試料ホルダー14と、試料を収容するために設けられた前記試料ホルダー14の試料空間を横断するビーム方向40を有するペンシルビーム38を生成するように設計され、前記試料ホルダー14の前記試料空間を横断する前記ペンシルビーム38を、前記ビーム方向40を実質的に変えることなく、前記ビーム方向40に対して直角の方向にずらすことを可能にする光制御部30を持つ光源12を有する、断層撮影イメージを得るための装置10、210、310、410、510であって、前記試料ホルダー14の前記試料空間の内側において、前記ペンシルビーム38の一部から出た散乱線64、64’の少なくとも一部分を空間的分解なしに収集するよう設計された検出ユニット16を有するものであることを特徴とする装置。前記ペンシルビームは、前記試料ホルダー及び/又は前記試料を横断するものであることを特徴とする請求項1に記載の装置。前記試料ホルダー14と前記光源12は、互いに対して回転軸の周りに回転可能なものであることを特徴とする請求項1乃至請求項2のいずれか1項に記載の装置。前記ビーム方向40は、前記回転軸に対して実質上垂直なものであることを特徴とする請求項3に記載の装置。前記検出ユニット16が固定されたものであることを特徴とする請求項3乃至請求項4のいずれか1項に記載の装置。前記ペンシルビーム38が、前記試料空間又は前記試料ホルダー14の内部において収集される部分の半分の長さと実質上同じかそれより長いレイリー長を持つビームウエストを有するものであることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の装置。前記収集される部分が前記試料空間又は試料ホルダー14を横断する前記ペンシルビーム38の全体を包含するものであることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の装置。前記散乱線64、64’は、ペンシルビーム38によって励起されたラマン散乱線であるストークス-ラマン散乱線、又は蛍光放射線である非共鳴蛍光放射線であることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の装置。前記光源12は、可視スペクトル、紫外スペクトル又は赤外スペクトル内で前記ペンシルビーム38を生成するように設計されたものであることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の装置。前記光源12は、多光子励起を行うために高強度のパルスの前記ペンシルビーム38を生成するように設計されたものであることを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の装置。前記光源12は、前記限定された帯域幅を持つ前記ペンシルビーム38を単色光レーザー照射によって生成するように設計されたものであることを特徴とする請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載の装置。前記検出ユニット16は、前記限定された帯域幅以外の波長又は波長域を持つ前記散乱線64、64’のみを実質上収集するように設計されたものであることを特徴とする請求項11に記載の装置。前記試料ホルダー14は、前記ペンシルビーム38が前記試料ホルダー14に入るため及び/又は前記ペンシルビーム38が前記試料ホルダー14から出るための平面59が設けられたビーム透過性の試料容器56、256、556の中で回転可能なように取り付けられたものであり、前記試料ホルダー14と前記試料容器56、256、556の間の空間が前記試料ホルダー14に適合された屈折率を有する液体58で満たされたものであることを特徴とする請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載の装置。前記検出ユニット16は、半導体検出器又は光電子増倍管を持つ信号発生器86、86’を有するものであることを特徴とする請求項1乃至請求項13のいずれか1項に記載の装置。前記検出ユニット16は、前記試料空間又は前記試料ホルダー14の周囲の少なくともπsr、又は少なくとも2πsrの立体角内で前記散乱線64、64’を収集するように設計された散乱線収集器66、266、366、366’を少なくとも1つ有するものであることを特徴とする請求項1乃至請求項14のいずれか1項に記載の装置。前記散乱線収集器66、266、366、366’は、前記試料空間又は前記試料ホルダー14と前記信号発生器86、86’の間に取り付けられた第1のコリメーター76を有するものであることを特徴とする請求項14又は請求項15に記載の装置。第1のコリメーター576が、前記試料容器56、256、556として、前記コリメーターの光軸と交差するコリメーター陥凹556を有するものであることを特徴とする請求項1乃至請求項16のいずれか1項に記載の装置。前記第1のコリメーター576は、前記散乱線64、64’の一部分を前記試料空間又は前記試料ホルダー14へ逆反射させるよう設計された反射装置590である、凹面鏡又は複数の逆反射装置を有するものであることを特徴とする請求項17に記載の装置。散乱線64、64’を励起するために、試料を収容するために設けられた試料ホルダー14の試料空間に対してビーム方向40を有するペンシルビーム38を放射する工程602と、前記ペンシルビーム38の一部に沿って励起された前記散乱線64、64’を空間的分解なしに収集する工程604と、前記ペンシルビーム38を、複数の測定位置に向かい、前記ペンシルビーム38の前記ビーム方向40に対して直角である高速ラスター化方向と低速ラスター化方向へと実質的に平行にずらす工程606と、前記試料ホルダー14を複数の回転位置へ回転させる工程608と、収集された散乱線64、64’に基づいて、断層撮影イメージを再構築する工程610を含むことを特徴とする、断層撮影イメージを得るための方法600。本発明は、断層撮影イメージ収集のための改善された装置を提供することを目的とする。この目的は、請求項1の特徴を有する断層撮影イメージを得るための装置によって達成される。断層撮影イメージを得るための装置は、試料ホルダーと、試料ホルダーを横断するビーム方向を有するペンシルビームを生成するように設計され、試料ホルダーを横断するペンシルビームを、実質的にビーム方向を変えることなく、ビーム方向に対して直角の方向にずらすことを可能にする光制御部を持つ光源と、試料ホルダーの内側においてペンシルビームの一部から出た散乱線の少なくとも一部分を空間的分解なしに収集するよう設計された検出ユニットを有する。試料ホルダーには、試料を収容するための試料空間を設けることができる。ペンシルビームは試料ホルダー、試料空間及び/又は試料を横断することができる。この装置は、単一のペンシルビームを理由として出た散乱線をビーム方向に直角の方向において収集することができる。従来の技術と比較して、この方法によると、散乱線を相当大きな領域で検出ユニットによって収集することができる。従って、収集における信号対ノイズ比が顕著に改善される。また、ペンシルビームによってもたらされる放射強度をイメージの質を同じに保ち又は改善しながら下げることができる。更に、互いに対して平行にずらされたすなわち様々な測定位置におけるペンシルビーム同士の信号の混合を除外することができる。また、すべての測定位置について同じ検出ユニットで収集が行われる限り、試料空間は均一な感度で収集することができる。特に、空間的に分解された収集の断層的再構築のなかでしばしば起こるようなリングアーチファクトを防ぐことができる。従来技術での空間的に分解された収集と比較して、検出ユニットによる収集は0次元的であると考えることができる。更に、同時照射例えば散光器などを用いると比較して、事実上より均一な試料空間への照射を、特にビーム方向に直角な方向で行うことができる。可能な限り均一な散乱線を励起するため、光源が放射源としてイメージ収集時間中安定なレーザーを有するようにすることが有利である。一般的に、放射源は実質的に空間的に可干渉、特に点状であってよい。好ましい放射源はレーザーである。例えば放射源は、蛍光源であってよく、好ましくは小さな出口開口を持つスーパールミネセントダイオードSLDである。出口開口の直径は、出口開口が少なくとも実質的に回折限界であるように小さく定められることができる。好ましくは、出口開口の直径は最大で回折限界の2倍に相当する。散乱線は、ペンシルビームと試料ホルダーに収容された試料特に色素、散乱中心、分子又はその原子との電磁気的、量子力学的又は熱的な相互作用によってもたらされたすべての放射線を含む。特に散乱線という用語は、蛍光、ラマン散乱、レイリー散乱、ミー散乱によってもたらされた放射線を含む。更に、散乱線は、ペンシルビームのビーム方向から偏向した散乱方向、微分散乱断面積に応じた散乱線特性、又はペンシルビームと異なる波長によって特徴づけることができる。