"1つ以上の電極層と、フォトリフラクティブ材料を含む層と、1つ以上の電極層とフォトリフラクティブ材料の間に挟まれた1つ以上のポリマー層とを含み、1つ以上のポリマー層に1つ以上の発色団がドープされ、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層が非フォトリフラクティブ性である、フォトリフラクティブデバイス。フォトリフラクティブデバイスが、発色団がドープされていないポリマー層を有する第2のフォトリフラクティブデバイスに比べ、短い格子減衰時間を示し、格子減衰時間が532nmレーザビームを用いて決定される、請求項1に記載のフォトリフラクティブデバイス。フォトリフラクティブデバイスが、発色団がドープされていないポリマー層を有する第2のフォトリフラクティブデバイスに比べ、短い格子応答時間を示し、格子応答時間が532nmレーザビームを用いて決定される、請求項1または2に記載のフォトリフラクティブデバイス。発色団がドープされた1つ以上のポリマー層が、ポリメタクリル酸メチル、ポリイミド、アモルファスポリカーボネート、シロキサンゾルゲルからなる群から選択されるポリマーを含む、請求項1~3のいずれか1項に記載のフォトリフラクティブデバイス。発色団がドープされた1つ以上のポリマー層が、4-ホモピペリジノ-2-フルオロベンジリデンマロノニトリル、1-ヘキサメチレンイミン-4-ニトロベンゼン、3-4-アゼパン-1-イルフェニルアクリル酸メチル、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される発色団を含む、請求項1~4のいずれか1項に記載のフォトリフラクティブデバイス。フォトリフラクティブデバイスが約130秒以下の格子減衰時間を示す、請求項2~5のいずれか1項に記載のフォトリフラクティブデバイス。発色団がドープされた1つ以上のポリマー層を合わせた合計厚さが、約2μm~約40μmである、請求項1~6のいずれか1項に記載のフォトリフラクティブデバイス。発色団がドープされた1つ以上のポリマー層を合わせた合計厚さが、約10μm~約20μmである、請求項1~6のいずれか1項に記載のフォトリフラクティブデバイス。1つ以上の電極層が、金属酸化物、金属、有機膜からなる群から独立して選択される導電性膜を含み、この導電性膜は、光学密度が約0.2以下である、請求項1~8のいずれか1項に記載のフォトリフラクティブデバイス。フォトリフラクティブ材料がポリマーまたは無機基材を含み、フォトリフラクティブ材料の屈折率が約1.7である、請求項1~9のいずれか1項に記載のフォトリフラクティブデバイス。第1の電極層の片側に基板と、第1の電極層のもう片側に発色団がドープされたポリマー層とをさらに含み、基材が、ソーダ石灰ガラス、シリカガラス、珪硼酸ガラス、窒化ガリウム、ヒ化ガリウム、サファイア、石英ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートのうち、少なくとも1つを含む、請求項1~10のいずれか1項に記載のフォトリフラクティブデバイス。フォトリフラクティブ材料の対向する側面に配置された第1の電極層および第2の電極層と、第1の電極層とフォトリフラクティブ材料の間に挟まれた、発色団がドープされた第1のポリマー層と、第2の電極層とフォトリフラクティブ材料との間に挟まれた、発色団がドープされた第2のポリマー層とを備える、請求項1~11のいずれか1項に記載のフォトリフラクティブデバイス。第1の電極層のフォトリフラクティブ材料とは反対側に配置された第1の基板と、第2の電極層のフォトリフラクティブ材料とは反対側に配置された第2の基板とをさらに備えており、第1の基板および第2の基板は、それぞれ独立して、ソーダ石灰ガラス、シリカガラス、珪硼酸ガラス、窒化ガリウム、ヒ化ガリウム、サファイア、石英ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートからなる群から選択される材料を含む、請求項12に記載のフォトリフラクティブデバイス。第1の基板および第2の基板は、両方とも約1.5以下の屈折率を示す、請求項13に記載のフォトリフラクティブデバイス。第1の電極層とフォトリフラクティブ材料の間に、発色団がドープされた第1のポリマー層を挟むことを含み、発色団がドープされた第1のポリマー層が、非フォトリフラクティブ性である、フォトリフラクティブデバイスを製作する方法。第2の電極層とフォトリフラクティブ材料の間に、発色団がドープされた第2のポリマー層を挟むことをさらに含み、発色団がドープされた第2のポリマー層は非フォトリフラクティブ性であり、フォトリフラクティブデバイスは、フォトリフラクティブ材料の対向する側面にある第1の電極層と第2の電極層を有している、請求項15に記載の方法。第1の電極層に、溶媒に分散した発色団とポリマーを含む混合物を塗布することと、塗布した混合物から溶媒を除去し、第1の電極層の上に、発色団がドープされた第1のポリマー層を作成することとをさらに含む、請求項15または16のいずれか1項に記載の方法。前記混合物が、約10重量~45重量のポリマーを溶媒に実質的に溶解させてポリマー溶液を得ることと、ポリマーおよび発色団の合計100部に対し、約0.1~約10重量部の発色団を前記ポリマー溶液に混合して混合物を得ることとを含むプロセスによって調製される、請求項17に記載の方法。発色団が、4-ホモピペリジノ-2-フルオロベンジリデンマロノニトリル、1-ヘキサメチレンイミン-4-ニトロベンゼン、3-4-アゼパン-1-イルフェニルアクリル酸メチル、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項17または18に記載の方法。ポリマーがアモルファスポリカーボネートAPCである、請求項17~19のいずれか1項に記載の方法。本明細書には、1つ以上の電極層と、フォトリフラクティブ材料を含む層と、1つ以上の電極層とフォトリフラクティブ材料を含む層の間に挟まれた1つ以上のポリマー層とを備え、1つ以上のポリマー層に1つ以上の発色団がドープされたフォトリフラクティブデバイスが記載されている。いくつかの実施形態では、1つ以上のポリマー層は、非フォトリフラクティブ性である。いくつかの実施形態では、フォトリフラクティブデバイスは、1つ以上の発色団がドープされていない1つ以上のポリマー層を有する第2のフォトリフラクティブデバイスに比べ、短い格子減衰時間を示す。いくつかの実施形態では、フォトリフラクティブデバイスは、1つ以上の発色団がドープされていない1つ以上のポリマー層を有する第2のフォトリフラクティブデバイスに比べ、短い格子応答時間を示す。ある実施形態では、格子減衰時間およびピークバイアス電圧は、532nmレーザビームを用いて測定される。いくつかの実施形態では、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層は、ポリメタクリル酸メチル、ポリイミド、アモルファスポリカーボネート、シロキサンゾルゲルからなる群から選択されるポリマーを含む。いくつかの実施形態では、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層は、4-ホモピペリジノ-2-フルオロベンジリデンマロノニトリル7-FDCST、1-ヘキサメチレンイミン-4-ニトロベンゼン、3-4-アゼパン-1-イルフェニルアクリル酸メチル、およびこれらの組み合わせから選択される発色団を含む。いくつかの実施形態では、フォトリフラクティブデバイスは、約130秒以下の格子減衰時間を示す。いくつかの実施形態では、フォトリフラクティブデバイスは、約44秒以下の格子減衰時間を示す。いくつかの実施形態では、フォトリフラクティブデバイスは、約14秒以下の格子減衰時間を示す。いくつかの実施形態では、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層を合わせた合計厚さは、約2μm~約40μmである。いくつかの実施形態では、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層を合わせた合計厚さは、約10μm~約40μmである。いくつかの実施形態では、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層を合わせた合計厚さは、約10μm~約20μmである。いくつかの実施形態では、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層を合わせた合計厚さは、約20μm~約40μmである。いくつかの実施形態では、フォトリフラクティブデバイスは、第1の電極層の片側に基板をさらに備え、発色団がドープされたポリマー層は、第1の電極層のもう片側にあり、基板の反対側にある。ある実施形態では、基板は、ソーダ石灰ガラス、シリカガラス、珪硼酸ガラス、窒化ガリウム、ヒ化ガリウム、サファイア、石英ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートのうち、少なくとも1つを含む。いくつかの実施形態では、フォトリフラクティブデバイスは、フォトリフラクティブ材料の対向する側面に配置された第1の電極層および第2の電極層と、第1の電極層とフォトリフラクティブ材料の間に挟まれた、発色団がドープされた第1のポリマー層と、第2の電極層とフォトリフラクティブ材料との間に挟まれた、発色団がドープされた第2のポリマー層とを備えている。いくつかの実施形態では、フォトリフラクティブデバイスは、第1の電極層のフォトリフラクティブ材料とは反対側に配置された第1の基板と、第2の電極層のフォトリフラクティブ材料とは反対側に配置された第2の基板とを備えており、第1の基板および第2の基板は、それぞれ独立して、ソーダ石灰ガラス、シリカガラス、珪硼酸ガラス、窒化ガリウム、ヒ化ガリウム、サファイア、石英ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートからなる群から選択される材料を含む。