"シリコンおよびニオビウムを基にした複合耐火物の表面上に高温酸化に対する保護被膜を形成する方法であって、その第1相は調節可能な粘塑性特性を有するシリカSiO2を基にした酸化物相であり第2相はシリコン、クロムおよび酸素CrSiOを基にする2相を有する複合被膜を生成させるために、保護される表面上に存在するクロムを、シリコンおよび酸素を含む反応性ガスと反応させ、前記第1相および第2相を高温で合体させ、これによって保護被膜が形成され、前記第2相が、作業中に、酸化ガスとの反応によって前記第1相を改質するリザーバーとして作用することを特徴とする方法。前記反応性ガスは一酸化シリコンSiOを含み、1450°C以上の温度に置かれたシリカSiO2を含むドナーセメントからinsituで生成されることを特徴とする請求項1記載の方法。ドナーセメントが粉末の形態のシリカSiO2および炭化シリコンSiCの混合物を含むことを特徴とする請求項2記載の方法。シリカSiO2を基にした第1相が、ホウ素および/またはゲルマニウム型の溶融元素を更に含み、これにより、作業温度範囲にしたがってこの相の粘組成特性を調整することが可能になることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の方法。第1相がホウ素を更に含み、前記反応性ガスが一酸化シリコンSiOおよび一酸化ホウ素BOを含むことを特徴とする請求項4記載の方法。複合物に関して、粉末形態のシリカSiO2および炭化シリコンSiCを含むドナーセメントから生成される一酸化シリコンSiOを含む第1反応性ガスをまず反応させ、次いで粉末形態のシリカSiO2および炭化ホウ素B4Cを含む第2のドナーセメントから生成される一酸化シリコンSiOおよび一酸化ホウ素BOを含む第2の反応性ガスを反応させることを特徴とする請求項5記載の方法。保護される表面上に存在するクロムの全部または一部が、シリコンおよびニオビウムを基にした複合物に由来することを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の方法。前記保護される表面上に存在するクロムの全部または一部が、所望の厚さの層を形成するための前記保護される表面上の事前蒸着によって得られることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の方法。事前蒸着物が、電解蒸着技術によってもしくはカソード噴霧法による蒸着によって得られ、前記層の所望の厚さが5~20μmであり、好適な厚さが15μmであることを特徴とする請求項8記載の方法。前記保護される表面上に事前にスズの蒸着物が形成され、好ましくはそれに続いて減圧で熱処理作業を行うことを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の方法。前記保護される表面上に、白金、パラジウムおよび金から選択される貴金属の蒸着物を事前に形成し、好ましくは続いて相互拡散アニーリング作業を実施する、請求項1~8のいずれか1項に記載の方法。前記保護される表面上に事前に窒化チタンの蒸着物を形成する、請求項1~8のいずれか1項に記載の方法。請求項1~12のいずれか1項に記載の方法を実施することによって得られる保護被膜。その一表面が、請求項1~12のいずれか1項に記載の方法を実施することによって得られるものなどの保護被膜を備えている、シリコンおよびニオビウムを基にした複合物の部品。しかし、ハロゲン化アクチベーターを使用するこれらの技術は、ニオビウムシリサイドの成分とともに、揮発性であるハロゲン化合物を形成し、これによってミクロ構造が局所的に分解される。従って、ハロゲン化ガスを使用することなく拡散によって被膜を作成することを可能にする技術を開発することが必要である。さらに、Nb-Si型物質の保護に関するこれらの技術の全ての説明は、ニオビウムシリコン合金の有効な保護は、伝染腐食温度と呼ばれる温度と高温との両方で得るのが非常に困難であることを示す。この伝染効果を回避するために、シリサイドは空気から隔離されなければならない。本発明の目的は、特にこれらの不都合をすべて克服することである。本出願者が実施した研究によって、高温でのシリサイドでの保護は、密閉されているかまたは酸素の拡散を遅らせる耐火性および接着性の被膜だけでは確実にできないことが示された。この被膜は、作業の間に亀裂を埋めることができるか、酸化物が剥離するかまたは揮発性になる場合に自己回復できるように、良好な粘塑性をさらに有していなければならない。