"基板の裏面に浮上用エアを吐出するエア浮上機構を有する浮上ステージと、前記浮上ステージの基板支持面に形成された収納空間と、イオン化エアを噴出す吐出孔が複数設けられた筒状を呈し、前記収納空間に配置され基板の裏面に対してイオン化エアを吹き付けるイオナイザと、を備えることを特徴とする基板浮上装置。前記浮上ステージは、上面に形成された吐出孔から浮上用エアを吐出する矩形タイル状の浮上プレートを所定の間隙を隔てて配置した、ことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。前記浮上プレートは、所定の間隙を隔てて複数列に配列し、各列間に形成されたライン状の間隙を前記イオナイザが収納される前記収納空間として構成した、ことを特徴とする請求項2記載の基板浮上装置。前記浮上プレートは、列方向と行方向一枚置きに交互に配列し、各浮上プレートで囲まれた空間部分を前記収納空間として構成した、ことを特徴とする請求項2記載の基板浮上装置。前記浮上プレートは、互いに一部が重なるようにずらして配置される、ことを特徴とする請求項4記載の基板浮上装置。前記イオナイザは、前記ステージの幅方向に配列された前記収納部に千鳥状に交互に配置される、ことを特徴とする請求項4記載の基板浮上装置。前記浮上ステージは、前記基板を浮上した状態で搬送する基板搬送部を更に備え、前記浮上プレートの長手方向が前記基板搬送部の基板搬送方向に沿うように配列し、前記イオナイザは、前記基板搬送部の基板搬送方向に沿うように前記収納空間に配置される、ことを特徴とする請求項2または3記載の基板浮上装置。前記浮上ステージは、前記基板を浮上した状態で搬送する基板搬送部を更に備え、前記浮上プレートの長手方向が前記基板搬送部の基板搬送方向に沿うように配列し、前記イオナイザを前記基板搬送部の基板搬送方向と交差するように前記収納空間に配置する、ことを特徴とする請求項2ないし4記載の基板浮上装置。前記浮上ステージは、前記基板と同等の大きさの一枚の浮上プレートにより構成し、前記浮上ステージに前記イオナイザを埋設できる深さの放射状溝、格子状溝または環状溝形成したこの溝を前記収納空間として構成したことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。前記浮上ステージは、前記基板を浮上した状態で搬送する基板搬送部を更に備え、前記収納空間は、前記基板搬送部の搬送方向に対して直交又は傾斜させて設けられる、ことを特徴とする請求項1または2記載の基板浮上装置。前記浮上ステージは、前記基板を浮上した状態で搬送する基板搬送部を更に備え、前記収納空間は、前記浮上ステージと本基板浮上装置に連結される搬送ラインとの連結部分に設けられる、ことを特徴とする請求項1または2記載の基板浮上装置。前記浮上ステージは、前記基板を浮上した状態で搬送する基板搬送部を更に備え、前記浮上ステージは、前記基板の処理領域の全域に亘って前記基板を一定に高さで水平に浮上させる精密浮上用プレートと、前記処理領域を挟んで両側に配置され、上面に形成された吐出孔から浮上用エアを吐出する搬送浮上用プレートとを有し、前記精密浮上用プレートと前記搬送浮上用プレートの連結部分に前記イオナイザを収納する前記収納空間を設け、前記イオナイザは、前記収納空間に前記基板搬送部の搬送方向と交差するように配置される、ことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。前記浮上ステージは、前記基板を浮上した状態で搬送する基板搬送部を更に備え、前記浮上ステージは、前記基板の処理領域の全域に亘って前記基板を一定に高さで水平に浮上させる精密浮上用プレートを有し、前記精密浮上用プレートに前記基板搬送部の搬送方向と交差する方向に透過照明用の空隙を形成し、この空隙を前記収納空間として兼用する、ことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。