"部品が実装された回路基板を載置可能な載置面を有する載置台と、前記載置面に載置された前記回路基板のうちの前記部品が実装された実装面を掃くためのブラシと、前記ブラシを、前記載置面と平行な所定の移動方向に移動可能に支持するブラシ支持装置と、前記ブラシを前記移動方向に往復移動させるための可動部を含む駆動装置と、を備え、前記ブラシ支持装置は、前記ブラシが固定されるフレームと、前記ブラシのうち前記実装面に接触する接触部の位置よりも高い位置に配置され、前記フレームを前記移動方向に移動可能に案内するレールと、を含み、前記可動部は、前記接触部の位置よりも高い位置に配置されている、基板洗浄装置。前記フレームは、前記レールに隣接する第1部分と、当該第1部分の位置よりも低い位置に配置され前記ブラシが固定される第2部分と、を含む、請求項1に記載の基板洗浄装置。鉛直方向において前記第1部分と前記第2部分との間に位置する空間に、前記ブラシを前記第2部分に固定するためのブラシ固定部材が配置されていることを特徴とする、請求項2に記載の基板洗浄装置。前記フレームは、前記第1部分を含むメインフレームと、前記第2部分を含み、前記メインフレームに対してサブフレーム固定部材を用いて高さ位置を調整可能に固定されるサブフレームと、を有し、鉛直方向において前記第1部分と前記第2部分との間に位置する空間に、前記サブフレーム固定部材が配置されていることを特徴とする、請求項2または請求項3に記載の基板洗浄装置。前記第2部分に前記ブラシを着脱するための着脱用空間が設けられており、前記着脱用空間および前記駆動装置は、前記第2部分を挟んで配置されている、請求項2ないし請求項4のいずれか1項に記載の基板洗浄装置。前記載置台は、固定台と、当該固定台上に配置され前記載置面を支持する可動台と、を含み、前記固定台および前記可動台のいずれか一方に形成された凸部と、他方に形成された凹部との嵌合により、前記可動台は、前記載置面と直交する回転軸線回りに回動可能である、請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の基板洗浄装置。前記載置台は、載置台本体と、当該載置台本体に対して着脱可能なアタッチメントとを含み、前記アタッチメントは、前記載置面と、前記アタッチメントを把持するための把持部とを含み、前記基板洗浄装置は、前記ブラシの前記接触部の高さ位置を調整可能に構成されており、前記把持部には、前記ブラシの前記接触部の高さ位置を規定するためにゲージを載置可能である、請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の基板洗浄装置。ところで、半田ボールなどの異物を除去する工程において、回路基板に、洗浄液による洗浄を行った後、更に、ブラシを用いて回路基板の表面を洗浄することがある。この場合において、回路基板に洗浄液が付着したままブラシで回路基板が擦られると、洗浄液が飛散する。飛散した洗浄液が、ブラシを動かしているアクチュエータに付着すると、アクチュエータの可動部に錆が生じ、アクチュエータが動作不良を起こすおそれがある。また、飛散した洗浄液が、ブラシを支持する支持部材に付着すると、支持部材の可動部に供給されたグリースなどの潤滑剤が流されてしまい、支持部材の動作不良を起こすおそれがある。したがって、ブラシで回路基板を洗浄する装置においては、洗浄液が装置の可動部分に可及的に付着しないようにすることが望ましい。この発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、その目的は、回路基板に付着した洗浄液などの液体の飛散に起因する不具合の発生を抑制することができる基板洗浄装置を提供することである。上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わる基板洗浄装置は、部品が実装された回路基板を載置可能な載置面を有する載置台と、前記載置面に載置された前記回路基板のうちの前記部品が実装された実装面を掃くためのブラシと、前記ブラシを、前記載置面と平行な所定の移動方向に移動可能に支持するブラシ支持装置と、前記ブラシを前記移動方向に往復移動させるための可動部を含む駆動装置と、を備え、前記ブラシ支持装置は、前記ブラシが固定されるフレームと、前記ブラシのうち前記実装面に接触する接触部の位置よりも高い位置に配置され、前記フレームを前記移動方向に移動可能に案内するレールと、を含み、前記可動部は、前記接触部の位置よりも高い位置に配置されている。このような構成であれば、ブラシは、載置面と平行な移動方向に沿って往復移動することにより、回路基板の実装面を擦って当該実装面を掃く。このため、たとえば、液体としての洗浄液が付着したままの回路基板をブラシで擦っても、回路基板の実装面の洗浄液は、ブラシの接触部の上方側には飛散し難い。更に、レールは、ブラシの接触部の位置よりも高い位置に配置されている。これにより、レールとフレームとの間へ洗浄液が浸入することが抑制されている。その結果、洗浄液に起因する錆が、レールとフレームとの間に生じることと、レールとフレームとの間に供給されたグリースなどの潤滑剤が洗浄液によって流されることの、双方が抑制されている。これにより、フレームに対するレールの滑らかな動きが阻害されることを抑制できるので、洗浄液の飛散に起因する動作不良などの不具合の発生を抑制できる。さらに、駆動装置の可動部は、ブラシの接触部の位置よりも高い位置に配置されている。これにより、洗浄液に起因する錆が可動部に生じること、および、可動部に供給された潤滑剤が洗浄液によって流されること、などが抑制されている。これにより、可動部の滑らかな動きが阻害されることを抑制できる。よって、回路基板に付着した洗浄液の飛散に起因する動作不良などの不具合の発生を抑制できる。好ましくは、前記フレームは、前記レールに隣接する第1部分と、当該第1部分の位置よりも低い位置に配置され前記ブラシが固定される第2部分と、を含む。このように、フレームにおいて、ブラシが固定される第2部分の位置を、レールに隣接する第1部分よりも低い位置とすることにより、ブラシの接触部の高さ位置を、より低くすることができる。これにより、ブラシが回路基板の実装面を擦ることにより飛散する洗浄液がレールおよび駆動装置の可動部に付着することを、より確実に抑制できる。更に好ましくは、鉛直方向において前記第1部分と前記第2部分との間に位置する空間に、前記ブラシを前記第2部分に固定するためのブラシ固定部材が配置されている。これにより、ブラシ固定部材を、第1部分の位置よりも低い位置に配置することができるので、作業者は、高い位置でブラシ固定部材を操作しなくて済む。その結果、作業者がブラシを第2部分に着脱する作業を行う場合に、作業者は、ブラシ固定部材を容易に操作することができる。また、ブラシ固定部材を、鉛直方向における第1部分と第2部分との間の空間に配置している。その結果、フレームおよびブラシ固定部材が全体として鉛直方向に占めるスペースを小さくすることができ、基板洗浄装置の小型化を達成することができる。好ましくは、前記フレームは、前記第1部分を含むメインフレームと、前記第2部分を含み、前記メインフレームに対してサブフレーム固定部材を用いて高さ位置を調整可能に固定されるサブフレームと、を有し、鉛直方向において前記第1部分と前記第2部分との間に位置する空間に、前記サブフレーム固定部材が配置されている。これにより、サブフレーム固定部材を、第1部分の位置よりも低い位置に配置することができるので、作業者は、高い位置でサブフレーム固定部材を操作しなくて済む。その結果、作業者がサブフレームおよびブラシの高さ位置を調整する作業を行う場合に、作業者は、サブフレーム固定部材を容易に操作することができる。また、サブフレーム固定部材を、鉛直方向における第1部分と第2部分との間の空間に配置している結果、フレームおよびサブフレーム固定部材が全体として鉛直方向に占めるスペースを小さくすることができ、基板洗浄装置の小型化を達成することができる。好ましくは、前記第2部分に前記ブラシを着脱するための着脱用空間が設けられており、前記着脱用空間および前記駆動装置は、前記第2部分を挟んで配置されている。これにより、第2部分に対するブラシの着脱は、フレームの第2部分に対して駆動装置が配置されている側の空間と反対側の空間を利用して行うことができる。よって、ブラシの着脱作業を、駆動装置に邪魔されずに行うことができ、ブラシの着脱作業を容易に行うことができる。好ましくは、前記載置台は、固定台と、当該固定台上に配置され前記載置面を支持する可動台と、を含み、前記固定台および前記可動台のいずれか一方に形成された凸部と、他方に形成された凹部との嵌合により、前記可動台は、前記載置面と直交する回転軸線回りに回動可能である。これにより、固定台に対して、可動台を回転させることにより、ブラシに対する回路基板の向きを変更することができる。例えば、ブラシを移動方向に往復させることで回路基板を擦って掃いた後、可動台をたとえば90度回転させ、その後に更にブラシを移動方向に往復させて回路基板を擦って掃くことができる。これにより、回路基板を載置台から取り外すことなく、回路基板の表面を、たとえば互いに直交する2方向に擦ることができる。よって、回路基板からの異物の除去作業を、より確実に、且つ、より迅速に行うことができる。好ましくは、前記載置台は、載置台本体と、当該載置台本体に対して着脱可能なアタッチメントとを含み、前記アタッチメントは、前記載置面と、前記アタッチメントを把持するための把持部とを含み、前記基板洗浄装置は、前記ブラシの前記接触部の高さ位置を調整可能に構成されており、前記把持部には、前記ブラシの前記接触部の高さ位置を規定するためにゲージを載置可能である。これにより、例えば、回路基板のサイズなどに合わせてアタッチメントを交換することができる。よって、最適な形状のアタッチメントに回路基板を載せて当該回路基板を洗浄することができる。また、アタッチメントの交換時に作業者が把持するための把持部を、ブラシの接触部の高さ位置を規定するためのゲージを載せるゲージ載置台としても用いることができる。これにより、専用のゲージ載置台を設ける必要が無く、基板洗浄装置の形状をより簡易にすることができる。本発明によれば、回路基板に付着した洗浄液などの液体の飛散に起因する不具合の発生を抑制することができる。以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。[基板洗浄装置の構成]図1は、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置1の概略構成を示す斜視図であり、基板洗浄装置1を正面側から見た状態を示している。図2は、図1の基板洗浄装置1の載置台3を基板洗浄装置1の左側から見た状態を示す断面図である。図1および図2に示すように、基板洗浄装置1は、回路基板200を洗浄するために用いられる。なお、回路基板200は、図2において、想像線で示している。回路基板200は、例えば、プリント基板である。また、回路基板200は、例えば、一表面としての実装面201にICIntegratedCircuitなどの電子部品202が実装された、表面実装タイプの回路基板である。回路基板200の実装面201の導体パターン図示せずと、電子部品202とが、クリーム半田などの半田を介して機械的、且つ、電気的に接続されている。ここで、回路基板200と電子部品202とを半田接続する半田接続工程では、溶融した半田が、何らかの原因で、設計者が意図している態様とは異なる態様で固まり、その結果、半田ボール203が形成される可能性がある。また、当該半田接続工程において、半田の溶融に起因して、回路基板200の実装面201に、フラックスの残渣204が付着する可能性がある。これら半田ボール203およびフラックスの残渣204などの異物は、回路基板200における絶縁不良などの不具合の原因となるため、回路基板200から除去する必要がある。そこで、回路基板200は、洗浄液に浸されて洗浄された後、基板洗浄装置1によって更に洗浄されることで、実装面201の異物が除去される。より具体的には、回路基板200は、電子部品202が半田を用いて実装された後、洗浄槽図示せずに溜められたアルカリ性の洗浄液に浸けられることで、洗浄される。回路基板200は、洗浄槽で洗浄された後、洗浄槽から取り出され、当該回路基板200に付着した洗浄液が拭き取られることなく、基板洗浄装置1に取り付けられる。その後、基板洗浄装置1は、回路基板200の実装面201を掃くことで、回路基板200の実装面201の異物を、回路基板200の実装面201から除去する。基板洗浄装置1で洗浄が行われた回路基板200は、次いで、純水などの洗浄液が溜められた洗浄槽図示せずに浸けられ、更に洗浄される。基板洗浄装置1は、ベース2と、載置台3と、ブラシ4と、ブラシ支持装置5と、駆動装置6と、制御部7と、操作部8と、を備えている。なお、以下では、基板洗浄装置1を正面から見た状態を基準として、鉛直方向高さ方向、左右方向および前後方向をいうものとする。ベース2は、載置台3およびブラシ支持装置5を支持するために設けられている。ベース2は、上向きに解放された容器状に形成されている。より具体的には、ベース2は、平板状の矩形の底板の外周縁部から、無端環状の周壁が上向きに延びた形状に形成されている。ベース2の底板は、後斜め下に傾斜している。ベース2の底板が水平面に対して傾斜する傾斜角度は、例えば、数度程度であり、実質的にゼロであると考えることができる。尚、ベース2の底板は、水平に配置されていてもよい。ベース2には、回路基板200から落下または飛散した洗浄液と、回路基板200から除去された異物と、が溜められる。