"リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、前記流体ハンドリング構造が、平面図で有角形状に配置された複数の開口を有し、且つ前記流体ハンドリング構造が、前記開口が使用時に基板及び/又は前記基板を支持する基板テーブルに向かって配向されるように構成されており、a前記有角形状が、負の半径を持つ辺を有し、及び/又はb前記有角形状が、0.05~4.0mmの範囲の半径を持つ角を有する、流体ハンドリング構造。前記有角形状が少なくとも4つの角及び少なくとも4つの辺を有し、各辺が負の曲率半径を有する、請求項1に記載の流体ハンドリング構造。前記有角形状が負の半径の辺を有し、前記有角形状が少なくとも1つの滑らかに湾曲した角を有する、請求項1又は2に記載の流体ハンドリング構造。前記有角形状がその長さの少なくとも一部に沿って連続的に方向転換する負の半径の辺を有する、及び/又は前記有角形状が0.05~4.0mmの範囲の半径の角を有する、請求項1から3のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。前記有角形状が少なくとも1つの滑らかに湾曲した角を有する、請求項1から4のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。前記開口が、前記流体ハンドリング構造に入る気体及び/又は液体が通過する入口である、前記請求項のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。前記開口が、前記流体ハンドリング構造から出る流体が通過する出口である、請求項1から5のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。前記有角形状の少なくとも1つの角が、60°と90°の間、又は75°と90°の間、又は75°と85°の間の角度を有する、前記請求項のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。前記開口によって規定され且つ前記有角形状を規定する線が、連続的であり、且つ連続的に変化する方向を有する、前記請求項のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。前記請求項のいずれか1項に記載の前記流体ハンドリング構造を備えるリソグラフィ装置。使用時に、前記有角形状の少なくとも1つの角がスキャン又はステップ方向を指す、請求項10に記載のリソグラフィ装置。リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、前記流体ハンドリング構造が、平面図で第一有角形状に配置された複数の流体抽出開口と平面図で第二有角形状に配置された複数の流体供給開口とを有し、前記流体抽出開口及び流体供給開口が、平面図で基板及び/又は前記基板を支持する基板テーブルに向かって配向され、前記第一有角形状と第二有角形状とが、実質的に同様であり、流体抽出開口が前記第一有角形状の少なくとも1つの角の頂点に存在する及び/又は流体供給開口が前記第二有角形状の少なくとも1つの角の頂点に存在する、流体ハンドリング構造。リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、前記流体ハンドリング構造が、平面図で有角形状に配置された複数の開口を有し、前記流体ハンドリング構造が、前記開口が使用時に基板及び/又は前記基板を支持する基板テーブルに向って配向されるように構成され、前記開口が、角の付近では他の場所よりも間隔が狭くなる、流体ハンドリング構造。投影システムと基板の間に流体を提供し、流体ハンドリング構造の複数の開口に低圧を加えることによって、前記基板と前記投影システムの間から液体を回収することを含み、前記開口が、平面図で前記投影システムと前記基板の間で前記流体の周囲に有角形状に配置され、a前記有角形状が、負の半径がある辺を有し、及び/又はb前記有角形状が、0.05~4.0mmの範囲の半径がある角を有する、デバイス製造方法。リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、前記流体ハンドリング構造が、平面図で第一有角形状に配置された複数の流体抽出開口と平面図で第二有角形状に配置された複数の流体供給開口とを有し、前記流体抽出開口及び流体供給開口が、使用時に基板及び/又は前記基板を支持する基板テーブルに向かって配向され、前記第一有角形状と第二有角形状とが、実質的に同様であり、前記第一有角形状、又は前記第二有角形状、又はその両方の角が、使用時に前記流体ハンドリング構造と前記基板テーブルとの相対運動の方向に位置合わせされるように構成される、流体ハンドリング構造。0020図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、-放射ビームB例えばUV放射又はDUV放射を調節するように構成された照明システムイルミネータILと、-パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続された支持構造例えばマスクテーブルMTと、-基板例えばレジストコートウェーハWを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル例えばウェーハテーブルWTと、-パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C例えば1つ又は複数のダイを含むに投影するように構成された投影システム例えば屈折投影レンズシステムPSとを含む。0021照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組み合わせなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。0022支持構造MTはパターニングデバイスを保持する。支持構造MTは、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。この支持構造MTは、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。支持構造MTは、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。支持構造MTは、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書においてレチクル又はマスクという用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語であるパターニングデバイスと同義と見なすことができる。