリレート、n-オクチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、5-ヒドロキシペンチルメタアクリレート、6-ヒドロキシヘキシルメタアクリレート、4-ヒドロキシシクロヘキシルメタアクリレート、ネオペンチルグリコールモノメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、1,1-ジメチル-3-オキソブチルメタアクリルレート、2-アセトアセトキシエチルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、ネオペンチルグリコールモノメタアクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、グリセリンモノメタアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、16ヘキサンジオールジアクリレート、19ノナンジオールジアクリレート、110デカンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどが例示される。エポキシ系モノマーは、ビスフェノールA、ビスフェノールF、レゾルシノール、フェノールノボラック、クレゾールノボラックなどのフェノール類のグリシジルエーテル;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのアルコール類のグリシジルエーテル;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸などのカルボン酸のグリシジルエステル等のエポキシモノマーやこれらのオリゴマーもしくは脂環型エポキシドを挙げることができる。中でも、ビスフェノールAグリシジルエーテルモノマーもしくはオリゴマーを好ましく使用できる。具体的には、油化シェル社製造のエピコート828分子量380、エピコート834分子量470、エピコート1001分子量900、エピコート1002分子量1,060、エピコート1055分子量1,350、エピコート1007分子量2,900などが例示される。ビニルエーテル系モノマーは、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、シス-1,1,3-トリメチル-5-ビニルオキシシクロヘキサン、トランス-1,1,3-トリメチル-5-ビニルオキシシクロヘキサン、1-イソプロピル-4-メチル-2-ビニルオキシシクロヘキサン、2-ビニルオキシ-7-オキサビシクロ[3.2.1]オクタン-6-オン、2-メチル-2-ビニルオキシアダマンタン、2-エチル-2-ビニルオキシアダマンタン、1,3-ビスビニルオキシアダマンタン、1-ビニルオキシアダマンタノール、3-ビニルオキシ-1-アダマンタノール、1,3,5-トリスビニルオキシアダマンタン、3,5-ビスビニルオキシ-1-アダマンタノール、5-ビニルオキシ-1,3-アダマンタンジオール、1,3,5,7-テトラキスビニルオキシアダマンタン、3,5,7-トリスビニルオキシ-1-アダマンタノール、5,7-ビスビニルオキシ-1,3-アダマンタンジオール、7-ビニルオキシ-1,3,5-アダマンタントリオール、1,3-ジメチル-5-ビニルオキシアダマンタン、1,3-ジメチル-5,7-ビスビニルオキシアダマンタン、3,5-ジメチル-7-ビニルオキシ-1-アダマンタノール、1-カルボキシ-3-ビニルオキシアダマンタン、1-アミノ-3-ビニルオキシアダマンタン、1-ニトロ-3-ビニルオキシアダマンタン、1-スルホ-3-ビニルオキシアダマンタン、1-t-ブチルオキシカルボニル-3-ビニルオキシアダマンタン、4-オキソ-1-ビニルオキシアダマンタン、1-ビニルオキシ-3-1-メチル-1-ビニルオキシエチルアダマンタン、1-ビニルオキシメチルアダマンタン、1-1-メチル-1-ビニルオキシエチルアダマンタン、1-1-エチル-1-ビニルオキシエチルアダマンタン、1,3-ビス1-メチル-1-ビニルオキシエチルアダマンタン、1-1-ノルボルナン-2-イル-1-ビニルオキシエチルアダマンタン、2,5-ビスビニルオキシノルボルナン、2,3-ビスビニルオキシノルボルナン、5-メトキシカルボニル-2-ビニルオキシノルボルナン、2-1-ノルボルナン-2-イル-1-ビニルオキシエチルノルボルナン、2-ビニルオキシメチルノルボルナン、2-1-メチル-1-ビニルオキシエチルノルボルナン、2-1-メチル-1-ビニルオキシペンチルノルボルナン、3-ヒドロキシ-4-ビニルオキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、3,4-ビスビニルオキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、3-ヒドロキシ-8-ビニルオキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、3,8-ビスビニルオキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、3-メトキシカルボニル-8-ビニルオキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、3-メトキシカルボニル-9--ビニルオキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、3-ビニルオキシメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、3-ヒドロキシメチル-8-ビニルオキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、3-ヒドロキシメチル-9-ビニルオキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、8-ヒドロキシ-3-ビニルオキシメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、9-ヒドロキシ-3-ビニルオキシメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、8-ビニルオキシ-4-オキサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-3,5-ジオン、4-ビニルオキシ-11-オキサペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン-10,12-ジオン、α-ビニルオキシ-γ,γ-ジメチル-γ-ブチロラクトン、α,γ,γ-トリメチル-α-ビニルオキシ-γ-ブチロラクトン、γ,γ-ジメチル-β-メトキシカルボニル-α-ビニルオキシ-γ-ブチロラクトン、8-ビニルオキシ-4-オキサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-3-オン、9-ビニルオキシ-4-オキサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-3-オン、8,9-ビスビニルオキシ-4-オキサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-3-オン、4-ビニルオキシ-2,7-ジオキサビシクロ[3.3.0]オクタン-3,6-ジオン、5-ビニルオキシ-3-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-2-オン、5-メチル-5-ビニルオキシ-3-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-2-オン、9-メチル-5-ビニルオキシ-3-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-2-オン、6-ビニルオキシ-3-オキサトリシクロ[4.3.1.14,8]ウンデカン-2-オン、6,8-ビスビニルオキシ-3-オキサトリシクロ[4.3.1.14,8]ウンデカン-2-オン、6-ヒドロキシ-8-ビニルオキシ-3-オキサトリシクロ[4.3.1.14,8]ウンデカン-2-オン、8-ヒドロキシ-6-ビニルオキシ-3-オキサトリシクロ[4.3.1.14,8]ウンデカン-2-オン、及びこれらに対応するイソプロペニルエーテル類などが例示される。オキセタン系モノマーは、14ビスメトキシエチルベンゼン東亞合成製アロンオキセタンOXT121、3エチル3ヒドロキシメチルオキセタン東亞合成製アロンオキセタンOXT101などが例示される。本発明では、架橋触媒Cとして酸発生剤C2を用いる場合は、架橋剤に酸架橋剤を用いても良い。酸架橋剤は、一分子中に酸性基と架橋する複数例えば2~10の反応基例えば、カルボン酸、水酸基、アミノ基、イソシアネート基、Nメチロール基、アルキルエーテル化したNメチロール基、エポキシ基などを有する化合物、あるいは、酢酸の多価金属塩であり、アミノ樹脂、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、酢酸アルミニウムなどが例示される。アミノ樹脂としては、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、尿素系化合物等のアミノ基の一部もしくはすべてをヒドロキシメチル化した化合物、または該ヒドロキシメチル化した化合物の水酸基の一部もしくはすべてをメタノール、エタノール、n-ブチルアルコール、2-メチル-1-プロパノール等でエーテル化した化合物、例えば、ヘキサメトキシメチルメチロールメラミンであり、日本サイテックインダストリーズ製のアルキル型、メチロール型、イミノ型の各種アミノ樹脂などが挙げられる。エポキシ化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル類、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス2,3-エポキシシクロペンチルエーテルなどの脂環式エポキシ樹脂、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート等のグリシジルエステル類、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール等のグリシジルアミン類、トリグリシジルイソシアヌレートなどの複素環式エポキシ樹脂などが挙げられる。