"体内で光を放射および受光する光プローブ100であって、光信号を送信および受信する光ファイバ52と、シリコン製の光学ベンチ230であって、長手方向に延び、前記光ファイバ52の光ファイバ終端52Eを収容するファイバ用溝234、および前記光ファイバ終端52Eの端面を当該光学ベンチ230の側面に光結合する反射面240を有する光学ベンチ230とを備えた、光プローブ100。請求項1に記載の光プローブ100において、さらに、前記反射面240の上方に位置するように前記光学ベンチ230に固定されるレンズ構造体260を備えた、光プローブ100。請求項2に記載の光プローブ100において、前記レンズ260がアナモルフィックである、光プローブ100。請求項1から3のいずれか一項に記載の光プローブ100において、前記光学ベンチ230が、前記ファイバ用溝234の少なくとも一部の深さよりも大きい深さの有底溝238を有し、当該有底溝238の遠位端が前記折り返し反射面240を構成する、光プローブ100。請求項1から4のいずれか一項に記載の光プローブ100において、前記反射面240が平坦である、光プローブ100。請求項1から4のいずれか一項に記載の光プローブ100において、前記反射面240が湾曲している、光プローブ100。請求項1から6のいずれか一項に記載の光プローブ100において、前記ファイバ用溝234が、ファイバのストレインリリーフのための第1深さ部位、および第2深さ部位を含み、前記光ファイバ52が、被覆部位および裸線部位52Cを含み、前記被覆部位は前記光学ベンチ230の前記第1深さ部位内に位置し、前記裸線部位52Cは前記光学ベンチ230の前記第2深さ部位内に位置する、光プローブ100。請求項1から7のいずれか一項に記載の光プローブ100において、さらに、前記ファイバ用溝234の上方に位置する上側ベンチ210を備え、当該上側ベンチ210と前記シリコン製の光学ベンチ230との間に、前記光ファイバ終端52Eが挟み込まれる、光プローブ100。請求項8に記載の光プローブ100において、前記上側ベンチ210が、第1深さ部位および第2深さ部位を含むファイバ用溝212を有し、前記光ファイバ52の被覆部位は前記前記上側ベンチ210の前記第1深さ部位内に位置し、前記光ファイバ52の裸線部位52Cは前記上側ベンチ210の前記第2深さ部位内に位置する、光プローブ100。請求項8または9に記載の光プローブ100において、さらに、折り返し反射面240の上方に位置し、かつ、前記上側ベンチ210と隣接するように、前記光学ベンチ230に固定されるレンズ構造体260を備えた、光プローブ100。請求項1から10のいずれか一項に記載の光プローブ100において、さらに、前記光学ベンチ230を取り囲むハウジング310を備えた、光プローブ100。請求項11に記載の光プローブ100において、前記ハウジング310が、前記反射面240に対向する光ポート110/262/266を有し、当該光ポート110/262/266を通って、前記光ファイバ終端52Eが当該プローブ100の側方領域に光結合される、光プローブ100。請求項11または12に記載の光プローブ100において、前記ハウジング310が、筒部位312およびキャップ部位316/380を有し、前記キャップ部位316/380は前記筒部位312のスロット340に嵌め込まれる、光プローブ100。体内で光を放射および受光する光プローブ100であって、光信号を送信および受信する光ファイバ52と、前記光ファイバ52の光ファイバ終端52Eを収容するハウジング310であって、少なくとも筒部位312およびキャップ部位316/380を含み、前記キャップ部位316/380は前記筒部位312のスロット340に嵌め込まれるハウジング310とを備えた、光プローブ100。請求項14に記載の光プローブ100において、さらに、前記筒部位312の前記スロット340の一部によって形成された窓318内に位置するレンズ構造体260を備えた、光プローブ100。請求項15に記載の光プローブ100において、さらに、前記窓318の下方に位置する反射面240を備えた、光プローブ100。体内で光を放射および受光する光プローブ100であって、光信号を送信および受信する光ファイバ52と、前記光ファイバ52の光ファイバ終端52Eを収容するハウジング310であって、電気鋳造された筒部位312を少なくとも含むハウジング310とを備えた、光プローブ100。請求項17に記載の光プローブ100において、前記ハウジング310が、電気めっきによって形成される、光プローブ100。請求項17または18に記載の光プローブ100において、前記ハウジング310が、フォトリソグラフ法で形成された型に電気めっきを施すことによって形成される、光プローブ100。