被写体を照明するための照明光を放射する光源と、前記放射された照明光をフィルタリングするファブリペロー型フィルタと、前記フィルタリングされた照明光の一部を分岐する分岐手段と、前記分岐された照明光の波長の強度分布を検出する光強度分布検出手段と、前記検出された検出強度分布に基づいて前記ファブリペロー型フィルタが有する一対の反射鏡の相対位置を所定時間経過ごとに又は所定の操作入力ごとに調節する反射鏡調節手段と、を有することを特徴とする光源装置。前記ファブリペロー型フィルタの透過ピーク波長を指定する指定手段と、前記指定された指定透過ピーク波長に対する前記検出強度分布の評価値を演算する評価値演算手段と、を有し、前記反射鏡調節手段は、前記演算された評価値に基づいて前記相対位置の調節を行うことを特徴とする、請求項1に記載の光源装置。前記評価値演算手段は、前記検出強度分布が表す前記ファブリペロー型フィルタの透過光スペクトルの有効波長域の標準偏差に基づいた値を前記評価値として演算することを特徴とする、請求項2に記載の光源装置。前記ファブリペロー型フィルタは、前記光源装置の筐体内において前記照明光の光路に対して挿入又は退避可能に支持されていることを特徴とする、請求項1から請求項3の何れか一項に記載の光源装置。請求項1から請求項4の何れか一項に記載の光源装置と、前記照明光で照明された前記被写体を撮像する電子スコープと、前記電子スコープが出力する撮像信号を用いて画像を生成する画像生成装置と、を有することを特徴とする電子内視鏡システム。このように、電子内視鏡システムが有する狭帯域フィルタには、特許文献1や特許文献2に示されるように、エアギャップ可変式エタロンを用いて構成されたものが知られている。しかし、この種のエアギャップ可変式エタロンは微小で精密なメカ部品であるため、温度変化や経年変化による僅かな機械的特性又は電気的特性の変化が光学性能に大きな影響を与えることがある。例えば反射鏡基板を保持する枠体が熱膨張により僅かに変形しただけでエアギャップが変動して透過光スペクトルが大きく変化することがある。例えば特許文献1において基準エアギャップの設定後に上記機械的特性の変化が発生すると、基準エアギャップの変動に伴う透過光スペクトルの変化誤差が発生する問題が指摘される。特許文献2においては、温度変化に伴う静電容量の変化がエアギャップの検出精度を低下させる。エアギャップの検出精度の低下は透過光スペクトルの誤差として現れるため望ましくない。本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、使用環境や使用状況に拘わらず狭帯域干渉フィルタの透過光スペクトルを安定して制御するのに好適な光源装置、及び電子内視鏡システムを提供することである。上記の課題を解決する本発明の一形態に係る光源装置は、被写体を照明するための照明光を放射する光源と、放射された照明光をフィルタリングするファブリペロー型フィルタと、フィルタリングされた照明光の一部を分岐する分岐手段と、分岐された照明光の波長の強度分布を検出する光強度分布検出手段と、検出された検出強度分布に基づいてファブリペロー型フィルタが有する一対の反射鏡の相対位置を所定時間経過ごとに又は所定の操作入力ごとに調節する反射鏡調節手段とを有することを特徴とした装置である。本発明に係る光源装置によれば、ファブリペロー型フィルタのキャリブレーションを光源装置単体で適時に行うことができる。そのため、温度変化や経年変化による機械的特性の変化による透過光スペクトルの変化が有効に抑えられる。また、波長自体を直接検出して一対の反射鏡の相対位置を制御していることから、温度変化に伴う検出誤差例えば温度変化に伴う静電容量の変化に起因する反射鏡間のエアギャップ精度の低下が起こり得ない。本発明に係る光源装置は、ファブリペロー型フィルタの透過ピーク波長を指定する指定手段と、指定された指定透過ピーク波長に対する検出強度分布の評価値を演算する評価値演算手段とを有する構成としてもよい。この場合、反射鏡調節手段は、演算された評価値に基づいて相対位置の調節を行う。評価値演算手段は、検出強度分布が表すファブリペロー型フィルタの透過光スペクトルの有効波長域の標準偏差に基づいた値を評価値として演算する構成としてもよい。ファブリペロー型フィルタは、光源装置の筐体内において照明光の光路に対して挿入又は退避可能に支持された構成としてもよい。