"A成分:ビスフェノール型エポキシ樹脂と、B成分:合成ゴムと、C成分:フェノール樹脂系のエポキシ樹脂用硬化剤とを含有する樹脂組成物中に、軟磁性金属粉末が分散され、B成分/[A成分C成分]で表される質量比は、0.5~1.5であることを特徴とする複合磁性体。前記A成分は、平均エポキシ当量100~700g/eqであることを特徴とする請求項1に記載の複合磁性体。前記B成分は、ポリイソブテン、ブタジエンゴム、スチレン-ブタジエンゴム及びニトリルゴムから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1又は2に記載の複合磁性体。前記B成分は、アクリロニトリル5~50質量のニトリルゴムであることを特徴とする請求項1又は2に記載の複合磁性体。前記B成分は、カルボキシル基を有するニトリルゴムであることを特徴とする請求項1又は2に記載の複合磁性体。前記カルボキシル基を有するニトリルゴムは、ムーニー粘度50~90M14100°Cであることを特徴とする請求項5に記載の複合磁性体。前記C成分は、前記A成分のエポキシ基1当量に対して、活性水素当量が0.1~1.0当量となる量であることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の複合磁性体。しかしながら、特許文献2~3の発明は、リフローはんだ付けにおける形態不良の防止耐リフロー性が図られているものの、柔軟性を満足できるものではなかった。特許文献4~5の発明は、柔軟性の向上が図られているものの、満足できる耐リフロー性ではなかった。加えて、熱硬化性樹脂が用いられた複合磁性体は、硬化状態のものを重ね、熱プレスしても密着しにくい。このため、半硬化状シート物を最終製品の厚さに応じて製造する必要があり、効率的に製造できないという問題があった。そこで、本発明は、効率的に製造でき、かつ十分な柔軟性と耐リフロー性とを両立できる複合磁性体を目的とする。一般に、高耐熱性のエンジニアリングプラスチックスは、電磁波抑制機能を得るために軟磁性金属粉末の充填量を多くすると、成形体が脆くなったり、柔軟性が損なわれ、満足できる複合磁性体を得ることが困難である。他方、耐熱性の低い熱可塑性樹脂の中には、軟磁性金属粉末の充填量を多くすることができるものがあるが、これにより得られる複合磁性体の耐熱性は不十分となる。本発明者らは鋭意検討した結果、特定のエポキシ樹脂と、合成ゴムとを特定の比率で配合すると共に、特定のエポキシ樹脂用硬化剤を用いることで、電磁波抑制機能を損ねることなく、十分な柔軟性と耐リフロー性とを両立でき、かつ半硬化状シート物を重ね、熱処理を施して積層することで、任意の厚さの複合磁性体を効率的に製造できることを見出し、本発明に至った。即ち、本発明の複合磁性体は、A成分:ビスフェノール型エポキシ樹脂と、B成分:合成ゴムと、C成分:フェノール樹脂系のエポキシ樹脂用硬化剤とを含有する樹脂組成物中に、軟磁性金属粉末が分散され、B成分/[A成分C成分]で表される質量比は、0.5~1.5であることを特徴とする。前記A成分は、平均エポキシ当量100~700g/eqであることが好ましく、前記B成分は、ポリイソブテン、ブタジエンゴム、スチレン-ブタジエンゴム及びニトリルゴムから選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、アクリロニトリル5~50質量のニトリルゴムであることがより好ましく、カルボキシル基を有するニトリルゴムであることがさらに好ましく、前記カルボキシル基を有するニトリルゴムは、ムーニー粘度50~90M14100°Cであることが特に好ましく、前記C成分は、前記A成分のエポキシ基1当量に対して、活性水素当量が0.1~1.0当量となる量であることが好ましい。本発明の複合磁性体によれば、効率的に製造でき、十分な柔軟性と耐リフロー性とを両立できる。複合磁性体本発明の複合磁性体は、樹脂組成物中に軟磁性金属粉末が分散されたものであり、例えば、シート状に成形されたものである。<樹脂組成物>本発明の樹脂組成物は、A成分:ビスフェノール型エポキシ樹脂と、B成分:合成ゴムと、C成分:フェノール樹脂系のエポキシ樹脂用硬化剤とを含有するものである。複合磁性体中の樹脂組成物の含有量は、2~50質量が好ましく、5~40質量がより好ましく、5~20質量がさらに好ましい。上記下限値未満であると、軟磁性金属粉末のバインダーとしての機能が損なわれ、複合磁性体の成形性が損なわれるおそれがあり、上記上限値超であると、複合磁性体の電磁波制御性能が不十分になるおそれがある。