赤外線反射膜を有するガラスセラミック基板を含む、高温用途、特に炉のためのライニング材料または反射鏡材料であって、赤外線反射膜上にバリア層が、酸化および腐食性化学的侵食に対する保護層のために配置されており、赤外線反射膜の反射率の、バリア層の反射率に対する比が、800~2000nmの波長領域では平均して2を超える、ライニング材料または反射鏡材料。バリア層が窒化物を含む、特に、本質的には窒化物からなることを特徴とする、請求項1に記載のライニング材料または反射鏡材料。バリア層が、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化アルミニウムチタン、および/または窒化ジルコニウムを含むことを特徴とする、請求項2に記載のライニング材料または反射鏡材料。赤外線反射膜が、窒化チタンを含む、特に窒化チタンからなることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載のライニング材料または反射鏡材料。赤外線反射膜が、20~500nm、好ましくは50~200nmの厚さを有することを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載のライニング材料または反射鏡材料。バリア層が、5~500nm、好ましくは20~100nmの厚さを有することを特徴とする、請求項1~5のいずれか一項に記載のライニング材料または反射鏡材料。ライニング材料または反射鏡材料が、少なくとも700°Cの24時間にわたる温度負荷の後に、1100~2000nmの波長領域において常に50を超える反射率を示すことを特徴とする、請求項1~6のいずれか一項に記載のライニング材料または反射鏡材料。窒化チタンからなる赤外線反射膜を有するガラスセラミック基板を含む、特に請求項1~7のいずれか一項に記載のライニング材料または反射鏡材料。請求項1~8のいずれか一項に記載のライニング材料または反射鏡材料を含む発熱体。腐食雰囲気中における400°Cを超える温度における、特にカルコゲン含有雰囲気中での、請求項1~9のいずれか一項に記載のライニング材料または反射鏡材料の使用。-ガラスセラミック基板を準備する工程、-赤外線を反射する窒化物層、特に窒化チタン層を堆積させる工程を含む、ライニング材料または反射鏡材料、特に請求項1~10のいずれか一項に記載のライニング材料または反射鏡材料の製造方法。窒化物層を、真空プロセスにおいて、200°C以上、好ましくは350°C以上の基板温度で堆積させることを特徴とする、請求項11に記載のライニング材料または反射鏡材料の製造方法。窒化物層上にバリア層を堆積させることを特徴とする、請求項12に記載のライニング材料または反射鏡材料の製造方法。それに対して、本発明の課題は、従来技術の前記欠点が軽減されているライニング材料または反射鏡材料を供給することである。特に、赤外線を反射する特性を有し、かつ公知のライニング材料と比べて高い耐久性を有する、ライニング材料または反射鏡材料を供給することが、本発明の課題である。本発明の課題は、高温用途のためのライニング材料または反射鏡材料、ならびに独立請求項のいずれか一項に記載の、ライニング材料または反射鏡材料の製造方法によって解決される。本発明の特別な実施形態および変形形態は、各従属請求項から読み取ることができる。本発明は、特に炉用として予定されている、高温用途のためのライニング材料または反射鏡材料に関する。高温用途とは、200°Cを上回る、好ましくは400°Cを上回る使用温度と理解される。本発明による材料は、例えば、それによって装置の壁を上張りする、板またはタイル形状のライニング材料としても、例えば、セラミックラジエントヒーターをライニングするための反射鏡材料としても予定されている。この材料が、平面型でも、屈曲形状または、例えば放物線状に形成された反射鏡の形状でも供給可能であることは自明である。同様に、この材料は、例えば、中ぐり穴、ブッシュ、またはその種の他のもののようなくぼみも有していてもよい。この材料は、好ましくは、1mm超の厚さ、特に好ましくは1.5~2mmの厚さを有する。