基台と、前記基台の一方主面で一方向に間隔を有し、樹脂により形成され塗布剤を担持する複数の版突部を有し、複数の前記版突部は、両端部から数えて1個以上の一方向に連続する版突部で構成される両端版突部と、前記両端版突部の間に位置する版突部で構成される中央版突部と、を有し、前記両端版突部の塗布剤を担持する担持面が、前記中央版突部の塗布材を担持する担持面より大きいことを特徴とする印刷版。前記両端版突部は、複数の版突部の両端部に位置し、前記両端版突部の塗布剤を担持する担持面が、前記中央版突部の塗布材を担持する担持面に対して1.5倍ないし1.7倍の大きさであることを特徴とする請求項1に記載の印刷版。前記両端版突部は、複数の版突部の両端部から数えて10個の一方向に連続する版突部で構成されることを特徴とする請求項1に記載の印刷版。前記両端版突部の塗布剤を担持する担持面の幅が、両端部に位置する版突部から前記中央版突部に隣接する版突部に向かって段階的に狭くなっていることを特徴とする請求項3に記載の印刷版。複数の前記版突部の塗布材を担持する担持面の幅が、前記版突部の延伸する方向の一方端から他方端まで均一であることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の印刷版。前記中央版突部の塗布剤を担持する担持面の幅が40μmないし50μmであることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一項に記載の印刷版。前記基台を支持するためのフィルム状基材をさらに備え、前記フィルム状基材は前記基台の他方主面に当接していることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載の印刷版。請求項1ないし請求項7のいずれか一項に記載の印刷版を備える印刷装置であって、基板を水平に保持するステージと、前記印刷版の一方主面に塗布材を供給する供給機構と、前記印刷版を他方主面側から押圧し、複数の前記版突部を前記基板に当接させることで前記供給機構から供給された前記塗布材を基板に転写する転写機構と、を備えることを特徴とする印刷装置。前記転写機構は、前記印刷版を外周面に装着する版胴を有し、前記供給機構は、前記版胴と平行に配置され、前記印刷版の一方主面に形成された複数の版突部の担持面に前記塗布材を供給する供給ローラと、前記供給ローラの表面に前記塗布材を供給する供給部と、を有し、前記版胴を回転しつつ前記版胴の外周面に装着された前記印刷版を前記基板に押圧し、前記版突部に供給された塗布材を前記基板に転写することを特徴とする請求項8に記載の印刷装置。ところで、例えば特許文献1に記載された技術では、印刷版の外縁部にダミー領域を設けることで、押圧のムラが生じやすいダミー領域を使用せず、押圧のムラが生じない画像形成領域内のパターンを用いることができるが、有機EL素子基材上にダミー領域が印刷される。そのため、印刷されたダミー領域の発光材料を除去する必要がある。もしくは、除去処理を行なわずダミー領域をデバイスとして使用しないようにする場合は、有機EL素子基材上のパターンニングの効率が悪くなる。また、特許文献2に記載された技術では、印刷版製造用マスクの開口部と補強部用開口部とに向けて紫外線を照射し、感光性樹脂を硬化させ、凸部と凸部を補強するための凸部より低い補強部を形成することで、凸部の強度を向上させ押圧が均一になるようにすることで押圧のムラが生じないようにしている。このような印刷版を用いて印刷することで特許文献1のような問題は解消される。しかし、印刷版を製造するためのマスクの設計、硬化、溶剤による溶解などの製版の条件出しが複雑となる。また印刷版のパターンを変更するごとに製版の条件出しを行う必要があるためこのような印刷版製造用マスクを用いて印刷版を製造することは困難である。この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、凸版印刷技術を用いて塗布材を基板上に高精細にパターンニングするにあたり、塗布材を基板上に転写した際に塗布材の転写幅を均一にするとともに、このような印刷版の製造を容易にしつつ、1枚の基板に対して効率よくパターンニングすることができる印刷版および該印刷版を備えた印刷装置を提供することが目的である。請求項1に係る発明印刷版は、基台と、基台の一方主面で一方向に間隔を有し、樹脂により形成され塗布剤を担持する複数の版突部を有し、複数の版突部は、両端部から数えて1個以上の一方向に連続する版突部で構成される両端版突部と、両端版突部の間に位置する版突部で構成される中央版突部と、を有し、両端版突部の塗布剤を担持する担持面が、中央版突部の塗布材を担持する担持面より大きいことを特徴とする。