オキサゾリン化合物としては、2-ビニル-2-オキサゾリン、2-ビニル-4-メチル-2-オキサゾリン、2-ビニル-5-メチル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-4-メチル-2-オキサゾリン等の重合性単量体の共重合体を挙げることができる。本発明では、酸架橋剤を熱架橋剤として用いても良い。熱架橋剤とはポストベーク時に膜の架橋性を向上させる目的で配合される架橋剤である。熱架橋剤の架橋密度を向上させるためにクロトン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸およびケイ皮酸のような酸無水物を併用しても良い。本発明の架橋剤に14ビスブタン、ペンタエリスリトールテトラキスのような多感能チオールを併用すると、硬化速度が向上する。多感能チオールの量は、たとえば、架橋剤100重量部に対して0.1~20重量部、例えば1~10重量部であってよい。本発明の架橋剤は炭化水素基の一部または全部の水素がフッ素に置換されていても良い。非フッ素系の架橋剤はフッ素系ポリマーよりも表面に偏析しにくいので、フッ素系ポリマーの下に存在し最表面のフッ素系ポリマーと十分に架橋できないことがある。このことが現像後の撥液性に悪影響を及ぼすことがある。架橋剤もフッ素系にすることで、表面にフッ素系ポリマーと架橋剤が共存し、最表面で架橋でき、現像時の溶解を防止できる効果がある。架橋剤の量は、フッ素系ポリマーA100重量部に対して、1~100重量部、特に1~20重量部であることが好ましい。本発明の樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料組成物には必要に応じて炭素数8~12のフルオロアルキル基例えば、パーフルオロアルキル基を有するモノマー例えば、パーフルオロオクチルエチルアクリレートなどのフルオロアルキルメタアクリレート、および、このモノマーを繰り返し単位とするポリマーを配合しても良い。フルオロアルキル基を有するモノマーは、Rfの炭素数が8~12であり、Xが水素原子またはメチル基Xはα置換されていてもよい。である前記一般式Iで示されるフルオロアルキルメタアクリレートであることが好ましい。炭素数8~12のフルオロアルキル基を有するモノマー、および、ポリマーの量は、フッ素系ポリマーA100重量部に対して、20重量部以下、例えば1~10重量部、特に1~5重量部であってよい。本発明の樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料組成物には必要に応じて酸捕捉剤を添加することにより、膜中で酸発生剤から発生した酸の拡散を制御しても良い。酸捕捉剤としては、塩基性化合物が好ましく、アミン特に、有機アミン、塩基性のアンモニウム塩、塩基性のスルホニウム塩などが用いられる。昇華やレジスト性能を劣化させないものであればよい。これらの酸捕捉剤の中でも、有機アミンが画像性能が優れる点で好ましい。酸捕捉剤の具体例としては、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、4-ジメチルアミノピリジン、1-ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ピリジニウムp-トルエンスルホナート、2,4,6-トリメチルピリジニウムp-トルエンスルホナート、テトラメチルアンモニウムp-トルエンスルホナート、及びテトラブチルアンモニウムラクテート、トリエチルアミン、トリブチルアミン等が挙げられる。これらの中でも、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、4-ジメチルアミノピリジン、1-ナフチルアミン、ピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の有機アミンが好ましい。酸捕捉剤の量は、酸発生剤C2100重量部に対して、20重量部以下、例えば0.1~10重量部、特に0.5~5重量部であってよい。本発明の樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料組成物には必要に応じてその他の各種添加剤が用いられる。例えば、モールド表面の平滑性を向上させるためのフッ素系、シリコーン系、炭化水素系界面活性剤や、モールド表面の基材への密着性を向上させるためのシランカップリング剤やチタネートカップリング剤、その他、暗反応抑制のための熱重合禁止剤や紫外線吸収剤、酸化防止剤、消泡剤などが挙げられる。これらの添加剤の量は、樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド材料固形分100重量部に対して、30重量部以下、例えば0.01~20重量部、特に0.1~10重量部であってよい。本発明の基板に用いる基材は、シリコンウエハー、合成樹脂、ガラス、金属、セラミックなどである。