チャンバ本体と、チャンバ本体内で水平方向にセンタリングされ、チャンバ本体内で垂直方向に延在し、これによって1以上の基板が複数のプラズマ発生器の両側で処理されるための十分な空間がチャンバ本体内に残っている複数のプラズマ発生器であって、各プラズマ発生器は、チャンバ本体の底部に隣接する第1端部と、チャンバ本体の上部に隣接する第2端部を有するプラズマ発生器と、各プラズマ発生器の第1端部に結合された第1導波管と、各プラズマ発生器の第2端部に結合された第2導波管と、各第1導波管に結合され、チャンバ本体の外側に配置された第1電源と、各第2導波管に結合され、チャンバ本体の外側に配置された第2電源であって、第2電源は、隣接する第2導波管がプラズマ発生器から対応する第2電源へと反対方向に延びるように互い違いに集合的に配置されている第2電源を含む装置。チャンバ本体と、チャンバ本体内で水平方向にセンタリングされ、チャンバ本体内で垂直方向に延在し、これによって1以上の基板が複数のプラズマ発生器の両側で処理されるための十分な空間がチャンバ本体内に残っている複数のプラズマ発生器であって、各プラズマ発生器は、チャンバ本体の底部に隣接する第1端部と、チャンバ本体の上部に隣接する第2端部を有するプラズマ発生器と、各プラズマ発生器の第1端部に結合された第1導波管と、各プラズマ発生器の第2端部に結合された第2導波管と、各第1導波管に結合され、チャンバ本体の外側に配置された第1電源と、各第2導波管に結合され、チャンバ本体の外側に配置された第2電源であって、第2電源は、隣接する第2導波管がプラズマ発生器から対応する第2電源へと同じ方向に延びるようなパターンで集合的に配置されている第2電源を含む装置。チャンバ本体と、チャンバ本体内で水平方向にセンタリングされ、チャンバ本体内で垂直方向に延在し、これによって1以上の基板が複数のプラズマ発生器の両側で処理されるための十分な空間がチャンバ本体内に残っている複数のプラズマ発生器であって、各プラズマ発生器は、チャンバ本体の底部に隣接する第1端部と、チャンバ本体の上部に隣接する第2端部を有するプラズマ発生器と、各プラズマ発生器の第1端部に結合された第1アングル導波管と、各プラズマ発生器の第2端部に結合された第2アングル導波管と、各第1導波管に結合され、チャンバ本体の外側に配置された第1電源と、各第2導波管に結合され、チャンバ本体の外側に配置された第2電源であって、第2電源は、各第2導波管がチャンバ本体の側面に沿って、及びチャンバ本体の天井に沿って、各プラズマ発生器の第1端部まで上へと延びるように互い違いに集合的に配置されている第2電源を含む装置。複数のプラズマ発生器は、マイクロ波発生器である請求項1~3のいずれか1項記載の装置。チャンバ本体内に、複数のマイクロ波発生器に隣接して配置された複数のガス導入管を更に含む請求項4記載の装置。チャンバ本体は、複数のマイクロ波発生器にアクセスするための取り外し可能な1以上の蓋を含み、各蓋は貫通して延びる複数の開口部を有する請求項5記載の装置。チャンバ本体に結合された1以上の真空ポンプを更に含み、これによってチャンバ本体は各蓋を貫通して延びる複数の開口部を通して排気することができる請求項6記載の装置。チャンバ本体はフレーム上に配置され、チャンバ本体はフレームに固定された第1端部を有する請求項7記載の装置。フレーム上に配置されたポリテトラフルオロエチレン要素を更に含み、チャンバ本体は、ポリテトラフルオロエチレン要素上に配置され、ポリテトラフルオロエチレン要素に沿って移動可能な第2端部を有する請求項8記載の装置。