請求項2に係る発明は、請求項1に記載される印刷版であって、両端版突部は、複数の版突部の両端部に位置し、両端版突部の塗布剤を担持する担持面が、中央版突部の塗布材を担持する担持面に対して1.5倍ないし1.7倍の大きさであることを特徴とする。請求項3に係る発明は、請求項1に記載される印刷版であって、両端版突部は、複数の版突部の両端部から数えて10個の一方向に連続する版突部で構成されることを特徴とする。請求項4に係る発明は、請求項3に記載される印刷版であって、両端版突部の塗布剤を担持する担持面の幅が、両端部に位置する版突部から中央版突部に隣接する版突部に向かって段階的に狭くなっていることを特徴とする。請求項5に係る発明は、請求項1ないし請求項4のいずれかに記載される印刷版であって、複数の版突部の塗布材を担持する担持面の幅が、版突部の延伸する方向の一方端から他方端まで均一であることを特徴とする。請求項6に係る発明は、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の印刷版であって、中央版突部の塗布剤を担持する担持面の幅が40μmないし50μmであることを特徴とする。請求項7に係る発明は、請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の印刷版であって、基台を支持するためのフィルム状基材をさらに備え、フィルム状基材は基台の他方主面に当接していることを特徴とする。請求項8に係る発明は、請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の印刷版を備える印刷装置であって、基板を水平に保持するステージと、印刷版の一方主面に塗布材を供給する供給機構と、印刷版を他方主面側から押圧し、複数の版突部を基板に当接させることで供給機構から供給された塗布材を基板に転写する転写機構と、を備えることを特徴とする。請求項9に係る発明は、請求項8に記載の印刷装置であって、転写機構は、印刷版を外周面に装着する版胴を有し、供給機構は、版胴と平行に配置され、印刷版の一方主面に形成された複数の版突部の担持面に塗布材を供給する供給ローラと、供給ローラの表面に塗布材を供給する供給部と、を有し、版胴を回転しつつ版胴の外周面に装着された印刷版を基板に押圧し、版突部に供給された塗布材を基板に転写することを特徴とする。請求項1ないし請求項9のいずれかに係る発明によれば、基板に転写される画像パターンに対応する版突部の両端部または両端部近傍に位置する両端版突部の担持面の幅寸法を、両端版突部の間に位置する中央版突部よりも広くすることで、転写機構による押圧を受けても両端版突部の変形を防ぎ、両端版突部によって転写される塗布材の転写量と、中央版突部によって転写される塗布材の転写量を等しくすることができる。これらによって転写された画像パターンの転写幅のバラつきを軽減させることができる。また、形成される版突部すべてを用いて所望の画像パターンを形成するため、基板上の余分な領域に塗布材が付着することがなく、基板に対して効率よくパターンニングすることができる。図1は本発明に係る印刷装置1の一実施形態を示す斜視図である。また、図2は本発明に係る印刷装置1の要部を示す概要図である。以下、図1および図2を参照して、本発明の一実施形態に係る印刷装置1について説明する。なお、具体的に説明するため、印刷装置1が有機EL材料を溶解した溶液を塗布材として用いる有機ELデバイスを製造する印刷装置に適用された例を用いて、以下の説明を行う。そして、本明細書における有機EL材料は、有機ELデバイスにおける有機層正孔注入層、正孔輸送層、赤色発光、緑色発光、青色発光の発光層、電子輸送層、電子注入層等のうちで有機物を含む層を形成するための高分子有機EL材料と、溶媒とを含む。このような有機EL材料を塗布材として用いることができる。例えば、赤色発光層を形成するための材料は、赤色発光材料と、溶媒としてのキシレン主溶媒およびシクロヘキシルベンゼンなどを含む。なお、キシレンに替えてアニソールを主溶媒として用いても良い。印刷装置1は、有機ELデバイスを製造する工程において、ガラス基板以降、単に基板90と称すの上面に所望の形状の画像パターン例えば、ラインとスペースで構成される画像パターンを印刷するための装置である。そして、主として基板90を保持するステージ10と、ステージ10を主走査方向Y軸方向に往復移動させるための搬送機構20と、ステージ10に保持された基板90に対して印刷版50に形成された画像パターンを転写するための転写機構30と、転写機構30に塗布材を供給するための供給機構40と、これらを載置する装置台60と、転写機構30とステージ10の鉛直方向Z軸方向の離間距離を調整するための昇降テーブル65とを備える。ステージ10は、平板状の外形を有しており、その上面に基板90を水平に保ちつつ図示を省略するチャック機構を備えており、チャック機構により基板90がステージ10上に固定的に保持される。