"ゴム成分Aと、下記一般式Iで表わされるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、無機充填材Cを含む充填材とを含むゴム組成物。[式中、Ra、Rb、Rc及びRdは同一でも異なっていてもよく、各々アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基、アリール基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基、又は水素原子であり、Ra、Rb、Rc及びRdの少なくとも一つはヒドロキシ基を有するアルキル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基である。]前記ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bが、前記一般式I中、Raがアリル基、アルキル基置換アリル基及びアリル基を有するアルケニル基から選ばれる官能基、Rbが水素原子、Rcがヒドロキシ基を有するアルキル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基、Rdが水素原子である請求項1に記載のゴム組成物。さらに、シランカップリング剤Dを含む請求項1又は2に記載のゴム組成物。前記シランカップリング剤Dが、下記一般式II~Vで表される化合物からなる群から1種以上選択される化合物である請求項3に記載のゴム組成物。[式中、R1は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々水素原子、炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基又は炭素数2~8の直鎖もしくは分枝のアルコキシアルキル基であり、R2は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基であり、R3は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖もしくは分枝のアルキレン基である。aは平均値として2~6であり、p及びrは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として0~3である。但しp及びrの双方が3であることはない。]{式中、R4は-Cl、-Br、R9O-、R9C=OO-、R9R10C=NO-、R9R10CNO-、R9R10N-、及び-OSiR9R10hOSiR9R10R11から選択される一価の基R9、R10及びR11は各々水素原子又は炭素数1~18の一価の炭化水素基であり、hは平均値として1~4である。であり、R5はR4、水素原子又は炭素数1~18の一価の炭化水素基であり、R6はR4、R5、水素原子又は-OR12Oj05-基R12は炭素数1~18のアルキレン基、jは1~4の整数である。であり、R7は炭素数1~18の二価の炭化水素基であり、R8は炭素数1~18の一価の炭化水素基である。x、y及びzは、xy2z=3、0≦x≦3、0≦y≦2、0≦z≦1の関係を満たす数である。}{式中、R13は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々水素原子、炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基又は炭素数2~8の直鎖もしくは分枝のアルコキシアルキル基であり、R14は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基であり、R15は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖もしくは分枝のアルキレン基である。R16は一般式-S-R17-S-、-R18-Sm1-R19-及び-R20-Sm2-R21-Sm3-R22-のいずれかの二価の基R17~R22は各々炭素数1~20の二価の炭化水素基、二価の芳香族基、又は硫黄及び酸素以外のヘテロ元素を含む二価の有機基であり、m1、m2及びm3は各々平均値として1以上4未満である。であり、複数あるkは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として1~6であり、s及びtは各々平均値として0~3である。但しs及びtの双方が3であることはない。}{式中、R23は炭素数1~20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、複数あるGは同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~9のアルカンジイル基又はアルケンジイル基であり、複数あるZaは同一でも異なっていてもよく、各々二つの珪素原子と結合することのできる官能基であり、且つ-0-05、-0-G-05及び-O-G-O-05から選ばれる官能基であり、複数あるZbは同一でも異なっていてもよく、各々二つの珪素原子と結合することのできる官能基であり、且つ-O-G-O-05で表される官能基であり、複数あるZcは同一でも異なっていてもよく、各々-Cl、-Br、-ORe、ReCO-、ReRfC=NO-、ReRfN-、Re-及びHO-G-O-Gは上記表記と一致する。から選ばれる官能基であり、Re及びRfは各々炭素数1~20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。m、n、u、v及びwは、1≦m≦20、0≦n≦20、0≦u≦3、0≦v≦2、0≦w≦1であり、且つu/2v2w=2又は3である。A部が複数である場合、複数のA部におけるZau、Zbv及びZcwそれぞれにおいて、同一でも異なっていてもよく、B部が複数である場合、複数のB部におけるZau、Zbv及びZcwそれぞれにおいて、同一でも異なってもよい。}前記ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bの配合量が、質量比{ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体B/シランカップリング剤D}で2/100~200/100である請求項3又は4に記載のゴム組成物。ゴム成分Aと、下記一般式Iで表されるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、無機充填材Cを含む充填材とを含むゴム組成物の製造方法であって、少なくとも、該ゴム成分Aと、該ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、該無機充填材Cの全部又は一部とを混練する第一練り段階と、該第一練り段階の後に、加硫剤を加えて混練する最終練り段階とを有するゴム組成物の製造方法。[式中、Ra、Rb、Rc及びRdは同一でも異なっていてもよく、各々アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基、アリール基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基、又は水素原子であり、Ra、Rb、Rc及びRdの少なくとも一つはヒドロキシ基を有するアルキル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基である。]