"A重合性単量体、B重合開始剤およびC溶剤を含有するインプリント用硬化性組成物の製造方法であって、重合性単量体Aおよび重合開始剤Bからなる群のうち少なくとも1種の化合物を含む液Dを1種類調整し、該液Dをフィルターに通過させ、その後に、溶剤Cを加えるか、重合性単量体Aおよび重合開始剤Bからなる群のうち少なくとも1種の化合物を含む液Dを2種類以上調整し、それぞれの液Dをフィルターに通過させた後、溶剤Cとともに混合することを特徴とするインプリント用硬化性組成物の製造方法。液Dをフィルターに通過させた後に、該液Dに対してA重合性単量体およびB重合開始剤が添加されないことを特徴とする、請求項1に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。フィルターの少なくとも1種類の孔径が0.1μm以下である、請求項1または2に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。フィルターの少なくとも1種類が200cm2以上の有効濾過面積を有することを特徴とする、請求項1~3のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。フィルターの少なくとも1種類がメンブレンフィルターをプリーツ状に加工したフィルターカートリッジであることを特徴とする、請求項1~4のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。前記重合性単量体Aが芳香族構造および/または脂環炭化水素構造を有する重合性単量体であることを特徴とする、請求項1~5のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。前記重合性単量体Aのうち少なくとも1種が、フッ素原子および/またはシリコン原子を有することを特徴とする、請求項1~6のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。液Dの25°Cにおける粘度が3~50mPasであることを特徴とする、請求項1~7のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。液Dの濾過は、複数回行うことを特徴とする、請求項1~8のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。溶剤Cを加えた後にさらにフィルターを通過させる、請求項1~9のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。重合性単量体Aおよび重合開始剤Bからなる群のうち少なくとも1種の化合物を含む液Dを1種類調整し、該液Dをフィルターに通過させた後に、溶剤Cを加えることを特徴とする、請求項1~10のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。溶剤C以外のインプリント用硬化性組成物に含まれる全成分を添加して液Dを調整し、該液Dをフィルターに通過させた後、溶剤Cを加えることを特徴とする、請求項1~11のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。前記フィルターの孔径が、いずれも、0.1μm以下である、請求項1~12のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。前記フィルターの少なくとも1種類がフッ素樹脂系フィルターまたはポリエチレン系フィルターであることを特徴とする、請求項1~13のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。請求項1~14のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法によってインプリント用硬化性組成物を調製する工程と、該インプリント用硬化性組成物を、基材上に適用する工程と、該インプリント用硬化性組成物にモールドを圧接する工程と、光を照射する工程と、を含むパターン形成方法。前記インプリント用硬化性組成物を基材上に適用する工程が塗布による、請求項15に記載のパターン形成方法。前記インプリント用硬化性組成物を基材上に適用する工程がスピンコートによる、請求項16に記載のパターン形成方法。請求項1~14のいずれか1項に記載の方法を用いて製造されたことを特徴とする、インプリント用硬化性組成物。ここで、インプリント用硬化性組成物にはパターン形成性が良好であることが求められる。そして、パターン形成性の中でも、特に、パターン剥がれの抑制が強く求められる。また、インプリント用硬化性組成物を基板上に塗布する場合は、膜厚ムラ、膜中パーティクルや液のはじきに代表される欠陥が発生しないこと、すなわち塗布性が良好であることも求められる。加えて本発明者が検討を行ったところ、時間が経過するとこれらの特性が劣化する傾向にあることが分かった。本発明は、かかる従来技術の問題点を改善することを目的としたものであって、溶剤を含むインプリント用硬化性組成物の製造方法であって、パターン剥がれを効果的に抑制し、塗布性に優れ、かつ、経時安定性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供することを目的とする。上記課題のもと、本発明者が検討したところ、インプリント用硬化性組成物を製造する際、その製造工程において、その主成分である、重合性単量体同士が反応し、ポリマー成分が生成してしまうことが分かった。このポリマー成分は微量であり、ゲル浸透クロマトグラフィGPCによっても検出できない場合もある一方、この微量ポリマー成分が、インプリント用硬化性組成物においては、大きな問題となることがわかった。具体的には、かかる微量ポリマー成分が核となってパーティクルを成長させ、各種問題を引き起こすことが分かった。すなわち、微量ポリマー成分が、スピンコート時に塗布欠陥を引き起こしたり、基板上への異物混入によってパターン剥がれを引き起こしたりすることが分かった。微量のポリマー成分を除去するには濾過することが考えられるが、このようなポリマー成分は有機溶剤に対して分散または溶解するものも多い。従って、溶剤を含むインプリント用硬化性組成物の場合、かかる組成物をろ過するとポリマー成分の一部がフィルターを通過し、問題の解決とならない。そこで、本発明者は、溶剤以外の成分を濾過してポリマー成分を除去した後にインプリント用硬化性組成物を調製することにより、ポリマー成分が除去されたインプリント用硬化性組成物を得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。具体的には、下記手段により、上記課題を解決しうることを見出すに至った。1A重合性単量体、B重合開始剤およびC溶剤を含有するインプリント用硬化性組成物の製造方法であって、重合性単量体Aおよび重合開始剤Bからなる群のうち少なくとも1種の化合物を含む液Dを1種類調整し、該液Dをフィルターに通過させ、その後に、溶剤Cを加えるか、重合性単量体Aおよび重合開始剤Bからなる群のうち少なくとも1種の化合物を含む液Dを2種類以上調整し、それぞれの液Dをフィルターに通過させた後、溶剤Cとともに混合することを特徴とするインプリント用硬化性組成物の製造方法。2液Dをフィルターに通過させた後に、該液Dに対してA重合性単量体およびB重合開始剤が添加されないことを特徴とする、1に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。3フィルターの少なくとも1種類の孔径が0.1μm以下である、1または2に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。4フィルターの少なくとも1種類が200cm2以上の有効濾過面積を有することを特徴とする、1~3のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。5フィルターの少なくとも1種類がメンブレンフィルターをプリーツ状に加工したフィルターカートリッジであることを特徴とする、1~4のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。6前記重合性単量体Aが芳香族構造および/または脂環炭化水素構造を有する重合性単量体であることを特徴とする、1~5のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。7前記重合性単量体Aのうち少なくとも1種が、フッ素原子および/またはシリコン原子を有することを特徴とする、1~6のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。8液Dの25°Cにおける粘度が3~50mPasであることを特徴とする、1~7のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。9液Dの濾過は、複数回行うことを特徴とする、1~8のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。10溶剤Cを加えた後にさらにフィルターを通過させる、1~9のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。11重合性単量体Aおよび重合開始剤Bからなる群のうち少なくとも1種の化合物を含む液Dを1種類調整し、該液Dをフィルターに通過させた後に、溶剤Cを加えることを特徴とする、1~10のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。