"可撓性基板を巻装した巻出しロールと前記可撓性基板を巻取る巻取りロールとの間で前記可撓性基板の搬送途中に設置される成膜室と、前記成膜室内において内部に加熱ヒータを有する接地電極と、前記成膜室内において高周波電源に接続される高周波電極とを備え、前記接地電極と前記高周波電極との間に前記可撓性基板を走行させて前記成膜室内で前記可撓性基板上に薄膜を成膜する薄膜光電変換素子の製造方法において、前記可撓性基板の搬送方向に対し前記接地電極の両側に、前記可撓性基板の搬送方向と直交する前記可撓性基板の幅方向の上部一端部を挟持する第1保持及び引張機構部と、前記可撓性基板の幅方向の下部一端部を挟持する第2保持及び引張機構部と、前記第1保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第3保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第4保持及び引張機構部と、をそれぞれ配置し、前記可撓性基板の搬送を停止させ、張力を与えながら、前記可撓性基板の裏面に前記接地電極を接触させて加熱し、前記第1保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部と、前記第3保持及び引張機構部と、前記第4保持及び引張機構部とにより前記可撓性基板の両端部近傍を挟持し、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、前記第4保持及び引張機構部のいずれか1点を固定点とし、この固定点と搬送方向に対向する部位に配置された前記保持及び引張機構部が前記可撓性基板の搬送方向と平行ないし一定角度以内になるように保持して引っ張り、他の前記保持及び引張機構部が互いの対向間の距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜することを特徴とする薄膜光電変換素子の製造方法。前記可撓性基板の対向した幅方向端部を挟持する2つの前記保持及び引張機構部のいずれかを固定とし、他の前記保持及び引張機構部は互いの対向間の距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜することを特徴とする請求項1に記載の薄膜光電変換素子の製造方法。可撓性基板を巻装した巻出しロールと前記可撓性基板を巻取る巻取りロールとの間で前記可撓性基板の搬送途中に設置される成膜室と、前記成膜室内において内部に加熱ヒータを有する接地電極と、前記成膜室内において高周波電源に接続される高周波電極とを備え、前記接地電極と前記高周波電極との間に前記可撓性基板を走行させて前記成膜室内で前記可撓性基板上に薄膜を成膜する薄膜光電変換素子の製造方法において、前記可撓性基板の搬送方向に対し前記接地電極の両側に、前記可撓性基板の搬送方向と直交する前記可撓性基板の幅方向の上部一端部を挟持する第1保持及び引張機構部と、前記可撓性基板の幅方向の下部一端部を挟持する第2保持及び引張機構部と、前記第1保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第3保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第4保持及び引張機構部と、をそれぞれ配置し、前記可撓性基板の搬送を停止させ、張力を与えながら、前記可撓性基板の裏面に前記接地電極を接触させて加熱し、前記第1保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部と、前記第3保持及び引張機構部と、前記第4保持及び引張機構部とにより前記可撓性基板の両端部近傍を挟持し、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、前記第4保持及び引張機構部の4点が前記可撓性基板の搬送方向と平行ないし一定角度以内に保持し、前記搬送方向と対向する前記保持及び引張機構部間の距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜することを特徴とする薄膜光電変換素子の製造方法。前記接地電極の前記可撓性基板の搬送方向両側に配置した、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、第4保持及び引張機構部の搬送方向に沿ったいずれかの2点を搬送方向と逆方向に引っ張り、他の前記保持及び引張機構部の2点は互いの対向間距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜する特徴とする請求項3に記載の薄膜光電変換素子の製造方法。