"下記成分A、B、D、F及びGを含有し、Aウレタンオリゴマー、Bエチレン性不飽和基を1個有する化合物、D放射線ラジカル重合開始剤、F成分D以外の、熱又は放射線の照射により酸を発生する化合物、Gアルコキシシラン化合物、かつ、Hカチオン重合性成分の含有量が、組成物全量に対して5質量以下であることを特徴とする、放射線硬化性樹脂組成物。成分Fが、熱又は放射線の照射によって超強酸イオン又は強酸イオンを発生する化合物である、請求項1に記載の放射線硬化性樹脂組成物。成分Fが、下記a又はbをアニオンとするオニウム塩である請求項1に記載の放射線硬化性樹脂組成物。aテトラパーフルオロフェニルボレートBC6F54、テトラフルオロボレートBF4、ヘキサフルオロホスフェートPF6、ヘキサフルオロアンチモネートSbF6、ヘキサフルオロアルセネートAsF6及びヘキサクロロアンチモネートSbCl6からなる群から選択される超強酸のイオン、b過塩素酸イオンClO4、トリフルオロメタンスルホン酸イオンCF3SO3、フルオロスルホン酸イオンFSO3、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸アニオン及びトリニトロトルエンスルホン酸アニオンからなる群から選択される強酸のイオン。更に、C成分A以外のエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物を含有する請求項1~3のいずれか一に記載の放射線硬化性樹脂組成物。組成物中における成分Hの配合量と、成分A、B及びCの配合量の合計値との質量比H/[ABC]の値が、0~1/20である請求項4に記載の放射線硬化性樹脂組成物。請求項1~5のいずれか一に記載の放射線硬化性樹脂組成物に放射線を照射することにより硬化して得られる硬化膜。ガラス基材と、該基材上に接して設けられた請求項6に記載の硬化膜からなる層と、該硬化膜からなる層に接して設けられたヤング率が1000MPa以上の有機硬化膜層を有する、積層体。しかしながら、従来のラジカル系の硬化性組成物から形成された有機硬化膜層を、ガラス基材に接して設けた場合には、前述したとおりガラス強度が低下する現象が知られており、ガラス基材の強度を低下させないラジカル系の硬化性組成物が求められていた。従って、本発明の目的は、ガラス基材に接して有機硬化膜層を設けた場合に、ガラス基材の強度を低下させない放射線硬化性樹脂組成物を提供することにある。本発明者らは、前記特性を有する組成物を得るべく種々検討した結果、ラジカル重合性化合物と放射線ラジカル重合開始剤を主成分とする硬化性組成物に、アルコキシシラン化合物及び熱又は放射線の照射により酸を発生する化合物を配合した放射線硬化性樹脂組成物が、これらの課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、下記成分A、B、D、F及びGを含有し、Aウレタンオリゴマー、Bエチレン性不飽和基を1個有する化合物、D放射線ラジカル重合開始剤、F成分D以外の、熱又は放射線の照射により酸を発生する化合物、Gアルコキシシラン化合物、かつ、Hカチオン重合性成分の含有量が、組成物全量に対して5質量以下であることを特徴とする、放射線硬化性樹脂組成物を提供するものである。また、本発明は、該放射線硬化性樹脂組成物に放射線を照射することにより硬化して得られる硬化膜を提供するものである。また、本発明は、ガラス基材と、該基材上に接して設けられた該硬化膜からなる層と、該硬化膜からなる層に接して設けられたヤング率が1000MPa以上の有機硬化膜層を有する積層体を提供するものである。本発明の放射線硬化性樹脂組成物は、保存安定性に優れ、高速硬化性を有するとともに、本発明の組成物を硬化して得られる硬化膜は、ガラス基材上に接して設けられたときに、ガラス基材の強度を低下させることが少ない。従って、本発明の組成物は、ガラス基材上に接して設けられる有機硬化物膜の形成用材料として好適である。特に、本発明の組成物を硬化して得られる硬化層である光ファイバ被覆層は、ガラスファイバ強度を低下させることが少なく、高いガラスファイバ強度n値を有している。また、プライマリ材として好適な柔軟性低ヤング率と、高い機械強度破断伸び、破断強度を有している。従って、本発明の組成物は、光ファイバ被覆材、特に、プライマリ材として有用である。なお、本発明において、光ファイバとは、前述の光ファイバ素線又は光ファイバケーブルを意味し、光分岐結合器等の光導波路を含まない概念である。また、本発明においては、光ファイバにおけるガラス基材であるガラスファイバの強度をガラスファイバ強度という。よって、ガラス基材の強度は、ガラスファイバ強度を含む概念である。[放射線硬化性樹脂組成物]本発明の放射線硬化性樹脂組成物に用いられる成分Aは、ウレタンオリゴマーである。ウレタンオリゴマーとは、ウレタン結合を有するオリゴマーであって、エチレン性不飽和基を有するウレタンオリゴマーであるウレタンメタアクリレートや、エチレン性不飽和基を有しないウレタンオリゴマーを包含する概念である。ウレタンメタアクリレートの具体例としては、ジオールとジイソシアネートと水酸基含有メタアクリレートとの反応物であるメタアクリロイル基を2個有する化合物、ジオールとジイソシアネートと水酸基含有メタアクリレートと1価アルコール若しくはシランカップリング剤の反応物であるメタアクリロイル基を1個有する化合物、ジイソシアネートと水酸基含有メタアクリレートとの反応物であるメタアクリロイル基を2個有する化合物等が挙げられる。また、エチレン性不飽和基を有しないウレタンオリゴマーの具体例としては、ジオールとジイソシアネートと1価アルコール若しくはシランカップリング剤の反応物等を挙げることができる。ウレタンメタアクリレートは、第四族金属触媒存在下で反応を行うことにより製造することができる。好ましくは、ウレタンメタアクリレートは、ジイソシアネート及び水酸基含有メタアクリレートを第四族金属触媒存在下に反応させることにより製造され、さらに好ましくは、ジオール、ジイソシアネート及び水酸基含有メタアクリレートを第四族金属触媒存在下に反応させることにより製造される。すなわち、第四族金属触媒の存在下に、ジイソシアネートのイソシアネート基を、ジオールの水酸基及び水酸基含有メタアクリレートの水酸基と、それぞれ反応させることにより製造される。この反応としては、例えば、ジオール、ジイソシアネート及び水酸基含有メタアクリレートを一括に仕込んで反応させる方法;ジオール及びジイソシアネートを反応させ、次いで水酸基含有メタアクリレートを反応させる方法;ジイソシアネート及び水酸基含有メタアクリレートを反応させ、次いでジオールを反応させる方法;ジイソシアネート及び水酸基含有メタアクリレートを反応させ、次いでジオールを反応させ、最後にまた水酸基含有メタアクリレートを反応させる方法等が挙げられる。また、反応温度は、通常5~90°C、特に10~80°Cで行うのが好ましい。ウレタンメタアクリレートの好ましい態様としては、脂肪族ポリエーテルジオールとジイソシアネートとの反応物と1価アルコールとを反応させた後に水酸基含有メタアクリレートを反応させて得られるウレタンオリゴマーである。脂肪族ポリエーテルジオールとジイソシアネートとの反応物と1価アルコールとを反応させた後に水酸基含有メタアクリレートを反応させて得られるウレタンオリゴマーは、好ましくは、以下の成分A3を含んでおり、さらに好ましくは、以下の成分A1、A2およびA3を含んでいる。成分A1~A3は、上述した成分Aの重合方法により混合物として合成することもできるし、別々に合成して混合することもできる。成分A1は、ポリエーテルジオールに由来する構造単位を平均1.0個より多く有し、メタアクリロイル基を2個有するウレタンメタアクリレートであり、好ましくは、下記式1で表される構造を有している。A-ICN-POLn-ICN-A1成分A2は、ポリエーテルジオールに由来する構造単位を平均1.0個より多く有し、メタアクリロイル基を1個有するウレタンメタアクリレートであり、好ましくは、下記式2で表される構造を有している。A-ICN-POLn-ICN-R12成分A3は、ポリエーテルジオールに由来する構造単位を平均1.0個より多く有し、メタアクリロイル基を有しないウレタンオリゴマーであり、好ましくは、下記式3で表される構造を有している。R2-ICN-POLn-ICN-R23[上記式1~3において、Aは、メタアクリロイル基を有する有機基であり、好ましくは、水酸基含有メタアクリレートに由来する基である。ICNは、ジイソシアネートに由来する構造単位であり、POLは、ポリエーテルジオールに由来する構造単位であり、R1及びR2は、メタアクリロイル基を有しない有機基であり、nは、1.0より大きい数であり、好ましくは1.1~3.0であり、さらに好ましくは1.3~2.5であり、特に好ましくは1.5~2.0である。式1~3のPOL、ICNおよびnの値はそれぞれ独立である。式3に複数存在するR2は、それぞれ独立である。-で示される結合はウレタン結合である。]