脆性材料基板を載置するテーブルと、前記脆性材料基板を加熱および冷却するスクライブヘッドと、前記スクライブヘッドを前記テーブルに対し相対的に移動する移動機構とを備え、前記スクライブヘッドは、前記テーブル上の脆性材料基板にレーザビームを照射して加熱領域となるレーザスポットを形成するレーザ照射部、および、前記レーザスポットの移動方向後方位置に向けて液体を含む冷媒を噴射して冷却領域となる冷却スポットを形成する冷媒噴射部を有し、前記基板に想定したスクライブ予定ラインに沿って、前記レーザスポットおよび前記冷却スポットをこの順で移動させて、熱応力によるスクライブラインを形成するスクライブ装置であって、前記スクライブヘッドは、前記レーザスポットの移動方向前方位置に向けて気体を噴射する気体噴射部をさらに備えることを特徴とするスクライブ装置。前記気体噴射部には噴射する気体を加熱する気体加熱機構を備えた請求項1に記載のスクライブ装置。前記加熱機構は電熱線ヒータまたはランプヒータである請求項2に記載のスクライブ装置。しかし、特許文献2に記載される手法では、噴射された冷却媒体を、吸入装置で完全に回収することは困難である。すなわち基板に対して非接触な状態で冷却するために、冷媒をノズルから噴射するようにしているが、ノズルからの噴射によって冷却媒体が飛散する領域は、直接冷却媒体が吹き付けられる冷却スポットの範囲よりも広がるので、吸入装置による除去だけでは、離れた位置に飛散した冷却媒体までは除去できない。例えば、図3aで示したように、複数条のX方向のスクライブラインL1を次々と形成する場合に、先に形成したスクライブラインL1に、後から形成される隣接するスクライブラインL1で噴射された冷却媒体が回り込んで付着することがある。その場合に、先に形成したスクライブラインL1上には冷却媒体が残留しているので、その後、図3bに示すY方向のスクライブラインL2を形成するときに、交点部分で冷却媒体が残留していることがあった。また、特許文献3の手法でも、冷却媒体を完全に回収することはできない。すなわち、冷却ノズルと基板との間に設けられた遮蔽マスクの孔またはスリットを通って噴霧ミストが基板に供給されるので、孔やスリットを通りきれない噴霧ミストの一部は遮蔽マスクの上面で跳ね返って四方に飛散することになる。従って近傍に吸引ノズルを設けてあっても、飛散した全ての噴霧ミストをきれいに吸引除去することができない。さらに孔やスリットを通過した噴霧ミストの一部は、特許文献2と同様に、冷却スポットから離れた位置に飛散することになるが、これらについては上記と同様に離れた位置に飛散した冷却媒体は回収できない。そこで本発明は、先のスクライブ加工時に使用した冷却媒体が何らかの理由で基板上に残留してしまった場合でも、その後のスクライブ加工の際に、残留した冷却媒体の影響を受けることなく、後のスクライブを正常に行うことができるスクライブ装置を提供することを目的とする。上記課題を解決するためになされた本発明のスクライブ装置は、脆性材料基板を載置するテーブルと、前記脆性材料基板を加熱および冷却するスクライブヘッドと、前記スクライブヘッドを前記テーブルに対し相対的に移動する移動機構とを備え、前記スクライブヘッドは、前記テーブル上の脆性材料基板にレーザビームを照射して加熱領域となるレーザスポットを形成するレーザ照射部、および、前記レーザスポットの移動方向後方位置に向けて液体を含む冷媒を噴射して冷却領域となる冷却スポットを形成する冷媒噴射部を有し、前記基板に想定したスクライブ予定ラインに沿って、前記レーザスポットおよび前記冷却スポットをこの順で移動させて、熱応力によるスクライブラインを形成するスクライブ装置であって、前記スクライブヘッドは、前記レーザスポットの移動方向前方位置に向けて気体を噴射する気体噴射部をさらに備えるようにしている。ここで、気体噴射部から噴射する気体は乾燥空気が好ましいが、窒素ガスであってもよい。本発明のスクライブ装置によれば、スクライブヘッドに気体噴射部を備え、スクライブ加工のためにレーザスポットがスクライブ予定ラインの各点を加熱しながら通過する直前に、当該加熱する各点に向けて気体を噴射して残留冷媒をスクライブ予定ライン上から除去するようにしたので、レーザスポットが加熱のため通過するときには、その位置より前方のスクライブ予定ライン上には残留溶媒が完全になくなっており、続くレーザスポットによる加熱において十分な熱量が基板に与えられて熱応力によるスクライブ加工を確実に進展させることができる。ここで、気体噴射部には噴射する気体を加熱する気体加熱機構を備えてもよい。具体的には、気体加熱機構として電熱線ヒータまたはランプヒータを用いることが好ましい。噴射する気体を加熱して温風とすることにより、残留媒体は蒸発しやすくなり、除去が促進される。以下、本発明に係る脆性材料基板のスクライブ装置を、図面に示した実施例に基づいて詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態であるスクライブ装置の一例を示す概略的な図であり、図2は主要部分の斜視図である。このスクライブ装置Aは、ガラス基板Wを載置するテーブル1を備えている。テーブル1は、この上に載せた基板Wを定位置で保持できるように保持機構を備えている。