ペンシルビームから出る散乱線は、ビーム方向から外れて散乱した散乱線のみを含んでもよい。蛍光放射線の場合には、ダイクロイックフィルターを用いて、ビーム方向の散乱線も収集することができる。散乱線としての蛍光放射線の場合には、非共鳴蛍光は散乱線として放出される蛍光放射線の蛍光波長が励起のために放射されるペンシルビームの励起波長より長い場合が含まれる。空間的分解なしの収集は、ビーム方向に空間的分解なしの収集であってもよい。空間分解なしの収集は、更に方向的分解なしの収集であってもよい。好ましくは、方向的分解なしの収集が試料の出口方向について方向的分解されていない。試料ホルダーは、少なくとも一部分窓と称することができるにおいてビームに対して透明であってもよい。イメージの収集は回転軸周りの回転によってペンシルビームの試料ホルダーに対するさまざまな回転位置すなわちさまざまな入射方向において繰り返すことができる。試料の例とする物体が比較的単純なものであれば、異なる回転位置の数は少なくすることができる。この方法によれば、多くとも2次元的な試料物体の場合、2つの異なる回転位置を得ることができるそして試料イメージは三角測量によって再構築することができる。回転軸は試料ホルダーを通り抜けることができる。これは、構造上の回転軸の仮想の延長線のみが試料ホルダーを通り抜ける場合も含む。光源は固定することができ、試料ホルダーは回転軸周りに回転可能なものとすることができる。これに代わって、試料ホルダーを固定し、光源を回転軸周りに回転可能なものとすることもできる。ペンシルビームは、試料ホルダーの内部において、所定のビーム幅を示すことができる。ペンシルビームは、試料ホルダーの内部においては実質上分岐しない。ペンシルビームは、収集される部分の半分の長さと実質上同じかそれより長いレイリー長を持つビームウエストを試料ホルダーの内部で示すことができる。収集される部分の長さはビーム幅よりも倍数分長いものとすることができる。ビーム幅は、ビーム方向に対して直角な1つ又はすべての試料ホルダーの内部寸法よりも倍数分短いものとすることができる。収集される部分は、試料ホルダーを横切るペンシルビームの全体を包含してもよい。光源は、可視スペクトル、紫外スペクトル又は赤外スペクトル内でペンシルビームを生成するように設計されたものとすることができる。一般的に、ペンシルビームは電磁スペクトル内で300nmから2000nmの真空波長を持つことができる。このスペクトルは試料のデオキシリボ核酸DNAを破壊しないイメージ収集に適している。ペンシルビームの好ましいスペクトル範囲には、323nmから750nm又は355nmから850nm散乱線としての蛍光放射線の場合の範囲が含まれる。透過光検出器による吸収断層撮影に関しては、ペンシルビームを更に200nmから323nm又は200nmから355nmの放射線とすることができる。更にペンシルビームは、少なくとも部分的に極端紫外スペクトルXUV又は遠赤外スペクトルFIRで散乱線を励起することができる。無水の試料の場合、ペンシルビームは更に2000nmより上の範囲内の放射線とすることができる。蛍光放射線の多光子励起略して多光子蛍光のために、上述したスペクトル範囲の境界の各波長は、2倍2光子励起の場合、3倍3光子励起の場合などにすることができる。多光子励起のために、光源は短く強いパルスを発してもよい。多光子励起のための放射源としてはフェムト秒レーザー又は数ピコ秒の持続時間を持つQスイッチレーザーを用いることができる。多光子蛍光は、ビーム方向へのより深い収集を可能とする。これに代わるものとして又は補足として、光源は、試料ホルダーすなわち所定のケースの中で使用される試料の中でペンシルビームによって第2高調波すなわち周波数の倍加又はここでは包括的により高い調波を示す高調波を発生するように設計されたものとすることができる。この過程専門用語で主に高次高調波発生又はHHGと呼ばれるでは可干渉的に数個2、3個又はそれ以上のペンシルビームの光子を1つの光子に変換することができる。この結果生じる散乱線は、ペンシルビームより、おおよそ整数倍高い周波数とそれに対応したより短い波長を示すことができる。HHGの散乱線の方向は、第1には、ペンシルビームのビーム方向又はビーム方向と反対の方向である。HHGの散乱線は、ペンシルビームの試料ホルダー内にある部分に沿って焦点においてだけではなく発生させることができる。更にHHGはいわゆるマーカーを試料に付与することなく発生させることができる。HHGのために、好ましくは、ペンシルビームを生成する光源は円偏光で設計されたものである。HHGの散乱線は更に試料ホルダーすなわち所定のケースの中で使用される試料中の散乱中心において2次散乱線を発生させることができる。有利になるようには、円偏光ペンシルビームによって、散乱中心の空間的配置から独立して2次散乱線を散乱中心において発生させることができる。検出ユニットは、試料ホルダーに対して少なくとも0.12πsr又は少なくともπ/8sr、例えば約0.4πsr、好ましくは少なくとも2πsrの立体角内で散乱線を収集するように設計された、又は共に設計された散乱線収集器を少なくとも1つ有する。収集される立体角0.12πsrは最大の光子効率3に対応することができる。更に、収集される立体角0.12πsrはNA=0.5液浸を用いての開口数に対応することができる。空気中では、NA=0.5の開口数は収集される立体角0.28πsr又は7の最大光子効率に対応することができる。このようにして立体角内で収集される散乱線は可干渉的または不可干渉的に収集することができる。有利になるようには、散乱線を可干渉的に収集することは可能であるが必須ではない。特に、収集される散乱線の複数の放射路は、1つの可干渉長よりも大きな差を有する光路長を示してもよい。検出ユニットは、更に信号発生器として半導体検出器及び/又は光電子倍増管PMTを有するものとすることができる。半導体検出器は、フォトトランジスター又はフォトダイオード、好ましくはアヴァランシュフォトダイオードAPDとすることができる。試料ホルダーは、液体の粘性を持つ試料環境を収容するために設計されたものとすることができる。試料ホルダー及び/又は試料ホルダー内の液体の粘性を持つ試料環境は、試料に適合された屈折率を示すものとすることができる。散乱線収集器の第1のコリメーターは、収集する散乱線を平行にするよう設計された高屈折レンズ又はコンデンサーレンズを有するものとすることができる。これに代わるものとして又は追加として、散乱線収集器は、収集される散乱線を平行にするよう設計されたテーパー型光ガイドテーパー型光パイプ、TLPを第1のコリメーターとして有するものとしてもよい。光ガイドは、内部に反射コーティングがなされた光学中空コア導体とすることができる。これに代わるものとして、光ガイドは、中空でないガラス棒とし、散乱線が例えば中空でないガラス棒の周囲の空気に対する全反射によって導かれるようにしてもよい。これに代わるものとしてまたは補足として、中空でないガラス棒は、二色性の層を蒸着されたものとしてもよい。二色性の層は、入射角の急なすなわち光学中空コア導体の内表面の垂線に対して小さな入射角をなす散乱線を反射することができる。これによって、急な角度で二色性の層での反射が起き、浅い角度ですなわち光学中空コア導体の内表面の垂線に対して大きな入射角をなすとき全反射が起きるようにすることができる。検出ユニットは、更に、散乱線としての蛍光放射線に対して実質的に透過性を持ち、取り替え可能な蛍光フィルターを1つ以上有するものとすることができる。蛍光フィルターは、ペンシルビームの帯域幅の中で実質的に不透明なものとすることができる。蛍光フィルターは、色フィルター又はダイクロイックフィルターとすることができる。フィルター選択ユニットは、数個の取り替え可能な蛍光フィルターを有するものとすることができる。フィルター選択ユニットは、第1のコリメーターと信号発生器の間に蛍光フィルターを任意で独立して取り付けるように設計されたものとすることができる。このようにして、フィルター選択ユニットは、数個の蛍光フィルターがその円周上に取り付けられた回転可能な円盤を有するものとすることができる。取り替え可能な蛍光フィルターは、回転によって選択することができる。これに代わって、フィルター選択ユニットは、数個の蛍光フィルターを取り付けた入れ替え可能なスライドとしてもよい。取り替え可能な蛍光フィルターは、入れ替えることによって選択することができる。検出ユニットは、収集する散乱線を焦点に集めるために、蛍光フィルターと信号発生器の間に取り付けられた第2のコリメーターを有することができる。検出ユニットは、数個の散乱線収集器を有するものとすることができる。検出ユニットは更に、すべての散乱線収集器に割り当てられた1つの信号発生器、又は、散乱線収集器1つに対して1つずつ割り当てられた数個の信号発生器を有するものとすることができる。