"ガス分離用多孔質セラミックフィルタであって、セラミック基体の細孔の平均細孔径が分離対象ガスの平均自由行程と同程度であり、該細孔の表面が該分離対象ガスに対する親和性を有するように改質されていることを特徴とするセラミックフィルタ。前記セラミック基体がアルミナであり、前記細孔の表面がアルカリ性物質で改質されていることを特徴とする、請求項1に記載のセラミックフィルタ。前記アルカリ性物質は、ベーマイトであることを特徴とする、請求項2に記載のセラミックフィルタ。前記平均細孔径が50nm~1000nmであることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載のセラミックフィルタ。前記分離対象ガスがCO2であり、前記平均細孔径が50nm~200nmであることを特徴とする、請求項2または3に記載のセラミックフィルタ。ガス透過率が1×10-11molmm-2S-1Pa-1より大きいことを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載のセラミックフィルタ。ガス分離用多孔質セラミックフィルタの製造方法であって、セラミック粉末のスラリーまたはペーストを調製する工程と、前記スラリーまたはペーストから成形される成形体を焼成して多孔質セラミック基体を作製する工程と、前記多孔質セラミック基体の細孔の表面を分離対象ガスに対する親和性を有するように改質する工程とを含み、前記多孔質セラミック基体の細孔の平均細孔径が分離対象ガスの平均自由行程と同程度になるように前記セラミック粉末の一次粒子の平均粒子径が選択されることを特徴とする、製造方法。CO2ガス分離用多孔質セラミックフィルタの製造方法であって、一次粒子の平均粒子径が100nm~5000nmのアルミナ粉末のスラリーまたはペーストを調製する工程と、前記スラリーまたはペーストから成形される成形体を焼成して多孔質アルミナセラミック基体を作製する工程と、前記多孔質アルミナセラミック基体を硝酸アルミニウム水溶液に含漬する工程と、含漬した後の前記多孔質アルミナセラミック基体を焼成した後、該多孔質アルミナセラミック基体をアンモニア水中で水熱処理する工程とを含む、製造方法。CO2ガス分離用多孔質セラミックフィルタの製造方法であって、一次粒子の平均粒子径が100nm~5000nmのアルミナ粉末のスラリーまたはペーストを調製する工程と、前記スラリーまたはペーストから成形される成形体を焼成して多孔質アルミナセラミック基体を作製する工程と、前記多孔質アルミナセラミック基体を硝酸アルミニウム水溶液、硝酸マグネシウム水溶液または硝酸カルシウム水溶液のいずれかに含漬する工程と、含漬した後の前記多孔質アルミナセラミック基体を焼成する工程とを含む、製造方法。多孔質セラミックフィルタを使用したガス分離方法であって、分離対象ガスを含む気体を、該分離対象ガスの平均自由行程と同程度の大きさに調整された平均細孔径を有し、且つ、該細孔の表面が該分離対象ガスに対する親和性を有するように改質されている多孔質セラミックフィルタに通すことにより、該分離対象ガスを分離する方法。本発明は、上記従来技術における課題に鑑みてなされたものであり、本発明は、燃焼ガスなどCO2を多く含む混合ガスの中から、高い処理速度でCO2を分離することを可能にする新規な多孔質セラミックフィルタを提供することを目的とする。本発明者は、高い処理速度でCO2を分離することを可能にする新規な多孔質セラミックフィルタにつき鋭意検討した結果、多孔質セラミックフィルタの細孔の平均細孔径を分離対象ガスの平均自由行程と同程度のサイズにするとともに、細孔表面を分離対象ガスに対して親和性に改質することによって、ガス透過性と分離能を同時に最適化しうることを見出し、本発明に至ったのである。すなわち、本発明によれば、ガス分離用多孔質セラミックフィルタであって、セラミック基体の細孔の平均細孔径が分離対象ガスの平均自由行程と同程度であり、該細孔の表面が該分離対象ガスに対する親和性を有するように改質されていることを特徴とするセラミックフィルタが提供される。本発明においては、前記セラミック基体をアルミナとし、前記細孔の表面をベーマイトで改質することができ、前記平均細孔径を50nm~1000nmとすることができる。