液体原料をキャリアガスにより気化させて原料ガスを形成する気化装置において、内部に気化室が形成された気化容器と、前記気化容器に設けられて、中央に前記液体原料を噴射する液体原料用ノズルを有し、該液体原料用ノズルの外周に同心状に配置されて前記キャリアガスを噴射するキャリアガス用ノズルを有して前記原料ガスを形成する噴射ノズル部と、前記噴射ノズル部の先端部より前記液体原料の噴射方向に沿ってその開き角度が鋭角で広がって行き前記気化室に向けて開放されたガス拡散抑制領域を形成するガス拡散抑制ブロックと、前記原料ガスを前記処理容器の外側へ流出させる原料ガス出口と、を備えたことを特徴とする気化装置。前記鋭角は、5~60度の範囲内であることを特徴とする請求項1記載の気化装置。前記ガス拡散抑制領域の長さは、2~15mmの範囲内であることを特徴とする請求項1又は2記載の気化装置。前記液体原料用ノズルの先端は、前記キャリアガス用ノズルの先端よりも0~5mmの範囲内で突出していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の気化装置。前記噴射ノズル部と前記ガス拡散抑制ブロックとは一体化されたノズルユニットとして形成され、前記ノズルユニットは前記気化容器に着脱可能に取り付けられていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の気化装置。前記ガス拡散抑制ブロックと前記気化容器とは一体化されており、前記噴射ノズル部は、前記ガス拡散抑制ブロックに着脱可能に取り付けられていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の気化装置。前記噴射ノズル部の先端部の表面と前記ガス拡散抑制ブロックの表面の内の少なくともいずれか一方の表面には撥水性コーティング膜が形成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の気化装置。前記液体原料は、有機金属材料を含むことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の気化装置。前記液体原料は、前記有機金属材料を有機溶剤で溶解させることにより形成されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の気化装置。前記有機金属材料に含まれる金属は、La、Hf、Zr、Sr、Ni、Co、Ptよりなる群から選択される1以上の金属を含むことを特徴とする請求項8又は9記載の気化装置。請求項1乃至10のいずれか一項に記載の気化装置と、前記気化装置の噴射ノズル部に接続されて途中に液体用流量制御器が介設された液体原料通路と、前記噴射ノズル部に接続されて途中に気体用流量制御器が介設されたキャリアガス通路と、前記気化装置の気化容器に接続されて原料ガスを流し出す原料ガス通路と、を備えたことを特徴とするガス供給装置。被処理体に対して薄膜を形成する成膜装置において、排気が可能になされた処理容器と、前記被処理体を保持する保持手段と、前記被処理体を加熱する被処理体加熱手段と、前記処理容器内へガスを導入するガス導入手段と、前記ガス導入手段に接続された請求項11記載のガス供給装置と、を備えたことを特徴とする成膜装置。ところで、上述した噴射ノズル部4の出口側6は、気化室2内に向けて大きく鈍角状に開いた状態になっており、噴射ノズル部4より噴射された液体原料やキャリアガスが直ちに外側へ拡散できるようになっている。しかしながら、実際の気化装置では、噴射されたキャリアガス流の外周部分での巻き込みが生じて噴射ノズル部4の出口側の側部の部分に矢印で示すような原料ガスの滞留8が生じてしまい、この滞留する原料ガスが気化室の区画壁に当たってここに堆積物が付着してしまい、この結果、噴射ノズル部4の先端のキャリアガスの出口を閉塞して気化性能を劣化させる、という問題があった。本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明は、液体原料を気化させる噴射ノズル部の先端のキャリアガス出口の閉塞を抑制することが可能な気化装置、原料ガス供給装置及びこれを用いた成膜装置である。