"カチオン重合可能な化合物と、アニオン部とカチオン部とを有する、少なくとも一つの光酸発生剤と、4級アンモニウム構造と4級ホスホニウム構造とのうちのいずれかを有するカチオン部と、アニオン部と、を有する塩と、を含み、前記塩のアニオン部は、前記光酸発生剤のアニオン部由来の第1の酸中の前記アニオン部と入れ替わって前記第1の酸の酸強度より酸強度が小さい第2の酸を形成することが可能である感光性樹脂組成物。前記塩により形成される前記第2の酸は、フッ素原子を含有するアンチモン酸類、フッ素原子を含有するリン酸類、フッ素原子を含有するホウ酸類、フッ素原子を含有するスルホン酸類、又はカルボン酸類である請求項1に記載の感光性樹脂組成物。前記塩のモル数は、前記光酸発生剤の中で最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の0.25倍よりも多い請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。前記塩のモル数は、前記光酸発生剤の中で最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の0.5倍よりも多い請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。前記塩のモル数は、前記光酸発生剤の中で最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の等倍よりも多い請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。更に、アミン化合物を含有する請求項1乃至5のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。前記カチオン重合可能な化合物がエポキシ樹脂である請求項1乃至6のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。前記第2の酸は、フッ素原子を含有するアンチモン酸類、フッ素原子を含有するリン酸類、又はフッ素原子を含有するホウ酸類である請求項1乃至7のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。カチオン重合可能な化合物と;アニオン部とカチオン部とを有する、少なくとも一つの光酸発生剤と;4級アンモニウム構造と4級ホスホニウム構造とのうちのいずれかを有するカチオン部と、アニオン部と、を有する塩と;を含む感光性樹脂組成物が設けられた基板を用意する工程と、ここで、前記塩のアニオン部は、前記光酸発生剤のアニオン部由来の第1の酸中の前記アニオン部と入れ替わって前記第1の酸の酸強度より酸強度が小さい第2の酸を形成することが可能であり、前記ネガ型感光性樹脂組成物を部分的に露光し、露光部を硬化させる工程と、前記硬化によって得られた硬化部を加熱する工程と、を含むパターン形成方法。前記塩により形成される前記第2の酸は、フッ素原子を含有するアンチモン酸類、フッ素原子を含有するリン酸類、フッ素原子を含有するホウ酸類、フッ素原子を含有するスルホン酸類、又はカルボン酸類である請求項9に記載のパターン形成方法。前記塩のモル数は、前記光酸発生剤の中で最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の0.25倍よりも多い請求項9又は10に記載のパターン形成方法。前記カチオン重合可能な化合物がエポキシ樹脂である請求項9乃至11のいずれかに記載のパターン形成方法。液体を吐出するための吐出口が設けられた吐出口部材を備える液体吐出ヘッドであって、前記吐出口部材は、カチオン重合可能な化合物;アニオン部とカチオン部とを有する光酸発生剤;4級アンモニウム構造と4級ホスホニウム構造とのうちのいずれかを有するカチオン部と、アニオン部と、を有する塩、ここで、前記塩のアニオン部は、前記光酸発生剤のアニオン部由来の第1の酸中の前記アニオン部と入れ替わって前記第1の酸の酸強度より酸強度が小さい第2の酸を形成することが可能である;を含む樹脂組成物の硬化物からなる液体吐出ヘッド。前記塩により形成される前記第2の酸は、フッ素原子を含有するアンチモン酸類、フッ素原子を含有するリン酸類、フッ素原子を含有するホウ酸類、フッ素原子を含有するスルホン酸類、又はカルボン酸類である請求項13に記載の液体吐出ヘッド。前記塩のモル数は、前記光酸発生剤の中で最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の0.25倍よりも多い請求項13又は14に記載の液体吐出ヘッド。前記カチオン重合可能な化合物がエポキシ樹脂である請求項13乃至15のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。本発明は、上記を鑑みなされたものであって、高耐熱性を有し且つ造形精度の良いネガ型感光性樹脂組成物を提供することを目的の一つとする。また、該組成物から形成された、高精細な形状の吐出口が設けられた吐出口部材を有する液体吐出ヘッドを提供することを他の目的とする。本発明の一例は、カチオン重合可能な化合物と、アニオン部とカチオン部とを有する、少なくとも一つの光酸発生剤と、4級アンモニウム構造と4級ホスホニウム構造とのうちのいずれかを有するカチオン部と、アニオン部と、を有する塩と、を含み、前記塩のアニオン部は、前記光酸発生剤のアニオン部由来の第1の酸中の前記アニオン部と入れ替わって前記第1の酸の酸強度より酸強度が小さい第2の酸を形成することが可能である感光性樹脂組成物である。