"第1の導電膜を有する第1の基板と、第2の導電膜を有する第2の基板との間に、エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、電解質層と、ハロゲン化フタロシアニンを含有する対極材料層とがこの順に積層されており、前記第1の導電膜と前記エレクトロクロミック層とが接するように積層されており、かつ、前記第2の導電膜と前記対極材料層とが接するように積層されていることを特徴とするエレクトロクロミック調光素子。ハロゲン化フタロシアニンは、中心金属として銅を含有することを特徴とする請求項1記載のエレクトロクロミック調光素子。ハロゲン化フタロシアニンは、フッ素化フタロシアニン、塩素化フタロシアニン又は臭素化フタロシアニンであることを特徴とする請求項1又は2記載のエレクトロクロミック調光素子。対極材料層は、電解質層に対して部分的に形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載のエレクトロクロミック調光素子。電解質層の面積に対する対極材料層の面積が10以上であることを特徴とする請求項4記載のエレクトロクロミック調光素子。対極材料層は、網目状、線状又は斑点状に形成されていることを特徴とする請求項4又は5記載のエレクトロクロミック調光素子。エレクトロクロミック化合物は、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物であることを特徴とする請求項1又は2記載のエレクトロクロミック調光素子。電解質層は、高分子化合物を含有することを特徴とする請求項1又は2記載のエレクトロクロミック調光素子。高分子化合物は、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項8記載のエレクトロクロミック調光素子。エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、電解質層と、ハロゲン化フタロシアニンを含有する対極材料層とがこの順に積層されていることを特徴とする調光シート。ハロゲン化フタロシアニンは、中心金属として銅を含有することを特徴とする請求項10記載の調光シート。ハロゲン化フタロシアニンは、フッ素化フタロシアニン、塩素化フタロシアニン又は臭素化フタロシアニンであることを特徴とする請求項10又は11記載の調光シート。電解質層は、高分子化合物を含有することを特徴とする請求項10又は11記載の調光シート。高分子化合物は、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項13記載の調光シート。請求項10又は11記載の調光シートを用いることを特徴とする合わせガラス用中間膜。請求項15記載の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている、一対のガラス板の間に挟み込まれていることを特徴とする合わせガラス。本発明は、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短く、耐光性に優れるエレクトロクロミック調光素子を提供することを目的とする。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短く、耐光性に優れる調光シートを提供することを目的とする。更に、該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供することを目的とする。本発明は、第1の導電膜を有する第1の基板と、第2の導電膜を有する第2の基板との間に、エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、電解質層と、ハロゲン化フタロシアニンを含有する対極材料層とがこの順に積層されており、前記第1の導電膜と前記エレクトロクロミック層とが接するように積層されており、かつ、前記第2の導電膜と前記対極材料層とが接するように積層されているエレクトロクロミック調光素子である。以下に本発明を詳述する。本発明者らは、エレクトロクロミック層と電解質層との積層体において、電解質層の一方の面にエレクトロクロミック層を積層し、他方の面に対極材料層を積層することにより、著しく応答性が高く、電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短いエレクトロクロミック調光素子が得られることを見出した。これは、電解質層の一方の面に形成されたエレクトロクロミック層と他方の面に形成された対極材料層との酸化還元反応が対になるため、光の透過率の変化に必要な酸化還元電位を低下させることができるためであると考えられる。しかしながら、従来の対極材料層は紫外線が照射されることにより、応答性が低下してしまうという問題があった。そこで、対極材料層として、ハロゲン化フタロシアニンを含有する対極材料層を用いることにより、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短く、耐光性に優れるエレクトロクロミック調光素子が得られることを見出した。本発明のエレクトロクロミック調光素子は、第1の導電膜を有する第1の基板と、第2の導電膜を有する第2の基板との間に、エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、電解質層と、ハロゲン化フタロシアニンを含有する対極材料層とがこの順に積層されており、前記第1の導電膜と前記エレクトロクロミック層とが接するように積層されており、かつ、前記第2の導電膜と前記対極材料層とが接するように積層されている。