"ラジカル硬化性化合物として下記ラジカル硬化性化合物Aを含有することを特徴とするウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物。ラジカル硬化性化合物A:下記式1で表される化合物式中、R1は、単結合、水素原子の1個又は2個が炭素数1~5のアルキル基で置換されていてもよいメチレン基、スルホニル基、硫黄原子、又は酸素原子を示し、R2、R3は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。X、X’は、同一又は異なって、硫黄原子又は酸素原子を示す。R、R’は、同一又は異なって、炭素数1~5のアルキル基を示し、n、n’は、同一又は異なって、0又は1を示すラジカル硬化性化合物として、さらに下記ラジカル硬化性化合物Bを含有することを特徴とする請求項1に記載のウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物。ラジカル硬化性化合物B:下記式2で表される化合物式中、環Z1、環Z2は、同一又は異なって、芳香族炭素環を示し、R4、R6は、同一又は異なって、炭素数1~10のアルキレン基を示し、R5、R7は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。n1、n2は、同一又は異なって、0以上の整数を示すラジカル硬化性化合物Aとラジカル硬化性化合物Bの配合比前者/後者重量比が1/0.2~1/4である請求項2に記載のウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物。ラジカル硬化性化合物Aが下記式1a~1xから選択される少なくとも1つの化合物を含む請求項1~3の何れか1項に記載のウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物。150°Cで30分間加熱して得られる硬化物の160°Cにおける貯蔵弾性率が0.1×109Pa以上であることを特徴とする請求項1~4の何れか1項に記載のウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物。さらに、黄変抑制剤として有機硫黄化合物を、ラジカル硬化性化合物の総量100重量部に対して0.05~10重量部含有する請求項1~5の何れか1項に記載のウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物。請求項1~6の何れか1項に記載のウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物をキャスティング成型法又は射出成型法に付すことを特徴とするウェハレベルレンズの製造方法。キャスティング成型法が下記工程を含む同時成型法であることを特徴とする請求項7に記載のウェハレベルレンズの製造方法。工程1:ウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を複数個のレンズ型が一定方向に整列した形状を有するウェハレベルレンズ金型に流し込み、加熱及び/又は光照射して硬化させる工程2:ウェハレベルレンズ金型を外してアニール処理を行い、ウェハレベルレンズが複数個結合した形状を有する硬化物を得る工程3:得られた硬化物を切断してウェハレベルレンズを得るキャスティング成型法が下記工程を含む個片成型法であることを特徴とする請求項7に記載のウェハレベルレンズの製造方法。工程1:ウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を1個のレンズ型を有するウェハレベルレンズ金型に流し込み、加熱及び/又は光照射して硬化させる工程2:ウェハレベルレンズ金型を外してアニール処理を行い、ウェハレベルレンズを得る射出成型法が下記工程を含むことを特徴とする請求項7に記載のウェハレベルレンズの製造方法。工程1:ウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を射出成型用ウェハレベルレンズ金型に流し込み、加熱及び/又は光照射して硬化させる工程2:ウェハレベルレンズ金型を外してアニール処理を行い、バリを切除して、ウェハレベルレンズを得る請求項7~10の何れか1項に記載のウェハレベルレンズの製造方法により得られるウェハレベルレンズ。リフロー方式による実装向けレンズであることを特徴とする請求項11に記載のウェハレベルレンズ。従って、本発明の目的は、光学特性に優れ、且つ、高温環境下でも極めて優れた形状保持性を有する硬化物を形成することができるウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物以後、ラジカル硬化性組成物と称する場合がある、該ウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を使用するウェハレベルレンズの製造方法、及び前記ウェハレベルレンズの製造方法により得られるウェハレベルレンズを提供することにある。本発明者等は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、置換基として少なくともメタアクリロイルオキシ基若しくはメタアクリロイルチオ基を有するベンゼン環2個が、特定の基を介して、若しくは単結合で結合した構造を有する特定のラジカル硬化性化合物は、ラジカル重合することにより、高温環境下でも極めて優れた形状保持性を有し、光学特性に優れた低アッベ数の硬化物を形成することができることを見いだした。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。すなわち、本発明は、ラジカル硬化性化合物として下記ラジカル硬化性化合物Aを含有することを特徴とするウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を提供する。ラジカル硬化性化合物A:下記式1で表される化合物式中、R1は、単結合、水素原子の1個又は2個が炭素数1~5のアルキル基で置換されていてもよいメチレン基、スルホニル基、硫黄原子、又は酸素原子を示し、R2、R3は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。X、X’は、同一又は異なって、硫黄原子又は酸素原子を示す。R、R’は、同一又は異なって、炭素数1~5のアルキル基を示し、n、n’は、同一又は異なって、0又は1を示すラジカル硬化性化合物としては、さらに下記ラジカル硬化性化合物Bを含有することが好ましい。ラジカル硬化性化合物B:下記式2で表される化合物式中、環Z1、環Z2は、同一又は異なって、芳香族炭素環を示し、R4、R6は、同一又は異なって、炭素数1~10のアルキレン基を示し、R5、R7は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。n1、n2は、同一又は異なって、0以上の整数を示すラジカル硬化性化合物Aとラジカル硬化性化合物Bの配合比前者/後者重量比としては、1/0.2~1/4が好ましい。ラジカル硬化性化合物Aとしては、下記式1a~1xから選択される少なくとも1つの化合物を含むことが好ましい。