"被検光学系の収差を算出する算出装置であって、前記被検光学系からの光を複数の回折光に分割する回折格子と前記複数の回折光による干渉縞を検出する検出器とを有するトールボット干渉計を用いて検出された前記干渉縞の画像データを取得する取得部と、前記干渉縞の画像データを用いて第1の波面を復元し、かつ、前記回折格子に入射する第2の波面の値を設定して、前記複数の回折光による干渉縞の画像をシミュレーションにより計算し、該計算された前記干渉縞の画像データを用いて第3の波面を復元する演算部とを有し、前記演算部は、前記トールボット干渉計における光軸に垂直な面内における前記回折格子の位置を変更することにより、該検出された干渉縞および該シミュレーションによって計算された干渉縞のキャリア周波数成分の位相を一致させて前記第3の波面を復元し、前記第2の波面および前記第3の波面を用いて前記第1の波面に含まれる誤差を低減して前記被検光学系の収差を算出することを特徴とする算出装置。前記演算部は、該検出された干渉縞のキャリア周波数成分の位相をθe、該シミュレーションにより計算された干渉縞のキャリア周波数成分の位相をθe、前記回折格子の回折ピッチをdとして、前記回折格子を面内方向にd×θs-θe/2πだけ移動させることにより、前記第3の波面を復元することを特徴とする請求項1に記載の算出装置。前記演算部は、前記第3の波面から前記第2の波面を引いた波面を前記第1の波面から除いた波面を、前記回折格子に入射する第2の波面の新たな値として設定し、前記複数の回折光による干渉縞の画像をシミュレーションにより計算し、該計算された前記干渉縞の画像データを用いて新たな第3の波面を復元する処理を繰り返すことを特徴とする請求項1に記載の算出装置。被検光学系の収差を算出する算出装置であって、前記被検光学系からの光を複数の回折光に分割する回折格子と前記複数の回折光による干渉縞を検出する検出器とを有するトールボット干渉計を用いて検出された前記干渉縞の画像データを取得する取得部と、前記干渉縞の画像データを用いて第1の波面を復元し、かつ、前記回折格子に入射する第2の波面の値を設定して、前記複数の回折光による干渉縞の画像をシミュレーションにより計算し、該計算された前記干渉縞の画像データを用いて第3の波面を復元する演算部とを有し、前記演算部は、該検出された干渉縞および該シミュレーションによって計算された干渉縞のキャリア周波数成分の位相が一致するように、前記トールボット干渉計における光軸に垂直な面内における前記回折格子の位置を調整した状態で検出された干渉縞の画像データを用いて前記第1の波面を復元し、前記第2の波面および前記第3の波面を用いて前記第1の波面に含まれる誤差を低減して前記被検光学系の収差を算出することを特徴とする算出装置。請求項1乃至4の何れか1項に記載の算出装置と、被検光学系を透過した光を複数の回折光に分割する回折格子と、前記複数の回折光による干渉縞を検出する検出器と、を有するトールボット干渉計。被検光学系の収差を算出する算出方法であって、前記被検光学系からの光を複数の回折光に分割する回折格子と前記複数の回折光による干渉縞を検出する検出器とを有するトールボット干渉計を用いて検出された前記干渉縞の画像データを取得するステップと、前記干渉縞の画像データを用いて第1の波面を復元するステップと、前記回折格子に入射する第2の波面の値を設定して、前記複数の回折光による干渉縞の画像をシミュレーションにより計算し、該計算された前記干渉縞の画像データを用いて第3の波面を復元するシミュレーションステップと、前記第2の波面および前記第3の波面を用いて前記第1の波面に含まれる誤差を低減して前記被検光学系の収差を算出するステップとを有し、前記シミュレーションステップにおいて、前記トールボット干渉計における光軸に垂直な面内における前記回折格子の位置を変更することにより、該検出された干渉縞および該シミュレーションによって計算された干渉縞のキャリア周波数成分の位相を一致させて、前記第3の波面を復元することを特徴とする算出方法。