粗引きポンプを共用し、各々が粗引きバルブを含む複数のクライオポンプと、前記複数のクライオポンプの再生のために各粗引きバルブを制御するコントローラと、を備え、開放されている粗引きバルブの閉鎖と閉鎖されている他の粗引きバルブの開放との間に遅延時間が設定されていることを特徴とするクライオポンプシステム。前記コントローラは、所定の内圧以下のクライオポンプがある場合に前記遅延時間を有効とすることを特徴とする請求項1に記載のクライオポンプシステム。前記コントローラは、前記閉鎖されている他の粗引きバルブをもつクライオポンプの内圧が、前記開放されている粗引きバルブをもつクライオポンプの内圧よりも低い場合に、前記遅延時間を有効とすることを特徴とする請求項1または2に記載のクライオポンプシステム。複数のクライオポンプのための再生方法であって、該複数のクライオポンプは共通の粗引きラインに接続されており、クライオポンプを前記粗引きラインを通じて排気する第1粗引きをすることと、前記第1粗引きから遅延時間を経て、他のクライオポンプを前記粗引きラインを通じて排気する第2粗引きをすることと、を含むことを特徴とする方法。前記第1粗引きの前に、前記他のクライオポンプを前記粗引きラインを通じて、前記第1粗引きの終了圧よりも低い圧まで排気することをさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。複数のクライオポンプをもつ真空システムにおいては、粗引きポンプがいくつかのクライオポンプで共用されることがある。複数のクライオポンプの再生時間を全体として短縮するためには、それらを並行して再生することが好ましい。粗引きポンプをあるクライオポンプから別のクライオポンプに切り替える際には、それらクライオポンプの圧力は異なっているのが普通である。本発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、そのある態様の例示的な目的のひとつは、複数のクライオポンプの圧力差が再生プロセスに与える影響を緩和することにある。本発明のある態様のクライオポンプシステムは、粗引きポンプを共用し、各々が粗引きバルブを含む複数のクライオポンプと、前記複数のクライオポンプの再生のために各粗引きバルブを制御するコントローラと、を備え、開放されている粗引きバルブの閉鎖と閉鎖されている他の粗引きバルブの開放との間に遅延時間が設定されている。本発明の別の態様は、複数のクライオポンプのための再生方法である。該複数のクライオポンプは共通の粗引きラインに接続されている。この方法は、クライオポンプを前記粗引きラインを通じて排気する第1粗引きをすることと、前記第1粗引きから遅延時間を経て、他のクライオポンプを前記粗引きラインを通じて排気する第2粗引きをすることと、を含む。本発明によれば、複数のクライオポンプの圧力差が再生プロセスに与える影響を緩和することができる。図1は、本発明の一実施形態に係るクライオポンプシステム100の全体構成を模式的に示す図である。クライオポンプシステム100は、真空環境で物体に処理をする真空処理装置の真空チャンバ図示せずの真空排気をするために使用される。真空処理装置は例えば、イオン注入装置やスパッタリング装置等の半導体製造工程で用いられる装置である。クライオポンプシステム100は、複数台のクライオポンプ10を含む。クライオポンプ10は、真空チャンバに取り付けられて、真空チャンバ図示せず内部の真空度を所望のプロセスに要求されるレベルまで高めるために使用される。例えば10-5Pa乃至10-8Pa程度の高い真空度が真空チャンバに実現される。クライオポンプ10は、その構成要素を収容するクライオポンプ容器30と、ポンプ容器30に設けられている粗引きバルブ72と、を備える。一実施例に係るクライオポンプ10の構成の詳細については、図2を参照して後述する。クライオポンプシステム100は、クライオポンプコントローラ以下ではCPコントローラとも称する20を備える。CPコントローラ20は、クライオポンプ10を制御する。つまりクライオポンプ10はCPコントローラ20が決定した制御指令に従って運転される。CPコントローラ20は粗引きバルブ72の開閉も制御する。CPコントローラ20は、各種演算処理を実行するCPU、各種制御プログラムを格納するROM、データ格納やプログラム実行のためのワークエリアとして利用されるRAM、入出力インターフェース、メモリ等を備える。また、CPコントローラ20は、真空処理装置を制御するためのホストコントローラ図示せずとも通信可能に構成されている。CPコントローラ20は、クライオポンプ10とは別体にまたは一体に構成されている。図1ではクライオポンプ10とCPコントローラ20との制御通信線を破線で示す。クライオポンプ10を粗引きするための粗引きライン90が設けられている。クライオポンプシステム100が粗引きライン90を含んでいてもよいし、クライオポンプシステム100によって排気される真空処理装置が粗引きライン90を含んでいてもよい。粗引きライン90は、クライオポンプシステム100及び/または真空処理装置の真空排気をするための真空排気システムの一部であってもよい。この真空排気システムがクライオポンプシステム100を含んでもよい。粗引きライン90は、複数のクライオポンプ10の粗引きをするために設けられている。