"第1のプラズマ発生デバイス136と、第2のプラズマ発生デバイス138と、前記第1と第2のプラズマ発生デバイスの間にプラズマを導くように構成されたコンジット194と、を備える装置。前記第2のプラズマ発生デバイスは、対向させかつ離間させた1対の電極144a、144bと、前記対向する電極対の間に接続された低電圧大電流エネルギー源148と、を含む、請求項1に記載の装置。前記第2のプラズマ発生デバイスは、前記対向する電極対間の箇所のインピーダンスが前記低電圧大電流エネルギー源に起因して前記対向する電極対間にアークを確立できるだけ十分に低下するようにして前記第1のプラズマ発生デバイスが発生させたプラズマを受け取るように構成されている、請求項2に記載の装置。前記第2のプラズマ発生デバイスは、前記対向する電極対間にアークが存在するときアブレーションを受けるように構成されたアブレーション材料152を含む、請求項2に記載の装置。前記第1のプラズマ発生デバイスは、第1の電極162と、前記第1の電極から離間させたベース電極142bと、前記第1の電極と前記ベース電極の間にこれらの間に空気のブレークダウンを生じさせるのに十分な電位差を発生させるように構成された高電圧小電流エネルギー源150と、を含む、請求項1に記載の装置。前記第1のプラズマ発生デバイスは、前記ベース電極と対向しかつこれから離間された第2の電極142aと、前記第2の電極と前記ベース電極の間に接続された低電圧大電流エネルギー源148と、を含んでおり、前記第1の電極とベース電極の間にアークが存在するときに前記第2の電極とベース電極はこれらの間に空気のブレークダウンが誘導されるように配置されている、請求項5に記載の装置。前記第1のプラズマ発生デバイスは、前記第2の電極とベース電極の間にアークが存在するときアブレーションを受けるように構成されたアブレーション材料152を含む、請求項5に記載の装置。前記高電圧小電流エネルギー源は少なくとも約8kVの電圧及び約1A以下の電流を発生させるように構成されている、請求項5に記載の装置。前記第1のプラズマ発生デバイスは、前記第1の電極とベース電極の間に前記高電圧小電流エネルギー源と並列に接続された低電圧大電流エネルギー源148を含んでおり、前記高電圧小電流エネルギー源は前記第1の電極とベース電極の間に高電圧小電流パルスを提供するように構成されており、かつ前記低電圧大電流エネルギー源は該高電圧小電流パルスに応答して前記第1の電極とベース電極の間に低電圧大電流パルスを提供するように構成されている、請求項5に記載の装置。前記低電圧大電流エネルギー源は、約1kV以下の電圧及び少なくとも約4kAの電流を発生させるように構成されている、請求項9に記載の装置。応答時間を向上させると共に費用対効果のよい改良型のアークフラッシュ阻止機構が必要とされている。一態様では、アーク緩和デバイスなどの装置を提供する。このアーク緩和デバイスは、第1及び第2のプラズマ発生デバイスを含むことが可能であり、また幾つかのケースでは第3のプラズマ発生デバイスを含むことが可能である。これらのプラズマ発生デバイスは、少なくとも約50mmだけ離間させた主電極間にプラズマブリッジを提供するためにその内部で発生したプラズマを放出するように構成することが可能である。例えばアーク緩和デバイスは主電極を含むことが可能である。第2のプラズマ発生デバイスは、対向させかつ離間させた1対の電極を含むことが可能である。この対向する電極間には低電圧大電流のエネルギー源を接続することが可能である。第1のプラズマ発生デバイスと他のプラズマ発生デバイスの間にはプラズマを導くためにコンジットを構成することが可能である。第2のプラズマ発生デバイスは例えば、第2のプラズマ発生デバイスの対向する電極間の箇所のインピーダンスを低減するために第1のプラズマ発生デバイスが発生させたプラズマを受け取るように構成することが可能である。例えばこのインピーダンスは、低電圧大電流エネルギー源によって第2のプラズマ発生デバイスの対向する電極間にアークを確立できるように十分に低下させることが可能である。第2のプラズマ発生デバイスは、対向する電極対間にアークが存在するときにアブレーションを受けるように構成されたアブレーション材料を含むことが可能である。第1のプラズマ発生デバイスは、第1の電極と、該第1の電極から離間させたベース電極と、第1の電極とベース電極の間にこれらの間の空気ブレークダウンを生じさせるのに十分な電位差を発生させるように構成された高電圧小電流エネルギー源例えば、約1A以下の電流では少なくとも約8kVと、を含むことが可能である。第1のプラズマ発生デバイスはさらに、ベース電極と対向しかつこれから離間した第2の電極を含むことが可能である。