"真空チャンバー内に置かれた機器の脱ガスを数量化するための装置であって、固定端11及び自由端12を含む、強磁性物質で作られた金属薄板10を備え、前記薄板が冷却装置13と、前記薄板の固有の温度を測定する装置14、22と、前記薄板10を励磁するための電磁石15と、前記薄板の自由端12の励磁を測定するための測定センサー16、17であって、測定値を取得する20装置及び前記薄板の前記自由端の少なくとも1つの振動周波数を計算21する装置を含む信号調整装置31に接続された測定センサーとを備え、前記取得及び計算装置20、21が、前記薄板上に堆積された質量の表面密度を計算する装置24に接続されることを特徴とする装置。前記電磁石15が周期的に給電されるコイルを含むことを特徴とする、請求項1に記載の数量化装置。前記薄板の前記自由端の前記励磁を測定する前記センサーが、前記薄板10の前記自由端12の反対側に置かれた磁石17、及びコイル16から成り、前記磁石17が前記コイル16の中央に置かれていることを特徴とする、請求項2に記載の数量化装置。前記薄板の前記自由端の前記励磁を測定するセンサーが、前記薄板10の前記固定端に直接置かれた1つ又は2つの磁石17、及び前記薄板10の前記自由端12の反対側に置かれたコイル16から成ることを特徴とする、請求項2に記載の数量化装置。前記薄板の前記自由端の振動周波数を取得する前記装置20が、アナログデジタル変換器及び四次チェビシェフフィルターを備えることを特徴とする、請求項2~4のいずれか一項に記載の装置。前記振動周波数が測定される前記薄板10に対応する温度値と同じ温度値に対する、前記真空チャンバー内における前記薄板のみの前記振動周波数を決定する装置23をさらに備えることを特徴とする、請求項2~5のいずれか一項に記載の装置。前記薄板のみの前記振動周波数を決定する前記装置23が、前記薄板の温度の関数としての、前記薄板のみの前記振動周波数の較正曲線を含むことを特徴とする、請求項2~6のいずれか一項に記載の装置。前記薄板のみの前記振動周波数が、ケーソン内の残留圧力が10-3hPaを超えるとき、前記残留圧力に応じて修正されることを特徴とする、請求項2~7のいずれか一項に記載の装置。本発明の目的は、水晶の微量天秤の欠点を緩和し、堆積した質量の表面密度をおよそ数μg/cm2の精度で測定し、変わり得る厚さの密集した堆積物に適用できる、真空下で機器の脱ガスを数量化するための装置を提供することである。このために、本発明によれば、真空チャンバー内に置かれた機器の脱ガスを数量化するための装置は、固定端及び自由端を含む、強磁性物質で作られた金属薄板を備え、薄板が冷却装置と、薄板の固有の温度を測定する装置と、薄板を励磁するための電磁石と、薄板の自由端の励磁を測定するための測定センサーであって、測定値を取得する装置及び薄板の自由端の少なくとも1つの振動周波数を計算する装置に接続された測定センサーとを備え、取得及び計算手段が、薄板上に堆積された質量の表面密度を計算する装置に接続されている。有利には、電磁石は周期的に給電されるコイルを含む。有利には、薄板の自由端の励磁を測定するセンサーは、薄板の自由端の反対側に置かれた磁石、及びコイルから成り得る。磁石はコイルの中央に置かれている。代わりに、薄板の自由端の励磁を測定するセンサーは、薄板の固定端に直接置かれた1つ又は2つの磁石、及び薄板の自由端の反対側に置かれたコイルから成り得る。有利には、薄板の自由端の振動周波数を取得する装置は、アナログデジタル変換器及び四次チェビシェフフィルターChebyshevfilterを備える。有利には、数量化装置は、振動周波数が測定される薄板に対応する温度値と同じ薄板の温度値に対する、真空チャンバー内における薄板のみの振動周波数を決定する装置をさらに備える。有利には、薄板のみの振動周波数を決定する装置は、薄板の温度の関数としての、薄板のみの振動周波数の較正曲線を含む。薄板の温度は1つ又は2つのペルチェ効果Peltiereffectモジュールを用いて制御され得る。有利には、薄板のみの振動周波数は、ケーソン内の残留圧力が10-3hPaヘクトパスカルを超えるとき、前記残留圧力に応じて修正され得る。本発明のその他の特徴及び利点は、添付の概略図に関連して、純粋に説明的で制限されない例として与えられている、明細書の残り部分から明らかになるであろう。真空チャンバー内に置かれた装置の脱ガスの間に脱気される主な汚染物質は、基本的に低温の表面で凝結する水及び溶剤である、粒子から成る。機器によって溶解される粒子の割合は、真空試験の継続時間が増えるにつれて減少する。真空下での機器の脱ガスを数量化するために、本発明は従って冷却された薄板から成る低温の表面に堆積される汚染物質の量を測定することにある。凝固点が大気圧と6hPaの間で0°Cに近く、10-3hPaに近づくと-74°Cに近く、10-6hPaに近づくと約-110°Cに近い、例えば水のような汚染粒子の凝固温度のために、薄板の温度はこの-110°Cの最低温度値よりも低くなければならない。図1及び3~5に示す、真空下での機器の脱ガスを数量化する装置は、試験される機器の存在下で、真空チャンバーの内側に置かれるように意図されている。装置は強磁性の特性を有する、すなわち例えば0.1よりも大きい透磁率であり、鋼の薄片は0.1~2の炭素を含む、フレキシブルなステンレスの金属薄板10を備える。例えば、薄板10は約0.1mmの厚さ、12.7mmの標準幅、及び約15cmの長さを有し得る。薄板10は、図示されていない固定支持体に取り付けられた固定端11と、自由端12とを含む。