≪A成分:ビスフェノール型エポキシ樹脂≫A成分は、ビスフェノール型エポキシ樹脂である。A成分としては、ビスフェノール類と、エピクロルヒドリン又はβ-メチルエピクロルヒドリン等のハロエポキシドとの反応により得られるものである。ビスフェノール類としては、フェノール又は2,6-ジハロフェノールと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、ベンゾフェノン等のアルデヒド類又はケトン類との反応物、ジヒドロキシフェニルスルフィドの過酸による酸化物、ハイドロキノン同士のエーテル化反応等により得られるもの等が挙げられる。A成分としては、最も汎用で、低価格であることから、ビスフェノールA型エポキシ樹脂が好ましい。A成分の平均エポキシ当量は、用途に応じて決定できるが、100~700g/eqが好ましい。100g/eq未満では、得られる複合磁性体の形状保持性が高温下で低下する傾向にあり、700g/eq超では、複合磁性体の保存安定性が低下する傾向にある。樹脂組成物中のA成分の含有量は、平均エポキシ当量と後述するC成分の含有量及び活性水素当量とを勘案して決定され、樹脂組成物中のA成分とC成分との合計量が、好ましくは20~67質量、より好ましくは40~67質量とされる。上記下限値未満では、複合磁性体の耐リフロー性が低下するおそれがあり、上記上限値超では、複合磁性体の柔軟性が低下するおそれがある。≪B成分:合成ゴム≫B成分は、合成ゴムである。B成分としては、得られる複合磁性体に適度の柔軟性を付与しうるものであればよく、例えば、ニトリルゴムNBR、ポリイソブテンPIB、ブタジエンゴムBR、スチレン-ブタジエンゴムSBR等が挙げられ、中でも、複合磁性体の電気特性を考慮するとニトリルゴムが好ましい。ニトリルゴムは、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体であり、カルボキシル基を有するものがより好ましい。カルボキシル基を有するニトリルゴムは、加熱時の溶融粘度が高いため、複合磁性体の熱安定性をより高めたり、複合磁性体の引張り強度を高めたりできる。加えて、カルボキシル基を有するニトリルゴムは、他の樹脂との相溶性が高いため、製造効率をより高めたり、安定した品質の複合磁性体を得られやすい。ニトリルゴムにおけるアクリロニトリル由来の単量体単位の含有率アクリロニトリルAN含有率は、5~50質量が好ましく、10~40質量がより好ましく、10~30質量がさらに好ましい。AN含有率が上記下限値未満であると、耐リフロー性の向上が図りにくく、上記上限値超であると、溶剤への溶解性が低下したり、半硬化状シート物同士を積層しにくくなったりして、複合磁性体の製造作業性が低下したりするおそれがある。カルボキシル基を有するニトリルゴムのムーニー粘度は、50~90M14100°Cが好ましく、55~90M14100°Cがより好ましく、60~70M14100°Cがさらに好ましい。ムーニー粘度が上記範囲内であると、複合磁性体の熱安定性が良好になり、耐リフロー性がより高まる。加えて、ムーニー粘度が上記範囲内であると、溶剤溶解性の向上、溶融粘度の低下により、磁性体塗料の加工性、接着性が良好となる。ムーニー粘度が上記下限値未満であると、樹脂組成物の耐熱性が低下し、耐リフロー性が低下するおそれがある。また、半硬化状シート物における溶融粘度が低下し、後述する製膜工程で磁性体塗料の流れ出しが多くなり、加工性を低下させるおそれがある。ムーニー粘度が上記上限値超であると、後述する塗料調製工程で、溶剤への溶解性が低下したり、後述する製膜工程で、磁性体塗料の流動性が低下し、製膜が困難になったり、半硬化状シート物同士を積層しにくくなったりして、複合磁性体の製造効率が低下するおそれがある。ムーニー粘度は、JISK6300-1に準拠して、ムーニービスコメーター株式会社島津製作所製を用いて測定される値である。樹脂組成物中のBの含有量は、A成分とC成分との含有量を勘案して決定でき、B成分/[A成分C成分]で表される質量比以下、B/[AC]比ということがあるが0.5~1.5であり、好ましくは0.5~1.25であり、より好ましくは0.6~1.0である。上記下限値未満であると、柔軟性が不十分になったり、軟磁性金属粉末の密着性が不十分になるおそれがあり、上記上限値超であると耐リフロー性が不十分になる。≪C成分:フェノール樹脂系のエポキシ樹脂用硬化剤≫C成分は、フェノール樹脂系のエポキシ樹脂用硬化剤である。