本発明のガス分離用多孔質セラミックフィルタは、前記分離対象ガスをCO2とした場合、前記平均細孔径を50nm~200nmとすることが好ましく、ガス透過率が1×10-11molmm-2S-1Pa-1より大きいことを特徴とする。さらに、本発明によれば、ガス分離用多孔質セラミックフィルタの製造方法であって、セラミック粉末のスラリーまたはペーストを調製する工程と、前記スラリーを鋳込成形または前記ペーストを押出成形してなる成形体を焼成して多孔質セラミック基体を作製する工程と、前記多孔質セラミック基体の細孔の表面を分離対象ガスに対する親和性を有するように改質する工程とを含み、前記多孔質セラミック基体の細孔の平均細孔径が分離対象ガスの平均自由行程と同程度になるように前記セラミック粉末の一次粒子の平均粒子径が選択されることを特徴とする製造方法が提供される。さらに、本発明によれば、CO2ガス分離用多孔質セラミックフィルタの製造方法であって、一次粒子の平均粒子径が100nm~5000nmのアルミナ粉末のスラリーまたはペーストを調製する工程と、前記スラリーを鋳込成形するかまたは前記ペーストを押出成形してなる成形体を焼成して多孔質アルミナセラミック基体を作製する工程と、前記多孔質アルミナセラミック基体をコーティング層前駆体に含漬する工程と、含漬した後の前記多孔質アルミナセラミック基体を焼成する工程とを含む方法が提供される。さらに、本発明によれば、前記ガス分離用多孔質セラミックフィルタを使用したガス分離方法が提供される。上述したように、本発明によれば、燃焼ガスなどCO2を多く含む混合ガスの中から、高い処理速度でCO2を分離することを可能にする新規な多孔質セラミックフィルタが提供される。以下、本発明を図面に示した実施の形態をもって説明するが、本発明は、図面に示した実施の形態に限定されるものではない。図1および図2は、本発明の原理を説明するための概念図である。以下、図1および図2に基づき、本発明の多孔質セラミックフィルタのガス分離のメカニズムについて説明する。20°C大気圧下におけるN2ガスおよびCO2ガスの平均自由行程は、いずれも約70nmであり、N2CO2混合ガス8020のN2およびCO2の平均自由行程は、それぞれ、632nmおよび544nmであることが知られている。ここで、多孔質セラミックフィルタの細孔径が分離対象である分子の平均自由行程に比べて十分に小さい場合には、図1aに示すように表面拡散が優勢となる。したがって、細孔表面を対象分子に対して親和性に改質すれば高い分離能を実現することが可能であるが、分子と細孔壁の衝突抵抗が過大であるためガス透過性が悪くなる。一方、ガス透過性を改善するために、仮に、多孔質セラミックフィルタの細孔径を対象分子の平均自由行程に比べて十分大きくしたとすると、図1bに示すように、分子同士の衝突が支配的になり、対象分子の多くが細孔表面に衝突することなく出て行ってしまうので分離能が低下する。この点につき、本発明の多孔質セラミックフィルタは、以下の構造を備えることによってガス透過性と分離能を同時に最適化することができる。本発明の多孔質セラミックフィルタは、その細孔が分離対象ガスの平均自由行程と同程度のサイズの平均細孔径を有することを特徴とする。細孔の平均細孔径が分離対象ガスの平均自由行程と同程度のサイズである場合、図2aに示すように、分離対象分子10は、分子同士で衝突する前に細孔表面12に衝突する。この系においては、分子と細孔壁の衝突抵抗が律速要因となるが、図1aに示した系に比べると格段にその衝突抵抗は小さくなる。換言すれば、細孔の平均細孔径を分離対象ガスの平均自由行程と同程度のサイズとすることによって、対象分子の細孔表面への衝突を担保する条件下でのガス透過性が最大化されることになる。その上で、図2bに示すように、細孔表面12に対して分離対象分子10に特異的親和性を有する改質層14を形成すると、分離対象分子10とその他の分子との間に透過抵抗の差が生じる結果、分離対象ガスの分離能が発現する。なお、ガス分子の平均自由行程は、気圧と温度に依存するので、本発明における分離対象ガスの平均自由行程とは、多孔質セラミックフィルタの設置環境条件下気圧、温度における分離対象ガスの平均自由行程を意味する。また、多孔質セラミックフィルタの細孔は、実際には、理想的な円筒管ではなく複雑に入り組んだ構造をしているので、分離対象分子の衝突を担保する条件としての平均細孔径のサイズは、理論値としての平均自由行程より数倍程度大きいサイズであっても実用レベルの分離能を発現させることができる。