"紙又はプラスチックフィルム上にプライマーとして塗工され、その塗工膜を紫外線照射後に剥離性シリコーン組成物の硬化皮膜が形成される剥離紙又は剥離フィルム用下塗り組成物であって、A密着付与成分として、下記A1及び/又はA2A125°Cでの粘度が0.04Pas未満で、1分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合するアルケニル基を含む置換基を持ち、アルケニル基含有量が0.3~2.0モル/100gの範囲内であり、かつアルケニル基を含む置換基がケイ素原子に結合している2個のシロキサン単位が直接又は該置換基がケイ素原子に結合していないシロキサン単位を3個以下介在した状態で結合している構造を有するオルガノポリシロキサン、A21分子中に、官能基として炭素数2~10の炭素-炭素不飽和結合二重又は三重結合を含む置換基を少なくとも1つと、アルケニル基及び/又はケイ素原子に結合した水素原子と付加反応及び/又は縮合反応可能な基を含む置換基を少なくとも1つ有する化合物、B必要により任意量の有機溶剤を含むことを特徴とする剥離紙又は剥離フィルム用下塗りシリコーン組成物。A1成分が、下記一般式2で示される構造を有する下記組成式1で示される平均重合度が2~50のオルガノポリシロキサンである請求項1記載の下塗りシリコーン組成物。[M]m1[MA]m2[D]d1[DA]d2[T]t1[TA]t2[Q]q11式中、R1は炭素数2~10のアルケニル基を含む置換基を示す。AはR2又は酸素原子を介して結合した式1を満たすように選ばれるシロキサン残基を示し、1個のケイ素原子に結合する2個のAが-OSiR22Oy-として環構造を形成してもよい。R2は炭素数1~10の非置換又は置換の1価炭化水素基、xは0~3の整数、yは式1のオルガノポリシロキサンの平均重合度2~50を満足するように選定される整数である。M、MA、D、DA、T、TA、Qは以下のシロキサン単位であり、O12は隣接するシロキサン単位と酸素原子を介して結合していることを示す。m1、m2、d1、d2、t1、t2、q1は以下の式を満足する数である。t1t22×q1≦m1m2≦2t1t22×q10≦d1d2≦48、0≦t1t2≦30、0≦q1≦200.25≦m2d2t2/m1m2d1d2t1t2q1≦1式2のxが0又は1である請求項2記載の下塗りシリコーン組成物。A1成分が、下記一般式3又は4で示される直鎖状又は分岐状シロキサン構造を持つ化合物である請求項2又は3記載の下塗りシリコーン組成物。式中、R1、R2は上記の通り。Yは下記式3aで示される基であり、式3aにおいて、R1、R2は上記の通りである。Y1は下記式3bで示される基であり、式3bにおいて、R1、R2は上記の通りである。a2、b2、ay、byは0~48の整数であり、c2、cyは0~30の整数であり、d2、dyは0~20の整数である。式3、3a、3bはそれぞれランダム構造を示すが、R1のアルケニル基を含む置換基がケイ素原子に結合している2個のシロキサン単位が直接又はR1がケイ素原子に結合していないシロキサン単位を3個以下介在した状態で結合している構造を少なくとも1個含む。式中、R1、R2は上記の通り。Zは下記式4aで示される基であり、式4aにおいて、R1、R2は上記の通りである。Z1は下記式4bで示される基であり、式4bにおいて、R1、R2は上記の通りである。a2、b2、ay、byは0~48の整数であり、c2、cyは0~30の整数であり、d2、dyは0~20の整数である。式4、4a、4bはそれぞれランダム構造を示すが、R1のアルケニル基を含む置換基がケイ素原子に結合している2個のシロキサン単位が直接又はR1がケイ素原子に結合していないシロキサン単位を3個以下介在した状態で結合している構造を少なくとも1個含む。A1成分が、下記一般式5で示される環状シロキサン構造を持つ化合物である請求項2又は3記載の下塗りシリコーン組成物。式中、R1、R2は上記の通り。R3はOH基又はSiH基を官能基として持つ置換基、又は炭素数1~10の脂肪族不飽和結合を持たない非置換又は置換の1価炭化水素基を示し、a1は0又は1、b1は1~6の整数、c1は0~5の整数であり、a1b1c1は2以上の整数である。A2成分における、炭素-炭素不飽和結合二重又は三重結合を含む置換基が、アルケニル基、アルキニル基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を含む置換基であり、アルケニル基及び/又はSiH基と付加反応及び/又は縮合反応可能な基を含む置換基が、SiH基、OH基又はアルケニル基を官能基として持つ置換基である請求項1~5のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物。A2成分における、炭素-炭素不飽和結合二重又は三重結合を含む置換基が、炭素数2~10のアルキニル基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を含む置換基であり、アルケニル基及び/又はSiH基と付加反応及び/又は縮合反応可能な基を含む置換基が、SiH基、OH基又はアルケニル基を持つ置換基である請求項1~5のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物。A2成分が、下記一般式6-1で示される2価の構造単位を含む化合物、下記一般式6-2と下記一般式6-3で示される2価の構造単位を含む化合物、下記一般式7-1で示される環状構造からなる化合物、又は下記一般式7-2で示される環状構造からなる化合物である請求項1~5のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物。式中、R2は炭素数1~10の非置換又は置換の1価炭化水素基、R4は炭素数2~10のアルキニル基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を含む置換基、R5はOH基、SiH基、又はアルケニル基を官能基として持つ置換基、R6は水素原子、炭素数1~10の飽和炭化水素基又は芳香族基、R4と同じ基、又はR5と同じ基、dは4~10、efは3~9である。剥離性シリコーン組成物が、付加反応及び縮合反応で硬化する組成物である請求項1~8のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物。更に、剥離性シリコーン組成物の成分の一部又は全部を含む請求項1~9のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物。請求項1~10のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物が塗工され、紫外線照射された処理紙又は処理フィルム基材であって、処理された面に剥離性シリコーン組成物の硬化皮膜が形成される剥離紙又は剥離フィルム用処理紙又は処理フィルム基材。請求項11記載の処理紙又は処理フィルム基材の処理面に、剥離性シリコーン組成物を塗工硬化することにより得られる剥離紙又は剥離フィルム。本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、紙又はプラスチックフィルムなど各種基材表面に密着性に優れた皮膜を形成し、その上に剥離性シリコーン組成物を塗工硬化させることで密着性に優れた剥離紙又は剥離フィルムを得ることができる剥離紙又は剥離フィルム用下塗りシリコーン組成物、及びこの組成物が下塗り剤として処理されてなる処理紙又は処理フィルムを提供することを目的とする。本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、特定の構造を持つアルケニル基含有シロキサン、及び/又は、1分子中に、加熱及び/又は紫外線によりラジカル反応する官能基を持つ置換基を少なくとも1つと、アルケニル基及び/又はSiH基と反応可能な基を持つ置換基を少なくとも1つとを有する化合物を含む組成物を下塗り剤とすることにより、基材との密着性に優れた剥離紙や剥離フィルムが得られることを知見した。また、従来の密着性改良手法では、剥離特性への影響が避けられなかったが、剥離特性に殆ど影響を与えることなく密着性を向上させることを見出し、本発明をなすに至った。従って、本発明は、下記に示す剥離紙又は剥離フィルム用下塗りシリコーン組成物、処理紙又は処理フィルム並びに剥離紙又は剥離フィルムを提供する。請求項1:紙又はプラスチックフィルム上にプライマーとして塗工され、その塗工膜を紫外線照射後に剥離性シリコーン組成物の硬化皮膜が形成される剥離紙又は剥離フィルム用下塗り組成物であって、A密着付与成分として、下記A1及び/又はA2A125°Cでの粘度が0.04Pas未満で、1分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合するアルケニル基を含む置換基を持ち、アルケニル基含有量が0.3~2.0モル/100gの範囲内であり、かつアルケニル基を含む置換基がケイ素原子に結合している2個のシロキサン単位が直接又は該置換基がケイ素原子に結合していないシロキサン単位を3個以下介在した状態で結合している構造を有するオルガノポリシロキサン、A21分子中に、官能基として炭素数2~10の炭素-炭素不飽和結合二重又は三重結合を含む置換基を少なくとも1つと、アルケニル基及び/又はケイ素原子に結合した水素原子と付加反応及び/又は縮合反応可能な基を含む置換基を少なくとも1つ有する化合物、B必要により任意量の有機溶剤を含むことを特徴とする剥離紙又は剥離フィルム用下塗りシリコーン組成物。請求項2:A1成分が、下記一般式2で示される構造を有する下記組成式1で示される平均重合度が2~50のオルガノポリシロキサンである請求項1記載の下塗りシリコーン組成物。[M]m1[MA]m2[D]d1[DA]d2[T]t1[TA]t2[Q]q11式中、R1は炭素数2~10のアルケニル基を含む置換基を示す。AはR2又は酸素原子を介して結合した式1を満たすように選ばれるシロキサン残基を示し、1個のケイ素原子に結合する2個のAが-OSiR22Oy-として環構造を形成してもよい。R2は炭素数1~10の非置換又は置換の1価炭化水素基、xは0~3の整数、yは式1のオルガノポリシロキサンの平均重合度2~50を満足するように選定される整数である。M、MA、D、DA、T、TA、Qは以下のシロキサン単位であり、O12は隣接するシロキサン単位と酸素原子を介して結合していることを示す。m1、m2、d1、d2、t1、t2、q1は以下の式を満足する数である。t1t22×q1≦m1m2≦2t1t22×q10≦d1d2≦48、0≦t1t2≦30、0≦q1≦200.25≦m2d2t2/m1m2d1d2t1t2q1≦1請求項3:式2のxが0又は1である請求項2記載の下塗りシリコーン組成物。請求項4:A1成分が、下記一般式3又は4で示される直鎖状又は分岐状シロキサン構造を持つ化合物である請求項2又は3記載の下塗りシリコーン組成物。式中、R1、R2は上記の通り。Yは下記式3aで示される基であり、式3aにおいて、R1、R2は上記の通りである。Y1は下記式3bで示される基であり、式3bにおいて、R1、R2は上記の通りである。a2、b2、ay、byは0~48の整数であり、c2、cyは0~30の整数であり、d2、dyは0~20の整数である。式3、3a、3bはそれぞれランダム構造を示すが、R1のアルケニル基を含む置換基がケイ素原子に結合している2個のシロキサン単位が直接又はR1がケイ素原子に結合していないシロキサン単位を3個以下介在した状態で結合している構造を少なくとも1個含む。式中、R1、R2は上記の通り。Zは下記式4aで示される基であり、式4aにおいて、R1、R2は上記の通りである。Z1は下記式4bで示される基であり、式4bにおいて、R1、R2は上記の通りである。a2、b2、ay、byは0~48の整数であり、c2、cyは0~30の整数であり、d2、dyは0~20の整数である。式4、4a、4bはそれぞれランダム構造を示すが、R1のアルケニル基を含む置換基がケイ素原子に結合している2個のシロキサン単位が直接又はR1がケイ素原子に結合していないシロキサン単位を3個以下介在した状態で結合している構造を少なくとも1個含む。請求項5:A1成分が、下記一般式5で示される環状シロキサン構造を持つ化合物である請求項2又は3記載の下塗りシリコーン組成物。式中、R1、R2は上記の通り。R3はOH基又はSiH基を官能基として持つ置換基、又は炭素数1~10の脂肪族不飽和結合を持たない非置換又は置換の1価炭化水素基を示し、a1は0又は1、b1は1~6の整数、c1は0~5の整数であり、a1b1c1は2以上の整数である。