粒子ビームを加速する加速器であって、軸線にそって連続して連結された複数の電磁空洞を有する主要体部と、隣接する電磁空洞の二つに連結される側方空洞を有する結合体部と、側方空洞の電場の分布を変更する唯一のプローブを有するエネルギー切り替え部と、を含み、プローブは、結合体部の軸線とは平行であるがずれている軸線を有し、プローブは、電磁空洞の二つの間の電磁場結合を、第二の側方空洞へのプローブの挿入の程度を変化させることにより変更することができるように設けられることを特徴とする加速器。プローブの直径が、側方空洞の周波数を制御するために選択される、請求項1に記載の加速器。プローブが、その長手方向に伸長するルーメンを有する、請求項1に記載の加速器。さらに、プローブのルーメン内に共軸に配置される流体管を含む、請求項3に記載の加速器。さらに、プローブの少なくとも一部を共軸に取り囲むチョークを含む、請求項3に記載の加速器。さらに、当該加速器に軸線にそって所望の電場のプロファイルを生成するための電場ステップ制御部を含む、請求項1に記載の加速器。側方空洞がビーム銃源に対して終端側にあり、電場ステップ制御部が側方空洞に対して終端側にある、請求項6に記載の加速器。電磁空洞の二つが同じ形状をもつ、請求項1に記載の加速器。上記技術を使用している加速器は一般的に、処理条件を満たすのに十分な二三の異なるX線モダリティすなわち、臨床的に、十分に異なるエネルギーレベルにより区別されるを与えることができる。しかし、病院や工場では、エネルギーについて四つ五つの因子にわたる多重高出力X線モダリティを生成することができる加速器システムを持つことは非常に重要である。製造の観点からは、二ないし三のモダリティに制限された加速器では実施は難しく、コスト高である。最近では、異なるモダリティが、いろいろな病院で必要とされるエネルギーの条件を満たすように、異なる範囲のビームエネルギーを提供するために、異なる加速器構造物を製造することにより設定されている。もし、病院でエネルギービームの条件を変えることになると、種々の加速器が組み立てられなければならない。上記理由で、全ての病院での条件を満たすように、十分に広いエネルギー範囲を与えることができる定在波電子加速器の必要性がある。さらに、ガンの処理のために、線量の深さのプロファイルを精密に形成すべく二つ以上のレベルの出力X線エネルギーをもつようにすることには、多くの手術において利点がある。ゆえに、多くのレベルをもつ出力エネルギーを与えることができる定在波粒子ビーム加速器が望まれている。いくつかの実施例にしたがって、粒子ビームを加速する加速器が提供される。加速器は、連続して結合した複数の電磁空洞をもつ主要体部と、第一の開口部を介して電磁空洞の一方と連結し、第二の開口部を介して電磁空洞の他方と連結する第一の側方空洞をもつ第一の結合体部とを含み、ここで第一の開口部および第二の開口部は異なる形状をもつ。さらに、加速器は、第一の結合体部の側壁に取り付けられた、対となる伝導性のある容量結合conductivecapacitivelycoupledノーズを含み、ここで一対のノーズは同じ長さをもつ。第一の開口部と第二の開口部とを異なる形状とすることで、共振モードの間の分離が減少する。しかし、このような形状はまた、隣接するモードの間での相互作用を極めて増加させることなく、広範囲のエネルギーレベルでエネルギーを切り替えて動作させることができる。このことは、使用中にエネルギーの切り替えがなされるときに広範囲な帯域を与え、加速器は広範囲なエネルギーレベルと最小のエネルギー広がりをもつX線ビームを生成することができる。他の実施例にしたがって、粒子ビームを加速する加速器が提供される。加速器は、軸線にそって連続して結合した複数の電磁空洞を有する主要体部、二つの電磁空洞に結合した側方空洞を有する結合体部、および側方空洞内の電場分布を変更するためのプローブをもつエネルギースイッチを含み、ここで、プローブは結合体部の軸線からずれてはいるが平行な軸線をもち、そのプローブは、電磁空洞の二つの間の電磁場の結合が第二の側方空洞へのプローブの挿入の程度を変えることにより変更することができるように取り付けられる。