"画素電極及びTFTを有する画素上に配向膜が形成されたTFT基板、前記TFT基板に対向し且つ配向膜が形成された対向基板、並びに前記TFT基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層を有する液晶表示装置であって、前記配向膜は、前記液晶層と接する第1の配向膜と、前記第1の配向膜の下層に形成された第2の配向膜とから構成され、前記第1の配向膜は、光分解反応により異方性が付与された材料から構成され、前記第2の配向膜は、光分解反応を生じない材料から構成され、前記第2の配向膜に対する前記第1の配向膜の膜厚比が0.5以下であることを特徴とする液晶表示装置。前記第1の配向膜は、下記の一般式1:式中、R1~R4は、それぞれ独立して水素原子、フッ素原子、又は炭素数1~6のアルキル基若しくはアルコキシ基を表すを構成単位として有するポリイミドを含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。前記第2の配向膜は、下記の一般式2:を構成単位として有するポリイミドを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。しかしながら、従来の光配向処理は、光配向処理によって配向膜表面の高分子だけでなく配向膜内部の高分子までも光分解反応してしまうため、配向膜全体が低分子量の高分子から構成されることになる。一般に、分子量が小さい高分子ほど液晶分子のスイッチングによって動き易くなるため、従来の光配向処理された配向膜では、液晶分子のスイッチングによって配向膜が動いてしまう。このような配向膜を有する液晶表示装置では、交流AC電圧を印加して駆動させた場合、電圧のOFF時に液晶分子が初期の配向状態に戻りきらない現象以下、AC残像という。が生じ、黒表示時に光漏れが発生するという問題がある。一方、特許文献2では、配向膜を2層構造とすることによって配向膜の配向安定性を高めているものの、上層の配向膜の高分子を光配向処理する際に下層の配向膜の高分子までもが光分解反応してしまうため、依然としてAC残像に起因する黒表示時の光漏れを十分に防止することができない。本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、AC残像を起因とする黒表示時の光漏れを防止し、コントラストの高い液晶表示装置を提供することを目的とする。本発明者らは、上記のような問題を解決すべく鋭意研究した結果、配向膜を2層構造とし、光分解反応を生じない材料を用いて下層の配向膜を構成すると共に、上層の配向膜の膜厚と下層の配向膜の膜厚との比率を適切な範囲にすることで、AC残像を起因とする黒表示時の光漏れを防止し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、画素電極及びTFTを有する画素上に配向膜が形成されたTFT基板、前記TFT基板に対向し且つ配向膜が形成された対向基板、並びに前記TFT基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層を有する液晶表示装置であって、前記配向膜は、前記液晶層と接する第1の配向膜と、前記第1の配向膜の下層に形成された第2の配向膜とから構成され、前記第1の配向膜は、光分解反応により異方性が付与された材料から構成され、前記第2の配向膜は、光分解反応を生じない材料から構成され、前記第2の配向膜に対する前記第1の配向膜の膜厚比が0.5以下であることを特徴とする液晶表示装置である。本発明によれば、AC残像を起因とする黒表示時の光漏れを防止し、コントラストの高い液晶表示装置を提供することができる。以下、本発明の液晶表示装置の好適な実施の形態につき図面を用いて説明する。図1は、本発明の液晶表示装置の断面図である。図1において、本発明の液晶表示装置は、TFT基板1と、TFT基板1に対向して設けられた対向基板2と、TFT基板1と対向基板2との間に挟持された液晶層4とを備えている。また、TFT基板1及び対向基板2の液晶層4と接する面には、配向膜3が形成されている。TFT基板1は、図示していないが、画素電極及びTFT薄層トランジスタを備えている。TFT基板1としては、特に限定されず、当該技術分野において公知のものを用いることができる。例えば、TFT基板1として、アクティブマトリックスアレイ基板を用いることができる。このアクティブマトリックスアレイ基板は、一般的に、ガラス基板上にゲート配線及びソース配線がマトリックス状に配置されており、その交点部分に、薄層トランジスタTFT等のアクティブ素子が形成され、このアクティブ素子に画素電極が接続されている。対向基板2としては、特に限定されず、当該技術分野において公知のものを用いることができる。例えば、対向基板2として、カラーフィルタ基板を用いることができる。