前記基板搬送部の搬送方向と交差する方向に形成された前記収納空間に沿って前記基板の裏面を浮上高さに規制するローラを配置することを特徴とする請求項10ないし13記載の基板浮上装置。前記基板搬送部の搬送方向と交差する方向に形成された前記収納空間に前記イオナイザを複数に分割して配列する、ことを特徴とする請求項10ないし13記載の基板浮上装置。しかしながら、上記特許文献1及び2に記載されるように浮上用エアの供給流路にイオナイザを配置すると、発生したイオン化エアが配管チャンバーといった経路を通過する際に中和或いは減衰するため、イオン化エアがガラス基板に到達する前に除電効率が低下するという問題がある。更には、イオナイザは、定期的な電極等のメンテナンスを要するため、上記特許文献1及び2に記載されるように浮上用エアの供給流路内にイオナイザを配置すると、メンテナンス性が悪いという問題もある。本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、メンテナンス性を悪化させずに基板の除電効率を高めることができる基板浮上装置を提供する。本発明の基板浮上装置は、基板の裏面に浮上用エアを吐出するエア浮上機構を有する浮上ステージと、前記浮上ステージの基板支持面に形成された収納空間と、イオン化エアを噴出す吐出孔が複数設けられた筒状を呈し、前記収納空間に配置され基板の裏面に対してイオン化エアを吹き付けるイオナイザと、を備える。本発明によれば、メンテナンス性を悪化させずに基板の除電効率を高めることができる。以下、本発明の第1実施形態~第4実施形態に係る基板浮上装置について、図面を参照しながら説明する。<第1実施形態>図1及び図2は、本発明の第1実施形態に係る基板浮上装置2を備える基板処理装置1を示す要部平面図及び要部左側面図である。基板処理装置1は、フラットパネルディスプレイFPDの製造ラインで製造される矩形状のガラス基板マザーガラス基板Sを浮上させ搬送方向に搬送する基板浮上装置2と、搬送方向と直交する方向に設けられた処理領域にてガラス基板Sに対して検査、修正、パターン転写などの処理を行う基板処理部を備えている。本実施形態では、基板処理部としてガラス基板S上の欠陥を検査する基板検査部を備えている。基板浮上装置2は、例えばガラス基板Sの裏面に浮上用エアを吐出するエア浮上機構を有する浮上ステージ2aと、浮上ステージ2a上に浮上したガラス基板Sを保持して搬送方向に搬送する基板搬送部2bと、浮上ステージ2aの基板支持面となる基板搬送面に形成された収納空間2cと、この収納空間2cに収納されガラス基板Sの裏面に向けてイオン化エアを吹き付けるイオナイザ3とを備える。また、基板検査部は、本実施形態では、ガラス基板Sを検査する検査ヘッド4二点鎖線で図示、浮上ステージ2aを跨ぐように配置された門型のガントリ二点鎖線で図示5を備える。また浮上ステージ2aには、ガラス基板Sの端部又は中央部を吸着保持して搬送する基板搬送部2bと、ガラス基板Sを基準位置に位置決めする位置決め手段等を備える。本実施形態では、基板搬送部2bの一例として、矩形状に形成されたガラス基板Sの搬送方向と平行な1辺を保持する一例を示す。なお、本実施形態の基板搬送部2bは、搬送ロボット等により浮上ステージ2aの搬入位置に搬入されたガラス基板S図1に示す位置のガラス基板Sの一辺を吸着保持し、浮上ステージ2aに沿って設けられたガイドレールに沿って移動し、浮上したガラス基板Sの処理領域となる基板検査領域Rに1回又は複数回往復移動させて検査ヘッド4による検査を行わせ、この検査終了後にガラス基板Sを再び搬入位置と同一位置である搬出位置に搬送する。基板搬送部2bにより搬出位置に戻されたガラス基板Sは、搬送ロボット等により浮上ステージ2a上から搬出される。浮上ステージ2aは、上面に形成された吐出孔から浮上用エアを吐出する矩形タイル状の複数の搬送浮上用プレート2a-1のほか、本実施形態では、基板検査領域処理領域Rの全域に亘ってガラス基板Sを一定高さで水平に浮上させる精密浮上用プレート2a-2が配置されている。