また、本明細書には、第1の電極層とフォトリフラクティブ材料の間に、発色団がドープされた第1のポリマー層を挟むことを含む、フォトリフラクティブデバイスを製作する方法も開示されている。いくつかの実施形態では、この方法は、第2の電極層とフォトリフラクティブ材料の間に、発色団がドープされた第2のポリマー層を挟むことを含み、フォトリフラクティブデバイスは、フォトリフラクティブ材料の対向する側面にある第1の電極層と第2の電極層を有している。いくつかの実施形態では、この方法は、第1の電極層に、溶媒に分散した発色団とポリマーを含む混合物を塗布することと、塗布した混合物から溶媒を除去し、第1の電極層の上に、発色団がドープされた第1のポリマー層を作成することとを含む。いくつかの実施形態では、この混合物は、約10重量~45重量のポリマーを溶媒に実質的に溶解させてポリマー溶液を得ることと、ポリマーおよび発色団の合計100部に対し、約0.1~約10重量部の発色団をポリマー溶液に混合して混合物を得ることとを含むプロセスによって調製される。いくつかの実施形態では、発色団は、4-ホモピペリジノ-2-フルオロベンジリデンマロノニトリル、1-ヘキサメチレンイミン-4-ニトロベンゼン、3-4-アゼパン-1-イルフェニルアクリル酸メチル、およびこれらの組み合わせから選択される。いくつかの実施形態では、ポリマーは、アモルファスポリカーボネートAPCである。本開示は、少なくとも1つの電極層とフォトリフラクティブ材料とを備えるフォトリフラクティブデバイスに関する。たとえば、フォトリフラクティブ材料は、唯一の層で構成されていてもよい。発色団がドープされた1つ以上のポリマー層は、1つ以上の電極層とフォトリフラクティブ材料の間に挟まれていてもよく、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層を組み込んだ後、フォトリフラクティブデバイスの格子減衰時間は短くなる。有利なことに、以下にさらに詳細に記載されるように、ポリマー層に1つ以上の発色団をドープすると、格子の応答時間および減衰時間を短くすることができる。これらの時間が短くなることによって、フォトリフラクティブデバイス内に記録された信号に対するアップデートたとえば、消去および書き込みを速くすることができる。したがって、本明細書は、限定されないが、ホログラフィーデータ記憶および画像記録材料およびデバイスを含む種々の用途を与え得るフォトリフラクティブデバイスを提供する。図1Aおよび1Bは、1つ以上の電極層104とフォトリフラクティブ材料106とを備えるフォトリフラクティブデバイス100の一実施形態の一部を示す。1つの実施形態では、第1の電極層104Aおよび第2の電極層104Bが、フォトリフラクティブ材料106の対向する側面に配置されている。第1の電極層104Aおよび第2の電極層104Bは、以下に記載するように、同じ材料を含んでいてもよく、または異なる材料を含んでいてもよい。フォトリフラクティブ材料は、フォトリフラクティブデバイスで使用するためにさまざまな厚さ値を有していてもよい。ある実施形態では、フォトリフラクティブ材料は、厚さが約10μm~約200μmである。ある実施形態では、フォトリフラクティブ材料は、厚さが約25μm~約100μmである。このような厚さ範囲にすると、フォトリフラクティブ材料に良好な格子挙動を与えることができる。発色団がドープされた1つ以上のポリマー層110も電極層104A、104Bとフォトリフラクティブ材料106の間に挟まれている。1つの実施形態では、図1Aに示されるが、発色団がドープされた第1のポリマー層110Aは、第1の電極層104Aとフォトリフラクティブ材料106の間に挟まれている。代替となる実施形態では、図1Bに示されるが、図1Aの実施形態が、発色団がドープされた第2のポリマー層110Bが第2の電極層104Bとフォトリフラクティブ材料106の間に挟まれるように改変される。発色団がドープされた第1のポリマー層110Aおよび発色団がドープされた第2のポリマー層110Bは、以下に記載するように、同じ材料を含んでいてもよく、または異なる材料を含んでいてもよい。たとえば、ポリマーの種類は同じであってもよく、異なっていてもよい。さらに、発色団がポリマーに組み込まれる場合、発色団の種類は同じであってもよく、異なっていてもよい。それぞれのポリマー層の厚さは、場合により異なっていてもよい。1つの実施形態では、限定されないが、スピンコーティングおよび溶液流延を含む当業者に既知の技術によって、発色団がドープされたポリマー層110を1つ以上の電極層104に塗布する。その後、ポリマー層で改変された電極104にフォトリフラクティブ材料106を取り付ける。好ましくは、1つ以上のポリマー層110が発色団を含む。1つの実施形態では、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層110は、所定の厚さ112A、112Bをもつ単層を備えている。代替となる実施形態では、ポリマー層110は、2つ以上の層を備えており、ポリマー層110のすべての層の合計厚さ112A、112Bは、所定の厚さ112A、112Bとほぼ等しい。必要な場合、所定の厚さ112A、112Bは、独立して選択されてもよい。ある実施形態では、ポリマー層110の112A、112Bを合わせた合計厚さは、約2μm~約40μmの範囲にある。ある実施形態では、ポリマー層110の112A、112Bを合わせた合計厚さは、約2μm~約30μmの範囲にある。ある実施形態では、112A、112Bを合わせた合計厚さは、約2μm~約20μmの範囲にある。ある実施形態では、112A、112Bを合わせた合計厚さは、約10μm~約40μmの範囲にある。ある実施形態では、112A、112Bを合わせた合計厚さは、約10μm~約20μmの範囲にある。ある実施形態では、112A、112Bを合わせた厚さは、約20μm~約40μmの範囲にある。ある非限定例では、ポリマー層110の112A、112Bを合わせた合計厚さは、それぞれ約20μmである。112A、112Bを合わせた合計厚さの一例としては、約15μm、約10μm、約5μm、約2μmが挙げられる。2つ以上のポリマー層が存在する場合、ポリマー層のすべてが発色団を含んでいる必要はない。ある実施形態では、1つ以上のポリマー層が、1つ以上の発色団を含む。ある実施形態では、2つ以上のポリマー層が、1つ以上の発色団を含む。ある実施形態では、3つ以上のポリマー層が、1つ以上の発色団を含む。さらに別の実施形態では、すべてのポリマー層が1つ以上の発色団を含む。1つの実施形態では、ポリマー層110は、低誘電率を示すポリマーと、ポリマーにドープするための発色団とを含む。ポリマーは、たとえば、約2~約15、さらに好ましくは約2~約4.5の範囲にある相対誘電率を示してもよい。いくつかの実施形態では、ポリマー層110の屈折率は、約1.5~約1.7であってもよい。ポリマー層110としては、たとえば、ポリメタクリル酸メチルPMMA、ポリイミド、アモルファスポリカーボネートAPC、シロキサンゾルゲルを挙げることができる。これらの材料を単独で使用してもよく、または組み合わせて使用してもよい。たとえば、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層110は、任意の単一のポリマー、2種以上のポリマーの混合物、それぞれ異なるポリマーを含む複数の層、またはこれらの組み合わせを含んでいてもよい。少なくとも1つのポリマー層は、発色団がドープされている。本明細書で使用する場合、発色団は、ある材料に非線形光学機能を与える任意の化学分子または基であると定義される。ポリマー層に発色団が存在する場合であっても、ポリマー層は、たとえば、特に、フォトリフラクティブ材料と比較したときに、フォトリフラクティブ性ではなくてもよい。ある実施形態では、1つ以上のポリマー層自体はフォトリフラクティブ性ではない。いくつかの実施形態では、発色団は、共役π系を含む。いくつかの実施形態では、発色団は、金属錯体を含む。いくつかの実施形態では、1つ以上のポリマー層に発色団を分散させることができる。たとえば、米国特許第5,064,264号その全体が本明細書に参考として組み込まれるは、フォトリフラクティブ材料に発色団を使用することを記載している。発色団は、当該技術分野で知られており、D.S.ChemlaJ.Zyss、NonlinearOpticalPropertiesofOrganicMoleculesandCrystalsAcademicPress、1987その全体が本明細書に参考として組み込まれるのような文献に十分に記載されている。また、米国特許第6,090,332号その全体が本明細書に参考として組み込まれるは、熱に安定なフォトリフラクティブ組成物に使用するための縮合した環架橋、環に閉じ込められた発色団を記載している。いかなる具体的な理論によっても束縛されないが、発色団がドープされたポリマー層の中の発色団は、双極子モーメントを含んでいてもよく、その結果、発色団は、本明細書に開示した優れた特性を与えると考えられる。特に、この双極子によって、発色団が、印加されたバイアス場またはバイアス電圧に応答して整列する。発色団がドープされたポリマー層の中で整列した発色団は、フォトリフラクティブ材料の中で発色団と静電的な相互作用を形成し、それによって、フォトリフラクティブ層の特性が高まると考えられる。1つ以上のポリマー層の中に存在する発色団によるこれらの静電的な相互作用は、フォトリフラクティブ材料の中の発色団が、印加したバイアス電圧の変化にどのように応答し、格子の応答時間および減衰時間を短くし得るかに影響を及ぼす。したがって、いくつかの実施形態では、発色団は、分子双極子モーメントが約1デバイ~約20デバイの範囲にある。いくつかの実施形態では、発色団は、分子双極子モーメントが少なくとも5デバイである。いくつかの実施形態では、発色団は、分子双極子モーメントが少なくとも10デバイである。