基板を支持する第1の基板テーブルと、該第1の基板テーブルに接続されている第1の位置決めシステムと、基板を支持するようには構成されていない第3のテーブルであって、投影システムからのパターン付き放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサユニットを備えるセンサテーブルを備える第3のテーブルと、基板交換の間に前記第1の基板テーブルが前記投影システム下方から移動されるときに前記第3のテーブルを前記投影システム下方に移動させるよう前記第3のテーブルに接続されている第2の位置決めシステムと、を備え、所望される測定に前記基板交換より長い時間がかかる場合に、当該測定は複数の部分に分割され、複数の基板交換段階の間に実施されることを特徴とするリソグラフィ装置。前記センサユニットは、エネルギーセンサ、偏光センサ、透過イメージセンサ、またはシヤリング干渉計センサをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。前記第1及び第2の位置決めシステムに接続されている制御装置をさらに含み、該制御装置が、前記第1の基板テーブルを前記投影システム下方の位置から変位させるのと同期して前記第3のテーブルを前記位置に位置決めするようそれぞれの位置決めシステムを制御することを特徴とする請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。前記投影システムと基板との間の空間に液体を供給する液体供給システムをさらに備えることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記空間に液体を閉じ込めるよう前記空間を包囲する液体閉じ込め構造体であって、該液体閉じ込め構造体の内側周縁と前記投影システムとの間隙に液体の緩衝体を形成する液体閉じ込め構造体をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載のリソグラフィ装置。前記第3のテーブルは、前記第1の基板テーブルが前記投影システム下方で取り除かれるときに前記液体が装置の他の部分に漏出することを防ぐように前記液体閉じ込め構造体の底部に閉じ込め面を形成するよう構成されていることを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィ装置。前記第3のテーブルは、前記投影システムを清浄する清浄装置が取り付けられていることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記清浄装置は、前記投影システムを清浄するために、ガス、電気粒子、又はレーザー、を用いることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ装置。基板を支持する第2の基板テーブルをさらに備え、前記第1の位置決めシステムは、基板テーブル交換のために前記第1及び第2の基板テーブルに接続されており、前記第2の位置決めシステムは、前記基板テーブル交換の間に前記第1及び第2の基板テーブルが前記投影システムの下方から移動されているときに前記第3のテーブルを前記投影システムの下方に移動させ、前記所望される測定に前記基板テーブル交換より長い時間がかかる場合に、当該測定は複数の部分に分割され、複数の基板テーブル交換段階の間に実施されることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。前記第1及び第2のテーブルのいずれか一方によって運ばれた基板を露光することのできる露光ステーションと、前記第1及び第2のテーブルのいずれか一方によって運ばれた基板を測定することのできる測定ステーションと、をさらに備え、前記第1の位置決めシステムは、前記測定ステーションと前記露光ステーションとの間で前記第1及び第2のテーブルを交換するように構成されていることを特徴とする請求項9に記載のリソグラフィ装置。前記第1の位置決めシステムは、2つのH型駆動装置であって、該H型駆動装置のそれぞれが前記第1及び第2のテーブルの一方を前記露光ステーション及び前記測定ステーションの一方の範囲内に位置決めするH型駆動装置を含み、露光処理の終わりに、前記第1及び第2のテーブルは前記露光ステーションと前記測定ステーションとの境界に位置決めされ前記第1の位置決めシステムから切り離され、それぞれのH型駆動装置は他方のH型駆動装置によって解放されたテーブルを取り上げることを特徴とする請求項10に記載のリソグラフィ装置。