"金属めっき皮膜をマトリックスとし、該マトリックス中にダイヤモンド粒子が上記金属めっき皮膜の膜厚方向に対してその共析量が漸次変化するように共析した複合電気めっき皮膜を備えたことを特徴とする放熱性材料。上記マトリックス中の上記ダイヤモンド粒子の共析量が、上記複合電気めっき皮膜が形成された基材側から皮膜表面側に向けて漸次増加した請求項1に記載の放熱性材料。上記複合電気めっき皮膜が、上記マトリックス中の上記ダイヤモンド粒子の共析量が上記複合電気めっき皮膜が形成される基材側から皮膜表面側に向けて漸次増加すると共に、上記ダイヤモンド粒子が皮膜表面に露出してなるダイヤモンド共析皮膜の上記皮膜表面に、更に、上記金属めっき皮膜を形成する金属源とは異なる金属源による表面金属めっき皮膜を備えた請求項1又は2に記載の放熱性材料。上記表面金属めっき皮膜の厚みが、上記ダイヤモンド粒子の平均粒径の4/5以下である請求項3に記載の放熱性材料。上記表面金属めっき皮膜を形成する金属源が、銅、銀、金又は鉄である請求項3又は4に記載の放熱性材料。上記マトリックス中の上記ダイヤモンド粒子の共析量が、上記複合電気めっき皮膜で被覆された基材側から皮膜表面側に向けて漸次減少した請求項1に記載の放熱性材料。上記マトリックス中の上記ダイヤモンド粒子の共析量が、上記複合電気めっき皮膜で被覆された基材側から皮膜の膜厚方向の中間部に向けて漸次増加し、該中間部から皮膜表面側に向けて漸次減少した請求項1に記載の放熱性材料。上記金属めっき皮膜中の少なくとも一部において上記ダイヤモンド粒子が互いに接触した状態で共析した請求項1乃至7のいずれか1項に記載の放熱性材料。上記ダイヤモンド粒子のレーザー回析式粒度分布測定法による平均粒径が、0.01~350μmである請求項1乃至8のいずれか1項に記載の放熱性材料。上記複合電気めっき皮膜の膜厚が1~5000μmである請求項1乃至9のいずれか1項に記載の放熱性材料。上記金属めっき皮膜を形成する金属源が、銅、ニッケル、金、銀、錫、コバルト、鉄、亜鉛、クロムから選ばれる1種又は2種以上である請求項1乃至10のいずれか1項に記載の放熱性材料。ガラス製成形品を上記複合電気めっき皮膜で被覆される基材とした請求項1乃至11のいずれか1項に記載の放熱性材料。プラスチック製成形品を上記複合電気めっき皮膜で被覆される基材とした請求項1乃至11のいずれか1項に記載の放熱性材料。半導体装置の放熱性材料として使用された請求項1乃至13のいずれか1項に記載の放熱性材料。携帯電話機又はパーソナルコンピュータの放熱性材料として使用された請求項14に記載の放熱性材料。光学装置の放熱性材料として使用された請求項1乃至13のいずれか1項に記載の放熱性材料。上記金属めっき皮膜中の上記ダイヤモンド粒子の共析量を上記金属めっき皮膜の膜厚方向に対して漸次変化させることによって、ダイヤモンド粒子が共析した複合電気めっき皮膜による放熱性が向上した請求項1乃至16のいずれか1項に記載の放熱性材料。本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、放熱性に優れるのみならず、種々の形状、材料からなる成形品を放熱性材料の基材として利用することができ、また、放熱性材料としての耐性にも優れ、薄型化も可能で、半導体装置、特に携帯電話機、パーソナルコンピュータ、移動体などの放熱性材料として特に好適に利用することが可能な放熱性材料を提供することを目的とする。本発明者らは、上記目的を達成するため、鋭意検討したところ、放熱性材料として利用しようとする成形品を基材とし、ダイヤモンド粒子を金属めっき液中に分散させた複合めっき液により上記基材の所定箇所に電気めっき皮膜を形成することによって、放熱性に優れるのみならず、種々の形状、材料からなる成形品を放熱性材料の基材として利用することができ、且つ薄型化も可能となることを見出し、更に、鋭意検討した結果、金属めっき皮膜をマトリックスとし、このマトリックス中にダイヤモンド粒子が分散した複合電気めっき皮膜として、皮膜中のダイヤモンド粒子の共析量含有量、分散量が皮膜の膜厚方向に対して漸次変化させた傾斜機能材料FGM;FunctionallyGradedMaterialsの通称、換言すると、不均一分散系、即ち、傾斜機能を有する複合電気めっき皮膜を形成することによって、めっき皮膜による放熱性をより向上させたり、基材に対するめっき皮膜の密着性をより向上させて、めっき皮膜の剥離、剥落などの事態をより確実に防止したりすることなどが可能となることを知見し、本発明をなすに至った。そして、本発明のように、ダイヤモンド粒子を金属めっき液中に分散させた複合めっき液により電気めっき皮膜を形成した放熱性材料について更に鋭意検討した結果、熱振動は接触するダイヤモンド粒子同士間で生じることが望ましいことから、複合電気めっき皮膜中に共析しているダイヤモンド粒子は極力接触している状態であることが望ましく、金属めっき皮膜中のダイヤモンド粒子が互いに接触した共析状態となっていることにより、より優れた放熱性が得られることを知見した。即ち、本発明は、金属めっき皮膜をマトリックスとし、該マトリックス中にダイヤモンド粒子が金属めっき皮膜の膜厚方向に対してその共析量が漸次変化するように共析した複合電気めっき皮膜を備えたことを特徴とする放熱性材料を提供する。ここで、ダイヤモンド粒子のレーザー回析式粒度分布測定法による平均粒子径が、0.01~350μmであると、より好適である。また、複合電気めっき皮膜の膜厚が1~5000μmであったり、金属めっき皮膜を形成する金属源が、銅、ニッケル、金、銀、錫、コバルト、鉄、亜鉛、クロムから選ばれる1種又は2種以上であったりすると、更に好適である。