"金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域と、膜中央領域の片側に金属酸化物微粒子が存在する膜表層領域a1が形成され、膜中央領域の他方側に金属酸化物微粒子が存在する膜表層領域a2が形成されている金属酸化物微粒子含有膜。金属酸化物微粒子含有膜の厚み方向断面において、金属酸化物微粒子含有膜の中心から膜表層領域a1および膜表層領域a2と膜中央領域との界面までの膜中央領域の厚みTbiおよびTci並びに膜表層領域a1の厚みTaiおよび膜表層領域a2の厚みTdiが下記式1~4を満足し、かつ、金属酸化物微粒子含有膜の厚み方向断面において、厚み方向断面内で金属酸化物微粒子含有膜の膜厚に対して、垂直方向の1200nmの長さにおける金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域の長さLiの合計の長さLが240nm以上である請求項1に記載の金属酸化物微粒子含有膜。0.1T≦Tbi≦0.4T1Tai=0.5T-Tbi20.1T≦Tci≦0.4T3Tdi=0.5T-Tci4但し、Tbi、Tci、Tai、TdiおよびLiはそれぞれi番目における膜中央領域または膜表層領域a1および膜表層領域a2の厚み並びに金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域の長さを示す。また、Tは金属酸化物微粒子含有膜の厚みを示す。金属酸化物微粒子含有膜の屈折率が1.5~1.65である請求項1または2に記載の金属酸化物微粒子含有膜。剥離用フィルムの片面に屈折率Nxを有する低屈折率膜、屈折率Nyを有する高屈折率膜および屈折率Nzを有する中屈折率膜がこの順に積層された転写フィルムであって、これらの屈折率は、波長594nmレーザーで測定され、かつ、下記式5を満足し、中屈折率膜が請求項1または2に記載の金属酸化物微粒子含有膜である転写フィルム。Nx<Nz<Ny5低屈折率膜がパーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマーA単位を有するポリマーと無機微粒子を含有する請求項4に記載の転写フィルム。パーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマーAが下記構造式1で示されるモノマーである請求項5に記載の転写フィルム。式中、Wはパーフルオロポリエーテル基を表す。剥離用フィルムの片面に屈折率Nxを有する低屈折率膜、屈折率Nyを有する高屈折率膜および屈折率Nzを有する中屈折率膜として請求項1または2に記載の金属酸化物微粒子含有膜がこの順で積層され、これら屈折率は、波長594nmレーザーで測定され、かつ、下記式5を満足する転写フィルムの製造方法であって、剥離用フィルムの片面に低屈折率膜を積層した後に高屈折率膜を積層し、次いで高屈折率膜の表面に、金属酸化物微粒子および揮発速度が100以下の溶剤を20質量以上含む希釈溶剤を含有する、金属酸化物微粒子含有膜用組成物を塗布した後に140°C以下の温度で希釈溶剤を乾燥させて、中屈折率膜を積層する転写フィルムの製造方法。Nx<Nz<Ny5基材の少なくとも片面に、直接または他の層を介して、請求項1または2に記載の金属酸化物微粒子含有膜が積層された積層体A。基材の少なくとも片面に、直接または他の層を介して、屈折率Nzを有する中屈折率膜、屈折率Nyを有する高屈折率膜および屈折率Nxを有する低屈折率膜がこの順に積層され、これら屈折率は、波長594nmレーザーで測定され、かつ、下記式5を満足する積層体Bであって、中屈折率膜が請求項1または2に記載の金属酸化物微粒子含有膜である積層体B。Nx<Nz<Ny5低屈折率膜がパーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマーA単位を有するポリマーと無機微粒子を含有する請求項9に記載の積層体。パーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマーAが下記構造式1で示されるモノマーである請求項10に記載の積層体。式中、Wはパーフルオロポリエーテル基を表す。基材の表面に、金属酸化物微粒子および揮発速度が100以下の溶剤を20質量以上含む溶剤を含有する金属酸化物微粒子含有膜を形成するための金属酸化物微粒子含有膜用組成物を塗布した後に140°C以下の温度で希釈溶剤を乾燥させることにより中屈折率膜を積層する請求項8に記載の積層体Aの製造方法。基材の少なくとも片面に、直接または他の層を介して、屈折率Nzを有する中屈折率膜、屈折率Nyを有する高屈折率膜および屈折率Nxを有する低屈折率膜がこの順に積層され、これら屈折率は、波長594nmレーザーで測定され、かつ、下記式5を満足する積層体Bの製造方法であって、基材と請求項4~6のいずれか1項に記載の転写フィルムの中屈折率膜の面とを、接着層を形成するための塗膜を介して貼り合わせて転写フィルムラミネート物を形成する工程、接着層を形成するための塗膜から接着層を得て転写フィルム積層体を形成する工程、および転写フィルム積層体から剥離用フィルムを剥がして積層体を形成する工程を有する請求項9に記載の積層体Bの製造方法。Nx<Nz<Ny5接着層を形成するための塗膜が活性エネルギー線硬化性混合物を含み、転写フィルム積層体形成工程において、接着層を形成するための塗膜に活性エネルギー線を照射し、前記活性エネルギー線硬化性混合物を硬化させて接着層を得て転写フィルム積層体を形成する請求項13に記載の積層体の製造方法。本発明の目的は、防汚性、反射防止性、透明性および耐汗性に優れ、かつ耐擦傷性にも優れ、干渉模様が抑制された積層体を得ることが可能な転写フィルム並びに防汚性、反射防止性、透明性および耐汗性に優れ、かつ耐擦傷性に優れ、干渉模様が抑制された積層体を提供することである。また、本発明の目的は、上記転写フィルムおよび積層体を得るために好適な金属酸化物微粒子含有膜を提供することである。本発明は、金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域と、膜中央領域の片側に金属酸化物微粒子が存在する膜表層領域a1が形成され、膜中央領域の他方側に金属酸化物微粒子が存在する膜表層領域a2が形成されている金属酸化物微粒子含有膜である第1発明。また、本発明は、剥離用フィルムの片面に屈折率Nxを有する低屈折率膜、屈折率Nyを有する高屈折率膜および屈折率Nzを有する中屈折率膜がこの順に積層された転写フィルムであって、これらの屈折率は、波長594nmレーザーで測定され、かつ、下記式5を満足し、中屈折率膜が上記金属酸化物微粒子含有膜である転写フィルムである第2発明。Nx<Nz<Ny5更に、本発明は、剥離用フィルムの片面に屈折率Nxを有する低屈折率膜、屈折率Nyを有する高屈折率膜および屈折率Nzを有する中屈折率膜として金属酸化物微粒子含有膜がこの順で積層され、これら屈折率は、波長594nmレーザーで測定され、かつ、上記式5を満足する転写フィルムの製造方法であって、剥離用フィルムの片面に低屈折率膜を積層した後に高屈折率膜を積層し、次いで高屈折率膜の表面に、金属酸化物微粒子および揮発速度が100以下の溶剤を20質量以上含む希釈溶剤を含有する、金属酸化物微粒子含有膜用組成物を塗布した後に140°C以下の温度で希釈溶剤を乾燥させて、中屈折率膜を積層する転写フィルムの製造方法である第3発明。また、本発明は、基材の少なくとも片面に、直接または他の層を介して、上記金属酸化物微粒子含有膜が積層された積層体Aである第4発明。更に、本発明は、基材の少なくとも片面に、直接または他の層を介して、屈折率Nzを有する中屈折率膜、屈折率Nyを有する高屈折率膜および屈折率Nxを有する低屈折率膜がこの順に積層され、これら屈折率は、波長594nmレーザーで測定され、かつ、上記式5を満足する積層体Bであって、中屈折率膜が上記金属酸化物微粒子含有膜である積層体Bである第5発明。また、本発明は、基材の表面に、金属酸化物微粒子および揮発速度が100以下の希釈溶剤を20質量以上含む希釈溶剤を含有する金属酸化物微粒子含有膜用組成物を塗布した後に140°C以下の温度で該希釈溶剤を乾燥させて、金属酸化物微粒子含有膜を積層する上記積層体Aの製造方法である第6発明。更に、本発明は、基材の少なくとも片面に、直接または他の層を介して、屈折率Nzを有する中屈折率膜、屈折率Nyを有する高屈折率膜および屈折率Nxを有する低屈折率膜がこの順に積層され、これら屈折率は、波長594nmレーザーで測定され、かつ、上記式5を満足する積層体Bであって、基材と転写フィルムの中屈折率膜の面とを、接着層を形成するための塗膜を介して貼り合わせて転写フィルムラミネート物を形成する工程、接着層を形成するための塗膜から接着層を得て転写フィルム積層体を形成する工程、および転写フィルム積層体から剥離用フィルムを剥がして積層体Bを形成する工程を有する積層体Bの製造方法である第7発明。本発明により、種々の屈折率に調整ができる金属酸化物微粒子含有膜を表面に有し、かつ耐擦傷性に優れた積層体Aが得られる。該積層体Aは反射防止性が要求される機器の前面板等の用途に好適である。また、本発明により、防汚性、反射防止性、透明性および耐汗性に優れ、かつ耐擦傷性に優れ、干渉模様が抑制された積層体Bが得られる。該積層体Bは屋外で使用される画像表示部材や、指紋、皮脂、ファンデーション等が付着し易い、携帯電話、携帯情報端末、ノートブック型パソコン等の前面板として好適である。本発明を以下詳細に説明する。金属酸化物微粒子本発明で使用される金属酸化物微粒子以下、MO微粒子というは、後述するMO微粒子含有膜中に含有されるものである。MO微粒子としては、例えば、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫ATO、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウムITO、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛および五酸化アンチモンが挙げられる。また、MO微粒子については、目的に応じて粒子表面を加水分解性シラン化合物等の表面処理剤で個別に処理したものを使用することができる。個別に処理とは、MO微粒子を加水分解性シラン化合物などの表面処理剤のみで反応させることを意味し、酸、塩基などの加水分解、縮合反応に寄与する触媒以外の化合物を含んでいない状態でMO微粒子の表面を処理することを意味する。MO微粒子の表面に、加水分解性シラン化合物を反応させる際のこれらの混合比率としては、積層体の表面の耐擦傷性や反射防止性能の点で、加水分解性シラン化合物とMO微粒子の合計に対しMO微粒子20~80質量が好ましい。膜中央領域本発明において、膜中央領域は、図1に示すように、MO微粒子含有膜の中央領域であるTb1とTc1を併せた領域、Tb2とTc2を併せた領域およびTbiとTciを併せた領域で、MO微粒子が存在しない領域である。なお、Tb1、Tb2、Tbi、Tc1、Tc2およびTciは、MO微粒子含有膜の中心から膜表層領域と膜中央領域との界面までの膜中央領域の厚みを示す。また、TbiおよびTciはそれぞれi番目の膜中央領域を構成する一領域を示す。膜表層領域a1および膜表層領域a2本発明において、膜表層領域a1および膜表層領域a2は膜中央領域のそれぞれの面に形成されている領域で、MO微粒子が存在する領域である。膜表層領域a1または膜表層領域a2においては、MO微粒子の充填状態としては、図1におけるTa1、Ta2、Td1またはTdiの領域のように粒子が密に充填されている状態および図1におけるTaiまたはTd2の領域のように膜表層領域a1または膜表層領域a2中に粒子が充填されていない空間を有する状態がある。なお、Ta1、Ta2、Tai、Td1、Td2およびTdiは膜表層領域a1および膜表層領域a2の厚みを示す。また、TaiおよびTdiはそれぞれi番目の膜表層領域a1および膜表層領域a2を構成する一領域を示す。