"A成分、B成分及びC成分を含有するインプリント材料。A成分:下記式1で表されるビフェニルメタアクリレート式1中、R1は水素原子又はメチル基を表す。B成分:下記式2で表されるフルオレンメタアクリレート及び/又は下記式3で表されるビスフェノールメタアクリレート式2中、R2及びR3は互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、A1及びA2は互いに独立して炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、m及びnは互いに独立して0乃至3の整数を表す。式3中、R2及びR3は互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、A1及びA2は互いに独立して炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、j及びkは互いに独立して2≦jk≦30を満たす正の整数を表す。C成分:光重合開始剤更にD成分として溶剤を含有する、請求項1に記載のインプリント材料。前記A成分の含有量は、当該A成分及び前記B成分の合計100質量部に基づいて10質量部乃至95質量部である、請求項1又は請求項2に記載のインプリント材料。請求項1乃至請求項3のうちいずれか一項に記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜。請求項4に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた光学部材。請求項4に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置。請求項4に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池。請求項4に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたLEDデバイス。請求項4に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイ。請求項4に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイス。本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、高透過率及び高屈折率を有する膜を形成するインプリント材料を提供することであり、また、当該材料から作製され、パターンが転写された膜を提供することである。具体的には、透過率については、好ましくは95以上の高い透過率を有する材料の提供を目的とし、屈折率については、1.60以上の高い屈折率を有するインプリント材料の提供を目的とする。とりわけ、本発明の特徴は、透過率及び屈折率の諸特性について全て満足する性能を有する膜を形成するインプリント材料を提供することにある。また、本明細書では、形成されるパターンサイズがナノメートルオーダーに限らず、例えば、マイクロメートルオーダーである場合を含む光ナノインプリント技術を光インプリントと称する。本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、ビフェニル骨格を有し、かつ重合性基を有する化合物及び光重合開始剤を使用することにより本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、A成分、B成分及びC成分を含有するインプリント材料。A成分:下記式1で表されるビフェニルメタアクリレート式1中、R1は水素原子又はメチル基を表す。B成分:下記式2で表されるフルオレンメタアクリレート及び/又は下記式3で表されるビスフェノールメタアクリレート式2中、R2及びR3は互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、A1及びA2は互いに独立して炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、m及びnは互いに独立して0乃至3の整数を表す。式3中、R2及びR3は互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、A1及びA2は互いに独立して炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、j及びkは互いに独立して2≦jk≦30を満たす正の整数を表す。C成分:光重合開始剤本発明では、高屈折率を与えるビフェニル骨格を有する化合物がインプリント材料に含有されているため、当該インプリント材料から作製され、パターンが転写された膜は、高透過率及び高屈折率を有する。本発明のインプリント材料は、光硬化が可能であり、かつモールドの離型時にパターンの一部の剥がれが生じないため、所望のパターンが正確に形成された膜が得られる。したがって、良好な光インプリントのパターン形成が可能である。