前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、第4保持及び引張機構部の搬送方向に沿ったいずれかの2点を搬送方向に平行ないし一定角度以内になるように保持して引っ張ることを特徴とする請求項4に記載の薄膜光電変換素子の製造方法。前記第1保持及び引張機構部と前記第3保持及び引張機構部を上側に配置し、前記第2保持及び引張機構部と前記第4保持及び引張機構部を下側に配置した前記可撓性基板の垂直配置状態において、下側に配置した前記第2保持及び引張機構部または前記第4保持及び引張機構部の1点を固定点とし、他の前記保持及び引張機構部の引張り力及び引張り方向の釣り合いから、皺伸ばし張力を調整することを特徴とする請求項1または3に記載の薄膜光電変換素子の製造方法。可撓性基板を巻装した巻出しロールと前記可撓性基板を巻取る巻取りロールとの間で前記可撓性基板の搬送途中に設置される成膜室と、前記成膜室内において内部に加熱ヒータを有する接地電極と、前記成膜室内において高周波電源に接続される高周波電極とを備え、前記接地電極と前記高周波電極との間に前記可撓性基板を走行させて前記成膜室内で前記可撓性基板上に薄膜を成膜する薄膜光電変換素子の製造装置において、前記可撓性基板を走行及び停止する際に、前記可撓性基板に張力を与える張力制御手段と、前記可撓性基板の搬送方向に対し前記接地電極の両側に、前記可撓性基板の搬送方向と直交する前記可撓性基板の幅方向の上部一端部を挟持する第1保持及び引張機構部と、前記可撓性基板の幅方向の下部一端部を挟持する第2保持及び引張機構部と、前記第1保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第3保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第4保持及び引張機構部とをそれぞれ配置し、前記可撓性基板の搬送を停止した状態で、前記張力制御手段により張力を与えながら、前記可撓性基板の裏面に前記接地電極を接触させて加熱し、前記第1保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部と、前記第3保持及び引張機構部と、前記第4保持及び引張機構部とにより前記可撓性基板の両端部近傍を挟持するとともに、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、前記第4保持及び引張機構部を可動することにより、互いの対向間の距離を広げるように前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜するように構成したことを特徴とする薄膜光電変換素子の製造装置。ところで、プラズマCVD装置により成膜を行う際には、薄膜を高い精度での水平な平面に形成して維持することが必要であるが、成膜に必要な加熱による基板の伸縮が可撓性基板の形状を平面にすることを阻害している。その一方で、薄膜を製造することに関し、大面積の基板にて成膜を行うことにより生産性の向上を図るという要望がある。しかしながら、上記従来の製造方法では、可撓性基板の幅方向の皺の除去は十分であるが、可撓性基板の長手方向の皺を確実に除去するのは困難である。このため、可撓性基板の長手方向の皺の発生による平坦性の低下及び、膜厚分布の安定化が阻害されている。本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであって、その目的は、可撓性基板の幅方向及び長手方向の皺の発生を防止して、大面積の可撓性基板でも、全面に亘って平坦性が向上し、均一な膜厚分布の安定化した薄膜が得られる薄膜光電変換素子の製造方法及び製造装置、並びに成膜装置を提供することにある。上記従来技術の有する課題を解決するために、本発明は、可撓性基板を巻装した巻出しロールと前記可撓性基板を巻取る巻取りロールとの間で前記可撓性基板の搬送途中に設置される成膜室と、前記成膜室内において内部に加熱ヒータを有する接地電極と、前記成膜室内において高周波電源に接続される高周波電極とを備え、前記接地電極と前記高周波電極との間に前記可撓性基板を走行させて前記成膜室内で前記可撓性基板上に薄膜を成膜する薄膜光電変換素子の製造方法において、前記可撓性基板の搬送方向に対し前記接地電極の両側に、前記可撓性基板の搬送方向と直交する前記可撓性基板の幅方向の上部一端部を挟持する第1保持及び引張機構部と、前記可撓性基板の幅方向の下部一端部を挟持する第2保持及び引張機構部と、前記第1保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第3保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第4保持及び引張機構部と、をそれぞれ配置し、前記可撓性基板の搬送を停止させ、張力を与えながら、前記