載置台3は、回路基板200を載置するために設けられている。載置台3は、載置台3に載置されている回路基板200を、回路基板200が載置される載置面16と直交する中心軸線R1回りに回転可能である。これにより、回路基板200の向きを中心軸線R1回りに変更することができ、その結果、回路基板200の実装面201がブラシ4によって擦られる方向を変更することができる。また、載置台3は、回路基板200の導電部とベース2とを電気的に接続可能に構成されており、回路基板200に静電気が溜まることを抑制している。図3は、基板洗浄装置1の平面図である。図2および図3に示すように、載置台3は、固定台9と、可動台10と、載置面16が形成されたアタッチメント11と、を含んでいる。固定台9および可動台10によって、載置台本体12が形成されている。固定台9は、矩形の板状に形成されており、ベース2の底板に固定されている。可動台10は、矩形の板状に形成されており、平面視において、固定台9の外形形状と同様の外形形状を有している。可動台10は、固定台9に対して、中心軸線R1回りを回動可能に構成されている。具体的には、固定台9および可動台10の何れか一方に凸部13が形成され、他方に、凸部13と嵌合する凹部14が形成されている。本実施の形態では、固定台9に凸部13が形成され、可動台10に凹部14が形成されている。なお、凸部を可動台10に形成し、当該凸部13に嵌合する凹部14を固定台9に形成してもよい。凸部13は、固定台9の中央から載置面16と直交するように上向きに延びている。凸部13の中心軸線が、中心軸線R1に相当する。凹部14は、可動台10の下面から上向きに延びており、本実施の形態では、可動台10を貫通している。凸部13は、凹部14に直接嵌合しており、凸部13の外周面は、凹部14の内周面とすべり接触している。このように、凸部13と凹部14とによってすべり軸受が構成されており、これにより、可動台10は、固定台9に対して、中心軸線R1回りを滑らかに回動可能である。可動台10の上面10aには、載置面16を有するアタッチメント11を取り外し可能に可動台10に取り付けるための第1の取付部15が設けられている。第1の取付部15は、可動台10の上面10aに複数本実施の形態において、4つ設けられている。本実施の形態において、第1の取付部15は、可動台10の前端側部分に左右並んで2つ設けられ、更に、可動台10の後端側部分に左右並んで2つ設けられており、アタッチメント11の前側面11bおよび後側面11cに隣接している。各第1の取付部15は、可動台10の上面10aに固定されたベースプレート15aと、ベースプレート15aに保持されたプランジャ15bとを含んでいる。各プランジャ15bは、対応するベースプレート15aに支持されており、当該ベースプレート15aに形成された貫通孔から、アタッチメント11の対応する側面11b,11cに向けて突出している。各プランジャ15bがアタッチメント11の対応する側面11b,11cに係合することにより、アタッチメント11は、可動台10の上面10aに固定される。アタッチメント11は、平面視において、可動台10の外形形状よりも小さな矩形の外形形状を有しており、可動台10の上面10aに配置されている。アタッチメント11の上面11a側に載置面16が形成されている。載置面16は、上面11aと比べて下側に位置している。載置面16は、電子部品202が実装された回路基板200を寝かせた姿勢で載置するために設けられており、ベース2の底板と平行である。なお、回路基板200を寝かせた姿勢とは、たとえば、水平面に対する載置面16の傾斜角度が、水平面に対するベース2の底板の傾斜角度と同様の数度程度またはゼロである状態における、載置面16上での回路基板200の姿勢をいう。載置面16は、アタッチメント11の上面11aの位置よりも下方の位置に配置されている。本実施の形態では、複数の載置面16が形成されており、載置面16間の周辺には、窪み11dが形成されている。なお、載置面16は、1つのみ設けられていてもよい。アタッチメント11の上面11aには、押さえ部材18が配置されている。押さえ部材18は、アタッチメント11の窪み11dの上面から上方へ突出する軸に支持されて、当該軸回りに回転可能である。押さえ部材18は、載置面16に載置された回路基板200の実装面201を上から押さえて固定する位置と、実装面201との接触を解除された位置との間を回転可能である。また、アタッチメント11には、アタッチメント11を把持するための把持部19が設けられている。把持部19は、作業者がアタッチメント11を可動台10に対して着脱する際に把持する部分であり、アタッチメント11の前側面11bに固定されたL字状の板状部材に形成されている。把持部19は、アタッチメント11の前側面11bから前方に延びる矩形状に形成されており、載置面16と平行である。把持部19には、ブラシ4の高さ位置を調整するためのゲージを載置可能である。ブラシ4の高さ位置の調整については、後述する。作業者がアタッチメント11を可動台10に取り付ける場合には、作業者は、把持部19を把持し、アタッチメント11を可動台10の上面10aに対して後斜め下向きの姿勢にする。図2では、後斜め下向き姿勢のアタッチメント11を想像線で図示している。この状態で、アタッチメント11を可動台10の上面10aへ降ろすと、アタッチメント11の後側面11cが、対応する第1の取付部15のプランジャ15bに係合する。そして、更に、アタッチメント11の前部を下側に降ろすと、アタッチメント11の前側面11bが、対応する第1の取付部15のプランジャ15bに係合する。これにより、アタッチメント11は、可動台10に固定される。一方、アタッチメント11を可動台10から取り外す場合には、作業者は、アタッチメント11の把持部19を把持し上に持ち上げる。これにより、アタッチメント11の前側面11bは、前側の2つの第1の取付部15のプランジャ15bとの係合を解除され、上側へ変位する。これに伴い、アタッチメント11の後側面11cは、後側の2つの第1の取付部15のプランジャ15bとの係合を解除される。これにより、アタッチメント11と、4つの第1の取付部15との係合が解除され、アタッチメント11を可動台10から取り外すことができる。基板洗浄装置1は、載置面16の形状の異なる複数のアタッチメント11を備えており、回路基板200の形状に合うアタッチメント11を可動台10に取り付けることが可能である。アタッチメント11および可動台10は、可動台10に取り付けられた操作レバー20を操作することにより、中心軸線R1回りを回動することができる。具体的には、操作レバー20は、可動台10の右前部に配置されており、載置面16と直交する方向に延びている。この操作レバー20は、上部が下部と比べて太い軸状に形成されている。