合成樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれでもよく、例えば、ポリエチレン、ポロプロピレン、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体EVA等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ-4-メチルペンテン-1、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル-スチレン共重合体AS樹脂、ブタジエン-スチレン共重合体、エチレン-ビニルアルコール共重合体EVOH、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリプチレンテレフタレートPBT、ポリシクロヘキサンテレフタレートPCT等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトンPEK、ポリエーテルエーテルケトンPEEK、ポリエーテルイミド、ポリアセタールPOM、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル液晶ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エボキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて例えば2層以上の積層体として用いることができる。合成樹脂製の基板を用いれば、軽量、透明、安価、曲げられるなどの特徴を基板に付与できる。ガラスとしては、例えば、ケイ酸ガラス石英ガラス、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリ石灰ガラス、鉛アルカリガラス、バリウムガラス、ホウケイ酸ガラス等が挙げられる。金属としては、金、銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウム、白金等が挙げられる。セラミックとしては、酸化物例えば、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ケイ素、ジルコニア、チタン酸バリウム、窒化物例えば、窒化ケイ素、窒化ホウ素、硫化物例えば、硫化カドミウム、炭化物例えば、炭化ケイ素等が挙げられ、これらの混合物を使用して良い。いずれの基板を用いる場合でも、プラズマ処理やUVオゾン処理などの前処理を行っても良い。これらの前処理により、基板表面に親液性の官能基例えば、OH基、COOH基、NH基を導入できる。本発明により形成された樹脂モールドやパターニングされた基板は、電子、光学、医療、化学分析などの幅広い用途のデバイスに用いることが可能である。例えば、電子デバイスとしては、トランジスタ、メモリ、発光ダイオードEL、レーザー、太陽電池などの集積回路に利用できる。またモスアイ構造反射防止フィルム、太陽光集光フィルム、液晶偏光板など規則的な凹凸構造を持ったフィルムが製造できる。これらのデバイスからフレキシブルディスプレイ、無線タグ、ウエアラブルなコンピュータなどが製造される。また、光学デバイスとしては、液晶ディスプレイのカラーフィルタや有機ELなどのディスプレイ用画素、光メモリ、光変調素子、光シャッター、第二次高調波SHG素子、偏光素子、フォトニッククリスタル、レンズアレイなどに、磁気デバイスとしては次世代ハードディスクドライブディスクリートトラック、次次世代ハードディスクドライブパターンドメディア、医療デバイスとしては、DNAアレイ、タンパク質アレイなどのバイオチップなどに利用できる。化学分析デバイスとしては、微小化学プラント、微小化学分析システムなどのマイクロ化学チップに利用できる。以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。静的接触角と転落角は全自動接触角計DropMaster700協和界面科学製を用いて次の方法で測定した。<静的接触角と転落角の測定>静的接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水、nヘキサデカンまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEAを2μL滴下し、滴下1秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。また、転落角は以下の方法で求めた。水平に置いた基板にマイクロシリンジから、水の場合は20μL、nヘキサデカンとPGMEAの場合は5μL滴下し、基板を毎秒2°の速度で傾斜させ、液滴が転落し始めるまでを、ビデオマイクロスコープで動画として記録した。その動画を再生し、液滴が転落し始める角度を転落角とした。表1に示す製造例のポリマーを合成した。以下に詳しい合成方法を説明する。