そして、複合電気めっき皮膜のより具体的な構成としては、1マトリックス中のダイヤモンド粒子の共析量が、複合電気めっき皮膜が形成された基材側から皮膜表面側に向けて漸次増加した複合電気めっき皮膜、2マトリックス中のダイヤモンド粒子の共析量が複合電気めっき皮膜が形成される基材側から皮膜表面側に向けて漸次増加すると共に、ダイヤモンド粒子が皮膜表面に露出してなるダイヤモンド共析皮膜の皮膜表面に、更に、金属めっき皮膜を形成する金属源とは異なる金属源による表面金属めっき皮膜を備えた複合電気めっき皮膜、換言すると、上記1記載の複合電気めっき皮膜の皮膜表面においてダイヤモンド粒子が露出し、該皮膜表面に、更に、上記金属めっき皮膜を形成する金属源とは異なる金属源による表面金属めっき皮膜を備えた複合電気めっき皮膜であり、このの構成の場合、より好ましくは、表面金属めっき皮膜の厚みが、ダイヤモンド共析皮膜中のダイヤモンド粒子の平均粒径の4/5以下、更に好ましくは、表面金属めっき皮膜を形成する金属源が、銅、銀、金又は鉄である複合電気めっき皮膜、3マトリックス中のダイヤモンド粒子の共析量が、複合電気めっき皮膜で被覆された基材側から皮膜表面側に向けて漸次減少した複合電気めっき皮膜、4マトリックス中のダイヤモンド粒子の共析量が、複合電気めっき皮膜で被覆された基材側から皮膜の膜厚方向の中間部に向けて漸次増加し、該中間部から皮膜表面側に向けて漸次減少した複合電気めっき皮膜などが挙げられる。ここで、本発明の放熱性材料の複合電気めっき皮膜におけるダイヤモンド粒子の共析状態としては、金属めっき皮膜からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子の共析量が、金属めっき皮膜の膜厚方向に対して漸次変化するように共析している限り、金属めっき皮膜中において、ダイヤモンド粒子が互いに接触しない状態で共析していてもよく、また、ダイヤモンド粒子が互いに接触した状態で共析していてもよいが、金属めっき皮膜中の少なくとも一部においてダイヤモンド粒子が互いに接触した状態で共析していると、上述したように接触するダイヤモンド粒子同士間で熱振動が生じるので、より好適である。更に、本発明の放熱性材料としては、金属めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析量を金属めっき皮膜の膜厚方向に対して漸次変化させることによって、ダイヤモンド粒子が共析した複合電気めっき皮膜による放熱性が向上したものであると、より好適である。また、上記複合電気めっき皮膜を形成する基材としては、金属製品成形品などが挙げられるが、本発明の場合、ガラス製成形品を上記複合電気めっき皮膜で被覆される基材とした放熱性材料、より詳細には、例えば、表面をパラジウムなどによる金属吸着めっきをしたガラス製成形品の該めっき表面に上記複合電気めっき皮膜を形成した放熱性材料、又は、プラスチック製成形品を上記複合電気めっき皮膜で被覆される基材とした放熱性材料、より詳細には、例えば、表面をパラジウムなどによる金属吸着めっきをしたプラスチック製成形品の該めっき表面に上記複合電気めっき皮膜を形成した放熱性材料なども可能である。更に、本発明の放熱性材料は、半導体装置の放熱性材料、例えば、車両、自動車などの移動体の各種部品として使用されている半導体装置の放熱性材料として使用したり、特に、携帯電話機又はパーソナルコンピュータの放熱性材料として使用したりすると、より好適である。また、光学装置の放熱性材料として使用しても、より好適である。本発明によれば、放熱性に優れるのみならず、種々の形状、材料からなる成形品を放熱性材料とすることができ、放熱性材料としての耐性にも優れ、薄型化も可能で、半導体装置、特に携帯電話機、パーソナルコンピュータなどの放熱性材料として特に好適に利用することができる放熱性材料が得られる。以下、本発明について、より詳細に説明すると、本発明の放熱性材料は、金属めっき皮膜をマトリックスとし、このマトリックス金属マトリックス中にダイヤモンド粒子が金属めっき皮膜の膜厚方向に対してその共析量が漸次変化するように共析した複合電気めっき皮膜を備えたものであり、ダイヤモンド粒子が金属マトリックス中に分散した複合電気めっき皮膜により基材成形品が被覆されるので、複雑な形状の基材成形品であってもその表面処理を容易に行うことができ、放熱性材料の形状の選択性、自由度の向上、薄型化が可能となり、また、電気めっきによりめっき皮膜が形成されるので、基材の表面処理時に高温処理を必要とせず、例えば、高温処理に適さないプラスチック、ガラスなどの材質からなる成形品を基材とすることも可能となる。更に、放熱性には優れるが、例えば金属などの他の材料との物性の違いから、他の材料との親和性が比較的低いダイヤモンド粒子を金属めっき皮膜の膜厚方向に対してその共析量が漸次変化するように共析させたことによって、他の材料との親和性を高め、剥離し難いめっき皮膜や亀裂が発生し難いめっき皮膜としたり、放熱性材料の放熱性をより高めたり、放熱性材料の表面の耐摩耗性を向上させたり、表面強度をより向上させたり、内部構造体を保護することが可能となった。次に、本発明の放熱性材料の複合電気めっき皮膜を形成するダイヤモンド粒子、金属めっき皮膜についてより詳細に説明する。本発明において用いるダイヤモンド粒子としては、例えば、後述する実施例のように市販のダイヤモンド粒子を適宜選定して使用することができ、その平均粒径は、適宜選定することができるが、好ましくは0.01~350μm、より好ましくは1~250μm、更に好ましくは15~200μmである。平均粒径が大きすぎると、皮膜厚みに対する充填密度が小さくなる場合があり、小さすぎると、充填密度が大きくなり、皮膜強度が弱くなる場合がある。なお、ダイヤモンド粒子の平均粒径の測定方法は、レーザー回析式粒度分布測定法による。本発明の複合電気めっき皮膜の金属マトリックスを形成する金属源としては、特に制限されるものでないが、例えば、銅Cu、ニッケルNi、金Au、銀Ag、錫Sn、コバルトCo、鉄Fe、亜鉛Zn、クロムCrなどが好適であり、熱伝導性を考慮すれば、これらの中でもニッケル、銅、銀がより好適であり、特に、ニッケル、銅が好適である。これらは1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて使用することができる。金属マトリックス中のダイヤモンド粒子の共析量分散量は、特に制限されるものではないが、皮膜強度、靭性、展延性、硬度、機械的強度などを考慮すれば、好適な共析量としては、皮膜全体における共析量が、1~45vol、好ましくは1~40vol、より好ましくは2~35vol、更に好ましくは3~25vol、より更に好ましくは5~25vol、特に好ましくは5~20volである。また、複合電気めっき皮膜の膜厚は、適宜選定することができるが、好ましくは1~5000μm、より好ましくは3~2000μm、更に好ましくは5~1000μmである。