塩化鉄III、シュウ酸、および高級アルコールを含有することを特徴とする銅エッチング液。高級アルコールの融点が30°C以下である請求項1記載の銅エッチング液。さらに、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールのモノアルキルC4以下エーテル、ポリオキシエチレン-ポリオキシプロプレンブロックポリマー型高分子界面活性剤、エチレンジアミンにオキシエチレンおよびオキシプロプレンを付加した高分子型界面活性剤から選ばれる少なくとも1種を含有する請求項1又は2記載の銅エッチング液。本発明は、シュウ酸を添加した塩化鉄水溶液を銅の銅エッチング液として用いる場合に、銅表面の軽微な汚染によってエッチングが著しく阻害されると言う問題を解決するものである。バンキングエージェントとして、シュウ酸を含む塩化鉄の銅エッチング液に、高級アルコールを含有せしめる。本発明により、シュウ酸を添加した塩化鉄水溶液を用いたプリント配線板の製造が、製造ラインの複雑化大型化や、生産性の低下といった問題を生じさせることなく、銅表面の軽微な汚染によってエッチングが著しく阻害されると言う問題を解決できた。本発明の銅エッチング液は、バンキングエージェントとしてシュウ酸を含有する塩化鉄銅エッチング液に、さらに高級アルコールが含有されることを特徴とする。高級アルコールの添加により、銅表面を高度に清浄化しなくても、ショート欠陥を回避できる。このような効果が得られる機構は明らかでないが、高級アルコールが、銅表面の汚染に、バンクが吸着することを阻害するか、または銅表面の汚染を溶解除去する作用を有するためと推定される。また、本発明の銅エッチング液を用いた場合、高級アルコールを含有しない場合と比較して、銅層内部からエッチングにより露出して、新たに形成された表面以下、エッチング面と記すが平滑になり、高周波回路に適したプリント配線板を製造できる利点も得られた。さらに、本発明の銅エッチング液を用いた場合、高級アルコールを含有しない場合と比較して、エッチングの粗密均一性が向上し、とりわけ微細なパターンを有するプリント配線板を製造できるようになる利点もある。なお、エッチング形状の粗密均一性とは、隣接導体パターンの間隔の大小による、アンダカット量や導体パターンの断面形状における差異の小ささを言う。本発明において高級アルコールとは、炭素数10以上の鎖状炭化水素に、1個の水酸基が結合した化合物を言う。鎖状炭化水素は直鎖のものであっても分岐しているものであっても良い。本発明に用いられる高級アルコールの例としては、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ドデシルアルコールラウリルアルコール、トリデシルアルコール、テトラデシルアルコール、ペンタデシルアルコール、ヘキサデシルアルコールセチルアルコール、ヘプタデシルアルコール、オクタデシルアルコールステアリルアルコール等の飽和1級アルコール、オレイルアルコール等の不飽和1級アルコール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。炭素数9以下のアルコールは、本発明の銅エッチング液に添加するアルコールとして適切でない。炭素数9以下のアルコールは、ショート欠陥の抑制効果が劣るばかりか、レジストパターンを構成する樹脂を膨潤させて、その保護性能を低下させるからである。これは、炭素数9以下のアルコールは、水との親和性が高すぎるため、また、その溶解度パラメータがレジストパターンを構成する樹脂のそれに近いためと考えられる。一方、炭素数25以上のアルコールは、ショート欠陥の抑制効果が相対的に低いため、炭素数24以下の高級アルコールを使用することが好ましい。炭素数25以上の高級アルコールは、疎水性が高くなりすぎて、バンクとの相互作用が弱くなるためと考えられる。本発明の銅エッチング液に添加される高級アルコールは、融点30°C以下のものであることが好ましい。融点が30°Cを超える高級アルコールを選択した場合、静置時に銅エッチング液から分離して、その添加効果を安定して得られないことがある。本発明において、高級アルコールは、その1種のみを用いても良いし、2種以上を組み合わせても良い。2種以上のアルコールを組み合わせて用いる場合、その混合物の融点が30°C以下であれば、単独で30°C以下の融点を有する高級アルコール同様、本発明に好適に用いることができる。本発明の銅エッチング液において、高級アルコールの濃度が低すぎる場合には、ショート欠陥の発生を抑制する効果が十分に得られないことがある。一方、高級アルコールの濃度が高すぎる場合には、銅エッチング液中に高級アルコールの粗大な油滴が生成して、これに起因するショート欠陥が発生することがある。かかる観点から、本発明の銅エッチング液における高級アルコールの濃度は、0.001質量以上0.1質量以下10質量ppm以上1000質量ppm以下であることが好ましく、0.002質量以上0.05質量以下20質量ppm以上500質量ppm以下であることがより好ましく、0.005質量以上0.02質量以下50質量ppm以上200質量ppm以下であることがさらに好ましい。本発明の銅エッチング液において、塩化鉄の濃度が低すぎる場合には、エッチング速度が遅くなって生産性が低下する場合がある。