長尺のシート状基材の一部が巻回されるドラムと、このドラムの下方に配置されて、上流側からシート状基材をドラムへと案内すると共に当該ドラムからシート状基材を下流側に送る複数のローラと、これらのローラ上方でドラムの周囲に設けられた少なくとも1個の処理ユニットとを有する真空処理室と、ドラムの軸線方向に直交する方向を連設方向とし、真空処理室の上流側に接続管を介して連設され、シート状基材が巻回される繰出しローラと、この繰出しローラから繰り出されたシート状基材を、接続管内を通して上記真空処理室へと送る少なくとも1個のガイドローラとを有する上流側の真空補助室と、真空処理室の下流側に接続管を介して連設され、シート状基材を巻き取る巻取りローラと、上記真空処理室から接続管内を通して送られたシート状基材を巻取りローラへと案内する少なくとも1個のローラとを備えた下流側の真空補助室と、を備え、上記真空処理室が、床面に設置される架台上に載置されるベースプレートに、下面に開口した第1の箱体をその下面側から設置して画成され、この第1の箱体の前記軸線一側面に開口部が形成され、この開口部を覆う開閉扉が開閉自在に装着され、これら複数のローラが、軸線方向に所定間隔を存して配置される一対の支持体に夫々軸架されて一体のローラユニットとして構成され、このローラユニットを軸線方向に移動可能とする第1ガイド手段を有し、上記上流側及び下流側の両真空補助室が、床面に設置される架台上に載置されるベースプレートに、下面に開口した第2及び第3の箱体をその下面側から夫々設置して画成されるように、構成したことを特徴とする真空処理装置。請求項1記載の真空処理装置であって、前記処理ユニットがターゲットを備えたスパッタリング成膜用のカソードユニットであるものにおいて、前記第1の箱体の一側面に対向する他側面に、カソードユニットの数に応じた複数の透孔が形成され、この透孔を通してカソードユニットがドラム周囲に挿設され、カソードユニットの各々は、当該カソードユニットの挿設方向後側で前記他側面に密着して前記透孔を覆う支持板と、その前側に設けられる支持部材との間に軸架され、この支持部材を、ターゲットのスパッタ面がドラムに対向する姿勢でドラム周囲に案内する第2ガイド手段を更に備えることを特徴とする真空処理装置。前記下流側の真空補助室にて、前記巻取りローラの上流側でシート状基材に対向させて、または前記ローラに対向させて冷却パネルを設けたことを特徴とする請求項1または請求項2記載の真空処理装置。本発明は、以上の点に鑑み、運搬等にとって便利なように真空処理室と真空補助室とを分けて構成し、設置現場での組立作業が容易でメンテナンス性のよい真空成膜装置を提供することをその課題としている。上記課題を解決するために、本発明は、長尺のシート状基材の一部が巻回されるドラムと、このドラムの下方に配置されて、上流側からシート状基材をドラムへと案内すると共に当該ドラムからシート状基材を下流側に送る複数のローラと、これらのローラ上方でドラムの周囲に設けられた少なくとも1個の処理ユニットとを有する真空処理室と、ドラムの軸線方向に直交する方向を連設方向とし、真空処理室の上流側に接続管を介して連設され、シート状基材が巻回される繰出しローラと、この繰出しローラから繰り出されたシート状基材を、接続管内を通して上記真空処理室へと送る少なくとも1個のガイドローラとを有する上流側の真空補助室と、真空処理室の下流側に接続管を介して連設され、シート状基材を巻き取る巻取りローラと、上記真空処理室から接続管内を通して送られたシート状基材を巻取りローラへと案内する少なくとも1個のローラとを備えた下流側の真空補助室と、を備え、上記真空処理室が、床面に設置される架台上に載置されるベースプレートに、下面に開口した第1の箱体をその下面側から設置して画成され、この第1の箱体の前記軸線一側面に開口部が形成され、この開口部を覆う開閉扉が開閉自在に装着され、これら複数のローラが、軸線方向に所定間隔を存して配置される一対の支持体に夫々軸架されて一体のローラユニットとして構成され、このローラユニットを軸線方向に移動可能とする第1ガイド手段を有し、上記上流側及び下流側の両真空補助室が、床面に設置される架台上に載置されるベースプレートに、下面に開口した第2及び第3の箱体をその下面側から夫々設置して画成されるように、構成したことを特徴とする。