"支持体上に金属酸化物を少なくとも1種類含む酸化物微粒子と珪素化合物とを含む保護層を有することを特徴とする太陽電池用基板。前記金属酸化物が、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムの何れか一方又は両方である請求項1に記載の太陽電池用基板。前記珪素化合物が、珪素と酸素とを含む請求項1、2に記載の太陽電池用基板。支持体上に金属酸化物を少なくとも1種類含む微粒子で形成される酸化物微粒子膜を形成し、前記酸化物微粒子膜内に珪素化合物を含浸させることを特徴とする太陽電池基板の製造方法。前記酸化物微粒子膜が圧縮膜であることを特徴とする請求項4に記載の太陽電池基板の製造方法。ここで、金属を基板に用いた場合、その金属が製造工程で光吸収層に拡散されるため、太陽電池の発電効率を低下する、という問題がある。今後、CIS系太陽電池の実用化を図っていくにあたり、CIS系太陽電池の発電効率の低下の低減を図る必要があり、前記金属が光吸収層に拡散されるのを抑制できる保護層が求められる。また、CIS系太陽電池のような絶縁層が必要な太陽電池では、絶縁層として用いられた無機物質が保護層の機能としても活用することができれば、製造工程の簡略化を図ることができ、コストダウンを図ることができる。また、保護層も光吸収層と同様、蒸着法、スパッタリング法などを用いて成膜されているが、保護層をスパッタリング法を用いて形成する場合、時間当たりに形成できる膜厚が塗布法に比べて薄く、作業効率が悪く、生産性が低い、という問題がある。例えば、ゾルゲル法を用いて塗布することにより保護層を形成する場合、クラックの発生を抑えるために、薄い膜を積み重ねる必要がある。ゾルゲル法では、一般的に100nm程度の膜厚を一回で形成できる。そのため、通常1μmの膜厚の保護層を形成する場合には、10回程度の塗布を行う必要があり、塗布回数が多くなる。そのため、少ない塗布回数で容易に所定の膜厚を形成できる保護層が求められている。また、保護層には高い温度での耐熱性が求められる。すなわち、高温にしたときに収縮が少なく、剥離やクラック等が起こらないことが必要である。本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、光吸収層への金属の拡散を抑制することができると共に、生産性に優れ、高い耐熱性を有する太陽電池用基板を提供することを目的とする。上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る太陽電池用基板は、支持体上に金属酸化物を少なくとも1種類含む酸化物微粒子と珪素化合物とを含む保護層を有することを特徴とする。これにより、支持体から光吸収層への金属拡散を抑制することができる。また、塗布法により緻密で、耐熱性の高い保護層とすることができる。本発明においては、前記金属酸化物が、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムの何れか一方又は両方であることが好ましい。酸化物が、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムであることで、融点が高いために耐熱性が高く、還元雰囲気においても酸化物が還元されることがない。本発明においては、前記珪素化合物が、珪素と酸素とを含むことが好ましい。珪素化合物が珪素と酸素を含むことで、酸化物微粒子膜中の空隙を埋めやすくできる。空隙を埋めることで裏面電極の形成しやすくなるとともに、膜の強度が向上する。上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る太陽電池基板の製造方法は、支持体上に金属酸化物を少なくとも1種類含む微粒子で形成される酸化物微粒子膜を形成し、前記酸化物微粒子膜内に珪素化合物を含浸させることを特徴とする。これにより、酸化物微粒子と珪素化合物からなる緻密で耐熱性を有し、光吸収層への金属の拡散が抑制された保護層を得ることができる。