また、本発明の一例は、カチオン重合可能な化合物と;アニオン部とカチオン部とを有する、少なくとも一つの光酸発生剤と;4級アンモニウム構造と4級ホスホニウム構造とのうちのいずれかを有するカチオン部と、アニオン部と、を有する塩と;を含む感光性樹脂組成物が設けられた基板を用意する工程と、ここで、前記塩のアニオン部は、前記光酸発生剤のアニオン部由来の第1の酸中の前記アニオン部と入れ替わって前記第1の酸の酸強度より酸強度が小さい第2の酸を形成することが可能であり、前記ネガ型感光性樹脂組成物を部分的に露光し、露光部を硬化させる工程と、前記硬化によって得られた硬化部を加熱する工程と、を含むパターン形成方法である。また、本発明の一例は、液体を吐出するための吐出口が設けられた吐出口部材を備える液体吐出ヘッドであって、前記吐出口部材は、カチオン重合可能な化合物;アニオン部とカチオン部とを有する光酸発生剤;4級アンモニウム構造と4級ホスホニウム構造とのうちのいずれかを有するカチオン部と、アニオン部と、を有する塩,ここで、前記塩のアニオン部は、前記光酸発生剤のアニオン部由来の第1の酸中の前記アニオン部と入れ替わって前記第1の酸の酸強度より酸強度が小さい第2の酸を形成することが可能である;を含む樹脂組成物の硬化物からなる液体吐出ヘッドである。本発明によれば、高耐熱性を有し、造形精度の良い硬化物形成が可能なネガ型感光性樹脂組成物が提供される。また、高精細な形状の吐出口が設けられた吐出口部材を有する液体吐出ヘッドを提供することが可能となる。本発明に係るネガ型感光性樹脂組成物は、a酸により重合可能な化合物、b少なくとも一種類の光酸発生剤、c塩交換剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物であって、c塩交換剤は、4級アンモニウム構造と4級ホスホニウム構造とのうちのいずれかを有するカチオン部と、アニオン部と、を有する塩である。以下に、本発明によるネガ型感光性樹脂組成物の各成分を詳細に説明する。<a酸により重合可能な化合物>酸により重合可能な化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、カチオン重合可能な化合物である。カチオン重合可能な化合物としては、例えば、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基及びプロペニルエーテル基からなる群から選ばれる1種または2種以上の反応性官能基を有する化合物が挙げられる。これらのうち、エポキシ基を1分子中に複数有する多官能エポキシ化合物が好ましい。このような多官能エポキシ樹脂としては、例えば、多官能脂環型エポキシ樹脂、多官能フェノールノボラック型エポキシ樹脂、多官能オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、多官能トリフェニル型ノボラック型エポキシ樹脂、多官能ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのうち、多官能ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、多官能脂環型エポキシ樹脂又は多官能フェノールノボラック型エポキシ樹脂が好ましく用いられる。その官能性は5官能以上が好ましく、例えば、ジャパンエポキシレジン社製エピコート157S70や、大日本インキ化学工業株式会社製のエピクロンN-865、ダイセル化学工業株式会社製EHPE3150が市販品として入手でき、より好ましく用いられる。上記多官能エポキシ樹脂の軟化点は、特に限定されないが、50°C~180°Cであることが好ましく、60°C~160°Cであることがより好ましい。上記多官能エポキシ樹脂の含有量は、全固形分中、40質量~99.9質量であることが好ましく、45質量~99.9質量であることがより好ましく、50質量~99.2質量であることがさらに好ましい。これにより、支持体に塗布した際に、適当な硬度のレジスト層が得られる。オキセタン基を有する化合物としては、オキセタン環を少なくとも1つ有する化合物であればいずれも使用することができる。オキセタン基を有する化合物としては、例えば、ビスフェノールA型オキセタン化合物、ビスフェノールオキセタン化合物、ビスフェノールS型オキセタン化合物、キシリレン型オキセタン化合物、フェノールノボラック型オキセタン化合物、クレゾールノボラック型オキセタン化合物、アルキルフェノールノボラック型オキセタン化合物、ビフェノール型オキセタン化合物、ビキシレノール型オキセタン化合物、ナフタレン型オキセタン化合物、ジシクロペンタジエン型オキセタン化合物、フェノール類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のオキセタン化物などが挙げられる。オキセタン基を有する化合物として、より具体的には以下の化学式に記載の化合物が例示される。ビニルエーテル以下VEと略記基を有する化合物としては、単官能VE[C3以上かつMn1,000以下、例えばアルキルVE[メチルVE、エチルVE、ブチルVE、イソブチルVE、シクロヘキシルVE、2-クロロエチルVE、2-フェノキシエチルVE、2-ヒドロキシエチルVE、4-ヒドロキシブチルVE、ステアリールVE、2-アセトキシエチルVE、ジエチレングリコールモノVE、2-エチルヘキシルVE、ドデシルVE、オクタデシルVE等]、アルケニルVE[アリルVE、2-メタクロイルオキシエチルVE、2-アクロイルオキシエチルVE等]、アリールVE[フェニルVE、p-メトキシフェニルVE等]、および多官能VE[C6以上かつMn1,000以下、例えば1,4-ブタンジオールジVE、トリエチレングリコールジVE、1,4-ベンゼンジVE、ハイドロキノンジVE、シクロヘキサンジメタノールジVE、ジエチレングリコールジVE、ジプロピレンジVE、ヘキサンジオールジVE等]が挙げられる。