"被覆物品であって、前記被覆物品が、その主面上に多層のコーティングを支持する基材を含み、前記コーティングが、低Eコーティングと、前記低Eコーティング上のガドリニウムGdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層とを含み、前記低Eコーティングが、基材から順に、第1誘電体層と、銀を含むIR反射層と、第2誘電体層と、を含み、前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層がGdを約1~20包含する、被覆物品。前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層が前記コーティングの最外層である、請求項1に記載の被覆物品。前記被覆物品が熱処理されている、請求項1又は2に記載の被覆物品。前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層がGdを約5~17含む、請求項1から3のいずれか1項に記載の被覆物品。前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層がGdを約5~15含む、請求項1から4のいずれか1項に記載の被覆物品。前記被覆物品が前記コーティングと共に熱処理され、前記コーティングが前記熱処理の後に正味の圧縮残留応力を有する、請求項1から5のいずれか1項に記載の被覆物品。前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層において、前記コーティングが、Gdが含まれていないコーティングに比べて、低い引張応力を有する、請求項1から6のいずれか1項に記載の被覆物品。前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層の厚さが約1~15nmである、請求項1から7のいずれか1項に記載の被覆物品。前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層の厚さが約2.5~10nmである、請求項1から8のいずれか1項に記載の被覆物品。前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層の厚さが約3~7nmである、請求項1から9のいずれか1項に記載の被覆物品。ガラス基材の主面上に設けられた機能性コーティングと、前記機能性コーティングの上に及び/又は前記機能性コーティングの最外層として設けられたオーバーコート層と、を含み、前記オーバーコート層がガドリニウムGdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む、被覆物品。前記被覆物品が熱処理されている、請求項11に記載の被覆物品。前記オーバーコート層の厚さが約1~15nmである、請求項11又は12に記載の被覆物品。前記オーバーコート層がGdを約1~20含む、請求項11から13のいずれか1項に記載の被覆物品。前記機能性コーティングが、ニッケル及び/又はニッケル合金を含有する少なくとも1種のIR反射層を含む、請求項11から14のいずれか1項に記載の被覆物品。前記被覆物品が前記コーティングと共に熱処理され、そして前記コーティングが熱処理後に正味の圧縮残留応力を有する、請求項11から15のいずれか1項に記載の被覆物品。前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層において、前記コーティングが、Gdが含まれていないコーティングに比べて、低い引張応力を有する、請求項11から16のいずれか1項に記載の被覆物品。ガラス基材で支持されたコーティングを含む被覆物品の製造方法であって、前記ガラス基材上に第1誘電体層を直接的に又は間接的に配置する工程と、前記第1誘電体層上にIR反射層を配置する工程と、前記IR反射層上に第2誘電体層を配置する工程と、前記第2誘電体層上にガドリニウムGdドーピングされた酸化ジルコニウムを含み、前記コーティングの最外層であるオーバーコート層をスパッタリング法により堆積させる工程と、前記ガラス基材を、その上の前記コーティングと共に熱処理する工程と、を含み、前記オーバーコート層がGdを約1~20含む、被覆物品の製造方法。前記熱処理後に前記コーティングが正味の圧縮残留応力を有する、請求項18に記載の被覆物品の製造方法。前記熱処理後に、前記オーバーコート層において、前記コーティングが、Gdが含まれていないコーティングに比べて、低い引張応力を有する、請求項18又は19に記載の被覆物品の製造方法。