数個の信号発生器の信号出力は加算することができる。信号出力はアナログ方式、好ましくは信号出力が互いにつながった状態で加算することができる。これに代わって、又は補足として、信号出力はデジタル方式で加算してもよい。好ましくは、分離してデジタル化するためにそれぞれの信号出力に接続され又は接続されることができるアナログ-デジタル変換器によって、又はデジタル化された信号出力を加算するためのアナログ-デジタル変換器に接続され又は接続されることができる計算ユニットによって加算する。散乱線収集器は更に、試料ホルダーを少なくとも実質的に取り囲む集積器を有するものとすることができる。集積器の試料ホルダーに面する内表面は、拡散的反射を行う内表面とすることができる。集積器の内表面は、立方形を示してもよい。これに代わって、集積器はウルブリヒト球であってもよい。集積器の直線的な寸法、好ましくは集積器の端の長さ又は直径は、その直線的寸法に対応する光の伝達時間がペンシルビームによって励起された蛍光放射線の半減期よりも短くなるほどに小さくすることができる。これと関係して、直線的寸法は集積器内での反射又は散乱事象の平均回数倍にすることができる。このような方法によれば、特に可変的な長い光伝達距離に基づく散乱線の信号の一時的な広がりが半減期と比較して小さい場合に、蛍光放射線の半減期すなわち蛍光の寿命を求めることができる。第1のコリメーターは、このために、ビーム方向に対して実質的に垂直に取り付けられた集積器の測定開口の位置で散乱線を受けるように取り付けることができる。光源の光制御部は、少なくとも1つのラスター化ミラーと、少なくとも1つのラスター化ミラーと連結してラスター化ミラーを動かすための1つ以上の作動器を有することができる。特に、光制御部は、第1のラスター化方向へペンシルビームをずらすための第1の作動器によって動かされる第1のラスター化ミラーと、第1のラスター化方向と実質的に垂直な第2のラスター化方向へペンシルビームをずらすための第2の作動器によって動かされる第2のラスター化ミラーと、第1のラスター化ミラーの像を第2のラスター化ミラーに映すように設計された1枚若しくは2枚のレンズ又はレンズシステムを第1のラスター化ミラーと第2のラスター化ミラーの間に有するリレーレンズシステムとして設計されたものとすることができる。光制御部は、電圧によって制御され、好ましくは圧電的に動かされるものとすることができる。この方法では、圧電性結晶を作動器として使用することができる。これに代わって、光制御部は、電流によって、好ましくは可動磁針検流計ドライブ又は可動コイル検流計ドライブによって制御されるものとすることができる。この方法では、検流計ドライブガルボスキャナーとも呼ばれるを作動器として使用することができる。これに代わって、2つのラスター化方向それぞれのための光制御部はポリゴンスキャナーを有するものとすることができる。ポリゴンスキャナーは、ポリゴンミラーと、その回転軸にポリゴンミラーが回転可能なように取り付けられたモーターを有する。ポリゴンミラーは正多角形を基礎とした筒形で、側面を銀色にしたものである。更に、2つのラスター化方向それぞれのため又は高速ラスター化方向のための光制御部は音響光学変調器AOMを有するものとすることができる。光制御部として、AOMは音響光学偏向器AODとも呼ばれる。AOMはビーム透過性を持つ中空でない本体を持ち、その中で、ビーム方向に直角な方向で取り付けられた圧電素子が、超音波の振動数を持ち進行する音波を発生させることができる。高速ラスター化のためにすなわちペンシルビームをずらすために、超音波の振動数は変化させることができる。1つ以上の作動器は、ビーム方向に対して実質的に垂直な方向にラスター化ミラーを動かすように、又はビーム方向に対して実質的に垂直な旋回軸について旋回させるように設計されたものとすることができる。ペンシルビームを、第1のラスター化方向と、第1のラスター化方向と平行でない第2のラスター化方向にずらすため、数個の作動器のうち第1の作動器と第2の作動器を設けることができる。第1のラスター化方向は、好ましくは実質的に回転軸に平行である。光源は更に、放射源と、放射源と光制御部の間に取り付けられたビーム成形レンズシステムを有するものとすることができる。ビーム成形レンズシステムは、ビーム拡大のための望遠レンズシステムを有するものとすることができる。更に、ビーム成形レンズシステムは、環状の膜と、ペンシルビームからベッセルビームを生成するための円錐レンズを有するものとすることができる。これに代わるものとして又は補足として、ビーム成形システムは、光渦又はラゲールガウスモードドーナツモードを有するペンシルビームを生成するための螺旋位相板渦位相板を有することができる。光源は更に光制御部と試料ホルダーの間に取り付けられた集束レンズシステムを有するものとすることができる。集束レンズシステムは、試料ホルダーの内部に構成されたペンシルビームを形成するための集束レンズ又は集束レンズシステムを有するものとすることができる。好ましくは、集束レンズシステムは望遠レンズシステムと集束レンズを有するものである。より高い分解能を得るのに有利であるように、集束レンズシステムはビームの幅をラスター化ミラーの下流で広げることができる。この方法では、ラスター化ミラーの幅はビーム幅よりも小さいものとすることができる。集束レンズシステムによれば、より大きな開口数でペンシルビームを試料ホルダーに放射することが可能である。この方法によって、NAE=0.2の入射開口数を得ることができる入射開口数NAEを収集開口数NAと混同してはならない。集束レンズシステムの第1の焦点面は、ラスター化ミラーの位置を実質的に含むものとすることができる。集束レンズシステムの第2の焦点面は試料ホルダー内部の位置、好ましくは試料ホルダーの内部のビームウエスト又は回転軸の位置を実質的に含むものとすることができる。装置は更に、信号発生器からの強度データを含むデータ記録をプロセスユニットに伝達するために、検出ユニットの信号発生器に連結された又は連結されることが可能な計算ユニットを有するものとすることができる。強度データは収集される散乱線の強度を表すことができる。光制御部はペンシルビームを計算ユニットによって制御して複数の異なる測定位置に段階的又は連続的にずらすように設計されたものとすることができる。データ記録は、複数の測定位置のそれぞれに関する強度データを含むラスターデータ記録とすることができる。装置は更に、試料ホルダーと光源を互いに対して段階的または連続的に回転させて複数の異なる回転位置に移動させるための計算ユニットによって制御されたモーターを有するものとすることができる。データ記録は、複数の回転位置のそれぞれに関するラスター化データ記録を含む断層撮影データ記録とすることができる。計算ユニットは更に、断層撮影記録を基に、断面イメージ又は空間的イメージを再構築するように設計されたものとすることができる。再構築されたイメージは試料ホルダーの中の試料の散乱係数及び/又は補足として試料ホルダーの中の試料の吸光係数を表すことができる。再構築は、逆ラドン変換を含むことができる。これに代わって、又は追加として、再構築は逐次近似法を含むことができる。計算ユニットは更に、積分ランベルトベールの法則に従ってペンシルビームの吸光が補正されるように、または再構築に際して考慮されるように設計されたものとすることができる。本発明の目的はさらに、請求項19の工程を有する断層撮影イメージを得るための方法によって達成される。複数の実施態様の例に関係する参照番号で、下2桁の番号が同じものは、類似した実施態様の例の間で交換可能な構成要素に関係している。図1は、全体として10で示される、断層撮影イメージを得るための装置を示している。装置10は光源12、試料ホルダー14と検出ユニット16を有する。光源12は、少なくとも実質的に空間的に可干渉である生ビーム20を放出する放射源18を有する。示された実施態様の例では、放射源18はレーザーである。放射源18によって得られる生ビーム20のビーム幅wが小さすぎる場合、ビーム成形レンズシステム22は生ビーム20を広げる望遠レンズシステム24を有する。使用される放射源18と無関係に、ビーム成形レンズシステム22は、生ビーム20を成形されたビーム28にするための複数の膜と複数のフェーズマスク26を有する。ビーム成形レンズシステム22によって装置10のイメージング特性が可変のものとされる。この方法によれば、特に試料に応じた最大ビーム強度を考慮したとき、装置10において得られる分解能を上昇させる、又は無段階に調節することができる。更に、複数の膜又は複数のフェーズマスク26は、ビームの進路の下流に取り付けられた光源12の光制御部30中に成形されたビーム28を投影する。任意で、ビーム成形レンズシステム22と光制御部30の間に、成形されたビーム28から部分ビーム34を分岐させて参照検出器36に入れるためのビームスプリッター32を組み入れることができる。