"線形時変信号とノイズとを含む原信号中の前記ノイズを低減する方法であって、前記原信号を微分して、微分原信号を取得するステップと、前記微分原信号をフーリエ変換して、前記微分原信号のパワースペクトル密度を取得するステップと、前記微分原信号の前記取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中のノイズ振動数を検出するステップと、前記ノイズ振動数について、対応するノイズコンポーネントを決定するステップと、前記原信号から前記ノイズコンポーネントを減算してノイズを低減させた原信号を取得するステップとを含む方法。実質的に一定の速度で移動する対象の位置を表す位置信号中のノイズを低減する方法であって、前記位置信号を微分して、速度信号を取得するステップと、前記速度信号をフーリエ変換して、前記速度信号のパワースペクトル密度を取得するステップと、前記速度信号の前記取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中のノイズ振動数を検出するステップと、前記ノイズ振動数について、対応するノイズコンポーネントを決定するステップと、前記位置信号から前記ノイズコンポーネントを減算して、ノイズを低減させた位置信号を取得するステップとを含む方法。リソグラフィ装置の支持体のアライメント方法であって、実質的に一定の速度で前記支持体を移動させるステップと、前記支持体の位置を表す位置信号を生成するステップと、前記位置信号を微分して、速度信号を取得するステップと、前記速度信号をフーリエ変換して、前記速度信号のパワースペクトル密度を取得するステップと、前記速度信号の前記取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中のノイズ振動数を検出するステップと、前記ノイズ振動数について、対応するノイズコンポーネントを決定するステップと、前記位置信号から前記ノイズコンポーネントを減算して、ノイズを低減させた位置信号を取得するステップと、前記支持体が前記実質的に一定の速度で移動している間に、前記支持体に接続されたマークからの放射強度を測定して、放射強度測定信号を生成するステップと、前記ノイズ低減位置信号を前記放射強度測定信号と組み合わせて、位置信号に対する放射強度を取得するステップと、シヌソイド曲線を位置信号に対する前記放射強度にフィッティングするステップと、前記フィットされたシヌソイド曲線に基づいて前記支持体を位置合わせするステップとを含む方法。リソグラフィ装置の支持体のアライメント方法であって、実質的に一定の速度で前記支持体を移動させるステップと、前記支持体の位置を表す位置信号を生成するステップと、前記支持体が前記実質的に一定の速度で移動している間に、前記支持体に接続されたマークからの放射強度を測定して、放射強度測定信号を生成するステップと、前記位置信号を前記放射強度測定信号と組み合わせて、位置信号に対する放射強度を取得するステップと、位置信号に対する前記放射強度をハニング窓によって重み付けして、位置信号に対するハニング重み付けされた放射強度を取得するステップと、シヌソイド曲線を位置信号に対する前記ハニング重み付けされた放射強度にフィッティングするステップと、前記フィットされたシヌソイド曲線に基づいて前記支持体を位置合わせするステップとを含む方法。線形時変信号とノイズとを含む原信号中の前記ノイズを低減する信号処理デバイスであって、前記原信号を微分して、微分原信号を取得する微分器と、前記微分原信号をフーリエ変換して、前記微分原信号のパワースペクトル密度を取得するフーリエ変換器と、前記微分原信号の前記取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中のノイズ振動数を検出するディテクタと、前記ノイズ振動数についてノイズコンポーネントを決定するノイズアセンブラと、前記原信号から前記ノイズコンポーネントを減算して、ノイズを低減させた原信号を取得する減算器とを含む信号処理デバイス。移動可能な対象の位置を測定するデバイスであって、前記対象が実質的に一定の速度で移動する間に、前記対象の位置を表す位置信号を生成する位置センサと、前記位置信号を微分して、速度信号を取得する微分器と、前記速度信号をフーリエ変換して、前記速度信号のパワースペクトル密度を取得するフーリエ変換器と、前記速度信号の前記取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中のノイズ振動数を検出するディテクタと、前記ノイズ振動数についてノイズコンポーネントを決定するノイズアセンブラと、前記位置信号から前記ノイズコンポーネントを減算して、ノイズを低減させた位置信号を取得する減算器とを含むデバイス。