"光記録樹脂層を有し、その光記録樹脂層の内部に記録光を集光させることにより記録を行う光記録媒体の当該光記録樹脂層を形成するための熱硬化性の光記録樹脂材料であって、該光記録樹脂材料を構成する単量体が、200~400nmの波長域において250nmより長波長側に最大吸収波長λmaxを示すものであり、光記録樹脂材料から形成した、250μm厚の硬化物の波長405nmの光に対する光透過率が、50以上である光記録樹脂材料。該単量体が、カルバゾール残基、ナフタレン残基、フルオレン残基、アントラセン残基、ビスフェノールA残基、又はビフェニル残基を有する請求項1記載の光記録樹脂材料。該単量体が、エポキシ化合物又はオキセタン化合物である請求項1又2記載の光記録樹脂材料。エポキシ化合物が、以下式1で表される化合物である請求項3記載の光記録樹脂材料。エポキシ化合物が、以下式2で表される化合物である請求項3記載の光記録樹脂材料。オキセタン化合物が、以下式3で表される化合物である請求項3記載の光記録樹脂材料。請求項1~6のいずれかに記載の熱硬化性の光記録樹脂材料の硬化物から形成された光記録樹脂層を有し、その光記録樹脂層に記録光を集光することにより記録マークを形成して記録が行なわれる光記録媒体。光記録樹脂層が、一対の透明基板に挟持された構造を有する請求項7記載の光記録媒体。しかしながら、特許文献1に提案されている光記録媒体の場合、酸発生剤が高い光熱感受性を有するため、夏期に一般家屋や倉庫で起りうる高温環境約40~60°C下での保管時に、光記録樹脂層に含有されている酸発生剤から意図しない酸が発生し、そのために光記録媒体が徐々に変色し、数十年というスパンでは記録マークの消失という事態の発生も懸念されている。本発明の目的は、以上の従来の問題点を解決しようとするものであり、高強度パルスレーザ光等の記録光で情報が記録される光記録樹脂層を有する光記録媒体の書き込み時間を、光記録樹脂層に酸発生剤を配合することなく、短縮化実用上の観点から10μsec以下にできるようにすることを目的とする。本発明者らは、光記録媒体の光記録樹脂層を形成するための光記録樹脂材料に配合する単量体として、200~400nmの波長域において最大吸収波長λmaxが250nmより長波長側に存在する単量体であって、しかも、それを含有する光記録樹脂材料を重合硬化させて得られた厚さ250μmの硬化物の波長405nmの光に対する光透過率が50以上となるような単量体を使用することにより、光記録樹脂材料を硬化させて形成した光記録樹脂層に対する高強度パルスレーザ光等の記録光による書き込み速度を大きく短縮できることを見出し、本発明を完成させるに至った。即ち、本発明は、光記録樹脂層を有し、その光記録樹脂層の内部に記録光を集光させることにより記録を行う光記録媒体の当該光記録樹脂層を形成するための熱硬化性の光記録樹脂材料であって、該光記録樹脂材料を構成する単量体が、250nmより長波長側に最大吸収波長λmaxを示し、光記録樹脂材料から形成した、250μm厚の硬化物の波長405nmの光に対する光透過率が、50以上である光記録樹脂材料を提供する。また、本発明は、上述した本発明の熱硬化性の光記録樹脂材料の硬化物から形成された光記録樹脂層を有し、その光記録樹脂層に記録光を集光することにより記録マークを形成して記録が行なわれる光記録媒体を提供する。本発明の熱硬化性の光記録樹脂材料は、最大吸収波長λmaxが250nmより長波長側に存在する単量体であって、しかも、光記録樹脂材料を重合硬化させて得られた厚さ250μmの硬化物の波長405nmの光に対する光透過率が50以上となるような単量体を使用する。このため、この光記録樹脂材料の硬化物から形成された光記録樹脂層を有する光記録媒体の当該光記録樹脂層に高強度パルスレーザ光等の記録光で記録マークを書き込む際の書き込み時間を大幅に短縮化することができる。まず、本発明の熱硬化性の光記録樹脂材料について説明する。