複数の絵素が配列された表示領域と、前記表示領域に隣接する額縁領域とを有する表示パネル用基板であって、前記額縁領域内にアライメントマークを備え、前記アライメントマークの中心は、前記表示領域から2mm以上離れた位置にあることを特徴とする表示パネル用基板。前記アライメントマークの中心は、前記表示領域から50mm以内の位置にあることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル用基板。前記表示パネル用基板は、前記額縁領域内に配線を備え、前記アライメントマークは、前記配線と前記表示領域との間の領域に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の表示パネル用基板。前記アライメントマークは、列状に伸びる遮光部材により形成されていることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の表示パネル用基板。前記アライメントマークは、表示領域内のアライメントパターンと平行に伸びていることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の表示パネル用基板。前記アライメントマークは、表示領域内のアライメントパターンと平行な150μm以上の直線部分を有することを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の表示パネル用基板。前記アライメントマークは、表示領域内のアライメントパターンと平行に配置され、かつ点線状に配置されていることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の表示パネル用基板。前記表示パネル用基板は、液晶表示パネルに用いられる基板であり、配向膜を備えることを特徴とする請求項1~7のいずれかに記載の表示パネル用基板。光源、フォトマスク、ステージ及び撮像装置を備える露光機により、前記ステージ上に載置した請求項1~8のいずれかに記載の表示パネル用基板を走査露光する基板露光方法であって、前記走査露光は、前記表示パネル用基板及び前記フォトマスクの少なくとも一方を移動させつつ、前記フォトマスクに設けられた透光部を通じて、前記光源から放出された光を前記表示領域に照射するものであり、前記基板露光方法は、前記表示領域内を走査露光する前に、前記撮像装置によって前記アライメントマークの位置及び向きに関する情報を読み取り、前記フォトマスクが前記額縁領域から前記表示領域へ移動する間に、前記情報に基づいて前記フォトマスクの位置及び/又は向きを調整することを特徴とする基板露光方法。特許文献1のように、絵素のパターンが格子状に形成される領域の外側で、かつその領域の周辺の直近に、アライメントマークを配置した場合であっても、露光開始位置が露光すべき領域から外れてしまい、追従不良と呼ばれる露光位置のずれが生じることがあったため、更なる工夫の余地があった。本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、所定の位置から所定の方向に向けて正確に露光を開始することができる表示パネル用基板及び基板露光方法を提供することを目的とするものである。本発明者らは、スリット状の開口部が形成された小形のマスクを用いて基板表面の一部の領域に光を照射しつつ、基板を移動させるという露光方法言い換えれば、走査露光について種々検討した結果、基板の露光開始位置の近傍において精度よく露光ができないことがあることに着目した。すなわち、本発明者らは、絵素のパターンが格子状に形成される領域言い換えれば、露光領域の外側で、かつ露光領域の直近に、アライメントマークを配置した態様では、アライメントマークを認識してからマスクの補正が完了するまでの間に、露光領域がマスクの下に到達してしまう場合があることを見いだした。そこで、本発明者らは、表示領域から2mm以上離れた位置にアライメントマークの中心を配置することにより、露光領域がマスクの下に到達する前にマスクの位置及び向きの調整を完了させることができ、所定の位置から所定の方向に向けて正確に露光を開始することができ、上記課題をみごとに解決することができることに想到した結果、本発明に到達したものである。