"成分Aメインポリマー、成分B前記メインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマー、及び、成分Cフィラー、を含有し、成分Cが予め成分Bにより分散されていることを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物。成分Aの重量平均分子量が5,000~300,000である、請求項1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分Aと成分Bが同種のポリマーである、請求項1又は2に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分Bの重量平均分子量が、成分Aの重量平均分子量の半分以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分Aと成分Bが共にポリビニルブチラールである、請求項1~4のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分Aと成分Bの水酸基molの絶対値の差が0~10である、請求項5に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分Cがカーボンブラックである、請求項1~6のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分Dエチレン性不飽和化合物を更に含む、請求項1~7のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分E重合開始剤を更に含む、請求項1~8のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分F可塑剤を更に含む、請求項1~9のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分G周期律表の1~16族から選択される金属又はメタロイドの少なくとも1つのオキシ化合物を更に含む、請求項1~10のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。成分Bにより成分Cを予め分散する分散工程、及び、前記分散工程で調製された分散物と成分Aを混合する混合工程を含む請求項1~11のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物の製造方法。請求項1~11のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。請求項1~11のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を熱架橋した架橋レリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。請求項1~11のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、及び、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含むレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。請求項1~11のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、及び、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻し、レリーフ層を形成する彫刻工程、を含むレリーフ印刷版の製版方法。前記レーザー彫刻を700~1,300nmのレーザーにより行う、請求項16に記載のレリーフ印刷版の製版方法。彫刻後のレリーフ層表面を水又は水溶液により洗浄する洗浄工程を更に含む、請求項16又は17に記載のレリーフ印刷版の製版方法。請求項16~18のいずれか1項に記載のレリーフ印刷版の製版方法により製造されたレリーフ層を有するレリーフ印刷版。本発明の目的は、彫刻カスの除去性、膜強度に優れ、高繊細な画像が得られるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたレリーフ印刷版原版、それを用いたレリーフ印刷版の製版方法、及び、それにより得られたレリーフ印刷版を提供することである。本発明の上記課題は以下の<1>、<12>~<16>及び<19>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>~<11>、<17>及び<18>と共に以下に記載する。<1>成分Aメインポリマー、成分B前記メインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマー、及び、成分Cフィラー、を含有し、成分Cが予め成分Bにより分散されていることを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物、<2>成分Aの重量平均分子量が5,000~300,000である、上記<1>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<3>成分Aと成分Bが同種のポリマーである、上記<1>又は<2>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<4>成分Bの重量平均分子量が、成分Aの重量平均分子量の半分以下である、上記<1>~<3>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<5>成分Aと成分Bが共にポリビニルブチラールである、上記<1>~<4>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<6>成分Aと成分Bの水酸基molの絶対値の差が0~10である、上記<5>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<7>成分Cがカーボンブラックである、上記<1>~<6>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<8>成分Dエチレン性不飽和化合物を更に含む、上記<1>~<7>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<9>成分E重合開始剤を更に含む、上記<1>~<8>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<10>成分F可塑剤を更に含む、上記<1>~<9>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<11>成分G周期律表の1~16族から選択される金属又はメタロイドの少なくとも1つのオキシ化合物を更に含む、上記<1>~<10>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、<12>成分Bにより成分Cを予め分散する分散工程、及び、前記分散工程で調製された分散物と成分Aを混合する混合工程を含む上記<1>~<11>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物の製造方法、<13>上記<1>~<11>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、<14>上記<1>~<11>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を熱架橋した架橋レリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、<15>上記<1>~<11>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、及び、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含むレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、<16>上記<1>~<11>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、及び、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻し、レリーフ層を形成する彫刻工程、を含むレリーフ印刷版の製版方法、<17>前記レーザー彫刻を700~1,300nmのレーザーにより行う、上記<16>に記載のレリーフ印刷版の製版方法、<18>彫刻後のレリーフ層表面を水又は水溶液により洗浄する洗浄工程を更に含む、上記<16>又は<17>に記載のレリーフ印刷版の製版方法、<19>上記<16>~<18>のいずれか1つに記載のレリーフ印刷版の製版方法により製造されたレリーフ層を有するレリーフ印刷版。本発明によれば、彫刻カスの除去性、膜強度に優れ、高繊細な画像が得られるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたレリーフ印刷版原版、それを用いたレリーフ印刷版の製版方法、及び、それにより得られたレリーフ印刷版を提供することができた。以下、本発明について詳細に説明する。なお、本発明において、数値範囲を表す下限~上限の記載は、下限以上、上限以下を表し、上限~下限の記載は、上限以下、下限以上を表す。すなわち、上限及び下限を含む数値範囲を表す。また、成分Aメインポリマー等を単に成分A等ともいう。レーザー彫刻用樹脂組成物本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物以下、単に樹脂組成物とも言う。は、成分Aメインポリマー、成分B前記メインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマー、及び、成分Cフィラー、を含有し、成分Cが予め成分Bにより分散されていることを特徴とする。本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、レーザー彫刻が施されるレリーフ印刷版原版のレリーフ形成層用途以外にも、特に限定なく、他の用途にも広範囲に適用することができる。例えば、以下に詳述する凸状のレリーフ形成をレーザー彫刻により行う印刷版原版のレリーフ形成層のみならず、表面に凹凸や開口部を形成する他の製造物、例えば、凹版、孔版、スタンプ等、レーザー彫刻により画像形成される各種印刷版や各種成形体の形成に適用することができる。中でも、適切な支持体上に設けられるレリーフ形成層の形成に適用することが好ましい態様である。なお、本明細書では、レリーフ印刷版原版の説明に関し、レーザー彫刻に供する画像形成層としての、表面が平坦な層であり、かつ未架橋の架橋性層をレリーフ形成層と称し、前記レリーフ形成層を架橋した層を架橋レリーフ形成層と称し、これをレーザー彫刻して表面に凹凸を形成した層をレリーフ層と称する。以下、レーザー彫刻用樹脂組成物の構成成分について説明する。<成分Aメインポリマー>本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、成分Aメインポリマーを含有する。前記メインポリマーは、レーザー彫刻用樹脂組成物に含有されるバインダーポリマー以下、バインダーとも言う。であり、分子量1,000~1000,000の結着樹脂である。本発明のバインダーは、1種を単独使用するか、又は、2種以上を併用することができる。特に、レーザー彫刻用樹脂組成物を印刷版原版のレリーフ形成層に用いる際は、レーザー彫刻感度、インキ受与性、彫刻カス分散性などの種々の性能を考慮して、本発明のバインダーを選択することが好ましい。本発明のメインポリマーの重量平均分子量は、5,000~500,000が好ましく、5,000~300,000がより好ましく、10,000~200,000が特に好ましい。尚、重量平均分子量は、GPC測定によるポリスチレン換算の値である。本発明のメインポリマーとしては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマーなどが例示できる。好ましくは、アセタール樹脂が挙げられる。本発明のメインポリマーは、付加重合、重縮合等種々の重合反応で合成された既知の化合物を使用することができ、目的に合わせたポリマーを選択することもできる。