金属酸化物微粒子含有膜MO微粒子含有膜MO微粒子含有膜は膜中央領域と、膜中央領域の片面に膜表層領域a1が形成され、膜中央領域の別の面に膜表層領域a2が形成されているMO微粒子含有膜である。本発明においては、MO微粒子含有膜としては、積層体Bの干渉模様を抑制する点で、図1に示すように、膜中央領域の厚みTbiおよびTci並びに膜表層領域a1の厚みTaiおよび膜表層領域a2の厚みTdiが下記式1~4を満足し、かつ、MO微粒子含有膜の厚み方向断面において、厚み方向断面内でMO微粒子含有膜の膜厚に対して、垂直方向の1200nmの長さにおける膜中央領域の長さLiの合計の長さLが240nm以上であることが好ましい。0.1T≦Tbi≦0.4T1Tai=0.5T-Tbi20.1T≦Tci≦0.4T3Tdi=0.5T-Tci4ただし、TはMO微粒子含有膜の厚みである。なお、MO微粒子含有膜の厚み方向断面の構造は積層体Aまたは積層体Bの厚み方向断面を無作為に切り出して得られる断面について透過型電子顕微鏡を用いて観察することができる。本発明においては、積層体Bの厚み方向断面を無作為に切り出して得られる断面の透過型電子顕微鏡写真に写っている中屈折率膜の部位において、厚み方向断面内でMO微粒子含有膜の膜厚に対して、任意の垂直方向の長さ1200nmの箇所におけるMO微粒子が存在しない膜中央領域の合計の長さを算出することができる。また、MO微粒子含有膜の中心から膜表層領域a1および膜表層領域a2と膜中央領域との界面までの膜中央領域の厚みTbiおよびTci並びに膜表層領域a1の厚みTaiおよび膜表層領域a2の厚みTdiの範囲を測定することができる。剥離用フィルム本発明で使用される剥離用フィルムは転写フィルムを後述する基材の表面に積層した後に剥離して除去されるもので、例えば、活性エネルギー線透過性フィルムを使用することができる。また、剥離用フィルムは、MO微粒子含有膜を直接形成し、積層体Aを形成するための基材としても使用することができる。本発明においては、剥離用フィルムとして、表面に剥離層を有する積層フィルムを使用することができる。剥離用フィルムとしては、その表面にMO微粒子含有膜組成物を塗布して、MO微粒子含有膜組成物の塗膜を形成する際に、ハジキ塗膜の一部に下地が露出する現象等の欠陥がない良好な製膜性を得る点でも、剥離用フィルムまたは剥離層の表面の臨界表面張力が40mN/m以上である活性エネルギー線透過性フィルムが好ましい。また、剥離用フィルムとしては、剥離用フィルムの表面に低屈折率膜を形成するための低屈折率膜用組成物以下、LRM組成物というを塗付して低屈折率膜を形成する際にハジキ塗膜の一部に下地が露出する現象等の欠陥がない良好な製膜性を得る点で、剥離用フィルムまたは剥離層の表面の臨界表面張力が40mN/m以上である活性エネルギー線透過性フィルムが好ましい。なお、本発明において、臨界表面張力はZismanプロットにより算出することができる。すなわち、表面張力が異なる数種の標準液標準液をフィルムの表面に滴下して標準液とフィルム表面との接触角θを測定する。得られた接触角θから算出したcosθ値と表面張力の値をXY座標とするグラフ上にプロットし、得られたプロットZismanプロットを結ぶ直線とcosθ=1で示される直線との交点における表面張力の値を臨界表面張力とする。剥離用フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレタレートフィルム以下、PETフィルムという。、ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等の合成樹脂フィルム、これらの複合フィルム状物または複合シート状物およびそれらに剥離層を積層したものが挙げられる。これらの中で、PETフィルム、ポリエチレンナフタレートPENフィルム、ポリブチレンテレフタレートPBTフィルム、ポリブチレンナフタレートPBNフィルム、ポリトリメチレンテレフタレートPTTフィルム等で代表される芳香族ポリエステルフィルムが好ましく、中では、PETフィルムおよびPENフィルムがより好ましい。これらのフィルムの表面に直接低屈折率膜を形成することにより、後述するLRM組成物としてパーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマーA以下、モノマーAという。の含有量が少ないものを使用しても、転写後の露出している積層体表面の水接触角やトリオレイン接触角を高くすることが可能である。その結果、LRM組成物中に耐擦傷性を向上させる成分を多量に添加でき、積層体表面の耐擦傷性を良好とすることができる。剥離用フィルムの厚さとしては特に制限はないが、しわ、亀裂等のないMO微粒子含有膜の形成や転写フィルムの製造の容易性の点で4μm以上が好ましく、12μm以上がより好ましく、30μm以上が更に好ましい。また、剥離用フィルムの厚さとしてはコストや紫外線透過率の点で500μm以下が好ましく、150μm以下がより好ましく、120μm以下が更に好ましい。剥離用フィルムの表面からの低屈折率膜の剥離性が低い場合には、剥離用フィルムの表面に剥離層を設けても良い。剥離用フィルムの表面に剥離層を形成させる場合の剥離層形成材としては、公知の剥離層を形成するポリマーやワックス等を適宜選択使用できる。剥離層の形成方法としては、例えば、メラミン系、尿素系、尿素-メラミン系、ベンゾグアナミン系等の樹脂および界面活性剤を有機希釈溶剤または水に溶解させた塗料を、グラビア印刷法、スクリ-ン印刷法、オフセット印刷法等の公知の印刷法で剥離用フィルムの表面に塗付、乾燥または硬化させて形成する方法が挙げられる。剥離層の厚さは、通常0.1~3μm程度である。剥離層が適度の厚みを有すると低屈折率膜から剥離し易くなる傾向にある。逆に剥離層が厚すぎなければ、転写前に剥離用フィルムから低屈折率膜が脱離しにくい傾向にある。低屈折率膜本発明において、低屈折率膜は後述する転写フィルムの剥離用フィルムの表面または積層体の表面に形成されている層であり、反射防止機能を発現させるためのものである。低屈折率膜の膜厚としては、積層体表面の耐擦傷性および反射防止性能の観点から、10nm以上が好ましく、60nm以上がより好ましい。また、光学特性の観点から、300nm以下が好ましく、110nm以下がより好ましい。低屈折率膜の屈折率は、積層体における低屈折膜の下方に接する膜より低い屈折率であればよい。なお、本発明で、屈折率は、波長594nmレーザーで測定された屈折率である。低屈折率膜の屈折率としては、反射防止性能の観点から1.5以下が好ましく、1.45以下がより好ましく、1.4以下がさらに好ましい。本発明においては、低屈折率膜としては、例えば、パーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマーA単位を有するポリマーと無機微粒子を含有するものが挙げられる。転写フィルムを得る際の低屈折率膜の形成方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。まず、LRM組成物を剥離用フィルムの表面に塗付した後に乾燥してLRM組成物の塗膜を形成する。次いで、得られたLRM組成物の塗膜を硬化させて低屈折率膜を得る。LRM組成物を剥離用フィルムの表面に塗付する方法としては、例えば、流延法、グラビアコート法、リバースグラビアコート法、バキュームスロットダイコート法、ローラーコート法、バーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法、フィルムカバー法およびディッピング法が挙げられる。LRM組成物の塗膜を硬化させる方法としては、例えば、LRM組成物が熱硬化性組成物の場合には加熱硬化法が挙げられ、LRM組成物が活性エネルギー線硬化性組成物の場合には活性エネルギー線硬化法が挙げられる。LRM組成物が活性エネルギー線硬化性組成物である場合、LRM組成物を硬化するために使用される活性エネルギー線としては、例えば、電子線、放射線および紫外線が挙げられる。活性エネルギー線として紫外線を照射する場合の光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプおよび蛍光紫外線ランプが挙げられる。窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で紫外線照射することが、表面硬化性が向上し工程通過性が向上することから好ましい。LRM組成物の塗膜表面の雰囲気の酸素濃度としては1,000ppm以下が好ましく、500ppm以下がより好ましく、300ppm以下がさらに好ましい。また、LRM組成物を硬化するための活性エネルギー線硬化条件としては、例えば、ピーク照度100~1,200mW/cm2および積算光量100~1,200mJ/cm2の硬化条件が挙げられる。この範囲であれば、反射防止性能と耐擦傷性のバランスが良好となる。本発明においては、剥離用フィルムの表面に低屈折率膜を形成した後に後述する高屈折率膜が形成されるが、高屈折率膜が形成される前の低屈折率膜はLRM組成物を完全硬化させたものだけでなく、必要に応じてLRM組成物の一部が反応して硬化した部分硬化物であってもよい。LRM組成物としては、例えば、熱硬化性LRM組成物および活性エネルギー線硬化性LRM組成物から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。また、LRM組成物としては、低屈折率膜の屈折率を1.5以下とするために、フッ素原子含有硬化性モノマーを含有することが好ましい。LRM組成物の具体例としては、下記のモノマーAが挙げられる。モノマーAとしては、例えば、ジイソシアネートを3量体化させたトリイソシアネートC以下、トリイソシアネートCという。と活性水素含有化合物Dとを反応させることにより得られるパーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマーA-1以下、モノマーA-1という。が挙げられる。トリイソシアネートCを得るために使用されるジイソシアネートとしては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等のイソシアネート基が脂肪族骨格に結合したジイソシアネートおよびトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等のイソシアネート基が芳香族骨格に結合したジイソシアネートが挙げられる。活性水素含有化合物Dとしては、例えば、水酸基等の活性水素を含む化合物が挙げられる。活性水素含有化合物Dの具体例としては、1つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテルD-1以下、ポリエーテルD-1という。および活性水素と炭素-炭素二重結合を有するモノマーD-2以下、モノマーD-2という。が挙げられる。ポリエーテルD-1としては、例えば、パーフルオロポリエーテル基および1つの分子末端に1つの水酸基を有する化合物が挙げられる。ポリエーテルD-1の具体例としては、下記構造式2に示される化合物が挙げられる。式中、Xはフッ素原子、YおよびZはそれぞれフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示す。aは1~16の整数、cは1~5の整数、b、d、e、fおよびgは0~200の整数、並びにhは0~16の整数である。構造式2において、a~hの数値が大きすぎなければ分子量が大きくなり過ぎず、希釈溶剤等への溶解性が良好となる傾向がある。一方、前記数値が小さすぎなければ積層体の防汚性が良好となる傾向がある。モノマーD-2としては、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレートおよび2-ヒドロキシブチルメタアクリレートが挙げられる。なお、本発明において、メタアクリレートはアクリレートまたはメタクリレートを意味する。また、メタアクリロイルやメタアクリルも同様の意味を有する。モノマーAの合成法としては、例えば、トリイソシアネートCの一つのイソシアネート基にポリエーテルD-1を反応させ、残りの二つのイソシアネート基にモノマーD-2を反応させることにより得ることができる。