"一般式Iで表されるトリエーテル。I式中、Raは、水素原子または炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表し、Rb、RcおよびRdは、それぞれ独立に、炭素原子数1~20のハイドロカルビル基、炭素原子数1~20のハイドロカルビル基で置換されたシリル基を表し、ReおよびRfは、それぞれ独立に、炭素原子数1~5のハイドロカルビル基を表し、Rg、Rh、Ri、Rj、RkおよびRlは、それぞれ独立に水素原子または炭素原子数1~5のハイドロカルビル基を表し、Eは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、または錫原子を表す。一般式Iにおいて、Eがケイ素原子である請求項1に記載のトリエーテル。一般式Iにおいて、ReおよびRfが炭素原子数1~5の直鎖状アルキル基である請求項1または2に記載のトリエーテル。一般式Iにおいて、Rg、Rh、Ri、Rj、RkおよびRlが水素原子である請求項1~3のいずれかに記載のトリエーテル。下記成分A、BおよびCを接触させて得られるオレフィン重合用触媒。Aチタン原子、マグネシウム原子、およびハロゲン原子を含有するオレフィン重合用固体触媒成分B有機アルミニウム化合物C一般式Iで表されるトリエーテル下記成分A、B、CおよびDを接触させて得られるオレフィン重合用触媒。Aチタン原子、マグネシウム原子、およびハロゲン原子を含有するオレフィン重合用固体触媒成分、B有機アルミニウム化合物C一般式Iで表されるトリエーテルDアルコキシケイ素化合物電子供与性化合物bが、アルコキシ基を有する脂肪族カルボン酸エステル、マロン酸ジエステル、コハク酸ジエステル、シクロヘキサンジカルボン酸ジエステル、フタル酸ジエステル、ドデカン二酸ジエステル、およびカルボナートからなる群から選ばれる化合物である、請求項5または6のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。オレフィン重合用固体触媒成分Aが、チタン原子とマグネシウム原子とを含む固体成分a、電子供与性化合物b、および下式viiまたはviiiで表されるハロゲン化金属化合物を接触させることにより得られることを特徴とする請求項5~7のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。M1R11pbX3bviiM1OR11pbX3bviii式中、M1は第4族、第13族または第14族原子を、R11は炭素原子数が1~20のハイドロカルビル基を、X3はハロゲン原子を、pはM1の原子価を表す。bは0<b≦pを満足する数を表す。オレフィン重合用固体触媒成分Aが、チタン原子とマグネシウム原子とを含む固体成分a、電子供与性化合物b、下式viiまたはviiiで表されるハロゲン化金属化合物、および有機酸クロライドeを接触させることにより得られることを特徴とする請求項5~7のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。M1R11pbX3bviiM1OR11pbX3bviii式中、M1は第4族、第13族または第14族原子を、R11は炭素原子数が1~20のハイドロカルビル基を、X3はハロゲン原子を、pはM1の原子価を表す。bは0<b≦pを満足する数を表す。固体成分aが、チタン原子、マグネシウム原子およびハイドロカルビルオキシ基を含有するオレフィン重合用固体触媒成分前駆体a-1である請求項8または9に記載のオレフィン重合用触媒。オレフィン重合用固体触媒成分前駆体a-1が、Si-O結合を有するケイ素化合物a-1a、一般式ivで表されるチタン化合物a-1bを、有機マグネシウム化合物a-1cで還元して得られる請求項10に記載のオレフィン重合用触媒。ivただし、上式ivにおいて、nは1~20の整数を表し、R7は炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表す。X1はハロゲン原子または炭素原子数1~20のハイドロカルビルオキシ基を表し、X1は互いに同じであっても異なっていてもよい。オレフィン重合用固体触媒成分Aが、チタン化合物c、マグネシウム化合物dおよび電子供与性化合物bを接触させることにより得られることを特徴とする請求項5~7のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。オレフィン重合用固体触媒成分Aが、チタン化合物c、マグネシウム化合物d、電子供与性化合物bおよび有機酸クロライドeを接触させることにより得られることを特徴とする請求項5~7のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。マグネシウム化合物dがジアルコキシマグネシウムd-2である請求項12または13に記載のオレフィン重合用触媒。マグネシウム化合物dがハロゲン化マグネシウムd-1である請求項12または13に記載のオレフィン重合用触媒。請求項5~15のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合させる工程からなるオレフィン重合体の製造方法。オレフィンが、炭素原子数3~20のα―オレフィンである請求項16記載のα―オレフィン重合体の製造方法。しかしながら、上記のオレフィン重合用触媒は重合活性の観点から未だ満足できるものではない。本発明の課題は、十分に高い重合活性を示すオレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法を提供することである。本発明は、一般式Iで表されるトリエーテルに関する。I式中、Raは、水素原子または炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表し、Rb、RcおよびRdは、それぞれ独立に、炭素原子数1~20のハイドロカルビル基、炭素原子数1~20のハイドロカルビル基で置換されたシリル基を表し、ReおよびRfは、それぞれ独立に、炭素原子数1~5のハイドロカルビル基を表し、Rg、Rh、Ri、Rj、RkおよびRlは、それぞれ独立に水素原子または炭素原子数1~5のハイドロカルビル基を表し、Eは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、または錫原子を表す。本発明はまた、前記一般式Iに記載のトリエーテルを接触させて得られることを特徴とするオレフィン重合用触媒である。本発明は、また、上記オレフィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合させる工程からなるオレフィン重合体の製造方法に関する。以下、本発明について具体的に説明する。[トリエーテル]一般式IにおけるRaのハイドロカルビル基としては、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子、シリル基等を置換基として有していてもよい。一般式IにおけるRaのアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、およびn-オクチル基のような直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tertペンチル基、テキシル基および2-エチルヘキシル基のような分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、およびシクロオクチル基のような環状アルキル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数1~20の直鎖状、分岐状もしくは環状アルキル基であり、より好ましくは直鎖状もしくは分岐状で炭素原子数1~20のアルキル基である。Raのアラルキル基としては、ベンジル基、およびフェネチル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数7~20のアラルキル基である。Raのアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、2,6-ジイソプロピルフェニル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数6~20のアリール基である。Raのアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、3-ブテニル、および5-ヘキセニル基のような直鎖状アルケニル基;イソブテニル基、および5-メチル-3-ペンテニル基のような分岐状アルケニル基;2-シクロヘキセニル基、および3-シクロヘキセニル基のような環状アルケニル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数2~20のアルケニル基である。一般式IにおけるRaとして好ましくは、水素原子または炭素原子数1~20のアルキル基であり、より好ましくは水素原子または炭素原子数1~20の直鎖状または分岐状アルキル基であり、更に好ましくは水素原子または炭素原子数1~20の直鎖状または分岐状アルキル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tertペンチル基、テキシル基および2-エチルヘキシル基である。一般式IにおけるRb、RcおよびRdのハイドロカルビル基としては、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子、シリル基等を置換基として有していてもよい。一般式IにおけるRb、RcおよびRdのアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、およびn-オクチル基のような直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tertペンチル基、テキシル基および2-エチルヘキシル基のような分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、およびシクロオクチル基のような環状アルキル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数1~20の直鎖状、分岐状もしくは環状アルキル基であり、より好ましくは直鎖状もしくは分岐状で炭素原子数1~20のアルキル基である。Rb、RcおよびRdのアラルキル基としては、ベンジル基、およびフェネチル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数7~20のアラルキル基である。Rb~Rdのアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、2,6-ジイソプロピルフェニル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数6~20のアリール基である。Rb、RcおよびRdのアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、3-ブテニル、および5-ヘキセニル基のような直鎖状アルケニル基;イソブテニル基、および5-メチル-3-ペンテニル基のような分岐状アルケニル基;2-シクロヘキセニル基、および3-シクロヘキセニル基のような環状アルケニル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数2~20のアルケニル基である。一般式IにおけるRb、RcおよびRdのハイドロカルビル基として好ましくは、炭素原子数1~10のハイドロカルビル基であり、更に好ましくはメチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基のような直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tertペンチル基、テキシル基および2-エチルヘキシル基のような分岐状アルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、2,6-ジイソプロピルフェニル基のようなアリール基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tertペンチル基、テキシル基、フェニル基である。一般式IにおけるRb、RcおよびRdのハイドロカルビル基で置換されたシリル基としては、例えば、炭素原子数1~20のハイドロカルビル基1つで置換された1置換シリル基、炭素原子数1~20のハイドロカルビル基2つで置換された2置換シリル基、炭素原子数1~20のハイドロカルビル基3つで置換された3置換シリル基等が挙げられる。炭素原子数1~20のハイドロカルビル基1つで置換された1置換シリル基としては、例えば、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基等が挙げられる。炭素原子数1~20のハイドロカルビル基2つで置換された2置換シリル基としては、例えば、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基等が挙げられる。炭素原子数1~20のハイドロカルビル基3つで置換された3置換シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリブチルシリル基、トリ-sec-ブチルシリル基、トリ-tert-ブチルシリル基、トリ-イソブチルシリル基、tert-ブチル-ジメチルシリル基、トリペンチルシリル基、トリヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられる。一般式IにおけるRb、RcおよびRdのハイドロカルビル基で置換されたシリル基として好ましくは、炭素原子数1~20のハイドロカルビル基3つで置換されたシリル基であり、より好ましくは炭素原子数1~10のハイドロカルビル基3つで置換されたシリル基であり、特に好ましくはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリブチルシリル基、トリ-sec-ブチルシリル基、トリ-tert-ブチルシリル基、トリ-イソブチルシリル基、tert-ブチル-ジメチルシリル基、トリペンチルシリル基、トリヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基である。一般式IにおけるReおよびRfの炭素原子数1~5のハイドロカルビル基としては、アルキル基、アルケニル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子、シリル基等を置換基として有していてもよい。一般式IにおけるReおよびRfのアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、およびn-ペンチル基のような直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基、およびイソペンチル基のような分岐状アルキル基が挙げられる。ReおよびRfのアルケニル基としては、ビニル基、およびアリル基のような直鎖状アルケニル基が挙げられる。一般式IにおけるReおよびRfとして好ましくは、炭素原子数1~5の直鎖状アルキル基または炭素原子数2~5の直鎖状の直鎖状アルケニル基であり、より好ましくは、炭素原子数1~5の直鎖状アルキル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基であり、最も好ましくはメチル基である。一般式IにおけるRg、Rh、Ri、Rj、RkおよびRlの炭素原子数1~5のハイドロカルビル基としては、アルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、およびn-ペンチル基のような直鎖状アルキル基が挙げられる。一般式IにおけるRg、Rh、Ri、Rj、RkおよびRlとして好ましくは水素原子またはメチル基、エチル基、n-プロピル基であり、より好ましくは水素原子またはメチル基であり、特に好ましくは水素原子である。一般式IにおいるEとしては、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、錫原子が挙げられ、好ましくは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子であり、特に好ましくは、ケイ素原子である。一般式Iで表されるトリエーテルの具体例としては、下記化合物を挙げることができる。また、一般式IのReおよびRfに相当するメチル基を、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、またはn-ペンチル基に換えた化合物も挙げることができる。[トリエーテルの製造方法]本発明における一般式Iで表されるトリエーテルの製造方法は特に限定されるものではないが、以下の合成ルート1~4が挙げられる。トリエーテルの収率の観点から、合成ルート1および2が好ましい。上記の合成ルート1では、一般式IIで表されるマロン酸エステル誘導体から以下の工程[1-1]~[1-7]を含む製造方法で、一般式Iで表されるトリエーテルを製造することが出来る。工程[1-1]は、一般式IIで表されるマロン酸エステル誘導体IIと一般式IIIで表される化合物を塩基の存在下で反応させることにより、一般式IVで表される化合物を得る工程である。II式中、Raは前記の一般式Iと同じであり、RmおよびRnは、それぞれ独立に、炭素原子数1~10のアルキル基を表す。III式中、Rf、RkおよびRlは前記の一般式Iと同じであり、Xaは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CF3SO3基、CH3SO3基、またはp-CH3C6H4SO3基を表す。IV式中、Rf、RkおよびRlは前記一般式Iと同じであり、RmおよびRnは前記一般式IIと同じである。工程[1-2]は、一般式IVで表される化合物と還元剤との反応により、一般式Vで表される化合物を得る工程である。V式中、Ra、Rf、RkおよびRlは前記一般式Iと同じである。工程[1-3]は、一般式Vで表される化合物と一般式VIで表されるケトンまたは一般式VIIで表されるアセタールとの反応により、一般式VIIIで表されるケタール誘導体を得る工程である。VI式中、RoおよびRpは、それぞれ独立に、炭素原子数1~5のアルキル基を表す。VII式中、RoおよびRpは、それぞれ独立に、炭素原子数1~5のアルキル基を表す。VIII式中、Ra、Rf、RkおよびRlは前記の一般式Iと同じ、RoおよびRpは前記一般式VIと同じである。工程[1-4]は、一般式で表される化合物と、一般式IXで表される化合物とを反応させ、一般式Xで表される化合物を得る工程である。IX式中、Rqは炭素原子数1~5のアルキル基を表し、Mはマグネシウム原子またはアルミニウム原子を表し、Xbはハロゲン原子を表し、xはMの原子価であり、yは0または1である。X式中、Ra、Rf、RkおよびRlは前記の一般式Iと同じであり、Ro、RpおよびRqは前記一般式VIIおよび一般式IXと同じである。工程[1-5]は、一般式Xで表される化合物と一般式XIで表される化合物を塩基の存在下で反応させることにより、一般式XIIで表される化合物を得る工程である。XI式中、Reは前記の一般式Iと同じであり、Xcは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CF3SO3基、CH3SO3基、またはp-CH3C6H4SO3基を表す。XII式中、Ra、Re、Rf、RkおよびRlは前記の一般式Iと同じであり、Ro、RpおよびRqは前記一般式VIIおよび一般式IXと同じである。工程[1-6]は、一般式XIIで表される化合物と酸との反応により、一般式XIIIで表されるジエーテルモノアルコール化合物を得る工程である。XIII式中、Ra、Re、Rf、RkおよびRlは一般式Iと同じである。工程[1-7]は、一般式XIIIで表される化合物と一般式XIVで表される化合物を塩基の存在下で反応させることにより、一般式Iで表されるトリエーテルを得る工程である。XIV式中、EおよびRb、RcおよびRdは前記の一般式Iと同じであり、Xdは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CF3SO3基、CH3SO3基、またはp-CH3C6H4SO3基を表す。工程[11]一般式IIで表されるマロン酸エステル誘導体の具体例としては下記化合物が挙げられる。また、一般式IIのRmおよびRnに相当するエチル基を、メチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソプロピル基、またはイソブチル基に代えた化合物も挙げられる。一般式IIIで表される化合物の具体例としては下記化合物を挙げることができる。クロロメチルメチルエーテル、クロロメチルエチルエーテル、クロロメチルプロピルエーテル、クロロメチルブチルエーテル、クロロメチルペンチルエーテルなどが挙げられる。また、これらの化合物の塩素原子を臭素原子、ヨウ素原子、CF3SO3基、CH3SO3基、またはp-CH3C6H4SO3基に変更した化合物も挙げられる。工程[1-1]に用いられる塩基とは、例えば、有機リチウム、水酸化アルカリ金属、水素化アルカリ金属、水素化アルカリ土類金属が挙げられる。具体的には、メチルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウムおよび水素化カルシウムが挙げられ、好ましくはn-ブチルリチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウムまたは水素化カリウムであり、さらに好ましくは、水素化ナトリウム、水素化カリウムである。工程[1-1]での塩基の使用量は、一般式IIで表されるマロン酸エステル誘導体に対するモル比が1.0~10.0であり、収率の点から1.0~5.0が好ましい。一般式IIIで表される化合物の使用量は、一般式IIで表されるマロン酸エステル誘導体量に対するモル比が通常1.0~10.0であり、収率の点から1.0~5.0が好ましい。工程[1-1]で用いる溶媒は、類似の反応で一般的に用いられる溶媒であれば特に制限されるものではなく、トルエン、ベンゼン、o-キシレン、m-キシレン、およびp-キシレンのような芳香族炭化水素;ヘキサン、ヘプタン、およびシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素;テトラヒドロフラン、および1,4-ジオキサンのようなエーテル;ジメチルスルホキシド;N,N-ジメチルホルムアミドおよびN,N-ジメチルアセタミドが挙げられ、より好ましくは、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメチルスルホキシド、N,N-ジメチルホルムアミドである。これらの溶媒は、モレキュラーシーブスまたは活性アルミナ、ナトリウムまたは水素化カルシウムなどにより乾燥して用いることが好ましい。工程[1-1]における溶媒の使用量は、一般式IIで表されるマロン酸エステル誘導体量の濃度範囲が0.001~4.0mol/L、より好ましくは0.01~3.0mol/L、さらに好ましくは0.1~2.0mol/Lとなるような範囲で用いることができる。工程[1-1]において、反応温度は、-78°Cから溶媒の沸点以下であり、好ましくは、20°C~溶媒の沸点以下、より好ましくは、10~40°Cである。工程[1-1]において、反応は、空気、ヘリウム、アルゴンまたは窒素気流下で行うことができる。好ましくは、ヘリウム、アルゴンまたは窒素気流下、より好ましくは、窒素またはアルゴン気流下である。工程[1-1]において、圧力の影響は無視できるため、大気圧下で反応を行うのが一般的である。工程[1-1]において、反応時間は、30分間~48時間である。好ましくは30分間~8時間である。工程[1-1]においては、一般式IIで表されるマロン酸エステル誘導体を有機溶媒に溶解または希釈し、塩基と混合した後に、一般式IIIで表される化合物に加えることが好ましい。工程[1-1]において得られる一般式IVで表される化合物の具体例としては下記化合物が挙げられる。また、一般式IVのRmおよびRnに相当するエチル基をメチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソプロピル基、またはイソブチル基に代えた化合物も挙げられる。工程[1-2]工程[1-2]に用いられる還元剤の具体例には、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウムが挙げられる。工程[1-2]での還元剤の使用量は、一般式IVで表される化合物に対するモル比が0.5~10.0であり、収率の点から1.5~3.0が好ましい。工程[1-2]で用いる溶媒は、類似の反応で一般的に用いられる溶媒であれば特に制限されるものではなく、トルエン、ベンゼン、o-キシレン、m-キシレン、およびp-キシレンのような芳香族炭化水素;、ヘキサン、ヘプタン、およびシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、および1,4-ジオキサンのようなエーテルが挙げられ、より好ましくは、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサンである。これらの溶媒は、モレキュラーシーブスまたは活性アルミナ、ナトリウムまたは水素化カルシウムなどにより乾燥して用いることが好ましい。工程[12]における溶媒の使用量は、般式IVで表される化合物量の濃度範囲が0.001~4.0mol/L、より好ましくは0.01~3.0mol/L、さらに好ましくは0.1~2.0mol/Lとなるような範囲で用いることができる。工程[1-2]において、反応温度は、-78°Cから溶媒の沸点以下であり、好ましくは、20°C~溶媒の沸点以下、より好ましくは、10~50°Cであり、最も好ましくは、10~40°Cである。工程[1-2]において、反応は、空気、ヘリウム、アルゴンまたは窒素気流下で行うことができる。好ましくは、ヘリウム、アルゴンまたは窒素気流下、より好ましくは、窒素またはアルゴン気流下である。工程[1-2]において、圧力の影響は無視できるため、大気圧下で反応を行うのが一般的である。工程[1-2]において、反応時間は、30分間~48時間である。工程[1-2]において得られる一般式Vで表される化合物の具体例としては下記化合物が挙げられる。工程[1-3]一般式VIで表されるケトンの具体例としては下記化合物が挙げられる。一般式VIIで表されるアセタールの具体例としては下記化合物が挙げられる。工程[1-3]において、一般式Vで表される化合物と一般式VIまたはVIIで表される化合物の反応は、触媒として酸を用いてもよい。酸としては、p-トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、およびトリフルオロメタンスルホン酸のようなスルホン酸;ピリジウムp-トルエンスルホナートのようなスルホナート;硫酸、塩酸および硝酸のような無機酸;塩化アルミニウム、塩化鉄III、塩化スズIIのようなルイス酸が挙げられ、好ましくはスルホン酸であり、特に好ましくはp-トルエンスルホン酸である。工程[1-3]において酸の使用量は、一般式Vで表される化合物量に対するモル比が0.001~1であり、収率の点から0.01~0.5が好ましい。工程[1-3]において一般式VIまたはVIIで表される化合物の使用量は、一般式Vで表される化合物量に対するモル比が通常1.0~10.0であり、収率の点から1.0~5.0が好ましい。工程[1-3]で用いる溶媒は、類似の反応で一般的に用いられる溶媒であれば特に制限されるものではなく、トルエン、ベンゼン、o-キシレン、m-キシレン、およびp-キシレンのような芳香族炭化水素;、ヘキサン、ヘプタン、およびシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素;テトラヒドロフラン、および1,4-ジオキサンのようなエーテル;ジメチルスルホキシド;N,N-ジメチルホルムアミドおよびN,N-ジメチルアセタミドが挙げられ、より好ましくは、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメチルスルホキシド、N,N-ジメチルホルムアミドである。これらの溶媒は、モレキュラーシーブスまたは活性アルミナ、ナトリウムまたは水素化カルシウムなどにより乾燥して用いることが好ましい。