"基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、前記基板と結合して前記基板を固定させ、前記基板の載置面が所定の曲率を持つように形成される静電チャックと、前記基板側に蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配置され、第1方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配置され、前記第1方向に対して垂直の第2方向に沿って複数のパターニングスリットが形成され、前記第2方向と、前記第1方向及び第2方向に対して垂直の第3方向とが形成する平面上での断面が一定に曲げられるように形成されるパターニングスリットシートと、を備え、前記蒸着源、蒸着源ノズル部及びパターニングスリットシートは前記基板と所定距離離隔して形成されて、前記基板が、前記蒸着源、蒸着源ノズル部及びパターニングスリットシートに対して前記第1方向に沿って移動しつつ蒸着されることを特徴とする有機層蒸着装置。前記基板が前記静電チャックと結合した状態で、前記基板は、前記静電チャックの載置面と同じ曲率を持つように曲げられることを特徴とする請求項1に記載の有機層蒸着装置。前記パターニングスリットシートは前記基板と所定距離離隔して形成され、前記静電チャックの載置面と同じ曲率を持つように湾曲形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機層蒸着装置。前記パターニングスリットシートは前記基板と所定距離離隔して形成され、前記静電チャックの載置面と対応する多角形状に形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機層蒸着装置。前記基板が固定された静電チャックが、前記蒸着源、蒸着源ノズル部及びパターニングスリットシートに対して前記第1方向に沿って移動しつつ蒸着されることを特徴とする請求項1に記載の有機層蒸着装置。前記静電チャックが提供する電磁気力により、前記基板が前記載置面に密着結合することを特徴とする請求項1に記載の有機層蒸着装置。前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとは、連結部材により結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機層蒸着装置。前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項7に記載の有機層蒸着装置。前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項7に記載の有機層蒸着装置。前記基板が、前記有機層蒸着装置に対して前記第1方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着されることを特徴とする請求項1に記載の有機層蒸着装置。前記有機層蒸着装置の前記パターニングスリットシートは前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機層蒸着装置。前記パターニングスリットシートの前記第2方向への幅は、前記基板の前記第2方向への幅と同一に形成されることを特徴とする請求項11に記載の有機層蒸着装置。前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機層蒸着装置。前記複数の蒸着源ノズルは、前記第1方向に沿って形成された2列の蒸着源ノズルを備え、前記2列の蒸着源ノズルは互いに対向する方向にチルトされていることを特徴とする請求項13に記載の有機層蒸着装置。前記複数の蒸着源ノズルは、前記第1方向に沿って形成された2列の蒸着源ノズルを備え、前記2列の蒸着源ノズルのうち第1側に配置された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第2側端部に向かうように配置され、前記2列の蒸着源ノズルのうち第2側に配置された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第1側端部に向かうように配置されることを特徴とする請求項13に記載の有機層蒸着装置。基板上に有機層を形成する有機層蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法において、前記基板が所定の曲率を持つように前記基板を曲げる段階と、前記基板が前記有機層蒸着装置に対して所定距離離隔するように配置される段階と、前記有機層蒸着装置と前記基板のうちいずれか一側が他側に対して相対的に移動しつつ、前記有機層蒸着装置から放射される蒸着物質が前記基板上に蒸着される段階と、を含む有機発光ディスプレイ装置の製造方法。前記基板が所定の曲率を持つように前記基板を曲げる段階は、所定の曲率を持つ載置面を備える静電チャック上に前記基板を配置する段階と、前記静電チャックに電圧が印加されて前記基板が前記載置面に密着結合する段階と、を含む請求項16に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。