"支持体と、該支持体上に設けられた、少なくともB重合開始剤、C重合性化合物およびDバインダーを含有する感光層と、前記支持体と前記感光層との間に任意に設けられてもよいその他の層を含み、前記支持体と接する前記感光層または前記その他の層が、前記Dバインダーとは異なるA共重合体として、a0下記一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位を有する共重合体を含有することを特徴とする平版印刷版原版。一般式a1-0において、L1は共有結合性の二価の連結基を表し、アルキレン基を除く。Z1はアルキレン基、アリーレン基、-O-、-S-およびこれらの組合せからなる共有結合性の連結基を表し、両末端は-O-と-S-ではなく、前記L1がアリーレン基である場合にはZ1はアリーレン基ではない。X1は水素原子またはハメットの置換基定数σp値が0.2以下の電子供与性基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。前記一般式a1-0中、前記Z1がアルキレン基、アリーレン基、-O-およびこれらの組合せからなる連結基但し-O-は末端ではないを表すことを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版。前記一般式a1-0中、前記X1が水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表すことを特徴とする請求項1または2に記載の平版印刷版原版。前記A共重合体が、a2支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位を有することを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。前記A共重合体が、a1下記一般式a1-1で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位を有することを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。一般式a1-1において、L2は共有結合性の二価の連結基を表し、アルキレン基を除く。Z2はアルキレン基、アリーレン基、-O-、-S-およびこれらの組合せからなる共有結合性の連結基を表し、-O-と-S-は末端ではなく、前記L1がアリーレン基である場合にはZ1はアリーレン基ではない。X2は水素原子またはハメットの置換基定数σp値が0.2以下の電子供与性基を表す。Rは置換基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。前記一般式a1-1におけるRがラジカル重合性反応性基であることを特徴とする請求項5に記載の平版印刷版原版。前記a2支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位に含まれる前記支持体表面と相互作用する官能基が、リン酸エステル基もしくはその塩、またはホスホン酸基もしくはその塩より選ばれることを特徴とする請求項4~6のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。前記その他の層が、前記支持体と前記感光層との間に設けられた下塗り層であることを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。前記A共重合体が、a3親水性基を側鎖に有する繰り返し単位を有することを特徴とする請求項1~8のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。前記a3親水性基を側鎖に有する繰り返し単位に含まれる前記親水性基が、下記一般式a3-1または一般式a3-2で表される双性イオン構造より選ばれることを特徴とする請求項9に記載の平版印刷版原版。一般式a3-1中、R31及びR32は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、R31とR32は互いに連結し、環構造を形成してもよく、L31は、二価の連結基を表す。Aは、アニオンを有する構造を表す。Y3は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。一般式a3-2中、L32は二価の連結基を表し、Eは、カチオンを有する構造を表す。Y4は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。前記A共重合体における前記a1一般式a1-1で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位が、a0一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位のX1とZ1に連結する窒素原子と連結している水素原子の置換反応により生成されたことを特徴とする請求項5~10のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。前記感光層の前記支持体とは反対側の表面上に、保護層を含むことを特徴とする請求項1~11のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。請求項12に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する露光工程と;露光した前記平版印刷版原版を、界面活性剤を含有する現像液で現像する現像工程を含み;前記現像工程において、前記現像液の存在下、前記感光層の非露光部と前記保護層とを同時に除去する工程を含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。前記現像工程において、前記現像液の存在下、前記感光層の非露光部と前記保護層とを同時に除去する工程を含む但し、水洗工程を含まないことを特徴とする請求項13に記載の平版印刷版の製造方法。前記露光工程において、350nm~450nmの波長を有するレーザー光で露光することを特徴とする請求項13または14に記載の平版印刷版の製造方法。前記現像液のpHを、2.0~10.0に制御する工程を含むことを特徴とする請求項13~15のいずれか一項に記載の平版印刷版の製造方法。前記現像液が、炭酸イオンおよび炭酸水素イオンを含有することを特徴とする請求項13~16のいずれか一項に記載の平版印刷版の製造方法。このような状況のもと、本発明者が、特許文献6に記載の平版印刷版原版を検討したところ、親水性不足による耐汚れ性悪化の観点から、不満が残るものであった。また、特許文献7に記載の平版印刷版原版を検討したところ、UVインキ耐刷性の観点から、不満が残るものであった。また、特許文献8に記載の平版印刷版原版を検討したところ、親水性不足による耐汚れ性悪化の観点から、不満が残るものであった。また、特許文献9に記載の平版印刷版原版を検討したところ、UVインキ耐刷性の観点から、不満が残るものであった。すなわち、依然として耐刷性、耐汚れ性、現像性に加え、UVインキ耐刷性も高いレベルでバランスをとれる平版印刷版原版は知られていなかった。従って、本発明が解決しようとする課題は、現像性、耐汚れ性通常インキ耐刷性およびUVインキ耐刷性に優れる平版印刷版を提供できる平版印刷版原版及び平版印刷版の製造方法を提供することにある。本発明者は鋭意検討した結果、平版印刷版原版の感光層またはその下塗り層に1級または2級アミノ基を含む側鎖を導入した共重合体を用いることで、親水性を付与して耐汚れ性と現像性を改善し、かつ、前記アミノ基を含む側鎖のアミノ基以外の連結基と置換基を制御することで耐刷性とUVインキ耐刷性も改善できることがわかった。すなわち、以下の構成の平版印刷版原版及び平版印刷版の製造方法を用いることにより、上記課題を解決できることを見出した。本発明は以下の通りである。[1]支持体と、該支持体上に設けられた、少なくともB重合開始剤、C重合性化合物およびDバインダーを含有する感光層と、前記支持体と前記感光層との間に任意に設けられてもよいその他の層を含み、前記支持体と接する前記感光層または前記その他の層が、前記Dバインダーとは異なるA共重合体として、a0下記一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位を有する共重合体を含有することを特徴とする平版印刷版原版。一般式a1-0において、L1は共有結合性の二価の連結基を表し、アルキレン基を除く。Z1はアルキレン基、アリーレン基、-O-、-S-およびこれらの組合せからなる共有結合性の連結基を表し、両末端は-O-と-S-ではなく、前記L1がアリーレン基である場合にはZ1はアリーレン基ではない。X1は水素原子またはハメットの置換基定数σp値が0.2以下の電子供与性基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。[2]前記一般式a1-0中、前記Z1がアルキレン基、アリーレン基、-O-およびこれらの組合せからなる連結基但し-O-は末端ではないを表すことを特徴とする[1]に記載の平版印刷版原版。[3]前記一般式a1-0中、前記X1が水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表すことを特徴とする[1]または[2]に記載の平版印刷版原版。[4]前記A共重合体が、a2支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位を有することを特徴とする[1]~[3]のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。[5]前記A共重合体が、a1下記一般式a1-1で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位を有することを特徴とする[1]~[4]のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。一般式a1-1において、L2は共有結合性の二価の連結基を表し、アルキレン基を除く。Z2はアルキレン基、アリーレン基、-O-、-S-およびこれらの組合せからなる共有結合性の連結基を表し、-O-と-S-は末端ではなく、前記L1がアリーレン基である場合にはZ1はアリーレン基ではない。X2は水素原子またはハメットの置換基定数σp値が0.2以下の電子供与性基を表す。Rは置換基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。[6]前記一般式a1-1におけるRがラジカル重合性反応性基であることを特徴とする[5]に記載の平版印刷版原版。[7]前記a2支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位に含まれる前記支持体表面と相互作用する官能基が、リン酸エステル基もしくはその塩、またはホスホン酸基もしくはその塩より選ばれることを特徴とする[4]~[6]のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。[8]前記その他の層が、前記支持体と前記感光層との間に設けられた下塗り層であることを特徴とする[1]~[7]のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。[9]前記A共重合体が、a3親水性基を側鎖に有する繰り返し単位を有することを特徴とする[1]~[8]のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。[10]前記a3親水性基を側鎖に有する繰り返し単位に含まれる前記親水性基が、下記一般式a3-1または一般式a3-2で表される双性イオン構造より選ばれることを特徴とする[9]に記載の平版印刷版原版。一般式a3-1中、R31及びR32は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、R31とR32は互いに連結し、環構造を形成してもよく、L31は、二価の連結基を表す。Aは、アニオンを有する構造を表す。Y3は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。一般式a3-2中、L32は二価の連結基を表し、Eは、カチオンを有する構造を表す。Y4は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。[11]前記A共重合体における前記a1一般式a1-1で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位が、a0一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位のX1とZ1に連結する窒素原子と連結している水素原子の置換反応により生成されたことを特徴とする[5]~[10]のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。[12]前記感光層の前記支持体とは反対側の表面上に、保護層を含むことを特徴とする[1]~[11]のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。[13][12]に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する露光工程と;露光した前記平版印刷版原版を、界面活性剤を含有する現像液で現像する現像工程を含み;前記現像工程において、前記現像液の存在下、前記感光層の非露光部と前記保護層とを同時に除去する工程を含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。[14]前記現像工程において、前記現像液の存在下、前記感光層の非露光部と前記保護層とを同時に除去する工程を含む但し、水洗工程を含まないことを特徴とする[13]に記載の平版印刷版の製造方法。[15]前記露光工程において、350nm~450nmの波長を有するレーザー光で露光することを特徴とする[13]または[14]に記載の平版印刷版の製造方法。[16]前記現像液のpHを、2.0~10.0に制御する工程を含むことを特徴とする[13]~[15]のいずれか一項に記載の平版印刷版の製造方法。[17]前記現像液が、炭酸イオンおよび炭酸水素イオンを含有することを特徴とする[13]~[16]のいずれか一項に記載の平版印刷版の製造方法。本発明の構成によれば、現像性、処理性、通常インキ耐刷性及びUVインキ耐刷性に優れる平版印刷版を提供できる平板印刷版原版及び平版印刷版の製造方法を提供することができる。以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本願明細書において~とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。本明細書中、一般式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、一般式において、Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表すとの記載があれば、Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表すことを意味する。また、本明細書中、特に断り無く耐刷性という語句を用いる場合は、通常インキ耐刷性を意味する。[平版印刷版原版]本発明の平版印刷版原版は、支持体と、該支持体上に設けられた、少なくともB重合開始剤、C重合性化合物およびDバインダーを含有する感光層と、前記支持体と前記感光層との間に任意に設けられてもよいその他の層を含み、前記支持体と接する前記感光層または前記その他の層が、前記Dバインダーとは異なるA共重合体として、a0下記一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位を有する共重合体を含有することを特徴とする。一般式a1-0において、L1は共有結合性の二価の連結基を表し、アルキレン基を除く。Z1はアルキレン基、アリーレン基、-O-、-S-およびこれらの組合せからなる共有結合性の連結基を表し、両末端は-O-と-S-ではなく、前記L1がアリーレン基である場合にはZ1はアリーレン基ではない。X1は水素原子またはハメットの置換基定数σp値が0.2以下の電子供与性基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。このような構成の本発明の平板印刷版原版を用いることにより、現像性、処理性、通常インキ耐刷性及びUVインキ耐刷性に優れる平版印刷版を提供することができる。本発明の平版印刷版原版は、各種レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能であることが好ましい。また、特に、pH2.0~10.0以下の水溶液でも現像可能であることが好ましい。以下、本発明の平版印刷版原版の好ましい態様について詳細に説明する。本発明の平版印刷版原版は、支持体と、該支持体上に設けられた感光層を含む。さらに、本発明の平版印刷版原版は、前記支持体と前記感光層との間にその他の層が任意に設けられてもよい。本発明の平版印刷版原版は、前記その他の層として下塗り層が設けられていることが好ましい。また、本発明の平版印刷版原版は、前記感光層の前記支持体とは反対側の表面上に、保護層を含むことが好ましい。また、本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて、支持体の裏面にバックコート層を設けることができる。以下、本発明の平版印刷版原版を構成する感光層、その他の層、保護層、バックコート層について順に説明し、本発明の平版印刷版原版を形成する方法を説明する。<感光層>本発明の平版印刷版原版の前記感光層は、少なくともB重合開始剤、C重合性化合物、Dバインダーを含有する。また、本発明の平版印刷版原版は、前記感光層または前記その他の層が、前記Dバインダーとは異なるA共重合体として、a0前記一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位を有するA共重合体を含有することを特徴とし、すなわち前記感光層には、A共重合体が含まれていてもよい。