本発明の熱硬化性の光記録樹脂材料は、光記録樹脂層に高強度パルスレーザ光等の記録光を集光することにより記録マークを形成して記録が行なわれる光記録媒体の当該光記録樹脂層を形成するためのものであって、単量体として、200~400nmの波長域において最大吸収波長λmaxが250nmより長波長側に存在し、しかも、光記録樹脂材料を重合硬化させて得られた厚さ250μmの硬化物の波長405nmの光に対する光透過率が50以上となるような単量体を含有する。なお、本発明の熱硬化性の光記録樹脂材料は、上述したような単量体の他に、その単量体の重合形式ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合に応じて、公知の重合開始剤を含有することができる。また、単量体の種類に応じた硬化剤を含有することもできる。更に、発明の効果を損なわない範囲で熱可塑性樹脂、色剤、酸化防止剤等の公知の添加物を含有させることができる。なお、光記録樹脂材料中におけるこれらの成分の配合割合は、含有成分の種類や光記録媒体の特性に応じて適宜決定することができる。本発明においては、熱硬化性の光記録樹脂材料に配合する単量体を選択する際に、最大吸収波長に着目する。これは、本発明者らの発見した200~400nmの波長域において、光記録樹脂材料を構成する単量体の最大吸収波長が長波長側にシフトするに連れ、そのような光記録樹脂材料の硬化物から形成された光記録樹脂層に対する記録光による書き込み時間が短縮化するという今までにない知見に基づいている。また、最大吸収波長の観察域を200~400nmとしたのは、400nmを超える領域に吸収がある場合には、記録媒体として多層記録の点で難があり、200nmを下回る領域の吸収を分光器で測定することが困難という理由からである。更に、単量体として、最大吸収波長λmaxが250nmより長波長側にあるものを使用する理由は、最大吸収波長が250nm乃至それより短波長側にあると、書き込み時間が、実用上一つの目安として許容されている10μsecという書き込み時間よりも長くなってしまうことが懸念されるからである。ここで、単量体の最大吸収波長が250nmより長波長側になるためには、分子中に、複数の芳香族環を有する残基を存在させることが好ましく、例えば、カルバゾール残基、ナフタレン残基、フルオレン残基、アントラセン残基、ビスフェノールA残基、ビフェニル残基等を有していることが必要である。中でも、高い架橋密度を実現可能な高い平面性骨格を有している点から、カルバゾール残基、ナフタレン残基、ビフェニル残基を好ましく挙げることができる。250nmより長波長側に最大吸収波長λmaxを有する単量体の例としては、上記したような複数の芳香族環を有する残基を有するアクリル系化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、オレフィン系化合物、ウレタン系化合物等が挙げられる。中でも、高架橋密度の点からエポキシ化合物又はオキセタン化合物を好ましく挙げることができる。ここで、これらの化合物の少なくとも一部は、3次元架橋を実現するために2官能以上であることが好ましい。本発明の光記録樹脂材料を構成する単量体の具体例としては、以下の式1、2及び3のエポキシ化合物又はオキセタン化合物を挙げることができる。なお、式3においてnは重合度を示し、好ましくは5~20の数である。単量体の光記録樹脂材料中の含有量は、少なすぎると発明の効果が得られにくく、多すぎると光記録樹脂材料中に溶解しにくくなる傾向があるので、光記録樹脂材料の好ましくは5~50質量、より好ましくは20~30質量である。なお、本発明の光記録樹脂材料の単量体がエポキシ化合物である場合、エポキシ用硬化剤として、エポキシ化合物の硬化剤として公知のものが使用することができる。例えば、アミン化合物、スルホン酸塩、ヨードニウム塩、イミダゾール類、酸無水物類等を一種以上使用することができる。これらのエポキシ用硬化剤の中でも、硬化温度を下げることができる点から、アミン化合物を好ましく使用することができる。このようなアミン化合物としては、トリスジメチルアミノメチルフェノールDMP-30、関東化学株や特殊アミン化合物U-Cat18X、サンアプロ株等を好ましく挙げることができる。