基板の目標部分にパターン化された放射線ビームを投影するように構成され、ハウジングと、前記ハウジング内に配置された複数の光学素子とを含む投影系と、前記ハウジングに調整されたガスを供給するための入口、および、前記ハウジング内にガス調整された環境を作るために前記ハウジングから前記調整されたガスを排出するためのガス排出部と、前記周囲雰囲気に対して前記調整されたガスの予め定められた漏洩を行うように構成されるとともに、前記ガス調整された環境を周囲雰囲気と連通させるための少なくとも1つのゲートとを含むリソグラフィ装置。リソグラフィ装置が、基板の目標部分にパターン化した放射線ビームを投影するように構成された投影系を含み、前記投影系が、ハウジングと該ハウジング内に配置された複数の光学素子と、前記投影系から前記放射線ビームを放出するための出口光学素子とを有し、さらに、リソグラフィ装置が、前記出口光学素子の近くにガス調整された環境を作るために、前記出口光学素子の近くの前記ハウジングに調整されたガスを供給するための供給構造と、前記周囲雰囲気に対して前記調整されたガスの予め定められた漏洩を行うように構成されるとともに、前記ガス調整された環境を周囲雰囲気と連通させるための少なくとも1つのゲートとを含むリソグラフィ装置。前記ゲートが、前記周囲雰囲気と前記ガス調整された環境との間に拡散バリアを作るように寸法づけされた流出開口を含む請求項1または請求項2に記載されたリソグラフィ装置。前記拡散バリアが、前記ガス調整された環境を前記周囲雰囲気に連通させるための狭く細長いガス流路によって形成されている請求項3に記載されたリソグラフィ装置。圧力および/または流量用センサが、前記ゲートによって形成された前記拡散バリアの外に配設されている請求項3に記載されたリソグラフィ装置。漏洩した調整ガスを排出するための前記ゲートの近くに、ガス抽出装置が配設されている請求項1または請求項2に記載されたリソグラフィ装置。前記光学素子が、前記少なくとも1つのゲートに予め定められたガス流を作るように配設されている請求項1または請求項2に記載されたリソグラフィ装置。前記少なくとも1つのゲートが、前記ハウジングの最も低い部分に配設され、前記最も低い部分が、前記光学系から前記放射線ビームを放出するための出口光学素子に隣接している請求項1に記載されたリソグラフィ装置。前記ゲートが、前記出口光学素子を配設するための取り付け手段によって形成されている請求項8に記載されたリソグラフィ装置。前記取り付け手段が、前記ハウジングの下部により形成されるシートから予め定められた距離で、前記出口光学素子を懸架するために、前記出口光学素子に取り付けた懸架手段を含む請求項9に記載されたリソグラフィ装置。前記取り付け手段が、面内圧縮力を受けないように前記出口光学素子を配設する構成になっている請求項9に記載されたリソグラフィ装置。前記取り付け手段が、前記光学素子の一方の面側からのみ前記出口光学素子を懸吊する懸架部材を含む請求項11に記載されたリソグラフィ装置。前記取り付け手段が動的取り付け手段である請求項9に記載されたリソグラフィ装置。前記入口が、前記ハウジングの区画された部分にガスを供給するための複数のガス入口を含む請求項1または請求項2に記載されたリソグラフィ装置。前記ハウジングの下部のみが、前記周囲雰囲気に連通接触している請求項1または請求項2に記載されたリソグラフィ装置。前記ハウジングが2つの分離した容積部分を含み、該容積部分内に異なる周囲条件を作ることができ、前記供給構造が前記容積部分のうちの一方に調整されたガスを供給するようになっている請求項2に記載されたリソグラフィ装置。基板の目標部分にパターン化した放射線ビームを投影するように構成されるとともに、ハウジング、該ハウジング内に配設された複数の光学素子、および、前記投影系からくる前記放射線ビームを放出するための出口光学素子を含む投影系と、前記ハウジング内に調整されたガス環境を作るべく、前記ハウジングに調整されたガスを供給するための入口と、前記出口光学素子を配設するための取り付け手段とを含み、前記取り付け手段が、前記ハウジングから前記調整されたガスを排出するためのガス排出構造を形成するために、前記ハウジングの下部によって形成されたシートから予め定められた距離で、前記出口光学素子を懸吊するための前記出口光学素子に取り付けた懸架手段を含むリソグラフィ装置。前記取り付け手段が、前記光学素子の一方の面側からのみ前記出口光学素子を懸吊している懸架部材を備える請求項17に記載されたリソグラフィ装置。前記取り付け手段が動的取り付け手段である請求項17に記載されたリソグラフィ装置。ガス調整された環境内に配設された複数の光学素子を含む投影系によって、基板の目標部分にパターン化した放射線ビームを投影する段階と、前記ガス調整された環境を周囲雰囲気と連通させ、もって前記周囲雰囲気に前記調整されたガスを制御下で漏洩させる段階とを含む装置製造方法。