前記の反応はトリイソシアネートCにポリエーテルD-1およびモノマーD-2を同時に反応させてもよいし、順次反応させてもよい。モノマーA-1の具体例としては、下記構造式1に示されるモノマーが挙げられる。式中、Wはパーフルオロポリエーテル基を表す。モノマーAは、上記構造式1で示されるモノマーであることが撥水性および撥油性が良好である観点から好ましい。モノマーAの他の例としては、イソシアネート基と1個または2個のメタアクリロイルオキシ基を同一化合物内に有する化合物Eと、分子末端に少なくとも一つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテルFとを反応させて得られるモノマーA-2が挙げられる。分子末端に少なくとも一つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテルFとしては、市販品を用いることができ、例えば、ソルベイソレクシス社製のFLUOROLINKD10H、FLUOROLINKD、FLUOROLINKD4000いずれも商品名等のパーフルオロポリエーテルジオールが挙げられる。イソシアネート基と1個または2個のメタアクリロイルオキシ基を同一化合物内に有する化合物Eとしては、市販品を用いることができ、例えば、昭和電工株製のカレンズBEI1,1-ビスアクリロイルオキシメチルエチルイソシアネート、カレンズAOI2-アクリロイルオキシエチルイソシアネートおよびカレンズMOI2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネートいずれも商品名が挙げられる。化合物A-2としては、例えば、化合物Eのイソシアネート基と化合物Fの水酸基とが結合して得られる、分子内に一個のパーフルオロポリエーテル基と一個または二個の好ましくは二個のビニル基またはメタアクリロイルオキシ基を独立に有する化合物が挙げられる。ここで独立にとは、パーフルオロポリエーテル基とメタアクリロイルオキシ基が直接結合していないことを意味する。LRM組成物中に含まれるモノマーAの含有量としては、LRM組成物中の固形分100質量部中に10質量部以上が好ましく、12質量部以上がより好ましい。また、モノマーAの含有量としては50質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましい。上記の範囲内であれば、積層体の表面の撥水性、撥油性および硬度が良好となる傾向にある。すなわち、積層体の露出している低屈折率膜表面の水接触角が90度以上でトリオレイン接触角が55度以上となる傾向にある。ここでLRM組成物中の固形分とはLRM組成物中の希釈溶剤を除く成分のことをいう。本発明においては、LRM組成物中には、積層体の表面の撥水性、撥油性および硬度が良好となる点並びに良好な反射防止性能を得る点で、無機微粒子Bを含有することが好ましい。LRM組成物中の無機微粒子Bの含有量としては、25~90質量部が好ましい。本発明において、無機微粒子Bの微粒子とは、平均粒子径が1~200nmの粒子を示す。なお、平均粒子径は粒度分布測定装置SALD-7100商品名、島津製作所株製で測定した値をいう。無機微粒子Bの具体例としては、コロイダルシリカ、多孔質シリカ、中空シリカ、フッ化マグネシウム、氷晶石等の低屈折率微粒子が挙げられる。これらの中で、無機微粒子Bのうち、屈折率1.5以下の低屈折率微粒子を用いることが好ましい。また、後述するように、無機微粒子Bの表面の加水分解処理が容易に行える点でシリカ微粒子が好ましく、屈折率が低く、反射率を低下させやすい点、さらには、積層体の表面の撥水性、撥油性が良好となる観点から、中空シリカがより好ましい。中空シリカの屈折率は1.20~1.40であり、通常のシリカの屈折率1.45~1.47に比較して低い。従って、本発明において低屈折率膜の屈折率を低下させるためには、中空シリカを使用することが好ましい。無機微粒子Bとしては、積層体の表面の撥水性および撥油性が良好となる点、並びに低屈折率膜の強度を向上できる点で、粒子表面を加水分解性シラン化合物等の表面処理剤で個別に処理したものが好ましい。個別に処理とは、無機微粒子Bと、加水分解性シラン化合物などの表面処理剤のみと反応させることを意味し、酸、塩基などの加水分解、縮合反応に寄与する触媒以外の化合物を含んでいない状態で無機微粒子Bの表面を処理することを意味する。無機微粒子Bの表面に加水分解性シラン化合物で処理する際のこれらの混合比率としては、積層体の表面の撥水性、撥油性、耐擦傷性および耐汗性の点で、加水分解性シラン化合物と無機微粒子の合計量中に無機微粒子が30質量以上であることが好ましく、40質量以上であることがより好ましい。また、80質量以下であることが好ましく、70質量以下であることがより好ましい。加水分解性シラン化合物としては、例えば、3-メタアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタアクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタアクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタアクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよび3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランが挙げられる。表面処理剤としては、加水分解性シラン化合物以外の化合物も併用添加できる。例えば、加水分解性シラン化合物以外の化合物としては、例えば、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤等の公知の界面活性剤が挙げられる。LRM組成物としてモノマーAを含有するものである場合、モノマーAが不飽和結合を有していることから、加水分解性シラン化合物としては、積層体の表面の低屈折率膜の撥水性および撥油性が良好となる点で、不飽和結合を有しているものが好ましい。本発明においては、LRM組成物中に、必要に応じて分子中に少なくとも2個のメタアクリロイル基を有する化合物以下、LRM架橋成分というを添加してもよい。LRM組成物中のLRM架橋成分の含有量としては、積層体の表面の耐擦傷性の点で、LRM組成物の固形分100質量部中に0~30質量部が好ましい。LRM架橋成分としては、例えば、1モルの多価アルコールと2モル以上のメタアクリル酸またはその誘導体とから得られるエステル化物および多価カルボン酸またはその無水物と多価アルコールとメタアクリル酸またはその誘導体とから得られるエステル化物が挙げられる。1モルの多価アルコールと2モル以上のメタアクリル酸またはその誘導体とから得られるエステル化物の具体例としては、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート等のポリエチレングリコールジメタアクリレート;1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート等のアルキルジオールジメタアクリレート;およびトリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ペンタグリセリントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、グリセリントリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、トリペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタメタアクリレート等の3官能以上のポリオールポリメタアクリレートが挙げられる。多価カルボン酸またはその無水物と多価アルコールとメタアクリル酸またはその誘導体とから得られるエステル化物において、多価カルボン酸またはその無水物と多価アルコールとメタアクリル酸の組合せ多価カルボン酸またはその無水物/多価アルコール/メタアクリル酸としては、例えば、マロン酸/トリメチロールエタン/メタアクリル酸、マロン酸/トリメチロールプロパン/メタアクリル酸、マロン酸/グリセリン/メタアクリル酸、マロン酸/ペンタエリスリトール/メタアクリル酸、コハク酸/トリメチロールエタン/メタアクリル酸、コハク酸/トリメチロールプロパン/メタアクリル酸、コハク酸/グリセリン/メタアクリル酸、コハク酸/ペンタエリスリトール/メタアクリル酸、アジピン酸/トリメチロールエタン/メタアクリル酸、アジピン酸/トリメチロールプロパン/メタアクリル酸、アジピン酸/グリセリン/メタアクリル酸、アジピン酸/ペンタエリスリトール/メタアクリル酸、グルタル酸/トリメチロールエタン/メタアクリル酸、グルタル酸/トリメチロールプロパン/メタアクリル酸、グルタル酸/グリセリン/メタアクリル酸、グルタル酸/ペンタエリスリトール/メタアクリル酸、セバシン酸/トリメチロールエタン/メタアクリル酸、セバシン酸/トリメチロールプロパン/メタアクリル酸、セバシン酸/グリセリン/メタアクリル酸、セバシン酸/ペンタエリスリトール/メタアクリル酸、フマル酸/トリメチロールエタン/メタアクリル酸、フマル酸/トリメチロールプロパン/メタアクリル酸、フマル酸/グリセリン/メタアクリル酸、フマル酸/ペンタエリスリトール/メタアクリル酸、イタコン酸/トリメチロールエタン/メタアクリル酸、イタコン酸/トリメチロールプロパン/メタアクリル酸、イタコン酸/グリセリン/メタアクリル酸、イタコン酸/ペンタエリスリトール/メタアクリル酸、無水マレイン酸/トリメチロールエタン/メタアクリル酸、無水マレイン酸/トリメチロールプロパン/メタアクリル酸、無水マレイン酸/グリセリン/メタアクリル酸および無水マレイン酸/ペンタエリスリトール/メタアクリル酸が挙げられる。LRM架橋成分のその他の例としては、トリメチロールプロパントルイレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、4,4’-メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネートの3量化により得られるポリイソシアネート1モルに対して2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-メトキシプロピルメタアクリレート、N-メチロールメタアクリルアミド、N-ヒドロキシメタアクリルアミド、15,3-プロパントリオール-1,3-ジメタアクリレート、3-アクリロイルオキシ-2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート等の活性水素を有するアクリル系モノマー3モル以上を反応させて得られるウレタンメタアクリレート;トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌル酸のジメタアクリレートまたはトリメタアクリレート等のポリ[メタアクリロイルオキシエチレン]イソシアヌレート;エポキシポリメタアクリレート;およびウレタンポリメタアクリレートが挙げられる。LRM架橋成分は単独で、または2種以上を組み合わせて使用できる。LRM組成物が活性エネルギー線硬化性低屈折率膜用組成物である場合、LRM組成物中には光開始剤を配合することができる。光開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、p-メトキシベンゾフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、α,α-ジメトキシ-α-フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;および2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等のリン化合物が挙げられる。