周期的な表面凹凸構造が形成された透明基板と、前記透明基板面上に設けられ、前記表面凹凸構造とは異なる周期的な表面形状パターンを形成する金属膜とを備え、前記金属膜による反射光においては、前記表面凸凹構造及び前記表面形状パターンに応じた回折光が発生し、前記透明基板を透過する光においては、前記金属膜の表面形状パターンに応じた回折光が発生することを特徴とする回折格子。前記透明基板と前記金属膜の間に、光または電子線などのエネルギービーム照射によりその硬さが変化する有機材料からなる有機材料層が形成されており、前記有機材料層は、前記透明基板の表面凹凸構造とは異なるように前記エネルギービーム照射により形成された周期的な硬度変化のパターンを有し、前記金属膜の表面形状パターンは、前記有機材料層の硬度変化のパターンに従って形成されたものである請求項1に記載の回折格子。透明基板と、前記透明基板面上に設けられ、周期的な表面形状パターンを形成する金属膜と、前記金属膜の表面形状パターンとは異なる周期的な光吸収変化パターンを有する光吸収層とを備え、前記金属膜による反射光においては、前記表面形状パターンに応じた回折光が発生し、前記透明基板を透過する光においては、前記表面形状パターン及び光吸収変化パターンに応じた回折光が発生することを特徴とする回折格子。前記透明基板と前記金属膜の間に、光または電子線などのエネルギービーム照射によりその硬さと光吸収が変化する有機材料からなる有機材料層が形成されており、前記有機材料層は、前記エネルギービーム照射により形成された周期的な硬度変化のパターンを有し、前記金属膜の表面形状パターンは、前記有機材料層の硬度変化のパターンに従って形成されたものであり、前記有機材料層は、前記硬度変化のパターンとは別に、前記硬度変化のパターンとは異なるパターンの周期的な光吸収変化パターンを有する請求項3に記載の回折格子。周期的な表面凹凸構造が形成されている透明基板上に、光または電子線などのエネルギービーム照射により異性化してその硬さが変化する有機材料層を形成する工程と、前記有機材料層に対し前記エネルギービームを照射して前記表面凹凸構造のパターンとは異なる周期的な硬度変化のパターンを形成する工程と、シャドウマスクを用いない真空蒸着を行って金属膜を成膜することにより、前記周期的な硬度変化のパターンに対応したパターンを有するとともに、前記透明基板の前記表面凹凸構造に対応した表面凹凸構造を有する金属膜パターンを形成する工程とを有する回折格子の製造方法。透明基板上に、光または電子線などのエネルギービーム照射により異性化してその硬さが変化する有機材料層を形成する工程と、前記有機材料層に対し前記エネルギービームを照射して周期的な硬度変化のパターンを形成する工程と、シャドウマスクを用いない真空蒸着を行って金属膜を成膜することにより、前記周期的な硬度変化のパターンに対応したパターンを有する金属膜パターンを形成する工程と、前記金属膜パターンが形成された前記有機材料層に対し前記エネルギービームを照射して前記金属膜パターンとは異なる周期的な光吸収変化パターンを形成する工程とを有する回折格子の製造方法。特許文献1に開示された上述の回折格子は、通常、反射または透過光の一方に対して、所定の回折光が得られるような構造を有しており、透過光と反射光の両方に対して異なる回折作用を持つものではない。本発明は、反射光と透過光に対して異なる回折特性を示す回折格子、およびその製造方法を提供することを目的とする。本発明に係る第一の構成の回折格子は、周期的な表面凹凸構造が形成された透明基板と、前記透明基板面上に設けられ、前記表面凹凸構造とは異なる周期的な表面形状パターンを形成する金属膜とを備え、前記金属膜による反射光においては、前記表面凸凹構造及び前記表面形状パターンに応じた回折光が発生し、前記透明基板を透過する光においては、前記金属膜の表面形状パターンに応じた回折光が発生することを特徴とする。本発明に係る第二の構成の回折格子は、透明基板と、前記透明基板面上に設けられ、周期的な表面形状パターンを形成する金属膜と、前記金属膜の表面形状パターンとは異なる周期的な光吸収変化パターンを有する光吸収層とを備え、前記金属膜による反射光においては、前記表面形状パターンに応じた回折光が発生し、前記透明基板を透過する光においては、前記表面形状パターン及び光吸収変化パターンに応じた回折光が発生することを特徴とする。