上記の課題を解決する本発明の一形態に係る電子内視鏡システムは、上記光源装置と、照明光で照明された被写体を撮像する電子スコープと、電子スコープが出力する撮像信号を用いて画像を生成する画像生成装置とを有することを特徴としたシステムである。本発明によれば、使用環境や使用状況に拘わらず狭帯域干渉フィルタの透過光スペクトルを安定して制御するのに好適な光源装置、及び電子内視鏡システムが提供される。以下、図面を参照して、本発明の実施形態の電子内視鏡システムについて説明する。図1は、本実施形態の電子内視鏡システム1の構成を示すブロック図である。図1に示されるように、電子内視鏡システム1は、医療用の撮像システムであり、電子スコープ100、プロセッサ200、モニタ300を有している。電子スコープ100の基端は、プロセッサ200と接続されている。プロセッサ200は、電子スコープ100が出力する撮像信号を処理して画像を生成する画像処理装置と、自然光の届かない体腔内を電子スコープ100を介して照明する光源装置とを一体に備えた装置である。別の実施形態では、画像処理装置と光源装置とを別体で構成してもよい。図1に示されるように、プロセッサ200は、システムコントローラ202、タイミングコントローラ204を有している。システムコントローラ202は、電子内視鏡システム1を構成する各要素を制御する。タイミングコントローラ204は、信号の処理タイミングを調整するクロックパルスを電子内視鏡システム1内の各種回路に出力する。ランプ208は、ランプ電源イグナイタ206による始動後、主に可視光領域から不可視である赤外領域に広がる波長域の光束を放射する。ランプ208には、キセノンランプ、ハロゲンランプ、水銀ランプ、メタルハライドランプ等の高輝度ランプが適している。ランプ208から放射された照明光は、狭帯域干渉フィルタ230に入射する。図2は、狭帯域干渉フィルタ230の構成を模式的に示す側面図である。狭帯域干渉フィルタ230は、ファブリペロー干渉計と同じ原理で透過光スペクトルを可変するエアギャップ可変式エタロンである。図2に示されるように、狭帯域干渉フィルタ230は、保持基板232を有している。保持基板232には、所定の開口を有する保持枠234と、中空部を有するピエゾアクチュエータ236が取り付けられている。保持枠234は、開口が光路の中心軸AXを含む領域に位置するように配置されている。ピエゾアクチュエータ236は、中空部が当該領域に位置するように配置されている。そのため、照明光は、保持枠234及びピエゾアクチュエータ236によっては遮られない。保持枠234、ピエゾアクチュエータ236はそれぞれ、ファブリペローエタロンを構成するガラス基板平行平板238a、238bを保持している。ガラス基板238a、238bは、空気層を挟んで対向配置されている。ガラス基板238a、238bの互いの対向面には反射膜反射鏡がコートされている。反射膜は、所定の波長域例えば可視光領域から赤外領域を含む波長域で反射率が高い半透過性の反射膜であり、金属反射膜、好ましくはDBRDistributedBraggReflector膜である。狭帯域干渉フィルタ230に入射した照明光は、各ガラス基板以下、反射鏡基板と記す。238a、238bにコートされた一対の反射膜の間を多重反射する。反射膜同士の光軸方向の距離をDと定義し、空気層の屈折率をNと定義した場合、一対の反射膜間の多重反射干渉により、光学的距離NDによって決まる所定の波長域の照明光のみが狭帯域干渉フィルタ230を透過する。ピエゾアクチュエータ236は、複数個例えば3つの独立して制御可能なピエゾ素子を内蔵している。ピエゾアクチュエータ236は、少なくとも1つのピエゾ素子に電圧が印加されると、逆圧電効果によるピエゾ素子の変形に伴って反射鏡基板238bを傾き調節し又は中心軸AX方向に進退させる。傾き調節は、反射鏡基板238aと238bとの平行度を高精度に維持して狭帯域干渉フィルタ230の透過ピーク波長の誤差を抑えるために行われる。中心軸AX方向への進退は、光学的距離NDを変化させて透過ピーク波長をコントロールするために行われる。狭帯域干渉フィルタ230によりフィルタリングされた照明光は、ハーフミラー222に入射する。狭帯域干渉フィルタ230は、プロセッサ200の筐体内において光路に対して挿入又は退避可能に支持されている。狭帯域干渉フィルタ230は、狭帯域観察を行う場合、照明光の波長を特定波長にフィルタリングするため光路に挿入される。