"下記一般式[I]で表される化合物と下記一般式[II]で表される化合物との反応であって、前記反応が相間移動触媒の存在下で行われることを特徴とする反応方法。一般式[I]PhO2S-CR=CRX[一般式[I]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。]一般式[II]PhSO2kM[一般式[II]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。kは1又は2である。MはH又は金属原子である。]水と有機溶媒との混合溶媒下で行われることを特徴とする請求項1の反応方法。水:有機溶媒=1:0.01~10体積比の割合の混合溶媒下で行われることを特徴とする請求項1の反応方法。有機溶媒が炭化水素系の溶媒であることを特徴とする請求項2又は請求項3の反応方法。相間移動触媒が、一般式R4NXRは炭化水素残基、Xは酸基で表される化合物、及び一般式R4PXRは炭化水素残基、Xは酸基で表される化合物の群の中から選ばれる少なくとも一種の化合物であることを特徴とする請求項1~請求項4いずれかの反応方法。一般式[I]で表される化合物が、一般式[II]で表される化合物の溶液中に添加されることを特徴とする請求項1~請求項5いずれかの反応方法。下記一般式[III]で表される化合物が生成する反応であることを特徴とする請求項1~請求項6いずれかの反応方法。一般式[III]PhO2S-CR=CRSO2Ph[一般式[III]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。全てのPhは同一でも異なっていても良い。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。]下記一般式[IV]で表される化合物と塩基との反応工程を具備し、一般式[I]で表される化合物が生成することを特徴とする請求項1~請求項7いずれかの反応方法。一般式[IV]PhO2S-CRH-CRX2[一般式[IV]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。全てのXは同一でも異なっていても良い。]塩基はアミン類であることを特徴とする請求項8の反応方法。下記一般式[V]で表される化合物が酸化される反応工程を具備し、一般式[IV]で表される化合物が生成することを特徴とする請求項8の反応方法。一般式[V]PhS-CRH-CRX2[一般式[V]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。全てのXは同一でも異なっていても良い。]反応は酸化触媒および相間移動触媒の存在下で行われることを特徴とする請求項10の反応方法。下記一般式[VI]で表される化合物と下記一般式[VII]で表される化合物との反応工程を具備し、一般式[V]で表される化合物が生成することを特徴とする請求項10の反応方法。一般式[VI]CRHX-CRX2[一般式[VI]中、RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。全てのXは同一でも異なっていても良い。]一般式[VII]PhSM[一般式[VII]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。MはH又は金属原子である。]反応は塩基触媒の存在下で行われることを特徴とする請求項12の反応方法。反応は窒素雰囲気下および/または窒素ガスバブリング下で行われることを特徴とする請求項12又は請求項13の反応方法。化合物4は常温で気体である。従って、取扱いが困難である。化合物2は液体であるものの、沸点が32°Cである。更に、高価で、可燃性が極めて高い。化合物1も高価である。従って、化合物8を得るのに、これ等の化合物が出発原料となる合成技術は好ましいとは言えない。化合物5から化合物6を経由して化合物8を合成する手法は、高価で、かつ、有毒なセレン試薬の使用が必要である。又、高価で、かつ、爆発の恐れが有るm-クロロ過安息香酸m-CPBAを使用する必要が有る。更に、化合物7から化合物8を合成する際に、大量製造設備対応困難な光異性化反応が必要などの問題も有る。化合物10から化合物8が、直接、合成される手法は、反応が進行し難く、未反応物などの不純物が多い。この為、精製が必要であった。従って、コストが高く付いた。又、大量の溶媒を必要とし、一つの反応容器で1回に合成できる生産量にも限界が有る。すなわち、生産性が悪い。従って、本発明が解決しようとする課題は、例えばtrans12ビスフェニルスルホニルエチレン等の化合物の高純度品を、簡単、高収率、かつ、低廉なコストで、生産性良く製造する方法を提供することである。前記課題は、下記一般式[I]で表される化合物と下記一般式[II]で表される化合物との反応であって、前記反応は相間移動触媒の存在下で行われることを特徴とする反応方法によって解決される。