ウエハエッチングシステムを改造する方法であって、ウエハエッチングシステムの構成要素に形成されたレセプタクルにアダプターリングを配置することであって、アダプターリングの第1の部分の少なくとも一部はレセプタクルに配置され、アダプターリングの第2の部分の少なくとも一部はレセプタクルから突出していること、および上部電極をシステムに配置することであって、上部電極はチャネルが形成されており、上部電極は、アダプターリングの第2の部分の少なくとも一部がチャネル内に配置されるようにシステムに配置される、ことを含む、方法。アダプターリングを、レセプタクルにおいて1以上の締め付け器具で固定することを更に含む、請求項1に記載の方法。上部電極を、システムにおいて1以上の締め付け器具で固定することを更に含む、請求項1に記載の方法。少なくとも1つのレセプタクルが配置されるエッチングチャンバー、エッチングチャンバー内に配置される上部電極であって、前面、背面および背面に形成されたチャネルを有する上部電極、ならびに少なくとも第1の部分および第2の部分を有するアダプターリングであって、第1の部分の少なくとも一部は、ウエハエッチング装置における少なくとも1つのレセプタクル内に配置されるように構成され、第2の部分の少なくとも一部は、上部電極の背面に形成されたチャネル内に配置されるように構成される、アダプターリングを含む、ウエハエッチングシステム。エッチングチャンバーに配置される熱連結プレートを更に含み、少なくとも1つのレセプタクルが熱連結プレートに形成される、請求項4に記載のシステム。アダプターリングが、第1の部分の少なくとも一部に隣接する前面と、第2の部分の少なくとも一部に隣接する背面とを有する、請求項4に記載のシステム。アダプターリングに形成された1以上の開口部を更に含み、1以上の開口部は、アダプターリングの前面および背面の少なくとも一方に対して略垂直である、請求項6に記載のシステム。アダプターリングが矩形の断面形状を有する、請求項4に記載のシステム。ウエハエッチング装置において用いられる構成要素のシステムであって、アダプターリングであって、アダプターリングの少なくとも一部は、ウエハエッチング装置におけるレセプタクル内に配置されるように構成される、アダプターリング、ならびに前面、背面および背面に形成されたチャネルを有する電極であって、チャネルは、アダプターリングの第2の部分の少なくとも一部を受けるように構成される、電極を含む、システム。アダプターリング、および電極の背面に形成されたチャネルは、全体の形状が円形である、請求項9に記載のシステム。アダプターリングが幅を有し、電極の背面に形成されたチャネルが、アダプターリングの幅より少なくとも0.5ミリメートル大きい幅を有する、請求項10に記載のシステム。アダプターリングが第1の部分および第2の部分を有し、第1の部分の少なくとも一部は、ウエハエッチング装置におけるレセプタクルに配置されるように構成される、請求項9に記載のシステム。アダプターリングが、第1の部分の少なくとも一部に隣接する前面と、第2の部分の少なくとも一部に隣接する背面とを有する、請求項12に記載のシステム。アダプターリングに形成された1以上の開口部を更に含み、1以上の開口部は、アダプターリングの前面および背面に対して略垂直である、請求項13に記載のシステム。アダプターリングが矩形の断面形状を有する、請求項9に記載のシステム。アダプターリングが正方形の断面形状を有する、請求項15に記載のシステム。ウエハエッチング装置におけるレセプタクルが環状の溝である、請求項9に記載のシステム。ウエハエッチング装置におけるレセプタクルが矩形の断面形状を有する、請求項9に記載のシステム。ウエハエッチング装置におけるレセプタクルが正方形の断面形状を有する、請求項18に記載のシステム。電極に形成された複数のガス分配開口部を更に含み、開口部の各々は、電極の背面に隣接してより大きい直径を有し、電極の前面に隣接してより小さい直径を有する、請求項9に記載のシステム。開口部の各々が、電極の背面に略隣接する第1の直径を有する上部と、電極の前面に略隣接する第2の直径を有する下部とを有する、請求項20に記載のシステム。ガス分配開口部の上部の第1の直径が、ガス分配開口部の下部の第2の直径より大きい、請求項20に記載のシステム。対応する参照記号は、図面全体にわたって対応する部品を示す。本明細書に記載の実施形態は全体として、ウエハ加工例えばエッチングシステムにおいてシリコン電極と共に用いられるアダプターリング、およびウエハ加工システムにアダプターリングを取り付ける方法を対象としている。