"カルボキシル基及び/又は水酸基を分子量30~300に1個の割合で1分子中に2個以上含有し、分子量が10000以下である有機化合物Aと、前記カルボキシル基及び/又は前記水酸基と反応しうる構造単位を有する架橋性有機化合物B1及び前記カルボキシル基及び/又は前記水酸基と反応しうる元素を含む架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bとを含有することを特徴とする水系金属表面処理剤。前記架橋性有機化合物B1が、カルボジイミド結合、オキサゾリン基、グリシジルエーテル基、イソシアネート基及びメチロール基から選ばれる1種又は2種以上の構造単位を有する、請求項1に記載の水系金属表面処理剤。前記架橋性無機化合物B2が、Mg、Al、Ca、Mn、Co、Ni、CrIII、Zn、Fe、Zr、Ti、Si、Sr、W、Ce、Mo、V、Sn、Bi、Ta、Te、In、Ba、Hf、Se、Sc、Nb、Cu、Y、Nd及びLaから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む、請求項1又は2に記載の水系金属表面処理剤。請求項1~3のいずれか1項に記載の水系金属表面処理剤を金属材料表面に塗布して形成された表面処理皮膜を有することを特徴とする金属材料。本発明の目的は、金属材料とラミネートフィルム又は樹脂塗膜とが剥離することを防ぐことができる密着性及び耐薬品密着維持性に優れた表面処理皮膜を形成するための水系金属表面処理剤を提供すること及びその金属表面処理剤で処理してなる金属材料を提供することにある。詳しくは、金属材料に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、そのラミネートフィルム又は樹脂塗膜が剥離しないような高い密着性を有するとともに、酸等に曝されても高い密着性を維持し得る耐薬品密着維持性に優れた6価クロムフリー表面処理皮膜を形成するための金属表面処理剤を提供すること及びその金属表面処理剤で処理してなる金属材料を提供することにある。上記課題を解決するための本発明に係る水系金属表面処理剤は、カルボキシル基及び/又は水酸基を分子量30~300に1個の割合で1分子中に2個以上含有し、分子量が10000以下である有機化合物Aと、前記カルボキシル基及び/又は前記水酸基と反応しうる構造単位を有する架橋性有機化合物B1及び前記カルボキシル基及び/又は前記水酸基と反応しうる元素を含む架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bと、を含有することを特徴とする。この発明によれば、上記した有機化合物Aと上記した架橋性化合物Bとを含有するので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は高い密着性を有するとともに、酸等に曝されても高い密着性を維持することができる。その結果、金属材料に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに酸や有機溶剤等に曝された場合であっても、そのラミネートフィルム又は樹脂塗膜が金属材料から剥離することを防ぐことができる。本発明に係る水系金属表面処理剤において、前記架橋性有機化合物B1が、カルボジイミド結合、オキサゾリン基、グリシジルエーテル基、イソシアネート基及びメチロール基から選ばれる1種又は2種以上の構造単位を有する。この発明によれば、架橋性有機化合物B1が上記した構造単位を有するので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は、より密着性が優れ、また、有機溶剤や酸に曝されても長期間にわたってより安定した密着性を維持することができる。本発明に係る水系金属表面処理剤において、前記架橋性無機化合物B2が、Mg、Al、Ca、Mn、Co、Ni、CrIII、Zn、Fe、Zr、Ti、Si、Sr、W、Ce、Mo、V、Sn、Bi、Ta、Te、In、Ba、Hf、Se、Sc、Nb、Cu、Y、Nd及びLaから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む。この発明によれば、架橋性無機化合物B2が上記した元素を含むので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は、より密着性が優れ、また、有機溶剤や酸に曝されても長期間にわたってより安定した密着性を維持することができる。上記課題を解決するための本発明に係る金属材料は、上記本発明に係る水系金属表面処理剤を金属材料表面に塗布して形成された表面処理皮膜を有することを特徴とする。この発明によれば、上記本発明に係る水系金属表面処理剤を塗布して形成された表面処理皮膜を有するので、その表面処理皮膜を有する金属材料にラミネート加工を施し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、さらに酸等に曝された場合であっても、金属材料の表面に形成されたラミネートフィルム又は樹脂塗膜が剥離することを防ぐことができる。本発明に係る水系金属表面処理剤によれば、金属材料とラミネートフィルム又は樹脂塗膜とが剥離することを防ぐことができる密着性及び耐薬品密着維持性に優れた表面処理皮膜を形成するための水系金属表面処理剤を提供することができる。本発明に係る金属材料によれば、そのような表面処理皮膜を有する金属材料を提供することができる。以下、本発明に係る水系金属表面処理剤及びその金属表面処理剤を金属材料の表面に塗布して形成された表面処理皮膜を有する金属材料について説明する。なお、以下の説明及び図面の形態により本発明の技術的範囲が限定されるものではない。[水系金属表面処理剤]本発明に係る水系金属表面処理剤は、図1に示すように、基材である金属材料1以下、基材金属1という。の表面に、ラミネートフィルム又は樹脂塗膜3の下地用の表面処理皮膜2を形成するための処理剤である。その特徴は、有機化合物Aと、架橋性有機化合物B1及び架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bとを含有することにある。含有するとは、水系金属表面処理剤中に有機化合物A及び架橋性化合物B以外の化合物を含んでいてもよいことを意味している。そうした化合物としては、例えば、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、防菌防ばい剤、着色剤等を挙げることができる。これらの化合物を、本発明の趣旨及び皮膜性能を損なわない範囲で含有することができる。以下、本発明の構成を詳しく説明する。有機化合物A有機化合物Aは、官能基であるカルボキシル基及び/又は水酸基を含有する化合物である。これらのカルボキシル基及び/又は水酸基これらを官能基ともいう。を有する有機化合物Aは、後述する架橋性化合物Bと反応して、得られる表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性を高めることができる。有機化合物Aが含有する上記のカルボキシル基及び/又は水酸基は、分子量30~300に1個の割合で1分子中に2個以上含まれている。この割合で上記カルボキシル基及び/又は水酸基を含む有機化合物Aは、架橋性化合物Bとの間でより反応しやすくなる。その結果、水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜が緻密となり、耐薬品密着維持性をより高めることができる。カルボキシル基及び/又は水酸基の含有割合は、分子量30~150に1個の割合で1分子中に2個以上有していることがより好ましい。有機化合物Aは、分子量が10000以下の化合物である。有機化合物Aの分子量が10000以下であれば、得られる表面処理皮膜の密着性を高めることができるとともに、耐薬品密着維持性を実用レベルとすることができる。有機化合物Aの分子量が10000を超えると、表面処理皮膜が形成される際に、水系金属表面処理剤の移動度が低くなり、基材金属の表面にカルボキシル基や水酸基が配向し難くなり、基材金属との密着性が低くなってしまうことがある。また、有機化合物Aと架橋性化合物Bとの接触機会が低くなって架橋されない部位が発生してしまい、架橋密度が低下してしまうことがある。その結果、表面処理皮膜が緻密でなくなり、バリアー性が低下して耐薬品密着維持性が低下してしまう。バリアー性とは、酸や有機溶剤等の薬品が表面処理皮膜に浸透することを防ぐ性質をいう。有機化合物Aの分子量は、5000以下であればより好ましく、3000以下であれば特に好ましい。