本発明において金属マトリックス中のダイヤモンド粒子の共析量を変化させる手段は、特に制限されるものではないが、以下、めっき浴又は、めっき液の種類に分けて、具体的な手段を例示する。本発明において好適なニッケルめっき浴の組成例は、例えば、硫酸ニッケル240g/リットル、塩化ニッケル40g/リットル、ホウ酸35g/リットルであり、本発明において好適なめっき条件としては、例えば、めっき浴の温度は50°C、pHは4.2、電流密度は0.1~8A/dm2とし、撹拌速度を例えば50~600rpmの範囲で変動をさせる。使用するダイヤモンド粒子として、例えば、平均粒径25μmのダイヤモンド粒子を1~150g/リットルとなるように上記めっき液中に分散させる。そして、めっき処理時間は、10~1500分と変動させると、所定のめっき皮膜厚の複合電気めっき皮膜を形成させることができる。より具体的には、例えば、平均粒径25μmのダイヤモンド粒子を50g/リットルとなるように上記ニッケルめっき液中に分散させ、電流密度を8A/dm2一定にして、撹拌速度を50~600rpmと徐々に変化させることにより、液中のダイヤモンド粒子の分散量を調節しながら電気めっきを行うと、複合電気めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析量は、0.5~26vol0.3~11.5wtの範囲で徐々に変化する。このようにして、例えば、総めっき皮膜厚みが500μmの複合電気めっき皮膜を形成することができる。一方、例えば、平均粒径90μmのダイヤモンド粒子を1~100g/リットルとなるように上記ニッケルめっき液中に分散させ、撹拌速度を30~600rpmと徐々に変化させ、その途中で電流密度を1~8A/dm2まで変動させて、めっきを行うと、複合電気めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析密度を0.3~35vol0.1~18wtの範囲で徐々に変化させることができる。また、例えば、平均粒径3μmのダイヤモンド粒子を1~100g/リットルとなるように上記ニッケルめっき液中に分散させ、撹拌速度を30~600rpmと徐々に変化させ、その途中で電流密度を1~8A/dm2まで変動させて、めっきを行うと、複合電気めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析密度を0.1~37vol0.05~19wtの範囲で徐々に変化させることができる。一方、本発明において好適な銅めっき浴の組成例は、例えば、硫酸銅220g/リットル、硫酸60ml/リットルであり、好適なめっき条件としては、例えば、めっき浴温度は25°C、電流密度は0.1~10A/dm2とし、例えば、撹拌速度を50~600rpmと変動させる。例えば、平均粒径25μmのダイヤモンド粒子を50g/リットルとなるように硫酸銅めっき液中に分散させ、電流密度を4A/dm2一定にして、撹拌速度を50~600rpmと徐々に変化させることにより、液中のダイヤモンド粒子の分散量を調整しながら電気めっきを行うと、複合電気めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析密度を0.5~18vol0.3~7wtの範囲で徐々に変化させることができる。このようにして、例えば、総めっき皮膜厚みが500μmの複合電気めっき皮膜を形成することができる。一方、平均粒径90μmのダイヤモンド粒子を1~100g/リットルとなるように上記銅めっき液中に分散させ、撹拌速度を30~600rpmと徐々に変化させ、その途中で電流密度を1~10A/dm2までを変動させて、めっきを行うと、複合電気めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析密度を、0.3~23vol0.1~12wtの範囲で徐々に変化させることができる。また、平均粒径3μmのダイヤモンド粒子を1~100g/リットルとなるように上記銅めっき液中に分散させ、撹拌速度を30~600rpmと徐々に変化させ、その途中で電流密度を1~10A/dm2まで変動させて、めっきを行うと、複合電気めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析密度を0.1~25vol0.05~13wtの範囲で徐々に変化させることができる。次に、本発明の放熱性材料の皮膜構成について、より詳細に説明する。本発明の放熱性材料は、金属めっき皮膜をマトリックスとし、この金属マトリックス中にダイヤモンド粒子が金属めっき皮膜の膜厚方向に対してその共析量が漸次変化するように共析した複合電気めっき皮膜を備えたものである。ここで、本発明の複合電気めっき皮膜において、金属めっき皮膜からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子の共析量分散量が漸次変化するとは、連続的に共析量が増減していても良く、共析量がある程度段階的に増加、減少しても良いが、皮膜の膜厚方向に対してダイヤモンド粒子の共析量が連続的に変化した複合電気めっき皮膜とすると、より好適である。なお、本発明の場合、一層のめっき皮膜中において、皮膜の膜厚方向に対してダイヤモンド粒子の共析量が漸次増減しており、ダイヤモンド粒子の共析量が異なる2層以上のめっき皮膜を積層した場合と比べて、皮膜の厚みの中に層状が存在しないので、膜間の剥離や層間の剥離が生じるという問題もなく、優れた機械的特性を示すことができる。以下、本発明の放熱性材料のより具体的な構成を、図面を参照にして説明する。図1、図2、図3、図4は、それぞれ本発明の放熱性材料の第一構成例~第四構成例を説明するために各放熱性材料の一部分の縦断面の構成を模式的に示した概略縦断面図であり、図中、A1,A2,A3,A4は、それぞれ放熱性材料、11,12,13,14は、それぞれ複合電気めっき皮膜、2は金属めっき皮膜金属マトリックス、3はダイヤモンド粒子、4は複合電気めっき皮膜が形成された基材、図2中の5は、表面金属めっき皮膜である。本発明の放熱性材料の第一構成例は、図1に示す放熱性材料A1のように、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子3の共析量分散量が、基材側1aから皮膜表面側1bに向けて漸次増加しためっき構成を備えたものであり、このような構成によれば、ダイヤモンドの持つ物理特性の内でも特に熱振動が伝わりやすいという特性によって、熱伝導性が非常に優れる放熱性材料が得られ、放熱性の効果が認められる。