光の入射側から順に第1光学部材と第2光学部材とを備えた波面分割型のオプティカルインテグレータにおいて、前記第1光学部材は、光軸と直交する平面内の第1方向に所定の屈折力を有し且つ前記光軸と直交する平面内で前記第1方向と直交する第2方向にほぼ無屈折力の複数の第1入射面と、該複数の第1入射面に対応するように形成されて前記第1方向に所定の屈折力を有し且つ前記第2方向にほぼ無屈折力の複数の第1射出面とを備え、前記第2光学部材は、前記複数の第1入射面に対応するように形成されて前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の複数の第2入射面と、前記複数の第1入射面に対応するように形成されて前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の複数の第2射出面とを備えていることを特徴とするオプティカルインテグレータ。前記複数の第1入射面の各々は、前記第1方向に沿って短辺を有し且つ前記第2方向に沿って長辺を有する矩形状であることを特徴とする請求項1に記載のオプティカルインテグレータ。前記複数の第1入射面は、前記光軸と直交する平面に沿って稠密配置されていることを特徴とする請求項2に記載のオプティカルインテグレータ。前記複数の第1入射面は、前記第1方向に沿って並列的に配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記複数の第2入射面は、前記第2方向に沿って並列的に配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記複数の第2入射面の各々は、前記第1方向に沿って長辺を有し且つ前記第2方向に沿って短辺を有する矩形状であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記第1光学部材と前記第2光学部材との合成系の前記第1方向に関する後側焦点位置および前記第2方向に関する後側焦点位置は、前記第2光学部材よりも後側に位置することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記オプティカルインテグレータ中において、前記第1方向に屈折力を有する光学面は前記第1入射面および前記第1射出面のみであり、前記オプティカルインテグレータ中において、前記第2方向に屈折力を有する光学面は前記第2入射面および前記第2射出面のみであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記第2入射面の前記所定の屈折力は、前記第2射出面の前記所定の屈折力よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。第1光学要素と、該第1光学要素の後側に配置された第2光学要素とを備えた波面分割型のオプティカルインテグレータにおいて、前記第1光学要素は、光軸と直交する平面内の第1方向に所定の屈折力を有し且つ前記光軸と直交する平面内で前記第1方向と直交する第2方向にほぼ無屈折力の入射面と、前記第1方向に所定の屈折力を有し且つ前記第2方向にほぼ無屈折力の射出面とを備え、前記第2光学要素は、前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の入射面と、前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の射出面とを備え、前記第1光学要素と前記第2光学要素との少なくとも一方は複数であることを特徴とするオプティカルインテグレータ。前記第1光学要素および前記第2光学要素はそれぞれ複数設けられ、前記複数の第2光学要素は前記複数の第1光学要素に対応するように前記複数の第1光学要素の後側に配置されていることを特徴とする請求項10に記載のオプティカルインテグレータ。前記複数の第1光学要素の各々は、前記第1方向に沿って短辺を有し且つ前記第2方向に沿って長辺を有する矩形状の断面を有することを特徴とする請求項11に記載のオプティカルインテグレータ。前記複数の第1光学要素の入射面は、前記光軸と直交する平面に沿って稠密配置されていることを特徴とする請求項12に記載のオプティカルインテグレータ。前記複数の第1光学要素の各々は、前記第1方向に沿って並列的に配置されていることを特徴とする請求項11乃至13のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記複数の第2光学要素の各々は、前記第2方向に沿って並列的に配置されていることを特徴とする請求項11乃至14のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記複数の第2光学要素の各々は、前記第1方向に沿って長辺を有し且つ前記第2方向に沿って短辺を有する矩形状であることを特徴とする請求項11乃至15のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記第2光学要素の前記入射面の前記所定の屈折力は、前記第2光学要素の前記射出面の前記所定の屈折力よりも大きいことを特徴とする請求項10乃至16のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記第1光学要素と前記第2光学要素との合成系の前記第1方向に関する後側焦点位置および前記第2方向に関する後側焦点位置は、前記第2光学要素の前記射出面よりも後側にそれぞれ位置することを特徴とする請求項10乃至17のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記オプティカルインテグレータ中において、前記第1方向に屈折力を有する光学要素は前記第1光学要素のみであり、前記オプティカルインテグレータ中において、前記第2方向に屈折力を有する光学要素は前記第2光学要素のみであることを特徴とする請求項10乃至18のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。