本発明においては、前記酸化物微粒子膜が圧縮膜であることが好ましい。酸化物微粒子膜が圧縮膜であることで、酸化微粒子膜が緻密化し、機械強度が向上する。機械強度が向上することで珪素化合物の含浸時に酸化物微粒子膜に傷が入りづらくなり、取り扱いが容易になる。また、耐熱性の高い太陽電池用基板を製造することができる。本発明によれば、光吸収層への金属の拡散を抑制することができると共に、生産性に優れ、高い耐熱性を有することができる。以下、本発明に係る太陽電池用基板の実施の形態以下、実施形態という及び実施例を、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、下記の発明を実施するための実施形態及び実施例により本発明が限定されるものではない。また、下記実施形態及び実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、下記実施形態及び実施例で開示した構成要素は適宜組み合わせても良いし、適宜選択して用いてもよい。<太陽電池>本実施形態に係る太陽電池用基板を適用した太陽電池の一例について図面を用いて説明する。図1は、本実施形態に係る太陽電池用基板を適用した太陽電池の一例を示す図である。図1に示すように、太陽電池10は、カルコパイライト構造を有する太陽電池CIS系太陽電池であり、基板11と、裏面電極12と、光吸収層13と、バッファ層14と、表面電極15とを有し、基板11から表面電極15にかけてこの順に積層されている。基板11は、支持体16と保護層17とを有し、支持体16に保護層17が形成されている。[基板]基板11は、支持体16と保護層17とを有するものである。支持体16の材料としては、金属を使用できる。金属としては、例えば、鉄、ステンレス、アルミニウム、チタン等がある。また、支持体16の形状は、板状、フィルム状箔状などとすることができる。また、支持体16には、ステンレスの金属箔を用いることができる。金属箔を用いることで、軽量化するとともに、可とう性が付与され、太陽電池10の機能が強化される。ステンレス等の金属箔を用いた場合、ステンレス中のFeが光吸収層13に拡散する。これは、CIS系膜を形成するときに高温を必要とするためであり、高い温度により、Fe元素が拡散移動するからである。支持体16の表面には保護層17が形成されている。基板11に含まれる保護層17の構成については、後述する。支持体16、保護層17に求められる耐熱温度をしては、600°C以上であることが好ましく、800°C以上であることがより好ましい。CIS系太陽電池10の光吸収層13においてCu、In、Seにより構成されたものでは、CIS系太陽電池10の光吸収層13の形成温度としては、600°C程度で結晶性がよいものが得られる。また、CIS系太陽電池10の光吸収層13においてCu、In、Sにより構成されたものでは、CIS系太陽電池10の光吸収層13の形成温度として800°C以上で結晶性がよいものが得られる。また、裏面電極12であるモリブデンを酸化モリブデンから還元して得る場合、600°C程度から還元が始まるが、800°C以上の還元温度があると酸化モリブデンが残りづらい。そのため、この場合には、耐熱温度は、600°C以上であることがより好ましい。[裏面電極]裏面電極12の材料としては、例えば、モリブデン、タングステンなどを使用することができ、モリブデンがより好ましい。裏面電極12はスパッタリング法などにより形成することもできる。また、酸化モリブデンを還元して金属モリブデンとすることも可能である。[光吸収層]光吸収層13は品質の高いCIS系膜を作製する観点から、蒸着法、スパッタリング法などを用いて作製される。蒸着法を用いて光吸収層13を作製する場合には、まず、加熱状態で、13族元素主にIn、Gaと16族元素主にSeの化合物を蒸着した後、11族元素主にCuと16族元素主にSeの化合物を蒸着し、再度、13族元素主にIn、Gaと16族元素主にSeの化合物を蒸着する。