前記第1及び第2のテーブルのいずれか一方によって運ばれた基板を露光することのできる露光ステーションと、前記第1及び第2のテーブルのいずれか一方によって運ばれた基板を測定することのできる第1及び第2の測定ステーションと、をさらに備え、前記第1の位置決めシステムが、前記露光ステーションと前記測定ステーションのそれぞれ一方との間で前記第1及び第2のテーブルを交換するように構成されていることを特徴とする請求項9に記載のリソグラフィ装置。前記第1の位置決めシステムは、2つのH型駆動装置であって、該H型駆動装置のそれぞれが前記第1及び第2のテーブルの一方を前記露光ステーションと前記測定ステーションのいずれかとのうち一方の範囲内に位置決めするH型駆動装置を含み、露光処理の終わりに、前記第1及び第2のテーブルは前記露光ステーションと前記測定ステーションのいずれかとの境界に位置決めされ前記第1の位置決めシステムから切り離され、それぞれのH型駆動装置は他方のH型駆動装置によって解放されたテーブルを取り上げることを特徴とする請求項12に記載のリソグラフィ装置。リソグラフィ装置に用いるための位置決め装置であって、基板を保持するよう構成されている第1のテーブルと、基板を保持するようには構成されていない第2のテーブルと、を備える位置決め装置。したがって、例えば、生産性を低下させることなく、基板水準での測定を行うことのできるリソグラフィ装置が提供されると有利であろう。本発明の一観点によれば、パターンの付与された放射ビームを基板に投影するリソグラフィ装置に用いるための位置決め装置において、位置決め装置が、第1のテーブルと第2のテーブルとを含み、第1のテーブルが、該第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムに接続されて、基板を保持するように構成されており、第2のテーブルが、第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に、該第2のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムに接続されて、基板を保持するようには構成されていない位置決め装置が提供される。本発明の一観点によれば、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターンの付与されたビームを基板に投影するように構成された投影システムと、基板テーブルに接続され、基板テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムと、基板を保持するようには構成されておらず、パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサを有するセンサテーブルと、第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に、センサテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムとを有するリソグラフィ装置が提供される。本発明の他の観点によれば、パターンの付与された放射ビームを、テーブルに保持された基板に投影する段階と、テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる段階と、センサをパターンの付与された放射ビームの経路内へ移動させる段階およびビームの特性を測定する段階とを含み、センサを移動させる段階および特性を測定する段階が、少なくとも部分的に、テーブルを移動させる段階と同時に行われるデバイス製造方法が提供される。次に本発明の実施例を、添付の概略図を参照して例示のみの目的で説明するが、図中において同じ参照記号は同じ部品を指すものであることに留意されたい。図1は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を概略的に示している。この装置は、放射ビームPB例えば、UV放射又はDUV放射を調節するように構成された照明系照明器ILと、パターン形成装置例えばマスクMAを支持するように構成された支持構造体例えばマスクテーブルMTであって、あるパラメータに従ってパターン形成装置を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置PMに接続された支持構造体MTと、基板例えばレジスト塗布ウェハWを保持するように構成された基板テーブル例えばウェハテーブルWTであって、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め装置PWに接続された基板テーブルWTと、パターン形成装置MAによって放射ビームPBに与えられたパターンを、基板Wの例えば1つ又は複数のダイを含むターゲット部分Cに投影するように構成された投影システム例えば屈折投影レンズ系PLとを有している。