請求項1に係る発明は、液体原料をキャリアガスにより気化させて原料ガスを形成する気化装置において、内部に気化室が形成された気化容器と、前記気化容器に設けられて、中央に前記液体原料を噴射する液体原料用ノズルを有し、該液体原料用ノズルの外周に同心状に配置されて前記キャリアガスを噴射するキャリアガス用ノズルを有して前記原料ガスを形成する噴射ノズル部と、前記噴射ノズル部の先端部より前記液体原料の噴射方向に沿ってその開き角度が鋭角で広がって行き前記気化室に向けて開放されたガス拡散抑制領域を形成するガス拡散抑制ブロックと、前記原料ガスを前記処理容器の外側へ流出させる原料ガス出口と、を備えたことを特徴とする気化装置である。このような構成により、噴射ノズル部より噴射されたキャリアガスは、開き角度が鋭角に広がったガス拡散抑制領域を通過するので、キャリアガスの流速が低下することなく流速が高く維持されてキャリアガスの滞留が生ずることが抑制され、この結果、キャリアガスの出口が堆積物により閉塞されることを防止することが可能となる。請求項11に係る発明は、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の気化装置と、前記気化装置の噴射ノズル部に接続されて途中に液体用流量制御器が介設された液体原料通路と、前記噴射ノズル部に接続されて途中に気体用流量制御器が介設されたキャリアガス通路と、前記気化装置の気化容器に接続されて原料ガスを流し出す原料ガス通路と、を備えたことを特徴とするガス供給装置である。請求項12に係る発明は、被処理体に対して薄膜を形成する成膜装置において、排気が可能になされた処理容器と、前記被処理体を保持する保持手段と、前記被処理体を加熱する被処理体加熱手段と、前記処理容器内へガスを導入するガス導入手段と、前記ガス導入手段に接続された請求項11記載のガス供給装置と、を備えたことを特徴とする成膜装置である。本発明に係る気化装置、ガス供給装置及びこれを用いた成膜装置によれば、次のように優れた作用効果を発揮することができる。気化装置の噴射ノズル部より噴射されたキャリアガスは、開き角度が鋭角に広がったガス拡散抑制領域を通過するので、キャリアガスの流速が低下することなく流速が高く維持されてキャリアガスの滞留が生ずることが抑制され、この結果、キャリアガスの出口が堆積物により閉塞されることを防止することができる。従って、液体原料の気化性能の劣化を防止して、これを高く維持することができる。以下に、本発明に係る気化装置、ガス供給装置及びこれを用いた成膜装置の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。図1は本発明に係る気化装置を有する成膜装置全体を示す概略構成図、図2は本発明に係る気化装置の噴射ノズル部を有するノズルユニットの近傍を示す拡大断面図、図3は噴射ノズル部の先端部の状態を示す図であり、図3Aは拡大断面図、図3Bは平面図である。まず、図1を参照して、成膜装置の全体から説明する。図1に示すように、この成膜装置10は、本発明に係る気化装置12により形成された原料ガス等を供給するガス供給装置14と、上記原料ガスにより実際に薄膜を形成する成膜装置本体16とを主に有している。そして、上記成膜装置本体16は、例えばアルミニウム合金等により形成された処理容器18を有している。この処理容器18内には、被処理体である例えば半導体ウエハWを保持する保持手段20が設けられている。ここではこの保持手段20は、例えばセラミック材やアルミニウム合金等よりなる載置台22より形成されている。そして、この載置台22には、上記ウエハWを加熱するための被処理体加熱手段24が設けられている。ここではこの被処理体加熱手段24として、例えばカーボンワイヤ等よりなる抵抗加熱ヒータにより形成されている。尚、この加熱手段24として、他の手段、例えば加熱ランプ等を用いてもよい。この処理容器18の側壁には、ウエハWを搬出入する際に気密に開閉されるゲートバルブ26が設けられる。また、この処理容器18の底部には、排気口28が設けられる。そして、この排気口28には、排気通路29の途中に圧力調整弁30や真空ポンプ32等を介設してなる真空排気系34が接続されており、上記処理容器18内の雰囲気を圧力調整しつつ真空引きできるようになっている。また、この処理容器18には、この中にガスを導入するガス導入手段36が設けられる。