"透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理領域を有し、その上に、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、及び、粘着層を設けたホログラムラベルであって、前記ホログラム形成層の中の、少なくとも前記パターン状の表面活性化処理領域に対応する位置を含む領域に第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層が設けられていることを特徴とするホログラムラベル。透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理領域を有し、その上に、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層、透明反射性薄膜層、及び、粘着層を設けたホログラムラベルであって、前記粘着層の中の、少なくとも前記パターン状の表面活性化処理領域に対応する位置を含む領域に、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層が設けられていることを特徴とするホログラムラベル。前記フォトクロミック薄膜層の厚さが、0.01μm以上0.5μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のホログラムラベル。前記表面活性化処理は、光処理、又は物理的処理であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のホログラムラベル。前記パターンが、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のホログラムラベル。本発明は、ホログラムラベルであるものの、通常照明光下で視認できる第1のホログラム再生像に加えて、通常照明下においては視認できず、所定の照射光の照射においてのみ出現する第2のホログラム再生像を有するホログラムラベルであって、ラベルを被貼着体に貼着する際には、問題なく貼着可能であって、その被貼着体からラベルを不正に剥そうとすると、ラベル基材のみが剥がれ、その剥した痕跡として、被貼着体側に残ったものに、例えば開と封の文字が、窪み状の文字として出現し、この段階で、このラベルがいわゆるホログラム脆性ラベルであることが判明する。さらに、この残ったものに対して、所定の照射光を照射すると、開封等の文字状の欠けを含んだ第2のホログラム再生像が浮き上がるホログラムラベルを提供する。すなわち、本発明は、上記従来の問題点に鑑み為されたものであり、その目的とするところは、不正な剥離行為によるラベルの貼り替えを確実に発見することが可能で、しかも、第2のホログラムの存在や、部分的に脆性破壊する層の存在を発見しにくい、いわば、隠しホログラムを有するホログラム脆性ラベルを提供することにある。上記の課題を解決するために、本発明のホログラムラベルの第1の態様は、透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理領域を有し、その上に、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、及び、粘着層を設けたホログラムラベルであって、前記ホログラム形成層の中の、少なくとも前記パターン状の表面活性化処理領域に対応する位置を含む領域に第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層が設けられていることを特徴とするものである。上記第1の態様のホログラムラベルによれば、透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理領域を有し、その上に、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、及び、粘着層を設けたホログラムラベルであって、前記ホログラム形成層の中の、少なくとも前記パターン状の表面活性化処理領域に対応する位置を含む領域に第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層が設けられていることを特徴とするホログラムラベルを提供することができ、外観上は、通常のホログラム脆性ラベルのように見えながら、不正行為が行われたことを容易に判定可能な、ホログラムラベルを提供できる。本発明のホログラムラベルの第2の態様は、透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理領域を有し、その上に、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層、透明反射性薄膜層、及び、粘着層を設けたホログラムラベルであって、前記粘着層の中の、少なくとも前記パターン状の表面活性化処理領域に対応する位置を含む領域に、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層が設けられていることを特徴とするものである。上記第2の態様のホログラムラベルによれば、透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理領域を有し、その上に、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層、透明反射性薄膜層、及び、粘着層を設けたホログラムラベルであって、前記粘着層の中の、少なくとも前記パターン状の表面活性化処理領域に対応する位置を含む領域に、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層が設けられていることを特徴とするホログラムラベルを提供することができ、外観上は、通常の透明ホログラム脆性ラベルのように見えながら、不正行為が行われたことを容易に判定可能な、ホログラムラベルを提供できる。本発明のホログラムラベルの第3の態様は、前記フォトクロミック薄膜層の厚さが、0.01μm以上0.5μm以下であることを特徴とするものである。上記第3の態様のホログラムラベルによれば、前記フォトクロミック薄膜層の厚さが、0.01μm以上0.5μm以下であることを特徴とする第1または第2の態様に記載のホログラムラベルを提供することができ、第1または第2の態様の特徴に加えて、より鮮明なホログラム再生像を出現させることが可能な、ホログラムラベルを提供できる。本発明のホログラムラベルの第4の態様は、前記表面活性化処理が、光処理、又は物理的処理であることを特徴とするものである。上記第4の態様のホログラムラベルによれば、前記表面活性化処理が、光処理、又は物理的処理であることを特徴とする第1から第3の態様のいずれか一つの態様に記載のホログラムラベルを提供することができ、その態様の特徴に加えて、より脆性破壊し易く、且つ、脆性破壊する層の存在をより発見し難い、ホログラムラベルを提供できる。本発明のホログラムラベルの第5の態様は、前記パターンが、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とするものである。上記第5の態様のホログラムラベルによれば、前記パターンが、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とする第1から第4の態様のいずれか一つの態様に記載のホログラムラベルを提供することができ、その態様の特徴に加えて、さらに脆性破壊し易く、且つ、脆性破壊する層の存在をさらに発見し難い、ホログラムラベルを提供できる。すなわち、本発明のホログラムラベルは、透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理を施して、パターン状の表面活性化処理領域を形成し、その上に、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層もしくは透明反射性薄膜層、及び、粘着層を設けたホログラムラベルであって、ホログラム形成層の中の、パターン状の表面活性化処理領域に対応する位置を含む領域や、粘着層の中の、パターン状の表面活性化処理領域に対応する位置を含む領域に渡って、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層が設けられ、上記したホログラムラベルの用途において、所望の被貼着体の一部や、封筒等の封緘部分等に貼着される。このホログラムラベルを、その被貼着体、もしくは、封緘部分から、貼付した痕跡を残さず、ホログラムラベルも完全な元の状態で剥して、不正に準備した別の被貼着体に貼り替えたり、封筒や箱を開封して内容物を取り替えた後、あたかも、その被貼着体や封筒や箱の内容物が本物であると主張したり、逆に、真正なホログラムラベルを剥したものは、本物でないとして、その価値を低下させるなどの不正を防止するためには、ホログラムラベルの基材及びホログラム形成層そのものが破断することが望ましいが、ホログラムラベルの基材及び、ホログラム形成層の破断強度は、非常に大きく、ラベルとしての粘着力等JISZ0237で規定する180°剥離試験にて、0.1~1.0kg/25mm幅。では、それらの層を100破断させることは困難である。そのため、透明基材とホログラム形成層との間の剥離強度を小さく抑え、且つ、透明基材の一方の面を所望のパターン状に表面活性化処理して、パターン状の表面活性化処理領域を形成し、透明基材とホログラム形成層との接着性を部分的その表面活性化処理した領域のみという意味。に向上させ、0.5kg/25mm幅以上、3.0kg/25mm幅以下の剥離強度JISZ0237で規定する180°剥離試験にて。とし、その他の領域については、ホログラム形成層との接着性をその強度より小さいままに抑えるか、さらには、その小さい強度をさらに小さくするため表面不活性化処理を行う。そのパターンとしては、視認可能な大きさや形状を有する、文字、図形、記号等、そのパターンが可視化されたときに、容易に視認可能な表示となるものであればいずれも使用でき、代表的には、ラベルを剥離した証拠を示すという意味で、開封の文字表示を出現させるため、開と封の文字の画線部領域のみを表面活性化処理するか、さらには、その表面活性化処理に加えて、その画線部以外の領域を表面不活性化処理する。この表面活性化処理、すなわち、濡れ性を非常に高める処理や、表面に官能基を創り出す処理等には、炭酸ガスレーザー照射、遠赤外線炭酸ガスレーザー照射、172nm真空紫外線VUV、エキシマ光照射、酸素増感エキシマ光照射、オープンプラズマ処理、コロナ処理、電子線照射処理等の透明基材最表面の化学結合エネルギーよりも大きいエネルギー例えば、7.2eV以上。により、透明基材最表面の化学結合を切断し、または、172nmの真空紫外線等のように、大気中の酸素に吸収されてオゾンまたは直接励起酸素を発生し、この接触により官能基を生成する等の物理的処理等を用いて、透明基材の最表面のみを表面活性化処理表面張力が大きくなることを意味する。し、もしくは、酸化剤等薬品による表面処理、プライマー処理、シランカップリング処理等の化学的処理、アルゴンビームエッチング、エッチング液、さらにはサンドブラスト加工等の物理的な租面形成処理等を用いることができる。そして、表面不活性化処理としては、透明基材上、もしくは、上記の表面活性化処理面の所定の部分のみを精度よく表面不活性化処理する必要があり、透明基材上に直接表面不活性化処理を行う方法、例えば、熱硬化性樹脂や、硬化剤を添加した樹脂からなる透明基材を用いて、その最表面の一部を赤外線加熱等により完全硬化させて、未反応成分を解消したり、離型成分を含む樹脂の部分加熱や部分硬化により、その離形成分を最表面にブリードする方法等、または、まず、透明基材の最表面全体に上記した表面活性化処理を施し、その後、活性化した透明基材の最表面の一部領域に、その最表面のみを部分的に溶解する、もしくは、その最表面の活性化した官能基と反応して官能基の活性を解消する、溶剤類、例えば、ケトン類メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等。、アルコール類メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等、さらにはその水溶液。、芳香族類ベンゼン、トルエン、キシレン等。、エステル類、エーテル類テトラヒドロフラン等。等、または、これらの透明基材とはそもそも接着し難い、界面張力の小さい樹脂、例えば、シリコーン樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂や、これらのフッ化炭化水素基、有機珪素基を含む樹脂等を、活版印刷方式やインクジェット方式を用いて、表面活性化処理面への接触を避けて、上記した所望のパターン状に部分形成する方法等により、高い精度でパターン状に表面不活性化処理する。この際、透明基材表面の光学的な特性透明基材に付着したものを含んだ特性とし、光学的透明性、屈折率分布や、光を反射する界面形状等。に変化を与えないことが望ましく、溶剤等は揮発することで、また、樹脂等はあくまで表面改質の目的であって乾燥後の形成厚さが光の波長の1/2~1/10程度となることが望ましい。もちろん、これらを併用することも好適である。そして、このホログラムラベルを剥そうとして透明基材を被貼着体から持ち上げた際、表面活性化処理を施していない部分、または、表面不活性化処理した部分いずれも、表面活性化処理領域ではない領域を意味する。において、その透明基材とホログラム形成層との間で容易に剥離が起こり、表面活性化処理した部分表面活性化処理領域を意味する。においては、透明基材側にホログラム形成層が付着したままとなって、表面不活性化処理した部分と表面活性化処理を施していない部分との境界、または、表面不活性化処理した部分と表面不活性化処理した部分との境界において、ホログラム形成層に強いせん断力ホログラム形成層を破断しようとする力。ホログラム形成層が破断する際に加えていた力が破断強度となる。が働くこととなる。そして、その第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層以下、単に、ホログラム形成層ともいう。、または、粘着層の中に、且つ、少なくともそのパターン状の表面活性化処理領域に対応する位置を含む領域に、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層以下、単に、フォトクロミック薄膜層ともいう。を設ける。