例えば、本明細書に記載のアダプターリングの実施形態は、半導体ウエハをエッチングするシステムにおいて用いられてよい。アダプターリングの他の実施形態は、本明細書において明記されていないが、他の基板または材料を加工するためにプロセスにおいて電極を使用する他のシステムにおいて用いられてよい。更に、いくつかの実施形態は、材料において実施される他のプロセスにおいて電極を使用するシステムにおいて用いられてよい。図1は、ウエハをエッチングするための例示的システム100の部分概略断面図である。システム100は、図1の実施形態において半導体ウエハをエッチングするのに用いられる。他の実施形態において、システム100は、他の基板または構造体をエッチングするのに用いられてよい。システム100の種々の構成要素は、明確にするために図1において省略されている。システム100は、システムの他の構成要素が配置されるハウジング102を含む。ハウジング102は、低圧雰囲気即ち500ミリトールより低い圧力がハウジング102内で保持可能であるように、周囲の環境から十分に密封される。熱連結プレート110、アダプターリング120、上部電極130および下部電極140が、システムのハウジング102内に配置される。ウエハWは、下部電極140の上に配置され、静電チャック図示せずによって適切な位置に保持されてよい。システム100のこれらの構成要素ハウジング102を除くは、本明細書に記載の実施形態において全体の形状が略円形であり、これは、システムにおいて加工または処理されるウエハが同様に成形されるまたは同様の形状であるからである。他の実施形態において、システム100の構成要素は、異なる形状のウエハを加工するために、異なる形状であってよい。操作において、システム100は一般に、上部電極130における開口部150図5および6を通るガスの流れを導入すること、およびプラズマを衝突させる又は開始させることによって機能する。そのプラズマが、ウエハWの表面をエッチングする。図2および3のアダプターリング120は、深さRdおよび幅Rwを有する。アダプターリング120は、図2に示すように全体の形状が略円形であり、十分な剛性および機械的強度を有する任意の適切な金属または材料から形成される。例示的材料として、アルミニウム、スチールおよびその合金、チタン、セラミックスまたは複合材料が挙げられる。図3に示すように、アダプターリング120は断面形状が四角形または正方形、squareであるが、他の実施形態において、断面形状は矩形または楕円形であってよい。更に、アダプターリング120は、図面において連続的であるように示されるが、他の実施形態において、アダプターリング120は、システム100において使用する際にアダプターリング120が中断部または切れ目、breakまたは他の不連続部を有してよいように又は有しなくてよいように、複数の独立した部品から形成されてよい。アダプターリング120は、第1の部分122および第2の部分124も有する。第1の部分122は概してアダプターリング120の上半分であり、一方、第2の部分124は概してアダプターリング120の下半分である。アダプターリング120の前面126は第1の部分122に略隣接する。アダプターリング120の背面128はその第2の部分124に略隣接する。アダプターリング120は図3の実施形態において一様な断面形状を有するが、他の実施形態において、断面形状は一様でなくてよい。従って、アダプターリング120の第1の部分122の幅または形状は、第2の部分124の幅または形状と異なっていてよい。例えば、第1の部分122の断面形状は、前面126付近におけるその幅が、第2の部分124および背面128に最も近い部分の幅より大きいように、テーパー状であってよい。この例において、第2の部分124は、正方形の断面形状を有してよく、またはテーパー形状であってよく若しくは任意の他の適切な形状を有してよい。前面126および/または背面128に対して略垂直である複数の穴あけbore開口部134が、アダプターリング120に形成される。いくつかの実施形態において、穴あけ開口部134は、アダプターリング120において、前面126および背面128に対して傾斜して例えば、垂直から約10°より小さい角度で形成されてよい。そのような実施形態において、熱連結プレート110に形成された開口部114以下により詳細に説明するは、同様に傾斜してよい。アダプターリング120に形成された複数の穴あけ開口部134は、締め付け器具図示せずを挿入してアダプターリング120を熱連結プレート110に留める又は固定することが可能であるようなサイズである。