"面内位相差Reが10nm以下であり、厚み方向位相差Rthが15nm以下であり、かつ、波長380nmにおける光の透過率が15以下である基材フィルムと、該基材フィルム上に形成された、ウレタン樹脂を含む中間層と、該中間層上に形成された表面処理層とを有する、光学積層体。前記表面処理層が、アンチグレア層、反射防止層およびハードコート層からなる群から選択される、請求項1に記載の光学積層体。前記基材フィルムの前記中間層とは反対側に粘着剤層をさらに有する、請求項1または2に記載の光学積層体。前記中間層が、前記基材フィルム上に直接形成され、前記表面処理層が、該中間層上に直接形成されている、請求項1から3のいずれかに記載の光学積層体。3次元液晶表示装置の前面板として用いられる、請求項1から4のいずれかに記載の光学積層体。本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、画像表示装置の表示特性に悪影響を与えず、光学特性の耐久性に優れ、かつ、基材フィルムと表面処理層との密着性に優れた光学積層体を提供することにある。本発明の光学積層体は、面内位相差Reが10nm以下であり、厚み方向位相差Rthが15nm以下であり、かつ、波長380nmにおける光の透過率が15以下である基材フィルムと;該基材フィルム上に形成された、ウレタン樹脂を含む中間層と;該中間層上に形成された表面処理層と;を有する。好ましい実施形態においては、上記表面処理層は、アンチグレア層、反射防止層およびハードコート層からなる群から選択される。好ましい実施形態においては、上記光学積層体は、上記基材フィルムの上記中間層とは反対側に粘着剤層をさらに有する。好ましい実施形態においては、上記中間層は、上記基材フィルム上に直接形成され、上記表面処理層は、該中間層上に直接形成されている。好ましい実施形態においては、上記光学積層体は、3次元液晶表示装置の前面板として用いられる。本発明によれば、ウレタン樹脂を含む中間層を形成することにより、位相差が非常に小さく、かつ、紫外線吸収能を有する基材フィルムと、表面処理層とを、優れた密着性で実際に積層することができた。その結果、画像表示装置の表示特性に悪影響を与えず、光学特性の耐久性に優れ、かつ、基材フィルムと表面処理層との密着性に優れた光学積層体が提供される。以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。A.光学積層体の全体構成図1Aは、本発明の好ましい実施形態による光学積層体の概略断面図である。光学積層体100は、基材フィルム10と、基材フィルム10上に形成された中間層20と、中間層20上に形成された表面処理層30とを有する。図1Bは、本発明の別の好ましい実施形態による光学積層体の概略断面図である。図1Bの実施形態においては、基材フィルム10の中間層20とは反対側に粘着剤層40が設けられている。この実施形態においては、代表的には、粘着剤層40の外側にセパレーター図示せずが配置され、光学積層体が使用されるまで粘着剤層が保護される。図1Aおよび図1Bのいずれの実施形態においても、必要に応じて、表面処理層30の外側に任意の適切な表面保護フィルム図示せずが配置されてもよい。表面保護フィルムは、代表的には、粘着剤層図示せずを介して配置される。図1Aおよび図1Bのいずれの実施形態においても、代表的には、中間層20は、易接着層として機能し得る。好ましくは、中間層20は、基材フィルム10上に直接すなわち、粘着剤層も接着剤層も介することなく形成され、表面処理層30は、中間層20上に直接すなわち、粘着剤層も接着剤層も介することなく形成されている。以下、光学積層体のそれぞれの構成部材について詳細に説明する。B.基材フィルム基材フィルム10は、面内位相差Reが10nm以下であり、厚み方向位相差Rthが15nm以下であり、かつ、波長380nmにおける光の透過率が15以下である。このように低位相差と紫外領域の光の透過率が低いことすなわち、紫外線吸収能とを両立させた基材フィルムと表面処理層とを、優れた密着性で実際に積層したことが、本発明の成果の1つである。面内位相差Reは、好ましくは7nm以下であり、より好ましくは5nm以下であり、さらに好ましくは3nm以下であり、特に好ましくは1nm以下である。厚み方向位相差Rthは、好ましくは10nm以下であり、より好ましくは5nm以下であり、さらに好ましくは3nm以下であり、特に好ましくは1nm以下である。面内位相差および厚み方向位相差がこのような範囲であれば、位相差に起因する画像表示装置の表示特性への悪影響が顕著に抑制され得る。より具体的には、虹ムラや3Dディスプレイ用液晶表示装置に用いる場合の3D像の歪みが顕著に抑制され得る。波長380nmにおける光の透過率は、好ましくは12以下であり、より好ましくは9以下である。波長380nmの光の透過率がこのような範囲であれば、優れた紫外線吸収能が発現するので、外光等による光学特性の劣化が防止され得る。なお、面内位相差Reおよび厚み方向位相差Rthは、それぞれ、以下の式で求められる:Re=nx-ny×dRth=nx-nz×dここで、nxは基材フィルムの遅相軸方向の屈折率であり、nyは基材フィルムの進相軸方向の屈折率であり、nzは基材フィルムの厚み方向の屈折率であり、dnmは基材フィルムの厚みである。遅相軸は、フィルム面内の屈折率が最大になる方向をいい、進相軸は、面内で遅相軸に垂直な方向をいう。代表的には、ReおよびRthは、波長590nmの光を用いて測定される。基材フィルムを構成する材料としては、上記所望の特性が得られる限りにおいて任意の適切な材料が採用され得る。代表的には、基材フィルムは、メタアクリル系樹脂を含む。基材フィルムは、例えば、メタアクリル系樹脂を主成分として含む樹脂成分を含有する成形材料を、押出し成形して得られる。上記メタアクリル系樹脂としては、任意の適切なメタアクリル系樹脂を採用し得る。例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリメタアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル-メタアクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル-メタアクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル-アクリル酸エステル-メタアクリル酸共重合体、メタアクリル酸メチル-スチレン共重合体MS樹脂など、脂環族炭化水素基を有する重合体例えば、メタクリル酸メチル-メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル-メタアクリル酸ノルボルニル共重合体などが挙げられる。好ましくは、ポリメタアクリル酸メチルなどのポリメタアクリル酸C1-6アルキルが挙げられる。より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分50~100重量、好ましくは70~100重量とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。上記メタアクリル系樹脂の重量平均分子量は、好ましくは10000~500000である。重量平均分子量が小さすぎると、フィルムにした場合の機械的強度が不足する傾向がある。