請求項17から19のいずれか一項に記載の光プローブ100において、さらに、前記ハウジング310のスロット340に嵌まり込む、電気鋳造されたキャップ部位316/380を備えた、光プローブ100。請求項14から16および20のいずれか一項に記載の光プローブ100において、さらに、前記筒部位312の前記スロット340内で前記キャップ部位316/380の下に位置する光学ベンチ230を備え、当該光学ベンチ230と前記キャップ部位316/380との間に、前記光ファイバ52が挟み込まれる、光プローブ100。請求項14から16、20および21のいずれか一項に記載の光プローブ100において、前記キャップ部位316/380が、その下側において長手方向に延びる溝382を有し、前記光ファイバ52が、前記キャップ部位316/380と前記筒部位312との間で、前記溝382に収容される、光プローブ100。光を放射および受光する光プローブ100を製造する方法であって、光ファイバを収容する複数の溝610を形成するために、ウェハ材510/514に異方性エッチングを施す工程と、前記ウェハ材510/514から、前記溝610をそれぞれ有する複数の光学ベンチ230をシンギュレートする工程と、ファイバのストレインリリーフのための第1深さ部位、および第2深さ部位を、前記溝610がそれぞれ含むように、前記複数の溝を成形する工程とを備えた、光プローブ100の製造方法。請求項23に記載の光プローブ100製造方法において、さらに、前記ウェハ材510/514に複数の有底溝238を形成する工程と、前記複数の有底溝238の各遠位端を、反射性を有するようにコーティングする工程とを備えた、光プローブ100の製造方法。請求項24に記載の光プローブ100製造方法において、さらに、レンズ構造体260を、前記反射面240の上方に位置するように前記光学ベンチ230に固定する工程を備えた、光プローブ100の製造方法。請求項23から25のいずれか一項に記載の光プローブ100製造方法において、さらに、上側ベンチ210と前記シリコン製の光学ベンチ230との間に前記光ファイバ52が挟み込まれるように、前記上側ベンチ210を前記溝610の上方に取り付ける工程を備えた、光プローブ100の製造方法。請求項23から25および26のいずれか一項に記載の光プローブ100製造方法において、さらに、前記複数の前記光学ベンチ230を別々のハウジング310に挿入する工程であって、前記ハウジング310は、それぞれ、前記光ファイバ52を当該プローブ100の側方領域に光結合する光ポート110/262/266を有する、工程を備えた、光プローブ100の製造方法。光を放射および受光する光プローブ100を製造する方法であって、レジスト層414に、フォトリソグラフ法でパターン転写する工程と、パターン転写された前記レジスト層414Aにおいてハウジングを電気鋳造する工程と、前記ハウジング310に、光ファイバ終端52Eを挿入する工程とを備えた、光プローブ100の製造方法。請求項28に記載の光プローブ100製造方法において、前記電気鋳造する工程が、電気めっきを行うことを含む、光プローブ100の製造方法。請求項28または29に記載の光プローブ100製造方法において、さらに、前記ハウジング310のスロット340に嵌まり込むキャップ部位316/380を電気鋳造する工程を備えた、光プローブ100の製造方法。請求項28から30のいずれか一項に記載の光プローブ100製造方法において、さらに、光学ベンチ230に前記光ファイバ終端52Eが収容されるように、前記光学ベンチ230を前記ハウジング310に装着する工程を備えた、光プローブ100の製造方法。光を放射および受光する光プローブ100を製造する方法であって、光ファイバ52を収容する複数の溝を形成するように、ウェハ材510/514に、フォトリソグラフ法でパターン転写する工程と、前記ウェハ材510/514から、前記複数の溝をそれぞれ有する複数の光学ベンチ230をシンギュレートする工程と、前記複数の溝内に、ファイバ端面52Eをそれぞれ装着する工程とを備えた、光プローブ100の製造方法。光を放射および受光する光プローブ100用のレンズ構造体260であって、当該レンズ構造体260は、第1層、第2層および前記第1層と前記第2層との間の中間層を含む複合ウェハ材Wに形成され、前記第1層に屈折レンズ264が形成され、前記複合ウェハ材Wの裏側BSから、前記第2層を通って前記屈折レンズ264の光軸520に沿って、光ポート262が形成される、光プローブ100用のレンズ構造体260。