いくつかの実施形態では、発色団は、分子双極子モーメントが少なくとも15デバイである。いくつかの実施形態では、発色団は、ポリマーに側鎖として接続していてもよい。いくつかの実施形態では、発色団がポリマーマトリックスに側鎖として接続する場合、発色団側鎖は、構造0によってあらわされ、式中、Qは、ヘテロ原子たとえば、酸素または硫黄を含むか、または含まない、炭素原子を1~10個含むアルキレン基をあらわし、好ましくは、Qは、CH2pによってあらわされるアルキレン基であり、pは約2~6である。R1は、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択され、好ましくは、R1は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルから選択されるアルキル基である。Gは、π共役結合の架橋を有する基である。Eacptは、電子受容基である。好ましくは、Qは、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレンからなる群から選択される。本文中、π共役結合の架橋との用語は、π共役結合によって2個以上の化学基を接続する分子フラグメントを指す。π共役結合は、2個の原子間で原子軌道が重なり合うことによって作られるσ結合およびπ結合を有する、原子間の共有結合を含むσ結合はsp混成原子軌道、π結合はp原子軌道。電子受容体との用語は、π共役した架橋に結合することが可能な高い電子親和性を有する原子群を指す。例示的な受容体は、強さが増す順に、CONR2<CONHR<CONH2<COOR<COOH<COR<COH<CN<SO2R<NO2であり、これらの基のRおよびR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される。電子受容基は、たとえば、米国特許第6,267,913号その全体が本明細書に参考として組み込まれるに記載される官能基であってもよい。これらの電子受容基の少なくとも一部を以下に構造で示す。以下の化学構造中の‡という記号は、別の化学基に対する接続原子を特定するものであり、その構造が、‡が存在しない構造では通常存在していると思われる水素を欠いていることを示し、上の構造のRは、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される。最も好ましくは、構造0のGは、構造ivおよびvからなる群から選択される構造によってあらわされ、式中、両方の構造ivおよびvにおいて、Rd1~Rd4は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択され、好ましくは、Rd1~Rd4は、すべて水素である。R2は、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される。ある実施形態では、構造0のEacptは、=Oであるか、または以下の構造からなる群から選択される構造によってあらわされる電子受容基であり、式中、R5、R6、R7、R8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される。ある実施形態では、1つ以上の発色団をポリマー層と混合する。たとえば、発色団は、側鎖の共有結合によってポリマーマトリックスに組み込まれる必要はない。いくつかの実施形態では、発色団は、式IIbによってあらわされ、D-PiC-AIIb式中、Dは、電子供与基であり、PiCは、π共役基であり、Aは、電子受容基である。電子供与という用語は、Aの電子親和性と比較したとき、電子親和性が低い基であると定義される。電子供与体の非限定例としては、アミノNRz1Rz2、メチルCH3、オキシORz1、ホスフィノPRz1Rz2、シリケートSiRz1、チオSRz1が挙げられ、Rz1およびRz2は、アルケニル、アルキル、アルキニル、アリール、シクロアルケニル、シクロアルキル、ヘテロアリールから独立して選択される有機置換基である。ある実施形態では、ヘテロアリールは、OおよびSから選択される少なくとも1個のヘテロ原子を有する。式IIb中のπ共役基、PiCという用語は、独立して、構造0のGの選択肢をもつ。いくつかの実施形態では、PiCに適したπ共役基としては、以下の基の少なくともいずれかが挙げられる。芳香族および縮合芳香族、ポリエン類、ポリイン類、キノメチド類、およびこれらの対応するヘテロ原子置換体たとえば、フラン、ピリジン、ピロール、チオフェン。いくつかの実施形態では、PiCに適したπ共役基としては、置換基を含むか、または含まないC=C結合またはC≡C結合の中の炭素が少なくとも1個ヘテロ原子と置き換わったもの、およびこれらの組み合わせが挙げられる。いくつかの実施形態では、適切なπ共役基としては、この段落に記載した上述の基の2個以下が挙げられる。さらに、この基または複数の基を、炭素環または複素環で置換してもよく、π共役基に縮合または付加してもよい。式IIb中のPiCとしてのπ共役基の非限定例としては、以下のものが挙げられ、および式中、mおよびnは、それぞれ独立して、2以下の整数である。電子受容体という用語は、式IIbにおいて、独立して、構造0のEacptの選択肢をもつと上に定義される。さらに、Aは、この場合には、Dの電子親和性と比較したとき、電子親和性が高い電子受容基であるとさらに定義される。いくつかの実施形態では、Aは、限定されないが、アミド;シアノ;エステル;ホルミル;ケトン;ニトロ;ニトロソ;スルホン;スルホキシド;スルホン酸エステル;スルホンアミド;ホスフィンオキシド;ホスホネート;N-ピリジニウム;Bでのヘテロ置換体;これらの改変体;および他の正電荷をもつ四級塩から選択される。いくつかの実施形態では、Aは、NO2、CN、C=CCN2、CF3、F、Cl、Br、I、S=O2CnF2n1、SCnF2n1=NSO2CF3からなる群から選択され、nは、1~10の整数である。好ましくは、発色団は、組成物が可視スペクトル中の複数の波長の光に感度があるように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、発色団は、式IIIによってあらわされ、式IIIのRxおよびRyと、これらが接続している窒素とを合わせ、環状のC4~C9環を形成するか、または式IIIのRxおよびRyは、それぞれ独立して、C1~C6アルキル基またはC4~C10アリール基から選択され、式IIIのRg1~Rg4は、それぞれ独立して、水素またはCNから選択され、式IIIのRg1~Rg4のうち、少なくとも1つがCNである。ある実施形態では、式IIIのRg1~Rg4のうち、少なくとも2つがCNである。ある実施形態では、式IIIのRxおよびRyと、これらが接続している窒素とを合わせ、環状のC5~C8環を形成する。いくつかの実施形態では、式IIIの発色団は、式IIIaによってあらわされ、式IIIaのRg1~Rg4は、それぞれ独立して、水素またはCNから選択され、式IIIaのRg1~Rg4の少なくとも1つがCNである。ある実施形態では、式IIIaのRg1~Rg4のうち、少なくとも2つがCNである。ある実施形態では、式IIIaの発色団は、以下の化合物のいずれかから選択される。いくつかの実施形態では、発色団は、式IVによってあらわされ、式IVのRxおよびRyと、これらが接続している窒素とを合わせ、環状のC4~C9環を形成するか、または、式IVのRxおよびRyは、それぞれ独立して、C1~C6アルキル基またはC4~C10アリール基から選択され、式IVのRg5は、C1~C6アルキルである。ある実施形態では、式IVのRxおよびRyと、これらが接続している窒素とを合わせ、環状のC5~C8環を形成する。いくつかの実施形態では、発色団は、式Vによってあらわされ、式VのRxおよびRyと、これらが接続している窒素とを合わせ、環状のC4~C9環を形成するか、または、式VのRxおよびRyは、それぞれ独立して、C1~C6アルキル基またはC4~C10アリール基から選択され、式VのRg6は、CNまたはCOORから選択され、式VのRは、水素またはC1~C6アルキルである。式Vのcis異性体およびtrans異性体の両方を使用することができる。ある実施形態では、式Vの発色団は、cis異性体である。ある実施形態では、式Vの発色団は、trans異性体である。ある実施形態では、式VのRxおよびRyと、これらが接続している窒素とを合わせ、環状のC5~C8環を形成する。いくつかの実施形態では、式Vの発色団は、式Vaによってあらわされ、式中、式VaのRg6は、CNまたはCOORから選択され、式VaのRは、水素またはC1~C6アルキルである。式Vaのcis異性体およびtrans異性体の両方を使用することができる。ある実施形態では、式Vaの発色団は、cis異性体である。ある実施形態では、式Vaの発色団は、trans異性体である。ある実施形態では、式Vaの発色団は、以下の化合物のいずれかから選択される。いくつかの実施形態では、発色団は、式VIによってあらわされ、式VIのRg7は、CN、CHOまたはCOORから選択され、式VIのRは、水素またはC1~C6アルキルである。ある実施形態では、式VIの発色団は、以下の化合物のいずれかから選択される。いくつかの実施形態では、発色団は、式VIIによってあらわされ式VIIのnは、0または1であり、式VIIのRg8およびRg9は、それぞれ独立して、水素、フッ素またはCNから選択され、式VIIのRg10およびRg11は、それぞれ独立して、水素、メチル、メトキシまたはフッ素から選択され、式VIIのRg12は、酸素原子を1~5個含むC1~C10オキシアルキレン基またはC1~C10アルキル基であり、式VIIのRg8~Rg12のうち、少なくとも2つは水素ではない。ある実施形態では、式VIIのRg8~Rg12のうち、少なくとも3つは水素ではない。ある実施形態では、式VIIのRg8~Rg12のうち、少なくとも4つは水素ではない。