C成分としては、特に限定されず、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールノボラック樹脂、ポリp-ビニルフェノール等が挙げられる。C成分は、潜在性硬化剤であるため、半硬化状態ではA成分のエポキシ基との硬化反応が進行しにくい。このため、半硬化状シート物は、重ねられ、熱処理が施されることで、未反応のエポキシ基が表面タックを発現して、容易に密着される。樹脂組成物中のC成分の含有量は、A成分の種類や含有量、C成分の種類等を勘案して決定することが好ましく、A成分に由来するエポキシ基1当量に対し、C成分の活性水素当量活性水素基を有する官能基の当量が好ましくは0.1~1当量となる量、より好ましくは0.5~1当量となる量、さらに好ましくは0.8~1当量となる量とされる。C成分の含有量が上記下限値未満であると、A成分の硬化が不十分となり、耐リフロー性が低下するおそれがあり、上記上限値超であると、半硬化状態の樹脂組成物中で、未反応のC成分の残留量が多くなり、耐リフロー性が低下するおそれがある。樹脂組成物中の必須成分であるA~C成分の合計量は、多ければ多いほど、本発明の効果を高められ、90質量以上が好ましく、95質量以上が好ましく、100質量がさらに好ましい。≪樹脂組成物中の任意成分≫樹脂組成物は、本発明の効果を妨げない範囲で、A~C成分以外の樹脂任意樹脂、C成分以外のエポキシ樹脂用硬化剤任意硬化剤、硬化促進剤等の任意成分以下、総じて樹脂組成物の任意成分というを含有してもよい。任意樹脂としては、例えば、A成分以外のエポキシ樹脂、天然ゴム等が挙げられる。C成分以外の樹脂としては、ポリアミドアミン等が挙げられる。これらの任意樹脂は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。樹脂組成物中の任意樹脂の含有量は、10質量以下が好ましく、5質量以下がより好ましく、実質的に含まれない1質量以下ことがさらに好ましい。任意硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド等のポリアミン系硬化剤、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、m-キシレンジアミン、m-フェニレンジアミン、1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサン、Nアミノエチルピペラジン、4,4′-ジアミノジフェニルメタン、44’-ジアミノ-3,3’-ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン等があげられ、ポリカルボン酸系硬化剤としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、3,6-エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサクロルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチル-3,6-エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸が挙げられる。これらの任意硬化剤を用いることで、半硬化状シート物の溶融温度を高めることができる。樹脂組成物中の任意硬化剤の含有量は、半硬化状シート物に求める融点等を勘案して適宜決定できる。硬化促進剤としては、A成分とC成分との硬化反応を促進できるものであればよく、例えば、1,8-ジアザ-ビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリスジメチルアミノメチルフェノール等の三級アミン類;2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール類;トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、2-エチル-4-メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、N-メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩等が挙げられる。これらの硬化促進剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。