"下記の化学式1で表される、ヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物化合物1;化学式1式中、X1~X3はそれぞれ独立してハロゲン、炭素数1~3のアルコキシ基、又は炭素数1~3のアルキル基を表す。R1は炭素数1~10の直鎖アルキル鎖を表し、R2は-CH2m-OCH2CH2n-、又は-CH2CH2On-CH2m-を表す。mは3~30の整数であり、nは0~20の整数であり、mn≧3である。請求項1に記載のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物化合物1の製造方法であって、下記化学式2で表される化学式2式中、R2は化学式1の定義と同じである。と、下記化学式3で表される化学式3式中、X1~X3、R1は、化学式1の定義と同じである。とを反応させることを特徴とする、方法。請求項1に記載のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物からなる単分子膜であって、基板表面の少なくとも1部を修飾している単分子膜。請求項3に記載の単分子膜により、少なくとも表面の1部が修飾されている基板。前記基板が導波モードセンサーで用いるバイオセンシング素子である、請求項4に記載の基板。請求項4又は5に記載の基板表面に抗体又は他のタンパク質若しくはペプチドが固定化された基板であって、当該基板表面で単分子膜を構成するシラン化合物中の少なくとも1部のヒドロキシスクシンイミド基が、抗体又は他のタンパク質若しくはペプチドのアミノ基と置換されている、固定化基板。本発明は、一段階でヒドロキシスクシンイミドエステルを基板表面に導入できるシラン表面修飾材料であって、バイオセンサーの高感度化ハイスループット化を実現するセンシング素子表面の高密度単分子膜修飾が可能なタンパク質固定化用表面修飾材料を提供しようとするものである。本発明者らは、タンパク質固定化のためのヒドロキシスクシンイミドエステル基を一段階で基板表面に導入できるシラン化合物であって、かつ高感度なバイオセンサー用センシング素子表面に対しても適用できるような、高密度単分子膜修飾構築が可能な修飾材料を目指し、鋭意研究した結果、ヒドロキシスクシンイミドエステルを有する酸ハロゲン化物とアミノ基を有するシラン化合物を反応させることによって、新規な下記一般式1の、アミド基を含有するヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物を提供することができた。当該シラン化合物は、一段階でヒドロキシスクシンイミドエステルを基板表面に導入可能な表面修飾材料として用いることができる。しかも、当該化合物の合成過程での副生成物はカラム精製法により除去可能で簡便に高純度に精製でき、自己集合膜に匹敵するような高密度単分子膜修飾が可能であるため、高感度バイオセンサー用センシング素子表面修飾に対しても適用できる。このように、本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物化合物1は、アミド基を含有した新規化合物である点に特徴を有するものであるが、その合成方法の特徴も大きい。すなわち、本合成方法によると、ヒドロキシスクシンイミドエステルと酸ハロゲン化物の反応性差が大きいため、当該反応性の差を利用して酸クロライド部位のみを選択的にシラン化合物のアミノ基と反応させることが可能であり、その結果として目的とする化合物を慣用の精製操作によって高純度で単離できることができ、さらには、多様な分子設計が可能である。本手法によって提供される高純度なヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物を用いることによって、いろいろな材質のセンシング基板において精緻な修飾表面構築が可能になり、抗体を始めとする種々のタンパク質をセンシング基板に化学固定化することが可能になった。即ち、本発明は、高感度バイオセンサー開発に資する、抗体を初めとするタンパク質をセンシング基板に化学固定化する表面修飾材料として有望なヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物を提供するものである。本願発明の新規化合物化合物1は、下記化学式1の一般式で記載することができ、下記化学式2及び化学式3を反応させて合成することができる反応式1。