上部電極と下部電極が対向してチャンバー内に備えられたプラズマ処理装置であって、該上部電極と該上部電極を覆うチャンバー壁の間の雰囲気は、陽圧の不活性ガス雰囲気であり、前記上部電極と前記上部電極を覆う前記チャンバー壁は、同軸形状であることを特徴とするプラズマ処理装置。請求項1において、前記上部電極には整合器が電気的に接続され、該整合器が、前記上部電極と前記上部電極を覆うチャンバー壁の間と同一雰囲気中に備えられているプラズマ処理装置。請求項1または請求項2において、前記上部電極にはヒーターが備えられ、前記上部電極と前記上部電極を覆うチャンバー壁の間の雰囲気は冷却された不活性ガス雰囲気であるプラズマ処理装置。本発明の一態様は、従来よりも信頼性の高いプラズマ処理装置を提供することを主要な課題とする。なお、該プラズマ処理装置は、少なくとも以下のいずれか一を課題とし、少なくとも以下のいずれか一の課題を解決することで、信頼性の高いプラズマ処理装置を得ることができる。本発明の一態様のプラズマ処理装置は、従来のプラズマ処理装置では大気中に含まれる水分などにより腐食されていた部分の腐食を生じさせないことを課題の一とする。このように腐食を生じさせないことで、メンテナンス頻度を低下させ、平均故障間隔MTBF;MeanTimeBetweenFailureを大きくすることを課題の一とする。本発明の一態様のプラズマ処理装置は、従来のプラズマ処理装置では大気に曝露されていた上部電極の表面を大気に曝さずに、該上部電極の表面が曝される雰囲気を制御することで、該上部電極の表面が曝される雰囲気の誘電率を制御し、上部電極に供給する電力が高周波である場合の上部電極の表面における電力の伝播を安定なものとすることを課題の一とする。本発明の一態様のプラズマ処理装置は、チャンバーのリークが生じた際にチャンバー内への大気成分の混入を防ぐことができることを課題の一とする。本発明の一態様のプラズマ処理装置は、上部電極に電気的に接続された整合器内に備えるバリアブルコンデンサとして、安価なエアーバリアブルコンデンサを用いる場合であっても、動作を安定なものとすることができることを課題の一とする。本発明の一態様のプラズマ処理装置は、上部電極にヒーターが備えられていてもよく、該上部電極にヒーターが備えられたプラズマ処理装置において、上部電極に接続された導体板及び整合器が過熱されることを防ぐことを課題の一とする。本発明の一態様のプラズマ処理装置は、従来のプラズマ処理装置よりも上部電極の伝送効率を向上させることを課題の一とする。本発明の一態様は、上部電極と下部電極が対向してチャンバー内に備えられたプラズマ処理装置であって、該上部電極と該上部電極を覆うチャンバー壁の間同軸管内の雰囲気は、陽圧の不活性ガス雰囲気であることを特徴とするプラズマ処理装置である。本発明の一態様は、上部電極と下部電極が対向してチャンバー内に備えられたプラズマ処理装置であって、該上部電極と該上部電極を覆うチャンバー壁の間の雰囲気は、陽圧の不活性ガス雰囲気であり、前記上部電極と前記上部電極を覆う前記チャンバー壁は同軸形状であることを特徴とするプラズマ処理装置である。本発明の一態様である前記プラズマ処理装置において、好ましくは、前記上部電極には整合器が電気的に接続され、該整合器は、前記上部電極と前記上部電極を覆うチャンバー壁の間と同一の雰囲気中に備えられている。本発明の一態様である前記プラズマ処理装置において、前記上部電極にはヒーターが備えられていてもよい。そして、前記上部電極と前記上部電極を覆うチャンバー壁の間には冷却された不活性ガスが導入されることで前記上部電極の温度を制御可能な構成としてもよい。ここで、冷却された不活性ガスの導入時の温度は、-200°Cから室温であるとよい。なお、本明細書において、陽圧とは、好ましくは大気圧よりも高い気圧をいうが、これに限定されず、少なくとも処理室内の気圧よりも高ければよい。なお、本明細書において、チャンバー内壁とは、チャンバー壁の内側の面をいい、チャンバー外壁とは、チャンバー壁の外側の面をいう。本発明の一態様により、信頼性の高いプラズマ処理装置を得ることができる。本発明の一態様により、プラズマ処理装置の部品が腐食されることを防ぎ、メンテナンス頻度を低下させ、平均故障間隔MTBF;MeanTimeBetweenFailureを大きくすることができる。本発明の一態様により、上部電極に供給する電力が高周波であっても安定な電力の伝播が可能である。本発明の一態様により、チャンバー内のリークが生じた際にチャンバー内への大気成分の混入を防ぐことができる。本発明の一態様により、上部電極に電気的に接続される整合器内に備えるバリアブルコンデンサとして安価なエアーバリアブルコンデンサを用いる場合であっても、動作を安定なものとすることができる。本発明の一態様により、上部電極にヒーターが備えられたプラズマ処理装置においても上部電極が過熱されることを防ぐことができる。