レーザービームを発生するためのレーザー発振器1と、レーザービームを通すレーザーヘッド3と、上記レーザー発振器1と上記レーザーヘッド3との間でレーザービームを伝えるための光学路2と、メインガスパイプ8によって流体を流通可能にレーザーヘッド3へ接続されたガス供給源9と、を有し、上記ガス供給源9を上記レーザー発振器1へ流体を流通可能に接続する第2パイプ18をさらに有することを特徴とするレーザー機械加工設備。上記ガス供給源9は、少なくとも900リッター、好ましくは少なくとも3000リッターの容量を有する貯蔵容器であることを特徴とする請求項1に記載の設備。上記第2パイプ18に沿って配置され、上記発振器1内へ導入される前に、上記ガス供給源9からくるガスの圧力を減少することができるようにする、ガス拡張装置20を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の設備。上記ガス供給源9は、液体窒素貯蔵容器であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちいずれか1項に記載の設備。上記ガス供給源9は、メインパイプ8によって、上記レーザーヘッド3および上記光学路2へ流体を流通可能に接続されていることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の設備。上記ガス供給源9と上記メインパイプ8或いは上記第2パイプ18との間に配置されたガス気化器10、および/或いは、水蒸気、炭化水素、および酸素の中から選択された少なくとも1つの不純物を除去できるようにデザインされたフィルター或いは吸着剤を有するガス精製装置11、を有することを特徴とする請求項3乃至請求項5のうちいずれか1項に記載の設備。上記発振器1には、さらに、1つ或いはそれ以上のガスシリンダー11から来る少なくともCO2およびヘリウム或いはCO2/He混合物が供給されることを特徴とする請求項1乃至請求項6のうちいずれか1項に記載の設備。上記レーザー発振器は、CO2タイプの発振器であることを特徴とする請求項1乃至請求項7のうちいずれか1項に記載の設備。上記レーザー発振器1、上記光学路2、および上記レーザーヘッド3は、建物の内側に配置され、上記ガス供給源9は、上記建物の外に配置され、上記シリンダーは、好ましくは、上記建物の内側にあることを特徴とする請求項1乃至請求項8のうちいずれか1項に記載の設備。ガス供給源9からくるガスとともに、レーザー発振器1、レーザーヘッド3、および上記レーザー発振器1と上記レーザーヘッド3との間でレーザービームを伝えるための光学路2を有するレーザー機械加工設備を供給するための方法であって、a上記ガス供給源9からくるガスのいくらかが、上記ガス供給源9を上記レーザーヘッド3へ接続するメインガスパイプ8内、および上記ガス供給源9を上記レーザー発振器1へ接続する第2パイプ18内で運ばれ、b上記レーザーヘッド3が、上記メインパイプ8からくるガスを供給され、上記発振器が、上記第2パイプからくるガスを供給されることを特徴とする方法。上記メインパイプ8からのガスは光学路2内へ導入されることを特徴とする請求項10に記載の方法。上記ガスは窒素であることを特徴とする請求項11に記載の方法。上記ガスの圧力は、上記光学路2、上記発振器1、および/或いは上記レーザーヘッド3内へ導入される前に調節されることを特徴とする請求項11または請求項12に記載の方法。上記ガス供給源は、少なくとも900リッター、好ましくは少なくとも3000リッターの容量を有する貯蔵容器9であることを特徴とする請求項11乃至請求項13のうちいずれか1項に記載の方法。上記発振器1には、さらに、1つ或いはそれ以上のガスシリンダー11からくる酸素およびCO2或いはCO2/He混合物が供給されることを特徴とする請求項11乃至請求項14のうちいずれか1項に記載の方法。