化学式1式中、X1~X3はそれぞれ独立してハロゲン、炭素数1~3のアルコキシ基、又は炭素数1~3のアルキル基を表す。R1は炭素数1~10の直鎖アルキル鎖を表し、R2は-CH2m-OCH2CH2n-、又は-CH2CH2On-CH2m-を表す。mは3~30の整数であり、nは0~20の整数であり、mn≧3である。化学式2式中、R2は化学式1における定義と同じである。化学式3式中X1~X3、R1は、化学式1における定義と同じである。即ち、本発明は以下の通りのものである。1下記の化学式1で表される、ヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物化合物1;化学式1式中、X1~X3はそれぞれ独立してハロゲン、炭素数1~3のアルコキシ基、又は炭素数1~3のアルキル基を表す。R1は炭素数1~10の直鎖アルキル鎖を表し、R2は-CH2m-OCH2CH2n-、又は-CH2CH2On-CH2m-を表す。mは3~30の整数であり、nは0~20の整数であり、mn≧3である。2前記1に記載のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物化合物1の製造方法であって、下記化学式2で表される化学式2式中、R2は化学式1の定義と同じである。と、下記化学式3で表される化学式3式中、X1~X3、R1は、化学式1の定義と同じである。とを反応させることを特徴とする、方法。3前記1に記載のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物からなる単分子膜であって、基板表面の少なくとも1部を修飾している単分子膜。4前記3に記載の単分子膜により、少なくとも表面の1部が修飾されている基板。5前記基板が導波モードセンサーで用いるバイオセンシング素子である、前記4に記載の基板。6前記4又は5に記載の基板表面に抗体又は他のタンパク質若しくはペプチドが固定化された基板であって、当該基板表面で単分子膜を構成するシラン化合物中の少なくとも1部のヒドロキシスクシンイミド基が、抗体又は他のタンパク質若しくはペプチドのアミノ基と置換されている、固定化基板。本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物を用いることで、一段階でヒドロキシスクシンイミドエステルを基板表面に導入でき、かつ自己集合膜に匹敵するような高密度単分子膜修飾が可能となったため、高感度バイオセンサー用のセンシング素子表面構築に向けて、抗体など種々のタンパク質を精密に構造制御しつつセンシング基板に化学固定化することが可能になった。1.本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物について本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物は文献未記載の化合物であり、いろいろな材質のセンシング基板を単分子膜修飾することが可能である。修飾した表面は優れたタンパク質化学固定化効果を示し、高感度バイオセンシング基板の構築材料として有望である。本発明では、合成したヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物のタンパク質化学固定化効果を評価するために、導波モードセンサーチップを表面修飾し、レプチン抗体を用いた抗原抗体反応応答性を検討した。本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物化合物1は下記の一般式化学式1で表される。化学式1上記式中、X1~X3はそれぞれ独立してハロゲン、炭素数1~3のアルコキシ基、又は炭素数1~3のアルキル基を表す。ただし、X1~X3のうちの少なくとも1つはハロゲン、又は炭素数1~3のアルコキシ基である。ここで、アルコキシ基としては、メトキシ基又はエトキシ基が好ましい。R1は炭素数1~10、好ましくは炭素数2~5の直鎖アルキル鎖を表し、R2は-CH2m-OCH2CH2n-、又は-CH2CH2On-CH2m-を表す。mは3~30、好ましくは8~20の整数であり、nは0~20、好ましくは0~10の整数であり、mn≧3、好ましくはmn≧8である。なお、本明細書中の化学式、反応式内で用いている記号、符号は、同一記号、符号であればそれぞれ全て同じ意味を表す。