0023本明細書において使用するパターニングデバイスという用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。0024パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルLCDパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。0025本明細書において使用する投影システムという用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において投影レンズという用語を使用した場合、これはさらに一般的な投影システムという用語と同義と見なされる。0026ここに示している本装置は透過タイプである例えば透過マスクを使用する。あるいは、装置は反射タイプでもよい例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する。0027リソグラフィ装置は2つデュアルステージ又はそれ以上の基板テーブル及び/又は2つ以上のパターニングデバイステーブルを有するタイプでよい。このようなマルチステージ機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、1つ又は複数の他のテーブルを露光に使用している間に1つ又は複数のテーブルで予備工程を実行することができる。0028図1を参照すると、イルミネータILは放射源SOから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び/又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムBDの助けにより、放射源SOからイルミネータILへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源SO及びイルミネータILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDとともに放射システムと呼ぶことができる。0029イルミネータILは、放射ビームの角度強度分布を調節するアジャスタADを備えていてもよい。通常、イルミネータILの瞳面における強度分布の外側及び/又は内側半径範囲一般にそれぞれ、σouter及びσinnerと呼ばれるを調節することができる。また、イルミネータILは、インテグレータIN及びコンデンサCOなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。また、イルミネータを用いて放射ビームを調整し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。0030放射ビームBは、支持構造例えばマスクテーブルMT上に保持されたパターニングデバイス例えばマスクMAに入射し、パターニングデバイスによってパターンが与えられる。放射ビームBはパターニングデバイスMAを通り抜けて、基板Wのターゲット部分C上にビームを集束する投影システムPSを通過する。第二ポジショナPW及び位置センサIF例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサの助けにより、基板テーブルWTを、例えば放射ビームBの経路において様々なターゲット部分Cに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一ポジショナPM及び別の位置センサ図1には明示されていないを使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、又はスキャン中に、放射ビームBの経路に対してパターニングデバイスMAを正確に位置決めすることができる。一般的に、支持構造MTの移動は、第一ポジショナPMの部分を形成するロングストロークモジュール粗動位置決め及びショートストロークモジュール微動位置決めの助けにより実現できる。同様に、基板テーブルWTの移動は、第二ポジショナPWの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを用いて実現できる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、支持構造MTをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。パターニングデバイスMA及び基板Wは、パターニングデバイスアラインメントマークM1、M2及び基板アラインメントマークP1、P2を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよいスクライブレーンアラインメントマークとして知られる。同様に、パターニングデバイスMA上に複数のダイを設ける状況では、パターニングデバイスアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。0031図示のリソグラフィ装置は以下のモードのうち少なくとも1つにて使用可能である。1.ステップモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影されるすなわち1回の静止露光。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。2.スキャンモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影するつまり1回の動的露光。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大縮小及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の動的露光におけるターゲット部分の非スキャン方向における幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分のスキャン方向における高さが決まる。3.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。0032上述した使用モードの組合せ及び/又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。0033投影システムPSの最終要素と基板の間に液体を提供する構成は、2つの一般的カテゴリに分類することができる。実質的に基板Wの全体及び任意選択で基板テーブルWTの一部が液体槽に浸される槽型構成と、液体が基板の局所区域に提供されるだけである液体供給システムを使用する、いわゆる局所液浸システムとがある。