重量平均分子量が大きすぎると、溶融押出時の粘度が高く、成形加工性が低下し、成形品の生産性が低下する傾向がある。上記メタアクリル系樹脂のガラス転移温度は、好ましくは110°C以上であり、より好ましくは120°C以上である。ガラス転移温度がこのような範囲であれば、耐久性および耐熱性に優れた基材フィルムが得られ得る。ガラス転移温度の上限は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは170°C以下である。本発明においては、上記所望の特性が得られるという点で、上記メタアクリル系樹脂として、グルタルイミド構造を有するメタアクリル系樹脂が好ましい。グルタルイミド構造を有するメタアクリル系樹脂以下、グルタルイミド樹脂とも称するは、例えば、特開2006-309033号公報、特開2006-317560号公報、特開2006-328329号公報、特開2006-328334号公報、特開2006-337491号公報、特開2006-337492号公報、特開2006-337493号公報、特開2006-337569号公報、特開2007-009182号公報、特開2009-161744号公報、特開2010-284840号公報に記載されている。これらの記載は、本明細書に参考として援用される。第1の局面において、好ましくは、グルタルイミド樹脂は、下記一般式1で表される単位以下、グルタルイミド単位とも称すると、下記一般式2で表される単位以下、メタアクリル酸エステル単位とも称するとを含む。式1において、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素または炭素数1~8のアルキル基であり、R3は、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、または炭素数5~15の芳香環を含む置換基である。式2において、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素または炭素数1~8のアルキル基であり、R6は、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、または炭素数5~15の芳香環を含む置換基である。グルタルイミド樹脂は、必要に応じて、下記一般式3で表される単位以下、芳香族ビニル単位とも称するをさらに含んでいてもよい。式3において、R7は、水素または炭素数1~8のアルキル基であり、R8は、炭素数6~10のアリール基である。上記一般式1において、好ましくは、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、R3は水素、メチル基、ブチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、R1はメチル基であり、R2は水素であり、R3はメチル基である。上記グルタルイミド樹脂は、グルタルイミド単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式1におけるR1、R2、およびR3が異なる複数の種類を含んでいてもよい。グルタルイミド単位は、上記一般式2で表されるメタアクリル酸エステル単位をイミド化することにより、形成することができる。また、グルタルイミド単位は、無水マレイン酸等の酸無水物、または、このような酸無水物と炭素数1~20の直鎖または分岐のアルコールとのハーフエステル;アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、クロトン酸、フマル酸、シトラコン酸等のα,β-エチレン性不飽和カルボン酸等をイミド化することによっても、形成することができる。上記一般式2において、好ましくは、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、R6は水素またはメチル基であり、さらに好ましくは、R4は水素であり、R5はメチル基であり、R6はメチル基である。上記グルタルイミド樹脂は、メタアクリル酸エステル単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式2におけるR4、R5、およびR6が異なる複数の種類を含んでいてもよい。上記グルタルイミド樹脂は、上記一般式3で表される芳香族ビニル構成単位として、好ましくはスチレン、α-メチルスチレン等を含み、さらに好ましくはスチレンを含む。このような芳香族ビニル構成単位を有することにより、位相差の小さい基材フィルムを得ることができる。上記グルタルイミド樹脂は、芳香族ビニル構成単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、R7およびR8が異なる複数の種類を含んでいてもよい。上記グルタルイミド樹脂における上記グルタルイミド単位の含有量は、例えばR3の構造等に依存して変化させることが好ましい。グルタルイミド単位の含有量は、グルタルイミド樹脂の総繰り返し単位を基準として、好ましくは20重量以上であり、より好ましくは20重量~95重量であり、さらに好ましくは40重量~90重量であり、特に好ましくは50重量~80重量である。グルタルイミド単位の含有量がこのような範囲であれば、低位相差の基材フィルムが得られ得る。上記グルタルイミド樹脂における上記芳香族ビニル単位の含有量は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。用途によっては、芳香族ビニル単位の含有量は0であってもよい。芳香族ビニル単位が含まれる場合、その含有量は、グルタルイミド樹脂の総繰り返し単位を基準として、好ましくは10重量以上であり、より好ましくは10重量~40重量であり、さらに好ましくは15重量~30重量であり、特に好ましくは15重量~25重量である。芳香族ビニル単位の含有量がこのような範囲であれば、耐熱性および機械的強度に優れた基材フィルムが得られ得る。上記グルタルイミド樹脂には、必要に応じて、グルタルイミド単位、メタアクリル酸エステル単位、および芳香族ビニル単位以外のその他の単位がさらに共重合されていてもよい。その他の単位としては、例えば、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、N-メチルマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体から構成される単位が挙げられる。これらのその他の単位は、上記グルタルイミド樹脂中に、直接共重合していてもよいし、グラフト共重合していてもよい。第2の局面において、好ましくは、グルタルイミド樹脂は、下記一般式4で表されるグルタルイミド単位とメタクリル酸メチル単位とを含み、2.5~5.0のイミド化率、0.10~0.50mmol/gの酸価、および1重量未満のアクリル酸エステル単位含有量を有する。式4において、R9およびR10はそれぞれ独立に、水素または炭素数1~8のアルキル基を示し、R11は炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を示す。上記一般式4において、R9およびR10は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、R11は水素、メチル基、ブチル基、またはシクロヘキシル基であることが好ましく、R9はメチル基であり、R10は水素であり、R11はメチル基であることがより好ましい。