上記エレクトロクロミック層はエレクトロクロミック化合物を含有する。なお、エレクトロクロミック化合物とは、電圧を印加することにより光の透過率が変化する性質を有する。上記エレクトロクロミック化合物として、例えば、ポリピロール化合物、ポリチオフェン化合物、ポリパラフェニレンビニレン化合物、ポリアニリン化合物、ポリアセチレン化合物、ポリエチレンジオキシチオフェン化合物等が挙げられる。なかでも、ポリアセチレン化合物が好ましく、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物がより好ましい。上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、エレクトロクロミック性と導電性とを有し、かつ、エレクトロクロミック層の形成が容易である。従って、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物を用いれば、優れた調光性能を有するエレクトロクロミック層を容易に形成できる。また、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、構造が変化することにより、吸収特性の変化を示す。その結果、吸収スペクトルが近赤外線の波長領域に及ぶため、エレクトロクロミック層は広い波長領域について優れた調光性能を有する。上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は特に限定されないが、例えば、一置換又は二置換の芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物等が好適である。上記芳香族側鎖を構成する置換基は特に限定されないが、例えば、フェニル、p-フルオロフェニル、p-クロロフェニル、p-ブロモフェニル、p-ヨードフェニル、p-ヘキシルフェニル、p-オクチルフェニル、p-シアノフェニル、p-アセトキシフェニル、p-アセトフェニル、ビフェニル、o-ジメチルフェニルシリルフェニル、p-ジメチルフェニルシリルフェニル、o-ジフェニルメチルシリルフェニル、p-ジフェニルメチルシリルフェニル、o-トリフェニルシリルフェニル、p-トリフェニルシリルフェニル、o-トリルジメチルシリルフェニル、p-トリルジメチルシリルフェニル、o-ベンジルジメチルシリルフェニル、p-ベンジルジメチルシリルフェニル、o-フェネチルジメチルシリルフェニル、p-フェネチルジメチルシリルフェニル等のフェニル基、ビフェニル基や、1-ナフチル、2-ナフチル、1-4-フルオロナフチル、1-4-クロロナフチル、1-4-ブロモナフチル、1-4-ヘキシルナフチル、1-4-オクチルナフチル等のナフチル基や、ナフタレン基や、1-アントラセン、1-4-クロロアントラセン、1-4-オクチルアントラセン等のアントラセン基や、1-フェナントレン等のフェナントレン基や、1-フルオレン等のフルオレン基や、1-ペリレン等のペリレン基等が挙げられる。上記エレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は0.05μm、好ましい上限は2μmである。上記エレクトロクロミック層の厚さが0.05μm未満であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加しても充分に光の透過率が変化しないことがあり、2μmを超えると、エレクトロクロミック調光素子の透明性が低下することがある。上記エレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は0.1μm、より好ましい上限は1μmである。上記エレクトロクロミック層を形成する方法として、上記エレクトロクロミック化合物を有機溶剤に溶解させた溶液を調整し、得られた溶液を上記電解質層の一方の面や、上記第1の導電膜上に塗布し、有機溶剤を揮発させる方法等が挙げられる。上記電解質層は高分子化合物を含有することが好ましい。上記電解質層は、イオンを伝導することにより上記エレクトロクロミック層に電圧を印加し、エレクトロクロミック層の光の透過率を変化させる役割を有する。上記高分子化合物は特に限定されず、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン-六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。透明性が高い電解質層が得られることから、ポリビニルアルコールをアセタール化して得られたポリビニルアセタール樹脂が更に好適である。特に、上記ポリビニルアセタール樹脂はポリビニルブチラール樹脂であることが好適である。上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が30mol以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル基量が30molを超えると、電解質層が白化することがある。上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル基量の好ましい下限は0.5mol、より好ましい下限は3mol、より好ましい上限は25molである。