金属ハウジング14を製造する方法において、前記金属ハウジング14を貫通する第1の通路10を設けるステップと、軸Y-Yの周りで回転対称部がない活性な領域を有する工具46によって前記金属ハウジング14を貫通する第2の通路12を設けるステップであって、前記活性な領域が概して円錐形のテーパ30、52の領域を含み、前記第2の通路12が、開口122、222を画定するように前記第1の通路10と交差する交差部の領域20を備え、前記交差部の領域20が概して円錐形のテーパ29、31を備えるステップとを含む方法。電解加工電極工具46を使用して前記第2の通路12の内部表面に電解加工工程を適用するステップを含む、請求項1に記載の方法。非回転対称の電極の幾何学的形状をもたらすために、概して円錐形の領域52およびその上に形成された少なくとも上方および下方の平坦部54を有する電解加工電極工具46を設けるステップを含む、請求項2に記載の方法。概して長方形、概して正方形、卵形、または楕円形の外周のうちの1つを有する前記第1の通路10内への開口122、222を加工するステップを含む、請求項2または請求項3に記載の方法。前記開口122、222が長い交差軸Aおよび短い交差軸Bを有して加工され、前記短い交差軸Bが前記長い交差軸Aに垂直であり、前記長い交差軸Aおよび前記短い交差軸Bが前記第1の通路10に垂直な平面にある、請求項4に記載の方法。高圧流体の用途に使用するための金属ハウジング14であって、前記金属ハウジング14が前記第2の通路12の一方の端部の交差部の領域20によって画定される非円形の開口22、122、222で交差する第1および第2の通路10、12を設けられ、前記交差部の領域20が概して円錐形のテーパ29、31を備える金属ハウジング14。前記開口122、222の外周が平坦な上方領域122a、222aおよび平坦な下方領域122b、222bを備える、請求項6に記載の金属ハウジング。前記開口122、222の前記外周が、卵形、楕円形、概して長方形、または概して正方形のうちの1つである、請求項7に記載の金属ハウジング14。前記開口122、222が長い交差軸Aおよび短い交差軸Bを有して加工され、前記短い交差軸Bが前記長い交差軸Aに垂直であり、前記長い軸Aおよび前記短い軸Bが前記第1の通路10に垂直な平面にある、請求項6から8のいずれか一項に記載の金属ハウジング14。内燃機関用の高圧燃料ポンプであり、前記第1の通路が前記ポンプのプランジャを受けるためのボア10を画定し、前記第2の通路が前記ボア10の中および/または外への高圧燃料用の流れ通路12を画定する、請求項6から9のいずれか一項に記載の金属ハウジング14。金属ハウジング14を製造する方法であって、前記金属ハウジング14を貫通する第1の通路10を設けるステップと、前記金属ハウジング14を貫通する第2の通路12を設けるステップであって、前記第2の通路12が、前記第1の通路10と交差し、前記第1の通路10内への開口22、122、222を画定する交差部の領域20を備えるステップと、前記第1および/または第2の通路10、12の内部表面に浸炭するために、前記金属ハウジング14を熱処理工程にかけるステップと、前記浸炭工程に続いて、表面仕上げを改善するためにハードステージの電解加工工程を前記第1および/または第2の通路10、12の前記浸炭された内部表面に適用するステップとを含む方法。浸炭前にソフトステージの電解加工工程を前記第1および/または第2の通路11、12の前記内部表面に適用するステップをさらに含む、請求項11に記載の方法。前記ソフトステージの電解加工工程が、概して円錐形のテーパ29を有する前記交差部の領域20を形成するために、概して円錐形の領域30、52を備えるソフトステージの電極24、46を使用して前記第2の通路12の前記内部表面を加工するステップを含む、請求項12に記載の方法。回転対称部を軸X-Xの周りに有する活性な電極領域を有するソフトステージの電極24を設けるステップであって、それによって概して円形の外周を有する前記開口22を加工するステップを含む、請求項13に記載の方法。回転対称部が軸Y-Yの周りにない活性な電極領域を有するソフトステージの電極46を設けるステップを含む、請求項13に記載の方法。非回転対称の電極の幾何学的形状をもたらすために、概して円錐形の領域52およびその上に形成された少なくとも上方および下方の平坦部54を有するソフトステージの電極46を設けるステップを含む、請求項15に記載の方法。概して正方形、概して長方形、卵形、または楕円形の外周のうちの1つを有する前記開口を加工するように形作られたソフトステージの電極を設けるステップを含む、請求項15または請求項16に記載の方法。前記開口122、222が長い交差軸Aおよび短い交差軸Bを有して加工され、前記短い交差軸Bが前記長い交差軸Aに垂直であり、前記長い軸Aおよび前記短い軸Bが前記第1の通路10に垂直な平面にある、請求項15から17のいずれか一項に記載の方法。前記活性な電極領域が、前記ソフトステージの電極24、26によって担持された絶縁手段27、34によって定義される、請求項14から18のいずれか一項に記載の方法。前記ハードステージの電解加工工程が、ハードステージの電極32から生じるさらなる概して円錐形のテーパ31が前記ソフトステージの電極24、46から生じる前記概して円錐形のテーパ29に重ね合わされるように、前記交差部の領域20のさらなる概して円錐形のテーパ31を加工するように形作られた前記ハードステージの電極32によって、前記第2の通路12の前記内部表面を加工するステップを含む、請求項13から19のいずれか一項に記載の方法。