前記ウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を150°Cで30分間加熱して得られる硬化物の160°Cにおける貯蔵弾性率は、0.1×109Pa以上であることが好ましい。さらに、黄変抑制剤として有機硫黄化合物を、ラジカル硬化性化合物の総量100重量部に対して0.05~10重量部含有することが好ましい。本発明は、また、前記ウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物をキャスティング成型法又は射出成型法に付すことを特徴とするウェハレベルレンズの製造方法を提供する。前記キャスティング成型法には、下記工程を含む同時成型法が含まれる。工程1:ウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を複数個のレンズ型が一定方向に整列した形状を有するウェハレベルレンズ金型に流し込み、加熱及び/又は光照射して硬化させる工程2:ウェハレベルレンズ金型を外してアニール処理を行い、ウェハレベルレンズが複数個結合した形状を有する硬化物を得る工程3:得られた硬化物を切断してウェハレベルレンズを得る前記キャスティング成型法には、下記工程を含む個片成型法も含まれる。工程1:ウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を1個のレンズ型を有するウェハレベルレンズ金型に流し込み、加熱及び/又は光照射して硬化させる工程2:ウェハレベルレンズ金型を外してアニール処理を行い、ウェハレベルレンズを得る前記射出成型法は、下記工程を含む方法が含まれる。工程1:ウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を射出成型用ウェハレベルレンズ金型に流し込み、加熱及び/又は光照射して硬化させる工程2:ウェハレベルレンズ金型を外してアニール処理を行い、バリを切除して、ウェハレベルレンズを得る本発明は、更に、前記ウェハレベルレンズの製造方法により得られるウェハレベルレンズを提供する。前記ウェハレベルレンズとしては、リフロー方式による実装向けレンズであることが好ましい。本発明のラジカル硬化性組成物は上記構成を有するため、ラジカル重合して形成されるウェハレベルレンズは、光学特性に優れ、且つ高温環境下に曝しても形状保持性に優れ、レンズの中心位置がずれることがない。そのため、前記ウェハレベルレンズを複数枚積層し接着することにより得られる接合レンズは極めて高い画素数を有する。また、本発明のラジカル硬化性組成物は、上記のように形状保持性に優れるため、高温環境下に曝してもレンズピッチにズレを生じることがなく、複数個結合したウェハレベルレンズを複数枚重ね合わせて切断しても、破損することなくウェハレベルレンズを分離することができる。そのため、ウェハレベルレンズを量産する同時成型法に好適に使用することができ、コストダウンにより安価にウェハレベルレンズを提供することができる。尚、本発明においてウェハレベルレンズとは、携帯電話等に使用されるカメラをウェハレベルで製造する際に使用されるレンズであり、そのサイズは、例えば、直径が、1~10mm程度、好ましくは3~5mm程度である。また、その厚みは、例えば、100~1500μm程度、好ましくは500~800μm程度である。[ラジカル硬化性化合物]本発明のウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物として下記ラジカル硬化性化合物Aを含有することを特徴とする。ラジカル硬化性化合物A本発明のラジカル硬化性化合物Aは前記式1で表される。式1中、R1は、単結合、水素原子の1個又は2個が炭素数1~5のアルキル基で置換されていてもよいメチレン基、スルホニル基、硫黄原子、又は酸素原子を示し、R2、R3は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。X、X’は、同一又は異なって、硫黄原子又は酸素原子を示す。R、R’は、同一又は異なって、炭素数1~5のアルキル基を示し、n、n’は、同一又は異なって、0又は1を示す。R1における、水素原子の1個又は2個が炭素数1~5のアルキル基で置換されていてもよいメチレン基としては、例えば、メチレン基、及び、水素原子の1個又は2個が、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル基等の直鎖状又は分岐鎖状のC15アルキル基から選択される基で置換されていてもよいメチレン基を挙げることができ、2個の水素原子が前記炭素数1~5のアルキル基で置換されている場合、2個の炭素数1~5のアルキル基はそれぞれ同一であっても良く異なっていても良い。水素原子の1個又は2個が炭素数1~5のアルキル基で置換されているメチレン基の具体例としては、ジメチルメチレン基、メチルメチレン基等を挙げることができる。R、R’は、同一又は異なって、炭素数1~5のアルキル基を示す。炭素数1~5のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル基等の直鎖状又は分岐鎖状のC15アルキル基等を挙げることができる。本発明においては、なかでも、n及びn’が0であることすなわち、式1中のベンゼン環がメタアクリロイルオキシ基若しくはメタアクリロイルチオ基以外に置換基を有さないこと、又は、n、n’の少なくとも一方が1でR、R’がメチル基であることすなわち、式1中のベンゼン環がメタアクリロイルオキシ基若しくはメタアクリロイルチオ基以外にメチル基を有することが好ましい。式1で表される化合物の代表的な例として、上記式1a~1xで表される化合物を挙げることができる。これらは1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。本発明のラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物Aとして、式1で表される化合物のなかでも、より高い貯蔵弾性率を有し高温環境下における形状保持性に優れ、より優れた光学特性特に、低アッベ数、透明性、高屈折率を有する硬化物を形成することができる点で、上記式1a~1f、1k、及び1lで表される化合物を含むことが好ましく、特に、入手が容易な点及び高い透明性を有する硬化物を形成することができる点で、上記式1a~1d、1k、及び1lで表される化合物最も好ましくは、上記式1b、1d、1lで表される化合物から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。ラジカル硬化性化合物Aの含有割合としては、ラジカル硬化性化合物の総量100重量に対し、例えば、10重量以上程度なかでも10~60重量程度、好ましくは10~50重量、特に好ましくは15~45重量、最も好ましくは20~40重量である。ラジカル硬化性化合物Aの含有割合が上記範囲を下回ると、ラジカル硬化性組成物を硬化して得られる硬化物の高温環境下での形状保持性が低下する傾向がある。本発明のラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物として上記ラジカル硬化性化合物A以外のラジカル硬化性化合物を含有していても良い。