"基材と、前記基材上に形成され、遮光性材料、フッ素系撥液性材料及び樹脂を含むブラックマトリックスと、を有するブラックマトリックス基板であって、前記遮光性材料が染料であり、前記ブラックマトリックスの高さをaとし、かつ、当該ブラックマトリックスの最上面のフッ素量を100とした場合、基材から5a/10の高さにおけるフッ素量が0~20であることを特徴とするブラックマトリックス基板。基材と、前記基材上に形成され、遮光性材料、フッ素系撥液性材料及び樹脂を含むブラックマトリックスと、前記基材上であって、ブラックマトリックスによって形成される開口部に形成される着色層と、を有するカラーフィルタであって、当該カラーフィルタにおける少なくとも一部のブラックマトリックスにおいては、前記遮光性材料が染料であり、前記ブラックマトリックスの高さをaとし、かつ、当該ブラックマトリックスの最上面のフッ素量を100とした場合、基材から5a/10の高さにおけるフッ素量が0~20であることを特徴とするカラーフィルタ。相対向するカラーフィルタ及び対向電極基板と、前記両者間に密封された液晶層とを有する液晶表示装置において、前記カラーフィルタが、基材と、前記基材上に形成され、遮光性材料、フッ素系撥液性材料及び樹脂を含むブラックマトリックスと、前記基材上であって、ブラックマトリックスによって形成される開口部に形成される着色層と、を有し、当該カラーフィルタにおける少なくとも一部のブラックマトリックスにおいては、前記遮光性材料が染料であり、前記ブラックマトリックスの高さをaとし、かつ、当該ブラックマトリックスの最上面のフッ素量を100とした場合、基材から5a/10の高さにおけるフッ素量が0~20であることを特徴とする液晶表示装置。しかしながら、ブラックマトリックス形成用塗工液中に撥液性材料を含有する方法によれば、プラズマ処理と比べて着色層を平坦化することはできるものの、まだまだ不十分であり、改良の余地があった。本発明はこのような状況においてなされたものであり、例えばインクジェット方式により着色層を形成した場合にその表面が平坦であり、かつ着色層を形成する着色材がブラックマトリックスを超えて隣接する着色層の着色材と混ざってしまう決壊を生じることがないブラックマトリックス基板を提供するとともに、輝度及びコントラストが高いカラーフィルタ、及び液晶表示装置を提供することを主たる課題とする。上記課題を解決するための第1の発明は、基材と、前記基材上に形成され、遮光性材料、フッ素系撥液性材料及び樹脂を含むブラックマトリックスと、を有するブラックマトリックス基板であって、前記遮光性材料が染料であり、前記ブラックマトリックスの高さをaとし、かつ、当該ブラックマトリックスの最上面のフッ素量を100とした場合、基材から5a/10、つまりa/2の高さにおけるフッ素量が0~20であることを特徴とする。上記課題を解決するための第2の発明は、基材と、前記基材上に形成され、遮光性材料、フッ素系撥液性材料及び樹脂を含むブラックマトリックスと、前記基材上であって、ブラックマトリックスによって形成される開口部に形成される着色層と、を有するカラーフィルタであって、当該カラーフィルタにおける少なくとも一部のブラックマトリックスにおいては、前記遮光性材料が染料であり、前記ブラックマトリックスの高さをaとし、かつ、当該ブラックマトリックスの最上面のフッ素量を100とした場合、基材から5a/10の高さにおけるフッ素量が0~20であることを特徴とする。上記課題を解決するための第3の発明は、相対向するカラーフィルタ及び対向電極基板と、前記両者間に密封された液晶層とを有する液晶表示装置において、前記カラーフィルタが、基材と、前記基材上に形成され、遮光性材料、フッ素系撥液性材料及び樹脂を含むブラックマトリックスと、前記基材上であって、ブラックマトリックスによって形成される開口部に形成される着色層と、を有し、当該カラーフィルタにおける少なくとも一部のブラックマトリックスにおいては、前記遮光性材料が染料であり、前記ブラックマトリックスの高さをaとし、かつ、当該ブラックマトリックスの最上面のフッ素量を100とした場合、基材から5a/10の高さにおけるフッ素量が0~20であることを特徴とする。本発明によれば、例えばインクジェット方式により着色層を形成した場合に、その表面が平坦であり、かつ着色層を形成する着色材がブラックマトリックスを超えて隣接する着色層の着色材と混ざってしまう決壊を生じることがないブラックマトリックス基板を提供することができる。また、輝度及びコントラストが高いカラーフィルタ、及び液晶表示装置を提供することもできる。以下、本発明のブラックマトリックス基板、カラーフィルタ、及び液晶表示装置について図面を用いて説明する。