"式5:式中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立に、以下の群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基、C1-C12鎖式炭化水素基、C3-C12脂環式炭化水素基又は水素原子を表し、R5は、水素原子、フッ素原子、水酸基、C1-C12アルコキシ基、C1-C12フッ化アルキルオキシ基又は-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C8アルキル基又はC6-C20アリール基を表す。で示される基を表し、は、不斉炭素原子を表す。で示される光学活性化合物の存在下、クロロアセトアルデヒドと、式1:式中、R1は以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基又は水素原子を表す。で示される化合物とを反応させる工程を含む、式2:式中、R1は上記で定義した通りであり、は、不斉炭素原子を表す。で示される光学活性化合物の製造方法。<群G1>:群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよい芳香族複素環基、C1-C12アルコキシ基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基を有するC1-C12アルコキシ基、ハロゲン原子、オキソ基及びトリC1-C12アルキルシリル基からなる群<群G2>:C1-C12アルキル基、C1-C12アルコキシ基、C2-C13アルコキシカルボニル基、C1-C12フッ化アルキル基、C2-C13アシル基、ニトロ基、シアノ基、保護されたアミノ基及びハロゲン原子からなる群反応が、有機溶媒を含む溶媒中で行われる、請求項1記載の製造方法。R1が水素原子ではなく、かつ反応が、アルコール溶媒、エーテル溶媒、ニトリル溶媒及び非プロトン性極性溶媒から選ばれる有機溶媒と水との混合溶媒中で行われる、請求項1記載の製造方法。R5が水酸基である、請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。R5が水酸基であり、かつAr1及びAr2がそれぞれ独立に、C1-C12フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基である、請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。R5が水酸基であり、かつAr1及びAr2が共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基である、請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。請求項1~6のいずれかに記載の製造方法により式2:式中、R1およびは請求項1で定義された通りである。で示される光学活性化合物を得る工程;及び当該工程で得られる式2で表される光学活性化合物をアセタール化する工程;を含む、式3:式中、R1およびは請求項1で定義した通りであり、R2はC1-C10アルキル基を表すか、或いは、互いに結合して以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C10アルカンジイル基を表す。で示される光学活性化合物の製造方法。<群G1>:群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよい芳香族複素環基、C1-C12アルコキシ基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基を有するC1-C12アルコキシ基、ハロゲン原子、オキソ基及びトリC1-C12アルキルシリル基からなる群<群G2>:C1-C12アルキル基、C1-C12アルコキシ基、C2-C13アルコキシカルボニル基、C1-C12フッ化アルキル基、C2-C13アシル基、ニトロ基、シアノ基、保護されたアミノ基及びハロゲン原子からなる群請求項1~6のいずれかに記載の製造方法により式2:式中、R1およびは請求項1で定義された通りである。で示される光学活性化合物を得る工程;当該工程で得られる式2で表される光学活性化合物をアセタール化する工程;及び当該工程で得られる式3:式中、R1およびは請求項1で定義した通りであり、R2はC1-C10アルキル基を表すか、或いは、互いに結合して以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C4アルカンジイル基を表す。で示される光学活性化合物と塩基とを反応させる工程;を含む、式6:式中、R1およびは請求項1で定義された通りであり、R2は上記で定義した通りである。で示される光学活性化合物の製造方法。<群G1>:群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよい芳香族複素環基、C1-C12アルコキシ基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基を有するC1-C12アルコキシ基、ハロゲン原子、オキソ基及びトリC1-C12アルキルシリル基からなる群<群G2>:C1-C12アルキル基、C1-C12アルコキシ基、C2-C13アルコキシカルボニル基、C1-C12フッ化アルキル基、C2-C13アシル基、ニトロ基、シアノ基、保護されたアミノ基及びハロゲン原子からなる群請求項1~6のいずれかに記載の製造方法により式2:式中、R1およびは請求項1で定義された通りである。で示される光学活性化合物を得る工程;及び当該工程で得られる式2で表される光学活性化合物と、Ph3P=CR9CO2R10式中、Phはフェニル基を表し、R9は水素原子又はC1-C8アルキル基を表し、R10はC1-C8アルキル基を表す。とを反応させる工程;を含む、式4:式中、R1およびは請求項1で定義された通りであり、R9及びR10は上記で定義した通りである。で示される光学活性化合物の製造方法。請求項1~6のいずれかに記載の製造方法により式2:式中、R1およびは請求項1で定義された通りである。で示される光学活性化合物を得る工程;当該工程で得られる式2で表される光学活性化合物と、Ph3P=CR9CO2R10式中、Phはフェニル基を表し、R9は水素原子又はC1-C8アルキル基を表し、R10はC1-C8アルキル基を表す。とを反応させる工程;及び当該工程で得られる式4:式中、R1およびは請求項1で定義された通りであり、R9及びR10は上記で定義した通りである。で示される光学活性化合物と塩基とを反応させる工程;を含む、式7:式中、R1およびは請求項1で定義された通りであり、R9及びR10は上記で定義した通りである。で示される光学活性化合物の製造方法。本発明の目的は、酵素を用いることなく、式2で示される光学活性化合物を製造できる新たな方法を提供することである。本発明者は、かかる状況下、酵素を用いることなく、式2で示される光学活性化合物の新たな製造法について検討した結果、特定の不斉触媒の存在下での反応が、式2で示される光学活性化合物の製造に優れていることを見出し、本発明に至った。即ち、本発明は、以下の通りである。[1]式5:式中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立に、以下の群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基、C1-C12鎖式炭化水素基、C3-C12脂環式炭化水素基又は水素原子を表し、R5は、水素原子、フッ素原子、水酸基、C1-C12アルコキシ基、C1-C12フッ化アルキルオキシ基又は-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C8アルキル基又はC6-C20アリール基を表す。で示される基を表し、は、不斉炭素原子を表す。で示される光学活性化合物以下、ピロリジン化合物5ともいうの存在下、クロロアセトアルデヒドと、式1:式中、R1は以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基又は水素原子を表す。で示される化合物以下、アルデヒド化合物1ともいうとを反応させる工程を含む、式2:式中、R1は上記で定義した通りであり、は、不斉炭素原子を表す。で示される光学活性化合物以下、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2ともいうの製造方法。<群G1>:群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよい芳香族複素環基、C1-C12アルコキシ基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基を有するC1-C12アルコキシ基、ハロゲン原子、オキソ基及びトリC1-C12アルキルシリル基からなる群<群G2>:C1-C12アルキル基、C1-C12アルコキシ基、C2-C13アルコキシカルボニル基、C1-C12フッ化アルキル基、C2-C13アシル基、ニトロ基、シアノ基、保護されたアミノ基及びハロゲン原子からなる群[2]反応が、有機溶媒を含む溶媒中で行われる、上記[1]記載の製造方法。[3]R1が水素原子ではなく、かつ反応が、アルコール溶媒、エーテル溶媒、ニトリル溶媒及び非プロトン性極性溶媒から選ばれる有機溶媒と水との混合溶媒中で行われる、上記[1]記載の製造方法。[4]R5が水酸基である、上記[1]~[3]のいずれかに記載の製造方法。[5]R5が水酸基であり、かつAr1及びAr2がそれぞれ独立に、C1-C12フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基である、上記[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。[6]R5が水酸基であり、かつAr1及びAr2が共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基である、上記[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。[7]上記[1]~[6]のいずれかに記載の製造方法により光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を得る工程;及び当該工程で得られる光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2をアセタール化する工程;を含む、式3:式中、R1およびは上記[1]で定義した通りであり、R2はC1-C10アルキル基を表すか、或いは、互いに結合して以下の群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C10アルカンジイル基を表す。で示される光学活性化合物以下、光学活性なアセタール化合物3ともいうの製造方法。<群G1>:群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよい芳香族複素環基、C1-C12アルコキシ基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基を有するC1-C12アルコキシ基、ハロゲン原子、オキソ基及びトリC1-C12アルキルシリル基からなる群<群G2>:C1-C12アルキル基、C1-C12アルコキシ基、C2-C13アルコキシカルボニル基、C1-C12フッ化アルキル基、C2-C13アシル基、ニトロ基、シアノ基、保護されたアミノ基及びハロゲン原子からなる群[8]上記[1]~[6]のいずれかに記載の製造方法により光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を得る工程;当該工程で得られる光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2をアセタール化する工程;及び当該工程で得られる光学活性なアセタール化合物3と塩基とを反応させる工程;を含む、式6:式中、R1およびは上記[1]で定義された通りであり、R2は上記[7]で定義した通りである。