有機化合物Aとしては、例えば、シュウ酸、マロン酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、イタコン酸、プロパンジカルボン酸、ブタンジカルボン酸、ペンタンジカルボン酸、ヘキサンジカルボン酸、ヘプタンジカルボン酸、ブタントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸及びヘキサントリカルボン酸等の多価カルボン酸;エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ポリグリコール、チオジグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の多価アルコール;リンゴ酸、クエン酸、酒石酸等の多価ヒドロキシカルボン酸;ヘキサヒドロキシベンゼン、ピロガロール、1,2,4-トリヒドロキシベンゼン、フロログルシノール、カテコール、レソルシノール、ヒドロキノン、5-メチルピロガロール、2-メチルレソルシノール、5-メチルレソルシノール、2,5-ジメチルレソルシノール、3-メチルカテコール、4-メチルカテコール、メチルヒドロキノン、2,6-ジメチルヒドロキノン、5-メトキシレソルシノール、3-メトキシカテコール、メトキシヒドロキノン、2,5-ジヒドロキシ-1,4-ベンゾキノン、没食子酸、ピロガロール-4-カルボン酸、2-ヒドロキシ安息香酸、3-ヒドロキシ安息香酸、4-ヒドロキシ安息香酸、2,3-ジヒドロキシ安息香酸、2,4-ジヒドロキシ安息香酸、2,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,6-ジヒドロキシ安息香酸、3,4-ジヒドロキシ安息香酸、3,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,4,6-トリヒドロキシ安息香酸、2,6-ジヒドロキシ-4-メチル安息香酸、4-ヒドロキシ-3,5-ジメチル安息香酸、1,4-ジヒドロキシ-2-ナフトエ酸、没食子酸メチル、2,4-ジヒドロキシ安息香酸メチル、2,6-ジヒドロキシ安息香酸メチル、3,4-ジヒドロキシ安息香酸メチル、3,5-ジヒドロキシ安息香酸メチル、3,4-ジヒドロキシ安息香酸エチル、4,6-ジアミノレソルシノール二塩酸塩、4,6-ジアミノレソルシノール、2-ニトロレソルシノール、4-ニトロカテコール、メリット酸、ベンゼンペンタカルボン酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ヘミメリット酸、トリメシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、2,3-ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、4-メチルフタル酸、5-メチルイソフタル酸、2,5-ジメチルテレフタル酸、4-ヒドロキシフタル酸、5-ヒドロキシイソフタル酸、4-ニトロフタル酸、5-ニトロイソフタル酸、5-アミノイソフタル酸、4-アミノサリチル酸、4-アミノ-3-ヒドロキシ安息香酸、L-アスコルビン酸等の環状有機化合物;タンニン酸等の加水分解性タンニン;カキタンニン、テアフラビン、テアルビジン等の縮合型タンニン;等を挙げることができる。水系金属表面処理剤に含まれる有機化合物Aの含有量は、水系金属表面処理剤に含まれる全固形分に対して、10質量~95質量であることが好ましく、20質量~80質量であることがより好ましく、20質量~70質量であることが特に好ましい。有機化合物Aの含有量がこの範囲にあると、表面処理皮膜の緻密性をより高いものにすることができ、それにより耐薬品密着維持性がさらに向上する。なお、全固形分とは、水系金属表面処理剤を構成する成分のうち、溶剤等の揮発成分等を除いた固形分のことであり、具体的には、有機化合物Aと、架橋性有機化合物B1及び架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bとの合計量のことである。したがって、水系金属表面処理剤に含まれる有機化合物Aは、有機化合物Aと架橋性化合物Bとの合計量全固形分に対して、10質量~95質量であることが好ましく、20質量~80質量であることがより好ましく、20質量~70質量であることが特に好ましい。架橋性化合物B架橋性化合物Bは、架橋性有機化合物B1及び架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の化合物である。水系金属表面処理剤が架橋性化合物Bを含むことによって、その水系金属表面処理剤を処理して得られる表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性を高めることができる。架橋性有機化合物B1架橋性有機化合物B1は、有機化合物Aが有するカルボキシル基及び/又は水酸基と反応しうる構造単位を有する有機化合物である。反応しうるとは、有機化合物Aが有するカルボキシル基及び水酸基の両方又はいずれか一方に接触してそれらに反応することができるという意味である。構造単位とは、官能基又は単一結合単位のことである。有するとは、これらの構造単位以外に他の官能基や結合単位を有していてもよいという意味である。架橋性有機化合物B1としては、例えば、カルボジイミド結合、オキサゾリン基、グリシジルエーテル基、イソシアネート基及びメチロール基から選ばれる1種又は2種以上の構造単位を有する有機化合物を挙げることができる。カルボジイミド結合を有する有機化合物としては、特に限定されないが、例えば、ポリカルボジイミド化合物を用いることができる。ポリカルボジイミド化合物は、例えば、芳香環を有するジイソシアネート化合物の脱炭酸反応、又は、芳香環を有するジイソシアネート化合物と脂肪族又は脂環式ジイソシアネート化合物との脱炭酸反応、によって得られる5個~15個のカルボジイミド結合を有する重合体の両末端イソシアネート基を、ポリオール系化合物又はポリアミンで封止したノニオン性又はカチオン性のポリカルボジイミド化合物、を用いることができる。イソシアネート基をポリアミンで封止した場合には、さらに酸又はアルキル化剤を作用させて、ポリアミン由来の第二級アミン又は第三級アミン部分を形成する窒素原子の少なくとも一部に、水素原子又はアルキル基を結合させてカチオン化することが好ましい。脱炭酸反応に用いる芳香環を有するジイソシアネート化合物としては、例えば、3,3’-ジメトキシ-4,4’-ビフェニレンジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、1,5-テトラヒドロナフタレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネートTDI、2,6-トリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートMDI、2,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートXDI、テトラメチルキシリレンジイソシアネートTMXDI等を挙げることができる。脱炭酸反応に用いる脂肪族又は脂環式ジイソシアネート化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートHDI、リジンジイソシアネートエステル、水添キシリレンジイソシアネート、1,4-シクロヘキシルジイソシアネート、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートH12MDI、2,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートIPDI等を挙げることができる。脱炭酸反応によるポリカルボジイミド化合物の合成方法は、特に限定されず、ポリカルボジイミド化合物の合成に通常用いられる方法を用いることができる。例えば、上記した各種ジイソシアネート化合物を、不活性有機溶剤中、カルボジイミド化触媒の存在下、一定の温度をかけて脱炭酸する方法を挙げることができる。カルボジイミド化触媒としては、1-フェニル-2-ホスホレン-1-オキシド、3-メチル-2-ホスホレン-1-オキシド、1-エチル-2-ホスホレン-1-オキシド、1-エチル-3-メチル-2-ホスホレン-1-オキシド又は3-メチル-1-フェニル-2-ホスホレン-1-オキシド、又はこれらの3-ホスホレン異性体等のホスホレンオキシドを用いることができる。不活性有機溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶剤、シクロヘキサノン、アセトン等のケトン系溶剤又はヘキサン、ベンゼン等の炭化水素系溶剤等を用いることができる。上記した脱炭酸反応によって得られるポリカルボジイミド化合物1分子中のカルボジイミド結合の数は、5~15であることが好ましく、7~13であることがより好ましい。カルボジイミド結合の数を5~15の範囲とすることで、水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜の密着性をより高めることができ、樹脂フィルム等を基材金属に強力に密着させることができる。また、ポリカルボジイミド化合物の構造が柔軟になるため、得られる表面処理皮膜が柔軟性を有し、厳しい成形加工を施した場合であっても、樹脂フィルム等がより剥離し難くなる。カルボジイミド結合の数が5未満の場合は、ポリカルボジイミド化合物の反応性が上昇し、架橋が促進されすぎてしまうので、得られる表面処理皮膜が硬く脆い表面処理皮膜になりやすい。また、カルボジイミド結合の数が15を超える場合は、反応性が低下しすぎて架橋が不十分となるだけでなく、水分散性も低下する。架橋が不十分となると、得られる表面処理皮膜が緻密ではなくなり、耐薬品密着維持性が低下してしまう。上記した脱炭酸反応によって得られるポリカルボジイミド化合物の溶液に、さらにポリオール系化合物又はポリアミンを添加し反応させて両末端のイソシアネート基を封止する。ポリオール系化合物としては、下記化学式1で表されるポリアルキレングリコール又はそのモノアルキルエーテルを挙げることができ、ポリアミンとしては、下記化学式2で表されるポリアミン又は下記化学式3で表されるポリアルキレンジアミンN-アルキル誘導体を挙げることができる。