照明系は、放射の方向付け、成形又は制御のための屈折式、反射式、磁気式、電磁式、静電式又は他の種類の光学要素、或いはそれらの任意の組み合わせなど、様々な種類の光学要素を含むことができる。支持構造体は、パターン形成装置の向き、リソグラフィ装置の設計、並びに、例えばパターン形成装置が真空環境に保持されているかどうかなど他の条件によって決まる方法でパターン形成装置を保持する。支持構造体は、機械式、真空式、静電式又は他のクランプ技術を用いてパターン形成装置を保持することができる。支持構造体を、例えば枠台フレーム又はテーブルとすることが可能であり、これらは必要に応じて固定することも移動させることもできる。支持構造体は、パターン形成装置が、例えば投影システムに対して、所望の位置にあることを保証できる。本明細書中のレチクル又はマスクという用語の使用はいずれも、パターン形成装置というより一般的な用語と同義であると考えられる。本明細書で使用するパターン形成装置という用語は、基板のターゲット部分にパターンを形成するためなど、放射ビームの断面にパターンを与えるために用いることのできる任意の装置を指すものとして広く解釈すべきである。例えばパターンが位相シフトフィーチャ、又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合には、放射ビームに与えられるパターンが、基板のターゲット部分における所望のパターンと厳密に一致しない可能性があることに留意すべきである。一般に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などターゲット部分に作製されるデバイスの特定の機能層に対応している。パターン形成装置は、透過式でも反射式でもよい。パターン形成装置の例には、マスク、プログラム可能ミラー配列アレイ及びプログラム可能LCDパネルが含まれる。マスクはリソグラフィの分野では周知であり、それにはバイナリマスク、交互位相シフトマスクalternatingPSM及び減衰位相シフトマスクattenuatedPSMなどのマスクタイプ、並びに様々なハイブリッド型のマスクタイプが含まれる。プログラム可能ミラー配列の例は、小さいミラーのマトリクス行列状の配列を使用するものであり、入射する放射ビームを異なる方向に反射するように、それぞれのミラーを別々に傾斜させることができる。傾斜したミラーは、ミラーのマトリクスによって反射される放射ビームにパターンを与える。本明細書で使用する投影システムという用語は、適宜、使用される露光放射向け、又は浸漬液の使用や真空の使用など他の要素向けの屈折式、反射式、反射屈折式、磁気式、電磁式及び静電式の光学系、又はそれらの任意の組み合わせを含めて、任意の種類の投影システムを包含するものとして広く解釈すべきである。本明細書中の投影レンズという用語の使用はいずれも、投影システムというより一般的な用語と同義であると考えられる。本明細書で図示する装置は、例えば透過性マスクを使用する透過式のものである。或いは、装置は例えば先に言及した種類のプログラム可能ミラー配列を使用、或いは反射性マスクを使用する反射式のものでもよい。リソグラフィ装置は、2デュアルステージ又は3以上の基板テーブル及び/又は2以上の支持構造体を有する種類のものでもよい。こうしたマルチステージ装置では、追加のテーブルを並行して用いてもよく、或いは1つ又は複数のテーブル上で予備工程を実施し、それと同時に1つ又は複数の他のテーブルを露光に用いてもよい。図1を参照すると、照明器ILは放射源SOから放射ビームを受け取る。例えば放射源がエキシマレーザーの場合、放射源とリソグラフィ装置とを別々の構成要素にできる。その場合には、放射源がリソグラフィ装置の一部を形成するとは考えられず、放射ビームは、例えば適切な指向性ミラー及び/又はビーム拡大器エキスパンダを有するビーム送出システムBDを用いて、放射源SOから照明器ILへ送られる。他の場合、例えば放射源が水銀ランプの場合には、放射源をリソグラフィ装置の一体部分とできる。放射源SO及び照明器ILを、必要であればビーム送出システムBDと共に、放射システムと呼ぶことがある。照明器ILは、放射ビームの角強度分布を調整するための調整装置AMを含むことができる。一般に、照明器の瞳面内における強度分布の少なくとも外側及び/又は内側の半径方向範囲それぞれ一般にσ-アウタσ-outer、σ-インナσ-innerと呼ばれるを調整することができる。さらに照明器ILは、積算器INやコンデンサCOなど他の様々な構成要素を含むことができる。照明器を用いて、所望される均一性及び強度分布をその断面に有するように放射ビームを調節できる。放射ビームPBは、支持構造体例えばマスクテーブルMTに保持されているパターン形成装置例えばマスクMAに入射し、パターン形成装置によって放射ビームPBにパターンが付与される。