"電極基板と、前記電極基板上に形成され増感色素を担持する光電変換層と、前記光電変換層上に形成された電解質層と、前記電解質層上に形成された対極と、を積層させて備える色素増感太陽電池であって、前記電極基板は、透明な樹脂により形成された基材と、前記基材上に形成された透明導電層と、配線が所定のパターン状に形成されて前記透明導電層上に配置された金属配線層と、絶縁性を有する樹脂により形成され前記配線を被覆する保護層と、を有し、前記配線の軸線に直交する断面において、前記保護層の前記対極側の面は、両端部から中間部に向かうほど前記透明導電層から離間する側に突出するように形成され、前記光電変換層は、前記透明導電層および前記保護層を覆うように配置されていることを特徴とする色素増感太陽電池。前記保護層は、透明な材料で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の色素増感太陽電池。前記保護層は、無機微粒子を含むことを特徴とする請求項2に記載の色素増感太陽電池。前記光電変換層は、前記保護層の前記中間部と前記電解質層との間に介在していることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の色素増感太陽電池。透明な樹脂により形成された基材上に透明導電層を形成する工程と、配線を所定のパターン状に形成して前記透明導電層上に配置し金属配線層を形成する工程と、前記配線を被覆するように絶縁性を有する樹脂により形成された保護層形成材料を塗布する工程と、前記保護層形成材料を硬化させ、前記配線の軸線に直交する断面において、前記透明導電層から離間した側の面が両端部から中間部に向かうほど前記透明導電層から離間する側に突出するように保護層を形成する工程と、バインダーおよび有機溶剤を含有せず、平均粒子径の異なる少なくとも2つの半導体粒子を含有する水性ペーストを前記透明導電層及び前記保護層上に塗布して塗膜を形成後、前記塗膜をプレス処理して酸化物半導体多孔膜を形成する工程と、前記酸化物半導体多孔膜に増感色素を担持させて光電変換層を形成する工程と、前記光電変換層上に電解質層を形成する工程と、前記光電変換層との間に前記電解質層が位置するように対極を形成する工程と、を備えることを特徴とする色素増感太陽電池の製造方法。しかしながら、特許文献1に記載された色素増感太陽電池に、特許文献2に記載された色素増感太陽電池の金属配線および保護層を設けると、透光性支持体側から入射する光が保護層に対する対極側となる位置に光が回り込みにくく、この位置に光電変換層が配置されていても光が当たりにくいため光電変換効率が向上しにくいという問題がある。本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであって、透明導電層の電気抵抗を下げるとともに光電変換効率を向上させた色素増感太陽電池および色素増感太陽電池の製造方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。本発明の色素増感太陽電池は、電極基板と、前記電極基板上に形成され増感色素を担持する光電変換層と、前記光電変換層上に形成された電解質層と、前記電解質層上に形成された対極と、を積層させて備える色素増感太陽電池であって、前記電極基板は、透明な樹脂により形成された基材と、前記基材上に形成された透明導電層と、配線が所定のパターン状に形成されて前記透明導電層上に配置された金属配線層と、絶縁性を有する樹脂により形成され前記配線を被覆する保護層と、を有し、前記配線の軸線に直交する断面において、前記保護層の前記対極側の面は、両端部から中間部に向かうほど前記透明導電層から離間する側に突出するように形成され、前記光電変換層は、前記透明導電層および前記保護層を覆うように配置されていることを特徴としている。また、本発明の色素増感太陽電池の製造方法は、透明な樹脂により形成された基材上に透明導電層を形成する工程と、配線を所定のパターン状に形成して前記透明導電層上に配置し金属配線層を形成する工程と、前記配線を被覆するように絶縁性を有する樹脂により形成された保護層形成材料を塗布する工程と、前記保護層形成材料を硬化させ、前記配線の軸線に直交する断面において、前記透明導電層から離間した側の面が両端部から中間部に向かうほど前記透明導電層から離間する側に突出するように保護層を形成する工程と、バインダーおよび有機溶剤を含有せず、平均粒子径の異なる少なくとも2つの半導体粒子を含有する水性ペーストを前記透明導電層及び前記保護層上に塗布して塗膜を形成後、前記塗膜をプレス処理して酸化物半導体多孔膜を形成する工程と、前記酸化物半導体多孔膜に増感色素を担持させて光電変換層を形成する工程と、前記光電変換層上に電解質層を形成する工程と、前記光電変換層との間に前記電解質層が位置するように対極を形成する工程と、を備えることを特徴としている。この発明によれば、透明導電層上に金属配線層が配置されているとともに、金属配線層の配線を保護層で被覆することにより金属配線層と電解質層とを分離している。このため、金属配線層により透明導電層の電気抵抗を下げることができる。また、一般的に、電解質層を形成する電解質は光電変換層に浸透するが、電解質層と金属配線層とを保護層により分離することで、電解質層による配線の腐食を防止して耐久性を向上させることができる。本発明の色素増感太陽電池が備える保護層は、透明導電層から離間した側の面が両端部から中間部に向かうほど透明導電層から離間する側に突出するように形成されている。従って、突出しない場合と比べ、保護層と光電変換層多孔質の孔内に電解質を保持しているとの接触面積を減らすことができる。そのため、保護層が電解質の影響を受けにくくなる。また、保護層を、透明導電層から離間した側の面が両端部から中間部に向かうほど透明導電層から離間する側に突出するように形成することにより、基材側から観察した場合に配線に重なる中間部付近の保護層と電解質層との間にも光電変換層が介在している。また、色素増感太陽電池においては、基材側から入射した光は、基材及び透明導電層を介して光電変換層に入射することにより、当該光電変換層で増感色素が光を吸収することで、電子を発生させる。