前記有機層蒸着装置は、複数のパターニングスリットを含み、かつ前記静電チャックの載置面と同じ曲率を持つように湾曲形成されたパターニングスリットシートを備え、前記パターニングスリットシートにより前記基板上に蒸着される蒸着物質がパターニングされることを特徴とする請求項16に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。前記有機層蒸着装置は、複数のパターニングスリットを含み、かつ前記静電チャックの載置面と対応する多角形状に形成されたパターニングスリットシートを備え、前記パターニングスリットシートにより前記基板上に蒸着される蒸着物質がパターニングされることを特徴とする請求項16に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配置されて第1方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配置されて、前記第1方向に対して垂直の第2方向に沿って複数のパターニングスリットが形成され、前記第2方向と、前記第1方向及び第2方向に対して垂直の第3方向とが形成する平面上での断面が一定に曲げられるように形成されるパターニングスリットシートと、を備える有機層蒸着装置を、載置面が所定の曲率を持つように形成される静電チャックに固定された基板と離隔するように配置して、蒸着が進む間に前記有機層蒸着装置と前記チャックに固定された基板とが互いに相対的に移動することで、基板に対する蒸着が行われることを特徴とする有機発光ディスプレイ装置の製造方法。本発明は、前記のような問題点をはじめとしていろいろな問題点を解決するためのものであって、大型基板の量産工程にさらに適しており、且つ高精細のパターニングを可能にする有機層蒸着装置、及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供することを目的とする。本発明は、基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、前記基板と結合して前記基板を固定させ、前記基板の載置面が所定の曲率を持つように形成される静電チャックと、前記基板側に蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配置され、第1方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配置され、前記第1方向に対して垂直の第2方向に沿って複数のパターニングスリットが形成され、前記第2方向と、前記第1方向及び第2方向に対して垂直の第3方向とが形成する平面上での断面が一定に曲げられるように形成されるパターニングスリットシートと、を備え、前記蒸着源、蒸着源ノズル部及びパターニングスリットシートは前記基板と所定距離ほど離隔して形成されて、前記基板が、前記蒸着源、蒸着源ノズル部及びパターニングスリットシートに対して前記第1方向に沿って移動しつつ蒸着されることを特徴とする有機層蒸着装置を提供する。本発明において、前記基板が前記静電チャックと結合した状態で、前記基板は、前記静電チャックの載置面と実質的に同じ曲率を持つように曲げられる。本発明において、前記パターニングスリットシートは前記基板と所定距離ほど離隔して形成され、前記静電チャックの載置面と実質的に同じ曲率を持つように湾曲形成される。本発明において、前記パターニングスリットシートは前記基板と所定距離ほど離隔して形成され、前記静電チャックの載置面と対応する多角形状に形成される。本発明において、前記基板が固定された静電チャックが、前記蒸着源、蒸着源ノズル部及びパターニングスリットシートに対して前記第1方向に沿って移動しつつ蒸着される。本発明において、前記静電チャックが提供する電磁気力により、前記基板が前記載置面に密着結合する。本発明において、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとは、連結部材により結合されて一体に形成される。ここで、前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドする。前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成される。本発明において、前記基板が、前記有機層蒸着装置に対して前記第1方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着される。本発明において、前記有機層蒸着装置の前記パターニングスリットシートは前記基板より小さく形成される。ここで、前記パターニングスリットシートの前記第2方向への幅は、前記基板の前記第2方向への幅と実質的に同一に形成される。本発明において、前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズルは、前記第1方向に沿って形成された2列の蒸着源ノズルを備え、前記2列の蒸着源ノズルは互いに対向する方向にチルトされている。