ある実施形態では、式VIIのRg12は、-CH2CH2OCH2CH2CH2CH3である。ある実施形態では、式VIIの発色団は、図3Aおよび3Bで示される化合物の群から選択される。いくつかの実施形態では、発色団は、式VIIIによってあらわされる。式中、式VIIIのRg13は、水素またはフッ素から選択され、式VIIIのRg14は、C1~C6アルキルまたは酸素原子を1~5個含むC1~C10オキシアルキレン基である。ある実施形態では、Rg14は、-CH2CH2OCH2CH2CH2CH3である。ある実施形態では、Rg14は、ブチル基である。ある実施形態では、式VIIIの発色団は、図4に示される化合物の群から選択される。ある実施形態では、発色団は、以下の化合物のうち、1つ以上から選択される。および上の化合物中のそれぞれのR9~R11は、独立して、水素、C1~C10アルキル、C4~C10アリールからなる群から選択され、アルキルは、分枝鎖または直鎖であってもよく、それぞれのRf1~Rf16は、独立して、H、F、CF3から選択される。発色団がドープされた1つ以上のポリマー層の中の発色団の量は特に限定されず、発色団およびポリマーの種類に伴ってさまざまであろう。いくつかの実施形態では、発色団がドープされたポリマー層の中の発色団の量は、ポリマーおよび発色団を合わせた合計約100重量部に対し、約0.1~約15重量部であってもよい。発色団がドープされたポリマー層は、たとえば、ポリマーおよび発色団を合わせた合計約100重量部に対し、少なくとも約0.3重量部、少なくとも約0.5重量部、少なくとも約1.0重量部、または少なくとも約2重量部を含んでいてもよい。また、発色団がドープされたポリマー層は、たとえば、わずか約10重量部以下、わずか約9重量部以下、わずか約8重量部以下、わずか約7重量部以下、またはわずか約6重量部以下を含んでいてもよい。好ましくは、発色団がドープされたポリマー中の発色団の量は、フォトリフラクティブ材料の中で発色団と静電的な相互作用を形成するのに十分な量である。1つの実施形態では、電極は、透明電極層を含む。透明電極層は、さらに導電性膜として構成される。導電性膜を含む電極材料は、独立して、金属酸化物、金属、光学密度が約0.2以下の有機膜からなる群から選択されてもよい。電極層104の非限定例は、インジウムスズ酸化物ITO、酸化スズ、酸化亜鉛、金、アルミニウム、ポリチオフェン、ポリアニリンおよびこれらの組み合わせを含む。好ましくは、電極は、独立して、インジウムスズ酸化物および酸化亜鉛から選択される。フォトリフラクティブデバイス100のいくつかの実施形態を図2A~2Bに示す。フォトリフラクティブデバイス100は、複数の基板層102と、基板層102の間に挟まれた複数の電極層104と、電極層104の間に挟まれた発色団がドープされた複数のポリマー層110と、発色団がドープされたポリマー層110の間に挟まれたフォトリフラクティブ材料106とを備えている。1つの実施形態では、電極層の対104A、104Bが、基板層の対102A、102Bに挟まれており、フォトリフラクティブ材料の層106が、電極層の対104A、104Bに挟まれている。ある実施形態では、図2Aに示されるが、発色団がドープされた第1のポリマー層110Aは、第1の電極層104Aとフォトリフラクティブ材料106の間に配置されている。代替となる実施形態では、図2Bに示されるが、図2Aの実施形態が、発色団がドープされた第2のポリマー層110Bが第2の電極層104Bとフォトリフラクティブ材料106の間に挟まれるように改変される。上述のように、第1のポリマー層110Aおよび第2のポリマー層110Bは、同じ材料を含んでいてもよく、または異なる材料を含んでいてもよい。基板層102の非限定例としては、ソーダ石灰ガラス、シリカガラス、珪硼酸ガラス、窒化ガリウム、ヒ化ガリウム、サファイア、石英ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートが挙げられる。好ましくは、基板層102は、屈折率が1.5以下の材料を含む。いくつかの実施形態では、基板層は、約1.5以下の屈折率を示す。いくつかの実施形態では、フォトリフラクティブ材料は、フォトリフラクティブ挙動を示す有機または無機のポリマーを含む。ある実施形態では、ポリマーは、約1.7以下の屈折率を有する。ある実施形態では、ポリマーは、約1.7の屈折率を有する。好ましい非限定例としては、以下にきわめて詳細に記載するように、光伝導能または電荷移動能を有する部分を含む繰り返し単位、非線形光学能を有する部分を含む繰り返し単位のうち、少なくとも1つを含むポリマーマトリックスを含むフォトリフラクティブ材料が挙げられる。場合により、その材料は、さらに、米国特許第6,610,809号本明細書にその全体が参考として組み込まれるに記載されるような、非線形光学能を有する別の部分を含む繰り返し単位、および増感剤および可塑剤といった他の要素を含んでいてもよい。光伝導要素および非線形光学要素のいずれかまたは両方がポリマー構造に官能基として、典型的には側基として組み込まれる。電荷移動機能を与える基は、このような能力を与えることが当該技術分野で知られている任意の基であってよい。この基がポリマーマトリックスに側鎖として接続する場合、この基は、重合することによってフォトリフラクティブ組成物のポリマーマトリックスを生成することができるモノマーに組み込むことが可能でなければならない。ある実施形態では、フォトリフラクティブ材料は、光伝導基または電荷移動基を含む。光伝導基または電荷移動基の非限定例を以下に記載する。1つの実施形態では、光伝導基は、フェニルアミン誘導体、たとえば、カルバゾールおよびジフェニルジアミンおよびトリフェニルジアミンを含む。好ましい実施形態では、光伝導機能を与える部分は、以下の側鎖構造i、iiおよびiiiからなるフェニルアミン誘導体からなる群から選択され、式中、Qは、ヘテロ原子を含むか、または含まない、炭素原子を1~10個含むアルキレン基をあらわし、Ra1~Ra8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される式中、Qは、ヘテロ原子を含むか、または含まない、炭素原子を1~10個含むアルキレン基をあらわし、Rb1~Rb27は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される式中、Qは、ヘテロ原子を含むか、または含まない、炭素原子を1~10個含むアルキレン基をあらわし、Rc1~Rc14は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択されるフォトリフラクティブ材料は、発色団も含んでいてもよい。非線形光学機能を与える発色団または発色基は、このような能力を与えることが当該技術分野で知られている任意の基であってよい。たとえば、発色団は、発色団がドープされたポリマー層に含まれていてもよい上述のいずれかであってもよい。しかし、1つ以上のポリマー層とは異なり、フォトリフラクティブ材料は、この材料をフォトリフラクティブ性にする電荷移動部分を含む。フォトリフラクティブ層の中の発色団は、発色団がドープされた1つ以上のポリマー層の中の発色団と同じであってもよく、異なっていてもよい。発色団がポリマーマトリックスに側鎖として接続する場合、この基または基の前駆体は、重合することによって組成物のポリマーマトリックスを生成することができるモノマーに組み込むことが可能でなければならない。1つの実施形態では、限定されないが、適切な側鎖が接続したポリウレタン、エポキシポリマー、ポリスチレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリシロキサンおよびポリアクリレートを含む材料骨格を使用し、本開示の材料マトリックスを製造してもよい。好ましい種類の骨格単位は、アクリレートまたはスチレンに基づくものである。特に好ましいのは、アクリレート系モノマーであり、さらに好ましいのはメタクリレートモノマーである。ポリマー自体に光伝導機能を含むための最初のポリマー材料は、アリゾナ大学で開発されたポリビニルカルバゾール材料であった。しかし、これらのポリビニルカルバゾールポリマーは、ポリマーから膜またはフォトリフラクティブデバイスで使用する他の形状を作成するために典型的に使用される熱処理方法を行うと、粘度が高く、粘着性になる傾向がある。これとは対照的に、メタアクリレート系ポリマー、さらに具体的にはアクリレート系ポリマーは、かなり良好な熱特性および機械特性をもつ。すなわち、これらのポリマーは、たとえば、射出成形または押出成形による処理中に良好な作業性を与える。これは、ポリマーがラジカル重合によって調製されるときに、特に成り立つ。フォトリフラクティブ材料は、ある実施形態では、上の光伝導基の少なくともいずれかまたは上の発色基のいずれかを組み込んだモノマーから合成される。多くの物理特性および化学特性もポリマーマトリックスにとって望ましいことが理解される。ポリマーは、電荷移動基と発色基を両方とも組み込むことが好ましく、そのため、モノマー単位がコポリマーを生成する能力が好ましい。生成したコポリマーの重要な物理特性としては、限定されないが、分子量およびガラス転移温度Tgが挙げられる。また、任意ではあるが、この組成物から、標準的なポリマー加工技術たとえば、溶媒コーティング、射出成形および押出成形によって、さまざまな種類の膜、コーティング、成形体を作成することができることが、価値があり、望ましい。本明細書では、ポリマーは、一般的に、重量平均分子量Mwが、約3,000~500,000、好ましくは約5,000~100,000である。重量平均分子量という用語は、本明細書で使用する場合、当該技術でよく知られているように、ポリスチレン標準によるGPCゲル透過クロマトグラフィー法によって決定した値を意味する。非限定例では、フォトリフラクティブ材料で使用するポリマー組成物は、電荷移動機能を与える構造i、ii、iiiからなる群から選択される繰り返し単位を含む。