"セラミック粉末の前駆体の混合物から、少なくとも1種の炭素源の存在下で、セラミック粉末を製造するための方法。炭素源が液体、固体、気体の形態であるか、または不均一系の形態である、請求項1記載の製造方法であって、該方法が、該方法の開始時に使用されるセラミック粉末前駆体の混合物の均一化を促進する溶媒の存在下で、少なくとも部分的に実施される、前記方法。液体形態の炭素源が、1種以上の炭化水素;または、分子量が50,000より高い1種以上のポリマー;からなる群から選択される、請求項1記載の製造方法。液体炭素源が室温での液体炭化水素の混合物からなる、請求項3記載の製造方法。室温での液体炭化水素の混合物が製油所の廃棄物からなる、請求項4記載の製造方法。製油所の廃棄物が石油コークスまたは破壊コークスからなる、請求項5記載の製造方法。液体形態の炭素源が含酸素ポリマーの混合物からなるかまたは含酸素ポリマーをベースとする、請求項3記載の製造方法。液体形態の炭素源がアセトニトリル中ポリマー酸化物の混合物からなる、請求項7記載の製造方法。固体形態の炭素源が、合成炭素粒子もしくは天然炭素粒子、またはそれらの混合物から選択される、請求項1~8のいずれか1項に記載の製造方法。炭素の粒子が、ケッチェンブラック粒子、シャウィニガンブラック粒子、またはそれらの混合物である、請求項9記載の製造方法。使用する固体炭素源が50より高い純度を有する、請求項9または10に記載の製造方法。固体炭素源中に存在する不純物が、硫黄、窒素および酸素からなる群から選択される、請求項9~11のいずれか1項に記載の製造方法。気体形態の炭素源が、アルカン、アルケン、アルキンまたはこれらの混合物からなる群から選択される、請求項1~12のいずれか1項に記載の製造方法。気体炭素源が、CH4、C2H6,C2H2およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項13記載の製造方法。以下の工程:a炭素源の存在下で、最終的には溶媒の存在下で均一化して、熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる前駆体粒子の均一な混合物を得ること;b工程aで得られる均一混合物中に最終的に存在する溶媒を除去すること;およびc炭素源が本質的に炭素からなるものではない場合に、工程aまたはbで得られる均一混合物の熱処理により、工程aまたはbで得られる前駆体の均一混合物中に存在する残留炭素を乾留することのうち少なくとも1つを含む、請求項1~14のいずれか1項に記載のセラミック粉末の製造方法。均一化工程aが粉砕により実施される、請求項15記載の製造方法。粉砕が高エネルギータイプである、請求項16記載の製造方法。除去工程bの間の温度が40~150°Cである、請求項15~17のいずれか1項に記載の製造方法。溶媒の除去の温度が60~120°Cである、請求項18記載の製造方法。炭素源ならびに溶媒が工程aの間に導入される、請求項3~19のいずれか1項に記載の製造方法。還元性雰囲気下で少なくとも部分的に実施される、請求項1~20のいずれか1項に記載の製造方法であって、還元性雰囲気により、反応混合物中に存在する炭素の二酸化炭素への変態が防止され、炭素でコートされたセラミック粉末の粒子が得られる、前記製造方法。固体炭素源が10~900ナノメートルの大きさの炭素の粒子からなる、請求項1~21のいずれか1項に記載の製造方法。使用される炭素の粒子が、BET法にしたがって測定して50m2/gより大きい比表面積を有する、請求項22記載の製造方法。熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、ZrO2粒子及びY2O3粒子の混合物であり、好ましくは、ZrO2粒子がx重量パーセントとY2O3粒子が100-x重量パーセントとからなる混合物であり、ここで、xは1~99であり、より好ましくは、xは50に近い、請求項15~23のいずれか1項に記載の製造方法。熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、Li2CO3粒子及びTiO2粒子の混合物であり、好ましくは、Li2CO3粒子がx重量パーセントとTiO2粒子が100-x重量パーセントとからなる混合物であり、ここで、xは1~99であり、より好ましくは、xは50に近い、請求項15~23のいずれか1項に記載の製造方法。熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、Li2CO3粒子及びTiO2粒子の混合物であり、好ましくは、Li2CO3粒子がx重量パーセントとTiO2粒子が100-x重量パーセントとからなる混合物であり、ここで、xは1~99であり、より好ましくは、xは50に近く、そして、炭素源は好ましくはポリオキシエチレンをベースとするポリマーであり、好ましくは、平均分子量が54,000であるポリオキシエチレンをベースとし、前記ポリオキシエチレンは、好ましくは、均一化工程を実施する前に水性溶媒又はアセトニトリルなどの有機溶媒中に溶解される、請求項15~23のいずれか1項に記載の製造方法。セラミック生成物をもたらすことができる粒子の混合物が、1ナノメートル~10マイクロメートルの大きさ、好ましくは、20ナノメートル~800ナノメートルの大きさを有する、請求項15~26のいずれか1項に記載の製造方法。ZrO2、Y2O3、TiO2またはLi2TiO3の粒子が1~10ミクロンの大きさを有する、請求項24~27のいずれか1項に記載の製造方法。固体炭素源が、好ましくは炭素粉末であり、D50が10ナノメートル~10マイクロメートル、好ましくは100ナノメートル~2マイクロメートルであることを特徴とする大きさの分布を有する、請求項15~27のいずれか1項に記載の製造方法。炭素源が、粉末形態のポリマーまたは炭化水素からなり、その粒子が10ナノメートル~500ナノメートル、好ましくは10~200ナノメートルのD50を有する、請求項15~28のいずれか1項に記載の製造方法。熱処理によりセラミック生成物をもたらすことができる炭素源が、D50が10ナノメートル~10マイクロメートル、好ましくは100ナノメートル~2マイクロメートルであることを特徴とする大きさの分布を有する、請求項15~29のいずれか1項に記載の製造方法。使用される粒子が、D50が1マイクロメートル以下に近い、より好ましくはD50が1マイクロメートル以下であることを特徴とする大きさ寸法を有する、請求項1~30のいずれか1項に記載の製造方法。均一化が、方法の工程aにおいて、好ましくは日本国HOSOKAWA製のAglomasterミキサーにより乾燥条件下で、及び/又は、好ましくは日本国HOSOKAWA製のメカノフュージョンデバイスにより溶媒中で実施される、請求項15~31のいずれか1項に記載の製造方法。工程aが1~3時間続く、請求項15~32のいずれか1項に記載の製造方法。工程aが約2時間続く、請求項33記載の製造方法。工程cが3~24時間続く、請求項6~34のいずれか1項に記載の製造方法。工程cが約3時間続く、請求項35記載の製造方法。少なくとも1つの工程が、不活性雰囲気下で、好ましくは窒素もしくはアルゴン、またはこれらの混合物の雰囲気下で実施される、請求項1~36のいずれか1項に記載の製造方法。本方法の少なくとも1つの工程が、方法の最後に得られるセラミック粉末から痕跡量の残留炭素を除去するために、空気または純粋な酸素などの酸素源の存在下で実施される、請求項1~37のいずれか1項に記載の製造方法。炭素源が少なくとも部分的に液体及び/又は気体の形態である、請求項15記載の製造方法。工程aの溶媒除去が、200~500°C、好ましくは約400°Cの温度で、12~24時間、好ましくは約20時間の熱処理により実施される、請求項39記載の製造方法。乾留工程が、熱処理によりセラミック製品をもたらすことができる混合物を均一化するために使用した反応器中で実施される、請求項40記載の製造方法。得られるセラミック粉末の粒子が10nm~1ミクロンの粒子径を有する、請求項1~41のいずれか1項に記載の製造方法。