請求項6:A2成分における、炭素-炭素不飽和結合二重又は三重結合を含む置換基が、アルケニル基、アルキニル基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を含む置換基であり、アルケニル基及び/又はSiH基と付加反応及び/又は縮合反応可能な基を含む置換基が、SiH基、OH基又はアルケニル基を官能基として持つ置換基である請求項1~5のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物。請求項7:A2成分における、炭素-炭素不飽和結合二重又は三重結合を含む置換基が、炭素数2~10のアルキニル基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を含む置換基であり、アルケニル基及び/又はSiH基と付加反応及び/又は縮合反応可能な基を含む置換基が、SiH基、OH基又はアルケニル基を持つ置換基である請求項1~5のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物。請求項8:A2成分が、下記一般式6-1で示される2価の構造単位を含む化合物、下記一般式6-2と下記一般式6-3で示される2価の構造単位を含む化合物、下記一般式7-1で示される環状構造からなる化合物、又は下記一般式7-2で示される環状構造からなる化合物である請求項1~5のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物。式中、R2は炭素数1~10の非置換又は置換の1価炭化水素基、R4は炭素数2~10のアルキニル基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を含む置換基、R5はOH基、SiH基、又はアルケニル基を官能基として持つ置換基、R6は水素原子、炭素数1~10の飽和炭化水素基又は芳香族基、R4と同じ基、又はR5と同じ基、dは4~10、efは3~9である。請求項9:剥離性シリコーン組成物が、付加反応及び縮合反応で硬化する組成物である請求項1~8のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物。請求項10:更に、剥離性シリコーン組成物の成分の一部又は全部を含む請求項1~9のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物。請求項11:請求項1~10のいずれか1項記載の下塗りシリコーン組成物が塗工され、紫外線照射された処理紙又は処理フィルム基材であって、処理された面に剥離性シリコーン組成物の硬化皮膜が形成される剥離紙又は剥離フィルム用処理紙又は処理フィルム基材。請求項12:請求項11記載の処理紙又は処理フィルム基材の処理面に、剥離性シリコーン組成物を塗工硬化することにより得られる剥離紙又は剥離フィルム。本発明によれば、従来の剥離紙用又は剥離フィルム用の剥離性シリコーン組成物を塗工する前に、特定の構造を持つ密着向上成分を含む本発明の下塗りシリコーン組成物を基材へ塗工して紫外線照射させることで、上塗りされる剥離性シリコーン組成物が形成する離型性シリコーン皮膜と基材との密着性が向上する。また、本発明によれば、従来の密着性改良手法では、剥離特性への影響が避けられなかったが、剥離特性に殆ど影響を与えることなく密着性を向上させることができる。以下、本発明について詳しく説明する。本発明の下塗りシリコーン組成物は、A密着付与成分として、以下のA1及び/又はA2成分、及び必要によりB有機溶剤を含むものであり、紙又はプラスチックフィルム基材へ塗工して紫外線照射した後、その上に剥離性シリコーン組成物を塗工硬化させることで密着性に優れた剥離紙又は剥離フィルムを得ることができるものである。本発明の下塗りシリコーン組成物を構成するA成分は、本発明の下塗りシリコーン組成物が下塗り剤として密着性を発現するために特徴的な成分であり、フィルム基材と剥離性シリコーン組成物が形成する非粘着硬化皮膜との間を繋ぐカップリング剤のように働き、密着性を向上させる。全く異なる物質からなる紙又はフィルム基材及び非粘着硬化皮膜と反応あるいは相互作用するのに、一種類の反応だけを用いるのは、どちらか一方へ偏りを生じ易く、カップリング剤として十分な機能を発現し難くなる。そこで、本発明では、基材との反応あるいは相互作用にラジカル反応を、非粘着硬化皮膜とは付加反応又は縮合反応を用いることにしたものである。これら異なる二つの反応に一つの分子で対応する必要があるが、そのための一つの方法は、一つの分子には両方の反応が可能な官能基のみを含む同種の置換基だけを持たせるもので、置換基による反応選択性は低いが、分子構造上の特徴によって二つの反応を偏りなく進める方法であり、これに対応するオルガノシロキサンがA1成分である。もう一つの方法は、紙又はフィルム基材とのラジカル反応が付加反応や縮合反応よりも起こり易い置換基と、非粘着硬化皮膜との付加反応や縮合反応がラジカル反応よりも起こり易い置換基の両方を一つの分子に持たせるもので、これに対応する化合物がA2成分である。A成分としては、上記A1成分又はA2成分を単独で用いてもよいし、A1成分とA2成分を併用してもよく、配合比率は必要とする密着性の水準、用いる基材や硬化条件により適宜調整して用いてよいが、好ましくはA1:A2=100:0~100:100質量比、より好ましくは100:0~100:90である。両者を併用する場合は100:5以上とすることが好ましい。A1成分は、A2成分のように複数の異種官能基を一つの分子内に持たせる必要がないため、製造も容易であり、入手やコストの面で有利である。また、上塗りされる剥離性シリコーン組成物の主成分と同じシリコーン化合物であることは、非粘着硬化皮膜との反応や相互作用に有利となる。この特徴は、有機物である基材表面との反応や相互作用には不利になるが、下塗り剤として予め基材上に塗工され、紫外線照射によりラジカル反応が先に進められることと、アルケニル基を下記一般式1のように隣接した配置にすることで、アルケニル基を短いシロキサン鎖に集中させて官能基部分の有機性を高め、基材とのラジカル反応を進めるのに有利な構造としたものである。即ち、A1成分は、アルケニル基を含む置換基がケイ素原子に結合している2個のシロキサン単位が直接又は該アルケニル基を含む置換基がケイ素原子に結合していないシロキサン単位を3個以下介在した状態で結合している構造を有するオルガノポリシロキサンである。