式1~3中、R1は、好ましくは、1価アルコール又はシランカップリング剤に由来する基であり、R2は、好ましくは、1価アルコールに由来する基である。成分A1は、メタアクリロイル基を2個有するため硬化物中で架橋構造を形成し、硬化物の機械強度を向上させることができる。成分A2は、メタアクリロイル基を1個有するため、硬化物中で架橋構造は形成しないが樹脂マトリックスに結合しており、硬化物に柔軟性を付与することができる。また、式2のR1がシランカップリング剤に由来する構造単位である成分A2を含むことにより、硬化物のガラス密着性が改善される。成分A3は、メタアクリロイル基を有しないため、硬化物中で共有結合を形成しておらず、硬化物に柔軟性を付与する上で特に有効である。成分Aのウレタンオリゴマーの合成で用いられるジイソシアネートとしては、芳香族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート等が挙げられる。芳香族ジイソシアネートとして、例えば、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、1,3-キシリレンジイソシアネート、1,4-キシリレンジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、m-フェニレンジイソシアネート、p-フェニレンジイソシアネート、3,3-ジメチル-4,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3-ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4-ビフェニレンジイソシアネート、ビス2-イソシアネートエチルフマレート、6-イソプロピル-1,3-フェニルジイソシアネート、4-ジフェニルプロパンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。脂環族ジイソシアネートとして、例えば、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス4-シクロヘキシルイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、2,5-ビスイソシアネートメチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,6-ビスイソシアネートメチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタン等が挙げられる。脂肪族ジイソシアネートとして、例えば、1,6-ヘキサンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等が挙げられる。これらのうち、経済性及び安定した品質の組成物が得られる点から、芳香族ジイソシアネートがより好ましく、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネートが特に好ましい。これらのジイソシアネートは単独で用いても、2種以上併用しても良い。成分Aのウレタンオリゴマーの製造に用いられるジオールとしては、特に限定されないが、脂肪族ポリエーテルジオールが好ましく、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール及び二種以上のイオン重合性環状化合物を開環共重合させて得られる脂肪族ポリエーテルジオールなどが好ましい。上記イオン重合性環状化合物としては、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブテン-1-オキシド、イソブテンオキシド、3,3-ビスクロロメチルオキセタン、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、3-メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン、テトラオキサン、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルカーボネート、ブタジエンモノオキシド、イソプレンモノオキシド、ビニルオキセタン、ビニルテトラヒドロフラン、ビニルシクロヘキセンオキシド、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、安息香酸グリシジルエステルなどの環状エーテル類が挙げられる。二種以上の上記イオン重合性環状化合物を開環共重合させて得られるポリエーテルジオールの具体例としては、例えば、テトラヒドロフランとプロピレンオキシド、テトラヒドロフランと2-メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロフランと3-メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロフランとエチレンオキシド、プロピレンオキシドとエチレンオキシド、ブテン-1-オキシドとエチレンオキシドなどの組み合わせより得られる二元共重合体;テトラヒドロフラン、ブテン-1-オキシド及びエチレンオキシドの組み合わせより得られる三元重合体などを挙げることができる。また、上記イオン重合性環状化合物と、エチレンイミンなどの環状イミン類;β-プロピオラクトン、グリコール酸ラクチドなどの環状ラクトン酸;あるいはジメチルシクロポリシロキサン類とを開環共重合させたポリエーテルジオールを使用することもできる。上記脂肪族ポリエーテルジオールは、例えば、PTMG650、PTMG1000、PTMG2000以上、三菱化学社製、PPG400、PPG1000、EXCENOL720、1020、2020以上、旭オーリン社製、PEG1000、ユニセーフDC1100、DC1800以上、日本油脂社製、PPTG2000、PPTG1000、PTG400、PTGL2000以上、保土谷化学工業社製、Z-3001-4、Z-3001-5、PBG2000A、PBG2000B、EO/BO4000、EO/BO2000以上、第一工業製薬社製、Acclaim2200、2220、3201、3205、4200、4220、8200、12000以上、住友バイエルウレタン社製等の市販品としても入手することができる。これらの脂肪族ポリエーテルジオールのうち、1種又は2種以上の炭素数2~4のイオン重合性環状化合物の開環重合体であって、平均分子量1000~5000のジオールを用いるのが、樹脂液の高速塗布性と被覆材の柔軟性の両立の点から好ましい。このような好ましいジオール化合物としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブテン-1-オキシド及びイソブテンオキシドから選ばれる1種又は2種以上のオキシドの開環重合体であって、平均分子量1000~4000のものが挙げられる。特に、平均分子量1000~3000のプロピレンオキシドの開環重合体が好ましい。成分Aのウレタンオリゴマーの合成で用いられる水酸基含有メタアクリレート化合物としては、水酸基が第一級炭素原子に結合した水酸基含有メタアクリレート第一水酸基含有メタアクリレートという、及び水酸基が第二級炭素原子に結合した水酸基含有メタアクリレート第二水酸基含有メタアクリレートというを用いることが好ましい。水酸基が第三級炭素原子に結合した水酸基含有メタアクリレート第三水酸基含有メタアクリレートというはイソシアネート基との反応性に劣るため好ましくない。第一水酸基含有メタアクリレートとして、例えば、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールモノメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ネオペンチルグリコールモノメタアクリレート、トリメチロールプロパンジメタアクリレート、トリメチロールエタンジメタアクリレート等が挙げられる。第二水酸基含有メタアクリレートとして、例えば、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェニルオキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシシクロヘキシルメタアクリレート等が挙げられ、また、アルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジルメタアクリレート等のグリシジル基含有化合物と、メタアクリル酸との付加反応により得られる化合物も挙げられる。成分Aのウレタンオリゴマーの合成で用いられる一価アルコールとしては、特に限定されないが、メタノール、エタノール、プロパノール又はブタノールが好ましく用いられる。