ガス調整された環境内に配設された複数の光学素子を含む投影系によって、基板の目標部分にパターン化した放射線ビームを投影する段階と、前記ハウジングの下部によって形成されたシートから予め定められた距離で、前記複数の光学素子のうちの出口光学素子を懸吊することによって、前記ガス調整された環境から調整されたガスを排出する段階とを含む装置製造方法。ガス調整された第1の副環境からガス調整された第2の副環境へ調整されたガスを流し、もって前記第2の副環境から前記第1の副環境への汚染を防止する段階と、予め定められた速度で、少なくとも1つのゲートを通して前記第2の副環境から周囲雰囲気に調整されたガスを漏洩させる段階と、検出装置によって前記ガス調整された第2の副環境の少なくとも1つの特性を検出する段階とを含む、ガス調整された環境内で検出装置を操作するための方法。前記検出装置が圧力検出装置である請求項22に記載された方法。前記検出装置が温度センサである請求項22に記載された方法。前記検出装置が酸素センサまたは水センサである請求項22に記載された方法。前記検出装置が輝度検出装置である請求項22に記載された方法。前記検出装置が安全弁である請求項22に記載された方法。ハウジング、および、該ハウジング内に配設された複数の光学素子とを含み、基板の目標部分にパターン化した放射線ビームを投影するように構成された投影系と、前記ハウジング内にガス調整された環境を作るために、前記ハウジングに対して調整されたガスを供給し、また、前記ハウジングから調整されたガスを排出するためのガス制御装置と、前記ガス調整された環境を周囲雰囲気と連通させるための少なくとも1つのゲートであって、前記周囲雰囲気に対して前記調整されたガスの予め定められた漏洩を行うように配設された少なくとも1つのゲートとを含むリソグラフィ装置。ハウジング、該ハウジング内に配設された複数の光学素子、および、前記投影系から前記放射線ビームを放出するための出口光学素子を含み、基板の目標部分にパターン化した放射線ビームを投影するように構成された投影系と、前記ハウジング内にガス調整された環境を作るために、前記ハウジングに対して調整されたガスを供給するためのガス制御装置と、前記出口光学素子を装着するための取り付け手段とを含み、前記ハウジングから前記調整されたガスを排出するためのガス排出構造を形成すべく、前記ハウジングの下部によって形成されるシートから所定の距離で前記出口光学素子を懸吊するための、前記出口光学素子に取り付けられた懸架手段を、前記取り付け手段が含むリソグラフィ装置。前記リソグラフィ装置では、投影系の光学素子は、通常、不活性ガス流により形成されている予め規定された調整された環境に維持されているレンズハウジング内に配設されている。通常、投影系の画像形成品質および寿命にとって極めて重要な、レンズ環境を清浄かつ安定な状態に維持するために、HeガスまたはN2ガス等が使用される。しかしながら、かかる調整された環境は、例えば、投影系という観点で、全く清浄とは云えないクリーンルーム環境等の周囲環境から分離しなければならない。このことにより、例えば、ドアが開く時に、15Pa程度の圧力降下が生じて、周囲環境と投影系の内部ハウジングとの間に瞬間的な圧力差が生じるといった問題が起こる。このような圧力差は、例えば、光学素子等の機械的変形によって望ましくない光学的影響を惹起する惧れがある。これらの問題は当業界で認識されており、ガス調整された環境と周囲環境との間の圧力差をなくすように設計された圧力安定化システムが開発されているが、通常、これらのシステムは応答時間が長く、突然の変動に対応するには不適切である。したがって、通常、ガス調整された環境は、長時間の間には全体としての圧力変動に追従するが、短時間での適切な応答は対応できない。一観点の下で、本発明は、周囲雰囲気の変動による影響を受け難いガス調整された環境を有する投影レンズ系を具備するリソグラフィ装置を提供するものである。一観点の下で、本発明は、短期圧力変動を解決し、十分に短い時間での圧力変動に対応できるリソグラフィ装置を提供するものである。一観点の下で、本発明は、周囲雰囲気の変動による問題が適切に処理され、その結果、画像品質が改善され、投影系の寿命が改善され、その取り扱いが簡単な装置製造方法を提供するものである。本発明の一観点によれば、リソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、基板の目標部分にパターン化された放射線ビームを投影するように構成された投影系を含む。この投影系は、ハウジングおよびハウジング内に配設された複数の光学素子を含む。また、このリソグラフィ装置は、調整されたガスをハウジングに供給するための供給構造または入口と、ガス調整された環境をハウジング内に作るために、調整されたガスをハウジングから排出するためのガス排出構造とを含む。このようにして、ガス調整された環境が、環境を汚染することなく、周囲雰囲気の雰囲気変動に連通接続されている。