そのために、本発明は、シリコンおよびニオビウムを基にした複合耐火物の表面に高温酸化に対する保護被膜を形成する方法を提案し、この方法では、保護される表面上に存在するクロムを、シリコンおよび酸素を含む反応性ガスと反応させて、粘塑性特性を有するシリカを基にした酸化物相である第1相と、シリコン、クロムおよび酸素を基にした第2相との2相を有する複合被膜を生成させ、第1相および第2相を高温で合体させ、これにより保護被膜を形成させ、この際、第2相が、作業中に、酸化ガスとの反応によって第1相を改質するためのリザーバーとして作用する。このようにして、Nb-Si型の複合物を保護するために、本発明の方法は、使用中の熱機械制約を調整するために、異なる膨張率を有する2相によって構成される複合被膜の形成を可能にする。第1相は、シリカを基にした酸化物相によって構成され、これは使用温度で保護的かつ粘塑性である。第1相は、所望の温度範囲に従って粘塑性特性を調整するために、ホウ素および/またはゲルマニウム型の溶融元素を更に含んでもよい。第2相は、シリコン、クロムおよび酸素を実質的に含む。他の元素、例えば、ホウ素および/またはアルミニウムおよび/または鉄も含んでもよい。この第2相は、作業中に、酸素または任意の他の酸化ガス、例えば水蒸気との反応によって第1相を改質するためのリザーバーとして作用する。このように、本発明の被膜を備えたNb-Si型の複合物の成分が高温で気体状酸化雰囲気に置かれる場合、第2相は第1相が改質させるであろう。これらの元素の全てを得ることを可能にするための現在好ましい技術は、VLS蒸気液体固体と呼ばれる技術に由来する技術である。このVLS技術は、この場合、元素典型的にはクロムがNb-Si型の複合物中に十分な量で存在しないならば、あらかじめ蒸着された金属相と組み合わせることができる。従って、本発明の1つの目的は、この種のNb-Si複合物に好適であり、シリカ/シリコン、クロム、ホウ素および/またはゲルマニウムなどの溶融元素でドープおよび/または修飾された酸素を基にした複合体でもある被膜の形成を可能にする技術を開発することである。基本的概念は、合金の組成に由来するかまたは先に添加されたかのいずれかのクロム元素を、シリコン、酸素、および場合によってホウ素、ゲルマニウムなどの他の元素を含む気体と反応させることである。クロムを添加するための技術は、湿式例えば、電解被覆、融解塩または物理的例えば、カソードスプレー、PVD、マグネトロン、または当業者に周知の任意の他のクロム蒸着技術であってよい。シリコン、酸素、およびB、Ge型などの任意の他の元素を供給する気体を、標準的な市販の粉末からリアクター中のinsituで生成させる。本発明の他の補完的な特徴を以下に記載する:第1相は、シリカSiO2を基にし、第2相は、シリコン、クロムおよび酸素CrSiOを基にする。反応性ガスは、一酸化シリコンSiOを含み、例えば、1450°C以上の温度に置かれたシリカSiO2を含むドナーセメントから、insituで生成される一酸化シリコンは、シリコン粉末とシリカとの混合物を活性化することによって得ることができる。ドナーセメントは、例えば、粉末の形でシリカSiO2と炭化シリコンSiCとの混合物を含むこのセメントは、蒸発温度が1100~1400°Cである粉末状SiOと置換することができる。第1相は、ホウ素および/またはゲルマニウム型の溶融元素を更に含み、これによって、この相の粘塑性特性を作業温度範囲に従って調整することが可能になる。第1相はホウ素を更に含み、反応性ガスは一酸化シリコンSiOおよび一酸化ホウ素BOを含む。複合物に対して、粉末形態のシリカSiO2と炭化シリコンSiCとの混合物を含むドナーセメントから生成される一酸化シリコンSiOを含む第1反応性ガスをまず反応させ、次いで粉末形態のシリカSiO2と炭化ホウ素B4Cとの混合物を含む第2のドナーセメントから生成される一酸化シリコンSiOおよび一酸化ホウ素BOを含む第2の反応性ガスを反応させる。保護される表面上に存在するクロムは、完全または部分的に、シリコンおよびニオビウムを基にした複合物の成分である。保護される表面上に存在するクロムは、所望の厚さの層を形成するために保護される表面上での前蒸着によって完全または部分的に得られる。クロム層の厚さは、5~20μmであり、好適な厚さは15μmである。クロムの事前蒸着物は、以下の群:電解蒸着、カソードスプレーによる蒸着から選択される蒸着技術によって得られる。保護される表面上にスズの蒸着物を事前に形成し、好ましくは続いて減圧で熱処理作業を行う。保護される表面上に、白金、パラジウムおよび金から選択される貴金属の蒸着物を事前に形成し、好ましくは続いて相互拡散アニーリング作業を行う。