2.本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物の製造法以下、本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物の製造法を説明する。2-1ヒドロキシスクシンイミドエステルを有する酸クロライドの合成まず下記反応式に示すように、ジカルボン酸とN-ヒドロキシスクシンイミドを、ジシクロヘキシルカルボジイミドDCCやベンゾトリアゾールイルテトラメチルウロニウムヘキサフルオロフォスフェートHBTUなどの縮合剤を用いて反応させることによって、ヒドロキシスクシンイミドモノエステルカルボン酸を合成することができる。ここで用いる原料化合物は、いずれも市販品として入手可能である。得られたヒドロキシスクシンイミドモノエステルカルボン酸は、定法に従ってシュウ酸クロライドや塩化チオニルで処理することによって、対応する酸クロライドへと変換される。なお、上記式中、R2は化学式1の定義と同じである。2-2ヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物の合成本発明の最終目的物であるヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物を得るためには、上記反応式3により合成されたヒドロキシスクシンイミドエステルを有する酸クロライドと共に、下記化学式3で表されるアミノ基を有するシラン誘導体が必要であるが、当該シラン誘導体は、ほとんど市販化合物として入手可能である。例えば、3-アミノプロピルトリハロゲン化シラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシランなどが東京化成社などにより市販されている。本実施例では、3-アミノプロピルトリエトキシシラン東京化成社製を用いている。化学式3なお、上記式中、X1~X3、R1は、化学式1の定義と同じである。そして、当該化学式3のシラン誘導体を、上記反応式3に従って合成した下記化学式2のヒドロキシスクシンイミドエステルを有する酸クロライドと、下記反応式1に従ってアミド化反応させることによって、目的とするヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物を得ることができる。この反応自体は古くから知られている反応であるが、本反応では、同じカルボン酸活性基であるヒドロキシスクシンイミドエステルと酸ハロゲン化物では、そのカルボン酸活性が大きく違うために精製の妨げになる副産物の産生がほぼ無視できることを見いだしたことに特徴がある。化学式2なお、上記式中、R2は化学式1の定義と同じである。この反応は、触媒としてトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジンなどの塩基性触媒を用いて行うことができる。触媒として、好ましくはトリエチルアミンが使用される。使用される溶媒としては、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ベンゼン、アセトニトリル等の有機溶媒であるが、好ましくはテトラヒドロフランを用いて行われる。酸クロライドとシラン化合物の反応割合は、前者1モルに対して後者を0.8~1.2モル程度、好ましくは等モル程度とすればよい。触媒の使用量は、オレフィン誘導体1モルに対して1~10モル、好ましくは2モル程度とすればよい。反応温度は0~50°C程度、好ましくは室温とし、反応時間は12時間程度とすればよい。メトキシオリゴエチレングリコールを導入したカルボン酸誘導体とシラン誘導体の反応割合は、前者1モルに対して後者を0.5~2モル程度、好ましくは等モル程度とすればよい。このようにして得られるヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物は、慣用されている精製法、例えばHPLC法、カラムクロマトグラフィー法、薄層クロマトグラフィー法などにより、又はこれら手法を組み合わせることによって容易に単離精製できる。また、本発明の目的物が合成できたことは、NMRや質量分析等により確認できる。3.