すなわち、そのホログラム形成層、または、粘着層を構成する透明な樹脂を、例えば1/2の厚さで形成し、その表面に第2のホログラムレリーフを形成後、その第2のホログラムレリーフの所定の一部分に接するように、さらには、第2のホログラムレリーフの所定の一部分を形成する凹凸に追従して均一な厚さで、フォトクロミック薄膜層を設け、そのフォトクロミック薄膜層を覆いながら、その第2のホログラムレリーフ全体を、その透明な樹脂で、残りの1/2の厚さを形成し、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層を含むホログラム形成層、または、粘着層を設ける。そして、このホログラム形成層の表面に、改めて、第1のホログラムレリーフを設け、さらに、その第1のホログラムレリーフ面上に、反射性薄膜層、もしくは、透明反射性薄膜層をその第1のホログラムレリーフに追従するように形成する。このことによって、その反射性薄膜層や透明反射性薄膜層から通常照明光の反射が生じて、第1のホログラムレリーフによる第1のホログラム再生像を視認することができるものとなる。また、上記した所定の一部分とは、少なくともパターン状の表面活性化処理領域に対応する位置を含む領域にある、第2のホログラムレリーフ面上の領域であって、透明基材上のパターン状の表面活性化処理領域が、例えば、開や封の文字領域である場合には、その文字領域の直下にある、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層、または、粘着層の中に設けられている第2のホログラムレリーフ面上における開や封の文字領域を少なくとも含む領域を意味し、この第2のホログラムレリーフ面上における開や封の文字領域を含んでいれば、任意の大きさ、及び、任意の形状とすることができる。但し、このフォトクロミック薄膜層の存在は、不正者には全く認識できないことが望ましく、第2のホログラムレリーフ面上における開や封の文字領域とほぼ同じ大きさ、及び、同じ形状一回り大きいものを意味する。か、もしくは、それらの個々の文字を一回り大きい大きさで内包する長方形状か楕円形状とすることが好ましい。ここで、一回り大きいとは、文字の一本一本の線幅の1.1倍~2.0倍程度、もしくは、文字一つ一つの大きさのタテヨコの1.1倍~2.0倍程度を意味する。このことにより、不正者が本発明のホログラムラベルを剥がした際、透明基材側には、開や封の文字領域の形で破断した第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層及び粘着層が付着し、被貼着体上には、その文字領域状の凹みもしくは穴の開いたラベル残部残ったホログラム形成層及び粘着層が残ることとなるが、結果として、その透明基材側や、被貼着体上にそれぞれフォトクロミック薄膜層が分断されて存在することとなり、不正者の知り得ない紫外線等の所定の波長の光による照明により、その分断状態を容易に確認できるようになる。このような偽造防止性は、フォトクロミック薄膜層が発色タイプ、すなわち、無色透明、乃至は、白色から、所定の色調を発現するもののみならず、変色タイプ、すなわち、ある色調を呈するものから、その色調とは異なる色調に変色するものであっても、十分に発揮される。以下、主に発色タイプについて説明するが、変色タイプも同様に用いることができるものである。変色タイプの場合には、励起光照射前においても、蛍光灯の一般的な照明光下で、フォトクロミック薄膜層がある色調を呈しているため、その色調のホログラム再生像を視認できるが、励起光照射によって、そのフォトクロミック薄膜層が変色して、別の色調を呈するようになり、その新たな色調によるホログラム再生像が出現することとなる。すなわち、この新たな色調のホログラムの存在が偽造防止性に寄与するものである。また、このように、ホログラム形成層、または、粘着層を構成する透明な樹脂の表面に設けられた第2のホログラムレリーフの一部にのみにフォトクロミック薄膜層が設けられていて、そのフォトクロミック薄膜層を覆い、且つ、第2のホログラムレリーフ全体に、その透明な樹脂を重ねることで、フォトクロミック薄膜層を設けた領域以外の領域においては、その第2のホログラムレリーフの凹凸が同一屈折率の材料で埋められることとなるため、この埋められた部分は、もともとそのような凹凸が存在しなかったような光学的挙動をする。すなわち、光学的連続性を持ち、完全に透明であって、何らの回折や屈折も生じず、均一な一つの層として振る舞うこととなる。そして、このようにして設けたフォトクロミック薄膜層は非常に薄い層であり、その破断強度は非常に小さく、ホログラム形成層や、粘着層の破断とともに、さらには、それら層の変形によっても、容易に破断する。すなわち、開封の文字状に表面活性化処理等を施した場合、開封の文字の領域に対応する部分のホログラム形成層、及び粘着層が分断されたフォトクロミック薄膜層を含んで、透明基材に付着し以下、透明基材側残部ともいう。、開封の文字以外の領域に対応する部分ではそれらの層は透明基材に付着しないで、透明基材が剥離され、被貼着体側には、ホログラム形成層、及び粘着層が、分断された残りのフォトクロミック薄膜層を含んで、開封の文字状に欠けた状態文字状の窪みが発生した状態、もしくは、文字状の穴が開いた状態。以下、被貼着体側残部ともいう。で残されることとなる。また、表面活性化処理部分の領域の大きさ面積と、それ以外の領域表面不活性化処理部分の領域を含む。の大きさ面積とを比較すると、この例もそうであるが、表面活性化処理部分の領域の大きさより、それ以外の領域の大きさの方が相対的に大きくなる場合が多いことから、この透明基材とホログラム形成層の界面での剥離を助長する効果も有する。そして、この被貼着体上の被貼着体側残部に、所定の波長の紫外線等を当てると、フォトクロミック薄膜層内に存在するフォトクロミック分子が発色し、その発色波長による第2のホログラム再生像が出現する。この場合、第2のホログラム再生像は、開封の文字により遮られた状態として観察される。そもそも、ホログラム再生像はその再生の原理から非常に冗長性が高いため、この遮断表面活性化処理領域の幅、すなわち、開封の文字の線幅だけ、第2のホログラムレリーフ形状をしたフォトクロミック薄膜層が取り除かれているため、この領域から第2のホログラム再生像の再生に寄与する光が放射されないことを意味し、あたかも、第2のホログラム再生像の上から、開封の文字状の遮蔽物をかぶせて、第2のホログラム再生像を結像する光の進路を遮断したように見えることを意味する。を明確に視認できるようにするため、その遮断の大きさは、その第2のホログラムレリーフの干渉縞の周期0.5μm~2μmの200倍~5000倍、より好適には、500倍~2000倍とする。この遮断が、200倍未満であると、ホログラムの冗長性から第2のホログラム再生像が強く再現されて遮断が弱まってその存在を視認し難くなり、この遮断が5000倍を超えると、表面活性化処理した部分の領域の面積が大きくなって個々の線幅が大きくなり、結果として全体の面積も大きくなることを意味する。、透明基材そのものが剥離しにくくなったり、ホログラムラベル全体が何らの破断も生じずそのまま剥離できてしまう等の不具合が発生する。透明基材を剥離した際の遮断文字等。の鮮明さは、500倍~2000倍が最も良好となる。これに対し、表面活性化処理していない面、乃至は表面不活性化処理面は、その剥離強度を、0.01kg/25mm幅以上0.1kg/25mm幅以下として、ホログラムラベルを剥そうとすると、どのように工夫しても、必ず、透明基材がホログラム形成層からスムースに剥がれるものとし、透明基材を剥離した際、透明樹脂面の最表面がほぼ鏡面となって剥離痕等が残らないことを意味する。、その部分からは、その下にある第1や第2のホログラム再生像を鮮明に視認することができるものとする。上記した印刷手法を用いる表面不活性化処理は、非常に鮮明なパターンを形成可能であり、且つ、表面不活性化処理面と表面活性化処理面との接着強度差を非常に大きくすることができるため、破断する境界線をより明確なものとすることができる。もちろん、これらの表面活性化処理及び表面不活性化処理を用いたパターン状処理は、光学的に透明であって、ホログラムラベルを観察した際、そのパターン境界を視認することができず、レーザー等で照明してもその透明性その連続性。を維持している。この表面活性化処理の中でも、レーザー照射等の光処理、又はプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材の処理面に凹凸が発生せず、鏡面を維持していること、表面活性化処理の位置精度を高くすることが可能であること、及び、表面不活性化処理による表面不活性化処理効果が大きいことから、特に望ましく、また光学的透明性にも優れる。さらに、上記したパターン内を均一に表面活性化処理することに替えて、そのパターンを微細なパターンの集合により構成する、すなわち、そのパターン内を、より微細なパターン、例えば、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細なパターンの集合体とし、その微細なパターンの部分のみを表面活性化処理することで、破断する境界線すなわち、破断する機会を増やし、破断をより効率的に発生させることができるようになり、透明基材を剥離した際のホログラム形成層等の破断性、そして、併せて、フォトクロミック薄膜層の破断性を向上することができる。例えば、網点形状の場合には、その網点の中を表面活性化処理し、網点と網点の間の領域は、表面活性化処理せず、または、表面不活性化処理し、市松模様状の場合には、升目で一様に区切り、その一つ飛ばしの升目の部分のみ、表面活性化処理し、それ以外の升目は、表面活性化処理しないか、もしくは、表面不活性化処理して、透明基材とホログラム形成層との界面の剥離強度に微細な網点状や微細な市松模様状の強弱を付与することで、破断性を向上させる。このため、微細なパターンの個々の大きさ市松模様であれば、その一つのマスの大きさを意味する。は、50μm~1mmとする。微細なパターンの個々の大きさが、1mmより大きいと、破断性を向上させる効果が低下し、50μm未満とすると、表面活性化処理の個々の領域が小さくなりすぎて、上記した方法による、十分な表面活性化処理ができなくなる。この表面活性化処理を施す範囲は、ホログラム形成層全体に渡って施すこともできるが、この表面活性化処理の目的が不正行為の判定であるため、ホログラムラベルの所定の一部範囲1/10~1/25の範囲。に限定して施すことも、ホログラムラベルを被貼着体に貼着した状態で、そのような処理が存在することをさらに秘匿する意味で好適である。さらに、ホログラムの冗長性を遮断する目的を考慮すると、パターンは均一に設けることが望ましいが、ホログラム画像再生時のもう一つの特徴である、50μm~300μm幅の微細な光回折性の帯でホログラムを寸断すると、光回折性の帯とホログラムの帯が一対となって縞を構成し、それぞれの帯から回折する光の干渉効果により、ホログラム画像の再生を阻害する効果が発生する現象を用いて、ホログラム再生を遮断するためには、微細なパターンの大きさを、50μm~300μm幅であって、長さも同様とすることが望ましい。本発明の場合は、この微細な光回折性の帯に相当する部分は、光散乱性の帯となる。例えば、網点の直径、市松模様の一つの正方形の一辺の長さ、さらには、ランダムパターンの個々の領域の幅等を、この大きさとする。透明基材剥離時、ホログラム再生に寄与する領域とホログラム再生に寄与しない領域とが、交互に上記した大きさで形成されることで、1つのホログラム再生領域とそれに隣接する1つのホログラム再生しない領域が、上記した微細な縞を形成し、この縞が繰り返し存在することで、ホログラム画像の再生を阻害し、単なる虹色の領域として視認されることになる。従って、この場合は、例えば、虹色の開封文字が観察される。本発明で使用される透明基材には、厚みを薄くすることが可能であって、機械的強度や、ホログラムラベルを製造する際の加工に耐える耐溶剤性および耐熱性を有するものが好ましい。使用目的にもよるので、限定されるものではないが、5~250μmの厚さのフィルム状もしくはシート状のプラスチックを用いる。透明基材の上に形成される、ホログラム形成層を構成する、透明な樹脂材料としては、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができ、グラビアコーティング方式等の各種コーティング方式や、オフセット印刷方式、スクリーン印刷方式等の各種印刷方式を用いて、5μm~50μmの厚さのホログラム形成層を形成する。上記の透明な樹脂材料を用いて、そのホログラム形成層の中にホログラムレリーフを設けるためには、ホログラム形成層の形成を2回に分け、まずその1/10~9/10の厚さの透明な樹脂による層を設け、この段階で、その最表面に第2のホログラムレリーフを形成し、フォトクロミック薄膜層を設けた後に、そのフォトクロミック薄膜層上を含んで、透明な樹脂による層の全体を覆うように、残りの厚さの透明な樹脂による層を重ねて、上記した厚さのホログラム形成層とする。もちろん、この方法を用いて、ホログラム形成層の中で、一つの界面の中に複数のホログラムレリーフを設けたり、複数のフォトクロミック薄膜層をそのフォトクロミック分子を変えたり、その厚さを変えて設けてもよく、さらには、ホログラム形成層の厚さ方向に異なる場所に、同様に複数のフォトクロミック薄膜層を設けても良い。フォトクロミック薄膜層の形成位置や種類が多数あればあるほど、不正者にとって、すべての構成を見出すことが困難となり、不正防止効果を高めることができる。その第2のホログラムレリーフを形成するには、感光性樹脂材料にホログラムの干渉露光を行なって現像することによって直接的に形成することもできるが、予め作成した第2のレリーフホログラムもしくはその複製物、またはそれらのメッキ型等を複製用型として用い、その型面を上記の樹脂材料の層に押し付けることにより、賦型を行なうのがよい。熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、型面に未硬化の樹脂を密着させたまま、加熱もしくは電離放射線照射により、硬化を行わせ、硬化後に剥離することによって、硬化した透明な樹脂材料からなる層の片面に第2のレリーフホログラムの微細凹凸を形成することができる。なお、同様な方法によりパターン状に形成して模様状とした回折格子を有する回折格子形成層も光回折構造として使用できる。この第2のレリーフホログラムに対し、ホログラム形成層の最表面に設けるもの、すなわち、ホログラム形成層と、反射性薄膜層もしくは透明反射性薄膜層との界面に設けるものを、第1のレリーフホログラムとする。