被検光学系の収差を算出する算出方法であって、前記被検光学系からの光を複数の回折光に分割する回折格子と前記複数の回折光による干渉縞を検出する検出器とを有するトールボット干渉計を用いて検出された前記干渉縞の画像データを取得するステップと、前記干渉縞の画像データを用いて第1の波面を復元するステップと、前記回折格子に入射する第2の波面の値を設定して、前記複数の回折光による干渉縞の画像をシミュレーションにより計算し、該計算された前記干渉縞の画像データを用いて第3の波面を復元するシミュレーションステップと、前記第2の波面および前記第3の波面を用いて前記第1の波面に含まれる誤差を低減して前記被検光学系の収差を算出するステップとを有し、前記第1の波面の復元ステップにおいて、該検出された干渉縞および該シミュレーションによって計算された干渉縞のキャリア周波数成分の位相が一致するように、前記トールボット干渉計における光軸に垂直な面内における前記回折格子の位置を調整した状態で検出された干渉縞の画像データを用いて前記第1の波面を復元することを特徴とする算出方法。投影光学系を用いて基板を露光する露光装置において、トールボット干渉計と、請求項1又は4に記載の算出装置とを有し、前記算出装置は前記投影光学系の収差を算出することを特徴とする露光装置。請求項8に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。特許文献1や2に記載の発明では、トールボット干渉計の光軸方向における回折格子の位置がずれることによる計測誤差を軽減して計測精度を向上していた。しかし、該光軸方向とは垂直な方向における回折格子の位置ずれに起因する計測誤差は残存したままであり、高精度な計測ができていなかった。そこで、本発明は、被検光学系の収差を高精度に算出する装置および方法を提供することを目的とする。本発明の1つの側面は、被検光学系の収差を算出する算出装置であって、前記被検光学系からの光を複数の回折光に分割する回折格子と前記複数の回折光による干渉縞を検出する検出器とを有するトールボット干渉計を用いて検出された前記干渉縞の画像データを取得する取得部と、前記干渉縞の画像データを用いて第1の波面を復元し、かつ、前記回折格子に入射する第2の波面の値を設定して、前記複数の回折光による干渉縞の画像をシミュレーションにより計算し、該計算された前記干渉縞の画像データを用いて第3の波面を復元する演算部とを有し、前記演算部は、前記トールボット干渉計における光軸に垂直な面内における前記回折格子の位置を変更することにより、該検出された干渉縞および該シミュレーションによって計算された干渉縞のキャリア周波数成分の位相を一致させて前記第3の波面を復元し、前記第2の波面および前記第3の波面を用いて前記第1の波面に含まれる誤差を低減して前記被検光学系の収差を算出することを特徴とする。本発明の他の1つの側面は、被検光学系の収差を算出する算出装置であって、前記被検光学系からの光を複数の回折光に分割する回折格子と前記複数の回折光による干渉縞を検出する検出器とを有するトールボット干渉計を用いて検出された前記干渉縞の画像データを取得する取得部と、前記干渉縞の画像データを用いて第1の波面を復元し、かつ、前記回折格子に入射する第2の波面の値を設定して、前記複数の回折光による干渉縞の画像をシミュレーションにより計算し、該計算された前記干渉縞の画像データを用いて第3の波面を復元する演算部とを有し、前記演算部は、該検出された干渉縞および該シミュレーションによって計算された干渉縞のキャリア周波数成分の位相が一致するように、前記トールボット干渉計における光軸に垂直な面内における前記回折格子の位置を調整した状態で検出された干渉縞の画像データを用いて前記第1の波面を復元し、前記第2の波面および前記第3の波面を用いて前記第1の波面に含まれる誤差を低減して前記被検光学系の収差を算出することを特徴とする。本発明によれば、被検光学系の収差を高精度に算出することができる。以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。図1は、被検光学系Lの収差を計測するためのトールボット干渉計の光路図である。本実施例のトールボット干渉計は、光路に沿って、光源1、マスク2、回折格子3、撮像素子4検出器および計算機コンピュータ5を有する。トールボット干渉計において、光源1からの光でマスク2が照射され、マスク2のピンホール2aを透過した光が被検光学系Lに入射する。