"基体と、当該基体の少なくとも一方の表面を被覆する多孔質耐熱性ポリイミド膜と、の積層体を含むリチウム二次電池用セパレータであって、当該多孔質耐熱性ポリイミド膜は、三次元立体規則配列されている空孔及び5~20μmの膜厚を有する、リチウム二次電池用セパレータ。前記多孔質耐熱性ポリイミド膜は、リチウム二次電池の負極に面する基体の表面に設けられている、請求項1に記載のリチウム二次電池用セパレータ。前記基体は、ポリプロピレン、アラミド、セルロース、ポリテトラフルオロエチレンから選択される、請求項1又は2に記載のリチウム二次電池用セパレータ。基体の少なくとも一方の表面に、同一の平均粒径を有するシリカ粒子を均一に分散してなるポリイミド前駆体スラリを塗布し、次いで、脱水環状ポリイミド化反応を行い、三次元立体規則配列したシリカ粒子を含有するシリカ/ポリイミド膜を膜厚5~20μmに形成し、当該シリカ/ポリイミド膜からシリカ粒子を除去する工程を含む、請求項1~3の何れかに記載のリチウム二次電池用セパレータの製造方法。前記シリカ粒子は50~2500nmの範囲から選択されるメディアン平均粒径を有する、請求項4に記載の製造方法。前記シリカ/ポリイミド膜は、ポリイミド前駆体30~20volと前記シリカ粒子70~80volとを含む、請求項5に記載の製造方法。前記ポリイミド前駆体スラリは、酸無水物成分とジアミン成分とを含むポリアミド酸の溶液である、請求項4~6の何れかに記載の製造方法。前記基体が疎水性である場合に、ポリイミド前駆体スラリを塗布する前に、基体を親水化処理する、請求項4~7のいずれかに記載の製造方法。請求項1~3の何れかに記載のリチウム二次電池用セパレータと、リチウム金属からなる負極と、を含む、リチウム二次電池。したがって、本発明は、デンドライト状リチウムの成長によるセパレータの突き破りを回避すると共に、リチウム二次電池用セパレータに求められる要求を達成できるセパレータ及びその製造方法を提供することを目的とする。本発明によれば、基体と、当該基体の少なくとも一方の表面を被覆する多孔質耐熱性ポリイミド膜と、の積層体を含むリチウム二次電池用セパレータであって、当該多孔質耐熱性ポリイミド膜は、三次元規則配列されている空孔及び5~20μmの膜厚を有する、リチウム二次電池用セパレータが提供される。本発明のセパレータにおいて、空孔が三次元規則配列されているとは、隣接する空孔が連通して規則的に配列されている状態を意味する。最も好ましい三次元規則配列は、六方最密充填構造である。前記多孔質耐熱性ポリイミド膜は、リチウム二次電池の負極に面する基体の表面に設けられていることが好ましい。前記基体は、ポリプロピレン、アラミド、セルロース、ポリテトラフルオロエチレンから選択されることが好ましい。また、本発明によれば、基体の少なくとも一方の表面に、同一平均粒径のシリカ粒子を均一に分散してなるポリイミド前駆体スラリを塗布し、次いで、脱水環状ポリイミド化反応を行い、三次元規則配列したシリカ粒子を含有するシリカ/ポリイミド膜を膜厚5~20μmに形成し、当該シリカ/ポリイミド膜からシリカ粒子を除去する工程を含む、上記リチウム二次電池用セパレータの製造方法が提供される。ポリイミド前駆体スラリは、酸無水物、好ましくはテトラカルボン酸成分、より好ましくは芳香族テトラカルボン酸成分と、ジアミン成分、好ましくは芳香族ジアミン成分とからなるポリアミド酸の溶液であることが好ましい。シリカ粒子は、50~2500nmの範囲、好ましくは100~2000nmの範囲、より好ましくは150~1500nmの範囲から選択されるメディアン平均粒径を有することが好ましい。シリカ/ポリイミド膜は、前記シリカ粒子を70~80vol、好ましくは72~76vol、より好ましくは74~75vol含むことが望ましい。シリカ粒子の除去は、シリカ/ポリイミド膜が形成された基体をフッ酸と接触させることにより行うことが好ましい。前記基体が疎水性である場合に、ポリイミド前駆体分散スラリを塗布する前に、基体を親水化処理することが好ましい。また、本発明によれば、上記リチウム二次電池用セパレータと、リチウム金属からなる負極とを含む、リチウム二次電池が提供される。正極及び非水電解液としては、従来のリチウム二次電池に用いられている正極及び非水電解液を用いることができる。本発明のリチウム二次電池用セパレータは、三次元立体規則配列されている空孔及び5~20μmの膜厚を有する多孔質耐熱性ポリイミド膜を有するため、イオン電流密度が均一化され、デンドライト状リチウムの成長が抑制されると共に、セパレータの厚みを薄くすることができる。本発明のリチウム二次電池用セパレータの多孔質耐熱性ポリイミド膜の均一化された空間により、リチウムイオンの拡散が制御され、高いサイクル特性を有するとともにデンドライト状リチウムによる正負極間の短絡のないリチウム二次電池を提供することができる。本発明のリチウム二次電池用セパレータの多孔質耐熱性ポリイミド膜は、隣接する空孔が連通している三次元立体規則配置、好ましくは六方最密充填構造の空孔を有することから、70以上の非常に高い理論空孔率を達成でき、電解液を多く充填することができ、高いイオン導電性が得られる。好ましくは六方最密充填型である三次元立体規則配置の空孔を有することにより、リチウムイオンの電流分布を均一化し、リチウム金属の析出反応を均一かつ緩やかに行うことができ、デンドライトを生成することなく、粒状のリチウム金属を析出させることができる。リチウムイオンの拡散が均一化されるため、拡散律速反応の場合においても、イオン電流密度が均一化され、リチウムの電析反応が均一に制御される。また、三次元立体規則配置の空孔構造がイオン電流密度を均一化することによって、電流密度の高い充放電条件においても、リチウムの電析反応が均一に制御され、リチウム金属負極を用いた二次電池のサイクル特性を向上させることができる。また、本発明のリチウム二次電池用セパレータの多孔質耐熱性ポリイミド膜の製造方法によれば、安価な汎用セパレータに薄い多孔質耐熱性ポリイミド膜の特徴が付加された膜の製造が可能である。例えば、汎用セパレータの高い機械強度、シャットダウン機能に薄い多孔質耐熱性ポリイミド膜のデントライト状リチウムの成長抑制機能が付加された、安価なセパレータの製造が可能である。以下、添付図面を参照しながら、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明の二次電池用セパレータは、負極としてリチウム金属を用いるリチウム二次電池に特に適するセパレータである。本発明のセパレータは、負極であるリチウム金属からのデンドライト状リチウムの形成を制御し、デンドライトによる負極と正極の短絡を防止し、サイクル特性の良好なリチウム二次電池を提供する。<リチウム二次電池用セパレータ>本発明のリチウム二次電池用セパレータは、基体と、当該基体の少なくとも一方の表面を被覆する多孔質耐熱性ポリイミド膜と、の積層体を含む。当該多孔質耐熱性ポリイミド膜は、三次元立体規則配列されている空孔及び5~20μmの膜厚を有する。多孔質耐熱性ポリイミド膜は、隣接する空孔が連通している三次元立体規則構造、好ましくは六方最密充填型の三次元立体規則構造を有する。多孔質耐熱性ポリイミド膜の空孔率は、70~90、好ましくは72~85、さらに好ましくは74である。空孔率が90を超えると、膜の強度が低下するため好ましくない。各空孔のサイズは、リチウムデンドライトのサイズである約1~3μmよりも小さいことが好ましい。空孔サイズは、通常50~2500nm程度であることが好ましく、より好ましくは100~2000nm、さらに好ましくは150~1500nmである。多孔質耐熱性ポリイミド膜の空孔率及び空孔サイズは、シリカ/ポリイミド膜中のシリカ粒子の含有率及び平均粒径によりそれぞれ決定される。