光学素子の被検面の加工誤差を定量的に評価するための光学素子形状評価方法であって、理想面に対する前記被検面の偏差形状を多項式近似する多項式近似ステップと、前記多項式近似の結果から前記偏差形状の回転対称イレギュラリティ成分を切り出して評価形状を計算する評価形状計算ステップと、前記評価形状の瞳中心を含む領域が平面状に変形するように該評価形状に球面成分又は2次成分を付与する成分付与ステップと、前記球面成分又前記2次成分が付与された評価形状に基づいて前記被検面の加工誤差を計算する加工誤差計算ステップと、を有することを特徴とする光学素子形状評価方法。前記回転対称イレギュラリティ成分に基づいて前記評価形状で平面状に変形可能な領域を計算する領域計算ステップと、前記計算された領域を平面状に変形するために必要な球面成分又2次成分を前記回転対称イレギュラリティ成分に基づいて計算する付与成分計算ステップと、を更に有することを特徴とする、請求項1に記載の光学素子形状評価方法。前記多項式がツェルニケ多項式又は回転対称非球面式であることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の光学素子形状評価方法。前記加工誤差計算ステップは、前記球面成分又前記2次成分が付与された評価形状のPVPeaktoValley値を計算するPV値計算ステップを有し、前記PV値を単位変換して前記球面成分又前記2次成分付与後の回転対称イレギュラリティを計算し、該回転対称イレギュラリティから加工誤差を計算することを特徴とする、請求項1から請求項3の何れか一項に記載の光学素子形状評価方法。前記平面状に変形された領域を基準とした前記PV値の符号の正負に応じて前記被検面が前記理想面に対してプラスのクセかマイナスのクセかを判定するクセ判定ステップを更に有することを特徴とする、請求項4に記載の光学素子形状評価方法。所定の測定器による前記被検面の測定結果を用いて前記偏差形状を計算する偏差形状計算ステップを更に有することを特徴とする、請求項1から請求項5の何れか一項に記載の光学素子形状評価方法。請求項1から請求項6の何れか一項に記載の光学素子形状評価方法をコンピュータに実行させるための光学素子形状評価プログラム。光学素子の被検面の加工誤差を定量的に評価するための光学素子形状評価装置であって、理想面に対する前記被検面の偏差形状を多項式近似する多項式近似手段と、前記多項式近似の結果から前記偏差形状の回転対称イレギュラリティ成分を切り出して評価形状を計算する評価形状計算手段と、前記評価形状の瞳中心を含む領域が平面状に変形するように該評価形状に球面成分又は2次成分を付与する成分付与手段と、前記球面成分又前記2次成分が付与された評価形状に基づいて前記被検面の加工誤差を計算する加工誤差計算手段と、を有することを特徴とする光学素子形状評価装置。前記回転対称イレギュラリティ成分に基づいて前記評価形状で平面状に変形可能な領域を計算する領域計算手段と、前記計算された領域を平面状に変形するために必要な球面成分又2次成分を前記回転対称イレギュラリティ成分に基づいて計算する付与成分計算手段と、を更に有することを特徴とする、請求項8に記載の光学素子形状評価装置。前記多項式がツェルニケ多項式又は回転対称非球面式であることを特徴とする、請求項8又は請求項9に記載の光学素子形状評価装置。前記加工誤差計算手段は、前記球面成分又前記2次成分が付与された評価形状のPV値を計算するPV値計算手段を有し、前記PV値を単位変換して前記球面成分又前記2次成分付与後の回転対称イレギュラリティを計算し、該回転対称イレギュラリティから加工誤差を計算することを特徴とする、請求項8から請求項10の何れか一項に記載の光学素子形状評価装置。前記平面状に変形された領域を基準とした前記PV値の符号の正負に応じて前記被検面が前記理想面に対してプラスのクセかマイナスのクセかを判定するクセ判定手段を更に有することを特徴とする、請求項11に記載の光学素子形状評価装置。所定の測定器による前記被検面の測定結果を用いて前記偏差形状を計算する偏差形状計算手段を更に有することを特徴とする、請求項8から請求項12の何れか一項に記載の光学素子形状評価装置。