なお、前記支持体と感光層との間に、その他の層として例えば後述する下塗り層を設ける場合には、感光層は上記A共重合体を含まずに、上記A共重合体を該下塗り層に含有させてもよい。但し、本発明の平版印刷版原版は、下塗り層が前記A共重合体を含有することが好ましい。また、前記感光層は、必要に応じて、さらにその他の成分を含有することができる。以下、前記感光層の構成成分について詳細に説明する。A共重合体本発明の平版印刷版原版においては、支持体と接する前記感光層に、a0下記一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位を有する共重合体を含有してもよい。但し、本発明の平版印刷版原版は、下塗り層が前記A共重合体を含有することが好ましいが、以下、説明のため前記感光層においてA共重合体の詳細を説明する。一般式a1-0において、L1は共有結合性の二価の連結基を表し、アルキレン基を除く。Z1はアルキレン基、アリーレン基、-O-、-S-およびこれらの組合せからなる共有結合性の連結基を表し、両末端は-O-と-S-ではなく、前記L1がアリーレン基である場合にはZ1はアリーレン基ではない。X1は水素原子またはハメットの置換基定数σp値が0.2以下の電子供与性基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。以下、前記A共重合体に好ましく含まれる繰り返し単位の構造と、その共重合割合について説明する。a0一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位:まず、前記a0一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位について説明する。前記一般式a1-0において、L1で表される共有結合性の二価の連結基は、アルキレン基を除く。前記L1で表される共有結合性の二価の連結基は、-O-、-S-、-C=O-、-SO2-、-NH-ここで-NH-の水素原子は置換基で置き換わってもよく、代表的な置換基として炭素数1~10のアルキル基、炭素数6~15のアリール基が挙げられるまたはアリーレン基から選ばれる基、もしくはこれらの基より任意で選ばれる基の組み合わせから構成される二価の連結基が好ましい。本発明において、L1として好ましくは-O-、-C=O-、-NH-、炭素数6~16のアリーレン基から選ばれる基またはその組み合わせからなる二価の連結基である場合が好ましく、より好ましくは-C=O-O-、-C=O-NH-、1,2-フェニレン基、1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、1,2-ナフタレン基、1,5-ナフタレン基などが挙げられ、更に好ましくは-C=O-O-、-C=O-NH-、1,4-フェニレン基などが挙げられ、-C=O-NH-が特に好ましい。なおここでは高分子化合物、すなわちA共重合体の主鎖と連結する部位となる。またこれら基の水素原子が置換基に置き換わってもよい。前記一般式a1-0において、Z1はアルキレン基、アリーレン基、-O-、-S-およびこれらの組合せからなる共有結合性の連結基を表し、両末端は-O-と-S-ではなく、前記L1がアリーレン基である場合にはZ1はアリーレン基ではない。本発明においてアルキレン基とは、二価の直鎖状、環状又は分岐鎖状の飽和炭化水素基を意味し、アリーレン基とは、二価の単環式又は多環式芳香族炭化水素基を意味する。アルキレン基の具体例としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基及びオクチレン基などが挙げられる。アリーレン基の具体例としては、例えば、1,2-フェニレン基、1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、ビフェニル-4,4’-ジイル基、ジフェニルメタン-4,4’-ジイル基、3,3’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジイル基、1,2-ナフタレン基、1,5-ナフタレン基、2,6-ナフタレン基などが挙げられる。またこれらの基の水素原子が置換基に置き換わってもよい。本発明においてZ1はメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、1,2-フェニレン基、1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、1,2-ナフタレン基、1,5-ナフタレン基およびこれらの2価の連結基の2つ以上が-O-もしくは-S-によって連結した連結基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、1,5-ナフタレン基およびこれらの2価の連結基の2つ以上が-O-によって連結した連結基がより好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、1,4-フェニレン基、-C2H4-O-C2H4-、-C2H4-O-C2H4-O-C2H4-、-C2H4-O-1,4-フェニレン-O-1,4-フェニレン-O-C2H4-が更に好ましい。またこれら基の水素原子が置換基に置き換わってもよい。前記一般式a1-0においてX1は水素原子またはハメットの置換基定数σp値が0.2以下の電子供与性基を表す。ハメット則はベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために1935年L.P.Hammettにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則に求められた置換基定数にはσp値とσm値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができるが、例えば、J.A.Dean編、Lange’sHandbookofChemistry第12版、1979年McGraw-Hillや化学の領域増刊、122号、96~103頁、1979年南光堂に詳細に記載されている。なお、本発明において各置換基をハメットの置換基定数σpにより限定したり説明したりするが、これは上記の成書で見出せる、文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合にその範囲内に含まれるであろう置換基をも含むことはいうまでもない。本発明の一般式1で表される化合物はベンゼン誘導体ではないが、置換基の電子効果を示す尺度として、置換位置に関係なくσp値を使用する。本発明においては今後、σp値をこのような意味で使用する。なお、本発明においては、ハメット値は、稲本直樹編、化学セミナー10ハメット則-構造と反応性-1983年、丸善株発行に記載の数値を用いている。電子供与性基である前記X1の具体例としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、アニリノ基、モノアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、トリアルキルシリル基、トリアルキルシリルオキシ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、1-アジリジニル基、フェロセニル基、3-チエニル基を挙げることができる。前記X1が電子供与性基である場合のハメットの置換基定数σp値の範囲は-0.5~0.2であることが好ましく、-0.3~0.1であることがより好ましい。前記X1は、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基但し、ハメットの置換基定数σp値が0.2以下を表すことが好ましい。ここでアルキル基とは直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。好ましくは炭素数1~30の置換もしくは無置換の直鎖または分岐のアルキル基例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n-プロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、2-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、t-オクチル基、2-エチルヘキシル基、1,5ジメチルヘキシル基、n-デシル基、n-ドデシル基、n-テトラデシル基、n-ヘキサデシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、2,3-ジヒドロキシプロピル基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、ソディウムスルホエチル基、ジエチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、ブトキシプロピル基、エトキシエトキシエチル基、n-ヘキシルオキシプロピル基等、炭素数3~18の置換もしくは無置換の環状アルキル基例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、アダマンチル基、シクロドデシル基等を表す。また、炭素数5から30の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり炭素数5から30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基であり、例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン-2-イル、ビシクロ[2,2,2]オクタン-3-イル、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含する。アリール基とは好ましくは炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、p-トリル、ナフチル、m-クロロフェニル、o-ヘキサデカノイルアミノフェニルである。ヘテロ環基とは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも一つを含む5~7員環の、置換もしくは無置換の、飽和もしくは不飽和のヘテロ環である。これらは単環であってもよいし、更に他のアリール環もしくはヘテロ環と共に縮合環を形成してもよい。ヘテロ環基として好ましくは5~6員のものであり、例えばピロリル基、ピロリジニル基、ピリジル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、インドリル基、インダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、フリル基、ピラニル基、クロメニル基、チエニル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリノ基、モルホリニル基などが挙げられる。本発明において、X1は水素原子、アルキル基もしくはアリール基である場合が好ましく、水素原子もしくはアルキル基である場合がより好ましく、水素原子である場合が更に好ましい。本発明における前記一般式a1-0で表される構造の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。前記a0一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位としては、メタアクリル系重合体、スチリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。特にメタアクリル系重合体、スチリル系重合体が好ましい。前記a0一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位としては下記一般式A0で表される繰り返し単位が好ましい。一般式A0において、Ra~Rcはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基またはハロゲン原子を表す。前記a0は前記一般式a1-0で表される構造を表し、前記一般式a1-0中ので表される部位で、一般式A0の主鎖の炭素原子に連結する。前記A共重合体においてa0が含まれる割合は、耐汚れ性及び耐刷性の観点から、全繰り返し単位の0.01~20モルの範囲であることが好ましく、0.01~10モルの範囲であることがより好ましく、0.01~5モルの範囲であることが更に好ましい。a1下記一般式a1-1で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位:本発明の平版印刷版原版は、前記A共重合体が前記a0の繰り返し単位の他に、a1下記一般式a1-1で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位を有する共重合体であることが好ましい。一般式a1-1において、L2は共有結合性の二価の連結基を表し、アルキレン基を除く。Z2はアルキレン基、アリーレン基、-O-、-S-およびこれらの組合せからなる共有結合性の連結基を表し、-O-と-S-は末端ではなく、前記L1がアリーレン基である場合にはZ1はアリーレン基ではない。X2は水素原子、またはハメットの置換基定数σp値が0.2以下の電子供与性基を表す。Rは置換基を表す。は高分子化合物、すなわち前記A共重合体の主鎖と連結する部位を表す。前記一般式a1-1のL2、Z2およびX2は、前記一般式a1-0のL1、Z1およびX1と同義であり、好ましい範囲も同様である。前記一般式a1-1のRは置換基を表す。本発明において置換基とは例えばハロゲン原子フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、N-ヒドロキシカルバモイル基、N-アシルカルバモイル基、N-スルホニルカルバモイル基、N-カルバモイルカルバモイル基、チオカルバモイル基、N-スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基及びその塩を含む、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、シリルオキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキル、アリール、またはヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、N-ヒドロキシウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、N-アルキルまたはアリールスルホニルウレイド基、N-アシルウレイド基、N-アシルスルファモイルアミノ基、ヒドロキシアミノ基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イソシアノ基、イミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキル、アリール、またはヘテロ環ジチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルホ基及びその塩を含む、スルファモイル基、N-アシルスルファモイル基、N-スルホニルスルファモイル基及びその塩を含む、シリル基などが挙げられる。なおここで塩とはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などの陽イオンやアンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどの有機の陽イオンとの塩を意味する。なお、これら置換基は更にこれら置換基で置換されていてもよい。前記一般式a1-1のRで表される置換基として好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、スルファモイル基などが挙げられ、より好ましくはアルキル基、アルケニル基、アシル基、カルバモイル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、スルファモイル基などが挙げられ、更に好ましくはアシル基、カルバモイル基、アルキルまたはアリールスルホニル基などが挙げられる。本発明において前記一般式a1-1のRで表される置換基は、ラジカル重合性反応性基をさらなる置換基として有することが好ましい。ここで、ラジカル重合性反応性基として好ましい例としては、付加重合可能な不飽和結合基例えば、メタアクリロイル基、メタアクリルアミド基、メタアクリロニトリル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基、アルキニル基等、連鎖移動が可能な官能基メルカプト基等が挙げられる。中でも、耐刷性の点から、付加重合可能な不飽和結合基であることが好ましく、メタアクリロイル基、メタアクリルアミド基、アリル基を有することが更に好ましい。なお、ここでメタアクリロイル基とはアクリロイル基又はメタクリロイル基を、メタアクリルアミド基とはアクリルアミド基とメタクリルアミド基を表す。ラジカル重合性反応性基を有する共重合体を用いることにより、未露光部では優れた現像性を発現し、露光部では重合によって現像液の浸透性が抑制され、支持体と感光層との間の接着性、密着性が更に向上する。前記Rは、下記一般式Qで表される基、-C=O-NR24-CH2-CHOH-R26を表すことが好ましい。上記式中、R21、R22およびR23は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1~8のアルキル基を表す。前記R21、R22およびR23は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~6のアルキル基またはハロゲン原子-F、-Br、-Cl、-Iを表すことが好ましい。R21、R22およびR23のうち少なくとも2つが水素原子であり、且つ、残りの1つが水素原子または炭素数1~6のアルキル基であることがより好ましい。R21、R22およびR23のうち少なくとも2つが水素原子であり、且つ、残りの1つがメチル基であることが特に好ましい。