すなわち、本発明は、複数の絵素が配列された表示領域と、上記表示領域に隣接する額縁領域とを有する表示パネル用基板であって、上記額縁領域内にアライメントマークを備え、上記アライメントマークの中心は、上記表示領域から2mm以上離れた位置にある表示パネル用基板である。本発明の表示パネル用基板は、走査露光が適用される基板として好適であり、上記アライメントマークは、走査露光の際に位置決めに好適に用いられるものである。例えば、上記アライメントマークの位置及び向きに関する情報を読み取って、フォトマスクの位置、向きを調整する露光システムを構成すれば、露光精度の向上が可能である。本発明はまた、光源、フォトマスク、ステージ及び撮像装置を備える露光機により、上記ステージ上に載置した上記表示パネル用基板を走査露光する基板露光方法であって、上記走査露光は、上記表示パネル用基板及び上記フォトマスクの少なくとも一方を移動させつつ、上記フォトマスクに設けられた透光部を通じて、上記光源から放出された光を上記表示領域に照射するものであり、上記基板露光方法は、上記表示領域内を走査露光する前に、上記撮像装置によって上記アライメントマークの位置及び向きに関する情報を読み取り、上記フォトマスクが上記額縁領域から上記表示領域へ移動する間に、上記情報に基づいて上記フォトマスクの位置及び/又は向きを調整する基板露光方法でもある。なお、本明細書において、額縁領域とは、表示パネル用基板内の表示領域を除く領域であれば特に限定されず、例えば、表示パネル用基板の外周領域が挙げられる。また、表示パネル用基板がマザーガラス基板であって、表示パネル用基板内に複数の表示領域が配置される場合には、上記額縁領域は、複数の表示領域間の領域を含んでいてもよく、含まなくてもよい。上記アライメントマークの中心は、上記表示領域から50mm以内の位置にあることが好ましい。アライメントマークの中心を表示領域から50mmよりも離して配置すると、アライメントマークに基づきマスクの位置及び向きを最適な状態に調整しても、表示領域に到達した時点でのマスクの位置及び向きが最適な状態から外れてしまっているおそれがある。本発明の一形態として、上記表示パネル用基板は、上記額縁領域内に配線を備え、上記アライメントマークは、上記配線と上記表示領域との間の領域に配置されている形態が挙げられる。この形態によれば、表示領域とアライメントマークの距離が大きくなり過ぎることを防止でき、かつ額縁領域内の配線をアライメントマークとして誤認することを防止できる。なお、上記アライメントマークは、撮像装置によって位置及び向きに関する情報を読み取ることができるものであればよく、その形状及び材質は特に限定されない。例えば、本発明の一形態として、上記アライメントマークは、列状に伸びる遮光部材により形成されている形態が挙げられる。列状に伸びるパターンであることは、位置及び向きの両方に関する情報を得るのに有効であり、遮光体であることは、撮像装置により情報を得るのに有効である。また、単純な形状であることから、撮像装置が認識し損なう可能性が少ない。本発明の一形態として、上記アライメントマークは、表示領域内のアライメントパターンと平行に伸びている形態が挙げられる。この形態によれば、撮像装置は、額縁領域内に設けた上記アライメントマークを手がかりにして、正確かつ容易に表示領域内のアライメントパターンを認識することができる。なお、上記アライメントマークと上記アライメントパターンとが平行に伸びるとは、上記アライメントマークに含まれる直線部分と上記アライメントパターンに含まれる直線部分とにより形成される角度が3°未満であることを意味し、好ましくは1°未満である。本発明の一形態として、上記アライメントマークは、表示領域内のアライメントパターンと平行な150μm以上の直線部分を有する形態が挙げられる。上記アライメントマークに絵素と同程度の長さの直線部分を設ければ、撮像装置によって位置及び向きに関する情報を正確に決定することができる。本発明の一形態として、上記アライメントマークは、表示領域内のアライメントパターンと平行に配置され、かつ点線状に配置されている形態が挙げられる。