"式I:式中、L1は、結合、O、S、CH2、NR4、NHCOCH2n、CH2nCONH、NHCONH、SO2NH、NHSO2、NHCOO、-O-CH2n、-CH2n-O-、-OCONH-、CSNH、NHCS、NHCSNHまたは-COO-式中、nは、0または1~2の整数であるから選択され;R1は、水素、C1-C6アルキル、ヒドロキシル、C1-C6アルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、ハロゲノC1-C6アルキル、C5-C12アリール、C6-C12ヘテロアリール、C3-C6シクロアルキル式中、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルは、場合により、R5から独立して選択される1個またはそれ以上の置換基で置換されるから選択され;R2は、CHOまたはSO2C1-6アルキルであり;R3は、非置換もしくは置換ヘテロアリールまたは-OCONHR’式中、R’は、C6-C12アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキルであり、これらはそれぞれ、場合により、R5から独立して選択される1個またはそれ以上の置換基で置換されるであり;R4は、HまたはC1-6アルキルであり;R5は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、ハロゲノ-C1-C6アルキル、ハロゲノ-C1-C6アルコキシ、アジド、チオール、アルキルチオール、-CH2n-ORf、-C=O-Rf、-COORf、-NRfRq、-CH2n-C=ONRfRq、-CH2n-NHC=O-Rf、-CH2n-O-C=O-NRfRq、CH2nNHC=ONRfRq,、-CH2n-O-C=O-Rf、-CH2n-NH-C=O-Rfまたは-CH2nS=Om-NRfRq{式中、RfおよびRqは、水素、アルキル、アルケニル、シクロアルキルアリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアルキルヘテロシクリルから独立して選択され、nは、先に定義した通りであり、mは、0~2の整数である}から選択されるの化合物、そのラセミ体、鏡像異性体、もしくはジアステレオマー;またはそれらの製薬学的に許容し得る塩。2-[ホルミル4’-メチルビフェニル-4-イルアミノ]-4-6-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号1;4-7-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[ホルミル4’-メチルビフェニル-4-イルアミノ]ブタン酸化合物番号2;2-[4’-エチルビフェニル-4-イルホルミルアミノ]-4-5-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号3;O-[4-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イルホモセリン化合物番号4;N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イル-O-[4-メチルフェニルカルバモイル]ホモセリン化合物番号5;O-[3,4-ジクロロフェニルカルバモイル]-N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イルホモセリン化合物番号6;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-{[4-プロパン-2-イルフェニル]カルバモイル}ホモセリン化合物番号7;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-O-[3-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミルホモセリン化合物番号8;O-[2,4-ジフルオロフェニルカルバモイル]-N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミルホモセリン化合物番号9;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-O-[2-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミルホモセリン化合物番号10;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-{[4-トリフルオロメチルフェニル]カルバモイル}ホモセリン化合物番号11;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-[2-メチルフェニルカルバモイル]ホモセリン化合物番号12;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-O-[4-エチルフェニルカルバモイル]-N-ホルミルホモセリン化合物番号13;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-[4-メトキシフェニルカルバモイル]ホモセリン化合物番号14;O-[2,6-ジクロロフェニルカルバモイル]-N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミルホモセリン化合物番号15;2-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸化合物番号16;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号17;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号18;2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号19;4-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号20;2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号21;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号22;4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号23;4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号24;2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号25;2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号26;2-[3’,4’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号27;2-[4’-エチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号28;2-{[4-2-メトキシピリミジン-5-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号29;2-[3’-フルオロ-4’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号30;2-[2’,4’-ジメトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号31;2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号32;4-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号33;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号34;2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインド-2-イルブタン酸化合物番号35;4-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号36;4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号37;2-[3’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号38;2-[4’-フルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号39;2-{メチルスルホニル[4’-プロパン-2-イルビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号40;2-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号41;2-{[4-6-メチルピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号42;2-{メチルスルホニル[4-ピリミジン-5-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号43;2-{メチルスルホニル[4-ピリジン-3-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号44;2-{メチルスルホニル[4’-トリフルオロメチルビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号45;2-{メチルスルホニル[4-ピリジン-4-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号46;2-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号47;2-[4’-tert-ブチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号48;2-[2’,3’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号49;2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号50;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタン酸化合物番号51;4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタン酸化合物番号52;4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタン酸化合物番号53;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号54;2-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸化合物番号55;2-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号56;2-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号57;2-[メチルスルホニルフェニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号58;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸化合物番号59;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号60;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-7-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号61;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号62;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号63;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号64;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-フルオロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号65;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-1-メチル-2,4-ジオキソ-1,4-ジヒドロキナゾリン-32H-イルブタン酸化合物番号66;4-{メチルスルホニル[1-オキソ-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-1-プロパ-2-エン-1-イルオキシブタン-2-イル]アミノ}安息香酸化合物番号67;2-[{4-[4-メチルフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号68;2-[{4-[4-クロロフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号69;2-{メチルスルホニル[4-フェニルカルバモイルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号70;2-[{4-[3-フルオロフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号71;2-[メチルスルホニル4-{[4-プロパン-2-イルフェニル]カルバモイル}フェニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号72;2-[{4-[4-メトキシフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号73;2-[{4-[4-フルオロフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号74;2-[メチルスルホニル4-{[4-トリフルオロメチルフェニル]カルバモイル}フェニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号75;2R-2-[4’-フルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号76;2R-2-{メチルスルホニル[4-ピリミジン-5-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号77;2R-2-{メチルスルホニル[4’-プロパン-2-イルビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号78;2R-2-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号79;2R-2-[3’,4’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号80;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号81;2R-2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号82;2R-2-[3’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号83;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号84;2R-2-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号85;2R-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号86;2S-2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号87;2S-2-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号88;2S-2-[3’-フルオロ-4’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号89;2S-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号90;2R-2-[3’,4’-ジメトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号91;2R-2-{[4-2,3-ジヒドロ-1,4-ベンゾジオキシン-6-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号92;2R-2-[4’-メトキシ-3’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号93;2R-2-[4’-フルオロ-3’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号94;2R-2-{メチルスルホニル[4’-トリフルオロメトキシビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号95;2R-2-{[4’-クロロ-3’-トリフルオロメチルビフェニル-4-イル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号96;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号97;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-8-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号98;2R-4-7-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号99;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号100;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-6-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号101;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-8-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号102;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-6-フルオロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号103;4-5-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号104;2-[4-ブロモフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号105;2-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号106;2-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号107;2-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号108である、式Iの化合物、そのラセミ体、もしくはジアステレオマー;またはそれらの製薬学的に許容し得る塩。治療有効量の請求項1および2に記載の化合物と、1種またはそれ以上の製薬学的に許容し得る担体、賦形剤または希釈剤とを一緒に含有する、医薬組成物。炎症性疾患もしくはアレルギー性疾患を患う動物もしくはヒトの処置または予防における使用のための、請求項1および2に記載の化合物。炎症性疾患またはアレルギー性疾患が、喘息、関節リウマチ、COPD、鼻炎、変形性関節炎、乾癬性関節炎、乾癬、肺線維症、肺炎症、急性呼吸困難症候群、歯周炎、多発性硬化症、歯肉炎、アテローム性動脈硬化症、ドライアイ、新生内膜増殖であって再狭窄および虚血性心不全に関連する新生内膜増殖、脳卒中、腎臓疾患、腫瘍転移である、請求項4に記載の化合物。請求項3に記載の医薬組成物であって:a抗炎症薬であって、i非ステロイド性抗炎症薬ピロキシカム、ジクロフェナク、プロピオン酸類、フェナム酸類、ピラゾロン類、サリチル酸類、PDE-4阻害剤、p38MAPキナーゼ/カテプシン阻害剤、iiロイコトリエン類LTC4/LTD4/LTE4/LTB4-阻害剤、5-リポキシゲナーゼ阻害剤およびPAF-受容体アンタゴニスト、iiiCox-2阻害剤、ivその他のMMP阻害剤、およびvインターロイキン-I阻害剤から選択される抗炎症薬;b降圧薬であって、iエナラプリル、リシノプリル、バルサルタン、テルミサルタンおよびキナプリルのようなACE阻害剤、iiアンギオテンシンII受容体アンタゴニストおよびアゴニスト、ロサルタン、カンデサルタン、イルベサルタン、バルサルタン、およびエプロサルタン、iiiβ遮断薬、およびivカルシウムチャネル遮断薬から選択される降圧薬;c免疫抑制剤であって、シクロスポリン、アザチオプリンおよびメトトレキセート、および抗炎症性コルチコステロイド類から選択される免疫抑制剤;から選択される1種またはそれ以上の追加の有効成分をさらに含有する、請求項3に記載の医薬組成物。式10R3がヘテロアリールであり、L1が結合であり、R2がCHOであり、R1が置換アリールまたはヘテロアリールである場合の式1および式13R3が-OCONHR’であり、L1が結合であり、R2がCHOであり、R1が置換アリールまたはヘテロアリールである場合の式1の化合物の製造方法であって、a4-ブロモ-4-ニトロベンゼンを式2の化合物と反応させて式3の化合物を得ること;b式3の化合物を還元して式4の化合物を得ること;c式4の化合物をα-ブロモラクトンと反応させて式5の化合物を得ること;d式5の化合物をホルミル化して式6の化合物を得ること;e式6の化合物を開環して式7の化合物を得ること;f式7の化合物を式8の化合物と反応させて式9の化合物を得ること;g式9の化合物を脱保護して式10の化合物を得ること;またはh式7の化合物を式11の化合物と反応させて式12の化合物を得ること;i式12の化合物を脱保護して式13の化合物を得ること;式中、は、アリールまたはヘテロアリール環であり;R6は、水素、アルキル、ハロゲン、アルコキシまたはハロゲノ-C1-C6アルキルであり;Rpは、メチル、エチル、アリル、ベンジル、t-ブチル、シリル、BOC無水物などのカルボキシ保護基であり;は、ヘテロアリール環であり;R’は、C6-C12アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキルであり、これらはそれぞれ、場合により、R5から独立して選択される1個またはそれ以上の置換基で置換され;R5は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、ハロゲノ-C1-C6アルキル、ハロゲノ-C1-C6アルコキシ、アジド、チオール、アルキルチオール、-CH2n-ORf、-C=O-Rf、-COORf、-NRfRq、-CH2n-C=ONRfRq、-CH2n-NHC=O-Rf、-CH2n-O-C=O-NRfRq、CH2nNHC=ONRfRq,、-CH2n-O-C=O-Rf、-CH2n-NH-C=O-Rfまたは-CH2nS=Om-NRfRq{式中、RfおよびRqは、水素、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアルキルヘテロシクリルから独立して選択され;nは、0または1~2の整数であり得、mは、0~2の整数である}であるを含む、製造方法。