レンズ構造体260を製造する方法であって、複合ウェハ材Wの第1層に屈折レンズ264を形成する工程と、前記複合ウェハ材Wの裏側BSから、前記複合ウェハ材Wの第2層を通って前記屈折レンズ264の光軸520に沿って、光ポート110/262/266を形成する工程とを備えた、レンズ構造体260の製造方法。請求項34に記載のレンズ構造体260製造方法において、前記屈折レンズ264を形成する工程が、前記第1層にエッチングを施すことを含む、レンズ構造体260の製造方法。請求項34に記載のレンズ構造体260製造方法において、前記屈折レンズ264を形成する工程が、前記第1層に対してグレイスケールリソグラフィおよびドライエッチングを用いることを含む、レンズ構造体260の製造方法。請求項34から36のいずれか一項に記載のレンズ構造体260製造方法において、前記光ポート110/262/266を形成する工程が、前記裏側BSからドライエッチングを施すこと、および前記第1層と前記第2層との間の中間層で停止することを含む、レンズ構造体260の製造方法。請求項34から37のいずれか一項に記載のレンズ構造体260製造方法において、さらに、前記レンズ構造体260の傾斜した縁部を形成するように、前記複合ウェハ材Wの前側FSにおいて、前記屈折レンズ264間に溝をエッチングする工程を備えた、レンズ構造体260の製造方法。請求項34から36および38のいずれか一項に記載のレンズ構造体260製造方法において、前記光ポート110/262/266を形成する工程が、前記裏側BSからエッチングを施すこと、および前記第1層と前記第2層との間の中間層で停止することを含み、さらに、前記光ポート110/262/266の底部から前記中間層の剥き出た部分を除去する工程を備えた、レンズ構造体260の製造方法。請求項34から39のいずれか一項に記載のレンズ構造体260製造方法において、さらに、前記屈折レンズ264に反射防止コーティングを施す工程を備えた、レンズ構造体260の製造方法。請求項34から40のいずれか一項に記載のレンズ構造体260製造方法において、さらに、当該レンズ構造体260を、光ファイバ終端52Eを収容する光学ベンチ230に取り付ける工程を備えた、レンズ構造体260の製造方法。請求項34から40のいずれか一項に記載のレンズ構造体260製造方法において、さらに、当該レンズ構造体260を、光ファイバ終端52Eを収容する光学ベンチ230に対し、反射面240の上方に位置するように取り付ける工程を備えた、レンズ構造体260の製造方法。第1層、第2層および前記第1層と前記第2層との間の中間層を含む複合ウェハ材Wに形成されるレンズ構造体260であって、前記第1層に屈折レンズ264が形成され、前記複合ウェハ材Wの裏側BSから、前記屈折レンズ264の光軸520に沿って光ポート110/262/266が形成される、レンズ構造体260。請求項33または43に記載のレンズ構造体260において、前記複合ウェハ材Wが、絶縁体上シリコンである、レンズ構造体260。請求項33、43および44のいずれか一項に記載のレンズ構造体260において、前記第2層が、シリコン製のウェハ材である、レンズ構造体260。請求項14から16および20から22のいずれか一項に記載の光プローブ100において、さらに、前記ハウジング310の前記遠位端において前記スロット340を塞ぐエンド部位330を備えた、光プローブ100。請求項33、43から45および47のいずれか一項に記載のレンズ構造体260において、前記第1層が、シリコン製のウェハ材である、レンズ構造体260。請求項33、43から45、47および48のいずれか一項に記載のレンズ構造体260において、さらに、前記屈折レンズ264に施された反射防止コーティングを備えた、レンズ構造体260。図1および図2に、本発明が適用可能なカテーテルシステムを示す。カテーテル50は、体の管腔10に挿入される。典型的な一実施形態において、管腔10は冠動脈や頚動脈などの血管である。図示の例において、カテーテル50は、前記管腔を保護する、管状で光透過性のシース外装20内に位置する。詳細には、このシースがまず前記管腔に挿入されてから、カテーテル50が当該シース内に差し込まれる。カテーテル50の端部にはプローブ100が設けられている。プローブ100は、光ビームBを当該プローブ100の側方に放射し発光し、および/または当該プローブ100の側方から光ビームBを受け取る受光する。カテーテル50は、当該カテーテル50の長手方向に延びる光ファイバ52を具備する。光ファイバ52は、光ビームBをプローブ100に伝送し、および/またはプローブ100からのビームBを伝播する。光ビームBは、プローブ100の光ポート110を介して、放射および/または集光される。このビームは、符号58で示すように、シース20を伝播する。