本発明のラジカル硬化性組成物としては、上記ラジカル硬化性化合物Aと共に、前記式2で表されるラジカル硬化性化合物Bを併用することが、ラジカル硬化性組成物を硬化して得られる硬化物により優れた光学特性特に、低アッベ数、透明性、高屈折率を付与することができる点で好ましい。ラジカル硬化性化合物B本発明のラジカル硬化性化合物Bは前記式2で表される。式2で表される化合物は1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。前記式2中、環Z1、環Z2は、同一又は異なって、芳香族炭素環を示し、R4、R6は、同一又は異なって、炭素数1~10のアルキレン基を示し、R5、R7は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。n1、n2は、同一又は異なって、0以上の整数を示す。式2において、フルオレン環、環Z1、環Z2は、置換基を有していてもよい。環Z1、環Z2における芳香族炭素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等の1~4環程度の芳香族炭素環が挙げられる。好ましい芳香族炭素環には、ベンゼン環、ナフタレン環等が含まれる。R4、R6におけるアルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン基等の炭素数1~10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。好ましいアルキレン基には、エチレン、プロピレン、トリメチレン基等の炭素数2~6のアルキレン基特に、炭素数2~3のアルキレン基が含まれる。n1、n2は、それぞれ、0以上の整数であり、0~4の整数が好ましく、より低粘度で流動性に優れる点で、1~4の整数が好ましい。式2において、フルオレン環、環Z1、環Z2が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル基等のアルキル基例えば、C16アルキル基、好ましくはメチル基;シクロペンチル、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基例えば、C58シクロアルキル基;フェニル、ナフチル基等のアリール基例えば、C615アリール基;ベンジル基等のアラルキル基例えば、C716アラルキル基;アセチル、プロピオニル、ベンゾイル基等のアシル基例えば、C110アシル基;メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ基等のアルコキシ基例えば、C16アルコキシ基;メトキシカルボニル、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基例えば、C14アルコキシ-カルボニル基;シアノ基;カルボキシル基;ニトロ基;アミノ基;置換アミノ基例えば、ジC14アルキルアミノ基等;フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。式2で表される化合物の代表的な例として、下記式2a、及び2bで表される化合物を挙げることができる。ラジカル硬化性化合物の総量100重量に対するラジカル硬化性化合物Bの含有割合としては、例えば、10~60重量程度、好ましくは15~55重量、特に好ましくは20~50重量、最も好ましくは25~45重量である。また、上記ラジカル硬化性化合物Aとラジカル硬化性化合物Bの配合比前者/後者重量比としては、例えば、1/0.2~1/4程度であり、好ましくは1/0.3~1/3、特に好ましくは1/0.5~1/2である。ラジカル硬化性化合物Bを上記の範囲で含有することにより、高温環境下における形状保持性を低下させることなく、より優れた光学特性[特に、低アッベ数例えば35以下、特に30以下、優れた透明性、高屈折率]を付与することができる。ラジカル硬化性化合物Bの含有割合が上記範囲を上回ると、ラジカル硬化性組成物の流動性が低下して金型への充填が困難となり、成型作業性が低下する傾向がある。また、高温環境下における形状保持性が低下する傾向がある。一方、ラジカル硬化性化合物Bの含有割合が上記範囲を下回ると、光学特性の向上効果が得られにくくなる傾向がある。他のラジカル硬化性化合物本発明のラジカル硬化性組成物には、ラジカル硬化性化合物として上記ラジカル硬化性化合物Aとラジカル硬化性化合物B以外にも他のラジカル硬化性化合物を含有してもよい。他のラジカル硬化性化合物としては、ウェハレベルレンズの原料として用いられるラジカル硬化性基ラジカル重合性基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、メタアクリロイル基やビニル基等を有する広範なラジカル硬化性化合物を使用することができる。前記他のラジカル硬化性化合物としては、例えば、分子内に芳香環を有するラジカル硬化性化合物であって上記ラジカル硬化性化合物Aとラジカル硬化性化合物B以外のもの以下、単に芳香環を有するラジカル硬化性化合物と称する場合がある、分子内に脂環脂肪族環状骨格を有するラジカル硬化性化合物以下、単に脂環を有するラジカル硬化性化合物と称する場合がある、分子内に鎖状の脂肪族基を有するラジカル硬化性化合物以下、単に鎖状の脂肪族基を有するラジカル硬化性化合物と称する場合があるなどが挙げられる。前記芳香環を有するラジカル硬化性化合物において、芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、スチルベン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環などが挙げられる。芳香環としては、芳香族炭素環、芳香族複素環等の何れであってもよいが、少なくとも芳香族炭素環を含むものが好ましい。前記芳香環を有するラジカル硬化性化合物としては、芳香環を有するメタアクリル酸エステル、芳香環を有するビニル化合物などが挙げられる。芳香環を有するメタアクリル酸エステル、芳香環を有するビニル化合物としては、例えば、分子内に1個のメタアクリロイルオキシ基を有するメタアクリル酸エステル、分子内に1個のビニル基を有するビニル化合物や、分子内に2個以上のメタアクリロイルオキシ基を有する多官能のメタアクリル酸エステル、分子内に2個以上のビニル基を有する多官能のビニル化合物を挙げることができる。芳香環を有するメタアクリル酸エステルとしては、芳香環とメタアクリロイルオキシ基が直接結合していることが、高い貯蔵弾性率を維持することができる点で好ましい。芳香環を有するメタアクリル酸エステルの代表的な例として、例えば、ベンジルアクリレート、ビスフェノールS等のビスフェノール類のメタアクリル酸エステル;前記ビスフェノール類のエチレンオキシド及び/又はプロピレンオキシドの付加体のメタアクリル酸エステル;ビフェノールの2つのヒドロキシル基にメタアクリロイルオキシ基が結合しているメタアクリル酸エステル等が挙げられる。芳香環を有するビニル化合物の代表的な例としては、例えば、ジビニルベンゼン等を挙げることができる。前記脂環を有するラジカル硬化性化合物としては、分子内に脂環を有するメタアクリル酸エステルなどが挙げられる。