光開始剤の添加量としては、LRM組成物の紫外線照射による硬化性の点で、LRM組成物の固形分100質量部に対して0.1質量部以上が好ましく、0.5質量部以上がより好ましく、1質量部以上が更に好ましい。また、光開始剤の添加量としては、低屈折率膜の色調を良好とする点で、10質量部以下が好ましく、7質量部以下がより好ましい。LRM組成物が熱硬化性低屈折率膜用組成物である場合、LRM組成物中には熱硬化剤を配合することができる。熱硬化剤としては、例えば、2,2’-アゾビス4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル等のアゾ系重合開始剤;およびラウロイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ベンゾイルパーオキサイド、ビス4-t-ブチルシクロヘキシルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシピバレート等の有機過酸化物系重合開始剤が挙げられる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて使用できる。本発明においては、LRM組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、HALS等の光安定剤等の各種添加剤を配合することができる。添加剤の配合量としては、低屈折率膜の透明性の点で、LRM組成物の固形分100質量部に対して10質量部以下が好ましい。本発明においては、LRM組成物の固形分濃度を調整するために、LRM組成物中に希釈溶剤を添加することができる。希釈溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、エタノール、1-メトキシ-2-プロパノールおよび2,2,3,3-テトラフルオロ-1-プロパノールが挙げられる。LRM組成物の固形分濃度としては0.1~20質量が好ましい。LRM組成物の固形分濃度を前記範囲とすることにより、LRM組成物の貯蔵安定性を良好とすることができ、所望の膜厚にコントロールし易くなる傾向にある。本発明においては、剥離用フィルムの表面に低屈折率膜を形成した後に後述する高屈折率膜が形成されるが、高屈折率膜が形成される前の低屈折率膜はLRM組成物を完全硬化させたものだけでなく、必要に応じてLRM組成物の一部が反応して硬化した部分硬化物であってもよい。高屈折率膜本発明において、高屈折率膜は転写フィルムにおける低屈折率膜と中屈折率膜との間または積層体Bにおける低屈折率膜と中屈折率膜との間に形成されている層であり、反射防止機能を発現させるためのものである。高屈折率膜の膜厚dyとしては、積層体Bの表面の耐擦傷性および反射防止性能の観点から、0.5~10μmが好ましい。高屈折率膜の屈折率nyとしては、積層体における低屈折率膜、中屈折率膜および接着層より高く、かつ下記式8を満たすことが干渉模様を抑制する観点から好ましい。dy≧500nm6式6において、dyは高屈折率膜の厚みを表す。90nm≧dz≧30nm7式7において、dzは中屈折率膜の厚みを表す。128≦nz≦1288式8において、nHCは形成された接着層の屈折率を、nyは高屈折率膜の屈折率を、nzは中屈折率膜の屈折率をそれぞれ表す。高屈折率膜の屈折率nyとしては、1.6以上が好ましく、1.7以上がより好ましい。高屈折率膜の形成方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。まず、高屈折率膜を形成するための高屈折率膜用組成物以下、HRM組成物というを、剥離用フィルムの表面に積層された低屈折率膜の表面に塗付してHRM組成物の塗膜を形成する。また、HRM組成物中に希釈溶剤が含有されている場合には希釈溶剤を揮発させてHRM組成物の塗膜を形成することができる。次いで、得られたHRM組成物の塗膜を硬化させて高屈折率膜を得る。HRM組成物を低屈折率膜の表面に塗付する方法としては、剥離用フィルムの表面にLRM組成物を塗付する方法と同様の方法が挙げられる。HRM組成物の塗膜を硬化させる方法としては、例えば、HRM組成物が熱硬化性組成物の場合には加熱硬化法が挙げられ、HRM組成物が活性エネルギー線硬化性組成物の場合には活性エネルギー線硬化法が挙げられる。HRM組成物が活性エネルギー線硬化性組成物の場合の活性エネルギー線硬化の方法および硬化条件としては、活性エネルギー線として紫外線を照射する場合の光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプおよび蛍光紫外線ランプが挙げられる。また、HRM組成物を硬化するための活性エネルギー線硬化条件としては、例えば、空気存在下で、ピーク照度200~1,000mW/cm2および積算光量400~1,200mJ/cm2の硬化条件が挙げられる。この範囲であれば、密着性、耐擦傷性および耐湿試験後の外観のバランスが良好となる。HRM組成物を硬化する際の活性エネルギー線のエネルギーが低すぎると、高温多湿な環境、例えば、80°C85の環境下で24時間以上放置するような耐湿試験を実施すると、積層体Bの表面に粉噴きのような白いブリード物が発生し、外観が悪化することがある。本発明においては、HRM組成物の塗膜を硬化させる際には、必要に応じて、LRM組成物の部分硬化物を併せて硬化させることができる。本発明においては、低屈折率膜の表面に高屈折率膜を形成した後に後述する中屈折率膜が形成されるが、中屈折率膜が形成される前の高屈折率膜はHRM組成物を完全硬化させたものだけでなく、必要に応じてHRM組成物の一部が反応して硬化した部分硬化物であってもよい。本発明においては、低屈折率膜の表面にHRM組成物の塗膜を形成する際に、低屈折率膜と高屈折率膜との界面強度を向上させ、積層体の耐擦傷性を良好とするために、低屈折率膜の表面を紫外線照射、電子線照射、加熱処理、酸化材塗布、コロナ処理、プラズマ処理などの親水化処理を行ってからHRM組成物を塗布した後に高屈折率膜を得ることが好ましい。親水化処理としては、積層体Bの耐擦傷性が良好となる観点から、コロナ処理や、プラズマ処理がより好ましい。コロナ処理の方法としては、例えば、通常のコロナ処理装置を使用して処理する方法が挙げられる。コロナ処理の一例を以下に示す。電気絶縁されたベルトとベルト上方に近接させて配置した電極からなるコロナ処理装置を用いて、該電極に高エネルギーを作用させてコロナ放電させ、ベルト上に低屈折率膜面を上面として配置した低屈折率膜が形成された剥離用フィルムを電極下に通すことにより低屈折率膜面にコロナ処理を施す。この時の低屈折率膜が形成された剥離用フィルムに対する照射エネルギーは10~200W分/mが好ましい。照射エネルギーを10W分/m以上とすることにより低屈折率膜と高屈折率膜の接着性を良好とすることができる傾向にある。また、照射エネルギーを200W分/m以下とすることにより低屈折率膜の外観を良好とすることができる傾向にある。また、低屈折率膜が形成された剥離用フィルムと電極とのクリアランスはコロナ放電を安定に発生させるために5mm以下が好ましい。プラズマ処理には通常のプラズマ処理装置を使用して処理することができるが、大気圧プラズマ処理装置が操作上、簡便であることから好ましい。プラズマ処理法としては、例えば、リモート法およびダイレクト法が挙げられるが、均一な処理が得られる点でダイレクト法が好ましい。大気圧プラズマ処理装置の一例としては、処理用のチャンバー内に上部電極と下部電極からなる一対の対向電極を備え、少なくとも一方の電極の対向面が誘電体で被覆されたものが挙げられる。上記の装置において、プラズマが発生する部位は、対向電極のいずれか一方のみに誘電体が被覆された場合には誘電体と電極の間であり、対向電極のいずれにも誘電体が被覆された場合には誘電体間である。このようなプラズマ処理装置の対向電極間に低屈折率膜が形成されたフィルムを配置し、電源部に高周波電力を印加して対向電極間にプラズマを発生させ、低屈折率膜の表面をプラズマ処理する。対向電極の対向面間の距離最短距離は、処理される低屈折率膜が積層された剥離用フィルムの厚さ、被覆された誘電体の厚さ、印加される電圧の大きさ等を考慮して決定されるが、対向電極の一方のみに誘電体が被覆された場合または対向電極の両方に誘電体が被覆された場合のいずれにおいても、50mm以下であることが好ましい。最短距離が50mm以下であると、均一な放電プラズマを発生させることができる傾向にある。対向電極間に印加する高周波電力の周波数としては、1kHz以上が好ましい。また対向電極間に印加する高周波電力の周波数としては、10MHz以下が好ましく、500kHz以下がより好ましい。電力面密度としては2.0~30.0W/cm2が好ましい。周波数としては、1~500kHzで、低屈折率膜が積層された剥離用フィルムの処理時の変形や劣化が抑制される傾向にある。また、電力面密度が30.0W/cm2以下で、プラズマ照射熱による低屈折膜が積層された剥離用フィルムの変形を抑制することができる傾向にある。なお、本発明において、電力面密度とは、一対の対向電極間に投入する電力をプラズマと接している一方の電極の表面積で割った値をいう。HRM組成物としては、例えば、熱硬化性高屈折率組成物、活性エネルギー線硬化性高屈折率組成物が挙げられる。HRM組成物の具体例としては、少なくとも2個のメタアクリロイルオキシ基を有する化合物以下、HRM架橋成分という。を含有する組成物が挙げられる。HRM架橋成分としてはLRM架橋成分と同様のものが挙げられる。HRM組成物中には、耐擦傷性に優れた積層体を得るために、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノシランを含有することが好ましい。HRM組成物中の上記のアミノシランの含有量としては、積層体の良好な耐擦傷性を得るために、HRM組成物中の固形分100質量部に対して1質量部以上が好ましく、良好な反射防止機能を得るために30質量部以下が好ましい。HRM組成物中には、高屈折率膜の強度を向上させるためおよび高屈折率膜の屈折率を高めるために高屈折率MO微粒子を添加することができる。高屈折率MO微粒子としては、屈折率が1.55~2.0程度のものが好ましく、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫ATO、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウムITO、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、五酸化アンチモン等が好ましく、屈折率が高く透明性が良好な観点から、酸化ジルコニウムがより好ましい。HRM組成物中の高屈折率MO微粒子の含有量としては、積層体Bに良好な耐擦傷性や反射防止機能を得るために、HRM組成物中の固形分100質量部に対して20質量部以上が好ましく、良好な反射防止機能を得るために80質量部以下が好ましい。また、高屈折率MO微粒子については、無機微粒子Bの表面を処理する場合に使用される加水分解性シラン化合物と同様の化合物で表面処理することが好ましい。高屈折率MO微粒子の表面に、加水分解性シラン化合物を反応させる際のこれらの混合比率としては、積層体の表面の耐擦傷性や反射防止性能の点で、加水分解性シラン化合物と高屈折率MO微粒子の合計に対して高屈折率MO微粒子20~80質量が好ましい。高屈折率膜の屈折率を調整する手法としては、例えば、HRM架橋成分と高屈折率MO微粒子の配合比率を変化させる方法が挙げられる。すなわち、高屈折率MO微粒子の含有量が多くなれば、高屈折率膜の屈折率が上昇し、一方で、高屈折率MO微粒子の含有量が少なくなれば、高屈折率膜の屈折率が減少する。また、高屈折率MO微粒子の代わりに、高屈折率有機化合物を添加して高屈折率膜の屈折率を所望の値に調節しても良い。高屈折率有機化合物としては、例えば、分子中に硫黄原子、臭素原子、芳香族骨格またはフルオレン骨格を有する化合物が挙げられる。フルオレン骨格等を有する化合物としては、例えば、大阪ガスケミカル株製のオグソールEA200、EA1000、EA-F5003、EA-F5503およびEA-F5510いずれも商品名が挙げられる。