複数のトラックが同心円状に形成されるように、データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが、所定のクロックに応じた間隔でドット状に形成された部分であり、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が1ドットごとに径方向及び周方向に分離されており、前記サーボ部は、磁気記録媒体においてトラック位置及び/又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、前記サーボパターンの少なくとも一部には、基準クロックを生じさせる同期信号生成部が形成されており、各々のトラック内において、前記データパターンのクロックが、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍であることを特徴とする原盤。前記データパターンのクロックと前記同期信号生成部のパターンの基準クロックとが一致しており、各々のトラック内にて前記サーボ部から前記データ部へと移行する場合において、前記同期信号生成部により同期信号が発生してから前記データ部の末端に至るまで、前記基準クロックに応じた間隔でドット状のパターンが形成されていることを特徴とする請求項1に記載の原盤。請求項1又は2に記載の原盤からインプリントにより製造されたことを特徴とするワーキングモールド。複数のトラックが同心円状に形成されるように、データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤の製造方法において、前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが、基準クロックに応じた間隔でドット状に形成された部分であり、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が1ドットごとに径方向及び周方向に分離されており、前記サーボ部は、磁気記録媒体においてトラック位置及び/又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、前記サーボパターンの少なくとも一部には、基準クロックを生じさせる同期信号生成部が形成されており、各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部の基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする原盤の製造方法。請求項4に記載の製造方法により製造された原盤からインプリントによりワーキングモールドを製造することを特徴とするワーキングモールドの製造方法。磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、前記基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動手段と、磁気記録媒体においてトラック位置及び/又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を、前記基板上のサーボ部に対して電子ビームを照射することによって行い、且つ、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンに対応したドット状の露光を、複数のトラックが同心円状に形成され且つ1ドットごとに径方向及び周方向に分離されるように、所定のクロックに応じた間隔で前記基板上のデータ部に対して行う露光手段と、を備え、前記露光手段により、前記サーボパターンの少なくとも一部として、基準クロックを生じさせる同期信号生成部となる形状の露光を行い、各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする電子ビーム露光装置。前記露光手段による電子ビームの照射は、前記移動手段によって線速一定に行うことを特徴とする請求項6に記載の電子ビーム露光装置。前記露光手段から照射される電子ビームを偏光する電子ビーム偏光手段を更に備え、前記電子ビーム偏光手段により、前記データパターンのクロックが、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍となる部分に電子ビームを照射することを特徴とする請求項6又は7に記載の電子ビーム露光装置。前記データパターンのクロックと前記同期信号生成部のパターンの基準クロックとが一致しており、各々のトラック内にて前記サーボ部から前記データ部へと移行する場合において、前記同期信号生成部により同期信号が発生してから前記データ部の末端に至るまでに存在するドット状のパターンは、前記基準クロックに応じた間隔で形成されていることを特徴とする請求項6ないし8のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光方法において、一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動工程と、磁気記録媒体においてトラック位置及び/又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を、前記基板上のサーボ部に対して電子ビームを照射することによって行い、且つ、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンに対応したドット状の露光を、複数のトラックが同心円状に形成され且つ1ドットごとに径方向及び周方向に分離されるように、所定のクロックに応じた間隔で前記基板上のデータ部に対して行う露光工程と、を備え、前記露光工程において、前記サーボパターンの少なくとも一部として、基準クロックを生じさせる同期信号生成部となる形状の露光を行い、各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする電子ビーム露光方法。近年、このパターンドメディアが有するパターンサイズは、ますます微細化されてきている。この微細化により、磁気記録媒体におけるデータの読み書き等において以下の不具合が発生することが、本発明者らの手により発見されている。この不具合について、図1を用い、ドット状のパターン以降、単にドットとも言うを形成した場合を想定して具体的に説明する。なお、バツ印×は、原盤の同期信号生成部に形成されたパターンのパターン中心であり、白丸○は、原盤のデータ部における実際の位置に形成されたドットパターンであり、黒丸●は、検出器によりドットが実際に検出されることになってしまう位置である。図1aに示すように、例えばドット状の凸部磁性部が磁気記録媒体上に、設計通りに形成されていたとする。設計通りにパターンが形成されていれば、通常だとエラーは起こらないはずである。しかしながら、磁気記録装置を用いた場合、同期信号生成部221aにて生成された同期信号と同じ周期クロックにて、データ部21を認識することになる。