本発明に係る第一の構成の回折格子の製造方法は、周期的な表面凹凸構造が形成されている透明基板上に、光または電子線などのエネルギービーム照射により異性化してその硬さが変化する有機材料層を形成する工程と、前記有機材料層に対し前記エネルギービームを照射して前記表面凹凸構造のパターンとは異なる周期的な硬度変化のパターンを形成する工程と、シャドウマスクを用いない真空蒸着を行って金属膜を成膜することにより、前記周期的な硬度変化のパターンに対応したパターンを有するとともに、前記透明基板の前記表面凹凸構造に対応した表面凹凸構造を有する金属膜パターンを形成する工程とを有する。本発明に係る第二の構成の回折格子の製造方法は、透明基板上に、光または電子線などのエネルギービーム照射により異性化してその硬さが変化する有機材料層を形成する工程と、前記有機材料層に対し前記エネルギービームを照射して周期的な硬度変化のパターンを形成する工程と、シャドウマスクを用いない真空蒸着を行って金属膜を成膜することにより、前記周期的な硬度変化のパターンに対応したパターンを有する金属膜パターンを形成する工程と、前記金属膜パターンが形成された前記有機材料層に対し前記エネルギービームを照射して前記金属膜パターンとは異なる周期的な光吸収変化パターンを形成する工程とを有する。本発明によれば、表面凹凸構造および金属膜の表面形状パターンの組合わせにより、反射光と透過光に互いに異なる回折作用が発生して、反射光と透過光で異なる回折を示す回折格子を得ることができる。本発明の回折格子は、上記構成を基本として、下記のようになより具体的な態様をとることができる。すなわち、本発明の第一の構成の回折格子は、前記透明基板と前記金属膜の間に、光または電子線などのエネルギービーム照射によりその硬さが変化する有機材料からなる有機材料層が形成されており、前記有機材料層は、前記透明基板の表面凹凸構造とは異なるように前記エネルギービーム照射により形成された周期的な硬度変化のパターンを有し、前記金属膜の表面形状パターンは、前記有機材料層の硬度変化のパターンに従って形成されたものである構成とすることができる。また、本発明の第二の構成の回折格子は、前記透明基板と前記金属膜の間に、光または電子線などのエネルギービーム照射によりその硬さと光吸収が変化する有機材料からなる有機材料層が形成されており、前記有機材料層は、前記エネルギービーム照射により形成された周期的な硬度変化のパターンを有し、前記金属膜の表面形状パターンは、前記有機材料層の硬度変化のパターンに従って形成されたものであり、前記有機材料層は、前記硬度変化のパターンとは別に、前記硬度変化のパターンとは異なるパターンの周期的な光吸収変化パターンを有する構成とすることができる。以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照して具体的に説明する。但し、実施の形態についての説明の前に、本発明で用いられる有機材料、つまり、光または電子線などのエネルギービーム照射によりその硬さが変化する有機材料に関して、その技術的な基礎となる自然現象について説明を行う。図1は、そのような有機材料の一種であるフォトクロミックジアリールエテンについて示した化学式であり、光照射によって可逆的に分子構造が変化する様子を示す。aは、色がついていない消色状態での分子構造を示す。この状態の分子構造に対して紫外線を照射すると、分子構造がbの様に変化し、可視光領域で吸収が生じる着色状態となる。逆に着色状態bに可視光を照射すると、もとの消色状態aに戻る。この様な光異性化を示すフォトクロミック材料は数多く知られているが、図1の材料では、特にアモルファス膜においてそのガラス転移点Tgが大きく変化する。消色状態aの膜のTgは室温付近32°Cにあり、着色状態bの膜のTgは95°C付近に存在する。この様なTgの変化に伴い、図2、図3を参照して以下に説明するような二つの現象が発生する。図2は、微細な表面凹凸構造を有する透明基板1上に形成された消色状態のジアリールエテン層3が、時間の経過に伴い表面が平坦化し回折光が消失する様子を示す断面模式図である。透明基板1の表面には、微細な周期的表面凹凸構造の一例として、複数本の溝2aが設けられている。複数本の溝2aからなる溝構造2上に、図2aに示すように、ジアリールエテン層3を真空蒸着法により形成する。蒸着直後のジアリールエテン層3は、透明基板1の溝構造2を反映した表面構造を有している。しかし、消色状態であるため、Tgが低い状態なので、ジアリールエテン層3の硬度は柔らかい。微視的に見ると、室温でもこの分子は活発にランダムな方向に運動している状態である。その結果、図2bに示すように、徐々に溝2aを生めて表面が平坦化してジアリールエテン平坦層3aとなる。