前記R24は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1~8のアルキル基を表す。また、前記R26は炭素数1~8のアルキル基を表す。前記R24、R26はさらに置換基を有していてもよく、好ましい置換基としては、水酸基、前記一般式Qで表される基を挙げることができる。本発明において、前記一般式a1-1で表される構造は、前記一般式a1-0で表される構造に対して反応性試薬を作用させることで生成した構造であることが好ましい。前記一般式a1-0で表される構造に対して、反応性試薬として例えば酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物、イソシアン酸化合物、エポキシ化合物、ハロゲン化スルホニル化合物またはハロゲン化アルキル化合物などを作用することで前記一般式a1-1の構造を容易に得ることができる。本発明におけるa1前記一般式a1-1で表される構造の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。前記a1一般式a1-1で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位は、前記a0一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位と同様の骨格であることが好ましい。本発明においてA共重合体を構成する全繰り返し単位に対して、a1前記一般式a1-1で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位が含まれる割合は、0~70モル含まれることが好ましく、1~50モル含まれることがより好ましく、5~40含まれることが更に好ましい。また、a1前記一般式a1-1で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位がラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位である場合は、0~50モル含まれることが好ましく、2~30モル含まれることがより好ましく、5~20含まれることが更に好ましい。50モル以下の割合で含む場合は、合成上ゲル化が発生しにくく、製造上好ましい。更に、ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位が多くなり過ぎなければ、親水性が低下しにくく、耐汚れ性の観点で好ましい。一方で、該単位が少なくなり過ぎなければ、耐刷性向上の効果が得やすくなる。これらの観点から、5~20モル含まれることが好ましい。a2支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位:前記A共重合体はa0一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位の繰り返し単位の他に、a2支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位を有することが好ましい。前記支持体表面と相互作用する官能基としては、例えば、陽極酸化処理又は親水化処理を施した支持体上に存在する金属、金属酸化物、水酸基などとイオン結合形成、水素結合形成、極性相互作用などの相互作用が可能な基が挙げられる。前記支持体表面と相互作用する官能基の具体例を以下に挙げるが、本発明は以下の具体例に限定されるものではない。上記式中、R11~R13はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~10のアルキル基、炭素数2~10のアルキニル基、炭素数2~10のアルケニル基又は炭素数6~15のアリール基を表し、M、M1及びM2はそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属又はアルカリ土類金属に含まれる金属原子又はアンモニウム基を表す。耐汚れ性及び耐刷性の観点から、前記支持体表面と相互作用する官能基は、上記カルボン酸を含有する基、スルホン酸基、リン酸エステル基もしくはその塩、ホスホン酸基もしくはその塩であることが好ましい。本発明の平板印刷版原版では、耐汚れ性の更なる改良の観点から、リン酸エステル基もしくはその塩又はホスホン酸基もしくはその塩であることが好ましく、ホスホン酸基もしくはその塩であることが特に好ましい。前記支持体表面と相互作用する官能基のより好ましい例としては具体的には下記構造が挙げられるが、本発明は以下の具体例に限定されるものではない。なお、下記式中のは高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。前記a2支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位は、下記一般式A2で表される繰り返し単位が好ましい。前記一般式A2において、Ra’~Rc’はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基又はハロゲン原子を表す。L4は単結合又は2価の連結基を表す。Qは前記支持体表面と相互作用する官能基を表す。L4で表される前記2価の連結基は、1から60個までの炭素原子、0から10個までの窒素原子、0から50個までの酸素原子、1から100個までの水素原子及び0から20個までの硫黄原子から構成されることが好ましい。より具体的には、-O-、-S-、-C=O-、-SO2-、-NH-ここで-NH-の水素原子は置換基で置き換わってもよく、代表的な置換基として炭素数1~10のアルキル基、炭素数6~15のアリール基が挙げられる、アルキレン基またはアリーレン基から選ばれる基、もしくはこれらの基より任意で選ばれる基の組み合わせから構成される二価の連結基を挙げることができる。L4で表される前記2価の連結基は、-O-、-C=O-、-NH-、炭素数1~12のアルキレン基および炭素数6~16のアリーレン基から選ばれる基またはその組み合わせからなる二価の連結基である場合が好ましく、より好ましくは-C=O-O-、-C=O-NH-、-C=O-O-CH22-O-、-C=O-NH-CH22-O-、-C=O-O-CH22-O-CH22-O-、-C=O-NH-CH22-O-CH22-O-、1,2-フェニレン基、1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、1,2-ナフタレン基、1,5-ナフタレン基などが挙げられ、更に好ましくは-C=O-O-、-C=O-NH-、-C=O-O-CH22-O-、-C=O-NH-CH22-O-、1,4-フェニレン基などが挙げられる。なおここではA共重合体の主鎖と連結する部位となる。またこれら基の水素原子が置換基に置き換わってもよい。前記一般式A2においてQで表される支持体表面と相互作用する官能基は、上述した具体例が挙げられ、好ましい例も同様である。前記A共重合体において、a2支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位が含まれる割合は、耐汚れ性及び耐刷性の観点から、全繰り返し単位の0~99モルの範囲であることが好ましく、10~95モルの範囲であることがより好ましく、10~90モルの範囲であることが更に好ましい。a3親水性基を側鎖に有する繰り返し単位:本発明において、A共重合体はa3親水性基を側鎖に有する繰り返し単位を有することが好ましい。前記親水性基としては、親水性基としては水分子との間に水素結合ファンデルワールス結合イオン結合を形成しやすいものを指し、一価又は二価以上の親水性基から選ばれ、具体的にはヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、スルホ基、正電荷または負電荷を有する基、双性イオン基やその金属塩等が挙げられる。その中でも、例えば、ヒドロキシ基、スルホン酸基、エチレンオキシ基やプロピレンオキシ基等のアルキレンオキシ基、第四級アンモニウム基、アミド基、エーテル結合を含む基、またはカルボン酸、スルホン酸、リン酸などの酸基を中和した塩、正に帯電した窒素原子を含有する複素環基などが好ましい。またこれら親水基はa2支持体表面と相互作用する構造を側鎖に有する繰り返し単位と兼ねてもよい。本発明においては、前記a3親水性基を側鎖に有する繰り返し単位が、双性イオン構造を側鎖に有する繰り返し単位である場合が、非画像部の支持体表面を高親水性にする観点から、特に好ましい。本発明の平版印刷版原版は、前記共重合体Aに含まれる前記親水性基が、下記一般式a3-1または一般式a3-2で表される双性イオン構造より選ばれることが好ましい。まず、下記一般式a3-1で表される双性イオン構造について説明する。上記一般式a3-1中、R31及びR32は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、R31とR32は互いに連結し、環構造を形成してもよく、L31は、二価の連結基を表し、Aは、アニオンを有する構造を表す。Y3は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。は高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。上記R31及びR32が互いに連結して形成する環構造は、酸素原子などのヘテロ原子を有していてもよく、好ましくは5~10員環、より好ましくは5又は6員環である。R31及びR32の炭素数は、後述の有していてもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数1~30が好ましく、炭素数1~20がより好ましく、炭素数1~15が特に好ましく、炭素数1~8が最も好ましい。R31及びR32で表されるアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、イソペンチル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。R31及びR32で表されるアルケニル基の例としては、ビニル基、アリル基、プレニル基例えば、ジメチルアリル基、ゲラニル基など、オレイル基等が挙げられる。R31及びR32で表されるアルキニル基の例としては、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。また、R31及びR32で表されるアリール基の例としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などが挙げられる。更に、ヘテロ環基としては、フラニル基、チオフェニル基、ピリジニル基などが挙げられる。R31及びR32で表されるこれらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。R31及びR32として、効果及び入手容易性の観点から、特に好ましい例としては、水素原子、メチル基、またはエチル基を挙げることができる。Y3で表される二価の連結基としては、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。上記の組み合わせからなるY3の具体例L101~L116を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合する。L101:-CO-O-二価の脂肪族基-L102:-CO-O-二価の芳香族基-L103:-CO-NH-二価の脂肪族基-L104:-CO-NH-二価の芳香族基-L105:-CO-二価の脂肪族基-L106:-CO-二価の芳香族基-L107:-CO-二価の脂肪族基-CO-O-二価の脂肪族基-L108:-CO-二価の脂肪族基-O-CO-二価の脂肪族基-L109:-CO-二価の芳香族基-CO-O-二価の脂肪族基-L110:-CO-二価の芳香族基-O-CO-二価の脂肪族基-L111:-CO-二価の脂肪族基-CO-O-二価の芳香族基-L112:-CO-二価の脂肪族基-O-CO-二価の芳香族基-L113:-CO-二価の芳香族基-CO-O-二価の芳香族基-L114:-CO-二価の芳香族基-O-CO-二価の芳香族基-L115:-CO-O-二価の芳香族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-L116:-CO-O-二価の脂肪族基-O-CO-NH-二価の脂肪族基-上記の二価の脂肪族基及び二価の芳香族基は、それぞれ前記Z1におけるアルキレン基の例として挙げた連結基、前記L1におけるアリーレン基の例として挙げた連結基と同じである。上記の二価の脂肪族基及び二価の芳香族基の置換基の例は前記R31及びR32で表される基がさらに有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。なかでもY3として好ましくは、単結合、-CO-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、前記具体例L101~L104である。更に耐汚れ性の観点から、Y3は、前記L101又はL103であることが好ましく、L103であることが更に好ましい。更にL31の二価の脂肪族基が、炭素数2~4の直鎖アルキレン基であることが好ましく、合成上、炭素数3の直鎖アルキレン基であることが最も好ましい。L31は二価の連結基を表し、好ましくは、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる連結基であり、好ましくは、後述の有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数30以下である。その具体例としては、アルキレン基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~10、および、フェニレン、キシリレンなどのアリーレン基好ましくは炭素数5~15、より好ましくは炭素数6~10が挙げられる。なかでも耐汚れ性の観点から、L31としては炭素数3~5の直鎖アルキレン基が好ましく、更に炭素数4若しくは5の直鎖アルキレン基がより好ましく、炭素数4の直鎖アルキレン基が最も好ましい。L31の具体例として、例えば、以下の連結基が挙げられる。なお、これらの連結基は、置換基を更に有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子F、Cl、Br、I、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。前記一般式a3-1において、Aは、好ましくは、カルボキシラート、スルホナート、ホスフェート、ホスホナート、又はホスフィナートを表す。具体的には、以下の陰イオンが挙げられる。耐汚れ性の観点から、Aはスルホナートであることが最も好ましい。更に、前記一般式a3-1において、L31が、炭素数4若しくは5の直鎖アルキレン基であり、かつAがスルホナートの組み合わせが好ましく、L31が、炭素数4の直鎖アルキレン基であり、かつAがスルホナートの組み合わせが最も好ましい。Y3は前記L101又はL103であり、R31及びR32がエチル基又はメチル基であり、L31が炭素数4若しくは5の直鎖アルキレン基であり、Aがスルホナート基である組み合わせが好ましい。更にY3は前記L103であり、R31、R32がメチル基であり、L31が炭素数4の直鎖アルキレン基であり、かつAがスルホナートの組み合わせがより好ましい。前記一般式a3-1で表される双性イオン構造として、具体的には下記構造を挙げることができる。下記式中のはA共重合体の主鎖と連結する部位を表す。次に、下記一般式a3-2で表される双性イオン構造について説明する。一般式a3-2中、L32は二価の連結基を表し、Eは、カチオンを有する構造を表す。Y4は、単結合、又は、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。また、前記一般式a3-2において、L32は二価の連結基を表し、好ましくは、-CO-、-O-、-NH-、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる。その具体的な例及び好ましい例については、前述のL31で表される連結基と同様である。Y4は、前記一般式a3-1のY3と同義であり、好ましい例も同じである。Eは、カチオンを有する構造を表し、好ましくはアンモニウム、又はホスホニウムを有する構造を表す。特に好ましくはアンモニウムを有する構造である。カチオンを有する構造の例としては、トリメチルアンモニオ基、トリエチルアンモニオ基、トリブチルアンモニオ基、ベンジルジメチルアンモニオ基、ジエチルヘキシルアンモニオ基、2-ヒドロキシエチルジメチルアンモニオ基、ピリジニオ基、N-メチルイミダゾリオ基、N-アクリジニオ基、トリメチルホスホニオ基、トリエチルホスホニオ基、トリフェニルホスホニオ基などが挙げられる。L32、Y4、Eの最も好ましい組み合わせは、L32が炭素数2~4のアルキレン基であり、Y4は前記L101又はL103であり、Eはトリメチルアンモニオ基又はトリエチルアンモニオ基、である。一般式a3-2で表される双性イオン構造として、具体的には、下記の構造を挙げることができる。下記式中のはA共重合体の主鎖と連結する部位を表す。本発明において、双性イオン構造を有する繰り返し単位は、具体的には下記A3で表される繰り返し単位であることが好ましい。式中、R201~R203はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、またはハロゲン原子を表す。Gは、双性イオン構造を有する側鎖を表し、前記一般式a3-1又はa3-2で表される構造が好ましい。一般式a3-1及びa3-2の好ましい例及び組み合わせは、上述したものと同じである。前記一般式A3において特に好ましい側鎖Gは、一般式a3-1で表される構造である。本発明においてA共重合体を構成する全繰り返し単位に対してa3親水性基を側鎖に有する繰り返し単位が含まれる割合は、親水性の観点から、5~95モルの範囲であることが好ましく、5~80モルの範囲であることがより好ましく、10~70モルの範囲であることが更に好ましい。他の繰り返し単位:また、A共重合体は、上述の繰り返し単位以外の繰り返し単位以下、他の繰り返し単位とも称するを共重合成分として含有していてもよい。