製氷用の水Wが貯留される給水タンク12内に設けられて水中で放電を生起し、前記給水タンク12内の水中に水酸ラジカルを生成させる電極対2222b22x2424x24yと、該電極対2222b22x2424x24yに電圧を印加する電源26a26x26yと、前記給水タンク12内の水に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部94とを備えていることを特徴とする製氷用水浄化装置。請求項1に記載の製氷用水浄化装置において、前記給水タンク12は、製氷機10の給水タンク12であることを特徴とする製氷用水浄化装置。請求項1又は2に記載の製氷用水浄化装置において、前記電極対2222b22x2424x24yの間における放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部26bを備えていることを特徴とする製氷用水浄化装置。請求項1乃至3のうち何れか1つに記載の製氷用水浄化装置において、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧のオン又はオフを制御する第1制御部1と、前記超音波発生部94の動作を制御する第2制御部5とをさらに備え、前記第1制御部1及び前記第2制御部5は、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧のオン又はオフ及び前記超音波発生部94の動作をそれぞれ制御することを特徴とする製氷用水浄化装置。請求項4に記載の製氷用水浄化装置において、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ7をさらに備え、前記第1制御部1は、前記センサ7によるモニタ結果に応じて前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧のオン又はオフを制御し、前記第2制御部5は、前記センサ7によるモニタ結果に応じて前記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする製氷用水浄化装置。請求項5に記載の製氷用水浄化装置において、少なくとも前記給水タンク12内の水中の過酸化水素の濃度が前記上限値を越えた場合には、前記第1制御部1が、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧をオフにして前記放電を停止させるとともに、前記第2制御部5が、前記超音波発生部94を動作させることを特徴とする製氷用水浄化装置。請求項4乃至6のうち何れか1つに記載の製氷用水浄化装置において、前記第2制御部5は、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする製氷用水浄化装置。請求項1乃至7のうち何れか1つに記載の製氷用水浄化装置において、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧のオン又はオフの制御、及び前記超音波発生部94の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、前記制御部は、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧のオン又はオフ、及び前記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする製氷用水浄化装置。請求項8に記載の製氷用水浄化装置において、前記制御部は、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧をオフにして前記放電を停止させ、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする製氷用水浄化装置。請求項1乃至9のうち何れか1つに記載の製氷用水浄化装置において、前記給水タンク12内の水中に泡を吐出する吐出手段119と、前記吐出手段119に気体を送る送出手段99とをさらに備え、前記電極対2224は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、前記電源26bは、前記電極対2224にパルス電圧を印加し、前記吐出手段119は、前記電極対2224の間であって、前記給水タンク12の底部に配置されていることを特徴とする製氷用水浄化装置。請求項1乃至10のうち何れか1つに記載の製氷用水浄化装置20を備えることを特徴とする製氷機。しかし、特許文献1に開示のように光触媒の励起により水中に発生するラジカルを利用して製氷用の水を除菌する場合には、水中に発生したラジカルは寿命が非常に短いので、給水タンク内で短時間しか除菌作用が働かない。このため、給水タンクから給水通路を通って製氷コーナーに送られる製氷用の水の除菌が不完全である場合があり、依然として衛生的な問題がある。本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、製氷用の水を衛生的に安全な製氷が可能なように充分に除菌できる製氷用水浄化装置及びそれを備えた製氷機を提供することにある。上記の目的を達成するために、この発明では、製氷用の水中での放電と超音波照射を組み合わせて浄化能力に優れた水酸ラジカルを発生させるようにした。具体的に、第1の発明は、製氷用の水Wが貯留される給水タンク12内に設けられて水中で放電を生起し、前記給水タンク12内の水中に水酸ラジカルを生成させる電極対2222b22x2424x24yと、該電極対2222b22x2424x24yに電圧を印加する電源26a26x26yと、前記給水タンク12内の水に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部94とを備えていることを特徴とする。この第1の発明では、放電による液体の浄化と、過酸化水素の存在下での超音波照射による液体の浄化を適切に組み合わせることにより、放電のみを用いて液体を浄化する場合に比べて高い浄化能力を発揮させつつ、液体の過酸化水素濃度の増加を抑えることが可能となる。