ここでは上記ガス導入手段36は、処理容器18の天井部に設けたシャワーヘッド部38よりなり、この下面に設けた多数のガス噴射孔40よりガスを処理容器18内へ噴射するようになっている。また、このシャワーヘッド部38の上部には使用するガスを導入するガス導入口42が設けられる。このシャワーヘッド部38内は、成膜に用いるガス種やガス種の混合形態に応じて1つ或いは複数の拡散室に区画分離されており、いわゆるガスをプリミックス或いはポストミックスするようになっている。この場合、上記ガス導入口42は、上記拡散室の数に応じた数だけ設けられる。図示例では、便宜上、1つの拡散室のみ記載している。尚、上記ガス導入手段36としては、上記シャワーヘッド部38を用いたが、これに限定されず、例えば単なるノズル状のものを用いるようにしてもよい。また高周波電力やマイクロ波電力等を用いたプラズマ発生機構を処理容器18に設けて、プラズマを用いて成膜処理するようにしてもよい。上記シャワーヘッド部38にガスを供給する上記ガス供給装置14は、ここでは原料ガス供給系44と他の必要なガスを供給する必要ガス供給系46とを有している。この必要ガス供給系46は、開閉弁48と気体用流量制御器50とが介設された必要ガス通路52とを有し、この必要ガス通路52を上記ガス導入口42に接続して必要ガスを流量制御しつつ供給できるようになっている。上記必要ガスとしては、処理容器18内の雰囲気を排出するパージガスや原料ガスと反応する反応ガス、例えば酸化ガスや還元ガス等が含まれる。また、図1では一系統の必要ガス供給系46しか示していないが、供給時に混合できない複数のガス種を必要ガスとして用いる場合には、その数に応じた複数の必要ガス供給系46が設けられることになる。また上記パージガスとしては一般的にはN2ガスが用いられるが、その他にAr、He等の希ガスも用いることができる。一方、上記原料ガス供給系44は、先の気化装置12と、この気化装置12に液体原料を供給する液体原料通路54と、気化装置12へキャリアガスを供給するキャリアガス通路56と、気化装置12で発生した原料ガスを上記処理容器18へ向けて流す原料ガス通路58とを有している。具体的には、上記液体原料通路54の上流側は、内部に液体原料60を貯留する原料貯留槽62内の液体原料60中に浸漬されており、下流側は上記気化装置12の後述する噴射ノズル部64に接続されている。この液体原料通路54の途中には、液体用のマスフローコントローラのような液体用流量制御器66と、その両側に位置された2つの開閉弁68とがそれぞれ介設されており、圧送される液体原料60を流量制御しつつ流すようになっている。また、この液体用流量制御器66及び開閉弁68を含む液体原料通路54の全体には、流れる液体原料60が固化することを防止するための加熱ヒータ70が必要に応じて設けられており、流れる液体原料を加熱するようになっている。また上記原料貯留槽62には、必要に応じて原料加熱ヒータ72が設けられており、原料貯留槽62内の液体原料60を加熱して液体状態を維持するようになっている。また、この原料貯留槽62内の上部空間部74には、途中に開閉弁78が介設されて加圧気体を流す加圧気体通路76のガス出口76Aが位置されており、この加圧気体の圧力により上記原料貯留槽62内の液体原料60を液体原料通路54内へ圧送するようになっている。この加圧気体としては、例えばArやHe等の希ガスガスの外に不活性なN2ガスを用いることができる。上記液体原料60は、金属を含む固体又は液体の原料を有機溶剤に溶解させることにより形成されている。この場合、室温程度の温度で液体の原料は、その濃度調整や粘度調整のために有機溶剤を添加してもよいし、或いは添加しなくてもよい。また上記原料としては、Laランタン等の金属を含む有機金属錯体が用いられる。また、上記キャリアガス通路56は、上記噴射ノズル部64に接続されている。このキャリアガス通路56の途中には、気体用のマスフローコントローラのような気体用流量制御器80と、その両側に位置された2つの開閉弁82とがそれぞれ介設されており、加圧されたキャリアガスを流量制御しつつ流すようになっている。このキャリアガスの圧力は例えば100~400kPa程度に設定されている。また、このキャリアガスとしては、例えばArガスが用いられるが、これに限定されず、He等の他の希ガスやN2ガスも用いることができる。