"第1の基準波長と当該第1の基準波長とは異なる第2の基準波長との間で波長走査が可能な第1の光源と、前記第1の基準波長および前記第2の基準波長と異なる第3の基準波長の光を射出する第2の光源のそれぞれからの光の被検面による反射光である被検光と参照面による反射光である参照光の干渉光を検出する検出部と、前記干渉光の信号から前記被検面と前記参照面との間の光路長に相当する位相を求め、前記位相の誤差を補正し、前記誤差が補正された位相に基づいて前記被検面と前記参照面の間の絶対距離を算出する処理部と、を有し、前記処理部は、前記第1の基準波長について求められる第1の実測位相φ1’と前記第2の基準波長について求められる第2の実測位相φ2’に含まれる共通の位相誤差Δφtを次式により算出して前記第1の実測位相φ1’と前記第2の実測位相φ2’から除くことにより前記位相の誤差を補正することを特徴とする計測装置。ここで、φ3’は前記第3の基準波長においてについて求められる第3の実測位相、n3は前記検出部が検出する前記第3の基準波長における屈折率、λ3は前記第3の基準波長、Λ12は前記第1の基準波長と前記第2の基準波長との合成波長である第1の合成波長、φ12は前記第1の実測位相と前記第2の実測位相の差である前記第1の合成波長の位相、Λ13は前記第1の基準波長と前記第3の基準波長との合成波長である第2の合成波長、φ13は前記第1の実測位相と前記第3の実測位相の差である前記第2の合成波長の位相、ng12は前記検出部が検出する前記第1の合成波長における群屈折率、ng13は前記検出部が検出する前記第2の合成波長における群屈折率である。前記処理部は、前記第3の実測位相に含まれる位相誤差Δφfを次式により算出して前記第3の実測位相から除くことを特徴とする請求項1に記載の計測装置。第1の基準波長と当該第1の基準波長とは異なる第2の基準波長との間で波長走査が可能な第1の光源と、前記第1の基準波長および前記第2の基準波長と異なる第3の基準波長の光を射出する第2の光源のそれぞれからの光の被検面による反射光である被検光と参照面による反射光である参照光の干渉光を検出する検出部と、前記干渉光の信号から前記被検面と前記参照面との間の光路長に相当する位相を求め、前記位相の誤差を補正し、前記誤差が補正された位相に基づいて前記被検面と前記参照面の間の絶対距離を算出する処理部と、を有し、前記処理部は、前記第1の基準波長について求められる第1の実測位相φ1’と前記第2の基準波長について求められる第2の実測位相φ2’に含まれる共通の位相誤差Δφtを次式により算出して前記第1の実測位相φ1’と前記第2の実測位相φ2’から除くことにより前記位相の誤差を補正することを特徴とする計測装置。ここで、φ3’は前記第3の基準波長について求められる第3の実測位相、n3は前記検出部が検出する前記第3の基準波長における屈折率、λ3は前記第3の基準波長、Λ13は前記第1の基準波長と前記第3の基準波長との合成波長である第2の合成波長、φ13は前記第1の実測位相と前記第3の実測位相の差である前記第2の合成波長の位相、ng13は前記検出部が検出する前記第2の合成波長における群屈折率、Λ23は前記第2の基準波長と前記第3の基準波長との合成波長である第3の合成波長、φ23は前記第2の実測位相と前記第3の実測位相の差である前記第3の合成波長の位相、ng23は前記検出部が検出する前記第3の合成波長における群屈折率である。前記処理部は、前記第3の実測位相に含まれる位相誤差Δφfを次式により算出して前記第3の実測位相から除くことを特徴とする請求項1に記載の計測装置。前記処理部は、前記被検面を移動させながら前記共通の位相誤差を平均することによって前記共通の位相誤差を算出することを特徴とする請求項1乃至4のうち1項に記載の計測装置。前記処理部は、前記共通の位相誤差を設定された期間ごとに補正することを特徴とする請求項1乃至4のうち1項に記載の計測装置。