この形態によっても、撮像装置は、額縁領域内に設けた上記アライメントマークを手がかりにして、正確かつ容易に表示領域内のアライメントパターンを認識することができる。本発明の一形態として、上記表示パネル用基板は、液晶表示パネルに用いられる基板であり、配向膜を備える形態が挙げられる。光配向処理における露光状態は、液晶表示装置の表示品位に強く関連することから、額縁領域内に上記アライメントマークを設けることにより光配向処理における露光の正確性を向上させれば、液晶表示装置の表示品位を優れたものとすることができる。本発明に係る表示パネル用基板、及び、それを用いた基板露光方法によれば、所定の位置から所定の方向に向けて正確に露光を開始することができることから、基板の露光開始位置の近傍においても精度よく露光ができる。実施形態1本実施形態に係る表示パネル用基板、及び、その基板を用いた露光方法について、図1~11を参照して説明する。図1は、実施形態1に係る露光方法において、表示領域への露光前の状態を示す斜視模式図であり、図2は、実施形態1に係る露光方法において、表示領域への露光中の状態を示す斜視模式図である。本実施形態に係る基板の露光方法は、いわゆる走査スキャン露光と呼ばれる方式を用いている。図1及び2に示すように、スリット状の透光部が形成されたマスク50を用い、このマスク50の透光部を通じて、マザーガラス基板10の表面に紫外線を照射しつつマザーガラス基板10を移動させるものである。図1、2中の矢印が、マザーガラス基板10の移動方向を示している。本実施形態に係る露光方法は、マザーガラス基板10に形成される配向膜に対して、光配向処理を施す工程に適用される。マザーガラス基板10は、液晶表示パネルのアレイ基板又はカラーフィルタ基板を製造するためのものであり、1枚のマザーガラス基板10から6枚のアレイ基板又はカラーフィルタ基板を切り出すことができる。なお、本実施形態では、表示パネル用基板としてマザーガラス基板10を例にとって説明するが、本発明の表示パネル用基板は、単体のアレイ基板、単体のカラーフィルタ基板であってもよい。マザーガラス基板10には、各アレイ基板又はカラーフィルタ基板に対応して、6つの表示領域11が設けられている。アレイ基板に対応する表示領域では、互いに交差するソース信号線及びゲート信号線が網目状に形成されており、ソース信号線及びゲート信号線により区画された各絵素領域に、薄膜トランジスタ及び絵素電極が形成されている。カラーフィルタ基板に対応する表示領域では、ブラックマトリックスが網目状に形成されており、ブラックマトリックスにより区画された各絵素領域に、カラーフィルタが形成されている。そして、マザーガラス基板の表面には光配向処理が適用可能な配向膜が形成されている。マザーガラス基板10の外周領域額縁領域には、アライメントマーク13が設けられている。このアライメントマーク13は、本実施形態に係る露光方法の実施において、表示領域11への露光を開始する前に、基板10の位置及び向きに応じて、予めマスク50の位置及び向きを調整するためのものである。そのような調整により、表示領域11に対して露光を開始する時点においてマスク50が急激に大きく変位することがなく、露光位置の精度の向上を図ることができ、露光ムラの発生を防止できる。また、表示領域11内のパターンは複雑であるため、表示領域11への露光開始時に表示領域11内の所定の追従用パターンアライメントパターンを認識し損なう場合があるが、額縁領域内の所定の位置に配置されたアライメントマーク13により事前調整がなされることで、追従用パターンアライメントパターンの捕捉精度を向上させることができる。アライメントマーク13の中心は、表示領域11から2mm~50mm離れた位置に設けられる。本願発明者の実験によれば、アライメントマーク13を表示領域11に隣接して配置したときアライメントマーク13の長さは2mmであり、アライメントマーク13の中心と表示領域11の境界との距離は1mmであったには、80以上の割合で、表示領域11内の追従用パターンアライメントパターンの認識を正確に行うことができなかった。また、アライメントマーク13を表示領域11から52mm離れた位置に配置したときには、表示領域11内の追従用パターンアライメントパターンの認識を正確に行うことができなかった割合は、1~2程度であった。