なお、化学式1中、R1は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表し、R2は炭素数2~4のアルキレン基を表し、nは2~30の整数を表し、化学式2中、R3~R6は炭素数1~4のアルキル基を表し、R7は炭素数2~4のアルカントリイル基を表し、化学式3中R8は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表し、R9は炭素数1~4のアルキル基を表し、R10は炭素数2~4のアルキレン基を表し、mは2~30の整数を表す。化学式1~3において、R1、R3~R6、R8及びR9の定義における炭素数1~4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等を挙げることができ、中でもメチル基及びエチル基が好ましい。R2及びR10としては、エチレン基、プロピレン基、n-ブチレン基等を挙げることができ、中でもエチレン基及びプロピレン基が好ましい。R7としては、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基等を挙げることができる。化学式1で表されるポリアルキレングリコール又はそのモノアルキルエーテルとしては、具体的には、nが2~30のポリエチレングリコール、そのモノメチル又はそのモノエチルエーテルや、nが2~30のポリプロピレングリコール、そのモノメチル又はそのモノエチルエーテル等を挙げることができる。化学式2で表されるポリアミンとしては、具体的には、3,3-ビスジメチルアミノプロピルアミン、3,3-ビスジエチルアミノプロピルアミン等を挙げることができる。化学式3で表されるポリアルキレンジアミンN-アルキル誘導体としては、具体的には、mが2~30のポリエチレンジアミンの末端アミノ基の一方が、モノメチル化若しくはジメチル化されたもの、又は、モノエチル化若しくはジエチル化されたもの等を挙げることができる。ポリカルボジイミド化合物の両末端イソシアネート基の封止を、化学式2又は化学式3のポリアミンを用いて行った場合には、ポリカルボジイミド化合物を含有する反応溶液に、さらに酸又はアルキル化剤を添加して、化学式2又は化学式3に由来する第二級又は第三級アミン部分を形成する窒素原子の少なくとも一部に、水素原子又はアルキル基を結合させてカチオン化する。カチオン化に用いる酸は、無機酸でも有機酸でもよく、例えば、硫酸、ハロゲン化水素酸塩化水素ガス、塩酸、フッ化水素酸等、亜リン酸、リン酸、アルキル硫酸メチル硫酸、エチル硫酸等、ギ酸、酢酸等を挙げることができる。カチオン化に用いるアルキル化剤としては、例えば、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のジアルキル硫酸、塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、塩化ブチル等のハロゲン化アルキル等を挙げることができる。ポリカルボジイミド化合物は、通常、水溶液形態又は水分散形態で用いられる。水分散形態は、エマルション形態でもよいし、コロイダルディスパージョン形態でもよい。水溶液形態又は水分散形態とする方法は、特に限定されない。例えば、上記のように酸又はアルキル化剤によってカチオン化した後、水を加え、次いで、不活性有機溶剤を蒸留等により除去して水溶液形態又は水系エマルション形態とする方法を用いることができる。水への溶解又は分散は、自己溶解性又は自己分散性のいずれに基づいて達成されていてもよく、また、カチオン性界面活性剤例えば、テトラアルキルアンモニウム塩等及びノニオン性界面活性剤例えば、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル等から選ばれる1種又は2種以上の存在により達成されていてもよい。水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性を維持する観点から、界面活性剤は用いずに、ポリカルボジイミド化合物が有している親水性基の作用によって自己溶解性又は自己分散性として水へ溶解又は分散させることが好ましい。オキサゾリン基を含有する有機化合物としては、特に限定されず、従来公知のエマルションタイプ又は水溶性タイプのオキサゾリン基含有樹脂を用いることができる。エマルションタイプ及び水溶性タイプの両方を用いてもよい。エマルションタイプとは、水中で水分散体を形成するタイプのことであり、水溶性タイプとは、水中で水溶液を形成するタイプのことである。このようなオキサゾリン基含有樹脂としては、例えば、付加重合性オキサゾリン化合物と他の単量体から選ばれる1種又は2種以上とを重合した共重合体を挙げることができる。付加重合性オキサゾリン化合物としては、具体的には、2-ビニル-2-オキサゾリン、2-ビニル-4-メチル-2-オキサゾリン、2-ビニル-5-メチル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-4-メチル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-5-エチル-2-オキサゾリンを挙げることができ、これらの群から選ばれる1種又は2種以上の混合物を用いることができる。これらのうち、2-イソプロペニル-2-オキサゾリンが工業的にも入手し易く好適である。付加重合性オキサゾリン化合物の使用量は、特に限定されるものではないが、付加重合性オキサゾリン化合物及び他の単量体の混合物の総質量に対して、5質量以上であることが好ましい。5質量未満の量では上層との架橋の程度が不充分であり、耐薬品密着維持性が不足する傾向にある。他の単量体としては、オキサゾリン基と反応せず、かつ付加重合性オキサゾリン化合物と共重合可能な単量体であれば特に限定されず、例えば、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸メトキシポリエチレングリコール、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタアクリル酸2-アミノエチル及びそれらの塩等のメタアクリル酸エステル類;メタアクリルニトリル等の不飽和ニトリル類;メタアクリルアミド、N-メチロールメタアクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチルメタアクリルアミド等の不飽和アミド類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル類;エチレン、プロピレン等のα-オレフィン類;塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル等の含ハロゲンα,β-不飽和単量体類;スチレン、α-メチルスチレン、スチレンスルホン酸ナトリウム等のα,β-不飽和芳香族単量体類;を挙げることができる。これらの群から選ばれる1種又は2種以上の混合物を使用することができる。エマルションタイプのオキサゾリン基含有樹脂の製造方法は、付加重合性オキサゾリン化合物と上記した他の単量体から選ばれる1種又は2種以上とを、従来公知の重合法によって重合させる方法を用いることができる。従来公知の重合法のうち、特に乳化重合法を好ましく用いることができる。乳化重合法としては、従来公知の重合開始剤、界面活性剤、溶剤等を用い、いわゆるモノマー滴定法、多段重合法又はプレエマルション法等の方法を用いることができる。具体的には、付加重合性オキサゾリン化合物と上記した他の単量体から選ばれる1種又は2種以上とを含む混合物を、従来公知の界面活性剤を含む水性溶剤中に攪拌条件下で分散させ、次いで重合開始剤を添加することで重合させることができる。界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、n-ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリン酸ナトリウム等のアニオン系界面活性剤;ポリエチレングリコールのノニルフェノールエーテル等のノニオン系界面活性剤を挙げることができる。重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、過酸化水素、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ジ-t-ブチルパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、t-ブチルヒドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキシド等の過酸化物;2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、アゾビスシアノ吉草酸、2,2’-アゾビス-2-アミジノプロパン二塩酸塩等のアゾ化合物等を挙げることができる。水性溶剤は、水又は水と有機溶剤との混合物である。有機溶剤は、水と混合可能なものであれば特に限定されない。そのような有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ターシャリーブタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール、アセトン、メチルエチルケトン等を挙げることができる。