成分Aのウレタンオリゴマーの合成で用いられるシランカップリング剤としては、特に限定されないが、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリスβ-メトキシ-エトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシル-エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメチルジメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン等を使用することができる。成分Aの脂肪族ポリエーテルジオールとジイソシアネートとの反応物と1価アルコールとを反応させた後に水酸基含有メタアクリレートを反応させて得られる、成分Aのウレタンオリゴマーは、好ましくは、脂肪族ポリエーテルジオールとジイソシアネートとの反応物と1価アルコールとを反応させた後に水酸基含有メタアクリレート及びシランカップリング剤を反応させて得られるウレタンオリゴマーであることが好ましい。このような合成法により得られたウレタンオリゴマーは、好ましくは、式3で表される両末端が一価アルコールで封止されたウレタンオリゴマーを含んでいる。さらに好ましくは、式3で表されるウレタンオリゴマーに加えて、式2のR1がシランカップリング剤由来であるウレタンメタアクリレート、式2のR1が一価アルコール由来であるウレタンメタアクリレート及び式1で表されるウレタンメタアクリレートを含んでいる。成分Aのウレタンオリゴマーを合成するときの脂肪族ポリエーテルジオール、ジイソシアネート、水酸基含有メタアクリレート、シランカップリング剤及び一価アルコールの使用割合は、ポリオールに含まれる水酸基1当量に対してジイソシアネートに含まれるイソシアネート基が1.1~3当量、水酸基含有メタアクリレートの水酸基が0.2~1.5当量、シランカップリング剤の反応部位が0.01~0.2当量、一価アルコールの水酸基が0.01~1当量となるようにするのが好ましい。このような比率で反応させることにより、前記式1、2および3で表されるウレタンオリゴマーの混合物を得ることができる。ウレタンメタアクリレートの合成において、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ジブチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジラウレート、トリエチルアミン、1,4-ジアザビシクロ2.2.2オクタン、2,6,7-トリメチル-1,4-ジアザビシクロ2.2.2オクタン等から選ばれるウレタン化触媒を、反応物の総量に対して0.01~1質量を用いるのが好ましい。また、反応温度は、通常5~90°C、特に10~80°Cで行うのが好ましい。成分Aのウレタンオリゴマーは、本発明の放射線硬化性樹脂組成物全量に対して、50~90質量、さらに35~85質量、特に50~83質量配合することが好ましい。50質量未満では硬化物の柔軟性と機械強度がいずれも低下する場合があり、90質量を超えると放射線硬化性樹脂組成物の粘度が高くなることがある。成分A3は、成分Aの全量に対して1~20質量であることが好ましく、1~10質量であることがさらに好ましく、1~5質量であることが特に好ましい。成分A中に占める成分A3の割合は、成分A3を含む硬化膜をテトラヒドロフランTHFに浸漬した場合に抽出される成分をゲルパーミエーションクロマトグラフィーで定量化することにより求めることができる。具体的には、成分A3を含む硬化膜aからのTHF抽出物の量と成分A3を実質的に含まない硬化膜bからのTHF抽出物の量との差異を成分A3の量とする。硬化膜aと硬化膜bは、成分A以外は同一組成の組成物を同一条件で硬化して作製する。成分A3の検量線は、成分Aとして既知量の成分A3のみを含む組成物から作製した硬化膜からのTHF抽出物を標準品として作成することができる。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの詳細条件は実施例に記載した方法に従う。このような方法により成分A3の量を測定できるのは、前記式3で表される両末端が一価アルコールで封止されたウレタンオリゴマーは、前記式1や式2で表されるウレタンオリゴマーと異なりメタアクリロイル基を有しないため、硬化膜からTHF中に抽出されると考えられるためである。成分A1、A2、A3は、それぞれ成分Aの全量100質量に対して、成分A1が30~60質量、成分A2が30~60質量、成分A3が1~20質量であることが好ましく、成分A1が40~50質量、成分A2が40~50質量、成分A3が1~10質量であることがさらに好ましい。本発明の組成物に用いられる成分Bは、成分A以外の、エチレン性不飽和基を1個有する化合物であり、典型的にはエチレン性不飽和基を1個有するモノマーである。成分Bの具体例としては、例えば、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム等のビニル基含有ラクタム;イソボルニルメタアクリレート、ボルニルメタアクリレート、トリシクロデカニルメタアクリレート、ジシクロペンタニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート等の脂環式構造含有メタアクリレート;ベンジルメタアクリレート、4-ブチルシクロヘキシルメタアクリレート、アクリロイルモルホリン、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン等が挙げられる。さらに、2-エチルヘキシルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ステアリルメタアクリレート、イソステアリルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタアクリレート、メトキシエチレングリコールメタアクリレート、エトキシエチルメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、メトキシポリプロピレングリコールメタアクリレート、ジアセトンメタアクリルアミド、イソブトキシメチルメタアクリルアミド、N,N-ジメチルメタアクリルアミド、t-オクチルメタアクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、7-アミノ-3,7-ジメチルオクチルメタアクリレート、N,N-ジエチルメタアクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピルメタアクリルアミド、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、2-エチルヘキシルビニルエーテル、ビニルオキシエトキシエチルメタアクリレート、ビニルオキシエチルメタアクリレート等を挙げることができる。これら成分Bの中では、脂環式構造含有メタアクリレート及びビニル基含有ラクタムが、硬化物のヤング率及び硬化速度の向上の観点から好ましい。また、上記の成分Bの市販品として、アロニックスM-111、M-113、M-114、M-117以上、東亞合成社製;KAYARAD、TC110S、R629、R644以上、日本化薬社製;IBXA、ビスコート3700大阪有機化学工業社製等が挙げられる。成分Bは、本発明の放射線硬化性樹脂組成物全量に対して、5~45質量、特に10~30質量配合するのが好ましい。本発明の放射線硬化性樹脂組成物には、成分Cとして、成分A以外のエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物を配合することができる。成分Cは、典型的にはエチレン性不飽和基を2個以上有するモノマーである。成分Cの具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチルメタアクリレート、トリス2-ヒドキシエチルイソシアヌレートトリメタアクリレート、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレートジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体のジオールのジメタアクリレート、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体のジオールのジメタアクリレート、ビスフェノールAのジグリシジルエーテルにメタアクリレートを付加させたエポキシメタアクリレート、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。また、市販品としては、例えば、ユピマーUVSA1002、SA2007以上、三菱化学社製;ビスコート700大阪有機化学工業社製;KAYARADR-604、DPCA-20、-30、-60、-120、HX-620、D-310、D-330以上、日本化薬社製;アロニックスM-210、M-215、M-315、M-325以上、東亞合成社製等が挙げられる。