一方、塩化鉄の濃度が高すぎる場合には、微細なスペースのエッチングができなくなることがある。かかる観点から、本発明の銅エッチング液中の塩化鉄濃度は2質量以上20質量以下とすることが好ましく、3質量以上10質量以下とすることがさらに好ましい。なお、商業的に入手可能な塩化鉄は通常水溶液または六水和物であるが、本発明において、塩化鉄や、その他各化合物の質量および濃度は、特に断らない限り、無水物としての質量濃度を示す。本発明の銅エッチング液において、シュウ酸の濃度が低すぎる場合には、バンクが形成されにくくなり、一方、シュウ酸の濃度が高すぎる場合には、バンクが過剰に形成されるようになり、いずれの場合も良好なエッチング形状が得られなくなる場合がある。したがって、本発明の銅エッチング液におけるシュウ酸の濃度は、適切な断面形状が得られるよう、適宜増減する必要がある。本発明の銅エッチング液における最適なシュウ酸の濃度は、銅エッチング液中の各成分の濃度、エッチングされる銅または銅合金の結晶構造等の要因によって異なるが、通常塩化鉄に対して、5質量以上50質量以下が好ましい。本発明の銅エッチング液を用いたエッチングにおいて、銅エッチング液の温度は35°C以下にすることが好ましい。銅エッチング液の温度が35°Cを超える場合、バンクの結晶が粗大化し、エッチング面が粗くなったり、微細なパターンのエッチングが進行しにくくなったりすることがある。本発明の銅エッチング液に添加される高級アルコールは、水溶性が低く、実質的に銅エッチング液中に溶解はしない。しかし、分子内に、親水性である水酸基を有するので、銅エッチング液中に液滴として分散することは可能である。エッチング装置内で銅エッチング液が循環していれば、ポンプ内でのせん断力の作用により、安定した分散状態を維持することが可能であるが、エッチング装置内で液が循環していない場合、銅エッチング液から高級アルコールが徐々に分離する場合がある。銅エッチング液から高級アルコールが分離した場合、高級アルコールを添加した効果が安定して得られないことや、分離した高級アルコールが装置の内壁に大きな油滴として付着し、製造されるプリント配線板にエッチング不良が生じる原因となることがある。本発明の銅エッチング液に適切な分散剤あるいは可溶化剤を添加することで、この問題を回避することができるので好ましい。本発明の銅エッチング液に好ましく添加される分散剤あるいは可溶化剤の例としては、I群ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールのモノアルキルC4以下エーテル、II群ポリオキシエチレン-ポリオキシプロプレンブロックポリマー型高分子界面活性剤1例として、ビーエーエスエフコーポレーション製、商品名:プルロニック登録商標、エチレンジアミンにエチレンオキサイドおよびプロプレンオキサイドを付加した高分子型界面活性剤1例として、ビーエーエスエフコーポレーション製、商品名:テトロニック登録商標が挙げられる。これらの分散剤あるいは可溶化剤の量は、少なすぎるとそれを添加した効果が十分に発現しないことがあるし、多すぎると高級アルコールを添加した効果を阻害することがある。よって、I群のものについては銅エッチング液に対し0.02質量以上0.4質量以下、II群のものについては銅エッチング液に対し0.001質量以上0.02質量以下を用いることが好ましい。なお、I群のものとII群のものを併用すると、高級アルコールの分離を高度に抑制できるので特に好ましい。一方、かかる分散剤あるいは可溶化剤として、ポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールのモノアルキルC5以上エーテル等、疎水基として炭素数5以上の炭化水素基を有する界面活性剤を用いると、本発明における高級アルコール添加の効果を減殺することがあるから好ましくない。また、かかる分散剤あるいは可溶化剤として、ポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールのモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル結合を有する界面活性剤を用いると、銅エッチング液が酸性であるため、エステル結合が徐々に加水分解され、分散剤あるいは可溶化剤としての効果を安定に得ることができないから好ましくない。本発明の銅エッチング液は、バンキングエージェントを添加した他の銅エッチング液と同様、スプレー法エッチングに用いられる。浸漬法エッチング、パドル法エッチングまたは発泡法エッチングのようなエッチング方法では、エッチング部の側面と底面とで銅エッチング液が流れる速度に差がないか、十分に大きくないため、エッチングが進行しない場合や、矩形に近い導体断面の形状が得られない場合がある。以下、本発明の実施例を示す。[実施例1]<テスト用被エッチング材の作製>ガラスエポキシプリプレグと厚さ18μmの電解銅箔三井金属鉱業製、商品名:FQ-VLPを積層した銅貼積層板に、厚み10μmのネガ型ドライフィルムレジストを貼り合わせ、50μmピッチライン幅/スペース幅=25μm/25μmおよび80μmピッチ同40μm/40μmの縞状テストパターンを露光後、現像水洗を行い、テスト用被エッチング材を作製した。