例示された実施態様では、参照検出器36として光ダイオードが使用されている。参照検出器36は、一方で、放射源18のレーザーの安定性を監視する。他方で、参照検出器36は不図示のコントロール回路の信号発生器として放射源18の選択的強度調節を行う。強度調節については、原則的に、試料を照明する強度が上昇した場合が考えられる。放射源18が検出器側の過負荷又は信号飽和を喚起した場合、検出器側下記の各検出器、とくに検出ユニット16のダイナミックレンジは振り切れる。放射源18の強度は、個別の部分的収集ごとに理想的には、光制御部30の下記の各計測位置ごとに検出器側の過負荷がなくなるまで選択的に減少させられる。強度調節によって放射源18と参照検出器36によって決定される発生側のダイナミックレンジが検出器側のダイナミックレンジと掛け合わされて、収集のダイナミックレンジが拡張してノイズを減少させたものとして生じる。光制御部30は、試料ホルダー14を通り抜けるペンシルビーム38の進路を、ビーム方向40と実質的に平行な方向にずらすことを可能にする。光制御部30の横断計測位置は、ビーム方向40に対して直角な又は垂直な直角座標系においてx方向へのずれとy方向へのずれによって表される。単純化された実施態様では、光制御部30はxラスター化ミラー46を傾けるx作動器44を有するx制御部42のみを持つ。x方向への傾きのx旋回軸は横断座標系のy軸に対応しているすなわちビーム方向40に対して垂直である。例示された実施態様では、光制御部30は更にyラスター化ミラー52を横断座標系のx軸に対応するy旋回軸について傾けるy作動器50を有するy制御部48を持つ。光制御部30のこれに代わる実施態様不図示では、1つのラスター化ミラーが、x作動器44とy作動器50によってそれぞれx旋回軸とy旋回軸について傾けられる。作動器44、50によって検流計ドライブガルボ又はガルボスキャナーとも呼ばれるが利用される。作動器44と50はそれぞれラスター化ミラー46と52のミラー回転位置を得るための自動制御システムを有し、所望のずれを得るために電流を調節する。光制御部30、さらに正確には2つのラスター化ミラー46、52のうちビーム進路の中で後にあるものが、光源12の集束レンズシステム54の後ろの第1焦点面上に設置される。光制御部30は反射によって集束レンズシステム54の光軸の周りにビーム進路を偏向させる。集束レンズシステム54は、ペンシルビーム38の試料ホルダー内に位置する部分の中心集束レンズシステム54の第2焦点面と一致する位置にビームウエストを有するペンシルビーム38を試料ホルダー14に投影するように設計されている。集束レンズシステム54の第1焦点面でのビーム進路の中で後に位置するラスター化ミラー52による偏向によって、試料ホルダー14にペンシルビーム38がテレセントリックに投影される。これによってラスター化ミラー46、52の傾きの倍加された角度に対応して偏向角度が大きい場合にも平行にビームをずらすことが可能になる。ビーム方向40に平行な方向から外れてビームがずらされた場合、のちのイメージ再構築がより難しくなる場合がある。ペンシルビームを平行にずらすことによって、迅速にラドン変換による断層撮影イメージの再構築が可能になる。少なくとも1つのラスター化ミラー46、52の傾きの代わりに、光源の位置を試料ホルダー14に対して動かすことができる。光源12の1つの不図示の実施態様では、光制御部30と集束レンズシステム54のテレセントリックな配置なしで同様に断層撮影イメージを収集することが可能である。これと関連して、少なくとも試料ホルダー14の中での横断ずれが光制御部30と試料ホルダー14の間の光学的距離と比較して小さいものである限り、光制御部30によってずらされるペンシルビーム38はビーム方向40を向く。言い換えると、試料ホルダー内でのペンシルビームのずれがほぼ平行であるのは、光制御部30の傾きの角度が小さいことによる。更に、ペンシルビーム38が複数の測定位置がある場合の理想のビーム方向40の周囲の試料ホルダーの位置でより大きく広がる場合にも、適合された直接の又は反復による方法で断層撮影イメージを再構築することができる。試料ホルダー14の第1の実施態様不図示は、試料を直接置くように設計されたものである。このために、試料ホルダー14は試料を挟むクリップ、試料をつかむように締まるねじ、又は試料を付着させるための粘着性の表面を有するものとすることができる。この方法によると、大きな試料をゆっくりと回転させることができる。試料ホルダー14の第2の実施態様不図示はゲル状のかたまり好ましくはアガロースゲルを置くように設計されたものである。試料をゲル状のかたまりの中に鋳込みとゲル化によって封入することができる。試料ホルダー14の第3の実施態様は図示されたものであるが、屈折率が調節された液体で満たされ、試料を入れることのできるガラス管を含む。試料環境の屈折率をここに記載した各調節方法のように調節する代わりに又はその補足として、原則的に、試料の屈折率を調節することができる。試料の屈折率を調節するための技術としては、EP1520173B1特にその[0013]段落以下を参照する。試料ホルダー14は好ましくは小室である試料容器56の中で回転可能なように取り付けられている。試料ホルダー14と試料容器56の間には、屈折率が試料に適合された液体試料容器14の第3の実施態様の場合には、少なくともその屈折率に関して、前記の液体と一致する液体が容れられている。回転は、一方で試料ホルダー14、他方で少なくとも光源12と試料容器56の、相対的な回転である。原則的には、特に試料容器56は下記のようにペンシルビーム38が入るための窓と出るための窓を有し、この位置は、再構築を単純にするためにはペンシルビーム38に対して回転させるべきでないので回転の境界または接触面は試料ホルダー14と試料容器56の間に広がっている。回転軸は鉛直である図1の平面に対して垂直であり、y方向と一致している。仮想の回転軸は試料ホルダー14を通過するように延びる。図1に示された実施態様の例では、試料ホルダー14は円柱形であり、回転軸は円柱の軸と一致する。第1の変更例では、試料ホルダー14を回転させるために好ましくはステッパーモーターである電気ドライブ図2に示された実施態様の例において88で表されるステッパーモーターに対応するものが設けられている。光源12と検出ユニット16は固定されている。第2の変更例では、固定された試料ホルダー14に対して装置10のほかのすべての部分を回転させるように電気ドライブが設計されている。特に携帯型の装置10では、ラスター化ミラー46、52と試料ホルダー14以外のすべての部分は動かないように互いに結合されている。更に、第2の変更例では試料容器56と光源12全体が試料の周りを回転することで、動かせない試料、例えば根を下ろした植物を検査することができる。これに関連して、より大きな試料を検査するため、試料容器56を不動の試料の場合には試料ホルダー14も省くことができる。装置10では、不透明な試料についても断層撮影イメージを得ることができる。この場合、空間的に分解されない方法で収集される散乱光は、不透明な試料のほぼ表面の位置で反射されるか、他の効果によって散乱される。不透明の試料は、断層撮影ができる表面構造を有するものとすることができる。例えば、試料の表面は少なくとも部分的に透明なコーティングを有するものとすることができる。散乱光は、散乱された部分と反射された部分を有する。散乱された部分は、コーティングの中でペンシルビームが散乱することによって生じることができる。反射された部分はペンシルビームの反射又は不透明な試料の表面で先に散乱されたペンシルビームの反射によって生じることができる。ねじは、不透明な試料の一例である。試料の空間的位置を決めるために、更なる第1の変更例又は前記の第1の変更例で試料ホルダー14はそして同時に試料容器56はステージミクロメーターを用いて3方向すべてすなわちx方向、y方向、ビーム方向40に動かすことができる。更なる第2の変更例又は前記の第2の変更例で試料ホルダー14と試料容器56は固定されており、光源12と検出ユニット16又は試料ホルダー14と試料容器56以外のすべての部分は3方向すべてに動かすことができる。単純化された第1の変更例又は第2の変更例の実施態様の例では可動性は鉛直方向すなわちy方向に限定されている。次の場合、回転軸の傾きが存在する。A回転軸がビーム方向40に対して垂直でない場合又はB回転軸が光制御部30のx方向に対して垂直でない場合。一般には、AとBの場合の傾きが組み合わされて存在する。言い換えれば、回転軸がy軸に対して空間的に平行でなければ傾きが存在する。傾きによって、後にイメージを再構築することがより難しくなる。又は、再構築されたイメージに傾きによるアーチファクトが生じる。