式20R3がヘテロアリールであり、L1が結合であり、R2がSO2-C1-6-アルキルであり、R1が置換アリールまたはヘテロアリールである場合の式1の化合物の製造方法であって、a式14の化合物をα位でハロゲン化して式15の化合物を得ること;b式15の化合物を保護して式16の化合物を得ること;c式16の化合物を式17式中、Rkは、ハロゲンであるの化合物と反応させて式18の化合物を得ること;d式18の化合物を式2の化合物とカップリングして式19の化合物を得ること;e式19の化合物を脱保護して式20の化合物を得ること;またはf式16の化合物を式17式中、Rkは、R6で置換されたアリール/ヘテロアリールであるの化合物と反応させて式19の化合物を得ること;g式19の化合物を脱保護して式20の化合物を得ること;式中、は、ヘテロアリール環であり;Rpは、メチル、エチル、アリル、ベンジル、t-ブチル、シリル、BOC無水物などのカルボキシ保護基であり;R5は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、ハロゲノ-C1-C6アルキル、ハロゲノ-C1-C6アルコキシ、アジド、チオール、アルキルチオール、-CH2n-ORf、-C=O-Rf、-COORf、-NRfRq、-CH2n-C=ONRfRq、-CH2n-NHC=O-Rf、-CH2n-O-C=O-NRfRq、CH2nNHC=ONRfRq,、-CH2n-O-C=O-Rf、-CH2n-NH-C=O-Rfまたは-CH2nS=Om-NRfRq{式中、RfおよびRqは、水素、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアルキルヘテロシクリルから独立して選択され;nは、0または1~2の整数であり得、mは、0~2の整数である}であり;Halは、F、Cl、Br、Iであり;Akは、C1-6アルキルであり;は、アリールまたはヘテロアリール環であり;R6は、水素、アルキル、ハロゲン、アルコキシまたはハロゲノ-C1-C6アルキルであるを含む、製造方法。式26bR3がヘテロアリールであり、L1が結合であり、R2がSO2-C1-6-アルキルであり、R1がOR6’で置換されたアリール/ヘテロアリールである場合の式1および式29R3がヘテロアリールであり、L1が結合であり、R2がSO2-C1-6-アルキルであり、R1がハロゲン/水素、アルコキシ/アリールオキシである場合の式1の化合物の製造方法であって、a式17aの化合物をαヒドロキシラクトンと反応させて式21の化合物を得ること;b式21の化合物を開環して式22の化合物を得ること;c式22の化合物のカルボキシル基を保護して式23の化合物を得ること;d式23式中、Rk’は、ハロゲンであるの化合物のヒドロキシル基を保護して式24の化合物を得ること;e式24の化合物を式24aの化合物とカップリングして式25の化合物を得ること;f式25の化合物を脱保護して式26の化合物を得ること;g式26の化合物を式27の化合物と反応させて式26aの化合物を得ること;h式26aの化合物を脱保護して式26bの化合物を得ること;またはi式23式中、Rk’は、アルコキシ/アリールオキシ/ハロゲン/水素であるの化合物を式27の化合物と反応させて式28の化合物を得ること;j式28の化合物を脱保護して式29の化合物を得ること;式中、Akは、C1-6アルキルであり;Rpは、メチル、エチル、アリル、ベンジル、t-ブチル、シリル、BOC無水物などのカルボキシ保護基であり;Rp’は、ベンゾイル、シリル基tert-ブチルジメチルシリル、トリメチルシリル、tert-ブチルジメチルシリルオキシメチル、トリイソプロピルシリルなどのヒドロキシル保護基であり;は、ヘテロアリール環であり;Rk’は、水素、ハロゲン、アルコキシ、アリールオキシ、アリール、カルボキシであり;R5は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、ハロゲノ-C1-C6アルキル、ハロゲノ-C1-C6アルコキシ、アジド、チオール、アルキルチオール、-CH2n-ORf、-C=O-Rf、-COORf、-NRfRq、-CH2n-C=ONRfRq、-CH2n-NHC=O-Rf、-CH2n-O-C=O-NRfRq、CH2nNHC=ONRfRq,、-CH2n-O-C=O-Rf、-CH2n-NH-C=O-Rfまたは-CH2nS=Om-NRfRq{式中、RfおよびRqは、水素、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアルキルヘテロシクリルから独立して選択され;nは、0または1~2の整数であり得、mは、0~2の整数である}であり、は、アリールまたはヘテロアリール環であり;OR6’のR6’は、水素、アルキル、ハロゲン、アルコキシまたはハロゲノ-C1-C6アルキルであるを含む、製造方法。式31R3がヘテロアリールであり、L1が結合であり、R2がSO2-C1-6-アルキルであり、R1がハロゲンで置換されたアリール/ヘテロアリールである場合の式1および式研究が、例えば、数種のMMPサブタイプに対して選択性である阻害剤の同定について行われている。改良された選択性をもつMMP阻害剤は、処置される疾患の病因に関与していないMMP類の阻害に伴う潜在的な副作用を回避するであろう。また、より選択性のMMP阻害剤の使用は、多数のMMPの間で、別の方法で必要とされ、投与後に生体内で分配されるよりも少ない量の疾患処置用の阻害剤の投与を必要とするであろう。さらにまた、より少ない量の化合物の投与は、治療活性に必要とされる阻害剤の用量と、毒性が認められる阻害剤の用量との間の安全性の限界を高めるであろう。多くの薬物は、不斉三次元分子、すなわちキラルとして存在し、したがって、存在するキラル中心の数に応じていくつかの立体異性体を有するであろう。キラル中心を有する新たな化学物質を単一の異性体として評価することの重要性は、薬理学的および毒物学的な観点に対するその影響を理解することにある。鏡像異性体/ジアステレオマーの間には、薬力学的相違、薬物動態的相違および/または毒性学的相違が存在する場合が多い。たとえ天然の生理学的メディエータがアキラルであるとしても、その標的環境に基づいて、その受容体/酵素は、アゴニスト、アンタゴニストまたは阻害剤の唯一の光学的に純粋な鏡像異性体に対する選好を実証し得る。薬物動態の観点から、キラリティーは、薬物の吸収、分布、代謝および排泄に影響を及ぼし得る。純粋な単一の異性体は、また、これらの薬物動態パラメーターの観点から利点を提供し得るため、薬物候補としてのこのような分子の開発可能性をより良くすることができる。キラリティーは、キラル分子の物理化学的特性および結晶性に著しい影響を及ぼし、そして、これらが分子の薬物動態および開発可能性に重大な影響を及ぼすことも知られている。前述の事柄の他に、望ましくない異性体と望ましくない分子標的との相互作用により生じ得る薬理学的な問題、薬物動態的な問題および毒性学的な問題を回避するために、調節原理に基づいて、薬物候補として単一の異性体を開発することが好ましい。これに関連して、純粋な単一の異性体を製造するための合成法は、費用および効率の観点ばかりではなく、多量の化合物を入念な薬剤試験のために調製できるという観点でも、異性体の分離の分析法に勝る利点を提供する。したがって、単一のキラル異性体である本発明の化合物は、ラセミ化合物に比べて改善された効能、改善された薬物動態および/または改善された物理化学的性質を有する。本発明は、当技術分野で遭遇する問題を克服することを対象とする。発明の概要本発明は、マトリックスメタロプロテイナーゼ阻害剤としてメチルスルホンアミドおよびホルムアミド誘導体、本発明の化合物の対応する合成方法および本発明の化合物を含有する医薬組成物を提供する。本発明は、該化合物を使用した種々の炎症性疾患、自己免疫疾患およびアレルギー疾患、ならびにマトリックスメタロプロテイナーゼの過剰発現および過剰活性化に特徴があるその他の炎症性疾患の処置において有効な治療または予防薬として有用なマトリックスメタロプロテイナーゼ阻害剤に関する。本発明は、二重MMP-9/12阻害剤であり、望ましい活性プロファイルを有する新規のクラスの化合物を開示する。本発明の化合物は、有益な効能および/または選択性を有する。このような化合物を含有する医薬組成物は、炎症性疾患および自己免疫疾患の処置または予防に使用できる、製薬学的に許容し得る担体または希釈剤と一緒に提供される。これらの医薬組成物は、例えば、経口、局所、直腸、鼻腔内または非経口経路などの多種多様な経路によって投与または同時投与し得る。組成物は、持続放出剤形でも投与または同時投与し得る。例として具体的な鏡像異性体を示したが、ラセミ体、ジアステレオマー、および製薬学的に許容し得る塩も提供される。これらの化合物、その鏡像異性体、ラセミ体、ジアステレオマー、および製薬学的に許容し得る塩を含有する医薬組成物も包含される。治療有効量の1種またはそれ以上の本発明の化合物は、1種またはそれ以上のその他の治療剤、例えば、その他の抗炎症薬、降圧剤および免疫抑制剤と併用できる。その他の目的は説明に伴って記載し、当該部分において当該説明から明らかであるか、または本発明の実施によってなされ得る。発明の詳細な説明一つの態様によれば、式1の構造を有する化合物、そのラセミ体、鏡像異性体、もしくはジアステレオマー;またはそれらの製薬学的に許容し得る塩が提供される。式1式中、L1は、結合、O、S、CH2、NR4、NHCOCH2n、CH2nCONH、NHCONH、SO2NH、NHSO2、NHCOO、-O-CH2n、-CH2n-O-、-OCONH-、CSNH、NHCS、NHCSNHまたは-COO-式中、nは、0または1~2の整数であり得るから選択でき;R1は、水素、C1-C6アルキル、ヒドロキシル、C1-C6アルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、ハロゲノC1-C6アルキル、C5-C12アリール、C6-C12ヘテロアリール、C3-C6シクロアルキル式中、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルは、場合により、R5から独立して選択される1個またはそれ以上の置換基で置換されるから選択でき;R2は、CHOまたはSO2C1-6アルキルであり得;R3は、非置換もしくは置換ヘテロアリールまたは-OCONHR’式中、R’は、C6-C12アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキルであり、これらはそれぞれ、場合により、R5から独立して選択される1個またはそれ以上の置換基で置換されるであり得;R4は、HまたはC1-6アルキルであり得;R5は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、ハロゲノ-C1-C6アルキル、ハロゲノ-C1-C6アルコキシ、アジド、チオール、アルキルチオール、-CH2n-ORf、-C=O-Rf、-COORf、-NRfRq、-CH2n-C=ONRfRq、-CH2n-NHC=O-Rf、-CH2n-O-C=O-NRfRq、CH2nNHC=ONRfRq、-CH2n-O-C=O-Rf、-CH2n-NH-C=O-Rfまたは-CH2nS=Om-NRfRq{式中、RfおよびRqは、水素、アルキル、アルケニル、シクロアルキルアリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアルキルヘテロシクリルから独立して選択され、nは、先に定義した通りであり、mは、0~2の整数である}から選択できる一つの態様において、本発明は、例えば、2-[ホルミル4’-メチルビフェニル-4-イルアミノ]-4-6-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号1;4-7-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[ホルミル4’-メチルビフェニル-4-イルアミノ]ブタン酸化合物番号2;2-[4’-エチルビフェニル-4-イルホルミルアミノ]-4-5-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号3;O-[4-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イルホモセリン化合物番号4;N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イル-O-[4-メチルフェニルカルバモイル]ホモセリン化合物番号5;O-[3,4-ジクロロフェニルカルバモイル]-N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イルホモセリン化合物番号6;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-{[4-プロパン-2-イルフェニル]カルバモイル}ホモセリン化合物番号7;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-O-[3-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミルホモセリン化合物番号8;O-[2,4-ジフルオロフェニルカルバモイル]-N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミルホモセリン化合物番号9;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-O-[2-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミルホモセリン化合物番号10;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-{[4-トリフルオロメチルフェニル]カルバモイル}ホモセリン化合物番号11;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-[2-メチルフェニルカルバモイル]ホモセリン化合物番号12;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-O-[4-エチルフェニルカルバモイル]-N-ホルミルホモセリン化合物番号13;N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-[4-メトキシフェニルカルバモイル]ホモセリン化合物番号14;O-[2,6-ジクロロフェニルカルバモイル]-N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミルホモセリン化合物番号15;2-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸化合物番号16;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号17;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号18;2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号19;4-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号20;2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号21;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号22;4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号23;4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号24;2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号25;2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号26;2-[3’,4’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号27;2-[4’-エチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号28;2-{[4-2-メトキシピリミジン-5-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号29;2-[3’-フルオロ-4’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号30;2-[2’,4’-ジメトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号31;2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号32;4-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号33;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号34;2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインド-2-イルブタン酸化合物番号35;4-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号36;4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号37;2-[3’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号38;2-[4’-フルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号39;2-{メチルスルホニル[4’-プロパン-2-イルビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号40;2-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号41;2-{[4-6-メチルピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号42;2-{メチルスルホニル[4-ピリミジン-5-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号43;2-{メチルスルホニル[4-ピリジン-3-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号44;2-{メチルスルホニル[4’-トリフルオロメチルビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号45;2-{メチルスルホニル[4-ピリジン-4-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号46;2-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号47;2-[4’-tert-ブチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号48;2-[2’,3’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号49;2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号50;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタン酸化合物番号51;4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタン酸化合物番号52;4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタン酸化合物番号53;4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号54;2-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸化合物番号55;2-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号56;2-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号57;2-[メチルスルホニルフェニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号58;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸化合物番号59;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号60;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-7-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号61;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号62;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号63;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号64;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-フルオロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号65;2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-1-メチル-2,4-ジオキソ-1,4-ジヒドロキナゾリン-32H-イルブタン酸化合物番号66;4-{メチルスルホニル[1-オキソ-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-1-プロパ-2-エン-1-イルオキシブタン-2-イル]アミノ}安息香酸化合物番号67;2-[{4-[4-メチルフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号68;2-[{4-[4-クロロフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号69;2-{メチルスルホニル[4-フェニルカルバモイルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号70;2-[{4-[3-フルオロフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号71;2-[メチルスルホニル4-{[4-プロパン-2-イルフェニル]カルバモイル}フェニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号72;2-[{4-[4-メトキシフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号73;2-[{4-[4-フルオロフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号74;2-[メチルスルホニル4-{[4-トリフルオロメチルフェニル]カルバモイル}フェニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号75;2R-2-[4’-フルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号76;2R-2-{メチルスルホニル[4-ピリミジン-5-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号77;2R-2-{メチルスルホニル[4’-プロパン-2-イルビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号78;2R-2-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号79;2R-2-[3’,4’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号80;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号81;2R-2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号82;2R-2-[3’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号83;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号84;2R-2-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号85;2R-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号86;2S-2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号87;2S-2-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号88;2S-2-[3’-フルオロ-4’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号89;2S-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号90;2R-2-[3’,4’-ジメトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号91;2R-2-{[4-2,3-ジヒドロ-1,4-ベンゾジオキシン-6-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号92;2R-2-[4’-メトキシ-3’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号93;2R-2-[4’-フルオロ-3’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号94;2R-2-{メチルスルホニル[4’-トリフルオロメトキシビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号95;2R-2-{[4’-クロロ-3’-トリフルオロメチルビフェニル-4-イル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号96;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号97;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-8-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号98;2R-4-7-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号99;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号100;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-6-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号101;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-8-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号102;2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-6-フルオロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号103;4-5-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号104;2-[4-ブロモフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号105;2-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号106;2-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号107;2-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号108を含む化合物を包含する。別の態様において、治療有効量の1種またはそれ以上の本明細書に記載の化合物と、1種またはそれ以上の製薬学的に許容し得る担体、賦形剤または希釈剤とを一緒に含む医薬組成物が本明細書において提供される。別の態様において、種々の炎症性疾患もしくはアレルギー性疾患を患う動物もしくはヒトを処置または予防するための方法であって、治療有効量の1種またはそれ以上の本明細書に記載の式1の化合物をそれを必要とする哺乳動物に投与することを含む方法が本明細書において提供される。一つの実施形態において、炎症の疾患または状態および関連病状は、喘息、関節リウマチ、COPD、鼻炎、変形性関節炎、乾癬性関節炎、乾癬、肺線維症、肺炎症、急性呼吸困難症候群、歯周炎、多発性硬化症、歯肉炎、アテローム性動脈硬化症、ドライアイ、新生内膜増殖これは再狭窄および虚血性心不全を招く、脳卒中、腎臓疾患、腫瘍転移、およびその他の炎症性疾患から選択される。さらに別の態様において、本発明は、種々の炎症性疾患およびアレルギー疾患を処置するのに使用される1種またはそれ以上のその他の治療剤と組み合わせた治療有効量の式Iの化合物に関する。このような治療剤の例としては、以下に限定されないが、1抗炎症薬実験または市販抗炎症薬、i例えば、非ステロイド性抗炎症薬ピロキシカム、ジクロフェナク、プロピオン酸類、フェナム酸類、ピラゾロン類、サリチル酸類、PDE-4/p38MAPキナーゼ/カテプシン阻害剤、iiロイコトリエン類LTC4/LTD4/LTE4/LTB4-阻害剤、5-リポキシゲナーゼ阻害剤およびPAF-受容体アンタゴニスト、iiiCox-2阻害剤、ivMMP阻害剤、およびvインターロイキン-I阻害剤;2降圧薬、iACE阻害剤、例えば、エナラプリル、リシノプリル、バルサルタン、テルミサルタンおよびキナプリル、iiアンギオテンシンII受容体アンタゴニストおよびアゴニスト、例えば、ロサルタン、カンデサルタン、イルベサルタン、バルサルタンおよびエプロサルタン、iiiβ遮断薬、およびivカルシウムチャネル遮断薬、3免疫抑制剤、例えば、シクロスポリン、アザチオプリンおよびメトトレキセート、抗炎症性コルチコステロイドが挙げられる。以下の定義が、本明細書で使用される用語に適用される。アルキルという用語は、特に明記しない限りは、1~20個の炭素原子を有する1価の分岐または非分岐飽和炭化水素鎖を指す。この用語は、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソ-プロピル、n-ブチル、イソ-ブチル、sec-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、n-デシル、テトラデシルなどの基で例示される。アルケニルという用語は、特に明記しない限りは、2~20個の炭素原子を有し、シス配置、トランス配置またはジェミナル配置を有する1価の分岐または非分岐不飽和炭化水素基を指す。アルキニルという用語は、特に明記しない限りは、2~20個の炭素原子を有する1価の不飽和炭化水素を指す。シクロアルキルという用語は、特に明記しない限りは、単一の環を有するかまたは多数の縮合した環を有する3~20個の炭素原子の環状アルキル基を指し、定義によって制約されない限りは、場合により1個またはそれ以上のオレフィン結合を含有していてもよい。このようなシクロアルキル基としては、例えば単一の環構造、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロオクチル、シクロペンテニルなど、または多重環構造、例えばアダマンタニルおよびビシクロ[2.2.1]ヘプタン、またはアリール基が縮合している環状アルキル基、例えばインダンなどを挙げることができる。スピロおよび縮合環構造も挙げることができる。アリールという用語は、特に明記しない限りは、6~14個の炭素原子を有する芳香族系を指し、この場合に前記環系は、単環式、二環式または三環式であることができかつ炭素環式芳香族基である。例えば、アリール基としては、以下に限定されないが、フェニル、ビフェニル、アントリルまたはナフチル環などが挙げられる。アリールオキシという用語は、基O-アリールを表し、この場合のアリールは前記で定義したものと同じである。ヘテロアリールという用語は、特に明記しない限りは、5個または6個の環原子を含有する芳香族環構造を指すかあるいは8~10個の環原子を有する二環式または三環式芳香族基を指し、N、OまたはSから独立して選択される1個またはそれ以上の異種原子を有しかつ場合によって5~6個の環メンバーを有するベンゾ縮合または縮合ヘテロアリールである。ヘテロシクリルという用語は、特に明記しない限りは、5~10個の原子を有する非芳香族単環式または二環式シクロアルキル基を指し、この場合の環中の1~4個の炭素原子は、O、SまたはNから選択される異種原子で置換され、かつ場合によって5~6個の環メンバーを有するベンゾ縮合または縮合ヘテロアリールである。シクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリルアルキルという用語は、アルキル基を介して分子の残部に連結されたシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基またはヘテロシクリル基をそれぞれ指す。アミノという用語は、-NH2を指す。ハロゲンという用語は、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を指す。脱離基という用語は、合成条件下で不安定であり且つ定義された条件下で合成生成物から容易に分離される性質を示すかまたは示す可能性がある基を指す。脱離基の例としては、以下に限定されないが、ハロゲン例えば、F、Cl、Br、I、トリフラート基、トシラート基、メシラート基、アルコキシ基、チオアルコキシ基またはヒドロキシ基などが挙げられる。保護基という用語は、その分子の化学修飾中に、影響を受けない状態にしておくことを意図した分子の位置で化学反応を防止する部分を指す。特に明記しない限りは、保護基は、ヒドロキシ、アミノまたはカルボキシなどの基に使用し得る。保護基の例は、T.W.GreeneandP.G.M.Wuts,ProtectiveGroupsinOrganicSynthesis、第2版、JohnWileyandSons、NewYork、N.Y.に見出される。用いられるカルボキシル保護基、アミノ保護基またはヒドロキシ保護基の種類は、その誘導体化された複数個または1個の部分がその後の反応の条件に対して安定であり且つ分子の残部を分解させることなく除去できる限りは、重要ではない。本発明の化合物は、1個またはそれ以上の不斉炭素原子を含有することができ、したがってラセミ混合物、鏡像異性体、およびジアステレオマーとして存在し得る。これらの化合物はまた、立体配座異性体/回転異性体として存在することもできる。これらの化合物のこのような異性体はすべて、本発明に包含される。それぞれの立体性を有する炭素原子は、R配置またはS配置であり得る。本出願において例示される具体的な化合物は特定の立体化学的配置で表示し得るが、任意の所定のキラル中心で反対の立体化学を有する化合物またはその混合物が、本発明の一部として意図される。本発明の一部を形成する製薬学的に許容し得る塩という用語は、化合物を適切な塩基と反応させて対応する塩基付加塩を得ることによって調製し得るカルボン酸部分の塩を包含する。このような塩基の例は、アルカリ金属水酸化物、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化リチウム;アルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化マグネシウムおよび水酸化カルシウムである。また、有機塩基、例えばリシン、アルギニン、グアニジン、エタノールアミン、コリンなどの塩;無機塩基の塩、例えば、アンモニウム塩または置換アンモニウム塩も包含される。適切ならば、製薬学的に許容し得る有機酸および無機酸を有する化合物、例えばハロゲン化水素酸塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩;その他の鉱酸およびこれらの対応する塩、例えば硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩など;ならびにアルキルおよびモノ-アリールスルホネート、例えばエタンスルホネート、トルエンスルホネートおよびベンゼンスルホネート;ならびにその他の有機酸およびその対応する塩、例えば酢酸塩、酒石酸塩、マレイン酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩など。別の態様において、本明細書において開示される化合物は、スキームI、II、III、IV、VおよびVIに示される反応順序にしたがって製造できる。式10経路Aおよび式13経路Bの化合物は、スキームIにしたがって製造できる。したがって、4-ブロモ-ニトロベンゼンを式2式中、は、アリールまたはヘテロアリール環であり、R6は、水素、アルキル、ハロゲン、アルコキシまたはハロゲノ-C1-C6アルキルであるの化合物と反応させて式3の化合物を得て、これを還元して式4の化合物を形成させる。式4の化合物をα-ブロモラクトンと反応させて式5の化合物を得て、これをホルミル化して式6の化合物を形成させる。式6の化合物を開環して式7式中、Rpは、メチル、エチル、アリル、ベンジル、t-ブチル、シリル、BOC-無水物などのカルボキシ保護基であるの化合物を形成させ、これを式8式中、は、ヘテロアリール環であり、R5は、先に定義したものと同じであるの化合物と反応させて式9の化合物を得て、最後にこれを脱保護して式10の化合物を得る。式7の化合物を式11式中、R’は、先に定義したものと同じであるの化合物と反応させて式12の化合物を得て、これを脱保護して式13の化合物を得る。式3の化合物を得るための4-ブロモ-ニトロベンゼンと式2の化合物とのカップリングは、テトラヒドロフラン、N,N’-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンまたはそれらの混合物から選択される溶媒の存在下、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムから選択される無機塩基の存在下で行うことができる。式4の化合物を得るための式3の化合物の還元は、溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、ジオキサンまたはそれらの混合物の存在下、例えば、ラネーニッケルヒドラジン水和物またはギ酸アンモニウム中、亜鉛、スズまたは鉄塩酸または水素化アルミニウムリチウムの存在下、Pd/CH2中から選択される還元剤を使用して行うことができる。式5の化合物を得るための式4の化合物とα-ブロモラクトンとのカップリングは、例えば、アセトニトリル、水またはそれらの混合物から選択される溶媒を使用して、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、重炭酸ナトリウムから選択される無機塩基を使用して行うことができる。式6の化合物を得るための式5の化合物のホルミル化は、例えば、トルエン、ジメトキシメタン、キシレンまたはそれらの混合物から選択される溶媒の存在下、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミドDCCまたは1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミドEDCI、活性化ギ酸エステル、ギ酸アンモニウムを使用して、例えば、ギ酸、酢酸ギ酸無水物、クロラール、活性化ギ酸から選択されるホルミル化剤を使用して行うことができる。式7の化合物を得るための式6の化合物の開環は、溶媒、例えば、N,N’-ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、水またはそれらの混合物の存在下、重炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムから選択される1種またはそれ以上の無機塩基を使用して、18-クラウン-6の存在下、ハロゲン化アルキル/アリールを用いて行うことができる。式9の化合物を得るための式7の化合物と式8の化合物とのカップリングは、レドックス対の存在下で行うことができる。レドックス対の酸化部分は、例えば、1,1’-アゾジカルボニルピペリジンADDP、4,7-ジメチル-3,5,7-ヘキサヒドロ-1,2,4,7-テラゾシン-3,8-ジオンDHTD、N,N,N’,N’-テトラメチルアゾジカルボキサミドTMAD、N,N,N’,N’-テトライソプロピルアゾジカルボキサミドTIPA、ジエチルアゾジカルボキシラートDEAD、ジ-t-ブチルアゾジカルボキシラートまたはジイソプロピルアゾジカルボキシラートDIADから選択される。レドックス対の還元部分は、溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、N,N’-ジメチルホルムアミド、アセトニトリルまたはそれらの混合物の存在下、例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、p-ジメチルアミノフェニルまたはトリスシクロヘキシルホスフィンから選択される。式10の化合物を得るための式9の化合物の脱保護は、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフランまたはそれらの混合物から選択される溶媒中、鉱酸、例えば、塩化水素酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸の存在下で行うことができる。または別の方法として、式10の化合物を得るための式9の化合物の脱保護は、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフランまたはそれらの混合物から選択される溶媒中、1種またはそれ以上の有機酸、例えば、トリフルオロ酢酸、p-トルエンスルホン酸またはショウノウスルホン酸の存在下で行うことができる。または別の方法として、式10の化合物を得るための式9の化合物の脱保護は、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフランまたはそれらの混合物から選択される溶媒中、無機塩基、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、炭酸カリウムの存在下で行うことができる。または別の方法として、式10の化合物を得るための式9の化合物の脱保護は、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフランまたはそれらの混合物から選択される溶媒を使用して、脱保護剤、例えば、Pd/CH2の存在下、ギ酸アンモニウムと一緒にしたPd/C、Pd/Cトリエチルシランの存在下、オゾン、三塩化ホウ素ジメチルスルフィドBCl3.SMe2、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノンDDQ、テトラキストリフェニルホスフィンモルホリンの存在下の存在下で行うことができる。式12の化合物を得るための式7の化合物と式11の化合物との反応は、テトラヒドロフラン、N,N’-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルまたはそれらの混合物から選択される溶媒中、例えば、トリエチルアミン、N,N’-ジメチルアミノピリジン、2,6-ルチジン、1-メチルピペリジン、N-エチルジイソプロピルproylアミン、N,N’-ジイソプロピルエチルアミンまたはN-メチルモルホリンから選択される塩基の存在下で行うことができる。式13の化合物を得るための式12の化合物の脱保護は、式10の化合物を得るために式9の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式20の化合物は、スキームIIにしたがって製造できる。したがって、式14式中、は、ヘテロアリール環であり、R5は、先に定義したものと同じであるの化合物をαハロゲン化して式15式中、Halは、F、Cl、Br、Iであるの化合物を得て、これを保護して式16式中、Rpは、先に定義したものと同じであるの化合物を得る。式16の化合物と式17式中、Akは、C1-6アルキルであり、Rkは、アルキル、ハロゲン、アリール、ヘテロアリールであるの化合物との反応は、2つの経路で起こすことができる。経路CRkがハロゲンである場合:式16の化合物を式17の化合物と反応させて式18の化合物を形成させ、これを式2式中、は、アリールまたはヘテロアリール環であり、R6は、先に定義したものと同じであるの化合物とカップリングして式19の化合物を得る。式19の化合物を脱保護して式20の化合物を得る。経路DRkがR6で置換されたアリール/ヘテロアリールである場合:式16の化合物を式17の化合物と反応させて式19の化合物を得て、これを脱保護して式20の化合物を得る。式15の化合物を形成させるための式14の化合物のαハロゲン化は、例えば、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンまたはそれらの混合物から選択される溶媒の存在下、赤リン/Br2の存在下で行うことができる。式16の化合物を得るための式15の化合物のO-保護は、テトラヒドロフラン、N,N’-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルまたはそれらの混合物から選択される溶媒を使用して、例えば、トリエチルアミン、N,N’-ジメチルアミノピリジン、2,6-ルチジン、1-メチルピペリジン、N-エチルジイソプロピルproylアミン、N,N’-ジイソプロピルエチルアミンまたはN-メチルモルホリンから選択される有機塩基の存在下、カルボキシ保護基、例えば、メチル、ベンジル、アリル、t-ブチル、シリル、BOC無水物を用いて行うことができる。