搬送浮上用プレート2a-1は、基板検査領域Rを挟んで基板搬送方向Y軸方向の両側のそれぞれにおいてにステージ幅方向X軸方向に所定の間隙を隔てて複数列に配置される。各列に配置される複数の搬送浮上用プレート2a-1は、基板搬送方向Y軸方向に密接して直線状に配置されている。各列の搬送浮上用プレート2a-1は、精密浮上用プレート2a-2との間に隙間がないように密接して配置されることが好ましい。精密浮上用プレート2a-2は、基板検査領域Rを挟んで2つ配置され、ステージ幅方向X軸方向の長さが基板検査領域Rと同一となっている。本実施形態では、基板検査領域処理領域Rが直線状に貫通した空隙に構成されている。この空隙には、ガラス基板Sの裏面側から照明光を照射させる透過照明用光源が配置される。この空隙は、イオナイザ3を収納するライン状の収納空間として利用することが可能で、透過照明用光源の透過照明ラインと干渉しないように透過照明ラインに沿ってイオナイザ3を設けることができる。この空隙の両側には、精密浮上用プレート2a-2が対向して配置されている。この場合、一対の精密浮上用プレート2a-2には、透過照明用の空隙に沿ってガラス基板Sの裏面を浮上高さに規制するローラを配置することが望ましい。このローラにより浮上圧が低下する透過照明用の空隙を通過するガラス基板Sを下側から支えることにより、ガラス基板Sの搬送先端部が精密浮上用プレート2a-2に衝突することを防止できる。精密浮上用プレート2a-2は、ガラス基板Sの浮上高さを高精度に制御可能であれば搬送浮上用プレート2a-1をステージ幅方向に隙間なく複数配列させたものでもよい。この精密浮上用プレート2a-2は、搬送浮上用プレート2a-1のようにステージ幅方向X軸方向に所定の間隙を隔てない分、単位面積当たりの浮上用エアの吐出量が搬送浮上用プレート2a-1と同程度でも、ガラス基板Sを精密に浮上させることができる。また、検査、修正、パターン転写などの処理を行う処理領域が平らな場合、基板検査領域R処理領域の長手方向の長さと同等の長さに形成した一枚もので構成してもよい。吐出孔と吸引孔を形成し吸引作用により浮上高さを高精度に制御可能な専用の精密浮上用プレート2a-2であってもよい。この精密浮上ステージ2a-2は、基板検査領域Rに沿って隙間なく配置されていればよい。基板検査部としては、ガラス基板S上の欠陥を拡大観察するレビュー装置、またはガラス基板S上をラインセンサで撮像してマクロ画像を取得するマクロ検査装置などがある。処理領域内でガラス基板Sを水平に支持する必要がある処理装置として、パターンを転写する露光装置、またはガラス基板S上の欠陥を修正するリペア装置などある。イオナイザ3は、ガラス基板Sの搬出入位置図1に示すガラス基板Sの位置において、複数列に配置された搬送浮上用プレート2a-1間により形成されたライン状の収納空間2c、即ちステージ幅方向X軸方向における間隙に配置される。本実施形態の場合、4列に配列された搬送浮上用プレート2a-1の間に形成された3つのライン状の収納空間間隙2cにそれぞれイオナイザ3が配置されている。イオナイザ3は、細長い筒状を呈し、長手方向の表面にイオン化エアを噴出す吐出孔3aが複数設けられている。このイオナイザ3は、吐出孔3aの上端が浮上ステージ2aの上面より下方になるように収納空間2c内に収納される。本実施形態に採用されるイオナイザ3は、基板搬送方向Y軸方向にガラス基板Sと同程度の長さで延びる細長い筒状を呈する。イオナイザ3は、上方に開口するように一定間隔で設けられた吐出孔3a図1では一部のみ図示からイオン化エアを直接的にガラス基板Sの裏面に吹き付けるもので、イオン化エアと浮上用エアとは流路が互いに独立している。イオナイザ3を収納するライン状の収納空間2cは、イオナイザ3の吐出孔3aの先端が浮上ステージ2aの上面ガラス基板Sの浮上支持面より下になる深さ寸法に形成されていればよい。好ましくは、吐出孔3aの先端が浮上ステージ2aの上面浮上面に対して数ミリから数十ミリ例えば、1mmから50mm、好ましくは1mmから10mm程離れるようにイオナイザ3を配置することで、ガラス基板Sとの干渉を防ぎ、かつガラス基板S裏面にイオン化エアを良好に吹き付けることができる。