式中、Qは、ヘテロ原子を含むか、または含まない、炭素原子を1~10個含むアルキレン基をあらわし、Ra1~Ra8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される式中、Qは、ヘテロ原子を含むか、または含まない、炭素原子を1~10個含むアルキレン基をあらわし、Rb1~Rb27は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される式中、Qは、ヘテロ原子を含むか、または含まない、炭素原子を1~10個含むアルキレン基をあらわし、Rc1~Rc14は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される非限定例では、フォトリフラクティブ材料で使用するポリマー組成物は、非線形光学機能を与える構造0によってあらわされる繰り返し単位を含む。式中、Qは、ヘテロ原子たとえば、酸素または硫黄を含むか、または含まない、炭素原子を1~10個含むアルキレン基をあらわし、好ましくは、Qは、CH2pによってあらわされるアルキレン基であり、pは約2~6である。R1は、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択され、好ましくは、R1は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルから選択されるアルキル基である。Gは、π共役結合の架橋を有する基である。Eacptは、電子受容基である。好ましくは、Qは、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレンからなる群から選択される。GおよびEacptは、構造0について上に記載したとおりである。フェニルアミン誘導体基を電荷移動要素として含むモノマーのさらなる非限定例としては、カルバゾリルプロピルメタアクリレートモノマー;4-N,N-ジフェニルアミノ-フェニルプロピルメタアクリレート;N-[メタアクロイルオキシプロピルフェニル]-N,N’,N’-トリフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン;N-[メタアクロイルオキシプロピルフェニル]-N’-フェニル-N,N’-ジ4-メチルフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン;N-[メタアクロイルオキシプロピルフェニル]-N’-フェニル-N,N’-ジ4-ブトキシフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミンが挙げられる。このようなモノマーを単独で使用してもよく、2種以上のモノマーの混合物として使用してもよい。発色基を非線形光学要素として含むモノマーのさらなる非限定例としては、N-エチル,N-4-ジシアノメチリデニルアクリレート、N-エチル,N-4-ジシアノメチリデニル-3,4,5,6,10-ペンタヒドロナフチルペンチルアクリレートが挙げられる。上述のモノマーからポリマーを製造するために、多様な重合技術が当該技術分野で知られている。このような従来技術のひとつは、ラジカル重合であり、典型的には、AIBNアゾイソブチルニトリルのようなアゾ型開始剤を用いることによって行われる。このラジカル重合法では、重合触媒が重合性モノマー合計モル数あたり、約0.01~5mol、好ましくは約0.1~1molの量で一般的に用いられる。1つの実施形態では、溶媒、たとえば、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、酢酸ブチル、トルエンまたはキシレン存在下、従来のラジカル重合を行うことができる。溶媒は、一般的に、重合性モノマー合計重量あたり、約100~10000wt、好ましくは、約1000~5000wtの量で一般的に用いられる。代替的な実施形態では、不活性ガス存在下、溶媒が存在しない状態で従来のラジカル重合が行われる。1つの実施形態では、不活性ガスは、窒素、アルゴン、ヘリウムのいずれかを含む。重合中の気体圧は、約1~50atm、好ましくは、約1~5atmの範囲にある。従来のラジカル重合は、好ましくは、望ましい最終的な分子量および重合温度に依存し、重合速度を考慮しつつ、約50°C~約100°Cの温度で行われ、約1~100時間継続させる。上に与えた教示および好ましい例に基づくラジカル重合技術を行うことによって、電荷移動基を有するポリマー、非線形光学基を有するポリマー、電荷移動基と非線形光学基の両方を含むランダムコポリマーまたはブロックコポリマーを調製することが可能である。さらに、これらのポリマーの組み合わせからポリマー系が調製されてもよい。さらに、本明細書に記載する技術にしたがうことによって、並外れて良好な特性たとえば、光伝導、応答時間、拡散効率をもつこのような材料を調製することができる。いくつかの実施形態では、発色団は、重合してポリマーになるモノマーの形態では与えられない。むしろ、発色団がフォトリフラクティブ材料に分散していてもよい。フォトリフラクティブ材料に分散した発色剤を含む例示的な組成物は、米国特許第5,064,264号に開示されており、その全体が本明細書に参考として組み込まれる。適切な材料は、当該技術分野で知られており、D.S.ChemlaJ.Zyss、NonlinearOpticalPropertiesofOrganicMoleculesandCrystalsAcademicPress、1987その全体が本明細書に参考として組み込まれるのような文献に十分に記載されている。また、米国特許第6,090,332号その全体が本明細書に参考として組み込まれるは、熱に安定なフォトリフラクティブ組成物に使用するための縮合した環架橋、環に閉じ込められた発色団を記載している。発色団の他の例は、発色団がドープされたポリマー層について上に記載している。選択された発色団を80wt未満、さらに好ましくは、40wt未満の濃度でマトリックスコポリマーに混合し、フォトリフラクティブ材料を作成してもよい。一方、ポリマーが、非線形光学能のみを与えるモノマーから作られる場合、フォトリフラクティブ組成物は、これもまた米国特許第5,064,264号その全体が本明細書に参考として組み込まれるに記載されるように、電荷移動特性を有する要素をポリマーマトリックスに混合することによって製造することができる。好ましい電荷移動化合物は、良好な正孔移動化合物であり、たとえば、N-アルキルカルバゾールまたはトリフェニルアミン誘導体である。電荷移動能を有する個々の分子を含む部分の電荷移動要素を分散物の形態で加えることの代わりとして、またはそれに加え、電荷移動能および非線形光学能を有する個々のポリマーからポリマーブレンドを製造することができる。電荷移動ポリマーの場合、ポリマーは、すでに上に記載されており、たとえば、フェニルアミン誘導体側鎖を含むものを使用することができる。電荷移動基のみを含むポリマーは、従来技術によって比較的簡単に調製されるため、ラジカル重合または任意の他の従来法によって電荷移動ポリマーを製造してもよい。非線形光学能を有するコポリマーを調製するために、非線形光学能を有する側鎖をもつモノマーを使用してもよい。使用可能なモノマーの非限定例は、以下の化学構造を含むものである。式中、Qは、ヘテロ原子たとえば、酸素または硫黄を含むか、または含まない、炭素原子を1~10個含むアルキレン基をあらわし、好ましくは、Qは、CH2pによってあらわされるアルキレン基であり、pは約2~6であり、R0は、水素原子またはメチル基である。Rは、炭素が10個までの直鎖または分枝鎖のアルキル基である。好ましくは、Rは、メチル、エチルまたはプロピルから選択されるアルキル基である。コポリマーを調製する技術のひとつは、非線形光学能について前駆体である官能基を含む前駆体モノマーの使用を含む。典型的には、この前駆体は、以下の一般構造1によってあらわされ、式中、R0は、水素原子またはメチル基であり、Vは、以下の構造viおよびviiからなる群から選択され、式中、両方の構造viおよびviiにおいて、Qは、ヘテロ原子たとえば、酸素または硫黄を含むか、または含まない、炭素原子を1~10個含むアルキレン基をあらわし、好ましくは、Qは、CH2pによってあらわされるアルキレン基であり、pは約2~6である。Rd1~Rd4は、独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択され、好ましくは、Rd1~Rd4は、水素であり、R1は、炭素が10個までの直鎖または分枝鎖のアルキル基をあらわし、好ましくは、R1は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルまたはヘキシルから選択されるアルキル基である。非線形光学モノマーおよび電荷移動モノマーの両方からコポリマーを調製するために、上述の種類から選択されるそれぞれのモノマーを使用してもよい。この場合に、ラジカル重合を行う手順は、上述の同じ重合法および操作法を含み、同じ好ましい例を含む。前駆体コポリマーを作成した後に、縮合反応によって、非線形光学基および非線形光学能を有する対応するコポリマーに変換することができる。典型的には、縮合試薬は、以下のものからなる群から選択されてもよく、式中、R5、R6、R7、R8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される。縮合反応は、ピリジン誘導体触媒存在下、室温で約1~100時間行われてもよい。酢酸ブチル、クロロホルム、ジクロロメチレン、トルエンまたはキシレンのような溶媒を使用することができる。場合により、この反応は、約30°C以上の溶媒環流温度で約1~100時間、触媒を用いずに行ってもよい。非線形光学能について前駆体基を有するモノマーの使用、重合後のこの基の変換は、非線形光学基を含むモノマーを使用する場合よりも多分散性が小さいポリマー生成物を生じる傾向があることが発見されている。