被検光学系Lを透過した光は、回折格子3で複数の回折光に分割され、分割された光同士が干渉して形成される干渉縞を撮像素子4で検出する。そして、検出された干渉縞のデータがケーブル6を経由して計算機5に送られ、計算機5はその干渉縞のデータを用いて被検光学系Lの収差を算出する。なお、被検光学系Lからの光の波面波面収差そのものを算出してもよい。被検光学系Lに入射する光の波面と被検光学系Lから射出した光の波面の差分が被検光学系Lの収差である。光源1は、例えば、レーザーで構成され、コヒーレント光を照射する。被検光学系Lは、複数の光学素子または1つの光学素子であり、屈折系、反射屈折系、反射系のいずれでもよい。図1では被検光学系Lとしてレンズを示した。マスク2は、口径が十分に小さいピンホール2aを有するピンホール板であり、光源1からの光がピンホール2aを透過することで球面波が生成される。回折格子3は被検光学系Lを経た光を複数の回折光に分割する。回折格子3は例えば直交する2つの方向第1方向、第2方向に格子周期を有する直交回折格子であり、被検光学系Lを透過した光を第1方向に沿って複数に分割し、さらに第2方向に沿って複数に分割する。これにより、直交2方向の波面の歪みを同時に計測することができる。ただし、格子周期の方向の数が2以外の回折格子でも適用可能である。なお、図1において発散光を回折格子3に入射させているが収束光でもよい。撮像素子4は、回折格子3が分割した複数の光の波面を重ね合わせて得られる即ち、複数の回折光が干渉して形成する干渉縞を撮影する2次元撮像素子であり、撮像素子としてCCDなどが用いられる。計算機5は、撮像素子4とケーブル6を介して接続されており、不図示の記憶部であるメモリ、取得部、演算部、表示部を含む。取得部は、ケーブル6を介して撮像素子4により撮影された実干渉縞画像のデータを取得する。メモリは、撮像素子4により撮影された実干渉縞画像および後述する波動光学シミュレーションにより得たシミュレーション画像を記憶格納する。演算部は、メモリに格納された実干渉縞画像とシミュレーション画像のそれぞれに対して、例えば非特許文献1に記載されているフーリエ変換法により、干渉縞から波面を算出復元する。このように復元された波面を復元波面と呼ぶ。さらに、その復元波面のデータを用いて被検光学系Lの収差を算出する。表示部は、撮像された干渉縞や算出された被検光学系Lの収差を表示する。非特許文献1によると、撮像素子4で撮像される干渉縞の光強度|ux、y、z|2は次式のように表すことができる。ここで、uは干渉光の複素振幅、n、mは回折格子3からの回折光の次数、Anはn次の回折光の振幅、Amはm次の回折光の振幅、は複素共役、zは回折格子3と撮像素子4との光軸OA方向の距離、z0は回折格子3と被検光学系Lの像面との距離である。また、λは光源からの光の波長、dは回折格子3の回折ピッチ周期、Wは被検光学系Lの収差である。数式1における位相項の第2項及び第3項は干渉縞のコントラストを変化させる成分であり、コントラストの低下は収差の計測誤差の要因となる。第3項は波面に依存して常に存在する成分である。第2項は、z又はz0により周期的に変化する成分で、数式2で表されるNが整数となるようにz及びz0を選ぶことによって0になり、回折格子3の直後の光強度分布が復元された高コントラストの干渉縞を得ることができる。Nが半整数の場合は、整数の場合にくらべ位相がπずれたつまり、明暗反転した高コントラストの干渉縞が得られる。従って、高精度に計測を行うためには回折格子3と撮像素子4は、数式2におけるNを整数または半整数とするように配置されるこの条件をトールボット条件と呼ぶ。しかし、トールボット条件は平行光の入射を前提としている。そのため、開口数NAの大きな被検光学系を透過した光つまり回折格子3に入射する光の入射角度が大きい場合に対しては、たとえトールボット条件を満たすよう回折格子3と撮像素子4を配置したとしても干渉縞にボケが生じるコントラストが低下する。このボケた干渉縞の強度分布には、1次光と-1次光の位相の差が主要因となって、干渉計の光軸に垂直な面内方向にわずかな位置ずれが生じる。結果として、干渉縞から算出された復元波面には、被検光学系Lの収差以外に誤差成分が必ず含まれる。この誤差成分は、トールボット条件を決定する、該光軸方向における回折格子の位置、により敏感に変化する。