陽極層と陰極層との間に、有機材料を含む発光ユニット層を少なくとも1以上備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記陰極層と前記発光ユニット層との間には電子注入層が設けられ、前記電子注入層は膜厚が0.1~0.7nmのリチウムで形成され、前記陰極層は前記電子注入層を形成するリチウムと相互作用可能な金属で形成されていることを特徴とする有機EL素子。前記陰極層がアルミニウム又は銀で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子。しかし、リチウムは、熱や電界によって容易に発光層等の有機層中へ拡散してしまうことがあり、そのため、陰極層と電子注入層との界面及び電子注入層とそれと接する有機層発光層や電子輸送層との界面の状態が変化し、電子注入性が変わってしまうことがあった。さらに、拡散したリチウムによって有機化合物が還元されてラジカルアニオン状態となってしまい、キャリアバランスが変化してしまう問題もある。そのため、白色発光素子のように複数の発光層や複数の発光ユニットからの発光スペクトルの重ね合わせで有機EL素子としての発光スペクトル形状が構成されるものでは、通電前後の発光色度や発光スペクトル形状の安定性が損なわれてしまうことがあった。本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、電子注入層に形成されているリチウムの有機層中への拡散を抑制することで、通電しても、その前後で発光色度が変化しにくい有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを目的とするものである。本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、陽極層と陰極層との間に、有機材料を含む発光ユニット層を少なくとも1以上備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記陰極層と前記発光ユニット層との間には電子注入層が設けられ、前記電子注入層は膜厚が0.1~0.7nmのリチウムで形成され、前記陰極層は前記電子注入層を形成するリチウムと相互作用可能な金属で形成されていることを特徴とする。また、上記陰極層がアルミニウム又は銀で形成されていることが好ましい。本発明によれば、電子注入層に形成されているリチウムの有機層中への拡散を抑制することで、通電しても、その前後で発光色度が変化しにくい有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることが可能となる。以下、本発明を実施するための形態を説明する。図1は本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子有機EL素子の層構造の一例を示すものであり、陽極層1となる電極と陰極層5となる電極との間に、有機材料を含む発光ユニット層2を少なくとも1以上備えるものである。本実施の形態では、発光ユニット層2は、第1の発光ユニット層2a及び第2の発光ユニット層2bの2つを有しており、第1の発光ユニット層2a及び第2の発光ユニット層2bとの間には、電荷発生層3が介在されている。さらに、第2の発光ユニット層2bと陰極層5との間には、電子注入層4が介在されている。また、一方の電極図1では陽極層1は、透明な基板101の表面に積層するようにしてある。本実施の形態では、陽極層1は光透過性の電極として、陰極層5は光反射性の電極として形成されている。上記のように、図1の実施の形態では、陽極層1と陰極層5の間に、第1の発光ユニット層2a、電荷発生層3、第2の発光ユニット層2b及び電子注入層4が、この順に陽極層1から陰極層5へと積層されて形成されたものである。尚、一般的な有機エレクトロルミネッセンス素子と同様に、例えば、第1の発光ユニット層2aと陽極層1との間には、必要に応じてホール注入材料層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層等を積層して設けることもできる図1中ではこれらの層の図示を省略してある。また、発光ユニット層2は、電荷発生層3を介して、さらに多層に積層した積層構成であっても良い。この場合、発光ユニット層2の積層数は特に制限されないが、層数が増大すると光学的及び電気的な素子設計の難易度が増大するので、5層以内とすることが好ましい。本発明の有機EL素子において、電子注入層4はリチウムの薄膜で形成されるものであって、かつ、この電子注入層4の膜厚は0.1~0.7nmである。