前記ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bが、前記一般式I中、Raがアリル基、アルキル基置換アリル基及びアリル基を有するアルケニル基から選ばれる官能基、Rbが水素原子、Rcがヒドロキシ基を有するアルキル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基、Rdが水素原子である請求項6に記載のゴム組成物の製造方法。前記第一練り段階でシランカップリング剤Dが添加される請求項6又は7に記載のゴム組成物の製造方法。前記第一練り段階において、前記ゴム成分A、前記無機充填材Cの全部又は一部を混練した後に、前記ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bを加えて、更に混練する請求項6又は7のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。本発明は、タイヤの低発熱性を向上できるゴム組成物、及びこのゴム組成物の製造方法の提供を目的とする。本発明者らは、上記課題を解決するために、種々実験的に解析した結果、特定のチオウレア誘導体を用いることにより、無機充填材の分散性を更に改良し得ることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は、[1]ゴム成分Aと、下記一般式Iで表わされるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、無機充填材Cを含む充填材とを含むゴム組成物、[式中、Ra、Rb、Rc及びRdは同一でも異なっていてもよく、アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基、アリール基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基、又は水素原子であり、Ra、Rb、Rc及びRdの少なくとも一つはヒドロキシ基を有するアルキル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基である。]、及び[2]ゴム成分Aと、上記一般式Iにて表されるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、無機充填材Cを含む充填材とを含むゴム組成物の製造方法であって、少なくとも、前記ゴム成分Aと、前記ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、前記無機充填材Cの全部又は一部とを混練する第一練り段階と、前記第一練り段階の後に、加硫剤を加えて混練する最終練り段階とを有するゴム組成物の製造方法である。本発明によれば、タイヤの低発熱性を向上できるゴム組成物、及びこのゴム組成物の製造方法を提供できる。以下に、本発明を詳細に説明する。[ゴム組成物]本発明のゴム組成物は、ゴム成分Aと、下記一般式Iで表わされるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、無機充填材Cを含む充填材とを含むことを特徴とする。式中、Ra、Rb、Rc及びRdは同一でも異なっていてもよく、各々アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基、アリール基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基、又は水素原子であり、Ra、Rb、Rc及びRdの少なくとも一つはヒドロキシ基を有するアルキル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基である。Ra、Rb、Rc及びRdにおけるアルキル基及びヒドロキシ基を有するアルキル基の炭素数は1~20であることが好ましく、1~10であることがより好ましい。Ra、Rb、Rc及びRdにおけるアルケニル基及びヒドロキシ基を有するアルケニル基の炭素数は2~20であることが好ましく、2~10であることがより好ましい。アルケニル基としては、アリル基が特に好ましい。Ra、Rb、Rc及びRdにおけるアリール基及びヒドロキシ基を有するアリール基の炭素数は6~20であることが好ましく、6~16であることがより好ましい。アリール基としては、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基及びアルキル基置換フェニル基例えば、炭素数1~6のアルキル基が好ましい。本発明のゴム組成物に、上記一般式Iで表わされるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体B{以下、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bということがある。}を配合することにより、充填材の分散性が大幅に向上し、ゴム組成物の低発熱性が著しく改良される。本発明のゴム組成物に含まれるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bは、ゴム成分A100質量部に対して、0.1~5質量部配合することが好ましい。0.1質量部以上であれば、十分な充填材の分散性を向上させる効果を発揮し、5質量部以下であれば、加硫速度に大きな影響は与えないからである。さらに好ましくは、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bの配合量はゴム成分A100質量部に対して0.2~3質量部である。[ゴム成分A]本発明のゴム組成物に用いられるゴム成分Aは、天然ゴム及び合成ジエン系ゴムから選ばれる少なくとも1種からなるゴム成分であることが好ましい。合成ジエン系ゴムとしては、スチレン-ブタジエン共重合体ゴムSBR、ポリブタジエンゴムBR、ポリイソプレンゴムIR、ブチルゴムIIR、エチレン-プロピレン-ジエン三元共重合体ゴムEPDM等を用いることができる。天然ゴム及び合成ジエン系ゴムは、1種単独でもよいし、2種以上をブレンドして用いてもよい。[ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体B]本発明に係るヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bは、前記一般式I中、Raがアリル基、アルキル基置換アリル基このアルキル基の炭素数は1~10であることが好ましく、1~6であることがより好ましい。及びアリル基を有するアルケニル基から選ばれる置換基、Rbが水素原子、Rcがヒドロキシ基を有するアルキル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる置換基、Rdが水素原子であることが好ましい。