12溶剤C以外のインプリント用硬化性組成物に含まれる全成分を添加して液Dを調整し、該液Dをフィルターに通過させた後、溶剤Cを加えることを特徴とする、1~11のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。13前記フィルターの孔径が、いずれも、0.1μm以下である、1~12のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。14前記フィルターの少なくとも1種類がフッ素樹脂系フィルターまたはポリエチレン系フィルターであることを特徴とする、1~13のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法。151~14のいずれか1項に記載のインプリント用硬化性組成物の製造方法によってインプリント用硬化性組成物を調製する工程と、該インプリント用硬化性組成物を、基材上に適用する工程と、該インプリント用硬化性組成物にモールドを圧接する工程と、光を照射する工程と、を含むパターン形成方法。16前記インプリント用硬化性組成物を基材上に適用する工程が塗布による、15に記載のパターン形成方法。17前記インプリント用硬化性組成物を基材上に適用する工程がスピンコートによる、16に記載のパターン形成方法。181~14のいずれか1項に記載の方法を用いて製造されたことを特徴とする、インプリント用硬化性組成物。本発明によれば、溶剤を含むインプリント用硬化性組成物であって、パターン剥がれを効果的に抑制し、塗布性に優れ、かつ、経時安定性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供することができる。以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において~とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。なお、本明細書中において、メタアクリレートはアクリレートおよびメタクリレートを表し、メタアクリルはアクリルおよびメタクリルを表し、メタアクリロイルはアクリロイルおよびメタクリロイルを表す。また、本明細書中において、単量体とモノマーとは同義である。本発明における単量体は、オリゴマーおよびポリマーと区別され、重量平均分子量が1,000以下の化合物をいう。本明細書中において、官能基は重合反応に関与する基をいう。また、本発明でいうインプリントは、好ましくは、1nm~10mmのサイズのパターン転写をいい、より好ましくは、およそ10nm~100μmのサイズナノインプリントのパターン転写をいう。尚、本明細書における基原子団の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、アルキル基とは、置換基を有さないアルキル基無置換アルキル基のみならず、置換基を有するアルキル基置換アルキル基をも包含するものである。本発明のインプリント用硬化性組成物の製造方法は、重合性単量体Aおよび重合開始剤Bからなる群のうち少なくとも1種の化合物を含む液Dを1種類調整し、該液Dをフィルターに通過させた後に、溶剤Cを加えるか、重合性単量体Aおよび重合開始剤Bからなる群のうち少なくとも1種の化合物を含む液Dを2種類以上調整し、それぞれの液Dをフィルターに通過させた後、溶剤Cとともに混合することを特徴とする。このような手段を採用することにより、溶剤を含むインプリント用硬化性組成物において、適切に、微量の不純物成分としてのポリマーを除去できる。本発明では、液Dをフィルターに通過させた後に、該液Dに対してA重合性単量体およびB重合開始剤が添加されないことが好ましい。さらには、インプリント用硬化性組成物に含まれる溶剤以外の全成分を含む液Dを濾過した後に、溶剤Cのみが加えられることがさらに好ましい。液Dを2種類以上調整する場合、該2種以上の液Dをフィルターに通過させた後、それぞれの液Dを混合した液に、溶剤Cを添加してもよいし、液Dの1種に溶剤Cを添加した後、該溶剤Cを添加した液Dに、他の液Dを添加しても良い。また、液Dは1種類の場合がより好ましい。このような手段を採用することにより、より効果的に不純物成分を除去でき、本発明の効果がより効果的に発揮される。本発明で用いるフィルターは、有効濾過面積が200cm2以上のものを用いることが好ましい。フィルターの有効濾過面積は、300cm2以上が好ましく、500cm2以上がより好ましく、1000cm2以上がさらに好ましい。本発明における有効濾過面積とは、濾過工程において、フィルター接液部分のうちフィルターを透過しない粒子が堆積する部分の面積を示し、通常は、濾過フィルターの表面積である。本発明の製造方法では、液Dの濾過を複数回行うことが好ましい。フィルターを2回以上通過させる場合、それぞれのフィルターは同じであってもよいし、異なっていても良い。フィルターを2回以上通過させることにより、異物をより効率的に除去できる。インプリント用硬化性組成物をフィルターに複数回通過させる手段としては、特に限定されないが、好ましい例としてフィルターを含む装置内で組成物を循環させる方式、直列に接続した複数のフィルターを各々1回以上通過させる方式、濾過工程後に同一のまたは異なるフィルターを用いて再度ろ過を行なう方式およびそれらの組み合わせによる方式が挙げられる。2回以上フィルターを通過させる場合、後に通過させるフィルターの方が、孔径が小さいことが好ましい。このような構成とすることにより、パターン剥がれがより効果的に抑制される傾向にある。フィルターを通過させる工程における印加圧力は、ろ過の際の圧力印加は、フィルターろ過装置の材質や硬化性組成物の化学構造などにより変化しうるが、0.5MPa以下であることが好ましい。このような範囲とすることにより、不純物によって、パーティクルがフィルターを透過してしまうのをより効果的に抑止できる。印加圧力は、より好ましくは、0.05MPa~0.3MPaであり、さらに好ましくは、0.05MPa~0.1MPaである。本発明では、インプリント用硬化性組成物の平均流量が、毎分0.1L以上であることが好ましく、毎分0.1L~3.0Lであることがより好ましい。本発明で用いるフィルターのうち、少なくとも1種類の孔径が0.1μm以下であることが好ましく、いずれのフィルターも、0.1μm以下であることがより好ましい。孔径は、0.05μm以下であることがより好ましく、0.005~0.05μmであることがさらに好ましい。前記孔径のフィルターを通過させることでサブミクロンサイズの微細粒子や異物を除去することができる。本発明で用いるフィルターの材質は、特に定めるものではないが、少なくとも1種類が、ポリプロピレン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ナイロン系樹脂などのものが好ましく使用できる。特に、少なくとも1種類が、フッ素樹脂系フィルターまたはポリエチレン系フィルターが異物除去およびフィルターの経時安定性の観点から好ましい。本発明で用いるフィルターは、少なくとも1種類が、メンブレンフィルターをプリーツ状に加工したフィルターカートリッジであることが好ましい。プリーツ状に加工したフィルターカートリッジは有効濾過面積を大きく製造することができるという点でメリットがある。本発明では、さらに、溶剤Cを加えた後にさらにフィルターを通過させることが好ましい。このような工程を含めることにより本発明の効果がより効果的に発揮される傾向にある。溶剤Cを加えた後の濾過工程の詳細は、上記液Dと同様の手法によって好ましく行うことができ、好ましい範囲も同様である。本発明のインプリント用硬化性組成物の製造装置は、上記フィルターを含んでいる限り、特に定めるものではなく、他の部分は公知の技術を採用できる。具体的には、例えば特許第4323074号公報などに記載の技術を参酌できる。本発明における用硬化性組成物はA重合性単量体およびB重合開始剤を含有することを特徴とする。A重合性単量体としては重合性基を有する単量体、重合性基を有するオリゴマーおよび重合性基を有するポリマー、ならびにそれらの混合物が挙げられる。例えば、市販品の重合性単量体などには、重合性基を有する単量体に加えて、これらが重合したオリゴマーやポリマーも極めて微量に含まれているが、本発明における重合性単量体にはこれらも含む趣旨である。本発明に用いるインプリント用硬化性組成物に用いられる重合性単量体の種類は本発明の趣旨を逸脱しない限り特に定めるものではないが、例えば、エチレン性不飽和結合含有基を1個以上有する重合性不飽和単量体;エポキシ化合物、オキセタン化合物;ビニルエーテル化合物;スチレン誘導体;フッ素原子を有する化合物;プロペニルエーテルまたはブテニルエーテル等を挙げることができる。前記エチレン性不飽和結合含有基を1個以上有する重合性不飽和単量体について説明する。まず、エチレン性不飽和結合含有基を1つ有する重合性不飽和単量体としては具体的に、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、N-ビニルピロリジノン、2-アクリロイロキシエチルフタレート、2-アクリロイロキシ2-ヒドロキシエチルフタレート、2-アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、2-アクリロイロキシプロピルフタレート、2-エチル-2-ブチルプロパンジオールアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルカルビトールメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、アクリル酸ダイマー、ベンジルメタアクリレート、1-または2-ナフチルメタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート、セチルメタアクリレート、エチレンオキシド変性以下EOという。