例えば、レーザー彫刻感度の観点からは、露光あるいは加熱により熱分解する部分構造を含むポリマーが好ましい。また、例えば、柔軟で可撓性を有する膜形成が目的とされる場合には、軟質樹脂や熱可塑性エラストマーが選択される。更に、レーザー彫刻用樹脂組成物を、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層に適用する場合であれば、レリーフ形成層用組成物の調製の容易性、得られたレリーフ印刷版における油性インクに対する耐性向上の観点から、親水性又は親アルコール性ポリマーを使用することが好ましい。加えて、レリーフ形成層を加熱や露光により硬化させ、強度を向上させる目的に使用する場合には、分子内に、ヒドロキシル基、アルコキシ基、加水分解性シリル基及びシラノール基等の反応性官能基を有するメインポリマーであることが好ましい。これらの官能基は、メインポリマー分子中のいずれかに存在すればよいが、特にメインポリマー鎖の側鎖に存在することが好ましい。このようなポリマーとしては、ビニル共重合体ポリビニルアルコールやポリビニルアセタールなどのビニルモノマーの共重合体及びその誘導体やアクリル樹脂ヒドロキシエチルメタアクリレートなどのアクリル系モノマーの共重合体及びその誘導体が好ましく用いられる。ここで、ビニルモノマーの共重合体の誘導体とは、具体的には、ビニルアルコール単位の水酸基あるいは水酸基のα位を化学修飾して側鎖を延長した形態とし、その末端に水酸基やカルボキシル基といった官能基を導入したポリマーのことを指す。本発明に用いるメインポリマーとしては、ヒドロキシル基を有するバインダーポリマーが特に好ましく用いられる。ヒドロキシル基を有するバインダーポリマー以下、本発明のメインポリマーとして用いる、ヒドロキシル基を有するバインダーポリマー以下、適宜、特定ポリマーともいう。について説明する。このバインダーポリマーは水不溶、かつ、炭素数1~4のアルコールに可溶であることが好ましい。特定ポリマーとして、水性インキ適性とUVインキ適性を両立しつつ、かつ彫刻感度が高く皮膜性も良好であるという観点で、ポリビニルブチラールPVB及びその誘導体、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂、及び、側鎖にヒドロキシル基を有するエポキシ樹脂等が好ましい。中でも、ポリビニルブチラールPVB及びその誘導体がより好ましい。特定ポリマーは、後述する光熱変換剤と組み合わせた場合に、ガラス転移温度Tgが20°C以上のものとすることで、彫刻感度が向上するため、特に好ましい。このようなガラス転移温度を有するバインダーポリマーを以下、非エラストマーと称する。即ち、エラストマーとは、一般的に、ガラス転移温度が常温以下のポリマーであるとして学術的に定義されている科学大辞典第2版、編者国際科学振興財団、発行丸善株式会社、P154参照。従って、非エラストマーとはガラス転移温度が常温を超える温度であるポリマーを指す。バインダーポリマーのガラス転移温度の上限には制限はないが、200°C以下であることが取り扱い性の観点から好ましく、25°C以上120°C以下であることがより好ましい。ガラス転移温度が室温20°C以上のポリマーを用いる場合、特定ポリマーは常温ではガラス状態をとるが、このためゴム状態をとる場合に比較して、熱的な分子運動はかなり抑制された状態にある。レーザー彫刻においては、レーザー照射時に、赤外線レーザーが付与する熱に加え、所望により併用される光熱変換剤の機能により発生した熱が、周囲に存在する特定ポリマーに伝達され、これが熱分解、消散して、結果的に彫刻されて凹部が形成される。本発明の好ましい態様では、特定ポリマーの熱的な分子運動が抑制された状態の中に光熱変換剤が存在すると特定ポリマーへの熱伝達と熱分解が効果的に起こるものと考えられ、このような効果によって彫刻感度が更に増大したものと推定される。特定ポリマーの特に好ましい態様である非エラストマーの具体例を以下に挙げる。1ポリビニルアセタール誘導体本明細書においては、以下、ポリビニルアセタール及びその誘導体を単にポリビニルアセタール誘導体ともいう。すなわち、本明細書においてポリビニルアセタール誘導体は、ポリビニルアセタール及びその誘導体を包含する概念で使用され、ポリ酢酸ビニルを鹸化して得られるポリビニルアルコールを環状アセタール化することにより得られる化合物の総称を示す。ポリビニルアセタール誘導体中のアセタール含量原料の酢酸ビニルモノマーの総モル数を100とし、アセタール化されるビニルアルコール単位のモルは、30~90が好ましく、50~85がより好ましく、55~78が特に好ましい。ポリビニルアセタール誘導体中のビニルアルコール単位としては、原料の酢酸ビニルモノマーの総モル数に対して、10~70モルが好ましく、15~50モルがより好ましく、22~45モルが特に好ましい。また、ポリビニルアセタール誘導体は、その他の成分として、酢酸ビニル単位を有していてもよく、その含量としては0.01~20モルが好ましく、0.1~10モルが更に好ましい。ポリビニルアセタール誘導体は、更に、その他の共重合単位を有していてもよい。ポリビニルアセタール誘導体としては、ポリビニルブチラール誘導体、ポリビニルプロピラール誘導体、ポリビニルエチラール誘導体、ポリビニルメチラール誘導体などが挙げられ、中でもポリビニルブチラール誘導体以下、PVB誘導体ともいう。が特に好ましい。なお、これらの記載においても、例えば、ポリビニルブチラール誘導体とは、本明細書においては、ポリビニルブチラール及びその誘導体を包含する意味で用いられ、他のポリビニルアセタール誘導体類についても同様である。以下、ポリビニルアセタールの特に好ましい例として、ポリビニルブチラールを挙げて説明するが、これに限定されない。ポリビニルブチラール誘導体の構造の一例は、以下に示す通りであり、これらの各構成単位を任意の割合で含んで構成されるが、Lは50モル以上であることが好ましい。PVB誘導体としては、市販品としても入手可能であり、その好ましい具体例としては、アルコール溶解性特にエタノールの観点で、積水化学工業株製のエスレックBシリーズ、エスレックKKSシリーズ、電気化学工業株製のデンカブチラールが好ましく、アルコール溶解性特にエタノールの観点で、積水化学工業株製のエスレックBシリーズ、電気化学工業株製のデンカブチラールがより好ましい。これらのうち、特に好ましい市販品を、上記式中の、L、m、及びnの値と、分子量とともに以下に示す。積水化学工業株製のエスレックBシリーズでは、BL-1L=61、m=3、n=36、重量平均分子量1.9万、BL-1HL=67、m=3、n=30、重量平均分子量2.0万、BL-2L=61、m=3、n=36、重量平均分子量約2.7万、BL-5L=75、m=4、n=21、重量平均分子量3.2万、BL-SL=74、m=4、n=22、重量平均分子量2.3万、BM-SL=73、m=5、n=22、重量平均分子量5.3万、BH-SL=73、m=5、n=22、重量平均分子量6.6万が、また、電気化学工業株製のデンカブチラールシリーズでは3000-1L=71、m=1、n=28、重量平均分子量7.4万、3000-2L=71、m=1、n=28、重量平均分子量9.0万、3000-4L=71、m=1、n=28、重量平均分子量11.7万、4000-2L=71、m=1、n=28、重量平均分子量15.2万、6000-CL=64、m=1、n=35、重量平均分子量30.8万、6000-EPL=56、m=15、n=29、重量平均分子量38.1万、6000-CSL=74、m=1、n=25、重量平均分子量32.2万、6000-ASL=73、m=1、n=26、重量平均分子量24.2万が、また、株式会社クラレ製のモビタールシリーズではB60HL=71、m=1、n=28、重量平均分子量14.0万、B60HHL=80、m=1、n=19、重量平均分子量19万、B30HHL=80、m=1、n=19、重量平均分子量13万が、それぞれ挙げられる。PVB誘導体を特定ポリマーとして用いてレリーフ形成層を製膜する際には、溶媒に溶かした溶液をキャストし乾燥させる方法が、膜表面の平滑性の観点で好ましい。2アクリル樹脂本発明のメインポリマーとして、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂が好ましく挙げられる。ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂の合成に用いられるアクリル単量体としては、例えばメタアクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、メタアクリルアミド類であって分子内にヒドロキシル基を有するものが好ましい。このような単量体の具体例としては例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート等が挙げられる。また、アクリル樹脂としては、上記ヒドロキシル基を有するアクリル単量体以外のアクリル単量体を共重合成分として含むこともできる。このようなメタアクリル酸エステル類としては、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、tert-ブチルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、アセトキシエチルメタアクリレート、フェニルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、2-エトキシエチルメタアクリレート、2-2-メトキシエトキシエチルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、ベンジルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルメタアクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルメタアクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルメタアクリレート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルメタアクリレート、エチレングリコールとプロピレングリコールとの共重合体のモノメチルエーテルメタアクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルメタアクリレート、N,N-ジエチルアミノエチルメタアクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピルメタアクリレート等が挙げられる。更に、ウレタン基やウレア基を有するアクリル単量体を含んで構成される変性アクリル樹脂も好ましく使用することができる。これらの中でも、水性インキ耐性の観点で、ラウリルメタアクリレートなどのアルキルメタアクリレート類、t-ブチルシクロヘキシルメタクリレートなど脂肪族環状構造を有するメタアクリレート類が特に好ましい。また、特定ポリマーとして、フェノール類とアルデヒド類とを酸性条件下で縮合させた樹脂であるノボラック樹脂を用いることができる。好ましいノボラック樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m-クレゾールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、p-クレゾールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、o-クレゾールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、m-/p-混合クレゾールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、フェノール/クレゾールm-、p-、o-又はm-/p-、m-/o-、o-/p-混合のいずれでもよいの混合物とホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂などが挙げられる。特定ポリマーの中でも、レリーフ形成層としたときのリンス性及び耐刷性の観点から、ポリビニルブチラール誘導体が特に好ましい。特定ポリマーに含まれるヒドロキシル基の含有量は、前記いずれの態様のポリマーにおいても、0.1~15mmol/gであることが好ましく、0.5~7mmol/gであることがより好ましい。