また、上記原料ガス通路58は、途中に開閉弁86が介設され、その上流側は、上記気化装置12の原料ガス出口84に接続され、下流側は上記シャワーヘッド部38のガス導入口42に接続されて、原料ガスを流すようになっている。また上記開閉弁86を含む原料ガス通路58の全体には、流れる原料ガスが再液化することを防止するための加熱ヒータ88が必要に応じて設けられており、流れる原料ガスを熱分解解温度以下の温度で加熱するようになっている。また、上記原料ガス通路58の開閉弁86の上流側と上記真空排気系34の圧力調整弁30と真空ポンプ32との間の排気通路29とを接続してバイパス通路90が設けられている。そして、このバイパス通路90には、開閉弁92が介設されており、原料ガスの流量を安定化させたり、不要な原料ガスを廃棄する時に上記処理容器18へ原料ガスを供給することになく、このバイパス通路90内へ流すことにより原料ガスを排出できるようになっている。そして上記気化装置12は、図2及び図3にも示すように、内部に気化室94が形成された気化容器96と、この気化室94内へ液体原料60とキャリアガスとを噴射して原料ガスを形成する上記噴射ノズル部64と、本発明の特徴とするガス拡散抑制ブロック100とを主に有している。図2Aは噴射ノズル部を装着した状態を示し、図2Bは噴射ノズル部の装着途中の状態を示している。具体的には、上記気化容器96は、その両端が閉じられてほぼ円筒体状に成形されており、その内部に密閉状態の上記気化室94が形成されている。この気化容器96は、図示例では上下方向へ起立させて設けられており、その上流側、すなわち上端部である天井部にはノズル取付孔102が形成されている図2B参照。そして、ここでは上記噴射ノズル部64とガス拡散制御ブロック100とは一体化されており、ノズルユニット104を形成している。そして、このノズルユニット104を上記ノズル取付孔102内に挿通させている。このノズルユニット104の上端部にはフランジ部106が形成されており、このフランジ部106を上記気化容器96の天井部の上面に固定ネジ108で締め付け固定することにより、上記ノズルユニット104は着脱可能に固定されている。この場合、上記フランジ部106を上記気化容器96の上面との間には、例えばOリング等よりなるシール部材110が介設されており、この部分の気密性を保持している。また、上記噴射ノズル部64は、その中央に上記液体原料を噴射する液体原料用ノズル122を有し、この外周側に同心状に配置してキャリアガス用ノズル124が設けられており、このキャリアガス用ノズル124から上記キャリアガスを噴射するようになっている。上記両ノズル122、124は共に細い管状に成形されており、二重管構造になされている。この結果、キャリアガス用ノズル124におけるキャリアガスの流路はリング状になされている。そして、上記液体原料用ノズル122の上端部には、上記液体原料通路54が接続されて液体原料60を供給するようになっており、その下端の原料吐出口126より液体原料を吐出するようになっている。また上記キャリアガス用ノズル124の上端部には、上記キャリアガス通路56が接続されてキャリアガスを供給するようになっており、その下端のキャリアガス吐出口128よりキャリアガスを吐出するようになっている。図示例では、上記液体原料用ノズル122の先端は、上記キャリアガス用ノズルの先端よりも僅かな長さL1図3A参照の範囲内で下方へ突出されている。この長さL1は、0~5mmの範囲内であり、L1=0のように両ノズルの先端位置が同一の場合も含まれる。そして、本発明の特徴とする上記ガス拡散抑制ブロック100は、上記噴射ノズル部64の先端部より上記液体原料の噴射方向に沿ってその開き角度θ図3A参照が鋭角で広がって行き、上記気化室94に向けて開放されたガス拡散抑制領域130を形成している。具体的には、上記ガス拡散抑制領域130を区画するガス拡散抑制ブロック100の内周面132は、上記キャリアガス用ノズル124の下端の外周よりガス噴射方向下方向に向けて次第に広がるように、例えば末広がり状に成形されている。すなわち、ここでは上記内周面132は円錐の側面と同様な形状に成形されており、その内側に上記ガス拡散抑制領域130を形成するようになっている。