"A液として、a一般式1:-[SiR12-bYbO]m-SiR23-aYa式中、R1およびR2は、同一若しくは異なって、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-で表されるトリオルガノシロキシ基を示す式中、R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基を示す。複数のR′は同一であってもよく又は異なっていてもよい。R1またはR2がそれぞれ2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示す。Yが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を示す。bは0、1、または2を示す。mは0~19の整数を示す。ただし、amb≧1であることを満足する。で表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する重合体、およびb水を含有し、B液として、c一般式1で表される官能基を縮合反応させる触媒を含有し、さらにA液、B液の少なくともいずれか一方にd光カチオン開始剤を含有する、2液分別塗布型接着剤用組成物。a成分が、オキシアルキレン重合体であることを特徴とする、請求項1に記載の2液分別塗布型接着剤用組成物。a成分の数平均分子量が、500以上100,000以下であることを特徴とする、請求項1または2に記載の2液分別塗布型接着剤用組成物。請求項1~3に記載のA液とB液をそれぞれ異なる基材に塗布してから貼り合わせた後、活性エネルギー線の照射を行うことを特徴とする、接着方法。請求項1~3に記載のA液またはB液のいずれか一方の液を、活性エネルギー線に対して透過性を有する基材に塗布し、もう一方の液を任意の基材に塗布し、塗布面同士を貼り合わせて、液を全面に塗り広げた後、活性エネルギー線に対して透過性を有する基材面から当該の活性エネルギー線を照射して硬化させることを特徴とする接着方法。活性エネルギー線硬化接着剤を必要とするような即時に固定する必要がある用途において、活性エネルギー線が到達できない接着部分を良好に接着、硬化させることを目的とする。本発明者は、鋭意検討した結果、2液分別塗布のプロセスにより基材同士を接合させた後、紫外線などの活性エネルギー線を照射することで即座に硬化して固定され、さらにその後湿分による硬化反応で活性エネルギー線が到達しない部分も充分に硬化する接着剤を考案した。すなわち、A液としてa一般式1:-[SiR12-bYbO]m-SiR23-aYa式中、R1およびR2は、同一若しくは異なって、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-で表されるトリオルガノシロキシ基を示す式中、R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基を示す。複数のR′は同一であってもよく又は異なっていてもよい。R1またはR2がそれぞれ2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示す。Yが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を示す。bは0、1、または2を示す。mは0~19の整数を示す。ただし、amb≧1であることを満足する。で表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する重合体、およびb水を含有し、B液として、c一般式1で表される官能基を縮合反応させる触媒を含有し、さらにA液、B液の少なくともいずれか一方にd光カチオン開始剤を含有する、2液分別塗布型接着剤用組成物に関する。a成分が、オキシアルキレン重合体であることが好ましい。a成分の数平均分子量が、500以上100,000以下であることが好ましい。上記に記載のA液とB液をそれぞれ異なる基材に塗布してから貼り合わせた後、活性エネルギー線の照射を行うことを特徴とする、接着方法に関する。上記に記載のA液またはB液のいずれか一方の液を、活性エネルギー線に対して透過性を有する基材に塗布し、もう一方の液を任意の基材に塗布し、塗布面同士を貼り合わせて塗布した液同士を全面的に重ね合わせた後、活性エネルギー線に対して透過性を有する基材面から当該の活性エネルギー線を照射して硬化させることを特徴とする接着方法に関する。本発明の硬化性組成物を基材に接着した後、紫外線などの活性エネルギー線を照射することで即座に硬化反応が生じ、基材同士を固定させるための圧着プロセスを省略できる。その後湿分による硬化反応で組成物が完全に硬化し、良好な接着体が得られる。以下、本発明について詳述する。本発明は、A液としてa一般式1:-[SiR12-bYbO]m-SiR23-aYa式中、R1およびR2は、同一若しくは異なって、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-で表されるトリオルガノシロキシ基を示す式中、R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基を示す。複数のR′は同一であってもよく又は異なっていてもよい。R1またはR2がそれぞれ2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示す。Yが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を示す。bは0、1、または2を示す。mは0~19の整数を示す。ただし、amb≧1であることを満足する。で表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する重合体、およびb水を必須成分として有し、B液として、c一般式1で表される官能基を縮合反応させる触媒を必須成分として有し、さらにA液、B液の少なくともいずれか一方にd光カチオン開始剤を含有し、A液とB液をそれぞれ異なる基材に塗布してから接着させ、活性エネルギー線の照射および湿分により硬化させられることを特徴とする、接着剤用組成物である。次に、硬化性組成物の各成分について説明する。<<a成分>>本発明のA液に含まれるa成分はa一般式1:-[SiR12-bYbO]m-SiR23-aYa式中、R1およびR2は、同一若しくは異なって、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、またはR′3SiO-で表されるトリオルガノシロキシ基を示す式中、R′は炭素数1~20の1価の炭化水素基を示す。複数のR′は同一であってもよく又は異なっていてもよい。