マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムであって、a光源、b複数の第1の光学小要素561X、561Y、562X、562Yを含み、かつ光束を各々が放出する複数の2次光源82を生成する光結合器、cマスク平面内で前記光束の重ね合わせを達成する集光装置、d複数の第2の光学小要素を含み、光伝播方向に沿って、前記光結合器の前に配置され、前記第2の光学小要素は、実質的に矩形の角度分布を生成する第1の散乱構造体、及びe前記光結合器と前記集光装置の間に配置される第2の散乱構造体、を含む、ことを特徴とするシステム。前記光結合器56は、複数の集束第1光学小要素561X、561Y、562X、562Yを各々が含む第1の結合器部材561及び第2の結合器部材562を含むfly-eye結合器であることを特徴とする請求項1に記載の照明システム。照明システム12の光軸に垂直な方向において、前記第1光学小要素は、第1のピッチを有し、前記第2光学小要素は、第2のピッチを有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の照明システム。前記第2光学小要素は、周期的なアレイに配置されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の照明システム。前記第1のピッチは、前記第2のピッチの素数であることを特徴とする請求項3及び請求項4のいずれか1項に記載の照明システム。前記第2の散乱構造体は、非周期性アレイに配置される光学小要素を備えることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明システム。前記第1光学小要素は、幾何学的光束が増大する方向に第1のピッチd1<1000μmを有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の照明システム。d1<600μmであることを特徴とする請求項7に記載の照明システム。前記第2光学小要素は、前記幾何学的光束が増大する前記方向に第2のピッチd2<d1μmを有することを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の照明システム。前記第2光学小要素の各々は、マイクロレンズを含むことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の照明システム。前記マイクロレンズは、円筒形の形状を有することを特徴とする請求項10に記載の照明システム。各第2光学小要素は、幾何学的光束が直交方向に異なる程度で増大するような歪像角度分布を生成することを特徴とする請求項1に記載の照明システム。前記幾何学的光束は、前記投影露光装置の走査方向に沿って該走査方向の垂直方向よりも小さな程度で増大されることを特徴とする請求項12に記載の照明システム。前記幾何学的光束は、前記投影露光装置10の走査方向に沿って実質的には増大されないことを特徴とする請求項13に記載の照明システム。各第2光学小要素は、前記第1の結合器部材の前記第1光学小要素と共に前記第2の結合器部材の第1光学小要素を完全に照らすのに十分である角度分布を生成することを特徴とする請求項2に記載の照明システム。前記第1の散乱構造体と前記光結合器との間の距離は、該第1の散乱構造体のタルボット距離と異なっていることを特徴とする請求項1に記載の照明システム。前記第1光学小要素は、第1の境界線によって定められた形状を有し、前記第2光学小要素は、第2の境界線によって定められた形状を有し、前記第1の境界線及び前記第2の境界線は、その間に0.1°<α<89.9°で角度αを形成する、ことを特徴とする請求項1に記載の照明システム。前記第2の散乱構造体は、第1の方向に前記幾何学的光束を増大させる第1の種類の第2光学小要素及び、第2の方向に該幾何学的光束を増大させる第2の種類の光学小要素を含むことを特徴とする請求項1に記載の照明システム。前記第1の種類の光学小要素は、前記投影露光装置の走査方向にガウス角度分布を生成することを特徴とする請求項18に記載の照明システム。前記第2の種類の光学小要素は、前記投影露光装置の走査方向と垂直な矩形角度分布を生成することを特徴とする請求項18又は請求項19に記載の照明システム。前記第1の種類及び前記第2の種類の光学小要素は、共通の支持体の両側に配置されることを特徴とする請求項18から請求項20のいずれか1項に記載の照明システム。前記ガウス角度分布は、異なる幅の複数の実質的に矩形の角度分布の重ね合わせによって近似されることを特徴とする請求項19に記載の照明システム。前記第2の種類の光学小要素は、異なるピッチを有する円筒形マイクロレンズであることを特徴とする請求項22に記載の照明システム。前記第1の散乱構造体及び前記第2の散乱構造体は、該少なくとも1つの散乱構造体がない場合に前記2次光源をそれらが当接するか又は重なり合うように拡大することによって得られると考えられるような方法で前記角度分布を修正することを特徴とする請求項1に記載の照明システム。マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムであって、光結合器と、異なる角度幅を有する矩形角度分布を生成する複数の小要素を有する少なくとも1つの散乱構造体と、を含むことを特徴とするシステム。請求項1から請求項25のいずれか1項に記載の照明システムを含む投影露光装置。本発明の目的は、マスク平面内で望ましい放射照度及び角度分布を達成することを可能にするマイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムを提供することである。より具体的には、照明設定から実質的に独立した均一又は望ましい不均一な放射照度分布が達成されるべきである。上記及び他の目的は、本発明の第1の態様により、光源と光結合器とを含む照明システムにより達成される。光結合器は、第1の光学小要素を含み、かつ各々が光束を放出する複数の2次光源を生成する。集光装置は、マスク平面内で光束の重ね合わせを達成する。少なくとも1つの散乱構造が設けられ、これは、2次光源の前又は後に配置された複数の第2の光学小要素を含む。第1及び第2の光学小要素は、同一放射照度分布で照らされた光学小要素が5mmを上回って分離されるように構成される。この構成は、照明システムのマスク平面内で得られる放射照度分布における変動をもたらす場合がある少なくとも1つの散乱構造体と光結合器との間の不要な相互作用を低減する。本発明の第2の態様により、光結合器と少なくとも1つの散乱構造体とを含む照明システムを提供する。散乱構造体は、異なる角度幅を有する矩形の角度分布を生成する複数の小要素を有する。このような散乱構造体は、適切な角度幅を有する角度分布を生成する小構造体を選択することにより簡単に定めることができる半値幅を有するガウス角度分布を生成する。このような散乱構造体は、有利な態様では、光結合器と、光結合器により生成される2次光源を重ね合わせる集光装置との間に配置することができる。本発明の第3の態様により、光源と2次光源を生成する光結合器とを含む照明システムを提供する。第1の散乱構造体が、1つの方向に実質的に矩形の角度分布を生成する。第2の散乱構造体が、2つの直交する方向に実質的にガウス形の角度分布を生成する。このような照明システムは、ステップ-アンド-スキャン式の投影露光装置に必要とされるスリット形状の照明視野を生成するのに特に適している。本発明の様々な特徴及び利点は、添付図面に関連して行う以下の詳細説明を参照してより容易に理解することができる。1.投影露光装置の全般的な構造図1は、投影光束を生成する照明システム12を含む投影露光装置10の非常に簡素化した斜視図を示している。投影光束は、微細な構造体18を含むマスク16上の視野14を照らす。この実施形態では、照明視野14は、ほぼリングセグメントの形状を有する。しかし、照明視野14の他の例えば矩形の形状も考えられている。投影対物レンズ20は、照明視野14内の構造体18を感光層22、例えば、基板24上で堆積されるフォトレジスト上へ撮像する。シリコンウェーハにより形成することができる基板24は、感光層22の上面が投影対物レンズ20の画像平面内に正確に位置するようにウェーハステージ図示せず上に配置される。マスク16は、マスクステージ図示せずにより投影対物レンズ20の対物面内に位置決めされる。後者が1未満の倍率を有するので、照明視野14内の構造体18の最小化像14’が感光層22の上に投影される。投影中、マスク16及び基板24は、Y方向と一致する走査方向に沿って移動する。従って、照明視野14は、照明視野14より大きい構造化区域を連続的に投影することができるように、もう一度マスク16を走査する。このような形式の投影露光装置は、ステップ-アンド-スキャン式ツール又は単にスキャナと呼ばれる。マスク16及び基板24の速度の比率は、投影対物レンズ20の倍率に等しい。投影対物レンズ20により画像を反転された場合、マスク16及び基板24は、図1内矢A1及びA2により示すように、反対方向に移動する。しかし、本発明は、マスク16及び基板24が投影中に移動しないステッパツール内で使用することができる。図示の実施形態では、照明視野14は、投影対物レンズ20の光軸26に対して中央位置にはない。このような軸外れ照明視野14は、投影対物レンズ20、例えば、1つ又はそれよりも多くの切頂鏡を含む対物レンズのある一定の形式に対して必要である場合がある。当然のことながら、本発明は、中央位置に置かれた照明視野を有する照明システム内でも使用することができる。2.照明システムの一般的な構造図2は、図1に示す照明システム12の詳細な子午断面図である。簡潔さを期すために、図2の具体例もかなり単純化されており、かつ縮尺通りではない。これは、特に、様々な光学ユニットが、ごく少数の光学要素だけによって表されることを意味する。実際は、これらのユニットは、実質的により多くのレンズ及び他の光学要素を含むことができる。照明システム12は、図示の実施形態では、ハウジング28、及びエキシマレーザ30として達成される光源を含む。エキシマレーザ30は、約193nm波長を有する投影光を放出する。他の形式の光源及び他の波長、例えば、248nm又は157nmも考えられている。図示の実施形態では、エキシマレーザ30により放出される投影光は、光束が拡大されるビーム拡大ユニット32に入る。ビーム拡大ユニット32を通過した後に、投影光は、第1の光学ラスター要素34に衝突する。第1の光学ラスター要素34は、異なる特性を有する他の光学ラスター要素によって簡単に除去又は交換することができるように、第1の交換ホルダ36内で受け取られる。第1の光学ラスター要素34は、図示の実施形態では、発散が導入されるように各入射光線を偏向させる1つ又はそれよりも多くの回折格子を含む。これは、光が、光学ラスター要素34上の位置毎にある一定の角度範囲で回折されることを意味する。この範囲は、例えば、-3°から3°に及ぶ場合がある。図2においては、これは、複数の発散光38に分割される2つの軸外れ光線38a、38bに対して概略的に表されている。第1の光学ラスター要素34は、従って、僅かに幾何学的光束を増大させ、その後の瞳孔平面内で局所的放射照度分布を修正する。他の種類の光学ラスター要素、例えば、マイクロレンズアレイ又はフェーズ-ステップ又はグレイトーンフレネルレンズアレイをその代わりに又はそれに加えて使用することができる。第1の光学ラスター要素34は、ズームレンズ群46及び対向する円錐面を有するaxicon要素50、52の対48を含む対物レンズ44の対物面42内に位置決めされる。両方のaxicon要素50、52が接触している場合、図2に示すように、axicon対48は、平行な平面を有する板の効果を有する。両方の要素50、52が分離された場合、axicon要素50、52間に間隔があると、光エネルギの半径方向外方へのシフトをもたらす。