第2の局面の上記グルタルイミド樹脂は、グルタルイミド単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式4におけるR9、R10、およびR11が異なる複数の種類を含んでいてもよい。第2の局面の上記グルタルイミド樹脂は、例えば、ポリメタクリル酸メチル樹脂を加熱溶融し、ポリメタクリル酸メチル樹脂100重量部に対して0.5~10重量部のイミド化剤で処理する工程を含む製造方法によって得られ得る。使用されるポリメタクリル酸メチル樹脂中のアクリル酸エステル単位は、好ましくは1重量未満である。上記ポリメタクリル酸メチル樹脂は、メタクリル酸メチルを重合させることによって製造される。当該重合工程においては、メタクリル酸メチル以外にも、例えば、アクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸t-ブチル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸シクロヘキシル等を併用することができる。この場合、アクリル酸エステル単位は、好ましくは1重量未満である。アクリル酸メチル単位が0.5重量未満であることがより好ましい。上記ポリメタクリル酸メチル樹脂を加熱溶融して、イミド化剤と処理する方法としては、従来公知の任意の方法を用いることができ、例えば、特開2010-284840号に記載の方法が好ましく用いられ得る。当該方法によれば、グルタルイミド単位、メタクリル酸メチル単位、カルボン酸またはカルボン酸無水物単位の比率が所望に制御されたグルタルイミド樹脂が容易に得られ得る。第2の局面の上記グルタルイミド樹脂におけるイミド化率は、グルタルイミド単位とメタクリル酸メチル単位との比で表される。この比は、例えば、グルタルイミド樹脂のNMRスペクトル、IRスペクトル、あるいはその他の方法により測定することが可能である。本明細書におけるイミド化率は次のようにして求めた。すなわち、1H-NMRBRUKERAvanceIII400MHzを用いて、樹脂の1H-NMR測定を行った。3.5から3.8ppm付近のメタクリル酸メチルのO-CH3プロトン由来のピーク面積Aと、3.0から3.3ppm付近のグルタルイミドのN-CH3プロトン由来のピークの面積Bより、次式で求めた。Im=B/AB×100なお、ここで、イミド化率とは全カルボニル基中のイミドカルボニル基の占める割合をいう。第2の局面の上記グルタルイミド樹脂のイミド化率は、好ましくは2.5~5.0、より好ましくは2.5~4.5、さらに好ましくは3.0~4.5である。イミド化率が当該範囲であれば、耐熱性、透明性、成形加工性、およびフィルムに加工したときの機械的強度に優れたグルタルイミド樹脂が得られ得る。第2の局面の上記グルタルイミド樹脂の酸価は、樹脂中でのカルボン酸単位、カルボン酸無水物単位の含有量を表す。酸価は、例えばWO2005-054311および特開2005-23272号公報に記載の滴定法などにより算出することが可能である。第2の局面の上記グルタルイミド樹脂の酸価は、好ましくは0.10~0.50mmol/g、より好ましくは0.15~0.45mmol/gである。酸価が当該範囲内であれば、耐熱性、機械物性、成形加工性のバランスに優れたグルタルイミド樹脂が得られ得る。第2の局面の上記グルタルイミド樹脂におけるアクリル酸エステル単位の含有量は、好ましくは1重量未満であり、より好ましくは0.5重量未満である。アクリル酸エステル単位の含有量が当該範囲内であれば、熱安定性に優れたグルタルイミド樹脂が得られ得る。第2の局面の上記グルタルイミド樹脂には、必要に応じ、グルタルイミド単位、メタクリル酸メチル単位、カルボン酸もしくはカルボン酸無水物単位、アクリル酸エステル単位以外のその他の単位がさらに共重合されていてもよい。その他の単位としては、例えば、スチレン等の芳香族ビニル系単量体、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、N-メチルマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体を共重合してなる構成単位を挙げることができる。これらのその他の単位は、上記グルタルイミド樹脂中に、直接共重合していてもよいし、グラフト共重合していてもよい。上記基材フィルムは、紫外線吸収剤を含む。紫外線吸収剤としては、上記所望の特性が得られる限りにおいて、任意の適切な紫外線吸収剤が採用され得る。上記紫外線吸収剤の代表例としては、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ベンゾオキサジン系紫外線吸収剤、およびオキサジアゾール系紫外線吸収剤が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。紫外線吸収剤の含有量は、メタアクリル系樹脂100重量部に対して、好ましくは0.1重量部~5重量部であり、より好ましくは0.2重量部~3重量部である。紫外線吸収剤の含有量がこのような範囲であれば、紫外線を効果的に吸収することができ、かつ、フィルム成形時のフィルムの透明性が低下することがない。紫外線吸収剤の含有量が0.1重量部より少ない場合、紫外線の遮断効果が不十分となる傾向がある。紫外線吸収剤の含有量が5重量部より多い場合、着色が激しくなったり、成形後のフィルムのヘイズが高くなり、透明性が悪化したりする傾向がある。基材フィルムは、目的に応じて任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤;耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤;ガラス繊維、炭素繊維等の補強材;近赤外線吸収剤;トリスジブロモプロピルホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤;アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤;有機フィラーや無機フィラー;樹脂改質剤;有機充填剤や無機充填剤;可塑剤;滑剤;帯電防止剤;難燃剤;位相差低減剤等が挙げられる。含有される添加剤の種類、組み合わせ、含有量等は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。基材フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、メタアクリル系樹脂と、紫外線吸収剤と、必要に応じてその他の重合体や添加剤等とを、任意の適切な混合方法で充分に混合し、予め熱可塑性樹脂組成物としてから、これをフィルム成形することができる。あるいは、メタアクリル系樹脂と、紫外線吸収剤と、必要に応じてその他の重合体や添加剤等とを、それぞれ別々の溶液にしてから混合して均一な混合液とした後、フィルム成形してもよい。上記熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサー等、任意の適切な混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いられる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機等の押出機や加圧ニーダー等、任意の適切な混合機を用いることができる。