本発明によれば、真空処理室及び両真空補助室を、架台と、ベースプレートと、第1、第2及び第3の各箱体とから夫々構成し、真空処理室内にてシート状基材の搬送を案内するローラをユニット化して、第1の箱体にその開口部側から挿設可能としたため、個々の構成部品の重量を少なくでき、運搬にとって便利である。また、真空処理室内でドラムの下方空間にローラユニットを挿設し、このローラユニットによりシート状基材を搬送する構成を採用したため、複数の処理ユニットを設けることで真空処理室が大型化しても真空補助室のサイズを変更する必要がない。これにより、ローラユニットの設置が容易になるだけでなく、架台上の低い位置にて真空補助室の真空処理室への連設作業や真空補助室内での各ローラの設置作業ができて組立作業性がよい。しかも、繰出しローラの取付作業や巻取りローラに巻き取った処理済みのシート状基材の回収作業等のメンテナンス性もよいつまり、架台上の低い位置で作業を行い得る。この場合、ローラユニットは、真空処理室以外の場所にて高精度で組み付けた状態で、第1ガイド手段で案内させて真空処理室内の所定位置に挿設でき、これを基準にして両真空補助室に設けられる各ローラの相対位置を調整すればよいため、各ローラの相対位置を、精度よく組み付けることができる。また、ローラユニットは第1ガイド手段にて一旦位置決めすれば、第1の箱体の開閉扉を開けてローラユニットを引き出すだけで、表面クリーニング等を行うことができ、メンテナンス性も向上できる。また、本発明においては、請求項1記載の真空処理装置であって、前記処理ユニットがターゲットを備えたスパッタリング成膜用のカソードユニットであるものにおいて、前記第1の箱体の一側面に対向する他側面に、カソードユニットの数に応じた複数の透孔が形成され、この透孔を通してカソードユニットがドラム周囲に挿設され、カソードユニットの各々は、当該カソードユニットの挿設方向後側で前記他側面に密着して前記透孔を覆う支持板と、その前側に設けられる支持部材との間に軸架され、この支持部材を、ターゲットのスパッタ面がドラムに対向する姿勢でドラム周囲に案内する第2ガイド手段を更に備えることが望ましい。これによれば、消耗品たるターゲットの交換が容易となり、メンテナンス性を向上できる。なお、複数種のターゲットをドラムの周囲に配置する場合、クロスコンタミを防止するために、カソードユニット相互を隔絶する仕切板を設ける必要が生じる。この場合、ドラムの軸線方向にのびる案内手段を真空処理室内に設けておき、この案内手段で仕切板に保持されるようにしておけば、開閉扉を開状態で、仕切板を簡単に着脱でき、メンテナンス性を更に向上できる。ところで、例えば、シート状基材を所定温度に加熱した状態で成膜処理を行った後、処理直後のシート状基材を巻取りローラで巻き取ると、シート状基材の処理面が変質する等の不具合が生じる虞がある。このため、処理後のシート状基材を所定温度以下まで冷却して巻取りローラに巻き取ることになる。この場合、ガイドローラや巻取りローラの回転軸を冷却してシート状基材を熱交換で冷却することが考えられるが、これでは装置構成が複雑になる。そこで、本発明においては、前記下流側の真空補助室にて、前記巻取りローラの上流側でシート状基材に対向させて、または前記ローラに対向させて冷却パネルを設けることが好ましい。これによれば、前記巻取りローラの上流側でシート状基材に対向させて冷却パネルを設けることで、当該冷却パネルのシート状基材との対向面が吸熱面としての役割を果たし、シート状基材を効率よく冷却できる。しかも、冷却パネルが、例えば極低温数十Kに保持されたクライオパネルであるような場合、当該パネルに真空補助室内の水分等が吸着されることで、真空補助室の高真空度保持に寄与し、例えば、真空補助室に設けるポンプを排気能力の低い、低コストのものを用いることができる等、有利である。