本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物を用いた基材表面の単分子膜など薄膜形成方法本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物は、ペプチドアレイ、抗体アレイ、DNAチップなどのようなタンパク質などの特異的結合を厳密に測定するための高感度の各種バイオセンシング素子、チップに用いられる種々の材料表面、例えばシリカ、窒化ケイ素、酸化処理プラスチック、酸化処理カーボンのチップ表面に抗体などタンパク質を単分子膜状に固定化できる表面を形成することができる。そして、このように精緻なタンパク質固定化単分子膜を形成できることから、広範なバイオセンシング素子表面修飾材料として有効に利用できる。そして、これらのセンシング素子の他、ヒドロキシスクシンイミドエステル基という活性エステル基を有するシランカップリング剤として用いることもできるので、両反応基の特質を生かして、基板表面に核酸、各種ペプチド、糖類、脂質などを固定化するバイオチップ用基板表面の修飾材料としても用いることができ、またその際の基板の材質もガラスなどのシリル基を有するものに限られず、紙、繊維、ステンレスなど幅広く対象とすることもできる。本発明において基板というとき、センシング素子として用いるチップなどを含め、本発明の修飾対象となる表面を有する基材一般を指すものとする。本発明において、基板の表面が本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物のシリル基と共有結合を形成した単分子膜などの薄膜により被覆されることを表面修飾という。本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物を用いて基板表面を薄膜修飾するための手法として、単分子膜を形成させるためには、浸積法を用いることが好ましい。典型的な浸積手法としては、修飾したい基材、チップなどを完全に洗浄し乾燥した後、本発明のヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物の溶液中に当該基材、チップなどを浸積し、洗浄、乾燥する方法を適用できる。一般には、浸積法の他、塗布、噴霧方法を用いることができ、スポット状に修飾する場合は、インクジェットなど印刷機技術が転用できる。また、抗体、ペプチドなどの固定化対象物質を配置しようとする一部表面のみを修飾することも可能である。対象となる基板、基材の形状、大きさはどのようなものでもよいが、単分子膜形成を要するセンシング素子の場合は、取り外し可能で浸積工程に供しやすいチップ状が好ましい。ヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物の溶剤としてはシラン化合物を分解しない有機溶媒であれば何でも使用することができるが、典型的なものとしては、トルエン、エタノール、THFがある。ただし、基材の材質がプラスチックの場合は、プラスチック溶解性のあるトルエン、THFなどは用いることができないので、エタノールなどのアルコール系溶媒が好ましい。導波モードセンサーなど高感度バイオセンサー用のセンシング素子のように、自己組織化膜のような高密度の単分子膜形成が求められる場合の基板表面修飾及び抗体固定化の手順は、例えば、以下の様な手順で行うことができる。アセトン中で10分間超音波洗浄エタノール中で5分間超音波洗浄1時間減圧乾燥合成した化合物の1mMトルエン溶液に浸積アセトン中で1分間超音波洗浄後、エタノールで洗浄抗体溶液に浸積24時間、抗体濃度:20μg/mlPBS洗浄ここで、上記のチップの合成化合物溶液中への浸積時間と温度は、用いるヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物により左右され、C12Esの場合、0°C~80°Cで3~48時間、好ましくは室温~50°Cで5~24時間、C16Esの場合、室温~80°Cで5~48時間、好ましくは50°Cで12~24時間、C20Esの場合、室温~80°Cで10~72時間、好ましくは50°Cで12~48時間である。抗体、他のタンパク質、ペプチド類の固定化方法では、活性エステル固定化法が有効であることが知られている。ヒドロキシスクシンイミドエステルはきわめて活性なエステル基であり、固定化したい化合物がアミノ基を有する場合、混合するだけでアミノ基と反応してアミド基を形成し、抗体、他のタンパク質、ペプチド類を基板上に固定化できる。