他の実施例にしたがって、電場ステップ制御部が提供される。電場ステップ制御部は、第一の端部、第二の端部、第一の端部と第二の端部との間に伸長する空洞を有する結合体部、および結合体部の側壁に設けられる対の伝導性のある容量性結合ノーズを含み、対のノーズは等しい長さをもち、ここで第一の端部はシールされ、第一の開口部および第二の開口部を有する壁部に設けられ、第一の開口部は、第二の開口部の断面寸法と異なる断面寸法を有する。電場ステップ制御部により、加速器は、最適な動作安定性と最適なエンベロープ包絡線との間でバランスを取ることができる。このことにより、加速器は、広範囲なエネルギーレベルをもつ一方で、最小のエネルギー広がりとなるX線ビームを生成することができる。本発明の他の実施例にしたがって、荷電粒子ビームを生成する方法は、主要体部と主要体部に設けられるエネルギー切り替え部主要体部は第一の端部、第二の端部、第一の端部と第二の端部との間にある複数の電磁空洞を有し、第一の端部にビーム銃源が設けられるを有する加速器を用意する工程を含む。本方法はさらに、電子を形成するために電子ビーム銃源を起動する工程と、電場のエンベロープが主要体部の長手方向にそって生成され、エンベロープは第一の端部とエネルギー切り替え部との間で、一様な第一の部分を含む。本発明の他の実施例にしたがって、荷電粒子ビームを生成する方法は主要体部を有する加速器を用意する工程を含み、主要体部は第一の端部、第二の端部、および第一の端部と第二の端部との間にある複数の電磁空洞を有し、第一の端部に電子ビーム銃源が設けられる。本方法はさらに、電子を形成するために電子ビーム銃源を起動する工程と、主要体部の長手方向にそった電場のエンベロープがステップを有するように電磁空洞を使用して電子を加速する工程とを含む。本発明の他の態様、さらなる態様、特徴は、下述する本発明を制限するのではなく例示の好適な実施例の説明から明らかであろう。図面は、本発明の好適な実施例の設計や有用性を示す同様の要素には同じ符号が付されている。本発明の上記および他の利点、さらに目的がどのように達成されるかを示すために、上記した本発明のより具体的な説明が、添付図面を参照してなされる。図面は本発明の典型的な実施例の理解のためのものであり、本発明の範囲を限定するものではなく、他の例をもってしても本発明は添付図面の使用のように説明することができる。本発明の種々の例が図面に符号を記して記述される。図面は同じスケールで描かれている訳ではないが、同様の構造、機能をもつ要素は図面を通して同じ符号を付して示されていることは分かるであろう。図面は、本発明の特定の実施例の技術を容易にするためのものであって、本発明を特定し、または本発明の範囲を限定するためのものではない。さらに、図示の実施例は発明のすべての態様、利点を示しているわけではない。本発明の特定の実施例に関連して記述した態様、利点はその実施例に限定されることではなく、図示されていない本発明の他の実施例でもって実施できるものである。図1は本発明実施例を示す荷電粒子定在波加速器の略示断面図である。加速器10は第一の端部72、第二の端部74、および第一および第二の端部72、74の間で、電磁的に結合した共振空洞電磁空洞16を有する主要体部70を含む。加速器10はまた、複数の結合体部21を含むが、それぞれは二つの隣接した空洞16に結合した結合空洞20を有する。加速器10はエネルギー切り替え部80および電場ステップ制御部100を有する。加速器10は、たとえば、1000MHzから20GHzの間、より好適には2800から3000MHzの間の共振周波数に近い周波数のマイクロ波源により伝えられるマイクロ波パワーにより励起される。マイクロ波源は従来知られているマグネトロンMagnetron、クライストロンKlystronであってもよい。マイクロ波パワーは開口部15から空洞16、好適には一連の空洞の一つから入射される。実施例では、加速器10はマイクロ波源の操作を制御するための、特許文献4に記載のもののような自動周波数制御部で動作するように構成されている。