"電子を放出する陰極と、前記陰極を支持する陰極支持体と、前記電子が入射されることにより焦点からX線を放出する平坦なターゲット面を有する円盤状の陽極ターゲットと、前記陰極、陰極支持体及び陽極ターゲットを収容する真空外囲器と、前記真空外囲器に直接的又は間接的に固定され、前記陽極ターゲットを支持し、前記陽極ターゲットとともに冷媒の循環路を形成する陽極ターゲット支持体と、前記ターゲット面の少なくとも1つの直線に沿って前記電子を走査させる電子走査手段と、前記真空外囲器を収納するハウジングと、前記真空外囲器及びハウジング間に設けられ、前記ハウジングとともに前記真空外囲器を回転可能に保持する軸受機構と、前記真空外囲器を回転させる回転駆動機構と、前記冷媒を冷却し、かつ循環させる冷却器と、を備えることを特徴とする回転陽極型X線管装置。前記陰極は、接地電位に設定され、前記陽極ターゲットには、正の高電圧が与えられ、前記陽極ターゲット支持体は、電気絶縁材料で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の回転陽極型X線管装置。前記陰極には、負の高電圧が与えられ、前記陽極ターゲットには、正の高電圧が与えられ、前記陽極ターゲット支持体は、電気絶縁材料で形成され、前記真空外囲器は、X線透過窓を有し、前記陽極ターゲットの直径をDとすると、前記直線は、前記陽極ターゲットの回転軸から前記X線透過窓の中央に向かう方向に直交し、前記回転軸から前記X線透過窓の中央側に0.35D以下の距離だけ離れた前記ターゲット面に位置するように設定されることを特徴とする請求項1に記載の回転陽極型X線管装置。前記陰極には、負の高電圧が与えられ、前記陽極ターゲットは、接地電位に設定され、前記真空外囲器は、X線透過窓を有し、前記陽極ターゲットの直径をDとすると、前記直線は、前記陽極ターゲットの回転軸から前記X線透過窓の中央に向かう方向に直交し、前記回転軸から前記X線透過窓の中央側に0.30D以下の距離だけ離れた前記ターゲット面に位置するように設定されることを特徴とする請求項1に記載の回転陽極型X線管装置。前記陽極ターゲットは、内部に回転軸から少なくとも前記焦点と対向する位置まで延在した空洞を有し、前記空洞は、前記循環路の一部を形成していることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の回転陽極型X線管装置。前記真空外囲器に固定され、前記真空外囲器の開口を気密に閉塞し、前記陰極が前記真空外囲器とともに回転しつつ回転軸上に位置するよう前記陰極支持体を保持した保持部材をさらにさらに備えていることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の回転陽極型X線管装置。前記陰極から放出される電子を偏向させる偏向手段をさらに備えていることを特徴とする請求項6に記載の回転陽極型X線管装置。前記真空外囲器に固定され、前記真空外囲器の開口を気密に閉塞し、前記陰極支持体に対向配置された保持部材と、前記陰極支持体及び保持部材間に設けられ、前記保持部材とともに前記陰極支持体を保持する他の軸受機構と、前記真空外囲器及び保持部材の回転に応じて前記陰極支持体に作用するモーメントを打ち消し、前記他の軸受機構とともに前記陰極を前記ハウジングに対して静止状態に保持する静止機構と、をさらに備えていることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の回転陽極型X線管装置。前記真空外囲器の回転に応じて摺動し、前記陰極に電流を供給する摺動通電機構をさらに備えていることを特徴とする請求項6乃至8の何れか1項に記載の回転陽極型X線管装置。前記ハウジングに固定され、前記ハウジングの開口を気密に閉塞し、前記陰極が前記ハウジングに対して静止状態となるよう、前記真空外囲器の開口を通って延出した前記陰極支持体を保持した保持部材と、前記真空外囲器及びハウジング間に設けられ、前記保持部材とともに前記真空外囲器の内部の真空状態を維持する真空シール機構と、をさらに備えていることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の回転陽極型X線管装置。前記真空外囲器は、内部に前記陰極を搬入可能な開口を有していることを特徴とする請求項1に記載の回転陽極型X線管装置。上記のように構成された回転陽極型X線管装置では、回転する真空外囲器に設けられたX線取り出し窓は金属などから構成され、その電位はターゲット面の電位又はほぼそれに近い値となる。ターゲット面に入射した電子の約45は反跳電子として、ほとんど入射エネルギーに近いエネルギーを維持してターゲット面で反射される。焦点位置がX線取り出し窓に近接しているため、反跳電子はターゲット面の電位又はほぼそれに近い電位であるX線取り出し窓を常に衝撃し、X線取り出し窓が加熱されることとなる。とりわけ、ハイパワーのX線を必要とするCT用の回転陽極型X線管装置や循環器の手術に用いられる回転陽極型X線管装置では、X線取り出し窓が加熱されて破壊される恐れがある。従来技術では、X線取り出し窓の表面に冷却液の流れを作用させ、X線取り出し窓を強制的に冷却している。しかし、上記技術を用いた場合、高速回転する真空外囲器と静止状態のハウジングとの間を流れる冷却液の粘性による損失が非常に大きいため、必要とされる回転駆動パワーが非常に大きくなってしまう。その結果、装置サイズが増大したり、回転駆動に伴う騒音や振動が増大したりする恐れがある。特許文献2には、回転する真空外囲器を2重筒構造として、回転する2重筒の隙間を冷却液が流れるようにすることにより冷却液の粘性による損失を低減させた技術が開示されている。しかしながら、上記技術を用いた回転陽極型X線管装置では、陰極へ電圧を供給するための摺動通電機構を複数使用することが困難である。回転軸上に1つ設けられた摺動通電機構では問題ないが、多くの摺動通電機構は周速度が大きくなる回転軸から外れた個所に設けられることとなる。これら摺動通電機構の周囲は常に冷却液が流れるため、固定ブラシは、すべり軸受の原理によって回転電極から浮上して、電気的に非導通状態になってしまう。焦点サイズを変化させるための付加電極や加速電極、またはグリッド電極等、フィラメント電位と異なる電位の電極を付加することが必要となる場合や、複数のフィラメントを設ける場合、摺動通電機構を複数とすることが必要となるため、上述した回転陽極型X線管装置を採用することができない。この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、陽極ターゲットが発生する熱の放出特性を向上させることができ、かつ真空外囲器を回転させるための回転駆動パワーを低減させることが可能な回転陽極型X線管装置を提供することにある。一実施形態に係る回転陽極型X線管装置は、電子を放出する陰極と、前記陰極を支持する陰極支持体と、前記電子が入射されることにより焦点からX線を放出する平坦なターゲット面を有する円盤状の陽極ターゲットと、前記陰極、陰極支持体及び陽極ターゲットを収容する真空外囲器と、前記真空外囲器に直接的又は間接的に固定され、前記陽極ターゲットを支持し、前記陽極ターゲットとともに冷媒の循環路を形成する陽極ターゲット支持体と、前記ターゲット面の少なくとも1つの直線に沿って前記電子を走査させる電子走査手段と、前記真空外囲器を収納するハウジングと、前記真空外囲器及びハウジング間に設けられ、前記ハウジングとともに前記真空外囲器を回転可能に保持する軸受機構と、前記真空外囲器を回転させる回転駆動機構と、前記冷媒を冷却し、かつ循環させる冷却器と、を備えることを特徴としている。[作用効果について]第1、第2、第4及び第5の実施形態のように、陰極接地の場合陽極ターゲット15に正の高電圧を与える場合、X線透過窓11wに向かう反跳電子は跳ね返され、陽極ターゲット15の表面または側面や裏面のみを衝撃する。第3の実施形態のように、陽極接地の場合陰極13に負の高電圧を与える場合、直線L1が、方向aに直交し、回転軸からX線透過窓11wの中央側に0.30D以下の距離だけ離れたターゲット面15dに位置するように設定されるk<0.30Dならば、X線透過窓11wを衝撃する反跳電子が少なく、ほとんどが陽極ターゲット15の表面または側面を衝撃する。実施例の場合と異なり、中性点接地とすることもできる。この場合、陽極ターゲット15に正の高電圧を与え、陰極13に負の高電圧を与える。直線L1が、方向aに直交し、回転軸からX線透過窓11wの中央側に0.35D以下の距離だけ離れたターゲット面15dに位置するように設定されるk<0.35Dならば、X線透過窓11wを衝撃する反跳電子が少なく、ほとんどが陽極ターゲット15の表面または側面を衝撃する。何れの場合も、X線透過窓11wは反跳電子による衝撃を受けにくいため、冷却液による冷却は必要がないものである。反跳電子のほとんどは陽極ターゲット15の表面または側面や裏面を衝撃して加熱するが、その熱は陽極ターゲット15内部に設けられた循環路6冷却路中を流れる第1冷媒7aに伝達されることにより放出される。また、陽極ターゲット15表面の焦点で発生した熱も、同様に第1冷媒7aに伝熱されることにより放出される。また、ハウジング3内に冷媒冷却液とともにX線管5を設置しなくてもよいため、X線管装置1をよりコンパクトでかつより軽量とすることができる。[電子ビームの走査について]電子電子ビームを陽極ターゲット15表面上を走査させるCT用のX線管装置については、米国特許第4,112,397号明細書、米国特許第5,313,510号明細書、米国特許第7,203,269号明細書、米国特許第7,218,700号明細書、特開2005-347178号公報、特開2009-240577号公報、等に開示されている。