成分Cは、硬化物中の架橋密度を高くする効果を有するため、硬化物の機械強度を向上させることができる。一方、成分Cを過剰に配合すると硬化物のヤング率が過大となってプライマリ材として不適となる場合がある。このため、成分Cの配合量は、本発明の放射線硬化性樹脂組成物全量に対して、2質量以下0~2質量、特に1.5質量以下0~1.5質量にするのが好ましい。本発明の放射線硬化性樹脂組成物に用いる成分Dは、放射線ラジカル重合開始剤である。成分Dの放射線ラジカル重合開始剤としては、例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3-メチルアセトフェノン、4-クロロベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、4,4-ジメトキシベンゾフェノン、4,4-ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1-4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルホリノ-プロパン-1-オン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス-2,6-ジメトキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキシド等が挙げられ;市販品としては、IRGACURE184、369、651、500、907、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24-61、DAROCUR1116、1173以上、チバスペシャルティケミカルズ社製、LUCIRINTPOBASF社製、ユベクリルP36UCB社製等が挙げられる。成分Dは、本発明の放射線硬化性樹脂組成物全量に対して、0.1~10質量、特に0.3~7質量配合するのが好ましい。また、本発明の放射線硬化性樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲内で、さらに光増感剤を添加することができる。光増感剤としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、N-メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、4-ジメチルアミノ安息香酸、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル;ユベクリルP102、103、104、105以上、UCB社製等が挙げられる。本発明の放射線硬化性樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲内で、Eシランカップリング剤を配合することもできる。成分Eは、本発明の組成物を硬化した硬化物とガラス基材の密着性を向上させることができる。成分Eとしては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリスβ-メトキシ-エトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシル-エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメチルジメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン等を使用することができる。また、ビス-[3-トリエトキシシリルプロピル]テトラスルフィド、ビス-[3-トリエトキシシリルプロピル]ジスルフィド、γ-トリメトキシシリルプロピルジメチルチオカルバミルテトラスルフィド、γ-トリメトキシシリルプロピルベンゾチアジルテトラスルフィド等を用いることもできる。その市販品としては、SH6062、SZ6030以上、東レダウコーニングシリコーン社製、KBE903、603、403以上、信越化学工業社製等が挙げられる。これらのシランカップリング剤のうち、被覆とガラスとの密着力の観点から、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシランが好ましい。これらのシランカップリング剤は1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用することもできる。成分Eは、本発明の放射線硬化性樹脂組成物全量に対して、被覆とガラスとの密着力の維持の点から、0.01~2質量、さらに0.1~1.5質量、特に0.5~1.5質量配合するのが好ましい。本発明に用いられる成分Fは、成分D以外の、熱又は放射線の照射により酸を発生する化合物である。以下、熱により酸を発生する化合物を熱酸発生剤、放射線の照射により酸を発生する化合物を放射線酸発生剤光酸発生剤ともいう。という。一般に、熱酸発生剤や放射線酸発生剤は、エポキシ化合物等のカチオン重合をする化合物を含有するカチオン重合性の組成物に、カチオン重合開始剤成分として配合される。しかし、本発明の組成物は実質的にラジカル重合系の組成物であり、成分Dのラジカル重合開始剤によって重合が開始される。本発明の放射線硬化性樹脂組成物において、成分Fは、熱又は放射線の照射により酸を放出することによって、硬化物のpHをより酸性にして、硬化物層に隣接するガラス基材の強度低下を抑制することができる。成分Fは、ガラス基材と成分Gのアルコキシシラン化合物との反応を促進することにより、ガラス基材の強度低下を抑制することができるものと推定される。ここで、放射線とは、可視光、紫外光、赤外光、X線、α線、β線、γ線等を意味する。熱酸発生剤としては、適当な熱を加えることによって酸を発生する化合物ならば特に制限されないが、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩、ハロゲン含有化合物、スルホン酸エステル化合物などが挙げられる。熱酸発生剤の具体例としては、ベンジルメチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジルメチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンジルメチルフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ベンジルメチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ベンジル4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンジル4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムテトラフルオロボレート、ベンジル4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート4-ヒドロキシフェニルメチル-o-メチルベンジルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、4-アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゼンジアゾニウムテトラフルオロボレート、ベンゼンジアゾニウムトリフルオロメタンスルホネート、ナフタレンジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、ナフタレンジアゾニウムトリフルオロメタンスルホネート等が挙げられる。放射線酸発生剤としては、スルホニウム塩やヨードニウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、ジスルホン類やジアゾメタンスルホン類等のスルホン化合物を挙げることができる。