4.ヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物の単分子膜形成性の評価方法本実施例で用いた手法は、上記3.の基板表面修飾手法の適用により単分子膜を形成し、タンパク質の非特異吸着抑制という機能を発揮していることをすでに確認済みの化合物M3EGに、本発明化合物を加えることによる修飾表面の機能変化を観察するという定性的手法である。M3EGに本発明化合物を加えることによって修飾表面に抗体を固定できるようになり、抗原抗体反応による波長シフト値を測定することで固定された抗体量を推定できる。よってM3EGと本発明化合物の混合比と表面に固定された抗体量の相関、及びM3EGと本発明化合物が単分子膜を形成したと仮定したときの各分子の専有面積を用いて計算により推定される抗体固定量を比較検討することにより、本発明化合物はM3EGと混合したときはもちろんのこと、単独でも単分子膜形成能があることを確かめることができる。なお、単分子膜が形成されたことを物理的定量的手法で確認する場合には、上記3.基板表面修飾及び抗体固定化手順の後、XPSX線光電子分光法やエリプソメトリー偏光解析法などの膜組成や膜厚測定法により確認することができる。以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はそれに限られるものではない。実施例1ヒドロキシスクシンイミドエステル-ドデカン二酸-トリエトキシシランC12Esの合成1-1ドデカン二酸モノスクシンイミドエステルの合成三口フラスコ300mLにドデカン二酸920mg4mmol、N-ヒドロキシスクシンイミド550mg4.4mmol、ジオキサン100mL、酢酸エチル100mLを入れ、0°Cで撹拌した。N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミドDCC908mg4.4mmolの酢酸エチル溶液60mLを滴下し、0°Cで1時間、室温で12時間撹拌した。反応液に酢酸0.5mLを加え、30分撹拌し、過剰のDCCを分解した。生成したジシクロヘキシルアミドをろ別し、ジオキサン、酢酸エチルを留去した。得られた固体に酢酸エチル100mLとクロロホルム10mLを加え、不溶物をろ別した。酢酸エチル、クロロホルムを留去し、シリカゲルカラムクロロホルム:メタノール=100:0→1にて目的物を精製した。無色固体収率401-2ドデカン二酸クロライドスクシンイミドエステルの合成ナスフラスコ200mLにドデカン二酸モノスクシンイミドエステル327mg1mmol、オキザリルクロライド254mg2mmol、ベンゼン40mLを入れ、室温で撹拌した。DMF3滴を加え、室温で6時間撹拌した。ベンゼン、オキザリルクロライドを留去し、減圧乾燥してそのまま次の反応に用いた。褐色液体粗収率1001-3スクシンイミドエステルドデカン酸-シランの合成ナスフラスコ200mLに窒素雰囲気下モノスクシンイミドエステルドデカン二酸モノクロライド346mg1mmolと脱水THF50mLを入れ、0°Cで撹拌した。アミノプロピルトリエトキシシラン221mg1mmolとトリエチルアミン202mg2mmolの脱水THF10mLを激しく撹拌しながら加え、窒素雰囲気下室温で12時間撹拌した。THFを留去し、シリカゲルカラムクロロホルム:エタノール=100:0→2にて目的物を精製した。無色液体収率691H-NMR;CDCl3、500MHzδ:0.632H、t、J=8.25Hz、1.229H、t、J=7.10Hz、1.25~1.4312H、m、1.57~1.654H、m、1.69~1.772H、m、2.142H、t、J=7.80Hz、2.592H、t、J=7.55Hz、2.834H、d、J=4.60Hz、3.242H、q、J=6.57Hz、3.816H、q、J=7.02Hz、5.691H、t、J=5.28Hz実施例2ヒドロキシスクシンイミドエステル-ヘキサデカン二酸-トリエトキシシランC16Esの合成2-1ヘキサデカン二酸モノスクシンイミドエステルの合成三口フラスコ300mLにヘキサデカン二酸1.15g4mmol、N-ヒドロキシスクシンイミド550mg4.4mmol、ジオキサン200mL、酢酸エチル200mL、DMF50mLを入れ、室温で撹拌した。