可撓性基板の裏面に前記接地電極を接触させて加熱し、前記第1保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部と、前記第3保持及び引張機構部と、前記第4保持及び引張機構部とにより前記可撓性基板の両端部近傍を挟持し、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、前記第4保持及び引張機構部のいずれか1点を固定点とし、この固定点と搬送方向に対向する部位に配置された前記保持及び引張機構部が前記可撓性基板の搬送方向と平行ないし一定角度以内になるように保持して引っ張り、他の前記保持及び引張機構部が互いの対向間の距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜を行っている。また、本発明において、前記可撓性基板の対向した幅方向端部を挟持する2つの前記保持及び引張機構部のいずれかを固定とし、他の前記保持及び引張機構部は互いの対向間の距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜している。そして、本発明は、可撓性基板を巻装した巻出しロールと前記可撓性基板を巻取る巻取りロールとの間で前記可撓性基板の搬送途中に設置される成膜室と、前記成膜室内において内部に加熱ヒータを有する接地電極と、前記成膜室内において高周波電源に接続される高周波電極とを備え、前記接地電極と前記高周波電極との間に前記可撓性基板を走行させて前記成膜室内で前記可撓性基板上に薄膜を成膜する薄膜光電変換素子の製造方法において、前記可撓性基板の搬送方向に対し前記接地電極の両側に、前記可撓性基板の搬送方向と直交する前記可撓性基板の幅方向の上部一端部を挟持する第1保持及び引張機構部と、前記可撓性基板の幅方向の下部一端部を挟持する第2保持及び引張機構部と、前記第1保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第3保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第4保持及び引張機構部と、をそれぞれ配置し、前記可撓性基板の搬送を停止させ、張力を与えながら、前記可撓性基板の裏面に前記接地電極を接触させて加熱し、前記第1保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部と、前記第3保持及び引張機構部と、前記第4保持及び引張機構部とにより前記可撓性基板の両端部近傍を挟持し、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、前記第4保持及び引張機構部の4点が前記可撓性基板の搬送方向と平行ないし一定角度以内に保持し、前記搬送方向と対向する前記保持及び引張機構部間の距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜を行っている。また、本発明において、前記接地電極の前記可撓性基板の搬送方向両側に配置した、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、第4保持及び引張機構部の搬送方向に沿ったいずれかの2点を搬送方向と逆方向に引っ張り、他の前記保持及び引張機構部の2点は互いの対向間距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜している。さらに、本発明において、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、第4保持及び引張機構部の搬送方向に沿ったいずれかの2点を搬送方向に平行ないし一定角度以内になるように保持して引っ張っている。また、本発明において、前記第1保持及び引張機構部と前記第3保持及び引張機構部を上側に配置し、前記第2保持及び引張機構部と前記第4保持及び引張機構部を下側に配置した前記可撓性基板の垂直配置状態において、下側に配置した前記第2保持及び引張機構部または前記第4保持及び引張機構部の1点を固定点とし、他の前記保持及び引張機構部の引張り力及び引張り方向の釣り合いから、皺伸ばし張力を調整している。