このカラーフィルタ基板は、一般的に、ガラス基板上に、不要な光の漏れを防止するためにブラックマトリックスを形成した後、R赤、G緑、B青の着色層をパターン形成し、必要に応じて保護膜が形成されている。TFT基板1及び対向基板2に形成される配向膜3は、液晶層4と接する第1の配向膜と、第1の配向膜の下層に形成された第2の配向膜とから構成される。また、この第1の配向膜は、光分解反応により異方性が付与された材料から構成され、第2の配向膜は、光分解反応を生じない材料から構成される。光分解反応を生じない材料から第2の配向膜を構成することにより、第1の配向膜を光配向処理する際に第2の配向膜が光分解反応することを防止することができる。第1の配向膜は、光分解反応を生じる材料を用いて形成された配向膜を光配向処理することによって形成することができる。光分解反応を生じる材料としては、特に限定されず、当該技術分野において公知の材料を用いることができる。その中でも、光分解反応を生じる材料は、配向安定性の観点から、下記の一般式1で表される構成単位を有するポリイミドであることが好ましい。式中、R1~R4は、それぞれ独立して水素原子、フッ素原子、又は炭素数1~6のアルキル基若しくはアルコキシ基を表す。上記のような構成単位を有するポリイミドは、下記の一般式3で表される二酸無水物とジアミンとを用いた重合反応によって形成することができる。二酸無水物の具体例としては、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物CBDA、1,2-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-テトラメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらは、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。ジアミンの具体例としては、p-フェニレンジアミン、4,4’-オキシジアニリン、4,4’-ジアミノジフェニルアミン、2,4-ジアミノジフェニルアミン、1,4-ジアミノシクロヘキサン、1,3-ジアミノシクロヘキサン、4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルジシクロヘキシルアミン、イソホロンジアミン、o-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、2,4-ジアミノトルエン、1,4-ジアミノ-2-メトキシベンゼン、1,3-ジアミノ-4-クロロベンゼン、1,4-ジアミノ-2,5-ジクロロベンゼン、1,3-ジアミノ-4-イソプロピルベンゼン、4,4’-ジアミノジフェニル-2,2’-プロパン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2’-ジアミノスチルベン、4,4’-ジアミノスチルベン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジフェニルチオエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノ安息香酸フェニルエステル、2,2’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンジル、ビス4-アミノフェニルホスフィンオキシド、ビス3-アミノフェニルメチルスルフィンオキシド、ビス4-アミノフェニルフェニルホスフィンオキシド、ビス4-アミノフェニルシクロヘキシルホスフィンオキシド、N,N’-ビス4-アミノフェニル-N-フェニルアミン、N,N-ビス4-アミンフェニル-N-メチルアミン、4,4’-ジアミノジフェニル尿素、1,8-ジアミノナフタレン、1,5-ジアミノナフタレン、1,5-ジアミノアントラキノン、ジアミノフルオレン、ビス4-アミノフェニルジエチルシラン、ビス4-アミノフェニルジメチルシラン、ビス4-アミノフェニルテトラメチルジシロキサン、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ベンジジン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]プロパン、ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]スルホン、4,4’-ビス4-アミノフェノキシビフェニル、2,2-ビス[4-4-アミノフェノキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン、1,4-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、1,3-ビス4-アミノフェノキシベンゼン、2,6-ジアミノピリジン、2,4-ジアミノピリジン、2,4-ジアミノ-s-トリアジン、2,7-ジアミノジベンゾフラン、2,7-ジアミノカルバゾール、3,7-ジアミノフェノチアジン、2,5-ジアミノ-1,3,4-チアジアゾール、2,4-ジアミノ-6-フェニル-s-トリアジン、ジアミノメタン、1,2-ジアミノエタン、1,3-ジアミノプロパン、1,4-ジアミノブタン、1,6-ジアミノヘキサン、1,7-ジアミノヘプタン、1,8-ジアミノオクタン、1,9-ジアミノノナン、1,10-ジアミノデカン、1,3-ジアミノ-2,2-ジメチルプロパン、1,4-ジアミノ-2,2-ジメチルブタン、1,6-ジアミノ-2,5-ジメチルヘキサン、1,7-ジアミノ-2,5-ジメチルヘプタン、1,7-ジアミノ-4,4-ジメチルヘプタン、1,7-ジアミノ-3-メチルヘプタン、1,9-ジアミノ-5-メチルノナン、2,11-ジアミノドデカン、1,12-ジアミノオクタデカン、1,2-ビス3-アミノプロポキシエタン等が挙げられる。これらは、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。二酸無水物とジアミンは、有機溶剤中で混合することにより反応してポリアミック酸とすることができ、このポリアミック酸を脱水閉環させることによりポリイミドとすることができる。二酸無水物とジアミンとを有機溶媒中で混合させる方法としては、特に限定されず、ジアミンを有機溶媒に分散あるいは溶解させた溶液を攪拌させ、二酸無水物をそのまま、又は有機溶媒に分散あるいは溶解させて添加する方法、逆に二酸無水物を有機溶媒に分散あるいは溶解させた溶液にジアミンを添加する方法、二酸無水物とジアミンとを交互に添加する方法等を用いることができる。二酸無水物とジアミンとを有機溶剤中で反応させる際の温度は、特に限定されないが、一般に0~150°C、好ましくは5~100°C、より好ましくは10~80°Cである。また、反応は任意の濃度で行うことができるが、濃度が低すぎると反応に時間がかかりすぎてしまう。一方、濃度が高すぎると反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な攪拌が困難となる。そのため、濃度は、一般に1~50質量、好ましくは5~30質量である。上記反応の際に用いられる有機溶媒は、生成したポリアミック酸が溶解するものであれば特に限定されない。有機溶媒の具体例としてはN,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、N-メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン等が挙げられる。これらは、単独又は2種以上を混合して用いることができる。ポリアミック酸の重合反応に用いる二酸無水物とジアミンとの比率は、特に限定されないが、モル比で一般に1:0.8~1:1.2である。ポリアミック酸を脱水閉環させるイミド化反応は、ポリアミック酸の溶液をそのまま加熱する熱イミド化、ポリアミック酸の溶液に触媒を添加する化学的イミド化が一般的であるが、比較的低温でイミド化反応が進行する化学的イミド化の方が好ましい。化学的イミド化は、ポリアミック酸を有機溶媒中において、塩基性触媒と酸無水物の存在下で攪拌することにより行うことができる。このときの反応温度は一般的に-20~250°C、好ましくは0~180°Cであり、反応時間は一般に1~100時間である。塩基性触媒の量はアミック酸基の0.5~30モル倍、好ましくは2~20モル倍であり、酸無水物の量はアミック酸基の1~50モル倍、好ましくは3~30モル倍である。塩基性触媒や酸無水物の量が少ないと反応が十分に進行せず、また多すぎると反応終了後に完全に除去することが困難となる。この時に用いる塩基性触媒としては、ピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン等を挙げることができ、中でもピリジンは反応を進行させるのに適度な塩基性を持つので好ましい。また、酸無水物としては、無水酢酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等を挙げることができる。中でも無水酢酸を用いると反応終了後の精製が容易となるので好ましい。有機溶媒としては前述したポリアミック酸合成時に用いる溶媒を使用することができる。化学的イミド化によるイミド化率は、触媒量と反応温度、反応時間を調節することにより制御することができる。第1の配向膜の形成には、原料二酸無水物及びジアミンを有機溶媒に添加した溶液を液晶配向剤として使用することができる。或いは、上記のようにして得られるポリアミック酸又はポリイミドの反応溶液を液晶配向剤として用いてもよい。液晶配向剤の固形分濃度は、特に限定されないが、一般に1~10質量である。固形分濃度が1質量未満であると、均一で欠陥のない配向膜を形成させることが困難となることがある。一方、10質量よりも多いと、液晶配向剤の保存安定性が悪くなることがある。