製造例1RfαClアクリレート/MAA/iBMA=60/15/25重量比共重合体還流冷却管、窒素導入管、温度計、撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中にフルオロアクリレートCH2=CClCOO-CH2CH2C4F9略称RfαClアクリレート144g、メタクリル酸略称MAA36g、イソボルニルメタクリレート略称iBMA60g、ラウリルメルカプタン略称LSH22.2gおよび溶媒のPGMEAプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート490gを入れ、70°Cに加熱後、30分間窒素気流下で撹拌した。これに22アゾビスイソブチロニトリル略称AIBN1.8gを添加し、18時間重合した。反応液中に残存するαClモノマーをガスクロマトグラフィーで分析することより、転化率が95以上であることを確認した。得られた反応液をヘキサンで沈殿、真空乾燥して、フッ素系ポリマーを単離した。得られたフッ素系ポリマーの分子量をGPCで測定すると、重量平均分子量は5,000であった。製造例2RfαClアクリレート/MAA/iBMA/GMA=60/15/15/10重量比共重合体還流冷却管、窒素導入管、温度計、撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中にRfαClアクリレート78g、MAA19.5g、iBMA19.5g、グリシジルメタクリレート略称GMA13g、LSH12.7g、PGMEA266gを入れ、70°Cに加熱後、30分間窒素気流下で撹拌した。これにAIBN1gを添加し、18時間重合した。反応液中に残存するαClモノマーをガスクロマトグラフィーで分析することより、転化率が95以上であることを確認した。重合後のポリマー溶液2gをアルミカップに秤量し、130°Cで2時間乾燥した後の蒸発残分から固形分濃度を測定すると33重量であった。得られた反応液をヘキサンで沈殿、真空乾燥して、フッ素系ポリマーを単離した。得られたフッ素系ポリマーの分子量をGPCで測定すると、重量平均分子量は7,500であった。製造例3RfαClアクリレート/MAA/iBMA/HEMA=60/15/15/10重量比共重合体還流冷却管、窒素導入管、温度計、撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中にRfαClアクリレート36g、MAA9g、iBMA9g、2-ヒドロキシエチルメタクリレート略称HEMA6g、LSH5.9g、PGMEA123gを入れ、70°Cに加熱後、30分間窒素気流下で撹拌した。これにAIBN0.5gを添加し、18時間重合した。反応液中に残存するαClモノマーをガスクロマトグラフィーで分析することより、転化率が95以上であることを確認した。固形分濃度を測定すると33重量であった。得られた反応液をヘキサンで沈殿、真空乾燥して、フッ素系ポリマーを単離した。得られたフッ素系ポリマーの分子量をGPCで測定すると、重量平均分子量は7,700であった。製造例4RfαClアクリレート/MAA/iBMA/HEMAAOI=60/15/15/10重量比共重合体還流冷却管、窒素導入管、温度計、撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中に、反応上がりの製造例3のRfαClアクリレート/MAA/iBMA/HEMA=60/15/15/10重量比共重合体溶液100gHEMAに由来する水酸基を25.4mmol含有、2-イソシアナトエチルアクリレート昭和電工製カレンズAOI、略称AOI3.58g共重合体の水酸基に対して0.9等量、全組成物に対して50ppm重量のヒドロキノンモノメチルエーテル重合禁止剤を入れ、窒素気流下で45°C1時間反応無触媒することによりフッ素系ポリマー中に不飽和基を導入した。反応液中の残存AOIをガスクロマトグラフィーで分析することより、転化率が95以上であることを確認した。反応液を二日間、室温放置して、溶媒不溶分を沈殿させた後、濾過した。得られた反応液をヘキサンで沈殿、真空乾燥して、フッ素系ポリマーを単離した。得られたフッ素系ポリマーの分子量をGPCで測定すると、重量平均分子量は8,000であった。製造例5RfαClアクリレート/MAA/GMA/HEMA=60/15/5/20重量比共重合体還流冷却管、窒素導入管、温度計、撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中にRfαClアクリレート36g、MAA9g、GMA3g、HEMA12g、LSH6.5g、PGMEA124gを入れ、70°Cに加熱後、30分間窒素気流下で撹拌した。これにAIBN0.5gを添加し、18時間重合した。反応液中に残存するαClモノマーをガスクロマトグラフィーで分析することより、転化率が95以上であることを確認した。固形分濃度を測定すると33重量であった。得られた反応液をヘキサンで沈殿、真空乾燥して、フッ素系ポリマーを単離した。得られたフッ素系ポリマーの分子量をGPCで測定すると、重量平均分子量は9,100であった。製造例6RfαClアクリレート/MAA/GMA/HEMA/HEMAAOI=60/15/5/10/10重量比共重合体還流冷却管、窒素導入管、温度計、撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中に、反応上がりの製造例5のRfαClアクリレート/MAA/GMA/HEMA=60/15/5/20重量比共重合体溶液133.6g、AOI4.80g、全組成物に対して50ppm重量のヒドロキノンモノメチルエーテル重合禁止剤を入れ、窒素気流下で45°C1時間反応無触媒することにより無触媒でフッ素系ポリマー中に不飽和基を導入した。