自動周波数制御部は、マイクロ波またはRFドライバが、周波数エラーを追跡するエラー電圧を解明することにより加速器10の共振を決定することを支援する。特許文献4はここの参考文献として組み込まれる。これに代え、またはさらに特許文献5に説明されたような制御部は、加速器10により生成された反射信号を偏向することにより、さらにマイクロ波源にそれを戻すことによりマイクロ波源たとえば、マグネトロンへのフィードバックを行う。特許文献5はここに参考文献として組み込まれる。実施例では、電子ビーム銃源14に隣接した主要体部70の壁44は、従来知られている分子流コンダクタンスを改良するための一つ以上のポンプ出力ホール図示せずを含むことができる。この場合、加速器10はさらに、ポンプ主力ホールからの同調ずれを補償するために壁44の内側面に取り付けられる同調リング図示せずを含むことができる。同調リングは一体に作られてもよい。これに代え、同調リングおよび壁44は別個に作り、一緒になるように組み立てられてもよい。また、実施例としては、加速器10は、壁44の内側面に設けられる、特許文献6に説明されたような銅製プレートを含んでもよい。銅製プレートは電場を終らせる機能や形状を決める機能をもつ。使用中、線形の電子ビーム12が第一の端部72にある在来の電子ビーム銃源14により加速器10に入射される。ビーム12は連続するものでも、パルス状のものでもよい。ビーム12は電子が捕獲され加速される加速器10の第一の区画76を通過し、捕獲された電子がさらに加速される加速器10の第二の区画78に入る。第二の区画78すなわち、下流での電場の振幅がエネルギー切り替え部80の動作により調節可能である。最初の連続したビームからの電子集群bunchの形成は、加速器10の第一の区画76で行われると、集群動作はそこで達成され、または最適化され、第二の区画78の出力空洞16の変化する加速場により劣化することがない。したがって、出力ビームのエネルギーは可変平均出力電子エネルギーに関係なく、広がる。RFパワー入力第一および第二の区分76、78の電場を変化させる、およびエネルギー切り替え部80第二の区分78の電場を変化させるを制御することにより、加速器10のエネルギースペクトルが最適化され、安定した充填chargingが維持される。電場ステップ制御部100はエネルギー切り替え部80の動作に関連した電場の変化範囲を減少させるために、電場に変化たとえば、ステップ場を与える。この電場ステップの使用により、加速器10の共振モードの分離を減少させるという効果をもたらし、その結果ビームエネルギーの最適な範囲が作り出される。このことにより、比較的安定な帯域が得られ、加速器10は広い範囲のエネルギーレベルをもち最小のエネルギー広がりとなるX線ビームを生成することができる。実施例として、電場ステップ制御部100により、加速器10は約4から20MeVの範囲のエネルギーレベルをもつX線ビームを生成することができる。図示の実施例では、電場ステップ制御部100はエネルギー切り替え部80よりもビーム銃源14から離れ、エネルギー切り替え部80の近く位置する。これに代えて、電場ステップ制御部100は、電子ビーム銃源14とエネルギー切り替え部80との間の他の位置に位置し、またはエネルギー切り替え部80よりさらに下流に位置してもよい。加速後、ビーム12はX線ターゲット32に衝突する。ターゲット32は、対象の粒子放射のための電子を送出するのに十分な薄さをもつ金属製の真空窓であってもよい。この実施例に代え、加速器10はターゲットを含まないものでもよい。この場合、ターゲット32は加速器10から離れて位置する。図示の実施例において、電磁空洞16はドーナッツ形状をもち、ビーム12が通過できる整合した中央ビーム開口17を有する。空洞16を画成する主要体部70は、RF源の波長λにほぼ等しい断面寸法をもち、各空洞16は07λから09λにほぼ等しい断面寸法をもち、ビーム開口17は005λから007λにほぼ等しい断面寸法をもつ。