アルコキシシランおよびカルボキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の有機ケイ素:第1濃度の溶解残留塩化物;および第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤、を含む有機ケイ素組成物であって、該有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第1濃度]xここで、Xは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度]との積として規定される第1のKsposを有し、該溶解残留塩化物の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満である、組成物。少なくとも1種の有機ケイ素が、少なくとも1種のカルボキシシランを含む請求項1の組成物。少なくとも1種の有機ケイ素が、少なくとも1種のアルコキシシランを含む請求項1の組成物。該カルボキシシランが、a式R1nR2COO3nSiHの化合物であって、ここで、R1は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;そしてnは、0、1または2である化合物、b式R1nR2COO2nHSi-O-SiHR3mOOCR42mの化合物であって、ここで、R1およびR3は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2およびR4は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;nは、0または1でありmは、0、1または2である化合物、c式R1nR2COO2nHSi-SiHR3mOOCR42mの化合物であって、ここで、R1およびR3は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2およびR4は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;nは、0または1でありmは、0、1または2である化合物、および、d式R1nR2COO2nHSi-R5-SiHR3mOOCR42mの化合物であって、ここで、R1およびR3は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2およびR4は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R5は、独立して、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;nは1~3であり;そしてmは、0、1または2である化合物、からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項2の組成物。アルコキシシランが、a式R1nR2O3nSiHの化合物であって、ここで、R1は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2は、独立して、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;そしてnは、0、1または2である化合物、b式R1nR2O2nHSi-O-SiHR3mOR42mの化合物であって、ここで、R1およびR3は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2およびR4は、独立して、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;nは、0または1でありmは、0、1または2である化合物、c式R1nR2O2nHSi-SiHR3mOR42mの化合物であって、ここで、R1およびR3は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2およびR4は、独立して、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;nは、0または1でありmは、0、1または2である化合物、および、d式R1nR2O2nHSi-R5-SiHR3mOR42mの化合物であって、ここで、R1およびR3は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2およびR4は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R5は、独立して、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;nは、0または1でありmは、0、1または2である化合物、からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項3の組成物。該アルコキシシランが、ジエトキシメチルシランである、請求項3の組成物。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の90未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の90未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の90未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の90未満である、請求項6の組成物。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の70未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の70未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の70未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の70未満である、請求項6の組成物。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の50未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の50未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の50未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の50未満である、請求項6の組成物。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の30未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の30未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の30未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の30未満である、請求項6の組成物。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の10未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の10未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の10未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の10未満である、請求項6の組成物。溶解残留塩化物の第1濃度が10ppm未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度が10ppm未満である、請求項6の組成物。溶解残留塩化物の第1濃度が5ppm未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度が5ppm未満である、請求項12の組成物。溶解残留塩化物の第1濃度が2ppm未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度が5ppm未満である、請求項13の組成物。化学気相堆積工程で用いられる有機ケイ素材料中で固体の形成を防ぐ方法であって、該方法が、以下のステップ:アルコキシシランおよびカルボキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の有機ケイ素:第1濃度の溶解残留塩化物;および第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤、を含む有機ケイ素組成物を用意すること:該有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第1濃度]xここで、Xは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度]との積として規定される第1のKsposを有し、該溶解残留塩化物の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり;並びにアルコキシシランおよびカルボキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の有機ケイ素、第2の濃度の溶解残留塩化物、および第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤を含む第2の有機ケイ素を用意すること、該第2の有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第2濃度]xここで、Xは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度]との積として規定される第2のKsposを有し、各々の溶解残留塩化物第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満である、を含む、方法。各々の第1のおよび第2の有機ケイ素が、少なくとも1種のカルボキシシランを含む請求項15の方法。各々の第1のおよび第2の有機ケイ素が、少なくとも1種のアルコキシシランを含む請求項15の方法。該アルコキシシランが、ジエトキシメチルシランである、請求項17の方法。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の90未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の90未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の90未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の90未満である、請求項18の方法。溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の90未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の90未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の90未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の90未満である、請求項19の方法。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の70未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の70未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の70未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の70未満である、請求項18の方法。溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の70未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の70未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の70未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の70未満である、請求項21の方法。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の50未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の50未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の50未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の50未満である、請求項18の方法。溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の50未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の50未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の50未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の50未満である、請求項23の方法。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の30未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の30未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の30未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の30未満である、請求項18の方法。溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の30未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の30未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の30未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の30未満である、請求項25の方法。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の10未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の10未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の10未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の10未満である、請求項18の方法。溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の10未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の10未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の10未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の10未満である、請求項27の方法。アルコキシシランおよびカルボキシシランの少なくとも1種;および溶解残留塩化物を含む有機ケイ素組成物を精製するための方法であって、該方法が以下のステップ:有機ケイ素組成物と化学量論的過剰の塩基性の塩化物捕集剤とを接触させて、溶解残留塩化物の少なくとも一部を塩化物塩として沈殿させること;該沈殿した塩化物塩を該有機ケイ素組成物から除去すること;該有機ケイ素組成物と酸ガスとを接触させて、過剰塩基性の塩化物捕集剤との反応による該酸ガスの塩を含む沈殿を生成させること;そして該酸ガスの塩を除去して、精製した有機ケイ素生成物を生成させること、を含む、方法。該有機ケイ素が、少なくとも1種のカルボキシシランを含む請求項29の方法。該有機ケイ素が、少なくとも1種のアルコキシシランを含む請求項29の方法。該アルコキシシランが、ジエトキシメチルシランである、請求項31の方法。該精製した有機ケイ素生成物が、第1濃度の溶解残留塩化物;および第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤、を含み、該有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第1濃度]xここで、Xは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度]との積として規定される第1のKsposを有し、該溶解残留塩化物の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満である、請求項32の方法。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の90未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の90未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の90未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の90未満である、請求項33の方法。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の70未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の70未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の70未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の70未満である、請求項33の方法。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の50未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の50未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の50未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の50未満である、請求項33の方法。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の30未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の30未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の30未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の30未満である、請求項33の方法。溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の10未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の10未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の10未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の10未満である、請求項33の方法。溶解残留塩化物の第1濃度が、10ppm未満であり、且つ溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度が、10ppm未満である、請求項33の方法。溶解残留塩化物の第1濃度が、5ppm未満であり、且つ溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度が、5ppm未満である、請求項39の方法。溶解残留塩化物の第1濃度が、2ppm未満であり、且つ溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度が、5ppm未満である、請求項40の方法。しかし、残留塩化物捕集剤の使用と関連する重大な欠点がある。例えば、化学気相堆積処理中に、部分的に空のコンテナが前駆体の第2の供給元コンテナで満たされた場合、または2つの異なる前駆体供給元コンテナが共通のマニホールドで供給される場合等で、例えばジエトキシメチルシラン等の異なるロットの有機ケイ素前駆体が混合されることは珍しいことではない。実質的な量の溶解残留塩化物を含有する前駆体のサンプルが、実質的な量の第2の供給元の溶解残留塩基性捕集剤を含有する前駆体と混合される場合、固体沈殿物が生じる場合がある。固体沈殿物は、典型的には液体前駆体の流れを制限または妨害し、液体搬送または堆積装置を汚染するため、このような固体形成は生産の問題、および堆積low-k膜と関連する多数の潜在的な性能およびまたは品質の問題となる。従って、他の有機ケイ素前駆体材料との混合で塩化物塩を沈殿させる可能性が実質的に無い有機ケイ素前駆体組成物への技術的なニーズがある。本発明は、混合物において、塩化物塩と他の有機ケイ素前駆体材料とを沈殿させる可能性が実質的に無い有機ケイ素前駆体組成物へのニーズを満たす。