一方、本発明は、可撓性基板を巻装した巻出しロールと前記可撓性基板を巻取る巻取りロールとの間で前記可撓性基板の搬送途中に設置される成膜室と、前記成膜室内において内部に加熱ヒータを有する接地電極と、前記成膜室内において高周波電源に接続される高周波電極とを備え、前記接地電極と前記高周波電極との間に前記可撓性基板を走行させて前記成膜室内で前記可撓性基板上に薄膜を成膜する薄膜光電変換素子の製造装置において、前記可撓性基板を走行及び停止する際に、前記可撓性基板に張力を与える張力制御手段と、前記可撓性基板の搬送方向に対し前記接地電極の両側に、前記可撓性基板の搬送方向と直交する前記可撓性基板の幅方向の上部一端部を挟持する第1保持及び引張機構部と、前記可撓性基板の幅方向の下部一端部を挟持する第2保持及び引張機構部と、前記第1保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第3保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第4保持及び引張機構部とをそれぞれ配置し、前記可撓性基板の搬送を停止した状態で、前記張力制御手段により張力を与えながら、前記可撓性基板の裏面に前記接地電極を接触させて加熱し、前記第1保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部と、前記第3保持及び引張機構部と、前記第4保持及び引張機構部とにより前記可撓性基板の両端部近傍を挟持するとともに、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、前記第4保持及び引張機構部を可動することにより、互いの対向間の距離を広げるように前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜するように構成している。上述の如く、本発明に係る薄膜光電変換素子の製造方法は、可撓性基板を巻装した巻出しロールと前記可撓性基板を巻取る巻取りロールとの間で前記可撓性基板の搬送途中に設置される成膜室と、前記成膜室内において内部に加熱ヒータを有する接地電極と、前記成膜室内において高周波電源に接続される高周波電極とを備え、前記接地電極と前記高周波電極との間に前記可撓性基板を走行させて前記成膜室内で前記可撓性基板上に薄膜を成膜する成膜装置を用いて、前記可撓性基板の搬送方向に対し前記接地電極の両側に、前記可撓性基板の搬送方向と直交する前記可撓性基板の幅方向の上部一端部を挟持する第1保持及び引張機構部と、前記可撓性基板の幅方向の下部一端部を挟持する第2保持及び引張機構部と、前記第1保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第3保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第4保持及び引張機構部と、をそれぞれ配置し、前記可撓性基板の搬送を停止させ、張力を与えながら、前記可撓性基板の裏面に前記接地電極を接触させて加熱し、前記第1保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部と、前記第3保持及び引張機構部と、前記第4保持及び引張機構部とにより前記可撓性基板の両端部近傍を挟持し、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、前記第4保持及び引張機構部のいずれか1点を固定点とし、この固定点と搬送方向に対向する部位に配置された前記保持及び引張機構部が前記可撓性基板の搬送方向と平行ないし一定角度以内になるように保持して引っ張り、他の前記保持及び引張機構部が互いの対向間の距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜し、あるいは、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、前記第4保持及び引張機構部の4点が前記可撓性基板の搬送方向と平行ないし一定角度以内に保持し、前記搬送方向と対向する前記保持及び引張機構部間の距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜しているので、4箇所の保持及び引張機構部にて囲まれた領域で、隈なく可撓性基板を延伸させることが可能となる。したがって、本発明によれば、可撓性基板の大型化のため、加熱による可撓性基板の熱膨張に起因して伸縮量が増加しても、2個の引張機構部により張力を負荷することで張力負荷の不可能な位置が存在しないことになり、均一な平面が得られることで可撓性基板の平面性を向上させることができる。しかも、可撓性基板の熱膨張による伸びに対する延伸が可能となるため、可撓性基板の熱膨張による伸びによって発生していた当該可撓性基板の緩みが抑制され、当該可撓性基板に発生していた皺状の変位を抑えることができ、膜厚の均一性が良好な薄膜を形成することができる。また、本発明において、前記可撓性基板の対向した幅方向端部を挟持する2つの前記保持及び引張機構部のいずれかを固定とし、他の前記保持及び引張機構部は互いの対向間の距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜しているので、より一層、可撓性基板に発生した皺状の変位を抑えることができる。さらに、本発明において、前記接地電極の前記可撓性基板の搬送方向両側に配置した、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、第4保持及び引張機構部の搬送方向に沿ったいずれかの2点を搬送方向と逆方向に引っ張り、他の前記保持及び引張機構部の2点は互いの対向間距離を広げる方向に可動して、前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜し、また、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、第4保持及び引張機構部の搬送方向に沿ったいずれかの2点を搬送方向に平行ないし一定角度以内になるように保持して引っ張っているので、引張機構部の固定部が無くなり、可撓性基板の配置に関しては慎重な張力の釣り合いは要求されるが、高い引っ張り荷重の延伸効果が得られることになる。また、本発明において、前記第1保持及び引張機構部と前記第3保持及び引張機構部を上側に配置し、前記第2保持及び引張機構部と前記第4保持及び引張機構部を下側に配置した前記可撓性基板の垂直配置状態において、下側に配置した前記第2保持及び引張機構部または前記第4保持及び引張機構部の1点を固定点とし、他の前記保持及び引張機構部の引張り力及び引張り方向の釣り合いから、皺伸ばし張力を調整しているので、可撓性基板を垂直にして搬送した場合に、上部端部の手前に倒れが生じても、皺の伸ばし張力を調整することにより上部の倒れを抑制でき、修正した皺状変位の伸ばしを行うことができる。さらに、本発明において、前記引張機構部により前記可撓性基板に延伸効果を与える前に、張力を与え停止している前記可撓性基板の裏面の非成膜面に前記接地電極を接触させて加熱し、前記可撓性基板に熱膨張分の伸びを発生した後、引っ張り荷重を与えて延伸することにより、熱膨張分にて発生していた皺状の変位を抑制する効果を得ることができる。本発明に係る薄膜光電変換素子の製造装置は、可撓性基板を巻装した巻出しロールと前記可撓性基板を巻取る巻取りロールとの間で前記可撓性基板の搬送途中に設置される成膜室と、前記成膜室内において内部に加熱ヒータを有する接地電極と、前記成膜室内において高周波電源に接続される高周波電極とを備え、前記接地電極と前記高周波電極との間に前記可撓性基板を走行させて前記成膜室内で前記可撓性基板上に薄膜を成膜するものであって、前記可撓性基板を走行及び停止する際に、前記可撓性基板に張力を与える張力制御手段と、前記可撓性基板の搬送方向に対し前記接地電極の両側に、前記可撓性基板の搬送方向と直交する前記可撓性基板の幅方向の上部一端部を挟持する第1保持及び引張機構部と、前記可撓性基板の幅方向の下部一端部を挟持する第2保持及び引張機構部と、前記第1保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第3保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部に対向した前記可撓性基板の幅方向他端部を挟持する第4保持及び引張機構部とをそれぞれ配置し、前記可撓性基板の搬送を停止した状態で、前記張力制御手段により張力を与えながら、前記可撓性基板の裏面に前記接地電極を接触させて加熱し、前記第1保持及び引張機構部と、前記第2保持及び引張機構部と、前記第3保持及び引張機構部と、前記第4保持及び引張機構部とにより前記可撓性基板の両端部近傍を挟持するとともに、前記第1保持及び引張機構部、前記第2保持及び引張機構部、前記第3保持及び引張機構部、前記第4保持及び引張機構部を可動することにより、互いの対向間の距離を広げるように前記可撓性基板を引っ張り、延伸しながら成膜するように構成しているので、上記製造方法の発明と同様の効果を得ることができる。以下、本発明に係る薄膜光電変換素子の製造方法及び製造装置、並びに成膜装置について、その実施の形態に基づき図面を参照しながら詳細に説明する。[第1実施形態]図1は本発明の第1実施形態に係る成膜装置の概略構成配置図である。図1において、可撓性基板1を巻装した巻出しロール2aと、可撓性基板1を巻取る巻取りロール2bとの間であって、可撓性基板1の搬送途中には、成膜装置100が設置されており、可撓性基板1は、2つのロール2a,2bの回転駆動により搬送されるようになっている。成膜装置100の成膜室反応室10内には、可撓性基板1を支持し内部に基板への加熱ヒータ8を有する接地電極4と、高周波電源3aに電気的に接続される高周波電極3とが、走行させる可撓性基板1を挟んで所定の間隔を空けて対向して配置されている。しかも、可撓性基板1への加熱ヒータ8を有する接地電極4と高周波電極3とは、お互いが平行となるように配置されている。