後者のカテゴリでは、液体によって充填された空間が基板の上面より平面図で小さく、液体で充填された区域は、基板Wがその区域の下で移動している間、投影システムPSに対して実質的に静止したままである。本発明の実施形態が指向しているさらなる構成は、液体が閉じ込められないオールウェットの解決法である。この構成では、実質的に基板の上面全体、及び基板テーブルの全部又は一部が液浸液で覆われる。少なくとも基板を覆う液体の深さは浅い。液体は、ウェーハ上の液体の薄膜などの膜でよい。図2から図5の液体供給デバイスのいずれも、このようなシステムにも使用することができる。しかし、密封特徴部が存在しないか、動作しないか、通常ほど効率的でないか、それ以外にも局所区域のみに液体を密封するには有効でない。図2から図5には、4つの異なるタイプの局所液体供給システムが図示されている。図2から図4に開示した液体供給システムは、以上で説明されている。0034提案されている別の構成は、投影システムの最終要素と基板テーブルとの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延在するバリア部材がある液体供給システムを提供する。このような構成が、図5に図示されている。0035図5は、投影システムの最終要素と基板テーブルWT又は基板Wとの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延在するバリア部材12がある局所液体供給システム又は流体ハンドリング構造を概略的に示す。以下の文章で基板Wの表面に言及する場合、それは他に明記しない限り、追加的又は代替的に基板テーブルの表面も指すことに留意されたい。バリア部材12は、投影システムに対してXY面では実質的に静止しているが、Z方向光軸の方向には多少の相対運動があってよい。実施形態では、バリア部材と基板Wの表面との間にシールが形成され、ガスシール又は流体シールのような非接触シールでよい。0036バリア部材12は、投影システムPLの最終要素と基板Wの間の空間11に液体を少なくとも部分的に封じ込める。基板Wの表面と投影システムPLの最終要素の間の空間内に液体が閉じ込められるように、基板Wに対する非接触シール16を、投影システムの像フィールドの周囲に形成することができる。空間は、投影システムPLの最終要素の下方に配置され、それを囲むバリア部材12によって少なくとも部分的に形成される。液体を、液体入口13によって投影システムの下方で、バリア部材12内の空間に入れる。液体は、液体出口13によって除去することができる。バリア部材12は投影システムの最終要素の少し上まで延在することができる。液体のバッファが提供されるように、液体レベルが最終要素の上まで上昇する。実施形態では、バリア部材12は、その上端が投影システム又はその最終要素の形状に非常に一致することができる内周を有し、例えば円形でよい。底部では、内周が像フィールドの形状に非常に一致し、例えば長方形でよいが、そうである必要はない。0037液体は、使用中にバリア部材12の底部と基板Wの表面との間に形成されるガスシール16によって空間11内に封じ込められる。ガスシール16は、気体、例えば空気又は合成空気によって形成されるが、実施形態ではN2又は別の不活性ガスによって形成される。ガスシール内のガスは、圧力下で入口15を介してバリア部材12と基板Wの間のギャップに提供される。ガスは出口14を介して抽出される。気体入口15への過剰圧力、出口14の真空レベル、及びギャップの幾何学的形状は、液体を閉じ込める内側への高速の気体流16があるように構成することができる。バリア部材12と基板Wの間で液体にかかる気体の力が、液体を空間11に封じ込める。これらの入口/出口は、空間11を囲む環状溝でよい。環状溝は連続的又は不連続的でよい。気体16の流れは、液体を空間11に封じ込めるのに有効である。このようなシステムが、米国特許出願公開第US2004-0207824号に開示されている。0038本発明の実施形態は、メニスカスが特定の点を越えて前進するのを防止することを目的とする、流体ハンドリング構造内で使用する特定のタイプの抽出器に関する。つまり、本発明の実施形態は、投影システムの最終要素と基板及び/又は基板テーブルとの間の空間内にある液体の縁部を実質的に所定の位置に釘付けにするメニスカス固定デバイスに関する。メニスカス固定構成は、例えば2007年11月30日出願の米国特許出願US11/987,569号に記載されているいわゆるgasdragextractorの原理を利用する。そのシステムでは、抽出穴が有角形状に配置される。角はステップ及びスキャン方向に位置合わせされる。これは、2つの出口がステップ又はスキャンの方向に対して直角に位置合わせされた場合と比較して、ステップ又はスキャン方向の所与の速度について2つの出口間のメニスカスにかかる力を減少させる。0039本発明の実施形態は、開口が配置された有角形状の幾何形状により、スキャン方向とステップ方向の両方で位置合わせされた角に、鋭利な角約60°と90°の間、望ましくは75°と90°の間、最も望ましくは75°と85°の間が存在できるようになるという点で、このシステムの改良点である。これによって、位置合わせされた各角の方向で速度を上げることができる。というのは、スキャン又はステップ方向での不安定なメニスカスによる液滴の生成が減少するからである。角をスキャン方向とステップ方向の両方で位置合わせした場合、これらの方向で速度の上昇を達成することができる。スキャン方向とステップ方向の運動速度は、実質的に等しくできることが望ましい。0040図6は、本発明の実施形態の流体ハンドリング構造又はシステムのメニスカス固定特徴部を平面図で概略的に示す。メニスカス固定デバイスの特徴部が図示され、これは例えば図5のメニスカス固定構成14、15、16に取って代わるか、それを増強することができる。図6のメニスカス固定デバイスは、複数の別個の開口50を備える。これらの開口50はそれぞれ、円形として図示されているが、そうである必要はない。実際、開口50の1つ又は複数は、以下の形状、つまり正方形、長方形、長円形、三角形、細長いスリットなどから選択された1つ又は複数の形状でよい。各開口は、長さ寸法つまり1つの開口から隣接する開口への方向が平面図で0.2mmより大きく、望ましくは0.5mm又は1mmより大きく、1つの実施形態では0.1mmと10mmの間、1つの実施形態では0.25mmと2mmの間である。1つの実施形態では、各開口の幅は0.1mmと2mmの間である。別の実施形態では、各開口の幅は0.25mmと1mmの間である。0041図6のメニスカス固定デバイスの各開口50は、別個の低圧源に接続することができる。