本発明は、例えば、ジエトキシメチルシラン等の有機ケイ素中の塩化物および塩化物捕集剤の濃度の上限を規定することによってこのニーズを満たし、そうした有機ケイ素生成物が同一供給元からの別のロットの生成物または異なる供給元からの別の生成物のいずれかと混合される場合に、塩化物が沈殿しないことを確かにするためにこの上限を満たすことが好ましい。一つの形態では、本発明は、アルコキシシランおよびカルボキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の有機ケイ素:第1濃度の溶解残留塩化物;および第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤、を含む有機ケイ素組成物であって:該有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第1濃度]xここで、Xは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度]との積として規定される第1のKsposを有し該溶解残留塩化物の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満である組成物を提供する。別の形態では、本発明は、化学気相堆積工程で用いられる有機ケイ素材料中で固体の形成を防ぐ方法であって、該方法が以下のステップ:アルコキシシランおよびカルボキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の有機ケイ素:第1濃度の溶解残留塩化物;および第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤、を含む有機ケイ素組成物を用意すること:該有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第1濃度]xここで、Xは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度]との積として規定される第1のKsposを有し、該溶解残留塩化物の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり;並びにアルコキシシランおよびカルボキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の有機ケイ素を含む第2の有機ケイ素、第2の濃度の溶解残留塩化物、および第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤を用意すること、該第2の有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第2濃度]xここで、Xは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度]との積として規定される第2のKsposを有し、各々の溶解残留塩化物第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満である、を含む、方法を提供する。また別の形態では、本発明は、アルコキシシランおよびカルボキシシランの少なくとも1種、ならびに溶解残留塩化物を含む有機ケイ素組成物を精製するための方法であって、該方法が、以下のステップ:有機ケイ素組成物と、化学量論的過剰の塩基性塩化物捕集剤とを接触させて溶解残留塩化物の少なくとも一部を塩化物塩として沈殿させること;沈殿した塩化物塩を有機ケイ素組成物から除去すること;有機ケイ素組成物と酸ガスとを接触させて、過剰塩基性塩化物捕集剤との反応による酸ガスの塩を含む沈殿を生成させること;および酸ガスの塩を除去して、精製した有機ケイ素生成物を生成すること、を含む、方法を提供する。本発明の好ましい態様では、有機ケイ素組成物は、ジエトキシメチルシランDEMSを含む。本発明は、アルコキシシランおよびカルボキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の有機ケイ素:第1濃度の溶解残留塩化物;および第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤、を含む有機ケイ素組成物を提供し:該有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第1濃度]xここで、Xは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度]との積として規定される第1のKsposを有し、該溶解残留塩化物の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満である。図1は、本発明の組成物を得るために用いることができる例示的工程を具体的に示す。図1を参照すると、ステップ110は、租crude有機ケイ素組成物、すなわち、その製造が、典型的にはその意図した使用の前に有機ケイ素生成物を精製するために除去される必要がある副生成物を含む化学量論量の塩化物を有する、有機ケイ素組成物の製造を示す。本発明による有機ケイ素組成物は、典型的には、例えば、プラズマ化学気相堆積PECVDまたは熱化学気相堆積等の化学気相堆積CVDによって35以下および、好ましくは、3以下の誘電率を有する中間層誘電体ILD膜を製造する際に使用するための有機ケイ素前駆体として用いられる。好ましい本発明による有機ケイ素は、アルコキシシランおよびカルボキシシランからなる群から選択される少なくとも1種を含む。本発明の好ましい態様では、アルコキシシランは、式R1nR2O3nSiHの化合物である。ここで、R1は、独立して、H、C1~C10、直鎖または分枝鎖、飽和、単数または複数不飽和、環状、部分的または完全フッ素化であることができ;R2は、独立して、C1~C10、直鎖または分枝鎖、飽和、単数または複数不飽和、環状、芳香族、部分的または完全フッ素化であることができ、nは、01または2である。そうしたアルコキシシランの例は、ジエトキシメチルシラン、メチルジメトキシシラン、ジメトキシメチルシラン、ジイソプロポキシメチルシラン、ジtert-ブトキシメチルシラン、トリエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジtert-ブチルエトキシシラン、およびそれらの混合物を含む。本発明の別の好ましい態様では、アルコキシシランは、式R1nR2O2nHSi-O-SiHR3mOR42mの化合物である。ここで、R1およびR3は独立して、H、C1~C10、直鎖または分枝鎖、飽和、単数または複数不飽和、環状、部分的または完全フッ素化であることができ;R2およびR4は、独立してC1~C10、直鎖または分枝鎖、飽和、単数または複数不飽和、環状、芳香族、部分的または完全フッ素化であることができ、nは0または1であり、そしてmは01または2である。13-ジメチル-13-ジエトキシジシロキサンは、そうしたアルコキシシランの例である。本発明のまた別の態様では、アルコキシシランは、式R1nR2O2nHSi-SiHR3mOR42mの化合物である。ここで、R1およびR3は、独立して、H、C1~C10、直鎖または分枝鎖、飽和、単数または複数不飽和、環状、部分的または完全フッ素化であり;R2およびR4は、独立して、C1~C10、直鎖または分枝鎖、飽和、単数または複数不飽和、環状、芳香族、部分的または完全フッ化素であることができ、nは、01または2である。12-ジメチル-12-ジエトキシジシランはそうしたアルコキシシランの例である。本発明のまた別の態様では、アルコキシシランは、式R1nR2O2nHSi-R5-SiHR3mOR42mの化合物である。ここで、R1およびR3は独立して、H、C1~C10、直鎖または分枝鎖、飽和、単数または複数不飽和、環状、部分的または完全フッ素化であることができ;R2およびR4は、独立してC1~C10、直鎖または分枝鎖、飽和、単数または複数不飽和、環状、芳香族、部分的または完全フッ素化であることができ、nは0または1であり、そしてmは01または2である。例は、1、3-ジメチル-1、3-ジエトキシジシラメタンおよび1、3-ジエチル-1、3-ジエトキシジシラメタンを含む。好ましいアルコキシシランは、アルコキシシランダイマーおよびオリゴマーと同様に、例えば、米国特許第6583048号明細書中に開示されており、参照によりその全体が本明細書中に取り込まれる。ジエトキシメチルシランは最も好ましいアルコキシシランである。本発明による好ましい有機ケイ素は、カルボキシシランを含む。例えば、カルボキシシランは、式R1nR2COO3nSiHの化合物であることができる、ここで、R1は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;そしてnは、0、1または2である。メチルジアセトキシシランはそうしたカルボキシシランの例である。本発明の別の態様では、カルボキシシランは、式R1nR2COO2nHSi-O-SiHR3mOOCR42mの化合物である。ここで、R1およびR3は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2およびR4は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり、nは、0または1でありmは、0、1または2である。13-ジメチル-13-ジアセトキシジシロキサンは、そうしたカルボキシシランの例である。本発明のまた別の態様では、カルボキシシランは、式R1nR2COO2nHSi-SiHR3mOOCR42mの化合物である。ここで、R1およびR3は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2およびR4は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;nは、0または1でありmは、0、1または2である。12-ジメチル-12-ジアセトキシジシランは、そうしたカルボキシシランの例である。本発明のまた別の態様、カルボキシシランは、式R1nR2COO2nHSi-R5-SiHR3mOOCR42mの化合物である。ここで、R1およびR3は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R2およびR4は、独立して、H、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;R5は、独立して、直鎖または分枝鎖の、飽和、単数または複数不飽和の、環状の、芳香族の、部分的または完全フッ素化C1~C10であり;nは1~3であり;そしてmは、0、1または2である。例は、13-ジメチル-1、3-ジプロピオノキシジシラメタンおよび1、3-ジエチル-1、3-ジアセトキシジシラメタンを含む。上記の詳細のように、例えば、アルコキシシランおよびカルボキシシラン等の有機ケイ素は、典型的にはクロロシランから適当なアルコールまたはカルボン酸との反応によって合成され、それぞれ、所望のアルコキシシランを生成するため、本発明による有機ケイ素組成物は、典型的にはある濃度の溶解残留塩化物を含む。この合成アプローチも化学量論の副生成物として塩化水素を生成する。