基板に隣接する空間に投与した液体を通して、パターン付与装置によるパターンを基板に投影するように構成されたリソグラフィ投影装置において、基板上の液体を霧化させるために、超音波ビームを基板に向けて発するように構成された超音波トランスデューサーを有するリソグラフィ投影トランスデューサー装置。前記超音波トランスデューサーが、気体状媒体中に超音波ビームを発するように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。前記超音波トランスデューサーが、独立して駆動される2つの部分を有する請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。前記超音波トランスデューサーの前記2つの部分が、基板の表面、または、その近傍で干渉するビームを発するように構成されている請求項3に記載されたリソグラフィ投影装置。前記空間の周囲に対して実質的に平行な方向で離隔配置された2つの超音波トランスデューサーを有する請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。前記空間に対して実質的に半径方向に離隔配置された2つの超音波トランスデューサーを有する請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。前記超音波トランスデューサーが、1MHz~50MHzの周波数を有する超音波ビームを発するように構成された請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。前記超音波トランスデューサーが、圧電、圧歪、磁歪および容量性のトランスデューサーを含む群から選択された種類のものである請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。前記基板の表面上の液体を検出するように構成されたセンサと、前記センサの出力に応答して超音波ビームの振幅、周波数、位相、または、それらの組み合わせを制御するように構成された制御装置とを更に有する請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。前記超音波トランスデューサーのインピーダンスを検出するように構成されたセンサと、前記センサの出力に応答して超音波ビームの振幅、周波数、位相、または、それらの組み合わせを制御するように構成された制御装置とを更に有する請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。放射線ビームを調整するように構成された照明装置と、放射線の横断面にパターンを与えて、パターン付与された放射線ビームを作るように構成されたパターン付与装置を保持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記パターン付与された放射線ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影系と、前記基板上に前記液体を供給して、前記投影系と前記基板との間の空間を少なくとも部分的に液体で満たすように構成された液体供給系と、前記基板上の液体を霧化させるために、前記基板に向けて超音波ビームを発するように構成された超音波トランスデューサーとを有するリソグラフィ投影装置。前記超音波トランスデューサーが、超音波ビームを気体状媒体中に発するように構成されている請求項11に記載されたリソグラフィ投影装置。前記超音波トランスデューサーが、独立して駆動される2つの部分を有する請求項11に記載されたリソグラフィ投影装置。前記超音波トランスデューサーが、前記基板の前記表面、または、その近傍で干渉するビームを発するように構成されている請求項11に記載されたリソグラフィ投影装置。前記超音波トランスデューサーが、1MHz~50MHzの範囲の周波数を有する超音波ビームを発するように構成されている請求項11に記載されたリソグラフィ投影装置。前記基板の表面上の液体を検出するように構成されたセンサと、前記センサの出力に応答して前記超音波ビームの振幅、周波数、位相、または、それらの組み合わせを制御するように構成された制御装置とを有する請求項11に記載されたリソグラフィ投影装置。前記超音波トランスデューサーのインピーダンスを検出するように構成されたセンサと、前記センサの出力に応答して前記超音波ビームの振幅、周波数、位相、または、それらの組み合わせを制御するように構成された制御装置とを有する請求項11に記載されたリソグラフィ投影装置。基板に隣接する空間に投与した液体を通して、パターン付与された放射線ビームを基板に発射する段階と、前記基板上の液体を霧化させるために、前記基板に向けて超音波ビームを投影する段階とを含むデバイス製造方法。前記超音波ビームを気体状媒体中に発射する段階を含む請求項18に記載されたデバイス製造方法。前記基板の表面、または、その近傍で干渉する2つの超音波ビームを発射する段階を含む請求項18に記載されたデバイス製造方法。前記空間の周囲に対して実質的に平行な方向で離隔配置された2つの超音波トランスデューサーから超音波ビームを発射する段階を含む請求項18に記載されたデバイス製造方法。前記空間に対して実質的に半径方向に離隔配置された2つの超音波トランスデューサーから超音波ビームを発射することを含む請求項18に記載されたデバイス製造方法。前記超音波ビームが、1MHz~50MHzの範囲の周波数を有する請求項18に記載されたデバイス製造方法。