プロペニルエーテル以下PPEと略記基を有する化合物としては、単官能PPE[C4以上かつMn1,000以下、例えばアルキルPPE[メチルPPE、エチルPPE、ブチルPPE、イソブチルPPE、シクロヘキシルPPE、2-クロロエチルPPE、2-フェノキシエチルPPE、2-ヒドロキシエチルPPE、4-ヒドロキシブチルPPE、ステアリルPPE、2-アセトキシエチルPPE、ジエチレングリコールモノPPE、2-エチルヘキシルPPE、ドデシルPPE、オクタデシルPPE等]、アルケニルPPE[アリルPPE、2-メタクロイルオキシエチルPPE、2-アクロイルオキシエチルPPE等]、アリールPPE[フェニルPPE、p-メトキシフェニルPPE等]、多官能PPE[C6以上かつMn1,000以下、例えば1,4-ブタンジオールジPPE、トリエチレングリコールジPPE、1,4-ベンゼンジPPE、ハイドロキノンジPPE、シクロヘキサンジメタノールジPPE、ジエチレングリコールジPPE、ジプロピレンジPPE、ヘキサンジオールジPPE等]等が挙げられる。<b光酸発生剤>b成分は、感光後分解し、直接もしくは間接的に酸が発生する物質である。そのような性質を有するものであれば、その種類及び構造などは特に限定されるものではない。b成分の光酸発生剤から発生した酸は重合反応を開始又は促進する効果がある。また、本発明において、酸はカチオンを含む概念である。b成分の光酸発生剤としては、例えば、スルホン酸化合物及びその他のスルホン酸誘導体、ジアゾメタン化合物、スルホニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物、スルホンイミド化合物、ジスルホン系化合物、ニトロベンジル化合物、ベンゾイントシレート化合物、鉄アレーン錯体、ハロゲン含有トリアジン化合物、アセトフェノン誘導体化合物、又はシアノ基含有オキシムスルホネートなどが挙げられる。従来から知られている又は従来から使用されている光酸発生剤は、いずれも、特に限定されることなく、本発明において適用することができる。より好ましくは、スルホニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物が挙げられる。耐熱性の観点から、スルホニウム塩化合物としては、カチオン部にアリール基を1つ以上有するモノアリールスルホニウム塩、ジアリールスルホニウム塩、トリアリールスルホニウム塩が好ましい。ヨードニウム塩化合物としてはジアリールヨードニウム塩が好ましい。さらに好ましくは、分解後、エポキシ樹脂を十分に硬化する酸強度を有している酸を発生する観点から、モノアリールスルホニウム塩、ジアリールスルホニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩が挙げられる。エポキシ樹脂を十分に硬化する酸強度としては、ルイス酸においては六フッ化アンチモン酸以上の強酸であることが好ましい。六フッ化アンチモン酸以上の強酸とは、ハメットの酸度関数-HO=18以上であることを意味する。ブレンステッド酸においては、ノナフルオロブタンスルホン酸以上の強酸であることが好ましい。ノナフルオロブタンスルホン酸以上の強酸とは、PKa=-3.57以上であることを意味する。そのような強酸の発生源となるスルホニウム塩、ヨードニウム塩中のアニオン部構造の好ましい具体例を以下に挙げる。但しこれらは一例であり、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。アニオン部構造の最も好ましい具体例としては、上記b-1からb-14が挙げられる。そのような、より強い強酸の発生元であるアニオン部構造を使用することで、高い造形精度で硬化物を得ることができる。b成分は、単独又は2つ以上の組み合わせで使用することができる。b成分の含有量は、全固形分中、一般に0.01質量~20質量であり、好ましくは0.1質量~15質量であり、より好ましくは0.15質量~10質量である。<c塩交換剤>c塩交換剤は、b光酸発生剤の感光後、光酸発生剤のアニオン部由来の第1の酸中のアニオン部と入れ替わって第1の酸の酸強度より酸強度が小さい第2の酸を形成することができる四級アンモニウム塩又は四級ホスホニウム塩である。そのような性質を有するものであれば、その種類及び構造などは特に限定されるものではない。このような塩交換剤は、組成物中、b光酸発生剤のアニオン部とc塩交換剤のアニオン部を比較し、各アニオン部を酸に転換した場合の酸強度を指標にすることで選択することができる。すなわち、下記式1を満たす化合物は、b光酸発生剤から発生した酸第1の酸を捕え、捕らえた酸よりも酸強度の弱い酸第2の酸を放出することができることを表し、本発明における塩交換剤となり得る。アニオン部とは、負の電荷として、-で記載される記号を含有するユニットを指し、酸に転換するとは、該アニオン部にHを付与した状態を指す。下記式1中、>の向きの意味は、より酸強度が強い>より酸強度が弱い、ことを示す。<式1>[b光酸発生剤のアニオン部を酸に転換した場合の酸強度]>[c塩交換剤のアニオン部を酸に転換した場合の酸強度]該酸強度は、ハメットの酸度関数やPKaのような酸強度を示す物性値が適用できる。また、実測値も同様に適用できる。実測値の測定方法は、カチオン部を同一に揃えて、アニオン部を変えた光酸発生剤を使用した各感光性樹脂組成物を実際に露光し、それらの感度を比較することで判断することができる。すなわち、より高感度である光酸発生剤の方がより酸強度が強いことを表す。