第1の基準波長と当該第1の基準波長とは異なる第2の基準波長との間で波長走査が可能な第1の光源と、前記第1の基準波長および前記第2の基準波長と異なる第3の基準波長の光を射出する第2の光源のそれぞれからの光の被検面による反射光である被検光と参照面による反射光である参照光の干渉光の信号から前記被検面と前記参照面との間の光路長に相当する位相を取得するステップと、該取得される前記位相の誤差を補正するステップと、前記誤差が補正された位相に基づいて前記被検面と前記参照面の間の絶対距離を算出するステップと、を有し、前記位相の誤差を補正するステップにおいて、前記第1の基準波長において取得される第1の実測位相φ1’と前記第2の基準波長において取得される第2の実測位相φ2’に含まれる共通の位相誤差Δφtを次式により算出して前記第1の実測位相φ1’と前記第2の実測位相φ2’から除くことにより前記位相の誤差を補正することを特徴とする計測方法。ここで、φ3’は前記第3の基準波長において取得される第3の実測位相、n3は前記第3の基準波長における群屈折率、λ3は前記第3の基準波長、Λ12は前記第1の基準波長と前記第2の基準波長との合成波長である第1の合成波長、φ12は前記第1の実測位相と前記第2の実測位相の差である前記第1の合成波長の位相、Λ13は前記第1の基準波長と前記第3の基準波長との合成波長である第2の合成波長、φ13は前記第1の実測位相と前記第3の実測位相の差である前記第2の合成波長の位相、ng12は前記第1の合成波長における群屈折率、ng13は前記第2の合成波長における群屈折率である。第1の基準波長と当該第1の基準波長とは異なる第2の基準波長との間で波長走査が可能な第1の光源と、前記第1の基準波長および前記第2の基準波長と異なる第3の基準波長の光を射出する第2の光源のそれぞれからの光の被検面による反射光である被検光と参照面による反射光である参照光の干渉光の信号から前記被検面と前記参照面との間の光路長に相当する位相を取得するステップと、該取得される前記位相の誤差を補正するステップと、前記誤差が補正された位相に基づいて前記被検面と前記参照面の間の絶対距離を算出するステップと、を有し、前記位相の誤差を補正するステップにおいては、前記第1の基準波長において取得される第1の実測位相φ1’と前記第2の基準波長において取得される第2の実測位相φ2’に含まれる共通の位相誤差Δφtを次式により算出して前記第1の実測位相φ1’と前記第2の実測位相φ2’から除くことにより前記位相の誤差を補正することを特徴とする計測方法。ここで、φ3’は前記第3の基準波長において取得される第3の実測位相、n3は前記第3の基準波長における群屈折率、λ3は前記第3の基準波長、Λ13は前記第1の基準波長と前記第3の基準波長との合成波長である第2の合成波長、φ13は前記第1の実測位相と前記第3の実測位相の差である前記第2の合成波長の位相、ng13は前記第2の合成波長における群屈折率、Λ23は前記第2の基準波長と前記第3の基準波長との合成波長である第3の合成波長、φ23は前記第2の実測位相と前記第3の実測位相の差である前記第3の合成波長の位相、ng23は前記第3の合成波長における群屈折率である。しかしながら、特許文献1の計測装置では、光源から干渉計に入射されるまでの引き廻し系におけるミラーや干渉計内での偏光素子などの偏光特性により原点の位相に誤差を発生する。そして、この誤差は温度などの環境変化により変化し、波長による分散を持つことから一定ではない。特許文献2の方法は、初期位相誤差の測定と除去には適しているが、温度などの環境変化によって変化する位相誤差を除去することは提案していない。また、特許文献3の方法は、合成波長と単独波長間での干渉次数の補正を行うもので、最長の合成波長における絶対位相が分からないので原点を決定するには不十分である。本発明は、高精度に被検面と参照面の間の絶対距離を計測可能な計測装置および計測方法を提供する。本発明の計測装置は、第1の基準波長と当該第1の基準波長とは異なる第2の基準波長との間で波長走査が可能な第1の光源と、前記第1の基準波長および前記第2の基準波長と異なる第3の基準波長の光を射出する第2の光源のそれぞれからの光の被検面による反射光である被検光と参照面による反射光である参照光の干渉光を検出する検出部と、前記干渉光の信号から前記被検面と前記参照面との間の光路長に相当する位相を求め、前記位相の誤差を補正し、前記誤差が補正された位相に基づいて前記被検面と前記参照面の間の絶対距離を算出する処理部と、を有し、前記処理部は、前記第1の基準波長について求められる第1の実測位相φ1’と前記第2の基準波長について求められる第2の実測位相φ2’に含まれる共通の位相誤差Δφtを次式により算出して前記第1の実測位相φ1’と前記第2の実測位相φ2’から除くことにより前記位相の誤差を補正することを特徴とする。