一般式[I]PhO2S-CR=CRX[一般式[I]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。]一般式[II]PhSO2kM[一般式[II]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。kは1又は2である。MはH又は金属原子である。]好ましくは、前記反応方法であって、水と有機溶媒との混合溶媒下で前記反応が行われることを特徴とする反応方法によって解決される。更に好ましくは、前記反応方法であって、水と有機溶媒との混合溶媒水:有機溶媒=1:0.01~10体積比下で前記反応が行われることを特徴とする反応方法によって解決される。有機溶媒は、好ましくは、炭化水素系の溶剤である。好ましくは、前記反応方法であって、相間移動触媒が、一般式R4NX及び一般式R4PXRは炭化水素残基、Xは酸基で表される化合物の群の中から選ばれる少なくとも一種の化合物であることを特徴とする反応方法によって解決される。好ましくは、前記反応方法であって、一般式[I]で表される化合物が一般式[II]で表される化合物の溶液中に添加されることを特徴とする反応方法によって解決される。好ましくは、前記反応方法であって、下記一般式[III]で表される化合物が生成する反応であることを特徴とする反応方法によって解決される。一般式[III]PhO2S-CR=CRSO2Ph[一般式[III]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。全てのPhは同一でも異なっていても良い。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。]好ましくは、前記反応方法であって、下記一般式[IV]で表される化合物と塩基との反応工程を具備し、一般式[I]で表される化合物が生成することを特徴とする反応方法によって解決される。塩基は、好ましくは、アミン類である。特に好ましくは第3級アミンである。一般式[IV]PhO2S-CRH-CRX2[一般式[IV]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。全てのXは同一でも異なっていても良い。]好ましくは、前記反応方法であって、下記一般式[V]で表される化合物が酸化される反応工程を具備し、一般式[IV]で表される化合物が生成することを特徴とする反応方法によって解決される。この反応は、好ましくは、酸化触媒および相間移動触媒の存在下で行われる。一般式[V]PhS-CRH-CRX2[一般式[V]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。全てのXは同一でも異なっていても良い。]好ましくは、下記一般式[VI]で表される化合物と下記一般式[VII]で表される化合物との反応工程を具備し、一般式[V]で表される化合物が生成することを特徴とする反応方法によって解決される。この反応は、好ましくは、塩基触媒の存在下で行われる。この反応は、好ましくは、窒素雰囲気下および/または窒素ガスバブリング下で行われる。特に好ましくは窒素ガスバブリング下で行われる。一般式[VI]CRHX-CRX2[一般式[VI]中、RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。全てのXは同一でも異なっていても良い。]一般式[VII]PhSM[一般式[VII]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。MはH又は金属原子である。]例えば、trans12ビスフェニルスルホニルエチレン等の化合物類縁体の高純度品が、簡単、高収率、かつ、低廉なコストで、生産性良く得られる。本発明は反応方法である。特に、下記一般式[I]で表される化合物と下記一般式[II]で表される化合物との反応方法である。特に、下記一般式[III]で表される化合物が生成する反応方法である。この反応は相間移動触媒の存在下で行われた。好ましくは、一般式[I]で表される化合物が一般式[II]で表される化合物の溶液中に添加された。例えば、一般式[I]で表される化合物を含有する溶液が、一般式[II]で表される化合物を含有する溶液中に滴下された。前記反応は、好ましくは、水と有機溶媒との混合溶媒下で行われた。前記反応は、特に好ましくは、水:有機溶媒=1:0.01~10体積比の割合の混合溶媒下で行われた。中でも、前記比有機溶媒/水が0.2以上であった。前記比有機溶媒/水が5以下であった。前記一般式[I]で表される化合物は、好ましくは、次のようにして得られた化合物であった。すなわち、下記一般式[IV]で表される化合物と塩基との反応によって生成した化合物であった。ここで、塩基は、好ましくは、アミン類であった。