そして、このガス拡散抑制領域130の広がり角度θは、上述のように90度よりも小さい鋭角になされており、上記噴射ノズル部64より噴射された液体原料やキャリアガスが一定の距離だけは直ちに拡散しないようにし、その間は高い噴射速度を維持して液体原料の気化を促進させるようになっている。上記内周面132の先端側下端側は、所定の曲率で次第に外側に広がるように曲面形状に成形された曲面132Aとなっており、そのまま気化容器96の内周面へと連続するようになっている。この気化容器96の上部の内周面は、下方向へ向かうように曲面状に成形された曲面96Aとなっている。この場合、上記開き角度θは、5~60度の範囲内に設定するのが好ましい。この開き角度θが鋭角よりも大きくなると、ガス拡散抑制領域130内におけるキャリアガスの流速が急激に低下するので、液体原料の気化性能を十分に向上させることが困難であり、気化性能を大幅に向上させるためには、好ましくは上述のように開き角度θを60度以下に設定する。また、開き角度θが5度よりも小さくなると、今度はキャリアガスの噴射抵抗が大きくなり過ぎてしまって、逆に液体原料の気化が抑制されてしまうので、上述のように開き角度θは5度以上に設定するのが好ましい。ここでは上記開き角度θは例えば40度に設定されている。また、上記ガス拡散抑制領域130の長さL2図2A参照、すなわちガス噴射方向への長さは、2~15mmの範囲内に設定する。この長さL2が2mmよりも短いと、上記ガス拡散抑制領域130の作用がなくなって気化性能の向上を図ることができない。また、長さL2が15mmよりも長いと、この場合にはキャリアガスの拡散を長く抑制し過ぎる結果、液体原料の気化が抑制されて内周面132に液体原料の液滴等が付着する原因となってしまうので好ましくない。また、上記キャリアガス用ノズル124の先端部の内周と上記液体原料用ノズル122の外周との間には、図3Bに示すように均等に分散させて複数、例えば3つのスペーサ突起134が設けられており、上記キャリアガス用ノズル124のリング状の流路断面積が、その周方向に沿って偏りがなく均一になるように設定している。ここで上記液体原料ノズル122の内径D1図3A参照は、例えば100~1000μm程度の範囲内であり、ここでは例えば250μmに設定されている。またキャリアガス用ノズル124のリング状の流路の幅W1図3A参照は、例えば20~200μmの範囲内であり、ここでは例えば60μmに設定されている。また上記気化室94の直径は、例えば20~80mmの範囲内に設定されており、その容量は例えば300~1000cc程度の範囲内に設定されている。また上記気化容器96、ガス拡散抑制ブロック100及び噴射ノズル部64の各構成材料は、アルミニウム合金やステンレススチール等の金属や耐熱樹脂を用いることができる。また、上記気化容器96内の気化室94の底部よりも少し上方の側壁には、気化室94内で形成した原料ガスを下流側へ排出する前記原料ガス出口84が設けられており、この原料ガス出口84には、上記原料ガス供給系44の原料ガス通路58が接続されている。また、この気化容器96の外周側には、加熱手段136図1参照が設けられており、この気化容器96を加熱して液体原料の気化を促進させるようになっている。この気化容器96の加熱温度は、使用する液体原料の種類にもよるが、例えば150~300°C程度の範囲内である。以上のように構成された成膜装置10の全体の動作制御は、例えばコンピュータ等よりなる装置制御部140により制御されるようになっており、この動作を行うコンピュータのプログラムは、記憶媒体142に記憶されている。この記憶媒体142は、例えばフレキシブルディスク、CDCompactDisc、ハードディスク、フラッシュメモリ或いはDVD等よりなる。具体的には、この装置制御部140からの指令により、各ガスの供給の開始、停止や流量制御、プロセス温度やプロセス圧力の制御等が行われる。次に、以上のように形成された成膜装置10の動作について説明する。まず、原料やキャリアガス等の一般的な流れについて説明する。ガス供給装置14の原料ガス供給系44においては、原料貯留槽62内に貯留した液体原料60は、加圧気体により液体原料通路54に向けて圧送されて、液体用流量制御器66により流量制御されつつ気化装置12の噴射ノズル部64へ供給される。他方、加圧されたキャリアガスが気体用流量制御器80により流量制御されつつ上記噴射ノズル部64へ供給される。