ここで、φ3’は前記第3の基準波長においてについて求められる第3の実測位相、n3は前記検出部が検出する前記第3の基準波長における屈折率、λ3は前記第3の基準波長、Λ12は前記第1の基準波長と前記第2の基準波長との合成波長である第1の合成波長、φ12は前記第1の実測位相と前記第2の実測位相の差である前記第1の合成波長の位相、Λ13は前記第1の基準波長と前記第3の基準波長との合成波長である第2の合成波長、φ13は前記第1の実測位相と前記第3の実測位相の差である前記第2の合成波長の位相、ng12は前記検出部が検出する前記第1の合成波長における群屈折率、ng13は前記検出部が検出する前記第2の合成波長における群屈折率である。本発明によれば、位相誤差補正部によって位相誤差が補正された位相を処理部が使用するので、高精度に被検面と参照面の間の絶対距離を計測可能な計測装置および計測方法を提供することができる。図3は、本実施形態の計測装置のブロック図であり、後述する実施例1と2に共通の構成である。計測装置は、被検面14と参照面15のそれぞれで反射する光を互いに直交する2つの偏光方向を有する光束を利用して位相を高精度に検出し、それにより被検面14と参照面15の間の絶対距離を計測するヘテロダイン干渉を用いた光波干渉計測装置である。計測装置は、図3に示すように、2つの光源10、11と、結合ミラー13、無偏光ビームスプリッタ20、偏光ビームスプリッタPBS12、検出部17、18、22、23、処理部19、分光素子16、21、屈折率検出部24を有する。PBS12、被検面14、参照面15、検出部17、18は干渉計を構成する。光源10、11の基準波長は、特許文献1に開示されているような、不図示のガスセルを用いた封入ガスの吸収線または均等な周波数間隔で周期的な透過特性を有するファブリペローエタロンの透過スペクトルなどを用いて安定化が可能なように構成されている。このように、本実施形態の計測装置は複数の光源を有し、その少なくとも一つの光源は波長走査が可能なように構成されている。光源第1の光源11から射出される光の波長は、既知の真空波長である第1の基準波長λ1と第1の基準波長λ1とは異なる第2の基準波長λ2に安定化が可能であり、第1の基準波長λ1と第2の基準波長λ2との間で走査可能に構成されている。光源第2の光源10から射出される光の波長は、第1の基準波長λ1および第2の基準波長λ2と異なる第3の基準波長λ3に安定化固定されている。光源10、11から射出される光は、直交する偏光の周波数が互いにωRだけ微小に異なるようなヘテロダイン光源となっている。なお、本実施例では、光源10、11は独立しているが、光通信に用いる多波長光源と同様に、複数の半導体レーザを1つの光源部に集積して構成してもよく、この場合、コストや装置寸法の面で有利となる。光源10からの光は結合ミラー13に射出され、光源11からの光は偏向ミラーを経て結合ミラー13に射出される。結合ミラー13によって光源10、11の光軸ならびに偏光角度が調整されて一致している。ビームスプリッタ20によって光源10、11からの光束は一部分離され、透過光は偏光ビームスプリッタ以下、PBS12に至り、反射光は分光素子21に至る。PBS12は、入射光を2つの直交する偏光方向の一方第1の偏光方向を有する光と2つの直交する偏光方向の他方第2の偏光方向を有する光に分離する。光源10、11の偏光方向とPBS12の偏光角とが一致するようにPBS12が配置され、直交する偏光方向の光束は透過光と反射光とに分離される。透過光第1の偏光方向を有する光は被検面14を構成するコーナーキューブ14に照射され、反射光第2の偏光方向を有する光は参照面15を構成するコーナーキューブへ照射される。以下、被検面14で反射された光を被検光と呼び、参照面15で反射された光を参照光と呼ぶ。本実施形態の計測装置においては、参照光と被検光との光路長差が1往復即ち、被検光が被検面14で反射される回数が1回であるが、他の干渉計を構成してもよい。