そして、レリーフホログラムそのものは、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラムなどのレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラムなどの白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラムCGH、ホログラフィック回折格子などがある。また、マシンリーダブルホログラムのように、その再生光を受光部でデータに変換し所定の情報として伝達したり、真偽判定を行うものであってもよい。微細な凹凸を精密に作成するため、光学的な方法だけでなく、電子線描画装置を用いて、精密に設計されたレリーフ構造を作り出し、より精密で複雑な再生光を作り出すものであってもよい。このレリーフ形状は、ホログラムを再現もしくは再生する光もしくは光源の波長域と、再現もしくは再生する方向、及び強度によってその凹凸のピッチや、深さ、もしくは特定の周期的形状が設計される。凹凸のピッチ周期は再現もしくは再生角度に依存するが、通常0.1μm~数μmであり、凹凸の深さは、再現もしくは再生強度に大きな影響を与える要素であるが、通常0.1μm~1μmである。また、ホログラムレリーフそのものは、位相ホログラムとしての位相差をレリーフ形状凹凸形状を意味する。に現しているが、この位相差を有するレリーフ形状に接するように設けられフォトクロミック薄膜層の一方の面がそのレリーフ形状に沿って設けられ、または、レリーフ形状に追従して均一な厚さで、フォトクロミック薄膜層が設けられることにより、フォトクロミック薄膜層が発する光が、上記位相差を含んで、または、有して発することになる。すなわち、フォトクロミック薄膜層そのものが、第2のホログラムレリーフ形状をしている。フォトクロミック薄膜層は、透明性を有しているか、もしくは、白色フォトクロミック分子表面の光散乱性により、白色と視認されることを意味する。であるため、フォトクロミック薄膜層を発光させる照明光以外の照明光の下では、単なる透明なラベル、もしくは、白色ラベルとして視認される。そのため、上記した種々のホログラムラベルの用途においては、その用途に適合する文字や絵柄等の印刷層を、ホログラムラベルを構成する各層の上下、特には、透明基材とホログラム形成層との間に設けることが好適である。ここで、フォトクロミック薄膜層により、ホログラム再生像が出現する原理について以下に説明する。フォトクロミック薄膜層が発色もしくは変色により呈する光は、レリーフホログラムを再生する場合に生じるホログラム再生の元となるホイヘンスの2次波に対し、本発明の開封防止ラベルの場合において、この2次波に相当するものが、ホログラムレリーフ面に配されたフォトクロミック薄膜の呈する色調以後、発色もしくは、変色を便宜上まとめて、発色とも表現する。また、発した色、もしくは、変色した色に蛍光灯等の一般的な照明光をあててでてくる光を便宜上まとめて、発色光、さらには、発光光とも表現する。であり、この発色光がその役目を担い、ホログラム画像に対応した回折格子群を含むホログラムレリーフが有する位相差を含んで発色光を観察者側に発するものである。この発色光が、ホログラムレリーフ面上の空間において干渉現象を起こし、その結果、所定の方向に所定のホログラム再生像を発現する。フォトクロミック薄膜が、その色調を変化させる様子を、フォトクロミック分子ポテンシャル曲線図1参照。を用いて、以下に説明する。フォトクロミック分子Aは、ある波長λの光照射によってエネルギーを得て、励起状態の分子Aになる。STEP1このとき、励起状態となったフォトクロミック分子Aは分子内反応、例えば、cis-trance異性化反応や、閉環開環反応、酸化還元反応、水素移動による互変異性等を起こして、その分子の幾何構造や、電子構造を変化させる。この変化によって、フォトクロミック分子Aは、フォトクロミック分子Aとは違った波長の光λ′を吸収するフォトクロミック分子Bへと変化する。そして、フォトクロミック分子Bは、その吸収波長λ′の光の吸収STEP2、もしくは、熱エネルギーを吸収STEP3して、再び、フォトクロミック分子Aへと戻る。そしてこのSTEP1~STEP3を繰り返すことが可能である。このとき、フォトクロミック分子Bからフォトクロミック分子Aへの熱戻りのしやすさは、その基底状態ポテンシャルエネルギー△E図1:STEP3の大きさに依存することになる。熱戻りがしにくい、つまり△Eが極端に大きければ暗所に保存しておけばそのまま着色体を維持し続けることになる。このようなフォトクロミック分子は、これを光のみに依存するという意味でP型という。逆に、光が当たらなくなって、すみやかに脱色、もしくは、元の色調に戻る場合には、△Eは比較的小さい。このようなフォトクロミック分子は熱依存性があるという意味で、T型という。すなわち、フォトクロミック薄膜は、あるときはフォトクロミック分子Aで構成され、あるときは、フォトクロミック分子Bで構成されていることになる。フォトクロミック分子Aもしくは、Bはそれぞれ特徴のある光吸収曲線を有しており、フォトクロミック分子Aは波長λにおいて、フォトクロミック分子Bは波長λ ́において大きな吸収曲線部分を持つ。一例として、フォトクロミック分子Aにおける波長λが、紫外線領域にある場合、フォトクロミック分子Aは、無色透明であって、励起状態Aを経て、フォトクロミック分子Bに変化して初めて、可視光領域にある特定の波長これが波長λ ́の場合もある。を中心とする光の吸収により、特定の色調を呈するようになる。この色調を呈する状況は、フォトクロミック分子Bが、可視光領域において所定の光吸収曲線を有しており、このフォトクロミック分子Bに白色光を当てた際に、特定の波長を含む所定の波長領域の光を吸収し、吸収されなかった波長領域の光が発散光として、フォトクロミック分子Bからなるホロクロミック薄膜層から発することになる。この例による開封防止ラベルにおいては、フォトクロミック分子Bから発する発散光が、上記したホイヘンスの2次波の役割を担うことになる。従って、フォトクロミック薄膜層がフォトクロミック分子Aで構成されているときには、このフォトクロミック薄膜層が無色透明であって、その位置にホログラムがあるとは認識できず、そのフォトクロミック薄膜層の背景にあるものが見えているが、波長λの照明光をフォトクロミック薄膜層に当てることにより、フォトクロミック薄膜層が上記した波長領域の光を発散し、その発散光の干渉により、その発散光の色調によるホログラムが空中に浮かんで見えることになる。この発散光の色調によるホログラム再生像は、フォトクロミック薄膜層が、上記したP型である場合には、その色調をしばらく維持し、徐々に消色し、また、フォトクロミック薄膜層が、上記したT型である場合には、比較的すみやかに色調が消色し、再び、無色透明となる。また、フォトクロミック分子A、Bがいずれも可視領域の色調を呈する場合には、ホログラム再生像の色調が変わる変色現象が現れることになる。本発明の開封防止ラベルのこのような効果を意匠性ととらえて、鑑賞用途に採用してもよい。また、T型の中でも、その消色の速さを非常に早いものとして、波長λの照明をはずすと同時に消色するように設計し、ホログラム真正性判定者が、開封防止ラベルもしくは開封防止ラベル貼着物保持者から、その開封防止ラベルもしくは開封防止ラベル貼着物を預かり、素早く波長λの照明を僅かな時間照射し、その瞬間に、上記した発色光によるホログラム再生像を視認して、真正であることを確認し、その後、すみやかに、その開封防止ラベルもしくは開封防止ラベル貼着物を、その保持者に返却するなど、その真正性判定を、その保持者に気づかれずにに行うことを可能とすることもできる。この場合には、消色の速さを、発色強度発色濃度の半減期で表現して、その半減期が、0.1秒~数秒となるように設計する必要がある。こうすることで、波長λの光を照射すると、速やかに上記した変化が生じ、フォトクロミック分子Bの色調のホログラム再生像が現れ、波長λの光の照射を止めると、速やかに無色透明となる、真正性判定に優れる開封防止ラベルを提供することができる。もちろん、波長λの光を照射後、発色を確認し、速やかに波長λ ́の光を照射して消色するような判定システムを用いることも好適である。次に、ホログラフィの原理について説明する。物体がコヒーレント光で照明され,物体から回折された光が記録媒体の第3項は物体の複素振幅分布を含んでいる。5、6を2に代入すると、Ix,y=|Fx,y|2|Rx,y|22Ax,yrx,yCOS2παx-φx,y7となる.物体波と参照波が干渉して干渉縞を形成していることがわかる。このように、物体波に参照波を重ね合わせて干渉記録し、物体の位相情報を欠落させずに記録する方法がホログラフィである。7を記録したものがホログラムと呼ばれる。ホログラムの振幅透過率もしくは振幅反射率が、記録した強度分布Ix,y比例し、Tx,y=τIx,y8とかけるとする。このホログラムに、記録したときに用いた参照波を所定の角度であてると、ホログラムを透過もしくは反射してきた波面は、Tx,yRx,y=τ|Fx,y|2|Rx,y|2τFx,y|Rx,y|2τFx,yR2x,y9とあらわすことが出来る.この第2項はτFx,y|Rx,y|2=τAx,yr2x,yEXPiφx,y10第3項は、τFx,yR2x,y=τAx,yr2x,yEXP-iφx,y2πiα11とかける。このことから、9の第1項は、照明光と同じ方向にホログラムを突き抜ける光束もしくは正反射する光束であり、第2項は、より、物体光に比例した振幅を持つ光波であることがわかり、第3項は、より、物体波と共役な位相分布を持ち、2θの方向に伝播する光波であることがわかる。このようにして,ホログラフィの技術を使うと複素振幅分布を記録して再生することが出来る。本発明の場合は、ホログラムの振幅透過率もしくは振幅反射率が、記録した強度分布に比例し、8の式で表されてはいるものの、このホログラムに、記録したときに用いた参照波を所定の角度であてるのではなく、8の振幅透過率もしくは振幅反射率と同様の空間的な分布を持つ発光波がこのホログラムから発せられることになる。従って、参照光にホログラムに記録された位相項を付与するという従来のホログラム再生の原理によらず、既にホログラムに記録されている位相項を保持して発光波を放射するものである。従って、理論上は、物体の位相差を含む空間関数を持つ3次元の連続曲面状の発光面を有し、その1曲面から光が放射されることになる。従来のホログラム再生原理を透過タイプについて、単純化して説明すると、参照光としての平行光をホログラムにあてた際、遮蔽部分では、平行光が遮蔽され、透過部分からのみその平行光を透過し、透過部分と遮蔽部分との境界において回折が起こり、物体の持つ位相項を受け取り、ホログラムを透過した成分全体が重ね合わさり、それがホログラム再生光となって観察者の目に届くものである。本発明の場合は、上記した参照光としての平行光が存在せず、ホログラムレリーフに接するように設けられた発光面での発光時、その放射光が物体の位相項を保持しており、その放射光同士の干渉現象により、ホログラム再生がなされるものである。時間的且つ空間的コヒーレンス性を持たない放射光同士の干渉効果は、レーザー光のような十分な干渉を生じないが、低コヒーレント光でホログラムを照明した際と同様のレベルでホログラム再生が行われる。例示すれば、レーザー光のような特別な光源による照明を用いず、一般家庭や、一般的な事務所等において用いられている蛍光灯のような、人工的に発生させた光によっても、ホログラムを再生させることが十分可能である。但し、人工的に発生させた光であっても、その光源の大きさが、点光源であるか、線状であるか。もしくは平面状であるかによっても、また、その発光波長が、単色光であるか否か、さらには、その発光曲線の半値幅が狭いか否か等によって、そのホログラム再生像の鮮明さは大きく左右されることになる。以上のような原理による再生であるため、元となるホログラム撮影時の参照光は平行光であることが好ましく複雑な参照光を再現できないため。、もしくは、回折格子により表現されたホログラム回折格子は、物体光、参照光とも平行光である。であることが好ましく、回折格子は計算機ホログラム等、電子線描画により形成したものが精密であり、好適である。さらに、上記の理由から、ホログラム再生像をより鮮明にするためには、発色光である放射光に、時間的若しくは空間的なコヒーレンス性に類する特性を付与することが必要であり、例えば、発色する層の厚さを薄いものとしたり、発光波長の幅を狭くすることが望ましい。さらに、励起光源も小さい形状であることが好ましく、スポット形状等が特に好適である。また、発色する層を励起する励起光と、変化後の発色波長との波長差は大きい方が望ましく、さらに、観察時、その励起光をフィルタリングして発光光のみを増幅することも有効である。励起光源として、紫外線、可視光線、電子線、X線等のエネルギー及び場合に応じて、赤外線エネルギーを放射可能な光源を用いて、発色等をさせることができるが、ホログラム観察用さらには、真正性判定用に用いるためには、フォトクロミック分子に応じた光源を用いる必要があり、所定の強度、波長、及び照明スポットサイズを有する紫外線光源、可視光光源、場合により赤外光光源を用いる。これらの光源による照明により、第2のホログラムレリーフ面に接するように設けられたフォトクロミック薄膜層から、さらに言及すれば、そのフォトクロミック薄膜層に含まれるフォトクロミック分子から個々に、照明光源の波長とは異なる波長の蛍光等が発現する。その発色光等が、第2のホログラムレリーフと同一の空間的位相を含み、且つ、照射光源とは異なる波長発色波長。を有することから、第2のホログラムレリーフによる正反射光0次回折光方向や、照射光波長励起光波長による回折方向とは異なる方向、すなわち、発色光波長による回折方向へ第2のホログラム像の再生が行われる。但し、このフォトクロミック薄膜層の厚さが、第2のホログラムレリーフとは無関係にそのホログラム面上に分布している場合には、その厚さ分布に起因する発色光強度分布が、場合によっては、ホログラムを再生する光と不要な干渉を生じ、第2のホログラム再生像を不鮮明にする要因となり得る。この要因を排除するため、フォトクロミック薄膜層を、第2のホログラムレリーフを形成する凹凸に追従して均一な厚さで形成して、第2のホログラムレリーフ面のどの位置からも、同一の強度の発光が生じるようにし、第2のホログラム再生像の鮮明化を図ることができる。