放射線酸発生剤の具体例としては、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ-n-オクタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル-1,1-ジフルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホネート等のトリフェニルスルホニウム塩化合物;4-シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、4-シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、4-シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウムパーフルオロ-n-オクタンスルホネート、4-シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウム2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、4-シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウムカンファースルホネート等の4-シクロヘキシルフェニルジフェニルスルホニウム塩化合物;4-メタンスルホニルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、4-メタンスルホニルフェニルジフェニルスルホニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、4-メタンスルホニルフェニルジフェニルスルホニウムパーフルオロ-n-オクタンスルホネート、4-メタンスルホニルフェニルジフェニルスルホニウム2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、4-メタンスルホニルフェニルジフェニルスルホニウムカンファースルホネート等の4-メタンスルホニルフェニルジフェニルスルホニウム塩化合物;ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ-n-オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムカンファースルホネート等のジフェニルヨードニウム塩化合物;ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムパーフルオロ-n-オクタンスルホネート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウム2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウムカンファースルホネート等のビス4-t-ブチルフェニルヨードニウム塩化合物;1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ-n-オクタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウム2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウムカンファースルホネート等の1-4-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウム塩化合物;1-6-n-ブトキシナフタレン-2-イルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、1-6-n-ブトキシナフタレン-2-イルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、1-6-n-ブトキシナフタレン-2-イルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ-n-オクタンスルホネート、1-6-n-ブトキシナフタレン-2-イルテトラヒドロチオフェニウム2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、1-6-n-ブトキシナフタレン-2-イルテトラヒドロチオフェニウムカンファースルホネート等の1-6-n-ブトキシナフタレン-1-イルテトラヒドロチオフェニウム塩化合物;1-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、1-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルテトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、1-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルテトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ-n-オクタンスルホネート、1-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルテトラヒドロチオフェニウム2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、1-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルテトラヒドロチオフェニウムカンファースルホネート等の1-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルテトラヒドロチオフェニウム塩化合物;N-トリフルオロメタンスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-ノナフルオロ-n-ブタンスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-パーフルオロ-n-オクタンスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-2-3-テトラシクロ[4.4.0.125.1710]ドデカニル-1,1-ジフルオロエタンスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-カンファースルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド等のビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド化合物などを挙げることができる。本発明の組成物は放射線硬化性であるため、成分Fとして放射線酸発生剤を用いると、硬化工程と別個に成分Fから酸を発生させるための加熱工程が不要であり、組成物を放射線の照射により硬化させる工程で成分Fから酸が発生するため好ましい。熱酸発生剤及び放射線酸発生剤は、それぞれ、一種単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。また、一種又は複数種類の熱酸発生剤と放射線酸発生剤を併用することもできる。これら成分Fの中で、熱又は放射線の照射により発生する酸がより強い酸であることが、ガラス基材の強度低下を抑制できるため好ましい。例えば、オニウム塩である放射線酸発生剤の中で、アニオンが、テトラパーフルオロフェニルボレートBC6F54、テトラフルオロボレートBF4、ヘキサフルオロホスフェートPF6、ヘキサフルオロアンチモネートSbF6、ヘキサフルオロアルセネートAsF6、ヘキサクロロアンチモネートSbCl6等の超強酸のイオンや、過塩素酸イオンClO4、トリフルオロメタンスルホン酸イオンCF3SO3、フルオロスルホン酸イオンFSO3、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸アニオン、トリニトロトルエンスルホン酸アニオン、トリスペンタフルオロエチルトリフルオロホスフェートCF3CF23PF3等の硫酸、リン酸等の強酸のイオンであることが好ましい。一方、酸がより弱い酸である場合にはガラス基材の強度低下を抑制する効果が限定的となり、例えば、硫酸イオンに較べて亜硫酸イオンは効果がより弱く、リン酸イオンに較べて亜リン酸イオンや次亜リン酸イオンは効果がより弱い。一方、成分Dの放射線ラジカル重合開始剤の中で、例えば、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドは放射線の照射によってジフェニルホスフィン酸を発生すると考えられるが、ガラス基材の強度低下を抑制する効果は見られない。オニウム塩である放射線酸発生剤の中で、下記式4で表される構造を有するカチオンを含む塩である化合物が挙げられる。アニオンは、前述の超強酸のイオンや強酸のイオンが好ましい。成分Fとして好適に使用できる放射線酸発生剤の市販品としては、例えば、UVI-6950、UVI-6970、UVI-6974、UVI-6990以上、ユニオンカーバイド社製、アデカオプトマーSP-150、SP-151、SP-170、SP-172以上、旭電化工業社製、Irgacure261以上、チバスペシャルティケミカルズ社製、CI-2481、CI-2624、CI-2639、CI-2064以上、日本曹達社製、CD-1010、CD-1011、CD-1012以上、サートマー社製、DTS-102、DTS-103、NAT-103、NDS-103、TPS-103、MDS-103、MPI-103、BBI-103以上、みどり化学社製、PCI-061T、PCI-062T、PCI-020T、PCI-022T以上、日本化薬社製、CPI-101A、CPI-110A、CPI-100P、CPI-200K以上、サンアプロ社製等を挙げることができる。これらのうち、UVI-6970、UVI-6974、アデカオプトマーSP-170、SP-172、CD-1012、MPI-103、CPI-101A、CPI-110A、CPI-100P、CPI-200Kは、これらを含有してなる樹脂組成物に高い光硬化感度を発現させることができることから、特に好ましい。