ここで、この第一構成例のようなめっき構成の場合、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子3の共析量分散量は、基材側1aから皮膜表面側1bに向けて漸次増加していれば良いが、基材との境界部分基材側1aの共析量が好ましくは0であり、徐々にダイヤモンド粒子を共析していく場合は、0.3volから徐々に共析量を増加させ、複合電気めっき皮膜表面側1bの近辺では、少なくとも20vol、好ましくは35vol以上を共析させると、好適であり、より詳細には、好ましくは10~50vol、より好ましくは15~40vol、更に好ましくは15~35volである。なお、ダイヤモンド粒子の平均粒径を上述した金属マトリックス中のダイヤモンド粒子の共析量を変化させる手段において、例示した平均粒径25μmのダイヤモンド粒子よりも更に小さなもの、例えば、3μmのものを使用すると、複合電気めっき皮膜中へのダイヤモンド粒子の充填率が上昇するが、めっき皮膜自身の強度が小さくなる場合がある。また、熱振動は接触するダイヤモンド粒子同士間で生じることが望ましいことから、複合電気めっき皮膜中に共析しているダイヤモンド粒子は極力接触している状態であることが望ましい。ここで、本発明においてダイヤモンド粒子が複合電気めっき皮膜中で接触するようにする手段は、特に制限されるものではないが、例えば、攪拌速度をコントロールする手段が挙げられる。より具体的には、例えば、弱い攪拌で接触させる、強い攪拌で離れさせる、そのように接触部分をコントロールするという手段が挙げられる。また、例えば、この第一構成例のようなめっき構成の場合であれば、上述したように、ダイヤモンド粒子を徐々に共析量を増加させて、複合電気めっき皮膜表面側1bの近辺で、少なくとも20vol、好ましくは35vol以上を共析させることによって、特に、複合電気めっき皮膜表面側1bの近辺でダイヤモンド粒子同士が接触している部分が生じ易くなる。以下の第二構成例~第四構成例についても、同様にダイヤモンド粒子の共析量が増加した箇所において、このような共析量とすることによって、特に、ダイヤモンド粒子の共析量が増加した箇所においてダイヤモンド粒子同士が接触している部分が生じ易くなる。このように複合電気めっき皮膜中にダイヤモンド粒子同士が互いに接触している共析状態を、図8及び図9を参照して説明する。図8は、ダイヤモンド粒子同士が互いに接触している共析状態を説明する参考例として放熱性材料A7の一部分の縦断面の構成を模式的に示した概略縦断面図であり、図9は、ダイヤモンド粒子の接触状態を説明するために、図8中のZ部分複合電気めっき皮膜15の縦断面の一部を拡大して模式的に示した複合電気めっき皮膜15の一部拡大縦断面図である。放熱性材料A7は、第一構成例の放熱性材料A1の複合電気めっき皮膜11に替えて、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子3の共析量分散量を基材側1aから皮膜表面側1bに向けて変化しておらず、金属めっき皮膜2全体で観ると、ダイヤモンド粒子3が皮膜の膜厚方向図中矢印aでは均一となるように共析し、且つ図9に示すように、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中にダイヤモンド粒子3が互いに接触している部分が生じている複合電気めっき皮膜15を備えたものであり、ダイヤモンド粒子3がこのような状態でマトリックス中に共析することによって、接触するダイヤモンド粒子3同士間で熱振動が生じ、後述する実験例1及び実験例2の結果で示されるように、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中にダイヤモンド粒子3が互いに接触しない状態で共析した場合に比べて、放熱性を向上させることができる。なお、このような複合金属めっき皮膜15の場合、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子の共析量分散量は、複合金属めっき皮膜15全体全容量に対して、少なくとも20volを共析させると、金属めっき皮膜2全体で観ると、ダイヤモンド粒子3が皮膜の膜厚方向では均一であるが、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中の少なくとも一部にダイヤモンド粒子3が互いに接触している部分が生じている複合電気めっき皮膜が得られ易くなるので、より好適である。本発明の複合電気めっき皮膜において、マトリックス中でダイヤモンド粒子同士が接触している共析状態としては、その接触形態が特に制限されるものではなく、例えば、膜の縦断面を観察した場合、ダイヤモンド粒子が膜厚方向図8中の矢印a、即ち、膜の高さ方向でのみ連続するように互いに接触した共析部分が生じたものであったり、膜の横方向図8中の矢印b、即ち、断面図上は左右方向又は膜の幅方向で隣接したダイヤモンド粒子でのみ接触して適宜長さで連続した共析状態であってもよいが、例えば、図9の参考例を参照して説明すると、ダイヤモンド粒子が膜厚方向図8中の矢印a及び膜の横方向図8中の矢印bで連続するように互いに接触した状態となった箇所を有するような共析状態であると、より好適である。また、接触した部分の割合も、特に制限されるものではないが、例えば、複合電気めっき皮膜を施した放熱性材料を縦方向に、即ち、膜厚方向に沿って切断し、その切断面の全部又は一部の膜構成を電子顕微鏡などの各種顕微鏡を用いて観察し、画像処理などによって金属マトリックス中のダイヤモンド粒子が膜厚方向及び/又は膜の幅方向で連続するように互いに接触した状態となったダイヤモンド粒子の割合を確認観測した場合、面積比率で観察部分全体に対して、好ましくは5~80、より好ましくは15~60、更に好ましくは20~45であると、より好適である。接触部分の割合が小さすぎると、ダイヤモンド粒子同士の接触による作用効果が得られ難くなる場合があり、接触部分の割合が大きすぎると、複合電気めっき皮膜としての好適な特性が得られ難くなる場合がある。なお、このようなダイヤモンド粒子の接触状態については、以下の第二構成例~第四構成例についても同様である。