axicon要素が当業技術においてこのように公知であるので、これらに対しては、更なる詳細説明を割愛する。参照番号54は、対物レンズ44の出口瞳孔平面を示している。光結合器は、全体として56で示されており、図3から図5で以下でより詳細に説明するが、対物レンズ44の出口瞳孔平面54内に又はその近くに位置決めされる。交換ホルダ57内で受け取られる光結合器56は、瞳孔平面54内での角度分布を修正する。同じ角度で瞳孔平面を通過する全ての光線がその後のフーリエ関連の視野平面内の単一の点に収束するので、瞳孔平面54内での角度分布は、直接、このような視野平面内での放射照度分布に変換される。従って、光結合器56のデザインは、放射照度分布及び照明視野14の幾何学的形状上のマスク16に強い影響を与える。照明視野14が図1に示すような湾曲スリットの形状を有する場合、光結合器56の出口側開口数は、非限定的な例として、X方向で0.28から0.35の範囲、及びY方向で0.07から0.09の範囲とすることができる。光結合器は、各々が光束を放出する複数の2次光源を生成する。光結合器56の前後には、58及び60でそれぞれ示す散乱板が配置され、その構造及び機能を以下で更に説明する。2次光源から出る投影光は、簡潔さを期すために、単一のレンズ要素により図2に表す集光装置62に入る。集光装置62の入口瞳孔平面は、対物レンズ44の出口瞳孔平面54と一致する。集光装置62は、2次光源により視野絞り66が位置決めされる集光装置62の視野絞り平面64内で放出される光束を重ね合わせる。視野絞り対物レンズ68は、マスク16が位置決めされるマスク平面70に視野絞り66を撮像する。視野絞り66は、少なくとも、Y方向に沿って延びる短い側面側に向けて照明視野14の明確な縁部を保証する。視野絞りは、例えば、ブレードの2つの直交する対により達成することができる。しかし、EP0952491A2に開示されているような調節可能な絞りデバイスの更に別の使用も可能である。3.光結合器以下では、照明システム12内で使用される光結合器56の一般的構造及び機能を図3から図5を参照してより詳細に説明する。図3は、斜視図で光結合器56及び散乱板を示し、図4及び図5は、それぞれ、X-Z面及びY-Z面に平行な断面で光結合器56を示している。3.1.光結合器の一般的構造本出願人に譲渡された国際特許出願WO2005/078522A2からそのようなものとして公知である光結合器56は、第1の結合器部材561及び第2の結合器部材562を含む。第1の結合器部材561は、X方向に沿って整列した平行な縦軸を有する円筒形マイクロレンズ561Yの第1のアレイを含む。従って、第1のマイクロレンズ561Yは、Y方向にのみ背面焦点距離f1で正の屈折力を有する。第1の結合器部材561は、Y方向に沿って整列した平行な縦軸を有する第2の円筒形マイクロレンズ561Xのアレイを更に含む。第2のマイクロレンズ561Xは、X方向にのみ背面焦点距離f2<f1で正の屈折力を有する。第2の結合器部材562は、第1の結合器部材561の同一コピーであるが、X軸又はY軸周りに180°回転した後に取り付けられる。従って、第3のマイクロレンズ562Xは、第2のマイクロレンズ561Xに対向しており、第4のマイクロレンズ562Yは、第2の散乱板60に対向している。図4及び図5で分るように、焦点距離f1とf2及び結合器部材561、562の間の距離は、第2のマイクロレンズ561Xにより生成された焦線が、第3のマイクロレンズ562Xの頂点上に位置するように選択される。第3のマイクロレンズ562Xが第2のマイクロレンズ561Xと同じ焦点距離f2を有するので、これは、第3のマイクロレンズ562Xの焦線が、第2のマイクロレンズ561Xの頂点上に位置することを意味する。図4においては、この相互の対応は、破線で描かれた光線81により例示されている。図5から、同じ状況が、それぞれ、等しい焦点距離f1を有する第1及び第4のマイクロレンズ561Y、562Yに適用されることが明らかになる。焦線が第3及び第4のマイクロレンズ562X、562Y上に位置しており、これらのマイクロレンズの内側には位置していないので、マイクロ-マイクロレンズ又はマイクロ-マイクロレンズを支持する基板の材料を破壊する可能性がある非常に高い光強度は起こるはずはない。図3から図5においては、マイクロレンズ561Y、561X、562Y、562Xは、平面裏面を有する小要素として表されており、かつ隣接マイクロレンズの平面裏面に装着されている。しかし、結合器部材561、562は、通常は、別々の小要素からは組み立てられず、より効率的な方法で、例えば、本来は平面かつ平行の表面を有する基板を成形加工又は機械加工することにより製造されることになる。結合器部材561、562を製造するのに使用される技術は、1mm又は数mmの範囲とすることができるマイクロレンズ561X、561Y、562X、562Yのピッチに依存する。しかし、図6を参照して以下に更に説明する理由から、1mmよりも小さい、例えば、500μmのピッチを有することが望ましいであろう。ピッチは、一般的に、屈折力を有する方向に沿ったマイクロレンズの幅を示している。円柱レンズの場合、ピッチは、縦方向の範囲で垂直なマイクロレンズの寸法に等しい。これらの所見から、図3から図5の具体例は、大幅に単純化されたものであり、かつ縮尺通りではないことが明らかである。例えば、結合器部材561、562が25mmの側面寸法を有し、マイクロレンズのピッチが500μmに等しい場合、各アレイは、50個のマイクロレンズから成る。しかし、X方向に屈折力を有するマイクロレンズ561X、561Xのピッチ及び数は、Y方向に屈折力を有するマイクロレンズ561Y、561Yのピッチ及び数と等しくなくてもよいことは理解されるものとする。伝送損を小さく保つために、図3から図5に示す実施形態の結合器部材561、562は、193nmという想定される波長に対して溶融石英SiO2よりも高い透過率を有するCaF2で製造される。193nmよりも小さい波長が使用される場合、溶融石英は、殆ど不透明であり、そのためにCaF2又は類似の蛍石材料を使用すべきである。CaF2は、機械加工し難い脆い材料であるので、基板の厚みは、約2mmを超えるべきである。マイクロレンズ561Y、561X、562Y、562Xのピッチが1mm未満に保たれるものとし、かつマイクロレンズ561X、562Xの屈折力が、約0.2を超える開口数NAを生成するのに十分なものとする場合、図3から図5に示す実施形態において当て嵌まるように、Y方向、X方向、X方向及びY方向に屈折力を有する一連のマイクロレンズアレイは、唯一の可能な方法である。他の構成、例えば、米国特許第4、682、885号Aに開示されている構成では、全ての上述の条件を同時に満たすことはできないであろう。光結合器の構成は、様々な種類で変る場合があることは理解されるものとする。例えば、マイクロレンズ561Y、561X、562Y、562Xは、凹状に又は非球面に成形することができる。非球面マイクロレンズは、例えば、マスク平面70内で特別な不均一な放射照度分布、例えば、放射照度が中心部よりも縁部で僅かに高い分布を達成するのに使用することができる。より具体的には、照明視野の縁部での放射照度は、照明視野の中心より少なくとも0.5から0.8だけより高いとすることができる。このような不均一な放射照度分布は、縁部から出る光が、中心から出る光よりも投影対物レンズ内でより高い損失を発生する場合に補正をもたらすものである。更に、上述した米国特許出願第2005/0018294号A1に説明されているように、隣接したマイクロレンズが異なる場合は有利であると考えられる。凸状に湾曲した円柱レンズとして形成されるマイクロレンズを使用する代わりに、他の構成、例えば、円筒形又は円環形状を有するマイクロレンズの2つのアレイを交差させることによって得られる回転対称マイクロレンズ又はマイクロレンズのアレイを含む実施形態を考えることができる。第1の散乱板58に対して、類似の構成を図33及び図36で以下に示している。それは別として、X方向及び/又はY方向で屈折力を達成するマイクロレンズの代わりに回折光学要素を使用することも考えられている。3.2.光結合器の機能以下では、光結合器56の機能に対して簡単に説明する。この投影光ビームが全ての光線がZ軸に平行であるように完全に平行化された場合、第2の結合器部材562は不要とすることができる。次に、第1の結合器部材561だけが、複数の2次光源を生成する。第1の結合器部材561に衝突する光ビームは、マイクロレンズ561X、562Xの屈折力がX方向の方がより大きいために、Y方向に向けてかつ大きく偏向される。従って、各2次光源により、歪像角度分布が生成される。しかし、光結合器56に衝突する光は、通常、完全には平行化されず、小さな発散を有する。第2の結合器部材562がなければ、従って、この発散により、マスク16上の照明視野14の不要なシフトをもたらす場合がある視差が発生するであろう。第2の結合器部材562は、たとえ衝突する光が完全に平行化されなくても視差が起こらないことを保証する。図4から図5から明らかになるように、焦線が、第2の結合器部材562のマイクロレンズ562X、562Yの頂点上に位置するので、第2の結合器部材562は、光結合器56上に衝突する平行光線に対して殆ど影響を与えない。Z軸に平行ではなく、ある一定の角度で光結合器56に衝突する光線に対しては、第2の結合器部材562のマイクロレンズ562X、562Yは、これらの光線がテレセントリック束に変換されることを保証する。図6は、概略図により、光軸26に沿ってマスク側から見た第2の結合器部材562内で生成される2次光源82を示している。それらの2次光源82だけが、光結合器56に衝突する投影光ビームに実際に露出されるマスク16の照明に寄与する。この投影光ビームの形状は、照明設定に依存する。例えば、最大干渉パラメータσによる従来の照明設定においては、光路において光結合器56に先行する光学要素は、図6に80で示す円形の断面を有する投影光ビームを生成する。理想的には、全ての2次光源82は、同じ角歪像作用による分布を有する光束を生成する。その後のフーリエ変換視野平面、すなわち、視野絞り平面64又はそれに結合されたマスク平面70において、これらの角度分布は、放射照度分布に変換される。2次光源により生成される角度分布が、全ての角度が同じ放射照度で起こる矩形分布である場合、完全に均一な放射照度分布が、マスク平面70内で得られる。しかし、製造公差及び他の理由のために、2次光源82により生成される角度分布は、通常、完全に同一というわけではない。それでも、2次光源82の角度分布が統計学的に異なる場合、均一な放射照度分布が、マスク平面70内で得られる。2次光源82の数が十分に大きい場合、各2次光源82により生成される全ての不均一な放射照度分布は、マスク平面70内で重ね合わされ、かつ放射照度変動は、2次光源82により生成される全ての放射照度分布の重ね合わせにより達成される平均化効果のために相殺される。このことから、多数の2次光源を有することは、それによって上述の平均化効果が改善するので有利であることが明らかになる。多数の2次光源及び従ってマイクロレンズ561X、561Y、562X、562Yの小さなピッチを有する別の利点は、照明システム12、及び特に第1の光学ラスター要素34、ズーム対物レンズ46、及びaxicon要素50、52の対48により、広範な異なる照明設定を生成することができるという点である。これには、光結合器56上に衝突する光ビームの断面がかなり異なる場合があることが伴っている。2次光源の数が少なく、2次光源間にかなりの間隙がある場合、対称照射設定が存在する場合があり、能動、すなわち、照らされた2次光源は、クリアな開口80にわたって対称的には分配されない。それによってマスク16上に衝突する投影光の不要な非対称角度分布が発生する場合がある。これとは対照的に、多数の小さなかつ高密度に配置された2次光源がある場合、この種の有意な非対称性の確率が低減される。