また、図示の実施例では、空洞16の間を分離する隣接する壁の間の距離は電子ビーム銃源14とエネルギー切り替え部80との間の空洞に対してはほぼ03λから05λの範囲で、空洞を分離する隣接した壁の間の距離はエネルギー切り替え部80の右側お空洞16に対しては約05λである。他の実施例では、空洞16、開口17、および他の加速器10の他の要素は他の形状、寸法をとり得る。実施例としては、第一の区画76の空洞16の形状、寸法は電子の捕獲、集群、位相調整を改良するために設定される。図示の実施例では、開口17のそれぞれは、実質的に一様な断面をもつ。これに代え、電子ビーム銃源14に隣接した開口17は、テーパーが付けられた形状のように、その断面が変化するものでもよい。空洞16は好適に、マイクロ波パワーと電子ビームとの効率的な相互作用を改良するために、最適化された形状をもつ突き出たノーズを有する。空洞16は結合空洞20を介して電磁的に連結され、結合空洞は開口部22により隣接する対となった空洞16のそれぞれを結合する。図示の実施例では、開口部22のそれぞれは矩形で、0045λの幅、03λの長さをもつ。他の実施例では、開口部22は他の形状、寸法をとり得る。結合空洞20は定在波加速器の空洞16と同じ周波数で共振し、ビーム12と相互作用しない。図示の実施例では、結合空洞20は円筒形状をし、軸線方向に突き出た一対の伝導性の容量性結合ノーズ24をもつ。これに代えて、結合空洞20は他の形状および構成を有してもよい。励起周波数は、一連の空洞が定在波共振で励起され、各結合空洞20のそれぞれと隣接する加速空洞16との間にπ/2ラジアン位相シフトがあるようにしたものである。したがって、隣接する加速空洞16の間には、πラジアンのシフトがある。π/2モードにはいくつかの利点がある。偶発的に励起され得る隣接したモードから共振周波数が明確に分離される。また一連の空洞が適切に終結していると、非相互作用の空洞でのパワー損失が小さくなるように結合空洞20の電磁場が小さい。最初第一と最後の空洞26、28は間の空洞16の半分となっている。もちろん、他の実施例として、終端空洞26、28は空洞のそのものの大きさまたは一部分であってもよいことは分かるであろう。加速空洞16の間の間隔は、自由空間波長のほぼ半分であり、その結果一つの空洞16で加速された電子は、さらなる加速のために、マイクロ波パワーに対して正しい位相で次の加速空洞に到着する。これに代えて、加速空洞16はこれ以外の間隔をもってもよい。実施例として、加速空洞16のほとんど、および結合空洞20のほとんどが、ほとんどの加速空洞16の場が実質的に同じであるように、同様のものとなる。これに代え、加速空洞16および/または結合空洞20は、空洞16のいくつかの場が異なるように他の形状となってもよい。図示の実施例では、加速器10の第一の区画すなわち、集群区画は三つと1/2空洞16をもち、第二の区画78すなわち、加速区分は二つと1/2空洞16をもつ。しかし、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。これに代えて、加速器10の区画76、78のそれぞれは多くの空洞16をもち得る。たとえば、実施例としては、加速器10の第一の区画76は二十個の電磁空洞16をもち得る。図2は、本発明の実施例にしたがった加速器10のエネルギー切り替え部80を示す。エネルギー切り替え部80は、空洞34および開口部51を有する円筒状のカップ形状体部50に取り付けられ、開口部51を通して挿入されたプローブ56、プローブ56の少なくとも一部を共軸に取り囲むチョーク58を含む。チョーク58は短絡回路の開放回路へのインピーダンス変換を容易にするように構成された二重四分の一波長チョークである。カップ形状体部50は、空洞34が各開口部38、40を介して隣接する空洞16に結合されるように、加速器10の主要部体70に取り付けられる。エネルギー切り替え部80はまた、空洞34で軸線方向で向かい合った端部を有する、一対の軸線方向に突き出た伝導性の容量性結合ノーズ54を含む。