なお、図3に示すように、イオナイザ3を水平方向Y軸方向や鉛直方向Z軸方向に移動させるイオナイザ移動機構や、イオナイザ3をその長手方向を中心に回動させるイオナイザ回動機構を配置することで、例えば、イオン化エアの吹き付け位置を調整したり、ガラス基板Sの裏面とイオナイザ3との距離を調整したり、イオン化エアの吹き付け方向を調整したりすることができる。また、イオナイザ回転機構に代えて、イオナイザ3の吐出孔3aを複数方向例えば、鉛直上方向や、そこから傾斜した方向などに開口するように形成してもよい。このようにすることで、複雑な回転機構を設けることなく互いに異なる2以上の方向からイオン化エアをガラス基板Sの裏面に同時に吹き付けることができる。また、イオナイザ3は、例えば、円筒状ではなく断面矩形の角パイプ等を用いて構成してもよい。基板検査部を構成する検査ヘッド4は、顕微鏡や撮像部などからなる。なお、基板検査部として、浮上ステージ2aの幅方向X軸方向に平行な検査領域をライン状に撮像するラインセンサを用いてもよい。また、基板検査部は、検査ヘッド4にレーザリペアに用いるレーザ照射部等を配置したものであってもよい。検査ヘッド4は、ガントリ5の水平アーム部側面に設けられた図示しないガイドに沿って例えばリニアモータ駆動により浮上ステージ2aの幅方向X軸方向に移動自在となっている。そのため、検査ヘッド4は、図示しない基板搬送部によって基板搬送方向Y軸方向に移動するガラス基板Sの全体を検査することが可能となっている。なお、ガントリ5をY軸方向に移動可能な構成とした場合には、ガラス基板Sを基準位置に固定した状態で検査が可能になるため、基板搬送部2bを省略することができる。また、本実施形態では、本基板浮上装置2を基板検査装置である基板処理装置1に適用した例を述べたが、本基板浮上装置2を露光装置、リペア装置などにも適用することができる。以下、基板処理装置1の動作について説明する。まず、図示しない搬送ロボットによってガラス基板Sが浮上ステージ2a上の搬入位置に搬入される。この搬入時には、リフタが浮上ステージ2aよりも上方に上昇して、搬送ロボットからリフタにガラス基板Sが受け渡される。搬送ロボットのハンドがガラス基板Sと浮上ステージ2aとの間から引き抜かれると、リフタが下降してガラス基板Sが浮上ステージ2aの搬入位置に浮上した状態で載置される。浮上ステージ2a上に浮上したガラス基板Sは、整列手段等により基準位置にアライメントされる。基準位置にアライメントされたガラス基板Sは、基板搬送部2bの吸着パッドにより吸着保持される。イオナイザ3は、ガラス基板Sの搬出入位置に配置されているため、ガラス基板Sが浮上ステージ2a上に載置されたときからイオン化エアをガラス基板Sの裏面に直接吹き付けることが可能である。これにより、イオナイザ3は、前工程の装置でガラス基板Sが帯電していても、搬入段階で静電気を確実に除去することができる。基板搬送部2bは、浮上ステージ2の一方側面に設けられたガイドレールに沿って往復移動可能に設けれ、ガラス基板Sを基板検査領域Rに1回又は複数回往復させる。基板検査領域Rにおいては、検査ヘッド4がガントリ5の水平アーム部に沿ってX軸方向に適宜移動しながら拡大観察その他の検査を行う。検査が終了すると、基板搬送部2bは、再び搬入位置と同一位置である搬出位置にガラス基板Sを戻して、基板搬送部2bによる吸着を解除した後にリフタ、搬送ロボット等により基板処理装置1外に搬出させる。なお、イオナイザ3は、ガラス基板Sが基板処理装置1に搬入されてから搬出されるまでの間、連続的にイオン化エアを吐出し続ける構成としてもよい。また、イオナイザ3は、ガラス基板Sの搬入時、搬出時、検査直前等に限定してイオン化エアを吐出する構成としてもよい。以上説明した本実施形態では、イオナイザ3は、複数列に配列された搬送浮上用プレート2a-1間の収納空間に配置され、ガラス基板Sの裏面に対してイオン化エアを直接吹き付ける。