"鋼板の少なくとも片面に、金属Niとして300~1000mg/m2の付着量のニッケルを含むめっき層を有し、Zrイオン、Fイオンおよびリン酸イオンを含む溶液中で、浸漬又は陰極電解処理を行うことにより鋼板上に形成された化成処理皮膜を有し、前記化成処理皮膜の金属Zr付着量が1.0~50mg/m2であり、P量で0.5~25mg/m2のリン酸化合物を含み、かつスパッタリング処理によって得られる深さ方向に2nmの平面および4nmの平面のXPS分析によるF原子数濃度が2at以下であることを特徴とする、容器用鋼板。前記めっき層には金属Snとして100~15000mg/m2の付着量のスズを含むことを特徴とする、請求項1に記載の容器用鋼板。請求項1または2に記載の容器用鋼板の製造方法であって、前記溶液中で、浸漬又は陰極電解処理を行うことにより前記鋼板上に前記化成処理皮膜を形成した後、40°C以上の温水で0.5秒以上の洗浄処理を行うことを特徴とする、容器用鋼板の製造方法。請求項1または2に記載の容器用鋼板の製造方法であって、20°C以上60°C以下の水で0.1秒以上の洗浄を行ってから、40°C以上の温水で0.5秒以上の洗浄処理を行うことを特徴とする、容器用鋼板の製造方法。上記の技術は、確かに、地球環境の保全に大きく寄与する。しかしその一方で、近年、飲料容器市場では、PETボトル、瓶、紙等の素材とのコスト並びに品質競争が激化しており、上記のラミネート容器用鋼板に対しても、従来技術である塗装用途に対して、優れた加工性、溶接性、フィルム密着性、塗料密着性、塗膜下耐食性、耐錆性、及び外観が求められるようになった。また、近年、欧米を中心に、鉛やカドミウムなどの有害物質の使用制限や製造工場の労働環境への配慮が叫ばれ始め、クロメートを使用せず、かつ、製缶加工性を損ねない皮膜が求められるようになった。このような状況に対応して、例えば、特許文献9等にジルコニウムイオン、フッ素イオンを含む溶液中での電解処理によるジルコニウム化合物を含む化成処理皮膜が提案されている。しかしながら、溶液中にフッ素イオンを含んでいるため、同皮膜上に付与した塗料、フィルム等の密着性二次密着性を低下させる、また耐錆性あるいは塗膜下耐食性を低下させる場合があった。これは、化成処理皮膜形成時の条件によっては、化成処理皮膜中にフッ素イオンが取り込まれ、レトルト処理などの水蒸気を含む水分共存下での高温処理時等、同イオンが皮膜から溶出する事が原因と考えられる。また、上記特許文献11に記載の方法では、化成処理液に浸漬又は該化成処理液を塗布し乾燥させるという工程を経るものであるため生産性が悪く、また、クロメート処理を行った場合と同等以上の満足できる耐食性が得られない、という問題があった。また、上記特許文献12ではリン酸塩化合物、特許文献13ではチタン化合物、の電解反応の方法を記載しているが、満足できる耐食性が得られない、という問題があった。また、上記特許文献14、特許文献15、特許文献16、特許文献17、特許文献18及び特許文献19にジルコニウムイオン、フッ化物イオンを含む電解反応の方法が記載されているが、これらの方法でも満足できる生産性や耐食性が得られない、という問題があった。また、前記特許文献14~19の方法では、満足する耐食性、塗料フィルム等の有機皮膜との密着性を得るために、緻密なジルコニウム含有皮膜を形成させる点が記載されているが、高いジルコニウム付着量を確保する場合には、短時間での処理は困難であり、また付着ムラに起因して満足な外観が得られない、さらには十分な有機皮膜との密着性が得られないという問題があった。ジルコニウムの付着を促進し、外観が良好で、かつ、耐食性を得るための緻密な皮膜を形成し、塗料フィルム等の有機皮膜との密着性のそれぞれを満足するために必須であると考えられる電解処理及び後処理の条件について、特に後処理において皮膜中に残存するフッ化物イオンが塗料フィルム等の有機皮膜との密着性を低下させることについて言及されておらず、また、これら製造上の問題を解決するための方法が具体的に開示されていない。本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、クロメート処理に替わる表面処理を行った場合でも、ジルコニウムイオン及びフッ素イオンを含む溶液中で形成される鋼板上の化成処理皮膜に関して、優れた加工性、溶接性、フィルム密着性、塗料密着性、塗膜下耐食性、耐錆性、及び外観を有する容器用鋼板及びその製造方法を提供することにある。本発明の概要は以下の通りである。1本発明の第一の態様は、鋼板の少なくとも片面に、金属Niとして300~1000mg/m2の付着量のニッケルを含むめっき層を有し、Zrイオン、Fイオンおよびリン酸イオンを含む溶液中で、浸漬又は陰極電解処理を行うことにより鋼板上に形成された化成処理皮膜を有し、前記化成処理皮膜の金属Zr付着量が1.0~50mg/m2であり、P量で0.5~25mg/m2のリン酸化合物を含み、かつスパッタリング処理によって得られる深さ方向に2nmの平面および4nmの平面のXPS分析によるF原子数濃度が2at以下である容器用鋼板である。2上記1に記載の容器用鋼板では、前記めっき層には金属Snとして100~15000mg/m2の付着量のスズを含んでもよい。3本発明の第二の態様は、上記1又は2に記載の容器用鋼板の製造方法であって、前記溶液中で、浸漬又は陰極電解処理を行うことにより鋼板上に前記化成処理皮膜を形成した後、40°C以上の温水で0.5秒以上の洗浄処理を行う、容器用鋼板の製造方法である。4本発明の第三の態様は、上記1又は2に記載の容器用鋼板の製造方法であって、20°C以上60°C以下の水で0.1秒以上の洗浄を行ってから、40°C以上の温水で0.5秒以上の洗浄処理を行う、容器用鋼板の製造方法である。上記容器用鋼板によれば、皮膜中に残存するフッ素イオン量を規定値以下にすることで、優れた加工性、溶接性、フィルム密着性、塗料密着性、塗膜下耐食性、耐錆性、及び外観を有する容器用鋼板を提供することができる。また、上記容器用鋼板製造方法によれば、クロメート処理に替わる表面処理を行った場合でも、優れた加工性、溶接性、フィルム密着性、塗料密着性、塗膜下耐食性、耐錆性、外観を有する容器用鋼板の製造方法を提供することができる。本発明者等は、クロメート皮膜に代わる新たな皮膜として、フッ素イオンを含む溶液中でのジルコニウム化合物を含む化成処理皮膜の活用を鋭意検討した結果、ジルコニウム化合物を含む化成処理皮膜、又はジルコニウム化合物及びリン酸化合物を含む化成処理皮膜に関して、皮膜中に残存するフッ素イオン量を規定値以下にした皮膜が塗装あるいはラミネートフィルムと非常に強力な共有結合を形成し、従来のクロメート皮膜以上の優れた加工性、溶接性、フィルム密着性、塗料密着性、塗膜下耐食性、耐錆性、及び外観を得られることを知見した。