R1またはR2がそれぞれ2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Yは水酸基または加水分解性基を示す。Yが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を示す。bは0、1、または2を示す。mは0~19の整数を示す。ただし、amb≧1であることを満足する。で表わされる基を1分子あたり平均して1個以上有する重合体である。a成分における1式の構造は、架橋点間分子量を均一かつ大きくすることで良好なゴム弾性が得られるという観点から、各重合体の分子末端に存在することが好ましい。前記炭素数1~20の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基など、炭素数6~20のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基など、炭素数7~20のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェニルエチル基などがあげられる。R1、R2の具体例としては、例えば-CH3、-CH2CH3、-CH2nCH3nは2~19の整数を表わす、-C6H5、-CH2OH、-CNなどがあげられ、好ましくは-CH3である。a成分におけるYの加水分解性基としては、たとえば、水素原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基などの一般に使用されている基があげられる。これらのうちでは、アルコキシ基、アミド基、アミノオキシ基が好ましいが、加水分解性がマイルドで取り扱い易いという点から、アルコキシ基が特に好ましい。a成分の分子量分布ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCで測定した重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比には、特に限定はないが、好ましくは1.8未満、より好ましくは1.7以下、さらに好ましくは1.6以下、特に好ましくは1.5以下、特別に好ましくは1.4以下、最も好ましくは1.3以下である。a成分の数平均分子量の下限は、好ましくは500、より好ましくは3,000であり、上限は、好ましくは100,000、より好ましくは40,000である。分子量が500未満であると、重合体の本来の特性が発現されにくくなる傾向があり、100,000をこえると、ハンドリングが困難になりやすい傾向があるため好ましくない。なお、本発明における重合体の製造におけるGPC測定の際には、通常は、クロロホルムまたはテトラヒドロフランを移動相として、ポリスチレンゲルカラムを使用し、分子量の値はポリスチレン換算値で求めている。a成分の主鎖としては、オキシアルキレン系重合体、ビニル系重合体等が挙げられるが、重合体のハンドリングや得られる硬化物の透湿性の観点より、オキシアルキレン系重合体が好ましい。a成分の主鎖を構成するための原料に特に限定はなく、各種のものを用いることができる。例えばオキシアルキレン系重合体としては、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリブチレンオキサイド、ポリフェニレンオキサイド等を用いることができ、これらについても単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。またこれらの中では特にポリオキシアルキレンであることが好ましい。またビニル系重合体としては、メタアクリル系重合体、ブタジエン系重合体、イソプレン系重合体、イソブチレン系重合体などを用いることができ、メタアクリル系重合体に関しては、メタアクリル酸、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸n-プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸n-ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸tert-ブチル、メタアクリル酸n-ペンチル、メタアクリル酸n-ヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸n-ヘプチル、メタアクリル酸n-オクチル、メタアクリル酸2-エチルヘキシル、メタアクリル酸ノニル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸ドデシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸トルイル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸-2-メトキシエチル、メタアクリル酸3-メトキシブチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタアクリル酸2-ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸ステアリル、メタアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸2-アミノエチル、γ-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、メタアクリル酸のエチレンオキサイド付加物、メタアクリル酸トリフルオロメチルメチル、メタアクリル酸2-トリフルオロメチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチル-2-パーフルオロブチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロエチル、メタアクリル酸パーフルオロメチル、メタアクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、メタアクリル酸2-パーフルオロメチル-2-パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロヘキシルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロデシルエチル、メタアクリル酸2-パーフルオロヘキサデシルエチルなどのメタアクリル系モノマーを用いて重合することができる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。