除去すべき屑が入っている穴の中に、渦巻パージガス流を供給し、渦流を前記屑に与えて前記屑を前記穴の底から持ち上げることを特徴とする、穴をパージし、穴から屑を除去する方法。前記穴は、直径の約5倍以上の深さを有することを特徴とする請求項1記載の方法。前記渦巻パージガス流の長手方向の軸線は、前記穴の穴軸線から離間されていることを特徴とする請求項1記載の方法。前記渦巻パージガス流は、少なくとも約100psiの圧力のパージガス源から作り出されることを特徴とする請求項1記載の方法。前記渦巻パージガス流の前記長手方向の軸線は、前記穴軸線と実質的に平行であることを特徴とする請求項3記載の方法。前記渦巻パージガス流の前記長手方向の軸線は、前記穴軸線に対して角度を成すことを特徴とする請求項3記載の方法。複数の渦巻パージガス流が、前記穴に導入されることを特徴とする請求項1記載の方法。前記複数の渦巻パージガス流は、平行な流れで、前記穴に導入されることを特徴とする請求項7記載の方法。前記渦巻パージガス流は、非渦流パージガス流と組み合わされて、前記穴に導入されることを特徴とする請求項1記載の方法。前記渦巻パージガス流は、穴壁に関して接線に沿ったパージガスの前記穴への導入によって作り出されることを特徴とする請求項1記載の方法。前記渦巻パージガス流は、パージガスノズル内部で作られることを特徴とする請求項1記載の方法。前記渦巻パージガス流は、前記穴内で直接作られることを特徴とする請求項1記載の方法。前記渦巻パージガス流は、交互に流れ状態になったり非流れ状態になったりすることを特徴とする請求項1記載の方法。前記渦巻パージガス流は、交互に高流量になったり低流量になったりすることを特徴とする請求項1記載の方法。前記渦巻パージガス流は、液体の霧を含むことを特徴とする請求項1記載の方法。前記複数の渦巻パージガス流は、複数のパージガスノズルを通して、前記穴に導入されることを特徴とする請求項7記載の方法。前記屑は、前記穴の深さを増加させるためのレーザービームによって作り出されることを特徴とする請求項1記載の方法。前記レーザービームは、連続して前記穴に導入されることを特徴とする請求項17記載の方法。前記レーザービームは、パルスで前記穴に導入されることを特徴とする請求項17記載の方法。前記レーザービームのパルスは、前記パージガスのパルスと同期されることを特徴とする請求項19記載の方法。かくして、本発明の一つの目的は、直径の5倍以上の深さを有する穴をパージして穴から屑を除去する方法を提供することにある。本発明の一つの目的は、レーザが当てられている表面へのレーザーエネルギの伝達を最大化し、レーザを当てるための新しい表面を露出させるように、実質的に屑が生成される際に屑を迅速に除去する、穴をパージして穴から屑を除去する方法を提供することにある。本発明の別の目的は、レーザーエネルギのかなりの量を吸収しない、穴をパージして穴から屑を除去する方法を提供することにある。本発明の別の目的は、穴をパージして屑を除去するために採用された従来のパージガスシステムを用いたときに生じる、レーザービームの遮蔽、パージガスノズルの加熱、及び非円筒形の穴の形成という問題を回避する、穴をパージして穴から屑を除去する方法を提供することにある。本発明のこれらの及び他の目的は、除去すべき屑が入っている穴の中に、旋回しながら進む渦巻パージガス流を供給し、渦流を前記屑に与えて前記屑を前記穴の底から持ち上げる、穴をパージして穴から屑を除去する方法を提供することにある。パージガスの渦巻は、以下により詳細に説明するように、種々の手段によって成し遂げられる。レーザ照射工程中に発生した屑は、顕微鏡によらなければ見えない粒子から、約0.5~1インチの直径の球相当同体積の球の直径の小片まで、寸法がとても広い。粒子の濃度は、レーザービームが当てられている物質に依存し、霧が使用されようがされまいが、材料が破砕されようがされまいが、一般に元の物質の密度を保持し、物質が溶融されようがされまいが、密度を増加させるだろう。本発明の方法を実施するためのパージガスの流量及び流速は、穴の直径に基づいて、標準井戸の確立された流動化計算を使用して計算されるのがよい。屑を効果的に除去するために、穴の半分の断面積に分割された穴への全流れからの合計流量として定義されたパージガス流の流量は、除去されるべき最も大きな屑の粒子の終端速度と少なくとも等しく、好ましくは、終端速度より大きくあるべきである。半分の面積が使用される、というのは、約半分の断面を横切るパージガスの流れは、穴の終端で屑に向かい、残りの半分の断面を横切る流れは穴の終端で屑から離れるからである。