保護される表面上に、窒化チタンの蒸着物を事前に形成する。シリコンおよびニオビウムを基にした複合物は、一般的組成:Nb47、Si16、Ti25、Al2、Cr2およびHf8原子を有する。本発明の別の態様は、前記方法の実施ならびにシリコンおよびニオビウムを基にした複合物の成分によって得られる被膜自体であって、その一表面が、前記方法の実施によって得られるものなどの保護被膜を備えているものに関する。単に例示のために記載する以下の詳細な説明では、添付の図面を参照する。まず、図1のグラフを参照する。前述のように、本発明の保護蒸着物を製造するために現在好ましい技術は、VLSとして知られている技術に由来する。この技術は特定の気体を含むチャンバー中に物質を入れることを含むということに留意しなければならない。気体と物質の元素または不純物との間の反応、または気体と一般にナノメータ規模の事前蒸着物predepositとの間の反応のいずれかから液滴が形成される。触媒効果によって、気体は液滴中に吸着され、液滴中で気体が過飽和になる場合、核形成が生じ、等軸晶が成長する。エレクトロニクスまたは触媒に関して、ナノワイヤ、ウィスカ、半導体のナノ構造などを形成するために、この技術は、種々の技術分野で現在使用されている。図1の場合、クロムの事前蒸着物は15~20μmの厚さでNb-Si型の複合物1の表面上に形成され、全体をチャンバー中に入れ、チャンバー中でSiOガスがinsituで生成される。その中にSiOが吸着されたCrSiOの液滴または気泡2が形成される。組成Cr40Si35O25が得られる場合、ロッド3の形態で成長するSiO2の核形成がある。試験温度1450°Cで、シリカは可塑性であり、相が合体し、合体したCrSiOの気泡が崩壊する。VLS成長に典型的なロッド/気泡構造は、表面でのみ認められる。クロムの一部は、Nb-Siを基にした下方の複合物中でも拡散し、従って、被膜のアンカリング拡散ゾーンも確実にした。図1は、左から右に、クロムの存在下で試料の表面上にSiOガスを反応させ、次いでVLS成長相中にロッド3を形成することによる、継続時間に従うCrSiOの液滴または気泡2の形成を示す。図1の右側の部分で見られるように、この相の後にSiO2の側方成長相が続く。図1の特定例において、クロムは事前蒸着作業によって供給される。しかし、変形では、クロムは、その成分のうちの1つを形成する合金から直接供給され得る。合金の成分および保護される表面上の事前蒸着物の両方からクロムを供給することも可能である。図2は拡大されたスケール拡大率×2000、10μmの目盛りを図示するで表された表面図を示し、ここでは、VLS成長の典型的なロッド/気泡構造が認められる。しかし、この構造は表面でのみ見られる。図3の断面拡大率×1000、20μmの目盛りを図示するは、複合物1にはアンカリングゾーン4が配置され、次いで合体したSiO2およびCrSiO相を有する被膜が配置されているのが認められることを示す。SiOガスは、このガスの生成について周知のSiO2/SiC混合物からオーブン中insituで生成される。これは、1450°C以下では得られない。これは、式:2CSiO=SiCCOに従って炭素を炭化シリコンに変換するために、炭素-炭素複合体の保護で使用される。このガスは、VLS型の成長によって被膜に含めるためにはこれまで生成されていなかった。ホウ素を組み入れることも可能である。この目的のために、これまで使用されることのなかった新規混合物SiO2/B4Cによって粉末混合物を修飾した。クロムの蒸着物をNb-Si型の複合物上に蒸着させ、SiOガスがSiO/SiCから発生するチャンバー中に入れ、次いでSiO/BOガスが粉末SiO2/B4Cから生成されるチャンバー中に入れると、ホウ素が組み入れられ、これによりシリカよりも可塑性である表面でホウケイ酸ガラスを得ることが可能になる。一例を、図4拡大率×1000、200μmの目盛りを図示するの顕微鏡写真によって示す。これは、クロムの事前蒸着と、それに続いてSiOガスを使用する処理作業およびSiO/BOガスを使用する処理作業とによってまず保護されるNb-Si型複合物を示す。被膜の外観は、図2と比較して表面でより艶がある。以下の非限定的な例を参照して本発明を更に説明する:保護被膜を、一般的組成Nb47、Si16、Ti25、Al2、Cr2およびHf8原子を有するMASCMetalAndSilicideComposite金属およびシリサイド複合体と呼ばれるニオビウムおよびシリコンの合金上に作成する。