装置10の調節、特に傾きの補正のために、ビーム方向40に対して回転軸のそれによって更に試料ホルダー14の旋回を可能にする調節機構が設けられている。調節機構は、回転軸を空間的にy軸と平行な方向に揃えることを目的とする。Aの場合の傾きに関しては、第1の調節機構によって光制御部30と集束レンズシステム54を互いに入れ替えることができる。この方法によれば、集束レンズシステム54の光軸に対して垂直に集束レンズシステム54を入れ替えることができる。これに代わって、光制御部30を集束レンズシステム54の光軸に対して垂直に入れ替えることもできる。原則的に、集束レンズシステム54を除いた光源全体を入れ替えることが可能である。y方向での入れ替えを行うことによって、ペンシルビームがy方向に上昇する又は降下する進路を設定することができる。この方法によれば、ビーム方向40とy方向に広がる平面の中で回転軸とビーム方向40が直角になるように設定することができる。入れ替えの代わりに、又は補足として、第1の調節機構は回転軸をx軸について旋回させることを可能にする。これによって回転軸に対して垂直なペンシルビームの方向をビーム方向40とy方向に広がる平面の中で設定することができる。Bの場合の傾きに関しては、第2の調節機構によって、回転軸それによって更に試料ホルダー14を集束レンズシステム54の光軸について旋回させることができる。これに代わって、光制御部30を集束レンズシステム54の光軸について旋回させることもできる。結果として、回転軸をy方向と一致させることができる。更に、Bの場合の傾きはAの場合の傾きとは異なってxy平面で回転位置において得られた生データの数値的回転によって補正することができる。光学的な設定によって傾きを防ぐ限り、続いて行われる再構築を層によって分離することができる。1つの層は、y方向で同じ位置にあるすなわち同じ高さの測定位置でのすべての収集を含む。断層撮影イメージの再構築は、複数の層について平行して行うことができる。傾きが存在する限りy方向の複数の位置での収集の間の従属関係が生じるが、これは、断層撮影イメージの再構築を根本的に妨げるものではない。しかし従属関係を考慮することによって再構築のアルゴリズムはより複雑になる。光制御部30で2つのラスター化ミラー46、52が使用される限り、光制御部の単純な実施態様では、集束レンズシステム54の第1焦点面がラスター化ミラー46と52の間に位置するように、集束レンズシステム54に対して光制御部30を位置づけることができる。この方法によれば、ペンシルビーム38の広がりすなわち理想的に一様なビーム方向40からの偏向を最小化することができる。これに代わって、xラスター化ミラー46又はyラスター化ミラー52のいずれかを集束レンズシステム54の第1焦点面に位置づけることもできる。この方法によれば、広がりをy方向またはx方向のラスター化に限定するそして再構築アルゴリズムによって考慮することもできる。更なる調節機構として、2つのラスター化ミラー46と52をx方向とビーム方向40に動かすことができる調節機構が設けられる。光制御部30の更なる実施態様には、前記のリレーレンズシステムが含まれる。リレーレンズシステムによって、xラスター化ミラー46とyラスター化ミラー52をそれぞれリレーレンズシステムの焦点面に位置づけることができる。ビーム進路中で後に位置するラスター化ミラー52は、更に、集束レンズシステム54の第1焦点面に位置する。この方法によれば、x方向とy方向への広がりを最小化することができる。単純化された実施態様では、個別の調節機構又はすべての調節機構を省くことができる。試料ホルダー14と試料容器56の間の空間はペンシルビーム38の高さにおいて試料ホルダー14及びその中の検査される試料の屈折率に近似された液体58で満たされている。液体58は液浸液として機能する。液体58が試料ホルダー14を濡らしている限り、試料ホルダー14の一般的には曲面の表面は、光学的接触面として好ましくない屈折又は散乱についてはほとんど無視することができる。ビームは、集束レンズシステム54によって一般的に弱く焦点に集められ、試料容器56の平滑なガラス表面59から試料容器56の中に投影される。平滑とはガラス表面59が平面であるすなわち曲面でないことを意味する。これに加えて、平滑には可能な限り表面の粗さがわずかであるという意味が含まれてもよい。試料を透過した放射線は、第2の集束レンズシステム60によって透過光検出器62に投影される。第2の集束レンズシステム60の第1焦点面は、第1の集束レンズシステム54の第2焦点面と一致する。第2の集束レンズシステム60の後ろの第2焦点面は透過光検出器62の位置と一致する。この場合には、第2の集束レンズシステム60の焦点面を正確に位置づける必要はない。第2の集束レンズシステム60のイメージング特性に要求される条件は、第1の集束レンズシステム54に要求されるものよりも少ない。透過光検出器62が扱うダイナミックレンジをより大きくするために、そしてイメージ収集の過程で速度のロスをなくしつつ収集のダイナミックレンジを改善するために、透過光検出器62は好ましくは対数関数的な応答である非線形の応答を行う。イメージ収集のスピードは、特に各測定位置での露光時間に関係する。また、対数関数的になっている強度の方が直ちに変換可能なのでコンピューターを用いる再構築に際して出力データとして有利である。透過光検出器60、62と関連して、更に暗視野顕微鏡法、偏光顕微鏡法、干渉顕微鏡法微分干渉顕微鏡法またはDIC顕微鏡法とも呼ばれる又は位相差顕微鏡法が実現できる。単純化された実施態様の例では、第2の集束レンズシステム60と透過光検出器62は省かれている。更なる実施態様の例では、前方への散乱を制限するために第2の集束レンズシステム60と透過光検出器62の間に膜が設けられている。第2の集束レンズシステム60の後ろの第2焦点面に透過光検出器62の代わりに膜が取り付けられている限り、ペンシルビームの試料ホルダー14内の部分全体から放射される前方への散乱線を区別して収集することができる。非共鳴蛍光の場合、透過光と前方への散乱線は更にダイクロイックフィルターによっても分離することができる。散乱線64は、入射するペンシルビーム38によって試料から放出される。試料から放出される散乱線64は、しばしばほぼ等方的にすなわち全方向で実質的に均一に分布している。散乱線64としての蛍光放射線を用いる場合、放射源18は、試料中の発蛍光団機能的又は構造的に試料を標識しているものの1つ以上の選択的な遷移を励起するペンシルビーム38を発生するように設計されたものである。再放出された散乱線64の強度は、x方向とy方向の複数の測定位置と複数の回転位置において収集される散乱線の強度分布Ixyπの形で得られる。一般的には、収集される散乱線の強度分布には断層撮影イメージの再構築によってアクセス可能な次の情報が含まれている。蛍光放射線の場合試料中の発蛍光団濃度ρxyz又は異なる散乱メカニズムの場合試料の散乱係数σxyzについての情報である。与えられた回転位置Πについて、積分散乱線強度分布Ixyπは2次元の情報の項目であり、実質的にビーム方向40への投影又はペンシルビーム38に沿った加算による3次元の散乱強度σxyzから得られるものである。散乱線64は、検出ユニット16によって集積的に収集される。散乱線64の集積的な収集には、ペンシルビーム38によってもたらされる散乱線64の、位置的に分解されず方向的に分解されない収集が含まれる。検出ユニット16は、試料ホルダー14の周囲のできるだけ大きな立体角の中で散乱線64を集積的に収集するための散乱線収集器66を有する。開口数NA/n屈折率で規準化されているは収集される立体角に対応している。散乱線64の集積的な収集のために、試料ホルダー14そして試料容器56は散乱線収集器66の集積器68の中心に取り付けられている。集積器68は、その内側で高度に反射を行い光を強く散乱するカプセルを有する。集積器68の内表面69はバリウム硫酸塩又は別の散乱媒体でコーティングされている。集積器68のより単純な実施態様では、内表面69は荒い基礎を有し、その上に好ましくは銀からなる金属の層が蒸着されている。図1に示された実施態様の例では、集積器68としてウルブリヒト球を使用している。多重散乱反射によって、試料から放出される散乱線は集積器68の内部に均一に分布する。この均一性の結果ほとんど損失のない散乱反射が起きることから、数点の技術的局面が現れる。一方で、装置10の設計と製造の工程中、試料ホルダー14と試料容器56を集積器68の中心に正確に位置づけることは必要なくなる。この方法によれば、球形と異なる中空の筐体が集積器68として適する。小型の実施態様では、集積器68は適切にコーティングされた試料容器56によって実現化される。他方で、集積器68の開口70、72、74のすべてにおいて散乱線の強度は実質的に同じ強さである。散乱線64のうち測定開口72において発生する部分は、散乱線64全体と、集積器68の開口部全体開口70、72、74を含むに対する開口72の口径比に従った関係を持つ。