したがって、本発明の製氷用水浄化装置20によれば、給水タンク12内でより確実に水が浄化され、清浄な状態に保持される。これにより、製氷用の水Wは衛生的に安全な製氷が可能なように充分に除菌される。第2の発明は、第1の発明の製氷用水浄化装置20において、前記給水タンク12は、製氷機10の給水タンク12であることを特徴とする。この第2の発明では、製氷機10の給水タンク12が製氷用の水Wの殺菌浄化を行う給水タンク12を兼ねているので、製氷機10の給水タンク12と別個に給水タンクを設ける必要がなく、本発明の製氷用水浄化装置20を備えた製氷機10が簡素な構成で実現される。また、製氷機10の給水タンク12内で製氷用の水Wが確実に殺菌浄化されるので、該給水タンク12から製氷用の水Wが送られる給水通路14及び製氷コーナー16の清浄化も図られる。また、給水タンク12で生成された過酸化水素は、給水通路14及び製氷コーナー16内の水Wだけでなく、給水通路14の内壁及び製氷コーナー16で水Wを受ける製氷皿18自体に対しても除菌作用を発揮する。これにより、給水通路14及び製氷皿18が清潔な状態に保たれる。第3の発明は、第1又は第2の発明の製氷用水浄化装置20において、前記電極対2222b22x2424x24yの間における放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部26bを備えていることを特徴とする。対象となる水Wの導電率は、水の種類によって変化する。具体的には、例えば製氷用の水Wが水道水である場合には、この水道水の硬度によって導電率が変化する。また、製氷用の水Wがミネラルウォーターである場合には、水Wの導電率が高くなってしまう。第3の発明では、このように対象となる水Wの導電率が変化しても、定電力制御部26bによって一定の放電電力で放電が行われる。したがって、対象となる製氷用の水Wの種類に応じて、電源26a26x26yを交換することなく、様々な水質の水Wに対し、一定の消費電力で安定した除菌性能が得られる。第4の発明は、第1乃至第3の発明のうち何れか1つの製氷用水浄化装置20において、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧のオン又はオフを制御する第1制御部1と、前記超音波発生部94の動作を制御する第2制御部5とをさらに備え、前記第1制御部1及び前記第2制御部5は、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧のオン又はオフ及び前記超音波発生部94の動作をそれぞれ制御することを特徴とする。第5の発明は、第4の発明の製氷用水浄化装置において、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ7をさらに備え、前記第1制御部1は、前記センサ7によるモニタ結果に応じて前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧のオン又はオフを制御し、前記第2制御部5は、前記センサ7によるモニタ結果に応じて前記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする。第6の発明は、第5の発明の製氷用水浄化装置において、少なくとも前記給水タンク12内の水中の過酸化水素の濃度が前記上限値を越えた場合には、前記第1制御部1が、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧をオフにして前記放電を停止させるとともに、前記第2制御部5が、前記超音波発生部94を動作させることを特徴とする。第7の発明は、第4乃至第6の発明のうち何れか1つの製氷用水浄化装置において、前記第2制御部5は、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする。第8の発明は、第1乃至第7の発明のうち何れか1つの製氷用水浄化装置において、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧のオン又はオフの制御、及び前記超音波発生部94の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、前記制御部は、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧のオン又はオフ、及び前記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする。第9の発明は、第8の発明の製氷用水浄化装置において、前記制御部は、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、前記電極対2222b22x2424x24yに印加する電圧をオフにして前記放電を停止させ、前記給水タンク12内の水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする。第10の発明は、第1乃至第9の発明のうち何れか1つの製氷用水浄化装置において、前記給水タンク12内の水中に泡を吐出する吐出手段119と、前記吐出手段119に気体を送る送出手段99とをさらに備え、前記電極対2224は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、前記電源26bは、前記電極対2224にパルス電圧を印加し、前記吐出手段119は、前記電極対2224の間であって、前記給水タンク12の底部に配置されていることを特徴とする。第11の発明は、製氷機10であって、第1乃至第10の発明のうち何れか1つの製氷用水浄化装置20を備えることを特徴とする。この第11の発明では、第1乃至第10の発明のうち何れか1つの製氷用水浄化装置20が製氷用の水Wを衛生的に安全な製氷が可能なように充分に除菌できるという優れた特性を備えているので、衛生的に安全で清潔な氷を製造することが可能となる。