光電変換層に入射した光の一部は直進し、あるいは散乱して進行方向を変えながら光電変換層及び電解質層を通過して対極で反射し、再び電解質層を経て様々な位置と角度から基材側に再入射する。このとき、透明導電層から離間した側の面が両端部から中間部に向かうほど透明導電層から離間する側に突出するように形成されていることにより、基板側から観察した場合に配線と重なる中間部付近の保護層と電解質層との間にも光電変換層が介在しているため、対極側から入射した光も効率的に利用することができる。よって、入射した光を効率的に光電変換することが可能となる。また、本発明の色素増感太陽電池が備える保護層は、透明導電層から離間した側の面が両端部から中間部に向かうほど透明導電層から離間する側に突出するように形成されているため、これに沿って接する光電変換層の形状もアーチ状となっている。そのため、色素増感太陽電池に曲げやねじりなどの応力が加わった際に、保護層断面に角部があるものと比較すると、光電変換層の一部に応力が集中しにくく、破損しにくい。また、保護層は、透明導電層から離間した側の面が両端部から中間部に向かうほど透明導電層から離間する側に突出するように形成されているため、透明導電層から光電変換層を経て前記中間部までの距離が、保護層断面に角部があるものと比較すると短くなる。したがって、基材側から入射して光電変換層内で散乱された光は、保護層と電解質層との間の部分に配置された光電変換層にも届きやすく、また、この間の部分で発生した電流は、逆向きのルートをたどって透明導電層に流れやすくなる。よって、入射する光による光電変換効率を向上させることができる。また、上記の色素増感太陽電池において、前記保護層は、透明な材料で形成されていることがより好ましい。この発明によれば、基材及び透明導電層を介して保護層に入射した光についても、保護層を通過して光電変換層に入射できるので有効に発電に利用することができる。このため、入射する光の光電変換効率をさらに向上させることができる。また、上記の色素増感太陽電池において、前記保護層は無機微粒子を含むことがより好ましい。この発明によれば、酸化物半導体多孔膜に増感色素を担持させる工程において、保護層にも増感色素がしみこんでしまうのを抑えることができる。また、光電変換層に含まれた電解質によって保護層が侵されるのを抑えることができる。さらに、この発明によれば、基材側から入射して保護層を通る光が無機微粒子によって散乱されて、透明導電層に近い位置で光電変換層へ出て行くことができる。さらには、保護層の中間部まで届く。保護層の中間部まで届いた光は、当該保護層の中間部付近の光電変換層へ入射し、電流に変換される。これにより、基材側から観察した場合に配線に重なる位置にある光電変換層までも発電に寄与させることができる。このため、入射する光の光電変換効率をさらに向上させることができる。また、上記の色素増感太陽電池において、前記光電変換層は、前記保護層の前記中間部と前記電解質層との間に介在していることがより好ましい。この発明によれば、光電変換層及び電解質層を通過し対極で反射した光が、基板側のどの位置に再入射しても光電変換層が存在するので、光を効果的に電流に変換して光電変換効率を高めることができる。また、本発明の色素増感太陽電池の製造方法によれば、保護層形成材料を硬化させ、配線の軸線に直交する断面において、透明導電層から離間した側の面が両端部から中間部に向かうほど透明導電層から離間する側に突出するように保護層を形成する工程と、バインダー及び有機溶剤を含有せず、平均粒子径の異なる少なくとも2つの半導体粒子を含有する水性ペーストを透明導電層及び保護層上に塗布して塗膜を形成後、塗膜をプレス処理する工程と、を備えている。このため、配線の軸線に直交する断面において、透明導電層から離間した側の面が両端部から中間部に向かうほど透明導電層から離間する側に突出するように形成された保護層によって、水性ペーストのプレス時に保護層に加わる圧力が分散され、保護層及びその内部の配線の破損を効果的に防止することができる。さらに、保護層上に積層された水性ペーストが効率よく透明導電層上に移動できるので、塗膜を平坦に整えやすい。また、保護層が樹脂によって形成されていることから、適度な弾性を備えているため、水性ペーストをプレスする際の圧力を分散吸収するため、配線の破損を防止する効果がある。本発明の色素増感太陽電池および色素増感太陽電池の製造方法によれば、透明導電層の電気抵抗を下げるとともに光電変換効率を向上させることができる。また、曲げにつよい色素増感太陽電池とすることができる。さらに、本発明の色素増感太陽電池の製造方法によれば、製造工程の歩留まりを向上させることができる。以下、本発明に係る色素増感太陽電池の一実施形態を、図1から図7を参照しながら説明する。図1および図2に示すように、本実施形態の色素増感太陽電池1は、電極基板10と、電極基板10上に形成され不図示の増感色素を担持する光電変換層20と、光電変換層20上に形成された電解質層30と、電解質層30上に形成された対極40とを積層させて備えている。さらに、電極基板10は、基材11と、基材11上に形成された透明導電層12と、配線13が所定のパターン状に形成されて透明導電層12上に配置された金属配線層14と、絶縁性を有する樹脂により形成され配線13を被覆する保護層15とを有している。基材基材11は、透明な樹脂により形成されている。基材11の材料としては、全光線透過率の高いものが好ましく、本実施形態ではポリエチレンテレフタレートPETで形成されている。基材11の材料としては、PET以外にも、ポリエチレンナフタレートPEN、ポリカーボネートPC、ポリエーテルスルホンPESなどを含んでなる透明なプラスチックシートを用いることができる。基材11の厚さとしては、たとえば80~200μmのものが好適に用いられ、基材11の全光線透過率は80以上のものが好適に用いられる。透明導電層透明導電層12は、基材11上にスパッタ法、蒸着法、SPD法、CVD法など手法で形成される。透明導電層12は、スズ添加酸化インジウムITO、酸化スズSnO2、フッ素添加酸化スズFTOなどの導電性金属酸化物により構成される。透明導電層12には、一定の光透過性と導電性が要求されるので、その膜厚は、通常0.001μm~10μm程度とすることが好ましい。