したがって、この方法は、フォトリフラクティブ組成物を生成する好ましい技術のひとつである。電荷移動能を有する第1の部分を含む繰り返し部分と、非線形光学能を有する第2の部分を含む繰り返し部分と、場合により、可塑化能を有する第3の部分を含む繰り返し部分とを含むコポリマーのためのモノマー単位の比率に制限はない。しかし、典型的で代表的な例として、電荷移動能を有するメタアクリル酸モノマー100重量部に対する非線形光学能を有するメタアクリレートモノマーの比率は、約1~200重量部の範囲にあり、好ましくは、約10~100重量部の範囲にある。この比率が約1重量部未満である場合、コポリマー自体の電荷移動能は弱く、その応答時間は遅すぎて、良好なフォトリフラクティブ性を与えない傾向がある。しかし、この場合であっても、すでに記載した非線形光学能を有する低分子量要素を加えると、フォトリフラクティブ性を高めることができる。一方、この比率が約200重量部より大きい場合、コポリマー自体の非線形光学能は弱く、回折効率が低すぎて良好なフォトリフラクティブ性を与えない傾向がある。しかし、この場合であっても、すでに記載した電荷移動能を有する低分子量要素を加えると、フォトリフラクティブ性を高めることができる。場合により、この章ですでにのべた望ましい物理特性を与えるか、または向上させるために、ポリマーマトリックスに他の要素を加えてもよい。通常、良好なフォトリフラクティブ能のために、電荷発生剤として機能する光増感剤を加えることが好ましい。このような光増感剤の広範囲にわたる選択肢が当該技術分野で知られている。適切な増感剤には、フラーレンが含まれる。フラーレンは、中空の球、楕円、管または平板およびこれらの誘導体の形態の炭素分子である。球状フラーレンの一例はC60である。フラーレンは、典型的には、完全に炭素分子で構成されるが、フラーレンは、他の原子を含むフラーレン誘導体、たとえば、フラーレンに1つ以上の置換基が接続したものであってもよい。ある実施形態では、増感剤は、C60、C70、C84から選択されるフラーレンであり、これらはそれぞれ場合により置換されていてもよい。ある実施形態では、フラーレンは、可溶性C60誘導体[6,6]-フェニル-C61-酪酸-メチルエステル、可溶性C70誘導体[6,6]-フェニル-C71-酪酸-メチルエステル、または可溶性C84誘導体[6,6]-フェニル-C85-酪酸-メチルエステルから選択される。フラーレンは、単層または複層のいずれかのカーボンナノチューブの形態であってもよい。単層または複層のカーボンナノチューブは、場合により、1つ以上の置換基で置換されていてもよい。別の適切な増感剤としては、ニトロ置換されたフルオレノンが挙げられる。ニトロ置換されたフルオレノンの非限定例としては、ニトロフルオレノン、2,4-ジニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロ-9-フルオレニリデンマロニトリルが挙げられる。フラーレンおよびフルオレノンは、使用可能な光増感剤の非限定例である。必要な光増感剤の量は、通常は約3wt未満である。また、組成物を、ポリマーマトリックスに入った可塑化特性を有する1つ以上の要素と混合し、フォトリフラクティブ組成物を作成してもよい。たとえば、フタル酸誘導体または低分子量正孔移動化合物、たとえば、N-アルキルカルバゾールまたはトリフェニルアミン誘導体またはアセチルカルバゾールまたはトリフェニルアミン誘導体のような任意の市販の可塑剤化合物を使用することができる。以下の構造4、5または6に示される電子受容基を含むN-アルキルカルバゾールまたはトリフェニルアミン誘導体は、この可塑剤が、N-アルキルカルバゾールまたはトリフェニルアミン部分と非線形光学部分の両方を1つの化合物中に含むため、フォトリフラクティブ組成物をもっと安定にしやすくすることができる。可塑剤の非限定例としては、エチルカルバゾール;4-N,N-ジフェニルアミノ-フェニルプロピルアセテート;4-N,N-ジフェニルアミノ-フェニルメチルオキシアセテート;N-アセトキシプロピルフェニル-N,N’,N’-トリフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン;N-アセトキシプロピルフェニル-N’-フェニル-N,N’-ジ4-メチルフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン;N-アセトキシプロピルフェニル-N’-フェニル-N,N’-ジ4-ブトキシフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミンが挙げられる。このような化合物を単独で使用してもよく、2種以上のモノマーの混合物として使用してもよい。また、重合しないモノマーは、低分子量正孔移動化合物であってもよく、たとえば、4-N,N-ジフェニルアミノ-フェニルプロピルメタアクリレート;N-[メタアクロイルオキシプロピルフェニル]-N,N’,N’-トリフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン;N-[メタアクロイルオキシプロピルフェニル]-N’-フェニル-N,N’-ジ4-メチルフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン;N-[メタアクロイルオキシプロピルフェニル]-N’-フェニル-N,N’-ジ4-ブトキシフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミンであってもよい。このような可塑剤を単独で使用してもよく、2種以上のモノマーの混合物として使用してもよい。好ましくは、別の種類の可塑剤として、以下の構造4、5または6で示されるような電子受容基を含むN-アルキルカルバゾールまたはトリフェニルアミン誘導体を使用してもよい。式中、Ra1は、独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択され;pは、0または1である式中、Rb1~Rb4は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択され;pは、0または1である式中、Rc1~Rc3は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択され;pは、0または1であり;Eacptは、=Oであるか、または電子受容基であり、以下の構造からなる群から選択される構造によってあらわされ、式中、R5、R6、R7、R8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素が10個までの直鎖アルキル基、炭素が10個までの分枝鎖アルキル基、炭素が10個までの芳香族基からなる群から選択される。好ましい実施形態は、従来法にしたがって調製した同様のポリマーと比較したときに、比較的Tgが低いポリマーを含む。本願発明者らは、このことが、可塑剤への依存性が低いという観点で有益であることを認識している。本質的に中程度のTgであるコポリマーを選択し、平均Tgを下げる傾向がある方法を用いることによって、組成物に必要な可塑剤の量を好ましくは約30以下または25以下、さらに好ましくは、それより低いたとえば、約20以下の量に抑えることができる。上に開示したシステムおよび方法を用いて製造されるフォトリフラクティブデバイスは、発色団がドープされていないポリマー層を有するフォトリフラクティブデバイスよりも短い格子減衰時間、たとえば、50~96の格子減衰時間を達成することができることを発見した。これらの利点は、以下の実施例でさらに記載され、本開示の実施形態を説明する意図があるが、本開示の範囲および根本にある原理をいかなる様式にも限定することを意図するものではない。a非線形光学発色団7-FDCSTの合成非線形光学前駆体4-ホモピペリジノ-2-フルオロベンジリデンマロノニトリル7-FDCSTを以下の2工程合成スキームにしたがって合成した。2,4-ジフルオロベンズアルデヒド25gまたは176mmol、ホモピペリジン17.4gまたは176mmol、炭酸リチウム65gまたは880mmol、DMSO625mLの混合物を50°Cで16時間撹拌した。この反応混合物に水50mLを加えた。この生成物をエーテル100mLで抽出した。エーテルを除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーでヘキサン-酢酸エチル9:1を溶出液として用いて精製し、未精製中間体を得た22.6g。4-ホモピペリジノ-2-フルオロベンズアルデヒド22.6gまたは102mmolおよびマロノニトリル10.1gまたは153mmolのメタノール323mL溶液に、4-ジメチルアミノピリジン230mgを加えた。この反応混合物を室温に保持し、生成物を濾過によって集め、エタノールから再結晶させることによって精製した。最終生成物の収量は18.1g38であった。b非線形光学発色団1-ヘキサメチレンイミン-4-ニトロベンゼンの合成非線形光学発色団である1-ヘキサメチレンイミン-4-ニトロベンゼンPNO2を、以下の合成スキームにしたがって合成した。4-フルオロベンズアルデヒド3g、21.26mmol、ホモピペリジン2.11g、21.26mmol、炭酸リチウム3.53g、25.51mmol、DMSO40mLの混合物を50°Cで16時間撹拌した。この反応混合物に水50mLを加えた。この生成物をエーテル100mLで抽出した。エーテルを除去した後、未精製生成物を再結晶化させ、黄色結晶を得た。化合物の収量は4.45g95であった。c非線形光学発色団3-4-アゼパン-1-イルフェニルアクリル酸メチルの合成非線形光学発色団3-4-アゼパン-1-イルフェニルアクリル酸メチルPMAcを、以下の合成スキームにしたがって合成した。250mLの2ッ口フラスコに、無水塩化メチレン60mL、4-アゼパン-1-イルベンズアルデヒド4.06g、20mmolを加えた。