この合金は、GeneralElectricB.P.Bewlay,M.R.Jackson,andH.A.LipsittTheBalanceofMechanicalandEnvironmentalPropertiesofaMultielementNiobium-NiobiumSilicide-BasedInsituComposite,Metall.Mater.Trans.27A19963801-3808非特許文献6;米国特許第5833773号特許文献7によって開発された。これは、複数の耐火性相、すなわち金属相Mssと称されるニオビウムを基にしたリッチな固溶体および複数のニオビウムシリサイド相Nb3SiおよびNb5Si3型のものから構成される。試料を、組成:SiO275SiC25質量パーセントを有するシリコンドナーセメント中または上に配置する。これらのパーセンテージは、化学量論組成に対応する。アルゴン流下で1450°Cの温度に達したら、このセメントによってシリコンは基質の表面へと運ばれる。この作業の後、高温でのその酸化特性が特別であるSiO2CrSiOを基にした被膜が得られる。周期的な酸化を伴う1200°Cの空気下で、このように保護されるMASC合金の耐用年数は、同じ保護されていない合金より16倍長い。実施例1で記載されるように、保護被膜をMASCMetalAndSilicideCompositeと呼ばれるニオビウムおよびシリコンの合金上で作成する。この目的のために、基質を、以下の条件下:クロム酸CrO3と呼ばれる三酸化クロム:250g.L-1硫酸H2SO4:2.5g.L-1電流密度:50A/dm2T:60~65°Cで生成される電解クロムの蒸着物でまず被覆する。要求される厚さに応じて、電気分解は0.5~3時間持続する。5~20μmの層を蒸着し、好ましい厚さは15μmである。場合によって、クロムで被覆された基質を、例えば、10-3Paを越える減圧で900°C、2時間の熱拡散処理作業に置いてもよい。この作業の後、試料を、組成SiO275SiC25質量パーセントを有するシリコンドナーセメント中または上に配置する。アルゴン流下で1450°Cの温度に達したら、このセメントによってシリコンは基質の表面へと運ばれる。この作業の後、高温でのその酸化特性が特別であるSiO2CrSiOを基にした被膜が得られる。試料は1200°Cで1時間の45サイクルの酸化後に1mg/cm2の質量増加があり、一方、保護されていない試料は1時間未満で破壊される。実施例1で記載されるように、保護被膜をMASCMetalAndSilicideCompositeと呼ばれるニオビウムおよびシリコンの合金上で作成する。この目的のために、基質を三極管カソード噴霧法によってクロムの蒸着物でまず被覆する。蒸着層は、5~20μmの厚さを有し、好適な厚さは15μmである。試料を、以下の組成:SiO275SiC25質量パーセントを有するシリコンドナーセメント中または上に配置する。アルゴン流下で1450°Cの温度に達したら、このセメントによってシリコンは基質の表面へと運ばれる。この作業の後、高温でのその酸化特性が特別であるSiO2CrSiOを基にした被膜が得られる。例として、この被膜で保護される試料を、1200°Cの温度で1時間の45サイクルで酸化した。試験の後、これは1.63mg/cm2の質量減少があり、一方、保護されていない同じ試料は1時間未満で完全に破壊される。セメントがシリコンおよびホウ素の両方のドナーであるという以外は、処置は前記実施例と同様である。セメントは、以下の組成を有する:SiO250B4C50質量パーセントまた、この場合、得られる結果は特別である。すなわち、基質MASCは、高温でのその酸化特性が特別である二酸化シリコン、酸化クロム、ホウ化クロムおよび酸ケイ化クロムchromiumoxysilicideの蒸着物で被覆される。例えば、1000°Cで1時間の20サイクルで酸化される試料は0.14mg/cm2の質量減少があり、一方、保護されていない同じ試料は、同じ温度にて1時間で完全に破壊される。シリコンおよびホウ素の両方のドナーであるセメントが前記実施例よりもホウ素を多く含むということを除いて、手順は前記実施例と同様である。セメントは、以下の組成を有する:SiO216B4C84質量パーセントこの場合も、得られる被膜は高温酸化に対して特別な耐性を有する。手順は実施例3と同様であり、次いで第2の処理作業を実施し、ここでは、シリコンおよびホウ素の両方を提供するセメント中または上に試料を配置する。第2のセメントは、以下の組成を有する:SiO250B4C50質量パーセント試料を、1000°Cで1時間の50サイクルの酸化試験に付す。