このようなX線管のメリットは、回転陽極型X線管に比べて重量やサイズを軽減できることである。そのため、従来よりもCTの回転架台をより高速に回転させることにより撮影時間を短縮することが可能となる。また、複数台を同時にCT架台に搭載することもでき、その場合には架台回転速度を高速化しなくても従来より撮影時間を短縮することが可能となる。電子電子ビームは、真空外囲器11の外部に配置された磁場偏向電極によって固定ターゲット表面を十分速い速度で走査するため、焦点温度の上昇を軽減することができる。上記のことは、偏向制御部150磁場偏向電極を利用する第1、第2及び第3の実施形態に関しても同様のことである。また、真空外囲器11の内部に配置された偏向制御部170静電偏向電極を利用する第4及び第5の実施形態に関しても同様のことである。その他の用途としては、トモシンサシスと呼ばれる断層撮影が挙げられる。たとえば、米国特許第4,730,350号明細書などに開示されている。図11及び図12に示すように、走査は連続的であっても良いし、間欠的であってもよい。また、1つの直線に限らず、2つ以上の直線に沿って電子を走査させてもよい。図11には、電子を間欠的に走査させる場合のパターンをいくつか挙げている。パターンsa1は、1つの直線に沿って電子を間欠的に走査させる例である。パターンsa2は、隣合う2つの直線に沿って電子を間欠的に走査させる例である。直線間の間隔を調整することにより、Z軸方向への焦点位置の任意の偏移を実現することができる。ここでZ軸は被写体人体の体軸方向を意味する。パターンsa3は、1つの直線に沿って電子を間欠的に、そして千鳥状に走査させる例である。パターンsa4は、隣合う8つの直線に沿って電子を間欠的に走査させる例である。この場合も、直線間の間隔を調整することにより、Z軸方向への焦点位置の任意の偏移を実現することができる。図12には、電子を連続的に走査させる場合のパターンをいくつか挙げている。パターンsb1は、1つの直線に沿って電子を連続的に走査させる例である。パターンsb2は、隣合う2つの直線に沿って電子を連続的に走査させる例である。直線間の間隔を調整することにより、Z軸方向への焦点位置の任意の偏移を実現することができる。パターンsb3は、1つの直線に沿って電子を連続的に、そして千鳥状に走査させる例である。パターンsb4は、隣合う8つの直線に沿って電子を連続的に走査させる例である。この場合も、直線間の間隔を調整することにより、Z軸方向への焦点位置の任意の偏移を実現することができる。[軸受機構について]軸受機構は、ボールベアリングの他、滑り軸受としても良い。軸受機構としては、潤滑材が不要な磁気軸受けを採用することも可能である。ボールベアリングは通常行われるようにグリースが外に漏れないためシール機構付きとした方が望ましい。シール機構は外部から軸受けへの異物混入を防ぐ作用も有している。軸受けの潤滑を冷媒である冷却液が兼ねても良い。その場合、シール機構付きは使用しない。例えば、ベアリング部材52は、第1冷媒7aに接するように陽極ターゲット支持体16及び空洞部24間に設けられていてもよい。上記の技術は、上述した第2の実施形態に係る回転陽極型X線管装置1に採用されている。[回転駆動機構について]回転駆動機構2は、真空外囲器11の一部にロータ筒部2aを設けて、外部のコイルステータコイル2bによって発生する回転磁界により真空外囲器11を回転させる誘導モータ方式を採用したが、これに限らず種々変形可能であり、例えば、真空外囲器11の一部に永久磁石付きロータを設けて、外部のコイルによって発生する回転磁界により真空外囲器11を回転させる永久磁石モータ方式を採用してもよい。別個に設けたモータ回転駆動機構と真空外囲器11とを機械的に結合させて、真空外囲器11を強制的に回転させてもよい。[高真空維持方法について]第4の実施形態では、イオンポンプ100を真空空間のどこかに配置させて高真空度を維持したが、これに限らず種々変形可能であり、例えば、フラッシュゲッタ真空排気工程後にバリウムやチタン等を蒸発させて真空外囲器11内面に蒸着膜を形成させ、ガス吸着作用をもたせるや通電ゲッタ使用中も加熱電源により通電してガスを吸着/吸蔵させるを真空空間のどこかに配置させて、高真空度を維持してもよい。これらの高真空度維持手段は他の実施形態においても使用することができる。[冷媒について]第1冷媒7aは、陽極ターゲット15が接地電位である場合にはどんな冷媒冷却液でも使用可能であるが、沸騰冷却の冷却率が高い水系冷却液が好適である。中性点接地や陰極接地の場合は、高電圧となる陽極ターゲットを冷却するため、絶縁油が好適である。絶縁性流体としては通常使用される鉱油の他、LAB直鎖状アルキルベンゼン、PFPEポリフルオロエーテルなどの合成油を使用することができる。PFPEの場合、適度な沸点のものを選定することにより、冷却率が高い沸騰冷却を利用することが可能である。なお、導電率の低い純水を使用することも可能である。低導電率を維持させるための付加装置が必要となりコスト高となるが、沸騰冷却の冷却率を高くできるメリットが得られるものである。[循環路について]第3の実施形態の循環路6では、外周部に第1冷媒7aの導入路、その中心部に第1冷媒7aの排出路を設けている。第1冷媒7aがPFPEのように沸騰冷却が可能な場合には、発生する気泡を遠心力の作用で効果的に排出させることができるため、上記のような構造の方が好ましい。第1、第2、第4及び第5の実施形態の循環路6では、中心部に第1冷媒7aの導入路、その外周部に第1冷媒7aの排出路を設けている。沸騰冷却を利用しない場合に好ましい構造である。これにより、第1冷媒7aが衝突することによる高い冷却効果を温度が上がり易い中心部に適用することができる。[冷媒のシールについて]第1の実施形態では、オイルシール91、92にて、第1冷媒7aをシールしたが、具体的には、例えば、ウィルソンシールなどの接触式のゴムシール、非接触式のスパイラル溝ポンプ機構、撥油性の狭い隙間などを単独使用、または併用して第1冷媒7aをシールすることができる。[第4の実施形態に係る真空シール機構について]真空シール機構は、厳密に表現すると耐真空回転シール機構であるが、磁性流体シールのことである。真空シール機構は、接触式のゴムシール機構や液体金属シール機構を併用していても良い。磁性流体シールは、液体と接すると安定な真空シール性能が損なわれる問題があるが、上記第4の実施形態では、液体は磁性流体真空シール部材61近傍に全く存在しないため、製品信頼性の高い回転陽極型X線管装置1を得ることができる。磁性流体シールは、磁性流体の基油の蒸発による真空度低下を防止するため、室温程度以上に温度が上昇するのを防ぐ必要がある。このため、空洞21aを第2冷媒7bで循環させることにより、磁性流体真空シール部材61の近傍を冷却している。上記第4の実施形態では、第2冷媒7bは、第1冷媒7aとは別であり、別の冷却循環系を形成している。しかし、冷却ユニット冷却器8a、8dで冷媒第1冷媒7a、第2冷媒7bが十分低い温度まで冷却される場合には、これらの冷却循環系を共通とすることもできる。ハウジング3に冷媒を戻す際、まず取り入れ口21iから磁性流体シール近傍の空洞21aに導入させる。なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。例えば、陰極13は、摺動通電機構無しに加熱することも可能である。例えば、陰極13は、誘導加熱を利用することにより加熱することができる。また、ベアリング部材51、52をハウジングから電気的に絶縁する等して、真空外囲器11を接地電位に設定されているハウジング3と導通しないようにすることもできる。この場合は、陰極側の摺動通電機構を通して、ハウジング3とは別経路で、真空外囲器を接地電位に設定する。この発明は、上記回転陽極型X線管装置1に限らず、各種の回転陽極型X線管装置に適用することができる。1...回転陽極型X線管装置、2...回転駆動機構、2a...筒部、2b...ステータコイル、3...ハウジング、5...X線管、6...循環路、7a...第1冷媒、7b...第2冷媒、8a,8d...冷却器、11...真空外囲器、11w...X線透過窓、13...陰極、13a...陰極支持体、15...陽極ターゲット、15d...ターゲット面、15e...空洞、16...陽極ターゲット支持体、17...管部、18...環部、21...バルブ、21a...空洞、22...環部、23,24,25...空洞部、26,27...環部、31...高電圧絶縁部材、41...蓋部、43,43a...導電ブラシ、51,52...ベアリング部材、61...磁性流体真空シール部材、71...端子、72...接触端子、82...保持部材、91,92...オイルシール、100...イオンポンプ、110...磁力発生機構、121...保持部材、126,126a,127,127a...筒部、129,129a...導電ブラシ、131,132...ベアリング部材、140...磁性体、150,170...偏向制御部、161...保持部材、166...円盤部、167...環部、a...方向、D...直径、H1,H2...磁場、k...距離、L1...直線。以下、図面を参照しながら第1の実施形態に係る回転陽極型X線管装置及び回転陽極型X線管装置の製造方法について詳細に説明する。図1に示すように、回転陽極型X線管装置1は、例えばX線画像診断装置や非破壊検査装置に組み込まれ、対象物すなわち非検査対象に対してX線を放射するものである。X線管装置1は、回転駆動機構2と、ハウジング3と、回転陽極型のX線管回転陽極型X線管5と、冷却器クーラーユニット8aとを有している。X線管5は、ハウジング3に収容され、所定強度のX線を放射可能である。ハウジング3は、X線透過窓3wを有している。