"アクティブマトリックス方式の有機ELパネルをXY平面上を移動させる移動手段と、前記有機ELパネルを発光させるための発光手段と、該発光を電気信号に変換してデータ化する撮像手段と、該撮像手段により得られた画像データを演算処理する画像処理手段と、前記有機ELパネルを構成する最小単位セルの発光強度の測定値に対して補正処理する手段を具備することを特徴とする有機ELパネル輝度測定装置。前記補正処理が、前記発光強度の測定値に、前記撮像手段の視野内位置により予め決定され補正係数を乗ずることを特徴とする請求項1に記載の有機ELパネル輝度測定装置。アクティブマトリックス方式の有機ELパネルをXY平面上を移動させる移動手段と、前記有機ELパネルを発光させるための発光手段と、該発光を電気信号に変換してデータ化する撮像手段と、該撮像手段により得られた画像データを演算処理する画像処理手段と、前記有機ELパネルを構成する最小単位セルの発光強度の測定値に対して補正処理する手段を具備する有機ELパネル輝度測定装置を用いることを特徴とする有機ELパネル輝度測定方法。本発明は、有機ELパネルの輝度測定において、セル単位での発光強度測定をシェーディングの影響を除去することで高精度かつ簡便に行うことが出来る測定装置および測定方法を提供することを目的とする。本発明は上記の課題を解決するためのものであり、本発明の請求項1に係る発明は、アクティブマトリックス方式の有機ELパネルをXY平面上を移動させる移動手段と、前記有機ELパネルを発光させるための発光手段と、該発光を電気信号に変換してデータ化する撮像手段と、該撮像手段により得られた画像データを演算処理する画像処理手段と、前記有機ELパネルを構成する最小単位セルの発光強度の測定値に対して補正処理する手段を具備することを特徴とする有機ELパネル輝度測定装置である。また、本発明の請求項2に係る発明は、前記補正処理が、前記発光強度の測定値に、前記撮像手段の視野内位置により予め決定され補正係数を乗ずることを特徴とする請求項1に記載の有機ELパネル輝度測定装置である。また、本発明の請求項3に係る発明は、アクティブマトリックス方式の有機ELパネルをXY平面上を移動させる移動手段と、前記有機ELパネルを発光させるための発光手段と、該発光を電気信号に変換してデータ化する撮像手段と、該撮像手段により得られた画像データを演算処理する画像処理手段と、前記有機ELパネルを構成する最小単位セルの発光強度の測定値に対して補正処理する手段を具備する有機ELパネル輝度測定装置を用いることを特徴とする有機ELパネル輝度測定方法である。本発明の有機EL輝度測定装置により、セル単位での発光強度測定を高精度かつ簡便に行うことが可能となり、微小な輝度ムラであっても定量化することが出来る。以下、本発明の実施形態について、図面を参照して具体的に説明する。図1は、本発明の測定対象である有機エレクトロルミネッセンス有機ELパネルを模式的に示す図である。測定対象である有機ELパネルは、透光性基板6上にTFT素子4がパターン配置されており、その上に隔壁3が形成されている。隔壁3で区切られたエリア内では、透明電極層5および、透明機能層2、有機発光層1が積層されている。また、有機発光層1は赤色、緑色、青色の発光ピークを持つ有機電子材料で順々に繰り返し配置されている。なお、有機ELパネルの構成としては、透明電極、機能性材料、有機電子材料で構成されていればよく、機能性材料には種々の材料が使用されていても構わない。透光性基板6はガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートによって構成されている。プラスチック製のフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートやポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネートを用いることが出来るが、これらに限定されるものではない。透明電極層5が形成されたい他方の面に、セラミック蒸着フィルムやポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレンー酢酸ビニル共重合体鹸化物などのガスバリア性フィルムを積層してもよい。