電子注入層4の膜厚がこの範囲であれば、有機EL素子に通電したとしてもその前後における発光色度の変化を抑制することが可能となる。これは、後述する発光ユニット層2中の有機層へのリチウムの拡散が抑制されやすくなるからである。すなわち、電子注入層4の膜厚が0.1~0.7nmの範囲であることによって、後述する陰極層5を形成している金属との相互作用が効果的に起こるため、リチウムが有機層へ拡散しにくくなる。特に好ましい電子注入層4の膜厚は、0.1~0.5nmである。尚、ここでいう膜厚とは、ICP-MS等によるリチウムの定量分析結果に基づいて較正を行った水晶振動子式膜厚計等で計測されるものを示す。陰極層5は、電子注入層4を形成しているリチウムと相互作用可能な金属で形成される。ここでいうリチウムと相互作用というのは、例えば、リチウムと合金を形成することが可能であることを示す他、金属結合、共有結合、イオン結合等の化学的結合も含む。陰極層5を形成する金属は、上記のようにリチウムと相互作用可能な金属であれば特に制限されないが、例えば、アルミニウム、銀、ニッケル、銅、亜鉛、マグネシウム、金、ナトリウム、セシウム又はカルシウム等が挙げられるが、この中でも特に、リチウムとの合金が形成されやすいアルミニウム又は銀のいずれか一方であることが好ましい。尚、陰極層5を形成する金属は、本発明の効果を阻害しない程度であれば、上記の金属を2種以上併用することも可能である。同様に、本発明の効果を阻害しない程度であれば、陰極層5を形成する金属にその他の添加物、例えば、金属酸化物のようなものが含まれていても良い。また、陰極層5は、例えば、上記の電極材料を真空蒸着法やスパッタリング法等の方法により、薄膜に形成することによって作製することができる。発光ユニット層2における発光を陽極層1側から取り出す場合には、陰極層5の光透過率は10以下であることが好ましい。陰極層5の膜厚は、陰極層5の光透過率等の特性を制御するために、材料により異なるが、通常500nm以下、好ましくは100~200nmの範囲である。陽極層1は、発光ユニット層2中にホールを注入するための電極であり、仕事関数の大きい金属、合金、電気伝導性化合物、あるいはこれらの混合物からなる電極材料を用いることが好ましく、仕事関数が4eV以上のものを用いるのがよい。このような陽極層1の材料としては、例えば、金などの金属、CuI、ITOインジウム-スズ酸化物、SnO2、ZnO、IZOインジウム-亜鉛酸化物等、PEDOT、ポリアニリン等の導電性高分子及び任意のアクセプタ等でドープした導電性高分子、カーボンナノチューブなどの導電性光透過性材料を挙げることができる。陽極層1は、例えば、これらの電極材料を基板101の表面に真空蒸着法やスパッタリング法、塗布等の方法により薄膜に形成することによって作製することができる。また、発光ユニット層2における発光を陽極層1を透過させて外部に照射するためには、陽極層1の光透過率を70以上にすることが好ましい。さらに、陽極層1のシート抵抗は数百Ω/□以下とすることが好ましく、特に好ましくは100Ω/□以下である。ここで、陽極層1の膜厚は、陽極層1の光透過率、シート抵抗等の特性を上記のように制御するために、材料により異なるが、500nm以下、好ましくは10~200nmの範囲に設定するのが良い。発光ユニット層2は、少なくとも有機発光層のような有機層を含んでなるものであり、その他、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層等も含むことが可能である。本発明の有機EL素子では、発光色を様々に創り出せるという点で、発光ユニット層2は2以上設けることが好ましい。上記有機発光層は、電子と正孔とが結合することにより発光が生じる層である。有機発光層の材料としては、有機EL素子用の材料として知られる任意の材料が使用可能である。例えば、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス8-ヒドロキシキノリナートアルミニウム錯体Alq3、トリス4-メチル-8-キノリナートアルミニウム錯体、トリス5-フェニル-8-キノリナートアルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ-p-ターフェニル-4-イルアミン、1-アリール-2、5-ジ2-チエニルピロール誘導体、ピラン、キナクリドン、ルブレン、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ジスチリルアミン誘導体、9、10‐ビス2‐ナフチル‐2‐