第1の配向膜は、上記のような液晶配向剤を用い、下記で説明する第2の配向膜上に塗布した後、乾燥及び焼成して塗膜とし、この塗膜に光配向処理を行う。液晶配向剤の塗布方法としては、特に限定されず、スピンコート法、印刷法、インクジェット法等を用いることができる。液晶配向剤を塗布した後の乾燥の工程は、必ずしも必要とされないが、塗布後~焼成までの時間が基板ごとに一定していない場合や、塗布後直ちに焼成されない場合には、乾燥工程を含める方が好ましい。この乾燥は、塗膜形状が変形しない程度に溶媒を蒸発させれば良く、その乾燥手段については特に限定されない。一般に、50~150°C、好ましくは80~120°Cのホットプレート上で、0.5~30分、好ましくは1~5分乾燥させればよい。液晶配向剤の焼成温度は、特に限定されないが、一般に100~350°C、好ましくは150°C~300°Cであり、より好ましくは200°C~250°Cである。光配向処理としては、特に限定されず、当該技術分野において公知の方法を用いることができる。具体的には、基板に対して一定の方向から偏光板を介して偏光された紫外線を照射すればよい。使用する紫外線の波長としては、特に限定されないが、一般に100nm~400nm、好ましくは230~280nmである。また、紫外線の照射時間も特に限定されないが、一般に0.5~100J/cm2である。さらに、紫外線の照射時間も特に限定されないが、一般に数秒から数時間の範囲である。上記の一般式1で表される構成単位を有するポリイミドは、偏光された紫外線が照射されると、当該紫外線と平行方向にあるポリイミドは、以下のような光分解反応が起る。他方、当該紫外線と垂直方向にあるポリイミドは、以下のような光分解反応は起らず、そのままの状態で残存する。紫外線と平行方向にあるポリイミドのみを光分解反応させることにより、第1の配向膜に一軸性異方性を付与することができ、液晶分子の配向制御を行うことが可能となる。このようにして形成される第1の配向膜の厚さは、特に限定されないが、一般に5~100nm、好ましくは10~50nmである。第1の配向膜の厚さが5nm未満であると、液晶分子の配向制御を十分に行うことができないことがある。一方、第1の配向膜の厚さが100nmを超えると、配向膜全体の厚さが厚くなりすぎ、液晶表示装置の駆動電圧が高くなることがある。第2の配向膜は、光分解反応を生じない材料を用いて形成することができる。光分解反応を生じない材料としては、特に限定されず、当該技術分野において公知の材料を用いることができる。その中でも、光分解反応を生じない材料は、下記の一般式2で表される構成単位を有するポリイミドであることが好ましい。上記のような構成単位を有するポリイミドは、下記の一般式4で表される二酸無水物とジアミンとを用いた重合反応によって形成することができる。ジアミンの種類及び二酸無水物とジアミンとの重合反応は、第1の配向膜の場合と同様であるので、説明を省略する。第2の配向膜は、第1の配向膜の光配向処理による紫外線に曝されても、光分解反応を生じないため、第2の配向膜を構成する材料ポリイミドの分子量が低下することはない。従って、第2の配向膜の分子量は、第1の配向膜の分子量に比べて大きい。これにより、液晶分子がスイッチングしても第2の配向膜が動き難くなり、第1の配向膜の動きを抑制することができる。その結果、AC残像に起因する黒表示時の光漏れを抑制することが可能になる。このようにして形成される第2の配向膜の厚さは、特に限定されないが、一般に20~200nm、好ましくは50~90nmである。第2の配向膜の厚さが20nm未満であると、画素電極やTFT等による微細な段差構造を十分に被覆することができず、第2の配向膜が形成し難くなることがある。一方、第2の配向膜の厚さが200nmを超えると、配向膜全体の厚さが厚くなりすぎ、液晶表示装置の駆動電圧が高くなることがある。第2の配向膜に対する第1の配向膜の膜厚比は、0.5以下、好ましくは0.1~0.5である。当該膜厚比が0.5を超えると、液晶分子のスイッチングによる第1の配向膜の動きを第2の配向膜が抑制する効果が小さくなり、AC残像を十分に防止できなくなる。また、第1の配向膜と第2の配向膜との合計膜厚が厚くなりすぎ、液晶表示装置の駆動電圧が増加してしまう。一方、該当膜厚比が0.1未満になると、第1の配向膜が薄くなりすぎてしまい、液晶分子の配向制御性が低下することがある。上記では、第1の配向膜と第2の配向膜とを別々に形成する方法を説明したが、第1の配向膜を与える材料と第2の配向膜を与える材料とを含む液晶配向剤を用い、第1の配向膜及び第2の配向膜を同時に形成してもよい。例えば、第2の配向膜が親水性且つ高極性となるように分子設計すれば、基板TFT基板1及び対向基板2側に第2の配向膜、液晶層4側に第1の配向膜を形成することができる。第2の配向膜を親水性且つ高極性にする方法としては、特に限定されず、当該技術分野において公知の方法を用いることができる。