X線管5は、陰極13と、陰極支持体13aと、陽極ターゲット15と、真空外囲器11と、陽極ターゲット支持体16と、を有している。陰極13は、電子熱電子を放出する電子放出源であり、この実施形態では円盤状の平板フィラメントで形成されている。陰極支持体13aは陰極13を支持している。陽極ターゲット15は、陽極本体15aと、環部15bとを有している。陽極本体15aは、Mo等の材料で円盤状に形成されている。陽極本体15aは、円盤状に窪めて形成されるとともに、回転軸に沿った方向に突出した円板状凸部15cを有している。この実施形態において、回転軸は、Z軸Zと呼ばれる軸から傾斜している。ここでZ軸は被写体人体の体軸方向を意味する。環部15bは、陽極本体15aの凹部を閉塞するよう陽極本体15aに接合されている。円板状凸部15cはWタングステン等の材料からなる平坦なターゲット面15dを有している。ターゲット面15dには電子が入射されることにより焦点が形成され、焦点からはX線が放出される。上記のように、陽極ターゲット15は、円盤状に形成され、内部に空洞15eを有している。空洞15eは、少なくとも回転軸から焦点と対向する位置まで径方向に延在している。後述するが、空洞15eは、第1冷媒7aの循環路6の一部を形成している。真空外囲器11は、内部に陰極13及び陰極支持体13aを搬入可能な開口を有している。真空外囲器11は、陰極13、陰極支持体13a及び陽極ターゲット15を収容している。真空外囲器11は、陽極ターゲット15と同軸的に設けられている。真空外囲器11は、X線透過窓11wを有している。X線透過窓11wは真空外囲器11の一部分であり、その形状は筒状である。陽極ターゲット支持体16は、環部15b陽極ターゲット15に結合された筒部と、上記筒部の外周に位置し、真空外囲器11に結合されたフランジとが一体となって形成されている。このため、陽極ターゲット支持体16は、真空外囲器11に直接的に固定され、陽極ターゲット15を支持している。なお、陽極ターゲット支持体16は、真空外囲器11に間接的に固定されていてもよい。陽極ターゲット支持体16は、高電圧絶縁体であり、電気絶縁材料で形成されている。この実施形態において、陽極ターゲット支持体16はセラミックで形成されている。後述するが、陽極ターゲット支持体16は、第1冷媒7aの循環路6を形成している。陽極ターゲット支持体16は、陽極ターゲット15と同軸的に設けられている。陽極ターゲット支持体16の内部には、一端部が閉塞された管部17が設けられている。管部17は、管部17の外周面が陽極ターゲット支持体16の内周面に隙間を置くように設けられている。管部17の一端部は、陽極ターゲット支持体16の外部に延出し、X線管5の外部に露出されている。管部17の他端部は、陽極ターゲット支持体16の外部に延出し、陽極ターゲット15の内部に挿入されている。管部17は、一端部に形成された取り入れ口から取り入れた第1冷媒7aを、他端部側に吐出すものである。管部17の外周面と陽極ターゲット支持体16の内周面との隙間の一部に、第1冷媒7aの流れを妨げないような態様で、補強部品を接合して介在させても良い。陽極ターゲット15の内部には、環部18が設けられている。環部18は、管部17の側面を囲むように管部17と一体に形成されている。環部18は、陽極ターゲット15の内部に隙間を置いて設けられている。環部18は、陽極ターゲット15、陽極ターゲット支持体16及び管部17とともに第1冷媒7aの循環路6を形成している。環部18と陽極ターゲット15の内面との隙間の一部に、第1冷媒7aの流れを妨げないような態様で、補強部品を接合して介在させても良い。上記のことから、管部17の他端部側に吐出された第1冷媒7aは、陽極本体15aの内部に吐出され、陽極本体15a及び環部18間、環部15b及び環部18間、陽極ターゲット支持体16及び管部17間を順に通り、外部に吐出される。管部17及び環部18は、陽極ターゲット15と同軸的に設けられている。管部17及び環部18は、導電材料で形成されている。管部17及び環部18の少なくとも一方は陽極ターゲット15に電気的に接続されている。また、少なくとも、管部17は陽極ターゲット支持体16に固定されている、又は環部18は陽極ターゲット15に固定されている。ハウジング3は、バルブ21、環部22、空洞部23、空洞部24及び空洞部25を有している。ハウジング3は真空外囲器11を収納している。ハウジング3は真空外囲器11と同軸的に設けられている。バルブ21は、両端が開口し、真空外囲器11の形状に対応した筒状に形成されている。環部22は、バルブ21の一端部に締め具を用いる等して固定されている。この実施形態において、バルブ21及び環部22は、導電材料で形成されている。空洞部23は、筒状の内周壁と、筒状の外周壁と、内周壁及び外周壁の一端を液密に閉塞する環状の一端壁と、内周壁及び外周壁の他端を液密に閉塞する環状の他端壁と、を有している。また、空洞部23は、後述するステータコイル2bが筒部2aに与える磁力を遮蔽しない材料で形成されている。この実施形態において、空洞部23は絶縁材料で形成されている。空洞部23の他端壁は、環部22に締め具を用いる等して固定されている。空洞部24は、筒状の内周壁と、筒状の外周壁と、外周壁の一端を液密に閉塞する環状の一端壁と、内周壁及び外周壁の他端を液密に閉塞する環状の他端壁と、を有している。空洞部24の内周壁及び一端壁間の隙間は、空洞部24の内部に繋がった第1冷媒7aの取り入れ口24iを形成している。取り入れ口24iは、循環路6の吐出口と、空洞部24の内部と、を連通している。空洞部24の外周壁には、空洞部24の内部に繋がった第1冷媒7aの取り出し口24oが形成されている。空洞部24の他端壁は、空洞部23の一端壁に締め具を用いる等して固定されている。空洞部25は、筒状の内周壁と、筒状の外周壁と、外周壁の一端を液密に閉塞する環状の一端壁と、内周壁及び外周壁の他端を液密に閉塞する環状の他端壁と、を有している。空洞部25は、空洞部25の内周壁の内側を液密に閉塞する円盤状の蓋部25aをさらに有している。蓋部25aには、第1冷媒7aの取り出し口25oが形成されている。取り出し口25oは、循環路6の取り入れ口と、空洞部25の内部と、を連通している。空洞部25の外周壁には、空洞部25の内部に繋がった第1冷媒7aの取り入れ口25iが形成されている。空洞部24及び空洞部25は、絶縁材料で形成されている。この実施形態において、空洞部24及び空洞部25は、プラスチックで形成されている。空洞部25の一端壁の開口は、高電圧絶縁部材31で液密に閉塞されている。高電圧絶縁部材31は、筒部32と、筒部32の一端側を閉塞した底部33とで形成されている。底部33には、端子71が取り付けられている。この実施形態において、端子71は、高電圧供給端子である。蓋部25aには、接触端子72が取り付けられている。接触端子72は、端子71に電気的に接続されている。接触端子72は、管部17に接触され、電気的に接続されている。管部17の回転中においても、接触端子72の管部17への接触は維持される。このため、管部17は、接触端子72に対して摺動する。接触端子72は、摺動通電機構を形成している。端子71には、50kV乃至150kVの電圧正の高電圧が印加される。端子71に印加された電圧は、接触端子72、管部17等を介して陽極ターゲット15に与えられる。このため、陽極ターゲット15は、50kV乃至150kVに設定される。図1及び図2に示すように、X線管5は、保持部材161と、円盤部166と、環部167と、通電端子168と、を有している。保持部材161は、絶縁材料で円盤状に形成されている。通電端子168は、保持部材161を貫通して設けられ、陰極13に接続されている。保持部材161に対して陰極13の反対側において、保持部材161上に、導電性の円盤部166及び環部167が設けられている。円盤部166は、真空外囲器11の回転軸上に位置し、通電端子168の一方に接続されている。環部167は、通電端子168の外側に位置し、通電端子168の他方に接続されている。保持部材161は、真空外囲器11に固定され、真空外囲器11の開口を気密に閉塞している。詳しくは、保持部材161に気密に接続された接続構体161aと、真空外囲器11に気密に接続された接続構体11aとは、溶接されている。保持部材161は、陰極13が真空外囲器11とともに回転しつつ真空外囲器11の回転軸上に位置するよう陰極支持体13aを保持している。バルブ21の他端部には、締め具を用いる等して環状の蓋部41が固定されている。蓋部41は、金属で形成されている。端子81は、蓋部41の開口部に設けられた絶縁部材42により固定されている。蓋部41には、バルブ21の内側に突出した導電性の突出部45が設けられている。突出部45は、端子81に電気的に接続されている。突出部45には導電ブラシ43が取り付けられている。導電ブラシ43の一方は円盤部166に接触し、他方は環部167に接触している。真空外囲器11とともに保持部材161が回転することにより、円盤部166及び環部167は導電ブラシ43に対して摺動する。円盤部166及び環部167並びに導電ブラシ43は、他の摺動通電機構を形成している。他の摺動通電機構は、真空外囲器11の回転に応じて摺動し、陰極13に電圧を与える回路を形成している。また、端子81には、-10kV乃至10kVの電圧が印加される。陰極13には、端子81から、突出部45、導電ブラシ43、円盤部166、環部167及び通電端子168を介して電圧が与えられるため、陰極13は、-10kV乃至10kVに設定される。この実施形態において、陰極13は接地電位に設定されている。図1に示すように、真空外囲器11及びハウジング3間には、軸受機構としてのベアリング転がり軸受け、ボール/ロールベアリング部材51、52が設けられている。