前記基板の表面上の液体を検出する段階と、前記液体の検出に応答して、前記超音波ビームの振幅、周波数、位相、または、それらの組み合わせを制御する段階とを更に含む請求項18に記載されたデバイス製造方法。前記超音波ビームの発生に用いるトランスデューサーのインピーダンスを検出する段階と、前記インピーダンスの検出に応答して、前記超音波ビームの振幅、周波数、位相、または、それらの組み合わせを制御する段階とを更に含む請求項18に記載されたデバイス製造方法。したがって、例えば、浸漬リソグラフィ装置において、基板から残留液体を除去する手法を提供すると好都合である。本発明の一観点によれば、基板に隣接する空間に投与した液体を通して、パターン付与装置によるパターンを基板に投影するように構成されたリソグラフィ投影装置が提供され、該装置は、基板上の液体を霧化させるために、基板に向けて超音波ビームを発するように構成された超音波トランスデューサーを有する。本発明の一観点によれば、以下のリソグラフィ投影装置が提供される。放射線ビームを調整するように構成された照明装置と、放射線の横断面にパターンを与えて、パターン付与された放射線ビームを作るように構成されたパターン付与装置を保持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記パターン付与された放射線ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影系と、前記基板上に前記液体を供給して、前記投影系と前記基板との間の空間を少なくとも部分的に液体で満たすように構成された液体供給系と、前記基板上の液体を霧化させるために、前記基板に向けて超音波ビームを発するように構成された超音波トランスデューサーとを有するリソグラフィ投影装置。本発明の一観点によれば、基板に隣接する空間に投与した液体を通して、パターン付与された放射線ビームを基板に発射する段階と、前記基板上の液体を霧化させるために、前記基板に向けて超音波ビームを投影する段階とを含むデバイス製造方法が提供される。次に、添付の模式図を見ながら、単なる例示としての本発明の具体例について説明する。図面では対応する部品に同じ符号を付した。図1は、本発明の一具体例であるリソグラフィ装置を模式的に示す。このリソグラフィ装置は、放射線ビームPB例えば、UV放射線またはDUV放射線を調整するように構成された照明系照明装置ILと、パターン付与装置例えばマスクMAを支持し、かつ、特定のパラメータに従って正確にパターン付与装置の位置決めを行うように構成された第一位置決め装置PMに連結を行った支持構造例えばマスクテーブルMTと、基板例えばレジスト塗布したウェハWを支持し、かつ、特定のパラメータに従って正確に基板の位置決めを行うように構成された第二位置決め装置PWに連結を行った基板テーブル例えばウェハテーブルWTと、パターン付与装置MAによって放射線ビームPBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C例えば、一つまたはそれ以上のダイから成るに投影するように構成された投影系例えば屈折性投影レンズ系PLとを含む。照明系は、放射線の誘導、成形、または、制御を行うために、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気、または、その他の種類の光学構成要素、または、それらの組み合わせ等、各種光学構成要素を含むことができる。支持構造は、パターン付与装置を支持つまり、その重量を担持する。これは、パターン付与装置の方向、リソグラフィ装置の設計、および、その他の条件、例えばパターン付与装置が真空環境中で保持されているか否かに応じた方法で、パターン付与装置を保持する。支持構造は、パターン付与装置を保持するために、機械的、真空、静電気、または、その他の締着技術を利用できる。支持構造は、例えばフレームまたはテーブルであってよく、これは必要に応じて、固定式、または、可動式であってよい。支持構造は、パターン付与装置が、例えば投影系などに対して所望の位置にあることを保証することができる。本明細書で用いる用語レチクルまたはマスクは、一般的な用語であるパターン付与装置と同義であると考えてよい。本明細書で用いる用語パターン付与装置は、基板の目標部分にパターンを作成するべく、放射線ビームの横断面にパターンを付与するために用いることのできるデバイスを指すものとして広義に解釈すべきである。放射線ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが移相シフトフィーチャー、または、所謂アシストフィーチャーを含む場合、基板の目標部分における所望パターンに正確に対応しないことがある点に留意すべきである。一般に、放射線ビームに付与されるパターンは、集積回路などの目標部分に作られるデバイスの特別な機能層に相当する。パターン付与装置は透過性または反射性であってよい。パターン付与装置の例には、マスク、プログラム可能なミラーアレイ、および、プログラム可能なLCDパネルがある。マスクはリソグラフィ技術において周知であり、これには、各種ハイブリッドマスクのみならず、バイナリマスク、レベンソンマスク、減衰位相シフトマスク等のマスクも含まれる。プログラム可能なミラーアレイの一例では、マトリクス配列された小ミラーが用いられる。