本発明のホログラムラベルの照射光励起光として、可視光以外の紫外光や赤外光を使用した場合は、その光は観察者には見えず、あたかもホログラム再生用の特別な照明光のないところからホログラム再生像が浮き上がってくるように観察されるが、この第2のホログラム再生像は、例え、照射光が、時間的空間的なコヒーレント性を有していても、結果として、励起発色というプロセスを経て発光するものであるため、その発光時の空間的なホログラムの位相を含んではいるとはいえ、その発光光同士の時間的及び空間的なコヒーレント性は小さく、第2のホログラム再生像は通常のレーザー再生レリーフホログラムの再生像より微弱であって且つ不鮮明となっている。もちろん、ビーム形状の回折光を観察するのみであれば、その色調と回折方向を確認することは容易であり、そのままでも真正性の判定に差し支えないが、このため、この微弱且つ不鮮明な第2のホログラム再生像を観察者が認識しその存在を正確に判定可能とするために、フォトクロミック分子の発光性能を向上させ、且つ、回折角度を大きくとって波長―回折角依存性を強め、照射光回折角度と発色光回折角度の差を大きくし、さらには、フォトクロミック薄膜層を薄くして、フォトクロミック薄膜層厚さ方向のばらつきを抑え且つ均一なものとすることが必要となる。発光面が位相情報を含んでいるため、その空間的な形状を正確に再現するものとする。さらには、時間的なコヒーレント性を発現するため、照明用光源として、発光時間が1015sec以下のパルスレーザーで照明することも好適である。これにより、一つの照明パルスによって生じた一つの発色光の発光面が、次の照明パルスによって生じた発色光面とは、互いに撹乱現象を起こさず、一つのパルスによって発現した一つの発色光面によって生じるホログラフィックな干渉現象により、鮮明な第2のホログラム再生像を観察することができるようになる。もちろん、単純に秒単位でON-OFFするストロボ状の光源を使用した場合でも、観察者には、連続して発光しているようにも見えるため、このような簡易な手段であっても目視で確認する場合には、上記した効果を十分得ることができる。フォトクロミック薄膜層は、フォトクロミック分子を樹脂に混入させたり、溶剤若しくは水に分散させたりしたインキを、グラビア方式、オフセット方式、シルクスクリーン方式、ノズルコート方式さらにはインクジェット方式等で第2のホログラムレリーフ上に形成することができる。このとき、インキ中のフォトクロミック分子の含有割合を調整する等により、形成したフォトクロミック薄膜層を、第2のホログラムレリーフを形成する凹凸に追従して均一な厚さで形成することができる。第2のホログラムレリーフの凹凸は例えれば、1μmレベルの周期で、深さ0.01μmレベルの凹凸を持つ、ゆるやかな曲線であって略平面と見做せるため、この略平面上に適宜な粘度0.1~10パスカル秒に調整し、インキの自重によるレベリング効果を発揮させることと、インキ中の固形分を20以下、さらには10以下とすることで、例えば、厚さ1μmに対して、そのばらつきを1/10以下に、さらには1/20以下に抑えることができる。ここで、フォトクロミック薄膜層を1μmオーダーとしたが、第2のホログラム再生像の鮮明度を向上させるためには、フォトクロミック薄膜層を離散的に設けることも好ましく、このために、フォトクロミック薄膜を形成する領域の単位サイズを1.0μm程度もしくはそれ以下、例えば0.01μm~0.5μm、より好適には、0.01~0.05μmとし、ホログラムレリーフ面内に均一に点在させることも好適である。そして、フォトクロミック薄膜層厚さ方向には、フォトクロミック分子、もしくは、フォトクロミック分子を吸着させた微粒子を単位として1~10分子もしくは1~10粒子で並んでいる状態とすることが好ましい。中でも、ノズルコート方式やインクジェット方式、さらには、化学蒸着等の物理的蒸着法では、樹脂を使用せず溶剤等とフォトクロミック分子や粒子のみで薄膜を形成可能であり、フォトクロミック薄膜層として非常に薄く形成フォトクロミック分子や粒子1~10分子等。することができるため好適である。その上にそれらのフォトクロミック薄膜を固定するために適宜な透明樹脂層を保護層として形成してもよい。ところで、フォトクロミック材料は、ホログラム記録材料や、光メモリ用記録材料そのものとして用いることは可能であり、そのような用途は既に公知であるが、これらは、フォトクロミック材料に直接ホログラフィックな記録干渉縞の記録を行うものであって、フォトクロミック材料に微細な明暗の記録を行うものである。この記録は、記録した領域のフォトクロミック分子に変化を与えない手法変化を与えない波長の光を照射するなど。を用いて、読み出されることになる。これに対して、本発明の開封防止ラベルは、均一に形成したフォトクロミック薄膜層を全て同様に均一に照明し、均一な発色を生じさせるだけのものであって、ホログラム撮影光学系を組んでフォトクロミック薄膜層を露光するというような複雑な工程を必要とせず、フォトクロミック薄膜層そのものがその形状として保有している凹凸形状に、そのホログラム情報を担持させており、フォトクロミック薄膜層を均一に形成するだけでホログラム情報を取得するホログラム再生情報を獲得するという意味。ことができるという顕著な効果を有するものである。第2のホログラムレリーフは、周期1μm程度で、深さは、0.01μm、最大でも0.5μmの凹凸形状をしており、この凹部にのみフォトクロミック薄膜層を設けることで、ホログラムレリーフの周期に同調するかたちで、フォトクロミック薄膜層の有無、すなわち、発色光の有無を設けることもできる。第2のホログラムレリーフの凹部とは、第2のホログラムレリーフ上にフォトクロミック薄膜層を形成する際の凹部であって、通常の観察の仕方、すなわち、ホログラム形成層側から観察する場合には、凸部側となる。フォトクロミック薄膜層の有無を利用して発光強度分布を形成するためには、凹凸どちらかに部分的に形成すればよく、さらには、凹部全体をフォトクロミック薄膜層で埋めてもよく、もしくは、凹部の底の部分のほんの一部のみに形成してもよい。但し、その位相分布と形成する分布が同調する必要があるため、一部に形成する場合は、常に同一の位置に同一のフォトクロミック分子量を持って形成しなければならない。この量が、発光強度に比例するため。凹部に選択的にフォトクロミック薄膜層を形成する方法としては、溶剤等に分散した粒径の非常に小さい、フォトクロミック分子を含むか、その表面に吸着させた微粒子粒径が0.01μm等。樹脂を含まない。を含むインキを使用して、ホログラムレリーフの上にインキ層を形成し、溶剤が揮発する間に、微粒子が自重で凸部から凹部へと移動するようにしても良い。また、規則的な回折格子を設け、その上に均一に設けたフォトクロミック薄膜層をフォトリソグラフィーを用いて、その規則的な回折格子に同調させて露光現像、エッチングすることにより、凹凸とフォトクロミック薄膜層を同調して設けることもできる。この方法によると、各凹部に点在するフォトクロミック薄膜層の厚さや大きさを制御可能であり、レリーフ面全体に、いわば均一に形成することができる。以上の手法により形成したものは、上記のホログラムの原理において説明した、発色光放射光に第2のホログラムレリーフの位相情報を含ませること、に加え、その位相情報に同調した振幅情報をさらに含ませるものである。従って、発光放射光に位相ホログラムと振幅ホログラムの両方のホログラム情報を含ませることができ、より鮮明なホログラムを得ることが可能となる。また、フォトクロミック薄膜層が不連続的に形成されていることから、フォトクロミック薄膜層の個々の部分は、ホログラムラベルを不正に剥がした際に非常に動きやすく、フォトクロミック薄膜層は、非常に破断し易くなることから、その真正性の判定性を向上することができる。上記したホログラムの原理より、第2のホログラム再生像の鮮明度を高めるためには、フォトクロミック薄膜層の厚さは薄いことが望ましいが、薄くすればするほど、第2のホログラム再生時の発色光強度が弱くなるため、フォトクロミック薄膜層厚さは、0.01μm以上1.0μm以下である必要があり、さらには、0.01μm以上0.5μm以下であることが好ましい。0.01μm未満では、発光強度が弱すぎて、光電子倍増管を用いて増幅したとしても、迷光等のノイズとの区別がつきにくく、1.0μmを超えると、発光強度は本発明の目的には十分な強度を得ることが可能であるが、厚さ方向に複数存在するフォトクロミック分子の発光により、第2のホログラムレリーフの位相情報を担う曲面の位置がその厚み方向に複数存在することになり、結果として第2のホログラム再生像が不鮮明となる。これに対して、0.01μm以上として発色光強度を確保し、0.5μm以下として、位相情報を担う曲面の位置を明確にして、第2のホログラム再生像を鮮明なものとする。このようなフォトクロミック薄膜層は、ホログラムラベルを不正に剥がした際に非常に破断し易いことから、真正性の判定性をさらに向上することができる。次に、このようにして設けた、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層をその層中に含む、ホログラム形成層の最表面に、第1のホログラムレリーフの微細な凹凸を形成する。この第1のホログラムレリーフの形成方法は、第2のホログラムレリーフの形成方法と同様のものを用いることができる。この際、第1のホログラムレリーフ形成時の加熱、加圧により、すでに層中に形成してある第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層の形状に不要な変化を加えないようにするため、ホログラム形成層の最表面のみを加熱する方法が好適である。また、加圧条件については、ホログラム形成層そのものが一つの個相物体として機能し、ホログラム形成層に対して垂直方向に大きな圧力を掛けても、その形状を変化させる力は殆ど働かないことから、比較的大きな圧力を加えることができる。そして、この第1のホログラムレリーフ上に、接して、追従するように、金属薄膜層等の反射性薄膜層、もしくは、金属化合物薄膜層等の透明反射性薄膜層を、蒸着法等の真空薄膜形成方法等や、メッキ法等の化学的薄膜形成方法方法を用いて、20nm~2000nmの厚さで形成する。このようにして形成した反射性薄膜層、もしくは、透明反射性薄膜層の上に、粘着層を設け、本発明のホログラムラベルを形成することができる。粘着層に用い得る透明な樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリビニリデン、メチルセルロース、フッ素樹脂、メラミン樹脂、もしくは、この混合体等を適宜用いることができ、更に必要に応じて可塑剤、その他の添加剤を加えて使用することができる粘着剤を意味する。。これらの粘着剤は、適宜、溶剤や、水に溶解させ、グラビア印刷等のコーティング方式や、シルク印刷、さらには、無溶剤のホットメルト方式等を用いて、上記の反射性薄膜層、もしくは、透明反射性薄膜層の上に、乾燥後の形成厚さ、5μm~50μmで、設けることができる。5μm未満では、ホログラムラベルを貼着する被貼着体との接着力接着強度、もしくは、剥離強度を意味する。が不十分であり、また、50μmを超えると、ホログラムラベルの取扱い適性に欠けるものとなる。上記した粘着層に用いる透明な樹脂は、反射性薄膜層、もしくは、透明反射性薄膜層との接着性の強いものを適宜選択する。そして、粘着層も、ホログラム形成層と同様にして、すなわち、その形成を少なくとも2段階に分け、その1層目の最表面に第2のホログラムレリーフの凹凸を形成し、その一部分にフォトクロミック薄膜層を設けることで、その粘着層の中の、少なくともパターン状の表面活性化処理に対応する位置に、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層を設けることができる。この場合には、本発明のホログラムラベルを不正に剥離した場合には、粘着層の破断により上記した様なフォトクロミック薄膜層の分断が生じ、ホログラム形成層について説明したと同様の効果が粘着層に出現する。さらに、ホログラム形成層と粘着層の両方に、このようなフォトクロミック薄膜層を設けることも、その偽造防止効果を高めるためには好適である。粘着層は、ホログラム形成層よりも圧力による変形を生じ易いため、粘着層に用いる透明な樹脂の最表面に第2のホログラムレリーフの凹凸形状を設けることは、比較的容易である。しかし、その性質に起因して、フォトクロミック薄膜層を設けた後に、さらに透明な樹脂層を重ねる際に、既に形成したフォトクロミック薄膜層のホログラムレリーフ形状を劣化させる現象が発生しやすいため、透明な樹脂層を重ねる方式を、形成圧力の小さい印刷方式の印圧を意味する。、スクリーン印刷方式や、カーテンコート方式、もしくは、インクジェット方式を用いることが好適である。また、粘着層には、光散乱性を有するもの、例えば、高屈折率である透明無機顔料微粒子二酸化チタン顔料:屈折率2.70、酸化鉄パール顔料:屈折率3.0など。を比較的多く混入させることが可能であって粘着層を通過する光は、観察する側のホログラム再生像の結像には寄与しないため。、これにより、フォトクロミック薄膜層を発光させた際の、観察側とは反対の方向に進む光を乱反射させて減衰させることができるとともに、粘着層の粘性を抑制してホログラムラベルのブロッキングを防止でき、好適である。もちろん、粘着層の中にフォトクロミック薄膜層を設ける場合には、そのフォトクロミック薄膜層形成後に設ける透明な樹脂のみを光散乱性とする。粘着層と、反射性薄膜層もしくは、透明反射性薄膜層との180度剥離強度剥離強度測定は、JISZ-0237に準じ、剥離速度500mm/分とする。は、100g/25mm~3kg/25mm、特に、300g/25mm以上とすることが望ましい。100mm/25mm未満では、ホログラムラベルを被貼着体に貼着した後、ホログラムラベルを不正に剥がそうとした際に、反射性薄膜層もしくは透明反射性薄膜層と粘着層との界面においての剥離が起こり易くなり、ホログラム形成層が破断し難くなる。また、不正防止という意味では、粘着層と、反射性薄膜層もしくは透明反射性薄膜層との剥離強度は、大きいことが望ましいが、3kg/25mmを超える粘着剤は、そのラベル加工適性や、ラベル貼付適性に劣るものとなる。もちろん、ホログラム形成層と、反射性薄膜層もしくは透明反射性薄膜層との180度剥離強度は、十分大きいことが必要であり、真空薄膜形成方法は、この目的のおいて好適である。この外観上は単なるホログラムラベルとしか視認できないラベルを所望の被貼着体上の適宜な位置に貼付した後に、このラベルを不正者が不正に剥そうとすると、透明基材が容易に剥がれ、透明基材側に、透明基材側残部が残り、被貼着体側に被貼着体側残部が残って、開封等の文字が現れ、このラベルがホログラム脆性ラベルであったことが判明する。