例えば、被検面14と参照面15を平面とし、被検光と参照光のそれぞれの光路にλ/4板を挿入し、1往復光を反射するコーナーキューブを配置することで、参照光と被検光との光路長差が2往復となるような干渉計を構成してもよい。被検光ならびに参照光はPBS12で再結合される。PBS12からの射出光は偏向ミラーを介してダイクロイックミラーのような分光素子16によって光源10の光束は透過し、光源11の光束は反射することによって分光され、透過光は検出部17に、反射光は偏向ミラーを介して検出部18に入力する。検出部17は光源10の波長である第3の基準波長λ3における被検光と参照光との干渉信号を検出して、検出信号として処理部19に出力する。同様にして、検出部18は光源11の波長である第1の基準波長λ1または第2の基準波長λ2における被検光と参照光との干渉光を検出し、検出信号として処理部19に出力する。ビームスプリッタ20で分離された光束はダイクロイックミラーのような分光素子21によって光源10の光束は透過し、光源11の光束は反射することによって分光され、透過光は検出部22に、反射光は検出部23に入力する。検出部22は光源10からのヘテロダイン信号を検出し、検出部23は光源11からのヘテロダイン信号を検出し、それぞれ参照信号として処理部19へ出力する。処理部19は、干渉光の検出信号を取得し、それぞれの波長における検出信号と参照信号との位相差、つまり被検面14と参照面15との間の光路長に相当する位相差を求める。また、処理部19は、後述するように、光源10、11のそれぞれからの光の被検光と参照光の干渉光の信号から被検面14と参照面15との間の光路長に相当する位相を求める。更に、処理部19は、後述するように、求められた位相の誤差を補正する位相誤差補正部としても機能する。また、後述するように、処理部19は、位相誤差補正部によって位相誤差が補正除去されて原点が決定された位相に基づいて被検面14と参照面15の間の絶対距離を算出する。処理部19は、マイクロコンピュータプロセッサとして構成される。屈折率検出部24は、被検面14と参照面15の間の空間の屈折率を検出し、温度計や気圧計を含む。具体的には、屈折率検出部24は、後述する第3の基準波長λ3における屈折率n3、第1の合成波長Λ12における群屈折率ng12、第2の合成波長Λ13における群屈折率ng13、第3の合成波長Λ23における群屈折率ng23等を取得することができる。図1は、処理部19によって実行される実施例1の絶対距離の算出フロー図である。図1において、Sはステップ工程の略であり、また、図1に示すフローチャートは、コンピュータに各ステップ手順を実行させるためのプログラムとして具現化が可能である点は後述する図2も同様である。なお、本実施例の処理部19は、光源11の波長を設定する制御処理手段としても機能するが、制御処理手段と別個に設けられてもよい。まず、処理部19は、光源11の波長を第1の基準波長λ1に安定化させ、第1の基準波長λ1における位相を検出部18、22からの検出信号に基づいて取得するS101。同様にして、処理部19は、次に、光源11の波長を第2の基準波長λ2に安定化させ、第2の基準波長λ2における位相を検出部18、22からの検出信号に基づいて取得するS103。更に、処理部19は、光源10の第3の基準波長における位相を検出部17、23からの検出信号に基づいて取得するS104。なお、第1の基準波長λ1における干渉信号の第1の位相φ1、第2の基準波長λ2における干渉信号の第2の位相φ2、第3の基準波長λ3における干渉信号の第3の位相φ3はそれぞれ以下の式で与えられる。ここで、modu,kは第1引数uの第2引数kに対する剰余を表す。n1、n2、n3は屈折率検出部24によって検出される被検光の波長λ1、λ2、λ3の光の光路の屈折率であり、Dは被検面14と参照面15の間の絶対距離である。また、処理部19は、波長走査間の位相変化量φ2-φ1から第1の基準波長λ1と第2の基準波長λ2との第1の合成波長Λ12の干渉次数M12を求めるS102。第1の合成波長Λ12は次式で与えられる。干渉次数M12は、被検面14と参照面15との間の空間の波長λ1、λ2に対する群屈折率ng12と位相φ1、φ2に基づいて次式で与えられる。