そのため、従来のように浮上用エアの供給流路にイオナイザ3を配置する場合に比べ、イオンがガラス基板Sに到達する前に中和或いは減少するのを防ぐことができる。また、イオナイザ3がエア浮上機構とは独立して浮上用プレート2a-1の収納空間2cに配置されているため、浮上ステージ2aを分解することなく浮上ステージ2aの上方からイオナイザ3の電極などの交換やメンテナンスが簡単に実施することができる。よって、本実施形態によれば、メンテナンス性を悪化させずにガラス基板Sの除電効率を高めることができる。また、本実施形態では、イオナイザ3を複数の搬送浮上用プレート2a-1間の間隙に配置することにより、浮上ステージ2aを組み立てた後に、イオナイザ3を所望の位置に簡単に取り付けることができるとともに、メンテナンスの際にイオナイザ3を浮上ステージ2aの上方側から簡単に取り外して交換することができる。また、本実施形態では、イオナイザ3は、ガラス基板Sの搬送方向Y軸方向に延びる。そのため、基板搬送方向Y軸方向に亘ってガラス基板Sの除電を行うことができ、したがって、除電効率をより高めることができる。また、本実施形態では、イオナイザ3は、ガラス基板Sの搬入位置及び搬出位置本実施形態では互いに同一位置に配置される。イオナイザ3をガラス基板Sの搬入位置に設けることにより、ガラス基板Sの搬入と同時に前工程の装置上流側装置で帯電したガラス基板Sをイオナイザ3により除電することができる。また、イオナイザ3をガラス基板Sの搬出位置に設けることにより、ガラス基板Sの搬出と同時に本基板処理装置1内で帯電したガラス基板Sをイオナイザ3で除電し次工程の装置に送り出すことができる。なお、搬送ロボットで搬入する場合には、搬送ロボットを基板処理装置1の横に配置し、イオナイザ3の長手方向と交差する方向から搬送ロボットのハンドを出し入れするとよい。このように搬送ロボットのハンドの直進方向に対してイオナイザ3が交差して配置されることで、搬送ロボットによるガラス基板Sの搬入時又は搬出時に基板裏面側からイオン化エアを吹き付けて除電することが可能になり、ガラス基板Sとともに搬送ロボットも同時に除電することができる。また、イオナイザ3の吐出孔3aを複数方向に開口するように形成することで、互いに異なる2以上の方向からイオン化エアを基板裏面の広い範囲に吹き付けることができ、除電効率をより高めることができる。なお、本実施形態では、イオナイザ3は、ステージ幅方向X軸方向における搬送浮上用プレート2a-1間の間隙の全てに配置されているが、イオナイザ3は1つ以上配置すればよい。また、本実施形態では、矩形タイル状の複数の搬送浮上用プレート2a-1を複数列に配列させた浮上ステージ2aの一例を示したが、ガラス基板Sと同等の大きさの一枚の浮上プレートにより浮上ステージを構成してもよい。この一枚で構成した浮上ステージを使用した場合、イオナイザを収納するライン状の収納空間として、浮上プレート上にイオナイザを埋設できる程度の深い溝を形成することで実現可能である。この浮上ステージをガントリ移動の固定式浮上ステージに採用した場合、イオナイザを収納するライン状の収納空間となる収納用溝を放射状、格子状又は環状に形成し、これら収納用溝にイオナイザを取り付けることにより、ガラス基板Sの裏面全域にイオン化エアを良好に供給できる。<第2実施形態>図4は、本発明の第2実施形態に係る基板浮上装置2を備える基板処理装置11を示す要部平面図である。本実施形態では、ガラス基板Sの搬入位置が搬出位置と異なる構成、即ちガラス基板Sを上流から下流の一方向図3の左から右のみに搬送する構成、並びに、ガラス基板Sの搬入位置上流側搬送路及び搬出位置下流側搬送路のそれぞれにイオナイザ12,13を配置した構成において、上述の第1実施形態と主に相違し、その他の点は概ね同様であるため、同様の点については、図4に図1~図3と同一の符号を付して説明を省略する。