エマルションタイプのオキサゾリン基含有樹脂の構造をコアシェル型構造とする場合は、コア部が、モノマーとして付加重合性オキサゾリン化合物を含まず、上記した他の単量体から選ばれる1種又は2種を含むアクリル系エマルションであり、シェル部が、モノマーとして付加重合性オキサゾリン化合物と、上記した他の単量体から選ばれる1種又は2種以上とを含むオキサゾリン基含有重合体層であるオキサゾリン基含有樹脂とすることができる。このようなコアシェル型構造のオキサゾリン基含有樹脂の製造方法は、多段階フィード法又はパワーフィード法等の公知の方法を用いることができる。水溶性タイプのオキサゾリン基含有樹脂の製造方法は、従来公知の重合法を用いることができ、例えば、付加重合性オキサゾリン化合物と上記した他の単量体から選ばれる1種又は2種以上とを、水性溶剤中で溶液重合させる方法を用いることができる。具体的には、例えば、付加重合性オキサゾリン化合物と上記した他の単量体から選ばれる1種又は2種以上とを含む混合物を、水性溶剤中に攪拌条件下で分散させ、次いで重合開始剤を添加することで重合させることができる。重合開始剤及び水性溶剤としては、特に制限はなく、上記したエマルションタイプのオキサゾリン基含有樹脂を製造する場合と同様の物質を用いることができる。水溶性とするために、上記した他の単量体から選ばれる1種又は2種以上が、親水性の単量体を含むことが好ましい。親水性の単量体としては、例えば、上記した他の単量体のうち、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタアクリル酸メトキシポリエチレングリコール、メタアクリル酸2-アミノエチル及びその塩、メタアクリルアミド、N-メチロールメタアクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチルメタアクリルアミド、メタアクリロニトリル、スチレンスルホン酸ナトリウム等を挙げることができる。水溶性のオキサゾリン基含有樹脂に含まれる親水性単量体の割合は、付加重合性オキサゾリン化合物及び他の単量体の混合物の総質量に対して、50質量以上であることが好ましく、70質量以上であることがより好ましい。親水性単量体を50質量含むことによって、オキサゾリン基含有樹脂を容易に水溶性とすることができる。グリシジルエーテル基を有する有機化合物としては、特に限定されないが、従来公知の多価グリシジルエーテル化合物を用いることができる。具体的には、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールリグリシジルエーテル、ポリグリセロールトリグリシジルエーテル、ペンタエリトリトールテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル等を挙げることができる。イソシアネート基を有する有機化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネートの異性体類;4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類;キシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ジイソシアネート類;イソホロンジイソシアネート、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類;等を挙げることができる。これらのイソシアネート基を有する有機化合物は、特に限定されないが、水系金属表面処理剤の安定性の点から、各種ブロック剤でブロック化したイソシアネート化合物を用いることが好ましい。ブロック剤としては、例えば、フェノール系、アルコール系、オキシム系、活性メチレン系、酸アミド系、カルバミン酸塩系、亜硫酸塩系等の各種ブロック剤を挙げることができる。メチロール基を有する有機化合物としては、例えば、レゾール型フェノール樹脂、メチロールメラミン及びN-メチロールアクリルアミドモノマーから選ばれる1種又は2種以上を構成単位とする単独又は共重合体を挙げることができる。架橋性無機化合物B2架橋性無機化合物B2は、有機化合物Aが有する官能基であるカルボキシル基及び/又は水酸基と反応しうる元素を含む化合物である。反応しうるとは、カルボキシル基及び水酸基の両方又はいずれか一方に接触してそれらに反応することができるという意味である。含むとは、これらの元素以外に他の元素を有していてもよいことを意味している。架橋性無機化合物B2としては、有機化合物Aが有するカルボキシル基及び/又は水酸基と反応しうる元素を含む従来公知の無機物質を用いることができる。例えば、Mg、Al、Ca、Mn、Co、Ni、CrIII、Zn、Fe、Zr、Ti、Si、Sr、W、Ce、Mo、V、Sn、Bi、Ta、Te、In、Ba、Hf、Se、Sc、Nb、Cu、Y、Nd及びLaから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む無機化合物を用いることができる。中でも、Mg、Al、Ca、Mn、CrIII、Zn、Fe、Zr、Ti、Si、Ce、Te及びHfから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む無機化合物がより好ましく、CrIII、Zr、Ti、Si、Ce及びTeから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む無機化合物がさらに好ましい。具体的には、Mg、Al、Ca、Mn、Co、Ni、CrIII、Zn、Fe、Zr、Ti、Si、Sr、W、Ce、Mo、V、Sn、Bi、Ta、Te、In、Ba、Hf、Se、Sc、Nb、Cu、Y、Nd及びLaから選ばれる1種又は2種以上の元素を含む塩、錯化合物又は金属水和酸化物以下、塩等ともいう。を挙げることができる。より具体的には、ビスアセチルアセトナトジアクアマグネシウムII、アルミン酸マグネシウム、安息香酸マグネシウム、蟻酸マグネシウム、蓚酸マグネシウム、タングステン酸マグネシウム、メタニオブ酸マグネシウム、ホウ酸マグネシウム、モリブデン酸マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、ニリン酸マグネシウム、硝酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、リン酸アンモニウムマグネシウム、リン酸水素マグネシウム、酸化マグネシウム等のマグネシウム塩等;硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、硫酸カリウムアルミニウム、硫酸ナトリウムアルミニウム、硫酸アンモニウムアルミニウム、リン酸アルミニウム、炭酸アルミニウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、フッ化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、酢酸アルミニウム、安息香酸アルミニウム、クエン酸アルミニウム、グルコン酸アルミニウム、セレン酸アルミニウム、蓚酸アルミニウム、酒石酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、パルチミン酸アルミニウム等のアルミニウム塩等;ビスアセチルアセトナトジアクアカルシウムII、安息香酸カルシウム、クエン酸カルシウム、メタスズ酸カルシウム、セレン酸カルシウム、タングステン酸カルシウム、炭酸カルシウム、四ホウ酸カルシウム、モリブデン酸カルシウム、マレイン酸カルシウム、リンゴ酸カルシウム、ニリン酸カルシウム、フッ化カルシウム、ホスフィン酸カルシウム、硝酸カルシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、シュウ酸カルシウム、酸化カルシウム、酢酸カルシウム等のカルシウム塩等;ビスアセチルアセトナトジアクアマンガンII、四酸化三マンガン、酸化マンガンII、酸化マンガンIII、酸化マンガンIV、臭化マンガンII、蓚酸マンガンII、過マンガン酸VII、過マンガン酸カリウムVII、過マンガン酸ナトリウムVII、リン酸二水素マンガンII、硝酸マンガンII、硫酸マンガンII、硫酸マンガンIII、硫酸マンガンIV、フッ化マンガンII、フッ化マンガンIII、炭酸マンガンII、酢酸マンガンII、酢酸マンガンIII、硫酸アンモニウムマンガンII、ヨウ化マンガンII、水酸化マンガンII等のマンガン塩等又はマンガン酸塩等;ビスアセチルアセトナトジアクアコバルトII、トリスアセチルアセトナトコバルトIII、スルファミン酸コバルトII、塩化コバルトII、クロロペンタアンミンコバルト塩化物III、ヘキサアンミンコバルト塩化物III、ジアンミンテトラニトロコバルトIII酸アンモニウム、硫酸コバルトII、硫酸アンモニウムコバルト、硝酸コバルトII、酸化コバルト二アルミニウム、水酸化コバルトII、酸化コバルトII、リン酸コバルト、酢酸コバルトII、蟻酸コバルトII、四酸化三コバルト、臭化コバルトII、蓚酸コバルトII、セレン酸コバルトII、タングステン酸コバルトII、ヒドロキシ炭酸第一コバルトII、モリブデン酸コバルトII、ヨウ化コバルトII、リン酸コバルトII等のコバルト塩等;二スルファミン酸ニッケルII、安息香酸ニッケルII、硝酸ニッケルII、硫酸ニッケルII、炭酸ニッケルII、ニッケルアセチルアセトネートII、塩化ニッケルII、ヘキサアンミンニッケル塩化物、酸化ニッケル、水酸化ニッケルII、酸化ニッケルII、酢酸ニッケル、クエン酸ニッケルII、コハク酸ニッケルII、臭化ニッケルII、蓚酸ニッケルII、酒石酸ニッケルII、セレン酸ニッケルII、ヒドロキシ炭酸ニッケルII、乳酸ニッケルII、モリブデン酸ニッケルII、ヨウ化ニッケルII、二リン酸ニッケルII等のニッケル塩等;蟻酸クロムIII、フッ化クロムIII、硝酸クロムIII、硫酸クロムIII、蓚酸クロムIII、酢酸クロムIII、重燐酸クロムIII、水酸化クロムIII、酸化クロムIII、臭化クロムIII、ヨウ化クロムIII等のクロム塩等;ビスアセチルアセトナト亜鉛II、安息香酸亜鉛II、ヒドロキシ塩化亜鉛II、蟻酸亜鉛II、クエン酸亜鉛II、臭化亜鉛II、蓚酸亜鉛II、酒石酸亜鉛II、メタスズ酸亜鉛II、セレン酸亜鉛II、タングステン酸亜鉛II、フッ化亜鉛II、モリブデン酸亜鉛II、酪酸亜鉛II、ニリン酸亜鉛II、硫酸亜鉛II、炭酸亜鉛II、塩化亜鉛II、ヨウ化亜鉛II、水酸化亜鉛II、酸化亜鉛II等の亜鉛塩等;ビスアセチルアセトナトジアクア鉄II、トリスアセチルアセトナト鉄III、三蓚酸鉄三カリウム、蟻酸鉄II、四バナジン酸鉄III、臭化鉄III、酒石酸鉄III、乳酸鉄II、フッ化鉄II、フッ化鉄III、塩化鉄II、塩化鉄III、ヨウ化鉄II、ヨウ化鉄III、硫酸鉄II、硫酸鉄III、硝酸鉄II、硝酸鉄III、酢酸鉄II、酢酸鉄III、クエン酸鉄IIクエン酸鉄III、グリシン鉄II、グリシン鉄III、蓚酸鉄II、蓚酸鉄III、ピコリン酸鉄II、ピコリン酸鉄III、L-フェニルアラニン鉄II、L-フェニルアラニン鉄III、マロン酸鉄II、マロン酸鉄III、水酸化鉄II、水酸化鉄III、酸化鉄II、酸化鉄III、四酸化三鉄等の鉄塩等;ビスアセチルアセトナトジアクアストロンチウムII、蟻酸ストロンチウムII、クエン酸ストロンチウムIIタングステン酸ストロンチウム、メタスズ酸ストロンチウム、酸化ストロンチウムIV、酸化ストロンチウムII、蓚酸ストロンチウム、メタニオブ酸ストロンチウム、モリブデン酸ストロンチウム、ヨウ化ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、硫酸ストロンチウム、炭酸ストロンチウム、酢酸ストロンチウム、塩化ストロンチウム、リン酸ストロンチウム、乳酸ストロンチウム等のストロンチウム塩等;オキシ二蓚酸チタン二アンモニウム、オキシ二蓚酸チタン二カリウム、酸化チタンII、酸化チタンIII、酸化チタンIV、オキシ硫酸第二チタン、塩基性リン酸チタン、臭化チタンIV、メタチタン酸、メタチタン酸亜鉛II、チタン酸アルミニウムIII、メタチタン酸カリウム、メタチタン三コバルトII、チタン酸ジルコニウム、メタチタン酸ストロンチウム、メタチタン三鉄III、メタチタン酸銅II、チタン酸ナトリウム、二チタン酸ネオジムIII、メタチタン酸バリウム、メタチタン酸ビスマスIII、メタチタン酸マグネシウム、チタン酸マグネシウム、メタチタン酸マンガンII、二チタン酸ランタンIII、メタチタン酸リチウム、ヘキサフルオロチタンIV酸アンモニウム、ヘキサフルオロチタンIV酸カリウム、ヨウ化チタンIV、硫酸チタンIII、硫酸チタンIV、塩化チタン、硝酸チタン、硫酸チタニル、フッ化チタンIII、フッ化チタンIV、ヘキサフルオロチタン酸、乳酸チタン、ペルオキソチタン酸、チタンラウレート、チタニウムアセチルアセトネート、水酸化チタンIV等のチタン塩等又はチタン酸塩等;テトラキスアセチルアセトナトジルコニウムIV、塩化酸化ジルコニウムIV、塩化ジルコニウムIV、ケイ酸ジルコニウム、酢酸酸化ジルコニウムIV、酸化ジルコニウムIV、硝酸酸化ジルコニウムIV、メタジルコニウム酸セシウム、メタジルコニウム酸リチウム、メタジルコニウム酸亜鉛II、メタジルコニウム酸アルミニウムIII、メタジルコニウム酸カルシウム、メタジルコニウム酸コバルトII、メタジルコニウム酸ストロンチウム、メタジルコニウム酸銅II、メタジルコニウム酸ナトリウム、メタジルコニウム酸ニッケルII、メタジルコニウム酸バリウム、メタジルコニウム酸ビスマスIII、メタジルコニウム酸マグネシウム、オキシ炭酸ジルコニウム、ヘキサフルオロジルコニウムIV酸アンモニウム、ヘキサフルオロジルコニウムIV酸カリウム、ヨウ化ジルコニウム、リン酸二水素酸化ジルコニウムIV、塩基性炭酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウムアンモニウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、硫酸ジルコニウムIV、硫酸ジルコニル、ヘキサフルオロジルコニウム酸、オキシリン酸ジルコニウム、ピロリン酸ジルコニウム、リン酸二水素ジルコニル、オキシ塩化ジルコニウム、フッ化ジルコニウム、酢酸ジルコニル、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム等のジルコニウム塩等;ヘキサフルオロケイ酸、シリカ等のケイ酸塩等;塩化タングステンVI、酸化タングステン酸鉄III、塩化タングステンVI、オキシ二塩化タングステン、二酸化タングステン、三酸化タングステン、メタタングステン酸、メタタングステン酸アンモニウム、メタタングステン酸ナトリウム、パラタングステン酸、パラタングステン酸アンモニウム、パラタングステン酸ナトリウム、タングステン酸亜鉛II、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸コバルトII、タングステン酸ストロンチウム、タングステン酸セシウム、タングステン酸銅II、タングステン酸ニッケル、タングステン酸バリウム、タングステン酸マグネシウム、タングステン酸マンガンII、タングステン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム等のタングステン塩等又はタングステン酸塩等;トリスアセチルアセトナトセリウムIII、塩化セリウムIII、酸化セリウムIII、酸化セリウムIV、臭化セリウムIII、蓚酸セリウムIII、水酸化セリウムIV、硫酸第二セリウムアンモニウムIV、硫酸第一セリウムアンモニウムIII、炭酸セリウムIII、硫酸セリウム、酢酸セリウムIII、硝酸セリウムIII、硫酸セリウムIV、フッ化セリウムIII、ヨウ化セリウムIII、リン酸セリウムIII等のセリウム塩等;塩化モリブデンV、酸化モリブデンIV、酸化モリブデンVI、モリブデン酸亜鉛II、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸カルシウム、モリブデン酸コバルトII、モリブデン酸セシウム、モリブデン酸ニッケルII、モリブデン酸バリウム、モリブデン酸ビスマスIII、モリブデン酸マグネシウム、モリブデン酸リチウム、パラモリブデン酸リチウム、モリブデン酸ストロンチウム、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸、モリブデン酸アンモニウム、パラモリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸ナトリウム等のモリブデン塩等又はモリブデン酸塩等;オキシ二塩化バナジウム、オキシ三塩化バナジウム、三塩化バナジウム、酸化バナジウム、四バナジン酸鉄III、臭化バナジウムIII、オキシ蓚酸バナジウム、ヨウ化バナジウムII、五酸化バナジウム、メタバナジン酸、ピロバナジン酸ナトリウム、バナジン酸ナトリウム、メタバナジン酸アンモニウム、メタバナジン酸ナトリウム、メタバナジン酸カリウム、オキシ三塩化バナジウム、三酸化バナジウム、二酸化バナジウム、オキシ硫酸バナジウム、バナジウムオキシアセチルアセテート、バナジウムアセチルアセテート、リンバナドモリブデン酸等のバナジウム塩等又はバナジン酸塩等;塩化スズII、酢酸スズII、蓚酸スズII、酒石酸スズII、酸化スズIV、硝酸スズ、硫酸スズ、フッ化スズII、ヨウ化スズII、ヨウ化スズIV、ピロリン酸スズII、メタスズ酸、メタスズ酸亜鉛、メタスズ酸カルシウム、メタスズ酸ストロンチウム、メタスズ酸バリウム、メタスズ酸マグネシウム等のスズ塩又はスズ酸塩等;安息香酸ビスマスIII、塩化酸化ビスマスIII、クエン酸ビスマスIII、オキシ酢酸ビスマスIII、酸化酒石酸ビスマスIII、酸化ビスマスIII、オキシ硫酸二ビスマス、臭化ビスマスIII、酒石酸ビスマスIII、水酸化ビスマスIII、オキシ炭酸二ビスマス、ジルコニウム酸ビスマスIII、オキシ硝酸ビスマス、四チタン酸ビスマスIII、三チタン酸ビスマスIII、フッ化ビスマスIII、モリブデン酸ビスマスIII、ヨウ化ビスマスIII、硝酸ビスマスIII、塩化ビスマスIII、硫酸ビスマスIII、酢酸ビスマスIII、リン酸ビスマスIII等のビスマス塩等;塩化タンタルV、酸化タンタルV、臭化タンタルV、タンタル酸、六タンタル酸カリウム、メタタンタル酸ストロンチウム、メタタンタル酸ナトリウム、メタタンタル酸リチウム、ヨウ化タンタルV、タンタルオキシアセチルアセトネート、メタタンタル酸、メタタンタル酸アンモニウム、ヘプタフルオロタンタル酸カリウム等のタンタル塩等又はタンタル酸塩等;テルル酸、メタテルル酸アンモニウム、メタテルル酸カリウム、メタテルル酸ナトリウム、ヨウ化テルルIV、テルル酸カリウム、テルル酸ナトリウム、亜テルル酸、亜テルル酸カリウム、亜テルル酸