代替的又は追加的に、それぞれ又は複数の開口50を、それ自体が低圧に保持された共通のチャンバ環状でよいに接続することができる。この方法で、それぞれ又は複数の開口50にて、均一の低圧を達成することができる。所望の圧力差を生成するために、開口50を真空源に接続することができる、及び/又は流体ハンドリング構造又はシステム又は閉じ込め構造、バリア部材又は液体供給システムを囲む雰囲気の圧力を上昇させることができる。0042図6の実施形態では、開口は流体抽出開口である。つまり、流体ハンドリング構造に入る気体及び/又は液体が通過するための入口である。つまり、この入口は空間11からの出口と見なすことができる。これについて、以下でさらに詳細に説明する。しかし、図14から図16の実施形態を説明すると明白になるように、開口は、同様に流体ハンドリング構造12を出る流体例えば液体が通過するための出口でもよい。つまり、開口は空間11への入口である。0043開口50は、流体ハンドリング構造の表面に形成される。その表面は、使用時には基板及び/又は基板テーブルに面している。1つの実施形態では、開口は流体ハンドリング構造の平坦な表面にある。1つの実施形態では、基板部材の底面に隆起が存在してよい。その実施形態では、開口は隆起内にあってよい。実施形態では、開口50は針によって規定することができる。幾つかの針、例えば隣接する針の本体を、相互に接合することができる。針を相互に接合して、1つの本体を形成することができる。1つの本体が角の形状を形成することができる。0044図7に見られるように、開口50は例えば管又は細長い通路55の端部である。開口は、使用時に基板Wに面するように配置することが望ましい。開口50の縁部つまり表面の出口は、実質的に基板Wの上面と平行である。開口は、使用時に基板及び/又は基板を支持するように構成された基板テーブルに向かって配向される。その別の考え方は、開口50が接続されている通路55の縦軸が、基板Wの上面に対して実質的に直角直角から±45°以内、望ましくは35°、25°、さらには15°以内である、ということである。0045各開口50は、液体と気体の混合物を抽出するように設計される。液体は空間11から抽出され、気体は開口50の液体とは他方側にある雰囲気から抽出される。これは、矢印100に示すような気体の流れを生成し、この気体の流れは、メニスカス90を図6に示すように開口50間の実質的に所定の位置に釘付けるのに効果的である。気体の流れは、運動量の閉塞によって、気体の流れが誘発する圧力勾配によって、及び/又は液体上の気体の流れの抵抗剪断によって閉じ込められた液体を維持するのに役立つ。0046開口50は、流体ハンドリング構造が液体を供給する先である空間を囲む。つまり、開口50は空間の周囲で実質的に継続的に離間されるしかし、以下で述べるように、隣接する開口50間の間隔は変化してよい。これは、2007年5月17日出願の米国特許出願第11/798,928号とは異なる。これは、抽出開口が有角形状ではなく、4本の別個の有角線になっている角の間の縁部の部分に開口がない。というのは、米国特許出願第11/798,928号の液体は、角に向かって実質的に接線方向に押しやられ、ここでガスナイフによって抽出されるからである。本発明の実施形態では、液体は有角形状の周囲全体で抽出され、実質的に有角形状に衝突したポイントで抽出される。これが達成されるのは、開口50が有角形状の空間の全周に形成されるからである。0047図6に見られるように、開口50は、平面図で有角形状つまり角52がある形状を形成するように配置される。図6の場合、これは湾曲した縁部又は辺54がある正方形の形状である。縁部54は負の半径を有する。つまり、角52から離れた区域では、有角形状の中心に向かって湾曲している。0048正方形は、投影システムで基板Wが移動する主方向に位置合わせされた主軸110、120を有する。これは、開口50が円形の形状に配置された場合よりも最高スキャン速度が速いことを保証するのに役立つ。というのは、2つの開口50間でメニスカスにかかる力が係数cosθで減少するからである。ここでθは、基板Wが動く方向に対して2つの開口50を結ぶ線が形成する角度である。0049したがって、正方形の形状を使用すると、ステップ方向とスキャン方向での動作を等しい最高速度で行うことができる。一方の方向、例えばスキャン方向の動作がステップ方向の動作より高速であることが望ましい場合は、菱形を使用することができる。このような構成では、菱形の主軸をスキャン方向に位置合わせすることができる。菱形の場合、角はそれぞれ鋭角でよいが、例えばステップ方向で菱形の隣接する2辺間の角度は鈍角、つまり90°より大きくてよい例えば約90°と120°の間、実施形態では90°と105°の間、又は実施形態では85°と105°の間。0050したがって、開口50の形状の主軸を基板の主要移動方向通常はスキャン方向に位置合わせし、第二軸を基板の他の主要移動方向通常はステップ方向に位置合わせすることにより、スループットを最適化することができる。θが90°とは異なる任意の構成が有利であることが認識される。したがって、主軸と主要移動方向との厳密な位置合わせは不可欠でない。形状が円形である場合は、移動方向に直角に位置合わせされた2つの開口が常にあり、したがってこれら2つの開口間のメニスカスは、基板Wの動作によって得られる最大の力を受けることが、さらに認識される。0051負の半径を有する縁部を提供することの利点は、角をさらに鋭利にできることである。スキャン方向に位置合わせされた角52とステップ方向に位置合わせされた角52との両方で、75°と85°の間、又はさらに小さい角度を達成可能にすることができる。この特徴がない場合は、両方の方向で位置合わせされた角52が同じ角度を有するために、これらの角は90°にしなければならない。90°未満が望ましい場合は、一方の方向が90°未満の角を有するように選択する必要があり、その結果、他方の角は90°より大きい角度を有することになる。図11及び図12に関して説明するように、開口を星形にすることが可能であり、湾曲した縁部を提供するのではなく、縁部は直線であるが、2つの角の間の直線より半径方向内側にある点で合う図11参照。しかし、図13に示すように、この構成は、開口を結ぶ線が滑らかである場合ほど、つまり開口50によって規定され、有角形状を規定する線が連続的で、連続的に変化する方向を有する場合ほど成功しないことがある。星形の実施形態では、形状の辺に沿った角がメニスカスを固定する。鋭利な角の場合、メニスカスを固定する力は角に、つまり形状の縁部の短い長さに集中する。より滑らかに湾曲した角、例えば大きい曲率半径を有する角は、角の曲線の長い方の長さに沿って、つまり角の周囲に固定力を分散させる。したがって、基板と流体ハンドリング構造との特定の相対速度について、両方の角に加えられる有効メニスカス固定力は同じでなる。しかし、縁部の画定された長さについて、鋭利な角の有効固定力は、滑らかに湾曲した角の場合より大きい。これによって、鋭利な角に固定されたメニスカスは、滑らかに湾曲した角によって固定されたメニスカスよりも、基板と流体ハンドリング構造との間のより低い相対速度で不安定になる。0052実施形態では、各開口50は平面図で相互からその最大平面寸法の0.25倍から10倍の間で離間される。1つの実施形態では、開口50の間隔は0.1mmと15mmの間である。別の実施形態では、開口の間隔は1mmと5mmの間である。0053図7は、開口50が流体ハンドリング構造の底部40の表面51に設けられていることを示す。しかし、こうである必要はなく、出口50は流体ハンドリング構造の底面からの突起にあってもよい。矢印100は、流体ハンドリング構造の外側から開口50に関連する通路55に入る気体の流れを示し、矢印150は、空間から開口50に入る液体の通過を示す。通路55及び開口50は、2相抽出つまり気体と液体が、気体が実質的に通路55の中心を通って流れ、液体が実質的に通路55の壁に沿って流れるという環状流れモードで生じることが望ましいように設計することが望ましい。その結果、脈動の発生が少ない滑らかな流れとなる。0054出口50の半径方向内側には、メニスカスを固定する特徴部がなくてよい。開口50の半径方向外側にも、他のコンポーネント又はメニスカス固定特徴部がなくてよい。したがって、図5の液体閉じ込めシステムと比較して、気体入口15又は同等物がなく、出口14が幾つかの別個の開口50に分割され、それぞれが例えば低圧源に接続されている。メニスカスは、開口50に入る気体の流れによって誘発された抵抗力で、開口50の間に固定される。約15m/秒、望ましくは20m/秒より大きい気体抵抗速度で十分である。ガスナイフの必要性を回避することにより、基板からの液体の蒸発量を減少させ、それによって液体の飛びはね、さらに熱膨張/収縮効果を減少させることができる。しかし、本発明の実施形態は図示の構造に限定されず、開口50の半径方向内側及び/又は半径方向外側に、さらなるメニスカス固定特徴部が存在することができる。0055それぞれが直径1mmで3.9mm離間された少なくとも36の別個の開口50が、メニスカスを固定するには有効であり得る。別の実施形態では、112の開口50が存在する。開口50は、辺の長さが0.5mmの正方形でよい。このようなシステムの気体の総流量は100l/分のオーダである。実施形態では、気体の総流量は70l/分と130l/分の間である。0056流体ハンドリング構造の底部は他の幾何形状が可能である。例えば、本発明の実施形態には、米国特許出願公開US2004-0207824号に開示された構造のいずれも使用することができる。0057図8は、本発明の実際的な実施形態を平面図で示す。図8では、開口50が図6のそれと同様の有角形状で提供されている。しかし図8では、わずかに異なる幾何形状が存在する。つまり、開口50がより密集し、その幅が小さくなっている。図8の実施形態では、縁部毎に27の開口がある。実施形態では、各縁部の長さは50mmと90mmの間である。各開口50は、形状がほぼ正方形で、各辺が0.5mmの長さを有する。0058図6の実施形態と同様に、図8の実施形態でも各角の頂点に開口が存在する。これは、角の頂部開口50が、スキャン又はステップ方向に対して直角ではない方向にある隣接開口を各側に有することを保証する。角の頂点の各側で2つの開口50が等間隔であった場合、これらの2つの開口50間の線は、スキャン又はステップ方向に対して直角になり、その結果、これら2つの開口50間の線のメニスカスに全力がかかる。実施形態では、各角は0.05~4.0mmの範囲の半径を有する。実施形態では、半径は0.5~4.0mmの範囲である。実施形態では、半径は1~3mmの範囲、又は1.5~2.5mmの範囲である。半径が大きすぎる場合は、メニスカスの不安定状態が形成され、その結果、漏れることがあるので、液体封じ込めの性能を低下させることがある。半径が全くない鋭利な角には封じ込め性能の低下がないが、半径が非常に小さい角は、メニスカスの安定性が低下する結果になることがある。有角形状は、このように滑らかに湾曲した角を少なくとも1つ有することが望ましい。1つの実施形態では、角は半径がないか、0mmと4.0mmの間の半径を有してよい。0059各縁部の負の半径は、ゼロ以下であることが望ましい。負の半径は、角の望ましい角度60~90°及び角間の距離1つの実施形態では50mm~150mmに応じて選択される。したがって、負の半径の辺は、その長さの少なくとも一部に沿って連続的に方向転換する。つまり、方向に段階的変化がない。それを代替的に考えると、開口50と交差する線が滑らかである。これは、角の望ましい範囲の角度の利点を確実に達成できることに役立つ。小さすぎる半径を使用すると、移動方向に位置合わせされていない角に近い2つの開口50間の接線が、直線の縁部の場合よりも移動方向に対して直角に近づくことが認識される。しかし、鋭利な角の効果は、この欠点を補償して余りある。0060実施形態では、開口の有角形状は4つの角及び4つの辺を有し、各辺は負の曲率半径を有する。しかし、他の有角形状を有することが適切なこともある。例えば、8辺形は、例えば限られたレイアウト空間でスキャン速度を改良するのに有利なことがある。図10の実施形態は、以下で述べるように8辺形と見なすことができる。0061図8には中心開口200が図示されている。この中心開口200は空間11を規定する。図8の実施形態では、中心開口が平面図で円形である。しかし、他の形状、例えば開口50の形状と同じ又は後述する実施形態では、さらなる開口105の形状と同じ形状を使用することができる。他の形状が適切なこともある。これは全ての実施形態に当てはまる。0062図9は、本発明の実施形態の利点を実証する幾つかの実験結果を示す。その結果、開口50には2つの異なる構成がある。両方の試験の間、基板と流体ハンドリング構造の底部との間のギャップは、実質的に同じであった。X軸は開口を通る気体の流量であり、Y軸はメニスカスの破壊が生じる前の最高スキャン速度である。ダイアモンドは、端部が直線である正方形の形態の開口で達成可能な最高スキャン速度を示す。三角形は、開口50が75°の角度を有する角がある図8に示すような形状であり、縁部が湾曲している場合の結果を示す。最高スキャン速度は、角度が75°の角の先端が移動方向にある方向で測定した。ここで見られるように、液体の損失がない状態で達成可能な最高スキャン速度は、縁部が直線の正方形より本発明の実施形態の方がはるかに速い。0063図10aから図10dは、開口50の有角形状の幾つかの異なる実施形態を示す。