樹脂組成物中の硬化促進剤の含有量は、エポキシ樹脂100質量部に対し、0.1~5質量部が好ましい。<軟磁性金属粉末>軟磁性金属粉末としては、従来、複合磁性体に用いられているものが挙げられ、例えば、純鉄粉末、Fe-Si系合金粉末、Fe-Si-Al系合金粉末、Fe-Ni系合金粉末、Fe-Ni-Mo系合金粉末、Fe-Ni-Mo-Cu系合金粉末、Fe-Co系合金粉末、Fe-Ni-Co系合金粉末、Fe-Cr系合金粉末、Fe-Cr-Si系合金粉末、Fe-Ni-Cr系合金粉末、あるいはFe-Cr-Al系合金粉末等が挙げられ、中でも、それ自体の保磁力が低い、PCパーマロイ粉末等のFe-Cr系合金粉末、Fe-Si系合金粉末、Fe-Si-Al系合金粉末、Fe-Co系合金粉末、Fe-Ni系合金粉末が好ましい。軟磁性金属粉末は、水アトマイズ法、ガスアトマイズ法、粉砕法又は化学処理を用いた湿式法により得られる。軟磁性金属粉末としては、前記アトマイズ粉末をアトライタ又はビーズミルにより処理したものが好ましい。このような処理を施すことで、軟磁性金属粉末を所望する平均粒径又は扁平度とすることができる。軟磁性金属粉末の平均粒径は、30~200μmが好ましい。平均粒径が上記下限値未満であると磁気特性が低位となりやすく、平均粒径が上記上限値超であると所望する形状を維持しにくくなる。平均粒径は、レーザー回析散乱式粒子径粒度分布測定装置により求められる値である。軟磁性金属粉末の扁平度は、30~200が好ましい。扁平度が上記下限値未満であると、磁気特性が低位となりやすく、扁平度が上記上限値超であると所望する形状を維持しにくくなる。ここで、扁平度の値は、La/daで表されるものである。Laは軟磁性金属粉末の平均径であり、軟磁性金属粉末を面方向からSEM観察し、長軸Lと短軸Sとを測定し、その平均値LS/2で求められるものである。daは、軟磁性金属粉末の厚さであり、軟磁性金属粉末を樹脂に埋め込んで研磨し、粉末の厚さ方向を光学顕微鏡で観察して最大厚さdmaxと最小厚さdminとを測定して、その平均値dmaxdmin/2で求められるものである。複合磁性体中の軟磁性金属粉末の含有量は、樹脂組成物の含有量を勘案して決定でき、軟磁性金属粉末/樹脂組成物で表される質量比以下、金属/樹脂比ということがあるが、好ましくは2~12とされる。金属/樹脂比が上記下限値未満であると、電磁波抑制特性が低下するおそれがあり、金属/樹脂比が上記上限値超であると、樹脂組成物による軟磁性金属粉末の密着性が不十分になるおそれがある。<複合磁性体中の任意成分>軟磁性金属粉末は、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、難燃剤、難燃助剤、充填剤、離型剤、表面処理剤、粘度調節剤、可塑剤、抗菌剤、防黴剤、レベリング剤、消泡剤、着色剤、安定剤、カップリング剤等の任意成分以下、総じて、複合磁性体の任意成分というを含有してもよい。難燃剤としては、従来公知の難燃剤が挙げられ、ハロゲンフリーと、耐リフロー性のさらなる向上との観点から、水酸化アルミニウム及び/又は水酸化マグネシウムが挙げられる。複合磁性体中の難燃剤の含有量は、樹脂組成物100質量部に対して40~150質量部が好ましい。上記下限値未満であると、十分な難燃性が得られないおそれがあり、上記上限値超であると軟磁性金属粉末の密着性が不十分となる場合がある。難燃助剤としては、従来公知の難燃助剤が挙げられ、ハロゲンフリーの観点から、例えば、赤リン、ポリリン酸アンモニウム、ポリリン酸メラミン及びリン酸エステルから選ばれる少なくとも1種が好ましい。複合磁性体中の難燃助剤の含有量は、樹脂組成物100質量部に対して1~10質量部が好ましい。上記下限値未満であると、十分な難燃性が得られないおそれがあり、上記上限値超であると耐熱性が低下するおそれがある。製造方法本発明の複合磁性体の製造方法は、例えば、A~C成分と軟磁性金属粉体とが溶剤に分散された磁性体塗料を得る工程塗料調製工程と、磁性体塗料を所望の厚さに塗布、乾燥して半硬化状シート物を得る工程製膜工程と、半硬化状シート物を加熱して硬化させる工程硬化工程とを有するものが挙げられる。磁性体塗料の調製方法は、従来公知の方法を用いることができ、例えば、溶剤にA~C成分と、必要に応じて樹脂組成物の任意成分とを添加し、攪拌して樹脂溶液とし、この樹脂溶液に軟磁性金属粉体と、必要に応じて複合磁性体の任意成分とを添加し、攪拌する方法が挙げられる。