通常のカラー画像による観察を行う場合は、ランプ208から放射された光を被写体にそのまま照明するため光路から退避される。ハーフミラー222に入射した照明光の大部分は、ハーフミラー222を透過して集光レンズ210に入射して集光され、絞り212を介して適正な光量に制限されてLCBLightCarryingBundle102の入射端に入射する。ハーフミラー222に入射したごく一部の残りの照明光は、ハーフミラー222で反射して集光レンズ224に入射して集光されて、分光センサ226に入光する。絞り212には、図示省略されたアームやギヤ等の伝達機構を介してモータ214が機械的に連結している。モータ214は例えばDCモータであり、ドライバ216のドライブ制御下で駆動する。絞り212は、モニタ300に表示される映像を適正な明るさにするため、モータ214によって動作して開度が変化して、ランプ208から放射された照明光の光量を開度に応じて制限する。適正とされる映像の明るさの基準は、術者によるフロントパネル218の輝度調節操作に応じて設定変更される。なお、ドライバ216を制御して輝度調節を行う調光回路は周知の回路であり、本明細書においては省略することとする。フロントパネル218の構成には種々の形態が想定される。フロントパネル218の具体的構成例には、プロセッサ200のフロント面に実装された機能ごとのハードウェアキーや、タッチパネル式GUIGraphicalUserInterface、ハードウェアキーとGUIとの組合せ等が想定される。LCB102の入射端に入射した照明光は、LCB102内を全反射を繰り返すことによって伝播する。LCB102内を伝播した照明光は、電子スコープ100の先端に配されたLCB102の射出端から射出する。LCB102の射出端から射出した照明光は、配光レンズ104を介して被写体を照明する。被写体からの反射光は、対物レンズ106を介して固体撮像素子108の受光面上の各画素で光学像を結ぶ。固体撮像素子108は、例えばベイヤ型画素配置を有する単板式カラーCCDChargeCoupledDeviceイメージセンサであり、受光面上の各画素で結像した光学像を光量に応じた電荷として蓄積して、R、G、Bの各色に応じた撮像信号に変換する。変換された撮像信号は、プリアンプ110による信号増幅後、ドライバ信号処理回路112を介して信号処理回路220に入力する。別の実施形態では、固体撮像素子108は、CMOSComplementaryMetalOxideSemiconductorイメージセンサであってもよい。タイミングコントローラ204は、システムコントローラ202によるタイミング制御に従って、ドライバ信号処理回路112にクロックパルスを供給する。ドライバ信号処理回路112は、タイミングコントローラ204から供給されるクロックパルスに従って、固体撮像素子108をプロセッサ200側で処理される映像のフレームレートに同期したタイミングで駆動制御する。信号処理回路220に入力した撮像信号は、クランプ、ニー、γ補正、補間処理、AGCAutoGainControl、AD変換等の処理後、各色信号別にフレーム単位でR、G、Bの各色用のフレームメモリ又はラインメモリ不図示にバッファリングされる。バッファリングされた各色信号は、タイミングコントローラ204によって制御されたタイミングでフレームメモリから掃き出されて、NTSCNationalTelevisionSystemCommitteeやPALPhaseAlternatingLine等の所定の規格に準拠した映像信号に変換される。変換された映像信号がモニタ300に順次入力することにより、被写体の画像がモニタ300の表示画面上に表示される。狭帯域干渉フィルタ230の透過ピーク波長は、強調表示させたい被写体像の波長蛍光観察の場合は励起光の波長に合わせて指定される。透過ピーク波長の指定は、例えば電子スコープ100の手元操作部114又はフロントパネル218に対する操作を通じて行われる。指定される透過ピーク波長以下、指定ピーク波長と記す。には、例えば赤外領域の波長が想定される。この場合、癌などの病巣に親和性を持つ蛍光標識物質が患者の体内に予め投与される。観察対象の病巣の種類を増やしたい場合は、蛍光波長特性の異なる蛍光標識物質を複数種類投与しておく。狭帯域干渉フィルタ230でフィルタリングされた赤外領域の光励起光は、生体組織内に進達して蛍光標識物質を励起する。病巣部に蓄積した励起状態の蛍光標識物質は、蛍光を発する。