前記ハードステージの電解加工工程が、前記第1の通路10内への前記開口22、122、222で丸みをつけられた縁部を加工するために形作られたハードステージの電極32によって前記第2の通路12の前記内部表面を加工するステップを含む、請求項13から19のいずれか一項に記載の方法。前記ソフトステージの電解加工工程を行うために前記第2の通路12内に前記ソフトステージの電極24、46を受けるステップと、続いて、前記ハードステージの電解加工工程を行うために前記第1の通路10内に前記ハードステージの電極32を受けるステップとを含む、請求項13から21のいずれか一項に記載の方法。前記ソフトステージの電解加工工程を行うために前記第2の通路12内に前記ソフトステージの電極24、46を受けるステップと、続いて、前記ハードステージの電解加工工程を行うために前記第2の通路12内に前記ハードステージの電極32を受けるステップとを含む、請求項13から21のいずれか一項に記載の方法。概して円錐形のテーパ31を使用して前記交差部の領域20を形成するために、概して円錐形の領域30、52を備えるハードステージの電極24、46を使用して前記第2の通路12の前記内部表面を加工するステップを含む、請求項11に記載の方法。概して円錐形の領域30、52を備えるハードステージの電極24、46を使用して前記第2の通路12の前記内部表面を加工し、それによって前記開口22に丸みをつけた縁部31を画定するステップを含む、請求項11に記載の方法。回転対称部を軸X-Xの周りに有する活性な電極領域を有するハードステージの電極24を設けるステップであって、それによって概して円形の外周を有する前記開口22を加工するステップを含む、請求項24または請求項25に記載の方法。回転対称部が軸Y-Yの周りにない活性な電極領域を有するハードステージの電極24を設けるステップを含む、請求項24または請求項25に記載の方法。非回転対称の電極の幾何学的形状をもたらすために、概して円錐形の領域52およびその上に形成された少なくとも上方および下方の平坦部54を有するハードステージの電極46を設けるステップを含む、請求項27に記載された方法。概して正方形、概して長方形、卵形、または楕円形の外周のうちの1つを有する開口122、222を加工するように形作られたハードステージの電極を設けるステップを含む、請求項27または請求項28に記載の方法。前記開口122、222が長い交差軸Aおよび短い交差軸Bを有して加工され、前記短い交差軸Bが前記長い交差軸Aに垂直であり、前記長い交差軸Aおよび前記短い交差軸Bが前記第1の通路10に垂直な平面にある、請求項27または請求項28に記載の方法。前記活性な電極領域が、前記ハードステージの電極32によって担持された絶縁手段によって定義される、請求項27から30のいずれか一項に記載の方法。前記金属ハウジング14の第1の軸に沿って前記第1の通路10を設けるステップと、前記金属ハウジング14の第2の軸に沿って前記第2の通路12とを設けるステップであって、前記第1の軸が前記第2の軸に垂直であるステップとを含む、請求項11から31のいずれか一項に記載の方法。燃料ポンプハウジングまたは燃料噴射システムの構成要素用のハウジングの形の金属ハウジング14に適用された場合の、請求項11から32のいずれか一項に記載の方法。前記第1の通路が使用の際にポンプ輸送プランジャを受けるプランジャボア10であって、前記プランジャボアがポンプチャンバ16を画定し、その中で燃料がプランジャの動作の結果として加圧され、前記第2の通路が流れ通路12であって、そこを通って流れが前記ポンプチャンバ16へおよび/またはそこから流れる、請求項33に記載の方法。本発明の目的の1つは、既知の技術の限界を克服する、金属の部品を加工する方法を提供することである。本発明の第1の態様によれば、金属ハウジングを貫通する第1の通路を設けるステップと、軸の周りで回転対称部を有していない活性な領域を有する工具によって金属ハウジングを貫通する第2の通路を設けるステップを含む金属ハウジングを製造する方法が提供され、第2の通路は、開口を画定するように第1の通路と交差する交差部の領域を備え、交差部の領域は概して円錐形のテーパを含む。交差部の領域の概して円錐形のテーパは、開口に向かって外側にテーパ形状になっている。例として、この方法は電解加工電極を使用して第2の通路の内部表面に電解加工工程を適用することによって第2の通路を設けるステップを含むことができる。特に、この方法は非回転対称の幾何学的形状を電極軸の周りに設けるために、概して円錐形の領域と、少なくとも上方および下方の平坦部とが形成されている電解加工電極の形の工具手段を設けるステップを含むことができる。たとえば、この方法は、第1の通路内への開口が概して卵形または概して楕円形の外周、あるいは概して正方形または概して長方形の外周を有するように、その開口を加工するステップを含むことができる。好ましい実施形態では、この方法は長い交差軸majorcrossaxisと短い交差軸minorcrossaxisを有する開口を加工するステップを含み、短い交差軸は、長い交差軸に垂直であり、長い交差軸と短い交差軸は第1の通路に垂直な平面にある。たとえば、軸は6:5から9:5、好ましくは7:5から8:5の範囲内、典型的には約3:2の、開口に関するアスペクト比を定義することができる。