"基部と、当該基部から突出して形成された振動腕と、を備え、前記振動腕に溝部が形成された振動片の製造方法において、基板上に形成された成膜用金属膜を覆うフォトレジスト膜に対して前記振動片の外形と前記溝部とを同時にパターニングする工程と、前記振動片の外形と前記溝部の成膜用金属膜及びパターニングされた前記フォトレジスト膜を除去して、前記溝部に相当する開口を形成する工程と、前記開口を覆うように前記開口上に被膜用金属膜を形成する工程と、前記基板をエッチングして前記振動片の外形を形成する工程と、前記被膜用金属膜を除去する工程と、前記基板をエッチングして前記溝部を形成する工程と、を有することを特徴とする振動片の製造方法。前記成膜用金属膜は、下層がCr膜であり、上層がAu膜の積層構造であることを特徴とする請求項1に記載の振動片の製造方法。前記被膜用金属膜を除去する工程は、前記成膜用金属膜の前記Au膜も同時に除去することを特徴とする請求項2に記載の振動片の製造方法。前記基板が圧電単結晶であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の振動片の製造方法。前記溝部が前記基板の一方の主面及び他方の主面に形成されたことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の振動片の製造方法。しかしながら、特許文献1の製造方法によれば、振動片の外形を形成する工程と、溝部を形成する工程を別工程で行うために、外形輪郭と溝部に対して2段階のフォトレジスト膜の成膜を行わなければならない。後工程の金属マスク上にフォトレジスト膜を成膜する際に、金属マスクの溝パターンに合わせてパターニングを行っているが、既に形成された外形輪郭に溝を精度良く位置合わせすることが難しいという問題があった。溝の位置が設計通りに形成されないと振動腕のバランスが悪く振動が安定しなくなる。このため、周波数の安定性が悪くなったり、振動片の共振周波数が設計値とずれたりしてしまう。また、特許文献2の振動片の製造方法によれば、一般に水晶基板とフォトレジスト膜の密着性が悪いため、第1開口部を含む金属マスクを覆うフォトレジスト膜が、外形輪郭のエッチングの際に剥れ易くなる。そうするとフォトレジスト膜が剥れた第1開口部、すなわち溝部にも一部エッチング液が流れ込んでしまい、外形形状のエッチングと同時に溝部もエッチングされてしまうという問題があった。溝部が基板の表裏に形成される場合、表裏の溝部の深さが異なったり、表裏の溝部が対称に形成されたりしていないと、振動腕のバランスが悪くなり、周波数にノイズが付加されて振動片の共振周波数が設計値とずれてしまう。そこで、従来技術の問題点を解決するため、本発明は、振動片の溝部を精度良く形成することができる振動片の製造方法を提供することを目的とする。本発明は、上記の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。[適用例1]基部と、当該基部から突出して形成された振動腕と、を備え、前記振動腕に溝部が形成された振動片の製造方法において、基板上に形成された成膜用金属膜を覆うフォトレジスト膜に対して前記振動片の外形と前記溝部とを同時にパターニングする工程と、前記振動片の外形と前記溝部の成膜用金属膜及びパターニングされた前記フォトレジスト膜を除去して、前記溝部に相当する開口を形成する工程と、前記開口を覆うように前記開口上に被膜用金属膜を形成する工程と、前記基板をエッチングして前記振動片の外形を形成する工程と、前記被膜用金属膜を除去する工程と、前記基板をエッチングして前記溝部を形成する工程と、を有することを特徴とする振動片の製造方法。上記構成により、振動片の外形輪郭と溝部のパターニングを同時に行うことができるため、振動片の外形輪郭と溝部の相対位置の精度を高めることができる。また、振動片の外形を形成するエッチングの際に、成膜用金属膜の溝部に相当する開口を被膜用金属膜で保護することができ、外形の形成と同時に溝部がエッチングされることがない。