その各ミラーは、異なる方向に入射する放射線ビームを反射するように個々に傾斜できる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射線ビームにパターンを付与する。本明細書で用いる用語投影系は、例えば使用する露光放射線、または、浸漬流体の使用、真空の使用等のその他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学系、反射光学系、反射屈折光学系、磁気光学系、電磁気光学系および静電気光学系を含む各種投影系を網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において、用語投影レンズを使用した場合、これはさらに一般的な用語投影系と同義であると考えてよい。ここで示されるとおり、本リソグラフィ装置は透過型である例えば透過マスクを用いる。あるいはまた、装置は反射型であってもよい例えば、前記で言及したような形式のプログラム可能なミラーアレイを用いるか、または、反射性マスクを用いる。リソグラフィ装置は2つデュアルステージまたはそれ以上の基板テーブルおよび/または2つもしくはそれ以上のマスクテーブルを有する形式である。このような多段機械では、追加のテーブルが並列して使用されるか、または、一つ以上のその他のテーブルが露光に使用されている間に予備工程が一つ以上のテーブルにて実行される。図1を見ると、照明装置ILは放射線源SOから放射線ビームを受け取る。放射線源とリソグラフィ装置とは、例えば、放射線源がエキシマレーザである場合に、別体であってよい。このような場合、放射線源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射線ビームは、例えば適切な集光ミラーおよび/またはビーム拡張器などを含むビーム送出系BDの助けにより、放射線源SOから照明装置ILへと渡される。他の場合、例えばソースが水銀ランプの場合は、放射線源が装置の一体部品でもよい。放射線源SOおよび照明装置ILは、必要に応じてビーム送出系BDとともに放射線系と呼ぶことができる。照明装置ILは、放射線ビームの角度強度分布を調節するように構成された調節装置ADを含んでよい。一般的に、照明装置の瞳面における強度分布の外部および/または内部放射範囲一般に、それぞれ、外側σおよび内側σと称するを調節することができる。また、照明装置ILは、積分器INおよびコンデンサCOのような他の様々な構成要素を含む。照明装置は、その断面に亘り所望する均一性と強度分布とを有するように、放射線ビームの調整に使用することができる。放射線ビームPBは、支持構造例えばマスクテーブルMT上に保持されているパターン付与装置例えばマスクMAに入射し、パターン付与装置によってパターン形成される。放射線ビームPBはマスクMAを通り抜けて、基板Wの目標部分C上にビームを集束する投影系PLを通過する。第二位置決め装置PWおよび位置センサIF例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量性センサの助けにより、基板テーブルWTは、例えば放射線ビームPBの経路における異なる目標部分Cに位置を合わせるために正確に運動可能である。同様に、第一位置決め装置PMおよび別の位置センサ図1には明示的に図示せずを使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、あるいは走査運動の間に、放射線ビームPBの経路に対してマスクMAを正確に位置決めすることができる。一般的に、マスクテーブルMTの運動は、第一位置決め装置PMの部分を形成する長ストロークモジュール粗動位置決めおよび短ストロークモジュール微動位置決めにて行われる。同様に、基板テーブルWTの運動は、第二位置決め装置PWの部分を形成する長ストロークモジュールおよび短ストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、マスクテーブルMTは短ストロークアクチュエータに連結されるだけであるか、または固定される。マスクMAおよび基板Wは、マスク位置あわせマークM1、M2および基板位置あわせマークP1、P2を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板位置あわせマークは、専用の目標位置を占有するが、目標部分の間の空間に配置してもよいスクライブレーン位置合せマークと呼ばれる。同様に、マスクMAに複数のダイを設ける状況では、マスク位置合せマークをダイ間に配置してもよい。ここで説明した装置は以下のモードのうち少なくとも一つにて使用可能である。1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは、基本的に静止状態に保たれている。そして、放射線ビームに与えたパターン全体が1回で目標部分Cに投影されるすなわち1回の静止露光。次に基板テーブルWTがx方向および/またはy方向にシフトされ、異なる目標部分Cが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。2.走査モードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期走査する一方、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影するつまり1回の動的露光。