前記第1光学要素中の前記入射面および前記射出面は一体的に前記第1光学要素上に形成され、前記第2光学要素中の前記入射面および前記射出面は一体的に前記第2光学要素上に形成されていることを特徴とする請求項10乃至19のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータ。光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された請求項1乃至20のいずれか1項に記載のオプティカルインテグレータを備えていることを特徴とする照明光学装置。前記オプティカルインテグレータと前記被照射面との間の光路中に配置されて、前記オプティカルインテグレータからの光を前記被照射面へ重畳的に導くための導光光学系を備えていることを特徴とする請求項21に記載の照明光学装置。前記照明光学装置は前記被照射面上に矩形状の照明領域を形成し、前記矩形状の照明領域の短辺方向は前記第1方向に対応し、前記矩形状の照明領域の長辺方向は前記第2方向に対応することを特徴とする請求項21または22に記載の照明光学装置。請求項21乃至23のいずれか1項に記載の照明光学装置と、前記被照射面に配置された所定のパターンを感光性基板に投影露光するための投影光学系とを備えていることを特徴とする露光装置。前記照明光学装置は前記所定のパターン上に矩形状の照明領域を形成し、前記矩形状の照明領域の短辺方向は前記第1方向に対応し、前記矩形状の照明領域の長辺方向は前記第2方向に対応することを特徴とする請求項24に記載の露光装置。前記投影光学系により前記矩形状の照明領域内に位置する前記所定のパターンの像を前記感光性基板上の矩形状の投影領域内に形成し、前記矩形状の投影領域の短辺方向に沿って前記感光性基板を前記投影光学系に対して相対移動させることにより、前記所定のパターンを前記感光性基板に投影露光することを特徴とする請求項25に記載の露光装置。請求項21乃至23のいずれか1項に記載の照明光学装置を介してマスクを照明し、照明された前記マスクのパターンを投影光学系を介して感光性基板に投影露光することを特徴とする露光方法。前記第1方向に対応する方向に沿って短辺を有し且つ前記第2方向に対応する方向に沿って長辺を有する矩形状の照明領域を前記マスク上に形成することを特徴とする請求項27に記載の露光方法。前記矩形状の照明領域の短辺方向に沿って前記マスクおよび前記感光性基板を前記投影光学系に対して相対移動させることにより、前記マスクのパターンを前記感光性基板に投影露光することを特徴とする請求項28に記載の露光方法。請求項24乃至26のいずれか1項に記載の露光装置を用いてデバイスを製造する方法において、前記所定のパターン上の照明領域を前記照明光学装置を用いて照明する照明工程と、前記照明領域内の前記所定のパターンの像を前記投影光学系を用いて前記感光性基板上に投影する投影工程と、前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。しかしながら、特許文献1に示されるシリンドリカルフライアイレンズでは、後に詳述するように、複数の光学部材フライアイ部材の相対的な位置決めに要求される精度が非常に厳しく、相対的な位置決め誤差光軸方向に沿った間隔の誤差、光軸直交方向に沿ったシフト誤差などに起因して照明ムラが発生し易いだけでなく、場合によっては照明フィールド照明領域の形状も変化してしまう可能性がある。本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、複数の光学部材の相対的な位置決め誤差が照度分布や照明フィールドの形状に与える影響を小さく抑える特性を有するオプティカルインテグレータを提供することを目的とする。また、本発明は、複数の光学部材の相対的な位置決め誤差が照度分布や照明フィールドの形状に与える影響の小さいオプティカルインテグレータを用いて、所望の照明条件で被照射面を照明することのできる高性能な照明光学装置を提供することを目的とする。また、本発明は、所望の照明条件で被照射面を照明する高性能な照明光学装置を用いて、良好な照明条件の下で良好な投影露光を行うことのできる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。前記課題を解決するために、本発明の第1形態では、光の入射側から順に第1光学部材と第2光学部材とを備えた波面分割型のオプティカルインテグレータにおいて、前記第1光学部材は、光軸と直交する平面内の第1方向に所定の屈折力を有し且つ前記光軸と直交する平面内で前記第1方向と直交する第2方向にほぼ無屈折力の複数の第1入射面と、該複数の第1入射面に対応するように形成されて前記第1方向に所定の屈折力を有し且つ前記第2方向にほぼ無屈折力の複数の第1射出面とを備え、前記第2光学部材は、前記複数の第1入射面に対応するように形成されて前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の複数の第2入射面と、前記複数の第1入射面に対応するように形成されて前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の複数の第2射出面とを備えていることを特徴とするオプティカルインテグレータを提供する。