前記オーバーコート層が金属ターゲットをスパッタリング法により堆積させられている、請求項18から20のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記ガドリニウムGdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層が、酸素存在下で金属ターゲットをスパッタリング法により堆積させられている、請求項18から21のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。前記堆積時に含まれる酸素の量がZrターゲット出力1kW当たりのO2のmLで約1~6mL/kWである、請求項22に記載の被覆物品の製造方法。前記堆積時に含まれる酸素の量がZrターゲット出力1kW当たりのO2のmLで約2~4.2mL/kWである、請求項23に記載の被覆物品の製造方法。前記オーバーコート層は、Gdを含まないオーバーコート層に比べて、熱処理時の相変化が少ない、請求項18から24のいずれか1項に記載の被覆物品の製造方法。ガラス基材で支持されたコーティングを含む被覆物品の製造方法であって、ガラス基材を供給する工程と、前記ガラス基材上に、IR反射層である機能性層を直接的に又は間接的に配置する工程と、前記第2誘電体層上にガドリニウムGdドーピングされた酸化ジルコニウムを含むオーバーコート層をスパッタリング法により堆積させる工程と、を含み、前記オーバーコート層は、前記コーティングの最外層であり、かつ、Gdを約1~20含んでおり、前記ガラス基材は、その上の前記コーティングと共に熱処理することができ、前記コーティングは、正味の圧縮残留応力を有し、かつ、前記オーバーコート層において、Gdが含まれていないコーティングに比べて、低い引張応力を有する、被覆物品の製造方法。前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層が低Eコーティングと直接接触している、請求項1から10のいずれか1項に記載の被覆物品。特定の実施態様では、オーバーコートを低Eコーティング等の上に供給することで耐久性を向上させてもよい。ただし場合によっては、前記オーバーコートは、堆積直後に応力を受けることがあり、又は熱処理時、加熱屈曲処理時、焼入れ処理時等に加熱されると応力を受けることがある。場合によっては、前記オーバーコートが原因で生じた応力がコーティングの総合的な耐久性に悪影響を及ぼす可能性もある。そのため、窓ユニット又は他のガラス物品に更に耐久性の高いオーバーコートを供給することが好ましいこともある。以上のことを考慮すると、当該技術分野では、低Eスタック内に及び/又は低Eスタック上に組み込むことで被覆物品の総合的な耐久性を高めることができる層及び/又はオーバーコートが必要とされていることが分かるであろう。本発明の特定の実施態様例は、耐久性があり、熱安定性が高く、しかも光学特性への影響が軽減された被覆物品に関する。本発明の特定の実施態様例は、その製造方法にも関する。本発明の特定の実施態様例は、その主面上に多層のコーティングを支持している基材を含む被覆物品に関する。コーティングは、低Eコーティングと、低Eコーティング上にありかつ低Eコーティングとできる限り接触しているガドリニウムGdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層とを含む。低Eコーティングは、基材から順に、第1誘電体層と、銀を含むIR反射層と、第2誘電体層とを含む。Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層はGdを約1~20包含する。本発明の特定の実施態様例は、ガラス基材の主面上に設けられた機能性コーティングを含む被覆物品に関する。機能性コーティングの上に及び/又は機能性コーティングの最外層としてオーバーコート層が供給される。オーバーコート層は、ガドリニウムGdドーピングされた酸化ジルコニウムを含んでいる。特定の実施態様例によれば、被覆物品はコーティングと共に熱処理される。特定の実施態様例によれば、コーティングは、熱処理後に正味の圧縮残留応力を有し、しかもGdドーピングされた酸化ジルコニウムを含む層において、Gdが含まれていないコーティングに比べて、低い引張応力を有する。特定の実施態様例によれば、オーバーコート層は、Gdを含まないオーバーコート層に比べて、熱処理時の相変化が少ない。本発明の特定の実施態様例は、ガラス基材で支持されたコーティングを含む被覆物品の製造方法に関する。上記被覆物品の製造方法では、ガラス基材上に第1誘導体層を直接的に又は間接的に配置する。上記被覆物品の製造方法では、第1誘導体層上にIR反射層を配置する。上記被覆物品の製造方法では、IR反射層上に第2誘導体層を配置する。上記被覆物品の製造方法では、第2誘導体層上に、ガドリニウムGdドーピングされた酸化ジルコニウムを含むオーバーコート層をスパッタリング法により堆積させる。ここで、オーバーコート層はコーティングの最外層である。上記被覆物品の製造方法では、ガラス基材を、その上に付着したコーティングと共に熱処理する。オーバーコート層はGdを約1~20含む。