以下、上記知見に基づく本発明の一実施形態に係る、ジルコニウムイオン及びフッ素イオンを含む溶液中で浸漬又は陰極電解処理を行うことにより形成された化成処理皮膜を有する容器用鋼板について詳細に説明する。容器用鋼板の原板となる鋼板に関しては特に規制されるものではなく、通常、容器材料として使用される鋼板を用いることができる。この原板の製造法、材質なども特に規制されるものではなく、通常の鋼片製造工程から熱間圧延、酸洗、冷間圧延、焼鈍、調質圧延等の工程を経て製造される。この原板にニッケルを含むめっき層が付与される。また、ニッケルに加えスズを含むめっき層が付与されてもよい。めっき層を付与する方法については特に規制されるものではない。例えば、電気めっき法や真空蒸着法やスパッタリング法などの公知技術を用いれば良く、拡散層を付与するため、めっき後に加熱処理を組み合わせても良い。また、ニッケルは鉄と合金化させたFe-Ni合金めっきとして含有させてもよい。こうして付与されためっき層において、ニッケルは金属Niとして10~1000mg/m2、好ましくは300~1000mg/m2であればよい。また、スズを含有する場合は金属Snとして100~15000mg/m2であればよい。ニッケルは、優れた塗料密着性、フィルム密着性、塗膜下耐食性、溶接性に寄与する。その為には、金属Niとして、10mg/m2以上、好ましくは300mg/m2以上のニッケルが必要である。ニッケルの付着量の増加に伴い、これらの向上効果は増加するが、1000mg/m2以上ではこれらの向上効果が飽和するため経済的に不利ある。従って、ニッケルの付着量は金属Niとして1000mg/m2以下にすることが好ましい。スズは、優れた加工性、溶接性、塗膜下耐食性に寄与する。十分な塗膜下耐食性を確保するためには100mg/m2以上、十分な溶接性を確保するためには400mg/m2以上、十分な加工性を確保するためには、1000mg/m2以上、金属Snとして付与する事が望ましい。スズ付着量の増加に伴い、これらの効果の向上が見込めるが、15000mg/m2以上では塗膜下耐食性の向上効果が飽和するため経済的に不利ある。従って、スズ付着量は金属Snとして15000mg/m2以下にすることが好ましい。また、スズめっき後にリフロー処理を行うことによりスズ合金層が形成され、塗膜下耐食性がより一層向上する。ここで、上記めっき層中の金属Ni量及び金属Sn量は、例えば、蛍光X線法によって測定することができる。この場合、金属Ni量既知のニッケル付着量サンプルを用いて、金属Ni量に関する検量線をあらかじめ特定しておき、この検量線を用いて相対的に金属Ni量を特定する。金属Sn量の場合も同様にして、金属Sn量既知のスズ付着量サンプルを用いて、金属Sn量に関する検量線をあらかじめ特定しておき、この検量線を用いて相対的に金属Sn量を特定する。本実施形態に係る容器用鋼板では、上述のめっき層の上層に化成処理皮膜が形成される。化成処理皮膜は、ジルコニウムイオン、フッ素イオン、更に、リン酸イオンを溶解させた化成処理溶液に鋼板を浸漬する浸漬処理、あるいは陰極電解処理により形成してもよい。ただし、浸漬処理では、下地をエッチングして各種の皮膜が形成される為、付着が不均一になり、また、処理時間も長くなる為、工業生産的には不利である。一方、陰極電解処理では、強制的な電荷移動及び鋼板と電界処理溶液との界面での水素発生による表面清浄化とpH上昇による付着促進効果も相俟って、均一な皮膜を得る事が出来る。更に、この陰極電解処理において、処理液中に硝酸イオンとアンモニウムイオンを共存させることにより、数秒から数十秒程度の短時間処理で、塗膜下耐食性、塗料密着性、及びフィルム密着性の向上効果に優れたジルコニウム酸化物、又はジルコニウムリン酸化合物を含む化成処理皮膜の析出を促進する事が可能である事から、工業的には極めて有利である。従って、化成処理皮膜の付与には陰極電解処理が望ましく、特に硝酸イオンとアンモニウムイオンを共存させた処理液での陰極電解処理が更に望ましい。なお、陰極電界処理は、例えば、電流密度を0.1~20A/dm2として行うことができる。このように、化成処理皮膜は優れた実用特性主に、塗膜下耐食性、フィルム密着性、塗料密着性を発揮する。しかしながら、フェノール樹脂を用いてカーボン量で3.0mg/m2以上の付着量のカーボンを化成処理膜に付与する場合、電気抵抗の上昇による溶接性の劣化や付着ムラが発生する虞や、後述する電解処理後の洗浄工程により皮膜が洗い流されて剥離する虞があるため、フェノール樹脂は付与しないことが望ましい。化成処理皮膜の主な役割は、塗膜下耐食性、塗料密着性、フィルム密着性の確保である。ジルコニウム化合物は、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウムで構成されているジルコニウム水和酸化物、ジルコニウム水和酸化物-リン酸化合物であると考えられるが、これらのジルコニウム化合物は優れた塗膜下耐食性、塗料密着性、フィルム密着性を発揮する。従って、化成処理皮膜中のジルコニウム化合物量が増加すると、これらの特性が向上し始め、金属ジルコニウム量で、1.0mg/m2以上の付着量になると、実用上、問題ないレベルの塗膜下耐食性と塗料密着性が確保される。一方、ジルコニウム化合物量が金属ジルコニウム量で50mg/m2を超えると、化成処理皮膜が厚くなり過ぎ化成処理皮膜自体の密着性が劣化すると共に電気抵抗が上昇し溶接性が劣化する。従って、ジルコニウム化合物量は、金属ジルコニウム量で1.0~50mg/m2にすることが好ましい。ジルコニウム化合物量の下限値として、より好ましくは、2.0mg/m2以上、更に好ましくは、5.0mg/m2以上、ジルコニウム付着量の上限値として、より好ましくは、40mg/m2以下、更に好ましくは、25mg/m2以下である。また、化成処理皮膜中のリン酸化合物が増加するとより優れた塗膜下耐食性、フィルム密着性、及び塗料密着性を発揮するが、その効果をはっきり認識できるのは、リン量で0.5mg/m2以上である。更に、リン酸化合物量が増加すると塗膜下耐食性、フィルム密着性、塗料密着性の向上効果も増加するが、リン酸化合物量がリン量で25mg/m2を超えると、リン酸化合物が厚くなり過ぎ化成処理皮膜自体の密着性が劣化すると共に電気抵抗が上昇し溶接性が劣化する。従って、リン酸化合物付着量はリン量で0.5~25mg/m2にすることが好ましい。リン酸化合物量の下限値として、より好ましくは、2.5mg/m2以上、更に好ましくは、5mg/m2以上、リン酸化合物量の上限値として、より好ましくは、20mg/m2以下、更に好ましくは、12.5mg/m2以下である。フッ素イオンは溶液中に含まれることから、ジルコニウム化合物と共に皮膜中に取り込まれる。皮膜中のフッ素は、塗料やフィルムの通常の密着性一次密着性には影響を及ぼさないが、レトルト処理などの高温殺菌処理時の密着性二次密着性や耐錆性あるいは塗膜下耐食性を劣化させる原因となる。