各有角形状は、少なくとも1つの縁部の少なくとも一部が負の曲率半径を有する。しかし、各縁部は正の曲率半径の部分も有する。半径が正の部分の頂点は角と見なすことができ、したがって形状は8つの辺又は角がある形状である。その結果、各形状は各縁部に沿って中心部分又は角59を有する。中心部分又は角59は、縁部の他の部分よりも、2つの角52を結ぶ直線58に近くにあることがある。中心位置又は角59は、他の部分よりも直線から半径方向外側にあることもある。直線58は、存在しないので想像線と見なすことができるが、2つの隣接する角52を接続するために配置された線である。0064図10aでは、中心部分59が、実際に2つの角52の間の直線58上に位置するように突出する。0065図10bでは、中心部分59が2つの角52の間の直線58を越えて延在し、したがって直線58よりも中心軸から半径方向にさらに離れる。0066図10cでは、縁部が全て、直線58よりも中心軸から半径方向にさらに離れる。図10cの実施形態は、負の半径の大きさが最小、つまり実質的にゼロの形状である。この実施形態は、形状のための空間が限られている場合に有用である。0067図10dは図10aの実施形態に類似しているが、中心部分59が十分に突出せず、したがって2つの角52の間の想像直線58よりも中心軸に近い。これは、負の半径の大きさが大きいことを表す。0068図11は、図8と同様の実施形態を示す。各角52は、2つの角52の間の直線から半径方向内側に突出した縁部を有する。しかし図11では、縁部がそれぞれ2つの直線部分を有する湾曲部分がない。直線部分は、2つの角52の間の直線より半径方向内側のポイントに収束する。したがって、縁部の方向転換は、方向転換が連続的である図8の実施形態と比較して、突然であるつまり先端で生じる。この形状は、特に直線より半径方向内側のポイントに、縁部が滑らかに湾曲した形状によって固定されたメニスカスよりも安定性が低いメニスカスを有することがある。0069図12a及び図12bは、それぞれ図8及び図11のそれと同様の実施形態を示すが、各角の角度は、図8及び図11の75°とは対照的に60°である。これは、本発明の実施形態が角にて様々な角度を有することが可能であることを示す。角度が60°と90°の間、又は75°と90°の間、又は75°と85°の間の角で、最高の性能を達成することができる。0070図13は、図9のそれと同様の実験結果を示す。図13では、図9のダイアモンド結果と同じ流体ハンドリング構造によってダイアモンドの結果が生成された。図13の三角形の結果は、図8の流体ハンドリングシステムのものである図9の場合と同じである。図13の正方形で図示された結果は、図11の実施形態三角形の結果と同じ75°の角度の角のものであるが、縁部の方向が不連続である。ここで見られるように、図8の実施形態は、様々な流量で最高の性能を提供する。図11の実施形態は最悪の性能を提供する。これは、縁部の形状が、尖っているつまり突然の方向転換があるのとは対照的に、滑らかであるつまり連続的に方向転換することの重要性を示す。0071図14は、本発明の実施形態の流体ハンドリング構造の一部を断面図で示す。流体ハンドリング構造は、投影システムPLの最終要素と基板Wの間にある空間11の周囲にバリア12を形成する。液体は、主に図5の実施形態のように入口/出口13によって、その空間11に提供される。図6から図13に関して述べたように、バリア部材12の底面51に一連の開口50が形成される。底面には、流体ハンドリング構造から流体例えば液体を提供する出口である1つ又は複数のさらなる開口105も形成される。さらなる開口105は、空間11に液体を提供する入口と見なすことができる。液体ハンドリングシステムの出口105から出る液体は、基板Wに向かって誘導される。このタイプの出口は、以前は、基板Wの縁部と基板テーブルWTの間にあるギャップに気体が捕捉されることにより、液浸液中に気泡が発生する機会を低下させるために提供されてきた。しかし、出口105の幾何形状は、液体を封じ込める際の流体ハンドリング構造の有効性に影響を及ぼす。0072特に、流体供給出口105は、まさに平面図の開口50の形状のように、角がある形状を平面図で有することが望ましい。実際、出口105と開口50の有角形状は実質的に同様であることが望ましい。実施形態では、各形状は各角の頂点に出口105又は開口50を有する。複数の出口105はそれぞれ、開口50から10mm以内、望ましくは5mm以内であることが望ましい。つまり、開口50によって作成される形状の全部分は、出口105によって作成される形状の部分から10mm以内にある。0073同じ形状の出口105と開口50を提供する理由が、図15a及び図15bに図示されている。図15a及び図15bでは、開口50がそれぞれ正方形の形状を有する。しかし図15aでは、出口105が投影システムの最終要素の形状と同じである円形の形状を有する。対照的に図15bでは、出口105が開口50と実質的に同じ形状を有してよい。0074図15a及び図15bは、流体ハンドリングシステムがガラス板上を移動している間に流体ハンドリングシステムの下から見た図である。この図はガラス板を透過し、したがって開口50及び出口105に対するメニスカス90の位置を見ることができる。図15a及び図15bに示した両方の事例で、流体ハンドリングシステムは静止し、ガラス板は下降している。0075図15aに見られるように、移動中にメニスカス90、特に上部角の位置は開口50から離れ、出口105に向かって下降する。その結果、液滴110がバリア部材12の底面上に残ることがある。ガラス板に対する流体ハンドリングシステム12の相対運動の方向が変化すると、液滴が存在する結果、液滴110がメニスカス90に接触した場合、例えばメニスカスと衝突した場合に、気泡が含まれることがある。このような気泡があると、全て投影システムPLと基板Wの間の空間11に辿り着き、結像の欠陥を引き起こすことがある。0076図15bに示す状況では、ここで見られるように、メニスカス90が依然として各開口50に付着している。というのは、出口105が平面図で開口50と実質的に同じ形状を有するからである。実際、開口50は以上で検討するように、出口105により近づいている。0077出口105は開口50の半径方向内側にある。開口50は、流体抽出入口と見なすことができ、出口105は流体供給出口と見なすことができる。開口50は、第一有角形状を有すると見なすことができ、出口105は、第二角形状を有すると見なすことができる。したがって、第一有角形状及び第二有角形状は同心状に配置される。開口50又は出口105は、それぞれ第一及び第二有角形状の周囲で離間される。第一及び第二有角形状は、共通の中心及び/又は軸線光軸を有してよい。