ナトリウム、亜テルル酸バリウム、亜テルル酸リチウム、塩化テルルIV、酸化テルルIV、臭化テルルIV、水酸化硝酸三酸化二テルル、亜テルル酸亜鉛等のテルル塩等又はテルル酸塩等;トリスアセチルアセトナトインジウムIII、アミド硫酸インジウムIII、二塩化インジウム、塩化インジウムI、塩化インジウムIII、酢酸インジウムIII、臭化インジウムIII、ヨウ化インジウムIII、硝酸インジウムIII、硫酸インジウムIII、フッ化インジウムIII、酸化インジウムIII、水酸化インジウムIII等のインジウム塩等;ビスアセチルアセトナトジアクアバリウムII、亜セレン酸バリウム、亜テルル酸バリウム、安息香酸バリウム、アルミン酸バリウム、塩化バリウム、蟻酸バリウム、クエン酸バリウム、酸化バリウム、臭化バリウム、蓚酸バリウム、酒石酸バリウム、メタジルコニウム酸バリウム、水酸化バリウム、メタスズ酸バリウム、タングステン酸バリウム、メタチタン酸バリウム、メタニオブ酸バリウム、乳酸バリウム、メタホウ酸バリウム、モリブデン酸バリウム、ヨウ化バリウム、リン酸水素バリウム、炭酸バリウム、フッ化バリウム等のバリウム塩等;テトラキスアセチルアセトナトハフニウムIV、塩化ハフニウムIV、酸化ハフニウムIV、ヨウ化ハフニウムIV、硫酸ハフニウムIV、硝酸ハフニウムIV、オキシ蓚酸ハフニウムIV、フルオロハフニウム酸、フルオロハフニウム酸塩、フッ化ハフニウム等のハフニウム塩等又はハフニウム酸塩等;亜セレン酸カリウム、亜セレン酸水素カリウム、亜セレン酸三水素セシウム、亜セレン酸水素ナトリウム、亜セレン酸水素リチウム、亜セレン酸銅II、亜セレン酸ナトリウム、亜セレン酸バリウム、オキシ塩化セレン、塩化セレンI、塩化セレンIV、酸化セレンIV、セレン酸アルミニウム、セレン酸、亜セレン酸亜鉛、セレン酸カリウム、セレン酸アンモニウム、セレン酸カルシウム、セレン酸セシウム、セレン酸コバルト、セレン酸銅II、セレン酸ニッケル、セレン酸ナトリウム、セレン酸バリウム、セレン酸亜鉛等のセレン塩等又はセレン酸塩等;塩化スカンジウムIII、蟻酸スカンジウムIII、酢酸スカンジウムIII、硝酸スカンジウムIII、酸化スカンジウムIII、フッ化スカンジウムIII、ヨウ化スカンジウムIII、硫酸スカンジウムIII等のスカンジウム塩等;酸化ニオブII、酸化ニオブV、五蓚酸水素ニオブ、水酸化ニオブV、ニオブオキシアセチルアセトネート、メタニオブ酸、メタニオブ酸カルシウム、メタニオブ酸ストロンチウム、メタニオブ酸バリウム、メタニオブ酸マグネシウム、メタニオブ酸リチウム、メタニオブ酸アンモニウム、メタニオブ酸ナトリウム、五塩化ニオブ等のニオブ塩等又はニオブ酸塩等;アミド硫酸銅II、安息香酸銅II、テトラアンミン銅II硝酸塩、クエン酸銅II、酸化銅I、臭化銅I、蓚酸銅II、蟻酸銅II、酢酸銅II、プロピオン酸銅II、吉草酸銅II、グルコン酸銅II、酒石酸銅II、塩化銅II、臭化銅II、水酸化銅II、酢酸銅II、硝酸銅II、硫酸銅II、炭酸銅II、酸化銅II、ヒドロキシ硝酸第二銅、タングステン酸銅II、炭酸水酸化銅II、乳酸銅II、フッ化銅II、ヨウ化銅I等の銅塩等;トリスアセチルアセトナトイットリウムIII、塩化イットリウムIII、蟻酸イットリウムIII、クエン酸イットリウムIII、酢酸イットリウムIII、酸化イットリウムIII、蓚酸イットリウムIII、硝酸イットリウムIII、炭酸イットリウムIII、フッ化イットリウムIII、ヨウ化イットリウムIII、硫酸イットリウムIII、リン酸イットリウムIII等のイットリウム塩等;トリスアセチルアセトナトランタンIII、塩化ランタンIII、蟻酸ランタンIII、酢酸ランタンIII、酸化ランタンIII、蓚酸ランタンIII、硝酸ランタンIII、炭酸ランタンIII、フッ化ランタンIII、二チタン酸ランタンIII、硫酸ランタンIII、リン酸ランタンIII、ヨウ化ランタンIII等のランタン塩等;トリスアセチルアセトナトネオジムIII、塩化ネオジムIII、蟻酸ネオジムIII、酢酸ネオジムIII、酸化ネオジムIII、臭化ネオジムIII、蓚酸ネオジムIII、硝酸ネオジムIII、炭酸ネオジムIII、二チタン酸ネオジムIII、フッ化ネオジムIII、ヨウ化ネオジムIII、硫酸ネオジムIII、リン酸ネオジムIII等のネオジウム塩等;を挙げることができる。これらの化合物は無水物であってもよいし、水和物であってもよい。また、単独で使用してもよいし、2種以上組み合わせて使用してもよい。さらに、水系金属表面処理剤溶剤中に溶解していてもよいし、分散していてもよい。架橋性有機化合物B1及び架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bの含有量の総計B=B1B2は、全固形分に対して、5質量~90質量であることが好ましく、10質量~80質量であることがより好ましく、20質量~80質量であることが特に好ましい。架橋性化合物Bの含有量が5質量~90質量の範囲にあると、表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性がさらに向上する。溶剤本発明に係る水系金属表面処理剤は、金属材料表面に塗布する際の作業性を良くするために、必要に応じて各種の溶剤を含有することができる。溶剤としては、例えば、水;ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶剤;ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤;エタノール、1-ブタノール、エチルセロソルブ等のアルコール系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブトキシエチル等のエステル系溶剤;ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等のアミド系溶剤;ジメチルスルホキシド等のスルホン系溶剤;ヘキサメチルリン酸トリアミド等のリン酸アミド系溶剤;等が挙げられる。これらの溶剤は、上記の各溶媒のうち1種類を用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。このうち、環境上、経済上有利である理由から、水が好ましい。その他の添加剤本発明に係る水系金属表面処理剤は、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、防菌防ばい剤、着色剤等を、本発明の趣旨及び皮膜性能を損なわない範囲で含有することができる。水系金属表面処理剤の調製方法本発明に係る水系金属表面処理剤の製造方法は、特に限定されない。例えば、有機化合物Aと架橋性化合物Bは、任意に含まれる添加剤及び任意に含まれる溶剤等と混ぜ、混合ミキサー等の攪拌機を用いて十分に混合することによって調製することができる。[金属材料]本発明に係る金属材料10は、図1に示すように、基材金属1と、その表面に本発明に係る水系金属表面処理剤を塗布して形成された表面処理皮膜2を有する。塗布とは、後述する塗布工程によって、基材金属1の表面に水系金属表面処理剤を塗ることをいう。有するとは、基材金属1及び表面処理皮膜2以外に他の構成を有していてもよいことを意味している。例えば、表面処理皮膜2の上にラミネート加工によって形成された樹脂フィルム3を有していてもよい。表面処理皮膜2は、上記した本発明に係る水系金属表面処理剤を基材金属1に塗布して形成されるので、密着性及び耐薬品密着維持性に優れている。金属材料10は、そのような表面処理皮膜2を有するので、表面処理皮膜2の上に樹脂フィルム3又は樹脂塗膜3を形成した後、深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに酸等に曝された場合であっても、樹脂フィルム3又は樹脂塗膜3が金属材料10から剥離することを防ぐことができる。なお、図1では、基材金属1の一方の表面に、表面処理皮膜2と、樹脂フィルム3又は樹脂塗膜3とを形成した例を示しているが、基材金属1の両面に、すなわち他方の表面にも表面処理皮膜2を形成し、さらに樹脂フィルム3又は樹脂塗膜3を設けてもよい。基材金属1の種類は、特に限定されず、各種のものを適用できる。例えば、食品用缶のボディー又は蓋材、食品用容器、乾電池容器、2次電池の外装材等に適用可能な金属材料を挙げることができるが、これらに限定されず、広い用途に応用可能な金属材料を用いることができる。特に、携帯電話、電子手帳、ノート型パソコン又はビデオカメラ等に用いられるモバイル用リチウムイオン2次電池の外装材、電気自動車又はハイブリッド自動車の駆動エネルギーとして用いるリチウムイオン2次電池の外装材として利用可能な金属材料を挙げることができる。これらの金属材料のうち、その表面に表面処理皮膜を形成することができ、さらに表面処理皮膜の上に樹脂フィルムをラミネート等することができ、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施すことができる金属材料を好ましく用いることができる。そうした金属材料としては、例えば、純銅、銅合金等の銅材料、純アルミニウム、アルミニウム合金等のアルミニウム材料、普通鋼、合金鋼等の鉄材料、純ニッケル、ニッケル合金等のニッケル材料等を挙げることができる。銅合金としては、銅を50質量以上含有するものが好ましく、例えば、黄銅等を用いることができる。銅合金における銅以外の合金成分としては、例えば、Zn、P、Al、Fe、Ni等を挙げることができる。