分子内に脂環を有するメタアクリル酸エステルとしては、分子内に脂環とメタアクリロイルオキシ基とを有する化合物であれば特に限定されない。分子内に脂環を有するメタアクリル酸エステルは芳香環を有しないことが好ましい。分子内に脂環を有するメタアクリル酸エステルとしては、分子内にメタアクリロイルオキシ基を2以上有する多官能のメタアクリル酸エステルが好ましい。上記脂環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロオクタン環、シクロドデカン環などの単環の脂環3~15員、好ましくは5~6員程度のシクロアルカン環等;デカリン環パーヒドロナフタレン環、パーヒドロインデン環ビシクロ[4.3.0]ノナン環、パーヒドロアントラセン環、パーヒドロフルオレン環、パーヒドロフェナントレン環、パーヒドロアセナフテン環、パーヒドロフェナレン環、ノルボルナン環ビシクロ[2.2.1]ヘプタン環、イソボルナン環、アダマンタン環、ビシクロ[3.3.0]オクタン環、トリシクロ[5.2.1.026]デカン環、トリシクロ[6.2.1.027]ウンデカン環などの多環2~4環程度の脂環橋架け炭素環などが挙げられる。分子内に脂環を有するメタアクリル酸エステルにおいて、脂環とメタアクリロイルオキシ基は直接結合していてもよく、連結基を介して結合していてもよい。連結基としては、例えば、2価の炭化水素基、カルボニル基-CO-、エーテル結合-O-、エステル結合-COO-、アミド結合-CONH-、カーボネート結合-OCOO-、及びこれらが複数個結合した基等が挙げられる。2価の炭化水素基としては、メチレン、エチリデン、イソプロピリデン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン基等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基例えば、C110アルキレン基、好ましくはC16アルキレン基;1,2-シクロペンチレン、1,3-シクロペンチレン、シクロペンチリデン、1,2-シクロへキシレン、1,3-シクロへキシレン、1,4-シクロへキシレン、シクロヘキシリデン基などの2価の脂環式炭化水素基特に、2価のシクロアルキレン基;これらが複数個結合した基などが例示される。分子内に脂環を有するメタアクリル酸エステルの代表的な例として、例えば、1,4-シクロヘキサンジオールジメタアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールジメタアクリレート、ビシクロ[2.2.1]ヘプタンジメタノールジメタアクリレート、1,3-アダマンタンジオールジメタアクリレート、1,3-アダマンタンジメタノールジメタアクリレート、トリシクロ[5.2.1.026]デカンジメタノールジメタアクリレートなどの多官能のメタアクリル酸エステル;シクロヘキシルメタアクリレート、シクロヘキサンメタノールメタアクリレート、1-アダマンタノールメタアクリレート、1-アダマンタンメタノールメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、トリシクロ[5.2.1.026]デカンメタノールメタアクリレート[=ジシクロペンタニルメタアクリレート]、ジシクロペンタニルオキシエチルメタアクリレートなどの単官能のメタアクリル酸エステルが挙げられる。前記鎖状の脂肪族基を有するラジカル硬化性化合物としては、分子内にアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基等の鎖状の脂肪族基例えば、炭素数1~20程度、好ましくは炭素数1~12程度の脂肪族基を有するメタアクリル酸エステルなどが挙げられる。分子内に鎖状の脂肪族基を有するメタアクリル酸エステルの代表的な例として、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどの多官能のメタアクリル酸エステル;メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、エチレングリコールメタアクリレート、プロピレングリコールメタアクリレートなどの単官能のメタアクリル酸アルキルエステルなどが挙げられる。他のラジカル硬化性化合物としては、なかでも、3官能以上のメタアクリル酸エステル例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレートなどから選択される化合物、特に好ましくは4官能以上のメタアクリル酸エステル、最も好ましくは6官能以上のメタアクリル酸エステルを単独で、又は2種以上組み合わせて使用することが、架橋密度を向上させることにより高温環境下における形状保持性を一層向上することができる点で好ましい。ラジカル硬化性化合物の総量100重量に対する他のラジカル硬化性化合物としての3官能以上のメタアクリル酸エステルの含有割合2種以上含有する場合はその総量は、例えば、45重量以下程度、なかでも40重量以下、好ましくは35重量以下、特に好ましくは5~35重量、最も好ましくは5~20重量である。前記範囲内で添加することにより、光学特性を低下させることなく、高温環境下における形状保持性をより向上することができる。また、他のラジカル硬化性化合物として、単官能のメタアクリル酸アルキルエステル例えば、ベンジルアクリレート等の分子内に1個のメタアクリロイルオキシ基を有するメタアクリル酸エステルや、分子内に1個のビニル基を有するビニル化合物等や、2官能のメタアクリル酸エステルのうち、25°Cにおける粘度が200mPas以下程度、なかでも100mPas以下程度、特に50mPas以下程度である化合物は、単独で、又は2種以上組み合わせて、希釈剤として使用することができる。これらは、上記ラジカル硬化性化合物A特に、上記式1a及び/又は1bで表される化合物と混合すると、該ラジカル硬化性化合物Aを溶解し、ラジカル硬化性組成物の粘度を著しく低下させることができ、作業し易い流動性を付与することができる。ラジカル硬化性化合物の総量100重量に対する他のラジカル硬化性化合物としての単官能のメタアクリル酸アルキルエステル及び/又は2官能のメタアクリル酸エステルの含有割合2種以上含有する場合はその総量は、例えば、45重量以下程度、なかでも40重量以下、好ましくは30重量以下、特に好ましくは5~30重量、最も好ましくは5~20重量である。前記範囲内で添加することにより、高温環境下における形状保持性、及び光学特性を低下させることなく、ラジカル硬化性組成物の流動性をより向上することができる。黄変抑制剤本発明のラジカル硬化性組成物は、上記ラジカル硬化性化合物の他に黄変抑制剤を含有することが好ましい。前記黄変抑制剤としては、例えば、チオール化合物、ジチオール化合物、スルフィド化合物、ジスルフィド化合物等の有機硫黄化合物等が挙げられる。これらの黄変抑制剤を配合することにより、本発明のラジカル硬化性組成物を硬化して得られる硬化物の高温下における黄変を抑制することができる。一般に、芳香環を有するラジカル硬化性化合物の硬化物を高温下におくと、発生した過酸化物により硬化物を形成するポリマー鎖にラジカルが発生する。このラジカルがポリマー鎖の水素原子を引き抜いて共役不飽和結合を形成し、この共役不飽和結合により黄変が生じることがある。