または別の方法として、式16の化合物を得るための式15の化合物のO-保護は、例えば、N,N’-ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、水またはそれらの混合物から選択される1種またはそれ以上の溶媒中、重炭酸ナトリウム、重炭酸リチウム、重炭酸カリウムから選択される無機塩基の存在下、カルボキシ保護基、例えば、メチル、ベンジル、アリル、t-ブチル、シリル、BOC無水物を用いて行うことができる。式18の化合物を得るための式16の化合物と式17の化合物との反応経路Cは、溶媒、例えば、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N’-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたはそれらの混合物を使用して、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウムから選択される無機塩基の存在下で行うことができる。式19の化合物を得るための式18の化合物と式2の化合物とのカップリングは、テトラヒドロフラン、N,N’-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンまたはそれらの混合物から選択される溶媒の存在下、例えば、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムから選択される適切な塩基を用いて、例えば、ビス-ジフェニルホスフィノフェロセンパラジウムIIジクロリドPddppfCl2、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0[PdPh3P4]、酢酸パラジウムまたはジクロロトリフェニルホスフィンパラジウムIIから選択される無機触媒の存在下で行うことができる。式20の化合物を得るための式19の化合物の脱保護は、式10の化合物を得るために式9の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式19の化合物を得るための式16の化合物と式17の化合物との反応経路Dは、溶媒、例えば、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、N,N’-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたはそれらの混合物中、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸バリウムから選択される無機塩基の存在下で行うことができる。スキームIII式26b経路E、式29経路F、式31経路G、式36経路Hの化合物は、スキームIIIにしたがって製造できる。したがって、式17a式中、Rkは、水素、ハロゲン、アルコキシ、アリールオキシ、アリール、カルボキシであるの化合物をα-ヒドロキシラクトンと反応させて式21の化合物を得て、これを開環して式22の化合物を得る。式22の化合物をカルボキシ保護して式23式中、Rpは、先に定義したものと同じであるの化合物を得る。経路ERk’がハロゲンである場合:式23の化合物をヒドロキシ保護して式24式中、Rp’は、ヒドロキシ保護基であるの化合物を得る。式24の化合物を式24a式中、R6’は、アルキル、アリール、ヘテロアリールであるの化合物とカップリングして式25の化合物を得て、これを脱保護して式26の化合物を得る。式26の化合物を式27の化合物と反応させて式26aの化合物を得る。式26aの化合物を脱保護して式26bの化合物を得る。経路FRk’がアルコキシ/アリールオキシ/ハロゲン/水素である場合:式23の化合物を式27の化合物と反応させて式28の化合物を得て、これを脱保護して式29の化合物を得る。経路GRk’がハロゲンで置換されたアリールであり、Rpがアリルである場合:式23の化合物を式27の化合物と反応させて式30の化合物を得て、これを脱保護して式31の化合物を得る。経路HRk’がCOORpである場合:式23の化合物を式27の化合物とカップリングして式32の化合物を得て、これを脱保護して式33の化合物を得る。式33の化合物を式34の化合物とカップリングして式35の化合物を得て、最後にこれを脱保護して式36の化合物を形成させる。式21の化合物を得るための式17aの化合物とα-ヒドロキシラクトンとの反応は、式9の化合物を得るための式7の化合物と式8の化合物との反応に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式22の化合物を得るための式21の化合物の開環は、式7の化合物を得るために式6の化合物に関して記載したように行うことができる。式23の化合物を得るための式22の化合物のカルボキシ保護は、式16の化合物を得るために式15の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式24の化合物を得るための式23の化合物のヒドロキシ保護経路Eは、溶媒、例えば、N,N’-ジメチルホルムアミド、トルエン、アセトニトリル、ジクロロメタンまたはそれらの混合物の存在下、塩基、例えば、イミダゾール、N-メチルイミダゾール、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N’ジメチルアミノピリジンの存在下、例えば、tert-ブチルジメチルシリルクロリドTBDMSCl、トリメチルシリルクロリドTMSCl、tert-ブチルジメチルシリルオキシメチルクロリドTOMCl、トリイソプロピルシリルクロリドTIPSCl、塩化ベンゾイルから選択される保護基を使用して行うことができる。式25の化合物を得るための式24の化合物と式24aの化合物とのカップリングは、式19の化合物を得るための式18の化合物と式2の化合物との反応と同様の条件下で行うことができる。式26の化合物を得るための式25の化合物の脱保護は、溶媒、例えば、ジクロロメタン、N,N’-ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、メタノール、エタノール、アセトン、テトラヒドロフランまたはそれらの混合物の存在下、例えば、三フッ化ホウ素エーテラートBF3.OEt2、HF-ピリジン、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、フッ化セシウムCsF、フッ化カリウムKF、n-テトラブチルアンモニウムフルオリド、Pd/CH2中、炭酸カリウムから選択される脱保護剤を使用して行うことができる。式26aの化合物を得るための式26の化合物と式27の化合物との反応は、式9の化合物を得るための式7の化合物と式8の化合物との反応に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式26bの化合物を得るための式26aの化合物の脱保護は、式10の化合物を得るための式9の化合物の脱保護に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式28の化合物を得るための式23の化合物と式27の化合物との反応経路Fは、式9の化合物を得るための式7の化合物と式8の化合物との反応に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式29の化合物を得るための式28の化合物の脱保護は、式10の化合物を得るための式9の化合物の脱保護に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式30の化合物を得るための式23の化合物と式27の化合物との反応経路Gは、式9の化合物を得るための式7の化合物と式8の化合物との反応に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式31の化合物を得るための式30の化合物の脱保護は、式10の化合物を得るための式9の化合物の脱保護に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式32の化合物を得るための式23の化合物と式27の化合物との反応経路Hは、式9の化合物を得るために式7の化合物と式8の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式33の化合物を得るための式32の化合物の脱保護は、式10の化合物を得るために式9の化合物に関して記載したように行うことができる。式35の化合物を得るための式33の化合物と式34の化合物とのカップリングは、例えば、N,N’ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルまたはそれらの混合物から選択される溶媒の存在下、適切な縮合剤、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1-3-ジメチルアミノプロピル-3-エチルカルボジイミドヒドロクロリド、クロロトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェートまたはベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリス-ジメチルアミノホスホニウムヘキサフルオロホスフェートを用いて、添加剤、例えば、ヒドロキシベンゾトリアゾール、3-ヒドロキシ-3,4-ジヒドロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン、2-ヒドロキシピリジン、N-ヒドロキシスクシンイミドまたは1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾールの存在下、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアミノピリジン、2,6-ルチジン、1-メチルピペリジン、N-エチルジイソプロピルproylアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミンまたはN-メチルモルホリンから選択される塩基を使用して行うことができる。式36の化合物を得るための式35の化合物の脱保護は、式10の化合物を得るために式9の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。スキームIV式43の化合物は、スキームIVにしたがって製造できる。したがって、式37式中、Rpは、先に定義したものと同じであるの化合物を保護して式38式中、Rp’は、先に定義したものと同じであるの化合物を得て、これを式39式中、R6は、アルキルであり、Akは、先に定義したものと同じであるの化合物と反応させて式40の化合物を得る。式40の化合物を脱保護して式41の化合物を得て、これを式27式中、R5は、先に定義したものと同じであるの化合物と反応させて式42の化合物を形成させる。式42の化合物を脱保護して式43の化合物を得る。式38の化合物を得るための式37の化合物の保護は、式24の化合物を得るために式23の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式40の化合物を得るための式38の化合物と式39の化合物との反応は、式9の化合物を得るための式7の化合物と式8の化合物との反応に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式41の化合物を得るための式40の化合物の脱保護は、式26の化合物を得るために式25の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式42の化合物を得るための式41の化合物と式27の化合物との反応は、式9の化合物を得るための式7の化合物と式8の化合物との反応に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式43の化合物を得るための式42の化合物の脱保護は、式10の化合物を得るために式9の化合物に関して記載したように行うことができる。スキームV式52の化合物は、スキームVにしたがって製造できる。したがって、4-2-ヒドロキシエチル-2,2-ジメチル1,3-ジオキソランを式44の化合物と反応させて式45の化合物を得て、これを開環して式46の化合物を得る。式46の化合物をO-保護して式47式中、Rp’は、先と同じであるの化合物を得て、これを式48式中、HalおよびAkは、先に定義したものと同じであるの化合物と反応させて式49の化合物を得る。式49の化合物を式2の化合物とカップリングして式50の化合物を得る。式50の化合物を脱保護して式51の化合物を形成させ、最後にこれを酸化して式52の化合物を得る。式45の化合物を形成させるための4-2-ヒドロキシエチル-2,2-ジメチル1,3-ジオキソランと式44の化合物との反応は、式9の化合物を得るための式7の化合物と式8の化合物に関するものと同様の条件下で行うことができる。式46の化合物を得るための式45の化合物の開環は、溶媒、例えば、アセトン、ニトロメタン、アセトニトリル、水またはそれらの混合物を使用して、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸から選択される鉱酸の存在下、または触媒量のセリウムIV硝酸アンモニウムCAN、セリウムIIIトリフルオロメタンスルホネートの存在下で行うことができる。式47の化合物を得るための式46の化合物の保護は、式24の化合物を得るために式23の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式49の化合物を得るための式47の化合物と式48の化合物との反応は、式9の化合物を得るための式7の化合物と式8の化合物との反応に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式50の化合物を得るための式49の化合物と式2の化合物とのカップリングは、式19の化合物を得るための式18の化合物と式2の化合物とのカップリングに関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式51の化合物を得るための式50の化合物の脱保護は、式26の化合物を得るための式25の化合物の脱保護に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式52の化合物を得るための式51の化合物の酸化は、アセトニトリル、四塩化炭素、水またはそれらの混合物から選択される溶媒を使用して、酸化剤、例えば、亜塩素酸ナトリウムおよび次亜塩素酸ナトリウム2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-N-オキシルTEMPOの存在下、過ヨウ素酸ナトリウム三塩化ルテニウムの存在下、重クロム酸カリウム、過マンガン酸カリウムを使用して行うことができる。スキームVI式61の化合物は、スキームVIにしたがって製造できる。したがって、4-2-ヒドロキシエチル-2,2-ジメチル1,3-ジオキソランを保護して式53式中、Rpは、先に定義したものと同じであるの化合物を得て、これを開環して式54の化合物を形成させる。式54の化合物をさらに保護して式55式中、Rp’は、先に定義したものと同じであるの化合物を得て、これを式48式中、Halは、先に定義したものと同じであるの化合物と反応させて式56の化合物を得る。式56の化合物を式2の化合物とカップリングして式57の化合物を得て、これを脱保護して式58の化合物を形成させる。式58の化合物を式27式中、R5は、先に定義したものと同じであるの化合物と反応させて式59の化合物を得る。式59の化合物を脱保護して式60の化合物を得て、これを酸化して式61の化合物を形成させる。式53の化合物を得るための4-2-ヒドロキシエチル-2,2-ジメチル1,3-ジオキソランの保護は、溶媒、例えば、N,N’-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルまたはそれらの混合物の存在下、水素化リチウム、水素化ナトリウムから選択される無機塩基、またはピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、N-エチルジイソプロピルアミン、4-N,N-ジメチルアミノピリジン、N-メチルモルホリンもしくは2,6-ルチジンから選択される有機塩基を使用して、ハロゲン化アルキル/アリールを使用して行うことができる。式55の化合物を得るための式53の化合物の開環は、式46の化合物を得るために式45の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式55の化合物を得るための式54の化合物の保護は、式24の化合物を得るための式23の化合物の保護に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式56の化合物を得るための式55の化合物と式48の化合物との反応は、式9の化合物を得るために式7の化合物と式8の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式57の化合物を得るための式56の化合物と式2の化合物とのカップリングは、式19の化合物を得るための式18の化合物と式2の化合物とのカップリングに関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式58の化合物を得るための式57の化合物の脱保護は、式10の化合物を得るための式9の化合物の脱保護に関して記載したように行うことができる。式59の化合物を得るための式58の化合物と式27の化合物とのカップリングは、式9の化合物を得るために式7の化合物と式8の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式60の化合物を得るための式59の化合物の脱保護は、式26の化合物を得るために式25の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。式61の化合物を得るための式60の化合物の酸化は、式52の化合物を得るために式51の化合物に関して記載したものと同様の条件下で行うことができる。上記のスキームにおいて、特定の試薬、例えば、塩基、酸、溶媒、縮合剤、還元剤、脱保護剤、加水分解剤、触媒などについて述べられている場合には、当業者に公知のその他の試薬、例えば、その他の酸、塩基、溶媒、縮合剤、還元剤、脱保護剤、加水分解剤、触媒なども使用し得ると理解されるべきである。同様に、反応温度および反応の時間は、過度な実験を行わずに当業者の能力内で、求められる必要性にしたがって調節し得る。本明細書に記載の化合物は、処置のために、動物に対し、経口的、局所、直腸内、鼻腔内、または非経口経路によって投与し得る。本明細書において開示される医薬組成物は、1種またはそれ以上の製薬学的に許容し得る担体、賦形剤、または希釈剤と一緒に製剤化される、本明細書に記載の化合物の製薬学的有効量を含む。経口投与用固形調製物としては、カプセル、錠剤、丸剤、粉剤、顆粒、ドロップ、トローチ、カシェ剤および坐剤が挙げられる。固形調製物のために、活性化合物は、1種またはそれ以上の不活性の、製薬学的に許容し得る賦形剤または担体と混合し得る。経口投与用錠剤およびカプセルは、通常の賦形剤、例えば結合剤および/または溶解促進剤、例えばポリビニルピロリジン、セルロース、でん粉の粘液、ゼラチン、ソルビトール、シロップ、アカシアゴムまたはトラガカント;充填剤または増量剤、例えば微結晶性セルロース、糖、トウモロコシでん粉、リン酸カルシウム、ソルビトールまたはラクトース;湿潤剤、例えばタルク、シリカ、ポリエチレングリコール、ステアリン酸マグネシウムまたはステアリン酸;崩壊剤および結合剤、例えばクロスカルメロースナトリウム、αでん粉、でん粉グリコール酸ナトリウムまたはじゃが芋でん粉;流動促進剤、例えばコロイド状二酸化ケイ素またはタルク;抗接着剤、例えばステアリン酸マグネシウムまたはラウリル硫酸ナトリウム、およびコーティング材料を含有し得る。カプセル、錠剤、または丸剤はまた、バッファー剤を含み得る。錠剤、カプセル、丸剤、または顆粒は、有効成分の放出を調節するための1種またはそれ以上のコートまたはシェル、例えば、腸コート、または当業者に公知のその他のコートを使用して調製できる。一般例錠剤製剤は、典型的には、0.01mg~500mgの活性化合物を含有し得るが、錠剤の充填重量は、50mg~1000mgの範囲であり得る。一例を以下に示す:経口投与用液状調製物としては、製薬学的に許容し得る乳剤、溶液、懸濁液、シロップ、またはエリキシル剤が挙げられる。このような液状調製物では、活性化合物は、水または1種もしくはそれ以上の非毒性溶媒、可溶化剤または乳化剤、例えば、水、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、炭酸エチル、酢酸エチル、ベンジルアルコール、ベンジルベンゾエート、プロピレングリコール、1,3-ブチレングリコール、ジメチルホルムアミド、油類、例えば、綿実油、落花生油、コーン油、胚芽油、オリーブ油、ひまし油、およびごま油、グリセロール、ソルビタンの脂肪酸エステル、またはそれらの混合物と混合し得る。経口組成物はまた、1種またはそれ以上の補助剤、例えば、湿潤剤、乳化剤、懸濁剤、甘味剤、芳香剤、香料、またはそれらの混合物を含み得る。注入調製物、例えば、無菌注入剤、および水性懸濁液は、当業者に公知の方法にしたがって、特に、1種またはそれ以上の適切な分散剤、または湿潤剤および懸濁剤を使用して、製剤化し得る。使用され得る許容し得るビヒクルおよび溶媒としては、水、リンゲル液、等張の塩化ナトリウム、またはそれらの混合物の1種またはそれ以上が挙げられる。本発明の化合物の直腸投与用の坐剤は、薬物と、常温では固形であるが体温では液体であるため直腸中で溶けて薬物を放出する、ココアバターおよびポリエチレングリコールなどの適切な無刺激性賦形剤とを混合することによって調製できる。本発明の化合物の局所または経皮投与用剤形としては、軟膏、ペースト、クリーム、ローション、ゲル、粉剤、溶液、スプレー、吸入剤、またはパッチが挙げられる。活性化合物は、無菌条件下で、1種またはそれ以上の製薬学的に許容し得る担体、および必要な場合は場合により任意の防腐剤またはバッファーと混合し得る。眼科製剤、点耳剤、眼科軟膏、粉剤、および溶液も、本発明の範囲内に含まれる。医薬調製物は、単位剤形で存在し得る。単位剤形では、調製物は、適切な量の活性成分を含有する単位用量に分割し得る。単位剤形は、個別のカプセル、粉剤、バイアルまたはアンプル入りの、軟膏、カプセル、サシェ剤、錠剤、ゲル、クリーム、またはこのような包装形態の任意の組み合わせおよび数を含有する包装調製物であり得る。以下の実施例は、本発明の代表的な化合物を製造するための一般的な合成手順を示すために記載するものである。実施例は、本開示の特定の態様を説明するために提供するものであり、本発明の範囲を限定するものではない。実験文献に記載されている手順にしたがって、種々の乾燥試薬を使用して、種々の溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド、ベンゼン、テトラヒドロフランなどを乾燥させた。中間体の合成6-メチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オンの合成J.Med.Chem.,3514,p.2626-26301992に概説されている手順にしたがって、標記化合物を製造した。