また、本発明の高屈折率インプリント材料は、任意の基材上に成膜することができ、インプリント後に形成されるパターンが転写された膜は、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等の各種レンズ、光ファイバーのコア材、クラッド材、光導波路、光配線、ホログラム、ディスプレイ部材等の各種光学材料等の光学用途に有用である。さらに、本発明のインプリント材料は、分子内に少なくとも1個の重合性基を有する化合物の種類を変更することで、硬化速度、動的粘度、膜厚をコントロールすることができる。したがって、本発明のインプリント材料は、製造するデバイス種と露光プロセス及び焼成プロセスの種類に対応した材料の設計が可能であり、プロセスマージンを拡大できるため、光学部材の製造に好適に用いることができる。本発明は、ビフェニルメタアクリレートを用いたインプリント材料から作製される、パターンが転写された膜に、高屈折率という性質を付与した点に特徴がある。すなわち、A成分のビフェニルメタアクリレートと、B成分のフルオレンメタアクリレート及び/又はビスフェノールメタアクリレートと、C成分の光重合開始剤を含有するインプリント材料である。更には、前記A成分、B成分及びC成分に加えて、D成分として溶剤をも含有することのできる高屈折率インプリント材料である。本明細書においてメタアクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。以下、各成分について詳細に説明する。<A成分>A成分であるビフェニルメタアクリレートは、前述のとおり下記式1で表される化合物である。式1中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。本発明では、上記ビフェニルメタアクリレートは、それを含有するインプリント材料から作製される、パターンが転写された膜に、高屈折率という性質を付与することができる。上記ビフェニルメタアクリレートは、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、NK-エステルA-LEN-10新中村化学工業株式会社以下、本明細書ではA-LEN-10と略称する。が挙げられる。本発明のインプリント材料におけるA成分の含有量は、当該A成分及び後述するB成分の合計100質量部に基づいて、好ましくは10乃至95質量部、より好ましくは50質量部以上である。この割合が過少である場合には、屈折率が低下するため、目的とする物性を得ることが困難となる。<B成分>B成分であるフルオレンメタアクリレートは、前述のとおり下記式2で表される化合物である。フルオレンメタアクリレートと同じB成分であるビスフェノールメタアクリレートは、前述のとおり下記式3で表される化合物である。式2中、R2及びR3は互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、A1及びA2は互いに独立して炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、m及びnは互いに独立して0乃至3の整数を表す。式3中、R2及びR3は互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、A1及びA2は互いに独立して炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、j及びkは互いに独立して2≦jk≦30を満たす正の整数を表す。前記炭素原子数2又は3のアルキレン基は、エチレン基、トリメチレン基-CH2CH2CH2-基又はプロピレン基-CHCH3CH2-基である。上記B成分は、上記A成分と共に含有されることにより、インプリント材料の硬化性を高めるという性質を付与することができる。上記B成分であるフルオレンメタアクリレートは、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、オグソール登録商標EA-0200、同EA-0500、同EA-1000、同EA-F5003、同EA-F5503以上、大阪ガスケミカル株式会社が挙げられる。上記フルオレンメタアクリレートは、単独又は2種以上の組み合わせで使用することができる。さらに、上記B成分であるビスフェノールメタアクリレートは、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、NK-エステルABE-300、同A-BPE-4、同A-BPE-6、同A-BPE-10、同A-BPE-20、同A-BPE-30、同BPE-80N、同BPE-100N、同BPE-200N、同BPE-500N、同BPE-900N、同BPE-1300N以上、新中村化学工業株式会社、V700、V540以上、大阪有機化学工業株式会社が挙げられる。上記ビスフェノールメタアクリレートは、単独又は2種以上の組み合わせで使用することができる。