本発明によるライニング材料または反射鏡材料は、ガラスセラミック基板を含む。このガラスセラミックスは、いわゆるゼロ熱膨張材料であり、この材料は高温領域での使用に適している。例を挙げると、以下の組成のガラスセラミックを使用することができる。60~73.0重量、好ましくは50~75重量のSiO215~25.0重量のAl2O3、2.2~5.0重量のLi2O、0~5.0重量のCaOSrOBaO、0~5.0重量のTiO2、0~5.0重量のZrO2、0~4.0重量のZnO、0~3.0重量のSb2O3、0~3.0重量のMgO、0~3.0重量のSnO2、0~2.0重量のP2O5、0~1.5重量のAs2O3、0~1.2重量のNa2OK2O、ここで、それぞれの分率が以下に記載の範囲内にある:0~1.0重量のNa2O、0~0.5重量のK2Oおよび0~1.0重量の着色酸化物、任意選択で、Sb2O3、As2O3、SnO2、Ce2O3、フッ素および/または臭素のような清澄剤。ガラスセラミック基板上には赤外線反射膜が塗布されている。一方では、このコーティングは、本発明による材料を、例えばセラミック放熱器をライニングするための反射鏡材料として使用することを可能にし、他方では、本発明による材料は、装置全体、好ましくは炉をライニングするためにも使用し得る。この場合、存在する装置において、内部空間へと反射される赤外線により、製造されるべき部品へのエネルギー入力が軽減されることなく、セラミック放熱器の出熱を低下させることができる点で有利である。このように低下した出熱により、セラミック放熱器は、大幅に延長された耐用年数を示す。赤外線反射膜とは、その材料が1100~2000nmの波長領域において50以上の反射率を示すという特性を有する膜と理解される。さらに、この反射膜の上に、酸化または化学的侵食に対する保護としてバリア層が塗布されている。つまり、このバリア層は、赤外線反射膜および/または基板を酸化および腐食性侵食から保護する。このバリア層は、赤外線領域での放射線については、本質的に透過性である。したがって、赤外線反射膜の反射率の、バリア層の反射率に対する比は、800~2000nmの波長領域では、平均して2を超え、好ましくは3を超え、特に好ましくは5を超える。本発明の好ましい一実施形態では、赤外線反射膜の反射率の、バリア層の反射率に対する比は、1100~2000nm、好ましくは800~2000nmの波長領域全体において2以上であり、好ましくは3以上であり、特に好ましくは5以上である。バリア層には、赤外線中ではわずかな反射率しか示さないが、高温での化学的侵食に対しては優れた耐久性を示す材料を使用することができる。本発明による材料は、不活性であり、特に、炉内雰囲気に半導体有害物質を放出しない。このことは、好ましくは、赤外線反射材料に関しても、その上に配置されたバリア層に関しても同様に当てはまる。前記バリア層により、本発明による材料の耐久性は、化学的に侵食性の雰囲気中での高温用途においても本質的に高められているため、その使用時間は、従来の材料と比べて延長されてよく、整備サービス期間Servicezeitの間隔、つまりライニング材料を交換するまでの期間が明らかに延長され得る。好ましくは、赤外線反射膜は、セラミック基板上に直接に配置され、バリア層は、赤外線反射膜上に直接に配置されている。しかしながら、本発明による材料が、さらなる層、例えば、層のより良好な付着に役立つ中間層を含んでもよいことは自明である。好ましくは、バリア層が、複合材料とその上に塗布された層とからなる複合成分Verbundkomponenteの最外層を形成する。本発明の好ましい一実施形態では、バリア層が窒化物を含み、特に、バリア層が本質的には窒化物からなる。本発明者らは、窒化物層が、高温、および特に酸素、イオウ、またはセレンによる化学的侵食において、特に優れたバリア効果を有することを発見した。バリア層としては、通常は、有孔率1未満計算上の有孔率の層が使用される。通例、酸化物、特に酸化ケイ素が、前記腐食材料におけるバリア層用に適した材料と考えられる。しかしながら、本発明者は、酸化物層、特に酸化ケイ素からなるような酸化物層は、特に700°Cを上回る温度でこの系を分解に導き、それに対して、窒化物層を使用すると、赤外線を反射する特性は、700°C以上の熱負荷においても二義的にしか変化しないことを発見した。