図1は、ブラックマトリックス基板の概略断面図である。図1に示すように、ブラックマトリックス基板1は、基材2と、当該基材2上に形成され、遮光性材料、フッ素系撥液性材料31及び樹脂32を含むブラックマトリックス3とから構成されている。そして、遮光性材料は染料であることに特徴を有する。本出願人らは、ブラックマトリックス形成用塗工液中に撥液性材料を含有する方法を採用してもなお、着色層の平坦化が不十分である原因について鋭意検討した結果、以下のような原因を解明した。つまり、通常のブラックマトリックス形成用塗工液には遮光性材料として顔料が用いられており、これは当該塗工液中に溶解はしておらず固体として分散している。そうすると、当該顔料と溶剤との界面に撥液性材料が分布してしまう場合があり、この状態で顔料がブラックマトリックスの側面の表面近くに存在すると、当該部分に不要な撥液性能をもたらし、これが原因で着色層が凸状となってしまう場合がある。このような原因解明の結果なされた本実施形態によれば、第1に、ブラックマトリックスを構成する遮光性材料として顔料ではなく染料が用いられているため、当該染料はブラックマトリックス形成用塗工液中に溶解するので、上述のように撥液性材料が凝集してブラックマトリックスの側面に存在することを防止できる。そしてその結果、本実施形態における撥液性材料としてフッ素系のものを採用することで、ブラックマトリックスの最上面のフッ素量に対する、高さaのブラックマトリックスにおける5a/10、つまりa/2の高さ位置におけるフッ素量を限定することが可能となり、これによりブラックマトリックスの側面には撥液性材料がほとんど存在しておらず、これにより着色層の平坦化を図ることができる。以下、各構成について具体的に説明する。基材ブラックマトリックス基板1の基材2としては、その上にブラックマトリックス3、さらには各色着色層など種々の構成を形成することが可能であればよく、例えば、従来からカラーフィルタに用いられるものを用いることができる。具体的には、例えば紙に樹脂を積層した積層板、ガラス布やガラス不織布に樹脂を積層した積層板、セラミック、金属、石英ガラス、パイレックス登録商標ガラス、無アルカリガラス等を挙げることができる。また、当該基材2は、透明な基材であってもよく、一方で反射性の基材や白色に着色した基材であってもよい。ブラックマトリックス前記基材2上に形成されたブラックマトリックス3は、前述の通り、少なくとも、遮光性材料としての染料、フッ素系撥液性材料31及び樹脂32により構成される。なお、当該ブラックマトリックス3は、以下で説明するこれら以外を含んでいてもよい。ブラックマトリックス形成用塗工液また、基材2上にブラックマトリックス3を形成するにあたり、フォトリソグラフィ法を用いる場合においては、ブラックマトリックス3を構成する遮光性材料としての染料、フッ素系撥液性材料31及び樹脂32、さらには光重合開始剤などを溶剤に溶解してなるブラックマトリックス形成用塗工液が用いられる。以下にブラックマトリックス3やブラックマトリックス形成用塗工液に含まれる遮光性材料としての染料、フッ素系撥液性材料31及び樹脂32、溶剤、光重合開始剤などについて詳細に説明する。遮光性材料としての染料ブラックマトリックス3を構成する遮光性材料は、染料であることが必須であるが、染料であれば特に限定されることはなく、各種染料を適宜選択して用いることができる。例えば、アゾ染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料、トリアリールメタン染料、キサンテン染料、アリザリン染料、アクリジン染料スチルベン染料、チアゾール染料、ナフトール染料、キノリン染料、ニトロ染料、インダミン染料、オキサジン染料、フタロシアニン染料、シアニン染料等の染料等が挙げられ、これらは複数を混合して用いてもよい。フッ素系撥液性材料ブラックマトリックス3を構成するフッ素系撥液性材料とは、フッ素元素を含み表面エネルギーが低い化合物、いわば含フッ素化合物のことを言う。ここで、含フッ素化合物としては、フッ素原子を有する高分子化合物、親水基及び/または親油基と含フッ素基の両方を有するモノマー低分子化合物あるいはオリゴマーなどがある。例えば、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、三フッ化エチレンの単独重合体、これらと四フッ化エチレンや他の溶媒可溶性モノマーとの共重合体等があげられる。このように溶解状態あるいは分子オーダーで含有されるものは、パターニング精度を向上する点では有利である。一般にフッ素系界面活性剤として知られている材料も用いることができ、親水基または親油基の構造を選択することで感光剤との混合状態を良好にすることができる。