干渉次数M12は、光源11から射出される光の波長を第1の基準波長λ1と第2の基準波長λ2の間で連続的に走査した際に発生する位相飛び数を表している。ここで、位相誤差がなければ、処理部19は、第1の基準波長λ1と第3の基準波長λ3との第2の合成波長Λ13の回折次数M13と第3の基準波長λ3の干渉次数N3を算出するS113。第2の合成波長Λ13は次式で与えられ、更に、数式5、6が成立する。ここで、λ3<<Λ13<<Λ12から次式が成立する。ng13は被検面14と参照面15との間の空間の第2の合成波長Λ13に対する群屈折率である。なお、roundは引数を整数に丸める関数を表す。次に、処理部19は、数式5に代入して絶対距離Dを求めるS114。あるいは、処理部19は次式を利用して絶対距離を求めてもよい。なお、本実施例では、被検光が被検面14で反射される回数kが1回であるため、数式7においてkを省略しているが、一般にはD1はD1=Λ12/2kng12M{φ2-φ1/2π}となる。これによれば、第2の合成波長Λ13を用いることで、光源11の波長走査量および波長走査精度の低減が可能になる。しかしながら、光源10、11から干渉計に入射されるまでの引き廻し系におけるミラーや干渉計内での偏光素子などの偏光特性により原点の位相に誤差を発生してしまうため、上記の処理では絶対距離の計測精度が低下するおそれがある。そして、この誤差は温度などの環境変化により変化し、波長による分散を持つことから一定ではなく、特許文献2の方法も適用することもできない。S101、S103、S104において、各波長λ1、λ2、λ3に対して実際に計測される第1の実測位相φ1’、第2の実測位相φ2’、第3の実測位相φ3’は、次式で与えられるように、光学系などの不完全さにより発生する位相誤差の影響を受けている。φ1’=φ1Δφtφ2’=φ2Δφt...9φ3’=φ3Δφfここで、Δφtは光源11の光について発生する位相誤差、Δφfは光源10の光について発生する位相誤差、φ1、φ2、φ3は誤差を含まない理想的な第1の位相、第2の位相、第3の位相である。第1の基準波長λ1と第2の基準波長λ2は、同一の計測系により位相検出を行い、例えば、ミリメートルオーダの大きな第1の合成波長Λ12を生成するためにλ1とλ2の差はサブナノメータ程度とごく微小であり、光学特性はほぼ同一と考えることができる。このため、それぞれの検出位相に対する位相誤差Δφtは同じ値を用いることができる。上述の位相誤差を補正するため、本実施例では、波長走査により生成される第1の合成波長Λ12と走査間における位相変化φ2-φ1に基づいて、波長走査の計測系における位相誤差の影響のない絶対距離後述するD12を算出する。次いで、本実施例では、絶対距離D12に基づいて得られる第2の合成波長Λ13ならびに第3の基準波長λ3における予測位相と計測位相との差異後述するφ13-φ13とφ ́3‐φ3に基づいて各計測系の位相誤差Δφt、Δφfを算出する。より正確には、λ1とλ2の位相誤差Δφtの差Δφttが、合成波長間での干渉次数の接続を間違えない位相誤差0<Δφtt/2π×Λ12<Λ13/2を満たす範囲であれば、Δφtを共通の位相誤差とみなすことができる。波長λ1とλ2の位相誤差Δφtが同じとみなせない場合は事前に光学特性を評価して初期位相誤差を補正すればよい。このように、処理部19は、位相誤差を補正する位相誤差補正部として機能する。まず、処理部19は、位相誤差を更新するかどうかを判断しS105、位相補正を更新する場合にはS105のY、位相変化量φ1’-φ2’に基づいて第2の合成波長Λ13の位相φ13を予測するS106。S105の位相誤差の更新は、設定された期間ごと例えば、リアルタイムで行うように不図示の入力部を介して計測装置に設定することができる。φ12=φ1’-φ2’=φ1-φ2...10ここで、ある距離D12における第1の合成波長Λ12での位相は次式で与えられ、波長走査側の計測系で発生する位相誤差の影響を受けずに、距離D12を決定することができる。そして、距離D12を基準として第2の合成波長Λ13における位相φ13を次式のように計算することができる。次に、処理部19は、予測された位相φ13と計測された位相φ13との差分を算出するS107。