OCTプローブの一例において、ビームBは、血管壁10の照射領域12の屈折率プロファイルA-スキャンを解析するのに用いられる。血管内壁10の完全なスキャンは、プローブ100を血管10の一部に沿って螺旋状に走査させることによって収集される。これは、典型的に、プローブ100を矢印54で示すように対象部内で回転させながら矢印56で示すように後退させることによって達成される。このようなスキャン動作のあいだ、前記シースによって血管10が保護される。図3に、プローブ100内に設置される光学ベンチシステム200を示す。この光学ベンチシステム200は、光ファイバ52とプローブ100の側方領域とを光結合する。詳細には、光学ベンチシステム200は、キャップを構成する上側ベンチ210と、下側ベンチ230とを含む。好ましい実施形態において、これらのベンチは、単一のシリコン結晶または単一の他の同様の材料から作製されたものである。ベンチシステム200の立体構造topographicalfeatureであるV字溝および突起は、リソグラフ法を用いて、詳細には、結晶構造内の平面を異なる速度でエッチングすることによって所望の立体形状topographyを形成する異方性エッチング法を用いて作製されたものである。多くの場合、これらベンチの作製過程には、ドライエッチング反応性イオンエッチングを含むのような等方性エッチング法も含まれる。上側ベンチ210と下側ベンチ230との間に光ファイバ52、特にガラスコア52Cが保持および挟持されるように、上側ベンチ210が下側ベンチ230に取り付けられる。キャップを構成する上側ベンチ210は、光ファイバ52を固定するために、当該上側ベンチ210の長手方向に延びる、ファイバ用の第1V字溝212を有する。ファイバ用の第1V字溝212に続いて、ファイバ用の第2V字溝214が一直線上に配置されている。第1V字溝212の深さはファイバ用の第2V字溝214の深さよりも大きい。第1V字溝212の深さは、光ファイバ52を、当該光ファイバ52のポリマー製の外部被覆も含めて収容することができる深さである。光ファイバ52の遠位部位先端部位52Cは、前記外部被覆が剥ぎ取られており、ガラスコアが露出している。そのため、上側ベンチ210のファイバ用の第2V字溝214の深さは、ファイバ用の第1V字溝212の深さよりも小さい。第2V字溝214の両側方には、それぞれ係合面216が設けられている。上側ベンチ210の中央に位置する前記第2V字溝214と、当該上側ベンチ210の両縁の係合面216との間には、横方向において、キャップを構成する当該上側ベンチ210の第2V字溝214を画定するV字突起215が形成されている。下側ベンチ230は、ファイバ用の第1V字溝232を有する。第1V字溝232の深さは、被覆部分も含めて光ファイバ52を収容するように設定されているので、キャップを構成する上側ベンチ210のファイバ用の第1V字溝212と合致する。下側ベンチ230のファイバ用の第1V字溝232に続いて、ファイバ用の第2V字溝234が当該下側ベンチ230の中心軸に沿って一直線上に配置されている。ファイバ用の第2V字溝234の深さは、ファイバ用の第1V字溝232の深さよりも小さく、剥き出し状態の光ファイバ52の中央のガラスコア52Cを受け入れるように設定されている。下側ベンチ230の第2V字溝234の長手方向端部には、有底のV字溝凹所238が設けられている。典型的な実施形態において、有底のV字溝238の深さは、第2V字溝234の深さよりも大きく、かつ、下側ベンチ230の第1V字溝232と同程度の深さである。有底のV字溝238は、さらに、当該有底のV字溝の長手方向端部において光ファイバ52の端面終端52Eに対向する、反射端面端部の反射面240を有することを特徴とする。一例において、反射端面240は、金または銀の金属層または薄膜多層誘電体ミラー等の反射層でコーティングされている。一例において、反射端面240は平坦である。他の例において、反射端面240は、ビームを光ファイバ52の端面終端52Eに集束させ、かつ/または、端面52Eからの発散ビームをコリメートするかもしくは集束させる、屈折力を有するように湾曲している。ファイバ用の第1V字溝232の両側、ファイバ用の第2V字溝234の両側、および有底のV字溝238の両側には、下側ベンチ230の係合面236が設けられている。キャップを構成する上側ベンチ210を下側ベンチ230に組み付けると、上側ベンチ210の係合面216が下側ベンチ230の係合面236に着座する。上側ベンチ210の第2V字溝214を画定するV字突起215は下側ベンチ230の第2V字溝234内に嵌まり込む。