アルコキシシランまたはカルボキシシラン組成物は、典型的には、例えば、副生成物、HCl、溶解した塩化物塩および合成工程からの塩化物沈殿等の塩化物を含有する成分の除去によって精製される。上記のようにクロロシラン出発化学材料の使用から結果として生じる溶解残留塩化物の除去と関係して本発明は記載されるにも関わらず、本発明の使用は、例えば、ブロモ、フルオロ、またはヨードシランが、有機ケイ素組成物の製造のために出発材料として用いられるかどうかによって、任意の溶解残留ハロゲンを含有する副生成物の除去へのより広い適用性を有することが、当業者には理解されるべきである。図1のステップ120を参照すると、塩化物を含有する成分の大部分は、蒸留を通して租アルコキシシランまたはカルボキシシラン組成物から除去され、25~2000重量ppmの塩化物を有するアルコキシシランまたはカルボキシシランとなることができる。従って、さらに処理が、溶解残留塩化物を、例えば、化学気相堆積工程中の前駆体としての使用に必要なレベルまで、さらに減少させるために典型的には必要である。図1のステップ130を参照すると、溶解残留塩化物がさらに除去されて、第1濃度の溶解残留塩化物を得た。本明細書中で使用されるように、溶解残留塩化物の第1濃度の用語は、図1のさらなる除去ステップ130後の溶解残留塩化物のレベルを示す。従来技術は、塩基性塩化物捕集剤を用いて、溶解残留塩化物をさらに低い濃度にする種々の精製技術を備えている。1種のそうした方法が、欧州特許第282486A2号明細書および欧州特許第741137A1号明細書に開示されており、そしてアルカリ金属アルコレートとの中和、続いて生じる塩の分離を含む。過剰の酸ハロゲン化物を中和するためのアンモニアおよびアルコレートの使用は、米国特許第6150552号明細書および第6242628号明細書中に開示されている。アルカリ処理された活性炭素および塩基性イオン交換樹脂もアルコキシシランから微量塩化物を除去するために使用されてきたChem.Abstracts、Vol.1171992;p.713、2515554。アルコキシシラン系の材料から残留ハロゲンを捕集するための活性炭素の使用は、米国特許第6100418号明細書に開示されている。酸ハロゲン化物を中和させるための金属塩の使用を含む米国特許第5084588号明細書等のアルコキシシランの酸ハロゲン化物含有量を減少させる他の種々のアプローチが開示されてきた。米国特許第5210254号明細書は、酸ハロゲン化物を中和するための金属アルコキシド種の添加を記載する。アミド、イミド、オキサゾリジノン、アミンおよびスルホンアミド等のアルカリ金属塩の使用が、有機シラン化合物から酸性ハロゲン化物を除去するために米国特許出願公開第20050059835号明細書中に提案されている。本発明の好ましい態様では、溶解残留塩化物が有機ケイ素組成物と、化学量論的過剰の塩基性塩化物捕集剤とを接触させることによって除去され、溶解残留塩化物の少なくとも一部を塩化物塩として沈殿させる。本明細書中で使用されるように、塩基性塩化物捕集剤の用語は、水素イオンを結合させるために有用な自由電子対を有し、したがって塩化水素塩として溶解した塩化物と結合し、これにより固体塩沈殿を生成することによって捕集剤として機能するであろう化学物質をいう。本明細書中で使用されるように塩基性不純物の用語は、溶解残留塩化物を除去するために必要な塩基性塩化物捕集剤の量を超えている組成物中の塩基性塩化物捕集剤の存在をいう。本発明の方法における使用に好適な好ましい塩基性塩化物捕集剤は、アンモニア、アミン化合物、アルコレート、金属アルコキシド、アルカリ金属塩、テトラエチレングリコールジ2-エチルヘキソエートを含む、有機酸の金属塩、エポキシドを含有する化合物、およびそれらの混合物を含む。好ましいエポキシド含有化合物は、例えば、エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化オレフィン、エポキシ化エステル、グリシジルエーテル、およびそれらの混合物を含む。ある態様では、塩基性塩化物捕集剤は、アミド、イミド、オキサゾリジノン、またはスルホンアミドのアルカリ金属塩である。他の態様では、塩基性塩化物捕集剤は、例えば、ナトリウムクエン酸等の有機酸の塩を含む。本発明のさらに好ましい態様では、塩基性塩化物捕集剤は、アンモニアまたはアミンである。本発明の方法での使用に好適な好ましいアミンは、アンモニア、ウレア、エチレンジアミンEDA、ジエチレントリアミンDETA、トリエチレンテトラミンTETA、ピリジン、トリエチレンジアミンTEDA、ジエタノールアミンDELA、トリエタノールアミンTELA、アミノプロピルジエタノールアミンAPDEA、ビスp-アミノシクロヘキシルメタンPACM、キヌクリジンQUIN、3-キヌクリジノール、トリメチルアミンTMA、テトラメチルエチレンジアミンTMEDA、テトラメチル-1、3-プロパンジアミンTMPDA、トリメチルアミンオキサイドTMAO、NNN-トリスNN-ジメチル-S-アミノプロピルアミン、33-ビスジメチルアミノ-N-メチルジプロピルアミン、コリンヒドロキシド、4-ジメチルアミノピリジンDMAP、ジフェニルアミンDPA、テトラエチレンペンタミンTEPA、およびそれらの混合物を含む。本発明の最も好ましい態様では、塩基性塩化物捕集剤は、エチレンジアミン、ウレア、アンモニア、またはそれらの混合物である。図1のステップ130は、反応が開始して塩化物塩沈殿物を生成するように、溶解残留塩化物と塩基性塩化物捕集剤との間の接触を有効にする当業者に公知の任意の方法によって実行できる。そうした方法の例は、その場反応の塩化物捕集工程を含み、塩基性塩化物捕集剤が合成ステップ中に存在し、そしてそれ自体が合成中に生成される対応する塩化物塩の沈殿を通して塩化物または塩化水素を捕集できる。この方法は、反応生成物の1種の急速な除去を通して増加した生成物の生成に有利に平衡を動かすことによって、合成反応の前進ステップを促進するさらなる潜在的恩恵を有する。いったん合成が完了すると、混合物は、典型的には溶解塩化物の定量的な沈殿が確かになるように、加熱されおよびまたは攪拌混合される。このように生成された塩化物塩沈殿物は、次に続いて、例えば、ろ過、デカンテーション、遠心分離、またはそうした技術の組み合わせ等の種々の固体分離技術の任意の1つによって除去されることができる。当業者によって普通に行われる別の方法は、最初の合成反応完了後に、別個のステップで、塩基性塩化物捕集剤を用いることである。この場合、塩化物塩として沈殿を生成することによって所望の生成物から溶解した塩化物を除去する目的で、合成反応に続く別個のステップで、初期の合成混合物は、典型的には塩基性塩化物捕集剤と接触させられる。混合物は次に適当な時間の間攪拌混合されて、確実に塩化物塩の沈殿を完了させるであろう。このように生成された塩化物塩沈殿物は、好ましくは次にろ過、デカンテーション、遠心分離、またはそうした技術の組み合わせ等の種々の固体分離技術の任意の1つによって除去される。図1のステップ140を参照すると、溶解塩基性塩化物捕集剤は、好ましくは少なくとも部分的に除去され、第1濃度の溶解塩基性塩化物捕集剤を有する組成物を得る。本明細書中で使用されるように、溶解塩基性塩化物捕集剤の第1濃度の用語は、反応させそして溶解残留塩化物を除去するために加えられた有機ケイ素組成物中の塩基性塩化物捕集剤の濃度、および/又は少なくともその一部が除去された後で組成物中に残留する有機ケイ素組成物中の塩基性塩化物捕集剤の濃度を意味する。塩基性塩化物捕集剤は、溶解塩化物を含有する材料に加えられた後は除去が困難となる場合があるため、低レベルの塩基性塩化物捕集剤は、多くの場合、塩基性不純物として溶液中に溶解したままである。本発明の一実施態様では、蒸留は、溶解残留塩化物捕集剤の濃度をさらに低下させるために用いることができ。例えば、本発明による塩化物捕集剤は、任意の残留する使用されない捕集剤またはそれらの汚染物質が、従来の蒸留手段によって直ちに分離されることができるように、その揮発性に部分的に基づいて選択されてもよい。例えば、本発明による塩化物捕集剤は、残留捕集剤が蒸留によって直ちに分離されることができるように、例えば、捕集剤の標準沸点がジエトキシメチルシランの標準沸点と充分に異なるものであることができる。例えば、ジエチレントリアミンDETAまたはトリエチレンテトラミンTETA等の化合物は、それぞれ207°Cおよび277°Cの標準沸点を有する。これらの沸点は、ジエトキシメチルシラン95°Cの標準沸点より実質的に高く、そしてしたがって、蒸留による合理的に効率的な分離を可能にする。別の適当な塩化物捕集剤は、例えば、217°Cの標準沸点を有する35-ジメチルアニリン、または他の同ように高い沸騰アミン等のアルキル置換アニリンである。あるいは、例えば、任意の使用されない残留捕集剤材料が、ろ過、遠心分離など等の典型的な固体分離技術によってジエトキシメチルシランから直ちに分離されることできるように、ジエトキシメチルシラン中で不溶性である固体捕集剤材料が、使用できる。別の例は、充填された吸着性床の形で用いることができるペレット化した、または樹脂ビーズ材料等のプレフォームド捕集剤材料である。後者の場合でさえ、除去されない場合にジエトキシメチルシラン材料の品質に悪影響を及ぼす場合がある固体吸着性または樹脂材料から溶脱した任意の汚染物質を除去するための、最終の蒸留またはろ過ステップがある。そうした使用上の注意は、処理されたジエトキシメチルシランが、非常に低レベルの塩化物および残留塩化物捕集剤の両者を含むことを確実にする。本発明の好ましい態様では、溶解残留塩化物捕集剤を含有する不純物有機ケイ素組成物は、酸ガスで処理されて、塩基性である塩化物捕集剤を除去する。この工程は、2007年5月24日に出願された米国特許出願公開第11753073号明細書に詳細に記載されており、参照により本明細書中に取り込まれる。この方法は、例えば、ジエトキシメチルシランを含む有機ケイ素組成物等の有機ケイ素組成物、過剰の塩基性塩化物捕集剤で処理してすなわち接触させて、塩化物の最適な除去を確実にする。塩基性塩化物捕集剤それ自身は、そこで次に、例えば、対応する炭酸塩の沈殿を発生させるCO2等の過剰の酸ガスとの接触によって除去できる。任意の残留する溶解したCO2は、次に組成物に、例えば、Ar、N2またはHe等の不活性ガスを大量に流すことによってきれいに除去され、実質的に塩化物、窒素を含有する捕集剤およびCO2がなく、そしてそれ故に、集積回路ための低誘電率材料の製造用原料としての使用に好適である最終生成物を生成する。有機ケイ素組成物を酸ガスと接触させて、酸ガスの塩を含む沈殿物を生成させることは、当業者に公知の任意の手段によって実施でき、塩基性塩化物溶液の少なくとも一部分と酸ガスとの反応を確実に行い、対応する不溶性の塩例えば、酸ガスが二酸化炭素である場合、炭酸塩を生成させる。酸ガスと塩化物捕集剤との間で高いレベルの接触が達成されるように、そうした手段は、有機ケイ素組成物が攪拌される間、反応器または他の容器の底からの酸ガスのバブリングを含む。本発明によれば、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度は、好ましくは有機ケイ素組成物中の各々の成分の溶解度積、またはKsposに基づいて決定される。