"下記一般式Iで表される化合物を、下記一般式iで表される化合物と反応させて、下記一般式IIで表される遷移金属錯体を製造する方法において、該反応系に下記一般式iiで表される化合物を存在させることを特徴とする遷移金属錯体の製造方法。I式中、Z1は直接結合或いは2価の連結基を表す。Y1は2価の連結基を表す。Xt-は対アニオンを表す。tは1以上の整数を表す。R1~R4は、各々独立に、任意の置換基を表し、それぞれ隣接するR1~R4同士で、環を形成していてもよい。該環は置換基を有していてもよい。QqM1A1mLnii式中、M1は周期表第6周期の遷移金属を表し、Qは価数調整のために導入されるカチオン原子を表し、A1は対アニオンを表し、Lはモノアニオン配位子を表す。mは1以上の整数、q,nは各々独立に0以上の整数を表し、式iで表される化合物は、q個のQと1個のM1の合計よりなるプラスの価数とm個のA1とn個のLの合計よりなるマイナスの価数が等しく、化合物全体として電荷は中性となっている。II式中、Z1,Y1,R1~R4は一般式Iにおけると同義であり、M1,L,m,nは一般式iにおけると同義である。M2jA2kiiii式中、M2は周期表第4周期及び第5周期の遷移金属を表し、A2は対アニオンを表す。j,kは各々独立に1以上の整数を表し、式iiで表される化合物は、j個のM2よりなるプラスの価数と、k個のA2よりなるマイナスの価数が等しく、化合物全体として電荷は中性となっている。請求項1において、前記一般式iiにおける、M2がAg、Cu又はNiであることを特徴とする遷移金属錯体の製造方法。請求項2において、前記一般式iiで表される化合物が、炭酸塩であることを特徴とする遷移金属錯体の製造方法。請求項1ないし3のいずれか1項において、前記一般式iにおける、M1がIr又はPtであることを特徴とする遷移金属錯体の製造方法。請求項4において、前記一般式iで表される化合物が、IrCl3xH2Oであることを特徴とする遷移金属錯体の製造方法。請求項1ないし5のいずれか1項において、前記一般式Iで表される化合物が、下記一般式I-1又はI-2で表される化合物であることを特徴とする遷移金属錯体の製造方法。I-1式及びI-2式中、X1は、ヨウ素原子又は臭素原子を表す。R20は、炭素数1~8のアルキル基又はフェニル基を表す。Z1は、一般式Iにおけるものと同義である。請求項1ないし6のいずれか1項において、該反応を100°C以上で行うことを特徴とする遷移金属錯体の製造方法。本発明は、上記従来の方法のような問題点がなく、各種分野で有用な遷移金属錯体を容易に製造することができる新規遷移金属錯体の製造方法を提供することを課題とする。また、本発明は該遷移金属錯体の構造異性体を選択的に製造できる方法を提供することを課題とする。本発明者らが鋭意検討した結果、一般式Iで表される化合物と一般式iで表される化合物との反応において、M2jA2kで表される化合物を反応に用いることにより、一般式IIで表される遷移金属錯体を簡便に製造できることを見出し、本発明に到達した。更に、反応温度を調整することにより、構造異性体を作り分けることも可能になることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の遷移金属錯体の製造方法は、下記一般式Iで表される化合物を、下記一般式iで表される化合物と反応させて、下記一般式IIで表される遷移金属錯体を製造する方法において、該反応系に下記一般式iiで表される化合物を存在させることを特徴とする。I式中、Z1は直接結合或いは2価の連結基を表す。Y1は2価の連結基を表す。Xt-は対アニオンを表す。tは1以上の整数を表す。R1~R4は、各々独立に、任意の置換基を表し、それぞれ隣接するR1~R4同士で、環を形成していてもよい。該環は置換基を有していてもよい。QqM1A1mLnii式中、M1は周期表第6周期の遷移金属を表し、Qは価数調整のために導入されるカチオン原子を表し、A1は対アニオンを表し、Lはモノアニオン配位子を表す。mは1以上の整数、q,nは各々独立に0以上の整数を表し、式iで表される化合物は、q個のQと1個のM1の合計よりなるプラスの価数とm個のA1とn個のLの合計よりなるマイナスの価数が等しく、化合物全体として電荷は中性となっている。II式中、Z1,Y1,R1~R4は一般式Iにおけると同義であり、M1,L,m,nは一般式iにおけると同義である。M2jA2kiiii式中、M2は周期表第4周期及び第5周期の遷移金属を表し、A2は対アニオンを表す。j,kは各々独立に1以上の整数を表し、式iiで表される化合物は、j個のM2よりなるプラスの価数と、k個のA2よりなるマイナスの価数が等しく、化合物全体として電荷は中性となっている。本発明において、前記一般式iiのM2としては、Ag、Cu又はNiが好ましく請求項2、特に、前記一般式iiで表される化合物が、炭酸塩であることが好ましい請求項3。また、前記一般式iのM1としては、Ir又はPtが好ましく請求項4、特に、前記一般式iで表される化合物は、IrCl3xH2Oであることが好ましい請求項5。また、前記一般式Iで表される化合物は、下記一般式I-1又はI-2で表される化合物であることが好ましい請求項6。I-1式及びI-2式中、X1は、ヨウ素原子又は臭素原子を表す。R20は、炭素数1~8のアルキル基又はフェニル基を表す。Z1は、一般式Iにおけるものと同義である。また、本発明に係る反応は100°C以上で行うことが好ましい請求項7。本発明の遷移金属錯体の製造方法によれば、反応系に前記一般式iiで表される特定の化合物を存在させることにより、水や空気等の外部環境に影響を受けることなく、目的の遷移金属錯体を一段階の反応で容易に製造することができる。しかも、反応温度を調整することにより、構造異性体の制御も可能である。このような本発明の遷移金属錯体の製造方法によれば、合成が困難な中間体を経ることなく、また強塩基や強酸と言った取り扱い性に難のある試薬を用いることなく、様々な遷移金属錯体を簡便かつ確実に製造することが可能とされる。以下に本発明の遷移金属錯体の製造方法の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例代表例であり、本発明はその要旨を超えない限り、以下の内容に特定はされない。本発明の遷移金属錯体の製造方法は、下記一般式Iで表される化合物を、下記一般式iで表される化合物と反応させて、下記一般式IIで表される遷移金属錯体を製造する方法において、該反応系に下記一般式iiで表される化合物を存在させることを特徴とする。I式中、Z1は直接結合或いは2価の連結基を表す。Y1は2価の連結基を表す。Xt-は対アニオンを表す。tは1以上の整数を表す。R1~R4は、各々独立に、任意の置換基を表し、それぞれ隣接するR1~R4同士で、環を形成していてもよい。該環は置換基を有していてもよい。QqM1A1mLnii式中、M1は周期表第6周期の遷移金属を表し、Qは価数調整のために導入されるカチオン原子を表し、A1は対アニオンを表し、Lはモノアニオン配位子を表す。mは1以上の整数、q,nは各々独立に0以上の整数を表し、式iで表される化合物は、q個のQと1個のM1の合計よりなるプラスの価数とm個のA1とn個のLの合計よりなるマイナスの価数が等しく、化合物全体として電荷は中性となっている。II式中、Z1,Y1,R1~R4は一般式Iにおけると同義であり、M1,L,m,nは一般式iにおけると同義である。M2jA2kiiii式中、M2は周期表第4周期及び第5周期の遷移金属を表し、A2は対アニオンを表す。j,kは各々独立に1以上の整数を表し、式iiで表される化合物は、j個のM2よりなるプラスの価数と、k個のA2よりなるマイナスの価数が等しく、化合物全体として電荷は中性となっている。[出発原料化合物]まず、本発明において、目的とする遷移金属錯体である前記一般式IIで表される遷移金属錯体を製造するための出発原料となる前記一般式Iで表される化合物について説明する。前記一般式Iにおいて、Z1は、直接結合或いは2価の連結基を表す。なお、本発明において、2価の連結基は2価以上の原子を含む広義の連結基である。2価の連結基としては、置換基を有していても良いアルキレン基、又は置換基を有していても良い珪素原子、置換基を有していてもよいアリーレン基、カルボニル基が挙げられる。アルキレン基として具体的には、メチレン基、エチレン基などの炭素数1~5のアルキレン基が挙げられる。また、珪素原子としてはヒドロシリル基やジアルキルシリル基などの置換基を2個有するものなどが挙げられる。アリーレン基としてはフェニレン基、ビフェニレン基ベンゼン環が2環連結してなる基、フェニルカルボニル基などが挙げられる。アルキレン基や珪素原子、アリーレン基に導入される置換基としてはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基;フェニル基、ナフチル基などの炭素数4~20のアリール基等が挙げられる。2価の連結基としては、例えば、-CR11R12-、-SiR11R12-などが挙げられる。R11、R12は各々独立に上記置換基を表す。Z1としては、好ましくは直接結合、アリーレン基又はアルキレン基である。前記一般式Iにおいて、Y1は、2価の連結基を表す。好ましくは、置換基を有していても良い、周期表第14族~第16族の第2及び第3周期の典型元素或いは該典型元素を有する置換基であり、好ましくは、-NR13-、-O-、-S-、-CR13R14-、-PR13-が挙げられる。R13、R14は、上記置換基を表し、具体的には各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又は複素環基が挙げられる。アルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基などの炭素数1~10のアルキル基である。アリール基として具体的には、フェニル基、ナフチル基などの炭素数6~15のアリール基である。複素環基として具体的には、ピリジル基、チエニル基、オキサゾール基などの炭素数3~10の複素環基である。R13、R14は、好ましくは分子量1000以下、更に好ましくは500以下の置換基である。また、R13、R14は、隣接する置換基と結合して環を形成しても良く、該環は置換基を有していてもよい。形成する環としては、ベンゼン環、ピリジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリミジン環、オキサゾール環、チアゾール環などが挙げられる。