そのような繰り返し単位として含有していてもよい他の繰り返し単位としては、既知の種々のモノマーに由来する繰り返し単位を挙げることができる。好ましい例としては、アクリル酸エステル類、メタクリルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーに由来する繰り返し単位などが挙げられる。前記他の繰り返し単位を前記A共重合体に導入することで、製膜性、膜強度、親水性、疎水性、溶解性、反応性、安定性等層の諸物性を適宜改善あるいは制御することができる。前記アクリル酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n-又はi-プロピルアクリレート、n-、i-、sec-又はt-ブチルアクリレート、アミルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート、2-ヒドロキシフェニルカルボニルオキシエチルアクリレート、ポリアルキレングリコールアクリレート等が挙げられる。前記メタクリル酸エステル類の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n-又はi-プロピルメタクリレート、n-、i-、sec-又はt-ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート、2-ヒドロキシフェニルカルボニルオキシエチルメタクリレート、ポリアルキレングリコールメタクリレート等が挙げられる。前記アクリルアミド類の具体例としては、アクリルアミド、N-メチルアクリルアミド、N-エチルアクリルアミド、N-プロピルアクリルアミド、N-ブチルアクリルアミド、N-ベンジルアクリルアミド、N-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-フェニルアクリルアミド、N-トリルアクリルアミド、N-ヒドロキシフェニルアクリルアミド、N-スルファモイルフェニルアクリルアミド、N-フェニルスルホニルアクリルアミド、N-トリルスルホニルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N-メチル-N-フェニルアクリルアミド、N-ヒドロキシエチル-N-メチルアクリルアミド、ポリアルキレングリコールアクリルアミド等が挙げられる。前記メタクリルアミド類の具体例としては、メタクリルアミド、N-メチルメタクリルアミド、N-エチルメタクリルアミド、N-プロピルメタクリルアミド、N-ブチルメタクリルアミド、N-ベンジルメタクリルアミド、N-ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N-フェニルメタクリルアミド、N-トリルメタクリルアミド、N-ヒドロキシフェニルメタクリルアミド、N-スルファモイルフェニルメタクリルアミド、N-フェニルスルホニルメタクリルアミド、N-トリルスルホニルメタクリルアミド、N,N-ジメチルメタクリルアミド、N-メチル-N-フェニルメタクリルアミド、N-ヒドロキシエチル-N-メチルメタクリルアミド、ポリアルキレングリコールメタクリルアミド等が挙げられる。前記ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。前記A共重合体において、前記他の繰り返し単位の割合は、0~60モルが好ましく、0~40モルがより好ましく、0~30が更に好ましい。重量平均分子量前記共重合体Aの重量平均分子量Mwは、平版印刷版原版の性能設計により任意に設定できる。耐刷性および耐汚れ性の観点からは、重量平均分子量として、2,000~1,000,000が好ましく、2,000~500,000であることがより好ましく、8,000~300,000であることが最も好ましい。以下に、前記A共重合体の具体例をその重量平均分子量と共に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、ポリマー構造の組成比はモル百分率で表す。A共重合体の製造方法前記共重合体Aは、既知の方法によっても合成可能であるが、その合成には、ラジカル重合法、且つそれに続く、ポリマー側鎖のアミノ基と、ラジカル重合反応性基を有するイソシアネート類を用いたウレア化反応、が好ましく用いられる。一般的なラジカル重合法は、例えば、新高分子実験学3高分子学会編、共立出版、1996年3月28日発行、高分子の合成と反応1高分子学会編、共立出版、1992年5月発行、新実験化学講座19、高分子化学I日本化学会編、丸善、昭和55年11月20日発行、物質工学講座高分子合成化学東京電気大学出版局、1995年9月発行等に記載されており、これらを適用することができる。B重合開始剤本発明に用いられる重合開始剤以下、開始剤化合物とも称するは感光層に含有される。本発明においては、ラジカル重合開始剤が好ましく用いられる。前記開始剤化合物としては、当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、鉄アレーン錯体が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩化合物、トリハロメチル化合物及びメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩化合物が好ましい。重合開始剤は、2種以上を適宜併用することもできる。前記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、欧州特許24629号、欧州特許107792号、米国特許4、410、621号に記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′-ビスo-クロロフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo-ブロモフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo,p-ジクロロフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo-クロロフェニル-4,4′,5,5′-テトラm-メトキシフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo,o′-ジクロロフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo-ニトロフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo-メチルフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビスo-トリフルオロメチルフェニル-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。ヘキサアリールビイミダゾール化合物は、300~450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素と併用して用いられることが特に好ましい。前記オニウム塩としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,3871974、T.S.Baletal,Polymer,21,4231980、特開平5-158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4-365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2-150848号、特開2008-195018号の各公報又はJ.V.Crivelloetal,Macromolecules,106,13071977に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivelloetal,J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.,17,10471979に記載のセレノニウム塩、C.S.Wenetal,Teh,Proc.Conf.Rad.CuringASIA,p478Tokyo,Oct1988に記載のアルソニウム塩、特開2008-195018号公報に記載のアジニウム塩等が挙げられる。上記の中でもより好ましいものとして、ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩が挙げられる。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。前記ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、更に好ましくは非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-メトキシフェニル-4-2-メチルプロピルフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-2-メチルプロピルフェニル-p-トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4-ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=1-ペルフルオロブタンスルホナート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウム=テトラフェニルボラートが挙げられる。前記スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス4-クロロフェニルフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス4-クロロフェニル-4-メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス4-クロロフェニルスルホニウム=3,5-ビスメトキシカルボニルベンゼンスルホナート、トリス4-クロロフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。前記アジニウム塩の例としては、1-シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-シクロヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-エトキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-クロロ-1-シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-エトキシ-4-シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4-ジクロロ-1-2-エチルヘキシルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-ベンジルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-フェネチルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=p-トルエンスルホナート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ブロミド、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。オニウム塩は、750~1400nmの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤と併用して用いられることが特に好ましい。その他、特開2007-206217号の段落番号0071~0129に記載の重合開始剤も好ましく用いることができる。前記重合開始剤は単独もしくは2種以上の併用によって好適に用いられる。前記感光層中の重合開始剤の含有量は、前記感光層全固形分に対し、好ましくは0.01~20質量、より好ましくは0.1~15質量、さらに好ましくは1.0~10質量である。C重合性化合物前記感光層に用いるC重合性化合物は、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などや、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006-508380号公報、特開2002-287344号公報、特開2008-256850号公報、特開2001-342222号公報、特開平9-179296号公報、特開平9-179297号公報、特開平9-179298号公報、特開2004-294935号公報、特開2006-243493号公報、特開2002-275129号公報、特開2003-64130号公報、特開2003-280187号公報、特開平10-333321号公報等に記載されている。前記多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシドEO変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビスp-3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシフェニルジメチルメタン、ビス-p-メタクリルオキシエトキシフェニルジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス-アクリルアミド、メチレンビス-メタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-アクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式Pで示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。CH2=CR104COOCH2CHR105OHPただし、R104及びR105は、HまたはCH3を示す。また、特開昭51-37193号公報、特公平2-32293号公報、特公平2-16765号公報、特開2003-344997号公報、特開2006-65210号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号公報、特公昭56-17654号公報、特公昭62-39417号公報、特公昭62-39418号公報、特開2000-250211号公報、特開2007-94138号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類や、米国特許7、153、632号明細書、特表平8-505958号公報、特開2007-293221号公報、特開2007-293223号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。上記の中でも、機上現像を適用する平版印刷版原版の場合は、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ビスアクリロイルオキシエチルヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。前記C重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。前記C重合性化合物は、前記感光層の全固形分に対して、好ましくは5~75質量、更に好ましくは25~70質量、特に好ましくは30~60質量の範囲で使用される。Dバインダー本発明の平板印刷版原版の前記感光層に含有されるDバインダーは、前記感光層成分を支持体上に担持可能であり、現像液により除去可能であるものが用いられる。前記Dバインダーとしては、メタアクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などが用いられる。特に、メタアクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂が好ましく用いられ、より好ましくはメタアクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂である。本発明において、メタアクリル系重合体とは、メタアクリル酸、メタアクリル酸エステルアルキルエステル、アリールエステル、アリルエステルなど、メタアクリルアミド及びメタアクリルアミド誘導体などのメタアクリル酸誘導体を重合成分として有する共重合体のことをいう。ポリウレタン樹脂とは、イソシアネート基を2つ以上有する化合物とヒドロキシル基を2つ以上有する化合物の縮合反応により生成されるポリマーのことをいう。ポリビニルブチラール樹脂とは、ポリ酢酸ビニルを一部又は全て鹸化して得られるポリビニルアルコールとブチルアルデヒドを酸性条件下で反応アセタール化反応させて合成されるポリマーのことをいい、更に、残存したヒドロキシ基と酸基等有する化合物を反応させる方法等により酸基等を導入したポリマーも含まれる。前記メタアクリル系重合体の好適な一例としては、酸基を含有する繰り返し単位を有する共重合体が挙げられる。酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基等が挙げられるが、特にカルボン酸基が好ましい。酸基を含有する繰り返し単位としては、メタアクリル酸由来の繰り返し単位や下記一般式Iで表されるものが好ましく用いられる。一般式I前記一般式I中、R211は水素原子又はメチル基を表し、R212は単結合又はn2111価の連結基を表す。A211は酸素原子又は-NR213-を表し、R213は水素原子又は炭素数1~10の1価の炭化水素基を表す。n211は1~5の整数を表す。前記一般式IにおけるR212で表される連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子から構成されるもので、その原子数は好ましくは1~80である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合の何れかで複数連結された構造を有していてもよい。