Raがアリル基、アルキル基置換アリル基及びアリル基を有するアルケニル基から選ばれる置換基であると、電子供与効果により好ましく、Rbが水素原子であると、立体障害の低下により好ましく、Rcがヒドロキシ基を有するアルキル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる置換基であると、後述する無機充填材C、特にシリカとの相互作用向上により好ましく、Rdが水素原子であると、立体障害の低下により好ましい。前記ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bの具体例としては、1-アリル-3-2-ヒドロキシエチル-2-チオウレア、2-ヒドロキシエチル-チオウレア、3-ヒドロキシプロピル-チオウレアなどが、好適に挙げられる。[充填材]従来のゴム組成物に添加することが可能な充填材は、本発明の充填材として使用可能であり、無機充填材Cを含むものである。本発明に係る充填材としては、無機充填材Cと他の充填材とを併用してもよいし、無機充填材C単独でもよい。充填材が無機充填材Cを含むことを要するのは、低発熱性を向上するためである。<無機充填材C>本発明においては、上述の無機充填材Cのうち、低転がり性と耐摩耗性の両立の観点からシリカが好ましい。シリカとしては市販のあらゆるものが使用できるが、なかでも湿式シリカ、乾式シリカ、コロイダルシリカを用いるのが好ましく、湿式シリカを用いるのが特に好ましい。シリカのBET比表面積ISO5794/1に準拠して測定するは40~350m2/gであるのが好ましい。BET比表面積がこの範囲であるシリカは、ゴム補強性とゴム成分中への分散性とを両立できるという利点がある。この観点から、BET比表面積が80~350m2/gの範囲にあるシリカがより好ましく、BET比表面積が130m2/gを超え、350m2/g以下であるシリカが更に好ましく、BET比表面積が135~350m2/gの範囲にあるシリカが特に好ましい。このようなシリカとしては東ソーシリカ株式会社製、商品名ニップシールAQBET比表面積=205m2/g、ニップシールKQBET比表面積=240m2/g、デグッサ社製商品名ウルトラジルVN3BET比表面積=175m2/g等の市販品を用いることができる。無機充填材C、特にシリカを配合するゴム組成物において、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bを配合することにより、無機充填材C、特にシリカの分散性が大幅に向上し、ゴム組成物の低発熱性が著しく改良できる。シリカなどの無機充填材Cが配合されたゴム組成物においては、シリカによるゴム組成物の補強性を高めるため、又はゴム組成物の低発熱性と共に耐摩耗性を高めるために、シランカップリング剤Dが配合されることが好ましい。無機充填材C、特にシリカ、及びシランカップリング剤Dが配合されたゴム組成物では、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bが、無機充填材Cとシランカップリング剤Dとの反応を良好に促進するとことも考えられる。このように、本発明に係るゴム組成物によれば、特にシリカの分散性が大幅に向上し、ゴム組成物の低発熱性が著しく改良できる。シランカップリング剤Dの詳細については、後述する。<充填材の配合量>充填材は、ゴム成分A100質量部に対して、20~150質量部使用することが好ましい。20質量部以上であれば、ゴム組成物の補強性向上の観点から好ましく、150質量部以下であれば、転がり抵抗低減低発熱性の向上の観点から好ましい。無機充填材Cは、ゴム成分A100質量部に対して、20~120質量部使用することが好ましい。20質量部以上であれば、ウェット性能を確保する観点から好ましく、120質量部以下であれば、転がり抵抗低減の観点から好ましい。更には、30~100質量部使用することがより好ましい。ウェット性能と転がり抵抗低減の両立の観点から、充填材中、無機充填材Cが30質量以上であることが好ましく、40質量以上であることがより好ましく、70質量以上であることが更に好ましい。なお、無機充填材Cとしてシリカを使用する場合は、前記充填材中におけるシリカが30質量以上であることが好ましい。<他の無機充填材>本発明のゴム組成物には、シリカのほか、下記一般式1で表される無機化合物を用いることができる。dM1xSiOyzH2O1ここで、一般式1中、M1は、アルミニウム、マグネシウム、チタン、カルシウム、及びジルコニウムからなる群から選ばれる金属、これらの金属の酸化物又は水酸化物、及びそれらの水和物、又はこれらの金属の炭酸塩から選ばれる少なくとも一種であり、d、x、y及びzは、それぞれ1~5の整数、0~10の整数、2~5の整数、及び0~10の整数である。なお、一般式1の、x、zがともに0である場合には、該無機化合物はアルミニウム、マグネシウム、チタン、カルシウム及びジルコニウムから選ばれる少なくとも1つの金属、金属酸化物又は金属水酸化物となる。一般式1で表される無機化合物としては、γ-アルミナ、α-アルミナ等のアルミナAl2O3、ベーマイト、ダイアスポア等のアルミナ一水和物Al2O3H2O、ギブサイト、バイヤライト等の水酸化アルミニウム[AlOH3]、炭酸アルミニウム[Al2CO32]、水酸化マグネシウム[MgOH2]、酸化マグネシウムMgO、炭酸マグネシウムMgCO3、タルク3MgO4SiO2H2O、アタパルジャイト5MgO8SiO29H2O、チタン白TiO2、チタン黒TiO2n1、酸化カルシウムCaO、水酸化カルシウム[CaOH2]、酸化アルミニウムマグネシウムMgOAl2O3、クレーAl2O32SiO2、カオリンAl2O32SiO22H2O、パイロフィライトAl2O34SiO2H2O、ベントナイトAl2O34SiO22H2O、ケイ酸アルミニウムAl2SiO5、Al43SiO45H2O等、ケイ酸マグネシウムMg2SiO4、MgSiO3等、ケイ酸カルシウムCa2SiO4等、ケイ酸アルミニウムカルシウムAl2O3CaO2SiO2等、ケイ酸マグネシウムカルシウムCaMgSiO4、炭酸カルシウムCaCO3、酸化ジルコニウムZrO2、水酸化ジルコニウム[ZrOOH2nH2O]、炭酸ジルコニウム[ZrCO32]、各種ゼオライトのように電荷を補正する水素、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む結晶性アルミノケイ酸塩などが使用できる。また、一般式1中のM1がアルミニウム金属、アルミニウムの酸化物又は水酸化物、及びそれらの水和物、又はアルミニウムの炭酸塩から選ばれる少なくとも一つである場合が好ましい。一般式1で表される無機化合物は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。これらの無機化合物の平均粒径は、混練作業性、耐摩耗性及びウェットグリップ性能のバランスなどの観点から、0.01~10μmの範囲が好ましく、0.05~5μmの範囲がより好ましい。本発明における無機充填材Cとして、シリカ単独で使用してもよいし、シリカと一般式1で表される無機化合物の1種以上とを併用してもよい。<カーボンブラック>本発明に係る充填材は、所望によりカーボンブラックを含んでいてもよい。カーボンブラックとしては、市販ものが使用できる。