本発明の第2の態様によれば、高圧流体の用途に用いるための金属ハウジングが設けられ、金属ハウジングが第1および第2の通路を備え、それらが第2の通路の一方の端部の交差部の領域によって画定される非円形の開口で交差する。交差部の領域は、開口に向かって外側にテーパ形状になっていることが好ましい概して円錐形のテーパを有する。金属ハウジングは、本発明の第1の態様の方法によって形成されることが好ましい。開口の外周は平坦な上方領域と平坦な下方領域を有するように形成されることが好ましい。たとえば、開口の外周は、概して卵形または概して楕円形の外周、あるいは概して正方形または概して長方形であることができる。1つの実施形態では、開口は長い交差軸と短い交差軸を有して加工され、短い交差軸は、長い交差軸に垂直であり、長い交差軸と短い交差軸は第1の通路に垂直な平面にある。本発明の第2の態様は、高圧燃料ポンプの用途において特別な利益があり、その結果、金属ハウジングが内燃機関に関する高圧燃料ポンプ用のハウジングの形を取り、第1の通路が使用の際にポンプのプランジャを受けるボアを画定し、第2の通路がボアの中および/または外への高圧燃料用の流れ通路を画定する。本発明の第3の態様によれば、金属ハウジングを貫通する第1の通路を設けるステップと、金属ハウジングを貫通する第2の通路を設けるステップを含む金属ハウジングを製造する方法が提供され、第2の通路は第1の通路と交差し、第1の通路内への開口を画定する交差部の領域を備える。金属ハウジングは、第1および/または第2の通路の内部表面を浸炭するために熱処理工程にかけられ、浸炭工程に続いて、表面仕上げを改善するためにハードステージhardstageの電解加工工程が第1および/または第2の通路の浸炭された内部表面に適用される。これまでは、ECM工程は、金属の部品に通路しばしば穿設部と呼ばれるを形成するための予熱処理された予め浸炭された金属の部品に使用されてきた。このプロセスは、ソフトステージのECMと呼ばれている。本発明は、金属がはじめに熱処理によって浸炭され、次にECMを使用して加工されると、加工された表面の仕上げの著しい改善を行うことができることを認識している。ピッチングが低減され、または実質的に除去され、したがって高圧の下での応力集中が低減される。本明細書では、浸炭に続いて金属部分を加工する方法は、ハードステージのECMと呼ばれる。浸炭工程では、第1および第2の通路の内部表面が浸炭されるすなわち硬化されることが好ましい。実際には、マスキング技術によって、通路のうちの1つだけの内部表面を浸炭することができる可能性があるが、これはあまり望ましくない。ポンプ内の燃料の圧力が特に高い、コモンレール燃料システムでの液圧ポンプの用途に関しては、表面仕上げの改善が、通路の間の交差部の領域での応力集中を低減させる効果を有するので、本発明は特別な利益を有することが判明されている。さらに、ECM工程が適用される前に金属部分が浸炭されるので、ソフトステージのECM工程と比較して電解加工の時間がはるかに短縮される。これによって、さらなる利益が製造工程に対してもたらされる。1つの実施形態では、この方法は浸炭の前に第1および第2の通路を加工するすなわちそれらの形を画定するためにソフトステージのECM工程を通用し、次いで通路の内部表面の金属部分を浸炭し、それから交差部の領域の内部表面を研磨するためのハードステージのECM工程を適用することを含むことができる。一般には、方法での最初のステップとして、ソフトステージのECM工程の前に、形を画定するために第1および第2の通路が穿設される。最初の加工工程または通路がそれによって形成されるその他の最初の工程に続いて、また任意選択の最初のソフトステージのECM工程に続いて、ハードステージのECM工程を通路に適用することによって、通路の間の交差部の領域が研磨され、したがって、応力集中が低減される。1つの実施形態では、ソフトステージの電解加工工程は、概して円錐形の領域を有するソフトステージの電極を使用して第2の通路の内部表面を加工するステップを含み、それによって開口に対して概して円錐形のテーパを有する交差部の領域をもたらす。1つの例では、軸の周りに回転対称部を備える活性な領域を有するソフトステージの電極が使用でき、それによって概して円形の外周を有する開口を加工する。電極の軸を指して、電極の主要な長い軸を意味することが意図される。別の例では、軸の周りで回転対称部を有していない活性な領域を有するソフトステージの電極が使用できる。この場合には、電極の軸の周りに非回転対称の活性な電極の幾何学形状をもたらすように、ソフトステージの電極に少なくとも上方および下方のその上に平坦部を備える概して円錐形の領域を設けることができる。1つの実施形態では、この方法は概して正方形または概して長方形の外周、あるいは概して卵形または概して楕円形の外周を有する開口を加工するために形作られたソフトステージの電極を設けるステップを含む。そのような実施形態に関しては、たとえば、開口に卵形または楕円形の幾何学的形状を画定するように、その主要な軸の周りに非回転対称の幾何学的形状を有する電極によって第1の通路内への開口を加工することが、ハードステージのECM処理によってもたらされる表面仕上げの改善によって達成されるものにまさり、それより優れた応力集中の利益をもたらすことが判明している。好ましくは、開口は長い交差軸および短い交差軸を有して加工される。短い交差軸は、長い交差軸に垂直であり、両方の軸が第1の通路に垂直な平面にある。軸は一般に6:5から9:5、好ましくは7:5から8:5の間、典型的にはたとえば約3:2の、開口に関するアスペクト比を定義する。