ここで、前記複数の蒸着源ノズルは、前記第1方向に沿って形成された2列の蒸着源ノズルを備え、前記2列の蒸着源ノズルのうち第1側に配置された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第2側端部に向かうように配置され、前記2列の蒸着源ノズルのうち第2側に配置された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第1側端部に向かうように配置される。他の側面に関する本発明は、基板上に有機層を形成する有機層蒸着装置を利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法において、前記基板が所定の曲率を持つように前記基板を曲げる段階と、前記基板が前記有機層蒸着装置に対して所定距離ほど離隔するように配置される段階と、前記有機層蒸着装置と前記基板のうちいずれか一側が他側に対して相対的に移動しつつ、前記有機層蒸着装置から放射される蒸着物質が前記基板上に蒸着される段階を含む有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。本発明において、前記基板が所定の曲率を持つように前記基板を曲げる段階は、所定の曲率を持つ載置面を備える静電チャック上に前記基板を配置する段階と、前記静電チャックに電圧が印加されて前記基板が前記載置面に密着結合する段階と、を含む。本発明において、前記有機層蒸着装置は、複数のパターニングスリットを含み、かつ前記静電チャックの載置面と実質的に同じ曲率を持つように湾曲形成されたパターニングスリットシートを備え、前記パターニングスリットシートにより前記基板上に蒸着される蒸着物質がパターニングされる。本発明において、前記有機層蒸着装置は、複数のパターニングスリットを含み、かつ前記静電チャックの載置面と対応する多角形状に形成されたパターニングスリットシートを備え、前記パターニングスリットシートにより前記基板上に蒸着される蒸着物質がパターニングされる。他の側面に関する本発明は、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配置されて第1方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配置されて前記第1方向に対して垂直の第2方向に沿って複数のパターニングスリットが形成され、前記第2方向と、前記第1方向及び第2方向に対して垂直の第3方向とが形成する平面上での断面が一定に曲げられるように形成されるパターニングスリットシートと、を備える有機層蒸着装置を、載置面が所定の曲率を持つように形成される静電チャックに固定された基板と離隔するように配置して、蒸着が進む間に前記有機層蒸着装置と前記チャックに固定された基板とが互いに相対的に移動することで、基板に対する蒸着が行われることを特徴とする有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。本発明の有機層蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法によれば、大型基板の量産工程にさらに適しており、且つ高精細のパターニングを可能にする有機層蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を具現できる。以下、添付した図面を参照して本発明の実施形態について当業者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は色々な異なる形態で具現でき、ここで説明する実施形態に限定されるものではない。図1は、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着装置を概略的に示したシステム構成図である。図1を参照すれば、本発明の一実施形態による有機層蒸着装置は、ローディング部710、蒸着部730、アンローディング部720、第1循環部610及び第2循環部620を含む。ローディング部710は、第1ラック712と、導入ロボット714と、導入室716と、第1反転室718とを備えることができる。第1ラック712には、蒸着が行われる前の基板500が多く積載されており、導入ロボット714は、前記第1ラック712から基板500を取って第2循環部620から移送されてきた静電チャック600に基板500を載せた後、基板500が取り付けられた静電チャック600を導入室716に移す。導入室716に隣接して第1反転室718が備えられ、第1反転室718に位置した第1反転ロボット719が静電チャック600を反転させて、静電チャック600を蒸着部730の第1循環部610に装着する。静電チャック600は、図2から分かるように、セラミックからなる本体601の内部に電源が印加される電極602が埋め込まれたものであって、この電極602に高電圧が印加されることで、本体601の表面に基板500を付着させる。図1からみれば、導入ロボット714は静電チャック600の上面に基板500を載せ、この状態で静電チャック600は導入室716に移送され、第1反転ロボット719が静電チャック600を反転させることで、蒸着部730では基板500が下方に向かうように位置される。アンローディング部720の構成は、前述したローディング部710の構成と逆に構成される。