本発明の樹脂組成物における成分Aは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。本発明の樹脂組成物中に含まれる成分Aの含有量は、全固形分量に対して、10~60重量が好ましく、15~55重量がより好ましく、20~50重量が特に好ましい。<成分Bメインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマー>本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、成分Bメインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマーを含有する。成分Bメインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマーは、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物に含有される、成分Cフィラーを分散する分散ポリマーである以下、単に分散ポリマーとも言う。。分散ポリマーの重量平均分子量は、メインメポリマーの重量平均分子量より小さいことが必須であり、好ましくは半分以下である。成分Bは、前述の成分Aが選択される樹脂群から選ぶことができる。すなわち、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマーなどが例示できる。中でも、成分Aと同様に、分子内に、ヒドロキシル基、アルコキシ基、加水分解性シリル基及びシラノール基等の反応性官能基を有するバインダーであることが好ましく、更にフィラーを分散し易いものが好ましい。より好ましくは、ポリビニルブチラールPVB及びその誘導体、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂、及び、側鎖にヒドロキシル基を有するエポキシ樹脂等が挙げられる。中でも、ポリビニルブチラールPVB及びその誘導体が特に好ましい。成分Bは、成分Aよりも重量平均分子量が小さければ、成分Aとは異なる種類のポリマーでも同種のポリマーでもよい。好ましくは同種のポリマーであり、成分A及び成分Bが共にポリビニルブチラールPVB及びその誘導体、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂、及び、側鎖にヒドロキシル基を有するエポキシ樹脂等であることが好ましく、共にポリビニルブチラールPVB及びその誘導体であることが特に好ましい。ここで、同種のポリマーとは、繰り返し単位が同じであるポリマーを指す。成分A及び成分Bが共にポリビニルブチラール誘導体等の水酸基を持つポリマーである場合、各々ポリマーに含まれる水酸基のmolの絶対値の差が0~10であることが好ましい。ポリマー中の水酸基のmolの絶対値は、1H-NMRスペクトルを用い測定される。例えば、乾燥ポリビニルブチラール樹脂粉末を重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し1重量濃度の溶液とし、その後、少量のテトラメチルシランを標準物質として添加し、25°Cで1H-NMRスペクトルを測定する。得られたスペクトルの各ピークの積分強度から算出される。<成分Cフィラー>本発明における成分Cフィラーは、樹脂組成物中で分子分散せず、固体の状態で分散するものであれば、特に限定はない。本発明に用いることができるフィラーとしては、有機フィラー及び無機フィラーが挙げられる。有機フィラーとしては、低密度ポリエチレン粒子、高密度ポリエチレン粒子、ポリスチレン粒子、各種有機顔料、マイクロバルーン、尿素-ホルマリンフィラー、ポリエステルパーティクル、セルロースフィラー、有機金属等が挙げられる。前記有機顔料としては、公知のものが挙げられ、インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、カーボンブラック等が使用できる。また、無機顔料を含有していてもよい。これらの中でも、有機フィラーとしては、カーボンブラックが特に好ましい。カーボンブラックは、レリーフ形成層を構成する樹脂組成物中における分散安定性などに問題がない限り、ASTMにより分類される規格の製品以外でも、カラー用、ゴム用、乾電池用などの各種用途に通常使用されるいずれのカーボンブラックも使用可能である。ここでいうカーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなども包含される。本発明においては、比較的低い比表面積及び比較的低いDBPDi-butylphthalate吸収を有するカーボンブラックや、比表面積の大きい微細化されたカーボンブラックまでを使用することも可能である。好適なカーボンブラックの市販品の例としては、PrintexU登録商標、PrintexA登録商標又はSpezialschwarz4登録商標いずれもDegussa社製、シースト600ISAF-LS東海カーボン株社製、旭70N-300旭カーボン株製、ケッチェンブラックEC600JDライオン株製等が挙げられる。このようなカーボンブラックの選択については、例えば、カーボンブラック便覧カーボンブラック協会編、を参考にすることができる。また、カーボンブラックの平均一次粒径としては、20nmより大きく80nm未満であることが好ましく、25nmより大きく70nm未満であることがより好ましい。上記範囲であると、凝集を抑制でき、分散性に優れる。無機フィラーとしては、アルミナ、チタニア、ジルコニア、カオリン、焼成カオリン、タルク、ロウ石、ケイソウ土、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、リトポン、非晶質シリカ、コロイダルシリカ、焼成石コウ、シリカ、炭酸マグネシウム、酸化チタン、アルミナ、炭酸バリウム、硫酸バリウム、マイカ等が挙げられる。これらの中でも、シリカ、又は、アルミナが好ましく、シリカが特に好ましい。本発明に用いることができるフィラーの形状としては、特に制限はないが、球状、層状、ファイバー状、中空バルーンの形状を挙げることができる。これらの中でも、球状、又は、層状であることが好ましく、球状であることがより好ましい。本発明に用いることができるフィラーの平均粒径平均一次粒径は、10nm以上10μm以下であることが好ましく、10nm以上5μm以下であることがより好ましく、50nm以上3μm以下であることが特に好ましい。上記範囲であると、樹脂組成物の安定性が良好であり、また、彫刻後における粒子状の膜ヌケの発生を抑制でき、画質に優れる。また、層状のフィラーとしては、薄い平板状の形状を有する無機質の層状化合物が好ましく挙げられ、例えば、下記式で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、3MgO4SiOH2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。AB,C2~5D4O10OH,F,O2式中、AはK,Na,Caのいずれかを表し、B及びCはFeII,FeIII,Mn,Al,Mg,Vのいずれかを表し、DはSi又はAlを表す。本発明に用いることができる無機質の層状化合物の形状としては、アスペクト比が20以上であることが好ましく、100以上であることがより好ましく、200以上であることが特に好ましい。なお、アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。本発明に用いることができる無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3~20μmであることが好ましく、0.5~10μmであることがより好ましく、1~5μmであることが特に好ましい。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下であることが好ましく、0.05μm以下であることがより好ましく、0.01μm以下であることが特に好ましい。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1~50nm、面サイズが1~20μm程度である。本発明に用いることができる球状シリカ粒子としては、以下に示す市販品を好ましく例示できる。なお、括弧内の数値は平均粒径を表す。日本アエロジル株製として、AEROSILRM5040nm、R71112nm、R720012nm、AEROSILOX5040nm、5030nm、90G20nm、13016nm、15014nm、20012nm、200CF12nm、3007nm、3807nmが例示できる。AGCエスアイテク株製として、サンスフェアH-313μm、H-515μm、H-12112μm、H-20120μm、サンスフェアL-313μm、L-515μm、サンスフェアNP-304μm、NP-10010μm、NP-20020μmが例示できる。日産化学工業株製として、メタノールシリカゾル10~20nm、MA-ST-M10~20nm、IPA-ST10~20nm、EG-ST10~20nm、EG-ST-ZL70~100nm、NPC-ST10~20nm、DMAC-ST10~20nm、MEK-ST10~20nm、XBA-ST10~20nm、MIBK-ST10~20nmが挙げられる。また、本発明に用いることができる雲母粒子としては、合成雲母ソマシフME-100:コープケミカル株製、アスペクト比:1,000以上が例示できる。本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物における成分Cフィラーの添加量は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物の全固形分量溶剤を除いた量に対し、0.5~20重量が好ましく、1~15重量がより好ましく、3~10重量が特に好ましい。また、ポリマー等の分散剤を用いる場合は、フィラーと分散剤との総量が上記の添加量の範囲内に入っていることが好ましい。成分Bによるフィラーの分散方法フィラーを成分Bにより分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、ビーズミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、最新顔料応用技術CMC出版、1986年刊に記載されている。本発明の成分Bによる成分Cの分散は、成分B及び成分Cの分散物が成分Aと混合される前に実施される。成分Bと成分Cとの合計含有量に対する成分Bの重量は、好ましくは30~80重量であり、より好ましくは40~70重量である。成分Bと成分Cの分散物の含有量は、前述のとおり、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物の全固形分量溶剤を除いた量に対し、1~20重量が好ましく、3~15重量がより好ましく、5~10重量が特に好ましい。分散時の溶剤としては、既知の各種溶剤が使用されるが、中でもプロピレングリコールモノメチルアセテートがより好ましく使用される。<成分Dエチレン性不飽和化合物>本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、成分Dエチレン性不飽和化合物を含有することができる。本発明に用いることができるエチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和基を少なくとも1個、好ましくは2個以上、より好ましくは2~6個有する化合物の中から任意に選択することができる。以下、エチレン性不飽和化合物として用いられる、エチレン性不飽和基を1つ有する単官能モノマー、及び、エチレン性不飽和基を2個以上有する多官能モノマーについて説明する。単官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等と一価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と一価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。また、多官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類又はエポキシ類との付加反応物、及び、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。本発明の樹脂組成物は、膜中に架橋構造を形成するため、多官能モノマーが好ましく使用される。多官能モノマーの分子量としては、200~2,000であることが好ましい。