隣接する空孔を連通する連通孔は、空孔サイズ空孔最大径より小さくボトルネック形状をしていることが好ましい。連通孔サイズは、空孔サイズによっても異なり特に限定されるものではないが、通常、空孔サイズの1/2~1/100程度、より好ましくは1/3~1/10であり、具体的数値としては、例えば20nm~1000nm程度、より好ましくは30~500nm程度である。連通孔サイズが大きすぎると、デンドライトが生成されてしまう場合があり、また小さすぎるとイオン伝導性の低下が起こる場合がある。セパレータは電解液を保持することから、保液性に優れた材料により形成されることが好ましい。多孔質耐熱性ポリイミド膜は、基体の少なくとも一方の表面、好ましくはリチウム二次電池の負極に面する側の表面に設けられている。負極であるリチウム金属からのリチウムデンドライドの生成を多孔質耐熱性ポリイミド膜によって抑制するためである。基体は、好ましくはポリプロピレン、アラミド、セルロース、ポリテトラフルオロエチレンから選択される。基体の厚みは、好ましくは10~300μmの範囲であり、より好ましくは15~100μmの範囲であり、更に好ましくは20~50μmの範囲である。下限値よりも薄いと、リチウム二次電池セパレータとしての強度が確保できず、上限値よりも厚いと、リチウム二次電池セパレータ全体の厚みが厚くなりすぎてオーミック抵抗が高くなり電池としての使用に適さない。<リチウム二次電池用セパレータの製造方法>本発明のリチウム二次電池用セパレータは、基体の少なくとも一方の表面に、同一の平均粒径を有するシリカ粒子を均一に分散してなるポリイミド前駆体スラリを塗布し、次いで、脱水環状ポリイミド化反応を行い、三次元立体規則配列したシリカ粒子を含有するシリカ/ポリイミド膜を膜厚5~20μmに形成し、最後に、当該シリカ/ポリイミド膜からシリカ粒子を除去することによって形成される。多孔質耐熱性ポリイミド膜の三次元立体規則配列の空孔は、ポリイミド前駆体分散スラリに含有されるシリカ粒子を除去することによって形成される。このため、ポリイミド前駆体分散スラリ中のシリカ粒子の配列が重要となる。シリカ粒子の平均粒径メディアン径は50~2500nmであることが好ましく、より好ましくは100~2000nmの範囲、更に好ましくは150~1500nmの範囲である。多孔質耐熱性ポリイミド膜の空孔を三次元立体規則配列とするために、ポリイミド前駆体分散スラリ中に含まれるシリカ粒子は、ほぼ同一の平均粒径を有することが必要である。平均粒径が大きく異なると、規則的な配列の空孔を得ることができない。また、シリカ粒子を除去した後の空孔のサイズは、ポリイミド膜の収縮などにより用いたシリカ粒子の平均粒径よりも幾分小さくなる。最終的に要求される多孔質耐熱性ポリイミド膜の空孔率及び空孔径、及びポリイミドの収縮率を勘案してシリカ粒子の平均粒径を決定することができる。70以上90以下の空孔率を実現するためには、シリカ/ポリイミド膜が70~80volのシリカ粒子を含むことが好ましい。ポリイミド前駆体スラリの粘度及びシリカ粒子の含有率を適切に制御することで、シリカ粒子を六方最密充填型の三次元立体規則配列にすることができる。六方最密充填型にするためには、ポリイミド前駆体スラリの粘度を10~3000ポイズの範囲、好ましくは50~2000ポイズの範囲、更に好ましくは100~1500ポイズの範囲とし、シリカ粒子の含有率を1~50volの範囲、好ましくは5~30volの範囲、さらに好ましくは10~20volの範囲とすることが望ましい。ポリイミド前駆体スラリは、酸無水物成分とジアミン成分とを含むポリアミド酸の溶液であることが好ましい。酸無水物として特に制限されないが、例えば酸二無水物を用いることができる。