複数のクライオポンプ10は共通の粗引きライン90に接続されている。粗引きライン90は、粗引きポンプ73と粗引き配管92とを含む。粗引きポンプ73は複数のクライオポンプ10に共通に設けられており、複数のクライオポンプ10は粗引きポンプ73を共用する。粗引きポンプ73が2台以上設けられ、それらの粗引きポンプが複数のクライオポンプ10に共用されてもよい。粗引きポンプ73は真空処理装置の真空チャンバに接続され、その真空チャンバの排気のために使用されてもよい。粗引きポンプ73は、複数のクライオポンプ10の真空引きをするための真空ポンプであり、好ましくはラフポンプまたはドライポンプである。クライオポンプ10は真空チャンバのための主ポンプであり、粗引きポンプ73は補助ポンプである。粗引きポンプ73は、クライオポンプ10の動作圧力範囲の低真空領域、言い替えればクライオポンプ10の動作開始圧力であるベース圧レベルをクライオポンプ10に提供するための真空ポンプである。粗引きポンプ73は、大気圧からベース圧レベルまでクライオポンプ容器30を減圧することができる。ベース圧レベルは、粗引きポンプ73の高真空領域にあたり、粗引きポンプ73とクライオポンプ10の動作圧力範囲の重なり部分に含まれる。ベース圧レベルは、例えば1Pa以上10Pa以下の範囲である。粗引き配管92は、粗引きポンプ73と複数のクライオポンプ10の粗引きバルブ72とを接続する。粗引きバルブ72は粗引きライン90の一部であるとみなしてもよい。粗引き配管92は、粗引きポンプ配管94と、分岐部分96と、クライオポンプ配管98と、を含む。粗引きポンプ配管94は、粗引きポンプ73を分岐部分96に接続する。クライオポンプ配管98は、複数のクライオポンプ10それぞれに個別に設けられており、クライオポンプ10と分岐部分96とを接続する。粗引きバルブ72と分岐部分96とがクライオポンプ配管98によって接続される。クライオポンプ配管98は分岐部分96で粗引きポンプ配管94に合流する。分岐部分96は例えばマニホールドであってもよい。粗引き配管92はその一部が真空処理装置に含まれていてもよい。こうして複数のクライオポンプ10は粗引きポンプ73に並列に接続されている。複数のクライオポンプ配管98を通じた排気流れが分岐部分96で粗引きポンプ配管94に集約される。粗引きバルブ72は、クライオポンプ10と粗引きポンプ73との接続または遮断のための真空バルブである。粗引きバルブ72は、粗引き配管92によって粗引きポンプ73に接続されている。粗引きバルブ72を開くことにより、粗引きポンプ73とクライオポンプ容器30とが連通される。粗引きバルブ72を閉じることにより、粗引きポンプ73とクライオポンプ容器30とが遮断される。粗引きバルブ72を開きかつ粗引きポンプ73を動作させることにより、クライオポンプ10の内部をベース圧レベルに向けて減圧することができる。なお、粗引きバルブ72は複数のクライオポンプ10のそれぞれに取り付けられていなくてもよい。例えば特定の少なくとも1つのクライオポンプ10と粗引きポンプ73との接続を切り替えるための切替機構が、粗引きライン90の中途に設けられていてもよい。こうした切替機構を粗引きバルブ72とみなしてもよい。粗引きバルブ72は、バルブ制御部例えばCPコントローラ20からの開放指令を受けて開放され、閉鎖指令を受けて閉鎖される。真空排気運転中のクライオポンプ10に対応する粗引きバルブ72は閉鎖され、再生中のクライオポンプ10に対応する粗引きバルブ72は開放が許可される。粗引きバルブ72は選択的かつ排他的に開放される。複数の粗引きバルブ72は同時に開放されない。すなわち、粗引きポンプ73に接続されている複数の粗引きバルブ72の1つが開放されているときは他の粗引きバルブ72は閉鎖される。このようにして、共通の粗引きポンプ73はクライオポンプ10を個別的に排気する。CPコントローラ20は、複数のクライオポンプ10で同時にまたは並行して再生を行うことを許容する。よって、ある1つのクライオポンプ10の粗引き中に他のクライオポンプ10で粗引き実行の要求が生じることがある。そこで、CPコントローラ20は、複数のクライオポンプ10の粗引きの順番を調整する。例えば、CPコントローラ20は、複数のクライオポンプ10で粗引き実行の要求が生じた場合には、要求の生じた順に粗引きを順次実行する。CPコントローラ20は、ある1つのクライオポンプ10の実行中の粗引きが完了するまでは、他のクライオポンプ10の粗引きを禁止する。その間に更に他のクライオポンプ10で粗引き実行の要求が生じた場合には、それ以前に粗引きの要求をしたすべてのクライオポンプ10の粗引きが完了するまでそのクライオポンプ10の粗引きは禁止される。CPコントローラ20は必要に応じて、複数のクライオポンプ10の粗引き順序を入れ替えてもよい。そのために、CPコントローラ20は、クライオポンプ10または粗引き実行要求に優先順位を設定し、その優先順位によって粗引き順序を決めてもよい。図2は、本発明の一実施形態に係るクライオポンプ10を模式的に示す図である。クライオポンプ10は、クライオポンプ容器30と、放射シールド40と、冷凍機50と、を含む。冷凍機50は、例えばギフォードマクマホン式冷凍機いわゆるGM冷凍機などの冷凍機である。