オキシアルキレン系重合体の製造方法については特に限定はないが、例えばKOHのようなアルカリ触媒による重合法、たとえば特開昭61-215623号公報に示される有機アルミニウム化合物とポルフィリンとを反応させて得られる錯体のような遷移金属化合物-ポルフィリン錯体触媒による重合法、たとえば特公昭46-27250号公報および特公昭59-15336号公報などに示される複合金属シアン化物錯体触媒による重合法、セシウム触媒による重合法、ホスファゼン触媒による重合法等があげられる。中でも、高分子量でかつ着色の少ない重合体が容易に得られる点からは、複合金属シアン化物錯体触媒による重合法が好ましい。この他、オキシアルキレン系重合体の主鎖骨格は、水酸基末端オキシアルキレン重合体を塩基性化合物、例えばKOH、NaOH、KOCH3、NaOCH3等の存在下、2官能以上のハロゲン化アルキル、例えばCH2Cl2、CH2Br2等による鎖延長等によっても得ることができる。さらに、上記オキシアルキレン系重合体の主鎖骨格中にはオキシアルキレン系重合体の特性を大きく損なわない範囲でウレタン結合成分等の他の成分を含んでいてもよい。また一般式1の構造をオキシアルキレン重合体へ導入する方法としては特に限定がないが、例えば以下の方法がある。1.水酸基などの官能基を有するオキシアルキレン系重合体にオレフィン基を導入した後に、一般式2で表されるヒドロシリル化合物を反応させる方法。一般式2:HSiYaR23‐a式中R2、Y、aは一般式1に同じここでオレフィン基を導入する方法としては、不飽和基及び水酸基と反応しうる官能基を併有する化合物をオキシアルキレン系重合体の水酸基に反応させて、エーテル結合、エステル結合、ウレタン結合、カーボネート結合などにより結合させる方法、あるいはアルキレンオキシドを重合する際に、アリルグリシジルエーテルなどのオレフィン基含有エポキシ化合物を添加して共重合させることによりオレフィン基を導入する方法などが挙げられる。2.イソシアネート化合物と反応しうる官能基を有するオキシアルキレン系重合体に一般式3で表される化合物を反応させる方法。一般式3:R23‐aYaSi-R3-NCO式中R2、Y、aは前記に同じ。R3は炭素数1~17の2価の炭化水素基を表す。3.イソシアネート化合物と反応しうる官能基を有するオキシアルキレン系重合体にトリレンジイソシアネートなどのポリイソシアネート化合物を反応させてイソシアネート基を導入した後、該イソシアネート基に一般式6で表されるケイ素化合物のW基を反応させる方法。一般式4:R23‐aYaSi-R3-W式中R2、R3、Y、aは前記に同じ。Wは水酸基、カルボキシル基、メルカプト基およびアミノ基1級または2級から選ばれた活性水素含有基。4.オレフィン基が導入可能な官能基を有するオキシアルキレン系重合体にオレフィン基を導入し、そのオレフィン基と、Wがメルカプト基である一般式4で表されるケイ素化合物を反応させる方法。これらの中では導入収率と導入方法の簡便さから、1.または2.の方法が好ましく、粘度等の樹脂物性の点で1.の方法がより好ましい。<<b成分>>本発明ではb成分として水を使用する。水の供給源については特に限定はなく、例えば組成物にあらかじめ液体の水または湿分を含有する原料を混合させておくことも可能である。水はイオン交換された蒸留水を用いることが好ましい。水の添加量には特に制限はないが、a成分100重量部に対して0.01~10重量部が好ましく、特に0.1~10重量部であることがより好ましく、0.5~5重量部である事がさらに好ましい。0.01重量部より少ないと添加した効果が現れないため好ましくなく、10重量部より多いと硬化物の光学特性や機械特性が悪くなるため好ましくない。<<c成分>>B液に含まれるc成分は、本発明のa成分の1式で表される基を平均して少なくとも一個有する化合物を縮合硬化させるための触媒である。a成分は触媒の存在下においてシロキサン結合を形成することにより架橋反応が促進され、硬化する。硬化物の性状としては、重合体の分子量と主鎖骨格に応じて、ゴム状のものから樹脂状のものまで幅広く作製することができる。本発明に用いられる硬化性組成物には、架橋性アルコキシシリル基を有する重合体に用いる従来公知の各種縮合触媒を用いても構わないが、有機金属触媒、アミン系触媒、酸触媒、酸塩基触媒が好ましく、有機錫触媒、リン酸、リン酸アミン系触媒がより好ましい。<有機金属触媒>有機金属触媒としては、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジエチルヘキサノエート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジメチルマレート、ジブチル錫ジエチルマレート、ジブチル錫ジブチルマレート、ジブチル錫ジイソオクチルマレート、ジブチル錫ジトリデシルマレート、ジブチル錫ジベンジルマレート、ジブチル錫マレエート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジステアレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジエチルマレート、ジオクチル錫ジイソオクチルマレート等のジアルキル錫ジカルボキシレート類、例えば、ジブチル錫ジメトキシド、ジブチル錫ジフェノキシド等のジアルキル錫アルコキサイド類、例えば、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、ジブチル錫ジエチルアセトアセテートなどのジアルキル錫の分子内配位性誘導体類、例えば、ジブチル錫オキサイドやジオクチル錫オキサイド等のジアルキル錫オキサイドと例えば、ジオクチルフタレート、ジイソデシルフタレート、メチルマレエート等のエステル化合物との反応物、ジアルキル錫オキサイド、カルボン酸およびアルコール化合物を反応させて得られる錫化合物、例えば、ジブチル錫ビストリエトキシシリケート、ジオクチル錫ビストリエトキシシリケート等のジアルキル錫オキサイドとシリケート化合物との反応物、およびこれらジアルキル錫化合物のオキシ誘導体スタノキサン化合物等の4価の錫化合物類;例えば、オクチル酸錫、ナフテン酸錫、ステアリン酸錫、フェルザチック酸錫等の2価の錫化合物類、あるいはこれらと後述のラウリルアミン等のアミン系化合物との反応物および混合物;例えば、モノブチル錫トリスオクトエートやモノブチル錫トリイソプロポキシド等のモノブチル錫化合物やモノオクチル錫化合物等のモノアルキル錫類;、例えば、テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラ2-エチルヘキシルチタネート、イソプロポキシチタンビスエチルアセトアセテート等のチタン酸エステル類;アルミニウムトリスアセチルアセトナート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、ジ-イソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート等の有機アルミニウム化合物類;カルボン酸ビスマス、カルボン酸鉄、カルボン酸チタニウム、カルボン酸鉛、カルボン酸バナジウム、カルボン酸ジルコニウム、カルボン酸カルシウム、カルボン酸カリウム、カルボン酸バリウム、カルボン酸マンガン、カルボン酸セリウム、カルボン酸ニッケル、カルボン酸コバルト、カルボン酸亜鉛、カルボン酸アルミニウム等のカルボン酸2-エチルヘキサン酸、ネオデカン酸、バーサチック酸、オレイン酸、ナフテン酸等金属塩、ラウリルアミン等のアミン系化合物との反応物および混合物;ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトナート、ジブトキシジルコニウムジアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナートビスエチルアセトアセテート、チタンテトラアセチルアセトナート等のキレート化合物類;ラウリルアミンとオクチル酸錫の反応物あるいは混合物のようなアミン系化合物と有機錫化合物との反応物および混合物;等が例示できる。これらの触媒は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。<アミン系触媒>アミン系触媒としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、2-エチルヘキシルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ペンタデシルアミン、セチルアミン、ステアリルアミン、シクロヘキシルアミン等の脂肪族第一アミン類;ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジアミルアミン、ジオクチルアミン、ジ2-エチルヘキシルアミン、ジデシルアミン、ジラウリルアミン、ジセチルアミン、ジステアリルアミン、メチルステアリルアミン、エチルステアリルアミン、ブチルステアリルアミン等の脂肪族第二アミン類;トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン等の脂肪族第三アミン類;トリアリルアミン、オレイルアミン、などの脂肪族不飽和アミン類;ラウリルアニリン、ステアリルアニリン、トリフェニルアミン等の芳香族アミン類;および、その他のアミン類として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、2,4,6-トリスジメチルアミノメチルフェノール、モルホリン、N-メチルモルホリン、2-エチル-4-メチルイミダゾール、1,5-ジアザビシクロ4,3,0ノネンDBN、1,8-ジアザビシクロ5,4,0ウンデセンDBU等のアミン系化合物;過剰のポリアミンと多塩基酸とから得られる低分子量ポリアミド樹脂;過剰のポリアミンとエポキシ化合物との反応生成物;γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-β-アミノエチルアミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ベンジル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ビニルベンジル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。また、これらを変性した誘導体である、アミノ変性シリルポリマー、シリル化アミノポリマー、不飽和アミノシラン錯体、フェニルアミノ長鎖アルキルシラン、アミノシリル化シリコーン等のアミノ基を有するシランカップリング剤等が例示できる。これらの触媒は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。<酸触媒>酸触媒としては、スルホン酸系、カルボン酸系、リン酸系、硝酸系、フッ酸系触媒等がある。硬化活性と貯蔵安定性のバランスの点でスルホン酸系、リン酸系、カルボン酸系が好ましい。具体的な例示としては、スルホン酸系としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等がある。カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、バーサチック酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、琥珀酸、これらの無水物等が挙げられる。リン酸系としては、リン酸、有機リン酸エステル等がある。有機リン酸エステルとしては、CH3O2-P=O-OH、CH3O-P=O-OH2、C2H5O2-P=O-OH、C2H5O-P=O-OH2、C3H7O2-P=O-OH、C3H7O-P=O-OH2、C4H9O2-P=O-OH、C4H9O-P=O-OH2、C8H17O2-P=O-OH、C8H17O-P=O-OH2、C10H21O2-P=O-OH、C10H21O-P=O-OH2、C13H27O2-P=O-OH、C13H27O-P=O-OH2、C16H33O2-P=O-OH、C16H33O-P=O-OH2、HO-C6H12O2-P=O-OH、HO-C6H12O-P=O-OH2、HO-C8H16O-P=O-OH、HO-C8H16O-P=O-OH2、[CH2OHCHOHO]2-P=O-OH、[CH2OHCHOHO]-P=O-OH2、[CH2OHCHOHC2H4O]2-P=O-OH、[CH2OHCHOHC2H4O]-P=O-OH2などがあげられるが、例示物質に限定されるものではない。<酸塩基触媒>酸塩基触媒としては、前述の酸触媒と、アミン系触媒の組み合わせが例示される。その中でも、リン酸アミン系触媒が好ましく、特に有機リン酸エステルとDBN、DBUなどの組み合わせが好ましい。上記酸塩基系触媒は、添加する場合、事前に混合、反応させても構わないし、後から混合しても構わない。事前に混合、反応させておくと、触媒活性がより高くなり、速硬化性を実現できる場合がある。また、酸とアミンの当量比モル比としては、酸/アミンで0.1~50である。硬化性、ポットライフ、貯蔵安定性の点で、0.3~40が好ましく、0.5~30が好ましい。更に、アミノ基やシラノール基をもたないケイ素化合物を助触媒として添加しても構わない。これらのケイ素化合物としては、限定はされないが、フェニルトリメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン等が好ましい。特に、ジフェニルジメトキシシランやジフェニルジエトキシシランは、低コストであり、入手が容易であるために最も好ましい。このケイ素化合物の配合量は、加水分解性シリル基を平均して少なくとも一個有する化合物100部に対して0.01~20部程度が好ましく、0.1~10部が更に好ましい。