芳香族骨格等を有する化合物としては、例えば、新中村化学工業株製のNKエステルA-LEN-10およびNKエステルABE-300いずれも商品名が挙げられる。本発明においては、耐擦傷性に優れた積層体Bを得るため、HRM組成物として、分子中に少なくとも2個のメタアクリロイルオキシ基を有するモノマー、アミノシラン、高屈折率MO微粒子、光開始剤および希釈溶剤を含有する組成物が好ましい。本発明においては、必要に応じてHRM組成物に帯電防止成分を添加して高屈折率膜に帯電防止機能を付与することができる。高屈折率膜に帯電防止機能を付与する場合、積層体Bの表層の表面抵抗値は1010Ω/□以下が好ましく、108Ω/□以下がより好ましい。HRM組成物が活性エネルギー線硬化性高屈折率膜用組成物である場合、HRM組成物中にはHRM組成物用光開始剤を配合することができる。HRM組成物用光開始剤の種類および添加量についてはLRM組成物中に添加する光開始剤と同様の化合物および添加量とすることができる。また、HRM組成物が熱硬化性高屈折率膜用組成物である場合、HRM組成物中にはHRM組成物用熱硬化剤を配合することができる。HRM組成物用熱硬化剤の種類および添加量についてはLRM組成物中に添加する熱硬化剤と同様の化合物および添加量とすることができる。本発明においては、HRM組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、HALS等の光安定剤等の各種添加剤を配合することができる。添加剤の配合量としては、高屈折率膜の透明性の点で、HRM組成物中の固形分100質量部に対して10質量部以下が好ましい。本発明においては、HRM組成物の固形分濃度を調整するために、HRM組成物中に希釈溶剤を添加することができる。希釈溶剤は単独でも良いし、複数組み合わせても良い。希釈溶剤としては、25°Cにおける誘電率が10.0以下であることがHRM組成物の貯蔵安定性が良好である点で好ましい。誘電率を10.0以下とすることで、室温で長時間放置例えば24時間以上したHRM組成物を用いても、耐擦傷性に優れた積層体Bを得ることが可能となる。希釈溶剤の誘電率を10.0以下とするためには、単独の希釈溶剤で誘電率10.0以下としても良いし、複数の希釈溶剤を混合して誘電率10.0以下としても良い。単独で誘電率が10.0以下の希釈溶剤としては、例えば、トルエン2.38、キシレン2.41、酢酸ブチル5.02およびクロロフォルム4.9が挙げられる。また、誘電率が10.0以下の希釈溶剤と10.0以上の希釈溶剤を組み合わせて混合希釈溶剤としたときの希釈溶剤の誘電率を10.0以下とする例として、トルエンとイソプロパノールの混合溶剤でトルエンを45質量以上添加したものが挙げられる。HRM組成物の固形分濃度としては5~50質量が好ましい。HRM組成物の固形分濃度をこの範囲とすることにより、HRM組成物の貯蔵安定性を良好とすることができ、所望の膜厚にコントロールし易くなる傾向にある。中屈折率膜本発明において、中屈折率膜は転写フィルムおける高屈折率膜の表面若しくは高屈折率膜と接着層との間または積層体Bにおける基材と高屈折率膜との間または接着層等の他の層を有する基材の他の層と高屈折率膜との間に形成されている層であり、積層体Bの使用に際して干渉模様の発生を抑制させるためのものである。中屈折率膜の膜厚dzとしては、積層体Bの表面の干渉模様を抑制する点で、30nm以上が好ましく、40nm以上がより好ましい。また、90nm以下が好ましく、80nm以下がより好ましい。中屈折率膜の屈折率nzは前式8を満たすことが、積層体Bの表面の干渉模様を抑制する点で好ましい。中屈折率膜の屈折率nzとしては、好ましくは1.5~1.65である。積層体Bにおける中屈折率膜としては、例えば、上記MO微粒子含有膜が挙げられる。上記MO微粒子含有膜を中屈折率膜とする場合には、MO微粒子含有膜の屈折率としては1.5~1.65が好ましい。本発明においては、積層体Bの干渉模様の発生を抑制させる観点から、中屈折率膜として、図1に示すように、膜中央領域の厚みTbiおよびTci並びに膜表層領域a1の厚みTaiおよび膜表層領域a2の厚みTdiが上記式1~4を満足し、かつ、MO微粒子含有膜の厚み方向断面において、厚み方向断面内でMO微粒子含有膜の膜厚に対して、垂直方向の1200nmの長さにおける膜中央領域の長さLiの合計の長さLが240nm以上、好ましくは480nm以上であるものが好ましい。中屈折率膜用組成物以下、MRM組成物というとしては、例えば、熱硬化性中屈折率膜用組成物および活性エネルギー線硬化性中屈折率膜用組成物から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。MRM組成物の具体例としては、少なくとも2個のメタアクリロイルオキシ基を有する化合物以下、MRM架橋成分という。を含有する組成物が挙げられる。MRM架橋成分としてはLRM架橋成分と同様のものが挙げられる。MRM組成物中には、中屈折率膜の強度を向上させるためおよび中屈折率膜の屈折率を調整するために中屈折率用MO微粒子を添加することができる。中屈折率用MO微粒子としては、HRM組成物中に配合されるMO微粒子と同様のものが挙げられる。MRM組成物中の中屈折率用MO微粒子の含有量としては、中屈折率膜の屈折率が上記式8を満たす範囲において、MRM組成物中の固形分100質量部に対して15質量部以上が好ましく、20質量部以上がより好ましい。また、MRM組成物中の中屈折率用MO微粒子の含有量としては、良好な透明性を有する積層体Bを得る点で、60質量部以下が好ましく、50質量部以下がより好ましい。また、中屈折率用MO微粒子については、無機微粒子Bの表面を処理する場合に使用される加水分解性シラン化合物と同様の化合物で表面処理することが好ましい。中屈折率用MO微粒子の表面に、加水分解性シラン化合物を反応させる際の表面処理用の化合物の混合比率としては、積層体Bの表面の耐擦傷性や反射防止性能の点で、さらには、中屈折率膜中に膜表層領域a1、膜中央領域および膜表層領域a2を有する偏在層構造を形成する点で、加水分解性シラン化合物と中屈折率用MO微粒子の合計量中の中屈折率用MO微粒子の含有量としては50質量以上が好ましく、60質量以上がより好ましい。また、加水分解性シラン化合物と中屈折率用MO微粒子の合計量中の中屈折率用MO微粒子の含有量としては、良好な透明性を有する積層体Bを得る点で、80質量以下が好ましく、70質量以下がより好ましい。中屈折率膜の屈折率を調整する手法としては、前述の高屈折率膜の屈折率を調整する手法と同様の方法が挙げられる。本発明においては、必要に応じてMRM組成物中に高屈折率有機化合物を添加して中屈折率膜の屈折率を所望の値に調節することができる。高屈折率有機化合物としては、例えば、分子中に硫黄原子、臭素原子、芳香族骨格またはフルオレン骨格を有する化合物が挙げられ、MRM組成物の製膜性が良好である観点から好ましい。フルオレン骨格等を有する化合物としては、例えば、大阪ガスケミカル株製のオグソールEA200、EA1000、EA-F5003、EA-F5503およびEA-F5510いずれも商品名があげられる。MRM組成物中の高屈折率有機化合物の含有量としては、中屈折率膜の屈折率が上記式8を満たす範囲において、MRM組成物中の固形分100質量部に対して30質量部以上が好ましく、40質量部以上がより好ましい。また、MRM組成物中の高屈折率有機化合物の含有量としては、良好な透明性を有する積層体Bを得る点で、80質量部以下が好ましく、70質量部以下がより好ましい。MRM組成物として、高屈折率有機化合物を用いて屈折率を調整する場合、ハジキ等の欠陥を抑制する観点から、レベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤としては、シリコーン系、フッ素系、アクリル系のレベリング剤が挙げられるが、接着層をハジキなく製膜できる観点から、アクリル系のレベリング剤が好ましい。アクリル系のレベリング剤としては、例えば、ビックケミージャパン株製のBYK361N、BYK350、BYK352、BYK354、BYK355、BYK356、BYK358N、BYK380N、BYK381、BYK392およびBYK394いずれも商品名が挙げられる。本発明においては、必要に応じてMRM組成物に帯電防止成分を添加して中屈折率膜に帯電防止機能を付与することができる。中屈折率膜に帯電防止機能を付与する場合、積層体Bの表層の表面抵抗値は1010Ω/□以下が好ましく、108Ω/□以下がより好ましい。MRM組成物が活性エネルギー線硬化性中屈折率膜用組成物である場合、MRM組成物中にはMRM組成物用光開始剤を配合することができる。MRM組成物用光開始剤の種類および添加量についてはLRM組成物中に添加する光開始剤と同様の化合物および添加量とすることができる。また、MRM組成物が熱硬化性中屈折率膜用組成物である場合、MRM組成物中にはMRM組成物用熱硬化剤を配合することができる。MRM組成物用熱硬化剤の種類および添加量についてはLRM組成物中に添加する熱硬化剤と同様の化合物および添加量とすることができる。本発明においては、MRM組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、HALS等の光安定剤等の添加剤を配合することができる。添加剤の配合量としては、中屈折率膜の透明性の点で、中屈折率組成物中の固形分100質量部に対して10質量部以下が好ましい。本発明においては、MRM組成物には、耐擦傷性に優れた積層体Bを得る点で、必要に応じてHRM組成物に添加することができるアミノシランと同様の化合物を添加しても良い。本発明においては、MRM組成物の固形分濃度を調整するために、MRM組成物中に希釈溶剤を添加することができる。希釈溶剤としては、MRM組成物に中屈折率用MO微粒子を用いた場合、例えば、トルエン揮発速度:240、酢酸ブチル揮発速度:100、メチルイソブチルケトン揮発速度:165、1-メトキシ-2-プロパノール揮発速度:66およびイソプロパノール揮発速度:150が挙げられるが、中屈折率膜中に膜表層領域a1、膜中央領域および膜表層領域a2を有する偏在層構造を形成する点で、揮発速度100以下の希釈溶剤の含有量としては、希釈溶剤全体中に20質量以上が好ましく、30質量以上がより好ましい。また、揮発速度100以下の希釈溶剤の含有量としては、短時間で乾燥するために、すなわち生産効率を上げる点で、90質量以下が好ましく、80質量以下がより好ましい。MRM組成物の固形分濃度としては0.4~2質量が好ましい。MRM組成物の固形分濃度をこの範囲とすることにより、MRM組成物の貯蔵安定性を良好とすることができ、所望の膜厚にコントロールし易くなる傾向にある。中屈折率膜の形成方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。まず、上記MO微粒子含有膜用組成物を剥離用フィルムの表面に積層された高屈折率膜の表面に塗付してMRM組成物としてMO微粒子含有膜用組成物の塗膜を形成する。また、MRM組成物中に希釈溶剤が含有されている場合には希釈溶剤を揮発させてMRM組成物の塗膜を形成することができる。希釈溶剤を乾燥させる温度としては、中屈折率膜中に膜表層領域a1、膜中央領域および膜表層領域a2を有する偏在層構造を形成させる観点から、50°C以上が好ましく、60°C以上がより好ましい。また、希釈溶剤を乾燥させる温度としては140°C以下が好ましく、120°C以下がより好ましい。希釈溶剤を乾燥させる時間としては、中屈折率膜中に偏在層構造を形成し、残存希釈溶剤を除去する観点から、30秒以上が好ましく、1分以上がより好ましく、1分30秒以上がさらに好ましい。また、希釈溶剤を乾燥させる時間としては、転写フィルムの生産性の観点から、5分以下が好ましく、3分以下がより好ましい。次いで、MRM組成物の塗膜を硬化させて中屈折率膜を得る。MRM組成物を高屈折率膜の表面に塗付する方法としては、剥離用フィルムの表面にLRM組成物を塗付する方法と同様の方法が挙げられる。