しかしながら、アライメントマーク13を配置するために額縁領域を50mm以上設けることは、表示装置用基板の他の設計上の要素を考慮すると困難な場合が多い。また、上記した実験結果では、不良率は1~2程度であったが、アライメントマーク13の中心と表示領域11との間隔が大きくなり過ぎると、不良率が増加するおそれがある。また、アライメントマーク13を読み取ったときのずれ量その時点で補正が必要な量は、最大で50μm程度である。一方、一般的な装置の動作状況は、例えば、位置合わせ時のマスクの最大移動速度が1mm/sec、その加速度が25mm/sec2であり、基板の搬送速度が90mm/secである。この条件からは、50μmのずれを補正するためには、アライメントマーク13の中心と表示領域11との距離が6.3mm必要といえる。但し、例えば基板の搬送速度は90mm/secに限られず、50mm/sec~200mm/secが一般的な範囲である。これらのことから、アライメントマーク13の中心と表示領域11との距離の下限は、5mm以上であることが好ましく、8mm以上であることがより好ましい。アライメントマーク13の中心と表示領域11との距離の上限は、20mm以下であることが好ましい。また、アライメントマーク13は、認識率を向上させる観点から、額縁領域内の配線と表示領域との間の領域に配置されていることが好ましい。アライメントマーク13の寸法は特に限定されない。アライメントマーク13の幅は、10μm以上であることが好ましく、また、50μm以下であることが好ましい。アライメントマーク13の基板搬送方向の長さは、150μm以上であることが好ましく、500μm以上であることがより好ましく、また、10mm以下であることが好ましい。露光機にアライメントマーク13を認識させる観点からは、アライメントマーク13の基板搬送方向における長さは、通常1mm以下でよい。図3は、実施形態1に係る表示パネル用基板に形成されたアライメントマークと、アレイ基板に対応する表示領域の端部とを拡大して示した平面模式図である。図3に示すように、露光されるマザーガラス基板がアレイ基板を製造するためのものであれば、幅15μm、長さ500μm程度の矩形パターンを、アレイ基板に対応する表示領域11から2mm~50mm離れた位置に、アライメントマーク13として形成する。矩形パターン13は、単純な形状であることから、撮像装置が認識し損なう可能性が少ない点で有利である。矩形パターン13は、ソース信号線15と同一工程で形成され、ソース信号線15と同じ材料からなる。ソース信号線15は、2本を1組として配置されており、矩形パターン13は、その中心線が、表示領域11に形成された1組のソース信号線15の中心線と一致する位置に形成される。矩形パターン13と1組のソース信号線15の中心線とが一致していることにより、撮像装置が1組のソース信号線15を捕捉し損なうことが防止されている。撮像装置は、表示領域11内では1組のソース信号線15を追従用のパターンアライメントパターンとし、これによって表示領域11内の全体に対して正確な露光が行われる。また、露光されるマザーガラス基板がカラーフィルタ基板を製造するためのものであれば、幅15μm、長さ500μm程度の矩形パターンを、カラーフィルタ基板に対応する表示領域11から2mm~50mm離れた位置に、アライメントマーク13として形成する。この矩形パターン13は、ブラックマトリックスと同一工程で形成され、その中心線が、表示領域11に形成されたブラックマトリックスの中心線と一致する位置に形成される。撮像装置は、表示領域11内ではブラックマトリックスを追従用のパターンアライメントパターンとし、これによって表示領域11内の全体に対して正確な露光が行われる。以上のように、本実施形態に係る表示パネル用基板では、ソース信号線15又はブラックマトリックスを形成する工程において、併せてアライメントマーク13を形成することができる。したがって、アライメントマーク13を形成するための特別の工程を追加する必要がなく、基板製造のコスト及び時間の増加を招くこともない。