N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミドDCC908mg4.4mmolの酢酸エチル溶液60mLを滴下し、室温で12時間撹拌した。反応液に酢酸0.5mLを加え、30分撹拌し、過剰のDCCを分解した。生成したジシクロヘキシルアミドをろ別し、ジオキサン、酢酸エチルを留去した。得られた固体に酢酸エチル150mLとクロロホルム15mLを加え、不溶物をろ別した。酢酸エチル、クロロホルムを留去し、シリカゲルカラムクロロホルム:メタノール=100:0→1にて目的物を精製した。無色固体収率452-2ヘキサデカン二酸クロライドスクシンイミドエステルの合成ナスフラスコ200mLにヘキサデカン二酸モノスクシンイミドエステル383mg1mmol、オキザリルクロライド254mg2mmol、ベンゼン40mLを入れ、室温で撹拌した。DMF3滴を加え、室温で6時間撹拌した。ベンゼン、オキザリルクロライドを留去し、減圧乾燥してそのまま次の反応に用いた。褐色液体粗収率1002-3スクシンイミドエステルヘキサデカン酸-シランの合成ナスフラスコ200mLに窒素雰囲気下モノスクシンイミドエステルヘキサデカン二酸モノクロライド402mg1mmolと脱水THF50mLを入れ、0°Cで撹拌した。アミノプロピルトリエトキシシラン221mg1mmolとトリエチルアミン202mg2mmolの脱水THF10mLを激しく撹拌しながら加え、窒素雰囲気下室温で12時間撹拌した。THFを留去し、シリカゲルカラムクロロホルム:エタノール=100:0→2にて目的物を精製した。無色固体収率491H-NMR;CDCl3、500MHzδ:0.632H、t、J=8.25Hz、1.229H、t、J=7.10Hz、1.23~1.4420H、m、1.57~1.664H、m、1.69~1.782H、m、2.142H、t、J=7.80Hz、2.592H、t、J=7.55Hz、2.834H、d、J=5.50Hz、3.252H、q、J=6.57Hz、3.816H、q、J=7.02Hz、5.691H、t、J=5.73Hz実施例3ヒドロキシスクシンイミドエステル-エイコサン二酸-トリエトキシシランC20Esの合成3-1エイコサン二酸モノスクシンイミドエステルの合成三口フラスコ300mLにエイコサン二酸1.37g4mmol、N-ヒドロキシスクシンイミド550mg4.4mmol、ジオキサン200mL、酢酸エチル200mL、DMF50mLを入れ、室温で撹拌した。N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミドDCC908mg4.4mmolの酢酸エチル溶液60mLを滴下し、室温で12時間撹拌した。反応液に酢酸0.5mLを加え、30分撹拌し、過剰のDCCを分解した。生成したジシクロヘキシルアミドをろ別し、ジオキサン、酢酸エチルを留去した。得られた固体に酢酸エチル200mLとクロロホルム20mLを加え、不溶物をろ別した。酢酸エチル、クロロホルムを留去し、シリカゲルカラムクロロホルム:メタノール=100:0→1にて目的物を精製した。無色固体収率453-2エイコサン二酸クロライドスクシンイミドエステルの合成ナスフラスコ200mLにエイコサン二酸モノスクシンイミドエステル440mg1mmol、オキザリルクロライド254mg2mmol、ベンゼン40mLを入れ、室温で撹拌した。DMF3滴を加え、室温で6時間撹拌した。ベンゼン、オキザリルクロライドを留去し、減圧乾燥してそのまま次の反応に用いた。褐色液体粗収率1003-3スクシンイミドエステルエイコサン酸-シランの合成ナスフラスコ200mLに窒素雰囲気下モノスクシンイミドエステルエイコサン二酸モノクロライド458mg1mmolと脱水THF50mLを入れ、0°Cで撹拌した。アミノプロピルトリエトキシシラン221mg1mmolとトリエチルアミン202mg2mmolの脱水THF10mLを激しく撹拌しながら加え、窒素雰囲気下室温で12時間撹拌した。THFを留去し、シリカゲルカラムクロロホルム:エタノール=100:0→2にて目的物を精製した。