金属配線層金属配線層14は、金、銀、銅、白金、アルミニウム、ニッケル、チタンなどの金属で形成された配線13を、格子状、縞状、櫛型などの所定のパターン状に形成したものである。図1に示す配線13の軸線C1に直交する断面において、透明導電層12に接する面13aと、配線13における面13aとは反対側の面13bとは、ほぼ平行に形成されている。さらに、この断面において、面13aの長さは面13bの長さより長くなるように形成されている。より詳しく説明すると、この断面において、面13aの中心を通り面13aに直交する基準線Sを規定したときに、面13aの基準線Sに対する一方側の端部は、面13bの基準線Sに対するこの一方側の端部より基準線Sから離間した位置に配置されている。同様に、面13aの基準線Sに対する他方側の端部は、面13bの基準線Sに対するこの他方側の端部より基準線Sから離間した位置に配置されている。すなわち、この断面における配線13の形状は、等脚台形に似た形状になっている。基材11および透明導電層12の光透過性を著しく損ねないために、各配線13の幅面13aの長さを3,000μm以下と細くすることが好ましい。配線13の厚さ高さは、特に制限されないが、0.1~30μmとすることが好ましい。金属配線層14は、導電性を有する粒子と樹脂の微粒子などの結合剤バインダーマトリックスにより形成されている。金属配線層14を形成する導電性を有する粒子としては、たとえば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、ニッケル、チタンなどの金属粒子を挙げることができる。また、樹脂としては、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂を含有することが挙げることができる。これらの樹脂はベークにより、除去されても良い。また、金属配線の抵抗に影響を与えない範囲で残存していても良い。金属配線層形成材料は、これらの材料をペースト状にし、これをスクリーン印刷法などにより、配線13が所定のパターン状となるように塗膜し、基材11の硬化基準温度以下で熱硬化キュア、ベークまたはUV硬化させて形成する。樹脂を除去するため、また、導電性を有する粒子の接合点を多くするため、熱硬化材料であればより好ましい。なお、ここで言う硬化基準温度としては、基材11の融点より10°C高い温度より低い温度を用いることが好ましく、プラスチック成形品の破壊欠陥トラブルその発生原因と防止対策総合技術資料集、正鵠堂、昭和57年10月4日、p438-439に記載された有機材料熱硬化性樹脂の使用上限温度の表において、その2の欄に記載された値その2の欄に値が記載されていない場合はその1の欄に記載された値より低い温度を用いることがより好ましい。基材11としてポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、基材11の融点は約260°Cであり、上記文献のその2に記載された値は125°Cである。よって、この場合、基材11の硬化基準温度として、約270°Cより低い温度を用いることが好ましく、125°Cより低い温度を用いることがより好ましいことになる。基材11の融点より10°C高い温度以上で基材11を硬化させるときには、熱劣化により基材11が変形したり、基材11と透明導電層12との密着性が低下したりする問題がある。硬化基準温度が60°C以下の場合には、配線13の材料中に含まれる金属微粒子同士の結合および融解が進みにくいため、導電性が著しく低下する問題がある。また、この場合、配線13の材料中に含まれているバインダーマトリックスの除去も進まないため、配線13の導電性を低下させる原因となる。金属配線層14を形成する材料中には、必要に応じてレベリング材料を添加することができる。レベリング剤を添加することで、金属配線層14の作成時にレベリング性を高め、配線13の軸線C1に直交する断面において、配線13の対極40側の面13bは、両端部から中間部に向かうほど透明導電層12から離間する側に突出するように形成しやすくする効果がある。また、レベリング剤に再塗工を妨げないものを選ぶことで、金属配線層14上に保護層15を積層した際に、金属配線層14と保護層15との間の密着性を向上させることができる。金属配線層14は、体積抵抗が10-3Ωcm以下であればよい。さらに好ましくは体積抵抗が10-4Ωcm以下であることが好ましい。配線13は、図1に示すように等脚台形に似た形状とするほか、図8に示すように、配線13の軸線C1に直交する断面において、配線13の対極40側の透明導電層12から離間した側の面13bは、両端部から中間部に向かうほど透明導電層12から離間する側に突出するように形成されていてもよい。配線13の形状を上記のようにすることで、保護層15は配線13の形状に沿ってほぼ均一な厚みで配線13を被覆するため、より効率よく、保護層15の形状について、配線13の軸線に直交する断面において、対極40側の面15aは、両端部から中間部15bに向かうほど透明導電層12から離間する側に突出するように形成することができる。配線13をこのような形状に形成するには、上記スクリーン印刷法により金属配線層14を形成した後、金属配線層形成材料を熱や光照射により硬化する前に静置し、レベリングすることで達成できる。また、金属配線層形成材料を所定の粘度とすることでレベリングがおきやすくなり、自然に断面形状が整えられる。金属配線層14は、上記スクリーン印刷法によるほか、透明導電層12の一部をレジストで保護した上でメッキ法により形成してもよいし、転写型のスクリーン印刷法や、直接描画であるインクジェット法などにより形成してもよい。インクジェット法により直接描画を行えば、レベリングを経なくても自然に、配線13の軸線C1に直交する断面において、配線13の面13bが、両端部から中間部に向かうほど透明導電層12から離間する側に突出するように形成することができる。金属配線層14の形成方法としては、その他、基材11上にプリント配線を形成するエッチング法などの公知の方法によって金属配線層14を形成し、金属配線層14の上から基材11全体に透明導電層12を形成する方法を用いることができる。保護層保護層15は、図1および図2に示すように、配線13における幅方向の両側面および対極40側の面にほぼ同じ厚さで形成されている。