そして、装置台60上を搬送機構20により主走査方向Y軸方向に往復移動する。搬送機構20は、一対のガイドレール23と、搬送駆動部24とを備える。一対のガイドレール23は、後述する版胴33の軸心に対して直交する水平方向に装置台60の一方端部から他方端部まで延設され、装置台60の上面に固定される。搬送駆動部24は、一対のガイドレール23の延設方向を駆動方向とし、リニアモータで構成される。そして一対のガイドレール23および搬送駆動部24はステージ10の裏面と連結されており、搬送駆動部24の駆動力を受けてステージ10を版胴33の軸心に対して直交する主走査方向Y軸方向に往復移動させる。昇降テーブル65は、図示を省略する昇降駆動部および昇降ガイドを備えており、昇降テーブル65は昇降ガイドに沿ってZ軸方向に昇降可能となる。昇降テーブル65には、転写機構30および供給機構40が搭載されており、転写機構30および供給機構40は、昇降テーブル65とともに昇降可能となる。転写機構30は、印刷版50をその外周面に当接するように装着する版胴33と、版胴33をステージ10に対して水平となるように軸支する版胴支持部37と、版胴33の外周面に装着された印刷版50を洗浄するための洗浄機構35とを備える。版胴33は、図示を省略する保持機構例えば、クランプ機構などを備える。そして、印刷版50を版胴33の外周面に保持機構により保持する。版胴支持部37は、図示を省略する回転駆動機構を備える。そして、版胴33をステージ10に対して水平となるように軸支し、軸支した状態で回転駆動機構からの駆動力を受けて所定の回転速度で軸心を中心に版胴33を回転可能に支持する。版胴支持部37に軸支された版胴33の下方には空間が形成されており、下方空間をステージ10が移動する。つまり、ステージ10の上面に保持された基板90は、搬送駆動部24からの駆動力を受けて所定の速度で版胴33の軸心に対して直交する主走査方向Y軸方向に移動し、版胴33の下方空間を通過する。このとき、あらかじめステージ10に保持された基板90と版胴33の外周面に装着された印刷版50との間に生じる隙間を所定の範囲内になるように、昇降テーブル65の鉛直方向の位置が調整される。洗浄機構35は、版胴33の外周面に装着された印刷版50から基板90に塗布材が転写された後、印刷版50の表面を洗浄する。なお、洗浄機構35は版胴33から離間した装置の端部と版胴33に近接した位置との間を移動可能となっている。供給機構40は、印刷版50の表面に塗布材を供給するため機構である。図2を参照しつつ供給機構40について説明を続ける。供給機構40は供給ローラ43図1と、供給ローラ43に塗布材を供給するための供給部45と、供給ローラ43を支持するための供給ローラ支持部47図1と、供給ローラ43の表面を洗浄するための洗浄機構49とを備える。供給ローラ43は、その軸心が版胴33の軸心と平行に配置される。例えば、供給ローラ43は、その外周面が平滑な平ローラで構成される。そして、供給ローラ43はその外周面を版胴33に装着された印刷版50に当接させながら互いに反対方向に回転することによって、印刷版50の表面に塗布材を供給する。供給部45は、図示を省略する供給源と接続されており供給源に貯留される塗布材を供給ローラ43に供給する。供給部45には供給ローラ43の軸心方向を長手方向とするスリットを有するスリットノズルなどが用いられる。そして、供給源から供給される塗布材を、供給ローラ43の外周面上に所定の流量で吐出して、当該外周面上に塗布材の膜を形成する。なお、供給部45と供給ローラ43の外周面までは所定の距離だけ離間しており、その離間距離は図示を省略するモータが駆動することによって調整される。供給ローラ支持部47は、供給ローラ43の外周面が版胴33の外周面に対向するように供給ローラ43を水平に軸支する。そして、図示を省略する駆動機構により供給ローラ43の外周面と版胴33の外周面との離間距離を調整する。洗浄機構49は、印刷版50の表面に塗布材を供給した後においても供給ローラ43の表面に残存する塗布材を除去するための機構である。供給ローラ43の表面に塗布材が残存した場合、その上にさらに供給部45から供給ローラ43の表面に新たな塗布材が供給されたとき、塗布材の膜厚が増加することで膜厚が不均一となり、必要な膜厚をもった所望の画像パターンの転写ができなくなる。そのため、供給ローラ43の表面を洗浄する機構として洗浄機構49が設けられている。このように、印刷装置1においては、供給部45から供給ローラ43の外周面に塗布材が供給され、供給ローラ43の表面に塗布材の膜が形成される。そして、塗布材は、供給ローラ43の表面から印刷版50に形成された所望の画像パターンに転写供給され、印刷版50上に塗布材の薄膜パターンが形成される。