カップ形状体部50およびノーズ54は、前述したように結合体部21およびノーズ24と同様のものである。実施例として、空洞34切り替えられた側方空洞は他の結合空洞20と同じ周波数に同調される。このことは、プローブ56が空洞34内に少なくとも部分的に、挿入されるときに、プローブ56の直径または断面寸法を変化させることにより達成される。これに代えて、同調は、プローブが空洞34内に挿入されないとき、ノーズ54の間の間隔を変化させることによっても達成される。プローブ56はカップ形状体部50の中心線59からずれるように配置されている。図示の実施例では、カップ形状体部50の中心線から上流にずれている。これに代えて、プローブ56は中心線の下流に位置してもよい。プローブ56は他の断面形状をもち得るが好適には円形の円筒状である。図示の実施例では、プローブ56はステンレススチールから作られるが他の材料でもよい。プローブ56は長さ方向にそって伸長するルーメン57をもつ。使用中、冷却流体がプローブ56の冷却のために、ルーメン57内にたとえば、ルーメン57に共軸方向に挿入される他の管を介して入る。他の実施例として、プローブ56は中実の断面をもち、ルーメンがない。一つのプローブの使用は、機械的な干渉がなく、プローブを進退させるために、プローブ56の端部と係合する機構のための機械的な空間を備える。機構図示せずは、電気的に稼働するソレノイドまたは空気力の動作をするシリンダーからなってもよい。プローブ56は、真空シールを与えるベローズ61を利用して真空壁を通過して移動する。使用の間、対のノーズ54は結合共振器のように機能し、プローブ56は第三の共振器として機能する。空洞34へのプローブ56の挿入の程度を変化させることにより、プローブ56とノーズ54との間の距離が対応して変化し、このことにより、開口部38、40に結合した磁場が変化する。このことは、切り替え部80から下流のビームのエネルギーレベルを変化させる。加速器10に利用することができる切り替え部のタイプは上記の例に限定される必要はなく、従来知られている他のタイプの切り替え部も使用することができることは分かるであろう。限定する例ではないが、特許文献1、特許文献2に示された加速器の切り替え部が使用されてもよい。特許文献7は、隣接する加速空洞に結合する異なる上流の電場と下流の電場を与えるために、選択された直径をもつ二つのプローブにより結合空洞に切り替え電場を与えることを開示する。特許文献7、特許文献2、特許文献1はここに参考文献として組み込まれる。また、他の実施例では、エネルギー切り替え部80が、図示の実施例に示されたものに代え、加速器10の長さにそって別の位置に配置することができる。さらに、唯一のエネルギー切り替え部が上記実施例に示されているが、これに代えて、加速器10は複数のエネルギー切り替え部を有してもよい。図3は、本発明にしたがった加速器10の伝がステップ制御部100の斜視図である。電場ステップ制御部100は第一の端部114、第二の端部116、第一の端部114と第二の端部116との間にある空洞112を含む結合体部110、および構造物120を含む。結合体部110の第一の端部114はシールされ、第二の端部116は構造物120に取り付けられている。図示の実施例では、構造物120は加速器10の主要体部70の一部である加速器10の長手方向にそった区画。これに代え、構造物120は、隣接する電磁場空洞16の部分を画成する側壁のような、加速器10の他の部分である。結合体部110は前述した結合体部21と同様のものである。図示の実施例では、結合体部110は矩形である。これに代え、結合体部110は半円形状のもの、円筒形状のように他の形状をもってもよい。実施例として、結合体部110は、結合体部21のものと同じ共振周波数をもつように形成されている。結合体部110は、主要体部70とともに製造されてもよい。これに代えて、結合体部110と主要体部70または主要体部70の一部である構造物は別個に製造され、一緒に組み立てられてもよい。電場ステップ制御部100はさらに、対となった軸線方向に突き出た、伝導性の容量性結合ノーズ138図3では図示されていないを含む。