次いで、窒素雰囲気下、2-ブロモ酢酸メチル7.04g、46mmol、次いでトリエチルアミン10.1g、100mmolおよびトリクロロシラン5.41g、40mmolを-10°Cで加えた。この混合物を-10°Cで8時間撹拌し、次いで、一晩かけて室温まで徐々に加温した。この反応混合物に飽和NaHCO3水溶液および水を加えて急冷した。この生成物をエーテルで抽出し、塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥させた。未精製生成物をカラムによって精製した。化合物の収量は2.48g48であった。d発色団を含有するポリマー溶液の調製約10重量~約45重量のポリマーAPC、PMMA、ゾルゲルまたはポリイミド粉末をシクロペンタノンに溶解することによって、発色団を含有するポリマー溶液を調製した。このポリマー溶液を周囲条件で少なくとも12時間撹拌し、実質的に全体を溶解させ、次いで、約0.2μmのPTFEフィルタを用いて濾過した。次いで、このポリマー混合物に、約0.5重量~約15重量の発色団たとえば、7-FDCST、PNO2、PMAcなどを加え、約30分間撹拌した。e発色団がドープされたポリマー層の調製得られた混合物を、ITOで構成される透明電極層にスピンコーティングおよび溶液流延によって塗布した。所定の加熱プログラムで、100°Cまでの熱処理を約6時間行うことによって、塗布した混合物から溶媒成分を除去した。さらに、塗布した混合物を約130°Cで約1時間減圧加熱し、約0.5μm~約50μmの厚さの炭素発色団がドープされたポリマー層を電極の上に作成した。f電荷移動基を含有するモノマー-TPDアクリレートモノマー:トリフェニルジアミン型N-[アクロイルオキシプロピルフェニル]-N,N’,N’-トリフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミンTPDアクリレートは、和光純薬WakoChemical、日本から購入した。TPDアクリレート型モノマーは、以下の構造をもつ。g非線形光学基を含むモノマー非線形光学前駆体モノマーである5-[N-エチル-N-4-ホルミルフェニル]アミノ-ペンチルアクリレートを、以下の合成スキームにしたがって合成した。工程I:酢酸ブロモペンチル約5mLまたは30mmolおよびトルエン約25mLの溶液に、トリエチルアミン約4.2mLまたは30mmol、N-エチルアニリン約4mLまたは30mmolをほぼ室温で加えた。この溶液を一晩かけて約120°Cまで加熱した。冷却した後、反応混合物をロータリーエバポレーターによって蒸発させた。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒:ヘキサン/アセトン=約9/1によって精製した。油状アミン化合物を得た。収量:約6.0g80工程II:無水DMF約6mLまたは77.5mmolを氷浴で冷却した。次いで、概略で25mLのフラスコにPOCl3約2.3mLまたは24.5mmolを滴下し、この混合物を室温にした。アミン化合物約5.8gまたは23.3mmolを、ジクロロエタンの入ったシリンジによってゴムセプタムを介して加えた。約30分撹拌した後、この反応混合物を約90°Cまで加熱し、アルゴン雰囲気下、反応を一晩かけて進めた。一晩反応させた後、反応混合物を冷却し、塩水に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル層を炭酸カリウム溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。硫酸マグネシウムを除去した後、溶媒を除去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=約3/1で精製した。アルデヒド化合物を得た。収量:約4.2g65工程III:上のアルデヒド化合物約3.92gまたは14.1mmolをメタノール約20mLに溶解した。この混合物に、炭酸カリウム約400mgおよび水約1mLを室温で加え、この溶液を一晩撹拌した。次の日に、溶液を塩水に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。硫酸マグネシウムを除去した後、溶媒を除去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒:ヘキサン/アセトン=約1/1で精製した。アルデヒドアルコール化合物を得た。収量:約3.2g96工程IV:このアルデヒドアルコール約5.8gまたは24.7mmolを無水THF約60mLに溶解した。この溶液に、トリエチルアミン約3.8mLまたは27.1mmolを加え、この溶液を氷浴で冷却した。塩化アクロイル約2.1mLまたは26.5mmolを加え、この溶液を0°Cに20分間維持した。その後、この溶液を室温まで加温し、室温で1時間撹拌し、この時点で、TLCは、すべてのアルコール化合物が消失していることを示していた。この溶液を塩水に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。硫酸マグネシウムを除去した後、溶媒を除去し、残渣のアクリレート化合物をシリカゲルクロマトグラフィー展開溶媒:ヘキサン/アセトン=約1/1で精製した。この化合物の収量は約5.38g76であり、この化合物の純度は、約99であったGCによる。hフォトリフラクティブ材料で使用するマトリックスポリマーの合成電荷移動モノマーN-[メタアクロイルオキシプロピルフェニル]-N,N’,N’-トリフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミンTPDアクリレート43.34g、上に記載したように調製した非線形光学前駆体モノマー5-[N-エチル-N-4-ホルミルフェニル]アミノ-ペンチルアクリレート4.35gを3ッ口フラスコに入れた。トルエン400mLを加え、アルゴンガスを1時間パージした後、この溶液にアゾイソブチルニトリル118mgを加えた。次いで、アルゴンガスのパージを継続しつつ、この溶液を65°Cまで加熱した。約18時間の重合の後、ポリマー溶液をトルエンで希釈した。この溶液からポリマーが沈殿し、メタノールを加え、得られたポリマー沈殿を集め、ジエチルエーテルおよびメタノールで洗浄した。白色ポリマー粉末を集め、乾燥させた。ポリマーの収率は約66であった。重量平均分子量および数平均分子量を、ポリスチレン標準を用いるゲル透過クロマトグラフィーによって測定した。結果は、Mn=約10,600、Mw=約17,100であり、約1.61の多分散性が得られた。非線形光学能をただし有するポリマーを作成するために、沈殿した前駆体ポリマー5.0gをクロロホルム24mLに溶解した。この溶液に、ジシアノマロネート1.0gおよびジメチルアミノピリジン40mgを加え、40°Cで一晩かけて反応を進めた。既に述べたように、不純物を濾過し、次いで、メタノール中で沈殿させ、洗浄し、乾燥させることによって、上の溶液からポリマーを回収した。i可塑剤N-エチルカルバゾールは、Aldrichから市販されており、再結晶化させた後に使用した。jフォトリフラクティブ材料の調製以下の要素を用い、フォトリフラクティブ材料を調製した。iマトリックスポリマー上に記載:50wtii調製した7-FDCSTの発色団30wtiiiエチルカルバゾール可塑剤20wtフォトリフラクティブ組成物を調製するために、上に列挙した要素をトルエンに溶解し、室温で一晩撹拌させた。溶媒をロータリーエバポレーターおよび減圧ポンプで除去した後、残渣を集めた。この残渣混合物を使用してフォトリフラクティブ材料を作成するが、この混合物をスライドガラスの上に載せ、約125°Cで溶融させ、おおよそ200~300μmの厚さの膜またはプレケーキを作成した。実施例1-フォトリフラクティブデバイスの調製図2Bに示したのとほぼ同じ構造および要素2種類のITOコーティングされたガラス基材電極および基材、発色団がドープされた2つのポリマー層、フォトリフラクティブ材料を有するフォトリフラクティブデバイスを調製した。以下の工程を用い、フォトリフラクティブデバイスを製作した。iポリマー溶液:約20重量のAPCアモルファスポリカーボネート粉末をシクロペンタノンに溶解した。ii発色団がドープされた溶液:約95部のAPCに対し、約5部の7-FDCST、すなわち、発色団とポリマーの合計が100部の重量比で、7-FDCSTを上のポリマー溶液と混合した。iii発色団がドープされたポリマー層の生成:発色団がドープされたポリマー溶液をスピンコーティングによってITO膜の上に塗布し、所定の加熱プログラムを用い、100°Cまで約6時間かけて乾燥させた。さらに、塗布した溶液を約130°Cで約1時間減圧加熱した。これらの工程から、厚さが約12μmの発色団がドープされたポリマー層が得られた。ivフォトリフラクティブデバイスの組み立て:フォトリフラクティブ膜またはプレケーキをガラス板から移し、発色団がドープされた2つのポリマー層の間に挟み、図2Bに示されるようなフォトリフラクティブデバイスを作成した。このポリマー層を合わせた合計厚さは約24μmであり、フォトリフラクティブ材料の厚さは約104μmであった。実施例2実施例1と同様に、ただし、厚さが約12μmの7-FDCST発色団がドープされたAPCポリマー層のみを2つではなく1つだけ含むフォトリフラクティブデバイスを得た。この場合、ポリマーの合計厚さは12μmであった。実施例3実施例2と同様に、但し、ポリマー層中の7-FDCSTとAPCの重量比が約0.5:99.5であるフォトリフラクティブデバイスを得た。この場合、発色団は、5の代わりに、0.5の発色団がドープされたポリマー層で構成された。実施例4実施例1と同様に、ただし、それぞれのポリマー層の厚さが約13μmであるフォトリフラクティブデバイスを得た。したがって、ポリマー層を合わせた合計厚さは約26μmであった。さらに、ポリマー層中の7-FDCSTとAPCの重量比は、約0.5:99.5であった。