で示される光学活性化合物以下、光学活性なエポキシ化合物6ともいうの製造方法。<群G1>:群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよい芳香族複素環基、C1-C12アルコキシ基、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいC6-C20アリール基を有するC1-C12アルコキシ基、ハロゲン原子、オキソ基及びトリC1-C12アルキルシリル基からなる群<群G2>:C1-C12アルキル基、C1-C12アルコキシ基、C2-C13アルコキシカルボニル基、C1-C12フッ化アルキル基、C2-C13アシル基、ニトロ基、シアノ基、保護されたアミノ基及びハロゲン原子からなる群[9]上記[1]~[6]のいずれかに記載の製造方法により光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を得る工程;及び当該工程で得られる光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2と、Ph3P=CR9CO2R10式中、Phはフェニル基を表し、R9は水素原子又はC1-C8アルキル基を表し、R10はC1-C8アルキル基を表す。とを反応させる工程;を含む、式4:式中、R1およびは上記[1]で定義された通りであり、R9及びR10は上記で定義した通りである。で示される光学活性化合物以下、光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4ともいうの製造方法。[10]上記[1]~[6]のいずれかに記載の製造方法により光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を得る工程;当該工程で得られる光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2と、Ph3P=CR9CO2R10式中、Phはフェニル基を表し、R9は水素原子又はC1-C8アルキル基を表し、R10はC1-C8アルキル基を表す。とを反応させる工程;及び当該工程で得られる光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4と塩基とを反応させる工程;を含む、式7:式中、R1およびは上記[1]で定義された通りであり、R9及びR10は上記で定義した通りである。で示される光学活性化合物以下、光学活性なエポキシ化合物7ともいうの製造方法。本発明の製造方法によれば、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を製造できる新たな方法を提供することができる。以下、本発明について詳細に説明する。本明細書中、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を意味する。本明細書中、C1-C20炭化水素基とは、C1-C20脂肪族炭化水素基又はC6-C20芳香族炭化水素基を意味する。本明細書中、C1-C20脂肪族炭化水素基とは、C1-C20鎖式炭化水素基又はC3-C20脂環式炭化水素基を意味する。本明細書中、C1-C12脂肪族炭化水素基とは、C1-C12鎖式炭化水素基又はC3-C12脂環式炭化水素基を意味する。本明細書中、C1-C20鎖式炭化水素基とは、C1-C20アルキル基、C2-C20アルケニル基又はC2-C20アルキニル基を意味する。本明細書中、C1-C12鎖式炭化水素基とは、C1-C12アルキル基、C2-C12アルケニル基又はC2-C12アルキニル基を意味する。本明細書中、C1-C20アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~20のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、1,1-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、エイコシル等が挙げられる。中でも、C1-C12アルキル基、特にC1-C8アルキル基が好ましい。本明細書中、C1-C12アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~12のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、1,1-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等が挙げられる。中でも、C1-C8アルキル基が好ましく、特にC1-C4アルキル基が好ましい。本明細書中、C1-C8アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~8のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、1,1-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、ヘプチル、オクチル等が挙げられる。中でも、C1-C4アルキル基が好ましい。本明細書中、C1-C6アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~6のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、1,1-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル等が挙げられる。中でも、C1-C4アルキル基が好ましい。本明細書中、C1-C4アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~4のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル等が挙げられる。本明細書中、C2-C20アルケニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~20のアルケニル基を意味し、例えば、エテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、4-メチル-3-ペンテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、5-ヘキセニル、1-ヘプテニル、1-オクテニル、1-ノネニル、1-デセニル、1-ウンデセニル、1-ドデセニル、1-トリデセニル、1-エイコセニル等が挙げられる。中でも、C2-C12アルケニル基、特にC2-C8アルケニル基が好ましい。本明細書中、C2-C12アルケニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~12のアルケニル基を意味し、例えば、エテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、4-メチル-3-ペンテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、5-ヘキセニル、1-ヘプテニル、1-オクテニル、1-ノネニル、1-デセニル、1-ウンデセニル、1-ドデセニル等が挙げられる。中でも、C2-C8アルケニル基が好ましく、特にC2-C4アルケニル基が好ましい。本明細書中、C2-C6アルケニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~6のアルケニル基を意味し、例えば、エテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、4-メチル-3-ペンテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、5-ヘキセニル等が挙げられる。中でも、特にC2-C4アルケニル基が好ましい。本明細書中、C2-C20アルキニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~20のアルキニル基を意味し、例えば、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニル、1-ヘプチニル、1-オクチニル、1-ノニニル、1-デシニル、1-ウンデシニル、1-ドデシニル、1-トリデシニル、1-エイコシニル等が挙げられる。中でも、C2-C12アルキニル基、特にC2-C8アルキニル基が好ましい。本明細書中、C2-C12アルキニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~12のアルキニル基を意味し、例えば、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニル、1-ヘプチニル、1-オクチニル、1-ノニニル、1-デシニル、1-ウンデシニル、1-ドデシニル等が挙げられる。中でも、C2-C8アルキニル基が好ましく、特にC2-C4アルキニル基が好ましい。本明細書中、C2-C6アルキニル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2~6のアルキニル基を意味し、例えば、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニル等が挙げられる。中でも、C2-C4アルキニル基が好ましい。本明細書中、C3-C20脂環式炭化水素基とは、C3-C20シクロアルキル基又はC4-C20シクロアルケニル基を意味する。本明細書中、C3-C12脂環式炭化水素基とは、C3-C12シクロアルキル基又はC4-C12シクロアルケニル基を意味する。本明細書中、C3-C20シクロアルキル基としては、炭素原子数3~20の環状アルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシル、シクロトリデシル、シクロエイコシル等が挙げられる。中でも、C3-C12シクロアルキル基、特にC3-C8シクロアルキル基が好ましい。本明細書中、C3-C12シクロアルキル基としては、炭素原子数3~12の環状アルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシル等が挙げられる。中でも、C3-C8シクロアルキル基が好ましい。本明細書中、C4-C20シクロアルケニル基としては、炭素原子数4~20の環状アルケニル基を意味し、例えば、2-シクロペンテン-1-イル、3-シクロペンテン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、3-シクロヘキセン-1-イル、2-シクロヘプテン-1-イル、2-シクロオクテン-1-イル、2-シクロノネン-1-イル、2-シクロデセン-1-イル、2-シクロドデセン-1-イル、2-シクロエイコセン-1-イル、2,4-シクロペンタジエン-1-イル、2,4-シクロヘキサジエン-1-イル、2,5-シクロヘキサジエン-1-イル等が挙げられる。中でも、C4-C12シクロアルケニル基、特にC4-C8シクロアルケニル基が好ましい。本明細書中、C4-C12シクロアルケニル基としては、炭素原子数4~12の環状アルケニル基を意味し、例えば、2-シクロペンテン-1-イル、3-シクロペンテン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、3-シクロヘキセン-1-イル、2-シクロヘプテン-1-イル、2-シクロオクテン-1-イル、2-シクロノネン-1-イル、2-シクロデセン-1-イル、2-シクロドデセン-1-イル、2,4-シクロペンタジエン-1-イル、2,4-シクロヘキサジエン-1-イル、2,5-シクロヘキサジエン-1-イル等が挙げられる。