この印刷版50上に形成された塗布材の薄膜パターンが、基板90上に転写されることで所望の画像パターンが印刷される。印刷装置1の図示を省略する制御部は、搬送機構20を制御することによって基板90を保持したステージ10を主走査方向Y軸方向に移動させる。そして、版胴33の下方空間を通過させる際、図示を省略する回転駆動機構を制御することによってステージ10の主走査方向Y軸方向の移動速度に応じて互いに速度差が生じないように版胴33の回転を制御する。これによって、ステージ10に保持された基板90と印刷版50とが対向しながら所定の隙間を維持しつつ、印刷版50に供給された塗布材が基板90に転写されていく。ここで、図3を参照しつつ基板90について説明する。以降においては、例えば40インチのフルハイビジョン用のディスプレイを製造する場合について説明を行う。図3aは基板90の全体を示す平面図である。基板90は、730×920mmあるいは800×900mmの矩形形状のガラス基板であり、その上面に画像パターン領域90aと、画像パターン領域90a内に配列される複数の突起8を備える。以降においては、基板90が730×920mmのサイズである場合について説明する。画像パターン領域90aは、有機ELデバイス用の発光層が形成される領域であって、基板90の周辺部を除く中央部に、500×900mmの領域として規定されている。そして、当該領域内に塗布材が転写されることで、基板90上に有機ELデバイス用の発光層が形成される。次に図3b、cを参照しつつ突起8について説明する。図3bは図3aに示す領域90bを拡大した平面図である。図3cは図3bの側面視の断面を模式的に示す図である。突起8は、第1方向図示では上下方向にわたって延伸するとともに、第1方向と直交する第2方向図示では左右方向に沿って互いに平行に配列された複数の突起8が同一間隔で形成されている。そして、複数の突起8によって、その間には多数の窪部が形成される。複数の窪部は例えば赤色発光層を形成すべき赤色用窪部9R、緑色発光層を形成すべき緑色用窪部9G、青色発光層を形成すべき青色用窪部9Bが図示左右方向に沿って、画像パターン領域の全面にわたり、多数、繰り返し形成されている。突起8の繰り返される間隔突起8の中心間距離は120μないし150μmとなる。そして、5761個の突起8が基板90上に配列されている。突起8の個数はフルハイビジョンにおける第2方向の解像度が1920ピクセルであり、これらが3色分必要であることから、上述した個数になる。なお、第2方向の両側にはテストエリアを備える場合は、突起8の個数は5767個となる。また、突起8は図面上では高さを有する構造であるが、このような高さを必要とするわけではない。なぜなら突起8は隣接する発光層が接触しないようにするためのものであり、高さを有せずとも隣接する発光層間に絶縁体を設けるようにしてもよい。次に印刷版50の第1の実施形態について図4を参照しつつ説明する。図4aは本発明に係る印刷版50の全体をあらわす平面図である。なお、図示の都合上、一部を省略している。図4bは、図4aに示す領域50aを拡大した平面図であり、図4cは図4bの側面視の断面を模式的に示す図である。印刷版50は、730×920mmの矩形形状を有し、上方からその中央部に所望の画像パターンが形成されるパターン形成領域55と、パターン形成領域55を一方主面に備える基台53と、基台53の他方主面に装着されるフィルム59とを備える。パターン形成領域55は、基台53の中央部に形成されており、パターン形成領域55に塗布材が供給され、基板90上に有機ELデバイスの画像パターンを転写するための領域である。基台53の一方主面には、両端版突部51aと、中央版突部51bとを備える版突部51が形成されている。そして、一方主面に形成された版突部51によって構成される領域が上述したパターン形成領域55となる。したがって、パターン形成領域55に塗布材が供給されるということは、言い換えると基台53の一方主面に形成された版突部51上に塗布材が供給されることであり、版突部51が有機ELデバイスの画像パターンを形成する。また、基台53とその一方主面に形成される版突部51は、同一の樹脂材で一体的に形成されている。フィルム59は、印刷版50を版胴33の外周面に固定的に配設するための部材として機能する。具体的には、基台53の他方主面と接着することで基台53を支持し、版胴33の図示を省略する保持機構例えば、クランプ機構などによりフィルム59が保持されることで版胴33の外周面に印刷版50が固定的に保持される。なお、フィルム59を介さずに、基部53の他方主面が直接、版胴33の外周面に当接し保持される構成であってもよい。この場合、保持機構として例えば吸着等により固定的に保持することが可能である。このようなフィルム59として、例えば100μm程度の厚さのポリエチレンテレフタレートPolyethyleneTerephthalateを採用する。