第1の発明によれば、放電による液体の浄化と、過酸化水素の存在下での超音波照射による液体の浄化を適切に組み合わせることにより、放電のみを用いて液体を浄化する場合に比べて高い浄化能力を発揮させつつ、液体の過酸化水素濃度の増加を抑えることが可能となる。したがって、本発明の製氷用水浄化装置20によれば、給水タンク12内でより確実に水が浄化され、清浄な状態に保持される。これにより、製氷用の水Wは衛生的に安全な製氷が可能なように充分に除菌される。第2の発明によれば、本発明の製氷用水浄化装置20が簡素な構成で実現できる。また、製氷機10の給水タンク12内で製氷用の水Wが確実に殺菌浄化されるので、該給水タンク12から製氷用の水Wが送られる給水通路14及び製氷コーナー16の清浄化も図られる。また、給水通路14の内壁及び製氷コーナー16で水Wを受ける製氷皿18自体も過酸化水素により除菌して清潔な状態に保つことができる。第3の発明によれば、対象となる水Wの導電率によらず、一定の放電電力で放電を行うことができる。したがって、対象となる製氷用の水Wの種類に応じて、電源26aを交換することなく、様々な水質の水Wに対し、一定の消費電力で安定した除菌性能を得ることができる。第11の発明によれば、衛生的に安全で清潔な氷を製造することができる。以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。《発明の実施形態1》本発明に係る製氷機10の全体模式図を図1に示す。製氷機10は、水を冷却して氷を製造するための機械であり、冷蔵庫に備えられる。製氷機10は、給水タンク12と給水通路14と製氷コーナー16とを備えている。給水タンク12は、製氷用の水Wが貯留される貯水タンクである。製氷コーナー16内には、製氷用の水Wを受けて氷を形成するための製氷皿18が収容されている。給水通路14は、給水タンク12から製氷コーナー16内の製氷皿18に製氷用の水Wを供給するための水流路である。図示しないが、給水タンク12は冷蔵室内に、製氷コーナー16は製氷室内にそれぞれ配設される。また、製氷機10は、製氷用水浄化装置20以下、単に水浄化装置と称するを備えている。水浄化装置20は、水中での放電と超音波照射とによって水中で水酸ラジカルなどの浄化成分を生成し、この浄化成分によって水Wの浄化を行うものである。水浄化装置20の全体構成図を図2に示す。図3は、水浄化装置20が備える絶縁ケーシング28の斜視図である。水浄化装置20は、給水タンク12内に配置され、電極A22及び電極B24とからなる電極対2224と、この電極対2224に電圧を印加する電源ユニット26と、電極A22を内部に収容する絶縁ケーシング28と、給水タンク12内の水に超音波を照射する超音波発生部94とを備えている。また、本実施形態の水浄化装置は、高電圧発生部に接続された放電波形発生部3と、電極対2224に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部と、増幅器9を介して超音波発生部94に所定の周波数の交流電圧を供給する超音波波形発生部8と、超音波波形発生部8を介して超音波発生部94の動作を制御する制御部5と、給水タンク12内の水体の過酸化水素濃度をモニタするセンサ7とを備えている。なお、図示しないが、センサ7のモニタ結果に基づいて制御部15を制御する中央演算装置CPUが設けられていてもよい。制御部15による電源ユニット26及び超音波発生部94の制御方法については、後に説明する。なお、後述のいわゆるフィードフォワード制御を行う場合、センサ7は必ずしも設けられなくてもよい。電極対2224は、水中で放電を生起するためのものである。電極A22は、絶縁ケーシング28の内部に配置されている。電極A22は、上下に扁平な板状に形成されている。電極A22は、電源ユニット26に接続されている。電極B24は、絶縁ケーシング28の外部に配置されている。電極B24は、電極A22の上方に設けられている。電極B24は、上下に扁平な板状であって、且つ上下に複数の貫通孔25を有するメッシュ形状ないしパンチングメタル形状に構成されている。電極B24は、電極A22と略平行に配設されている。電極B24は、電源ユニット26の負極側に接続されている。これらの電極2224は、耐腐食性の高い導電性の材料で構成されている。電源ユニット26は、高電圧発生部電源部26a及び定電力制御部26bを備えている。高電圧発生部26aは、電極対2224に所定の電圧を印加する電源で構成されている。すなわち、高電圧発生部26aは、電極対2224に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源ではなく、電極対2224に対して常に数キロボルトの電圧を印加する。定電力制御部26bは、電極対2224の間における放電の放電電力を一定に制御する。絶縁ケーシング28は、給水タンク12の底部に設置されている。絶縁ケーシング28は、例えばセラミックスなどの絶縁材料で構成されている。絶縁ケーシング28は、一面上面が開放された容器状のケース本体30と、該ケース本体30の上方の開放部を閉塞する板状の蓋部32とを有している。ケース本体30は、角型筒状の側壁部30aと、該側壁部30aの底面を閉塞する底部30bとを有している。電極A22は、底部30bの上側に敷設されている。絶縁ケーシング28では、蓋部32と底部30bとの間の上下方向の距離が、電極A22の厚さよりも長くなっている。つまり、電極A22と蓋部32との間には、所定の間隔が確保されている。これにより、絶縁ケーシング28の内部では、電極A22とケース本体30と蓋部32との間に空間Sが形成されている。図2及び図3に示すように、絶縁ケーシング28の蓋部32には、該蓋部32を厚さ方向に貫通する1つの開口33が形成されている。この開口33により、電極A22と電極B24との間での電界の形成が許容されている。蓋部32の開口33の内径は、0.02mm以上且つ0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口33は、電極対2224の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。