クレゾールメタアクリレート、ジプロピレングリコールメタアクリレート、エトキシ化フェニルメタアクリレート、イソオクチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタアクリレート、イソミリスチルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタアクリレート、メトキシトリプロピレングリコールメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタアクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエートアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、オクチルアクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコールアクリレート、エピクロロヒドリン以下ECHという変性フェノキシアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリコールアクリレート、ステアリルアクリレート、EO変性コハク酸アクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、EO変性トリブロモフェニルアクリレート、トリドデシルアクリレート、p-イソプロペニルフェノール、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタムが例示される。前記エチレン性不飽和結合を含有する単官能の重合性単量体の中でも、本発明では単官能メタアクリレート化合物を用いることが、光硬化性の観点から好ましい。単官能メタアクリレート化合物としては、前記エチレン性不飽和結合を含有する単官能の重合性単量体で例示した中における、単官能メタアクリレート化合物類を例示することができる。このような芳香族構造および/または脂環式炭化水素構造を有する単官能メタアクリレートの中でも、ベンジルメタアクリレート、芳香環上に置換基を有するベンジルメタアクリレート好ましい置換基としては炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、シアノ基、1-または2-ナフチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルメチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルエチルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタアクリレート、イソボロニルメタアクリレート、アダマンチルメタアクリレートが好ましく、ベンジルメタアクリレート、芳香環上に置換基を有するベンジルメタアクリレート、ナフタレン構造を有する単官能メタアクリレート化合物がより好ましく、1-または2-ナフチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルメチルメタアクリレートが特に好ましい。本発明では、重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を2つ以上有する多官能重合性不飽和単量体を用いることも好ましい。本発明で好ましく用いることのできるエチレン性不飽和結合含有基を2つ有する2官能重合性不飽和単量体の例としては、ジエチレングリコールモノエチルエーテルメタアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジメタアクリレート、ジメタアクリル化イソシアヌレート、1,3-ブチレングリコールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、EO変性1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ECH変性1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、アリロキシポリエチレングリコールアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、EO変性ビスフェノールAジメタアクリレート、PO変性ビスフェノールAジメタアクリレート、変性ビスフェノールAジメタアクリレート、EO変性ビスフェノールFジメタアクリレート、ECH変性ヘキサヒドロフタル酸ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、EO変性ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレンオキシド以後POという。変性ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコール、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ECH変性フタル酸ジメタアクリレート、ポリエチレングリコール-テトラメチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコール-テトラメチレングリコールジメタアクリレート、ポリエステルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ECH変性プロピレングリコールジメタアクリレート、シリコーンジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジメタアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、EO変性トリプロピレングリコールジメタアクリレート、トリグリセロールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、ジビニルエチレン尿素、ジビニルプロピレン尿素、o-,m-,p-キシリレンジメタアクリレート、1,3-アダマンタンジアクリレートノルボルナンジメタノールジアクリレートが例示される。これらの中で特に、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、o-,m-,p-ベンゼンジメタアクリレート、o-,m-,p-キシリレンジメタアクリレート、等の2官能メタアクリレートが本発明に好適に用いられる。エチレン性不飽和結合含有基を3つ以上有する多官能重合性不飽和単量体の例としては、ECH変性グリセロールトリメタアクリレート、EO変性グリセロールトリメタアクリレート、PO変性グリセロールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、EO変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリスアクリロキシエチルイソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールポリメタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート等が挙げられる。これらの中で特に、EO変性グリセロールトリメタアクリレート、PO変性グリセロールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート等の3官能以上の官能メタアクリレートが本発明に好適に用いられる。前記エチレン性不飽和結合を2つ以上有する多官能の重合性不飽和単量体の中でも、本発明では多官能メタアクリレートを用いることが、光硬化性の観点から好ましい。なお、ここでいう多官能メタアクリレートとは、前記2官能メタアクリレートおよび前記3官能以上の官能メタアクリレートを総称するもののことである。多官能メタアクリレートの具体例としては、前記エチレン性不飽和結合を2つ有する多官能重合性不飽和単量体で例示した中、および、前記エチレン性不飽和結合を3つ以上有する多官能重合性不飽和単量体で例示した中における、各種多官能メタアクリレートを例示することができる。前記オキシラン環を有する化合物エポキシ化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。本発明に好ましく使用することのできる前記オキシラン環を有する化合物エポキシ化合物としては、特開2009-73078号公報の段落番号0053に記載のものを好ましく採用することができる。特に、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、14-ブタンジオールジグリシジルエーテル、16-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。グリシジル基含有化合物として好適に使用できる市販品としては、特開2009-73078号公報の段落番号0055に記載のものを好ましく採用することができる。