例えば、第2の配向膜を与える材料に-OH基や-COOH基等の官能基を導入すればよい。第1の配向膜及び第2の配向膜を同時に形成する場合、第1の配向膜を与える材料と第2の配向膜を与える材料とを含む液晶配向剤を基板に塗布した後、乾燥及び焼成して塗膜とし、この塗膜に光配向処理を行えばよい。このときの条件は、第1の配向膜と第2の配向膜とを別々に形成する方法の場合と同様であるので、説明を省略する。液晶層4に用いられる液晶成分としては、特に限定されないが、2種以上の液晶成分を含む混合液晶であることが好ましい。この混合液晶は、使用用途にあわせて所望の物性例えば、屈折率異方性、誘電率異方性、粘度、相転位温度等を満たすように幾つかの液晶成分を混合することによって調製されるため、一義的に定義することは難しいが、フッ素系混合液晶やシアノ系混合液晶等と一般的に称される混合液晶であり得る。これらの中でも、現在、液晶表示装置に一般的に使用されているフッ素系混合液晶を用いることが好ましい。ここで、本明細書においてフッ素系混合液晶とは、1種以上のフッ素系液晶を含む混合液晶を意味し、シアノ系混合液晶とは、1種以上のシアノ系液晶を含む混合液晶を意味する。上記の混合液晶は、一般的に公知であると共に商業的に利用可能であり、例えば、フッ素系混合液晶は、ZLI-4792p型やMLC-6608n型という商品名でメルク株式会社によって販売されている。また、シアノ系混合液晶は、JC-5066XXp型という商品名でチッソ石油化学株式会社によって販売されている。TFT基板1と対向基板2との間に液晶層を挟持させる方法としては、特に限定されず、当該技術分野において公知の方法に準じて行うことができる。例えば、ODF液晶滴下注入法や毛細管現象を利用する真空注入法を用いればよい。このようにして得られる本発明の液晶表示装置は、配向膜を2層構造とし、光分解反応を生じない材料を用いて下層の配向膜第2の配向膜を構成すると共に、上層の配向膜第1の配向膜の膜厚と下層の配向膜第2の配向膜の膜厚との比率を適切な範囲に規定しているので、AC残像を起因とする黒表示時の光漏れを防止してコントラストを高くすることができる。以下、実施例により本発明の詳細を説明するが、これらによって本発明が限定されるものではない。実施例11,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物CBDAと4,4’-オキシジアニリンとを1:1のモル比で有機溶媒に添加して混合し、第1の配向膜用の液晶配向剤を得た。この液晶配向剤の固形分濃度は5質量である。他方、ピロメリット酸二無水物とp-フェニレンジアミンとを1:1のモル比で有機溶媒に添加して混合し、第2の配向膜用の液晶配向剤を得た。この液晶配向剤の固形分濃度は5質量である。次に、TFT基板及び対向基板の一面に、スピンコート法を用いて第2の配向膜用の液晶配向剤を塗布した後、80°Cのホットプレート上で3分間乾燥させ、オーブンを用いて230°Cで1時間焼成することによって第2の配向膜を形成した。形成された第2の配向膜の厚さは、50nmであった。次に、第2の配向膜の表面上に、スピンコート法を用いて第1の配向膜用の液晶配向剤を塗布した後、80°Cのホットプレート上で3分間乾燥させ、オーブンを用いて230°Cで1時間焼成することによって第1の配向膜を形成した。形成された第1の配向膜の厚さは10nmであった。次に、第1の配向膜及び第2の配向膜が形成されたTFT基板及び対向基板に対して、一定の方向から偏光板を介して偏光された紫外線波長:254nmを1J/cm2の照射量で照射することによって第1の配向膜の光配向処理を行った。次に、TFT基板と対向基板との間にフッ素系混合液晶ZLI-4792P型、メルク株式会社を液晶滴下注入法によって導入し、液晶セルを作製した。実施例2液晶配向剤の塗布量を制御することによって、第1の配向膜の厚さを30nm、第2の配向膜の厚さを60nmとしたこと以外は実施例1と同様にして液晶セルを作製した。比較例1TFT基板及び対向基板の一面に、第1の配向膜のみを形成して光配向処理を行ったこと以外は実施例1と同様にして液晶セルを作製した。ここで、第1の配向膜の厚さは50nmとした。上記の実施例及び比較例で得られた液晶セルについて、輝度計株式会社トプコン製、BM-5を用い、初期状態交流電圧を印加して駆動させる前の状態の輝度を測定した。次に、交流AC電圧を印加して駆動させた後、電圧をOFFにし、輝度計を用いて駆動後の輝度を測定した。その結果、実施例1及び2の液晶セルでは、駆動後の輝度が初期状態の輝度とほとんど同じで、AC残像の発生を抑制することができた。これに対し、比較例1の液晶セルでは、駆動後の輝度が初期状態の輝度から大きく変化し、AC残像が生じた。従って、実施例1及び2の液晶セルは、黒表示時の光漏れを抑制することができる。以上の結果からわかるように、本発明によれば、AC残像を起因とする黒表示時の光漏れを防止し、コントラストの高い液晶表示装置を提供することができる。"