本明細書中で使用されるようにKsposは、わずかに可溶性の化合物の溶出に適用される平衡定数として規定される。溶解度積Kspは、典型的には水溶液系と関係があるにもかかわらず、一般的な概念は、例えば、有機ケイ素溶媒系等の非水溶液系にも適用される。従って、本発明の目的では、溶解度積Ksposは、有機ケイ素媒体内の溶解度積、すなわち有機ケイ素溶媒系中のわずかに可溶性な化合物の溶出に適用される平衡定数をいう。本発明によって、したがって、第1のKsposは、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第1濃度]xXは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度]との積として規定される。Xは、溶解残留塩化物捕集剤がモノ、ジ、トリ、またはテトラ塩酸塩、それぞれ形成するか否かによって1、2、3、または4のいずれかであることができる。本発明による溶解残留塩化物および溶解残留塩化物捕集剤の相平衡状態図を決定することによって、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の上限は、上記に詳細に記載した方法を用いることにより得ることができる。固体塩化物塩沈殿物の沈殿が生じないことを確かにするために、これらの上限を避けることが必要である。相平衡状態図は、当業者に公知のあらゆる手段によって得ることができる。好ましくは、本発明によるそうした相平衡状態図は、滴定によって得られる。典型的な滴定方法は、例えば、ジエトキシメチルシラン等の有機ケイ素中に塩化物および捕集剤の公知の濃度の調製標準を含み、そして沈殿物が現れるまで滴定してもよい。溶解残留塩化物捕集剤としてエチレンジアミンEDAを用いるそうした手順は、下記に例示される。上限、すなわち、固体塩化物沈殿物が現れる上限および第1のKsposの理解によって、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度が、決定できる。本発明による有機ケイ素組成物が、固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の95未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の95未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の95未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の95未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の90未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の90未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の90未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の90未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の85未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の85未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の85未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の85未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の80未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の80未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の80未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の80未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の75未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の75未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の75未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の75未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の70未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の70未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の70未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の70未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の65未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の65未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の65未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の65未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の60未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の60未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の60未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の60未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の55未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の55未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の55未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の55未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の50未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の50未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の50未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の50未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の45未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の45未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の45未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の45未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の40未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の40未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の40未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の40未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の35未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の35未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の35未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の35未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の30未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の30未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の30未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の30未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の25未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の25未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の25未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の25未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の20未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の20未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の20未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の20未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の15未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の15未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の15未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の15未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の10未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の10未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の10未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の10未満である。またさらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の5未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の5未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の5未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の5未満である。本明細書中で使用されるように、Zが例えば、5、10、15、20など等の数値パーセントを表す、のZ未満の用語は、数値Zおよび数値Z未満の全ての数を含む。本発明の好ましい態様では、本発明による有機ケイ素組成物は、20ppm未満である第1濃度の溶解残留塩化物を有する。本発明のさらに好ましい態様では、本発明による有機ケイ素組成物は、10ppm未満である第1濃度の溶解残留塩化物を有する。なお一層さらに好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、5ppm未満である第1濃度の溶解残留塩化物を有する。本発明のもっとも好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、2ppm未満である第1濃度の溶解残留塩化物を有する。本発明の好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、20ppm未満である第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有する。本発明のさらに好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、10ppm未満である第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有する。なお一層さらに好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、5ppm未満である第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有する。本発明の最も好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、2ppm未満である第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有する。本発明の特に好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、2ppm未満である第1濃度の溶解残留塩化物および5ppm未満である第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有する。それぞれが第2の濃度の溶解残留塩化物、および第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有することができる、同一メーカーによる第2ロットの有機ケイ素生成物、または別のメーカーの有機ケイ素生成物のいずれかと混合した場合、本発明によるそうした有機ケイ素組成物は、固体塩化物塩沈殿物を生成しない。化学気相堆積処理中に、部分的に空のコンテナが第2の供給元コンテナの有機ケイ素前駆体で満たされた場合、または2つの異なる有機ケイ素前駆体の供給元コンテナが共通のマニホールドで供給される場合等、ジエトキシメチルシラン等の異なるロットの有機ケイ素前駆体が混合されることは珍しいことではないため、これは大いに重要である。この理由から、異なるロットの有機ケイ素前駆体が混合しても相互に混合可能であることは非常に重要である。例えば、実質的な量の溶解残留塩化物を含有する前駆体のサンプルが、実質的な量の第2の供給元の溶解残留塩基性塩化物捕集剤を含有する有機ケイ素前駆体と混合される場合、固体沈殿物を生じる場合がある。このような固体形成は、液体前駆体の流れの制限またはブロック、液体搬送または蒸着装置の固体による汚染、および堆積低誘電体膜と関係する多数の潜在的な性能および/または品質問題等の潜在的な問題を引き起こすであろう。本発明中に従って、第1の有機ケイ素材料と異なるすなわち、異なる製造ロット、異なる供給元であるにもかかわらず、第2の有機ケイ素は、第1の有機ケイ素材料と実質的に同じ成分を含む有機ケイ素である。例えば、ジエトキシメチルシランを含む第2の有機ケイ素は、また本発明によって第2の濃度の溶解残留塩化物、および第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤を含む。従って、第2の有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第2濃度]xここで、Xは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度]との積として規定される第2のKsposを有する。本発明による第2の有機ケイ素は、例えば、第1の有機ケイ素と同じ有機ケイ素であるが異なる製造ロットであってもよく、または第1の有機ケイ素と同じ有機ケイ素であるが異なるメーカー製であってもよい。例えば、ジエトキシメチルシランを含む第1の有機ケイ素、第1濃度の溶解残留塩化物、および第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤と、ジエトキシメチルシランを含む第2の有機ケイ素、第2の濃度の溶解残留塩化物、および第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤とを混合した場合に、固体塩化物塩が沈殿しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の95未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の95未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の95未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の95未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の90未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の90未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の90未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の90未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の85未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の85未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の85未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の85未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の80未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の80未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の80未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の80未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の75未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の75未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の75未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の75未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の70未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の70未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の70未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の70未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の65未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の65未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の65未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の65未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の60未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の60未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の60未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の60未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の55未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の55未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の55未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の55未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の50未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の50未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の50未