本発明のこれら及び他の目的及び特徴は、図面と共に以下の詳細な説明からより良く理解できるであろう。本発明の方法は、穴の中へのパージガス流の侵入を増加させることによる比較的深くかつ実質的に閉端の穴に侵入するための上述した従来の取り組み方法の欠点に取り組む。侵入を増加させることは、図5に示すように、穴の中でガス流20に或る程度の渦を与えて、流れの広がり及び流れパターンを制御することによって達成される。パージガス流の渦流は、図6及び図7に示すように、プレナム30から開口31を通ってパージガスノズル内へ出るパージガスを導入することによって、本発明の実施形態によるパージガスノズル25において達成される。図8及び図9に示すように、本発明の実施形態によれば、パージガスノズル25内のパージガス流の渦流は、パージガスノズル内に配置された渦プレート32を使用して達成される。かかる渦プレートは、当業者に良く知られている。当業者に知られた、流体流に渦流を与える他の如何なる方法を採用してもよい。図10に示すように平行なフローストリーム、及び図11に示すように直進/渦流フローストリームの組合せを含む多重渦流パターンを、好ましいジェット侵入及び表面衝突を達成するために使用するのがよい。二つ以上の平行フローストリームは、同じ総流量及び流速の単一の流れよりも低いレイノルズ数Reを有するであろう。かくして、本発明の実施形態による多重平行フローストリームの使用は、単一の流れに比べて、レイノルズ数及びフローストリームの乱れを減じ、同じレイノルズ数を維持しつつ、より高いフローストリームの流速、密度及び総流量を可能にし、穴の中への侵入及び屑の流動化を増大させる。多重フローストリームの使用によりまた、穴の内ゾーン及び外ゾーンにおいて生成された屑の特徴に基づいて異なる流体を使用することができより大きな屑にはより重い流体、より小さい屑にはより軽い流体、外渦流により、内フローストリームの広がりを制限して、内フローストリームの侵入を増大させることができる。本発明の実施形態によれば、好ましい複数のパージガス渦フローストリームは、複数のパージガスノズルを使用して作り出される。本発明の実施形態において、パージガスは、図12に示すように、穴壁に実質的に平行な、穴壁に向いて/穴壁から離れて僅かに角度を成すように向けられたパージガス流軸を有するパージガスノズル35を通して、穴軸線33と穴壁との間の領域の穴10内に導入され、それによって、穴の底近くに、微細屑粒子のサイクロンの/渦の流れを作り出す。本発明の実施形態によれば、パージガス流軸は、図13に示すように、穴壁に対して90°より小さい角度で向けられて、特定の条件で渦流の生成を強める。好ましいパージガスノズルの配向及び流れのパラメータは、穴の上部に渦流を作り出して、穴の底部で屑に渦を巻かせる。実質的に垂直な穴の配向において、屑の寸法に依存して、パージガスを流しつつ、屑が取れるかもしれない。本発明の実施形態において、パージガスは、オン状態とオフ状態との間、又は高流量と低流量との間で脈動して、パージガスがオフ状態又は低流量であるときに、屑を落とすことを可能にする。この場合、レーザービームは、連続的でもよいし、パージガスの脈動と、好ましくは同期して、同位相又は異なる位相で脈動してもよい。本発明の実施形態において、パージガスは、液体の霧で飽和されて、パージガス密度を増加させ、パージガス流の広がりを減じ、レーザが当てられた表面の熱冷ましを増加させ、かつ、屑生成速度及び穴侵入を増大させる。本発明の方法用のパージガスノズル35は、非使用期間中、ドリルホール36内に配置され、図13に概略的に示すように、簡単な機構、例えば、ヒンジ機構37によって、必要とされたときに、ドリルホールの穿孔内に配置され、より限定された渦流、及び穴の外側に留まる流体に対する穴の中へ進む流体のパーセントによって、その実効性を増大させる。本発明の方法に使用される好ましいパージガスは、不活性ガス、酸素含有ガス、炭化水素ガス、及びそれらの混合ガスからなるグループから選択されるのがよい。パージガスに混ぜるための適当な駅頭を形成する好ましい霧は、水、食塩水、炭化水素液、及びそれらの混合液からなるグループから選択されるのがよい。図15は、本発明の実施形態による、ドリルホールの穿孔内に渦流を作る出すための渦流ノズル41を備えたレーザ用具40を示す図である。上述の実施形態では、本発明を特定の好適実施形態に関連して説明し、多くの詳細を、説明の目的で記載してきたが、本発明が実施形態の追加が可能であること、及び、ここに記載された詳細が、本発明の本質から逸脱することなく、かなり変更することができることが当業者に明らかである。