次に図4cを参照しつつ、基台53の一方主面に形成される版突部51について説明する。なお、図4cではパターン形成領域55の一方側端部図示では最も右側のみ図示し、パターン形成領域55の他方側端部図示では最も左側については図示を省略しているが同様に両端版突部51aが存在する。版突部51は樹脂により形成されており、例えば光が照射されることで硬化する感光性樹脂が用いられる。版突部51は、第1方向図示では上下方向にわたって延伸するとともに、第1方向と直交する第2方向図示では左右方向に沿って互いに平行に並列された1920個の版突部51が同一間隔で形成されている。そして、これらの版突部51が両端版突部51aおよび中央版突部51bとして機能する。両端版突部51aは、同一間隔で形成されている版突部51の両端部に位置するように形成されている。つまり、パターン形成領域55の両端部に位置する。そして、その頂部には塗布材を担持するための担持面SFを有し、担持面SFの幅は、両端版突部51aが延設する方向である第1方向に対して均一の幅寸法となっている。両端版突部51aの担持面SFに塗布材が供給され保持されることで、基板90へ両端版突部51aに対応する画像パターンを転写することが可能となる。両端版突部51aの担持面SFは、基板90に両端版突部51aに対応する画像パターンを転写するための印刷面として機能する。なお、担持面SFの幅寸法とは第1方向と直交する第2方向の担持面の寸法を言う。中央版突部51bは、同一間隔で形成されている版突部51において両端版突部51aの間に位置するように形成されている。つまり、パターン形成領域55を構成する版突部51のうち両端版突部51a以外が中央版突部51bとして機能する。そして、その頂部には両端版突部51aと同様に塗布材を担持するための担持面SFを有しており、担持面SFの幅は、中央版突部51bが延設する方向である第1方向に対して均一の幅寸法となっている。全ての中央版突部51bは同じ形状を有する。そして、中央版突部51bの担持面SFに塗布材が供給され保持されることで、基板90へ中央版突部51bに対応する画像パターンを転写することが可能となる。中央版突部51bの担持面SFは、基板90に中央版突部51bに対応する画像パターンを転写するための印刷面として機能する。両端版突部51aおよび中央版突部51bの第1方向図示では上下方向の長さ寸法は等しく、500mmとなるように形成されている。また、その形状は断面視で塗布材を担持するための担持面SFを最頂部として徐々に広がりながら最深部に向かって傾斜するように形成されている。最頂部である担持面SFから最深部までの高さは100μmないし300μmであって、押圧された際に最深部の底面が基板90に当接しない高さに形成されている。これによって、最深部の底面は、転写機構30による押圧によっても印刷されず、かつ担持面SFに供給された塗布材が最深部に流れに込みにくいという効果を得ることができる。また、担持面SFに微細突起を形成してもよい。微細突起を設けることで塗布材が最深部に流れ込むのをさらに抑制することができる。次に、両端版突部51aと中央版突部51bについて具体的に説明する。中央版突部51bは上述したとおり複数の版突部51のうち両端版突部51a以外の版突部51に相当する。そして、中央版突部51bの印刷面である担持面の幅Eはすべて同じ幅寸法となるように形成されている。具体的には、担持面の幅Eは40μmないし50μmの幅で均一に形成されている。これは上述した有機ELディスプレイで40インチのフルハイビジョン用に、ラインとスペースのストライプ状のパターンを形成するのに適した幅となっている。なお、担持面の幅Eは対象製品の解像度に応じて決められ、担持面の長さは対象製品のサイズに応じて決められる。したがって、対象製品のサブピクセル間隔が120μmならば、それぞれの版突部51の中心間の距離は360μmとなり、サブピクセル間隔が150μmならば、それぞれの版突部51の中心間の距離は450μmとなる。両端版突部51aと中央版突部51bとの異なる点はその担持面の幅寸法である。両端版突部51aの担持面の幅Dは、中央版突部51bの担持面の幅Eよりも広い幅寸法を有している。すなわち、両端版突部51aの担持面の幅D>中央版突部51bの担持面の幅Eの関係が成り立っている。より具体的には、両端版突部51aの担持面の幅Dと中央版突部51bの担持面の幅Eとの関係は、D=E×n1.5≦n≦1.7の関係となっている。両端版突部51aの担持面の幅Dは、中央版突部51bの担持面の幅Eの1.5倍ないし1.7倍となるように形成されている。これは、中央版突部51bの担持面の幅Eが40μmないし50μmとなるように形成されている時に最適となる。