逆に言うと、磁気記録媒体においてはこの同期信号に応じた部分しか読み書きを行うことができない。つまり、図1bに示すように、データ部21における最初のドットAから25nm間隔即ち同期信号のクロックで配置されたドットパターンの周期配置破線部分に対応する部分においてでしか、磁気記録媒体の読み書きを行うことができない。なお、本実施形態におけるクロックとは、サーボ部からデータ部21へと進む方向即ちトラック進行方向において一定周期で形成されたデータパターンまたはサーボパターンの周期のことである。図1bcの場合、同期信号生成部221aのクロックは距離に換算すると25nmである。本実施形態においては、データパターンにおける周期を単にクロックとも呼ぶこととする。また、最終的に磁気記録媒体が作製された後に、磁気記録媒体における同期信号生成部221aに対応する部分から得られる情報により生成される同期信号の周期、即ち同期信号の基となるサーボパターンの周期を基準クロックと呼ぶ。一方、上述のように仮に設計通りにパターンが形成したとしても、図1bに示す破線部分に、実際にはデータ部21におけるドット○が存在するというわけではない。図1bに示す破線部分に、ドットの中心点が存在しないと以下の不具合が発生する。つまり、この磁気記録媒体の読み書きの際、同期信号生成部221aにて生成された基準クロックと、同期信号検出部221bにてデータパターンの検出を開始後の、データ部21におけるドットパターン配置のクロックと一致していない。これに起因して、磁気記録装置がドットの位置を正確に認識できない可能性が生じる図1bとcのズレ参照。具体例で説明すると、図1bのドットAの中心は、記録媒体上の読み書き可能な部分破線部分、即ち基準クロック上に存在するため、問題なく読み書きできる。その一方で、それに隣接するドットBの中心点が、図1bに示す破線部分に存在していない。この場合、ドットBが本来読み書きを行いたかった部分ではなく、同期信号のクロックに応じて離間した隣のドットB’の部分で読み書きを行ってしまうという現象が起こる。このように、磁気記録媒体上にアナログ的にパターンを形成したにもかかわらず、その読み書きや検査段階ではデジタル的認識を行うため、データが丸められ量子化誤差が生じる。その結果、位置ズレが発生してしまう。以降、この位置ズレのことをデータ転び又は単に転びとも言う。なお、ドット状パターンを用いた磁気記録媒体の場合、読み書き等の位置ズレにおいては、ドット径の10程度が許容範囲であると考えられている。現在、電子ビーム露光を用いて、ドット径が12.5nm程度のパターン形成が必要とされている。そのため、1.25nm程度の位置ズレしか許容できない。それにもかかわらず、先ほど例示した図1cに示すように、隣接するドットBとドットCとで互いに近づく方向であるドットB’とC’にデータが転んでしまうと、図1の同期信号生成部221aの基準クロックが25nmであることから鑑みて、ドットBとB’のとの間では基準クロックの約1/4の位置ズレ約6nm、そしてドットCとC’との間では基準クロックの約半分の位置ズレ約12nmが発生し、データ部21の位置ズレは少なくとも合計18nm以上になってしまい、読み書きの際のエラーの発生確率が極めて高くなってしまう。この不具合は、単に磁性記録媒体の読み書きエラーを発生させるのみならず、原盤又はワーキングモールドを製造するモールド製造工程から出荷工程に至るまでにおいて深刻な事態を招くおそれがある。例えば、設計通りのパターンを有する原盤又はワーキングモールドが作製できたとしても、まず、同期信号の基準クロックの関係で、上述のようなエラーが生じるおそれがある。その上、上述のように磁気記録媒体を作製するに至る最終段階でエラーが生じるおそれもある。そもそも、設計通りに微細パターンを形成したにも関わらず、その後の磁気記録媒体の段階でエラーが発生するため、製品としての磁気記録媒体の歩留まりが低下するどころか、このエラーの原因究明のために多くの時間や労力を費やさなければならず、場合によっては基となるモールドを含めて全ての工程を再検討し、作製し直さなければならないおそれすらある。本発明の主たる目的は、同期信号の基準クロックとデータパターンのクロックの差に起因する磁気記録装置における読み書きエラーの発生を抑制する原盤及びその製造方法、ワーキングモールド及びその製造方法、電子ビーム露光装置、並びに電子ビーム露光方法を提供することにある。上述の通り、本発明者らは、同期信号生成部221aにて生成された同期信号の周期が、データ部21におけるドットパターン配置の周期と一致していないことにより、データの転びが磁気記録媒体の製造工程全体において重大な影響を及ぼすという知見を得た。この知見を基に、本発明者らはまず、磁気記録装置のマスタークロックを高くすることによりこの課題を解決する手段について検討した。しかし、磁気記録装置のマスタークロックは有限である上、マスタークロックを高くした磁気記録装置は著しく高額となる。それに加え、磁気記録媒体が搭載されるハードディスク回路では低コストの回路設計が求められているという事情もある。この事情に反して高額な装置を用いると、磁気記録媒体そのものに価格を上乗せすることになる。そのため、上述の手段はコスト面で難がある。そこで本発明者らは、同期信号生成部221aにて生成される同期信号の基準クロックを、原盤の作製段階から予め考慮に入れておく、という知見を得た。具体的には、同期信号検出部221bにてデータパターンの検出を開始してからのデータパターンのクロックが、前記同期信号生成部221aのパターンの基準クロックの自然数倍とする。そして、データ転びの発生を抑制すべく、図1bcに示すような破線部分に必ずデータパターンが配置されるよう原盤を最初から作製しておく、という手段を想到した。この手段によって、原盤作製後に用いる装置において発生するエラーを予め抑制することが、原盤作製の段階において保証できることを、本発明者らは見出した。この知見に基づいて成された本発明の態様は、以下の通りである。本発明の第1の態様は、複数のトラックが同心円状に形成されるように、データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが、所定のクロックに応じた間隔でドット状に形成された部分であり、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が1ドットごとに径方向及び周方向に分離されており、前記サーボ部は、磁気記録媒体においてトラック位置及び/又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、前記サーボパターンの少なくとも一部には、基準クロックを生じさせる同期信号生成部が形成されており、各々のトラック内において、前記データパターンのクロックが、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍であることを特徴とする原盤である。