放射源であって、プラズマ形成位置に向かう軌跡に沿って燃料液滴の流れを誘導するノズルと、使用中、放射生成プラズマを生成するよう前記プラズマ形成位置における前記燃料液滴に誘導されるレーザ放射を出力するレーザと、前記プラズマ形成位置を通過する前記燃料液滴を捕集するキャッチと、を備え、前記キャッチは、流体を含む容器と、前記流体を駆動して前記流体の移動をもたらすドライバと、を備え、前記キャッチは、使用中、前記燃料液滴が前記移動する流体に入射するように構成される、放射源。前記キャッチは、表面をさらに備え、前記ドライバは、前記流体を前記表面に沿うか、前記表面を超えるか、または前記表面を通過するよう駆動させ、前記キャッチは、使用中、前記燃料液滴が、前記表面に沿うか、前記表面を超えるか、または前記表面を通過するよう駆動された前記流体上に入射するように構成される、請求項1に記載の放射源。前記表面に沿うか、前記表面を超えるか、または前記表面を通過するよう駆動された前記流体は、前記液滴の軌跡に対して傾斜している、請求項2に記載の放射源。前記表面は、前記液滴の前記軌跡に対して傾斜し、前記ドライバは、前記表面に流体膜を形成するように、前記流体が前記表面に沿って下るように駆動するのを少なくとも補助し、前記キャッチは、使用中、前記燃料液滴が前記流体膜に入射するように構成される、請求項3に記載の放射源。前記ドライバは、前記流体を前記表面を超えるように駆動して流体波を形成し、前記キャッチは、使用中、前記燃料液滴が前記流体波に入射するように構成される、請求項3に記載の放射源。前記ドライバは、ポンプを備える、請求項1~5のいずれかに記載の放射源。前記容器は、実質的に管状であり、前記液滴を受ける開口部を有する、請求項1に記載の放射源。前記ドライバは、前記管状容器を回転する、請求項7に記載の放射源。前記回転機構は、前記流体が確実に前記管状容器の内側壁上に留まり、かつ/または、前記内側壁を通り越すことができる程度の速さで前記管を回転させ、前記キャッチは、使用中、前記燃料液滴が前記管状容器の前記内側壁上に留まり、かつ/または、前記内側壁を通り越す前記流体に入射するように構成される、請求項8に記載の放射源。前記ノズルは、実質的に水平または実質的に垂直な軌跡、あるいは水平成分を有する軌跡、あるいは垂直成分を有する軌跡に沿って前記燃料液滴の流れを誘導する、請求項1~9のいずれかに記載の放射源。前記流体は、前記燃料液滴を形成する材料と同じ材料であるか、若しくは同じ材料を含み、または前記流体は、前記燃料のキャリアである、請求項1~10のいずれかに記載の放射源。前記キャッチは、ヒータを備え、またはヒータに熱的に接続可能であり、前記ヒータは、前記流体および/または前記捕集された液滴が流体状を維持するように前記流体および/または前記捕集された液滴を熱する、請求項1~11のいずれかに記載の放射源。前記キャッチは、前記捕集された液滴が前記ノズルの中を往復するように誘導されることができるように、前記ノズルに流体接続される、請求項1~12のいずれかに記載の放射システム。リソグラフィ装置であって、放射ビームを提供する照明システムと、前記放射ビームの断面にパターンを付与するパターニングデバイスと、基板を保持する基板ホルダと、前記基板のターゲット部分上に前記パターン付与された放射ビームを投影する投影システムと、を備え、請求項1~13のいずれかに記載の放射源をさらに備えるか、または、該放射源に接続される、リソグラフィ装置。放射源において使用される燃料液滴を捕集する方法であって、前記放射源は、プラズマ形成位置に向かう軌跡に沿って燃料液滴の流れを誘導するノズルと、使用中、放射生成プラズマを生成するよう前記プラズマ形成位置における前記燃料液滴に誘導されるレーザ放射を出力するレーザと、を備え、前記方法は、流体を駆動して該流体の移動をもたらことと、前記移動する流体に向かって前記燃料液滴を誘導することと、を含む、方法。0041図1は、本発明の実施形態に従って、ソースコレクタモジュールSOを含むリソグラフィ装置LAPを概略的に示す。このリソグラフィ装置は、放射ビームB例えばEUV放射を調整するように構成された照明システムイルミネータIL、パターニングデバイス例えば、マスクまたはレチクルMAを支持するように構成され、かつパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されているサポート構造例えば、マスクテーブルMT、基板例えば、レジストコートウェーハWを保持するように構築され、基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結されている基板テーブル例えば、ウェーハテーブルWT、およびパターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C例えば、1つ以上のダイを含む上に投影するように構成されている投影システム例えば、屈折投影レンズシステムPS、を備える。