R212としては、単結合、アルキレン基、置換アルキレン基及びアルキレン基及び/又は置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合のいずれかで複数連結された構造であることが好ましく、単結合、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数1~5の置換アルキレン基及び炭素数1~5のアルキレン基及び/又は炭素数1~5の置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合のいずれかで複数連結された構造であることがより好ましく、単結合、炭素数1~3のアルキレン基、炭素数1~3の置換アルキレン基、及び炭素数1~3のアルキレン基及び/又は炭素数1~3の置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合の少なくともいずれかで複数連結された構造であることが特に好ましい。前記R212で表される連結基が有していてもよい置換基としては、水素原子を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子-F、-Br、-Cl、-I、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。R213は水素原子又は炭素数1~5の炭化水素基が好ましく、水素原子又は炭素数1~3の炭化水素基がより好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。n211は1~3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。メタアクリル系重合体の全重合成分に占めるカルボン酸基を有する重合成分の割合モルは、現像性の観点から、1~70が好ましい。現像性と耐刷性の両立を考慮すると、1~50がより好ましく、1~30が特に好ましい。本発明に用いられるメタアクリル系重合体は更に架橋性基を有することが好ましい。ここで架橋性基とは、平版印刷版原版を露光した際に感光層中で起こるラジカル重合反応の過程で前記Dバインダーを架橋させる基のことである。このような機能の基であれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましい。エチレン性不飽和結合基としては、スチリル基、メタアクリロイル基、アリル基が好ましい。前記Dバインダーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカルが付加し、ポリマー間で直接に又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。又は、ポリマー中の原子例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。メタアクリル系重合体中の架橋性基の含有量ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量は、前記Dバインダー1g当たり、好ましくは0.01~10.0mmol、より好ましくは0.05~9.0mmol、特に好ましくは0.1~8.0mmolである。本発明に用いられるメタアクリル系重合体は、上記酸基を有する重合単位、架橋性基を有する重合単位の他に、メタアクリル酸アルキル又はアラルキルエステルの重合単位、メタアクリルアミド又はその誘導体の重合単位、α-ヒドロキシメチルアクリレートの重合単位、スチレン誘導体の重合単位を有していてもよい。メタアクリル酸アルキルエステルのアルキル基は、好ましくは炭素数1~5のアルキル基、炭素数2~8の前述の置換基を有するアルキル基であり、メチル基がより好ましい。メタアクリル酸アラルキルエステルとしては、メタアクリル酸ベンジル等が挙げられる。メタアクリルアミド誘導体としては、N-イソプロピルアクリルアミド、N-フェニルメタクリルアミド、N-4-メトキシカルボニルフェニルメタアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、モルホリノアクリルアミド等が挙げられる。α-ヒドロキシメチルアクリレートとしては、α-ヒドロキシメチルアクリル酸エチル、α-ヒドロキシメチルアクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。スチレン誘導体としては、スチレン、4-tertブチルスチレン等が挙げられる。前記Dバインダーが有していてもよい前記親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホ基、リン酸基等などがあり、なかでも、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~9個有するアルキレンオキシド構造が好ましい。バインダーポリマーに親水性基を付与するには、例えば、親水性基を有するモノマーを共重合することにより行われる。前記ポリウレタン樹脂の好適な一例としては、特開2007-187836号の段落番号0099~0210、特開2008-276155号の段落番号0019~0100、特開2005-250438号の段落番号0018~0107、特開2005-250158号の段落番号0021~0083に記載のポリウレタン樹脂を挙げることが出来る。前記ポリビニルブチラール樹脂の好適な一例としては、特開2001-75279号の段落番号0006~0013に記載のポリビニルブチラール樹脂を挙げることができる。前記Dバインダー中の酸基の一部が、塩基性化合物で中和されていてもよい。塩基性化合物としては、塩基性窒素を含有する化合物やアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属の4級アンモニウム塩などが挙げられる。前記Dバインダーは、質量平均分子量5000以上が好ましく、1万~30万がより好ましく、また、数平均分子量1000以上が好ましく、2000~25万がより好ましい。多分散度質量平均分子量/数平均分子量は、1.1~10が好ましい。前記Dバインダーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。前記Dバインダーの含有量は、良好な画像部の強度と画像形成性の観点から、前記感光層の全固形分に対して、5~75質量が好ましく、10~70質量がより好ましく、10~60質量が更に好ましい。また、前記C重合性化合物及び前記Dバインダーの合計含有量は、前記感光層の全固形分に対して、90質量以下が好ましい。90質量を超えると、感度の低下、現像性の低下を引き起こす場合がある。より好ましくは35~80質量である。E増感色素前記感光層は、増感色素を含むことが好ましい。本発明の平板印刷版原版の前記感光層に用いられるE増感色素は、画像露光時の光を吸収して励起状態となり、前記重合開始剤に電子移動、エネルギー移動又は発熱などでエネルギーを供与し、重合開始機能を向上させるものであれば特に限定せず用いることができる。特に、300~450nm又は750~1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素が好ましく用いられる。前記300~450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素としては、メロシアニン類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、スチリル類、オキサゾール類等の色素を挙げることができる。前記300~450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式IXで表される色素である。一般式IX中、A221は置換基を有してもよいアリール基又はヘテロアリール基を表し、X221は酸素原子、硫黄原子又は=NR223を表す。R221、R222及びR223は、それぞれ独立に、1価の非金属原子団を表し、A221とR221又はR222とR223は、それぞれ互いに結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよい。一般式IXについて更に詳しく説明する。R221、R222又はR223で表される1価の非金属原子団は、好ましくは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のヘテロアリール基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。A221で表される置換基を有してもよいアリール基及びヘテロアリール基は、各々R221、R222及びR223で記載した置換もしくは非置換のアリール基及び置換もしくは非置換のヘテロアリール基と同様である。このような増感色素の具体例としては、特開2007-58170号の段落番号0047~0053、特開2007-93866号の段落番号0036~0037、特開2007-72816号の段落番号0042~0047に記載の化合物が好ましく用いられる。また、特開2006-189604号、特開2007-171406号、特開2007-206216号、特開2007-206217号、特開2007-225701号、特開2007-225702号、特開2007-316582号、特開2007-328243号に記載の増感色素も好ましく用いることができる。続いて、前記750~1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素以降、赤外線吸収剤と称することもあるについて記載する。赤外線吸収剤は染料又は顔料が好ましく用いられる。前記染料としては、市販の染料及び例えば、染料便覧有機合成化学協会編集、昭和45年刊等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式aで示されるシアニン色素が挙げられる。一般式a中、X131は、水素原子、ハロゲン原子、-NPh2、-X132-L131又は以下に示す基を表す。なお、Phはフェニル基を表す。ここで、X132は酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を示し、L131は炭素原子数1~12の炭化水素基、ヘテロ原子N、S、O、ハロゲン原子、Seを有するアリール基、ヘテロ原子を含む炭素原子数1~12の炭化水素基を示す。Xaは後述するZaと同義である。R141は、水素原子又はアルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。R131及びR132は、それぞれ独立に、炭素数1~12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安定性から、R131及びR132は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましい。またR131及びR132は互いに連結し環を形成してもよく、環を形成する際は5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。Ar131、Ar132は、それぞれ同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよいアリール基を示す。好ましいアリール基としては、ベンゼン環基及びナフタレン環基が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素数12以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素数12以下のアルコキシ基が挙げられる。Y131、Y132は、それぞれ同じでも異なってもよく、硫黄原子又は炭素数12以下のジアルキルメチレン基を示す。R133、R134は、それぞれ同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R135、R136、R137及びR138は、それぞれ同じでも異なってもよく、水素原子又は炭素数12以下の炭化水素基を示す。原料の入手容易性から、好ましくは水素原子である。また、Zaは、対アニオンを示す。ただし、一般式aで示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZaは必要ない。好ましいZaは、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びアリールスルホン酸イオンである。前記一般式aで示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号の段落番号0017~0019に記載の化合物、特開2002-023360号の段落番号0016~0021、特開2002-040638号の段落番号0012~0037に記載の化合物、好ましくは特開2002-278057号の段落番号0034~0041、特開2008-195018号の段落番号0080~0086に記載の化合物、特に好ましくは特開2007-90850号の段落番号0035~0043に記載の化合物が挙げられる。また特開平5-5005号の段落番号0008~0009、特開2001-222101号の段落番号0022~0025に記載の化合物も好ましく使用することが出来る。前記赤外線吸収染料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開2008-195018号公報の段落番号0072~0076に記載の化合物が好ましい。前記E増感色素の含有量は、前記感光層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05~30質量部、更に好ましくは0.1~20質量部、特に好ましくは0.2~10質量部である。Fその他の感光層成分前記感光層には、更に、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。添加剤としては、現像性の促進及び塗布面状を向上させるための界面活性剤、現像性と耐刷性両立の為のマイクロカプセル、現像性の向上やマイクロカプセルの分散安定性向上などのための親水性ポリマー、画像部と非画像部を視認するための着色剤や焼き出し剤、感光層の製造中又は保存中のラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するための重合禁止剤、酸素による重合阻害を防止するための高級脂肪誘導体、画像部の硬化皮膜強度向上のための無機微粒子、現像性向上のための親水性低分子化合物、感度向上の為の共増感剤や連鎖移動剤、可塑性向上のための可塑剤等を添加することができる。これの化合物はいずれも公知のものを使用でき、例えば、特開2007-2062170161~0215に記載の化合物を使用することができる。感光層の形成本発明の平板印刷版原版における前記感光層は、形成方法に特に制限はなく、公知の方法で形成されることができる。前記感光層は、必要な上記各感光層成分を溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布して形成されることが好ましい。使用する溶剤としては、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、2-メトキシエチルアセテート、1-メトキシ-2-プロピルアセテート、γ-ブチルラクトン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。溶剤は、単独又は混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1~50質量である。前記感光層の塗布量固形分は、0.3~3.0g/m2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。前記A共重合体を感光層又は下塗り層に含有させるには、前記A共重合体を感光層用塗布液又は下塗り層用塗布液に添加することにより行うことができる。前記A共重合体が前記感光層に含まれる場合、前記A共重合体の含有量固形分は、0.1~100mgm2が好ましく、1~30mgm2がより好ましく、5~24mgm2がさらに好ましい。[支持体]本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状の親水性支持体であればよい。支持体としては、特に、アルミニウム板が好ましい。アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すことが好ましい。アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理、化学的粗面化処理化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理等が挙げられる。これらの処理については、特開2007-206217号の段落番号0241~0245に記載された方法を好ましく用いることができる。前記支持体は、中心線平均粗さが0.10~1.2μmであることが好ましい。この範囲で、前記感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。また、前記支持体の色濃度は、反射濃度値で0.15~0.65が好ましい。この範囲で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。前記支持体の厚さは0.1~0.6mmであるのが好ましく、0.15~0.4mmであるのがより好ましく、0.2~0.3mmであるのが更に好ましい。<親水化処理>本発明の平版印刷版原版においては、非画像部領域の親水性を向上させ印刷汚れを防止するために、支持体表面の親水化処理を行うことも好適である。支持体表面の親水化処理としては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液に浸漬処理又は電解処理するアルカリ金属シリケート処理、フッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、ポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられるが、ポリビニルホスホン酸水溶液に浸漬処理する方法が好ましく用いられる。