中でも、C4-C8シクロアルケニル基が好ましい。本明細書中、C3-C20シクロアルキル基、C3-C12シクロアルキル基、C4-C20シクロアルケニル基及びC4-C12シクロアルケニル基は、ベンゼン環と縮合してもよい。このような基としては、1,2-ジヒドロナフタレン-1-イル、1,2-ジヒドロナフタレン-2-イル、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1-イル、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-イル、フルオレン-9-イル、インデン-1-イル等が挙げられる。本明細書中、C6-C20芳香族炭化水素基C6-C20アリール基とは、芳香族性を示す単環式あるいは多環式縮合の炭素原子数6~20の炭化水素基を意味し、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、フェナントリル、アントリル、アセナフチレニル、ナフタセニル、ビフェニリル、ビフェニレニル等が挙げられる。中でも、C6-C14芳香族炭化水素基C6-C14アリール基、特にC6-C10芳香族炭化水素基C6-C10アリール基が好ましい。本明細書中、C6-C12芳香族炭化水素基C6-C12アリール基とは、芳香族性を示す単環式あるいは多環式縮合の炭素原子数6~12の炭化水素基を意味し、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、アセナフチレニル、ビフェニリル、ビフェニレニル等が挙げられる。中でも、C6-C10芳香族炭化水素基C6-C10アリール基が好ましい。本明細書中、C6-C10アリール基とは、芳香族性を示す単環式あるいは多環式縮合の炭素原子数6~10の炭化水素基を意味し、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル等が挙げられる。本明細書中、C7-C14アラルキル基とは、C1-C4アルキル基にC6-C10アリール基が置換した基を意味し、例えば、ベンジル、1-フェニルエチル、2-フェニルエチル、ナフチル-1-イルメチル、ナフチル-2-イルメチル、1-ナフチル-1-イルエチル、1-ナフチル-2-イルエチル、2-ナフチル-1-イルエチル、2-ナフチル-2-イルエチル等が挙げられる。本明細書中、C1-C12アルコキシ基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~12のアルコキシ基を意味し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ等が挙げられる。中でも、C1-C8アルコキシ基、特にC1-C4アルコキシ基が好ましい。本明細書中、C1-C6アルコキシ基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~6のアルコキシ基を意味し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。中でも、C1-C4アルコキシ基が好ましい。本明細書中、芳香族複素環基とは、環構成原子として炭素原子に加えて、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を1乃至4個含有する、芳香族性を示す単環式又は多環式縮合複素環基を意味する。本明細書中、単環式芳香族複素環基としては、例えば、フリル、チエニル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル1,2,4-オキサジアゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、チアジアゾリル1,2,4-チアジアゾリル、1,3,4-チアジアゾリル、トリアゾリル1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、テトラゾリル、トリアジニル等が挙げられる。中でも、5又は6員の単環式芳香族複素環基が好ましい。本明細書中、縮合芳香族複素環基とは、上記単環式芳香族複素環基が、単環式芳香族環好ましくは、ベンゼン環又は単環式芳香族複素環と縮合した基を意味し、例えば、キノリル、イソキノリル、キナゾリル、キノキサリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、インドリル、インダゾリル、ピロロピリジル、ピラゾロピリジル、イミダゾピリジル、チエノピリジル、ピロロピラジニル、ピラゾロピラジニル、イミダゾピラジニル、チエノピラジニル、ピロロピリミジニル、ピラゾロピリミジニル、イミダゾピリミジニル、チエノピリミジニル、ピラゾロチエニル等が挙げられる。本明細書中、単環式芳香族複素環としては、例えば、フラン、チオフェン、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール1,2,4-オキサジアゾール、1,3,4-オキサジアゾール、チアジアゾール1,2,4-チアジアゾール、1,3,4-チアジアゾール、トリアゾール1,2,4-トリアゾール、1,2,3-トリアゾール、テトラゾール、トリアジン等が挙げられる。中でも、5又は6員の単環式芳香族複素環が好ましい。本明細書中、C1-C12フッ化アルキル基とは、フッ素原子で置換されたC1-C12アルキル基を意味する。フッ素原子の数は特に限定されず、ペルフルオロ置換であってもよい。具体的には、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、2-フルオロエチル、2,2-ジフルオロエチル、2,2,2-トリフルオロエチル、3-フルオロプロピル、4-フルオロブチル、5-フルオロペンチル、6-フルオロヘキシル、7-フルオロヘプチル、8-フルオロオクチル、9-フルオロノニル、10-フルオロデシル、11-フルオロウンデシル、12-フルオロドデシル等が挙げられる。本明細書中、C1-C12フッ化アルキルオキシ基とは、フッ素原子で置換されたC1-C12アルコキシ基を意味する。フッ素原子の数は特に限定されず、ペルフルオロ置換であってもよい。具体的には、例えば、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、2-フルオロエトキシ、2,2-ジフルオロエトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ、3-フルオロプロポキシ、4-フルオロブトキシ、5-フルオロペンチルオキシ、6-フルオロヘキシルオキシ、7-フルオロヘプチルオキシ、8-フルオロオクチルオキシ、9-フルオロノニルオキシ、10-フルオロデシルオキシ、11-フルオロウンデシルオキシ、12-フルオロドデシルオキシ等が挙げられる。本明細書中、C2-C13アルコキシカルボニル基とは、-C=O-にC1-C12アルコキシ基が結合した基、即ち、C1-C12アルコキシ-カルボニル基を意味し、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec-ブトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ウンデシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル等が挙げられる。中でも、C2-C9アルコキシカルボニル基、特にC2-C5アルコキシカルボニル基が好ましい。本明細書中、C2-C13アシル基とは、C2-C13カルボン酸から水酸基を除いた原子団であり、C2-C13脂肪族アシル基又はC7-C13芳香族アシル基を意味する。本明細書中、C2-C13脂肪族アシル基とは、-C=O-にC1-C12脂肪族炭化水素基が結合した基、即ち、C1-C12脂肪族炭化水素-カルボニル基を意味し、例えば、アセチル、プロパノイル、ブタノイル、2-メチルプロパノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、アクリロイル、メタアクリロイル、クロトノイル、イソクロトノイル、プロピオノイル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル等が挙げられる。中でも、C2-C13アルキルカルボニル基が好ましく、特にC2-C9アルキルカルボニル基が好ましい。本明細書中、C7-C13芳香族アシル基とは、-C=O-にC6-C12芳香族炭化水素基C6-C12アリール基が結合した基、即ち、C6-C12芳香族炭化水素C6-C12アリール-カルボニル基を意味し、例えば、ベンゾイル、1-ナフトイル、2-ナフトイル等が挙げられる。本明細書中、保護されたアミノ基は、保護基で保護されたアミノ基を意味する。当該保護基としては、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、C6-10アリール基、C7-14アラルキル基、C1-6アルキル-カルボニル基、C1-6アルコキシ-カルボニル基、C2-6アルケニル-オキシカルボニル基、C6-10アリール-カルボニル基、C7-14アラルキル-カルボニル基、C6-10アリール-オキシカルボニル基、C7-14アラルキル-オキシカルボニル基、C6-10アリールスルホニル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、トリC1-6アルキルシリル基、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル基、フタロイル基等が挙げられる。上記の置換基は、ハロゲン原子、C1-6アルキル基、C1-6アルコキシ基又はニトロ基でそれぞれ置換されていてもよい。当該保護基の具体例としては、アセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、tert-ブトキシカルボニル、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル、ベンズヒドリル、トリチル、フタロイル、アリルオキシカルボニル、p-トルエンスルホニル、o-ニトロベンゼンスルホニル等が挙げられる。本明細書中、C1-6アルキル-カルボニル基とは、-C=O-にC1-6アルキル基が結合した基を意味する。本明細書中、C1-6アルコキシ-カルボニル基とは、-C=O-にC1-6アルコキシ基が結合した基を意味する。本明細書中、C2-6アルケニル-オキシカルボニル基とは、-C=OO-の酸素原子にC2-6アルケニル基が結合した基を意味する。本明細書中、C6-10アリール-カルボニル基とは、-C=O-にC6-10アリール基が結合した基を意味する。本明細書中、C7-14アラルキル-カルボニル基とは、-C=O-にC7-14アラルキル基が結合した基を意味する。本明細書中、C6-10アリール-オキシカルボニル基とは、-C=OO-の酸素原子にC6-10アリール基が結合した基を意味する。本明細書中、C7-14アラルキル-オキシカルボニル基とは、-C=OO-の酸素原子にC7-14アラルキル基が結合した基を意味する。本明細書中、C6-10アリールスルホニル基とは、-S=O2-にC6-10アリール基が結合した基を意味する。本明細書中、トリC1-6アルキルシリル基とは、C1-C6アルキル基でトリ置換された-SiH3を意味する。本明細書中、トリC1-C12アルキルシリル基とは、C1-C12アルキル基でトリ置換された-SiH3を意味する。以下、式1~7の各基について説明する。R1は、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20炭化水素基又は水素原子を表す。