このようにキャップを構成するベンチ/下側ベンチを組み立てることにより、上側ベンチ210のファイバ用の第2V字溝214と下側ベンチ230の第2V字溝234との間で、光ファイバ52の被覆されていない部位を挟持することができ、正確な位置合わせが可能となる。その他の対応する面同士は互いに近接し、エポキシや半田等の接着材料によって係止される。第2V字溝234の長さに対する光ファイバ52の剥き出し部位52Cの長さは、端面52Eが有底のV字溝238に少し突出するように設定されている。その結果、光信号が光ファイバ52の端部52Eから放射される場合、当該光信号が反射端面240で反射されてベンチ210,230の側方領域に導かれる。また、前記V字溝の反射ミラー反射端面240までの寸法を増加させると、後続の接着工程が容易になる。ファイバ用の第2V字溝234と、壁部Dを形成する有底のV字溝238との間の寸法を増加させることにより、接着工程時にエポキシがファイバ52の端部52E付近でウィッキングを引き起こす端部52E付近まで運ばれるのを防ぐウィックストップwickstop機能がもたらされる。この実施形態では、レンズ構造体260が、有底のV字溝238の一部、詳細には、反射端面240の上方に位置するようにして下側光学ベンチに固定されている。このレンズ構造体は、光学ベンチ230の係合面236に載置されるフレーム262を含む。フレーム262は中央に光ポート266を有する。この光ポート266内には、レンズ264が固定されているか、またはモノリシックに一体構造として形成されている。好ましい実施形態において、レンズ264は、シリコンまたはリン化ガリウムからなり、グレイスケールリソグラフィやドライエッチング等のフォトリソグラフ法によって製造された屈折アナモルフィックレンズである。前記レンズは、シース20の湾曲図1を参照によって生じる1軸方向の屈折力を補償するようにアナモルフィックとされる。図4に、部分的に組み立てられた状態の光学ベンチシステムを示す。上側ベンチ210が下側ベンチ230に装着され、上側ベンチ210と下側ベンチ230との間で剥き出し部位52Cが挟持される。なお、レンズ構造体260は、反射端面240を図示するために図示を省略する。反射端面240は、有底のV字溝238の両側壁と交差して三角形状に画定されている。図示の実施形態において、組み立てられた状態の光学ベンチシステム200の断面外形は八角形状である。このような断面形状は、キャップを構成する上側ベンチ210の裏側外側と下側ベンチ230の裏側外側との両方にV字溝のエッチングを施し、当該V字溝をシングレーション時のへき開位置として用いると、傾斜した縁部が形成されることにより得られる。詳細には、キャップを構成する上側ベンチ210の裏側は、平坦な裏面220と当該裏面220の側方にそれぞれ設けられた傾斜面218とを有することを特徴とする。下側ベンチ230は、平坦な裏面242と、当該裏面242の側方にそれぞれ設けられた傾斜面244と、当該下側ベンチ230の傾斜面244から、キャップを構成するベンチ210の傾斜面218に向かって延びる2つの垂直側壁246とを有する。このような八角形状、すなわち上側ベンチおよび下側ベンチの傾斜した縁部218、244は、近似で円形断面となる。その結果、ベンチシステム200を、外側ハウジングの円状の内腔に対し、当該内腔の内壁と良好に接触するように挿入させることができる。図5に、光ファイバ52の端面52Eがプローブ100の側方領域に光結合する様子を示す。詳細には、一実施形態において、光ファイバ52の端面52Eは鉛直方向を基準として0~8°の角度、例えば5°の角度でへき開または研磨されている。具体的な角度は、ファイバの端面52Eの光学反射率を最適化するように選択され、さらに、端面の反射防止コーティングの使用に依存する。詳細には、一実施形態において、ファイバの端面52Eは、表面の光学反射率をさらに制御する薄膜多層誘電体の反射防止コーティングで被覆されている。そして、ファイバの端面角度の最適化は、選択された加工方法の能力を有益に引き出すことができる。特定の一実施形態では、水平方向を基準として、2.4°の角度で光ファイバから光が出射される。この光は反射端面240に伝達される。この反射端面は、シリコン111面で形成されており、角度は50°ないし60°とされる。正確には結晶面の角度は54.74°となるはずであるが、ウェハがインゴットから切り出される際の100面に公差が存在することに留意されたい。その結果、ビームBは、プローブから出射される際に、鉛直方向を基準として、約10~約20°の角度、例えば17°の角度を有する。なお、上記の説明は、光ファイバ52からビームBとして放射される光の場合についてのものであるが、光の相反性の原理が当てはまることに留意されたい。