上記フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法溶液流延法、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法等、任意の適切なフィルム成形法が挙げられる。溶融押出法が好ましい。溶融押出法は溶剤を使用しないので、製造コストや溶剤による地球環境や作業環境への負荷を低減することができる。上記溶融押出法としては、例えば、Tダイ法、インフレーション法等が挙げられる。成形温度は、好ましくは150~350°C、より好ましくは200~300°Cである。上記Tダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にTダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、1軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時2軸延伸、逐次2軸延伸等を行うこともできる。基材フィルムは、上記所望の位相差が得られる限りにおいて、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、1軸延伸フィルムまたは2軸延伸フィルムのいずれでもよい。2軸延伸フィルムである場合は、同時2軸延伸フィルムまたは逐次2軸延伸フィルムのいずれでもよい。延伸温度は、フィルム原料である熱可塑性樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくはガラス転移温度-30°C~ガラス転移温度30°C、より好ましくはガラス転移温度-20°C~ガラス転移温度20°Cの範囲内である。延伸温度がガラス転移温度-30°C未満であると、得られるフィルムのヘイズが大きくなり、あるいは、フィルムが裂けたり、割れたりして所定の延伸倍率が得られないおそれがある。逆に、延伸温度がガラス転移温度30°Cを超えると、得られるフィルムの厚みムラが大きくなったり、伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質が十分に改善できなかったりする傾向がある。さらに、フィルムがロールに粘着するといったトラブルが発生しやすくなる傾向がある。延伸倍率は、好ましくは1.1~3倍、より好ましくは1.3~2.5倍である。延伸倍率がこのような範囲であれば、フィルムの伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質を大幅に改善することができる。結果として、厚みムラが小さく、複屈折が実質的にゼロでありしたがって、位相差が小さく、さらに、ヘイズが小さいフィルムを製造することができる。基材フィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理アニーリング等を行うことができる。熱処理の条件は、任意の適切な条件を採用し得る。基材の厚さは、好ましくは5~200μm、より好ましくは10~100μmである。厚さが5μm未満であると、強度が低下するおそれがある。厚さが200μmを超えると、透明性が低下するだけでなく、透湿性が小さくなるおそれがある。基材フィルムの表面の濡れ張力は、好ましくは40mN/m以上、より好ましくは50mN/m以上、さらに好ましくは55mN/m以上である。表面の濡れ張力が少なくとも40mN/m以上であると、メタアクリル系樹脂フィルムと偏光子との接着強度がさらに向上する。表面の濡れ張力を調整するために、任意の適切な表面処理を施すことができる。表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、コロナ放電処理、プラズマ処理である。C.中間層中間層20は、ウレタン樹脂を含む中間層形成用組成物から形成される。ウレタン樹脂を用いることにより、基材フィルムとの密着性に優れた易接着層が得られ得る。中間層形成用組成物は、好ましくは、水系である。水系は、溶剤系に比べて環境面に優れ、作業性にも優れ得る。さらに、基材フィルムに対する悪影響特に、機械的特性に対する悪影響が抑制され得る。上記ウレタン樹脂は、代表的には、ポリオールとポリイソシアネートとを反応させることにより得られる。ポリオールとしては、分子中にヒドロキシル基を2個以上有するものであれば特に限定されず、任意の適切なポリオールを採用し得る。例えば、ポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。上記ポリアクリルポリオールは、代表的には、メタアクリル酸エステルと、水酸基を有する単量体とを共重合させることにより得られる。メタアクリル酸エステルとしては、例えば、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。水酸基を有する単量体としては、例えば、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸3-ヒドキシプロピル、メタアクリル酸2-ヒドロキシブチル、メタアクリル酸4-ヒドロキシブチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシペンチル等のメタアクリル酸のヒドロキシアルキルエステル;グリセリン、トリメチロールプロパン等の多価アルコールのメタアクリル酸モノエステル;N-メチロールメタアクリルアミド等が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。上記ポリアクリルポリオールは、上記単量体成分に加えて、他の単量体を共重合させていてもよい。他の単量体としては、共重合可能な限り、任意の適切な単量体を採用し得る。具体的には、メタアクリル酸等の不飽和モノカルボン酸;マレイン酸等の不飽和ジカルボン酸ならびにその無水物およびモノまたはジエステル類;メタアクリロニトリル等の不飽和ニトリル類;メタアクリルアミド、N-メチロールメタアクリルアミド等の不飽和アミド類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類;メチルビニルエーテル等のビニルエーテル類;エチレン、プロピレン等のα-オレフィン類;塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化α,β-不飽和脂肪族単量体;スチレン、α-メチルスチレン等のα,β-不飽和芳香族単量体等が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。上記ポリエステルポリオールは、代表的には、多塩基酸成分とポリオール成分とを反応させることにより得られる。多塩基酸成分としては、例えば、オルトフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、2,5-ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、テトラヒドロフタル酸等の芳香族ジカルボン酸;シュウ酸、コハク酸、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、オクタデカンジカルボン酸、酒石酸、アルキルコハク酸、リノレイン酸、マレイン酸、フマール酸、メサコン酸、シトラコン酸、イタコン酸等の脂肪族ジカルボン酸;ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環式ジカルボン酸;あるいは、これらの酸無水物、アルキルエステル、酸ハライド等の反応性誘導体等が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。