第2の電極とベース電極の間には例えば、約1kV以下の電圧及び少なくとも約4kAの電流を発生させるように構成された低電圧大電流のエネルギー源を接続することが可能であり、この際に第1の電極とベース電極の間にアークが存在するときはこの第2の電極とベース電極はこれらの間に空気のブレークダウンが誘導されるように配置される。第1のプラズマ発生デバイスはさらに、第2の電極とベース電極の間にアークが存在するときにアブレーションを受けるように構成されたアブレーション材料を含むことが可能である。幾つかの実施形態ではその低電圧大電流エネルギー源は、第1の電極とベース電極の間で高電圧小電流エネルギー源と並列に接続することが可能である。高電圧小電流エネルギー源は第1の電極とベース電極にまたがった高電圧小電流パルスを提供するように構成することが可能であり、また低電圧大電流エネルギー源は高電圧小電流パルスに応答して第1の電極とベース電極にまたがった低電圧大電流パルスを提供するように構成することが可能である。別の態様では、アーク緩和デバイスなどの装置を提供する。このアーク緩和デバイスは、第1のプラズマ発生デバイス及び第2のプラズマ発生デバイスを含むことが可能である。第2のプラズマ発生デバイスは、対向させかつ離間させた1対の電極とこれらの間に接続させた低電圧大電流エネルギー源とを含むことが可能である。第1のプラズマ発生が発生させたプラズマを第2のプラズマ発生デバイスが受け取るように第1と第2のプラズマ発生デバイスの間にプラズマを導くようにコンジットを構成することが可能である。第1のプラズマ発生デバイスからのプラズマは対向する電極対間の箇所のインピーダンスを低電圧大電流エネルギー源に起因してこれらの間にアークを確立できるように十分に低減させる役割をすることが可能である。本発明に関するこれらの特徴、態様及び利点、並びにその他の特徴、態様及び利点については、同じ参照符号が図面全体を通じて同じ部分を表している添付の図面を参照しながら以下の詳細な説明を読むことによってより理解が深まるであろう。本発明の例示の実施形態について、同じ参照番号が図面全体を通じて同じ部分を示している添付の図面を参照しながら以下で説明することにする。これらの実施形態のうちの幾つかは上述の要求やその他の要求に対処し得る。図1を参照すると電力システムを図示しており、その全体を参照番号100で示している。電力システム100は、回路遮断器106を介して負荷104に電力を伝達するように構成された電源102を含む。例えば電源102は、図示したような3相構成を用いてあるいは例えば単相構成によって交流AC電力を共通バス108に伝達することが可能である。電源102と負荷104はさらに、共通バス108を介してアーク緩和デバイス110に結合させることが可能である。アーク緩和デバイス110はアーク封じ込めデバイス112の内部に封入することが可能である。電気信号監視システム114は、アークフラッシュイベント116に起因して上昇することがある電力システム100の電流変動を監視するように構成することが可能である。一例ではその電気信号監視システム114は電流変圧器を含む。電気信号監視システム114からの電気的パラメータ120とアークフラッシュセンサ124からのパラメータ122を受け取るようにアークフラッシュ判定システム118を構成することが可能である。本明細書で使用する場合にパラメータという用語は、例えばアークフラッシュイベント116を始点とする光学的な光、熱放射、音響、圧力及び/または無線周波数信号などのアークフラッシュイベントに関する指示indiciaの役割をし得るような量を意味している。したがってセンサ124は例えば、光学センサ、熱放射センサ、音響センサ、圧力トランスジューサ及び/または無線周波数センサを含むことが可能である。アークフラッシュ判定システム118はパラメータ120及び122に基づいて、アークフラッシュイベント116の発生を示すアーク短絡信号126を発生させることが可能である。以下で検討するように、アーク短絡信号126はアーク緩和デバイス110を起動させる役割をすることがある。図1及び2を参照するとアーク緩和デバイス110は、共通バス108の導体108a、108b、108c例えば、様々な相、中性点または接地に対応する様々な導体にそれぞれ接続した主電極128、130、132を含むことが可能である。この実施形態では3つの主電極を示しているが、別の実施形態では電力システムの要求に従ってこれより多くの電極やこれより少ない電極を含むことがある。電力システム100の通常動作では、システム電圧に応じて必要なクリアランス量を有するように主電極128、130、132の間のクリアランスが要求されることがある。