これにより、光吸収層13が得られる。このとき、基板温度を高くしておく必要があり、16族元素がSeの場合、例えば、約600°C程度とする。スパッタリング法を用いて光吸収層13を作製する場合には、まず、11族金族主にCuと必要に応じて13族金属主にGaをスパッタリングし、その後、13族金属主にInをスパッタリングして太陽電池用金属プリカーサを形成する。太陽電池用金属プリカーサに16族元素主にSe、もしくはSを含む物質たとえば、H2Seを作用させて、光吸収層13を得る。16族元素を含む物質を作用させるときに、高温雰囲気を必要とする。16族元素がSeの場合、例えば、約550°C程度とする。変換効率を高めるためには光吸収層13の品質が高いことが望まれる。支持体16にステンレス等の金属箔を用いた場合、ステンレス箔中に含まれるFe等が光吸収層13に拡散すると、CIS系太陽電池10の発電効率が低下する要因となる。このため、光吸収層13にFeが拡散しないことが望まれている。[バッファ層]バッファ層14の材料としては、例えば、CdS、ZnS、ZnO、ZnS、O、OH、In2S3等を用いることができる。バッファ層14は、例えば、化学析出法CBD法、スパッタリング法等を用いて成膜することができる。表面電極15の材料としては透明導電膜を各種用いることができる。透明導電膜として、例えば、AZO、GZO、ITO等がある。これら透明導電膜はスパッタリング法などを用いて形成することができる。また、表面電極15としては、金属で光を透過するほどの薄膜を用いることもできる。また、表面電極15として、金属グリッドを用いてもよい。また、バッファ層14と表面電極15の間に高抵抗層を設けてもよい。高抵抗層の材料としては、例えば、ZnO等がある。バッファ層14の膜厚は数十nm程度である。[保護層]保護層17は、支持体16上に金属酸化物を少なくとも1種類含む酸化物微粒子と珪素化合物例えば、RaSiO2-a/2:Rは有機基、4≧a≧0とを含む。金属酸化物として、酸化アルミニウムAl2O3、酸化ジルコニウムZrO2などが挙げられ、これらの何れか一方又は両方をも含むものである。珪素化合物は、珪素と酸素とを含むものであればよく、組成としてRaSiO2-a/2に限定されるものではない。本実施形態においては、保護層17を形成する材料としては、Al2O3、ZrO2、SiO2等がFeの拡散を防止できるため、好ましい。Al2O3、ZrO2、SiO2等の微粒子で形成される膜は、多数の空隙を有する多孔質の酸化物膜で構成される。そのため、保護層17を形成する材料として、RaSiO2-a/2を用いることで、Al2O3、ZrO2、SiO2等の微粒子で形成される膜内の空隙にRaSiO2-a/2を含めることができる。これらの保護層17は、通常スパッタリング法を用いて形成される。塗布法を用いて保護層17を形成する場合、酸化物微粒子を用いると膜は容易に形成できるが、酸化物微粒子膜が単独では膜内に空隙が形成されてしまい、保護層17の上に裏面電極12が形成しづらい。保護層17は、金属酸化物を少なくとも1種類含む微粒子で形成される酸化物微粒子膜を形成し、酸化物微粒子膜内に珪素化合物を含浸させることで得られる。珪素化合物がシリコーン樹脂などであれば、酸化物微粒子膜の空隙に含浸できる。酸化物微粒子膜は圧縮膜であることが好ましい。シリコーン樹脂は加熱すると、脱水反応や、有機基の分解により収縮する。保護層17が片面の場合、シリコーン樹脂が収縮すると、基板11がカールしたりする虞がある。また、保護層17が両面の場合、基板11にしわが発生し変形する虞がある。そのため、酸化物微粒子で形成される酸化物微粒子膜を形成し、得られた酸化物微粒子を圧縮して圧縮膜とした後、酸化物微粒子膜の空隙にシリコーン樹脂を含浸させることで、基板11のカール、しわの発生を抑制することができる。