"コヒーレンス低減方法であって、少なくとも2つの光学部品が互いにほぼ対称的に位置する、ループを形成する複数の光学部品を備えた非対称パルスストレッチャにより最初の光パルスを受光するステップと、パルスシーケンス生成期間中に、前記光パルスに応答して、前記パルスストレッチャにより一連の複数のパルスを生成するステップと、を含み、前記少なくとも2つの光学部品は、前記複数のパルスのうちの少なくとも2つの間にコヒーレンスに関する差異をもたらし、前記パルスシーケンス生成期間は、検出器の応答期間を超えず、前記方法は、前記複数のパルスによりオブジェクトの範囲を照明するステップと、前記範囲からの光を前記検出器によって検出するステップと、をさらに含むことを特徴とする方法。前記複数のパルスを、前記オブジェクトの実質的に同じ範囲の方に導くステップを含む、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。前記コヒーレンスに関する差異は、前記少なくとも2つのパルスの入射角の差異である、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。前記コヒーレンスに関する差異は、前記少なくとも2つのパルスの入射位置の差異である、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。前記複数のパルスのうちの2つのパルス間に角度差をもたらすステップと、前記複数のパルスのうちの2つのパルス間に入射位置差をもたらすステップとを含む、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。前記複数のパルスを、該複数のパルスのコヒーレント性を低減する第2のスペックル低減部品の方に導くステップを含む、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。前記非対称パルスストレッチャにより、前記パルスを前記オブジェクトの方に導く集光レンズの瞳面に位置する出力部から前記複数のパルスを出力するステップを含む、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。持続時間が数ナノ秒を超えない前記最初の光パルスをレーザーから受光するステップを含む、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。前記複数の光学部品は複数のミラーを含み、1つのミラーの配向角は、a別のミラーの配向と異なるとともに、b他のミラーの逆向きの配向と異なる配向とも異なる、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。前記複数の光学部品は複数のミラーを備え、少なくとも1つのミラーは、他の全てのミラーの高さとは異なる高さに位置する、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。コヒーレンス低減能力を有する光学系であって、最初の光パルスを生成するための光源と、前記最初の光パルスを受光して、パルスシーケンス生成期間中に複数の光パルスを生成するように構成された非対称パルスストレッチャと、を備え、前記非対称パルスストレッチャは、ループを形成する複数の光学部品を備え、該複数の光学部品のうちの少なくとも2つの光学部品は互いにほぼ対称的に位置し、前記少なくとも2つの光学部品は、前記複数のパルスのうちの少なくとも2つのパルス間にコヒーレンスに関する差異をもたらし、前記パルスシーケンス生成期間は、検出器の応答期間を超えず、前記光学系は、前記非対称パルスストレッチャとオブジェクトの間に位置し、前記複数のパルスを前記オブジェクトの範囲の方に導く集光レンズをさらに備える、ことを特徴とする光学系。前記集光レンズは、前記複数のパルスを前記オブジェクトの実質的に同じ範囲の方に導くように構成される、ことを特徴とする請求項11に記載の光学系。前記コヒーレンスに関する差異は、前記少なくとも2つのパルスの入射角の差異である、ことを特徴とする請求項11に記載の光学系。前記コヒーレンスに関する差異は、前記少なくとも2つのパルスの入射位置の差異である、ことを特徴とする請求項11に記載の光学系。前記非対称パルスストレッチャは、前記複数のパルスのうちの2つのパルス間に角度差をもたらし、前記複数のパルスのうちの2つのパルス間に入射位置差をもたらすように構成される、ことを特徴とする請求項11に記載の光学系。