上記ポリビニルアセタール樹脂は水酸基量が30mol以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が30molを超えると、上記溶媒との相溶性が低下し、電解質層の透明性が低下することがある。電圧を印加してから、エレクトロクロミック調光素子の光透過率の変化が完了するまでの時間が一層短くなることから、上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量は25mol以下であることがより好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量の好ましい下限は5mol、より好ましい下限は10mol、より好ましい上限は20molである。なお、上記アセチル基量及び上記水酸基量はJISK6728に準拠して、滴定法により求めることができる。上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数4又は5のアルデヒドであることが好ましい。上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は500、好ましい上限は5000である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が500未満であると、上記電解質層の形状を維持できないことがある。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が5000を超えると、イオン伝導性が低くなって、電圧を印加してもエレクトロクロミック層の光の透過率が変化しないことがある。上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、GPC法ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算により求めた上記ポリビニルアルコールの重量平均分子量をポリビニルアルコール1セグメント当りの分子量で除して求められる。GPC法によってポリスチレン換算による重量平均分子量を測定する際のカラムとしては、例えば、ShodexLF-804昭和電工社製等が挙げられる。上記電解質層は、更に、支持電解質塩及び溶媒を含有することが好ましい。例えば、上記電解質層は、上記高分子化合物、支持電解質塩及び溶媒を含有する樹脂組成物を用いて形成されることが好ましい。上記支持電解質塩は特に限定されず、過塩素酸リチウム、ホウフッ化リチウム、リンフッ化リチウム等の無機酸アニオンリチウム塩や、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドリチウム等の有機酸アニオンリチウム塩が挙げられる。上記支持電解質塩は、アンモニウムカチオンと、アニオンとの塩であってもよい。上記アンモニウムカチオンは特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウム、メチルプロピルピロリジニウム、メチルブチルピロリジニウム、メチルプロピルピペリジニウム、メチルブチルピペリジニウム等のアルキルアンモニウムカチオンや、エチルメチルイミダゾリウム、ジメチルエチルイミダゾリウム、メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、プロピルピリジニウム、ブチルピリジニウム等が挙げられる。上記アニオンは特に限定されず、過塩素酸アニオン、ホウフッ化アニオン、リンフッ化アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドアニオン等が挙げられる。上記電解質層中における上記支持電解質塩の配合量は特に限定されないが、上記高分子化合物100重量部に対する好ましい下限は3重量部、好ましい上限は60重量部である。上記支持電解質塩の配合量が3重量部未満であると、イオン伝導性が低くなって、電圧を印加してもエレクトロクロミック層の光の透過率が変化しないことがある。上記支持電解質塩の配合量が60重量部を超えると、エレクトロクロミック層の応答性が低くなることがある。上記支持電解質塩の配合量のより好ましい下限は10重量部、より好ましい上限は50重量部である。上記溶媒は特に限定されず、例えば、アセトニトリル、ニトロメタン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、γ-ブチロラクトン等のエステル化合物や、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン等の置換テトラヒドロフラン化合物や、1,3-ジオキソラン、4,4-ジメチル-1,3-ジオキソラン、t-ブチルエーテル、イソブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、1,2-エトキシメトキシエタン等のエーテル化合物や、エチレングリコール、ポリエチレングリコールスルホラン、3-メチルスルホラン、蟻酸メチル、酢酸メチル、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。また、上記溶媒として、トリエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート、トリエチレングリコールジ-2-エチルブチレート、テトラエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート、トリエチレングリコールジブチラート等のジエステル化合物を使用してもよい。