また、成膜装置100は、接地電極4と高周波電極3を内部に収納して、成膜室10を形成する仕切りとなる一対の押さえ枠5,6を備えている。これら押さえ枠5,6は、互いの開口部が向き合う断面コ字状に形成され、少なくとも一方の接地電極側の押さえ枠6は移動可能に構成されており、これら押さえ枠5,6の周辺部を重ね合わせることによって可撓性基板1を挟み込み、成膜室10を分離している。さらに、成膜装置100の成膜室10の外側に位置する内側壁面には、可撓性基板1の端部を挟持する端部保持機構部と、可撓性基板1を引っ張る引張機構部の機能を兼備している4個の保持及び引張機構部12が可撓性基板1の搬送方向の上下流の出入口付近で互いに対向して配置されている。図2A~Cは、本発明の第1実施形態における可撓性基板1の成膜室10の形成手順を示す概略断面図である。可撓性基板1を搬送するときには、図2Aに示すように、接地電極4を反対側方向に引いて、接地電極4と高周波電極3とが接触しないようになっており、成膜室10内で薄膜を形成するときには、図2Bに示すように、加熱ヒータ8を内蔵した接地電極4をY1方向へ移動させることにより可撓性基板1に押し付けて、可撓性基板1を加熱して設定の温度に昇温する。次いで、後述するように、保持及び引張機構部12により可撓性基板1に対する固定保持と張力の負荷の調整を行った後、図2Cに示すように、押さえ枠5,6を互いに向き合うY2方向へ押し込めば、当該押さえ枠5,6に囲まれた成膜室10が形成されることになる。本発明の第1実施形態に係る成膜装置100は、以上のように構成されているが、本発明はさらに、かかる成膜装置100を用いた以下の薄膜光電変換素子の製造方法及びその製造装置に関するものである。図3は、可撓性基板の保持方式を比較して示すものであり、Aは本発明の第1実施形態の平面図、Bは比較例例えば、特願2009-6352号の平面図であり、図3A、Bにおいて、Xは可撓性基板1の運動方向、1aは可撓性基板1の表面変位測定方位である。また、図3において、12A、12B、12C、12Dは可撓性基板1の保持及び引張機構部である。各保持及び引張機構部12A、12B、12C、12Dは、可撓性基板1の幅端部を挟持する保持部12A1、12B1、12C1、12D1と、引張機構部12A2、12B2、12C2、12D2とから成り、可撓性基板1を保持するととともに、可撓性基板1に引張り作用を行うことが可能に構成されている。これら保持及び引張機構部12のうち、第1の保持及び引張機構部12Aは、第1の保持部12A1により可撓性基板1の幅方向一端部を挟持するものであって、第1の引張機構部12A2は可動せず可撓性基板1上に固定されている。また、保持及び引張機構部12のうち、第2の保持及び引張機構部12Cは、第1の保持及び引張機構部12Aに対向して配置されており、第1の保持部12A1に対向した可撓性基板1の幅方向他端部を第2の保持部12C1により挟持するとともに、第2の引張機構部12C2により、図3の矢印方向の外向きの引張り荷重12C3を可撓性基板1に与えるように構成されている。さらに、保持及び引張機構部12のうち、第3の保持及び引張機構部12Bは、第1の保持及び引張機構部12Aから可撓性基板1の長手方向に距離S1の間隔を空けて設けられ、第3の保持部12B1により可撓性基板1を挟持し、かつ、第3の引張機構部12B2により、図3Aの矢印方向の引張り荷重12B3、つまり可撓性基板1の搬送方向矢印X方向またはやや垂直方向に角度αを付けて、可撓性基板1を引張り、該可撓性基板1に張力を与えるように構成されている。この角度αは、後述するように±15°以内が好適である。そして、保持及び引張機構部12のうち、第4の保持及び引張機構部12Dは、第2の保持及び引張機構部12Cから可撓性基板1の長手方向に距離S2の間隔を空けて設けられ、第4の保持部12D1により可撓性基板1を挟持し、かつ、第4の引張機構部12D2により、図3の矢印方向の外向きの引張り荷重12D3を可撓性基板1に与えるように構成されている。なお、本発明の第1実施形態において、第1及び第2の保持及び引張機構部12A,12Cと、第3及び第4の保持及び引張機構部12B,12Dの具体的な構成は、図7に示した特許文献1の第1保持機構部30、第2保持機構部40及び引張機構部50と30,40,50は、特許文献1の符号同様な構成を有している。次に、前記第1実施形態に係る成膜装置100を用いた薄膜光電変換素子の製造方法及びその製造装置の作用効果について説明する。図3Aは本発明の第1実施形態の基板変位を示し、図3Bは比較例特願2009-6352号の基板変位を示している。図3A及びBのどちらにおいても、A点は固定点であり、可撓性基板1の位置が固定されている。