前記非対称パルスストレッチャは、前記複数のパルスを、該複数のパルスのコヒーレント性を低減する第2のスペックル低減部品の方に導くように構成される、ことを特徴とする請求項11に記載の光学系。前記非対称パルスストレッチャは、前記パルスを前記オブジェクトの方に導く集光レンズの瞳面に位置する出力部から前記複数のパルスを出力するように構成される、ことを特徴とする請求項11に記載の光学系。前記光源はレーザーであり、前記最初の光パルスの持続時間は数ナノ秒を超えない、ことを特徴とする請求項11に記載の光学系。前記複数の光学部品は複数のミラーを含み、1つのミラーの配向角は、a別のミラーの配向と異なるとともに、b他のミラーの逆向きの配向と異なる配向とも異なる、ことを特徴とする請求項11に記載の光学系。前記複数の光学部品は複数のミラーを備え、少なくとも1つのミラーは、他の全てのミラーの高さとは異なる高さに位置する、ことを特徴とする請求項11に記載の光学系。ウェハ又はレチクルなどのオブジェクトを検査する際には、照明に使用するスポットサイズがウェハ上のパターンの要素よりも大幅に小さくないと、スペックル現象が生じる可能性がある。しかしながら、ウェハに対してコヒーレント光源を斜めに向ける斜照明などのいくつかの状況では、スポットサイズがスペックルを引き起こすほど十分に大きくなる。スポットサイズを小さくすると、システムスループットが低下し、例えばリソグラフィ工程中にオブジェクトを撮像するために使用する波長よりも短い異なる波長で作業することが必要になる。従って、理解されるように、スペックルに耐えることと、検出感度/スループットを最適化することの間にはトレードオフが存在する。従って、スペックル問題を解決し、これにより大きなスポットサイズの使用を可能にし、ひいては処理能力を高めることが望ましいと思われる。本発明の様々な実施形態によれば、システム及び方法が提供される。この方法は、コヒーレンス低減のために適用することができ、少なくとも2つの光学部品が互いにほぼ対称的に位置する、ループを形成する複数の光学部品を備えた非対称パルスストレッチャにより最初の光パルスを受光するステップと、パルスシーケンス生成期間中に、光パルスに応答して、パルスストレッチャにより一連の複数のパルスを生成するステップとを含むことができ、少なくとも2つの光学部品は、複数のパルスのうちの少なくとも2つの間にコヒーレンスに関する差異をもたらし、パルスシーケンス生成期間は、検出器の応答期間を超えず、この方法は、複数のパルスによりオブジェクトの範囲を照明するステップと、この範囲からの光を検出器によって検出するステップとをさらに含むことができる。この方法は、複数のパルスをオブジェクトの実質的に同じ範囲の方に導くステップを含むことができる。コヒーレンスに関する差異は、少なくとも2つのパルスの入射角の差異とすることができる。コヒーレンスに関する差異は、少なくとも2つのパルスの入射位置の差異とすることができる。この方法は、複数のパルスのうちの2つのパルス間に角度差をもたらすステップと、複数のパルスのうちの2つのパルス間に入射位置差をもたらすステップとを含むことができる。この方法は、複数のパルスのコヒーレント性を低減する第2のスペックル低減部品の方に複数のパルスを導くステップを含むことができる。この方法は、パルスをオブジェクトの方に導く集光レンズの瞳面に位置することができる出力部から、非対称パルスストレッチャにより複数のパルスを出力するステップを含むことができる。この方法は、持続時間が数ナノ秒を超えない最初の光パルスをレーザーから受光するステップを含むことができる。複数の光学部品は複数のミラーを含むことができ、1つのミラーの配向角は、a別のミラーの配向と異なるとともに、b他のミラーの逆向きの配向と異なる配向とも異なる。複数の光学部品は、複数のミラーを含むことができ、少なくとも1つのミラーは、他の全てのミラーの高さとは異なる高さに位置することができる。光学系を提供することもできる。