ここで、C1-C20炭化水素基の置換基の数は好ましくは1乃至3個であり、2個以上である場合、これらの置換基は同一でも異なっていてもよい。R1は、好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C20アルキル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C20アルケニル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C20アルキニル基又は水素原子であり、より好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C12アルキル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C12アルケニル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C12アルキニル基又は水素原子であり、さらに好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C8アルキル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C8アルケニル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C8アルキニル基又は水素原子であり、さらにより好ましくは、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC1-C6アルキル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C6アルケニル基、群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C6アルキニル基又は水素原子であり、さらに一層好ましくは、C1-C6アルキル基、C6-C10アリール-C1-C4アルキル基C7-C14アラルキル基、C2-C6アルケニル基、トリC1-C6アルキルシリル置換C2-C6アルキニル基又は水素原子であり、特に好ましくは、C1-C6アルキル基、C6-C10アリール-C1-C4アルキル基C7-C14アラルキル基、C2-C6アルケニル基又はトリC1-C6アルキルシリル置換C2-C6アルキニル基である。Ar1及びAr2はそれぞれ独立に、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基、C1-C12鎖式炭化水素基、C3-C12脂環式炭化水素基又は水素原子を表す。ここで、フェニル基の置換基の数は好ましくは1乃至3個であり、2個以上である場合、これらの置換基は同一でも異なっていてもよい。Ar1及びAr2は、好ましくは、それぞれ独立に、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基であり、より好ましくは、それぞれ独立に、C1-C12フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基であり、さらに好ましくは、それぞれ独立に、C1-C4フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基であり、さらに一層好ましくは、それぞれ独立に、トリフルオロメチル基を有していてもよいフェニル基であり、さらにより一層好ましくは、共にフェニル基であるか、又は共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基であり、特に好ましくは、共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基である。R5は、水素原子、フッ素原子、水酸基、C1-C12アルコキシ基、C1-C12フッ化アルキルオキシ基又は-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C8アルキル基又はC6-C20アリール基を表す。で示されるシリルオキシ基を表す。R5は、好ましくは、水酸基又は-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8は上記で定義された通りである。で示されるシリルオキシ基であり、より好ましくは、水酸基又は-OSiR6R7R8式中、R6、R7及びR8はそれぞれ独立に、C1-C8アルキル基好ましくはメチル基である。で示されるシリルオキシ基であり、特に好ましくは、水酸基である。Ar1及びAr2とR5の好適な組み合わせは以下のとおりである。Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、群G2より選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基であり、かつR5が、水酸基である態様。Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、C1-C12フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基であり、かつR5が、水酸基である態様。Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、C1-C4フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基であり、かつR5が、水酸基である態様。Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、トリフルオロメチル基を有していてもよいフェニル基であり、かつR5が、水酸基である態様。Ar1及びAr2が共にフェニル基であるか、又は共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基であり、かつR5が、水酸基である態様。Ar1及びAr2が共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基であり、かつR5が、水酸基である態様。R2は、C1-C10アルキル基を表すか、或いは、互いに結合して群G1より選ばれる置換基を有していてもよいC2-C4アルカンジイル基を表す。R2は、好ましくは、C1-C4アルキル基特にメチルである。R9は、水素原子又はC1-C8アルキル基を表す。R9は、好ましくは、水素原子又はC1-C4アルキル基特にメチルである。R10は、C1-C8アルキル基を表す。R10は、好ましくは、C1-C4アルキル基特にエチルである。本発明では、触媒としての光学活性なピロリジン化合物5の存在下、クロロアセトアルデヒドとアルデヒド化合物1とを反応させる工程アルドール反応工程を含むことにより、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を製造する。クロロアセトアルデヒドは、水溶液の状態で使用してもよい。なお、クロロアセトアルデヒドは、水溶液の状態で市販されているので、それをそのまま使用してもよい。アルデヒド化合物1の使用量は、収率、選択性及び経済性の点から、クロロアセトアルデヒド1モルに対して、好ましくは0.3~3モル、より好ましくは0.5~2.2モルである。触媒である光学活性なピロリジン化合物5において、アルデヒド化合物1の種類にもよるが、ジアステレオ選択性アルデヒド化合物1中のR1が水素原子以外である場合の点から、式5a:式中、Ar1及びAr2は上記で定義された通りであり、は不斉炭素原子を表す。で示されるピロリジン化合物が好ましく、中でも、Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、C1-C4フッ化アルキル基を有していてもよいフェニル基であるピロリジン化合物が好ましく、さらには、Ar1及びAr2がそれぞれ独立に、トリフルオロメチル基を有していてもよいフェニル基であるピロリジン化合物が好ましく、さらには、Ar1及びAr2が共にフェニル基であるか、あるいは共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基であるピロリジン化合物が好ましく、特に、Ar1及びAr2が共に3,5-ビストリフルオロメチルフェニル基であるピロリジン化合物が好ましい。光学活性なピロリジン化合物5の使用量は、収率及び経済性の点から、アルデヒド化合物1に対して、好ましくは0.5~30モル、より好ましくは1~20モルである。本発明におけるアルドール反応は、好ましくは、有機溶媒を含む溶媒中で行われる。本発明で使用される有機溶媒としては、芳香族炭化水素溶媒例、トルエン、ベンゼン、キシレン;アルコール溶媒例、メタノール、エタノール;ハロゲン化炭化水素溶媒例、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素;エーテル溶媒例、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン;ニトリル溶媒例、アセトニトリル;非プロトン性極性溶媒例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等が挙げられる。中でも、アルコール溶媒、エーテル溶媒、ニトリル溶媒、非プロトン性極性溶媒が好ましく、収率、エナンチオ選択性及びジアステレオ選択性が特に良好である点から、エーテル溶媒が特に好ましい。反応溶媒は、アルデヒド化合物1の種類により選択されるが、アルデヒド化合物1中のR1が水素原子である場合は、エナンチオ選択性の点から、溶媒中に水を含まないことが好ましい。この場合、水を含まないクロロアセトアルデヒドを使用すること好ましく、市販品のクロロアセトアルデヒド水溶液から水を除去したものを使用する。水の除去方法としては、ディーンスタークを用いた加熱還流等の常法が採用される。アルデヒド化合物1中のR1が水素原子以外である場合は、反応溶媒が水を含んでいてもエナンチオ選択性及びジアステレオ選択性が良好であり、アルコール溶媒、エーテル溶媒、ニトリル溶媒及び非プロトン性極性溶媒から選ばれる有機溶媒と水との混合溶媒が好ましく、収率、エナンチオ選択性及びジアステレオ選択性が特に良好である点から、エーテル溶媒と水との混合溶媒が特に好ましい。エーテル溶媒と水との混合溶媒の場合、水の使用量は、エーテル溶媒1mLに対し、好ましくは0.01~1mL、より好ましくは0.1~0.5mLである。なお、反応溶媒が水を含む場合はクロロアセトアルデヒドを水溶液の状態で使用する。溶媒の使用量は、アルデヒド化合物11gに対して、好ましくは1~50mL、より好ましくは3~20mLである。本発明におけるアルドール反応は、クロロアセトアルデヒドを溶媒に溶解した溶液に、アルデヒド化合物1、光学活性なピロリジン化合物5及び溶媒を添加して混合する方法;クロロアセトアルデヒドを溶媒に溶解した溶液に、光学活性なピロリジン化合物5及び溶媒を混合し、そこへアルデヒド化合物1を添加する方法;等により行われ、収率及び選択性の点から、クロロアセトアルデヒドを溶媒に溶解した溶液に、アルデヒド化合物1、光学活性なピロリジン化合物5及び溶媒を添加して混合する方法が好ましく、クロロアセトアルデヒドの水溶液に、アルデヒド化合物1、光学活性なピロリジン化合物5及び有機溶媒好ましくは、アルコール溶媒、エーテル溶媒、ニトリル溶媒及び非プロトン性極性溶媒から選ばれる有機溶媒、より好ましくはエーテル溶媒を添加して混合する方法が特に好ましい。本発明におけるアルドール反応は、アルデヒド化合物1の種類にもよるが、好ましくは0~100°Cの範囲内、より好ましくは0~40°Cの範囲内で行われる。また、その反応時間は、アルデヒド化合物1の種類及び反応温度にもよるが、好ましくは1~100時間、より好ましくは10~50時間、特に好ましくは20~40時間である。反応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。