一方、図3は、透明基板1上に形成されたジアリールエテン層が、着色状態に変化させられた状態では、時間が経過しても表面の溝構造が保持されて回折光が維持される様子を示す断面模式図である。すなわち、蒸着直後で、透明基板1の溝構造2に応じた溝構造を有しているジアリールエテン層に紫外線を照射して、図3aに示すように着色状態としたジアリールエテン着色層3bは、Tgが高い状態になり、硬度も上昇する。その結果、図3bに示すように、長期間が経過した後も、微細な表面凹凸構造は維持される。ジアリールエテン平坦層3aの表面では光に対する回折光は消失するが、微細な表面凹凸構造が維持されているジアリールエテン着色層3bの表面では、その回折光も維持される。図4は、時間の経過に伴う回折光の変化を調べた実験の結果を示すグラフである。横軸は時間の経過minを示し、縦軸は、0次回折光に対する±1次回折光の強度の比を、膜形成直後の値で規格化して示す。消色状態の膜の場合の特性線と、着色状態の膜の場合の特性線が示される。消色状態の膜では、室温では1000分後に当初の約1/100まで回折効率が低下した。これに対して、着色状態の膜では、1000分後もほぼ初期の回折効率を維持している。図5のグラフは、消色状態の膜の平坦化現象の温度依存性を示す。横軸、縦軸は、図4のグラフと同様であり、7°C、27°C、30°C、37°Cの場合の特性が示される。このグラフから判るように、平坦化のスピードは温度上昇によって加速される。これは温度を上げることによって、本発明の回折格子の製造効率を向上させることが可能であることを示している。次に、このジアリールエテン層の表面における光異性化に伴うガラス転移点Tgの変化によって、真空蒸着時の金属蒸着特性が変化することについて述べる。図6aは、ガラス基板上にアモルファスジアリールエテン層を蒸着形成し、Photochromismという文字のフォトマスクを介して紫外線照射することで、ジアリールエテン層に形成された当該文字の形状を有する着色異性化パターンを示す。異性化した部分は可視光に対して吸収が増加し、Tgが高い硬い状態となっている。この表面に金属Mgをマスクレス蒸着すると、図6bに示すように、着色部分にのみMgが堆積しMg膜が形成され、消色部分にはMg膜が形成されない。この金属蒸着選択性と呼ばれる性質は、Mgだけでなく様々な金属に対しても同様に作用する非特許文献1参照。したがって、金属蒸着選択性を利用すれば、光照射とマスクレス蒸着を組み合わせるだけで、様々な金属膜を、容易に所望の表面形状パターンに形成することができる。なお、上述の例では、ジアリールエテン層の消色状態と着色状態に基づいて金属蒸着選択性を制御する場合について述べたが、金属蒸着選択性の制御は、消色状態と着色状態に限られる訳ではない。すなわち、何らかの手段により、蒸着の下地となる膜に硬度変化のパターンを形成することにより、金属蒸着選択性を制御することが可能である。上述のとおり、微視的に見ると、硬度の低い下地膜では、室温でも分子が活発にランダムな方向に運動している状態であり、このような表面には金属が蒸着され難く、一方、硬度の高い下地膜では表面における分子の状態が安定しているので金属が蒸着され易いからである。金属蒸着選択性を制御するための硬度の設定は、一律には決められないが、金属蒸着に関わる種々の条件に応じた調整が可能である。従って、状況に応じた低硬度及び高硬度の設定に基づいて硬度変化のパターンを形成すれば、それに対応した金属膜の表面形状パターンを得ることが可能である。また、硬度変化は、下地膜の表面の数nmの範囲の領域において存在すればよく、下地膜の厚さ全体に及ぶ必要はない。なお、以下に記載する実施の形態では、エネルギービーム照射によりその硬さが変化する有機物層の材料として、すべて図1のジアリールエテンを用い、その真空蒸着によって得られたアモルファス膜を用いた場合を例として説明する。但し、本発明はこの材料に限定されることはなく、その原理から明らかなように、光や電子線などのエネルギービーム照射により硬度及び光吸収が変化する材料であれば適用可能である。その様な有機材料の例としては、たとえば図1のジアリールエテンの結晶膜非特許文献2や、フォトポリマー非特許文献3や、電子線で硬化する電子線レジストなどを挙げることができる。以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。<実施の形態1>実施の形態1における回折格子及びその製造方法について、図7~図10を参照して説明する。図7は、回折格子の製造プロセスを示す斜視図である。図2に示したものと同様の透明基板4を、ポリカーボネイト基板により形成した。