無色固体収率211H-NMR;CDCl3、500MHzδ:0.632H、t、J=8.03Hz、1.229H、t、J=7.10Hz、1.23~1.4428H、m、1.58~1.664H、m、1.69~1.782H、m、2.142H、t、J=7.78Hz、2.602H、t、J=7.58Hz、2.834H、d、J=5.95Hz、3.252H、q、J=6.72Hz、3.826H、q、J=7.03Hz、5.681H、t、J=5.28Hz実施例4ヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物のタンパク質固定化機能評価合成したC12Es、C16Es、C20Esを用いて導波モードセンサーシリカチップの表面修飾を行い、修飾表面のタンパク質固定化効果を、糖尿病の疾病マーカーの一つとして知られているタンパク質、レプチンヒト由来、株免疫生物研究所製およびレプチンに結合する抗体抗ヒトレプチンモノクロナール抗体、IgG1κ型、ミクリ免疫研究所株製を用いて抗原抗体反応を行い評価した。チップの表面修飾及び抗体固定化は、アセトン中で10分間超音波洗浄エタノール中で5分間超音波洗浄1時間減圧乾燥合成した化合物の1mMトルエン溶液に浸積アセトン中で1分間超音波洗浄後、エタノールで洗浄抗体溶液に浸積24時間、抗体濃度:20μg/mlPBS洗浄という手順で行った。浸積条件は、C12Esは室温で浸積15時間、C16Esは50°Cで浸積15時間、C20Esは50°Cで24時間である。導波モードセンサーにおける反射率ピークの波長シフト測定は、まずPBS中でピーク波長を測定し、1μg/mLのレプチン溶液に10分間浸積した後PBS溶液で洗浄し、再びピーク波長の測定を行い、その波長シフト値を求め、抗原抗体反応の有無を判定した。図1に、それぞれの化合物で表面修飾した場合の反射率ピーク波長シフト値を示した。抗体を固定化したチップは、いずれも1μg/mLレプチン溶液に浸積、PBS洗浄後においてピーク波長シフトが観測された。このピーク波長シフトが抗原抗体反応に由来することを証明するために、手順で抗体溶液の代わりに緩衝液に24時間浸したチップのピーク波長シフトを測定したところ、これらのチップではいずれも有意なピーク波長シフトは観測されなかったことより、観測されたピーク波長シフトは抗原抗体反応に由来するものであることが確認された図1。実施例5ヒドロキシスクシンイミドエステル-シラン化合物の単分子膜形成性評価実施例4と同様な手順で、C12Esとタンパク質の非特異吸着を抑制するシラン化合物、M3EG下記分子式の混合溶液を種々のモル比で調整し、導波モードセンサーシリカチップの表面修飾を行った。レプチン抗原抗体反応を行い、C12EsとM3EGの混合モル比による抗体固定量変化を検討し、C12Esの単分子膜形成性を評価した。浸積条件は室温で浸積15時間、溶液の濃度はいずれもC12EsとM3EGの和が1mMである。ここで用いるM3EGメトキシトリエチレングリコール-トリエトキシシラン化合物は、本発明者らが開発したメトキシオリゴエチレングリコール-シラン化合物の1つであり、この浸積条件下で高密度な単分子膜を形成することによってタンパク質の非特異吸着抑制効果を発揮していることが確認されている表面修飾材料である特願2011-100313号。なお、M3EGの合成方法は、下記参考例1に示す。M3EGの構造ここでM3EGと抗体の直径はおおよそ0.4nm及び15nmと見積もれることから、単分子膜中におけるそれぞれの専有面積比は約1:1000であり、M3EG1000分子に対してC12Esは1分子あれば、単分子膜表面に固定化される抗体量は飽和に達することになる。実際にはPBS中では加水分解も起こるため、ヒドロキシスクシンイミドエステルがBSAなどのタンパク質と反応する割合は約10モルであることがコントロール実験より明らかになっているので、C12Es:M3EGのモル比が1:100で抗体固定化量は飽和に達すると推定される。図2に、種々の混合比のシラン化合物溶液で表面修飾した場合の反射率ピーク波長シフト値を示した。C12Es:M3EGのモル比を1:1000から1:100というようにC12Esの割合を増加させた場合、波長シフト値は大幅に増加した。しかしさらにC12Esの割合を増した場合のC12Es:M3EGモル比1:10の溶液では、得られた波長シフト値はほぼ同じであった。以上の結果は、単分子膜が形成される場合にはC12Es:M3EGモル比が1:100において固定化される抗体量は飽和に達するという推定と一致している。さらにC12Es分子単独で修飾しても波長シフト値は同じであるという結果は、M3EGとの混合単分子膜と同じ量の抗体が表面に固定化されていることを意味することから、C12Es分子単独でも単分子膜形成することを強く支持している。