この光学系は、コヒーレンス低減能力を有することができ、最初の光パルスを生成するための光源と、この最初の光パルスを受光して、パルスシーケンス生成期間中に複数の光パルスを生成するように構成された非対称パルスストレッチャとを含むことができ、この非対称パルスストレッチャは、ループを形成する複数の光学部品を備え、これらの複数の光学部品のうちの少なくとも2つの光学部品は互いにほぼ対称的に位置し、少なくとも2つの光学部品は、複数のパルスのうちの少なくとも2つのパルス間にコヒーレンスに関する差異をもたらし、パルスシーケンス生成期間は、検出器の応答期間を超えず、この光学系は、非対称パルスストレッチャとオブジェクトの間に位置し、複数のパルスをオブジェクトの範囲の方に導く集光レンズをさらに含むことができる。集光レンズは、複数のパルスをオブジェクトの実質的に同じ範囲の方に導くように構成することができる。コヒーレンスに関する差異は、少なくとも2つのパルスの入射角の差異とすることができる。コヒーレンスに関する差異は、少なくとも2つのパルスの入射位置の差異とすることができる。非対称パルスストレッチャは、複数のパルスのうちの2つのパルス間に角度差をもたらし、複数のパルスのうちの2つのパルス間に入射位置差をもたらすように構成することができる。非対称パルスストレッチャは、複数のパルスのコヒーレント性を低減する第2のスペックル低減部品の方に複数のパルスを導くように構成することができる。非対称パルスストレッチャは、パルスをオブジェクトの方に導く集光レンズの瞳面に位置することができる出力部から複数のパルスを出力するように構成することができる。光源はレーザーとすることができ、最初の光パルスの持続時間は数ナノ秒を超えない。複数の光学部品は複数のミラーを含むことができ、1つのミラーの配向角は、a別のミラーの配向と異なるとともに、b他のミラーの逆向きの配向と異なる配向とも異なる。複数の光学部品は複数のミラーを含むことができ、少なくとも1つのミラーは、他の全てのミラーの高さとは異なる高さに位置することができる。添付図面を参照しながら、本発明のさらなる詳細、態様及び実施形態をほんの一例として説明する。以下の明細書では、本発明の特定の実施形態例を参照しながら本発明について説明する。しかしながら、添付の特許請求の範囲に示す本発明のより広範な思想及び範囲から逸脱することなく、本明細書において様々な修正及び変更を行えることが明らかであろう。本発明を実施する装置は、その大部分が当業者に既知の電子部品及び回路で構成されているので、回路の詳細については、本発明の基本概念を理解して評価できるように、また本発明の教示が曖昧になったり、又はこの教示からそれたりすることがないように、上述したような必要と考えられる範囲を超えて説明していない。上記を考慮すれば、本発明の1つの特徴は、半導体デバイスの製造で使用するオブジェクトの検査中におけるスペックルを低減するための光学系を提供することである。本発明の別の特徴は、短波長、特に深UV領域で動作する検査システムにおけるスペックルを低減するための光学系を提供することである。本発明のさらなる特徴は、パルスレーザービーム、特に5~50ns領域のパルスを使用する検査システムにおけるスペックルを低減することである。本発明は、上記の及びその他の特徴を提供し、上述した先行技術の限界を克服し、以下の詳細な説明を読んで理解した時に明らかになる様々な問題点を解決するために、半導体デバイス、特にウェハ、マスク、フォトマスク及びレチクルの製造で使用するオブジェクトの検査中におけるスペックルを低減するための方法及び装置を提供する。本発明によれば、パルスシーケンス生成期間と呼ばれる期間中に、非対称パルスストレッチャによって光パルスが複数のパルスに変換される。このパルスシーケンス生成期間は、検出器の応答期間よりも短く、従って検出器は、これらの複数のパルスに起因してオブジェクトから反射又は散乱された光を実質的に積分する。これらの複数のパルスは、これらの入射角の差異、これらの入射位置の差異、又はこの両方などの、コヒーレンスに関する差異によって互いに異なる。或いは、これらの複数のパルスのうちの少なくとも2つのパルスは、コヒーレンスに関する差異によって互いに異なる。この複数のパルスの生成は、非対称パルスストレッチャから出力されるパルスの入射角、位置、又はこの両方などの1又はそれ以上の特性によって互いに異なり得る複数のパルスを生成する非対称パルスストレッチャに、最初の光パルスを提供するステップを含む。非対称パルスストレッチャの出力部が、パルスをオブジェクト上に集光する集光レンズの瞳面内に位置する場合、出力パルスの角度の変化が空間的差異に変換され、出力パルスの位置の変化がパルスの入射角の変化に変換される。