<C成分>C成分である光重合開始剤としては、例えば、tert-ブチルペルオキシ-iso-ブタレート、2,5-ジメチル-2,5-ビスベンゾイルジオキシヘキサン、1,4-ビス[α-tert-ブチルジオキシ-iso-プロポキシ]ベンゼン、ジ-tert-ブチルペルオキシド、2,5-ジメチル-2,5-ビスtert-ブチルジオキシヘキセンヒドロペルオキシド、α-iso-プロピルフェニル-iso-プロピルヒドロペルオキシド、2,5-ジメチルヘキサン、tert-ブチルヒドロペルオキシド、1,1-ビスtert-ブチルジオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、ブチル-4,4-ビスtert-ブチルジオキシバレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、2,2’,5,5’-テトラtert-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラtert-ブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラtert-アミルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラtert-ヘキシルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、3,3’-ビスtert-ブチルペルオキシカルボニル-4,4’-ジカルボキシベンゾフェノン、tert-ブチルペルオキシベンゾエート、ジ-tert-ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物、9,10-アントラキノン、1-クロロアントラキノン、2-クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン等のキノン類、ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α-メチルベンゾイン、α-フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、1-[4-2-ヒドロキシエトキシ-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-1-4-{4-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニルベンジル}-フェニル-2-メチル-プロパン-1-オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1、2-ジメチルアミノ-2-4-メチル-ベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オン、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド、1,2-オクタンジオン,1-[4-フェニルチオ-,2-O-ベンゾイルオキシム]、エタノン,1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-,1-O-アセチルオキシムが挙げられるが、光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、IRGACURE登録商標651、同184、同500、同2959、同127、同754、同907、同369、同379、同379EG、同819、同819DW、同1800、同1870、同784、同OXE01、同OXE02、同250、DAROCUR登録商標1173、同MBF、同4265、Lucirin登録商標TPO以上、BASFジャパン株式会社製、KAYACURE登録商標DETX、同MBP、同DMBI、同EPA、同OA以上、日本化薬株式会社製、VICURE-10、同55以上、STAUFFER社製、ESACURE登録商標KIP150、同TZT、同1001、同KTO46、同KB1、同KL200、同KS300、同EB3、トリアジン-PMS、トリアジンA、トリアジンB以上、日本シイベルヘグナー株式会社製、アデカオプトマーN-1717、同N-1414、同N-1606株式会社ADEKA旧旭電化工業株式会社製が挙げられる。上記光重合開始剤は、単独又は2種以上の組み合わせで使用することができる。本発明のインプリント材料におけるC成分の含有量は、上記A成分及び上記B成分の総質量に対して、0.5phr乃至30phrであることが好ましく、1phr乃至20phrであることがより好ましい。この割合が0.1phr以下の場合には、十分な硬化性が得られず、パターニング特性の悪化および耐擦傷性の低下が起こるからである。ここで、phrとは、A成分及びB成分の総質量100gに対する、光重合開始剤の質量を表す。<D成分>本発明においてはD成分として溶剤を含有してもよい。D成分である溶剤は、A成分であるビフェニルメタアクリレートと、B成分であるフルオレンメタアクリレート及び/又はビスフェノールメタアクリレートとの混合物の粘度調整の役割を果たす。