また、例えば、A~C成分と、必要に応じて樹脂組成物の任意成分又は複合磁性体の任意成分とを溶剤に添加し、攪拌し、次いで、軟磁性金属粉体を添加し、攪拌する方法が挙げられる。塗料調製工程に用いられる溶剤としては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤、セロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート等のセロソルブ溶剤、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶剤、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール等のアルコール、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤が挙げられる。磁性体塗料中の溶剤の含有量は、磁性体塗料に求める粘度等を勘案して、適宜決定される。製膜工程は、従来公知の製膜方法を用いることができ、例えば、剥離性フィルムに、磁性体塗料を任意の厚さで塗布し、これを乾燥するものが挙げられる。塗布方法としては、バーコーター、コンマコーター、ダイコーター等を用いた方法が挙げられる。半硬化状シート物の厚さは、特に限定されないが、例えば、50~500μmが好ましく、50~100μmがより好ましい。剥離性フィルムとしては、ポリプロピレンフィルム、フッ素樹脂系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートPETフィルム、紙及びこれらにシリコーン樹脂で剥離処理を施したもの剥離処理フィルム等が挙げられる。剥離性フィルムの厚さは、特に限定されないが、1~200μmが好ましく、10~50μmがより好ましい。剥離性フィルムは、ピール強度が0.01~7.0g/cmが好ましい。上記下限値以上であれば、複合磁性体と剥離性フィルムとが容易に剥離せず、複合磁性体の取扱いが容易であり、上記上限値未満であれば、複合磁性体を剥離性フィルムから剥離する際に、欠損等を生ぜず、製造効率が高まる。乾燥方法は、剥離性フィルムに塗布された磁性体塗料中の溶剤を蒸発させ、樹脂組成物を半硬化状態にするものであれば特に限定されず、例えば、剥離性フィルムに塗布された磁性体塗料を任意の温度で加熱する方法が挙げられる。製膜工程における加熱温度は、A成分、C成分や溶剤の種類等を勘案して決定できる。製膜工程における加熱時間は、A成分、C成分や溶剤の種類等を勘案して決定できる。半硬化状シート物は、乾燥後、直ちに硬化工程に供されてもよいし、仕掛品として保管されてもよい。硬化工程は、半硬化状シート物を加熱し、樹脂組成物を硬化させ、複合磁性体を得る工程である。硬化方法は、従来、公知の硬化方法を用いることができ、例えば、任意の温度で加熱する方法、任意の圧力でプレスしながら任意の温度で加熱する方法が挙げられる。硬化工程における加熱温度は、A成分及びC成分の種類等を勘案して決定できる。硬化工程でプレスする場合、その圧力は、特に限定されないが、例えば、5~30MPaとされる。樹脂組成物が硬化状態とされた複合磁性体は、所望する寸法に切り出されて、製品化される。硬化工程では、半硬化状シート物を最終製品の厚さに応じて重ね、例えば熱プレスして硬化させ、複合磁性体としてもよい。半硬化状シート物には、未反応のエポキシ基A成分由来が残存している。このため、半硬化状シート物は、重ねられ、熱処理が施されると、接触面で前記の未反応のエポキシ基が表面タックを発現して密着される。必要に応じて、硬化工程の前又は後に、剥離性フィルム上の半硬化状シート物又は複合磁性体の露出面に新たな剥離性フィルムを積層してもよい。こうして、複合磁性体の両面に剥離性フィルムが設けられることで、異物の付着等を防止できる。また、複合磁性体には、片面又は両面に耐熱粘着層が設けられていてもよい。耐熱粘着層が設けられていることで、複合磁性体を貼付対象に容易に固定できる。耐熱粘着層を構成する粘着剤としては、従来公知のものが挙げられ、例えば、メチルフェニル系シリコーン粘着剤、付加反応型シリコーン粘着剤、過酸化物硫化型シリコーン粘着剤等が挙げられる。上述の通り、本発明によれば、A成分とB成分とを特定の比率で含有するため、柔軟性と耐リフロー性とを両立できる。加えて、硬化剤としてC成分を用いるため、半硬化状シート物を必要に応じて重ね、熱プレス等を施すことで、所望の厚さの複合磁性体の製品を効率的に製造できる。以下、本発明を実施例によって説明するが、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。