すなわち、蒸着部730を経た基板500及び静電チャック600を、第2反転室728で第2反転ロボット729が反転させて搬出室726に移送し、搬出ロボット724が搬出室726から基板500及び静電チャック600を取り出した後、基板500を静電チャック600から分離して第2ラック722に積載する。基板500と分離された静電チャック600は、第2循環部620を通じてローディング部710に回送される。しかし、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、基板500が静電チャック600に最初に固定される時から静電チャック600の下面に基板500を固定させて、そのまま蒸着部730に移送させてもよい。この場合、例えば、第1反転室718及び第1反転ロボット719と第2反転室728及び第2反転ロボット729は必要なくなる。蒸着部730は、少なくとも一つの蒸着用チャンバーを備える。図1による本発明の一実施形態によれば、前記蒸着部730はチャンバー731を備え、このチャンバー731内に複数の有機層蒸着アセンブリ100、200、300、400が配置される。図1に図示された本発明の一実施形態によれば、前記チャンバー731内に第1有機層蒸着アセンブリ100、第2有機層蒸着アセンブリ200、第3有機層蒸着アセンブリ300及び第4有機層蒸着アセンブリ400の4つの有機層蒸着アセンブリが設置されているが、その数は、蒸着物質及び蒸着条件によって変更できる。前記チャンバー731は、蒸着が進む間は真空に維持される。一方、図1による本発明の一実施形態によれば、前記基板500が固定された静電チャック600は、第1循環部610により少なくとも蒸着部730へ、望ましくは、前記ローディング部710、蒸着部730及びアンローディング部720へ順次移動し、前記アンローディング部720で基板500と分離された静電チャック600は、第2循環部620により前記ローディング部710に戻される。次いで、本発明の一実施形態による有機層蒸着装置の有機層蒸着アセンブリ100を説明する。図3は、図1の有機層蒸着装置の有機層蒸着アセンブリを概略的に示す斜視図であり、図4は、図3の有機層蒸着アセンブリの概略的な側断面図であり、図5は、図3の有機層蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。図3、図4及び図5を参照すれば、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着アセンブリ100は、蒸着源110、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150を備える。ここで、図3、図4及び図5には、説明の便宜のためにチャンバーを図示していないが、図3ないし図5のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバー図1の731参照内に配置されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。かかるチャンバー図1の731参照内には、被蒸着体である基板500が配置される。前記基板500は平板表示装置用基板でありうるが、多くの平板表示装置を形成できるマザーガラスなどの大面積基板が適用されうる。そして、基板500は、所定の曲率を持つ静電チャック600の載置面605に密着結合し、このように静電チャック600に結合された基板500は、第1循環部610に沿って移動する。このような静電チャック600と基板500との結合については、後述する。ここで、本発明の一実施形態では、基板500が有機層蒸着アセンブリ100に対して相対的に移動しつつ蒸着が進むことを一特徴とする。詳細には、既存のFMM蒸着方法では、FMMサイズが基板サイズと同一に形成されねばならない。したがって、基板サイズが増大するほどFMMも大型化せねばならず、これによってFMM製作が容易ではなく、またFMMを引張して精密なパターンにアラインすることも容易ではないという問題点があった。かかる問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着アセンブリ100は、有機層蒸着アセンブリ100と基板500とが互いに相対的に移動しつつ蒸着されることを一特徴とする。言い換えれば、有機層蒸着アセンブリ100と対向するように配置された基板500が、Y軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着される。すなわち、基板500が図3の矢印A方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着される。ここで、図面には、基板500がチャンバー図示せず内でY軸方向に移動しつつ蒸着されると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されず、基板500は固定されており、有機層蒸着アセンブリ100自体がY軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能であるといえる。