透明基板4の表面には、微細な表面凹凸構造の一例として、1.6ミクロンピッチ、深さ200nmの平行の溝5aからなる溝構造5を設けた。図7aに示すように、透明基板4上に、真空蒸着法により図1のジアリールエテン層6を膜厚200nmで形成した。ジアリールエテン層6の表面には、透明基板4表面の溝構造5に対応したジアリールエテン層6の溝7aからなる溝構造7が形成された。ジアリールエテン層6の蒸着直後に、図7bに示すように全面に紫外線UV照射して、着色状態のジアリールエテン層からなる着色層6aを形成した。次に図7cに示すように、着色層6aの表面を、溝7aの方向とは直交する方向矢印の方向に、波長635nmの赤色レーザースポット8で走査して一部を消色状態に戻した。これにより、30ミクロンピッチの消色状態の消色ライン部9による平行線パターンを形成した。この時、残留した着色ライン部10は高いTg状態で硬い表面を有しており、消色ライン部9は低いTg状態でやわらかい表面となっている。次に図7dに示すように、シャドウマスク無しで金属マグネシウムの真空蒸着を行ったところ、着色ライン部10の上にのみMg膜11が形成された。この時ジアリールエテン層6の表面には溝構造7が存在するので、Mg膜11の表面にもそれに対応した溝構造が反映されている。以上のような工程により、本実施の形態の一例である回折格子を得た。すなわち、この回折格子は、周期的な溝構造5が形成された透明基板4を有し、透明基板4上には、ジアリールエテン層6が設けられて、溝構造5とは異なる硬度変化のパターンを形成している。ジアリールエテン層6上にはMg膜11が形成され、ジアリールエテン層6の硬度変化に対応した表面形状パターンが形成されている。次に、この回折格子による透過光及び反射光に対する回折光強度を測定した結果について述べる。実験は、図8に示すように、上記回折格子に対して、HeNeレーザーからの波長633nm、ランダム偏光状態のレーザーを照射し、透過光及び反射光に対する回折光強度の室温における時間変化を測定した。図8に示すように、反射光についてはX-Y軸を、透過光についてはX’-Y’軸を用い、各軸における±1次回折光強度を測定した。この回折格子によれば、X軸、X’軸方向においては、Mg膜11の平行線表面形状パターンに基づく回折光が発生する。一方、Y軸、Y’軸方向においては、透明基板4の溝構造7に基づく回折光が発生する。測定の結果を図9に示す。横軸は時間の経過、縦軸は規格化回折効率1st/0thである。図9の上部のグラフは反射光における規格化回折効率、下部のグラフは透過光における規格化回折効率を示す。図9の上部のグラフに示されるように、反射光に対してはX軸、Y軸の両方に回折光が生じ、その回折効率は300分後も変化がなく保持されている。これは、X軸方向の回折光は、Mg膜11の表面の反射によるものであるからである。Y軸方向の回折光も、透明基板4の溝構造7を反映したMg膜11表面の微細構造によるものであるため、時間の経過による変化は生じない。これに対して透過光については、図9の下部に示すように、Mg膜11の平行線に基づくX’軸方向の回折効率には変化がないが、溝構造7に基づくY’軸方向の回折効率は時間とともに大幅に低下し、300分後には初期の30以下となった。上述の例では、透明基板4の溝構造7及びMg膜11ともに、周期的パターンが平行線であったが、本発明はこれに限定されることなく様々な周期的パターンを適用できる。周期的パターンを有する回折シートを用意し、図7のプロセスの全面紫外線照射時aに、この回折シートをフォトマスクとして用いると、ジアリールエテン層6表面に回折シートのパターンに対応した着色異性化パターンが形成される。次に、着色異性化パターンが形成されたジアリールエテン層6に、真空蒸着法によりマグネシウムをシャドウマスク無しで蒸着すると、着色異性化部分にのみMg膜が形成される。得られたサンプルを室温で300分放置する。その後、図8を参照した上述の説明と同様に、赤色レーザーを照射し反射光及び透過光に対する観察すると、透過光に対しては、周期的溝構造による0次光に対応する箇所に単一の回折パターンが観察された。一方、反射光に対しては、0次及び±1次光に該当する箇所それぞれに回折パターンが観察された。このように、平行線とは異なる周期的パターンの例においても、反射光と透過光において回折が異なる回折格子が得られた。本実施の形態の回折格子の一般的な構成としては、周期的な表面凹凸構造が形成された透明基板と、透明基板面上に設けられ、表面凹凸構造とは異なる周期的な表面形状パターンを形成する金属膜とを備えていればよい。