図3Bに示す比較例特願2009-6352号の成膜工程では、接地電極のみが可撓性基板1の非成膜面に移動して接触しながら可撓性基板1を加熱し、特許文献1特開2005-72408号公報と同様に、第1保持機構部と第2保持機構部とにより可撓性基板1の両端部を挟持し、挟持しながら第1保持機構部と第2保持機構部をお互いの距離が広がる方向へ引張機構部によって移動させて可撓性基板1の両端部を基板長手方向に引っ張る。そして、押さえ枠を移動して可撓性基板1を押さえ込んで挟み、成膜室の開口部を閉じて放電空間を形成した状態で、可撓性基板1に対して成膜している。図3Bの比較例では、第1の保持及び引張機構部12Aにより挟持される可撓性基板1の位置が固定点であることから、第1の保持及び引張機構部12Aと第3の保持及び引張機構部12Bとの距離S3は固定されるため、これら第1の保持及び引張機構部12A~第3の保持及び引張機構部12B間距離S3における可撓性基板1の熱伸びを延伸することはできなかった。このため、可撓性基板1の第1の保持及び引張機構部12Aと第3の保持及び引張機構部12B間の熱による伸びが長くなり、第1の保持及び引張機構部12Aと第3の保持及び引張機構部12B間の距離が長くなると、可撓性基板1の熱伸びによる皺が発生することになる。この皺は、第2の保持及び引張機構部12Cと第4の保持及び引張機構部12Dとの間距離S4においても同様に、張力が負荷された方位に皺が伝播して広がり、その結果、可撓性基板1の平面性を低下させることになった。一方、本発明の第1実施形態では、図3Aに示すように、第3の保持及び引張機構部12Bは、第1の保持及び引張機構部12Aから可撓性基板1の長手方向に距離S1の間隔を空けて設けられ、可撓性基板1を挟持し、かつ図中矢印方向の引張り荷重12B3を可撓性基板1に与えている。すなわち、第3の保持及び引張機構部12Bによる可撓性基板1の保持点Bにおいて、基板1の搬送方向矢印X方向またはやや垂直方向に角度αを付けて、第3の保持及び引張機構部12Bによって可撓性基板1に張力を与えている。この角度αは、±15°以内が好適である。この張力により、可撓性基板1の両端部近傍の2箇所第1の保持及び引張機構部12Aと第2の保持及び引張機構部12Cを挟持しながら、第1の保持及び引張機構部12Aと第2の保持及び引張機構部12Cから長手方向に距離S1、S2の間隔を空けて設けた第3の保持及び引張機構部12Bと第4の保持及び引張機構部12Dにより、可撓性基板1の互いの距離を広げる方向に保持しながら引っ張るので、4箇所の保持及び引張機構部12A~12Dに囲まれた領域で、隈なく可撓性基板1を延伸させることが可能となる。本発明の第1実施形態は、図3Aの可撓性基板1の保持方式によって、可撓性基板1の皺状変位を抑制する手段を提供するものである。図4A~Dは、本発明の第1実施形態における皺状変位を抑える手順を示す概略断面図である。図3に示されるような可撓性基板1の保持方式において、熱膨張により発生する可撓性基板1の皺状の変位を抑える効果を十分に得るには、既に説明した引張り荷重を可撓性基板1に与える以前に、搬送停止している可撓性基板1の長手方向に搬送張力を与えながら、加熱ヒータ8を内蔵した接地電極4を可撓性基板1の裏面の非成膜面に接触させ、熱膨張による皺状変位を発生させる加熱工程を行う手順を踏む必要がある。本発明の第1実施形態では、図3Aの可撓性基板1の保持方式において、搬送張力30N~100Nを与えながら、加熱を行った。図4A~Dにおいては、図1及び図3Aと同様に、成膜装置100や保持及び引張機構部12A,12B,12C,12Dが配置構成されている。図4Aは、可撓性基板1が成膜室10に搬送され、張力を与えながら停止した状態を示している。この状態において、第1~第4の保持及び引張機構部12A~12Dを構成する保持部12A1~12D1と引張機構部12A2~12D2は、可撓性基板1から離間して配置されている。この状態で可撓性基板1の裏面の非成膜面に、加熱ヒータ8を内蔵した接地電極4を押し当て、図4Bに示すように、接触させて加熱する。この加熱により、可撓性基板1は熱膨張して伸びが生じ、当該可撓性基板1の幅方向には、伸びを引っ張る力が作用されておらず、図4Bに示すように、皺13が発生する。この状態において、第1~第4の保持及び引張機構部12A~12Dを構成する引張機構部12A2~12D2は、可撓性基板1に接触して配置されている。この発生した皺13を伸ばすため、図4Cに示すように、可撓性基板1の幅端を第1~第4の保持部12A1,12B1,12C1,12D1により挟持し、最終的には図4Dに示すように、第2の引張機構部12C2、第3の引張機構部12B2、第4の引張機構部12D2により幅方向矢印Z方向の引張り力を与えて、可撓性基板1の幅方向に発生した皺13を伸ばし、膜厚の均一性が良好な成膜形成を可能とする。