本発明の第2の態様は、第1の態様に記載の態様であって、前記データパターンのクロックと前記同期信号生成部のパターンの基準クロックとが一致しており、各々のトラック内にて前記サーボ部から前記データ部へと移行する場合において、前記同期信号生成部により同期信号が発生してから前記データ部の末端に至るまで、前記基準クロックに応じた間隔でドット状のパターンが形成されていることを特徴とする。本発明の第3の態様は、第1又は第2の態様に記載の原盤からインプリントにより製造されたことを特徴とするワーキングモールドである。本発明の第4の態様は、複数のトラックが同心円状に形成されるように、データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤の製造方法において、前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが、基準クロックに応じた間隔でドット状に形成された部分であり、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が1ドットごとに径方向及び周方向に分離されており、前記サーボ部は、磁気記録媒体においてトラック位置及び/又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、前記サーボパターンの少なくとも一部には、基準クロックを生じさせる同期信号生成部が形成されており、各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部の基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする原盤の製造方法である。本発明の第5の態様は、第4の態様に記載の製造方法により製造された原盤からインプリントによりワーキングモールドを製造することを特徴とするワーキングモールドの製造方法である。本発明の第6の態様は、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、前記基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動手段と、磁気記録媒体においてトラック位置及び/又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を、前記基板上のサーボ部に対して電子ビームを照射することによって行い、且つ、磁気記録媒体において情報の記録を行うための前記データ領域の基となるデータパターンに対応したドット状の露光を、複数のトラックが同心円状に形成され且つ1ドットごとに径方向及び周方向に分離されるように、所定のクロックに応じた間隔で前記基板上のデータ部に対して行う露光手段と、を備え、前記露光手段により、前記サーボパターンの少なくとも一部として、基準クロックを生じさせる同期信号生成部となる形状の露光を行い、各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする電子ビーム露光装置である。本発明の第7の態様は、第6の態様に記載の態様であって、前記露光手段による電子ビームの照射は、前記移動手段によって線速一定に行うことを特徴とする。本発明の第8の態様は、第6又は第7の態様に記載の態様であって、前記露光手段から照射される電子ビームを偏光する電子ビーム偏光手段を更に備え、前記電子ビーム偏光手段により、前記データパターンのクロックが、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍となる部分に電子ビームを照射することを特徴とする。本発明の第9の態様は、第6ないし第8のいずれかの態様に記載の態様であって、前記データパターンのクロックと前記同期信号生成部のパターンの基準クロックとが一致しており、各々のトラック内にて前記サーボ部から前記データ部へと移行する場合において、前記同期信号生成部により同期信号が発生してから前記データ部の末端に至るまでに存在するドット状のパターンは、前記基準クロックに応じた間隔で形成されていることを特徴とする。本発明の第10の態様は、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光方法において、一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動工程と、磁気記録媒体においてトラック位置及び/又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を、前記基板上のサーボ部に対して電子ビームを照射することによって行い、且つ、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンに対応したドット状の露光を、複数のトラックが同心円状に形成され且つ1ドットごとに径方向及び周方向に分離されるように、所定のクロックに応じた間隔で前記基板上のデータ部に対して行う露光工程と、を備え、前記露光工程において、前記サーボパターンの少なくとも一部として、基準クロックを生じさせる同期信号生成部となる形状の露光を行い、各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする電子ビーム露光方法である。本発明によれば、同期信号の基準クロックとデータパターンのクロックの差に起因する磁気記録装置における読み書きエラーの発生を抑制できる。以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。本実施形態においては、次の順序で説明を行う。1.原盤基板の構造a原盤上のサーボ部b原盤上のデータ部2.電子ビーム露光装置の基本構成機構系の構成、制御系の構成3.電子ビーム露光装置の基本動作4.電子ビーム露光装置の制御方法電子ビーム露光方法を含む5.実施の形態による効果6.変形例<1.原盤基板の構造>図2は、露光の対象となる基板4の構造の一例を示すもので、図中Aは平面図、Bは側断面図を示している。本実施形態において、基板4は、複数のトラックを有する磁気記録媒体を製造するため、又は複数のトラックを有する磁気記録媒体の製造に用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤となる基板である。その材質について言えば、本実施形態においては、石英ガラス基板を用いて構成されるものである。また、基板4の平面形状は円形即ち円盤状になっている。基板4の一方の主面上面には、感光膜の一例としてのレジスト膜18を形成してある。本実施形態においては、レジスト膜18は、ポジ型レジストを使用する。ポジ型レジストを用いた場合、電子ビームの照射によって露光された部分が、その後の現像処理によって溶解除去されることになる。