また、該光軸方向の位置と同じく、干渉計の光軸とは垂直な面内方向における回折格子3の位置面内位置によっても復元波面に含まれる誤差が異なる。このため、被検光学系Lの収差を高精度に計測するためには、回折格子3の位置により生じる誤差を正しく評価しなければならない。特許文献1や特許文献2に記載の計測手法では、撮像素子と回折格子の相対角度や間隔光軸方向位置に起因して生じる誤差を減じることができるが、回折格子の面内位置によって生じる誤差を減じることはできない。本実施例では、撮像素子4で実際に撮像した実干渉縞画像に合うように、計算機5が各種条件を設定して波動光学シミュレーションを行い干渉縞のシミュレーション画像を作成することによって、回折格子の面内位置に起因して生じる誤差を求める。波動光学シミュレーションは、光源1に関しては波長を、被検光学系Lに関しては像点位置、開口数および複素振幅透過率を、回折格子3に関しては位置、周期および複素振幅透過率を、撮像素子4に関しては位置、画素ピッチを入力パラメータとして設定する。そして、波動光学シミュレーションでは、被検光学系Lの像点から回折格子3上の各点までの距離に応じて回折格子3を透過した直後の光の複素振幅分布を計算し、その複素振幅分布を用いて撮像素子4の位置における干渉光の複素振幅分布を計算する。撮像素子4の位置における干渉光の複素振幅を計算するつまり回折格子3の直後の光の複素振幅を伝搬させるには、例えばフレネルキルヒホッフ積分やAngularSpectrumの伝搬などの手法が知られている。それぞれ、M.Born,E.Wolf,PrinciplesofOptics7thexpandededition,418-425,PergamonPress1999。、J.W.Goodman,IntroductiontoFourierOptics3rdedition,55-61,RobertsandCompanyPublishers2004に記載されている。撮像素子4で検出される干渉縞光強度分布に対応させるため、算出された複素振幅分布を2乗した強度をシミュレーションによって得られる干渉縞のシミュレーション画像とする。実干渉縞画像に基づいて算出された復元波面をΦ1第1の波面とする。波動光学シミュレーションでは、被検光学系Lを透過し、回折格子3に入射する前の光の波面を入力波面Φ2第2の波面とする。シミュレーション画像に基づいて算出された復元波面出力波面をΦ3第3の波面とする。Φ1には被検光学系の収差以外にも、回折格子3の位置に起因した誤差が含まれている。また、シミュレーション上においてΦ3とΦ2との差Φ3-Φ2は回折格子3の位置に起因した誤差である。Φ3-Φ2の値が、トールボット干渉計において実際に生じている回折格子3起因の誤差の値と一致していれば、復元波面Φ1から被検光学系の収差以外の誤差回折格子の位置に起因した誤差を除くことによって被検光学系の収差Φを計算することができる。図2は、実施例1における収差計測を示すフローチャートである。まず、実際のトールボット干渉計において、トールボット条件を満たし干渉縞が高コントラストとなるように、各部材光源1、ピンホール2、被検光学系L、回折格子3および撮像素子4を配置するS101。次に、撮像素子4を用いて干渉縞を検出し、計算機5の取得部が、検出された干渉縞の画像データを取得するS102。次に、計算機5の演算部はS102で取得した干渉縞の画像データを用いて復元波面Φ1を算出するS103。次に、計算機5は波動光学シミュレーションにおいて、上記入力パラメータの値と入力波面Φ2の値を入力値として、干渉縞のシミュレーション画像を計算するS104。S104の詳細は後述する。該シミュレーション画像から復元波面Φ3を算出した後S105、復元波面Φ1から被検光学系の収差以外の誤差を除くことによって被検光学系の収差Φを計算する。具体的には、Φ1-Φ3-Φ2やΦ1Φ2-Φ3等の計算処理を行って、その計算処理により求めた波面波面収差を計算機5の表示部に被検光学系Lの収差として表示するS106。なお、S104において、入力波面Φ2の初期値として、被検光学系Lの収差が小さく干渉縞の歪みが小さい場合は、入力波面Φ2の値は収差がゼロの波面としてよい。被検光学系Lの収差が大きい場合は、波動光学シミュレーションの入力波面Φ2として、実際の実干渉縞画像に基づく復元波面Φ1を設定することが有効である。