この場合、A1成分としては、下記一般式2で示される構造を有する下記組成式1で示すことができる。[M]m1[MA]m2[D]d1[DA]d2[T]t1[TA]t2[Q]q11式中、R1は炭素数2~10のアルケニル基を含む置換基を示す。AはR2又は酸素原子を介して結合した式1を満たすように選ばれるシロキサン残基を示し、1個のケイ素原子に結合する2個のAが-OSiR22Oy-として環構造を形成してもよい。R2は炭素数1~10の非置換又は置換の1価炭化水素基、xは0~3の整数、yは式1のオルガノポリシロキサンの平均重合度2~50を満足するように選定される整数である。M、MA、D、DA、T、TA、Qは以下のシロキサン単位であり、O12は隣接するシロキサン単位と酸素原子を介して結合していることを示す。m1、m2、d1、d2、t1、t2、q1は以下の式を満足する数である。t1t22×q1≦m1m2≦2t1t22×q10≦d1d2≦48、0≦t1t2≦30、0≦q1≦200.25≦m2d2t2/m1m2d1d2t1t2q1≦1また、R1のアルケニル基を含む置換基としては、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、アクリロイルオキシプロピル基、メタクリロイルオキシプロピル基等のメタアクリロイルオキシ基置換アルキル基等が挙げられる。R2の1価の有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基のほか、ビニル基、アリル基等のアルケニル基などの非置換の1価炭化水素基、これらの非置換の1価炭化水素基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基、あるいは上記アルキル基の水素原子がメタアクリロイルオキシ基で置換された、例えばメタアクリロイルオキシプロピル基等が挙げられる。従って、R2はR1であってもよい。Aは、R2又は酸素原子を介して結合した式1を満たすように選ばれるシロキサン残基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ビニル基、アリル基、メタアクリロキシプロピル基、-OSiCH32CH=CH2基、-O-SiCH33基、-O-SiCH32C6H5基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等である。また、1個のケイ素原子に結合する2個のAが-OSiR22Oy-として環構造を形成してもよく、具体的にいえば、であってもよい。なお、A1成分の平均重合度は2~50、特に特に2~40であることが好ましい。この平均重合度はゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCによるポリスチレン換算値である。yは上記平均重合度を満足するように選定されるが、好ましくは0~10、特に1~8の整数である。上記式2から明らかなように、A1成分のオルガノシロキサンは、2個の-SiR1A-基が-O-SiA2Ox-x=0~3、特に0又は1を介して連結している構造を有するものである。つまり、ケイ素原子に結合するアルケニル基を有する2個の-SiR1A-基が近接して存在しているもので、この場合Aがアルケニル基であれば当然近接しているものであるが、Aがメチル基等のアルキル基やフェニル基等のアリール基であっても-SiR1A-相互が近接しているものであり、この近接の程度を示すxが最大で3、好ましくは0又は1であり、これにより本発明の効果が得られる。これに対し、xが4以上では密着性が低下し、剥離性能に影響を与えることなく密着性を向上させるという本発明の効果を達成し得ない。このようにアルケニル基を隣接した配置にすることで期待されるもう一つの効果として、付加反応の進行を遅らせてラジカル反応を優位に進めることがあり、その効果をより有効に得るにはx=0~1とするのが好ましい。このアルケニル基同士がより接近した構造が付加反応を遅らせるのは、同種の構造を持つ化合物が制御剤として利用できることからも類推される。一方のアルケニル基がラジカル反応により変化してしまえば、残ったアルケニル基は付加反応し易い状態になり非粘着硬化皮膜との反応が進みカップリング剤として有効に働くことができる。できればラジカル反応だけで全てのアルケニル基が消費されてしまわないよう1分子中のアルケニル基を3個以上、あるいは4個以上とすることが好ましい。また分子量が小さいことは、カップリング剤として作用するのに、広い面積により多くの結合点を形成できるので有利でもある。上記式1の構造を有するオルガノシロキサンとして具体的には、下記式3又は4の直鎖状又は分岐状のオルガノポリシロキサンが挙げられる。式中、R1、R2は上記の通り。Yは下記式3aで示される基であり、式3aにおいて、R1、R2は上記の通りである。Y1は下記式3bで示される基であり、式3bにおいて、R1、R2は上記の通りである。a2、b2、ay、byは0~48、好ましくは0~45、更に好ましくは0~40の整数であり、c2、cyは0~30、好ましくは0~25、更に好ましくは0~20の整数であり、d2、dyは0~20、好ましくは0~18、更に好ましくは0~15の整数である。式3、3a、3bはそれぞれランダム構造を示すが、R1のアルケニル基を含む置換基がケイ素原子に結合している2個のシロキサン単位が直接又はR1がケイ素原子に結合していないシロキサン単位を3個以下介在した状態で結合している構造を少なくとも1個含む。式中、R1、R2は上記の通り。Zは下記式4aで示される基であり、式4aにおいて、R1、R2は上記の通りである。Z1は下記式4bで示される基であり、式4bにおいて、R1、R2は上記の通りである。a2、b2、ay、byは0~48、好ましくは0~45、更に好ましくは0~40の整数であり、c2、cyは0~30、好ましくは0~25、更に好ましくは0~20の整数であり、d2、dyは0~20、好ましくは0~18、更に好ましくは0~15の整数である。式4、4a、4bはそれぞれランダム構造を示すが、R1のアルケニル基を含む置換基がケイ素原子に結合している2個のシロキサン単位が直接又はR1がケイ素原子に結合していないシロキサン単位を3個以下介在した状態で結合している構造を少なくとも1個含む。