非対称パルスストレッチャは、非対称的に配置されたレンズ、ミラー、ビームストリッパ、グリッドなどの光学要素を有することができる。複数のパルスは、オブジェクトの実質的に同じ範囲の方に導かれる。この範囲からの光が、限定ではないが撮像検出器などの検出器により検出される。検出器の応答期間は、検出器の積分期間とすることができる。図1に、本発明に従って使用する例示的なシステム1を示す。図1に示すシステム機器は透過モードで動作し、図2に示すシステムは反射モードで動作している。しかしながら、透過モード及び反射モードの両方で動作するシステムも本発明の企図の範囲内にあると理解されたい。少なくとも透過動作モードでは、ビームがコヒーレンス低減/スペックル低減装置に入る前に、ビームホモジナイザを使用すべきである。さらに、これらの両図には、オブジェクトを実質的に垂直に照明するように示しているが、必ずしもそうとは限らない。従って、明視野反射分布垂直、暗視野反射分布裏側、及びGrayfield商標反射分布垂直と裏側の間を生じさせる様々な斜照明角を使用することができる。図1では、ウェハ、マスク、フォトマスク又はレチクルなどの被検査オブジェクト80が、オブジェクト80の検査面により定められる平面内の2方向にオブジェクト80を動かすx-yステージ上75に配置される。本発明の実施形態によれば、システム1は、オブジェクト80の片側に位置するレーザー20などのパルス光源を含む。レーザー20は、コヒーレントパルス、略コヒーレントパルス、又は低コヒーレントレベルのパルスを発生することができる。パルスのコヒーレンスは、非対称パルスストレッチャ100により、及び任意に第2のスペックル低減部品40又はシステム1のその他の要素図示せずによりさらに低減される。これらのパルスは、UV領域又は深UV領域の短波長レーザーパルスとすることができる。レーザー20から放出されたパルスは、複数のパルスを生成する非対称パルスストレッチャ100を通じて導かれる。これらの複数のパルスは、フィルディフューザ30、第2のスペックル低減部品40、追加の光学系60、集光レンズ70、オブジェクト80を通じて伝播し、最終的に検出器90に到達する。なお、好適な構造により定められる他の光学経路を含む、オブジェクト80上にビームを導く他の手段を使用することもできる。検出器90により、オブジェクト80を通過する光が検出される。検出器90は、時間遅延積分TDIセンサ又はCCDセンサとすることができ、これらは、ラインセンサであっても、又は二次元センサであってもよい。検出器90は、オブジェクト80を搭載するステージ75をレーザー20に対して連続的に移動させながら、オブジェクト80を撮像することができる。追加の光学系60は、ディフューザ、自動焦点光学系、ホモジナイザ及びリレーレンズなどを含むことができる。システム1の様々な部品は、コントローラ10によって制御することができる。なお、分散制御スキーム及び集中制御スキームの両方を適用することができる。コントローラ10は、いつ光パルスを生成すべきか、及び非対称パルスストレッチャ100の特性をいつどのように変化させるべきかを決定することができる。非対称パルスストレッチャ100は、第2のスペックル低減部品40などの別の部品の入力領域よりも小さな出力領域を通じてパルスを出力する。これらの差分を補償するために、非対称パルスストレッチャ100の後にフィルディフューザ30を配置する。検出器90に到達する光は、ある範囲に関する情報、特にオブジェクト80の照明範囲内の1又はそれ以上のパターンに関する情報、及びオブジェクト80内及びその表面上に存在するあらゆる欠陥の情報を含む。レーザー20のコヒーレントな性質、及び考えられる欠陥のサイズと比較したレーザー20の動作波長により、検出器90においてスペックルが生じる可能性がある。スペックルは、予測不能な信号不均一性を生じ、これにより欠陥の識別がより困難になり、一部の微視的欠陥が検出されないままになる可能性がある。従って、光ビームのコヒーレンスを壊すことによりスペックルを低減する必要がある。コヒーレンス低減は、非対称パルスストレッチャ100及び第2のスペックル低減部品40によって行われる。第2のスペックル低減部品40は、先行技術のスペックル低減技術を利用することができる。この部品は、1又はそれ以上の階段状のガラス、1又はそれ以上のファイバー束などを含むことができる。