図4は、実施形態1に係る露光方法において、表示パネル用基板の向きとフォトマスクに設けられた透光部の中心線とを平行に調整する前の状態を示す平面模式図である。図4に示したように、基板10が、その搬送方向図4中の矢印参照に対して傾いており、かつフォトマスク50のスリット状の透光部の中心線と平行になっていない状態では、基板10に設けられた絵素の配列方向に沿って表示領域11を露光することができない。基板の搬送方向の長さが2460mmであれば、基板の前端と後端との間で実際上250μm程度の位置ずれが生じることがあるのに対し、追従用パターンアライメントパターンが所定の位置から5μm以上ずれてしまうと、認識することが困難となってしまう。これに対して、本実施形態では、基板10の表示領域11がフォトマスクの下に到達する前に、表示領域11よりも2mm~50mmフォトマスク50側に位置するアライメントマーク13の位置及び向きを確認する。そして、その確認結果に基づき、基板10の搬送を止めることなく、基板10の搬送方向とフォトマスク50のスリット状の透光部の中心線とが所望の角度例えば、平行となるように、基板10及びフォトマスク50の少なくとも一方の位置及び角度を調整する。これにより、所定の位置から所定の方向に向けて正確に露光を開始することができることから、基板の露光開始位置である表示領域11の端部においても精度よく露光ができる。図5は、実施形態1に係る露光機の要部の構成を概念的に示した側方図である。露光機は、基板10に紫外線を照射する露光ユニット51と、基板10を載置して移動させるためのステージ55とを備える。露光ユニット51は、紫外線を発する紫外線光源を備え、マスク50を介して基板10の表面に対して所定の照射角で紫外線を照射できるように構成される。光源は、照射対象に応じて適宜選択すればよく、可視光線を発する光源であってもよい。また、各露光ユニット51は、撮像手段53と、記憶手段と、照合手段と、マスク移動手段とを備える。撮像手段53は、基板10の表面を撮影できる。例えばCCDカメラ等が適用できる。記憶手段は、露光の位置合わせの基準となる基準画像を記憶しておくことができる。照合手段は、撮像手段53が撮影した画像と基準画像とを比較照合して、実際に露光している位置と露光すべき位置とのズレを算出する。マスク移動手段は、照合手段によるズレの算出結果に基づいて、マスク50の位置及び/又は角度を補正する。なお、照合手段は、基準画像を用いる代わりに、基板10を撮像した結果とマスク50を撮像した結果とを比較照合する方法によっても、同様にマスク50の位置及び/又は角度を補正することができる。マスク50は、例えば板状の部材であり、所定の箇所に所定の寸法形状の透光部が設けられる。したがって、基板10が搬送されてマスク50の直下を通過すると、マスク50の透光部の直下を通過した領域のみが露光される。この結果、基板10の表面の所定の細長い線状の領域が露光される。透光部としては、光本実施形態では紫外線を透過することができれば特に限定されず、例えば、マスクに設けた開口であってもよいし、透明な膜が形成された部分であってもよい。また、図1に示したように、露光機は、複数のマスク50言い換えれば、露光ユニット51を備える。そして、露光ユニット51が基板10の進行方向に対して垂直に並べられる。これにより、基板10の全幅に亘って1回の走査で露光できる。なお、各露光ユニット51は、それぞれ独立して上記の動作を行うことができる。次に、露光機を用いて、本実施形態に係る基板に対し、本発明の実施形態に係る露光方法を実施する動作について説明する。まず、ステージ55上に基板10を載置する。このとき、アライメントマーク13が、ステージ55による基板10の進行方向図1中の矢印が指す方向の最も前方に位置するように、基板10を置く。ステージ55による基板10の搬送が開始されると、まず基板10の表面に形成されたアライメントマーク13が各露光ユニット51の撮像手段53の視野に入り、撮像手段53はこれを撮影する。照合手段は、撮像手段53が撮影したアライメントマーク13の画像と、記憶手段が記憶している基準画像とを比較照合し、露光すべき位置と、実際に露光している位置とのズレを算出する。そして補正手段は、この算出結果に基づいて、マスク50の位置特に、基板10の進行方向に対して直角方向の位置や角度特に、基板10の進行方向に対する角度を補正する。