ポジ型レジストは、一般的にネガ型レジストに比べて、電子ビームに対する感度が高く、得られる解像度も高いため、これを用いてレジスト膜18を形成成膜した方が好ましいが、ネガ型レジストを用いても構わない。本実施形態においては、ポジ型レジストを用いてレジスト膜18を形成してあるものとする。基板4は、レジスト膜18が形成されている領域成膜領域のほぼ全部を露光の対象にしても良いし、当該領域の一部を露光の対象にしても良い。ここでは一例として、基板4の物理的な中心Cpを基準にして、そこから基板4の半径方向に長さLr1までの円形領域E0を除いて、当該円形領域E0よりも外側の領域をレジスト膜18の有効領域露光対象領域19に設定している。ここで記述するレジスト膜18の有効領域19とは、電子ビーム露光後に行われる現象処理によってレジストのパターンが形成される領域をいう。このため、レジスト膜18の有効領域は、たとえば、電子ビーム露光とその後の現像処理によって得られたパターンに基づくディスク原盤を用いて、ディスク状の記録媒体を製造する場合に、当該記録媒体のディスク面に転写される領域に対応する領域製品の品質維持に必要な領域となる。そして、この有効領域19には、図3に示すように、データ部21と、前記データ部21に隣接するサーボ部22とが形成される。このサーボ部22とデータ部21とは同心円状の各トラック内において、交互に配置されている。なお、前記データ部21は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターン21’が形成された部分である。また、前記サーボ部22は、磁気記録媒体においてトラック位置及び/又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターン22’が形成された部分である。そして、本実施形態においては、データパターン21’もサーボパターン22’も凹凸によりパターンが形成されている場合について述べる。なお、以降、パターンが存在する部分に関して原盤又はワーキングモールド上に設けられたものは部という単語を使用し、例えばデータ部サーボ部、という。一方、この原盤又はワーキングモールドにより将来的に形成される磁気記録媒体におけるパターンが存在する部分については領域という単語を使用し、例えばデータ領域サーボ領域、と言うことにする。上記内容を端的に言えば、本実施形態の原盤に設けられたデータ部21及びサーボ部22の凹凸パターンが、インプリントにより磁気記録媒体に転写され、磁気記録媒体におけるデータ領域及びサーボ領域となる。以下、原盤におけるデータ部21及びサーボ部22について、サーボ部22→データ部21という順に説明する。その際、基板を円形とする関係上、図3に記載されているような、複数のトラックが同心円状に形成される場合について説明する。なお、以下の説明では、最終的に作製される磁気記録媒体における、原盤上の各部に該当する領域の機能を中心に、原盤上の各部について説明する。a原盤上のサーボ部同心円状の各トラック内での円周方向において、前記サーボ部22においては、プリアンブル部221、アドレス部222、及びバースト部223が、この配置順で構成されている。プリアンブル部前記プリアンブル部221は、磁気記録媒体において、再生信号のクロックを同期させるための情報が記録されることになる部分である。そしてこのプリアンブル部221は、同期信号生成部221aと、同期信号検出部221bを更に具備している。同期信号生成部221aは、サーボ情報を呼び出す前に、信号アンプの増幅率を調整して振幅を一定にする働き、及びA/D変換AnalogtoDigitalConverterクロック信号のサンプリングタイミングを生成する働きを有する。同期信号生成部221aは、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されており、周方向に一定の間隔で形成されている。なお、本実施形態においては、同期信号生成部221aにおけるこの周方向に一定の間隔を有するパターンの周期図3の符号Xを基準クロックとし、この基準クロックを、後述するデータ部21のパターン周期形成の際の基準にする。具体的には、データパターン21’のクロックが、同期信号生成部221aのパターンの基準クロックの自然数倍となるようにする。図3に示すように、本実施形態においては、データパターン21’のクロックが、同期信号生成部221aのパターンの基準クロックの等倍、即ちパターン周期を同期信号生成部221aと同様、Xとしている。このように、本実施形態においては、検出器を用いた時に機能を発揮する同期信号の基準クロックを予め考慮に入れ、データパターン21’のクロックが、同期信号生成部221aのパターンの基準クロックの等倍となるように、ドットを形成しておく。こうすることにより、データ転びを抑制することができる。なお、等倍以外の自然数倍の場合についての内容やその他の詳細は、後のb原盤上のデータ部、の項で詳述する。なお、ここで挙げた検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。この検出器としては、例えば磁気記録再生装置、場合によっては検査装置などが挙げられる。次に、同期信号検出部221bは、サーボ情報の開始を示す特徴的なパターンである。同期信号検出部221bは、原盤の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。そして、周方向に同期信号生成部221aに比べて長いドット長の部分を有している。この部分が、最終的に磁気記録媒体において、単一の磁性部又は数ドット長の既定符号を生成する複数の磁性部となる。以上の同期信号生成部221a及び同期信号検出部221bは、本実施形態の原盤において、一つの特徴となる部分である。同期信号生成部221aが、最終的に磁気記録媒体において磁性部となり、同期信号となる基準クロック即ち、形成されるパターンが有する所定の周期を生成することになる。更には、同期信号検出部221bが、各々のトラックのサーボ部22からデータ部21に向かう方向において、データパターン21’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン22’となる。アドレス部アドレス部222は、サーボフレーム毎のトラック番号及びセクタ番号を示すIDパターンである。磁気記録装置において、磁気ヘッドの位置するトラック位置を示す。アドレス部222は、セクタ番号を示す周方向位置では、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。なお、原盤のアドレス部222を転写された磁気記録媒体において、トラック番号の上位桁を示す周方向位置では、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、アドレス部222に対応するパターンが径方向に連続している。