この段階で、不正者は、被貼着体側残部を溶剤等で除去するとその溶剤等で被貼着体表面を劣化させると考え、その被貼着体側残部を残したまま、元のラベル貼着状態を復元することを試みることとなる。すなわち、偽のラベルとして、類似のホログラムデザインにて、アルミニウム反射層などの金属反射性薄膜層を有するホログラム脆性ラベルを別途用意し、その偽のラベルの粘着層で、その被貼着体側残部の窪みもしくは穴を埋めるように、その偽のラベルをその被貼着体側残部上に貼着する。不正者は、この行為により、元のラベル貼着状態を復元できたとして、被貼着体を元にあった場所に戻して、不正行為を隠ぺいし得たと確信するが、被貼着体の真の所有者が、この偽のラベル上から、所定の波長の紫外線等の所定の照射光をあてると、そのアルミニウム反射層が照明光を遮断し、何らの蛍色も発光もせず、もちろん、発色による第2のホログラム再生像も現れないことによって、何らかの不正が行われたことを、容易、且つ、確実に判定することができる。もちろん、不正者が剥がした透明基材を使用して、新たな偽のラベルを作り出したとしても、そのラベルを同様の照射光処理をすると、今度は、開封等の文字部分にのみホログラム再生像が出現し、不正行為の存在を示すこととなる。さらに、不正者が、その剥がした透明基材を使用し、直接、被貼着体側残部の窪みの位置と、透明基材側残部の位置を合致するように貼り合わせることを試みたとしても、ホログラム形成層やフォトクロミック薄膜層の破断によるホログラムレリーフの劣化や、貼り合わせる際の空気の混入などにより、元の鮮明なホログラム再生像を得ることは、非常に困難であり、当然のごとく、ホログラム形成層そのものの存在さえ知り得ないのであるから、その埋め合わせがうまくできたか否かさえ、確認することは不可能である。そして、本発明のホログラムラベルが、透明反射性薄膜層を有し、その下の粘着層中に、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層を設けたものである場合も、同様に、不正な復元を容易に判定することができるものである。本発明によれば、透明基材の一方の面に、パターン状の表面活性化処理領域を有し、その上に、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、及び、粘着層を設けたホログラムラベルであって、そのホログラム形成層の中、または、その粘着層の中の、少なくともそのパターン状の表面活性化処理領域に対応する位置含む領域に第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層が設けられていることを特徴とするホログラムラベルを提供することができ、このホログラムラベルを、所望の被貼着体に貼着後、本来剥すことのないそのホログラムラベルを不正な目的のために剥そうとすると、その透明基材とホログラム形成層との界面で優先して剥離が発生し、その剥離した後には、不正行為であるというメッセージを表出し、さらに、所定の照射光をあてると、開封等の文字状の欠けを含んだホログラム再生像が浮き上がって、不正が行われたか否かの判定を容易とすることができるホログラムラベルを提供することができる。以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。透明基材本発明のホログラムラベルで使用される透明基材1は、厚みを薄くすることが可能であって、機械的強度や、ホログラムラベルAを製造する際の処理や加工に適した耐溶剤性および耐熱性を有するものが好ましい。使用目的にもよるので、限定されるものではないが、フィルム状もしくはシート状のプラスチックが好ましい。図2及び図3参照。例えば、ポリエチレンテレフタレートPET、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアリレート、トリアセチルセルロースTAC、ジアセチルセルロース、ポリエチレン/ビニルアルコール等の各種のプラスチックフィルムを例示することができる。透明基材1の一方の面に、パターン状に表面活性化処理を施して、表面活性化処理した部分2を設け、さらには、表面活性化処理した部分2以外の部分を表面不活性化処理して、表面活性化処理した部分2とそれ以外の部分における、透明基材1とホログラム形成層3との密着性の差、すなわち、剥離強度の差を大きくする。図2及び図3参照。透明基材1の厚さは、通常5~250μmであるが、ラベルとしての取り扱い適正から25~100μmとすることが望ましい。また、透明基材1の一方の面に、透明な樹脂をコーティングして、この透明な樹脂に上記処理を行い、上記した効果を持たせても良い。図示せず。この透明な樹脂には、上記した樹脂群に加え、下記するホログラム形成層3に用いられる樹脂を使用することができる。さらに、表面活性化処理した部分2とそれ以外、乃至は、表面不活性化処理した部分との剥離強度の差を拡大する目的で、透明基材1とホログラム形成層3との間、すなわち、ホログラム形成層3上に保護層として形成され、透明基材1との剥離性を有する透明な樹脂を設けてもよい。図示せず。この場合も、透明な樹脂としては、上記した樹脂群に加え、下記するホログラム形成層3に用いられる樹脂を、適宜、使用することができる。もちろん、環境影響を配慮して、透明な生分解性を有するプラスチックフィルム又はシートを使用することもでき、化学合成系として、ラクトン系樹脂:εーカプロラクトン、4-メチルカプロラクトン、3,3,5-トリメチルカプロラクトン、3,3,5―トリメチルカプロラクトン、βープロピオラクトン、γーブチロラクトン、δーバレロラクトン、エナントラクトンの単独重合体またはこれら2種以上のモノマーの共重合体、これらの混合物、ポリカプロラクトン、もしくは、ポリブチレンサクシネート系樹脂:ポリブチレンサクシネートアジペート、ポリブチレンサクシネートとポリカプロラクトンとの混合物、ポリブチレンサクシネートとポリブチレンサクシネートアジペートとの混合物、ポリブチレンサクシネートアジペートとポリ乳酸との混合物、もしくは、ポリ乳酸、ポリ乳酸とD-乳酸との混合物など、もしくは、低分子量脂肪族ジカルボン酸と低分子量脂肪族ジオールより合成したポリエステル樹脂、例えばコハク酸とブタンジオール、エチレングリコールとの組み合わせや、シュウ酸とネオペンチルグリコール、ブタンジオール、エチレングリコールとの組み合わせなど、変性ポリビニルアルコールと脂肪族ポリエステル樹脂と澱粉の混合物、低分子量脂肪族ポリエステルに脂肪族イソシアネートを添加して重合させたものが好適である。また、天然物系として、ゼラチンなどの動物性天然物質、セルロースなどの植物性天然物質など:澱粉脂肪酸エステル、澱粉キトナンセルロースなど、微生物生産系として、ポリヒドロキシブチレートや、ポリエステル系:炭素源として3-ヒドロキシプロピオン酸、4-ヒドロキシ酪酸、γ―ブチロラクトンをベースとするP3HB-CO―4HB、炭素源としてプロピオン酸、吉草酸をベースとしたP3HB-CO―3HVなどが好適である。表面活性化処理透明基材1の一方の面に対する表面活性化処理には、炭酸ガスレーザー照射、遠赤外線炭酸ガスレーザー照射、172nm真空紫外線VUV、エキシマ光照射、酸素増感エキシマ光照射、プラズマ処理、オープンプラズマ処理、コロナ処理、電子線照射処理等の透明基材1最表面の化学結合エネルギーよりも大きいフォトンエネルギー7.2eV、放電エネルギー、電子線エネルギー等により、透明基材1最表面の化学結合を切断し、又は、172nmの真空紫外線等のように、大気中の酸素に吸収されてオゾンまたは直接励起酸素を発生し、この接触により官能基を生成する等の物理的処理や、過マンガン酸塩、過酸化物等の酸化剤を塗布することによる透明基材1表面の酸化処理、プライマーコーティング処理、ビニルエポキシメタクリキシアミノメルカプトアクリロキシイソシアネートスチリルアルコキシオリゴマータイプシランカップリング剤を用いた処理等の化学的処理、真空処理であるアルゴンビームエッチング処理、透明基材1を部分的に溶解するエッチング液処理、さらには機械的に透明基材1表面を削り取るサンドブラスト加工等の物理的な租面形成処理等を用いることができる。処理プロセスは図示せず。図2参照。この透明基材1の表面化活性化処理によって、透明基材1との接着性の弱い、すなわち、剥離強度の小さい樹脂に対しても、大きな剥離強度を得ることができる。以上の表面活性化処理を用いて、透明基材1の界面張力もしくは表面エネルギーを増大させる。ホログラム形成層3に用いる樹脂や、その形成方法によってその剥離強度は決まるため、界面張力値を一義的には指定できないが、その目安としては、60~80mN/mが好適である。ポリエチレンテレフタレート樹脂では、36mN/mが、60mN/mに増大し、ホログラム形成層としてのメラミン樹脂との剥離強度が0.4kg/25mm幅から2.1kg/25mm幅へと大きくなる。そのため、透明基材1の一方の面を表面活性化して、表面活性化処理した部分2における、透明基材1とその上に形成するホログラム形成層3との接着性を向上させ、0.5kg/25mm幅以上、3.0kg/25mm幅以下の強度JISZ0237で規定する180°剥離試験にて。とし、その表面活性化処理した部分2を視認可能な所望のパターン状として残し、その他の領域については表面不活性化処理を行う。このパターンは、文字、図形、記号等、視認可能な表示であればいずれも使用できるが、代表的には、ラベルを剥離した証拠を示すという意味で、開封等の文字表示をするため、開と封の2文字を縦、横に繰り返し展開したようなデザインを想定して、それらの文字の画線内に対応する透明基材1上の最表面部分を表面活性化処理して、表面活性化処理した部分2とする。表面活性化処理の中でも、レーザー照射等の光処理、又はプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材1の処理面に凹凸が発生せず、鏡面性を維持していること、及び、表面活性化処理による表面活性化効果が大きいことから、特に望ましく、また光学的透明性にも優れる。さらに、上記したパターン内を均一に表面活性化処理することに替えて、そのパターン内をより微細なパターン、例えば、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみ表面活性化処理する例えば、網点状に表面活性化処理することにより、パターン内の網点以外の部分は、表面活性化処理していない部分として残る。ことで、透明基材1を剥離した際のホログラム形成層3や、フォトクロミック薄膜層4を破断しようとする力の働き力の作用方向、その大きさ等。をより複雑化し、その破断性を向上させることができる。透明基材1の一方の面を全面表面活性化処理後に、上記したパターンを明暗反転した形状パターンをポジパターンとして、それを反転したネガパターンを意味する。に表面不活性化処理された部分を形成するためには、もしくは、透明基材1上に、直接、所望の形状を有する表面不活性化処理された部分を形成するためには、透明基材1の最表面のみを部分的に溶解する、もしくは、活性化した官能基と反応して官能基の活性を解消する、溶剤類、例えば、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、イソホロン、ジイソブチルケトン、等。、アルコール類メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-プロピルアルコール、イソブチルアルコール、n-ブチルアルコール等、さらにはその水溶液。、芳香族類ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベッソNo.100、ソルベッソNo.150、カクタスP-180等。、環状炭化水素類シクロヘキサン等、エステル類酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セルソルブ、エチルー3-エトキシプロピオネート等。、エーテル類テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、t-ブチルセロソルブ等。等をパターン状に活版印刷方式やインクジェット方式を用いて、表面活性化面への接触を避けてパターン形成し、透明基材1の活性化された最表面のみ透明基材1を厚さ方向に捉えたもの。と反応して、その部分のみを表面不活性化させる。図示せず。このとき、溶剤が瞬時に揮発せず、所定時間、透明基材表面に留まる必要があるため、その沸点は、60度以上200度以下、好適には、100度以上160度に調整する。この方法は、透明基材1の表面粗さに悪影響をほとんど与えず、その性質のみを変化させるという意味で特に好適である。または、透明基材1とはそもそも接着し難い、界面張力の小さい樹脂、例えば、シリコーン樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂や、これらのフッ化炭化水素基、有機珪素基を含む樹脂や、不揮発油リンシードオイル、ポピーオイル、ウォルナッツオイル等の乾性油、オリーブオイルや落花生油等の不乾性油、ゴマ油、ナタネ油等の半乾性油等を、活版印刷や、インクジェット印刷等により、上記した所望のパターン状に部分形成することで、高い精度でパターン状に表面不活性化処理する。図示せず。この際、その部分形成後に透明基材1上に光学的な変化を与えないことが望ましく、溶剤等は揮発することで、また、樹脂等はあくまで表面改質の目的であって乾燥後の形成厚さが光の波長の1/50~1/10程度となることが望ましい。もちろん、これらを併用することも好適である。この表面不活性化処理により、その表面不活性化処理した部分は、透明基材1とホログラム形成層3との剥離強度を、0.01kg/25mm幅以上0.1kg/25mm幅以下とでき、ホログラムラベルを剥そうとすると、どのように工夫しても、必ず、透明基材1とホログラム形成層3間に空隙が発生し、その部分においては、透明基材1のみ剥がれる。そして、透明基材1を完全に剥離すると、その表面不活性化処理した部分にあたるホログラム形成層3の最表面がほぼ鏡面となって、その部分からは、その下にあるホログラム再生像を鮮明に視認することができる。さらに、上記したパターン内をより微細なパターン、すなわち、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみ表面活性化処理することで、透明基材1を剥離した際の力の働き具合をより複雑化し、各層の破断性を向上することができる。微細なパターンの個々の大きさは、最小の大きさとしては、高精度な印刷方式を用いて50μmの大きさで、且つ、10μm程度の間隔を開けて設けることもでき、最大では、そのパターンを構成する線幅まで広げることもできる。