第二有角形状は、第一有角形状内に形成される。0078図15aの流体ハンドリング構造では、図15bよりも出口105から出て開口50に向かう液体の漏れを少なくすることができる。出口105から半径方向外側への液体の流れは、図15bの実施形態のメニスカスの安定性を改良するのに少なくとも部分的に寄与していると考えられる。このようにメニスカスの安定性が改良されると、スキャン速度を上げ、それによってスループットを増加させることができる。0079出口105から液体の流れを多くすると、スキャン速度を上げることが可能であるが、これは望ましくない。というのは、熱の調整が不良の液体が投影システムPSと基板Wの間の空間11に辿り着く危険があるからである。これはオーバレイ誤差につながることがある。代わりに、角の近くでは出口105の密度を上げて、縁部の中央では出口の密度を下げながら、出口105を通る液体の総流量を維持することが提案されている。これは、出口105を通る液体の総流量を増加させずに、より高いスキャン速度で安定したメニスカスを維持するという望ましい効果を達成する。あるいは、これによって所与の最高スキャン速度の場合に出口を通る流量を減少させることができる。0080図16は1つのこのような実施形態を示す。4つの角それぞれにおける出口105の密度は、他の場所の出口密度よりも高いことが明白に見られる。逆に、角から離れた例えば各縁部の中心における開口の密度は通常、開口が1mm当たり0.5個未満である。1つの実施形態では、角の開口密度は角から離れた開口の密度の1倍から5倍である。別の実施形態では、角の開口密度は角から離れた開口の密度の1倍から3倍である。0081認識されるように、以上で述べた特徴部はいずれも任意の他の特徴部とともに使用することができ、本出願の対象となるのは明示的に述べたこれらの組合せだけではない。0082本文ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書でウェーハ又はダイという用語を使用している場合、それぞれ、基板又はターゲット部分という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール、メトロロジーツール及び/又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板は、例えば多層ICを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。0083本明細書で使用する放射及びビームという用語は、紫外線UV放射例えば、365nm、248nm、193nm、157nm若しくは126nm、又はこれら辺りの波長を有するを含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。レンズという用語は、状況が許せば、屈折及び反射光学部品を含む様々なタイプの光学部品のいずれか一つ、又はその組合せを指す。0084以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが認識される。例えば、本発明の実施形態は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の1つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスクの形態をとることができる。さらに機械読み取り式命令は、2つ以上のコンピュータプログラムで実現することができる。2つ以上のコンピュータプログラムを、1つ又は複数の異なるメモリ及び/又はデータ記憶媒体に記憶することができる。0085本明細書で述べたコントローラは、リソグラフィ装置の少なくとも1つのコンポーネント内に配置された1つ又は複数のコンピュータプロセッサが1つ又は複数のコンピュータプログラムを読み取った場合に、それぞれ又は組み合わせて操作可能であってよい。コントローラはそれぞれ又は組み合わせて、信号を受信、処理及び送信するために適切な任意の構成を有する。1つ又は複数のプロセッサが、コントローラの少なくとも1つと通信するように構成される。例えば、各コントローラは、上述した方法の機械読み取り式命令を含むコンピュータプログラムを実行するために、1つ又は複数のプロセッサを含んでよい。コントローラは、このようなコンピュータプログラムを記憶するデータ記憶媒体及び/又はこのような媒体を受信するハードウェアを含んでよい。したがって、コントローラは、1つ又は複数のコンピュータプログラムの機械読み取り式命令に従って動作することができる。0086本発明の1つ又は複数の実施形態は、液浸液が槽の形態で提供されるか、基板の局所的な表面区域のみに提供されるか、基板及び/又は基板テーブル上に閉じ込められないかにかかわらず、任意の液浸リソグラフィに、特に上述したタイプに適用することができるが、それに限定されない。閉じ込められない構成では、液浸液は基板及び/又は基板テーブルの表面上に流れることができ、したがって実質的に基板テーブル及び/又は基板の覆われていない表面全体が濡れる。このように閉じ込められていない液浸システムでは、液体供給システムが液浸液を閉じ込めることができない、又はある割合の液浸液閉じ込めを提供することができるが、実質的に液浸液の閉じ込めを完成しない。0087本明細書で想定するような液体処理システムは、広義に解釈されたい。特定の実施形態では、これは、液体を投影システムと基板及び/又は基板テーブルの間の空間に提供する機構又は構造の組合せでよい。これは、1つ又は複数の構造、1つ又は複数の液体開口を含む1つ又は複数の流体開口、1つ又は複数の気体開口、又は1つ又は複数の2相流の開口を備えてよい。開口はそれぞれ、液浸空間への入口又は流体ハンドリング構造からの出口又は液浸空間からの出口又は流体ハンドリング構造への入口でよい。実施形態では、空間の表面が基板及び/又は基板テーブルの一部でよいか、空間の表面が基板及び/又は基板テーブルの表面を完全に覆ってよいか、空間が基板及び/又は基板テーブルを囲んでよい。液体供給システムは任意選択で、液体の位置、量、品質、形状、流量又は任意の他の特徴を制御する1つ又は複数の要素をさらに含むことができる。0088実施形態では、リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造が提供される。流体ハンドリング構造は、平面図で有角形状に配置された複数の開口を有する。流体ハンドリング構造は、使用時に開口が基板及び/又は基板を支持するように構成された基板テーブルに向かって配向されるように構成される。有角形状は、負の半径の辺を有してよい。有角形状は、半径が0.05~4.0mmの範囲の角を有してよい。0089有角形状は4つの角及び4つの辺を有してよく、各辺は負の曲率半径を有する。