スペックル低減を含むオブジェクト検査のための方法及び装置Methodandapparatusforobjectinspectionincludingspeckiereductionという名称の米国特許第7,463,352号、空中撮像を使用するレチクル検査のための方法及び装置Methodandapparatusforreticleinspectionusingaerialimagingという名称の米国特許第7,133,548号、スペックル低減を含むオブジェクト検査のための方法及び装置Methodandapparatusforobjectinspectionincludingspecklereductionという名称の米国特許第6,924,891号、スペックル低減を含むオブジェクト検査のための方法及び装置Methodandapparatusforobjectinspectionincludingspecklereductionという名称の米国特許第6,798,505号、照明光学配列Illuminationopticalarrangementという名称の米国特許第4,619,508号、及びレーザーのための制御可能な空間的インコヒーレンスエシュロンControllablespatialincoherenceechelonforlaserという名称の米国特許第4,521,075号に様々なスペックル低減要素及び方法が記載されており、これらは全て引用により本明細書に組み入れられる。図2に、本発明の実施形態によるシステム2を示す。システム2は、反射モードで動作する。図1に示すシステム1を参照すると分かるように、同じ要素には同じ番号を付している。システム2は、a光パルスを集光レンズ70及びオブジェクト80の方に導くとともに、bオブジェクト80及び集光レンズ70からの光を検出器90の方に導くビームスプリッタ65をさらに含む。図3には、本発明の実施形態による、レーザー20、非対称パルスストレッチャ100、集光レンズ70及びオブジェクト80、並びに様々なパルスの経路破線で示すを示す。説明を簡単にするために、これらのパルスの経路は縮尺通りでなく、またシステム1の複数の部品を示していない。レーザー20からの単一のパルスに応答して、非対称パルスストレッチャ100により、パルスA210、B220、C230、D240及びE250が異なる時点で出力される。非対称パルスストレッチャ100は、これらのパルス間に側方変位をもたらし、これらの側方変位は、オブジェクト80に対する入射角変化に変換される。パルスA210、B220、C230、D240及びE250は、オブジェクト80上の実質的に同じスポットを照明する。図4には、本発明の実施形態による、レーザー20、非対称パルスストレッチャ100、集光レンズ70及びオブジェクト80、並びに様々なパルスの経路破線で示すを示す。説明を簡単にするために、これらのパルスの経路は縮尺通りではなく、またシステム1の複数の部品を示していない。レーザー20からの単一のパルスに応答して、非対称パルスストレッチャ100により、パルスA310、B320、C330、D340及びE350が異なる時点で出力される。非対称パルスストレッチャ100は、これらのパルス間に角度差をもたらし、これらの角度差は、オブジェクト80に対する位置差に変換される。パルスA310、B320、C330、D340及びE350は、オブジェクト80上の1つの範囲を照明する。図5に、対称パルスストレッチャ1000を示す。対称パルスストレッチャ1000は、入力ビームスプリッタ104、出力ビームスプリッタ114、並びに左上ミラー102、右上ミラー112、左下ミラー106及び右下ミラー116などの4つの反射要素などの複数の光学部品を含む。これらの光学部品は、2列に配置される。入力ビームスプリッタ104は、左上ミラー102の下方かつ左下ミラー106の上方に位置する。出力ビームスプリッタ114は、右上ミラー112の下方かつ右下ミラー116の上方に位置する。これらの複数の光学部品は、a左上ミラー102が、右上ミラー112に対して対称的に位置するとともに対称的に配向され、b左下ミラー106が、右下ミラー116に対して対称的に位置するとともに対称的に配向され、c出力ビームスプリッタ114が、入力ビームスプリッタ104に対して対称的に位置するとともに対称的に配向されるように、仮想垂直軸111を中心に対称的に配置される。この対称性により、これらの光学要素によって定められるループに入り込む光ビームは、対称パルスストレッチャ1000の同じ位置から同じ方向に出る一連の光パルスに変換されるようになる。