該環の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、カルバゾイル基、パーフルオロアルキル基、カルボニル基、カルボキシ基が挙げられ、分子量500以下のものが好ましく、100以下のものが更に好ましい。前記一般式Iにおいて、R1~R4は、各々独立に、任意の置換基を表し、好ましくは分子量1000以下、更に好ましくは分子量500以下の置換基である。隣接するR1~R4同士は結合して環を形成していても良く、該環は置換基を有していてもよい。形成する環としては、ベンゼン環、ピリジン環、チオフェン環、フラン環、ベンゾチオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ベンズイミダゾール環などが挙げられる。該環の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、カルバゾイル基、パーフルオロアルキル基、カルボニル基、カルボキシ基、アリール基等が挙げられ、分子量500以下のものが好ましく、100以下のものが更に好ましい。該置換基は隣接する置換基と結合して環を形成してもよい。R1~R4のうち、R1,R2,R4としては、好ましく周期表第14族~第16族の第2及び第3周期の典型元素或いは該典型元素を有する置換基である。該典型元素として、更に好ましくは、炭素原子、窒素原子、酸素原子、或いは硫黄原子である。R1,R2,R4は、具体的には、アルキル基、アリール基、複素環基、アミノ基が好ましい。アルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基などの炭素数1~30のアルキル基である。アリール基として具体的には、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基などの炭素数6~30のアリール基である。複素環基として具体的には、ピリジル基、キノリル基、チエニル基、カルバゾイル基などの炭素数3~20の複素環基である。アミノ基として具体的には、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数2~30のアミノ基である。R1,R2,R4はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。R1,R2,R4は、更に置換基を有していてもよく、該置換基としては、メチル基、エチル基が挙げられる。R3としては、好ましくは周期表の第14族~第16族の第2及び第3周期の典型元素或いは該典型元素を有する置換基である。Y1が、上記-NR13-或いは-CR13R14-の場合には、該典型元素としては窒素原子もしくは炭素原子が好ましく、Y1が上記-O-,-S-或いは-PR13-の場合には該典型元素としては炭素原子が好ましい。R3として具体的には、アルキル基、アリール基、複素環基が挙げられる。アルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基などの炭素数1~30のアルキル基である。アリール基として具体的には、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基などの炭素数6~30のアリール基である。複素環基として具体的には、ピリジル基、キノリル基、チエニル基、カルバゾイル基などの炭素数3~20の複素環基である。R3は特に好ましくはアルキル基である。前記一般式Iにおいて、Xt-は、対アニオン表す。具体的にはF-,Cl-,Br-,I-,BF4-,PF6-,CO32-,OH-,C6H5CO2-,CN-,CF3SO3-、CF3CO2-,CH3CO2-,CO-,SO42-,SO32-,SCN-、CH3SO3-,ClO4-,PO43-,CH3O-,EtO-,NO2-,SbF6-,acac-などが挙げられる。ここで、Etはエチル基を表す。また、acac-を以下に示す。中でも工業的に好ましくは、X-は、Cl-,Br-,I-,BF4-,PF6-,CO32-,OH-,CF3SO3-、CF3CO2-,CH3CO2-,SO42-であり、より好ましくはCl-,Br-,I-,PF6-,CO32-,OH-である。前記一般式Iで表される化合物の分子量は特に上限は無いが、精製のしやすさを考慮すると、10000以下が好ましく、同定のしやすさを考慮すると1500以下が好ましい。前記一般式Iで表される化合物としては、好ましくは下記一般式Iaで表される化合物が挙げられる。一般式Ia中、Xt-は前記一般式Iにおけると同義であり、t=1である。Raはフェニル基、ナフチル基等のアリール基、あるいはフルオレン、ジベンゾフラン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、チオフェン、フラン、ピリジン、ピリミジン、キノリン由来の基等を表し、Rdは水素原子、メチル基等の炭素数1~10のアルキル基、フェニル基等のアリール基を表し、Rb,Rcは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基等が挙げられ、これらは互いに結合して環を形成していても良い。該環としては、フェニル基等のアリール基が挙げられる。前記一般式Iで表される化合物として、特に好ましくは、下記一般式I-1で表される化合物又は下記一般式I-2で表される化合物が挙げられる。I-1式及びI-2式中、X1は、ヨウ素原子又は臭素原子を表す。R20は、炭素数1~8のアルキル基又はフェニル基を表す。Z1は、一般式Iにおけるものと同義である。以下に前記一般式Iで表される化合物の具体例を示すが、本発明で用いる出発原料化合物は以下のものに限定されるものではない以下おいて、Meはメチル基を表す。。前記一般式Iで表される化合物は、Tetrahedron,1999,55,14523や米国特許5077414号明細書に記載の方法で容易に合成することが可能である。[反応基質化合物]次に前記一般式Iで表される出発原料化合物に反応させる反応基質としての前記一般式iで表される化合物について説明する。前記一般式iにおいて、M1は、周期表第6周期の遷移金属を表す。重原子効果による燐光発光の高効率化の点から、好ましくは、IrIII、PtII,AuI、AuIIIであり、更に好ましくはIrIIIである。前記一般式iにおいて、A1は対アニオンを表す。A1として具体的には、F-,Cl-,Br-,I-,BF4-,PF6-,CO32-,OH-,C6H5CO2-,CN-,CF3SO3-、CF3CO2-,CH3CO2-,CO-,SO42-,SO32-,SCN-、CH3SO3-,ClO4-,PO43-,CH3O-,EtO-,NO2-,SbF6-,acac-などが挙げられる。中でも工業的に好ましくは、Cl-,Br-,I-,BF4-,PF6-,CO32-,OH-,CF3SO3-、CF3CO2-,CH3CO2-,SO42-であり、より好ましくはCl-,Br-,I-,BF4-,PF6-,CO32-,OH-である。前記一般式iにおいて、Lはモノアニオン配位子を表す。Lとして具体的には置換基を有しても良いフェニルピリジン、フェニルイミダゾール基、フェニルピラゾール基を表し、好ましくはフェニルピリジンである。前記一般式iにおいて、Qは、価数調整のために導入されるカチオン原子であり、例えば、H、Na、K、Li等が挙げられる。前記一般式iにおいて、mは1以上の整数、q,nは各々独立に0以上の整数を表し、式iで表される化合物は、q個のQと1個のM1の合計よりなるプラスの価数とm個のA1とn個のLの合計よりなるマイナスの価数が等しく、化合物全体として電荷は中性となっている。前記一般式iで表される反応基質化合物の分子量としては、5000以下が好ましく、2000以下が更に好ましい。なお、前記一般式iで表される反応基質化合物は、水和水を含むものであっても良い。前記一般式iで表される反応基質化合物として具体的には、次のようなものが挙げられるが、何らこれらに限定されるものではない。IrCl3xH2O、Na2IrCl66H2O、Na2IrBr6、K2IrCl6、K3IrCl6、K2IrBr6、[IrNH35Cl]2、NH32IrCl6、NH33IrCl6H2O、[IrCODu-Cl]2、H2IrCl6xH2O、IrBr3xH2O、IrCl4xH2O、K2PtCl6、K2PtCl4、NH32PtBr6、NH34PtCl4、PtNH32NO22、なお、上記式中、X’は前記一般式Iにおける対アニオンXとして挙げたものが用いられるが、好ましくはハロゲン原子由来のものである。本発明において、前記一般式iで表される反応基質化合物は特に好ましくはIrの塩又はPtの塩であり、最も好ましくは、IrCl3xH2Oである。なお、前記一般式iで表される反応基質化合物におけるA1と、前記一般式Iの出発原料化合物におけるXとは同一であっても異なるものであっても良い。[共存化合物]次に、本発明において、反応を安定に進行させるための共存化合物である前記一般式iiで表される化合物について説明する。前記一般式iiにおいて、M2は周期表第4周期及び第5周期の遷移金属を表す。好ましくは周期表第8族~第12族の第4周期及び第5周期の遷移金属を表す。更に好ましくは周期表第10族~第12族の第4周期及び5周期の遷移金属を表す。特に好ましくは、Ag、Cu、Niなどが挙げられる。前記一般式iiにおいて、A2は対アニオンを表す。具体的には、F-,Cl-,Br-,I-,BF4-,PF6-,CO32-,OH-,C6H5CO2-,CN-,CF3SO3-、CF3CO2-,CH3CO2-,CO-,SO42-,SO32-,SCN-、CH3SO3-,ClO4-,PO43-,CH3O-,EtO-,NO2-,SbF6-,acac-などが挙げられる。中でも工業的に好ましくは、Cl-,Br-,I-,BF4-,PF6-,CO32-,OH-,CF3SO3-、CF3CO2-,CH3CO2-,SO42-であり、より好ましくはCl-,Br-,I-,BF4-,PF6-,CO32-,OH-である。前記一般式iiにおけるA2は、前記一般式IにおけるX及び/又は前記一般式iにおけるA1と同一であっても良く、異なるものであっても良い。前記一般式iiにおいて、j,kは各々独立に1以上の整数を表し、式iiで表される化合物は、j個のM2よりなるプラスの価数と、k個のA2よりなるマイナスの価数が等しく、化合物全体として電荷は中性となっている。