また、単量体として、光記録樹脂材料を重合硬化させて得られた厚さ250μmの硬化物の波長405nmの光に対する光透過率が50以上となるような単量体を使用する理由は、50以上でないと、光記録樹脂層に入射した光が250μmの深さの位置にある記録マークから反射して出射してきたときの出射光量が入射光量の25以下となってしまい、光検出素子の読み出し閾値を下回ることが懸念されるからである。光記録樹脂材料におけるエポキシ用硬化剤の含有量は、少なすぎるとエポキシ化合物を十分に硬化させることができず、多すぎると硬化物が着色してしまう傾向があるので、エポキシ化合物100質量部に対し、好ましくは0.1~10質量部、より好ましくは0.5~1.5質量部である。また、本発明の光記録樹脂材料の単量体がオキセタン化合物である場合も、エポキシ用硬化剤及びその含有量を適用することができる。本発明の光記録樹脂材料は、必要に応じ、フェノキシ樹脂等の熱可塑性樹脂、酸化防止剤、着色剤等を含有することができる。本発明の光記録樹脂材料は、以上説明した所定の単量体と、それに適した重合開始剤もしくは硬化剤と、必要により添加される溶剤や他の添加剤とを均一に混合し、更に脱泡処理することにより調製することができる。次に、本発明の光記録樹脂材料を使用して形成した記録層を有する本発明の光記録媒体について説明する。図1に示すように、本発明の光記録媒体10は、光記録樹脂層1の内部に高強度パスルレーザ光等の記録光hνを集光させることにより、焦点F近傍の光学的性質を変質させ記録を行うものである。そのような光学的性質としては、屈折率、光反射率等が挙げられる。通常は、空洞が記録マークとして形成される。このような光記録樹脂層1の片面もしくは両面には、好ましくは、支持体あるいは保護部材としてガラス板等の一対の透明基板2が配置されている。必要に応じて反射防止膜、偏光膜等の公知の光学膜を積層してもよい。本発明の光記録媒体10は、一対の透明基板の片側の透明基板上に、前述した本発明の熱硬化性の光記録樹脂材料を常法により塗布し、その塗布膜上に他方の透明基板を積層し、得られた積層物を80~120°Cの温度に加熱することにより光記録樹脂材料を重合硬化させ、塗布膜を光記録樹脂層とすることにより製造することができる。このような本発明の光記録媒体10の光記録樹脂層1は、前述したとおり、本発明の光記録樹脂材料の硬化物から形成される。光記録樹脂材料を構成する単量体として、高い架橋密度を実現可能な高い平面性骨格を有する複数の芳香族環を有する残基を有する2官能以上の化合物を使用した場合、立体障害が減少し、高度に3次元架橋される。その結果、硬化物の架橋密度は増大し、架橋の度合いが増大するにつれて減少する架橋点間分子量が小さくなり、記録可能な記録マーク間の距離を小さくすることが可能となる。本発明においては、好ましい架橋点間分子量は2000以下、より好ましくは500以下である。なお、架橋点間分子量は、以下のフローリ式に従って算出することができる。ここで、Mcは架橋点間分子量であり、ρは硬化物の密度g/cm3であり、Tは温度°Kであり、E′は貯蔵弾性率MPaの高温領域ガラス転移温度以上の極小値である。また、光記録樹脂材料の硬化物の密度は、小さすぎると低架橋密度となるので、好ましくは1.210g/cm3以上、より好ましくは1.240g/cm3以上である。なお、硬化物の密度の上限は、有機物としての限界があるので、通常1.5g/cm3以下である。また、光記録樹脂材料の硬化物のガラス転移温度は、低すぎると高温環境下における光記録媒体の耐久性が下がる傾向があり、高過ぎると書き込み速度が下がる傾向があるので、好ましくは110~140°C、より好ましくは120~130°Cである。このような光記録樹脂層1を有する本発明の光記録媒体10は、前述したように、その光記録樹脂層1中にGaInN等の半導体レーザ光やチタンサファイヤレーザ等の高強度パルスレーザ光例えば、尖頭パワーが1W以上でパルス幅1nsec以下の記録光を集光させ、焦点F近傍を高温に加熱する。この結果、焦点付近の光記録樹脂層1を他の部分の光記録樹脂層に対して光学的に異なる性質空隙の有無、屈折率の高低、反射率の高低等を持つように変質させることができ、それにより記録を行うことができる。