したがって、光学系の投影の品質は、周囲雰囲気の変動による影響が少ない。本発明の一観点によれば、前記種類のリソグラフィ装置が提供される。この場合、調整されたガスを制御下で周囲雰囲気に対して漏洩するために、ガス調整された環境を周囲雰囲気に連通させる少なくとも1つのゲートが設けられている。このようにして、ガス調整された環境は、環境を汚染しないで周囲雰囲気の雰囲気変動を伝達するように結合している。それ故、光学系の投影の品質は周囲雰囲気の変動にあまり影響を受けない。特に、このようなゲートにより、光学素子は、ガス調整された環境と周囲雰囲気環境との間の圧力差の影響をあまり受けないので、光学素子の機械的変形が防止され、入手する画像形成の解像度が改善される。本発明の一観点によれば、リソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、基板の目標部分にパターン化した放射線ビームを投影するように構成されている投影系を含む。投影系は、ハウジング、ハウジング内に配置されている複数の光学素子、および投影系からの放射線ビームを放出するための出口光学素子を含む。この装置は、また、ハウジング内にガス調整された環境を作るために、ハウジングに対して調整されたガスを供給するための入口、および出口光学素子を装着するための取り付け手段を含む。取り付け手段は、ハウジングから調整されたガスを排出するためのガス排出構造を形成するために、ハウジングの下部によって形成されるシートから予め定められた距離で、出口光学素子を懸吊するために出口光学素子に取り付けられた懸架手段を含む。このようなリソグラフィ装置においては、取り付け手段は、ハウジングから調整されたガスを排出するためのガス排出構造を形成するために、ハウジングの下部によって形成されるシートから予め定められた距離で、出口光学素子を懸吊するためのものである。このような取り付け手段は、上記装置の好適例を形成する。何故なら、ガス調整された環境と周囲雰囲気環境との間で制御下で連通ができるばかりでなく、従来の装着よりも機械的に遥かに安定な取付構造を提供するからである。これら従来の装着は、出口光学素子およびレンズハウジングの気密カップリングにより、通常、熱的に不安定な装着による光学出口素子の平面曲げ応力を受け、その結果、光学系の画像形成が劣化する。対照的に、本発明の装着は、出口光学素子およびレンズシートの非接触カップリングにより、少なくとも遥かに緩やかな方法で機械的変形をあまり受けない。何故なら、機械的応力を補償するように懸架部材を設計できるからである。本発明の一観点によれば、装置製造方法が提供される。この装置製造方法は、投影系により基板の目標部分にパターン化した放射線ビームを投影する段階を含む。投影系は、ガス調整された環境内に配置されている複数の光学素子を含む。この方法は、また、調整されたガスを制御下で周囲雰囲気に対して漏洩させるために、ガス調整された環境を周囲雰囲気に連通させる段階を含む。本発明の一観点によれば、装置製造方法が提供される。この方法は、投影系により基板の目標部分にパターン化した放射線ビームを投影する段階を含む。投影系は、ガス調整された環境内に配置されている複数の光学素子を含む。この方法は、また、複数の光学素子の出口光学素子を、ハウジングの下部が形成するシートから予め定められた距離で懸吊することにより、ガス調整された環境から調整されたガスを排出する段階を含む。本発明の一観点によれば、ガス調整された環境内で検出装置を操作するための方法が提供される。この方法は、第1のガス調整された副環境から第2のガス調整された副環境へ調整されたガスを流して第2の副環境から第1の副環境への汚染を防止する段階と、少なくとも1つのゲートを通して、第2の副環境から周囲雰囲気に所定の流速で調整されたガスを漏洩する段階と、検出装置により第2のガス調整された環境の少なくとも1つの特性を検出する段階とを含む。本発明の一観点によれば、リソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、基板の目標部分にパターン化された放射線ビームを投影するように構成されている投影系を含む。投影系は、ハウジングおよびハウジング内に配置されている複数の光学素子を含む。この装置は、また、ハウジング内にガス調整された環境を提供するために、調整されたガスをハウジングに供給し、そこから排出するためのガス制御装置と、ガス調整された環境を周囲雰囲気に連通させるための少なくとも1つのゲートとを含む。このゲートは、周囲雰囲気に調整されたガスの所定の漏洩を行うように配置されている。本発明の一観点によれば、リソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、基板の目標部分にパターン化された放射線ビームを投影するように構成されている投影系を含む。投影系は、ハウジングおよびハウジング内に配置されている複数の光学素子、および投影系から放射線ビームを放出するための出口光学素子を含む。