保護層17は、例えば、金属箔上に酸化物微粒子膜を形成し、これを圧縮して圧縮膜として、支持体16上に形成し、次にシリコーンワニスを塗布し、乾燥してシリコーン樹脂を酸化物微粒子膜の空隙に含浸させる。加熱してシリコーン樹脂を硬化させる。これにより、保護層17が得られる。また、保護層17は、支持体16の両面に設けるようにしてもよい。特に支持体16が薄い場合にカールを抑制することができる。また、酸化物微粒子膜を形成する方法としては、酸化物微粒子の分散液を用いることが好ましい。また、酸化物微粒子膜を圧縮膜とすると、酸化物微粒子の充填率が向上するため、好ましい。圧縮膜については後述する。分散液酸化物微粒子の分散酸化物微粒子を分散する液体としては、特に限定されることなく、既知の各種液体を使用することができる。液体として、例えば、ヘキサン等の飽和炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドンNMP、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類、エチレンクロライド、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等を挙げることができる。これらのなかでも、極性を有する液体が好ましく、特にメタノール、エタノール等のアルコール類、NMP等のアミド類のような水と親和性のあるものは、分散剤を使用しなくても分散性が良好であり好適である。これら液体は、単独でも2種以上の混合したものでも使用することができる。また、液体の種類により、分散剤を使用することもできる。用いる液体の量は、特に制限されず、酸化物微粒子の分散液が後述する塗布方法に適した粘度を有するようにすればよい。例えば、酸化物微粒子100質量部に対して、液体100質量部以上100,000質量部以下である。用いる液体の量は、酸化物微粒子と液体の種類に応じて適宜調整するとよい。一般的には、酸化物微粒子の粒径が小さくなるほど比表面積が大きくなり、粘度が高くなりやすい。比表面積が大きい微粒子を用いる場合は、液体の量を多くして、固形分濃度を下げればよい。また、塗膜厚みが薄くする場合も、液体の量を多くして、固形分濃度の低い塗布液を用いるとよい。酸化物微粒子膜の形成酸化物微粒子の液体中への分散は、公知の分散手法により行うとよい。例えば、サンドグラインダーミル法により分散する。分散に際しては、微粒子の凝集をほぐすために、ジルコニアビーズ等のメディアを用いることも好ましい。また、分散の際に、ゴミ等の不純物の混入が起こらないように注意する。図2は、支持体16上に酸化物微粒子21で形成される圧縮前の微粒子膜22を模式的に示す図である。図2に示すように、酸化物微粒子21を含む分散液を支持体16上に塗布、乾燥し、支持体16上に酸化物微粒子21で形成される微粒子膜22を形成する。微粒子膜22を形成する酸化物微粒子21の相互間は大きく空いており、微粒子膜22は酸化物微粒子21同士の隙間を有した状態で形成されている。支持体16上への微粒子分散液の塗布は、特に限定されることなく、公知の方法により行うことができる。例えば、1000cps以上の高粘度の分散液の塗布は、ブレード法、ナイフ法などの塗布法によって行うことができる。500cps未満の低粘度の分散液の塗布は、バーコート法、キスコート法、スクイズ法などの塗布法によって行うことができ、又は噴霧、吹き付けなどにより、支持体16上へ分散液を付着させることも可能である。さらに、分散液の粘度によらず、リバースロール法、ダイレクトロール法、エクストルージョンノズル法、カーテン法、グラビアロール法、ディップ法などの塗布法を用いることも可能である。乾燥温度は分散に用いた液体の種類、支持体16又は転写支持体の耐熱温度等によるが、10°C以上150°C以下が好ましい。10°C未満では空気中の水分の結露が起こりやすく、150°Cを越えると転写支持体が変形する場合がある。また、乾燥の際に、不純物が酸化物微粒子の表面に付着しないように注意する。