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影系PLの拡大縮小および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の非走査方向における幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の走査方向における高さを決定する。3.別のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラム可能なパターン付与装置を保持し、放射線ビームに付与されたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動くか、または、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルWTを動かす都度、または、走査中に連続する放射線パルス間に、プログラム可能なパターン付与装置を必要に応じて更新する。この動作モードは、前記形式のプログラム可能なミラーアレイなどのプログラム可能なパターン付与装置を使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。前記使用モードの組合せ、および/または、変形、または全く異なる使用モードを使用してもよい。局所的液体供給系を有するさらなる浸漬リソグラフィの解決策が図4に示されている。液体は、2つの溝入口INによって投影系PLのいずれかの側に供給され、入口INの半径方向外側に構成された複数の個別出口OUTによって除去される。入口INおよびOUTは、中心に穴があり、投影される投影ビームが通るプレートに構成することができる。液体は、投影系PLの一方側にある一つの溝入口INによって供給されて、投影系PLの他方側で複数の個別出口OUTによって除去され、これにより投影系PLと基板Wの間に薄膜状の液体の流れを引き起こす。どの組み合わせの入口INと出口OUTを使用するかの選択は、基板Wの運動方向によって決定することができる他の入口INと出口OUTの組み合わせは非作動である。提案する局所的液体供給系を有する別の浸漬リソグラフィの解決策は、液体供給系に、投影系の最終部材と基板テーブルの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延在する液体閉じ込め構造体を設けることである。このようなシステムが図5に図示されている。液体閉じ込め構造体は、XY面で投影系に対してほぼ静止状態であるが、Z方向光軸の方向では多少の相対的運動があってよい。液体閉じ込め構造体と基板表面の間にシールを形成する。実施形態では、シールは気体シールのような非接触シールである。気体シールがあるこのようなシステムが、米国特許出願第US10/705783号で開示されているその全記載内容を本明細書の記載として援用する。図5はリザーバ液貯溜部10の構成を示し、これは液体が基板表面と投影系の最終部材との間の空間を満たすために閉じ込められるように、投影系の像フィールドの周囲で基板に対する非接触シールを形成する。投影系PLの最終部材の下に位置決めされ、これを囲む液体閉じ込め構造体12がリザーバを形成する。液体は、投影系の下で、液体閉じ込め構造体12の中の空間へと搬送される。液体閉じ込め構造体12は、投影系の最終部材の少し上に延在し、液体レベルが最終部材の上へ上昇して、緩衝液になる。液体閉じ込め構造体12は内周面を有し、その上端が、好適には、投影系またはその最終部材の形状に正確に一致する内周面は、例えば、丸くてよい。底部において、内周面は、像フィールドの形状例えば、長方形に正確に一致するが、必須ではない。液体は、液体閉じ込め構造体12の底部と基板Wの表面との間の気体シール16によってリザーバ内に閉じ込められる。気体シールは、加圧状態で入口15を介して液体閉じ込め構造体12と基板の間のギャップに提供され、第1出口14を介して抽出される空気、合成空気、N2または不活性ガス等の気体で形成される。気体入口15へと過剰圧力、第1出口14の負圧レベル、およびギャップの幾何学的形状は、液体を閉じ込める内側への高速の気体流があるように構成される。当業者であれば、液体を保持するためにその他の種類のシールを使用できることが判るだろう。図6は、本発明の一具体例による液体供給系IHを示す。液体供給系は液体閉じ込め構造体22を有し、これは液体11を投影系PLの最終部材と基板Wとの間の空間に閉じ込める。液体閉じ込め構造体22は、基板の上に50μm~300μm等の小さい距離に担持され、液体11の流出を制約するシール装置23を有する。これは、液体11を閉じ込めるために気体または液体の流れを使用する気体または液体シールでよく、代替的に別個に支持、および/または、起動される液体閉じ込め構造体の支承部としても作用することができる。シール装置を完全に効果的にすることは一般的に困難であるので、基板が矢印Sの方向に移動例えば走査するにつれ、おそらくは厚さ10μmのオーダーの薄膜状液体11aが残される可能性が高い。この膜の相対的高さは、明快さを期して図6では誇張されている。この膜を移動するために、液体閉じ込め構造体22の下面に超音波トランスデューサー24を設ける。超音波トランスデューサー24は、液体閉じ込め構造体22の下に存在する気体例えば空気を通して基板へと、一つの実施形態では1MHzを超え、場合によっては50MHzもある周波数の超音波ビーム25を放射する。超音波ビーム25は液体層11aを霧化し、基板の表面から液体を解放する。液体は、霧化および霧化した液体の搬送によって、基板をほとんど冷却することなく除去される。