"微多孔性支持膜上に分離機能層を形成してなり、該分離機能層が、エチレン性不飽和基を有する反応性基および加水分解性基がケイ素原子に結合した化合物A、化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を1個有し、酸性基を有する化合物Bおよび化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を2個以上有する化合物Cを原料として、化合物Aが有する加水分解性基の縮合、ならびに、化合物A、化合物Bおよび化合物Cが有するエチレン性不飽和基の重合により形成されたものである複合半透膜。化合物Aが次の一般式aに示される化合物である請求項1に記載の複合半透膜。SiR1mR2nR34-m-n一般式aR1はエチレン性不飽和基を含む反応性基を示す。R2はアルコキシ基、アルケニルオキシ基、カルボキシ基、ケトオキシム基、ハロゲン原子またはイソシアネート基のいずれかを表す。R3は水素原子、アルキル基またはヒドロキシ基を表す。m,nはmn≦4を満たす正の整数とする。R1、R2、R3それぞれにおいて2以上の官能基がケイ素原子に結合している場合、同一であっても異なっていてもよい。化合物Cがエチレン性不飽和基を有する反応性基を3個以上有する請求項1または2に記載の複合半透膜。微多孔性支持膜上に、エチレン性不飽和基を有する反応性基および加水分解性基がケイ素原子に結合した化合物A、化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を1個有し、酸性基を有する化合物Bおよび化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を2個以上有する化合物Cを塗布し、化合物Aが有する加水分解性基の縮合、ならびに、化合物A、化合物Bおよび化合物Cが有するエチレン性不飽和基を重合することにより分離機能層を形成させる複合半透膜の製造方法。本発明では、酸化剤に対する耐久性が高く、高い分離性能連続通水運転時の安定性を有する複合半透膜を得ることを課題とする。エチレン性不飽和基を有する反応性基を2個以上有する化合物は、高分子鎖間を架橋することができる。そこで、孔径を縮小均一化する手段として、エチレン性不飽和基を有する反応性基を2個以上有する化合物を用いて架橋することで除去率を向上させ、同時に分離機能層の強度を高めることによって、従来のシロキサン化合物含有複合半透膜にない高耐久性を実現することを着想し、以下の発明に到達した。1微多孔性支持膜上に分離機能層を形成してなり、該分離機能層が、エチレン性不飽和基を有する反応性基および加水分解性基がケイ素原子に結合した化合物A、化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を1個有し、酸性基を有する化合物Bおよび化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を2個以上有する化合物Cを原料として、化合物Aが有する加水分解性基の縮合、ならびに、化合物A、化合物Bおよび化合物Cが有するエチレン性不飽和基の重合により形成されたものである複合半透膜。2化合物Aが次の一般式aに示される化合物である、上記1に記載の複合半透膜。SiR1mR2nR34-m-n一般式aR1はエチレン性不飽和基を含む反応性基を示す。R2はアルコキシ基、アルケニルオキシ基、カルボキシ基、ケトオキシム基、ハロゲン原子またはイソシアネート基のいずれかを表す。R3は水素原子、アルキル基またはヒドロキシ基を表す。m,nはmn≦4を満たす正の整数とする。R1、R2、R3それぞれにおいて2以上の官能基がケイ素原子に結合している場合、同一であっても異なっていてもよい。3化合物Cがエチレン性不飽和基を有する反応性基を3個以上有する上記1または2に記載の複合半透膜。4微多孔性支持膜上に、エチレン性不飽和基を有する反応性基および加水分解性基がケイ素原子に結合した化合物A、化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を1個有し、酸性基を有する化合物Bおよび化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を2個以上有する化合物Cを塗布し、化合物Aが有する加水分解性基の縮合、ならびに、化合物A、化合物Bおよび化合物Cが有するエチレン性不飽和基を重合することにより分離機能層を形成させる複合半透膜の製造方法。本発明によれば、酸化剤に対する耐久性が高く、高い分離性能、連続運転時の安定性を有する複合半透膜を得ることができる。本発明の複合半透膜は、脱塩性能や透水性能などの流体分離機能を有する分離機能層、その機能層を支持するための微多孔性支持膜と、これら分離機能層および微多孔性支持膜を支持するための基材などからなる。