これは、水蒸気や腐食液に皮膜中のフッ素が溶出し、有機皮膜との結合を分解、或いは、下地鋼板を腐食することが原因と考えられている。皮膜最表面のフッ素量として、当該皮膜のXPS分析X線光電子分光分析でのF1sに対応する結合エネルギーである684eVを中心とした682~688eV付近のピーク面積から換算される表面F原子数濃度が2at以下であること好ましい。同規定は、皮膜の深さ方向にスパッタして得られる最表面近傍最表面から2nm深さ及び4nm深さの面の新しい面に対しても同様である。表面F原子数濃度が2atを超えると、これらの諸特性の劣化が顕在化し始める事から、前記最表面から2nm深さ及び4nm深さの平面のF原子数濃度は2at以下にすることが好ましい。より好ましくは表面F原子数濃度が1at以下、更に好ましくは0.5at以下である。表面F原子数濃度の下限値に関しては、フッ素量は可及的に低減することが好ましいため0at超であればよい。ただし、表面F原子数濃度を0.3at以下にまで低減させることは工業的に困難であるため、0.2at又は0.3atを下限値として設定してもよい。表面F原子数濃度を2at以下にするには、化成処理皮膜を形成した後、温水中での浸漬処理やスプレー処理により洗浄処理を行えば良く、この処理温度を高く、或いは、処理時間を長くすることによりF量を減少させる事が出来る。従って、皮膜の表面F原子数濃度を2at以下にするには40°C以上の温水で0.5秒以上の浸漬処理あるいはスプレー処理をすればよい。水温が40°Cを下回る、あるいは処理時間が0.5秒を下回ると皮膜の表面F原子数濃度を2at以下に出来なくなり、上述の諸特性が発揮されなくなる。なお、化成処理皮膜中に含有される金属ジルコニウム量、リン量は、例えば、蛍光X線分析等の定量分析法により測定することが可能である。以下、添付図面を参照しながら、上述の容器用鋼板の製造方法について詳細に説明する。本発明者らは,ジルコニウムイオン、フッ素イオン、リン酸イオンを含む溶液を用いて鋼板表面に陰極電解処理にてジルコニウムを含む皮膜を形成させる方法について鋭意研究を重ねた。その結果、各イオン成分の濃度を規定した電解処理液中に硝酸イオンを添加すると、短時間で外観の優れた、高いジルコニウム付着量のジルコニウムを含有する皮膜を形成させうる事を見出した。さらに、本発明者らは、電解処理後に温水洗浄することにより、特にフッ素イオンを除去した化成処理皮膜を得ることができ、これにより、優れた加工性、溶接性、フィルム密着性、塗料密着性、塗膜下耐食性、耐錆性、及び外観を有する容器用鋼板を製造できることを見出した。[容器用鋼板の製造方法]容器用鋼板の製造方法では、100ppm~3000ppmのジルコニウムイオン、50ppm~400ppmのフッ化水素、及び50ppm~2000ppmのリン酸イオンを含有、pHが3~4、温度が20°C~50°Cである化成処理液を用いる。この化成処理液は、3000ppm以上の硝酸イオンを含有してもよい。この化成処理液を用いて鋼板に対して陰極電解処理を行い、その後、40°C以上の温水で0.5秒以上の洗浄処理を行う。これにより、鋼板の少なくとも片面に、ジルコニウム化合物及びリン酸化合物を含有する化成処理皮膜が形成された容器用鋼板が製造される。以下、本実施形態に係る容器用鋼板の製造方法について詳細に説明する。鋼板の種類容器用鋼板の原板となる鋼板としては、特に規制されるものではなく、通常、容器材料として使用される鋼板を用いることができる。また、この原板の製造方法、材質なども特に規制されるものではなく、通常の鋼片製造工程から熱間圧延、酸洗、冷間圧延、焼鈍、調質圧延等の各工程を経て製造され、鋼板表面に化成処理層やめっき層等の金属表面処理層が設けられていてもよい。表面処理層を付与する方法については、特に規制されるものではなく、例えば、電気めっき法、真空蒸着法、スパッタリング法などの公知の方法を用いることができ、拡散層を付与するための加熱処理を組み合わせてもよい。また、鋼板の少なくとも片面には、主に塗膜下耐食性を確保するために、表面処理層としてニッケル含有めっき層を設け、このニッケル含有めっき層上に化成処理皮膜を形成してもよい。ニッケルは高耐食金属であるため、鋼板の表面にニッケルをめっきすることにより、塗膜下耐食性をさらに向上させることができる。鋼板表面にニッケル含有めっき層を設ける方法としては、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法等の乾式めっき法、電気めっき法や無電解めっき法等の湿式めっき法のいずれも用いることができ、特に限定されない。また、ニッケルと鉄を合金化させたFe-Ni合金めっき層を設けてもよい。ニッケル含有めっきによる塗料密着性、フィルム密着性、塗膜下耐食性、溶接性向上の効果は、めっきされるニッケルの量により定まり、めっき層中のニッケル量が10mg/m2以上であれば、これらの特性の向上効果が発現する。ただし、これらの特性を十分に確保するためには、ニッケル含有めっき層中のニッケル量が300mg/m2以上であることが好ましい。一方、ニッケル含有めっき層中のニッケル量が多くなるほど耐食性向上の効果は増加するが、ニッケル量が1000mg/m2を超えると、耐食性向上の効果は飽和するだけでなく、ニッケルは高価な金属であるため、1000mg/m2を超える量のニッケルをめっきすることは経済的にも不利となる。したがって、ニッケル含有めっき層中のニッケル量は、1000mg/m2以下であることが好ましい。ここで、上記めっき層中の金属Ni量は、例えば、蛍光X線分析法によって測定することができる。この場合、金属Ni量が既知のニッケル付着量サンプルを用いて、金属Ni量に関する検量線をあらかじめ特定しておき、この検量線を用いて相対的に金属Ni量を特定する。なお、めっき層は、純粋なNi金属のみにより形成されているものだけでなく、ニッケル量が10mg/m2以上又は300mg/m2以上の範囲内であればFe-Ni合金により形成されていてもよい。また、機械的強度を向上させる目的で鋼板に対して窒化処理が施されていてもよく、窒化処理が施された鋼板にめっき層が形成されている場合には、鋼板の厚みが薄くなっても潰れ及び変形が生じにくくなる等の窒化処理により得られる効果は低減しない。また、上記めっき層を形成した後に、拡散層を付与するための加熱処理を行ってもよい。さらに、例えば、拡散めっき法によりめっき層を形成する場合には、鋼板表面にニッケルめっきを施した後で、焼鈍炉において拡散層を形成するための拡散処理が行われるが、この拡散処理の前後又は拡散処理と同時に、窒化処理を行ってもよい。また、上記めっき層は、塗膜下耐食性向上の観点からは、鋼板の両面に形成されていることが好ましいが、製造コスト削減等の観点から、鋼板の一方の面に耐食性を向上させるニッケルめっき以外の表面処理等が施されている場合には、めっき層は、少なくとも鋼板の他方の面表面処理等が施されている面と反対側の面に形成されていればよい。