このようにして得られた反応混合物に含まれる光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2の単離は、反応混合物を常法による後処理例えば、中和、抽出、水洗、蒸留、結晶化等に付すことにより行うことができる。またその精製は光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を再結晶処理、抽出精製処理、蒸留処理、活性炭、シリカ、アルミナ等の吸着処理、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等のクロマトグラフィー処理に付すことにより行うことができる。4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2は、反応混合物からの単離及び/又は精製の間に異性化する場合がある。従って、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2のジアステレオ比シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率eeの測定は、アルドール反応終了後の単離及び/又は精製を行わず、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を、反応中かつ単離及び精製中に異性化が生じない化合物に変換した後に行うことが望ましい。本発明では、対応する光学活性なアセタール化合物式3:式中、R1、R2およびは上記で定義された通りである。で示される光学活性アセタール化合物、又は対応する光学活性なα,β-不飽和エステル化合物式4:式中、R1、R9、R10およびは上記で定義された通りである。で示される光学活性α,β-不飽和エステル化合物に変換する。光学活性なアセタール化合物3は、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2をアセタール化する工程アセタール化反応工程を含むことにより製造される。具体的には、光学活性なアセタール化合物3は、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2と、R2に対応するアセタール化剤例えば、R2OH、HCOR23、CH32COR22とを酸触媒の存在下で反応させる工程を含むことにより製造される。好ましくは、光学活性なアセタール化合物3は、アルドール反応終了後の光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を含む反応混合物と、R2に対応するアセタール化剤例えば、R2OH、HCOR23、CH32COR22とを酸触媒の存在下で反応させる工程を含むことにより製造される。より好ましくは、光学活性なアセタール化合物3は、アルドール反応終了後の光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を含む反応混合物と、HCOR23式中、R2はC1-C8アルキル基を表す。とを酸触媒の存在下で反応させる工程を含むことにより製造される。HCOR23の使用量は、収率及び経済性の点から、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物21モルに対して、好ましくは1~20モル、より好ましくは3~10モルである。使用される酸触媒としては、p-トルエンスルホン酸又はその水和物一水和物、p-トルエンスルホン酸ピリジニウムが挙げられ、収率及び経済性の点から、p-トルエンスルホン酸又はその水和物一水和物が好ましい。酸触媒の使用量は、反応速度の点から、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物21モルに対して、好ましくは0.01~1モル、より好ましくは0.01~0.1モルである。上記アセタール化反応は、アルドール反応終了後の光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を含む反応混合物に、HCOR23及び酸触媒を添加して混合する方法;アルドール反応終了後の光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を含む反応混合物に酸触媒を添加し、その後、HCOR23を添加して混合する方法;等により行われ、操作を簡便にする点から、アルドール反応終了後の光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を含む反応混合物に、HCOR23及び酸触媒を添加して混合する方法により行うことが好ましい。上記アセタール化反応は、HCOR23及び酸触媒の種類にもよるが、好ましくは0~100°Cの範囲内、より好ましくは10~40°Cの範囲内、特に好ましくは20~30°Cの範囲内で行われる。また、その反応時間は、HCOR23及び酸触媒の種類、及び反応温度にもよるが、好ましくは10分~50時間、より好ましくは30分~20時間、特に好ましくは1~10時間である。反応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。このようにして得られた反応混合物に含まれる光学活性なアセタール化合物3の単離は、反応混合物を常法による後処理例えば、中和、抽出、水洗、蒸留、結晶化等に付すことにより行うことができる。またその精製は光学活性なアセタール化合物3を再結晶処理、抽出精製処理、蒸留処理、活性炭、シリカ、アルミナ等の吸着処理、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等のクロマトグラフィー処理に付すことにより行うことができる。光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4は、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2と、Ph3P=CR9CO2R10式中、Ph、R9及びR10は上記で定義した通りである。とを反応させる工程ウィッティッヒ反応工程を含むことにより製造される。好ましくは、光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4は、アルドール反応終了後の光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を含む反応混合物と、Ph3P=CR9CO2R10式中、Ph、R9及びR10は上記で定義した通りである。とを反応させる工程を含むことにより製造される。Ph3P=CR9CO2R10の使用量は、収率及び経済性の点から、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物21モルに対して、好ましくは0.01~5モル、より好ましくは0.5~2モルである。上記ウィッティッヒ反応は、アルドール反応終了後の光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を含む反応混合物に、Ph3P=CR9CO2R10を添加して混合する方法;Ph3P=CR9CO2R10に、アルドール反応終了後の光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を含む反応混合物を添加して混合する方法;等により行われ、操作を簡便にする点から、アルドール反応終了後の光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2を含む反応混合物に、Ph3P=CR9CO2R10を添加して混合する方法により行うことが好ましい。上記ウィッティッヒ反応は、Ph3P=CR9CO2R10の種類にもよるが、好ましくは0~100°Cの範囲内、より好ましくは10~40°Cの範囲内、特に好ましくは20~30°Cの範囲内で行われる。また、その反応時間は、Ph3P=CR9CO2R10の種類及び反応温度にもよるが、好ましくは10分~50時間、より好ましくは30分~20時間、特に好ましくは1~10時間である。反応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。このようにして得られた反応混合物に含まれる光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4の単離は、反応混合物を常法による後処理例えば、中和、抽出、水洗、蒸留、結晶化等に付すことにより行うことができる。またその精製は光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4を再結晶処理、抽出精製処理、蒸留処理、活性炭、シリカ、アルミナ等の吸着処理、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等のクロマトグラフィー処理に付すことにより行うことができる。得られた光学活性なアセタール化合物3又は光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4について、ジアステレオ比シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率が測定される。測定されたジアステレオ比シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率は、光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2のそれに対応する。アルデヒド化合物1中のR1が水素原子以外である場合、本発明におけるアルドール反応工程では、アンチ体の光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2が優先的に得られる。ジアステレオ比シン/アンチ比が例えば50/50以上、また例えば20/80以上のジアステレオ選択性が可能となる。本発明におけるアルドール反応工程では、CがS配置であるピロリジン化合物5a、即ち、式5a-S:式中、Ar1及びAr2は上記で定義された通りである。で示されるピロリジン化合物を触媒として使用した場合、CがR配置である光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2、即ち、式2R:式中、R1は上記で定義された通りである。で示される光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物が優先的に得られる。一方、CがR配置であるピロリジン化合物5a、即ち、式5a-R:式中、Ar1及びAr2は上記で定義された通りである。で示されるピロリジン化合物を触媒として使用した場合、CがS配置である光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物2、即ち、式2S:式中、R1は上記で定義された通りである。で示される光学活性な4-クロロ-3-ヒドロキシブタナール化合物が優先的に得られる。このように、本発明におけるアルドール反応工程では、エナンチオマー過剰率が例えば50ee以上、また例えば80ee以上のエナンチオ選択性が可能となる。光学活性なアセタール化合物3及び光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4においては、塩素原子とヒドロキシ基とが隣接する炭素原子に結合している。従って、光学活性なアセタール化合物3及び光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4を塩基と反応させることにより、対応する光学活性なエポキシ化合物6または7を容易に製造することが可能である。光学活性なエポキシ化合物6または7は、反応性の中間体として医薬品の製造において非常に有用な化合物である。