本発明に係る微多孔性支持膜は、分離機能層の支持膜として本発明の複合半透膜に強度を与える。分離機能層は微多孔性支持膜の少なくとも片面に設けられたものである。微多孔性支持膜に複数の分離機能層を設けても良いが、通常、片面に1層の分離機能層があれば十分である。本発明で用いる微多孔性支持膜の表面の細孔径は1nm以上100nm以下の範囲内であることが好ましい。微多孔性支持膜表面の細孔径がこの範囲であれば、化学反応により、表面において欠陥が十分に少ない分離機能層を形成させることができる。また、得られる複合半透膜が高い純水透過流束を有し、加圧運転中に分離機能層が支持膜孔内に落ち込むことなく構造を維持できる。ここで、微多孔性支持膜の表面の細孔径は、電子顕微鏡写真により算出できる。写真撮影し、観察できる細孔すべての直径を測定し、平均することにより求めた値を指す。細孔が円状でない場合、画像処理装置等によって、細孔が有する面積と等しい面積を有する円等価円を求め、等価円直径を細孔の直径とする方法により求めることができる。別の手段としては、示差走査熱量測定DSCにより求めることができる。文献石切山他、ジャーナルオブコロイドアンドインターフェイスサイエンス、171巻、p103、アカデミックプレスインコーポレーテッド1995等にその詳細が記載されている。微多孔性支持膜の厚みは、1μm以上5mm以下の範囲内にあると好ましく、10μm以上100μm以下の範囲内にあるとより好ましい。厚みが小さいと微多孔性支持膜の強度が低下しやすく、その結果、複合半透膜の強度が低下する傾向にある。厚みが大きいと微多孔性支持膜およびそれから得られる複合半透膜を曲げて使うときなどに取り扱いにくくなる。また、複合半透膜の強度を上げるため、微多孔性支持膜は布、不織布、紙などで補強されていてもよい。これら補強する材料の好ましい厚みは通常50μm以上150μm以下である。微多孔性支持膜に用いる素材としては特に限定されない。たとえばポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリエステル、セルロース系ポリマー、ビニル系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンスルフィドスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリフェニレンオキシドなどのホモポリマーあるいはコポリマーが使用できる。これらのポリマーを単独で、またはブレンドして用いることができる。上記のうち、セルロース系ポリマーとしては、酢酸セルロース、硝酸セルロースなどが例示される。ビニル系ポリマーとしてはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリルなどが好ましいものとして例示される。中でも、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリエステル、酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンスルフィドスルホンなどのホモポリマーやコポリマーが好ましい。さらに、これらの素材の中でも、化学的安定性、機械的強度、熱安定性が高く、成型が容易であるポリスルホン、ポリエーテルスルホンを用いることが特に好ましい。本発明の複合半透膜に存在する分離機能層の厚みは5nm以上500nm以下の範囲内にあると好ましい。下限としてはより好ましくは10nmである。上限としてより好ましくは200nmである。薄膜化することによりクラックが入りづらくなり欠点による除去率低下を避けることができる。さらにそのように薄膜化した分離機能層は透水性を向上させることができる。本発明の分離機能層は、微多孔性支持膜上に以下の反応により形成されるものである。すなわち、エチレン性不飽和基を有する反応性基および加水分解性基がケイ素原子に直接結合した化合物A、化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を1個有する化合物Bおよび化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を2個以上有する化合物Cを原料として、化合物Aが有する加水分解性基の縮合、ならびに、化合物A、化合物Bおよび化合物Cが有するエチレン性不飽和基の重合により形成される分離機能層である。化合物Aの形成するシロキサン結合のネットワークによって分離機能を実現し、化合物Bによって適度な透水性を付与する。化合物Cによって高分子鎖間を架橋して孔径を縮小均一化することで除去率を向上させ、同時に分離機能層の強度を高め、高耐久性を実現する。まず、エチレン性不飽和基を有する反応性基および加水分解性基がケイ素原子に直接結合した化合物Aについて説明する。