多官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステルが例示できる。その具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリロイルオキシプロピルエーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4-シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等が例示できる。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3-ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビスp-3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシフェニルジメチルメタン、ビス-p-メタクリルオキシエトキシフェニルジメチルメタン等が例示できる。イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3-ブタンジオールジイタコネート、1,4-ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等が例示できる。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラクロトネート等が例示できる。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等が例示できる。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等が例示できる。その他のエステルの例として、例えば、特公昭46-27926号、特公昭51-47334号、特開昭57-196231号の各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59-5240号、特開昭59-5241号、特開平2-226149号の各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1-165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスアクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系の多官能エチレン性不飽和化合物の例としては、特公昭54-21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有するものを挙げることができる。また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加多官能モノマーも多官能エチレン性不飽和化合物として好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物と、下記式Aで示される水酸基を含有するエチレン性不飽和化合物を付加させた1分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を含有するウレタン系の多官能エチレン性不飽和化合物等が挙げられる。CH2=CRCOOCH2CHR’OHAただし、R及びR’は、H又はCH3を示す。また、特開昭51-37193号、特公平2-32293号、特公平2-16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号、特公昭56-17654号、特公昭62-39417号、特公昭62-39418号の各公報記載のエチレンオキサイド鎖を有するウレタン系の多官能エチレン性不飽和化合物も好適である。更に、特開昭63-277653号、特開昭63-260909号、特開平1-105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する多官能エチレン性不飽和化合物類を用いることにより、短時間で架橋した樹脂組成物を得ることができる。その他の多官能エチレン性不飽和化合物の例としては、特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とメタアクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46-43946号、特公平1-40337号、特公平1-40336号の各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2-25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61-22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300~308ページ1984年に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。本発明に用いることができるエチレン性不飽和化合物としては、飽和橋かけ環式多官能モノマーも例示できる。飽和橋かけ環式多官能モノマーとしては、メタクリロイルオキシ基又はアクリロイルオキシ基を2つ有するビシクロ環、トリシクロ環構造を有する化合物等の縮環構造を有する脂環式多官能モノマーを用いることが物性を制御する観点から好ましい。ビシクロ環、トリシクロ環構造としては、ノルボルネン骨格ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、ジシクロペンタジエン骨格トリシクロ[5.2.1.026]デカン、アダマンタン骨格トリシクロ[3.3.1.137]デカン等の縮環構造の脂環式炭化水素構造が挙げられる。飽和橋かけ環式多官能モノマーとしては、ビシクロ環、トリシクロ環部分にアミノ基が直接結合していてもよく、また、メチレン、エチレン等のアルキレン等の脂肪族部分を介して結合していてもよい。更に、これら縮環構造の脂環族炭化水素基の水素原子が、アルキル基等で置換されていてもよい。本発明において、飽和橋かけ環式多官能モノマーとしては、下記より選択される脂環式多官能モノマーであることが好ましい。また、エチレン性不飽和化合物としては、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類又はチオール類との付加反応物、更にハロゲノ基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類又はチオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。エチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、前記例示した化合物の他、公知の種々の化合物を用いることができ、例えば、特開2009-204962号公報の段落0098~0124に記載の化合物などを使用してもよい。本発明においては、エチレン性不飽和化合物として、彫刻感度向上の観点から、分子内に硫黄原子を有する化合物を用いることが好ましい。このように分子内に硫黄原子を有するエチレン性不飽和化合物としては、彫刻感度向上の観点から、特に、2つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素-硫黄結合を有するラジカル重合性化合物以下、適宜、含硫黄多官能モノマーともいう。を用いることが好ましい。本発明における含硫黄多官能モノマー中の炭素-硫黄結合を含んだ官能基としては、スルフィド、ジスルフィド、スルホキシド、スルホニル、スルホンアミド、チオカルボニル、チオカルボン酸、ジチオカルボン酸、スルファミン酸、チオアミド、チオカルバメート、ジチオカルバメート、又は、チオ尿素を含む官能基が挙げられる。また、含硫黄多官能モノマーにおける2つのエチレン性不飽和結合間を連結する炭素-硫黄結合を含有する連結基としては、-C-S-、-C-SS-、-NHC=SO-、-NHC=OS-、-NHC=SS-、及び、-C-SO2-から選択される少なくとも1つのユニットを含む連結基であることが好ましい。また、含硫黄多官能モノマーの分子内に含まれる硫黄原子の数は1つ以上であれば特に制限はなく、目的に応じて、適宜選択することができるが、彫刻感度と塗布溶剤に対する溶解性のバランスの観点から、1~10個が好ましく、1~5個がより好ましく、1又は2個が特に好ましい。一方、分子内に含まれるエチレン性不飽和部位の数は2つ以上であれば特に制限は無く、目的に応じて、適宜選択することができるが、架橋膜の柔軟性の観点で、2~10個が好ましく、2~6個がより好ましく、2~4個が特に好ましい。本発明における含硫黄多官能モノマーの分子量としては、形成される膜の柔軟性の観点から、120~3,000であることが好ましく、120~1,500であることがより好ましい。また、本発明における含硫黄多官能モノマーは単独で用いてもよいが、分子内に硫黄原子を持たない多官能重合性化合物や単官能重合性化合物との混合物として用いてもよい。分子内に硫黄原子を有する重合性化合物の具体例としては、例えば、特開2009-255510号公報の段落0032~0037に記載のものを例示でき、ここに記載の化合物を本発明に使用してもよい。本発明の樹脂組成物における成分Dは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。本発明の樹脂組成物中に含まれる成分Dの含有量は、全固形分量に対して、2~50重量が好ましく、5~30重量がより好ましく、10~30重量が特に好ましい。<成分E重合開始剤>本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、成分E重合開始剤を含有することができる。重合開始剤は、当業者間で公知のものを制限なく使用することができるが、ラジカル重合開始剤であることが好ましい。以下、好ましい重合開始剤であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。また、ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤であっても、熱ラジカル重合開始剤であってもよいが、熱ラジカル重合開始剤であることが好ましい。本発明において、好ましいラジカル重合開始剤としては、a芳香族ケトン類、bオニウム塩化合物、c有機過酸化物、dチオ化合物、eヘキサアリールビイミダゾール化合物、fケトオキシムエステル化合物、gボレート化合物、hアジニウム化合物、iメタロセン化合物、j活性エステル化合物、k炭素ハロゲン結合を有する化合物、lアゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記a~lの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明においては、彫刻感度と、レリーフ印刷版原版のレリーフ形成層に適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、c有機過酸化物及びlアゾ系化合物がより好ましく、c有機過酸化物が特に好ましい。前記a芳香族ケトン類、bオニウム塩化合物、dチオ化合物、eヘキサアリールビイミダゾール化合物、fケトオキシムエステル化合物、gボレート化合物、hアジニウム化合物、iメタロセン化合物、j活性エステル化合物、及びk炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、特開2008-63554号公報の段落0074~0118に挙げられている化合物を好ましく用いることができる。また、c有機過酸化物及びlアゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。c有機過酸化物本発明に用いることができるラジカル重合開始剤として好ましいc有機過酸化物としては、3,3’,4,4’-テトラターシャリーブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラターシャリーアミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラターシャリーヘキシルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラターシャリーオクチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラクミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラp-イソプロピルクミルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、ジ-ターシャリーブチルジパーオキシイソフタレート、ターシャリーブチルパーオキシベンゾエートなどの過酸化エステル系が好ましい。