ケイ素化合物の配合量がこの範囲を下回ると硬化反応を加速する効果が小さくなる場合がある。一方、ケイ素化合物の配合量がこの範囲を上回ると、硬化物の硬度や引張強度が低下することがある。なお、硬化触媒硬化剤の種類や添加量は目的や用途に応じて本発明の硬化性や機械物性等を制御することが可能である。また、架橋性シリル基を有する重合体のシリル基の反応性によっても硬化触媒硬化剤の種類や添加量を変えることが可能であり、A液中のa成分100重量部に対し、0.001~10部であることが好ましく、0.01~5部であることがより好ましい。なお、反応性が高い場合は0.01~1部の少量の範囲で充分硬化させることが可能である。硬化触媒硬化剤の種類や添加量は、例えば、本発明の加水分解性シリル基を平均して少なくとも一個有する化合物の加水分解性シリル基、一般式1中のYの種類とaの数によって選択することが可能であり、目的や用途に応じて本発明の硬化性や機械物性等を制御することが可能である。Yがアルコキシ基である場合、炭素数の少ない方が反応性が高く、またaが大きい方が反応性が高いため少量で充分硬化させることが可能である。また硬化触媒は必要に応じて希釈することが可能である。希釈するための溶剤としては、各種有機溶剤または可塑剤などを使用することが好ましい。有機溶剤としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸セロソルブ等のエステル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶剤等が挙げられる。可塑剤としては特に限定されないが、例えば、ジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジ2-エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート等のフタル酸エステル類;ジオクチルアジペート、ジオクチルセバケート、ジブチルセバケート、コハク酸イソデシル等の非芳香族二塩基酸エステル類;オレイン酸ブチル、アセチルリシリノール酸メチル等の脂肪族エステル類;ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジベンゾエート、ペンタエリスリトールエステル等のポリアルキレングリコールのエステル類;トリクレジルホスフェート、トリブチルホスフェート等のリン酸エステル類;トリメリット酸エステル類;ポリスチレン、ポリ-α-メチルスチレン等のポリスチレン類;ポリブタジエン、ポリブテン、ポリイソブチレン、ブタジエン-アクリロニトリル、ポリクロロプレン;塩素化パラフィン類;アルキルジフェニル、部分水添ターフェニル等の炭化水素系油;プロセスオイル類;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポリオールとこれらポリエーテルポリオールの水酸基をエステル基、エーテル基等に変換した誘導体等のポリエーテル類;エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ベンジル等のエポキシ可塑剤類;セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸等の2塩基酸と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール等の2価アルコールから得られるポリエステル系可塑剤類;アクリル系可塑剤を始めとするビニル系モノマーを種々の方法で重合して得られるビニル系重合体類等が挙げられる。有機溶剤または可塑剤を用いる場合の希釈倍率は限定されないが、1~100倍が好ましく、さらには1~10倍が好ましい。100倍を超えると触媒の効果が発現しにくくなり、また機械物性が低下するため好ましくない。<<d成分>>本発明に用いられる硬化性組成物には、d成分として紫外線可視光線電子線などの活性エネルギー線の照射により硬化物を得るために光酸発生剤を使用する。光酸発生剤としては、特に限定はないが、本発明の組成物に使用できる光酸発生剤としては、公知の光酸発生剤を使用することができる。本発明において好ましく使用できる光酸発生剤としては、スルホン酸誘導体、オニウム塩類、カルボン酸エステル類が挙げられる。本発明で使用できるスルホン酸誘導体としては例えば、ジスルホン類、ジスルホニルジアゾメタン類、ジスルホニルメタン類、スルホニルベンゾイルメタン類、トリフルオロメチルスルホネート誘導体などのイミドスルホネート類、ベンゾインスルホネート類、1-オキシ-2-ヒドロキシ-3-プロピルアルコールのスルホネート類、ピロガロールトリスルホネート類、ベンジルスルホネート類を挙げることができる。具体的には、ジフェニルジスルホン、ジトシルジスルホン、ビスフェニルスルホニルジアゾメタン、ビスクロルフェニルスルホニルジアゾメタン、ビスキシリルスルホニルジアゾメタン、フェニルスルホニルベンゾイルジアゾメタン、ビスシクロヘキシルスルホニルメタン、1、8-ナフタレンジカルボン酸イミドメチルスルホネート、1、8-ナフタレンジカルボン酸イミドトシルスルホネート、1、8-ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、1、8-ナフタレンジカルボン酸イミドカンファースルホネート、コハク酸イミドフェニルスルホネート、コハク酸イミドトシルスルホネート、コハク酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、コハク酸イミドカンファースルホネート、フタル酸イミドトリフルオロスルホネート、シス-5-ノルボルネン-エンド-2,3-ジカルボン酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、ベンゾイントシラート、1、2-ジフェニル-2-ヒドロキシプロピルトシラート、1、2-ジ4-メチルメルカプトフェニル-2-ヒドロキシプロピルトシラート、ピロガロールメチルスルホネート、ピロガロールエチルスルホネート、2,6-ジニトロフェニルメチルトシラート、オルト-ニトロフェニルメチルトシラート、パラ-ニトロフェニルトシラートなどを挙げることができる。一般に、スルホン酸誘導体およびカルボン酸エステルは、酸を遊離するために、加熱ステップを取ることが好ましい。