MRM組成物の塗膜を硬化させる方法としては、例えば、MRM組成物が熱硬化性組成物の場合には加熱硬化法が挙げられ、MRM組成物が活性エネルギー線硬化性組成物の場合には活性エネルギー線硬化法が挙げられる。MRM組成物が活性エネルギー線硬化性組成物の場合の活性エネルギー線硬化の方法および硬化条件としてはHRM組成物の活性エネルギー線による硬化の方法および硬化条件と同様の方法および条件が挙げられる。本発明においては、MRM組成物の塗膜を硬化させる際には、必要に応じて、LRM組成物の部分硬化物やHRM組成物の部分硬化物を併せて硬化させることができる。本発明においては、転写フィルムの高屈折率膜の表面に中屈折率膜を形成した後に、必要に応じて、後述する接着層が形成されるが、中屈折率膜の表面に接着層が形成される前の中屈折率膜はMRM組成物を完全硬化させたものだけでなく、必要に応じてMRM組成物の一部が反応して硬化した部分硬化物であってもよい。本発明においては、高屈折率膜の表面にMRM組成物の塗膜を形成する際に、高屈折率膜と中屈折率膜との界面強度を向上させ、積層体の耐擦傷性を良好とするために、高屈折率膜の表面をコロナ処理、プラズマ処理等の放電処理を実施することができる。上記の放電処理の方法および条件としては高屈折率膜形成時の放電処理方法および条件と同様の方法および条件が挙げられる。転写フィルム転写フィルムは、剥離用フィルムの片面に低屈折率膜、高屈折率膜、中屈折率膜としてのMO微粒子含有膜および必要に応じて接着層がこの順に積層された積層フィルムである。本発明においては、転写フィルム中の高屈折率膜の厚みdy、中屈折率膜の厚みdzおよび接着層の屈折率nHCは上記式6~8を満たすことが好ましい。この条件を満たしていることにより、干渉模様が抑制され、表面が耐擦傷性に優れた積層体Bとすることができる傾向にある。本発明においては、転写フィルムの剥離用フィルムと接していない面に、必要に応じて公知の保護フィルムを積層することができる。転写フィルムの製造方法としては、例えば、剥離用フィルムの片面に低屈折率膜、高屈折率膜および中屈折率膜としてMO微粒子含有膜がこの順で積層された転写フィルムの製造方法が挙げられる。すなわち、剥離用フィルムの片面に低屈折率膜を積層した後に高屈折率膜を積層し、次いで高屈折率膜の表面にMO微粒子および揮発速度が100以下の希釈溶剤を20質量以上含む希釈溶剤を含有する、MO微粒子含有膜用組成物を塗布した後に140°C以下の温度で希釈溶剤を乾燥させることにより、中屈折率膜を積層して転写フィルムを得る。基材本発明で使用される基材としては、例えば、樹脂基材および無機基材が挙げられる。樹脂基材の具体例としては、ポリメチルメタクリレート、メタクリル酸メチル単位を主構成成分とする共重合体、メタクリル酸アルキル単位を主構成成分とする共重合体等のメタクリル樹脂、ポリスチレン、スチレン-メチルメタクリレート共重合体等の芳香族ビニル単量体単位含有樹脂、環状ポリオレフィン等のオレフィン樹脂、ポリカーボネート等のポリカーボネート樹脂以下、PC樹脂というおよびポリカーボネートと異種材料との複層材が挙げられる。無機基材の具体例としては、ガラスが挙げられる。基材には、必要に応じて着色剤、光拡散剤等の添加剤を含有することができる。また、基材は透明でも不透明でも良いが、基材側から紫外線照射を行える観点で透明であることが好ましい。本発明においては、基材の厚みとしては特に限定されず、目的に応じた厚みのフィルム状物またはシート状物を選択することができる。積層体A積層体Aは基材の少なくとも片面に、直接または他の層を介して、MO微粒子含有膜が積層された積層体である。積層体Aの製造方法としては、例えば、基材の表面に、MO微粒子および揮発速度が100以下の希釈溶剤を20質量以上含む溶剤を含有するMO微粒子含有膜用組成物を塗布した後に140°C以下の温度で希釈溶剤を乾燥させることによりMO微粒子含有膜を積層して積層体Aを得る方法が挙げられる。また、積層体Aの別の製造方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。剥離用フィルムの表面に、MO微粒子および揮発速度が100以下の希釈溶剤を20質量以上含む希釈溶剤を含有するMO微粒子含有膜用組成物を塗布した後に140°C以下の温度で希釈溶剤を乾燥させることによりMO微粒子含有膜を積層して積層フィルムを得る。次いで、得られた積層フィルムの表面に接着層形成材料を形成させた後に接着層形成材料と基材とを積層する。更に、接着層形成材料を硬化させた後に剥離用フィルムを剥離して積層体Aを得る。積層体B積層体Bは、基材の少なくとも片面に、直接または他の層を介して、屈折率Nzを有する中屈折率膜、屈折率Nyを有する高屈折率膜および屈折率Nxを有する低屈折率膜がこの順に積層され、屈折率Nx、屈折率Nyおよび屈折率Nzが前式5を満足する積層体であって、中屈折率膜がMO微粒子含有膜である積層体である。積層体の厚みとしては、積層体の機械的強度の点で、0.2mm以上が好ましく、積層体の生産性の点で、10mm以下が好ましい。本発明においては、積層体としては、積層体の低屈折率膜の表面の水接触角を90度以上とし、トリオレイン接触角を55度以上とする低屈折率膜で積層されたものが好ましい。上記の低屈折率膜とすることにより、指紋、皮脂、ファンデーション等の汚れが目立たない積層体を得ることができる傾向にある。また、汚れ付着時の、反射色の際立った変色および画像表示部材の視認性低下が抑制された積層体を得る点で、積層体の表面の水接触角を95度以上とし、トリオレイン接触角を60度以上とすることが好ましい。積層体Bの製造方法としては、例えば、基材と転写フィルムの中屈折率膜の面とを、接着層を形成するための塗膜を介して貼り合わせて転写フィルムラミネート物を形成する工程転写フィルムラミネート物形成工程、接着層を形成するための塗膜から接着層を得て転写フィルム積層体を形成する工程転写フィルム積層体形成工程、および転写フィルム積層体から剥離用フィルムを剥がして積層体Bを形成する工程積層体B形成工程とを有する方法が挙げられる。接着層を形成するための塗膜接着層を形成するための塗膜は後述する接着層を形成するための塗膜である。接着層を形成するための塗膜としては、例えば、熱可塑性樹脂を含有する熱可塑性樹脂塗膜および活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜が挙げられる。接着層を形成するための塗膜が熱可塑性樹脂を含有する熱可塑性樹脂塗膜の場合には、使用される接着層形成材料として、例えば、熱可塑性樹脂を希釈溶剤に溶解させた熱可塑性樹脂溶液を使用することができる。熱可塑性樹脂を溶解する希釈溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、エタノール、1-メトキシ-2-プロパノールおよびトルエンが挙げられる。熱可塑性樹脂塗膜を形成するための熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、塩素化オレフィン系樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル系共重合体、マレイン酸系樹脂、塩化ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、ポリアミド系樹脂、クマロンインデン系樹脂、エチレン-酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、ブチラール樹脂、ロジン系樹脂およびエポキシ系樹脂が挙げられる。接着層を形成するための塗膜が活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜の場合には、使用される接着層形成材料として、例えば、LRM架橋成分と同様の組成物を使用することができる。上記の硬化性塗膜用の活性エネルギー線硬化性化合物は単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。上記の硬化性塗膜用の活性エネルギー線硬化性化合物に添加される光重合開始剤としては、例えば、LRM組成物中に配合する場合に使用される光開始剤と同様のものが挙げられる。これらは、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。熱可塑性樹脂塗膜または活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜の形成方法としては、例えば、転写フィルムにおける中屈折率膜の表面または、転写フィルムと基材とを積層する際に転写フィルムにおける中屈折率膜の表面若しくは基材の表面に上記の熱可塑性樹脂溶液または活性エネルギー線硬化性組成物を塗付した後に希釈溶剤を除去することにより熱可塑性樹脂塗膜または活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜を形成する方法が挙げられる。転写フィルムラミネート物形成工程転写フィルムラミネート物形成工程は、基材と転写フィルムの中屈折率膜の面とを、接着層を形成するための塗膜を介して貼り合わせて転写フィルムラミネート物を形成する工程である。以下に、接着層として接着層用熱可塑性樹脂塗膜を使用する場合と接着層用硬化性塗膜を使用する場合のそれぞれの転写フィルムラミネート物を形成する方法の一例を示す。1接着層用熱可塑性樹脂塗膜接着層を形成する塗膜として接着層用熱可塑性樹脂塗膜を使用する場合には、転写フィルムラミネート物形成工程で基材と転写フィルムとを接着層用熱可塑性樹脂塗膜を介して貼り合せることにより転写フィルムラミネート物を得ることができる。接着層用熱可塑性樹脂塗膜は転写フィルムへ予め設けてもよいし、基材へ予め設けても良い。接着層用熱可塑性樹脂塗膜の形成方法としては、例えば、転写フィルムの中屈折率膜の面又は基材の表面に上記の熱可塑性樹脂溶液を塗布した後に溶剤を除去することにより接着層用熱可塑性樹脂塗膜を形成する方法が挙げられる。熱可塑性樹脂溶液を使用する場合の熱可塑性樹脂溶液の塗布方法としては、例えば、LRM用組成物を塗布する方法と同様の方法が挙げられる。2活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜接着層を形成する塗膜として接着層用硬化性塗膜を使用する場合には、転写フィルムラミネート物形成工程で、基材と転写フィルムとを接着層用硬化性塗膜を介して貼り合わせることにより転写フィルムラミネート物を得る。接着層用硬化性塗膜は転写フィルムへ予め設けてもよいし、基材へ予め設けても良い。基材と転写フィルムとを積層する際のエアーの巻き込みを防ぐためには、過剰量の接着層用硬化性塗膜を形成するための材料を使用して接着層用硬化性塗膜を形成した状態とすることが好ましい。接着層用硬化性塗膜を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物の塗布方法としては、例えば、LRM組成物を塗布する方法と同様の方法が挙げられる。基材と転写フィルムとを積層する方法としては、例えば、ゴムロールで圧着する方法が挙げられる。圧着に際しては、例えば、5~15MPaの条件で圧着することができる。また、転写フィルムとの密着性の点で、積層する基材の表面を40~125°Cに加温しておくことが好ましい。接着層本発明において、接着層は転写フィルムと基材とを接着するためのものである。本発明においては、接着層を形成させる時期としては、転写フィルムとして中屈折率膜の表面に積層された状態で組み込まれている場合、および転写フィルムと基材とを積層する際に転写フィルムと基材との間に接着層を形成させる場合のいずれの場合でもよい。上記のいずれの場合においても、接着層の屈折率としては前式8を満たすことが積層体Bの干渉模様を抑制する観点から好ましい。接着層の屈折率nHCとしては、好ましくは1.45~1.56である。また、基材と接着層との屈折率差が大きくなり、かつ屈折界面が明確に存在すると、基材と接着層との界面で光の反射が発生し、これが新たな干渉模様を引き起こす。