ノーズ138は等しい長さと形状をもち、結合体部110の内側側壁に設けられている。ノーズ138は他の実施例として、異なる長さおよび/または形状をもってもよいが、このような構成は、電場ステップ制御部100の効率を低下させ、したがって望ましいものではない。図3に示されているように、電場ステップ制御部100はまた、結合体部110の第二の端部116に第一の開口部102および第二の開口部104を含む。第一の開口部102は、電磁空洞16の一つに空洞112を結合するように形成され、第二の開口部104は電磁空洞16の他の一つに空洞112を結合するように形成されている。開口部102、104は異なる形状をもつ。図示の実施例では、開口部102、104はともに矩形である。しかし、他の実施例として、開口部102、104は円形形状、楕円形状、台形形状のような他の形状をもってもよい。図示の実施例では、第一の開口部102は、第二の開口部104よりも大きく、大きな断面をもつ。このような形状により、電場のエンベロープ402が、加速器10図4の長手方向にそって電場ステップ制御部100の位置でのエネルギーレベルに変更たとえば、ステップ400があるように生成される。図4はまた、エンベロープ402と関連した実際の電場プロファイル404を示す。エンベロープ402はほぼ一様なすなわち、平坦である第一の領域406および第二の領域408をもつが、他の実施例として、第一および第二の領域406、408のいずれかまたは両方が傾斜していてもよい。図示の実施例では、第一および第二の開口部102、104の両方が005λの幅をもち、第一の開口部102は035λの長さ132をもち、第二の開口部104は031λの長さ132をもつ。他の実施例として、第一および第二の開口部102、104は所望の電場ステップが形成されるように他の寸法をもってもよい。開口部102、104の形状は上記の例に限定される、開口部102、104は他の形状をもちうることは分かるであろう。たとえば、他の実施例として、第一の開口部102は第二の開口部104のものよりも小さな断面をもってもよい。この場合、生じた電場ステップは、下降するステップとなる。さらに、他の実施例として、第一の開口部102は、第二の開口部104のものと異なる形状をもってもよい。電場ステップ400は好適に、電場ステップ制御部100の右側のエネルギーレベルE2が電場ステップの制御部100の左側のエネルギーレベルE1の、好適には1から2倍の範囲、より好適には1.3から1.5倍の範囲となるような振幅をもつ。しかし、他の実施例として、電場ステップ400は他の振幅をもってもよい。ほぼ1である、電場ステップエネルギーの比r=E2/E1は、ほぼ2である電場ステップエネルギー比よりも安定性すなわち、隣接したモードの相互作用のため干渉が小さいを与える。しかし、ほぼ2である、電場ステップエネルギー比rはほぼ1である、電場ステップエネルギー比よりもよりよいエンベロープすなわち、広範囲のエネルギーレベルを与える。電場ステップ制御部100は、共振モードの間の分離を低下させる効果をもつが、エネルギー切り替え部80が、隣接するモードの間の相互作用を非常に増加させることなく、広範囲のエネルギーレベルで動作することができるようになる。このことは、加速器10に対してより広い帯域を与え、加速器10は広いエネルギー範囲をもち、最初のエネルギー広がりとなるX線ビームを生成することができる。実施例として、電場ステップ制御部100は、加速器10が、4MeVから20MeVの範囲のエネルギーレベルをもつX線ビームを生成できるようにする。この場合、この構成は、適当なフィルターおよび/またはターゲットでもって、七つの異なるエネルギーレベルすあわち、4、6、8、10、15、18および20MeVを与える。他の実施例として、電場ステップ制御部100は、加速器10がkeVからMeVのエネルギーレベルの両方のX線ビームを生成するようにする。電場ステップ制御部およびエネルギー切り替え部を使用して、ビームのエネルギーを多数のレベルに切り替えることができる加速器が提供される。