ガラス基板Sの搬入位置図4のガラス基板S-1側のイオナイザ12は、複数列例えば4列に配置された各列の搬送浮上用プレート2a間に形成されたライン状の収納空間間隙2cにそれぞれ例えば計3本配置されている。また、イオナイザ12は、浮上ステージ2aの搬入側端部近傍から搬入側の精密浮上用プレート2a-2の近傍まで延びる細長い筒状を呈する。イオナイザ12には、上方に開口するように一定間隔で吐出孔12aが設けられている。イオナイザ12は、浮上ステージ2aの搬入側端部近傍から搬入側の精密浮上用プレート2a-2の近傍に亘って配置されているため、搬入時から検査前までガラス基板Sの裏面に直接イオン化エアを吹き付けることができる。ガラス基板Sの搬出位置図4のガラス基板S-2側のイオナイザ13も、複数列例えば4列に配列された搬送浮上用プレート2a-1間に形成されたライン状の収納空間間隙2cにそれぞれ例えば計3本配置されている。また、イオナイザ13は、搬出側の精密浮上用プレート2a-2の近傍から浮上ステージ2aの搬出側端部近傍まで延びる細長い筒状を呈する。イオナイザ13にも、上方に開口するように一定間隔で吐出孔13aが設けられている。また、イオナイザ13は、搬出側の精密浮上用プレート2a-2の近傍から浮上ステージ2aの搬出側端部近傍に亘って配置されているため、検査後から搬出時までガラス基板Sの裏面に直接イオン化エアを吹き付けることができる。以上説明した第2実施形態によっても、イオナイザ12,13は、搬送浮上用プレート2a-1等から構成されるエア浮上機構とは独立して配置され、ガラス基板Sの裏面に対してイオン化エアを直接吹き付ける。よって、本実施形態によっても、メンテナンス性を悪化させずにガラス基板Sの除電効率を高めることができる。また、本実施形態では、ガラス基板Sの搬入位置上流側搬送路及び搬出位置下流側搬送路にイオナイザ12,13を配置することにより、前工程の装置で帯電したガラス基板Sを除電した状態で安全に検査でき、かつ本基板処理装置内で搬送中に帯電したガラス基板Sを除電した状態で次工程の装置に安全に搬出することができる。<第3実施形態>図5は、本発明の第3実施形態に係る基板浮上装置2を備える基板処理装置21を示す要部平面図である。本実施形態では、ガラス基板Sの搬送方向に対してイオナイザを直交する方向に配置した例である。例えば、前工程上流側装置から搬送されてきたガラス基板Sを一方向に搬送しながら検査して次工程下流側装置に搬出するインライン方式の基板検査装置である基板処理装置21に基板浮上装置2を適用した例で説明する。イオナイザ22,23,24,25の配置構成において、上述の第1及び第2実施形態と主に相違し、その他の点は概ね同様であるため、同様の点については、図5に図1~図4と同一の符号を付して説明を省略する。基板浮上装置2は、基板製造工程の搬送ラインの一部に配置され、上流側から送られてきたガラス基板Sを基板処理部に搬送し、処理部で処理されたガラス基板Sを下流側に搬出する。イオナイザ22は、上流側の搬送ラインとの連結部分となる上流側の搬送浮上用プレート2a-1の搬入側端部に形成されたライン状の収納空間にガラス基板Sの搬送方向と交差する方向に配置される。また、本実施形態では、下流側の搬送ラインとの連結部となる下流側の搬送浮上用プレート2a-1の搬出側端部に形成されたライン状の収納空間にイオナイザ23を配置している。さらに搬入側の搬送浮上用プレート2a1と精密浮上用プレート2a-2との間の連結部に形成されたライン状の収納空間、または搬出側の搬送浮上用プレート2a-1と精密浮上用プレート2a-2との間の連結部に形成されたライン状の収納空間にイオナイザ24、25を配置している。イオナイザ22,23,24,25は、いずれも、基板搬送方向Y軸方向に交差する方向としてのステージ幅方向X軸方向に延びる細長い筒状を呈し、上方に開口するように一定間隔で吐出孔22a~25aが設けられている。本実施形態では、イオナイザ22,23,24,25を収納するライン状の収納空間をガラス基板Sの搬送方向に対して交差するように設けたが、この収納空間の長手方向X軸方向に沿って所定の間隔にローラを配置することが望ましい。