酸化物微粒子の分散液を塗布して乾燥させると、分散液中に有機バインダーが存在しなくても酸化物微粒子は膜を形成する。分散液を乾燥させて液体が少なくなってくると毛管力により、酸化物微粒子が互いに集まり、凝集作用が働く。さらに酸化物微粒子であるため、酸化物微粒子の比表面積が大きく凝集力も強いため、膜が形成される。圧縮膜酸化物微粒子膜の圧縮酸化物微粒子膜は、上述の通り、圧縮して圧縮膜とすることが好ましい。圧縮とは、微粒子膜21に対して、外的な圧力を加えて微粒子膜21同士の間隔を密にすることをいう。図3は、支持体16上に酸化物微粒子21を圧縮して形成される圧縮膜23を模式的に示す図である。図3に示すように、微粒子膜22に外的な圧力を加えて圧縮することで、圧縮膜23を形成することができる。圧縮膜23を形成する酸化物微粒子21の相互間は、圧縮膜23を形成する際に微粒子膜21に対して外的な圧力を加えて形成されるため、圧縮膜23は酸化物微粒子21同士の間隔を密にした状態で形成されている。圧縮膜23を形成するための形態として、例えば、以下のようなものがある。1支持体16上に酸化物微粒子膜を形成した後、圧縮して、微粒子圧縮膜を得る。支持体16に酸化物微粒子膜を形成する方法としては、酸化物微粒子の分散液を塗布し、乾燥すればよい。酸化物微粒子を液体に分散させて塗布し、乾燥すると、均一な酸化物微粒子膜が得られる。2酸化物微粒子膜を転写するための転写支持体に酸化物微粒子膜を形成し、酸化物微粒子膜の表面と支持体16の一方の面を合わせて圧縮し、支持体16の一方の面に酸化物微粒子膜を転写して、酸化物微粒子の圧縮膜を得る。転写支持体に酸化物微粒子膜を形成する方法としては、酸化物微粒子の分散液を塗布し、乾燥すればよい。転写支持体としては、PETフィルムのような樹脂フィルム上にハードコートも設けたものを用いることができる。支持体16が薄い金属箔のようなものは切れやすく取り扱いに注意を要する。また、金属箔にうねりがあって、均一に塗布できないような場合がある。前記のような転写支持体は切れづらく、また、塗布時に均一な厚みを得やすいため、好適に用いることができる。圧縮は44N/mm2以上の圧縮力で行うことが好ましい。44N/mm2未満の低圧であれば、微粒子膜を十分に圧縮することができず、塗膜的強度が得られにくい。また、上記2の方法においては部分的転写されないところができることがある。138N/mm2以上の圧縮力がより好ましい。圧縮力が高いほど、塗膜強度が向上し、傷の入りづらい膜となる。一般には1000N/mm2までの圧縮力が適当であり、圧力が高くなり過ぎると支持体16が変形する。圧縮は、特に限定されることなく、シートプレス、ロールプレス等により行うことができるが、ロールプレス機を用いて行うことが好ましい。ロールプレスは、ロールとロールの間に圧縮すべきフィルムを挟んで圧縮し、ロールを回転させる方法である。ロールプレスは均一に高圧がかけられ、シートプレスよりも生産性が良く好適である。ロールプレス機のロール温度は生産性の点から常温作業者が作業しやすい環境であり、例えば25°C程度が好ましい。ロールプレス機のロールは、強い圧力がかけられることから金属ロールが好適である。また、上記1の方法ではロール表面が柔らいと、圧縮時に微粒子がロールに転写することがあるので、ロール表面をハードクロムやセラミック溶射膜、TiNなどのイオンプレーティングにより得た膜、DLCダイヤモンドライクカーボン等の硬質膜で処理することが好ましい。また、ロールを微粒子面の間にハードコートフィルムを入れて圧縮することで対策してもよい。圧縮することにより、酸化物微粒子膜の強度を向上させることができる。すなわち、圧縮することで酸化物微粒子などの微粒子相互間の接触点が増え接触面が増加する。このため、塗膜強度が上がる。酸化物微粒子は凝集しやすい性質があるため、圧縮することで強固な酸化物微粒子膜となる。また、支持体16表面に超微細な凹凸に微粒子の一部が埋め込まれるような状態になり、支持体16とも密着する。