ベンゾトリアジン-43H-オンの以下の類似体を同様に製造した:7-メトキシ-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン;7-メチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン;6-メトキシ-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン;5-クロロ-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン;7-クロロ-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン;5-メトキシ-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン;5-フルオロ-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン;8-メトキシ-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン;6-フルオロ-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン。5-メチル-1H-イソインドール-1,32H-ジオンの合成Chem.Ber.1877,10,1163に概説されている手順にしたがって、標記化合物を製造した。4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸の合成γ-アミノ酪酸20.68g、0.199モルおよび無水フタル酸29.6g、0.199モルをトルエン300mLに溶解させた溶液に、トリエチルアミン3mL、0.0215モルを添加し、110°Cで約18時間加熱した。完了後、反応混合物を室温に冷却した。反応混合物を40°Cで1NHCl溶液20mLで洗浄し、固形物を有機層から晶出させた。残留物をろ過し、水で洗浄し、真空下で一晩乾燥させて、所望の生成物を得た。収量:31.64gLCMS:234.2M1N-4-ブロモフェニルメタンスルホンアミドの合成4-ブロモアニリン100g、581mモルをジクロロメタン75mLおよびピリジン75mLに溶解させた溶液に、メタンスルホニルクロリド99g、872mモルをゆっくりと添加した。反応混合物を同じ温度で約1時間撹拌した。1時間後、希塩酸を反応混合物に添加して、ピリジンを除去した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで60酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:110gLCMS:267.03,268.97MNaN-[4-4-メチルフェノキシフェニル]メタンスルホンアミドの合成4-4-メチルフェノキシアニリン3.5g、17.6mモルをピリジン20mLおよびジクロロメタン20mLに0°Cで溶解させた溶液に、メタンスルホニルクロリド2.2mL、26.4mモルを添加した。反応混合物を室温で約2時間撹拌した。反応終了後、ピリジンを蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を回収し、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、蒸発させて、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムで25酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:3.1gしたがって、以下の化合物を製造できる:N-4-メトキシフェニルメタンスルホンアミド。ベンジル2,4-ジヒドロキシブタノアートの合成α-ヒドロキシラクトン10g、0.098モルをメタノール50mLに溶解させた溶液に、水10mLに溶解させた水酸化ナトリウム5.88g、0.147モルを添加し、室温で約1時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、N,N’-ジメチルホルムアミド40mLに溶解させ、臭化ベンジル14mL、0.117モルを一滴ずつ添加した。反応混合物を再度室温で一晩撹拌した。反応終了後、溶媒を真空下で蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで80酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、標記化合物を得た。収量:10.4gLCMS:211.47M1,233.5MNaN-ビフェニル-4-イルメタンスルホンアミドの合成4-ビフェニルアミン1g、0.0059モルをジメチルホルムアミド10mLに溶解させた溶液に、炭酸カリウム1.63g、0.0118モルを添加し、約10分間撹拌し、次いで、メタンスルホニルクロリド3.64mL、0.0472モルをゆっくりと添加した。反応混合物を室温で約30分間撹拌した。完了後、反応混合物を水で洗浄しながら酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得て、これをシリカゲルカラムで精製して、所望の生成物を得た。収量:0.75gtert-ブチル4-{[4-ヒドロキシ-1-オキソ-1-プロパ-2-エン-1-イルオキシブタン-2-イル]メチルスルホニルアミノ}ベンゾアートの合成工程a:tert-ブチル4-ニトロベンゾアートの製造p-ニトロフェノール10g、59.88mモルをtert-ブタノール100mLおよびテトラヒドロフラン100mLに溶解させた溶液に、N,N’-ジメチルアミノピリジン1.4g、11.97mモルおよびBoc無水物38.4mL、179.64mモルを室温で添加した。反応混合物を室温で約10時間撹拌した。温度を35°Cにゆっくりと上昇させ、反応混合物を約6時間撹拌した。完了後、溶媒を減圧下で蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、食塩水で洗浄し、真空下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで20酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:12g工程b:tert-ブチル4-アミノベンゾアートの製造工程aから得られた化合物11gをテトラヒドロフラン50mLおよびメタノール50mLに溶解させた溶液に、10Pd/C3gを添加し、Parr装置において、H2を60psiで約2時間供給した。完了後、反応混合物をセライトパッドに通してろ過し、残留物を酢酸エチルで洗浄した。得られたろ過物を真空下で濃縮して、所望の化合物を得た。収量:10g.LCMS:194.47M1工程c:tert-ブチル4-[メチルスルホニルアミノ]ベンゾアートの製造工程bから得られた化合物10g、51.81mモルをピリジン50mLおよびジクロロメタン50mLに溶解させた氷冷溶液に、メタンスルホニルクロリド8.86g、77.72mモルを添加した。反応混合物を同じ温度で約1時間撹拌した。1時間後、HCl11N溶液を添加して、反応混合物のpHを中性にし、次いで、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で蒸発させて、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムで50酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:10gLCMS:293.76MNa工程d:tert-ブチル4-[メチルスルホニル2-オキソテトラヒドロフラン-3-イルアミノ]ベンゾアートの製造α-ヒドロキシラクトン1g、9.80mモルをテトラヒドロフラン30mLに溶解させた氷冷溶液に、工程cから得られた化合物2.6g、9.80mモルおよびトリフェニルホスフィン13.6g、14.70mモルを添加した。反応混合物を約15分間撹拌し、ジイソプロピルアゾジカルボキシラートDIAD2.9g、14.70mモルを同じ温度で添加した。反応混合物を室温で約2時間撹拌した。出発物質が完全に変換した後、溶媒を真空下で蒸発させて、粗化合物を得た。粗化合物を、シリカゲルカラムで30酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:6gLCMS:354.82M.工程e:N-[4-tert-ブトキシカルボニルフェニル]-N-メチルスルホニルホモセリンの製造工程dから得られた化合物4g、11.26mモルをエタノール30mLおよびメタノール10mLに溶解させた氷冷溶液に、水5mLに溶解させた水酸化ナトリウム0.495g、12.39mモルを添加した。反応混合物を同じ温度で約30分間撹拌した。30分後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を水で洗浄しながら酢酸エチルで抽出した。水層を重硫酸ナトリウム水溶液で酸性にし、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、蒸発させて、所望の化合物を得た。収量:3g工程f:tert-ブチル4-{[4-ヒドロキシ-1-オキソ-1-プロパ-2-エン-1-イルオキシブタン-2-イル]メチルスルホニルアミノ}ベンゾアートの製造工程eから得られた化合物3g、8.04mモルをN,N’-ジメチルホルムアミド25mLに溶解させた溶液に、重炭酸ナトリウム1g、12.06mモルおよび臭化アリル1.07g、8.84mモルを室温で添加した。反応混合物を室温で約12時間撹拌した。反応終了後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで40酢酸エチル:ヘキサンを使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:1.4g.LCMS:413.87M1.プロパ-2-エン-1-イルN-4’-クロロビフェニル-4-イル-N-メチルスルホニルホモセリネートの合成工程a:N-4’-クロロビフェニル-4-イルメタンスルホンアミドの製造N-4-ブロモフェニルメタンスルホンアミド2g、0.008モルをN,N’-ジメチルホルムアミド15mLおよび水15mLに溶解させた溶液に、4-クロロフェニルボロン酸2.49g、0.016モル、炭酸カリウム3.3g、0.024モルおよびテトラキストリフェニルホスフィン277mg、0.002モルを添加した。反応混合物を100°Cに約14時間加熱した。完了後、反応混合物を水でクエンチし、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで25酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、標記化合物を得た。収量:1.8g工程b:N-4’-クロロビフェニル-4-イル-N-2-オキソテトラヒドロフラン-3-イルメタンスルホンアミドの製造工程aから得られた化合物10g、0.035モルを溶解させたテトラヒドロフラン70mLに、α-ヒドロキシラクトン8.8g、0.05モルおよびトリフェニルホスフィン13.9g、0.05モルを0°Cで添加した。反応混合物を約10分間撹拌し、ジイソプロピルアゾジカルボキシラートDIAD10.7mL、0.05モルをそれに0°Cで添加した。反応混合物を再度室温で約2時間撹拌した。完了後、溶媒を蒸発させて、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムで20酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:10gLCMS:365.71M1工程c:N-4’-クロロビフェニル-4-イル-N-メチルスルホニルホモセリンの製造工程bから得られた化合物10g、0.0273モルをエタノール:水混合液10:1100ml:10mLに0°Cで溶解させた溶液に、水2mLに溶解させた水酸化ナトリウム1.2g、0.037モルを添加した。反応混合物を0°Cで約2時間撹拌した。2時間後、溶媒を減圧下で蒸発させ、得られた残留物を水に溶解させ、酢酸エチルで抽出した。得られた水層を重亜硫酸ナトリウム水溶液で酸性にし、次いで、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、標記化合物を得た。収量:10g工程d:プロパ-2-エン-1-イルN-4’-クロロビフェニル-4-イル-N-メチルスルホニルホモセリネートの製造工程cから得られた化合物10g、0.026モルを室温で溶解させたエタノール:水:DMF混合液60mL:6mL:60mLに、重炭酸ナトリウム2.1g、0.026モルを添加した。反応混合物を室温で約30分間撹拌した。30分後、反応混合物を減圧下で濃縮し、トルエンで処理した。トルエンを蒸発させ、このようにして得られた残留物を乾燥N,N’-ジメチルホルムアミド20mLに室温で溶解させた。この反応混合物に、臭化アリル3.4g、0.028モルをゆっくりと添加し、室温で一晩撹拌した。完了後、水を反応混合物に添加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を回収し、水、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム溶液で脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで30酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、標記化合物を得た。収量:5.2g実施例1:2-[ホルミル4’-メチルビフェニル-4-イルアミノ]-4-6-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号1スキームI、経路Aの合成工程a:4-メチル-4’-ニトロビフェニルの製造4-ブロモ-ニトロベンゼン5g、0.0247モルをN,N’-ジメチルホルムアミド25mLに溶解させた溶液に、炭酸カリウム10.2g、0.0741モルおよび4-メチルボロン酸4g、0.0297モルをアルゴン雰囲気下で添加し、100°Cで約3時間加熱した。完了後、水を添加することによって反応混合物をクエンチし、酢酸エチルで抽出した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で濃縮して、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムで15酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:5.3gLCMS:236.07M23工程b:4’-メチルビフェニル-4-アミンの製造工程aから得られた化合物5.2g、0.0244モルをテトラヒドロフラン25mLおよびメタノール25mLに溶解させた溶液に、10Pd/C5.2gを真空下で添加し、次いで、バルーンによって水素ガスを供給した。反応混合物を室温で約2時間撹拌した。完了後、反応混合物をセライトパッドに通してろ過し、ろ過物を真空下で濃縮して、標記化合物を得た。収量:5gLCMS:184.01M1工程c:3-[4’-メチルビフェニル-4-イルアミノ]ジヒドロフラン-23H-オンの製造α-ブロモラクトン3g、0.018モルに、工程bから得られた化合物4.9g、0.027モルを添加し、100°C~110°Cに約3時間加熱した。出発物質が完全に消費された後、反応混合物を減圧下で蒸発させ、シリカゲルカラムで20酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:4gLCMS:268.11M1工程d:N-4’-メチルビフェニル-4-イル-N-2-オキソテトラヒドロフラン-3-イルホルムアミドの製造工程cから得られた化合物2g、0.00749モルをトルエン30mLに溶解させた溶液に、ギ酸0.4g、0.0089モルを添加し、約9時間還流した。完了後、反応混合物を減圧下で蒸発させて、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムで15酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、標記化合物を得た。収量:1.9gLCMS:295.94M1工程e:メチルN-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イルホモセリネートの製造工程dから得られた化合物1.9g、0.0064モルをN,N’-ジメチルホルムアミド4mLおよび水1mLに溶解させた溶液に、水酸化ナトリウム0.309g、0.0077モルを添加し、室温で約30分間撹拌した。30分後、重炭酸ナトリウム0.624g、0.0074モル、18-クラウン-60.168g、0.00064モルおよびヨウ化メチル1.3g、0.0914モルを反応混合物に添加し、再度室温で一晩撹拌した。完了後、水を添加することによって反応混合物をクエンチし、酢酸エチルで抽出した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で濃縮して、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムで8酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製した。収量:2.1g工程f:メチル2-[ホルミル4’-メチルビフェニル-4-イルアミノ]-4-6-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタノアートの製造工程eから得られた化合物0.3g、0.0009モルを溶解させたテトラヒドロフラン5mLに、6-メチルベンゾトリアジノン0.177g、0.0011モルおよびトリフェニルホスフィン0.353g、0.0013モルをアルゴン雰囲気下で添加した。反応混合物を0°Cに冷却し、それにジイソプロピルアゾジカルボキシラート0.272g、0.0013モルを添加し、室温で約30分間撹拌した。完了後、水を添加することによって反応混合物をクエンチし、酢酸エチルで抽出した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗化合物を得て、これを、シリカゲルカラムで7酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:0.15gLCMS:470M1工程g:2-[ホルミル4’-メチルビフェニル-4-イルアミノ]-4-6-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸の製造工程fから得られた化合物0.15g、0.0003モルを溶解させたテトラヒドロフラン5mLおよびメタノール5mLに、水酸化リチウム0.018g、0.0004モルを水1mLに溶解させた溶液を添加した。反応混合物を室温で約1時間撹拌した。完了後、反応混合物を重硫酸ナトリウム溶液pH~2で酸性にし、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で濃縮して、粗化合物を得て、これを、分取TLCにより10メタノール:ジクロロメタンを移動相として使用して精製した。収量:0.030gLCMS-455.35M-11HNMR400MHzδ8.401H,s,8.03-8.051H,m,7.872H,m,7.61-7.632H,m,7.52-7.542H,m,7.40-7.422H,m,7.24-7.262H,m,4.841H,m,4.392H,m,2.512H,m,2.28-2.336H,m.上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。4-7-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[ホルミル4’-メチルビフェニル-4-イルアミノ]ブタン酸化合物番号2;LCMS-447.23M-282-[4’-エチルビフェニル-4-イルホルミルアミノ]-4-5-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号3;LCMS-469.34M-1実施例2:O-[4-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イルホモセリン化合物番号4スキームI、経路Bの合成工程a:メチルO-[4-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イルホモセリネートの製造メチルN-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イルホモセリネート0.3g、0.0009モルをテトラヒドロフラン5mLに溶解させた溶液に、トリエチルアミン0.272g、0.0027モルおよび1-フルオロ-4-イソシアナトベンゼン0.147g、0.0010モルを、アルゴン雰囲気下、室温で添加した。反応混合物を室温で約2時間撹拌した。完了後、水を添加することによって反応混合物をクエンチし、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で濃縮して、粗化合物を得た。粗化合物を、シリカゲルカラムで15酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:0.15gLCMS:464.93M1工程b:O-[4-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イルホモセリンの製造工程aから得られた化合物0.15g、0.0003モルを溶解させたテトラヒドロフラン5mLおよびメタノール5mLに、水酸化リチウム0.018g、0.0004モルを水に溶解させた溶液を添加し、室温で約1時間撹拌した。完了後、反応混合物を重亜硫酸ナトリウムpH~2で酸性にし、酢酸エチルで抽出した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で濃縮して、粗化合物を得て、これを、分取TLCにより10メタノール:ジクロロメタンを移動相として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:0.03gLCMS-449.28M-11HNMR400ΜΗz-δ9.631H,s,8.451H,s,7.67-7.692H,m,7.53-7.554H,m,7.26-7.282H,m,7.12-7.144H,m,4.89-4.931H,m,4.06-4.102H,s,2.452H,m,2.41-2.433H,m.