従って、振動片の溝部を精度良く形成することができる。[適用例2]前記成膜用金属膜は、下層がCr膜であり、上層がAu膜の積層構造であることを特徴とする適用例1に記載の振動片の製造方法。上記構成により、被膜用金属膜の除去工程において、エッチングの処理時間を任意に調整することができる。また、溝部のエッチングの際に、溝深さに応じてエッチングの処理時間を任意に調整することができる。[適用例3]前記被膜用金属膜を除去する工程は、前記成膜用金属膜の前記Au膜も同時に除去することを特徴とする適用例2に記載の振動片の製造方法。上記構成により、被膜用金属膜の除去工程が簡易かつ容易に行なうことができる。また、溝部のエッチングの際、エッチング時間が短時間であればCr膜の金属膜であってもマスクとして用いることができる。従って、溝部の溝深さが浅い場合には特に有効である。[適用例4]前記基板が圧電単結晶であることを特徴とする適用例1ないし3のいずれか1例に記載の振動片の製造方法。上記構成により、周囲の温度変化の影響を受けることなく安定した共振周波数の振動片が得られる。[適用例5]前記溝部が前記基板の一方の主面及び他方の主面に形成されたことを特徴とする適用例1ないし4のいずれか1例に記載の振動片の製造方法。上記構成により、一方の主面及び他方の主面に溝部を備えた振動片の構造であっても、外形輪郭と溝部の相対位置を精度良く形成することができる。本発明の振動片の製造方法を添付の図面を参照しながら、以下詳細に説明する。図1は、本発明の振動片の製造工程において、基板上に被膜用金属膜を形成する工程までの説明図である。図1aに示す基板10は、所定の厚みに研磨された板状ウェハ状であり、材質として圧電単結晶を用いることが望ましい。基板10の材質としては、水晶、ニオブ酸リチウム単結晶、タンタル酸リチウム単結晶、ニオブ酸リチウム-タンタル酸リチウム固溶体単結晶、ホウ酸リチウム単結晶、ランガサイト単結晶等からなる圧電単結晶等を用いることができる。このような圧電単結晶を基板10に用いることにより、周囲の温度変化の影響を受けることなく安定した共振周波数の振動片を得ることができる。次ぎに、基板10の一方の主面12及び他方の主面14上に第1金属膜となる成膜用金属膜20を形成する。成膜用金属膜20の形成方法は、蒸着、スパッタ等を用いることができる。成膜用金属膜20は、後工程で振動片の外形を形成するエッチングにより侵食されない材質であることが望ましい。本実施形態の成膜用金属膜20は、一例として基板10上の下層にCrクロム膜22を形成し、下層のCr膜22の上層にAu金膜24を積層した二層の積層構造を用いている。Cr膜22は水晶等の基板10との密着性に優れている。一方、Au膜24は、Cr膜22よりもエッチングの耐蝕性に優れている。この他にもTiチタン、Wタングステン等を組み合わせた積層構造を採用してもよい。この成膜用金属膜20の全面にフォトレジスト膜60を形成している。次ぎに図1bに示すように、フォトレジスト膜60を所定の露光手段を用いて振動片の外形と溝部以外にフォトレジスト膜60が残るようにパターニングして、パターニングされたフォトレジスト膜60を形成する。本発明の振動片の製造方法は、振動片の外形と溝部の形成位置を同時にパターニングしているため、従来の振動片の外形と溝部の形成位置を別工程でパターニングする方法に比べて、振動片の外形と溝部の相対位置の精度を高めることができる。そしてフォトレジスト膜60が形成されていない基板10上の成膜用金属膜20をエッチングにより除去する。成膜用金属膜20の除去は、図1cに示すように、上層のAu膜24が除去された後、図1dに示すように、下層のCr膜22が段階的に除去される。これにより、成膜用金属膜20が除去された部分は基板10が露出することになる。次ぎに図1eに示すように、成膜用金属膜20上に残っていたフォトレジスト膜60をすべて除去する。これにより、成膜用金属膜20の間に、溝部に相当する開口30が現れる。