この方法によれば、散乱線64の集積的な収集のために、測定開口72において発生する散乱線を収集することで散乱線64全体を決定することができる。高い信号対ノイズ比を得るために、集積器68の測定開口72は可能な限り大きくしなければならず、集積器68の他のすべての開口70、74は可能な限り小さくしなければならない。口径比を向上させるために、実施態様の例を最適化した変更例では前記のようにx制御部42のみが設けられ、照明開口70はy方向に可能な限り狭いx方向に延びるスリットである。同様に、透過開口74はx方向のy方向に可能な限り狭いスリットである。スリットの高さΔyはペンシルビーム38のスリットの位置でのビーム幅の100から500、好ましくは約200とされる。1つの実施態様の例では、照明開口70と透過開口74はそれぞれ高さΔy=0.5mm、幅Δx=12mmのスリットであり、測定開口72は長さ10mmの辺を有する正方形とされた。結果として、実施態様の例で口径比に対応する理想的な効率は100/112=89.3となった。口径比をスリットの形状によって向上させた場合、変化するy方向へのずれについて複数の測定位置を得るために、試料ホルダー14を有利になるようには試料容器56と同時に所望のy方向への上又は下へのずれに対応してy方向に動かすy作動器がyラスター化ミラー52を有するy制御部48の代わりに使用される。実施態様の例の代替的な変更例では、試料ホルダー14と試料容器56はy方向に固定されており、光源12と検出ユニット16又は試料ホルダー14と試料容器56以外のすべての部分がy方向へ、すなわち上下に移動可能である。技術的な理由から、可能な限り小さな集積器68の方がより大きな集積器68よりも好ましい。小さな集積器68の有利な点には、小さな内表面69と、照明開口70と透過開口74において狭いスリットを有することによって散乱線の損失を小さくできることがある。測定開口72は、試料、試料ホルダー14、試料容器56と同じ又はそれより大きなサイズである必要がある。可能な試料サイズとしては約2mmまでである。より大きな寸法の試料の場合、測定開口72は試料サイズよりも小さなものとすることができる。より正確には、正方形の測定開口72の1辺の長さが、ビーム方向40での試料ホルダー14の長さよりも大きい必要がある。集積器68の中の均一化された散乱線64は試料ホルダー14の上にも落ちるので、このようにすれば測定開口72における多重散乱線とそれに対応する望ましくない背景信号の一部を抑制することができる。非共鳴蛍光放射線の場合、更に波長シフトが、蛍光放射線によって更なる蛍光を励起する状況を抑制する。更に発展的な実施態様の例では、照明開口70と透過開口74のスリット幅は可変のものとされる。さらに、集積器68の光学的属性又は開口70、72、74のレンズシステムは、開口70、72、74における更なる損失を減らすように設計されている。散乱線収集器66は、測定開口72から発生する散乱線の発散を減らすことができる第1のコリメーター76を有する。第1のコリメーター76は、テーパー型光ガイドテーパー型光パイプ76a、特にコンデンサーレンズである強く屈折するレンズ76b、中央に開口を有する凹面鏡不図示、又はこれらの部分のうち2つ以上を含む組み合わせのいずれかを有する。光ガイドとして、反射コーティングがなされた銀色にされた光学中空コア導体又は全反射を利用した誘電性の光学的波ガイドを使用することができる。図1の実施態様の例に示されている第1のコリメーター76は光学中空コア導体76aとレンズ76bを有する。光学中空コア導体76aの出口で部分的に平行にされた散乱線78’の発散はレンズ76bによって更に減少し、平行にされた散乱線78を生じる。1つの変更例では不図示、測定開口72と光ガイド76aはガラスファイバー束によって置き換えられている。ガラスファイバー束は、ここでは集積器68を置き換える球から星形にすなわち放射状に伸びる複数のガラスファイバーを有する。試料ホルダー14から散乱線64を受け取るガラスファイバーの端は球の内表面69に均一に分布している。ガラスファイバーは、散乱線を平面64上の焦点に集めるように設計されている。この変更例では、このように部分的に平行にされた散乱線78’が得られ、これがコリメーター76の前記の部分のうち1つによって投影され、平行にされた散乱線78を生じる。平行にされた散乱線78の発散は減少し、残余の発散を有する。十分に低い残余の発散が存在することで、平行にされた散乱線78にダイクロイックフィルターを適用することが可能になる。第1のコリメーター76の下流では残余の発散が±30°未満となり、ほとんどのフィルターを適用することが可能である。色付きガラスフィルターが用いられるとき、散乱線64はどのような明らかな発散制限も受けない。このようにして、色付きガラスフィルターを用いる単純化された実施態様の例では、単純な1つの部分しか持たない第1のコリメーター76が設けられるか、第1のコリメーター76が設けられない。平行にされた散乱線78は、検出ユニット16のフィルターディスク又はフィルター引き出しの形態をとるフィルター選択ユニット80で組み合わされた数個のフィルターのうちの1つを任意で透過する。蛍光放射線の場合、フィルターの高透過性のスペクトル領域はそれぞれ1つ又は複数の発蛍光団の蛍光遷移に同調されている。フィルターを通った散乱線82は、測定されるための強度を示す。追加の実施態様の例では、複数の色成分を複数のビーム進路に分けるために二色鏡不図示が使用される。二色鏡はフィルター選択ユニット80の補足として又は代わりに取り付けられる。これによって散乱線64に含まれる複数の色成分を同時に収集することが可能となる。検出ユニット16は更に第2のコリメーター84と、光検出のための第2のコリメーター84の後ろの焦点面に取り付けられた信号発生器86を有する。図1に示された実施態様の例では、第2のコリメーターレンズ84は好ましくはコンデンサーレンズである収束レンズである。量子収量を最適化するため、第2のコリメーター84は、フィルターを通った散乱線82を信号発生器86に、その開口数を超えないようにして集める。図1に示された実施態様の例では、信号発生器86は光電子増倍管である。試料に作用するビームの強度を可能な限り低くするため、光電子増倍管は高い反応性と量子収量を示す。更に、信号発生器86の光感受性の表面検出面を最適な状態で照明するように、信号発生器86をフィルターを通った散乱線82の方向に対して直角に置き換えることができる。この方法によれば、検出ユニット16は、測定開口72からの散乱線64を検出面に効率的に導くことができる。次に挙げる複数の方法は、記載した装置10によって実行することが可能である。集積器68中の拡散散乱による制限を防ぐため、蛍光寿命と集積器68中の光伝達時間が互いに合わされるFLIM蛍光寿命イメージング顕微鏡法、MPM多光子顕微鏡法、FRET蛍光共鳴エネルギー移動、FRAP光褪色後蛍光回復法、励起ビームとしてペンシルビーム38が放射された後に実質的に円柱状に対称な強度分布を有する除外ビームとしてのチューブビームが放射されるSTED誘導放射抑制、FLIP光褪色による蛍光損失、いわゆる超解像顕微鏡法、散乱光顕微鏡法。次のものも実行できる可能性がある。STORM確率的光学再構成顕微鏡法とFCS蛍光相関分光法。図2は断層撮影イメージを得るための装置210の第2の実施態様の例を示す。第2の実施態様の例において、第1の実施態様の例と同じ参照番号を持つ部分については、特にその属性、構成、機能と相互作用について、上の記載が対応して適用される。第2の実施態様の例は、収集した散乱線64を集積し均一化するために別の集積器68が設けられていないという点で第1の実施態様の例と異なる。言い換えれば、散乱線収集器266は、散乱線64の集積的な収集のために集積器68を持たない。ビーム透過性試料容器256はすべての側面にすなわち透明な底面272を除いたすべての面に反射面269を有する。反射面269は、拡散的に反射する内表面69の機能と作用を担う。このようにして、試料容器256は集積器68の機能と作用を担うことができる。試料容器256の第1の単純な実施態様は、コーティングがなされていないガラスの小室である。散乱線64は、コーティングがなされていない小室の底面272に放射される傾向があるが、これは小室/空気の境界層での全反射によって底面272に伝達される。この方法によれば、散乱線64の約12.5の部分が収集可能である。この比率は、試料容器256の壁すなわち小室から空気への境界面での全反射の角度から決定される。試料容器256の第2の実施態様では、内表面69に関して上に記載したように、ガラスからなる地の本体がその外側又は内側に反射面269としてバリウム硫酸塩又は金属の層を有する。試料容器256の第3の実施態様では、金属からなる地の本体の側面が反射面269として作用する。