冷凍機50は、第1シリンダ11、第2シリンダ12、第1冷却ステージ13、第2冷却ステージ14、バルブ駆動モータ16を備える。第1シリンダ11と第2シリンダ12は直列に接続される。第1シリンダ11の第2シリンダ12との結合部側には第1冷却ステージ13が設置され、第2シリンダ12の第1シリンダ11から遠い側の端には第2冷却ステージ14が設置される。図2に示す冷凍機50は、二段式の冷凍機であり、シリンダを直列に二段組み合わせてより低い温度を達成している。冷凍機50は冷媒管18を介して圧縮機52に接続される。圧縮機52は、例えばヘリウム等の冷媒ガス、すなわち作動気体を圧縮して、冷媒管18を介して冷凍機50に供給する。冷凍機50は、作動気体を蓄冷器を通過させることにより冷却しつつ、まず第1シリンダ11の内部の膨張室で、次いで第2シリンダ12の内部の膨張室で膨張させてさらに冷却する。蓄冷器は膨張室内部に組み込まれている。これにより、第1シリンダ11に設置される第1冷却ステージ13は第1の冷却温度レベルに冷却され、第2シリンダ12に設置される第2冷却ステージ14は第1の冷却温度レベルよりも低温の第2の冷却温度レベルに冷却される。例えば、第1冷却ステージ13は65K~100K程度に冷却され、第2冷却ステージ14は10K~20K程度に冷却される。膨張室で順次膨張することで吸熱し、各冷却ステージを冷却した作動気体は、再び蓄冷器を通過し、冷媒管18を経て圧縮機52に戻される。圧縮機52から冷凍機50へ、また冷凍機50から圧縮機52への作動気体の流れは、冷凍機50内のロータリバルブ図示せずにより切り替えられる。バルブ駆動モータ16は、外部電源から電力の供給を受けて、ロータリバルブを回転させる。CPコントローラ20は、第1冷却ステージ13または第2冷却ステージ14の冷却温度に基づいて冷凍機50を制御する。そのために、第1冷却ステージ13または第2冷却ステージ14に温度センサ図示せずが設けられていてもよい。CPコントローラ20は、バルブ駆動モータ16の運転周波数を制御することにより冷却温度を制御してもよい。そのためにCPコントローラ20は、バルブ駆動モータ16を制御するためのインバータを備えてもよい。CPコントローラ20は圧縮機52、及び後述する各バルブを制御するよう構成されていてもよい。図2に示されるクライオポンプ10は、いわゆる横型のクライオポンプである。横型のクライオポンプとは一般に、冷凍機の第2冷却ステージ14が筒状の放射シールド40の軸方向に交差する方向通常は直交方向に沿って放射シールド40の内部に挿入されているクライオポンプである。なお、本発明はいわゆる縦型のクライオポンプにも同様に適用することができる。縦型のクライオポンプとは、放射シールドの軸方向に沿って冷凍機が挿入されているクライオポンプである。クライオポンプ容器30は、一端に開口を有し他端が閉塞されている円筒状の形状に形成された部位以下、胴部と呼ぶ32を有する。この開口は、クライオポンプが接続されるスパッタ装置等の真空チャンバから排気されるべき気体を受け入れるためのポンプ口34として、設けられている。ポンプ口34はクライオポンプ容器30の胴部32の上端部内面により画定される。また胴部32にはポンプ口34としての開口とは別に、冷凍機50を挿通するための開口37が形成されている。胴部32の開口37には円筒状の冷凍機収容部38の一端が取り付けられ、他端は冷凍機50のハウジングに取り付けられている。冷凍機収容部38は冷凍機50の第1シリンダ11を収容する。またクライオポンプ容器30の胴部32の上端には径方向外側に向けて取付フランジ36が延びている。クライオポンプ10は、取付フランジ36を用いて取付先の真空チャンバに取り付けられる。クライオポンプ容器30は、クライオポンプ10の内部と外部とを隔てるために設けられている。上述のようにクライオポンプ容器30は胴部32と冷凍機収容部38とを含んで構成されており、胴部32及び冷凍機収容部38の内部は共通の圧力に気密に保持される。これによりクライオポンプ容器30は、クライオポンプ10の排気運転中は真空容器として機能する。クライオポンプ容器30の外面は、クライオポンプ10の動作中、すなわち冷凍機が作動している間も、クライオポンプ10の外部の環境にさらされるため、放射シールド40よりも高い温度に維持される。典型的にはクライオポンプ容器30の温度は環境温度に維持される。ここで環境温度とは、クライオポンプ10が設置されている場所の温度、またはその温度に近い温度をいい、例えば室温程度である。また、クライオポンプ容器30の冷凍機収容部38の内部に圧力センサ54が設けられている。圧力センサ54は、冷凍機収容部38の内部圧力すなわちクライオポンプ容器30の圧力を周期的に測定し、測定圧力を示す信号をCPコントローラ20に出力する。圧力センサ54はその出力を通信可能にCPコントローラ20に接続されている。なお圧力センサ54はクライオポンプ容器30の胴部32に設けられてもよい。圧力センサ54は、粗引きポンプ73により実現されるベース圧レベルと大気圧レベルの両方を含む広い計測範囲を有する。少なくとも再生処理中に生じ得る圧力範囲を計測範囲に含むことが望ましい。圧力センサ54として、本実施形態では例えばクリスタルゲージを使用することが好ましい。