本発明のラジカル硬化性組成物に前記有機硫黄化合物を配合すると、有機硫黄化合物が高温下で発生した過酸化物を捕獲すると共に、ポリマー鎖に形成された共役不飽和結合とエンチオール反応をして、共役不飽和結合を消滅させる働きを有する。そのため、高温下での樹脂の黄変を効果的に抑制することができるものと推測される。また、チオール化合物等の有機硫黄化合物から発生するラジカルは電子吸引性ラジカルであり、ラジカル硬化重合に関与するラジカル種も同様に電子吸引性ラジカルである。一般的に、電子吸引性ラジカル同士の連鎖移動能は高くないため、チオール化合物等の有機硫黄化合物を用いる場合は、フェノール性酸化防止剤等を黄変防止剤として使用する場合とは異なって、ラジカル硬化重合の阻害が防止されるものと推測される。そのため、硬化反応が円滑に進行するとともに、優れた耐黄変性が発揮され、例えば260°C程度の高温下に曝しても黄変の度合いを極めて小さく抑制することができる硬化物を形成できる。前記有機硫黄化合物としては、ラジカル硬化性組成物モノマー組成物を架橋、硬化させる際に、揮発や発泡を生ずることが無く、樹脂硬化物に含まれたまま短時間の高温加熱処理であるリフロー工程での加熱によって揮発や発泡し難いものが好ましく、例えば沸点100°C以上、さらに好ましくは沸点150°C以上、最も好ましいものは沸点180°C以上のものが好ましい。また、得られる硬化物の光学特性等の点から、ラジカル硬化性化合物との相溶性が高く、均一なラジカル硬化性組成物が得られるものが好ましい。なお、本明細書において、単に沸点とあるときは、常圧での沸点を意味する。チオール化合物としては、例えば、1-ヘキサンチオール沸点150°C、1-ヘプタンチオール沸点177°C、1-オクタンチオール沸点200°C、tert-オクタンチオール沸点156°C、1-ノナンチオール、1-デカンチオール沸点241°C、1-ウンデカンチオール沸点104°C/3mmHg、1-ドデカンチオール沸点143°C/16mmHg、1-テトラデカンチオール沸点310°C、1-ヘキサデカンチオール、1-オクタデカンチオール等の炭素数6~30程度好ましくは炭素数6~20程度の直鎖状又は分岐鎖状のアルカンチオール等が挙げられる。ジチオール化合物としては、例えば、1,4-ブタンジチオール沸点195°C、2,3-ブタンジチオール沸点87°C/50mmHg、1,5-ペンタンジチオール108°C/15mmHg1,6-ヘキサンジチオール沸点237°C、1,7-ヘプタンジチオール、1,8-オクタンジチオール、1,9-ノナンジチオール、1,10-デカンジチオール沸点297°C、1,12-ドデカンジチオール、1,14-テトラデカンジチオール、1,16-ヘキサデカンジチオール、1,18-オクタデカンジチオール等の炭素数4~30程度好ましくは炭素数4~20程度の直鎖状又は分岐鎖状のアルカンジチオール等が挙げられる。スルフィド化合物としては、ジヘキシルスルフィド沸点260°C、ジヘプチルスルフィド沸点298°C、ジオクチルスルフィド沸点309°C、ジデシルスルフィド沸点217°C/8mmHg、ジドデシルスルフィド、ジテトラデシルスルフィド、ジヘキサデシルスルフィド、ジオクタデシルスルフィド等の炭素数6~40程度好ましくは炭素数10~40程度の直鎖状又は分岐鎖状のジアルキルスルフィドアルキルスルフィド;ジフェニルスルフィド沸点296°C、フェニル-p-トリルスルフィド沸点312°C、4,4-チオビスベンゼンチオール沸点148°C/12mmHg等の炭素数12~30程度の芳香族スルフィド;3,3′-チオジプロピオン酸沸点409°C、4,4′-チオジブタン酸等のチオジカルボン酸等が挙げられる。これらの中でも、ジアルキルスルフィドが好ましい。ジスルフィド化合物としては、例えば、ジプロピルジスルフィド沸点193°C、ジイソプロピルジスルフィド沸点177°C、ジブチルジスルフィド沸点226°C、ジイソブチルジスルフィド109°C/13mmHg、ジ-tert-ブチルジスルフィド沸点142°C/17mmHg、ジヘキシルジスルフィド沸点229°C、ジヘプチルジスルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジデシルジスルフィド沸点208°C/2mmHg、ジドデシルジスルフィド、ジテトラデシルジスルフィド、ジヘキサデシルジスルフィド、ジオクタデシルジスルフィド等の炭素数4~40程度好ましくは炭素数6~40程度の直鎖状又は分岐鎖状のジアルキルジスルフィド等が挙げられる。これらの有機硫黄化合物の中でも、黄変抑制効果の点で、チオール化合物、ジチオール化合物、ジスルフィド化合物が好ましく、特に、チオール化合物、ジスルフィド化合物が好ましい。上記有機硫黄化合物の使用量は、本発明のラジカル硬化性化合物の硬化性を損なわない範囲内で使用することができ、有機硫黄化合物の種類によっても異なるが、例えば、ラジカル硬化性化合物の総量100重量部に対して、0.05~10重量部、好ましくは0.1~5重量部、さらに好ましくは0.2~3重量部程度である。有機硫黄化合物の量が多すぎると、ラジカル硬化性化合物の硬化性を損なう場合がある。一方、有機硫黄化合物の量が少なすぎると、硬化物の黄変抑制効果が得られにくくなる。その他、黄変抑制剤として上記有機硫黄化合物と共に酸化防止剤を併用してもよい。酸化防止剤の使用量としては、例えば、ラジカル硬化性化合物の総量又は、ラジカル硬化性組成物の総量100重量部に対して、0.05~5重量部、好ましくは0.1~3重量部程度である。酸化防止剤の使用量が上記範囲を上回ると、ラジカル硬化重合が阻害される場合がある。ラジカル重合開始剤本発明のラジカル硬化性組成物は、また、ラジカル重合開始剤を含有することが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、公知慣用の熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤等のラジカル重合を起こし得るものを特に限定することなく使用することができる。前記熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、ハイドロパーオキサイド類、ジアルキルパーオキサイド類、パーオキシエステル類、ジアシルパーオキアイド類、パーオキシジカーボネート類、パーオキシケタール類及びケトンパーオキサイド類等の有機過酸化物等を挙げることができる。熱ラジカル重合開始剤のうち、アゾ系ラジカル重合開始剤等のラジカルの発生に伴い気体成分を発生する化合物は、硬化物に気泡を残存させるため好ましくない。