上記ポリオール成分としては、エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,8-オクタンジオール、1,10-デカンジオール、1-メチル-1,3-ブチレングリコール、2-メチル-1,3-ブチレングリコール、1-メチル-1,4-ペンチレングリコール、2-メチル-1,4-ペンチレングリコール、1,2-ジメチル-ネオペンチルグリコール、2,3-ジメチル-ネオペンチルグリコール、1-メチル-1,5-ペンチレングリコール、2-メチル-1,5-ペンチレングリコール、3-メチル-1,5-ペンチレングリコール、1,2-ジメチルブチレングリコール、1,3-ジメチルブチレングリコール、2,3-ジメチルブチレングリコール、1,4-ジメチルブチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,4-シクロヘキサンジオール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF等が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。上記ポリエーテルポリオールは、代表的には、多価アルコールにアルキレンオキシドを開環重合して付加させることにより得られる。多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン等が挙げられる。アルキレンオキシドとしては、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、スチレンオキシド、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。上記ポリイソシアネートとしては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、1,4-ブタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2-メチルペンタン-1,5-ジイソシアネート、3-メチルペンタン-1,5-ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート;イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、4,4′-シクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、1,3-ビスイソシアネートメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート;トリレンジイソシアネート、2,2′-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4′-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′-ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、4,4′-ジベンジルジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、1,3-フェニレンジイソシアネート、1,4-フェニレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート;ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、α,α,α,α-テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ジイソシアネート等が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。上記ウレタン樹脂は、好ましくは、カルボキシル基を有する。カルボキシル基を有するウレタン樹脂は、例えば、上記ポリオールと上記ポリイソシアネートとに加え、遊離カルボキシル基を有する鎖長剤を反応させることにより得られる。遊離カルボキシル基を有する鎖長剤は、例えば、ジヒドロキシカルボン酸、ジヒドロキシスクシン酸等が挙げられる。ジヒドロキシカルボン酸は、例えば、ジメチロールアルカン酸例えば、ジメチロール酢酸、ジメチロールブタン酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロール酪酸、ジメチロールペンタン酸等のジアルキロールアルカン酸が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。上記ウレタン樹脂の製造において、上記の成分に加えて、他のポリオール、他の鎖長剤を反応させ得る。他のポリオールとしては、例えば、ソルビトール、1,2,3,6-ヘキサンテトラオール、1,4-ソルビタン、1,2,4-ブタントリオール、1,2,5-ペンタントリオール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の水酸基数が3個以上のポリオールが挙げられる。他の鎖長剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、プロピレングリコール等のグリコール類;エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,4-ブタンジアミン、アミノエチルエタノールアミン等の脂肪族ジアミン;イソホロンジアミン、4,4′-ジシクロヘキシルメタンジアミン等の脂環族ジアミン;キシリレンジアミン、トリレンジアミン等の芳香族ジアミン等が挙げられる。上記ウレタン樹脂の製造方法は、任意の適切な方法を採用し得る。具体的には、上記各成分を一度に反応させるワンショット法、段階的に反応させる多段法が挙げられる。ウレタン樹脂がカルボキシル基を有する場合、好ましくは、多段法である。カルボキシル基を容易に導入し得るからである。なお、上記ウレタン樹脂の製造に際し、任意の適切なウレタン反応触媒を用い得る。上記中間層形成用組成物が水系の場合、好ましくは、上記ウレタン樹脂の製造において中和剤を用いる。中和剤を用いることにより、水中におけるウレタン樹脂の安定性が向上し得る。中和剤としては、例えば、アンモニア、N-メチルモルホリン、トリエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、トリプロピルアミン、エタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、2-アミノ-2-メチル-1-プロパノール等が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。上記中間層形成用組成物が水系の場合、ウレタン樹脂の製造に際し、好ましくは、上記ポリイソシアネートに対して不活性で、水と相溶する有機溶剤を用いる。