特に好ましくは第3級アミンであった。下記一般式[IV]で表される化合物は、好ましくは、次のようにして得られた化合物であった。すなわち、下記一般式[V]で表される化合物の酸化によって得られた化合物であった。この酸化反応は、好ましくは、酸化触媒および相間移動触媒の存在下で行われた。下記一般式[V]で表される化合物は、好ましくは、下記一般式[VI]で表される化合物と下記一般式[VII]で表される化合物との反応によって得られた。この反応は、好ましくは、塩基触媒の存在下で行われた。これ等の化合物原料は入手が容易であった。低廉なコストで得られた。かつ、取扱いが容易であった。従って、目的とする化合物が低廉なコストで得られた。本発明で合成された化合物は、例えば有機電子デバイス例えば、電界効果トランジスタ等、光学記録媒体、導電性高分子材料例えば、帯電防止材料、電池の電極材料、表示素子などの電子材料等の原料となる。例えば、ベンゾポルフィリンやイソインドールポリマー等の原料として好適である。一般式[I]PhO2S-CR=CRX[一般式[I]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。]一般式[II]PhSO2kM[一般式[II]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。kは1又は2である。MはH又は金属原子である。]一般式[III]PhO2S-CR=CRSO2Ph[一般式[III]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。全てのPhは同一でも異なっていても良い。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。]一般式[IV]PhO2S-CRH-CRX2[一般式[IV]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。全てのXは同一でも異なっていても良い。]一般式[V]PhS-CRH-CRX2[一般式[V]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。全てのXは同一でも異なっていても良い。]一般式[VI]CRHX-CRX2[一般式[VI]中、RはH、X又はアルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。Xは反応性基である。全てのXは同一でも異なっていても良い。]一般式[VII]PhSM[一般式[VII]中、Phは置換基を有することもあるフェニル基である。MはH又は金属原子である。]尚、上記一般式[III]で表される化合物は、例えばtrans型の化合物である。以下更に詳しく説明する。前記一般式[I]におけるPhはフェニル基である。フェニル基は、1~5個の置換基を有していても良い。この置換基は、好ましくは、炭素数が5以下の炭化水素系の基である。本明細書で炭化水素系と言った場合、C,Hのみで構成される炭化水素に限られるのでは無く、例えばC,H,Oで構成される場合、C,H,Nで構成される場合なども広く含まれる。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基である。或いは、アルキレン基である。又は、メトキシ基などのアルコキシ基である。フェニル基は、勿論、置換基を持たない場合も有る。前記一般式[I]におけるXは反応性基である。前記一般式[I]におけるRは、H,X又はアルキル基である。アルキル基は、好ましくは、炭素数が5以下のアルキル基である。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などである。Xは反応性基である。前記反応性基は、好ましくは、例えばCl,Br,I等のハロゲン原子である。或いは、メシル基、トシル基、トリフラート基である。特に好ましいのはハロゲン原子である。前記RはH又はアルキル基の場合が特に好ましいものであった。中でもHであった。前記XはClの場合が特に好ましいものであった。前記一般式[II]におけるPhはフェニル基である。フェニル基は、1~5個の置換基を有していても良い。置換基は、好ましくは、炭素数が5以下の炭化水素系の基である。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基である。或いは、アルキレン基である。又は、メトキシ基などのアルコキシ基である。フェニル基は、勿論、置換基を持たない場合も有る。前記一般式[II]におけるMは金属原子である。例えば、アルカリ金属例えば、Na,K等である。又は、アルカリ土類金属例えば、Mg,Ca等である。Mは、好ましくは、アルカリ金属であった。中でも、Na,Kであった。前記一般式[II]におけるkは、金属の配位数により、1又は2である。前記一般式[III]のPh,Rは、前記一般式[I][II]のPh,Rに準ずる。前記相間移動触媒としては各種の化合物が挙げられる。例えば、一般式R4NXRは炭化水素残基例えば、アルキル基、アリル基、アリール基など、Xは酸基Cl,Br,I,HSO4等で表される化合物や、一般式R4PXRは炭化水素残基例えば、アルキル基、アリル基、アリール基など、Xは酸基Cl,Br,I,HSO4等で表される化合物が挙げられる。例えば、水にも有機溶媒にも可溶な長鎖アルキルアンモニウムカチオンを持つ塩テトラブチルアンモニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウム塩などが挙げられる。勿論、これ等に限られない。その他にも、相間移動触媒として、例えばホスホニウム塩などの各種のイオン液体やクラウンエーテル等が挙げられる。そして、このような群の中から選ばれる一種または二種以上の化合物を適宜用いることが出来る。尚、本発明において、好ましい相間移動触媒は、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、塩化トリオクチルメチルアンモニウム、塩化トリオクチルメチルアンモニウムC6~C10の混合物、硫酸水素トリオクチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウム、塩化フェニルトリメチルアンモニウム等であった。中でも好ましい相間移動触媒は、水への溶解度が低い塩化トリオクチルメチルアンモニウム、塩化トリオクチルメチルアンモニウムC6~C10の混合物、硫酸水素トリオクチルアンモニウムであった。本発明において、特に、相間移動触媒を用いた理由は次の通りである。非特許文献1の技術の再現試験が本発明者により行われた。反応条件は次の通りであった。溶媒はメタノール/水=2/1体積比であった。反応温度は室温であった。反応時間は3時間であった。得られたtrans12ビスフェニルスルホニルエチレンの反応率は低かった。ここで反応率とは、HPLC分析における生成物の面積百分率/生成物の面積百分率未反応物の面積百分率×100の値を言う。例えば、1当量のPhSO2Naが用いられた場合の反応率はたった5であった。2当量のPhSO2Naが用いられ場合の反応率は13であった。還流温度まで上げると、ようやく、反応は終了した。反応後に濾取乾燥が行われた。この後、メタノールでの再結晶操作が行われた。非特許文献1の技術が用いられた場合、大量の溶媒を使わない限り、未反応物の結晶へのかみ込みの多いことが判った。すなわち、精製によっても、高純度品が得られ難かった。次の条件下で本発明が実施された。相間移動触媒の使用が本発明の特徴の一つである。以下の例で用いられた相間移動触媒はAliquat336メチルトリオクチルアンモニウムクロライドC6~C10の混合物である。反応温度が63°C、反応時間が3時間、溶媒がTHF/水=2/1体積比で、2当量のPhSO2Naが用いられた場合には、trans12ビスフェニルスルホニルエチレンの収率は92.4であった。反応温度が87°C、反応時間が1時間、溶媒がトルエン/水=2/1体積比で、2当量のPhSO2Naが用いられた場合には、trans12ビスフェニルスルホニルエチレンの収率は92.3であった。反応温度が50°C、反応時間が4時間、溶媒がトルエン/水=2/1体積比で、1.5当量のPhSO2Naが用いられた場合には、trans12ビスフェニルスルホニルエチレンの収率は95.7であった。反応温度が70°C、反応時間が3時間、溶媒がトルエン/水=2/1体積比で、1当量のPhSO2Naが用いられた場合には、trans12ビスフェニルスルホニルエチレンの収率は91.3であった。反応後には冷却0~5°Cが行われた。そして、濾取乾燥が行われた。但し、再結晶操作は行われなかった。再結晶操作の必要が無かった。すなわち、非特許文献1の場合に行われた再結晶操作が行われなくても、高純度品が得られた。つまり、精製なしでも99以上の高純度品が得られた。未反応物の結晶へのかみ込みは少なかった。このことから、本発明の反応系で相間移動触媒を用いた場合、その優位性重要性を理解することが出来る。本発明において、一般式[I]で表される化合物が一般式[II]で表される化合物の溶液中に添加滴下されることが好ましかった。すなわち、一般式[I]で表される化合物が一般式[II]で表される化合物の溶液中に添加滴下された場合と、一般式[II]で表される化合物が一般式[I]で表される化合物の溶液中に添加滴下された場合とを比べた処、未反応物の結晶へのかみ込みは前者の場合の方が少なかったからである。つまり、前者の場合に、より高純度なtrans12ビスフェニルスルホニルエチレンが得られたからである。本発明における反応において、溶媒は有機溶媒のみとすることも出来る。しかしながら、副生する塩を溶解するという面で、溶媒としては、水と有機溶媒との混合溶媒を用いることが特に好ましかった。