なお、テスト用被エッチング材は、最後の水洗から72時間経過してから以下の評価に用いた。<銅エッチング液の調製>エチレンジアミンにエチレンオキサイドおよびプロプレンオキサイドを付加した高分子型界面活性剤ビーエーエスエフコーポレーション製、商品名:テトロニック登録商標7024.0gとデシルアルコール4.0gを混合したものに、水3kgを、良く攪拌しながら加えて、デシルアルコールの水性乳化液を調製した。別に、水30kgに市販の40°ボーメの塩化鉄水溶液濃度37質量4.0kg塩化鉄として1.5kg、シュウ酸二水和物0.38kgシュウ酸として0.24kgを加え良く攪拌した後、上で調製したデシルアルコールの水性乳化液およびプロピレングリコールモノメチルエーテル40gを加え、さらに水を加えて総量を40kgとし、塩化鉄3.7質量、シュウ酸0.60質量、デシルアルコール0.010質量、エチレンジアミンにオキシエチレンおよびオキシプロプレンを付加した高分子型界面活性剤0.010質量、プロピレングリコールモノメチルエーテル0.10質量を含む銅エッチング液40kgを調製した。<エッチング>スプレー法エッチング装置山縣機械製、商品名:YCE-85Vを用い、上記銅エッチング液を用いて、50μmピッチレジストパターンにおいて隣接ライン間の間隙の最接近部の間隙が25μmになるまで、テスト用被エッチング材のエッチングを行い、テスト材を得た。なお、スプレーノズルには充円錐スプレーノズルいけうち製、商品名:1/4MBBXP015PVDFを用い、スプレー圧は0.30MPaとした。[実施例2~13、比較例1~2]銅エッチング液に含まれる高級アルコールの種類および量、分散剤あるいは可溶化剤の種類および量を表1の如く変更した以外は、実施例1と同様にしてエッチングを行った。[比較例3]デシルアルコールの代わりに、オクチルアルコールを用いた以外は、実施例1と同様にしてエッチングを行ったが、50μmピッチレジストパターンにおいて隣接ライン間の間隙の最接近部の間隙が25μmになる前に、レジストパターンが剥離して、以後の評価のためのサンプルは得られなかった。<エッチング装置の汚れ評価>各銅エッチング液を、ポンプを停止させたエッチング装置内に1時間放置した後、銅エッチング液槽壁面の液面付近を観察した。油状付着物が無かった場合を良、油状付着物があった場合を不良とした。1時間後の評価が良であったものについてはさらに、12時間後に同様の評価を行った。<ショート欠陥の評価>各実施例、各比較例で得られたテスト材の、20mm×20mmの領域を光学顕微鏡で観察し、ショート欠陥が無かった場合を良、1以上のショート欠陥があった場合を不良とした。<エッチング面平滑性の評価>各実施例、各比較例で得られたテスト材のライン側面のエッチング面を、走査型電子顕微鏡で観察し、凹凸の凸部と凹部の高低差が2μm未満のものを良、2μm以上4μm未満のものを普通、4μm以上のものを不良の3段階に区分した。<粗密均一性の評価>各実施例、各比較例で得られたテスト材を、アクリル樹脂で包埋後、切断、研磨して断面観察用の試料片を作製した。デジタル光学顕微鏡により、50μmピッチ、80μmピッチそれぞれの導体パターンの断面を観察し、ラインが最も狭くなっている部分の幅wcとレジストパターンの幅wrを測定し、アンダカット量すなわちwu=wr-wc/2を求めた。結果を表2に示す。ここで、50μmピッチのwuと、80μmのwuとの差が小さいということは、パターンの粗密によるエッチング性の差が小さいということであり、好ましい。各実施例と、各比較例を比較することで分かるように、塩化鉄およびシュウ酸を含む銅エッチング液に、さらに高級アルコールを含有させることで、ショート欠陥を抑制することが可能である。また、実施例1、4、5と実施例6を比較することで分かるように、本発明に用いる高級アルコールとしては、融点30°C以下のものを用いることが好ましい。すなわち、高級アルコールとして、デシルアルコール融点7°Cを用いた実施例1、ドデシルアルコール融点24°Cを用いた実施例4、オレイルアルコール融点2°Cを用いた実施例5では、エッチング装置の汚れが発生しにくく、またエッチング面の平滑性も良好なのに対し、ステアリルアルコール融点60°Cを用いた実施例6では、前3者と比較すると、エッチング装置の汚れや、エッチング面の平滑性等の点で劣る。実施例1、8~12と実施例13を比較して分かるように、本発明の銅エッチング液に、分散剤あるいは可溶化剤を添加することで、液の安定性が向上し、エッチング装置の汚れを抑制できることから好ましい。また、実施例1、8~12の比較において、実施例1、8、9、10、11のように、本発明の銅エッチング液に用いる分散剤あるいは乳化剤として、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールのモノアルキルC4以下エーテル、ポリオキシエチレン-ポリオキシプロピレンブロックポリマー型高分子界面活性剤、エチレンジアミンにオキシエチレンおよびオキシプロピレンを付加した高分子型界面活性剤を用いると、粗密均一性に優れるなど、本発明の効果を高度に得ることができるが、実施例12のように、疎水基として炭素数5以上の炭化水素基を有する界面活性剤を用いた場合、本発明の効果が減殺されることがある。