薄板10は冷却装置13及び、その固有の温度を測定する装置、例えば熱電対を備える。薄板10を冷却する装置13は、例えば固定支持体を真空チャンバーの内側の冷熱源に接続する熱的編組線、又は薄板に対して押し付けられた1つ又は2つのペルチェ効果モジュールであって、例えば熱的編組線30により給電されて、放出された熱を除去するのに役立つ冷熱源へと熱的に接続されている1つ又は2つのペルチェ効果モジュールを備え得る。薄板10の隣に設置され得る電磁石15は、薄板10を励磁するために役立つ。電磁石15は周期的に給電されるコイルを含み、その期間Tは、数十分の1秒の持続時間T1を有する電流パルスにより、例えば1分に等しい。電気パルスの影響下で、薄板の自由端12はその質量に依存する振動周波数で自由に振動する。固定の剛性定数を有する薄板10に関して、薄板の質量が大きい程、その振動周波数は低い。清浄な薄板の振動周波数と、真空下での機器の脱ガス試験中の薄板の振動周波数とを測定することにより、従って薄板10の単位面積当たりの堆積した汚染物質の質量を決定できる。薄板10の振動周波数は、温度に応じたそのヤング率の変化のために、その温度にも依存するため、その温度に応じた清浄な薄板の周波数変化の曲線をプロットするために、予備的な較正を行なうことが必要である。較正は真空チャンバー内に何の機器も無い状態で、薄板のみの様々な温度に対して真空下で行なわれ、得られた較正曲線は記録される。薄板10の振動周波数は多数の巻数、例えば10,000巻を含むコイル16を用いて測定される。冷却された薄板10は強磁性であるため、その自由端は、図1及び3に示すようなコイルの中央に置かれた永久磁石17の影響によるか、又は図4及び5に示すような薄板12に対して押し付けられた1つ又は2つの磁石13によって、磁化される。中央の永久磁石17を備えるか、或いは備えないコイル16は、薄板10の自由端12の前方に置かれる。冷却された薄板10は強磁性であるため、永久磁石17はその自由端が磁化されている薄板に影響を与える。磁化された薄板が振動するとき、それはレンツ効果Lenzeffectにより、コイル16の端子において起電力を発生させる。コイル16の端子における起電力は、薄板の磁化された端部の運動に応じて、及びそれゆえ薄板10の振動周波数に応じて変化する電圧値を有する。図2に示すように、コイル16の端子を横断する電圧は、薄板の励磁に続く待ち時間の期間T2後に測定され、例えばT2は約1秒であってもよく、それによって振動の型がその間に確立される移行期間を克服するため、及び薄板の振動周波数の推定を妨害するであろう好ましくない影響を避けるために役立つ。この予防措置はまた、薄板の自由振動の始まりを妨げ得る残留磁気のために、低温においても有用である。待ち時間の期間T1の経過後に、薄板の自由振動の型が達成され、コイル16により供給される電圧の取得が、例えば15000の測定ポイントに対応する、約10000Hzで15秒間の、選定されたサンプリング周波数及び所定の持続時間T3で始まる。コイル16の端子を横断する電圧は信号調整装置31に伝えられ、それはそこで妨害信号を除去するためにコンデンサー18によってフィルタリングされ、次に測定増幅器19の入力に加えられる。測定増幅器19の出力は、増幅された信号をデジタル化するためのアナログデジタル変換器を含む測定値取得装置20、及び特定の振動モードを選択してその他のモードを除去するための低域フィルターに接続される。例えば、選択されるモードは第一モード、すなわち主要モードであり得る。信号の位相は使用されないため、選択されたフィルターは、例えばフィルターの中心周波数の両側で、その60に位置するカットオフ周波数を含む、四次のチェビシェフフィルターであり得る。フィルタリングの後で、デジタル化された信号は、汚染された薄板の振動周波数を計算するための装置21に伝送される。薄板10の温度は、例えば電圧測定値の取得に対応する、持続期間T3の終了の際に取得され得る。このために、薄板上に置かれた熱電対は、薄板の温度を取得するための装置22に接続される。熱電対は薄板から電気的に絶縁されねばならず、このために、それは5mmの最大直径を有する接着性カプトンの2つのペレット間に置かれるか、又は薄板上でシリコン接着剤の点によって保持される。温度取得装置22の出力は、この温度に相当する清浄な薄板の周波数を決定するための装置23に接続される。清浄な薄板の周波数は、予備の較正段階において用意された較正曲線から決定される。同じ薄板温度に対応する、汚染された薄板の振動周波数と清浄な薄板の振動周波数は、薄板10上に堆積された質量の表面密度を計算する装置24に伝送される。薄板上に堆積された質量の表面密度σは、次の方程式:から得られる。ここで、σは単位面積当たりに堆積された質量、f0は温度Tにおける清浄な薄板の振動周波数、fmは温度Tにおける汚染された薄板の振動周波数、そしてαは較正係数である。この方程式は、真空が10-3hPa未満の圧力であるチャンバー内のみに有効である。圧力がこの値よりも高い場合、薄板の振動周波数及び堆積された質量の表面密度は、その圧力と残留ガスの成分とを考慮して修正されねばならない。この修正は、機器が10-3hPaと大気圧の間の中間圧力においても、動作できるようにする。本発明は特定の実施形態に関連して記述されているが、それは制限されることなく、そしてそれらが本発明の範囲内にある場合には、記述されている手段の技術的に等価な全てのもの、及びそれらの組合せを含むことは明らかである。"