lアゾ系化合物本発明に用いることができるラジカル重合開始剤として好ましいlアゾ系化合物としては、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビスプロピオニトリル、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリル、2,2’-アゾビス2-メチルブチロニトリル、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、4,4’-アゾビス4-シアノ吉草酸、2,2’-アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’-アゾビス2-メチルプロピオンアミドオキシム、2,2’-アゾビス[2-2-イミダゾリン-2-イルプロパン]、2,2’-アゾビス{2-メチル-N-[1,1-ビスヒドロキシメチル-2-ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’-アゾビス[2-メチル-N-2-ヒドロキシエチルプロピオンアミド]、2,2’-アゾビスN-ブチル-2-メチルプロピオンアミド、2,2’-アゾビスN-シクロヘキシル-2-メチルプロピオンアミド、2,2’-アゾビス[N-2-プロペニル-2-メチルプロピオンアミド]、2,2’-アゾビス2,4,4-トリメチルペンタン等を挙げることができる。なお、本発明においては、前記c有機過酸化物が本発明における重合開始剤として、膜レリーフ形成層の架橋性及び彫刻感度向上の観点で特に好ましい。彫刻感度の観点からは、このc有機過酸化物と、成分Aメインポリマーとしてガラス転移温度が常温20°C以上のポリマーとを組み合わせた態様が特に好ましい。これは、有機過酸化物を用いてレリーフ形成層を熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物は、自己反応性の添加剤として働き、レーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなったと推定される。特にバインダーポリマーのガラス転移温度が室温以上の場合、有機過酸化物の分解に由来して発生した熱が、バインダーポリマーに効率よく伝達され、かつバインダーポリマー自体の熱分解に有効に利用されるためより高感度化されるものと推定している。なお、この効果は、光熱変換剤としてカーボンブラックを用いる場合に著しい。これは、カーボンブラックから発生した熱がc有機過酸化物にも伝達される結果、カーボンブラックだけでなく有機過酸化物からも発熱するため、バインダーポリマー等の分解に使用されるべき熱エネルギーの発生が相乗的に生じるためと考えている。また、有機過酸化物と後述する光熱変換剤とを組み合わせて用いることで、彫刻感度が極めて高くなるのでより好ましく、有機過酸化物と光熱変換剤であるカーボンブラックとを組み合わせて用いた態様が最も好ましい。これは、有機過酸化物を用いてレリーフ形成層を熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物は、自己反応性の添加剤として働き、レーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなると推定される。本発明の樹脂組成物における成分Eは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。本発明の樹脂組成物中に含まれる成分Eの含有量は、全固形分量に対して、0.1~5重量が好ましく、0.3~3重量がより好ましく、0.5~2.5重量が特に好ましい。<成分F可塑剤>本発明の樹脂組成物は、フレキソ版として必要な柔軟性を付与するという観点から、成分F可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤としては、高分子の可塑剤として公知のものを用いることができ、限定されないが、例えば、高分子大辞典初版、1994年、丸善株発行の第211~220頁に記載のアジピン酸誘導体、アゼライン酸誘導体、ベンゾイル酸誘導体、クエン酸誘導体、エポキシ誘導体、グリコール誘導体、炭化水素及び誘導体、オレイン酸誘導体、リン酸誘導体、フタル酸誘導体、ポリエステル系、リシノール酸誘導体、セバシン酸誘導体、ステアリン酸誘導体、スルホン酸誘導体、テルペン及び誘導体、トリメリット酸誘導体が挙げられる。これらの中でも、ガラス転移温度を低下させる効果の大きさという観点から、アジピン酸誘導体、クエン酸誘導体及びリン酸誘導体が好ましく、リン酸誘導体がより好ましい。アジピン酸誘導体としては、アジピン酸ジブチル、アジピン酸2-ブトキシエチルが好ましい。クエン酸誘導体としては、クエン酸トリブチルが好ましい。リン酸誘導体としては、リン酸トリブチル、リン酸トリ2-エチルヘキシル、リン酸トリブトキシエチル、リン酸トリフェニル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸t-ブチルフェニル、リン酸2-エチルヘキシルジフェニル等が挙げられる。これらの中でも、リン酸トリフェニル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリクレジルが好ましく、リン酸クレジルジフェニルがより好ましい。成分Fは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。成分Fの含有量は、ガラス転移温度を室温以下に低下させるという観点から、固形分換算で、樹脂組成物の総重量を100重量として、1~50重量が好ましく、10~40重量がより好ましく、20~30重量が特に好ましい。<成分G周期律表の1~16族から選択される金属又はメタロイド半金属の少なくとも1つのオキシ化合物>本発明の樹脂組成物は、成分G周期律表の1~16族から選択される金属又はメタロイド半金属の少なくとも1つのオキシ化合物を含有することが好ましい。周期律表の1~16族から選択される金属又はメタロイドとしては、周期律表の1~16族から選択されるものであれば特に制限されないが、アルカリ金属Li、Na、K、Rb、Cs、Fr、アルカリ土類金属Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Ra、アルミニウム、珪素、リン、チタン、ゲルマニウム、砒素、ジルコニウム、スズ、亜鉛、カドミウム、ビスマス、インジウム、スカンジウム及びアンチモンが好ましく挙げられる。これらの中でも、彫刻感度の点で、アルカリ土類金属、アルミニウム、珪素、リン、チタン、ゲルマニウム、砒素、ジルコニウム、スズ、亜鉛、ビスマスが好ましく、アルカリ土類金属、アルミニウム、チタン好ましくは原子価4、ジルコニウム、スズ、亜鉛、ビスマスがより好ましく、アルカリ土類金属、アルミニウム、チタン好ましくは原子価4、スズ、亜鉛、ビスマスが特に好ましい。また、オキシ化合物酸素含有化合物としては、前記金属又はメタロイドの、アルコキシド、フェノキシド、エノレート、カーボネート、アセテート又はカルボキシレート及び酸化物が挙げられる。所望により、オキシ化合物の有機部分は一部が多価であるもの、例えば、多価アルコール例えば、グリコール若しくはグリセロール、ポリビニルアルコール又はヒドロキシカルボン酸から誘導されるものであり得る。キレート化合物を使用してもよい。炭素原子が存在する場合、代表的には前記金属又はメタロイド1個当たりの炭素原子の数は4~24個の範囲である。本発明においては、アルミニウム、亜鉛、スズ又はビスマスのカルボキシレートが好ましく、亜鉛のカルボキシレートがより好ましい。具体的には、酢酸亜鉛、2-エチルヘキシル酸亜鉛、2-エチルヘキシル酸スズ、ビスマストリス2-エチルヘキサノエート、ビス2-エチルヘキシル酸ヒドロキシアルミニウムが特に好ましく、2-エチルヘキシル酸亜鉛が最も好ましい。成分Gの含有量は、彫刻感度と皮膜性の観点で、樹脂組成物の全固形分量に対し、0.01~20重量が好ましく、0.5~10重量がより好ましく、1~5重量が特に好ましい。<溶剤>本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製する際に、溶剤を用いることが好ましい。溶剤としては、有機溶剤を用いることが好ましい。非プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドが挙げられる。プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、1-メトキシ-2-プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3-プロパンジオールが挙げられる。これらの中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましく例示できる。溶剤の使用量は、特に制限はなく、必要に応じて使用量を調整すればよい。<その他の添加剤>本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物には、公知の各種添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜配合することができる。例えば、ワックス、プロセス油、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、重合禁止剤、着色剤等が挙げられ、これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。<加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を1つのみ有する化合物>また、その他の成分として、加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を1つのみ有する化合物を使用してもよい。加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を1つのみ有する化合物として、具体的には、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、ジメトキシ-3-メルカプトプロピルメチルシラン、2-2-アミノエチルチオエチルジエトキシメチルシラン、3-2-アセトキシエチルチオプロピルジメトキシメチルシラン、2-2-アミノエチルチオエチルトリエトキシシラン、ジメトキシメチル-3-3-フェノキシプロピルチオプロピルシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、トリメチルシラノール、ジフェニルシランジオール、トリフェニルシラノール、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等が例示できる。<700~1,300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤>本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、700~1,300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤以下、単に光熱変換剤ともいう。を更に含有することが好ましい。すなわち、本発明における光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することで、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。このため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版における架橋レリーフ形成層を、700~1,300nmの赤外線を発するレーザーYAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等を光源としてレーザー彫刻に用いる場合に、光熱変換剤としては、700~1,300nmに極大吸収波長を有する化合物を用いることが好ましい。