パターン形成装置MAを通過した放射ビームPBは、ビームを基板Wのターゲット部分Cに集束させる投影システムPLを通過する。第2の位置決め装置PW及び位置センサIF例えば干渉測定装置、リニアエンコーダ又は容量センサを用いて、基板テーブルWTを、例えば異なるターゲット部分Cを放射ビームPBの経路内に位置決めするように、正確に移動させることができる。同様に、第1の位置決め装置PM及び図1には明示されていない他の位置センサを用いて、例えばマスクライブラリから機械的に取り出した後、又は走査中に、パターン形成装置MAを放射ビームPBの経路に対して正確に位置決めすることができる。一般に、支持構造体MTの移動は、第1の位置決め装置PMの一部を形成する長ストロークモジュール粗い位置決め及び短ストロークモジュール細かい位置決めを用いて実現される。同様に、基板テーブルWTの移動は、第2の位置決め装置PWの一部を形成する長ストロークモジュール及び短ストロークモジュールを用いて実現される。スキャナではなくステッパの場合には、支持構造体MTを短ストロークアクチュエータに接続するだけでもよく、又は固定してもよい。パターン形成装置MA及び基板Wは、パターン形成装置位置調整用マークM1、M2、及び基板位置調整用マークP1、P2を用いて位置を調整できる。図示した基板位置調整用マークは専用のターゲット部分を占めているが、それらをターゲット部分同士の間の空間に配置することもできるこれらはスクライブレーン位置調整用マークとして知られている。同様に、パターン形成装置MAに2つ以上のダイを設ける場合には、パターン形成装置位置調整用マークをダイ同士の間に配置してもよい。図示した装置は、以下のモードの少なくとも1つで使用することができる。1ステップモードでは、放射ビームに与えられたパターン全体を1回でターゲット部分Cに投影する間、支持構造体MT及び基板テーブルWTを本質的に静止した状態に保つすなわち、ただ1回の静止露光。次いで、異なるターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTをX及び/又はY方向に移動させる。ステップモードでは、露光場露光フィールドの最大サイズによって1回の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。2走査モードでは、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、支持構造体MT及び基板テーブルWTを同期して走査するすなわち、ただ1回の動的露光。支持構造体MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの拡大縮小率、及び像の反転特性によって決定できる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光におけるターゲット部分の非走査方向の幅が制限され、走査移動の長さによってターゲット部分の走査方向の高さが決定される。3他のモードでは、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、プログラム可能なパターン形成装置を保持しながら支持構造体MTを本質的に静止した状態に保ち、基板テーブルWTを移動又は走査させる。このモードでは、一般にパルス式の放射源が使用され、基板テーブルWTが移動するたびに、又は走査中の連続する放射パルスの合間に、プログラム可能なパターン形成装置が必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及した種類のプログラム可能ミラー配列などの、プログラム可能なパターン形成装置を利用するマスクレスリソグラフィに簡単に適用できる。前記の使用モードの組み合わせ及び/又は変形形態、或いは全く異なる使用モードを採用することもできる。局所的な液体供給システムを用いた他の浸漬リソグラフィ装置の解決策を図4に示す。液体は、投影システムPLの両側の2つの溝状入口INによって供給され、入口INの半径方向外側に配置された複数の別々の出口OUTによって除去される。入口IN及び出口OUTは、投影ビームがそれを通して投影される孔を中央に有する板に配置することができる。液体は、投影システムPLの一方の側で一方の溝状入口INによって供給され、投影システムPLのもう一方の側で複数の別々の出口OUTによって除去されて、投影システムPLと基板Wとの間に薄膜状の液体の流れを生じさせる。入口INと出口OUTのどの組み合わせを使用するかの選択は、基板Wの移動方向によって決めることができる入口INと出口OUTの他の組み合わせは作動させない。