そして、噴射ノズル部64へ供給された、液体原料は液体原料用ノズル122の先端の原料吐出口126より噴射されて、ガス拡散抑制ブロック100の中央に形成された上記ガス拡散抑制領域130を介して気化室94内へ導入される。これと同時に、噴射ノズル部64へ供給されたキャリアガスはキャリアガス用ノズル124の先端のキャリアガス吐出口128より噴射されて、ガス拡散抑制ブロック100の中央に形成された上記ガス拡散抑制領域130を介して気化室94内へ導入される。この結果、上記噴射された液体原料はキャリアガスにより気化室94内で気化されて原料ガスが形成される。この原料ガスは、例えば流量が安定するまでは、原料ガス通路58の途中から分岐させて設けたバイパス通路90を介して真空排気系34へ廃棄されているが、流量が安定した後は、開閉弁86、92の開閉状態を切り替えて原料ガス通路58内へ流し、成膜装置本体16に設けたシャワーヘッド部38へ供給する。このシャワーヘッド部38には、他の酸化ガスや還元ガスが必要な場合には他の必要ガス供給系46からも必要ガスが供給されている。そして、シャワーヘッド部38内からは、予め減圧雰囲気になされた処理容器18内へ上記原料ガスや必要ガスが導入され、ここで原料ガスが必要ガスと反応したり熱分解して載置台22上に保持されている半導体ウエハWの表面に薄膜が堆積されることになる。この場合、ウエハWは被処理体加熱手段24により所定のプロセス温度に維持されている。そして、この処理容器18内の雰囲気は、真空排気系34に真空引きされて所定のプロセス圧力に維持される。このようにして、上記成膜処理が連続的に行われることになる。上記液体原料の流量は、例えば0.05~1sccm程度の範囲内、上記キャリアガスの流量は、例えば50~1000sccm程度の範囲内である。ここで、図7に示すような従来の気化装置にあっては、噴射ノズル部4から噴射されたキャリアガスや液体原料は、その断面積が大きな鈍角の角度で拡径された出口側で直ちに拡散されるので、キャリアガスの流速が直ちに低下して液体原料に対する気化性能が劣化したり、或いはキャリアガスの滞留が生じてキャリアガスの出口側に堆積物が付着してキャリアガスの流出面積が狭くなったりして、この出口側を閉塞する等の問題があった。これに対して、本発明では、前述したように噴射ノズル部64にガス拡散抑制ブロック100を設けて、噴射ノズル部64の先端部前方に、噴射方向に沿ってその開き角度θが鋭角で広がって行くガス拡散抑制領域130を形成するようにしたので、噴射されたキャリアガスの流速が直ちに低下することなく速い流速が維持されて液体原料を効果的に気化させて、この気化性能を向上させることができる。すなわち、キャリアガス用ノズル124のキャリアガス吐出口128から噴射されたキャリアガスは、その開き角度θが鋭角、具体的には5~60度の狭い範囲に絞るように設定されたガス拡散抑制領域130に噴射されるので、このキャリアガスの拡散は抑制されてその噴射速度は速い状態で維持され、この時に噴射された液体原料の気化を促進させることができる。また、上述のように、上記開き角度θが狭く設定されているので、図7に示す従来の気化装置で発生したようなキャリアガスの滞留の発生を抑制することができ、このため、ガス拡散抑制ブロック100の内周面132に不要な薄膜などの堆積物が発生することを防止でき、またキャリアガス用ノズル124の先端のキャリアガス吐出口128に不要な薄膜が付着して流路面積を狭くしたり、或いはこれを閉塞したりすることを防止することができる。また、上述のようにキャリアガスの流速は速い状態に維持されているので、万が一、上記内周面132等に不要な膜が付着物として堆積しても、この付着物を吹き飛ばして除去することができる。また前述したように、この開き角度θは、上述したような作用効果を効率的に発生させるためには、好ましくは5~60度の範囲内に設定するのがよい。更に、このガス拡散抑制領域130の長さも前述したように、上記作用効果を効率的に発生させるために2~15mmの範囲内に設定するのがよい。また、原料吐出口126からは、液体原料用ノズル122の表面を伝わって液体原料がキャリアガス吐出口128側へにじみ出るように流出して、堆積物となってキャリアガス吐出口128を塞ぐ傾向となるが、上記原料吐出口126をキャリアガス吐出口128よりも長さL1だけ突き出して設けるようにしているので、原料吐出口126と同一水平レベルにおけるキャリアガス流路の断面積は、実質的に広くなり、その分、このキャリアガスの出口が閉塞されることを防止することができる。