本発明の第2形態では、第1光学要素と、該第1光学要素の後側に配置された第2光学要素とを備えた波面分割型のオプティカルインテグレータにおいて、前記第1光学要素は、光軸と直交する平面内の第1方向に所定の屈折力を有し且つ前記光軸と直交する平面内で前記第1方向と直交する第2方向にほぼ無屈折力の入射面と、前記第1方向に所定の屈折力を有し且つ前記第2方向にほぼ無屈折力の射出面とを備え、前記第2光学要素は、前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の入射面と、前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の射出面とを備え、前記第1光学要素と前記第2光学要素との少なくとも一方は複数であることを特徴とするオプティカルインテグレータを提供する。本発明の第3形態では、光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された第1形態または第2形態のオプティカルインテグレータを備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。本発明の第4形態では、第3形態の照明光学装置と、前記被照射面に配置された所定のパターンを感光性基板に投影露光するための投影光学系とを備えていることを特徴とする露光装置を提供する。本発明の第5形態では、第3形態の照明光学装置を介してマスクを照明し、照明された前記マスクのパターンを投影光学系を介して感光性基板に投影露光することを特徴とする露光方法を提供する。本発明の第6形態では、第4形態の露光装置を用いてデバイスを製造する方法において、前記所定のパターン上の照明領域を前記照明光学装置を用いて照明する照明工程と、前記照明領域内の前記所定のパターンの像を前記投影光学系を用いて前記感光性基板上に投影する投影工程と、前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。本発明のオプティカルインテグレータでは、第1方向に屈折力を有する2つの屈折面第1入射面および第1射出面が第1光学部材だけに設けられ、第2方向に屈折力を有する2つの屈折面第2入射面および第2射出面が第2光学部材だけに設けられている。したがって、第1光学部材と第2光学部材との間に光軸方向に沿った間隔の誤差や光軸直交方向に沿ったシフト誤差が発生しても、照明ムラが発生しにくく、照明フィールドの形状も変化しにくい。すなわち、本発明のオプティカルインテグレータは、複数の光学部材の相対的な位置決め誤差が照度分布や照明フィールドの形状に与える影響を小さく抑える特性を有する。また、本発明の照明光学装置では、複数の光学部材の相対的な位置決め誤差が照度分布や照明フィールドの形状に与える影響の小さいオプティカルインテグレータを用いているので、所望の照明条件で被照射面を照明することができる。また、本発明の露光装置および露光方法では、所望の照明条件でマスクを照明する高性能な照明光学装置を用いているので、良好な照明条件の下で良好な投影露光を行うことができ、ひいては良好なデバイスを製造することができる。本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図1は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図1において、感光性基板であるウェハWの法線方向に沿ってZ軸を、ウェハWの面内において図1の紙面に平行な方向にY軸を、ウェハWの面内において図1の紙面に垂直な方向にX軸をそれぞれ設定している。図1を参照すると、本実施形態の露光装置は、露光光照明光を供給するための光源1を備えている。光源1として、たとえば193nmの波長の光を供給するArFエキシマレーザ光源や248nmの波長の光を供給するKrFエキシマレーザ光源などを用いることができる。光源1から射出されたほぼ平行な光束は、ビームエキスパンダー2により拡大され、所定の矩形状の断面を有する光束に整形される。整形光学系としてのビームエキスパンダー2を介したほぼ平行な光束は、たとえば輪帯照明用の回折光学素子3を介して、アフォーカルレンズ4に入射する。アフォーカルレンズ4は、その前側焦点位置と回折光学素子3の位置とがほぼ一致し且つその後側焦点位置と図中破線で示す所定面5の位置とがほぼ一致するように設定されたアフォーカル系無焦点光学系である。一般に、回折光学素子は、基板に露光光照明光の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され、入射ビームを所望の角度に回折する作用を有する。具体的には、輪帯照明用の回折光学素子3は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、そのファーフィールドまたはフラウンホーファー回折領域に輪帯状の光強度分布を形成する機能を有する。したがって、光束変換素子としての回折光学素子3に入射したほぼ平行光束は、アフォーカルレンズ4の瞳面に輪帯状の光強度分布を形成した後、輪帯状の角度分布でアフォーカルレンズ4から射出される。