提唱されている局所的な液体供給システムを用いた浸漬リソグラフィの他の解決策は、投影システムの最終要素と基板テーブルとの間の空間の少なくとも一部の境界に沿って延びる液体閉じ込め構造体を備えた液体供給システムを提供することである。液体閉じ込め構造体は、XY平面内では投影システムに対して実質的に静止しているが、Z方向光軸の方向にはある程度の相対移動が可能である。液体閉じ込め構造体と基板表面との間には、シール密封が形成される。一実施例では、シールはガスシールなどの非接触シールである。このようなガスシールを備えたシステムが、米国特許出願第10/705783号に開示されており、その全体を参照によって本明細書に援用する。図5は、本発明の一実施例による浸漬フード又はシャワーヘッドと呼ばれることもある液体閉じ込め構造体を有する液体供給システムを示している。特に図5は、液体を閉じ込めて基板表面と投影システムの最終要素との間の空間を満たすように、投影システムの画像領域イメージフィールドの周りに基板に対する非接触シールを形成する貯水部リザーバ10の配置を示している。投影システムPLの最終要素の下に配置され、それを囲む液体閉じ込め構造体12が、貯水部を形成している。液体は、投影システムの下、及び液体閉じ込め構造体12の内側の空間に導入される。液体閉じ込め構造体12は投影システムの最終要素の少し上方に延びており、液体の高さが最終要素より上方まで上昇して、その結果、液体の緩衝体が形成される。液体閉じ込め構造体12の上端は、好ましくは投影システム又はその最終要素の形に厳密に一致した内側周縁を有し、例えばそれを円形にすることができる。底部は、内側周縁が画像領域の形に厳密に一致し、例えば長方形にすることができるが、必ずしもそうである必要はない。液体は、液体閉じ込め構造体12の底部と基板Wの表面との間で、ガスシール16によって貯水部に閉じ込められる。ガスシールは、加圧下で入口15を通して、液体閉じ込め構造体12と基板との間の隙間に供給され、出口14を通して取り出されるガス、例えば空気、合成空気、N2、不活性ガスによって形成される。ガス入口15に対する加圧力、出口14に対する真空度、及び隙間の形状は、液体を閉じ込める内側への高速ガス流れが存在するように構成される。液体を収容するために、単に液体及び/又はガスを除去する出口など他の種類のシールを用いることもできることが、当業者には理解されよう。図6は、本発明の一実施例による基板ステージの配置を示している。この実施例は、基板レベルに露光ステーションES及び測定ステーションMSの2つのステーションの存在する、いわゆるデュアルステージ装置である。例えば露光前に基板の特徴を明らかにするため、或いは露光が適切に行われたことを検証するために、測定ステーションで様々な測定が行われる間、露光ステーションでは基板が露光される。測定ステーションに1つ又は複数のセンサを設けて測定を行うことも可能であり、測定ステーションに設けることのできるセンサの型の例には、露光前に基板の高さ地図を作成するための水準レベルセンサLS、基板の1つ又は複数の位置調整用マークの位置を測定するための位置調整用センサAS、及び露光された基板の潜像を調べるためのスキャタロメータSMが含まれる。測定ステーションで基板を基板テーブルへ装着ロード及び脱着アンロードするために、ロード/アンロード用のロボット図示せずも設けられる。このようなデュアルステージ装置では、1つの基板を露光している間、以前に露光された基板を測定し、且つ/又は次に露光される基板を予め測定することができる。したがって、デュアルステージ装置により、測定および露光の両工程を単一のステーションで実施するシングルステージ装置と比べて生産性を向上させることができる。図6を参照すると、装置は、2つのH型駆動装置H-driveを有する位置決めシステムPWによって位置決めされる2つの基板テーブルWT1、WT2を有し、H型駆動装置のそれぞれが、基板テーブルを一方のステーションの範囲内に位置決めするようになっている。図7に示すように、一実施例によれば、露光処理の終わりに、2つの基板テーブルWT1、WT2は2つのステーション間の境界に位置決めされ、位置決めシステムPWから切り離される。次いで、H型駆動装置はそれぞれ、他方のH型駆動装置によって解放された基板テーブルを取り上げる。この処理は、チャック交換又はテーブル交換と呼ばれることがある。したがって、測定ステーションで事前の測定が行われたばかりの基板W2を露光ステーションで露光することが可能になり、また露光されたばかりの基板W1を測定ステーションで測定及び/又はアンロードすることが可能になる。別の配置は、2つの測定ステーション及び2つの基板テーブルを有するが、露光ステーションは1つだけである。各基板テーブルは、それ自体の測定ステーション及び露光ステーションを含めた領域を有する駆動システムによって位置決めされ、したがって、位置決めシステムの部分間でのテーブル交換は行われない。