カーボンブラックを含有することにより、電気抵抗を下げて帯電を抑止する効果を享受できる。カーボンブラックに特に制限はないが、例えば、高、中又は低ストラクチャーのSAF、ISAF、IISAF、N339、HAF、FEF、GPF、SRFグレードのカーボンブラックを使用できる。特に、SAF、ISAF、IISAF、N339、HAF、FEFグレードのカーボンブラックを用いることが好ましい。カーボンブラックのDBP吸収量は、好ましくは80cm3/100g以上、より好ましくは100cm3/100g以上、特に好ましくは110cm3/100g以上である。また、カーボンブラックの窒素吸着比表面積N2SA、JISK6217-2:2001に準拠して測定するは、好ましくは85m2/g以上、より好ましくは100m2/g以上、特に好ましくは110m2/g以上である。[シランカップリング剤D]無機充填材Cと併用可能なシランカップリング剤Dとしては、下記一般式II~Vで表される化合物からなる群から1種以上選択される化合物を用いることができる。以下、下記一般式II~Vを順に説明する。式中、R1は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々水素原子、炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基又は炭素数2~8の直鎖もしくは分枝のアルコキシアルキル基であり、R2は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基であり、R3は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖もしくは分枝のアルキレン基である。aは平均値として2~6であり、p及びrは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として0~3である。但しp及びrの双方が3であることはない。一般式IIで表されるシランカップリング剤Dの具体例として、ビス3-トリエトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス3-トリメトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス3-メチルジメトキシシリルプロピルテトラスルフィド、ビス2-トリエトキシシリルエチルテトラスルフィド、ビス3-トリエトキシシリルプロピルジスルフィド、ビス3-トリメトキシシリルプロピルジスルフィド、ビス3-メチルジメトキシシリルプロピルジスルフィド、ビス2-トリエトキシシリルエチルジスルフィド、ビス3-トリエトキシシリルプロピルトリスルフィド、ビス3-トリメトキシシリルプロピルトリスルフィド、ビス3-メチルジメトキシシリルプロピルトリスルフィド、ビス2-トリエトキシシリルエチルトリスルフィド、ビス3-モノエトキシジメチルシリルプロピルテトラスルフィド、ビス3-モノエトキシジメチルシリルプロピルトリスルフィド、ビス3-モノエトキシジメチルシリルプロピルジスルフィド、ビス3-モノメトキシジメチルシリルプロピルテトラスルフィド、ビス3-モノメトキシジメチルシリルプロピルトリスルフィド、ビス3-モノメトキシジメチルシリルプロピルジスルフィド、ビス2-モノエトキシジメチルシリルエチルテトラスルフィド、ビス2-モノエトキシジメチルシリルエチルトリスルフィド、ビス2-モノエトキシジメチルシリルエチルジスルフィド等が挙げられる。式中、R4は-Cl、-Br、R9O-、R9C=OO-、R9R10C=NO-、R9R10CNO-、R9R10N-、及び-OSiR9R10hOSiR9R10R11から選択される一価の基R9、R10及びR11は各々水素原子又は炭素数1~18の一価の炭化水素基であり、hは平均値として1~4である。であり、R5はR4、水素原子又は炭素数1~18の一価の炭化水素基であり、R6はR4、R5、水素原子又は-OR12Oj05-基R12は炭素数1~18のアルキレン基、jは1~4の整数である。であり、R7は炭素数1~18の二価の炭化水素基であり、R8は炭素数1~18の一価の炭化水素基である。x、y及びzは、xy2z=3、0≦x≦3、0≦y≦2、0≦z≦1の関係を満たす数である。一般式IIIにおいて、R12、R13、R14及びR15はそれぞれ独立に、炭素数1~18の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、アルケニル基、アリール基及びアラルキル基からなる群から選択される基であることが好ましい。また、R12が炭素数1~18の一価の炭化水素基である場合は、直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、アルケニル基、アリール基及びアラルキル基からなる群から選択される基であることが好ましい。R16は直鎖、環状又は分枝のアルキレン基であることが好ましく、特に直鎖状のものが好ましい。R11として、例えば炭素数1~18のアルキレン基、炭素数2~18のアルケニレン基、炭素数5~18のシクロアルキレン基、炭素数6~18のシクロアルキルアルキレン基、炭素数6~18のアリーレン基、炭素数7~18のアラルキレン基を挙げることができる。前記アルキレン基及びアルケニレン基は、直鎖状、枝分かれ状のいずれであってもよく、前記シクロアルキレン基、シクロアルキルアルキレン基、アリーレン基及びアラルキレン基は、環上に低級アルキル基等の官能基を有していてもよい。R11としては、炭素数1~6のアルキレン基が好ましく、特に直鎖状アルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。一般式IIIにおけるR12、R13、R14及びR15の炭素数1~18の一価の炭化水素基の具体例としては、メチル基,エチル基,n-プロピル基,イソプロピル基,n-ブチル基,イソブチル基,sec-ブチル基,tert-ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,オクチル基,デシル基,ドデシル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基,ビニル基,プロぺニル基,アリル基,ヘキセニル基,オクテニル基,シクロペンテニル基,シクロヘキセニル基,フェニル基,トリル基,キシリル基,ナフチル基,ベンジル基,フェネチル基,ナフチルメチル基等が挙げられる。上記一般式IIIにおけるR16の例としては、メチレン基,エチレン基,トリメチレン基,テトラメチレン基,ペンタメチレン基,ヘキサメチレン基,オクタメチレン基,デカメチレン基,ドデカメチレン基等が挙げられる。