クリスタルゲージとは、水晶振動子の振動抵抗が圧力によって変化する現象を利用して圧力を測定するセンサである。あるいは圧力センサ54はピラニー真空計であってもよい。なお、真空レベルの測定用の圧力センサと、大気圧レベルの測定用の圧力センサとが、個別にクライオポンプ10に設けられていてもよい。クライオポンプ容器30には、ベントバルブ70、粗引きバルブ72、及びパージバルブ74が接続されている。ベントバルブ70、粗引きバルブ72、及びパージバルブ74はそれぞれCPコントローラ20により開閉が制御される。ベントバルブ70は、排出ライン80の例えば末端に設けられている。あるいはベントバルブ70は排出ライン80の中途に設けられ末端には放出された流体を回収するためのタンク等が設けられていてもよい。ベントバルブ70が開弁されることにより排出ライン80の流れが許容され、ベントバルブ70が閉弁されることにより排出ライン80の流れが遮断される。排出される流体は基本的にはガスであるが、液体または気液の混合物であってもよい。例えばクライオポンプ10に凝縮されたガスの液化物が排出流体に混在していてもよい。ベントバルブ70が開弁されることにより、クライオポンプ容器30の内部に生じた陽圧を外部に解放することができる。排出ライン80は、クライオポンプ10の内部空間から外部環境へと流体を排出するための排出ダクト82を含む。排出ダクト82は例えばクライオポンプ容器30の冷凍機収容部38に接続されている。排出ダクト82は流れ方向に直交する断面が円形のダクトであるが、その他のいかなる断面形状を有してもよい。排出ライン80は、排出ダクト82を排出される流体から異物を除去するためのフィルタを含んでもよい。このフィルタは、排出ライン80においてベントバルブ70の上流に設けられていてもよい。ベントバルブ70は、いわゆる安全弁としても機能するよう構成されている。ベントバルブ70は、排出ダクト82に設けられている例えば常閉型の制御弁である。ベントバルブ70は更に、所定の差圧が作用したときに機械的に開弁されるよう閉弁力が予め設定されている。この設定差圧は例えば、クライオポンプ容器30に作用し得る内圧やポンプ容器30の構造的な耐久性等を考慮して適宜設定することができる。クライオポンプ10の外部環境は通常大気圧であるから、設定差圧は大気圧を基準として所定の値に設定される。ベントバルブ70は通常、例えば再生中などのようにクライオポンプ10から流体を放出するときにCPコントローラ20によって開弁される。放出すべきでないときはCPコントローラ20によってベントバルブ70は閉弁される。一方、ベントバルブ70は、設定差圧が作用したときに機械的に開弁される。このため、クライオポンプ内部が何らかの理由で高圧となったときに制御を要することなくベントバルブ70は機械的に開弁される。それにより内部の高圧を逃がすことができる。こうしてベントバルブ70は安全弁として機能する。このようにベントバルブ70を安全弁と兼用することにより、2つの弁をそれぞれ設ける場合に比べてコストダウンや省スペース化という利点を得られる。パージバルブ74は図示しないパージガス供給装置に接続される。パージガスは例えば窒素ガスである。CPコントローラ20がパージバルブ74を制御することにより、パージガスのクライオポンプ10への供給が制御される。放射シールド40は、クライオポンプ容器30の内部に配設されている。放射シールド40は、一端に開口を有し他端が閉塞されている円筒状の形状、すなわちカップ状の形状に形成されている。放射シールド40は、図2に示されるような一体の筒状に構成されていてもよく、また、複数のパーツにより全体として筒状の形状をなすように構成されていてもよい。これら複数のパーツは互いに間隙を有して配設されていてもよい。クライオポンプ容器30の胴部32及び放射シールド40はともに略円筒状に形成されており、同軸に配設されている。クライオポンプ容器30の胴部32の内径が放射シールド40の外径を若干上回っており、放射シールド40はクライオポンプ容器30の胴部32の内面との間に若干の間隔をもってクライオポンプ容器30とは非接触の状態で配置される。すなわち、放射シールド40の外面は、クライオポンプ容器30の内面と対向している。なお、クライオポンプ容器30の胴部32および放射シールド40の形状は、円筒形状には限られず、角筒形状や楕円筒形状などいかなる断面の筒形状でもよい。典型的には、放射シールド40の形状はクライオポンプ容器30の胴部32の内面形状に相似する形状とされる。放射シールド40は、第2冷却ステージ14およびこれに熱的に接続される低温クライオパネル60を主にクライオポンプ容器30からの輻射熱から保護する放射シールドとして設けられている。第2冷却ステージ14は、放射シールド40の内部において放射シールド40のほぼ中心軸上に配置される。放射シールド40は、第1冷却ステージ13に熱的に接続された状態で固定され、第1冷却ステージ13と同程度の温度に冷却される。低温クライオパネル60は、例えば複数のパネル64を含む。パネル64は例えば、それぞれが円すい台の側面の形状、いわば傘状の形状を有する。各パネル64は、第2冷却ステージ14に取り付けられているパネル取付部材66に取り付けられている。各パネル64には通常、活性炭等の吸着剤図示せずが設けられている。吸着剤は例えばパネル64の裏面に接着されている。