従って、基材と接着層の屈折界面を消失させるために、接着層を基材へ十分浸透させるか、基材と接着層との屈折率差を0.03以下に抑制することが好ましい。本発明において、接着層の形成方法としては、接着層形成材料として、例えば、熱可塑性樹脂を希釈溶剤に溶解させた熱可塑性樹脂溶液を使用した場合には、公知の方法により希釈溶剤を揮発させて接着層を得る方法が挙げられる。また、接着層形成材料として、例えば、希釈溶剤で希釈した活性エネルギー線硬化性組成物を使用した場合には、公知の方法により希釈溶剤を揮発させた後に、HRM組成物を硬化させる際の活性エネルギー線硬化条件と同様の条件で硬化させる方法が挙げられる。また、本発明においては、活性エネルギー線硬化性組成物を使用して接着層を形成する場合には、必要に応じて、LRM組成物の部分硬化物、HRM組成物の部分硬化物およびMRM組成物の部分硬化物の少なくとも1種を、接着層を形成するための塗膜の硬化と併せて硬化させることができる。転写フィルム積層体形成工程本発明においては、転写フィルム積層体形成工程は接着層を形成するための塗膜から接着層を得るための工程である。以下に接着層を形成するための塗膜として熱可塑性樹脂塗膜を使用する場合と接着層用硬化性塗膜を使用する場合のそれぞれの転写フィルム積層体を形成する方法の一例を示す。1接着層用熱可塑性樹脂塗膜を使用して転写フィルム積層体を得る場合転写フィルム積層体形成工程において、転写フィルムラミネート物形成工程で得られた転写フィルムラミネート物を、加圧処理及び加温処理の内の少なくとも一つの処理により接着層を得ることにより基材と中屈折率膜とを接着させることができる。加圧処理方法としては、例えば、ゴムロールで圧着する方法が挙げられる。加圧条件としては、例えば、5~15MPaが挙げられる。加温処理方法としては、例えば、基材を加温する方法が挙げられる。加温条件としては、例えば、40~125°Cが挙げられる。加温条件をこの条件とすることにより、転写フィルムと基材との密着性を良好とすることができ、基材の過度の溶解による硬度低下もなく、接着層の黄変も少ない。基材を加温する際の基材の表面温度は加熱部の設定温度、加熱時間等により調整することができる。また、基材の温度の測定方法としては、例えば、非接触型表面温度計による方法が挙げられる。なお、本発明においては、転写フィルム積層体の形成を転写フィルムラミネート物の形成と同時に実施してもよい。本発明においては、必要に応じて、上記の加温処理の際に低屈折率膜の硬化を促進させて充分に硬化した低屈折率膜を得ることができる。また、本発明においては、必要に応じて、上記の処理に加えて活性エネルギー線を照射して低屈折率膜の硬化を促進させて充分に硬化した低屈折率膜を得ることができる。2接着層用硬化性塗膜を使用して転写フィルム積層体を得る場合転写フィルム積層体形成工程において、転写フィルムラミネート物形成工程で得られた転写フィルムラミネート物に活性エネルギー線を照射して接着層用硬化性塗膜を硬化させて接着層を形成することができる。転写フィルムラミネート物への活性エネルギー線の照射は転写フィルムを介して実施することができる。また、基材の形状に応じて、必要に応じて基材側から活性エネルギー線を照射してもよい。上記の活性エネルギー線としては、例えば、紫外線が挙げられる。紫外線を照射する場合の光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及び蛍光紫外線ランプが挙げられる。前記の活性エネルギー線照射条件としては、例えば、ピーク照度100mW/cm2以上及び積算光量10mJ/cm2以上の条件が挙げられる。本発明においては、接着層用硬化性塗膜を硬化する際に、必要に応じて、低屈折率膜の硬化を促進させて充分に硬化した低屈折率膜を得ることができる。転写フィルム積層体転写フィルム積層体は転写フィルムの中屈折率膜の面と基材とが接着層を介して積層された積層体である。転写フィルム積層体の製造方法としては、転写フィルムの中屈折率層の表面に接着層を形成するための塗膜を形成したものを、転写フィルムの接着層を形成するための塗膜を形成した面が基材と接するように、基材と積層した後に接着層を得る方法、または基材の表面に接着層を形成するための塗膜を形成したものを、転写フィルムの中屈折率膜の面と積層する方法のいずれの方法でもよい。基材と転写フィルムとを積層する方法としては、例えば、ゴムロールで圧着する方法が挙げられる。圧着に際しては、例えば、5~15MPaの条件で圧着することができる。また、積層する基材の表面を40~125°Cに加温しておくことが好ましい。加温条件をこの条件とすることにより、転写フィルムと基材との密着性を良好とすることができ、基材の過度の溶解による硬度低下を抑制し、接着層の黄変も抑制できる傾向にある。基材を加温する際の基材の表面温度は加熱部の設定温度、加熱時間等により調整することができる。また、基材の温度の測定方法としては、例えば、非接触型表面温度計による方法が挙げられる。本発明においては、必要に応じて、上記の加温処理の際に低屈折率膜、高屈折率膜および中屈折率膜の硬化を促進させて充分に硬化した低屈折率膜を得ることができる。また、本発明においては、必要に応じて、上記の処理に加えて活性エネルギー線を照射して低屈折率膜、高屈折率膜および中屈折率膜の硬化を促進させて充分に硬化した低屈折率膜を得ることができる。本発明においては、基材と転写フィルムとを積層する際のエアーの巻き込みを防ぐために、過剰量の接着層形成材料を使用して接着層を形成するための塗膜を得ることが好ましい。積層体B形成工程積層体B形成工程は、転写フィルム積層体から剥離用フィルムを剥がして積層体Bを得る工程である。転写フィルム積層体から剥離用フィルムを剥離するに際しては、例えば、室温にて剥離用フィルムを転写フィルム積層体から公知の方法により剥離することができる。以下、実施例により本発明を説明する。なお、実施例および比較例で使用した化合物の略称は以下の通りである。また、以下において、部およびはそれぞれ質量部および質量を示す。TAS:コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸モル比1/2/4縮合混合物C6DA:1,6-ヘキサンジオールジアクリレート大阪有機化学工業株製、商品名;ビスコート230M305:ペンタエリスリトールトリアクリレート東亞合成株製、商品名;アロニックスM305M400:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート東亞合成株製、商品名;アロニックスM400U6HA:ウレタンアクリレート新中村化学工業株製、商品名;NKオリゴU6-HADAC:パーフルオロポリエーテル基および活性エネルギー線反応性基を有するフッ素基含有ポリエーテル化合物の溶液ダイキン工業株製、固形分濃度20、2,2,3,3-テトラフルオロ-1-プロパノール溶液、商品名;オプツールDACDAROCUR:2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドBASFジャパン株製、商品名;DAROCURTPOIRGACURE:1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンBASFジャパン株製、商品名;IRGACURE184KBM503:3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン信越化学工業株製、商品名;信越シリコーンKBM503スルーリアS:中空シリカゾルのイソプロピルアルコールIPA分散体固形分濃度20日揮触媒化成株製、商品名;スルーリアSPGM:1-メトキシ-2-プロパノール和光純薬工業株製、試薬1級IPA:イソプロパノール和光純薬工業株製、試薬1級トルエン:トルエン和光純薬工業株製、試薬1級ZRT-E28:ジルコニアのトルエン分散体固形分濃度15、KBM503とジルコニア微粒子の合計量中のジルコニア微粒子の割合77質量、CIKナノテック株製、商品名;ZRT15WT-E28ZRT-E30:ジルコニアのトルエン分散体固形分濃度15、KBM503とジルコニア微粒子の合計量中のジルコニア微粒子の割合67質量、CIKナノテック株製、商品名;ZRT15WT-E30MR-1009SBV:五酸化アンチモンのIPA分散体固形分濃度30、日揮触媒化成株製、商品名;MR-1009SBVKBM602:N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン信越化学工業株製、商品名;信越シリコーンKBM602KBM603:N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン信越化学工業株製、商品名;信越シリコーンKBM603アクリライト:メタクリル樹脂板三菱レイヨン株製、商品名;アクリライトEX001本発明で実施した評価方法を以下に示す。1基材の温度基材の表面温度の測定には非接触型表面温度計株チノー製、ハンディ型放射温度計IR-TA商品名を使用した。2全光線透過率およびヘーズ値日本電色工業株製HAZEMETERNDH2000商品名を用いてJISK7361-1に示される測定法に準拠して、積層体の全光線透過率を測定し、JISK7136に示される測定法に準拠してヘーズ値を測定した。3耐擦傷性0000のスチールウールを装着した直径25.4mmの円形パッドを積層体の低屈折率膜の表面に置き、2.0kgの荷重下で、20mmの距離を20回往復擦傷し、擦傷前と擦傷後のヘーズ値の差Δヘーズを下式より求め、試験後のサンプル表面の傷の本数を数えて耐擦傷性を評価した。[Δヘーズ]=[擦傷後のヘーズ値]-[擦傷前のヘーズ値]4反射防止性積層体の低屈折率膜が積層されていない面をサンドペーパーで粗面化した後に艶消し黒色スプレーで塗ったものを評価用サンプルとし、分光光度計株日立製作所製、商品名:U-4000を用いて、入射角5°および波長380~780nmの範囲でJISR3106に示される測定法に準拠してサンプルの低屈折率膜の表面の反射率を測定し、得られる反射率曲線の最も反射率の低い波長ボトムの波長およびボトムの波長における反射率ボトムの波長反射率を求めた。また、積層体の低屈折率膜の表面に指紋を付着させたときの反射色の変化の有無を以下の基準で評価した。◎:反射色の変化は認められなかった。○:反射色の変化がわずかに認められる。×:反射色の変化が認められた。5防汚性積層体表面の低屈折率膜の防汚性を下記の水接触角、トリオレイン接触角および油性インキ拭き取り性により評価した。a水接触角23°Cおよび相対湿度50の環境下において、低屈折率膜の表面にイオン交換水0.2μLの1滴を滴下し、携帯型接触角計Fibrosyetemab社製、商品名:PG-Xを用いて水と低屈折率膜の接触角を測定し、水接触角を求めた。bトリオレイン接触角イオン交換水の代わりにトリオレインを使用したこと以外は水接触角の測定の場合と同様にして、トリオレイン接触角を求めた。c油性インキ拭き取り性積層体の低屈折率膜の表面に、油性インキ黒色株サクラクレパス製、商品名;マイネーム黒で線を書き、3分後にペーパータオル日本製紙クレシア株製、商品名;キムタオルで拭き取り、その際の油性インキの拭き取れ具合を目視により以下の基準で評価した。◎:5回の拭き取りで油性インクが完全に拭き取れる。○:5回の拭き取りでわずかに油性インクの線の跡が残る。×:5回の拭き取りで油性インキが1部でも付着したままである。6密着性JISK5600-5-6に準拠して、25マスの碁盤目の剥離評価を4箇所で実施し、100マスの中で剥離せずに残ったマスの数で積層体の低屈折率膜の密着性を評価した。7各層の膜厚積層体の厚み方向にミクロトームで幅100nmのサンプルを切り出し、透過型電子顕微鏡日本電子株製JEM-1010商品名で積層体の断面を観察し、各層の膜厚を測定した。8耐汗性JISL0848の汗に対する染色堅ろう度試験のA法に準じて人工汗液を調整した。積層体を50×50mmの大きさにカットして評価用サンプルとした。