なお、アフォーカルレンズ4の前側レンズ群4aと後側レンズ群4bとの間の光路中においてその瞳面またはその近傍には、円錐アキシコン系6が配置されているが、その構成および作用については後述する。以下、説明を簡単にするために、円錐アキシコン系6の作用を無視して、基本的な構成および作用を説明する。アフォーカルレンズ4を介した光束は、σ値σ値=照明光学装置のマスク側開口数/投影光学系のマスク側開口数可変用のズームレンズ7に入射する。ズームレンズ7の後側焦点面の近傍には、光源側から順に第1フライアイ部材8aと第2フライアイ部材8bとからなるマイクロフライアイレンズ8の入射面すなわち第1フライアイ部材8aの入射面が位置決めされている。マイクロフライアイレンズ8は入射光束に基づいて実質的な面光源を形成する波面分割型のオプティカルインテグレータとして機能するが、その詳細な構成および作用については後述する。なお、マイクロフライアイレンズとは、フライアイレンズを構成する微笑レンズ要素のサイズを非常に小さく設定したものである。ここで、フライアイレンズは多数のレンズエレメントを縦横に且つ稠密に配列することにより構成されるのに対し、マイクロフライアイレンズは多数の微小屈折面を一体的に形成することにより構成される。すなわち、フライアイレンズは、単品で研磨した多数のレンズエレメントを組み合わせて稠密配列することにより構成されるのに対し、マイクロフライアイレンズは、たとえば平行平面ガラス板にMEMS技術リソグラフィーエッチング等などを応用して多数の微小屈折面を形成することによって構成される。所定面5の位置はズームレンズ7の前側焦点位置の近傍に配置され、マイクロフライアイレンズ8の入射面はズームレンズ7の後側焦点位置の近傍に配置されている。換言すると、ズームレンズ7は、所定面5とマイクロフライアイレンズ8の入射面とを実質的にフーリエ変換の関係に配置し、ひいてはアフォーカルレンズ4の瞳面とマイクロフライアイレンズ8の入射面とを光学的にほぼ共役に配置している。したがって、マイクロフライアイレンズ8の入射面上には、アフォーカルレンズ4の瞳面と同様に、たとえば光軸AXを中心とした輪帯状の照野が形成される。この輪帯状の照野の全体形状は、ズームレンズ7の焦点距離に依存して相似的に変化する。マイクロフライアイレンズ8に入射した光束は二次元的に分割され、その後側焦点面またはその近傍ひいては照明瞳には、入射光束によって形成される照野とほぼ同じ光強度分布を有する二次光源、すなわち光軸AXを中心とした輪帯状の実質的な面光源からなる二次光源が形成される。なお、円錐アキシコン系6は、光源側から順に、光源側に平面を向け且つマスク側に凹円錐状の屈折面を向けた第1プリズム部材6aと、マスク側に平面を向け且つ光源側に凸円錐状の屈折面を向けた第2プリズム部材6bとから構成されている。そして、第1プリズム部材6aの凹円錐状の屈折面と第2プリズム部材6bの凸円錐状の屈折面とは、互いに当接可能なように相補的に形成されている。また、第1プリズム部材6aおよび第2プリズム部材6bのうち少なくとも一方の部材が光軸AXに沿って移動可能に構成され、第1プリズム部材6aの凹円錐状の屈折面と第2プリズム部材6bの凸円錐状の屈折面との間隔が可変に構成されている。以下、輪帯状または4極状の二次光源に着目して、円錐アキシコン系6の作用およびズームレンズ7の作用を説明する。ここで、第1プリズム部材6aの凹円錐状屈折面と第2プリズム部材6bの凸円錐状屈折面とが互いに当接している状態では、円錐アキシコン系6は平行平面板として機能し、形成される輪帯状または4極状の二次光源に及ぼす影響はない。しかしながら、第1プリズム部材6aの凹円錐状屈折面と第2プリズム部材6bの凸円錐状屈折面とを離間させると、輪帯状または4極状の二次光源の幅輪帯状の二次光源の外径と内径との差の1/2;4極状の二次光源に外接する円の直径外径と内接する円の直径内径との差の1/2を一定に保ちつつ、輪帯状または4極状の二次光源の外径内径が変化する。すなわち、輪帯状または4極状の二次光源の輪帯比内径/外径および大きさ外径が変化する。ズームレンズ7は、輪帯状または4極状の二次光源の全体形状を相似的に拡大または縮小する機能を有する。たとえば、ズームレンズ7の焦点距離を最小値から所定の値へ拡大させることにより、輪帯状または4極状の二次光源の全体形状が相似的に拡大される。換言すると、ズームレンズ7の作用により、輪帯状または4極状の二次光源の輪帯比が変化することなく、その幅および大きさ外径がともに変化する。このように、円錐アキシコン系7およびズームレンズ7の作用により、輪帯状または4極状の二次光源の輪帯比と大きさ外径とを制御することができる。マイクロフライアイレンズ8の後側焦点面またはその近傍に形成された二次光源からの光束は、コンデンサー光学系9を介して、マスクMひいてはウェハWと光学的にほぼ共役な位置に配置されたマスクブラインド10を重畳的に照明する。こうして、照明視野絞りとしてのマスクブラインド10には、矩形状の照野が形成される。マスクブラインド10の矩形状の開口部光透過部を介した光束は、結像光学系11の集光作用を受けた後、所定のパターンが形成されたマスクMを重畳的に照明する。このように、結像光学系11は、マスクブラインド10の矩形状の開口部の像を、マスクステージMSにより支持されたマスクM上に形成することになる。マスクMには転写すべきパターンが形成されており、パターン領域全体のうちX方向に沿って長辺を有し且つY方向に沿って短辺を有する矩形状スリット状のパターン領域が照明される。