このように、鋼板の片面にのみめっき層が形成されている容器用鋼板を製缶加工する場合は、例えば、めっき層が形成されている面が容器内面側となるように加工される。尚、上記めっき層は、スズを含有してもよい。化成処理皮膜の付与方法について本実施形態に係る化成処理皮膜は、上記のようなめっき層上に形成される。化成処理皮膜は、ジルコニウム成分と、フッ素成分と、リン酸成分とを含む化成処理液により形成される。化成処理液にリン酸成分を含有させて化成処理皮膜にリン酸成分を付与することにより、リン酸成分を含まない化成処理皮膜と比較して、塗膜下耐食性、フィルム密着性、塗料密着性をさらに向上させることができる。ジルコニウム成分は、化成処理皮膜に塗膜下耐食性とフィルム密着性とを付与する。ジルコニウム成分を含有する化成処理皮膜は、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム等のジルコニウム水和酸化物を有するジルコニウム化合物による複合皮膜として形成されると考えられる。さらに、リン酸を添加した場合は、リン酸ジルコニウムからなる複合皮膜として形成される。特に、このような化成処理皮膜は優れた塗膜下耐食性とフィルム密着性とを発揮するが、本発明者らは、この理由を以下のように考えている。すなわち、塗膜下耐食性については、化成処理皮膜は、下記化学式1に示すように、ポリマー状のジルコニウム錯体による三次元架橋体を形成し、この架橋体が有するバリア性により耐食性を発揮するものと考えられる。また、密着性については、化成処理皮膜の内部に存在する水酸基、あるいはリン酸基の水酸基と、鋼板等の金属表面に存在する水酸基とが脱水縮合することで、酸素原子を介して金属表面と、ジルコニウム成分を有する化成処理皮膜とが共有結合することにより、密着性を発揮するものと考えられる。具体的には、化成処理皮膜のジルコニウム付着量が金属Zr量に換算して1.0mg/m2以上となると、実用上問題ないレベルの塗膜下耐食性とフィルム密着性が確保される。ジルコニウム付着量の増加に伴い、塗膜下耐食性及びフィルム密着性の向上効果も増加する。ただし、ジルコニウムの付着量が金属Zr量に換算して50mg/m2を超えると、付着ムラに起因する外観の低下を招き、また、化成処理皮膜が厚くなりすぎるため、加工時等に凝集破壊の原因ともなり、化成処理皮膜自体の密着性、また、塗料との密着性、フィルムとの密着性が低下するとともに、電気抵抗が上昇して溶接性が低下する。また、化成処理皮膜のジルコニウム付着量が金属Zr量で50mg/m2を超える場合、電解処理後の洗浄工程で、析出したものの付着が不十分な皮膜は洗い流されてしまう剥離してしまう場合がある。従って、本実施形態に係る容器用鋼板においては、化成処理皮膜のジルコニウム付着量は、金属Zr量で1.0mg/m2~50mg/m2とすることが好ましい。さらに、好ましくは、ジルコニウム付着量は、金属Zr量で5.0mg/m2~30mg/m2である。ジルコニウム付着量を10mg/m2~30mg/m2の範囲とすることにより、レトルト後の耐食性が確保できるとともに、微細な付着ムラを低減することができる。また、上記化成処理皮膜は、上述したように、ジルコニウム成分に加え、リン酸成分を含有する。ジルコニウム成分とリン酸成分とを有する化成処理皮膜は、塗膜下耐食性とフィルム密着性を確保するために形成される。この化成処理皮膜は、リン酸ジルコニウム、リン酸フェノール等のリン酸化合物からなる皮膜、又は、これら2種以上のリン酸化合物からなる複合皮膜として形成される。このような化成処理皮膜は優れた耐食性とフィルム密着性を有しているが、本発明者らは、この理由を、リン酸イオンが種々のジルコニウムイオンと錯体化し、上述したように三次元架橋体皮膜を形成すること、また、鉄、ニッケル等の金属イオンが溶出腐食の第一段階しても、リン酸塩化合物を形成することにより金属イオンが不溶化し、さらなる腐食を低減させる効果を有すること、によるものと考えている。具体的には、ジルコニウム成分とリン酸成分とを有する化成処理皮膜のリン付着量が0.5mg/m2以上となると、実用上問題ないレベルの塗膜下耐食性とフィルム密着性が確保される。一方、リン付着量の増加に伴い、塗膜下耐食性及びフィルム密着性の向上効果も増加するが、リン付着量が25mg/m2を超えると、化成処理皮膜が厚くなりすぎるため、加工時等に凝集破壊の原因ともなり、化成処理皮膜自体の密着性、また、塗料密着性、フィルム密着性が低下したり、電気抵抗が上昇して溶接性が低下する。また、リン付着量が25mg/m2を超えると、皮膜の付着ムラが外観ムラとなって発現することがあり、また、電解処理後の洗浄工程で、析出したものの付着が不十分な皮膜は洗い流されてしまう剥離してしまう場合がある。従って、本実施形態に係る容器用鋼板においては、化成処理皮膜中のリン付着量は、0.5mg/m2~25mg/m2とすることが好ましい。さらに好ましくは、リン付着量は、2mg/m2~13mg/m2である。リン酸皮膜の付着量を2mg/m2~13mg/m2の範囲とすることにより、塗膜下耐食性、レトルト後の耐食性が確保できるとともに、微細な付着ムラを低減することができる。化成処理皮膜中の各成分の含有量の測定方法本実施形態に係る化成処理皮膜中に含有される金属ジルコニウム量、リン量、フッ素量は、例えば、蛍光X線分析等の定量分析法により測定することが可能である。また、化成処理皮膜中の炭素量は、例えば、ガスクロマトグラフィによる全炭素量測定法により測定した値から、鋼板中に含まれる炭素量をバックグラウンドとして差し引くことにより求めることが可能である。以上のように、本実施形態に係る容器用鋼板は、鋼板の少なくとも片面に、ジルコニウム成分を少なくとも含む化成処理皮膜が形成されているため、優れた加工性、溶接性、フィルム密着性、塗料密着性、塗膜下耐食性、耐錆性、及び外観を付与することができる。[本実施形態に係る容器用鋼板の製造方法]以上、本実施形態に係る容器用鋼板の構成について説明したが、次に、かかる容器用鋼板を得るための製造方法について詳細に説明する。低温陰極電解の採用本実施形態に係る容器用鋼板の製造方法では、鋼板に対して緻密な皮膜を形成させ塗膜下耐食性を確保すべく10°C~50°Cの低温陰極電解処理を行い、鋼板の少なくとも片面に、上述したような化成処理皮膜を形成する。このような化成処理皮膜を形成する方法としては、例えば、ジルコニウムイオンやリン酸イオン等を溶解させた化成処理溶液中に鋼板を浸漬する方法や、このような化成処理溶液を用いて陰極電解処理を行う方法などがある。ここで、上記浸漬による処理方法では、化成処理皮膜の下地となる鋼板や、鋼板表面に形成されためっき層がエッチングされ、各種の皮膜が形成されることとなるため、化成処理皮膜の付着量が不均一となり、また、化成処理皮膜の形成に要する処理時間も長くなるため、工業的には不利である。