光学素子の被検面には、例えば周辺領域のダレなど比較的大きな偏差形状が局所的に存在する。回転対称イレギュラリティによる形状評価においては、局所的な偏差形状を含めた被検面全体の近似形状に対応するデフォーカス成分が付与される。図9は、干渉計で観測される回転対称イレギュラリティの一例を示す。作業者は、図9に例示される回転対称イレギュラリティの目視による評価を通じて加工誤差の有無、大きさを測定する。しかし、図9に示されるように干渉縞は波打つように現れるため、偏差量を読み取り難いという指摘がある。また、回転対称イレギュラリティは、上記近似形状に対する偏差量であるため、実際の製品の加工誤差を必ずしも精確には表していない。また、目視による測定は誤差が大きいという問題が指摘される。また、干渉縞を調整する際の調整具合によっては誤差が変動して、測定の精確性が低下するという問題も指摘される。回転非対称成分が偏差形状に含まれる場合は、調整に対する干渉縞の曲がり具合が当該成分に依存して変化して測定精度を低下させるという問題も指摘される。図2は、目視測定の問題点を説明するための図である。図2aは、被検レンズL球面レンズの形状を示す図である。図2a中、実線で示されるレンズ面は実形状であり、破線で示されるレンズ面は理想的な形状である。被検レンズLは、図2aに示されるように、転写不良等によるダレがレンズ面周辺で生じている。図2bは、被検レンズLに約5本分のティルト成分を付与したときに観測される干渉縞を示す図である。図2bに示される干渉縞I1~I5は、調整具合に応じて異なるデフォーカス成分が付与されている。すなわち、干渉縞は、図2bに示されるように、測定対象が同一であっても調整次第で変化する。干渉縞が変化すると、観測されるイレギュラリティも変化する。このように、イレギュラリティは測定条件に依存して見かけ上変化するため、目視測定では高い信頼性を保証することが難しい。本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、光学素子の被検面の加工誤差を定量的に評価するのに好適な光学素子形状評価方法、光学素子形状評価プログラム、及び光学素子形状評価装置を提供することである。上記の課題を解決する本発明の一形態に係る光学素子形状評価方法は、光学素子の被検面の加工誤差を定量的に評価するための方法であり、理想面に対する被検面の偏差形状を多項式近似する多項式近似ステップと、多項式近似の結果から偏差形状の回転対称イレギュラリティ成分を切り出して評価形状を計算する評価形状計算ステップと、評価形状の瞳中心を含む領域が平面状に変形するように該評価形状に球面成分又2次成分を付与する成分付与ステップと、球面成分又2次成分が付与された評価形状に基づいて被検面の加工誤差を計算する加工誤差計算ステップとを有することを特徴とする。本発明に係る光学素子形状評価方法によれば、回転対称イレギュラリティ成分からなる評価形状に対して球面成分又2次成分を付与することにより、観測範囲の中央領域で直線に整えられた干渉縞を擬似的に得ることができ、実製品形状の近軸球面に対する偏差量、すなわち、実際の製品の加工誤差をより一層精確に示すものを定量的に求めることができる。本発明に係る光学素子形状評価方法は、被検面の加工誤差を高精度に求めるため、回転対称イレギュラリティ成分に基づいて評価形状で平面状に変形可能な領域を計算する領域計算ステップと、該計算された領域を平面状に変形するために必要な球面成分又2次成分を回転対称イレギュラリティ成分に基づいて計算する付与成分計算ステップとを更に有する方法としてもよい。偏差形状を多項式近似する際に用いられる多項式には、ツェルニケ多項式や回転対称非球面式等が想定される。加工誤差計算ステップには、球面成分又2次成分が付与された評価形状のPVPeaktoValley値を計算するPV値計算ステップが含まれていてもよい。加工誤差計算ステップでは、PV値計算ステップで計算されたPV値を単位変換して球面成分又2次成分付与後の回転対称イレギュラリティを計算し、該回転対称イレギュラリティから加工誤差を計算する。