操作レバー20の下部は、可動台10に形成されたレバー用挿通孔10bと、固定台9に形成された第2レバー用挿通孔9aとを挿通している。また、固定台9の左前部には、第2レバー用挿通孔9bが形成されている。第2レバー用挿通孔9bは、第2レバー用挿通孔9aから中心軸線R1回りに90度回転した位置に設けられている。作業者が可動台10およびアタッチメント11を中心軸線R1回りに回転させる際には、作業者は、操作レバー20を上側に変位させる。これにより、操作レバー20の下部は、第2レバー用挿通孔9aから抜け、その結果、操作レバー20による、固定台9と可動台10との相対回転規制が解除される。これにより、可動台10を中心軸線R1回りに回動することができる。図4は、可動台10が、図3に示す基本位置から中心軸線R1回りに90度回転した状態を示す平面図である。図4に示すように、可動台10を90度回動させた後に、作業者が操作レバー20から手を離すと、操作レバー20は、第2レバー用挿通孔9bを挿通し、可動台10と固定台9との相対回転を規制する。図5は、図1のブラシ4およびブラシ支持装置5の周辺の主要部を左側から見た断面図である。図1および図5に示すように、ブラシ4は、載置台3に載置された回路基板200の実装面201を擦って掃くことにより、実装面201に付着した半田ボール203などの異物を除去するために設けられている。ブラシ4は、板状のブラシ本体4aと、ブラシ本体4aから下向きに延びる多数の毛4bと、を有している。ブラシ本体4aは、左右に細長い矩形状に形成されている。毛4bは、獣毛など、導電性を有する材料を用いて形成されている。毛4bの先端、即ち毛4bの下端は、載置面16に載置された回路基板200の実装面201と接触する接触部4cを構成している。ブラシ4が所定の移動方向M1に沿って移動し、これにより、接触部4cが実装面201を擦って掃き、実装面201の半田ボール203などの異物が実装面201から除去される。本実施の形態において、移動方向M1は、載置面16と平行な方向であり、より具体的には、平面視において、前後方向と平行な方向である。ブラシ4は、ブラシ支持装置5によって、移動方向M1に移動可能に支持されている。ブラシ支持装置5は、ブラシ4が固定されるフレーム21と、フレーム21を移動方向M1に移動可能に案内するレール24L,24Rと、を含んでいる。図6は、図1のブラシ支持装置5および駆動装置6の周辺の主要部の模式的な断面図であり、当該主要部を正面から見た状態を示している。図1および図6に示すように、レール24L,24Rは、左右方向に離隔して配置されており、平面視において、レール24L,24R間に載置台3が配置されている。各レール24L,24Rは、前後方向に真っ直ぐに延びており、正面視において、上向きに解放された溝形形状に形成されている。レール24L,24Rは、複数の支柱25,26,27,28によって支持されている。レール24Lは、前後方向に離隔して配置された支柱25,26によって支持されており、レール24Rは、前後方向に離隔して配置された支柱27,28によって支持されている。支柱25,26,27,28は、それぞれ、ベース2の底板に固定されている。レール24L,24Rは、互いの高さ位置が揃えられている。レール24L,24Rの位置は、ブラシ4の接触部4cの位置よりも高い位置に配置されている。レール24L,24Rの上方には、それぞれ、カバー29L,29Rが配置されている図6において、カバー29L,29Rは図示せず。カバー29L,29Rは、レール24L,24Rを上方から覆っており、レール24L,24R内に液体および埃などの異物が侵入することを抑制している。フレーム21は、メインフレーム22と、メインフレーム22に固定されるサブフレーム23とを含んでいる。メインフレーム22は、厚みが数mmの板金部材などを用いて形成された、左右方向に細長い帯状の部材である。メインフレーム22は、正面視において、溝形形状に形成されている。メインフレーム22において、左右方向の中間部30の高さ位置は、左部31および右部32の高さ位置と比べて、低い。メインフレーム22の左部31は、駆動装置6の後述する可動部56にねじなどの固定部材33を用いて固定されており、メインフレーム22に作用する荷重は、駆動装置6を介して支柱25,26に受けられている。メインフレーム22は、レール24L,24Rに隣接する第1部分34L,34Rを有している。鉛直方向の位置としての高さ位置について、第1部分34L,34Rの高さ位置は、ブラシ4の接触部4cの高さ位置よりも高い。第1部分34L,34Rは、それぞれ、メインフレーム22の左部31および右部32に設けられている。図7は、図6のメインフレーム22の左右両端部周辺の拡大図である。図7に示すように、左側の第1部分34Lは、左部31に配置されており、左側のレール24Lの上方に配置され当該左側のレール24Lに隣接している。第1部分34Lは、連結プレート35L、支軸36L,36Lおよびローラ37L,37Lを介して、レール24Lに案内されるように構成されている。具体的には、第1部分34Lの下面に、平板状の連結プレート35Lが固定されている。連結プレート35Lには、下向きに延びる支軸36L,36Lが固定されている。支軸36L,36Lの下端部は、それぞれ、図示しない玉軸受などの転がり軸受を介してローラ37L,37Lを回転自在に支持している。ローラ37L,37Lは、それぞれ、レール24Lの左側の内側面および右側の内側面に転がり接触している。これにより、メインフレーム22が前後方向M1に移動する際、レール24Lは、移動方向M1に沿ってローラ37L,37Lが移動するようにローラ37L,37Lを案内し、その結果、メインフレーム22が、移動方向M1に沿って滑らかに移動する。右側の第1部分34Rは、右部32に配置されており、右側のレール24Rの上方に配置され当該右側のレール24Rに隣接している。第1部分34Rは、連結プレート35R、支軸36R,36Rおよびローラ37R,37Rを介して、レール24Rに案内されるように構成されている。具体的には、第1部分34Rの下面に、平板状の連結プレート35Rが固定されている。連結プレート35Rには、下向きに延びる支軸36R,36Rが固定されている。支軸36R,36Rの下端部は、それぞれ、図示しない玉軸受などの転がり軸受を介してローラ37R,37Rを回転自在に支持している。ローラ37R,37Rは、それぞれ、レール24Rの左側の内側面および右側の内側面に転がり接触している。これにより、メインフレーム22が前後方向に移動する際、レール24Rは、移動方向M1に沿ってローラ37R,37Rが移動するようにローラ37R,37Rを案内する。その結果、メインフレーム22が、移動方向M1に沿って滑らかに移動する。このように、左側のレール24Lおよびローラ37L,37Lと、右側のレール24Rおよびローラ37R,37Rとの協働により、メインフレーム22を、移動方向M1に滑らかに移動できるようにしている。