この製造方法ではスズ系の触媒を添加しなくとも容易に反応が進行する。反応液中の残存AOIをガスクロマトグラフィーで分析することより、転化率が95以上であることを確認した。得られた反応液をヘキサンで沈殿、真空乾燥して、フッ素系ポリマーを単離した。得られたフッ素系ポリマーの分子量をGPCで測定すると、重量平均分子量は19,000であった。製造例7RfαClアクリレート/iBMA/GMA/HEMA=60/15/15/10重量比共重合体還流冷却管、窒素導入管、温度計、撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中にRfαClアクリレート78g、iBMA19.5g、GMA13g、HEMA13g、LSH12.7g、PGMEA266gを入れ、70°Cに加熱後、30分間窒素気流下で撹拌した。これにAIBN1gを添加し、18時間重合した。反応液中に残存するαClモノマーをガスクロマトグラフィーで分析することより、転化率が95以上であることを確認した。重合後のポリマー溶液2gをアルミカップに秤量し、130°Cで2時間乾燥した後の蒸発残分から固形分濃度を測定すると33重量であった。得られた反応液をヘキサンで沈殿、真空乾燥して、フッ素系ポリマーを単離した。得られたフッ素系ポリマーの分子量をGPCで測定すると、重量平均分子量は8,400であった。製造例8RfαClアクリレート/GMA/HEMA=60/5/35重量比共重合体還流冷却管、窒素導入管、温度計、撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中にRfαClアクリレート52g、GMA4.3g、HEMA30.3g、LSH8.5g、PGMEA177gを入れ、70°Cに加熱後、30分間窒素気流下で撹拌した。これにAIBN0.7gを添加し、18時間重合した。反応液中に残存するαClモノマーをガスクロマトグラフィーで分析することより、転化率が95以上であることを確認した。重合後のポリマー溶液2gをアルミカップに秤量し、130°Cで2時間乾燥した後の蒸発残分から固形分濃度を測定すると33重量であった。得られた反応液をヘキサンで沈殿、真空乾燥して、フッ素系ポリマーを単離した。得られたフッ素系ポリマーの分子量をGPCで測定すると、重量平均分子量は7,700であった。製造例9~11表1に示したように、製造例1~7の各モノマーの比率を変えた以外は製造例1~7と同様に実施して製造例9~11とした。LSHおよびAIBNはそれぞれ10molおよび1mol配合したいずれも対モノマー濃度。得られたポリマーの組成を、製造例1~8の結果と共に、表1に示した。製造例12~16表1に示したように、製造例7~11のRfαClアクリレートをパーフルオロヘキシルエチルメタクリレート略称Rfメタクリレートに置き換えた以外は製造例7~11と同様に実施して製造例12~16とした。LSHおよびAIBNはそれぞれ10molおよび1mol配合したいずれも対モノマー濃度。製造例12~16のポリマー組成を表1に示した。製造例17、18製造例7および8の共重合溶液中のHEMAに対して0.25重量のAOIを添加して製造例7および8と同様に実施して、製造例17および18とした。製造例17~18のポリマー組成を表1に示した。表1mass:ポリマー中の各共重合成分の重量を意味する。MAA:メタクリル酸iBMA:イソボルニルメタクリレートGMA:グリシジルメタクリレートHEMA:2-ヒドロキシメタクリレートAOI:2アクリロイルオキシエチルイソシアネートLSH:ラウリルメルカプタン<モールド剥離性>得られた各組成物をスライドグラスに10μl載せ、これにパターンなしモールドとして表面をフッ素系表面処理剤のオプツールDSX登録商標でフッ素コートした石英スライドグラスと処理なし石英スライドガラスを重ね、組成物をスライドグラスとモールドの間に均一に広がるように挟んだ。これに窒素雰囲気下365nmのUV光を含む光線を240mJ/cm2の強度で石英ガラス面を上面として照射し、組成物を硬化させた。スライドグラスからモールドを剥がすと硬化膜はスライドガラス上に残った。同一のモールドを用い、同じ組成物を使用し、同操作を50回繰り返した。得られたモールドの表面を解析し、モールドフッ素コートの剥がれ、モールドへの組成物の付着を観測した。付着性の判定は以下のとおり2段階評価を行った。モールドフッ素コート層の剥がれの程度:A:モールドフッ素コートの剥がれは観測されなかったB:モールドフッ素コートの剥がれが観測されたモールドへの組成物の付着の程度:a:モールドへの組成物の付着は観測されなかったb:モールドへの組成物の付着が観測された。得られた結果を表2に示す。表2表2の結果より、RfαClアクリレートを含有するポリマーは石英モールドとの離型性がRfアクリレートより優れていることが判る。またシランカップリング剤を持つパーフルオロポリエーテル例:オプツールDSXとの併用でより高い離型性を持つことが判る。"