本発明に係る光学素子形状評価方法は、2次成分付与ステップで平面状に変形された領域を基準としたPV値の符号の正負に応じて被検面が理想面に対してプラスのクセかマイナスのクセかを判定するクセ判定ステップを更に有する方法としてもよい。本発明に係る光学素子形状評価方法は、所定の測定器による被検面の測定結果を用いて偏差形状を計算する偏差形状計算ステップを更に有する方法としてもよい。所定の測定器には、干渉計、接触又は非接触型の走査型三次元形状測定器等が想定される。上記の課題を解決する本発明の一形態に係る光学素子形状評価プログラムは、光学素子の被検面の回転対称イレギュラリティを定量的に評価するため、上記光学素子形状評価方法をコンピュータに実行させるためのプログラムである。上記の課題を解決する本発明の一形態に係る光学素子形状評価装置は、光学素子の被検面の加工誤差を定量的に評価するための装置であり、被検面の加工誤差を定量的に評価するため、理想面に対する被検面の偏差形状を多項式近似する多項式近似手段と、多項式近似の結果から偏差形状の回転対称イレギュラリティ成分を切り出して評価形状を計算する評価形状計算手段と、評価形状の瞳中心を含む領域が平面状に変形するように該評価形状に球面成分又2次成分を付与する成分付与手段と、球面成分又2次成分が付与された評価形状に基づいて被検面の加工誤差を計算する加工誤差計算手段とを有することを特徴とした装置である。本発明によれば、光学素子の被検面の加工誤差を定量的に評価するのに好適な光学素子形状評価方法、光学素子形状評価プログラム、及び光学素子形状評価装置が提供される。以下、図面を参照して、本発明の実施形態の光学素子の形状評価方法について説明する。なお、実際の製品形状以下、実製品形状と記す。は、理想形状に対する偏差量を許容公差内に抑えたものにすぎないため、厳密には理想形状と一致しない。しかし、本実施形態においては、許容公差内に収まる形状を加工誤差の無い理想形状と等価に扱う。また、測定対象である光学素子の被検面は、光学面であって高精度に加工されていることから、光軸周辺を含む殆どの領域の形状が許容公差内に収まっているものとする。これらの前提の下、本実施形態においては、実製品形状の近軸球面すなわち、実質的に加工誤差の無いベースカーブ形状に対する偏差量を測定して画像解析し、加工誤差の定量的な評価を行う。図3は、本実施形態で用いられる光学素子評価システム100の構成を概略的に示す図である。光学素子評価システム100は、図3に示されるように、レーザー光束を射出するレーザー光源10を有している。レーザー光源10から射出されたレーザー光束は、ダイバージェントレンズ12により集光されて点光源となった後、発散しつつハーフミラー14を透過して、コリメートレンズ16に入射する。レーザー光束は、コリメートレンズ16により平行光束に変換された後、基準レンズ18に入射する。基準レンズ18が有する参照面18aは、入射したレーザー光束の一部を透過しつつ残りを反射する。参照面18aで反射された参照波面参照波面光は、ハーフミラー14により反射されて、結像レンズ20に入射する。参照波面光は、結像レンズ20を介して撮像カメラ22の撮像面に入射する。参照面18aを透過した被検波面被検波面光は、基準レンズ18により収束光とされて被検物1に入射する。被検物1は、被検面1aの曲率が被検波面光の曲率と一致するように位置が調整されている。このような位置に被検物1を調整する作業をアライメントと呼ぶ。被検波面光は、被検面1aで反射されて、ハーフミラー14まで光路を戻る。被検波面光は、ハーフミラー14により反射されて、結像レンズ20を介して撮像カメラ22の撮像面に入射する。撮像カメラ22の撮像面上には、参照波面光と被検波面光とが干渉することにより生じた干渉縞が形成される。干渉光は、参照波面光と被検波面光との光路差が使用レーザーの波長の整数倍であるときに明るくなり、該光路差が該波長の整数倍から半波長ずれているときに暗くなる。撮像カメラ22によって撮像された干渉縞は、画像処理装置24による画像処理を経てモニタ26の表示画面に表示される。なお、画像処理装置24は、例えばCPUCentralProcessingUnit、各種データやプログラムを記憶するメモリ、ユーザインターフェース等を有する一般的なPCPersonalComputer端末である。