以上のように、絶縁ケーシング28は、電極対2224のうちの一方の電極電極A22のみを内部に収容し、且つ電流密度集中部として開口33を有する絶縁部材を構成している。加えて、絶縁ケーシング28の開口33内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡Bが形成される。つまり、絶縁ケーシング28の開口33は、該開口33に気相部としての気泡Bを形成する気相形成部として機能する。次に、図2に示す例において、超音波発生部94は、板状の圧電セラミックス95と、間に圧電セラミックス95を挟むように設けられた一対の金属板96a96bとで構成される。超音波発生部94を封入するケース97は密閉され、給水タンク12の底部に配置されている。金属板96a96bには、増幅器9によって増幅された超音波波形発生部8の出力信号交流電圧が供給される。これにより、超音波発生部94は任意の周波数の超音波を給水タンク12内の水に照射する。ただし、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数が、100kHz以上程度であれば特に好ましい。なお、超音波発生部94は、給水タンク12内の水に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてもよい。例えば、図5aに示すように、超音波発生部94が給水タンク12の底部外側に設置されていてもよい。超音波発生部94が給水タンク12の底部外側に設置されている場合、超音波は給水タンク12の壁面を介して水に伝達される。また、超音波発生部94の構成は、図2に示す例に限られない。例えば、図5bに示すように、金属ケース97aの上部と金属板96とで板状の圧電セラミックス95を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよい。-水浄化装置の運転動作-本実施形態の製氷機10では、水浄化装置20が運転されることで、給水タンク12に貯留された製氷用の水Wの浄化がなされる。このような水浄化装置20による水Wの浄化動作について、図2及び図4を参照しながら詳細に説明する。図4は、水浄化装置20の全体構成図であり、過酸化水素生成動作を開始して気泡Bが形成された状態を示している。水浄化装置20の運転開始時には、図2に示すように、絶縁ケーシング28内の空間Sが浸水した状態となっている。電源ユニット26から電極対2224に所定の電圧例えば1kVが印加されると、電極対2224の間に電界が形成される。電極A22の周囲は、絶縁ケーシング28で覆われている。このため、電極対2224の間での漏れ電流が抑制されると共に、開口33内の電流経路の電流密度が上昇した状態となる。開口33内の電流密度が上昇すると、開口33内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング28では、開口33の近傍において、水Wの気化が促進されて気泡Bが形成される。この気泡Bは、図4に示すように、開口33のほぼ全域を覆う状態となり、電極B24に導通する負極側の水Wと、正極側の電極A22との間に気泡Bが介在する状態となる。この状態では、気泡Bが電極A22と電極B24との間での水Wを介した導通を阻止する抵抗として機能する。これにより、電極A22と電極B24との間の漏れ電流が抑制され、電極対2224の間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡B内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。以上のようにして、気泡Bで放電が行われると、給水タンク12内の水中では、水酸ラジカルなどの活性種や、水酸ラジカルが変化した過酸化水素などが生成される。水酸ラジカルなどの活性種や過酸化水素は、放電に伴う熱によって給水タンク12内を対流する。これにより、水中での活性種や過酸化水素の拡散が促される。また、気泡Bで放電が行われると、この放電に伴ってこの気泡Bでイオン風を生成しやすくなる。よって、給水タンク12内では、このイオン風を利用して、活性種や過酸化水素の拡散効果をさらに向上できる。また、本実施形態の水浄化装置20では、放電によって生成した過酸化水素から、超音波照射によって再度水酸ラジカルが生成される。以下、放電と超音波照射を組み合わせた浄化方法について詳述する。図6は、本実施形態の水浄化装置20による水処理の基本サイクルを示す図である。同図に示すように、給水タンク12内の水は、まず、電極対2224間に生起される放電によって浄化される。この際には、放電によって水中に水酸ラジカル等の活性種が生成し、有機物等の分解や殺菌などが行われる図6中のステップSt1、St2。水酸ラジカルは短時間で過酸化水素に変化するステップSt3。次に、超音波発生部94から水へと超音波を伝搬させ、水中の過酸化水素を分解し、水酸ラジカルに変化させるステップSt4。超音波照射により発生した水酸ラジカルは、再度過酸化水素に変化する。ただし、除菌等、水の浄化反応に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は低下してゆくことになる。次に、放電と超音波処理を組み合わせた水浄化装置20の運転制御の具体例について説明する。図7aは、水中の過酸化水素の濃度を用いてフィードバック制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。以下の方法では、水中の過酸化水素はセンサ7によって検知される。この方法において、まず給水タンク12内に水が存在する状態で運転を開始する。制御部1は、電極対2224間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部94はオフ状態にしておく。これにより、放電により生じた水酸ラジカルによって水中の有害物質は分解され、殺菌も行われるので、水が浄化される。一方で、水中の過酸化水素の濃度が上昇する。次いで、水の過酸化水素濃度があらかじめ設定された下限値を超えた場合、制御部1は電極対2224への電圧供給を継続させ、制御部は、超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって水が浄化される。