工程[1-3]における溶媒の使用量は、一般式Vで表される化合物の濃度範囲が0.001~4.0mol/L、より好ましくは0.01~3.0mol/L、さらに好ましくは0.1~2.0mol/Lとなるような範囲で用いることができる。工程[1-3]において、反応温度は、-78°Cから溶媒の沸点以下であり、好ましくは、10°C~溶媒の沸点以下、より好ましくは、10~40°Cである。工程[1-3]において、反応時間は、30分間~48時間であり、好ましくは30分間~8時間である。工程[1-3]で得られる一般式VIIIで表される化合物の具体例としては下記化合物が挙げられる。工程[1-4]工程1-4]は、例えば、Synlett2011996201~208頁に記載される公知の方法で行うことができる。一般式IXで表される化合物としては、例えば、有機マグネシウム化合物および有機アルミニウム化合物が挙げられる。有機マグネシウム化合物の具体例としては、メチルマグネシウムクロリド,エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムクロリド、ペンチルマグネシウムクロリド等が挙げられ、好ましくは、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムクロリドである。また、これらの化合物のクロリドをブロミド、アイオダイドに変更した化合物も挙げられる。有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド等のジアルキルアルミニウムクロリドが挙げられ、好ましくは、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウムである。また、これらの化合物のクロリドをブロミド、アイオダイドに変更した化合物も挙げられる。工程[1-4]では、一般式IXで表される化合物の使用量は、一般式VIIIで表される化合物量に対するモル比が0.1~100、好ましくは0.1~10、より好ましくは、1.0~4.0、最も好ましくは、1.0~2.0である。工程[1-4]で用いる溶媒は、類似の反応で一般的に用いられる溶媒であれば特に制限されるものではなく、例えば、トルエン、ベンゼン、o-キシレン、m-キシレン、およびp-キシレンのような芳香族炭化水素;ヘキサン、ヘプタン、およびシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素;テトラヒドロフランおよび1,4-ジオキサンのような環状エーテルが挙げられ、より好ましくは芳香族炭化水素であり、特に好ましくはベンゼン、トルエンである。これらの溶媒はモレキュラーシーブス、活性アルミナ、ナトリウムまたは水素化カルシウムなどにより乾燥して用いることが好ましい。工程[1-4]における溶媒の使用量は、一般式VIIIで表される化合物の濃度範囲が0.001~4.0mol/L、より好ましくは0.01~2.0mol/L、さらに好ましくは0.1~1.0mol/Lとなるような範囲で用いることができる。工程[1-4]において、反応温度は、0~180°Cであり、好ましくは、10~120°Cであり、より好ましくは、50~100°Cである。工程[1-4]において、反応は、空気、ヘリウム、アルゴンまたは窒素気流下で行うことができる。好ましくは、ヘリウム、アルゴンまたは窒素気流下、より好ましくは、窒素またはアルゴン気流下である。工程[1-4]において、圧力の影響は無視できるため、大気圧下で反応を行うのが一般的である。工程[1-4]において、反応時間は、30分間~48時間であり、好ましくは30分間~3時間である。工程[1-4]で得られる一般式Xで表される化合物の具体例としては下記化合物が挙げられる。工程[1-5]一般式XIで表される化合物は、具体的にはヨードメタン、ヨードエタン、1-ヨードプロパン、2-ヨードプロパン、1-ヨードブタン、1-ヨード-1,1-ジメチルエタン、イソブチルアイオダイドなどが挙げられる。また、これらの化合物のヨウ素原子を塩素原子、臭素原子、CF3SO3基、CH3SO3基、またはp-CH3C6H4SO3基に変更した化合物も挙げられる。工程[1-5]に用いられる塩基は、工程[1-1]における塩基と同様である。工程[1-5]において、一般式XIで表される化合物の使用量は、一般式Xで表される化合物量に対するモル比が通常1.0~10.0であり、収率の点から1.0~5.0が好ましい。工程[1-5]で用いる溶媒および使用量は、工程[1-1]における溶媒および使用量と同様である。工程[1-5]において、反応温度および反応時間は、工程[1-1]における反応温度および反応時間と同様である。工程[1-5]で得られる一般式XIIで表される化合物の具体例としては下記化合物が挙げられる。工程[1-6]工程[1-6]に用いられる酸は、具体的には、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、臭化水素、硫酸、塩化チタンIV、塩化鉄III、塩化セリウムIII、トリメチルシリルアイオダイド、トリメチルシリルトリフラートが挙げられ、好ましくは、塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩化チタンIV、より好ましくは、トリフルオロ酢酸、塩化チタンIV、最も好ましくは塩化チタンIVである。工程[1-6]での酸の使用量は、一般式XIIで表される化合物量に対するモル比が1.0~10.0であり、収率の点から1.0~5.0が好ましい。工程[1-6]で用いる溶媒は、類似の反応で一般的に用いられる溶媒であれば特に制限されるものではなく、トルエン、ベンゼン、o-キシレン、m-キシレン、およびp-キシレンのような芳香族炭化水素;、ヘキサン、ヘプタン、およびシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素;テトラヒドロフラン、および1,4-ジオキサンのようなエーテル;ジクロロメタン、クロロホルム、および四塩化炭素のようなハロゲン化物;メタノール、エタノール、プロパノールおよびイソプロパノールのようなアルコール;ジメチルスルホキシド;N,N-ジメチルホルムアミドおよびN,N-ジメチルアセタミドが挙げられ、より好ましくは、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジクロロメタンである。これらの溶媒は、モレキュラーシーブスまたは活性アルミナ、ナトリウムまたは水素化カルシウムなどにより乾燥して用いることが好ましい。工程[1-6]における溶媒の使用量は、一般式XIIで表される化合物量の濃度範囲が0.001~4.0mol/L、より好ましくは0.01~3.0mol/L、さらに好ましくは0.1~2.0mol/Lとなるような範囲で用いることができる。工程[1-6]において、反応温度は、-78°Cから溶媒の沸点以下であり、好ましくは、0°C~溶媒の沸点以下、より好ましくは、0~40°Cである。工程[1-6]において、反応は、空気、ヘリウム、アルゴンまたは窒素気流下で行うことができる。好ましくは、ヘリウム、アルゴンまたは窒素気流下、より好ましくは、窒素またはアルゴン気流下である。工程[1-6]において、圧力の影響は無視できるため、大気圧下で反応を行うのが一般的である。工程[1-6]において、反応時間は、10分間~48時間である、好ましくは10分間~8時間である。工程[1-6]で得られる一般式XIIIで表される化合物の具体例としては下記化合物が挙げられる。工程[1-7]一般式XIVで表される化合物の具体例としては下記化合物を挙げることができる。工程[1-7]に用いられる塩基とは、例えば、有機リチウム、水素化アルカリ金属、水素化アルカリ土類金属、アミン化合物が挙げられる。具体的には、メチルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウムおよび水素化カルシウム、トリエチルアミン、イミダゾール、ピリジン、4-N、N-ジメチルアミノピリジンが挙げられ、好ましくはトリエチルアミン、イミダゾール、4-N、N-ジメチルアミノピリジンであり、さらに好ましくはイミダゾール、4-N、N-ジメチルアミノピリジンである。工程[1-7]での塩基の使用量は、一般式XIIIで表される化合物量に対するモル比が1.0~10.0であり、収率の点から1.0~5.0が好ましい。一般式XIVで表される化合物の使用量は、一般式XIIIで表される化合物量に対するモル比が通常1.0~10.0であり、収率の点から1.0~5.0が好ましい。工程[1-7]で用いる溶媒は、類似の反応で一般的に用いられる溶媒であれば特に制限されるものではなく、トルエン、ベンゼン、o-キシレン、m-キシレン、およびp-キシレンのような芳香族炭化水素;、ヘキサン、ヘプタン、およびシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素;テトラヒドロフラン、および1,4-ジオキサンのようなエーテル;ジメチルスルホキシド;N,N-ジメチルホルムアミドおよびN,N-ジメチルアセタミドが挙げられ、より好ましくは、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメチルスルホキシド、N,N-ジメチルホルムアミドである。これらの溶媒は、モレキュラーシーブスまたは活性アルミナ、ナトリウムまたは水素化カルシウムなどにより乾燥して用いることが好ましい。工程[1-7]における溶媒の使用量は、一般式XIIIで表される化合物量の濃度範囲が0.001~4.0mol/L、より好ましくは0.01~3.0mol/L、さらに好ましくは0.1~2.0mol/Lとなるような範囲で用いることができる。工程[1-7]において、反応温度は、-78°Cから溶媒の沸点以下であり、好ましくは、10°C~溶媒の沸点以下、より好ましくは、10~40°Cである。工程[1-7]において、反応は、空気、ヘリウム、アルゴンまたは窒素気流下で行うことができる。好ましくは、ヘリウム、アルゴンまたは窒素気流下、より好ましくは、窒素またはアルゴン気流下である。工程[1-7]において、圧力の影響は無視できるため、大気圧下で反応を行うのが一般的である。工程[1-7]において、反応時間は、30分間~48時間である、好ましくは30分間~8時間である。工程[1-7]において、一般式XIIIで表される化合物と一般式XIVで表される化合物との反応は、一般式XIVで表される化合物を有機溶媒に溶解または希釈し、塩基と混合した後に、一般式XIIIで表される化合物に加えることが好ましい。得られた一般式Iで表されるトリエーテルは、必要に応じて蒸留、再結晶、シリカゲルまたはアルミナを用いる薄相またはカラムクロマトグラフィー、およびサイズ排除型分取液体クロマトグラフィーによる精製操作を行って、純度を高めることができる。上記の合成ルート2では、一般式XVで表されるトリオール化合物から以下の工程[2-1]~[2-6]を含む製造方法で、一般式Iで表されるトリエーテルを製造することが出来る。工程[2-1]は、一般式XVで表されるトリオール化合物と、一般式VIで表されるケトンまたは一般式VIIで表されるアセタールとの反応により、一般式XVIで表されるケタール誘導体を得る工程である。XV式中、Raは前記一般式Iと同じである。VI式中、RoおよびRpは、それぞれ独立に、炭素原子数1~5のアルキル基を表す。VII式中、RoおよびRpは、それぞれ独立に、炭素原子数1~5のアルキル基を表す。XVI式中、Raは、前記の一般式Iと同じであり、RoおよびRpは、前記の一般式VIまたはVIIと同じである。工程[2-2]は、一般式XVIで表される化合物を一般式XVIIで表される化合物とを塩基存在下で反応させることにより、一般式VIIIで表される化合物を得る工程である。XVII式中、Rfは前記の一般式Iと同じであり、Xeは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CF3SO3基、CH3SO3基、またはp-CH3C6H4SO3基を表す。VIII式中、RaおよびRfは、前記の一般式Iと同じである。工程[2-3]は、工程[1-4]と同じである。工程[2-4]は、工程[1-5]と同じである。工程[2-5]は、工程[1-6]と同じである。工程[2-6]は、工程[1-7]と同じである。工程[2-1]工程2-1]で使用する一般式XVで表されるトリオール化合物は、例えば、Agric.Biol.Chem.461982411~418頁に記載される公知の方法で合成できる。一般式XVで表されるトリオール化合物の具体例としては下記化合物が挙げられる。工程[2-1]において、一般式XVで表されるトリオール化合物と一般式VIまたはVIIで表される化合物の反応は、触媒として酸を用いてもよい。酸としては、工程1-3]と同じである。工程[2-1]において酸の使用量は、工程[1-3]と同じである。工程[2-1]において一般式VIまたはVIIで表される化合物の使用量は、工程[1-3]と同じである。工程[2-1]で用いる溶媒および使用量は、工程[1-3]と同じである。反応温度は、-78°Cから溶媒の沸点以下であり、好ましくは、10°C~溶媒の沸点以下、より好ましくは、10~40°Cである。工程[2-1]において、反応温度は、-78°Cから溶媒の沸点以下であり、好ましくは、10°C~溶媒の沸点以下、より好ましくは、10~40°Cである。工程[2-1]において、反応時間は、30分間~48時間である、好ましくは30分間~8時間である。工程[2-1]で得られる一般式XVIで表される化合物の具体例としては下記化合物が挙げられる。工程[2-2]一般式XVIIで表される化合物としては、具体的に、ヨードメタン、ヨードエタン、1-ヨードプロパン、2-ヨードプロパン、1-ヨードブタン、1-ヨード-1,1-ジメチルエタン、イソブチルアイオダイドなどが挙げられる。また、これらの化合物のヨウ素原子を塩素原子、臭素原子、CF3SO3基、CH3SO3基、またはp-CH3C6H4SO3基に変更した化合物も挙げられる。工程[2-2]に用いられる塩基は、工程[1-1]における塩基と同様である。工程[2-2]において、一般式XVIIで表される化合物の使用量は、一般式XVIで表される化合物量に対するモル比が通常1.0~10.0であり、収率の点から1.0~5.0が好ましい。工程[2-2]で用いる溶媒および使用量は、工程[1-1]における溶媒および使用量と同様である。工程[2-2]において、反応温度および反応時間は、工程[1-1]における反応温度および反応時間と同様である。[固体触媒成分A]本発明において用いられる固体触媒成分Aの製造方法は特に限定されるものではないが、以下1および2に挙げる製造方法を例示することが出来る。[製造方法1]チタン原子とマグネシウム原子を含む固体成分a、および電子供与性化合物bを接触させる方法。[製造方法2]チタン化合物c、マグネシウム化合物dおよび電子供与性化合物bを接触させる方法。[製造方法1]チタン原子とマグネシウム原子を含む固体成分aチタン原子とマグネシウム原子を含む固体成分aであれば特に制限はないが、チタン原子、マグネシウム原子およびハイドロカルビルオキシ基を含有する固体触媒成分前駆体a-1、チタン酸マグネシウム、WO2004/039747号公報に記載のチタン酸アルミニウムマグネシウムが挙げられ、好ましくは固体触媒成分前駆体a-1である。固体触媒成分前駆体a-1のハイドロカルビルオキシ基としては、例えば炭素原子数が1~20のハイドロカルビルオキシ基が挙げられるが、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、シクロペントキシ基、シクロヘキソキシ基である。固体触媒成分前駆体a-1は、いかなる調製方法で合成されてもよい。例えば、Si-O結合を有するケイ素化合物a-1aの存在下に、チタン化合物a-1bを、有機マグネシウム化合物a-1cで還元する方法が挙げられる。Si-O結合を有するケイ素化合物a-1aとして、下式iからiiiで表わされる化合物を例示することができる。SiOR1aR24-aiR3R42SiOlSiR53iiR62SiOmiii[式中、R1~R6はそれぞれ独立に炭素原子数1~20のハイドロカルビル基または水素原子であり、aは0<a≦4を満たす整数であり、lは1~1000の整数であり;mは2~1000の整数である]式iからiiiで示すSi-O結合を有するケイ素化合物a-1aにおけるR1~R6のハイドロカルビル基として、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、およびドデシル基のようなアルキル基;フェニル基、クレジル基、キシリル基、およびナフチル基のようなアリール基;シクロヘキシル基およびシクロペンチル基のようなシクロアルキル基;アリル基のようなアルケニル基;ベンジル基のようなアラルキル基を例示することができる。式iからiiiで示すSi-O結合を有するケイ素化合物a-1aにおけるR1~R6は好ましくは、炭素原子数2~18のアルキル基または炭素原子数6~18のアリール基であり、特に好ましくは炭素原子数2~18の直鎖状アルキル基である。式iからiiiで示すSi-O結合を有するケイ素化合物a-1aの具体例としては、テトラメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、テトラエトキシシラン、トリエトキシエチルシラン、ジエトキシジエチルシラン、エトキシトリエチルシラン、テトライソプロポキシシラン、ジイソプロポキシ-ジイソプロピルシラン、テトラプロポキシシラン、ジプロポキシジプロピルシラン、テトラブトキシシラン、ジブトキシジブチルシラン、ジシクロペントキシジエチルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、シクロヘキシロキシトリメチルシラン、フェノキシトリメチルシラン、テトラフェノキシシラン、トリエトキシフェニルシラン、ヘキサメチルジシロヘキサン、ヘキサエチルジシロヘキサン、ヘキサプロピルジシロキサン、オクタエチルトリシロキサン、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、メチルハイドロポリシロキサン、およびフェニルハイドロポリシロキサンを例示することができる。式iからiiiで示すSi-O結合を有するケイ素化合物a-1aの中でも、好ましくは式iにおけるaが1≦a≦4を満たす化合物であり、より好ましくは、aが4であるテトラアルコキシシランであり、最も好ましくはテトラエトキシシランである。チタン化合物a-1bとして下式ivで表される化合物を例示することができる。iv[ただし、上式ivにおいて、nは1~20の整数を表し、R7は炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表す。X1はハロゲン原子または炭素原子数1~20のハイドロカルビルオキシ基を表し、X1は互いに同じであっても異なっていてもよい]式ivで示すチタン化合物a-1bにおけるR7は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-デシル基、およびn-ドデシル基のようなアルキル基;フェニル基、クレジル基、キシリル基、およびナフチル基のようなアリール基;シクロヘキシル基およびシクロペンチル基のようなシクロアルキル基;アリル基のようなアルケニル基;ならびにベンジル基のようなアラルキル基を例示することができる。R7は好ましくは、炭素原子数2~18のアルキル基または炭素原子数6~18のアリール基であり、特に好ましくは炭素原子数2~18の直鎖状アルキル基である。上式ivにおけるX1のハロゲン原子として、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を例示することができる。特に好ましくは塩素原子である。上式ivにおけるX1の炭素原子数1~20のハイドロカルビルオキシ基は、好ましくは、炭素原子数2~18のアルコキシ基であり、より好ましくは炭素原子数2~10のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素原子数2~6のアルコキシ基である。上式ivで表されるチタン化合物a-1bとして、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトライソブトキシチタン、ブトキシチタントリクロリド、ジブトキシチタンジクロリド、トリブトキシチタンクロリド、ジテトライソプロピルポリチタネートn=2~10の範囲の混合物、テトラブチルポリチタネートn=2~10の範囲の混合物、テトラヘキシルポリチタネートn=2~10の範囲の混合物、テトラオクチルポリチタネートn=2~10の範囲の混合物、およびテトラアルコキシチタンに少量の水を反応して得られるテトラアルコキシチタンの縮合物、ならびにこれらの2以上の組合せを例示することができる。上式ivで表されるチタン化合物a-1bは好ましくは、nが1、2または4であるチタン化合物であり、より好ましくはnが1であるチタン化合物であり、特に好ましくは、テトラ-n-アルコキシチタン、更に好ましくはテトラブトキシチタンである。有機マグネシウム化合物a-1cは、マグネシウム原子-炭素原子の結合を有する任意の化合物である。有機マグネシウム化合物として、下式vまたはviで表わされる化合物を例示することができ、良好な形態の触媒を得る観点から、前者の式vで表されるグリニャール化合物が好ましく、グリニャール化合物のエーテル溶液が特に好ましい:R8MgX2vR9R10Mgvi[R8~R10は炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表し、X2はハロゲン原子を表わす]式vまたはviにおけるR8~R10のハイドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、フェニル基、アリル基およびベンジル基のような、炭素原子数1~20の、アルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルケニル基を例示することができる。式vまたはviにおける好ましいR8~R10は、炭素原子数2~18のアルキル基または炭素原子数6~18のアリール基であり、特に好ましくは炭素原子数2~18のアルキル基である。式vにおけるX2として、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を例示することができる。特に好ましくは塩素原子である。上式で表されるグリニャール化合物の例としては、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグネシウムクロリド、イソプロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムクロリド、イソブチルマグネシウムクロリド、tert-ブチルマグネシウムクロリド、ペンチルマグネシウムクロリド、イソペンチルマグネシウムクロリド、シクロペンチルマグネシウムクロリド、ヘキシルマグネシウムクロリド、シクロヘキシルマグネシウムクロリド、オクチルマグネシウムクロリド、2-エチルヘキシルマグネシウムクロリド、フェニルマグネシウムクロリド、およびベンジルマグネシウムクロリドである。それらの中で、エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグネシウムクロリド、イソプロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムクロリド、およびイソブチルマグネシウムクロリドが好ましく、ブチルマグネシウムクロリドが特に好ましい。これらのグリニャール化合物は、好ましくは、それらのエーテル溶液として用いられる。エーテルの例としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、エチルブチルエーテルおよびジイソペンチルエーテルのようなジアルキルエーテル、ならびにテトラヒドロフランのような環状エーテルである。それらのうち、ジアルキルエーテルが好ましく、ジブチルエーテルまたはジイソブチルエーテルが特に好ましい。Si-O結合を有するケイ素化合物a-1aの存在下に、チタン化合物a-1bを、有機マグネシウム化合物a-1cで還元反応時に、任意にエステル類a-1dを共存させてもよい。エステル類a-1dとしては脂肪族カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、脂肪族ジカルボン酸ジエステル、および芳香族ジカルボン酸ジエステルが挙げられ、具体的には、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸フェニル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸エチル、吉草酸エチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、アニス酸エチル、コハク酸ジエチル、コハク酸ジブチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジブチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル、フタル酸モノエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸メチルエチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジプロピル、フタル酸ジイソプロピル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジペンチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ビス2-エチルヘキシル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、およびフタル酸ジフェニルを例示することができる。中でも好ましくは、安息香酸エチルのような芳香族カルボン酸エステル;フタル酸エステルのような芳香族ジカルボン酸ジエステルである。還元反応における溶媒として、ヘキサン、ヘプタン、オクタンおよびデカンのような脂肪族炭化水素;トルエンおよびキシレンのような芳香族炭化水素;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンおよびデカリンのような脂環式炭化水素;ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、エチルブチルエーテル、およびジイソペンチルエーテルのようなジアルキルエーテル;テトラヒドロフランのような環状エーテル;クロロベンゼンおよびジクロロベンゼンのようなハロゲン化芳香族;ならびに、これらの2種以上の組合せを例示することができる。中でも、好ましくは脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、または、脂環式炭化水素であり、より好ましくは脂肪族炭化水素、または、脂環式炭化水素であり、さらに好ましくは脂肪族炭化水素であり、特に好ましくはヘキサン、または、ヘプタンである。還元反応において、Si-O結合を有するケイ素化合物a-1aの使用量は、使用されるチタン化合物a-1b中の総チタン原子1molあたり、ケイ素原子が通常1~500mol、好ましくは1~300mol、特に好ましくは3~100molとなる量である。還元反応において、有機マグネシウム化合物a-1cの使用量は、使用される有機マグネシウム化合物a-1c中の総マグネシウム原子1molあたり、上記チタン原子と上記ケイ素原子との和が通常0.1~10mol、好ましくは0.2~5.0mol、特に好ましくは0.5~2.0molとなる量である。還元反応におけるチタン化合物a-1b、Si-O結合を有するケイ素化合物a-1aおよび有機マグネシウム化合物a-1cの使用量はまた、得られる固体触媒成分前駆体a-1中のマグネシウム原子の量が、該前駆体中のチタン原子1molあたり、1~51mol、好ましくは2~31mol、特に好ましくは4~26molとなるように決定してもよい。還元反応において、エステル類a-1dの使用量は、使用されるチタン化合物中の総チタン原子1molあたり、通常0.05~100mol、好ましくは0.1~60mol、特に好ましくは0.2~30molである。還元反応において、Si-O結合を有するケイ素化合物a-1a、チタン化合物a-1bおよび溶媒を含有する溶液中に有機マグネシウム化合物a-1cを加えるときの温度は、通常-50~100°Cであり、好ましくは-30~70°Cであり、特に好ましくは-25~50°Cの範囲である。有機マグネシウム化合物a-1cを加えるときの時間は特に限定されず、通常30分~6時間程度である。