本発明の特定の実施態様例は、ガラス基材で支持されたコーティングを含む被覆物品の製造方法に関する。上記被覆物品の製造方法では、ガラス基材を供給する。上記被覆物品の製造方法では、ガラス基材上に機能性層を直接的に又は間接的に配置する。ここで、機能性層はIR反射層である。上記被覆物品の製造方法では、第2誘電体層の上に、ガドリニウムGdドーピングされた酸化ジルコニウムを含むオーバーコート層をスパッタリング法により堆積する。ここで、オーバーコート層はコーティングの最外層でありかつGdを約1~20含む。ガラス基材は、その上に付着したコーティングと共に熱処理可能である。コーティングは、正味の圧縮残留応力と、オーバーコート層中にGdが含まれていないコーティングに比べて低い引張応力とを有している。本明細書に記載の特徴、態様、利点及び実施形態例を組み合わせることで更なる実施形態を実現することも可能である。以下の例示的な実施形態例についての詳細な説明を図面と合わせて参照することで、前記及び他の特徴及び利点をより明確により十分に理解することができる。以下に、添付の図面について更に詳細に述べるが、いくつかの図面を通して同様の符号は同様の要素を表す。本発明の特定の実施態様例は、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系のオーバーコートを含む被覆物品及び/又はその製造方法に関する。特定の実施態様例では、焼き入れ可能な/熱処理可能なGdドーピングされた酸化ジルコニウム系のオーバーコートが提供される。上述の通り、低Eコーティング等は、絶縁ガラスIG窓ユニット、車両窓、単枚ガラス窓等のような窓用途に広く使用されている。前記コーティングは場合によっては、例えば環境や取扱い時が原因で及び/又はコーティングを熱処理することで損傷することもある。さらに、コーティングの総合的な耐久性は、被覆物品が熱処理工程中に暴露され得る高温が原因で低下することがあり、特に加熱時にコーティング内の1層でも応力、相変化又は不安定を引き起こす傾向がある場合に低下することがある。そのため、ある実施態様例では、特定の層を有する特定のコーティングの熱処理は困難なことがある。酸化ジルコニウム系の層は、低Eコーティング等におけるオーバーコート層として使用してよい。しかし、複数の相が存在したり、酸化ジルコニウム系の膜の熱処理工程時に相変化が生じたりすると、例えば酸化ジルコニウム系の層内で生じ得る体積膨張及び応力が原因で、層全体の耐久性及びスタック全体の耐久性に問題が生じることがある。酸化ジルコニウムは3つの結晶系、すなわち立方相、正方相、単斜相に結晶化する可能性がある。場合により、具体的な相の形成はコーティング工程条件によって決まる。単斜相は一般に周囲温度で安定であり、正方相は一般に1200~2370°Cまで安定であり、そして正方相は一般に更に高い温度でも安定である。ときには、正方相と立方相のように複数の相が同時に共存し得る可能性もある。前記の相及びこれらの各ピークを図1に示す。図1は、加熱前後の酸化ジルコニウム膜の構造を表す。図1によれば、加熱/熱処理前後の酸化ジルコニウム膜は結晶質である。熱処理後の酸化ジルコニウム膜をスキャンした場合の2θ=30.224°における正方相の1ピークを除き、単斜相の酸化ジルコニウムが優勢である。低Eスタックでは純粋な酸化ジルコニウムがオーバーコートとして使用されている。例えば、米国特許第7217461号を参照し、この内容を全て本明細書に参照として組み込む。しかし、純粋な酸化ジルコニウムからなるオーバーコート層をコーティングに使用すると、コーティングの熱的安定性や耐久性が低下する可能性がある。上述の通り、場合により、複数の相が同時に存在したり、加熱過程で相変化が生じたりすると、純粋な酸化ジルコニウム系の層例えば、酸化ジルコニウムから本質的になる層であって、例としては酸化ジルコニウムが故意にドーピングされていない層等に耐久性問題例えば、耐久性の低下が生じることがある。この耐久性の低下が酸化ジルコニウム系の層又は複数の層を包含するコーティング全体に影響を及ぼす可能性もある。例えば、層及び/又はコーティングの耐久性は、場合により、熱処理を通常行う温度への暴露によって生じる体積膨張及び/又は応力が原因で低下することもある。さらには、純粋な酸化ジルコニウムを低Eスタックにおいて層及び/又はオーバーコート層として使用することで、高い圧縮応力を受ける膜を生じさせることもある。図2は、ドーパント/安定剤を含有しない酸化ジルコニウム膜における熱処理前後の応力を表している。特定の実施態様例では、ドーピングされていない酸化ジルコニウム系の層例えば、安定剤を含有しない層における応力は、加熱によって圧縮から引張へと変化する。特定の実施態様例では、応力は残留していてもよく、例えば、圧縮残留応力及び/又は引張残留応力等であってよい。圧縮応力は、加わると、材料の中心に向かって作用する。すなわち、材料は、圧縮応力を受けると圧縮する。一方で、材料は、引張応力を受けると伸縮又は伸長する可能性がある。