図6~図11に、本発明の様々な実施形態による非対称パルスストレッチャ100を示す。これらの非対称パルスストレッチャ100では、少なくとも1つの光学部品が、図5に示す対称的な配置から配向、高さ、位置又はこれらの組み合わせが逸脱している。これらの逸脱により、出力される複数の光ビームは、その位置、及びこれに加えて又はこれとは別に、伝搬方向角度が互いに異なるようになる。例えば、ミラー102、106、112及び116のうちの1又はそれ以上のミラーを、図5に示す対称的な構成のわずかに外側に配置すること、又はこの対称的な位置よりも若干上方に配置することができる。ビームスプリッタ104及び114についても同様である。この非対称性により、ループ内の各反復中に光が通過する経路が変化し、出力される複数のビームは、その遅延、利得、及びこれに加えて又はこれとは別に、方向が互いに異なるようになる。例えば、光学要素の位置が0.1μほど僅かに位置ずれすると、出力パルス間に約1μの差分が生じ得る。これらの光学部品の少なくともいくつかは、対称的な構成に対して回転することができ、又は対称的な構成に対してその位置を変化させることができる。図6では、右上ミラー112が、121で示すその対称的な位置に対して上昇し、左下ミラー1062が、126で示すその対称的な位置に対して上昇している。図7では、右上ミラー112が、121で示すその対称的な位置に対して傾斜している。図8では、右上ミラー112が、121で示すその対称的な位置に対して回転して上昇している。図9では、右上ミラー112が、121で示すその対称的な位置に対して上昇している。図10では、右上ミラー112及び出力ビームスプリッタ114が、それぞれ121及び124で示すその対称的な位置に対して上昇している。図11では、右上ミラー112が、121で示すその対称的な位置に対して上昇し、左下ミラー1062が、126で示すその対称的な位置に対して上昇するとともに、その対称的な位置に対して回転している。なお、対称性からの逸脱は、光学部品102、104、106、112、114及び116のいずれにも適用することができる。また、対称的な位置からの逸脱は、左への平行移動、右への平行移動、及びこれらの組み合わせを含むことができる。これまでの図を参照すると、レーザー20から送られた図5の最初の入力パルス400の一部は、ビームスプリッタ104及び114を通じて伝播して、最初のパルスをもたらすことができる。このパルスの一部は、入力ビームスプリッタ104により、左下ミラー106、右下ミラー116及び出力ビームスプリッタ114の方に導かれて、別のパルスをもたらすことができる。右下ミラー116からのパルスの一部は、出力ビームスプリッタ114を通過して右上ミラー112の方に伝搬し、左上ミラー102及び入力ビームスプリッタ104の方に反射される。このパルスの一部は、入力ビームスプリッタ104から出力ビームスプリッタ114の方に導かれ、別の部分は、入力ビームスプリッタ104を通過して左下ミラー106の方に伝搬する。従って、例えばミラー112と他のあらゆる部品102、104、106、114、116との間の角度、又はビームスプリッタ114の他のあらゆる部品102、104、106、112、116に対する相対変位などの、少なくとも2つの光学部品の相対角度及び/又は相対変位を変化させることにより、照明経路のさらに下流に位置する集光レンズに対して異なる入射角及び/又は異なる入射位置を有する複数のパルスが生成される。パルスシーケンス生成期間は、検出器の応答期間よりも短いので、検出器は、これらの複数のパルスに起因してオブジェクトから反射又は散乱された光を実質的に積分する。なお、非対称パルスストレッチャ100は、他の構成を有することもできる。1つの非限定的な例によれば、パルスストレッチャ100が、コンパクトパルスストレッチャCompactpulsestretcherという名称の米国特許第7,084,959号に記載されているパルスストレッチャに基づくことができる。このパルスストレッチャは、互いに向き合って位置する第1のプリズム及び第2のプリズムを含む。第1のプリズムには、ビームを螺旋経路で第2のプリズムの方に導く部分的に反射性のインターフェイスによって第1のカップリングプリズムが光学的に結合される。第1のプリズムと第1のカップリングプリズムは、ビームスプリッタを形成する。