放電によって生成される過酸化水素の量は超音波によって分解される過酸化水素の量よりも多いので、この期間中も水中の過酸化水素の濃度は上昇する。次に、水の過酸化水素濃度があらかじめ設定された上限値を超えた場合、制御部1は電極対2224への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部5は、引き続き超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって水が浄化される。この期間中、超音波によって過酸化水素が分解されるので、水中の過酸化水素の濃度は減少する。次いで、水の過酸化水素濃度が上述の下限値を下回った時点で、制御部1は電極対2224への電圧供給を再開する。これにより、水中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間と超音波照射と放電とを組み合わせる期間とを繰り返すことで、水の過酸化水素濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化する。-実施形態1の効果-以上の方法において、制御部1は、動作開始後に水の過酸化水素濃度が上限値に達するまでは放電を生起させて水酸ラジカルを発生させ、水を浄化することができる。また、制御部5は、水の過酸化水素濃度が所定の下限値を超える期間中に超音波発生部94をオン状態にする、言い換えれば、過酸化水素濃度が所定の下限値を下回る期間中には超音波発生部94をオフ状態にする。つまり、水中に十分な過酸化水素が存在する場合に超音波によって水酸ラジカルを発生させているので、水を効果的に浄化することができる。さらに、十分な濃度の過酸化水素の存在下で超音波を継続的に照射することで、継続的に水酸ラジカルを生成することができるので、強い浄化能力を所定の期間中維持することができる。さらに、上述の方法によれば、給水タンク12から製氷コーナー16へと供給される水中の過酸化水素の濃度を上限値以下に抑えることができるので、過酸化水素を除去するための工程を容易にすることができる上、処理後の水の安全性も向上する。本実施形態の水浄化装置20によれば、上述のように、水中での放電と、水体への超音波照射とを組み合わせることで、水の過酸化水素濃度を上昇させずに浄化能力の向上を図ることが可能になる。また、過酸化水素は、水酸ラジカルには及ばないものの、殺菌性及び抗菌性を有し、除菌作用を発揮する。また、水酸ラジカルと比較して安定であり、水中に残留しやすい。従って、給水タンク12から供給された水の過酸化水素濃度を下限値以上且つ上限値以下に保持することで、氷の安全性を確保するとともに、給水タンク12と製氷コーナー16との間の給水通路14内、及び製氷皿上での雑菌の繁殖を抑えることができる。また、図2では、電極対2224に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部1と、超音波発生部94の動作を制御する制御部5とを別個に設けたが、1つの制御部で電極対2224に印加する電圧のオン又はオフと超音波発生部94の動作とを制御することもできる。なお、本実施形態の水浄化装置20では、放電及び超音波照射によって生じる水酸ラジカルによって、水の浄化処理と同時に給水タンク12内に繁殖する細菌等を効果的に殺菌することもできる。以上のようにして、水中に拡散した水酸ラジカルなどの活性種は、水中に含まれる細菌類や被処理成分例えばアンモニアなどを酸化分解して水Wの殺菌浄化に利用される。製氷機10では、このような水浄化動作が適宜実行され、殺菌浄化された水Wが製氷コーナー16の製氷皿18に供給される。これにより、本実施形態の製氷機10では、衛生的に安全で清潔な氷を製造することができる。また、本実施形態1では、電源ユニット26に定電力制御部26bを用いているので、対象となる水Wの導電率が変化しても、一定の放電電力で放電が行われる。したがって、対象となる製氷用の水Wの種類に応じて、高電圧発生部26aを交換することなく、様々な水質の水Wに対し、一定の消費電力で安定した除菌性能を得ることができる。実施形態1の第1の変形例図8は、この実施形態1の第1の変形例に係る水浄化装置20の全体構成図である。図9は、この変形例に係る絶縁ケーシング28を示す斜視図である。上記実施形態1では、絶縁ケーシング28の蓋部32に1つの開口33が形成されているとしたが、本変形例では、例えば図8及び図9に示すように、絶縁ケーシング28の蓋部32に複数の開口33が形成されていてもよい。この変形例では、絶縁ケーシング28の蓋部32が略正方形板状に形成され、この蓋部32に複数の開口33が等間隔を置きながら碁盤目状に配列されている。一方、電極A22及び電極B24は、全ての開口33に跨るような正方形板状に形成されている。この変形例においても、各開口33が、電流密度集中部、及び気相形成部として機能する。これにより、電源ユニット26から電極対2224に電圧が印加されると、各開口33の電流密度が上昇し、各開口33で気泡Bが形成される。その結果、各気泡Bでそれぞれ放電が生起され、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素が生成される。-実施形態1の第2の変形例-以下、本実施形態に係る浄化装置の運転動作の変形例を、第2の変形例として説明する。図7bは、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いてフィードフォワード制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。ここで用いられる浄化装置には、必ずしもセンサ7が設けられていなくてもよい。ただし、放電のみを行った場合に給水タンク12内の水の過酸化水素濃度が0から下限値に達するまでに要する時間T1、放電と超音波照射とを同時に行った場合に水の過酸化水素濃度が下限値から上限値になるまでに要する時間T2、超音波照射のみを行った場合に上限値から下限値に達するのに要する時間T3を、それぞれあらかじめ測定しておき、それらの測定データを制御部15内部又は外部に設けられたメモリ図示せずに記憶させておく。