支持体16の表面が平滑で硬いものの場合、圧縮膜がはがれる不具合が発生することがある。この場合、支持体16の表面に非常に薄い樹脂皮膜を形成しておくとよい。樹脂としてはシリコーン樹脂等を挙げることができる。膜厚としては、1nm以上50nm以下であることが好ましく、より好ましくは2nm以上30nm以下である。微粒子の粒径により適宜調整すればよい。シリコーン樹脂の含浸珪素化合物として珪素と酸素よりなるものを用いることができる。珪素化合物として、例えば、シリコーン樹脂、シラン等を挙げることができる。酸化物微粒子膜にシリコーン樹脂等を含浸させる。具体的には、酸化物微粒子膜にシリコーンワニスを塗布し、乾燥すればよい。シリコーン樹脂量は適宜選択すればよいが、空隙が埋まる程度にすることが好ましい。多量のシリコーンワニスを塗布し微粒子膜上にシリコーン樹脂膜が厚く形成されたものでは、光吸収層13などを形成する工程において加熱されるのでカールが発生することがある。好ましくは微粒子膜上にシリコーン樹脂膜が10nm以上200nm以下の厚みで形成される程度に含浸することが好ましく、より好ましくは20nm以上100nm以下である。シリコーンワニスを塗布する際には、微粒子膜が圧縮膜であることが好ましい。圧縮膜は強固な膜であるため、塗布時にキズが入りづらいため、容易に取り扱うことができる。酸化物微粒子膜にシリコーン樹脂等を含浸させた後、シリコーン樹脂を硬化させる。硬化温度としては触媒の添加の有無により適宜選択すればよいが、100°C以上が好ましく、200°C以上がより好ましい。微粒子膜が圧縮膜では空隙が少なくシリコーン樹脂量が少なくできる。シリコーン樹脂が硬化するとき、収縮を伴うが、シリコーン樹脂が少ないほうが収縮応力を低減できる。また、温度が高い方が密度は高まる。また、光吸収層13を形成するときに達する温度で硬化させることも好ましい。光吸収層13を形成時に保護層17の収縮を抑えることができる。加熱雰囲気としては、空気雰囲気、不活性ガス雰囲気、還元雰囲気で行えばよい。空気雰囲気下で高温加熱した場合、シリコーン樹脂の有機分は分解されやすい傾向にある。SiO2、もしくは一部に有機残渣を持つSiO2類似物となる。不活性ガス雰囲気では有機分の水素が分離し、炭素が残ることがある。還元雰囲気の場合、有機分は分解されづらく、高度に架橋したシリコーン樹脂となる。このように、本実施形態に係る太陽電池用基板11によれば、光吸収層13への金属の拡散を抑制することができると共に、生産性に優れ、高い耐熱性を有することができるため、CIS系太陽電池10の光変換効率を向上させることができると共に、生産性を向上させることができる上、太陽光発電システムとして安定して用いることができるため、信頼性の高い太陽電池を提供することができる。<実施例1>[保護層の作製]ハードコートフィルムの作製PETフィルム25μm厚をコロナ処理し、ハードコート塗布液KP854信越化学工業社製を塗布、乾燥、硬化して、PETフィルム上に0.5μm厚のハードコートフィルムを用意した。アンカーコートの形成シリコーン系樹脂溶液AフレッセラNA液パナソニック電工社製10質量部にシリコーン系樹脂溶液BフレッセラNB液パナソニック電工社製30質量部に、エタノール760質量部を加え、撹拌して、塗布液とし、50μm厚のステンレス箔に塗布し、乾燥して、25nm厚のアンカーコートを形成した。Al2O3微粒子圧縮膜の作製平均粒子径40nmのAl2O3微粒子25質量部にエタノール75質量部を加え、メディアをジルコニアビーズとして分散機を用いて分散した。バーコーターを用いて、前記ハードコートフィルム上にAl2O3微粒子分散液を塗布し、70°Cの熱風を用いて乾燥した。Al2O3微粒子が塗布されたハードコートフィルムのAl2O3微粒子面が、アンカーコートが形成されたステンレス箔のアンカーコート面が接触するように重ね、ロールブレス機で圧縮した後、ハードコートフィルムを取り除いて、ステンレス箔上に1.0μm厚みのAl2O3微粒子の圧縮膜を形成した転写した。