試料容器256の第4の実施態様では、後者が試料容器56と一致し、かつ反射面269を有するミラーボックス不図示に正確にはまるように設置されている。ペンシルビーム38を放射するため、そして任意で透過光検出を行うために、試料容器256は照明開口270と透過開口274をそれぞれ有する。照明開口270と透過開口274はそれぞれ開口70と開口74に機能的に対応する。上で開口70、72、74について記載したように、放射の損失を最小化するために開口270と274はx方向への狭いスリットの形をとり、光制御部30はペンシルビーム38をx方向にだけラスター化する。y方向へのずれを伴う測定位置については、第1の実施態様の例について上で記載したように、試料ホルダー14を他のすべての部分に対して相対的にy方向に動かし、試料ホルダー14又は他の部分を固定することができる。反射面269は、開口270と274として、向かい合う位置にビーム透過性のスリットを有する。地の本体がガラスでできている場合は、開口270、274にはコーティングがなされない。地の本体が金属の場合、開口270、274は平行平面の窓を有する。散乱線として蛍光放射線を用いる場合、更に放射の損失を減少させるために、窓はペンシルビーム38の励起放射を透過し蛍光放射線を反射する二色性の層を有するか、又はそのような光学的特性を持つ平行平面の複屈折クリスタルからなるものとされる。ミラーボックスを有する第4の実施態様では、開口270、274はミラーボックスの貫通孔である。底面272は散乱線64に対して透過性を持つ。地の本体がガラスでできている場合、底面272にはコーティングがなされない。地の本体が金属の場合は、底面272は平行平面の窓を有する。ミラーボックスを有する第4の実施態様では、ミラーボックスは底面272が開いている。図2に示された、散乱線として蛍光放射線を用いるための試料容器256の第5の実施態様では側面に2色性の層を有する透明な本体を有する。これに代わるものとして又は補足として、試料容器の側面はダイクロイックフィルター又は干渉フィルターからなる。このようにして、試料容器256の側面はペンシルビーム38の励起放射を透過し、蛍光放射線を反射するように設計されたものである。この方法によれば、散乱線64の約50以上の部分を収集することができる。蛍光放射線すなわち散乱線64については、側面が反射面269として働く。側面はペンシルビーム38の励起放射に対して透過性を持つので、側面はペンシルビーム38が入ることと出ることを可能にする。言い換えると、側面全体が照明開口270又は透過開口274として利用可能である。制御部30はペンシルビームをx方向とy方向にラスター化するすなわちずらすように設計されている。放射を損失することなく、窓特にスリットを省くことができる。試料ホルダー14がy方向に可動である必要はない。試料容器256のすべての実施態様において、反射面269での散乱線64の反射又は全反射によって散乱線64が底面272へ導かれる。散乱線64の集積的な収集のために、底面272を通って出る散乱線272bの一部が収集される。底面272は機能的に測定開口72に対応する。底面272を通って出る散乱線の散乱線全体に対する割合は、測定開口72について上で記載したようにして決定することができる。また、底面272を通って出る散乱線の割合は、反射面269で散乱線が反射される反射角によって決定することもできる。反射面269での反射が試料容器256の第1と第5の実施態様でのように全反射を含む場合、割合を決定するための反射角は、反射面269での全反射角である。図2bは、下記で装置410の第4の実施態様の例に関連してより詳細に記される任意の第2の検出ユニット16’を示す。収集される立体角を大きくするため、複数の実施態様の例における検出ユニット16、16’を組み合わせることができる。試料容器256から出る散乱線の12.5より多くを試料容器256のどの実施態様においても結合するために、散乱線収集器266の第1のコリメーター76は底面272と直接の屈折率が適合された光学的接触をなしている。前記のように、第1のコリメーター76は試料側にテーパー型光ガイド76aを有する。第2の実施態様の例が有する更なる特徴は、すべて第1の実施態様の例が有する特徴に対応する。特に、互いに対応する組立品12、14、16とその部品は同程度の自由度を有する。次に挙げる複数の方法は、記載した装置210によって実行することが可能である。FLIM蛍光寿命イメージング顕微鏡法、MPM多光子顕微鏡法、FRET蛍光共鳴エネルギー移動、FRAP光褪色後蛍光回復法、励起ビームとしてペンシルビーム38が放射された後に実質的に円柱状に対称な強度分布を有する除外ビームとしてのチューブビームが放射されるSTED誘導放射抑制、FLIP光褪色による蛍光損失、いわゆる超解像顕微鏡法、散乱光顕微鏡法。次のものも実行できる可能性がある。STORM確率的光学再構成顕微鏡法とFCS蛍光相関分光法。図3は断層撮影イメージを得るための装置310の第3の実施態様の例を示す。第3の実施態様の例において、第1又は第2の実施態様の例と同じ参照番号を持つ部分については、特にその属性、構成、機能と相互作用について、上の記載が対応して適用される。第3の実施態様は、散乱線64が第1のコリメーターを用いて直接収集すなわち集積されるという点において前述の実施態様の例と異なる。言い換えると、散乱線収集器366は散乱線64の集積的な収集のために光ガイド76aを持たない。散乱線収集器366は、前記のように第1のコリメーターとしてレンズ76bを有する。また、散乱線収集器366は反射器390も有する。試料ホルダー14と試料容器56は反射器390とレンズ76bの間に取り付けられている。試料ホルダー14、より正確には回転軸がレンズ76bの焦点面に位置している。反射器390としては、球状の凹面鏡又は複数の逆反射装置猫の目とも呼ばれるが使用される。後者の場合には、装置310は特に簡単に調節することができる。球状の凹面鏡の場合には、球の中心が試料ホルダー14の中、より正確には回転軸状に位置している。このように、反射器390は両方の場合で、反射器390の立体角内で捕らえられた散乱線64をその発生源に反射し返す。この方法によると、散乱線64の2倍に上る光子を収集することができる。散乱線64がほとんど平行な光線束の形で試料容器56を通り過ぎるような実施態様では、下記の装置510の実施態様の例が参照される。これに代わって、感度を相対的に上げる、又は入射するペンシルビーム38の強度を下げるために、反射器390の代わりに2つ以上の反射部を試料ホルダー14の周りに取り付けてもよい。第3の実施態様の例が有する更なる特徴は、すべて第1又は第2の実施態様の例が有する特徴に対応する。特に、互いに対応する組立品12、14、16とその部品は同程度の自由度を有する。次に挙げる複数の方法は、記載した装置310によって実行することが可能である。FLIM蛍光寿命イメージング顕微鏡法、MPM多光子顕微鏡法、FRET蛍光共鳴エネルギー移動、FRAP光褪色後蛍光回復法、励起ビームとしてペンシルビーム38が放射された後に実質的に円柱状に対称な強度分布を有する除外ビームとしてのチューブビームが放射されるSTED誘導放射抑制、FLIP光褪色による蛍光損失、いわゆる超解像顕微鏡法、散乱光顕微鏡法。次のものも実行できる可能性がある。STORM確率的光学再構成顕微鏡法とFCS蛍光相関分光法。図4は断層撮影イメージを得るための装置410の第4の実施態様の例を示す。第4の実施態様の例において、前述のいずれかの実施態様の例と同じ参照番号を持つ部分については、特にその属性、構成、機能と相互作用について、上の記載が対応して適用される。第4の実施態様の例は、散乱線収集器66、266、366の代わりに2つ以上の散乱線収集器366、366’又は同様に、66、266が試料ホルダー14の周りに取り付けられているという点で前述の実施態様の例と異なる。言い換えると、検出ユニット16は2つ以上の散乱線収集器366、366’又は同様に66、266を有する。1つの信号発生器86を有する実施態様の例不図示では、2つ以上の散乱線収集器366、366’のそれぞれの、平行にされた散乱線78、78’が有する異なるビーム進路を合流させるために、複数のプリズム又は複数の鏡が取り付けられている。合流した平行にされた散乱線はその後前記のように、収集される立体角を大きくするため1つの信号発生器86に投影される。図4に示された実施態様の例では、フィルター選択ユニット80、80’、第2のコリメーター84、84’、信号発生器86、86’のそれぞれが、2つ以上の散乱線収集器366、366’又は同様に66、266のそれぞれに割り当てられている。1つの変更例では、共通フィルター選択がフィルター選択ユニット80、80’で同期されており、収集される立体角を大きくするため、信号発生器86、86’の複信号が1つに加算される。