エチレン性不飽和基を有する反応性基はケイ素原子に直接結合している。このような反応性基としては、ビニル基、アリル基、メタクリルオキシエチル基、メタクリルオキシプロピル基、アクリルオキシエチル基、アクリルオキシプロピル基、スチリル基が例示される。重合性の観点から、メタクリルオキシプロピル基、アクリルオキシプロピル基、スチリル基が好ましい。またケイ素原子に直接結合している加水分解性基が水酸基に変化するなどのプロセスを経て、化合物同士がシロキサン結合で結ばれるという縮合反応が生じ、高分子となる。加水分解性基としては、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、カルボキシ基、ケトオキシム基、アミノヒドロキシ基、ハロゲン原子およびイソシアネート基が例示される。アルコキシ基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、さらに好ましくは炭素数1または2のものである。アルケニルオキシ基としては炭素数2以上10以下のものが好ましく、さらには炭素数2以上4以下、さらには3のものが好ましい。カルボキシ基としては、炭素数2以上10以下のものが好ましく、さらには炭素数2のもの、すなわちアセトキシ基が好ましい。ケトオキシム基としては、メチルエチルケトオキシム基、ジメチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基が例示される。アミノヒドロキシ基は、酸素を介してアミノ基が酸素原子を介してケイ素原子に結合しているものである。このようなものとしては、ジメチルアミノヒドロキシ基、ジエチルアミノヒドロキシ基、メチルエチルアミノヒドロキシ基が例示される。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましく採用される。分離機能層の形成にあたっては、上記加水分解性基の一部が加水分解し、シラノール構造をとっている化合物も使用できる。また2以上の化合物が、加水分解性基の一部が加水分解、縮合し架橋しない程度に高分子量化したものも使用できる。化合物Aとしては下記一般式aで表されるものであることが好ましい。SiR1mR2nR34-m-n一般式aR1はエチレン性不飽和基を含む反応性基を示す。R2はアルコキシ基、アルケニルオキシ基、カルボキシ基、ケトオキシム基、ハロゲン原子またはイソシアネート基のいずれかを表す。R3はHまたはアルキル基を表す。m、nはmn≦4を満たす整数であり、m≧1、n≧1を満たすものとする。R1、R2、R3それぞれにおいて2以上の官能基がケイ素原子に結合している場合、同一であっても異なっていてもよい。R1はエチレン性不飽和基を含む反応性基であるが、上で説明したとおりである。R2は加水分解性基であるが、これらは上で説明したとおりである。R3となるアルキル基の炭素数としては1以上10以下のものが好ましく、さらに1または2のものが好ましい。加水分解性基としては、分離機能層の形成にあたって、反応液が製膜に適した粘度とポットライフを有することからアルコキシ基が好ましく用いられる。このような化合物としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシランが例示される。化合物Aの他、エチレン性不飽和基を有する反応性基を有しないが、加水分解性基を有する化合物を併せて使用することもできる。このような化合物は、一般式aではm≧1と定義されているが、一般式aにおいてmがゼロである化合物が例示される。このようなものとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシランが例示される。次に、化合物A以外の化合物であってエチレン性不飽和基を有する反応性基を1個有し、酸性基を有する化合物Bについて説明する。エチレン性不飽和基は付加重合性を有する。このような化合物としてはエチレン、プロピレン、メタクリル酸、アクリル酸、スチレンおよびこれらの誘導体が例示される。また化合物Bは、複合半透膜を水溶液の分離などに用いたときに水の選択的透過性を高め、塩の阻止率を上げるために、酸性基を有するアルカリ可溶性の化合物である。好ましい酸としては、カルボン酸、ホスホン酸、リン酸およびスルホン酸であり、これらの酸の構造としては、酸の形態、エステル化合物、および金属塩のいずれの状態で存在してもよい。これらのエチレン性不飽和基を有する化合物Bは、2つ以上の酸性基を含有し得るが、中でも1個または2個の酸性基を含有する化合物が好ましい。