一方、トラック番号の下位桁を示す周方向位置では、媒体の径方向に断続的となる磁性体が形成されている。バースト部バースト部223は、シリンダアドレスのオントラック状態からのオフトラック量を検出するための磁気記録媒体におけるオフトラック検出用領域に対応する基板上部分である。バースト部223が磁気記録媒体に転写されると、この領域によって、磁気記録装置において、磁気ヘッドの位置のトラック中心からのずれ情報が検出される。磁気記録媒体においてバースト部223に対応する領域が、周方向に、特定の形状及び配列からなる磁性パターンを有し、それぞれの磁性パターンは、媒体の径方向に、トラック毎に、等間隔に配置されている。なお、同心円状の各トラック内での円周方向におけるこれらの配置順はこの順番に限られない。ただ、上述の通り、磁気記録媒体におけるプリアンブル部221にて同期信号を生成制御し、アドレス部222にて磁気記録装置における磁気ヘッドの位置するトラック位置を認識し、バースト部223にて磁気ヘッドのトラック中心からのズレ情報を記録するという役割を担っていることから、この順番が好ましい。b原盤上のデータ部本実施形態においては、前記サーボ部22に隣接するようにデータ部21が形成されている。更に詳しく言うと、円周方向において、バースト部223の後に、データ部21が形成されている。このデータ部21は、最終的に磁気記録媒体においてユーザデータを書き込み可能な領域となり、検出器の磁気ヘッドによってそれが可能となる。また、データ部21におけるデータパターン21’としては、ドットパターンである必要がある。本実施形態においては平面視円形からなるドットパターンの場合について述べる。なお、ドットパターンならば、ドットの略中心位置を基準に設定することができるという利点がある。つまり、検出器において正確に認識可能な地点にドットの略中心があれば、その地点にて最もドットを認識しやすくなる。なお、本実施形態におけるドットの略中心とは、検出器によって本来認識されるべき地点でドットが認識される程度、ドット中心に近いドット内の部分のことである。各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部21のデータパターン21’の形態は、1ドットごとに径方向及び周方向に分離されている。最終的な磁気記録媒体においては、データ領域は、磁気ヘッドによってユーザデータの書き込み可能な磁性帯を有する複数のトラックが設けられ、隣接するトラック間にはユーザデータの書き込み不能な非磁性帯が設けられている。即ち、磁気記録媒体は、磁性帯が非磁性帯によって物理的に分離されたディスクリートトラック型の記録媒体となっている。そして、本実施形態の原盤における大きな特徴は、データパターン21’のクロックが、前記同期信号生成部221aのパターンの基準クロックの自然数倍であることである。先にも述べたように、磁気記録媒体の読み書きの際、同期信号生成部221aにて生成された同期信号のクロックが、データ部21におけるドットパターン配置のクロックと一致していないことがある。これに起因して、磁気記録装置がドットの位置をずらして認識してしまうおそれが発生する。具体的には、ドットAの中心点が読み書き可能な部分に存在していたとしても、それに隣接するドットBの中心点が、図1に示す破線部分に存在しない場合が出てくる。この場合、本来読み書きを行いたかった部分ではなく、同期信号に応じて離間した隣の破線部分で読み書きを行ってしまうという現象が起こる。つまり、アナログ的にパターンを形成したにもかかわらず、読み書きや検査段階でのデジタル的認識を行うことにより位置ズレが発生してしまい、所謂データ転びが発生するおそれがある。ところが、本実施形態のように、同期信号生成部221aで生成される同期信号のクロックを、磁気記録媒体作製前の原盤段階において既に考慮に入れてドットを配置することにより、データ転びの発生を抑制することができる。例示するならば、クロックが25nmの同期信号を生成する場合、図1b~dに示すように、データパターン21’において最初に認識されるドットAからトラック進行方向において25nm、50nm、100nm、125nmの地点しかパターンを認識できない。そこで、この同期信号を予め考慮に入れ、10nmや20nmの地点にはドット略中心を配置せず、25nm、50nm、100nmの地点にドット略中心を配置している図1d。これはデータパターン21’のクロックを基準クロックの等倍とした場合である。この場合、基準クロックとデータパターン21’のクロックとが完全同一となるので、露光の際の制御も行いやすくなる。その結果、データ転びを更に確実に抑制できる。それ以外にも、図6aに示すように、基準クロックの自然数倍例えば2倍したものをデータパターン21’のクロックとすることも考えられる。データパターン21’のクロックを基準クロックの自然数倍にしておけば、図1bcに示す破線部分に必ずデータパターン21’を配置することができ、図1bからcに至るようなデータ転びの発生を抑制することができる。本実施形態の特徴は、上記の設定を、原盤の作製段階において行うことにある。そして、上述の条件においては、データパターン21’の検出を開始するタイミング合わせの基準となる同期信号検出部221bをスタート地点として、データパターン21’のクロックを、同期信号生成部221aのパターンの基準クロックの自然数倍としている。こうすることにより、上述の例示が如く、データ転びが起きないようなドット配置とすることができる。なお、上記自然数倍の上限値についてであるが、1つのトラックにおけるデータ部21の幅同心円状トラックの場合はデータ部21の周長に応じて、所定の情報を記録できる程度の数のドットを形成できる程度の倍数ならば良い。その他の部分上記以外の部分としては、データパターン21’とサーボパターン22’との間に、半径方向につながった略放射状の凸パターンからなる緩衝パターン等を設けることも考えられるが、本実施形態の効果を損なわない限り特に制限はなく、目的に応じて上記以外の部分を適宜選択することができる。トラック変化によるパターン周期の変化上述の通り、同心円状トラックにおいて、1つのトラック内においては、上記の条件を満たすことにより、最終的に磁気記録媒体でデータ転びを抑制することができる。ところが、同心円状に複数のトラックを形成する場合、外周又は内周側のトラックは円周長が変化する。そして、ドット状のパターンを作製する場合、データパターン21’におけるドット略中心の位置のクロックを、各トラックにおいて同期信号生成部221aのパターンの基準クロックの自然数倍とする。この際、上記の条件を満たすように、同期信号生成部221aやデータパターン21’が形成されている部分以外の部分例えばデータ部21とサーボ部22との間にて、ドットの個数を調整しても良い。以上が、本実施形態に係る原盤の構成についての説明である。以下、この原盤を作製するのに用いられる電子ビーム露光装置について説明する。<2.