この試験の後、0.74mg/cm2の質量増加があり、一方、保護されていない同じ試料はこの温度にて1時間で完全に破壊される。手順は実施例3と同様であり、次いで第2の処理作業を実施し、ここでは、シリコンおよびホウ素の両方を供給するが、実施例6よりホウ素を多く含むセメント中または上に試料を配置する。第2のセメントは、以下の組成を有する:SiO216B4C84質量パーセント試料を、1000°Cで1時間の300サイクルの酸化試験に付す。この試験の後、1.09mg/cm2の質量減少があり、一方、保護されていない同じ試料はこの温度にて1時間で完全に破壊される。しかし、例えば、偶然に亀裂が入って被膜が全体的に破壊される場合、Nb-Si型物質の酸化に対する低レベルの耐性を考慮すると、下方の基質が酸化され、これによって被膜が剥離し、物質が破壊されることに留意しなければならない。これを克服するために、先に述べたように被膜を生成させる前に、スズまたは貴金属白金、金などの固体基質の耐酸化性を改善することが知られている元素によるか[GengetalIntermetallics152007270-281]、または例えば拡散バリアとしてのその特性が当業者に周知である窒化チタンなどの酸素拡散バリアを蒸着することによるかのいずれかで、被膜と接触する合金の表面を局所的に修飾することが提案されている。保護被膜を、MASCと呼ばれるニオビウムおよびシリコンの合金上で作成する。この目的のために、基質を、4~7μmのスズの蒸着物でまず被覆し、続いて減圧、700°Cで12~32時間熱処理作業を行う。その後、手順は実施例1と同様である。この場合も、得られる結果は特別である。すなわち、MASC基質は、高温のその酸化特性が特別である蒸着物によって被覆されている。保護被膜を、MASCと呼ばれるニオビウムおよびシリコンの合金上で作成する。この目的のために、基質を、4~7μmのスズの蒸着物でまず被覆し、続いて減圧、700°Cで12~32時間熱処理作業を実施する。その後、手順は実施例2と同様である。この場合も、得られる結果は特別である。すなわち、MASC基質は、高温でのその酸化特性が特別である蒸着物によって被覆されている。保護被膜を、MASCと呼ばれるニオビウムおよびシリコンの合金上で作成する。この目的のために、基質を、4~7μmのスズの堆積物でまず被覆し、続いて減圧、700°Cで12~32時間熱処理作業を実施する。その後、手順は、被膜に望ましい特性にしたがって実施例3~7と同様である。この場合も、得られる結果は特別である。すなわち、MASC基質は、高温でのその酸化特性が特別である蒸着物によって被覆されている。実施例8~10を繰り返し、当業者に周知の技術の1つを使用し、場合によってそれに続いて相互拡散アニーリング作業を行うことによって得られる白金の蒸着物でスズの蒸着物を置換する。全ての場合において、高温および中温で良好な酸化特性を有する被膜が得られる。実施例8~10を繰り返し、当業者に周知の技術の1つを使用し、場合によってそれに続いて相互拡散アニーリング作業を行うことによって得られるパラジウムの蒸着物でスズの蒸着物を置換する。全ての場合において、高温および中温で良好な酸化特性を有する被膜が得られる。実施例8~10を繰り返し、当業者に周知の技術の1つを使用し、場合によってそれに続いて相互拡散アニーリング作業を行うことによって得られる金の蒸着物でスズの蒸着物を置換する。全ての場合において、高温および中温で良好な酸化特性を有する被膜が得られる。実施例8~10を繰り返し、当業者に周知の技術の1つを使用して得られる窒化チタンの蒸着物でスズの蒸着物を置換する。全ての場合において、高温および中温で良好な酸化特性を有する被膜が得られる。SiO2/SiCセメントシリカ/炭化シリコンを、米国特許第6313015号特許文献8に記載するように、加熱によって蒸発してSiOガスになる市販のSiO粉末で置換して、前記実施例1、2、3、6~14を繰り返す。一酸化シリコンガスSiO源がシリコンSiおよびシリカSiO2の粉末の混合物の活性化によって得られ、米国特許第6313015号に記載されるように、活性化が、熱処理、レーザー加熱、マグネトロンまたは三極管カソードプラズマによって実施されるというだけの違いで、前記実施例1、2、3、6~14を繰り返す。この場合でも、得られる被膜は、高温で例外的な耐酸化性を有する。前記粉末の圧縮により得られる標的の活性化によって得られるか、または前記粉末と同じ組成の固体物質から切り出された標的から、同じ結果を得ることができる。本発明は、好ましくは航空エンジンの分野で使用される。"