上記のエチレン性不飽和基を有する化合物Bの中でカルボン酸基を有する化合物としては、マレイン酸、無水マレイン酸、アクリル酸、メタクリル酸、2-ヒドロキシメチルアクリル酸、4-メタアクリロイルオキシエチルトリメリット酸および対応する無水物、10-メタクリロイルオキシデシルマロン酸、N-2-ヒドロキシ-3-メタクリロイルオキシプロピル-N-フェニルグリシンおよび4-ビニル安息香酸が挙げられる。上記のエチレン性不飽和基を有する化合物Bの中でホスホン酸基を有する化合物としては、ビニルホスホン酸、4-ビニルフェニルホスホン酸、4-ビニルベンジルホスホン酸、2-メタクリロイルオキシエチルホスホン酸、2-メタクリルアミドエチルホスホン酸、4-メタクリルアミド-4-メチル-フェニル-ホスホン酸、2-[4-ジヒドロキシホスホリル-2-オキサ-ブチル]-アクリル酸および2-[2-ジヒドロキシホスホリル-エトキシメチル]-アクリル酸-2,4,6-トリメチル-フェニルエステルが例示される。上記のエチレン性不飽和基を有する化合物Bの中でリン酸エステルの化合物としては、2-メタクリロイルオキシプロピル一水素リン酸および2-メタクリロイルオキシプロピル二水素リン酸、2-メタクリロイルオキシエチル一水素リン酸および2-メタクリロイルオキシエチル二水素リン酸、2-メタクリロイルオキシエチル-フェニル-水素リン酸、10-メタクリロイルオキシデシル-二水素リン酸、リン酸モノ-1-アクリロイル-ピペリジン-4-イル-エステル、6-メタクリルアミドヘキシル二水素ホスフェートが例示される。上記のエチレン性不飽和基を有する化合物Bの中でスルホン酸基を有する化合物としては、ビニルスルホン酸、4-ビニルフェニルスルホン酸または3-メタクリルアミドプロピルスルホン酸が挙げられる。そして本発明においては、エチレン性不飽和基を有する反応性基を2個以上有する化合物Cの添加が重要である。化合物Cは、化合物Aおよび化合物Bが形成する高分子鎖間を架橋して孔径を縮小均一化することで除去率を向上させ、同時に分離機能層の強度を高める。これによって、本発明の複合半透膜が従来のシロキサン化合物含有複合半透膜にない高耐久性を実現する。化合物Cとしては、化合物A以外の化合物であり、下記一般式bで表される化合物であれば特に制限はない。LRn一般式bRはビニル基、アクリル基、メタクリル基のいずれかを表す。Lは任意の原子団を表す。nは2以上の正の整数とする。Rは重合を担う不飽和基であり、Lはその間を結ぶリンカーである。Lの例としては、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、フルオロアルキル基とその誘導体、オリゴオキシエチレンとその誘導体、多価アルコール誘導体、多価カルボン酸誘導体、糖誘導体、アルキルアミンとその誘導体、リン酸誘導体、ベンゼン誘導体、シクロヘキサン誘導体、イミダゾール誘導体、ピリジン誘導体、トリアジン誘導体、ヘキサヒドロトリアジン誘導体、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体、ボロキシン誘導体、トリシラザン誘導体、シクロテトラシロキサン誘導体などを挙げることができる。具体的には、n=2の化合物Cとして、エチレンジアクリラート、1,3-ビスアクリロイルオキシプロパン、1,4-ビスアクリロイルオキシブタン、1,5-ビスアクリロイルオキシペンタン、1,6-ビスアクリロイルオキシヘキサン、1,7-ビスアクリロイルオキシヘプタン、1,8-ビスアクリロイルオキシオクタン、1,9-ビスアクリロイルオキシノナン、1,10-ビスアクリロイルオキシデカン、エチレングリコールジアクリラート、ジエチレングリコールジアクリラート、トリエチレングリコールジアクリラート、テトラエチレングリコールジアクリラート、プロピレングリコールジアクリラート、ジプロピレングリコールジアクリラート、ネオペンチルグリコールジアクリラート、グリセロールジアクリラート、N,N’-メチレンビスアクリルアミド、N,N’-1,2-ジヒドロキシエチレンビスアクリルアミド、1,4-フェニレンジアクリル酸ジエチル、ビスフェノールAジアクリラート、エチレンジメタクリラート、1,3-ビスメタクリロイルオキシプロパン、1,4-ビスメタクリロイルオキシブタン、1,5-ビスメタクリロイルオキシペンタン、1,6-ビスメタクリロイルオキシヘキサン、1,7-ビスメタクリロイルオキシヘプタン、1,8-ビスメタクリロイルオキシオクタン、1,9-ビスメタクリロイルオキシノナン、1,10-ビスメタクリロイルオキシデカン、エチレングリコールジメタクリラート、ジエチレングリコールジメタクリラート、トリエチレングリコールジメタクリラート、テトラエチレングリコールジメタクリラート、プロピレングリコールジメタクリラート、ジプロピレングリコールジメタクリラート、ネオペンチルグリコールジメタクリラート、グリセロールジメタクリラート、N,N’-メチレンビスメタクリルアミド、N,N’-1,2-ジヒドロキシエチレンビスメタクリルアミド、1,4-フェニレンジメタクリル酸ジエチル、ビスフェノールAジメタクリラート、シュウ酸ジビニル、マロン酸ジビニル、コハク酸ジビニル、グルタル酸ジビニル、アジピン酸ジビニル、ピメリン酸ジビニル、スベリン酸ジビニル、アゼライン酸ジビニル、セバシン酸ジビニル、フタル酸ジビニル、イソフタル酸ジビニル、マレイン酸ジビニル、テレフタル酸ジビニル、ジビニルベンゼン、1,5-ヘキサジエン-3,4-ジオール、ジアリルエーテル、ジアリルスルフィド、ジアリルジスルフィド、ジアリルアミン、シュウ酸ジアリル、マロン酸ジアリル、コハク酸ジアリル、グルタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、ピメリン酸ジアリル、スベリン酸ジアリル、アゼライン酸ジアリル、セバシン酸ジアリル、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、ジアリルジメチルシラン、ジアリルジフェニルシラン、1,3-ジアリルオキシ-2-プロパノール、イソシアヌル酸ジアリルプロピル、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、ビスフェノールAジアリルエーテル、N,N’-ジアリル酒石酸ジアミド等が挙げられる。化合物Cの架橋効果は、重合性官能基の数が多い方が高いため、一般的にはn=2の化合物よりもn≧3の化合物の方が好ましい。n≧3の化合物Cとして、シアヌル酸トリス2-アクリロイルオキシエチル、イソシアヌル酸トリス2-アクリロイルオキシエチル、1,3,5-トリアクリロイルトリアジン、1,3,5-トリアクリロイルヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン、トリメチロールプロパントリアクリラート、没食子酸トリアクリラート、ペンタエリスリトールトリアクリラート、ピロガロールトリアクリラート、シアヌル酸トリス2-メタクリロイルオキシエチル、イソシアヌル酸トリス2-メタクリロイルオキシエチル、1,3,5-トリメタクリロイルトリアジン、1,3,5-トリメタクリロイルヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン、トリメチロールプロパントリメタクリラート、没食子酸トリメタクリラート、ペンタエリスリトールトリメタクリラート、2,4,6-トリビニルボロキシン、2,4,6-トリメチル-2,4,6-トリビニルシクロトリシラザン、1,2,4-トリビニルシクロヘキサン、ペンタエリスリトールテトラアクリラート、ペンタエリスリトールテトラメタクリラート、ピロガロールトリアクリラート、2,4,6,8-テトラメチル-2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン、ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリラート等が挙げられる。化合物Cが複合半透膜の構成成分に含まれることは、表面の分離機能層を剥離し、解析することで証明可能であることが多い。例えば、Rがアクリル基やメタクリル基の場合は、熱アルカリを用いて分離機能層を加水分解した後、低分子量成分を分離してNMR測定や質量分析等を行えばよい。分離機能層形成のために例示される方法としては、化合物A、化合物Bおよび化合物Cを含有する反応液を塗布する工程、溶媒を除去する工程、エチレン性不飽和基を重合させる工程、加水分解性基を縮合させる工程の順に行うものである。エチレン不飽和基を重合させる工程において、加水分解性基の縮合が同時に起こることがあっても良い。まず、化合物A、化合物Bおよび化合物Cを含有する反応液を微多孔性支持膜に接触させる。かかる反応液は、通常溶媒を含有する溶液であるが、かかる溶媒は微多孔性支持膜を破壊せず、化合物A、化合物Bおよび化合物Cおよび必要に応じて添加される重合開始剤を溶解するものであれば特に限定されない。この反応液には、化合物Aのモル数に対して1倍モル当量以上10倍モル当量以下、好ましくは1倍モル当量以上5倍モル当量以下の水を無機酸または有機酸と共に添加して、化合物Aの加水分解を促すことが好ましい。反応液の溶媒としては、水、アルコール系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、ケトン系有機溶媒および、これらを混ぜ合わせたものが好ましい。例えば、アルコール系有機溶媒として、メタノール、エトキシメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アミルアルコール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、エチレングリコールモノメチルエーテル2-メトキシエタノール、エチレングリコールモノアセトエステル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、メトキシブタノール等が挙げられる。