成分Fの酸発生剤は、1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。本発明における成分Fの含有量は、本発明の放射線硬化性樹脂組成物全量に対して、通常0.01~10質量であり、好ましくは0.05~5質量、さらに好ましくは0.1~3質量である。成分Fの含有量が0.01質量未満の場合には、ガラス基材の強度低下を抑制することが困難である。一方、10質量を超える場合には、組成物中に溶解しにくくなり均一な組成物が得られない場合がある。本発明の放射線硬化性樹脂組成物に用いる成分Gのアルコキシシラン化合物は、エチレン性不飽和結合等のラジカル重合性の官能基を有さないものである。このため、成分Gは、硬化物中を容易に移動してガラスの欠損部位に接近でき、また、アルコキシシラン部位を有するため、ガラスの欠損部位と化学反応により結合して修復することが可能である。かかるアルコキシシラン化合物としては、例えば、テトラエトキシシラン正珪酸エチル、多摩化学工業社製;AY43-101、東レダウコーニングシリコーン社製、メチルトリメトキシシランSZ6070、東レダウコーニングシリコーン社製、メチルトリエトキシシランSZ6072、東レダウコーニングシリコーン社製、メチルトリフェノキシシランZ-6721、東レダウコーニングシリコーン社製、ジメチルジメトキシシランAY43-004、東レダウコーニングシリコーン社製、トリメチルメトキシシランAY43-043、東レダウコーニングシリコーン社製、ヘキサメチルジシラザンZ-6079、東レダウコーニングシリコーン社製、n-プロピルトリメトキシシランZ-6265、東レダウコーニングシリコーン社製、イソブチルトリメトキシシランAY43-048、東レダウコーニングシリコーン社製、イソブチルトリエトキシシランZ-6403、東レダウコーニングシリコーン社製、n-ヘキシルトリメトキシシランAY43-206M、東レダウコーニングシリコーン社製、n-ヘキシルトリエトキシシランAY43-206E、東レダウコーニングシリコーン社製、シクロヘキシルメチルジメトキシシランSZ6187、東レダウコーニングシリコーン社製、n-オクチルトリエトキシシランZ-6341、東レダウコーニングシリコーン社製、n-デシルトリメトキシシランAY43-210MC、東レダウコーニングシリコーン社製、1,6ビストリメトキシシリルヘキサンAY43-083、東レダウコーニングシリコーン社製、フェニルトリメトキシシランAY43-040、東レダウコーニングシリコーン社製、ジフェニルジメトキシシランAY43-047、東レダウコーニングシリコーン社製、トリフルオロプロピルトリメトキシシランAY43-013、東レダウコーニングシリコーン社製、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシランAY43-158E、東レダウコーニングシリコーン社製、ジフェニルジメトキシシランAY43-047、東レダウコーニングシリコーン社製、3-2-アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシランSH6020、東レダウコーニングシリコーン社製、3-アミノプロピルトリエトキシシランAY43-059、東レダウコーニングシリコーン社製、3-2-アミノエチルアミノプロピルメチルジメトキシシランSZ6023、東レダウコーニングシリコーン社製、3-アニリノプロピルトリメトキシシランSZ6083、東レダウコーニングシリコーン社製、3-ウレイドプロピルトリメトキシシランAY43-031、東レダウコーニングシリコーン社製、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランSH6040、東レダウコーニングシリコーン社製、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランAY43-026、東レダウコーニングシリコーン社製、ビス[トリエトキシシリルプロピル]ジスルフィドZ-6920、東レダウコーニングシリコーン社製、ビス[トリエトキシシリルプロピル]テトラスルフィドZ-6940、東レダウコーニングシリコーン社製、テトラエトキシシラン縮合物シリケート40、シリケート45、シリケート48、以上、多摩化学工業社製、メチルトリメトキシシラン縮合物Mシリケート51、多摩化学工業社製、テトラプロポキシシランプロピルシリケート、多摩化学工業社製、テトラブトキシシランブチルシリケート、多摩化学工業社製等が挙げられる。成分Gとしては、一般式5:R11m-Si-OR124m5式中、R11は炭素数1~10のアルキル基、エポキシアルキル基、パーフルオロアルキル基又はアリール基を示し、R12は炭素数1~6のアルキル基を示し、mは0、1又は2を示すで表されるものが好ましい。特に、メトキシシリル化合物、エトキシシリル化合物が好ましく、更に、2官能以上のメトキシシリル化合物、エトキシシリル化合物が、加水分解性に優れ、立体障害も少ないためガラスの欠損部位との反応が容易になるので好ましい。成分Gは、1種又は2種以上を用いることができ、本発明の放射線硬化性樹脂組成物全量に対して、0.1~10質量、さらに0.25~5質量、特に0.5~1質量配合されるのが好ましい。この範囲内であれば、ガラス基材の強度を低下させることがない。本発明の組成物には、必要に応じてHカチオン重合性成分を添加することもできる。成分Hはカチオン重合性の化合物であれば特に制限されないが、例えば、オキシラニル基、オキセタニル基等のエポキシ基やグリシジル基を有する化合物が挙げられる。本発明の放射線硬化性樹脂組成物は、実質的にラジカル重合系の組成物であり、Hカチオン重合性成分の配合量は一定値以下とすることが好ましい。成分Hの添加量は、本発明の放射線硬化性樹脂組成物全量に対して、5質量以下0~5質量、好ましくは0~2質量であり、成分Hを全く含まないことが特に好ましい。また、本発明の組成物中において、成分Hの配合量と、成分A、B及びCの配合量の合計値との質量比H/[ABC]の値は、好ましくは0~1/20であり、さらに好ましくは0~1/50であり、特に好ましくはゼロである。また、本発明の放射専攻科生樹脂組成物は、上記成分以外に各種添加剤、例えば、酸化防止剤、着色剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、塗面改良剤等を必要に応じて配合することができる。ここで、酸化防止剤としては、例えば、IRGANOX1010、1035、1076、1222以上、チバスペシャルティケミカルズ社製、ANTIGENEP、3C、SumilizerGA-80、GP住友化学工業社製等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、例えば、TINUVINP、234、320、326、327、328、329、213以上、チバスペシャルティケミカルズ社製、Seesorb102、103、501、202、712、704以上、シプロ化成社製等が挙げられる。光安定剤としては、例えば、TINUVIN292、144、622LD、サノールLS-770、765以上、チバスペシャルティケミカルズ社製、TM-061住友化学工業社製等が挙げられる。また、界面活性剤としては、例えば、脂肪酸エステル型非イオン性界面活性剤、グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシソルビトール脂肪酸エステル等の非イオン性界面活性剤が特に好ましい。本発明の放射線硬化性樹脂組成物には、必要に応じて本発明の特性を損なわない範囲で、他のオリゴマー、ポリマー、その他の添加剤等を配合することができる。他のオリゴマー、ポリマーとしては、例えば、ポリエステルメタアクリレート、エポキシメタアクリレート、ポリアミドメタアクリレート、メタアクリロイルオキシ基を有するシロキサンポリマー、グリシジルメタアクリレート等が挙げられる。本発明の放射線硬化性樹脂組成物の粘度は、ハンドリング性、塗布性の点から25°Cにおいて0.1~10Pas、さらに1~8Pasが好ましい。[硬化膜]本発明の硬化膜は、前述の放射線硬化性樹脂組成物を放射線の照射によって硬化して得られる硬化物からなる。ここで放射線とは、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等であり、特に紫外線が好ましい。本発明の放射線硬化性樹脂組成物を硬化する方法としては、特に限定されないが、空気中又は窒素等の不活性ガス中において放射線を10mJ/cm2~5J/cm2で照射する方法が好ましく、20mJ/cm2~2J/cm2で照射する方法がさらに好ましい。本発明の硬化膜は、低いヤング率を有するので光ファイバのプライマリ材として有用である。