なかでも、上記溶媒として、トリエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート又はトリエチレングリコールジブチラートを使用することが好ましい。上記電解質層中における溶媒の配合量は特に限定されないが、上記高分子化合物100重量部に対する好ましい下限は30重量部、好ましい上限は150重量部である。上記溶媒の配合量が30重量部未満であると、イオン伝導性が低くなって、電圧を印加してもエレクトロクロミック層の光の透過率が変化しないことがある。上記溶媒の配合量が150重量部を超えると、電解質層が形状を維持できないことがある。上記溶媒の配合量のより好ましい下限は50重量部、より好ましい上限は100重量部である。上記電解質層は熱線吸収剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、赤外線を遮蔽する性能を有すれば特に限定されないが、錫ドープ酸化インジウム粒子、アンチモンドープ酸化錫粒子、亜鉛以外の元素がドープされた酸化亜鉛粒子、六ホウ化ランタン粒子、アンチモン酸亜鉛粒子、及び、フタロシアニン構造を有する赤外線吸収剤からなる群より選択される少なくとも1種が好適である。上記電解質層は接着力調整剤を含有してもよい。上記接着力調整剤は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等が挙げられる。なかでも、炭素数2~16のカルボン酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩が好適であり、具体的には例えば、酢酸マグネシウム、酢酸カリウム、プロピオン酸マグネシウム、プロピオン酸カリウム、2-エチルブタン酸マグネシウム、2-エチルブタン酸カリウム、2-エチルヘキサン酸マグネシウム、2-エチルヘキサン酸カリウム等が挙げられる。これらの接着力調整剤は単独で用いられてもよく、併用されてもよい。電解質層に高分子化合物としてポリビニルアセタール樹脂を含有する場合、電解質層は接着力調整剤を含有することが好ましい。上記電解質層は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。上記電解質層が多層構造であるとは、上記電解質層が2層以上積層された構造であることを意味する。上記電解質層が多層構造である場合、上記電解質層は、上記支持電解質塩と、上記高分子化合物としてポリビニルアセタール樹脂と、上記溶媒としてトリエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート3GO、トリエチレングリコールジ-2-エチルブチレート3GH、テトラエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート4GO、ジヘキシルアジペートDHA、トリエチレングリコールジブチラート等の液状可塑剤とを含有することが好ましい。例えば、上記液状可塑剤の含有量の異なる電解質層を積層したり、上記高分子化合物として水酸基量の異なるポリビニルアセタール樹脂を含有する電解質層を積層したりすることにより、得られる合わせガラスの遮音性等を向上させることができる。上記電解質層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は0.1mm、好ましい上限は3.0mmである。上記電解質層の厚さが0.1mm未満であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加しても光の透過率が変化しないことがあり、3.0mmを超えると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加した場合、光の透過率の変化速度が低下することがある。上記電解質層の厚さのより好ましい下限は0.3mm、より好ましい上限は1.0mmである。上記電解質層を形成する方法は特に限定されず、例えば、上記溶媒に上記支持電解質塩を溶解した溶液を調製し、得られた溶液を上記高分子化合物と混合した混合物を熱プレス等の方法により電解質層を形成する方法や、該混合物を押出機により押出成形し電解質層を形成する方法等が挙げられる。上記対極材料層はハロゲン化フタロシアニンを含有する。上記対極材料層を有することにより、著しく応答性が高く、電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短いエレクトロクロミック調光素子が得られる。更に、上記ハロゲン化フタロシアニンを含有する対極材料層を有することにより、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短いだけでなく、耐光性に優れるエレクトロクロミック調光素子が得られる。上記ハロゲン化フタロシアニンは特に限定されないが、中心金属として金属原子を含有することが好ましい。上記ハロゲン化フタロシアニンが中心金属として金属原子を含有することにより、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短く、耐光性に優れるエレクトロクロミック調光素子が得られる。