なお、冷却パネルをローラガイドローラに対向配置して当該ローラを冷却するようにしてもよい。以下、図面を参照し、処理ユニットとして、スパッタリング成膜用のカソードユニットを用い、シート状基材Sの片面に多層膜を形成する場合を例として、本実施形態の真空処理装置を説明する。シート状基材Sとしては、樹脂製等、用途に応じて種々のものが利用できる。図1乃至図4を参照して、SMは、本実施形態の真空処理装置である。真空処理装置SMは、例えば、クライオポンプ等の図外の真空ポンプで真空引きされる中央の真空処理室1と、この真空処理室1の上流側図1中、左側に連設された、図外の真空ポンプにより真空引きされる真空補助室2と、真空処理室1の下流側図1中、左側に連設された、図外の真空ポンプにより真空引きされる他の真空補助室3とを備える。以下においては、真空処理室1及び両真空補助室2、3の連設した方向を連設方向図1中、左右方向といい、この連設方向と直交する方向を軸線方向として説明する。真空処理室1は、床面に設置される架台11上に載置される平板たるベースプレート12に、下面に開口した第1の箱体13をその下面側から設置して画成される図2参照。第1の箱体13の軸線方向一側面図3中、下側には開口部13aが形成され、この開口部13aには、開閉扉14が開閉自在に装着されている。第1の箱体13の連接方向の両側面下方には、シート状基材Sの通過を許容する透孔13bが夫々同じ高さ位置に開設されている。真空処理室1内でベースプレート12から所定の高さ位置には、シート状基材Sの一部が巻回される冷却ドラム15が設けられている。冷却ドラム15は、その回転軸が軸線方向に沿うように配置され、第1の箱体13の開口部13aに対向する他側面13cと、第1の箱体13の天板に垂設した支持部材15aとの間に図示省略の軸受けを介在させて軸架されている。以下においては、第1の箱体13の軸線方向のうち開口部13a側図3中、下側を前、他側面13cに向かう方向図3中、上側を後として説明する。真空処理室1内で冷却ドラム15の下方にはローラユニット16が設けられている。ローラユニット16は、軸線方向に所定間隔を存して配置される前後一対の支持板16a、16bを有する。支持板16a、16bは、逆凸形状を有し、両支持板16a、16b間に複数のローラ16cが連設方向で左右対称に軸架されている。この場合、冷却ドラム15に沿ってのびるローラ16cは、シート状基材Sの材質や幅等に応じて、ガイドローラや図外のモータ備えた駆動ローラ等から適宜構成される。また、ベースプレート12上には、軸線方向に夫々のびる一対のレール12a、12bが連設方向に所定の間隔を存して設けられている。支持板16a、16bには、レール12a、12b上を夫々転動する第1ローラ161と、支持板の凸状の下面を夫々転動する第2ローラ162とが設けられている。そして、レール12a、12b及び各ローラ161、162が、本実施形態の第1ガイド手段を構成する。ここで、レール12a、12bの後側の所定位置には、図外のストッパが設けられ、ローラユニット16を、第1の箱体13の開口部13a側から挿入し、ストッパに第1ローラ161が係合すると、ローラユニット16が軸線方向に位置決めされるようになっている。他方、支持板16a、16bに設けた第2ローラ162がレール21a、21bで規制されることで、連設方向に位置決めされる。真空処理室1内で冷却ドラム15の周囲には、4個のカソードユニット4a~4dが設けられている。カソードユニット4a~4dは、同一構造であり、シート状基材Sの幅より長い全長を有する長方形のターゲット41を備える。ターゲット41は、シート状基材Sに形成しようとする薄膜の組成に応じて公知の方法で形成されたものである。ターゲット41は、パッキングプレート42に接合された状態でホルダ43にて保持される。ホルダ43には、特に図示して説明しないが、ターゲット41の前方に所定の磁場を形成する磁石ユニットが内蔵されている。