当該有機溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート等のエステル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤;ジオキサン、テトラハイドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶剤等が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。上記ウレタン樹脂の数平均分子量は、好ましくは5000~600000、さらに好ましくは10000~400000である。上記ウレタン樹脂の酸価は、好ましくは10以上、さらに好ましくは10~50、特に好ましくは20~45である。酸価がこのような範囲内であることにより、基材フィルムとの密着性がより優れ得る。上記中間層は、1つの実施形態においては、微粒子を含む。微粒子を用いることにより、光学積層体のブロッキングを防止することができる。微粒子としては、任意の適切な微粒子を用い得る。好ましくは、水分散性の微粒子である。具体的には、無機系微粒子、有機系微粒子のいずれも用い得る。無機系微粒子としては、例えば、シリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア等の無機酸化物、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、燐酸カルシウム等が挙げられる。有機系微粒子としては、例えば、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、メタアクリル系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、シリカである。ブロッキング抑制能に特に優れ、かつ、透明性に優れ、ヘイズを生じず、着色もないので、光学積層体の特性に与える影響がより小さいからである。また、シリカは中間層形成用組成物への分散性および分散安定性が良好であるので、中間層形成時の作業性にもより優れ得るからである。さらに、シリカは、基材フィルムとの密着性にも優れる。上記微粒子の粒子径平均一次粒子径は、好ましくは10nm~200nmであり、さらに好ましくは20nm~60nmである。このような粒子径の微粒子を用いることにより、中間層表面に適切に凹凸を形成して、基材フィルムと中間層の接触面における摩擦力を効果的に低減し得る。その結果、ブロッキング抑制能にさらに優れ得る。また、平均一次粒子径が可視光波長よりも小さく、かつ小さければ小さいほど、粒子による光散乱を抑制できるので、光学積層体の特性に与える影響をより抑制し得る。上記中間層形成用組成物が水系の場合、好ましくは、上記微粒子は水分散体として配合される。具体的には、微粒子としてシリカを採用する場合、好ましくは、コロイダルシリカとして配合される。コロイダルシリカとしては、市販品をそのまま用い得る。市販品としては、例えば、扶桑化学工業株製のクォートロンPLシリーズ、日産化学工業株製のスノーテックスシリーズ、日本アエロジル株のAERODISPシリーズおよびAEROSILシリーズ等が挙げられる。上記中間層形成用組成物は、好ましくは、架橋剤を含む。当該架橋剤は、任意の適切な架橋剤を採用し得る。具体的には、上記ウレタン樹脂がカルボキシル基を有する場合、架橋剤としては、好ましくは、カルボキシル基と反応し得る基を有するポリマーが挙げられる。カルボキシル基と反応し得る基としては、例えば、有機アミノ基、オキサゾリン基、エポキシ基、カルボジイミド基等が挙げられる。好ましくは、架橋剤は、オキサゾリン基を有する。これらの中でも、オキサゾリン基を有する架橋剤は、上記ウレタン樹脂と混合したときの室温でのポットライフが長く、加熱することによって架橋反応が進行するため、作業性が良好である。上記ポリマーとしては、任意の適切なポリマーを採用し得る。例えば、アクリル系ポリマー、スチレンアクリル系ポリマー等が挙げられる。好ましくは、アクリル系ポリマーである。アクリル系ポリマーを用いることにより、基材フィルムとの密着性がさらに向上し得る。また、水系の中間層形成用組成物に安定的に相溶し得、上記ウレタン樹脂と良好に架橋し得る。上記中間層形成用組成物は、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤としては、例えば、ブロッキング防止剤、分散安定剤、揺変剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、増粘剤、分散剤、界面活性剤、触媒、フィラー、滑剤、帯電防止剤等が挙げられる。上述したように、中間層形成用組成物は、好ましくは水系である。中間層形成用組成物におけるウレタン樹脂の濃度は、好ましくは1.5重量~15重量であり、さらに好ましくは2重量~10重量である。中間層形成時の作業性に優れ得るからである。中間層形成用組成物中の架橋剤固形分の含有量は、ウレタン樹脂固形分100重量部に対して、好ましくは1重量部~30重量部であり、さらに好ましくは3重量部~20重量部である。1重量部以上とすることにより、基材フィルムとの密着性に優れ得る。一方、30重量部以下とすることにより、中間層に位相差が発現するのを抑制し得る。微粒子を用いる場合、中間層形成用組成物中の微粒子固形分の含有量は、ウレタン樹脂固形分:架橋剤を含む場合は架橋剤をも含めた固形分100重量部に対して、好ましくは0.3重量部~10重量部であり、さらに好ましくは0.6重量部~3重量部である。具体的には、中間層における微粒子の含有量は、樹脂固形分100重量部に対して、好ましくは0.3重量部~10重量部であり、さらに好ましくは0.6重量部~3重量部である。このような範囲に設定することにより、中間層表面に適切に凹凸を形成して、メタアクリル系樹脂フィルムと中間層の接触面における摩擦力を効果的に低減し得る。その結果、ブロッキング抑制能にさらに優れ得る。また、光学積層体の特性に与える影響をより抑制し得る。上記中間層の厚みは、任意の適切な値に設定し得る。好ましくは0.1μm~10μmであり、さらに好ましくは0.1μm~5μmであり、特に好ましくは0.2μm~1.5μmである。このような範囲に設定することにより、基材フィルムとの密着性に優れ得、かつ、中間層に位相差が発現するのを抑制し得る。基材フィルム10と中間層20との間の摩擦係数は、好ましくは0.1~0.6であり、さらに好ましくは0.2~0.4である。以下、中間層の形成方法を説明する。中間層の形成方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。中間層は、代表的には、上記中間層形成用組成物を基材フィルムの片側に塗布して、乾燥させることにより形成される。中間層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットオリフィスコート法、カーテンコート法、ファウンテンコート法、コンマコート法が挙げられる。乾燥温度としては、代表的には50°C以上、好ましくは90°C以上、さらに好ましくは110°C以上である。乾燥温度をこのような範囲とすることにより、耐色性特に、高温高湿下におけるに優れた光学積層体を提供し得る。乾燥温度は、好ましくは200°C以下、さらに好ましくは180°C以下である。