マスクMのパターンを透過した光束は、投影光学系PLを介して、感光性基板であるウェハW上にマスクMのパターン像を形成する。すなわち、マスクM上での矩形状の照明領域に光学的に対応するように、ウェハW上においてもX方向に沿って長辺を有し且つY方向に沿って短辺を有する矩形状の静止露光領域実効露光領域にパターン像が形成される。こうして、いわゆるステップアンドスキャン方式にしたがって、投影光学系PLの光軸AXと直交する平面XY平面内において、Y方向走査方向に沿ってマスクステージMSとウェハステージWSとを、ひいてはマスクMとウェハWとを同期的に移動走査させることにより、ウェハW上には静止露光領域のX方向寸法に等しい幅を有し且つウェハWの走査量移動量に応じた長さを有するショット領域露光領域に対してマスクパターンが走査露光される。ところで、ステップアンドスキャン方式の露光装置では、走査露光の平均化効果により、ウェハW上のX方向に沿って細長い矩形状の静止露光領域において走査方向スキャン方向:Y方向に照度ムラがある程度残っていても大きな問題にはならない。換言すれば、ウェハW上の静止露光領域において発生を抑えるべき照度ムラは、走査方向と直交する方向すなわち走査直交方向非スキャン方向:X方向の照度ムラである。図2は、本実施形態のマイクロフライアイレンズの構成を概略的に示す斜視図である。図2を参照すると、マイクロフライアイレンズシリンドリカルマイクロフライアイレンズ8は、光源側に配置された第1フライアイ部材第1光学部材8aとマスク側被照射面側に配置された第2フライアイ部材第2光学部材8bとにより構成されている。第1フライアイ部材8aの光源側の面およびマスク側の面には、Z方向に沿って所定のピッチで配列されたシリンドリカルレンズ面群8aaおよび8abがそれぞれピッチp1で形成されている。一方、第2フライアイ部材8bの光源側の面およびマスク側の面には、X方向に沿って所定のピッチで配列されたシリンドリカルレンズ面群8baおよび8bbがそれぞれピッチp2p2>p1で形成されている。シリンドリカルマイクロフライアイレンズ8のZ方向に関する屈折作用すなわちYZ平面に関する屈折作用に着目すると、光軸AXに沿って入射した平行光束は、第1フライアイ部材8aの光源側に形成されたシリンドリカルレンズ面群8aaによってZ方向に沿ってピッチp1で波面分割され、その各屈折面で集光作用を受けた後、第1フライアイ部材8aのマスク側に形成されたシリンドリカルレンズ面群8abのうちの対応する屈折面で集光作用を受け、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ8よりも後側に集光する。一方、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ8のX方向に関する屈折作用すなわちXY平面に関する屈折作用に着目すると、光軸AXに沿って入射した平行光束は、第2フライアイ部材8bの光源側に形成されたシリンドリカルレンズ面群8baによってX方向に沿ってピッチp2で波面分割され、その各屈折面で集光作用を受けた後、第2フライアイ部材8bのマスク側に形成されたシリンドリカルレンズ面群8bbのうちの対応する屈折面で集光作用を受け、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ8よりも後側に集光する。このように、本実施形態のシリンドリカルマイクロフライアイレンズ8は、シリンドリカルレンズ面群が両側光入射側光源側および光射出側マスク側に配置された第1フライアイ部材8aと第2フライアイ部材8bとにより構成されている。一方、波面分割の各単位領域に着目すると、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ8は、図3に示すように、短辺がp1で長辺がp2の矩形状の断面を有する第1光学要素80aと第2光学要素80bとの組を縦横に且つ稠密に配置することにより構成されていることと光学的に等価である。ここで、第1光学要素80aは、光軸AXと直交するXZ平面内のZ方向第1方向に所定の屈折力を有し且つXZ平面内のX方向第2方向に無屈折力の第1入射面80aaと、この第1入射面80aaに対応するように形成されてZ方向に所定の屈折力を有し且つX方向に無屈折力の第1射出面80abとを備えている。また、第2光学要素80bは、第1光学要素80aの第1入射面80aaに対応するように形成されてX方向に所定の屈折力を有し且つZ方向に無屈折力の第2入射面80baと、第1光学要素80aの第1入射面80aaに対応するように形成されてX方向に所定の屈折力を有し且つZ方向に無屈折力の第2射出面80bbとを備えている。すなわち、複数の第1入射面80aaのXZ平面に沿った稠密配置が第1フライアイ部材8aの光源側のシリンドリカルレンズ面群8aaに対応し、複数の第1射出面80abのXZ平面に沿った稠密配置が第1フライアイ部材8aのマスク側のシリンドリカルレンズ面群8abに対応する。また、複数の第2入射面80baのXZ平面に沿った稠密配置が第2フライアイ部材8bの光源側のシリンドリカルレンズ面群8baに対応し、複数の第2射出面80bbのXZ平面に沿った稠密配置が第2フライアイ部材8bのマスク側のシリンドリカルレンズ面群8bbに対応する。この場合、図4aに示すようにYZ平面に関する屈折作用に着目すると、第1光学要素80aの光軸第2光学要素80bの光軸と一致に平行に入射した光線は、第1光学要素80aの第1入射面80aaおよび第1射出面80abにより集光され、第2光学要素80bよりも後側の所定面81において第1光学要素80aの光軸上に集光する。また、第1光学要素80aの光軸に対して所定の角度で斜入射した光線も、同じく第1光学要素80aの第1入射面80aaおよび第1射出面80abにより集光され、所定面81において第1光学要素80aの光軸からZ方向に離れた位置に集光する。このとき、斜入射光線群の中心光線は、第1光学要素80aの光軸に平行に第2光学要素80bから射出される。第1光学要素80aの第1入射面80aaおよび第1射出面80abの集光作用を受けて所定面81に一旦集光したこれらの光線は、ウェハW上において矩形状の静止露光領域の短辺方向に沿って分布する。すなわち、第1光学要素80aの第1入射面80aaの面形状誤差ひいては第1フライアイ部材8aの光源側のシリンドリカルレンズ面群8aaの面形状誤差、および第1射出面80abの面形状誤差ひいては第1フライアイ部材8aのマスク側のシリンドリカルレンズ面群8abの面形状誤差が、矩形状の静止露光領域における短辺方向すなわち走査方向の照度ムラに影響を及ぼす。ただし、ウェハWと光学的にほぼ共役な第1入射面80aaの面形状誤差よりも第1射出面80abの面形状誤差の方が、走査方向の照度ムラに大きな影響を及ぼす。一方、図4bに示すようにXY平面に関する屈折作用に着目すると、第1光学要素80aの光軸に平行に入射した光線は、第2光学要素80bの第2入射面80baおよび第2射出面80bbにより集光され、第2光学要素80bよりも後側の所定面不図示;たとえば所定面81またはその近傍の面において第1光学要素80aの光軸上に集光する。また、第1光学要素80aの光軸に対して所定の角度で斜入射した光線も、同じく第2光学要素80bの第2入射面80baおよび第2射出面80bbにより集光され、上記所定面において第1光学要素80aの光軸からX方向に離れた位置に集光する。このとき、斜入射光線群の中心光線は、第1光学要素80aの光軸に平行に第2光学要素80bから射出される。第2光学要素80bの第2入射面80baおよび第2射出面80bbの集光作用を受けて上記所定面に一旦集光したこれらの光線は、ウェハW上において矩形状の静止露光領域の長辺方向に沿って分布する。すなわち、第2光学要素80bの第2入射面80baの面形状誤差ひいては第2フライアイ部材8bの光源側のシリンドリカルレンズ面群8baの面形状誤差、および第2射出面80bbの面形状誤差ひいては第2フライアイ部材8bのマスク側のシリンドリカルレンズ面群8bbの面形状誤差が、矩形状の静止露光領域における長辺方向すなわち走査直交方向の照度ムラに影響を及ぼす。ただし、ウェハWと光学的にほぼ共役な第2入射面80baの面形状誤差よりも第2射出面80bbの面形状誤差の方が、走査直交方向の照度ムラに大きな影響を及ぼす。このように、本実施形態のシリンドリカルマイクロフライアイレンズ8では、第1光学要素80aと第2光学要素80bとの合成系のZ方向に関する後側焦点位置およびX方向に関する後側焦点位置は、第2光学要素80bよりも後側に位置する。これは、光学要素の内部にレーザ光が集光するとエネルギー密度が局所的に増大し、その結果として光学要素の耐久性が低下する危険性が発生するからである。このため、第1光学要素80aと第2光学要素80bとの合成系のZ方向に関するバックフォーカスをかなり長く確保する必要があるが、ピッチ比率や第1入射面80aaと第1射出面80abとのパワー屈折力比率などを適切な範囲に設定することにより設計解が得られる。ここで、本実施形態のシリンドリカルマイクロフライアイレンズの利点を説明するために、比較例によるシリンドリカルマイクロフライアイレンズの不都合について考える。図5は、比較例にかかるシリンドリカルマイクロフライアイレンズにおいて波面分割の各単位領域に対応する一対の光学要素の組を図3に対応するように概略的に示す図である。図5を参照すると、比較例のシリンドリカルマイクロフライアイレンズでは、第1光学要素85aが、Z方向に所定の屈折力を有し且つX方向に無屈折力の第1入射面85aaと、X方向に所定の屈折力を有し且つZ方向に無屈折力の第1射出面85abとを備えている。また、第2光学要素85bは、Z方向に所定の屈折力を有し且つX方向に無屈折力の第2入射面85baと、X方向に所定の屈折力を有し且つZ方向に無屈折力の第2射出面85bbとを備えている。したがって、比較例のシリンドリカルマイクロフライアイレンズでは、第1射出面85abの面形状誤差および第2射出面85bbの面形状誤差が走査直交方向の照度ムラに影響を及ぼし、しかもウェハWと光学的にほぼ共役な第1射出面85abの面形状誤差よりも第2射出面85bbの面形状誤差の方が大きな影響を及ぼす。比較例では、面形状誤差が走査直交方向の照度ムラに影響を及ぼし易い第2射出面85bbよりも、面形状誤差が走査直交方向の照度ムラに影響を及ぼし難い第1射出面85abの方に大きなパワー屈折力を負担させることにより、面形状誤差に起因する走査直交方向の照度ムラの発生をある程度抑えることができる。しかしながら、この比較例の構成におけるパワー配分では、面形状誤差に起因する走査直交方向の照度ムラの発生を十分に回避することは困難である。また、比較例のシリンドリカルマイクロフライアイレンズでは、Z方向に屈折力を有する2つの屈折面第1入射面85aaおよび第2入射面85baが第1光学要素85aと第2光学要素85bとに1面づつ設けられ、X方向に屈折力を有する2つの屈折面第1射出面85abおよび第2射出面85bbが第1光学要素85aと第2光学要素85bとに1面づつ設けられている。その結果、第1光学要素85aと第2光学要素85bとの間のY方向に沿った相対的な位置ずれや、Z方向に沿った相対的な位置ずれや、X方向に沿った相対的な位置ずれなどが発生すると、すなわち一対の光学部材フライアイ部材の相対的な位置決め誤差が発生すると、これらの相対的な位置決め誤差光軸方向に沿った間隔の誤差、光軸直交方向に沿ったシフト誤差などに起因してウェハW上で照明ムラが発生し易いだけでなく、場合によってはマスクM上の照明フィールド照明領域の形状も変化してしまう可能性がある。これに対し、本実施形態のシリンドリカルマイクロフライアイレンズ8では、Z方向に屈折力を有する2つの屈折面第1入射面80aaおよび第1射出面80abが第1光学要素85aだけに設けられ、X方向に屈折力を有する2つの屈折面第2入射面80baおよび第2射出面80bbが第2光学要素85bだけに設けられている。したがって、第1光学要素85aと第2光学要素85bとの間のY方向に沿った相対的な位置ずれ、すなわち一対のフライアイ部材8aと8bとの間に光軸方向に沿った間隔の誤差が発生しても、この間隔誤差に起因して照明ムラが発生し難く、照明フィールドの形状も変化し難い。このように、本実施形態のシリンドリカルマイクロフライアイレンズでは、たとえば研磨加工に比して良質な面形状を得ることが難しいエッチング加工によりすべての微小屈折面を同時に製造することが求められても、多数の微小屈折面の製造誤差が照度分布に与える影響を、小さく抑えることができる。また、第1光学要素85aと第2光学要素85bとの間のZ方向に沿った相対的な位置ずれやX方向に沿った相対的な位置ずれ、すなわち一対のフライアイ部材8aと8bとの間に光軸直交方向に沿ったシフト誤差が発生しても、このシフト誤差に起因して照明ムラが発生することはほとんどなく、照明フィールドの形状もほとんど変化しない。換言すると、本実施形態のシリンドリカルマイクロフライアイレンズ8は、一対のフライアイ部材光学部材8aと8bの相対的な位置決め誤差がウェハW上の照度分布やマスクM上の照明フィールドの形状に与える影響を小さく抑える特性を有する。また、本実施形態の照明光学装置1~11では、一対のフライアイ部材8aと8bの相対的な位置決め誤差が照度分布や照明フィールドの形状に与える影響の小さいシリンドリカルマイクロフライアイレンズオプティカルインテグレータ8を用いて、所望の照明条件で被照射面としてのマスクMを照明することができる。また、本実施形態の露光装置では、所望の照明条件でマスクMを照明する高性能な照明光学装置を用いて、良好な照明条件の下で良好な投影露光を行うことができる。ところで、上述したように、ウェハWと光学的にほぼ共役な第2入射面80baの面形状誤差よりも第2射出面80bbの面形状誤差の方が、走査直交方向の照度ムラに大きな影響を及ぼす。したがって、面形状誤差が走査直交方向の照度ムラに影響を及ぼし易い第2射出面80bbよりも、面形状誤差が走査直交方向の照度ムラに影響を及ぼし難い第2入射面80baの方に大きなパワー屈折力を負担させることにより、面形状誤差に起因する走査直交方向の照度ムラの発生を良好に抑えることができる。なお、上述の実施形態では、シリンドリカルレンズ面群が両側に配置された第1フライアイ部材8aと第2フライアイ部材8bとによりシリンドリカルマイクロフライアイレンズ8を構成している。しかしながら、これに限定されることなく、たとえば図3に示すような個別光学要素としての第1光学要素80aおよび第2光学要素80bをそれぞれ縦横に且つ稠密に配置することにより、本実施形態と同様の光学的機能を有するシリンドリカルマイクロフライアイレンズを構成することもできる。なお、上述の実施形態にかかる露光装置において、輪帯照明用の回折光学素子3に代えて、4極照明用の回折光学素子不図示を照明光路中に設定することによって、4極照明を行うことができる。4極照明用の回折光学素子は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、そのファーフィールドに4極状の光強度分布を形成する機能を有する。したがって、4極照明用の回折光学素子を介した光束は、マイクロフライアイレンズ8の入射面に、たとえば光軸AXを中心とした4つの円形状の照野からなる4極状の照野を形成する。その結果、マイクロフライアイレンズ8の後側焦点面またはその近傍にも、その入射面に形成された照野と同じ4極状の二次光源が形成される。また、輪帯照明用の回折光学素子3に代えて、円形照明用の回折光学素子不図示を照明光路中に設定することによって、通常の円形照明を行うことができる。円形照明用の回折光学素子は、矩形状の断面を有する平行光束が入射した場合に、ファーフィールドに円形状の光強度分布を形成する機能を有する。したがって、円形照明用の回折光学素子を介した光束は、マイクロフライアイレンズ8の入射面に、たとえば光軸AXを中心とした円形状の照野を形成する。その結果、マイクロフライアイレンズ8の後側焦点面またはその近傍にも、その入射面に形成された照野と同じ円形状の二次光源が形成される。さらに、輪帯照明用の回折光学素子3に代えて、他の複数極照明用の回折光学素子不図示を照明光路中に設定することによって、様々な複数極照明2極照明、8極照明などを行うことができる。同様に、輪帯照明用の回折光学素子3に代えて、適当な特性を有する回折光学素子不図示を照明光路中に設定することによって、様々な形態の変形照明を行うことができる。上述の実施形態にかかる露光装置では、照明光学装置によってマスクレチクルを照明し照明工程、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する露光工程ことにより、マイクロデバイス半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等を製造することができる。以下、上述の実施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図6のフローチャートを参照して説明する。先ず、図6のステップ301において、1ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ302において、その1ロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ303において、上述の実施形態の露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その1ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ304において、その1ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ305において、その1ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。また、上述の実施形態の露光装置では、プレートガラス基板上に所定のパターン回路パターン、電極パターン等を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図7のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図7において、パターン形成工程401では、上述の実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板レジストが塗布されたガラス基板等に転写露光する、所謂光リソグラフィー工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程402へ移行する。次に、カラーフィルター形成工程402では、RRed、GGreen、BBlueに対応した3つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはR、G、Bの3本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程402の後に、セル組み立て工程403が実行される。セル組み立て工程403では、パターン形成工程401にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程402にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル液晶セルを組み立てる。セル組み立て工程403では、例えば、パターン形成工程401にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程402にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル液晶セルを製造する。その後、モジュール組み立て工程404にて、組み立てられた液晶パネル液晶セルの表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。なお、上述の実施形態では、露光光としてArFエキシマレーザ光波長:193nmやKrFエキシマレーザ光波長:248nmを用いているが、これに限定されることなく、他の適当なレーザ光源、たとえば波長157nmのレーザ光を供給するF2レーザ光源などに対して本発明を適用することもできる。また、上述の実施形態では、マスクおよびウェハを投影光学系に対して相対移動させながら、いわゆるステップアンドスキャン方式にしたがって、ウェハの各露光領域にパターンをスキャン露光している。しかしながら、これに限定されることなく、ウェハを二次元的に駆動制御しながら一括露光を行うことにより、いわゆるステップアンドリピート方式にしたがって、ウェハのショット領域にパターンを逐次露光することもできる。また、上述の実施形態では、投影光学系を用いてマスクに形成されたパターンの像をウェハ上に形成しているが、マスクに代えて、たとえば空間光変調器SLMなどの所定のパターンを形成するプログラマブルなパターン生成素子を用いても良い。また、本発明にかかるオプティカルインテグレータは、たとえば国際特許公開第WO2004/051717A号パンフレットに記載される、偏光照明用の照明光学装置のオプティカルインテグレータとして適用することができる。また、上述の実施形態では、照明光学装置を備えた露光装置を例にとって本発明を説明したが、マスク以外の被照射面を照明するための一般的な照明光学装置、たとえば被照射面としてのワークピースに加工用のレーザビームを照射するためのレーザ加工装置や被照射面としてのワークピースに線状集光領域を形成するレーザアニール装置などに本発明を適用することができることは明らかである。なお、被照射面上に線状集光領域を形成する場合には、第1光学部材の第1入射面および第1射出面、または第2光学部材の第2入射面および第2射出面の一方が単数であっても良い。