酸二無水物としては、エチレンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸-1,2,4,5-二無水物、1,1-ビス2,3-ジカルボキシフェニルエタン二無水物、ビス2,3-ジカルボキシフェニルメタン二無水物、ビス3,4-ジカルボキシフェニルメタン二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2,6,6-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス3,4-ジカルボキシフェニルプロパン二無水物、2,2-ビス2,3-ジカルボキシフェニルプロパン二無水物、2,2-ビス3,4-ジカルボキシフェニル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2-ビス2,3-ジカルボキシフェニル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス3,4-ジカルボキシフェニルスルホン二無水物、ビス3,4-ジカルボキシフェニルエーテル二無水物、ビス2,3-ジカルボキシフェニルエーテル二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4-p-フェニレンジオキシジフタル酸二無水物、4,4-m-フェニレンジオキシジフタル酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8-フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、9,9-ビス無水フタル酸フルオレン等を好ましく用いることができる。これらのテトラカルボン酸二無水物は単独或いは二種以上混合して用いる事ができる。ジアミンとしては、脂肪酸ジアミン、芳香族ジアミン等を単独あるいは混合して使用できる。脂肪族ジアミンは例えば炭素数が2~15程度のものを好ましく用いることができる。具体的にはペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン等が挙げられる。芳香族ジアミンとしては、フェニル基が一個或いは2~10個程度が結合したジアミノ化合物を好ましく用いることができる。具体的にはフェニレンジアミン及びその誘導体、ジアミノジフェニル化合物及びその誘導体、ジアミノトリフェニル化合物及びその誘導体、ジアミノナフタレン及びその誘導体、アミノフェニルアミノインダン及びその誘導体、ジアミノテトラフェニル化合物及びその誘導体、ジアミノヘキサフェニル化合物及びその誘導体、カルド型フルオレンジアミン誘導体である。フェニレンジアミンはm-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン等であり、フェニレンジアミン誘導体としてはメチル基、エチル基等のアルキル基が結合したジアミン、例えば2,4-トリフェニレンジアミン等である。ジアミノジフェニル化合物は、二つのアミノフェニル基が他の基を介してフェニル基同士の結合したものである。結合はエーテル結合、スルホニル結合、チオエーテル結合、アルキレン又はその誘導体基による結合、イミノ結合、アゾ結合、ホスフィンオキシド結合、アミド結合、ウレイレン結合等である。アルキレン結合は炭素数が1~6程度のものであり、その誘導体基はアルキレン基の水素原子の1以上がハロゲン原子等で置換されたものである。ジアミノジフェニル化合物の例としては3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、3,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’-ジアミノジフェニルケトン、3,4’-ジアミノジフェニルケトン、2,2-ビスp-アミノフェニルプロパン、2,2’-ビスp-アミノフェニルヘキサフルオロプロパン、4-メチル-2,4-ビスp-アミノフェニル-1-ペンテン、4-メチル-2,4-ビスp-アミノフェニル-2-ペンテン、イミノジアニリン、4-メチル-2,4-ビスp-アミノフェニルペンタン、ビスp-アミノフェニルホスフィンオキシド、4,4’-ジアミノアゾベンゼン、4,4’-ジアミノジフェニル尿素、4,4’-ジアミノジフェニルアミド等を挙げることができる。