上記溶剤としては、例えば、トルエン、p-キシレン、o-キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、1-オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、1,3-ブタンジオール、14-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、γ-ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn-ブチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピルケトン、酢酸n-プロピル、酢酸イソブチル、酢酸n-ブチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert-ブタノール、アリルアルコール、n-プロパノール、2-メチル-2-ブタノール、イソブタノール、n-ブタノール、2-メチル-1-ブタノール、1-ペンタノール、2-メチル-1-ペンタノール、2-エチルヘキサノール、1-オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリメチレングリコール、1-メトキシ-2-ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフリフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、イソプロピルエーテル、1,4-ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、N-シクロヘキシル-2-ピロリジンが挙げられ、上記A成分とB成分との混合物の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。上記溶剤は、単独又は2種以上の組み合わせで使用することができる。<E成分>本発明においてはE成分として界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤は、得られる塗膜の製膜性を調整する役割を果たす。上記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、商品名エフトップ登録商標EF301、同EF303、同EF352三菱マテリアル電子化成株式会社製、商品名メガファック登録商標F171、同F173、同R-08、同R-30DIC株式会社製、フロラードFC430、同FC431住友スリーエム株式会社製、商品名アサヒガード登録商標AG710、サーフロン登録商標S-382、同SC101、同SC102、同SC103、同SC104、同SC105、同SC106旭硝子株式会社製等のフッ素系界面活性剤、及びオルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業株式会社製、BYK登録商標-302、同-307、同-322、同-323、同-330、同-333、同-370、同-375、同-378、同-UV3500、同-UV3570ビックケミージャパン株式会社製を挙げることができる。上記界面活性剤は、単独又は2種以上の組み合わせで使用することができる。界面活性剤が使用される場合、その割合は、上記A成分及び上記B成分の総質量に対して、好ましくは0.001phr乃至40phr、より好ましくは0.01phr乃至10phrである。本発明のインプリント材料は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、エポキシ化合物、光酸発生剤、光増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、密着補助剤及び離型性向上剤から選ばれる少なくとも1種の添加剤をさらに含有することができる。上記エポキシ化合物は、エポキシ基又はオキシラン環を有する化合物であり、例えば、エポリード登録商標GT-401、同PB3600、セロキサイド登録商標2021P、同2000、同3000、EHPE3150、同EHPE3150CE、サイクロマー登録商標M100以上、ダイセル化学工業株式会社製、EPICLON登録商標840、同840-S、同N-660、同N-673-80M以上、DIC株式会社製が挙げられる。上記光酸発生剤としては、例えば、IRGACURE登録商標PAG103、同PAG108、同PAG121、同PAG203、同CGI725以上、BASFジャパン株式会社製、WPAG-145、WPAG-170、WPAG-199、WPAG-281、WPAG-336、WPAG-367以上、和光純薬工業株式会社製、TFE-トリアジン、TME-トリアジン、MP-トリアジン、ジメトキシトリアジン、TS-91、TS-01株式会社三和ケミカル製が挙げられる。上記光増感剤としては、例えば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、3-置換クマリン系、3,4-置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、メロシアニン系、ケトクマリン系、フマリン系、ボレート系が挙げられる。上記光増感剤は、単独又は2種以上の組み合わせで使用することができる。当該光増感剤を用いることによって、UV領域の波長を調整することもできる。上記紫外線吸収剤としては、例えば、TINUVIN登録商標PS、同99-2、同109、同328、同384-2、同400、同405、同460、同477、同479、同900、同928、同1130、同111FDL、同123、同144、同152、同292、同5100、同400-DW、同477-DW、同99-DW、同123-DW、同5050、同5060、同5151以上、BASFジャパン株式会社が挙げられる。