他の実施形態において、アダプターリング120は、熱連結プレート110におけるレセプタクル112において接着により又は化学的に接合されてよく、穴あけ開口部134、開口部114および関連する締め具を使用してよく、または使用しなくてよい。上部電極130は、図4および5において最もよくわかるように、熱連結プレート110の下に配置され、略円形の形状である。図1~7の実施形態において、上部電極130はシリコンから形成されるが、他の実施形態において、上部電極130は他の材料から形成されてよい。上部電極130は、任意の適切な締め付け器具図示せずで、熱連結プレート110および/またはアダプターリング120に留められ又は固定される。上部電極は前面136および背面138を有する。チャネル132は、上部電極130の背面138において、上部電極の周縁全体の周りに形成される。チャネル132は深さCdおよび幅Cwを有する。上部電極130は、図4および5において実質的に平坦な背面138チャネル132を除くを有するように示されるが、電極130がより薄くなるように、背面138に隣接する上部電極130のかなりの部分をそこから除去してよい。この実施形態において、上部電極130は、その中心部よりもその外縁に沿ってより大きいまたは相対的に大きい厚さを有するように、くぼんだdished形状を有する。複数のガス分配開口部150もまた、上部電極130に形成される。ガス分配開口部150により、上部電極130の背面138から前面136へと、上部電極130を通ってガスが流れることが可能になる。図4に示すガス分配開口部150の配置は、本質的に例示的なものである。他の実施形態は、本開示の範囲から逸脱することなく、異なる数および/または配置のガス分配開口部150を用いてよい。例示的なガス分配開口部150が図5の断面図に示されており、そのサイズは明確にするために非常に誇張されている。ガス分配開口部150の各々は、上部152および下部154を有する。例示的実施形態において、上部152、下部154は同軸である。上部152は上部電極130の背面138から延びており、一方、下部154は前面136から延びている。例示的実施形態において、上部152は、テーパー部156において下部154へと移行する。他の実施形態において、テーパー部156は省略してよい。上部152、下部154の深さは、例示的実施形態においてほぼ等しいが、他の実施形態において、深さは異なっていてよい。例示的態様において、上部152の直径即ち第1の直径は、ほぼ例えばプラスまたはマイナス0.2mm0.8mm~2.5mmであり、下部154の直径即ち第2の直径はほぼ0.5mmである。例示的態様において、ガス分配開口部150は、上部電極130の背面138に穴をあけて又は穿孔して上部152を形成し、前面136に別の穴をあけて又は穿孔して下部154を形成することによって形成してよい。他の実施形態において、ガス分配開口部150は、任意の適切な製造方法に従って形成してよい。ガス分配開口部150の二重dual直径配置により、開口部150を通るガスのコンダクタンスの向上がもたらされる。また、二重直径配置により、上部電極130にガス分配開口部150を形成する例えば穴をあける又は穿孔するコストおよび複雑さがかなり低減される。例示的態様において、上部電極130は、開口部を穴あけする又は穿孔するのが困難であるような厚さを有し得る。従って、ガス分配開口部150の配置により、ガス分配開口部150の上部152、下部154の深さは上部電極130の厚さの約半分となる。従って、そのような比較的直径が小さい開口部例えば下部154を形成するコストおよび複雑さは、上部152、下部154の配置を用いることによりかなり低減される。他の実施形態において、ガス分配開口部はテーパー状の直径を有してよい。この開口部は、背面138において最も大きい直径を有し、そして、上部電極130の前面136におけるより小さいまたは相対的に小さい直径へと次第に細くなる。図6および7の熱連結プレート110は、略円形の形状であり、同様に略円形であり且つ矩形または正方形の断面形状を有するレセプタクル112が形成されている。図6および7の実施形態において、レセプタクル112は、幅Twおよび深さTdを有する連続的な環状の溝である。熱連結プレート110は、実施形態の範囲から逸脱することなく、追加のレセプタクルが形成されていてもよい。機械的締め付け器具を受けるようなサイズである複数の開口部114が、レセプタクル112に形成される。開口部114の位置および数は、アダプターリング120に形成された穴あけ開口部134の位置および数に対応する。従って、機械的締め付け器具は、穴あけ開口部134を通り抜けて熱連結プレート110における開口部114に入ることができる。いくつかの実施形態において、開口部114は、ねじ部品threadedfastenerを受けるようにねじ山を有してよい。図6および7の熱連結プレート110は4つのそのような開口部114を有するが、他の実施形態は任意の数の開口部を用いてよい。図7に示す開口部114は熱連結プレート110を完全に貫通していないが、他の実施形態において、開口部は完全に貫通してよい。これらの実施形態において、締め付け器具は開口部114を完全に通り抜けることができ、熱連結プレート110に隣接して配置される他の構成要素例えばナットで固定される。チャネル132の幅Cwおよびレセプタクル112のTwは、アダプターリング120をその中に配置し得るような、適切なサイズである。図1~7の実施形態において、幅CwおよびTwは、アダプターリング120の幅Rwより約0.5ミリメートル大きくてよい。他の実施形態において、幅CwおよびTwは、アダプターリング120の幅Rwより約0.5~約1.0ミリメートル大きくてよい。チャネル132の深さCdおよびレセプタクル112のTdもまた、それらの合計がアダプターリング120の深さRdと等しい又はほぼ等しいような、適切なサイズである。他の実施形態において、深さRdは、深さCdおよびTdの合計より小さくてよく、または大きくてよい。図1~7の実施形態において、レセプタクル112の深さTdは、アダプターリング120の第1の部分122の深さと等しく又はほぼ等しい。チャネル132の深さCdもまた、第2の部分124の深さと等しく又はほぼ等しい。図8は、ウエハをエッチングするシステムを改造する方法800を示すフローチャートである。方法800は、マルチピース例えばツーピースの上部電極と共に使用するように設計されたウエハエッチングシステムを、システムがシングルピースの電極を使用し得るように改造するのに用いることができる。上述のアダプターリング120は、ウエハエッチングシステムを改造するために方法800において用いることができる。方法800は、ブロック810において、ウエハエッチングシステムの構成要素例えば熱連結プレートに形成されたレセプタクルにアダプターリングを配置することと共に開始される。アダプターリングの第1の部分の少なくとも一部は、構成要素に形成されたレセプタクルに配置され、アダプターリングの第2の部分の少なくとも一部は、レセプタクルから突出している。アダプターリングは、その後、任意の適切な締め付け器具でウエハエッチングシステムの構成要素に固定されてよい。ブロック820において、上部電極がウエハエッチングシステムに配置される。上部電極はチャネルが形成されており、アダプターリングの第2の部分の少なくとも一部がチャネル内に配置されるように、システムにおいて配置される。上部電極は、その後、任意の適切な締め付け器具でシステム内に固定してよく且つ/又は構成要素に固定されてよい。システムは、その後、ウエハ、基板または他の構造体をエッチングするのに用いられてよい。従って、本明細書に記載のシステムおよび方法により、マルチピースの電極のウエハ加工システムを、これらのシステムがシングルピースの上部電極を使用し得るように改造することが可能になる。従来は、マルチピースの電極のウエハ加工システムの改造は、システムにおける複数の高価な構成要素の分解および交換を必要とした。しかし、本明細書に記載のシステムにおいては、ウエハ加工システムは、システム内に配置される、シングルピースの電極の一部とシステムの別の構成要素との間のアダプターリングを用いて改造することが可能である。従って、本明細書に記載のアダプターリングにより、シングルピースの電極を、ウエハ加工システムにおいて、これらのシステムにおける複数の構成要素の分解および交換を必要とすることなく使用することが可能になる。本発明または本発明の1または複数の実施形態の構成要素を導入する際、冠詞a、an、theおよびsaidは、その構成要素が1以上存在することを意味することが意図される。用語含む、含有するおよび有するは、包含的であることが意図され、列挙された構成要素の他に追加の構成要素が存在してよいことを意味することが意図される。本発明の範囲から逸脱することなく、上述の構成に種々の変更を行うことが可能であるので、上述の説明に含まれる全ての事項および添付の1または複数の図面に示される全ての事項は例示を目的とするものと解され、限定を意味するものとは解されないことが意図される。