3.3.光結合器の代替構成以下では、マイクロレンズアレイ及び散乱板58、60の様々な代替構成を図7及び図12を参照して説明する。その後の実施形態の間では、対応する部品は、1000だけ増大した参照番号により示されており、必ずしも改めて触れるとは限らない。図7は、側面図で図3の光結合器56及び散乱板58、60を示している。この図及び図8から図12の類似の図においては、X方向に沿って延びる円筒形マイクロレンズは、縦線で影を付けられており、一方、Y方向に延びる円筒形マイクロレンズは、横線で影を付けられている。図7に示す実施形態は、第1の結合器部材561が、調節装置561Aの助けを借りて調節することができるという点において、図3から図5に示す実施形態と異なっている。調節装置561Aは、概略的にのみ示されており、かつ例えばマイクロメートルネジ又は圧電素子を使用して駆動することができる。調節装置561Aにより、Z軸に沿って結合器部材561、562間の距離を調節することができる。第1のマイクロレンズ561Yにより生成された焦線は、次に、第4のマイクロレンズ562Yの頂点上に正確に位置決めすることができる。代替的に、第2のマイクロレンズ561Xにより生成された焦線は、第3のマイクロレンズ562Xの頂点上に正確に位置決めすることができる。図8は、最後の2つのマイクロレンズアレイが逆の順序で配置される代替的な実施形態を示している。従って、Y方向に屈折力を有する第3のマイクロレンズ1562Yは、ここで、第1の結合器部材1561の第2のマイクロレンズ1561Xに対向している。異なる長さ及び様式を有する矢印により図7から図12に示す上述の焦線特性を維持するために、第1の結合器部材1561は、かなり肉厚でなければならず、一方、第2の結合器部材1562は、かなり薄くなければならない。従って、結合器部材1561、1562の製造を容易にするために、マイクロレンズの支持体は、CaF2よりも脆くない材料、例えば、溶融石英で製造すべきである。図8に示す実施形態は、第2の結合器部材1562のための第2の調節装置1562Aを有する。結合器部材1561、1562毎に独立した調節装置を有することにより、結合器部材1561、1562間の距離間隔だけでなく、散乱板58、60に対する結合器部材1561、1562間の距離を調節することができる。図9は、第1のマイクロレンズ2561Yと同じ支持体上ではなく、例えば、CaF2で製造することができる支持体上で第2のマイクロレンズ2561Xが形成されるという点においてのみ、図7に示す実施形態と異なる実施形態を示している。調節装置2562Aの助けを借りて、第2のマイクロレンズ2561Xは、共通の第3の支持体上に配置された第1のマイクロレンズ2561Y、及び第3及び第4のマイクロレンズ2563X、2563Yとは独立に、Z方向に沿って調節することができる。別々の調節装置2561A、2562A、2563Aに装着される3つの結合器部材を有することにより、対応するマイクロレンズアレイの各対間の距離を独立して調節することができる。従って、3つの調節可能なマイクロレンズアレイを有することは、できるだけ複雑性がなくて完全な調節可能性を必要とする場合は最適な解決法である。図10に示す実施形態は、第1の散乱板58が、ここでは第1のマイクロレンズ3561Yと3562Yの間に配置されるという点において、図9に示す実施形態と異なっている。散乱板58は、単に全体として移動させることができ、又はその機能は、図13に示すように、第2のマイクロレンズ3562Xが形成される基板の反対側に散乱構造体58’を形成することにより達成することができる。図11は、調節装置4561A、4562A、及び4563Aの助けを借りて、独立して調節することができる3つの結合器部材を有する光結合器の別の実施形態を示している。この実施形態では、Y方向に屈折力を有する第1及び第2のマイクロレンズ4561Y及び4562Yは、互いに対向するように異なる基板上に配置される。第3及び第4のマイクロレンズ4562X及び4563Xも、互いに対向している。第2のマイクロレンズ4562Y及び第3のマイクロレンズ4562Xは、同じ基板上に形成され、従って、第2の調節装置4562Aにより共通に調節することができる。ここで、結合器部材4561、4562、及び4563間の距離は、第2のマイクロレンズ4562Y及び第4のマイクロレンズ4563Xの後ろの焦線が共通面4587内に位置決めされるように選択される。この平面4587は、次に、集光装置62により視野絞り平面64にフーリエ変換することができる。当然のことながら、この実施形態では短い焦点距離を有する第4のマイクロレンズ1562Xが、長い焦点距離を有する第3のマイクロレンズ1562Yの後で位置決めされるので、類似の特性は、図8に示す実施形態で達成することができる。図12は、図7に示す実施形態と類似の実施形態を示している。しかし、この実施形態では、第1の散乱板58は、光結合器の前ではなく結合器部材5561、5562の間に位置決めされる。4.第1の散乱板以下では、第1の散乱板58に関する一般的機能及び様々な実施形態をより詳細に説明する。当然のことながら、これは、図7から図12に示す光結合器56の他の実施形態にも当て嵌まる。しかし、簡潔さを期すために、以下の所見は、図3から図6に示す実施形態だけに触れるものである。4.1.第1の散乱板の一般的機能第1の散乱板58の1つの機能は、光源30により及び、挿入された場合には、恐らくは第1の光学ラスター要素34により生成される小さな幾何学的光束を光結合器56のより高い幾何学的光束に適応させることである。これは、光結合器56が製造されている材料を破壊する可能性がある第2の結合器部材562中の高い光強度を防ぐ有利な効果を有する。この点に対しては、第1及び第2のマイクロレンズ561Y、561Xにより生成された焦線は、それぞれ、第4のマイクロレンズ562Y及び第3のマイクロレンズ562Xの頂点上に、かつこれらのマイクロレンズの内側ではなく位置するが、それでも、高い光強度が頂点の直近で発生する場合があることに注意すべきである。第1の散乱板58は、第1の統合部材に衝突する投影光が、狭い焦線が図4及び図5に示すように回避されるように、十分な発散を有することを保証する。理想的には、第1の散乱板58は、マイクロレンズ561Xを通過する光が第2の結合器部材562内の第3の対応するマイクロレンズ562Xを完全に照らすように第2のマイクロレンズ561Xに適応される。数学的には、この条件は、以下により説明することができる。0.5D/2f2-NApre<NASC<D/2f2-NApreここで、Dは、第2のマイクロレンズ561Xのアレイの直径であり、NASCは、第1の散乱板58の開口数であり、NApreは、その上に衝突する光の開口数である。これを図13に図4と類似の図で示している。この図においては、散乱要素58に衝突する投影光84が低い発散を有することを示している。第1の散乱板58がなければ、投影光84は、図4に示すように、第3のマイクロレンズ562Xの頂点の第2のマイクロレンズ561Xにより集束される。しかし、第1の散乱板58は、第2のマイクロレンズ561Xを通過する光が、対応する第3のマイクロレンズ562Xの頂点上で集束されなくて曲面全体に分配されるような範囲で発散を増大する。スキャナ形式の投影露光装置においては、マスク16上で照らされる視野14は、高いアスペクト比を有する。これは、走査方向Y方向に沿った視野14の寸法がX方向に沿ったその寸法よりも遥かに短いことを意味する。投影光を遮蔽するいかなる絞りもない場合、照明視野のアスペクト比は、瞳孔平面54内に発生するX及びY方向の投影光の最大角度により決まる。これは、瞳孔平面54を通過する投影光が、Y方向で小さな発散、X方向でより大きい発散を有するべきであることを意味する。このような理由で、第1及び第4のマイクロレンズ561Y、562Y、561X、562Xの第1の焦点距離f1は、第2の焦点距離f2及び第3のマイクロレンズよりも大きい。図13に示すように、第1の散乱板58が更に発散を増大するので、第1の散乱板58によりX及びY方向で導入された発散の量は、光結合器56により導入される発散に慎重に適応させるべきである。そういう理由から、第1の散乱板58により導入される発散は、通常、Y方向よりX方向の方が高い。非常に大きいアスペクト比を有する照明視野14の場合、第1の散乱板は、発散の増大がX方向だけであり、Y方向ではない又は、実質的にY方向ではないように設計することさえ可能である。図14は、第1の散乱板58を横断した後の投影光の角度分布を例示するグラフを示している。図14で分るように、X方向内での角度分布は、実質的に矩形である。これは、最大角度αmaxより小さい絶対値を有する全て角度が、同じ強度で発生することを意味する。しかし、理想的な第1の散乱板58でさえ、このような矩形の角度分布は、通常、レーザとして達成される光源30がそれ自身角度分布を有する投影光を生成するので得ることができない。レーザ光源の場合、この分布は、結果的に最大角度±αmaxで滑らかな勾配が得られるガウス分布を有する。同じ理由から、光は、たとえ第1の散乱板58が発散をY方向内でこのように増大しなくてもY方向内で小さな角度分布を有する。この場合、Y方向内での角度分布は、レーザ光源により生成されるガウス角度分布により示される。第1の散乱板58が強力な歪像作用による効果を有し、すなわち、X及びY方向で異なる範囲で発散を増大させる場合、むしろ光結合器56の前で接近して位置決めすべきである。好ましい実施形態では、第1の散乱板58と光結合器の間の距離zは、20mm未満である。第1の散乱板58の別の重要な機能は、2次光源82を大型化することである。この大型化は、2次光源がX方向で大型化するように第3のマイクロレンズ562Xの方がここで完全に照らされるということによる。Y方向で2次光源が大型化するのは、第1の散乱板58により発散がY方向でも増大する場合だけである。図15は、図6と類似の図において、歪像作用による角度分布を生成する第1の散乱板58で得られる2次光源82’を示している。図6に示す2次光源82と比較すると、2次光源82は、Y方向に沿って隣接した2次光源間に延びる間隙が殆ど消えるようにX方向にここでは広げられている。2次光源82が完全に瞳孔を充填するほど、マスク平面70内で得られる角度分布は、連続的ものになる。以下でより詳細に説明する第2の散乱板60は、瞳孔充填率を更に強化することができる。節4.3においては、第1の散乱板58の様々な実施形態を説明することになるが、これらは、第1の結合器部材561の第1及び第2のマイクロレンズ561Y、561Xが、ランダム又はランダム化された角度分布を有する投影光によって横断されることを保証するものである。その結果、図15に示す2次光源82’は、少なくとも一般的には、異なる角度分布、及び従って異なる放射照度分布をマスク平面70内で生成する。しかし、第1の散乱板58により生成されるランダム又はランダム化された角度分布のために、マスク平面70内でのこれらの放射照度分布も統計学的に異なる。マスク平面70内での多数の統計学的に変化する放射照度分布を重ね合わせると、その結果、殆ど完全に均一である全体的な放射照度分布が得られる。これらの所見から、第1の散乱板58が、実質的にマスク平面70内での放射照度分布に寄与し、そういう理由から、その光学的性質は慎重に設計すべきであることも明らかである。一般的に、第1の散乱板58は、散乱効果が光ビームが散乱板に衝突する位置から実質的に独立しているように設計すべきである。これには、角度分布全体を生成する小構造体が、第1の結合器部材561内に含まれたマイクロレンズ561Y、561Xのピッチと比較すると、小さいものであるべきである。このような関係は、小構造体のピッチが、20よりも小さく、好ましくは対応する第1又は第2のマイクロレンズ561Y、561Xのピッチ10よりも小さい場合に達成されると考えられる。