フッ素系界面活性剤の含フッ素基としては、CnFn=1~50のパーフルオロアルキル基、また、この中の1つまたは複数のフッ素原子をCnF鎖で置換した枝別れタイプ、さらに芳香環の水素原子の一部または全部をFまたはCnFで置換したタイプ、及び4フッ化エチレンのフッ素原子をCF3で置換したタイプを用いることができる。パーフルオロアルキル基の場合、その炭素鎖長に制限はないが、好ましくはn<20、より好ましくは3<n<15が効果的である。芳香環タイプとしては、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、トリフルオロベンゼン、パーフルオロベンゼン、フルオロフェノール、及びその誘導体を用いることができる。この様な含フッ素基は界面活性剤の中に単独もしくは複数個存在することができる。特に含フッ素成分として末端のCF3を基本構造単位内に2つ以上含有するものはインキ反発性の点でCF3が1つの構造に比べて非常に優れており、より好ましい。具体的には、モノマー内、またはオリゴマーが基本構成単位の繰り返しで構成されている場合には、基本構成単位内にCnFの直鎖状の側鎖を2つ以上含む構造はいずれも良好なインキ反発性を実現できる。親水基としては、OH基、カルボン酸、スルホン酸、リン酸及びその塩、アンモニウム塩、エチレンオキシド、及びポリエチレンオキシド等が効果的である。親油基としては鎖状炭化水素、芳香環等疎水性を示す構造はすべて用いることができる。オリゴマーの場合、主鎖にこれらの含フッ素基、親水基、及び親油基がペンダントされている構造がより効果的である。これらの中でも、含フッ素化合物は、含フッ素基と、親水基及び/または親油基を有するモノマーまたはオリゴマーであることが好ましい。含フッ素基と、親水基及び/または親油基を有するモノマーまたはオリゴマーは、一般式Rf-X-Rf、または一般式Rf-X-R-Y-Rf-X-Rfで表される化合物を含むことが好ましい。ここで、Rf及びRfはフルオロアルキル基、R及びRはアルキレン基を表し、RfとRfまたRとRは同一でも異なっていてもよい。また、X、X、及びYは、-COO-、-OCOO-、―CONR―、―OCONR―、―SO2NR―、―SO2―、―SO2O―、―O―、―NR―、―S―、-CO-、―OSO2O―、―OPOOHO―のうちの何れかを表し、X、X、及びYは同一でも異なっていてもよい。Rは、アルキル基または水素を表す。樹脂ブラックマトリックス3を構成する樹脂32は、前記遮光性材料としての染料およびフッ素系撥液性材料31を含んだ状態で硬化し、所望のパターン形状をなすことができる樹脂であれば特に限定されることはなく、ブラックマトリックス3の製造方法などを考慮した上で従来から用いられている樹脂を適宜選択して用いることができる。前述もしたが、例えばフォトリソグラフィ法によりブラックマトリックス3を製造する場合における樹脂32としては、感光性樹脂を用いることとなり、より具体的には、カルド樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-塩化ビニル共重合体、エチレン-ビニル共重合体、ポリスチレン、アクリロニトリル-スチレン共重合体、ABS樹脂、ポリメタクリル酸樹脂、エチレン-メタクリル酸樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩素化塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂等を例示することができる。さらに、重合可能なモノマーであるメチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n-プロピルメタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート、sec-ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、tert-ブチメタアクリレート、n-ペンチルメタアクリレート、n-ヘキシルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタアクリレート、n-オクチルメタアクリレート、n-デシルメタアクリレート、スチレン、α-メチルスチレン、N-ビニル-2-ピロリドン、グリシジルメタアクリレートの中から選ばれる1種以上と、メタアクリル酸、アクリル酸の二量体例えば、東亞合成化学株製M-5600、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの無水物の中から選ばれる1種以上からなるポリマー又はコポリマーも例示できる。