配線13の軸線C1に直交する断面において、保護層15の対極40側の透明導電層12から離間した側の面15aは、両端部から中間部15bに向かうほど透明導電層12から離間する側に突出するように形成されている。保護層15は、絶縁性を有する透明な樹脂により形成されている。保護層15を形成する材料としては、たとえば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン系樹脂、フォスファーゼ系樹脂、メラニン系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、イソブチレン樹脂、フッ素樹脂などが挙げられる。保護層15は、絶縁性を有していればどのような樹脂により形成されていてもよく、色は透明でなくてもよい。保護層15は、これらの材料を、熱硬化させたり、UV硬化させたりすることなどで形成されている。ただし、保護層15を形成する材料としては、基材11の融点より10°C以上低い温度で硬化可能であることが好ましく、電離線硬化材料であればより好ましい。保護層が電離線硬化材料で形成されているときには、保護層にレベリング材料を添加することができる。本発明の保護層15の形成に用いることのできる電離線硬化材料としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等をあげることができる。特にアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂が好ましい。このとき添加できるレベリング材料としては、フッ素系レベリング材料、シリコーン系レベリング材料、アクリル系レベリング材料を用いることができる。アクリル系レベリング材料としては、具体的には、BYK-350、BYK-352、BYK-354、BYK-355、BYK-356、BYK-358N、BYK-361N、BYK-380、BYK-392、BYK-394等が挙げられる。フッ素系レベリング材料としては、具体的には、フタージェント222Fネオス社製、F470DIC社製、F489DIC社製、RS-75DIC社製等が挙げられる。シリコーン系レベリング材料としては、具体的には、ビックケミージャパン社製のBYK-300、BYK-306、BYK-307、BYK-310、BYK-315、BYK-322、BYK-323、BYK-325、BYK-330、BYK-331、BYK-333、BYK-337、BYK-341、BYK-344、BYK-345、BYK-347、BYK-348、BYK-349、BYK-370、BYK-375、BYK-377、BYK-378、BYK-UV3500、BYK-UV3510、BYK-UV3570、BYK-Silclean3700、BYK-Silclean3720を用いることができる。また、モメンティブ社製のTSF410、TSF411、TSF4700、TSF4701、XF42-B0970、TSF4730、YF3965、TSF4421、XF42-334、XF42-B3629、XF42-A3161、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4452、TSF4460を用いることができる。また、共栄社化学社製のポリフローKL400X、ポリフローKL400HL、ポリフローKL401、ポリフローKL402、ポリフローKL403、ポリフローKL404等を挙げることができる。レベリング材料の樹脂からの脱離を防止できるため、-OH基ヒドロキシ基や二重結合をレベリング材料中に導入し樹脂と反応することのできるレベリング材料を選択することが望ましい。具体的には、-OH基を有するレベルリング材料としてはBYK-394、BYK-370、BYK-375、BYK-377が挙げられる。また、二重結合を有するBYK-UV3500、BYK-UV3570、RS-75が挙げられる。これらのレベリング材料は、保護層15を塗布した後に、保護層15の表面に撥水基を外に向けて自己組織的に配列される。そのため、保護層15を硬化した際に、撥水性を高めることができる。また、レベリング材料は、電離線硬化型反応基を有することが好ましい。レベリング材料が電離線硬化型反応基を有することで、このレベリング材料が保護層に組み込まれたときに、保護層の耐久性を高めることができる。保護層の撥水性を高めることで、製造工程において、酸化物半導体多孔膜に増感色素を担持させる際に、増感色素が保護層に吸着してしまうのを防ぐことができる。また、光電変換層に含まれた電解質が保護層を侵すのを防ぐことができる。また、保護層15の表面の水に対する接触角としては、70°以上130°未満であることが好ましい。接触角が70°未満であると、電解質との接触が起こりやすく、耐久性の低下が起こる。また、接触角が130°以上であると保護層15を塗布した際に金属配線層14との相性が悪いためピンホールが生じやすくなる問題が生じる。なお、この接触角は、接触角計協和界面科学社製、CA-X型を用いて、乾燥状態20°C-65RHで直径1.8mmの液滴を針先に作り、この液滴を保護層の表面に接触させて測定した。接触角とは、固体と液体とが接触する点における液体表面に対する接線と固体表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義した。液体としては、蒸留水を使用した。また、前記純水接触角の測定方法としては、JIS-R3257に準拠して測定した。樹脂で形成されている基材11および保護層15については、弾性係数が所定の値より小さいことが好ましい。後述するように、酸化物半導体多孔膜の基となる塗膜20aがプレスされるときに、基材11および保護層15についても、塗膜20aに追従して一定以上変形することが必要だからである。保護層15は無機微粒子を含んでいてもよい。無機微粒子は耐溶剤性、耐薬品性が高いため、保護層15が樹脂であることによるこれら耐溶剤性等の低下を補うことができる。すなわち、保護層15が無機微粒子を含んでいることで、色素増感太陽電池の製造工程において、酸化物半導体多孔膜に増感色素を担持させる際に、増感色素が保護層15にしみこむのを抑えることができる。