原則として、例えば、1つ又は2つのエッチング又は研削面を有する従来のガラスディスクとして第1の散乱板58を達成することができる。このような従来の散乱板は、角度分布が、完全にランダムにその表面にわたって異なるという利点を有し、これは、通常、上述の理由から所望される効果である。これらの従来の散乱板には、光学的性質が、それほど良好には特定の要件に合わせることができないという欠点がある。例えば、図14に示すような強い歪像作用による角度分布をX及びY方向で得ることは、通常は不可能である。代替的に、従来の散乱板は、X及びY方向の両方で非常に広い角度分布を生成する。従って、高いアスペクト比を有する照明視野14を得るために、かなり多くの光を視野絞りにより阻止すべきである。そういう理由で、光学的性質を設計により正確に決めることができるように第1の散乱板58をどのように達成することができるかに関して様々な代案が提案されている。それでも、第1の散乱板58は、光結合器56の規則的な特徴部との不要な相互作用を防ぐために必要である特定のランダム化された又は慎重に選択された規則的特性を有するものとする。4.2.第1の散乱板と光結合器の間の不要な相互作用散乱板58の様々な実施形態をより詳細に説明する前に、散乱板58と光結合器56の間の考えられる相互作用を説明する。4.2.1.重ね合わせ図16は、図13の拡大切取図であり、かつ第1の結合器部材561の第1の散乱板58の小構造体58X及び第2のマイクロレンズ561X間の光伝播を概略的に示している。簡潔さを期すために、第1のマイクロレンズ561Y及び小構造体58Xの支持体は、これらの要素が、X方向の投影光の角度分布上に影響を与えないので示していない。小構造体58Xは、この実施形態では、Y方向に沿って延びる縦軸を有する円筒形マイクロレンズにより形成される。各小構造体58Xは、破線85で示す異なる光束を生成する。マイクロレンズ561X及び小構造体58Xのピッチは、それぞれpin及びpscで示している。この特定的な実施形態では、2つのマイクロレンズ561X毎に、5つの小構造体58Xの1シーケンスが繰り返されるように、psc=2/5pinである。第1の散乱板58と第2のマイクロレンズ561Xの間の距離zが大きいほど、第2のマイクロレンズ561X上で重なり合う異なる光束85の数が増大する。これを陰影の異なる程度により図16に例示する。この重ね合わせの結果として、X方向に沿って周期的な放射照度変動がある。変動の量は、小構造体58Xにより生成される単一の光束の放射照度がz2と共に減少するので、距離zの増大と共に減少する。これらの変動の結果として、マイクロレンズ561Xに衝突する光の角度分布も異なるであろう。図16に示す上方の2つのマイクロレンズ561Xには、対称形であるが異なる放射照度及び角度分布が発生する。関係psc=2/5pinの結果として、第2のマイクロレンズ561Xの1つ置きのものには、同じ放射照度及び角度分布が発生し、従って、1つ置きの2次光源82は、等しいものになる。光源82の2つの異なる形式だけが瞳孔平面54内で存在する場合、マスク平面70内での異なる放射照度分布には、実質的に均一な放射照度分布が達成されるような範囲では平均化効果がない。図17は、図10及び図12に示す実施形態において該当するような第1の散乱板58が結合器部材561の前ではなくて後に配置される実施形態を示している。この図から、第2のマイクロレンズ561X及び小構造体58Xのシーケンスを逆にしても、第1の散乱板58上の放射照度及び角度分布は、5つの小構造体58X毎に繰り返されるので、この問題が解決されないことが明らかである。従って、小構造体58X及び第2のマイクロレンズ561Xの同一構成は、依然として非常に頻繁に繰り返される。各々の同一構成は、同じ2次光源を生成するので、上述の平均化効果は小さい。例えば、より大きい小構造体ピッチpsc=200μmでさえ、同一構成が繰り返される期間は、1mmである。4.2.2.タルボット効果光結合器56内でのマイクロレンズアレイ及び第1の散乱板58内での周期的な散乱小構造体の組合せの場合に起こる別の効果がある。周期的な構造は、距離の整数倍でフレネル回折を通じて自然に正確な画像を形成することは公知である。この自己結像現象は、タルボット効果と呼ばれる。更に、複数の位相変換フレネル画像が、フラクショナル-タルボット距離で生成される。タルボット現象は、周期的な光学要素の背後のあらゆる平面で、ある一定の周期性が観察されることを示している。タルボット効果自体は、周期的な構造体から特定の距離で高いコントラストを有する実質的な干渉縞として現れる。これらの距離は、タルボット距離znと呼び、Zn=nZTにより示され、ここでは、ZT=2p2/λである。ここで、λは入射光の波長、pは構造体の周期、Nは正の整数である。小さなコントラストを有する干渉縞も、ある一定の僅かなタルボット距離で、例えば、2/9ZT又は3/14ZTで観察される。図18は、タルボット距離ZT及び2ZTで、また、いくつかの僅かなタルボット距離でのタルボット干渉縞を概略的に示している。タルボット効果は、回折に基づくものであるので、干渉度は、100近くである場合に最も顕著である。第1の散乱板58の1つ又はそれよりも多くのピッチを照らすレーザ光線は、通常、部分干渉性である。投影光の干渉度は、照明システム12において各点に存在する斑点コントラストに基づいて推定することができる。通常、斑点コントラストは、10と20の間の範囲である。これは、第1の散乱板58の後でタルボット距離で顕著なタルボット干渉縞を観察するのに十分である。高コントラスト干渉縞は、第1の散乱板58から測定した60mm又は90mm台の距離zで起こる場合がある。これらの距離では、4.2.1で上述の重ね合わせ効果が、少なくとも100μmよりも小さい散乱小構造体pscに対しては無視することができるものである。第1の散乱板58と第1の結合器部材561の間の距離が高コントラスト干渉縞が起こる僅かなタルボット距離に等しいか又は近い場合、一方では、周期的なタルボット干渉縞、他方では、第1及び第2のマイクロレンズ561Y、561Xの周期的な構成の結果であるモアレ模様が観察される。各2次光源82により生成される放射照度分布がマスク平面70内で重なり合うが、これらのモアレ干渉模様は、それでも、マスク平面70内で放射照度分布の不均一性を導入する場合がある。4.3.異なるデザイン手法以下では、節4.2で上述の不要な相互作用を避けるために使用することができる異なる手法を説明する。4.3.1.距離タルボット推定パターンと第1の結合器部材561内に含まれるマイクロレンズのアレイとの間の相互作用により引き起こされるモアレ模様を避けるために、第1の散乱板58と第1の結合器部材561の間の距離zは、タルボット距離、又は高い放射照度コントラストが観察されるいかなる僅かなタルボット距離とも一致しないように注意すべきである。適切な距離の範囲は、様々な整数距離又は僅かなタルボット距離内でのタルボット干渉縞のコントラストを計算するシミュレーションプログラムの助けを借りて判断することができる。4.3.2.ピッチ選択図19は、図16に類似の更に別の拡大図であり、第1の手法、すなわち、どのようにすれば小構造体58X及び第2のマイクロレンズ561Xの頻繁過ぎる同一構成を避けることができるかを示している。この実施形態では、第2のマイクロレンズ561X及び小構造体58Xは、それぞれ、ピッチpin=500μm及びpsc=47μmを有する。47は、凹状マイクロレンズ58Xにより生成される放射照度及び角度分布が、47500μmm=23.5mmとなった後に限り、第2のマイクロレンズ561X上で繰り返されるような500に対する素数である。図20は、例示的な目的に限って、第1のグリッド561X’の10回の周期にわたって第2のグリッド58X’の線が、常に第1のピッチ561X’の単一の周期に対して異なる相対位置を有するように選択されたピッチを有する第1のグリッド561X’及び第2のグリッド58X’1の上面図を示している。4.3.3.散乱板内での不規則な小構造体小構造体58X及び第2のマイクロレンズ561Xの頻繁な同一構成を避ける別の手法は、不規則な小構造体を用いることである。不規則性は、同一小構造体の構成に関するものであり、及び/又は異なる小構造体内で現れる場合がある。この手法は、節4.3.2によるピッチ選択と組み合わせることができることに注意すべきである。上述の実施形態では、第1の散乱板58の小構造体58Xは、円筒形マイクロレンズとして達成される。しかし、1つ又は2つの方向での発散は、回折光学要素の助けを借りて生成することができる。以下の節においては、第1の散乱板58に関する屈折的デザイン及び回析的デザインの様々な実施形態を説明する。4.3.4.屈折的デザイン図21及び図22は、それぞれ、斜視図及び断面図でX方向に沿った第1の散乱板158の実施形態を示している。第1の散乱板158は、両方ともY方向に沿って延びている交互の凸面円筒形マイクロレンズ1581及び凹状円筒形マイクロレンズ1582のアレイを含む。散乱板158は、従って、X方向にのみ発散を増大させる。一定の曲率を有する円筒形状により、角度分布は、少なくとも良好な近似としてX方向に矩形である。発散がY方向でも増大されるものとする場合、第1の散乱板158の反対側に、ただし、マイクロレンズの直交方位で、マイクロレンズ1581、1582の類似したアレイを達成することができる。原則として、節5.2.1で以下に更に説明するように、直交以外の方位を有するか、交差したマイクロレンズを散乱板の片側に有するか、又はマイクロレンズの各アレイに別々の支持体を設置することも可能である。第1の散乱板158により生成される発散が、X方向よりY方向の方が小さいものとする場合、X方向で発散を生成するマイクロレンズの曲率は、Y方向で発散を生成するマイクロレンズの曲率より小さくなければならない。マイクロレンズ1581、1582は、光結合器56内に含まれたマイクロレンズの製造と類似の方法で基板1557を成形加工又は機械加工することにより形成することができる。図22と同様にX方向に沿った断面を示す図23から図32を参照して、第1の散乱板の様々な代替的な実施形態をここで説明する。当然のことながら、これらの実施形態においても、直交するマイクロレンズの第2のアレイは、発散がY方向内で同様に増大されるものとする場合、支持体の反対側、支持体の同じ側、又は異なる支持体上に達成することができる。更に、発散をX方向で生成するマイクロレンズ及び発散をY方向で生成するマイクロレンズに対して異なるデザインを有することも可能である。図23は、同じ形を有する凸面円筒形マイクロレンズ2581だけを含む第1の散乱板258を通した断面を示している。図24は、同じ形を有する凹面円筒形マイクロレンズ3582だけを含む第1の散乱板358を通した断面を示している。図25は、図21及び図22に示す散乱板158と類似である第1の散乱板458を通じた断面を示している。しかし、この実施形態では、凸面円筒形マイクロレンズ4581は、Y方向に沿って延びる矩形の平面区域4583によって互いから分離される。この分離は、隣接するマイクロレンズ4581が交わる場所で鋭い縁部が存在しないことを保証する。このような縁部は、角度分布上に不要な影響を与えることが多い。平面区域4583が大きい幅wを有する場合、光のかなりの部分は、実質的に平面に平行な板を横断し、これは、幾何学的光束を増大するものではない。しかし、図示の実施形態では、区域4583の幅wは、小さなスリットのアレイで観察されるものと同様に非常に小さいので光が回折される。より具体的には、幅wは、回折により引き起こされる角度分布が、少なくとも、マイクロレンズ4581により引き起こされる角度分布と実質的に同じであるように決定される。それぞれ、図23及び図24に示す第1の散乱板258、358においては、全てのマイクロレンズは、同一形状を有し、かつ規則的なアレイを形成する。