電子ビーム露光装置の基本構成>図4は、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置の構成例を示す概略図である。図示した電子ビーム露光装置1は、大きくは、電子ビームを発生する電子ビーム発生部2と、この電子ビーム発生部2で発生させた電子ビームを制御する電子ビーム制御系3と、露光の対象となる基板4を支持するステージ機構5と、このステージ機構5の駆動を制御するステージ制御系6とを備えている。なお、本実施形態においては、電子ビーム発生部2と電子ビーム制御系3とを合わせて露光手段としている。この露光手段によって、電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターン22’に対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部22に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターン21’に対応した形状の露光を前記基板上のデータ部21に行うことになる。また、ステージ機構5とステージ制御系6と合わせて移動手段としている。この移動手段によって、一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、基板4の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板4に対して相対的に移動させることになる。なお、本実施形態においてはr-θ系の回転ステージを用いるため、ステージ機構5は移動手段r方向に移動可能と回転手段θ方向に回転可能とを兼ねている。また、ステージ制御系6は、電子ビームの照射位置を被照射体となる基板4に対して相対的に移動させる機能を有する。これに加え、ステージ制御系6は、この回転手段の駆動を制御する回転制御手段である。更に、本実施形態に係る電子ビーム露光装置は、上記の構成に対して所望の動作をさせるべく、所望の数値や動作パターン、同期信号生成部221aの基準クロックのようなデータを入力するインターフェイス20を加えた構成となっている。以下、このインターフェイス20に入力されたデータに応じて動作させる各部の構成についてまずは説明する。電子ビーム発生部電子ビーム発生部2は、電子ビームの発生源となる電子銃7を用いて構成してある。電子銃7は、ステージ機構5に支持された基板4と対向する状態に配置してある。電子銃7は、電子ビームを下向きに発生するものとなっている。なお、電子ビームを基板4に照射する際の照射形状は、本実施形態においては平面視円形としている。つまり、線状のパターンを形成する際には、ステージ機構5により基板4を回転させながら基板4上のレジストに電子ビームを照射し続け、線状の露光を行う。そして、円形ドット形状に露光する場合は、瞬間的に電子ビームを照射する。電子ビーム制御系電子ビーム制御系3は、たとえば、図示のように収束レンズ8と、ブランキング電極9と、ブランキングアパーチャ10と、対物レンズ11と、偏向器12とを有している。収束レンズ8は、電子銃7から出射された電子ビームを収束させるものである。収束レンズ8は、電子銃7から基板4に至る電子ビームの軌道上において、電子銃7とブランキング電極9との間に配置してある。ブランキング電極9は、電子ビームを基板4への照射を制御するものである。ブランキング電極9に電圧を印加即ちONし、その電界によって電子ビームの軌道を制御することによって、ブランキングアパーチャ10で遮る。一方、電子ビームを基板4に電子ビームを照射する場合は、ブランキング電極9をOFFにする。ブランキング電極9は、電子銃7から基板4に至る電子ビームの軌道上において、収束レンズ8とブランキングアパーチャ10との間に配置してある。ブランキングアパーチャ10は、電子ビーム露光に際して、不要な電子ビーム成分を遮断する機能を果たすものである。ブランキングアパーチャ10は、不要な電子ビーム成分を遮断し、かつ必要な電子ビーム成分を通過させるための開口部13を一体に有している。ブランキングアパーチャ10は、電子銃7から基板4に至る電子ビームの軌道上において、ブランキング電極9と対物レンズ11偏向器12との間に配置してある。対物レンズ11は、ブランキングアパーチャ10の開口部13を通過した電子ビームの焦点を基板4に合わせるものである。対物レンズ11は、電子銃7から基板4に至る電子ビームの軌道上において、ブランキングアパーチャ10とステージ機構5との間に配置してある。偏向器12は、ブランキングアパーチャ10の開口部13を通過した電子ビームの軌道を偏向させ、所望の位置に電子ビームを照射させるものである。なお、本実施形態においては、電子ビーム制御系の内、少なくともブランキング電極9を含む部分であって、電子ビームを偏向させることに関係する部分が電子ビーム偏向手段となる。なお、上記説明は電子ビーム露光装置の主要部分のみを説明しており、実際には上記以外にも複数のアパーチャや収束レンズ、ダイナミックフォーカスレンズ等図示せずが具備されている。ステージ機構ステージ機構5は、回転ステージ14と、直動ステージ15とを用いて構成してある。回転ステージ14及び直動ステージ15は、前述したr-θ系のステージを構成している。回転ステージ14は、基板4を水平に保持するとともに、保持した基板4を回転させるものである。回転ステージ14は、たとえば、図示しないスピンドルモータ等の駆動源を用いて回転する仕組みになっている。回転ステージ14は、基板4を保持しつつ当該基板4を回転させる回転手段の一例として設けてある。なお、本実施形態においては、この回転ステージ14が回転手段となる。直動ステージ15は、水平面に平行な一軸方向以下、水平方向と記すに直線的に移動するものである。直動ステージ15は、回転ステージ14及びこれに保持した基板4と一体になって水平r方向に移動する。直動ステージ15は、回転ステージ14で保持した基板4を、この基板4の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段の一例として設けてある。ステージ制御系ステージ制御系6は、回転ステージ14を制御する回転ステージ制御部16と、直動ステージ15を制御する直動ステージ制御部17とを有している。回転ステージ制御部16は、回転ステージ14の駆動を制御するものである。更に詳述すると、回転ステージ制御部16は、たとえば、回転ステージ14の回転停止といった基本的な動作に加えて、回転ステージ14の回転数及び回転方向の制御を行う。ここで記述する回転ステージ14の回転数は、通常単位時間当たりの回転数単位;rpmで表されるものである。回転ステージ14は、回転ステージ14の回転方向の現在位置回転位相を、たとえば、電子ビーム露光装置1が備える図示しない回転位置検知センサを用いて認識する。なお、本実施形態においては、この回転ステージ制御部16が回転制御手段となる。直動ステージ制御部17は、直動ステージ15の駆動を制御するものである。