良好な形態の触媒を得る観点から、有機マグネシウム化合物a-1cは連続的に加えられるのが好ましい。該反応をさらに進めるために、5~120°Cでの反応を追加してもよい。さらに、還元反応時に担体物質を存在させ、固体触媒成分前駆体a-1は担体物質に担持されていてもよい。担体物質としては、特に制限はないが、例えば、SiO2、Al2O3、MgO、TiO2、およびZrO2のような多孔質無機酸化物;ポリスチレン、スチレン-ジビニルベンゼン共重合体、スチレン-エチレングリコール-ジメタクリル酸メチル共重合体、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、アクリル酸メチル-ジビニルベンゼン共重合体、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチル-ジビニルベンゼン共重合体、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル-ジビニルベンゼン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、およびポリプロピレンのような有機多孔質ポリマーが挙げられる。これらのうち好ましくは、有機多孔質ポリマーであり、特に好ましくは、スチレン-ジビニルベンゼン共重合体である。担体として好ましくは、固体触媒成分前駆体a-1を有効に固定化する観点から、細孔半径20~200nmにおける細孔容量が、0.3cm3/g以上であり、より好ましくは0.4cm3/g以上であり、かつ該範囲の細孔容量は、細孔半径3.5~7500nmにおける細孔容量に対して35以上であり、より好ましくは40以上である多孔質の担体である。Si-O結合を有するケイ素化合物a-1aと、一般式vで表されるチタン化合物a-1bと、任意にエステル類a-1dと、有機マグネシウム化合物a-1cを加えると、有機マグネシウム化合物によるチタン化合物の還元反応が進行するので、該チタン化合物のチタン原子は4価から3価に還元される。本発明においては、実質上全ての4価のチタン原子が3価に還元されるのが好ましい。得られた固体触媒成分前駆体a-1は、3価のチタン原子、マグネシウム原子およびハイドロカルビルオキシ基を含有し、一般に非晶性または極めて弱い結晶性を有し、好ましくは非晶性の構造である。得られる固体触媒成分前駆体a-1は溶媒で洗浄してもよい。該溶媒の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンおよびデカンなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、エチルベンゼンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素;シクロヘキサンおよびシクロペンタンなどの脂環式炭化水素;1,2-ジクロロエタンおよびモノクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素である。これらの中で、脂肪族炭化水素または芳香族炭化水素が好ましく、芳香族炭化水素がより好ましく、トルエンまたはキシレンが特に好ましい。電子供与性化合物b電子供与性化合物bは、酸素原子あるいは窒素原子を含有する有機化合物であり、例えばアルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、アルデヒト類、アミン類、アミド類などが挙げられる。アルコール類として、具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、および2-エチルヘキサノールのような脂肪族アルコール;フェノール、およびクレゾールのような芳香族アルコールが挙げられる。ケトン類として、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、およびメチルブチルケトンのような脂肪族ケトン;アセトフェノン、およびベンゾフェノンのような芳香族ケトンが挙げられる。アルデヒド類として、具体的には、アセトアルデヒド、プロピオンアルドヒド、およびオクチルアルデヒドのような脂肪族アルデヒド;ベンズアルデヒドのような芳香族アルデヒドが挙げられる。エーテル類として、具体的には、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、およびtertブチルメチルエーテルのようなジアルキルエーテル;ジフェニルエーテルのような芳香族エーテル類;2-ブチル-2-エチル-1、3-ジメトキシプロパン、2-イソプロピル-2-イソペンチル-1、3-ジメトキシプロパン、2,2-ジイソブチル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジシクロヘキシル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ビスシクロヘキシルメチル-1,3-ジメトキシプロパン、2-シクロヘキシル-2-イソプロピル-1,3-ジメトキシプロパン、2-イソプロピル-2-sec-ブチル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジフェニル-1,3-ジメトキシプロパン、および2-シクロペンチル-2-イソプロピル-1,3-ジメトキシプロパンのような脂肪族ジエーテル;1,1-ビスメトキシメチルインデニル、および9,9-ビスメトキシメチルフルオレンのような芳香族ジエーテルが挙げられる。エステル類としては、脂肪族カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、脂肪族ジカルボン酸ジエステル、および芳香族ジカルボン酸ジエステル、ジオールエステルが挙げられる。脂肪族カルボン酸エステルとして、具体的には、ギ酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸エチル、および酪酸エチルのような脂肪族モノカルボン酸エステル;3-エトキシ-2-イソプロピルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-tert-ブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-tert-ペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-シクロヘキシルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-シクロペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-アダマンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-2,3-ジメチル-2-ブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-2,3,3-トリメチル-2-ブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-2-メチル-2-ヘキシルプロピオン酸エチル、3-イソブトキシ-2-イソプロピルプロピオン酸エチル、3-イソブトキシ-2-イソブチルプロピオン酸エチル、3-イソブトキシ-2-tert-ブチルプロピオン酸エチル、3-イソブトキシ-2-tert-ペンチルプロピオン酸エチル、3-イソブトキシ-2-シクロヘキシルプロピオン酸エチル、3-イソブトキシ-2-シクロペンチルプロピオン酸エチル、3-イソブトキシ-2-アダマンチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-イソプロピルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-イソブチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-tert-ブチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-tert-ペンチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-シクロヘキシルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-シクロペンチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-アダマンチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-2,3-ジメチル-2-ブチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-2,3,3-トリメチル-2-ブチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-2-メチル-2-ヘキシルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソプロピルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2-イソブチルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2-tert-ブチルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2-tert-ペンチルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2-シクロヘキシルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2-シクロペンチルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2-アダマンチルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2-2,3-ジメチル-2-ブチルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2-2,3,3-トリメチル-2-ブチルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2-2-メチル-2-ヘキシルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソプロピルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソブチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-tert-ブチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-tert-ペンチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-シクロヘキシルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-シクロペンチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-アダマンチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-2,3-ジメチル-2-ブチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-2,3,3-トリメチル-2-ブチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-2-メチル-2-ヘキシルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-3-イソプロピル-2-イソブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-3-イソブチル-2-イソブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-3-イソブチル-2-tert-ブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2、3-ジtert-ブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-3-イソブチル-2-tert-ペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-3-tert-ブチル-2-tert-ペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2、3-ジtert-ペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-3-イソブチル-2-シクロヘキシルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2、3-ジシクロヘキシルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-3-イソブチル-2-シクロペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2、3-ジシクロペンチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2,2-ジイソプロピルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2,2-ジイソプロピルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2,2-ジイソプロピルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2,2-ジイソプロピルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソプロピル-2-イソブチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソプロピル-2-イソブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソプロピル-2-イソブチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-イソプロピル-2-tert-ブチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソプロピル-2-tert-ブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソプロピル-2-tert-ブチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-イソプロピル-2-tert-ペンチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソプロピル-2-tert-ペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソプロピル-2-tert-ペンチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-イソプロピル-2-シクロペンチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソプロピル-2-シクロペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソプロピル-2-シクロペンチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-イソプロピル-2-シクロヘキシルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソプロピル-2-シクロヘキシルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソプロピル-2-シクロヘキシルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2,2-ジイソブチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2,2-ジイソブチルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2,2-ジイソブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2,2-ジイソブチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソブチル-2-tert-ブチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソブチル-2-tert-ブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソブチル-2-tert-ブチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-イソブチル-2-tert-ペンチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソブチル-2-tert-ペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソブチル-2-tert-ペンチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-イソブチル-2-シクロペンチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソブチル-2-シクロペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソブチル-2-シクロペンチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-イソブチル-2-シクロヘキシルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-イソブチル-2-シクロヘキシルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-イソブチル-2-シクロヘキシルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2,2-ジtert-ブチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2,2-ジtert-ブチルプロピオン酸メチル、3-エトキシ-2,2-ジtert-ブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2,2-ジtert-ブチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-tert-ブチル-2-メチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-tert-ブチル-2-メチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-tert-ブチル-2-メチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-tert-ブチル-2-エチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-tert-ブチル-2-エチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-tert-ブチル-2-エチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-tert-ブチル-2-プロピルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-tert-ブチル-2-プロピルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-tert-ブチル-2-プロピルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-tert-ブチル-2-ブチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-tert-ブチル-2-ブチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-tert-ブチル-2-ブチルプロピオン酸エチル、3-メトキシ-2-tert-ブチル-2-ペンチルプロピオン酸メチル、3-メトキシ-2-tert-ブチル-2-ペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2-tert-ブチル-2-ペンチルプロピオン酸エチル、3-エトキシ-2,2-ジシクロヘキシルプロピオン酸エチル、および3-エトキシ-2,2-ジシクロペンチルプロピオン酸エチルのようなアルコキシ基を有する脂肪族カルボン酸エステルが挙げられる。芳香族カルボン酸エステルとして、具体的には、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシル、安息香酸フェニル、p-トルイル酸メチル、およびp-トルイル酸エチルのような安息香酸エステル;アニス酸メチル、およびアニス酸エチルのようなアニス酸エステルが挙げられる。脂肪族ジカルボン酸ジエステルとして、具体的には、ジイソプロピルマロン酸ジメチル、ジイソプロピルマロン酸ジエチル、ジイソプロピルマロン酸ジプロピル、ジイソプロピルマロン酸ジイソプロピル、ジイソプロピルマロン酸ジブチル、ジイソプロピルマロン酸ジイソブチル、ジイソプロピルマロン酸ジネオペンチル、ジイソブチルマロン酸ジメチル、ジイソブチルマロン酸ジエチル、ジイソブチルマロン酸ジプロピル、ジイソブチルマロン酸ジイソプロピル、ジイソブチルマロン酸ジブチル、ジイソブチルマロン酸ジイソブチル、ジイソブチルマロン酸ジネオペンチル、ジイソペンチルマロン酸ジメチル、ジイソペンチルマロン酸ジエチル、ジイソペンチルマロン酸ジプロピル、ジイソペンチルマロン酸ジイソプロピル、ジイソペンチルマロン酸ジブチル、ジイソペンチルマロン酸ジイソブチル、ジイソペンチルマロン酸ジネオペンチル、イソプロピルイソブチルマロン酸ジメチル、イソプロピルイソブチルマロン酸ジエチル、イソプロピルイソブチルマロン酸ジプロピル、イソプロピルイソブチルマロン酸ジイソプロピル、イソプロピルイソブチルマロン酸ジブチル、イソプロピルイソブチルマロン酸ジイソブチル、イソプロピルイソブチルマロン酸ジネオペンチル、イソプロピルイソペンチルマロン酸ジメチル、イソプロピルイソペンチルマロン酸ジエチル、イソプロピルイソペンチルマロン酸ジプロピル、イソプロピルイソペンチルマロン酸ジイソプロピル、イソプロピルイソペンチルマロン酸ジブチル、イソプロピルイソペンチルマロン酸ジイソブチル、およびイソプロピルイソペンチルマロン酸ジネオペンチルのようなマロン酸ジエステル;2,3-ジエチルコハク酸ジエチル、2,3-ジプロピルコハク酸ジエチル、2,3-ジイソプロピルコハク酸ジエチル、2,3-ジブチルコハク酸ジエチル、2,3-ジイソブチルコハク酸ジエチル、2,3-ジ-tert-ブチルコハク酸ジエチル、2,3-ジエチルコハク酸ジブチル、2,3-ジプロピルコハク酸ジブチル、2,3-ジイソプロピルコハク酸ジブチル、2,3-ジブチルコハク酸ジブチル、2,3-ジイソブチルコハク酸ジブチル、および2,3-ジ-tert-ブチルコハク酸ジブチルのようなコハク酸ジエステル;3-メチルグルタル酸ジイソブチル、3-フェニルグルタル酸ジイソブチル、3-エチルグルタル酸ジエチル、3-プロピルグルタル酸ジエチル、3-イソプロピルグルタル酸ジエチル、3-イソブチルグルタル酸ジエチル、3-フェニルグルタル酸ジエチル、3-エチルグルタル酸ジイソブチル、3-イソプロピルグルタル酸ジイソブチル、3-イソブチルグルタル酸ジイソブチル、3-グルタル酸ジエチル、3-シクロヘキシルメチルグルタル酸ジエチル、3-tert-ブチルグルタル酸ジエチル、3,3-ジメチルグルタル酸ジエチル、3,3-ジメチルグルタル酸ジイソブチル、3-メチル-3-イソブチルグルタル酸ジエチル、および3-メチル-3-tert-ブチルグルタル酸ジエチルのようなグルタル酸ジエステル;1-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ジエチル、1-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ジプロピル、1-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ジブチル、1-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ジ-イソブチル、1-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ジネオペンチル、および1-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ビス2,2-ジメチルヘキシルのようなシクロヘキセンジカルボン酸ジエステル;シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸ジエチル、シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸ジプロピル、シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸ジブチル、シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸ジ-イソブチル、シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸ジネオペンチル、シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸ビス2,2-ジメチルヘキシル、3-メチルシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸ジエチル、4-メチルシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸ジエチル、シクロヘキサン-1,1-ジカルボン酸ジエチル、シクロヘキサン-1,1-ジカルボン酸ジプロピル、シクロヘキサン-1,1-ジカルボン酸ジブチル、シクロヘキサン-1,1-ジカルボン酸ジ-イソブチル、シクロヘキサン-1,1-ジカルボン酸ジネオペンチル、シクロヘキサン-1,1-ジカルボン酸ビス2,2-ジメチルヘキシル、3-メチルシクロヘキサン-1,1-ジカルボン酸ジエチル、および4-メチルシクロヘキサン-1,1-ジカルボン酸ジエチルのようなシクロヘキサンジカルボン酸ジエステル;マレイン酸ジエチル、およびマレイン酸ジブチルのようなマレイン酸ジエステル類;アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、アジピン酸ジプロピル、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジイソデシル、およびアジピン酸ジオクチルのようなアジピン酸ジエステル;ドデカン二酸ジメチル、ドデカン二酸ジエチル、ドデカン二酸ジプロピル、ドデカン二酸ジイソプロピル、ドデカン二酸ジブチル、ドデカン二酸ジイソブチル、ドデカン二酸ジペンチル、ドデカン二酸ジイソペンチル、ドデカン二酸ジヘキシル、ドデカン二酸ジイソヘキシル、ドデカン二酸ジヘプチル、ドデカン二酸ジイソヘプチル、ドデカン二酸ジオクチル、ドデカン二酸ジイソオクチル、ドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、α-メチルドデカン二酸ジメチル、α-メチルドデカン二酸ジエチル、α-メチルドデカン二酸ジプロピル、α-メチルドデカン二酸ジイソプロピル、α-メチルドデカン二酸ジブチル、α-メチルドデカン二酸ジイソブチル、α-メチルドデカン二酸