前記一般式iiで表される化合物の分子量としては、1000以下が好ましく、500以下が更に好ましい。前記一般式iiで表される共存化合物としては、Ag,Cu,Niの塩などの化合物が好ましく、特に炭酸塩であることが好ましい。具体的には、Ag2O,NiOAc2Acは、アセチル基を表す。、CuCO3、Ag2CO3が挙げられるが、Ag2O又はAg2CO3がより好ましく、塩基としての働きが高いことからAg2CO3が特に好ましい。[遷移金属錯体]本発明で目的とする前記一般式IIで表される遷移金属錯体の分子量は特に上限は無いが、精製のしやすさを考慮すると10000以下が好ましく、同定のしやすさを考慮すると1500以下が好ましい。前記一般式IIで表される遷移金属錯体としては、以下に例示される化合物が挙げられるが、何ら以下のものに限定されるものではない。[製造方法]次に、前記一般式Iで表される出発原料化合物から、前記一般式IIで表される目的遷移金属錯体を製造する方法について説明する。本発明の製造方法は、従来のような不安定な中間体の製造工程を通ることなく、1段階反応で目的の遷移金属錯体を製造することができる。もちろん、本発明の製造方法は、1段階反応に限定されるものではなく、例えば、前記一般式Iで表される出発原料化合物から、一旦安定な化合物を得たあとに、目的とする前記一般式IIで表される遷移金属錯体を得てもよい。好ましくは、1段階反応で製造することである。通常、この反応は、前記一般式Iで表される出発原料化合物と、前記一般式iで表される反応基質化合物と、前記一般式iiで表される共存化合物と溶媒とを反応容器に入れ、加熱還流することにより行われる。その加熱手段としては、マイクロウェーブ電子レンジ、オートクレーブ加圧可能反応装置等が挙げられるが、何らこれに限定されるものではない。反応雰囲気は、空気中でもよいが、窒素雰囲気下或いはアルゴン雰囲気下などの不活性ガス雰囲気下で反応させてもよい。溶媒としては、出発原料により異なるが、好ましくは、トルエン、DMFジメチルホルムアミド、DMSOジメチルスルホキシド、エトキシエタノールなどのアルコールなどの有機溶媒が挙げられる。特に、高温反応が可能であることから、50°C以上に沸点を有する溶媒を用いることが好ましい。これらの溶媒は1種を単独であるいは2種類以上併用して用いることができる。また、反応系には、必要に応じて更に他の添加物を加えてもよい。この添加物としては、Na2CO3、NaHCO3,K2CO3、NaOHやNaOt-BuBuはブチル基などの塩基やAgBF4やAgOTfAgCF3SO3-等が挙げられ、これらの添加物を加えることにより反応の速度を制御することが可能となる。反応に用いる前記一般式Iで表される出発原料化合物と前記一般式iで表される反応基質化合物との割合は、前記一般式Iで表される出発原料に対して、前記一般式iで表される反応基質化合物を1当量以下、特に0.1~0.35当量用いることが好ましい。この反応基質の使用割合が少な過ぎると目的物の精製効率が悪くなり、多過ぎると反応を終結させることができない恐れがある。また、前記一般式iiで表される共存化合物は、前記一般式Iで表される出発原料1モルに対して、M2が0.8モル以上、特に0.9~1.2モル用いることが好ましい。この共存化合物の使用割合が少な過ぎると、この共存化合物を用いることによる本発明の効果を十分に得ることができず、多過ぎると反応を阻害する恐れがある。なお、前記一般式iiで表される共存化合物は1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。また、前記一般式Iで表される出発原料化合物、前記一般式iで表される反応基質化合物については、各々、2種以上用いることも可能であるが、目的とする遷移金属錯体を高収率で得るために、通常は、1種類ずつ用いられる。また、前述の溶媒は、前記一般式iで表される反応基質化合物1モルに対して5~50L程度使用することが好ましい。溶媒の使用量が多過ぎると溶媒に含まれる不純物の影響を無視できなくなり、少な過ぎると生成物が系内から沈殿する恐れがあり、異性体の制御が難しくなる恐れがある。反応温度は、用いた溶媒の沸点に依存するが、通常40°C以上、好ましくは60°C以上、より好ましくは75°C以上で、通常240°C以下、好ましくは220°C以下、より好ましくは200°C以下程度である。反応温度がこの上限を超えると生成物が分解する恐れがあり、下限を下回ると未反応の恐れがあり好ましくない。特に、本発明の製造方法においては、90°C以下では目的とする遷移金属錯体のmer体を選択的に合成することができ、90°C以上ではfac体を選択的に得ることができることから、反応温度は、目的とする構造異性体に応じて適宜決定することが好ましい。反応圧力は常圧から10atm1MPa以下が好ましい。反応時間は、目的とする構造異性体にもよるが、mer体を得たい場合には、昇温時間を含めて通常30分以上、通常10時間以下、好ましくは8時間以下、更に好ましくは6時間以下程度である。この上限を超えるとfac体が生じる恐れがあり、下限を下回ると未反応の恐れがあり好ましくない。反応により生成した目的化合物である前記一般式IIで表される遷移金属錯体の単離は、濾過等により反応で生成した無機物を除去し、有機溶剤で沈殿を洗浄後、反応溶媒を減圧濃縮し、得られた粗生成物を再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー或いはGPCにより精製することにより行うことが出来る。以下に、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。[実施例1]出発原料化合物の製造1-フェニルイミダゾールアルドリッチ社製4g28mmolと塩化メチレン溶液20mlにヨードメタン5.9g42mmolを加え、9時間加熱還流を行った。原料が無くなったことを確認した後、反応溶液を濃縮し、得られた粗生成物を酢酸エチルで懸洗を繰り返すことにより、目的とする化合物1:8gをほぼ定量的に得ることができた。同定は1H-NMR、マス分析により行った。遷移金属錯体の製造得られた上記出発原料化合物1574mgとIrCl3xH2Oアルドリッチ社製188mg、炭酸銀AgCO3アルドリッチ品552mgをエトキシエタノール中にて100°Cで2時間、加熱を行った。反応溶液を濾過した後、濾過物をジクロロメタンで洗浄し、濾液を濃縮した。得られた粗生成物をクロマトグラフィーで精製することにより目的とする遷移金属錯体2を得た。同定は1H-NMR、マス分析により行った。また、HPLC分析により生成物はfac体を主体とするものであることを確認した。[実施例2]出発原料化合物の製造ベンズイミダゾールアルドリッチ社製1.0g8.5mmolと、4-ヨードベンズトリフロライド東京化成社製2.76g10.1mmolに、N,N-ジメチルホルムアミド4.2mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.17g0.9mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製0.34g2mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製5.53g17mmolを加え、110°Cにて12.5時間加熱した。反応終了後、水を加え、晶出した結晶を濾別した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物3を1.39g収率63得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ738759768787793818化合物31.39g5.3mmolの塩化メチレン15ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製7.54g53mmolを加え、加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物42.11g収率98を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ4437167727877968161119遷移金属錯体の製造化合物42.1g5.2mmolにエトキシエタノール50mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製580mg2mmolと炭酸銀キシダ化学社製710mg2.6mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製277mg2.6mmolを加え、加熱還流した。20時間反応後、反応液にメタノールを15ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレンにて抽出して塩化メチレンを濃縮することにより、目的物である化合物50.82g収率:45を得た。NMRより、このものはfac体であることが確認できた。一方、結晶を濾別後の濾液にはfac体とmer体とが含まれていることが確認でき、濾液から塩化メチレンで抽出できた有機層をカラムクロマトグラフィーにより精製すると、目的物である化合物5のfac体を0.31g収率:17、mer体を0.38g収率:21、得ることができた。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;fac体δ3266757207297357898131HNMR;mer体δ316322324679698706710740773790801816[実施例3]出発原料化合物の製造ベンゾチオフェン東京化成社製10g74.5mmolに塩化メチレン70mlを加え、その溶液に臭素3.8ml74.5mmolをゆっくりと滴下した。滴下終了後、更に室温で5.5時間反応した。反応終了後、1重量チオ硫酸ナトリウム水溶液50mlで洗浄し、有機層を濃縮して、目的物である化合物6を含む粗生成物15.89gを得た。化合物6を含む粗生成物10.0gにN,N-ジメチルホルムアミド65mlを加え、その溶液にヨウ化カリウムキシダ化学社製62.32g375mmolとヨウ化銅和光純薬社製35.75g188mmolを加え、10.5時間加熱還流した。反応終了後、反応液を0.1N塩酸100mlに加え、更に塩化メチレン100mlを加えた。