再循環プリズム又は反射要素が、第1のプリズムからのビームを第2のプリズム内に反射する。第1のプリズム及び第2のプリズムの周囲には複数のミラーが配置されて、第1及び第2のプリズムを通じたビームの再循環を可能にする。ビームは、2又はそれ以上の螺旋経路を使用して、第1及び第2のプリズムを通じて再循環する。この米国特許第7,084,959号に記載されているパルスストレッチャを若干修正してリソグラフィシステムに組み込むことができる。パルスストレッチャのプリズムの1つ又はそれ以上の間の空間的関係を、光が伝搬する螺旋経路を変化させるように変更することにより、このパルスストレッチャを非対称的なものにすることができる。別の非限定的な例によれば、パルスストレッチャ100は、螺旋光学パルスストレッチャという名称の米国特許第7,321,605号に記載されているパルスストレッチャに基づくことができる。このパルスストレッチャは、単一経路パルスストレッチャを含む。この単一経路パルスストレッチャの周囲には、光学系が配置される。この単一経路パルスストレッチャにビームが入り込み、単一経路パルスストレッチャを通過する複数の経路のための光学系を使用して螺旋経路内で反射される。この単一経路パルスストレッチャは、2つの90度プリズムを含み、これらの間にビームスプリッタが位置することができる。この光学系は、第1及び第2のプリズムを含むことができる。この第1及び第2のプリズムの少なくとも一方を、ルーフプリズムとすることができる。第1及び第2のプリズムは、螺旋経路内にビームを導くように配向された少なくとも1つの表面を有することができる。光学系は、少なくとも1つのミラー、又は複数のミラーを有することができる。このパルスストレッチャの、プリズム、ビームスプリッタ及び単一経路パルスストレッチャのうちの1つ又はそれ以上の間の空間的関係を変更することにより、このパルスストレッチャを非対称的なものにすることができる。図12に、本発明の実施形態による方法500を示す。方法500は、システム1及びシステム2のいずれか一方により実行することができる。方法500は、非対称パルスストレッチャにより最初の光パルスを受光する段階510により開始する。非対称パルスストレッチャは、ループを形成する複数の光学部品を含む。これらの複数の光学部品のうちの少なくとも2つの光学部品は、互いにほぼ対称的に位置する。この最初の光パルスは、レーザーによって生成することができ、この最初の光パルスの持続時間は、数ナノ秒を超えない。段階510の前には、レーザーなどの光源によって最初の光パルスを生成する段階図示せずが存在することができる。この最初の光パルスは、必ずしもそうとは限らないが、コヒーレント又はほぼコヒーレントとすることができる。段階510の後には、パルスシーケンス生成期間中に、及び最初の光パルスに応答して、非対称パルスストレッチャにより複数のパルスを生成する段階520が続く。非対称パルスストレッチャの少なくとも2つの光学部品が、これらの複数のパルスのうちの少なくとも2つのパルス間に、コヒーレンスに関する差異をもたらす。パルスシーケンス生成期間は、検出器の応答期間を超えない。このコヒーレンスに関する差異は、少なくとも2つのパルスの入射角の差異、少なくとも2つのパルスの入射位置の差異、又はこれらの組み合わせとすることができる。非対称パルスストレッチャは、パルスをオブジェクトの方に導く集光レンズの瞳面内に位置する出力部から複数のパルスを出力する。従って、これらの複数のパルスは、互いに入射角が異なるパルスの対、及び入射位置が異なるさらに別のパルスの対を含むことができる。さらに別の例では、これらの複数のパルスが、入射角及び入射位置が互いに異なるパルスの対を含むことができる。段階520の後には、複数のビームが、非対称パルスストレッチャとオブジェクトの間に位置する複数の部品と相互作用できるようにする段階530が続く。段階530は、例えば、複数のビームを、フィルディフューザ、ホモジナイザ、1又はそれ以上のレンズ及び第2のスペックル低減部品を通過させるステップを含むことができる。後者の場合、段階530は、第2のスペックル低減部品によって複数のパルスのコヒーレント性を低減するステップを含むことができる。段階530の後には、複数のパルスによってオブジェクトの範囲を照明する段階540が続く。段階540は、この範囲からの光を検出器によって検出するステップを含むことができる。