ここで、当該硬化膜のヤング率は25°Cにおいて、0.1~0.9MPaであることが好ましく、0.3~0.85MPaであることがさらに好ましい。硬化膜のヤング率が上記範囲であることにより、マイクロベンディングを効果的に防止することができる。本発明の硬化膜は、機械的強度においても優れている。当該硬化膜の破断強度は、0.9~10MPaであることが好ましく、1.4~10MPaであることがさらに好ましく、2.0~10MPaであることが特に好ましい。また、当該硬化膜の破断伸びは、130~250であることが好ましく、150~220であることがさらに好ましく、180~210であることが特に好ましい。[積層体]本発明の積層体は、ガラス基材と、該基材上に接して設けられた前述の硬化膜からなる層以下、第1の硬化膜層ともいう。と、該硬化膜からなる層に接して設けられたヤング率が1000MPa以上の有機硬化膜層以下、第2の硬化膜層ともいう。を有する。ガラス基材は、二酸化ケイ素を主成分とするガラスからなる基材であり、石英ガラス、硬質ガラス、軟質ガラスなどガラスの種類は特に限定されない。本発明の積層体は、第1の硬化膜層がガラス基材上に接して設けられている。成分Fから発生した酸がガラス基材の劣化を防止するためには、ガラス基材と第1の硬化膜層が接触していることが好ましい。本発明の積層体は、第1の硬化膜層に接して設けられたヤング率が1000MPa以上の第2の硬化膜層を有している。第1の硬化膜層はヤング率が小さい軟らかい層であって、ヤング率が大きい硬い層である第2の硬化膜層を積層することによって、積層体に外部応力が加わった場合にガラス基材を効果的に保護することができる。本発明の積層体は、光ファイバ素線や平面ディスプレイパネル等の用途に好適に用いることができる。本発明の積層体は、ガラス基材、第1の硬化膜層及び第2の硬化膜層の他にも任意の層をさらに積層することができる。このような構成とすることにより、例えば、ガラスファイバの外周に第一次被覆層と第二次被覆層を設けた光ファイバ素線のさらに外周に着色されたインキ層やアップジャケット層を有していてもよい。さらに、これらの樹脂被覆を施された複数の光ファイバ素線を結束材料で固めたテープ状光ファイバや光ファイバケーブルも本発明の積層体の別の態様である。本発明組成物を用いて形成した第一次被覆層を有する光ファイバ素線は、第一次被覆層の外側に接して、ヤング率が1,000MPa以上、好ましくは1,000~2,000MPaである第二次被覆層を有することが好ましい。光ファイバ素線が上記構造を有することにより、より効果的にマイクロベンディングを防止することができる。光ファイバ素線は、公知の方法で製造することができるが、一般的には、溶融した石英母材を熱溶融して線引きしつつ、プライマリ材およびセカンダリ材を塗布し、放射線硬化して第一次被覆層及び第二次被覆層を形成することにより製造される。以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、配合量は、特に記さない限り、質量部である。合成例1ウレタンオリゴマーUA-1の合成:撹拌機を備えた反応容器に、数平均分子量が3000のポリプロピレングリコール892.16g、2,4-トリレンジイソシアネート76.46g、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール0.24gを仕込み、これらを撹拌しながら液温度が25°Cになるまで加温した。ジブチル錫ジラウレート0.4gを添加した後、攪拌しながら液温度を30分かけて50°Cまで徐々に上げた。その後1時間攪拌し、残留イソシアネート基濃度が1.23質量仕込量に対する割合以下となった後、メタノール1.72gを添加し、液温度60°Cにて1時間反応させた。残留イソシアネート基濃度が0.99質量仕込量に対する割合以下となった後、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン4.80g、2-ヒドロキシエチルアクリレート23.83g、ジブチル錫ジラウレート0.399gを添加して2時間反応させた。残留イソシアネート基濃度が0.05質量以下になった時を反応終了とした。得られたウレタンオリゴマーをUA-1とする。UA-1は、下記式6~9で表されるウレタンオリゴマーを主成分とする混合物である。HEA-TDI-PPG3000-TDI21-HEA6HEA-TDI-PPG3000-TDI21-Me7HEA-TDI-PPG3000-TDI21-Sil8Me-TDI-PPG3000-TDI21-Me9[式6~9中、PPG3000は、数平均分子量が3000のポリプロピレングリコールに由来する構造単位であり、TDIは、2,4-トリレンジイソシアネートに由来する構造単位であり、HEAは、2-ヒドロキシエチルアクリレートに由来する構造単位であり、Silは、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシランに由来する構造単位であり、Meは、メタノールに由来する構造単位である。結合手-は、全てウレタン結合である。]合成例2ウレタンオリゴマーUA-2の合成:撹拌機を備えた反応容器に、数平均分子量が2000のポリプロピレングリコール旭硝子ウレタン社製、NPML-2002A77.422部、トルエンジイソシアネート13.484部、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール0.024部を仕込み、これらを撹拌しながら液温度が15°Cとなるまで冷却した。ジブチル錫ジラウレート0.040部を添加した後、攪拌しながら液温度を1時間かけて40°Cまで徐々に上げた。その後、液温度を45°Cに上げて反応させた。残留イソシアネート基濃度が3.58質量仕込量に対する割合以下となった後、2-ヒドロキシエチルアクリレート8.990部、ジブチル錫ジラウレート0.040部を添加し、液温度約60°Cで1時間攪拌した。その後、残留イソシアネート基濃度が0.05質量以下になった時を反応終了とした。得られたウレタンメタアクリレートをUA-2とする。参考合成例1ウレタンオリゴマーUX-1の合成:撹拌機を備えた反応容器に、数平均分子量が3000のポリプロピレングリコール888.18g、2,4-トリレンジイソシアネート76.13g、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール0.24gを仕込み、これらを撹拌しながら液温度が25°Cになるまで加温した。ジブチル錫ジラウレート0.4gを添加した後、攪拌しながら液温度を30分かけて50°Cまで徐々に上げた。その後1時間攪拌し、残留イソシアネート基濃度が1.36質量仕込量に対する割合以下となった後、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン9.07g、2-ヒドロキシエチルアクリレート23.56g、ジブチル錫ジラウレート0.399gを添加し、液温度60°Cにて1時間反応させた。残留イソシアネート基濃度が1.08質量仕込量に対する割合以下となった後、メタノール2.02gを添加して2時間反応させた。残留イソシアネート基濃度が0.05質量以下になった時を反応終了とした。得られたウレタンオリゴマーをUX-1とする。UX-1の合成方法は、合成例1においてメタノールとγ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、2-ヒドロキシエチルアクリレートの添加順序を変更した合成方法に該当する。UX-1は、前記式9で表されるウレタンオリゴマーを実質的に含んでいない。参考合成例2ウレタンオリゴマーUX-2の合成:撹拌機を備えた反応容器に、数平均分子量が3000のポリプロピレングリコール910.65g、2,4-トリレンジイソシアネート78.06g、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール0.24gを仕込み、これらを撹拌しながら液温度が25°Cになるまで加温した。ジブチル錫ジラウレート0.4gを添加した後、攪拌しながら液温度を30分かけて50°Cまで徐々に上げた。その後1時間攪拌し、残留イソシアネート基濃度が1.36質量仕込量に対する割合以下となった後、メタノール10.26gを添加し、液温度60°Cにて1時間反応させた。残留イソシアネート基濃度が0.05質量以下になった時を反応終了とした。得られたウレタンオリゴマーをUX-2とする。UX-2は、上記式9で表されるウレタンオリゴマーである。実施例1~7、比較例1~3撹拌機を備えた反応容器に表1に示す組成の各成分を仕込み、液温度を60°Cに制御しながら2時間撹拌して、放射線硬化型液状樹脂組成物を製造し、下記の方法に従い、物性値を評価した。[評価方法]1粘度:実施例及び比較例で得られた組成物の25°Cにおける粘度を、粘度計B8H-BIIトキメック社製で測定した。2組成物の保存安定性:実施例および比較例で得られた樹脂組成物の25°Cにおける粘度を、粘度計B8H-BIIトキメック社製を用いて測定した初期粘度。