また、エーテル系有機溶媒として、メチラール、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジアミルエーテル、ジエチルアセタール、ジヘキシルエーテル、トリオキサン、ジオキサン等が挙げられる。また、ケトン系有機溶媒として、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルシクロヘキシルケトン、ジエチルケトン、エチルブチルケトン、トリメチルノナノン、アセトニトリルアセトン、ジメチルオキシド、ホロン、シクロヘキサノン、ダイアセトンアルコール等が挙げられる。また、溶媒の添加量としては、反応液の全重量に対して50重量以上99重量以下が好ましく、さらには80重量以上99重量以下が好ましい。溶剤の添加量が多すぎると膜中に欠点が生じやすい傾向があり、少なすぎると得られる複合半透膜の透水性が低くなる傾向がある。微多孔性支持膜と反応液との接触は、微多孔性支持膜面上で均一にかつ連続的に行うことが好ましい。具体的には、例えば、反応液をスピンコーター、ワイヤーバー、フローコーター、ダイコーター、ロールコーター、スプレーなどの塗布装置を用いて微多孔性支持膜にコーティングする方法があげられる。また微多孔性支持膜を、反応液に浸漬する方法を挙げることができる。浸漬させる場合、微多孔性支持膜と反応液との接触時間は、0.5分間以上10分間以下の範囲内であることが好ましく、1分間以上3分間以下の範囲内であるとさらに好ましい。反応液を微多孔性支持膜に接触させたあとは、膜上に液滴が残らないように十分に液切りすることが好ましい。十分に液切りすることで、膜形成後に液滴残存部分が膜欠点となって膜性能が低下することを防ぐことができる。液切りの方法としては、反応液接触後の微多孔性支持膜を垂直方向に把持して過剰の反応液を自然流下させる方法や、エアーノズルから窒素などの風を吹き付け、強制的に液切りする方法などを用いることができる。また、液切り後、膜面を乾燥させ、反応液の溶媒分の一部を除去することもできる。化合物の加水分解性基を縮合させる工程は、微多孔性支持膜上に反応液を接触させた後に加熱処理することによって行われる。このときの加熱温度は、微多孔性支持膜が溶融し分離膜としての性能が低下する温度より低いことが要求される。縮合反応を速やかに進行させるために通常0°C以上で加熱を行うことが好ましく、20°C以上がより好ましい。また、前記反応温度は、150°C以下が好ましく、120°C以下がより好ましい。反応温度が0°C以上であれば、加水分解および縮合反応が速やかに進行し、150°C以下であれば、加水分解および縮合反応の制御が容易になる。また、加水分解または縮合を促進する触媒を添加することで、より低温でも反応を進行させることが可能である。さらに本発明では分離機能層が細孔を有するよう加熱条件および湿度条件を選定し、縮合反応を適切に行うようにする。化合物A、化合物Bおよび化合物Cのエチレン性不飽和基の重合方法としては、熱処理、電磁波照射、電子線照射、プラズマ照射により行うことができる。ここで電磁波とは紫外線、X線、γ線などを含む。重合方法は適宜最適な選択をすればよいが、ランニングコスト、生産性などの点から電磁波照射による重合が好ましい。電磁波の中でも紫外線照射が簡便性の点からより好ましい。実際に紫外線を用いて重合を行う際、これらの光源は選択的にこの波長域の光のみを発生する必要はなく、これらの波長域の電磁波を含むものであればよい。しかし、重合時間の短縮、重合条件の制御などのしやすさの点から、これらの電磁波の強度がその他の波長域の電磁波に比べ高いことが好ましい。電磁波は、ハロゲンランプ、キセノンランプ、UVランプ、エキシマランプ、メタルハライドランプ、希ガス蛍光ランプ、水銀灯などから発生させることができる。電磁波のエネルギーは重合できれば特に制限しないが、中でも紫外線の薄膜形成性が高い。このような紫外線は低圧水銀灯、エキシマーレーザーランプにより発生させることができる。本発明に係る分離機能層の厚み、形態はそれぞれの重合条件によっても大きく変化することがあり、電磁波による重合であれば電磁波の波長、強度、被照射物との距離、処理時間により大きく変化することがある。そのためこれらの条件は適宜最適化を行う必要がある。重合速度を速める目的で分離機能層形成の際に重合開始剤、重合促進剤等を添加することが好ましい。ここで、重合開始剤、重合促進剤とは特に限定されるものではなく、用いる化合物の構造、重合手法などに合わせて適宜選択されるものである。重合開始剤を以下例示する。