本発明に用いることができる光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば染料便覧有機合成化学協会編集、昭和45年刊等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、具体的には、700nm~1,300nmに極大吸収波長を有するものが好ましく挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。本発明において好ましく用いられる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素及び特開2008-63554号公報の段落0124~0137に記載の染料を挙げることができる。本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックスC.I.便覧、最新顔料便覧日本顔料技術協会編、1977年刊、最新顔料応用技術CMC出版、1986年刊、印刷インキ技術CMC出版、1984年刊に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。レーザー彫刻用樹脂組成物の製造方法本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物の製造方法は、成分Bの分散ポリマーにより成分Cのフィラーを分散する分散工程、及び、前記分散工程で調製されたフィラーのポリマー分散物と成分Aのバインダーポリマーとを混合する混合工程を含むことを特徴とする。フィラーを成分Bにより分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。詳細は、最新顔料応用技術CMC出版、1986年刊に記載されている方法を用いることができる。フィラー分散物とバインダーポリマーとの混合は、分散物を含んだ混合容器へバインダーを混合しても逆にバインダーを含む混合容器へ分散物を混合してもよく、又は分散物及びバインダーを別々の容器から混合容器へ投入し混合されてもよい。バインダーポリマーとフィラー分散物の混合前にフィラーの分散が実施されていればよい。レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の第1の実施態様は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有する。また、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の第2の実施態様は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を架橋した架橋レリーフ形成層を有する。本発明においてレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版とは、レーザー彫刻用樹脂組成物からなる架橋性を有するレリーフ形成層が、架橋される前の状態、並びに、光及び/若しくは熱により硬化された状態の両方又はいずれか一方のものをいう。本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、熱架橋した架橋レリーフ形成層を有するものであることが好ましい。本発明においてレリーフ形成層とは、架橋される前の状態の層をいい、すなわち、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、必要に応じ、乾燥が行われていてもよい。本発明において架橋レリーフ形成層とは、前記レリーフ形成層を架橋した層をいう。前記架橋は、光及び/又は熱により行われることが好ましい。また、前記架橋は樹脂組成物が硬化される反応であれば特に限定されない。架橋レリーフ形成層を有する印刷版原版をレーザー彫刻することによりレリーフ印刷版が作製される。また、本発明においてレリーフ層とは、レリーフ印刷版におけるレーザーにより彫刻された層、すなわち、レーザー彫刻後の前記架橋レリーフ形成層をいう。本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、前記のような成分を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有する。架橋レリーフ形成層は、支持体上に設けられることが好ましい。レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、必要により更に、支持体と架橋レリーフ形成層との間に接着層を、また、架橋レリーフ形成層上にスリップコート層、保護フィルムを有していてもよい。<レリーフ形成層>レリーフ形成層は、前記本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、架橋性の層である。レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版によるレリーフ印刷版の作製態様としては、レリーフ形成層を架橋させて架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版とした後、架橋レリーフ形成層硬質のレリーフ形成層をレーザー彫刻することによりレリーフ層を形成してレリーフ印刷版を作製する態様であることが好ましい。レリーフ形成層を架橋することにより、印刷時におけるレリーフ層の摩耗を防ぐことができ、また、レーザー彫刻後にシャープな形状のレリーフ層を有するレリーフ印刷版を得ることができる。レリーフ形成層は、レリーフ形成層用の前記の如き成分を有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、シート状又はスリーブ状に成形することで形成することができる。レリーフ形成層は、通常、後述する支持体上に設けられるが、製版、印刷用の装置に備えられたシリンダーなどの部材表面に直接形成したり、そこに配置して固定化したりすることもでき、必ずしも支持体を必要としない。以下、主としてレリーフ形成層をシート状にした場合を例に挙げて説明する。<支持体>レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル例えばPETポリエチレンテレフタレート、PBTポリブチレンテレフタレート、PANポリアクリロニトリルやポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン-ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂エポキシ樹脂やフェノール樹脂などが挙げられる。支持体としては、PETフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。支持体の形態は、レリーフ形成層がシート状であるかスリーブ状であるかによって決定される。<接着層>レリーフ形成層を支持体上に形成する場合、両者の間には、層間の接着力を強化する目的で接着層を設けてもよい。接着層に用いることができる材料接着剤としては、例えば、I.Skeist編、HandbookofAdhesives、第2版1977に記載のものを用いることができる。<保護フィルム、スリップコート層>レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面への傷や凹み防止の目的で、レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面に保護フィルムを設けてもよい。保護フィルムの厚さは、25~500μmが好ましく、50~200μmがより好ましい。保護フィルムは、例えば、PETのようなポリエステル系フィルム、PEポリエチレンやPPポリプロピレンのようなポリオレフィン系フィルムを用いることができる。またフィルムの表面はマット化されていてもよい。保護フィルムは、剥離可能であることが好ましい。保護フィルムが剥離不可能な場合や、逆にレリーフ形成層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロシキアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層の形成は、特に限定されるものではないが、例えば、レーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用塗布液組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法が挙げられる。あるいは、レーザー彫刻用樹脂組成物を、支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して樹脂組成物から溶媒を除去する方法でもよい。中でも、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版の製版方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含む製造方法であることが好ましく、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、前記レリーフ形成層を熱架橋し、架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含む製造方法であることがより好ましい。その後、必要に応じてレリーフ形成層の上に保護フィルムをラミネートしてもよい。ラミネートは、加熱したカレンダーロールなどで保護フィルムとレリーフ形成層を圧着することや、表面に少量の溶媒を含浸させたレリーフ形成層に保護フィルムを密着させることによって行うことができる。保護フィルムを用いる場合には、先ず保護フィルム上にレリーフ形成層を積層し、次いで支持体をラミネートする方法を採ってもよい。接着層を設ける場合は、接着層を塗布した支持体を用いることで対応できる。スリップコート層を設ける場合は、スリップコート層を塗布した保護フィルムを用いることで対応できる。<層形成工程>本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版の製版方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程を含むことが好ましい。レリーフ形成層の形成方法としては、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用樹脂組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法や、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して溶剤を除去する方法が好ましく例示できる。レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版における架橋レリーフ形成層の厚さは、架橋の前後において、0.05mm以上10mm以下が好ましく、0.05mm以上7mm以下がより好ましく、0.05mm以上3mm以下が特に好ましい。<架橋工程>本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法は、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程を含む製造方法であることが好ましい。レリーフ形成層が光重合開始剤を含有する場合には、光重合開始剤のトリガーとなる活性光線をレリーフ形成層に照射することで、レリーフ形成層を架橋することができる。光は、レリーフ形成層全面に行うのが一般的である。光活性光線ともいう。としては可視光、紫外光、及び電子線が挙げられるが、紫外光が最も一般的である。レリーフ形成層の支持体等、レリーフ形成層を固定化するための基材側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が活性光線を透過する透明なフィルムであれば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下では重合阻害が生じる恐れがあるので、レリーフ形成層に塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、活性光線の照射を行ってもよい。