光学活性なエポキシ化合物6光学活性なアセタール化合物3と塩基とを反応させる工程を含むことにより、対応する光学活性なエポキシ化合物式6:式中、R1、R2およびは上記で定義した通りである。で示される光学活性エポキシ化合物を製造するエポキシ化反応工程。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩;ナトリウムメチラート等の金属アルコラート等が挙げられる。中でも、収率及び経済性の点から、炭酸カリウムが好ましい。塩基の使用量は、収率及び経済性の点から、光学活性なアセタール化合物31モルに対して、好ましくは0.8~2モル、より好ましくは1~1.5モルである。本発明におけるエポキシ化反応は、好ましくは溶媒中で行われる。溶媒としては、アルコール溶媒例、メタノール、エタノール;エーテル溶媒例、ジエチルエーテル、メチルt-ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。中でも、収率の点から、アルコール溶媒が好ましい。本発明におけるエポキシ化反応は、操作を簡便にする点から、光学活性なアセタール化合物3を溶媒に溶解した溶液に塩基を添加する方法により行なうことが好ましい。塩基の添加は、好ましくは-20~20°Cの範囲内、より好ましくは-10~10°Cの範囲内で行われる。また、本発明におけるエポキシ化反応は、操作を簡便にする点から、アセタール化反応終了後の光学活性なアセタール化合物3を含む反応混合物と塩基とを反応させることにより行うことが好ましい。本発明におけるエポキシ化反応は、光学活性なアセタール化合物3の種類にもよるが、好ましくは0~120°Cの範囲内、より好ましくは40~80°Cの範囲内で行われる。また、その反応時間は、光学活性なアセタール化合物3の種類及び反応温度にもよるが、好ましくは1~100時間、より好ましくは1~20時間である。反応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。光学活性なエポキシ化合物7光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4と塩基とを反応させる工程を含むことにより、対応する光学活性なエポキシ化合物式7:式中、R1、R9、R10およびは上記で定義した通りである。で示される光学活性エポキシ化合物を製造するエポキシ化反応工程。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩;ナトリウムメチラート等の金属アルコラート等が挙げられる。中でも、収率及び経済性の点から、炭酸カリウムが好ましい。塩基の使用量は、収率及び経済性の点から、光学活性なα,β-不飽和エステル化合物41モルに対して、好ましくは0.5~2モル、より好ましくは0.8~1.3モルである。本発明におけるエポキシ化反応は、好ましくは溶媒中で行われる。溶媒としては、アルコール溶媒例、メタノール、エタノール;エーテル溶媒例、ジエチルエーテル、メチルt-ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。中でも、収率の点から、アルコール溶媒が好ましい。本発明におけるエポキシ化反応は、操作を簡便にする点から、光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4を溶媒に溶解した溶液に塩基を添加する方法により行なうことが好ましい。塩基の添加は、好ましくは-20~20°Cの範囲内、より好ましくは-10~10°Cの範囲内で行われる。また、本発明におけるエポキシ化反応は、操作を簡便にする点から、アセタール化反応終了後の光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4を含む反応混合物と塩基とを反応させることにより行うことが好ましい。本発明におけるエポキシ化反応は、光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4の種類にもよるが、好ましくは0~120°Cの範囲内、より好ましくは40~80°Cの範囲内で行われる。また、その反応時間は、光学活性なα,β-不飽和エステル化合物4の種類及び反応温度にもよるが、好ましくは1~100時間、より好ましくは1~20時間である。反応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。TCI東京化成工業株式会社より購入したクロロアセトアルデヒド水中で約40,約6.1mol/Lカタログ番号:C0083を直接用いた。クロロアセトアルデヒド以外の全ての液体アルデヒド及び溶媒は、使用前に蒸留した。全ての反応をアルゴン雰囲気下で行い、Merck60F254プレコートシリカゲルプレート厚さ0.25mmを用いて、薄層クロマトグラフィーによりモニターした。分取薄層クロマトグラフィーは、和光純薬工業株式会社日本、東京より購入したWakogelB-5Fを用いて行った。フラッシュクロマトグラフィーは、関東化学株式会社日本、東京のシリカゲル60Nを用いて行った。FT-IRスペクトルは、JASCOFT/IR-410分光計で記録した。1H及び13C-NMRスペクトルは、BrukerAM4001H-NMRでは400MHz、13C-NMRでは100MHz装置で記録した。1H-NMRについてのデータは、化学シフトδppm、多重度s=シングレット、d=ダブレット、t=トリプレット、q=カルテット、m=マルチプレット、カップリング定数Hz、積分及び割当てとして報告する。13C-NMRについてのデータは、化学シフトとして報告する。高分解能質量スペクトル解析HRMSは、BrukerESI-TOFMSを用いて実行した。HPLC解析は、HITACHIEliteLaChromSeriesHPLCにより、UV検出をそれぞれ適切な波長でモニターしながら、CHIRALCELOD-H0.46cm×25cm、CHIRALCELOJ-H0.46cm×25cm、CHIRALPAKIA0.46cm×25cm、CHIRALPAKIC0.4cm×1cm、CHIRALPAKAD-H0.46cm×25cm及びCHIRALPAKAS-H0.46cm×25cmを用いて行った。実施例1-1~1-4クロロアセトアルデヒドの40水溶液0.75mmol,123μLに、S-2-[ビス3,5-ビス-トリフルオロメチルフェニルヒドロキシメチル]ピロリジン0.05mmol,3-フェニルプロパナールに対して10mol、表1に示す溶媒0.5mL及び3-フェニルプロパナールアルデヒド化合物1,0.5mmolを加えた。反応混合物を23°Cで表1に示す時間攪拌後、オルトギ酸トリメチル6.0mmol及びp-トルエンスルホン酸一水和物0.1mmolを加えて、23°Cで1時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の添加により、アセタール反応を停止した。有機物をクロロホルムで3回抽出し、無水MgSO4で乾燥し、濾過後に減圧濃縮した。カラムクロマトグラフィー酢酸エチル:ヘキサン=1:6で精製して、2R,3S-3-ベンジル-1-クロロ-4,4-ジメトキシブタン-2-オールを得た。収率、シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率を表1に示す。収率は2工程の収率として求めた。シン/アンチ比は1H-NMRスペクトルにより測定した。また、エナンチオマー過剰率は、対応する3,5-ジニトロベンゾエートに変換後、CHIRALPAKAD-Hカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:100、0.25mL/min、副エナンチオマーの保持時間=32.1分、主エナンチオマーの保持時間=41.8分により測定した。実施例2-1~2-8表2に示す量Xのクロロアセトアルデヒドの40水溶液に、S-2-[ビス3,5-ビス-トリフルオロメチルフェニルヒドロキシメチル]ピロリジン0.05mmol、但し、実施例2-4、2-6及び2-7では0.075mmol、THF0.5mL及び表2に示す量Yのアルデヒド化合物1を加えた。反応混合物を23°Cで表2に示す時間攪拌後、オルトギ酸トリメチル492μL,4.5mmol及びp-トルエンスルホン酸一水和物19.0mg,0.1mmolを加えて、23°Cで1時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の添加により、反応を停止した。有機物を、クロロホルムで3回抽出し、無水MgSO4で乾燥し、濾過後に減圧濃縮した。カラムクロマトグラフィー酢酸エチル:ヘキサン=1:6での精製により、アセタール化合物3R2=メチルを得た。収率、シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率を表2に示す。収率は2工程の収率として求めた。シン/アンチ比は1H-NMRスペクトルにより測定した。エナンチオマー過剰率は、必要に応じて、対応するp-ニトロベンゾエートまたは3,5-ジニトロベンゾエートに変換後、キラルカラムを備えたHPLCにより測定した。2R,3S-1-クロロ-4,4-ジメトキシ-3-メチルブタン-2-オール実施例2-1ジアステレオマー混合物anti:syn=588:1として;1HNMR:δ094208216340345361366374382386436;13CNMR:δ1103874865415637231081;IR:νmax345629352835145913841281119411071060943751536cm1;HRMS:MNa計算値C7H15ClO3Naとして:2050602実測値:2050593;エナンチオマー過剰率は、アセタール化生成物のp-ニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKICカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:801mLmin、主エナンチオマーの保持時間=202分、副エナンチオマーの保持時間=236分により測定した。2R,3S-1-クロロ-3-ジメトキシメチルペンタン-2-オール実施例2-2ジアステレオマー混合物anti:syn=90:1として;1HNMR:δ097147155191341345367372395443;13CNMRδ1171974424865485667121078;IR:νmax348329642834146513741281117611401068845683405cm1;HRMS:MNa計算値C8H17ClO3Naとして:2190758,実測値:2190760;エナンチオマー過剰率は、アセタール化生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKICカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:501mLmin、主エナンチオマーの保持時間=383分、副エナンチオマーの保持時間=422分により測定した。2R,3S-1-クロロ-3-ジメトキシメチルヘキサン-2-オール実施例2-3ジアステレオマー混合物anti:syn=5881として;1HNMR:δ092132145196202341344351371392440;13CNMR:δ1432052884244855515657201080;IR:νmax3481295914571377119011091063967732437419cm1;HRMS:MNa計算値C9H19ClO3Naとして:2330915,実測値:2330926;エナンチオマー過剰率は、アセタール化生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKICカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:501mLmin、主エナンチオマーの保持時間=351分、副エナンチオマーの保持時間=396分により測定した。