例えば、中央版突部51bの担持面の幅Eが50μmとなるように形成されていた場合、両端版突部51aの担持面の幅Dは、75μmないし85μmの間の幅寸法になるように形成されていればよい。このように、両端版突部51aの担持面の幅Dを中央版突部51bの担持面の幅Eに対して1.5倍ないし1.7倍となるように形成することで、印刷時の押圧による両端版突部51aの変形を抑制することができる。次に両端版突部51aの担持面の幅Dを中央版突部51bの担持面の幅Eに対して、11.3倍、21.5倍、31.7倍、41.9倍に変えて基板90上に転写される塗布材の転写幅の均一性について評価を行った結果を表1に示す。表1では中央版突部51bの担持面の幅をE1とし、各条件での両端版突部51aの担持面の幅をD1、D2、D3、D4としている。また、中央版突部51bによって基板90に転写された塗布材の転写幅をPE1とし、各条件で両端版突部51aによって基板90に転写された塗布材の転写幅をPD1、PD2、PD3、PD4としている。そして、中央版突部51bによって転写された塗布材の転写幅と、両端版突部51aによって転写された塗布材の転写幅との差分が±10μm以内に収まるものには均一性について可とし、収まらないものについては均一性を不可としている。表1中の1は両端版突部51aの担持面の幅D1を、中央版突部51bの担持面の幅E1に対して1.3倍にした場合を表している。すなわち、D1=E1×1.3の関係が成り立っている。この際、中央版突部51bの担持面の幅E1によって転写される塗布材の転写幅PE1は、両端版突部51aの担持面の幅D1によって転写される塗布材の転写幅PD1より大きくなる。すなわち、PE1>PD1となる。これは、両端版突部51aの強度が十分ではないため、転写時の押圧で変形し転写が不十分になっているためである。表1中の2は両端版突部51aの担持面の幅D2を、中央版突部51bの担持面の幅E1に対して1.5倍にした場合を表している。すなわち、D2=E1×1.5の関係が成り立っている。この際、中央版突部51bの担持面の幅E1によって転写される塗布材の転写幅PE1と、両端版突部51aの担持面の幅D2によって転写される塗布材の転写幅PD2とほぼ等しくなる。すなわちPE1≒PD2となる。樹脂によって形成された印刷版50の特性上、完全に転写幅が等しくなる現実的には難しい。しかし、中央版突部51bによって転写された塗布材の転写幅PE1と、両端版突部51aによって転写された塗布材の転写幅PD2の差分が±10μm以内となれば、有機ELデバイスのパターン形成という点においては欠陥が発生せず、これらの関係は等しいと言うことができる。表1中の3は両端版突部51aの担持面の幅D3を、中央版突部51bの担持面の幅E1に対して1.7倍にした場合を表している。すなわち、D3=E1×1.7の関係が成り立っている。この際、中央版突部51bの担持面の幅E1によって転写される塗布材の転写幅PE1と、両端版突部51aの担持面の幅D3によって転写される塗布材の転写幅PD3とほぼ等しくなる。すなわちPE1≒PD3となる。これも2で説明したのと同様の理由により、これらの関係は等しいと言うことができる。表1中の4は両端版突部51aの担持面の幅D4を、中央版突部51bの担持面の幅E1に対して1.9倍にした場合を表している。すなわち、D4=E1×1.9の関係が成り立っている。この際、中央版突部51bの担持面の幅E1によって転写される塗布材の転写幅PE1に対して、両端版突部51aの担持面の幅D4によって転写される塗布材の転写幅PD4が大きくなる。すなわちPE1<PD4となる。これは、両端版突部51aの担持面の幅D4を広くしすぎたことで、転写時に塗布材が基板90上に広がるためである。以上の結果から、両端版突部51aの担持面の幅Dを中央版突部51bの担持面の幅Eに対して、1.5倍ないし1.7倍にすることで、両端版突部51aの印刷時の押圧による変形を抑制し、両端版突部51aおよび中央版突部51bによって基板90に転写される塗布材の転写幅を均一にすることができる。このように、パターン形成領域55の両端部に位置する両端版突部51aの担持面の幅寸法を、中央版突部51bの担持面の幅寸法に対して1.5倍ないし1.7倍の幅寸法とすることで、転写機構30による押圧を受けても両端版突部51aの変形を抑制することができ、転写された画像パターンの転写幅のバラつきを軽減させることができる。また、パターン形成領域55全体を用いて所望の画像パターンを形成できるため、基板90上の余分な領域に塗布材が付着することがなく、基板90に対して効率よくパターンニングすることができる。なお、上述した印刷版50は公知の製造方法によって製造することができる。例えば、通常のフレキソ印刷版の製造方法が適用でき、例えば、ポリエチレンテレフタレート上に樹脂材料を塗布、硬化してレーザにより彫刻する方法、感光性樹脂材料にフォトマスクを使用したフォトリソ法などである。