0042照明システムとしては、放射を誘導し、整形し、または制御するために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、またはその他のタイプの光コンポーネント、あるいはそれらのあらゆる組合せなどのさまざまなタイプの光コンポーネントを含むことができる。0043サポート構造MTは、パターニングデバイスMAの向き、リソグラフィ装置の設計、および、パターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否かなどの他の条件に応じた態様で、パターニングデバイスを保持する。サポート構造は、機械式、真空式、静電式またはその他のクランプ技術を使って、パターニングデバイスを保持することができる。サポート構造は、例えば、必要に応じて固定または可動式にすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。サポート構造は、パターニングデバイスを、例えば、投影システムに対して所望の位置に確実に置くことができる。0044パターニングデバイスという用語は、基板のターゲット部分内にパターンを作り出すように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用できるあらゆるデバイスを指していると、広く解釈されるべきである。放射ビームに付与されたパターンは、集積回路などのターゲット部分内に作り出されるデバイス内の特定の機能層に対応することになる。0045パターニングデバイスは、透過型であっても、反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルLCDパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィでは公知であり、バイナリ、レべンソン型位相シフト、およびハーフトーン型位相シフトなどのマスク型、ならびに種々のハイブリッドマスク型を含む。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型ミラーのマトリックス配列が用いられており、各小型ミラーは、入射する放射ビームを様々な方向に反射させるように、個別に傾斜させることができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリックスによって反射される放射ビームにパターンを付ける。0046投影システムは、照明システムと同様に、使われている露光放射にとって、あるいは真空の使用といった他の要因にとって適切な、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、および静電型、またはその他の型の光コンポーネントあるいはそれらのあらゆる組合せなどの種々の型の光コンポーネントを包含し得る。気体は放射を過剰に吸収する可能性があるため、EUV放射には真空を使用するのが望ましい。そのため、真空壁および真空ポンプを用いてビームパス全体に真空環境が提供される。0047本明細書に示されているとおり、リソグラフィ装置は、反射型のもの例えば、反射型マスクを採用しているものである。0048リソグラフィ装置は、2つデュアルステージ以上の基板テーブルおよび/または2つ以上のマスクテーブルを有する型のものであってもよい。そのようなマルチステージ機械においては、追加のテーブルは並行して使うことができ、または予備工程を1つ以上のテーブル上で実行しつつ、別の1つ以上のテーブルを露光用に使うこともできる。0049図1を参照すると、イルミネータILは、放射源コレクタモジュールSOから極端紫外線放射ビームを受ける。EUV光を生成する方法としては、材料を、EUV範囲内の1つ以上の輝線を有する、例えばキセノン、リチウムまたはスズなどの少なくとも1つの元素を有するプラズマ状態に変換することが挙げられるが必ずしもこれに限定されない。そのような一方法では、レーザ生成プラズマLPPと呼ばれることが多い所要のプラズマを、所要の線発光元素を有する材料の液滴、流れまたはクラスタなどの燃料をレーザビームで照射することによって生成することができる。放射源コレクタモジュールSOは、燃料を励起するレーザビームを提供するためであり、図1に図示されていないレーザを含むEUV放射システムの一部分であってもよい。結果として生じるプラズマは、例えばEUV放射などの出力放射を放出し、これは、放射源コレクタモジュールに配置された放射コレクタを用いて集光される。