ベアリング部材51は、真空外囲器11及びバルブ21間に設けられている。ベアリング部材52は、真空外囲器11及び環部22間に設けられている。ベアリング部材51、52は、ハウジング3とともに真空外囲器11を回転可能に保持する。真空外囲器11は、ベアリング部材51、52を介して接地電位に設定されているハウジング3に接続されている。上記のように真空外囲器11、バルブ21及び環部22は、導電材料で形成されている。このため、真空外囲器11は、0Vに設定されている。回転駆動機構2は、真空外囲器11を回転させるものである。回転駆動機構2は、筒部2a及びステータコイル2bを有している。筒部2aは、陽極ターゲット支持体16と対向した真空外囲器11の側面と接合され、真空外囲器11に固定されている。筒部2aは、例えばCu銅で形成されている。ステータコイル2bは、筒部2aの外側、より詳しくは空洞部23の内部に設けられている。ステータコイル2bの形状は環状である。上記回転陽極型X線管装置1の動作状態において、ステータコイル2bは筒部2aに与える磁力推進力を発生するため、真空外囲器11及び陽極ターゲット15等は回転する。第1冷媒7aは、電気伝導率が所定の大きさ未満に管理された冷却液である。この実施形態において、第1冷媒7aは、絶縁油である。第1冷媒7aは、循環路6、空洞部24及び空洞部25内に供給されている。冷却器8aは、第1冷媒7aを放熱及び循環させるものである。循環路6、空洞部24及び空洞部25内に供給された第1冷媒7aは、冷却器8aに設けられた熱交換器8cにより冷却される。ポンプ8bは、取り入れ口25iと取り出し口24oの間で第1冷媒7aを循環させる。これにより、陽極ターゲット15において発生する熱が、第1冷媒7aを介して、ハウジング3の外部へ放出される。上記のように、回転陽極型X線管装置1により生じる熱の多くを、第1冷媒7aを介してハウジング3の外部に放出できる。空洞部24の内周壁及び陽極ターゲット支持体16の外周面間の隙間は、オイルシール91で閉塞されている。このため、オイルシール91は、空洞部24の内部を流れる第1冷媒7aの漏れを抑制することができる。空洞部25の内周壁及び管部17の外周面間の隙間は、オイルシール92で閉塞されている。このため、オイルシール92は、空洞部25の内部を流れる第1冷媒7aの漏れを抑制することができる。このような回転陽極型X線管装置1においては、ステータコイル2bに所定の電流が供給されることで、真空外囲器11が所定の速度で回転され、真空外囲器11の内側に設けられた陽極ターゲット15等が所定の速度で回転される。この状態で陰極13から放射された電子が陽極ターゲット15に衝突されることで、陽極ターゲット15からX線が放射される。放射されたX線は、X線透過窓11w真空外囲器11及びX線透過窓3wを透過し、外部に放射される。この際、空洞15eや空洞部24、25の内部は第1冷媒7aが循環するため、陽極ターゲット15において発生する熱が、第1冷媒7aを介して、ハウジング3の外部へ放出される。回転陽極型X線管装置1は、さらに、偏向制御部150を有している。偏向制御部150は、真空外囲器11の外側に位置し、バルブ21に取り付けられている。偏向制御部150は、陰極13から陽極ターゲット15に向かう電子の軌道を囲むように設けられている。図1及び図3に示すように、偏向制御部150は偏向手段として機能している。偏向制御部150は、磁場H1を作用させることにより、陰極13から放出される電子を偏向させるものである。これにより、電子を回転軸から離れたターゲット面15dに入射させることができる。この実施形態において、偏向制御部150は、陽極ターゲット15の回転軸と、放射X線の中心方向aとに直交した方向に磁場H1を作用させる。また、偏向制御部150は電子走査手段として機能している。偏向制御部150は、磁場H2を作用させることにより、ターゲット面15dの少なくとも1つの直線L1に沿って電子を走査させることができる。この実施形態において、偏向制御部150は、陽極ターゲット15の回転軸に直交し、かつ、陽極ターゲット15の回転軸及び方向aを含む平面に沿った方向に磁場H2を作用させる。直線L1は、方向aに直交し、陽極ターゲットの回転軸からX線透過窓11wの中央側に離れたターゲット面15dに位置するように設定されている。この実施形態において、直線L1は、磁場H2の作用する方向に直交した方向に延びている。上記のように回転陽極型X線管装置1が構成されている。次に、上記回転陽極型X線管装置1の製造方法について説明する。まず、第1工程にて、陽極ターゲット15と、管部17と、環部18と、陽極ターゲット支持体16と、を組合せて第1アッセンブリを製造する。続いて、第2工程にて、陽極ターゲット15を真空外囲器11に収容し、陽極ターゲット支持体16を真空外囲器11に直接的又は間接的に固定し、第1アッセンブリと、真空外囲器11と、を組合せて第2アッセンブリを製造する。この実施形態において、真空外囲器11は複数の部材で構成され、上記複数の部材は陽極ターゲット15を収容した状態で結合され真空外囲器11を形成している。また、陽極ターゲット支持体16は、真空外囲器11に直接的に固定される。筒部2aも真空外囲器11に固定されている。次いで、第3工程にて、真空外囲器11の軸受機構ベアリング部材51、52取付け部の仕上げ除去加工を行い、第3アッセンブリを製造する。続いて、第4工程にて、陰極13と、陰極支持体13aと、保持部材161と、円盤部166と、環部167と、通電端子168と、を組合せて第4アッセンブリを製造する。第3工程後、並びに第4工程後の第5工程にて、真空外囲器11に陰極13及び陰極支持体13aを収容し、接続構体161a及び接続構体11aを溶接し、第3アッセンブリ及び第4アッセンブリを組合せて第5アッセンブリを製造する。第5工程の後に、第6工程において、真空外囲器11、陽極ターゲット支持体16及び保持部材161で囲まれた領域を、これら部材のいずれかに取り付けられた導管図示せずを通して真空排気する。排気終了後に、導管をメタルチップして真空封じする。ここで、第3工程乃至第6工程の後に、回転バランス調整工程にて、第3乃至第5アッセンブリの回転バランスを調整してもよい。その後、第7工程にて、第5アッセンブリと、ハウジング3と、偏向制御部150と、ベアリング部材51、52と、回転駆動機構2のステータコイル2bと、を組合せて第6アッセンブリを製造する。第7工程を詳しく説明すると、まず、バルブ21、偏向制御部150、真空外囲器11及びベアリング部材51を組合せた後、さらにベアリング部材52及び環部22を組合せ、環部22をバルブ21に固定する。続いて、ステータコイル2bが収容された空洞部23を環部22に固定する。または、空洞部23の他端壁を環部22に固定した後、空洞部23内にステータコイル2bを収容し、次いでステータコイル2bを一端壁で覆って空洞部23を完成する。その後、陽極ターゲット支持体16及び空洞部24間にオイルシール91を設け、空洞部24を空洞部23に固定する。続いて、高電圧絶縁部材31が取り付けられた空洞部25及び管部17間にオイルシール92を設け、空洞部25を空洞部24に固定する。これにより第7工程が終了する。また、第8工程にて、端子81、絶縁部材42、突出部45及び導電ブラシ43が取り付けられた蓋部41をバルブ21の他端部に固定する。次いで、第8工程の後の第9工程にて、第6アッセンブリ内に、第1冷媒7aを注入し、第6アッセンブリと、冷却器8aと、を組合せる。これにより、回転陽極型X線管装置1は完成する。上記のように構成された第1の実施形態に係る回転陽極型X線管装置1によれば、回転陽極型X線管装置1は、陰極13と、陰極支持体13aと、陽極ターゲット15と、真空外囲器11と、陽極ターゲット支持体16と、ハウジング3と、ベアリング部材51、52と、回転駆動機構2と、冷却器8aと、偏向制御部150と、を備えている。偏向制御部150は、ターゲット面15dの直線L1に沿って電子を走査させるため、電子を走査させない場合に比べて、陽極ターゲット15の温度温度上昇をより均一にすることができる。すなわち、陽極ターゲット15の局所的な温度上昇を抑制することができる。ターゲット面15dは平面であるため、直線L1に沿って電子を走査させても、Z軸方向の焦点位置に変動は無い。このため、直線L1に沿って電子を走査させても、均一な強度のX線の放射を維持することができる。陰極13は、陽極ターゲット15の回転軸上に偏向制御部150に近接して位置しているため、X線を、容易にすなわちより小さなエネルギ磁力で振ることができる。陽極ターゲット支持体16は、陽極ターゲット15とともに第1冷媒7aの循環路6を形成している。真空外囲器11は0Vに設定され、陽極ターゲット15は50kV乃至150kVに設定され、陰極13は-10kV乃至10kVに設定される。X線を放出する際、陽極ターゲット15、特に円板状凸部15cのターゲット面15dは高温になる。しかしながら、陽極ターゲット15の熱は、空洞部25、循環路6及び空洞部24の内部を流れる第1冷媒7aに放射される。循環路6を形成する陽極ターゲット15の空洞15eは、焦点と対向する位置まで径方向に延在している。このため、円板状凸部15cターゲット面15dから第1冷媒7aまでの熱伝導パスは短い。上記のことから、陽極ターゲット15の冷却率の優れた回転陽極型X線管装置1を得ることができる。第1冷媒7aは、管部17を通って陽極本体15aに噴出される。高温となる陽極ターゲット15の中心部に衝突噴流を作用させることができるため、陽極ターゲット15の中心部を冷却し易くすることができる。特に、最も高温となる陽極ターゲット15を効率よく冷却することができるため、陽極ターゲット15の溶融等、陽極ターゲット15に生じる不良を防止することができる。