本発明の一態様により、上部電極の伝送効率を向上させることができる。以下では、本発明の実施の形態について図面を用いて詳細に説明する。ただし、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは、当業者であれば容易に理解される。したがって、本発明は、以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。図1A及びBは、本発明の一態様であるプラズマ処理装置の概略を示す図である。図1A及びBに示すプラズマ処理装置は、チャンバー内に第1の空間140と第2の空間142を有し、第1の空間140には、面が対向した上部電極100と下部電極102が備えられ、上部電極100の側面とチャンバー壁104の間には絶縁物106が備えられて第1の空間140と第2の空間142の雰囲気を異なるものとし、第1の空間140は、処理用ガス供給源108に接続された第1の供給管110と、排気手段112に接続された排気管114に接続され、第2の空間142では、上部電極100は、導体板116を介して整合器120に電気的に接続されており、第2の空間142は、第2の供給管122を介して不活性ガス供給源124に接続されている。第2の空間142は陽圧に保たれている。整合器120は交流電源126に電気的に接続され、下部電極102は接地されている。ただし、下部電極102は必ずしも接地されていなくてもよい。なお、図1Aに示されるように、上部電極100と上部電極100を覆うチャンバー壁104は同軸形状であることが好ましい。同軸形状とすることで伝送効率を高めることができる。更には、図1A及びBに示すように、上部電極100に整合器120が接続され、整合器120はバリアブルコンデンサ130を含み、整合器120内の雰囲気は上記第2の空間142と同一の雰囲気であることが好ましい。このように整合器120内の雰囲気を上記第2の空間142と同一の雰囲気とすると、エアーバリアブルコンデンサを用いても、真空バリアブルコンデンサと同様に安定した動作を可能とすることができる。図1Aに示すように、上部電極100とチャンバー壁104を同軸形状にする同軸管128とすることで、インピーダンスを小さくすることができる。ここで、上部電極100の直径をd、チャンバー壁104の内側の直径をD、上部電極100と上部電極100を覆うチャンバー壁104の間の雰囲気の比誘電率をεとすると、インピーダンスZは式1で表される。上記式1によれば比誘電率εを大きくすることでインピーダンスZを小さくすることができる。本発明の一態様によれば、第2の空間142上部電極100と上部電極100を覆うチャンバー壁104の間の雰囲気を選択することができるため、比誘電率εを大きくしてインピーダンスZを小さくすることができる。例えば、第2の空間142上部電極100と上部電極100を覆うチャンバー壁104の間の雰囲気を窒素雰囲気とすると、雰囲気中の温度が20°Cのときに比誘電率ε=5.47となる。または、第2の空間142上部電極100と上部電極100を覆うチャンバー壁104の間の雰囲気をアルゴン雰囲気とすると、雰囲気中の温度が20°Cのときに比誘電率ε=5.17となる。なお、上部電極100は、下部電極102に平行な面を有する第1の部分と、下部電極102に垂直な方向に延伸した第2の部分と、を有する。上部電極100に印加される電圧が高周波である場合には、図1Bに示されるように、第1の部分と第2の部分の接続箇所となる部分には面取りが施されていることが好ましい。なお、図1に示すように、上部電極100にはヒーター132が備えられていてもよい。ヒーターは溝が設けられたヒーターブロックの当該溝に電熱線を這わせた構造のものを用いればよい。更には下部電極102にもヒーター134が備えられていてもよい。なお、上部電極100にヒーターが備えられているときには、特に、同軸管128内には冷却された不活性ガスを導入することが好ましく、このとき、まず整合器120に冷却された不活性ガスを導入し、このガスが導体板116と、上部電極100の第2の部分を経て、上部電極100の第1の部分に達するように冷却された不活性ガスを流すことが好ましい。すなわち、冷却することによる効果が最も大きい部分から冷却していくことが好ましい。そして、本発明の一態様により、図1に示すように同軸管128内に上部電極100が配されて不活性ガスの経路が阻害されないため、不活性ガスを良好に流すことができる。そのため、上部電極100の第2の部分において、同一高さにおける温度分布の均一性が高まり、上部電極に供給する電力が高周波である場合の上部電極の表面における電力の伝播を更に安定なものとすることができる。この点が、上部電極を同軸形状とし、且つ該同軸管内に上部電極を配することによる相乗効果であるといえる。以上説明したように、本発明の一態様によればプラズマ処理装置の信頼性を高くすることができる。