レリーフ形成層が熱重合開始剤を含有する場合には上記の光重合開始剤が熱重合開始剤にもなり得る。、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を加熱することで、レリーフ形成層を架橋することができる熱により架橋する工程。加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。レリーフ形成層の架橋方法としては、レリーフ形成層を表面から内部まで均一に硬化架橋可能という観点で、熱による架橋の方が好ましい。レリーフ形成層を架橋することで、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。未架橋のレリーフ形成層をレーザー彫刻すると、レーザー照射部の周辺に伝播した余熱により、本来意図していない部分が溶融、変形しやすく、シャープなレリーフ層が得られない場合がある。また、素材の一般的な性質として、低分子なものほど固形ではなく液状になり、すなわち粘着性が強くなる傾向がある。レリーフ形成層を彫刻する際に発生する彫刻カスは、低分子の材料を多く用いるほど粘着性が強くなる傾向がある。低分子である重合性化合物は架橋することで高分子になるため、発生する彫刻カスは粘着性が少なくなる傾向がある。前記架橋工程が、光により架橋する工程である場合は、活性光線を照射する装置が比較的高価であるものの、印刷版原版が高温になることがないので、印刷版原版の原材料の制約がほとんどない。前記架橋工程が、熱により架橋する工程である場合には、特別高価な装置を必要としない利点があるが、印刷版原版が高温になるので、高温で柔軟になる熱可塑性ポリマーは加熱中に変形する可能性がある等、使用する原材料は慎重に選択する必要がある。熱架橋の際には、熱重合開始剤を加えることが好ましい。熱重合開始剤としては、遊離基重合freeradicalpolymerization用の商業的な熱重合開始剤として使用され得る。このような熱重合開始剤としては、例えば、適当な過酸化物、ヒドロペルオキシド又はアゾ基を含む化合物が挙げられる。代表的な加硫剤も架橋用に使用できる。熱架橋性heat-curableの樹脂、例えばエポキシ樹脂、を架橋成分として層に加えることにより熱架橋も実施され得る。レリーフ印刷版及びその製版方法本発明のレリーフ印刷版の製版方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、及び、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程、を含むことが好ましく、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を熱架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、及び、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程、を含むことがより好ましい。本発明のレリーフ印刷版は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層を架橋及びレーザー彫刻して得られたレリーフ層を有するレリーフ印刷版であり、本発明のレリーフ印刷版の製版方法により製版されたレリーフ印刷版であることが好ましい。本発明のレリーフ印刷版は、水性インキを印刷時に好適に使用することができる。本発明のレリーフ印刷版の製版方法における層形成工程及び架橋工程は、前記レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法における層形成工程及び架橋工程と同義であり、好ましい範囲も同様である。<彫刻工程>本発明のレリーフ印刷版の製版方法は、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程を含むことが好ましい。彫刻工程は、前記架橋工程で架橋された架橋レリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、架橋された架橋レリーフ形成層に対して、所望の画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成することが好ましい。また、所望の画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、架橋レリーフ形成層に対して走査照射する工程が好ましく挙げられる。この彫刻工程には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、架橋レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやYAGレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、架橋レリーフ形成層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を3次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度で架橋レリーフ形成層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。彫刻工程に用いられる赤外レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザーCO2レーザー又は半導体レーザーが好ましい。特に、ファイバー付き半導体赤外線レーザーFC-LDが好ましく用いられる。一般に、半導体レーザーは、CO2レーザーに比べレーザー発振が高効率且つ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。半導体レーザーとしては、波長が700~1,300nmのものが好ましく、800~1,200nmのものがより好ましく、860~1,200nmのものが更に好ましく、900~1,100nmのものが特に好ましい。また、ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、本発明における彫刻工程には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、レーザーハンドブック第2版レーザー学会編、実用レーザー技術電子通信学会等に記載されている。また、本発明のレリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製版方法に好適に用いることができるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、特開2009-172658号公報及び特開2009-214334号公報に詳細に記載され、これを本発明に係るレリーフ印刷版の製版に使用することができる。以下、本発明に使用したファイバー付き半導体レーザー記録装置10を備える製版装置11の一態様について、図1を参照して、その構成について説明する。本発明に使用し得るファイバー付き半導体レーザー記録装置10を備える製版装置11は、外周面に、本発明のレリーフ印刷版原版F記録媒体が装着されたドラム50を主走査方向に回転させると共に、レリーフ印刷版原版Fに彫刻記録すべき画像の画像データに応じた複数のレーザビームを同時に射出しつつ、所定ピッチで露光ヘッド30を主走査方向と直交する副走査方向Sに走査させることで、2次元画像をレリーフ印刷版原版Fに高速で彫刻記録する。また、狭い領域を彫刻細線や網点などの精密彫刻する場合などはレリーフ印刷版原版Fを浅彫りし、広い領域を彫刻する場合などはレリーフ印刷版原版Fを深彫りする。図1に示すように、製版装置11は、レーザビームによって彫刻され画像が記録されるレリーフ印刷版原版Fが装着され且つレリーフ印刷版原版Fが主走査方向に移動するように図1の矢印R方向に回転駆動されるドラム50と、レーザー記録装置10と、を含んで構成されている。レーザー記録装置10は、複数のレーザビームを生成する光源ユニット20と、光源ユニット20で生成された複数のレーザビームをレリーフ印刷版原版Fに露光する露光ヘッド30と、露光ヘッド30を副走査方向に沿って移動させる露光ヘッド移動部40と、を含んで構成されている。光源ユニット20には、各々光ファイバー22A,22Bの一端部が個別にカップリングされたブロードエリア半導体レーザーによって構成された半導体レーザー21A,21Bと、半導体レーザー21A,21Bが表面に配置された光源基板24A,24Bと、光源基板24A,24Bの一端部に垂直に取り付けられると共にSC型光コネクタ25A、25Bのアダプタが複数半導体レーザー21A,21Bと同数設けられたアダプタ基板23A,23Bと、光源基板24A,24Bの他端部に水平に取り付けられると共にレリーフ印刷版原版Fに彫刻記録する画像の画像データに応じて半導体レーザー21A,21Bを駆動するLDドライバー回路26が設けられたLDドライバー基板27A,27Bと、が備えられている。露光ヘッド30には、複数の半導体レーザー21A,21Bから射出された各レーザビームを取り纏めて射出するファイバーアレイ部300が備えられている。このファイバーアレイ部300には、各々アダプタ基板23A,23Bに接続されたSC型光コネクタ25A,25Bに接続された複数の光ファイバ70A,70Bによって、各半導体レーザー21A,21Bから射出されたレーザビームが伝送される。図1に示すように、露光ヘッド30には、ファイバーアレイ部300側より、コリメータレンズ32、開口部材33、及び結像レンズ34が、順番に並んで配列されている。なお、開口部材33は、ファイバーアレイ部300側から見て、開口がファーフィールドfarfieldの位置となるように配置されている。これによって、ファイバーアレイ部300における複数の光ファイバ70A、70Bの光ファイバ端部から射出された全てのレーザビームに対して同等の光量制限効果を与えることができる。コリメータレンズ32及び結像レンズ34で構成される結像手段によって、レーザビームはレリーフ印刷版原版Fの露光面表面FAの近傍に結像される。前記ファイバー付き半導体レーザーではビーム形状を変化させることが可能であるため、本発明においては、結像位置結像位置Pは、露光面FAから内部側レーザビームの進行方向側の範囲とすることで、露光面レリーフ形成層表面FAのビーム径を10μm~80μmの範囲に制御することが、効率のよい彫刻を行う、細線再現性が良好となる等の観点から望ましい。露光ヘッド移動部40には、長手方向が副走査方向に沿うように配置されたボールネジ41及び2本のレール42が備えられており、ボールネジ41を回転駆動する副走査モータを作動させることによって、露光ヘッド30が設けられた台座部をレール42に案内された状態で副走査方向に移動させることができる。また、ドラム50は主走査モータ図示せずを作動させることによって、図1の矢印R方向に回転させることができ、これによって主走査がなされる。このような装置は、本願出願人が提案した特開2009-172658号明細書に詳細に記載され、これを本発明に使用することができる。また、彫刻したい形状の制御において、ファイバー付き半導体レーザーのビーム形状を変化させず、半導体レーザーに供給するエネルギー量を変化させることで彫刻領域の形状を変化させることも可能である。具体的には、半導体レーザーの出力を変えて制御する方法、レーザー照射時間を変えて制御する方法がある。本発明のレリーフ印刷版の製版方法では、彫刻工程に次いで、更に、必要に応じて下記リンス工程、乾燥工程、及び/又は、後架橋工程を含んでもよい。リンス工程:彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンス洗浄する工程。乾燥工程:彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。後架橋工程:彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。前記工程を経た後、彫刻表面に彫刻カスが付着しているため、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻されたレリーフ形成層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。更に、必要に応じてレリーフ形成層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。