透明電極層5の材質としては、酸化インジウムスズITO、酸化インジウム亜鉛IZOや亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物、酸化錫SnO2や酸化亜鉛ZnO、酸化インジウムなどを用いることが出来る。また、オクチル酸インジウムやアセトンインジウムなどの前駆体を塗布後、熱分解により酸化物を形成する塗布熱分解法によって形成することが出来るが、これらに限定されるものではない。隔壁3は有機発光層1が混合することを防止するため、囲いの形状をしている。隔壁3はポジ型またはネガ型の感光性樹脂によって構成されており、透光性基板6上にスピンコータやバーコータ、ロールコータ、ダイコータ、グラビアコータ等の塗布方法を用いて感光性樹脂を塗布した後、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされることによって形成される。適用可能な感光性樹脂としては、ポリイミド系やアクリル樹脂系、ノボラック樹脂系が挙げられるが、これに限定されるものではない。透明機能層2として正孔輸送層を配する。正孔輸送層は透明電極層5より注入された正孔を対向電極方向へ進め、正孔を通しながらも電子が透明電極層5方向へ進行することを防止する機能を有している。また、正孔輸送層は機能性材料である正孔輸送材料の溶解液または分散液をスピンコートやバーコート、ワイヤーコート、スリットコートなどのウェットコーティング法を用いて形成することが出来るが、これに限定されるものではない。透明機能層2としての正孔輸送層に使用可能な材料としては、ポリアニン誘導体、ポリチオフィン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、PEDOTポリ3,4-エチレチオキシオフォン、PEDOTとポリスチレンスルホン酸PEDOT/PSSとの混合物などが挙げられる。また、溶解または分散させる溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シキロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水などのうちいずれかまたはこれらの混合液が挙げられるが、これに限定されるものではない。また、上記した正孔輸送材料の溶解液または分散液には、必要に応じて界面活性剤や酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤などを添加してもよい。前記透明機能層2としての正孔輸送層は、一般に隔壁形成後に積層されるため、隔壁3に囲まれた領域の膜厚は中央が平坦で、隔壁3近傍が厚くなる傾向がある。つまりは、隔壁3に囲まれた領域での透明機能層2はバスタブ型になる。前記有機発光層1は、透明電極と対向電極との間に電圧を印加することによって発光する機能性材料であり、赤色、緑色または青色の機能性材料の溶解液または分散液を、所定位置の隔壁3内部の透明機能層2上に付着することにより形成される。形成方法としては、凸版印刷法、オフセット印刷法、反転オフセット印刷法などがあるが、これらに限定されるものではない。図2は、本発明に係る有機ELパネル輝度測定装置の概略を示している。測定対象物である有機ELパネル9は、点灯手段であるパネル駆動装置11と電気的に接続された状態で、XY方向への移動手段であるステージ10上に載置される。これにより、前記有機ELパネル9の有効範囲全てを撮像部8で撮像できる。ステージ10表面には、位置決めピンを差し込むための穴を規則的な配列で予め形成しておき、有機ELパネル9の形状や大きさが変化した場合でも、位置決めを容易に行える機構としてもよい。また、ステージ10表面は、光をなるべく反射しないような色で塗装したり、ツヤ消し加工を施したり、さらにはステージ移動時に位置ズレを発生しないようなすべり止めの機能を持つ材質を備えることが好ましい。また、外乱光の影響をなくすため、装置全体を暗幕で覆うことも好ましい。撮像手段である撮像部8には電荷結合素子ChargeCoupledDeviceを用いているが、これに限定されるものではない。電荷結合素子を使用した撮像手段として、電荷結合素子が1次元的に配置されたラインカメラや、2次元的に配置されたエリアカメラなどが挙げられる。本実施形態ではエリアカメラを用いることを前提としているが、これに限定されるものではない。