また、上記のコポリマーにグリシジル基又は水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させたポリマー等も例示できるが、これらに限定されるものではない。上記例示の中でも、エチレン性不飽和結合を含有する樹脂は、モノマーと共に架橋結合を形成し、優れた強度が得られるので、特に好ましく用いられる。また、この場合に用いることが可能なモノマーとしては、例えば多官能アクリレートモノマーが挙げられ、アクリル基やメタクリル基等のエチレン性不飽和結合含有基を2つ以上有する化合物を用いることができる。具体的には、エチレングリコールメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ヘキサンジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、グリセリンジメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート等を例示することができる。さらに、上記多官能アクリレートモノマーは、2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、本発明においてメタアクリルとはアクリル又はメタクリルのいずれかであることを意味し、メタアクリレートとはアクリレート基又はメタクリレートのいずれかであることを意味する。溶剤ブラックマトリックス形成用塗工液に含まれる溶剤としては、アルコールやエーテル、さらにはエチレングリコールアルキルエーテルアセテートなどを用いることができる。より具体的には、例えば、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルセルソルブ、3-メトキシブチルアセテート等を挙げることができる。また、ブラックマトリックス形成用塗工液に含まれる光重合開始剤としては、紫外線、電離放射線、可視光、或いは、その他の各波長、特に365nm以下のエネルギー線で活性化し得る光ラジカル重合開始剤を使用することができる。そのような光重合開始剤として具体的には、ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、4,4-ビスジメチルアミンベンゾフェノン、4,4-ビスジエチルアミンベンゾフェノン、α-アミノアセトフェノン、4,4-ジクロロベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4-メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、p-tert-ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2-tert-ブチルアントラキノン、2-アミルアントラキノン、β-クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4-アジドベンジルアセトフェノン、2,6-ビスp-アジドベンジリデンシクロヘキサン、2,6-ビスp-アジドベンジリデン-4-メチルシクロヘキサノン、2-フェニル-1,2-ブタジオン-2-o-メトキシカルボニルオキシム、1-フェニル-プロパンジオン-2-o-エトキシカルボニルオキシム、1,3-ジフェニル-プロパントリオン-2-o-エトキシカルボニルオキシム、1-フェニル-3-エトキシ-プロパントリオン-2-o-ベンゾイルオキシム、ミヒラーケトン、2-メチル-1[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n-フェニルチオアクリドン、4,4-アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製N1717、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。なお、これらの光重合開始剤を1種のみ又は2種以上を組み合わせて用いることができる。ブラックマトリックス形成用塗工液には、上記の他にも必要に応じて、分散剤、増感剤、塗工性改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、さらには難燃剤などを適宜含有せしめることができる。以上で説明したような各種成分を含むブラックマトリックス3の形状について、本発明は特に限定することはなく、自由に設計可能である。例えば、ブラックマトリックス3の高さaは1.0~3.0μmとすることが好ましい。1.0μmよりも薄いと光学密度ODが不足する虞があり、一方で3.0μmよりも厚いとシワの発生が懸念されるからである。