したがって、本発明の有機層蒸着アセンブリ100では、従来のFMMに比べて非常に小さくパターニングスリットシート150を作ることができる。すなわち、本発明の有機層蒸着アセンブリ100の場合、基板500がY軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート150のX軸方向及びY軸方向の長さは、基板500の長さより非常に小さく形成されうる。このように、従来のFMMに比べて非常に小さくパターニングスリットシート150を作ることができるため、本発明のパターニングスリットシート150はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート150のエッチング作業や、それ以後の精密引張、溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小さなサイズのパターニングスリットシート150がFMM蒸着方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。このように、有機層蒸着アセンブリ100と基板500とが互いに相対的に移動しつつ蒸着されるためには、有機層蒸着アセンブリ100と基板500とが一定ほど離隔することが望ましい。これについては、後述する。一方、チャンバー内で前記基板500と対向する側には、蒸着物質115が収納及び加熱される蒸着源110が配置される。前記蒸着源110内で加熱された蒸着物質115が気化することで基板500に蒸着される。詳細には、蒸着源110は、その内部に蒸着物質115が満たされる坩堝111と、坩堝111を加熱させて坩堝111の内部に満たされた蒸着物質115を坩堝111の一側、詳細には、蒸着源ノズル部120側に蒸発させるためのヒータ112と、を備える。蒸着源110の一側、詳細には、蒸着源110から基板500に向かう側には蒸着源ノズル部120が配置される。そして、蒸着源ノズル部120には、Y軸方向、すなわち、基板500のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル121が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル121は等間隔で形成できる。蒸着源110内で気化した蒸着物質115は、かかる蒸着源ノズル部120を通過して被蒸着体である基板500側に向かう。このように、蒸着源ノズル部120上にY軸方向、すなわち、基板500のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル121を形成する場合、パターニングスリットシート150それぞれのパターニングスリット151を通過する蒸着物質により形成されるパターンのサイズは、蒸着源ノズル121一つのサイズのみに影響されるのですなわち、X軸方向には蒸着源ノズル121が一つのみ存在することに違いないので、陰影shadowが発生しなくなる。また、複数の蒸着源ノズル121がスキャン方向に存在するので、個別の蒸着源ノズル間にフラックスflux差が発生しても、その差が相殺されて蒸着均一度が一定に維持される効果を得ることができる。一方、蒸着源110と基板500との間には、パターニングスリットシート150及びフレーム155がさらに備えられる。フレーム155はほぼ窓枠のような形態で形成され、その内側にパターニングスリットシート150が結合される。そして、パターニングスリットシート150には、X軸方向に沿って複数のパターニングスリット151が形成される。蒸着源110内で気化した蒸着物質115は、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150を通過して被蒸着体である基板500側に向かう。この時、前記パターニングスリットシート150は、従来のファインメタルマスクFMM、特にストライプタイプのマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを通じて製作できる。この時、蒸着源ノズル121の総数よりパターニングスリット151の総数がさらに多く形成されうる。ここで、本発明の一実施形態による有機層蒸着アセンブリは、パターニングスリットシート及び基板が一定した曲率を持つように形成されることを特徴とするが、これは後述する。一方、前述した蒸着源110及び、これと結合された蒸着源ノズル部120とパターニングスリットシート150とは、互いに一定ほど離隔して形成され、蒸着源110及び、これと結合された蒸着源ノズル部120とパターニングスリットシート150とは、連結部材135によって互いに連結されうる。すなわち、蒸着源110、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150が連結部材135により連結されて、互いに一体に形成されうる。ここで連結部材135は、蒸着源ノズル121を通じて排出される蒸着物質が分散されないように蒸着物質の移動経路をガイドできる。