また、撮像部8で行われる光電変換及び量子化により、光強度は8ビットの階調データ0~255に置き換わり、暗状態を0、明状態を255として表現されるが、これに限定されるものではない。撮像部8において得られた有機ELパネル9からの発光を電気信号に変換し、画像処理手段である画像処理部7に伝送する。画像処理部7にて、以下で示すようなデータ処理を行い、有機ELパネル9の発光強度の測定を行う。図3aは有機ELパネル9を構成する最小単位であるセルと撮像エリア15を示す。有機ELパネルは前記したように、赤で発光ピークを持つRedセル12、緑で発光ピークを持つGreenセル13、青で発光ピークを持つBlueセル14がX方向にPx、Y方向にPyの繰返しピッチで順々に構成されている。これらのセルの発光強度を測定する際は、撮像エリア15に含まれるセル各々について、図3bで示すように、セルを囲む測定エリア16を設定し、そのエリア内にあるCCD画素の階調値を足し合わせたものを発光強度としている。このような発光強度の測定において、正確な測定を行うためにはシェーディング補正を行うことが必須である。シェーディングとはレンズ特性や収差などの影響により、撮像エリア内で光に対する感度がばらついてしまうことを言う。一般的には撮像エリア中心部が明るく、中心から離れるほど暗くなる。そのためシェーディングの影響を何らかの方法で除去することが必要である。本発明に係るシェーディング補正は、測定エリア16ごとに補正係数を定め、発光強度に対してその測定エリア16に定まっている補正係数を適用することで行う。図4を用いて以下に説明する。図4aは撮像エリア15と測定エリア16の一例である。撮像エリア15内に測定エリア16は4つ設定されている。また、個々の測定エリア16の位置は、撮像エリア15内での相対位置に応じてXアドレス、Yアドレスで表現されるものとする。この場合、Xアドレスは1~2、Yアドレスは1~2の値をとる。シェーディング補正係数はこのアドレスで設定管理される。以下にその設定方法を記す。説明の簡略化のために、全てのセルは同一色で構成されているものとする。まず、ある任意の正常発光しているセル1つを抽出し、注目セル17と定める。次に、図4bのように注目セル17を測定エリア16の全アドレスに移動させ、各々の位置で発光強度測定を行う。表1にその測定結果を示す。表1が示すように、発光強度の測定値はシェーディングの影響を受けて、950~1050と差が生じている。この影響を除去するためには、下記数1よりアドレス単位でのシェーディング補正係数を算出する。上記数1中、G:シェーディング補正係数、V:発光輝度、N:測定エリア数を表す。前記数1を用いてシェーディング補正係数を算出した結果を表2に示す。上記シェーディング補正係数をアドレスで管理する補正係数テーブルとして予め記憶しておくことで、測定時には発光強度に対して、そのアドレスに応じたシェーディング補正係数をテーブルから参照し、測定値に対して乗ずることでシェーディングの影響を除去した測定結果を得る事が出来る数2。上記数1中、V’:シェーディング補正後の発光輝度、V:シェーディング補正前の発光輝度、G:シェーディング補正係数を表す。上記処理を行うには、撮像エリアと測定エリア、セルの位置関係が全てのフレームにおいて固定されている事が必須である。フレームごとに撮像エリアと測定エリアの位置関係が異なると、シェーディングの影響が変わるので補正を正しく行う事が出来ない。また、フレームごとに撮像エリアとセルの位置関係が異なると、セルに対する測定エリアが正しく設定されていることにならない。そのためステージの移動ピッチを下記数3で算出される距離に設定しなければならない。上記数1中、Mx:X方向の移動ピッチ、My:Y方向の移動ピッチ、Px:X方向の繰返しピッチ、Py:Y方向の繰返しピッチ、Nx:X方向のフレームあたり測定対象セル数、Ny:Y方向のフレームあたり測定対象セル数を表す。図5で示すのがあるパネルの測定例であり、発光強度のX軸方向のプロジェクションである。図5aがシェーディング補正前、図5bがシェーディング補正後のデータである。Nx=10で測定を行ったところ、図5aでは測定ピッチによるシェーディングの影響が顕著に現れているのに対して、図5bではシェーディングの影響が完全に除去され、真の発光強度分布が得られている。"