本発明に用いることができるリンス液のpHは、9以上であることが好ましく、10以上であることがより好ましく、11以上であることが更に好ましい。また、リンス液のpHは14以下であることが好ましく、13.5以下であることがより好ましく、13.2以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、取り扱いが容易である。リンス液を上記のpH範囲とするために、適宜、酸及び/又は塩基を用いてpHを調整すればよく、使用する酸及び塩基は特に限定されない。本発明に用いることができるリンス液は、主成分として水を含有することが好ましい。また、リンス液は、水以外の溶媒として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶媒を含有していてもよい。リンス液は、界面活性剤を含有することが好ましい。本発明に用いることができる界面活性剤としては、彫刻カスの除去性、及び、レリーフ印刷版への影響を少なくする観点から、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物等のベタイン化合物両性界面活性剤が好ましく挙げられる。また、界面活性剤としては、公知のアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤等も挙げられる。更に、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、リンス液の全重量に対し、0.01~20重量であることが好ましく、0.05~10重量であることがより好ましい。以上のようにして、支持体等の任意の基材表面にレリーフ層を有するレリーフ印刷版が得られる。レリーフ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々の印刷適性を満たす観点からは、0.05mm以上10mm以下が好ましく、より好ましくは0.05mm以上7mm以下、特に好ましくは0.05mm以上3mm以下である。また、レリーフ印刷版が有するレリーフ層のショアA硬度は、50°以上90°以下であることが好ましい。レリーフ層のショアA硬度が50°以上であると、彫刻により形成された微細な網点が凸版印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアA硬度が90°以下であると、印圧がキスタッチのフレキソ印刷でもベタ部での印刷かすれを防止することができる。なお、本明細書におけるショアA硬度は、25°Cにおいて、測定対象の表面に圧子押針又はインデンタと呼ばれる。を押し込み変形させ、その変形量押込み深さを測定して、数値化するデュロメータスプリング式ゴム硬度計により測定した値である。本発明のレリーフ印刷版は、フレキソ印刷機による水性インキでの印刷に特に好適であるが、凸版用印刷機による水性インキ、油性インキ及びUVインキ、いずれのインキを用いた場合でも、印刷が可能であり、また、フレキソ印刷機によるUVインキでの印刷も可能である。以下、本発明を実施例により詳細に説明する。なお、特に断りのない限り、部は重量部を、は重量を意味する。以下に、実施例及び比較例に用いた化合物を示す。ポリビニルブチラールデンカブチラール3000-2、重量平均分子量:90,000、電気化学工業株製ポリビニルブチラールエスレックBM-S、重量平均分子量:53,000、積水化学工業製ポリビニルブチラールエスレックBL-S、重量平均分子量:23,000、積水化学工業製ポリビニルブチラールエスレックBL-1、重量平均分子量:19000、積水化学工業製ポリビニルブチラールエスレックBL-1H、重量平均分子量:20,000、積水化学工業製ポリビニルブチラールエスレックBL-10、重量平均分子量:15,000、積水化学工業製ポリビニルブチラールモビタールB60H、重量平均分子量:90,000、株クラレ製ケッチェンブラックEC600JDライオン株製カーボンブラック、平均一次粒径34.0nmR7200日本アエロジル株製シリカ粒子、平均粒径12nm200CF日本アエロジル株製シリカ粒子、平均粒径12nmモノマー1下記に示す二官能アクリレート化合物パーブチルZt-ブチルパーオキシベンゾエート、日油株製イルガキュア184α-ヒドロキシケトン、チバスペシャルティケミカルズ製リン酸クレジルジフェニル可塑剤、東京化成工業株製2-エチルヘキシル酸亜鉛ホープ製薬株製<成分Bによるフィラーの分散方法>フィラーの分散ポリマーへの分散方法は、以下の方法で調製した。下記処方を、モーターミルM-200アイガー社製により、直径1.0mmのジルコニアビーズを用いて周速9m/sで5時間分散し、フィラー分散液を得た。表1に示したフィラー15部乾燥重量表1に示した分散ポリマー10部プロピレングリコールモノメチルアセテート75部<実施例1熱架橋したレリーフ形成層をもつレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の作製>主たるバインダーとしてポリビニルブチラールエスレックBM-S40部、カーボンブラックケッチェンブラックEC600JD以下CBとも言う。分散溶液を10部フィラー及び分散ポリマーの合計量、リン酸クレジルジフェニル25部、2-エチルヘキシル酸亜鉛3部、溶剤としてプロピルグリコールモノエチルエーテルアセテートPGMEA100部を、撹拌羽根及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に入れ、撹拌しながら70°Cで120分間加熱し溶解した。その後、更にモノマー1を20部添加して30分間撹拌した。その後、パーブチルZを2部添加し、70°Cで10分間撹拌した。この操作により、流動性のあるレーザー彫刻用樹脂組成物を得た。PET基板上に所定厚のスペーサー枠を設置し、レーザー彫刻用樹脂組成物をスペーサー枠から流出しない程度に静かに流延し、100°Cのオーブン中で3時間乾燥及び熱架橋させて、厚さがおよそ1mmのレリーフ形成層を設け、実施例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。<実施例2~8の作製>成分Aのバインダーポリマー、成分Bのフィラー分散ポリマー、成分Cのフィラーを表1に記載の種類、に変更した以外は、実施例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版と同様にして、実施例2~8のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版をそれぞれ作製した。<実施例9光架橋したレリーフ形成層をもつレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の作製>バインダーポリマーとしてポリビニルブチラールエスレックBM-S40部、アエロジル200CF分散溶液を10部フィラー及び分散ポリマーの合計量、リン酸クレジルジフェニル25部、2-エチルヘキシル酸亜鉛3部、溶剤としてプロピルグリコールモノエチルエーテルアセテートPGMEA100部を、撹拌羽根及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に入れ、撹拌しながら70°Cで120分間加熱し溶解した。その後、更にモノマー1を20部添加して30分間撹拌した。その後、イルガキュア184を2部添加し、70°Cで10分間撹拌した。この操作により、流動性のあるレーザー彫刻用樹脂組成物を得た。PET基板上に所定厚のスペーサー枠を設置し、レーザー彫刻用樹脂組成物をスペーサー枠から流出しない程度に静かに流延し、80°Cのオーブン中で3時間乾燥させて、風乾させた後に、ウシオ株製のメタルハライドランプを使用した露光機を用いて、版面上での露光量が2,000mJ/cm2になるように曝光し、実施例9のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。<比較例1レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の作製>成分Bのフィラー分散ポリマーを添加せず、成分CのフィラーとしてCBを6.6部添加した以外は、実施例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版と同様にして、比較例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。<比較例2の作製>成分Aのバインダーポリマー、成分Bのフィラー分散ポリマー、成分Cのフィラーを表1に記載の種類に変更した以外は、実施例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版と同様にして、比較例2のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。<比較例3の作製>成分Aのバインダーポリマーとして表1に示す2種類のバインダーをそれぞれ実施例1のバインダーの半分の量を添加し、成分Bの分散ポリマーを無くし、成分Cのフィラーを表1に記載の種類に変更した以外は、実施例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版と同様にして、比較例3のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。<レーザー彫刻用レリーフ印刷版の作製>半導体レーザー彫刻機として、実施例1~8、比較例1~3では、最大出力8.0Wのファイバー付き半導体レーザーFC-LDSDL-6390JDSU社製、波長:915nmを装備した、前述の図1に示すレーザー記録装置下記表1中にFC-LDと記載を用いた。半導体レーザー彫刻機でレーザー出力:6W、ヘッド速度:100mm/秒、ピッチ設定:2,400DPIの条件で彫刻した。レーザー彫刻機として、実施例9では、ADFLEX株コムテックス製、波長:10,600nm、下記表1中にCO2と記載を用いた。得られた各レーザー彫刻用印刷版原版に対し、前記レーザー彫刻機で、出力:12W、ヘッド速度:200mm/秒、ピッチ設定:2,400DPIの条件で、網点パターン2×2ドット、高さ300μmを彫刻し、各レリーフ印刷版をそれぞれ得た。<彫刻カス洗浄性の評価>前記方法にて彫刻した各レリーフ印刷版上に、0.01規定のKOH水溶液和光純薬工業株製を版表面が均一に濡れる様にスポイトで滴下約100ml/m2し、1分静置後、ハブラシライオン株クリニカハブラシフラットを用い、荷重200gfで版と並行に20回トータルで30秒間こすった。その後、流水にて版面を洗浄、版面の水分を除去し、1時間ほど自然乾燥した。自然乾燥して得られた版の表面を倍率100倍のマイクロスコープキーエンス株製で観察し、版上の取れ残った彫刻カスの程度を評価した。評価基準は、以下の通りである。◎:全く版上に彫刻カスが残っていない。○:版上の画像底部凹部に僅かに彫刻カスが残っている。△:版上の画像凸部と画像底部凹部とに彫刻カスが残っている。×:版全面に彫刻カスが付着している。なお、◎、○及び△が、実用上問題のない範囲である。<膜強度の評価>得られたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版厚さ1mmをJISK62513号に規定されるダンベルを用いて打ち抜き、バネばかりmax1,000gを打ち抜いたレリーフ形成層の片側先端に引っ掛け、もう一方の片側先端を手で引っ張り、破断した時のバネばかりの荷重の値を次式に挿入して求めた。シート強度[N/cm]=破断時の荷重[kg]×9.8[m/s2]/0.5[cm]評価基準は、以下の通りである。○:4N/cm以上△:2N/cm以上4N/cm未満×:2N/cm未満なお、○及び△が、実用上問題のない範囲である。<高繊細の評価:彫刻細線幅の測定>本評価では、2μm以上の彫刻深さが得られる際の最小の細線幅を測定した。この細線幅が小さいほど、彫刻感度と細線の形成性とに優れ、高精細な画像が得られることと評価した。30μm以下であれば実用上問題がない。なお、彫刻深さとは、フレキソ印刷版を断面でみた場合の、彫刻された位置高さと彫刻されていない位置高さとの距離であり、SEM透過型電子顕微鏡による観察にて測定することができる。表1の結果から、本発明によれば、彫刻カスの除去性、膜強度に優れ、高繊細な画像が得られるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたレリーフ印刷版原版及びレリーフ印刷版を提供できることがわかる。"