この装置は、また、ハウジング内にガス調整された環境を提供するために、ハウジングへ調整されたガスを供給するためのガス制御装置と、出口光学素子を装着するための取り付け手段とを含む。取り付け手段は、ハウジングから調整されたガスを排出するためのガス排出構造を形成するために、ハウジングの下部によって形成されるシートから予め定められた距離で出口光学素子を懸吊するために出口光学素子に取り付けられた懸架手段を含む。図1は、本発明の一例に係わるリソグラフィ装置の模式図である。この装置は、放射線ビームB例えば、UV放射線を調整するように構成されている照明システム照明装置ILと、パターン付与装置例えば、マスクMAを支持するように作られていて、いくつかのパラメータによりパターン付与装置を正確に位置決めするように構成されている第1の位置決め装置PMに接続している支持構造例えば、マスクテーブルMTと、基板例えば、レジストでコーティングされたウェハWを保持するように作られていて、いくつかのパラメータにより基板を正確に位置決めするように構成されている第2の位置決め装置PWに接続している基板テーブル例えば、ウェハテーブルWTと、基板Wの目標部分C例えば、1つまたは複数のダイを含む上にパターン付与装置MAにより、放射線ビームBに与えるパターンを投影するように構成されている投影系例えば、屈折投影レンズ系PSとを備える。照明システムは、放射線をある方向に向け、整形し、または制御するための屈折性、反射性、磁性、電磁性、静電性またはその他のタイプの光学構成要素、またはこれらの任意の組み合わせのような種々のタイプの光学構成要素を含むことができる。支持構造は支持する、すなわち、パターン付与装置の重量を支える。支持構造は、パターン付与装置の向き、リソグラフィ装置の設計、および例えば、パターン付与装置が真空環境内で保持されるのかどうかというようなその他の条件に依存する方法でパターン付与装置を保持する。支持構造は、パターン付与装置を保持するために、機械、真空、静電またはその他の締付け技術を使用することができる。支持構造は、例えば、必要に応じて固定または移動することができるフレームまたはテーブルであってもよい。支持構造は、例えば、投影系に対して、パターン付与装置を所望の位置に確実に位置させることができる。レチクルまたはマスクという用語が本明細書のどこかで使用されている場合には、もっと一般的な用語であるパターン付与装置と同じものであると見なすことができる。本明細書で使用する場合、パターン付与装置という用語は、放射線ビームを、基板の目標部分にパターンを生成するようなその断面のパターンの形にするために使用することができる任意のデバイスを指すものと広義に解釈すべきである。放射線ビームに与えられたパターンは、例えば、パターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆる補助フィーチャを含んでいる場合には、基板の目標部分の所望のパターンに正確に対応しない場合があることに留意されたい。一般的に、放射線ビームに与えられたパターンは、集積回路のような目標部分で生成されるデバイスの特定の機能層に対応する。パターン付与装置は透過性のものであっても反射性のものであってもよい。パターン付与装置の例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルLCDパネル等がある。マスクはリソグラフィで周知のものであり、2進交互位相シフトおよび減衰位相シフトおよび種々のハイブリッドマスクタイプのようなマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの一例は、異なる方向に入射放射線ビームを反射するように、それぞれを個々に傾斜させることができる小さなミラーのマトリックス配置を使用する。傾斜したミラーは、ミラーマトリックスにより反射した放射線ビームをあるパターンの形にする。本明細書で使用する場合、投影系という用語は、使用する露光放射線、または浸漬液の使用または真空の使用のようなその他の要因に適している屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁光学システムおよび静電光学システムまたはこれらの任意の組み合わせを含む任意のタイプの投影系を含むものとして広義に解釈すべきである。本明細書内のどこかで投影レンズという用語が使用されている場合には、もっと一般的な用語である投影系と同じものであると見なすことができる。本明細書で説明する場合には、装置は、透過性タイプのもの例えば、透過性マスクを使用するである。別の方法としては、装置は反射性タイプのもの例えば、上記タイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射性マスクを使用するであってもよい。リソグラフィ装置は、2つ二重ステージまたはもっと多くの基板テーブルおよび/または2つ以上のマスクテーブルを有するタイプであってもよい。