本発明の第二構成例は、図2に示す放熱性材料A2のように、第一構成例と同様に金属めっき皮膜2からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子3の共析量分散量が、基材側1aから皮膜表面側1bに向けて漸次増加したダイヤモンド共析皮膜12aの皮膜表面12bにおいてダイヤモンド粒子3が露出しており、その露出しているダイヤモンド粒子3間の金属面に、更に、上述した複合電気めっき皮膜の金属めっき皮膜を形成する金属源とは異なる金属源、好ましくは、銅、金、銀、鉄など、より好ましくは金、銀などによりめっきをして、表面金属めっき皮膜5を形成して複合電気めっき皮膜12としたものである。また、金属めっき皮膜2を形成する金属源と表面金属めっき皮膜5を形成する金属源との組み合わせとしては、それぞれ上記した好適な金属源を適宜組み合わせると好適であり、これらの中でも金属めっき皮膜2の金属源がニッケルで表面金属めっき皮膜5の金属源が金、金属めっき皮膜2の金属源が銅で表面金属めっき皮膜5の金属源が銀などの組み合わせがより好適である。ここで、表面金属めっき皮膜5の厚みは、特に制限されるものではないが、ダイヤモンド粒径を考慮すれば、ダイヤモンド粒子3の平均粒径の4/5以下、より好ましくは、ダイヤモンド粒子3の平均粒径の1/2~1/3であると、より好適である。更に、この第二構成例としては、表面金属めっき皮膜5の表面においてダイヤモンド粒子3の一部が露出していると、より好適であることから、更に好ましくは、ダイヤモンド共析皮膜12aの皮膜表面12bにおいて露出しているダイヤモンド粒子3の平均粒径の4/5以下、更に好ましくは、露出しているダイヤモンド粒子3の平均粒径の1/2~1/3であると、更に好適である。なお、ダイヤモンド共析皮膜12aの皮膜表面12bにおいてダイヤモンド粒子3を露出させる方法は、特に制限されるものではないが、例えば、20vol以上共析するようにすると、好適である。また、本発明の放熱性材料の第三構成例は、図3に示す放熱性材料A3のように、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子3の共析量分散量が、基材側1aから複合電気めっき皮膜表面側1bに向けて漸次減少しためっき構成を備えたものであり、このような構成によっても、上述した放熱性材料A1と同様に、ダイヤモンドの持つ物理特性の内でも特に熱振動が伝わりやすいという特性によって、熱伝導性が非常に優れる放熱性材料が得られ、放熱性の効果が認められる。ここで、この第三構成例のようなめっき構成の場合、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子3の共析量分散量は、基材側1aから複合電気めっき皮膜表面側1bに向けて漸次減少していれば良いが、基材との境界部分基材側1aの共析量が、好ましくは10~50vol、より好ましくは15~40vol、更に好ましくは15~35volであり、徐々にダイヤモンド粒子の共析量を減少していく場合は、他面の表面近辺では、ほぼダイヤモンド粒子の共析量を0volにさせると、より好適である。このような構成からなる放熱性材料A3の表面からの外観は、通常の金属めっき面と同様に平滑性や光沢性に富んだものとなっている。そして、本発明の放熱性材料の第四構成例は、図4に示す放熱性材料A4のように、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子3の共析量分散量が、基材側1aから複合電気めっき皮膜の膜厚方向の中間部1cに向けて漸次増加し、更に、中間部1cから複合電気めっき皮膜表面側1bに向けて漸次減少しためっき構成を備えたものであり、このような構成は、断面構造的には、ダイヤモンド粒子を複合電気めっき皮膜層のほぼ中央に向けて充填密度を増加させた状態のものであり、強度的にも非常に優れた傾斜機能材料FGM、不均一分散系であると言える。ここで、この第四構成例のようなめっき構成の場合、金属めっき皮膜2からなるマトリックス中のダイヤモンド粒子3の共析量分散量は、基材側1aから複合電気めっき皮膜の膜厚方向の中間部1cに向けて漸次増加し、更に、中間部1cから複合電気めっき皮膜表面側1bに向けて漸次減少していれば良いが、より好ましくは、基材との境界部分基材側1aの共析量が好ましくは0、複合電気めっき皮膜の膜厚方向の中間部の共析量が好ましくは10~50vol、より好ましくは15~40vol、更に好ましくは15~35volを共析し、複合電気めっき皮膜表面側1bの共析量が好ましくは0となっているという構成が挙げられる。本発明の放熱性材料は、上記複合電気めっき皮膜に適宜皮膜を積層したものであってもよく、例えば、図5に示す本発明の第五構成例の放熱性材料A5のように、第一構成例と同様の複合電気めっき皮膜11と基材4との間に金属めっき皮膜6を介装させたりすることもできる。このような構成例としては、基材4に金属めっき皮膜2の金属源とは異なった金属源による金属めっき皮膜6、例えば銅めっきを処理し、さらにダイヤモンド粒子3の充填密度割合を基材側1aから皮膜表面側1bに向けて徐々に増加させる複合電気めっき皮膜11を形成する。ここで、金属めっき皮膜6としては、熱振動による基材からの伝導性のよい金属めっき皮膜が好適であり、このような金属めっき皮膜としては、銅めっき皮膜や銀めっき皮膜などを挙げることができ、これらの中でもより好ましくは銅めっき皮膜がより好適である。また、基材がプラスチックやガラスなどの非導電性の材料であれば、後述するように、その表面に導電性の薄膜を処理した後、上記のように銅めっきやニッケルめっきを行い、この上にダイヤモンド粒子の共析量が基材側1aから皮膜表面側1bに向けて徐々に増加する複合電気めっき皮膜を形成しても好適である。更に、本発明の放熱性材料は、基材との間に金属めっき皮膜が介在した上記複合電気めっき皮膜の表面に更に金属めっき皮膜を積層したものであってもよく、このような構成によれば、傾斜機能めっき皮膜として放熱性部材の外観が必要な場合は、銀めっき、金めっきなどの貴金属めっき以外に銅めっきやニッケルめっきを処理して黒色化を行うことができる。