1つの特定の実施形態では、ハードステージの電解加工工程は、ハードステージの電極から生じるさらなる概して円錐形のテーパが、ソフトステージの加工工程から生じる概して円錐形のテーパの領域に重ね合わされ、その領域の外の上部に形成されるように、交差部の領域にさらなる概して円錐形のテーパを加工するように形作られた、ハードステージの電極によって第2の通路の内部表面を加工するステップを含む。別の実施形態では、ハードステージの電解加工工程は、第1の通路内への開口で、丸みをつけられた縁部を加工するために形作られたハードステージの電極によって第2の通路の内部表面を加工するステップを含む。交差部の領域の一部分のみが電解加工工程の間加工されるように、ソフトおよびハードステージの電極のうちの少なくとも1つに、たとえば絶縁用のシールド、スリーブ、またはマスクなどの絶縁手段を設けることが好都合である可能性がある。開口に関して求められる輪郭を形成するために、電極工具手段がその主要な軸の周りに非回転対称の幾何学的形状を有する実施形態では、電極の非回転対称の活性な領域を画定するように絶縁手段を形作り、構成することができ、それに対して電極の本体自体は、規則的な対称の形状を有する。あるいは、電極それ自体は軸の周りに非回転対称の幾何学的形状を有するようになっている可能性がある。1つの実施形態では、この方法は、ソフトステージの電解加工工程を行うために第2の通路内にソフトステージの電極を受けるステップと、それに続いてハードステージの電解加工工程を行うために第1の通路内にハードステージの電極を受けるステップとを含むことができる。あるいは、この方法は、ソフトステージの電解加工工程を行うために第2の通路内にソフトステージの電極を受けるステップと、それに続いてハードステージの電解加工工程を行うために第2の通路内にハードステージの電極を受けるステップとを含むことができる。ソフトステージのECM法が使用されない場合、この方法は以下の、交差部の領域に開口に対して概して円錐形のテーパを設けるために概して円錐形の領域を有するハードステージの電極を使用して第2の通路の内部表面を加工するステップ、または開口に丸みをつけた縁部を画定するために概して円錐形の領域を有するハードステージの電極を使用して第2の通路の内部表面を加工するステップのうちの1つを含むことができる。例として、この方法は、回転対称部を軸の周りに有する活性な領域を有するハードステージの電極を提供し、それによって概して円形の外周すなわち外周が回転対称の形状を有するを有する開口を加工するステップを含むことができる。ソフトステージが全く使用されない別の実施形態では、この方法は、軸の周りで回転対称部を有しない活性な領域を有するハードステージの電極を設けるステップを含む。たとえば、この方法は、回転対称部が軸の周りにないハードステージの電極の幾何学形状をもたらすために、概して円錐形の領域と少なくとも上方および下方の平坦部とが形成されているハードステージの電極を設けるステップを含むことができる。たとえば、この方法は概して正方形または概して長方形の外周、あるいは概して卵形または概して楕円形の外周を有する開口を加工するために形作られたハードステージの電極を設けるステップを含むことができる。たとえば、開口は長い交差軸と短い交差軸を有して加工され、短い交差軸は長い交差軸に垂直である。長い交差軸および短い交差軸は、第1の通路に垂直な平面にある。たとえば、軸は6:5から9:5、好ましくは7:5から8:5の範囲内、典型的には約3:2の、開口に関するアスペクト比を定義することができる。特に好ましい実施形態では、この方法は、金属ハウジングの第1の軸に沿って第1の通路を設けるステップと、金属ハウジングの第2の軸に沿って第2の通路を設けるステップを含むことができ、第1の軸が第2の軸に垂直である。本発明は、燃料噴射システム用の高圧燃料ポンプの製造に使用された場合に特定の利益がある。したがって、金属ハウジングは、主要ポンプハウジングまたは液圧ポンプヘッドのポンプハウジングの形を取る。第1の通路は使用の際にポンプ輸送プランジャを受けるプランジャボアの形を取ることができ、そのプランジャボアは、ポンプチャンバを画定し、その中でプランジャが動作する結果として燃料が加圧される。第2の通路は、流れ通路の形を取ることができ、使用の際にその通路を通って流れがポンプチャンバへ、および/またはポンプチャンバから流れる。したがって、本発明の別の態様では、本発明の第3の態様の方法を使用して形成されるような金属ハウジングが設けられる。本発明の第3の態様の好ましいおよび/または任意選択の特徴は、本発明の第1の態様に組み込むこともでき、あるいは本発明の第2の態様の好ましいおよび/または任意選択の特徴も提供するのに使用できることが理解されよう。次に添付の図面を参照して、本発明を単に例としてのみ説明する。図1は、金属ハウジング部分14に設けられた、それぞれ第1の穿設部10および第2の穿設部12の交差部に適用されるソフトステージのECM工程に関する電極配置を示す。金属ハウジング部分14は、圧縮点火内燃ディーゼル機関用のコモンレール燃料ポンプの一部分を形成するポンプハウジングの形を取る。第1の穿設部は、使用の際にポンプ輸送プランジャ図示せずを収容するプランジャボア10を画定する。ブランジャボア10は、その一方の端部にポンプチャンバ16を画定し、プランジャが駆動されるとその中で燃料の加圧が行われる。第2の穿設部は、加圧に続いてポンプチャンバ16から流れ出る燃料に関する流れ通路12を画定する。流路は以下に出口通路12と呼ばれる。