本発明で使用できるオニウム塩としては、テトラフルオロボレートBF4-、ヘキサフルオロホスフェートPF6-、ヘキサフルオロアンチモネートSbF6-、ヘキサフルオロアルセネートAsF6-、ヘキサクロルアンチモネートSbCl6-、テトラフェニルボレート、テトラキストリフルオロメチルフェニルボレート、テトラキスペンタフルオロメチルフェニルボレート、過塩素酸イオンClO4-、トリフルオロメタンスルフォン酸イオンCF3SO3-、フルオロスルフォン酸イオンFSO3-、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベンゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスルフォン酸アニオン等のアニオンを有するスルホニウム塩またはヨードニウム塩を使用することができる。スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアシルネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキスボレート、メチルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、メチルジフェニルスルホニウムテトラキスボレート、ジメチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリトイルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、アニシルジフェニルスルホニウムヘキサヘキサフルオルアンチモネート、4-ブトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、4-ブトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラキスボレート、4-クロロフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリススルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、4-アセチルフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、4-アセチルフェニルジフェニルスルホニウムテトラキスボレート、トリススルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジメチルスルホニウムテトラキスボレート、ジメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルスルホニウムテトラキスボレート、トリススルホニウムテトラキスボレート、4-アセトアミドフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、4-アセトアミドフェニルジフェニルスルホニウムテトラキスボレート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフルオロメチルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフルオロメチルジフェニルスルホニウムテトラキスボレート、フェニルメチルベンジルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、10-メチルフェノキサチイニウムヘキサフルオロホスフェート、5-メチルチアントレニウムヘキサフルオロホスフェート、10-フェニル-9,9-ジメチルチオキサンテニウムヘキサフルオロホスフェート、10-フェニル-9-オキソチオキサンテニウムキサンテニウムテトラフルオロボレート、10-フェニル-9-オキソチオキサンテニウムテトラキスボレート、5-メチル-10-オキソチアトレニウムテトラフルオロボレート、5-メチル-10-オキソチアトレニウムテトラキスボレート、および5-メチル-10,10-ジオキソチアトレニウムヘキサフルオロホスフェートなどが挙げられる。これらは、1種のみまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。本発明において使用できるヨードニウム塩としては、4-n-デシロキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-ヒドロキシ-n-テトラデシロキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-2-ヒドロキシ-n-テトラデシロキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロスルホネート、4-2-ヒドロキシ-n-テトラデシロキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、4-2-ヒドロキシ-n-テトラデシロキシフェニルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムトリフルオロスルホネート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビスドデシルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビスドデシルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビスドデシルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ビスドデシルフェニルヨードニウムトリフルオロメチルスルフォネート、ジドデシルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジドデシルフェニルヨードニウムトリフラート、ジフェニルヨードニウムビスルフェート、4,4’-ジクロロジフェニルヨードニウムビスルフェート、4,4’-ジブロモジフェニルヨードニウムビスルフェート、3,3’-ジニトロジフェニルヨードニウムビスルフェート、4,4’-ジメチルジフェニルヨードニウムビスルフェート、4,4’-ビススクシンイミドジフェニルヨードニウムビスルフェート、3-ニトロジフェニルヨードニウムビスルフェート、4,4’-ジメトキシジフェニルヨードニウムビスルフェート、ビスドデシルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、4-オクチルオキシフェニルフェニルヨードニウムテトラキス3,5-ビス-トリフルオロメチルフェニルボレートなどが挙げられる。これらは、1種のみまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。光酸発生剤を使用する場合、その添加量は特に制限はないが、a成分100重量部に対して、0.001~10重量部が好ましい。より好ましくは0.01~10重量部である。これらの量より少ないと活性エネルギー線による硬化反応が進行しないため好ましくなく、多いと光学物性、機械物性が低下するため好ましくない。