ここで、このようなめっき構成の場合、複合電気めっき皮膜の構成は、特に制限されるものではないが、例えば、機械的な強度を考慮すれば、複合電気めっき皮膜の金属マトリックスが硬質金属であれば、基材との間に介装される金属めっき皮膜としては、例えば、ニッケルを金属源とすると好適であり、ニッケルめっき皮膜の皮膜厚さとしては、複合電気めっき皮膜の膜厚の1/4~1/3程度がより好適である。一方、複合電気めっき皮膜の金属マトリックスが軟質金属であれば、基材との間に介装される金属めっき皮膜としては、銅、銀を金属源とすると好適であり、これらにより形成される金属めっき皮膜の皮膜厚さとしては、複合電気めっき皮膜の膜厚の1/4~1/3程度がより好適である。本発明の放熱性材料は、種々の材料からなる成形品を基材として、その表面に上記複合電気めっき皮膜を容易に形成することができ、例えば、鉄、アルミニウムや銅もしくはそれらの合金の金属などからなる金属製成形品を基材とすることができる。また、本発明の放熱性材料は、ガラス製成形品又はプラスチック製成形品を基材とすることもでき、これらの非金属材料を基材として用いると、軽量化や成形性の容易さなどに優れる放熱性材料を得ることができる。プラスチック材料として、より具体的には、例えば、特にABSアクリロニトリル、ブタジエン、スチレン樹脂、PCポリカーボネート樹脂、PC/ABS樹脂、ナイロン樹脂、変性PPOノリル樹脂などの汎用プラスチック、エンジニアリングプラスチックやスーパーエンジニアリングプラスチックなど、ガラス製成形品として、酸化物ガラス、特にケイ酸塩ガラス、リン酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラスなどを挙げることができるが、本発明の放熱性材料の場合、電気めっきにより複合めっきをすることから、特に、常温~70°C程度までの耐熱性を有するプラススチック、ガラスを材料とするプラスチック製成形品、ガラス製成形品を基材とする場合により好適である。ガラス製成形品又はプラスチック製成形品を基材とする場合、複合電気めっき皮膜を形成する前に基材の表面処理を行うことが望ましく、例えば、基材表面にパラジウムPdなどの金属を吸着させるという表面処理などが挙げられる。より具体的には、例えば、図6に示す本発明の第六構成例の放熱性材料A6のように、基材4の表面に凹部7を形成し、その後、Pd吸着層8を形成するという処理方法が挙げられる。この構成例の場合、Pd吸着層8の表面に第一構成例と同様の複合電気めっき皮膜11を形成したものである。なお、このような表面処理の具体的方法としては、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、成形品の表面をエッチング液によって化学的に粗化凹凸することによって、凹部7を形成し、残存したエッチング液を除去した後、Pd-Sn錯体などを用いてパラジウムを吸着させ、スズ塩を除去してパラジウムを金属化してPd吸着層8を形成する方法などを挙げることができる。なお、本発明の放熱性材料は、ガラス以外の電子材料に使用されているセラミックス、例えば、アルミナセラミックス、炭化ケイ素セラミックス、酸化亜鉛セラミックス、チタン酸バナジウムセラミックス、ジルコニウムセラミックスなどの各種セラミックス製成形品を基材とすることもでき、このようなセラミックス製成形品にも上述したような処理を行い、放熱性に優れた材料を提供できる。この場合も上記と同様にしてセラミックス製成形品の表面処理をした後、複合電気めっき皮膜を形成すると、より好適である。ここで、本発明において、上述したような複合電気めっき皮膜を形成する装置は、特に制限されるものではないが、好適な装置として、図7に示すような電気めっき装置20を挙げることができる。図7の電気めっき装置20は、撹拌子21を備えためっき槽22中にダイヤモンド粒子3を分散させた所定のめっき液23を満たし、そのめっき液中に直流電源24の陽極に接続した陽極材料25、25、直流電源24の陰極に接続した基材4を浸して、基材4の表面に複合電気めっき皮膜を形成するものである。本発明の放熱性材料は、基材の形状の選択の自由度が大きいものであり、表面に凹凸が多く複雑な形状の成形品を基材として、その表面に上記複合電気めっき皮膜を容易に形成することができる。ここで、本発明の放熱性材料の基材としては、金属系では、例えば、アルミニウム、銅、真鍮などを基材とすることができ、非金属系では、上述したように、プラスチック、ガラス、セラッミックスなどを基材とすることができる。また、剥離し難い複合電気めっき皮膜を形成することができる。より具体的には、例えば、板材を基材とした放熱板のみならず、更に、円筒、角筒などの筒状基材の内壁又は外壁に複合電気めっき皮膜を形成することもできる。ここで、基材をダイヤモンド粒子が共析した複合電気めっき皮膜により被覆して放熱性材料として使用する場合、複合電気めっき皮膜による放熱性が向上するように、複合電気めっき皮膜による熱伝導性が向上していることが、望ましいが、本発明の放熱性材料は、後述する実施例及び実験例の結果に示すように、金属めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析量を金属めっき皮膜の膜厚方向に対して漸次変化させることによって、金属めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析量が膜厚方向に対して変化しない複合電気めっき皮膜に比べて、複合電気めっき皮膜による放熱性を向上させることが可能となったものであり、例えば、所望の放熱性を有する放熱性材料を得ようとした場合、金属めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析量が膜厚方向に対して変化しない場合よりも金属めっき皮膜中におけるダイヤモンド粒子の全共析量、即ち、皮膜全体における共析量を減少させることも可能となる。そして、本発明の放熱性材料は、その物性などが特に制限されるものではないが、放熱性材料として機能することを考慮すれば、基材を取り除いた放熱性材料の熱伝導率は、例えば、金属めっき皮膜を形成する金属源として銅を使用した複合電気めっき皮膜であれば、後述する実施例と同様に基材を取り除いて熱伝導率を測定し、5点測定値の下限と上限を除く3点の測定値の平均値が、300~750W/mkであると、より好適であり、ニッケルを金属源とした複合電気めっき皮膜は、同様の熱伝導率の平均値が100~200W/mkであると、より好適である。