すなわち、プローブ100の側方領域から生じた光が反射端面240によって光ファイバ52に結合される場合にも、同じことが当てはまる。図6および図7に、第1の実施形態における、プローブ100の光学ベンチシステム200が、外側ハウジング内に装着された様子を示す。詳細には、光学ベンチシステム200が、光ファイバ52と共に、中空筒状の外側ハウジング組立体310内に挿入される。図示の実施形態において、外側ハウジング組立体310は、遠位側先端側にドーム形状のノーズ314を有する筒部位312とキャップ部位316との2つの部品からなる。組立ての際、光学ベンチシステム200は、光ファイバ52と共に、筒部位312の円筒状の内腔にスライド挿入される。好ましい実施形態では、光学ベンチシステム200が、光ファイバと共に、エポキシを用いて典型的に接着係止される。その後、キャップ部位316が筒部位312に装着固定される。組み立てられた状態の光学ベンチシステム200の前記八角形の断面形状により、筒部位312の円筒状の内腔と光学ベンチシステム200との間で、機械的に良好な相互作用接触が確実に達成される。筒部位312の1つの側方が開いており、窓318を形成している。キャップ部位316は、筒部位312と同じ円筒外周を有するように寸法決めされているが、長さは窓318の長さよりも短い。図7に、組み立てられた状態の外側ハウジング組立体を示す。図7では、キャップ部位316が窓318内に装着されている。ここで、光学ベンチシステム200のレンズ構造体260の上方に光ポート110が構成され、ビームBを透過させる。図8Aおよび図8Bに、外側ハウジング310の第2の実施形態における2種類の変形例を示す。これらの例にかかる外側ハウジング310は、光ポート110に合わせて寸法決めされた、小さい窓部位を有する。キャップ部位は不要である。代わりに、筒部位312のみが設けられている。これらの例において、ベンチシステム200は、レンズ構造体260が光ポート110の位置に来るまで筒部位312内にスライド挿入される。図8Aの変形例は、筒部位312にエポキシ用ポート332を有する点で図8Bの変形例と異なる。これにより、エポキシ用ポート332で露出した光ファイバの長さ部分に対してエポキシを塗布することができるので、ファイバのストレインリリーフ張力緩和を向上させることができ、さらには、光学ベンチシステム200と光ファイバ52と筒部位312の円筒状の内腔との間で、機械的に良好な接合を確実に達成することができる。図9に、シリコン製の光学ベンチシステム200の第2の実施形態を示す。この実施形態では、上側光学ベンチが存在せず、シリコン製の下側光学ベンチ230のみが使用される。この実施形態は、光ファイバのガラスコアを固定する、単一の、ファイバ用のV字溝234が設けられているので、さらに簡略化されている。このファイバ用の単一のV字溝234には、有底のV字溝凹所238が揃えて配置されている。第1の実施形態で説明したように、有底のV字溝238には傾斜した反射端面が設けられている。また、前述の実施形態で説明したように、この傾斜した反射端面の上方に、レンズ構造体260が位置している。ここでも、組み立てられた状態の光学ベンチシステム200の断面外形は八角形状である。このような断面形状は、下側ベンチ230の裏側外側とレンズ構造体260の裏側外側との両方にV字溝のエッチングを施し、当該V字溝をシンギュレーション時のへき開位置として用いると、傾斜した縁部が形成されることにより得られる。詳細には、下側ベンチ230は、平坦な裏面242と、当該裏面242の側方に設けられた2つの傾斜面244と、当該下側ベンチ230の傾斜面244からレンズ構造体260の傾斜面270に向かって延びる2つの垂直側壁246とを有する。ここでも、前記V字溝の反射ミラー反射端面240までの寸法を増加させると、後続の接着工程が容易になる。ファイバ用の第2V字溝234と、壁部Dを形成する有底のV字溝238との間の寸法を増加させることにより、エポキシがファイバの端部付近でウィッキングを引き起こすのを防ぐウィックストップwickstop機能がもたらされる。この第2の実施形態には、極めて簡単に製作できるという利点がある。他方、ガラスコアのみが光学ベンチシステム200に固定されるので、光ファイバのストレインリリーフは減少する。図10~図12に、図9に示す光学ベンチシステム200の第2の実施形態に適合する、外側ハウジング310の第3の実施形態を示す。図10を参照して、詳細には、前記第3の実施形態は筒部位312を有する。筒部位の外表面350は略円筒形状である。筒部位312は、長手方向に延びるスロット340を有する。この長手方向に延びるスロット340は、当該スロットの開口から、断面視で垂直に延びる垂直側壁344を有する。