圧縮圧力は200N/mm2であった。100°Cの雰囲気化に1時間おいてアンカーコートを硬化させた。シリコーン樹脂の含浸Al2O3微粒子の圧縮膜が形成されたステンレス箔のAl2O3面側に上述のシリコーン系樹脂溶液Bを塗布し、120°Cで乾燥させてAl2O3微粒子の圧縮膜にシリコーン樹脂を含浸させた。次いで100水素雰囲気700°Cで硬化させ、保護層を作製した。[保護層の形状の確認]作製した保護層にはカールは発生しなかった。[断面の観察]保護層の断面を走査型電子顕微鏡scanningelectronmicroscope:SEMにて観察した。図4は、実施例1の保護層の状態を模式的に示す図である。図4に示すように、圧縮された密なAl2O3微粒子間圧縮膜の空隙部にシリコーン樹脂が含浸されており、Al2O3微粒子の圧縮膜表面図4中、破線部分より上側ステンレス箔と接していない側50nmに含浸されなかったシリコーン樹脂が観察された。[Fe拡散の確認]保護層が形成されたステンレス箔にスパッタリングにより500nm厚のモリブデン膜を形成した。モリブデン膜上に蒸着により2μm厚のCuInSe2膜を形成した。FeのCuInSe2膜へのFeの拡散を、二次イオン質量分析法SecondaryIonMassSpectrometry;SIMSを用いて調べた。表面から深さ方向にFeの拡散を調べたが、Feの拡散は測定限界以下であり、観測されなかった5ppm以下。<比較例1>保護層を形成せずにステンレス箔上に直接モリブデン膜を形成した。<Fe拡散の確認>実施例1と同様にCuInSe2膜を形成し、CuInSe2膜へのFeの拡散を調べた。Feは200ppm検出された。<実施例2>実施例1の保護層をステンレス箔の両面につけ、100水素雰囲気800°Cで処理したこと以外は実施例1と同様にして保護層を形成した。保護層形成に伴うしわは発生しなかった。実施例1と同様にして一方の保護層にモリブデン膜、CuInSe2膜を形成し、CuInSe2膜へのFeの拡散を調べたがFeの拡散は測定限界以下であった。<実施例3>実施例2のAl2O3微粒子の圧縮膜の膜厚を2μmとした以外は実施例2と同様にして保護層を形成した。保護層形成に伴うしわは発生しなかった。実施例1と同様にして一方の保護層にモリブデン膜、CuInSe2膜を形成し、CuInSe2膜へのFeの拡散を調べたがFeの拡散は測定限界以下であった。<実施例4>100水素雰囲気より製造コストが安い空気雰囲気での例である。実施例3の含浸されたシリコーン樹脂の硬化雰囲気を空気中とした以外は実施例3と同様に行った。保護層形成に伴うしわは発生しなかった。実施例1と同様にして一方の保護層にモリブデン膜、CuInSe2膜を形成し、CuInSe2膜へのFeの拡散を調べたがFeの拡散は測定限界以下であった。<比較例2>ステンレス箔上にシリコーン系樹脂溶液Bを塗布し、130°Cで乾燥して1μm厚のシリコーン樹脂層を形成した。次いで100水素雰囲気下700°Cで硬化させた。図5は、比較例2の保護層の状態を模式的に示す図である。Al2O3微粒子の圧縮膜が存在しないためにシリコーン樹脂の収縮が起こり、基板はシリコーン樹脂層が内側となるようにカールして筒状になった。<比較例3>ステンレス箔の両面にシリコーン系樹脂溶液Bを塗布し、130°Cで乾燥して2μm厚のシリコーン樹脂層を形成した。次いで100水素雰囲気下800°Cで硬化させた。シリコーン樹脂の収縮のため、基板はしわが寄ってしまった。以上、実施例1~4、比較例1~3の結果より、保護層として、酸化物微粒子膜Al2O3微粒子膜の圧縮膜に珪素化合物RaSiO2-a/2を含浸させて得られるものを用いることで、光吸収層へのFeの拡散を抑制することができると共に、塗布で製造することが可能であり、生産性に優れ、高い耐熱性を有することから、太陽電池用の基板として有効に用いることができることが判明した。"