[前記支持体と前記感光層との間に任意に設けられてもよいその他の層]本発明の平版印刷版原版においては、非画像部領域の親水性を向上させ印刷汚れを防止するために、支持体と感光層との間に下塗り層を設けることも好適である。<下塗り層>本発明の平版印刷版原版が下塗り層を有している場合、前記下塗り層は前記A共重合体を含有することが好ましい。その場合の前記A共重合体の含有量は、前述した前記A共重合体が前記感光層に含まれる場合と同様である。前記下塗り層は、更に、前記A共重合体以外の化合物を含んでもよく、そのような更なる化合物としては、特開平10-282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2-304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物などが好適に挙げられる。特に好ましい化合物として、メタクリル基、アリル基などの重合性基とスルホン酸基、リン酸基、リン酸エステルなどの支持体吸着性基を有する化合物が挙げられる。重合性基と支持体吸着性基に加えてエチレンオキシド基などの親水性付与基を有する化合物も好適な化合物として挙げることができる。前記下塗り層は、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液を支持体上に塗布、乾燥する方法、又は、水、あるいは、メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥する方法によって設けることができる。前者の方法では、上記化合物の濃度0.005~10質量の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01~20質量、好ましくは0.05~5質量であり、浸漬温度は20~90°C、好ましくは25~50°Cであり、浸漬時間は0.1秒~20分、好ましくは2秒~1分である。前記下塗り層の塗布量固形分は、0.1~100mg/m2であるのが好ましく、1~30mg/m2であるのがより好ましい。[保護層]本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、前記感光層上に保護層酸素遮断層を設けることが好ましい。前記保護層の材料としては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリメタアクリロニトリル等が挙げられる。これらの中で、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましい。具体的には、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的に特に良好な結果を与える。前記保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するために必要な未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルあるいはアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。ポリビニルアルコールはポリ酢酸ビニルを加水分解することにより得られる。ポリビニルアルコールの具体例としては加水分解度が69.0~100モル、重合繰り返し単位数が300から2400の範囲のものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA-102、PVA-103、PVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-117H、PVA-120、PVA-124、PVA-124H、PVA-CS、PVA-CST、PVA-HC、PVA-203、PVA-204、PVA-205、PVA-210、PVA-217、PVA-220、PVA-224、PVA-235、PVA-217EE、PVA-217E、PVA-220E、PVA-224E、PVA-403、PVA-405、PVA-420、PVA-424H、PVA-505、PVA-617、PVA-613、PVA-706、L-8等が挙げられる。ポリビニルアルコールは単独又は混合して使用できる。ポリビニルアルコールの保護層中の含有量は、好ましくは20~95質量、より好ましくは30~90質量である。また、変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。特に、カルボン酸基又はスルホン酸基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号、特開2006-259137号に記載のポリビニルアルコールが好適に挙げられる。ポリビニルアルコールと他の材料を混合して使用する場合、混合する成分としては、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン又はその変性物が、酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中その含有率は3.5~80質量、好ましくは10~60質量、更に好ましくは15~30質量である。前記保護層には、グリセリン、ジプロピレングリコール等を上記ポリマーに対して数質量相当量添加して可撓性を付与することができる。また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤、アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を上記ポリマーに対して数質量相当量添加することができる。さらに、前記保護層には、酸素遮断性や感光層表面保護性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性合成雲母が特に有用である。具体的には、特開2005-119273号に記載の無機質の層状化合物が好適に挙げられる。前記保護層の塗布量は、0.05~10g/m2が好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1~5g/m2が更に好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5~5g/m2が更に好ましい。[バックコート層]本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて、前記支持体の裏面にバックコート層を設けることができる。前記バックコート層としては、例えば、特開平5-45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6-35174号公報に記載されている有機金属化合物又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、SiOCH34、SiOC2H54、SiOC3H74、SiOC4H94等のケイ素のアルコキシ化合物を用いることが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。[平版印刷版の製造方法]本発明の平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を製造することができる。本発明の平版印刷版原版は、前記感光層の前記支持体とは反対側の表面上に、保護層を含む態様としてから、現像処理して平版印刷版を製造することが好ましい。本発明の平版印刷版の製造方法は、本発明の平版印刷版原版を、画像様に露光する露光工程と;露光した前記平版印刷版原版を、界面活性剤を含有する現像液で現像する現像工程を含み;前記現像工程において、前記現像液の存在下、前記感光層の非露光部と前記保護層とを同時に除去する工程を含む但し、水洗工程を含まないことを特徴とする。以下、本発明の平版印刷版の製造方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本発明の平版印刷版の製造方法の趣旨からは外れるものの、本発明の平版印刷版原版は前記現像工程において水洗工程を含む場合も平板印刷版を製造することができる。<露光工程>本発明の平版印刷版の製造方法は、本発明の平版印刷版原版を、画像様に露光する露光工程を含む。本発明の平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光される。光源の波長は300~450nm又は750~1400nmが好ましく用いられる。300~450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、750~1400nmの光源の場合は、この波長領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられる。300~450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。750~1400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10~300mJ/cm2であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。<現像工程>本発明の平板印刷版の製造方法は、露光した前記平版印刷版原版を、界面活性剤を含有する現像液で現像する現像工程を含み、前記現像工程において、前記現像液の存在下、前記感光層の非露光部と前記保護層とを同時に除去する工程を含むことを特徴とする。このように、現像液にて現像する方法のことを、現像液処理方式という。現像液処理方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、界面活性剤を含有する現像液により処理され、非露光部の感光層が除去されて平版印刷版が作製される。本発明の平板印刷版の製造方法は水洗工程を含んでも含んいなくてもよいが、水洗工程を含まないことが好ましい。ここで、従来の高アルカリ性現像液pH12以上を用いる現像処理においては、通常、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥して平版印刷版が作製される。これに対し、本発明の平板印刷版の製造方法の好ましい態様では、これらの水洗工程を含まない。現像液中に界面活性剤を含有させること、により現像とガム液処理を同時に行うことができ、後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像-ガム液処理を行うことができる。更に、前水洗工程も特に必要とせず、保護層の除去も現像-ガム液処理と同時に行うことができる。本発明の好ましい態様によれば、pHが2.0~10.0の現像液を用いる。この態様においては、現像液中に界面活性剤を含有させること、又は界面活性剤および水溶性高分子化合物を含有させることが好ましく、これにより現像とガム液処理を同時に行うことが、1液で現像-ガム液処理を行う観点から好ましい。更に、pHが2.0~10.0の現像液を用いる場合も、前水洗工程も特に必要とせず、保護層の除去も現像-ガム液処理と同時に行うことができる。本発明の平板印刷版の製造方法では、現像-ガム処理の後に、例えば、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。本発明における平版印刷版原版の現像液処理は、常法に従って、0~60°C、好ましくは15~40°C程度の温度で、例えば、露光処理した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る方法、スプレーにより現像液を吹き付けてブラシで擦る方法等により行うことができる。本発明における界面活性剤を含有する現像液による現像処理は、現像液の供給手段及び擦り部材を備えた自動現像処理機により好適に実施することができる。擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動現像処理機が特に好ましい。また、自動現像処理機は現像処理手段の後に、スクイズローラー等の余剰の現像液を除去する手段や、温風装置等の乾燥手段を備えていることが好ましい。更に、自動現像処理機は現像処理手段の前に、画像露光後の平版印刷版原版を加熱処理するための前加熱手段を備えていてもよい。本発明の平版印刷版の作製方法に使用される自動現像処理機の1例を、図1に模式的に示す。図1の自動現像処理機は、基本的に現像部6と乾燥部10からなり、平版印刷版原版4は、現像槽20で現像処理され、乾燥部10で乾燥される。本発明の平版印刷版の作製方法に使用される自動現像処理機の別の態様について、図2を参照しながら簡単に説明する。図2に示す自動現像処理機100は、機枠202により外形が形成されたチャンバーからなり、平版印刷版原版の搬送路11の搬送方向矢印Aに沿って連続して形成された前加熱プレヒート部200、現像部300及び乾燥部400を有している。前加熱部200は、搬入口212及び搬出口218を有する加熱室208を有し、その内部には串型ローラー210とヒーター214と循環ファン216とが配置されている。現像部300は、外板パネル310により前加熱部200と仕切られており、外板パネル310にはスリット状挿入口312が設けられている。現像部300の内部には、現像液で満たされている現像槽308を有する処理タンク306と、平版印刷版原版を処理タンク306内部へ案内する挿入ローラー対304が設けられている。現像槽308の上部は遮蔽蓋324で覆われている。現像槽308の内部には、搬送方向上流側から順に、ガイドローラー344及びガイド部材342、液中ローラー対316、ブラシローラー対322、ブラシローラー対326、搬出ローラー対318が並設されている。現像槽308内部に搬送された平版印刷版原版は、現像液中に浸漬され、回転するブラシローラー対322、326の間を通過することにより非画像部が除去される。ブラシローラー対322、326の下部には、スプレーパイプ330が設けられている。スプレーパイプ330はポンプ不図示が接続されており、ポンプによって吸引された現像槽308内の現像液がスプレーパイプ330から現像槽308内へ噴出するようになっている。現像槽308側壁には、第1の循環用配管C1の上端部に形成されたオーバーフロー口51が設けられており、超過分の現像液がオーバーフロー口51に流入し、第1の循環用配管C1を通って現像部300の外部に設けられた外部タンク50に排出される。外部タンク50は第2の循環用配管C2が接続され、第2の循環用配管C2中には、フィルター部54及び現像液供給ポンプ55が設けられている。現像液供給ポンプ55によって、現像液が外部タンク50から現像槽308へ供給される。また、外部タンク50内には上限液レベル計52、下限液レベル計53が設けられている。現像槽308は、第3の循環用配管C3を介して補充用水タンク71に接続されている。第3の循環用配管C3中には水補充ポンプ72が設けられており、この水補充ポンプ72によって補充用水タンク71中に貯留される水が現像槽308へ供給される。液中ローラー対316の上流側には液温センサ336が設置されており、搬出ローラー対318の上流側には液面レベル計338が設置されている。現像300と乾燥部400との間に配置された仕切り板332にはスリット状挿通口334が設けられている。また、現像部300と乾燥部400との間の通路にはシャッター不図示が設けられ、平版印刷版原版11が通路を通過していないとき、通路はシャッターにより閉じられている。乾燥部400は、支持ローラー402、ダクト410、412、搬送ローラー対406、ダクト410、412、搬送ローラー対408がこの順に設けられている。ダクト410、412の先端にはスリット孔414が設けられている。また、乾燥部400には図示しない温風供給手段、発熱手段等の乾燥手段が設けられている。乾燥部400には排出口404が設けられ、乾燥手段により乾燥された平版印刷版は排出口404から排出される。本発明において現像液処理に用いられる現像液は界面活性剤を含有する。前記現像液は、水を主成分水を60質量以上含有とする水溶液が好ましい。特に、pHが2.0~10.0の界面活性剤アニオン系、ノニオン系、カチオン系、両性イオン系等を含有する水溶液や、水溶性高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。界面活性剤と水溶性高分子化合物の両方を含有する水溶液も好ましい。現像液のpHは、より好ましくは3.5~10.0、さらに好ましくは6~10.0、特に好ましくは6.5~10.0である。特に、pH2.0~10.0の現像液を使用する方式において、耐汚れ性、耐刷性、現像性を共に満足させることは極めて難しい。この理由は以下のように説明できる。すなわち、同一の平版印刷版原版用素材を用いて現像液の種類を変更する場合、pH2.0~10.0の現像液では、従来用いられてきたpH12~13のアルカリ現像液に比べ、未露光部の現像性、耐汚れ性が悪化する。そこでpH2.0~10.0の現像液の現像性、耐汚れ性を良化させようとして素材の親水性を上げると、耐刷性が悪化する傾向にあるためである。本発明の平板印刷版原版を用いることで、このようなpH2.0~10.0の現像液を好ましく用いることができる。本発明において前記現像液に用いられるアニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンアルキルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N-アルキル-N-オレイルタウリンナトリウム類、N-アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン-無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン-無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。この中で、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。