ジペンチル、α-メチルドデカン二酸ジイソペンチル、α-メチルドデカン二酸ジヘキシル、α-メチルドデカン二酸ジイソヘキシル、α-メチルドデカン二酸ジヘプチル、α-メチルドデカン二酸ジイソヘプチル、α-メチルドデカン二酸ジオクチル、α-メチルドデカン二酸ジイソオクチル、α-メチルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、α-エチルドデカン二酸ジメチル、α-エチルドデカン二酸ジエチル、α-エチルドデカン二酸ジプロピル、α-エチルドデカン二酸ジイソプロピル、α-エチルドデカン二酸ジブチル、α-エチルドデカン二酸ジイソブチル、α-エチルドデカン二酸ジペンチル、α-エチルドデカン二酸ジイソペンチル、α-エチルドデカン二酸ジヘキシル、α-エチルドデカン二酸ジイソヘキシル、α-エチルドデカン二酸ジヘプチル、α-エチルドデカン二酸ジイソヘプチル、α-エチルドデカン二酸ジオクチル、α-エチルドデカン二酸ジイソオクチル、α-エチルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、α-イソプロピルドデカン二酸ジメチル、α-イソプロピルドデカン二酸ジエチル、α-イソプロピルドデカン二酸ジプロピル、α-イソプロピルドデカン二酸ジイソプロピル、α-イソプロピルドデカン二酸ジブチル、α-イソプロピルドデカン二酸ジイソブチル、α-イソプロピルドデカン二酸ジペンチル、α-イソプロピルドデカン二酸ジイソペンチル、α-イソプロピルドデカン二酸ジヘキシル、α-イソプロピルドデカン二酸ジイソヘキシル、α-イソプロピルドデカン二酸ジヘプチル、α-イソプロピルドデカン二酸ジイソヘプチル、α-イソプロピルドデカン二酸ジオクチル、α-イソプロピルドデカン二酸ジイソオクチル、α-イソプロピルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、β-メチルドデカン二酸ジメチル、β-メチルドデカン二酸ジエチル、β-メチルドデカン二酸ジプロピル、β-メチルドデカン二酸ジイソプロピル、β-メチルドデカン二酸ジブチル、β-メチルドデカン二酸ジイソブチル、β-メチルドデカン二酸ジペンチル、β-メチルドデカン二酸ジイソペンチル、β-メチルドデカン二酸ジヘキシル、β-メチルドデカン二酸ジイソヘキシル、β-メチルドデカン二酸ジヘプチル、β-メチルドデカン二酸ジイソヘプチル、β-メチルドデカン二酸ジオクチル、β-メチルドデカン二酸ジイソオクチル、β-メチルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、β-エチルドデカン二酸ジメチル、β-エチルドデカン二酸ジエチル、β-エチルドデカン二酸ジプロピル、β-エチルドデカン二酸ジイソプロピル、β-エチルドデカン二酸ジブチル、β-エチルドデカン二酸ジイソブチル、β-エチルドデカン二酸ジペンチル、β-エチルドデカン二酸ジイソペンチル、β-エチルドデカン二酸ジヘキシル、β-エチルドデカン二酸ジイソヘキシル、β-エチルドデカン二酸ジヘプチル、β-エチルドデカン二酸ジイソヘプチル、β-エチルドデカン二酸ジオクチル、β-エチルドデカン二酸ジイソオクチル、β-エチルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、β-イソプロピルドデカン二酸ジメチル、β-イソプロピルドデカン二酸ジエチル、β-イソプロピルドデカン二酸ジプロピル、β-イソプロピルドデカン二酸ジイソプロピル、β-イソプロピルドデカン二酸ジブチル、β-イソプロピルドデカン二酸ジイソブチル、β-イソプロピルドデカン二酸ジペンチル、β-イソプロピルドデカン二酸ジイソペンチル、β-イソプロピルドデカン二酸ジヘキシル、β-イソプロピルドデカン二酸ジイソヘキシル、β-イソプロピルドデカン二酸ジヘプチル、β-イソプロピルドデカン二酸ジイソヘプチル、β-イソプロピルドデカン二酸ジオクチル、β-イソプロピルドデカン二酸ジイソオクチル、β-イソプロピルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、γ-メチルドデカン二酸ジメチル、γ-メチルドデカン二酸ジエチル、γ-メチルドデカン二酸ジプロピル、γ-メチルドデカン二酸ジイソプロピル、γ-メチルドデカン二酸ジブチル、γ-メチルドデカン二酸ジイソブチル、γ-メチルドデカン二酸ジペンチル、γ-メチルドデカン二酸ジイソペンチル、γ-メチルドデカン二酸ジヘキシル、γ-メチルドデカン二酸ジイソヘキシル、γ-メチルドデカン二酸ジヘプチル、γ-メチルドデカン二酸ジイソヘプチル、γ-メチルドデカン二酸ジオクチル、γ-メチルドデカン二酸ジイソオクチル、γ-メチルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、γ-エチルドデカン二酸ジメチル、γ-エチルドデカン二酸ジエチル、γ-エチルドデカン二酸ジプロピル、γ-エチルドデカン二酸ジイソプロピル、γ-エチルドデカン二酸ジブチル、γ-エチルドデカン二酸ジイソブチル、γ-エチルドデカン二酸ジペンチル、γ-エチルドデカン二酸ジイソペンチル、γ-エチルドデカン二酸ジヘキシル、γ-エチルドデカン二酸ジイソヘキシル、γ-エチルドデカン二酸ジヘプチル、γ-エチルドデカン二酸ジイソヘプチル、γ-エチルドデカン二酸ジオクチル、γ-エチルドデカン二酸ジイソオクチル、γ-エチルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジメチル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジエチル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジプロピル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジイソプロピル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジブチル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジイソブチル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジペンチル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジイソペンチル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジヘキシル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジイソヘキシル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジヘプチル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジイソヘプチル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジオクチル、γ-イソプロピルドデカン二酸ジイソオクチル、γ-イソプロピルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジメチル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジエチル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジプロピル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジイソプロピル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジブチル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジイソブチル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジペンチル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジイソペンチル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジヘキシル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジイソヘキシル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジヘプチル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジイソヘプチル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジオクチル、α,β-ジメチルドデカン二酸ジイソオクチル、α,β-ジメチルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジメチル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジエチル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジプロピル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジイソプロピル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジブチル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジイソブチル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジペンチル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジイソペンチル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジヘキシル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジイソヘキシル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジヘプチル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジイソヘプチル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジオクチル、α,β-ジエチルドデカン二酸ジイソオクチル、α,β-ジエチルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジメチル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジエチル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジプロピル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジイソプロピル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジブチル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジイソブチル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジペンチル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジイソペンチル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジヘキシル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジイソヘキシル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジヘプチル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジイソヘプチル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジオクチル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ジイソオクチル、α,β-ジイソプロピルドデカン二酸ビス2-エチルヘキシルのようなドデカン二酸ジエステル;25ジオキサヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-メチルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-メチルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-エチルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-エチルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-プロピルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-イソプロピルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-シクロヘキシルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-tert-ブチルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-テキシルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-フェニルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3-ベンジルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3,4-ジメチルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3,4-ジエチルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3,4-ジプロピルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3,4-ジイソプロピルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3,4-ジシクロヘキシルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3,4-ジtert-ブチルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3,4-ジテキシルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3,4-ジフェニルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサ-3,4-ジベンジルヘキサン二酸ジエチル、25ジオキサヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-メチルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-メチルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-エチルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-エチルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-プロピルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-イソプロピルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-シクロヘキシルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-tert-ブチルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-テキシルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-フェニルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3-ベンジルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3,4-ジメチルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3,4-ジエチルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3,4-ジプロピルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3,4-ジイソプロピルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3,4-ジシクロヘキシルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3,4-ジtert-ブチルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3,4-ジテキシルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3,4-ジフェニルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサ-3,4-ジベンジルヘキサン二酸ジブチル、25ジオキサヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-メチルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-メチルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-エチルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-エチルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-プロピルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-イソプロピルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-シクロヘキシルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-tert-ブチルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-テキシルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-フェニルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3-ベンジルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3,4-ジメチルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3,4-ジエチルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3,4-ジプロピルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3,4-ジイソプロピルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3,4-ジシクロヘキシルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3,4-ジtert-ブチルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3,4-ジテキシルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3,4-ジフェニルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシル、25ジオキサ-3,4-ジベンジルヘキサン二酸ジ2-エチルヘキシルようなジカルボナート;芳香族ジカルボン酸ジエステルとして、具体的には、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジプロピル、フタル酸ジイソプロピルフタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸エチルメチル、フタル酸メチルイソプロピル、フタル酸エチルプロピル、フタル酸エチルブチル、フタル酸エチルイソブチル、フタル酸ジペンチル、フタル酸ジイソペンチル、フタル酸ジネオペンチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジヘブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ビス2,2-ジメチルヘキシル、フタル酸ビス2-エチルヘキシル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ビス2、2-ジメチルヘプチル、フタル酸ブチルイソヘキシル、フタル酸ブチル2-エチルヘキシル、フタル酸ペンチルヘキシル、フタル酸ペンチルイソヘキシル、フタル酸イソペンチルヘプチル、フタル酸ペンチル2-エチルヘキシル、フタル酸ペンチルイソノニル、フタル酸イソペンチルデシル、フタル酸ペンチルウンデシル、フタル酸イソペンチルイソヘキシル、フタル酸ヘキシル2,2-ジメチルヘキシル、フタル酸ヘキシルイソノニル、フタル酸ヘキシルデシル、フタル酸ヘプチル2-エチルヘキシル、フタル酸ヘプチルイソノニル、フタル酸ヘプチルデシル、フタル酸2-エチルヘキシルイソノニル、4-メチルフタル酸ジネオペンチル、4-エチルフタル酸ジネオペンチル、4、5-ジメチルフタル酸ジネオペンチル、4,5-ジエチルフタル酸ジネオペンチル、4-クロロフタル酸ジエチル、4-クロロフタル酸ジブチル、4-クロロフタル酸ジネオペンチル、4-クロロフタル酸ジイソブチル、4-クロロフタル酸ジイソヘキシル、4-クロロフタル酸ジイソオクチル、4-ブロモフタル酸ジエチル、4-ブロモフタル酸ジブチル、4-ブロモフタル酸ジネオペンチル、4-ブロモフタル酸ジイソブチル、4-ブロモフタル酸ジイソヘキシル、4-ブロモフタル酸ジイソオクチル、4,5-ジクロロフタル酸ジエチル、4,5-ジクロロフタル酸ジブチル、4,5-ジクロロフタル酸ジイソヘキシル、および4,5-ジクロロフタル酸ジイソオクチルのようフタル酸ジエステルが挙げられる。ジオールエステルとしては、具体的には、1,2-プロピレン-グリコールジベンゾエート、1,2-プロピレン-グリコールジp-クロロベンゾエート、1,2-プロピレン-グリコールジm-クロロベンゾエート、1,2-プロピレン-グリコールジp-ブロモベンゾエート、1,2-プロピレン-グリコールジo-ブロモベンゾエート、1,2-プロピレン-グリコールジp-メチルベンゾエート、1,2-プロピレン-グリコールジp-tert-ブチルベンゾエート、1,2-プロピレン-グリコールジp-ブチルベンゾエート、1,2-プロピレン-グリコールモノベンゾエートモノシンナメート、1,2-プロピレン-グリコールジシンナメート、2-メチル-1,2-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-メチル-1,2-プロピレン-グリコールジp-クロロベンゾエート、2-メチル-1,2-プロピレン-グリコールジm-クロロベンゾエート、2-メチル-1,2-プロピレン-グリコールジp-ブロモベンゾエート、2-メチル-1,2-プロピレン-グリコールジo-ブロモベンゾエート、2-メチル-1,2-プロピレン-グリコールジp-メチルベンゾエート、2-メチル-1,2-プロピレン-グリコールジp-tert-ブチルベンゾエート、2-メチル-1,2-プロピレン-グリコールジp-ブチルベンゾエート、2-メチル-1,2-プロピレン-グリコールモノベンゾエートモノシンナメート、2-メチル-1,2-プロピレン-グリコールジシンナメート、1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-メチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-エチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-プロピル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-ブチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、R-1-フェニル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、S-1-フェニル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、1,3-ジフェニル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-メチル-1,3-ジフェニル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、1,3-ジフェニル-1,3-プロピレン-グリコールジプロピオネート、2-メチル-1,3-ジフェニル-1,3-プロピレン-グリコールジプロピオネート、2-メチル-1,3-ジフェニル-1,3-プロピレン-グリコールジアセテート、2,2-ジメチル-1,3-ジフェニル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2,2-ジメチル-1,3-ジフェニル-1,3-プロピレン-グリコールジプロピオネート、2-エチル-1,3-ジtert-ブチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、1,3-ジフェニル-1,3-プロピレン-グリコールジアセテート、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2,2-ジエチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-ジメトキシメチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-メチル-2-プロピル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールジp-クロロベンゾエート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールジm-クロロベンゾエート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールジp-メトキシベンゾエート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールジp-メチルベンゾエート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールモノベンゾエート-モノプロピオネート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールジプロピオネート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールジアクリレート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールジシンナミネート、2,2-ジイソブチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコール2,2’-ビフェニルジホルメート、2-イソペンチル2-イソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールフタラート、1,3-ジイソプロピル-1,3-プロピレン-グリコールジ4-ブチルベンゾエート、2-エチル-2-メチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2-アミノ-1-フェニル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン-グリコールジベンゾエート、1,2-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2-メチル-1,2-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3-ジメチル-1,2-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3-ジメチル-1,2-ブチレン-グリコールジp-クロロベンゾエート、2,3,3-トリメチル-1,2-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3,3-トリメチル-1,2-ブチレン-グリコールジp-クロロベンゾエート、1,2-ブチレン-グリコールジp-クロロベンゾエート、2,3-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3-ブチレン-グリコールジo-ブロモベンゾエート、2,3-ブチレン-グリコールジメチルベンゾエート、2,3-ブチレン-グリコールジm-クロロベンゾエート、2-メチル-2,3-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2-メチル-2,3-ブチレン-グリコールジo-ブロモベンゾエート、2-メチル-2,3-ブチレン-グリコールジメチルベンゾエート、2-メチル-2,3-ブチレン-グリコールジm-クロロベンゾエート、2,3-ジメチル-2,3-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3-ジメチル-2,3-ブチレン-グリコールジo-ブロモベンゾエート、2,3-ジメチル-2,3-ブチレン-グリコールジメチルベンゾエート、2,3-ジメチル-2,3-ブチレン-グリコールジm-クロロベンゾエート、2-メチル-1-フェニル-1,3-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2-メチル-1-フェニル-1,3-ブチレン-グリコールジピバレート、2-メチル-2-2-フリル-1,3-ブチレン-グリコールジベンゾエート、1,4-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3-ジイソプロピル-1,4-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3-ジメチル-1,4-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3-ジエチル-1,4-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3-ジブチル-1,4-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3-ジイソプロピル-1,4-ブチレン-グリコールジブチレート、4,4,4-トリフルオロ-1-2-ナフチル-1,3-ブチレン-グリコールジベンゾエート、2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2-メチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、3-メチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、4-メチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2,3-ジメチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2,4-ジメチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、3,4-ジメチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、4,4-ジメチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2,3,4-トリメチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2,4,4-トリメチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、3,4,4-トリメチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2,3,4,4-テトラメチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、3-エチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、3-エチル-2-メチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、3-エチル-2,4-ジメチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、3-エチル-2,4,4-トリメチル-2,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2,4-ペンタンジオールジベンゾエート、3-メチル-2,4-ペンタンジオールジベンゾエート、3-エチル-2,4-ペンタンジオールジベンゾエート、3-プロピル-2,4-ペンタンジオールジベンゾエート、3-ブチル-2,4-ペンタンジオールジベンゾエート、3,3-ジメチル-2,4-ペンタンジオールジベンゾエート、2S,4S--2,4-ペンタンジオールジベンゾエート、2R,4R--2,4-ペンタンジオールジベンゾエート、2,4-ペンタンジオールジp-クロロベンゾエート、2,4-ペンタンジオールジm-クロロベンゾエート、2,4-ペンタンジオールジp-ブロモベンゾエート、2,4-ペンタンジオールジo-ブロモベンゾエート、2,4-ペンタンジオールジp-メチルベンゾエート、2,4-ペンタンジオールジp-tert-ブチルベンゾエート、2,4-ペンタンジオールジp-ブチルベンゾエート、2,4-ペンタンジオールモノベンゾエートモノシンナメート、2,4-ペンタンジオールジシンナメート、1,3-ペンタンジオールジプロピオネート、2-メチル-1,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2-メチル-1,3-ペンタンジオールジp-クロロベンゾエート、2-メチル-1,3-ペンタンジオールジp-メチルベンゾエート、2-ブチル-1,3-ペンタンジオールジp-メチルベンゾエート、2-メチル-1,3-ペンタンジオールジp-tert-ブチルベンゾエート、2-メチル-1,3-ペンタンジオールジピバレート、2-メチル-1,3-ペンタンジオールモノベンゾエートモノシンナメート、2,2-ジメチル-1,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2,2-ジメチル-1,3-ペンタンジオールモノベンゾエートモノシンナメート、2-エチル-1,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2-ブチル-1,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2-アリル-1,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2-メチル-1,3-ペンタンジオールモノベンゾエートモノシンナメート、2-メチル-1,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2-エチル-1,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2-プロピル-1,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2-ブチル-1,3-ペンタンジオールジベンゾエート、1,3-ペンタンジオールジp-クロロベンゾエート、1,3-ペンタンジオールジm-クロロベンゾエート、1,3-ペンタンジオールジp-ブロモベンゾエート、1,3-ペンタンジオールジo-ブロモベンゾエート、1,3-ペンタンジオールジp-メチルベンゾエート、1,3-ペンタンジオールジp-tert-ブチルベンゾエート、1,3-ペンタンジオールジp-ブチルベンゾエート、1,3-ペンタンジオールモノベンゾエートモノシンナメート、1,3-ペンタンジオールジシンナメート、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオールジベンゾエート、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオールジイソプロピルホルメート、3-メチル-1-トリフルオロメチル-2,4-ペンタンジオールジベンゾエート、2,4-ペンタンジオールジp-フルオロメチルベンゾエート、2,4-ペンタンジオールジ2-フランカルボキシレート、3-ブチル-3-メチル-2,4-ペンタンジオールジベンゾエート、2,2-ジメチル-1,5-ペンタンジオールジベンゾエート、1,5-ジフェニル-1,5-ペンタンジオールジベンゾエート、1,5-ジフェニル-1,5-ペンタンジオールジプロピオネート、2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2-メチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-メチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、4-メチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、5-メチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,3-ジメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,4-ジメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,5-ジメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3,4-ジメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3,5-ジメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、4,4-ジメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、4,5-ジメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、5,5-ジメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,3,4-トリメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,3,5-トリメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,4,4-トリメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,4,5-トリメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,5,5-トリメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3,4,4-トリメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3,4,5-トリメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3,5,5-トリメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,3,4,4,-テトラメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,3,4,5,-テトラメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,3,5,5,-テトラメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-エチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-プロピル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-イソプロピル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、4-エチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-エチル-2-メチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、4-エチル-2-メチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2-メチル-3-プロピル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、4-エチル-3-メチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3,4-ジエチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、4-エチル-3-プロピル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-エチル-2,4-ジメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-エチル-2,5-ジメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-エチル-2,4,4-トリメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-エチル-2,4,5-トリメチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,5-ジメチル-3-プロピル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,4,4-トリメチル-3-プロピル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,5,5-トリメチル-3-プロピル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,4,5-トリメチル-3-プロピル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3,4-ジエチル-2-メチル-2,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2-エチル-1,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2-プロピル-1,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2-ブチル-1,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、4-エチル-1,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、4-メチル-1,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-メチル-1,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、3-エチル-1,3-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,2,4,6,6-ペンタメチル-3,5-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,5-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオールジベンゾエート、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオールジプロピオネート、2,5-ジメチル-ヘキサ-3-イン-2,5-ジオールジベンゾエート、ヘキサ-3-イン-2,5-ジオールジベンゾエート、ヘキサ-3-イン-2,5-ジオールジ2-フランカルボキシレート、3,4-ジブチル-1,6-ヘキサンジオールジベンゾエート、1,6-ヘキサンジオールジベンゾエート、ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、2-メチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3-メチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、4-メチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、5-メチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、6-メチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3-エチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、4-エチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、5-エチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、6-エチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3-プロピル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、4-プロピル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、5-プロピル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、6-プロピル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3-ブチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、4-ブチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、5-ブチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、6-ブチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3,5-ジメチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3,5-ジエチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3,5-ジプロピル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3,5-ジブチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3,3-ジメチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3,3-ジエチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3,3-ジプロピル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3,3-ジブチル-ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジベンゾエート、3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、2-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、5-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、6-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3-エチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4-エチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、5-エチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3-ブチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、2,3-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、2,4-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、2,5-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、2,6-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3,3-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4,4-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、6,6-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3,4-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3,5-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3,6-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4,5-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4,6-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4,4-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、6,6-ジメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3-エチル-2-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4-エチル-2-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、5-エチル-2-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3-エチル-3-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4-エチル-3-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、5-エチル-3-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3-エチル-4-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4-エチル-4-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、5-エチル-4-メチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、2-メチル-3-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、2-メチル-4-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、2-メチル-5-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3-メチル-3-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3-メチル-4-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、3-メチル-5-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4-メチル-3-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4-メチル-4-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、4-メチル-5-プロピル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、6-メチル-2,4-ヘプタンジオールジp-クロロベンゾエート、6-メチル-2,4-ヘプタンジオールジp-メチルベンゾエート、6-メチル-2,4-ヘプタンジオールジm-メチルベンゾエート、6-メチル-2,4-ヘプタンジオールジピバレート、ヘプタ-6-エン-2,4-ジオールジピバレート、3,6-ジメチル-2,4-ヘプタンジオールジベンゾエート、2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオールジベンゾエート、2,6-ジメチル-2,6-ヘプタンジオールジベンゾエート、4-メチル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、4-エチル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、4-プロピル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、5-プロピル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、4-ブチル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、4,4-ジメチル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、4,4-ジエチル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、4,4-ジプロピル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、4-エチル-4-メチル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、3-フェニル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、3-エチル-2-メチル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、4-エチル-2-メチル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、5-エチル-2-メチル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、6-エチル-2-メチル-3,5-オクタンジオールジベンゾエート、5-メチル-4,6-ノナンジオールジベンゾエート、5-エチル-4,6-ノナンジオールジベンゾエート、5-プロピル-4,6-ノナンジオールジベンゾエート、5-ブチル-4,6-ノナンジオールジベンゾエート、5,5-ジメチル-4,6-ノナンジオールジベンゾエート、5,5-ジエチル-4,6-ノナンジオールジベンゾエート、5,5-ジプロピル-4,6-ノナンジオールジベンゾエート、5,5-ジブチル-4,6-ノナンジオールジベンゾエート、4-エチル-5-メチル-4,6-ノナンジオールジベンゾエート、5-フェニル-4,6-ノナンジオールジベンゾエート、4,6-ノナンジオールジベンゾエート、1,1-シクロヘキサンジメタノールジベンゾエート、1,2-シクロヘキサンジオールジベンゾエート、1,3-シクロヘキサンジオールジベンゾエート、1,4-シクロヘキサンジオールジベンゾエート、1,1-ビスベンゾイルオキシエチルシクロヘキサン、1,4-ビスベンゾイルオキシメチルシクロヘキサン、1,1-ビスベンゾイルオキシメチル-3-シクロヘキセン、1,1-ビスプロピオニルオキシメチル-3-シクロヘキセン、9,9-ビスベンゾイルオキシメチルフルオレン、9,9-ビスm-メトキシベンゾイルオキシメチルフルオレン、9,9-ビスm-クロロベンゾイルオキシメチルフルオレン、9,9-ビスp-クロロベンゾイルオキシメチルフルオレン、9,9-ビスシンナモイルオキシメチルフルオレン、9-ベンゾイルオキシメチル-9-プロピオニルオキシメチルフルオレン、9,9-ビスプロピオニルオキシメチルフルオレン、9,9-ビスアクリロイルオキシメチルフルオレン、9,9-ビスピバリルオキシメチルフルオレン、9,9-フルオレンジメタノールジベンゾエート、1,3-フェニレンジベンゾエート、1,4-フェニレンジベンゾエート、2,2’-ビフェニレンジベンゾエート、ビス2-ベンゾイルオキシナフチルメタン、1,2-キシレンジオールジベンゾエート、1,3-キシレンジオールジベンゾエート、1,4-キシレンジオールジベンゾエート、2,2’-ビフェニルジメタノール-ジピバレート、2,2’-ビフェニルジメタノール-ジベンゾエート、2,2’-ビフェニルジメタノール-ジプロピオネート、2,2’-ビナフチルジメタノール-ジベンゾエート、1,2-フェニレンジベンゾエート、3-メチル-5-tert-ブチル-1,2-フェニレンジベンゾエート、3,5-ジイソプロピル-1,2-フェニレンジベンゾエート、3,6-ジメチル-1,2-フェニレンジベンゾエート、4-tert-ブチル-1,2-フェニレンジベンゾエート、4-メチル-1,2-フェニレンジベンゾエート、1,2-ナフタレンジベンゾエート、2,3-ナフタレンジベンゾエート等が挙げられる。