例えば約600Vで動作する低電圧システムは、主電極128、130、132の間に約25mmのクリアランスを要求することがある一方、約15kVで動作する中程度電圧システムは主電極の少なくとも約50mmの離間幾つかのケースでは、100mmを超えまたさらには150mmを超えた離間を要求することがある。図1~6を参照するとアーク緩和デバイス110は、プラズマ発生システム134を含むことが可能である。プラズマ発生システム134は、ハウジング141により支持されると共に主電極128、130、132の間に配置されたプラズマ銃136、138、140などの1つまたは複数のプラズマ発生デバイスを含むことが可能である。プラズマ銃136、138、140の各々は、対向させかつ離間させた1対の電極142aと142b、144aと144b、146aと146bを含むことが可能である。電極142a、142b、144a、144b、146a、146bは例えば、銅及び/またはステンレス鋼から形成することが可能であり、また電極とそれぞれのエネルギー源148、150との接続を容易にするための端子以下で検討するを含むことがある。プラズマ銃136、138、140の各々はさらに、アブレーション材料を含むことが可能である。例えばプラズマ銃136、138、140の各々は、対向する電極対142aと142b、144aと144b、146aと146bの近傍にそれぞれ配置させた例えば、これで層状にした誘電性アブレーション材料部分152を含むことがある。以下でさらに検討することにするが、このアブレーション材料部分152は、対向する電極の対応する対142aと142b、144aと144b及び/または146aと146bの間に十分な電流のアークが存在するときに、少なくとも1つのアブレーション材料部分152がアブレーションを受けるように構成することが可能である。アブレーション材料の候補としては例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリオキシメチレンポリアミド、ポリメチルメタクリレートPMMA、及び/またはその他のアブレーションポリマーが含まれる。電極142a、142b、144a、144b、146a、146bとアブレーション材料部分152のうちの幾つかによってスロット153が規定されることがあり、これにより電極とアブレーション材料部分とは一体に組み上げられたときにプラズマ銃136、138、140のそれぞれの内部の対応するチェンバ箇所154、156、158を協働して規定する役割をする。以下でさらに検討することにするが、プラズマ銃136、138、140の動作時に、チェンバ154、156、158内にアブレーション及び対応するプラズマ発生を生じさせることが可能であり、チェンバは主電極128、130、132の周りの箇所に向かって開いたポート160を規定する。図2~7を参照すると、対向する各電極対142aと142b、144aと144b、146aと146bの両端に対応する低電圧大電流パルスエネルギー源148を接続することが可能である。このコンテキストでは、低電圧大電流パルスエネルギー源とは約1kV以下の電圧及び少なくとも約4kAのパルス電流を発生させるように構成されたエネルギー源のことを意味する。低電圧大電流パルスエネルギー源148は、対応する対向する電極対142aと142b、144aと144b、146aと146bの間にアークが存在するときに、アークに関連する電流が少なくとも1つのアブレーション材料部分152をアブレーションするのに十分な電流となるように構成することが可能である。低電圧大電流パルスエネルギー源148の一例を以下に提示することにする。1つのプラズマ銃例えば、プラズマ銃136は別の電極162を含むことが可能である。本明細書の以下において、プラズマ銃136に関連する電極142a、142b、162のことをそれぞれ、第2の電極142a、ベース電極142b及び第1の電極162と呼んでいる。高電圧小電流パルスエネルギー源150は第1の電極162とベース電極142bの間に接続することが可能であり、またこれらの間に空気のブレークダウンを生じさせるのに十分な少なくとも過渡的な電位差を発生させるように構成することが可能である。このコンテキストでは、高電圧小電流パルスエネルギー源は、少なくとも約8kVの電圧及び約1A以下のパルス電流を発生させるように構成されたエネルギー源を意味している。高電圧小電流パルスエネルギー源150の一例を以下に提示することにする。高電圧小電流パルスエネルギー源150は例えば、コンデンサ放電回路ベースのもとのすることもパルス変圧器ベースのものとすることもあり得る。