t‐ブチルアントラセンTBADN等のアントラセン誘導体、1-tert-ブチル-ペリレンTBP等のペリレン誘導体、2、3、6、7-テトラヒドロ-1、1、7、7-テトラメチル-1H、5H、11H-10-2-ベンゾチアゾリルキノリジノ[9、9a、1-gh]クマリンC545T等のクマリン誘導体及びその他の各種蛍光色素等、前述の材料系及びその誘導体を始めとするものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの化合物のうちから選択される発光材料を適宜混合して、もしくはこれらの化合物と正孔輸送材料または電子輸送材料とを適宜混合して用いることも好ましい。また、前記化合物に代表される蛍光発光を生じる化合物のみならず、スピン多重項からの発光を示す材料系、例えば、燐光発光を生じる燐光発光材料、及びそれらからなる部位を分子内の一部に有する化合物も好適に用いることができ、例えば、Btp2Iracac、Irppy3等を用いることもできる。また、これらの材料からなる有機層は、蒸着、転写等の乾式プロセスによって成膜しても良いし、スピンコート、スプレーコート、ダイコート、グラビア印刷等の湿式プロセスによって成膜するものであっても良い。尚、図1に示す実施の形態では、複数の発光ユニット層2a、2bにおける有機発光層は同一の材料であっても良いし、異なるものであっても良い。また、上記正孔輸送層は、正孔の輸送性を高めるために設けられる層である。正孔輸送層に用いる材料は、例えば、ホール輸送性を有する化合物の群から選定することができる。この種の化合物としては、芳香族3級アミン化合物が好適に使用でき、例えば、4、4’-ビス[N-ナフチル-N-フェニル-アミノ]ビフェニルα-NPD、N、N’-ビス3-メチルフェニル-1、1’-ビフェニル-4、4’-ジアミンTPD、2-TNATA、4、4’、4-トリスN-3-メチルフェニルN-フェニルアミノトリフェニルアミンMTDATA、4、4’-N、N’-ジカルバゾールビフェニルCBP、スピロ-NPD、スピロ-TPD、スピロ-TAD、TNBなどを代表例とする、アリールアミン系化合物、カルバゾール基を含むアミン化合物、フルオレン誘導体を含むアミン化合物などを挙げることができるが、一般に知られる任意のホール輸送材料を用いることが可能である。また、上記正孔注入層は、正孔の注入性を高めるために設けられるものである。正孔注入層に用いる材料は、ホール輸送層に用いる材料と同様の材料を使用することができる他、銅フタロシアニンCuPc、ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボンニトリルHAT-CN6、テトラフルオロ-テトラシアノ-キノジメタンF4-TCNQ等を使用でき、これらは複数の種類を組み合わせて使用しても良い。また、上記電子輸送層は、電子の輸送性を高めるために設けられるものである。電子輸送層に用いる材料は、電子輸送性を有する化合物の群から選定することができる。この種の化合物としては、トリス8-ヒドロキシキノリナートアルミニウム錯体Alq3等の電子輸送性材料として知られる金属錯体や、バソクプロインBCP等のフェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、テトラジン誘導体、オキサジアゾール誘導体等のヘテロ環を有する化合物などが挙げられるが、この限りではなく、一般に知られる任意の電子輸送材料を用いることが可能である。陽極層1側の発光ユニット層2、すなわち、図1の実施の形態における第1の発光ユニット層2a中には、電子注入層4が形成されていても良い。この場合はリチウムだけに限られず、ナトリウムなどのアルカリ金属、アルカリ金属のハロゲン化物、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属等、及びこれらと他の金属との合金等も使用することもできる。このように、発光ユニット層2a中にも電子注入層4を設けることで、第1の発光ユニット層2a中の有機発光層に電子を注入するしやすくなる。本発明の有機EL素子では、上述のように発光ユニット層2が2以上設けられることが好ましいが、図1の実施の形態のように、2つの発光ユニット層2a、2bの間には、電荷発生層3が介在されていることが好ましい。電荷発生層3は、有機EL素子への電圧印加時に、陰極層5方向に正孔を、陽極層1方向に電子をそれぞれ注入する役割を果たす層である。