本発明において、d成分はA液、B液いずれの成分に加えることも可能で、両方に加えることも可能である。ただし活性エネルギー線により硬化するのはa成分であり、活性エネルギー線によって効果的に硬化反応を促進させるためにはd成分が均一に拡散させられていることが好ましいので、特にA液に加えることが好ましい。本発明に用いられる硬化性組成物には、特に限定されないが、速く硬化させたり、充分な性状の硬化物を得たりするために光ラジカル開始剤を使用することも可能である。光ラジカル開始剤としては、例えば、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、キサントール、フルオレイン、ベンズアルデヒド、アンスラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3-メチルアセトフェノン、4-メチルアセトフェノン、3-ペンチルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、4-メトキシアセトフェノン、3-ブロモアセトフェノン、4-アリルアセトフェノン、p-ジアセチルベンゼン、3-メトキシベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4-クロロ-4’-ベンジルベンゾフェノン、3-クロロキサントーン、3,9-ジクロロキサントーン、3-クロロ-8-ノニルキサントーン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ビス4-ジメチルアミノフェニルケトン、ベンジルメトキシケタール、2-クロロチオキサントーン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、2-メチル-1-[4-メチルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1、ジベンゾイル等が挙げられる。これらのうち、α-ヒドロキシケトン化合物例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン等、フェニルケトン誘導体例えば、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、3-メチルアセトフェノン、4-メチルアセトフェノン、3-ペンチルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、4-メトキシアセトフェノン、3-ブロモアセトフェノン、4-アリルアセトフェノン、3-メトキシベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、4-クロロ-4’-ベンジルベンゾフェノン、ビス4-ジメチルアミノフェニルケトン等が好ましい。前記光ラジカル開始剤を使用する場合、必要により、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノン、パラターシャリーブチルカテコール等の重合禁止剤類を添加することもできる。光ラジカル開始剤を使用する場合、その添加量は特に制限はないが、硬化性と貯蔵安定性の点から、a成分100重量部に対して、0.001~10重量部が好ましい。より好ましくは0.01~10重量部であり、さらに好ましくは0.1~10重量部である。<<外部からの水供給>>必要に応じてA液に混合する水の他に、水成分を接着層に供給することも可能である。例えばA液とB液をそれぞれの基材に塗布してから基材同士を貼り合わせる前にオープンタイムを設けて空気中の湿分を利用することができる。その他、接着前に基材もしくは塗布した組成物の表面など、最終的に接着層となる部分に対して局所的に水分を供給することも可能である。供給する方法としては例えば水を先述の場所に噴霧滴下したり、高湿雰囲気に曝露したりする方法が考えられる。<<添加剤>>本発明に用いられる硬化性組成物においては、目的とする物性に応じて、A液、B液のどちらか一方、もしくは両方に、各種の配合剤を添加しても構わない。例えば、金属石鹸、充填材、微小中空粒子、酸化防止剤、可塑剤、光安定剤、接着性付与剤、シランカップリング剤、溶剤、難燃剤、老化防止剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、オゾン劣化防止剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、発泡剤、などがあげられる。これらの各種添加剤は単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。<<接着方法>>本発明の硬化性組成物の接着方法について説明する。本発明の硬化性組成物は、A液とB液をそれぞれ異なる基材に塗布してから貼り合わせた後、活性エネルギー線の照射を行うことによって接着させるのが好ましい。この場合、接着後に活性エネルギー線を照射して硬化させるため、接着される基材の少なくともいずれか一方は、照射する活性エネルギー線に対して透明性を有する必要がある。A液またはB液はいずれの基材に塗布してもよく、用途に応じて自由に選択することが可能である。塗布する方法については、A液とB液をそれぞれ別の基材に塗り分けてさえいればA液、B液共に特に限定はないが、例えば、はけやブラシなどによる塗布、滴下装置やディスペンサによる塗布、スプレーなどの噴霧器による塗布、バーコータ、スリットコータ、コンマコータ、スピンコータなどのコーティング装置による塗布、インクジェット印刷やグラビア印刷などの印刷システムを用いた塗布などが挙げられる。A液、B液それぞれの塗布に関して、同じ方法を用いることも可能であり、異なる方法を用いても良い。塗布した後基材同士を重ね合わせる方法についても特に限定はなく、自由な方法を用いることが可能である。重ね合わせた両方の基材間の硬化性組成物は活性エネルギー線に照射されることによって硬化反応が進行する。このとき、効率よく接着面に活性エネルギー線を照射するために、活性エネルギー線に対して透明性を有する基材の側から照射することが好ましい。活性エネルギー線を照射した後、大気環境下で養生することにより、c成分による湿分硬化反応が進行し、完全な接着体が得られる。本発明で用いられる活性エネルギー線に特に限定はないが、例えば紫外線、可視光線、電子線、赤外線などが挙げられる。その中でも強度が大きく、簡便に利用できる観点から紫外線、または可視光線を用いることが好ましい。<<用途>>本発明の硬化性組成物は、用途に限定は特に無いが、例えば画像表示装置における画像表示部の接着剤として好ましく用いることができる。