上述のように、基材フィルムの少なくとも片側例えば、中間層が形成される側に、表面処理が施され得る。この場合、中間層を形成する前に、表面処理を施す。表面処理の具体例は、上記B項で説明したとおりである。表面処理としては、好ましくは、コロナ放電処理、プラズマ処理である。コロナ放電処理を施すことにより、表面処理層と基材フィルムとの接着性および密着性がさらに向上し得る。コロナ放電処理は、任意の適切な条件で施される。例えば、コロナ放電電子照射量は、好ましくは50W/m2/min~150W/m2/minであり、さらに好ましくは70W/m2/min~100W/m2/minである。なお、上記基材フィルムが延伸フィルムである場合、当該延伸処理は、中間層の形成前に行ってもよいし、中間層の形成後に行ってもよい。好ましくは、上記中間層形成用組成物を基材フィルムに塗工した後、延伸する。このようにすれば、フィルムの延伸処理と中間層形成用組成物の乾燥とを同時に実施できるからである。D.表面処理層表面処理層30としては、目的に応じて任意の適切な表面処理層が形成され得る。代表例としては、アンチグレア層、反射防止層およびハードコート層が挙げられる。アンチグレア層は、画像表示装置の表面で外光が反射することによる透過光の視認性低下の防止等を目的として設けられる。アンチグレア層は、形成されるフィルム表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。アンチグレア層を形成する材料としては、代表的には、透明樹脂が挙げられる。具体例としては、イソシアヌル酸トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのようなアクリル系樹脂、イソホロンジイソシアネートポリウレタンのようなウレタン系樹脂を含有する紫外線硬化型樹脂が挙げられる。微細凹凸構造の付与は、任意の適切な方式で行われる。代表例としては、粗面化例えば、サンドブラスト、エンボス加工、微粒子の配合が挙げられる。微粒子を用いる場合、当該微粒子としては、目的に応じて任意の適切な微粒子が採用され得る。好ましくは、透明微粒子である。具体的には、微粒子は、無機系微粒子例えば、導電性であり得るシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化スズ、酸化インジウム、酸化カドミウムまたは酸化アンチモン微粒子であってもよく、有機系微粒子例えば、架橋または未架橋のポリマー微粒子であってもよい。微粒子の平均粒径は、好ましくは0.5μm~20μmである。微粒子の配合量は、透明樹脂100重量部に対して、好ましくは2重量部~70重量部であり、より好ましくは5重量部~50重量部である。ハードコート層は、画像表示装置の表面に配置される偏光板等の表面の傷付き防止等を目的として設けられる。ハードコート層は、適切な硬度および滑り性を有する硬化膜で構成される。ハードコート層を形成する材料としては、上記アンチグレア層を形成するアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂に加えて、シリコーン系樹脂が挙げられる。反射防止層は、画像表示装置の表面での外光の反射防止を目的として設けられる。反射防止層としては、当業界で通常用いられている反射防止層が採用され得る。上記表面処理層は、代表的には、溶液または分散液状体の表面処理層形成用組成物を中間層上に塗布し、硬化および乾燥させることにより形成され得る。すなわち、本発明によれば、上記特定の中間層を形成することにより、粘着剤層も接着剤層も介することなく、優れた密着性で光学積層体を作製することができる。硬化条件および乾燥条件は、目的、形成材料の種類等に応じて適切に設定され得る。表面処理層を形成する材料として紫外線硬化型樹脂を用いる場合には、紫外線の積算光量は、好ましくは200mJ/cm2~400mJ/cm2である。乾燥温度は、好ましくは50°C~90°Cであり、乾燥時間は、好ましくは1分間~10分間である。以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における評価方法は以下のとおりである。また、実施例において、特に明記しない限り、部およびは重量基準である。1波長380nmの光透過率日立ハイテク株社製の分光光度計装置名称;U-4100を用いて波長範囲200nm~800nmで透過率スペクトルを測定し、波長380nmにおける透過率を読み取った。2位相差値王子計測機器株製商品名KOBRA21-ADHを用いて、波長590nm、23°Cで測定した。3像の歪み製造例で得られた基材フィルムを、円偏光を出射する液晶表示装置の視認側に貼り付けた。この液晶表示装置を、視認者が偏光フィルター例えば、偏光サングラス、3D用メガネを使用した状態で観察し、3次元像の歪の有無を観察した。4光学特性の劣化製造例で得られた基材フィルムを、通常の方法で作成した偏光子の片側に貼り付けて、偏光板を作成した。当該偏光板を5cm×5cmサイズにカットして測定試料とし、スガ試験機株製の紫外線フェードメータ商品名;紫外線フェードメータU48に、基材フィルム側から紫外光が入射するようにセットした。測定試料に240時間紫外光を照射した後、当該偏光板をクロスニコル状態に配置して光抜けを観察した。光抜けが認められない場合を劣化なし、光抜けが認められる場合を劣化ありと評価した。5基材フィルムの総合評価上記3の評価において像の歪みが認められず、かつ、上記4の評価において劣化がない場合を良好、それ以外を不良として評価した。6密着性実施例および比較例で得られた光学積層体に、カッターナイフで10×10の碁盤目状に切れ込みを入れた。次いで、当該碁盤目状に切れ込みを入れた部分に、セロハンテープを、気泡が入らないようにヘラで擦りつけて貼り付けた。その後、テープを剥がし剥がれた割合=剥がれた碁盤目の数/100を算出した。測定した実施例および比較例の光学積層体については、全剥がれ100/100または剥がれ無し0/100の極端な結果が得られた。7耐摺傷性直径25mmの円柱の中に荷重3.92N400gfを入れ、当該円柱の平滑な底面にスチールウール0000を均一に取り付けた。当該円柱のスチールウール面で、実施例および比較例で得られた光学積層体の表面処理層表面を速度100mm/秒で10往復擦り、傷付き具合を目視にて評価した。キズの発生が認められない場合を良好、キズの発生が認められる場合を不良、表面処理層が剥がれてしまった場合を評価不可とした。8光学積層体の総合評価上記6の評価が剥がれ無しで、かつ、上記7の評価が良好である場合を良好、少なくとも1つの評価が不良である場合を不良、上記7の評価が評価不可である場合を劣悪とした。<製造例1>特開2009-161744号公報の製造例1に記載のイミド化MS樹脂100重量部およびトリアジン系紫外線吸収剤アデカ社製、商品名:T-7120.62重量部を、2軸混練機にて220°Cにて混合し、樹脂ペレットを作製した。得られた樹脂ペレットを、100.5kPa、100°Cで12時間乾燥させ、単軸の押出機にてダイス温度270°CでTダイから押出してフィルム状に成形した厚み160μm。さらに当該フィルムを、その搬送方向に150°Cの雰囲気下に延伸し厚み80μm、次いでフィルム搬送方向と直交する方向に150°Cの雰囲気下に延伸して、厚さ40μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムの波長380nmの光の透過率は8.5、面内位相差Reは0.4nm、厚み方向位相差Rthは0.78nmであった。