これらは、1種単独で、または2種以上組み合わせて用いることができる。また、これらのオキシラン環を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善KK出版、第四版実験化学講座20有機合成II、213~、平成4年、EdbyAlfredHasfnerThechemistryofheterocycliccompounds-SmallRingHeterocyclespart3OxiranesJohnWileyandSonsAnIntersciencePublicationNewYork1985、吉村、接着、29巻12号、32、1985、吉村、接着、30巻5号、42、1986、吉村、接着、30巻7号、42、1986、特開平11-100378号公報、特許第2906245号公報、特許第2926262号公報などの文献を参考にして合成できる。本発明で用いることができる重合性単量体として、ビニルエーテル化合物を併用してもよい。ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開2009-73078号公報の段落番号0057に記載のものを好ましく採用することができる。これらのビニルエーテル化合物は、例えば、StephenCLapinPolymersPaintColourJournal179、321に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。また、本発明で用いることができる重合性単量体としては、スチレン誘導体も採用できる。スチレン誘導体としては、例えば、スチレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、β-メチルスチレン、p-メチル-β-メチルスチレン、α-メチルスチレン、p-メトキシ-β-メチルスチレン、p-ヒドロキシスチレン、等を挙げることができる。本発明における用硬化性組成物では、ドライエッチング耐性、インプリント適性、硬化性等の調製の観点から、インプリント用硬化性組成物が前記重合性単量体よりもさらに分子量の大きい重合性オリゴマーおよび/または重合性ポリマーを含有することも好ましい。前記重合性オリゴマーとしてはポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシアクリレート等の各種アクリレートオリゴマーが挙げられる。オリゴマー成分の添加量としては、0~30質量が好ましく、より好ましくは0~20質量、さらに好ましくは0~10質量、最も好ましくは0~5質量である。前記ポリマー成分としては側鎖に重合性官能基を有するポリマーが好ましい。前記ポリマー成分の重量平均分子量としては、重合性単量体との相溶性の観点から、2000~100000が好ましく、5000~50000がさらに好ましい。ポリマー成分の添加量としては組成物の溶剤を除く成分に対し、0~30質量が好ましく、より好ましくは0~20質量、さらに好ましくは0~10質量、最も好ましくは2質量以下である。本発明における用硬化性組成物において溶剤を除く成分中、分子量2000以上のポリマー成分の含有量が30質量以下であると、パターン形成性が向上する。本発明の硬化性組成物はさらにフッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体を含有することが好ましい。本発明におけるフッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体は、フッ素原子、シリコン原子、または、フッ素原子とシリコン原子の両方を有する基を少なくとも1つと、重合性官能基を少なくとも1つ有する化合物である。重合性官能基としてはメタアクリロイル基、エポキシ基が好ましい。本発明における用硬化性組成物中におけるフッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性単量体の含有量は、特に制限はないが、硬化性向上の観点や、組成物の低粘度化の観点から、全重合性単量体中、0.1~20質量が好ましく、0.2~15質量がより好ましく、0.5~10質量がさらに好ましく、0.5~5質量が特に好ましい。1フッ素原子を有する重合性単量体フッ素原子を有する重合性単量体が有するフッ素原子を有する基としては、フロロアルキル基およびフロロアルキルエーテル基から選ばれる含フッ素基が好ましい。前記フロロアルキル基としては、炭素数が2~20のフロロアルキル基が好ましく、4~8のフロロアルキル基より好ましい。好ましいフロロアルキル基としては、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、ヘプタフロロプロピル基、ヘキサフロロイソプロピル基、ノナフロロブチル基、トリデカフロロヘキシル基、ヘプタデカフロロオクチル基が挙げられる。本発明では、フッ素原子を有する重合性単量体が、トリフロロメチル基構造を有する重合性単量体であることが好ましい。トリフロロメチル基構造を有することで、少ない添加量例えば、10質量以下でも本発明の効果が発現するため、他の成分との相溶性が向上し、ドライエッチング後のラインエッジラフネスが向上する上、繰り返しパターン形成性が向上する。前記フロロアルキルエーテル基としては、前記フロロアルキル基の場合と同様に、トリフロロメチル基を有しているものが好ましく、パーフロロエチレンオキシ基、パーフロロプロピレンオキシ基を含有するものが好ましい。-CFCF3CF2O-などのトリフロロメチル基を有するフロロアルキルエーテルユニットおよび/またはフロロアルキルエーテル基の末端にトリフロロメチル基を有するものが好ましい。前記フッ素原子を有する重合性単量体が有する全フッ素原子の数は、1分子当たり、6~60個が好ましく、より好ましくは9~40個、さらに好ましくは12~40個、特に好ましくは12~20個である。前記フッ素原子を有する重合性単量体は、下記に定義するフッ素含有率が20~60のフッ素原子を有することが好ましく、30~60であることが好ましく、さらに好ましくは35~60である。フッ素含有率を適性範囲とすることで他成分との相溶性に優れ、モールド汚れを低減でき且つ、ドライエッチング後のラインエッジラフネスが向上する上、繰り返しパターン形成性が向上する。本明細書中において、前記フッ素含有率は下記式で表される。前記フッ素原子を有する重合性単量体のフッ素原子を有する基の好ましい一例として、下記一般式Iで表される部分構造を有する化合物が挙げられる。このような部分構造を有する化合物を採用することにより、繰り返しパターン転写を行ってもパターン形成性に優れ、かつ、組成物の経時安定性が良好となる。一般式I一般式I中、nは1~8の整数を表し、好ましくは4~6の整数である。前記フッ素原子を有する重合性単量体の好ましい他の一例として、下記一般式IIで表される部分構造を有する化合物が挙げられる。もちろん、一般式Iで表される部分構造と、一般式IIで表される部分構造の両方を有していてもよい。一般式II一般式II中、L1は単結合または炭素数1~8のアルキレン基を表し、L2は炭素数1~8のアルキレン基を表し、m1およびm2はそれぞれ、0または1を表し、m1およびm2の少なくとも一方は1である。m3は1~3の整数を表し、pは1~8の整数を表し、m3が2以上のとき、それぞれの、-CpF2p1は同一であってもよいし異なっていてもよい。前記L1およびL2は、それぞれ、炭素数1~4のアルキレン基であることが好ましい。また、前記アルキレン基は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において置換基を有していてもよい。前記m3は、好ましくは1または2である。前記pは4~6の整数が好ましい。以下に、本発明の組成物で用いられる前記フッ素原子を有する重合性単量体の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。前記フッ素原子を有する重合性単量体としては、トリフルオロエチルアクリレート、ペンタフルオロエチルアクリレート、パーフルオロブチルエチルアクリレート、パーフルオロブチル-ヒドロキシプロピルアクリレート、パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、パーフルオロオクチルエチルアクリレート、テトラフルオロプロピルメタアクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタアクリレート等のフッ素原子を有する単官能重合性単量体が挙げられる。また、前記フッ素原子を有する重合性単量体としては、2,2,3,3,4,4-ヘキサフロロペンタンジメタアクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフロロヘキサンジメタアクリレートなどのフロロアルキレン基を有するジメタアクリレートを有する2以上の重合性官能基を有する多官能重合性単量体も好ましい例として挙げられる。また、含フッ素基、例えばフロロアルキル基、フロロアルキルエーテル基を1分子中に2つ以上有する化合物も好ましく用いることができる。フロロアルキル基、フロロアルキルエーテル基を1分子中に2つ以上有する化合物として好ましくは下記一般式IIIで表される重合性単量体である。一般式III一般式III中、R1は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはシアノ基を表し、水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。