実際の計測位相から計算される第2の合成波長Λ13における位相には、次式のように、それぞれの計測系列によって発生する誤差を含んでいる。φ13=φ1’-φ3’=φ1-φ3Δφt-Δφf...13このため、次式に示すように、予測された位相φ13と計測された位相φ13との差分が各計測系列において発生する位相誤差の差分を表すこととなる。Δφ=φ13-φ13=Δφt-Δφf...14次に、処理部19は、位相変化量に基づいて第3の基準波長λ3の位相φ3を、次式のように、予測するS108。次に、処理部19は、予測された位相φ3と計測された位相φ3 ́との差分を算出するS109。数式5から算出される位相φ3と計測位相φ3 ́との差分により、光源10の光の計測系での原点における位相誤差Δφf=φ3 ́‐φ3を算出する。次に、処理部19は、S107ならびにS109から得られる差分と次式を用いて各計測系の位相誤差Δφt、Δφfを算出して不図示のメモリに記憶するS110。Δφtは数式14にS109で得られたΔφfを足すことで得られる。次に、処理部19は、数式9を利用してS110で得られた位相誤差Δφt、Δφfを使用して取得した位相を校正するS111。一方、処理部19は、処理部19は、S105で位相誤差Δφt、Δφfを更新しない場合にはS105のN前回の位相誤差で校正するS112。次に、処理部19は、上述したS113とS114を行い、被検面14と参照面15の間の絶対距離を高精度に算出することができる。次に、処理部19は、計測が終了したと判断するとS115のY計測処理を終了、終了していないと判断するとS115のNS101に戻る。本実施例では、最長の合成波長Λ12による絶対距離D12を基準とするため、ΔφfとΔφtを高精度に決定するためには、φ’1とφ’2の高精度に計測することが必要となるが、これは数式16の計算結果を移動平均することで可能となる。被検体の移動中に移動平均を行うことで干渉計の有する周期誤差の低減も可能となる。また、移動平均によりφ1’,φ2’を常に更新することでシステムの経時変化によらず正しい原点の決定が実現する。なお、本実施例はヘテロダイン検出について説明したが、ホモダイン検出を用いてもよい。図2は、処理部19によって実行される実施例2の絶対距離の算出フロー図であり、図1と同様のステップには同様の参照符号を付している。図2は、S106~S110の代わりにS116~S120を設けている点で図1と異なる。以下、図1との相違点について説明する。実施例2は、第2の合成波長Λ13の絶対距離D13と第3の合成波長Λ23の絶対距離D23の差分に基づいて得られる位相誤差とそれを減算して得られる距離から第3の基準波長λ3の位相を算出し、計測位相との差分を求めて各計測系の位相誤差を算出する。本実施例によれば、より近い合成波長によって得られる距離から第3の基準波長λ3の位相を算出するので算出精度が向上するという効果がある。なお、第3の合成波長における群屈折率をng23とし、第2の実測位相と第3の実測位相の差である第3の合成波長の位相をφ23とする。S101~S104が行われ、処理部19が位相誤差を補正すると判断するとS105のY、処理部19は、数式13と次式を利用して、合成波長Λ13の距離D13を算出するS116。また、処理部19は、同様にして、合成波長Λ23の距離D23を算出するS117。次に、処理部19は、次式を利用して、距離D13とD23の差分から位相誤差を求めるS118。次に、処理部19は、数式21から算出される位相φ3と計測位相φ ́3との差分により、固定波長側の計測系の原点における位相誤差を算出するS119。これは、S109と同様であるが、S109とは使用するφ3が異なる。次に、処理部19は、S110と同様にして、S117ならびにS118から得られる位相量から各計測系列における位相誤差量を算出するS120。S112以降は図1と同様である。本実施例においても、処理部19は絶対距離を高精度に算出することができる。以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、計測装置の構成は図3に示すものに限定されず、特許文献1に記載されたものを使用でき、処理部19が絶対距離を算出する際に適用する式は、以下のいずれによって求めてもよい。"