ジアミノトリフェニル化合物は、二つのアミノフェニル基と一つのフェニレン基が何れも他の基を介して結合したものであり、他の基はジアミノジフェニル化合物と同様のものが選ばれる。ジアミノトリフェニル化合物の例としては、1,3-ビスm-アミノフェノキシベンゼン、1,3-ビスp-アミノフェノキシベンゼン、1,4-ビスp-アミノフェノキシベンゼン等を挙げることができる。ジアミノナフタレンの例としては1,5-ジアミノナフタレン及び2,6-ジアミノナフタレンを挙げることができる。アミノフェニルアミノインダンの例としては5又は6-アミノ-1-p-アミノフェニル-1,3,3-トリメチルインダンを挙げることができる。ジアミノテトラフェニル化合物の例としては、4,4’-ビスp-アミノフェノキシビフェニル、2,2’-ビス[p-p’-アミノフェノキシフェニル]プロパン及び2,2’-ビス[p-p’-アミノフェノキシビフェニル]プロパン、2,2’-ビス[p-m-アミノフェノキシフェニル]ベンゾフェノン等を挙げることができる。カルド型フルオレン誘導体は9,9-ビスアニリンフルオレン等が挙げられる。なお、これらの芳香族ジアミンの水素原子がハロゲン原子、メチル基、メトキシ基、シアノ基、フェニル基などの群より選択される少なくとも1種の置換基により置換された化合物であってもよい。ポリアミド酸は、テトラカルボン酸とジアミンとの重合物ポリアミック酸であり、上述のテトラカルボン酸とジアミンの少なくとも1つずつを等モル重合させたポリイミドの前駆体である。ポリイミド前駆体スラリを構成する溶媒は、シリカ粒子及び基体を溶解しないものであれば特に限定されない。好ましい溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン等の非プロトン系極性溶媒、クレゾール類等のフェノール系溶媒、ジグライム等のグリコール系溶媒が挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは2種以上混合して用いることができる。前述したように、ポリイミド前駆体スラリの粘度を制御することによって多孔質耐熱性ポリイミド膜の空孔の三次元立体規則構造を調節できる。ポリイミド前駆体スラリの粘度は、溶媒及びポリアミド酸の含有量によって調節できる。たとえば、六方最密充填型の三次元立体規則構造を形成するためには、ポリイミド前駆体スラリはピロメリット酸二水和物とジアミノジフェニルエーテルからなるポリアミド酸のN,N-ジメチルホルムアミド溶液にシリカ粒子を10~20vol含有し、粘度が100~1500ポイズの範囲であることが好ましい。ポリイミド前駆体スラリの基体への塗布は、通常の塗布方法を制限なく用いることができる。特にドクターブレード法、スプレー法、インジェクション法を好適に用いることができる。ポリイミド前駆体スラリを基板に均一に塗布するために、基体は親水性であることが好ましい。基体が疎水性である場合には、ポリイミド前駆体分散スラリを塗布する前に、基体を親水化処理することが好ましい。親水化処理としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、ブラスト処理、プライマー処理などを好適に挙げることができる。中でもコロナ放電処理法を好適に用いることができる。例えば、ポロプロピレンやポリエチレン等の樹脂は、表面層に極性基を持たないため、印刷性、接着性が悪いなどの濡れ特性に問題がある。コロナ放電処理をした場合、酸素等の気体成分が活発なプラズマ状態となり、コロナ放電の中の加速電子が樹脂表面に衝突し、樹脂表面の分子鎖切断含酸素官能基付加が起こる。