さらに、陽極ターゲット15の許容できる熱入力を大きくすることができるため、回転陽極型X線管装置1の出力を向上させることもできる。その他、回転陽極型X線管装置1の製品寿命を長くする効果を得ることができる。また、ターゲット面15dからは反跳電子が放出されるが、真空外囲器11は0Vに設定され、陽極ターゲット15は50kV乃至150kVに設定されているため、減速電界の働きにより、反跳電子を陽極ターゲット15側に押し戻すことができる。真空外囲器11ヘの反跳電子の衝突を抑制することができるため、真空外囲器11の加熱を抑制することができる。その結果、真空外囲器11の冷却が不要となるため真空外囲器11及びハウジング3間に、冷媒第1冷媒7aは、充填されていない。真空外囲器11は、高速回転時に冷媒の粘性による損失を受けないため、真空外囲器11及びハウジング3間に冷媒を充填した場合に比べ、真空外囲器11を回転させるための回転駆動パワーを低減させることができる。その結果、装置サイズの増大や、回転駆動に伴う騒音や振動の増大を抑制することができる。上記のことから、陽極ターゲット15が発生する熱の放出特性を向上させることができ、かつ真空外囲器11を回転させるための回転駆動パワーを低減させることが可能な回転陽極型X線管装置1を得ることができる。次に、第2の実施形態に係る回転陽極型X線管装置について説明する。この実施形態において、第1の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。図4に示すように、管部17は、複数の部材で形成されている。回転陽極型X線管装置1は、環部22を有していない。このため、空洞部23の他端壁が、バルブ21の一端部に締め具を用いる等して固定されている。空洞部24は、環部26及び環部27が結合して形成されている。環部26は、空洞部24の内周壁及び他端壁を形成している。環部27は、空洞部24の外周壁及び一端壁を形成している。オイルシール91は、環部26及び陽極ターゲット支持体16間の隙間を閉塞している。ベアリング部材52は、陽極ターゲット支持体16及び環部26間の第1冷媒7aが充填された領域に設けられている。なお、この場合、ベアリング部材52にシール機構は付いていない。これにより、ベアリング部材52の潤滑を第1冷媒7aである絶縁油で兼ねることができる。陽極ターゲット支持体16は、陽極ターゲット15とともに第1冷媒7aの循環路6を形成している。真空外囲器11は0Vに設定され、陽極ターゲット15は50kV乃至150kVに設定され、陰極13は-10kV乃至10kVに設定される。陽極ターゲット15、接触端子72、管部17及び環部18の熱は、空洞部25、循環路6及び空洞部24の内部を流れる第1冷媒7aに放射される。陽極ターゲット15、接触端子72、管部17及び環部18を冷却することができるため、陽極ターゲット15に生じる不良を抑制することができ、回転陽極型X線管装置1の出力を向上させることができ、回転陽極型X線管装置1の製品寿命を長くすることができる。また、真空外囲器11ヘの反跳電子の衝突を抑制することができるため、真空外囲器11の加熱を抑制することができる。真空外囲器11及びハウジング3間に、冷媒第1冷媒7aは充填されていない。真空外囲器11は、高速回転時に冷媒の粘性による損失を受けない。このため、真空外囲器11及びハウジング3間に冷媒を充填した場合に比べ、真空外囲器11を回転させるための回転駆動パワーを低減させることができる。その結果、装置サイズの増大や、回転駆動に伴う騒音や振動の増大を抑制することができる。上記のことから、第2の実施形態に係る回転陽極型X線管装置は、上述した第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。そして、陽極ターゲット15が発生する熱の放出特性を向上させることができ、かつ真空外囲器11を回転させるための回転駆動パワーを低減させることが可能な回転陽極型X線管装置1を得ることができる。次に、第3の実施形態に係る回転陽極型X線管装置について説明する。この実施形態において、第2の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。図5に示すように、蓋部41は、絶縁材料で形成されている。保持部材161は、高電圧絶縁部材で形成されている。保持部材161は、筒部162と、筒部162の一端側を閉塞した底部163とで形成されている。筒部162の他端側は、真空外囲器11に固定され、真空外囲器11の開口を気密に閉塞している。上記通電端子168は、底部163を貫通して設けられている。上記円盤部166及び環部167は、底部163上に設けられている。また、端子81には、ほぼ-150kVの電圧が印加される。陰極13には、端子81から、突出部45、導電ブラシ43、円盤部166、環部167及び通電端子168を介して電圧が与えられるため、陰極13は、ほぼ-150kVに設定される。この実施形態において、端子81は高電圧供給端子であり、陰極13は負の高電圧に設定されている。ベアリング部材51は、筒部162及びバルブ21間に設けられている。端子71には、0Vの電圧が与えられる。このため、陽極ターゲット15は、接地電位に設定される。陽極ターゲット支持体16、空洞部24環部26、環部27、空洞部25、及び筒部32は、金属で形成されている。環部26及び環部27間の隙間は、空洞部24の内部に繋がった第1冷媒7aの取り出し口24oを形成している。空洞部24の外周壁には、空洞部24の内部に繋がった第1冷媒7aの取り入れ口24iが形成されている。空洞部25の外周壁には、空洞部25の内部に繋がった第1冷媒7aの取り出し口25oが形成されている。冷却器8aは、第1冷媒7aを放熱及び循環させるものである。循環路6、空洞部24及び空洞部25内に供給された第1冷媒7aは、冷却器8aに設けられた熱交換器8cにより冷却される。ポンプ8bは、取り入れ口24iと取り出し口25oの間で第1冷媒7aを循環させる。これにより、陽極ターゲット15において発生する熱が、第1冷媒7aを介して、ハウジング3の外部へ放出される。上記のことから、陽極ターゲット15の熱が伝達された第1冷媒7aが、管部17を通ってハウジング3の外部へ放出される。このため、陽極ターゲット15付近で第1冷媒7aが沸騰し過ぎて、第1冷媒7a中の溶存ガスが気泡となって発生しても、遠心力の作用により、気泡を効率よくハウジング3の外部へ放出することができる。陽極ターゲット15の熱伝達面への気泡の滞留を抑制することができるため、陽極ターゲット15から第1冷媒7aへの熱伝達の阻害を低減することができる。図5及び図6に示すように、偏向制御部150は偏向手段として機能し、磁場H1を作用させることにより、陰極13から放出される電子を偏向させるものである。これにより、電子を回転軸から離れたターゲット面15dに入射させることができる。この実施形態において、偏向制御部150は、陽極ターゲット15の回転軸と、放射X線の中心方向aとに直交した方向に磁場H1を作用させる。ここで、陽極ターゲット15の直径をDとする。すると、直線L1は、方向aに直交し、陽極ターゲット15の回転軸からX線透過窓11wの中央側に距離kだけ離れたターゲット面15dに位置するように設定される。距離kは、0.30D以下であるk<0.30D。また、偏向制御部150は電子走査手段として機能している。偏向制御部150は、磁場H2を作用させることにより、ターゲット面15dの少なくとも1つの直線L1に沿って電子を走査させることができる。この実施形態において、偏向制御部150は、陽極ターゲット15の回転軸に直交し、かつ、陽極ターゲット15の回転軸及び方向aを含む平面に沿った方向に磁場H2を作用させる。直線L1は、方向aに直交し、陽極ターゲットの回転軸からX線透過窓11w側に離れたターゲット面15dに位置するように設定されている。この実施形態において、直線L1は、磁場H2の作用する方向に直交した方向に延びている。上記のように構成された第3の実施形態に係る回転陽極型X線管装置1によれば、陰極13には負の高電圧が与えられ、陽極ターゲット15は接地電位に設定されているが、この場合も上述した第2の実施形態と同様の効果を得ることができる。陽極ターゲット15は、真空外囲器11と同様接地電位に設定されている。このため、直線L1は、方向aに直交し、陽極ターゲット15の回転軸からX線透過窓11wの中央側に0.30D以下の距離だけ離れたターゲット面15dに位置するように設定されている。また、ターゲット面15dからは反跳電子が放出されるが、X線透過窓11w真空外囲器11から十分離れた位置に焦点を形成しているため、真空外囲器11ヘの反跳電子の衝突を抑制することができ、X線透過窓11w真空外囲器11の加熱を抑制することができる。さらに、陽極ターゲット15付近の第1冷媒7a中の溶存ガスが気泡となって発生しても、遠心力の作用により、気泡を効率よくハウジング3の外部へ放出することができる。このため、陽極ターゲット15から第1冷媒7aへの熱伝達の阻害を低減することができる。上記のことから、陽極ターゲット15が発生する熱の放出特性を向上させることができ、真空外囲器11を回転させるための回転駆動パワーを低減させることが可能な回転陽極型X線管装置1を得ることができる。次に、第4の実施形態に係る回転陽極型X線管装置について説明する。この実施形態において、第1の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。図7に示すように、回転陽極型X線管装置1は、冷却器クーラーユニット8dをさらに有している。陰極13は、真空外囲器11の内側に、真空外囲器11と独立して設けられている。真空外囲器11は、内部に陰極13及び陰極支持体13aの一部を搬入可能な開口を有している。