Aはa1a2価の連結基を表し、好ましくはアルキレン基および/またはアリーレン基を有する連結基であり、さらにヘテロ原子を含む連結基を含有していても良い。ヘテロ原子を有する連結基としては-O-、-C=OO-、-S-、-C=O-が挙げられる。これらの基は本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において置換基を有していても良いが、有していない方が好ましい。Aは、炭素数2~50であることが好ましく、炭素数4~15であることがより好ましい。a1は1~6の整数を表し、好ましくは1~3、さらに好ましくは1または2である。a2は2~6の整数を表し、好ましくは2または3、さらに好ましくは2である。R2およびR3はそれぞれ単結合または炭素数1~8のアルキレン基を表す。m1およびm2はそれぞれ、0または1を表し、m3は1~3の整数を表す。a1が2以上のとき、それぞれのAは同一であってもよいし、異なっていても良い。a2が2以上のとき、それぞれのR2、R3、m1、m2、m3は同一であっても良いし、異なっていても良い。Rfはフロロアルキル基、フロロアルキルエーテル基を表し、好ましくは炭素数1~8のフロロアルキル基、炭素数3~20のフロロアルキルエーテル基である。2シリコン原子を有する重合性単量体前記シリコン原子を有する重合性単量体が有する含シリコン官能基としては、トリアルキルシリル基、鎖状シロキサン構造、環状シロキサン構造、籠状シロキサン構造などが挙げられ、他の成分との相溶性、モールド剥離性の観点から、トリメチルシリル基またはジメチルシロキサン構造を有する官能基が好ましい。シリコン原子を有する重合性単量体としては3-トリストリメチルシリルオキシシリルプロピルメタアクリレート、トリメチルシリルエチルメタアクリレート、メタアクリロキシメチルビストリメチルシロキシメチルシラン、メタアクリロキシメチルトリストリメチルシロキシシラン、3-メタアクリロキシプロピルビストリメチルシロキシメチルシラン、メタアクリロイル基を末端あるいは側鎖に有するポリシロキサン例えば信越化学工業社製X-22-164シリーズ、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-2475などが挙げられる。これらのほか、本発明で用いることができる重合性単量体としては、プロペニルエーテルおよびブテニルエーテルを用いることもできる。前記プロペニルエーテルまたはブテニルエーテルとしては、例えば1-ドデシル-1-プロペニルエーテル、1-ドデシル-1-ブテニルエーテル、1-ブテノキシメチル-2-ノルボルネン、1-4-ジ1-ブテノキシブタン、1,10-ジ1-ブテノキシデカン、1,4-ジ1-ブテノキシメチルシクロヘキサン、ジエチレングリコールジ1-ブテニルエーテル、1,2,3-トリ1-ブテノキシプロパン、プロペニルエーテルプロピレンカーボネート等が挙げられる。また、本発明で用いる重合性単量体として、下記一般式で表される重合性単量体群も例示される。一般式中、Zは芳香族基を含有する分子量100以上の基を表し、R1は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表す。但し、重合性単量体Axが25°Cにおいて液体であるとき、25°Cにおける粘度が500mPas以下である。R1は、好ましくは、水素原子またはアルキル基であり、水素原子またはメチル基が好ましく、硬化性の観点から、水素原子がさらに好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示され、フッ素原子が好ましい。Zは、好ましくは置換基を有していても良いアラルキル基、置換基を有していても良いアリール基、または、これらの基が連結基を介して結合した基である。ここでいう連結基は、ヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよく、好ましくは、-CH2-、-O-、-C=O-、-S-およびこれらの組み合わせからなる基である。Zに含まれる芳香族基としてはフェニル基が好ましく、フェニル基のみが含まれていることが好ましい。多環芳香族基、ヘテロ芳香族基に比べフェニル基のみの方が粘度が低くパターン形成性が良好で、且つパーティクル欠陥を抑制できる。Zの分子量としては100~300であることが好ましく、より好ましくは120~250である。重合性単量体に含まれる重合性基の数と芳香族基の数は重合性基の数≦芳香族基の数であることが粘度、ドライエッチング耐性の点から好ましい。この際、ナフタレンなどの縮合芳香環は1つの芳香族基として数え、ビフェニルのような2つの芳香環が結合を解して連結している場合、2つの芳香族基として数える。重合性単量体が25°Cにおいて液体であるときの25°Cにおける粘度としては2~500mPasが好ましく、3~200mPasがより好ましく、3~100mPasが最も好ましい。重合性単量体は25°Cにおいて液体であるか、固体であっても融点が60°C以下であることが好ましく、25°Cにおいて液体であることがより好ましい。Zは-Z1-Z2で表される基であることが好ましい。ここで、Z1は、単結合または炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Z2は、置換基を有していてもよい芳香族基であり、分子量90以上である。Z1は、好ましくは、単結合またはアルキレン基であり、該アルキレン基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Z1は、より好ましくは、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含まないアルキレン基であり、さらに好ましくはメチレン基、エチレン基である。ヘテロ原子を含む連結基としては-O-、-C=O-、-S-およびこれらとアルキレン基の組み合わせからなる基などが挙げられる。また、炭化水素基の炭素数は1~3であることが好ましい。Z2は、分子量が15以上の置換基を有する芳香族基であることが好ましい。Z2に含まれる芳香族基の一例として、フェニル基及びナフチル基が挙げられ、分子量が15以上の置換基を有するフェニル基がより好ましい例として挙げられる。Z2は、単環の芳香族基から形成される方が好ましい。Z2は、2つ以上の芳香族基が、直接にまたは連結基を介して連結した基であることも好ましい。この場合の連結基も、好ましくは、-CH2-、-O-、-C=O-、-S-およびこれらの組み合わせからなる基である。芳香族基が有していても良い置換基としては、置換基の例としては例えばハロゲン原子フッ素原子、クロロ原子、臭素原子、ヨウ素原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、カルボキシル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、ヒドラジノ基、ヘテロ環基などが挙げられる。又、これらの基によってさらに置換されている基も好ましい。本発明における重合性単量体は25°Cにおいて液体であることが好ましく、重合性単量体は25°Cにおいて液体である時、25°Cにおける粘度が500mPas以下である。より好ましくは25°Cにおける粘度が300mPas以下であり、更に好ましくは200mPas以下であり、最も好ましくは100mPas以下である。一般式で表される化合物の光硬化性組成物中における添加量は、10~100質量であることが好ましく、20~100質量であることがより好ましく、30~80質量であることが特に好ましい。一般式で表される化合物は、下記一般式IIで表される化合物であることが好ましい。一般式II中、R1は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表し、X1は単結合または炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Y1は分子量15以上の置換基を表し、n1は0~3の整数を表す。但し、n1が0のときは、X1は炭素数2以上の炭化水素基である。Arは、芳香族基、または芳香族連結基を表し、フェニル基またはフェニレン基が好ましい。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。X1は、上記Z1と同義であり、好ましい範囲も同義である。Y1は、分子量15以上の置換基であり、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子などが挙げられる。これら置換基は更なる置換基を有していても良い。n1が0のときは、X1は炭素数2または3のアルキレン基であることが好ましく、n1が2のときは、X1は単結合または炭素数1の炭化水素基であることが好ましい。特に、好ましい様態としてはn1が1で、X1は炭素数1~3のアルキレン基である。一般式IIで表される化合物は、さらに好ましくは、下記一般式IIIで表される化合物である。一般式III中、R1は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表す。X1は単結合または炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Y1は分子量15以上の置換基を表し、n1は0~3の整数を表す。但し、n1が0のときは、X1は炭素数2以上の炭化水素基である。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。