上記A1成分としてより具体的な構造は、例えば下記式で示される直鎖状のオルガノポリシロキサン但し、xは上記の通り。、で示される三官能又は四官能シロキサン単位で主骨格が形成される分岐状構造のオルガノポリシロキサンも可能である。ここで、上記Aのシロキサン残基、Y、Z、Bとしては、下記のものが例示される。但し、R20はR2又はR1を示す。R0は-O-SiR2R20y6-SiR22R20を示し、yは上記の通り。y1y2y6=yであり、y1及びy6は0以上、y2は1以上の整数である。y3y4=yであり、y3、y4は0以上の整数である。y5=yである。より具体的には、下記のものが挙げられる。また、下記一般式5で示されるように、A1成分のオルガノシロキサンを環状構造とすることで、シロキサン構造による影響を更に小さくでき、ラジカル反応するのにより有効な構造となる。式中、R1、R2は上記の通り。R3はOH基又はSiH基を官能基として持つ置換基、又は炭素数1~10の脂肪族不飽和結合を持たない非置換又は置換の1価炭化水素基を示し、a1は0又は1、b1は1~6の整数、c1は0~5の整数であり、a1b1c1は2以上の整数である。上記式中、R3のOH基又はSiH基を官能基として持つ置換基としては、ケイ素原子に結合した水酸基及び水素原子のほか、-CH2CH2CH2-O-CH2CH2-OH等が挙げられる。R3の1価炭化水素基としては、アルケニル基を含まない以外はR2で例示したものと同様のものが挙げられる。工業的に望ましい具体的なA1の例は、上記式5において、R1がビニル基、R2がメチル基、R3が水素原子、a1=0~1、b1=1~4、c1=0~1である。更に望ましくは、a1=0、b1=2~4、c1=0である。なお、A1成分は、アルケニル基含有量が0.3~2.0モル/100g、更に好ましくは0.4~1.5モル/100gの高アルケニル基含有シロキサンであり、回転粘度計を使用して測定される25°Cでの絶対粘度が0.04Pas未満の、シロキサン重合度の低い低分子量とすることで、基材との反応及び相互作用を更に容易にし、できればラジカル反応だけで全てが消費されてしまわないよう1分子中のアルケニル基を3個以上、更には4個以上とすることが好ましい。なお、絶対粘度の下限は特に制限されないが、通常0.1mPasである。次に、A2成分は、1分子中に、官能基として炭素数2~10、好ましくは2~8の炭素-炭素不飽和結合二重結合又は三重結合を含む置換基を少なくとも1つと、アルケニル基及び/又はケイ素原子に結合した水素原子以下、SiH基と略すと付加反応及び/又は縮合反応可能な基を含む置換基を少なくとも1つ有する化合物である。A2成分が少なくとも一つ持っている、炭素-炭素不飽和結合を官能基とする置換基は、加熱及び/又は紫外線によりラジカル反応する官能基を持つ置換基を意味するが、構造は直鎖、分岐など特定されず、シクロヘキセンやノルボルナジエンなどの環状構造でもよく、一般的にラジカル重合やラジカル反応硬化する系で用いられる官能基を含む置換基を用いることができる。A2成分がシロキサン構造を含む場合は特に付加反応による消費を抑制するために、メタクリロイルオキシ基などの炭素-炭素二重結合、アセチレン基、プロピニル基、ブチニル基などの炭素-炭素三重結合を含む置換基とすることが好ましい。どちらかと言えば、A1成分が上塗りとなる剥離性シリコーン組成物層と反応及び相互作用し易い構造であるのに対し、A2成分は有機的な構造を主とした基材との反応及び相互作用に有利な構造をとり、各々単独でも効果は得られるが、A1成分とA2成分を併用することで、より高い効果をより広範な基材に対して発揮することから、A2成分がシロキサン構造を含む場合は分子量乃至重合度は小さめの方が望ましく、重合度で40以下、好ましくは1~10である。A2成分がシロキサン構造を含まない有機物であれば、基材への接近が容易となりラジカル反応による反応や相互作用に有利となるため、置換基の選択はより広げてもよい。但し、非シリコーン系で分子量が大きくなると上塗り材のシリコーンとの濡れ性が低くなりすぎて密着性が得られなくなることから、GPCによるポリスチレン換算数平均分子量は1,000以下であることが好ましい。より効率よくカップリング剤として密着性向上に働くためにも、広い面積で多くの結合点を形成できるよう小さい分子量の方が望ましい点も挙げられる。A2成分の、加熱及び/又は紫外線によりラジカル反応する官能基を持つ置換基は、ラジカル反応及び/又はラジカル反応で生成する基による相互作用で、本組成物が塗工される基材表面にA2成分を繋ぎ止める。ラジカルの生成は加熱によってでも紫外線などのエネルギー線照射によってでもよく、ラジカルの生成を促す目的で過酸化物などのラジカル発生剤や光増感剤などを本発明の効果を阻害しない範囲で添加してもよい。熱や紫外線によりラジカルを発生しうる構造又は発生ラジカルと反応しうる構造は、有機物である基材に多く存在し、ラジカルを発生させるエネルギー源となる赤外線や紫外線の吸収率も基材が圧倒的に高いため、ラジカルを基材に集中的に発生させることができて基材との反応を促進するのに適している。プラスチックフィルムなど熱に弱い基材の場合、紫外線照射によるラジカル生成手法はフィルム基材の温度があまり上がらない点で有利である。フィルム基材表面で多くが吸収される紫外線を用いればフィルム基材表面付近に集中的にラジカルを発生させることができ、フィルム基材との反応を促す上で望ましい。A2成分が少なくとも一つ持っている別の置換基は、アルケニル基及び/又はSiH基と反応可能な官能基を持つ置換基であって、ここでのアルケニル基は上塗り剥離性シリコーン組成物の主成分が持っている官能基であり、SiH基は架橋剤が持っている官能基を想定しておりつまり、上塗り剥離性シリコーン組成物は付加反応硬化型であることを想定している、アルケニル基については付加反応できるSiH基、SiH基については縮合反応できるOH基又は付加反応できる炭素-炭素二重結合を官能基とする置換基が挙げられる。A2成分のこの置換基は、一つ目の置換基のラジカル反応とは異なる付加反応、縮合反応により非粘着硬化皮膜にA2成分を繋ぎ止める。ラジカル反応する置換基の働きと合わせてA2成分は非粘着硬化皮膜と基材を繋ぎ止めるカップリング剤として働き密着性を向上させる。A2成分を、シロキサン構造を持たない有機系化合物とした場合、基材とのラジカル反応が進み易いため、アルケニル基及び/又はSiH基と反応可能な官能基として炭素-炭素二重結合を含む置換基を選択するとラジカル反応で殆どが消費されてしまいかねない。その結果、SiH基と付加反応する分が少なくなり、カップリング剤として作用し難くなるおそれがある。これを防止するためにはラジカル反応し難いSiH基や水酸基を選択し、例えば、下記一般式6-1で示される2価の構造、又は下記一般式6-2と6-3で示される2種類の2価の構造を含む分子構造とすることができる。上記式中、R2は上記の通り。R4は炭素数2~10、好ましくは2~8のアルキニル基例えばアセチレン基、プロピニル基、ブチニル基など、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を含む置換基、R5はOH基、SiH基、又はアルケニル基を官能基として持つ置換基を示す。上記式において、工業的に望ましい例としては、HC≡C-CCH32-OHが挙げられる。また、下記一般式7-1、7-2で示される環状物などが具体的な構造として挙げられる。上記式中、R4、R5は上記の通り。R6は水素原子、炭素数1~10、好ましくは1~8の飽和炭化水素基又は芳香族基、R4と同じ基、又はR5と同じ基である。dは4~10、efは3~9を示す。上記式において、工業的に好ましい例としては、エチニルシクロヘキサノールが挙げられる。A1成分もA2成分も分子量が小さいことが有利であると記述してきたが、本発明の下塗りシリコーン組成物が基材へ塗工され、加熱された場合、分子量が小さすぎると気化が速すぎて反応しないまま基材表面から除去されてしまう心配がある。そのためA成分の沸点が80°C以上となるような分子量とすることが望ましい。温度が高くならないよう紫外線照射を用いることはこのような影響を軽減するのにも有効である。本発明の下塗りシリコーン組成物には、必要によりB成分として有機溶剤を配合することができる。この有機溶剤は、各種基材に対する塗工性の向上、塗工量及び粘度の調整を目的とし、例えば、トルエン、キシレン、酢酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、ヘキサン等のA成分を均一に溶解できる有機溶剤が使用できる。B成分を配合する場合の配合量は、A成分100質量部に対して1~99,900質量部であり、好ましくは100~10,000質量部である。なお、B成分は任意成分であり、配合しない場合は使用塗工装置で適切な塗工性が得られるよう他成分の粘度を変更して調整する。本発明の下塗りシリコーン組成物は、前記A、Bの各成分を均一に混合することにより容易に製造することができる。本発明の下塗りシリコーン組成物には、必要に応じて光増感剤、ラジカル発生剤、レベリング剤、濡れ向上剤等の添加剤を本発明の目的を損なわない範囲で配合することができる。また、本発明の下塗りシリコーン組成物には、後述する剥離性シリコーン組成物の成分の一部又は全部を本発明の効果を阻害しない範囲で配合してもよい。本発明の下塗りシリコーン組成物を塗工する場合は、本発明の下塗りシリコーン組成物を直接又は適当な有機溶剤で希釈した後、バーコーター、ロールコーター、リバースコーター、グラビアコーター、エアナイフコーター、更に薄膜の塗工には高精度のオフセットコーター、多段ロールコーター等の公知の塗布方法により基材に塗布する。ここで、基材としては、グラシン紙、ポリエチレンラミネート紙、クラフト紙、クレーコート紙、ミラーコート紙等の紙、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル等のプラスチックフィルムなどが挙げられる。本発明の下塗りシリコーン組成物の基材への塗布量は、塗布すべき基材の材質の種類によっても異なるが、固形分の量として0.0005~0.1g/m2の範囲が好ましい。下塗りシリコーン組成物を塗布した基材に紫外線を照射するが、溶剤を用いる場合は風乾や加熱により溶剤を気化させて乾燥させてもよい。紫外線照射と乾燥工程は同時でも別でもよく、その順序も本発明の効果が得られる範囲で入れ替え可能である。紫外線の照射は、水銀灯、メタルハライド、フュージョンなど市販のランプ及びバルブを使用できる。フィルム基材の吸光係数が大きい300nmより短波長な成分を多く含む波長分布のランプ及びバルブが効果的で、積算光量は10~500mJ/cm2で、例えば120W1灯又は2灯でラインスピード10~100m/分の照射条件である。乾燥は20~120°Cで5~60秒間程度が目安である。上記基材に下塗りシリコーン組成物が塗工され、紫外線照射された処理紙基材又は処理フィルム基材の塗工面上に、剥離性シリコーン組成物を上塗り硬化させることで基材密着性に優れた剥離紙又は剥離フィルムを得ることができる。上塗りされる剥離性シリコーン組成物としては、付加型及び縮合型の組成物が使用でき、一般に市販されているものが使用可能である。溶剤型、無溶剤型、エマルジョン型など製品の態様は特に限定されない。使用可能な付加型の組成物の例として、以下のC~E成分、及び必要によりF成分を含むものが挙げられるが、それに限定されるものではない。Cアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサンDオルガノハイドロジェンポリシロキサンE付加反応用触媒F有機溶剤上塗りされる剥離性シリコーン組成物のC成分は、オルガノポリシロキサンで、1分子中に少なくとも2個のアルケニル基を持つものが使用でき、より具体的には下記一般式8で示される構造を有するものが挙げられる。式中、R7はアルケニル基、R8は脂肪族不飽和結合を含有しない1価の有機基又は水酸基を示し、X1は下記式9で示される基である。a3、b3、c3、d3、e3はオルガノポリシロキサンの回転粘度計を使用して測定される25°Cの粘度が0.04Pas以上、30質量トルエン溶液での回転粘度計を使用して測定される25°Cでの絶対粘度が70Pas以下を満たす正数から選ばれ、b3、c3、d3、e3は0であってもよい。α及びβは0又は1~3の整数である。R7は、ビニル基、アリル基、ブテニル基などの好ましくは炭素数2~6のアルケニル基、R8は炭素数1~20、特に1~8のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素数1~12のアルキル基、シクロヘキシル基などの炭素数4~20のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基などの炭素数6~20のアリール基あるいはこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基などの置換1価炭化水素基、更にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、メトキシエトキシ基などの炭素数1~12のアルコキシ基、水酸基、炭素数2~20のエポキシ基を含む1価炭化水素基、例えばグリシジル基、グリシジルオキシ基、エポキシシクロヘキシル基置換アルキル基などから選択される1価の有機基であるが、脂肪族不飽和結合は含有しない。R7はビニル基が工業的に好ましく、C成分のオルガノポリシロキサン全体に含まれるR8はその少なくとも80モルがメチル基であることが製造上及び特性上好ましい。C成分のオルガノポリシロキサンの1分子が持つアルケニル基は2個以上であるが、望ましくは、オルガノポリシロキサン100g当たりの含有量として0.001~0.3モルである。相当する式8及び置換基X1のa3、b3、c3、d3、e3としては、1分子が持つアルケニル基の数c3b3×e3β2αが2~2,500の範囲になるように選ばれる。C成分のオルガノポリシロキサンの主骨格構造は直鎖であるが、b3が0でない場合で示されるような分岐鎖構造を含むものも使用できる。上塗りされる剥離性シリコーン組成物のD成分は、オルガノハイドロジェンポリシロキサンであり、1分子中にケイ素原子に直接結合する水素原子SiH基を少なくとも3個有する下記平均組成式10で示されるものが好ましい。R8fHgSiO210式中、R8は上記の通り、fは0~3、gは0~3で、fgは1~3の正数である。分子構造は直鎖状、分岐鎖状もしくは環状のいずれであってもよい。回転粘度計を使用して測定される25°Cでの絶対粘度が数mPas~数万mPasの範囲であればよい。オルガノハイドロジェンポリシロキサンの具体例として、下記のオルガノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。但し、上記式において、Meはメチル基、h、l、nは3~500、m、p、sは1~500、i、j、k、o、q、r、t、u、v、wは0~500である。上記D成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、含有されるケイ素原子に結合した水素原子SiH基のモル数が、C成分に含まれるアルケニル基の合計モル数の1~10倍、特に1~5倍に相当する量であることが好ましい。また、C成分のオルガノポリシロキサン100質量部に対して0.1~10質量部の範囲で用いることができる。上塗りされる剥離性シリコーン組成物のE成分は付加反応用触媒であり、従来から公知のものを全て使用することができる。例えば、白金黒、塩化白金酸、塩化白金酸-オレフィンコンプレックス、塩化白金酸-アルコール配位化合物、ロジウム、ロジウム-オレフィンコンプレックス等が挙げられる。上記付加反応用触媒は、C成分及びD成分の合計質量に対し、白金又はロジウムの量として5~1,000ppm質量比、特に10~800ppm質量比配合することが、十分な硬化皮膜を形成する上で好ましいが、前記成分の反応性又は所望の硬化速度に応じて適宜増減させることができる。上塗りされる剥離性シリコーン組成物には、F成分として有機溶剤を配合することができる。このF成分としては、本発明の下塗りシリコーン組成物に使用するB成分と同じものが使用できる。有機溶剤は、処理浴安定性及び各種基材に対する塗工性の向上、塗工量及び粘度の調整を目的としている。有機溶剤として、具体的には、例えば、トルエン、キシレン、酢酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、ヘキサン等の組成物を均一に溶解できる有機溶剤が使用できる。有機溶剤を配合する場合の配合量は、C成分100質量部に対して100~9,900質量部が好ましい。なお、有機溶剤は任意成分であり、配合しない場合は使用塗工装置で適切な塗工性が得られるよう他成分の粘度を変更して調整する。処理浴安定性については必要に応じてバスライフ延長剤等を利用して調整する。上塗りされる剥離性シリコーン組成物は、前記C、D、E、Fの各成分を均一に混合することにより容易に製造することができるが、十分なポットライフを確保するため、E成分はコーティングをする直前に添加混合すべきである。また、F成分の有機溶剤を使用する場合は、C成分及びD成分をF成分に均一に溶解した後、E成分を混合するのが有利である。上塗りされる剥離性シリコーン組成物には、必要に応じて顔料、レベリング剤、バスライフ延長剤等の添加剤を本発明の目的を損なわない範囲で配合することもできる。上塗りされる剥離性シリコーン組成物を塗工する場合には、剥離性シリコーン組成物を直接又は適当な有機溶剤で希釈した後、バーコーター、ロールコーター、リバースコーター、グラビアコーター、エアナイフコーター、更に薄膜の塗工には高精度のオフセットコーター、多段ロールコーター等の公知の塗布方法により、上記下塗りシリコーン組成物を塗工、硬化した剥離紙基材又は剥離フィルム基材の上に塗布する。上塗りされる剥離性シリコーン組成物の上記基材への塗布量は、下塗り剤の上に、用途によっても異なるが、固形分の量として0.05~5g/m2の範囲が好ましい。上記のようにして剥離性シリコーン組成物を塗布した基材を80~150°Cで5~60秒間加熱することにより基材表面に硬化皮膜を形成せしめ、剥離紙又は剥離フィルムを得ることができる。なお、上述したように、本発明においては、下塗りシリコーン組成物に、基剤への濡れ性、塗工性、剥離性シリコーン組成物を上塗りする際の塗工性を向上させるという理由から、剥離性シリコーン組成物の成分の一部又は全部を配合してもよく、上記剥離性シリコーン組成物の成分として例示した、C、D、E成分を配合することができる。これら成分を下塗りシリコーン組成物に配合する場合、C成分の配合量は、A成分100質量部に対して1~100質量部とすることが好ましい。D成分の配合量は、A成分及びC成分中のアルケニル基の合計1モルに対して1~10モル、特に1~5モルとすることが好ましい。D成分が多すぎるとポットライフが短くなって作業性が低下する場合がある。