本発明の放熱性材料は、種々の形状、材料を基材とし、これに傾斜機能を有する複合電気めっき皮膜を形成したものであるので、例えば、電子部品、半導体装置の発熱部位と他の部位との間に介装する放熱板、熱交換器部品としての放熱板、ヒートシンク、放熱フィンや薄型テレビの放熱板、放熱シャーシやフレーム、パワーモジュールの放熱板やヒートシンク、発光ダイオードやLEDなどの光学装置の放熱板、エンジンのラジエターなどとして好適に使用することができる。また、携帯電話機の放熱板、パーソナルコンピュータの放熱板としても好適である。特に、本発明の場合、放熱性材料自体の薄膜化、軽量化が可能である。なお、本発明は、上記構成に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更することができる。以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。[実施例1]図7に示した電気めっき装置陽極材料は、電解ニッケル板を使用し、基材としてステンレス板20mm×20mm×0.5mmを使用して、下記操作方法によって、実施例1の放熱性材料を得た。<操作方法>エレメントシックス社製の平均粒径25μmのダイヤモンド粒子を下記表1に示す組成からなるニッケルめっき液中に分散量50g/リットルとなるように分散させた。電流密度8A/dm2、めっき処理時間300分とし、所定の総めっき皮膜厚み500μmの複合電気めっき皮膜を得た。複合電気めっき皮膜形成過程において撹拌速度を500rpmから150rpmに徐々に変化させ、ダイヤモンド粒子の共析密度が基材表面側から皮膜表面側に向けて0volから35volに漸次増加した傾斜機能皮膜複合電気めっき皮膜が基材表面に形成された実施例1の放熱性材料を得た。この放熱性材料を縦方向に、即ち、膜厚方向に沿って切断し、その断面膜の縦断面を電子顕微鏡を用いて観察したところ、膜厚方向膜の高さ方向及び膜の幅方向膜の横方向でダイヤモンド粒子同士が接触していることが認められ、その接触状態を画像処理にて確認観測したところ、面積比率にして複合電気めっき皮膜全体の1/5程度約20の部分において、ダイヤモンド粒子が接触していることが認められた。この実施例1の傾斜機能皮膜複合電気めっき皮膜の熱伝導率を評価するために以下の実施例も同様、この放熱性材料から基材を取り除き、その熱伝導率を、熱伝導率測定器ULVAC社製、TC-7000型を用いて、室温22~24°C、湿度38~45で測定した。結果を表1に併記する。なお、以下の表において、平均値は、5点の測定値の下限値と上限値を除く3点の測定値の平均値である。また、実施例1の放熱性材料の放熱状態を評価するために以下の実施例も同様、赤外線サーモグラフィ測定器アビステ社製、FSV-1100-L8を用いて、実施例1の放熱性材料が加熱ヒータ温度210°C、室温21~25°C、湿度35~41で表1に示す一定温度に達するまでの時間を測定した。結果を表1に併記する。[実施例2]図7に示した電気めっき装置陽極材料は、電解銅板を使用し、基材としてステンレス板20mm×20mm×0.5mmを使用して、下記操作方法によって、実施例2の放熱性材料を得た。<操作方法>エレメントシックス社製の平均粒径25μmのダイヤモンド粒子を下記表2に示す組成からなる銅めっき液中に分散量50g/リットルとなるように分散させた。電流密度0.1~6A/dm2、めっき処理時間540分とし、所定の総めっき皮膜厚み500μmの複合電気めっき皮膜を得た。複合電気めっき皮膜形成過程において撹拌速度を600rpmから50rpmに徐々に変化させ、ダイヤモンド粒子の共析密度が基材表面側から皮膜表面側に向けて0volから25volに漸次増加した傾斜機能皮膜複合電気めっき皮膜が基材表面に形成された実施例2の放熱性材料を得た。この放熱性材料を実施例1と同様にして観察したところ、複合電気めっき皮膜全体面積比率の1/4程度約25の部分において、膜厚方向及び膜の幅方向でダイヤモンド粒子同士が接触していることが認められた。この放熱性材料から基材を取り除き、その熱伝導率を、熱伝導率測定器ULVAC社製、TC-7000型を用いて、室温22~24°C、湿度38~45で測定した。結果を表2に併記する。また、赤外線サーモグラフィ測定器アビステ社製、FSV-1100-L8を用いて、実施例2の放熱性材料が加熱ヒータ温度210°C、室温21~25°C、湿度35~41で表2に示す一定温度に達するまでの時間を測定した。結果を表2に併記する。[実施例3]図7に示した電気めっき装置陽極材料は、電解ニッケル板を使用し、基材としてステンレス板20mm×20mm×0.5mmを使用して、下記操作方法によって、実施例3の放熱性材料を得た。<操作方法>エレメントシックス社製の平均粒径25μmのダイヤモンド粒子を下記表3に示す組成からなるニッケルめっき液中に分散量50g/リットルとなるように分散させた。電流密度8A/dm2、めっき処理時間290分とし、所定のめっき皮膜厚み490μmの複合電気めっき皮膜を得た。複合電気めっき皮膜形成過程において撹拌速度を500rpmから150rpmに徐々に変化させ、ダイヤモンド粒子の共析密度が基材表面側から皮膜表面側に向けて0volから35volに漸次増加した傾斜機能皮膜ダイヤモンド共析皮膜を基材表面に形成した。次に、この傾斜機能皮膜ダイヤモンド共析皮膜から露出したダイヤモンド粒子間に、下記表3に示す組成からなる銅めっき浴を用いて、電流密度2A/dm2、めっき処理時間20分において銅めっきを行い、所定の皮膜厚み10μmの表面銅めっき皮膜を形成して実施例3の放熱性材料を得た。総めっき皮膜厚みは所定の500μmとなった。この放熱性材料を実施例1と同様にして観察したところ、複合電気めっき皮膜全体面積比率の1/4程度約25の部分において、膜厚方向及び膜の幅方向でダイヤモンド粒子同士が接触していることが認められた。実施例3の放熱性材料から基材を取り除き、熱伝導率を上記実施例1と同様に測定した。また、実施例3の放熱性材料が表3に示す一定温度に達するまでの時間を上記実施例1と同様に測定した。結果を表3に併記する。[実施例4]図7に示した電気めっき装置陽極材料は、電解ニッケル板を使用し、基材としてステンレス板20mm×20mm×0.5mmを使用して、下記操作方法によって、実施例4の放熱性材料を得た。