長手方向に延びるスロット340は、さらに、水平方向に平坦な底部342を有する。断面視で傾斜またはV溝形状とされた側壁346により、垂直側壁344と平坦な底部342とが接続されている。筒部位312内、詳細には、長手方向に延びるスロット340内に、エンド部位330が嵌め込まれる。エンド部位330の外側壁362は、当該エンド部位330がスロット340内に装着された際に外側ハウジング310の円筒形状を完成させる部分円筒を形成している。エンド部位330は、さらに、スロット340の内壁の形状に合致する、垂直側壁364、平坦な底部368、および傾斜したV字溝の側部366を有する。図11に、エンド部位330を筒部位312のスロット340内に装着させた状態の、ハウジング310の第3の実施形態を示す。図12に、ハウジング310の第3の実施形態の一変形例を示す。このハウジング310は、ドーム形状のエンド部位330を具備する。図13に、ハウジング310の第3の実施形態と光学ベンチシステム200の第2の実施形態とを利用した、完全に組み立てられた状態のプローブ100を示す。詳細には、光ファイバ52が、下側ベンチ230のファイバ用のV字溝234内に装着されている。下側ベンチ230は、ハウジング310の筒部位312の長手方向に延びるスロット340内に装着されている。さらに、長手方向に延びるスロット340の遠位端先端では、当該スロット340内にエンド部位330が装着されている。キャップ部位380が、スロット340内において下側ベンチ230上に装着される。光ファイバ52は、キャップ部位380と下側ベンチ230との間に挟持される。キャップ部位380は、光ファイバ52の上部に係合する、断面視で円筒状の凹所382を有する。キャップ部位380は、さらに、筒部位312の対応する垂直壁344に係合する垂直部384を有する。外側ハウジング310には、下側ベンチ230に装着されるレンズ構造体260の上方に位置する光ポート110が設けられている。光ポート110は、長手方向においてキャップ部位380とエンド部位330との間、および横方向においてスロット340の両側縁の間に位置する空間によって画定されている。好ましくは、図10~図13に示したハウジング310の第3の実施形態は、LIGA法またはその他の関連する電鋳製法を用いて製造されたものである。LIGAは、Lithographie、Galvanoformung、Abformung英語でLithography、Electroplating、Molding日本語でリソグラフィ、電気めっき、成形の頭文字を取ったものであり、一般的に一定の断面形状押出成形で得られるような形状を有する高アスペクト比の微小構造を作製するための加工技術を表す。図14A~図14Cは、電鋳製法を用いて外側ハウジング310、エンド部位330およびキャップ部位380を作成するための製造工程を示す断面図である。詳細には、図14Aに示すように、基材410上のシード層/剥離層412に、厚いPMMAポリメチルメタクリレートまたはSU-8レジストの層414を接着させる。レジスト層414の深さdにより、この後に製造される押出部分の最大厚さが決まる。その結果、この深さにより、部品外側ハウジング310、エンド部位330およびキャップ部位380の長さが決まる。図14Bに、外側ハウジング310、エンド部位330およびキャップ部位380を作成するための次の製造工程を示す。詳細には、厚いレジスト層414が、PMMAレジストの場合にはコリメートされたX線で露光されることによってパターン転写され、あるいは、SU-8レジストの場合には紫外線光で露光されることによってパターン転写される。詳細には、レジスト層414とシンクロトロン光またはUV光等の照射源との間に、所望の構造パターンを有するポジマスクまたはネガマスクの形態のマスク416が配置される。その後、レジスト層414は、図14Bに示すようにパターン層414Aに現像される。図14Cに、外側ハウジング310、エンド部位330およびキャップ部位380の擬似押出部分押出成形で得られたような部分が形成される様子を示す。詳細には、好ましい実施形態では、シード層412上の、パターン化されたレジスト層414Aのフォトリソグラフ法で形成された型に対して電気めっきを施すことにより、擬似押出部分が形成される。この実施形態において、好適なめっき金属はニッケルである。他の実施形態では、ニッケル-鉄合金などのニッケル系合金が使用されてもよい。さらに他の実施形態では、金または金系合金が使用されてもよい。他の金属および合金には、銀、銀系合金、ニッケル-銅合金、ニッケル-コバルト合金、金-コバルト合金、および微小構造に係止するようにコロイド状の酸化粒子を含む合金が含まれる。