上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イル-O-[4-メチルフェニルカルバモイル]ホモセリン化合物番号5;LCMS-417.27M-28O-[3,4-ジクロロフェニルカルバモイル]-N-ホルミル-N-4’-メチルビフェニル-4-イルホモセリン化合物番号6;LCMS-501.15MN-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-{[4-プロパン-2-イルフェニル]カルバモイル}ホモセリン化合物番号7;LCMS-487.35M-1N-4’-エチルビフェニル-4-イル-O-[3-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミルホモセリン化合物番号8;LCMS-463.33M-1O-[2,4-ジフルオロフェニルカルバモイル]-N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミルホモセリン化合物番号9;LCMS-481.32M-1N-4’-エチルビフェニル-4-イル-O-[2-フルオロフェニルカルバモイル]-N-ホルミルホモセリン化合物番号10;LCMS-463.33M-1N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-{[4-トリフルオロメチルフェニル]カルバモイル}ホモセリン化合物番号11;LCMS-513.32M-1N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-[2-メチルフェニルカルバモイル]ホモセリン化合物番号12;LCMS-459.33M-1N-4’-エチルビフェニル-4-イル-O-[4-エチルフェニルカルバモイル]-N-ホルミルホモセリン化合物番号13;LCMS-473.30M-1N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミル-O-[4-メトキシフェニルカルバモイル]ホモセリン化合物番号14;LCMS-475.35M-1O-[2,6-ジクロロフェニルカルバモイル]-N-4’-エチルビフェニル-4-イル-N-ホルミルホモセリン化合物番号15;LCMS-515.29M-1実施例3:4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルアミノ]ブタン酸化合物番号18;スキームII、経路Cの合成工程a:2-ブロモ-4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸の製造4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸11.7g、0.050モルを四塩化炭素60mLに溶解させた溶液に、赤リン5.2g、0.167モルを添加し、約60°Cで加熱した。この反応混合物に、臭素40mL、0.792モルを約1時間にわたってゆっくりと添加し、再度60°Cに約8時間加熱し、次いで、0°Cに冷却した。その後、水50mLを反応混合物に添加した。反応混合物を凝固させ、酢酸エチルで抽出した。有機層を重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた水層を、塩酸水溶液を使用して酸性pH~2にし、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、蒸発させて、所望の生成物を得た。収量:10.8gLCMS:313.4M1工程b:tert-ブチル2-ブロモ-4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタノアートの製造工程aから得られた化合物180mg、0.576mモルをテトラヒドロフラン5mLに溶解させた溶液に、Boc無水物1mL、0.461mモルおよびN,N’-ジメチルアミノピリジン7mg、0.057mモルを添加した。反応混合物を室温で約18時間撹拌した。反応終了後、トルエンおよび酢酸エチルを使用して溶媒を共沸蒸留して、粗生成物を得た。粗化合物を、シリカゲルカラムで20酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:180mg工程c:tert-ブチル2-[4-ブロモフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタノアートの製造N-4-ブロモフェニルメタンスルホンアミド1g、0.04モルをアセトニトリル20mLに溶解させた溶液に、炭酸カリウム0.276g、0.002モルを室温で添加した。反応混合物を約15分間撹拌し、次いで、工程bから得られた化合物1.472g、0.004モルを添加した。反応混合物を約80°Cで約56時間加熱した。完了後、反応混合物を濃縮し、得られた残留物を酢酸エチルに溶解させた。有機層を水、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、分取TLCにより30酢酸エチル:ヘキサンを移動相として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:1.7gLCMS:555.9MNH4工程d:tert-ブチル4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]ブタノアートの製造工程cから得られた化合物0.205g、0.381モルを乾燥N,N’-ジメチルホルムアミド5mLに溶解させた溶液に、テトラキストリフェニルホスフィン8mg、0.007モル、炭酸カリウム0.21g、1.527モルおよび4-メトキシフェニルボロン酸0.191g、1.259モルを室温で添加した。反応混合物を105°Cに約4.5時間加熱した。4.5時間後、それを室温に冷却し、N,N’-ジメチルホルムアミドを蒸発させ、得られた残留物を酢酸エチルに溶解させた。有機層を水、食塩水で洗浄し、真空下で蒸発させて、粗生成物を得て、これを、分取TLCにより30酢酸エチル:ヘキサンを移動相として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:0.161gLCMS:587.1MNa工程e:4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸の製造工程dから得られた化合物0.144g、0.00025モルをジクロロメタン5mLに溶解させた溶液に、トリフルオロ酢酸1.2mLを0°Cで添加した。反応混合物を0°Cで約3時間撹拌し、次いで、室温で約4時間撹拌した。完了後、反応混合物をジクロロメタンで抽出し、水および食塩水で洗浄した。有機層を減圧下で蒸発させて、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムで50酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:0.113gLCMS:509.1M11HNMRCDCl3,400MHzδ:7.842H,m,7.712H,m,7.624H,m,7.512H,d,J=8Hz,6.972H,d,J=8Hz,5.041H,m,4.122H,m,3.853H,s,3.133H,s,2.361H,m,1.951H,m.実施例4:2-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸化合物番号16スキームII、経路Dの合成工程a:tert-ブチル2-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタノアートの製造tert-ブチル2-ブロモ-4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタノアート300mg、0.815mモルをN,N’-ジメチルホルムアミド5mLに溶解させた溶液に、N-ビフェニル-4-イルメタンスルホンアミド161mg、0.652mモルおよび炭酸カリウム112mg、0.815mモルを添加した。反応混合物を80°Cで約7.5時間加熱した。完了後、反応混合物を室温に冷却し、水をそれに添加した。反応混合物を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで40酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:152mgLCMS:552.1ΜΝΗ4工程b:2-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸の製造工程aから得られた化合物152mg、0.0002モルをジクロロメタン10mLに溶解させた氷冷溶液に、トリフルオロ酢酸0.7mLを添加し、室温で約2.5時間撹拌した。反応終了後、溶媒を蒸発させ、反応混合物をジクロロメタンに溶解させ、水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、濃縮して、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで40酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:41.6mgLCMS:479.0M11HNMRMeOH-d6,400MHz:δ7.854H,m,7.784H,m,7.632H,m,7.452H,m,7.361H,m,4.881H,m,3.862H,m,3.153H,s,2.361H,m,1.891H,m.上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号17;LCMS:510.1M1実施例5:2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号19Rkがハロゲンである場合スキームIII、経路Eの合成工程a:N-4-ブロモフェニル-N-2-オキソテトラヒドロフラン-3-イルメタンスルホンアミドの製造0°Cのα-ヒドロキシラクトン673mg、0.0072モル溶液に、N-4-ブロモフェニルメタンスルホンアミド1.5g、0.006モルおよびトリフェニルホスフィン2.35g、0.009モルを添加した。反応混合物を0°Cで約15分間撹拌し、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート1.8g、0.0009モルを添加した。反応混合物を再度0°Cで約30分間撹拌した。完了後、反応混合物を濃縮して、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムで40酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:920mgLCMS:351.18および353.12ΜΝΗ4工程b:ナトリウム2-[4-ブロモフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-ヒドロキシブタノアートの製造工程aから得られた化合物1.5g、0.0044モルをメタノール10mLに溶解させた溶液に、水酸化ナトリウム79mg、0.0044モルを添加し、室温で約1時間撹拌した。完了後、反応混合物を濃縮して、酢酸エチルを添加し、デカントして、所望の生成物を得た。収量:850mg.工程c:ベンジルN-4-ブロモフェニル-N-メチルスルホニルホモセリネートの製造工程bから得られた化合物800mg、0.0022モルをN,N’-ジメチルホルムアミド5mLに0°Cで溶解させた溶液に、臭化ベンジル388mg、0.0022モルを添加した。反応混合物を室温で一晩撹拌した。完了後、反応混合物を水で洗浄しながら酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、濃縮して、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムで70酢酸エチル:ヘキサンを使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:850mg.工程d:ベンジルN-4-ブロモフェニル-O-[tert-ブチルジメチルシリル]-N-メチルスルホニルホモセリネートの製造工程cから得られた化合物800mg、0.0018モルをN,N’-ジメチルホルムアミド8mLに溶解させた溶液に、tert-ブチルジメチルシリルクロリド325mg、0.0021モルおよびイミダゾール369mg、0.0054モルを添加した。反応混合物を室温で約1時間撹拌した。完了後、水を添加することによって反応混合物をクエンチし、酢酸エチルで抽出した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、所望の生成物を得た。収量:1.2gLCMS:556.77および558.78M1工程e:ベンジルO-[tert-ブチルジメチルシリル]-N-[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]-N-メチルスルホニルホモセリネートの製造工程dから得られた化合物1.7g、0.0045モルをN,N’-ジメチルホルムアミド20mLに溶解させた溶液に、5-メトキシピリジンボロン酸929mg、0.0061モル、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0176mg、0.0008モルおよび炭酸カリウム1.26g、0.0091モルを添加した。添加終了後、反応混合物を110°Cに約3時間加熱した。3時間後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を水で洗浄しながら酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムで40酢酸エチルを使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:1.3g工程f:ベンジルN-[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]-N-メチルスルホニルホモセリネートの製造工程eから得られた化合物1.1g、0.0019モルをジクロロメタン20mLに溶解させた溶液に、三フッ化ホウ素エーテラートBF3.OEt1.1g、0.0095モルを室温でゆっくりと添加した。反応混合物を室温で約1時間撹拌した。完了後、反応混合物を重炭酸ナトリウム飽和溶液でクエンチし、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、濃縮して、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで40酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:750mgLCMS:471.30M1工程g:ベンジル2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタノアートの製造工程fから得られた化合物250mg、0.531mモルをテトラヒドロフラン15mLに0°Cで溶解させた溶液に、ベンゾトリアジノン78mg、0.531mモルおよびトリフェニルホスフィン278mg、1.063mモルを添加した。反応混合物を0°Cで約15分間撹拌し、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート161mg、0.797mモルを同じ温度で添加した。反応混合物を再度同じ温度で約1時間撹拌した。反応終了後、溶媒を減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで40酢酸エチル:ヘキサンを使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:200mg.LCMS:600.88M1工程h:2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸の製造工程gから得られた化合物200mgをテトラヒドロフラン10mLに溶解させた溶液に、10Pd/C200mgを添加し、Parr装置において、水素を55psi、室温で約8時間供給した。完了後、反応混合物をセライトパッドに通してろ過し、残留物を20メタノール:ジクロロメタンで洗浄した。ろ過物を濃縮して、固形物を得て、これを酢酸エチルで処理した。酢酸エチル層をデカントして、所望の生成物を得た。収量:18mgLCMS:510.70M11HNMRDMSO-d6,400MHzδ:8.521H,s,8.251H,d,J=8Hz,8.181H,d,J=8Hz,8.052H,m,7.921H,m,7.762H,d,J=8Hz,7.662H,d,J=8Hz,6.921H,d,J=8Hz,4.483H,m,3.903H,s,3.293H,s,2.31H,m,1.901H,m.上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。4-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号20;LCMS:540.71M12-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号21;LCMS:578.74M1実施例6:2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号32スキームIII、経路Fの合成工程a:ベンジル2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタノアートの製造ベンジルN-4-メトキシフェニル-N-メチルスルホニルホモセリネート200mg、0.508モルをテトラヒドロフラン15mLに溶解させた溶液に、トリフェニルホスフィン200mg、0.763モルおよびベンゾトリアジノン82mg、0.550モルを0°Cで添加した。反応混合物を約15分間撹拌し、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート154mg、0.763モルをそれに0°Cで添加した。反応混合物を再度室温で約2時間撹拌した。完了後、溶媒を蒸発させて、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムで30酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:180mg工程b:2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸の製造工程aから得られた化合物180mgを溶解させたテトラヒドロフラン10mLおよびメタノール10mLに、10Pd/C60mgを添加し、Parr装置において、水素ガスを50psi、室温で約1時間供給した。1時間後、反応混合物をセライトパッドに通してろ過し、得られた残留物を10メタノール:ジクロロメタンで洗浄した。ろ過物を減圧下で濃縮して、所望の化合物を得た。収量:24mgLCMS:433.69M11HNMRMeOD,400MHz:δ8.311H,d,J=8Hz,8.141H,d,J=8Hz,8.031H,m,7.881H,m,7.582H,d,J=8Hz,6.922H,d,J=8Hz,4.921H,m,4.57-4.672H,m,3.793H,s,3.143H,s,2.481H,m,2.021H,m.上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号23;LCMS:539.84M14-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号24;LCMS:523.78M12-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号25;LCMS:572.86M12-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号26;LCMS:509.74M14-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号33;LCMS:463.79M14-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号34;LCMS:433.63M12-[4-メトキシフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸化合物番号35;LCMS:469.70M14-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号36;LCMS:539.84M14-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{[4-4-メチルフェノキシフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号37;LCMS:523.85M12-[メチルスルホニルフェニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号58;LCMS:402.85M14-5-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号104;LCMS:473.67M12-[4-ブロモフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号105;LCMS:481.54および483.51M12-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号106;LCMS:437.33M12-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号107;LCMS:451.70M12-[4-クロロフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号108LCMS:467.75M1実施例7:2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸化合物番号59スキームIII、経路Gの合成工程a:プロパ-2-エン-1-イル2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタノアートの製造ヒドロキシル誘導体0.250g、0.591モルをテトラヒドロフラン10mLに溶解させた溶液に、トリフェニルホスフィン0.232g、0.88モルおよび4-メチルフタルイミド0.104g、0.65モルを0°Cで添加した。反応混合物を約15分間撹拌し、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート0.179g、0.0.88モルをそれに0°Cで添加した。反応混合物を再度室温で約2時間撹拌した。完了後、溶媒を蒸発させて、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムで30酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:0.25g.工程b:2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸の製造工程aから得られた化合物250mg、0.441モルを0°Cで溶解させたアセトニトリル10mLに、テトラキストリフェニルホスフィン51mg、0.044モルおよびモルホリン384mg、4.4モルを添加した。反応混合物を0°Cで約3時間撹拌した。3時間後、水を添加することによって反応混合物を希釈し、酢酸エチルで抽出した。得られた水層を重亜硫酸ナトリウムで酸性にし、酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、分取TLCにより10メタノール:ジクロロメタンを移動相として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:35mgLCMS:526.84M11HNMRMeOH-d6,400MHzδ:7.782H,d,J=8Hz,7.701H,d,J=4Hz,7.616H,m,7.432H,m,4.731H,m,3.72-3.902H,m,3.203H,s,2.483H,s,2.311H,m,1.771H,m.