高電圧パルスエネルギー源150は、電源図示せずと電力接続させた整流器163と、抵抗-コンデンサ充電回路168を形成する抵抗器164及びコンデンサ166と、コンデンサ166と直列に配置させたスイッチ170と、を含むことが可能である。例えば高電圧小電流パルスエネルギー源150は概ね120~480VAC120~480VACの電圧を受け取ることが可能であり、またコンデンサ166は概ね240Vの所定電圧まで充電することが可能である。高電圧小電流パルスエネルギー源150はさらに、1次巻き線174及び2次巻き線176を有する高電圧パルス変圧器172を含むことが可能である。1次巻き線174はスイッチ170を介して電源図示せずと電力接続の状態とすることが可能であり、また2次巻き線176は第1の電極162及びベース電極142bと電力接続の状態とすることが可能である。低電圧大電流パルスエネルギー源148は例えば、比較的大きい電流及び比較的低い電圧例えば、概ね1kV未満の電圧では概ね5kAを発生させるマイクロファラッドレンジのコンデンサを用いたコンデンサ放電回路とすることがある。低電圧大電流パルスエネルギー源148は、電源図示せずと電力接続させた整流器178と、抵抗-コンデンサ充電回路184の形に構成させた抵抗器180及びコンデンサ182と、を含むことが可能である。例えば低電圧大電流パルスエネルギー源148は電源図示せずから概ね480VACの電圧を受け取ることが可能であり、またコンデンサ182は概ね600Vまで充電することが可能である。コンデンサ182は、電極対142a及び142bと並列にしかつ抵抗器180と直列にすることが可能である。低電圧大電流パルスエネルギー源148はさらに、整流器178と第2の電極142aの間に直列接続した抵抗器186及びインダクタ188を含むことが可能である。さらに、低電圧大電流パルスエネルギー源148の試験時の放電経路を提供するために、整流器178にまたがってスイッチ190と抵抗器192を直列に接続することが可能である。プラズマ発生システム134は、プラズマ銃136、138、140間の流体連通を可能にするように構成させたコンジット194を含むことが可能である。例えば、各銃136、138、140の電極142a、142b、144a、144b、146a、146b、162並びにアブレーション材料部分152は、ハウジング141により規定されるチャンネル196と一体となったチェンバ154、156、158を規定するように構成することが可能である。図1及び7~11を参照すると動作時においてアークフラッシュ判定システム118は、パラメータ120及び122に基づいてアークフラッシュイベント116の発生を判定しアーク短絡信号126を発生させることが可能である。高電圧小電流パルスエネルギー源150は、アーク短絡信号126を受け取ると共に、これに応答して第1の電極162とベース電極142bの間に空気より一般的には、どんな気体が存在していてもよいのブレークダウンを生じさせるパルスを発生させるように構成することが可能である。例えばアーク短絡信号126は、スイッチ170を閉じさせ、パルス変圧器172の1次巻き線174を通ってパルスが送られるようにすることがある。これに応答して、変圧器172の2次巻き線176を介して第1の電極とベース電極162、142bの間に第2の電圧ポテンシャルが確立されることがある。したがって、高電圧例えば、コンデンサ166が概ね240Vまで充電されたときの概ね8kVで小電流のパルスを生成することができ、このパルスは第1の電極162とベース電極142bの間の空気のブレークダウン電圧に打ち勝つ程度に大きくさせることがある。このため比較的低いエネルギーのアーク198aが、第1の電極162のベース電極142bの間の距離範囲に及ぶことがある。第2の電極142aは、第1の電極162とベース電極142bの間のアーク198aが第2の電極とベース電極の間の空間によって提示されるインピーダンスを低下させるように配置させることが可能である。インピーダンスのこの低下は低電圧大電流パルスエネルギー源148の影響下で第2の電極とベース電極142a、142bの間に空気のブレークダウンを誘導するのに十分な大きさとすることが可能であり、これによりアーク198aを第2の電極とベース電極の間まで移動させこの間に維持させることが可能となる。インピーダンスの低下によってさらに、低電圧であっても第2の電極とベース電極142a、142bの間に大きな電流パルスを通すことが可能となる。アーク198aのエネルギーはしたがって、低電圧大電流パルスエネルギー源148のコンデンサ182の放電に伴って大幅に上昇する。