例えば、燃料励起のためのレーザビームを提供するためにCO2レーザが使用される場合、レーザと放射源コレクタモジュールは、別個の構成要素であってもよい。0050そのような場合には、レーザは、リソグラフィ装置の一部分を形成するとはみなされず、また放射ビームは、例えば、適切な誘導ミラーおよび/またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムを使って、レーザから放射源コレクタモジュールまで送られる。その他の場合においては、例えば放射源がDPP源と呼ばれることが多い放電生成プラズマEUVジェネレータである場合は、放射源は、放射源コレクタモジュールの一体部分とすることもできる。0051イルミネータILは、放射ビームの角強度分布を調節するアジャスタを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側および/または内側半径範囲通常、それぞれσouterおよびσinnerと呼ばれるを調節することができる。さらに、イルミネータILは、ファセット視野および瞳ミラーデバイスといったさまざまな他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータを使って放射ビームを調整すれば、放射ビームの断面に所望の均一性および強度分布をもたせることができる。0052放射ビームBは、サポート構造例えば、マスクテーブルMT上に保持されているパターニングデバイス例えば、マスクMA上に入射して、パターニングデバイスによってパターン形成される。パターニングデバイス例えば、マスクMAから反射された後、放射ビームBは投影システムPSを通過し、投影システムPSは、基板Wのターゲット部分C上にビームの焦点をあわせる。第2ポジショナPWおよび位置センサPS2例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、または静電容量センサを使って、例えば、さまざまなターゲット部分Cを放射ビームBの経路内に位置決めするように、基板テーブルWTを正確に動かすことができる。同様に、第1ポジショナPMおよび別の位置センサPS1を使い、パターニングデバイス例えば、マスクMAを放射ビームBの経路に対して正確に位置決めすることもできる。パターニングデバイス例えば、マスクMAおよび基板Wは、マスクアライメントマークM1およびM2と、基板アライメントマークP1およびP2とを使って、位置合わせされてもよい。0053例示の装置は、以下に説明するモードのうち少なくとも1つのモードで使用できる。1.ステップモードにおいては、サポート構造例えば、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影するすなわち、単一静的露光。その後、基板テーブルWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。2.スキャンモードにおいては、サポート構造例えば、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影するすなわち、単一動的露光。サポート構造例えば、マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの縮小拡大率および像反転特性によって決めることができる。3.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造例えば、マスクテーブルMTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。0054上述の使用モードの組合せおよび/またはバリエーション、あるいは完全に異なる使用モードもまた採用可能である。0055図2は、一実施形態による放射源コレクタモジュールSO、照明システムILおよび投影システムPSを含むリソグラフィ装置LAPをより詳細に示す。放射源コレクタモジュールSOは、放射源コレクタモジュールの閉鎖構造2において真空環境が維持されるように構築および配置されている。0056レーザ4は、燃料源8から提供されるキセノンXe、スズSn、またはリチウムLiなどの燃料内にレーザビーム6を介してレーザエネルギーを堆積させるように配置される。これにより、電子温度が数10eVの高電離プラズマ10がプラズマ形成位置12に生成される。これらのイオンの脱励起および再結合中に生成されたエネルギー放射は、プラズマ10から放出され、近垂直入射コレクタ14によって集光され集束される。レーザ4および燃料供給源8および/またはコレクタ14は、共に放射源、特にEUV放射源、を含むと考えられ得る。