図3~図5を参照して、各カソードユニット4a~4dは、開口部13aに対向する第1の箱体13の他側面13cに形成した円形の透孔131を通して冷却ドラム15の周囲に配置できるようになっている。ホルダ43には、軸線方向外方に突出させて軸44a、44bが夫々形成されている。軸線方向前側の回転軸44aは支持部材45に軸支されている図3参照。この場合、第1の箱体13内側の所定位置には、軸線方向にのびる他のレール132が設けられている図5参照。レール132の両側面には、軸線方向略全長に亘って案内溝132aが夫々形成され、案内溝132aには、支持部材45の上部に設けた第1ローラ45aが転動自在に収納されている。また、支持部材45には、2個の第2ローラ45bが設けられ、支持部材45の下端側部を転動することで、案内溝132aに沿って第1ローラ45aを転動させるときに、連設方向のずれを防止する役割を果たすようになっている。そして、これらの部品が本実施形態の第2ガイド手段を構成する。軸線方向後側の回転軸44bは、第1の箱体13の他側面13cを覆う板材たる支持板46に夫々軸支されている。この支持板46を軸線方向後側図4中、右側に移動させると、各カソードユニット4a~4dが同時に第2ガイド手段に案内されて第1の箱体13から軸線方向後側に引き出される図4参照。また、回転軸44bは支持板46に設けたモータ47に接続され、モータ47により回転軸44bを回転させてターゲット41を上向に向けることができ、この状態でターゲット交換等のメンテナンスを行い得る。メンテナンス終了後には、カソードユニット4a~4dを冷却ドラム15と対向する姿勢にし図5参照、支持板46を軸線方向前側図4中、左側に移動させ、当該支持体46が第1の箱体13の他側面13cに当接すると、カソードユニット4a~4dが夫々冷却ドラム15の周囲に位置決め配置される。なお、支持板46の他側面13cとの当接面には図示省略の真空シールが設けられ、第1の箱体13内の気密性が保持される。第1の箱体13内には、各カソードユニット4a~4dが配置された空間を夫々仕切って隔絶するために仕切板5a~5dが設けられている。図5に示すように、第1の箱体13の天板と、側面とには、軸線方向にのびる保持部材51、52が夫々設けられ、この保持部材51、52には、仕切板5aの板厚に相当する2本の収納溝51a、52aがその全長に亘って夫々形成されている。そして、開閉扉14を開けた状態で、収納溝51a、52a内に第1の仕切板5aを嵌め込み、第1の箱体13の他側面13cに当接するまで軸線方向後側に摺動させる。これにより、カソードユニット4bと第1の箱体13の側面とが2枚の仕切板5aにより仕切られる。また、保持部材51の先端部には、他の収納溝51bがその全長に亘って形成されると共に、冷却ドラム15の支持部材15aには、径方向外方に軸線方向にのびる保持部53が形成され、この保持部53には、第2の仕切板5bの板厚に相当する収納溝53aがその全長に亘って形成されている。そして、上記同様に、第2の仕切板5bを、両収納溝51b、53a溝内に嵌め込み、第1の箱体13の他側面13cに当接するまで軸線方向後側に摺動させる。これにより、上下に位置するカソードユニット4b、4c相互が2枚の仕切板5bにより仕切られる。冷却ドラム15の上部で連設方向両側に位置する2個のカソードユニット4a、4bは、支持部材15aと天板との間に配置される仕切板5cで相互に仕切られ、また、下部に位置するカソードユニット4c、4dの下方には、支持部材15aと、第1の箱体13と側面との間に、上記と同様の方法で仕切板5dを設置して当該カソードユニット4c、4dとローラユニット16とが相互に仕切られる図1参照。更に、支持部材15aの前面には、仕切板5a~5dに通じる仕切壁151が立設され、開閉扉14を閉じたときに、仕切壁151の上面が図示省略のシール部材を介して開閉扉14の壁面に当接するようになっている。なお、特に図示して説明しないが、仕切板5a~5dで仕切られたカソードユニット4a~4dを配置された空間には、スパッタリング成膜時に希ガスや反応ガスを導入するガス導入手段が設けられ、図外の制御ユニットにより、一定のガス流量で上記各ガスを導入できる。