濾過を行い、得られた濾液を分液し、有機層を濃縮することにより、目的物である化合物7を含む粗生成物9.66gを得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ738746759776784化合物7を含む粗生成物7.93gとベンズイミダゾールアルドリッチ社製3.0g25.4mmolとに、N,N-ジメチルホルムアミド12.7mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.96g5.0mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製0.99g5.1mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製16.55g50.8mmolを加え、110°Cにて17時間加熱した。反応終了後、水を加え、晶出した結晶を濾別した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物83.12g総収率32/3工程を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ728743748751761793796817化合物83.04g12.2mmolの塩化メチレン30ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製17.48g123mmolを加え、7.5時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物94.77g収率100を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ5307427557647757858018671080遷移金属錯体の製造化合物94.77g12.2mmolにエトキシエタノール110mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製1.36g4.3mmolと炭酸銀キシダ化学社製1.69g6.1mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.64g6.1mmolを加え、加熱還流した。36時間反応後、反応液にメタノールを35ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、得られた結晶から塩化メチレンにて抽出を繰り返し、有機層を濃縮し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物である化合物10のfac体:1.28g収率:32を得た。一方、メタノール晶出の濾液に水を加え、更に晶出した結晶を濾別し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物である化合物10のmer体:0.51g収率:13を得た。同定は、MS測定、及び1H-NMRにより行った。MS:9821HNMR;fac体δ3347017257628278381HNMR;mer体δ324357360695710722735759766815836[実施例4]出発原料化合物の製造N-4’-ブロモフェニルカルバゾール3.0gにN,N-ジメチルホルムアミド15mlを加え、その溶液にヨウ化カリウムキシダ化学社製15.45g93mmolとヨウ化銅和光純薬社製8.87g47mmolを加え、6時間加熱還流した。反応終了後、反応液を0.1N塩酸25mlに加え、晶出した結晶を濾別した。得られた粗結晶から塩化メチレン150mlで抽出し、塩化メチレン層を濃縮することにより、目的物である化合物11を含む粗生成物3.20gを得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ727746792813化合物12を含む粗生成物3.20gとベンズイミダゾールアルドリッチ社製0.85g7.2mmolとに、N,N-ジメチルホルムアミド3.6mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.45g2.4mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製0.43g2.2mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製4.71g14.5mmolを加え、110°Cにて26時間加熱した。反応終了後、水を加え、晶出した結晶を濾別した。得られた粗結晶をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物121.81g収率70を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ728743748751761793796817化合物121.81g5mmolの塩化メチレン20ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製7.15g37mmolを加え、8時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物:2.45g収率97を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ4527257407407557807988181124遷移金属錯体の製造化合物132.45g4.9mmolにエトキシエタノール58mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製0.55g1.7mmolと炭酸銀キシダ化学社製0.67g2.4mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.26g2.5mmolを加え、加熱還流した。23時間反応後、反応液にメタノールを20ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、得られた結晶から塩化メチレンにて抽出を繰り返し、有機層を濃縮し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物である化合物14のfac体:1.63g収率:77とmer体:0.55g収率:2を得た。同定は、1H-NMRにより行った。1HNMR;fac体δ3456806876957057307337397447937988231HNMR;mer体δ320322358680740784820[実施例5]出発原料化合物の製造4-ブロモベンゾフェノン東京化成社製3.5g13.4mmolにN,N-ジメチルホルムアミド23mlを加え、その溶液にヨウ化カリウムキシダ化学社製22.25g134mmolとヨウ化銅和光純薬社製12.76g67mmolを加え、4時間加熱還流した。反応終了後、反応液を0.1N塩酸30mlに加え、晶出した結晶を濾別した。得られた粗結晶から塩化メチレン180mlで抽出し、塩化メチレン層を濃縮することにより、目的物である化合物15を含む粗生成物5.51gを得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ746755758764777785化合物15を含む粗生成物5.50gとベンズイミダゾールアルドリッチ社製1.32g11.2mmolとに、N,N-ジメチルホルムアミド5.6mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.43g5.6mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製0.44g5.6mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製7.27g12.4mmolを加え、110°Cにて12.5時間加熱した。反応終了後、水を加え、晶出した結晶を濾別した。得られた粗結晶をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物160.95g収率28を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ738754762770785790795804822化合物160.95g3.2mmolの塩化メチレン10ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製4.45g32mmolを加え、8時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物171.62g収率100を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ4497577677707908101124遷移金属錯体の製造化合物171.6g3.2mmolにエトキシエタノール30mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製0.35g1.1mmolと炭酸銀キシダ化学社製0.44g1.6mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.17g1.6mmolを加え、加熱還流した。19時間反応後、反応液にメタノールを10ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、得られた結晶から塩化メチレンにて抽出を繰り返し、有機層を濃縮して粗生成物を得た。メタノール晶出の濾液に水を加え、晶出した結晶を回収し、先の塩化メチレン抽出層とを合わせて、カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物である化合物18のmer体:0.34g収率:30を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;mer体δ310316330684697704710720748761770784795812822[実施例6]出発原料化合物の製造ベンズイミダゾールアルドリッチ社製2.0g16.9mmolと、3-ヨードベンズトリフロライド東京化成社製5.53g20.3mmolに、N,N-ジメチルホルムアミド8.5mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.64g3.4mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製0.68g3.4mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製11.03g33.9mmolを加え、110°Cにて9時間加熱した。