バルブ21には、上記X線透過窓3wの他、環状の空洞21aと、空洞21aに繋がった第2冷媒7bの取り入れ口21i及び取り出し口21oと、が形成されている。空洞部23の外周壁には、空洞部23の内部に繋がった第2冷媒7bの取り入れ口23i及び取り出し口23oと、が形成されている。空洞部23の他端壁は、環部22に締め具を用いる等して固定されている。取り出し口21o及び取り入れ口23iは、連通され、例えばホース30で連通されている。図7及び図8に示すように、真空外囲器11の開口を通って延出した陰極支持体13aは、保持部材82により保持されている。保持部材82は、ハウジング3に固定され、ハウジング3の開口を気密に閉塞している。詳しくは、保持部材82に気密に接続された接続構体83と、バルブ21に気密に接続された接続構体21bとは、溶接されている。このため、陰極13は、ハウジング3に対して静止状態となる。また、保持部材82には、端子81が取り付けられている。端子81は陰極13に電気的に接続されている。端子81には、-10kV乃至10kVの電圧が印加される。このため、陰極13は、-10kV乃至10kVに設定される。さらに、保持部材82には、端子84が取り付けられている。端子84は、後述する偏向制御部170に電気的に接続されている。端子84に電圧信号を与えることにより、偏向制御部170が電界を発生し、電子電子ビームに作用させる。なお、偏向制御部170と陰極13のアースは共通である。図7に示すように、回転陽極型X線管装置1は、真空シール機構として、例えば磁性流体真空シール部材61が形成されている。磁性流体真空シール部材61は、真空外囲器11及びバルブ21ハウジング3間に設けられている。磁性流体真空シール部材61は、空洞21aに対向配置されている。磁性流体真空シール部材61は、例えば、神山による潤滑第30巻第8号pp75~78に報告がある。磁性流体真空シール部材61は、保持部材82等とともに真空外囲器11の内部の真空状態を維持する。第2冷媒7bは、電気伝導率が所定の大きさ未満に管理された冷却液である。この実施形態において、第2冷媒7bは、絶縁油である。第2冷媒7bは、空洞21a及び空洞部23内に供給されている。冷却器8dは、第2冷媒7bを放熱及び循環させるものである。空洞21a及び空洞部23内に供給された第2冷媒7bは、冷却器8dに設けられた熱交換器8fにより冷却される。ポンプ8eは、取り入れ口21iと取り出し口23oの間で第2冷媒7bを循環させる。このとき、第2冷媒7bは、空洞21aを流れるため、磁性流体真空シール部材61の背面の近傍を流れる。このため、磁性流体真空シール部材61を効率よく冷却できる。なお、第2冷媒7bの流路は、ハウジング3の形状を工夫することにより形成されている。第2冷媒7bの流路を工夫したことにより、第2冷媒7bはステータコイル2bも併せて冷却可能である。上記のように、回転陽極型X線管装置1により生じる熱の多くを、第1冷媒7a及び第2冷媒7bを介してハウジング3の外部に放出できる。バルブ21にはさらに導管21cが設けられている。導管21cは、真空外囲器11の内部を真空排気する際に使用されるため、封止されている。導管21cには、イオンポンプスパッタイオンポンプ100が気密に取り付けられている。イオンポンプ100は、真空外囲器11、陽極ターゲット支持体16、バルブ21、磁性流体真空シール部材61、保持部材82、接続構体21b及び接続構体83で囲まれた領域を高い真空度に維持することで、安定した動作を可能としている。このような回転陽極型X線管装置1においては、ステータコイル2bに所定の電流が供給されることで、真空外囲器11が所定の速度で回転され、真空外囲器11の内側に設けられた陽極ターゲット15等が所定の速度で回転される。この状態で陰極13から放射された電子が陽極ターゲット15に衝突されることで、陽極ターゲット15からX線が放射される。放射されたX線は、X線透過窓11w真空外囲器11及びX線透過窓3wを透過し、外部に放射される。この際、空洞15eや空洞部24、25の内部は第1冷媒7aが循環し、空洞21aや空洞部23の内部は第2冷媒7bが循環するため、陽極ターゲット15やステータコイル2bにおいて発生する熱が、第1冷媒7aや第2冷媒7bを介して、ハウジング3の外部へ放出される。図7及び図8に示すように、回転陽極型X線管装置1は、さらに、偏向制御部170を有している。この実施形態において、偏向制御部170は静電偏向電極である。偏向制御部170は、陰極支持体13aに取り付けられ、陰極13及びターゲット面15d間に位置している。偏向制御部170は、陰極13から陽極ターゲット15に向かう電子の軌道を囲むように設けられている。なお、陰極13は、回転軸上から外れて位置している。偏向制御部170は電子走査手段として機能している。偏向制御部170は、電界を作用させることにより、ターゲット面15dの少なくとも1つの直線L1図3に沿って電子を走査させることができる。上記のように回転陽極型X線管装置1が構成されている。次に、上記回転陽極型X線管装置1の製造方法について説明する。まず、第1工程にて、陽極ターゲット15と、管部17と、環部18と、陽極ターゲット支持体16と、を組合せて第1アッセンブリを製造する。続いて、第2工程にて、陽極ターゲット15を真空外囲器11に収容し、陽極ターゲット支持体16を真空外囲器11に直接的又は間接的に固定し、第1アッセンブリと、真空外囲器11と、を組合せて第2アッセンブリを製造する。この実施形態において、真空外囲器11は複数の部材で構成され、上記複数の部材は陽極ターゲット15を収容した状態で結合され真空外囲器11を形成している。また、陽極ターゲット支持体16は、真空外囲器11に直接的に固定される。筒部2aも真空外囲器11に固定されている。次いで、第3工程にて、真空外囲器11の軸受機構ベアリング部材51、52取付け部の仕上げ除去加工を行い、第3アッセンブリを製造する。その後、第4工程にて、第3アッセンブリと、ハウジング3と、磁性流体真空シール部材61と、ベアリング部材51、52と、回転駆動機構2のステータコイル2bと、を組合せて第4アッセンブリを製造する。第4工程を詳しく説明すると、まず、バルブ21、真空外囲器11、磁性流体真空シール部材61及びベアリング部材51を組合せた後、さらにベアリング部材52及び環部22を組合せ、環部22をバルブ21に固定する。続いて、ステータコイル2bが収容された空洞部23を環部22に固定する。または、空洞部23の他端壁を環部22に固定した後、空洞部23内にステータコイル2bを収容し、次いでステータコイル2bを一端壁で覆って空洞部23を完成する。その後、陽極ターゲット支持体16及び空洞部24間にオイルシール91を設け、空洞部24を空洞部23に固定する。続いて、高電圧絶縁部材31が取り付けられた空洞部25及び管部17間にオイルシール92を設け、空洞部25を空洞部24に固定する。これにより第4工程が終了する。ここで、第3工程後又は第4工程中の回転バランス調整工程にて、第3アッセンブリの回転バランスを調整してもよい。第4工程中とは、真空外囲器11及び環部22間にベアリング部材52を取り付けた後であり、空洞部23を環部22に固定する前である。続いて、第5工程にて、陰極13、陰極支持体13a、端子81、84、保持部材82、接続構体83及び偏向制御部170を組合せて第5アッセンブリを製造する。第4工程中若しくは第4工程後、並びに第5工程後の第6工程にて、真空外囲器11に陰極13及び陰極支持体13aを収容し、接続構体83及び接続構体21bを溶接し、第4アッセンブリ及び第5アッセンブリを組合せて第6アッセンブリを製造する。次いで、第6工程の後の第7工程にて、第6アッセンブリ内に、第1冷媒7a及び第2冷媒7bを注入し、第6アッセンブリと、冷却器8a、8dと、を組合せる。また、第6工程又は第7工程の後に、導管21cにイオンポンプ100やターボ分子ポンプ排気系図示せずを取り付け、真空外囲器11、陽極ターゲット支持体16、バルブ21、磁性流体真空シール部材61、保持部材82、接続構体21b及び接続構体83で囲まれた領域を真空排気する。真空排気終了後に、導管21cをメタルチップして真空封じすることにより、ターボ分子ポンプ排気系は切り離される。これにより、回転陽極型X線管装置1は完成する。上記のように構成された第4の実施形態に係る回転陽極型X線管装置1によれば、回転陽極型X線管装置1は、陰極13と、陰極支持体13aと、陽極ターゲット15と、真空外囲器11と、陽極ターゲット支持体16と、ハウジング3と、ベアリング部材51、52と、回転駆動機構2と、冷却器8a、8dと、偏向制御部170と、を備えている。陰極13は、陽極ターゲット15の回転軸上から外れて位置している。偏向制御部170は、ターゲット面15dの直線L1に沿って電子を走査させることができる。このため、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。上記のことから、陽極ターゲット15が発生する熱の放出特性を向上させることができ、真空外囲器11を回転させるための回転駆動パワーを低減させることが可能な回転陽極型X線管装置1を得ることができる。次に、第5の実施形態に係る回転陽極型X線管装置について説明する。この実施形態において、上記第4の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。図9に示すように、回転陽極型X線管装置1は、第4の実施形態と異なり、第2冷媒7b、冷却器8d、空洞21a、導管21c、ホース30及びイオンポンプ100を有していない。図9及び図10に示すように、第5アッセンブリ陰極アッセンブリは、陰極13と、陰極支持体13aと、保持部材121と、筒部126と、筒部126aと、筒部127と、筒部127aと、通電部128と、通電部128aと、導電ブラシ129と、導電ブラシ129aと、他の軸受機構としてのベアリング転がり軸受け、ボール/ロールベアリング部材131、132と、を有している。