そして、上記空間内に所定のガスを導入し、ターゲット41に負の電位を持った所定電力を投入して、ターゲット41をスパッタリングし、冷却ドラム15の周囲を一定の速度で走行するシート状基材S表面に所定の薄膜を連続して成膜できる。上流側の真空補助室2は、床面に設置される架台21上に載置される平板たるベースプレート22に、下面に開口した第2の箱体23をその下面側から設置して画成される。第2の箱体23の連設方向一側面前側面には開口部23aが形成され、この開口部23aには、開閉扉24が開閉自在に装着されている。また、第2の箱体23の連設方向他側面には、シート状基材の通過を許容する透孔23bが開設され、真空補助室2と真空処理室1との両透孔13b、23bを囲うようにして接続管6を設けて両者が連設される。第2の箱体23には、シート状基材Sが巻回される繰出しローラ25と、繰出しローラ25から繰り出されたシート状基材Sを、接続管6内を通して真空処理室へと送る少なくとも1個のガイドローラ26とが設けられている。繰出しローラ25は、パウダークラッチ等のトルク制御手段により一定のバックテンションをかけながらシート状基材Sを巻き出しできる。なお、シート状基材Sを、成膜処理に先立って加熱するために、輻射熱にてシート状基材Sを所定温度に加熱するヒータユニット図示せずを設けてもよい。他方、下流側の真空補助室3は、床面に設置される架台31上に載置される平板たるベースプレート32に、下面に開口した第3の箱体33をその下面側から設置して画成される。第3の箱体33の連設方向一側面後側面には開口部33aが形成され、この開口部33aには、開閉扉34が開閉自在に装着されている。また、第3の箱体33の連設方向他側面には、シート状基材Sの通過を許容する透孔33bが開設され、真空補助室3と真空処理室1との両透孔13b、33bを囲うようにして接続管6を設けて両者が連設される。第3の箱体33には、シート状基材Sを巻き取る巻取りローラ35と、上記真空処理室1から接続管6内を通して送られたシート状基材Sを巻取りローラ35へと案内する2個のローラ36とが設けられている。この場合、巻取りローラ35は、ドルクモータ等の一定の張力にて巻取りが可能なものである。また、ガイドローラ36と巻取りローラ35との間には、シート状基材Sのテンションを検出する検出手段図示せずが設けられ、図外の制御ユニットにより、検出結果に応じて、繰出しローラ25と巻取りローラ35との作動が制御されるようになっている。ところで、例えば、シート状基材Sを所定温度に加熱した状態で成膜処理を行った後、処理直後のシート状基材Sを巻取りローラ35で巻き取ると、シート状基材Sの処理面が変質する等の不具合が生じる虞がある。このため、処理後のシート状基材Sを所定温度以下まで冷却して巻取りローラ35に巻き取ることになる。この場合、ガイドローラ36や巻取りローラ35の回転軸を冷却してシート状基材Sを熱交換で冷却することが考えられるが、これでは装置構成が複雑になる。そこで、巻取りローラ35の上流側でシート状基材Sに対向させて冷却パネルたるクライオパネル7が設けられている。クライオパネル7は、例えば、閉サイクルのヘリウム冷凍機等、図外の冷凍ユニットを備え、冷凍ユニットからの冷媒で極低温例えば、数十Kに保持されるようになっている。この場合、クライオパネル7のシート状基材Sとの対向面は、シート状基材Sより幅広に形成されている。これにより、クライオパネル7のシート状基材Sとの対向面が吸熱面としての役割を果たし、シート状基材Sを効率よく冷却できる。しかも、クライオパネル7に真空補助室3内の水分等が吸着されることで、真空補助室3の高真空度保持に寄与し、例えば、真空補助室3に設けるポンプを排気能力の低い、低コストのものを用いることができる等、有利である。なお、クライオパネル7をガイドローラ36に対向配置し、このガイドローラ36を冷却するようにしてもよい。