2R,3S-1-クロロ-3-ジメトキシメチル-4-メチルペンタン-2-オール実施例2-4ジアステレオマー混合物anti:syn=909:1として;1HNMR:δ097103174178193202339345372400450;13CNMR:δ2032062694764965465657121075;IR:νmax3485296228392360145911121061916428414cm1;HRMS:MNa計算値C9H19ClO3Naとして:2330915,実測値:2330924;エナンチオマー過剰率は、アセタール化生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKICカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:501mLmin、主エナンチオマーの保持時間=286分、副エナンチオマーの保持時間=307分により測定した。2R,3S-3-ベンジル-1-クロロ-4,4-ジメトキシブタン-2-オール実施例2-5ジアステレオマー混合物anti:syn=385:1として;1HNMR:δ230236275281336345358368370391428720732;13CNMR:δ33044648555656871410741263128612911396;IR:νmax3493302729462834236016031496145413701281118911231060963752702499cm1;HRMS:MNa計算値C13H19ClO3Naとして:2810915,実測値:2810926;エナンチオマー過剰率は、CHIRALPAKAD-Hカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:100025mLmin、副エナンチオマーの保持時間=321分、主エナンチオマーの保持時間=418分により測定した。2R,3S,Z-1-クロロ-3-ジメトキシメチルノナ-6-エン-2-オール実施例2-6ジアステレオマー混合物anti:syn=588:1として;1HNMR:δ097144155199217341345351365374394441527544;13CNMR:δ144207248265421484553565719108012851326;IR:νmax373436483500296323611558154114571067668484463420cm1;HRMS:MNa計算値C12H23ClO3Naとして:2731228,実測値:2731228;エナンチオマー過剰率は、アセタール化生成物のp-ニトロベンゾイル化後にCHIRALPAKICカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:801mLmin、主エナンチオマーの保持時間=334分、副エナンチオマーの保持時間=374分により測定した。2R,3S-1-クロロ-3-ジメトキシメチル-6-トリメチルシリルヘキサ-5-イン-2-オール実施例2-7ジアステレオマー混合物anti:syn=30:1として;1HNMR:δ015218243342347362373379462;13CNMR:δ00018142048154756171397010141064;IR:νmax34472954292521751714145712811250117811411069844760683419405cm1;HRMS:MNa計算値C12H23ClO3SiNaとして:3010997,実測値:3010986;エナンチオマー過剰率は、アセタール化生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKICカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:301mLmin、主エナンチオマーの保持時間=151分、副エナンチオマーの保持時間=170分により測定した。R-1-クロロ-4,4-ジメトキシブタン-2-オール実施例2-81HNMRδ18619030533833835335740040246113CNMRδ3684945355396841033IRνmax34502963283517271648144713741281118911281057962902822745683409cm1HRMSMNa計算値C6H13ClO3Naとして1910445実測値:1910441αD22972°エナンチオマー過剰率は、アセタール化生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKAD-Hカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:301mLmin、主エナンチオマーの保持時間=174分、副エナンチオマーの保持時間=129分により測定した。実施例3-1~3-6表3に示す量Xのクロロアセトアルデヒドの40水溶液に、S-2-[ビス3,5-ビス-トリフルオロメチルフェニルヒドロキシメチル]ピロリジン0.05mmol、但し、実施例3-4及び3-6では0.075mmol、THF0.5mL及び表3に示す量Yのアルデヒド化合物1を加えた。反応混合物を23°Cで表3に示す時間攪拌後、ウィッティヒ試薬435mg,1.25mmolを加えて、23°Cで1時間攪拌した。シリカゲルパッドを通過させることにより、ウィッティヒ反応を停止し、減圧濃縮した。分取薄層クロマトグラフィー酢酸エチル:ヘキサン=1:5での精製により、α,β-不飽和エステル化合物4R9=水素原子またはメチル、R10=エチルを得た。収率、シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率を表3に示す。収率は2工程の収率として求めた。シン/アンチ比は1H-NMRスペクトルにより測定した。エナンチオマー過剰率は、対応する3,5-ジニトロベンゾエートに変換後、キラルカラムを備えたHPLCにより測定した。4R,5R,E-エチル6-クロロ-5-ヒドロキシ-4-メチルヘキサ-2-エノエート実施例3-1ジアステレオマー混合物anti:syn=419:1として;1HNMR:δ114129225258264353363372377419590696;13CNMR:δ144160402484606745122714901666;IR:νmax3462298229272876170216521370128011831034985869cm1;HRMS:MNa計算値C9H15ClO3Naとして:2290602,実測値:2290593;エナンチオマー過剰率は、ウィッティヒ生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKIAカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:101mLmin、主エナンチオマーの保持時間=129分、副エナンチオマーの保持時間=164分により測定した。4R,5R,E-エチル6-クロロ-5-ヒドロキシ-2,4-ジメチルヘキサ-2-エノエート実施例3-2ジアステレオマー混合物anti:syn=565:1として;1HNMR:δ110130188275284352362373377420669;13CNMR:δ131147165368483609747129914141683;IR:νmax348429791708164813691280113910941005750405cm1;HRMS:MNa計算値C10H17ClO3Naとして:2430758,実測値:2430754;エナンチオマー過剰率は、ウィッティヒ生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKAS-Hカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:301mLmin、主エナンチオマーの保持時間=112分、副エナンチオマーの保持時間=134分により測定した。4R,5R,E-エチル6-クロロ-4-エチル-5-ヒドロキシヘキサ-2-エノエート実施例3-3ジアステレオマー混合物anti:syn=588:1として;1HNMR:δ091130150168218227234349356383387419588684;13CNMR:δ118140241478484603734124514691663;IR:νmax3480296517031651137112811239118011381038991404cm1;HRMS:MNa計算値C10H17ClO3Naとして:2430758,実測値:2430757;エナンチオマー過剰率は、ウィッティヒ生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKAD-Hカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:501mLmin、主エナンチオマーの保持時間=236分、副エナンチオマーの保持時間=320分により測定した。4R,5R,E-エチル6-クロロ-5-ヒドロキシ-4-イソプロピルヘキサ-2-エノエート実施例3-4ジアステレオマー混合物anti:syn=872:1として;1HNMR:δ086096127187196198203206343348396401417582687;13CNMR:δ144202209285491527607714125114621660;IR:νmax34442961287617021651137111771038995429412cm1;HRMS:MNa計算値C11H19ClO3Naとして:2570915,実測値:2570926;エナンチオマー過剰率は、ウィッティヒ生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALCELOJ-Hカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:301mLmin、副エナンチオマーの保持時間=230分、主エナンチオマーの保持時間=267分により測定した。4R,5R,E-エチル4-ベンジル-6-クロロ-5-ヒドロキシヘキサ-2-エノエート実施例3-5ジアステレオマー混合物anti:syn=690:1として;1HNMR:δ128258264278298417578696715731;13CNMR:δ1423734774896057181243126412841293138514621659;IR:νmax34212927235616991653149614561371128011611033988701419cm1;HRMS:MNa計算値C15H19ClO3Naとして:3050915,実測値:3050901;エナンチオマー過剰率は、ウィッティヒ生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKIAカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:301mLmin、主エナンチオマーの保持時間=273分、副エナンチオマーの保持時間=406分により測定した。R,2E,7Z-エチル4-R-2-クロロ-1-ヒドロキシエチルデカ-2,7-ジエノエート実施例3-6ジアステレオマー混合物anti:syn=588:1として;1HNMRδ095130197206220240247349355381385420523543588685;13CNMR:δ14720824845348760712431279133114711663;IR:νmax346429641710170216521372128011621036991727420cm1;HRMS:MNa計算値C14H23ClO3Naとして:2971228,実測値:2971235;エナンチオマー過剰率は、ウィッティヒ生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKAD-Hカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:1001mLmin、主エナンチオマーの保持時間=517分、副エナンチオマーの保持時間=643分により測定した。