一般式IIIで表されるシランカップリング剤Dの具体例としては、3-ヘキサノイルチオプロピルトリエトキシシラン、3-オクタノイルチオプロピルトリエトキシシラン、3-デカノイルチオプロピルトリエトキシシラン、3-ラウロイルチオプロピルトリエトキシシラン、2-ヘキサノイルチオエチルトリエトキシシラン、2-オクタノイルチオエチルトリエトキシシラン、2-デカノイルチオエチルトリエトキシシラン、2-ラウロイルチオエチルトリエトキシシラン、3-ヘキサノイルチオプロピルトリメトキシシラン、3-オクタノイルチオプロピルトリメトキシシラン、3-デカノイルチオプロピルトリメトキシシラン、3-ラウロイルチオプロピルトリメトキシシラン、2-ヘキサノイルチオエチルトリメトキシシラン、2-オクタノイルチオエチルトリメトキシシラン、2-デカノイルチオエチルトリメトキシシラン、2-ラウロイルチオエチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの内、3-オクタノイルチオプロピルトリエトキシシランGeneralElectricSilicones社製、商標:NXTシランが特に好ましい。式中、R13は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々水素原子、炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基又は炭素数2~8の直鎖もしくは分枝のアルコキシアルキル基であり、R14は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基であり、R15は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~8の直鎖もしくは分枝のアルキレン基である。R16は一般式-S-R17-S-、-R18-Sm1-R19-及び-R20-Sm2-R21-Sm3-R22-のいずれかの二価の基R17~R22は各々炭素数1~20の二価の炭化水素基、二価の芳香族基、又は硫黄及び酸素以外のヘテロ元素を含む二価の有機基であり、m1、m2及びm3は各々平均値として1以上4未満である。であり、複数あるkは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として1~6であり、s及びtは各々平均値として0~3である。但しs及びtの双方が3であることはない。一般式IVで表されるシランカップリング剤Dの具体例として、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S2-CH26-S2-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S2-CH210-S2-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S3-CH26-S3-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S4-CH26-S4-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-S2-CH26-S-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-S25-CH26-S-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-S3-CH26-S-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-S4-CH26-S-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH210-S2-CH210-S-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S4-CH26-S4-CH26-S4-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S2-CH26-S2-CH26-S2-CH23-SiOCH2CH33、平均組成式CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-S2-CH26-S2-CH26-S-CH23-SiOCH2CH33等、で表される化合物が好適に挙げられる。式中、R23は炭素数1~20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、複数あるGは同一でも異なっていてもよく、各々炭素数1~9のアルカンジイル基又はアルケンジイル基であり、複数あるZaは同一でも異なっていてもよく、各々二つの珪素原子と結合することのできる官能基であり、且つ-0-05、-0-G-05及び-O-G-O-05から選ばれる官能基であり、複数あるZbは同一でも異なっていてもよく、各々二つの珪素原子と結合することのできる官能基であり、且つ-O-G-O-05で表される官能基であり、複数あるZcは同一でも異なっていてもよく、各々-Cl、-Br、-ORe、ReCO-、ReRfC=NO-、ReRfN-、Re-及びHO-G-O-Gは上記表記と一致する。から選ばれる官能基であり、Re及びRfは各々炭素数1~20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。m、n、u、v及びwは、1≦m≦20、0≦n≦20、0≦u≦3、0≦v≦2、0≦w≦1であり、且つu/2v2w=2又は3である。A部が複数である場合、複数のA部におけるZau、Zbv及びZcwそれぞれにおいて、同一でも異なっていてもよく、B部が複数である場合、複数のB部におけるZau、Zbv及びZcwそれぞれにおいて、同一でも異なってもよい。一般式Vで表されるシランカップリング剤Dの具体例として、一般式VI、一般式VII及び一般式VIIIが挙げられる。式中、Lはそれぞれ独立して炭素数1~9のアルカンジイル基又はアルケンジイル基であり、x=m、y=nである。一般式VIで表される市販品として入手できるシランカップリング剤としては、MomentivePerformanceMaterials社製、商品名NXTLow-VSilaneが挙げられる。また、一般式VIIで表される市販品として入手できるシランカップリング剤としては、MomentivePerformanceMaterials社製、商品名NXTUltraLow-VSilaneが挙げられる。更に、一般式VIIIで表される市販品として入手できるシランカップリング剤としては、MomentivePerformanceMaterials社製、商品名NXT-Zが挙げられる。本発明に係るシランカップリング剤Dは、上記一般式II~Vで表わされる化合物の内、上記一般式IIで表わされる化合物が特に好ましい。ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bはゴム成分Aと反応するポリスルフィド結合部位の活性化を起こし易いからである。本発明においては、シランカップリング剤Dは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明のゴム組成物のシランカップリング剤Dの配合量は、質量比{シランカップリング剤D/無機充填材C}が1/100~20/100であることが好ましい。1/100以上であれば、ゴム組成物の低発熱性向上の効果をより好適に発揮することとなり、20/100以下であれば、ゴム組成物のコストが低減し、経済性が向上するからである。更には質量比3/100~20/100であることがより好ましく、質量比4/100~10/100であることが特に好ましい。