次に、本実施形態の真空処理装置の設置場所での組立てを説明する。真空処理装置SMは、真空処理室1用の第1の箱体13及び真空補助室2、3用の第2及び第3の箱体23、33と、これらの設置に用いられる架台11、21、31と、ベースプレート12、22、32と、ローラユニット16に分けて設置現場まで運搬される。設置現場では、先ず、架台11、21、31を並設し、その上面にベースプレート12、22、32を夫々載置する。このとき、ベースプレート12、22、32相互の上面が、床面に略平行な同一平面上に位置するように架台11、21、31の高さ調整が行われる。次に、上流側の真空補助室2を画成する第2の箱体23と真空処理室1を画成する第1の箱体13とを、その開口を下側にしてベースプレート12、22上の所定位置にシール手段を介して夫々設置し、連結管6を介して両者を連設する。これにより、第1及び第2の両箱体13、23が連設方向で位置決めされる。上記の如く、各ベースプレート12、22に第1及び第2の両箱体13、23が設置されると、上流側の真空補助室2に繰出しローラ25及びガイドローラ26を所定位置に夫々設置すると共に、図外の真空ポンプを装着する。なお、これらの部品は、第2の箱体23に予め取り付けた状態で運搬することもできる。一方、真空処理室1においては、開閉扉14の開けた状態でベースプレート12上に軸線方向にレール12a、12bを位置決めして取り付ける。このとき、ベースプレート12、22、32の設置時に高さ方向の調整が行われているため、高さ方向にずれは然程生じないが、例えばレール12a、12bとベースプレート12との間にスペーサを介在させたりして、真空補助室2内のガイドローラ26に対する高さ位置を微調整してもよい。次に、冷却ドラム15を軸線方向に沿って取り付けた後、第1の箱体13の開口部13a側から、レール12a、12bで案内させてローラユニット16に挿入し、真空補助室2内のガイドローラ26に対する連設方向の位置決めを行う。このとき、レール12a、12bに、支持板16bに設けたローラ161が係止されるストッパを設けておく。そして、冷却ドラム15の支持部材15bの下側に、ローラユニット16を第1の箱体13内に進退するときに干渉しないように支柱図示せずを設置し、冷却ドラム15を支持させる。なお、冷却ドラム15は、第1の箱体13に予め取り付けた状態で輸送することができる。組立後にローラユニット16を第1の箱体13から引き出すときには、後述のベースプレートに他のレール部材Rを取り付けて、ローラユニット16が水平に引き出せるようになっている図3、4参照。次に、下流側の真空補助室3を画成する第3の箱体33を、その開口を下側にしてベースプレート32上にシール手段を介して設置し、連結管6を介して真空処理室2と連設する。これにより、両第1及び第3の箱体13、33が連設方向で位置決めされる。そして、巻取りローラ35及びガイドローラ36を所定位置に夫々設置する。このとき、ローラユニット16の最下流に位置するものに対して、上流側に位置するガイドローラ36の位置を調節する。また、用途に応じて、巻取りローラ35の上流側でシート状基材Sに対向させて冷却パネルたるクライオパネル7が設けられる。上記の如く真空処理装置SMを組立て後、真空処理室1の架台11の前後には、メンテナンス用の架台81a、81bが組み付けられ、ベースプレート82a、82bが設置される。この場合、前側の架台81a内に、冷却ドラム15やバッキングプレート42に冷却水を供給するための流量計を備えた配管や真空処理室、真空補助室を粗引きする真空ポンプに接続される排気管P等を予め組み付けておけば図2参照。組立作業をより効率化できる。なお、必要に応じて、真空補助室2、3の架台21、31の前側にも、架台91とペースプレート92とを設置してもよい。また、後側のベースプレート82bには、カソードユニット4a~4dを支持する支持板46の第1の箱体13に対する進退を案内するレール821が設けられ、当該レール821上に支持板46が設けられる。