更に詳述すると、直動ステージ制御部17は、たとえば、直動ステージ15の移動停止といった基本的な動作に加えて、直動ステージ15の移動速度及び移動方向の制御を行う。回転ステージ制御部16は、直動ステージ15の移動方向の現在位置を、たとえば、電子ビーム露光装置1が備える図示しない移動位置検知センサを用いて認識する。<3.電子ビーム露光装置の基本動作>次に、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置1の基本動作について説明する。まず、回転ステージ14の上に基板4を載せて固定する。このとき、回転ステージ14の回転中心と基板4の物理的な中心Cpとが一致するように、基板4を位置決めする。また、レジスト膜18が上を向くようにレジスト膜18が電子銃7と対向するように基板4を水平に配置する。次に、必要に応じて、予め設定されたイニシャライズ処理たとえば、回転ステージ14の回転方向の基準位置を検知するための処理や、直動ステージ15の移動方向の基準位置を検知するための処理などを行う。各々の基準位置は、たとえば、前述した回転位置検出センサ及び移動位置検知センサを用いて検知されるものである。次に、回転ステージ14に保持した基板4を予め決められた初期位置に配置し、そこで回転ステージ14の駆動により基板4を回転させる。そして、基板4の回転数が予め決められた値で安定したら、予め決められたタイミングで電子ビーム露光を開始する。そのときの様子を図5に示す。電子ビーム露光においては、電子銃7から出射した電子ビームを収束レンズ8で収束させるとともに、収束された電子ビームの進行をブランキング電極9で制御して、ブランキングアパーチャ10の開口部13に電子ビームを通す。更に、ブランキングアパーチャ10を通過した電子ビームのビーム径を対物レンズ11で焦点を合わせるとともに、その電子ビームの向きを偏向器12で制御する。これにより、基板4上に形成してあるレジスト膜18は、回転ステージ14の回転駆動によって同心円状に露光される。また、直動ステージ15の駆動によって基板4を水平方向に移動微動し、この移動にあわせて同心円状の露光を基板4の1回転ごとに繰り返すことにより、レジスト膜18の有効領域19全体が露光される。ただし、基板4が1回転する間に行われる同心円状の露光では、所望するピットパターンにあわせて電子ビームの照射のオンオフを切り替えるように制御する。この切り替えはブランキング電極9を用いて行う。なお、本実施形態においては、サーボ部22の一部においては線状のパターンが形成されるように電子ビームを基板4に露光する。そして、サーボ部22の他の部分及びデータ部21においては円形状のドットからなるパターンが形成されるように電子ビームを基板4に露光する。<4.電子ビーム露光装置の制御方法電子ビーム露光方法を含む>次に、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光方法を含めて、電子ビーム露光装置1の制御方法を説明する。電子ビーム露光は、上述のインターフェイス20に入力されたデータに基づき、前述したとおり回転ステージ14の駆動により基板4を回転させながら行う。このとき、回転ステージ制御部16は、たとえば露光ビームの線速が一定になるように回転ステージ14の駆動を制御する。線速一定とすることにより、パターンの認識開始部分からの距離の制御を行いやすい。その結果、より確実にデータ転びが抑制された原盤を作製することができる。ここで、同期信号生成部221aにて生成される予定の同期信号の基準クロックがインターフェイス20に入力される。そして、本実施形態においては、インターフェイス20に入力された基準クロックが、電子ビームを発生する電子ビーム発生部2と、この電子ビーム発生部2で発生させた電子ビームを制御する電子ビーム制御系3と、露光の対象となる基板4を支持するステージ機構5と、このステージ機構5の駆動を制御するステージ制御系6とに伝達される。言い換えるなら、同期信号の基準クロックは、露光手段、移動手段、回転手段、回転制御手段へと伝達される。同期信号の基準クロックが各構成に伝達された上で、この数値を考慮に入れつつ、上述の条件に対応する露光を行う。即ち、各々のトラック内において、前記データパターン21’のクロックを、前記同期信号生成部221aのパターンの基準クロックの自然数倍とするように、前記移動手段により前記基板4を移動させながら前記露光手段による露光を行う。この際、本実施形態ではポジ型レジストを用いていることから、電子ビーム偏向手段ブランキング電極9を利用して、以下のような露光を行っても良い。即ち、同期信号の基準クロックは、電子ビーム制御系を介して電子ビーム偏向手段にも伝達する。そして、上述の2つの条件を満たす場所におけるレジストに対し電子ビームが露光されるよう、ブランキング電極をOFFにする。それ以外の場所においてはブランキング電極9をONとし、レジストに電子ビームが露光されないようにしても良い。なお、上述のようにレジストに対して電子ビームを露光した後は、公知の手段を用いて凹凸からなるデータ部21及びサーボ部22を有する原盤を製造することができる。かいつまんで言うと、レジストへの露光後、現像を行い、所定のパターン形状となったレジストパターンを得る。このレジストパターンをマスクにして、レジストの下部の導電層又は直接基板4をエッチングする。導電層を設けている場合は、最終的にこの導電層にも所定のパターンを形成し、最後に基板4へとパターン転写する。そして、レジストパターンそれに加え導電層を除去し、データパターン21’を有するデータ部21、及びサーボパターン22’を有するサーボ部22を備えた原盤を得る。<5.実施の形態による効果>本実施形態では、各々のトラック内において、データパターンのクロックを、同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍とする。そして、このデータパターンの配置においては、原盤の作製段階から既に、同期信号の基準クロックを考慮に入れて原盤上のパターンを作製している。これにより、検出器による位置検出の際、同期信号の基準クロックとデータパターンのクロックの差に起因するエラーの発生を抑制できる。更には、磁気記録媒体に対して用いられる磁気記録装置のマスタークロックを高くせずとも、データ転びの発生を抑制することができる。また、相対線速度を遅くすることなく、データ転びの発生を抑制することができる。その結果、製品としての磁気記録媒体の歩留まりを向上させることができ、同期信号の基準クロックに起因するエラーのために無駄な時間や労力を費やす必要もなくなる。<6.変形例>なお、本発明の技術的範囲は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、発明の構成要件やその組み合わせによって得られる特定の効果を導き出せる範囲において、種々の変更や改良を加えた形態も含む。まず、基板4の形状であるが、円形基板以外であっても良く、例えば矩形基板や多角形基板、更には半円形状の基板であっても良い。