画像表示装置には、例えば画像表示パネルモジュールとそれを保護するためのカバーボード、抵抗膜式タッチパネル用電極基板または静電容量式タッチパネル用電極基板とそれを保護するためのカバーボード、もしくは画像表示パネルモジュールと各種タッチパネル用電極基板などの間にエアギャップが存在するが、最近この層に接着剤を充填することで、画像の視認性や装置の耐衝撃性が向上するため、特開2005-55641などで提案されている。適用可能な画像表示装置としては例えば液晶ディスプレイLCD有機エレクトロルミネッセンスELディスプレイプラズマディスプレイ電子ペーパーディスプレイなどが挙げられる。画像表示装置の用途に特に限定はないが、例えば、テレビ、カーナビゲーションシステム、PDA、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、電子広告板デジタルサイネージ、携帯ゲーム機、音楽再生装置、パソコン、電子書籍電子ペーパー用端末装置などのディスプレイ部分に使用することができる。以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。なお、下記実施例及び比較例中の部及びは、それぞれ重量部及び重量を表す。製造例1ポリプロピレングリコールを開始剤とし亜鉛ヘキサシアノコバルテートグライム錯体触媒にてプロピレンオキシドを重合し、数平均分子量約28,500送液システムとして東ソー製HLC-8120GPCを用い、カラムは東ソー製TSK-GELHタイプを用い、溶媒はTHFを用いて測定したポリスチレン換算分子量のポリプロピレンオキシドP-1を得た。このヒドロキシ基末端ポリプロピレンオキシドP-1のヒドロキシ基に対して1.2倍当量のNaOMeのメタノール溶液を添加してメタノールを留去し、更に塩化アリルを添加して末端の水酸基をアリル基に変換した。得られた未精製のアリル末端ポリプロピレンオキシド100重量部に対し、n-ヘキサン300重量部と、水300重量部を混合攪拌した後、遠心分離により水を除去し、得られたヘキサン溶液に更に水300重量部を混合攪拌し、再度遠心分離により水を除去した後、ヘキサンを減圧脱揮により除去した。以上により、末端がアリル基である数平均分子量約28,500の2官能ポリプロピレンオキシドP-2を得た。得られたアリル基末端ポリプロピレンオキシドP-2100重量部に対し、触媒として白金含量3wtの白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液とトリエトキシシラン1.4重量部を添加し、90°Cで2時間反応させ、トリエトキシシリル基末端ポリプロピレンオキシドP-3を得た。1H-NMR日本電子製JNM-LA400を用いて、CDCl3溶媒中で測定の結果、末端のトリエトキシシリル基は1分子あたり平均して約1.6個であった。次いで、メタノール15部と0.5wtの塩化水素-メタノール溶液を添加し、70°Cで2時間反応させた後、エポキシ化大豆油を添加して70°Cで2時間中和処理を行った。その後、90°Cで1時間減圧脱気を行い、メトキシ交換率約95のトリメトキシシリル基末端ポリプロピレンオキシド[P1]を得た。製造例2分子量約2,000のポリオキシプロピレンジオールと分子量約3,000のポリオキシプロピレントリオールの1/1重量比混合物を開始剤とし、亜鉛ヘキサシアノコバルテートグライム錯体触媒にてプロピレンオキシドの重合を行い、数平均分子量約19,000送液システムとして東ソー製HLC-8120GPCを用い、カラムは東ソー製TSK-GELHタイプを用い、溶媒はTHFを用いて測定したポリスチレン換算分子量のポリプロピレンオキシドを得た。続いて、この水酸基末端ポリプロピレンオキシドの水酸基に対して1.2倍当量のNaOMeのメタノール溶液を添加してメタノールを留去し、更に塩化アリルを添加して末端の水酸基をアリル基に変換した。以上により、末端がアリル基である数平均分子量約19,000のポリプロピレンオキシドを得た。得られた未精製のアリル基末端ポリプロピレンオキシド100重量部に対し、n-ヘキサン300重量部と、水300重量部を混合攪拌した後、遠心分離により水を除去し、得られたヘキサン溶液に更に水300重量部を混合攪拌し、再度遠心分離により水を除去した後、ヘキサンを減圧脱揮により除去し、精製されたアリル基末端ポリプロピレンオキシド以下、アリルポリマーを得た。得られたアリルポリマー100重量部に対し、白金ビニルシロキサン錯体の白金含量3wtのイソプロパノール溶液150ppmを触媒として、メチルジメトキシシラン1.35重量部と90°Cで5時間反応させ、メチルジメトキシシリル基末端ポリプロピレンオキシド[P2]を得た。1H-NMR日本電子製JNM-LA400を用いて、CDCl3溶媒中で測定による測定により、末端のメチルジメトキシシリル基は1分子あたり平均して約1.7個であった。実施例1~4、比較例1、2表1に示す配合比で原料をポリプロピレン製の容器に入れ、遊星式攪拌脱泡機ARE-310、シンキー製で充分に攪拌脱泡を行い、A液としてA-1、A-2、A-3、A-4の組成物を、B液としてB-1、B-2、B-3の組成物を得た。なお、使用した原料を以下に示す。CPI-200K:トリアリールスルホニウム塩プロピレンカーボネート50溶液、サンアプロ製WPI-113:ビスアルキルフェニルヨードニウム塩プロピレンカーボネート50溶液、和光純薬工業製U-220:ジブチル錫ビスアセチルアセトナート、日東化成製AP-8:2-エチルヘキシルアシッドホスフェート、大八化学製トリメックスT-08:トリメリット酸トリス-2-エチルヘキシル、花王製得られた組成物を用いて以下の評価を行なった結果を表2に示す。UV硬化可否の評価A液のみに、UV照射装置LightHammer6、Fusion製にて1000mJ/cm2の積算光量の紫外線を照射した場合に、樹脂がゴム状に硬化した場合を硬化、硬化せずに液状だった場合未硬化、として評価した。固定化所要時間基材に2枚のソーダガラス板大きさ:50mm×50mm、厚さ1mmを用い、一方のガラス板にA液を0.4g、ディスペンサML-808FX、武蔵エンジニアリング製を用いて塗布した。次にもう一方のガラス板にB液を30μmのスペーサを有するアプリケータで塗布した。塗布重量は10mgであった。これら2枚のガラス板を塗布面同士が重なるように貼り合わせ、A液をガラス板全面に展開させた。貼り合わせた基材に、UV照射装置LightHammer6、Fusion製にて1000mJ/cm2の積算光量の紫外線を照射した後、ガラスにせん断方向にずり荷重を10N与えて、ずれが生じなくなるレベルに硬化するまでに要する時間をUV照射ありの場合の固定化所要時間とした。また、張り合わせた基材にUV照射せずに、同様のすり荷重を与えて、ずれが生じなくなるレベルに硬化するまでに要する時間をUV照射なしの場合の固定化所要時間とした。"