したがって、本発明において、分離対象ガスの平均自由行程と同程度のサイズとは、分離対象ガスの平均自由行程と同等か、あるいは、分離対象ガスの平均自由行程の数倍程度のサイズとして定義される。上述した構造を備える本発明の多孔質セラミックフィルタは、メソ細孔や結晶性細孔を利用する従来のガス分離フィルタに比較してその分離能は下回るものの、ガス透過率が格段に向上する。ここで、本発明においては、ガス透過率μを下記式1に定義する。なお、下記式1において、Lは試料厚さmを示し、Aはフィルタ断面積m2を示し、ΔPはフィルタを挟んだ加圧側と減圧側の差圧Paを示し、Qは減圧側に透過したガスのモル量molを示す。本発明の多孔質セラミックフィルタによれば、ガス透過率μが、1×1011molmm2s1Pa1より大きくなり、好ましくは、1×1010molmm2s1Pa1より大きくなる。この値は、メソ細孔や結晶性細孔を利用する従来のガス分離フィルタに比較して、100倍~1000倍のガス透過率μであるので、分離能Sとガス透過率μの積として定義される処理速度Vが従来のガス分離フィルタに比較して格段に向上する。以上、本発明の多孔質セラミックフィルタにつき、そのガス分離メカニズムについて説明してきたが、次に、本発明の多孔質セラミックフィルタの製造方法について、セラミック原料としてαアルミナ酸化アルミニウム:Al2O3を用い、鋳込成形法によって作製した場合を例にとって説明する。図3は、本発明の実施形態であるアルミナフィルタの製造工程を示すフローチャートである。まず、酸化アルミニウムAl2O3の粉末と蒸留水とポリアクリル酸アンモニウムなどの適切な分散剤を混合攪拌してアルミナスラリーを調製する。ここで、アルミナ粉末の量は、蒸留水に対して30体積程度とすることが好ましい。次に、このようにして調製したアルミナスラリーを鋳込成形して成形体を形成し、これを室温で十分に乾燥させた後、適切な温度時間条件で焼成する。その結果、多孔質アルミナセラミック基体が得られる。なお、本発明においては、アルミナのペーストを調整し、これを押出成形してもよい。ここで、原料であるアルミナ粉末セラミック粉末の一次粒子径の大きさは、焼成後に現出するフィルタ細孔の平均細孔径の大きさと正の相関があるので、本発明においては、使用するアルミナ粉末の一次粒子の平均粒子径を適切な値に設計することによってフィルタ細孔の平均細孔径のサイズが分離対象ガスの平均自由行程と同程度になるように制御することができる。本発明においては、分離条件下の分離対象ガスの平均自由行程の長さに応じて、フィルタ細孔の平均細孔径を50nm~1000nmに制御することができる。CO2ガスを分離対象とするアルミナフィルタの場合、N2CO2混合ガス802020°C大気圧下におけるCO2の平均自由行程は、544nmであるので、使用するアルミナ粉末の一次粒子の平均粒子径を適切な範囲100nm~5000nmの中から選択することによって、フィルタ細孔の平均細孔径を50nm~200nmに制御することが好ましく、平均細孔径を60nm~100nmに制御することがより好ましい。続いて、上述した手順で作製した多孔質アルミナセラミック基体の細孔表面に対して分離対象分子に対する特異的親和性を付与する。例えば、酸性ガスであるCO2を分離対象とする場合、細孔表面をアルカリ性物質によって改質することによって、CO2に対する特異的親和性を発現させることができる。具体的には、上述した手順で作製した多孔質アルミナフィルタをAl3水溶液に真空含漬する。次に、これを適切な温度時間条件で乾燥焼成した後、適切な温度時間条件下、アンモニア水中で水熱処理を行う。その結果、多孔質アルミナフィルタの細孔表面のアルミナAl2O3がベーマイトAlOOHに変換され、本実施形態の表面改質アルミナフィルタが得られる。下記表2は、分子動力学法による相互作用エネルギーのシミュレーション結果使用ソフト:MaterialStudioDiscoveryを示す。上記表2に示されるように、アルミナ表面Al2O3に対する相互作用エネルギーは、N2およびCO2との間で大きな差がないのに対し、ベーマイト表面AlOOHに対する相互作用エネルギーは、CO2の方がN2より格段に小さいという結果が得られた。