第1の結合器部材561との不要な相互作用を避けるために、マイクロレンズのピッチは、先の節4.3.2に従って慎重に選択すべきである。図26は、複数の異なる凹状円筒形マイクロレンズ5582を含む第1の散乱板558の断面を示している。マイクロレンズ5582は、同一曲率を有するが、異なるピッチp1、p2、...、pnを有する。この実施形態では、隣接したマイクロレンズ5582の間で形成される縦方向の縁部は、第1の散乱板558の基準平面と平行である平面5585内で配置される。マイクロレンズ5582は、異なるピッチp1、p2、...、pnの結果として、実質的に矩形形状を有するが幅が異なる角度分布生成する。マイクロレンズ5582のピッチp1、p2、...、pnがガウス確率分布に従って異なる場合、全てのマイクロレンズ5582の寄与から生じる角度分布全体も、少なくとも実質的にガウス分布を有する。これを図45を参照して以下でより詳細に説明する。ピッチp1、p2、...、pnが、小さな範囲で、例えば、48μmと50μmの間で異なる場合、矩形の角度分布からの振れは小さい。ピッチp1、p2、...、pnの小さな変動でさえも、第1の散乱板と第1の結合器部材561の間の不要な相互作用を低減する疑似ランダム不規則性を導入するには十分である。曲率の中心の高さを慎重に選択することにより、また、ピッチp1、p2、...、pnが非常に小さく、波長λ=193nmで50μmより小さい場合、存在することになる回析効果に影響を与えることができる。このような構成においては、その結果、第1の散乱板558の散乱機能は、上述の設計パラメータを選択することにより共に選択的に決めることができる屈折効果及び回析効果の組合せである。マイクロレンズ5582のアレイは、厳密には周期的でないので、有意なタルボット干渉縞を生成するものではなく、又はタルボット干渉縞のコントラストは大幅に低減される。それによって、マスク平面70内での強度分布は、より均質なものになる。図27は、異なるピッチp1、p2、...、pnを有する凹状マイクロレンズ6582も含む別の第1の散乱板658を通した断面を示している。図26に示す実施形態とは対照的に、隣接したマイクロレンズ間では縦方向の縁部ではないがマイクロレンズ6582の頂点線は、第1の散乱板658の基準平面と平行である共通の平面6685に配置される。これには、隣接したマイクロレンズ6582間の縦方向の縁部が、基準平面と異なる高さで配置され、従って、マイクロレンズ6582が、通常、頂点線に対して対称的に成形されないという効果がある。従って、マイクロレンズ6582は、この実施形態では非対称角度分布を生成する。しかし、マイクロレンズ6582の数が十分に大きい場合、それでも、非常に対称的な角度分布が得られる。また、この実施形態では、ピッチ変動には、第1の散乱板と第1の結合器部材561との間の不要な相互作用を低減し、かつ特にタルボット干渉縞のコントラストを低減するという効果がある。図28は、異なるピッチp1、p2、...、pnを有する凹状マイクロレンズ7582も含む第1の散乱板758を通じた断面を示している。しかし、図26及び図27に示す実施形態とは対照的に、マイクロレンズ7582の頂点も、隣接したマイクロレンズ7582間の縦方向の縁部も、共通の平面に配置されない。これは、散乱板758の疑似ランダム不規則性を更に増大し、それには、第1の結合器部材561に対する不要な相互作用に関して有利な効果がある。疑似ランダム不規則性は、更に、縦軸に沿って様々な幅を有するマイクロレンズ7582’に供給することにより増大させることができる。図29は、この原理を利用する第1の散乱板758’の上面図を示している。ここでは、隣接したマイクロレンズ7582間の全てのあらゆる第2の縁部7587’は、各マイクロレンズ7582’のピッチがY方向内で異なるように、擬似ランダムに湾曲している。この原理は、図21から図28に示す上述の実施形態のいずれにおいても使用することができる。散乱板758’においては、縁部7587’は、図示の上面図では、全て同じ形状を有する。しかし、この形状さえもマイクロレンズ7582’毎に異なる場合がある。言うまでもなく、マイクロレンズ7582’の各々のあらゆる対の間で湾曲縁部7587を有することも可能である。図30は、複数の凸面円筒形マイクロレンズ8581を含む散乱板858の断面を示している。全てのマイクロレンズ8581は、同じピッチpを有するが、マイクロレンズ8581の曲面は、異なる非円形の断面を有する。例示上の理由から、相違点は、図30において誇張さされている。マイクロレンズアレイ内で不規則性を導入するためには、マイクロレンズ8581の曲面のより小さな相違点で十分であると考えられる。図26から図29に示す実施形態と同様に、第1の散乱板858により生成される角度分布は、完全に矩形でなくて縁部で勾配を有する。しかし、非円形の断面を有する円筒形マイクロレンズを使用すると、設計の自由度がかなり増大する。マイクロレンズ8581の曲面を慎重に設計することにより、殆ど全てのあらゆる角度分布を生成するか、マスク平面70内で放射照度分布中に望ましい不均一性を生成するか、又は他の場合には、不要な不均一性を放射照度分布内でマスク平面70内で生成する効果を補正することができる。図31は、複数の凸面円筒形マイクロレンズ9581を含む第1の散乱板958を通した断面を示している。第1の散乱板958は、マイクロレンズ9581が異なる曲面も有するが、全てのこれらの表面が異なる半径r1、r2、...、rnの円形の断面を有するという点で、図30に示す実施形態と異なっている。実質的に矩形の角度分布を得ることを考慮して、図30及び図31に示す両方の実施形態内においては、図26から図28に示す実施形態に関連して表面の形変動を上述のピッチ変動と組み合わせることが有利であると考えられる。図32は、完全にランダム化された表面を有する第1の散乱板1058を通した断面を示している。このような表面は、確率過程段階を伴うある一定の製造工程で得ることができる。例えば、ガラススクリーンを研削及び/又はエッチングしても、この処理内で得られる表面形状は、まさしくその詳細まで制御することはできず、従って、少なくともある一定の限界値内でランダムに異なっている。しかし、このような完全にランダムな表面により生成される角度分布は、常に、少なくとも実質的にガウス形の角度分布であり、それによってこのような第1の散乱板1058の使用は、ガウス分布が所望される用途に制限される。更に、ガウス分布のパラメータは、製造工程において制御し難いことが多い。従って、ガウス角度分布を生成する2次元の疑似ランダム表面を生成するために、それらが確率過程段階を備えた製造工程で得られるランダムな表面により生成されるので、マイクロリソグラフィ処理を用いることも想定されている。このような表面の利点は、全ての製造された散乱板が同一光学的性質を有するように、ガウス分布のパラメータを正確に予測することができるという点である。図33及び図34は、それぞれ斜視図及び断面図で線XXXIV-XXXIVに沿った第1の散乱板1158を示している。第1の散乱板1158は、各々が円環形状を有する複数のマイクロレンズ11581を含む。円環マイクロレンズ11581の曲率は、図示の実施形態では、Y-Z面よりX-Z面において大きい。それは、X方向内で生成される発散が、Y方向内で生成した発散より大きいことを保証する。円環マイクロレンズ11581を使用すると、発散がX方向及びY方向内で生成されるものとする場合、散乱板の両側にマイクロレンズに設置する必要がない。図35及び図36は、上面図及び断面図で線XXXVI-XXXVIに沿った第1の散乱板1258を示している。第1の散乱板1258は、規則的な格子状のアレイ内で配置される複数の凸面球面マイクロレンズ12581を含む。望ましい角度分布によっては、非球面マイクロレンズによる実施形態を使用することができる。各マイクロレンズ12581は、マイクロレンズ12581の光学効果が完全には回転対称でないように、正方形のような外周部を有する。代わりに、角度分布は、4重の対称性を有する。第1の散乱板1258は、多少回転対称の角度分布が所望される用途だけに適切である。このようなデザインは、以下で更に説明するように、特に第2の散乱板60に有利である。4.3.5.回析的デザイン以下では、第1の散乱板58が回析光学構造を含む様々な実施形態を図37から図43を参照して説明する。これらの回析構造体は、発散を少なくとも一方向で増大させる。以下では、実質的に完全な角度分布を生成する1群の回折構造体を回折セルと呼ぶ。単一の回折セルは、従って、節4.3.4で説明する屈折的デザインのマイクロレンズに対応する。回析散乱板により、殆ど全てのあらゆる角度分布を生成することができる。しかし、回折セルにより生成される角度分布は、常に離散的であり、一方、滑らかに湾曲した屈折面により生成される角度分布は連続的である。セルが小さいほど、生成された角度分布は離散的であり、生成された角度分布が離散であるほど、セルは小さい。図37は、複数の回折構造体92を含む回折セルM1の上面図を示している。回折セルのこの形式は、多くの場合にコンピュータ生成ホログラムCGHと呼び、かつ所定の角度分布を少なくとも一方向で生成する。図38aは、少なくとも実質的に回転対称であるフレネルレンズを形成する回折構造体93を含む別のセルM2を示している。図39aは、円筒形フレネルレンズを形成する回折構造体94を含む回折セルM3の上面図を示している。回折セルMが厳密に周期的なアレイ内に配置された場合、節4.2で上述の第1の散乱板58と光結合器56の間の不要な相互作用が生じる場合がある。そういう理由で、回折セルMのアレイは、少なくとも部分的に、ランダム化すべきであり、及び/又は節4.3.2で説明するような適切なピッチ選択を行うべきである。図40は、周期的格子状に配置された複数の回折セルMを含む第1の散乱板1358の概略上面図を示している。回折セルMは、X方向だけに光を散乱させるように想定されている。この方向では、回折セルMのピッチpは、一方では、第1の結合器部材561のマイクロレンズ、他方では、回折セルM間の頻繁な相関関係を避けるために、上述の節4.3.2で説明した原理に従って選択すべきである。図41は、複数の回折セルMを含む第1の散乱板1458の概略上面図を示している。この実施形態では、回折セルMのピッチpは、発散が増大されるX方向に沿って異なる。小さい方の回折セルMの効果は、その中に含まれる回折構造体の種類に依存する。例えば、回折構造体94の構成を変更しなくても図39aに示す回折セルM3の長さが低減される場合、それは、より小さな角度分布を生成することになる。図37に示す回折M1のX方向での長さが低減される場合、角度分布は、同じ幅を有するが、分布は、より離散的になる。図42は、回折セルMのピッチが、列毎に変化の方法が異なる第1の散乱板1558の概略上面図を示している。それによって回折セルMの全体により生成される角度分布の疑似ランダム不規則性が更に増大する。図43は、概略上面図により、等しいピッチを有する複数の回折セルM1、M2、...、M6を含む第1の散乱板1658を示している。従って、セルM1、M2、...、M6は、図40に示す実施形態に類似した規則的な方法で配置される。しかし、この実施形態では、その中で含まれる回折構造体の構成に関する限り、回折セルM1、M2、...、M6は、互いと異なっている。これは、それぞれ、図30及び図31に示す屈折散乱板858及び958に相当するものである。所定のセル構造をスケーリングすることにより異なるセル構造を取得することができる。これは、図31に示す屈折散乱板958内での半径riの増加又は低減に対応する。回折構造体に対して、このスケーリング変換の例を図38bに示している。回折セルM2’においては、回折構造体93’は、図38aに示す回折セルM2の回折構造体93を拡大することによって得られる。異なるセル構造を得る別の手法は、散乱効果が達成されるべき方向に沿って所定のセル構造をシフトさせることである。