その結果、メインフレーム22が左右方向に移動することが抑制されている。図6を参照して、メインフレーム22の中間部30の高さ位置は、レール24の高さ位置と比べて低く、かつ、左部31および右部32のそれぞれの高さ位置と比べて低い。より具体的には、中間部30の左端部および右端部には、それぞれ、上向きに延びる連結部38L,38Rが接続されている。連結部38L,38Rの上端は、それぞれ、左部31の右端および右部32の左端に接続されている。上記の構成により、メインフレーム22は、中間部30および連結部38L,38Rによって形成された溝部39を有している。中間部30には、サブフレーム23が、高さ位置を調整可能に固定されている。図8は、図6のサブフレーム23の周辺の拡大図である。図5および図8に示すように、サブフレーム23は、ブラシ4を固定するために設けられている。サブフレーム23は、メインフレーム22の中間部30に隣接して配置されている。サブフレーム23は、天板40と、前後方向に並ぶ第2部分としての一対の保持部材41,42と、左右方向に並ぶ柱部43L,43Rと、を有している。天板40は、メインフレーム22の中間部30の下方に配置された、矩形板状の部材である。天板40には、後述するブラシ固定部材46L,46Rのためのねじ孔40a,40bが、左右方向に離隔した位置に形成されている。一対の保持部材41,42は、ブラシ4を固定するために設けられている。メインフレーム22の一対の保持部材41,42の高さ位置は、メインフレーム22の第1部分34L,34R図6参照の高さ位置よりも低い。一対の保持部材41,42は、移動方向M1に対称な形状に形成されており、移動方向M1に離隔して配置されている。一対の保持部材41,42は、左右方向に細長い部材であり、天板40の下面に固定されている。一対の保持部材41,42のうち、移動方向M1に相対向する対向面には、保持溝41a,42aが形成されている。保持溝41a,42aは、左右方向に真っ直ぐに延びている。これらの保持溝41a,42aには、ブラシ本体4aのうちの前端部および後端部が嵌め入れられている。一対の保持部材41,42の左端部には、ストッパ44が配置されている。ストッパ44は、ブラシ本体4aと接触することによりブラシ4が左側に移動することを規制するために設けられている。ストッパ44は、例えば、天板40の左端部から下方に延びる板状の部分であり、一対の保持溝41a,42aの左方に配置されている。一方、一対の保持溝41a,42aの右端部には、ストッパ44が設けられておらず、一対の保持部材41,42の右方領域からブラシ4を一対の保持部材41,42に対して着脱可能である。具体的には、一対の保持部材41,42の右方領域には、ブラシ4を一対の保持部材41,42に対して着脱するための着脱用空間45が設けられている。図6に示すように、着脱用空間45は、中間部30の下方および右側のレール24Rの下方に位置している。ブラシ本体4aは、一対の保持溝41a,42aに対して左方向に変位されることにより、着脱用空間45から一対の保持溝41a,42a内に挿入される。一方、ブラシ本体4aは、一対の保持溝41a,42aに対して右方向に変位されることにより、一対の保持溝41a,42a内から着脱用空間45へ出される。着脱用空間45および駆動装置6は、一対の保持部材41,42を挟んで配置されている。図5および図8に示すように、ブラシ本体4aは、ブラシ固定部材46L,46Rを用いて、一対の保持部材41,42に固定されている。ブラシ固定部材46L,46Rは、例えば、頭部に摘み部が設けられた雄ねじ部材であり、本実施の形態では、2つ設けられている。各ブラシ固定部材46L,46Rは、メインフレーム22の中間部30に形成されたねじ挿通孔30a,30bを挿通し、かつ、天板40のねじ孔40a,40bに螺合し、更に、ブラシ本体4aを、一対の保持部材41,42の保持溝41a,42aの下面側へ押圧している。これにより、ブラシ本体4aは、一対の保持部材41,42に取り外し可能に固定されている。図6に示すように、鉛直方向において、ブラシ固定部材46L,46Rは、メインフレーム22の第1部分34L,34Rと、一対の保持部材41,42図6で保持部材42は図示せずとの間の空間に配置されている。より具体的には、ブラシ固定部材46L,46Rの下端側の一部は、天板40と中間部30との間の空間に配置され、ブラシ固定部材46L,46Rの上部側の一部は、溝部39内の空間に配置されている。ブラシ固定部材46L,46Rの把持部の高さ位置は、第1部分34L,34Rの高さ位置よりも低い。図9は、図3の平面図のうちのメインフレーム22の中間部30の周辺の拡大図である。図8および図9に示すように、サブフレーム23の柱部43L,43Rは、例えば、円柱状に形成されており、天板40から上向きに延びている。本実施の形態では、柱部43L,43Rの数は、2つであるけれども、1つまたは3つ以上でもよい。柱部43L,43Rは、ブラシ固定部材46L,46Rを左右方向に挟むように配置されている。柱部43L,43Rは、中間部30に形成された支柱用挿通孔30c,30dを挿通し、溝部39内の空間に延びている。柱部43L,43Rは、サブフレーム固定部材47L,47Rを用いて、メインフレーム22に高さ位置を調整可能に固定されている。具体的には、メインフレーム22の溝部39内の空間に、サブフレーム取付部48L,48Rが設けられている。各サブフレーム取付部48L,48Rは、中間部30の上面に固定され中間部30から上向きに延びる縦壁49L,49Rと、縦壁49L,49Rの上部に固定され対応する柱部43L,43Rに向けて延びる嵌合部50L,50Rと、を有している。サブフレーム取付部48L,48Rは、柱部43L,43Rを左右方向に挟むように配置されている。嵌合部50L,50Rは、左右方向に延びる部材であり、対応する柱部43L,43Rが挿通される挿通孔51L,51Rを有している。嵌合部50L,50Rのそれぞれの先端には、スリット52L,52Rおよびねじ孔53L,53Rが形成されている。スリット52L,52Rは、嵌合部50L,50Rの対応する挿通孔51L,51Rから嵌合部50L,50Rの先端に延びている。ねじ孔53L,53Rは、嵌合部50L,50Rの先端に形成されて移動方向M1に延びている。サブフレーム固定部材47L,47Rは、例えば、蝶ボルトである。サブフレーム固定部材47L,47Rの雄ねじ部は、それぞれ、嵌合部50L,50Rのねじ孔53L,53Rに螺合している。これにより、各スリット52L,52Rの溝幅が狭くなるようにして、嵌合部50L,50Rの先端部が締め付けられ、その結果、嵌合部50L,50Rと柱部43L,43Rとが摩擦接触し、柱部43L,43Rが固定される。