陰極13が位置した側の反対側の陰極支持体13aは、筒状に形成されている。保持部材121は、絶縁部材122及びシャフト125を有している。絶縁部材122は、筒部123と、筒部123の一端側を閉塞した底部124とで形成されている。底部124には、シャフト125が固定されている。筒部123の内周面には導電性の筒部126及び筒部126aが取り付けられ、筒部123の外周面には導電性の筒部127及び筒部127aが取り付けられている。筒部126及び筒部127は、筒部123を貫通して延出した通電部128により接続されている。筒部126a及び筒部127aは、筒部123を貫通して延出した通電部128aにより接続されている。保持部材121は、真空外囲器11に固定され、真空外囲器11の開口を気密に閉塞し、陰極支持体13aに対向配置されている。詳しくは、保持部材121に気密に接続された接続構体121aと、真空外囲器11に気密に接続された接続構体11aとは、溶接されている。導電ブラシ129及び導電ブラシ129aは、陰極支持体13aの外周面に取り付けられている。導電ブラシ129は、陰極13に電気的に接続されている。導電ブラシ129は、筒部126に接触している。導電ブラシ129aは、偏向制御部170に電気的に接続されている。導電ブラシ129aは、筒部126aに接触している。ベアリング部材131、132は、シャフト125及び陰極支持体13a間に設けられている。ベアリング部材131、132は、保持部材121とともに陰極支持体13aを保持する。このため、真空外囲器11とともに保持部材121が回転することにより、筒部126は導電ブラシ129に対して摺動する。筒部126及び導電ブラシ129は、第1摺動通電機構を形成している。第1摺動通電機構は、真空外囲器11の回転に応じて摺動し、陰極13に電圧を与える回路を形成している。その他、筒部126aは導電ブラシ129aに対して摺動する。筒部126a及び導電ブラシ129aは、第2摺動通電機構を形成している。第2摺動通電機構は、真空外囲器11の回転に応じて摺動し、偏向制御部170に電圧を与える回路を形成している。図9に示すように、バルブ21の他端部には、締め具を用いる等して環状の蓋部41が固定されている。蓋部41は、絶縁材料で形成されている。端子81及び端子84は、蓋部41の開口部に設けられた絶縁部材42により固定されている。蓋部41は、バルブ21の内側に突出した突出部を有している。蓋部41の突出部には導電ブラシ43及び導電ブラシ43aが取り付けられている。導電ブラシ43は、端子81に電気的に接続され、筒部127に接触している。導電ブラシ43aは、端子84に電気的に接続され、筒部127aに接触している。図9及び図10に示すように、真空外囲器11とともに保持部材121が回転することにより、筒部127は導電ブラシ43に対して摺動する。筒部127及び導電ブラシ43は、第3摺動通電機構を形成している。第3摺動通電機構は、真空外囲器11の回転に応じて摺動し、陰極13に電圧を与える回路を形成している。その他、筒部127aは導電ブラシ43aに対して摺動する。筒部127a及び導電ブラシ43aは、第4摺動通電機構を形成している。第4摺動通電機構は、真空外囲器11の回転に応じて摺動し、偏向制御部170に電圧を与える回路を形成している。また、端子81には、-10kV乃至10kVの電圧が印加される。陰極13には、端子81から、導電ブラシ43、筒部127、通電部128、筒部126及び導電ブラシ129を介して電圧が与えられるため、陰極13は、-10kV乃至10kVに設定される。回転陽極型X線管装置1は、陰極静止機構を備えている。陰極静止機構は、第1吸引部材としての磁性体140と、第2吸引部材としての磁力発生機構110とを有している。磁性体140は、磁性材料で形成され、陰極支持体13aの外周面に設けられ、陰極支持体13aに固定されている。磁性体140は、筒部123から離れて位置している。磁力発生機構110は、筒部123を挟んで磁性体140に対向配置されている。磁力発生機構110は、筒部123から離れて位置している。磁力発生機構110は、バルブ21に取り付けられた支持部材110aにより支持されている。磁力発生機構110は、磁性材料で形成されている。この実施形態において、磁力発生機構110は、永久磁石である。なお、磁力発生機構110は、電磁石であってもよく、磁性体140を引き付ける力を作用させるものであればよい。陰極静止機構は、真空外囲器11及び保持部材121の回転に応じて陰極支持体13aに作用するモーメントを打ち消し、ベアリング部材131、132とともに陰極13をハウジング3に対して静止状態に保持する。上記のように回転陽極型X線管装置1が構成されている。次に、上記回転陽極型X線管装置1の製造方法について説明する。まず、第1工程にて、陽極ターゲット15と、管部17と、環部18と、陽極ターゲット支持体16と、を組合せて第1アッセンブリを製造する。続いて、第2工程にて、陽極ターゲット15を真空外囲器11に収容し、陽極ターゲット支持体16を真空外囲器11に直接的又は間接的に固定し、第1アッセンブリと、真空外囲器11と、を組合せて第2アッセンブリを製造する。この実施形態において、真空外囲器11は複数の部材で構成され、上記複数の部材は陽極ターゲット15を収容した状態で結合され真空外囲器11を形成している。また、陽極ターゲット支持体16は、真空外囲器11に直接的に固定される。筒部2aも真空外囲器11に固定されている。次いで、第3工程にて、真空外囲器11の軸受機構ベアリング部材51、52取付け部の仕上げ除去加工を行い、第3アッセンブリを製造する。続いて、第4工程にて、陰極13と、陰極支持体13aと、保持部材121と、筒部126、126aと、筒部127、127aと、通電部128、128aと、導電ブラシ129、129aと、ベアリング部材131、132と、偏向制御部170と、を組合せて第4アッセンブリを製造する。第3工程後、並びに第4工程後の第5工程にて、真空外囲器11に陰極13、陰極支持体13a及び偏向制御部170を収容し、接続構体121a及び接続構体11aを溶接し、第3アッセンブリ及び第4アッセンブリを組合せて第5アッセンブリを製造する。第5工程の後の第6工程にて、真空外囲器11、陽極ターゲット支持体16及び保持部材121で囲まれた領域をこれら部材のいずれかに取り付けられた導管図示せずを通して真空排気する。真空排気終了後に、導管をメタルチップして真空封じが行われる。ここで、第3工程乃至第6工程後の回転バランス調整工程にて、第3乃至第5アッセンブリの回転バランスを調整してもよい。その後、第7工程にて、第5アッセンブリと、ハウジング3と、ベアリング部材51、52と、回転駆動機構2のステータコイル2bと、を組合せて第6アッセンブリを製造する。第7工程を詳しく説明すると、まず、バルブ21、真空外囲器11及びベアリング部材51を組合せた後、さらにベアリング部材52及び環部22を組合せ、環部22をバルブ21に固定する。続いて、ステータコイル2bが収容された空洞部23を環部22に固定する。または、空洞部23の他端壁を環部22に固定した後、空洞部23内にステータコイル2bを収容し、次いでステータコイル2bを一端壁で覆って空洞部23を完成する。その後、陽極ターゲット支持体16及び空洞部24間にオイルシール91を設け、空洞部24を空洞部23に固定する。続いて、高電圧絶縁部材31が取り付けられた空洞部25及び管部17間にオイルシール92を設け、空洞部25を空洞部24に固定する。これにより第7工程が終了する。また、第8工程にて、磁力発生機構110を支持した支持部材110aをバルブ21に取り付けた後、端子81、84、絶縁部材42及び導電ブラシ43、43aが取り付けられた蓋部41をバルブ21の他端部に固定する。次いで、第8工程の後の第9工程にて、第6アッセンブリ内に、第1冷媒7aを注入し、第6アッセンブリと、冷却器8aと、を組合せる。これにより、回転陽極型X線管装置1は完成する。上記のように構成された第5の実施形態に係る回転陽極型X線管装置1によれば、回転陽極型X線管装置1は、陰極13と、陰極支持体13aと、陽極ターゲット15と、真空外囲器11と、陽極ターゲット支持体16と、ハウジング3と、ベアリング部材51、52と、回転駆動機構2と、冷却器8aと、偏向制御部170と、を備えている。陰極13は、陽極ターゲット15の回転軸上から外れて位置している。偏向制御部170は、ターゲット面15dの直線L1に沿って電子を走査させることができる。このため、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、回転陽極型X線管装置1に設ける上記摺動通電機構の個数を上記実施形態より増やすことができるため、焦点サイズを変化させるための付加電極や加速電極、またはグリッド電極等、フィラメント電位と異なる電位の電極を付加することが必要となる場合や、複数のフィラメントを設ける場合でも、回転陽極型X線管装置1に、これらの電極や複数のフィラメントを設けることができる。摺動通電機構は、これらの電極やフィラメントの個数に応じた数だけ設ければよい。上記のことから、陽極ターゲット15が発生する熱の放出特性を向上させることができ、真空外囲器11を回転させるための回転駆動パワーを低減させることが可能な回転陽極型X線管装置1を得ることができる。次に、上述した実施形態に係る回転陽極型X線管装置1のポイントを、構成毎に分けて説明する。[作用効果について]第1、第2、第4及び第5の実施形態のように、陰極接地の場合陽極ターゲット15に正の高電圧を与える場合、X線透過窓11wに向かう反跳電子は跳ね返され、陽極ターゲット15の表面または側面や裏面のみを衝撃する。