電荷発生層3の材料としては、例えば、Ag、Au、Al等の金属薄膜、酸化リチウム、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化レニウム、酸化タングステン等の金属酸化物、ITO、IZO、AZO、GZO、ATO、SnO2等の透明導電膜、いわゆるn型半導体とp型半導体の積層体、金属薄膜もしくは透明導電膜とn型半導体及び/又はp型半導体との積層体、n型半導体とp型半導体の混合物、n型半導体及び/またはp型半導体と金属との混合物、などを挙げることができる。n型半導体やp型半導体としては、無機材料であっても、有機材料であってもよく、あるいは有機材料と金属との混合物や、有機材料と金属酸化物や、有機材料と有機系アクセプタ/ドナー材料や、無機系アクセプタ/ドナー材料等の組合わせによって得られるものであっても良く、特に制限されることなく必要に応じて選定して使用することができる。上記のように、発光ユニット層2、2の間に電荷発生層3を介在させることで、電荷発生層3で複数の発光ユニット層2、2第1の発光ユニット層2a、第2の発光ユニット層2bが直列に接続されているように振る舞うことになり、陽極層1、陰極層5間で複数の発光が可能になる。有機EL素子の形成に使用する基板101は、この基板101を通して光が出射される場合には光透過性を有するものであり、無色透明の他に、多少着色されているものであっても、すりガラス状のものであっても良い。例えば、ソーダライムガラスや無アルカリガラスなどの透明ガラス板や、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、エポキシ等の樹脂、フッ素系樹脂等から任意の方法によって作製されたプラスチックフィルムやプラスチック板などを用いることができる。さらに、基板101内に基板母剤と屈折率の異なる粒子、粉体、泡等を含有し、あるいは表面に形状を付与することによって、光拡散効果を有するものも使用可能である。また、基板101を通さずに光を射出させる場合、基板101は必ずしも光透過性を有するものでなくても構わず、素子の発光特性、寿命特性等を損なわない限り、任意の基板101を使うことができる。特に、通電時の素子の発熱による温度上昇を軽減するために、熱伝導性の高い基板101を使うこともできる。本発明の有機EL素子では、電子注入層4が、膜厚0.1~0.7nmの範囲のリチウムで形成されると共に、この電子注入層4と接触している陰極層5が、リチウムと合金を形成できる等の相互作用可能な金属で形成されているものである。そのため、電子注入層4のリチウムが、発光ユニット層2等の有機層に拡散しにくくなるものとなる。このように、リチウムの有機層への拡散を抑制することで、陰極層5と電子注入層4との界面及び電子注入層4とそれと接する発光ユニット層2中の有機層有機発光層や電子輸送層等との界面の状態が変化しにくくなり、電子注入の特性がより安定化する。さらに、リチウムによって有機化合物が還元されてラジカルアニオン状態となることも抑制でき、キャリアバランスがより安定化すると考えられる。従って、有機EL素子が通電されても、その通電の前後で、有機EL素子の色度の変化を抑えることが可能となる。また、上記のようにリチウムの有機層への拡散が起こりにくいため、有機EL素子を長期使用したとしても、通電前後の色度が大きく変化することを防止することができる。以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。実施例1まず、厚み150nm、幅2mm、シート抵抗約12Ω/□のITO膜が陽極層として成膜された0.7mm厚の無アルカリガラス製の基板を用意した。この基板は、予め洗剤、イオン交換水、アセトンで各10分間超音波洗浄した後、IPAイソプロピルアルコールで蒸気洗浄して乾燥し、さらにUV/O3処理を施した。次に、この基板を真空蒸着装置にセットし、1×10-4Pa以下の減圧雰囲気下で、基板に形成された陽極1の表面上に、正孔注入層として、CuPcを20nmの膜厚で蒸着し、次に、この蒸着体の上に、正孔輸送層として、TPDを20nmの膜厚で蒸着した。さらに、蛍光青色有機発光層としてTBADNとTBPとα―NPDとを、混合比が0.8:0.02:0.08となるように共蒸着を行い、10nmの膜厚で蒸着し、この上に、蛍光緑色有機発光層としてAlq3とC545Tとを、混合比が0.9:0.1となるように共蒸着を行い、30nmの膜厚で蒸着し、この有機発光層上に、電子輸送層としてBCPを25nmの膜厚で蒸着した。このように、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層及び電子輸送層からなる層を第1の発光ユニット層として成膜した。