実施例1Fe-Si-Al合金の溶湯をガスアトマイズして、平均粒径が100μmの球状粉末を得た。これをアトライターに入れて攪拌することにより、平均粒径50μm、厚さ1μm、扁平度50の軟磁性金属粉体を得た。A成分:ビスフェノールA型エポキシ樹脂平均エポキシ当量190g/eq、エピコート828、三菱化学株式会社製8g、B成分:カルボキシル基を有するNBRムーニー粘度60M14100°C、アクリロニトリル含有率AN含有率27質量8g、C成分:フェノールノボラック樹脂活性水素当量106g/eq、タマノル759、荒川化学工業株式会社製4g、エポキシ樹脂用硬化促進剤:2-エチル-4-メチルイミダゾール0.02g、難燃剤:水酸化アルミニウム21g、難燃助剤:赤リン1.2gをトルエン200gに加え攪拌し、さらに軟磁性金属粉体170gを加え、攪拌して、磁性体塗料を得た。得られた磁性体塗料を、乾燥後の厚さが150μmになるように剥離処理フィルムPET製の剥離処理面に塗布し、熱風循環型乾燥機中にて120°Cで3分間加熱し、半硬化状シート物を得た。得られた半硬化状シート物について、積層性を評価した。さらに軟磁性金属粉末の配向性を高めるために、半硬化状シート物を熱圧プレス機にて150°C、30分間、20MPaでプレスして、厚さ99μmの複合磁性体を得た。得られた複合磁性体について、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。なお、表中、C成分をP系と記載し、C成分の活性水素当量をA成分のエポキシ基1当量に対する当量として記載した以降において同じ。実施例2平均粒径30μm、厚さ1μm、扁平度30の軟磁性金属粉体を使用した以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ102μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例3平均粒径50μm、厚さ2μm、扁平度25の軟磁性金属粉体を使用した以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例4平均粒径49μm、厚さが1μm、扁平度30のFe-Si合金の軟磁性金属粉体を使用した以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ98μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例5平均粒径52μm、厚さが1μm、扁平度52のFe-Ni合金の軟磁性金属粉体を使用した以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ98μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例6A成分を12g、B成分を12g、C成分を6g、水酸化アルミニウムを32g、赤リンを1.8g、軟磁性金属粉体を150gとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例7A成分を平均エポキシ当量480g/eqのビスフェノール型エポキシ樹脂エピコート1001、三菱化学株式会社製とし、A成分を8g、B成分を8g、C成分を1g、水酸化アルミニウムを20g、赤リンを1g、軟磁性金属粉体を160gとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ99μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例8B成分をムーニー粘度60M14100°C、AN含有率27質量の、カルボキシル基を有しないNBRとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ103μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例9B成分をムーニー粘度75M14100°C、AN含有率40.5質量の、カルボキシル基を有するNBRとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例10A成分を平均エポキシ当量90g/eqのビスフェノール型エポキシ樹脂とし、A成分を8g、B成分を8g、C成分を8g、水酸化アルミニウムを25.5g