パネル取付部材66に複数のパネル64が互いに間隔をあけて取り付けられている。複数のパネル64は、ポンプ口34から見てポンプ内部に向かう方向に配列されている。放射シールド40の吸気口には、真空チャンバ等からの輻射熱から第2冷却ステージ14およびこれに熱的に接続される低温クライオパネル60を保護するために、バッフル62が設けられている。バッフル62は、例えば、ルーバ構造やシェブロン構造に形成される。バッフル62は、放射シールド40の中心軸を中心とする同心円状に形成されていてもよいし、あるいは格子状等他の形状に形成されていてもよい。バッフル62は放射シールド40の開口側の端部に取り付けられており、放射シールド40と同程度の温度に冷却される。放射シールド40の側面には冷凍機取付孔42が形成されている。冷凍機取付孔42は、放射シールド40の中心軸方向に関して放射シールド40側面の中央部に形成されている。放射シールド40の冷凍機取付孔42はクライオポンプ容器30の開口37と同軸に設けられている。冷凍機50の第2シリンダ12及び第2冷却ステージ14は冷凍機取付孔42から放射シールド40の中心軸方向に垂直な方向に沿って挿入されている。放射シールド40は、冷凍機取付孔42において第1冷却ステージ13に熱的に接続された状態で固定される。上記の構成のクライオポンプ10による動作を以下に説明する。クライオポンプ10の作動に際しては、まずその作動前に粗引きバルブ72を通じて粗引きポンプ73でクライオポンプ容器30の内部を動作開始圧力例えば1Pa乃至10Pa程度にまで粗引きする。圧力は圧力センサ54により測定される。その後クライオポンプ10を作動させる。CPコントローラ20による制御のもとで、冷凍機50の駆動により第1冷却ステージ13及び第2冷却ステージ14が冷却され、これらに熱的に接続されている放射シールド40、バッフル62、クライオパネル60も冷却される。冷却されたバッフル62は、真空チャンバからクライオポンプ10内部へ向かって飛来する気体分子を冷却し、その冷却温度で蒸気圧が充分に低くなる気体例えば水分などを表面に凝縮させて排気する。バッフル62の冷却温度では蒸気圧が充分に低くならない気体はバッフル62を通過して放射シールド40内部へと進入する。進入した気体分子のうちクライオパネル60の冷却温度で蒸気圧が充分に低くなる気体は、クライオパネル60の表面に凝縮されて排気される。その冷却温度でも蒸気圧が充分に低くならない気体例えば水素などは、クライオパネル60の表面に接着され冷却されている吸着剤により吸着されて排気される。このようにしてクライオポンプ10は取付先の真空チャンバの真空度を所望のレベルに到達させることができる。排気運転が継続されることによりクライオポンプ10には気体が蓄積されていく。蓄積した気体を外部に排出するために、排気運転が開始されてから所定時間が経過したときまたは所定の再生開始条件が満たされたときに、クライオポンプ10の再生が行われる。再生処理は、昇温工程、排出工程、及び冷却工程を含む。クライオポンプ10の再生処理は例えばCPコントローラ20により制御される。CPコントローラ20は、所定の再生開始条件が満たされたか否かを判定し、当該条件が満たされた場合には再生を開始する。その場合、CPコントローラ20は、冷凍機50のクライオパネル冷却運転を中止し、冷凍機50の昇温運転を、具体的には急速昇温を開始する。当該条件が満たされていない場合には、CPコントローラ20は再生を開始せず、例えば真空排気運転を継続する。図3は、本発明の一実施形態に係る再生方法を説明するためのフローチャートである。再生処理は、排気運転中のクライオパネル温度よりも高温である再生温度にクライオポンプ10を昇温する昇温工程を含むS10。図3に示す再生処理の一例は、いわゆるフル再生である。フル再生は、クライオポンプ10の低温クライオパネル60及びバッフル62を含むすべてのクライオパネルを再生する。クライオパネルは真空排気運転のための冷却温度から例えば常温付近の再生温度例えば約300Kまで加熱される。昇温工程は、逆転昇温を含む。一実施例においては逆転昇温運転は、冷却運転とは冷凍機50内のロータリバルブを逆方向に回転させることにより、作動気体に断熱圧縮を生じさせるよう作動気体の吸排気のタイミングを異ならせる。こうして得られる圧縮熱でクライオパネルを加熱する。図3に示されるように、一実施例においては昇温工程は、急速昇温S11と低速昇温S12とを含む。急速昇温は、冷却運転におけるクライオパネル冷却温度から昇温速度切替温度まで比較的高速にクライオパネルを加熱する。低速昇温は、その昇温速度切替温度から再生温度まで急速昇温より低速にクライオパネルを加熱する。昇温速度切替温度は例えば200K乃至250Kの温度範囲から選択される温度である。なお、こうした2段階の昇温は必須ではない。一定の昇温速度でクライオパネルは加熱されてもよいし、昇温速度が2段階よりも多段階に区分けされる昇温工程であってもよい。昇温工程においてCPコントローラ20は、急速昇温において低速昇温よりもバルブ駆動モータ16を高回転で制御する。CPコントローラ20は急速昇温において、クライオパネル温度の測定値が昇温速度切替温度に達したか否かを判定する。