図6に示すように、鉛直方向において、サブフレーム固定部材47L,47Rは、第1部分34L,34Rと、一対の保持部材41,42との間の空間に配置されている。本実施の形態では、サブフレーム固定部材47L,47Rは、溝部39内の空間に配置されている。天板40の前端の右側には、インジケータ54が取り付けられている。インジケータ54は、ブラシ4の毛4bの長さを簡易的に測定するために設けられている。インジケータ54の下端は、一対の保持部材41,42に対して下方に配置されている。ブラシ4の毛4bの摩耗に伴い毛4bの長さが許容値の下限にまで短くなったとき、毛4bの接触部4cの高さ位置が、インジケータ54の下端の高さ位置と一致する。この場合、ブラシ4が交換されることになる。図1および図7に示すように、上記の構成を有するフレーム21は、駆動装置6によって移動方向M1に往復移動される。駆動装置6は、動作停止時、載置台3の後方であって、フレーム21の可動範囲における最も後方側のホームポジションに、フレーム21を配置する。駆動装置6は、フレーム21の左方において、カバー29Lの下方に配置されている。駆動装置6は、たとえば、圧縮空気などの圧縮流体を動力源としている。本実施の形態では、駆動装置6は、固定部55と、可動部56とを有している。固定部55は、前後方向に細長いロッド57と、ロッド57の後端部および前端部に固定された端部材58,59と、ロッド57と平行に配置された側壁部材60と、を有している。ロッド57は、円柱状に形成されており、ベース2の底板およびレール24Lと平行に延びている。端部材58,59は、L字状のステー部材61,62を介して、支柱25,26に固定されている。すなわち、端部材58,59は、ステー部材61,62に固定されており、ステー部材61,62は、支柱25,26に固定されている。側壁部材60は、ロッド57とレール24Lとの間に配置されており、ロッド57と平行に延びている。側壁部材60は、ロッド57の右側を覆っており、ブラシ4と回路基板200との擦接により飛散する洗浄液がロッド57に付着することを抑制している。側壁部材60の後端部および前端部は、それぞれ、端部材58,59に固定されている。可動部56は、フレーム21およびブラシ4を移動方向M1に往復移動するために設けられている。可動部56は、レール24Lの左方に配置されており、高さ位置が、ブラシ4の接触部4cの高さ位置よりも高い。可動部56の外形形状は、たとえば、立方体形状に形成されている。可動部56の上面には、前述したように、メインフレーム22の左部31が固定部材33を用いて固定されている。また、可動部56には、挿通孔56aが形成されており、当該挿通孔56aには、ロッド57が挿通されている。挿通孔56aの内周面は、ロッド57の外周面と摺動可能に接触している。可動部56が移動方向M1へ移動する際、挿通孔56aの内周面は、ロッド57の外周面上を摺動する。可動部56のうち、挿通孔56aが形成されている部分は、側壁部材60によって、右側から覆われており、挿通孔56aへの洗浄液の浸入が、側壁部材60によって抑制されている。可動部56の高さ位置は、ブラシ4の接触部4cの高さ位置よりも高い。移動方向M1における可動部56の位置は、位置センサ63によって、検出される。位置センサ63は、例えば、非接触式のセンサである。上記の構成を有する駆動装置6は、制御部7によって制御される。制御部7は、ベース2の下方に配置されている。制御部7には、位置センサ63の検出信号が入力されるようになっている。制御部7は、操作部8と接続されている。制御部7は、操作部8からの操作信号に基づいて、駆動装置6を駆動および停止する。操作部8は、一対のスタートボタン64L,64Rと、非常停止ボタン65と、リセットボタン66と、を有しており、これらのボタン64L,64R,65,66は、それぞれ、制御部7と導通可能に接続されている。一対のスタートボタン64L,64Rは、ベース2の前方において、左右方向に離隔して配置されている。一対のスタートボタン64L,64Rが同時に押操作されることに伴い、制御部7は、駆動装置6を所定時間駆動させる。これにより、駆動装置6の可動部56は、所定時間、移動方向M1に沿って往復移動する。非常停止ボタン65は、ベース2の前方に配置されている。非常停止ボタン65が押操作されることに伴い、制御部7は、駆動装置6を強制的に停止させる。リセットボタン66は、非常停止ボタン65に隣接して配置されている。非常停止ボタン65が押操作されることにより駆動装置6が強制的に停止された後、非常停止ボタン65の押状態を解除しても駆動装置6が駆動しない場合、リセットボタン66が作業者によって押操作される。これにより、制御部7は、駆動装置6の強制停止状態を解除し、駆動装置6を駆動させる。基板洗浄装置における動作説明次に、基板洗浄装置1における、ブラシ4の着脱作業、ブラシ4の高さ位置の調整作業、および、回路基板200を洗浄する作業について、説明する。ブラシの着脱作業図1を参照して、ブラシ4をフレーム21に取り付ける際には、作業者は、載置台3の操作レバー20を引き上げ、操作レバー20を固定台9から引き抜く。この状態で、可動台10を90度、平面視で時計回りに回転させ、操作レバー20を下向きに押し込む図4参照。これにより、操作レバー20は、第2レバー用挿通孔9bに挿通され、ブラシ4の着脱の邪魔にならないように配置される。次に、作業者は、一対のスタートボタン64L,64Rを同時に押操作し、駆動装置6を駆動させる。これにより、駆動装置6の可動部56は、フレーム21を移動方向M1に沿って往復移動させる。そして、フレーム21が可動範囲における最も前側に位置した時に、非常停止ボタン65を押操作し、図10に示すように、駆動装置6を停止させる。この場合、メインフレーム22の中間部30は、アタッチメント11の把持部19の近傍に位置する。次に、作業者は、図11aに示すように、ブラシ本体4aを、着脱用空間45から左側へ変位させ、一対の保持部材41,42の保持溝41a,42a図11aにおいて、保持溝42aは図示せずに挿入する。その後、図11bに示すように、ブラシ固定部材46L,46Rを回転させて下側へ変位させることで、ブラシ固定部材46L,46Rをねじ孔40a,40bに螺合させ、ブラシ固定部材46L,46Rの先端を、サブフレーム23の天板40の上面に押圧させる。これにより、ブラシ本体4aは、一対の保持溝41a,42aの下面に押圧され、その結果、ブラシ4は、サブフレーム23の一対の保持部材41,42に固定される。ブラシ4をフレーム21から取り外す際には、ブラシ固定部材46L,46Rが緩められることで、ブラシ固定部材46L,46Rによる、ブラシ本体4aの押圧が解除される。その後、ブラシ本体4aは、一対の保持溝41a,42aから着脱用空間45へ引き抜かれる。