上記紫外線吸収剤は、単独又は2種以上の組み合わせで使用することができる。当該紫外線吸収剤を用いることによって、光硬化時に膜の最表面の硬化速度を制御することができ、離型性を向上できる場合がある。上記酸化防止剤としては、例えば、IRGANOX登録商標1010、同1035、同1076、同1135、同1520L以上、BASFジャパン株式会社製が挙げられる。上記酸化防止剤は、単独又は2種以上の組み合わせで使用することができる。当該酸化防止剤を用いることで、酸化によって膜が黄色に変色することを防止することができる。上記密着補助剤としては、例えば、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランが挙げられる。当該密着補助剤を用いることによって、基材との密着性が向上する。当該密着補助剤の含有量は、上記A成分及び上記B成分の総質量に対して、好ましくは0.1phr乃至20phr、より好ましくは0.1phr乃至10phrである。上記離型性向上剤としては、シリコーンユニット含有化合物又はフッ素含有化合物が挙げられる。シリコーンユニット含有化合物としては、例えば、X-22-164、X-22-164AS、X-22-164A、X-22-164B、X-22-164C、X-22-164E、X-22-163、X-22-169AS、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-9002、X-22-2475、X-22-4952、KF-643、X-22-343、X-22-2046以上、信越化学工業株式会社製が挙げられる。フッ素含有化合物としては、例えば、R-5410、R-1420、M-5410、M-1420、E-5444、E-7432、A-1430、A-1630以上、ダイキン工業株式会社製が挙げられる。本発明のインプリント材料の調製方法は、特に限定されないが、A成分、B成分、C成分、並びに任意成分であるD成分及びE成分が均一に混合した状態であればよい。また、A成分乃至E成分を混合する際の順序は、均一な溶液が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該調製方法としては、例えば、A成分にB成分を所定の割合で混合する方法が挙げられる。また、これに更にC成分、D成分及びE成分を混合し、均一な溶液とする方法等も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。また、D成分である溶剤を用いる場合には、光照射前の被膜及び光照射後の被膜の少なくとも一方に対し、溶剤を蒸発させる目的で、焼成してもよい。焼成機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、ファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、真空中等で焼成することができるものであればよい。焼成温度は、溶媒を蒸発させる目的では、特に限定されないが、例えば、40°C乃至200°Cで行うことができる。本発明のインプリント材料は、基材に塗布し光硬化することで所望の被膜を得ることができる。塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。本発明のインプリント材料を塗布するための基材としては、例えば、シリコンウエハ、インジウム錫酸化物ITOが成膜されたガラスITO基板、シリコンナイトライドSiNが成膜されたガラスSiN基板、インジウム亜鉛酸化物IZOが成膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレートPET、トリアセチルセルロース、アクリル、プラスチック、ガラス、石英、セラミックスを挙げることができる。また、可撓性を有するフレキシブル基材を用いることも可能である。本発明のインプリント材料を硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、KrFエキシマーレーザー、ArFエキシマーレーザー、F2エキシマーレーザー、電子線EB、極端紫外線EUVを挙げることができる。また、波長は、一般的には、436nmのG線、405nmのH線、365nmのI線、又はGHI混合線を用いることができる。さらに、露光量は、好ましくは、30乃至2000mJ/cm2、より好ましくは30乃至1000mJ/cm2である。光インプリントを行う装置は、目的のパターンが得られれば、特に限定されないが、例えば、東芝機械株式会社のST50、Obducat社製のSindre登録商標60、明昌機構株式会社製のNM-0801HB等の市販されている装置を用いることができる。本発明で用いる光インプリント用に使用するモールド材としては、例えば、石英、シリコン、ニッケル、アルミナ、カルボニルシラン、グラッシーカーボンを挙げることができるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。