このような多重ステージ機械の場合には、追加のテーブルを並列に使用することができ、または準備段階を、1つまたは複数のその他のテーブルを露光に使用しながら、1つまたは複数のテーブル上で実行することができる。リソグラフィ装置は、また、投影系と基板との間の空間を満たすために、基板の少なくとも一部を、例えば、水のような屈折率が比較的高い液体で覆うことができるタイプのものであってもよい。浸漬液は、また、例えば、マスクと投影系との間のようなリソグラフィ装置内のその他の空間に適用することもできる。浸漬技術は、投影系の開口数を増大するためのものであって、当業者であれば周知のものである。本明細書で使用する場合には、浸漬という用語は、基板のような構造は液体内に沈んでいる必要はなく、液体は露光の間、投影系と基板との間に位置していればよいことを意味する。図1を見ると、照明装置ILは、放射線源SOから放射線ビームを受光する。この放射線源およびリソグラフィ装置は、例えば、放射線源がエキシマレーザの場合のように、別々のエンティティであってもよい。このような場合、放射線源は、リソグラフィ装置の一部を形成するものとは見なされず、放射ビームは、例えば、適当な方向づけミラーおよび/またはビームエクスパンダを含むビーム供給システムBDの助けを借りて、放射線源SOから照明装置ILに通過する。その他の場合、放射線源は、例えば、放射線源が水銀ランプである場合のように、リソグラフィ装置の一部であってもよい。放射線源SOと照明装置ILは、必要な場合には、ビーム供給システムBDと一緒に放射システムと呼ぶ場合もある。照明装置ILは、放射線ビームの角度輝度分布を調整するための調整手段ADを含むことができる。一般的に、照明装置の瞳面内の輝度分布の少なくとも外部および/または内部半径範囲通常、それぞれ外側σおよび内側σと呼ばれるを調整することができる。さらに、照明装置ILは、インテグレータINおよびコンデンサCOのような種々のタイプのその他の構成要素を含むことができる。照明装置は、その断面で所望の均一性および輝度分布を達成する目的で、放射線ビームを調整するために使用することができる。放射線ビームBは、支持構造例えば、マスクテーブルMT上に保持されているパターン付与装置例えば、マスクMA上に入射し、パターン付与装置によりパターン化される。マスクMAを横切った後で、放射線ビームBは投影系PSを通過し、投影系PSはビームの焦点を基板Wの目標部分C上に結ぶ。第2の位置決め装置PWおよび位置センサIF例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量性センサにより、例えば、放射線ビームBの通路内の異なる目標部分Cを位置決めするために、基板テーブルWTを正確に移動することができる。同様に、第1の位置決め装置PMおよびもう1つの位置センサ図1に明示的に示されていないを、例えば、マスクライブラリからの機械的検索の後、または走査中に、放射線ビームBの通路に対してマスクMAを正確に位置決めするために使用することができる。一般的に、マスクテーブルMTは、第1の位置決め装置PMの一部を形成しているロングストロークモジュール粗動位置決めおよびショートストロークモジュール微動位置決めにより移動させることができる。同様に、基板テーブルWTは、第2の位置決め装置PWの一部を形成しているロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールにより移動させることができる。ステッパの場合にはスキャナとは反対に、マスクテーブルMTをショートストロークアクチュエータだけに接続することもできるし、または固定することもできる。マスクMAおよび基板Wは、マスクアラインメントマークM1、M2および基板アラインメントマークP1、P2により整合することができる。図に示すように、基板アラインメントマークは、専用の目標部分を占めているが、これらのマークは目標部分スクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる間の空間内に位置させることもできる。同様に、マスクMA上に2つ以上のダイが位置している場合には、マスクアラインメントマークをダイの間に位置させることができる。図の装置は下記のモードのうちの少なくとも1つで使用することができる。1.ステップモードの場合には、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは本質的に固定されていて、一方、投影ビームに与えられた全パターンが一度にすなわち、1回の静的露光で目標部分C上に投影される。基板テーブルWTは、次に、Xおよび/またはY方向にシフトされ、そのため異なる目標部分Cを露光することができる。ステップモードの場合には、露光フィールドの最大サイズにより1回の静的露光で画像形成される目標部分Cのサイズが制限される。