実測方法は後記<評価>の項にて詳細を述べる。塩交換に関する反応原理として、下記式2にイメージ図を示す。M/Sはb光酸発生剤を示し、hνはエネルギー光を照射する工程を示し、M/Hは感光後、b光酸発生剤から発生した酸を示し、N/Aはc塩交換剤を示す。その時、[M/Hの酸強度]>[N/Hの酸強度]の関係を有しているとする。すなわち、式2において便宜的にM/Hを強酸、N/Hを弱酸と表記する。-の符合を有するユニットはアニオン部を示し、の符合を有するユニットはカチオン部を示す。すなわち、式2では、b光酸発生剤及びc塩交換剤はアニオン部とカチオン部の1対1の対イオン塩であることを意味している。具例的には一例として、Sはトリフェニルスルホニウム、Aはテトラアルキルアンモニウム、Mは上記のb-1、Nはペンタフルオロアンチモネートを挙げる。式2において、光酸発生剤から発生した酸、M/Hは、例えば発生酸を拡散させ画像形成を行う工程であるPEBポストエクスポージャーベークや現像後の加熱処理ポストベーク工程中にc塩交換剤であるN/Aに出会うと、より弱い酸であるN/Hに転換される。これは化学的に塩交換と呼ばれる現象である。従来では、高い信頼性を付与するためにネガ型感光性樹脂硬化物を高温にて加熱した場合、硬化膜が変質してしまい、所望の硬化膜が得られない場合があるという耐熱性不足の課題があった。本発明者らは、その要因が強酸の存在と高温加熱の組み合わせによるものであることを突き止め、b光酸発生剤により発生した酸をc塩交換剤を用いてより酸強度の弱い酸と安定な塩に転換することで、硬化膜の耐熱性を向上させることができることを見出した。前記安定な塩とは、b光酸発生剤から発生した酸がc塩交換剤にトラップされた後に形成される塩化合物、M/Aのことを指し、高温加熱においても安定であるため、硬化膜を変質させない。一方で、高い造形精度を得るためには、酸強度が強い酸を重合に用いることが望ましい。このように、これまで造形精度と耐熱性はトレードオフ関係にあったため、両立が困難であったが、本発明の塩交換の反応を利用することで解決することができた。c塩交換剤としては、下記構造式1が好ましく挙げられる。Aは窒素原子又はリン原子を表す。R1からR4は、総炭素数6~30のアリール基、総炭素数4~30の複素環基、総炭素数1~30のアルキル基、総炭素数2~30のアルケニル基または総炭素数2~30のアルキニル基を表し、これらは、アルキル基、ヒドロキシ基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アシロキシ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アリール基、ヘテロ原子含有芳香族環基、アリールオキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキレンオキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基の各基およびハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1種で置換されていてもよい。これらの置換基として、より具体的には、例えば、炭素数1~6のアルキル基例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヒドロキシ基、炭素数3~6のシクロアルキル基例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、炭素数2~6のアルケニル基例えば、ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、2-ブテニル基、炭素数2~6のアルキ二ル基例えば、アセチレニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、2-ブチニル基、炭素数1~6のアルコキシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、炭素数2~6のアルキルカルボニル基、炭素数7~11のアリールカルボニル基、炭素数2~6のアルコキシカルボニル基例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert-ブトキシカルボニル基、炭素数7~11のアリールオキシカルボニル基、炭素数7~11のアリールチオカルボニル基、炭素数2~6のアシロキシ基、炭素数6~10のアリールチオ基例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、炭素数1~6のアルキルチオ基例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、iso-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、tert-ブチルチオ基、炭素数6~14のアリール基例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、炭素数4~8のヘテロ原子含有芳香族環基例えば、フリル基、チエニル基、炭素数6~10のアリールオキシ基例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基、炭素数1~6のアルキルスルフィニル基、炭素数6~10のアリールスルフィニル基、炭素数1~6のアルキルスルホニル基、炭素数6~10のアリールスルホニル基、炭素数1~6のアルキレンオキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基の各基およびハロゲン原子例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられる。R1からR4はそれぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。また、Aが窒素原子の場合、R1とR4が二重結合を形成し、R2-N=R6-R3を形成してもよい。また、R1からR4及びR6は、2個以上のRが互いに炭素原子、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子を介して単環以上の環構造を形成してもよい。環構造を形成した場合、環中に1個以上の二重結合を有してもよく、窒素原子を含んだ複素環又は芳香環であってもよい。Xは窒素原子、リン原子、アンチモン原子、ホウ素原子及び、酸素原子から選ばれる。Xが窒素原子の場合、mn=2、且つ、n=0、1から選ばれる整数を表し、Yは-S=O2-、フッ化アルキレン基、-O-CF2-、-C=O-CF2-、-O-C=O-CF2-、-C=O-O-CF2-及び、単結合から選ばれる。R5はフッ素原子で置換されてもよい炭素数1~30の炭化水素基を表し、n=0かつYが-S=O2-又は単結合の場合、少なくとも1つのフッ素原子を有する炭化水素基である。Xがリン原子またはアンチモン原子の場合、mn=6、且つ、n=0~6から選ばれる整数を表し、Yは-S=O2-、-O-CF2-、-C=O-CF2-、-O-C=O-CF2-、-C=O-O-CF2-、-O-及び、単結合から選ばれる。R5はフッ素原子で置換されてもよい炭素数1~30の炭化水素基及び水素原子から選ばれる基を表し、n=0、かつ、Yが-S=O2-、-O-若しくは単結合の場合、少なくとも1つのフッ素原子を有する炭化水素基である。Xがホウ素原子の場合、mn=4、且つ、n=0~4から選ばれる整数を表し、Yは-S=O2-、-O-CF2-、-C=O-CF2-、-O-C=O-CF2-、-C=O-O-CF2-、フッ素置換してもよいフェニレン基、及び単結合から選ばれる。R5はフッ素原子で置換されてもよい炭素数1~30の炭化水素基、フッ素原子、及び水素原子から選ばれる基を表し、n=0、かつ、Yが-S=O2若しくは単結合の場合、少なくとも1つのフッ素原子を有する炭化水素基である。Xが酸素原子の場合、m=1、且つ、n=0の整数を表し、Yは-S=O2-及び、-C=O-から選ばれる。R5は水酸基、塩素原子、フッ素原子で置換されてもよい炭素数1~30の炭化水素基を表す。Xが酸素原子の場合、R3とR5は水酸基、塩素原子で置換されてもよい炭素数1~30の炭化水素基を介し連結して分子内塩を形成してもよい。c塩交換剤の具体例の一部を以下に挙げる。但しこれらは一例であり、これらの化合物に限定されるものではない。c成分は、単独又は2つ以上の組み合わせで使用することができる。c塩交換剤から放出する、捕らえた酸よりも酸強度の弱い酸は、前記式1のアニオン部に由来する酸の中でも、フッ素原子を含有するアンチモン酸類、フッ素原子を含有するリン酸類、フッ素原子を含有するホウ酸類、フッ素原子を含有してもよいスルホン酸類、又はカルボン酸類であることが好ましい。フッ素原子を含有するアンチモン酸としては、例えば、六フッ化アンチモン酸、ヒドロキシル基が1から5つ置換したフッ化アンチモン酸が挙げられる。フッ素原子を含有するリン酸類としては、例えば、六フッ化リン酸、フッ素原子含有アルキル基が1つ、または2つ置換したフッ化リン酸が挙げられる。フッ素原子を含有するホウ酸類としては、例えば、四フッ化ホウ酸が挙げられる。フッ素原子を含有してもよいスルホン酸又はカルボン酸類としては、例えば、メチルスルホン酸、フルオロ酢酸、酢酸等が挙げられる。c塩交換剤の含有量は、全固形分中、一般に0.001質量~15質量であり、好ましくは0.01質量~8質量であり、より好ましくは0.05質量~7質量である。また、c塩交換剤の含有量は、特に限定されるものではないが、b光酸発生剤中、最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数<c塩交換剤のモル数×4、の関係を満たすことが好ましい。すなわち、c塩交換剤の含有量を最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の0.25倍1/4倍モルよりも多くすることが好ましい。このようにすることにより、b光酸発生剤から発生した強酸をc塩交換剤が十分に弱酸に転換することができるため、硬化膜の耐熱性を向上することができる。但し、発生酸の価数が複数以上の場合は、上記光酸発生剤のモル数は、その価数を掛けたものを表す。また、b光酸発生剤中、最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数<c塩交換剤のモル数×2、の関係を満たすことがより好ましい。すなわち、c塩交換剤の含有量を最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の0.5倍1/2倍よりも多くすることがより好ましい。さらにはb光酸発生剤中、最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数<c塩交換剤のモル数、の関係を満たすことが特に好ましい。すなわち、c塩交換剤の含有量を最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の等倍よりも多くすることが特に好ましい。また、c塩交換剤の含有量は、最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の20倍よりも少ないことが好ましい。