その基板上に、複数の同心円状のトラックを設けるならばどのような形状の基板でも構わない。次に、データパターンについてであるが、本実施形態においては、原盤又はワーキングモールドの凹凸パターン一つ一つが、そのままデータ領域におけるデータパターンに対応する場合について述べた。その一方で、本実施形態の変形例として、凹凸パターン一つ一つはデータパターンにならずとも、複数の凹凸パターンによって初めてデータパターンとなる場合即ちデータパターンの基礎となるパターンも挙げられる。具体的には、ドット状のパターンを形成する場合、4個のドットを1組としてデータパターンとするように、原盤又はワーキングモールドを形成しても良い。つまりこの場合、1個のドットが素パターンとなり、4個のドットによってデータパターンが形成されても良い。つまり、ここで言うデータパターンには、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含まれる。また、本実施形態においては円形のドットにより形成されたパターンについて述べたが、矩形のドットによりパターンが形成されても良い。なお、本実施形態においては、データパターン21’がドットにより形成され、同期信号生成部221aはラインアンドスペース、即ち線状パターンにより形成された場合について述べたが、データパターン21’以外の部分のパターンは、これらの形状、又はこれら以外の形状のパターンであっても良い。更に、ドット形状のパターンと線状パターンとを混合させたサーボ部22を形成しても良い。次に、本実施形態だと、同心円状の各トラック内での円周方向において、サーボ部22においては、プリアンブル部221、アドレス部222、及びバースト部223が、この配置順で構成されている。その一方で、検出器において正常に検出できるのならば、サーボ部22はこの順番の配置でなくとも良い。また、これらの部分のうち、少なくともプリアンブル部221の同期信号生成部221aさえあれば良い。本実施形態においては、この同期信号生成部221aのおかげで、同期信号の基準クロックの自然数倍のクロックでデータパターン21’を形成できるためである。なお、同期信号検出部221bについてであるが、機能的な面では、本実施形態における同期信号検出部221bは、データパターン21’の検出を開始するタイミング合わせを行っている。一方、変形例として同期信号検出部221bを設けない場合も考えられる。例えば、図6bに示すように、磁気記録媒体において同期信号生成部221aに対応する部分のデータ読み込みが行われた後、線速一定で所定時間後にデータ領域の読み込みを開始するような配置で、基板4に対して露光を行うよう、露光装置を制御しても良い。更に、本実施形態においては同期信号生成部221aと同期信号検出部221bとをひとまとまりにしてプリアンブル部221を設けているが、両者を分離してプリアンブル部221を形成しても良い。つまり図1に示すように、データパターン直前に同期信号検出部221bを配置しても良く、各トラック内での円周方向において、同期信号生成部221a→アドレス部222→バースト部223→同期信号検出部221b→データパターン21’、という順番としても良い。また、同期信号検出部221bとデータ部21データ部21において最初に読み込まれるドットとの間の距離Yであるが、図6cのように基準クロックと同じにしても良いし、図6dのようにそれよりも小さい距離であっても良い。逆に、距離Yは基準クロックよりも自然数倍以外の倍率で大きくても良い。この場合、上述のように、線速一定で所定時間後に、データ領域の読み込みを開始するような配置で、基板4に対して露光を行うことになる。結局のところ、データパターン21’の検出開始以後のクロックが、同期信号生成部221aのパターンの基準クロックの自然数倍であれば、データ部21及びサーボ部22内、そして両者間は、どのような配置関係を有していても構わない。なお、本実施形態で記載したように、同期信号検出部221bとデータ部21との間にアドレス部222やバースト部223を設けても勿論良いし、データパターン21’の検出を開始するタイミング合わせを行う部分をバースト部223が兼ねても良い。次に、本実施形態においてはポジ型レジストを用いた場合について述べたが、ネガ型レジストを用いても良い。ネガ型レジストを用いた場合は、電子ビームの照射によって露光された部分が、現像後も除去されずに残ることになる。つまり、原盤となる基板上には、ドット状のレジスト層が形成されることとなり、ひいては基板には円柱状のドットが形成されることになる。また、最終的に作製される磁気記録媒体の構成磁性体及び非磁性体に合わせて、この円柱状のドットが形成された原盤から直接、磁気記録媒体を作製しても良い。また、パターンを一度反転させるためにこの原盤からワーキングモールドを作製し、このワーキングモールドから磁気記録媒体を作製しても良い。次に、本実施形態においては、インターフェイス20に入力された基準クロックを、露光手段、移動手段、回転手段、回転制御手段へと伝達した。その一方で、上述の条件を満たして基板4上に露光が行えるのならば、これらの内の一部にのみ、基準クロックを伝達しても良い。例えば、露光手段特に電子ビーム偏向手段にのみ基準クロックを伝達し、移動手段、回転手段及び回転制御手段においては一定動作を行わせる、という露光装置も考えられる。この場合、電子ビーム偏向手段のみに基準クロックを伝達すれば良いので、装置の簡略化を図ることができ、ひいては製造コストの減少をもたらすことができる。また、本実施形態のようにインターフェイス20を介し基準クロックを入力せず、別途、基準クロックを直接入力する手段を設けても良い。また、電子ビームの露光の順番であるが、基板4の半径方向において、電子ビーム露光は、基板4の内周側から外周側に向けて行っても良いし、逆に、基板4の外周側から内周側に向けて行っても良い。つまり、本発明を実施するにあたって、レジスト膜18の有効領域19に対する電子ビーム露光の順序は任意に変更可能である。更に、この移動手段は、電子ビーム発生部2及び電子ビーム制御系3を移動させるものであっても良い。すなわち、基板4の一主面上で電子ビームの照射位置を基板4の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段としては、基板4側を移動させるものでも良いし、電子ビーム側を移動させるものでも良いし、それら両方を移動させるものでも良い。また、電子ビームの移動は、電子ビームを偏向して行うものでも良い。また、上記実施の形態で採用した電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法は、それぞれ、DTR技術に用いられる基板ディスク原盤、スタンパ原盤などの製造装置及び製造方法として適用することが可能であり、更に当該製造装置及び製造方法を本発明の一つの態様として抽出することも可能である。