シリカなどの無機充填材Cが配合されたゴム組成物においては、シリカによるゴム組成物の補強性を高めるため、又はゴム組成物の低発熱性と共に耐摩耗性を高めるために、シランカップリング剤Dを配合すること好ましい。しかし、無機充填材Cとシランカップリング剤Dとの反応が不十分であると、無機充填材Cによるゴム組成物の補強性を高める効果が十分に得られないため、耐摩耗性が低下する場合がある。また、ゴム組成物の混練工程において未反応だったシランカップリング剤が混練工程よりも後に実行される押出工程中に反応すると、ゴム組成物の押出成形物中にポーラス多数の泡又は穴が発生し、押出成形物の寸度や重量の精度の低下を引き起こす。これに対して、混練工程における混練段階の回数を増やすと、無機充填材Cとシランカップリング剤Dとの反応を混練工程で完結させることができ、ポーラスの発生を抑えることが可能である。しかし、混練工程の生産性を著しく低下させるという問題があった。本発明に係るゴム組成物ではヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bは、無機充填材Cとシランカップリング剤Dとの反応を良好に促進するので、低発熱性に優れたゴム組成物を得ることができる。このように、本発明に係るゴム組成物によれば、ゴム加工時の作業性に更に優れると共に、より発熱性の低い空気入りタイヤを得ることができる。特に、チオウレア誘導体Bのヒドロキシ基はシリカと相互作用するためシリカ、シランカップリング剤及びゴム成分の反応を高めて、高い低発熱性を得ることができる。本発明に係るシランカップリング剤D配合ゴム組成物に含まれるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bの配合量は、質量比{ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体B/シランカップリング剤D}が2/100~200/100であることが好ましい。2/100以上であれば、シランカップリング剤Dの活性化が十分に起こり、200/100以下であれば、加硫速度に大きな影響は与えないからである。さらに好ましくは、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bの配合量は、質量比{ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体B/シランカップリング剤D}として5/100~100/100である。[加硫剤、加硫促進剤]本発明に係るゴム組成物には、加硫剤、加硫促進剤が配合される。加硫剤としては、硫黄等が挙げられる。加硫促進剤としては、特に限定されないが、例えば、M2-メルカプトベンゾチアゾール、DMジベンゾチアゾリルジスルフィド、CZN-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド等のチアゾール系、あるいはDPGジフェニルグアニジン等のグアニジン系の加硫促進剤等が挙げられる。[有機酸化合物]本発明における有機酸化合物としては、ステアリン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸、ラウリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、カプリン酸、ペラルゴン酸、カプリル酸、エナント酸、カプロン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ネルボン酸等の飽和脂肪酸及び不飽和脂肪酸並びにロジン酸や変性ロジン酸等の樹脂酸などの有機酸、前記飽和脂肪酸及び前記不飽和脂肪酸並びに樹脂酸のエステルなどが挙げられる。本発明においては、加硫促進助剤としての機能を十分に発揮する必要があることから有機酸化合物中の50モル以上がステアリン酸であることが好ましい。また、ゴム成分Aの一部又は全部として乳化重合スチレン-ブタジエン共重合体を用いる場合は、有機酸化合物中の50モル以上が乳化重合スチレン-ブタジエン共重合体に含まれるロジン酸変性ロジン酸も包含される。及び/又は脂肪酸であることが、乳化重合スチレン-ブタジエン共重合体を重合するのに必要な乳化剤の観点から好ましい。[ゴム組成物の製造方法]本発明に係るゴム組成物の製造方法は、ゴム成分Aと、下記一般式Iで表されるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、無機充填材Cを含む充填材とを含むゴム組成物の製造方法であって、少なくとも、該ゴム成分Aと、該ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、該無機充填材Cの全部又は一部とを混練する第一練り段階と、該第一練り段階の後に、加硫剤を加えて混練する最終練り段階とを有する。式中、Ra、Rb、Rc及びRdは同一でも異なっていてもよく、各々アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基、アリール基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基、又は水素原子であり、Ra、Rb、Rc及びRdの少なくとも一つはヒドロキシ基を有するアルキル基、ヒドロキシ基を有するアルケニル基及びヒドロキシ基を有するアリール基から選ばれる官能基である。シリカ等の無機充填材のゴム組成物中での分散をより良好にするためには、ゴム成分Aと、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、無機充填材Cの全部又は一部とを混練する第一練り段階におけるゴム組成物の最高温度が、120~190°Cであることが好ましく、130~175°Cであることがより好ましく、140~170°Cであることがさらに好ましい。第一練り段階における混練時間は10秒から20分であることが好ましく、10秒から10分であることがより好ましく、30秒から5分であることがさらに好ましい。本発明のゴム組成物は、ゴム成分Aと無機充填材Cとの混練りを主体とし、通常、加硫剤及び加硫促進剤を配合する前の工程であるマスターバッチ練り段階と、加硫剤及び加硫促進剤を配合して加硫性ゴム組成物を製造する最終練り段階とに分けて混練りされる。なお、上述の第一練り段階は、実施形態におけるマスターバッチ練り段階に相当する。マスターバッチ練り段階と最終練り段階との間に、主としてマスターバッチの粘度を下げる目的で、中間練り段階が設けられてもよい。本発明のゴム組成物の製造方法は、マスターバッチ練り段階において、少なくとも前記ゴム成分Aと、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bと、前記無機充填材Cの全部又は一部と、前記シランカップリング剤Dの全部又は一部とを混練することにより、無機充填材Cとシランカップリング剤Dとの反応により生成するエタノール等のアルコール及びその他の揮発性有機成分を混練り中に揮発させることができる。これにより、マスターバッチ練り工程よりも後に実行される押出工程におけるアルコール等の揮発を抑え、押出成形物にポーラスが発生することを防止することができる。