熱ラジカル重合開始剤の具体例として、例えば、t-ヘキシルパーオキシネオデカノエート[商品名パーヘキシルND、日本油脂株製]、t-ブチルパーオキシネオデカノエート[商品名パーブチルND、日本油脂株製]、t-ブチルパーオキシネオヘプタノエート[商品名パーブチルNHP、日本油脂株製]、t-ヘキシルパーオキシピバレート[商品名パーヘキシルPV、日本油脂株製]、ジ3,5,5-トリメチルヘキサノイルパーオキサイド[商品名パーロイル355、日本油脂株製]、ジラウロイルパーオキサイド[商品名パーロイルL、日本油脂株製]、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート[商品名パーオクタO、日本油脂株製]、ジスクシン酸パーオキサイド[商品名パーロイルSA、日本油脂株製]、2,5-ジメチル-2,5-ジ2-エチルヘキサノイルパーオキシヘキサン[商品名パーヘキサ250、日本油脂株製]、t-ヘキシルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート[商品名パーヘキシルO、日本油脂株製]、ジ4-メチルベンゾイルパーオキサイド[商品名ナイパーPMB、日本油脂株製]、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート[商品名パーブチルO、日本油脂株製]、ジベンゾイルパーオキサイド[商品名ナイパーBW、日本油脂株製]、1,1-ジt-ブチルパーオキシ-2-メチルシクロヘキサン[商品名パーヘキサMC、日本油脂株製]、1,1-ジt-ヘキシルパーオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン[商品名パーヘキサTMH、日本油脂株製]、1,1-ジt-ヘキシルパーオキシシクロヘキサン[商品名パーヘキサHC、日本油脂株製]、1,1-ジt-ブチルパーオキシシクロヘキサン[商品名パーヘキサC、日本油脂株製]、2,2-ジ4,4-ジt-ブチルパーオキシシクロヘキシルプロパン[商品名パーテトラA、日本油脂株製]、t-ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート[商品名パーヘキシルI、日本油脂株製]、t-ブチルパーオキシラウレート[商品名パーブチルL、日本油脂株製]、t-ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート[商品名パーブチルI、日本油脂株製]、2,5-ジメチル-2,5-ジベンゾイルパーオキシヘキサン[商品名パーヘキサ25Z、日本油脂株製]、t-ブチルパーオキシアセテート[商品名パーブチルA、日本油脂株製]、2,2-ジ-t-ブチルパーオキシブタン[商品名パーヘキサ22、日本油脂株製]等が挙げられる。前記光ラジカル重合開始剤は、紫外線照射により分解して発生するラジカルによってラジカル重合を開始させる化合物である。光ラジカル重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、カルバゾール、キサントン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、1,1-ジメトキシデオキシベンゾイン、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、チオキサントン系化合物、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノ-プロパン-2-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン、トリフェニルアミン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリ-メチルペンチルフォスフィンオキサイド、ベンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、3-メチルアセトフェノン、3,3’,4,4’-テトラt-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノンBTTB、およびBTTBとキサンテン、チオキサンテン、クマリン、ケトクマリンその他の色素増感剤との組み合わせ等を挙げることができる。上記の中でも、ベンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン商品名Irgacure184、BASF社製、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド商品名DarocureTPO、BASF社製、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン等が特に好ましい。ラジカル重合開始剤の配合量としては、ラジカル硬化性化合物の総量100重量に対して、例えば0.05~10重量、好ましくは0.1~5重量、さらに好ましくは0.5~2重量である。ラジカル重合開始剤は1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。他の成分本発明のラジカル硬化性組成物は、上記のラジカル硬化性化合物、黄変抑制剤、ラジカル重合開始剤のほか、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、カチオン硬化性化合物、カチオン重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、各種添加剤が挙げられる。カチオン硬化性化合物としては、例えば、芳香環を有するエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等具体的には、エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ化合物、ビスアリールフルオレン骨格を有するエポキシ化合物等を挙げることができる。カチオン硬化性化合物を配合することにより、組成物の粘度を下げたり、硬化物の硬化収縮を抑制することができる。カチオン硬化性化合物の配合量は、本発明のラジカル硬化性組成物全体に対して、例えば、0~50重量例えば5~50重量、好ましくは0~30重量例えば5~30重量、さらに好ましくは0~15重量程度である。また、カチオン硬化性化合物を添加する場合には、さらに、分子内にラジカル硬化性基とカチオン硬化性基とを有する硬化性化合物を用いてもよい。これらの化合物を併用することにより、硬化物の耐熱性を向上させることができる。分子内にラジカル硬化性基とカチオン硬化性基とを有する硬化性化合物としては、例えば、脂環エポキシ基を有するメタアクリル酸エステル、グリシジル基を有するメタアクリル酸エステル等の分子内にエポキシ基を有するメタアクリル酸エステル等が挙げられる。カチオン重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤は、本発明のラジカル硬化性組成物にカチオン硬化性化合物を配合する場合に用いられる。カチオン重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤としては、公知乃至慣用のものを使用できる。前記添加剤としては、例えば、オルガノシロキサン化合物、金属酸化物粒子、ゴム粒子、シリコーン系やフッ素系の消泡剤、シランカップリング剤、充填剤、可塑剤、レベリング剤、帯電防止剤、離型剤、難燃剤、着色剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、イオン吸着体、顔料等を挙げることができる。これら各種の添加剤の配合量はラジカル硬化性組成物全体に対して、例えば5重量以下程度である。