このシミュレーション結果から、ベーマイトAlOOHが形成された細孔表面がCO2に対して親和性を有することが理解されよう。以上、本発明の多孔質セラミックフィルタの製造方法を、アルミナをセラミック原料とする実施形態をもって説明してきたが、本発明におけるセラミック原料は、アルミナに限定されるものではなく、ジルコニア、ムライト、シリカ、ジルコン、コーディエライト、ステアタイトなどの金属酸化物、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ホウ化物、サイアロンなどの非金属酸化物のセラミック粉末を用いることができる。また、多孔質アルミナフィルタをAl3水溶液、Mg2水溶液、およびCa2水溶液のいずれかに真空含漬した後、これを適切な温度時間条件で乾燥焼成することで、それぞれ、γアルミナ、MgO、および、CaOを細孔表面に形成させて改質することもできる。その他、表面改質は、ゾルゲル法、PVD物理気相成長、CVD化学気相成長、スパッタ法、イオン注入、プラズマ処理、シランカップリングによって行うこともできる。以下、本発明の多孔質セラミックフィルタについて、実施例を用いてより具体的に説明を行なうが、本発明は、後述する実施例に限定されるものではない。アルミナフィルタの作製アルミナ粉末平均一次粒子径:約150nm、TMDAR,大明化学製に対して、分散剤としてのポリアクリル酸アンモニウムD305,中京油脂製を062重量と蒸留水を添加混合して、アルミナスラリーを調製したアルミナ粉末:30体積。調製したアルミナスラリーを円形のセッコウ型に鋳込成形しての成形体を形成し、これを室温で一晩乾燥した後、1000°Cで2時間焼成して本実施例用の円形アルミナセラミック基体25mmφを得た。一方、異なる粒径のアルミナ粉末平均一次粒子径:約22μm、AA2、住友化学製を使用する以外は、上述したのと同様の方法で成形した25mmφの成形体を1250°Cで2時間焼成して比較例用の円形アルミナセラミック基体25mmφを得た。上述したアルミナセラミック基体実施例用、比較例用について、アルキメデス法で気孔率を測定するとともに、水銀ポロシメータPascal240CEInstrumentsItalyで細孔径分布を測定した。その結果を下記表3に示す。アルミナセラミック基体/透過率および選択率の検証上述したアルミナセラミック基体実施例用、比較例用につき、図4に示すガス透過率測定装置100を使用してN2ガスおよびCO2ガスのガス透過率μを調べた。具体的には、円形アルミナセラミック基体25mmφをセットしたガス透過率測定装置100に対して、単体ガスN2またはCO2を導入し、圧力ゲージ102によって加圧側の減圧側の差圧ΔPを測定しつつ、流量計104によって流量Qを測定した。測定した差圧ΔPおよび流量Qに基づき下記式1によってガス透過率μを算出するとともに、単体ガスの透過率の比として定義される選択率αμN2μCO2を算出した。上記式において、Lは試料厚さを示し、Aはフィルタ断面積を示す図5は、差圧MPaと単体ガスN2CO2のガス透過率μmolmm2s1Pa1の関係とともに、その選択率αμN2μCO2を併せて示す。なお、図5aは、実施例用アルミナセラミック基体の結果を示し、図5bは、比較例用アルミナセラミック基体の結果を示す。図5aに示すように、実施例用アルミナセラミック基体においては、N2のガス透過率μは、59~81×1010molmm2s1Pa1であるのに対し、CO2の透過率は、54~62×1010molmm2s1Pa1であり、その選択率αは、11~14であった。一方、比較例用アルミナセラミック基体においては、N2のガス透過率μは、25~34×108molmm2s1Pa1であるのに対し、CO2のガス透過率μは、24~334×108molmm2s1Pa1であり、両者の間に有意な差は見られなかったすなわち、選択率α≒1。アルミナセラミック基体の表面改質処理上述したアルミナセラミック基体実施例用、比較例用を1molLのAl3水溶液に真空中で1晩浸漬した後、40°Cで乾燥させた。これを600°Cで2時間焼成した後、1molLアンモニア水中で水熱処理200°C、24時間を行った。その後、40°Cで乾燥させたものを、それぞれ、実施例サンプルおよび比較例サンプルとした。