本発明に係る混練の第一練り段階において、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bが、質量比{ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体B/シランカップリング剤D}として2/100~200/100添加されることが好ましい。2/100以上であれば、シランカップリング剤Dの活性化が十分に起こり、200/100以下であれば、加硫速度に大きな影響は与えないからである。ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bが、質量比{ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体B/シランカップリング剤D}として5/100~100/100添加されることが更に好ましい。本発明に係る混練の第一練り段階におけるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bの投入方法として、ゴム成分A及び無機充填材Cの全部又は一部を混練した後にヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bを加えて、さらに混練することが好ましい。この投入方法により、無機充填材Cの分散性がより向上するからである。本発明に係る混練の第一練り段階におけるヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bの投入方法として、無機充填材C及びシランカップリング剤Dを含有するゴム組成物の場合は、ゴム成分A、無機充填材Cの全部又は一部及びシランカップリング剤Dの全部又は一部を混練した後にヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bを加えて、さらに混練することが好ましい。この投入方法により、シランカップリング剤Dとシリカとの反応が十分に進行した後に、シランカップリング剤Dとゴム成分Aとの反応を進行させることができるからである。本発明に係る混練の第一練り段階で、ゴム成分A、無機充填材Cの全部又は一部、及びシランカップリング剤Dの全部又は一部を加えた後、第一練り段階の途中でヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bを加えるまでの時間を10~180秒とすることが好ましい。この時間の上限値は150秒以下であることがより好ましく、120秒以下であることが更に好ましい。この時間が10秒以上であれば無機充填材Cとシランカップリング剤Dの反応を十分に進行させることができる。この時間が180秒を超えても無機充填材Cとシランカップリング剤Dの反応は既に十分に進行しているので、更なる効果は享受しにくく、上限値を180秒とすることが好ましい。1回のマスターバッチ練り段階だけでマスターバッチを製造することが困難な場合、又は所望する場合には、マスターバッチ練り段階を、第1マスターバッチ練り段階と第2マスターバッチ練り段階中間練り段階とに分けてもよい。例えば、第一練り段階すなわち、マスターバッチ練り段階において、第1マスターバッチ練り段階として、ゴム成分A、無機充填材Cの全部又は一部、及びシランカップリング剤Dの全部又は一部を混練し、自然冷却して養生の後、第2マスターバッチ練り段階として、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bを加えて、更に混練してもよい。なお、第2マスターバッチ練り段階などの中間練り段階でゴム成分や充填材等を配合し、混練してもよい。第一練り段階より後、かつ最終練り段階より前の中間練り段階を含む際には、中間練り段階におけるゴム組成物の最高温度は120~190°Cであることが好ましく、130~175°Cであることがより好ましく、140~170°Cであることがさらに好ましい。なお、混練時間は10秒から20分であることが好ましく、10秒から10分であることがより好ましく、30秒から5分であることがさらに好ましい。なお、中間練り段階を含む際には、前段階の混練終了後の温度より10°C以上低下させてから次の段階へ進むことが好ましい。また、混練の最終練り段階とは、加硫系薬品加硫剤、加硫促進剤を配合し、混練する工程をいう。この最終練り段階におけるゴム組成物の最高温度は60~140°Cであることが好ましく、80~120°Cであることがより好ましく、100~120°Cであることがさらに好ましい。なお、混練時間は10秒から20分であることが好ましく、10秒から10分であることがより好ましく、20秒から5分であることがさらに好ましい。第一練り段階、中間練り段階から最終練り段階に進む際には、前の練り段階の混練終了後の温度より10°C以上低下させてから次の段階へ進むことが好ましい。本発明のゴム組成物の製造方法において、通常、ゴム組成物に配合されるステアリン酸、亜鉛華等の加硫活性剤、老化防止剤等の各種配合剤は、必要に応じて、マスターバッチ練り段階又は最終練り段階、あるいは上述の中間練り段階において混練りされる。本発明におけるゴム組成物は、バンバリーミキサー、ロール、インテンシブミキサー等を用いて混練りされる。その後、押出工程において押出し加工され、トレッド用部材として成形される。続いて、タイヤ成形機上で通常の方法により貼り付け成形され、生タイヤが成形される。この生タイヤを加硫機中で加熱加圧して、タイヤが得られる。本発明におけるトレッドとは、タイヤの接地部を構成するキャップトレッド及び/又はキャップトレッドの内側に配設されるベーストレッドをいう。以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。[評価方法]<低発熱性tanδ指数>粘弾性測定装置レオメトリックス社製を使用し、温度60°C、動歪5、周波数15Hzでtanδを測定した。比較例1のtanδの逆数を100として下記式にて指数表示した。指数値が大きい程、低発熱性であり、ヒステリシスロスが小さいことを示す。低発熱性指数={比較例1の加硫ゴム組成物のtanδ/供試加硫ゴム組成物のtanδ}×100<耐摩耗性指数>JISK6264-22005に準拠し、ランボーン型摩耗試験機を用いて、室温23°Cでスリップ率25の条件で試験を行い、摩耗量の逆数を、比較例1の値を100として下記式にて指数表示した。数値が大きいほど、耐摩耗性が良好である。低発熱性指数={比較例1の加硫ゴム組成物の摩耗量/供試加硫ゴム組成物の摩耗量}×100製造例1平均組成式3Si3S6S256S3Si3で表されるシランカップリング剤の製造窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー及び滴下ロートを備えた2リットルのセパラブルフラスコに、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン119g0.5モルを仕込み、攪拌下、有効成分20質量のナトリウムエトキシドのエタノール溶液151.2g0.45モルを加えた。その後、80°Cに昇温し、3時間攪拌を続けた。その後冷却し、滴下ロートに移した。