この範囲は、非常に小さくできるとともに、この光パルスの1つによってオブジェクト上に形成される約1つのスポットのサイズと実質的に等しくすることができる。この範囲は、特にスポット間に空間変位がもたらされた場合には、ほんのいくつかのスポットと等しくすることができる。この範囲は、数平方ミクロン~数平方ミリメートルに及ぶことができる。オブジェクトと、非対称パルスストレッチャ及び集光レンズなどの光学部品との間に相対移動をもたらしながら、段階510~540を反復することができる。この相対移動により、オブジェクト全体又はオブジェクトの選択領域を撮像することができる。この反復を、オブジェクトと光学部品の間に相対移動をもたらす段階550によって示す。段階550の前には段階540が行われ、段階550の後には段階510及び段階560が続く。段階560は、段階510~段階550の反復によって取得した画像に基づいて、欠陥の検出、測定、又はこれらの両方を行うステップを含む。さらに、当業者であれば、上述した動作の機能間の境界は例示にすぎないと認識するであろう。複数の動作の機能を単一の動作に組み合わせることができ、及び/又は単一の動作の機能をさらなる動作に分散させることもできる。さらに、別の実施形態は、複数の特定の動作例を含むことができ、他の様々な実施形態では、動作の順序を変更することができる。従って、本明細書に示したアーキテクチャは例示にすぎず、実際には同じ機能を実現する他の多くのアーキテクチャを実装できると理解されたい。抽象的ではあるが明確な意味では、同じ機能を実現するための部品のあらゆる配置は、所望の機能が実現されるように効果的に関連する。従って、特定の機能を実現するように本明細書で組み合わせたいずれかの2つの部品は、アーキテクチャ又は中間部品に関わりなく所望の機能が実現されるように互いに関連していると見なすことができる。同様に、このように関連しているいずれか2つの部品は、所望の機能を実現するように互いに動作可能に接続又は動作可能に結合されていると見なすこともできる。また、本発明は、非プログラマブルハードウェアで実現された物理的デバイス又はユニットに限定されず、好適なプログラムコードに従って動作することにより所望のデバイス機能を実行できるプログラマブルデバイス又はユニットに適用することもできる。さらに、これらのデバイスを物理的に複数の装置に分散させながら、単一のデバイスとして機能的に動作させることもできる。しかしながら、その他の修正、変形及び代替も可能である。従って、本明細書及び図面は、限定的な意味ではなく例示的な意味で捉えるべきである。特許請求の範囲では、備えるcomprisingという単語は、特許請求の範囲内に列挙する要素又はステップから他の要素又はステップの存在を除外するものではない。さらに、詳細な説明及び特許請求の範囲に前方front後方back上部top底部bottom上方over下方underなどの用語が存在する場合、これらは説明目的で使用しているものであり、必ずしも恒久的な相対位置を記載するものではない。このように使用されるこれらの用語は、本明細書で説明した本発明の実施形態が、例えば本明細書で図示又は別様に説明した配向以外の配向で動作できるように、適当な状況下では同義的に使用できると理解されたい。さらに、本明細書で使用する1つの英文不定冠詞という用語は、1又は1よりも多くの、と定義される。また、特許請求の範囲における少なくとも1つのatleastone及び1又はそれ以上のoneormoreなどの前置き表現について、たとえ同じ請求項に1又はそれ以上のoneormore又は少なくとも1つのatleastoneという前置き表現及び1つの英文不定冠詞などの不定の目的語が含まれている場合でも、1つの英文不定冠詞という不定の目的語による別の請求項要素を取り入れることにより、このような取り入れた請求項要素を含むいずれかの特定の請求項がたった1つのこのような要素を含む発明に限定されることを意味すると解釈すべきではない。限定的な目的語の使用についても同様である。特に明記しない限り、第1のfirst及び第2のsecondなどの用語は、このような用語によって説明する要素を任意に区別するために使用するものである。従って、これらの用語は、必ずしもこのような要素の時間的な又はその他の優先順序付けを示すことを意図するものではない。互いに異なる請求項にいくつかの手段が記載されているという事実だけでは、これらの手段の組み合わせを使用して利益を得ることを示すことにはならない。"