EUV放射源は、レーザ生成プラズマLPP放射と呼ぶことができる。0057第2レーザ図示せずを設けることができ、第2レーザは、レーザビーム6が燃料に入射する前に燃料を予熱するように構成される。この方法を用いるLPP源を、デュアルレーザパルスDLP源と呼ぶことができる。0058図示されてはいないが、燃料供給源は、プラズマ形成位置12に向かう軌跡に沿って燃料液滴流を誘導するように構成されたノズルを含むか、あるいはそれに接続されることができる。0059放射コレクタ14によって反射された放射Bは、仮想光源点16で集束される。仮想光源点16は、通常は中間焦点と呼ばれ、放射源コレクタモジュールSOは、中間焦点16が閉鎖構造2内の開口部18にまたはその近くに設置されるように配置される。仮想光源点16は、放射放出プラズマ10のイメージである。0060その後、放射Bは、照明システムILを通り抜け、この照明システムILは、パターニングデバイスMAにて放射ビームBの所望の角度分布ならびにパターニングデバイスMAにて放射強度の所望の均一性を提供するように配置されたファセット視野ミラーデバイス20およびファセット瞳ミラーデバイス22を含んでよい。サポート構造MTによって保持されたパターニングデバイスMAにおいて放射ビームが反射される場合においては、パターン付与されたビーム24が形成され、パターン付与されたビーム24は、ウェハステージまたは基板テーブルWTによって保持される基板W上に反射要素26、28を通じて投影システムPSによって結像される。0061一般的には照明システムILおよび投影システムPS内には、示されるよりも多い要素が存在してよい。さらに、図に示されるよりも多くのミラーがあってもよく、例えば、図2に示される投影システムPS内に存在する反射要素よりも1~6個多くの反射要素が存在してもよい。0062図3は、一実施形態に従って提案される放射源の一部分をより詳細に概略的に示す。燃料液滴30の流れは、プラズマ形成位置この図ではその位置は見えていないを通過したものと示されている。プラズマ形成位置を通過した結果、液滴30は、放射源の汚染を防止するために捕集される必要がある。すでに上述したように、提案される放射源においては、液滴は、開口管状容器32によって捕集される。管状容器32は、管状容器32内を通過し、容器32の内側面上に入射する液滴30が、確実にほぼかすめ入射角34で入射するように構成例えば、構築、形成、方向づけ等される。このような構成は、全体として、入射液滴30が放射源例えば、放射源の一部を形成するコレクタあるいはリソグラフィ装置を汚染する可能性のあるはね返りを生成する可能性を最小化する。燃料液滴30は、燃料プール36を作成し、かつ/または最終的に燃料プール36上に入射し得る。図4に示される配置のより詳細な説明は、例えば、PCT特許出願公報WO2010/117858に見ることができる。0063図3に示される配置は、プラズマ形成位置を通過する燃料液滴を捕集するためのキャッチとしての役割を果たすと理解される。キャッチは、液滴コレクタと呼ぶこともできる。図3に示されるキャッチは、意図された役割および機能を果たし得るが、一方でキャッチの設計は、燃料液滴30が速さを増すあるいは液滴30の軌跡が正確ではない場合には設計の変更を要するような設計である。そのような変更は、それぞれ、管の長さの増加および管の開口部の幅の増加であるかもしれない。これらの増加の両方あるいは片一方は、結果としてキャッチを収容するために必要なスペースの増加につながるが、そのような増加は、リソグラフィ装置内およびその周辺においてスペースは重要視されていることから望ましくない。さらには、必要な場合には、液滴の速さを変更する必要があるかもしれないが、適宜管の長さを変更することが可能または容易ではない可能性がある。そのため、図3のキャッチに示されかつそのキャッチを参照して記述されたものと同様の設計問題の対象とならないプラズマ形成位置を通過する燃料液滴を捕集するように配置されたキャッチを提供することが望ましい。0064本発明の一実施形態によると、放射源のプラズマ形成位置を通過する燃料液滴を捕集するために配置される既存および提案されるキャッチの一つ以上の問題点は、除去または緩和され得る。一例では、本発明の一実施形態は放射源を提供する。放射源は、プラズマ形成位置に向かう軌跡に沿って燃料液滴流を誘導するように構成されたノズルを含む。また、使用中、放射生成プラズマを生成するようプラズマ形成位置における燃料液滴にレーザ放射を誘導するよう構成されたレーザも設けられる。また、プラズマ形成位置を通過する燃料液滴を捕集するためのキャッチも設けられる。