得られるセラミック粉末の粒子径の寸法が50~500nmである、請求項42記載の製造方法。均一化工程aにおける温度が20~40°Cである、請求項15~43のいずれか1項に記載の製造方法。工程aの温度が約25°Cである、請求項44記載の製造方法。乾留工程cの温度が200~450°Cである、請求項15~45のいずれか1項に記載の製造方法。工程cの温度が約400°Cである、請求項47記載の製造方法。方法において使用される炭素源の量が、熱処理によりセラミックをもたらすことができる粒子の2~10重量パーセント、好ましくは約6重量パーセントである、請求項15~47のいずれか1項に記載の製造方法。炭素源がポリマーであり、方法において使用されるポリマーの量が、熱処理によりセラミックをもたらすことができる粒子混合物の5~30重量パーセント、好ましくは約20重量パーセント、より好ましくは約10重量パーセントである、請求項15~47のいずれか1項に記載の製造方法。粉砕に供される粒子混合物中のY2O3の量が5~15重量パーセントであり、ZrO2の量が5~15重量パーセントである、請求項24及び26~49のいずれか1項に記載の製造方法。工程bまたは工程cにおいて得られるセラミック粉末がナノタイプである、請求項15~50のいずれか1項に記載の製造方法。得られるセラミック粒子の粒子径が10~900ナノメートルである、請求項51記載の製造方法。請求項1~52のいずれか1項に記載の製造方法により得られるセラミック粉末。請求項1~52のいずれか1項に記載の工程と、得られるセラミック粉末を、800°Cより高い温度で、好ましくは3~24時間の少なくとも1回の熱処理に供する工程とを含む、セラミック製品を製造するための方法。請求項55記載の製造方法により得られるセラミック製品。請求項54記載のセラミック粉末または請求項56記載のセラミック製品の燃料電池の分野または自動車の分野に分野における使用。ピストンヘッドを製造するための請求項57記載の使用。セラミック製アノードまたはセラミック電解質を製造するための請求項57記載の使用。請求項38記載の方法を実施することにより得られるセラミック粉末のセラミック電気絶縁体の製造における使用。本発明の説明本発明の第一の目的は、液体、固体、気体又は不均一な形態の少なくとも一つの炭素源の存在下で、前駆体の混合物からセラミック粉末を製造するための方法にある。使用される炭素源は、例えば、炭化水素又は製油所廃棄物中に懸濁しているグラファイト粒子の形態である。この方法は、均一化、より特定的には、前駆体の塊の形成を防ぐための均一化に供される、もとの混合物の前駆体を分散させる働きをする溶媒の存在下で実施することが有利である。この溶媒は、好ましくは有機タイプであり、好ましくは、水、有機溶媒及び無機溶媒からなる群から選択される。有機溶媒としては、アルコール、エステル及びケトンが好ましい。本発明の有利な態様にしたがえば、この方法を実施するために使用される炭素源は、気体の形態であり、次のもの:-1種以上の炭化水素、好ましくは、製油所廃棄物好ましくは、石油コークス又は破壊コークスなどの室温で液体形態である炭化水素の混合物;又は-50,000より高い分子量を有する1種以上のポリマー、好ましくは、アセトニトリル中のプロピレンオキシドの混合物などの酸化されたポリマーから誘導されるか、又はそれに基づく混合物、からなる。有利な態様にしたがえば、液体形態の炭素源は、ケッチェンKetjenブラック、シャウィニガンShawiniganブラック又はそれらの混合物の粒子などの、合成又は天然炭素粒子からなる群から選択される。好ましくは、固体形態で使用される炭素源は、50より高い純度を有し、不純物は、存在する場合は、好ましくは硫黄、窒素及び酸素からなる群から選択される。炭素源が気体形態である場合は、アルカン、アルケン又はこれらの混合物からなる群から選択される。気体の炭素源は、好ましくは、CH4、C2H6、C2H2又はこれらの混合物などのガスである。