上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号60;LCMS:546.66M2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-7-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号61;LCMS:546.73および548.68M12-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号62;LCMS:526.70および528.72M12-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号63;LCMS:580.74M12-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号64;LCMS:542.76M12-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-5-フルオロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号65;LCMS:530.73M12-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-1-メチル-2,4-ジオキソ-1,4-ジヒドロキナゾリン-32H-イルブタン酸化合物番号66;LCMS:543.6M1実施例8:2-[{4-[4-メチルフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号68スキームIII、経路Hの合成工程a:tert-ブチル4-{メチルスルホニル[1-オキソ-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-1-プロパ-2-エン-1-イルオキシブタン-2-イル]アミノ}ベンゾアートの製造ヒドロキシル誘導体1.4g、3.389mモルをテトラヒドロフランtetrahyrofuran20mLに0°Cで溶解させた溶液に、トリフェニルホスフィン1.77g、6.779mモルおよび1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オン0.498g、3.389mモルを添加し、5分後、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート1.027g、5.084mモルを同じ温度で添加した。次いで、反応混合物を同じ温度で約30分間撹拌した。溶媒を蒸発させ、シリカゲル60~120メッシュカラムで40EtOAc:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、3gmの生成物を得た。LCMS:542.83M1工程b:4-{メチルスルホニル[1-オキソ-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-1-プロパ-2-エン-1-イルオキシブタン-2-イル]アミノ}安息香酸の製造工程aから得られた化合物3g、5.535mモルをジクロロメタン30mLに溶解させた溶液に、トリフルオロ酢酸6mL、28.782mmolを室温で添加した。反応混合物を同じ温度で約2時間撹拌した。2時間後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を重炭酸ナトリウム水溶液によって中性にした。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で蒸発させて、所望の生成物を得た。収量:1gLCMS:486.78M1上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。4-{メチルスルホニル[1-オキソ-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-1-プロパ-2-エン-1-イルオキシブタン-2-イル]アミノ}安息香酸化合物番号67;LCMS:486.78M1工程c:プロパ-2-エン-1-イル2-[{4-[4-メチルフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタノアートの製造工程bから得られた化合物400mg、0.823mモルをN,N’-ジメチルホルムアミド20mLに溶解させた氷冷溶液に、p-トルイジンtoludine88mg、0.823mモル、1-3-ジメチルアミノプロピル-3-エチルカルボジイミドヒドロクロリド236mg、1.234mモル、N,N’-ジメチルアミノピリジン20mg、0.164mモルおよびヒドロキシベンゾトリアゾール111mg、0.823mモルを添加した。反応混合物を室温で約12時間撹拌した。完了後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で蒸発させて、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムで80酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:520mg工程d:2-[{4-[4-メチルフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸の製造工程cから得られた化合物520mg、0.904mモルをアセトニトリル25mLに溶解させた氷冷溶液に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0208mg、0.180mモルおよびモルホリン786mg、9.043mモルを添加した。反応混合物を同じ温度で約30分間撹拌した。30分後、溶媒を蒸発させ、重硫酸ナトリウム水溶液を使用して反応混合物を酸性にし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、分取TLCで10メタノール:ジクロロメタンを移動相として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:250mg.LCMS:535.84M1,557.82MNa1HNMRDMSO-d6,400MHz:δ10.31H,s,8.252H,m,8.201H,m,8.06-8.103H,m,7.964H,m,7.152H,d,J=8Hz,4.781H,m.4.512H,m,3.163H,s,2.421H,m,2.203H,s,1.95lH,m.上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。2-[{4-[4-クロロフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号69;LCMS:555.74および557.72M12-{メチルスルホニル[4-フェニルカルバモイルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号70;LCMS:521.80M12-[{4-[3-フルオロフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号71;LCMS:539.74M12-[メチルスルホニル4-{[4-プロパン-2-イルフェニル]カルバモイル}フェニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号72;LCMS:563.80M12-[{4-[4-メトキシフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号73;LCMS:551.77M12-[{4-[4-フルオロフェニルカルバモイル]フェニル}メチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号74;LCMS:539.74M12-[メチルスルホニル4-{[4-トリフルオロメチルフェニル]カルバモイル}フェニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号75;LCMS:589.75M1実施例9:4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタン酸化合物番号51スキームIVの合成工程a:ベンジル4-{[tert-ブチルジメチルシリル]オキシ}-2-ヒドロキシブタノアートの製造ベンジル2,4-ジヒドロキシブタノアート10.4g、49.52mモルをジクロロメタン100mLに溶解させた氷冷溶液に、トリエチルアミン8.3mL、59.42mモルを添加し、その後、tert-ブチルジメチルシリルクロリド8.20g、54.47mモルおよびN,N’-ジメチルアミノピリジン241mg、1.98mモルを添加した。反応混合物を室温で約1時間撹拌した。完了後、水を添加することによって反応混合物をクエンチし、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で濃縮して、粗化合物を得た。シリカゲルを使用し、10酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として用いて溶出するカラムクロマトグラフィーにより、得られた粗化合物を精製して、所望の化合物を得た。収量:9.6gLCMS:325.67M1,347.64MNa工程b:ベンジルO-[tert-ブチルジメチルシリル]-N-メチルスルホニル-N-[4-プロパン-2-イルフェニル]ホモセリネートの製造工程aから得られた化合物1g、3.08mモルをテトラヒドロフラン5mLに溶解させた氷冷溶液に、N-[4-プロパン-2-イルフェニル]メタンスルホンアミド722mg、3.39mモルおよびトリフェニルホスフィン1.21g、4.62mモルをアルゴン雰囲気下で添加した。ジイソプロピルアゾジカルボキシラート0.67mL、3.39mモルを一滴ずつ添加し、反応混合物を同じ温度で約30分間撹拌した。完了後、溶媒を真空下で蒸発させ、得られた粗化合物を、シリカゲルで20酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:1.7g.工程c:ベンジルN-メチルスルホニル-N-[4-プロパン-2-イルフェニル]ホモセリネートの製造工程bから得られた化合物1.7g、3.27mモルをジクロロメタン10mLに溶解させた溶液に、三フッ化ボランエーテラートBF3.OEt22mL、16.35mモルを室温でゆっくりと添加した。反応混合物を室温で約1時間撹拌した。完了後、反応混合物を重炭酸ナトリウム飽和溶液でクエンチし、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で濃縮して、粗化合物を得た。得られた粗化合物を、シリカゲルカラムで40酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として用いる溶出で精製して、所望の生成物を得た。収量:510mg工程d:ベンジル4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタノアートの製造工程cから得られた化合物170mg、0.41mモルをテトラヒドロフラン10mLに溶解させた氷冷溶液に、フタルイミド67mg、0.46mモルおよびトリフェニルホスフィン161mg、0.61mモルを添加した。ジイソプロピルアゾジカルボキシラート0.09mL、0.46mモルを反応混合物に添加し、同じ温度で約30分間撹拌した。完了後、溶媒を蒸発させ、得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで50酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:150mg工程e:4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタン酸の製造工程dから得られた化合物150mg、0.280mモルをテトラヒドロフラン10mLに室温で溶解させた溶液に、10Pd/C100mgを添加し、バルーンによって水素ガスを供給した。反応混合物を同じ温度で約30分間撹拌した。完了後、反応混合物をセライトパッドを使用してろ過し、得られた残留物を10メタノール:ジクロロメタン溶液で洗浄した。ろ過物を濃縮して、分取TLCで10メタノール:ジクロロメタンを移動相として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:30mg.LCMS:445.79M1,467.75MNa1HNMRMeOO-d6,400MHzδ:7.78-7.852H,m,7.521H,d,J=8Hz,7.291H,d,J=8Hz,4.901H,m,3.74-3.912H,m,3.293H,s,2.931H,m,2.201H,m,1.791H,m,1.256H,dd,J=8Hz.上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタン酸化合物番号52;LCMS:475.82M14-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-{メチルスルホニル[4-プロパン-2-イルフェニル]アミノ}ブタン酸化合物番号53;LCMS:459.83M14-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号54;LCMS:431.75M12-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-5-メチル-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イルブタン酸化合物番号55;LCMS:445.79M12-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号56;LCMS:445.79M12-[4-エチルフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-6-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号57;LCMS:461.79M1実施例10:2-[3’,4’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号27スキームVの合成工程a:3-[2-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4-イルエチル]-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オンの製造4-2-ヒドロキシエチル-2,2-ジメチル1,3-ジオキソラン3.8g、0.025モルをテトラヒドロフラン50mLに溶解させた氷冷溶液に、ベンゾトリアジノン4.2g、0.028モルおよびトリフェニルホスフィン13.6g、0.051モルを添加した。反応混合物を0°Cで約15分間撹拌し、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート7.3mL、0.038モルをそれに添加した。反応混合物を再度室温で約2時間撹拌した。反応終了後、溶媒を真空下で蒸発させて、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムで30酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:11gLCMS:294.99MNa工程b:3-3,4-ジヒドロキシブチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オンの製造工程aから得られた化合物11g、39.954mモルをアセトン60mLに溶解させた溶液に、濃HCl12mLを添加し、反応混合物を室温で約1時間撹拌した。1時間後、溶媒を減圧下で蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で蒸発させて、粗化合物を得た。得られた粗化合物を、シリカゲルカラムで70酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:4.5gLCMS:236.49M1工程c:2-ヒドロキシ-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブチルベンゾアートの製造工程bから得られた化合物1g、0.0042モルをジクロロメタン150mLに溶解させた氷冷溶液に、トリエチルアミン1.1mL、0.0085モルおよび塩化ベンゾイル0.5mL、0.0042モルを添加し、同じ温度で約2時間撹拌し、室温で約3時間撹拌した。完了後、反応混合物を水で希釈し、ジクロロメタンで抽出した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで70酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:1.8gLCMS:340.59M1工程d:2-[4-ブロモフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブチルベンゾアートの製造工程cから得られた化合物1.8g、0.0053モルをテトラヒドロフラン20mLに溶解させた氷冷溶液に、トリフェニルホスフィン2.78g、0.0161モルおよびN-4-ブロモフェニルメタンスルホンアミド1.46g、0.00584モルを添加した。反応混合物を約15分間撹拌し、次いで、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート1.5mL、0.00796モルを同じ温度で添加した。反応混合物を再度室温で約1時間撹拌した。1時間後、溶媒を減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムで30酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:1.3g.工程e:2-[3’,4’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブチルベンゾアートの製造工程dから得られた化合物400mg、0.0007モルをN,N’-ジメチルホルムアミド15mLに溶解させた溶液に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム040mg、0.000035モル、炭酸カリウム290mg、0.0021モルおよび3,4-ジフルオロベンゼンボロン酸221mg、0.0014モルを添加した。反応物を110°Cに約3時間加熱した。3時間後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルに溶解させ、水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで50酢酸エチル:ヘキサンを使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:300mgLCMS:606.27M2.工程f:N-3’,4’-ジフルオロビフェニル-4-イル-N-[1-ヒドロキシ-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン-2-イル]メタンスルホンアミドの製造工程eから得られた化合物300mg、0.496モルをメタノール10mLおよびテトラヒドロフラン10mLに溶解させた溶液に、炭酸カリウム102mg、0.745モルを添加し、室温で約1時間撹拌した。1時間後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルに溶解させた。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムで60酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:200mgLCMS:501.81M1工程g:2-[3’,4’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸の製造工程fから得られた化合物200mg、0.4モルをアセトニトリル10mLに溶解させた溶液に、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-N-オキシル6mg、0.04モル、亜塩素酸ナトリウム72mg、0.8モルおよび5次亜塩素酸ナトリウム水溶液59mg、0.8モルを添加した。反応物を35°Cに約6時間加熱した。6時間後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルに溶解させた。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、分取TLCで10メタノール:ジクロロメタンを移動相として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:30mg.LCMS:515.72M11HNMRDMSO-d6,400MHz:δ8.282H,d,J=4Hz,8.221H,d,J=8Hz,8.121H,dd,J=8および4Hz,7.961H,m,7.854H,m,7.582H,m,4.741H,d,J=8HZ,4.562H,m,-NCH2,3.213H,s,2.482H,m.上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。4-1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2H-イソインドール-2-イル-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}ブタン酸化合物番号22;LCMS:510.69M12-[4’-エチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号28;LCMS:507.79M12-{[4-2-メトキシピリミジン-5-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号29;LCMS:511.76M12-[3’-フルオロ-4’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号30;LCMS:511.76M12-[2’,4’-ジメトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号31;LCMS:539.84M12-[3’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号38;LCMS:509.81M12-[4’-フルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号39;LCMS:497.78M12-{メチルスルホニル[4’-プロパン-2-イルビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号40;LCMS:521.82M12-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号41;LCMS:479.78M12-{[4-6-メチルピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号42;LCMS:494.83M12-{メチルスルホニル[4-ピリミジン-5-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号43;LCMS:481.79M12-{メチルスルホニル[4-ピリジン-3-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号44;LCMS:480.79M12-{メチルスルホニル[4’-トリフルオロメチルビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号45;LCMS:547.83M12-{メチルスルホニル[4-ピリジン-4-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号46;LCMS:480.7969M12-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号47;LCMS:547.76および549.71M12-[4’-tert-ブチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号48;LCMS:535.87M12-[2’,3’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号49;LCMS:515.79M12-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号50;LCMS:527.81M1実施例11:2R-2-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号79;スキームVの合成工程a:3-[2-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4-イルエチル]-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オンの製造4-2-ヒドロキシエチル-2,2-ジメチル1,3-ジオキソラン20g、0.136モルをテトラヒドロフラン200mLに溶解させた氷冷溶液に、ベンゾトリアジノン22g、0.150モルおよびトリフェニルホスフィン71g、0.273モルを添加した。