そして、支持部材45を上記の如く、レール132に設置した後、各カソードユニット4a~4dを軸支して取り付ける。この場合、モータ47を回転駆動してカソードユニット4a~4dは、回転軸44a、44bを中心に回転できる。これにより、支持板45をレール132に沿って後退させると、各カソードユニット4a~4dが第1の箱体13内から引き出され、支持板45をレール132に沿って前進させて、当該支持板46が第1の箱体13の他側面13cに当接すると、冷却ドラム15の周囲にカソードユニット4a~4dが位置決め配置される図4参照。最後に、繰出しローラ25から引き出したシート状基材Sを、ガイドローラ26を掛け回して、真空処理室1に送り、この真空処理室1にてローラユニット16の連設方向前側の複数のローラ16cを順次掛け回した後、冷却ドラムの周囲に掛け回す。そして、ローラユニット16の連設方向後側の複数のローラ16cを順次掛け回して、下流側の真空補助室3へと導き、ガイドローラ36を介して巻取りローラ35に巻き取らせる。そして、仕切板5a~5dを装着して開閉扉14、24、34を夫々閉じて、真空処理室1及び両真空補助室2、3を真空引きし、成膜準備が完了する。以上説明したように、本実施形態によれば、真空処理室1及び両真空補助室2、3を、架台11、21、31と、ベースプレート12、22、32と、第1、第2及び第3の各箱体13、23、33とから夫々構成し、真空処理室1内にてシート状基材Sの搬送を案内するローラをユニット化して、第1の箱体13にその開口13a側から挿設可能としたため、個々の構成部品の重量を少なくでき、運搬にとって便利である。また、真空処理室1内で冷却ドラム15の下方空間にローラユニット16を引き出し自在に挿設し、このローラユニット16によりシート状基材Sを搬送する構成を採用したため、複数の処理ユニットを設けることで真空処理室1が大型化しても真空補助室2、3のサイズを変更する必要がない。これにより、ローラユニット16の設置が容易になるだけでなく、架台21、31上の低い位置で真空補助室2、3を真空処理室1に連設し、真空補助室2、3内に各ローラ25、26、35、36を設置する作業ができ、設置現場での組立作業性がよい。しかも、繰出しローラ25の取付作業や巻取りローラ35に巻き取った処理済みのシート状基材Sの回収作業等のメンテナンス性もよいつまり、架台上の低い位置で作業を行い得る。ここで、ローラユニット16は、真空処理室以外の場所にて高精度で組み付けた状態で、第1ガイド手段で案内させて真空処理室1内の所定位置に挿設でき、これを基準にして両真空補助室2、3に設けられる各ローラ26、36の相対位置を調整すればよいため、各ローラの相対位置を、精度よく組み付けることができる。また、ローラユニット16は第1ガイド手段にて一旦位置決めすれば、第1の箱体13の開閉扉14を開けてローラユニット16を引き出すだけで、表面クリーニング等を行うことができ、メンテナンス性を更に向上できる。また、消耗品たるターゲット41の交換も容易となり、メンテナンス性を向上できる。以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記のものに限定されるものではない。本実施形態では、真空処理室を1個としたが、同一構成のものを複数用意し、真空処理室と下流側の真空補助室との間に介在させて真空処理装置を構成することができる。また、上記実施形態では、処理ユニットとしてカソードユニットを設けたものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、蒸着用の蒸発源やCVD法による成膜源とすることもできる。なお、本実施形態では、冷却パネルとしてクライオパネル9を用いるものを例に説明しているが、シート状基材Sから吸熱して冷却し得るものであれば、これに限定されるものではない。また、冷却パネルを用いた本発明のシート状基材Sの冷却方法は、上記実施形態の真空処理装置だけでなく、上記従来例のような構造のものを含む他の巻取り式の真空処理装置全般に広く適用可能である。