アルミニウム合金としては、アルミニウムを50質量以上含有するものが好ましく、例えば、Al-Mg系合金等を用いることができる。アルミニウム合金におけるアルミニウム以外の合金成分としては、例えば、Si、Fe、Cu、Mn、Cr、Zn、Ti等を挙げることができる。合金鋼としては、鉄を50質量以上含有するものが好ましく、例えば、ステンレス鋼等を用いることができる。合金鋼における鉄以外の合金成分としては、例えば、C、Si、Mn、P、S、Ni、Cr、Mo等を挙げることができる。ニッケル合金としては、ニッケルを50質量以上含有するものが好ましく、例えば、Ni-P合金等を用いることができる。ニッケル合金におけるニッケル以外の合金成分としては、例えば、Al、C、Co、Cr、Cu、Fe、Zn、Mn、Mo、P等を挙げることができる。基材金属1は、上記した金属材料以外の金属材料、セラミックス材料又は有機材料の表面に、上記した金属元素を含む皮膜を形成したものであってもよい。そのような金属皮膜は、例えば、めっき、蒸着、クラッド等の手法により形成することができる。また、基材金属1の形状、構造等は特に限定されず、例えば、板状又は箔状の金属材料を用いることができる。以上説明したように、本発明に係る水系金属表面処理剤によれば、上記した有機化合物Aと、上記した架橋性有機化合物B1及び上記した架橋性無機化合物B2から選ばれる1種又は2種以上の架橋性化合物Bとを含むので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜が高い密着性を有するとともに、酸等に曝されても高い密着性を維持することができる。その結果、表面処理皮膜が形成された金属材料に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、さらに酸や有機溶剤等に曝された場合であっても、そのラミネートフィルム又は樹脂塗膜が金属材料から剥離することを防ぐことができる。[表面処理方法]水系金属表面処理剤を用いた金属表面の処理方法は、水系金属表面処理剤を基材金属の表面に塗布する塗布工程と、塗布工程の後、水洗することなく乾燥し、表面処理皮膜を形成する乾燥工程とによって形成することができる。塗布工程塗布工程は、水系金属表面処理剤を基材金属の表面に塗布する工程である。塗布する方法は、特に限定されず、例えば、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、カーテンコート、スピンコート、又はこれらを組み合わせた方法を用いることができる。水系金属表面処理剤の使用条件は、特に限定されない。例えば、塗布する際の水系金属表面処理剤及び金属材料の温度は、10°C~90°Cであることが好ましく、20°C~60°Cであることがより好ましい。温度が60°C以下であると、無駄なエネルギーの使用を抑制することができる。また、塗布する時間及び塗布する量は、得られる表面処理皮膜の求められる膜厚に応じて適宜設定することができる。乾燥工程乾燥工程は、塗布工程後、水洗することなく乾燥し、表面処理皮膜を形成する工程である。乾燥温度は、使用する溶剤に合わせた温度とすることができる。例えば、水を溶剤として用いた場合には、50°C~250°Cの範囲であることが好ましい。乾燥装置は特に限定されないが、バッチ式、連続式又は熱風循環式の乾燥炉、コンベアー式熱風乾燥炉又はIHヒーターを用いた電磁誘導加熱炉等を用いることができ、その風量と風速等は任意に設定することができる。こうして得られる表面処理皮膜は、その上にさらに樹脂フィルムラミネートフィルム又は樹脂塗膜を形成後、深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに酸等に曝されても、ラミネートフィルム又は樹脂塗膜からなる樹脂皮膜が剥離することを防ぐことができる。なお、得られる表面処理皮膜の膜厚は、0.01μm~1μmとすることが好ましく、0.02μm~0.05μmとすることがより好ましい。膜厚を0.01μm~1μmの範囲とすることで、表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性をより高めることができる。以下、実施例及び比較例により本発明をさらに詳しく説明する。本発明は以下の実施例により限定されるものではない。なお、以下において、部とは質量部のことであり、質量は重量と同義であり、以下では特に断らない限り単にと表すこともある。ppmはmg/Lと同義である。[有機化合物A]用いた有機化合物Aを以下に示す。なお、官能基含有量とは、有機化合物Aの分子量を、1分子に含まれる、カルボキシル基及び/又は水酸基の合計含有量で割り付けた値である。Aa:ポリマレイン酸分子量3000、官能基含有量58Ab:L-アスコルビン酸分子量175、官能基含有量43.8Ac:酒石酸分子量150、官能基含有量37.5Ad:ピロメリト酸分子量254、官能基含有量63.5Ae:ブタンテトラカルボン酸分子量234、官能基含有量58.5Af:ペンタエリスリトール分子量136、官能基含有量34Ag:没食子酸分子量188、官能基含有量47Ah:ポリエチレングリコール分子量4000、官能基含有量2000Ai:ポリアクリル酸分子量15000、官能基含有量72Aj:ポリマレイン酸分子量20000、官能基含有量58[架橋性有機化合物B1]カルボジイミド結合を有する有機化合物I;記号B1am-テトラメチルキシリレンジイソシアネート700部2.87molを、3-メチル-1-フェニル-2-ホスホレン-1-オキシドカルボジイミド化触媒14部の存在下、180°Cで32時間反応させて、両末端がイソシアネート基で縮合度12のポリカルボジイミド化合物を得た。得られたポリカルボジイミド化合物224部に、重合度12のポリオキシエチレンモノメチルエーテル115部を加え、100°Cで48時間反応させて両末端のイソシアネート基を封止した。次いで、50°Cで蒸留水509質量部を徐々に加えて、ポリカルボジイミド化合物水溶液B1aを得た。カルボジイミド結合を有する有機化合物II;記号B1bジフェニルメタンジイソシアネート338部1.35molと、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート354部1.35molとを、3-メチル-1-フェニル-2-ホスホレン-1-オキシドカルボジイミド化触媒2.9部の存在下、180°Cで32時間反応させて、両末端がイソシアネート基で縮合度12のポリカルボジイミド化合物を得た。得られたポリカルボジイミド化合物224部に、重合度12のポリオキシエチレンモノメチルエーテル115部を加え、100°Cで48時間反応させて両末端のイソシアネート基を封止した。次いで、50°Cで蒸留水509部を徐々に加え、ポリカルボジイミド化合物水溶液B1bを得た。カルボジイミド結合を有する有機化合物III;記号B1cm-テトラメチルキシリレンジイソシアネート700部を、3-メチル-1-フェニル-2-ホスホレン-1-オキシドカルボジイミド化触媒14部の存在下、180°Cで32時間反応させて、両末端がイソシアネート基で縮合度12のポリカルボジイミド化合物を得た。得られたポリカルボジイミド化合物224.4部と、3,3-ビスジメチルアミノプロピルアミン10.2部とを、80°Cで1時間反応させた後、ジメチル硫酸12.6gを加え1時間攪拌した。次いで、蒸留水509.1gを50°Cで徐々に加え、ポリカルボジイミド化合物水溶液B1cを得た。オキサゾリン基を有する有機化合物I;記号B1d攪拌機、還流冷却器、窒素導入管及び温度計を備えたフラスコに、脱イオン水220部、1-メトキシ‐2‐プロパノール380部、過硫酸ソーダ5部、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン200部及びアクリル酸エチル200部を仕込み、ゆるやかに窒素ガスを流しながら50°Cに加熱した。フラスコ内の温度を50±1°Cに保ち、10時間攪拌を続けて反応を完結させた後冷却し、不揮発分40.0の水溶性オキサゾリン基含有樹脂B1dを得た。この重合体の数平均分子量は約2万であり、重合体1g当たりのオキサゾリン基含有量は4.5mmolgであった。オキサゾリン基を有する有機化合物II;記号B1e撹拌機、還流冷却器、窒素導入管及び温度計を備えた容量1リットルのセパフラスコに、脱イオン水228.1部、界面活性剤ノニルフェノールエトキシレートエチレンオキサイド6モル付加硫酸アンモニウム塩の25水溶液1.23部及び7アンモニア水溶液1.9部を仕込み、緩やかに窒素ガスを流しながら70°Cに昇温させた。その後、このセパフラスコに、メタアクリル酸ブチル283.5部、スチレン211.4部、ジビニルベンゼン0.6部、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン55.1部、脱イオン水158.4部、界面活性剤ノニルフェノールエトキシレートエチレンオキサイド6モル付加硫酸アンモニウム塩の25水溶液31.0部及び7アンモニア水0.6部からなるプレエマルションの10質量を初期仕込みとして添加した。その後、このセパフラスコに、過硫酸カリウム2.8部を純水34.4部に溶解させた開始剤水溶液をさらに添加し、重合を開始させた。さらに残りのプレエマルションを2.5時間かけて滴下し、撹拌しながら反応させ、滴下後80°Cで2.5時間熟成させた。反応終了後、7アンモニア水1.4部を添加し、pHを8.8に調節し、不揮発分55.6質量のオキサゾリン基含有アクリル水分散体B1eを得た。