本発明にしたがったセラミック粉末を製造するための方法は、次の工程:a熱処理によりセラミックスをもたらすことができる粒子の混合物を、炭素源の存在下、最終的には溶媒の存在下で、好ましくは粉砕により、より好ましくは高エネルギー粉砕により均一化して、均一な混合物を得る工程;b使用された溶媒を除去する工程;及びc炭素源が本質的に炭素からなるものではない場合に、工程a又はbで得られる均一混合物を熱処理することにより、工程a又はbで得られる混合物中に存在する残留炭素を乾留する工程、のうち少なくとも一つを含む。工程aで得られた均一混合物からの溶媒の除去は、好ましくは40~150°Cの温度、より好ましくは60~120°Cの温度で、実施する。炭素源及び溶媒の導入は、好ましくは、工程aの始めに実施するが、また、工程aの間に実施してもよい。本方法を還元性雰囲気好ましくは、窒素、アルゴン、又はこれらの混合物により形成される下で実施することにより、炭素によりコートされたセラミック粉末の粒子を得ることができる。固体炭素源は、10~900ナノメートルの大きさを有し、BET法にしたがって測定した比表面積が50m2/gより大きい炭素の粒子からなることが有利である。本方法の特に興味深い態様によれば、熱処理によりセラミックスを得ることができる粒子の混合物は、ZrO2粒子とY2O3粒子の混合物である。この混合物は、好ましくは、ZrO2粒子x重量パーセントとY2O3粒子100-x重量パーセントとからなる。ここで、xは1~99である。更に、xは50に近いことがより有利である。本発明の別の特定の態様によれば、熱処理によりセラミックスを得ることができ、本発明を実施するために使用される粒子の混合物は、Li2CO3粒子及びTiO2粒子からなる。この混合物は、Li2CO3粒子x重量パーセントとTiO2粒子100-x重量パーセントとからなる。ここで、xは1~99である。更に、xは50に近いことがより有利である。別の特定の態様によれば、熱処理によりセラミックスを得ることができる粒子の混合物は、Li2CO3粒子及びTiO2粒子からなる。この混合物は、Li2CO3粒子x重量パーセントとTiO2粒子100-x重量パーセントとからなる。ここで、xは1~92である。この場合において、炭素源は、ポリオキシエチレンをベースとするポリマーからなることが好ましい。このポリオキシエチレンは、54,000の平均分子量を有することが好ましく、均一化工程の前に水溶液又はアセトニトリルなどの有機溶媒中に溶解することが有利である。本方法を実施するためには、セラミックスを得ることができる混合物の粒子は、好ましくは、1ナノメートル~10マイクロメートルの大きさを有する。この大きさは、更に、20~800ナノメートルであることがより有利である。大きさが1~10ミクロンであるZrO2、Y2O3、TiO2又はLiTiO3の粒子に関して本調製法を実施する場合に、特に有利な結果が得られる。炭素粉末としては、D50が10ナノメートル~10マイクロメートル、より特定的には、D50が100ナノメートル~2マイクロメートルであることを特徴とする大きさの分布を有するものが挙げられる。炭素源からの粉末が粉末形態のポリマー又は炭化水素からなる場合は、D50が10~500ナノメートル、好ましくはD50が100~200ナノメートルである対応する粉末が有利と考えられる。熱処理によりセラミックスをもたらすことができる炭素源の粒子に関しては、D50が10ナノメートル~10マイクロメートルであることを特徴とする大きさの分布を有するものが好ましい。D50が100ナノメートル~2マイクロメートルであるものが特に興味深い。一般的には、本方法において使用される種々の粒子が、実質的に同様なグラニュロメトリーを有する場合に、より特定的には、D50が1マイクロメートル以下であることを特徴とする場合に、興味深い結果が得られる。均一化を本方法の工程aにおいて乾燥条件下で実施する場合は、HOSOKAWA社のAglomasterミキサーを使用するのが好ましい。均一化を工程aにおいて湿潤条件下で実施する場合は、日本国HOSOKAWA社のメカノフュージョンデバイスを使用するのが有利である。