これは、実干渉縞画像に基づく復元波面Φ1とシミュレーション画像に基づく復元波面Φ3が同等になればなるほど、回折格子の位置に起因した誤差を精度よく評価できるためである。回折格子位置に起因する誤差は被検光学系Lの収差を含む波面Φ1に比べると一般的に小さいため、入力波面Φ2の初期値としてΦ1を採用することでΦ3の結果をΦ1に近づけることができる。また、一度計算された被検光学系Lの収差の値を入力波面Φ2の新たな値として波動光学シミュレーションS104、S105を実施するという繰り返し操作を、回折格子の位置に起因する誤差が一定値に収束するまで実施してもよい。S104における波動光学シミュレーションは、シミュレーション画像と、実際に撮像して得られた実干渉縞画像とで、キャリア周波数とキャリア周波数成分の位相が一致するように実行しなければならない。特に、回折格子3の位置はキャリア周波数とキャリア周波数の位相に敏感に影響を及ぼすため、シミュレーションに入力する回折格子3の位置の調整を行う。図3は、S104において、シミュレーション画像と実際に撮像して得られた実干渉縞画像とでキャリア周波数とキャリア周波数成分の位相を一致させる手順の一例を示すフローチャートである。まず、上記の入力パラメータを設定して、波動光学シミュレーションを実行し、干渉縞のシミュレーション画像I1を得るS201。次に、シミュレーション画像I1のキャリア周波数fsと、実際に撮像して得られた実干渉縞画像のキャリア周波数feを求めるS202。キャリア周波数とは、それぞれの画像をフーリエ変換した空間周波数スペクトルにおいて、干渉パターンの周期に対応したピークの位置周波数のことを指す。図4aにシミュレーション画像のキャリア周波数fs、図4bに実際に撮像して得られた実干渉縞画像のキャリア周波数feの関係を周波数空間上に示す。ここで、fsとfeは以下の式で表せる。Zsはシミュレーションで設定した被検光学系Lの像面と回折格子3の間隔、Zeは撮像時の被検光学系Lの像面と回折格子3の間隔、dは回折格子3の周期、NAは被検光学系Lの像側の開口数である。図4に示すキャリア周波数の関係から、シミュレーション画像のキャリア周波数を実干渉縞画像のキャリア周波数に合わせるため、シミュレーションに入力する回折格子3の光軸方向位置をZsfe-fs/fsだけ像面から離す方向に移動させる。回折格子3の光軸方向位置を変化させた配置において、再び波動光学シミュレーションを実施して新しいシミュレーション画像I2を得るS203。なお、2次元回折格子を利用する場合、装置のアライメントにより干渉縞画像の2方向のキャリア周波数にズレが生じることがある。この場合、2方向のキャリア周波数の平均値に波動光学シミュレーションにおけるキャリア周波数を合わせるか、波動光学シミュレーションに回折格子と撮像素子の間の相対傾きを導入すればよい。S202で算出されたfeとfsとの差がなければS203を行う必要はない。次に、シミュレーション画像I2のキャリア周波数成分の位相θsと実際に撮像して得られた実干渉縞画像のキャリア周波数成分の位相θeを求めるS204。キャリア周波数成分の位相とは、図4に示すように空間周波数スペクトルにおける、干渉パターンの周期に対応したピーク値複素数の位相単位:ラジアンのことを指す。言い換えると、キャリア周波数成分の位相とは干渉パターンをキャリア周波数を持つ正弦波として見たときの初期位相を指す。θsとθeの不一致はシミュレーションで設定した回折格子の面内位置干渉計の光軸に垂直な方向の位置に起因している。そのため、シミュレーションに入力する回折格子の面内位置をキャリア周波数の方向にdθe-θs/2πだけ移動させることで不一致は解消する。なお、2次元回折格子を利用する場合は、2つのキャリア周波数方向において、面内位置の調整を行う。回折格子の面内位置を変化させた配置において、再び波動光学シミュレーションを実行して新しいシミュレーション画像I3を得るS205。得られたシミュレーション画像I3は、S105の計算に引き継がれる。なお、S203においてキャリア周波数の変化が僅かである場合、S203とS205は同時に実施してよい。この場合、キャリア周波数とキャリア周波数の位相を同時に調整するため、シミュレーション画像I2を得る必要はない。