そして図1fに示すように、成膜用金属膜20の間の開口30と、成膜用金属膜20を覆うように、少なくとも開口30を埋めるように第2金属膜となる被膜用金属膜40を形成する。被膜用金属膜40は、成膜用金属膜20と同様に、蒸着、スパッタ等により形成することができる。また被膜用金属膜40は、後工程で振動片の外形を形成するエッチングにより侵食されない材質であることが望ましく、本実施形態では材質にAuを用いている。成膜用金属膜20の間の開口30を覆うように形成する被膜用金属膜40は、開口30側から基板10に向かって凸状となり、開口30を埋めるように形成される。このような構成の被膜用金属膜40は、基板10との密着性が良いため、外形のエッチング時に、溝部にエッチング液が流れ込むことを防ぐことができる。図2は本発明の振動片の製造工程において、基板10上の被膜用金属膜40を除去する工程からの説明図である。図2aに示すように、外形エッチングを行う。すなわち、振動片の外形の内側のみを残し、外形をエッチングにより除去する。エッチング工程は例えば、ドライエッチング、ウェットエッチング等を用いることができる。このとき、従来のように金属膜の間の振動片の溝部に相当する開口にフォトレジスト膜を形成した構成の場合、フォトレジスト膜と基板の密着性が悪いため、外形のエッチング時に、溝部に相当する開口を被膜したフォトレジスト膜が剥れ易く、フォトレジスト膜が剥れた開口にエッチング液が流れ込み溝部もエッチングされてしまう虞があった。これに対して、本発明の振動片の溝部に相当する開口30は、エッチング液に対して耐蝕性のある被膜用金属膜40で覆っている。この被膜用金属膜40は成膜用金属膜20との密着性もよい。このため、外形のエッチング時にエッチング液によって被膜用金属膜40が侵食されることがなく、外形のエッチングと同時に開口がエッチングされることがない。従って、フォトレジスト膜60をパターニングしたときの外形と溝部の位置を維持することができ、相対位置精度を向上させることができる。次ぎに図2bに示すように、被膜用金属膜40をエッチングにより除去する。被膜用金属膜40の除去は、膜厚、エッチングの進行時間などを考慮して、成膜用金属膜20の上に形成された被膜用金属膜40のみが除去されるようにエッチングの処理時間を調整している。このようにして基板10上には下層がCr膜22でその上層がAu膜24の成膜用金属膜20が形成される。そして、図2cに示すように、溝部に相当する開口を所定の深さにエッチングして溝部72を形成する。このとき溝部72のエッチングは、基板10上にエッチング液に耐蝕性のあるAu膜24が形成されているため、処理時間を長くしても、金属膜が侵食されることがない。このため、溝部72の深い振動片に対して特に有効である。最後に図2dに示すように、成膜用金属膜20をエッチングで除去する。このようにして振動腕70の一方の主面及び他方の主面に溝部72を備えた振動片74が得られる。図3は本発明の振動片の製造工程において、基板上の被膜用金属膜を除去する工程からの変形例の説明図である。図3aに示す外形エッチングは、図2aの外形エッチングと同一の工程により行う。すなわち、振動片の外形の内側のみを残し、外形をエッチングにより除去する。そして図3bに示すように、被膜用金属膜40をエッチングにより除去する。変形例の被膜用金属膜40のエッチングは、成膜用金属膜20のCr膜22が残るように行っている。被膜用金属膜40の除去は、膜厚、エッチングの進行時間などを考慮して、成膜用金属膜20の上に形成された被膜用金属膜40と、成膜用金属膜20を構成するAu膜24が除去されるようにエッチングの処理時間を調整している。このようにして基板10上にはCr膜22のみからなる成膜用金属膜20aが形成される。Cr膜22のみからなる成膜用金属膜20aは、溝部のエッチング時に、処理時間が短時間であれば、エッチング液がCr膜22を通過して基板10を侵食する虞がない。