CPコントローラ20は、当該切替温度に達するまでは急速昇温を継続し、当該切替温度に達した場合には急速昇温から低速昇温に切り替える。CPコントローラ20は低速昇温において、クライオパネル温度の測定値が再生温度に達したか否かを判定する。CPコントローラ20は、再生温度に達するまでは低速昇温を継続し、再生温度に達した場合には昇温工程を終了し、次の排出工程を開始する。排出工程は、クライオパネル表面から再気化した気体をクライオポンプ10の外部へ排出するS14。再気化した気体は例えば排出ライン80を通じて、または粗引きポンプ73を使用して、外部に排出される。再気化した気体は、必要に応じてパージバルブ74を通じて導入されるパージガスとともにクライオポンプ10から排出される。排出工程においては、冷凍機50の昇温運転が継続されていてもよいし、冷凍機50の運転は停止されてもよい。一実施例においては、排出工程はいわゆるラフアンドパージ工程を含んでもよい。これは、粗引きライン90による粗引きとパージガスの導入とを複数回反復して気体を排出する工程である。粗引きライン90を通じたクライオポンプ10の減圧には、開始圧と終了圧とが設定される。開始圧は例えば大気圧である。終了圧は、ベース圧レベルよりも高圧であり、例えば50Pa乃至500Pa、好ましくは100Pa乃至300Paの範囲から選択される。この圧力領域を以下では準ベース圧レベルと呼ぶことがある。他の一実施例では終了圧はベース圧レベルであってもよい。ラフアンドパージ工程のクライオポンプ内圧は、こうした開始圧と終了圧とで定められる圧力領域を振動的に往復する。本再生方法は、圧力により気体排出の完了を判定するビルドアップ判定工程を含むS16。ビルドアップ判定は、排出工程と冷却工程との間にある。ビルドアップ判定は、排出工程の一部であるとみなされてもよい。ビルドアップ判定のために粗引きバルブ72を含む各バルブは閉鎖され、クライオポンプ容器30は気密に保持される。気体排出が完了していればそれに加えて厳密にはリークがなければ、クライオポンプ容器30の圧力は維持される。よって、CPコントローラ20は、圧力上昇勾配によって、即ち判定時間内における圧力上昇の有無によって気体排出が完了したか否かを判定する。圧力上昇の有無を判定するための圧力しきい値が予め設定されている。CPコントローラ20はビルドアップ判定のために、例えば圧力センサ54によるクライオポンプ10の内部の圧力測定値を使用する。CPコントローラ20は、ビルドアップ判定が合格の場合、つまり圧力上昇がないと判定された場合に次工程例えば冷却工程に移行し、ビルドアップ判定が不合格の場合つまり圧力上昇があると判定された場合には排出工程に戻る。排出工程に戻る場合、CPコントローラ20は、再度粗引きのみをして改めてビルドアップ判定をするか、あるいはラフアンドパージをしたうえでビルドアップ判定をする。一実施例においては、CPコントローラ20は、多段階のビルドアップ判定を実行してもよい。例えば、CPコントローラ20は、低真空領域での第1ビルドアップ判定と、それよりも高真空領域での第2ビルドアップ判定と、を実行してもよい。第1ビルドアップ判定は、ラフアンドパージ工程の終了圧が保たれるか否かの判定であってもよい。第1ビルドアップ判定は言い替えれば、準ベース圧レベルが保たれるか否かの判定であってもよい。第1ビルドアップ判定に合格したクライオポンプ10は、粗引きライン90を通じてより低圧に、例えばベース圧レベルに減圧される。第2ビルドアップ判定は、ベース圧レベルが保たれるか否かの判定であってもよい。第2ビルドアップ判定に合格したクライオポンプ10は、冷却工程に移行する。いずれかの段階のビルドアップ判定に不合格のクライオポンプ10は、ビルドアップ判定を含む排出工程を継続する。冷却工程は、真空排気運転を再開するためにクライオパネルを再冷却するS18。冷凍機50の冷却運転が開始される。冷却工程の少なくとも一部において粗引きが行われてもよく、例えば冷却工程の開始から粗引き終了圧力または粗引き終了温度に達するまで粗引きが継続されてもよい。CPコントローラ20は、クライオパネル温度の測定値が真空排気運転のためのクライオパネル冷却温度に達したか否かを判定する。CPコントローラ20は、クライオパネル冷却温度に到達するまでは冷却工程を継続し、当該冷却温度に達した場合には冷却工程を終了する。こうして再生処理は完了する。クライオポンプ10の真空排気運転が再開される。上述のようにCPコントローラ20は、複数のクライオポンプ10で同時にまたは並行して再生を行うことを許容する。実際のところ、再生は真空処理装置のダウンタイムまたは真空処理の非実行中にするべきであるから、複数のクライオポンプ10は並行して再生されることが多い。複数のクライオポンプ10の再生時間を全体として短縮するために、1台ずつ個別に順番に再生するよりもそれらを並行して再生することが好ましい。複数のクライオポンプ10の再生処理を完全に同期させて同時に開始し完了することが可能であるなら、再生するクライオポンプ10の粗引きバルブ72を同時に開閉すればよいであろう。しかし、クライオポンプ10に蓄積した気体量がそれぞれ等しいとは限らないし、クライオポンプ10に個体差もあり得ると考えられるから、そうした完全同期再生は必ずしも現実的ではない。よって、複数のクライオポンプ10の並行再生が採用される。