また、E成分の配合量は、A成分、C成分及びD成分の合計質量に対し、白金又はロジウムの量として質量比1~1,000ppm、特に5~800ppm配合することが好ましい。配合量が多すぎるとポットライフが短くなって作業性が低下する場合がある。このように下塗りシリコーン組成物に、上記C、D、E成分を配合した場合、塗工方法、塗工量及び硬化条件としては、上記と同様の方法、条件を採用することができる。この場合、べたつきを防止することが必要であれば、100~120°Cで5~30秒後加熱することができる。以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。粘度は、回転粘度計を使用して測定される25°Cでの絶対粘度である。[実施例1~17、比較例1~8]A、B成分を下記表1に示す質量部で混合して下塗りシリコーン組成物を調製した。次に、基材PET又はOPPに下塗りシリコーン組成物を0.005g/m2の厚さで塗布し、UVランプ80W2灯、ラインスピード40m/分でUV照射積算光量50mJ/cm2後、80°Cの熱風循環式乾燥機で10秒間加熱処理して下塗り処理基材を形成した。一方、C、D、F成分を下記表1に示す質量部で混合し、E成分を100ppm添加、混合して上塗り組成物剥離性シリコーン組成物を調製し、これを上記下塗り処理基材上に0.5g/m2の厚さで塗工し、100°Cで30秒間加熱硬化して、剥離フィルムを作製し、これを評価に用いた。[比較例9]A、B成分を下記表1に示す質量部で混合して組成物を調製した。80°Cの熱風循環式乾燥機で30秒間加熱処理後、UV照射はしないで評価した。[表中記号と各成分の構造]式中のMeはメチル基、Viはビニル基を表す。---A成分---A1-1シロキサン、粘度5mPas、Vi含有量1.2モル/100gA1-2シロキサン、粘度5mPas、Vi含有量0.63モル/100gA1-3シロキサン、粘度10mPas、Vi含有量0.6モル/100gA1-4シロキサン、粘度6mPas、Vi含有量0.7モル/100gA1-5シロキサン、粘度0.02Pas、アルケニル基含有量0.33モル/100gR1は-CH2CH2CH2-O-CO-CH3C=CH2127R2は-CH2CH2CH2-O-CH2CH2-OH106A1-6シロキサン、粘度6mPas、アルケニル基含有量0.49モル/100gR1は-CH2CH2CH2-O-CO-CH3C=CH2127A1-7シロキサン、粘度5mPas、Vi含有量0.32モル/100gA1-8シロキサン、粘度6mPas、Vi含有量0.32モル/100gA1-9シロキサン、粘度0.035Pas、Vi含有量0.32モル/100gA1-10シロキサン、粘度0.03Pas、アルケニル基含有量0.75モル/100gA1-11シロキサン、粘度0.02Pas、アルケニル基含有量0.93モル/100gA1-12シロキサン、粘度0.04Pas、アルケニル基含有量0.88モル/100gA2-1アセチレンアルコール、3-メチル-1-ブチン-3-オールA2-2アセチレンアルコール、3,5-ジメチル-1-ヘキシン-3-オールA2-3アセチレンアルコール、1-エチニル-1-シクロヘキサノールA2-4アセチレン化合物、1-オクチン---B成分---B-1溶剤、トルエン/ヘプタン質量比=50/50混合溶剤---C成分---C-1オルガノポリシロキサン、30質量トルエン溶液の25°Cでの粘度が10Pas、Vi含有量0.032モル/100gC-2オルガノポリシロキサン、粘度2Pas、Vi含有量0.026モル/100gC-3オルガノポリシロキサン、30質量トルエン溶液の25°Cでの粘度が5Pas、Vi含有量0.035モル/100gC-4オルガノポリシロキサン、粘度1Pas、Vi含有量0.043モル/100g---D成分---D-1メチルハイドロジエンポリシロキサン、粘度が25mPas、H含有量1.5モル/100gD-2メチルハイドロジエンポリシロキサン、粘度60mPas、H含有量1.00モル/100g---E成分---E-1触媒、白金-ビニルシロキサン錯体---F成分---B成分と同じ<評価方法>各項目の評価と結果の表示は以下の方法に従った。1剥離力溶剤型下塗り組成物は、PETフィルム40μmにバーコーターを用いて固形分で0.005g/m2塗布し、UVランプ80W2灯、ラインスピード40m/分でUV照射積算光量50mJ/cm2と、熱風循環式乾燥機で80°C,10秒間加熱処理した。この塗工面上にC~F成分からなる溶剤型の剥離性シリコーン上塗り組成物を0.5g/m2塗布し、100°C熱風循環式乾燥機で30秒間の加熱処理により硬化皮膜を形成し、評価用セパレータを作製した。作製したセパレータを25°C,50RHに1日放置後、処理面にアクリル系溶剤型粘着剤オリバインBPS-5127東洋インキ製造株製を塗布して100°Cで3分間熱処理した。次いで、この処理面にPETフィルム40μmを貼り合わせて2kgローラーで1往復圧着し、25°Cで20時間エージングさせた後、試料を5cm幅に切断し、引張り試験機を用いて180°の角度で剥離速度0.3m/分で貼り合わせPETフィルムを引張り、剥離するのに要する力Nを測定した。測定はオートグラフDCS-500株島津製作所製を使用した。無溶剤型下塗り組成物は、PETフィルム40μmにIRテスターを使用して固形分で0.005g/m2塗布し、UVランプ80W2灯、ラインスピード40m/分でUV照射積算光量50mJ/cm2と、熱風循環式乾燥機で80°C,10秒間加熱処理した。この塗工面上にC~E成分からなる無溶剤型の剥離性シリコーン上塗り組成物をIRテスターで0.5g/m2塗布し、120°C熱風循環式乾燥機で30秒間の加熱処理により硬化皮膜を形成し、以降は同様に処理評価した。塗布面積はA4版、下塗り塗工液の転写量は0.001μl、上塗り塗工液の転写量は0.1μl。2密着性1と同様に作製したPETフィルム40μm基材セパレータと、基材をOPPフィルム40μm、コロナ処理に代えて1と同様に作製したセパレータを、規定条件で放置し、硬化皮膜表面を指でこすり、皮膜表面の曇り及び脱落が見られるまでの日数を調べた。40°C,80RHに1日放置して曇り又は脱落が見られるものを×、40°C,80RHに3日放置して曇り又は脱落が見られるものを△、40°C,80RHに1ヶ月放置しても曇り又は脱落が見られないものを○、60°C,90RHに1ヶ月放置しても曇り又は脱落が見られないものを◎として示した。"