アミン類としては、具体的には、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、ラウリルアミン、2エチルヘキシルアミンなどの炭素数6以上のアルキルアミン;ピペリジン、および2,2,6,6-テトラメチルピペリジンのような環状アミン;アニリン、およびピリジンのような芳香族アミン;N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミンのような脂肪族ジアミンが挙げられる。アミド類としては、具体的には、オレフィン酸アミド、およびステリアリン酸アミドが挙げられる。ニトリル類としては、具体的には、アセトニトリル、ベンゾニトリル、およびトルニトリルが挙げられる。イソシアネート類として、具体的には、イソシアン酸メチル、およびイソシアン酸エチルが挙げられる。電子供与性化合物bとして、好ましくは、エーテル類、およびエステル類であり、より好ましくは脂肪族ジエーテル、芳香族ジエーテル、脂肪族カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、脂肪族ジカルボン酸ジエステル、および芳香族ジカルボン酸ジエステルであり、更に好ましくは、脂肪族ジエーテル、アルコキシ基を有する脂肪族カルボン酸エステル、安息香酸エステル、アニス酸エステル、マロン酸ジエステル、コハク酸ジエステル、シクロヘキセンジカルボン酸ジエステル、シクロヘキサンジカルボン酸ジエステル、フタル酸ジエステル、およびドデカン二酸ジエステルであり、特に好ましくは、脂肪族ジエーテル、アルコキシ基を有する脂肪族カルボン酸エステル、マロン酸ジエステル、コハク酸ジエステル、シクロヘキサンジカルボン酸ジエステル、フタル酸ジエステル、ドデカン二酸ジエステルおよびカルボナートであり、最も好ましくは、脂肪族ジエーテル、アルコキシ基を有する脂肪族カルボン酸エステル、フタル酸ジエステルである。なお、上記の電子供与性化合物bは、2種以上組み合わせて用いることもできる。製造方法1の製造条件製造方法1において、電子供与性化合物bの使用量は、固体成分a1gあたり、通常0.01~100mmol、好ましくは0.03~50ml、特に好ましくは0.05~30mlである。製造方法1において、固体成分aと電子供与性化合物bを接触させる温度は特に限定されず、通常-50~200°Cであり、好ましくは0~170°Cであり、より好ましくは50~150°Cの範囲であり、特に好ましくは50~120°Cの範囲である。製造方法1において、固体成分aと電子供与性化合物bを接触させる時間は特に限定されず、通常10分~12時間であり、好ましくは30~10時間であり、特に好ましくは1時間~8時間の範囲である。固体成分aと電子供与性化合物bと、任意で下式viiおよびviiiで表されるハロゲン化金属化合物をさらに接触させてもよい。M1R11pbX3bviiM1OR11pbX3bviii[式中、M1は第4族、第13族または第14族原子を、R11は炭素原子数が1~20のハイドロカルビル基を、X3はハロゲン原子を、pはM1の原子価を表す。bは0<b≦pを満足する数を表す]上式viiおよびviiiにおけるM1の第4族元素として、チタン、ジルコニウムおよびハフニウムを例示することができる。中でも、好ましくはチタンである。M1の第13族元素として、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、およびタリウムを例示することができる。中でも、好ましくはホウ素またはアルミニウムであり、より好ましくはアルミニウムである。M1の第14族元素として、ケイ素、ゲルマニウム、錫、および鉛を例示することができる。中でも、好ましくはケイ素、ゲルマニウムまたは錫であり、より好ましくはケイ素である。上式viiおよびviiiにおけるR11のハイドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、およびドデシル基のような直鎖状または分岐状のアルキル基;シクロヘキシル基およびシクロペンチル基のような環状アルキル基;フェニル基、クレジル基、キシリル基およびナフチル基のようなアリール基が挙げられる。上式viiおよびviiiにおけるR11のハイドロカルビルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、n-ペンチロキシ基、イソアミロキシ基、ヘキシロキシ基、ヘプチロキシ基、オクチロキシ基、デシロキシ基、およびドデシロキシ基のような直鎖状または分岐状のアルコキシ基;シクロヘキシロキシ基およびシクロペンチロキシ基のような環状アルコキシ基;フェノキシ基、キシロキシ基およびナフトキシ基のようなアリーロキシ基を例示することができる。上式viiおよびviiiにおけるR11として、好ましくは炭素原子数2~18のアルキル基もしくはアルコキシ基;または炭素原子数6~18のアリール基もしくはアリーロキシ基である。上式viiおよびviiiにおけるX3としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子または臭素原子である。上式viiおよびviiiにおけるpはM1の原子価であり、M1が第4族元素のときpは4であり、第13族元素のときpは3であり、第14族元素のときpは4である。上式viiおよびviiiにおけるaは0<b≦pを満足する整数を表し、M1が第4族元素および第14族元素のときaは0<b≦4を満足する整数を表し、第13族元素のときbは0<b≦3を満足する整数を表す。M1が第4族元素または第14族元素の場合の好ましいbは3または4であり、より好ましくは4である。M1が第13族元素の場合の好ましいbは3である。上式viiおよびviiiで表されるハロゲン化金属化合物のハロゲン化チタン化合物は、好ましくは四塩化チタン、四臭化チタンおよび四沃化チタンのようなテトラハロゲン化チタン化合物;またはメトキシチタントリクロリド、エトキシチタントリクロリド、トキシチタントリクロリド、フェノキシチタントリクロリド、およびエトキシチタントリブロマイドのようなトリハロゲン化アルコキシチタン化合物であり、より好ましくはテトラハロゲン化チタン化合物であり、特に好ましくは四塩化チタンである。上式viiおよびviiiで表されるハロゲン化金属化合物の第13族元素のクロロ化化合物または第14族元素のクロロ化化合物は、好ましくは、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、トリクロロアルミニウム、テトラクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、ノルマルプロピルトリクロロシラン、またはパラトリルトリクロロシランであり、より好ましくは第14族元素のクロロ化化合物であり、特に好ましくはテトラクロロシランおよびフェニルトリクロロシランである。上式viiおよびviiiで表されるハロゲン化金属化合物の使用量は、固体成分1gあたり、通常0.1~1000mmol、好ましくは0.3~500mmol、特に好ましくは0.5~300mmolである。ハロゲン化金属化合物は、一度に、又は任意の複数回に分けて使用される。触媒成分の製造方法1における接触時間は特に限定されず、通常10分~12時間であり、好ましくは30~10時間であり、特に好ましくは1時間~8時間の範囲である。触媒成分の製造方法1における接触方法は特に限定されない。該方法として、スラリー法や機械的粉砕法例えばボールミルによる方法のような公知の方法を例示することができる。機械的粉砕法は、得られる固体触媒成分の微粉含有量やその粒度分布の広がりを抑制するために、好ましくは上述の希釈剤の存在下で行われる。ハロゲン化金属化合物の使用量は、固体触媒成分前駆体a-11gあたり、通常0.1~1000mmol、好ましくは0.3~500mmol、特に好ましくは0.5~300mmolである。ハロゲン化金属化合物は、一度に、又は任意の複数回に分けて使用される。固体触媒成分前駆体a-1と、電子供与性化合物bと、任意のハロゲン化金属化合物とを接触させる時間は特に限定されず、通常10分~12時間であり、好ましくは30~10時間であり、特に好ましくは1時間~8時間の範囲である。固体触媒成分前駆体a-1と、電子供与性化合物bと、任意のハロゲン化金属化合物とを接触させる方法は特に限定されない。該方法として、スラリー法や機械的粉砕法例えばボールミルによる方法のような公知の方法を例示することができる。機械的粉砕法は、得られる固体触媒成分Aの微粉含有量やその粒度分布の広がりを抑制するために、好ましくは上述の希釈剤の存在下で行われる。上記のスラリー法におけるスラリー濃度は、通常0.05~0.7g固体/ml溶媒、特に好ましくは0.1~0.5g固体/ml溶媒である。接触の温度は、通常30~150°C、好ましくは45~135°C、特に好ましくは60~120°Cである。接触の時間は特に制限されず、通常30分から6時間程度が好適である。固体触媒成分Aの製造方法1においては、任意に有機酸クロライドeを添加ことも出来る。有機酸クロライドeとしては、具体的には、フタル酸ジクロライド、およびテレフタル酸ジクロライドのような芳香族ジカルボン酸ジクロライド;安息香酸クロライド、トルイル酸クロライド、およびアニス酸クロライドのような芳香族カルボン酸クロライド;コハク酸ジクロライド、マロン酸ジクロライド、マレイン酸ジクロライド、イタコン酸ジクロライド、アジピン酸ジクロライド、およびドデカン二酸ジクロライドのような脂肪族ジカルボン酸ジクロライド;アセチルクロライド、プロピオン酸クロライド、酪酸クロライド、吉草酸クロライド、アクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド、および3-エトキシ-2-tert-ブチルプロピオン酸クロライドのような脂肪族カルボン酸クロライドが挙げられ、好ましくは、芳香族ジカルボン酸ジクロライド、および脂肪族カルボン酸クロライドであり、より好ましくはフタル酸ジクロライドである。固体触媒成分Aの製造方法1において、有機酸クロライドeの使用量は、使用される固体触媒成分前駆体a-11gあたり、通常0.01~10000ml、好ましくは0.03~5000ml、特に好ましくは0.05~3000mlである。電子供与性化合物bは、一度に、又は任意の複数回に分けて使用される。[製造方法2]チタン化合物cチタン原子を含有した化合物であれば特に制限はないが、チタン化合物cの具体例としては、四塩化チタン、四臭化チタン、および四ヨウ化チタンのようなテトラハロゲン化チタン;テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトライソブトキシチタン、およびテトラシクロヘキシロキシチタンのようなテトラアルコキシチタン;テトラフェノキシチタンのようなテトラアリーロキシチタン;メトキシチタントリクロリド、エトキシチタントリクロリド、プロポキシチタントリクロリド、ブトキシチタントリクロリド、およびエトキシチタントリブロミドのようなアルコキシチタントリクロリド;ジメトキシチタンジクロリド、ジエトキシチタンジクロリド、ジイソプロポキシチタンジクロリド、ジプロポキシチタンジクロリド、およびジエトキシチタンジブロミドのようなジハロゲン化ジアルコキシチタン;トリメトキシチタンクロリド、トリエトキシチタンクロリド、トリイソプロポキシチタンクロリド、トリプロポキシチタンクロリド、およびトリブトキシチタンクロリドのようなモノハロゲン化トリアルコキシチタンなどを挙げられる。チタン化合物cとして好ましくはテトラハロゲン化チタン、アルコキシチタントリクロリドであり、より好ましくテトラハロゲン化チタンであり、更に好ましくは四塩化チタンである。これらのチタン化合物cは、それぞれ単独で用いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよい。マグネシウム化合物dマグネシウム原子を含有した化合物であれば特に制限はないが、下式ixまたはxで表される化合物を例示することが出来る。MgR12cX42cixMgOR12cX42cx式中、cは0≦c≦2を満足する整数であり;R12は炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を示す。上記R12としては、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子、ハイドロカルビルオキシ基、ニトロ基、スルホニル基、シリル基等を置換基として有していてもよい。R12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、およびn-オクチル基のような直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基および2-エチルヘキシル基のような分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、およびシクロオクチル基のような環状アルキル基等が挙げられ、好ましくは炭素原子数1~20の直鎖状もしくは分岐状アルキル基である。R12のアラルキル基としては、ベンジル基、およびフェネチル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数7~20のアラルキル基である。R12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、およびトリル基等が挙げられ、好ましくは炭素原子数6~20のアリール基である。R12のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、3-ブテニル基、および5-ヘキセニル基のような直鎖状アルケニル基;イソブテニル基、および4-メチル-3-ペンテニル基のような分岐状アルケニル基;2-シクロヘキセニル基、および3-シクロヘキセニル基のような環状アルケニル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数2~20の直鎖状および分岐状アルケニル基である。複数のR12は同一でも異なってもよい。上記X4のハロゲン原子として、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、およびフッ素原子を挙げることができ、好ましくは塩素原子である。上式ixおよびxで表されるマグネシウム化合物dの具体例としては、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジイソプロピルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ジヘキシルマグネシウム、ジオクチルマグネシウム、エチルブチルマグネシウム、およびブチルオクチルマグネシウムのようなジアルキルマグネシウム化合物;ジメトキシマグネシウム、ジエトキシマグネシウム、ジプロポキシマグネシウム、ジブトキシマグネシウム、およびジオクトキシマグネシウムのようなジアルコキシマグネシウム化合物;メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムクロリド、イソプロピルマグネシウムクロリド、イソブチルマグネシウムクロリド、tert-ブチルマグネシウムクロリド、イソブチルマグネシウムクロリド、ベンジルマグネシウムクロリド、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムブロミド、イソブチルマグネシウムブロミド、tert-ブチルマグネシウムブロミド、ヘキシルマグネシウムブロミド、イソブチルマグネシウムブロミド、ベンジルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムイオダイド、エチルマグネシウムイオダイド、イソプロピルマグネシウムイオダイド、イソブチルマグネシウムイオダイド、tert-ブチルマグネシウムイオダイド、イソブチルマグネシウムイオダイド、ベンジルマグネシウムイオダイドのようなアルキルマグネシウムハライド化合物;メトキシマグネシウムクロリド、エトキシマグネシウムクロリド、イソプロポキシマグネシウムクロリド、ブトキシマグネシウムクロリド、およびヘキシルオキシマグネシウムクロリドのようなアルコキシマグネシウムクロリド化合物;フッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、およびヨウ化マグネシウムのようなハロゲン化マグネシウム化合物挙げることができる。マグネシウム化合物dとして、好ましくはハロゲン化マグネシウム化合物d-1およびジアルコキシマグネシウム化合物d-2である。ハロゲン化マグネシウム化合物d-1として好ましくは塩化マグネシウムである。ハロゲン化マグネシウム化合物d-2として、より好ましくは炭素原子数1~20のジアルコキシマグネシウムであり、更に好ましくは炭素原子数1~10のジアルコキシマグネシウムであり、特に好ましくはジメトキシマグネシウム、ジエトキシマグネシウム、ジプロポキシマグネシウム、ジイソプロポキシマグネシウム、ジブトキシマグネシウムである。これらマグネシウム化合物はメタノール、エタノール、および2-エチルヘキサノールのようなアルコールまたはトルエン、およびヘキサンのような炭化水素溶媒に溶解した溶液状または固体状として用いることができ、アルコール、エーテル、エステルなどを含有してもよい。ジアルコキシマグネシウム化合物d-2の製造方法としては、例えば、金属マグネシウムとアルコールを触媒の存在下接触させる方法を挙げることができる。アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、およびオクタノールが挙げられる。触媒としては、ヨウ素、塩素、および臭素のようなハロゲン;ヨウ化マグネシウム、および塩化マグネシウムのようなハロゲン化マグネシウムが挙げられ、好ましくはヨウ素である。さらに、マグネシウム化合物dは、担体物質に担持されていてもよい。担体物質としては、特に制限はないが、例えば、SiO2、Al2O3、MgO、TiO2、およびZrO2のような多孔質無機酸化物;ポリスチレン、スチレン-ジビニルベンゼン共重合体、スチレン-エチレングリコール-ジメタクリル酸メチル共重合体、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、アクリル酸メチル-ジビニルベンゼン共重合体、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチル-ジビニルベンゼン共重合体、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル-ジビニルベンゼン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、およびポリプロピレンのような有機多孔質ポリマーが挙げられる。これらのうち好ましくは、多孔質無機酸化物であり、特に好ましくは、SiO2である。担体として好ましくは、マグネシウム化合物dを有効に固定化する観点から、細孔半径20~200nmにおける細孔容量が、0.3cm3/g以上であり、より好ましくは0.4cm3/g以上であり、かつ該範囲の細孔容量は、細孔半径3.5~7500nmにおける細孔容量に対して35以上であり、より好ましくは40以上である多孔質の担体である。固体触媒成分Aの製造方法2においては、任意に有機酸クロライドeを添加することも出来る。有機酸クロライドeとしては、具体的には、フタル酸ジクロライド、およびテレフタル酸ジクロライドのような芳香族ジカルボン酸ジクロライド;安息香酸クロライド、トルイル酸クロライド、およびアニス酸クロライドのような芳香族カルボン酸クロライド;コハク酸ジクロライド、マロン酸ジクロライド、マレイン酸ジクロライド、イタコン酸ジクロライド、アジピン酸ジクロライド、およびドデカン二酸ジクロライドのような脂肪族ジカルボン酸ジクロライド;アセチルクロライド、プロピオン酸クロライド、酪酸クロライド、吉草酸クロライド、アクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド、および3-エトキシ-2-tert-ブチルプロピオン酸クロライドのような脂肪族カルボン酸クロライドが挙げられ、好ましくは、芳香族ジカルボン酸ジクロライド、および脂肪族カルボン酸クロライドであり、より好ましくはフタル酸ジクロライドである。製造方法2の製造条件固体触媒成分Aの製造方法2において、チタン化合物cの使用量は、使用されるマグネシウム化合物d中の総マグネシウム原子1molあたり、通常0.01~100mol、好ましくは0.03~50mol、特に好ましくは0.05~30molである。チタン化合物cは、一度に、又は任意の複数回に分けて使用される。固体触媒成分Aの製造方法2において、電子供与性化合物bの使用量は、使用されるマグネシウム化合物d1gあたり、通常0.01~10000ml、好ましくは0.03~5000ml、特に好ましくは0.05~3000mlである。電子供与性化合物bは、一度に、又は任意の複数回に分けて使用される。固体触媒成分Aの製造方法2において、有機酸クロライドeの使用量は、使用されるマグネシウム化合物d1gあたり、通常0.01~10000ml、好ましくは0.03~5000ml、特に好ましくは0.05~3000mlである。電子供与性化合物bは、一度に、又は任意の複数回に分けて使用される。固体触媒成分Aの製造方法2において、チタン化合物c、マグネシウム化合物dおよび電子供与性化合物bを接触させる方法は特に限定されない。該方法として、スラリー法や機械的粉砕法例えばボールミルによる方法のような公知の方法を例示することができる。上記のスラリー法におけるスラリー濃度は、通常0.05~0.7g固体/ml溶媒、特に好ましくは0.1~0.5g固体/ml溶媒である。接触の温度は、通常30~150°C、好ましくは45~135°C、特に好ましくは60~120°Cである。接触の時間は特に制限されず、通常30分から6時間程度が好適である。上記の機械的粉砕法は、得られる固体触媒成分Aの微粉含有量やその粒度分布の広がりを抑制するために、好ましくは希釈剤の存在下で行われる。希釈剤として、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、およびオクタンのような脂肪族ハイドロカルビル;ベンゼン、トルエンおよびキシレンのような芳香族炭化水素;シクロヘキサンおよびシクロペンタンのような脂環式炭化水素;ならびに1,2-ジクロルエタンおよびモノクロルベンゼンのようなハロゲン化炭化水素を例示することができる。中でも、芳香族炭化水素またはハロゲン化炭化水素が特に好ましい。製造方法2において、チタン化合物cとマグネシウム化合物dおよび電子供与性化合物bを接触させる温度は特に限定されず、通常-50~200°Cであり、好ましくは-20~150°Cであり、より好ましくは-20~130°Cの範囲であり、特に好ましくは-20~120°Cの範囲である。製造方法2において、チタン化合物c、マグネシウム化合物dおよび電子供与性化合物bを接触させる時間は特に限定されず、通常10分~12時間であり、好ましくは30~10時間であり、特に好ましくは1時間~8時間の範囲であり、一度に、または任意の時間に複数回に分けてもよい。製造方法2においては、任意で下式xiまたはxiiで表される化合物も接触させてもよい。M2R13qdX5dxiM2OR13qdX5dxii式中、M2は第13族または第14族原子を表し;R13は炭素原子数1~20のハイドロカルビル基を表し;X5はハロゲン原子を表し;qはM2の原子価を表し;dは0<d≦qを満足する整数を表す。上式xiおよびxiiにおけるM2の第13族元素として、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、およびタリウムを例示することができる。中でも、好ましくはホウ素またはアルミニウムであり、より好ましくはアルミニウムである。M2の第14族元素として、ケイ素、ゲルマニウム、錫、および鉛を例示することができる。中でも、好ましくはケイ素、ゲルマニウムまたは錫であり、より好ましくはケイ素である。上式xiおよびxiiにおけるR13として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、およびドデシル基のような直鎖状または分岐状のアルキル基;シクロヘキシル基およびシクロペンチル基のような環状アルキル基;ならびにフェニル基、クレジル基、キシリル基およびナフチル基のようなアリール基を例示することができる。中でも、好ましくは炭素原子数2~18のアルキル基または炭素原子数6~18のアリール基である。上式xiおよびxiiにおけるX5としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子または臭素原子である。上式xiおよびxiiにおけるqはM2の原子価であり、第13族元素のときqは3であり、第14族元素のときqは4である。上式におけるdは0<d≦qを満足する整数を表し、M2が第14族元素のときcは0<c≦4を満足する整数を表し、第13族元素のときdは0<d≦3を満足する整数を表す。M2が第14族元素の場合の好ましいdは3または4であり、より好ましくは4である。M2が第13族元素の場合の好ましいdは3である。上式xiおよびxiiで表される化合物の中、クロロ化アルミニウム化合物またはクロロ化ケイ素化合物は、好ましくは、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、トリクロロアルミニウム、テトラクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、ノルマルプロピルトリクロロシラン、またはパラトリルトリクロロシランであり、より好ましくは第14族元素のクロロ化化合物であり、特に好ましくはテトラクロロシランおよびフェニルトリクロロシランである。