その結果、樹脂表面に親水性の極性基水酸基やカルボニル基等が発生し、濡れ特性が向上する。次に、基体に塗布されたポリイミド前駆体スラリを脱水環状ポリイミド化反応に供して、三次元立体規則配列したシリカ粒子を含有するシリカ/ポリイミド膜を膜厚5~20μmに形成する。脱水環状ポリイミド化反応としては、熱イミド化又は化学イミドのいずれを用いてもよい。ポリアミック酸を化学イミド化若しくは加熱イミド化させ有機溶媒に溶解させる方法などの公知手法を用いる事ができる。熱イミド化反応の場合には、ポリイミド前駆体スラリが塗布された基体を、室温~375°Cまでを3時間で昇温させた後、375°Cで20分間保持させる方法や室温から50°C刻みで段階的に375°Cまで昇温各ステップ20分保持し、最終的に375°Cで20分保持させるなどの方法を用いることができる。化学イミド化反応の場合には、ポリイミド前駆体スラリが塗布された基体を、無水酢酸、あるいは無水酢酸とイソキノリンの混合溶媒へ浸すなどの方法を用いることができる。最後に、シリカ/ポリイミド膜からシリカ粒子を除去して、多孔質耐熱性ポリイミド膜を基体上に形成させる。シリカ粒子の除去は、シリカ/ポリイミド膜が形成されている基体をフッ酸に浸漬させることによって行うことができる。<リチウム二次電池>次に、本発明のリチウム二次電池について説明する。リチウム二次電池は、リチウムからなる負極板、本発明のリチウム二次電池用セパレータ、非プロトン性有機溶媒とリチウム塩からなる非水電解液、および正極板、さらにはその他の電池構成要素であるガスケット、集電体、封口板、セルケースなどから構成される。本発明の二次電池は、負極としてリチウム金属を用い、セパレータとして本発明のセパレータが用いられるが、電池の他の構成要素については従来公知あるいは周知のものがいずれも利用可能である。また、電池の形状も、筒型、角型、コイン型など従来知られた形状を含むどのような形状であってもよく、特に限定されるものではない。リチウム二次電池が、例えばコイン型などの電池である場合、通常、セル床板上に負極板を乗せ、その上に電解液とセパレータを、さらに負極と対向するように正極を乗せ、ガスケット、封口板と共にかしめて二次電池とされるが、本発明のリチウムイオン電池の構造あるいは作製方法がこれに限定されるものではない。本発明のリチウム二次電池において正極として用いられる材料としては、特に限定されないが、リチウムイオンを充放電時に吸蔵、放出できる金属カルコゲン化合物などが好ましい。このような金属カルコゲン化合物としては、バナジウムの酸化物、バナジウムの硫化物、モリブデンの酸化物、モリブデンの硫化物、マンガンの酸化物、クロムの酸化物、チタンの酸化物、チタンの硫化物及びこれらの複合酸化物、複合硫化物が挙げられる。このような化合物としては、例えばCr3O8、V2O5、V5O18、VO2、Cr2O5、MnO2、TiO2、MoV2O8、TiS2V2S5MoS2、MoS3VS2、Cr0.25V0.75S2、Cr0.5V0.5S2などが挙げられる。また、LiMY2Mは、Co、Niなどの遷移金属、YはO、Sなどのカルコゲン化合物、LiM2Y4MはMn、YはO、WO3などの酸化物、CuS、Fe0.25V0.75S2、Na0.1CrS2などの硫化物、NiPS8,FePS8などのリン、硫黄化合物、VSe2,NbSe3などのセレン化合物、鉄酸化物などの鉄化合物などを用いることもできる。また、マンガン酸化物、スピネル構造を有するリチウムマンガン複合酸化物も好ましいものである。