一方、陰極電解処理による方法では、強制的な電荷移動及び鋼板界面における水素発生による表面清浄化と、水素イオン濃度pHの上昇による付着促進効果も相俟って、均一な皮膜が数秒程度実際には0.01秒程度の場合も有るの短時間処理により形成され得ることから、工業的には極めて有利である。従って、本発明の容器用鋼板の製造方法においては、陰極電解処理により化成処理皮膜を形成している。陰極電解処理に用いる化成処理液の成分全般ここで、陰極電解処理により上記化成処理皮膜を形成するためには、上述した化成処理皮膜に含ませる成分に応じて、電解処理に用いる化成処理液中の成分を決めることが必要である。ジルコニウム化合物としては、H2ZrF6、H2ZrF6の塩、ZrNO34、ZrONO32、ZrF4、ZrO2などが挙げられる。化成処理液の溶媒としては、例えば蒸留水を用いる事から水に対する溶解性が高いこと、また、後述するがフッ化物イオン、硝酸イオンとして硝酸アンモニウムを添加する事から、H2ZrF6、H2ZrF6のアンモニウム塩を用いる事が好ましく、また連続処理時のイオン補給の際にはZrNO34、ZrONO32が好ましく用いられる。ジルコニウム化合物から濃度は、ジルコニウム金属元素の濃度として、100ppm~3000ppm、500ppm~1500ppmとする。前記、ジルコニウム化合物として100ppmよりも低濃度の場合、皮膜成分濃度の低下を招き、塗膜下耐食性、塗料密着性、フィルム密着性等の性能を得るための適正付着量を得るための電解処理時間が長時間となるだけでなく、電気伝導度ECを確保する事が困難となり制限された電解条件となるため、電源性能にも依るが安定的製造が困難となる場合がある。また、当該濃度が3000ppmより高濃度の場合、電解処理時に鋼板あるいはめっき鋼板上に均一に付着させることが困難となり、結果として付着ムラが発生しやすくなり表面外観を悪化させるため好ましくない。フッ化水素添加に関して化成処理液には、フッ化水素が添加される。前述した様にジルコニウム化合物としてH2ZrF6、H2ZrF6のアンモニウム塩を用いることが好ましいが、これらフッ化物イオンによる錯イオンは必ずしも安定とは言い難く、pH4以下では安定に存在するがpH4超になると不安定になるなどpHの変動、温度変化、共存する金属イオン、介在物等で、加水分解を起こし、ジルコニウムが不可逆的な水に不溶な酸化物、水酸化物、金属塩となり化成処理液中に析出する。フッ化水素を添加する事で、化成処理液中にフッ化物イオンが存在する事になり、前記ジルコニウム化合物を安定化させることが可能となる。添加する遊離フッ素化合物イオン供給源としては、異種金属イオンを含まないフッ化水素が好ましい。フッ化水素濃度は、50ppm~400ppm、好ましくは、75ppm~250ppmであればよい。なお、このフッ化水素濃度は、添加するフッ化水素の量を示す。50ppmより低濃度では、長期的かつpHの変動、温度変化、共存する金属イオン等による安定性の確保が困難となる。また、当該濃度が400ppmを超える濃度の場合、電解処理時の応答性が著しく緩慢となり長時間の電解時間を要する事から実用的ではない。ジルコニウムイオンにリン酸イオンを共存させる場合には、フッ化水素濃度は100ppm前後の濃度が好ましい。リン酸イオンに関して化成処理液にはリン酸イオンを50ppm~2000ppm含有させる。リン酸イオンは、化成処理皮膜の主要構成成分として添加するものであるが、化成処理液のpH緩衝作用を有し、当該電解処理の安定化にも寄与する。添加するリン酸イオン供給源としては、異種金属イオンを含まないリン酸別称:オルトリン酸が好ましい。リン酸イオン濃度は、50ppmより低濃度では、皮膜成分濃度の低下を招き、リン酸イオン添加効果、すなわち耐食性、塗料密着性、フィルム密着性等の性能を得るための適正付着量を得るのに必要な電解処理時間が長時間となるだけでなく、電気伝導度ECを確保する事が困難となり、制限された電解条件となるため、電源性能にも依るが安定的製造が困難となる場合がある。また、リン酸イオン濃度が2000ppmより高濃度の場合、ジルコニウムイオンを100ppm~3000ppmに対して化成処理液中にジルコニウムとリン酸からなると考えられる不溶物が生成しやすくなる場合がある。また、電解処理時に鋼板あるいはめっき鋼板上に均一に付着させることが困難となり、結果として付着ムラが発生しやすくなり表面外観を悪化させるため好ましくない。硝酸イオンに関して化成処理液には、ジルコニウムイオン、遊離フッ素化合物イオンフッ素イオン、リン酸イオンに加え、硝酸イオンが添加されてもよい。図1に示すように、ジルコニウムイオンの電解処理における付着挙動は、電解処理でジルコニウムが析出し難い段階第一段階と、ジルコニウムが析出する段階と、二段階で形成される事を確認している。高速処理を達成するためには、ジルコニウムが析出し難い段階第一段階の時間短縮が必要となる。検討の結果、電解処理液に硝酸イオンの添加量を加増するに従い、前述のジルコニウムが析出し難い段階第一段階の時間を短くできる事を見出した。本発明者らは、この硝酸イオン添加効果の次のように推定している。すなわち、時間短縮を電解処理液中に硝酸イオンを添加することにより、pHを変化させることなく電気伝導度を高める等、装置に応じた適正な電気伝導度の範囲に調整することができる。電気伝導度を高めることにより、電極と鋼板に供給される電流が安定化し、鋼板及びめっき鋼板表面全面の均一な電解処理が可能となる。また、鋼板及びめっき鋼板表面の濡れ性を高める効果もあり、同様の効果が得られる。さらに、図2に示すように、処理液に硝酸イオンを添加し、鋼板及びめっき鋼板を電解処理することにより、陰極で電解処理される鋼板及びめっき鋼板表面での水素発生反応2H2O4e-→H22OH-だけでなく、硝酸イオン自身が酸化される還元反応NO3-H2O2e-→NO2-2OH-、NO2-5H2O2e-→NH35OH-等が並行して起こると考えられる。本来、水素発生によって、鋼板及びめっき鋼板表面のpHが上昇し、ジルコニウム化合物を主成分とする皮膜が形成されるが、同時に一方では水素発生による攪拌でジルコニウム化合物の析出、皮膜形成を阻害している。硝酸イオンを添加した場合、前記のように水素発生を低減し、同時にpHを上昇させるため、ジルコニウム化合物の析出や皮膜形成を安定化させ、結果として化成処理皮膜の付着ムラを大きく低減させ、かつ当該皮膜形成を大きく促進する。添加する硝酸イオン供給源としては、硝酸、硝酸塩を用いる事ができ、硝酸イオンをpHを大きく変動させること無く安定的に供給できる化合物として特に硝酸アンモニウムが好ましい。また、連続処理時のイオン補給の際には硝酸イオンは、ZrNO34、ZrONO32が、またH2ZrF6、H2ZrF6のアンモニウム塩が、それぞれ好ましく用いられる。硝酸イオン濃度は、図3に示すように、3000ppm以上とすることにより、ジルコニウムの短時間での付着量を確保する事ができ、さらに、ジルコニウム皮膜の付着ムラを低減させることができる。