また、モールドは、離型性を高めるために、その表面にフッ素系化合物等の薄膜を形成する離型処理を行っても良い。離型処理に用いる離型剤としては、例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツールHD登録商標が挙げられるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。光インプリントのパターンは、目的の電子デバイスに適合したパターンを選択すればよく、パターンサイズもこれに準ずる。パターンサイズは、例えば、ナノメートルオーダー及びマイクロメートルオーダーである。以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。[被膜形成用塗布液の調製]<実施例1>A成分であるA-LEN-10新中村化学工業株式会社製3.0gに、B成分であるオグソール登録商標EA-0200大阪ガスケミカル株式会社製以下、オグソールと略称する。2.0g及びC成分であるDAROCUR登録商標1173BASFジャパン株式会社製0.25gを加え、本発明のインプリント材料EX-1を調製した。<実施例2>A成分であるA-LEN-10新中村化学工業株式会社製3.0gに、B成分であるA-BPE-4新中村化学株式会社製2.0g及びC成分であるDAROCUR登録商標1173BASFジャパン株式会社製0.25gを加え、本発明のインプリント材料EX-2を調製した。<実施例3>A成分であるA-LEN-10新中村化学工業株式会社製3.0gに、B成分であるオグソール2.0g及びA-BPE-4新中村化学株式会社製、並びにC成分であるDAROCUR登録商標1173BASFジャパン株式会社製0.25gを加え、本発明のインプリント材料EX-3を調製した。<実施例4>実施例1で得られたインプリント材料EX-1にD成分であるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート以下、PGMEAと略称する。を5.2g加えて、本発明のインプリント材料EX-4を調製した。<実施例5>実施例2で得られたインプリント材料EX-2にD成分であるPGMEAを5.2g加えて、本発明のインプリント材料EX-5を調製した。<実施例6>実施例3で得られたインプリント材料EX-3にD成分であるPGMEAを5.2g加えて、本発明のインプリント材料EX-6を調製した。<比較例1>A成分であるA-LEN-10新中村化学工業株式会社製5gにC成分であるDAROCUR登録商標1173BASFジャパン株式会社製0.25gを加えて、インプリント材料EX-aを調製した。<比較例2>A成分であるA-LEN-10新中村化学工業株式会社製3gに、ネオペンチルグリコールジアクリレート日本化薬株式会社製2g及びC成分であるDAROCUR登録商標1173BASFジャパン株式会社製0.25gを加えて、インプリント材料EX-bを調製した。<比較例3>比較例1で得られたインプリント材料EX-aにD成分であるPGMEAを5.2g加えて、インプリント材料EX-cを調製した。<比較例4>比較例2で得られたインプリント材料EX-aにD成分であるPGMEAを5.2g加えて、インプリント材料EX-dを調製した。[光インプリント用被膜の作製]実施例1で得たインプリント材料EX-1を石英基板上にスピンコートし、光インプリント用被膜EX-1Fを作製した。実施例2で得たインプリント材料EX-2を石英基板上にスピンコートし、光インプリント用被膜EX-2Fを作製した。実施例3で得たインプリント材料EX-3を石英基板上にスピンコートし、光インプリント用被膜EX-3Fを作製した。実施例4で得たインプリント材料EX-4を石英基板上にスピンコートし、100°Cのホットプレートで1分間仮焼成を行い、光インプリント用被膜EX-4Fを作製した。実施例5で得たインプリント材料EX-5を石英基板上にスピンコートし、100°Cのホットプレートで1分間仮焼成を行い、光インプリント用被膜EX-5Fを作製した。実施例6で得たインプリント材料EX-6を石英基板上にスピンコートし、100°Cのホットプレートで1分間仮焼成を行い、光インプリント用被膜EX-6Fを作製した。比較例1で得たインプリント材料EX-aを石英基板上にスピンコートし、光インプリント用被膜EX-aFを作製した。比較例2で得たインプリント材料EX-bを石英基板上にスピンコートし、光インプリント用被膜EX-bFを作製した。比較例3で得たインプリント材料EX-cを石英基板上にスピンコートし、100°Cのホットプレートで1分間仮焼成を行い、光インプリント用被膜EX-cFを作製した。比較例4で得たインプリント材料EX-dを石英基板上にスピンコートし、100°Cのホットプレートで1分間仮焼成を行い、光インプリント用被膜EX-dFを作製した。[光インプリント]ナノインプリント装置は、NM-0801HB明昌機構株式会社製を使用した。実施例1乃至実施例6及び比較例1乃至比較例4で得たインプリント材料から作製された各光インプリント用被膜をパターニング試験した。用いたモールドはシリコン製であり、パターンは120nmのラインアンドスペースとした。