<操作方法>エレメントシックス社製の平均粒径25μmのダイヤモンド粒子を下記表3に示す組成からなるニッケルめっき液中に分散量50g/リットルとなるように分散させた。電流密度8A/dm2、めっき処理時間300分とし、所定の総めっき皮膜厚み500μmの複合電気めっき皮膜を得た。複合電気めっき皮膜形成過程において撹拌速度を150rpmから500rpmに徐々に変化させ、ダイヤモンド粒子の共析密度が基材表面側から皮膜表面側に向けて35volから0volに漸次減少した傾斜機能皮膜複合電気めっき皮膜が基材表面に形成された実施例4の放熱性材料を得た。この放熱性材料を実施例1と同様にして観察したところ、複合電気めっき皮膜全体面積比率の1/4程度約25の部分において、膜厚方向及び膜の幅方向でダイヤモンド粒子同士が接触していることが認められた。実施例4の放熱性材料から基材を取り除き、熱伝導率を上記実施例1と同様に測定した。また、実施例4の放熱性材料が表4に示す一定温度に達するまでの時間を上記実施例1と同様に測定した。結果を表4に併記する。[実施例5]図7に示した電気めっき装置陽極材料は、電解ニッケル板を使用し、基材としてステンレス板20mm×20mm×0.5mmを使用して、下記操作方法によって、実施例5の放熱性材料を得た。<操作方法>エレメントシックス社製の平均粒径25μmのダイヤモンド粒子を下記表5に示す組成からなるニッケルめっき液中に分散量50g/リットルとなるように分散させた。電流密度8A/dm2、めっき処理時間300分とし、所定の総めっき皮膜厚み500μmの複合電気めっき皮膜を得た。複合電気めっき皮膜形成過程において撹拌速度を500rpmから150rpmに徐々に変化させ、そこから再び500rpmに徐々に変化させ、ダイヤモンド粒子の共析密度が基材表面側から皮膜中間部に向けて0volから35vol、それから皮膜中間部から皮膜表面側に向けて35volから0volへと漸次変動した傾斜機能皮膜複合電気めっき皮膜が基材表面に形成された実施例5の放熱性材料を得た。この放熱性材料を実施例1と同様にして観察したところ、複合電気めっき皮膜全体面積比率の1/5程度約20の部分において、膜厚方向及び膜の幅方向でダイヤモンド粒子同士が接触していることが認められた。実施例5の放熱性材料から基材を取り除き、熱伝導率を上記実施例1と同様に測定した。また、実施例5の放熱性材料が表5に示す一定温度に達するまでの時間を上記実施例1と同様に測定した。結果を表5に併記する。[比較例1、2]ニッケルめっき浴中にダイヤモンド粒子を分散させず、電流密度8A/dm2、撹拌速度400rpm一定、めっき処理時間310分として、実施例1の基材にめっき皮膜厚み500μmのニッケルめっき皮膜を形成し、比較例1の放熱性材料とした。更に、上記実施例2おいて、銅めっき浴中にダイヤモンド粒子を分散させず、電流密度4A/dm2、撹拌速度400rpm一定、めっき処理時間530分として、実施例1の基材にめっき皮膜厚み500μmの銅めっき皮膜を形成し、比較例2の放熱性材料とした。比較例1、比較例2の放熱性材料からそれぞれ基材を取り除き、熱伝導率を上記実施例1と同様に測定した。また、比較例1及び比較例2の放熱性材料が、それぞれ表6に示す一定温度に達するまでの時間を上記実施例1と同様に測定した。これらの結果を下記表6に示す。[実験例1、2]図7に示した電気めっき装置陽極材料は、電解ニッケル板を使用し、基材としてステンレス板20mm×20mm×0.5mmを使用して、下記操作方法によって、実験例1、2の放熱性材料を得た。<操作方法>実施例1において、撹拌速度を300rpm一定とし、めっき処理時間を270分、平均粒径25μmのダイヤモンド粒子をニッケルめっき液中に分散量100g/リットルとなるように分散させた以外は、実施例1と同様にしてダイヤモンド粒子の共析密度が30vol一定皮膜全体における共析量が30volで基材表面側から皮膜表面側に向けて変化しない皮膜厚み500μmの複合電気めっき皮膜が基材表面に形成された実験例1の放熱性材料を得た。この放熱性材料を実施例1と同様に観察したところ、複合電気めっき皮膜全体面積比率の1/5程度約20の部分において、膜厚方向膜の高さ方向及び膜の幅方向膜の横方向でダイヤモンド粒子同士が接触していることが認められた。この実験例1の放熱性材料から基材が一定温度195°Cに達するまでの時間を実施例1と同様に測定したところ、達成時間は238秒であった。次に、実験例1において、攪拌速度を500rpm一定とした以外は実験例1と同様にして、ダイヤモンド粒子の共析密度が35vol一定皮膜全体における共析量が35volで基材表面側から皮膜表面側に向けて変化しない皮膜厚み500μmの複合電気めっき皮膜が基材表面に形成された実験例2の放熱性材料を得た。この放熱性材料を実施例1と同様に観察したところ、ダイヤモンド粒子同士の接触は認められなかった。この実験例2の放熱性材料から基材が一定温度193°Cに達するまでの時間を実施例1と同様に測定したところ、達成時間は256秒であった。実施例1、4、5と実験例1、2の放熱性材料における一定温度に達するまでの達成時間の測定結果によれば、実施例1、4、5の放熱性材料は、ダイヤモンド粒子が金属めっき皮膜中に共析した複合電気めっき皮膜として、ダイヤモンド粒子の共析密度が膜厚方向に向けて0~35volの間で漸次変化した傾斜機能皮膜皮膜全体における共析量、即ち、全共析量は17.5volとすることによって、ダイヤモンド粒子の共析密度が膜厚方向に向けて変化しない複合電気めっき皮膜の約半分量の全共析量皮膜全体における共析量であっても同程度の熱伝導性が得られることが認められる。これらの結果によれば、実施例1、4、5の放熱性材料は、金属めっき皮膜中のダイヤモンド粒子の共析量を金属めっき皮膜の膜厚方向に対して漸次変化させることによって、ダイヤモンド粒子の共析量が金属めっき皮膜の膜厚方向に対して変化しない複合電気めっき皮膜よりも格段に優れた熱伝導性が得られ、ダイヤモンド粒子が共析した複合電気めっき皮膜による放熱性が向上したものであると認められる。なお、実験例1と実験例2の結果を比較すれば、ダイヤモンド粒子が金属めっき皮膜中に共析した複合電気めっき皮膜において、ダイヤモンド粒子が互いに接触した状態で共析していると、ダイヤモンド粒子が互いに接触しない状態で共析している場合に比べて、高い熱伝導性が得られ、放熱性が向上したことが認められる。"