アライメントマーク13の中心線は、表示領域11に形成される1組のソース信号線15又はブラックマトリックスの中心線と一致している図3参照。したがって、アライメントマーク13を用いてマスク50の位置や角度が補正されると、表示領域11に形成される1組のソース信号線15又はブラックマトリックスを撮影して補正をしたのと同じ効果が得られる。なお、1組のソース信号線15又はブラックマトリックスは、表示領域11の露光時に撮像手段の撮影対象とされるアライメントパターンとして用いられる。アライメントマーク13が撮像手段53によって撮影可能な位置に達した時点においては、基板10の表示領域11は、マスク50の直下には達していない。すなわち、まだ露光が開始されない。したがって、アライメントマーク13を用いた補正によってマスク50が大きく移動したとしても、表示領域11に対する露光には何らの影響を及ぼさない。基板10がさらに進行すると、基板10の表示領域11が撮像手段53の視野に入る。そうすると、撮像手段53は表示領域11に形成されるアライメントパターンを撮影できるようになり、このアライメントパターンに基づいてマスク50の位置及び角度の補正が行われる。また、それとほぼ同時に、基板10の表示領域11が露光される位置に達する。上記のとおり、基板10がこの位置に達するまでに、アライメントマーク13によるマスク50の位置及び角度の補正が行われている。したがって、この位置に達した時点では、マスク50の位置及び角度が大きく変化することがない。この結果、表示領域11に対する露光の開始位置の近傍において、露光位置の精度の向上を図ることができ、露光ムラの発生を防止できる。以降、基板10を搬送しつつ、表示領域11に形成されたアライメントパターンの撮影、撮影した画像と基準画像との比較照合による露光位置のズレの算出、及び、算出結果に基づいたマスク50の位置及び角度の補正を継続的に行う。その結果、基板10の1回の搬送によって、所定の線状の箇所に露光を施すことができる。このように本実施形態に係る露光方法は、表示領域11に対して露光を開始する前に、あらかじめ表示領域11の外側に形成されるアライメントマーク13を用いてマスク50の位置及び角度を補正する。このような動作を実現するため、基板10のアライメントマーク13は、基板10をステージ55上に載置して搬送した際に、露光ユニット51の撮像手段53が撮影できる位置に形成される。また、基板10に形成されるアライメントマーク13の数は、露光機が備える露光ユニット51の数に等しい数とされる。本実施形態に係る露光方法は、光配向処理を施す工程に適用されるものである。光配向処理は、さまざまな表示モードの液晶表示パネルに適用できるものであるが、なかでも、ねじれネマチック垂直配向VerticalAlignmentTwistedNematicVATNモードの液晶表示パネルに好適である。以下では、図6~8を参照して、本実施形態に係る露光方法によりVATNモードの液晶表示パネルを作製する方法を説明する。なお、図6~8では、説明の便宜上、表示領域11に形成されたパターンを図3に示したパターンよりも簡略化している。図6は、実施形態1に係る露光方法を用いたアレイ基板に対する光配向処理を模式的に示した図である。本実施形態に適用される絵素の構造は特に限定されるものではない。ここでは、ソース信号線19とゲート信号線17に囲まれる領域に絵素電極21が形成され、薄膜トランジスタにより絵素の駆動を制御するという、一般的な構成の絵素を例に用いて説明する。アレイ基板については、図6に示すように、各絵素内にその両側のソース信号線19の略中間図中の線Aで二分されて形成される2つの領域を想定する。そしてそれぞれの領域に対して、絵素の面の法線に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から紫外線を照射する。各領域に対する紫外線の照射の向きは、それぞれ照射される紫外線の光軸を絵素の面に投影した場合に、これらの投影した光軸がソース信号線19に平行でかつ互いに180°異なる向きとする。図7は、実施形態1に係る露光方法を用いたカラーフィルタ基板に対する光配向処理を模式的に示した図である。