なお、本発明の第1実施形態において、第1の保持及び引張機構部12Aは、第1の保持部12A1が可撓性基板1を挟持した状態で第1の引張機構部12A2が作動して引っ張ったりせず固定としているが、他の保持及び引張機構部12B~12Dの引張機構部、すなわち第2の引張機構部12C2、第3の引張機構部12B2、第4の引張機構部12D2との引張り力とバランスを取ることにより、第1の引張機構部12A2に引張り力を与えることは可能である。このような手順を踏まずに、引張り工程を実施した後、加熱した場合は、可撓性基板1に与えている引張り荷重に沿う皺13が発生することになり、皺状の変位を抑える効果は得られない。また、可撓性基板1を垂直の状態、例えば、第1の保持及び引張機構部12Aと第3の保持及び引張機構部12Bを上側に配置し、第2の保持及び引張機構部12Cと第4の保持及び引張機構部12Dを下側に配置して、垂直に搬送した場合は、可撓性基板1の自重による垂れ下がりが生じて基板自体の形状強度により下部で変形が拘束され、可撓性基板1の上部端部は手前に倒れが生じる。この倒れは、可撓性基板1の4点の挟持点、すなわち第1の保持部12A1、第2の保持部12C1、第3の保持部12B1、第4の保持部12D1のうち、固定点を1点配置する場合は下部に設置し例えば、第2の保持部12C1を垂直の下側に設置する、他の3点の挟持点すなわち第1の引張機構部12A2、第3の引張機構部12B2、第4の引張機構部12D2の、引張り力及び引張り方向の釣り合いを取り、皺13の伸ばし張力を調整して、上部の倒れを修正した皺13の伸ばしを行うことが可能である。したがって、本発明の第1実施形態の製造方法及び製造装置によれば、皺状変位の計測及び皺伸ばしを行っているから、可撓性基板1の大型化のため、加熱による可撓性基板1の熱膨張に起因して伸縮量が増加しても、2個第3及び第4の保持及び引張機構部12B,12Dの引張機構部12B2,12D2により、可撓性基板1の幅端に幅方向矢印Z方向の張力を負荷することで張力負荷の不可能な位置が存在しないことになり、平面性の向上を図ることができて、可撓性基板1の熱膨張による伸びが延伸可能となる。これにより、可撓性基板1の熱膨張による伸びによって発生していた当該可撓性基板1の緩みが抑制され、当該可撓性基板1に発生していた皺状の変位を抑えることができる。また、可撓性基板1の幅方向に発生した皺13を伸ばすことにより、膜厚の均一性が良好な成膜を形成することができる。図5は、1m幅の可撓性基板1を用い、第1実施形態の基板表面の皺状変位と上記比較例の基板表面の皺状変位とを比較した線図である。すなわち、図5Aは、第1実施形態における可撓性基板1の皺状変位の実測値、図5Bは、比較例における可撓性基板1の皺状変位の実測値である。図5から明らかなように、Aで示す本発明の第1実施形態においては、前述の方法を行ったことにより、Bで示す比較例に比べて可撓性基板1の皺状変位が大幅に減少し、小さな変位に収まっていることが分かる。[第2実施形態]図6は、本発明の第2実施形態における可撓性基板の保持方式を示す平面配置図である。この第2実施形態においては、可撓性基板1の第2の保持及び引張機構部12Cと第4の保持及び引張機構部12Dを構成する、第2の引張機構部12C2と第4の引張機構部12D2を上記第1実施形態と同様に外向きに対称に配置している。また、可撓性基板1の第1の保持及び引張機構部12Aと第3の保持及び引張機構部12Bを構成する、第1の引張機構部12A2と第3の引張機構部12B2の引張り荷重の作用方向を、可撓性基板1の幅方向線1cを基準に対称に配置して、該幅方向線1cに対称な逆方向に作用させている。すなわち、第3の引張機構部12B2は、可撓性基板1の搬送方向矢印X方向またはやや垂直方向に角度αを付けて、可撓性基板1を保持して引っ張るとともに、第1の引張機構部12A2は、可撓性基板1の搬送方向矢印X方向と逆方向またはやや垂直方向に角度αを付けて、可撓性基板1を保持して引っ張っている。その他の構成及び配置は、上記第1実施形態と同様である。このように、第1~第4の保持及び引張機構部12A,12B,12C,12Dを遊動的に配置すれば、保持及び引張機構部の固定部が無くなるため、可撓性基板1の配置に関しては慎重な張力の釣り合いを要求するが、高い引張り荷重の延伸効果が得られることになる。その他の作用効果は、上記第1実施形態と同様である。また、可撓性基板1を垂直の状態で搬送した場合の倒れについても同様であり、可撓性基板1の4点の挟持点のうち、1点を固定点として下部に設置し、他の3点の挟持点の引張り力及び引張り方向の釣り合いを取り、皺13の伸ばし張力を調整して、上部の倒れを修正した皺13の伸ばしを行うことができる。以上、本発明の実施の形態につき述べたが、本発明は既述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変更及び変形が可能である。"