したがって、コーティング内の層に過剰の引張応力が存在すると、場合により、層及び/又はコーティングに変形、亀裂及び/又は他の種の劣化が生じることがある。そのため、特定の実施態様例では、コーティングは引張応力よりも圧縮応力を有する方が望ましい可能性がある。このような問題を克服するために、酸化ジルコニウム層にガドリニウム及び/又は酸化ガドリニウム例えば、Gd及び/又はGdxOy、例えばGd2O3をドーピングしてよい。驚くことに、酸化ジルコニウム系の層にガドリニウム及び/又は酸化ガドリニウム例えば、Gd及び/又はGdxOy、例えばGd2O3をドーピングすると、酸化ジルコニウムの高温相の安定性が向上する可能性があることが分かった。特定の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層を低Eコーティング内のオーバーコートとして使用してよい。特定の実施態様例では、ガドリニウムをドーピングすると、酸化ジルコニウム系の層は特に高温での安定性が更に向上する可能性がある。別の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層の方が応力を更に上手く調節できる場合もある。特定の実施態様例では、低EスタックのオーバーコートがGdドーピングされた酸化ジルコニウムからなる又はそれを包含する場合、コーティング全体の高温耐久性及び熱的安定性が更に向上する可能性がある。場合によっては、ドーピングされていない酸化ジルコニウム若しくは別の材料でドーピングされた酸化ジルコニウムに比べて、構造特性や膜表面の形態特性が有利に向上する可能性もある。このことは特に高温で当てはまる。例えば、コーティングを焼入れ処理及び/又は熱処理過程において、熱がコーティングの構造特性及び形態特性に変化が生じることがある。驚くことに特定の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウムは高温の方が安定であることが分かった。したがって、酸化ジルコニウムにガドリニウムをドーピングすることで、場合により前記構造変化を有効に抑制でき、さらに場合によっては、ドーピングされていない酸化ジルコニウム及び別の材料でドーピングされた酸化ジルコニウムよりも、コーティングの耐久性に関する特性を更に向上できる可能性もある。以上のことから、酸化ジルコニウムがガドリニウム及び/又は酸化ガドリニウム例えば、Gd2O3又は他の好適な化学量論組成のものでドーピングされている特定の実施態様例では、酸化ジルコニウムの高温相が安定化する可能性があることも分かる。場合によっては、Gdドーピングされた酸化ジルコニウムをコーティング内の、特に低Eコーティング内のオーバーコートとして使用すると、GdドーピングされたZrOx層とコーティング全体との高温耐久性及び熱的安定性が向上すると考えられる。その上、特定の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層は、ドーピングされていない酸化ジルコニウム及び/又は別の材料でドーピングされた酸化ジルコニウムほど応力を受けないとも考えられる。特定の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層は前記利点を有するものの、コーティングの性能は、低Eスタックの光学特性にほとんど悪影響を与えずに改善されると考えられる。特定の実施態様例では、酸化ジルコニウム系の層におけるガドリニウムの量は重量基準で約1~20、更に好ましくは約5~17重量、最も好ましくは約5~15重量であってよい。特定の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層を堆積するのに金属ターゲットを用いる。前記実施態様では、ジルコニウムとガドリニウムとを含むターゲットを使用してよい。特定の実施態様例では。Gd含有ZrOx層を堆積するのに用いられるターゲットとしては、ZrOx-GdOx混合系を挙げることができる。ターゲットはガドリニウムを約1~40、更に好ましくはガドリニウムを約5~30、最も好ましくはガドリニウムを約5~15含んでいてよい。Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層を金属ターゲットを用いて堆積する実施態様例では、前記層を酸素存在下で堆積してよい。酸素の量はZr系ターゲットの出力を基準にして、例えばZrターゲットの出力1kW当たりのO2のmLで決定され得る。特定の実施態様例では、酸素の量は約0.5~10mL/kW、更に好ましくは約1~6mL/kW、最も好ましくは約2~4.2mL/kWの量である。当然、別の実施態様では他の環境を使用してもよいことが分かるであろう。このような環境としては、Ar等のような不活性ガス、又は反応性ガスと不活性ガスとの混合物例えば、O2とArを挙げることができる。