図12~14を参照すると、アーク198aが第2の電極とベース電極142a、142bに転送された後に、低電圧大電流パルスエネルギー源148は、対応するアブレーション材料部分152のアブレーションを生じさせるような十分なアーク電流を維持し、これによりチェンバ154内にプラズマ200の生成を生じさせるように構成される。次いで、チェンバ154内で発生したプラズマ200のうちの一部は、プラズマ銃136に関連するポート160によって放出することが可能である。しかしプラズマ200のうちの少なくとも一部はコンジット194によってこれ以外のプラズマ銃138、140のチェンバ156、158内に導くことが可能である。プラズマ200がプラズマ銃138、140のチェンバ156、158に入ると、対応する電極対144aと144b、146aと146bの間の空間に関連するそれぞれのインピーダンスは低下する。電極144aと144b、146aと146bの間にそれぞれ接続された低電圧大電流パルスエネルギー源148は次いで、各電極対の間にアーク198b、198cを始動することが可能である。ここでも低電圧大電流パルスエネルギー源148は、対応するアブレーション材料部分152のアブレーションを生じさせるような十分なアーク電流を維持し、これによりチェンバ156、158内にプラズマ200の生成を生じさせるように構成される。図2、12及び15を参照すると、プラズマ銃136、138、140がプラズマ200を発生させていると、主電極128、130、132間の空間を占有させるようにプラズマをそれぞれのポート160から放出することが可能である。プラズマ200は主電極128、130、132の間に導電性のプラズマブリッジ202を生成することが可能であり、これによって主電極が短絡されると共にこれらの間における保護アーク204の形成が可能となる。プラズマブリッジ202はしたがって、アークフラッシュイベント116を緩和し、保護デバイスを上流側で回路遮断器106など起動させこれにより障害した電力システムに供給される電力を切断する役割をすることがある。この故意に生成させる障害は、アークフラッシュイベント116に関連するエネルギーを障害個所から離れるように逸らすことが可能な制御された方式で実行されることがある。保護アーク204は、エネルギーのうちのかなりの量を強烈な光、音波、圧力波及び衝撃波の形態で放出することが可能である。保護アーク204はさらに、主電極128、130、132を蒸発させ、これにより圧力が高くなる。アーク緩和デバイス110は保護アーク204に起因する衝撃波及び高圧力を包含するように構成されたエンクロージャまたはアーク封じ込めデバイス112を含むことが可能であることに留意されたい。アーク封じ込めデバイスの例は、参照によりその全体を本明細書に組み込むものとする米国特許出願第12/471,662号2009年5月26日提出で得られよう。ポート160を出るプラズマ200のジェットに関する速度、イオン濃度、拡散などの特性、またさらにはプラズマブリッジ202の特性は、プラズマ銃136、138、140の寸法及び間隔、アブレーション材料のタイプ、エネルギー源148によりエネルギーを供給する方式ただし、これらに限らないによって制御されることがある。したがって、アーク緩和デバイス110を起動した際の主電極128、130、132間のギャップのインピーダンスは、比較的迅速でロバストな保護アーク204を発生させるように設計することが可能である。上の例に従って構成した実施形態によれば、単一の高電圧小電流エネルギー源が複数のプラズマ銃のうちの単一の銃に接続されるようにした複数のプラズマ銃の起動が可能となり得る。こうした構成は幾つかの利点を有し得る。例えば、高電圧小電流エネルギー源は高価となる傾向があるため、必要となるこうしたデバイスの数を最小限にすると有利である。さらに、直列接続の複数のプラズマ銃をトリガする役割をする単一の高電圧小電流エネルギー源を含む実施形態では、トリガ電極、上流側銃の正極及び大電流コンデンサが形成する経路を通過させることによって高電圧パルスが下流側の銃のうちの1つまたは幾つかをバイパスするのを回避するために1つまたは複数の阻止用ダイオードを必要とすることがある。このダイオードはトリガシステムをより複雑かつ高コストとすることになり、またさらにある電流レベル5kAを超えると、このダイオードは導通時の高い抵抗のために大電流パルスを制限する傾向となり得る。本発明のある種の特徴についてのみ本明細書において図示し説明してきたが、当業者によって多くの修正や変更がなされるであろう。したがって添付の特許請求の範囲が、本発明の真の精神の範囲に属するこうした修正や変更のすべてを包含させるように意図したものであることを理解されたい。"