この観点から、硝酸イオン濃度の上限は特に限定するものではなく、求めるジルコニウム付着量、及び装置、製造コスト等から制約される処理時間とのバランスから3000ppm以上の範囲で設定するのが好ましい。また、硝酸イオン濃度の設定の際には、廃液時の環境負荷低減廃液処理時の排水規制、硝酸性窒素、及びアンモニア性窒素の排水時の総窒素量規制の処理設備、費用の観点も考慮することが好ましい。タンニン酸なお、上記陰極電解処理の化成処理液として使用する化成処理溶液中にタンニン酸を添加しても良い。このように化成処理液中にタンニン酸を添加することにより、タンニン酸が鋼板表面のFe原子と結合し、鋼板表面にタンニン酸鉄の皮膜が形成され、耐錆性や密着性を向上させることができる。従って、耐錆性や密着性が重視される用途に容器用鋼板を使用する場合には、必要に応じて、タンニン酸を700ppm以上、好ましくは900ppm以上、より好ましくは1100ppm以上添加した化成処理溶液中で化成処理皮膜の形成を行ってもよい。化成処理溶液に用いる溶媒また、本発明に係る化成処理皮膜の形成に用いられる化成処理溶液の溶媒としては、例えば、脱イオン水、蒸留水等を使用できる。好ましい電気伝導度は10μS/cm以下で、さらに好ましくは5μS/cm以下、さらに好ましくは3μS/cm以下である。ただし、上記化成処理溶液の溶媒は、これに限定されず、溶解する材料や形成方法及び化成処理皮膜の形成条件等に応じて、適宜選択することが可能である。但し、安定的な各成分の付着量安定性に基づく工業生産性、コスト、環境面から、前記脱イオン水、蒸留水を用いることが好ましい。化成処理溶液のpH化成処理皮膜の形成に用いられる化成処理溶液のpHは3~4の範囲であることが、化成処理液の安定性確保の観点から好ましい。ジルコニウムの供給源として使用するH2ZrF6、H2ZrF6のアンモニウム塩等のZr-F錯イオンはpH4.5以下の化成処理溶液中では安定であるが、pH4.5以上にでは加水分解反応にてZr4となって化成溶液中に存在することとなる。このようなジルコニウムイオンは、化成処理液中で更に速やかに反応し、ZrO2となり、また、リン酸イオンが存在する場合、Zr3PO44、ZrHPO32等といった化合物を形成する。これらの生成物は水等に不溶で、かつpHを下げても溶解しない性質を有する。その結果、化成処理液は白濁し、成分イオンバランスが崩れる。一方、pHが低い場合には、Zr-F錯イオンは安定で、化成処理液も安定性を確保できるが、鋼板あるいはめっき鋼板表面、すなわち陰極電極界面におけるpHの上昇に対する加水分解反応が遅くなり、電解処理時の応答性が著しく緩慢となり長時間の電解時間を要する事から実用的ではない。これらのことから、化成処理溶液のpHは3~4の範囲である事が必要であり、好ましくは3.3~3.8である。なお、pHを当該範囲に調整するためには、pHを低下させる場合には硝酸、またpHを高める場合にはアンモニア水を用いることが好適である。化成処理溶液の温度化成処理皮膜の形成に用いられる化成処理溶液の電解処理温度は10°C~50°Cの範囲であればよい。化成処理液の安定性確保、及び得られる化成処理皮膜の性能確保のためである。前記のZr-F錯イオンは50°C超で不安定となり、化成処理液中でZr-F錯イオンはZrO2となり、不溶物となる場合があり、イオンバランスが崩れる。50°C以下という低温で陰極電解処理を行うことにより、非常に細かい粒子により形成された緻密で均一な皮膜組織の形成が可能となる。また、化成処理液の温度が50°C超では、形成される皮膜組織が不均一となる場合があり、皮膜欠陥、皮膜割れ、マイクロクラック等が発生し、緻密な皮膜形成が困難となるため、腐食等の起点となる場合がある。一方、化成処理液の温度が10°C未満では、皮膜の形成効率が悪いだけでなく、夏場など外気温が高い場合には冷却が必要となり経済的ではない。陰極電解処理の処理条件について陰極電解処理は、0.05A/dm2~50A/dm2の電解電流密度で行われることが好ましい。電解電流密度が0.05A/dm2未満の場合には、皮膜付着量の低下を招くとともに、安定的な皮膜の形成が困難となり、さらに長電解処理時間が必要となる場合があるため、生産性を低下させ、耐食性や塗装密着性等が低下する場合がある。一方、電解電流密度が50A/dm2を超える場合には、皮膜付着量が所要量を超え、かつ、飽和することとなり、場合によっては、後述するが、電解化成処理後の温水による洗浄工程で付着が不十分な皮膜が洗い流される剥離するなど、経済的ではなく、また、電解処理時に化成処理液の温度の上昇を招き、上述した低温陰極電解処理の温度条件を維持するために化成処理液の冷却が必要となる場合がある。また、上記陰極電解処理は、0.01秒~5秒の通電時間で行われることが好ましい。通電時間が0.01秒未満の場合には、皮膜付着量の低下を招き、安定的な皮膜の形成が困難となり耐食性や塗装密着性等が低下することがある。一方、通電時間が5秒を超える場合には、皮膜付着量が所要量を超え、かつ、付着量が飽和してしまうこととなり、場合によっては、電解化成処理後の水洗等による洗浄工程で付着が不十分な皮膜が洗い流される剥離するなど、経済的ではなく、また、化成処理液の温度の上昇を招き、上述した低温陰極電解処理の温度条件を維持するために化成処理液の冷却という余分な処理が必要となる場合がある。さらに、上記陰極電解処理は、電解処理液が鋼板及びめっき鋼板に対して静止条件下で行われても、流動条件下で行われてもかまわない。ただし、電解処理液中の付着成分イオンが拡散律速となって、短時間に求める付着量を確保できない場合には流動条件下で行う事が好ましい。さらに、上記陰極電解処理は、電解処理を断続的に、すなわち、通電と停止を繰り返し行う事が好ましい。このことにより、少量ずつ緻密な皮膜を形成させる事が可能となり、結果として付着ムラが低減できる。具体的には、たとえば合計の通電時間を1秒とする場合、1.0秒1回通電処理した場合に比較して、0.5秒×2回通電処理、0.25秒×4回通電処理とする方が均一な皮膜を形成することができ、かつ通電回数に比例して高ジルコニウム付着量を確保させる事が可能となる。バッチ式の処理であれば、電極への通電のオン/オフを繰り返すことで可能となる。また、長尺の鋼板を連続処理する場合には、電極を具備するタンクを複数用意し、長尺方向に当該複数のタンクを通板電極多パス処理させる事で可能となる。陰極電解処理後の洗浄について前記陰極電解処理した後、40°C以上の温水で0.5秒以上、の洗浄処理が行われる。具体的には、浸漬あるいはスプレーによる電解処理表面の洗浄処理が挙げられる。化成処理液の成分は、全て水溶性イオンである。そのため、電解処理後の処理表面に、各種成分イオンが付着することや、また電解処理後の洗浄工程で析出したものの付着が不十分な皮膜成分が付着し、さらにはジルコニウム化合物と共に皮膜中に取り込まれることがある。