特に、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化アルミニウムチタン、および/または窒化ジルコニウムの使用が予定されている。本発明の好ましい一実施形態では、赤外線反射膜として窒化チタンが使用される。窒化チタンは、層厚に依存して、可視スペクトル領域、つまり500nmの波長から放射線を反射することができる不活性材料である。赤外線中では反射率は70~80に達し得る。赤外線反射膜は、本発明の好ましい一実施形態では、20~500nm、好ましくは50~200nmの厚さを有する。赤外線中での反射率およそ70を達成するためには、100nmの層で十分であることが分かった。さらに厚い、例えば400nm以上の層は、一方では、さらに改善されたおよそ80という反射率をもたらすが、必然的に、製造において本質的により労力がかかる上に、より高いコストを伴う。バリア層は、5~500nm、好ましくは20~100nmの厚さを有し得る。例えば30nmという比較的薄い窒化物層がすでに、赤外線中でのTiN層の光学特性に影響を及ぼすことなく、その窒化物層の下に位置する赤外線反射膜を腐食性侵食から十分に保護することが分かった。本発明により、少なくとも700°Cの24時間にわたる温度負荷の後にも赤外線波長領域、特におよそ1100~2000nmにおいて50を超える反射率を示す、ライニング材料または反射鏡材料を提供することができる。さらに、本発明は、特に上述の特徴の1つまたは複数を有する、ガラスセラミック基板を含むライニング材料または反射鏡材料に関し、そのガラスセラミック基板の上には窒化チタンからなる赤外線反射膜が塗布されている。驚くべきことに、窒化チタン層を備えたガラスセラミック基板の使用により、特に半導体部品を製造する際の高温用途のためのライニング材料が供給可能であり、そのライニング材料によって、そのような装置の運転に不可欠な出熱が軽減され得ることが明らかになった。さらに、本発明は、400°Cを超える温度、好ましくは550°Cを超える温度の腐食雰囲気における、前述のライニング材料または反射鏡材料の使用に関する。特に、このライニング材料または反射鏡材料は、例えば、化合物半導体ベースの薄膜太陽電池の製造において使用されるような、例えばイオウおよび/またはセレンのようなカルコゲンを含有する雰囲気において使用される。さらに、本発明は、ライニング材料または反射鏡材料の製造方法に関する。その際、まず、ガラスセラミック基板を準備し、このガラスセラミック基板の上に、赤外線を反射する窒化物層、特に窒化チタン層を堆積させる。堆積は、PVD法またはCVD法、好ましくはスパッタ法によって行われ、特に適しているのは、マグネトロンスパッタ法である。本発明の一変形形態では、窒化物層を、真空プロセスにおいて、300°Cを超える基板温度で堆積させる。驚くべきことに、その層構造内へと異物、特に酸素がほんのわずかしか拡散できないほどに、密な、つまり有孔率の低い層構造が生成することが明らかになった。この窒化物層は、好ましくは、1未満の有孔率計算上の有孔率を有する。好ましくは、スパッタリングされる材料のターゲット面に対して、5W/cm2を超える、好ましくは15W/cm2を超える高いイオンエネルギーで堆積を行う。本発明の一変形形態では、窒化物層上にバリア層、特に前述のようなバリア層を堆積させる。バリア層の堆積は、PVD法、CVD法を利用して、または、特に酸化物を含有する層の場合は液相を介して、好ましくは同じくスパッタ法を利用して、好ましくは基板温度200°C以上、特に好ましくは350°C以上で行われる。バリア層としては、好ましくは窒化物層が使用される。そのバリア層が、例えば窒化チタンのような、赤外線を反射するために使用される窒化物層と同じ窒化物層ではなく、通常は赤外線に対して透過性の、窒化物または酸窒化物からなる層、つまり赤外線波長領域での反射率が、赤外線反射膜よりも大幅に低い、特に少なくとも10低い、特に好ましくは40低い層であることは自明である。バリア層は、赤外線反射膜とは異なるさらなる元素を含む。