これに代わる変更例では、フィルター選択ユニット80、80’によるフィルター選択は独立であり、信号発生器86、86’の2つ以上の信号は同時に収集される。この方法によると、散乱線64、64’の異なる色成分に対応する数個の信号を同時に収集することができる。これによって、特に蛍光放射線の場合において、機能的に標識されたカラーイメージを速く収集かつ再構成することが可能になる。第4の実施態様の例が有する更なる特徴は、すべて前述の実施態様の例が有する特徴に対応する。特に、互いに対応する組立品12、14、16とその部品は同程度の自由度を有する。次に挙げる複数の方法は、記載した装置410によって実行することが可能である。FLIM蛍光寿命イメージング顕微鏡法、MPM多光子顕微鏡法、FRET蛍光共鳴エネルギー移動、FRAP光褪色後蛍光回復法、励起ビームとしてペンシルビーム38が放射された後に実質的に円柱状に対称な強度分布を有する除外ビームとしてのチューブビームが放射されるSTED誘導放射抑制、FLIP光褪色による蛍光損失、いわゆる超解像顕微鏡法、散乱光顕微鏡法。次のものも実行できる可能性がある。STORM確率的光学再構成顕微鏡法とFCS蛍光相関分光法。図5は断層撮影イメージを得るための装置510の第5の実施態様の例を示す。第5の実施態様の例において、前述のいずれかの実施態様の例と同じ参照番号を持つ部分については、特にその属性、構成、機能と相互作用について、上の記載が対応して適用される。第5の実施態様は、散乱線64が直接第1のコリメーター76、特にその一部分であるである76a、76bに発生するという点で前述の実施態様の例と異なる。言い換えれば、第1のコリメーター76は機能的に試料容器56を含む。図5に示された実施態様の例では、第1のコリメーター576はおおよそ引き延ばされた回転楕円面の半分の形をしたガラスの本体576aを有する。第1のコリメーター576は、その丸い方の端に、軸の長さの3分の1ほどを覆う反射器590を有する。反射器590はガラスの本体576aの反射コーティングとして実現することができ、又は反射器390と関連して記載された逆反射装置を複数有するものとすることができる。更に、この軸の長さの3分の1以内、例えば4分の1の位置に、引き延ばされた立方形のコリメーター陥凹556が設けられている。コリメーター陥凹556の縦軸は装置510の鉛直方向の回転軸と一致し、第1のコリメーター576の対称軸594と垂直に交わる。コリメーター陥凹556は、コリメーター陥凹556が片側底で閉じるように第1のコリメーター576の断面をほとんど完全に覆って伸びている。コリメーター陥凹556は、コリメーター陥凹556に試料を封入している長さにわたって取り付けられた試料ホルダー14が接触せずに回転可能であるように作られている。このようにすると、コリメーター陥凹556は前記の試料容器56として働く。特に、試料ホルダー14とコリメーター陥凹556の間の空間には屈折率が適合された液体58が容れられている。立方体でないコリメーター陥凹556が、ペンシルビーム38が入るためと出るための平面である側面をすでに有さない場合には、適切な平面である窓が側面に設けられる。ペンシルビーム38は、平面である入り口の窓を通して試料ホルダーの中に集められる。第1のコリメーター576の、反射器590と逆側の端には、対称軸594上に設けられた円錐形の陥凹の中にレンズ576bが取り付けられている。レンズ576bは前記のレンズ76bと同様のものとなるように設計されたものである。光学的構成要素576a、590及び576bは試料ホルダー14から出る散乱線64のほとんど全部を、わずかな残余の発散を伴って、検出ユニット16の信号発生器86の方向へ向けるように取り付けられている。反射器590によって試料ホルダー14の中へ反射し返された散乱線は、直接収集される散乱線64とともに第1のコリメーター576によって平行にされ、収集される放射線が前記のようにフィルターを通され検出されることが可能になる。第5の実施態様の例が有する更なる特徴は、すべて前述の実施態様の例が有する特徴に対応する。特に、互いに対応する組立品12、14、16とその部品は同程度の自由度を有する。次に挙げる複数の方法は、記載した装置510によって実行することが可能である。FLIM蛍光寿命イメージング顕微鏡法、MPM多光子顕微鏡法、FRET蛍光共鳴エネルギー移動、FRAP光褪色後蛍光回復法、励起ビームとしてペンシルビーム38が放射された後に実質的に円柱状に対称な強度分布を有する除外ビームとしてのチューブビームが放射されるSTED誘導放射抑制、FLIP光褪色による蛍光損失、いわゆる超解像顕微鏡法、散乱光顕微鏡法。次のものも実行できる可能性がある。STORM確率的光学再構成顕微鏡法とFCS蛍光相関分光法。1つのx制御部42だけを有する実施態様の例ではすべて、信号発生器86の光感受性の表面はy方向にかなり小さくすることができる。前記のように、これは、試料ホルダー14と試料容器56、256、又は光源12と検出ユニット16のいずれかの組み合わせを同時にy方向に移動させることによってy方向へのずれを変化させる場合にも可能である。図6は断層撮影イメージを得るための方法600を単純化したフローチャートを示す。方法600は前記の断層撮影イメージを得るための装置10、210、310、410、510のいずれの実施態様の例によっても実行することができる。断層撮影イメージを得るための方法600は次の工程を有する。散乱線64を励起するために、回転可能な試料ホルダー14に対してビーム方向40を有するペンシルビーム38を放射する工程602と、ペンシルビーム38の一部に沿って励起された散乱線64を空間的分解なしに収集する工程604と、ペンシルビーム38を、複数の測定位置に向かい、ペンシルビーム38のビーム方向40に対して直角である高速ラスター化方向と低速ラスター化方向へと実質的に平行にずらす工程606と、試料ホルダー14を複数の測定位置のそれぞれのための複数の回転位置へ回転させる工程608と、収集される散乱線64の強度に基づいて、断層撮影イメージ特に断面イメージ又は空間的イメージを再構築する工程610。高速ラスター化方向は好ましくは低速ラスター化方向に対して垂直である。低速ラスター化方向は回転軸と一致してもよい。前記の装置のいずれかと関連して、x方向は高速ラスター化方向であってもよく、更に/又はy方向は低速ラスター化方向であってもよい。複数の測定位置へずらすことをラスター化とも呼ぶ。ずらすことは、光制御部30によっても行うことができる。ペンシルビーム38はxy平面の中でビーム方向40と垂直に曲がりくねった線に沿ってずらすことができる。これに代わって、らせん上のコースで又は同心円に沿ってずらすこともできる。方法600中で、低速ラスター化方向へずらすことと回転は相互に交換可能である。すなわち、少なくとも低速ラスター化方向へずらす動きと回転は交換可能である。これによって総収集時間が最小化できる可能性がある。回転軸がy方向と平行である場合、完全なイメージ収集の完了に先だって再構成を開始することができる。有利になるようには、高速ラスター化方向について及び回転についての部分的収集が完了した後にすなわち回転が低速ラスター化方向へのずらしの前に行われるとき、交差する低速ラスター化方向に対して垂直な平面が再構成される。この方法によれば、各回転が完了した後に部分的な再構成を開始することができる。散乱線64を収集するための制御工程は、最内側反復ループとして高速ラスター化方向へずらすこと、中間反復ループとして回転すること、外側反復ループとして低速ラスター化方向へずらすことを含む。部分的再構成は各中間反復ループの完了の後に開始することができる。各部分的再構成は、更なる部分的収集及び更なる部分的再構成から独立して行うことができる。この方法によると、部分的再構成を効果的に平行して行うことができる。様々な実施態様の例の記載から明らかになった通り、装置10、210、310、410、510及び方法600によって、屈折率が適合された物質中に置かれた少なくとも部分的に透明な試料の断層撮影イメージを得ることが可能になる。放射源18は更に数個のレーザーを有してもよく、その部分的生ビームを生ビーム20に重ねることができる。この方法によれば、試料に導入される発蛍光団の数回の遷移数種類の色に適合されたペンシルビーム38のスペクトルを実現することができる。記載された技術は、実施態様の例に応じて、次の利点の1つ以上を提供することができる。光投影断層撮影OPTの際に生じる可能性があるリングアーチファクトを防ぐことができる。蛍光への感度が1mm以上の大きさの試料を用いる場合既知の技術より顕著に高い。結果として、試料のスループットをより高くすることが可能であり、試料を損なう可能性は小さくなる。装置10、210、310、410、510は、手頃な価格で入手可能な構成要素のみを必要とする。