温度Teで水銀を放出する水銀源によって水銀を時間制御供給する方法であって、前記水銀源が条件温度Tc<Teに保持され、前記水銀源を移動することによって温度T>Teにされることを特徴とする方法。TcとTeとの間の差が100°C以下である、請求項1に記載の方法。前記水銀源が不連続な形態である、請求項1に記載の方法。前記不連続な水銀源がゲッター材料をさらに含む、請求項3に記載の方法。前記不連続な水銀源が粒子形態、液滴形態、または圧縮された粉末のピルである、請求項3に記載の方法。前記不連続な水銀源が、一定の頻度で、またはリズミカルな調子で、容器から取り出される、請求項3に記載の方法。前記水銀源が連続な形態である、請求項1に記載の方法。前記連続な水銀源が、その上に水銀供給材料が堆積される、金属のリボンの形態である、請求項7に記載の方法。前記堆積物が圧縮された粉末の帯の形態である、請求項8に記載の方法。前記金属のリボン上にゲッター材料の堆積物がさらに存在する、請求項8に記載の方法。前記連続な水銀源が、水銀供給材料の粉末を含む糸状要素の形態である、請求項7に記載の方法。前記糸状要素の中に、ゲッター材料の粉末がさらに存在する、請求項11に記載の方法。互いに直交する、二つの系統の糸状要素が存在する、請求項11または12に記載の方法。前記糸状要素が異なるレベルの水銀ローディングで存在する、請求項11または13に記載の方法。容器および粒子またはピル形態の複数の不連続水銀源、および前記不連続水銀源の時間制御放出のための取り出し手段を含む、水銀供給システム。容器の温度調節手段を含む、請求項15に記載のシステム。本発明の目的は、従来技術に未だ存在する欠点を克服し、特に、プロセスのタイプに関連する方法の使用に頼らずに、または追加の製造操作を必要とすることなく、時間制御された水銀放出を得ることである。その第1の局面において、本発明は温度Teで水銀を放出する水銀源を用いることによって、時間制御された方法で水銀を供給する方法であり、前記水銀源が条件温度Tc<Teに保持され、かつ前記水銀源を移動することによって温度T>Teにすることを特徴とする。本発明は、以下の図面に関連して説明される。これらの図において、特に、かつ包括的に図3の糸形状を有する連続ディスペンサのサイズに関して、サイズおよび構成部分の間の寸法比は正確ではなく、サイズおよび寸法比は図面の見易さを向上するために変更されている。さらに本発明に必須ではない特定の構成部分は、特に、かつ包括的に気体流の制御手段、または図3の糸形状を有する連続ディスペンサの移動および巻き取り手段に関して、図示されていない。好ましい実施形態において、TcおよびTeの間の温度差は100°C未満である。これは、これが使用される位置に隣接する水銀の迅速な放出を可能にし、また水銀を供給する水銀源が、これが必要である位置と隣接せずに存在するときに起こる不都合の一つを取り除く。これらの不都合は、処理チャンバの冷たい領域、例えば最適な熱の調整が行われていないダクトまたは壁に対応して起こり得る蓄積および関連する汚染に関する。本発明の製造に関して有効である水銀源には、不連続な形態、および連続な形態の双方の水銀源がある。特に、不連続な形態の水銀源は、例えば欧州特許第0683919号に記載されるような水銀アマルガムで出来た粒子または球、または供給材料で出来た、すなわち水銀を含むピルであってよい。この場合、不連続な水銀源は、時間に対する頻度を調節するため、例えばシャッターを有する開口部を備えるなど、制御されたやり方でそれらを供給する手段を備えた容器内に配置される。不連続な水銀源の他の実施形態は、正確に添加される液滴の形態である。容器は、水銀が添加されるフィルムの、またはより一般的には、水銀の制御された添加を必要とする装置の製造に使用される処理チャンバ内に配置され、支持体と比較して高い位置で、個別のディスペンサが温度TcからTeの間の転換を実施し、結果的に落ちる間に水銀を放出するようにする。個々の水銀源が、それらがそこから落下することを防ぐために、支持体に関して垂直方向に並んで配置されないことは明らかである。容器は、温度Tcである処理チャンバの一部に対応して配置されてよく、または加熱および制御のための手段を提供する間、低い温度であるチャンバの一部の中に配置されてよい。個々の水銀源は、一定の頻度で、またはリズミカルな調子で、または包括して取り出されてよく、これはかなりの量の水銀が供給されなくてはならず、かつ個々の水銀源のサイズを大きくする意図が無いとき、水銀源自身の熱プロファイルの存在に起因して起こり得る不均一条件を回避するために、生じる。この実施形態は、正面図で処理チャンバ10の一部を示す、図1に記載される。