用いられる有機溶媒としては各種の化合物が挙げられる。例えば、炭化水素系の溶媒が挙げられる。好ましい有機溶媒は、アルコール類例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等、ケトン類例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等、ニトリル類例えば、アセトニトリル等、エーテル類例えば、テトラヒドロフラン等、芳香族炭化水素類例えば、ベンゼン、トルエン等、脂肪族炭化水素類例えば、ヘキサン等、エステル類例えば、酢酸エチル等などが挙げられる。中でも好ましい有機溶媒は、トルエン、テトラヒドロフランであった。そして、このような群の中から選ばれる一種または二種以上の化合物を適宜用いることが出来る。本発明で用いられる前記一般式[I]で表される化合物は、好ましくは、次の化合物であった。すなわち、前記一般式[IV]で表される化合物と塩基との反応によって生成した化合物であった。前記一般式[IV]のPh,R,Xは前記一般式[I]のPh,R,Xと同様である。前記塩基は、好ましくは、アミン類であった。アミン類としては各種のアミンを用いることが出来る。例えば、アルキルアミンや、環状アミン例えば、ピリジン、N-メチルモルホリン等が挙げられる。特に好ましいアミンはアルキルアミンであった。最も好ましいアミンは第3級アミンNR3Rは、好ましくは、炭素数が1~8のアルキル基。全てのRは同一でも、異なっていても良い。であった。このアミン類による脱ハロゲン化水素例えば、脱塩化水素の反応においても、相間移動触媒を用いるのが好ましかった。尚、本反応で用いる相間移動触媒としては前記相間移動触媒と同様な相間移動触媒が挙げられる。この反応系でも相間移動触媒を用いるのが好ましかった理由は次の通りであった。非特許文献1の技術の再現試験が本発明者により行われた。反応条件は次の通りであった。PhO2SCHCHCl2中にEt3N1当量が滴下された。滴下温度は5°Cであった。滴下時間は45分であった。反応時間は16~18時間であった。反応溶媒はベンゼンであった。反応後、濾過した。濾液を6MのHClで中和した。この後、濃縮し、カラムを用いて精製した。PhO2SCH=CHClの収率は78であった。非特許文献7の技術の場合でも、PhO2SCH=CHClの収率は87である。これに対して、相間移動触媒Aliquat336が用いられた反応系では、PhO2SC=CHClが、高収率で、得られた。すなわち、PhO2SCHCHCl2中にEt3N1当量が滴下された。滴下温度は15°Cであった。滴下時間は30分であった。反応時間は30分間であった。反応溶媒はトルエンと水との混合溶媒であった。反応後、分液洗浄が行われた。この後、活性炭による処理が行われ、濃縮が行われた。精製なしで得られたPhO2SCH=CHClの収率は略100であった。すなわち、格別な精製操作なしでも、高純度なPhO2SCH=CHClが高収率で得られた。尚、トルエンの代わりに、酢酸エチル、ジクロロメタン、クロロホルム、メチルイソブチルケトン、メチル-t-ブチルエーテル等の有機溶媒が用いられても同様な結果であった。このことから、本反応系で相間移動触媒を用いた場合、その優位性重要性を理解することが出来る。PhO2SCH2CHCl2にPhSO2Naを大量の溶媒中で作用させ、直接、PhO2SCH=CHSO2Phを得ることも出来る。しかしながら、この場合には、反応率が悪く、収率が低かった。反応温度を高くすると、不純物が増加した。このようなことから、PhO2SCH2CHCl2にPhSO2Naを作用させ、直接、PhO2SCH=CHSO2Phを得る手法は好ましくなかった。前記一般式[IV]で表される化合物は、好ましくは、次の化合物であった。すなわち、前記一般式[V]で表される化合物の酸化反応によって生成した化合物であった。前記一般式[V]のPh,R,Xは前記一般式[I]のPh,R,Xと同様である。この酸化反応でも酸化触媒および相間移動触媒が用いられることが好ましかった。この酸化触媒としては、例えば塩酸、硫酸、酢酸、リン酸などの酸が用いられた。他にも、タングステン酸やモリブデン酸などの金属の酸を用いることも出来る。尚、これ等の混酸を用いることも出来た。相間移動触媒には上記の相間移動触媒が用いられた。本酸化反応では酸化剤が用いられた。この酸化剤は、好ましくは、H2O2又は、過酸化水素水であった。本酸化反応で用いられる溶媒は有機溶媒と水との混合溶媒であった。有機溶媒は、例えば、トルエンであった。その他にも、酢酸エチル、ジクロロメタン、クロロホルム、メチルイソブチルケトン、メチル-t-ブチルエーテル等の有機溶媒であっても良い。反応後、チオ硫酸ナトリウム水溶液が加えられ、過剰の過酸化物が分解され、炭酸水素ナトリウムで中和が行われた。そして、生成物を含むトルエンと水の2層溶液が得られた。