これを図39bに例示的に示している。ここでは、回折セルM3’は、X方向に沿って回折構造体94をシフトさせることにより、図39aに示す回折セルM3から得られる。これは、図27に示す屈折散乱板658内で達成される時と類似した効果である。セルピッチ及びセル構造に対する提案する変動は、通常、角度分布に影響を及ぼすことに注意すべきである。しかし、これは、望ましい角度分布が回折セルの擬似ランダム化されたアレイで得られるように回折セルMのデザインにおいて考慮することができる。当然のことながら、第1の結合器部材561との望ましくない相互作用を避ける第1の散乱板58のランダムな性質を更に増大するために、特にセルピッチp及びセルコンテンツに関して一部又は全て変動を組み合わせることができる。5.第2の散乱板以下では、第2の散乱板60の一般的機能及び様々な実施形態をより詳細に説明する。5.1.第2の散乱板の一般的機能第2の散乱板60は、以下の機能の1つ又はそれよりも多くを有することができる。第2の散乱板60の1つの機能は、Y方向に沿ったマスク平面70内での放射照度分布が望ましい形状を有することを保証することであると考えられる。これには、第2の散乱板60がY方向に沿ってそれ自体が生成する角度分布を第1の散乱板58もしあれば及び光結合器56により生成されるこの方向に沿った角度分布に適応させることが必要である。Y方向すなわち、走査方向に沿った放射照度分布が矩形である場合、不要な特徴部サイズの変動が、パルス-量子化の結果として起こる場合がある。上述の国際特許出願WO2005/078522でより詳細に説明されているパルス-量子化効果を低減するか又は更に完全に避けるために、放射照度は、放射照度分布の両端で円滑に増加又は低減すべきである。勾配は線形とすることができ、これは、放射照度分布の全体的な台形形状をもたらすか、又は例えば実質的にガウス分布を有することができる。第2の散乱板60の別の機能は、2次光源82により生成される光束間の不要な相関関係を避けることであると考えられる。これは、放射照度分布上で第2の結合器部材562内で回折により引き起こされる悪影響が低減されることを意味する。第2の散乱板60の更に別の機能は、マスク平面70を横断する時の光の角度分布を改善することであると考えられる。このために、光結合器56と集光装置62の間に第2の散乱板60を配置することが好ましい。この位置においては、第2の散乱板60は、2次光源に対するぼけ効果を達成することができるように、瞳孔平面54から何らかの距離を隔てて配置される。2次光源は、隣接した2次光源が瞳孔平面54付近にあるか又は更に重なり合うような範囲でぼけ効果により拡大されることが好ましい。その結果、ある一定の照明設定に有利とすることができる連続的な角度分布をマスク平面70内で得ることができる。第2の散乱板60は、照明システム12のテレセントリック性及び楕円率特性に有利な影響を更に与えることができる。第1の散乱板58と同様に、第2の散乱板60は、角度分布を生成する小構造体の寸法が小さく、好ましくは、光結合器56のマイクロレンズのピッチより20小さいという特性を有するべきである。以下では、Y方向に沿った望ましい放射照度分布は、照明視野14の望ましいアスペクト比を保証する半値幅を有するガウス分布を有するように想定される。上述のように、放射照度分布のこのような形状は、パルス量子化効果の低減に関して有利である。主に光結合器56及び散乱板58、60の組合せでこのような放射照度分布を生成することができる。これは、例えば、階調度吸収フィルタ要素を使用して光を遮蔽する必要がないことを意味する。どのようにするとY方向に沿ったガウス放射照度分布を得ることができるかの可能な実現化を節5.2で説明する実施形態を参照して以下に説明する。しかし、X及びY方向で2次光源を拡大することには、第2の散乱板60もX方向で発散を増大させることが必要である。これは、それ自体、X方向に、すなわち、走査方向に垂直に非矩形の放射照度分布が発生するために望ましくないものである。X方向に沿った放射照度分布の側面縁部での滑らかな勾配は、例えば、視野絞り66を使用して阻止すべきである。光損失が小さく保たれるものとする場合、第2の散乱板60は、第1の散乱板58に類似した歪像作用による散乱効果を有するべきである。このような第2の散乱板60は、X方向内で2次光源を拡大しないので、一方ではマスク平面70内での実質的に連続的角度分布実質的に有すること、及び他方では小さな光損失を有することの間で交換条件を見つけなければならない。ここでは、2次光源は、X及びY方向で増大されるべきであると仮定される。この目的のために、第2の散乱板60は、図44で例示するように、回転対称であってガウス分布を有する角度分布を生成する。5.2.異なるデザイン手法以下では、第2の散乱板60の異なるデザイン手法を図45から図49を参照して説明する。原則として、第2の散乱板は、屈折的デザイン、回析的デザイン、又は屈折効果及び回析効果を組み合わせるデザインを用いて達成することができる。そういう理由で、第1の散乱板58に関連して節4.3.1で上述の全てのデザインを第2の散乱板60に等しく使用することができる。しかし、屈折的デザインは、第2の散乱板60に対して一般的により好ましいものである。これは、回折性光学要素により、それらの制限された回折効率の結果として、通常は、屈折性光学要素よりも光損失が高くなるからである。以下の注は、屈折的デザインに関連するが、それらはまた、マイクロレンズが適切な回折セルで置き換えられた場合には、回折に関する注にも適用される。2次元の角度分布が、図44に示すように生成されるものとする場合、以下の手法を企図すべきである。5.2.1.異なる側での2つのマイクロレンズアレイ2次元の角度分布は、基板の片側に平行なマイクロレンズの第1のアレイ、及び反対側に垂直なマイクロレンズの第2のアレイを配置するにより、更に上述したように得ることができる。代替的に、アレイは、2つの異なる基板上に形成することができる。いずれの場合でも、各アレイの設計パラメータを慎重に選択することにより、完全に互いに独立に各方向に対して散乱効果を判断することができる。図45を参照して以下に説明するように、ガウス角度分布を生成するために近似を用いることができる。第2の散乱板60は、異なる角度幅の矩形の角度分布を生成する複数のマイクロレンズを含む。角度幅は、中心角度α0=0°付近のガウス確率分布で異なる。次に、異なる幅を有する全ての矩形の角度分布を重ね合わせると、その結果、ガウス分布を有する全体的な角度分布が得られる。4つの異なる矩形の角度分布AD1、AD2、AD3、及びAD4に対してこれを図45に例示する。マイクロレンズの枚数が多いほど、ガウス角度分布に対する近似は、良好なものになる。走査方向に沿って、図45に示す段付きプロフィールを更に平滑化するために、マイクロレンズの2つのアレイの直交方位からずれることが有利であろう。例えば、両面上のマイクロレンズは、89°と80°の間の角度を形成することができる。マイクロレンズのアレイが異なる基板上に配置された場合、基板は、一方又は両方の基板が、マニピュレータの助けを借りて光軸26と同軸の又は少なくともそれと平行な軸の周りに回転することができるように配置することができる。次に、マイクロレンズアレイの間の角度を調節することができる。90°からの2つのマイクロレンズアレイ方位の偏位には、一方のアレイが他方のアレイの方向に沿って一部分を有する角度分布を生成するという効果がある。この部分により、その結果、平滑化作用が得られる。数学的には、その結果は、このプロフィールの投影による図45に示すような段付きプロフィールの畳込みである。投影の実際の幅は、2つのマイクロレンズアレイ方位の間の角度に依存し、かつそれは、この角度の余弦に比例するものである。従って、プロフィール投影幅が段階幅に相当するように方位角度が選択される場合、畳み込みは、かなりの平滑化作用を有する。走査方向と平行に整列しないようにマイクロレンズアレイを配置することを考えることができる。マイクロレンズは、小さな波紋を有する角度分布を生成し、かつこれらの波紋が走査方向と平行に整列した場合、単一の点でマスクに衝突する全光エネルギ線量は、相応に変化する。しかし、マイクロレンズアレイが走査方向に平行して整列しない場合、放射照度分布内の波紋も、走査方向に対して傾斜状態である。次に、走査運動により、多くの波紋にわたって平均化効果が得られ、これには、一定の全光エネルギ線量がマスク上の各点により受け止められるという効果がある。それとは別に、アレイが走査方向と平行に整列しない構成には、そうでなければ光結合器56の規則的なマイクロレンズアレイに対する相互作用として起こるであろう不要なモアレ模様が低減されるという利点がある。両方のアレイが1つの基板上に配置された場合、これは、走査方向に対してマイクロレンズアレイの平行な方位を避けるために相応に回転させることができる。両方のアレイが異なる基板上に配置された場合、1つの基板だけを回転させることで十分であろう。しかし、アレイ間の相対角度を維持するために、両方の基板を共通に回転させることができる。マイクロレンズアレイの角位置の調節が必要とされない場合、マニピュレータは不要である。これらの場合、マイクロレンズアレイの望ましい角度位置を保証するマウントに基板を固定して受け取ることができる。5.2.2.片面での2つの交差マイクロレンズアレイ円筒形マイクロレンズの2つのアレイが基板の片側で交差している場合、それによって第1の散乱板1158に対して図33から34を参照して上述したものに類似した構成が得られる。この実施形態に示すマイクロレンズ11581は、円環状表面を有するが、2つの円筒面を交差させることによって得られる表面を使用することができる。当然のことながら、ここでもまた、円柱レンズの非直交方位を考慮することができる。5.2.3.回転対称プロフィール更なる代替として、図35及び図36に示すような回転対称のマイクロレンズを使用することができる。また、この実施形態では、マイクロレンズの半径は、図44及び45に示す全体的なガウス角度分布を得るために、ガウス確率分布に従って変えるべきである。他のレンズパラメータ、例えば、曲率中心又は屈折率は、追加的に又は代替的に変化させることができる。5.3.他のデザイン態様以下では、第2の散乱板60のための他の有利なデザイン態様を図46から図49を参照して説明する。図46は、縮尺通りではない非常に概略的な図により、3つの第3のマイクロレンズ562X、集光装置62、及び視野絞り平面64を示している。2つの群の破線97、98は、各々が同じ開口角度で第3のマイクロレンズ562Xを出て、その結果、同じ視野点に視野絞り平面64内で収束する光束を示している。第3のマイクロレンズ562Xの個数が多いほど、光線97、98が、より多く異なる角度での視野絞り平面64内の放射照度に寄与することになる。視野絞り平面64内で第3のマイクロレンズ562Xの制限された数のために、完全に連続的な角度分布はない。同じことは、言うまでもなくY方向にも適用される。図47は、同じ構成を示すが、ここでは、更に別の第2の散乱板60が、光結合器56と集光装置62の間に配置されている。第2の散乱板60は、複数の散乱光線99により図47に示す連続的角度分布を生成する。好ましくは、最大の散乱角αmaxは、最大の散乱角αmaxを有する散乱光線99’が、後方に第3のマイクロレンズ562Xの方へ拡張された場合に、少なくとも第3のマイクロレンズ562Xのピッチpと同じくらい大きい距離δで第3のマイクロレンズ562X上に衝突すると考えられるように判断される。視野絞り平面64から見た場合、視野絞り平面64上に衝突する投影光は、第3のマイクロレンズ562Xのピッチpと少なくとも同じくらいの大きさの延長部をX方向に有する2次光源82’により生成されるように見える。換言すると、2次光源は、次に、X方向内で瞳孔平面54ミラーに当接するか、又は重なりさえもする。