また、光電変換層20に含まれた電解質が保護層15を侵すのを抑えることができる。さらに、保護層15に光散乱性を与えることができ、光電変換効率を向上させることができる。保護層15に添加することのできる無機微粒子としては、シリカ、タルク、酸化チタンの微粒子を挙げることができる。形状はとくに限定しない。無機微粒子の粒径としては、光散乱法により測定した一次粒径において1nm以上5μm以下、より好ましくは10nm以上3μm以下である。これより小さいと現在はコスト的に実用が困難であり、これより大きいと保護層15から脱落する恐れがある。また、保護層15のパターニング精度が低下する可能性が高い。無機微粒子の添加量は、保護層15に占める質量で、散乱性付与のためであれば0.5質量以上が好ましく、耐溶剤性付与のためであれば5質量以上が好ましい。上限は特にないが、保護層15が形成可能である限界は80質量程度である。なお、光散乱性の付与を目的とするだけであれば、添加する微粒子は樹脂の微粒子であってもよい。保護層15の光散乱性が高まることで、保護層15を通過する光は透明導電層12により近い位置で光電変換層20へ出て行くことができる。さらには、保護層15を通って保護層15の中間部にも光が届き、保護層15の中間部15b付近の光電変換層20でも発電することができる。光電変換層光電変換層20は、透明導電層12および保護層15を覆うように配置されている。光電変換層20は、酸化物半導体多孔膜に増感色素を担持させることで形成される。酸化物半導体多孔膜は、平均粒子径の異なる少なくとも2種の半導体粒子以下、特定の半導体粒子群という。、具体的には、バインダーおよび有機溶剤を含有せず、特定の半導体粒子群を含有する水性ペーストの塗膜のことであるが、この塗膜をプレス処理して形成したものである。本実施形態では、光電変換層20は、保護層15の中間部15bと電解質層30との間にも設けられている。光電変換層20がプレス処理された酸化物半導体多孔膜を有することにより、当該酸化物半導体多孔膜を多数のナノ細孔が形成されたものとすることができるため、電極基板10の単位面積当たりの半導体粒子の表面積の割合が極めて大きくなる。これにより、十分な量の増感色素を担持させることができ、結局、高い光吸収効率が得られる。また、酸化物半導体多孔膜が平均粒子径の異なる2種以上の半導体粒子を含有することにより、たとえば平均粒子径20nm程度のナノサイズの半導体粒子は、長波長の光を透過しやすい傾向にあるところ、たとえば平均粒子径100nm程度の大粒径の半導体粒子が混在することにより光が散乱され、酸化物半導体多孔膜中における光路長が増大される、いわゆる光閉じ込め効果を十分に得ることができる。その結果、増感色素について十分な光吸収効率が得られ、したがって、色素増感太陽電池1において高い光電変換効率が達成される。半導体粒子半導体粒子は、電子伝達作用を発揮するものであって、このような半導体粒子を構成する半導体としては、具体的には、たとえばTiO2、SnO、ZnO、WO3、Nb2O5、In2O3、ZrO2、Ta2O5、TiSrO3などの酸化物半導体;CdS、ZnS、In2S、PbS、Mo2S、WS2、Sb2S3、Bi2S3、ZnCdS2、CuS2などの硫化物半導体;CdSe、In2Se2、WSe2、PbSe、CdTeなどの金属カルコゲナイド;GaAs、Si、Se、InPなどの元素半導体などが挙げられ、たとえばSnOとZnOとの複合体、TiO2とNb2O5の複合体などの、これらの2種以上よりなる複合体を用いることもできる。また、半導体の種類はこれらに限定されるものでは無く、2種類以上混合して用いることもできる。半導体粒子を構成する半導体としては、上記の中でTi、Zn、Sn、Nbの酸化物が好ましく、特にTiO2が好ましい。TiO2よりなるチタニア粒子としては、アナターゼ結晶型のものおよびルチル結晶型のものが挙げられて共に使用可能であるが、特にアナターゼ結晶型のチタニア粒子を用いると、プラスチックフィルムよりなる基材11による色素増感太陽電池1において、確実に所期の性能が得られる。特定の半導体粒子群を構成する半導体粒子のうちの平均粒子径が小さい半導体粒子以下、半導体小粒子ともいう。の平均粒子径は好ましくは3~40nm、より好ましくは15~25nmである。また、特定の半導体粒子群を構成する半導体粒子のうちの平均粒子径が大きい半導体粒子以下、半導体大粒子ともいう。は、光散乱能を有するものであって、その平均粒子径は好ましくは50nm以上、より好ましくは80~400nm、特に好ましくは90~120nmである。増感色素光電変換層20において半導体粒子に担持される増感色素としては、増感作用を示すものであれば特に限定されず、N3錯体、N719錯体N719色素、Ruターピリジン錯体ブラックダイ、Ruジケトナート錯体などのRu錯体;クマリン系色素、メロシアニン系色素、ポリエン系色素などの有機系色素;金属ポルフィリン系色素やフタロシアニン色素などを挙げることができ、この中ではRu錯体が好ましく、特に、可視光域に広い吸収スペクトルを有するため、N719色素およびブラックダイが好ましく挙げられる。N719色素はRuL2NCS22TBAで表される化合物であり、Blackdye色素はRuL ́2NCS32TBAで表される化合物である。ただし、Lは、4,4 ́-ジカルボキシ-2,2 ́-ビピリジン、L ́は、4,4 ́,4′′-テトラ-カルボキシ-2,2 ́,2′′-ターピリジン、TBAは、テトラブチルアンモニウムカオチンである。これらは単独でもしくは2種類以上を混合して用いることができる。光電変換層20における増感色素の担持量は、酸化物半導体多孔膜の単位表面積当たりの量が1×10-8~1×10-7mol/cm2、好ましくは3×10-8~7×10-8mol/cm2とされることが好ましい。増感色素の担持量がこの範囲内であることにより、半導体粒子の表面に増感色素が単分子層として担持されるため、増感色素において励起された電子が電解質部分の電解質を還元するなどのエネルギーロスが発生せずに十分な光吸収効率が得られる。電解質層電解質層30は、液体状、固体状、凝固体状、常温溶融塩状態のいずれのものであってもよい。電解質層30がたとえば溶液状のものである場合は、この電解質層30は、電解質、溶媒、および添加物で構成されることが好ましい。