さらに、この組成物を、60°Cのオーブンに7日間放置した後、再度粘度を測定した耐久後粘度。初期粘度と耐久後粘度の変化率を式2より算出して、粘度変化率が±20以内である場合を合格○、±20を越えた場合を不合格×と判定した。粘度変化率=100-初期粘度/耐久後粘度×100式23硬化速度:実施例及び比較例で得られた組成物の硬化速度を測定した。200μm厚のアプリケーターバーを用いてガラス板上に放射線硬化性樹脂組成物を塗布し、これを空気中で20mJ/cm2及び1J/cm2のエネルギーの紫外線を照射して硬化させ、試験用フィルム二種類を得た。この硬化フィルム二種類から、それぞれ延伸部が幅6mm、長さ25mmとなるように短冊状サンプルを作成した。温度23°C、湿度50にて、引張り試験機AGS-1KND島津製作所社製を用い、JISK7127に準拠して引張試験を行った。引張速度は1mm/minで、2.5歪みでの抗張力からヤング率を求めた。20mJ/cm2で硬化させた試験用フィルムのヤング率と1J/cm2で硬化させた試験用フィルムのヤング率の比を下記式1より算出して、組成物の硬化速度を評価した。硬化速度=Y20/Y1000×100式1[上記式中、Y20は、20mJ/cm2で硬化させたフィルムのヤング率であり、Y1000は、1J/cm2で硬化させたフィルムのヤング率である。]4ヤング率:実施例及び比較例で得られた組成物の硬化後のヤング率を測定した。354μm厚のアプリケーターバーを用いてガラス板上に放射線硬化性樹脂組成物を塗布し、これを空気中で1J/cm2のエネルギーの紫外線を照射して硬化させ、試験用フィルムを得た。この硬化フィルムから延伸部が幅6mm、長さ25mmとなるように短冊状サンプルを作成した。温度25°C、湿度50の条件下で引張り試験機AGS-1KND島津製作所社製を用い、JISK7127に準拠して引張試験を行った。引張速度は1mm/minで、2.5歪みでの抗張力からヤング率を求めた。5破断強度および破断伸び:200μm厚のアプリケーターバーを用いてガラス板上に放射線硬化性樹脂組成物を塗布し、これに空気中で1J/cm2のエネルギーの紫外線を照射して硬化させ、試験用フィルムを得た。引張試験器島津製作所社製、AGS-50Gを用い、試験片の破断強度および破断伸びを下記測定条件にて測定した。引張速度:50mm/分標線間距離測定距離:25mm測定温度:23°C相対湿度:506ガラス密着力:実施例及び比較例で得られた組成物のガラス密着力を測定した。354ミクロン厚のアプリケーターバーを用いてガラス板上に放射線硬化性樹脂組成物を塗布し、これを空気中で1J/cm2のエネルギーの紫外線を照射し硬化させ試験用フィルムを得た。この硬化フィルムから延伸部が幅10mm、長さ50mmとなるように短冊状サンプルを作成した。温度23°C、湿度50下で7日間静置後に、同温度湿度条件下で引っ張り試験機AGS-1KND島津製作所社製を用いてガラス密着力試験を行った。引張速度は50mm/minで30秒後の抗張力からガラス密着力を求めた。7ゲル分率:200μm厚のアプリケーターバーを用いてガラス板上に放射線硬化性樹脂組成物を塗布し、これに空気中で1J/cm2のエネルギーの紫外線を照射して硬化させ、試験用フィルムを得た。硬化後、シートを温度23°C、湿度50の恒温恒湿器内で24時間静置した。その後硬化物1.5gを切り取り円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出器を用いて温度80°Cで12時間抽出した。抽出後、試料をろ紙ごと取り出し温度60°C圧力1.34kPa以下で6時間真空乾燥を行った。試料をろ紙から取り出し重量を測定した。次式によりゲル分率を算出した。ゲル分率=W1/W0×100[上記式中、W0は、抽出前の試料の重量であり、W1は、抽出後の試料の重量である。]8ガラス基材の強度:8-1光ファイバの製造:光ファイバ線引き装置吉田工業社製を使用して、石英ガラスファイバ上に一次被覆材として、実施例又は比較例の組成物を塗布硬化させた後、二次被覆材JSR社製、デソライトR3203を塗布して硬化させた。光ファイバの製造条件は以下のとおりである。光ファイバの線径は、ガラスファイバは直径125μmであったが、これに上記の一次被覆材を塗布硬化させ、直径が200μmになるように調整した。さらに形成された一次被覆材の上に、二次被覆材を塗布し、硬化した時点で250μmになるように調節して塗布した。紫外線照射装置はORC製UVランプSMX3.5kwを使用した。光ファイバの線引き速度は200m/minとした。8-2ガラス基材の強度:8-1で得られた光ファイバの被覆を除去して、ガラス基材の強度であるガラスファイバ強度を測定した。温度23°C及び湿度50となる環境下で、被覆除去治具NO-NIKワイヤストリッパーを使用して光ファイバの被覆を除去した。得られたガラスファイバが露出した光ファイバを、引張試験機島津製作所社製、AGS-50Gを用い、TIA/EIAITM-13の引張方法に準拠して引張試験を行った。引張速度は100μm/sで行い、ファイバが破断する応力を算出し、ガラスファイバ強度を求めた。光ファイバを3サンプル製造し、各々について測定したガラスファイバ強度の平均値を求めた。8-3判定:ガラスファイバ強度が1.0GPa以上である場合は合格である。9成分A3量の測定:実施例1に記載の組成物を用いて、ヤング率測定の場合と同様の方法で試験用フィルムを作製した。試験用フィルム2gをテトラヒドロフランTHF20mLに浸漬して23°Cで24時間放置した後、THF中に抽出された成分量をゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCの保持時間20~29分の範囲内に含まれるピーク面積をP1とした。また、成分A3を実質的に含まない硬化膜としては、実施例1のUA-1に替えて参考合成例1で得られたUX-1を用いた他は同一組成の組成物を用いて作製した試験用フィルムを用いた。同試験用フィルムから得たTHF抽出物を定量し、ピーク面積をP2とした。GPCの条件は以下の通りである。カラム:東ソー社製、TSKgelG4000HXL、TSKgelG3000HXL、TSKgelG3000HXL、TSKgelG3000HXLの4個のカラムの直列連結HPLC:東ソー社製、HLC-8220サンプル量:100μL展開溶媒:THF流速:1mL/min検出方法:RI測定波長は、ナトリウムのD線である一方、20mg、60mg又は100mgの成分A3である参考合成例2で得られたウレタンオリゴマーUX-2をそれぞれ8mLのTHFに溶解して同様の条件でGPC法を用いて分析し、同様のピーク面積を求めて成分A3検量線を作成した。P1の値からP2の値を差し引いた値を上記検量線に当てはめてP1とP2の差異に相当する成分A3の量を定量した。その結果、実施例1に用いた成分AであるウレタンオリゴマーUA-1全量に対して、その2.5質量が成分A3であった。表中、アロニックスM-113:ノニルフェノールEO変性アクリレート東亞合成社製。CPI-100P:前記式4をカチオン成分とし、PF6をアニオン成分とする塩サンアプロ社製。CPI-200K:前記式4をカチオン成分とし、CF3CF23PF3をアニオン成分とする塩サンアプロ社製。SumilizerGP:6-[3-3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルプロポキシ]-2,4,8,10-テトラ-t-ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]-ジオキサホスフェピン住友化学社製。サノールLS-765:チバスペシャルティケミカルズ社製、光安定剤。レオドール460V:花王ケミカル社製、界面活性剤テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット。表1から明らかなように、本発明の組成物は、ガラス基材の強度低下を効果的に抑制することができると共に、未硬化状態での組成物の保存安定性に優れている。一方、成分Fを含まない比較例1では、ガラス基材の強度が低下した。比較例1に配合された成分Dである2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドは放射線の照射によってジフェニルホスフィン酸を発生すると考えられるが、成分Fを代替することはできなかった。また、成分Dを配合せず、有機酸であるアクリル酸を配合した比較例2においては、ガラス基材の強度は高かったが未硬化状態での組成物の保存安定性が低下した。これは未硬化状態の組成物中に酸が継続的に存在していると、成分Bであるビニル基含有ラクタムが2量体を形成する等の理由により保存安定性が低下したと推定される。さらに、成分Dのラジカル重合開始剤を配合しなかった比較例3では、ラジカル重合系である組成物の硬化速度が大幅に低下し、カチオン重合開始剤でもある成分Fでは、組成物の硬化反応を開始することはできなかった。"