2.走査モードの場合、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは同期状態で走査され、一方、投影ビームに与えられたパターンが、目標部分C上に投影されるすなわち、1回の動的露光。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、拡大縮小および投影系PSの画像の逆特性により決定することができる。走査モードの場合には、露光フィールドの最大サイズにより1回の動的露光の際の目標部分の走査方向でない方向の幅が制限され、一方、走査運動の長さにより目標部分の走査方向の高さが決まる。3.その他のモードの場合、マスクテーブルMTは、プログラマブルパターン付与装置を保持する本質的に固定状態に維持され、基板テーブルWTは、放射ビームに与えられたパターンの形が目標部分C上に投影されている間に移動または走査される。このモードの場合、一般的に、パルス放射線源が使用され、プログラマブルパターン付与装置が、基板テーブルWTの各運動の後で、または走査中の連続放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上記タイプのプログラマブルミラーアレイのようなプログラマブルパターン付与装置を使用し、マスクを用いないリソグラフィに容易に適用することができる。上記使用モードの組み合わせおよび/または変更したもの、または全然異なる使用モードを使用することもできる。図2は、本発明による投影光学系の一実施形態である。図2は、フォトリソグラフィのために使用する投影レンズ系1の略図である。投影系1は、ハウジング2と、ハウジング2内に配置されている複数の光学素子3とを含む。ガス制御ユニットまたは制御装置4は、1つまたは複数のガス入口または送り装置5を通してハウジング2に供給されるガスの供給および調整を制御するためのものである。ガス制御ユニット4は、光学系からガスの流出を測定するために使用する流量計6および圧力計7を含む。この実施形態によれば、投影光学系1は、別々のコンパートメント8、10に分割される。この場合、上部コンパートメント8は、入口5およびガス制御ユニット4と連通している排出装置9に直接接続している閉コンパートメントとして形成され、そうでない場合には従来通りに形成される。対照的に、光学素子11通常は、最後の光学素子に隣接するにより上部コンパートメント8から物理的に分離している下部コンパートメント10は、ガス制御ユニット4内に配置されている分割装置から供給される送り装置である、別の入口5’から供給を受ける。しかし、分離装置は、光学素子の感度に従ってまたどれが一番密封し易いかに従ってその他の位置に設置することもできる。さらに、別の方法としては、例えば、界面12およびガス制御ユニット4を接続しているレンズハウジング2とガス供給ライン13との間の界面12上に設置されている分割装置内のガス流図面の矢印で概略示すのもっと下流にこの分割装置を設置することもできる。下部コンパートメント10においては、排出装置9’は、フィードバックを通してガス制御ユニット4に直接接続しているのではなく、周囲雰囲気へ調整されたガスを制御下で漏洩するように、周囲雰囲気と連通している流体内にゲートとして設置されている。ある実施形態の場合には、漏洩の速度はゲートにより制御される。出口光学素子14が全体的に非常に柔軟であるために、ガス調整されたコンパートメント間の圧力差の変動は、多くの場合、出口光学素子14の機械的変形による光学系の望ましくない光学的挙動になる。この点に関して、電子類似物の場合、下部コンパートメント10は、ガスが流れるようにできるようにするための空間を形成するものと見なすことができる。この場合、入口5’および排出装置9’は、この流れ回路のインピーダンス値を決める。入口または送り装置5/5’は、通常、流れの供給源であると見なすことができる。C値はシステムの容積により決まり、大部分の排出装置9/9’がR値を決める。それ故、Cおよび/またはRを低減すると、システムのレスポンスがよくなる。それ故、RC回路は、容量またはインピーダンスが低減した場合、圧力変動に対するレスポンスが速くなるように、それ故出口光学素子14に加わる機械的応力が最小限度に低減するように設置される。別の方法としては、ガス排出部9’を界面12とは異なる位置に設置することができる。図2を見れば分かるように、ある実施形態の場合には、出口光学素子に近いハウジングにガスを供給することができる。また、ハウジングは、2つ以上例えば、少なくとも2つの別々の空間を有することができる。ある実施形態の場合には、上記空間内に異なる周囲条件を提供することができる。図3は、図2の場合のように、下部コンパートメント10が、上部コンパートメント8に調整されたガスを供給するために使用する入口5とは別に、入口5’により供給を受ける実施形態を示す。図2の実施形態とは異なり、入口5’は、第2の最後の光学素子の取り付け手段を介して内部から供給を受ける。