並行再生は、あるクライオポンプ10から別のクライオポンプ10に粗引きポンプ73をつなぎ替える処理を含むことになる。あるクライオポンプ10の粗引きバルブ72を閉鎖し粗引きを終了した直後の粗引き配管92の圧力は、その粗引き終了圧レベルにある。それよりも低い圧力レベルまで例えば粗引きポンプ73の到達真空度まで粗引き配管92の圧力を減圧するには、いくらか時間例えば数秒程度がかかる。再生のどの段階にあるかによって、クライオポンプ10ごとに容器内圧は異なる。よって、次に粗引きをするクライオポンプ10の圧力が粗引き配管92より低圧であることもあり得る。この場合、粗引き配管92の圧によってクライオポンプ10が過渡的にまたは一時的に昇圧される。粗引き配管92からクライオポンプ10に生じる逆流によって、クライオポンプ10にパーティクルが進入するおそれもある。そこで、本発明の一実施形態に係るクライオポンプシステム100は、他のクライオポンプ10の粗引き中はその粗引きが終わるまで、次に粗引きをするクライオポンプ10を待機させる。そして、他のクライオポンプ10の粗引きが完了しても次のクライオポンプ10の待機を一時的に継続し、その粗引き開始をいくらか遅らせる。そうしたクライオポンプ10の粗引き待機時間には、粗引きポンプ73を要しない処理、例えばパージガスの導入またはビルドアップ判定が行われてもよい。次のクライオポンプ10の粗引き開始を遅らせるために、CPコントローラ20は例えば、開放されている粗引きバルブ72があるときは他の粗引きバルブ72を開くことを禁止する。そして、CPコントローラ20は、その開放されている粗引きバルブ72を閉じた後も他の粗引きバルブ72の開放禁止を一時的に継続する。すなわち、CPコントローラ20には、ある粗引きバルブ72を閉じた後、他の粗引きバルブ72を開くまでの遅延時間または待機時間が設定されている。クライオポンプシステム100は、第1クライオポンプと第2クライオポンプとを含む複数のクライオポンプ10を備える。ここで説明の便宜上、第1クライオポンプをクライオポンプAと呼び、第2クライオポンプをクライオポンプBと呼ぶ。また、クライオポンプAに付随または対応する粗引きバルブ72を粗引きバルブAと呼び、クライオポンプBに付随または対応する粗引きバルブ72を粗引きバルブBと呼ぶ。クライオポンプシステム100のための複数のクライオポンプ10を再生する方法は、クライオポンプA及びクライオポンプBのそれぞれについて昇温工程、排出工程、及び冷却工程を行うことを含む。クライオポンプAの排出工程は、クライオポンプAを粗引きライン90を通じて減圧する工程を含む。この減圧工程は、粗引きバルブAを開放しクライオポンプAを粗引きポンプ73に接続することにより始まり、粗引きバルブAを閉鎖しクライオポンプAを粗引きライン90から遮断することで終了する。クライオポンプAについての減圧工程の次工程は例えばクライオポンプAへのパージガス導入、クライオポンプAのビルドアップ判定、またはクライオポンプAの冷却工程である。同様に、クライオポンプBの排出工程は、クライオポンプBを粗引きライン90を通じて減圧する工程を含む。この減圧工程は、粗引きバルブBを開放しクライオポンプBを粗引きポンプ73に接続することにより始まり、粗引きバルブBを閉鎖しクライオポンプBを粗引きライン90から遮断することで終了する。クライオポンプBについての減圧工程の次工程は例えばクライオポンプBへのパージガス導入、クライオポンプBのビルドアップ判定、またはクライオポンプBの冷却工程である。本発明の一実施形態においては、クライオポンプAとクライオポンプBとの並行再生において、クライオポンプAの減圧工程に続いてクライオポンプBの減圧工程が実行され得る。CPコントローラ20には上述のように、クライオポンプAの減圧終了とクライオポンプBの減圧開始との間に遅延時間が設定されている。よって、クライオポンプAの減圧工程から遅延時間を経てクライオポンプBの減圧工程が行われる。具体的には、開放されている粗引きバルブAの閉鎖と、閉鎖されている粗引きバルブBの開放との間に遅延時間が設定されており、粗引きバルブAの閉鎖後にその遅延時間を経て粗引きバルブBが開放される。一実施例においては、制御の単純化のために、こうした遅延時間が、複数の粗引きバルブ72のそれぞれの閉鎖時に一律に適用されてもよい。遅延時間は、予め設定された一定値であってもよい。遅延時間は、粗引きライン90の特性、例えば粗引きポンプ73による粗引き配管92の過渡的な圧力特性に基づいて、粗引き配管92の圧をベース圧レベルに低下させる時間に設定される。遅延時間は、例えば10秒以内であり、好ましくは1秒乃至3秒の範囲から選択される値である。図4は、本発明の一実施形態に係る制御処理を説明するためのフローチャートである。CPコントローラ20は、遅延許可条件が成立したか否かを判定してもよいS20。遅延許可条件は複数の条件を含んでもよく、CPコントローラ20はそのうちいずれかの条件が成立したことを遅延許可条件の成立と判断してもよい。遅延許可条件が成立した場合にはS20のY、CPコントローラ20は遅延時間を有効とするS22。遅延許可条件が成立していない場合にはS20のN、CPコントローラ20は遅延時間を無効とするS24。すなわち、遅延許可条件が成立した場合に遅延が適用され、そうでなければ遅延は適用されない。