電磁波による重合の開始剤としては、ベンゾインエーテル、ジアルキルベンジルケタール、ジアルコキシアセトフェノン、アシルホスフィンオキシドもしくはビスアシルホスフィンオキシド、α-ジケトン例えば、9,10-フェナントレンキノン、ジアセチルキノン、フリルキノン、アニシルキノン、4,4’-ジクロロベンジルキノンおよび4,4’-ジアルコキシベンジルキノン、およびショウノウキノンが、例示される。熱による重合の開始剤としては、アゾ化合物例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリルAIBNもしくはアゾビス-4-シアノバレリアン酸、または過酸化物例えば、過酸化ジベンゾイル、過酸化ジラウロイル、過オクタン酸tert-ブチル、過安息香酸tert-ブチルもしくはジ-tert-ブチルペルオキシド、さらに芳香族ジアゾニウム塩、ビススルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、アルキルリチウム、クミルカリウム、ナトリウムナフタレン、ジスチリルジアニオンが例示される。なかでもベンゾピナコールおよび2,2’-ジアルキルベンゾピナコールは、ラジカル重合のための開始剤として特に好ましい。過酸化物およびα-ジケトンは、開始を加速するために、好ましくは、芳香族アミンと組み合わせて使用される。この組み合わせはレドックス系とも呼ばれる。このような系の例としては、過酸化ベンゾイルまたはショウノウキノンと、アミン例えば、N,N-ジメチル-p-トルイジン、N,N-ジヒドロキシエチル-p-トルイジン、p-ジメチル-アミノ安息香酸エチルエステルまたはその誘導体との組み合わせである。さらに、過酸化物を、還元剤としてのアスコルビン酸、バルビツレートまたはスルフィン酸と組み合わせて含有する系もまた好ましい。次いで、これを約100~200°Cで10分~3時間程度加熱処理すると重縮合反応が起こり、微多孔性支持膜表面に分離機能層が形成された本発明の複合半透膜を得ることができる。加熱温度は微多孔性支持膜の素材にもよるが、高すぎると溶解が起こり微多孔性支持膜の細孔が閉塞するため、複合半透膜の造水量が低下する。一方低すぎた場合には、重縮合反応が不十分となり機能層の溶出により除去率が低下するようになる。なお上記の製造方法において、エチレン性不飽和基の重合工程は、加水分解性基による重縮合工程の前に行っても良いし、後に行っても良い。また、重縮合反応と重合反応を同時に行ってもよい。このようにして得られた複合半透膜はこのままでも使用できるが、使用する前に例えばアルコール含有水溶液、アルカリ水溶液によって膜の表面を親水化させることが好ましい。以下実施例をもって本発明をさらに具体的に説明する。ただし、本発明はこれにより限定されるものではない。以下の実施例において複合半透膜のNaCl除去率の初期性能は次式c、複合半透膜の膜透過流束の初期性能は次式d、純水透過係数は次式e、溶質透過係数は次式f、純水透過係数変化率は次式gで計算されるものである。NaCl除去率={供給液のNaCl濃度-透過液のNaCl濃度/供給液のNaCl濃度}×100式c膜透過流束m3/m2/day=一日の透過液量/膜面積式d純水透過係数m3/m2/sec/Pa=膜透過流束/膜両側の圧力差-膜両側の浸透圧差×溶質反射係数式e溶質透過係数m/sec=溶質の膜透過流束-1-溶質反射係数×膜両側の平均濃度×膜透過流束/膜面濃度-膜透過液濃度式f純水透過係数変化率day-1=通水後の純水透過係数-通水前の純水透過係数/通水前の純水透過係数×通水時間式g実施例1ポリエチレンテレフタレート不織布上にポリスルホンの15.7重量ジメチルホルムアミド溶液を200μmの厚みで、室温25°Cでキャストし、ただちに純水中に浸漬して5分間放置することによって微多孔性支持膜を作製した。このようにして得られた微多孔性支持膜の表面の細孔径は21nmであり、厚みは150μmであった。イソプロピルアルコールの65重量水溶液中に、化合物Aに該当する3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランを94mM、化合物Bに該当する4-ビニルフェニルスルホン酸ナトリウムを66mM、化合物Cに該当する1,4-ビスアクリロイルオキシブタンを10mM、光重合開始剤2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノンを8.5mMの濃度で溶解させた。この溶液に、前記の微多孔性支持膜を1分間接触させ、エアーノズルから窒素を吹き付け支持膜表面から余分な溶液を取り除き微多孔性支持膜上に前記溶液の層を形成した。次いで365nmの紫外線が照射できるハリソン東芝ライティング社製UV照射装置TOSCURE登録商標752を用い、照射強度を20mW/cm2に設定し、紫外線を15分間照射して、分離機能層を微多孔性支持膜表面に形成した複合半透膜を作製した。