入口通路は、第3の穿設部18によってポンプハウジング14にも設けられ、そこを通って比較的低圧の燃料がポンプチャンバ16に供給される。本発明の加工方法は、出口通路12および/または入口通路18に適用でき、好ましくは両方に適用できるが、以下の説明ではプランジャボア10と出口通路12の間の交差部の加工のみを詳細に説明する。ポンプハウジング14は、主要ポンプハウジングの形を取ることができ、使用の際にプランジャおよびポンプのその他のプランジャを駆動するために、そこを通って中央の駆動シャフトが延出する。あるいは、ポンプハウジングは主要ポンプハウジングに固定された液圧ポンプヘッドの形を取ることができる。後者のタイプのコモンレール燃料ポンプの例が本発明者らの同時係属の欧州特許出願第EP1489301号に記載されている。プランジャボア10は第1の長手方向軸に沿って延出し、出口通路12はプランジャボア軸に実質的に垂直に延出する第2の長手方向軸に沿って延出する。出口通路12は、その全長に沿ってほぼ均一の直径のものであり、全体的に20として示される交差部の領域を画定し、その交差部の領域は、プランジャボア壁に拡大された直径の開口22を画定するためにプランジャボア10と交差する。交差部の領域20の形状および表面仕上げが、後にさらに詳細に説明される。次に、本発明の第1の実施形態の方法を説明する。第1のステップとして、プランジャボア10に関する穿設部および出口通路12に関する穿設部を形成するために、従来の穿設またはボーリング方法が使用される。実際には、プランジャボア10および/または穿設部12は、最初の穿設工程に続いて回転させることもできる。穿設部10と12の間の交差部の領域20を仕上げるために、第1のECM電極24を含む工具手段図2にも示されるが、交差部の領域20に最初のソフトステージのECM工程を適用するために出口通路12内に同軸的に受けられる。第1のECM電極24は、その主要な軸に沿って回転対称部を有する活性な領域すなわち、活性な加工効果を有する工具手段の領域を含む。言い換えれば、電極24の幾何学的形状は、旋盤またはその他の回転する工程によって生産できるようになっている。電極24の主要な軸は出口通路12の軸と同一直線上にされ、X-Xとして識別される。第1のECM電極24は、その全長に沿って実質的に均一の直径を有する主要電極ステム26、および円錐形にテーパ形状になり、またはフレア状に広がった中間区域30によってステム26から間隔を置いて配置された、拡張された直径の電極ヘッド28を備える。ECMの目的に使用されるこの形の電極は、ECM円錐電極と呼ばれる。主要電極ステム26の全長に部分的に沿って、電極が絶縁スリーブ27の形の絶縁手段を設けられ、それによって加工が必要でない隣接する表面領域のECM加工を防止する。この実施形態では、したがって電極の活性な領域であると見なされるものを画定するのは絶縁手段27である。ハウジング14の表面で高い電流密度を発生させるために、電圧がECM円錐電極24に加えられる。これは、交差部20の領域の出口通路12の内部表面を溶解する効果を有し、一方で溶解生成物を運び出すために通路10、12を通って電解液が押し流されるflushed。この処理ステージの結果として、交差部の領域の出口通路12の形は、交差部の領域20が開口22に向かって外側にテーパ形状になっているように第1のECM電極円錐24のほぼ円錐形状を取る。交差部の領域20の円錐形状は、第1のECM円錐と呼ばれ、濃く塗られた領域29によって図1に識別される。このステージでは、露出された表面を硬化するためにポンプハウジング14に熱処理が全く加えられていないので、この工程は、ECMソフトステージ加工と呼ばれる。円錐の形状29を生成するための交差部の領域20を加工するECMの上述の工程は、そうでない場合には破損の問題を招く可能性のある応力集中を低減する特に堅固な交差部の輪郭をもたらすことが判明している。第1のECMの円錐29を形成するためにECMのソフトステージの工程が交差部の領域20に適用された後に、浸炭工程の形の熱処理工程がポンプハウジング14に適用される。浸炭工程は、炭素ポテンシャルが金属の表面で炭素の吸収を生じるのに十分であるように、二酸化炭素、メタン、プロパン、またはアセチレンなどの炭素を多量に含む雰囲気内でポンプハウジング14を加熱することによって達成され、それによって露出した表面をより硬くすることができる。したがって、交差部の領域20を含むプランジャボア10および出口通路12の内部表面が、浸炭された層によって硬化される。一般に、浸炭プロセスは、約1mmの厚さを有する硬化層を生じる。次に、本発明の第2の実施形態の方法を説明する。本発明の別の実施形態では、前述のように第1のECM円錐29を形成するために最初のECM加工工程が交差部の領域20に適用された後に、およびポンプハウジング14の浸炭に続いて、第2のステージのECM工程がプランジャボア10と出口通路12の間の交差部の領域20に適用される。これは、ハードステージのECM工程すなわち浸炭後と呼ばれている。図3を参照すると、ハードステージのECM工程がプランジャボア10と同軸に延出する第2のECM電極32を含む工具手段によって達成される。ECMのソフトステージおよびハードステージを比較すると、最初のソフトステージのECM工程は約50秒間適用される可能性があるが、それに対して第2のハードステージのECM工程は一般には約5秒間の、はるかに短い時間しか適用する必要がない。