理論オキサゾリン基当量は0.90mmol/gであった。オキサゾリン基を有する有機化合物III:記号B1f撹拌機、還流冷却器、窒素導入管及び温度計を備えた容量1リットルのセパフラスコに、脱イオン水228.1部、界面活性剤ノニルフェノールエトキシレートエチレンオキサイド6モル付加硫酸アンモニウム塩の25水溶液1.23部、及び7アンモニア水溶液1.9部を仕込み、緩やかに窒素ガスを流しながら70°Cに昇温させた。70°Cに昇温後、このセパフラスコに、一段目重合反応の材料として作製したメタアクリル酸ブチル170.1部、スチレン159.9部、ジビニルベンゼン0.4部、脱イオン水95.0部、界面活性剤ノニルフェノールエトキシレートエチレンオキサイド6モル付加硫酸アンモニウム塩の25水溶液18.6部及び7アンモニア水0.4部からなるプレエマルション以下、一段目のプレエマルションという。の10質量を初期仕込みとして添加した。その後、このセパフラスコに、過硫酸カリウム2.8部を純水34.4部に溶解させた開始剤水溶液を添加し、重合を開始させた。さらに、残りの一段目のプレエマルションを1.3時間かけて滴下し、撹拌しながら反応させた。滴下完了10分後から、さらに二段目の重合反応として、メタアクリル酸ブチル113.4部、スチレン62.5部、ジビニルベンゼン0.2部、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン44.1部、脱イオン水63.4部、界面活性剤ノニルフェノールエトキシレートエチレンオキサイド6モル付加硫酸アンモニウム塩の25水溶液12.4部及び7アンモニア水0.2部からなるプレエマルション以下、二段目のプレエマルションという。を、上記セパフラスコに1.3時間かけて滴下し、撹拌しながら反応させた。二段目のプレエマルション滴下完了後80°Cで2.5時間熟成させた。反応終了後、7アンモニア水1.4部を添加し、pHを8.9に調節し、不揮発分55.6質量、コア/シェル比=6/4のオキサゾリン基含有アクリル水分散体B1fを得た。理論オキサゾリン基当量は0.72mmol/gであった。グリシジルエーテル基を有する有機化合物;記号B1gグリセロールポリグリシジルエーテル3官能、エポキシ当量144、粘度170mPaSを用いた。イソシアネート基を有する有機化合物;記号B1hヘキサメチレンジイソシアネート-アセト酢酸エチルブロック体を用いた。メチロール基を有する有機化合物;記号B1iメチロールメラミンを用いた。[架橋性無機化合物B2]用いた架橋性無機化合物B2を以下に示す。B2a:チタンフッ化水素酸濃度40.0質量B2b:ジルコニウムフッ化水素酸濃度40.0質量B2c:シリカゾル表面電荷カチオン、粒子径10~20nm、19.0質量、pH=4.7B2d:乳酸チタン濃度44.0質量B2e:非晶質ジルコニアゾル不揮発分濃度10.0質量、粒子径10~30nm、pH=2.8B2f:ケイフッ化水素酸濃度40.0質量B2g:フッ化クロムIIICr濃度1.0質量B2h:フッ化鉄IIIFe濃度2.5質量B2i;酸化セレンIVB2j;酸化セリウムゾル不揮発分濃度15、pH=3.5B2k;酢酸クロムIII[水系金属表面処理剤]有機化合物Aa~Ajと、架橋性有機化合物B1a~B1i及び架橋性無機化合物B2a~B2kから選ばれる1種又は2種以上とを所定の含有量で組み合わせ、溶剤を水として、表1~表6に示す実施例1~91及び比較例1~20の水系金属表面処理剤を準備した。なお、表1~表6における濃度は、水系金属表面処理剤に含まれる各化合物の不揮発分濃度質量を示す。また、A濃度は、水系金属表面処理剤中の全固形分に対する有機化合物Aの含有量質量を示し、B1B2濃度は、水系金属表面処理剤中の全固形分に対する架橋性化合物Bの含有量であって、架橋性有機化合物B1と架橋性無機化合物B2との合計含有量質量を示す。[金属材料]基材金属として用いた金属材料を以下に示す。Al:A1100P、厚さ0.3mmCu:C1020P、厚さ0.3mmNi:純ニッケル板:純度99質量以上、厚さ0.3mmSUS:SUS304板、厚さ0.3mmNiめっきCu:電気NiめっきCu板厚さ0.3mm、Niめっき厚2μmこれら金属材料から、表1~表6の基材欄に示す金属材料を選択し、実施例1~91及び比較例1~24の基材金属として準備した。[供試材の作製]表面処理表1~表6に示した実施例1~91及び比較例1~20の基材金属をファインクリーナー359E日本パーカライジング株式会社製のアルカリ脱脂剤の3水溶液で65°C、1分間スプレー脱脂した後、水洗して表面を清浄した。続いて、金属材料の表面の水分を蒸発させるために、80°Cで1分間、加熱乾燥した。脱脂洗浄した基材金属の表面に、それぞれ、表1~表6に示した実施例1~90及び比較例1~20の水系金属表面処理剤を3SUSマイヤーバーを用い、バーコートによって塗布し塗布工程、熱風循環式乾燥炉内で200°C、1分間乾燥し乾燥工程、表面処理皮膜を有する金属材料を得た。なお、同種の水系金属表面処理剤を用いて表面処理した金属材料をそれぞれ2つずつ準備し、以下に示すように、表面処理皮膜の上にそれぞれ別の方法でラミネート加工を施した。また、比較例21~24に記載の金属材料を準備し、水系金属表面処理剤を塗布しないで、上記と同様に脱脂、水洗の後に加熱乾燥し、表面処理皮膜を有しない金属材料を得た。なお、同種の金属材料を2つずつ準備し、以下に示すように、それぞれ別の方法で表面にラミネート加工を施した。ラミネート加工2つずつ準備した表面処理皮膜を有する金属材料の1つについて、その表面処理皮膜の上に、ヒートラミネーションによるラミネート加工を施した。他の1つの表面処理皮膜の上に、ドライラミネーションによるラミネート加工を施した。表面処理皮膜を有しない金属材料についても、2つのうち1つの片側表面にヒートラミネーションを施し、他の1つの片側表面にドライラミネーションを施した。ヒートラミネーションによるラミネート加工は、次のように行った。酸変性ポリプロピレンのディスパージョン三井化学株式会社製、R120K、不揮発分濃度20質量を8SUSマイヤーバーを用い、バーコートによって塗布した後、熱風循環式乾燥炉内で200°C、1分間乾燥することで接着剤層を形成した。その後、この接着剤層と、厚さ30μmのポリプロピレンフィルム東セロ株式会社製、CPPSとを、190°C、2MPaで10分間熱圧着することでヒートラミネーションによるラミネート加工を行い、ポリプロピレンフィルムが積層された金属材料を得た。ドライラミネーションによるラミネート加工は、次のように行った。ウレタン系ドライラミネート接着剤東洋モートン株式会社製、AD-503/CAT10、不揮発分濃度25質量を、8SUSマイヤーバーを用い、バーコートによって塗布した後、熱風循環式乾燥炉内で80°C、1分間乾燥し、その後、この接着剤層と30μmの未延伸ポリプロピレンフィルム二村化学工業株式会社製、FCZXのコロナ放電処理面とを100°C、1MPaで圧着後、40°Cで4日間養生することで、ドライラミネーションによるラミネート加工を行い、ポリプロピレンフィルムが積層された金属材料を得た。成形加工ヒートラミネーションによって得たポリプロピレンフィルム積層金属材料と、ドライラミネーションによって得たポリプロピレンフィルム積層金属材料とを、それぞれ絞りしごき加工試験で深絞り加工した。直径160mmに打ち抜いた被覆金属板を絞り加工1回目し、直径100mmのカップを作製した。続いて、そのカップを直径75mmに再度絞り加工2回目し、さらに直径65mmに絞り加工3回目し、供試材である缶を作製した。なお、1回目の絞り加工、2回目の絞り加工、3回目の絞り加工におけるしごき薄肉化分率は、それぞれ、5、15、15であった。[性能評価]密着性成形加工後の缶について、ポリプロピレンフィルムの剥離の有無以下、初期密着性という。を評価した。缶が作製でき、フィルムの剥離がなく初期密着性に優れるものを3点とし、フィルムの一部が剥離したものを2点とし、フィルムが全面剥離したものを1点とした。評価試験の結果を表7~表9に示す。耐薬品密着維持性耐薬品密着維持性のうち、ここでは、電解液に対する密着維持性以下、耐電解液密着維持性という。について評価した。詳しくは、次のようにして、成形加工後にさらに電解液に浸漬した後の缶について、ポリプロピレンフィルムの剥離の有無を評価した。深絞り加工した後の缶を、密閉容器中に充填された、イオン交換水を1000ppm添加したリチウムイオン2次電池用電解液電解質;1mol/LのLiPF6、溶剤;EC:DMC:DEC=1:1:1体積中に浸漬した後、60°C恒温槽中に7日間投入した。なお、ECはエチレンカーボネートのことであり、DMCはジメチルカーボネートのことであり、DECはジエチルカーボネートのことである。その後、供試材を取り出し、イオン交換水中に1分間浸漬、揺動することで洗浄した後、熱風循環式乾燥炉内で、100°Cで10分間乾燥した。その後フィルム面をピンセットの先で引っ掻き、フィルムの剥離がなく耐電解液密着維持性に優れるものを3点とし、フィルムの一部が剥離したものを2点とし、フィルムが全面剥離したものを1点として評価した。評価試験の結果を表7~表9に示す。表7~表9に示すように、実施例1~91に記載の水系金属表面処理剤を塗布して形成された表面処理皮膜を有する金属材料は、ヒートラミネーション及びドライラミネーションのいずれにおいても、初期密着性及び耐電解液密着維持性に非常に優れることが確認された。"