表示画面に表示される干渉縞には、アライメントによる成分ティルト成分や残存アライメントによるデフォーカス成分、コマ収差、非点収差、球面収差、高次収差等の種々の成分が含まれている。そのため、加工誤差の測定を目視によって精度良く行うことは難しい。そこで、光学素子評価システム100は、フリンジスキャン法や時間的位相シフト法等の周知の干渉縞解析法を用いて、被検面1aの位相の空間分布を求める。本実施形態においては、例えばフリンジスキャン法を用いた干渉縞解析が行われる。具体的には、図示省略された駆動制御部が基準レンズ18を光軸AX方向に移動させる。これにより、参照面18aと被検面1aとの間隔が変化して、干渉縞の明暗が周期的に変化する。駆動制御部は、干渉縞が1周期2πだけ変化するように基準レンズ18を移動させる。画像処理装置24は、基準レンズ18の移動期間中、複数枚の干渉縞画像データを取り込み、干渉縞画像上の各画素における位相変化量輝度変化量に基づいて初期位相を計算する。画像処理装置24は、各画素の初期位相に加えて、隣接画素間の連続性の有無、1周期分の位相ずれの有無等を求めて各画素の情報に関連付ける。これにより、被検面1aの位相の空間分布が求まる。画像処理装置24は、求められた位相の空間分布を干渉縞のデジタル解析結果としてモニタ26の表示画面に表示させる。ここで求められた位相の空間分布は、被検面1aの偏差形状を表す。しかし、位相の空間分布には依然として種々の成分が含まれている。図4は、位相の空間分布に種々の成分が含まれることを視覚的に説明する成分分解図である。図4の符号A~Gのグラフは、各成分の空間分布を示す。各グラフでは、各成分の空間分布が平面XYを基準とした量で表現されている。図4のグラフAは、干渉縞解析の結果得られる偏差形状fMWDを示す。偏差形状fMWDは、横ズレ成分である平均ティルト成分fTLTグラフB参照と、それ以外の成分であるトータル成分fWDグラフC参照に分解することができる。トータル成分fWDは、サジッタ誤差である球面成分fWSグラフD参照と、それ以外の成分であるイレギュラリティ成分fWD’グラフE参照に分解することができる。イレギュラリティ成分fWD’は、回転対称イレギュラリティ成分fWRIグラフF参照と、回転非対称イレギュラリティ成分fWRVグラフG参照に分解することができる。被検面1aの加工誤差を精確に評価するためには、偏差形状fMWDから回転対称イレギュラリティ成分fWRIを切り出す必要がある。回転対称イレギュラリティ成分fWRIの切り出しには、例えば多項式近似が用いられる。本実施形態では、例えばツェルニケ多項式を用いて回転対称イレギュラリティ成分fWRIを切り出す。ツェルニケ多項式は、一般に、36項で展開される。ツェルニケ多項式において、回転対称イレギュラリティ成分は、次の式1に示される第3項、8項、15項、24項、35項を用いて表される。第3項は、デフォーカス成分を表す。第8項、15項、24項、35項はそれぞれ、3次、5次、7次、9次の球面収差を表す。回転対称イレギュラリティ成分のみからなる偏差形状Wrは、式1で挙げた各項nに係数anを乗算した次の式2で表される。式1の変数rは、正規化された値0≦r≦1であり、被検物1の瞳座標を表している。偏差形状Wrは、複数種類の成分を含むため、複合的な形状となっている。従って、各成分の大きさやバランスによっては、図4のグラフFに示されるように、瞳中心での偏差が大きい場合がある。グラフFの偏差形状Wrを干渉縞で表すと、観測範囲の中央領域で大きく歪んだ縞が観測されることになる例えば図9参照。このような歪みを持つ偏差形状Wrでは、加工誤差を精確に評価することが依然として難しい。精確な加工誤差の測定を行うためには、例えば図1に示されるように、干渉縞が観測範囲の中央領域で直線的になるように、すなわち、実製品形状の近軸球面に対応するデフォーカス成分を偏差形状Wrに付与することが望ましい。ここで、図1中、符号sは干渉縞ピッチを示し、符号hは干渉縞の直線部分に対する周辺部分の偏差を示す。h/s単位:本は、干渉縞ピッチsに対する偏差hの大きさを示し、実製品形状に対する偏差量を実質的に表している。