X1は、上記Z1と同義であり、好ましい範囲も同義である。Y1は、上記一般式IIにおけるY1と同義であり、好ましい範囲も同義である。n1は、上記一般式IIにおけるn1と同義であり、好ましい範囲も同義である。一般式IIIで表される化合物は、さらに好ましくは、IV~VIのいずれかで表される化合物である。一般式IVで表される化合物一般式IV中、R1は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表す。X2は単結合、または、炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Y2は分子量15以上の芳香族基を有さない置換基を表し、n2は0~3の整数を表す。但し、n2が0のときは、X2は炭素数2または3の炭化水素基である。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。X2は、炭化水素基である場合、炭素数1~3の炭化水素基であることが好ましく、置換又は無置換の炭素数1~3のアルキレン基であることが好ましく、無置換の炭素数1~3のアルキレン基であることがより好ましく、エチレン基であることがさらに好ましい。このような炭化水素基を採用することにより、より低粘度で低揮発性を有する光硬化性組成物とすることが可能になる。Y2は分子量15以上の芳香族基を有さない置換基を表し、Y1の分子量の上限は80以下であることが好ましい。Y2としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、シクロヘキシル基などの炭素数1~6のアルキル基、クロロ基、ブロモ基などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、シクロヘキシルオキシ基などの炭素数1~6のアルコキシ基が好ましい例として挙げられる。n2は、0~2の整数であることが好ましい。n2が1の場合、置換基Yはパラ位にあるのが好ましい。また、粘度の観点から、n2が2のときは、X2は単結合もしくは炭素数1の炭化水素基が好ましい。一般式IVで表される化合物はメタアクリレート基を1つ有する単官能メタアクリレートであることが好ましい。低粘度と低揮発性の両立という観点から、一般式IVで表されるメタアクリレート化合物の分子量は175~250であることが好ましく、185~245であることがより好ましい。また、一般式IVで表されるメタアクリレート化合物の25°Cにおける粘度が10mPas以下であることが好ましく、6mPas以下であることがより好ましい。一般式IVで表される化合物は、反応希釈剤としても好ましく用いることができる。一般式IVで表される化合物の光硬化性組成物中における添加量は、組成物の粘度や硬化後のパターン精度の観点から10質量以上であることが好ましく、15質量以上であることがより好ましく、20質量以上であることが特に好ましい。一方、硬化後のタッキネスや力学強度の観点からは、添加量は95質量以下であることが好ましく、90質量以下であることがより好ましく、85質量以下であることが特に好ましい。以下に、一般式IVで表される化合物を例示するが、本発明がこれらに限定されるものではないことは言うまでも無い。一般式Vで表される化合物一般式V中、R1は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表し、X3は単結合、または、炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。Y3は分子量15以上の芳香族基を有する置換基を表し、n3は1~3の整数を表す。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。X1は、上記Z1と同義であり、好ましい範囲も同義である。Y3は、分子量15以上の芳香族基を有する置換基を表し、芳香族基を有する置換基としては芳香族基が単結合、あるいは連結基を介して一般式Vの芳香環に結合している様態が好ましい。連結基としては、アルキレン基、ヘテロ原子を有する連結基好ましくは-O-、-S-、-C=OO-、あるいはこれらの組み合わせが好ましい例として挙げられ、アルキレン基または-O-ならびにこれらの組み合わせからなる基がより好ましい。分子量15以上の芳香族基を有する置換基としてはフェニル基を有する置換基であることが好ましい。フェニル基が単結合または上記連結基を介して結合している様態が好ましく、フェニル基、ベンジル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、フェニルチオ基が特に好ましい。Y3の分子量は好ましくは、230~350である。n3は、好ましくは、1または2であり、より好ましくは1である。一般式Vで表される化合物の組成物中における添加量は、10質量以上であることが好ましく、20質量以上であることがより好ましく、30質量以上であることが特に好ましい。一方、硬化後のタッキネスや力学強度の観点からは、添加量は90質量以下であることが好ましく、80質量以下であることがより好ましく、70質量以下であることが特に好ましい。以下に、一般式Vで表される化合物を例示するが、本発明がこれらに限定されるものではないことは言うまでも無い。一般式VIで表される化合物一般式VI中、X6はn61価の連結基であり、R1は、それぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子である。R2およびR3は、それぞれ、置換基であり、n4およびn5は、それぞれ、0~4の整数である。n6は1または2であり、X4およびX5は、それぞれ、炭化水素基であり、該炭化水素基は、その鎖中にヘテロ原子を含む連結基を含んでいてもよい。X6は、n61価の連結基を表し、好ましくは、アルキレン基、-O-、-S-、-C=OO-、およびこれらのうちの複数が組み合わさった連結基である。アルキレン基は、炭素数1~8のアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数1~3のアルキレン基である。また、無置換のアルキレン基が好ましい。n6は、好ましくは1である。n6が2のとき、複数存在する、R1、X5、R2は、それぞれ、同一であってもよいし、異なっていても良い。X4およびX5は、は、それぞれ、連結基を含まないアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数1~5のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数1~3のアルキレン基であり、最も好ましくはメチレン基である。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。R2およびR3は、それぞれ、置換基を表し、好ましくは、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基である。アルキル基としては、炭素数1~8のアルキル基が好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示され、フッ素原子が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数1~8のアルコキシ基が好ましい。アシル基としては、炭素数1~8のアシル基が好ましい。アシルオキシ基としては、炭素数1~8のアシルオキシ基が好ましい。アルコキシカルボニル基としては、炭素数1~8のアルコキシカルボニル基が好ましい。n4およびn5は、それぞれ、0~4の整数であり、n4またはn5が2以上のとき、複数存在するR2およびR3は、それぞれ、同一でも異なっていても良い。一般式VIで表される化合物は、下記一般式VIIで表される化合物が好ましい。X6は、アルキレン基、-O-、-S-および、これらのうちの複数が組み合わさった連結基であり、R1は、それぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子である。R1は、上記一般式のR1と同義であり、好ましい範囲も同義である。X6がアルキレン基である場合、炭素数1~8のアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数1~3のアルキレン基である。また、無置換のアルキレン基が好ましい。X6としては、-CH2-、-CH2CH2-、-O-、-S-が好ましい。本発明に用いられる光硬化性組成物中における一般式VIで表される化合物の含有量は、特に制限はないが、硬化性、組成物粘度の観点から、全重合性単量体中、1~100質量が好ましく、5~70質量がさらに好ましく、10~50質量が特に好ましい。以下に、一般式VIで表される化合物を例示するが、本発明がこれらに限定されるものではないことは言うまでも無い。下記式中におけるR1はそれぞれ、一般式VIにおけるR1と同義であり、好ましい範囲も同義であり、特に好ましくは水素原子である。さらにまた、本発明で用いられる重合性単量体として、下記一般式で表される重合性単量体群も例示される。一般式中、X1~X3はそれぞれ独立に単結合または連結基を表す。Meはメチル基を表す。X1~X3が連結基の場合、好ましくは、有機連結基であり、炭素数1~50の有機連結基であることが好ましい。有機連結基の具体例としては、オキシアルキレン基、-O-C=O-、アルキレン基およびこれらの2以上の組み合わせからなる基が挙げられる。