蛍光は、対物レンズ106を介して固体撮像素子108の受光面上の各画素で光学像を結ぶ。病巣部より反射した励起光は、固体撮像素子108の前面に配した励起光カットフィルタ不図示により遮断される。モニタ300の表示画面には、固体撮像素子108の撮像処理、信号処理回路220の画像生成処理等を経て病巣部の蛍光画像が表示される。ところで、狭帯域干渉フィルタ230の透過ピーク波長は、温度変化や経年変化による機械的特性の変化により指定ピーク波長に対して変動する虞がある。そこで、電子内視鏡システム1には、撮像を行う期間中リアルタイムに又は所定の操作時に狭帯域干渉フィルタ230のキャリブレーションを行う機能が実装されている。ここでいう所定の操作とは、例えば電子スコープ100の手元操作部114又はフロントパネル218に対して行うキャリブレーションの実行を指示する操作である。狭帯域干渉フィルタ230のキャリブレーションは、ハーフミラー222で分岐して分光センサ226に入光した微弱な照明光を用いて行われる。分光センサ226は、グレーティングとラインセンサを内蔵したセンサである。分光センサ226に入光した照明光は、グレーティングによって波長ごとに異なる方向に回折されて、ラインセンサにより各波長の強度が同時に検出される。分光センサ226ラインセンサで検出された光強度分布信号は、信号処理回路220に入力する。信号処理回路220は、分光センサ226による光強度分布信号を用いて狭帯域干渉フィルタ230のキャリブレーションを行う。図3は、信号処理回路220の構成を図1よりも詳細に示したブロック図である。図3においては、図面を簡明化する便宜上、キャリブレーションの説明に必要な回路構成以外例えば上述した画像処理を行う回路構成の図示を省略する。図4は、キャリブレーション時に実行される平行度制御処理を示すフローチャート図である。説明の便宜上、本明細書中の説明並びに図面において、処理ステップはSと省略して記す。図3に示されるように、信号処理回路220は、初期電圧設定部220a、A/Dコンバータ220b、評価関数演算部220c、評価微調節量算出部220d、ピーク波長算出部220e、波長シフト調節部220f、D/Aコンバータ220gを有している。図4のS1の処理では、電子内視鏡システム1の起動後、初期電圧設定部220aが保持する電圧値情報電圧V1、V2、V3がD/Aコンバータ220gを介してピエゾドライバ228に制御信号として入力する。ピエゾドライバ228は、入力した制御信号に従ってピエゾアクチュエータ236の3つのピエゾ素子の各々に電圧V1~V3を印加する。反射鏡基板238aと238bとのエアギャップは、印加された電圧V1~V3に応じて可変する。初期電圧設定部220aは、例えば前回のシステム停止時の指定ピーク波長に対応する電圧値情報を制御信号として出力する。初期電圧設定部220aは、手元操作部114又はフロントパネル218の操作によって指定可能な各指定ピーク波長に対応する電圧値情報を予め保持している。そのため、図4の平行度制御処理又は後述の図5に示すピーク波長調節処理の実行中に透過ピーク波長の指定操作が行われた場合、処理が強制的に図4のS1に戻る。初期電圧設定部220aは、指定ピーク波長に対応する電圧値情報を読み出して電圧V1~V3を変更する。図4の平行度制御処理及び後述の図5のピーク波長調節処理の非実行時に透過ピーク波長の指定操作が行われた場合は、図4の平行度制御処理の実行が開始される。この場合、初期電圧設定部220aは、指定ピーク波長に対応する電圧値情報を読み出して電圧V1~V3を設定する。図4のS2の処理では、分光センサ226が検出する光強度分布信号をA/Dコンバータ220bを通じて採取する。AD変換後の光強度分布信号は、評価関数演算部220c及びピーク波長算出部220eに入力する。図4のS3の処理では、評価関数演算部220cによる光強度分布信号を用いた評価関数eの演算が行われる。説明の便宜上、評価関数eから求まる評価関数値に符号e1又はe2を付す。符号e2は、評価関数値e1と比較される評価関数値に対してのみ付す。評価関数eは、標準偏差をσと定義し、狭帯域干渉フィルタ230の透過光スペクトルの有効波長域の幅を分光センサ226の波長分解能で除算した値をnと定義した場合に、次式により表される。ここで、有効波長域とは、広義には狭帯域干渉フィルタ230を透過する可視光領域を意味する。具体的には、例えば、400~700nmの波長域を指す。標準偏差σは、光強度分布信号の波長をλと定義し、光強度分布信号の波長λの光量をIλと定義し、狭帯域干渉フィルタ230の透過光スペクトルの有効波長域の平均光量をI ̄と定義した場合に、次式により表される。評価関数値e1は、透過光スペクトルの分布がなだらかであるときには小さく、狭帯域で大きな値のピークを持つ場合に高くなる。特にピーク波長のFWHMFullWidthatHalfMaximumが最小で光強度が最大となる場合に高い値をとる。そのため、評価関数値e1が高いほど反射鏡基板238aと238bとの平行度が高いという保証が得られる。評価関数演算部220cにより求められた評価関数値e1は、評価微調節量算出部220dに入力する。図4のS4の処理では、評価微調節量算出部220dにより反射鏡基板238bの傾き調節の方向が決められる。反射鏡基板238bの傾きは、反射鏡基板238aとの平行度が高くなる方向に評価関数値e1が上がる方向に調節されるべきである。そこで、反射鏡基板238bの傾き調節の方向を決定するにあたり、電圧V1を固定して電圧V2又はV3を所定値だけ変更する電圧制御パターンが複数パターン試行される。試行される電圧制御パターンには、例えば、電圧V2単独又は電圧V3単独を増加又は低下させるパターン、電圧V2及びV3を同時に増加又は低下させるパターン、電圧V2又はV3の一方を増加し他方を低下するパターン、などが想定される。評価微調節量算出部220dは、最も高い評価関数値e1が求められたときの電圧制御パターンを用いて反射鏡基板238bの傾き調節を開始する。図4のS5の処理では、S4の処理で決められた電圧制御パターンを用いて電圧V2、V3を微小値変更する。図4のS6の処理では、変更後の電圧V2、V3の印加時に分光センサ226によって検出される光強度分布信号をA/Dコンバータ220bを通じて採取する。図4のS7の処理では、S6の処理で採取された光強度分布信号を用いて評価関数値e2が求められる。図4のS8の処理では、評価関数値e2が評価関数値e1よりも高いか否かが判定される。評価関数値e2が評価関数値e1よりも高い場合S8:YES、評価関数値e2が評価関数値e1に置き換えられてS9、処理がS5に戻り、反射鏡基板238bの傾き調節が引き続き行われる。評価関数値e2が評価関数値e1以下の場合はS8:NO、評価関数値e1がピーク値か否かが判定されるS10。評価関数値e1がピーク値か否かは、過去複数回の評価関数値e1の推移や、指定ピーク波長の光検出強度と所定の閾値との比較などに基づいて判断される。評価関数値e1がピーク値でなければS10:NO、処理がS5に戻り、反射鏡基板238bの傾き調節が引き続き行われる。評価関数値e1がピーク値であれば、指定ピーク波長のFWHMが最小で光強度が最大となる又はそれに近い透過光スペクトルが得られている可能性が高い。そのため、この場合S10:YES、現在設定されている電圧V2、V3を初期電圧設定部220aに保存するS11。電圧V2、V3の保存後、本フローチャートの処理は終了する。図4の平行度制御処理の実行により、狭帯域干渉フィルタ230の透過光スペクトル中に最適な又は最適に近い透過ピーク波長が現れる。この状態でも患者の診断に資する十分に良好な強調画像が得られる。しかし、反射鏡基板238aと238bとの平行度を微調節する過程で透過ピーク波長が指定ピーク波長からシフトすることがある。そこで、本実施形態では、より一層良好な強調画像が得るべく、次に説明する処理が実行される。図5は、図4の平行度制御処理において平行度の微調節が完了したと同時に実行されるピーク波長調節処理を示すフローチャート図である。図5のS21の処理では、図4の平行度制御処理の実行時に初期電圧設定部220aに保存された微調節後の電圧V1~V3をピエゾアクチュエータ236の3つのピエゾ素子の各々に印加する。図5のS22の処理では、微調節後の電圧V1~V3の印加時に分光センサ226によって検出される光強度分布信号をA/Dコンバータ220bを通じて採取する。図5のS23の処理では、ピーク波長算出部220eにより、採取された光強度分布信号中の各波長に対応する信号強度の比較が行われ、比較結果に基づいて透過ピーク波長が検出される。図5のS24の処理では、ピーク波長算出部220eにより、S23の処理で検出された透過ピーク波長と指定ピーク波長とが一致するか否かが判定される。