そこで、本実施形態では、画像処理装置24が有する加工誤差計算プログラム24aを実行させて、偏差形状Wrの中央領域瞳中心を含む領域を平面状に変形させて基準平面図4の例では平面XYと一致させる処理平面化処理を行う。平面化した領域の偏差形状は、直線的な干渉縞と等価である。すなわち、偏差形状Wrの中央領域を平面化処理するということは、観測範囲の中央領域において干渉縞が直線となるように調整することと等価である。加工誤差計算プログラム24aは、偏差形状Wrの中央領域を平面化するため、偏差形状Wrのデフォーカス成分を調整する。デフォーカス成分は、式1又は2に示されるように、2次成分である。従って、偏差形状Wrに含まれる2次成分を全て0にすると、領域が平面化して直線的な干渉縞が得られるように思われる。しかし、偏差形状Wrには4次以上の高次成分も含まれる。そのため、干渉縞は、2次成分を単純に0にしただけでは直線にならない。なお、デフォーカス成分は、2次成分に代えて球面成分としてもよい。加工誤差計算プログラム24aは、2次成分を偏差形状Wrに応じて調整して、中央領域の平面化を試みる。具体的には、加工誤差計算プログラム24aは、瞳座標0=W0を始点として偏差形状Wrの2次微分の符号が反転するまでの瞳座標rsを計算する。計算により求められた値rsの絶対値に収まる瞳座標の領域以下、瞳座標領域rsと記す。が平面化処理可能な領域である。偏差形状Wrの2次微分は、次の3に示される通りである。次いで、瞳座標領域rsを平面化するために必要な2次成分デフォーカスの項の係数であるa3が求められる。式4は、偏差形状Wrの1次微分である。式5は、式4を球面収差成分Wsaとデフォーカス成分Wdefoとに分離して示した式である。加工誤差計算プログラム24aは、次の式6~10により、偏差形状Wrの1次微分が0<r<rsの範囲で最小となる係数a3を、すなわち平面化処理に必要な2次成分の調整量を最小自乗近似により計算する。加工誤差計算プログラム24aは、計算された係数a3を式2に代入してすなわち、偏差形状Wrに2次成分を付与して瞳座標領域rsを平面化して、偏差形状WrのPV値を求める。PV値単位:λは、W0=0としたときに偏差が最大となる瞳座標例えばr≒1での光路差を表す。PV値は、平面化された瞳座標領域rsを基準に正負の符号が付く。PV値は、マイナスのクセ実製品形状の近軸球面に対して凹部分の偏差形状であり、例えばダレの場合に負の値をとり、プラスのクセ実製品形状の近軸球面に対して凸部分の偏差形状であり、例えばシャクレの場合に正の値をとる。加工誤差計算プログラム24aは、PV値の符号に応じて被検面1aにダレ又はシャクレの何れ若しくはダレやシャクレをはじめとする何らかの加工誤差による形状の偏差が生じているかを判定して、その結果をモニタ26の表示画面に表示させることができる。加工誤差計算プログラム24aは、PV値λを、干渉縞として観測したときの偏差に、つまりh/s本として表される2次成分付与後の回転対称イレギュラリティNeに単位変換する。具体的には、加工誤差計算プログラム24aは、次の式11により、PV値を往復光路長すなわち2倍とした上で波長換算を行い、2次成分付与後の回転対称イレギュラリティNe本を計算する。ここで、PV値を往復光路長とするのは、目視測定される干渉縞が偏差の往復分の光路長を表しているためである。なお、λinfは、レーザー光源10から射出されるレーザー光束の波長であり、例えば632.8nmである。λeは、JIS規格で定められた評価波長であり、546.1nmである。このようにして計算された2次成分付与後の回転対称イレギュラリティNeは、実製品形状の近軸球面に対する加工誤差を定量的に示す。このように、本実施形態の光学素子評価システム100によれば、干渉縞画像を解析した結果得られる偏差形状に適正な量の2次成分を付与することにより、観測範囲の中央領域で直線となる干渉縞が擬似的に得られて、その偏差h図1参照に相当するPV値が計算される。そして、PV値から回転対称イレギュラリティNe実製品形状の近軸球面に対する偏差量が計算される。