次いで、上記第1の発光ユニット層上に、電荷発生層として、酸化リチウムを1nm、Alq3を5nm、HAT-CN6を10nmの膜厚でこの順に蒸着した。そして、この上に正孔輸送層として、TPDを30nmの膜厚で蒸着した。さらに、燐光赤色有機発光層としてCBPとBtp2Iracacを混合比が0.9:0.1となるように共蒸着を行い5nmの膜厚で蒸着し、この上に、燐光緑色有機発光層としてCBPとIrppy3を混合比が0.8:0.2となるように共蒸着を行い30nmの膜厚で蒸着し、この有機発光層上に、電子輸送層としてBCPを30nmの膜厚で蒸着した。このように、正孔輸送層、有機発光層及び電子輸送層からなる層を第2の発光ユニット層として成膜した。そして、この第2の発光ユニット層上に、電子注入層として、リチウムを成膜速度0.05Å/sで、膜厚が0.2nmとなるように成膜した。最後に、この電子注入層上に、陰極層として、アルミニウムを成膜速度4Å/sで膜厚100nmとなるように成膜し、有機EL素子を得た。実施例2電子注入層として、リチウムの膜厚を0.4nmとしたこと以外は実施例1と同様の方法で有機EL素子を得た。実施例3電子注入層として、リチウムの膜厚を0.65nmとしたこと以外は実施例1と同様の方法で有機EL素子を得た。実施例4電子注入層として、リチウムの膜厚を0.6nmとし、かつ、陰極層として、銀を成膜速度3Å/sで膜厚100nmとなるように成膜したこと以外は実施例1と同様の方法で有機EL素子を得た。比較例1電子注入層として、リチウムの膜厚を0.8nmとしたこと以外は実施例1と同様の方法で有機EL素子を得た。比較例2電子注入層として、リチウムの膜厚を2nmとしたこと以外は実施例1と同様の方法で有機EL素子を得た。比較例3電子注入層として、リチウムの膜厚を4nmとしたこと以外は実施例1と同様の方法で有機EL素子を得た。比較例4電子注入層として、リチウムの膜厚を0.8nmとし、かつ、陰極層として、銀を成膜速度3Å/sで膜厚100nmとなるように成膜したこと以外は実施例1と同様の方法で有機EL素子を得た。比較例5電子注入層として、リチウムの膜厚を1nmとし、かつ、陰極層として、銀を成膜速度3Å/sで膜厚100nmとなるように成膜したこと以外は実施例1と同様の方法で有機EL素子を得た。比較例6電子注入層として、リチウムの膜厚を2nmとし、かつ、陰極層として、銀を成膜速度3Å/sで膜厚100nmとなるように成膜したこと以外は実施例1と同様の方法で有機EL素子を得た。上記のように実施例1~4及び比較例1~6で得られた有機EL素子について、周囲温度60°C、初期輝度3000cd/cm2で500時間の通電を行い、通電前後の各素子の色度変化を評価した。その結果を図2に示す。また、実施例3及び比較例2の有機EL素子において、初期に対して輝度劣化率70まで通電したときに、二次イオン質量分析法SIMSを用いて、陽極側よりリチウム分布の深さ方向分析を行った。その結果を図3に示す。尚、実施例及び比較例における膜厚測定、SIMS測定は以下の方法で行った。膜厚測定膜厚測定には、光学式薄膜計測システムFilmTek3000ScientificComputingInternational社製を使用した。SIMS測定SIMS測定には、SIMS4550FEI社製を使用した。また、一次イオン種は、Csとし一次イオンエネルギーは、3keV、二次イオン極性は、Positiveとして、E-gunによる帯電補償を行いながら測定した。図2に示すように、電子注入層のリチウム膜厚が、0.6~0.8nmの間で色度変化量が立ち上がり、膜厚が大きくなるほど、色度変化も大きくなることがわかる。実施例1~4では、リチウム膜厚が、0.1~0.7nmの範囲であるので、色度変化u’v’色度図上における距離で0.01以下と、非常に色度変化の小さな有機EL素子であった。一方、比較例1~6では、膜厚が大きすぎるために、大きな色度変化を示すものであった。また、図3に示すリチウム分布では、深さ方向の分解能が数十nm程度であるので正確に各層の位置を判別することはできないものの、図3中、Y軸縦軸と平行に描かれている点線により、各層基板~陰極がおおよそにどの位置に存在しているかを示してある。リチウム膜厚2.0nmの比較例2では発光層中にまでリチウムが拡散していると推定できる電子注入層で見られるピーク波長のショルダーが発光層に見られる。それに対し、リチウム膜厚0.65nmである実施例3では、有機層中への拡散がほとんど起こっていないことが確認された。すなわち、実施例3では、Liの膜厚が0.1~0.7nmの範囲のものであるので、リチウムの有機層中への拡散が抑制されたものであるといえる。