しかも、焦点位置や記録領域の大きさを公知の手法で調整することにより、光記録樹脂層の厚み方向に複数の記録換言すれば、記録の多層化が可能となる。また、記録光と同じ光源から、出力等を変えた再生光を光記録樹脂層内に集光させると、光学的異方性部分の光吸収、光反射などの光学的情報を記録情報として取得することができる。以下、本発明を実施例により具体的に説明する。実施例1~3及び比較例1~6光記録樹脂材料の調製表1に示す配合量質量部で、以下の式1~9の単量体と、硬化剤としてトリスジメチルアミノメチルフェノールDMP-30、関東化学株又は芳香族スルホニウム塩サンエイドSI-100L、三新化学工業株1質量部を均一に混合して脱泡処理することにより液状の熱硬化性の光記録樹脂材料を調製した。なお、式3、6又は8において、n又はmは重合度を示しており、好ましくはそれぞれ1~5、より好ましくは1~2の数である。また、式1~9の化合物の入手先は以下の通りである。化合物入手先1:グリシジルカルバゾール、東京化成工業株2:HP-4032D、DIC株3:OXBP、宇部興産株4:828US、三菱化学株5:830CRP、DIC株6:OXT-121、東亞合成株7:YX8000、三菱化学株8:リカレジンDME-100、新日本理化株9:YX8800、三菱化学株評価得られた光記録樹脂材料を用いて、以下に説明するように書き込み時間、最大吸収波長、光透過率を測定した。<書き込み時間の測定>得られた光記録樹脂材料を、0.15mm厚のカバーガラス基板に0.30mmの厚さとなるように塗工し、その上に0.75mm厚のガラス基板を配置し、80°Cに温められたオーブン中で12時間加熱し、光記録樹脂材料を硬化させて光記録樹脂層とし、これにより両面がガラス基板で挟持された光記録樹脂層を有する光記録媒体を得た。得られた光記録媒体の光記録樹脂層の深さ50μm位置に、ピコ秒パルス発振するレーザダイオード波長:405nm、パルス幅:3ピコ秒、対物アウトピークパワー:16W、繰り返し周波数:1GHzからのレーザ光を、対物レンズNA:0.85を用いて集光して、記録マークを形成した。このとき、パルスレーザ光照射時間書き込み時間が異なる複数の記録マークを形成して書き込みを行った。なお、書き込み時間の調整は、ファンクションジェネレータMP1800A、アンリツ株により制御した。次に、同じレーザダイオードを用いて、記録マークの読み出しを行った。具体的には、記録マークからの信号を、偏光ビームスプリッタ及びλ/4板より分岐し、CCDChargeCoupledDeviceを用いて、記録マークが確認できるか否かという基準で確認した。確認できた記録マークの書き込み時のパルスレーザ光照射時間のうち、最短の照射時間を光記録媒体の書き込み時間とした。得られた結果を表1に示す。10μsec以下であることが望まれる。<最大吸収波長λmazの測定>式1~9の単量体の1×10-5をW/Vのシクロヘキサン又はアセトニトリル溶液を調製し、紫外可視分光器UV560,日本分光株を用いて最大吸収波長λmaxを測定した。得られた結果を表1と図2とに示す。<光透過率の測定>書き込み試験と同様に光記録媒体を作成し、波長405nmの光で5°反射スペクトルRと透過スペクトルTとを測定した。得られた数値を透過率=T/100-R×100の式に代入することで透過率を求めた。得られた結果を表1と図3とに示す。<表1の結果の考察>実施例1~3の光記録樹脂材料の最大吸収波長は、250nmより長波長側にシフトしており、しかも光記録樹脂材料の硬化物の光透過率が50を大きく超えていたので、書き込み時間が10μsec未満であった。それに対し、比較例1~5の光記録樹脂材料の場合、最大吸収波長が250nmより短波長側にシフトしていたので、書き込み時間が10μsecを超えていた。また、比較例6の光記録樹脂材料の場合、最大吸収波長が250nmより長波長側にシフトしていたが、光記録樹脂材料の硬化物の光透過率が50を大きく下回っていたので、書き込み時間が10μsecを超えていた。なお、光記録後の実施例1~3の光記録媒体について、85°Cのオーブン中に500時間放置して記録マークの読み出しを行ったところ、放置前と全く変化はなく、良好な保存安定性を示した。"