それにより、金属膜による反射光においては、表面凹凸構造及び表面形状パターンに応じた回折光が発生し、透明基板を透過した光においては、金属膜の表面形状パターンに応じた回折光が発生する。すなわち、透明基板は、周期的な溝構造に限らず、周期的な表面凹凸構造が形成されて、それにより、回折作用に寄与するものであればよい。金属膜の表面形状パターンを形成するための、より具体的な構成としては、透明基板と金属膜の間に、光または電子線などのエネルギービーム照射によりその硬さが変化する有機材料からなる有機材料層が形成される。有機材料層は、透明基板の表面凹凸構造とは異なる周期的な硬度変化のパターンを有し、金属膜の表面形状パターンは、有機材料層の硬度変化のパターンに従って形成されたものである。<実施の形態2>実施の形態2における回折格子及びその製造方法について、図10~図11を参照して説明する。この実施の形態では、実施の形態1で利用した平坦化効果は用いない。先ず、図10aに示すような平坦面を有する透明基板12の上面に、bに示すように、実施の形態1と同様にジアリールエテンを真空蒸着法により蒸着し、消色状態のアモルファス状態のジアリールエテン層13を形成する。次にcに示すように、実施の形態1と同様にUVレーザー走査を行い、平行な複数本の着色異性化ライン14を形成する。元の消色状態部分15は、Tgが低い状態で表面は柔らかいが、着色異性化ライン14の部分は、Tgが高い状態で硬い表面となっている。着色異性化ライン14が形成された透明基板12の表面に、dに示すように、マグネシウムを蒸着マスクを使用せずに蒸着する。それにより、着色異性化ライン14の部分にのみMg膜16が成膜されて、平行線からなるMg膜16のラインパターンが形成される。次にeに示すように、UVレーザーで、Mg膜16のラインパターンとは直交する方向に走査することにより、平行な複数本のラインからなる着色異性化パターン17が形成される。以上のような工程により、本実施の形態の一例である回折格子を得た。すなわち、この回折格子の構成では、透明基板12上にジアリールエテン層13が形成され、ジアリールエテン層13上に形成されたMg膜16は、ジアリールエテン層13の周期的な硬度変化のパターンに対応した表面形状パターンを有する。ジアリールエテン層13にはさらに、硬度変化のパターンとは異なる周期的な光吸収変化パターン17が設けられている。この回折格子に対して赤色レーザーを入射させたときの、反射光及び透過光における回折光の様子を図11に示す。同図において、反射光についてはX-Y軸に、透過光についてはX’-Y’軸に±1次回折光強度が示される。反射光はMgラインパターン16によって生じるので、X方向にのみ回折光が生じる。一方透過光に対しては、ジアリールエテンの着色状態は赤色に対して吸収を有するのでMgラインパターン16に加え着色異性化パターン17の吸収も加味される。その結果、X’方向に加えY’方向の回折も生じることになる。すなわち、実施の形態1では、透過光より反射光に対してより複雑な回折を示す回折格子が得られたが、この実施の形態2では、反射光より透過光に対してより複雑な回折を示す回折格子が得られることになる。ジアリールエテンは赤色レーザーに対して消色反応が生じるので、この着色異性化パターンは徐々に消えていくことになる。しかし、この問題点に対しては、消色反応感度が小さい望ましくは反応しない材料を用いれば解決できる。また以上の記載では平行ラインパターンのみ説明したが、実施の形態1と同様に様々なパターンの組み合わせを利用可能である。本実施の形態の回折格子の一般的な構成としては、透明基板と、透明基板面上に設けられ、周期的な表面形状パターンを形成する金属膜と、金属膜の表面形状パターンとは異なる周期的な光吸収変化パターンを有する光吸収層とを備えていればよい。それにより、金属膜による反射光においては、表面形状パターンに応じた回折光が発生し、透明基板を透過した光においては、表面形状パターン及び光吸収変化パターンに応じた回折光が発生する。金属膜の表面形状パターンを形成するための、より具体的な構成としては、透明基板と金属膜の間に、光または電子線などのエネルギービーム照射によりその硬さが変化する上述のような有機材料からなる有機材料層が形成される。有機材料層には周期的な硬度変化のパターンが形成され、金属膜の表面形状パターンは、有機材料層の硬度変化のパターンに従って形成される。有機材料層が、光または電子線などのエネルギービーム照射により、硬さの変化とともに光吸収も変化することにより、有機材料層に、硬度変化のパターンとは異なる周期的な光吸収変化パターンを形成することができる。