次いで、脱脂綿を30×30mmの大きさにカットし、評価用サンプルの上に乗せ、注射器を使用し、人工汗液を脱脂綿に垂らして脱脂綿を湿らせた。そのサンプルを温度45°Cおよび相対湿度95の恒温恒湿機に96時間放置した後に取り出し、積層体の表面を水洗浄した後に目視評価により以下の基準で耐汗性を評価した。○:変色は認められなかった。×:変色が認められた。9屈折率測定プリズムカプラーメトリコン社製、モデル2010を用いて594nmレーザーにおける低屈折率膜、高屈折率膜、中屈折率膜および接着層の屈折率を測定した。10干渉模様積層体の表面を3波長蛍光管株東芝製、商品名:メロウ540Wの下で5名による目視により干渉模様の有無を下記基準で評価した。◎:角度を変えても干渉模様は見えない。○:角度を変えると干渉模様が薄く見える。△:角度を変えると干渉模様が顕著に見える×:角度を変えなくとも干渉模様が顕著に見える。11中屈折率膜中の膜中央領域厚みTbiおよびTci、膜表層領域a1の厚みTai、膜表層領域a2の厚みTdi並びに膜中央領域の長さ積層体厚みTnmの厚み方向にミクロトームで幅100nmのサンプルを切り出した。このサンプルの厚み方向断面を透過型電子顕微鏡日本電子株製JEM-1010商品名を使用して、MO微粒子含有膜中または中屈折率層中のMO微粒子の分布の状態を写真撮影した。得られたサンプルの厚み方向断面の写真のMO微粒子の分布の状態の模式図を図1に示す。写真の中で、厚み方向断面内でMO微粒子含有膜または中屈折率膜の膜厚に対して、垂直方向の1200nmの長さにおけるMO微粒子が存在しない膜中央領域の長さLiの合計の長さLを算出した。例えば、図1においては、1200nmのサンプル断面長さの中で、式1および式3を満足する、膜中央領域厚みTbiおよびTci並びに膜表層領域a1の厚みTaiおよび膜表層領域a2の厚みTdiを測定すると共に、それらの測定した場所におけるL1、L2、L3およびL4の長さの合計本発明の範囲外であるD1、D2、D3およびD4の部分を除外した長さをMO微粒子が存在しない膜中央領域の長さLiの合計の長さLとした。[製造例1]シリカゾル1の製造以下のように、中空シリカを個別処理した。撹拌機および冷却管を備えた4ツ口フラスコ反応容器にスルーリアSを63g仕込み、次いでKBM503を12g添加した。その後、攪拌しながら水4.4gおよび0.01mol/l塩酸水溶液0.1gを順次添加し、80°Cで2時間加熱を行った。次いで、反応系を減圧状態にして固形分濃度が40となるまで揮発分を留出させた後、トルエン38gを添加して80°Cで2時間加熱した。その後、反応系を減圧状態にして固形分濃度が60となるまで揮発分を留出させ、更に80°Cで2時間加熱し、加水分解処理および縮合反応処理された、シリカゾル1を製造した。シリカゾル1は白濁した液体であり、固形分濃度は60であった。なお、固形分濃度は、シリカゾル1を3日間80°Cの環境にて加熱乾燥し、乾燥前後の質量差から計算により求めた。また、シリカゾル1中の無機微粒子の割合は、使用した加水分解性シラン化合物と無機微粒子との合計100部に対する無機微粒子の質量割合から求めた。[調合例1]LRM組成物1の調合LRM組成物として、表1に示すLRM組成物1を調合した。なお、特に断りがない場合はLRM組成物を25°Cの環境で調合して、25°Cの環境で30分放置した後に、剥離用フィルムの表面にバーコーダーを用いて表1に示すLRM組成物を塗付した。[調合例2~4]HRM組成物1~3の調合HRM組成物として、表2に示すHRM組成物1~3を調合した。なお、特に断りがない場合はHRM組成物を25°Cの環境で調合して、25°Cの環境で30分放置した後に、LRM組成物の塗膜の表面にバーコーダーを用いてHRM組成物を塗付した。[調合例5~12]MRM組成物1~8の調合中屈折率組成物として、表3に示す中屈折率組成物1~8を調合した。なお、特に断りがない場合はMRM組成物を25°Cの環境で調合して、25°Cの環境で30分放置した後に、HRM組成物の塗膜の表面にバーコーダーを用いてMRM組成物を塗付した。[実施例1]厚さ100μmのPETフィルム株東洋紡、商品名:A4100のPET表面に、LRM組成物1を、10号バーコーターを用いて塗付し、100°Cで1.5分間および150°Cで1分間乾燥させてLRM組成物塗膜を形成した。なお、PET表面の臨界表面張力は44mN/mであった。次いで、LRM組成物塗膜が積層されたPETフィルムを、窒素気流下にて、9.6kWの高圧水銀ランプ出力設定100の下20cmの位置のところを、4.5m/分の速度で通過させてLRM組成物の塗膜を硬化させて低屈折率膜が積層された剥離用フィルムを得た。このときの積算光量は400mJ/cm2で、ピーク照度は260mW/cm2であった。次いで、搬送ベルト上に配置した、厚さ1mmおよび長さ260mmのSUS製電極に対してナビタス株製コロナ処理装置POLYDYNE商品名を用いて印加電圧11.6kVをかけ、コロナ放電させて、低屈折率膜面を上面にして搬送ベルト上に配置した低屈折率膜が積層された剥離用フィルムを、フィルム-電極間ギャップ3mmおよび搬送速度2.0m/分で電極下部を通すことでコロナ処理を実施した。この条件における上記フィルムに対する照射エネルギーは100W分/mであった。更に、コロナ処理を行った低屈折率膜の表面にHRM組成物1を、10号バーコーターを用いて塗付し、100°Cで1.5分間および150°Cで1分間乾燥させてHRM組成物の塗膜を形成し、空気下で9.6kWの高圧水銀ランプ出力設定100の下20cmの位置のところを、4.5m/分の速度で通過させてHRM組成物の塗膜を硬化させて高屈折率膜が積層された剥離用フィルムを得た。なお、高圧水銀ランプは2灯点灯させた。このときの積算光量は800mJ/cm2で、ピーク照度は260mW/cm2であった。次いで、高屈折率膜の表面にMRM組成物1を、10号バーコーターを用いて塗付し、80°Cで1.5分間および120°Cで1分間乾燥させて中屈折率組成物塗膜を形成し、9.6kWの高圧水銀ランプ出力設定100の下20cmの位置のところを、4.5m/分の速度で通過させてMRM組成物の塗膜を硬化させて中屈折率膜が積層された積層フィルムを得た。このときの積算光量は400mJ/cm2で、ピーク照度は260mW/cm2であった。更に、接着層形成材料としてTAS35部、C6DA30部、M30510部、M40025部およびDAROCUR2部を混合して得られる活性エネルギー線硬化性組成物を、10号バーコーターを用いて中屈折率膜が積層された積層フィルムの中折率膜の表面に塗付して接着層を形成するための塗膜を積層し、転写フィルムを得た。基材として板厚が2mmのメタクリル樹脂板アクリライトを使用し、60°Cに加温した基材の表面に上記の転写フィルムを、接着層を形成するための塗膜を介して積層した。上記の積層体を、60°Cに加温した状態で60秒間経過させた後に、PETフィルムを介して出力9.6kWのメタルハライドランプの下20cmの位置のところを2.5m/分の速度で通過させて、接着層を形成するための塗膜を硬化させて接着層を形成し、接着層が形成された積層体を得た。接着層が形成されたフィルム積層体を得るための硬化条件としては、積算光量は570mJ/cm2で、ピーク照度は220mW/cm2であった。その後、接着層が形成された積層体からPETフィルムを剥離して積層体を得た。得られた積層体中の接着層の膜厚は13μmであった。評価結果を表4に示す。上記の積層体の低屈折率膜、高屈折率膜および中屈折率膜の膜厚をそれぞれ測定した結果、低屈折率膜の膜厚は100nm、高屈折率膜の膜厚は1,400nmおよび中屈折率膜の膜厚は60nmであった。上記の積層体の全光線透過率は94.8、ヘーズ値は0.15であり、透明性に優れていた。積層体の低屈折率膜の表面の擦傷性試験後のΔヘーズは0.05であり、傷の本数は1本であった。また、積層体の密着性は良好であった。積層体の低屈折率膜の表面の耐汗性については、変色は認められなかった。また、積層体の低屈折率膜の表面のボトムの波長は620nmであり、ボトムの波長反射率は1.0であった。更に、積層体の低屈折率膜の表面に指紋を付着しても反射色の変化は見られなかった。また、干渉模様の評価では角度を変えても干渉模様は確認されなかった。積層体の低屈折率膜の表面の水接触角は105度であり、トリオレイン接触角は65度であった。また、積層体の低屈折率膜の表面の油性インキ拭き取り性も5回の拭き取りで油性インクが完全に拭き取れるレベルであった。また、中屈折率膜中のMO微粒子の存在状態を観察したところ、中屈折率膜中の膜中央領域の割合は864nm1200nmの72であった。[実施例2および3]表4に示すようにMRM組成物を変更したこと以外は実施例1と同様に積層体を作製した。評価結果を表4に示す。[実施例4および5]表4に示すようにMRM組成物を変更し、接着層形成材料としてU6HA10部、C6DA30部、M30530部、M40030部およびDAROCUR2部を混合して得られる活性エネルギー線硬化性組成物に変更したこと以外は実施例1と同様に積層体を作製した。評価結果を表4に示す。[実施例6~8]表5に示すようにHRM組成物およびMRM組成物を変更したこと以外は実施例1と同様に積層体を作製した。評価結果を表5に示す。[実施例9および10]表5に示すようにHRM組成物およびMRM組成物を変更し、接着層形成材料としてU6HA10部、C6DA30部、M30530部、M40030部およびDAROCUR2部を混合して得られる活性エネルギー線硬化性組成物に変更したこと以外は実施例1と同様に積層体を作製した。評価結果を表6に示す。[実施例11]表6に示すようにHRM組成物を変更したこと以外は実施例2と同様に積層体を作製した。評価結果を表6に示す。[実施例12および13]表6に示すように高屈折率膜の膜厚を変更したこと以外は実施例2と同様に積層体を作製した。評価結果を表6に示す。[実施例14および15]表6に示すように中屈折率膜の膜厚を変更したこと以外は実施例2と同様に積層体を作製した。評価結果を表6に示す。[実施例16および17]表7に示すようにMRM組成物を変更し、接着層形成材料としてU6HA10部、C6DA30部、M30530部、M40030部およびDAROCUR2部を混合して得られる活性エネルギー線硬化性組成物に変更したこと以外は実施例1と同様に積層体を作製した。評価結果を表7に示す。[比較例1]実施例2において、MRM組成物の製膜条件を下記に示すように変更したこと以外は実施例2と同様に積層体を作製した。評価結果を表7に示す。中屈折率膜中に膜中央領域が形成されていないため干渉模様が顕著であった。<MRM組成物の製膜条件>MRM組成物2を、10号バーコーターを用いて塗付し、150°Cで10分間乾燥させてMRM組成物の塗膜を形成し、9.6kWの高圧水銀ランプ出力設定100の下20cmの位置のところを、4.5m/分の速度で通過させてMRM組成物の塗膜を硬化させて中屈折率膜が積層された積層フィルムを得た。このときの積算光量は400mJ/cm2で、ピーク照度は260mW/cm2であった。[比較例2]実施例2において、中屈折率膜を形成しなかったこと以外は実施例2と同様に積層体を作製した。評価結果を表7に示す。中屈折率膜が存在しないため干渉模様が顕著に見えた。[実施例18]厚さ100μmのPETフィルム株東洋紡、商品名:A4100のPET表面に、MRM組成物1を、10号バーコーターを用いて塗付し、80°Cで1.5分間および120°Cで1分間乾燥させてMRM組成物塗膜を形成し、9.6kWの高圧水銀ランプ出力設定100の下20cmの位置のところを、4.5m/分の速度で通過させてMRM組成物の塗膜を硬化させて膜厚60nmの中屈折率膜が積層された積層フィルムを得た。このときの積算光量は400mJ/cm2で、ピーク照度は260mW/cm2であった。得られた積層フィルム表層の中屈折率膜中の膜中央領域の厚みTbiの最小値は12nmであり、最大値は24nmであった。また、膜中央領域の厚みTciの最小値は10nmであり、最大値は23nmであった。更に、MO微粒子が存在しない膜中央領域の長さLiの合計の長さLは864nm1200nmの72であった。"