図面には、連結部材135が蒸着源110、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150の左右方向のみに形成されて、蒸着物質のX軸方向のみをガイドすると図示されているが、これは図示の便宜のためのものであって、本発明の思想はこれに制限されず、連結部材135がボックス形態の密閉型に形成されて、蒸着物質のX軸方向及びY軸方向移動を同時にガイドしてもよい。前述したように、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着アセンブリ100は、基板500に対して相対的に移動しつつ蒸着を行うが、このように有機層蒸着アセンブリ100が基板500に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート150は基板500から一定ほど離隔して形成される。詳細には、従来のFMM蒸着方法では、基板に陰影を発生させないために基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点があった。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクは基板と同じサイズに形成されねばならなかった。したがって、ディスプレイ装置が大型化するにつれてマスクのサイズも大きくしなければならないが、このような大型マスクを形成することが容易でないという問題点があった。このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する有機層蒸着アセンブリ100では、パターニングスリットシート150が被蒸着体である基板500と所定間隔をおいて離隔して配置される。本発明によってマスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着することで、このようにマスク製作が容易になる効果を得ることができる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果を得ることができる。また、工程で基板とマスクとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果を得ることができる。ここで、本発明の一実施形態による有機層蒸着アセンブリは、パターニングスリットシート及び基板が一定した曲率を持つように形成されることを一特徴とする。詳細には、パターニングスリットシート及び基板が従来のように扁平に形成される場合、図6に図示されたように、パターニングスリットシートの両端部へ行くほど、基板上に蒸着されるパターンが一定ほどX軸方向にシフトされる問題点があった。すなわち、蒸着源ノズルの直下方に配置されたパターニングスリットを過ぎる蒸着物質の入射角度は基板にほぼ垂直になる。したがって、パターニングスリットを通過した蒸着物質によって形成される有機層は正位置に形成される。しかし、蒸着源ノズルから遠く配置されたパターニングスリットを過ぎる蒸着物質の臨界入射角度は益々大きくなって、最端部分のパターニングスリットを過ぎる蒸着物質の臨界入射角度は約55 ゚となる。したがって、蒸着物質がパターニングスリットに対して傾いて入射し、パターニングスリットを通過した蒸着物質によって形成される有機層は、パターニングスリットから一定ほどX軸方向にシフトされた部分に形成されることになる。この時、蒸着物質の臨界入射角度が大きくなるにつれてパターンシフト量も大きくなり、蒸着物質の臨界入射角度はパターニングスリットシートの中心部からの距離が遠いほど大きくなるため、パターニングスリットシートの中心部からパターニングスリットまでの距離が遠いほどパターンシフト量も大きくなるすなわち、θb<θc<θd<θe、PS1<PS2<PS3<PS4の関係が成立する。。このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態による有機層蒸着アセンブリ100は、基板500が所定の曲率を持つように曲げられて配置され、その一側にパターニングスリットシート150が、基板500から互いに一定ほど離隔して形成されて、パターンシフト現象と陰影形成とを防止することを一特徴とする。図7は、図3のパターニングスリットシート150及び基板500をさらに詳細に示す図面である。図3及び図7を参照すれば、静電チャック図3の600参照の載置面図3の605参照は、一定の曲率を持つように曲げられて形成される。そして前記載置面図3の605参照上に基板500が載置される。一般的に、基板500は透明な素材、例えば、ガラス材またはプラスチック材などで形成され、したがって、所定の圧力を加える場合に若干ほど弾性変形できる。したがって、静電チャック図3の600参照の載置面図3の605参照上に基板500を配置した状態で、静電チャック図3の600参照の電極に高電圧が印加されれば、載置面図3の605参照に沿って基板500が一定ほど曲がりつつ密着結合される。一方、基板500から互いに一定ほど離隔して形成されたパターニングスリットシート150は、前記載置面図3の605参照及び基板500と実質的に同じ曲率を持つように形成できる。このように静電チャック図3の600参照の載置面図3の605参照、基板500及びパターニングスリットシート150が所定の曲率を持つように湾曲形成されれば、図7に図示されたように、蒸着源110から各パターニングスリット151までの距離と、各パターニングスリット151に入射される蒸着物質の入射角度が各パターニングスリット151でほぼ同一になる。