次に、得られた複合半透膜を120°Cの熱風乾燥機中で3時間保持して化合物Aを縮合させ、微多孔性支持膜上に分離機能層を有する乾燥複合半透膜を得た。その後、乾燥複合半透膜を10重量イソプロピルアルコール水溶液に10分間浸漬して親水化を行った。このようにして得られた複合半透膜に、pH6.5に調整した500ppm食塩水を、0.75MPa、25°Cの条件下で供給して加圧膜ろ過運転を行い、運転開始時から3時間後に透過水、供給水の水質を測定することにより、表1に示す結果が得られた。また、加圧膜ろ過運転を継続し、運転開始時から23時間後についても同様に性能評価を行った。式cから計算した膜のNaCl除去率と、通水開始3時間後と23時間後の性能を用いて式gから計算した純水透過係数変化率についても表1に示す。実施例2実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンを1,6-ビスアクリロイルオキシヘキサンに置き換えた以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。実施例3実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンを1,4-ビスメタクリロイルオキシブタンに置き換えた以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。実施例4実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンをテトラエチレングリコールジアクリラートに置き換えた以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。実施例5実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンをN,N’-メチレンビスアクリルアミドに置き換えた以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。実施例6実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンをN,N’-1,2-ジヒドロキシエチレンビスアクリルアミドに置き換えた以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。実施例7実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンをトリアクリル酸ペンタエリスリトールに置き換えた以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。実施例8実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンをイソシアヌル酸トリス2-アクリロイルオキシエチルに置き換えた以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。実施例9実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンをテトラアクリル酸ペンタエリスリトールに置き換えた以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。比較例1実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンを添加しない以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。比較例2実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンをアクリル酸4-ヒドロキシブチルに置き換えた以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。比較例3実施例1で使用した化合物Cの1,4-ビスアクリロイルオキシブタンをp-メチルスチレンに置き換えた以外は実施例1と同様にして複合半透膜を作製した。得られた複合半透膜を実施例1と同様にして評価を行い、表1に示す結果が得られた。表1から、実施例1~9で示された複合半透膜は比較例1~3で得られた複合半透膜と比べて、塩除去率が高いことが分かる。また、通水後の純水透過係数変化率を比べると、実施例1~9で示された複合半透膜は、比較例1~3で得られた複合半透膜と比べて、性能の変化が小さいことが分かる。また、一般式bにおいてn=4である実施例9、n=3である実施例7および8、n=2である実施例1~6の順で、純水透過係数変化率が小さいことが分かる。以上より、化合物Cの添加は溶質除去率および、連続運転時の安定性向上に有効である。"