しかし、一方のテーブルを露光ステーションの外へ移動させ、他方を露光ステーションの中へ移動させる間には、テーブル交換と呼ぶこともできる段階が依然として存在する。例えばシャワーヘッド型のものなど、局所的な液体供給システムを備えた浸漬リソグラフィ装置では、テーブル交換処理の間に浸漬液が装置の他の部分へ漏出することを防ぐために、液体供給システムが止められ、或いは閉鎖面が設けられる。一実施例では、基板テーブルの陥凹部に閉鎖板を設けることが可能であり、閉鎖板を液体閉じ込め構造体IHによって陥凹部から取り上げた後、基板テーブルを投影システムPLの下から外へ移動させる。本発明の一実施例では、位置決めシステム22、23と共に第3のテーブル21が設けられ、位置決めシステム22、23は、第3のテーブルを投影システムPL及び液体閉じ込め構造体IHの下に位置決めできるようになっている。第3のテーブル21及び位置決めシステム22、23は共に、第3のステージ20を形成することができる。第3のテーブル21により、少なくとも2つの機能を実現することができる。第1に、基板テーブルWT1、WT2を取り除く際、第3のテーブル21は液体閉じ込め構造体IHの底部に閉じ込め用の面を形成して、浸漬液が装置の他の部分へ漏出することを防ぐことができる。第2に、第3のテーブル21は、投影システムPLによって投影された空中画像の測定を行うための1つ又は複数のセンサを含む、センサユニット24を有することができる。センサユニットに含めることのできるセンサの種類には、透過イメージセンサTIS、エネルギーセンサ、偏光センサ、及びシヤリング干渉計センサが含まれる例えば、2004年11月16日出願の米国特許出願第10/988845号を参照。この文献全体を参照によって本明細書に援用する。一実施例では、センサユニット24はシヤリング干渉計センサを含み、それを用いて投影システムPLにおける収差の特徴を明らかにすると有利になることがあるが、それは、そうしたセンサによって行われる測定は比較的長い時間をかけて行われ、結像性能にとって重要であるためである。センサユニットを第3のテーブル21に設けると、基板テーブルの交換の合間を利用することにより、生産性を低下させずに1つ又は複数のセンサを用いて基板の水準での測定を行うことが可能になる。したがって、停止時間をかなり短縮することができる。所望される1つ又は複数の測定例えば較正に必要な測定に基板テーブル交換より長い時間がかかる場合には、その1つ又は複数の測定を複数の部分に分割し、複数の基板テーブルの交換段階の間に、おそらくはその段階を通じて測定間で変化する可能性のある要素を考慮するための変更を加えて、実施できることに留意すべきである。別法として或いは追加として、交換段階を1つ又は複数の測定に適合させるように延長することも可能であり、1つ又は複数の場合には生産性はある程度損なわれるが、それは、測定全体を基板露光の停止時間中に実施した場合ほどではない。複数の光学要素を含む偏光センサは非常にかさばる可能性があり、基板テーブルWT1、WT2の一方又は両方に対して適合させるのは難しい場合があるため、第3のテーブルにセンサユニットの一部として偏光センサを設けることによっても利点が得られる。例えば第3のテーブル21に設けられるセンサの種類によっては、位置決めシステム22、23は、図7に示すように、例えば基板テーブルWT1、WT2を取り除くのと同期して、第3のテーブル21を投影システムPLの下に位置決めするための長ストローク駆動モジュールを有するだけでもよい。これは、第3のテーブル21の位置決めシステム、及び基板テーブルWT1、WT2の位置決めシステムに接続された制御装置CSによる制御の下で実施することができる。測定を行うために、センサがより正確な位置決め及び/又は走査を必要とする場合には、任意選択で短ストローク駆動モジュールを含めることができる。2つ以上のセンサを設ける場合には、同時に動作するように各センサを露光フィールドの領域内に収めることが可能であり、或いはそれが不都合である場合には、位置決めシステムを、異なるセンサを連続的に露光フィールド内に位置決めするように構成することができる。本発明をデュアルステージの浸漬式リソグラフィ装置に関して説明してきたが、本発明は、浸漬式ではない装置と共に用いることもでき、また基板のロード及びアンロード動作のために基板テーブルを投影システムの下から外へ移動させるシングルステージ装置と共に用いることもできることに留意すべきである。第3のテーブルは、例えばセンサに加えて、或いはセンサの代わりに、投影システムの最終要素を清浄するように構成された清浄装置など他の装置を備えることもできる。