制御部15は測定データに基づいて以下の制御を行う。制御部15の内部又は外部には、時間をカウントするタイマを設けておく。本変形例に係る方法において、まず制御部1は、電極対間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部94はオフ状態にしておく。これにより、水が浄化されるとともに、水中の過酸化水素の濃度が上昇する。次いで、運転開始から時間T1が経過した時点で、制御部1は電極対への電圧供給を継続させ、制御部は、超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって水が浄化される。この期間中も水中の過酸化水素の濃度は上昇する。次に、時間T2が経過した時点で、制御部1は電極対への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部5は、引き続き超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって水が浄化される。この期間中、水中の過酸化水素の濃度は減少する。次いで、さらに時間T3が経過した時点で、制御部1は電極対への電圧供給を再開し、この状態を時間T2の間継続する。これにより、水中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間時間T3と超音波照射と放電とを組み合わせる期間時間T2とを繰り返すことで、水の過酸化水素濃度を下限値以上且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化する。以上の方法によっても水中の過酸化水素の濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化することができる。なお、これは運転動作の一変形例であって、他の方法によっても水の浄化を行うことができる。《発明の実施形態2》図10はこの実施形態2に係る水浄化装置20の全体構成図であり、過酸化水素生成動作を開始する前の状態を示すものである。実施形態2に係る製氷機10は、上述した実施形態1と水浄化装置20の構成が異なるものである。以下には、上記実施形態1と異なる点を主として説明する。図10に示すように、実施形態2の水浄化装置20は、給水タンク12の外側から内部に向かって挿入されて固定される、いわゆるフランジユニット式に構成されている。また、実施形態2の水浄化装置20は、電極A22と電極B24と絶縁ケーシング28とが一体的に組立てられている。実施形態2の絶縁ケーシング28は、大略の外形が円筒状に形成されている。絶縁ケーシング28は、ケース本体30と蓋部32とを有している。実施形態2のケース本体30は、ガラス質又は樹脂製の絶縁材料で構成されている。ケース本体30は、円筒状の基部36と、該基部36から給水タンク12側に向かって突出する筒状壁部38と、該筒状壁部38の外縁部から更に給水タンク12側に向かって突出する環状凸部40とを有している。また、ケース本体30には、環状凸部40の先端側に先端筒部42が一体に形成されている。基部36の軸心部には、円柱状の挿入口36aが軸方向に延びて貫通形成されている。筒状壁部38の内側には、挿入口36aと同軸となり、且つ挿入口36aよりも大径となる円柱状の空間Sが形成されている。実施形態2の蓋部32は、略円板状に形成されて環状凸部40の内側に嵌合している。蓋部32は、セラミックス材料で構成されている。蓋部32の軸心には、実施形態1と同様、蓋部32を上下に貫通する円形状の1つの開口33が形成されている。電極A22は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極で構成されている。電極A22は、基部36の挿入口36aに嵌合している。これにより、電極A22は、絶縁ケーシング28の内部に収容されている。実施形態2では、電極A22のうち給水タンク12とは反対側の端部が、給水タンク12の外部に露出される状態となる。このため、給水タンク12の外部に配置される電源ユニット26と、電極A22とを電気配線によって容易に接続することができる。電極A22のうち給水タンク12側の端部22aは、絶縁ケーシング28の内部の空間Sに臨んでいる。なお、図10に示す例では、電極A22の端部22aが、挿入口36aの開口面よりも上側給水タンク12側に突出しているが、この端部22aの先端面を挿入口36aの開口面と略面一としてもよいし、端部22aを挿入口36aの開口面よりも下側に陥没させてもよい。また、電極A22は、実施形態1と同様、開口33を有する蓋部32との間に所定の間隔が確保されている。電極B24は、円筒状の電極本体24aと、該電極本体24aから径方向外方へ突出する鍔部24bとを有している。電極本体24aは、絶縁ケーシング28のケース本体30に外嵌している。鍔部24bは、給水タンク12の壁部に固定されて水浄化装置20を保持する固定部を構成している。水浄化装置20が給水タンク12に固定された状態では、電極B24の電極本体24aの一部が浸水された状態となる。電極B24は、電極本体24aよりも小径の内側筒部24cと、該内側筒部24cと電極本体24aとの間に亘って形成される連接部24dとを有している。内側筒部24c及び連接部24dは、給水タンク12内の水中に浸漬している。内側筒部24cは、その内部に円柱空間44を形成している。内側筒部24cの軸方向の一端は、蓋部32と当接して該蓋部32を保持する保持部を構成している。また、電極本体24aと内側筒部24cと連接部24dの間には、ケース本体30の先端筒部42が内嵌している。内側筒部24cの軸方向の他端側には、円柱空間44を覆うようにメッシュ状の漏電防止材46が設けられている。この漏電防止材46は、電極B24と接触することで、実質的にアースされている。これにより、漏電防止材46は、給水タンク12の内部の空間水中のうち、円柱空間44の内側から外側への漏電を防止している。電極B24は、電極本体24aの一部が給水タンク12の外部に露出される状態となる。