モールドは、事前にオプツール登録商標HDダイキン工業株式会社製に浸漬し、温度が90°C、湿度が90RHの高温高湿装置を用いて1時間処理し、純水でリンス後、エアーで乾燥させたものを使用した。実施例1で得たインプリント材料EX-1から作製された光インプリント用被膜EX-1Fにシリコン製モールドを接着させた状態で、光インプリント装置に設置した。光インプリントは、常時23°Cの条件で、a10秒間かけて1000Nまで加圧、b高圧水銀ランプを用いて500mJ/cm2の露光、c10秒間かけて除圧、dモールドと基板を分離して離型、というシーケンスで行った。光インプリントの結果を表1に示す。さらに、実施例2乃至実施例6及び比較例1乃至比較例4で得たインプリント材料から作製された各光インプリント用被膜を用いた以外は上記と同様の方法で、光インプリントを行った。光インプリントの結果を表1に示す。表1において、光硬化とは露光後に膜が硬化したかどうかの評価をいい、○は硬化した、×は硬化しなかった、を表す。剥がれとは、離型時にパターンの一部がモールドに付着する等により剥がれたかどうかの評価をいい、○は剥がれなかった、×は剥がれがみられた、を表す。形状とは、離型後の膜にモールドのパターンが良好に転写されたかどうかの評価をいい、○は良好に転写された、×は良好に転写されなかった、を示す。表1の結果から、実施例1乃至実施例6は、良好な光インプリントにおけるパターン形成が可能であった。一方、比較例1乃至比較例4は、露光により膜が硬化したが、いずれも離型時にパターンの一部が剥がれ、離型後の膜にモールドのパターンが良好に転写されなかった。以上の結果から、良好な光インプリントが可能な本発明のインプリント材料の構成は、A成分のビフェニルメタアクリレート、B成分のフルオレンメタアクリレート及び/又はビスフェノールメタアクリレート、及びC成分の光重合開始剤が必須であることが明らかとなった。さらに、D成分の溶剤を含有してもよいことが明らかとなった。[透過率の測定]透過率測定は、UV-2550UV-VISIBLESPECTROPHOTOMETER株式会社島津製作所製を使用し、波長400nmにおけるサンプル膜厚1μmでの透過率を算出した。実施例1で得たインプリント材料EX-1を石英基板上にスピンコートし、その上に別の石英基板を被せて常時23°Cの条件で、a10秒間かけて1000Nまで加圧、b高圧水銀ランプを用いて500mJ/cm2の露光、c10秒間かけて除圧、d被せた石英基板を下側の石英基板より分離して離型、というシーケンスで石英基板上に光硬化膜を作製し、透過率測定を行った。結果を表2に示す。実施例2、実施例3、比較例1及び比較例2で得た各インプリント材料を使用した以外は上記と同様の方法で石英基板上に光硬化膜を作製し、透過率測定を行った。結果を表2に示す。実施例4で得たインプリント材料EX-4を石英基板上にスピンコートし、100°Cのホットプレートで1分間仮焼成を行った。その後、別の石英基板を被せて常時23°Cの条件でa10秒間かけて1000Nまで加圧、b高圧水銀ランプを用いて500mJ/cm2の露光、c10秒間かけて除圧、d被せた石英基板を下側の石英基板より分離して離型、というシーケンスで石英基板上に光硬化膜を製作した後、透過率測定を行った。結果を表2に示す。実施例5、実施例6、比較例3及び比較例4で得た各インプリント材料を使用した以外は上記と同様の方法で石英基板上に光硬化膜を作製し、透過率測定を行った。結果を表2に示す。表2の結果から、実施例1乃至実施例6及び比較例1乃至比較例4のいずれについても高透過率を達成した。[屈折率の測定]屈折率測定は、nkTechnology1512RTnkTechnologyInc製を使用し、波長633nmの屈折率を測定した。実施例1で得たインプリント材料EX-1をシリコンウエハ上にスピンコートし、その上に石英基板を被せて常時23°Cの条件で、a10秒間かけて1000Nまで加圧、b高圧水銀ランプを用いて500mJ/cm2の露光、c10秒間かけて除圧、d石英基板とシリコンウエハを分離して離型、というシーケンスでシリコンウエハ上に光硬化膜を作製し、屈折率測定を行った。結果を表3に示す。実施例2、実施例3、比較例1及び比較例2で得た各インプリント材料を使用した以外は上記と同様の方法でシリコンウエハ上に光硬化膜を作製し、屈折率測定を行った。結果を表3に示す。実施例4で得たインプリント材料EX-4をシリコンウエハ上にスピンコートし、100°Cのホットプレートで1分間仮焼成を行った。その後、その上に石英基板を被せて常時23°Cの条件でa10秒間かけて1000Nまで加圧、b高圧水銀ランプを用いて500mJ/cm2の露光、c10秒間かけて除圧、d石英基板とシリコンウエハを分離して離型、というシーケンスでシリコンウエハ上に光硬化膜を作製した後、屈折率測定を行った。結果を表3に示す。実施例5、実施例6、比較例3及び比較例4で得た各インプリント材料を使用した以外は上記と同様の方法でシリコンウエハ上に光硬化膜を作製し、屈折率測定を行った。結果を表3に示す。表3の結果から、実施例1乃至実施例6のインプリント材料は、1.60以上の屈折率を有する膜の形成が可能であった。以上の結果から、本発明のインプリント材料から得られる膜は、光インプリント性が良好であり、かつ高屈折率及び高透過率を有する。"