本発明の実施形態は、キャッチが流体使用中、燃料液滴がその上に入射される流体を含む容器を備えるという点で、既存および提案されるキャッチから区別されていると記述することができる。ドライバは、流体を移動させるために流体を駆動するように備えられる。キャッチは全体として、その移動する流体に燃料液滴が入射するように構成例えば、形成、方向づけ、位置決め等される。0065いくつかの異なる実施形態の説明がなされるが、これらの実施形態において共通する概念は、燃料液滴が移動する流体上および移動する流体の中に向かって誘導されるという点である。これによりはね返りが減少することが期待される。付加的な任意フィーチャおよびそれに関連する利点は、以下においてより詳細に検討される。0066本発明のいくつかの実施形態を、明確性および整合性のため同じフィーチャに同じ参照符号が付された図4および図5を参照して、単なる例として、以下に説明する。これらの図は概略的であり特定の縮尺に合わせて描かれたものではない。0067図4は、本発明の一実施形態に従って、放射源において使用されるキャッチを概略的に図示する。図3の配置と同様に、燃料液滴30の流れは、実質的に水平な軌跡を有していることが示されており、液滴30は、この実質的に水平な軌跡でキャッチに入射する。キャッチは、流体42を含むよう構築された容器40を備える。流体42は、燃料液滴30を形成する材料例えば、スズと同じ材料であるか、または同じ材料を含み得る。あるいは流体42は、燃料液滴のキャリアであってもよい例えば、少なくとも論理的には、さらなる処理等を用いることによって燃料をそこから抽出することができるキャリア。本実施形態では、容器40は実質的に浴槽様の形態を有している。キャッチは、流体42の移動を駆動するために配置されたドライバ44を更に備える例えば、少なくとも流体42の表面の移動または表面を横切る移動。本実施形態では、ドライバ44はポンプを備える。ポンプ44は、流れる流体を誘導するために一つ以上の導管等と合わせて使用することができる。0068燃料液滴30の流れが実質的に水平な軌跡を有する場合における、解消するべき問題は、燃料液滴30の流れにこれらの液滴を捕集するために使用される流体の本体をどのように与えるかという問題である。キャッチは、問題の解消を達成するために表面46をさらに備える。通常、ドライバ44は、流体を表面46に沿う、表面46を超えるか、または表面46を通過するように流体を駆動するように配置される。キャッチは、使用中、燃料液滴30が、表面46に沿う、表面46を超えるか、または表面46を通過するように駆動された流体に入射するように配置される。表面46に沿う、表面46を超えるか、または表面46を通過するように駆動された流体42は、好ましくは液滴30の軌跡に対して傾斜するすなわち、液滴30がその中またはその上に誘導され得る流体42の本体を与えること。この特定の実施形態においては、表面46自体が液滴30の軌跡に対して傾斜している。ドライバ44は、容器40から流体42を駆動し、その後表面46に流体膜48を形成するようにその表面46に沿って下るように駆動するのを少なくとも補助するよう構成される。その後、キャッチは全体として、使用中、燃料液滴30がその流体膜48に入射するように配置これは設置を含むされる。膜という用語の使用は、表面46上の流体の厚さおよび深さに対して特に制限を課すものではない。その代わり膜という用語の使用は、使用中、表面46に沿った流体の流れは、一切または相当量のはね等を生じさせないということを少なくとも示唆するものである。0069図4のキャッチは、いくつかの理由から有益であると考えられる。少なくとも一つの理由は、液滴が水平な軌跡液滴がおそらくは単純な流体の静止プールによって捕集される、垂直の軌跡に対してで誘導されるにも関わらず、キャッチは、燃料液滴がその中またはその上に誘導され得る移動する流体の本体を備えるという点である。さらにキャッチは、はね返りを防止または制限すると同時に液滴の捕集をさらに促進すると考えられる流体の移動する本体を備える。そしてさらに、液滴がその中またはその上に誘導される流体は液滴の軌跡に対して非垂直であり、これもまたはね返りを減少し得る。0070図5は、図4に示される実施形態の代替の実施形態を示す。図5には、図4に示されまた図4を参照して説明された原理と同じ原理の多くが依然として適用される。しかし、図4とは異なり、ドライバ44これは、再び、ポンプであるかまたはポンプを備え得るは、今度は表面52を超えるように流体42を駆動するように構成される。表面52は、流体54の波を形成するのを補助するために、流体42の流れの向きに対して非垂直な方向に傾斜し得る。そして、キャッチは全体として、図4のキャッチに関連してすでに記述された利点のすべてでなくともほとんどを実現するために、使用中、燃料液滴30が流体54の波に入射するように配置される。