有角形状は負の半径の辺を有してよく、有角形状は少なくとも1つの滑らかに湾曲した角を有する。有角形状は、その長さの少なくとも一部に沿って連続的に方向転換する負の半径の辺を有してよい。有角形状は、0.05~4.0mmの範囲の半径がある角を有してよい。有角形状は、少なくとも1つの滑らかに湾曲した角を有してよい。滑らかに湾曲した角は、0.5~4.0mmの範囲の半径を有してよい。半径は1~3mmの範囲、又は1.5~2.5mmの範囲でよい。0090開口は流体ハンドリング構造に入る気体及び/又は液体が通過する入口でよい。開口は、流体ハンドリング構造から出る流体が通過する出口でよい。開口は、角の付近では他の場所よりも間隔が狭くてよい。開口と交差する線は滑らかでよい。開口は有角形状の少なくとも1つの角の頂点に存在してよい。開口は、流体ハンドリング構造が流体を供給するように構成された空間を囲んでよい。開口は、空間の全周に形成してよい。0091実施形態では、有角形状の少なくとも1つの角は60°と90°の間、又は75°と90°の間、又は75°と85°の間の角度を有する。角又は各角は60°から90°、又は75°と90°の間、又は75°と85°の間の角度を有してよい。有角形状は8つの角を備えてよい。開口によって規定され、有角形状を規定する線は連続的で、連続的に変化する方向を有してよい。0092実施形態では、流体ハンドリング構造を備えるリソグラフィ装置がある。使用時には、有角形状の少なくとも1つの角がスキャン又はステップ方向を指す。0093実施形態では、リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造がある。流体ハンドリング構造は、平面図で第一有角形状に配置された複数の流体抽出開口、及び平面図で第二有角形状に配置された複数の流体供給開口を有する。流体抽出開口及び流体供給開口は、使用時に基板及び/又は基板を支持するように構成された基板テーブルに向かって配向される。第一有角形状と第二有角形状とは実質的に同様である。流体抽出開口が、第一有角形状の少なくとも1つの角の頂点に存在する、及び/又は流体供給開口が、第二有角形状の少なくとも1つの角の頂点に存在する。0094流体供給開口を、流体抽出開口の半径方向内側に配置してよい。第一有角形状と第二有角形状は同心状に配置してよい。流体供給開口は、角の付近では他の場所よりも間隔が狭くてよい。流体抽出開口又は流体供給開口はそれぞれ、第一又は第二有角形状それぞれの周囲で相互から等間隔でよい。第一及び第二有角形状は、共通の中心及び/又は軸線を有してよい。第二有角形状を第一有角形状内に形成してよい。0095第一有角形状又は第二有角形状又はその両方は、負の半径の辺及び滑らかに湾曲した角を有してよい。第一有角形状又は第二有角形状又はその両方は、半径が0.05~4.0mmの範囲の角を有する。第一有角形状又は第二有角形状又はその両方は、4つの角及び4つの辺を有してよく、各辺は負の曲率半径を有する。0096流体抽出開口及び/又は流体供給開口は、個々の第一及び/又は第二形状の全周に形成してよい。第一有角形状の全部分は、第二有角形状の部分から10mm以内にあってよい。0097流体ハンドリング構造を備えるリソグラフィ装置が提供される。使用時には、第一及び第二有角形状の少なくとも1つの角がスキャン又はステップ方向を指してよい。0098リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造が提供される。流体ハンドリング構造は、平面図で有角形状に配置された複数の開口を有する。流体ハンドリング構造は、開口が使用時に基板及び/又は基板を支持するように構成された基板テーブルに向かって配向されるように構成される。開口は、角の付近では他の場所よりも間隔が狭い。0099開口は、角では角から離れた密度の1倍から5倍の密度で存在してよい。開口は、角では角から離れた密度の1倍から3倍の密度で存在してよい。開口は流体供給出口でよい。流体ハンドリング構造は、開口の半径方向外側に複数の流体抽出入口を備えてよい。流体ハンドリング構造を備えるリソグラフィ装置を提供することができる。使用時には、有角形状の少なくとも1つの角がスキャン又はステップ方向を指してよい。00100デバイス製造方法が提供される。方法は、投影システムと基板の間に流体を提供し、流体ハンドリング構造の複数の開口に低圧を加えることによって基板と投影システムの間から液体を回収することを含む。開口は、平面図で投影システムと基板の間にある流体の周囲に配置される。有角形状は負の半径の辺を有する、及び/又は有角形状は半径が0.05~4.0mmの範囲の角を有する。00101デバイス製造方法が提供される。方法は、投影システムと基板の間に流体を提供し、平面図で第一有角形状に配置されている流体ハンドリング構造の複数の流体抽出開口に低圧を加えることによって、基板と投影システムの間から液体を回収し、複数の流体供給開口を通して基板と投影システムの間に流体を供給することを含む。流体供給開口は、平面図で第二有角形状に配置される。第一有角形状と第二有角形状とは実質的に同様でよい。流体抽出開口が、第一有角形状の少なくとも1つの角の頂点に存在する、及び/又は流体供給開口が、第二有角形状の少なくとも1つの角の頂点に存在する。00102デバイス製造方法が提供される。方法は、流体ハンドリング構造の複数の開口を通して投影システムと基板の間に液体を供給することを含む。開口は、平面図で有角形状に配置され、開口は、角の付近では他の場所よりも間隔が狭い。00103リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造が提供される。流体ハンドリング構造は、平面図で第一有角形状に配置された複数の流体抽出開口、及び平面図で第二有角形状に配置された複数の流体供給開口を有する。流体抽出開口及び流体供給開口は、平面図で基板及び/又は基板テーブルに向かって配向される。基板テーブルは基板を支持するように構成される。第一有角形状と第二有角形状とは実質的に同様である。第一有角形状又は第二形角形状又はその両方の角は、使用時に流体ハンドリング構造と基板テーブルとの相対運動の方向に位置合わせされるように構成される。00104リソグラフィ装置は、基板を支持するように構成された基板テーブル、及び流体ハンドリング構造を備えてよい。リソグラフィ装置は、第一有角形状及び第二有角形状の少なくとも1つの角が、流体ハンドリング構造と基板テーブルとの相対運動の方向と位置合わせされるように、相対運動の方向を制御するように構成されたコントローラを備えてよい。00105上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。"