言うまでもなく、同じ考慮事項がY方向にも適用される。当接するか又は重なり合う2次光源の結果として、投影光は、照明角度の連続的範囲で視野絞り平面64内のあらゆる点上に衝突し、その範囲は、照明設定で判断される。理想的には、瞳孔平面54内での放射照度分布は、均一である。この特性は、図48及び図49を参照して説明するように、第2の散乱板の助けを借りても達成することができる。図48は、3つの隣接した2次光源82に対して瞳孔平面54内での強度分布JがY方向に対してプロットされているグラフを示している。概略図においては、簡潔さを期すために、2次光源82は、台形の強度分布を特徴とする。これらの分布の間には、光が通過しない間隙ができる。しかし、第2の散乱板60の散乱特性を慎重に設計することにより、各単一の2次光源82の強度分布の半値幅が満足されるように、2次光源82を実質的に広げることができる。これが意味することを図49に示している。ここでもまた簡潔さを期すために、ここで第2の散乱板60は、瞳孔平面内で2次光源82の強度分布を実質的に広げるが、台形形状を保持するように仮定される。強度分布は、隣接した強度分布82の半値幅wが当接するような範囲で広げられる。重なり強度分布82’は、次に、均一に瞳孔平面54を照らし、かつ全ての照明角度は、瞳孔の直径で判断される同じ強度で0°と最大角度との間で存在する。言うまでもなく、これは、厳密な意味で、最大σを有する従来の照明設定の場合に限り当て嵌まる。他の照明設定の場合、完全にかつ均一に照らされる区域は、設定によって定められる。従って、角度分布は、異なる照明設定を達成するために設けられる手段だけで定めることができる。照明システム12においては、これらは、第1の光学ラスター要素34、ズームレンズ群46、及びaxicon要素の対48を含む。従って、光結合器56及び散乱板58、60により、このような手段によって定められる瞳孔平面54内での強度分布以外にマスク平面70内での角度分布を定める際に他のいかなるパラメータも考慮する必要がないことが保証される。照明システム12が、幾何学的光束を増大させる3つの光学要素、すなわち、光結合器56及び2つの散乱板58、60を含む場合、いかにしてその増大がこれらの3つの光学要素の間で分配されるかを考慮すべきである。この点に対しては、以下の方法で第1の散乱板58、光結合器56、及び第2の散乱板60により生成される最大発散を定めることが有利であると見出されている。NA1X≦NA2X、NA2X>5NA2Y0.9NA3Y<NA3X<1.1NA3Yここで、NA1Xは、第1の散乱板58により生成される最大発散角度であり、NA2X及びNA2Yは、光結合器56により生成される最大発散角度であり、NA3X、NA3Yは、それぞれ、第2の散乱板60によりX方向及びY方向に対して生成される最大発散角度である。また、本発明の実施形態として以下のものが考えられる。実施例1マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムであって、a光源30、b第1の光学小要素561X、561Y、562X、562Yを含み、かつ光束を各々が放出する複数の2次光源82を生成する光結合器56、cマスク平面70内で前記光束の重ね合わせを達成する集光装置62、及びd前記2次光源の前又は後に配置された複数の第2の光学小要素を含む少なくとも1つの散乱構造体58、60、を含み、前記第1及び第2の光学小要素は、同一放射照度分布で照らされた光学小要素が5mmよりも大きく分離されるように構成される、ことを特徴とするシステム。実施例2前記第1及び第2の光学小要素は、同一放射照度分布で照らされた光学小要素が10mmよりも大きく分離されるように構成されることを特徴とする実施例1に記載の照明システム。実施例3前記第1及び第2の光学小要素は、同一放射照度分布で照らされた光学小要素が20mmよりも大きく分離されるように構成されることを特徴とする実施例2に記載の照明システム。実施例4前記第1及び第2の光学小要素は、同一放射照度分布で照らされる光学小要素が存在しないように構成されることを特徴とする実施例1に記載の照明システム。実施例5前記光結合器56は、交換保持器57に受け取られることを特徴とする実施例1から実施例4のいずれか1項に記載の照明システム。実施例6前記光結合器56は、複数の集束第1光学小要素561X、561Y、562X、562Yを各々が含む第1の結合器部材561及び第2の結合器部材562を含むfly-eye結合器であることを特徴とする実施例1から実施例5のいずれか1項に記載の照明システム。実施例7前記第1の結合器部材561の前記第1光学小要素561X、561Yは、前記第2の結合器部材562の第1光学小要素562X、562Yが配置される第1の焦点面を有することを特徴とする実施例6に記載の照明システム。実施例8前記第2の結合器部材562の前記第1光学小要素562X、562Yは、前記第1の結合器部材561の第1光学小要素561X、561Yが配置される第2の焦点面を有することを特徴とする実施例6又は実施例7に記載の照明システム。実施例9前記第1の結合器部材561及び前記第2の結合器部材562の各々は、X方向にのみ回折力を有するX方向第1光学小要素561X、562Xと、該X方向に垂直であるY方向にのみ回折力を有するY方向第1光学小要素561Y、562Yとを含むことを特徴とする実施例6から実施例8のいずれか1項に記載の照明システム。実施例10前記Y方向は、前記マイクロリソグラフィ露光装置10の走査方向であることを特徴とする実施例9に記載の照明システム。実施例11前記第1の結合器部材561の前記X方向第1光学小要素561X及び前記Y方向第1光学小要素561Yは、第1の結合器支持体の両側に配置され、前記第2の結合器部材562の前記X方向562X第1光学小要素及び前記Y方向第1光学小要素562Yは、第2の結合器支持体の両側に配置される、ことを特徴とする実施例9又は実施例10に記載の照明システム。実施例12両方の結合器部材の前記X方向第1光学小要素561X、562Xは、互いに対向していることを特徴とする実施例9から実施例11のいずれか1項に記載の照明システム。実施例13前記第1及び第2の結合器支持体は、蛍石の結晶から作られることを特徴とする実施例11又は実施例12に記載の照明システム。実施例14前記蛍石は、CaF2であることを特徴とする実施例13に記載の照明システム。実施例15前記支持体は、0.01を超える厚みと直径の間の関係を有することを特徴とする請求項11から実施例14のいずれか1項に記載の照明システム。実施例16前記第1の結合器部材1561の前記X方向第1光学小要素1561Xは、前記第2の結合器部材1562の前記Y方向第1光学小要素1562Yに対向していることを特徴とする実施例9から実施例11のいずれか1項に記載の照明システム。実施例17少なくとも前記第1の結合器支持体は、ガラス、特に、SiO2ガラスで作られることを特徴とする実施例16に記載の照明システム。実施例18前記第1の結合器部材2561;3561;3561の前記第1光学小要素2562X、2561Y;3562X、3561Y;4562X、4561Y、及び前記第2の結合器部材2562;3562;3562の該第1光学小要素2563X、2563Y;3563X、3563Y;4563X、4562Yは、少なくとも照明システム12の光軸26に沿って個々に移動可能である正確に3つの個別の結合器支持体上に分配されることを特徴とする実施例6から実施例10のいずれか1項に記載の照明システム。実施例19光伝播方向において、第1の結合器支持体が、Y方向第1光学小要素2561Yを支持し、第2の結合器支持体が、X方向第1光学小要素2562Xを支持し、第3の結合器支持体が、一方の側でX方向第1光学小要素2563X及び他方の側でY方向第1光学小要素2563Yを支持することを特徴とする実施例18に記載の照明システム。実施例20少なくとも1つの散乱構造体58が、前記第1の結合器支持体の前に配置されることを特徴とする実施例19に記載の照明システム。実施例21少なくとも1つの散乱構造体58’が、前記第1の結合器支持体と前記第2の結合器支持体の間に配置されることを特徴とする実施例19に記載の照明システム。実施例22光伝播方向において、第1の結合器支持体が、Y方向第1光学小要素4561Yを支持し、第2の結合器支持体が、一方の側でY方向第1光学小要素4562Y及び他方の側でX方向第1光学小要素4562Xを支持し、第3の結合器支持体が、X方向第1光学小要素4563Xを支持することを特徴とする実施例18に記載の照明システム。実施例23少なくとも1つの散乱構造体60が、前記第3の結合器支持体の後に配置されることを特徴とする実施例22に記載の照明システム。実施例24非直交縦軸を有する2つの円柱レンズを交差させることによって得られる第1光学小要素を含むことを特徴とする実施例1から実施例23のいずれか1項に記載の照明システム。実施例25円柱レンズ及び円環レンズを交差させることによって得られる第1光学小要素を含むことを特徴とする実施例1から実施例24のいずれか1項に記載の照明システム。実施例26矩形に区切られた回転対称マイクロレンズとして形成された第1光学小要素を含むことを特徴とする実施例1から実施例25のいずれか1項に記載の照明システム。実施例27前記回転対称マイクロレンズは、非球面形状を有することを特徴とする実施例26に記載の照明システム。実施例28前記第1又は第2光学小要素は、マスク平面70内の照明された視野14の少なくとも1つの縁部に沿った該マスク平面70内の放射照度が該照明視野14の中心よりも高いような非球面効果を有することを特徴とする実施例1から実施例27のいずれか1項に記載の照明システム。実施例29前記照明視野14の前記少なくとも1つの縁部での前記放射照度は、pを0.5と8の間の範囲として該照明視野14の中心よりも少なくともp高いことを特徴とする実施例28に記載の照明システム。実施例30照明システム12の光軸に垂直な方向において、前記第1光学小要素は、第1のピッチを有し、前記第2光学小要素は、第2のピッチを有することを特徴とする実施例1から実施例29のいずれか1項に記載の照明システム。実施例31前記第2光学小要素は、周期的なアレイに配置されることを特徴とする実施例1から請求項30のいずれか1項に記載の照明システム。実施例32前記第1のピッチは、前記第2のピッチの素数であることを特徴とする実施例30及び実施例31のいずれか1項に記載の照明システム。実施例33前記第2光学小要素は、非周期性アレイに配置されることを特徴とする実施例1から請求項32のいずれか1項に記載の照明システム。実施例34少なくとも2つの第2光学小要素は、少なくとも1つの方向に沿って異なる寸法を有することを特徴とする実施例1から実施例33のいずれか1項に記載の照明システム。実施例35少なくとも2つの光学小要素は、異なる内部構造を有することを特徴とする実施例1から実施例34のいずれか1項に記載の照明システム。実施例36異なる内部構造は、照明システムの光軸と垂直に所定の構造体を相対的にシフトすることによって形成されることを特徴とする実施例35に記載の照明システム。実施例37異なる構造体は、所定の構造体をスケーリングすることによって形成されることを特徴とする実施例35に記載の照明システム。実施例38少なくとも1つの第2小要素は、少なくとも1つの方向に沿って変化する第2のピッチを有することを特徴とする実施例30に記載の照明システム。実施例39前記少なくとも1つの方向は、前記少なくとも1つの第2小要素の縦方向であることを特徴とする実施例38に記載の照明システム。実施例40前記第1光学小要素は、幾何学的光束が増大する方向に第1のピッチd1<1000μmを有することを特徴とする実施例1から実施例39のいずれか1項に記載の照明システム。実施例41d1<600μmであることを特徴とする実施例40に記載の照明システム。