したがって、概して、2つのステージのECM法を使用して穿設交差部を形成し、研磨するのに必要な加工時間は、従来のソフトステージのECM工程のみを使用した場合に求められるものよりも著しく長いものではない。第2のECM電極32は、実質的に形状が円筒形であり、第1および第2の電極の孔またはウインドウ識別されないを設けられた34で識別される絶縁スリーブまたはマスクの形の絶縁手段を設けられる。第2のECM電極32は、絶縁スリーブ34と共に、その主要な軸に沿って回転対称部を有する活性な電極領域を有する。絶縁スリーブ34は、開口22の付近でプランジャボア10の領域のみが加工されるように、ハードステージのECM工程の間露出されるプランジャボア10の領域を制限するように形作られる。出口通路12の内部表面もそのプランジャボア10との交差部の領域20でハードステージのECM工程に露出される。絶縁スリーブ34のウインドウは、入口通路18の開口の付近でプランジャボアの表面と共に、ECMのハードステージの工程の間、出口通路12の開口22の付近のプランジャボアの表面を加工できるように形作られる。したがって絶縁手段34は、第2のECM電極32の活性な領域であると見なすことができるものを画定する。第2のECM電極32は前述のように電流の流れによって活性にされ、電解質溶液が溶解生成物を除去するために通路10、12を通って押し流される。ハードステージのECM工程を適用することで、出口通路12とプランジャボア10の間の交差部の領域20の輪郭が、第2のECM電極32のマスキングされない領域の輪郭すなわちウインドウ輪郭に従うことになる。その結果、第2の円錐形のテーパが交差部の領域20に加えられる。円錐形のテーパの第2の領域が領域31として図3に識別され、効果的に重ね合わされ、第1の円錐形のテーパ領域29の一部分の上部に形成され、したがって開口22の領域の第1の円錐形のテーパ領域を変形する。プランジャボア10を有する交差部の領域20での出口通路12の最終的な形をより良く理解するために、図4a、図4b、および図5を参照する。出口通路12は、その全長に沿って実質的に均一の直径のものであり、円錐形のテーパの領域29、31を備え、その領域は、拡張された端部で、ブランジャボア10への開口22を画定する。開口22は、実質的に円形の外周を有し、概して円錐形の通路12のベース部を効果的に画定し、円錐形のテーパと丸みをつけた部分がECM電極24、32の活性な輪郭によって画定される。上記に示したように、出口通路12の交差部の領域20は2つの円錐形の構成部29、31の形を取り、一方が他方の上に加工されるが、図面に示された縮尺では、また見た目には、第2の円錐形の構成部31が第1の円錐形の領域29とプランジャボア10の間の移行縁部でより丸みをつける効果があるように見える可能性がある。ソフトステージのECM工程は、燃料圧力のレベルが約1800barまでのポンプの用途にとって適切な表面仕上げをもたらすことが知られているが、ソフトステージのECM工程に続いて生じるわずかなピッチング効果が、それに続くハードステージのECM工程によって前述の方法で除去される。さらに、ハードステージのECM工程は、別の方法では浸炭工程の後に残るその他の表面欠陥を除去する。2つのステージの工程によってもたらされる表面仕上げの質の高さが、破損を受けることなく非常に高い燃料圧力レベルが達成できるように、高圧ポンプの用途で疲労強度を向上させることが判明している。たとえば一般に、ソフトステージのECM工程は、相当に優れた表面仕上げピッチングを排除したをもたらすが、それに対してハードステージのECM工程に続いて、はるかに改善された表面仕上げ一般に3倍の改善が達成される。この実施形態の変形では、絶縁スリーブ34の形状は、第1の円錐形のテーパ29に重なるのが第2の円錐形のテーパ31でなく別のテーパの輪郭であるように変形できる。上述のハードステージのECM法に対する変形では、第2のECM電極32用の絶縁スリーブ34は、プランジャボア10の内部表面全体がハードステージのECM工程の下で加工されるように除去できる。これは交差部の領域を形作る効果を有し、第2のECM電極32の加工効果は、明確な第2の円錐形を形成ではなく第1の円錐形の領域29にさらに丸みをつける効果である。別の変形では、第1のECM電極24は、図2の電極の設計とは異なり円筒形の電極の形を取ることができる。円筒形の電極は第1の円錐領域29の形状を生成するように形作られた適切な絶縁手段を有する。前述の工程は、出口通路12に関して前述したものに対する同一のECM電極装置を同様に使用して入口通路18に対して実行できる。したがって、ECMのソフトステージの加工工程に関しては、第1のECM電極24は交差部20の領域で第1の円錐形の領域29などをプランジャボア10と共に加工するために入口通路18内で同軸に加えられる。ECMのハードステージの加工と組み合わされたECMのソフトステージの加工に関しては、第1のECM電極24は、交差部の領域20で第1の円錐形の領域29などをプランジャボア10と共に加工するために入口通路18内で同軸に加えられ、次いで交差部の領域20で第2の円錐形領域31などを加工するために、適切な絶縁手段を備える第2のECM電極32がプランジャボア10と同軸に加えられる。本発明の別の実施形態では、最初のソフトステージのECM工程が前述のように図1に示されるように適用されるが、今度は、第2のハードステージのECM工程図示せずがそれに続き、そこでは第2のハードステージのECM電極が最初のソフトステージのECM電極と同じ形を有するが、プランジャボア10を通ってではなく最初のソフトステージの電極のようにすなわち出口通路12を通って同じ軸に沿って加えられる。