したがって、基板500上に形成されるそれぞれの有機層510の形状及び各有機層510間の距離が実質的に同一に形成されて、陰影生成及びパターンシフト現象が防止される効果を得ることができる。ここで、静電チャック図3の600参照の載置面図3の605参照、基板500及びパターニングスリットシート150が曲がる程度は、Z軸方向における基板500の最高点と最低点との差Dで表すことができる。この時、Z軸方向における基板500の最高点と最低点との差Dは、約1mmでありうる。前述したように基板はガラス材またはプラスチック材で形成されるため、一定ほど弾性変形が可能であり、Dが約1mmである場合は基板の弾性変形範囲内に含まれて、基板が静電チャックから分離される場合に再び元の状態に復帰できる。図8は、図7のパターニングスリットシートの他の一実施形態を示す図面である。図8を参照すれば、本発明の他の一実施形態に関するパターニングスリットシート150’は、複数回折り曲げられた多角形の形状に形成されることを一特徴とする。詳細には、メタルシートを一定ほど引張して形成するパターニングスリットシートの場合、図7に示したように、なめらかな曲面に形成することが現実的に容易でない。したがって、パターニングスリットシート150’の断面を、所定の曲率を持つように形成するのではなく、多角形の形状を持つように形成することで、パターニングスリットシート150’の製造が容易になる効果を得ることができる。図9は、本発明のさらに他の一実施形態による有機層蒸着アセンブリを示す図面である。図面を参照すれば、本発明のさらに他の一実施形態による有機層蒸着アセンブリ100’は、蒸着源110、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150を備える。ここで、蒸着源110は、その内部に蒸着物質115が満たされる坩堝111と、坩堝111を加熱させて坩堝111の内部に満たされた蒸着物質115を蒸着源ノズル部120側に蒸発させるためのヒータ112と、を備える。一方、蒸着源110の一側には蒸着源ノズル部120が配置され、蒸着源ノズル部120にはY軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル121が形成される。一方、蒸着源110と基板500との間にはパターニングスリットシート150及びフレーム155がさらに備えられ、パターニングスリットシート150にはX軸方向に沿って複数のパターニングスリット151が形成される。そして、蒸着源110及び蒸着源ノズル部120とパターニングスリットシート150とは、連結部材135によって結合される。この時、パターニングスリットシート及び基板は一定した曲率を持つように形成される。本実施形態では、蒸着源ノズル部120に形成された複数の蒸着源ノズル121が所定角度チルトされて配置されるという点で、前述した実施形態と区別される。詳細には、蒸着源ノズル121は2列の蒸着源ノズル121a、121bで形成され、前記2列の蒸着源ノズル121a、121bは互いに交互に配置される。この時、蒸着源ノズル121a、121bはXZ平面上で所定角度傾くように、チルトされて形成されうる。すなわち、本実施形態では蒸着源ノズル121a、121bを所定角度チルトさせて配置させる。ここで、第1列の蒸着源ノズル121aは、第2列の蒸着源ノズル121bを眺めるようにチルトされ、第2列の蒸着源ノズル121bは、第1列の蒸着源ノズル121aを眺めるようにチルトされうる。言い換えれば、左側列に配置された蒸着源ノズル121aは、パターニングスリットシート150の右側端部に向かうように配置され、右側列に配置された蒸着源ノズル121bは、パターニングスリットシート150の左側端部に向かうように配置されうる。図10は、本発明による有機層蒸着アセンブリで蒸着源ノズルをチルトさせていない時における、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面であり、図11は、本発明による有機層蒸着アセンブリで蒸着源ノズルをチルトさせた時における、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。図10と図11とを比較すれば、蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板の両端部に成膜される蒸着膜の厚さが相対的に増大して蒸着膜の均一度が上昇することが分かる。このような構成によって、基板の中央部と端部との成膜厚さ差が低減して、全体的な蒸着物質の厚さが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには材料利用効率が向上する効果を得ることができる。図12は、本発明の有機層蒸着装置を利用して製造されたアクティブマトリックス型有機発光ディスプレイ装置の断面を示すものである。図12を参照すれば、前記アクティブマトリス型の有機発光ディスプレイ装置は基板30上に形成される。前記基板30は透明な素材、例えば、ガラス材、プラスチック材、または金属材で形成できる。