以上の結果より、本発明で合成された新規化合物、C12Es、C16Es、C20Esは、いずれもタンパク質を化学固定化する表面修飾材料として有用であり、アミド基を有することによって高密度な単分子膜を構築できることが明らかになった。参考例1メトキシトリエチレングリコール-トリエトキシシラン化合物M3EGの合成参1-1ジアゾ酢酸エチルの合成三口フラスコ1Lに亜硝酸ナトリウム38.1g0.55mol、グリシンエチルエステル塩酸塩68.4g0.49mol、酢酸ナトリウム1.36g、水250mlを入れ、溶かした後に0°Cに冷却する一方で、10wt硫酸水溶液200ml、10wt炭酸ナトリウム水溶液500mlを調製し、同様に0°Cに冷却した。冷却したジクロロメタン80mlと10wt硫酸水溶液3mlを加え、0°Cで5分間撹拌した後に分液ロートにてジクロロメタン層を分離し、水溶液は三口フラスコに、ジクロロメタン層は直ちに冷却した炭酸ナトリウム水溶液50mlで洗浄した後0°Cで保存した。再び冷却したジクロロメタン80mlを加え、10wt硫酸水溶液15mlを3分かけて滴下し、0°Cで3分間撹拌した後に分液ロートにてジクロロメタン層を分離し、水溶液は三口フラスコに、ジクロロメタン層は直ちに冷却した炭酸ナトリウム水溶液50mlで洗浄した後0°Cで保存した。この操作をジクロロメタン層に黄色い着色がなくなるまで繰り返した7~8回。集めたジクロロメタン層をまとめて等量の水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて一晩脱水し、溶液のまま次の反応に用いた。黄色液体粗収率80参1-2メトキシトリエチレングリコールカルボン酸エチルエステルの合成三口フラスコ2Lにトリエチレングリコールモノメチルエーテル164g1.18mol、粗ジアゾ酢酸45.1g392mmol、ジクロロメタン溶液、ジクロロメタン合計1.2Lを入れ、加熱還流した。三フッ化ホウ素エチルエーテル錯体エーテル溶液1.5mL47wtのジクロロメタン溶液40mLを還流が維持できる速度で30分かけて滴下し、さらに3時間加熱還流した。放冷後反応液を水1Lに注ぎ、ジクロロメタン層を分離し、ジクロロメタン層はもう一度水1Lで洗浄した。ジクロロメタンを留去し、減圧蒸留にて目的物を精製した。無色液体、b.p.115~120°C/0.2mmHg収率65参1-3メトキシトリエチレングリコールカルボン酸の合成三口フラスコ300mLにメトキシトリエチレングリコールグリコールカルボン酸エチルエステル12.5g50mmolとTHF100mLを入れ、室温で撹拌した。水酸化ナトリウム10.0g250mmolの水溶液100mLを加え、12時間加熱還流した。放冷後反応液に濃塩酸を加えて酸性にし、THF、水を留去し、残渣にベンゼン100mLを加えて不溶物を除去した。ベンゼンを留去し、減圧乾燥してそのまま次の反応に用いた。無色液体粗収率97参1-4メトキシトリエチレングリコールカルボン酸クロライドの合成ナスフラスコ200mLに粗メトキシトリエチレングリコールカルボン酸1.11g5mmol、オキザリルクロライド1.27g10mmol、ベンゼン80mLを入れ、室温で撹拌した。DMF4滴を加え、室温で6時間撹拌した。ベンゼン、オキザリルクロライドを留去し、減圧乾燥してそのまま次の反応に用いた。淡褐色液体粗収率100参1-5メトキシトリエチレングリコール-トリエトキシシラン化合物の合成ナスフラスコ300mLに窒素雰囲気下アミノプロピルトリエトキシシラン1.08g6mmol、トリエチルアミン1.21g12mmol、脱水THF100mLを入れ、0°Cで撹拌した。粗メトキシトリエチレングリコールカルボン酸クロライド1.20g5mmolの脱水THF溶液30mLを滴下し、室温で12時間撹拌した。THFを留去し、シリカゲルカラムクロロホルム:エタノール=100:0→0.5にて目的物を精製した。無色液体収率791H-NMR;CDCl3、500MHzδ:0.602H、t、J=8.48Hz、1.189H、t、J=7.10Hz、1.55~1.652H、m、3.242H、q、J=6.88Hz、3.343H、s、3.48~3.542H、m、3.58~3.6810H、m、3.786H、q、J=7.02Hz、3.952H、s、3.991H、t、J=5.70Hz"