本発明のラジカル硬化性組成物は溶媒を含んでいてもよいが、あまり多いと硬化物に気泡が生じる場合があるので、好ましくはラジカル硬化性組成物全体に対して10重量以下程度、特に好ましくは1重量以下程度である。本発明のラジカル硬化性組成物は、例えば、所定量のラジカル硬化性化合物、必要に応じて、黄変抑制剤、ラジカル重合開始剤、他の成分を配合し、必要に応じて例えば真空下で気泡を排除しつつ、撹拌混合することにより調製される。撹拌混合する際の温度は、例えば、10~60°C程度である。撹拌混合には、公知の装置、例えば、自転公転型ミキサー、1軸又は多軸エクストルーダー、プラネタリーミキサー、ニーダー、ディソルバー等を使用できる。本発明のラジカル硬化性組成物は上記構成を有するため、本発明のラジカル硬化性組成物を150°Cで30分加熱して得られる硬化物は優れた耐熱性を示し、160°Cにおける貯蔵弾性率は、例えば0.1×109Pa以上、好ましくは0.3×109~10×109Pa、特に好ましくは0.5×109~4.0×109Pa、最も好ましくは0.8×109~2.0×109Paである。更に、本発明のラジカル硬化性組成物の硬化物は光学特性に優れ、400nmにおける内部透過率は、例えば40以上、好ましくは50以上、特に好ましくは80以上、最も好ましくは85以上である。また、屈折率は、例えば1.58以上、好ましくは1.60以上、特に好ましくは1.61以上である。アッベ数は、例えば35以下、特に好ましくは30以下である。[ウェハレベルレンズの製造方法]本発明のウェハレベルレンズの製造方法としては、上記ラジカル硬化性組成物をキャスティング成型法又は射出成型法に付すことを特徴とする。キャスティング成型法としては、例えば下記同時成型法や個片成型法を挙げることができる。また、射出成型法としては、例えば下記方法が挙げられる。尚、ウェハレベルレンズ金型は、金属製、ガラス製、又はプラスチック製の何れであっても良い。同時成型法工程1:上記ラジカル硬化性組成物を複数個のレンズ型が一定方向に整列した形状を有するウェハレベルレンズ金型に流し込み、加熱及び/又は光照射して硬化させる工程2:ウェハレベルレンズ金型を外してアニール処理を行い、ウェハレベルレンズが複数個結合した形状を有する硬化物を得る工程3:得られた硬化物を切断してウェハレベルレンズを得る個片成型法工程1:上記ラジカル硬化性組成物を1個のレンズ型を有するウェハレベルレンズ金型に流し込み、加熱及び/又は光照射して硬化させる工程2:ウェハレベルレンズ金型を外してアニール処理を行い、ウェハレベルレンズを得る射出成型法工程1:上記ラジカル硬化性組成物を射出成型用ウェハレベルレンズ金型に流し込み、加熱及び/又は光照射して硬化させる工程2:ウェハレベルレンズ金型を外してアニール処理を行い、バリを切除して、ウェハレベルレンズを得るラジカル硬化性組成物の硬化は、加熱処理及び/又は光照射により行われる。加熱処理を行う場合、その温度としては、反応に供する成分や触媒の種類等に応じて適宜調整することができ、例えば100~200°C、好ましくは120~160°C程度である。光照射を行う場合、その光源としては、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ、メタルハライドランプ、太陽光、電子線、レーザー光等を使用することができる。また、光照射後、例えば50~180°C程度の温度で加熱処理を施してラジカル重合反応を進行させてもよい。アニール処理は、例えば100~200°Cの温度で30分~1時間程度加熱することにより行われる。上記同時成型法においては、ラジカル硬化性組成物は低粘度で流動性に優れることが、金型への充填性に優れる点で好ましい。上記同時成型法において使用されるラジカル硬化性組成物の25°Cにおける粘度としては、例えば3600mPas以下、好ましくは2500mPas以下、特に好ましくは2000mPas以下、最も好ましくは1500mPas以下である。ラジカル硬化性組成物の粘度を上記範囲に調整することにより、流動性が向上し、気泡が残存しにくくなり、注入圧の上昇を抑制しつつ金型への充填を行うことができる。すなわち、塗布性及び充填性を向上することができ、ラジカル硬化性組成物の成型作業全体に亘り、作業性を向上させることができる。本発明のラジカル硬化性組成物の硬化物は100~200°C程度の高温環境下でも優れた耐熱性を有し、形状保持性に優れる。そのため、金型から外した後にアニール処理を施しても、優れたレンズ中心位置精度を有するウェハレベルレンズを効率よく製造することができる。レンズ中心位置精度としては、レンズ中心位置のズレが、例えば、±2μm以下程度、好ましくは±1μm以下程度である。本発明のウェハレベルレンズの製造方法で得られるウェハレベルレンズは、複数枚積層して接着することにより極めて高い画素数を有し、光学特性に優れる接合レンズを形成することができる。また、本発明のラジカル硬化性組成物の硬化物は上記のように高温環境下でも優れた形状保持性有するため、アニール処理を施してもレンズピッチにズレを生じることがなく、上記同時成型法の工程3では、硬化物を複数枚重ね、最上部の硬化物を基準に切断ラインの位置を決定して切断することにより、複数のウェハレベルレンズを破損することなく分離させることができ、コストの削減及び作業の効率化が可能である。本発明のウェハレベルレンズの製造方法により得られるウェハレベルレンズは、優れた耐熱性、及び光学特性を有し、高温環境下に曝しても優れた形状保持性を発揮することができ、且つ優れた光学特性を維持することができる。そのため、例えば、カメラ車載カメラ、デジタルカメラ、PC用カメラ、携帯電話用カメラ、監視カメラ等の撮像用レンズ、メガネレンズ、光ビーム集光レンズ、光拡散用レンズ等として好適に使用することができる。更にまた、本発明のウェハレベルレンズの製造方法で得られるウェハレベルレンズは、回路基板に実装する場合、リフローによって半田付け実装が可能である。そのため、本発明のウェハレベルレンズを使うカメラモジュールは、携帯電話等のPCBPrintedCircuitBoard基盤上に、他の電子部品の表面実装と同一の半田リフロープロセスにて、直接、非常に効率良く実装することができ、極めて効率的な製品製造が可能となる。以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。調製例1OSOM=ビス4-メタクリロイルオキシフェニルスルフィドの調製ビス4-ヒドロキシフェニルスルフィドを10重量濃度に希釈して得られたトルエン溶液に、トリエチルアミン1.3当量を加え、0~5°Cに冷却した後に、メタクリル酸クロライド1.1当量を0~5°Cの範囲で滴下して反応させた。メタクリル酸クロライドの滴下終了後、更に1時間程度常温にて撹拌した後に、副生した塩を除去する目的で塩酸水溶液を使用して抽出し、得られたトルエン層を分取して、更に副生したメタクリル酸を除去する目的で炭酸水素ナトリウム水溶液を使用して抽出した。その後、トルエン層から減圧下でトルエンを留去し、得られた濃縮液をカラム精製に付して、下記式1lで表されるビス4-メタクリロイルオキシフェニルスルフィドを得た一貫収率:58。