このため、電源ユニット26と電極B24とを電気配線によって容易に接続することができる。-水浄化装置の運転動作-実施形態2の製氷機10においても、水浄化装置20が運転されることで、給水タンク12に貯留された製氷用の水Wの浄化がなされる。このような水浄化装置20による水Wの浄化動作について、図10及び図11を参照しながら詳細に説明する。図11は、水浄化装置20の全体構成図であり、過酸化水素生成動作を開始して気泡Bが形成された状態を示している。水浄化装置20の運転開始時には、図10に示すように、絶縁ケーシング28の内の空間Sが浸水した状態となっている。電源ユニット26から電極対2224に所定の電圧例えば1kVが印加されると、開口33の内部の電流密度が上昇していく。図10に示す状態から、電極対2224へ更に電圧が継続して印加されると、図11に示すように、開口33内の水が気化されて気泡Bが形成される。この状態では、気泡Bが開口33のほぼ全域を覆う状態となり、円柱空間44内の負極側の水と、電極A22との間に気泡Bによる抵抗が付与される。これにより、電極A22と電極B24との間の電位差が保たれ、気泡Bで放電が発生する。その結果、水中では、水酸ラジカルや過酸化水素を生成され、これらの成分が水の殺菌浄化に利用される。実施形態2の変形例図12は、実施形態2の変形例に係る絶縁ケーシング28の蓋部32の平面図である。上記実施形態2では、円板状の蓋部32の軸心に1つの開口33を形成しているが、この蓋部32に複数の開口33を形成してもよい。図12に示す例では、蓋部32の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、5つの開口33が等間隔置きに配列されている。このように蓋部32に複数の開口33を形成することで、各開口33の近傍でそれぞれ放電を生起させることができる。上記実施形態については、以下のような構成としてもよい。水浄化装置の構成上述した各実施形態の電源ユニット26には、放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部26bを用いている。しかしながら、定電力制御部26bに代えて、放電時の放電電流を一定に制御する定電流制御部を設けることもできる。この定電流制御を行うと、水Wの導電率によらず放電が安定するため、スパークの発生も未然に回避できる。また、上述した各実施形態では、電源ユニット26の正極に電極A22を接続し、電源ユニット26の負極に電極B24を接続している。しかしながら、電源ユニット26の負極に電極A22を接続し、電源ユニット26の正極に電極B24を接続することで、電極対2224の間で、いわゆるマイナス放電を行うようにしてもよい。水浄化装置の配置上記実施形態1や実施形態2と異なる位置に水浄化装置20を配置してもよい。具体的には、例えば、給水通路14に水Wが一時的に滞留する滞留部を設けて、該滞留部に水浄化装置20が取り付けられていてもよく、また、給水タンク12とは別個に製氷用の水Wを貯留する貯水タンクを備え、該貯水タンクに水浄化装置20が取り付けられて、貯水タンク内で殺菌浄化した水Wを給水タンク12に供給するように構成されていても構わない。《発明の実施形態3》図13は、本発明の実施形態3における水浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態1に係る水浄化装置と同様の構成については図2と同じ符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図13では図示を省略しているが、実際には本実施形態の水浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態1に係る水浄化装置と異なる点について説明する。本実施形態の水浄化装置は、給水タンク12と、給水タンク12内に配置された電極対22x24xと、電極対22x24xに接続された高電圧発生部電源部26aと、給水タンク12の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。電極22xは絶縁ケーシング28aの内部に収納され、電極24xは絶縁ケーシング28bの内部に収納されている。電極22x及び電極24xは、それぞれ扁平な板状に形成されている。また、電極22x及び電極24xは耐腐食性の高い導電性の金属材料で構成されている。高電圧発生部26aは、数キロボルト程度の電圧を電極対22x24xに供給する。絶縁ケーシング28a28bは、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されており、図1に示す絶縁ケーシング28と同様の構成を有している。すなわち、絶縁ケーシング28aは、一面図13では右側の面が開放された容器状のケース本体180aと、該ケース本体180aの上記開放部を閉塞する板状の蓋部32aとを有している。また、絶縁ケーシング28bは、一面図13では左側の面が開放された容器状のケース本体180bと、該ケース本体180bの上記開放部を閉塞する板状の蓋部32bとを有している。絶縁ケーシング28aの蓋部32aには、該蓋部32aを厚さ方向に貫通する1つの開口33aが形成されている。絶縁ケーシング28bの蓋部32bにも、該蓋部32bを厚さ方向に貫通する1つの開口33bが形成されている。これらの開口33a33bにより、電極22xと電極24xとの間の電界の形成が許容されている。開口33a33bの内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口33a33bは、電極対22x24xの間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。絶縁ケーシング28a28bは、給水タンク12内の互いに対向する側面に、蓋部32a32b同士が対向するように設置されている。言い換えれば、電極22xと電極24xとは互いに対向するよう配置されている。絶縁ケーシング28a28bの開口33a33b内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡が形成される。