c塩交換剤の含有量をこの範囲とすることで、感度の低下や、塗布性の劣化を防ぎ易くすることができる。b光酸発生剤とc塩交換剤は、耐熱性、造形精度、感度の観点から、上記酸強度と当量関係の範囲内で適宜組み合わせて使用することができる。耐熱性を重視した場合、c塩交換剤としてより弱酸が発生するものを選択することが好ましい。但し、この場合、好ましい感度範囲となるよう上記弱酸の程度を調整する。また、造形精度と耐熱性のバランスを重視した場合、b光酸発生剤としてより強酸が発生するものを選択し、c塩交換剤としてより弱酸が発生するものを選択することが好ましい。但し、この場合、好ましい感度範囲となるよう弱酸の程度を鑑み、c塩交換剤を選択することが望ましい。また、感度を重視した場合、b光酸発生剤としてはより強酸を発生するものを選択し、且つc塩交換剤をより強酸を発生するものを選択することが好ましい。但し、この場合、耐熱性が好ましい範囲となるように強酸の程度を考慮し、c塩交換剤を選択することが望ましい。本発明のネガ型樹脂組成物では、a酸により重合可能な化合物、b光酸発生剤、及びc塩交換剤を含むことで良好な造形精度と耐熱性を示す硬化物を得ることができるが、様々な性能を改善するために、適宜以下のような添加剤を用いてもよい。但し、これらは一例であり、これらの化合物に限定されるものではない。<dアミン化合物>アミン化合物とは、窒素原子を含有し、且つ窒素原子の孤立電子対に由来し塩基性を発現する塩基性化合物を指す。アミン化合物の機能として、例えば光酸発生剤から発生した酸をトラップし、その酸性度を失活することができる。それにより、熱により酸を拡散させる工程でその酸拡散長を制御しパターン解像性を向上させたり、感光性樹脂組成物溶液を保存中に、暗反応により光酸発生剤等から微量に発生する酸を失活させることで保存期間の感度変動を抑制することができる。アミン化合物としては、特に限定されないが、異なる化学的環境の窒素原子を2つ以上有するアミン化合物であることが好ましい。特に、少なくとも1つの置換又は非置換アミノ基と、少なくとも1つの窒素原子含有環構造を含む化合物が好ましく、更には少なくとも1つのアルキルアミノ基を有する化合物が好ましい。アミン化合物の例としては、例えば、グアニジン、ピリジン、ピロリジン、インダゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラジン、ピリミジン、プリン、イミダゾリン、ピラゾリン、ピペラジン、ピペリジン、又はモルホリン等が挙げられる。これらの化合物は、置換されていてもよい。置換基としては、アミノ基、アミノアルキル基、アルキルアミノ基、アミノアリール基、アリールアミノ基、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アリルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基等が挙げられる。また、アミン化合物としては以下を例示することができる。トリフェニルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロピルアミン、トリイソプロパノールアミン、N,N-ジエチル-3-アミノフェノール、N-エチルジエタノールアミン、2-ジエチルアミノエタノール等の3級アミン類;、エタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、N-メチルベンジルアミン等の2級アミン類;、モノメチル等の1級アミン;、エチレンジアミンなどのジアミン;、アミンピリミジン、2-アミノピリミジン、4-アミノピリミジン、5-アミノピリミジン等のピリミジン化合物類およびその誘導体;ピリジン、メチルピリジン、2、6-ジメチルピリジン等のピリジン化合物類およびその誘導体;、2-アミノフェノール、3-アミノフェノール等のアミノフェノール類およびその誘導体。好ましいアミン化合物の具体的な例は、グアニジン、ピリジン、1,1-ジメチルグアニジン、1,1,3,3―テトラメチルグアニジン、2-アミノピリジン、3-アミノピリジン、4-アミノピリジン、2-ジメチルアミノピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、2-ジエチルアミノピリジン、2-アミノメチルピリジン、2-アミノ-3-メチルピリジン、2-アミノ-4-メチルピリジン、2-アミノ-5-メチルピリジン、2-アミノ-6-メチルピリジン、3-アミノエチルピリジン、4-アミノエチルピリジン、3-アミノピロリジン、2-アミノピロリジン、ピペラジン、N-2-アミノエチルピペラジン、N-2-アミノエチルピペリジン、4-アミノ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、4-ピペリジノピペリジン、2-イミノピペリジン、1-2-アミノエチルピロリジン、ピラゾール、3-アミノ-5-メチルピラゾール、5-アミノ-3-メチル-1-p-トリルピラゾール、ピラジン、2-アミノメチル-5-メチルピラジン、ピリミジン、2,4-ジアミノピリミジン、4,6-ジヒドロキシピリミジン、2-ピラゾリン、3-ピラゾリン、N-アミノモルホリン又はN-2-アミノエチルモルホリンである。アミン化合物は、単独又は2つ以上の組み合わせで使用することができる。アミン化合物の含有量は、全固形分中、一般に0.001質量~10質量であり、0.005質量~5質量が好ましく、0.01質量~4質量がより好ましい。<増感剤>高感度化を目的として増感剤を用いることができる。