電場ステップ制御部により、加速器は最適な動作安定性と最適なエンベロープとの間でバランスをとることができる。このことは加速器に対して広い帯域を与え、加速器が広範囲なエネルギーレベルをもち、最小のエネルギー広がりとなるX線ビームを生成することができる。共振モードの分離のために、電場ステップを生成するために、他の装置や方法が使用できることは分かるであろう。図5は、本発明の他の実施例にしたがった電場ステップ制御部500を示す。電場ステップ制御部100と異なるのは、電場ステップ制御部500は等しくない開口部102、104を有しないことである。この場合、電場ステップ制御部500は結合体部21、主要体部70の少なくとも一部、およびリング502を含む。リング502は隣接する空洞16を分離する分離壁504に設けられている。このような構成は、電場ステップ制御部500の位置におけるエネルギー場を低下させる効果をもつ。リング502は分離壁504と一体に作られてもよい。これに代え、リング502と分離壁504は別個に作られ、一緒になるように組み立てられてもよい。リング502の一部の断面の寸法、形状、およびリング502の全体の形状は、所望の特徴をもつ電場ステップが生成されるように設定される。図示の実施例では、リング502の一部の断面形状は矩形で、他の実施例の場合と同様に、他の形状をとることができる。また、他の実施例として、電場ステップ制御部500は分離壁504の両側にまたは隣接壁506に設けられた第二のリングを有してもよい。実施例として、複数のリング502は加速器10の第一の区画76の空洞16の分離壁に設けられてもよい。このような構成は、図4の場合と同様のエネルギープロファイルを生成する。さらに、他の実施例として、リングに代えて、電場ステップ制御部500は、分離壁504に設けられる他の形状をもつ構成でもよい。図6は、本発明の他の実施例にしたがった電場ステップ制御部600を示す。電場ステップ制御部600は結合体部21、主要体部70の少なくとも一部分601、および隣接空洞16を分離する分離壁604に設けられた伸張したノーズ602を含む。ノーズ602は、円形形状、楕円形状、矩形形状、または他の形状といった種々の形状をとりうる。ノーズ602の形状、寸法は、所望の特徴をもつ電場ステップが生成されるように設定される。唯一の伸張したノーズ602が示されているが、他の実施例として、加速器10は、加速器10の長手方向にそった選択位置に伸張した複数のノーズ602を有してもよい。図7は、本発明の他の実施例にしたがった他の電場ステップ制御部700を示す。電場ステップ制御部700は、結合体部21、主要体部70の少なくとも一部分、および隣接空洞16を分離する分離壁704を通過するビーム開口部702を含む。図示の実施例では、開口702は矩形であるが、ビーム開口17よりも比較的大きくともよい。開口702の寸法、大きさは所望の特徴をもつ電場ステップが生成されるように設定される。また、他の実施例では、加速器10は、加速器10の長手方向にそった他の位置ある複数の電場ステップ制御部700をもってもよい。加速器10は一つの電場ステップ制御部100に関連して記述されて来たが、本発明の範囲はこれに限定されない。他の実施例では、加速器10は所望の電場ステップを生成するための複数の電場ステップ制御部を有してもよい。たとえば、実施例として、複数の電場ステップ制御部は一連の電場ステップ図8を生成するために使用されている。また、実施例として、加速器10は所望の電場ステップを生成するために、第一の区画76内またはビーム源14の近くに一つ以上の電場ステップ制御部10を含んでもよい。本発明の特定の実施例が説明されているが、本発明を好適実施例に限定する意図はなく、当業者であれば、本発明の思想、範囲から逸脱することなく種々の変更、修正がなし得ることは分かるであろう。したがって、明細書、図面は限定のためではなく説明のためのものである。本発明は、特許請求の範囲により画成される本発明の思想、範囲内にある変形例、修正例、同等物を含むものである。