処理チャンバは、一般的に高温典型的には400°C超に保持される側壁11、11’を有する。処理チャンバにおいて、その上で、水銀で出来た、または水銀でドーピングされる必要がある膜13が成長する支持体12が存在する。処理チャンバ内で、精製された気体流Fが典型的には流される。好ましくは、気体流は条件温度Tcに近い温度である。気体流を精製しかつ制御する手段は示されておらず、図面は処理チャンバ内部でのこの気体流の起こり得る方向のみを示す。気体流の方向が水銀蒸気を支持体に向かって運ぶようなものでなくてはならないことは明らかである。チャンバ壁の一つの上に、不連続な形態で水銀源17、17’、17を含む容器15の支持体14がある。容器は時間に対して制御された方法で個々の水銀源を取り出す適切な機構を有し、この機構は要素16として図1に概略的に示され、開口部のシャッターの形態を有している。図1は、本発明による水銀源を使用するために可能な方法の例を示すが、同じ目的を達成するために等価な方法で多くの変更が可能である。容器15は、例えば壁11に直接固定されてよい。水銀の放出に関する主な機能に加えて、不連続な水銀源は、一つ以上の非蒸発ゲッター成分を導入することによって気体汚染物を除去する第2の機能を実行してよい。このタイプの方法は、個々の水銀源がピル形態であるとき好ましい。この場合、ゲッター材料の存在はバラストとしても働き、その結果水銀放出のための不連続な構成要素の落下速度の特定の均一性を保証する。不連続な水銀源内部で水銀を供給するための適切な材料は、好ましくは米国特許第3657589号に開示される化合物、すなわち化合物TiXZryHgzで出来ており、ここでxおよびyは、それらの合計が3から13の間であり、zが1または2であるという条件の下で、0から13の間で変わる。特に好ましいのは、Ti3Hgを使用することである。これらの化合物は、水銀の放出を最大にするプロモータと組み合わせて用いられてもよく、その結果、個々の装置が温度T>Teで領域を通過するとき、迅速な放出を保証する。これらのプロモータは、欧州特許第0669639号に記載されるように、スズ、インジウム、および銀の中から選択される少なくとも一つの第2の元素並びに銅、または、欧州特許第0691670号に記載されるように、銅およびケイ素、または欧州特許第0737995号に記載されるように、銅、スズ、およびレアアースで出来ている。温度Teは、一般的に700°C以上である。代わりに、水銀供給化合物は、国際公開第2006/008771号に記載されるように、10重量から42重量の間のチタン、14重量から50重量の間の銅、20重量から50重量の間の水銀、および1重量から20重量の間の、スズ、クロム、およびケイ素のうち一つ以上、を含んで使用されてよく、または独国特許第2056490号に記載される化合物のように、チタン-銅-水銀の三元化合物であってよい。これらの水銀供給材料は、本発明の第1の実施形態において粒状またはピル状の形態で使用されてよいが、それらは第2の実施形態における使用にも好ましい。代わりに、球状または液滴状のものを使用する実施形態において、亜鉛-水銀アマルガムの使用が好ましい。このタイプの方法は、比較的低い温度で操作される、または容器が配置され得る低温の部分を有する処理チャンバにおいて好ましい。水銀放出材料に加えて有効であると見なされるゲッター材料は、例えば、米国特許第3203901号に記載されるような、アルミ16重量のZr-Al合金、または約80重量のジルコニウム、15重量のコバルト、および残りのMMを含む、合金Zr-Co-MMここでMMはY、La、Ce、Pr、Nd、レアアースメタル、またはこれらの元素の組み合わせであってよい。第2の実施形態において、本発明による方法は、連続形態の水銀源、例えば巻き取られたリール形態のリボン上に堆積された水銀を供給するための材料の帯、の使用を提供する。この場合、リールは解かれ、リボンは水銀を必要とする装置に隣接して伸びるようにされる。この場合においても、処理チャンバ内での適切な配置によって、または加熱手段を用いることによって、リールは温度Tcにされてよい。リボン形態での使用は、ゲッター材料がリボン上に存在するとき、特に有利である。この場合、実はゲッター材料は長期にわたって気体状の不純物を取り除くことができ、その機能を連続的に実行する。本発明による方法が提供する他の有利な点は、処理を中断する場合に、水銀の放出がすぐに中断され得ることである。不連続な水銀源の場合、これは容器からの取り出しを中断することによって実行することができ、一方で連続的なリボンの場合、これはリボンの作動を遮断することによって実行することができる。