各ローラは、浮上ステージ2aの上面に対してガラス基板Sの浮上高さと同じになるように突出して設けられればよい。ローラを収納空間の両側に配列させることにより、収納空間部分で浮上圧が低下してもガラス基板Sの先端辺をローラで水平に支持して安全に搬送させることができる。少なくとも収納空間の下流側にローラを配列させることで、収納空間部分で浮上圧が低下してガラス基板Sの先端辺の浮上高さが低下しても、ローラの曲面にガラス基板Sの先端辺が当接して浮上高さ位置に戻されるため、ガラス基板Sを安全に搬送することができる。イオナイザ22は搬入位置にてガラス基板S-1の裏面に直接イオン化エアを吹き付けることができ、イオナイザ23は搬出位置にてガラス基板S-2の裏面に直接イオン化エアを吹き付けることができる。また、イオナイザ24,25は、基板検査領域Rの少なくとも上流側でガラス基板Sの裏面にイオン化エアを吹き付けて除電することができ、静電吸引作用の影響を受けることなく基板検査領域Rにおけるガラス基板Sの浮上精度を高めることができる。以上説明した本実施形態によっても、イオナイザ22~25は、搬送浮上用プレート2a-1等から構成される浮上ステージ2aとは独立して配置され、ガラス基板Sの裏面に対してイオン化エアを直接吹き付ける。よって、本実施形態によっても、メンテナンス性を悪化させずにガラス基板Sの除電効率を高めることができる。また、本実施形態では、イオナイザ22~25は、基板搬送方向Y軸方向に直交するステージ幅方向X軸方向に延びる。そのため、ガラス基板Sの搬送中にガラス基板Sの裏側全面に亘ってイオン化エアを吹き付けることができ、したがって、除電効率をより高めることができる。また、本実施形態では、イオナイザ22を浮上ステージ2の搬入側端部に配置することで、上流で帯電したガラス基板Sを装置内に送り込みながら除電することができる。また、イオナイザ23を浮上ステージ2aの搬出側端部に配置することで、装置内で帯電したガラス基板Sを除電しながら下流側に搬出することができる。このようにイオナイザ22,23を搬送方向と交差する方向に配置することにより、ガラス基板Sを搬送しながらガラス基板Sの裏面全面に亘ってイオン化エアを吹き付けることができ、したがって、除電効率をより高めることができる。イオナイザは、浮上ステージ2aの搬入側端部または搬出側端部のいずれか一方の端部に設けられればよいが、浮上ステージ2aの搬入端部に設けることが好ましい。また、本実施形態では、イオナイザ24,25は、基板検査領域Rの両側に配置された精密浮上用ステージ2a-2、2a-2に沿って配置されているため、高精度な浮上高さが要求される基板検査領域Rの近傍で除電し静電引力による影響を取り除くことができる。これによりガラス基板Sが静電吸引により浮上ステージ2a側に引き寄せられるのを確実に防ぐことができ、したがって、検査ヘッド4の顕微鏡の焦点がガラス基板S表面からずれるのを抑えることができるなど、検査精度を高めることができる。イオナイザは、基板検査領域処理領域の搬入側か搬出側の一方に配置されていればよい。また、浮上ステージ2aの搬入側端部にイオナイザ22が設けられている場合、基板検査領域処理領域との連結部分に配置されるイオナイザ24,25を省略してもよい。なお、本実施形態では、ステージ幅方向X軸方向と平行に延びるようにイオナイザ22~25を配置する例について説明したが、例えば図6に示す基板処理装置31のイオナイザ33,34のように、基板搬送方向Y軸方向に交差する方向として、ステージ幅方向X軸方向及び基板搬送方向Y軸方向に延びるようにイオナイザ33,34を搬送方向に対して斜めに配置することでも、ガラス基板Sの裏側全面に亘ってイオン化エアを吹き付けることができる。イオナイザ33,34を浮上ステージ2a,2aの対角線上に配置した例でしましたが、ステージ幅方向X軸方向に対して傾斜角度を数度から10度程度にすることでことでも同様の効果を得ることができる。