図3の場合には、最後および最後の1つ前の光学素子により分離が行われるが、本発明の場合必ずしもそうする必要はない。それ故、投影系を調整するためのガス流は、図2のところで説明したガス制御ユニットへの直接フィードバックを行わなくても供給することができる。代わりに、ガス流は、汚染が最も下のコンパートメントに流入するのを防止するために、十分な流量を供給するように制御される。この場合、最も下のコンパートメントのR-C値は、出口光学素子14に加わる圧力変化が最も少なくなるように配置される。図示していないが、図4および図7のところでさらに説明するように、例えば、排出装置9’の近くにガス抽出装置図示せずを設置することにより、周囲環境内への流入を防止するためにガス流を制限することができる。図4および拡大断面図4Aは、本発明のコンセプトを利用するもう1つの実施形態を示す。同時に、図4の実施形態は、今までに遭遇した懸架手段問題、特に出口光学素子14の漏洩を起こさない密封を行う際の問題を根本的に解決する装置を示す。従来、出口光学素子14をレンズハウジング2に接着することによりこのような密封を行ってきたが、この方法だと種々の問題が起こる。何故なら、例えば、熱による影響または磨耗による影響が、機械的変形を起こし、それが光学性能を劣化させたからである。しかし、本発明によれば、密封はハウジング2から調整されたガスを排出するためのガス排出構造を形成するために漏洩を行い、ハウジング2の下部が形成するシート15から所定の距離hのところに、出口光学素子14を懸吊するために出口光学素子14に取り付けられた懸架手段によって行われる。図4Aは、この点において、光学系1の外部に位置する周囲雰囲気ガス17と光学系1内に位置する調整されたガス18との間に拡散バリアを供給するような大きさに、出口光学素子14間に流出開口部16が形成される様子を示す。この点に関して、周囲雰囲気17とガス調整された環境18との連通を行う細長いガス流路19により拡散バリアが形成される。チャネル19の寸法は、特に以下に説明するように、周囲環境17からの汚染を防止するように設計される。さらに、周囲雰囲気の汚染を防止するために、ガス抽出装置20が、漏洩した調整ガスを排出するためにチャネル19の流出開口部の近くに装着される。一例を挙げて説明すると、特定の設計の場合には、拡散バリアの寸法を図4Aに示すように計算した。設計パラメータとしては、レンズハウジング2内の100Paの過圧力、約0.1~10Nl/hの漏洩の流れ等がある。拡散バリアは、下式により計算することができる。ここで、Cは内部濃度であり、C0は汚染物の外部濃度であり、uはギャップ内の平均速度[m/s]であり、Lはギャップの長さ[m]であり、Dは拡散係数[m2/s]であり、Kは拡散バリア[-]である。このバリアの実際の値は、10~20と計算した。ガス出力は制限しなければならない。何故なら、ガス出力はレンズの下を移動するウェハステージの干渉計システムのようなその他の環境パラメータを擾乱する恐れがあるからである。この制限により、圧力降下100Paおよびすでに計算した拡散バリアにより、最小のギャップ高さを計算することができる。図5は、数種類の汚染物のこの分析の結果を含むグラフである。主な汚染物O2、H2O、SO2およびNH3の仕様に適合するために、最低のギャップ高さは、5~10mmの長さを含む20~25μm程度でなければならないことが分かった。図6は、図4の装置内の出口光学素子14のもう1つの略図である。出口光学素子14は、プレートに接着された懸架ブラケット21により運動学的に装着されている平板を含む。ブラケット21は、プレート内の平面応力の発生を防止するために形成される。ブラケット21は、ブラケットが横方向に運動できる余裕を有するように設計される。それ故、ブラケット21は、光学素子14の1つの面側からだけ出口光学素子14に懸架手段を供給するように配置されていて、出口光学素子14の平面方向に少し自由に運動できるようになっている。図6は、プレートに対向して、レンズハウジング2のシート図7参照が、図4のところで説明したように、2つの対向プレートにより細長いチャネル19を形成するように配置されているエリア22の略図である。ブラケット21は、図7に示すように、出口光学素子14をレンズハウジング2に接続していて、一方チャネル構造19を形成するために、この素子を所定の距離のところに吊り下げている。さらに、図7は、出口光学素子14の懸架手段の側面の略図である。この図は、また、流出する調整されたガスが環境を汚染するのを防止するための抽出装置23を示す。図8は、本発明のある態様に従って装着した、図2のところで説明した圧力センサ7または任意のその他のセンサまたは阻止弁の簡単な配置である。この点に関して、センサ7は、ガス調整された環境18に直接連通している。この方法により、ガス調整された環境18の1つの特性を検出することができる。