電解質としては、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化セシウムなどの金属ヨウ化物とヨウ素の組み合わせや、テトラアルキルアンモニウムヨーダイド、ピリジニウムヨーダイド、イミダゾリウムヨーダイドなどの第4級アンモニウム化合物のヨウ素塩-ヨウ素の組み合わせ、あるいは前記ヨウ素、ヨウ素化合物のかわりに臭素化合物-臭素の組み合わせでもよい。電解質がイオン性液体の場合は、特に溶媒を用いなくてもよい。電解質は、ゲル電解質、高分子電解質、固体電解質でもよく、また、電解質の代わりに有機電荷輸送物質を用いてもよい。電解質層30が溶液状のものである場合の溶媒としては、アセトニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリルのようなニトリル系溶媒や、エチレンカーボネートのようなカーボネート系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒などが挙げられる。対極対極40は、色素増感太陽電池1の正極として機能するものである。本実施形態では、対極40は白金で形成されている。対極40を構成する材料としては、白金以外にも、金、銀、銅、アルミニウム、ロジウム、インジウムなどの金属、炭素、ITO、FTOなどの導電性金属酸化物などを用いることができる。対極40は、通常、導電性の支持体や、それと同様の導電性層を有する支持体に、上記の金属や炭素、導電性酸化物よりなる導電性膜が設けられて構成されていてもよいが、十分な強度および密封性が得られるのであれば、支持体を有することは必須ではない。次に、以上のように構成された本実施形態の色素増感太陽電池1の製造方法について説明する。透明導電層形成工程まず、図3に示すように、たとえば、透明なポリエチレンテレフタレートにより形成されたフィルム状の基材11上に、スパッタ法によりスズ添加酸化インジウムからなる透明導電層12を形成する。この後で、透明導電層12に対する金属配線層14の密着性を向上させるために、UV-オゾン処理などの表面処理を行ってもよい。金属配線層形成工程次に、スクリーン印刷法により、配線13を透明導電層12上に格子状に配置して金属配線層14を形成する。このとき、透明導電層12上に金属配線層14を塗布後、基材11の硬化基準温度以下で1時間以下ベークし金属配線層14を硬化させる。この後で、透明導電層12と金属配線層14との密着性を向上させるために、UV-オゾン処理などの表面処理を行ってもよい。保護層形成材料塗布工程続いて、スクリーン印刷法などにより、図4に示すように、配線13を被覆するようにエポキシ系樹脂である保護層形成材料15cを塗布する。保護層形成材料15cは、たとえば、エポキシ系樹脂を溶媒中で溶解させたものであり、絶縁性を有するものを用いる。保護層形成材料15cを塗布した段階では、保護層形成材料15cにおける透明導電層12から離間した側の表面の中央部は平坦に形成される。保護層形成工程次に、基材11の硬化基準温度以下で保護層形成材料15cを1時間以下ベークし硬化させて、図5に示すように、保護層15を形成する。保護層形成材料15cは、硬化する際に突出する角部が丸くなる性質がある。この理由としては、保護層形成材料15cはペースト状で流動性を備えているため、配線13への塗布後に一定時間静置することで配線13にそってレベリングするためと考えられる。加熱によって硬化する材料を用いたときは、加熱時のリフロー効果により角部が丸くなる傾向が強まる。また、電離線硬化材料を使用し、加熱工程を経ない場合には、レベリング剤の添加や粘度の調整によりこれを補うことができる。上記のような条件でベークし硬化させることで、保護層形成材料15cにおける前述の平坦に形成された面も丸くなる。レベリングにより保護層15を丸みをもって形成するには、保護層形成材料15cの粘度が1Pas以上10Pas未満以下の範囲の場合、レベリング時間は10秒以上、10Pas以上100Pas未満の場合、レベリング時間は30秒以上、100Pas以上2000Pas未満の場合、レベリング時間は1分以上とすることが好ましい。レベリング温度は20°C以上150°C以下が好ましく、さらに好ましくは、40°C以上120°C以下が好ましい。レベリンを行う温度については、保護層形成材料15cが所定の粘度範囲に入るように設定するとよい。保護層形成材料15cをパターン状に配置する方法としてインクジェット法などの直接描画によれば、配置当初から断面が丸みを帯びた形状となり、レベリングの手間を要しない上、マスクも不要である。このため、保護層15は、配線13の軸線C1に直交する断面において、透明導電層12から離間した側の面15aが、両端部から中間部15bに向かうほど透明導電層12から離間する側に突出するように形成される。塗膜形成工程次に、バインダーおよび有機溶剤を含有せず、平均粒子径の異なる少なくとも2つの半導体粒子を含有する水性ペーストを、図6に示す透明導電層12および保護層15上に塗布して塗膜20aを形成する。本製造方法に用いられる水性ペーストは、半導体粒子と水とのみからなり、バインダーおよび有機溶剤を含有しないものである。光電変換層20を構成する特定の半導体粒子群を含有する水性ペーストの調製方法は、特に限定されるものではないが、たとえば、本発明者らが創出したアルコキサイドを4級アンモニウム塩により加水分解する塩基性法が好ましく用いられる。この塩基性法は、具体的には、半導体小粒子を得るためのアルコキサイドを、4級アンモニウム塩によって加水分解することにより得、同様にして半導体大粒子を得るためのアルコキサイドを、4級アンモニウム塩によって加水分解することにより得、これらを混合することにより、調製することができる。得られる半導体粒子の平均粒子径は、加水分解に供される4級アンモニウム塩の添加量を調整することにより、制御することができ、4級アンモニウム塩の添加量を大きくするに従って、平均粒子径の小さい半導体粒子を得ることができる。4級アンモニウム塩としては、たとえば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドTMAHを用いることができるが、メチル基については限定されず、炭素数が1~4個のアルキル基を有するものを例示することができる。また、半導体大粒子を得るためのアルコキサイドとしては、上述の半導体粒子を構成する金属のアルコキサイド用いることができる。具体的には、たとえば半導体粒子がチタニア粒子である場合は、半導体粒子のアルコキサイドとしてTiOC3H54を用い、4級アンモニウム塩として、TMAHを用いることができる。電極基板10の透明導電層12上に水性ペーストを塗布する方法としては特に制限はなく、たとえばドクターブレード法やスプレー法など、公知の種々の方法に従って行うことができる。また、乾燥温度は、たとえば室温とすることができる。なお、室温とは、通常、20~35°Cである。透明導電層12上における水性ペーストが塗布された領域が作用極として機能し、用途によってこの作用極領域の面積を適宜に選択することができる。プレス処理工程この工程は、塗膜20aをプレス処理して酸化物半導体多孔膜20bを形成する工程であって、プレス処理を行うことによって、塗膜20a中の半導体粒子同士が十分に密着され、高い電子伝達能を得ることができる。このプレス処理が行われないと、透明導電層12上に水性ペーストから形成される塗膜20aには乾燥に伴ってランダムに蛇行した多数の線状クラックが不可避的に発生するところ、このクラックをそのまま放置することとなり、得られる色素増感太陽電池1が所期の性能を有するものとならないおそれが大きい。また、このクラックを放置した場合に、剥がれなどが生じ、十分な耐久性が得られないおそれがある。透明導電層上において水性ペーストから形成される塗膜にクラックが発生する理由は、塗膜の膜厚が極めて薄い上に、塗布液が有機溶剤を含有しない水性ペーストであってバインダーを含有しないものであることによるものと考えられる。すなわち、本発明の製造方法において、このプレス処理工程は、クラックを埋めることによって高い電子伝達能が達成される。水性ペーストのプレス処理の方法としては特に限定されず、平板式のプレス機などを用いるプレス成型法、ロールプレス法やカレンダー法などの公知の種々の方法を挙げることができる。プレス処理は、塗膜20aとプレス機との間にポリイミド樹脂製のフィルムなどを挟んで行われることが好ましい。また、プレス処理は、室温において行われることが好ましい。そして、このプレス処理は、電極基板10上に酸化物半導体多孔膜20bが形成された積層体における波長400~800nmの光透過率が、プレス処理前の値の105~170、より好ましくは110~170、特に好ましくは110~130となる条件で行われることが好ましく、たとえばプレス処理が5MPa以上、好ましくは30MPa以上の圧力で行われることが好ましく、また、500MPa以下、好ましくは150MPa以下の圧力で行われることにより、上記の光透過率を実現し、かつ水性ペーストの塗膜において不可避的に発生してしまうクラックを埋めることができる。また、プレス処理が行われることにより、酸化物半導体多孔膜20bの厚みは、プレス処理前の塗膜20aの厚みの80~30となることが好ましい。光電変換層形成工程増感色素を酸化物半導体多孔膜20bに担持させて光電変換層20を形成する方法としては特に限定されず、たとえば増感色素をアルコール類、ニトリル類、ニトロメタン、ハロゲン化炭化水素、エーテル類、ジメチルスルホキシド、アミド類、N-メチルピロリドン、1,3-ジメチルイミダゾリジノン、3-メチルオキサゾリジノン、エステル類、炭酸エステル類、ケトン類、炭化水素、水などの溶媒あるいはこれらの2種以上による混合溶媒に溶解させ、これに酸化物半導体多孔膜20bを浸漬する浸漬法や、スプレー塗布法、印刷塗布法などが挙げられる。続いて、図1に示すように、光電変換層20上に電解質層30を形成し、さらに、電解質層30上に、光電変換層20との間に電解質層30を挟むように対極40を配置することで、色素増感太陽電池1が完成する。以上説明したように、本実施形態の色素増感太陽電池1および色素増感太陽電池1の製造方法によれば、透明導電層12上に金属配線層14が配置されているとともに、金属配線層14の配線13を保護層15で被覆することにより金属配線層14と電解質層30とを分離している。このため、金属配線層14により透明導電層12の電気抵抗を下げることができる。また、一般的に、電解質層30を形成する電解質は光電変換層20に浸透するが、電解質層30と金属配線層14とを保護層15により分離することで、電解質層30による配線13の腐食を防止して耐久性を向上させることができる。保護層15は、面15aが両端部から中間部15bに向かうほど透明導電層12から離間する側に突出するように形成されている。従って、突出しない場合と比べ、保護層15と光電変換層20多孔質の孔内に電解質を保持しているとの接触面積を減らすことができる。そのため、保護層15が電解質の影響を受けにくくなる。また、保護層15を、面15aが両端部から中間部15bに向かうほど透明導電層12から離間する側に突出するように形成することにより、基材11側から観察した場合に配線13に重なる中間部15b付近の保護層15と電解質層30との間の範囲R1図1参照にも光電変換層20が介在している。また、基材11側から入射した光は、基材11及び透明導電層12を介して光電変換層20に入射することにより、光電変換層20で増感色素が光を吸収することで、電子を発生させる。光電変換層20に入射した光の一部は直進し、あるいは散乱して進行方向を変えながら光電変換層20及び電解質層30を通過して対極40で反射し、再び電解質層30を経て様々な位置と角度から基材11側に再入射する。このとき、保護層15の面15aが、両端部から中間部15bに向かうほど透明導電層12から離間する側に突出するように形成されていることにより、基材11側から観察した場合に配線13と重なる中間部15b付近の保護層15と電解質層30との間にも光電変換層20が介在しているため、対極40側から入射した光も効率的に利用することができる。よって、入射した光を効率的に光電変換することが可能となる。また、保護層15は、面15aが両端部から中間部15bに向かうほど透明導電層12から離間する側に突出するように形成されているため、この面が平坦に形成された保護層断面に角部がある従来の色素増感太陽電池と比較すると、図1に示す透明導電層12から光電変換層20を経て中間部15bまでの距離Lが短く、この間の電気抵抗が小さくなる。したがって、基材11側から入射して光電変換層20内で散乱された光は、保護層15と電解質層30との間の部分である範囲R1図1参照に配置された光電変換層20にも届きやすく、また、範囲R1で発生した電流は、逆向きのルートをたどって透明導電層12に流れやすくなる。よって、入射する光による光電変換効率を向上させることができる。保護層15は、透明な樹脂により形成されているため、基材11及び透明導電層12を介して保護層15に入射した光についても、保護層15を通過して光電変換層20に入射できるので有効に発電に利用することができる。このため、入射する光の光電変換効率をさらに向上させるこができる。光電変換層20は、保護層15の中間部15bと電解質層30との間にも設けられている。したがって、光電変換層20及び電解質層30を通過し対極40で反射した光が、基材11側のどの位置に再入射しても光電変換層20が存在するので、光を効果的に電流に変換して光電変換効率を高めることができる。基材11は樹脂により形成されているため、色素増感太陽電池1をロールトゥロール方式で連続的に製造することができる。保護層15は樹脂により形成されていて、一般的に、金属製の配線13に比べて保護層15の弾性係数の方が小さい。このため、塗膜20aがプレスされるときに、配線13に比べて保護層15が大きく変形することで、プレス処理工程時に配線13が損傷するのを防止することができる。対極40の表面は金属であり、光をよく反射するため、基材11側から入射して光電変換層20で変換されず対極40に達した光を対極40で光電変換層20側に反射することができる。これにより、光電変換層20の光電変換効率をさらに高めることができる。本実施形態の色素増感太陽電池の製造方法では、基材11の硬化基準温度以下で熱処理することで、色素増感太陽電池1の基材11に樹脂を用いることができる。さらに、基材11にガラスに代えて樹脂を用いることで基材11が割れにくくなり、酸化物半導体多孔膜20bをプレス処理により形成することができる。さらに、保護層15における面15aの中間部15bが両端部に対して突出するように形成されているため、以下に説明するような様々な効果が生じている。プレス処理工程で酸化物半導体多孔膜20bを形成するときに、塗膜20aに作用させる圧力が、配線13よりも、隣り合う配線13の間の透明導電層12に作用されやすくなる。このため、プレス処理工程において配線13が損傷するのを防止することができる。さらに、プレス処理工程において、保護層15上に積層された水性ペーストが効率よく透明導電層12上に移動できるので、塗膜20aを平坦に整えやすくなる。また、クラックが発生しやすい水性ペーストであっても、保護層15に沿った酸化物半導体多孔膜20bの形状がアーチ状であり、クラックのきっかけとなる応力集中箇所がないため、歩留まりが向上する。特に、光電変換層20が薄い場合に、保護層15に光電変換層20を介して接続される電解質層30および対極40が保護層15の両端部の角により傷付くのを防止することができる。光電変換層20が厚く、保護層15の中間部15bと電解質層30との間にも設けられている場合に、保護層15に沿った光電変換層20の形状がアーチ状であり、応力が集中する結果ひび割れや破損のきっかけになりやすい角部がないため、色素増感太陽電池1に曲げやひねりなどの力が加わった場合にも光電変換層20が壊れにくくなる。特に基板としてプラスチックフィルムが採用されているフレキシブルな色素増感太陽電池においては好ましい。また、保護層15の面15aが角を有する場合、角に圧力を受けてしまい保護層15が損傷される危険性が生じる。この損傷を防止することも可能となる。なお、本実施形態では、保護層15は光散乱性が高いことが好ましい。具体的には、ヘイズが2以上であることが好ましい。なお、ヘイズ測定には、写像性測定器日本電色工業社製、NDH-2000を用いて測定を行った。保護層15の光散乱性を高めるために、たとえば、保護層15の表面透明導電層12および光電変換層20と接する面における表面粗さ算術平均粗さ:Raを大きくしたり、保護層15を互いに屈折率の異なる2つの透明な樹脂により形成したりする構成が用いられる。保護層15をこのように構成することで、基材11側から入射して保護層15を通る光が散乱されて、範囲R1に配置された光電変換層20を通りやすくなる。これにより、保護層15を通った光を効果的に電流に変換することができる。以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の構成の変更なども含まれる。たとえば、実施形態では、樹脂で形成されている基材11および保護層15に、必要に応じてシランカップリング剤、可塑剤、無機フィラーなどの成分を添加することも可能である。シランカップリング剤としては、分子中にエポキシ基、メタクリル基、アクリル基、ビニル基など反応基を1個以上もち、かつ、ケイ素にアルコール基が結合しているシランカップリング剤が好ましい。また、前記実施形態では、図7に示す色素増感太陽電池2のように、光電変換層20が、保護層15の中間部15bと電解質層30との間に設けられず、保護層15の高さ基材11の厚さ方向の高さと、隣り合う保護層15の間に配置された光電変換層20の高さとが等しく設定されていてもよい。このように構成することで、保護層15の面15aの両端部と電解質層30との間の部分である範囲R2に光電変換層20が配置されるため、保護層15を透過して電解質層30側に進んだ光などを範囲R2に配置された光電変換層20により電流に変換することができる。さらに、色素増感太陽電池2の厚さを薄くすることができる。前記実施形態の色素増感太陽電池の製造方法では、間にスペーサなどを設けることで光電変換層20から所定距離離間した位置に対極40を形成した後で、光電変換層20と対極40との間に電解質層30を形成してもよい。スペーサの厚さ寸法は、後で形成する電解質層30が、光電変換層20と対極40との間に位置するように設定する。この変形例の場合、電解質層30は、光電変換層20と対極40との間に液状の電解質を流し込んで固めることなどにより形成される。"