特にAglomasterタイプのミキサーについて、均一化速度は、好ましくは1500~3000rpmである。工程aは一般的には1~3時間継続する。工程aは約2時間継続することが好ましい。一方、工程cは2~24時間継続する。工程cは約3時間継続することが好ましい。本発明の有利な態様によれば、炭素を最終製品中に維持するためには、各工程を、不活性雰囲気下、好ましくは、窒素、アルゴン、又はこれらの混合物の雰囲気下で実施する。さもなければ、炭素は酸化され、蒸発により二酸化炭素として除去される。本方法の最後に得られるセラミック粉末から痕跡量の残留炭素を除去することが望ましい場合は、次いで、本方法の少なくとも一つの工程を、空気又は純粋な酸素などの酸素源の存在下で実施する。この対策は、特に、残留炭素の存在が、この粉末から調製しようと意図するセラミックスの品質に対して悪影響を及ぼし得る場合に必要である。炭素源は、部分的に、液体の形態及び/又は気体の形態であってもよい。工程bの有利な態様によれば、溶媒の除去は、200~500°Cの温度、より好ましくは約400°Cの温度で実施する。この熱処理は、熱処理として都合のよいことには、12~24時間、好ましくは約20時間継続する。本発明の好ましい態様によれば、乾留工程は、熱処理によりセラミックスをもたらすことができる混合物の均一化を実施するために使用した反応器中で実施する。本発明したがった調製法により、例えば、その粒子が10ナノメートル~1ミクロンの大きさ寸法を有するセラミック粉末を得ることができる。得られるセラミック粉末粒子の大きさは、都合のよいことには、50~500nmである。均一化工程aにおいて、温度は、20~40°Cに設定するのが有利であり、より好ましくは、この温度は約25°Cである。乾留工程bにおいて、温度は、700~1200°Cに設定するのが有利であり、より好ましくは、この温度は約1100°Cである。本方法において使用される炭素源の量は、熱処理によりセラミック粉末をもたらすことができる粒子の混合物の2~10重量パーセント、好ましくは6重量パーセントであることが有利である。セラミック粉末の調製のためにY2O3及びZrO2の粉末混合物を使用する特定の態様においては、粉砕に供される粒子の混合物中Y2O3の量は5~15であり、ZrO2の量は5~15重量である。本発明にしたがった調製法により、都合のよいことには、工程bの終わり又は工程cの終わりにナノタイプの構造を有するセラミック粉末を得ることができ、より好ましくは、そうして得られるセラミック粉末の大きさは10~900ナノメートルである。本発明の第二の目的は、本発明の目的である方法の一つにより得ることができるセラミック粉末にある。これらの粉末は、例えば、均一な大きさ分布及び/又は0.05~10の残留炭素含量を特徴とする。本発明の第三の目的は、各工程が本発明の第一の目的の枠組みの範囲内に規定される、セラミック粉末を調製する複数の工程、ならびに、得られるセラミック粉末を供する最終工程を含む、セラミック粉末を調製するための方法にあり、セラミック粉末から一定のセラミック粉末への変化の通常の様式にしたがえば、少なくとも一回の熱処理は、800°Cより高い温度で、好ましくは3~24時間行われる。本発明の第四の目的は、本発明の第三の目的にしたがった方法により得ることができるセラミック製品にある。これらのセラミック製品としては、残留炭素を含有するものが特にその導電性に関して興味深い。本発明の第五の目的は、本発明にしたがった粉末又はセラミック製品の燃料電池の分野又は自動車の分野における使用、より好ましくはピストンヘッドの製造における使用により構成される。また、これらの粉末及びセラミック製品は、都合のよいことには、アノード又はセラミック電解質の製造のためにも使用され、残留炭素が除かれたものは、都合のよいことには、電気絶縁体の製造において使用される。本発明の好ましい態様の説明本発明にしたがったセラミック粉末を調製するための方法は、都合のよいことには、図2に示すように、二工程で実施される。