作製した実施例サンプルにつき、XRD測定を行った。図6において、aは、実施例サンプルのXRDパターンを示し、bは、水熱処理前のアルミナセラミック基体のXRDパターンを示す。図6に示すXRD測定結果から、実施例サンプルにベーマイトAlOOHが形成されていることが確認された。また、図7aは、水熱処理前のアルミナセラミック基体のSEM写真を示し、図7bは、水熱処理後の実施例サンプルのSEM写真を示す。図7に示すTEM写真から、実施例サンプルのアルミナの細孔表面にベーマイトAlOOHが形成されていることが確認された。さらに、表面処理前のアルミナセラミック基体および実施例サンプルにつき、気孔率を測定したところ、それぞれ、約39および約38であり、水熱処理前後で気孔率に大きな変化は見られなかった。なお、比較例サンプルについてもXRD測定、TEM写真観察、および気孔率測定を行ったところ、実施例サンプルと同様の結果を得た。表面処理前のフィルタ/透過率および選択率の検証作製したサンプル実施例、比較例につき、上述したのと同様の手順でガス透過率μおよび選択率αμN2μCO2を算出した。図8は、差圧MPaと単体ガスN2、CO2のガス透過率μmolmm2s1Pa1の関係とともに、その選択率αμN2μCO2を併せて示す。なお、図8においては、理解の容易のため、図5に示した表面処理前の結果を破線で重ねて示している。図8aは、実施例サンプルの結果を示す。図8aに示されるように、N2のガス透過率μは、表面処理前後でほぼ同じであったのに対し、CO2のガス透過率μのみが、差圧ΔPが小さい領域において減少した。その結果、差圧ΔPが小さい領域において、選択率αが表面処理前の11から14に上昇した。一方、図8bは、比較例サンプルの結果を示す。図8bに示されるように、比較例サンプルにおいては、N2およびCO2の各ガス透過率μならびにその選択率αμN2μCO2について、表面処理前後でほぼ同様の結果となった。CO2ガス分離能の検証異なる平均細孔径180nm700nmを持つ2種類のアルミナチューブノリタケカンパニーリミテド製を1molLのAl3水溶液に真空中で1晩浸漬させ、40°Cで乾燥した。これを600°Cで2時間焼成した後、1molLアンモニア水中で水熱処理200°C、36時間を行った。その後、40°Cで乾燥させたものを、それぞれ、実施例サンプル平均細孔径:180nmおよび比較例サンプル平均細孔径:700nmとし、各サンプルを使用して図9に示すCO2ガス分離装置200を作製した。CO2ガス分離装置200を使用した本実験においては、一端をエポキシパテでシールし、他端に送気管206をエポキシパテで固定したサンプル202アルミナチューブを密封容器204の中に静置し、送気管206を介して混合ガスN2CO2:CO2濃度=206を差圧002MPaでサンプル202内に導入したなお、差圧は圧力調整弁207で調整した。その後、密封容器204に挿管したCO2濃度計208の測定値が一定になった後の10分間の平均値をフィルタ透過後のCO2濃度とした。上記測定結果に基づき、下記式2によってCO2分離能を算出した。上記式において、SをCO2分離能とし、XCO2をフィルタ透過前のCO2濃度206とし、YCO2をフィルタ透過後のCO2濃度とする。その結果、実施例サンプル平均細孔径:180nmは、約10のCO2分離能を示した。一方、比較例サンプル平均細孔径:700nmのCO2分離能を確認することはできなかった。Al2O3CaOMgOによる表面改質とCO2ガス分離能の検証異なる平均細孔径180nm700nmを持つ2種類のアルミナチューブノリタケカンパニーリミテド製を3組用意し、各組を、それぞれ、1molLのAl3水溶液、Mg2水溶液、およびCa2水溶液に真空中で1晩浸漬させ、40°Cで乾燥した後、これを600°Cで2時間焼成した。その結果、出来上がった3種類の実施例サンプル平均細孔径:180nmおよび3種類の比較例サンプル平均細孔径:700nmを使用して図9に示すCO2ガス分離装置200を作製した後、これを実施例1と同じ条件で動作させてCO2分離能を検証した。その結果、3種類の実施例サンプル平均細孔径:180nmは、いずれもが約710のCO2分離能を示した。一方、3種類の比較例サンプル平均細孔径:700nmについては、いずれもCO2分離能を確認することはできなかった。"