フレーム21に対するブラシ4の取り付け、または取り外し作業が完了した後は、非常停止ボタン65図1参照の押操作が解除される。これにより、駆動装置6の駆動が再開され、フレーム21の位置は、ホームポジションに戻される。ブラシの高さ位置の調整作業サブフレーム23に固定されているブラシ4の高さ位置を調整する際には、まず、前述したように、フレーム21を、可動範囲における最も前側に位置している状態に配置する。ただし、ブラシ4の高さ位置を調整する際には、図12に示すように、操作レバー20は、可動台10の右前側に位置した状態のままにしておく。これにより、ブラシ4は、アタッチメント11の把持部19の上方に配置される。次に、サブフレーム固定部材47L,47Rが緩められることで、嵌合部50L,50Rによる、柱部43L,43Rの締め付けが解除される。これにより、サブフレーム23、およびブラシ4は、メインフレーム22に対して上下に移動可能となる。次に、図13に示すように、ブラシ4の接触部4cの高さ位置を規定するため、高さ調整用のゲージ67を用意する。ゲージ67は、所定の厚みを有する板状に形成されている。高さ調整用ゲージ67は、アタッチメント11の把持部19に載置される。この状態で、高さ調整用ゲージ67の上面にブラシ4の接触部4cが接触するように、接触部4cサブフレーム23の高さ位置が調整される。この高さ位置調整が完了すると、サブフレーム固定部材47L,47Rは、再び、嵌合部50L,50Rのねじ孔53L,53Rに締付けられる。これにより、嵌合部50L,50Rの挿通孔51L,51Rの内径が小さくなり、挿通孔51L,51Rは,柱部43L,43Rを締め付ける。これにより、柱部43L,43Rが固定される。その後、ゲージ67は、アタッチメント11の把持部19から取り外される。ブラシ4の高さ位置の調整作業が完了した後は、非常停止ボタン65図1参照の押操作が解除される。これにより、駆動装置6の駆動が再開され、フレーム21は、ホームポジションに戻される。回路基板の洗浄作業回路基板200を洗浄する作業を行う際には、まず、図14の平面図に示すように、載置台3の載置面16に、回路基板200を載置し、押さえ部材18で、回路基板200の実装面201を上から押さえる。次に、スタートボタン64L,64R図14では図示せずが同時に押操作されることに伴い、駆動装置6が駆動する。そして、可動部56は、固定部55のロッド57を摺動しながら、移動方向M1に往復移動する。これにより、ブラシ4の接触部4cは、移動方向M1に移動しながら回路基板200の実装面201を擦って実装面201を洗浄し、実装面201に付着している半田ボール203およびフラックスの残渣204などの異物を除去する。ブラシ4が実装面201を擦る洗浄動作を所定時間行った後、駆動装置6の可動部56は、ホームポジションで停止する。次に、作業者は、載置台3の操作レバー20を引き上げ、操作レバー20を、固定台9の第2レバー用挿通孔9aから引き抜く。この状態で、作業者は、可動台10、アタッチメント11および回路基板200を、図15に示すように、90度、平面視で時計回りに回転する。そして、作業者によって操作レバー20が、固定台9の第2レバー用挿通孔9bへ下向きに押し込まれることで、可動台10の回転が規制される。次に、スタートボタン64L,64Rの押ボタン図15では図示せずが同時に押操作されることに伴い、駆動装置6が駆動する。これにより、可動部56は、固定部55のロッド57を摺動しながら、移動方向M1に往復移動する。これにより、ブラシ4の接触部4cは、移動方向M1に往復移動しながら回路基板200の実装面201を擦って実装面201を洗浄し、実装面201に未だ異物が付着している場合には、当該異物を除去する。これにより、回路基板200の実装面201は、互いに直交する2方向に沿ってブラシ4に掃かれることとなり、実装面201上の異物が、より確実に除去される。回路基板200の実装面201の洗浄が終了すると、回路基板200は、作業者によって裏返しの状態で載置面16に置かれ、再び、前述したブラシ4の移動による洗浄作業が行われる。その後、回路基板200は、載置台3から取り外され、純水などの洗浄液に浸されて最終的な洗浄が行われる。以上説明したように、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置では、ブラシ支持装置5のレール24L,24Rは、移動方向M1に延びており、かつ、ブラシ4の接触部4cの位置よりも高い位置に配置されている。更に、駆動装置6の可動部56は、ブラシ4の接触部4cの位置よりも高い位置に配置されている。このような構成により、ブラシ4は、載置面16と平行な移動方向M1に沿って往復移動することにより、寝かされた姿勢の回路基板200の実装面201を擦って当該実装面201を掃く。このため、たとえば、洗浄液が付着したままの回路基板200をブラシ4で擦っても、回路基板200の実装面201の洗浄液は、ブラシ4の接触部4cの上方側には飛散し難い。更に、レール24L,24Rは、ブラシ4の接触部4cの位置よりも高い位置に配置されている。これにより、レール24L,24Rとフレーム21との間へ洗浄液が浸入することが抑制されている。その結果、洗浄液に起因する錆が、レール24L,24Rとフレーム21との間、特にローラ37L,37Rの周囲に生じることと、レール24L,24Rとフレーム21との間に供給されたグリースなどの潤滑剤が洗浄液によって流されることの、双方が抑制されている。これにより、フレーム21に対するレール24L,24Rの滑らかな動きが阻害されることを抑制できるので、洗浄液の飛散に起因する動作不良などの不具合の発生を抑制できる。さらに、駆動装置6の可動部56は、ブラシ4の接触部4cの位置よりも高い位置に配置されている。これにより、洗浄液に起因する錆が可動部56に生じること、および、可動部56に供給された潤滑剤が洗浄液によって流されること、などが抑制されている。これにより、可動部56の滑らかな動きが阻害されることを抑制できる。よって、回路基板200に付着した洗浄液の飛散に起因する動作不良などの不具合の発生を抑制できる。また、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置では、フレーム21は、レール24L,24Rに隣接する第1部分34L,34Rと、当該第1部分34L,34Rの位置よりも低い位置に配置されブラシ4が固定される一対の保持部材41,42と、を含む。このような構成により、フレーム21において、ブラシ4が固定される一対の保持部材41,42の位置を、レール24L,24Rに隣接する第1部分34L,34Rよりも低い位置とすることにより、ブラシ4の接触部4cの高さ位置を、より低くすることができる。これにより、ブラシ4が回路基板200の実装面201を擦ることにより飛散する洗浄液が、レール24L,24Rおよび駆動装置6の可動部56に付着することを、より確実に抑制できる。