これら通常の水洗処理で洗い流される場合もあるが、高いジルコニウム付着量の皮膜の場合、また短時間洗浄処理を行った場合には、同洗浄では不十分である。特に、本来皮膜成分ではないフッ化物イオンが、ジルコニウム化合物と共に皮膜中に取り込まれる。皮膜中のフッ化物イオンは、まず、当該イオンが有する撥水性にて、当該皮膜上に付与される塗料やフィルムの通常の密着性一次密着性を低下させる。特に塗料の場合、液状成分である塗料に対して、フッ素の撥水性によって濡れ性が低下すると考えられ、塗料をはじく等、一次密着性に悪影響を及ぼす。さらに、レトルト処理などの高温殺菌処理時といった水蒸気等の水分存在下での当該皮膜上に付与された塗料、フィルム等の有機皮膜密着性二次密着性や耐錆性あるいは塗膜下耐食性を劣化させる原因となる。これは、水蒸気や腐食液に皮膜中に残存するフッ化物イオンが皮膜から溶出し、当該皮膜に付与した有機皮膜との結合共有結合、イオン結合等を破壊する、あるいは、フッ素イオンの金属腐食性にて下地鋼板を腐食することが原因と考えられ、結果として、付与した塗料やフィルムに浮きや剥離が生じる事になる。さらには、製缶後にパックする内容物の品質にも影響を与る可能性がある。図4に、洗浄条件によるフッ素イオンの除去効果について、XPSを用いた分析結果の例を示す。例えば、浸漬洗浄条件が25°C、0.3秒では、皮膜の最表層から深さ方向8nmにかけて、F1sに対応するピーク結合エネルギー682eV~687eVが観測され、実施例に示すように塗料密着性、フィルム密着性が悪い。一方、浸漬洗浄条件が40°C、0.5秒では、同対応するピークは観測されず、塗料密着性、フィルム密着性は良好である。このことによって、a当該処理による皮膜にはフッ素イオンが残存すること、bフッ素イオンが皮膜の表層だけでなく深さ方向皮膜内部にも存在すること、c洗浄することによって皮膜に残存するフッ素成分が除去できること、d除去の程度は洗浄水の温度、時間に依存すること、eフッ素成分が除去されると、塗料密着性やフィルム密着性等の特性が良好になること、をそれぞれ示している。なお、実生産において、高速処理に対応し、短時間に安定的にフッ化物イオンを除去することが求められ、フッ素除去法について鋭意検討した。化学的及び/又は電気化学的にフッ素除去処理を行うことも考えられるが、化学的だと後洗浄が必要となること、また電気化学的な方法では、場合によっては設備投資が必要となり、好ましくない。発明者らは、a一般的に通常行われる、水洗条件室温にもよるが15°C~25°C、0.5~1秒程度で処理した際に得られる、処理後洗浄水に含まれるイオン等の分析を行ったところ、若干のフッ化物イオンが存在すること、一方、処理皮膜にもフッ化物イオンが残存すること、bさらに、処理温度を高く、或いは、処理時間を長くすることにより洗浄水中に溶出するフッ化物イオン量が増大すること、一方、皮膜に残存するフッ化物イオン量が減少すること、cさらにはフッ化物イオン量が減少することにより、塗料密着性やフィルム密着性等の特性が良好になること、をそれぞれ見出した。前記新規知見に基づき、生産性を考慮し、洗浄処理時間、洗浄水温度と皮膜中に残存するフッ化物イオンの残存量、塗料密着性、フィルム密着性等の特性の相関を詳細に調査した。その結果、皮膜中に残存するフッ化物イオン量は5mg/m2以下とすることが好ましく、さらに、これらを達成するには、40°C以上の温水中で0.5秒以上処理することが有効であると知見したものである。前記知見の背景には、フッ化物イオンのイオン半径が小さいこと、また、下地金属及び/又は皮膜形成後の皮膜成分であるZrO2、Zr3PO44、ZrHPO32等といった化合物との相互作用が小さいこと等、が挙げられると考えている。すなわち、皮膜中に残存するフッ化物イオン量は5mg/m2を超えると、これらの諸特性の劣化が顕在化し始める事から、当該フッ化物イオン量は5mg/m2以下にすることが好ましい。また、フッ化物イオン量を5mg/m2以下にするには、ジルコニウム化合物皮膜を形成した後、温水中での浸漬処理やスプレー処理により洗浄処理を行えば良く、この処理温度を高く、或いは、処理時間を長くすることによりフッ化物イオン量を減少させることが出来る。従って、皮膜中のフッ化物イオン量を5mg/m2以下にするには40°C以上の温水で0.5秒以上の浸漬処理あるいはスプレー処理をすればよい。水温が40°Cを下回る、あるいは処理時間が0.5秒を下回ると皮膜中のフッ化物イオン量を5mg/m2以下に出来なくなり、上述の諸特性が発揮されなくなる。尚、上述の洗浄処理の前に、20°C以上60°C以下の水で0.1秒以上の予備洗浄を行ってもよい。この場合、皮膜のゲル化を防止することができ、好適にフッ化物イオン量を減少させることができる。なお、フッ化物イオンと同様に、化成処理液中に存在する硝酸イオン、アンモニウムイオンも皮膜中に取り込まれる場合が有り、レトルト処理などの高温殺菌処理時といった水蒸気等の水分存在下での当該皮膜上に付与された塗料やフィルム等の有機皮膜密着性二次密着性や耐錆性あるいは塗膜下耐食性を劣化させる原因となる。さらに皮膜成分であるリン酸イオン、水溶性フェノール樹脂についても、皮膜形成時に、皮膜として付着し得なかった成分についても同様である。陰極電解処理後の前記洗浄によって、これらのイオン等も洗い流されることによって、当該皮膜上に付与された塗料、フィルム等の有機皮膜密着性二次密着性や耐錆性あるいは塗膜下耐食性を確保できる。なお、皮膜形成時に用いる洗浄用液としては、本発明の化成処理溶液で用いた溶媒と同様に、脱イオン水、蒸留水等を好適に使用できる。好ましい電気伝導度は10μS/cm以下で、さらに好ましくは5μS/cm以下、さらに好ましくは3μS/cm以下である。上述したように、硝酸イオンを含む化成処理液中で陰極電解処理、同処理後に温水洗浄処理を行うことにより、鋼板表面に適切な付着量の化成処理皮膜を、工業生産可能な短時間で、付着ムラなく形成することができる。従って、例えば、化成処理液中に上述した濃度範囲のジルコニウムイオン、フッ化水素、硝酸イオンが含まれていれば、金属ジルコニウム量で5mg/m2~50mg/m2のジルコニウム成分を有する化成処理皮膜を形成することができる。なお、上述したように、少なくとも片面にめっき層が形成されためっき鋼板に対して同様な陰極電解処理を行う事がより好ましい。この場合には、化成処理皮膜は、めっき層上に形成されることとなる。次に、実施例及び比較例を用いて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例にのみ限定されるものではない。<鋼板上のめっき層>表1に示すめっき処理法A1~A3により、板厚0.17~0.23mmの鋼板1~34上にめっき層を付与した。A1及びA2を用いためっき鋼板の金属Ni量、及び、A3を用いためっき鋼板の金属Ni量及び金属Sn量を、蛍光X線法にて測定した。