例えば露光光源がi線の場合、スルホニウム塩型光酸発生剤やヨードニウム塩型光酸発生剤に対し増感可能なナフタレン誘導体又はアントラセン若しくはその誘導体からなる増感剤を用いることが好ましい。但し、増感剤は、その含有量や化合物種により造形精度に影響を与える場合があるので、種類や量を適宜選択することが好ましい。<溶媒>本発明に用いられる溶媒は、特に限定されず、従来公知の溶剤を用いることができる。例えば、γ-ブチロラクトン、乳酸エチル、炭酸プロピレン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル、メチルアミルケトン、2-ヘプタノン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、ジグライム、キシレン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等が挙げられる。溶媒は、酸により重合可能な化合物100質量部に対して、例えば5質量部~99質量部とすることができ、10質量部~95質量部とすることが好ましい。<製造方法>本発明によるネガ型感光性樹脂組成物を用いて製造される液体吐出ヘッドの模式的斜視図を例として図2に示す。特に限定されるものではないが、図2に記載の液体吐出ヘッドの一例はインクジェット記録ヘッドである。図2に示すインクジェット記録ヘッドにおいて、エネルギー発生素子2を複数有する基板1上に、液体等のインクを吐出するための吐インク吐出口5と、該インク吐出口に連通しインクを保持するインク流路3cと、を形成するインク流路形成層4を有する。また、基板1には、インクをインク流路3cに供給するインク供給口6が設けられている。本実施形態において、インク流路形成層が吐出口部材となる。以下、本発明の液体吐出ヘッドの製造方法の実施形態を説明する。図3に示すように、基板1上にはエネルギー発生素子2が所定のピッチで複数個配置されている。図2及び図3のA-B断面図における製造工程図が図4である。以下、図4を用いて各工程について説明する。なお、エネルギー発生素子2には素子を動作させるための制御信号入力電極図示せずが接続されている。まず、図4aに示すように、エネルギー発生素子2を有する基板1を用意する。基板1は、Si基板であることが好ましい。特に、シリコン単結晶体であることが好ましく、基板1の貫通孔の穿設を異方性エッチングにより行う場合は、結晶方位100のシリコン単結晶体であることが好ましい。基板1の貫通孔の穿設をドライエッチング、サンドブラスト、レーザーにより行う場合は、結晶方位110のシリコン単結晶体などであってもよい。エネルギー発生素子2は、インク液滴を吐出させるための吐出エネルギーをインクに与えてインク液滴をインク吐出口から吐出可能なものであれば、特に限定はされない。エネルギー発生素子2として例えば発熱抵抗素子が用いられる場合、該発熱抵抗素子が近傍のインクを加熱することにより、インクに状態変化を生起させ吐出エネルギーを発生する。次に、図4bに示すように、基板1上に、溶解可能な樹脂組成物を塗布し、インク流路パターン層3aを形成する。インク流路パターン層3aの形成方法としては、例えば、ポジ型感光性樹脂を適宜溶媒に溶解し、スピンコート法等により前記基板1上に塗布する。その後、加熱することでインク流路パターン層3aを形成することができる。インク流路パターン層3aの厚さとしては、所望のインク流路の高さであり、特に限定されるものではないが、例えば、2μm~50μmであることが好ましい。次に、図4cに示すように、前記インク流路パターン層3aに放射線を照射し、現像することにより、インク流路パターン3bを形成する。次に、インク流路パターン3b及び基板1上に、本発明のネガ型感光性樹脂組成物からなるインク流路形成層4を形成する。インク流路形成層4の厚さは、インク流路パターン3b上の厚みとして2μm以上であることが好ましい。また、インク流路形成層4の厚さは、インク吐出口部分の現像性が損なわれない範囲であれば、特に制限されるものではないが、例えば、インク流路パターン3b上の厚みとして100μm以下であることが好ましい。次に、図4dに示すように、前記インク流路形成層4に放射線を部分的に照射し、露光部を硬化させる。その後MIBKメチルイソブチルケトン、等により現像する。さらに、IPAイソプロピルアルコール等によりリンス処理を行うことで、インク吐出口5を形成する。次に、図4eに示すように、エッチング処理など適当な方法を用いてインク供給口6を形成する。次に、図4fに示すように、インク流路パターン3bを適当な溶媒に溶解して除去する。ここでいう適当な溶媒とは、アルカリ水溶液でも有機溶媒でも良い。さらに、放射線の露光により硬化された硬化部を含むインク流路形成層4をさらに硬化させるため、オーブンを用いて200°Cで1時間加熱処理を行うことができる。その後、基板1をダイシングソー等により切断分離して、チップ化し、エネルギー発生素子2を駆動させるための電気的接合を行う。さらに、インク供給のためのチップタンク部材を接続して、インクジェット記録ヘッドを作製する。なお、上記の方法は、インクジェット記録ヘッドの製造方法に限られず、中空パターンを形成するパターン形成方法としても有効である。また、上記の説明では、本発明の適用例としてインクジェット記録ヘッドを例に挙げて説明したが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものではなく、バイオッチップ作製や電子回路印刷用途の液体吐出ヘッドの製造にも適用できる。液体吐出ヘッドとしては、インクジェット記録ヘッドの他にも、例えばカラーフィルター製造用ヘッド等も挙げられる。実施例以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。