他の実施態様例では、セラミックターゲットを使用してもよい。Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層の堆積は、場合によっては室温で行ってもよく、及び/又は高温で行ってもよい。更なる実施態様では、ガドリニウムとジルコニウムを窒素例えばN2の存在下で堆積してもよい。場合によっては、堆積後に加熱すると窒化物層が酸化されて、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム層が形成される可能性もある。特定の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層をオーバーコートとして使用してよい。例えば、本発明の特定の実施態様例によるGdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層を、低Eコーティングにおけるオーバーコートとして使用してもよい。低Eコーティングは、低放射率のコーティングであり、また、IR反射層を包含してもよい。IR反射層は銀を含み得るが、別の特定の実施態様では他の材料又は代替物質を含んでいてもよい。IR反射層に用いられる他の材料は、金、ニッケル及び/又はニッケルクロム、ニオブ、これらの合金等であってよい。図3~6は、本発明の特定の実施態様例によるGd含有ZrOx層を組み込んだ特定の層スタック例を表している。当然、別の実施態様例では他の層スタックを用いてよい。Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層は、低Eコーティング以外のコーティングに使用されてもよく、また、別の実施態様例ではスタックの中央部に及び/又はガラス基板の最も近くに配置されてもよい。しかも更なる実施態様では、コーティングにはGdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層を2層以上供給してもよい。図3は、本発明の一実施態様例による被覆物品の垂直断面図である。被覆物品は、基材1例えば、約1~12mm、更に好ましくは1~10mm、最も好ましくは3~9mmの透明な、緑色の、ブロンズ色の又は青緑色の基材と、基材1に直接的に又は間接的に供給されたコーティング又は層システム30とを包含している。コーティング又は層システム30は、任意の誘電体層3及び/又は5と、任意の第1下部コンタクト層7IR反射層9と接しているものと、導電性の、好ましくは金属製の第1赤外線IR反射層9と、任意の第1上部コンタクト層11層9と接しているものと、任意の誘電体層13及び/又は15と、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層25とを包含しており、前記Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層25は、本発明の特定の実施態様例では、コーティング30のオーバーコートとして及び/又はコーティング30の最外層として使用してもよく、又はそのように使用しなくてもよい。図3を更に説明すると、任意の誘電体層3は、スズ酸化物のような金属酸化物等の材料本発明の別の実施態様では1工程又は多工程で堆積され得るものからなるものであってもよく、又はそれを包含していてもよい。本発明の別の実施態様では、任意の誘電体層5は、部分的に又は完全に酸化及び/若しくは窒化されたケイ素等の材料例えば、Si3N4又は任意の他の好適な化学量論組成のものからなるものであってもよく、又はそれを包含してもよい。特定の実施態様例では、誘電体層3及び/又は5の厚さは約20~60nm、更に好ましくは約25~50nm、最も好ましくは約30~45nmであってよく、ここで、非限定的な厚さの例は約38nmである。特定の実施態様例では、IR反射層は、銀及び/又は金等からなるものであっても、又はこれらを包含してもよい。ただし、本発明はこれらに限定されるものではなく、他の実施態様例では、IR反射層9は、銀以外の材料例えば、ニオブ、窒化ニオブ、ニッケル及び/又はニッケル合金からなるものであっても、又はそれを包含してもよい。特定の実施態様例では、IR反射層9の厚さは、約4~12nm、更に好ましくは約4~10nm、最も好ましくは約5~8nmであってよく、ここで、非限定的な厚さの例は約6.7nmである。任意の第1下部コンタクト層7及び第1上部コンタクト層11は、ニッケルクロム、その酸化物、及び亜鉛酸化物等からなるものであってもよく、又はこれらを包含してもよい。特定の実施態様例では、層7及び層9の厚さはそれぞれ約2nm未満、更に好ましくは約1.5nm未満、最も好ましくは約1.2nm未満であってよい。層7の非限定的な厚さの例は約1.1nmであってよく、そして層9の非限定的な厚さの例は約0.8nmであってよい。更なる実施態様例では、層7の厚さは層9よりもわずかに大きくてもよい。