第3の実施形態のように、陽極接地の場合陰極13に負の高電圧を与える場合、直線L1が、方向aに直交し、回転軸からX線透過窓11wの中央側に0.30D以下の距離だけ離れたターゲット面15dに位置するように設定されるk<0.30Dならば、X線透過窓11wを衝撃する反跳電子が少なく、ほとんどが陽極ターゲット15の表面または側面を衝撃する。実施例の場合と異なり、中性点接地とすることもできる。この場合、陽極ターゲット15に正の高電圧を与え、陰極13に負の高電圧を与える。直線L1が、方向aに直交し、回転軸からX線透過窓11wの中央側に0.35D以下の距離だけ離れたターゲット面15dに位置するように設定されるk<0.35Dならば、X線透過窓11wを衝撃する反跳電子が少なく、ほとんどが陽極ターゲット15の表面または側面を衝撃する。何れの場合も、X線透過窓11wは反跳電子による衝撃を受けにくいため、冷却液による冷却は必要がないものである。反跳電子のほとんどは陽極ターゲット15の表面または側面や裏面を衝撃して加熱するが、その熱は陽極ターゲット15内部に設けられた循環路6冷却路中を流れる第1冷媒7aに伝達されることにより放出される。また、陽極ターゲット15表面の焦点で発生した熱も、同様に第1冷媒7aに伝熱されることにより放出される。また、ハウジング3内に冷媒冷却液とともにX線管5を設置しなくてもよいため、X線管装置1をよりコンパクトでかつより軽量とすることができる。[電子ビームの走査について]電子電子ビームを陽極ターゲット15表面上を走査させるCT用のX線管装置については、米国特許第4,112,397号明細書、米国特許第5,313,510号明細書、米国特許第7,203,269号明細書、米国特許第7,218,700号明細書、特開2005-347178号公報、特開2009-240577号公報、等に開示されている。このようなX線管のメリットは、回転陽極型X線管に比べて重量やサイズを軽減できることである。そのため、従来よりもCTの回転架台をより高速に回転させることにより撮影時間を短縮することが可能となる。また、複数台を同時にCT架台に搭載することもでき、その場合には架台回転速度を高速化しなくても従来より撮影時間を短縮することが可能となる。電子電子ビームは、真空外囲器11の外部に配置された磁場偏向電極によって固定ターゲット表面を十分速い速度で走査するため、焦点温度の上昇を軽減することができる。上記のことは、偏向制御部150磁場偏向電極を利用する第1、第2及び第3の実施形態に関しても同様のことである。また、真空外囲器11の内部に配置された偏向制御部170静電偏向電極を利用する第4及び第5の実施形態に関しても同様のことである。その他の用途としては、トモシンサシスと呼ばれる断層撮影が挙げられる。たとえば、米国特許第4,730,350号明細書などに開示されている。図11及び図12に示すように、走査は連続的であっても良いし、間欠的であってもよい。また、1つの直線に限らず、2つ以上の直線に沿って電子を走査させてもよい。図11には、電子を間欠的に走査させる場合のパターンをいくつか挙げている。パターンsa1は、1つの直線に沿って電子を間欠的に走査させる例である。パターンsa2は、隣合う2つの直線に沿って電子を間欠的に走査させる例である。直線間の間隔を調整することにより、Z軸方向への焦点位置の任意の偏移を実現することができる。ここでZ軸は被写体人体の体軸方向を意味する。パターンsa3は、1つの直線に沿って電子を間欠的に、そして千鳥状に走査させる例である。パターンsa4は、隣合う8つの直線に沿って電子を間欠的に走査させる例である。この場合も、直線間の間隔を調整することにより、Z軸方向への焦点位置の任意の偏移を実現することができる。図12には、電子を連続的に走査させる場合のパターンをいくつか挙げている。パターンsb1は、1つの直線に沿って電子を連続的に走査させる例である。パターンsb2は、隣合う2つの直線に沿って電子を連続的に走査させる例である。直線間の間隔を調整することにより、Z軸方向への焦点位置の任意の偏移を実現することができる。パターンsb3は、1つの直線に沿って電子を連続的に、そして千鳥状に走査させる例である。パターンsb4は、隣合う8つの直線に沿って電子を連続的に走査させる例である。この場合も、直線間の間隔を調整することにより、Z軸方向への焦点位置の任意の偏移を実現することができる。[軸受機構について]軸受機構は、ボールベアリングの他、滑り軸受としても良い。軸受機構としては、潤滑材が不要な磁気軸受けを採用することも可能である。ボールベアリングは通常行われるようにグリースが外に漏れないためシール機構付きとした方が望ましい。シール機構は外部から軸受けへの異物混入を防ぐ作用も有している。軸受けの潤滑を冷媒である冷却液が兼ねても良い。その場合、シール機構付きは使用しない。例えば、ベアリング部材52は、第1冷媒7aに接するように陽極ターゲット支持体16及び空洞部24間に設けられていてもよい。上記の技術は、上述した第2の実施形態に係る回転陽極型X線管装置1に採用されている。[回転駆動機構について]回転駆動機構2は、真空外囲器11の一部にロータ筒部2aを設けて、外部のコイルステータコイル2bによって発生する回転磁界により真空外囲器11を回転させる誘導モータ方式を採用したが、これに限らず種々変形可能であり、例えば、真空外囲器11の一部に永久磁石付きロータを設けて、外部のコイルによって発生する回転磁界により真空外囲器11を回転させる永久磁石モータ方式を採用してもよい。別個に設けたモータ回転駆動機構と真空外囲器11とを機械的に結合させて、真空外囲器11を強制的に回転させてもよい。[高真空維持方法について]第4の実施形態では、イオンポンプ100を真空空間のどこかに配置させて高真空度を維持したが、これに限らず種々変形可能であり、例えば、フラッシュゲッタ真空排気工程後にバリウムやチタン等を蒸発させて真空外囲器11内面に蒸着膜を形成させ、ガス吸着作用をもたせるや通電ゲッタ使用中も加熱電源により通電してガスを吸着/吸蔵させるを真空空間のどこかに配置させて、高真空度を維持してもよい。これらの高真空度維持手段は他の実施形態においても使用することができる。[冷媒について]第1冷媒7aは、陽極ターゲット15が接地電位である場合にはどんな冷媒冷却液でも使用可能であるが、沸騰冷却の冷却率が高い水系冷却液が好適である。中性点接地や陰極接地の場合は、高電圧となる陽極ターゲットを冷却するため、絶縁油が好適である。絶縁性流体としては通常使用される鉱油の他、LAB直鎖状アルキルベンゼン、PFPEポリフルオロエーテルなどの合成油を使用することができる。PFPEの場合、適度な沸点のものを選定することにより、冷却率が高い沸騰冷却を利用することが可能である。なお、導電率の低い純水を使用することも可能である。低導電率を維持させるための付加装置が必要となりコスト高となるが、沸騰冷却の冷却率を高くできるメリットが得られるものである。[循環路について]第3の実施形態の循環路6では、外周部に第1冷媒7aの導入路、その中心部に第1冷媒7aの排出路を設けている。第1冷媒7aがPFPEのように沸騰冷却が可能な場合には、発生する気泡を遠心力の作用で効果的に排出させることができるため、上記のような構造の方が好ましい。第1、第2、第4及び第5の実施形態の循環路6では、中心部に第1冷媒7aの導入路、その外周部に第1冷媒7aの排出路を設けている。沸騰冷却を利用しない場合に好ましい構造である。これにより、第1冷媒7aが衝突することによる高い冷却効果を温度が上がり易い中心部に適用することができる。[冷媒のシールについて]第1の実施形態では、オイルシール91、92にて、第1冷媒7aをシールしたが、具体的には、例えば、ウィルソンシールなどの接触式のゴムシール、非接触式のスパイラル溝ポンプ機構、撥油性の狭い隙間などを単独使用、または併用して第1冷媒7aをシールすることができる。[第4の実施形態に係る真空シール機構について]真空シール機構は、厳密に表現すると耐真空回転シール機構であるが、磁性流体シールのことである。真空シール機構は、接触式のゴムシール機構や液体金属シール機構を併用していても良い。磁性流体シールは、液体と接すると安定な真空シール性能が損なわれる問題があるが、上記第4の実施形態では、液体は磁性流体真空シール部材61近傍に全く存在しないため、製品信頼性の高い回転陽極型X線管装置1を得ることができる。磁性流体シールは、磁性流体の基油の蒸発による真空度低下を防止するため、室温程度以上に温度が上昇するのを防ぐ必要がある。このため、空洞21aを第2冷媒7bで循環させることにより、磁性流体真空シール部材61の近傍を冷却している。上記第4の実施形態では、第2冷媒7bは、第1冷媒7aとは別であり、別の冷却循環系を形成している。しかし、冷却ユニット冷却器8a、8dで冷媒第1冷媒7a、第2冷媒7bが十分低い温度まで冷却される場合には、これらの冷却循環系を共通とすることもできる。ハウジング3に冷媒を戻す際、まず取り入れ口21iから磁性流体シール近傍の空洞21aに導入させる。なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。例えば、陰極13は、摺動通電機構無しに加熱することも可能である。例えば、陰極13は、誘導加熱を利用することにより加熱することができる。また、ベアリング部材51、52をハウジングから電気的に絶縁する等して、真空外囲器11を接地電位に設定されているハウジング3と導通しないようにすることもできる。この場合は、陰極側の摺動通電機構を通して、ハウジング3とは別経路で、真空外囲器を接地電位に設定する。この発明は、上記回転陽極型X線管装置1に限らず、各種の回転陽極型X線管装置に適用することができる。"