前記基板30上には、全体的にバッファ層などの絶縁膜31が形成されている。前記絶縁膜31上には、TFT40と、キャパシタ50と、有機発光素子60とが形成される。前記絶縁膜31の上面には、所定パターンに配列された半導体活性層41が形成されている。前記半導体活性層41は、ゲート絶縁膜32によって埋め込まれている。前記活性層41は、p型またはn型の半導体で備えられうる。前記ゲート絶縁膜32の上面には、前記活性層41と対応するところにTFT40のゲート電極42が形成される。そして、前記ゲート電極42を覆うように層間絶縁膜33が形成される。前記層間絶縁膜33が形成された後には、ドライエッチングなどのエッチング工程によって前記ゲート絶縁膜32と層間絶縁膜33とをエッチングしてコンタクトホールを形成させて、前記活性層41の一部を露出させる。次いで、前記層間絶縁膜33上にソース/ドレイン電極43が形成されるが、コンタクトホールを通じて露出された活性層41に接触するように形成される。前記ソース/ドレイン電極43を覆うように保護膜34が形成され、エッチング工程を通じて前記ドレイン電極43の一部を露出させる。前記保護膜34上には保護膜34の平坦化のために別途の絶縁膜をさらに形成してもよい。一方、前記有機発光素子60は、電流のフローによって赤、緑、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するためのものであって、前記保護膜34上に第1電極61を形成する。前記第1電極61は、TFT40のドレイン電極43と電気的に連結される。そして、前記第1電極61を覆うように画素定義膜35が形成される。この画素定義膜35に所定の開口64を形成した後、この開口64で限定された領域内に発光層を含む有機層63を形成する。そして有機層63上には第2電極62を形成する。前記画素定義膜35は、各画素を区画するものであって、有機物で形成されて、第1電極61が形成されている基板の表面、特に、保護層34の表面を平坦化する。前記第1電極61と第2電極62とは互いに絶縁されており、発光層を含む有機層63に相異なる極性の電圧を加えて発光が行われるようにする。前記発光層を含む有機層63には低分子または高分子有機物が使われうるが、低分子有機物を使用する場合にはホール注入層HIL:HoleInjectionLayer、ホール輸送層HTL:HoleTransportLayer、発光層EML:EmissionLayer、電子輸送層ETL:ElectronTransportLayer、電子注入層EIL:ElectronInjectionLayerなどが単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料としては銅フタロシアニンCuPc:copperphthalocyanine、N,N-ジナフタレン-1-イル-N,N’-ジフェニル-ベンジジンNPB、トリス8-ヒドロキシキノラトアルミニウムAlq3などをはじめとして多様な材料が適用できる。このような有機発光膜を形成した後には、第2電極62も同じ蒸着工程で形成できる。一方、前記第1電極61はアノード電極の機能を行い、前記第2電極62はカソード電極の機能を行うことができるが、もちろん、これら第1電極61と第2電極62との極性は逆になってもよい。そして、第1電極61は各画素の領域に対応するようにパターニングされ、第2電極62はあらゆる画素を覆うように形成されうる。前記第1電極61は、透明電極または反射型電極として備えられうるが、透明電極として使われる時には、ITO、IZO、ZnOまたはIn2O3で備えられ、反射型電極として使われる時には、Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr及びこれらの化合物などで反射層を形成した後、その上にITO、IZO、ZnO、またはIn2O3で透明電極層を形成できる。かかる第1電極61はスパッタリング方法などで成膜された後、フォトリソグラフィ法などでパターニングされる。一方、前記第2電極62も透明電極または反射型電極として備えられうるが、透明電極として使われる時には、この第2電極62がカソード電極として使われるので、仕事関数の小さな金属、すなわち、Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg及びこれらの化合物を、発光層を含む有機層63の方向に向かうように蒸着した後、その上にITO、IZO、ZnO、またはIn2O3などで補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われる時には、前記Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg及びこれらの化合物を全面蒸着して形成する。この時、蒸着は前述した発光層を含む有機層63の場合と同じ方法で行える。本発明はこの他にも、有機TFTの有機膜または無機膜などの蒸着にも使用でき、その他の多様な素材の成膜工程に適用できる。本発明は図面に図示された実施形態を参照して説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。"