反応終了後、水を加え、晶出した結晶を濾別した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物194.25g収率96を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ735740750756781789793815化合物194.25g16.2mmolの塩化メチレン40ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製23.0g162mmolを加え、8時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物206.7g収率100を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ4467687807807958068411115遷移金属錯体の製造化合物206.7g16.2mmolにエトキシエタノール150mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製1.81g5.7mmolと炭酸銀キシダ化学社製2.23g8.1mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.86g8.1mmolを加え、加熱還流した。20時間反応後、反応液にメタノールを45ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレンにて抽出して塩化メチレンを濃縮し、カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、目的物である化合物21のfac体を0.58g収率:11、mer体を1.09g収率:20、得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;fac体δ3286676947207327398028131HNMR;mer体δ318325327666686695725745799810818[実施例7]出発原料化合物の製造1-4-メトキシフェニル-1H-イミダゾール5.0g28.7mmolの塩化メチレン50ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製40.74g287mmolを加え、6時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物229.07g収率100を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ3864267047077507701135遷移金属錯体の製造化合物221.5g4.7mmolにエトキシエタノール30mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製0.52g1.6mmolと炭酸銀キシダ化学社製0.65g2.4mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.25g2.4mmolを加え、加熱還流した。16時間反応後、反応液にメタノールを10ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレンにて抽出して塩化メチレンを濃縮し、カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、目的物である化合物23をfac体とmer体の混合物として0.41g収率:34得た。fac体:mer体=85:15同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;fac体δ305352627642664701727[実施例8]出発原料化合物の製造4,5-ジフェニルイミダゾールアルドリッチ社製1.5g6.8mmolと、ヨードベンゼン東京化成社製1.67g8.2mmolに、N,N-ジメチルホルムアミド3.4mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.25g1.3mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製0.27g1.4mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製4.44g13.6mmolを加え、110°Cにて23時間加熱した。反応終了後、水を加え、晶出した結晶を濾別した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物240.60g収率30を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ710717717735754779化合物240.60g2mmolの塩化メチレン10ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製2.90g20mmolを加え、4時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物250.87g収率98を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ4077037217307407551023遷移金属錯体の製造化合物250.87g2mmolにエトキシエタノール20mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製0.22g0.7mmolと炭酸銀キシダ化学社製0.27g1mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.11g1mmolを加え、加熱還流した。21時間反応後、反応液にメタノールを6ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレン200mlにて抽出して塩化メチレンを濃縮し、粗結晶を得た。得られた粗結晶を塩化メチレン30mlで懸洗した。更に酢酸エチル/メタノール1/1V/V溶液2mlで懸洗し、目的物である化合物26のfac体:0.04gを得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;fac体δ324644660670676708712720735[実施例9]出発原料化合物の製造実施例4で得られた化合物11を含む粗生成物1.24gとイミダゾール関東化学社製0.19g2.8mmolとに、N,N-ジメチルホルムアミド1.9mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.11g0.6mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製0.11g0.6mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製1.82g5.6mmolを加え、110°Cにて15時間加熱した。反応終了後、水を加え、晶出した結晶を濾別した。得られた粗結晶をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物270.33g収率38を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ728735740745764771796816化合物270.33g1.1mmolの塩化メチレン5ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製1.58g11mmolを加え、4.5時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物280.5g収率100を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ4347327437557657838068131076遷移金属錯体の製造化合物280.5g1.1mmolにエトキシエタノール12mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製0.12g0.4mmolと炭酸銀キシダ化学社製0.15g0.5mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.06g0.5mmolを加え、加熱還流した。14時間反応後、反応液にメタノールを4ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレンにて抽出して塩化メチレンを濃縮し、カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、目的物である化合物29のfac体:0.07g収率:14を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;fac体δ327682700724726748794[実施例10]出発原料化合物の製造2,4-ジメトキシフェノールボロン酸2.0g11mmolのメタノール30ml溶液に、イミダゾール関東化学社製0.90g13.2mmolを仕込み、この溶液中に空気を1時間吹き込ませた。更に塩化第一銅キシダ化学社製0.11g1.1mmolを添加し、空気を吹き込みながら4時間加熱還流した。