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の50未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の45未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の45未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の45未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の45未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の40未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の40未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の40未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の40未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の35未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の35未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の35未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の35未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の30未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の30未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の30未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の30未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の25未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の25未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の25未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の25未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の20未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の20未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の20未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の20未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の15未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の15未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の15未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の15未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の10未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の10未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の10未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の10未満である。さらに好ましくは、本発明による有機ケイ素組成物が固体塩化物塩を生成しないことを確かにするために、溶解残留塩化物の第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度の各々が、Xが1の場合、第1のKsposの平方根の5未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根の5未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根の5未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根の5未満である。本発明の好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、20ppm未満である第2の濃度の溶解残留塩化物を有する。本発明のさらに好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、10ppm未満である第2の濃度の溶解残留塩化物を有する。なお一層さらに好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、5ppm未満である第2の濃度の溶解残留塩化物を有する。本発明の最も好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、2ppm未満である第2の濃度の溶解残留塩化物を有する。本発明の好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、20ppm未満である第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有する。本発明のさらに好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、10ppm未満である第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有する。なお一層さらに好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、5ppm未満である第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有する。本発明の最も好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、2ppm未満である第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有する。本発明の特に好ましい態様において、本発明による有機ケイ素組成物は、2ppm未満である第2の濃度の溶解残留塩化物および5ppm未満である第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤を有する。本発明による、溶解残留塩化物の第2の濃度は、溶解残留塩化物の第1濃度と同一または異なることができ、そして各々のそれぞれの濃度は、第1のKsposの平方根未満である限り、溶解残留塩化物捕集剤の第2の濃度は、溶解残留塩化物の第1濃度と同一または異なることができる。本発明によるそうした組成物は、混合物が塩化物および上限溶解度より上の捕集剤濃度を有する組成物を生成しないことを確かにするであろう。本発明は、化学気相堆積工程で用いられる有機ケイ素材料中で固体の形成を防ぐ方法であって、該方法が以下のステップ:アルコキシシランおよびカルボキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の有機ケイ素:第1濃度の溶解残留塩化物;および第1濃度の溶解残留塩化物捕集剤、を含む有機ケイ素組成物を用意すること:該有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第1濃度]xここで、Xは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度]との積として規定される第1のKsposを有し、該溶解残留塩化物の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり、そして該溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満であり;およびアルコキシシランおよびカルボキシシランからなる群から選択される少なくとも1種の有機ケイ素を含む第2の有機ケイ素、第2の濃度の溶解残留塩化物、および第2の濃度の溶解残留塩化物捕集剤を用意すること該第2の有機ケイ素組成物は、[百万分の一重量部での溶解残留塩化物の第2濃度]xXは1、2、3、または4と[百万分の一重量部での溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度]との積として規定される第2のKsposを有し、各々の溶解残留塩化物第2濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第2濃度は、Xが1の場合、第1のKsposの平方根未満、Xが2の場合、第1のKsposの立方根未満、Xが3の場合、第1のKsposの4乗根未満、またはXが4の場合、第1のKsposの5乗根未満である、を含む、方法を提供する。本発明の方法に従うステップの提供は、本発明による組成物の販売および/又は搬送を含む。図1を再び参照すると、例えば、本発明はまた、アルコキシシランおよびカルボキシシランの少なくとも1種、および溶解残留塩化物を含む有機ケイ素組成物を生成するための方法であって、有機ケイ素組成物と化学量論的過剰の塩基性塩化物捕集剤とを接触させて、溶解残留塩化物の少なくとも一部を塩化物塩として沈殿物にすること;有機ケイ素組成物から沈殿した塩化物塩を除去すること;有機ケイ素組成物と酸ガスとを接触させて、過剰塩基性塩化物捕集剤との反応で酸ガスの塩を含む沈殿物を生成させること;そして酸ガスの塩を除去して、精製した有機ケイ素生成物を生成させること、を含む方法を提供する。この発明のさらなる目的、利点、および新規な特徴は、限定されることを意図しない、以下のこれらの例の試験で当業者に明らかになるであろう。例1:ジエトキシメチルシラン中エチレンジアミンおよびHCIの相平衡状態図決定のための標準の調製。ジエトキシメチルシランの5サンプルを、本願中に記載された実験の標準を提供するために、標準としてまたは成分として調製した。11-1:798ppmエチレンジアミンおよび20ppm塩化物を有する100gのジエトキシメチルシラン;21-2:エチレンジアミンがなく20ppm塩化物を有する500gのジエトキシメチルシラン;31-3:エチレンジアミンがなく24ppm塩化物を有する150gのジエトキシメチルシラン;41-4:エチレンジアミンがなく14ppmClを有する300gのジエトキシメチルシラン;および51-5:310ppmのエチレンジアミンと21ppmの塩化物を有する200gのジエトキシメチルシラン。