オキシアルキレン基としては、エチレンオキシド基、プロピレンオキシド基が例示される。また、アルキレン基としては、プロピレン基、ブチレン基、ペンチル基、ヘキシル基等が例示される。X1~X3は単結合であることが好ましい。一般式で表される化合物は25°Cにおいて液体状であることが好ましいが、液体状でなくてもよい。以下に本発明における重合性単量体の具体例を示す。m1、m2、m3、n1、n2、n3は、それぞれ、0~10の整数を表し、m1、m2、m3、n1、n2およびn3の和は、1よりも大きい化合物であるか、該和の平均が1より大きい化合物の混合物である。l1、l2、l3は、それぞれ、0~10の整数を表し、k1、k2、k3は、それぞれ、3~6の整数を表し、l1、l2およびl3の和は、1よりも大きい化合物であるか、該和の平均が1より大きい化合物の混合物である。さらにまた、下記一般式で表される重合性単量体群も、本発明で用いられる重合性単量体として例示される。[式中、Arは置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、Xは単結合または有機連結基を表し、R1は水素原子またはメチル基を表し、nは2または3を表す。]一般式中、前記アリーレン基としてはフェニレン基、ナフチレン基などの炭化水素系アリーレン基;インドール、カルバゾールなどが連結基となったヘテロアリーレン基などが挙げられ、好ましくは炭化水素系アリーレン基であり、更に好ましくは粘度、エッチング耐性の観点からフェニレン基である。前記アリーレン基は置換基を有していてもよく、好ましい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、水酸基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アミド基、スルホンアミド基が挙げられる。前記Xの有機連結基としては、鎖中にヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基が挙げられる。その中でも、アルキレン基、オキシアルキレン基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。前記Xとしては、単結合またはアルキレン基であることが特に好ましい。前記R1は水素原子またはメチル基であり、好ましくは水素原子である。nは2または3であり、好ましくは2である。前記重合性単量体が下記一般式I-aまたはI-bで表される重合性単量体であることが、組成物粘度を低下させる観点から好ましい。[式中、X1、X2は、それぞれ独立に単結合または炭素数1~3の置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、R1は水素原子またはメチル基を表す。]前記一般式I-a中、前記X1は、単結合またはメチレン基であることが好ましく、メチレン基であることが粘度低減の観点からより好ましい。前記X2の好ましい範囲は、前記X1の好ましい範囲と同様である。前記R1は一般式におけるとR1と同義であり、好ましい範囲も同様である。前記重合性単量体は25°Cにおいて液体であると、添加量を増やした際にも異物の発生が抑制でき好ましい。好ましい重合性単量体の具体例を示す。R1は一般式におけるとR1と同義であり、水素原子またはメチル基を表す。なお、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。これらの重合性単量体の中でも、A重合性単量体としては、メタアクリレート化合物が、組成物粘度、光硬化性の観点から好ましく、アクリレートがより好ましい。また、本発明では、重合性官能基を2つ以上有する多官能重合性単量体が好ましい。本発明では特に、単官能メタアクリレート化合物と多官能メタアクリレート化合物の配合比が、重量比で80/20~0/100が好ましく、70/30~0/100がより好ましく、40/60~0/100であることが好ましい。適切な比率を選択することで、十分な硬化性を有し、且つ組成物を低粘度とすることができる。前記多官能メタアクリレート化合物において、前記2官能メタアクリレートと前記3官能以上のメタアクリレートの比率は、質量比で100/0~20/80が好ましく、より好ましくは100/0~50/50、さらに好ましくは100/0~70/30である。前記3官能以上のメタアクリレートは前記2官能メタアクリレートよりも粘度が高いため、前記2官能メタアクリレートが多い方が本発明における用硬化性組成物の粘度を下げられるため好ましい。A重合性単量体としては芳香族構造および/または脂環炭化水素構造を有する置換基を含有している化合物を含むことがエッチング耐性の観点から好ましく、芳香族構造および/または脂環炭化水素構造を有する重合性単量体をA成分中50質量以上含有していることがより好ましく、80質量以上含有していることがさらに好ましい。芳香族構造を有する重合性単量体としては、芳香族構造を有するメタアクリレート化合物が好ましい。芳香族構造を有するメタアクリレート化合物としては、ナフタレン構造を有する単官能メタアクリレート化合物、例えば1-または2-ナフチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルメチルメタアクリレート、1-または2-ナフチルエチルメタアクリレート、芳香環上に置換基を有するベンジルアクリレートなどの単官能アクリレート、カテコールジアクリレート、キシリレングリコールジアクリレートなどの2官能アクリレートが特に好ましい。脂環炭化水素構造を有する重合性単量体としてはイソボロニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、アダマンチルメタアクリレート、トリシクロデカニルメタアクリレート、テトラシクロドデカニルメタアクリレートなどが好ましい。また、A重合性単量体として、メタアクリレートを用いる場合、メタクリレートよりも、アクリレートの方が好ましい。本発明における用硬化性組成物中におけるA重合性単量体の総含有量は、硬化性改善、本発明における用硬化性組成物の粘度改善の観点から、溶剤を除いた全成分中、50~99.5質量が好ましく、70~99質量がさらに好ましく、90~99質量が特に好ましい。本発明における用硬化性組成物は、A重合性単量体成分に関し、より好ましくは25°Cにおける粘度が3~100mPasである重合性単量体の含有量が全重合性単量体に対し80質量以上であることが好ましく、3~70mPasの重合性単量体が80質量以上であることがより好ましく、7~50mPasの重合性単量体が80質量以上であることが特に好ましく、8~30mPasの重合性単量体が80質量以上であることが最も好ましい。本発明における用硬化性組成物に含まれるA重合性単量体は、25°Cにおいて液体である重合性単量体が全重合性単量体中50質量以上であることが経時安定性の観点で好ましい。B光重合開始剤本発明における用硬化性組成物は、光重合開始剤を含む。本発明に用いられる光重合開始剤は、光照射により上述のA重合性単量体を重合する活性種を発生する化合物であればいずれのものでも用いることができる。光重合開始剤としては、カチオン重合開始剤、ラジカル重合開始剤が挙げられ、ラジカル重合開始剤が好ましい。また、本発明において、光重合開始剤は複数種を併用してもよい。本発明に用いられる光重合開始剤の含有量は、溶剤を除く全組成物中、例えば、0.01~15質量であり、好ましくは0.1~12質量であり、さらに好ましくは0.2~7質量である。2種類以上の光重合開始剤を用いる場合は、その合計量が前記範囲となる。光重合開始剤の含有量が0.01質量以上であると、感度、解像性、ラインエッジラフネス性、塗膜強度が向上する傾向にあり好ましい。一方、光重合開始剤の含有量を15質量以下とすると、光透過性、着色性、取り扱い性などが向上する傾向にあり、好ましい。染料および/または顔料を含む系では、これらがラジカルトラップ剤として働くことがあり、光重合性、感度に影響を及ぼす。その点を考慮して、これらの用途では、光重合開始剤の添加量が最適化される。一方で、本発明に用いられる組成物では、染料および/または顔料は必須成分でなく、光重合開始剤の最適範囲がインクジェット用硬化性組成物や液晶ディスプレイカラーフィルタ用硬化性組成物等の分野のものとは異なる場合がある。本発明で使用されるラジカル光重合開始剤としては、例えば、市販されている開始剤を用いることができる。これらの例としては、例えば、特開平2008-105414号公報の段落番号0091に記載のものを好ましく採用することができる。この中でもアセトフェノン系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、オキシムエステル系化合物が硬化感度、吸収特性の観点から好ましい。アセトフェノン系化合物として好ましくはヒドロキシアセトフェノン系化合物、ジアルコキシアセトフェノン系化合物、アミノアセトフェノン系化合物が挙げられる。ヒドロキシアセトフェノン系化合物として好ましくはCiba社から入手可能なIrgacure登録商標2959でもよい。露光に際しては、露光照度を1mW/cm2~50mW/cm2の範囲にすることが好ましい。1mW/cm2以上とすることにより、露光時間を短縮することができるため生産性が向上し、50mW/cm2以下とすることにより、副反応が生じることによる永久膜の特性の劣化を抑止できる傾向にあり好ましい。露光量は5mJ/cm2~1000mJ/cm2の範囲にすることが望ましい。5mJ/cm2未満では、露光マージンが狭くなり、光硬化が不十分となりモールドへの未反応物の付着などの問題が発生しやすくなる。