ブラックマトリックス3の断面形状についても自由に設計可能であるが、図1に示すように、その側面が垂直に立った形状とすることが好ましい。ここで、ブラックマトリックス3は、図1に示すように、その最上面Sのフッ素量を100とし、ブラックマトリックスの高さをaとした場合、基材2から5a/10の高さ、つまりa/2の高さにおけるフッ素量が0~20であることに特徴を有している。このように、基材2から5a/10の高さ、つまりa/2の高さにおけるフッ素量を0~20とすることにより、フッ素は極めて最上面S近傍に集中して存在していると推測できる。そして最上面S近傍にフッ素が集中することで、ブラックマトリックス3の最上面Sは効果的に撥液性となっているのに対し、ブラックマトリックス3の側面にはフッ素があまり存在せず、したがって撥液性とはなっておらず、逆に親液性とすることができる。その結果、後工程において着色層を形成する場合に着色層の平坦化をすることができる。なお、フッ素量については、5a/10の高さ、つまりa/2の高さにおけるフッ素量を所定の値とすることにより着色層の平坦化を図ることが可能であるが、当該フッ素量にあっては、基材2からの高さが0、つまりブラックマトリックスと基材との境界から、5a/10の高さに至たるすべてにおいて0~20となっていることが好ましく、さらには、基材2からの高さ0から8a/10の高さに至たるすべてにおいて0~20となっていることがさらに好ましい。ここで、フッ素量をコントロールする方法については特に限定することはなく、上記のように、ブラックマトリックスにおいて1/2の高さにおけるフッ素量を最上面のフッ素量に対して0~20とすることができればいかなる方法をも採用することができる。例えば、フォトリソグラフィ法によってブラックマトリックスを形成する場合にあっては、当該工程中に、減圧乾燥およびホットプレートなどによるプリベイクの何れか一方または双方を行なうことにより、フッ素量をコントロールすることができる。なお、フッ素量の測定は、ブラックマトリックス3の断面に対して斜め方向に切削し、TOF-SIMSTimeOfFlight-SecondaryIonizationMassSpectrometer:飛行時間型二次イオン質量分析装置により測定することができる。ここでブラックマトリックス3の最表面Sの撥液性能については、当該部分において、いわゆる決壊を防止できる程度の撥液性能を有していればよく、具体的には、水との接触角が85°以上、または表面張力20~40mN/mの液体との接触角が30~65°であることが好ましい。ブラックマトリックス基板の製造方法次にブラックマトリックス基板1の製造方法について図面を用いて説明する。図2は、ブラックマトリックス基板の製造工程を示す工程説明図である。ブラックマトリックス基板1の製造方法は特に限定されることはなく、図1を用いて説明したブラックマトリックス基板1を製造することができれば如何なる方法をも採用することができる。しかしながら、種々の方法の中でも、図2に示すフォトリソグラフィ法を用いてブラックマトリックス3を形成する方法が好ましい。フォトリソグラフィ法は従来からブラックマトリックス基板の製造に頻繁に用いられている方法であり、したがって簡便かつ低コストで行うことができるからである。また、フォトリソグラフィ法には、プリベイク工程が含まれており、当該工程を行うことにより樹脂32中のフッ素系撥液性材料31をブラックマトリックス3の最表面S近傍に移動させることができる点でも好適である。図2aに示すように、基材2上に、前述した遮光性材料としての染料、フッ素系撥液性材料31及び樹脂32を含むブラックマトリックス形成用塗工液を塗布するブラックマトリックス塗工工程が行われる。当該工程は、ブラックマトリックス形成用塗工液を均一な厚さで塗工することができる方法であれば良く、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコートなどの公知の塗布方法により塗布すれば良い。次に、図2bに示すように、必要に応じてプリベイク工程を行う。プリベイク工程を行うにあっては、いわゆるホットプレートHなどを用いることができ、60~120°Cで0.5~5分行えばよい。このようなプリベイク工程を行うことにより、フッ素系撥液性材料31をブラックマトリックスの最表面に偏在せしめることができる。また、遮光性材料としては溶剤に溶解する染料を用いているため、当該フッ素系撥液性材料31が当該染料周りに存在することもない。なお、プリベイク工程に代えて減圧乾燥工程を行っても良く、また、これらの双方を行ってもよい。