次いで、上記と同様のセパラブルフラスコに、1,6-ジクロロヘキサンを69.75g0.45モル仕込み、80°Cに昇温した後、上記の3-メルカプトプロピルトリエトキシシランとナトリウムエトキシドの反応物をゆっくり滴下した。滴下終了後、80°Cで5時間攪拌を続けた。その後冷却し、得られた溶液中から塩を濾別し、さらにエタノール及び過剰の1,6-ジクロロヘキサンを減圧留去した。得られた溶液を減圧蒸留し、沸点148~150°C/0.005torr0.67Paの無色透明の液体137.7gを得た。IR分析、1H-NMR分析及びマススペクトル分析MS分析を行った結果、CH3CH2O3Si-CH23S-CH26-Clで表される化合物であった。また、ガスクロマトグラフ分析GC分析による純度は97.5であった。次いで、上記と同様の0.5リットルのセパラブルフラスコに、エタノール80g、無水硫化ソーダ5.46g0.07モル、硫黄3.36g0.105モルを仕込み、80°Cに昇温した。この溶液を攪拌しながら、上記CH3CH2O3Si-CH23-S-CH26-Clを49.91g0.14モルゆっくり滴下した。滴下終了後、80°Cにて10時間攪拌を続けた。攪拌終了後、冷却し、生成した塩を濾別した後、溶媒のエタノールを減圧蒸留した。得られた赤褐色透明の溶液をIR分析、1H-NMR分析及び超臨界クロマトグラフィー分析を行った結果、平均組成式3Si3S6S256S3Si3で表される化合物であることを確認した。このもののGPC分析における純度は85.2であった。製造例22-ヒドロキシエチル-チオウレアの合成法2-エタノールアミン61g,1.0mol及びチオカルボニルジイミダゾールTCDI,200g,1.2molのジクロロメタン10L溶液を室温で2時間撹拌した。25アンモニア水溶液2.0L,過剰量を添加した後、反応混合物を室温で終夜撹拌した。溶剤を除去し、得られた残渣をメタノールとジクロロメタンを溶離溶剤としたシリカゲルクロマトグラフィで精製し、白色固体を得た。IR分析、1H-NMR分析及びマススペクトル分析MS分析を行った結果、2-ヒドロキシエチル-チオウレア111g,0.93mol,収率93で表される化合物であった。製造例33-ヒドロキシプロピル-チオウレアの合成法3-プロパノールアミン75g,1.0mol及びチオカルボニルジイミダゾールTCDI,200g,1.2molのジクロロメタン10L溶液を室温で2時間撹拌した。25アンモニア水溶液2.0L,過剰量を添加した後、反応混合物を室温で終夜撹拌した。溶剤を除去し、得られた残渣をメタノールとジクロロメタンを溶離溶剤としたシリカゲルクロマトグラフィで精製し、白色固体を得た。IR分析、1H-NMR分析及びマススペクトル分析MS分析を行った結果、3-ヒドロキシプロピル-チオウレア123g,0.92mmol,収率92で表される化合物であった。実施例1~12混練の第一練り段階において、バンバリーミキサーにて、ゴム成分A、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体B、カーボンブラック、無機充填材C、シランカップリング剤D、アロマティックオイル、ステアリン酸及び老化防止剤6PPDを混練し、第一練り段階におけるゴム組成物の最高温度が150°Cになるように調整した。次に、混練の最終練り段階において、第1表に記載の残った配合剤を加えて混練し、最終練り段階におけるゴム組成物の最高温度が110°Cになるように調整した。これらのゴム組成物から得られた加硫ゴム組成物の低発熱性tanδ指数、耐摩耗性を上記の方法により評価した。結果を第1表に示す。実施例13混練の第一練り段階においてヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bを加えず、最終練り段階で加えた以外は、実施例1~12と同様に混練した。得られた加硫ゴム組成物の低発熱性tanδ指数、耐摩耗性を上記の方法により評価した。結果を第1表に示す。実施例14混練の第一練り段階において、ゴム成分A、カーボンブラック、無機充填材C、シランカップリング剤D、アロマティックオイル、ステアリン酸及び老化防止剤6PPDを加えて60秒間混練した後に、ヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bを加えて、さらに混練した。第一練り段階におけるゴム組成物の最高温度が150°Cになるように調整した。次に、混練の最終練り段階において、第1表に記載の残った配合剤を加えて混練し、最終練り段階におけるゴム組成物の最高温度が110°Cになるように調整した。このゴム組成物から得られた加硫ゴム組成物の低発熱性tanδ指数、耐摩耗性を上記の方法により評価した。結果を第1表に示す。比較例1~8混練の第一段階においてヒドロキシ基を有するチオウレア誘導体Bを加えない以外は、実施例1~12と同様に混練した。得られた加硫ゴム組成物の低発熱性tanδ指数、耐摩耗性を上記の方法により評価した。結果を第1表に示す。[注]1:旭化成株式会社製、溶液重合SBR、商品名タフデン20002:RSS33:N220ISAF、旭カーボン株式会社製、商品名804:東ソーシリカ株式会社製、商品名ニップシールAQ、BET比表面積205m2/g5:ビス3-トリエトシキシリルプロピルジスルフィド平均硫黄鎖長:2.35、Evonik社製シランカップリング剤、商品名Si75登録商標6:3-オクタノイルチオプロピルトリエトキシシランMomentivePerformanceMaterials社製、商品名NXTシラン登録商標7:上記化学式VIIで表されるシランカップリング剤、MomentivePerformanceMaterials社製、商品名NXT-Z登録商標8:製造例1で得られたシランカップリング剤3Si3S6S256S3Si39:チオウレア誘導体B-a:1-アリル-3-2-ヒドロキシエチル-2-チオウレア、東京化成工業株式会社製、商品名1-アリル-3-2-ヒドロキシエチル-2-チオ尿素10:チオウレア誘導体B-b:製造例2で得られた2-ヒドロキシエチル-チオウレア11:チオウレア誘導体B-c:製造例3で得られた3-ヒドロキシプロピル-チオウレア12:N-1,3-ジメチルブチル-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン、大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクラック6C13:2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリン重合体、大内新興化学工業株式会社製、商品名ノクラック22414:1,3-ジフェニルグアニジン、三新化学工業株式会社製、商品名サンセラーD15:ジ-2-ベンゾチアゾリルジスルフィド、三新化学工業株式会社製、商品名サンセラーDM16:N-tert-ブチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、三新化学工業株式会社製、商品名サンセラーNS第1表から明らかなように、実施例1~14のゴム組成物は、比較例1~8の対比すべきゴム組成物と比較して、いずれも低発熱性tanδ指数及び耐摩耗性が良好であった。"