本発明において前記現像液に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、アルキルイミダゾリニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。本発明において前記現像液に用いられるノニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、アルキルナフトールエチレンオキサイド付加物、フェノールエチレンオキサイド付加物、ナフトールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン-エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン-プロピレンオキサイド-エチレンオキサイドブロックコポリマー、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。この中で、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するものが好ましく、アルキル置換又は無置換のフェノールエチレンオキサイド付加物又はアルキル置換又は無置換のナフトールエチレンオキサイド付加物がより好ましい。本発明において前記現像液に用いられる両性イオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、アルキルジメチルアミンオキシドなどのアミンオキシド系、アルキルベタインなどのベタイン系、アルキルアミノ脂肪酸ナトリウムなどのアミノ酸系が挙げられる。特に、置換基を有してもよいアルキルジメチルアミンオキシド、置換基を有してもよいアルキルカルボキシベタイン、置換基を有してもよいアルキルスルホベタインが好ましく用いられる。具体的には、特開2008-203359号の段落番号0256の式2で示される化合物、特開2008-276166号の段落番号0028の式I、式II、式VIで示される化合物、特開2009-47927号の段落番号0022~0029で示される化合物を用いることができる。前記界面活性剤は現像液中に2種以上用いてもよい。前記現像液中に含有される前記界面活性剤の量は、0.01~20質量が好ましく、0.1~10質量がより好ましい。本発明において前記現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等及びその変性体、プルラン、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、ポリビニルスルホン酸及びその塩、ポリスチレンスルホン酸及びその塩などが挙げられる。前記大豆多糖類は、公知のものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ不二製油株製があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量水溶液の粘度が10~100mPa/secの範囲にあるものである。前記変性澱粉も、公知のものが使用でき、例えば、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸又は酵素等で1分子当たりグルコース残基数5~30の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。前記水溶性高分子化合物は、前記現像液中に2種以上併用することもできる。前記水溶性高分子化合物の前記現像液中における含有量は、0.1~20質量が好ましく、0.5~10質量がより好ましい。本発明で使用する現像液には、pH緩衝剤を含ませることができる。本発明の現像液には、pH2~14に緩衝作用を発揮する緩衝剤であれば特に限定なく用いることができる。本発明においては弱アルカリ性の緩衝剤が好ましく用いられ、例えばa炭酸イオン及び炭酸水素イオン、bホウ酸イオン、c水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオン、及びそれらの併用などが挙げられる。すなわち、例えばa炭酸イオン及び炭酸水素イオンの組み合わせ、bホウ酸イオン、又はc水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオンの組み合わせなどが現像液においてpH緩衝作用を発揮し、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、従ってpHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。本発明の平版印刷版の製造方法では、特に好ましくは、炭酸イオン及び炭酸水素イオンの組み合わせである。a炭酸イオン、炭酸水素イオンを現像液中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩を現像液に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンを発生させてもよい。炭酸塩及び炭酸水素塩は、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。これらは単独でも、二種以上を組み合わせて用いてもよい。pH緩衝剤としてa炭酸イオンと炭酸水素イオンの組み合わせを採用するとき、炭酸イオン及び炭酸水素イオンの総量は、現像液に対して0.05~5mol/Lが好ましく、0.07~2mol/Lがより好ましく、0.1~1mol/Lが特に好ましい。総量が0.05mol/L以上であると現像性、処理能力が低下しにくく、5mol/L以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、更に現像液の廃液処理時、中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理に支障をきたしにくい。bホウ酸イオンを現像液中に存在させるには、ホウ酸あるいはホウ酸塩を現像液に加えた後、アルカリを用いて、あるいはアルカリと酸とを用いて、pHを調整することで、適量のホウ酸イオンを発生させる。ここで用いるホウ酸あるいはホウ酸塩は、特に限定されないが、ホウ酸としてオルトホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸などが挙げられ、中でもオルトホウ酸及び四ホウ酸が好ましい。また、ホウ酸塩としてアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩が挙げられ、オルトホウ酸塩、二ホウ酸塩、メタホウ酸塩、四ホウ酸塩、五ホウ酸塩、八ホウ酸塩などが挙げられ、中でもオルトホウ酸塩、四ホウ酸塩、特にアルカリ金属の四ホウ酸塩が好ましい。好ましい四ホウ酸塩として、四ホウ酸ナトリウム、四ホウ酸カリウム及び四ホウ酸リチウムなどが挙げられ、中でも四ホウ酸ナトリウムが好ましい。ホウ酸塩を2種以上併用してもよい。本発明で使用するホウ酸あるいはホウ酸塩として、特に好ましいのは、オルトホウ酸、四ホウ酸あるいは四ホウ酸ナトリウムである。現像液にホウ酸及びホウ酸塩を併用してもよい。pH緩衝剤としてbホウ酸イオンを採用するとき、ホウ酸イオンの総量は、現像液に対して0.05~5mol/Lが好ましく、0.1~2mol/Lがより好ましく、0.2~1mol/Lが特に好ましい。ホウ酸塩の総量が0.05mol/L以上であると現像性、処理能力が低下しにくく、一方5mol/L以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、更に現像液の廃液処理時の中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理に支障をきたしにくい。c水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオンは、特に限定されないが、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N-ヒドロキシエチルモルホリン、及び4-ジメチルアミノピリジンから選択される水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオンが好ましい。これらは単独でも、二種以上を組み合わせて用いてもよい。pH緩衝剤としてc水溶性のアミン化合物及びその塩のイオンを採用するとき、水溶性のアミン化合物及びその塩の総量は、現像液に対して0.005~5mol/Lが好ましく、0.01~2mol/Lがより好ましく、0.01~1mol/Lが特に好ましい。水溶性のアミン化合物のイオンの総量がこの範囲にあると現像性、処理能力が低下せず、一方廃液処理が容易である。本発明において前記現像液は、有機溶剤を含有してもよい。含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類ヘキサン、ヘプタン、アイソパーE、H、Gエッソ化学株製等、芳香族炭化水素類トルエン、キシレン等、ハロゲン化炭化水素メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等、極性溶剤が挙げられる。極性溶剤としては、アルコール類メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、1-ブタノール、1-ペンタノール、1-ヘキサノール、1-ヘプタノール、1-オクタノール、2-オクタノール、2-エチル-1-ヘキサノール、1-ノナノール、1-デカノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2-エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n-アミルアルコール、メチルアミルアルコール等、ケトン類アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等、エステル類酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等、その他トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N-フェニルエタノールアミン、N-フェニルジエタノールアミン、N-メチルジエタノールアミン、N-エチルジエタノールアミン、4-2-ヒドロキシエチルモルホリン、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等等が挙げられる。前記現像液に含有される前記有機溶剤は、2種以上を併用することもできる。前記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合、安全性、引火性の観点から、有機溶剤の濃度は40質量未満が望ましい。本発明において前記現像液には上記成分の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、無機塩などを含有させることができる。具体的には、特開2007-206217号の段落番号0266~0270に記載の化合物を好ましく用いることができる。本発明において前記現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液及び現像補充液として用いることができる。また、前述のような自動現像処理機に好ましく適用することができる。自動現像処理機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。本発明の平版印刷版原版からの平版印刷版の製造方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。この様な加熱により、感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。また、現像液処理方式の場合、画像強度や耐刷性の向上を目的として、現像処理後の画像に対し、全面後加熱もしくは全面露光を行うことも有効である。通常、現像前の加熱は150°C以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、非画像部が硬化してしまう等の問題を生じることがある。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は100~500°Cの範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じることがある。以下、実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。[A共重合体の合成例]合成例1:本発明の化合物21の合成1N-アミノエチルメタクリルアミドの合成エチレンジアミン24.04g0.4molを、メタノール100ml及び蒸留水96gに溶解させ、氷冷しながら、5.0M塩酸104g0.52molを加える。-10°Cを維持しながら、メタクリル酸無水物61.65gを滴下し、滴下後、-10°Cで2時間攪拌する。その後、酢酸エチル400mlを加えて抽出を行い、水層を集める。集めた水層に、水酸化ナトリウム21g0.52molを加えて、析出する白色結晶をろ過で除去し、アセトニトリル400mlで、抽出処理を行う。アセトニトリル溶液を硫酸マグネシウム40gで2時間乾燥後、アセトニトリルを留去し、14.4gのN-アミノエチルメタクリルアミドを得た。収率282ライトエステルP-1Mの分液精製ライトエステルP-1M共栄社化学株製40.0gを蒸留水100gに溶解させて得られた水溶液を、ジエチレングリコールジブチルエーテル100gで2回、分液精製を行い、ライトエステルP-1M水溶液濃度10.5質量を得た。3重合工程コンデンサー、攪拌器を取り付けた200mlフラスコに、蒸留水:27.32gを入れ、窒素気流下、55°Cまで加熱した。上記で合成した、N-アミノエチルメタクリルアミド0.71g、上記で精製したライトエステルP-1M水溶液11.1g、3-スルホナトプロピル[2-メタクリロイルオキシエチル]ジメチルアンモニウム3.87gアルドリッチ社製、重合開始剤VA046B和光純薬工業株製:0.32g、蒸留水:9.41gからなる溶液を、200mlのフラスコに、2時間かけて滴下した。滴下終了後、55°Cで2時間撹拌し、重合開始剤VA046B和光純薬工業株製:0.32gを加え、55°Cのまま2時間更に撹拌し、化合物21前駆体を得た。得られた化合物1前駆体水溶液50.0gに、水酸化ナトリウム1.38gを加え、溶解させた後に、40°Cに昇温し、カレンズMOI昭和電工株製4.3gを加え、40°Cのまま6時間攪拌した。その後、析出した白色結晶物をろ過で除去して得られた水溶液に、AmberlystR15アルドリッチ社製8.83gを加えて、室温で2時間攪拌した後に、AmberlystR15をろ過で除去し、化合物21を得た。得られた化合物21を、ポリエチレングリコールを標準物質としたゲルバミエーションクロマトグラフィー法GPCにより、重量平均分子量Mwを測定した結果、150,000であった。また、アミノ基の呈色反応により、アミノ基の反応率は75であった。本実施例に用いた化合物は、上記合成例の繰り返し単位のモノマー成分を変更すること、アミノ基の置換反応に用いる反応性試薬の種類と添加量を変更すること、更に必要により既存の合成手法により合成を行った。[実施例1~39及び比較例1~13]1平版印刷版原版の作製アルミニウム支持体1の作製厚み0.3mmのアルミニウム板材質:JISA1050の表面の圧延油を除去するため、10質量アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50°Cで30秒間脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス-水懸濁液比重1.1g/cm3を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45°Cの25質量水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60°Cで20質量硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含む、液温50°Cであった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。次に、塩酸0.5質量水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含む、液温50°Cの電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。このアルミニウム板に対して、15質量硫酸水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含むを電解液として電流密度15A/dm2の条件で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し、アルミニウム支持体1を作製した。その表面粗さを測定したところ、0.51μmJISB0601によるRa表示であった。アルミニウム支持体2の作製アルミニウム支持体1を、珪酸ナトリウム1質量水溶液にて20°Cで10秒処理し、アルミニウム支持体2を作製した。その表面粗さを測定したところ、0.54μmJISB0601によるRa表示であった。アルミニウム支持体3の作製厚さ0.24mmのアルミニウム板材質1050、調質H16を65°Cに保たれた5水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の脱脂処理を行った後、水洗した。このアルミニウム板を、25°Cに保たれた10塩酸水溶液中に1分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、0.3質量の塩酸水溶液中で、25°C、電流密度100A/dm2の条件下に交流電流により60秒間電解粗面化を行った後、60°Cに保たれた5水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間デスマット処理を行った。