しかし、別の実施態様例では、層7と層9は実質上同じ厚さであってよく、また/或いは、層9が層7より厚くてもよい。任意の誘電体層13は、部分的に又は完全に酸化及び/若しくは窒化されたケイ素等の材料例えば、Si3N4又は任意の他の好適な化学量論組成のものからからなるものであってもよく、又はこれらを包含してもよい。任意の誘電体層15は、スズ酸化物のような金属酸化物等の材料本発明の別の実施態様では1工程又は多工程で堆積され得るものからなるものであってもよく、又はこれらを包含してもよい。特定の実施態様例では、誘電体層13及び/又は15の厚さは約20~50nm、更に好ましくは約25~45nm、最も好ましくは約280~380nmであってよく、ここで、非限定的な厚さの例は約33nmである。特定の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層25はコーティング30のオーバーコート例えば、最外層であってよい。特定の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウムからなる又はそれを包含するオーバーコートを使用することで、より優れた耐久性とよし優れた熱安定性と共に、良好な光学特性をも有するコーティングが得られる可能性がある。本明細書で使用するとき、Gdドーピングされた酸化ジルコニウムとは、ガドリニウム及び/又は酸化ガドリニウムGd2O3又は他の好適な化学量論組成のもの等でドーピングされた、あらゆる好適な化学量論組成の酸化ジルコニウムを指す。特定の実施態様例では、誘電体層3,5,13,15のうちの1種のみがコーティングに含まれていてもよい。別の実施態様例では、誘電体層3,5,13,15のうちの2種以上がコーティングに含まれていてもよい。さらに、特定の実施態様例では、前記コンタクト層のうち1種を使用してもよく、又は前記コンタクト層を全く使用しなくてもよい。IR反射層が銀以外の材料を含むような別の実施態様例では、IR反射層より上部に例えば、ガラス基材から遠い方に上部コンタクト層の代わりにバリア層を使用してもよい。図4は、本発明の別の実施態様例による被覆物品の垂直断面図である。図4のコーティング及び/又は層システム40は、図4中のIR反射層9が銀以外の材料をベースとしていることを除けば、図3のコーティング及び/又は層システム30と同様である。例えば、IR反射層9はニオブ、窒化ニオブ、ニッケル及び/若しくはニッケル合金又は任意の他の好適なIR反射材料からなるものであっても、或いはこれらを含んでもよい。好ましくは層9は導電性であるが、全ての実施態様において導電性である必要はない。また、図4は、IR反射層が銀以外の材料をベースとしている場合、このような実施例では任意の下部コンタクト層7及び任意の上部コンタクト層9のうちの一方又は両方を設けなくてよいことを表している。別の実施態様例では、コンタクト層の代わりに又はコンタクト層に加えて、任意のバリア層14をIR反射層9の上にIR反射層と接触させて供給してもよい。図5は、本発明の更に別の実施態様例による被覆物品の垂直断面図である。図5中のコーティング及び/又は層システム50は、コーティングが2種のIR反射層を有していることを除けば、図3中のコーティング及び/又は層システム30と同様である。したがって、図3の実施態様に含まれる層に加えて、被覆物品は更に、第2下部コンタクト層17IR反射層19と接触しているもの、導電性の、好ましくは金属製の第2のIR反射層19、第2上部コンタクト層21層19と接触しているもの、誘電体層23、及び最終保護用の誘電体層25を包含してもよい。コンタクト層7,11,17,21はそれぞれ、少なくとも1種のIR反射層例えば、Ag又はAu等をベースとする層と接触している。ガラス基材1又はプラスチック基材1上に設けられた低Eコーティング30の別の実施態様例は、前記層3~25で構成されている。任意の第2下部コンタクト層17はニッケルクロム、その酸化物、及び亜鉛酸化物等からなるものであってもよく、又はこれらを包含してもよい。任意の第2上部コンタクト層21もまた、ニッケルクロム、その酸化物、及び亜鉛酸化物等からなるものであってもよく、又はこれらを包含してもよい。任意の誘電体層23は、部分的に又は完全に酸化された及び/若しくは窒化されたケイ素等の材料例えば、Si3N4又は任意の他の好適な化学量論組成のものからなるものであってもよく、又はこれらを包含してもよく、或いはスズ酸化物のような金属酸化物等の材料本発明の別の実施態様では1工程又は多工程で堆積され得るものを包含することも可能である。特定の実施態様例では、層23は2種以上の誘電体層から構成されていてもよい。特定の実施態様例では、誘電体層3,5,13,15,23の全てがコーティング内に含まれていなくてもよい。別の実施態様例では、誘電体層3,5,13,15,23全てがコーティングに含まれていてもよい。