この場合、分液してトルエン層のみを、一般式[IV]で表される化合物と塩基との反応系の原料として用いることも出来るが、そのまま2層溶液で用いることが出来た。前記一般式[V]で表される化合物は、好ましくは、次の化合物であった。すなわち、前記一般式[VI]で表される化合物と前記一般式[VII]で表される化合物との反応によって生成した化合物であった。前記一般式[VI]のPh,R,Xは前記一般式[I]のPh,R,Xと同様である。本反応は、好ましくは、塩基触媒の存在下で行われた。塩基触媒としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、カリウム-t-ブトキシド、炭酸カリウム等が用いられた。反応は、好ましくは、窒素雰囲気下あるいは窒素バブリング下で行われた。特に、窒素バブリング下で行われた。これにより、ジフェニルジスルフィドの副生反応が大幅に抑制できた。そして、本反応後に、有機溶媒による抽出が行われた。これにより、一般式[V]で表される化合物と有機溶媒とを含む溶液が得られた。この溶液が前記酸化反応の系に供された。これから判る通り、上記反応系では、有機溶媒として同一の溶媒例えば、トルエンを用いることが出来た。このことは好都合である。以下、具体的な実施例を挙げて説明する。しかし、本発明は、以下の実施例に限定されるものでは無い。[実施例][1,1-ジクロロ-2-フェニルチオエタン化合物9][化合物9の具体的な合成例1]ナトリウムメトキシド59.0gとDMF654.0gとが、3Lの四ツ口フラスコに加えられた。この後、窒素ガスが溶液中に供給され、バブリングが行われた。このバブリングは反応終了まで行われた。バブリング開始時の温度は10~15°Cであった。バブリング開始後、30分経過してから、チオフェノール109.0gとDMF218.0gとの混合溶液が前記溶液ナトリウムメトキシドDMF中に滴下された。滴下後、15分間の撹拌が行われた。この後、1,1,2-トリクロロエタン396.0gが滴下された。滴下後、60°Cに加熱が行われた。この後、3時間の撹拌が行われた。この後、冷却20~30°Cが行われた。冷却後、トルエン700.0gと水700.0gとが添加された。添加後、15分間の撹拌が行われた。撹拌後、静置分液が行われた。水層がトルエンで抽出された。この後、有機層は混合され、3苛性ソーダ水溶液700.0gによる分液洗浄が2回行われた。これにより、1,1-ジクロロ-2-フェニルチオエタン化合物9のトルエン溶液1637.0gが得られた。一部サンプリングが行われ、トルエンの留去が行われた。収率は94.8であった。トルエン溶液1637.0g中の化合物9は194.2gであった。得られた1,1-ジクロロ-2-フェニルチオエタン化合物9のNMRデータは次の通りであった。[化合物9の具体的な合成例2]ナトリウムメトキシド1.2gとDMF18.9gとが、100mLの三ツ口フラスコに加えられた。この後、窒素ガスバブリングが行われた。このバブリングは反応終了まで行われた。バブリング開始時の温度は10~15°Cであった。バブリング開始後、30分経過してから、チオフェノール2.36gが前記溶液ナトリウムメトキシドDMF中に滴下された。滴下後、15分間の撹拌が行われた。この後、1,1,2-トリクロロエタン8.7gが滴下された。滴下後、60°Cに加熱が行われた。この後、3時間の撹拌が行われた。この後、冷却20~30°Cが行われた。冷却後、MTBE25.9gと水35gとが添加された。添加後、15分間の撹拌が行われた。撹拌後、静置分液が行われた。水層がMTBEで抽出された。この後、有機層は混合され、5苛性ソーダ水溶液25gによる分液洗浄が2回行われた。この後、硫酸マグネシウムによる脱水操作が行われた。この後、濃縮が行われた。そして、MTBEが留去された。これにより、1,1-ジクロロ-2-フェニルチオエタン化合物9が得られた。収率は95.5であった。[1,1-ジクロロ-2-フェニルスルホニルエタン化合物10][1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレン化合物11][化合物10,11の具体的な合成例1]前記合成例[化合物9の具体的な合成例1]で得た1,1-ジクロロ-2-フェニルチオエタンのトルエン溶液1637.0g:化合物9は194.2gと、タングステン酸ナトリウム2水和物3.1gと、塩化トリオクチルメチルアンモニウムC6~C10の混合物:Aliquat336:3.8gと、85リン酸2.1gと、水332.0gとが3Lの四ツ口フラスコに加えられた。この後、50°Cに加熱された。この後、35過酸化水素水200.0gが、ゆっくり、滴下された。滴下後、2時間の撹拌が行われた。撹拌後、冷却15~25°Cが行われた。冷却後、10チオ硫酸ナトリウム水溶液の滴下が行われ、過剰な過酸化物の分解が行われた。この後、炭酸水素ナトリウムによる中和pH7~8が行われた。トルエン層には、化合物10が存在している。