このアルミニウム板を、15硫酸水溶液溶液中で、25°C、電流密度10A/dm2、電圧15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行い、アルミニウム支持体3を作製した。その表面粗さを測定したところ、0.44μmJISB0601によるRa表示であった。上記アルミニウム支持体1~3それぞれに、以下の組成を有する下塗り層塗布液をバーコーターで塗布し、100°Cにて1分間乾燥することで、下塗り層を形成した。なお下塗り層の乾燥塗布量はいずれも12mg/m2であった。<下塗り層塗布液>表1および表2に記載の本発明の共重合体又は下記比較用高分子化合物0.50gメタノール450g純水50g感光層1の形成下記組成の感光層塗布液1を上記下塗り層の上にバー塗布した後、90°Cで60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3gm2の感光層1を形成した。<感光層塗布液1>下記バインダーポリマー1質量平均分子量:50,0000.34g下記重合性化合物10.68gPLEX6661-O、デグサジャパン製下記増感色素10.06g下記重合開始剤10.18g下記連鎖移動剤10.02gε―フタロシアニン顔料の分散物0.40g顔料:15質量部、分散剤:10質量部、シクロヘキサノン:15質量部熱重合禁止剤N-ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.01g下記フッ素系界面活性剤1質量平均分子量:10,0000.001gポリオキシエチレン-ポリオキシプロピレン縮合物0.02gプルロニックL44、株ADEKA製黄色顔料分散物0.04g黄色顔料NovopermYellowH2Gクラリアント製:15質量部、分散剤:10質量部、シクロヘキサノン:15質量部1-メトキシ-2-プロパノール3.5gメチルエチルケトン8.0g感光層2の形成下記組成の感光層塗布液2を上記下塗り層の上にバー塗布した後、90°Cで60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3g/m2の感光層2を形成した。<画像記形成塗布液2>上記バインダーポリマー1質量平均分子量:50,0000.04g下記バインダーポリマー2質量平均分子量:80,0000.30g上記重合性化合物10.17g下記重合性化合物20.51g下記増感色素20.03g下記増感色素30.015g下記増感色素40.015g上記重合開始剤10.13g連鎖移動剤:メルカプトベンゾチアゾール0.01gε―フタロシアニン顔料の分散物0.40g顔料:15質量部、分散剤:10質量部、シクロヘキサノン:15質量部熱重合禁止剤0.01gN-ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩上記フッ素系界面活性剤1質量平均分子量:1万0.001g1-メトキシ-2-プロパノール3.5gメチルエチルケトン8.0g感光層3の形成下記組成の感光層塗布液3を上記下塗り層の上にバー塗布した後、125°Cで34秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.4g/m2の感光層3を形成した。感光層塗布液3は下記感光液1及び疎水化前駆体液1を塗布直前に混合し攪拌することにより調製した。<感光液1>下記バインダーポリマー30.162g下記赤外線吸収剤10.030g下記重合開始剤30.162g重合性化合物アロニックスM215、東亞合成株製0.385gパイオニンA-20竹本油脂株製0.055g下記感脂化剤10.044g上記フッ素系界面活性剤10.008gメチルエチルケトン1.091g1-メトキシ-2-プロパノール8.609g<疎水化前駆体液1>下記疎水化前駆体水分散液12.640g蒸留水2.425g疎水化前駆体水分散液1の製造1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ蒸留水350mLを加えて内温が80°Cとなるまで加熱した。分散剤としてドデシル硫酸ナトリウム1.5g添加し、更に開始剤として過硫化アンモニウム0.45gを添加し、次いでグリシジルメタクリレート45.0gとスチレン45.0gとの混合物を滴下ロートから約1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去した。その後冷却しアンモニア水でpH6に調整し、最後に不揮発分が15質量となるように純水を添加してポリマー微粒子からなる疎水化前駆体水分散液1を得た。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径60nmに極大値を有していた。粒径分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。保護層1の形成下記組成の保護層塗布液1を、バーを用いて塗布した後、125°Cで70秒間乾燥し、乾燥塗布量が0.75gm2の保護層1を形成した。<保護層塗布液1>ポリビニルアルコールケン化度:98モル、重合度:50040gポリビニルピロリドン分子量:5万5gポリビニルピロリドン/酢酸ビニル1/1重量平均分子量:7万0.5g界面活性剤エマレックス710、日本エマルジョン株製0.5g水950g保護層2の形成下記組成の保護層塗布液2を、バーを用いて塗布した後、125°Cで70秒間乾燥し、乾燥塗布量が0.75gm2の保護層2を形成した。<保護層塗布液2>下記無機質層状化合物分散液11.5gスルホン酸変性ポリビニルアルコールの6質量水溶液0.55gCKS50、日本合成化学工業製、ケン化度99モル以上、重合度300ポリビニルアルコール6質量水溶液0.03gPVA-405、クラレ製、ケン化度81.5モル、重合度500、6質量水溶液界面活性剤の1質量水溶液エマレックス710、日本エマルジョン株製8.60gイオン交換水6.0g無機質層状化合物分散液1イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME-100コープケミカル株製6.4gを添加し、混合物を、ホモジナイザーを用いて平均粒径レーザー散乱法が3μmになるまで分散し、無機質層状化合物分散液1を調製した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。上記アルミニウム支持体、下塗り層塗布液に加えたA共重合体の種類、感光層塗布液、保護層塗布液を下記表1および表2に示すように組み合わせて本発明の平版印刷版原版A-1~A-35、比較用平版印刷版原版B-1~B-9を作製した。表1および表2中、A共重合体の1,2,3,4,5,12,15,16,17,21,26,28,30,33,44,45,47,48はa0一般式a1-0で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位を有する共重合体の具体例に示したものである。R-1~R-5は、比較用の化合物であり、その構造を以下に示す。なお、下記化合物R-4およびR-5は、それぞれ特開2008-265275号公報の化合物5と1-Dである。2平版印刷版原版の評価露光、現像および印刷下記表3および表4に示す各平版印刷版原版を、FUJIFILMElectronicImagingLtd.FFEI社製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600InGaN系半導体レーザー発光波長405nm±10nm/出力30mWを搭載により画像露光した。画像露光は、解像度2、438dpiで、富士フイルム株製FMスクリーンTAFFETA20を用い、網点面積率が50となるように、版面露光量0.05mJ/cm2で行った。次いで、100°C、30秒間のプレヒートを行った後、下記現像液1~5を表3および表4に示すように用い、図1に示すような構造の自動現像処理機にて現像処理を実施した。自動現像処理機は、ポリブチレンテレフタレート製の繊維毛の直径200μm、毛の長さ17mmを植え込んだ外径50mmのブラシロールを1本有し、搬送方向と同一方向に毎分200回転ブラシの先端の周速0.52m/secさせた。現像液の温度は30°Cであった。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度100cm/minで行った。現像処理後、乾燥部にて乾燥を行った。乾燥温度は80°Cであった。但し、現像液2を用いた際は、現像後乾燥工程を行う前に、水洗を行った。以下に、現像液1~5の組成を示す。下記組成においてニューコールB13は、ポリオキシエチレンβ-ナフチルエーテルオキシエチレン平均数n=13日本乳化剤株製であり、アラビアガムは、重量平均分子量が20万のものである。<現像液1>炭酸ナトリウム13.0g炭酸水素ナトリウム7.0gニューコールB1350.0gリン酸第一アンモニウム2.0g2-ブロモ-2-ニトロプロパン-1、3-ジオール0.01g2-メチル-4-イソチアゾリン-3-オン0.01gクエン酸三ナトリウム15.0g蒸留水913.98gpH:9.8<現像液2>水酸化カリウム1.5gニューコールB1350.0gキレスト400キレート剤1.0g蒸留水947.5gpH:12<現像液3>アラビアガム25.0g酵素変性馬鈴薯澱粉70.0gジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩5.0gリン酸第一アンモニウム1.0gクエン酸1.0g2-ブロモ-2-ニトロプロパン-1,3-ジオール0.01g2-メチル-4-イソチアゾリン-3-オン0.01g下記両性界面活性剤化合物W-170.0g下記アニオン性界面活性剤化合物AN-13.0g蒸留水824.98gリン酸及び水酸化ナトリウムを用いて、pHを4.5に調整<現像液4>水937.2g下記アニオン性界面活性剤化合物W-223.8gリン酸3gフェノキシプロパノール5gトリエタノールアミン6gポテトデキストリン25g<現像液5>水886g下記ノニオン性界面活性剤化合物W-324g下記ノニオン性界面活性剤化合物W-424gノニオン性界面活性剤10gエマレックス710、日本エマルジョン株製フェノキシプロパノール10gオクタノール6gN-2-ヒドロキシエチルモルホリン10gトリエタノールアミン5gグルコン酸ナトリウム10gクエン酸3ナトリウム5gエチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム0.5gポリスチレンスルホン酸10gVersaTL7730溶液、AlcoChemical社製リン酸を用いて、pHを7.0に調整得られた平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR-Mに取り付け、湿し水EU-3富士フイルム株製エッチ液/水/イソプロピルアルコール=1/89/10容量比とTRANS-GN墨インキ大日本インキ化学工業株製とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。評価各平版印刷版原版について、耐刷性、耐汚れ性、現像性、UVインキ耐刷性及び耐薬品性を下記のように評価した。結果を表3及び表4に示す。<耐刷性>印刷枚数の増加にともない、徐々に感光層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。同一露光量で露光した印刷版において、インキ濃度反射濃度が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。耐刷性評価は、表3及び表4においては各々実施例6及び24を基準1.0として、以下のように定義した相対耐刷性で表した。相対耐刷性の数字が大きい程、耐刷性が高いことを表す。相対耐刷性=対象平版印刷版原版の耐刷性/基準平版印刷版原版の耐刷性<耐汚れ性>印刷開始後20枚目の印刷物を抜き取り、非画像部に付着しているインキ濃度により耐汚れ性を評価した。非画像部のインキ付着は、必ずしも均一に発生するわけではないため、75cm2当りの目視評価の点数で表示した。目視評価の点数は、非画像部のインキ付着面積率が0の場合を10点,1~10を9点、11~20を8点、21~30を7点、31~40を6点、41~50を5点、51~60を4点、61~70を3点、71~80を2点、81~90を1点、91~100を0点とした。点数の高い程、耐汚れ性が良好であることを表す。<現像性>搬送速度を種々変更して現像処理を行い、得られた平版印刷版の非画像部のシアン濃度をマクベス濃度計により測定した。非画像部のシアン濃度がアルミニウム支持体のシアン濃度と同等になった搬送速度を求め、現像性を評価した。現像性評価は、表3及び表4においては各々実施例6及び24を基準1.0として、以下のように定義した相対現像性で表した。相対現像性の数値が大きい程、高現像性であり、性能が良好であることを表す。相対現像性=対象平版印刷版原版の搬送速度/基準平版印刷版原版の搬送速度<UVインキ耐刷性>前記耐刷性の評価において、湿し水EU-3富士フイルム株製エッチ液/水/イソプロピルアルコール=1/89/10容量比とTRANS-GN墨インキ大日本インキ化学工業株製との代わりに、IF102湿し水2容量水溶液富士フイルム株製とベストキュアーUV-BF-WRO標準墨インキ株TKTOKA製とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。UVインキ耐刷性の評価は、得られた印刷物の画像濃度が刷り始めより5低下した印刷枚数により判断し、表3及び表4においては各々実施例6及び24を基準1.0として以下のように定義した相対UVインキ耐刷性で表した。相対UVインキ耐刷性の数字が大きい程、UVインキ耐刷性が高いことを表している。相対UVインキ耐刷性=対象平版印刷版原版のUVインキ耐刷性/基準平版印刷版原版のUVインキ耐刷性<耐薬品性>前記耐刷性の評価において、湿し水EU-3富士フイルム株製エッチ液/水/イソプロピルアルコール=1/89/10容量比とTRANS-GN墨インキ大日本インキ化学工業株製との代わりに、IF102湿し水4容量水溶液富士フイルム株製とバリウスG墨インキ大日本インキ化学工業株製を用い、5000枚印刷するごとに、マルチクリーナー富士フイルム株製で版面を拭くことを行った。上質紙に印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により耐薬品性を判断し、表3及び表4においては各々実施例6及び24を基準1.0として以下のように定義した相対耐薬品性で表した。相対耐薬品性の数字が大きい程、耐薬品性が高いことを表している。相対耐薬性=対象平版印刷版原版の耐薬性/基準平版印刷版原版の耐薬性上記表3および表4から明らかなように、本発明のA共重合体を用いた平版印刷版原版は、耐汚れ性や現像性を悪化させることなく耐刷性およびUVインキ耐刷性に優れた平版印刷版を提供することができることがわかった。なお、本発明の平版印刷版原版は、さらに耐薬品性にも優れていた。また、本発明の平版印刷版原版の中でも、1~16、18~29、31~37および39は、特に耐刷性、汚れ性、耐現像性およびUVインキ耐刷性のバランスに優れていることがわかり、さらにこれらの平板印刷版は、耐刷性、汚れ性、耐現像性、UVインキ耐刷性および耐薬品性のバランスにも優れていることがわかった。実施例7では、平版印刷版A-7と現像液1を用いて耐刷性、耐汚れ性、UVインキ耐刷性、耐薬品性を検討した結果、良好であった一方、特定の連結基を有さず一般式a1-1の要件を満たさない側鎖の繰り返し単位を有する比較例用の高分子化合物は、本発明の効果を奏するものではなかった。具体的には、比較例用の高分子化合物R-1を用いた比較例1、4、6、8および11では、耐汚れ性と現像性が劣ることがわかった。比較例用の高分子化合物R-2を用いた比較例2、9および12では、この高分子化合物R-2は支持体表面と相互作用する官能基を有する繰り返し単位を有するものの、耐刷性、汚れ性、耐現像性およびUVインキ耐刷性が劣ることがわかった。比較例用の高分子化合物R-3を用いた比較例3、5、6、10および13では、現像性が劣ることがわかった。比較例用の高分子化合物R-4、R-5を用いた比較例では耐刷性、UVインキ耐刷性、耐薬品性が劣ることが分かった。[実施例40~47及び比較例14~16]露光、現像及び印刷下記表5に示す各平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetter3244VX水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載にて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2,400dpiの条件で画像様露光を行った。次いで、30秒以内に100°C、30秒間のプレヒートを行った後、現像液1を用いて実施例1と同様にして現像処理を実施した。得られた平版印刷版を用い、実施例1と同様にして、耐刷性、耐汚れ性、現像性、UVインキ耐刷性及び耐薬品性を評価した。相対評価の基準には実施例40を使用した。結果を表5に示す。上記表5から明らかなように、本発明のA共重合体を用いた平版印刷版原版は、赤外線で画像露光を行う場合においても、耐汚れ性や現像性を悪化させることなく耐刷性、UVインキ耐刷性および耐薬品性に優れた平版印刷版を提供することができることがわかった。なお、本発明の平版印刷版原版は、さらに耐薬品性にも優れていた。また、本発明の平版印刷版原版の中でも、実施例40~45および47は、特に耐刷性、汚れ性、耐現像性およびUVインキ耐刷性のバランスに優れていることがわかり、さらにこれらの平板印刷版は、耐刷性、汚れ性、耐現像性、UVインキ耐刷性および耐薬品性のバランスにも優れていることがわかった。一方、特定の連結基を有さず一般式a1-1の要件を満たさない側鎖の繰り返し単位を有する比較例用の高分子化合物は、本発明の効果を奏するものではなかった。具体的には、比較例用の高分子化合物R-1を用いた比較例14では、耐汚れ性と現像性が劣ることがわかった。比較例用の高分子化合物R-2を用いた比較例15では、耐刷性、汚れ性、耐現像性およびUVインキ耐刷性が劣ることがわかった。比較例用の高分子化合物R-3を用いた比較例16では、現像性が劣ることがわかった。比較例用の高分子化合物R-4、R-5を用いた比較例では耐刷性、UVインキ耐刷性、耐薬品性が劣ることが分かった。"