図7に示すように、カラーフィルタ基板には、ブラックマトリックス23が格子状に形成され、格子により区分された各絵素内にカラーフィルタ層が形成される。カラーフィルタ基板については、アレイ基板と貼り合わせた際にアレイ基板のゲート信号線17に平行となる、絵素の境界を構成する2辺の略中間図中の線Bで二分されて形成される2つの領域を想定する。そしてそれぞれの領域に対して、絵素の面の法線に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から紫外線を照射する。各領域に対する紫外線の照射の向きは、それぞれ照射される紫外線の光軸を絵素の面に投影した場合に、これらの投影した光軸が、アレイ基板のゲート信号線17に平行でかつ互いに180°異なる向きとする。図8は、図6に示したアレイ基板と図7に示したカラーフィルタ基板とを貼り合わせて構成した液晶表示パネルについて、各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。上記のように配向処理が施された基板どうしを貼り合わせて液晶表示パネルを構成すると、図8に示すように、両基板の間に充填される液晶分子は、各基板の各領域に施された配向処理の向き、すなわち紫外線の照射方向にしたがって配向する。その結果、各絵素内には、液晶分子の配向の向きが互いに異なる複数のドメイン領域が形成される。図8中の矢印は、両基板面から等距離に位置する液晶分子の配向の向きを示している。図9は、実施形態1に係る露光方法に用いられるアレイ基板用フォトマスクの構成を示した平面模式図である。図10は、図9のフォトマスクとアレイ基板に形成されたパターンとの寸法及び位置の関係を示した図である。なお、図10では、説明の便宜上、表示領域11に形成されたパターンを図3に示したパターンよりも簡略化している。図9に示すように、アレイ基板用フォトマスク60は、略長方形の板状の部材である。そして紫外線が通過できるスリット状の透光部61が、所定のピッチPxで複数平行に形成されている。ピッチPxは、図10に示すように、アレイ基板に形成されるソース信号線19のピッチに等しく設定される。また、透光部61の幅短い側の寸法Lxは、ソース信号線19のピッチの約1/2の寸法に設定される。図11は、実施形態1に係る露光方法に用いられるカラーフィルタ基板用フォトマスクと、カラーフィルタ基板に形成されたパターンとの寸法及び位置の関係を示した図である。カラーフィルタ基板用フォトマスク70は、アレイ基板用フォトマスク60とほぼ同一の構成を備える図9参照。すなわち、紫外線が通過できるスリット状の透光部71が、所定のピッチPyで複数平行に形成される。ピッチPyは、カラーフィルタ基板に形成されたブラックマトリックス23のピッチここでは、アレイ基板と重ね合わせた場合に、アレイ基板のゲート信号線17に平行する辺のピッチと等しくなるように設定される。また、透光部71の幅短い側の寸法Lyは、ブラックマトリックス23のピッチの約1/2の寸法に設定される。このようなマスク60、70を用い、上述した露光方法によって、各基板を露光すると、各基板とも、各絵素の半分の領域が、基板の一回の移動により露光される。その後、露光位置を透光部の半ピッチ分ずらし、紫外線の照射の角度を変えて残りの半分の領域について露光する。この結果、各絵素の半分ずつの領域が互いに異なる方向に配向処理される。実施形態2本実施形態は、表示パネル用基板の額縁領域に配置されるアライメントマークの別の一例を示すものである。図12は、実施形態2に係る表示パネル用基板に形成されたアライメントマークを拡大して示した平面模式図である。図12に示すように、本実施形態では、面状に配置された部材に、幅W15μm、長さL500μm程度のスリット状の切欠き部抜き部が設けられ、この切欠き部がアライメントマークとして用いられる。上記面状に配置された部材としては、アレイ基板に対応する表示領域から2mm~50mm離れた位置に設けられる場合であれば、ソース信号線と同一工程で形成される金属部材が用いられ、カラーフィルタ基板に対応する表示領域から2mm~50mm離れた位置に設けられる場合であれば、ブラックマトリックスと同一工程で形成される遮光部材が用いられる。