後者の場合、処理を再開するとき、処理の初期調整のため、水銀の部分的蒸発に曝された部分のリボンを使用するために、リボンの一部を再び巻くことも有利である。連続的に作動する代わりに、不連続な段階を実行するようにすることによってリボンを操作することが可能であるが、この方法はあまり好ましくない。水銀源が連続的な形態である、すなわち水銀供給材料がリボン上に配置される、方法の実施形態が図2に記載され、処理チャンバ20の正面図を示す。この場合、リボンの形態の水銀源25が存在し、これは矢印Dによって示される方向に延びるようになされる。リボンは二つのリール26、26’上に巻き取られ、その少なくとも一つはリボン移動システム図示せずを備える。リールは支持体24、24’によってチャンバの壁に固定される。この種の実施形態において、ガス流Fの好ましい方向は斜めである。リボンの実施形態において、水銀放出材料、および場合によっては存在するゲッター材料は、典型的には粉末形態で使用され、いわゆるコールドローリングプロセスによってリボンへの接着が生じるようにされてよい。好ましくは、粉末の粒子サイズは250μm未満である。これらの材料の堆積は、典型的には小さなサイズのリボン上の単一の帯の形態この場合には、ゲッター材料はリボンの反対側の面に堆積されてよい、または、大きなサイズを有するリボンの面に配された、2から6mmの間の幅を有し、1mm離隔される平行な帯である。これらの堆積物は見易さのために図面には示されていない。様々な金属材料がリボンを製造するのに使用されてよく、中でも好ましいのはニッケルめっきされた鉄の使用である。熱処理を受けたとき、気体を発生しない材料も使用することができ、使用されるまたは真空システムと両立可能な材料、例えばAISI304鋼などである。連続形態における実施形態の変更例が、処理チャンバの一部の上面図を示す、図3に示される。この場合、限定されていない長さを有する一つ以上の糸状の要素が想定され、糸状の要素は水銀放出材料の粉末、および任意にゲッター材料の粉末を含む。これらの糸状の要素は一面にスリットを有し、国際公開第98/53479号に開示され、製造プロセスの特徴に関するその教示は参照によってここに組み込まれる。図2に関して記載されたものと同様に、各糸状要素35、35’、35、35’’’は温度Tcに保たれたリール図示せずに巻かれる。糸状要素の一部は引っ張ることによって移動され、支持体の近傍に達したとき、温度Teに達する。図面に示される方向Dは、連続する糸状のディスペンサの引張方向を示す。この場合、様々な糸状要素の各々一つに存在するスリット36は支持体12に対向する。TcからTeの間の変移は、有利には上方から支持体12にぶつかる高温の純気体の流れ図示せずによって生じ得る。糸状要素の断面A-A’は、これらの要素の特に好ましい断面台形、およびHg蒸気を供給するためのスリット36の存在を示す。異なる実施形態では、スリットは支持体と対向せず、反対の方向を向く。この種の方法は、起こり得る汚染現象粒子が糸状供給要素から落ちるを最小化することができる。図2に示されるリボン型の実施形態と比較すると、連続源に関するこの代替的実施形態は、薄層状の水銀源を形成すること、および気体流により支持体上での均一な分散を保証こと、という有利な点を有する。さらに、この場合、水銀の放出は支持体の非常に近くでのみ起こり、結果的に処理チャンバの汚染のリスクを最小化する。この種の方法は、水銀の放出が大きな表面積を有する装置上に均一に実施されなくてはならないとき、特に有利である。さらに、糸状要素に対する、多い、または少ない量の水銀のロードを適切に調整することによって、または様々な直径を有する糸状要素を使用することによって、装置に水銀の濃度プロファイルを適切に生成することが可能である。さらなる実施形態において、二つの平面上に互いに垂直に配置された糸状要素が使用されてもよく、結果的に水銀供給グリッドが得られる。この実施形態において、水銀放出材料およびゲッター材料は、粉末形態で用いられ、リボン型の実施形態で用いられるものと同じ材料である。同様に、ニッケルめっきされた鉄はリボン製造に好ましい材料であり、水銀の放出を可能にするスリットを除いて、粉末を囲む。本発明の第2の局面は、ピルまたは球粒子形態の複数の不連続な水銀源、および時間制御された方法で前記不連続水銀源を取り出す手段を含む、水銀を供給するためのシステムに関する。好ましい実施形態において、このシステムは、システムに含まれる不連続水銀源からの水銀放出温度と比較して低い条件温度Tcにおいてシステム温度を制御および調整する手段を備える。本発明の第3の局面は請求項1に記載の方法により製造された装置に関する。この場合、最も興味深い装置は、水銀-カドミウム-テルル太陽電池およびIR放射検知装置である。