図15Aおよび図15Bに、複数のレンズ構造体からなるウェハを示す。同図には、レンズ構造体260の製造方法を示すために、一部のレンズ構造体の断面が示されている。詳細には、図15Aに示すように、レンズ構造体260がウェハ材Wで大量生産される。各レンズ構造体は、中央に光ポート266を有するフレーム262を含む。光ポート266の上方に、屈折レンズ264が形成される。レンズ264は、シリコンまたはリン化ガリウムから作製され、好ましくは、ウェハWの前側FSにグレイスケールリソグラフィやドライエッチング等のフォトリソグラフ法を施すことによって製造されたものである。他の例において、前記レンズは、米国特許第7416674号明細書に開示されたCMP法を用いて製造されたものである。なお、この米国特許の全教示内容は、参照をもって本明細書に取り入れたものとする。好ましい実施形態では、図15Bに示すように、ウェハ材Wが複合ウェハ、好ましくは絶縁体上シリコンSOIである。レンズ264は、デバイスウェハ材510内で加工される。埋込酸化物の中間層512により、ハンドルウェハ材514をデバイスウェハ材510から分離する。ハンドルウェハ材514は、主に、レンズ構造体260のフレームおよび機械的な支持部として機能する。好ましい実施形態において、ハンドルウェハはシリコン製のウェハであり、デバイス層の厚さは10~50μmこの例では25μmであり、埋込酸化物の厚さは1~4μmこの例では2μmである。レンズのエッチング深さは、最も深い箇所で約5μmである。光ポート266は、ハンドルウェハ材514の裏側BSに対し、屈折レンズ264の中心光軸520に沿って裏面エッチングbacksideetchを施すことによって作成される。好ましくは、この裏面エッチングは、ハンドルウェハ材514とデバイスウェハ材510とを分離する埋込酸化物の層512で停止する、ドライエッチング、特に反応性イオンエッチングである。その後、ウェットエッチングまたはドライエッチングを用いて、光ポート266の底部に存在する酸化物を除去してレンズ264の裏側を露出させる。好ましい実施形態では、前側FSおよび裏側BS、詳細にはレンズ264に、誘電体を含む反射防止コーティングが塗布される。好ましくは、裏側BSに対し、反射防止コーティングに加えて、下側光学ベンチに接着し易くなるように金属が堆積される。図15Aを再び参照して、各レンズ構造体260はシンギュレーションダイシング工程で分離される。好ましい実施形態では、ウェハWの前側FSの、別々のレンズ構造体260の各レンズ264の間に、1軸方向に沿ってV字溝610が形成される。これらのV字溝610により、レンズ構造体260の両側に、傾斜した縁部270が形成される。V字溝610は、ウェハをへき開して各列のレンズ構造体を形成するためのへき開線として機能する。横方向のスクライブレーンLAを用いて、各列のレンズ構造体260を、個々のシンギュレーションされたレンズ構造体260に分離する。一部の実施形態では、シングレーションを容易にするために、レーンLAに沿ってウェットエッチングまたはドライウェッチングが施される。図16Aに、フォトリソグラフエッチング法/異方性エッチング法を用いて1枚のウェハに複数の個別の下側光学ベンチ230を形成する様子を示す。詳細には、1枚のウェハWの前側FSに、光学ベンチ230の列が形成される。その後、これらの光学ベンチ230は、横方向のスクライブラインLAおよび縦方向のスクライブ面LOに沿ってへき開されることにより、個々の光学ベンチにシンギュレートされる。図16Bおよび図16Cに、下側光学ベンチ230の前側FSを形成するために使用される、異方性エッチング用のエッチングマスクFM1,FM2の例を示す。詳細には、これらのエッチングマスクを用いて、ウェハ材のレジスト層にフォトリソグラフ法でパターン転写した後、当該レジスト層が現像される。次に、ウェハの前側を、例えばバッファKOH等を用いて、時間制御された異方性ウェットエッチング工程に曝す。図16Dに、裏側エッチングマスクBMと前側エッチングマスクFMとの関係を示す。詳細には、裏側マスクBMを用いて、下側光学ベンチの傾斜した縁部図4の符号244を参照が、裏側BSに形成される。この裏側マスクBMは、前側エッチングに使用されるマスクFMの両側方に2つの露出した部位を有する。裏側マスクBMのパターンにより、各側方に、下側光学ベンチの裏側に傾斜した縁部を形成するためのV字溝を形成する。以上のとおり、本発明を好ましい実施形態に基づいて具体的に図示し詳細に説明した。しかし、当業者であれば、添付の特許請求の範囲に包含される本発明の範囲を逸脱することなく形態および細部に対して様々な変更が可能であることを理解するであろう。"