また、両端版突部51aの担持面の幅寸法を広くするだけで良いので印刷版の製造が容易である。次に印刷装置1を用いて基板90上に所望の画像パターンを形成する動作について図2を参照しつつ説明する。印刷装置1では、版胴33の外周面に印刷版50が図示を省略する保持機構により保持される。また、処理対象の基板90がステージ10上に載置され、ステージ10に設けられている図示しないチャック機構により基板90がステージ10にて保持される。そして、版胴33に保持された印刷版50は図2中の矢印の方向に回転しつつ、印刷版50の表面に形成される所望の画像パターンに対応する複数の版突部51からなるパターン形成領域55に、供給ローラ43が図2中の矢印の方向に回転しながら当接することで塗布材が供給される。なお、供給ローラ43には供給部45と接続された供給機構40から塗布材が供給される。塗布材が供給された印刷版50は基板90に対して版胴33に押圧されつつ当接する。そして、印刷版50の表面に形成されたパターン形成領域55を構成する版突部51の担持面に供給された塗布材が基板90上に転写される。その際、印刷版50に形成される複数の版突部51が押圧されることで圧縮されるように変形するが、このように印刷版50を基板90に押圧する力が働くことで印刷版50に形成される複数の版突部51が全面にわたって確実に基板90に当接する。所望の画像パターンに対応する版突部51が押圧された場合でも、パターン形成領域55の両端を形成する両端版突部51aの担持面の幅寸法を、中央版突部51bの担持面の幅寸法の1.5倍ないし1.7倍にすることで、両端版突部51aの押圧による変形を抑制し基板90に転写される画像パターンの転写幅を中央版突部51bによって転写された画像パターンの転写幅と均一にすることができる。そのため、パターン形成領域55をすべて用いて所望の画像パターンを形成でき、基板90に対して効率的に有機ELデバイスを製造することができ生産性の低下を防ぐことができる。次に、印刷版50に塗布材を供給した供給ローラ43は洗浄機構49によりその表面に付着した塗布材を除去するため洗浄される。また、印刷版50は、その表面に供給された塗布材を基板90に転写した後、洗浄機構35によりその表面に付着した塗布材を除去するため洗浄される。所望の画像パターンが印刷された基板90はチャック機構が解除され、ステージ10上から図示を省略する搬送ロボット等により搬送される。以上により、印刷装置1を用いて基板90上に所望の画像パターンを形成することができる。次に印刷版50の第2の実施形態について図5を用いて説明する。図5において図4と共通する部分については同一の符号を割り当て説明は省略する。図5aは本発明に係る第2の実施形態に係る印刷版50の全体をあらわす平面図である。なお、図示の都合上、一部を省略している。図5bは、図5aに示す領域50aを拡大した平面図であり、図5cは図5bの側面視の断面を模式的に示す図である。なお、図示の都合上、基台53の一方側端部しか表していないが当然ながら他方側端部にも同様の構成を有する。図4に図示された第1の実施形態にかかる印刷版50と最も異なる点は、版突部51が、パターン形成領域55の両端部から数えて第2方向に連続する10個の両端版突部51aを有していることである。また、それぞれの両端版突部51aの担持面の幅が、パターン形成領域55の両端側から中央側に向かって中央版突部51bの隣に形成された両端版突部51aまで段階的に担持面の幅が狭くなっていることである。本実施形態について詳細に説明する。基台53の一方主面には版突部51が形成されており、版突部51は、第1方向図示では上下方向にわたって延伸するとともに、第1方向と直交する第2方向図示では左右方向に沿って互いに平行に並列された1920個の版突部51が同一間隔で形成されている。そして、これらの版突部51が両端版突部51aおよび中央版突部51bとして機能する。両端版突部51aは、同一間隔で形成されている版突部51の両端部から中央方向図示では左方向に数えて連続する10個の両端版突部51aにより形成されている。したがって、画像パターンを形成する1920個の版突部51のそれぞれの両端部から約0.52が両端版突部51aとなる。両端版突部51aの頂部には塗布材を担持するための担持面SFを有し、担持面SFの幅は、両端版突部51aが延設する方向である第1方向に対して均一の幅寸法となっている。両端版突部51aの担持面SFに塗布材が供給され保持されることで、基板90へ両端版突部51aに対応する画像パターンを転写することが可能となる。両端版突部51aの担持面SFは、基板90に両端版突部51aに対応する画像パターンを転写するための印刷面として機能する。中央版突部51bは、同一間隔で形成されている版突部51において両端版突部51aの間に位置するように形成されている。