基板を保持する基板テーブルと、前記基板テーブルに接続されたマークを照射するイルミネーションシステムと、前記マークからの放射を検出する放射強度検出システムとを有する、前記基板テーブルを位置合わせするアライメントシステムとを備え、前記アライメントシステムは、前記基板テーブルを一定の速度で移動させ、前記基板テーブルの位置を表す位置信号を生成し、速度信号を取得するために前記位置信号を微分し、前記速度信号をフーリエ変換して、前記速度信号のパワースペクトル密度を取得し、前記速度信号の前記取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中のノイズ振動数を検出し、前記ノイズ振動数について、対応するノイズコンポーネントを決定し、前記位置信号から前記ノイズコンポーネントを減算して、ノイズを低減させた位置信号を取得し、前記基板テーブルが前記実質的に一定の速度で移動している間に、前記マークからの放射強度を測定して、放射強度測定信号を生成し、前記ノイズ低減位置信号を前記放射強度測定信号と組み合わせて、位置信号に対する放射強度を取得し、シヌソイド曲線を位置信号に対する前記放射強度にフィットし、前記フィットされたシヌソイド曲線に基づいて前記基板テーブルを位置合わせする、リソグラフィ装置。基板を保持する基板テーブルと、前記基板テーブルに接続されたマークを照射するイルミネーションシステムと、前記マークからの放射を検出する放射強度検出システムとを有する、前記基板テーブルを位置合わせするアライメントシステムとを備え、前記アライメントシステムは、前記基板テーブルを実質的に一定の速度で移動させ、前記基板テーブルの位置を表す位置信号を生成し、前記基板テーブルが前記実質的に一定の速度で移動している間に、前記マークからの放射強度を測定して、放射強度測定信号を生成し、前記位置信号を前記放射強度測定信号と組み合わせて、位置信号に対する放射強度を取得し、位置信号に対する前記放射強度をハニング窓によって重み付けして、位置信号に対するハニング重み付けされた放射強度を取得し、シヌソイド曲線を位置信号に対する前記ハニング重み付けされた放射強度にフィットし、前記フィットされたシヌソイド曲線に基づいて前記基板テーブルを位置合わせする、リソグラフィ装置。0004放射ビーム発生システムのコンポーネントが好ましくないことに振動するか、基板テーブル位置測定信号が、例えば振動する位置センサの結果として、好ましくない振動コンポーネントを有するか、あるいは望まれていない振動の両方の原因が存在する場合には問題が生じる。このような振動は、ノイズ源、リソグラフィ装置の部品の運動、冷却流体流等から生じることがある。このような場合、放射強度曲線は、振動によって乱され、シヌソイド関数が放射強度曲線に間違った位置でフィットされて、リソグラフィ装置にアライメント誤差を生じることがある。したがってアライメント誤差は、放射強度信号および/または基板テーブル位置測定信号中の1つまたは複数の望まれていない振動数によって実際に引き起こされる。0005一般に1つまたは複数の望まれていない振動数を信号からフィルタリングするのは通常、ローパスフィルタ、ハイパスフィルタ、バンドパスフィルタ、ノッチフィルタ等を適用することによって為される。しかし、このようなフィルタは、1つまたは複数の所望の望まれていない振動数だけでなく他の1つまたは複数の振動数で信号に影響を与える。したがってこのようなフィルタを用いる信号のフィルタリングによって所望の信号が劣化される。0006例えば、リソグラフィ装置のアライメント手順において、望まれていない振動数を信号から、特にリソグラフィ装置の移動可能な支持体の位置信号などの位置信号から除去して、望まれていない振動数以外の他の振動数にある信号は実質的にそのままであるのが望ましい。0007本発明の一実施形態では、線形時変信号とノイズとを含む原信号中のノイズを低減する方法が提供されており、その方法は、原信号を微分して、微分原信号を取得するステップと、微分原信号をフーリエ変換して、微分原信号のパワースペクトル密度を取得するステップと、微分原信号の取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中のノイズ振動数を検出するステップと、ノイズ振動数について、対応するノイズコンポーネントを決定するステップと、原信号からノイズコンポーネントを減算してノイズを低減させた原信号を取得するステップとを含む。一実施形態では、このような機能を実行するための構成を有する信号処理デバイスも提供する。0008本発明のさらなる実施形態では、実質的に一定の速度で移動する対象の位置を表す位置信号中のノイズを低減する方法が提供されており、その方法は、位置信号を微分して、速度信号を取得するステップと、速度信号をフーリエ変換して、速度信号のパワースペクトル密度を取得するステップと、速度信号の取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中のノイズ振動数を検出するステップと、ノイズ振動数について、対応するノイズコンポーネントを決定するステップと、位置信号からノイズコンポーネントを減算して、ノイズを低減させた位置信号を取得するステップとを含む。本発明の一実施形態では、移動可能な対象の位置を測定する、このような機能を実行するための構成を有するデバイスも提供し、このようなデバイスは、対象が実質的に一定の速度で移動する間に、対象の位置を表す位置信号を生成するように構成された位置センサを含む。0009本発明のさらなる実施形態では、リソグラフィ装置の支持体のアライメント方法が提供されており、その方法は、実質的に一定の速度で支持体を移動するステップと、支持体の位置を表す位置信号を生成するステップと、位置信号を微分して、速度信号を取得するステップと、速度信号をフーリエ変換して、速度信号のパワースペクトル密度を取得するステップと、速度信号の取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中のノイズ振動数を検出するステップと、ノイズ振動数について、対応するノイズコンポーネントを決定するステップと、位置信号からノイズコンポーネントを減算して、ノイズを低減させた位置信号を取得するステップと、支持体が実質的に一定の速度で移動している間に、支持体に接続されたマークからの放射強度を測定して、放射強度測定信号を生成するステップと、ノイズ低減位置信号を放射強度測定信号と組み合わせて、位置信号に対する放射強度を取得するステップと、シヌソイド曲線を位置信号に対する放射強度にフィッティングするステップと、フィットされたシヌソイド曲線に基づいて支持体を位置合わせするステップとを含む。本発明の一実施形態では、基板を保持するために構成された基板テーブルと、基板テーブルを位置合わせするように構成され、基板テーブルに接続されたマークを照射するイルミネーションシステムと、マークからの放射を検出する放射強度検出システムとを有するアライメントシステムであって、前記機能を実行するよう構成された構造を有するアライメントシステムとを含むリソグラフィ装置も提供する。0010本発明のさらなる実施形態では、リソグラフィ装置の支持体のアライメント方法が提供されており、その方法は、実質的に一定の速度で支持体を移動するステップと、支持体の位置を表す位置信号を生成するステップと、支持体が実質的に一定の速度で移動している間に、支持体に接続されたマークからの放射強度を測定して、放射強度測定信号を生成するステップと、位置信号を放射強度測定信号と組み合わせて、位置信号に対する放射強度を取得するステップと、位置信号に対する放射強度をハニング窓によって重み付けして、位置信号に対するハニング重み付けされた放射強度を取得するステップと、シヌソイド曲線を位置信号に対するハニング重み付けされた放射強度にフィッティングするステップと、フィットされたシヌソイド曲線に基づいて支持体を位置合わせするステップとを含む。本発明の一実施形態では、基板を保持するために構成された基板テーブルと、基板テーブルを位置合わせするように構成され、基板テーブルに接続されたマークを照射するイルミネーションシステムと、マークからの放射を検出する放射強度検出システムとを有するアライメントシステムであって、前記機能を実行するよう構成された構造を備えるアライメントシステムとを含むリソグラフィ装置も提供する。0019図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に図示する。その装置は、放射ビームB例えば、UV放射または任意の他の適切な放射を調整するように構成されたイルミネーションシステムイルミネータILと、パターニングデバイス例えば、マスクMAを支持するために構成され、一定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1位置決めデバイスPMに接続されるパターニングデバイス支持構造例えば、マスクテーブルMTとを含む。装置は、基板例えば、レジストコートされたウェーハWを保持するために構成され、一定のパラメータに従って正確に基板を位置決めするように構成された第2位置決めデバイスPWに接続される基板テーブル例えば、ウェーハテーブルWTも含む。装置は、さらに基板Wのターゲット部分C例えば、1つ、または複数のダイを含むの上に、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを投影するように構成された投影システム例えば、屈折式投影レンズシステムPSを含む。0020イルミネーションシステムは、放射を誘導し、整形し、または制御する屈折式、反射式、磁気的、電磁気的、静電気的、または他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組合せなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含んでよい。0021パターニングデバイス支持構造は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計、および、例えばパターニングデバイスが真空環境中に保持されているか否かなどの他の条件により決まるやり方でパターニングデバイスを保持する。パターニングデバイス支持構造は、パターニングデバイスを保持するために機械的、真空式、静電的、または他のクランプ技法を使用できる。パターニングデバイス支持構造は、例えば、必要に応じて固定することも移動することもできるフレームまたはテーブルであってよい。パターニングデバイス支持構造は、パターニングデバイスが、例えば投影システムに関して確実に所望の位置にくるようにすることができる。本明細書で用語レチクルまたはマスクを用いる場合はどれも、より一般的な用語パターニングデバイスと同義と見なされてよい。0022本明細書で用いられる用語パターニングデバイスは、基板のターゲット部分にパターンを生成するために、その断面内にパターンを有する放射ビームを与えるために使用できる任意のデバイスを指すものと広く解釈されるべきである。放射ビームに与えられたパターンは、例えば、パターンが位相シフトフィーチャ、つまりいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分内の所望のパターンに正確に一致しない場合があることに留意されたい。一般に、放射ビームに与えられたパターンは、集積回路などのターゲット部分内に生成されるデバイス中の特定の機能層に一致することになる。0023パターニングデバイスは、透過型でも反射型でもよい。パターニングデバイスの例は、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルLCDパネルを含む。マスクはリソグラフィにおいて周知であり、バイナリ、レベンソン型alternating位相シフト、ハーフトーン型attenuated位相シフトなどのマスクタイプならびに様々な種類のハイブリッドマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの例は、それぞれが入射してくる放射ビームを別の方向に反射するように個々に傾斜可能である小さなミラーのマトリックス配列を使用する。この傾斜したミラーが、ミラーマトリックスによって反射される放射ビーム内にパターンを与える。0024本明細書で用いられる用語投影システムは、屈折式、反射式、反射屈折式、磁気的、電磁気的、および静電的光学システム、あるいは、使用される露光放射に適した、または液浸液を使用するのか、真空を使用するのかなど他の要因に適した、それらの任意の組合せをも含む、どんなタイプの投影システムも包含するものと広く解釈すべきである。本明細書で、用語投影レンズを用いる場合はどれも、より一般的な用語投影システムと同義と見なされてよい。0025本明細書に図示したように、装置は透過タイプ例えば、透過マスクを使用するである。代替的に装置は反射タイプ例えば、上で参照したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用するか、反射マスクを使用するでもよい。0026リソグラフィ装置は、2つデュアルステージ、または、それより多い基板テーブルおよび/または、2つ以上のパターニングデバイス支持構造を有するタイプでもよい。このようなマルチステージの機械では追加のテーブルまたは支持構造は並行して使用されてよく、つまり、予備的なステップが1つまたは複数のテーブルまたは支持構造上で実行されて、一方、他の1つまたは複数のテーブルまたは支持構造が露光のために使用されてよい。0027リソグラフィ装置は、投影システムと基板の間の空間を満たすために、少なくとも基板の一部分が相対的に高い屈折率を有する液体、例えば水によって覆われることがあるタイプのものでもよい。液浸液は、リソグラフィ装置内の他の空間、例えばマスクと投影システムの間に与えられてもよい。液浸技法は、投影システムの開口数を増加させるために使用されてよい。本明細書で用いられる用語液浸は、基板などの構造物が、液体中に浸漬されなければならないことを意味するのでなく、むしろ露光の間、液体が投影システムと基板の間に配置されることだけを意味する。0028図1を参照すると、イルミネータILは、放射源SOから放射ビームを受け取る。光源およびリソグラフィ装置は、例えば光源がエキシマレーザである場合は、別々の要素であってよい。そのような場合は、光源が、リソグラフィ装置の部分を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび/またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムBDを使って光源SOからイルミネータILへ送達される。他の場合では、例えば、光源が水銀ランプである場合、光源は、一体型リソグラフィ装置の一部であってよい。光源SOおよびイルミネータILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDと共に、放射システムと呼ばれてよい。0029イルミネータILは、放射ビームの角度強度分布を調整するように構成されたアジャスタADを含んでよい。一般に、イルミネータの瞳面内での強度分布の少なくとも外側および/または内側半径範囲通常、それぞれσouter、およびσinnerと呼ばれるが調整されてよい。さらに、イルミネータILは、インテグレータINおよびコンデンサCOなどの種々の他のコンポーネントを含んでよい。イルミネータは、その断面内に所望の均一性と強度分布を有するように放射ビームを調整するのに使用されてよい。0030放射ビームBは、パターニングデバイス支持構造例えば、マスクテーブルMT上に保持されているパターニングデバイス例えば、マスクMA上に入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。パターニングデバイスMAを横断して、放射ビームBは、基板Wのターゲット部分Cの上にビームを焦点合わせする投影システムPSを通過する。第2位置決めデバイスPWおよび位置センサIF例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、または容量センサを使って、基板テーブルWTが、例えば放射ビームBの経路内に別のターゲット部分Cを位置決めするために、正確に移動されてよい。同様に、第1位置決めデバイスPMおよび別の位置センサ図1には明示されてないが、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後、またはスキャンの間に、パターニングデバイスMAを放射ビームBの経路に対して正確に位置決めするために使用されてよい。一般に、支持構造MTの移動は、第1位置決めデバイスPMの部分を形成するロングストロークモジュール粗動位置決めおよびショートストロークモジュール微動位置決めを使って実現することができる。同様に、基板テーブルWTの移動は、第2位置決めデバイスPWの部分を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを用いて実現されてよい。ステッパの場合にはスキャナとは違って支持構造MTは、ショートストロークアクチュエータだけに接続されてもよく、あるいは固定されてもよい。パターニングデバイスMAと基板Wは、パターニングデバイスアライメントマークM1、M2と基板アライメントマークP1、P2を用いて位置合わせ可能である。図示したように基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占めているが、それらはターゲット部分の間のスペースに配置されてもよいこれらは、スクライブレーンアライメントマークとして知られている。同様に、パターニングデバイスMA上に複数のダイが提供される場合には、パターニングデバイスアライメントマークがダイの間に配置されてよい。0031図示した装置は以下のモードの少なくとも1つで使用できる。00321.ステップモードでは、支持構造MTおよび基板テーブルWTは本質的に静止状態に維持され、一方、放射ビームに与えられた全パターンが一挙にターゲット部分Cの上に投影されるすなわち、単一静止露光。次いで、基板テーブルWTが、別のターゲット部分Cが露光可能となるようにXおよび/またはY方向に位置を変えられる。ステップモードでは、露光フィールドの最大寸法が、単一静止露光で像を形成されるターゲット部分Cの寸法を制限する。00332.スキャンモードでは、支持構造MTおよび基板テーブルWTは、同期してスキャンされ、一方、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cの上に投影されるすなわち、単一動的露光。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大縮小率およびイメージ反転特性によって決定されてよい。スキャンモードでは、露光フィールドの最大寸法は、単一動的露光内のターゲット部分の幅非スキャン方向のを制限し、一方、スキャン動作の長さが、ターゲット部分の高さスキャン方向のを決定する。00343.別のモードでは、支持構造MTが、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で本質的に静止状態に維持され、基板テーブルWTが移動され、またはスキャンされ、一方、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cの上に投影される。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、基板テーブルWTの各移動後、あるいはスキャンの間の連続する放射パルスの合間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなど、プログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。0035前述の使用モードについての組合せ、および/または変形形態、あるいは全く異なる使用モードが利用されてもよい。0036リソグラフィ装置が使用されて基板の上に所望のパターンを与えることが可能になる前に、基板テーブルWT上の基板Wの位置が正確に分からなくてはいけない。互いに対して2つの対象の正確な位置決めを取得するプロセスは、普通、アライメントと呼ばれる。このために、基板と基板テーブルの両方が透過または反射回折格子を含むアライメントマークを備える。このマークは放射ビーム例えばレーザビームによって照射されて、強度が検出可能である回折次数を生成する。この検出では、基準検出の格子が使用されて、アライメントマークの格子と同じか、類似の格子を有しており、基板テーブル、したがってアライメントマークをセンサに対して移動する間に、アライメントマークによって回折され、基準検出の格子によってフィルタされた放射次数の強度がセンサによって検出される。それと同時に基板テーブルの位置が、例えばレーザ干渉計システムを用いて検出される。0037基板テーブルの位置の関数として特定の回折次数の放射強度パターンは、反復性で、基本的にシヌソイド形状である。アライメントにおいて、基板テーブルまたは基板の正確な位置を取得するために、測定された放射強度パターンにシヌソイド曲線がフィットされる。以下に、x方向に対してカーブフィッティング手順が与えられる。他の方向に対しても手順は同様である。0038上で説明したように、x方向のアライメントスキャンの間に、強度Iのシヌソイド信号対位置xが測定される。この信号が次のモデルとフィットされることになる。ここでpは周期の次元である。強度データは、位置xnと、強度InのN個の測定からなる。誤差関数は式1のフィットパラメータA、BおよびDCに依存して定義される。この誤差関数を最小にする、式1によるパラメータA、BおよびDCは、以下の式を解くことによって決定できる。式1からのfxの定義を代入すると、次の1組の方程式を与えられる。ここで、上記1組の方程式4は、次の行列方程式6で書き表すことができる。行列方程式6の異なる行列要素に対し次の定義を用いる。ここでNはサンプル数であり、RはフィットするMCC値MultipleCorrelationCoefficientを決定するときに後で必要になる。これらの式からフィッティングは2段階プロセスであることが分かる。アライメントスキャンの間に、上記和を計算しなければならない。アライメントスキャンの後、全ての和が計算されると、上記行列方程式6は、クラメル公式を適用して解けるはずである。0039アライメントスキャンの間、基板テーブルの速度は実質的に一定に維持される。それでも、基板テーブルの位置測定において、例えば基板テーブルの位置測定のために使用された位置センサの振動動作によって引き起こされて、振動が導入される場合がある。したがって位置センサからの位置信号が少なくとも1つのノイズ振動数を含むことがある。この歪んだ位置信号が、シヌソイド放射強度信号と組み合わされると、位置の関数としてこの放射強度信号も歪むことになる。ある種のノイズを伴うと、放射強度信号は、その実際の位置と比べて全体的に位置がずれているように見えることがあり、その結果、式1~8によって上で説明したフィットアルゴリズムの誤差が生じ、これがアライメント誤差になる場合があり、本発明の一実施形態ではこれを低減しようとしている。0040図2はノイズを含む位置信号を時間に関して図示している。横軸に時間tを表し、縦軸に基板テーブル位置xtableを表す。基板テーブル速度vtableは実質的に一定であり、理想的状態において、時間tと基板テーブル位置xtableの間に直線的関係20を与えることになる。しかし、基板テーブル測定に位置ノイズxnoiseが導入された結果、測定される位置信号xmeasured22が単に例として500Hzの主ノイズ振動数を含むことになると仮定する。さらに図2の例では、位置ノイズxnoiseの振幅が任意に選択されていることに留意する。一般に、または0041次のステップでは、図3に図示したように上記関係式9を微分すると次式が得られる。ここで、vtableは実質的に一定で、vmeasuredは測定された速度信号つまり微分された測定位置信号xmeasured30であり、vnoiseは微分された位置ノイズxnoiseである。図3は時間tに対して測定された速度信号vmeasured30を示す。0042次のステップでは、図4に示したように測定された速度信号vmeasured30がフーリエ変換されて、測定された速度信号のパワースペクトル密度40を取得する。図4は明らかに500Hzの所にピークパワースペクトル密度を示す。このフーリエ変換から、位置ノイズxnoiseの1つまたは複数の成分の振幅Anoise、位相phinoiseおよび振動数fnoiseを取得することができる。フィットされた位置ノイズ信号xnoise,fitは次式によって決定される。0043次のステップでは、フィットされた位置ノイズ信号xnoise,fitが測定位置信号xmeasuredから減算される。図5を参照すると、実際の位置ノイズ信号xnoiseは曲線50によって表すことができ、一方フィットされたノイズ信号xnoise,fitは曲線52によって表すことができる。図5から、式9を用いて計算される修正された測定位置信号xmeasured,correctedでは、実際の位置ノイズ信号xnoiseを高度に打ち消すことができる言い換えれば、ノイズが高度に低減されて、後に小さな誤差だけを残すように見える。0044フィットされたノイズ信号xnoise,fitが実際の位置ノイズ信号xnoiseに等しい場合、上で説明したステップによって所望の位置信号が修正された測定位置信号xmeasured,correctedから取得されることになり、関係式13の誤差はゼロに等しいことになる。0045リソグラフィ装置では、基板テーブル位置の関数として放射強度信号を構成するために修正された測定位置信号xmeasured,correctedを用いることができ、その後、非常に精密であってよいアライメント調整が実行可能である。0046図示し、図4を参照して上で説明したようなフーリエ変換に代わって、測定位置信号位置ノイズ信号を含むの関数として放射強度信号が、周知のハニング窓を適用することによって重み付けされて、重み付けされた放射強度信号を取得することもできる。図6に図示したように、放射強度信号60がハニング窓62を用いて重み付けされて、ハニング重み付けされた放射強度信号64を取得する。0047ハニング窓を適用することによって、位置ノイズ信号xnoiseがフィットされた放射強度曲線に及ぼす影響をかなりの程度打ち消すことができる言い換えれば、前に説明したフィットされた位置ノイズ信号xnoise,fitを計算する場合ほどでないが、かなりの程度までノイズを低減できる。0048上でアライメントスキャンが本発明の適用例として取り上げられたが、本発明の実施形態は、線形時変信号への外乱を低減させる必要のある様々な他の分野に適用可能である。このような他の分野の例は、レベルセンサによって測定される基板の高さマップを測定することである。もちろん、基板および基板テーブルの他にパターニングデバイス、その支持構造など、他の支持体または対象を位置合わせすることも、または測定することもでき、したがって本発明の実施形態は、任意の他のタイプのアライメントまたは測定方法に適用されてよい。0049図7に示したように、図2~5を参照して上で示したステップはハードウェアコンポーネントまたはソフトウェアルーチンによって実行可能である。図7は、ノイズで歪んだ原線形時変信号xmeasuredを微分するように構成されて、微分原信号を取得する微分器70と、微分原信号をフーリエ変換するように構成されて、微分原信号のパワースペクトル密度を取得するフーリエ変換器71と、微分原信号の取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中の少なくとも1つのノイズ振動数を検出するように構成されたディテクタ72と、少なくとも1つのノイズ振動数に対するノイズコンポーネントを決定するように構成されたノイズアセンブラ73と、原信号からノイズコンポーネントを減算するように構成されて、ノイズを低減させた原信号xmeasured,correctedを取得する減算器74とを示す。0050本明細書では、IC製造でのリソグラフィ装置の使用に対し特定の参照がなされているかもしれないが、本明細書で説明したリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスおよびディテクションパターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッド等の製造など、他の適用例も有してよいことを理解されたい。そのような代替の適用例の文脈においては、本明細書で用語ウェーハまたはダイを用いる場合は、どれもより一般的な用語基板またはターゲット部分とそれぞれ同義と見なされてよいことを当業者は理解されよう。本明細書で言う基板は、露光前にまたはその後に、例えばトラック一般的に基板にレジスト層を付け、露光したレジストを現像するツール、メトロロジーツールおよび/またはインスペクションツール内で処理されてよい。適用可能である場合には、本発明の開示は、そのようなおよび他の基板処理ツールに適用されてよい。さらに、基板は2回以上、例えば多層ICを生成するために処理されてよく、したがって本明細書で用いられる用語、基板は、既に複数の処理された層を含む基板を指すこともある。0051本発明の実施形態の使用に対して光リソグラフィの文脈において特定の参照が上の方で為されたかもしれないが、本発明は他の適用例、例えばインプリントリソグラフィに使用されることがあり、また文脈が許せば光リソグラフィに限られていないことも理解されるであろう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に生成されるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィが、基板に供給されたレジスト層中に押し付けられ、レジストは電磁放射、熱、圧力またはそれらの組合せを加えることによって硬化させられてよい。パターニングデバイスは、レジストが硬化した後、そこにパターンを残してレジストから取り外される。0052本明細書で用いられる用語放射およびビームは、紫外UV放射例えば、365nm、248nm、193nm、157nm、もしくは126nm、あるいはその近辺の波長を有するおよび極端紫外EUV放射例えば、5nm~20nmの範囲の波長を有するならびにイオンビームまたは電子ビームなどの粒子ビームを含むあらゆるタイプの電磁放射を包含する。0053用語レンズは、文脈が許せば、屈折式、反射式、磁気的、電磁気的および静電的光学コンポーネントを含む任意の1つまたは種々のタイプの光学コンポーネントの組合せを指すことがある。0054本発明の特定の実施形態が前述されてきたが、本発明は説明されたのとは別の方法で実施できることを理解されるであろう。例えば、本発明は、上で開示した方法を記述する機械読取可能な1つまたは複数のシーケンスの命令を含むコンピュータプログラム、あるいはそうしたコンピュータプログラムを記憶したデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気もしくは光ディスクの形をとることがある。プログラム、コンピュータプログラムまたはソフトウェアアプリケーションは、サブルーチン、ファンクション、手順、オブジェクト手法、オブジェクト実装、実行可能アプリケーション、アプレット、サーブレット、ソースコード、オブジェクトコード、共有ライブラリ/ダイナミックロードライブラリ、および/または、コンピュータシステム上で実行するために設計された命令の他のシーケンスを含むこともある。0055本明細書で用いる用語1つのは1つまたは2以上と定義される。本明細書で用いる用語、複数pluralityは、2つ以上と定義される。本明細書で用いる用語別のanotherは、少なくとも2番目以降と定義される。本明細書で用いる用語含むincludingおよび/または有するhavingは、包含するcomprisingつまり、オープンランゲージと定義される。本明細書で用いる用語結合されたcoupledは、必ずしも直接的ではなく、必ずしも機械的ではないが、接続されたとして定義される。0056前述の説明は、例示であることを意図したものであって、限定するものでない。したがって、別に詳述される特許請求の範囲を逸脱することなく、説明した本発明に対して変更が為され得ることは当業者には明らかであろう。"