0071図6は、図4および図5に示されかつ図4および図5を参照して説明される実施形態とわずかに異なる実施形態であり、かつ既存のあるいは図3に示され提案されるキャッチにおそらくはより近い関連性を有する実施形態を図示する。図6を参照するに、今度は、キャッチは、実質的に管状の容器60で、液滴30を受けるように設置された開口部を有する容器を備える。キャッチは、管状の容器60を回転62するように構築された回転機構である、あるいはその回転機構を備えるドライバを提供するという点で、既存のあるいはすでに提案されたキャッチと区別される。回転機構は、流体54例えば、容器60に予め装填される流体が確実に管状容器の内側壁上に留まりかつ/または内側壁を通り越すことができる程度の速さで管を回転させるすなわち、使用中ように構築されている。0072管60を記載の方法で回転させるにあたって、すでに図4および図5の実施形態に示されかつ図4および図5を参照して説明される利点は、図6の実施形態においても存在しかつ認められる。具体的には、図6のキャッチは、いくつかの理由から有益であると考えられる。少なくとも一つの理由は、キャッチは、たとえ燃料液滴が水平な軌跡で誘導されたとしても、燃料液滴がその中またはその上に誘導され得る移動する流体を提供するという点である。さらにキャッチは、その動作がはね返りを防止または制限すると同時に液滴の捕集をさらに促進すると考えられる流体の移動する本体を提供する。そしてさらに、液滴がその中またはその上に誘導される流体は液滴の軌跡に対して非垂直であり、これもまたはね返りを減少し得る。0073図4および図5においては、液滴の軌跡は実質的に水平、あるいは少なくとも水平成分を有するとして示されており、それは、実質的に水平な表面を有する流体の静止プールを使用してこれらの液滴を捕集することを困難とさせる。しかしながら、図4および図5に示される実施形態は、液滴が実質的に垂直な軌跡あるいは、少なくとも垂直成分を有する事態においても適用可能である。図7および図8におけるキャッチは、それぞれ図4および図5に示されるキャッチと対応することが示される。しかしながら、図面は、今度は液滴30が実質的に垂直な軌跡を有することを示す。しかしながら、前述の全ての利点は、図7および図8のキャッチにも等しく適用可能である。0074本発明の実施形態に従って種々の異なるキャッチが上述された。示されてはいないが、より単純なキャッチもまた、実質的に垂直な軌跡あるいは少なくとも垂直方向の要素を有する液滴を捕集するために備えることができる。これらの液滴を捕集するために流体のプールを備え得る。本発明は、流体の移動例えば、少なくともその表面をもたらすために流体を駆動することと、キャッチが、燃料液滴がその移動する流体に入射するように構成されるということによって特徴づけられることができる。このような比較的単純な実施形態においても流体を移動させることによって結果としてはね返りが減少し得る。0075図に示されてはいないが、本発明の実施形態は、キャッチの一部分を形成するあるいはキャッチに熱的に接続可能なヒータをさらに含むことができる。熱的に接続可能とは、キャッチの容器内に含有される流体を熱することができるヒータとして機能的に規定され得る。ヒータは、流体および/またはその流体に捕集された液滴が流体状であるように、流体および/または流体に捕集された液滴を熱するように構成される。ヒータは、例えば、伝導、対流または放射などの複数の手段のうちいずれか一つによって流体を熱することができる。0076関連する実施形態または上述の実施形態を展開したものにおいて、キャッチは、燃料液滴流を提供するために使用されるノズルに流体接続することができるキャッチはそのノズルに対して燃料リザーバを含む。これによって、捕集された液滴はノズルの中を往復するように誘導されることができ、例えば、捕集された液滴の再生および再利用が可能となる。捕集された燃料の液滴は、例えば、一回以上の濾過工程あるいはその他の形の汚染除去を経ることなどによって、ノズルの中を往復させられる前に処理される必要がある。0077燃料液滴の軌跡が実質的に水平あるいは水平成分を有する実施形態において、記述された実施形態は、液滴の軌跡に対して傾斜した流体を示している。示されていないあるいは上述されていない実施形態においては、流体は、例えば、滝効果―おそらくより一般的には―流体落下効果fluidfalleffect―を生成するために表面に沿いかつ表面を超えるか、または表面を通過するように流れる滝を形成するように駆動され得る。キャッチはその後、液滴がその流体落下上あるいは流体落下中に入射するように配置され得る。