一方、1000mJ/cm2を超えると組成物の分解による永久膜の劣化の恐れが生じる。さらに、露光に際しては、酸素によるラジカル重合の阻害を防ぐため、チッソ窒素やアルゴンなどの不活性ガスを流して、酸素濃度を100mg/L未満に制御してもよい。本発明のパターン形成方法においては、光照射によりパターン形成層を硬化させた後、必要に応じて硬化させたパターンに熱を加えてさらに硬化させる工程を含んでいてもよい。光照射後に本発明の組成物を加熱硬化させる熱としては、150~280°Cが好ましく、200~250°Cがより好ましい。また、熱を付与する時間としては、5~60分間が好ましく、15~45分間がさらに好ましい。[パターン]上述のように本発明のパターン形成方法によって形成されたパターンは、液晶ディスプレイLCDなどに用いられる永久膜構造部材用のレジストやエッチングレジストとして使用することができる。また、前記永久膜は、製造後にガロン瓶やコート瓶などの容器にボトリングし、輸送、保管されるが、この場合に、劣化を防ぐ目的で、容器内を不活性なチッソ、またはアルゴンなどで置換しておいてもよい。また、輸送、保管に際しては、常温でもよいが、より永久膜の変質を防ぐため、-20°Cから0°Cの範囲に温度制御してもよい。勿論、反応が進行しないレベルで遮光することが好ましい。また、本発明における用硬化性組成物を用いたパターンは、耐溶剤性も良好である。本発明における用硬化性組成物は多種の溶剤に対する耐性が高いことが好ましいが、一般的な基板製造工程時に用いられる溶剤、例えば、25°CのN-メチルピロリドン溶媒に10分間浸漬した場合に膜厚変動を起こさないことが特に好ましい。本発明のパターン形成方法によって形成されたパターンは、エッチングレジストとしても有用である。本発明における用硬化性組成物をエッチングレジストとして利用する場合には、まず、基材として例えばSiO2等の薄膜が形成されたシリコンウエハ等を用い、基材上に本発明のパターン形成方法によってナノオーダーの微細なパターンを形成する。その後、ウェットエッチングの場合にはフッ化水素等、ドライエッチングの場合にはCF4等のエッチングガスを用いてエッチングすることにより、基材上に所望のパターンを形成することができる。本発明における用硬化性組成物は、フッ化炭素等を用いるドライエッチングに対するエッチング耐性も良好であることが好ましい。以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。本実施例で用いた重合性単量体の25°Cにおける粘度および1気圧における沸点を下記に示した。粘度の測定は、東機産業株社製のRE-80L型回転粘度計を用い、25±0.2°Cで測定した。単位は、mPasで示した。本実施例では、以下の材料を採用した。A1重合性単量体:m-キシリレンジアクリレートの合成蒸留水1000mlに水酸化ナトリウム411gを加え、これに氷冷下アクリル酸781gを滴下して加えた。これにベンジルトリブチルアンモニウムクロリド107g、α,α’-ジクロロメタキシレン600g加え、85°Cで7時間反応させた。反応液に酢酸エチル1600ml加え有機層を1塩酸水溶液、1テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、蒸留水で洗浄し、有機層に重合禁止剤としてp-ベンゾキノン0.01g添加し、有機層を溶剤含量が1質量以下になるまで真空濃縮し、重合性単量体A1を得た。A1の粘度は25°Cにおいて9.5mPasであった。A2重合性単量体:2-ナフチルメチルアクリレートの合成窒素気流下2-メチルナフタレン600gを酢酸エチル6000mlに溶解させ、これに1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン422gを加え40°Cに加熱した。これに和光純薬工業製V-65を7.4g、添加し40°Cで7時間反応した。その後反応液を65°Cで3時間反応し、放冷した。反応液を炭酸水素ナトリウム水溶液、蒸留水で洗浄した後、濃縮した。これにイソプロパノール3600ml加え、30分攪拌した後、蒸留水900mlを加えさらに30分攪拌した。析出した固体を濾取し、これにイソプロパノール1800ml加え、30分攪拌した後、蒸留水450mlを加えさらに30分攪拌した。固体を濾取、乾燥すると2-ブロモメチルナフタレンが300g得られた。蒸留水200mlに水酸化ナトリウム81.4gを加え、これに氷冷下アクリル酸147gを滴下して加えた。これにベンジルトリブチルアンモニウムクロリド42.4g、2-ブロモメチルナフタレン300gを加え、75°Cで2時間反応させた。反応液に酢酸エチル/ヘキサン=2/8体積比800ml加え有機層を1塩酸水溶液、1テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、蒸留水で洗浄し、有機層に重合禁止剤としてp-ベンゾキノン0.01g添加し、有機層を溶剤含量が1質量以下になるまで真空濃縮し、重合性単量体A2を得た。A2の粘度は25°Cにおいて10.3mPasであった。A3下記化合物A4下記化合物A5下記化合物B1光重合開始剤:IRGACURE379EGBASF社製B2光重合開始剤:IRGACURE-OXE01BASF社製ここでA3、A5の粘度は25°Cにおいてそれぞれ230.1mPas、32.7mPasであった。A4、B1およびB2は25°Cで固体であった。C1フッ素系界面活性剤:メガファックF176大日本インキ化学工業株製C2シリコン系界面活性剤:ポリシロキサンポリマーKP-341信越化学工業株製S1溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEAS2溶剤:γ-ブチロラクトンS3溶剤:シクロヘキサノンS4溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルPGMES5溶剤:乳酸エチルS6溶剤:2-ヘプタノンS7溶剤:プロピレンカーボネートS8溶剤:ジイソペンチルエーテルインプリント用硬化性組成物の作製下記表に示す配合割合で、各成分を配合して、液Dおよび液D’を調整した。得られた液を下記表に示すフィルターを通過させた。液Dと液D’の2種類を調整した処方については、両者を混合した。その後、さらに、下記表に示す、濾過後に加える化合物を添加した。添加後、下記表に示すフィルターを濾過させて、インプリント用硬化性組成物を得た。このときの、印加圧力は、流速が0.05L/分となるよう調製した。上記と同様の方法によって粘度を測定した。UPEは、超高分子量ポリエチレンを、PTFEは、ポリテトラフルオロエチレンをそれぞれ示している。インプリント用硬化性組成物の総流量は、それぞれ1Lとした。得られた組成物について、以下の評価を行った。<経時安定性>得られた硬化性組成物について、遮光した状態で4°C、23°C、30°C、45°Cの各温度で180日間静置した後、液中のパーティクル数をリオン社製パーティクルカウンターKS-41にてカウントし、下記式で計算されるパーティクル増加数を評価した。パーティクル増加数=経時後のパーティクル数-パーティクル初期値パーティクル数としては、硬化性組成物1ml中の0.25μm以上のパーティクル密度を測定し、下記のとおり評価した。○:1個未満△:1個以上5個未満×:5個以上結果を下記表に示す。表では、順に、4°C、23°C、30°C、45°Cで保存したときの評価を示す。<塗布欠陥>上記で調整した硬化性組成物を8インチシリコン基板上にスピンコートして塗布膜を作成し、365nmの光を含有する水銀ランプ光にて、露光照度10mW/cm2、露光量200mJ/cm2で硬化させることで膜厚100nmの硬化膜を得た。ケーエルエーテンコール社製の欠陥検査装置KLA2360商品名を用いて欠陥検査装置のピクセルサイズを0.25umに、また閾値を10に設定して、ランダムモードにて得られた硬化膜の観察を行ない、各実施例のウエハ中の欠陥を検出した。得られた結果を下記のとおり評価した。A:欠陥密度が0.01個/cm2未満B:0.01個/cm2以上0.1個/cm2未満C:0.1個/cm2以上1個/cm2未満D:1個/cm2以上10個/cm2未満E:10個/cm2以上<パターン剥がれ>上記で調製した硬化性組成物を8インチシリコン基板上にスピンコートして膜厚100nmの塗布膜を作成し、これに40nmのライン/スペース1/1を有し、溝深さが80nmのパターンを有し、表面がパーフロロポリエーテル構造を有するシランカップリング剤ダイキン社製、オプツールHD1100で離型処理されたモールドを乗せ、窒素気流下1MPaの圧力でモールドを組成物に押し付けながら365nmの光を含有する水銀ランプ光にて、露光照度10mW/cm2、露光量200mJ/cm2で硬化させ、硬化後、ゆっくりモールドを剥がした。得られたパターンを走査型顕微鏡にて観察し、パターンの剥がれを以下のように評価した。結果を下記表に示す。A:パターンの欠損が全くみられなかった。B:パターンの欠損がみられる領域が、パターン形成面積中1未満であった。C:パターンの欠損がみられる領域が、パターン形成面積中1以上3未満であった。D:パターンの欠損がみられる領域が、パターン形成面積中3以上10未満であった。E:パターンの欠損がみられる領域が、パターン形成面積中10未満であった。上記表から明らかなとおり、本発明の製造方法を用いた場合、モールド剥離時のパターンの剥がれを抑制できることが分かった。また同時に、塗布性および経時でのパーティクル抑制に優れていることが分かった。"