本実施例の収差計測方法の具体例を図5のシミュレーション結果を用いて説明する。光源からの波長0.0135ミクロンのEUV光を用いてNA0.25の照明光でマスク2を照射する。回折格子3は周期1ミクロンで振幅変調する2次元格子とする。トールボット次数0.5の干渉パターンが得られるよう、被検光学系Lの像面の点光源は回折格子3の上流74.1μmの位置に配置し、点光源と撮像素子4の間隔は10mmとする。図5aは、実際に撮像される実干渉縞画像に基づく復元波面Φ1として想定した波面収差である。これは、FringeZernike係数第5項非点収差0.5λ2.756nmRMSを被検光学系Lの波面収差とし、その波面を元に波動光学シミュレーションと波面復元を行い、被検光学系Lの波面収差に誤差を加えた波面収差である。図5bは、図5aの波面収差を有する波面を入力波面Φ2の初期値として、本実施例の収差計測方法を用いて波動光学シミュレーションにより得た干渉縞のシミュレーション画像である。図5cは、図5bのシミュレーション画像から算出した復元波面Φ3の収差2.700nmRMSである。図5dは、復元波面Φ3から復元波面Φ2を差し引いた値回折格子の位置に起因した誤差であり、0.24nmRMSである。図5eは、復元波面Φ1から図5dの値を差し引いた波面を入力波面Φ2の新たな値に設定して再度波動光学シミュレーションS104、S105を実行し、再度見積もった回折格子の位置に起因する誤差である。図5dとの差分は0.01nmRMSである。図5eの値を利用して入力波面Φ2の新たな値を設定して同様に再度波動光学シミュレーションを実行すると、復元波面Φ3とΦ1の差分が0.01nmRMS以下となる。したがって、回折格子の位置に起因する誤差の値は0.01nmRMS以下の誤差の精度で求まっている。図5fは、復元波面Φ1から図5eの値を差し引いた波面の収差2.757nmRMSである。この波面は、被検光学系Lからの光の波面の収差に相当し、誤差が除去された収差である。0.01nmRMS以下の精度で回折格子位置に起因する誤差が除去されている。なお、回折格子の位置に起因した誤差が0.2nmRMS程度に生じるので、0.2nmRMS以下の誤差の精度で被検光学系の収差を求めたい場合に本実施例は効果的である。以上のように、本実施例によれば、回折格子の面内位置に起因する誤差を低減することより、被検光学系の収差を高精度に算出することができる。本実施例では、波動光学シミュレーションによりあらかじめ作成しておいたシミュレーション画像と実際に撮像して得られた実干渉縞画像とが、キャリア周波数とキャリア周波数成分の位相において一致するようにトールボット干渉計の回折格子3の位置を調整する。図6は、被検光学系Lの収差を計測する、実施例2のトールボット干渉計の光路図である。本実施例のトールボット干渉計は、回折格子3を干渉計の光軸OAの方向および光軸OAとは垂直な方向回折格子3の面内方向に移動させる移動機構7を有する。図7は、実施例2における収差計測を示すフローチャートである。まず、波動光学シミュレーションにおいて、トールボット条件を満たし干渉縞が高コントラストとなるように各光学素子被検光学系L、回折格子3および撮像素子4などの位置を設定する。そして、波動光学シミュレーションを実行して干渉縞のシミュレーション画像を得るS301。波動光学シミュレーションの入力波面Φ2の収差の初期値は、被検光学系Lの設計に基づく予測値もしくはゼロとする。次に、シミュレーションで設定した位置に、実際の干渉計において各光学素子を配置し、撮像素子4を用いて実際に実干渉縞画像Iaを検出して、計算機5の取得部がその画像データを取得するS302。計算機5の演算部は、S301で取得したシミュレーション画像からキャリア周波数fsを、S302で取得した実干渉縞画像Iaからキャリア周波数feを算出するS303。続いて、移動機構7を用いて、干渉計の光軸方向における回折格子3の位置を像面からZsfs-fe/fsだけ離した後に、撮像素子4により実干渉縞画像Ibを得るS304。S303で算出されたfeとfsとの差がなければS304を行う必要はない。計算機5の演算部は、シミュレーション画像からキャリア周波数成分の位相θs、実干渉縞画像Ibからキャリア周波数成分の位相θeを算出するS305。