<実施例1~9、比較例1~3>表1に記載の配合単位は質量に従って、a成分として多官能エポキシ樹脂、b成分として光酸発生剤、c成分、溶剤、必要に応じ、増感剤、d成分を配合し、ネガ型感光性樹脂組成物を得た。表1中は固形分の質量全固形分合計で100質量とし、固形分100質量部に対して、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/プロピレンカーボネート=20/1の比率の混合溶剤を70質量部添加した。これらネガ型感光性樹脂組成物を、シリコンウエハーからなる支持体上にスピンコーターで塗布した後、90°C5分プリベーク乾燥して20μmの膜厚を有するネガ型感光性樹脂組成物層を得た。プリベーク後、FPA-3000i5i線ステッパー:キヤノン社製を用いて所望のパターンが描写されたマスクを介してパターン露光を行い、ホットプレートにより90°C4分の露光後ベークを行った。その後、CDS-630キヤノン社製を用いて現像処理を行った。次いで、現像後の樹脂パターンを基板ごと、オーブンを用いて140°Cで1時間、次に300°Cで20分のポストベークを行い、支持体上に硬化したレジストパターンを得た。<評価>b光酸発生剤のアニオン部及び、c塩交換剤のアニオン部を酸に転換した場合の酸強度を実測値にて見積もる方法を説明する。a成分としてEHPE3150を65質量、b成分として表2に記載の光発生剤を2質量、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/プロピレンカーボネート=20/1の比率の混合溶剤を35質量、増感剤として9,10-ジエトキシアントラセンを1質量、d成分としてトリエタノールアミンを0.02質量配合したネガ型感光性樹脂組成物を調製し、上記方法にてレジストパターンを得た。この際、露光の工程で500J/m2~40000J/m2の範囲で段階的にi線露光を行い、マスク設計寸法が、直径16μmの円ノズル吐出口の口径において、円パターンが直径16μmにて形成されるのに必要な露光量を測定した。得られた露光量を表2中の露光量項に記載した。次に、各得られた露光量を小さい順に並べ、序列をつけた。得られた序列を表2中の酸強度の序列項に記載した。より露光量が少ないこと、すなわち高感度である方がb光酸発生剤から発生した発生酸の酸強度が強いことを表す。この結果から、アニオン部を酸に転換した場合の酸強度を比較すると、b-1>b-12>b-23>b-27>PF6>CH3COO、の関係にあることがわかった。この関係は、b光酸発生剤のアニオン部の評価と同様に、c塩交換剤のアニオン部の評価においても適用することができる。造形精度の評価では、設計寸法が、長軸20μm、短軸16μmの楕円ノズル吐出口の口径において、短軸に沿って幅3μmのラインパターンcで橋渡ししたモデルパターンを転写し、ネガ型レジストパターンとして形成した図1参照。上記楕円と橋渡しラインパターンが交差する部分を走査型電子顕微鏡SEMにて観察し、その解像性を測定した。図1に示すように、マスクパターンに忠実にレジストパターンが形成できた場合の半月型の端部をaとした場合、このaから橋渡しラインパターンと実際に解像したパターンが交差する部分までの距離bを造形精度とした単位はμm。これは、実際のパターンが、半月型の端部aまで解像している場合、造形精度0μmを意味する。すなわちマスク設計寸法に一致していることを示す。しかし、造形精度が劣化すると、半月型の端部にネガ化物が残る。このネガ化物の広がりの程度が造形精度の値を決定する。耐熱性の評価では、オーブンを用いて140°Cで1時間、次に300°Cで20分のポストベークを行い、支持体上に硬化したレジストパターンを目視にて着色を確認した。変色がない場合は耐熱性良好と判断し、茶色や焦げ茶、黒色に変色した場合を耐熱性劣化したと判断した。表1に、耐熱性良好な場合には○を、耐熱性劣化した場合には×を記載した。a-1:エピクロンN-865大日本インキ化学工業株式会社製商品名a-2:JER157S70ジャパンエポキシレジン社製商品名a-3:EHPE3150ダイセル化学工業株式会社製商品名TPS1:TPS2:c-80:d-1:トリエタノールアミン増感剤:9,10-ジエトキシアントラセン実施例1~9では、耐熱性が良好なパターン硬化物を形成することができた。この時の造形精度は、1.5μm以下と微細なものであった。一方で、比較例1に示すように、b成分及びc成分が式1の関係を満たしていない場合、耐熱性と微細な造形精度の両立はできなかった。また、比較例2に示すように、c成分を添加しない場合、耐熱性の劣化が観察された。また、別途、c塩交換剤の代替として、難燃剤として公知である、三酸化アンチモン、赤リン、酸化スズを添加し同様に評価を実施したが、それらの無機化合物は溶剤及び感光性樹脂組成物溶液に溶けなかったことから実際の評価には至らなかった。また、アンモニウム化合物として公知な化合物であるトリメチルアンモニウムヒドロキシドをc塩交換剤の代替として同量添加した以外は実施例1と同様にして組成物を調製し、評価を実施したが、パターンの形成ができなかった。これは、トリメチルアンモニウムヒドロキシドの強塩基性が画像形成を阻害したためと推定される。以上より、本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、耐熱性が高く、且つ、造形精度に優れてパターンを形成することができる。したがって、本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、MEMS用等の微細加工を施した各種デバイスに好適に用いることが可能である。"