上記金属原子は、例えば、銅、コバルト、ニッケル、鉄、ベリリウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、白金、パラジウム、鉛、ビスマス、ケイ素等や、酸素や塩素等の軸配位子を持つバナジウムやチタン等が挙げられる。なかでも、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短く、より耐光性に優れるエレクトロクロミック調光素子が得られることから、銅を中心金属とすることが好ましい。上記ハロゲン化フタロシアニンは、フッ素化フタロシアニン、塩素化フタロシアニン又は臭素化フタロシアニンであることが好ましく、銅を含有するフッ素化フタロシアニン、銅を含有する塩素化フタロシアニン又は銅を含有する臭素化フタロシアニンであることがより好ましい。上記対極材料層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記電解質層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記電解質層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。上記対極材料層は上記高分子化合物を含有してもよい。上記高分子化合物は上記電解質層に含まれる高分子化合物と同様の高分子化合物を用いることができる。上記対極材料層は、上記電解質層の全面に対応するように形成されてもよいが、部分的に形成されても充分に本発明の効果を発揮することができる。上記対極材料層が上記電解質層の全面に対応するように形成されている場合、上記対極材料層と上記電解質層との間の接着力が低く、後述する合わせガラスを製造したときに高い耐貫通性を発揮できなかったり、使用中にガラス板と調光シートとが剥離してしまったりする危険性がある。上記対極材料層を、上記電解質層に対して部分的に形成することにより、上記電解質層が直接第2の導電膜と接することができるようになり、接着力が向上する。上記部分的に形成された対極材料層の形状は特に限定されず、網目状、線状又は斑点状等が挙げられる。上記対極材料層を部分的に形成する場合、上記電解質層の面積に対する上記対極材料層の面積の下限は10である。上記対極材料層の面積が10未満であると、エレクトロクロミック調光素子の電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間を短くする効果が得られないことがある。電解質層の面積に対する対極材料層の面積Xは、以下の式で表される。X=Amm2/10mm2×100対極材料層を形成した後の電解質層を光学顕微鏡で観察し、対極材料層が形成された任意の10箇所1mm2/1箇所における、対極材料層の存在する合計面積Amm2を測定し、対極材料層の面積Xを算出する。なお本発明のエレクトロクロミック調光素子を、ITOガラス上に上記対極材料層を部分的に形成した後、別に調製した電解質層を積層する方法により製造する場合には、上記式において、対極材料層を形成した後のITOガラスを光学顕微鏡で観察して、対極材料層の面積Xを算出してもよい。上記対極材料層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は0.05μm、好ましい上限は2μmである。上記対極材料層の厚さが0.05μm未満であると、上記対極材料層に電圧を印加しても充分に光の透過率が変化しないことがあり、2μmを超えると、エレクトロクロミック調光素子の透明性が低下することがある。上記対極材料層の厚さのより好ましい下限は0.1μm、より好ましい上限は1μmである。上記対極材料層を形成する方法として、上記ハロゲン化フタロシアニンを水や有機溶剤に分散させた分散液を調製し、得られた溶液を上記電解質層又は上記第2の導電膜上に塗布する方法等が挙げられる。上記ハロゲン化フタロシアニンを水や有機溶剤に分散させる方法は特に限定されないが、例えば、サンドミル、ビーズミル、ミキサー、超音波による分散等公知の方法で上記ハロゲン化フタロシアニンを粒子化して分散液を調製する方法等が挙げられる。また、共押出法により、上記エレクトロクロミック層と、上記電解質層と、上記対極材料層とが積層された調光シートを製造してもよい。なお、エレクトロクロミック層と電解質層とが積層されている調光フィルムと、基板の導電膜上に形成された対極材料層とを、電解質層と対極材料層とが接するように、積層してもよい。本発明のエレクトロクロミック調光素子は、第1の導電膜を有する第1の基板と、第2の導電膜を有する第2の基板との間に、エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、電解質層と、ハロゲン化フタロシアニンを含有する対極材料層とがこの順に積層されている。本発明のエレクトロクロミック調光素子は、第1の導電膜を有する第1の基板と、第2の導電膜を有する第2の基板とを有する。更に、上記第1の導電膜と上記エレクトロクロミック層とが接するように積層されており、かつ、上記第2の導電膜と上記対極材料層とが接するように積層されている。上記第1の基板と第2の基板は、少なくとも一方の面に上記第1の導電膜及び第2の導電膜が形成されていればよい。上記基板は透明板であることが好ましく、例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。上記基板として、2種類以上のガラス板を用いてもよい。