また、図2に示す被膜用金属膜40を除去しながら成膜用金属膜20のAu膜24を残すエッチングの処理工程よりも、エッチングの時間管理などの必要がなく、エッチング処理を容易に行なうことができる。そして、図3cに示すように、溝部に相当する開口を所定の深さにエッチングして溝部72を形成する。このとき溝部72のエッチングは、基板10上にAu膜よりもエッチング液に対して耐蝕性の低いCr膜22が形成されているため、処理時間を短くしている。最後に図3dに示すように、成膜用金属膜20をエッチングで除去する。このようにして振動腕70の一方の主面及び他方の主面に溝部72を備えた振動片74が得られる。このような被膜用金属膜を除去する変形例の工程によれば、被膜用金属膜の除去工程を簡易かつ容易に行なうことができる。また、溝部のエッチングの際、短時間であれば、Cr膜の金属膜であってもマスクとして用いることができる。従って、溝部の溝深さが浅い振動片に特に有効である。以上、本実施形態の振動片の製造方法は、基板の一方の主面及び他方の主面に溝部を備えた振動片の構成で説明したが、溝部の構成はこれに限らず、基板の一方の主面または他方の主面のみに溝部を備えた振動片の製造方法においても適用することができる。このような本発明の振動片の製造方法によれば、振動片の外形輪郭と溝部のパターニングを同時に行うことができるため、振動片の外形輪郭と溝部の相対位置の精度を高めることができる。また、振動片の外形を形成するエッチングの際に、成膜用金属膜の溝部に相当する開口を被膜用金属膜で保護することができ、外形の形成と同時に溝部がエッチングされることがない。従って、振動片の溝部を精度良く形成することができる。図4は本発明の一実施形態に係る振動片の斜視図である。図示のように振動片80は、X軸第2軸と、このX軸と平面状に直交するY軸第1軸からなる平面に延在され、互いに対向する第1主面82と第2主面84とを有する。なお、第1主面82及び第2主面84に垂直な軸をZ軸とする。振動片80は、基部86からY軸方向に第1振動腕88と第2振動腕89が延出され、-Y軸方向に第3振動腕90と第4振動腕91が延出されている。基部86と第1振動腕88と第2振動腕89で音叉型振動片を構成し、基部86と第3振動腕90と第4振動腕91で音叉型振動片を構成している。このような2つの音叉型振動片が基部86に結合され、2つの音叉型振動片の振動腕の延出方向が互いに離間する構成の振動片80は、H型の振動片と称される。第1振動腕88と第2振動腕89は互いに平行で、同一長さ、同一断面形状で構成され、第3振動腕90と第4振動腕91は互いに平行で、同一長さ、同一断面形状で構成されている。本実施形態に係る振動片80は、第1振動腕88及び第2振動腕89が駆動腕励振腕を構成し、第3振動腕90及び第4振動腕91が検出腕を構成している。第1~第4振動腕88,89,90,91は、いずれも細長い溝部92が第1主面82及び第2主面84に形成され、このようなH型の振動片80の製造に本発明の製造方法を適用することができる。このような構成の振動片80は、電極不図示に励振信号が入力されると、第1振動腕88と第2振動腕89が±X方向に屈曲振動する。このとき、Y軸検出軸周りに振動片80を回転すると、第1振動腕88と第2振動腕89の振動方向面内振動に対して直角方向にコリオリの力が発生し、第3振動腕90検出腕及び第4振動腕91検出腕が±Z軸方向に面外振動する。この面外振動により発生する電荷量を測定することで、振動片80に作用する角速度を検出することができる。このようなH型の振動片80の製造方法においても、振動片の外形輪郭と溝部のパターニングを同時に行うことができるため、振動片の外形輪郭と溝部の相対位置の精度を高めることができる。また、振動片の外形を形成するエッチングの際に、成膜用金属膜の溝部に相当する開口を被膜用金属膜で保護することができ、外形の形成と同時に溝部がエッチングされることがない。従って、振動片の溝部を精度良く形成することができる。"