反応混合物を0°Cで約15分間撹拌し、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート41.5g、0.205モルをそれに添加した。反応混合物を再度室温で約2時間撹拌した。反応終了後、溶媒を真空下で蒸発させて、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムで30酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:69g工程b:3-3,4-ジヒドロキシブチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-43H-オンの製造工程aから得られた化合物69g、0.250モルをアセトン200mLに溶解させた溶液に、濃HCl70mLを添加し、反応混合物を室温で約1時間撹拌した。1時間後、溶媒を減圧下で蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空下で蒸発させて、粗化合物を得た。得られた粗化合物を、シリカゲルカラムで70酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:21g工程c:2-ヒドロキシ-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブチルベンゾアートの製造工程bから得られた化合物21g、0.089モルをジクロロメタン100mLに溶解させた氷冷溶液に、トリエチルアミン27g、0.268モルおよび塩化ベンゾイル15.5mL、0.134モルを添加し、同じ温度で約3時間撹拌した。完了後、反応混合物を水で希釈し、ジクロロメタンで抽出した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウム溶液で脱水し、真空下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで70酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:16g工程d:2-[4-ブロモフェニルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブチルベンゾアートの製造工程cから得られた化合物11g、0.032モルをテトラヒドロフラン100mLに溶解させた氷冷溶液に、トリフェニルホスフィン17g、0.064モルおよびN-4-ブロモフェニルメタンスルホンアミド8.95g、0.035モルを添加した。反応混合物を約15分間撹拌し、次いで、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート9.8g、0.048モルを同じ温度で添加した。反応混合物を再度室温で約1時間撹拌した。1時間後、溶媒を減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムで30酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:1.3g.工程e:2-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブチルベンゾアートの製造工程dから得られた化合物0.8g、0.0014モルをN,N’-ジメチルホルムアミド20mLに溶解させた溶液に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム00.08g、0.00007モル、炭酸カリウム.58g、0.0042モルおよび3,4-クロロベンゼンボロン酸0.535g、0.0028モルを添加した。反応物を110°Cに約3時間加熱した。3時間後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルに溶解させ、水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで50酢酸エチル:ヘキサンを使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:850mg工程f:N-3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イル-N-[1-ヒドロキシ-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン-2-イル]メタンスルホンアミドの製造工程eから得られた化合物0.85g、0.00133モルをメタノール15mLに溶解させた溶液に、炭酸カリウム0.276g、0.0020モルを添加し、室温で約1時間撹拌した。1時間後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルに溶解させた。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムで60酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:0.430g.LCMS:533.13M工程g:2-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸の製造工程fから得られた化合物0.43g0.0008モルをアセトニトリル15mLに溶解させた溶液に、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-N-オキシル0.012g、0.000007モル、亜塩素酸ナトリウム0.145g、0.0016モルおよび5次亜塩素酸ナトリウム水溶液0.12g、0.0016モルを添加した。反応物を35°Cに約6時間加熱した。6時間後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を酢酸エチルに溶解させた。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、分取TLCで10メタノール:ジクロロメタンを移動相として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:0.15g.1HNMRDMSO-d6,400MHz:8.222H,m,8.161H,m,8.03-8.052H,m,7.67-7.716H,m,4.631H,m,4.552H,m,3.153H,s,2.141H,m,1.991H,mLCMS:547.11M1上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。2R-2-[4’-フルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号76;LCMS:497.19M12R-2-{メチルスルホニル[4-ピリミジン-5-イルフェニル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号77;LCMS:481.21M12R-2-{メチルスルホニル[4’-プロパン-2-イルビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号78;LCMS:521.29M12R-2-[3’,4’-ジフルオロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号80;LCMS:515.22M12R-2-[3’-フルオロ-4’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号81;LCMS:511.32M12R-2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号82;LCMS:513.71M12R-2-[3’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号83;LCMS:509.25M12R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号84;LCMS:527.22M12R-2-[ビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号85;LCMS:479.25M12R-2-{[4-6-メトキシピリジン-3-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号86;LCMS:510.169M12S-2-[4’-クロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号87;LCMS:513.23M12S-2-[3’,4’-ジクロロビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号88;LCMS:547.22および549.11M12S-2-[3’-フルオロ-4’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号89;LCMS:511.27M12S-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号90;LCMS:527.28M12R-2-[3’,4’-ジメトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号91;LCMS:537.5M-12R-2-{[4-2,3-ジヒドロ-1,4-ベンゾジオキシン-6-イルフェニル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号92;LCMS:537.30M12R-2-[4’-メトキシ-3’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号93;LCMS:545.22M12R-2-[4’-フルオロ-3’-メチルビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号94;LCMS:533.27M12R-2-{メチルスルホニル[4’-トリフルオロメトキシビフェニル-4-イル]アミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号95;LCMS:563.16M12R-2-{[4’-クロロ-3’-トリフルオロメチルビフェニル-4-イル]メチルスルホニルアミノ}-4-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号96;LCMS:581.9M1実施例12:2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸化合物番号97スキームVIの合成工程a:4S-4-[2-ベンジルオキシエチル]-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソランの製造2-[4S-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4-イル]エタノール5g、34.24mモルをN,N’-ジメチルホルムアミド50mLに溶解させた氷冷溶液に、水素化ナトリウム1.06g、44.52mモルを添加し、約15分間撹拌した。15分後、臭化ベンジル7.02g、41.09mモルを添加し、再度同じ温度で約1時間撹拌した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を添加し、溶媒を真空下で蒸発させた。反応混合物を酢酸エチルに溶解させ、水で洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで20酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:8gLCMS:237.30Ml工程b:2S-4-ベンジルオキシブタン-1,2-ジオールの製造工程aから得られた化合物8gをアセトン50mLに溶解させた溶液に、塩酸12mL、11Nを室温で添加し、室温で約3時間撹拌した。反応終了後、溶媒を減圧下で蒸発させ、重炭酸ナトリウム水溶液を添加することによって、pHを中性に調整した。反応混合物を水で洗浄しながら酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで20酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:5gLCMS:197.24Ml工程c:2S-4-ベンジルオキシ-2-ヒドロキシブチルベンゾアートの製造工程bから得られた化合物5g、31.05mモルをジクロロメタン100mLに溶解させた氷冷溶液に、トリエチルアミン9.4g、93.16mモルおよび塩化ベンゾイル3.9g、27.95mモルを添加した。反応混合物を同じ温度で約45分間撹拌した。45分後、反応混合物を水で洗浄しながらジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで60酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:5gLCMS:301.25Ml工程d:2R-4-ベンジルオキシ-2-[4-ブロモフェニルメチルスルホニルアミノ]ブチルベンゾアートの製造工程cから得られた化合物5g、16.66mモルをテトラヒドロフラン100mLに0°Cで溶解させた溶液に、トリフェニルホスフィン8.7g、33.33モル、N-4-ブロモフェニルメタンスルホンアミド4.58g、18.33mモルおよびジイソプロピルアゾジカルボキシラート5g、25mモルを添加した。反応混合物を同じ温度で約1時間撹拌した。その後、反応混合物を濃縮して、粗生成物を得て、これを、シリカゲルカラムのカラムクロマトグラフィーで60酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:14gLCMS:534.04M2工程e:2R-4-ベンジルオキシ-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]ブチルベンゾアートの製造工程dから得られた化合物5g、9.398mモルをN,N’-ジメチルホルムアミド50mLに溶解させた溶液に、3-フルオロ-4-メトキシフェニルボロン酸3.19g、18.796mモル、炭酸カリウム3.89g、28.195mモルおよびテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0542mg、0.469mモルを添加した。反応混合物を110°Cに約3時間加熱した。3時間後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を水で洗浄しながら酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで30酢酸エチルヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:4.3g工程f:2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-ヒドロキシブチルベンゾアートの製造工程eから得られた化合物4.39g、0.008モルをテトラヒドロフラン60mLおよびメタノール40mLに溶解させた溶液に、Pd/C2.5gを、バルーンを使用して供給した水素ガスの存在下で添加した。反応混合物を室温で一晩撹拌した。完了後、反応混合物をセライトに通してろ過し、このようにして得られた残留物を10メタノール:ジクロロメタン200mLで洗浄した。ろ過物を回収し、乾燥させて、所望の化合物を得た。収量:2.5gLCMS:488.16工程g:2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブチルベンゾアートの製造工程fから得られた化合物2.5g、0.0051モルをテトラヒドロフラン30mLに溶解させた溶液に、7-トリフルオロメトキシベンゾトリアジノン1.21g、0.00564モルおよびトリフェニルホスフィン2.68g、0.010モルを、窒素雰囲気下、室温で添加した。5分後、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート1.55g、0.0077モルを窒素雰囲気下で添加し、反応混合物を同じ温度で約1時間撹拌した。完了後、反応混合物を酢酸エチルで抽出し、水で洗浄した。一緒にした有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで30酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:4.2gLCMS:685.15M1工程h:N-3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イル-N-{2R-1-ヒドロキシ-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン-2-イル}メタンスルホンアミドの製造工程gから得られた化合物4.2g、0.00614モルをメタノール40mLに室温で溶解させた溶液に、炭酸カリウム1.27g、0.00921モルをアルゴン雰囲気下で添加した。反応混合物を同じ温度で約1時間撹拌した。完了後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を水で洗浄しながら酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、シリカゲルカラムで40酢酸エチル:ヘキサンを溶出液として使用して精製して、所望の化合物を得た。収量:3.1gLCMS:581.04工程i:2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-[4-オキソ-7-トリフルオロメチル-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル]ブタン酸の製造工程hから得られた化合物900mg、1.552mモルをアセトニトリル:四塩化炭素:水12ml:12ml:16mlに室温で溶解させた溶液に、三塩化ルテニウム13mg、0.062mモルおよび過ヨウ素酸ナトリウム996mg、4.66mモルを添加した。反応混合物を同じ温度で約30分間撹拌した。完了後、溶媒を蒸発させ、反応混合物を水で洗浄しながら酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物を、分取TLCで10メタノール:ジクロロメタンを移動相として使用して精製して、所望の生成物を得た。収量:107mgLCMS:595Ml1HNMRDMSO-d6,400MHz:δ8.591H,s,8.441H,d,J=8Hz,8.221H,d,J=8Hz,7.712H,d,J=8Hz,7.593H,m,7.501H,d,J=8Hz,7.251H,t,J=8Hz,4.821H,m,4.552H,m,3.883H,s,-OCH3,3.173H,s,S-CH3,2.41H,m,1.90lH,m.上記合成経路にしたがって、以下の化合物を製造できる。2R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-8-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号98;LCMS:541.11M12R-4-7-クロロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イル-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]ブタン酸化合物番号99;LCMS:561.00M12R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-7-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号100;LCMS:557.10M12R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-6-メチル-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号101;LCMS:541.05M12R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-8-メトキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号102;LCMS:557.10M12R-2-[3’-フルオロ-4’-メトキシビフェニル-4-イルメチルスルホニルアミノ]-4-6-フルオロ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン-34H-イルブタン酸化合物番号103;マトリックスメタロプロテイナーゼMMPのアッセイ本発明の新規化学物質NCEおよび本発明で使用する対応する標準は、100DMSO中で調製し原液10mM、その後に50DMSO-50TCNB50mMトリス、10mMCaCl2、150mMNaCl、0.05ブリッジ-35、pH7.5で希釈を行った。1μlの化合物および88μlのTCNBを96ウェルプレートのウェルに添加し、NCEの所望の最終濃度を達成した最終DMSO濃度は、0.5を超えるべきではない。1μlの活性化した組換えMMPを、陰性ウェルを除く各ウェルに添加した20~100ng/100μl反応混合物。MMP-1、MMP-9およびMMP-14酵素は、予備活性化を必要とする。このために、供給した酵素を、APMA最終濃度1mMと共に、37°Cで1時間インキュベートした。インキュベーションを、室温~25°Cで4分間~5分間行った。反応は、10μlの100μM基質ES001:アリコートをTCNBで新たに希釈した;原液:2mMを用いて開始し、蛍光の増加を、励起波長320nmで監視し、次いで405nmでの発光を25~30サイクルについて監視した。蛍光の増加RFUを、陽性ウェル、陰性ウェル、およびNCE/標準ウェルについて算出した。対照と比べた阻害を算出し、IC50値をGraph-prismソフトウエアを使用して決定した。MMP9に対する活性は、10マイクロモル未満のIC50値を提供した。MMP12に対する活性は、35ナノモル~10マイクロモルのIC50値を提供した。"