図2cに示すように、プリベイク工程等の後に、所望の形状の開口部を有するマスクMを用い、その上面側から当該マスクM越しにエネルギーを照射する露光工程が行われる。当該露光工程としては、所望の領域にのみブラックマトリックスのパターンを形成することができる方法であれば良く、従来から用いられている方法を適宜選択可能である。例えば、基材2上に塗布されたブラックマトリックス形成用塗工液の表面から数十μm~数百μm程度の間隔をあけてマスクMを配置して露光する、プロキシミティ露光を行ってもよい。この露光により樹脂としてネガ型感光性樹脂を用いた場合には露光部分で硬化反応が生じ、ポジ型感光性樹脂を用いた場合には露光部分で酸発生反応が生じる。露光の際に用いられる光源としては、ブラックマトリックスを形成する際に一般的に用いられている光源を使用することができ、例えば、超高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどを挙げることができる。図2dに示すように、露光工程の後には、アルカリ性現像液を用いて未露光部分を除去しブラックマトリックス3を現像する現像工程が行われる。アルカリ性現像液に用いるアルカリ性物質としては特に限定はしないが、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、n-プロピルアミン等の1級アミン類、ジエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン等の2級アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の3級アミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドTMAH等のテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド類、コリン等の4級アンモニウム塩、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、ジエチルアミノエタノール等のアルコールアミン類、ピロール、ピペリジン、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-5-ノナン、モルホリン等の環状アミン類などの有機アルカリ類等が挙げられ、エタノール、γーブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン等の水溶性有機溶剤を適宜加えても良い。図2eに示すように、現像工程の後にはポストベイク工程が行われる。この工程についても特に限定されることはなく、従来と同様に行えばよい。具体的には、例えば、150~300°C、好ましくは150~250°Cの温度としてもよい。以上の工程によりブラックマトリックス基板1が完成する。カラーフィルタ次に、本発明のブラックマトリックス基板1を用いたカラーフィルタについて説明する。図3は、カラーフィルタ30の断面図である。図3に示すように、カラーフィルタ30は、ブラックマトリックス基板1の開口部33に、例えばインクジェット法によって着色層40を形成した構成となっている。開口部33に形成される着色層40については特に限定されることはなく、例えば赤色着色層40R、緑色着色層40G、及び青色着色層40Bから構成されていてもよい。また、カラーフィルタの製造方法については特に限定しないが、ブラックマトリックス基板1の開口部33にインクジェット法によって着色層40を形成してもよく、この場合は、着色層形成用塗工液をインクジェットヘッドが有する複数のノズルから吐出することで着色層が形成される。ここで用いられるインクジェットヘッドとしては、カラーフィルタの面積や開口部の形状等に応じて、所望のノズル数を備えるものであれば特に限定されることはなく、一般的に用いられているものを採用すればよい。また、インクジェットヘッドが着色層形成用塗工液を吐出する場合の吐出方式についても、所定量の塗工液を吐出可能な方式であれば特に限定されることはない。具体的には、例えば、帯電した着色層形成用塗工液を連続的に吐出し磁場によって吐出量を制御する方式、圧電素子を用いて間欠的に吐出する方式等を挙げることができる。中でも、吐出方式としては、圧電素子を用いて間欠的に吐出する方式を用いることが好ましい。この方式によれば微量な吐出量を比較的精度良く制御することができるからである。また、上記の着色層形成用塗工液にあっても、インクジェット方法により着色層を形成する際に一般的に用いられているものを適宜選択して用いることができる。また、図示したように、赤、緑、青の3色の着色層を形成するためには、各色の着色層形成用塗工液が必要となる。