清浄装置は、ガス、電気粒子electricparticle、レーザー、又は投影システムを清浄するための他の機構を用いることができる。第3のテーブルを、センサや他の装置を備えていない浸漬リソグラフィ装置に用いることも可能であり、むしろ単に、例えばテーブル交換及び/又は基板のロードとアンロードとの間、液体供給システムに対して閉じ込め用の面を設けるために用いてもよい。さらに、浸漬能力の有無に関わらず複数例えば2ステージのリソグラフィ装置は、1つの露光ステーション及び2つ以上の測定ステーションを有することができる。この配置では、例えば測定ステーションを露光ステーションの反対側に設けることが可能であり、そこで投影システムを位置決めし、次いで2つの基板テーブルを、2つの測定ステーションと露光ステーションとの間で往復させることができる。一実施例では、第1の基板テーブルを露光ステーションと第1の測定ステーションとの間で往復させ、第2の基板テーブルを露光ステーションと第2の測定ステーションとの間で往復させることができる。一実施形態では、第1の基板テーブルが露光ステーションと第1の測定ステーションとの間のみを移動し、第2の基板テーブルが露光ステーションと第2の測定ステーションとの間のみを移動するように、2つの基板テーブルを一列に並べて往復させることができる。欧州特許出願第03257072.3号には、ツイン又はデュアルステージの浸漬リソグラフィ装置の概念が開示されている。そうした装置は、基板を支持するための2つのテーブルを備えている。水準測定レベリングは第1の位置にあるテーブルを用いて浸漬液なしで行われ、露光は浸漬液が存在している第2の位置にあるテーブルを用いて行われる。或いは、装置はただ1つのテーブルを有する。本明細書では、リソグラフィ装置をICの製造に用いることについて特に言及することがあるが、本明細書で記載するリソグラフィ装置は、一体型光学システム、磁気ドメインメモリ用の誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドその他の製造など、他の用途にも使用可能であることを理解すべきである。こうした別の用途についての文脈では、本明細書中のウェハ又はダイという用語の使用はいずれも、それぞれ基板又はターゲット部分というより一般的な用語と同義であると考えられることが、当業者には理解されよう。本明細書で言及する基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック一般に基板にレジスト層を施し、露光されたレジストを現像するツールや計測ツール及び/又は検査ツールで処理することができる。適用可能であれば、本明細書の開示をこうしたツールや他の基板処理ツールに適用してもよい。さらに、例えば多層ICを作製するために、基板を2回以上処理することも可能であり、したがって、本明細書で使用する基板という用語は、処理が施された複数の層を既に含む基板を指すこともある。本明細書で使用する放射及びビームという用語は、例えば365、248、193、157又は126nmの波長を有する紫外UV放射を含むあらゆる種類の電磁放射を包含している。レンズという用語は、状況が許す場合には、屈折式及び反射式の光学要素を含めて、様々な種類の光学要素の任意の1つ、又は任意の組み合わせを指すことがある。ここまで本発明の特定の実施例について説明してきたが、本発明は記載したものとは別の方法で実施可能であることが理解されよう。例えば、本発明は、先に開示した方法を記述した、機械で読み取り可能な命令の1つ又は複数の列を含むコンピュータプログラム、或いはそうしたコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスクの形をとることができる。本発明の1つ又は複数の実施例は、前述の種類のものなどの任意の浸漬リソグラフィ装置に対して、また浸漬液が槽の形で提供されても、基板の局所的な表面領域のみに提供されても適用することが可能である。液体供給システムは、投影システムと、基板及び/又は基板テーブルとの間の空間に液体を提供する任意の機構である。それは、1つ又は複数の構造体、1つ又は複数の液体入口、1つ又は複数のガス入口、1つ又は複数のガス出口、及び/又は1つ又は複数の液体出口の任意の組み合わせを有し、その組み合わせによって液体を空間に提供し、閉じ込めることができる。一実施例では、空間の表面を基板及び/又は基板テーブルの一部に限定すること、空間の表面が基板及び/又は基板テーブルの表面を完全に覆うこと、或いは空間が基板及び/又は基板テーブルを囲むことが可能である。前記の説明は例示的なものであり、限定的なものではない。したがって、添付の特許請求の範囲から逸脱することなく、前記の本発明に変更を加えることが可能であることが当業者には明らかであろう。