さらに具体的材料を挙げると、LiCoO2、LiCo1-xAlxO2、LiCo1-xMgxO2、LiCo1-xZrxO2、LiMn2O4、Li1-xMn2-xO4、LiCrxMn2-xO4、LiFexMn2-xO4、LiCoxMn2-xO4、LiCuxMn2-xO4、LiAlxMn2-xO4、LiNiO2、LiNixMn2-xO4、Li6FeO4、NaNi1-xFexO2、NaNi1-xTixO2、FeMoO4Cl、LiFe5O8、FePS3、FeOCl、FeS2、Fe2O3、Fe3O4、β-FeOOH、α-FeOOH、γ-FeOOH、α-LiFeO2、α-NaFeO2、LiFe2MoO43、LiFe2WO43、LiFe2SO43、Li3Fe2PO43、Li3Fe2AsO43、Li3V2AsO43、Li3FeVAsO43、Li1.5Al0.5Ge1.5PO43、LiFePO4、Li2FeSiO4、FeBO3、FeF3などが挙げられる。本発明のリチウム二次電池の電解液に使用できる非水溶媒としては、アセトニトリルAN、γ-ブチロラクトンBL、γ-バレロラクトンVL、γ-オクタノイックラクトンOL、ジエチルエーテルDEE、1,2-ジメトキシエタンDME、1,2-ジエトキシエタンDEE、ジメチルスルホキシドDMSO、1,3-ジオキソランDOL、エチレンカーボネートEC、プロピレンカーボネートPC、ジメチルカーボネートDMC、ジエチルカーボネートDEC、エチルメチルカーボネートEMC、ギ酸メチルMF、テトラヒドロフランTHF、2-メチルテトラヒドロフランMTHF、3-メチル-1,3-オキサジリジン-2-オンMOX、スルホランSなどが挙げられ、これらは単独でまたは二種類以上の混合物として用いることができる。また、リチウム二次電池の電解液に使用されるリチウム塩としては、LiPF6、LiAsF6、LiClO4、LiBF4、LiCF3SO3、LiCF3SO22N、LiC4F9SO3などのリチウム塩が挙げられ、これらの1種または2種以上が0.5~2.0M程度の濃度で前記非水溶媒に溶解され、非水電解液とされる。特に本発明のセパレータを用いるリチウム二次電池で用いる電解液としては、1moldm-3LiClO4/ECエチルカーボネート:DECジエチルカーボネート=1:1の非水電解液、および1moldm-3LiClO4/ECエチルカーボネート:DMCジメチルカーボネート=1:1が特に高い性能を示すため好ましい。以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。[実施例1]汎用のリチウム電池用ポリプロピレンPPセパレータCelgard社、Celgard2400を基体として用いた。ポリプロピレン基体の片面に、以下の方法で三次元規制配列多孔質ポリイミド膜以下3DOMPI膜と略すをコーティングした。まず、ホモジナイザを用いて、球状シリカ株式会社日本触媒社製のシーホスター登録商標KE-P30、メディアン平均粒径280nm5gをジメチルアセトアミドDMAc溶剤5gに均一に分散させた。この分散液10gに、ポリイミド前駆体としてポリアミック酸液PMDAピロメリット酸二水和物/ODAジアミノジフェニルエーテル、JFEケミカル5.5gを添加し、脱泡撹拌装置あわとり練太郎株シンキー製を用いて均一に混合して、シリカ/ポリイミド前駆体スラリを得た。ポリプロピレン基体表面は疎水性であるため、コロナ放電装置出力電圧:9KV、コロナフィットCFG-500、信光電気計装を用いて、ポリプロピレン基体の一方の表面に物理表面処理して親水性を向上させた。親水化処理したポリプロピレン基体の表面に、シリカ/ポリイミド前駆体スラリをドクターブレード法により塗布した。30°Cで6時間乾燥し、その膜を所定量塗布ポリイミド膜量の20倍の無水酢酸中に30分以上浸着することでポリイミド前駆体の化学ポリイミド化を行い、PP/ポリイミド/シリカ複合膜を形成させた。形成されたPP/ポリイミド/シリカ複合膜を10フッ酸に4時間浸着することによりシリカ粒子を除去し、5~20μm厚さの3DOMPI膜を被覆したPPセパレータを得た。3DOMPI膜を被覆したPPセパレータの表面及び断面の電子顕微鏡写真を図2に示す。