CPコントローラ20は、この遅延許可判定処理を例えばクライオポンプ10の再生中に周期的に繰り返し実行する。クライオポンプ10の再生が開始されてから遅延許可条件が成立するまでは遅延時間は無効とされており、複数のクライオポンプ間の粗引きポンプ73のつなぎ替えに遅延は適用されない。遅延許可条件が成立している間は遅延が適用される。遅延許可条件が成立しなくなったときには遅延時間は再び無効とされ、遅延は適用されなくなる。再生中には1つのクライオポンプにつき通常複数回の粗引きが行われる。例えばクライオポンプAが再生の前半の段階にありクライオポンプBが再生の後半の段階にあるときは、クライオポンプAの粗引きに先立ってクライオポンプBが少なくとも1回粗引きされている。再生の開始当初に比べて再生処理の終盤ではクライオポンプ内圧は低くなる。クライオポンプAの粗引きに続いてクライオポンプBの粗引きが行われる場合には、クライオポンプAよりもクライオポンプBが低圧であり得る。例えばクライオポンプAがビルドアップ判定前の例えばラフアンドパージの段階にありクライオポンプBがビルドアップ判定中または判定後の段階にある場合には、クライオポンプAの粗引き終了圧及びその時点での粗引き配管圧よりも、クライオポンプBの粗引き開始圧のほうが低圧であり得る。よって、遅延許可条件は例えば、少なくとも1つのクライオポンプ10の状態、例えば再生処理のどの段階にあるか、に基づいて定められていてもよい。この場合、遅延許可条件は、ビルドアップ判定中または少なくとも1回のビルドアップ判定をしたクライオポンプがあること、を含んでもよい。遅延許可条件は、複数のクライオポンプ10の少なくとも1つが予め設定された内圧以下であることを含んでもよい。例えば、遅延許可条件は、複数のクライオポンプ10の少なくとも1つが準ベース圧レベルまたはベース圧レベルにあることを含んでもよい。例えば、複数のクライオポンプ10の少なくとも1つが、300Pa以下、200Pa以下、100Pa以下、または50Pa以下にあることを含んでもよい。クライオポンプ10の内圧としては例えば圧力センサ54の測定値が使用されてもよいし、粗引き処理を定義するための設定値例えば設定粗引き開始圧または設定粗引き終了圧が使用されてもよい。また、遅延許可条件は、閉鎖される粗引きバルブ72をもつクライオポンプ10の状態と、その次に開放される粗引きバルブ72をもつクライオポンプ10の状態と、に基づいて定められていてもよい。この場合、遅延許可条件は、粗引きを終了するクライオポンプ10がビルドアップ未判定であり、次に粗引きを開始するクライオポンプがビルドアップ判定中または少なくとも1回のビルドアップ判定をしていること、を含んでもよい。遅延許可条件は、クライオポンプBの粗引き開始圧がクライオポンプAの粗引き終了圧よりも低いことを含んでもよい。すなわち、遅延許可条件は、閉鎖される粗引きバルブAをもつクライオポンプAの内圧よりも、次に開放される粗引きバルブBをもつクライオポンプBの内圧が低いこと、を含んでもよい。粗引きポンプ73に接続されるクライオポンプBの内圧が準ベース圧レベルまたはベース圧レベルにあることが、条件に付加されてもよい。ここでクライオポンプ10の内圧は、測定値であってもよいし設定値であってもよい。粗引きポンプ73から遮断されるクライオポンプ10の内圧に代えて、粗引き配管92の圧力が使用されてもよい。そのために、粗引きライン90は、粗引き配管92の圧力を測定するための圧力センサまたは圧力スイッチを備えてもよい。本発明の一実施形態によれば、次に粗引きをするクライオポンプ10の粗引き開始を、その直前に粗引きをしたクライオポンプ10の粗引き終了からいくらか遅らせている。そうした遅延時間に粗引き配管92は粗引きポンプ73により充分に減圧される。よって、次に粗引きを開始したクライオポンプ10の粗引き配管92による一時的昇圧を防止することができる。そのクライオポンプ10への粗引き配管92からのパーティクル進入も防止される。上述の準ベース圧レベルまたは特にベース圧レベルという粗引きポンプ73にとっての高真空領域では、それよりも低い真空領域例えば大気圧レベルよりも減圧に時間がかかる。よって、特に、そうした高真空領域において粗引き配管92による一時的昇圧が仮に生じた場合には、その回復に時間を要することになる。遅延時間は例えば数秒程度であり、圧力回復の所要時間よりも短いと期待される。よって、遅延時間を付加することにより、再生に要する合計時間を短くすることができる。以上、本発明を実施例にもとづいて説明した。本発明は上記実施形態に限定されず、種々の設計変更が可能であり、様々な変形例が可能であること、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは、当業者に理解されるところである。遅延時間の長さは必ずしも一定でなくてもよい。例えば、粗引きバルブ72の開放を遅延させるクライオポンプ10の圧力レベルに応じて、遅延時間は変更されてもよい。開放される粗引きバルブをもつクライオポンプと、閉鎖される粗引きバルブをもつクライオポンプとの圧力差に応じて、遅延時間は変更されてもよい。また、遅延時間の中途で粗引き配管92の圧力が充分に低下した場合には、遅延時間を中断して次の粗引きバルブ72を速やかに開放してもよい。