例えば図3Aに示すように、開き角度θを40度とし、キャリアガス吐出口128の幅W1を60μmとし、そして、原料吐出口126の突き出し長さL1を1mmとすると、この原料吐出口126と同一水平レベルにおけるキャリアガス流路の断面方向の幅W2は640μmに広くなり、この広くなった分だけこの部分が閉塞することを防止することができる。また、この突き出し長さL1は0~5mmの範囲内に設定するのが好ましい。この突き出し長さL1が5mmよりも大きくなると、原料吐出口126が位置する領域のキャリアガスの流速が低下しているので、その分、気化性能が低下して好ましくない。このように、本発明においては、気化装置の噴射ノズル部64より噴射されたキャリアガスは、開き角度θが鋭角に広がったガス拡散抑制領域130を通過するので、キャリアガスの流速が低下することなく流速が高く維持されてキャリアガスの滞留が生ずることが抑制され、この結果、キャリアガスの出口が堆積物により閉塞されることを防止することができる。従って、液体原料60の気化性能の劣化を防止して、これを高く維持することができる。<本発明の比較実験>次に、本発明の気化装置について比較実験を行ったので、その評価結果について説明する。ここでは特性の比較のために2つの比較例も併せて実験している。図4は上記比較実験における液体原料の流量の積算量グラムとキャリアガスの供給圧力との関係を示すグラフである。図4中には比較例1、2の噴射ノズル部の模式図を併記してある。比較例1は、図7に示す噴射ノズル部4と同様な形状になれされて、噴射ノズル部4の出口側6は鈍角に広がっており、且つ噴射ノズル部4の先端側は気化室2内に突出させて設けている。比較例2は、図7に示す噴射ノズル部4と同様な形状になれされて、噴射ノズル部4の出口側6は鈍角に広がっており、且つ噴射ノズル部4の先端側は気化室2内の天井部に設けた凹部7内に収容させて設けている。本発明の場合には、開き角度θは40度、原料吐出口の突き出し長さL1は1mm、ガス拡散抑制領域130の長さL2は、8mmに設定している。この比較実験では、キャリアガスを常に1000sccmだけ流すように設定して、その時のキャリアガスの必要最低供給圧力と流れた液体原料の重さ流量の積算量をプロットしている。実際の実験では、原料節約のために液体原料の積算量が250gになるまで行って、その後は、得られた特性が直線的に変化するものと見做して全体の特性を得ている。特性Aは比較例1を示し、特性Bは比較例2を示し、特性Cは本発明の気化装置を示す。特性A、Bは、液体原料の積算量が増加するに従って上向き傾斜してキャリアガス供給圧力が徐々に増加している。この理由は、動作時間が長くなるに従ってキャリアガス吐出口に堆積物が付着して次第に吐出口を塞いでくるため、キャリアガスの供給圧力の増加を余儀なくされるからである。特に、比較例1の特性Aの場合は比較例2の特性Bよりも傾きが大きく、より堆積物が多く付着していることが判る。キャリアガスの供給圧力の許容最大値を0.30MPaとすると、比較例1の場合は液体原料の積算量が660gになった時にメンテナンスを行わなければならないことが判る。また比較例2の場合には液体原料の積算量が2298gになった時にメンテナンスを行わなければならないことが判る。これに対して、本発明の気化装置の特性Cの場合には、直線の傾きはほぼゼロであり、キャリアガス吐出口が堆積物によりほとんど塞がれることがなくてメンテナンスを行う必要がなく、良好な特性を示していることが判る。<変形実施例1>次に、本発明の気化装置の変形実施例1について説明する。先の実施例の場合には、液体原料用ノズル122の先端部の表面、キャリアガス用ノズル124の先端部の表面及びガス拡散抑制ブロック100の内周面には何ら処理を施さなかったことから、長期間の使用によりこれらの表面部分に液体原料がにじみ出て熱分解することにより堆積物が付着し、キャリアガス吐出口128を閉塞する原因となるが、これを防止するために上記表面部分に撥水性コーティング膜を形成するようにしてもよい。図5は上記したような本発明の気化装置の変形実施例1の噴射ノズル部の先端部の近傍を示す拡大部分断面図である。