この後、トリエチルアミン94.0gが滴下された。滴下後、30分間の撹拌が行われた。この後、静置分液が行われた。有機層が水洗された。この後、活性炭が添加された。そして、30分間の撹拌が行われた。撹拌後、濾過により活性炭が除去された。これにより、1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレンのトルエン溶液1810.0gが得られた。一部サンプリングが行われ、トルエンの留去が行われた。収率は、ほぼ100であった。トルエン溶液1810.0g中の化合物11は190.0gであった。得られた1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレン化合物11のNMRデータは次の通りであった。[化合物10,11の具体的な合成例2]前記合成例[化合物9の具体的な合成例1]で得た1,1-ジクロロ-2-フェニルチオエタンのトルエン溶液272.8g:化合物9は32.4gと、酢酸161.7gと、濃硫酸0.8gとが500mLの四ツ口フラスコに加えられた。この後、20~30°Cで、35過酸化水素水16.8gが、ゆっくり、滴下された。滴下後、30分間の撹拌が行われた。撹拌後、加熱70°Cが行われた。加熱後、35過酸化水素水16.8gが、ゆっくり、滴下された。滴下後、1時間の撹拌が行われた。撹拌後、冷却20~30°Cが行われた。10チオ硫酸ナトリウム水溶液の滴下が行われ、過剰な過酸化物の分解が行われた。この後、静置分液が行われた。有機層が5炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄された。更に、5炭酸水素ナトリウム水溶液が添加され、pH7に調整された。トルエン層には、化合物10が存在している。この後、トリエチルアミン15.3gが滴下された。滴下後、30分間の撹拌が行われた。この後、静置分液が行われた。有機層が水洗された。この後、活性炭が添加された。そして、30分間の撹拌が行われた。撹拌後、濾過により活性炭が除去された。これにより、1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレンのトルエン溶液291.0gが得られた。サンプリングが行われ、収率が調べられた。収率は94.3であった。[化合物10の具体的な合成例3]前記合成例[化合物9の具体的な合成例2]で得た1,1-ジクロロ-2-フェニルチオエタン2.0gと、酢酸10.5gと、濃硫酸0.1gとが、100mLの三ツ口フラスコに加えられた。35過酸化水素水1.4gが、前記溶液中に、20~30°Cで、ゆっくり、滴下された。滴下後、80°Cに加熱が行われた。加熱後、35過酸化水素水1.4gが、ゆっくり、滴下された。滴下後、107°Cに加熱が行われた。加熱後、撹拌が1時間行われた。撹拌後、冷却80~90°Cが行われた。冷却後、チオ硫酸ナトリウム水溶液の滴下が行われ、晶析が行われた。30°C以下にまで冷却が行われた。析出した結晶が濾過された。そして、水による洗浄が行われた。減圧乾燥50°C,2時間が行われた。これにより、白色粉末が得られた。収率は90.9であった。得られた1,1-ジクロロ-2-フェニルスルホニルエタン化合物10のNMRデータは次の通りであった。[化合物10の具体的な合成例4]前記合成例[化合物9の具体的な合成例2]で得た1,1-ジクロロ-2-フェニルチオエタン11.7gと、酢酸55.1gと、濃硫酸0.5gとが、200mLの三ツ口フラスコに加えられた。35過酸化水素水5.9gが、前記溶液中に、20~30°Cで、ゆっくり、滴下された。滴下後、30分間の撹拌が行われた。撹拌後、70°Cに加熱が行われた。加熱後、35過酸化水素水5.9gが、ゆっくり、滴下された。滴下後、1時間の撹拌が行われた。撹拌後、冷却20~30°Cが行われた。冷却後、10チオ硫酸ナトリウム水溶液の滴下が行われ、過剰な過酸化物の分解が行われた。この後、トルエンによる抽出が2回行われた。得られた有機層が、5炭酸水素ナトリウム水溶液で、2回、洗浄された。この後、濃縮が行われた。そして、トルエンが留去され、1,1-ジクロロ-2-フェニルスルホニルエタン化合物10が得られた。収率は98.2であった。[化合物11の具体的な合成例3]前記合成例[化合物10の具体的な合成例3]で得た1,1-ジクロロ-2-フェニルスルホニルエタン4.6gと、トルエン44.5gとが、100mLの三ツ口フラスコに加えられた。この後、トリエチルアミン2.3gが、前記溶液中に、15°Cで、ゆっくり、滴下された。滴下後、30分間の撹拌が行われた。この後、5塩酸水溶液が添加された。15分間の撹拌が行われた。この後、静置分液が行われた。有機層が5炭酸水素ナトリウム水溶液により洗浄された。この後、濃縮が行われ、トルエンが留去された。これにより、1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレン化合物11が得られた。