本実施例では、この保持機構として、テーブル1に開口させた多数の小さなエア吸着孔1aを介して基板Wを吸着保持するようにしている。また、テーブル1は、水平なレール2に沿ってY方向図1の前後方向に移動できるようになっており、モータ不図示によって回転するボールネジ3により駆動される。さらにテーブル1は、モータを内蔵する回転駆動部4により水平面内で回動できるようになっている。テーブル1を挟んで設けてある両側の支持柱5、5と、X方向に延びるガイドバー6とを備えたブリッジ7が、テーブル1上を跨ぐようにして設けられている。ガイドバー6に形成したガイド8に沿って移動できるようにしたスクライブヘッド9が設けられ、モータMの回転によりX方向に移動できるようになっている。スクライブヘッド9には加熱源としてのレーザ照射部10と、冷却機構としての冷媒噴射部11と、気体噴射部12とが一体に固定され、気体噴射部12が前、続いてレーザ照射部10、最後に冷媒噴射部11が配置されるようにして一直線上X方向に並ぶようにしてある。レーザ照射部10は、レーザ光源不図示からのレーザビームを光学レンズ系により光路を絞るようにして、基板W上に所定の大きさのレーザスポットを形成する。具体的には、進行方向の長さが20mm、幅が2mm程度の楕円状のレーザスポットを形成する。冷媒噴射部11は、レーザスポットの後方の隣接位置に向けて水やアルコールなどの液体を含む冷媒を噴射するノズルからなり、噴射された冷媒によって直接冷却される領域となる冷却スポットが形成される。具体的には直径2mm程度の円形領域あるいは楕円領域などが冷却スポットとして形成される。なお、噴射された冷媒の一部は基板で跳ね返り、冷却スポットの外側まで飛散することになる。気体噴射部12は、基板Wに向けて上方から下方にエアを吹き付けるノズル12aが設けられている。噴射方向は、真下あるいは少し前方に傾斜させてもよい。さらに、ノズル12aの周囲に電熱ヒータを巻きつけたり、ランプヒータを固定したりして、温風として噴射するようにして冷媒の蒸発を促進させてもよい。次に、上記スクライブ装置Aによるガラス基板Wのスクライブ工程について説明する。まず、ガラス基板Wをテーブル1上の定位置に載置し、エア吸着孔1aにより吸着保持させる。そして、第1スクライブ工程で、スクライブヘッド9をX方向に移動させて、レーザ照射部10からのレーザビームによりスクライブ予定ラインに沿ってレーザスポットを走査するとともに、これに追従して冷媒噴射部11から液体を含む冷媒を噴射して冷却スポットを走査する。このとき、先行する加熱レーザスポットとその後の急冷冷却スポットによって生じる熱応力を利用して、あらかじめ基板Wの端部に形成してある初期亀裂トリガを起点にして亀裂をスクライブ予定ラインの方向に進展させ、これにより一筋のスクライブラインL1が形成される。このようにして、図3aで示すように、第1スクライブ工程でX方向のスクライブラインL1を等ピッチで複数形成する。その際に、最初の1本目のスクライブラインL1を形成する時点では、特に残留冷媒は存在しないので、気体噴射部12からのエアの噴射は必要ないただし、噴射してもよい。続く2本目のスクライブラインL1を形成する時点からは、前回のスクライブのときに飛散した冷媒が今回のスクライブ予定ライン上に残留冷媒として付着している可能性があるので、気体噴射部12を作動し、加工部位の直前にエアを吹き付けながら、レーザスポットおよび冷却スポットを走査する。以後、3本目以降のスクライブラインL1において気体噴射部12を作動してエアを吹き付けながら同様の加工を行う。次いで、テーブル1を90度回転させた後、第2スクライブ工程で、図3bに示すように、X方向のスクライブラインL1と直交するY方向の複数のスクライブラインL2を前記同様の手法により等ピッチで形成する。この第2スクライブ工程においては、最初の1本目から気体噴射部12を作動させつつスクライブを行う。これにより、レーザ照射部10によるレーザスポットが通過する直前に、残留冷媒が除去される。従って、残留冷媒により照射熱が奪われるようなことがなくなり、熱応力によるスクライブラインの形成を確実に行うことができる。以上本発明の代表的な実施例について説明したが、本発明は必ずしも上記の実施形態に特定されるものでなく、その目的を達成し、請求の範囲を逸脱しない範囲内で適宜修正、変更することが可能である。例えば、上記実施形態では、X方向の2本目以降のスクライブラインL1を形成するとき、および、Y方向のスクライブラインL2を形成するときに、気体噴射部12を作動させるようにしたが、同方向のスクライブラインどうしの間隔が十分大きく設定されている場合であって、X方向またはY方向どうしのスクライブラインL1、L2の加工では残留冷媒の飛散が問題にならないときには、X方向のスクライブラインL1を形成する工程では気体噴射部12を作動させず、続くY方向のクロススクライブラインL2を行う工程から気体噴射部12を作動させるようにして、エアブローの処理を節約してもよい。また、上記実施形態では、X方向はスクライブヘッド側を移動し、Y方向はテーブルを移動させたが、テーブルを二次元に移動できるようにして、スクライブヘッドは固定してもよい。