反応終了後、少量の水を加え、析出した固体を塩化メチレンで洗浄しながら濾別し、得られた濾液を濃縮してカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、目的物である化合物300.55g収率25を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ381385653659711715718767化合物300.55g2.7mmolの塩化メチレン6ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製3.82g27mmolを加え、2時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物310.95g収率100を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ3873904296627417527631003遷移金属錯体の製造化合物310.94g2.7mmolにエトキシエタノール20mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製0.30g0.9mmolと炭酸銀キシダ化学社製0.37g1.3mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.15g1.4mmolを加え、加熱還流した。19時間反応後、反応液にメタノールを6ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレンにて抽出して塩化メチレンを濃縮し、カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、目的物である化合物32のfac体:0.14g収率:18を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;fac体δ300348384598610656803[実施例11]出発原料化合物の製造ジベンゾフラン和光純薬社製10.0g60mmolの酢酸70ml溶液に、ヨウ素関東化学社製6.04g24mmolとヨウ素酸カリウム関東化学社製2.54g12mmolを加え、更に濃硫酸1.8mlを水12mlで希釈した水溶液を滴下し、40°Cにて4.5時間反応した。反応液に水100mlを添加し、晶出した固体を濾別した。得られた粗結晶をメタノールで懸洗し、更に酢酸エチル/メタノール1/5V/V溶液で再結晶を行い、目的物である化合物339.93gを得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ735737748757772790827化合物335.0g17mmolとイミダゾール関東化学社製1.01g14.8mmolとに、N,N-ジメチルホルムアミド13mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.56g2.9mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製0.59g3.0mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製9.63g29.6mmolを加え、110°Cにて20時間加熱した。反応終了後、水を加え、晶出した結晶を濾別した。得られた粗結晶をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物341.87g収率50を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ725734739746753762765788803化合物341.0g4.3mmolの塩化メチレン10ml溶液に、ヨウ化n-プロピル東京化成社製4.56g26.8mmolを加え、11時間加熱還流した。原料消失が見られなかったので、反応溶媒をクロロホルム10mlに変え、更にヨウ化n-プロピルを加えて、10時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的物とする化合物351.6g収率100を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ1062054527377507607657707788178711070遷移金属錯体の製造化合物351.6g4.3mmolにエトキシエタノール40mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製0.45g1.4mmolと炭酸銀キシダ化学社製0.55g2mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.21g2mmolを加え、加熱還流した。10.5時間反応後、反応液にメタノールを12ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレンにて抽出して塩化メチレンを濃縮し、カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、目的物である化合物36のfac体0.09g収率:7を得ることができた。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;fac体δ060110146335355675678720730733756771785[実施例12]出発原料化合物の製造実施例11で得られた化合物334.4g15mmolとベンズイミダゾール関東化学社製1.7g15mmolとに、N,N-ジメチルホルムアミド13mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製1.08g6mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製2.16g12.0mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製9g30mmolを加え、110°Cにて11時間加熱した。反応終了後、塩化メチレンを加え、濾過し、濾液を濃縮した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物37:1.7g収率40を得た。同定は1H-NMRにより行った。化合物371.0g3.5mmolの塩化メチレン10ml溶液に、ヨウ化メチル和光純薬社製4.56g26.8mmolを加え、11時間加熱還流した。反応溶媒にアセトンを加え、濾過することにより目的物とする化合物381.3gを得た。同定は1H-NMRにより行った。遷移金属錯体の製造化合物38933g3.0mmolにエトキシエタノール150mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製355mg1mmolと炭酸銀キシダ化学社製414g1.5mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.16g1.5mmolを加え、加熱還流した。5時間反応後、反応液にメタノールを12ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶をカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、目的物である化合物39のfac体を0.09g得た。同定は1H-NMRにより行った。[実施例13]出発原料化合物の製造イミダゾールアルドリッチ社製2.2g33mmolと、2-ナフチルボロン酸東京化成社製4.4g25mmolに、メタノール100mlを加え、その溶液に更に、塩化銅和光純薬社製148mg1.4mmolを加え、9.5時間加熱還流した。反応終了後、濾過し、濾液を濃縮することにより、粗生成物を得た。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物403.4g収率63を得た。同定は1H-NMRにより行った。化合物403.3g17mmolの塩化メチレン15ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製3.6g26mmolを加え、加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物415.3gを得た。同定は1H-NMRにより行った。遷移金属錯体の製造化合物411g3mmolにエトキシエタノール50mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製335mg0.5mmolと炭酸銀キシダ化学社製413mg1.5mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製159mg1.5mmolを加え、加熱還流した。20時間反応後、反応液にメタノールを15ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレンにて抽出して塩化メチレンを濃縮することにより、目的物である化合物42を117mg得た。同定は1H-NMRにより行った。[実施例14]出発原料化合物の製造ベンズイミダゾールアルドリッチ社製3.5g30mmolと、N-3-ヨードフェニル-カルバゾール8.8g、ヨウ化銅和光純薬540mg、炭酸セシウム関東化学社製19g、1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製1.08gに、ジメチルホルムアミド60mlを加え、12時間加熱還流した。反応終了後、水300mL加えて、濾過し、粗生成物を得た。得られた粗生成物を塩化メチレンで懸洗することにより、目的とする化合物435.3gを得た。同定は1H-NMRにより行った。化合物435.3gの塩化メチレン15ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製5.6g40mmolを加え、加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮して、目的とする化合物442.0gを得た。同定は1H-NMRにより行った。遷移金属錯体の製造化合物441.5g3mmolにエトキシエタノール50mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製335mg0.5mmolと炭酸銀キシダ化学社製413mg1.5mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製159mg1.5mmolを加え、加熱還流した。