上記第1の導電膜及び第2の導電膜は、スズドープ酸化インジウムITO又はフッ素ドープ酸化スズFTO等を含む透明導電膜であることが好ましい。また、エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、電解質層と、ハロゲン化フタロシアニンを含有する対極材料層とがこの順に積層されている調光シートもまた、本発明の1つである。本発明の調光シートは、表面にエンボスが形成されていることが好ましい。上記エンボスの粗さは特に限定されないが、JISB0601で定義される十点平均粗さの好ましい下限が20μm、好ましい上限が50μmである。本発明の調光シートは、合わせガラス用中間膜として使用することができる。上記合わせガラス用中間膜もまた、本発明の1つである。本発明の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている、一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている合わせガラスもまた、本発明の1つである。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板とで、本発明の合わせガラス用中間膜を挟持した合わせガラスが挙げられる。また、上記透明板として、2種以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。上記ガラス板は、少なくとも一方の面に導電膜が形成されている。本発明の合わせガラスにおいて本発明の合わせガラス用中間膜は、上記ガラス板の導電膜が形成された面に接するように2枚のガラス板の間に挟持される。上記導電膜は、スズドープ酸化インジウムITO、フッ素ドープ酸化スズFTO等を含む透明導電膜が好ましい。本発明の合わせガラスの面密度は特に限定されないが、12kg/m2以下であることが好ましい。本発明の合わせガラスは、自動車用ガラスとして使用する場合は、サイドガラス、リアガラス、ルーフガラスとして用いることができる。本発明によれば、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短く、耐光性に優れるエレクトロクロミック調光素子を提供することができる。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短く、耐光性に優れる調光シートを提供することができる。更に、該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供することができる。以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。実施例11エレクトロクロミック化合物の調整窒素雰囲気下で-50°Cで9-エチニルフェナントレン3gを溶解させたテトラヒドロフラン溶液30mLにn-ブチルリチウムの1.6mol/Lヘキサン溶液を添加した。次いで、-90°Cに冷却後、カリウム-t-ブトキシド1.8gを溶解させたテトラヒドロフラン溶液15mLを添加し、-80°Cで1時間撹拌し、5°Cまで昇温した。次いで、-70°Cで1-ヨードオクタデカン5.6gを滴下し、-30°Cで12時間撹拌した。0°Cで水100mLを滴下し、ヘキサンを加え、生成した化合物を抽出した。このヘキサン層を蒸留水300mLで3回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで1時間乾燥させ、濾過後、溶媒を留去した。カラム精製後溶媒を留去し、ヘキサンを展開溶媒としてカラム精製することにより3.5gの9-エチニル-10-n-オクタデシルフェナントレンを得た。得られた9-エチニル-10-n-オクタデシルフェナントレンについて1H-NMR270MHz、CDCl3により分析を行ったところ、δ8.72H、8.51H、8.11H、7.74H、3.71H、3.52H、1.72H、1.630H、1.03Hのピークが認められた。得られた9-エチニル-10-n-オクタデシルフェナントレン0.35gをWCl6触媒を用いて重合させ、ポリ9-エチニル-10-n-オクタデシルフェナントレン0.27gを得た。2高分子化合物を含有する電解質層の作製トリエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート21g中に、支持電解質塩として1-エチル-3-メチルイミダゾリウム-TFSIを8.5g添加して電解液溶媒を調整した。ポリビニルブチラール樹脂平均重合度2300、アセチル基量13mol、水酸基量22mol30gに対して上記で得られた電解液溶媒29.5gを添加し、熱プレスで150°C、100kg/cm2の条件で10分間加圧して厚さ800μmの電解質層を得た。3エレクトロクロミック層の作製ポリ9-エチニル-10-n-オクタデシルフェナントレン200mgをトルエン5gに溶解し、塗布用溶液を得た。ITOガラス表面抵抗10Ω/□、縦5cm×横5cmの透明導電膜上に、塗布用溶液0.5mLを、スピンコーター800rpm、20秒を用いて塗布して、透明導電膜と接するように積層されたエレクトロクロミック層を得た。4対極材料層の作製塩素化フタロシアニン銅大日精化社製PG-7100mgをエタノール10g中に添加した溶液に直径3mmのステンレス球80gを加え、ペイントシェーカーセイワ技研社製にて1時間震盪することで塩素化フタロシアニン銅の塗布用分散液を得た。