、赤リンを1.5g、軟磁性金属粉体を204gとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例11A成分を平均エポキシ当量100g/eqのビスフェノール型エポキシ樹脂とした以外は、実施例10と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例12A成分を平均エポキシ当量700g/eqのビスフェノール型エポキシ樹脂とし、A成分を8g、B成分を8g、C成分を1g、水酸化アルミニウムを20g、赤リンを1g、軟磁性金属粉体を160gとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例13A成分を平均エポキシ当量750g/eqのビスフェノール型エポキシ樹脂とした以外は、実施例12と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例14B成分をムーニー粘度45M14100°C、AN含有率27質量の、カルボキシル基を有するNBRとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例15B成分をムーニー粘度95M14100°C、AN含有率27質量の、カルボキシル基を有するNBRとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例16B成分をムーニー粘度60M14100°C、AN含有率3質量の、カルボキシル基を有するNBRとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例17B成分をムーニー粘度60M14100°C、AN含有率55質量の、カルボキシル基を有するNBRとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例18B成分をポリイソブテンPIBとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例19B成分をブタジエンゴムBRとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。実施例20B成分をスチレン-ブタジエンゴムSBRとした以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。比較例1A成分を8g、B成分を0g、C成分を4g、エポキシ樹脂用硬化促進剤を0.02g、難燃剤を13g、難燃助剤を0.7g、軟磁性金属粉末を104gとした以外は、実施例1と同様にして半硬化状シート物及び厚さ99μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。比較例2A~C成分及びエポキシ樹脂用硬化促進剤に換えて、塩素化ポリエチレン塩素化PEを用いた以外は、実施例1と同様にして、半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。比較例3A成分を8g、B成分を1.2g、C成分を4g、エポキシ樹脂用硬化促進剤を0.01g、難燃剤を13g、難燃助剤を0.72g、軟磁性金属粉末を104gとした以外は、実施例1と同様にして半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。比較例4A成分を8g、B成分を24g、C成分を4g、エポキシ樹脂用硬化促進剤を0.02g、難燃剤を19g、難燃助剤を1.2g、軟磁性金属粉末を152gとした以外は、実施例1と同様にして半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。比較例5C成分に換えてポリアミン系硬化剤表中、PA系と記載するであるジエチレントリアミンを用いた以外は、実施例1と同様にして半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。比較例6C成分に換えてポリカルボン酸系硬化剤表中、PC系と記載するである1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸を用いた以外は、実施例1と同様にして半硬化状シート物及び厚さ100μmの複合磁性体を得、積層性、透磁率、耐リフロー性、柔軟性、内部応力緩和性について評価した。