20時間反応後、反応液にメタノールを15ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレンにて抽出して塩化メチレンを濃縮することにより、目的物である化合物45324mgを得た。[実施例15]出発原料化合物の製造3,4-ジメチルフェニルボロン酸10g66mmolのメタノール200ml溶液に、イミダゾール関東化学社製6.7g100mmolを仕込み、この溶液中に空気を1時間吹き込ませた。更に塩化第一銅キシダ化学社製0.33g3.3mmolを添加し、空気を吹き込みながら4時間加熱還流した。反応終了後、塩化メチレンを加え、セライト濾過し、得られた濾液を濃縮してカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、目的物である化合物469.5g収率83を得た。同定は1H-NMRにより行った。化合物469.4gの塩化メチレン150ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製14g100mmolを加え、加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物479.5gを得た。同定は1H-NMRにより行った。遷移金属錯体の製造化合物472.4g7.5mmolにエトキシエタノール100mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製837mg2.5mmolと炭酸銀キシダ化学社製1.03g3.8mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製398mg3.8mmolを加え、加熱還流した。20時間反応後、反応液にメタノールを15ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目的物である化合物48500mgを得た。同定は1H-NMR、マス分析により行った。[実施例16]出発原料化合物の製造イミダゾールアルドリッチ社製6g90mmolと、4-ビフェニルボロン酸アルドリッチ社製11.8g60mmolに、メタノール300mLを加え、その溶液に更に、塩化銅和光純薬社製0.3g3mmolを加え、空気中9時間加熱還流した。反応終了後、塩化メチレンを加え濾過した後、濾液を濃縮し、メタノールで懸洗することにより、目的とする化合物499.0g収率40を得た。同定は1H-NMRにより行った。化合物494.5g20mmolの塩化メチレン50g溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製5mL53mmolを加え、3時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、塩化メチレンで懸洗することにより目的とする化合物507.7gを得た。同定は1H-NMRにより行った。遷移金属錯体の製造化合物502.7g7.5mmolにエトキシエタノール100mLを加え、この溶液に塩化イリジウム田中貴金属社製837mg2.5mmolと炭酸銀キシダ化学社製1.03mg3.8mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製4.0g3.8mmolを加え、加熱還流した。7時間反応後、反応液にメタノールを15ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶をカラムクロマトグラフィーを用いて精製することにより目的物である化合物510.5gを得た。同定は1H-NMR、マス分析により行った。[実施例17]出発原料化合物の製造ベンズイミダゾールアルドリッチ社製1.77g15mmolと、4-ヨードビフェニル既知法により合成3.24g15mmolに、N,N-ジメチルホルムアミド35gを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.57g3mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製0.54g3mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製3.98g30mmolを加え、130°Cにて20時間加熱した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで2回、炭酸ナトリウム飽和水溶液で1回洗浄し、硫酸ナトリウムカラムにて乾燥後、エバポレートした。得られた結晶を酢酸エチル/ヘキサンでカラム精製することにより、目的とする化合物521.56g収率38.5を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ737743751761766780790817化合物521.35g5mmolの塩化メチレン10g溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製14.2g100mmolを加え、10時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物532.11g収率98を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ4487457527647697847887991111遷移金属錯体の製造化合物531.24g3mmolにエトキシエタノール30gを加え、この溶液に塩化イリジウム田中貴金属社製356mg1mmolと炭酸銀キシダ化学社製414mg1.5mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製159mg1.5mmolを加え、加熱還流した。30時間反応後、反応液にメタノールを15ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレンにて抽出して塩化メチレンを濃縮することにより、目的物である化合物540.05g収率:45を得た。このものはfac体とmer体とが含まれており、HPLCにより、fac体:mer体は4:1と判明した。同定は1H-NMRにより行った。MALDI法による質量分析により、目的成分の分子量と一致するm/z:1582Mをベースピークとし、この他、これのフラグメントイオンと考えられるm/z:1497-C6H13の開裂などを検出したため、目的化合物が合成されていると判断した。[実施例18]出発原料化合物の製造2-ブロモフルオレンアルドリッチ社製9.8g40mmolにテトラヒトロフラン180mlを加え、0°Cでその溶液にt-ブトキシカリウム東京化成社製4.48g40mmolを加え、引き続きn-ヘキシルブロマイド7.17g44mmolを加え室温へと昇温した。30分攪拌後、再び0°Cに冷却し、t-ブトキシカリウム東京化成社製4.48g40mmolを加え、引き続きn-ヘキシルブロマイド7.17g44mmolを加え室温へと昇温し、12時間攪拌した。有機層を濃縮し、目的物である化合物5518gを得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ05907610131820732743745755786ベンズイミダゾールアルドリッチ社製2.36g20mmolと、化合物558.26g20mmolに、N,N-ジメチルホルムアミド45gを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.76g4mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製5.31g40mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製5.31g40mmolを加え、130°Cにて20時間加熱した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで2回、炭酸ナトリウム飽和水溶液で1回洗浄し、硫酸ナトリウムカラムにて乾燥後、エバポレートした。得られた液体をし、カラムクロマトグラフィにより精製して、目的とする化合物563.22g収率33を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ0700771012201737746754776786791818出発原料化合物及び遷移金属錯体の製造化合物562.75g5.6mmolの塩化メチレン10g溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製7.8g100mmolを加え、10時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする原料化合物573.47g5.5mmolを得た。これにエトキシエタノール50gを加え、この溶液に塩化イリジウム田中貴金属社製430mg1.8mmolと炭酸銀キシダ化学社製750mg2.75mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製290mg2.75mmolを加え、加熱還流した。30時間反応後、反応液を濾過し、この結晶を塩化メチレンにて抽出して塩化メチレンを濃縮し、カラムクロマトグラフィにより精製して、目的物である化合物581.1g収率:34を得た。この化合物は溶解性不良のためNMRでは明瞭なピークをあたえなかったが、MALDI法による質量分析により、目的成分の分子量と一致するm/z:1582Mをベースピークとし、この他、これのフラグメントイオンと考えられるm/z:1497-C6H13の開裂などを検出したため、目的化合物が合成されていると判断した。[実施例19]出発原料化合物の製造4-ジベンゾフランボロン酸アルドリッチ社製2.0g94mmolと、イミダゾール関東化学社製0.77g113mmolに、メタノール8.7mlを加え、その溶液に空気を約1時間吹き込んだ。更に、塩化銅和光純薬社製0.095g1mmolを加え、更に空気を吹き込みながら3.5時間加熱還流した。反応終了後、塩化メチレンを加え、不溶物を濾別した。