続いて、移動機構7を用いて回折格子3の面内位置をキャリア周波数の方向にdθs-θe/2πだけ移動させた状態で、撮像素子4により実干渉縞画像Icを撮像するS306。計算機の演算部は、実干渉縞画像Icに基づいて復元波面Φ1を算出し、さらに、シミュレーション画像に基づいて復元波面Φ3を算出した後S307、復元波面Φ1から被検光学系の収差以外の誤差を除くことによって被検光学系の収差Φを計算する。具体的には、Φ1-Φ3-Φ2等の計算処理を行う。そして、その計算処理により求めた波面を計算機5の表示部に被検光学系Lの収差として表示するS308。なお、Φ2と、図7のフローチャートを実行して求まったΦ3が大きくかけ離れる場合、S306の後、図2のS104、S105,S106をさらに実行することで収差の算出精度を高めることができる。また、先に求めた被検光学系Lの収差を入力波面Φ2の新たな値として設定し、S301~S308を繰り返し行うことで、被検光学系Lの収差の算出精度を高めてもよい。本実施例によれば、回折格子の面内位置に起因する誤差を低減することにより、高精度に被検光学系の収差を計測することができる。なお、実施例1と実施例2とを組み合わせて用いても良い。図8は、トールボット干渉計を備えた露光装置20の概略ブロック図である。露光装置20は、光源部21からの光を用いて、原版のパターンの像を基板に投影して基板を露光する投影露光装置である。真空容器22には、照明光学系23、原版ステージ24、投影光学系25、基板ステージ26、トールボット干渉計の一部が設けられている。光源部21は波長約13.5nmのEUV光を発振する光源であり、EUV光は、大気に対する透過率が低いため、主要な光学系は真空容器22に収納されている。照明光学系23は、EUV光を伝播して原版マスク又はレチクルMを照明する光学系であり、トールボット干渉計の照明光学系またはマスク2としての機能も有する。原版Mの近傍にはピンホール板が設けられている。原版Mは、反射型で、基板に転写されためのパターンが形成され、原版ステージ24に支持及び駆動される。投影光学系25は、原版Mのパターンの像を基板Wに投影し、両者を光学的に共役に維持する反射型光学系である。投影光学系25は、トールボット干渉計が計測する被検光学系Lであり、被検光学系Lは、本実施例のように、屈折光学系でなくてもよい。基板Wには感光体が塗布され、基板ステージ26に支持及び駆動される。トールボット干渉計は投影光学系25の収差を計測する。トールボット干渉計の回折格子3と撮像素子4は、基板ステージ26に搭載されているが、独立の計測用ステージに配置されていてもよい。回折格子3と撮像素子4はそれぞれ基板ステージ26に設けられた不図示の移動手段によって投影光学系25の光軸方向および光軸に垂直な方向に移動することができる。露光において、光源部21からの光は照明光学系23を介して原版Mを照明する。原版Mからの回折光は投影光学系25により基板Wに投影される。露光装置20にトールボット干渉計を搭載して投影光学系21の収差を計測することによって投影光学系21の収差及びその経時変化を補正することができるので、露光精度を高めることができる。つぎに、本発明の一実施形態のデバイス半導体デバイス、液晶表示デバイス等の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハ等の基板に集積回路を作る前工程と、前工程で作られた基板上の集積回路を半導体チップ等の製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布された基板を露光する工程と、基板を現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程ダイシング、ボンディングと、パッケージング工程封入を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板等の基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布された基板を露光する工程と、基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。"