実施例4-1~4-5表4に示す量Xのクロロアセトアルデヒドの40水溶液に、S-2-[ビス3,5-ビス-トリフルオロメチルフェニルヒドロキシメチル]ピロリジン0.05mmol、但し、実施例4-3及び4-5では0.075mmol、THF0.5mL及び表4に示す量Yのアルデヒド化合物1を加えた。反応混合物を23°Cで表4に示す時間時間-1攪拌後、オルトギ酸トリメチル492μL,4.5mmol及びp-トルエンスルホン酸一水和物19.0mg,0.1mmolを加えて、23°Cで1時間攪拌した。その後、K2CO3173mg,1.25mmol及びMeOH0.5mLを0°Cで加えた。反応混合物を65°Cで表4に示す時間時間-2攪拌した後、冷水を23°Cで加えた。有機物をクロロホルムで3回抽出し、無水MgSO4で乾燥し、濾過後に減圧濃縮した。カラムクロマトグラフィー酢酸エチル:ヘキサン=1:6で精製して、エポキシ化合物6R2=メチルを得た。収率、シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率を表4に示す。収率は3工程の収率として求めた。シン/アンチ比は1H-NMRスペクトルにより測定した。エナンチオマー過剰率は、キラルカラムを備えたHPLCにより測定した。R-2-S-1,1-ジメトキシプロパン-2-イルオキシラン実施例4-1ジアステレオマー混合物anti:syn=476:1として;1HNMR:δ088162167244267286335337425;13CNMR:δ1003954495335465471071IR:νmax29291733169815581541150714571374128111751138901682668458436422411cm1;HRMS:MNa計算値C7H14O3Naとして:1690835,実測値:1690837R-2-S-1,1-ジメトキシブタン-2-イルオキシラン実施例4-2ジアステレオマー混合物anti:syn=667:1として;1HNMR:δ095132147160166253278287341344438;13CNMR:δ1201884644675235525561066;IR:ν2965146613741281117711411073968844683419402cm1;HRMS:MNa計算値C8H16O3Naとして:1830992,実測値:1830987R-2-S-1,1-ジメトキシ-3-メチルブタン-2-イルオキシラン実施例4-3ジアステレオマー混合物anti:syn=833:1として;1HNMR:δ09611712219420425127527728628936236544413CNMR:δ1932202664634985065455461062;IR:ν2960146413731281117611381074682419410cm1;HRMS:MNa計算値C9H18O3Naとして:1971148,実測値:1971147R-2-S-1,1-ジメトキシ-3-フェニルプロパン-2-イルオキシラン実施例4-4ジアステレオマー混合物anti:syn=83:1として;1HNMR:δ167172200254262288298345348440715730;13CNMR:δ32046447651955355910661261128412911406;IR:ν28321496145513611281120011361073971881838745702520457438417405cm1;HRMS:MNa計算値C13H18O3Naとして:2451148,実測値:2451143;エナンチオマー過剰率は、CHIRALPAKAD-Hカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:2001mLmin、主エナンチオマーの保持時間=81分、副エナンチオマーの保持時間=120分により測定した。R-2-S,Z-1,1-ジメトキシオクタ-5-エン-2-イルオキシラン実施例4-5ジアステレオマー混合物anti:syn=53:1として;1HNMR:δ096137167201220252278280341345438529535;13CNMR:δ14320625026044446552355255712881322;IR:ν30032963293128321733145713731281118811401075968845805668503472419410401cm1;HRMS:MNa計算値C12H22O3Naとして:2371461,実測値:2371469実施例5-1~5-6表5に示す量Xのクロロアセトアルデヒドの40水溶液に、S-2-[ビス3,5-ビス-トリフルオロメチルフェニルヒドロキシメチル]ピロリジン0.05mmol、但し、実施例5-4及び5-6では0.075mmol、THF0.5mL及び表5に示す量Yのアルデヒド化合物1を加えた。反応混合物を23°Cで表5に示す時間時間-1攪拌後、ウィッティヒ試薬435mg,1.25mmolを加えて、23°Cで1時間攪拌した。その後、K2CO3138mg,1.00mmol及びEtOH0.5mLを23°Cで加えた。反応混合物を65°Cで表5に示す時間時間-2攪拌した。シリカゲルパッドを通過させることにより反応を停止し、減圧濃縮した。分取薄層クロマトグラフィー酢酸エチル:ヘキサン=1:5で精製して、エポキシ化合物7R9=水素原子またはメチル、R10=エチルを得た。収率、シン/アンチ比及びエナンチオマー過剰率を表5に示す。収率は3工程の収率として求めた。シン/アンチ比は1H-NMRスペクトルにより測定した。エナンチオマー過剰率は、キラルカラムを備えたHPLCにより測定した。R,E-エチル4-R-オキシラン-2-イルペンタ-2-エノエート実施例5-1ジアステレオマー混合物anti:syn=785:1として;1HNMR:δ113129223234255276278289420592693;13CNMR:δ142153385457548604121914881665;IR:νmax2979171916551368126911841037984894428405cm1;HRMS:MNa計算値C9H14O3Naとして:1930835,実測値:1930834R,E-エチル2-メチル-4-R-オキシラン-2-イルペンタ-2-エノエート実施例5-2ジアステレオマー混合物anti:syn=504:1として;1HNMR:δ110130186254252260274290293417422659;13CNMR:δ130146160355455555606129314161683IR:νmax29792932236017121652145713671295124311751099896749cm1;HRMS:MNa計算値C10H16O3Naとして:2070992,実測値:2070984R,E-エチル4-R-オキシラン-2-イルヘキサ-2-エノエート実施例5-3ジアステレオマー混合物anti:syn=460:1として;1HNMR:δ095129146165201255280291419592683;13CNMR:δ116142239461462540603123014781662;IR:νmax29702361171916531368123711821038984668422413cm1;HRMS:MNa計算値C10H16O3Naとして:2070992,実測値:2070992R,E-エチル5-メチル-4-R-オキシラン-2-イルヘキサ-2-エノエート実施例5-4ジアステレオマー混合物anti:syn=625:1として;1HNMR:δ096101129176182185194254283296419590686;13CNMR:δ142203205306469517531603109612381468;IR:νmax296323591720165214701369128011801040984806567443422cm1;HRMS:MNa計算値C11H18O3Naとして:2211148,実測値:2211148R,E-エチル4-R-オキシラン-2-イル-5-フェニルペンタ-2-エノエート実施例5-5ジアステレオマー混合物anti:syn=909:1として;1HNMR:δ128232236244267284294419589690;13CNMR:δ1423764144645366041232126612851290138314701661;IR:νmax172016511454136812691193982984701431405cm1;HRMS:MNa計算値C15H18O3Naとして:2691148,実測値:2671139;エナンチオマー過剰率は、CHIRALPAKICカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:301mLmin、主エナンチオマーの保持時間=253分、副エナンチオマーの保持時間=271分により測定した。R,2E,7Z-エチル4-R-オキシラン-2-イルデカ-2,7-ジエノエート実施例5-6ジアステレオマー混合物anti:syn=480:1として;1HNMR:δ096129150167198219255279291420522543592683;13CNMR:δ14420724631144146453960112331279132814771662;IR:νmax29641720165314641368126811911037983720437418cm1;HRMS:MNa計算値C14H22O3Naとして:2611461,実測値:2671457実施例6R-1-クロロ-4,4-ジメトキシブタン-2-オールクロロアセトアルデヒドの40水溶液19.6g,0.1molにCHCl318.8mLを加え、ディーンスタークを用いて65°Cで48時間加熱還流した。約10mLの水を除き、CHCl3を減圧下留去した。残渣39.3mg,0.5mmolにTHF0.5mL、アセトアルデヒドアルデヒド化合物1,1.5mmol、触媒としてのピロリジン化合物0.05mmol、アセトアルデヒドに対して10molを加えた。反応混合物を23°Cで24時間攪拌した後、オルトギ酸トリメチル492μL,4.5mmolとp-トルエンスルホン酸一水和物19.0mg,0.1mmolを加えて、23°Cで1時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の添加により、反応を停止した。有機物を、クロロホルムで3回抽出し、無水MgSO4で乾燥し、濾過後に減圧濃縮した。カラムクロマトグラフィー酢酸エチル:ヘキサン=1:5での精製により、アセタール化合物3R1=水素原子、R2=メチルを得た。収率は52、エナンチオマー過剰率は78eeであった。なお、収率は2工程の収率として求めた。エナンチオマー過剰率は、対応する3,5-ジニトロベンゾエートに変換後、キラルカラムを備えたHPLCにより測定した。1HNMRδ18619030533833835335740040246113CNMRδ3684945355396841033IRνmax34502963283517271648144713741281118911281057962902822745683409cm1HRMSMNa計算値C6H13ClO3Naとして1910445実測値:1910441αD22972°エナンチオマー過剰率は、アセタール化生成物の3,5-ジニトロベンゾイル化後に、CHIRALPAKAD-Hカラムを備えたHPLCiPrOH:ヘキサン=1:301mLmin、主エナンチオマーの保持時間=174分、副エナンチオマーの保持時間=129分により測定した。"