濾液を濃縮し、得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物590.93g収率42を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ731738755761762792799825化合物590.93g40mmolの塩化メチレン10ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製5.65g40mmolを加え、3時間加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、目的とする化合物601.49g収率99を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ4407477537627698028048108171089遷移金属錯体の製造化合物601.49g4mmolにエトキシエタノール35mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製0.45g15mmolと炭酸銀キシダ化学社製0.55g2mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.23g2.2mmolを加え、加熱還流した。18時間反応後、反応液にメタノールを10ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレン200mlにて2回抽出して塩化メチレンを濃縮し、粗結晶を得た。得られた粗結晶をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物61のfac体:0.07g収率:5、mer体:0.15g収率:12を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;fac体δ317631689723726734753782834mer体:δ302305314664678685719735748755774780827838843mz934[実施例20]出発原料化合物の製造実施例10で得られた化合物315.0g15.8mmolに2-2-エトキシエトキシエタノール100mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製1.75g5.7mmolと炭酸銀キシダ化学社製2.18g8mmolと炭酸ナトリウム関東化学社製0.84g8mmolを加え、180°Cで5時間加熱した。反応後、反応液にメタノールを30ml加え、室温にて攪拌した。晶出していた結晶を濾別し、この結晶を塩化メチレン10mlにて洗浄し、目的とする化合物621.0g収率:21を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ351388574622682706746遷移金属錯体の製造化合物620.31g0.25mmolにエトキシエタノール10mlと、アセチルアセトンナトリウム塩STREMCHEMICALS社製0.08g0.67mmolを加え、120°Cで13.5時間、加熱した。反応後、反応液に水を加え、得られた粗結晶を濾別し、ヘキサンと酢酸エチルで懸洗して、目的物である化合物63のfac体:0.28g収率:83を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;δ167358384518585623685694735mz665[実施例21]出発原料化合物の製造実施例1で得られた化合物12.0g7mmolにエトキシエタノール125mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製0.64g2.1mmolと酸化銀アルドリッチ社製0.91g4mmolを加え、120°Cで18時間加熱した。反応後、反応液を濃縮し、残渣より塩化メチレンで抽出し、約10mlまで濃縮した。メタノールを20ml加え、晶出していた結晶を濾別し、目的とする化合物640.43g収率:11を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ390617641665690709753遷移金属錯体の製造化合物640.15g0.14mmolにエトキシエタノール5mlと、アセチルアセトンナトリウム塩STREMCHEMICALS社製0.04g0.3mmolを加え、120°Cで10.5時間、加熱した。反応後、反応液に水を加え、得られた粗結晶を濾別し、得られた粗結晶をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物である化合物65のfac体:0.05g収率:31を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;δ167518385628650669694698742mz605[実施例22]遷移金属錯体の製造実施例21で得られた化合物640.15g0.14mmolに塩化メチレン5mlと、ヒノキチオール東京化成社製0.06g0.36mmolと炭酸カリウム関東化学社製0.04g0.3mmolを加え、7時間加熱還流した。反応後、反応液を水洗し、有機層を濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物である化合物66のfac体:0.12g収率:62を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;δ150267385628648656670684694698707710742mz669[実施例23]出発原料化合物の製造イミダゾール関東化学社製2.0g29mmolと、3-ヨードベンズトリフロライド東京化成社製9.59g35mmolに、N,N-ジメチルホルムアミド14.8mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製1.12g5.9mmolと1,10-フェナントロリン水和物東京化成社製1.16g5.9mmol及び炭酸セシウムキシダ化学社製19.13g59mmolを加え、110°Cにて15時間加熱した。反応終了後、水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を水洗し、濃縮して、得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物673.47g収率56を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ720740760770780800化合物673.47g16.3mmolの塩化メチレン35ml溶液に、ヨウ化メチル東京化成社製23.20g163mmolを加え、加熱還流した。原料消失を確認後、反応液を濃縮し、ヘキサンで懸洗し、目的とする化合物685.40g収率93を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ4297567647757837908311072化合物681.5g4.2mmolにエトキシエタノール94mlを加え、この溶液に塩化イリジウムエヌイーケムキャット社製0.38g1.2mmolと酸化銀アルドリッチ社製0.56g2.4mmolを加え、120°Cで15時間加熱した。反応後、反応液を濃縮し、残渣より塩化メチレンで抽出し、約10mlまで濃縮した。メタノールと水を加え、晶出していた結晶を濾別し、目的とする化合物690.69g収率:48を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ390625669714720763遷移金属錯体の製造化合物690.3g0.22mmolにエトキシエタノール10mlと、アセチルアセトンナトリウム塩STREMCHEMICALS社製0.07g0.6mmolを加え、120°Cで12.5時間、加熱した。反応後、反応液に水を加え、得られた粗結晶を濾別し、得られた粗結晶をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物である化合物70のfac体:0.13g収率:38を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;δ170386523638674703713747ms741[実施例24]出発原料化合物の製造ピラゾール東京化成社製1.6g24mmolと、2-ヨードアニソール東京化成社製5.0g21.4mmolに、ジオキサン10.7mlを加え、その溶液に更に、ヨウ化銅和光純薬社製0.05g0.3mmolとN,N’-ジメチルエチレンジアミン東京化成社製0.19g2.2mmol及びリン酸カリウムキシダ化学社製3.17g15mmolを加え、110°Cにて22時間加熱した。反応終了後、水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を水洗し、濃縮して、得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、中間体である化合物710.39g収率11を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ387642702708730769773803化合物710.39g2.3mmolに塩化メチレン5mlを加え、氷冷下、三臭化ホウ素東京化成社製の1M塩化メチレン溶液2.5mlを添加した。室温まで徐々に温度を上昇させた。反応液を塩化メチレンで希釈し、水洗した有機層を濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする化合物720.19g収率:52を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMRδ6496917107177377738001136遷移金属錯体の製造実施例21で得られた化合物640.1g0.1mmolにエトキシエタノール3mlと、化合物720.03g0.2mmolと炭酸カリウム関東化学社製0.02g0.15mmolを加え、100°Cで15時間加熱した。反応後、反応液に水を加え、得られた結晶を濾別し、カラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物である化合物73のfac体:0.04g収率:33を得た。同定は1H-NMRにより行った。1HNMR;δ318395622638641649658661668673677689696700705709732750792mz665"