このフィルムを上記3~5の評価に供した。結果を下記表1に示す。<製造例2>紫外線吸収剤を含有しなかったこと以外は製造例1と同様にしてフィルムを作成した。得られたフィルムの波長380nmの光の透過率は91.9、面内位相差Reは1.8nm、厚み方向位相差Rthは-2.4nmであった。このフィルムを上記3~5の評価に供した。結果を下記表1に示す。<製造例3>市販のTACフィルムコニカミノルタ社製、商品名KC4UYW、厚み40μmを用いた。このフィルムの波長380nmの光の透過率は7.2、面内位相差Reは3.1nm、厚み方向位相差Rthは38.4nmであった。このフィルムを上記3~5の評価に供した。結果を下記表1に示す。<製造例4>市販のTACフィルム富士フイルム社製、商品名Z-TACZRD60SL、厚み60μmを用いた。このフィルムの波長380nmの光の透過率は92.1、面内位相差Reは1.1nm、厚み方向位相差Rthは-1.1nmであった。このフィルムを上記3~5の評価に供した。結果を下記表1に示す。<製造例5>イミド化メタアクリル系樹脂として、特開2010-284840号公報の製造例1に記載の樹脂組成物イミド化率:3.7、酸価:0.29mmol/gを用いた。このイミド化メタアクリル系樹脂100重量部およびトリアジン系紫外線吸収剤アデカ社製、商品名:T-7120.62重量部を、2軸混練機にて220°Cにて混合し、樹脂ペレットを作製した。この樹脂ペレットを、100°Cで5時間乾燥後、40mmφ単軸押出機と400mm幅のTダイとを用いて270°Cで押し出すことにより得られたシート状の溶融樹脂を冷却ロールで冷却して幅300mm、厚み130μmのフィルムを得た。さらに当該フィルムを、縦方向および横方向にそれぞれ2倍の延伸倍率およびガラス転移温度より10°C高い温度で同時二軸延伸株式会社東洋精機製、二軸延伸装置X4HDを行ない、二軸延伸フィルム厚み40μmを作製した。得られたフィルムの波長380nmの光の透過率は8.5、面内位相差Reは0.1nm、厚み方向位相差Rthは3.4nmであった。このフィルムを上記3~5の評価に供した。結果を下記表1に示す。<実施例1>製造例1で得られた基材フィルム上に、コンマコータを用いて、ポリエステル系水分散ウレタン樹脂第一工業製薬株製、商品名:スーパーフレックス210、固形分:35を純水にて10に希釈した中間層形成用組成物を塗布し、100°Cで1分間乾燥して、中間層厚み0.40μmを形成した。一方、表面処理層本実施例ではアンチグレア層形成用組成物を以下のようにして調製した:イソシアヌル酸トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびイソホロンジイソシアネートポリウレタンからなる紫外線硬化型樹脂DIC社製、商品名ユニディック17-806、固形分:80、溶媒:酢酸ブチル、硬化皮膜の屈折率:1.530の樹脂固形分100部あたり、微粒子としてアクリルとスチレンの架橋粒子積水化成品工業株製、商品名テクポリマーXX-133AA、重量平均粒径:3.0μm、屈折率:1.525を5部、レベリング剤DIC社製、商品名GRANDICPC-4100を1.0部、光重合開始剤チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名イルガキュア907を5部混合した。この混合物を、固形分濃度が35となるようにイソプロピルアルコール/シクロペンタノン70/30で希釈して、アンチグレア層形成用組成物を調製した。上記中間層上に、上記アンチグレア層形成用組成物をコンマコータにて塗布し、60°Cで2分間乾燥し、その後、高圧水銀ランプにて積算光量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み8μmのアンチグレア層を形成した。以上のようにして光学積層体を作成した。得られた光学積層体を上記6~8の評価に供した。結果を下記表2に示す。<比較例1>ウレタン系樹脂の代わりにポリエステル系樹脂東洋紡株製水分散ポリエステル樹脂、商品名;バイロナールMD1500を純水にて10に希釈したものを用いて厚み0.40μmの中間層を形成したこと以外は実施例1と同様にして光学積層体を作成した。得られた光学積層体を上記6~8の評価に供した。結果を下記表2に示す。<比較例2>中間層を形成しなかったこと以外は実施例1と同様にして光学積層体を作成した。得られた光学積層体を上記6~8の評価に供した。結果を下記表2に示す。<比較例3>乾燥温度110°Cでアンチグレア層を形成したこと以外は比較例2と同様にして光学積層体を作成した。得られた光学積層体を上記6~8の評価に供した。結果を下記表2に示す。<実施例2>実施例1と同様にして、基材フィルム上に中間層を形成した。一方、表面処理層本実施例ではハードコート層形成用組成物を以下のようにして調製した:紫外線硬化型のハードコート樹脂DIC社製、商品名:ユニディック17-806、固形分80、希釈溶剤:酢酸ブチル固形分100部に対して、光重合開始剤チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名イルガキュア906を5.0部、レベリング剤DIC社製、商品名GRANDHICPC-4100を0.03部添加した後、固形分75になるように酢酸ブチルにて希釈し、さらに、固形分が50になるようCPNにて希釈し、ハードコート層形成用組成物を調製した。上記中間層上に、上記ハードコート層形成用組成物をコンマコータにて塗布し、80°Cで2分間乾燥し、その後、高圧水銀ランプにて積算光量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み6μmのハードコート層を形成した。以上のようにして光学積層体を作成した。得られた光学積層体を上記6~8の評価に供した。結果を下記表2に示す。<比較例4>ウレタン系樹脂の代わりにポリエステル系樹脂東洋紡株製水分散ポリエステル樹脂、商品名;バイロナールMD1500を純水にて10に希釈したものを用いて厚み0.40μmの中間層を形成したこと以外は実施例2と同様にして光学積層体を作成した。得られた光学積層体を上記6~8の評価に供した。結果を下記表2に示す。<比較例5>中間層を形成しなかったこと以外は実施例2と同様にして光学積層体を作成した。得られた光学積層体を上記6~8の評価に供した。結果を下記表2に示す。<比較例6>乾燥温度110°Cでハードコート層を形成したこと以外は比較例5と同様にして光学積層体を作成した。得られた光学積層体を上記6~8の評価に供した。結果を下記表2に示す。<実施例3>製造例5で得られたフィルムを基材フィルムとして用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体を作成した。得られた光学積層体を上記6~8の評価に供した。結果を下記表2に示す。表1から明らかなように、本発明の実施例に用いられる基材フィルムは、光学特性が劣化せず、かつ、像の歪みもない。さらに、表2から明らかなように、本発明の実施例によれば、ウレタン樹脂を含む中間層を形成することにより、このような基材フィルムと表面処理層とを、非常に優れた密着性で、かつ、耐擦傷性を低下させることなく積層することができた。"