イオナイザ33,34を収納するライン状の収納空間2c ́をガラス基板Sの搬送方向に対して斜めに形成することで、搬送されてくるガラス基板Sの先端辺が常にライン状の収納空間2c ́と交差して搬送される。このため、ガラス基板Sの先端辺の一部分しかライン状に形成された収納空間2c ́に架からないため、ガラス基板Sがライン状の収納空間2c ́による浮上低下の影響を受けることなく安全にガラス基板Sを搬送することができる。図4に示すライン状の収納空間2cもガラス基板の搬送方向に対して斜めに形成することが可能である。<第4実施形態>図7は、本発明の第4実施形態に係る基板浮上装置42を備える基板処理装置41を示す要部平面図である。本実施形態では、イオナイザ43を千鳥状に配置した点及びそれに伴う搬送浮上用プレート42a-1の構成において、上述の第1~第3実施形態と主に相違し、その他の点は概ね同様であるため、同様の点については、図7に図1~図6と同一の符号を付して説明を省略する。基板浮上装置42のイオナイザ43は、複数に分割されガラス基板Sの搬送方向に対して交差する方向に交互にずらして配置されている。本実施形態の浮上ステージ42aは、矩形状に形成された搬送浮上用プレート42a-1を列方向Y軸方向と行方向X軸方向に一枚置きに交互に配列した。イオナイザ43は、搬送方向に対して直交する各搬送浮上用プレート42a-1の端部の空間部分に搬送方向と直交する方向に千鳥状に配置されている。イオナイザ43は、ステージ幅方向X軸方向に細長い筒状を呈し、上方に開口するように一定間隔で吐出孔43aが設けられている。イオナイザ43の長手方向長さは、矩形状に形成された搬送浮上用プレート42a-1の幅寸法X軸方向と同程度の長さ、すなわち列方向に配列された搬送浮上用プレート42a-1間に間隙の幅寸法X軸方向と略同一となっている。以上説明した本実施形態によっても、イオナイザ43は、搬送浮上用プレート42a-1等から構成されるエア浮上機構とは独立して配置され、ガラス基板Sの裏面に対してイオン化エアを直接吹き付ける。よって、本実施形態によっても、メンテナンス性を悪化させずにガラス基板Sの除電効率を高めることができる。また、本実施形態では、イオナイザ43は、ガラス基板Sの搬送方向と直交するように千鳥状に配置されるため、浮上ステージ42上を搬送されるガラス基板Sの裏面全域にイオン化エアを良好に供給できる。この場合、複数に分割されたイオナイザ43を搬送用浮上プレート42a-1の端部に近づけてほぼ直線となる千鳥状に配置すると、作業台によるメンテナンス作業の際に作業台の移動回数が少なくなりメンテナンス作業効率を向上させることができ好ましい。更に、イオナイザ43を千鳥状に配列することにより、ガラス基板Sの先端辺が部分的に搬送浮上用プレート42a-1により浮上支持されるため、イオナイザ43の収納空間において浮上圧が低下してもガラス基板Sを水平に維持して安全に搬送することができる。この場合、搬送浮上用プレート42a-1を搬送方向と直交する方向に交互に配列する際に、各隣接する搬送浮上用プレート42a-1を搬送方向に重複させて配列することが好ましい。これにより、下流側に配置されたイオナイザ43と上流側に配列されたイオナイザ43との間に搬送浮上用プレート42a-1が搬送方向と直交する方向に連続して配置されるため、ガラス基板Sを水平に維持して安全に搬送することができる。また、イオナイザ43を複数に分割して配列することで、搬送方向と直行する方向に1本配置した高価なイオナイザの交換に比べてコンパクトで安価なイオナイザ43を部分的に交換することが可能になるため、交換やメンテナンス作業が楽にできるとともに、部品の交換を安価にできるという利点がある。上記各実施の形態で使用されるイオナイザも複数に分割して配置することが可能である。更に、複数に分割することで、いずれか1つのイオナイザ43が故障して機能しなくなっても、他のイオナイザ43で除電することができるため、製造ラインを長い時間止めることなく故障したイオナイザ43を交換することができる。"