[実施例2]汎用多孔質膜であるポリテトラフルオロエチレンPTFEろ紙Advantec、フィルター0.1μmを基体として用いた。PTFEろ紙の片面に以下の方法を用いて、三次元規制配列多孔質ポリイミド膜3DOMPI膜を被覆した。まず、ホモジナイザを用いて、球状シリカ日本触媒、シーホスターP-30、平均粒径280nm5gをジメチルアセトアミドDMAc溶剤5gに均一分散した。この分散液10gに、ポリイミド前駆体としてポリアミック酸液PMDA/ODA、JFEケミカル5.5gを添加して、脱泡撹拌装置あわとり練太郎株シンキー製を用いて均一に混合して、シリカ/ポリイミド前駆体スラリを得た。PTFEろ紙は親水性を有するため、表面処理なしで、ドクターブレード法を用いてシリカ/ポリイミド前駆体スラリをPTFEろ紙表面に塗布した。30°Cで6時間乾燥し、その後、230°C/h条件下で熱ポリイミド化を行った。作製されたPTFE/ポリイミド/シリカ複合膜を10フッ酸に4時間浸着してシリカを除去し、5~20μm厚さの3DOMPI膜を被覆したPTFEセパレータを得た。3DOMPI膜を被覆したPTFEセパレータの表面及び断面の電子顕微鏡写真を図3に示す。[実施例3]本城金属製リチウムフォイル膜厚600μmをΦ14mmのポンチで2枚打ち抜き、実施例1で作製したリチウム二次電池用セパレータ多孔性耐熱性ポリイミド膜の膜厚15μmをΦ16mmのポンチで打ち抜いた。非水電解液として1moldm-3LiPF6/EC:DEC1:1を用いた。これらをグローブボックス中で、宝泉製2032コインセルに組み込むことで、図6のコインセルを作製した。充放電試験を、北斗電工製電池充放電装置HJ1001SM8Aを用いて行った。電流密度10.3mAhcm-2で30分間充放電試験を行い、100回サイクル特性を評価した。図7に充放電試験のクーロン効率を示す。[比較例1]3DOMPI膜の膜厚を20μmよりも厚くしたところ、オーミック抵抗が大きくなり、充放電性能が低下することを確認した。PI膜厚15μm及びPI膜厚40μmを形成したPP膜をセパレータに用い、コイン電池試験を行った。図6と同様の構成で、セパレータを介してLiNi1/3Co1/3Mn1/3O2コンポジット正極と金属リチウム負極と対向させ、正極と負極の間を電解液1mol/LのLiPF6を溶解させたエチレンカーボネート:ジエチルカーボネート=1:1v/v混合液で満たしてコイン電池を作製した。作製したコイン電池のそれぞれについて、充放電を1~3サイクル繰り返したときの容量変化を測定した。測定には北斗電工製電池充放電装置HJ1001SM8Aを用いた。電流密度5.3mAcm-2で4.3Vまで定電流充電後に電流密度が0.53mAcm-2以下になるまで4.3Vで定電位充電した。その後、電流密度5.3mAcm-2で2.0Vまで定電流放電した。得られた充放電容量を正極活物質の重量で除して、単位重量あたりの充放電容量を算出した。図8上がPP基材上に15μmの3DOMPIが形成された膜をセパレータに用いた電池の充放電試験結果を示すグラフであり、図8下がPP基材上に40μmの3DOMPIが形成された膜をセパレータに用いた電池の充放電試験結果を示すグラフである。各図において、x軸は電池容量であり、y軸が電圧を示す。各図の上向き矢印で示す曲線が充電曲線であり、下向き矢印で示す曲線が放電曲線である。3DOMPI厚みが40μm下図では、1stから3rdへと充放電を繰り返すことで電池容量の減少が顕著に認められ、15μm上図では充放電に伴う容量の低減がほとんど認められない。PI膜厚15μmのセパレータでは、充放電サイクルの増加に伴う電池の容量劣化はほとんど認められず高い放電容量が維持された。一方、PI膜厚40μmのセパレータでは、コイン電池の内部抵抗が高く、充電および放電が円滑に行われないため、容量の低下が認められる。このことから、セパレータとして電池へ適用する場合、PI膜厚を20μm以下に抑えることが必要であるとわかる。"