液晶表示装置以上で説明した本発明のブラックマトリックス基板1、及びカラーフィルタ30は、種々の表示装置に用いることが可能である。例えば、本発明のカラーフィルタ30とTFTアレイ基板液晶駆動側基板を対向させ、これらの内面側周縁部をシール剤により接合することにより、これらは所定距離のセルギャップを保持した状態で貼り合わされる。そして、このギャップに液晶を満たして密封することにより、液晶表示装置の典型例であるアクティブマトリックス方式の液晶表示装置が得られる。以下、本発明について実施例及び比較例を用いて具体的に説明する。実施例11.ブラックマトリックス形成工程カラーフィルタ用ガラス材として用いられている厚み0.7mm、横100mm、縦100mmのCorningコーニング社製EAGLE2000を用意し、アルカリ性水溶液を用い洗浄した後、UVオゾン処理を施した。このガラス基板上に撥液剤および染料を含有するブラックマトリックス形成用塗工液を膜厚2.7μmとなるようスピンコーターで塗布した。この基板を減圧乾燥し、ホットプレートにて、80°Cで3分間のプリベイクを施した。所定のフォトマスクを用いUV露光装置にてマスク露光を実施し、続いてアルカリ現像を実施した後に純水にてリンスし、更に表面および裏面の露光を行い、オーブンにて160°Cで30分間のベイクを施した。これにより、実施例1のブラックマトリックス基板を得た。また、実施例1のブラックマトリックス基板におけるブラックマトリックスの撥液性を評価すると、水との接触角は90°、30mNの液体との接触角が59°であった。TOF-SIMSによりフッ素元素分析を行なったところ、ブラックマトリックスの最上面のフッ素量を100とした場合、基材から1.35μmの高さ膜厚の5/10の高さにおけるフッ素量が5であった。2.着色層形成工程前記ブラックマトリックス基板に対し、インクジェットヘッドを用いて着色層形成用塗工液を塗布した。塗工液はカラーフィルタ用顔料と熱硬化型樹脂等からなるRGB各色の顔料分散型インクを用いた。このときのインクジェット装置は富士フィルム社製DimatixマテリアルプリンターDMP-2831を用い、塗布はブラックマトリックスの1つの開口部1画素あたり1ノズルが配置されるように位置決めして行い、かつインク吐出液滴が開口部内に着弾するように行った。次いで、基板を、オーブンを用い100°Cにて20分間プリベイクした。次いで、オーブンにて230°Cで40分間加熱し、実施例1のカラーフィルタを得た。比較例1実施例1とはブラックマトリックスの種類が異なり、撥液剤および顔料を含有するブラックマトリックス形成用塗工液を用いて、比較例1のブラックマトリックス基板を形成した。1.ブラックマトリックス形成工程カラーフィルタ用ガラス材として用いられている厚み0.7mm、横100mm、縦100mmのCorningコーニング社製EAGLE2000を用意し、アルカリ性水溶液を用い洗浄した後、UVオゾン処理を施した。このガラス基板上に撥液剤および顔料を含有するブラックマトリックス形成用塗工液を膜厚2.7μmとなるようスピンコーターで塗布した。この基板を減圧乾燥し、ホットプレートにて、80°Cで3分間のプリベイクを施した。所定のフォトマスクを用いUV露光装置にてマスク露光を実施し、続いてアルカリ現像を実施した後に純水にてリンスし、更に表面および裏面の露光を行い、オーブンにて160°Cで30分間のベイクを施した。これにより、比較例1のブラックマトリックス基板を得た。また、比較例1のブラックマトリックス基板におけるブラックマトリックスの撥液性を評価すると、水との接触角は88°、30mNの液体との接触角が55°であった。TOF-SIMSによりフッ素元素分析を行なったところ、ブラックマトリックスの最上面のフッ素量を100とした場合、基材から1.35μmの高さ膜厚の5/10の高さにおけるフッ素量が28であった。次に、この比較例1のブラックマトリックス基板に対して、上記実施例1と同様の要領で着色層を形成することにより比較例1のカラーフィルタを得た。評価得られた実施例1および比較例1のカラーフィルタの各画素の膜厚の高低差を評価した。高低差は、高さプロファイルを、Micromap株式会社菱化システム社製により測定し、同一画素内の端部と中央部の高低差を算出した。結果その結果、実施例1のカラーフィルタにおいては各画素の同一画素内の端部と中央部の高低差がそれぞれ0.15μmであった。一方、比較例1のカラーフィルタにおいては各画素の膜厚の高低差が0.4μmであった。このことにより、本発明のカラーフィルタは、顔料が含有されているブラックマトリックスからなる従来のカラーフィルタに比べて、各画素の膜厚の高低差が低く、形状が平坦化していることが確認できた。"