上記の精巧な設計規則により、センサの汚染が環境18に流入するのが防止される拡散バリアを作ることができる。これにより汚れたセンサを使用することができ、極度に清浄な環境18内で使用する圧力検出装置のコスト、組立ておよび保守が非常に安くなり、簡単になる。しかし、このコンセプトは、また、例えば、流量センサまたはガス調整された環境内の問題の量を測定するためのその他のセンサのような異なるタイプのセンサにも適用することができる。この目的のために、本発明は、相互に自由に連通できる2つの副環境8、10内に環境を配置する段階と、第1の副環境から第2の副環境へ調整されたガス流24を供給して第2の環境から第1の環境への汚染を防止する段階と、第2の副環境内に、周囲雰囲気に調整されたガスを制御下で漏洩するように配置された周囲雰囲気を含むガス調整された環境と連通するための少なくとも1つのゲート9’を設置する段階と、第2のガス調整された環境内に検出装置7を配置する段階とを含むガス調整された環境内で検出装置7を操作する方法を提案する。図の実施形態によれば、検出装置7は圧力検出装置である。しかし、本発明は、このタイプの検出装置に限定されないで、例えば、温度センサ、酸素センサ、水センサ、輝度検出装置等のようなその他の検出装置も使用することができる。さらに、検出装置は安全弁であってもよい。本明細書において、IC製造の際のリソグラフィ装置の使用について特に参照する場合があるが、本発明のリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁気領域メモリ用の案内および検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッド等の製造のようなその他の用途にも使用することができることを理解されたい。当業者であれば、このような別の用途の場合、本明細書で使用するウェハまたはダイという用語は、それぞれもっと一般的な用語である基板または目標部分と同義語であると見なすことができることを理解することができるだろう。本明細書における基板は、例えば、トラック通常、基板にレジストの層を塗布し、露光したレジストを現像するツール、計測ツールおよび/または検査ツールのような露光の前後で処理することができる。適用できる場合には、本明細書の開示を、上記およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板を、例えば、多層ICを形成するために2回以上処理することができる。そのため、本明細書で使用する基板という用語は、多重処理層をすでに含んでいる基板を意味する場合もある。光リソグラフィ装置として本発明の実施形態を使用するために上記説明を特に参照することができるが、本発明は、例えばインプリントリソグラフィのようなその他の用途にも使用することができ、その場合、前後関係から判断出きる場合には、光リソグラフィに限定されないことを理解することができるだろう。インプリントリソグラフィの場合には、パターン付与装置内の形が基板上に生成されるパターンを決める。パターン付与装置の形は、基板に塗布されたレジストの層内に押しつけることができ、その場合、レジストは電磁放射線、熱、圧力またはこれらの組み合わせを適用することにより硬化される。パターン付与装置をレジストから取り除くと、レジストが硬化した後でその中にパターンが残る。本明細書で使用する放射線およびビームという用語は、紫外線UV放射線例えば、365、355、248、193、157または126nmの波長を有する、極紫外線EUV放射線例えば、5~20nmの範囲内の波長を有する、およびイオンビームまたは電子ビームのような粒子ビームを含むすべてのタイプの電磁放射線を含む。レンズという用語は、前後関係からそう解釈できる場合には、屈折性、反射性、磁性、電磁性および静電性光学構成要素を含む種々のタイプの光学構成要素のうちの任意のものまたは組み合わせを意味する。今まで本発明の特定の実施形態について説明してきたが、本発明は上記以外の方法でも実行することができることを理解することができるだろう。例えば、本発明は、上記方法を記述している機械読み取り可能命令の1つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラムの形をとることもできるし、またはその内部にこのようなコンピュータプログラムを記憶しているデータ記憶媒体例えば、半導体メモリ、磁気または光ディスクの形をとることもできる。また、上記密封機構および方法は、レチクル例えば、出口光学素子ではなく、入口光学素子に近いレンズを密封するために使用することができ、および/またはレチクルステージの近くで使用することができることを述べておきたい。上記説明は例示としてのものであって本発明を制限するものではない。それ故、当業者であれば、添付の特許請求の範囲の範囲から逸脱することなしに、上記発明を種々に修正することができることを理解することができるだろう。