尚、図2及び図3に示す構成部分と同一の構成部分については同一参照符号を付し、その説明を省略する。この変形実施例1では、噴射ノズル部64の先端部の表面とガス拡散抑制ブロック100の表面の内の少なくともいずれか一方の表面に撥水性コーティング膜を形成している。具体的には、図示するように、ここでは液体原料用ノズル122の先端部の表面とキャリアガス用ノズル124の先端部の表面とガス拡散抑制ブロック100の表面に、それぞれ撥水性コーティング膜144A、144B、144Cが形成されている。すなわち、液体原料用ノズル122に関しては、このノズルの外周面と原料吐出口126の端面とに形成されている。また、キャリアガス用ノズル124に関しては、このノズルの内周面とキャリアガス吐出口126の端面とに形成されている。またガス拡散抑制ブロック100に関しては、この内周面132の全面に亘って形成されている。この場合、上記噴射ノズル部64の先端部の少なくとも10mm以上の長さの部分を撥水性コーティング膜144A、144Bで被覆するのが好ましい。この撥水性コーティング膜144A~144Cとしては、例えばテフロン膜登録商標やSiO2膜等を用いることができ、その厚さは例えば0.1~3μm程度の厚さでよい。このように、上記撥水性コーティング膜144A~144Cを形成することにより、液体原料が噴射ノズル部64の先端部の表面を伝わってにじみ出て行くことはなく、また、ガス拡散抑制ブロック100の内周面132に沿ってにじんで行くこともない。この結果、キャリアガス用ノズル124の先端のキャリアガス吐出口128の部分に堆積物が付着することを防止して、このキャリアガス吐出口128が閉塞されることを一層抑制することができる。<変形実施例2>次に、本発明の気化装置の変形実施例2について説明する。先に説明した各実施例においては、噴射ノズル部64とガス拡散抑制ブロック100とを一体化してノズルユニット104とし、このノズルユニット104を気化容器96側へ着脱可能となるように構成したが、これに限定されず、ガス拡散抑制ブロック100を気化容器96と一体化するように形成し、上記噴射ノズル部64が上記ガス拡散抑制ブロック100に対して着脱可能となるように取り付けるようにしてもよい。図6は上記したような本発明の気化装置の変形実施例2の噴射ノズル部の近傍を示す拡大断面図である。尚、図2に示す構成部分と同一の構成部分については同一参照符号を付し、その説明を省略する。上述したように、この変形実施例2では、上記ガス拡散抑制ブロック100と上記気化容器96とは一体化されている。具体的には、上記ガス拡散抑制ブロック100と上記気化容器96とは一体成形されている。そして、噴射ノズル部64のみが上記ガス拡散抑制ブロック100に形成したノズル取付孔150に対して挿脱可能になされ、上記噴射ノズル部64に設けたフランジ部106を固定ネジ108で上記ガス拡散抑制ブロック100の上面、すなわち気化容器96の上面に着脱可能に締め付け固定するようになっている。尚、上記ガス拡散抑制領域130の開き角度θは、40度に設定され、その断面は直線状に広がるような形状を例にとって説明したが、これに限定されず、ガス拡散抑制領域130の開き角度θが5~60度の範囲内でガス噴射方向に行くに従って開き角度θが次第に拡大して内周面がラッパ状に徐々に外側に向けて曲面的に広がるように形成してもよい。また、上記各実施例では、成膜に用いる液体原料は、有機金属材料を、例えば有機溶剤に溶解することにより形成されているが、この有機溶剤としては、トルエン、オクタン、デカン、ドデカン等を用いることができる。また、上記実施例では上記有機金属材料に含まれる金属としては、Laの場合を例にとって説明したが、これに限定されず、上記有機金属材料に含まれる金属は、La、Hf、Zr、Sr、Ni、Co、Ptよりなる群から選択される1以上の金属を含むことができる。また、この種の金属に限定されず、他の金属を含む原料を用いる場合にも本発明を適用することができる。また、ここでは被処理体として半導体ウエハを例にとって説明したが、この半導体ウエハにはシリコン基板やGaAs、SiC、GaNなどの化合物半導体基板も含まれ、更にはこれらの基板に限定されず、液晶表示装置に用いるガラス基板やセラミック基板等にも本発明を適用することができる。