このようにして生じた蒸発は、基板に直接影響しない可能性が高い。霧化した液体をシール装置23に向かって搬送し、望ましくないことである装置の部品への逃げを防止するために、気体供給部26によって気体例えば空気27の流れを提供してよい。本発明の一または複数の実施形態では、シール装置23の抽出部品が十分な気体流を設定して、この機能を実行することができる。一例では、超音波トランスデューサー24は個別に駆動される2つの部品24a、24bによって形成される。これらの部品の相対的位相を制御して、液体層11aの表面に超音波ビームを集束する。音響センサまたは光学センサ等のセンサ28を設けて、液体層11aの存在および/またはその上面の位置を検出することができる。追加的または代替的に、過度な熱を発生せずに液体層を効率的および効果的に除去することを保証し、超音波ビームの周波数の関数である発生した液体小滴のサイズを制御するために、センサ28を使用して、超音波トランスデューサーの2つの部品24a、24bの振幅、周波数および/または位相を制御することができる。トランスデューサーの2つの部分によって放射されるビーム間の干渉効果を利用して、霧化を向上させることができる。主要周波数の高調波を使用して、除去効果を向上させることができる。液体を除去すべき基板の1cm2ごとに数十ワットの電力を入力してよいが、超音波ビームの周波数は、リソグラフィ装置を妨害しないほどに十分高い。適切な形式のトランスデューサーには、圧電、圧歪、磁歪および容量型トランスデューサーがある。液体閉じ込め構造体22の周囲にその幾何学的形状、および基板の予想される運動方向に従って複数のトランスデューサーを隔置することができる。交差指電極トランスデューサーを使用し、必要に応じてトランスデューサーの幾つかの同心リングを使用することができる。液体層11aを検出するセンサの代わりに、トランスデューサーのインピーダンスを監視してもよい。液体層11aへの超音波ビーム25の適切な結合が、トランスデューサー24のインピーダンスを変化させるからである。欧州特許出願第03257072.3号では、ツインまたはデュアルステージ浸漬リソグラフィ装置の概念が開示されている。このような装置には、基板を支持する2つのテーブルを設ける。浸漬液なしで第1位置にあるテーブルでレベリング測定を実行し、浸漬液が存在する状態で、第2位置にあるテーブルで露光を実行する。あるいは、装置は一つしかテーブルを有しなくてもよい。本文ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置が他の多くの用途においても使用可能であることは明確に理解されるべきである。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用ガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッド等の製造に使用され得る。こうした代替的な用途の状況においては、本文にて使用したウェハまたはダイといった用語は、それぞれ基板または目標部分といった、より一般的な用語に置き換えて使用可能である。本明細書で言及する基板は、露光前または露光後に、例えばトラック通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツールまたは計測または検査ツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ICを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指す。本明細書では、放射線およびビームという用語は、紫外線UV放射線例えば、365nm、248nm、193nm、157nm、または126nmの波長を有するを含むあらゆる種類の電磁放射線を網羅するものとして使用される。レンズという用語は、状況が許せば、屈折および反射光学構成要素を含む各種光学構成要素のいずれか、またはそれらの組み合わせを指す。以上、本発明の具体例について説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実行できる。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の一つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、または自身内にこのようなコンピュータプログラムを有するデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気または光ディスクの形態をとることができる。本発明の一または複数の実施形態は、任意の浸漬リソグラフィ装置に、特に排他的ではないが前記形式に適用可能である。液体供給系は、投影系と基板および/または基板テーブルの間の空間に液体を提供する任意の機構である。一または複数の構造、一または複数の液体入口、一または複数の気体入口、一または複数の気体出口および一または複数の出口の任意の組み合わせを有してよく、その組み合わせは液体を空間に提供し、閉じ込める。実施形態では、空間の表面が基板および/または基板テーブルの一部に制限されるか、空間の表面が基板および/または基板テーブルの表面を完全に覆うか、空間が基板および/または基板テーブルを囲むことができる。以上の説明は例示的であり、制限的ではない。したがって、特許請求の範囲から逸脱することなく、本発明の変更を行ない得る。