つまり、パターン形成領域55を構成する版突部51のうち両端版突部51a以外が中央版突部51bとして機能する。そして、中央版突部51bの頂部には両端版突部51aと同様に塗布材を担持するための担持面SFを有しており、担持面SFの幅は、中央版突部51bが延設する方向である第1方向に対して均一の幅寸法となっている。また、全ての中央版突部51bは同じ形状を有する。そして、中央版突部51bの担持面SFに塗布材が供給され保持されることで、基板90へ中央版突部51bに対応する画像パターンを転写することが可能となる。中央版突部51bの担持面SFは、基板90に中央版突部51bに対応する画像パターンを転写するための印刷面として機能する。両端版突部51aおよび中央版突部51bの第1方向図示では上下方向の長さ寸法は等しく、500μmとなるように形成されている。また、その形状は断面視で塗布材を担持するための担持面SFを最頂部として徐々に広がりながら最深部に向かって傾斜するように形成されている。最頂部である担持面SFから最深部までの高さは100μm以上であって、押圧された際に最深部の底面が基板90に当接しない高さに形成されている。これによって、最深部の底面は、転写機構30による押圧によっても印刷されず、かつ担持面SFに供給された塗布材が最深部に流れに込みにくいという効果を得ることができる。また、担持面SFに微細突起を形成してもよい。微細突起を設けることで塗布材が最深部に流れ込むのをさらに抑制することができる。中央版突部51bは、その担持面の幅E1が40μmないし50μmとなるように形成されている。中央版突部51bの担持面の幅E1が上述した幅寸法であるならば、それぞれの両端版突部51aおよびそれぞれの中央版突部51bの中心間の距離は、360μmないし450μmとなるように同一間隔で形成されていることが好ましい。これに対し、版突部51の両端部から数えて10個の第2方向に連続する両端版突部51aの担持面の幅D1、D2、D3、D4、D5、D6、D7、D8、D9、D10は、中央版突部51bの担持面の幅E1よりも広く、かつ、両端部に位置する両端版突部51aから中央版突部51bに隣接する位置に形成される両端版突部51aまで担持面の幅が段階的に狭くなっている。すなわち、E1<D10≦D9≦D8≦D7≦D6≦D5≦D4≦D3≦D2≦D1の関係が成り立っている。なお、図5b、cでは、図示の都合上、担持面の幅D6からD9に対応する両端版突部51aを省略している。ここで、もっとも端部に形成される両端版突部51aの担持面の幅D1は、D1=E1×n1.5≦n≦1.7となるように形成されている。また、担持面の幅D2、D3、D4、D5、D6、D7、D8、D9、D10は、中央版突部51bの担持面の幅E1より広く、かつ両端版突部51aの担持面の幅D1以下となるように決めてられている。例えば、両端版突部51aの担持面の幅D1と中央版突部51bの担持面の幅E1との差分を均等割りし、得られた値ずつ担持面の幅D10からD1に向けて広げていくようにしてもよい。このように、両端版突部51aの各担持面の幅を設定することで、印刷時の押圧によっても、押圧に弱い両端部のみならず、両端部近傍における両端版突部51aの変形を抑制することができる。以上のように、このように構成された印刷版50を第1の実施形態で説明した印刷装置1に適用することができ、転写機構30による押圧によってもパターン形成領域55の両端部近傍を形成する両端版突部51aが変形することを防ぐことができる。そのため、両端版突部51aによって転写される塗布材の転写量と、中央版突部51bによって転写される塗布材の転写量とが略等しくなり転写幅のバラつきを軽減させることができる。また、パターン形成領域55をすべて用いて所望の画像パターンを形成できるため、基板90に対して効率よくパターンニングすることができる。<変形例>以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記の実施の形態に限られるものではなく様々な変形が可能である。また、上記実施の形態では、ステージ10を水平移動させながら版胴33を回転させて印刷材料を転写しているが、ステージ10を固定して版胴33自体を水平方向に移動させながら回転させてもよい。版胴33とステージ10との少なくとも一方が相対的に水平方向に移動すれば、同様の印刷が可能であるためである。また、印刷版50を版胴33に装着し基板90に押圧しているが、印刷版の裏面全体を押圧することでスタンプ印のごとく印刷版50に形成された所望の画像パターンを基板90に転写するように構成してもよい。さらに、上記実施形態および各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせることができる。