"透明基板の表面に電極膜と半導体膜の少なくとも一方を有する薄膜が成膜された被加工部に、前記透明基板の裏面側からレーザーを照射して前記薄膜に分離溝を形成する薄膜太陽電池パネルの製造方法であって、撮像装置により前記透明基板内における気泡の位置を検出する気泡検出工程と、前記気泡検出工程で得られた前記気泡の位置に基づいて、前記分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成する加工工程と、を備えることを特徴とする薄膜太陽電池パネルの製造方法。前記加工工程は、前記分離溝の形成予定部位に前記気泡が存在する場合、前記形成予定部位からの離間距離が短くなるように前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする請求項1に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。前記加工工程は、前記分離溝の形成予定部位上に位置し且つレーザー幅の半分よりも大きな前記気泡を避けながら、前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。前記分離溝の形成予定部位は略直線形状であり、前記加工工程は、前記形成予定部位と前記気泡を避ける際の前記レーザーの照射部位とがなす気泡回避角度が60°以下となるように、前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする請求項1~3の何れか1項に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。前記薄膜は、前記透明基板の表面上に形成され、第1の分離溝を有する第1の薄膜と、前記透明基板と反対側の前記第1の薄膜上に形成され、第2の分離溝を有する第2の薄膜と、を備え、前記加工工程は、前記気泡検出工程で得られた前記気泡の位置に基づいて、前記第1の分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記第1の薄膜に前記第1の分離溝を形成する第1の加工工程と、前記第2の分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けるとともに、前記第1の分離溝との間隔が狭くなるように、前記第2の薄膜に前記第2の分離溝を形成する第2の加工工程と、を有することを特徴とする請求項1~4の何れか1項に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。透明基板の表面に電極膜と半導体膜の少なくとも一方を有する薄膜が成膜された被加工部に、前記透明基板の裏面側からレーザーを照射して前記薄膜に分離溝を形成する薄膜太陽電池パネルの製造装置であって、前記分離溝の形成予定部位の前記透明基板内における気泡の位置を検出する撮像装置と、前記薄膜に前記分離溝を形成するように前記透明基板の裏面側から前記薄膜にレーザーを照射するレーザー照射装置と、前記撮像装置で検出された前記気泡の位置に基づいて、前記分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記レーザーを照射するように前記レーザーの照射部位を制御する制御部と、を備えることを特徴とする薄膜太陽電池パネルの製造装置。前記制御部は、前記分離溝の形成予定部位に前記気泡が存在する場合、前記形成予定部位からの離間距離が短くなるように前記気泡を避けながら前記レーザーを照射するように前記照射部位を制御することを特徴とする請求項6に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。前記制御部は、前記分離溝の形成予定部位上に位置し且つレーザー幅の半分よりも大きな前記気泡を避けながら、前記レーザーを照射するように前記照射部位を制御することを特徴とする請求項6又は7に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。前記分離溝の形成予定部位は略直線形状であり、前記制御部は、前記形成予定部位と前記気泡を避ける際の前記レーザーの照射部位とがなす気泡回避角度が60°以下となるように、前記照射部位を制御することを特徴とする請求項6~8の何れか1項に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。前記制御部は、前記薄膜に形成されている前記分離溝との干渉を防止すると共に前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して、前記各分離溝間の間隔が狭くなるように前記薄膜に複数の前記分離溝を形成することを特徴とする請求項6~9の何れか1項に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。一般的に、透明なガラス基板の表面に成膜された薄膜に分離溝を形成するレーザーは、ガラス基板の裏面側薄膜形成面の反対側面から照射される。換言すれば、レーザーは、透明なガラス基板を通過して薄膜に分離溝を加工する。近年、エネルギ問題や低炭素社会実現のため、薄膜太陽電池パネルの普及が強く要望されており、製造コストの低減や、大量生産を可能とするため、比較的安価なガラス基板を使用して、薄膜太陽電池パネルを製造可能とすることが望まれている。しかしながら、比較的安価なガラス基板では内部に気泡を含むことが多く、図15に示すように、薄膜太陽電池パネル1の薄膜に3本の分離溝4、6、8を形成するとき、ガラス基板2に気泡Bが含まれていると、気泡Bでのレーザーの乱反射によってレーザー光の散乱が生じる。このため、レーザー加工すべき部分の周辺エリアEに余分なレーザーエネルギが照射されて、各薄膜9が変質したり、不必要な加工が生じて薄膜9にダメージを与えたり、加工部分にレーザーエネルギが集中せず、必要な加工ができずにスクライブ不良となる等の問題が生じる虞があった。この結果、不良セルが発生して薄膜太陽電池パネル1の回路が形成されず、製品性能を低下させる問題があった。特許文献1に記載の装置は、基板に対してレーザーを精度よく照射することにより、分離溝の加工精度向上を図ったものであり、ガラス基板に含まれる気泡の影響に関しては考慮されていない。また、特許文献2に記載の製造方法は、表面に凹凸形状が形成されて防眩効果を有するガラス基板に平滑処理を施した後、レーザーを照射して、表面の凹凸形状がレーザーに及ぼす影響を抑制するようにしたものであり、ガラス基板の内部に含まれる気泡に対して同様に考慮されていない。本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、比較的安価なガラス基板を使用しながら高性能な薄膜太陽電池パネルを製作することができる薄膜太陽電池パネルの製造方法およびその装置を提供することにある。本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。1透明基板の表面に電極膜と半導体膜の少なくとも一方を有する薄膜が成膜された被加工部に、前記透明基板の裏面側からレーザーを照射して前記薄膜に分離溝を形成する薄膜太陽電池パネルの製造方法であって、撮像装置により前記透明基板内における気泡の位置を検出する気泡検出工程と、前記気泡検出工程で得られた前記気泡の位置に基づいて、前記分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成する加工工程と、を備えることを特徴とする薄膜太陽電池パネルの製造方法。2前記加工工程は、前記分離溝の形成予定部位に前記気泡が存在する場合、前記形成予定部位からの離間距離が短くなるように前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする1に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。3前記加工工程は、前記分離溝の形成予定部位上に位置し且つレーザー幅の半分よりも大きな前記気泡を避けながら、前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする1又は2に記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。4前記分離溝の形成予定部位は略直線形状であり、前記加工工程は、前記形成予定部位と前記気泡を避ける際の前記レーザーの照射部位とがなす気泡回避角度が60°以下となるように、前記レーザーを照射して前記薄膜に前記分離溝を形成することを特徴とする1~3の何れか1つに記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。5前記薄膜は、前記透明基板の表面上に形成され、第1の分離溝を有する第1の薄膜と、前記透明基板と反対側の前記第1の薄膜上に形成され、第2の分離溝を有する第2の薄膜と、を備え、前記加工工程は、前記気泡検出工程で得られた前記気泡の位置に基づいて、前記第1の分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記第1の薄膜に前記第1の分離溝を形成する第1の加工工程と、前記第2の分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けるとともに、前記第1の分離溝との間隔が狭くなるように、前記第2の薄膜に前記第2の分離溝を形成する第2の加工工程と、を有することを特徴とする1~4の何れか1つに記載の薄膜太陽電池パネルの製造方法。6透明基板の表面に電極膜と半導体膜の少なくとも一方を有する薄膜が成膜された被加工部に、前記透明基板の裏面側からレーザーを照射して前記薄膜に分離溝を形成する薄膜太陽電池パネルの製造装置であって、前記分離溝の形成予定部位の前記透明基板内における気泡の位置を検出する撮像装置と、前記薄膜に前記分離溝を形成するように前記透明基板の裏面側から前記薄膜にレーザーを照射するレーザー照射装置と、前記撮像装置で検出された前記気泡の位置に基づいて、前記分離溝の形成予定部位上に位置する前記気泡を避けながら前記レーザーを照射するように前記レーザーの照射部位を制御する制御部と、を備えることを特徴とする薄膜太陽電池パネルの製造装置。7前記制御部は、前記分離溝の形成予定部位に前記気泡が存在する場合、前記形成予定部位からの離間距離が短くなるように前記気泡を避けながら前記レーザーを照射するように前記照射部位を制御することを特徴とする4に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。8前記制御部は、前記分離溝の形成予定部位上に位置し且つレーザー幅の半分よりも大きな前記気泡を避けながら、前記レーザーを照射するように前記照射部位を制御することを特徴とする6又は7に記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。9前記分離溝の形成予定部位は略直線形状であり、前記制御部は、前記形成予定部位と前記気泡を避ける際の前記レーザーの照射部位とがなす気泡回避角度が60°以下となるように、前記照射部位を制御することを特徴とする6~8の何れか1つに記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。10前記制御部は、前記薄膜に形成されている前記分離溝との干渉を防止すると共に前記気泡を避けながら前記レーザーを照射して、前記各分離溝間の間隔が狭くなるように前記薄膜に複数の前記分離溝を形成することを特徴とする6~9の何れか1つに記載の薄膜太陽電池パネルの製造装置。本発明の薄膜太陽電池パネルの製造方法によれば、透明基板の裏面側からレーザーを照射して、表面側に成膜された薄膜に分離溝を形成する際、撮像装置により透明基板内における気泡の位置を検出し、検出された気泡の位置に基づいて、分離溝の形成予定部位上に位置する気泡を避けながらレーザーを照射して薄膜に前記分離溝を形成するようにしたので、分離溝の加工時に、気泡によるレーザーの散乱を防止することができる。これによって、レーザーエネルギ不足による分離溝の加工不良や、不必要な部分へのレーザー照射による薄膜に与えるダメージをなくし、不良セルの発生を防止して製品の性能を向上させることができる。従って、比較的安価なガラス基板を使用しながら高性能な薄膜太陽電池パネルを製作することができる。また、本発明の薄膜太陽電池パネルの製造装置によれば、分離溝の形成予定部位の透明基板内における気泡の位置を検出する撮像装置と、薄膜に分離溝を形成するように透明基板の裏面側から薄膜にレーザーを照射するレーザー照射装置と、撮像装置で検出された気泡の位置に基づいて、分離溝の形成予定部位上に位置する気泡を避けながらレーザーを照射するようにレーザーの照射部位を制御する制御部と、を備えるので、レーザーが気泡に照射されることによるレーザーの散乱を防止することができる。これによって、レーザーエネルギ不足による分離溝の加工不良や、不必要な部分へのレーザー照射による薄膜へのダメージをなくすことができ、不良セルの発生を防止して製品の性能を向上させることができる。従って、比較的安価なガラス基板を使用しながら高性能な薄膜太陽電池パネルを製作することができる。第1実施形態以下、本発明の第1実施形態に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置を図面に基づいて詳細に説明する。なお、図14に示したように、薄膜太陽電池パネル1には、透明なガラス基板2上に、第1電極膜透明電極3、半導体膜太陽電池膜5、および第2電極膜裏面電極7を有する被加工部としての薄膜9が成膜されており、各膜3,5,7に各分離溝4,6,8を形成する各プロセスに対応して複数台の薄膜太陽電池パネルの製造装置が設けられる。図1に示すように、薄膜太陽電池パネルの製造装置10は、搬送装置11と、レーザー照射装置12と、撮像装置45と、制御部46と、を備える。搬送装置11は、薄膜太陽電池パネル1をX方向に搬送するためのものであり、浮上ユニット14と、搬送機構15とを有する。浮上ユニット14は、基台16上に設けられた複数の排気エアパッド17を備え、ポンプやソレノイドバルブいずれも図示せずを介して供給されるエアを、排気エアパッド17から排気してパネル1を浮上させて支持する。パネル1は、薄膜9を下向きに、ガラス基板2を上向きにして支持される。搬送機構15は、浮上ユニット14によって浮上、支持されたパネル1の一端図に示す実施例では下端部を吸着パッド図示せずなどで吸着保持し、例えば、不図示のボールねじ機構によって、ガイドレール18に沿ってX方向に搬送する。また、整列配置された排気エアパッド17の列間には、それぞれモータ19によって回転する搬送ローラ20が配置されている。搬送ローラ20は、パネル1を前工程の装置から製造装置10に供給し、加工が終了したパネル1を製造装置10から搬出して次工程の装置に供給する。レーザー照射装置12は、薄膜9にレーザーを照射して、分離溝4,6,8図14参照。を形成するためのものであり、即ち、ガラス基板2に薄膜9として第1電極膜3が成膜されたパネル1の場合には、第1電極膜3に分離溝4を形成し、薄膜9として第1電極膜3と半導体膜5が成膜されたパネル1の場合には、半導体膜5に分離溝6を形成し、薄膜として第1電極膜3、半導体膜5、及び第2電極膜7が成膜されたパネル1の場合には、半導体膜5と第2電極膜7に分離溝8を形成する。第1電極膜3の分離溝4の形成には、波長1064nmのレーザーが、また、半導体膜5の分離溝6、及び第2電極膜7の分離溝8の形成には、波長532nmのレーザーが、一般的に使用される。レーザー照射装置12は、レーザー発生装置21と、レンズ群23から構成されてレーザーの焦点を薄膜9上に結ばせる複数図1に示す実施形態では6個の光学系ユニット22と、を備える。図2も参照して、レーザー発生装置21と各光学系ユニット22とは、ビームベンダー26及び各光学系ユニット22に設けられたビームスプリッタ27を介してグラスファイバー24などで接続されている。レーザー発生装置21から出射されたレーザーは、グラスファイバー24を介して伝送され、ビームベンダー26で光学系ユニット22に向けて屈曲した後、各ビームスプリッタ27によって分岐されて各光学系ユニット22に導かれる。各光学系ユニット22のレンズ群23は、レーザーを被加工面上に照射する対物レンズ28と、対物レンズ28に入射するビーム径を可変するビームエクスパンダ29と、を含む。レーザー発生装置21から照射されるレーザーは、そのレーザー幅Aが5μm以下となるように設定され図6参照。、さらにそのビーム断面形状が、丸形でもよいが、分離溝4、6、8の断面形状が直線的に形成される四角形、或いは長方形であるのが望ましい。なお、レーザー照射装置12は、大型のレーザー発生装置21から照射されるレーザーを、本実施形態のようにビームスプリッタで分岐してもよいし、小型のレーザー発生装置21を多数配置するようにしてもよい。また、レーザーの本数は、多いほど分離溝4,6,8形成のタクトタイムが短くなるので生産上有利であるが、製造装置10のコスト上昇や維持管理費の増大につながる。複数の光学系ユニット22は、基台16の略中央上方にY方向に延設されたガイドロッド25に摺動自在に配設されており、不図示の駆動装置によってY方向に互いに独立して移動可能となっている。これにより、各光学系ユニット22は、パネル1の搬送方向X方向に対して直交する方向Y方向に独立して移動可能であり、パネル1の上方からガラス基板2を透過して薄膜9にレーザーを照射する。撮像装置45としては、例えば、カメラ、X線、CT装置、MRI、超音波などが用いられる。また、撮像装置45は、ガラス基板2が上向き薄膜9が下向きに支持されるパネル1を、ガラス基板2側上方から撮像して、ガラス基板2に含まれる気泡Bの位置を検出するためのものであり、ガイドロッド25に固定されている。撮像装置45は、レーザー照射装置12の光学系ユニット22よりパネル1の搬送方向上流側に配置されている。これにより、撮像装置45は、薄膜9に分離溝4,6,8を形成するのに先立ってガラス基板2を撮像し、ガラス基板2中に含まれる気泡Bの位置を検出すると共に、その位置を記憶する。撮像装置45による気泡Bの検出には、照明光が必要であるが、このための照明装置図示せずもガイドロッド25に固定されており、上方からガラス基板2を照明する。照明光は、散乱光であっても、平行光であってもよい。気泡Bの検出は、撮像装置45が受光する光量の変化で検出可能であるが、その他の方法であってもよい。なお、パネル1の上面には、光が透過し難い薄膜シリコンが成膜されているため、裏面側ガラス基板2側から気泡Bを検出することが好ましい。制御部46は、撮像装置45によって検出された気泡Bが、レーザーによる分離溝46,8の略直線形状の形成予定部位上に存在するか否かを判断し、形成予定部位上にレーザー幅Aの半分よりも大きな直径RR>A/2の気泡Bが存在する場合、気泡Bを避け且つ形成予定部位からの離間距離が短くなるように、光学系ユニット22から照射されるレーザーの照射部位を制御する。また、制御部46は、形成予定部位と気泡Bを避ける際のレーザーの照射部位とがなす気泡回避角度θが60°以下、好ましくは45°以下、さらに好ましくは30°以下となるように、レーザーの照射部位を制御する。このように気泡回避角度θを緩やかにすることによって、レーザーが気泡Bを避けやすくなるとともに、レーザーのエネルギ消費量を少なくすることが可能となる。一方、形成予定部位上にレーザー幅Aの半分以下の直径RR≦A/2の気泡B’が存在する場合、制御部46は、この気泡B’を避けずに形成予定部位にレーザーが照射されるように、レーザーの照射部位を制御する。また、半導体膜5の分離溝6、及び第2電極膜7の分離溝8の加工に際しては、レーザー幅Aの半分よりも大きな直径RR>A/2の気泡Bを避けると共に、前工程で加工されている分離溝4、6を基準とし、この分離溝4、6から僅かな間隔で離間させて分離溝6、8を形成するようにレーザーの照射部位を制御する。以下、本実施形態の薄膜太陽電池パネルの製造装置の制御手順について図1および図3に基づいて説明する。図1に示すように、ガラス基板2上に薄膜9が成膜されたパネル1は、ガラス基板2を上向き薄膜9を下向きにして搬送ローラ20に載せられ、薄膜太陽電池パネルの製造装置10に供給され、n本目の分離溝46,8の形成が開始されるステップS101。ここで、ポンプ図示せずから圧縮空気を送って排気エアパッド17から排気すると、パネル1は空気圧によって浮上し、搬送ローラ20から離間した状態で支持される。そして、搬送機構15が、浮上ユニット14によって浮上、支持されたパネル1の一端を吸着パッドなどで吸着保持し、X方向に搬送するステップS102。パネル1が撮像装置45の下方まで搬送されると、撮像装置45は、上方からガラス基板2を撮像し、ガラス基板2中に含まれる気泡Bを検出すると共に、気泡Bが検出された場合には、その位置を記憶するステップS103。このとき、パネル1に半導体膜5の分離溝6を形成する場合には、気泡Bと同時に、前工程で形成された分離溝4も同時に検出する。また、第2電極膜7の分離溝8を形成する場合には、気泡Bと同時に、前工程で形成された分離溝4、6も同時に検出する。なお、気泡Bの検出は、上記のようにパネル1を搬送しながら検出スキャニングする以外にも、予めパネル1の全面について気泡Bの位置を検出するようにしてもよい。パネル1が更に搬送されて加工予定位置が、光学系ユニット22の下方まで搬送されたことが不図示のセンサや撮像装置によって検出されると、レーザー発生装置21が作動を開始する。レーザー発生装置21から出射したレーザーは、グラスファイバー24、ビームベンダー26、及びビームスプリッタ27を介して6つの光学系ユニット22に導かれ、透明なガラス基板2側からパネル1に照射されて薄膜9上に焦点を結ぶ。そして、レーザーを照射した状態で、更にパネル1が引き続きX方向に搬送されることにより、薄膜9に分離溝46,8が形成されるステップS104。なお、パネル1のX方向への搬送は、薄膜9に1本の分離溝46,8の形成が完了するまで、進行し続けるように設定される。したがって、レーザーの照射部位が薄膜9の一箇所に留まり、余分なレーザーエネルギが照射されて薄膜9へのダメージが大きくなることを防止できる。ステップS105において、レーザーの照射位置が、撮像装置45によって予め検出されている気泡Bの位置に到達したと判断されると、気泡Bの直径Rがレーザー幅Aの半分よりも大きい場合R>A/2は、この気泡Bに対応する光学系ユニット22は、気泡Bを回避するようにレーザーの照射部位を制御して、気泡B上への分離溝46,8加工を回避するステップS106。具体的に、レーザーの照射部位が気泡Bの位置に到達すると、この気泡Bに対応する光学系ユニット22は、制御部46からの指令に基づいてガイドロッド25上でパネル1の搬送方向に直交する方向Y方向に移動して気泡Bを回避する。但し、ステップS105において、レーザー幅Aの半分以下の直径RR≦A/2の気泡Bが存在する場合は、光学系ユニット22は、気泡Bを避けずに形成予定部位にレーザーが照射されるようにレーザーの照射部位を制御する。このように気泡Bを回避しながら分離溝46,8の形成が行われ、n本目の分離溝46,8の形成が完了するとステップS107、ステップS108で予め設定されている所定本数の分離溝46,8が形成されたか否かが判断される。所定の本数に達していないと、搬送機構15によってパネル1を元の位置まで搬送すると共に、光学系ユニット22を次のn1本目の分離溝46,8を形成する位置までY方向にステップ移動させるステップS109。そして、ステップS101の前に戻り、再び同様の動作を繰り返し行って薄膜9に分離溝46、8の加工を行い、ステップS108で所定の本数の分離溝46,8が形成されたと判断されると、薄膜太陽電池パネルの製造装置10が動作を停止し、これにより薄膜太陽電池パネル1が製作される。このような手順により制御することにより、薄膜太陽電池パネルの製造装置10は、図4に示すように作動する。図4aは第1電極膜に第1の分離溝4を形成するときのパネルに対するレーザーの相対移動軌跡を示す薄膜太陽電池パネルの平面図、図4bは半導体膜に第2の分離溝6を形成するときのパネルに対するレーザーの相対移動軌跡を示す薄膜太陽電池パネルの平面図である。図4aに示すように、第1電極膜3の分離溝4は、パネル1をX方向に往復搬送しながら形成される。図中実線矢印は光学系ユニット22から照射されてレーザーによって分離溝4が形成される加工ラインであり、破線矢印は次の分離溝4形成のためにパネル1が元の位置に復帰するための戻りラインを示している。分離溝4の加工は、搬送機構15によって把持されたパネル1の一端1aを基準として、これに平行に形成される。また、図4bに示すように、半導体膜5の分離溝6は、分離溝4を撮像装置45で撮像し、この分離溝4を基準として分離溝4との間隔が狭くなるように、略平行に形成される。図中実線矢印はレーザーによる加工ラインであり、破線矢印はパネル1の戻りラインである。第2電極膜7の分離溝8は、撮像装置45で撮像される分離溝6を基準として同様に形成される。次に、図5及び図6を参照して、気泡を回避して分離溝が形成される過程について説明する。図5はガラス基板内に含まれる気泡を回避して分離溝が形成される状態を説明するための薄膜太陽電池パネルの平面図であり、aは第1の分離溝の形成予定部位を示す平面図、bは気泡を回避して第1の分離溝が形成される状態を示す平面図、cは第1の分離溝及び気泡を回避して第2の分離溝が形成される状態を示す平面図、dは第1、第2の分離溝及び気泡を回避して第3の分離溝が形成される状態を示す平面図である。図5a及び図6に示すように、第1の分離溝4の略直線形状の形成予定部位L1上のガラス基板2に、レーザー幅Aの半分よりも大きな直径RR>A/2の気泡Bがあると、制御部46は、光学系ユニット22をY方向に移動させることにより図1参照、気泡Bへのレーザー照射を回避すると共に、分離溝4の形成予定部位L1からの離間距離が短くなるようにレーザーの照射部位を制御する。具体的には、分離溝4の形成予定部位L1に対して、気泡Bがオフセットしている側と反対側をレーザーが通過するように照射部位を制御する。また、制御部46は、形成予定部位L1と気泡Bを避ける際のレーザーの照射部位とがなす気泡回避角度θが60°以下、好ましくは45°以下、さらに好ましくは30°以下となるように、レーザーの照射部位を制御する。これにより、第1の分離溝4は、図5b及び図6に示すように、気泡Bの位置で略V字形に気泡Bを避けて第1電極膜3に形成される。一方、形成予定部位L1上のガラス基板2にレーザー幅Aの半分以下の直径RR≦A/2の気泡B’が存在する場合、制御部46は、気泡B’を避けずに形成予定部位L1にレーザーが照射されるように、レーザーの照射部位を制御する。気泡B’のように、比較的小さい気泡である場合は、レーザーの乱反射によって生じるレーザー光の散乱による影響が低いからである。第2の分離溝6は、図5cに示すように、撮像装置45で撮像された第1の分離溝4を基準として、分離溝4と狭い間隔C1例えば25μmで離間して略平行に設定される第2の分離溝6の形成予定部位L2上に形成することを基本とする。しかし、この形成予定部位L2上にレーザー幅Aの半分よりも大きな気泡Bがある場合、制御部46は、気泡B及び第1の分離溝4との干渉を避け、且つ形成予定部位L2からの離間距離が短くなるように光学系ユニット22から照射されるレーザーの照射部位を制御して、半導体膜5に分離溝6を形成する。これにより、第2の分離溝6は、気泡B及び第1の分離溝4と干渉することなく形成される。第3の分離溝8は、同様に、図5dに示すように、撮像装置45で撮像された第2の分離溝6を基準として、分離溝6と狭い間隔C2例えば25μmで離間して略平行に設定される第3の分離溝8の形成予定部位L3上に形成することを基本とし、気泡B及び第1,第2の分離溝6,8との干渉を避け、且つ形成予定部位L3からの離間距離が短くなるようにレーザーの照射部位を制御して、第2電極膜7に形成される。ここで、第1の分離溝4から第3の分離溝8の間隔C3=C1C2は、90μm以下、より好ましくは10μm以下となるように設定される。このように、第1の分離溝4、第2の分離溝6、及び第3の分離溝8を狭い間隔C1、C2、C3で形成することにより太陽電池としての面積を広くすることができ、これにより薄膜太陽電池パネル1の発電性能の向上が図られる。上記したように、分離溝4、6、8は、互いに交差することなく、且つ気泡Bとの干渉が防止されて薄膜9に形成される。なお、各分離溝4、6、8は、それぞれ別々に設けられた各製造装置10によって形成される。以上説明したように、本実施形態の薄膜太陽電池パネル1の製造方法によれば、透明基板2の裏面側からレーザーを照射して、表面側に成膜された薄膜9に分離溝4、6、8を形成する際、撮像装置45により分離溝4、6、8の形成予定部位L1、L2、L3の透明基板2内における気泡Bの位置を検出し、分離溝4、6、8の形成予定部位L1、L2、L3上に気泡Bが存在する場合、気泡Bを避けながらレーザーを照射して分離溝4、6、8を形成するようにしたので、分離溝4、6、8の加工時に、気泡Bによるレーザーの散乱を防止することができる。これによって、レーザーエネルギ不足による加工不良や、不必要な部分へのレーザー照射による薄膜9に与えるダメージをなくし、不良セルの発生を防止して製品1の性能を向上させることができる。また、分離溝4、6、8の形成予定部位L1、L2、L3からの離間距離が短くなるように気泡Bを避けて薄膜9に分離溝4、6、8を形成するようにしたので、薄膜太陽電池パネル1の面積を増やすことができ、発電効率が向上する。また、分離溝4,6,8の形成予定部位L1、L2、L3上に位置し且つレーザー幅Aの半分よりも大きな気泡Bがある場合、この気泡Bを避けながらレーザーを照射して分離溝4、6、8を形成するようにしたので、薄膜9への影響が比較的大きな気泡を回避して不良セルの発生を防止しつつ、薄膜太陽電池パネル1の面積を増やすことができる。また、分離溝4,6,8の形成予定部位L1、L2、L3は略直線形状であり、これら形成予定部位L1、L2、L3と気泡Bを避ける際のレーザーの照射部位とがなす気泡回避角度θが60°以下となるように、気泡Bを避けながらレーザーを照射して分離溝4、6、8を形成するようにしたので、各分離溝4、6、8間の間隔を狭く設定することが可能となる。さらに、レーザーが気泡Bを避けやすくなるとともに、レーザーエネルギ消費量を少なくすることが可能となる。更に、撮像装置45により得られた気泡Bの位置に基づいて、気泡Bを避けながら第1の薄膜3に第1の分離溝4を形成し、気泡Bを避け、且つ第1の分離溝4との間隔C1が狭くなるように、第2の薄膜5に第2の分離溝6を形成するようにしたので、気泡Bの影響による不良セルの発生を防止すると共に、狭い間隔で複数の分離溝4、6、8を形成することができ、高性能の薄膜太陽電池パネル1を制作することができる。本実施形態の薄膜太陽電池パネルの製造装置10によれば、分離溝4、6、8の形成予定部位L1、L2、L3の透明基板2内における気泡Bの位置を検出する撮像装置45と、透明基板2の裏面側から薄膜9にレーザーを照射するレーザー照射装置12と、撮像装置45によって得られた気泡Bの位置に基づいて、気泡Bを避けながらレーザーの照射部位を制御する制御部46と、を備えるので、レーザーが気泡Bに照射されることによるレーザーの散乱を防止することができる。これによって、レーザーエネルギ不足による分離溝4、6、8の加工不良や、不必要な部分へのレーザー照射による薄膜9へのダメージをなくすことができ、不良セルの発生を防止して高性能の薄膜太陽電池パネル1の製作が可能となる。また、制御部46は、分離溝4、6、8の形成予定部位L1、L2、L3からの離間距離が短くなるように気泡Bを避けながらレーザーを照射するので、薄膜太陽電池パネル1の面積を増やすことができ、発電効率が向上する。また、分離溝4,6,8の形成予定部位L1、L2、L3上に位置し且つレーザー幅Aの半分よりも大きな気泡Bがある場合、この気泡Bを避けながらレーザーを照射して分離溝4、6、8を形成するようにしたので、薄膜9への影響が比較的大きな気泡を回避して不良セルの発生を防止しつつ、薄膜太陽電池パネル1の面積を増やすことができる。また、分離溝4,6,8の形成予定部位L1、L2、L3は略直線形状であり、これら形成予定部位L1、L2、L3と気泡Bを避ける際のレーザーの照射部位とがなす気泡回避角度θが60°以下となるように、気泡Bを避けながらレーザーを照射して分離溝4、6、8を形成するようにしたので、各分離溝4、6、8間の間隔を狭く設定することが可能となる。さらに、レーザーが気泡Bを避けやすくなるとともに、レーザーエネルギ消費量を少なくすることが可能となる。更に、制御部46は、薄膜9に形成されている分離溝4、6との干渉を防止すると共に、気泡Bを避けながらレーザーを照射して、各分離溝4、6、8間の間隔C1、C2が狭くなるように複数の分離溝4、6、8を形成するようにしたので、薄膜太陽電池パネル1の面積を増やすことができ、性能を向上させることができる。図7は第1実施形態の変形例に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置の側面図である。この変形例の薄膜太陽電池パネルの製造装置10Aは、レーザー照射装置12、及び撮像装置45がパネル1の下面側に配置される。この変形例では、薄膜9を上向き、ガラス基板2を下向きにしてパネル1を搬送し、薄膜9にレーザーをパネル1の下面側から照射して薄膜9に分離溝46、8を形成するようにした。その他、撮像装置45によるガラス基板2内の気泡Bの検出、この検出結果に基づいて、制御部46が気泡Bを避けながら狭い間隔で分離溝4、6、8を形成するようにレーザーの照射部位を制御する手順、および作用については、上述した実施形態の薄膜太陽電池パネルの製造装置10と同様であるので、説明を省略する。第2実施形態次に、本発明の第2実施形態に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置について、図8~図11を参照して説明する。なお、第1実施形態と同一又は同等部分については同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。図8に示すように、パネル1の下面側には、それぞれの光学系ユニット22に対応して加工液供給機構13が配設されている。加工液供給機構13は、上記した不図示の駆動装置によって駆動されて、それぞれの光学系ユニット22と同期してY方向に移動可能である。即ち、光学系ユニット22がステップ移動するときには、加工液供給機構13も光学系ユニット22と同期してY方向にステップ移動する。なお、本実施形態では、搬送ローラ20は、パネル1の下面に形成された薄膜9と接触しないように、パネル1のY方向両端部にのみ配置されている。図9および図10に示すように、加工液供給機構13は、単一の加工ブロック30に配設された加工液貯留槽31、加工液回収溝32、真空溝33、およびエアベアリング34から構成されている。具体的には、加工ブロック30の中央に配置された加工液貯留槽31の周囲に加工液貯留槽31を囲むように矩形の加工液回収溝32が設けられ、加工液回収溝32の外周側には加工液回収溝32を囲むように矩形の真空溝33が形成されている。更に、真空溝33の外周側には、複数の圧縮空気吐出孔35が設けられたエアベアリング34が設けられている。このような加工液供給機構13は、それぞれの光学系ユニット22に対応してパネル1の下面側に配置されている。加工液貯留槽31は、上面が開放された略矩形箱状に形成されており、レーザー照射部位Pが加工液貯留槽31の略中央に位置する。加工液貯留槽31は、底部に加工液供給口36が設けられて加工液供給部を構成しており、パイプ37によって図示しないポンプなどの加工液供給装置に接続されて、加工液50が連続供給される。また、加工液回収溝32の底部に設けられた排水口38は、回収パイプ39が接続されており、加工液貯留槽31から溢れ出る加工液50を排水口38および回収パイプ39を介して回収する。回収された加工液50は、ろ過装置40でろ過された後、再び加工液貯留槽31に循環供給される。加工液50としては、例えば、純水、水道水、あるいは洗剤を含んだ水やアセトン、メタノール、エタノール、トリクレン、フレオン等の有機溶剤を含む化学洗浄液が使用可能である。真空溝33の底部に設けられた吸引孔41は、パイプ42を介して不図示の真空ポンプなどの真空源に接続されており、真空溝33近傍の空気を吸引している。更に、エアベアリング34の圧縮空気吐出孔35は、パイプ43を介して圧縮空気供給装置に接続されており、圧縮空気吐出孔35から圧縮空気を吐出させる。これにより、レーザー発生装置21から照射されるレーザーによってパネル1薄膜9に分離溝46,8を形成するとき、図11に示すように、加工液貯留槽31には、加工液供給装置から加工液供給口36に加工液50が連続して供給されており、この加工液50はパネル1の下面の薄膜9に接触して、又は充満している。加工液貯留槽31から溢れ出した加工液50は、加工液回収溝加工液回収部32から排水口38、回収パイプ39を介して回収される。このように、薄膜9は、連続供給される加工液50中で、洗浄された状態で加工されるので、レーザー加工によって発生する加工粒は、加工液50と共に加工液回収溝32から排出される。これにより、加工粒が分離溝46、8の内部や周辺に残ることはなく、電池セル間でのショートが防止される。尚、加工液50中に気泡が存在すると、レーザーによって気泡が爆発して加工不良が生じる可能性があるので、加工液貯留槽31内に気泡溜まりが生じないように、加工液50を連続供給するのが望ましい。また、分離溝46、8は、加工液50によって冷却しながら加工されるので、溶融した加工粒が薄膜に再付着することはない。更に、冷却によって薄膜9の熱ひずみが防止され、高精度での加工を行うことができる。これにより、薄膜太陽電池パネル1の絶縁性能、出力特性、耐電圧特性などを良好に維持することができる。加工液回収溝32で回収することができず、加工液50の表面張力などによってパネル1に付着している加工液50は、真空によって真空溝33から吸引される周囲の空気と共に吸引排除される。尚、加工液貯留槽31に供給される加工液50は、パネル1に押し上げる力を作用させる。一方、真空溝33の真空は、パネル1を加工液供給機構13側に引き寄せる力として作用するので、パイプ37、42に圧力センサ、流量センサ、流量調整弁いずれも図示せずなどを配設し、これらによって両者の圧力バランスを制御することにより、パネル1と加工液供給機構13の隙間が、例えば、数百ミクロンで一定となるように制御することができる。また、これによってパネル1に接触又は充満する加工液50の表面の波打ちが防止され、加工液50の揺らぎによる屈折を抑制することができる。これによって、レーザーによる分離溝46、8加工を安定して精度よく行うことができる。更に、真空溝33の空気吸引によっても排除されずにパネル1に残る加工液50は、エアベアリング34の圧縮空気吐出孔35から吐出される圧縮空気によって吹き飛ばされて除去乾燥される。このような構成の薄膜太陽電池パネルの製造装置10Bで薄膜太陽電池パネル1を製作することにより、パネル1に向けて加工液50を供給して薄膜9のレーザー照射部位及びその近傍に加工液50を接触又は充満させた状態で、薄膜9にレーザーを照射して薄膜9に分離溝4、6、8を形成するので、パネル1の薄膜9を加工液50で洗浄しながら加工して、レーザー加工によって発生する加工粒残渣を除去することができる。これにより、分離溝4、6、8やその近傍に残る加工粒による回路のショートを防止して薄膜太陽電池パネル1の性能低下を防止することができる。また、レーザー照射部位及びその近傍を冷却して、薄膜9の熱ひずみを抑制することができ、分離溝4、6、8を高精度で加工することができる。その他、撮像装置45によるガラス基板2内の気泡Bの検出、この検出結果に基づいて、制御部46が気泡Bを避けながら狭い間隔で分離溝4、6、8を形成するようにレーザーの照射部位を制御する手順、および作用については、第1実施形態の薄膜太陽電池パネルの製造装置10と同様であるので、説明を省略する。図12は第2実施形態の変形例に係る薄膜太陽電池パネルの製造装置の側面図である。この変形例の薄膜太陽電池パネルの製造装置10Cは、レーザー照射装置12、及び撮像装置45がパネル1の下面側に配置されると共に、加工液供給機構13が、それぞれの光学系ユニット22に対応してパネル1の上面側に配置されている。この変形例では、薄膜9を上向き、ガラス基板2を下向きにしてパネル1を搬送し、パネル1の上面側から加工液50を供給して薄膜9のレーザー照射部位P及びその近傍に加工液50を接触又は充満させた状態で、薄膜9にレーザーをパネル1の下面側から照射して薄膜9に分離溝46、8を形成するようにした。このため、加工液供給機構13は、図13に示すように、基板2に対して上向きに配置された薄膜9の少なくともレーザー照射部位P及びその近傍に加工液50を接触又は充満させるように加工液50を供給する加工液供給口36が形成された加工液供給部55を備える。また、加工液供給部55の外周側には、加工液を回収可能な矩形の第1加工液回収溝32aが配置される。第1加工液回収溝32aの外周側には、加工液50が外周側へ広がるのを抑制するようにエアを吐出する矩形のノズル孔51が配置される。さらに、ノズル孔51の外周側には、加工液50を回収可能な矩形の第2加工液回収溝32bが配置される。そして、第2加工液回収溝32bの外周側には、圧縮空気を吐出可能なエアベアリング34が矩形状に配置される。さらに、加工ブロック30aの下方には、パネル1が搬送されていない状態で、加工液供給機構13から供給された加工液50を収容する受け皿53が、搬送されるパネル1が通過する隙間を介して形成されている。受け皿53の一部には、石英板等の透明板54が形成される。そして、受け皿53の下方に配置されたレーザー発生装置21は、受け皿53の透明板54を通過して、パネル1の下方から基板2を透過して薄膜9にレーザーを照射する。このように構成された製造装置10Aでは、浮上ユニット14によって浮上、支持されたパネル1は、エアベアリング34から吐出される圧縮空気によって、パネル1と加工ブロック30aとの間を所定のギャップに保つようにして搬送することができるので、分離溝46、8を精度よく加工することができる。また、加工時には、加工液供給機構13によって加工液50を供給して薄膜9のレーザー照射部位P及びその近傍に加工液50を接触又は充満させることができ、パネル1を加工液50で洗浄して、加工により発生する加工粒を除去しながら、分離溝46、8を形成することができる。さらに、第1加工液回収溝32a、ノズル孔51、第2加工液回収溝32bを使って、加工粒を含む加工液50を効率的に回収することができる。その他の構成及び作用については、上記実施形態のものと同様である。尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。例えば、上記の実施形態では、加工液供給機構13を備え、薄膜9のレーザー照射部位P及びその近傍に加工液50を接触又は充満させて、パネル1を加工液50で洗浄しながら分離溝4、6、8を形成するようにしたが、これに限定されず、加工液50を用いずに分離溝4、6、8を形成するようにしてもよい。また、レーザー発生装置21から出射されるレーザーを分割して、6台の光学系ユニット22で加工するようにしたが、これに限定されず、光学系ユニット22の台数は任意に設定することができる。また、加工液供給機構13の台数も任意である。また、本発明の被加工部は、ガラス基板のような固い基板に限定されるものでなく、柔軟なフィルムであってもよい。また、第1の分離溝4の略直線形状の形成予定部位L1上のガラス基板2にレーザー幅Aの半分よりも大きな直径RR>A/2の気泡Bがある場合、気泡Bへのレーザー照射を回避する、としたが、これに限定されず、形成予定部位L1上のガラス基板2に任意の大きさの気泡Bが存在する場合は気泡Bへのレーザー照射を回避する、としてもよい。この場合、気泡Bによってレーザー光の散乱が生じることをより確実に防止することが可能となる。"