このような微細なパターンの大きさの集合で、パターンを構成するには、もはや従来方式であるマスクを用いた直接表面活性化処理方式を用いることが難しくなることは明らかである。好適には、50μm~300μmの大きさの網点網点率は、30~70が好適。や、市松模様状正方形や、長方形、その他形状。に一つ飛ばしに不活性化処理したもの、さらには、規則的な処理が不要な回折現象を発生させることを回避するため、網点やその正方形や長方形の大きさを50μm~300μmの間で、ランダムに変化させたものを用いる。図示せず。ホログラム形成層本発明のホログラム形成層3を構成するための透明な樹脂材料としては、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。熱可塑性樹脂としてはアクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、もしくはポリスチレン樹脂等が、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、もしくはフェノール樹脂等が挙げられる。図2及び図3参照。これらの熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂は、1種もしくは2種以上を使用することができる。これらの樹脂の1種もしくは2種以上は、各種イソシアネート樹脂を用いて架橋させてもよいし、あるいは、各種の硬化触媒、例えば、ナフテン酸コバルト、もしくはナフテン酸亜鉛等の金属石鹸を配合するか、または、熱もしくは紫外線で重合を開始させるためのベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、もしくはジフェニルスルフィド等を配合しても良い。また、電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリル変性ポリエステル等を挙げることができ、このような電離放射線硬化性樹脂に架橋構造を導入するか、もしくは粘度を調整する目的で、単官能モノマーもしくは多官能モノマー、またはオリゴマー等を配合して用いてもよい。上記の樹脂材料を用いてホログラム形成層3を形成するには、感光性樹脂材料にホログラムの干渉露光を行なって現像することによって直接的に形成することもできるが、透明基材1上に、上記の透明な樹脂材料を、直接、射出成型方式や、押し出し成型方式を用いて所定の厚さで形成したり、または、適宜な溶剤に希釈して、グラビアコーティング方式や、スクリーン印刷方式や、カーテンコート方式等を用いて、均一な厚さに形成することができる。そして、予め作成した第2のレリーフホログラムもしくはその複製物、またはそれらのメッキ型等を複製用型として用い、その型面を上記の樹脂材料の層ホログラム形成層3の厚さの1/10~9/10の厚さの層。に押し付けることにより、賦型を行なうのがよい。熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、型面に未硬化の樹脂を密着させたまま、加熱もしくは電離放射線照射により、硬化を行わせ、硬化後に剥離することによって、硬化した透明な樹脂材料からなる層の片面に第2のレリーフホログラムの微細凹凸を形成することができる。なお、同様な方法によりパターン状に形成して模様状とした回折格子を有する回折格子形成層も光回折構造として使用できる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラムなどのレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラムなどの白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラムCGH、ホログラフィック回折格子などがある。また、マシンリーダブルホログラムのように、その再生光を受光部でデータに変換し所定の情報として伝達したり、真偽判定を行うものであってもよい。微細な凹凸を精密に作成するため、光学的な方法だけでなく、電子線描画装置を用いて、精密に設計されたレリーフ構造を作り出し、より精密で複雑な再生光を作り出すものであってもよい。このレリーフ形状は、ホログラムを再現もしくは再生する光もしくは光源の波長域と、再現もしくは再生する方向、及び強度によってその凹凸のピッチや、深さ、もしくは特定の周期的形状が設計される。凹凸のピッチ周期は再現もしくは再生角度に依存するが、通常0.1μm~数μmであり、凹凸の深さは、再現もしくは再生強度に大きな影響を与える要素であるが、通常0.1μm~1μmである。単一回折格子のように、全く同一形状の凹凸の繰り返しであるものは、隣り合う凹凸が同じ形状であればある程、反射する光の干渉度合いが増しその強度が強くなり、最大値へと収束する。回折方向のぶれも最小となる。立体像のように、画像の個々の点が焦点に収束するものは、その焦点への収束精度が向上し、再現もしくは再生画像が鮮明となる。レリーフ形状を賦形複製ともいうする方法は、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型スタンパというとして用い、上記樹脂材料の層ホログラム形成層3の厚さの1/10~9/10の厚さの層。上に、もしくは、下記するフォトクロミック薄膜層4上に、前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。形成する第2のホログラムパターン一つのホログラム再生像を発現するホログラムレリーフを、一つのホログラムパターンという。は、単独でも、複数でもよい。また、第2のホログラムレリーフを形成する領域の形も、単独領域としても、複数領域としてもよい。上記の極微細な形状を精密に再現するため、また、複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小とするため、原版は金属を使用し、低温高圧下で複製を行う。原版は、Niなどの硬度の高い金属を用いる。光学的撮影もしくは、電子線描画などにより形成したガラスマスターなどの表面にCr、Ni薄膜を真空蒸着法、スパッタリングなどにより5~50nm形成後、Niなどを電着法電気めっき、無電解めっき、さらには複合めっきなどにより50~1000μm形成した後、金属を剥離することで作ることができる。高圧回転式の複製に用いるためには、このNi層の厚み精度を高くする必要があり、通常±10μm、好ましくは、±1μmとする。このため、裏面の研磨や、平坦化方法を用いてもよい。複製方式は、高圧とするため、平板式でなく、回転式を用い、線圧0.1トン/m~10トン/m、好ましくは、5トン/m以上とする。複製用シリンダーは、その直径が小さいとレリーフの再現性が低下するため、複製シリンダー直径は大きい方が好ましく、通常、直径0.1m~2.0m、好ましくは、1.0m以上の弧を使用する。透明基材1上の樹脂材料の層をこの複製用シリンダーに沿って押し当て、裏面より金属製シリンダーにより上記圧力にて複製を実施する。複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小限とするためには、透明な基材1全体を加熱するのではなく、樹脂材料の層の最表面側の一部のみを加熱する方法が望ましい。通常60°C~110°Cに加熱する。さらには、裏面の金属製シリンダーを常温に保つ、もしくは冷却することで、さらにその精度を向上させることができる。このようにして設けた第2のホログラムレリーフ上の所定の領域に、フォトクロミック薄膜層4を設けた後、そのフォトクロミック薄膜層4の上、及び、フォトクロミック薄膜層4以外の領域においては、第2のホログラムレリーフに、直接、接するように、同一の組成からなる透明な樹脂材料を用いて、ホログラム形成層3の残りの厚さ分の透明な樹脂材料の層を設け、併せて、ホログラム形成層3とする従って、当然に、重ねた2層の透明な樹脂材料の層の屈折率も精密に同一となる。。フォトクロミック薄膜層本発明では、上記したホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層の上に形成した第2のホログラムレリーフ面の、所定の位置、すなわち、少なくとも上記したパターン状の表面活性化処理に対応する位置を含む領域に、フォトクロミック薄膜層4を形成する。図2参照。このフォトクロミック薄膜層4に用いられる、フォトクロミック分子フォトクロミック材料としては、有機化合物系と、無機化合物系があり、有機化合物系としては、アゾベンゼン類cis-trance異性:ジメチルアミノアゾベンゼン類等、スピロピラン類分子内開環―閉環:スピロベンゾチオピランスピロセレナゾリノベンゾピランスピロベンゾセレナゾリノナフトオキサジン等、より具体的には、1,3,3-トリメチルインドリノ-6’-ニトロベンゾピリロスピラン、1’,3’-ジヒドロ-8-メトキシ-1’,3’,3’-トリメチル-6-ニトロスピロ2H-1-ベンゾピラン-2’,2’-2H-インドール、1,3,3-トリメチルインドリノベンゾピリロスピラン、1,3,3-トリメチルインドリノ-6’-ブロモベンゾピリロスピラン、1,3,3-トリメチルインドリノ-8’-メトキシベンゾピリロスピラン、1,3,3-トリメチルインドリノ-β-ナフトピリロスピラン等、スピロオキサジン類分子内開環―閉環:スピロキノオキサジン類、スピロナフトオキサジン類、スピロフェナントロオキサジン類、スピロビピリドオキサジン類等、分子内に窒素原子を含む複素環構造を有する化合物等赤紫~青色。着色が速やかに消色。、スピロペリミジン類:2,3-ジヒドロ-2-スピロ-4‘-8’-アミノナフタレン-1‘4’Hオンペリミジン、2,3-ジヒドロ-2-スピロ-7‘-8’-イミノ-7,8-ジヒドロナフタレン-1‘-アミンペリミジン等、アリールエテン類:対称型ジアリールエテン、非対称型2,3-ジアリールマレイン酸無水物、非対称ジアリールペルフルオロシクロペンテン等、1,2-ビス2,4-ジメチル-5-フェニル-3-チエニル-3,3,4,4,5,5-ヘキサフルオロ-1-シクロペンテン、1,2-ビス2-メチルベンゾbチオフェン-3-イル-3,3,4,4,5,5-ヘキサフルオロ-1-シクロペンテン、2,3-ビス2,4,5-トリメチル-3-チエニルマレイン酸無水物、2,3-ビス2,4,5-トリメチル-3-チエニルマレイミド、cis-1,2-ジシアノ-1,2-ビス2,4,5-トリメチル-3-チエニルエテン等、より具体的には、発色波長:425nm、469nm、526nm、534nm、550nm、562nm、578nm、583nm、611nm、620nm、628nm、665nm、680nm、828nm等構造により、青色、緑色、黄色、赤色等に発色。、フルギド類:ジフェニルフルギド、トリフェニルフルギド等、クロメン類:6-モルホリノ-3,3-ビス3-フルオロ-4-メトキシフェニル-3H-ベンゾfクロメン、6-モルホリノ-3-4-メトキシフェニル-3-4-トリフルオロメトキシフェニル-3H-ベンゾfクロメン、6-ピペリジノ-3-メチル-3-2-ナフチル-3H-ベンゾfクロメン、6-ピペリジノ-3-メチル-3-フェニル-3H-ベンゾfクロメン、6-モルホリノ-3,3-ビス4-メトキシフェニル-3H-ベンゾfクロメン、6-ヘキサメチレンイミノ-3-メチル-3-4-メトキシフェニル-3H-ベンゾfクロメン、6-モルホリノ-3-2-フリル-3-メチル-3H-ベンゾfクロメン、6-モルホリノ-3-2-チエニル-3-メチル-3H-ベンゾfクロメン、6-モルホリノ-3-2-ベンゾフリル-3-メチル-3H-ベンゾfクロメン等橙色~黄色に発色。、シクロファン類:アントラセノファン、アントラセノナフタレノファン、アントラセノパラシクロファン等のアントラセン含有シクロファンやメタシクロファン等、カルコン1,3-ジフェニル-2-プロペン-1-オン―フラビリウム系等、フルギミド化合物類:N-シアノメチル-6,7-ジヒドロ-4-メチル-2-フェニルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノメチル-6,7-ジヒドロ-2-4’-メトキシフェニル-4-メチルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノ-6,7-ジヒドロ-4-メチル-2-フェニルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノ-6,7-ジヒドロ-4-メチルルスピロ5,6-ベンゾbフランジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノ-4-シクロプロピル-6,7-ジヒドロスピロ5,6-ベンゾbフランジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノ-6,7-ジヒドロ-4-メチルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノメチル-4-シクロプロピル-6,7-ジヒドロスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノメチル-4-シクロプロピル-6,7-ジヒドロ-2-4’-メトキシフェニルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-シアノメチル-4-シクロプロピル-6,7-ジヒドロ-2-フェニルスピロ5,6-ベンゾbチオフェンジカルボキシイミド-7,2-トリシクロ3.3.1.137デカン、N-3’-シアノフェニル-6,7-ジヒドロ-4-メチル-2-4’-メトキシフェニルスピロベンゾチオフェンカルボキシイミド-7,2’-トリシクロ[3.3.1.137]デカン橙色~青色に発色。、チオインジゴ類cis-trance異性、サリチリデンアニリン類分子内水素移動:結晶タイプ。、ニトロベンジルピリジン類分子内水素移動:結晶タイプ。、テトラクロル-α-ケトジヒドロナフタリン類、ビストリフェニルイミダゾリル類、テトラフェニルヒドラジン類、ビアンスロン類、ピリジルシドノン類、アントラセン誘導体光二量化、メチレンブルー光酸化還元、トリフェニルメタン類イオン解離、ヘキサフェニルビイミダゾルラジカル解離、多環芳香族化合物酸素付加等、を用いることができる。特に、ジアリールエテン類を透明樹脂に分散させたもの、ジアリールエテン類の結晶化物は、物理特性、耐候性に優れる。