しかも特定の実施態様例では、コンタクト層を1層のみ使用してもよく、又はコンタクト層を全く使用しなくてもよい。図6は、本発明の典型的な実施態様を表している。図6中のコーティング及び/又は層システム60にはIR反射層9が1層のみ存在し、そして層9は銀からなるか又は銀を包含している。第1下部コンタクト層7及び第1上部コンタクト層11はいずれもニッケルクロムからなるか又はニッケルクロムを包含している。誘電体層3及び誘電体層13も含まれており、これらは窒化ケイ素からなる又は窒化ケイ素を包含するものである。オーバーコート25はコーティングの最外層であって、Gdドーピングされた酸化ジルコニウムを包含している。以上の実施態様は単に例であって、各実施態様に記載の層全てが全部のコーティングに含まれていなくてもよい。さらに、別の実施態様例では、追加の層を使用してもよい。幾つかの実施態様例は低Eコーティングについて記載しているが、本発明はそれに限定されるものではない。別の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層を任意の機能性コーティングの上にオーバーコートとして使用してもよい。更に別の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層をコーティング内の1つの層として使用してもよく、例えば、前記層は、少なくとも2種の別の層の間にありかつ少なくとも2種の別の層と接触していてもよい。Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層は、全ての実施態様例において必ずしもオーバーコート層及び/又は最外層でなくてもよい。特定の実施態様例では、Gdドーピングされた酸化ジルコニウム系の層を低Eコーティングにおいてオーバーコート例えば、最外層として使用する場合は特にだが、非限定的に、層25の厚さは約1~15nm、更に好ましくは約2.5~10nm、最も好ましくは約3~7nmであってよく、厚さの例は5nmである。特定の実施態様例では、コーティングシステム30及び/又は層25は誘電性であってよい。例示したコーティング30の下に、その内部に又はその上に他の層を供給してもよい。そのため、層システム又はコーティングは、基材1の上に直接的に若しくは間接的に存在するか又は基材1で直接的に若しくは間接的に支持されているが、他の層がその間に供給されていてもよい。したがって、例えば、図3のコーティング30及びその層は、他の層が層3と基材1との間に供給されていても、基材の上に存在する又は基材1で支持されているとみなすことができる。その上、本発明の特定の実施態様の趣旨全体から逸脱しないのであれば、特定の実施態様では、例示したコーティングのうちの特定の層を取り除くこともでき、また、本発明の別の実施態様では、他の層を追加してもよい。別の特定の実施態様例では、コーティング30は層3,7,9,11,13,25から本質的になるものであってよく、しかも層25は大気に暴露されていてよい例えば、特定の実施態様例では、層25がコーティングの最外層であってよい。本明細書に記載のGd含有ZrOxオーバーコート層は、例えば米国出願公開番号2009/0214880、同2009/0205956、同2009/0324934、同2009/0324967、同2010/0075155及び同2010/0104840、並びに米国出願番号12/453125、同12/453836、同12/662561及び同12/662562に開示されているような低Eコーティングと関連して使用することもでき、前記公報の内容は全て本明細書に参照として組み込まれる。特定の実施態様例では、本明細書に記載の被覆物品例えば、図3~6を参照は熱処理例えば、熱入れ処理をしてもよく、又は熱処理例えば、熱入れ処理をしなくてもよい。本明細書で使用するとき、熱処理及び熱処理をすることという用語は、ガラスを含めた物品の焼き入れ処理及び/又は倍強化処理を達成するのに十分な温度まで前記物品を加熱することを表す。この定義には、例えば、被覆物品を少なくとも約550°C、より好ましくは少なくとも約580°C、更に好ましくは少なくとも約600°C、なお好ましくは少なくとも約620°C、最も好ましくは少なくとも約650°Cのオーブン又は炉内で、焼き入れ処理及び/又は倍強化処理を行うのに十分な時間加熱することが含まれる。これは、特定の実施態様では、少なくとも約2分又は最大約10分であってよい。本明細書に記載の層のうちの一部又は全部が、スパッタリング法、又は例えば燃焼気相成長法や燃焼堆積法等のような他の好適な成膜技法によって基材1上に直接的に又は間接的に配置されてよい。現在最も実用的でかつ最も好ましい実施態様であると考えられるものについて本発明を説明してきたが、本発明は、開示した実施態様に限定されるものではなく、むしろ添付の特許請求の範囲の趣旨及び範囲に包含される様々な変更点及び同等の配置をも網羅するものと解されるべきである。"