セラミック粉末を調製するための第一の工程は、例えば、混合が均一となるまで、好ましくは1~2時間高エネルギーで機械的に粉砕することにより、好ましくはZrO2及びY2O3の混合物から炭素の存在下で粉末を調製することにある。セラミック粉末を調製するための第二の工程は、第一の工程において得られた粉末を、好ましくは850°Cの温度で、好ましくは3時間、加熱することにある。こうして得られるセラミック粉末は、ナノメートル寸法の粉末である。セラミック粉末の形成はX線回折により確認される。この方法は、わずか二工程を含むだけであり、更にこれらの工程は短く、必要とするエネルギー入力は小さいことから、簡単に実施することができる。最終的には、別の利点として、ナノ形態がわずか5時間後に得られる。更に、セラミック粉末の製造のために必要なエネルギーは、本明細書に添付する図2に示すように、ごくわずか、すなわち約17KWhである。本発明にしたがったセラミック製品を調製するための方法は、得られるセラミックを800°Cより高い温度で熱処理する間にセラミック製品を製造する工程を含む。実施例以下の実施例は、純粋に説明のために与えられ、本発明の任意の限定を構成するものと解釈すべきではない。セラミック製品を製造するための従来法本明細書に添付する図1は、複数の粉砕及び熱処理工程においてセラミック製品を製造するこれらの方法の一つを示す。このような方法の継続時間は約150時間であり、約1kgのセラミック製品を調製するために使用されるエネルギーは、600kWhのオーダーであり、無視できない製造コストを必要とする。実施例1-炭素でコートされたLiTi2O4粒子を含むセラミック粉末の乾燥調製Li2TiO3粉末を調製する予備工程この工程は、粒子径20ナノメートルのアナターゼ構造をもつTiO2粉末カナダ-VarennesのKronossから20グラムと、粒子径500ナノメートルのLi2CO3粉末カナダ、Aldrichにより市販18.5gとを混合することにある。1時間共粉砕することにより均一化した後に、微細な粒度をもつ粉末が得られる。この共粉砕は、二つの連続工程において400°C次いで750°Cにてそれぞれ1時間及び10時間加熱することにより実施する。LiTi2O4の調製この第二の工程においては、予備工程において得られた式Li2TiO3の生成物A10グラムからなる混合物Bを、TiO210.8グラム、Ti2O3カナダ、Aldrich19.4グラム、及びシャウィニガンカーボンブラック2.4グラムと混合する。1時間室温で均一に粉砕した後、微細な粒度の粉末が得られる。得られる混合物は、また、アルゴン下で15時間再加熱する。仕上がり製品は、LiTi2O4タイプの構造をもつセラミック粉末である。実施例2-ポリマー誘導炭素でコートされたLiTi2O4粒子の乾燥調製この調製は、固体炭素源をPOEをベースとするポリマー、すなわち平均分子量900,000のポリオキシエチレンと取り替えた以外は、実施例1と同様に実施する。このポリマーを過剰な水中に溶解してから、炭素を含まない組成物Bと混合する。使用される異なる粉末の重量は、実施例1と同様であり、このポリマーの重量は25グラムである。まず、この混合物を120°Cで24時間乾燥させる。1時間均一に粉砕した後、微細な粒度をもつ粒子が得られる。得られる混合物は、アルゴン下で15時間再加熱する。最終製品はLiTi2O3タイプの構造を有する。実施例3-セラミック製品の調製実施例1及び2において得られたセラミック粉末を750°Cより高い温度で15時間以上加熱することにより、セラミック製品が得られる。本発明を特定の態様により説明してきたが、これらの態様には多くの変更及び修飾を施すことができ、本発明は、本発明、次いで一般的には、本発明の活動の分野において知られるようになる又は慣用的になるであろう本開示のあらゆる変更と、特許請求の範囲にしたがって上述の本質的要素に適用することができる本開示のあらゆる変更とを含めて、本発明の原理のそうした修飾、使用、又は適合を含むことを意図することは理解すべきである。"