実施例42前記第2光学小要素は、前記幾何学的光束が増大する前記方向に第2のピッチd2<d1μmを有することを特徴とする実施例40又は実施例41に記載の照明システム。実施例43前記少なくとも1つの第2光学小要素は、回折光学要素M1、M2、M3を含むことを特徴とする実施例1から実施例42のいずれか1項に記載の照明システム。実施例44前記少なくとも1つの第2光学小要素は、マイクロレンズを含むことを特徴とする請求項1から実施例43のいずれか1項に記載の照明システム。実施例45前記マイクロレンズは、円筒形の形状を有することを特徴とする実施例44に記載の照明システム。実施例46前記マイクロレンズは、一定又は変化する幅を有する平坦な区域によって分離され、該区域は、回析効果の結果として角度分布を生成することを特徴とする実施例44又は請求項45に記載の照明システム。実施例47前記マイクロレンズは、円環形状を有することを特徴とする実施例44から実施例46のいずれか1項に記載の照明システム。実施例48前記第2光学小要素は、蛍石結晶又はガラス、特にSiO2で作られることを特徴とする実施例44から実施例47のいずれか1項に記載の照明システム。実施例49前記少なくとも1つの散乱構造体58は、光伝播方向に沿って前記光結合器56の前に配置されることを特徴とする実施例1から実施例48のいずれか1項に記載の照明システム。実施例50各第2光学小要素は、幾何学的光束が直交方向に異なる程度で増大するような歪像角度分布を生成することを特徴とする実施例49に記載の照明システム。実施例51前記幾何学的光束は、前記投影露光装置の走査方向に沿って該走査方向の垂直方向よりも小さな程度で増大されることを特徴とする実施例50に記載の照明システム。実施例52前記幾何学的光束は、前記投影露光装置10の走査方向に沿って実質的には増大されないことを特徴とする実施例51に記載の照明システム。実施例53各第2光学小要素は、実質的に矩形の角度分布を生成することを特徴とする実施例49に記載の照明システム。実施例54前記少なくとも1つの散乱構造体は、小斑点によって生成されるコントラストよりも5未満だけ高い最大コントラストを有する近視野放射照度分布を生成することを特徴とする実施例49に記載の照明システム。実施例55各第2光学小要素は、前記第1の結合器部材の前記第1光学小要素と共に前記第2の結合器部材の第1光学小要素を完全に照らすのに十分である角度分布を生成することを特徴とする実施例6に記載の照明システム。実施例56前記少なくとも1つの散乱構造体と前記光結合器との間の距離は、該少なくとも1つの散乱構造体のタルボット距離と異なっていることを特徴とする実施例49に記載の照明システム。実施例57前記第1光学小要素は、第1の境界線によって定められた形状を有し、前記第2光学小要素は、第2の境界線によって定められた形状を有し、前記第1の境界線及び前記第2の境界線は、その間に0.1°<α<89.9°で角度αを形成する、ことを特徴とする実施例49に記載の照明システム。実施例58前記少なくとも1つの散乱構造体60は、光伝播方向に沿って前記光結合器56の後に配置されることを特徴とする実施例1から実施例57のいずれか1項に記載の照明システム。実施例59前記少なくとも1つの散乱構造体60は、前記光結合器56と共に、ゼロ放射照度レベルと最高放射照度レベルの間の移行帯を有する少なくとも1つ方向に沿った前記マスク平面70内の放射照度分布を生成し、前記移行帯は、前記少なくとも1つの方向に沿って1mmよりも大きい寸法を有する、ことを特徴とする実施例58に記載の照明システム。実施例60前記移行帯は、2.5mmよりも大きい寸法を有することを特徴とする実施例59に記載の照明システム。実施例61第1の方向に前記幾何学的光束を増大させる第1の種類の第2光学小要素及び、第2の方向に該幾何学的光束を増大させる第2の種類の光学小要素を含むことを特徴とする請求項58又は実施例59に記載の照明システム。実施例62前記第1の種類の第2光学小要素は、前記投影露光装置の走査方向にガウス角度分布を生成することを特徴とする実施例61に記載の照明システム。実施例63前記第1の種類の第2光学小要素は、前記投影露光装置の走査方向に、ゼロレベルと一定の最高レベルの間の滑らかな移行を有する角度分布を生成することを特徴とする実施例61に記載の照明システム。実施例64勾配が、実質的にガウス形を有することを特徴とする実施例63に記載の照明システム。実施例65前記第2の種類の第2光学小要素は、前記投影露光装置の走査方向と垂直な矩形角度分布を生成することを特徴とする実施例61から実施例64のいずれか1項に記載の照明システム。実施例66前記第1の種類及び前記第2の種類の第2光学小要素は、共通の支持体の両側に配置されることを特徴とする実施例61から実施例65のいずれか1項に記載の照明システム。実施例67前記第1の種類及び前記第2の種類の第2光学小要素は、照明システムの光軸と実質的に平行な回転軸の周りに互いに対して回転可能であるように構成された異なる支持体上に配置されることを特徴とする実施例61から実施例65のいずれか1項に記載の照明システム。実施例68前記第1の方向及び前記第2の方向は、直交しないことを特徴とする実施例61から請求項66のいずれか1項に記載の照明システム。実施例69前記第1の方向又は前記第2の方向のいずれも、前記投影露光装置の走査方向と平行ではないことを特徴とする実施例61から実施例66のいずれか1項に記載の照明システム。実施例70前記第1及び前記第2の方向を共通して変えるためのマニピュレータを含むことを特徴とする実施例69に記載の照明システム。実施例71前記第1及び前記第2の方向を独立に変えるためのマニピュレータを含むことを特徴とする実施例69に記載の照明システム。実施例72前記ガウス角度分布は、異なる幅の複数の実質的に矩形の角度分布の重ね合わせによって近似されることを特徴とする実施例62に記載の照明システム。実施例73前記第2光学小要素は、異なるピッチを有する円筒形マイクロレンズであることを特徴とする実施例72に記載の照明システム。実施例74前記第2光学小要素は、異なる縦方向延長部を有する円筒形マイクロレンズを交差させることによって得られることを特徴とする実施例58から実施例73のいずれか1項に記載の照明システム。実施例75前記縦方向延長部は、直交していることを特徴とする実施例74に記載の照明システム。実施例76前記第2光学小要素は、異なる形状を有する回転対称マイクロレンズであることを特徴とする実施例58から実施例64のいずれか1項に記載の照明システム。実施例77前記少なくとも1つの散乱構造体は、前記光結合器と前記集光装置の間に配置されることを特徴とする実施例58から実施例76のいずれか1項に記載の照明システム。実施例78前記第2光学小要素は、前記完全な角度分布を生成するいくつかの第2光学小要素上にマスク側から衝突する平行光ビームが、少なくとも1つの方向において該少なくとも1つの方向の前記第2の結合器部材の第1光学小要素を完全に照らすと考えられるように構成され、かつ該第2の結合器部材から離間されることを特徴とする実施例77に記載の照明システム。実施例79前記第2光学小要素は、前記完全な角度分布を生成するいくつかの第2光学小要素が、前記第2の結合器部材の前記第1光学小要素のピッチよりも小さい直径を有する区域にわたって分配されるように構成されることを特徴とする実施例6、及び実施例59から請求項78のいずれか1項に記載の照明システム。実施例80前記少なくとも1つの散乱構造体は、該少なくとも1つの散乱構造体がない場合に前記2次光源をそれらが当接するか又は重なり合うように拡大することによって得られると考えられるような方法で前記角度分布を修正することを特徴とする実施例6、及び実施例59から実施例79のいずれか1項に記載の照明システム。実施例81前記投影露光装置の走査方向と平行に配置され、かつ前記光源によって生成された投影光束内に選択的に挿入されるように構成された隣接するブレード2つの対向する列を有する絞りデバイスを含むことを特徴とする実施例1から実施例80のいずれか1項に記載の照明システム。実施例82マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムであって、a光軸、b第1の境界線によって分離された散乱要素を含む散乱部材、及びc第2の境界線よって分離された複数のマイクロレンズを含むfly-eyeレンズ、を含み、前記光軸と垂直な平面上の投影において、少なくとも5mmの直径を有する区域内では、どの第1の境界線も第2の境界線と一致しない、ことを特徴とするシステム。実施例83マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムであって、aX方向の発散を最大角度NA1Xだけ、かつY方向に最大角度NA1Yだけ増大させる第1の光学要素、bX方向の前記発散を最大角度NA2Xだけ、かつY方向に最大角度NA2Yだけ増大させる第2の光学要素、及びcX方向の前記発散を最大角度NA3Xだけ、かつY方向に最大角度NA3Yだけ増大させる第3の光学要素、を含み、以下の関係:dNA1X≦NA2X、eNA2X>5NA2Y、f0.9NA3Y<NA3X<1.1NA3Y、が成り立つ、ことを特徴とするシステム。実施例84マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムであって、a光源、b各々が光束を放出する複数の2次光源を生成する光結合器、cマスク平面内で前記光束の重ね合わせを達成する集光装置、及びd前記光結合器と前記集光装置の間に配置された少なくとも1つの散乱構造体、を含むことを特徴とするシステム。実施例85少なくとも1つの更に別の散乱構造体が、前記光結合器の前又はその内部に配置されることを特徴とする実施例80に記載の照明システム。実施例86マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムであって、a光源、b2次光源を生成するための光結合器、及びc各要素が幾何学的光束を1つの方向のみに実質的に増大させる疑似無作為的に構成された小要素を含む少なくとも1つの散乱構造体、を含むことを特徴とするシステム。実施例87前記少なくとも1つの散乱構造体は、各々が前記幾何学的光束を第1の方向のみに実質的に増大させる第1の疑似無作為的に構成された小要素を含み、前記少なくとも1つの散乱構造体は、各々が前記幾何学的光束を第2の方向のみに実質的に増大させる第2の疑似無作為的に構成された小要素を含む、ことを特徴とする実施例86に記載の照明システム。実施例88前記第1の方向及び前記第2の方向は、少なくとも実質的に垂直であることを特徴とする実施例87に記載の照明システム。実施例89マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムであって、光結合器と、異なる角度幅を有する矩形角度分布を生成する複数の小要素を有する少なくとも1つの散乱構造体と、を含むことを特徴とするシステム。実施例90マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムであって、a光源、b2次光源を生成するための光結合器、c実質的に矩形の角度分布を1つの方向に生成する第1の散乱構造体、及びd実質的にガウス形の角度分布を2つの直交する方向に生成する第2の散乱構造体、を含むことを特徴とするシステム。実施例91実施例1から実施例90のいずれか1項に記載の照明システムを含む投影露光装置。実施例92微細構造デバイスを製作するマイクロリソグラフィ方法であって、a感光層を支持する基板を準備する段階、b前記感光層上に撮像される構造体を収容するマスクを準備する段階、c実施例86に記載の投影露光装置を準備する段階、d前記マスクの少なくとも一部を前記投影露光装置によって前記感光層上に投影する段階、を含むことを特徴とする方法。実施例93実施例92に記載の方法によって製作される微細構造デバイス。