収率は94.9であった。[trans12ビスフェニルスルホニルエチレン化合物8][化合物8の具体的な合成例1]ベンゼンスルフィン酸ナトリウム2水和物62.7g;1.0当量と水249.7gとが、1Lの四ツ口フラスコに加えられた。この後、加熱70°Cが行われた。前記合成例[化合物10,11の具体的な合成例1]で得た1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレン化合物11のトルエン溶液603.3g:化合物11は63.3gが、ゆっくり、滴下された。尚、このトルエン溶液は前記合成例[化合物10,11の具体的な合成例1]で得た1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレン化合物11のトルエン溶液であり、特別な精製が施されてない為、化合物10の合成時に使用された相間移動触媒Aliquat336が残存している。滴下後、3時間の撹拌が行われた。撹拌後、冷却0~5°Cが行われた。析出した結晶が濾過された。そして、トルエン300gによるリンスが行われた。次いで、THF300gによるリンスが2回行われた。この後、減圧乾燥60°C,16時間が行われた。これにより、白色の粉末が得られた。収率は91.3であった。LC面百値は99.6で、更なる追加の精製は不必要であった。得られたtrans12ビスフェニルスルホニルエチレン化合物8のNMRデータ等は次の通りであった。[化合物8の具体的な合成例2Aliquat336後添加]ベンゼンスルフィン酸ナトリウム2水和物7.2g;1.2当量と水23.9gとAliquat3360.12gとが、100mLの三ツ口フラスコに加えられた。この後、加熱70°Cが行われた。前記合成例[化合物10,11の具体的な合成例2]で得た1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレン化合物11のトルエン溶液58.2g:化合物11は6.0gが、ゆっくり、滴下された。尚、このトルエン溶液は前記合成例[化合物10,11の具体的な合成例2]で得た1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレン化合物11のトルエン溶液であり、化合物10の合成時には相間移動触媒Aliquat336が使用されていない為、相間移動触媒が存在していない系である。滴下後、昇温85°Cが行われ、3時間の撹拌が行われた。撹拌後、冷却0~5°Cが行われた。析出した結晶が濾過された。そして、60メタノール水30gによるリンスが行われた。この後、減圧乾燥60°C,3時間が行われた。これにより、白色の粉末が得られた。収率は92.7であり、LC面百値は99.5で、更なる追加の精製は不必要であった。[比較例1非特許文献1:溶媒が少ない場合]前記合成例[化合物11の具体的な合成例3]で得た1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレン化合物11:3.7gとメタノール28.3gとが、100mLの三ツ口フラスコに加えられた。ベンゼンスルフィン酸ナトリウム3.0g;1.0当量と水17.8gとの混合溶液が20~30°Cで滴下された。滴下後、2時間の攪拌が行われた。HPLCにより反応チェックが行われたが、化合物8は23.3であった。更に、ベンゼンスルフィン酸ナトリウム3.0g;1.0当量が加えられ、2時間の攪拌が行われると、化合物8は51.6であった。還流温度73~74°Cまで昇温が行われ、5時間の攪拌が行われると、反応はようやく完結した。撹拌後、冷却0~5°Cが行われた。析出した結晶を濾過した。そして、メタノール20gによるリンスが行われた。この後、減圧乾燥50°C,2時間が行われた。これにより、白色の粉末が得られた。収率は92.9であった。LC面百値は97.1であった。未反応物化合物11が2.8残存していた。[比較例2Aliquat336不使用]ベンゼンスルフィン酸ナトリウム2水和物6.0g;1.0当量と水23.9gとが、100mLの三ツ口フラスコに加えられた。この後、加熱70°Cが行われた。前記合成例[化合物10,11の具体的な合成例2]で得た1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレン化合物11のトルエン溶液58.2g:化合物11は6.0gが、ゆっくり、滴下された。尚、このトルエン溶液は前記合成例[化合物10,11の具体的な合成例2]で得た1-クロロ-2-フェニルスルホニルエチレン化合物11のトルエン溶液であり、化合物10の合成時に相間移動触媒Aliquat336が不使用である為、相間移動触媒が存在していない系である。滴下後、3時間の撹拌が行われた。反応チェックが行われた結果、反応は1割程度しか進行し無かった。"