0078前節に引き続き、流体は、図4から8において示される角度とは違う角度で液滴の軌跡に対して傾斜し得る。例えば図9は、図4に示されかつ図4を参照して説明される実施形態に関連する実施形態を示しているが、図4の実施形態とは対照的に、流体48は、表面46の下面に沿って駆動される。これは、流体48が下方向かつ液滴30の実質的に水平な軌跡から離れるよう移動するように、表面46の向きをその図4における向きと比較して裏返すことによって達成される。流体48は、表面張力によって表面に留まる。移動する流体48は、再び液滴30のはね等を防止または制限する、例えば、流体搬送表面46の下に位置する放射コレクタ表面70上へのそのようなはね等を防止または制限する。例えば、流体48が液滴30の実質的に水平な軌跡に向かって移動する場合図4に示されると比較して、流体48が今度は液滴30の実質的に水平な軌跡から離れるように移動するという事実は、はねを減少させることができる。0079図9に示されるように、それを超える、それに沿うあるいはそれを通過するように流体が駆動される表面の全体は、容器の上に設置される必要はない。代わりに、一部分のみ、例えば流体がそこから容器の中に流れ得る端部が、容器の上に設置される必要がある。別の部分は、汚染から保護されるべき対象、例えば放射源のコレクタを覆って、あるいはコレクタを越えて伸びる。0080それを超える、それに沿うあるいはそれを通過するように流体が駆動される表面は、別個の表面として示されている。その他の実施形態において、表面は、放射源の表面あるいはリソグラフィ装置の表面であってもよい例えば、その壁の一つまたは装置の放射源の別の構造の壁の一つ。表面は、流れる流体が一定の方向に、例えば一つ以上の容器に向かって、誘導されることを確実にするために構成されることができる。0081どの時点においても表面上に設置される必要のある流体の量はいくつかの要因、例えば所望の流体の深さ例えば膜の厚さおよび表面の寸法、に基づき得る。0082上記の実施形態のうちのいずれか一つのキャッチを有する上記の放射源は、孤立したあるいは独立した装置として特に有益であることができ、孤立した放射ユニットとして製造、販売、運送されることができるということが認識される。しかしながら、放射源がその他の装置、例えば上述されかつ図1および図2を参照して説明されるようなリソグラフィ装置の一部を形成するということもまた認識される。また本発明の実施形態は、放射源内で使用されるキャッチであって、そのキャッチは上記の一つ以上の特徴、例えば少なくとも流体を含むための容器、流体を移動させるために流体を駆動させるドライバ、キャッチは燃料液滴がその移動する流体に入射するように構成される、という特徴を有しているとしても説明されることができる。キャッチは、既存の放射源に後付けされるかあるいは新しく構築される放射源の一体部品として取り付けられることができる。0083本明細書において、IC製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的な言及がなされているが、本明細書記載のリソグラフィ装置が、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッド等の製造といった他の用途を有し得ることが理解されるべきである。当業者にとっては当然のことであるが、そのような別の用途においては、本明細書で使用されるウェーハまたはダイという用語はすべて、それぞれより一般的な基板またはターゲット部分という用語と同義であるとみなしてよい。本明細書に記載した基板は、露光の前後を問わず、例えば、トラック通常、基板にレジスト層を塗布し、かつ露光されたレジストを現像するツール、メトロロジーツール、および/またはインスペクションツールで処理されてもよい。適用可能な場合には、本明細書中の開示内容を上記のような基板プロセシングツールおよびその他の基板プロセシングツールに適用してもよい。さらに基板は、例えば、多層ICを作るために複数回処理されてもよいので、本明細書で使用される基板という用語は、すでに多重処理層を包含している基板を表すものとしてもよい。0084レンズという用語は、文脈によっては、屈折、反射、磁気、電磁気、および静電型光コンポーネントを含む様々な種類の光コンポーネントのいずれか1つまたはこれらの組合せを指すことができる。0085以上、本発明の具体的な実施形態を説明してきたが、本発明は、上述以外の態様で実施できることが明らかである。上記の説明は、制限ではなく例示を意図したものである。したがって、当業者には明らかなように、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本記載の発明に変更を加えてもよい。