調製例2M-OSOM=ビス4-メタクリロイルオキシ-3-メチルフェニルスルフィドの調製ビス4-ヒドロキシフェニルスルフィドに代えて、ビス4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルスルフィドを使用した以外は調製例1と同様にして、ビス4-メタクリロイルオキシ-3-メチルフェニルスルフィドを得た一貫収率:55。実施例1~11、比較例1~2下記表1に記載の各成分を配合組成数値は重量部に従って配合し、室温で自転公転型ミキサーで撹拌混合することにより均一で透明なラジカル硬化性組成物を得た。得られたラジカル硬化性組成物の粘度は、レオメーター商品名PHYSICAUDS200、PaarPhysica社製を使用し、25°C、回転速度D=20/s時点の粘度mPasを測定した。表1中の略語について説明する。[ラジカル硬化性化合物]B1662:下記式1bで表されるビス4-メタクリロイルチオフェニルスルフィド、製品コードB1662、東京化成工業株製Bis-Aジメタクリレート:下記式1dで表されるビスフェノールAジメタクリレートOSOM:調製例1で得られたビス4-メタクリロイルオキシフェニルスルフィドM-OSOM:調製例2で得られた下記式1pで表されるビス4-メタクリロイルオキシ-3-メチルフェニルスルフィドEA-F5503:ベンジルアクリレートで希釈された下記式2aで表される化合物下記式2aで表される化合物を73重量、ベンジルアクリレートを27重量含有、商品名オグソールEA-F5503、大阪ガスケミカル株製EA-0200:下記式2bで表される化合物を95重量含有、商品名オグソールEA-0200、大阪ガスケミカル株製A-LEN-10:下記式3aで表される化合物、商品名A-LEN-10、新中村化学株製DPHA:下記式3bで表されるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、商品名DPHA、ダイセルサイテック株製IRR-214K:下記式3cで表されるトリシクロ[5.2.1.026]デカンジメタノールジアクリレート、商品名IRR-214K、ダイセルサイテック株製[熱ラジカル重合開始剤]パーヘキサC-80:1,1-ジt-ブチルパーオキシシクロヘキサンを80重量含有する、商品名パーヘキサC-80、日本油脂株製[光ラジカル重合開始剤]Irgacure184:1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、商品名Irgacure184、BASF社製DarocurTPO:2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド、商品名DarocurTPO、BASF社製[黄変抑制剤]ドデカンチオールIRGANOX1010:ヒンダードフェノール系酸化防止剤、商品名IRGANOX1010、BASF社製SumilizerGP:フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤の混合物、商品名SumilizerGP、住友化学株製次いで、実施例及び比較例で得られたラジカル硬化性組成物を、下記加熱処理方法又はUV照射方法により硬化して硬化物を得た。なお、レンズ位置ずれ評価用サンプルの作製においては、金型中央に7個の非球面のレンズ形状がある金型を用い、その他の評価用サンプルにおいては、レンズ形状がない平面の金型を用いた。<加熱処理方法>インプリント成型機商品名NANOIMPRINTERNM-0501、明昌機工株製を用い下記の成型プロファイルにて、厚み0.5mmで硬化成型し、80°Cまで冷却した後に離型し、更に予め160°Cに熱したオーブンで30分間加熱してアニール処理を行って硬化物を得たそれぞれ5個ずつ。成型プロファイル:25°Cで硬化性組成物を金型に塗布し、その後、所定の厚みまでプレス軸位置を調整して金型をプレスし、150°Cまで20°C/分で昇温した後、更に150°Cにて5分間保持する<UV照射方法>インプリント成型機商品名NANOIMPRINTERNM-0501、明昌機工株製を用い下記の成型プロファイルにて、厚み0.5mmで硬化成型、次いで離型し、更に予め160°Cに熱したオーブンで30分間加熱してアニール処理を行って硬化物を得たそれぞれ5個ずつ。成型プロファイル:25°Cで硬化性組成物を金型に塗布し、その後、所定の厚みまでプレス軸位置を調整して金型をプレスし、UV照射を行う得られた硬化物について、以下の評価を行った。[レンズ位置ずれ]得られた硬化物成型品上に形成されたレンズ7個の中心位置を、それぞれ、画像寸法測定器商品名IM6020、株キーエンス製にて測定し、金型設計値からのレンズの中心位置ずれを測定し、その平均値を算出した。[ガラス転移温度:Tg]硬化物のガラス転移温度は、示差走査熱量測定装置商品名Q2000、TAInstruments社製を用い、事前処理-50°Cから250°Cまで20°C/分で昇温し、続いて250°Cから-50°Cまで-20°C/分で降温を行った後に、昇温速度20°C/分、測定温度範囲-50°C~250°Cで測定した。[線膨張係数]硬化物の線膨張係数は、TMA測定装置商品名TMA/SS100、エスアイアイナノテクノロジー社製を用い、昇温速度5°C/min、測定温度範囲30°C~250°Cで熱膨張率を測定し、低温側の直線の勾配を線膨張係数として表した。また、α1はガラス転移温度以下での線膨張係数ppm/°C、α2はガラス転移温度以上での線膨張係数ppm/°Cである。[貯蔵弾性率]硬化物の25°C、及び160°Cにおける貯蔵弾性率GPaを、JIS724-1~JIS724-7に準拠した動的粘弾性測定法下記測定条件によるにより求めた。<測定条件>測定装置:固体粘弾性測定装置RSA-III/TAInstruments社製雰囲気:窒素温度範囲:-30°C~270°C昇温速度:5°C/min[内部透過率]硬化物の内部透過率は、下記式によって算出した。400nmにおける内部透過率=400nmにおける光線透過率/1-r2r={n-1n1}2400nmにおける光線透過率は分光光度計株日立ハイテクノロジーズ製、商品名U-3900を用いて測定した。nは400nmにおける屈折率であり、下記方法で測定した400nmにおける屈折率の値を用いた。450nmにおける内部透過率も、上記に準じて算出した。[屈折率]硬化物の屈折率は、JISK7142に準拠した方法で、屈折率計商品名Model2010、メトリコン社製を用いて、25°Cにおける589nmの屈折率を測定した。[アッベ数]硬化物のアッベ数は下の式によって算出した。アッベ数=nd-1/nf-nc式中、ndは589.2nmにおける屈折率、nfは486.1nmにおける屈折率、ncは656.3nmにおける屈折率を示す。なお、屈折率は、上記方法で測定した各波長における屈折率の値を用いた。[黄変率]硬化物を、シンアペック社製卓上リフロー炉を使用して、JEDEC規格記載のリフロー温度プロファイル最高温度:270°Cに基づく耐熱性試験を連続して3回行った後、上記方法により400nm、及び450nmにおける内部透過率及び屈折率を測定し、耐熱性試験後における内部透過率を求め、耐熱性試験前後の内部透過率の変化から、黄変率を下記式により求めた。黄変率={耐熱性試験前の内部透過率-耐熱性試験後の内部透過率}/耐熱性試験前の内部透過率×100上記評価結果を下記表にまとめて示す。"