両ピーク波長が一致する場合S24:YES、透過ピーク波長が所望の位置に現れているため、本フローチャートの処理が終了する。両ピーク波長が一致しない場合S24:NO、処理はS25に進む。図5のS25の処理では、波長シフト調節部220fが電圧V1~V3の各電圧を同じだけ微増又は微減する。すなわち、S25の処理では、ピエゾアクチュエータ236の各ピエゾ素子に同じ電圧変化を与えて反射鏡基板238bを反射鏡基板238aとの平行度を維持した状態で中心軸AX方向に僅かに進退させる。このようにして反射鏡基板238aと238bとのエアギャップが僅かに変更された後、処理はS22に戻る。S22~S25の処理は、S23の処理で検出される透過ピーク波長と指定ピーク波長とが一致するまで繰り返し行われる。図4の平行度制御処理及び図5のピーク波長調節処理は、狭帯域干渉フィルタ230のキャリブレーションをリアルタイムで行う構成の場合は撮像期間中所定時間経過ごとに実行され、キャリブレーションを所定の操作時に行う構成の場合は当該操作時に限り実行される。本実施形態の電子内視鏡システム1によれば、キャリブレーションを別途の装置を必要とすることなくシステム単体で適時に行うことができる。そのため、温度変化や経年変化による機械的特性の変化による透過光スペクトルの変化が有効に抑えられる。また、分光センサ226を用いて狭帯域干渉フィルタ230の透過光スペクトルを検出するため、精密なエアギャップ制御が可能である。また、波長自体を直接検出してエアギャップ制御を行っていることから、温度変化に伴う検出誤差例えば温度変化に伴う静電容量の変化に起因するエアギャップ精度の低下が起こり得ない。また、透過ピーク波長を得るための処理図4の平行度制御処理と指定ピーク波長に合わせ込むための処理図5のピーク波長調節処理とが別個独立に行われるため、ピエゾアクチュエータ236の各ピエゾ素子に対する制御が簡易である。ピエゾアクチュエータ236を複雑に制御する必要がないため、狭帯域干渉フィルタ230のキャリブレーションにかかる時間が結果的に短くなる。評価関数eを用いた演算は、演算速度の向上のため、標準偏差σに代えて分散=σ2を用いてもよい。図6a~cは、図4の平行度制御処理において分散を用いて演算を行った際に検出される光強度分布信号透過光スペクトルを示す。図7は、図5のピーク波長調節処理を実行した際に検出される光強度分布信号透過光スペクトルを示す。図6、図7の各図の縦軸は光強度を示し、横軸は波長を示す。図6aは、電圧V2、V3に対する微調節を行っていない初期的な透過光スペクトルを示す。図6cは、反射鏡基板238aと238bとの平行度の調節が完了したときの透過光スペクトルを示す。図6bは、図6aと図6cの間の平行度の調節過程の透過光スペクトルを示す。図6a~cの3図において、評価関数eを用いて求められる値は、図6aのときに最も小さく、図6cのときに最も大きい。すなわち、反射鏡基板238aと238bとの平行度は、図6a~cに推移するにつれて高くなる。図6a~cに示されるように、反射鏡基板238aと238bとの平行度が高くなるにつれて、指定ピーク波長本例では546nm付近にFWHMが狭く光強度が高いピーク図6cにおいて532nmが現れる。図7中、破線は、図4の平行度制御処理の実行後であって図5のピーク波長調節処理の実行前の透過光スペクトル図6cに示す透過光スペクトルを示し、実線は、図5のピーク波長調節処理の実行後の透過光スペクトルを示す。図5のピーク波長調節処理が実行されると、図7に示されるように、透過光スペクトルは、スペクトル形状をほぼ保ったままFWHMが狭く光強度が高いピークが指定ピーク波長546nmの位置にシフトする。以上が本発明の実施形態の説明である。本発明は、上記の構成に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲において様々な変形が可能である。例えば狭帯域干渉フィルタ230は、エアギャップ可変式エタロンに限らず、反射鏡基板間に液晶セルを配置した液晶チューナブルフィルタであってもよい。反射鏡基板238bの傾き調節時の電圧制御図4のS5~S9の処理は、電圧V2とV3を同時に微調節する制御に限らず、電圧V2、V3を順に微調節する制御に代えてもよい。また、印加電圧V1~V3の全てを微調節して反射鏡基板238bの傾き調節を行ってもよい。狭帯域干渉フィルタ230のキャリブレーションは、静電容量センサを併用した場合、更に短い時間で実施することができる。