つまり、絶縁ケーシング28a28bの開口33a33bは、該開口33a33bに気相部としての気泡を形成する気相形成部として機能する。この構成により、電圧が電極対22x24xに供給された場合に電極対22x24x間の気泡内に放電を生起させることができる。なお、超音波発生部94の具体的な構成は実施形態1に係る水浄化装置と同様である。本実施形態の水浄化装置を、図7a、bに示す方法で運転することにより、水中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、給水タンク12内の水を効果的に浄化することができる。《発明の実施形態4》図14は、本発明の実施形態4に係る水浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態1に係る水浄化装置と同様の構成については図1と同じ符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図14では図示を省略しているが、実際には本実施形態の水浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態1に係る水浄化装置と異なる点について説明する。本実施形態の水浄化装置は、給水タンク12と、給水タンク12内に配置された電極対2224と、電極対2224に接続された高電圧発生部電源部26bと、給水タンク12の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。本実施形態の水浄化装置においては、電極A22及び電極B24がそれぞれ高電圧発生部26bの正極側及び負極側にそれぞれ接続され、高電圧発生部26bから電極対2224に高電圧のパルス電圧が供給される。また、電極A22を囲む絶縁ケーシングは設けられない。電極A22及び電極B24は共に板状であり、給水タンク12内の側面に、互いに対向するように設置される。さらに、水浄化装置には、例えば給水タンク12の底部など、少なくとも電極対2224の間であって、電極対2224よりも低い位置に設けられたノズル吐出手段119と、ノズル119に空気等の気体を送るエアポンプ送出手段99とが設けられている。エアポンプ99によって給水タンク12内の気体は、ノズル119を介して循環される。ただし、エアポンプ99によって給水タンク12内に外部から気体を供給してもよい。超音波発生部94の構成は実施形態1に係る水浄化装置と同様であり、給水タンク12の底部に設置されていてもよいが、給水タンク12内の水に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。少なくとも放電処理を行う期間中、ノズル119から水中へと泡が吐出される。水中に泡が存在する状態で電極対2224にパルス電圧を供給することにより、泡の内部で放電が生起され、水酸ラジカルが生成する。本実施形態の水浄化装置では、実施形態1に係る水浄化装置と基本的に同じ方法、すなわち図7a、bに示す方法で、放電と超音波照射とを組み合わせた水浄化が行われる。ただし、図7a、bに示す放電処理の期間中は、高電圧発生部26bから電極対2224へとパルス電圧が間欠的に供給され、電極対2224間に間欠的に放電が生起される。以上の構成及び方法によれば、電極対2224間にパルス放電を発生させる場合でも効率良く水酸ラジカルを発生させることができるので、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。《発明の実施形態5》図15は、本発明の実施形態5における水浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態1、実施形態3に係る水浄化装置と同様の構成については図1及び図13と同じ符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図15では図示を省略しているが、実際には本実施形態の水浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態3に係る水浄化装置と異なる点について説明する。本実施形態の水浄化装置は、給水タンク12と、給水タンク12内に配置された電極対22b24yと、電極対22b24yに接続された高電圧発生部電源部26yと、給水タンク12の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。電極22bと電極24yとは、それぞれ給水タンク12内の側面に、互いに対向するように設置されている。電極22bは、少なくとも1つの導電部164と、導電部164を囲む絶縁部165とを有している。電極24yは、少なくとも1つの導電部166と、導電部166を囲む絶縁部167とを有している以上のように、電極22bにおける導電部164の露出面、及び電極24yにおける導電部166の露出面の面積は小さいので、電圧を電極対22b24yに供給した場合には導電部164166の表面で電流密度の集中部が形成される。そのため、導電部164166の表面では水がジュール熱によって気化して気泡が形成される。この泡によって導電部164166の露出面が覆われた状態で高電圧発生部26yからの電圧供給を継続することにより、泡の内部で放電が生起される。なお、超音波発生部94の具体的な構成は実施形態1及び実施形態2に係る水浄化装置と同様である。本実施形態の水浄化装置を、図7a、bに示す方法で運転することにより、水中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、給水タンク12内の水を効果的に浄化することができる。以上の構成によっても、電極対22b24y間での放電と、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。以上で説明した実施形態において、各部材の形状、配置、材質等、あるいは水浄化装置の運転方法は本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。