触媒成分の製造方法2において、上式xiおよびxiiで表される化合物の使用量は、マグネシウム化合物中の総マグネシウム原子1molあたり、通常0.01~100mol、好ましくは0.03~50mol、特に好ましくは0.05~30molであり、該化合物は一度に、又は任意の複数回に分けて使用される。製造方法2において、上式xiおよびxiiで表される化合物、チタン化合物cとマグネシウム化合物dおよび電子供与性化合物bを接触させる温度は特に限定されず、通常-50~200°Cであり、好ましくは0~170°Cであり、特に好ましくは50~150°Cの範囲である。製造方法2において、上式xiおよびxiiで表される化合物、チタン化合物cとマグネシウム化合物dおよび電子供与性化合物bを接触させる時間は特に限定されず、通常10分~12時間であり、好ましくは30分~10時間である。[有機アルミニウム化合物B]本発明で用いられる有機アルミニウム化合物Bとして、上記米国特許6,903,041に記載された化合物を例示することができる。中でも、好ましくは、トリアルキルアルミニウム、トリアルキルアルミニウムとジアルキルアルミニウムハライドとの混合物、または、アルキルアルモキサンであり、さらに好ましくはトリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウムとジエチルアルミニウムクロリドとの混合物またはテトラエチルジアルモキサンである。[アルコキシケイ素化合物D]本発明で任意に用いられるアルコキシケイ素化合物Dとしては、下式xiii~xvで表される化合物が好ましい。R14eSiOR154-exiiiSiOR163NR17R18xivSiOR163NR19xv[式中、R14は炭素原子数1~20のハイドロカルビル基、水素原子であり;R15は炭素原子数1~20のハイドロカルビル基であり;eは0≦e<4を満たす整数である。R14およびR15が複数存在する場合、それぞれのR14およびR15は同じか又は異なる。R16は、炭素原子数1~6のハイドロカルビル基であり;R17およびR18は水素原子または炭素原子数1~12のハイドロカルビル基であり;NR19は、炭素原子数5~20の環状アミノ基である。]上式xiiiにおけるR14のハイドロカルビル基としては、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基等が挙げられ、R14のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、およびn-オクチル基のような直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、および2-エチルヘキシル基のような分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、およびシクロオクチル基のような環状アルキル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数1~20の直鎖状、分岐状および環状アルキル基である。R14のアラルキル基としては、ベンジル基、およびフェネチル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数7~20のアラルキル基である。R14のアリール基としては、フェニル基、トリル基、およびキシリル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数6~20のアリール基である。R14のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、3-ブテニル、および5-ヘキセニル基のような直鎖状アルケニル基;イソブテニル基、および5-メチル-3-ペンテニル基のような分岐状アルケニル基;2-シクロヘキセニル基、および3-シクロヘキセニル基のような環状アルケニル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数2~10のアルケニル基である。R14として好ましくは、炭素原子数1~20の直鎖状、分岐状および環状アルキル基であり、より好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、2-エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、およびシクロオクチル基である。上式xiiiにおけるR15のハイドロカルビル基としては、アルキル基が挙げられ、R15のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、およびn-オクチル基のような直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、および2-エチルヘキシル基のような分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、およびシクロオクチル基のような環状アルキル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数1~20の直鎖状、分岐状および環状アルキル基であり、より好ましくは炭素原子数1~5の直鎖状、アルキル基であり、特に好ましくはメチル基およびエチル基ある。上式xiiiで表されるアルコキシケイ素の具体例としては、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、tert-ブチルエチルジメトキシシラン、tert-ブチルプロピルジメトキシシラン、ジシクロブチルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、シクロペンチルトリエトキシシランが挙げられる。上式xivおよびxvにおけるR16のハイドロカルビル基としては、アルキル基が挙げられ、R16のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、およびn-ヘキシル基のような直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、およびネオペンチル基のような分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基のような環状アルキル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数1~6の直鎖状アルキル基である。R16としては特に好ましくはメチル基およびエチル基である。上式xivにおけるR17およびR18のハイドロカルビル基としては、アルキル基、アルケニル基等が挙げられ、R17およびR18のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、およびn-ヘキシル基のような直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、およびネオペンチル基のような分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基のような環状アルキル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数1~6の直鎖状アルキル基である。R17およびR18のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、3-ブテニル、および5-ヘキセニル基のような直鎖状アルケニル基;イソブテニル基、および5-メチル-3-ペンテニル基のような分岐状アルケニル基;2-シクロヘキセニル基、および3-シクロヘキセニル基のような環状アルケニル基が挙げられ、好ましくは炭素原子数2~6の直鎖状アルケニル基である。R17およびR18として特に好ましくはメチル基およびエチル基である。上式xivで表されるアルコキシケイ素の具体例としては、ジメチルアミノトリメトキシシラン、ジエチルアミノトリメトキシシラン、ジプロピルアミノトリメトキシシラン、ジメチルアミノトリエトキシシラン、ジエチルアミノトリエトキシシラン、ジプロピルアミノトリエトキシシラン、メチルエチルアミノトリエトキシシラン、メチルプロピルアミノトリエトキシシラン、tert-ブチルアミノトリエトキシシラン、ジイソプロピルアミノトリエトキシシラン、メチルイソプロピルアミノトリエトキシシランが挙げられる。上式xvにおけるNR19の環状アミノ基としては、パーヒドロキノリノ基、パーヒドロイソキノリノ基、1,2,3,4-テトラヒドロキノリノ基、1,2,3,4-テトラヒドロイソキノリノ基、オクタメチレンイミノ基が挙げられる。上式xvで表されるアルコキシケイ素の具体例としては、パーヒドロキノリノトリエトキシシラン、パーヒドロイソキノリノトリエトキシシラン、1,2,3,4-テトラヒドロキノリノトリエトキシシラン、1,2,3,4-テトラヒドロイソキノリノトリエトキシシラン、オクタメチレンイミノトリエトキシシランが挙げられる。アルコキシケイ素化合物Dとしては好ましくは、式xiiiで表されるアルコキシケイ素化合物であり、より好ましくはhが1また2を満たすアルコキシケイ素化合物であり、特に好ましくはシクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、tert-ブチルエチルジメトキシシラン、tert-ブチルプロピルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジシクロブチルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、シクロペンチルトリエトキシシランが挙げられる。[オレフィン重合用触媒の調整方法]固体触媒成分A、有機アルミニウム化合物B、トリエーテルCおよび任意にアルコキシケイ素化合物Dを接触させてオレフィン重合用触媒を得る方法においては、公知の方法を使用することができ、特に制限はない。固体触媒成分A、有機アルミニウム化合物B、およびトリエーテルCの接触順序としては、以下の方法1~3を例示することが出来る。1固体触媒成分A、有機アルミニウム化合物B、トリエーテルCを同時に接触させる方法。2有機アルミニウム化合物BとトリエーテルCを接触させた後、固体触媒成分Aを接触させる方法。3固体触媒成分Aと有機アルミニウム化合物Bを接触させた後、トリエーテルCを接触させる方法。固体触媒成分A、有機アルミニウム化合物B、トリエーテルCおよびアルコキシケイ素化合物Dの接触順序としては、特に限定されるものではないが、以下の方法1~4を例示することが出来る。1固体触媒成分A、有機アルミニウム化合物B、トリエーテルCおよびアルコキシケイ素化合物Dを同時に接触させる方法。2有機アルミニウム化合物B、トリエーテルCおよびアルコキシケイ素化合物Dを接触させた後、固体触媒成分Aを接触させる方法。3トリエーテルCとアルコキシケイ素化合物Dの混合液と、有機アルミニウム化合物Bを接触させた後、固体触媒成分Aを接触させる方法。4固体触媒成分Aと有機アルミニウム化合物Bを接触させた後、トリエーテルCおよびアルコキシケイ素化合物Dを接触させる方法。本発明のオレフィン重合用触媒の調製には、不活性炭化水素中で行うことが好ましく、後述するオレフィンの本重合や予備重合で例示する溶媒の存在下に行うことがより好ましい。本発明の重合用触媒を形成させるための方法は、以下の工程からなる方法の方が好ましい場合がある:1予備重合触媒成分の生成工程:固体触媒成分A及び有機アルミニウム化合物Bの存在下、少量のオレフィン本来の重合通常、本重合と言われるで使用されるオレフィンと同一または異なるを重合させ生成されるオレフィン重合体の分子量を調節するために水素のような連鎖移動剤を用いてもよい。、該オレフィンの重合体で表面が覆われた触媒成分を生成させる工程該重合は通常、予備重合と言われ、したがって該触媒成分は通常、予備重合触媒成分と言われる。。2本重合用重合触媒成分の生成工程:予備重合触媒成分と、任意で有機アルミニウム化合物Bとを接触させる工程。上記工程1および2のいずれかの工程または両方の工程においてトリエーテルCを用いることができる。また、アルコキシケイ素化合物Dも上記工程1および2のいずれかの工程または両方の工程において用いることができる。予備重合は好ましくは、プロパン、ブタン、イソブタン、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン及びトルエンのような不活性炭化水素を溶媒とするスラリー重合である。上記工程1で用いられる有機アルミニウム化合物Bの量は、工程1で用いられる固体触媒成分A中のチタン原子1mol当たり、通常0.5~700mol、好ましくは0.8~500mol、特に好ましくは1~200molである。予備重合されるオレフィンの量は、工程1で用いられるオレフィン重合用固体触媒成分A1g当たり通常0.01~1000g、好ましくは0.05~500g、特に好ましくは0.1~200gである。上記工程1のスラリー重合におけるオレフィン重合用固体触媒成分Aのスラリー濃度は、好ましくは1~500g-オレフィン重合用固体触媒成分/L-溶媒、特に好ましくは3~300g-オレフィン重合用固体触媒成分/L-溶媒である。予備重合の温度は、好ましくは-20~100°C、特に好ましくは0~80°Cである。予備重合における気相部のオレフィンの分圧は、好ましくは0.01~2MPa、特に好ましくは0.1~1MPaであるが、予備重合の圧力や温度において液状であるオレフィンについては、この限りではない。予備重合の時間は特に制限されず、好ましくは2分間から15時間である予備重合における、固体触媒成分A、有機アルミニウム化合物B及びオレフィンを重合槽へ供給する方法として、以下の方法1および2を例示することができる:1固体触媒成分Aと有機アルミニウム化合物Bとを供給した後、オレフィンを供給する方法;および2固体触媒成分Aとオレフィンとを供給した後、有機アルミニウム化合物Bを供給する方法。予備重合における、オレフィンを重合槽へ供給する方法として、以下の方法1および2を例示することができる:1重合槽内の圧力を所定の圧力に維持するようにオレフィンを順次供給する方法;および2オレフィンの所定量の全量を一括して供給する方法。予備重合で用いられるトリエーテルCの量は、固体触媒成分A中に含まれるチタン原子1molに対して、通常0.01~400mol、好ましくは0.02~200mol、特に好ましくは、0.03~100molであり、有機アルミニウム化合物B1molに対して、通常0.003~5mol、好ましくは0.005~3mol、特に好ましくは0.01~2molである。予備重合で用いられるアルコキシケイ素化合物Dの量は、固体触媒成分A中に含まれるチタン原子1molに対して、通常0.01~400mol、好ましくは0.02~200mol、特に好ましくは、0.03~100molであり、有機アルミニウム化合物B1molに対して、通常0.003~5mol、好ましくは0.005~3mol、特に好ましくは0.01~2molである。予備重合における、トリエーテルCおよびアルコキシケイ素化合物Dを重合槽へ供給する方法として、以下の方法1~6を例示することができる:1トリエーテルCを単独で供給する方法;2アルコキシケイ素化合物Dを単独で供給する方法;3トリエーテルCとアルコキシケイ素化合物Dの混合物を供給する方法;4トリエーテルCと有機アルミニウム化合物Bとの接触物を供給する方法;5アルコキシケイ素化合物Dと有機アルミニウム化合物Bとの接触物を供給する方法;および6トリエーテルCとアルコキシケイ素化合物Dの混合物と有機アルミニウム化合物Bとの接触物を供給する方法。本重合時の有機アルミニウム化合物Bの使用量は、オレフィン重合用固体触媒成分A中のチタン原子1molあたり、通常1~1000mol、特に好ましくは5~600molである。本重合時のトリエーテルCの使用量は、固体触媒成分A中に含まれるチタン原子1molあたり、通常0.1~2000mol、好ましくは0.3~1000mol、特に好ましくは0.5~800molであり、有機アルミニウム化合物B1molあたり、通常0.001~5mol、好ましくは0.005~3mol、特に好ましくは0.01~1molである。本重合時のアルコキシケイ素化合物Dの使用量は、固体触媒成分A中に含まれるチタン原子1molあたり、通常0.1~2000mol、好ましくは0.3~1000mol、特に好ましくは0.5~800molであり、有機アルミニウム化合物B1molあたり、通常0.001~5mol、好ましくは0.005~3mol、特に好ましくは0.01~1molである。本重合の温度は、通常-30~300°C、好ましくは20~180°Cである。重合圧力は特に制限されず、工業的かつ経済的であるという点で、一般に常圧~10MPa、好ましくは200kPa~5MPa程度である。重合はバッチ式または連続式であり、重合方法としてプロパン、ブタン、イソブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンおよびオクタンのような不活性炭化水素を溶媒とするスラリー重合法または溶液重合法や、重合温度において液状であるオレフィンを媒体とするバルク重合法や、気相重合法を例示することができる。[オレフィン重合]本発明のオレフィン重合体の製造方法で用いられるオレフィンとして、エチレンおよび炭素原子数3以上のα-オレフィンを例示することができる。α-オレフィンとして、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン、および1-デセンのような直鎖状モノオレフィン;3-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ペンテン、および4-メチル-1-ペンテンのような分岐鎖状モノオレフィン;ビニルシクロヘキサンのような環状モノオレフィン;ならびに、これらの2種以上の組合せを例示することができる。中でも、好ましくはプロピレンの単独重合、または、エチレンもしくはプロピレンを主成分とする複数種のオレフィンの組合せの共重合である。上記の複数種のオレフィンの組合せは、2種類またはそれ以上の種類のオレフィンの組合せを含んでいてもよく、共役ジエンや非共役ジエンのような多不飽和結合を有する化合物を含んでいてもよい。本発明のオレフィン重合体の製造方法で製造されるオレフィン重合体は、好ましくはエチレン単独重合体;プロピレン単独重合体、1-ブテン単独重合体、1-ペンテン単独重合体、および1-ヘキセン単独重合体のようなα-オレフィン単独重合体;エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-1-ブテン共重合体、およびエチレン-1-ヘキセン共重合体のようなエチレン共重合体;プロピレン-1-ブテン共重合体、プロピレン-1-ヘキセン共重合体、エチレン-プロピレン-1-ブテン共重合体、およびエチレン-プロピレン-1-ヘキセン共重合体、またはこれらを多段重合して得られるブロック共重合体である。以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。1[化合物の同定]化合物は、1HNMRで同定した。1HNMRは、核磁気共鳴装置日本電子社製、JNM-AL400を用いて下記の条件により測定した。テトラメチルシランの水素の化学シフト値を基準にした。測定溶媒:CDCl3測定温度:室温2[生成物の生成比]目的の生成物の生成比は、ガスクロマトグラフ島津製作所製、GC-2010を用いて下記条件により測定した。測定カラム:DB-1AglientTechnologies社製長さ30m、内径:0.25mm、膜厚:0.25μm測定温度:100~300°C10°C/分300°C10分間保持3極限粘度[η]、単位dL/g得られた重合体100mgを、135°Cのテトラリン50mlに溶解させ、135°Cに保持された湯浴中にセットされた、ウベローデ型粘度計を用い、当該サンプルが溶解したテトラリン溶液の落下速度から求めた。4アイソタクチックペンタッド分率mmmmアイソタクチックペンタッド分率は、13C-NMRスペクトルにおいて、19.4~22.2ppmのメチル炭素に帰属されるピーク面積ICH3に対する21.64~22.02ppmのmmmmペンタッドのメチル炭素に帰属されるピーク面積Immmmの割合として求めた。<測定条件>装置:Bruker社製AVANCE60010mmクライオプローブ測定溶媒:1,2-ジクロロベンゼン/1,2-ジクロロベンゼン-d4=75/25容積比の混合液測定温度:130°C測定方法:プロトンデカップリング法パルス幅:45度パルス繰り返し時間:4秒化学シフト値基準:テトラメチルシラン520°Cキシレン可溶部量CXS、単位:重量;20°Cの冷キシレンに可溶な分量を百分率wtで表した。通常、CXSは値が小さいほど、無定形重合体が少なく、高立体規則性であることを示す。6分子量および分子量分布ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにより、下記の条件で測定した。検量線は標準ポリスチレンを用いて作成した。分子量分布は重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比Mw/Mnで評価した。機種:ミリポアウオーターズ社製150C型カラム:TSK-GELGMH6-HT7.5Φmm×300mm×3本測定温度:140°C溶媒:オルトジクロロベンゼン測定濃度:5mg/5ml7固体触媒成分等の固体サンプルの組成分析チタン原子含有量は、固体サンプルを希硫酸で分解後、これに過酸化水素水を加え、得られた液状サンプルの410nmの特性吸収を日立製ダブルビーム分光光度計U-2001型を用いて測定し、別途作成しておいた検量線により求めた。アルコキシ基含有量は、固体サンプルを水で分解後、得られた液状サンプル中のアルコキシ基に対応するアルコール量を、ガスクロマトグラフィー内部標準法を用いて求め、アルコキシ基含有量に換算した。カルボン酸エステル含有量は、固体サンプルを水で分解後、飽和炭化水素溶媒で可溶成分を抽出し、抽出液中のカルボン酸エステル量をガスクロマトグラフィー内部標準法で求めた。実施例1Iトリエーテルの合成1-tert-ブチルジメチルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンの合成15-エチル-5-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサンの合成トリメチロールプロパン100g、745mmolと2,2-ジメトキシプロパン110mL、894mmolと、p-トルエンスルホン酸28gと、N,N-ジメチルホルムアミド450mLとを、撹拌機付きフラスコに仕込み、25°Cで2時間撹拌した。反応混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、5-エチル-5-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサンを122g得た収率95、純度98GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.85t,3H,1.31q,2H,1.40s,3H,1.43s,3H.1.97t,3H,3.67m,4H,3.74d,2H.25-エチル-5-メトキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサンの合成得られた5-エチル-5-ヒドロキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン40g、230mmolを乾燥N,N-ジメチルホルムアミド168mLに溶解した。別に1Lの4口フラスコに30mLのジメチルホルムアミドを入れ、これにNaH55wt、11.5g、264mmolを分散させた。この分散液に上記2,5-ジメチル-5-ヒドロキシメチル-1,3-ジオキサン溶液を0°Cで滴下し、滴下完了後、室温下で1時間撹拌し、0°Cに冷却下、ヨウ化メチル18.6mL、298mmolを滴下し、滴下完了後3時間20°Cで撹拌した。反応液を水洗しエーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、5-エチル-5-メトキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサンを40g得た収率87、純度94GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.83t,3H,1.35q,2H,1.40d,3H,1.41d,3H,3.35s,3H,3.41s,2H,3.59d,2H,3.69d,2H.32-tert-ブトキシメチル-2-メトキシメチル-1-ブタノールの合成得られた5-エチル-5-メトキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン34g、180mmolと溶媒として無水トルエン450mLを撹拌機付きフラスコに仕込み、0°CでMeMgIのエーテル溶液3M、90mL、271mmol,1.5当量を滴下し、滴下完了後、80°Cで3時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を入れ、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、2-tert-ブトキシメチル-2-メトキシメチル-1-ブタノールを29g得た収率75、純度94GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.84t,3H,1.18s,9H,1.34q,1H,1.35q,1H,3.34s,3H,3.35-3.60m,6H.41-tert-ブトキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンの合成得られた2-tert-ブトキシメチル-2-メトキシメチル-1-ブタノール30g,145mmolを乾燥THF400mLに溶解した。別に1Lの4口フラスコに200mLのTHFを入れ、これにNaH55wt,5.2g,217mmolを分散させた。この分散液に上記2-tert-ブトキシメチル-2-メトキシメチル-1-ブタノール溶液を0°Cで滴下し、滴下完了後、室温下で1時間撹拌し、0°Cに冷却下、ヨウ化メチル36mL、579mmolを滴下し、滴下完了後40°Cで3時間撹拌した。反応液を水洗しエーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、減圧蒸留沸点:74-75°C/0.67kPaにより、1-tert-ブトキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンを25g得た収率79、純度94GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.84t,3H,1.14s,9H,1.37q,2H,3.17s,2H,3.24s,4H,3.31s,6H.52,2-ビスメトキシメチル-1-ブタノールの合成得られた1-tert-ブトキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタン8.13g、37.2mmolと、無水ジクロロメタン122mLを撹拌機付きフラスコに仕込み、0°CでTiCl46.1mL、55.9mmolを添加し、0°Cで10分撹拌した。反応液に重曹水溶液を入れ、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、2,2-ビスメトキシメチル-1-ブタノールを5.87g得た収率94、純度97GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.84s,3H,1.35q,2H,2.94br,1H,3.32d,2H,3.34s,6H,3.40d,2H,3.58s,2H.61-tert-ブチルジメチルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンの合成得られた2,2-ビスメトキシメチル-1-ブタノール300mg、1.85mmolと、イミダゾール140mg、2.03mmolと、無水N,N-ジメチルホルムアミド3.2mLを撹拌機付きフラスコに仕込み、0°Cでtert-ブチルジメチルシリルクロリド310mg、2.03mmolのN,N-ジメチルホルムアミド溶液3.2mLを滴下し、滴下完了後、室温で8時間撹拌した。