切欠き部の中心線は、表示領域に形成されたソース信号線又はブラックマトリックスの中心線と一致する位置に形成される。実施形態3本実施形態は、表示パネル用基板の額縁領域に配置されるアライメントマークの別の一例を示すものである。図13は、実施形態3に係る表示パネル用基板に形成されたアライメントマークを拡大して示した平面模式図である。図13に示すように、本実施形態では、アライメントマークは、H字形状を有しており、幅W15μm、長さL500μm程度の直線部の上端及び下端にそれぞれ、左右方向に伸びる直線部が、直角となるように、その中点で接続されている。アレイ基板に対応する表示領域から2mm~50mm離れた位置に設けられる場合であれば、ソース信号線と同一工程で形成される金属部材が用いられ、カラーフィルタ基板に対応する表示領域から2mm~50mm離れた位置に設けられる場合であれば、ブラックマトリックスと同一工程で形成される遮光部材が用いられる。アライメントマークの中心線は、表示領域に形成されたソース信号線又はブラックマトリックスの中心線と一致する位置に形成される。H字形状のアライメントマークは、他のパターンとの混同を生じにくい点で有利である。実施形態4本実施形態は、表示パネル用基板の額縁領域に配置されるアライメントマークの別の一例を示すものである。図14は、実施形態4に係る表示パネル用基板に形成されたアライメントマークを拡大して示した平面模式図である。図14に示すように、本実施形態では、アライメントマークは、幅W15μm、全長L500μm程度の点線状のパターンである。アレイ基板に対応する表示領域から2mm~50mm離れた位置に設けられる場合であれば、ソース信号線と同一工程で形成される金属部材が用いられ、カラーフィルタ基板に対応する表示領域から2mm~50mm離れた位置に設けられる場合であれば、ブラックマトリックスと同一工程で形成される遮光部材が用いられる。アライメントマークの中心線は、表示領域に形成されたソース信号線又はブラックマトリックスの中心線と一致する位置に形成される。上述の各実施形態は、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲でさまざまな変更が施されてもよく、例えば、特定の実施形態に記載された構成を他の実施形態に記載された構成により置き換えてもよいし、各実施形態同士を組み合わせてもよい。上述の各実施形態では、アレイ基板については、基板をソース信号線の延伸方向に移動させつつ露光する構成を示したが、ゲート信号線の延伸方向に移動させつつ露光する構成であってもよい。この場合、アライメントマークが形成される位置を変更し、上記説明におけるゲート信号線とソース信号線とを読み替えればよい。上述の各実施形態では、光配向処理を施す工程を例示したが、本発明に係る表示パネル用基板、及び、その基板を用いた露光方法は、カラーフィルタ基板の作製、アレイ基板の作製に適用してもよい。それらの場合であっても、アライメントマークの配置に本発明を適用することで同様の効果を得ることができる。カラーフィルタ基板を作製する場合としては、例えば、ブラックマトリックスのパターンを形成するための露光、各色のカラーフィルタのパターンを形成するための露光が挙げられる。カラーフィルタの色は特に限定されず、赤色、緑色、青色の3色であってもよいし、赤色、緑色、青色、黄色の4色であってもよい。この場合、光の照射角度θは特に限定されず、0°でよい。アレイ基板を作製する場合としては、例えば、ゲート信号線、ソース信号線、絶縁膜等のパターンを形成するための露光が挙げられる。パターンの元になる各種薄膜の上にレジストを塗布し露光を行ってもよいし、パターンの元になる各種薄膜が感光性の材料であれば直接露光してもよい。また、配線等の形成においては、露光する光をパルス状に繰り返し照射することで直線以外の複雑なパターンを形成することも可能である。なお、本願は、2010年12月3日に出願された日本国特許出願2010-270563号を基礎として、パリ条約ないし移行する国における法規に基づく優先権を主張するものである。該出願の内容は、その全体が本願中に参照として組み込まれている。