この場合、発色団は、5の代わりに、0.5の発色団がドープされたポリマー層で構成された。実施例5実施例1と同様に、ただし、それぞれのポリマー層の厚さが約13μmであるフォトリフラクティブデバイスを得た。したがって、ポリマー層を合わせた合計厚さは約26μmであった。ポリマー層中の発色団の割合は5のままであった。実施例6実施例1と同様に、ただし、それぞれのポリマー層の厚さが約15μmであるフォトリフラクティブデバイスを得た。したがって、ポリマー層を合わせた合計厚さは約30μmであった。実施例7実施例4と同様に、ただし、それぞれのポリマー層の厚さが約20μmであるフォトリフラクティブデバイスを得た。したがって、ポリマー層を合わせた合計厚さは約40μmであった。ポリマー層中の7-FDCSTとAPCの重量比は、約0.5:99.5であった。実施例8実施例1と同様に、ただし、それぞれのポリマー層の厚さが約20μmであるフォトリフラクティブデバイスを得た。したがって、ポリマー層を合わせた合計厚さは約40μmであった。比較例1実施例1と同様に、ただし、それぞれのポリマー層の厚さが約8μmであるフォトリフラクティブデバイスを得た。したがって、ポリマー層を合わせた合計厚さは約16μmであった。このポリマー層は発色団でドープされていないため、7-FDCST発色団を含んでいなかった。比較例2比較例1と同様に、ただし、厚さが約10μmである単一のポリマー層のみを含むフォトリフラクティブデバイスを得た。このポリマー層は、7-FDCST発色団を含んでいなかった。比較例3比較例1と同様に、ただし、それぞれのポリマー層の厚さが約15μmであるフォトリフラクティブデバイスを得た。したがって、ポリマー層を合わせた合計厚さは約30μmであった。このポリマー層は、7-FDCST発色団を含んでいなかった。比較例4比較例2と同様に、ただし、単一のポリマー層の厚さが約20μmであるフォトリフラクティブデバイスを得た。このポリマー層は、7-FDCST発色団を含んでいなかった。比較例5比較例1と同様に、ただし、それぞれのポリマー層の厚さが約20μmであるフォトリフラクティブデバイスを得た。したがって、ポリマー層を合わせた合計厚さは約40μmであった。このポリマー層は、7-FDCST発色団を含んでいなかった。回折効率の測定回折効率は、s偏極した2つの書き込みビームおよびp偏極したプローブビームを用い、約532nmでの4波混合実験によって、加えられた場の関数として測定された。2つの書き込みビームの二等分線とサンプルの鉛直方向との間の角度は、約60°であり、材料におおよそ2.5μmの格子間隔を与えるように書き込みビーム間の角度を調節した約20°。書き込みビームは、おおよそ光の出力が約0.45mW/cm2に等しく、反射損失を補正した後、ポリマーに対する光の合計出力が約1.5mWになった。これらのビームを、スポットサイズがおおよそ500μmになるように視準を合わせた。プローブの光の出力は約100μWであった。回折効率のピークバイアスの測定を以下のように行った。フォトリフラクティブサンプルに加えられた電場V/μmは、0V/μmから100V/μmまでを特定の時間典型的には約30sかけて変動し、この時間に、サンプルに2つの書き込みビームおよびプローブビームを照射した。次いで、回折したビームを記録した。この理論によれば[式1]式中、E0Gは、E0の格子波ベクトル方向に沿った要素であり、Eqは、トラップ制限された飽和空間電荷場である。回折効率は、特定の印加されたバイアスで最大ピーク値を示すだろう。したがって、ピーク回折効率バイアスは、デバイスの性能を決定するのに非常に有用なパラメータである。立ち上がり時間応答時間および低下時間減衰時間の測定応答時間および減衰時間は、s偏極した書き込みビームおよびp偏極したプローブビームを用い、回折効率の測定で記載したのと本質的に同じ手順を用い、532nmでの4波混合実験によって、加えられた場の関数として測定された。2つの書き込みビームの二等分線とサンプルの鉛直方向との間の角度は、約60°であり、材料に2.5μmの格子間隔を与えるように書き込みビーム間の角度を調節した約20°。書き込みビームは、おおよそ光の出力が約0.45mW/cm2に等しく、反射損失を補正した後、ポリマーに対する光の合計出力が約1.5mWになった。これらのビームを、スポットサイズがおおよそ500μmになるように視準を合わせた。プローブの光の出力は100μWであった。格子の構築時間の測定は、以下のように行った。サンプルに、バイアスピーク電圧よりわずかに下に対応する電場V/μmを印加したとえば、バイアスピーク電圧よりも約0.1~0.2kV下、サンプルに2つの書き込みビームとプローブビームを照射した。次いで、回折したビームの発生を記録した。応答時間立ち上がり時間および低下時間減衰時間を、定常状態の回折効率のe-1に達するのに必要な時間として概算した。それぞれのデバイスの性能を、以下の表1にまとめている。表1に示されるように、フォトリフラクティブデバイス中で発色団を1つ以上のポリマー層に加えることによって、格子減衰時間がかなり短くなる。実施例8では、格子減衰時間が、比較例5と比べて1000秒より長い値から44秒まで短くなり、ここで、両デバイスは、厚さが約20μmの2つのポリマー層を含むつまり、合わせた合計厚さが約40μm。さらに、実施例6では、格子減衰時間が、比較例3と比べて125秒から20秒まで短くなり、ここで、両デバイスは、厚さが約15μmの2つのポリマー層を含むつまり、合わせた合計厚さが約30μm。実施例9実施例1と同様に、ただし、フォトリフラクティブ材料と、発色団がドープされた2つのAPCポリマー層が、発色団として7-FDCSTではなくPNO2を含むフォトリフラクティブデバイスを得た。発色団がドープされたポリマー層は、厚さが約11μmつまり、合わせた合計厚さが22μmであり、それぞれ約1のPNO2を含んでいた。比較例6比較例1と同様に、ただし、フォトリフラクティブ材料が、発色団としてPNO2を含むフォトリフラクティブデバイスを得た。この2つのポリマー層は、厚さが約10μmであった。したがって、ポリマー層を合わせた合計厚さは約20μmであった。このポリマー層は、発色団でドープされていなかった。それぞれのデバイスの性能を、以下の表2にまとめている。表2に示されるように、フォトリフラクティブデバイス中で発色団PNO2を1つ以上のポリマー層に加えることによって、格子減衰時間がかなり短くなる。実施例9では、格子減衰時間が、比較例6と比べて36秒から16秒まで短くなり、ここで、両デバイスは、厚さが約10~11μmの2つのポリマー層を含むつまり、合わせた合計厚さが約20~22μm。実施例10実施例1と同様に、ただし、厚さが11μmの1PMAc発色団がドープされた2つのAPCポリマー層を含むフォトリフラクティブデバイスを得た。また、このフォトリフラクティブ材料は、発色団としてPNO2も含んでいた。実施例11実施例1と同様に、ただし、厚さが12μmの10PMAc発色団がドープされた2つのAPCポリマー層を含むフォトリフラクティブデバイスを得た。また、このフォトリフラクティブ材料は、発色団としてPNO2も含んでいた。表3に示されるように、フォトリフラクティブデバイス中で発色団PMAcを1つ以上のポリマー層に加えることによって、格子減衰時間がかなり短くなる。実施例10および11では、格子減衰時間が、比較例6と比べて36秒から14秒または9秒まで短くなり、ここで、両デバイスは、厚さが約10~12μmの2つのポリマー層を含むつまり、合わせた合計厚さが約20~24μm。実施例12実施例1と同様に、ただし、厚さが11μmの1PMAc発色団がドープされた2つのAPCポリマー層を含むフォトリフラクティブデバイスを得た。また、このフォトリフラクティブ材料は、発色団としてPMAcも含んでいた。実施例13実施例12と同様に、ただし、厚さが12μmの10PMAc発色団がドープされた2つのAPCポリマー層を含むフォトリフラクティブデバイスを得た。比較例7実施例1と同様に、ただし、フォトリフラクティブ材料が、発色団としてPMAcを含むフォトリフラクティブデバイスを得た。それぞれのポリマー層は、約10μmであった。したがって、ポリマー層を合わせた合計厚さは約20μmであった。このポリマー層は、発色団でドープされていなかった。表4に示されるように、フォトリフラクティブデバイス中で発色団PMAcを1つ以上のポリマー層に加えることによって、格子応答時間がかなり短くなる。実施例12および13では、格子応答時間が、比較例7と比べて2.8秒から1.5秒または0.8秒まで短くなり、ここで、両デバイスは、厚さが約10~12μmの2つのポリマー層を含むつまり、合わせた合計厚さが約20~24μm。実施例14実施例1と同様に、ただし、厚さが11μmの1PNO2発色団がドープされた2つのAPCポリマー層を含むフォトリフラクティブデバイスを得た。また、このフォトリフラクティブ材料は、発色団としてPMAcも含んでいた。実施例15実施例14と同様に、ただし、厚さが12μmの10PNO2発色団がドープされた2つのAPCポリマー層を含むフォトリフラクティブデバイスを得た。表5に示されるように、フォトリフラクティブデバイス中で発色団PNO2を1つ以上のポリマー層に加えることによって、格子応答時間がかなり短くなる。実施例14および15では、格子応答時間が、比較例7と比べて2.8秒から0.8秒まで短くなり、ここで、両デバイスは、厚さが約10~12μmの2つのポリマー層を含むつまり、合わせた合計厚さが約20~24μm。上の記載は、本教示の新しい基本的な特徴を示し、記述し、指摘してきたが、示されているような装置の詳細という形態でのさまざまな省略、置換、変更およびそれらの使用は、本教示の範囲から逸脱することなく当業者によってなされるであろうことが理解されるだろう。結果的に、本教示の範囲は、上の記載によって制限されるべきではなく、添付の請求項によって定義されるべきである。本明細書で言及されるあらゆる特許、特許明細書および他の文献は、その全体が本明細書に参考として組み込まれる。"