また、無機化合物系としては、AgBr、AgCl、AgI、CuBr2、CuCl2、CuCl、CuI2、CuI、Ag単体、Cu単体等の中から選択した三成分系化合物等、銀ナノ粒子酸化チタン系等、を用いることができる。さらに、これらのフォトクロミック分子材料の中で、フォトクロミック分子Bとしての発光強度曲線波長を横軸として。が、可視領域において、一つのみのピークを持つものが好適であり、さらには、そのピークの半値幅が、10~50nmであるものが、より鮮明なホログラム再生像を与えるため好適である。形成方法としては、一般的印刷方法、コーティング方法等も用いることは可能であるが、より精密な薄膜を形成する方法として、回転塗布法、キャスト法、スクリーン印刷法、ブレードコーティング法、ロール塗布法、水面展開法、LBラングミュアブロジェット法等が挙げられ、ドライプロセスとしては真空蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着法等が挙げられる。特に、有機化合物系を均一に、且つ、分子レベルで薄膜形成するには、化学蒸着法が好適である。より具体的には、フォトクロミック分子を透明な樹脂に均一に分散した樹脂分散型のインキや、水又は溶剤にフォトクロミック分子を分散した溶媒分散型のインキを作製し、それらを用いて、印刷方式や、コーティング方式さらには、インクジェット方式等の種々の形成方法を用いて、透明樹脂層3に用いる透明な樹脂材料の層の上に形成したホログラムレリーフ面の、所定の位置、すなわち、少なくとも上記したパターン状の表面活性化処理に対応する位置を含む領域に、そのホログラムレリーフに接するように、また、追従するよう均一に、若しくは凹部に部分的に、フォトクロミック薄膜層4を形成することができる。また、そのホログラムレリーフ面上に、直接、フォトクロミック分子を化学蒸着法によりフォトクロミック薄膜層4を形成することも、そのホログラムレリーフ追従性や、その均一性から好適であるとともに、電子ビーム加熱真空蒸着法における高温の電子ビームや、スパッタリング法におけるアルゴン原子の衝突がなく、分子の構造を維持しやすいため好適である。さらに、そのホログラムレリーフ面上にフォトクロミック薄膜層4を形成した後、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィー法により、回折格子パターンに位置合わせして露光、現像、不要部除去によりフォトレジストのパターンを回折格子パターンの凹部に同調させ、エッチングによりフォトクロミック薄膜層を除去して、凹部のみにフォトクロミック薄膜層を残すことができる。図示せず。逆に、ホログラムレリーフ面上にフォトレジスト層を形成し、回折格子パターンに位置合わせして露光、現像、不要部除去により、凸部にフォトレジストを残し、凹部を露出させて、この上にフォトクロミック薄膜層を形成後、凸部上のフォトレジストを除去すると同時に、その真上にあるフォトクロミック薄膜層を部分的に除去することにより、凹部のみにフォトクロミック薄膜層4を残すことができる。図示せず。樹脂分散型のインキは、上記したフォトクロミック分子を、透明樹脂、例えば、熱可塑性樹脂としてはアクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、もしくはポリスチレン樹脂等が、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、もしくはフェノール樹脂等に2次凝集を少なくするように、ガラスビーズやスチールビーズを用いたボールミル、ニーダー、ロールミル等による混練りを十分行い、溶剤等で粘度調整をして、グラビア方式、オフセット方式、シルクスクリーン方式、カーテンコート方式、ノズルコート方式、さらには、インクジェット方式を適宜用いて均一な厚さに形成することができる。フォトクロミック薄膜層4の厚さを、0.01μm以上1.0μm以下、さらには、0.01μm以上0.5μm以下とするためには、樹脂分散型インキの固形分を1~10とし、溶剤若しくは水を溶媒とした塗布膜が、例えば、10μmであったときに、溶媒を蒸発させた後の厚さフォトクロミック薄膜層の厚さがその1/10乃至は1/100となるようにし、1μm~0.1μmとする。溶媒分散型の光インキは、樹脂成分を含まず、フォトクロミック分子と溶媒のみであるため、樹脂分散型よりフォトクロミック薄膜層4の厚さを薄くすることができる。溶媒としては、水やアルコール系溶剤、もしくは、セルソルブ系、パラフィン系溶剤を用いて、粒子系の小さいフォトクロミック分子を分散保持させ、攪拌しながらカーテンコート、ノズルコート等により透明樹脂層3に用いられる透明な樹脂材料の層上に設けることができる。この場合には、溶媒の蒸発速度を調整することで、溶媒の揮発する間に、フォトクロミック分子が自重で凹部へと移動させることも可能となる。さらには、ホログラムレリーフ面を形成している樹脂に対して、溶解性を有する遅い揮発性の溶剤を数μm塗布しアクリル塩ビ酢ビ樹脂や、ポリエステル樹脂等に対するケトン系溶剤、例えばシクロヘキサノン等。この溶剤を非溶解性の溶剤で希釈して使用し、残留する成分を0.1μm以下にすることも可能である。、そのホログラムレリーフ面の最表面のみを溶解して、その最表面に粘着性を付与し、その上に、フォトクロミック分子を粉体のまま吹きかけて、その粘着性の面に接するフォトクロミック分子粒子のみがホログラムレリーフ面上に残るようにするフォトクロミック薄膜層4の形成方法も好適である。この方法によると、フォトクロミック薄膜層4がほぼ1粒子膜となり、ホログラムレリーフ面上に均一に形成され、透明樹脂層3に用いられる透明な樹脂材料の層側から励起光を当てた場合の光発光面が、ホログラムレリーフ面と同一となる。いずれにしても、ホログラムレリーフの凹凸が非常に小さい為、フォトクロミック薄膜層4を均一厚さで、且つその中のフォトクロミック分子が均一な密度となるように、もしくは、ホログラムレリーフ面上に均一に部分形成の場合には形成してある部分同士が均一に形成するためには、フォトクロミック分子の粒径は小さい方が好ましく、ナノフォトクロミック分子は特に好適である。フォトクロミック薄膜層4は、また、上記と同様の方法により、粘着層5の中に、設けることができる。図3参照。この場合には、透明樹脂層3に用いる透明な樹脂材料に変えて、下記する粘着層5に用いられる透明な樹脂材料、すなわち、粘着剤を用いる。また、透明樹脂層3に用いる透明な樹脂材料、フォトクロミック薄膜層4、及び下記粘着層5の互いの屈折率差を、0.1以内、さらには、0.03以内とすることで、励起前における不要なホログラム再生像の出現を防ぎ、より偽造防止性を高めることが可能となる。この様にして作成したホログラムラベルに、使用したフォトクロミック分子に適した励起光、例えば、紫外線波長365nmや、波長245nm等。を、10μW/cm2~10mW/cm2の強度で、1.0秒~100秒間照射するか、もしくは、可視領域内での色調変化をするものについては、所定波長に近いLED光や、半導体レーザー光を照射して、特定の色調に発色させ、もしくは、色調変化させ、その色調におけるホログラム再生像を視認して、その真正性を判定することができる。このとき、特定のフィルターや、再生光増幅装置等を用いて、その視認性を高めたり、機械的判定を行ってもよい。また、特定の色調のホログラム再生像の存在を、ホログラムラベルを所持している者、すなわち、ホログラムラベルを転写形成、又は、貼付した真正性識別対象物を所持している者に悟られないよう、真正性確認後、速やかに数秒~数十秒以内。その色調が消えるか、又は、元の色調に戻るよう工夫することも好適である。反射性薄膜層、及び、透明反射性薄膜層上記した、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層3上に、反射性薄膜層5もしくは、透明反射性薄膜層5を設ける。図2及び図3参照。本発明のホログラムラベルが、そのホログラム形成層3の中に、フォトクロミック薄膜層4を含む場合には、反射性薄膜層5を用い、その粘着層6の中に、フォトクロミック薄膜層4を含む場合には、透明反射性薄膜層5を用いる。反射性薄膜層5としては、真空薄膜法などにより形成される金属薄膜などの金属光沢反射層を用いる。透明反射性薄膜層5としては、金属化合物薄膜層等の透明反射層を設ける。透明反射層を設けた場合は、粘着層6の中にあるフォトクロミック薄膜層4が発光した場合に、その発光を透明反射性薄膜層5を通して視認できる。すなわち、第2のホログラム再生像を透明反射性薄膜層5を通して判定することが可能となる。また、ホログラムラベルA ́の貼着後にそのホログラムラベルA ́に覆われた被貼着体上の画像などがホログラムラベルA ́を通して観察できる。透明反射層としては、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム形成層3のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できることから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム形成層3よりも光屈折率の高い薄膜、例として、ZnS、TiO2、Al2O3、Sb2S3、SiO、SnO2、ITOなどがある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Be、Mg、Ca、Cr、Mn、Cu、Ag、Al、Sn、In、Te、Ti、Fe、Co、Zn、Ge、Pb、Cd、Bi、Se、Ga、Rb、Sb、Pb、Ni、Sr、Ba、La、Ce、Auなどの酸化物又は窒化物他はそれらを2種以上を混合したものなどが例示できる。またアルミニウムなどの一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが50nm以下になると、透明性が出て使用できる。透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、透明な生分解性を有するプラスチックフィルム又はシート1の一方面に、20~2000nm程度、好ましくは50~1000nmの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVD化学蒸着法などの真空薄膜法などにより設ければよい。特にCVD法はホログラム形成層3への熱的ダメージが少ない。また、他の薄膜形成法を用いても、形成する薄膜層を薄くしておくと、その熱的ダメージを少なくすることができる。粘着層上記した反射性薄膜層5、または、透明反射性薄膜層5の上に、粘着層6を設ける。その粘着層6としては、従来公知の溶剤系及び水系のいずれかの透明な樹脂材料、すなわち、粘着剤、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル-アクリル共重合体、酢酸ビニル-塩化ビニル共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂や、天然ゴム、クロロプレンゴムなどのゴム系樹脂などが挙げられる。自然にやさしい材料構成とするために、特に、天然ゴムを主成分とするラテックス、それを変性したもの、特に天然ゴムにスチレン特にメタクリルさんメチルとをグラフト重合させて得た天然ゴムラテックス等の天然素材から作製されたものを用いても良い。粘着層6の塗工量は、10μm~50μmが一般的であり、従来公知の方法、すなわち、グラビアコート、ロールコート、コンマコートなどの方法で、塗布し乾燥して粘着層6を形成し、本発明のホログラムラベルAとする。図2参照。また、粘着層6の粘着力は、ホログラム形成層4と粘着層6との剥離強度で、JISZ0237準拠の180°による剥離方法において、0.1~1kg程度の範囲にすることが望ましい。もちろん、それ以上の剥離強度を有していても、本発明の目的には適合している。以上の如き粘着剤の種類や、塗工量は、反射性薄膜層5、または、透明反射性薄膜層5上、または、粘着層6に用いる透明な樹脂材料の層の上に形成されたフォトクロミック薄膜層4上に粘着層6の残りの厚さを形成する際に、その剥離強度が上記範囲になるように、選択して使用することが好ましい。フォトクロミック薄膜層4は、また、ホログラム形成層3の中にフォトクロミック薄膜層4を設けた方法と同様の方法により、粘着層6の中に、設けることができる。図3参照。この場合には、ホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料に変えて、粘着層6に用いられる透明な樹脂材料、すなわち、粘着剤を用い、同様に、粘着層6の厚さの1/10~9/10の厚さの層に、予め作成した第2のレリーフホログラムもしくはその複製物、またはそれらのメッキ型等を複製用型として用い、その型面をその透明な樹脂材料の層粘着剤の層に押し付けることにより、賦型を行なう。図示せず。そして、その第2のホログラムレリーフ上に、フォトクロミック薄膜層4を同様にして設け、そのフォトクロミック薄膜層4の上、及び、フォトクロミック薄膜層4がないところは、直接その第2のホログラムレリーフ上に、粘着層6の残りの層を上記した方法により設け、粘着層6を形成して、本発明のホログラムラベルA ́とする。図3参照。この際には、既に形成してあるフォトクロミック薄膜層4や、その下にある粘着層6の厚さの1/10~9/10の厚さの層の再溶解や、不要な変形を回避するため、形成圧力の小さい、スクリーン印刷方式や、カーテンコート方式、もしくは、インクジェット方式を用いることが好適である。以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。なお、溶媒を除き、各層の各組成物は固形分換算の質量部である。実施例1透明基材1として、38μmのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その一方の面を、エキシマ社製エキシマUV03改質装置を用いて、波長172nmのエキシマ光を、タテヨコ10mm×10mmサイズで開と封の文字を縦横連続して配置したデザインのそれらの文字の画線部内を画線部の線幅は、1000μm。、一文字毎にマスキングして、一様に照射して表面活性化処理し、パターン状に表面活性化処理された部分2パターン状の表面活性化処理領域を形成した。図2参照。その上に、ホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料としてメラミン樹脂を用い、ホログラム形成層3の1/5の厚さである2.0μmの厚さのホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層1を形成した後透明基材1と、ホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層1との剥離強度:活性化処理面1.2kg/25mm幅、それ以外の部分300g/25mm幅に相当。