評価方法<透磁率>各例の複合磁性体について、実数項及び虚数項を求め、実数項80以上かつ虚数項20以上のものを合格○とし、実数項80未満又は虚数項20未満のものを不合格×と評価した。≪透磁率の実数項≫各例の複合磁性体を外径7mm×内径3mmのリング状に打ち抜き、これに12ターンの巻き線を施して試験片とした。この試験片について、アジレントテクノロジー社製のインピーダンス測定器プレシジョンインピーダンスアナライザーHP4294Aを用い、1MHzにおけるインピーダンスにより算出した。≪透磁率の虚数項≫≪透磁率の実数項≫で作製した試験片について、アジレントテクノロジー社製のSパラメータ測定器ネットワークアナライザーE5071Cを用い、1MHz~10GHzの範囲において損失項を測定し、その最大値を虚数項とした。≪耐リフロー性≫各例の複合磁性体を50mm長×50mm幅の試験片とした。この試験片について、JISC-5012プリント配線板試験方法10.4.1はんだフロート法に準拠し、はんだリフロー試験260°Cで10秒間×2回を施した。はんだリフロー試験後の試験片を肉眼で観察し、下記評価基準に従って評価した。[評価基準]◎:リフロー試験前後で、外観に全く変化が認められない。○:リフロー試験前後で、外観に殆ど変化が認められない。△:リフロー試験後に歪みが認められるものの、膨れ、粉化、ひび及び割れは認められない。×:リフロー試験前後で、膨れ、粉化、ひび又は割れが認められる。≪柔軟性≫各例の複合磁性体を50mm長×50mm幅の試験片とした。この試験片について、JISC-5012プリント配線板試験方法10.4.1はんだフロート法に準拠し、はんだリフロー試験260°Cで10秒間×2回を施した。はんだリフロー試験前後の試験片について、株式会社東洋精機製作所製、MIT耐揉疲労試験機、型番:DA、試験条件を屈曲速度175回/分、屈曲角度135°、荷重4.9Nとして、屈曲させた。屈曲後の試験片を肉眼で観察し、下記評価基準に従って評価した。[評価基準]◎:屈曲部に白化、ひび及び割れが全く認められない。○:屈曲部にひび及び割れは認められないが、白化が認められる。△:屈曲部にひび又は割れが認められる。×:屈曲部で切断された。≪内部応力緩和性≫各例の複合磁性体を市販のガラスエポキシ-プリント配線板に150°Cで貼り合わせ、その後、熱圧プレス機にて150°C、20MPaでプレスして試験片とした。この試験片について、150°C×2時間、-40°C×2時間を1サイクルとし、10サイクルの熱サイクル試験を行った。熱サイクル試験後の試験片を肉眼で観察し、下記評価基準に従って評価した。[評価基準]◎:熱サイクル試験前後で、外観に全く変化が認められない。○:熱サイクル試験前後で、外観に殆ど変化が認められない。△:熱サイクル試験後に歪みが認められるものの、膨れ、粉化、ひび及び割れは認められない。×:リフロー試験前後で、膨れ、ひび又は割れが認められる。≪積層性≫各例の半硬化状シート物を3枚重ね合わせ、150°C、20MPaで10秒間の熱プレスを施した。熱プレス後、複合磁性体を目視で観察し、密着状態を下記評価基準に従って評価した。[評価基準]◎:各層の境界が認められず、全体として1つの複合磁性体となっている。○:各層の境界が認められるが、各層間が密着していて剥離しない。△:各層の境界が認められ、手指で各層を剥離できる。×:各層が剥離し分離している効率的な製造が不可能な状態となる。表1~4は、各例の複合磁性体の組成と、評価結果とを示したものである。表1~3に示すように、本発明を適用した実施例1~20は、いずれも透磁率が○であり、電子機器等から発生する電磁波ノイズを十分に吸収できるものであった。加えて、実施例1~20は、内部応力緩和性が○又は◎であり、長期の使用においても品質劣化が生じにくいものであった。さらに、実施例1~20は、耐リフロー性、柔軟性及び積層性が○又は◎であった。表4に示すように、B成分を含有しない比較例1は、内部応力緩和性及び柔軟性が×であった。樹脂組成物を塩化ポリエチレンとした比較例2は、耐リフロー性が×であり、はんだリフロー後には、変形が著しく、柔軟性を評価できなかった。B/[AC]比が0.1である比較例3は、柔軟性が×であり、B/[AC]比が2である比較例4は、耐リフロー性が×であった。P系以外の樹脂硬化剤を用いた比較例5~6は、積層性が×であったため、効率的に製造することができなかった。これらの結果から、本発明を適用することで、十分な柔軟性を有すると共に、リフローはんだ付けにおいて形態不良を生じず、高い製造効率で製造できる複合磁性体を得られることが判った。"