以下に、図示による例示的実施形態に関連づけて、かつ図1~図3を参照して本発明を説明する。図1は、ライニング材料または反射鏡材料1を図示する。このライニング材料または反射鏡材料1は、ガラスセラミック基板2を含む。この例示的実施形態では、ガラスセラミック基板2は、平面板として形成されており、そのため、特に、装置のライニング用である。ガラスセラミック基板2上には、赤外線反射膜として使用される、厚さおよそ100nmの窒化チタン層が堆積されている。この窒化チタン層3を保護するために、窒化ケイ素からなる、およそ30nm厚のバリア層4が、この窒化チタン層3上に堆積されている。このように供給される複合材料は、1100~2000nmの波長領域で、常に、少なくとも50の反射を保証し、400°C以上の温度での高温使用、および化学的に腐食性の雰囲気での使用にも適している。図2は、このライニング材料または反射鏡材料の製造方法のフローチャートを示す。まず、ガラスセラミック基板を、例えばガラスセラミック板の形状で準備する5。次いで、特に、マグネトロンスパッタ法を利用して、窒化チタン層を堆積させる6。窒化チタン層の堆積は、真空中で、350°C以上の基板温度で行う。その結果、密な、つまり低い有孔率を有する窒化チタン層の生成が達成される。それによって、この層への、不純物原子または不純物イオン、特に酸素の拡散が、続くプロセスにおいて、特に400°C以上の温度で激しく低下する。窒化チタン層への酸素の拡散は、例えばその反射特性が大幅に悪化するという結果を招く。次いで、窒化チタン層上に、バリア層として予定されている窒化ケイ素層を堆積させる7。図3は、様々なライニング材料または反射鏡材料の反射を示し、その際、波長nmX軸8が反射率Y軸9に対してプロットされている。曲線10は、その上にバリア層として窒化ケイ素層が存在する窒化チタン層を備えた、前述のライニング材料または反射鏡材料の反射曲線を示す。曲線10は、この材料の初期状態での反射曲線を示すのに対して、曲線11は、24時間にわたり700°Cを超える温度にさらされた、この材料の反射曲線を示す。波長1100nmにおける反射率が50を超えるあたりにあり、2000nmまでにおよそ70へと継続的に上昇することが読み取れる。そのほかに、温度処理された層11の反射率が、しかも初期状態と比べてわずかに改善さえされたことが読み取れる。そのような温度処理によって、材料の帯端の位置は変化しない、つまり材料の反射特性は、上記の、層の圧縮によるわずかな改善を除き、高温でも維持されたままであり、このことは、ライニング材料として適用するための、この材料に関する不可欠な前提条件であって、この材料をライニング材料に予定するものである。ここに示す曲線は、大気空気のもとで材料を温度処理した後に記録されたものであり、本発明による材料は、特に、化学的に侵食性の雰囲気での使用にも適している。曲線12は、単に窒化チタン層のみが施された、ライニング材料または反射鏡材料の反射曲線を示す。曲線10および11と比べて、反射率がいくぶん高い位置にあり、800nmにおいてすでに、70を超え、2000nmまで常に70を上回ることが読み取れる。曲線13は、大気のもとで14時間にわたり500°Cの温度にさらされた後のこの材料の反射曲線を示す。この層は、バリア層を欠くために、明らかに分解されており、反射率は、1100nmの波長において、わずかに30付近に位置することが読み取れる。したがって、バリア層を伴わないこの材料は、腐食雰囲気中での高温用途のためにはあまり適さない。曲線14は、赤外線反射膜としての窒化チタン層を備えその上に酸化ケイ素層が塗布されたライニング材料の、24時間にわたる700°Cでの温度処理後の反射曲線を示す。この系は、もはや十分な効果を示さないことが読み取れる。800nm~2000nmの波長領域全体において、反射率は、わずかにおよそ10あたりである。したがって、酸化ケイ素は、高温用途のための、窒化チタン上のバリア層としては、特に腐食雰囲気においては不適切である。本発明により、化学的に侵食性の雰囲気中でも耐久性のある、耐高温性のライニング材料または反射鏡材料を供給することができる。