反応液に水を入れ、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶媒:ヘキサン酢酸エチル=5/1精製することにより、1-tert-ブチルジメチルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンを391mg得た収率76、純度99GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.02s,6H,0.84t,3H,0.88s,9H,1.35q,2H,3.21s,4H,3.30s,6H,3.43s,2H.II固体触媒成分Aの合成窒素置換した撹拌機を備えた反応器に、ヘキサン800L、フタル酸ジイソブチル6.8kg、テトラエトキシシラン350kgおよびテトラブトキシチタン38.8kgを投入し、撹拌した。次に、攪拌混合物に、ブチルマグネシウムクロリドのジブチルエーテル溶液濃度2.1mol/L900Lを反応器の温度を7°Cに保ちながら5時間かけて滴下した。滴下終了後、20°Cで1時間撹拌したあと濾過し、得られた固体をトルエン1100Lでの洗浄を3回繰り返し、スラリーの全体積が625Lとなるようにトルエンを加えた。その後、得られたスラリーを、攪拌下70°Cで1時間加熱処理し、室温まで冷却し、固体物質のスラリーを得た。該スラリーの一部を減圧乾燥して得た乾燥固体物質の組成分析を行ったところ固体物質中にはチタン原子が2.1重量、エトキシ基が38.9重量、ブトキシ基が3.4重量含有されていた乾燥固体物質を100重量とする。撹拌機、滴下ロート、温度計を備えた100mLのフラスコを窒素で置換したのち、上記で得た固体物質のスラリーを、乾燥固体物質8gを含む量だけ投入し、スラリーの全体積が26.5mLとなるように上澄み液を抜き取った。40°Cで四塩化チタン16.0mL、ジブチルエーテル0.8mLの混合物を投入し、さらにフタル酸クロライド2.0mLとトルエン2.0mLの混合物を5分間で滴下した。滴下終了後、反応混合物を115°Cで4時間攪拌した。その後、同温度で固液分離し、固体成分を得た。該固体成分を115°Cでトルエン40mLで3回洗浄を行った。該洗浄された固体成分に、スラリーの体積が26.5mLとなるようにトルエンを加えた。そこへジブチルエーテル0.8mL、フタル酸ジイソブチル0.45mLと、四塩化チタン6.4mLの混合物を投入し、105°Cで1時間攪拌した。その後、同温度で固液分離し、固体成分を得た。該固体成分を105°Cでトルエン40mLで2回洗浄を行った該洗浄された固体成分に、スラリーの体積が26.5mLとなるようにトルエンを加え105°Cとした。そこへジブチルエーテル0.8mL、四塩化チタン6.4mLの混合物を投入し、105°Cで1時間攪拌した。その後、同温度で固液分離し、固体成分を得た。該固体成分を105°Cでトルエン40mLで2回洗浄を行った。該洗浄された固体成分に、スラリーの体積が26.5mLとなるようにトルエンを加え105°Cとした。そこへジブチルエーテル0.8mL、四塩化チタン6.4mLの混合物を投入し、105°Cで1時間攪拌した。その後、同温度で固液分離し、固体成分を得た。該固体成分を105°Cでトルエン40mLで6回洗浄し、室温でヘキサン40mLで3回洗浄を行った。これを減圧乾燥して固体触媒成分Aを得た。該固体触媒成分中には、チタン原子1.6重量、エトキシ基0.06重量、ブトキシ基0.15重量、フタル酸ジエチル7.6重量、フタル酸エチルノルマルブチル0.8重量、フタル酸ジイソブチル25重量が含有されていた固体触媒成分を100重量とする。IIIプロピレン重合内容積3リットルの撹拌機付きステンレス製オートクレーブを減圧乾燥させた後、アルゴン置換を行い、冷却した。その後、当該オートクレーブ内を真空とした。トリエチルアルミニウムB成分2.6mmol、上記6で合成した1-tert-ブチルジメチルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンC成分0.26mmolを接触させて得られる接触混合物、および上記1で合成した固体触媒成分A成分6.79mgを準備し、この順でガラスチャージャー内のヘプタン中で接触させた。接触させたA~C成分をオートクレーブ内に一括で投入した。次に、液化プロピレン780gをオートクレーブ内に供給し、更に、0.20MPaの分圧に相当する水素を加えた。その後、オートクレーブを80°Cまで昇温し重合を開始した。重合開始1時間後、オートクレーブ内のガスをパージして重合を終了し、生成した重合体を60°Cで1時間減圧乾燥して166gの重合パウダーを得た。PP/cat=37,000g/g、CXS=1.7重量、重合体の極限粘度は、[η]=0.82dL/g、mmmmは0.942であった。重合条件及びその結果を、表1に示す。実施例2Iトリエーテルの合成1-トリイソプロピルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンの合成実施例15で得られた2,2-ビスメトキシメチル-1-ブタノール300mg、1.85mmol、イミダゾール140mg、2.03mmol、および無水N,N-ジメチルホルムアミド3.2mLを撹拌機付きフラスコに仕込み、0°Cでトリイソプロピルシリルクロリド0.43mL、2.03mmolを滴下し、滴下完了後、室温で8時間撹拌した。反応液に水を入れ、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:ヘキサン酢酸エチル/トリエチルアミン=100/1/1精製することにより、1-トリイソプロピルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンを391mg得た収率66、純度100GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.85t,3H,1.03-1.10m,19H,1.37q,2H,3.22s,4H,3.29s,6H,3.54s,2H.IIプロピレン重合A成分の使用量を7.68mgとしたこと、トリエーテルCとして1-トリイソプロピルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンとしたこと以外は実施例1と同様の方法で重合を行った。重合結果を表1に示す。実施例3Iトリエーテルの合成1-tert-ブチルジフェニルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンの合成実施例15で得られた2,2-ビスメトキシメチル-1-ブタノール300mg、1.85mmol、イミダゾール140mg、2.03mmol、および無水N,N-ジメチルホルムアミド3.2mLを撹拌機付きフラスコに仕込み、0°Cでtert-ブチルジフェニルシリルクロリド0.56mL、2.03mmolを滴下し、滴下完了後、室温で8時間撹拌した。反応液に水を入れ、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶媒:ヘキサン酢酸エチル/トリエチルアミン=100/1/1精製することにより、1-tert-ブチルジフェニルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンを342mg得た収率46、純度99GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.83t,3H,1.05s,9H,1.42q,2H,3.27s,4H,3.34s,6H,3.53s,2H,7.67m,6H,7.68m,4H.IIプロピレン重合A成分の使用量を8.48mgとしたこと、トリエーテルCとして1-tert-ブチルジフェニルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンとしたこと以外は実施例1と同様の方法で重合を行った。重合結果を表1に示す。実施例4Iトリエーテルの合成1-トリストリメチルシリルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンの合成実施例15で得られた2,2-ビスメトキシメチル-1-ブタノール1.00g、6.16mmol、4-ジメチルアミノピリジン0.90g、7.40mmol、および無水ジクロロメタン7.5mLを撹拌機付きフラスコに仕込み、0°Cでトリストリメチルシリルシリルクロリド1.83g、6.47mmolのジクロロメタン溶液7.5mLを滴下し、滴下完了後、室温で8時間撹拌した。反応液に水を入れ、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶媒:ヘキサン酢酸エチル/トリエチルアミン=100/1/1精製することにより、1-トリストリメチルシリルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンを1.41g得た収率56、純度99GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.18s,27H,0.81t,3H,1.30q,2H,3.15s,2H,3.28s,4H,3.29s,6H.IIプロピレン重合A成分の使用量を7.84mgとしたこと、トリエーテルCとして1-トリストリメチルシリルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンとしたこと以外は実施例1と同様の方法で重合を行った。重合結果を表1に示す。実施例5Iトリエーテルの合成1-tert-ブチルジメチルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3ジメチルブタンの合成12-tert-ブチル-2-メトキシメチルマロン酸ジエチルの合成tert-ブチルマロン酸ジエチル10.0g,46.2mmolを乾燥N,N-ジメチルホルムアミド26mLに溶解した。別のフラスコに26mLのN,N-ジメチルホルムアミドを入れ、これにNaH55wt,4.03g,92.4mmolを分散させた。この分散液に上記tert-ブチルマロン酸ジエチル溶液を0°Cで滴下し、滴下完了後、室温下で1時間撹拌し、0°Cに冷却下、クロロメチルメチルエーテル5.22mL、69.4mmolを滴下し、滴下完了後、室温下で4時間撹拌した。反応液を水洗し、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、減圧蒸留沸点:100-101°C/0.60kPaにより2-tert-ブチル-2-メトキシメチルマロン酸ジエチルを9.52g得た収率74、純度93GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ1.14t,9H,1.27t,6H,3.31s,3H,3.84s,2H,4.20q,4H.22-ヒドロキシメチル-2-メトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノールの合成得られた2-tert-ブチル-2-メトキシメチルマロン酸ジエチル9.00g,34.6mmolを乾燥ジエチルエーテル32mLに溶解した。別のフラスコに32mLの乾燥ジエチルエーテルを入れ、これに水素化リチウムアルミニウム2.62g,69.1mmolを分散させた。この分散液に上記2-tert-ブチル-2-メトキシメチルマロン酸ジエチル溶液を0°Cで滴下し、滴下完了後、室温下で1時間撹拌し、反応液に水酸化ナトリウム水溶液、水および硫酸ナトリウムを仕込み、セライトろ過を行った。ろ過後溶媒を留去し、2-ヒドロキシメチル-2-メトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノールを5.81g得た収率91、純度95GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.90s,9H,3.03dd,2H,3.37s,3H,3.48s,2H,3.77-3.90m,4H.35-tert-ブチル-5-メトキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサンの合成2-ヒドロキシメチル-2-メトキシメチル-3,3-1-ブタノール4.50g、25.5mmolと、2,2-ジメトキシプロパン3.75mL、30.6mmolと、p-トルエンスルホン酸0.49gと、N,N-ジメチルホルムアミド24mLとを、100mL撹拌機付きフラスコに仕込み、室温下で2時間撹拌した。反応混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、5-tert-ブチル-5-メトキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサンを4.79g得た収率82、純度95GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.93s,9H,1.36s,3H,1.39s,3H,3.32s,3H,3.50d,2H,3.52s,2H,3.81d,2H.42-tert-ブトキシメチル-2-メトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノールの合成得られた5-tert-ブチル-5-メトキシメチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン4.50g、20.8mmolと溶媒として無水トルエン26mLを撹拌機付きフラスコに仕込み、室温下でMeMgIのエーテル溶液3M、10.48mL、31.2mmolを滴下し、滴下完了後、40°C、500kPaで溶媒を4mL留去した後、100°Cで1時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を入れ、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=1/5精製により、2-tert-ブトキシメチル-2-メトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノールを3.56g得た収率73、純度99GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.93s,9H,1.20s,9H,3.31s,3H,3.33dd,1H,3.52ddd,2H,3.54s,2H,3.64dd,1H,3.71dd,1H.51-tert-ブトキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチルブタンの合成得られた2-tert-ブトキシメチル-2-メトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノール3.00g,12.9mmolを乾燥THF13mLに溶解した。別のフラスコに13mLのTHFを入れ、これにNaH55wt,0.85g,19.4mmolを分散させた。この分散液に上記2-tert-ブトキシメチル-2-メトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノール溶液を0°Cで滴下し、滴下完了後、室温下で1時間撹拌し、0°Cに冷却下、ヨウ化メチル1.6mL,25.8mmolを滴下し、滴下完了後、35°Cで1時間撹拌した。反応液を水洗しエーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、減圧蒸留沸点:85-86°C/1.0kPaにより1-tert-ブトキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチルブタンを1.98g得た収率62、純度99GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ1.00s,9H,1.14s,9H,3.27s,6H,3.36s,2H,3.38s,2H,3.39s,2H.62,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノールの合成得られた1-tert-ブトキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチルブタン1.30g,5.28mmolと溶媒として無水ジクロロメタン122mLを撹拌機付きフラスコに仕込み、0°CでTiCl40.87mL,7.9mmolを添加し、0°Cで10分撹拌した。反応液に重曹水溶液を入れ、ジクロロメタン抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノールを0.94g得た収率90、純度96GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.93s,9H,2.97br,1H,3.32s,6H,3.52dd,4H,3.58s,2H.71-tert-ブチルジメチルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3ジメチルブタンの合成得られた2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノール350mg、1.84mmolと、イミダゾール140mg、2.02mmolと、無水N,N-ジメチルホルムアミド3.7mLとを撹拌機付きフラスコに仕込み、0°Cでtert-ブチルジメチルシリルクロリド0.305mg、2.02mmolのN,N-ジメチルホルムアミド溶液3.7mLを滴下し、滴下完了後、室温で8時間撹拌した。反応液に水を入れ、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶媒:ヘキサン酢酸エチル/トリエチルアミン=100/1/1精製することにより、1-tert-ブチルジメチルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3ジメチルブタンを382mg得た収率68、純度99GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.03s,6H,0.89s,9H,1.00s,9H,3.26s,6H,3.35dd,4H,3.64s,2H.IIプロピレン重合A成分の使用量を2.37mgとしたこと、トリエーテルCとして1-tert-ブチルジメチルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3ジメチルブタンとしたこと以外は実施例1と同様の方法で重合を行った。重合結果を、表1に示す。実施例6Iトリエーテルの合成1-トリストリメチルシリルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチルブタンの合成実施例56で得られた2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノール350mg,1.84mmol、4-ジメチルアミノピリジン270mg、2.21mmol、および無水ジクロロメタン2.6mLを撹拌機付きフラスコに仕込み、0°Cでトリストリメチルシリルシリルクロリド547mg、1.93mmolのジクロロメタン溶液2.6mLを滴下し、滴下完了後、室温で8時間撹拌した。反応液に水を入れ、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶媒:ヘキサン酢酸エチル/トリエチルアミン=100/1/1精製することにより、1-トリストリメチルシリルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチルブタンを251mg得られた収率30、純度98GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.19s,27H,0.96t,9H,3.24s,6H,3.25s,2H,3.30s,2H,3.31s,2H.IIプロピレン重合A成分の使用量を6.65mgとしたこと、トリエーテルCとして1-トリストリメチルシリルシロキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチルブタンとしたこと以外は実施例1と同様の方法で重合を行った。重合結果を、表1に示す。比較例1Iトリエーテルの合成1-メトキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンの合成トリメチロールプロパン20.0g,145mmolを乾燥THF123mLに溶解した。別のフラスコに123mLのTHFを入れ、これにNaH60wt,19.7g,491mmolを分散させた。この分散液に上記トリメチロールプロパン溶液を0°Cで滴下し、滴下完了後、室温下で1時間撹拌し、0°Cに冷却下、ヨウ化メチル41.8mL、671mmolを滴下し、滴下完了後、25°Cで3時間撹拌した。反応液を水洗しエーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、減圧蒸留沸点:74-75°C/0.67kPaにより1-メトキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンを20.3g得た収率77、純度100GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.85t,3H,1.39q,2H,3.24s,6H,3.32s,9H.IIプロピレン重合A成分の使用量を12.00mgとしたこと、トリエーテルCとして1-メトキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンとしたこと以外は実施例1と同様の方法で重合を行った。重合結果を表1に示す。比較例2IIプロピレン重合A成分の使用量を8.39mgとしたこと、トリエーテルCとして実施例14で得られた1-tert-ブトキシ-2,2-ビスメトキシメチルブタンとしたこと以外は実施例1と同様の方法で重合を行った。重合結果を、表1に示す。比較例3Iトリエーテルの合成2,2-ビスメトキシメチル-2-1,2-ジメチルプロポキシメチルブタンの合成15-エチル-5-ヒドロキシメチル-2-イソプロピル-1,3-ジオキサンの合成トリメチロールプロパン26.0g、194mmolと、イソブチルアルデヒド123.0mL、252mmolと、p-トルエンスルホン酸3.69gと、N,N-ジメチルホルムアミド117mLとを撹拌機付きフラスコに仕込み、25°Cで1時間撹拌した。反応混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、5-エチル-5-ヒドロキシメチル-2-イソプロピル-1,3-ジオキサンを35.5g得た収率87、純度98GC面積百分率。25-エチル-2-イソプロピル-5-メトキシメチル-1,3-ジオキサンの合成得られた5-エチル-5-ヒドロキシメチル-2-イソプロピル-1,3-ジオキサン31.8g、169mmolを乾燥テトラヒドロフラン86mLに溶解した。別のフラスコに86mLのテトラヒドロフランを入れ、これにNaH55wt、11.0g、252mmolを分散させた。この分散液に上記5-エチル-5-ヒドロキシメチル-2-イソプロピル-1,3-ジオキサン溶液を0°Cで滴下し、滴下完了後、室温下で1時間撹拌し、0°Cに冷却下、ヨウ化メチル36.2mL、581mmolを滴下し、滴下完了後3時間20°Cで撹拌した。反応液を水洗しエーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、5-エチル-2-イソプロピル-5-メトキシメチル-1,3-ジオキサンを36.5g得た。異性体が2種類存在した52:48。収率98、純度92GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3異性体A:δ0.79t,3H,0.93d,6H,1.15q,2H,1.76sep-d,1H,2.95s,2H,3.26s,3H,3.35d,2H,3.36d,1H,3.80d,2H.異性体B:δ0.88t,3H,0.93d,6H,1.75q,2H,1.76sep-d,1H,3.35d,1H,3.37s,3H,3.56s,2H,3.60d,2H,3.91d,2H.32-メトキシメチル-2-1,2-ジメチルプロポキシメチル-1-ブタノールの合成得られた5-エチル-2-イソプロピル-5-メトキシメチル-1,3-ジオキサン20.0g、98.9mmolと無水トルエン265mLを撹拌機付きフラスコに仕込み、0°CでMeMgIのエーテル溶液3M、65.9mL、198mmolを滴下し、滴下完了後、40°C、500kPaで溶媒を64mL留去した後、100°Cで4時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を入れ、エーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=1/5精製により、2-メトキシメチル-2-1,2-ジメチルプロポキシメチル-1-ブタノールを15.3g得た収率70、純度100GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.83t,3H,0.85d,3H,0.87d,3H,1.06d,3H,1.33q,2H,1.71m,1H,2.75br,1H,3.10qd,1H,3.28d,1H,3.33s,3H,3.34d,1H,3.38d,1H,3.44d,1H,3.58s,2H.42,2-ビスメトキシメチル-2-1,2-ジメチルプロポキシメチルブタンの合成得られた2-メトキシメチル-2-1,2-ジメチルプロポキシメチル-1-ブタノール10.0g,45.8mmolを乾燥THF56mLに溶解した。別のフラスコに56mLのTHFを入れ、これにNaH55wt,2.60g,59.5mmolを分散させた。この分散液に上記2-メトキシメチル-2-1,2-ジメチルプロポキシメチル-1-ブタノール溶液を0°Cで滴下し、滴下完了後、室温下で1時間撹拌し、0°Cに冷却下、ヨウ化メチル8.6mL、137mmolを滴下し、滴下完了後、室温下で3時間撹拌した。反応液を水洗しエーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、減圧蒸留沸点:62-63°C/0.46kPaにより目的物を8.50g得た収率79、純度99GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.85t,3H,0.86d,3H,0.88d,3H,1.03d,3H,1.39q,2H,1.67m,1H,3.05qd,1H,3.14d,1H,3.25m,4H,3.31s,6H,3.32d,1H.IIプロピレン重合A成分の使用量を9.34mgとしたこと、トリエーテルCとして2,2-ビスメトキシメチル-2-1,2-ジメチルプロポキシメチルブタンとしたこと以外は実施例1と同様の方法で重合を行った。重合結果を、表1に示す。比較例4Iトリエーテルの合成1-メトキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチルブタンの合成実施例52で得られた2-ヒドロキシメチル-2-メトキシメチル-3,3-ジメチル-1-ブタノール0.500g,2.84mmolを乾燥THF2mLに溶解した。別のフラスコに2mLのTHFを入れ、これにNaH55wt,0.204g,8.51mmolを分散させた。この分散液に上記2-ヒドロキシメチル-2-メトキシメチル-3-メチル-1-ブタノール溶液を0°Cで滴下し、滴下完了後、室温下で1時間撹拌し、0°Cに冷却下、ヨウ化メチル0.71mL、11.4mmolを滴下し、滴下完了後、室温下で1時間撹拌した。反応液を水洗しエーテル抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後溶媒を留去し、減圧蒸留沸点:75-77°C/1.00kPaにより1-メトキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチルブタンを0.32g得た収率54、純度98GC面積百分率。1HNMR400MHz,CDCl3δ0.99s,9H,3.28s,9H,3.39s,6H.IIプロピレン重合A成分の使用量を10.57mgとしたこと、トリエーテルCとして1-メトキシ-2,2-ビスメトキシメチル-3,3-ジメチルブタンとしたこと以外は実施例1と同様の方法で重合を行った。重合結果を、表1に示す。"