本発明の別の態様では、ECM法は、交差部の領域20で幾何学的形状を形成するために使用でき、その幾何学的形状は、プランジャボア10への規則的な円形の開口を画定しないが、その代わりに出口通路12の軸に沿って非回転対称の幾何学的形状を画定する。図6を参照すると、ECM電極46は、その全長に沿って実質的に均一の直径を有する主要電極ステム48、および円錐形にテーパ形状になり、またはフレア状に広がった電極の中間区域52によってステム48から間隔を置いて配置された、拡張された電極ヘッド50を備える点で図2に示されるものと同様である。しかし、ECM電極46は、電極ヘッド50の全体にわたり、および部分的に中間区画52の全長に沿って延びる上方および下方の平坦部54図6で上方のものだけを見ることができるを備えることによってその主要な軸Y-Yの周りで回転対称部を除去するように変形される。言い換えれば、電極46の活性な領域は、その軸Y-Yの周りに回転対称部がない。図7および図8に示されるように、図6のECM電極46を使用して出口通路12はプランジャボア10の壁に開口122を画定し、その開口は、図4のように規則的な円周を画定せず、その代わりに形状が楕円の周辺部を有する。交差部の領域20の出口通路12の輪郭は、ECM電極46およびその平坦部54の輪郭に従う傾向がある幾何学的に同一でないが輪郭の間に類似点がある。図8で最も良く分かるように、図6の変更されたECM電極の幾何学的形状を使用することによって、出口通路12の軸に垂直である第1の軸A長い交差軸に沿って開口122の直径が延長され、第1の軸Aに垂直な第2の軸B短い交差軸に沿って開口122の直径が短縮されることになる長い交差軸Aおよび短い交差軸Bはプランジャボア10に垂直な平面にある。したがって、出口通路12とプランジャボア10の間の交差部の領域20は、開口122の上方および下方縁部でほとんど存在しないに等しい湾曲を有する開口122を画定するすなわち開口が上方および下方の平坦になった領域122a、122bを備える。この楕円形は、図4および図5の従来の円形を基にした円錐形の幾何学的形状とは異なる。軸の周りで回転対称部を有しない工具すなわちECM電極によってプランジャボア10内への開口122を加工することが、交差部の領域20に円錐形のテーパを生成するためのソフトステージの回転対称のECM電極を使用する前述の方法によってもたらされる応力集中の利益にまさり、それより優れたさらなる応力集中の利益をもたらすことが観察されている。さらに、ハードステージのECM工程と組み合わせてこの方法を使用することにより、交差部の形状および仕上げに関するかなりの利点がもたらされる。前述の方法に対する別の実施形態では、電極それ自体の幾何学的形状がその軸の周りで回転対称であり、必要とされる回転非対称部を備える工具を提供するために絶縁手段を形作ることができる。図9および図10に示されるように、図6に示される電極の幾何学的形状に対する適切な変形によって、プランジャボア10内への出口通路12の開口222は、概して卵形のものであるように加工できる。また、これは平坦部を上方および下方の縁部に沿って設けることによってECM電極を従来の回転対称の形から変形することが必要になる。長い軸Aに沿った開口222の直径が延長され、短い軸Bに沿った開口222の直径が短縮される。また、図8に示されるように、上方縁部222aおよび下方縁部222bが実質的に平坦であるように、開口222の上方縁部222aおよび下方縁部222bでの湾曲が存在しない。概して卵形であるように交差部の領域20で開口222を形成することによって、同様の応力集中の低減の利益が楕円の幾何学的形状に関して達成される。疑問が起こらないようにするために、従来の燃料ポンプでは、ECMがその主要な軸に沿って回転対称部を有するにもかかわらず、プランジャボア内への出口通路の開口に従来のECMのソフトステージの工程に起因するわずかな程度の楕円率があることに留意されたい。しかし本明細書では、ある程度の楕円率を伴って第2の穿設部12との交差部で第1の穿設部10内への開口部を画定する本発明への参照が、軸に沿って従来の回転対称部がない電極工具によって計画的な交差部を設けることを意味するものと解釈される。これは活性な領域が軸に沿って回転対称部がないように遮蔽された絶縁された工具であることができ、または工具の主要な本体それ自体が所望の非対称性たとえば平坦なブレード様の電極形状を有することができる。さらなる説明として、従来のECM工程を使用すると、開口22の長い軸Aと短い軸Bの間の比アスペクト比と呼ばれるは、一般に11:10程度である。本発明の実施形態では、電極の幾何学的形状は6:5と9:5の間の範囲、たとえば約3:2のアスペクト比を与えるように選択される。したがって、本発明は従来のソフトステージのECM工程が交差部の領域20に適用された場合に観察される不慮の楕円率より優れた明白で測定可能な特質をもたらす。実際に、工具の幾何学的形状は、ハウジングの空間の制約の中で開口の上方および下方縁部での最小に可能な湾曲によってアスペクト比を与えるように選択される。交差部の領域に別の特異な形を形成するための、電極の幾何学的形状に対するその他の変形によって、高圧の液圧式の用途に関する同様の応力集中の利益がもたらされる。たとえば、丸みのある角を有する実質的に正方形様または長方形様の開口も使用できる。