更に、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置では、鉛直方向において第1部分34L,34Rと一対の保持部材41,42との間に位置する空間に、ブラシ4を一対の保持部材41,42に固定するためのブラシ固定部材46L,46Rが配置されている。このような構成により、ブラシ固定部材46L,46Rを、第1部分34L,34Rの位置よりも低い位置に配置することができるので、作業者は、高い位置でブラシ固定部材46L,46Rを操作しなくて済む。その結果、作業者がブラシ4を一対の保持部材41,42に着脱する作業を行う場合に、作業者は、ブラシ固定部材46L,46Rを容易に操作することができる。また、ブラシ固定部材46L,46Rを、鉛直方向における第1部分34L,34Rと一対の保持部材41,42との間の空間に配置している。その結果、フレーム21およびブラシ固定部材46L,46Rが全体として鉛直方向に占めるスペースを小さくすることができ、基板洗浄装置1の小型化を達成することができる。また、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置では、フレーム21は、第1部分34L,34Rを含むメインフレーム22と、一対の保持部材41,42を含み、メインフレーム22に対してサブフレーム固定部材47L,47Rを用いて高さ位置を調整可能に固定されるサブフレーム23と、を有し、鉛直方向において第1部分34と一対の保持部材41,42との間に位置する空間に、サブフレーム固定部材47L,47Rが配置されている。このような構成により、サブフレーム固定部材47L,47Rを、第1部分34L,34Rの位置よりも低い位置に配置することができるので、作業者は、高い位置でサブフレーム固定部材47L,47Rを操作しなくて済む。その結果、作業者がサブフレーム23およびブラシ4の高さ位置を調整する作業を行う場合に、作業者は、サブフレーム固定部材47L,47Rを容易に操作することができる。また、サブフレーム固定部材47L,47Rを、鉛直方向における第1部分34と一対の保持部材41,42との間の空間に配置している結果、フレーム21およびサブフレーム固定部材47L,47Rが全体として鉛直方向に占めるスペースを小さくすることができる。よって、基板洗浄装置1の更なる小型化を達成することができる。また、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置では、一対の保持部材41,42にブラシ4を着脱するための着脱用空間45が設けられており、着脱用空間45および駆動装置6は、一対の保持部材41,42を挟んで配置されている。このような構成により、一対の保持部材41,42に対するブラシ4の着脱は、フレーム21の一対の保持部材41,42に対して駆動装置6が配置されている側の空間と反対側の空間を利用して行うことができる。よって、ブラシ4の着脱作業を、駆動装置6に邪魔されずに行うことができ、ブラシ4の着脱作業を容易に行うことができる。また、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置では、載置台3は、固定台9と、固定台9上に配置され載置面16を支持する可動台10と、を含み、固定台9に形成された凸部13と、可動台10に形成された凹部14との嵌合により、可動台10は、載置面16と直交する回転軸線R1回りに回動可能である。このような構成により、固定台9に対して、可動台10を回転させることにより、ブラシ4に対する回路基板200の向きを変更することができる。したがって、ブラシ4を移動方向M1に往復させることで回路基板200を擦って掃いた後、可動台10をたとえば90度回転させ、その後に更にブラシ4を移動方向M1に往復させて回路基板200を擦って掃くことができる。これにより、回路基板200を載置台3から取り外すことなく、回路基板200の実装面201を、たとえば互いに直交する2方向に擦ることができる。よって、回路基板200からの異物の除去作業を、より確実に、且つ、より迅速に行うことができる。また、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置では、載置台3は、載置台本体12と、載置台本体12に対して着脱可能なアタッチメント11とを含む。また、アタッチメント11は、載置面16と、アタッチメント11を把持するための把持部19とを含む。また、基板洗浄装置1は、ブラシ4の接触部4cの高さ位置を調整可能に構成されており、把持部19には、ブラシ4の接触部4cの高さ位置を規定するためにゲージ67を載置可能である。このような構成により、回路基板200のサイズなどに合わせてアタッチメント11を交換することができる。よって、最適な形状のアタッチメント11に回路基板200を載せて回路基板200を洗浄することができる。また、アタッチメント11の交換時に作業者が把持するための把持部19を、ブラシ4の接触部4cの高さ位置を規定するためのゲージ67を載せるゲージ載置台としても用いることができる。これにより、専用のゲージ載置台を設ける必要が無く、基板洗浄装置1の形状をより簡易にすることができる。なお、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置では、フレーム21の第1部分34の高さ位置が、一対の保持部材41,42の高さ位置よりも高い位置である構成を説明したけれども、これに限定されない。たとえば、フレーム21の第1部分34の高さ位置は、一対の保持部材41,42の高さ位置と同じであってもよい。また、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置では、レール24L,24Rは、フレーム21のメインフレーム22に取り付けられたローラ37L,37Rに接触はするものの、フレーム21の自重は受けない構成を説明したけれども、これに限定されない。たとえば、メインフレーム22にローラを取り付け、このローラを介して、レール24L,24Rに、フレーム21の自重を受けさせてもよい。また、本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置では、メインフレーム22とサブフレーム23とが別部材である構成を説明したけれども、これに限定されない。たとえば、メインフレーム22とサブフレーム23とは、単一部材によって形成されていてもよい。上記実施の形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記説明ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。"