ITOガラス表面抵抗10Ω/□、縦5cm×横5cm上に、塗布用分散液0.5mLを、スピンコーター800rpm、20秒を用いて塗布して、透明導電膜と接するように積層された対極材料層を得た。5耐光性評価用サンプルの作製ITOガラス表面抵抗10Ω/□、縦5cm×横5cmと、対極材料層が形成されたITOガラス表面抵抗10Ω/□、縦5cm×横5cmとの間に、ITOガラスの透明導電膜と、対極材料層が形成されたITOガラスの対極材料層とが電解質層縦4.5cm×横5cmと接するように、ITOガラスと電解質層と、対極材料層が形成されたITOガラスとをこの順に積層し、積層体とした。得られた積層体を、90°Cの真空ラミネータで圧着した後、140°C、14MPaの条件下でオートクレーブを行い、耐光性評価用サンプルを得た。6応答性評価用サンプルの作製エレクトロクロミック層が形成されたITOガラス表面抵抗10Ω/□、縦5cm×横5cmと、対極材料層が形成されたITOガラス表面抵抗10Ω/□、縦5cm×横5cmとの間に、エレクトロクロミック層が形成されたITOガラスのエレクトロクロミック層と、対極材料層が形成されたITOガラスの対極材料層とが電解質層縦4.5cm×横5cmと接するように、エレクトロクロミック層が形成されたITOガラスと電解質層と、対極材料層が形成されたITOガラスとをこの順に積層し、積層体とした。得られた積層体を、90°Cの真空ラミネータで圧着した後、140°C、14MPaの条件下でオートクレーブを行い、応答性評価用サンプルを得た。実施例24対極材料層の作製において、塩素化フタロシアニン銅大日精化社製PG-7を臭素化フタロシアニン銅大日精化社製PG-36に変更した以外は実施例1と同様に、耐光性評価用サンプル及び応答性評価用サンプルを得た。実施例3電解質層の調製において、トリエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノエート3GOに代えて、トリエチレングリコールジブチラートを用いた以外は実施例1と同様にして耐光性評価用サンプル及び応答性評価用サンプルを得た。実施例4電解質層の調製において、平均重合度2300、アセチル基量13mol、水酸基量22molのポリビニルブチラール樹脂に代えて、平均重合度2300、アセチル基量18mol、水酸基量15molのポリビニルブチラール樹脂を用いた以外は実施例1と同様にして耐光性評価用サンプル及び応答性評価用サンプルを得た。実施例5電解質層の調製において、平均重合度2300、アセチル基量13mol、水酸基量22molのポリビニルブチラール樹脂に代えて、平均重合度2300、アセチル基量6mol、水酸基量18molのポリビニルブチラール樹脂を用いた以外は実施例1と同様にして耐光性評価用サンプル及び応答性評価用サンプルを得た。実施例6~8対極材料層の作製において、ITOガラス表面抵抗10Ω/□、縦5cm×横5cm上に、塩素化フタロシアニン銅の塗布用分散液を、スクリーン印刷法を用いて、ITOガラスの面積に対する対極材料層の面積が10実施例6、60実施例7及び95実施例8となるように網目状に印刷して、透明導電膜と接するように積層された対極材料層を得た。これ以外は、実施例1と同様にして耐光性評価用サンプル及び応答性評価用サンプルを得た。比較例1対極材料層が形成されたITOガラスを、対極材料層が形成されていないITOガラスに変更した以外は実施例1と同様にして応答性評価用サンプルを得た。なお、エレクトロクロミック層が形成されたITOガラスのエレクトロクロミック層と、ITOガラスの透明導電膜とが電解質層に接するように応答性評価用サンプルを作製した。比較例24対極材料層の作製において、塩素化フタロシアニン銅大日精化社製PG-7をプルシアンブルーに変更した以外は実施例1と同様にして耐光性評価用サンプル及び応答性評価用サンプルを得た。比較例3対極材料層の作製において、塩素化フタロシアニン銅大日精化社製PG-7を無置換フタロシアニン銅に変更した以外は実施例1と同様にして耐光性評価用サンプル及び応答性評価用サンプルを得た。評価実施例及び比較例にて得られた耐光性評価用サンプル及び応答性評価用サンプルを用いて、耐光性評価及び応答性評価を行った。1耐光性評価耐光性評価用サンプルの可視光線透過率を、JISR3106板ガラス類の透過率反射率放射率日射熱取得率の試験方法に準拠した方法にて、分光光度計V-670日本分光社製を用いて測定し、初期の可視光線透過率Tv1とした。対極材料層が形成されたITOガラス側がキセノン照射面となるように、スーパーキセノン耐候促進試験機スガ試験機社製HLG2Sを用いて、耐光性評価用サンプルに100時間照射した。照射後の耐光性評価用サンプルの可視光線透過率Tv2を可視光線透過率Tv1と同様にして測定した。ΔTv=Tv2-Tv1を算出し、結果を表1に示した。なお、比較例1の耐光性評価は行わなかった。2応答性評価完全に着色した状態の応答性評価用サンプルの640nmの透過率をTC、完全に消色した状態の応答性評価用サンプルの640nmの透過率をTBとする。完全に着色した状態の応答性評価用サンプルに2Vの電圧を印加し、応答性評価用サンプルに2Vの電圧を印加してから、応答性評価用サンプルの640nmの透過率がTCからT1=TCTB-TC×0.8まで変化する時間を確認し、消色時間とした。また、完全に消色した状態の応答性評価用サンプルに-2Vの電圧を印加してから、応答性評価用サンプルの640nmの透過率がTBからT2=TB-TB-TC×0.8まで変化する時間を確認し、着色時間とした。結果を表1に示した。"