<皮膜形成>上記の処理によりめっき層を付与した後、表2に示す処理法B1~B7で化成処理皮膜を形成した。<洗浄処理>上記の処理により化成処理皮膜を形成した後、蒸留水を所定の温度に設定し、所定の時間浸漬させることにより洗浄処理を行い、表面F原子数濃度を制御した。表3に、化成処理皮膜形成に用いた化成処理液の組成C1~C19を示す。pHはアンモニア水、硝酸を添加する事で調整したが、表3中のNO3-濃度は添加した硝酸濃度を含んでいない。また、表4に、化成処理皮膜形成に用いた電解条件D1~D17を示す。表5及び表6に、鋼板1~34それぞれのめっき層及び化成処理皮膜について、処理条件及び測定結果を示す。めっき層については、めっき方法表1参照と、金属Ni量と、金属Sn量とを示した。化成処理皮膜については、化成処理皮膜形成方法表2参照と、使用した化成処理液表3参照と、電解条件表4参照と、洗浄条件と、Zr付着量と、リン付着量と、C付着量と、F原子数濃度とを示した。めっき層中の金属Ni量及び金属Sn量は、蛍光X線測定法により求めた。化成処理皮膜中のZr付着量、リン付着量は、蛍光X線を用いた定量分析法により測定した。また、化成処理皮膜中の炭素量は、ガスクロマトグラフィによる全炭素量測定法により測定した値から、鋼板中に含まれる炭素量をバックグラウンドとして差し引くことにより求めた。表面F原子数濃度はXPS分析にて求めた。化成処理皮膜最表面をスパッタし、最表面から2nm深さの面と4nm深さの面、それぞれのサンプルの面に対して表7に示す条件にて測定し、F1sに対応する結合エネルギー684eVを中心とした682~688eV付近のピーク面積より算出した。それぞれの、測定は鋼板処理面の任意の10部位に対して行い、各値は同10部位の平均値として求めた。XPSの測定に際しては最表面測定後、スパッタし差異表面から2nm、4nm部位についても分析を実施した。解析にはMultiPalV.8.0Ulvac-phi社製を用いた。結合エネルギーがC1s=254.8eV、Ni2p3/2=852.7eVとなるように得られたXPSスペクトルのエネルギー補正を行った。<性能評価>上記の処理を行った鋼板1~34について、以下に示すA~Iの各項目について性能評価を行った。A加工性試験材の両面に厚さ20μmのPETフィルムを200°Cでラミネートし、絞り加工としごき加工による製缶加工を段階的に行い、フィルムの疵、浮き、剥離を観察しそれらの面積率から成型を4段階A:フィルムの疵、浮き、剥離が全くない、B:フィルムの疵、浮き、剥離の面積率が0超0.5以下、C:フィルムの疵、浮き、剥離の面積率が0.5超15以下、D:フィルムの疵、浮き、剥離の面積率が15超又は破断し加工不能で評価した。B溶接性ワイヤーシーム溶接機を用いて、溶接ワイヤースピード80m/minの条件で、電流を変更して試験材を溶接し、十分な溶接強度が得られる最小電流値とチリ及び溶接スパッタなどの溶接欠陥が目立ち始める最大電流値からなる適正電流範囲の広さから総合的に判断し、4段階A:二次側の適正電流範囲:1500A以上、B:二次側の電流適正電流範囲:800A以上1500A未満、C:二次側の電流適正電流範囲:100A以上800A未満、D:二次側の電流適正電流範囲:100A未満で溶接性を評価した。Cフィルム密着性試験材の両面に厚さ20μmのPETフィルムを200°Cでラミネートし、絞りしごき加工を行い、缶体を作製し、125°C、30minのレトルト処理を行い、フィルムの剥離状況を観察し、剥離面積率から、4段階A:剥離面積率:0、B:剥離面積率0超2以下、C:剥離面積率:2超10以下:、D:剥離面積率:10超で評価した。D一次塗料密着性試験材にエポキシ-フェノール樹脂を塗布し、200°C、30minで焼付けた後、1mm間隔で地鉄に達する深さの碁盤目を入れ、テープで剥離し、剥離状況を観察し、剥離面積率から、4段階A:剥離面積率:0、B:剥離面積率0超5以下、C:剥離面積率:5超30以下:、D:剥離面積率:30超で評価した。E二次塗料密着性試験材にエポキシ-フェノール樹脂を塗布し、200°C、30minで焼付けた後、1mm間隔で地鉄に達する深さの碁盤目を入れ、その後、125°C、30minのレトルト処理を行い、乾燥後、テープで塗膜を剥離し、剥離状況を観察し、剥離面積率から、4段階A:剥離面積率:0、B:剥離面積率0超5以下、C:剥離面積率:5超30以下:、D:剥離面積率:30超で評価した。F塗膜下耐食性試験材にエポキシ-フェノール樹脂を塗布し、200°C、30minで焼付けた後、地鉄に達する深さのクロスカットを入れ、1.5クエン酸-1.5食塩混合液からなる試験液に、45°C、72時間浸漬し、洗浄、乾燥後、テープ剥離を行い、クロスカット部の塗膜下腐食状況と平板部の腐食状況を観察し、塗膜下腐食の幅及び平板部の腐食面積率の両評価から、4段階A:塗膜下腐食幅0.2mm未満かつ平板部の腐食面積率0、B:塗膜下腐食幅0.2~0.3mm未満かつ平板部の腐食面積率0超1以下、C:塗膜下腐食幅0.3~0.45mm未満かつ平板部の腐食面積率1超5以下、D:塗膜下腐食幅0.45mm超又は平板部の腐食面積率5超で判断して評価した。G耐錆性試験材を125°C、30minのレトルト処理し、錆の発生状況を観察し、錆発生面積率から4段階A:錆発生面積率0、B:錆発生面積率0超1以下、C:錆発生面積率1超5以下、D:錆発生面積率5超で評価した。H化成処理液の安定性実施例及び比較例の各化成処理液を調整した後、攪拌しながら60°Cに加温した状態及び5°Cで10日間保持し、全く不溶物が析出しないものをA、僅かな不溶物が析出したものをB、著しく不溶物が析出したものをCとした。I外観実施例及び比較例の各試験材を目視で観察し、化成処理皮膜に発生したムラの状況で評価した。その結果、全くムラがなかったものをA、実用上問題がない程度の極僅かなムラがあったものをB、僅かなムラが発生したものをC、著しくムラが発生していたものをDとした。以上の評価結果について、表8及び表9に示す。表8及び表9から、本発明の範囲に属する鋼板はいずれも、加工性、溶接性、フィルム密着性、一次塗料密着性、二次塗料密着性、塗膜下耐食性、耐錆性に優れることがわかる。一方、本発明のいずれかの要件を満たさない鋼板は、加工性、溶接性、フィルム密着性、一次塗料密着性、二次塗料密着性、塗膜下耐食性、耐錆性の少なくとも一部の特性が劣ることがわかる。特に、水洗処理法の要件を満たさない場合、皮膜表面に残存するF原子数濃度が高くなり、フィルム密着性、一次塗料密着性、二次塗料密着性、塗膜下耐食性、耐錆性の特性が劣ることがわかる。また、化成処理液中に硝酸イオンを添加する事により、高いジルコニウム量を含むジルコニウム皮膜を効率的に製造でき、かつ良好な外観を確保できることがわかる。以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。"