本明細書では、概して正方形または概して長方形への参照は、開口が、丸みのある角を有するといえども、概してこの形状のものであることを意味するものと解釈される。角の丸みは、角に応力集中の問題が全く生じないことを確かなものにする。別の実施形態では、ソフトステージのECM工程のみがその主要な軸の周りで回転対称部を有しない電極と共に使用できる。ハードステージのECM工程は適用されない。これは、追加のハードステージの工程を使用することによって達成されるさらなる表面仕上げの利益をもたらさないが、いくつかのポンプ設計に関しては、単一のステージソフトステージのECM工程それ自体が、交差部で特異な形状を使用することによって適切な応力集中の利益をもたらすことが判明している。例として、この方法は、たとえば楕円形、卵形、全体に正方形または概して長方形など非円形であり、開口の周辺部の上方および下方縁部で平坦な領域を画定するプランジャボア10内への開口122、222を画定するために図6に示されるような変更された電極の幾何学的形状を有するソフトステージのECM工程を行うことを伴うことができる。ECMのソフトステージの工程を使用してポンプ液圧ヘッドまたは主要ポンプハウジングで2つの穿設部10と12の間の開口に関して特異な形状を画定することは、これまで提案されなかった。前述の方法に対するさらなる変形では、最初の穿設および浸炭工程が行われた後にハードステージのECM工程のみが穿設部に適用されるように、ソフトステージのECM工程を完全に無くすことができる。これは形のわずかな損失を生じる可能性があるが、それにもかかわらずハードステージのECM工程の結果として優れた表面仕上げをもたらす。たとえば、従来技術ではECM加工された部品の表面仕上げを改善するためにソフトステージのECM加工円筒形電極を行い、それに続いて研磨ペーストホーニング加工を使用することが周知である。ハードステージのECM工程のみ使用することによって、ソフトステージのECMおよび研磨ペーストホーニング方法の組合せに対して優れた選択肢がもたらされる。ハードステージのECM工程によってソフトステージのECMおよび/または研磨ペーストホーニング方法と比較してかなりの時間短縮によって表面仕上げの利益が生じ、そうして上面仕上げを犠牲にせずにプロセス時間を短縮するのに使用できる。それは、同様に不便で、面倒で、時間のかかるおそれのある研磨ペーストホーニングに対する必要を完全に回避する。ハードステージのECM工程のみを伴う方法の1つの例は、図1から図5を参照して説明される方法を変更するものである。最初の穿設部10、12がポンプハウジング14に形成され、金属が浸炭された後に、交差部の領域20に円錐形のテーパ29の第1の領域を形成するために第1のECM電極24が使用され、続いて交差部の領域20に円錐形のテーパ31の第2の領域を形成するためにすなわち図3に示されるように第2のECM電極32が使用される。言い換えれば、最終の表面仕上げを形成するために2つのハードステージのECM工程が適用される。さらに別の実装形態では、第2の円錐ではなく第1の円錐のテーパ29に丸みをつけられた縁部をもたらすために第2のハードステージのECM工程を使用できる。ハードステージのECM加工を使用した別の例では、ハードステージのECM工程のうちの1つのみを必要とすればよく、そうして単一の電極のみが最終の表面仕上げを形成するのに使用される。単一のステージのECM工程のみが使用される場合、表面仕上げはより精密でなくなるすなわち1つのみの円錐のテーパが形成されるが、いくつかの適用に関しては、それにもかかわらず応力集中の利益を申し分ないものにすることができる。例として、図6から図10を参照して説明された方法の変形では、たとえば図6に示された形を有する単一のハードステージの電極を使用して、穿設部10と12の間の交差部の領域20に特異な幾何学的形状を形成するのにハードステージのECM工程のみが使用されるようにソフトステージのECM工程を無くすことができる。穿設部の間の交差部の領域に特異な形状を形成することがECM方法ハードステージまたはソフトステージあるいは両方に関連して説明されたが、別の加工および/または穿設方法が使用される場合に、この幾何学的形状を提供する有利な効果も実現される。たとえば、非回転対称の幾何学的形状を有する穿設工具の使用を伴う単純な穿設工程も、いくつかの適用に関して応力集中の利益をもたらす。本発明の様々な態様が高圧燃料ポンプに関して説明されてきたが、本発明は高圧燃料を移送する必要がある燃料注入システムのその他の部品に等しく適用可能であることが理解される。たとえば、この方法は、燃料噴射装置内の通路の間の交差部、またはコモンレール燃料供給システムのその他の通路内に適用することができる。たとえば、燃料注入装置では、通路は一般にレーザ加工によって形成され、穿設によっては形成されない。次いでレーザ加工された通路は、上述の本発明の様々な実施形態を使用して形成し、および/または仕上げることができる。さらに、本発明は燃料噴射システムでの使用に限定されず、液圧式の用途または別の、その他の用途に関して金属の部品を加工するのにも適している。部品内に形成された通路10、12は、従来の穿設技術、接触CNCフライス削り、固定EDM放電加工、移動EDM、またはレーザ加工技術を使用して形成でき、穿設などの通路への参照は、任意のこれらの工程または同様の手段によって形成される通路を含むように解釈される。さらにECM工程に対する参照は、固定ECMおよび移動ECMそこでは電極が移動されるを含むように解釈される。