、レーザ光学系を用いて撮影した意匠性の高い第2のホログラムレリーフを有するレリーフホログラムを備えたNi原版を用意し、上記したホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層1上に、そのNi原版の第2のホログラムレリーフ面を合わせて、回転式レリーフホログラム形成装置原版シリンダー径1.0m原版面温度100°C、加圧シリンダー径0.3m水冷式、圧力2トン/m、複製速度10m/分にて第2のホログラムレリーフをホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層1上に形成した。図示せず。このホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層1上に、下記組成の樹脂分散型のフォトクロミック分子含有インキフォトクロミック薄膜層4用インキ組成物をステンレススクリーン方式により、上記した透明基材1上のパターン状に表面活性化処理された部分2に対応する位置を含む領域として、その透明基材1上のパターン状に表面活性化処理された部分2を含んで、その一回り大きい領域、すなわち、タテヨコ12mm×12mmの領域の形状で、印刷し、乾燥して、フォトクロミック薄膜層4を、2.0μmの厚さで、第2のホログラムレリーフに接するように形成した。<フォトクロミック薄膜層4用インキ組成物>1,2-ビス2-メチルベンゾbチオフェン-3-イル―3,3,4,4,5,5-ヘキサフルオロ-1-シクロペンテン東京化成工業株式会社製結晶性材料B26290.5質量部ウレタン樹脂14.5質量部トルエン25質量部メチルエチルケトン30質量部酢酸エチル30質量部このフォトクロミック薄膜層4の上、及び、フォトクロミック薄膜層4を設けていない第2のホログラムレリーフ上に、上記したメラミン樹脂を用いて、ホログラム形成層3の4/5の厚さである8.0μmの厚さのホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層2を形成し、ホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層1とホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層2を併せて、10.0μmの厚さのホログラム形成層3とした。これにより、フォトクロミック薄膜層4が、ホログラム形成層3の中に含まれることとなる。図2参照。このホログラム形成層3の最表面に、上記と同様にして、第1のホログラムレリーフを形成し、この第1のホログラムレリーフ上に、さらに、この第1のホログラムレリーフに接して、追従するようにアルバック社製真空蒸着機を用いて、反射性薄膜層5として、アルミニウム薄膜層を200nmの厚さで設け、さらに、その上に、下記組成の粘着層6用粘着剤組成物をグラビアコーティング方式により、コーティングし乾燥して、粘着層6を20μmの厚さで形成し、実施例1のホログラムラベルAを作製した。<粘着層6用粘着剤組成物>酢酸ビニル-アクリル共重合体30質量部イソホロンジイソシアネート1質量部トルエン20質量部酢酸エチル30質量部メチルイソブチルケトン19質量部このホログラムラベルAを、封筒の封緘用に使用し、その封緘部分に貼着して、2kg荷重のローラーにて圧着。室内照明光の下で観察したところ、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層3から、より詳しくは、その第1のホログラムレリーフ上に設けてある反射性薄膜層5における反射光により、第1のホログラム再生像を視認できた。図4参照。封筒は図示せず。さらに、このホログラムラベルAを、その封筒から剥がそうとしたところ、透明基材1が容易に剥がれ、その透明基材1側に、透明基材側残部が開と封の文字状にタテヨコに連続して付着していた。剥がれた透明基材7。図4参照。図4では、模式的に、開と封の文字を一つずつ描いてある。また、その封筒側には、開と封の文字状にタテヨコに連続した凹部が形成された被貼着体側残部が残っていた。被貼着体上に残った被貼着体側残部8。図4参照。図4では、同様に、開と封の文字を一つずつ描いてある。封筒は図示せず。この剥がれた透明基材10に対して、365nm波長の光源9浜松ホトニクス製UVLEDモジュールLC―L2を照射したところ、この紫外線は目視では見えず、開と封の文字の画線部内透明基材側残部の位置。に、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層5の発色光による、赤色の第2のホログラム再生像を定常的に視認することができた。図5参照。また、この封筒の上の被貼着体側残部12に対して、同様に、365nm波長の光源11浜松ホトニクス製UVLEDモジュールLC―L2を照射したところ、被貼着体側残部12上においても、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層5の発色光による、赤色の第2のホログラム再生像を定常的に視認することができた。そして、この第2のホログラム再生像は、開と封の文字状の欠けを含むものであった。図5参照。その後、このラベルと同一サイズの別のホログラム脆質ラベルアルミニウム反射層を薄膜層として有し、第1のホログラム再生像と類似のホログラム再生像を再生するもの。を用意し、この被貼着体側残部を覆うように貼着し、あたかも、元の状態と同様の外観を呈するように同様のローラーを用いてそのラベルを圧着した。図示せず。その圧着したラベルの上から、上記の光源を用いて365nm波長の紫外線を照射したところ、そのアルミニウム反射層がその照射光を遮蔽してしまい、その別のホログラム脆質ラベルの下にある、被貼着体側残部12の中のフォトクロミック薄膜層4が発色することなく、発色光による第2のホログラム再生像も出現せず図示せず。、不正が行われたことを明確に判定することができた。以上のことから、本発明のホログラムラベルAは、高い偽造防止効果を有するものと思われた。実施例2透明基材1として、38μmのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その一方の面を、ナビタス社製ポリダイン低周波コロナ処理システムによってコロナ処理方式にて全面表面活性化処理し、下記組成の表面不活性化処理用溶剤組成物をインクジェト方式にて、タテヨコ10mm×10mmサイズで開封の文字を縦横連続して配置したデザインのネガポジ反転パターン状に、厚さ1μmで形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例2のホログラムラベルAを得た。図2参照。表面不活性化処理していない部分が、結果として、表面活性化処理した部分2となる。表面不活性化処理用溶剤組成物メチルエチルケトン沸点80度40部トルエン沸点100度30部メチルイソブチルケトン沸点115度29部リンシードオイル1部このホログラムラベルAを、実施例1と同様に評価したところ、透明基材1がホログラム形成層3から、非常に容易に剥がれたこと以外は、実施例1と同様の良好な結果が得られた。実施例3実施例1と同様に形成したホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層1上に、下記組成の樹脂分散型蛍光インキをグラビアコーティング方式により、塗布厚さ10μmでコーティングし、塗布後素早く乾燥して、フォトクロミック薄膜層4を0.3μmの厚さで形成したこと以外は、実施例1と同様にして、実施例3のホログラムラベルAを作製した。図2参照。この時のフォトクロミック薄膜層4は、ホログラム形成層3に用いる透明な樹脂材料の層1の第1のホログラムレリーフに追従しており、且つ、均一な厚さを有していた。<蛍光インキ組成物>ルミライトナノRY202粒径30nm1質量部ポリビニルアルコール樹脂2質量部エチルアルコール27質量部イソプロピルアルコール20質量部酢酸エチル50質量部このホログラムラベルAを、実施例1と同様に観察したところ、発色光による、より鮮明な赤色のホログラム再生像を確認することができ、赤色の再生像のみが空間に浮いているように見え、不正判定がより正確に実施できるものであったこと以外は、実施例1と同様の良好な結果を得た。実施例4実施例1において、フォトクロミック薄膜層4を、ホログラム形成層3の中には設けず、表面活性化処理した透明基材1上に、10.0μmの厚さのホログラム形成層3を設け、そのホログラム形成層3上に設けた、第1のホログラムレリーフ上に、透明反射性薄膜層5として、アルバック社製電子線加熱蒸着装置を用いて、100nm厚さのTiO2薄膜層を設け、さらに、粘着層6を設ける際に、この透明反射性薄膜層5上に、下記組成の粘着層6用粘着剤組成物をグラビアコーティング方式により、コーティングし、乾燥して、粘着層6用透明な樹脂材料からなる層1を、粘着層6の1/5の厚さである、4.0μmの厚さで形成し、その最表面に、実施例1と同様にして第2のホログラムレリーフを形成し但し、回転式レリーフホログラム形成装置の設定条件を、原版面温度60°C、圧力0.5トン/m、複製速度5m/分とした。、この第2のホログラムレリーフ上に、実施例1と同様にして、フォトクロミック薄膜層4を形成し、さらにその上に、同一組成の粘着層6用粘着剤組成物を用いて、粘着層6の4/5の厚さである16.0μmの厚さの粘着層6用透明な樹脂材料からなる層2を形成し、粘着層6用透明な樹脂材料からなる層1と粘着層6用透明な樹脂材料からなる層2を併せて、20.0μmの厚さの粘着層6としたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例4のホログラムラベルA ́を得た。これにより、フォトクロミック薄膜層4が、粘着層6の中に含まれることとなる。図3参照。<粘着層6用粘着剤組成物>酢酸ビニル-アクリル共重合体30質量部イソホロンジイソシアネート1質量部トルエン20質量部酢酸エチル30質量部メチルイソブチルケトン19質量部このホログラムラベルA ́を、封筒の封緘用に使用し、その封緘部分に貼着して、2kg荷重のローラーにて圧着。室内照明光の下で観察したところ、第1のホログラムレリーフを有するホログラム形成層3から、より詳しくは、その第1のホログラムレリーフ上に設けてある透明反射性薄膜層5における反射光により、第1のホログラム再生像を視認できた。また、このホログラムラベルA ́を通して、その背後にある封筒のデザインを視認することができた。図4参照。封筒は図示せず。さらに、このホログラムラベルA ́を、その封筒から剥がそうとしたところ、透明基材1が容易に剥がれ、その透明基材1側に、透明基材側残部が開と封の文字状にタテヨコに連続して付着していた。剥がれた透明基材7。図4参照。図4では、模式的に、開と封の文字を一つずつ描いてある。また、その封筒側には、開と封の文字状にタテヨコに連続した凹部が形成された被貼着体側残部が残っていた。被貼着体上に残った被貼着体側残部8。図4参照。図4では、同様に、開と封の文字を一つずつ描いてある。この剥がれた透明基材10に対して、365nm波長の光源9浜松ホトニクス製UVLEDモジュールLC―L2を照射したところ、この紫外線は目視では見えず、開と封の文字の画線部内透明基材側残部の位置。に、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層5の発色光による、赤色の第2のホログラム再生像を定常的に視認することができた。図5参照。また、この封筒の上の被貼着体側残部12に対して、同様に、365nm波長の光源11浜松ホトニクス製UVLEDモジュールLC―L2を照射したところ、被貼着体側残部12上においても、第2のホログラムレリーフ形状を有するフォトクロミック薄膜層5の発色光による、赤色の第2のホログラム再生像を定常的に視認することができた。そして、この第2のホログラム再生像は、開と封の文字状の欠けを含むものであった。図5参照。その後、このラベルと同一サイズの別の透明ホログラム脆質ラベルZnS反射層を薄膜層として有し、第1のホログラム再生像と類似のホログラム再生像を再生するもの。を用意し、この被貼着体側残部を覆うように貼着し、あたかも、元の状態と同様の外観を呈するように同様のローラーを用いてそのラベルを圧着した。図示せず。その圧着したラベルの上から、上記の光源を用いて365nm波長の照射光を照射したところ、そのそのZnS透明反射層をその照射光が透過し、ホログラムラベルA ́の粘着層6の中にあるフォトクロミック薄膜層4が発光し、第2のホログラムレリーフによる赤色の第2のホログラム再生像が出現した。しかも、その第2のホログラム再生像は、開と封の文字状に欠けを含んでおり、何らかの不正が行われたことを明確に判定することができた。図示せず。このことから、本発明のホログラムラベルA ́は、高い偽造防止効果を有するものと思われた。実施例5微細なパターンとしての、基本形を、50μm×100μmの長方形とし、この基本形を市松模様状に、開と封の画線部内に展開し、一つ飛ばしに表面活性化処理を施して、上記した開と封のパターンを形成したこと、及び、この微細なパターンである市松模様のメッシュの上に、一回り大きい領域として、60μm×120μmの長方形の領域からなるフォトクロミック薄膜層4を設けたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例5のホログラムラベルAを得た。図2参照。微細パターンは図示せず。実施例1と同様に評価したところ、実施例1と同様の良好な結果が得られ、且つ、透明基材1の剥離後の、開と封の文字がより鮮明に視認できたこと以外は、実施例1と同様の効果が得られた。比較例1表面活性化処理、または、表面不活性化処理を行なわず、一様なホログラム形成層を透明基材上に設け、そのホログラム形成層の中にフォトクロミック薄膜層を設けなかったことすなわち、第2のホログラムレリーフは存在しない。以外は、実施例1と同様にし、比較例1のホログラムラベル第1のホログラムレリーフのみ存在する。を得た。このホログラムラベルを実施例1と同様に評価したところ、透明基材1が容易には剥がれず、粘着層6から剥離し、また、紫外線を照射しても、何らの発光も起こらなかった。従って、このラベルを丁寧に剥がせば、不正に剥すことが可能であって、しかも、貼り替え等の悪用も可能であると思われた。"