実製品形状との実質的な偏差量が計算されるため、加工誤差が高精度に求まる。すなわち、適正な量の2次成分を付与することによりノイズの少ない実製品形状の近軸球面に対する偏差量を算出して加工誤差を精度良く定量化できるため、図9に示す回転対称イレギュラリティ自体を加工誤差として評価していた従来の問題や、目視測定が抱えていた精確性の欠如の問題が有効に避けられる。次に、具体的実施例1を説明する。本実施例1における加工誤差の定量的な測定は、図5~図8の空間分布図を用いて視覚的に説明する。図5は、図4のグラフAに相当する偏差形状を示すグラフである。図5に示される偏差形状を多項式近似して得られる各項の係数値λは、次に示す通りである。a4=0.081、a5=-0.028、a6=-0.006、a7=0.035、a8=0.061、a9=0.011、、a15=0.037、、a24=0.026、、a35=0.010なお、この多項式近似によって得られる第3項は、測定時の残存アライメントによるデフォーカス成分である。本実施例1では、本発明の特徴部分の説明を明瞭にする便宜上、残存アライメントによるデフォーカス成分を考慮しないすなわちa3=0。図6は、上記係数a8、a15、a24、a35を用いて回転対称イレギュラリティ成分図4のグラフFに相当するものを再構成したグラフである。回転対称イレギュラリティ成分のみからなる偏差形状Wrは、図6に示されるように、中央領域が瞳中心に向かってなだらかに隆起している。すなわち、偏差形状Wrは、4次以上の高次成分も含むため、干渉縞として見たときに中央領域が直線的でない。加工誤差を高精度に測定するため、加工誤差計算プログラム24aによる平面化処理が実行される。図6の偏差形状Wrの瞳座標rsを計算すると、rs=0.22が求まる。すなわち、本実施例1においては、瞳座標-0.22~0.22の瞳座標領域rsが平面化処理可能な領域である。瞳座標領域rsを平面化するために必要な2次成分デフォーカスの項の係数であるa3を式10により計算すると、a3=0.086が求まる。a3=0.086であるときの2次成分の空間分布は、図7に示される通りである。加工誤差計算プログラム24aは、計算された係数a3を式2に代入する。すなわち、図6の偏差形状Wrに図7の2次成分を足し合わせる。すると、偏差形状Wrは、図8に示されるように、中央領域-0.22≦rs≦0.22が平面化される。かかる偏差形状WrのPV値を計算すると、PV=0.250λが求まる。PV値を次の式11により単位換算すると、2次成分付与後の回転対称イレギュラリティNe=0.6本が求まる。すなわち、本実施例1によれば、実製品形状の近軸球面に対する偏差量が目視測定による誤差が無く精確に算出されるため、加工誤差が定量的に測定されることとなる。以上が本発明の実施形態の説明である。本発明は、上記の構成に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲において様々な変形が可能である。例えば被検面1aの形状は、干渉計に限らず、接触又は非接触型の走査型三次元形状測定器を用いて測定してもよい。本実施形態ではツェルニケ多項式を用いているが、別の実施形態では他の多項式、例えば回転対称非球面式を用いてもよい。かかる場合、回転対称イレギュラリティ成分のみからなる偏差形状Wrは、次の式12で表される。ここでは、説明の便宜上、10次までの成分を用いて偏差形状Wrを表現した。次の式13は、瞳座標領域rsを求めるための偏差形状Wrの2次微分を、式14は、瞳座標領域rsを平面化するために必要な2次成分を求めるための偏差形状Wrの1次微分を、それぞれ示す。式15は、式14を2次成分W2と2次より大きい高次成分Whとに分離して示した式である。加工誤差計算プログラム24aは、次の式16~20により、偏差形状Wrの1次微分が0<r<rsの範囲で最小となる係数A2を、すなわち平面化処理に必要な2次成分の調整量を最小自乗近似により計算する。計算された係数A2を式12に代入することにより、偏差形状WrのPV値が求まる。PV値を波長換算することにより、ツェルニケ多項式を用いた場合と同様に、2次成分付与後の回転対称イレギュラリティNeが求まる。