3008gの1-1と42101gの1-2とを混合することによって、ジエトキシメチルシラン標準中532ppmエチレンジアミンを作製した。202ppmのエチレンジアミンを有するジエトキシメチルシランのサンプルが、次に202ppmのエチレンジアミンを有する約400gのサンプルを生成させるために、532ppmエチレンジアミンを有する320gのサンプルと、8028gの1-1とを混合した。ジエトキシメチルシラン中170ppm塩化物を3121gの1-4と6945gの1-3とを混合することによって調製した。ジエトキシメチルシラン中120ppm塩化物を5319gの1-4と4735gの1-3とを混合することによって調製した。ジエトキシメチルシラン中90ppm塩化物を6670gの1-4と3400gの1-3とを混合することによって調製した。例2:沈殿実験。例1中に記載された標準を、幾つかの沈殿実験を行うために使用し、ジエトキシメチルシラン中エチレンジアミンおよびHClの相平衡状態図を規定した。各々のこれらの実験のために、エチレンジアミンを含有するジエトキシメチルシランを、持続性の可視濁りの第1の目印が明らかになるまで、塩化物を含有するジエトキシメチルシランに滴下した。実験は視認性を改善するために、充分に照らされたドライボックスを使用して行った。一旦終点に到達すると、濁度計を溶液の濁りを確認するために使用した。結果の要約を表1に示す。これらの実験によって作られた相平衡状態図を図2に示す。塩化物レベル1。この実験の意図は、塩酸塩を沈殿させるために、90ppm塩化物を含有するジエトキシメチルシラン溶液に、加える必要があるエチレンジアミンの最小量を決定することである。このテストのために、90ppmの塩化物を含有する10061gのジエトキシメチルシランを500ml丸底フラスコ内に配置した。202ppmのエチレンジアミンおよび31ppmの塩化物を含有するジエトキシメチルシランの第2サンプルを、均一性を確かにするために急速に攪拌しながら、この第1のジエトキシメチルシランサンプルに一滴ずつ加えた。持続性の濁りが、122gのエチレンジアミンを含有する溶液を加えた後で観察された。複合物溶液の純塩化物含有量およびエチレンジアミン含有量は、それぞれ、84ppmおよび218ppmであった。塩化物レベル2。この実験の意図は、塩酸塩を沈殿させるために、120ppm塩化物を含有するジエトキシメチルシラン溶液に、加える必要があるエチレンジアミンの最小量を決定することである。このテストのために、120ppmの塩化物を含有する10059gのジエトキシメチルシランを500ml丸底フラスコ内に配置した。202ppmのエチレンジアミンおよび31ppmの塩化物を含有するジエトキシメチルシランの第2サンプルを、均一性を確かにするために急速に攪拌しながら、この第1のジエトキシメチルシランサンプルに一滴ずつ加えた。持続的な濁りが、109gのエチレンジアミンを含有する溶液を加えた後で観察された。複合物溶液の純塩化物含有量およびエチレンジアミン含有量は、それぞれ、111ppmおよび198ppmであった。塩化物レベル3。この実験の意図は、塩酸塩を沈殿させるために、170ppm塩化物を含有するジエトキシメチルシラン溶液に、加える必要があるエチレンジアミンの最小量を決定することである。このテストのために、170ppmの塩化物を含有する10028gのジエトキシメチルシランを500ml丸底フラスコ内に配置した。202ppmのエチレンジアミンおよび31ppmの塩化物を含有するジエトキシメチルシランの第2サンプルを、均一性を確かにするために急速に攪拌しながら、この第1のジエトキシメチルシランサンプルに一滴ずつ加えた。持続的な濁りが、89gのエチレンジアミンを含有する溶液を加えた後で観察された。複合物溶液の純塩化物含有量およびエチレンジアミン含有量は、それぞれ、159ppmおよび165ppmであった。塩化物レベル4。この実験の意図は、塩酸塩を沈殿させるために、240ppm塩化物を含有するジエトキシメチルシラン溶液に、加える必要があるエチレンジアミンの最小量を決定することである。このテストのために、240ppmの塩化物を含有する9983gのジエトキシメチルシランを500ml丸底フラスコ内に配置した。310ppmのエチレンジアミンおよび22ppmの塩化物を含有するジエトキシメチルシランの第2サンプルを、均一性を確かにするために急速に攪拌しながら、この第1のジエトキシメチルシランサンプルに一滴ずつ加えた。持続的な濁りが、3.4gのエチレンジアミンを含有する溶液を加えた後で観察された。複合物溶液の純塩化物含有量およびエチレンジアミン含有量は、それぞれ、23.3ppmおよび102ppmであった。表1ジエトキシメチルシラン中エチレンジアミンおよびHClの相平衡状態図の決定のための実験結果の要約。図2を参照すると、複合物ジエトキシメチルシランサンプルの塩化物追加の結果をプロットした。図2に描かれた相平衡状態図を作るために、4つのデータ点を集めた。ここのデータ点は、沈殿物を生成するために必要な特定のエチレンジアミン濃度および塩化物濃度示す。各々のデータ点を作るために、予め決められた濃度の塩化物およびエチレンジアミンと第1のジエトキシメチルシランサンプルエチレンジアミンを含有するジエトキシメチルシランとして表1に示されるを、また予め決められた濃度の塩化物およびエチレンジアミンを有する第2のジエトキシメチルシランサンプル塩化物を含有するジエトキシメチルシランとして表1中に示されるに一滴ずつ加えた。一滴ずつの追加を、持続的な可視濁りの第1の目印で停止する。エチレンジアミンおよび塩化物濃度は、表1の複合物ジエトキシメチルシランサンプルセクション中に記載される図2中の4つのデータ点に相当する。これらのエチレンジアミンおよび塩化物濃度は、各々の組成ジエトキシメチルシランサンプルのエチレンジアミンおよび塩化物濃度の重量平均を示す。相平衡状態図を作るために使用されるデータが、下記表2の実験セクション。2つの異なる溶解度積を、エチレンジアミンおよび塩化物濃度の各々のデータについて計算した:KspおよびKsp。KspおよびKspはそれぞれ、エチレンジアミンモノ塩酸monohydrochloride塩およびエチレンジアミンジ塩酸dihydrochloride塩の溶解度積として次のように規定される:KspエチレンジアミンHCIKspエチレンジアミンHCI2これらの4つのデータから、KspおよびKspの平均値を計算した。下記表2の第2部において、計算されたエチレンジアミン濃度を、所与の塩化物濃度を仮定して、モノ塩酸塩およびジ塩酸塩の平均溶解度積を使って示した。これらのデータを、図2のプロットに描かれた、KspおよびKspの計算曲線を作るために使用した。表2図2中のプロットを作り出すために使用した実験および計算溶解度積のデータ図3は、本発明による好ましい態様をさらに示す図2の相平衡状態図である。図3は、例えば、溶解残留塩化物の第1濃度および溶解残留塩化物捕集剤の第1濃度の各々がX=1の場合、第1のKsposの平方根の90、80、70、60、50、40、30、20、および10未満等の態様を具体的に示す。例3ジエトキシメチルシランDEMSの16Lサンプルが、368ppmのエチレンジアミンエチレンジアミンを含むことをガスクロマトグラフィーによって分析した。エチレンジアミンを捕集剤として使用し、ジエトキシメチルシランの合成に続き残留塩化物を除去した。塩化物種の最適な除去を確かにするために、化学量論的過剰を使用したため、サンプル中に残留エチレンジアミンが存在した。16Lサンプルを不活性ガス状態下の20Lフラスコに移した。ジエトキシメチルシラン液体を分当たり約2~3リッターの速度で90分間CO2ガスをあふれさせた。CO2とジエトキシメチルシラン液体との初期接触により、乳白色固体の沈殿を直ちに観察した。20LフラスコをN2ガスでバージして液体より上部にできた空間を不活性雰囲気とした。不活性ガス状態下02μmフィルターを通して生成物ろ過することによって、翌日固体をジエトキシメチルシラン液体から分離した。濾過された液体を排気し、そして圧力N2雰囲気で充填した。このステップをさらに2回繰り返して、ジエトキシメチルシランから溶解したCO2を除去した。CO2接触の前後のジエトキシメチルシランを比較するガスクロマトグラフィーデータを図4中に示す。CO2と接触したサンプルのクロマトグラムに明らかなエチレンジアミンピークがないことに注目する。エチレンジアミン濃度は、368ppmの初期値からCO2接触後に<2ppmエチレンジアミンに下がった。CO2を除くN2排気充填ステップの前に図4に示されたGC分析を行ったため、このサンプル中には明らかなCO2がある。N2処理サンプルの類似のGC分析は、最終のサンプル中にCO2を示さなかった。データを表3中にまとめる。例428ppmのエチレンジアミンを含有するジエトキシメチルシランの31L26kgサンプルを20Lフラスコ内に配置した。ジエトキシメチルシランをろ過したCO2であふれさせ、そして次に先の例に記載されたのと類似の方式で、N2ガスであふれさせた。最終の生成物は、GCによって分析で検出不可能量のエチレンジアミン<2ppmを有した。データを表3中にまとめる。例5573ppmのエチレンジアミンを含有するジエトキシメチルシランの100gサンプルを500mlの石英バブラーbublerに移した。バブラーは、ガスパージができる入り口および出口ラインを備える。ディップ管からなる入り口ラインは、バブラーの底18以内まで降りている。バブラーをドライボックスから除去し、そしてベンチフードのベンチ上に配置した。ジエトキシメチルシラン溶液に、300sccmのCO2を60分間注いだ。ジエトキシメチルシラン溶液とCO2との初期の接触で、曇った沈殿物が直ちに現れた。処理された溶液を一晩放置し、底に白色沈殿物とわずかに不透明の溶液が結果として生じる。020マイクロメーターのシリンジフィルターを通して溶液を迂回させて、固体を除去した。ろ過した溶液を清潔なバブラー内に配置した。バブラーを手短に10~15秒間排気し、続いて大気圧の窒素で満たした。最適なCO2除去を確かにするために、この排気充填手順を2回繰り返した。ジエトキシメチルシラン溶液の少量サンプルを、以下のエチレンジアミン分析のためにとりおいた:1残留エチレンジアミンを含む元originalのジエトキシメチルシラン;および2CO2接触後のジエトキシメチルシラン。表3はこれらのサンプルのエチレンジアミン濃度を示す。元のジエトキシメチルシランは、573ppmのエチレンジアミンを有した。エチレンジアミンレベルは、CO2で充填後に約2桁下がって54ppmになった。表3:CO2処理前後でのDEMのCO2処理のエチレンジアミン濃度の比較。好ましい態様の先の例および記載は、請求項によって規定されるような本発明の限定としてよりもむしろ具体的に説明するものと取られるべきである。上記で説明した特徴の多数の変化および組み合わせは直ちに理解され、請求項中で説明される本発明を離れることなく利用できる。そうした変化は、本発明の精神と範囲から離れたものとは見なされず、そしてすべてのそうした変化は、以下の請求項の範囲内に含まれることが意図される。