"走行する帯状可撓性支持体に塗布液を連続的に塗布手段により塗布し、塗布された塗布膜を乾燥させる塗布膜の乾燥装置において、塗布膜面側の支持体に近接した位置に、支持体幅方向に開いたスリットを有するスリット板が支持体流れ方向に連続して配置され、そのスリットの角度が支持体垂直方向に対して、隣接のスリット角度が、交互に鋭角と鈍角となっていることを特徴とする乾燥装置。前記スリット板に対して、前記支持体と反対側に、給気と排気を有する送風排気手段を備えたことを特徴とする、請求項1に記載の乾燥装置。前記支持体に対して、スリット板と反対側に、支持体加熱手段を備えたことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の乾燥装置。前記スリット板と、前記支持体との間隔が1mmから50mmであることを特徴とする、請求項1または請求項2または請求項3に記載の乾燥装置。本発明は上記したように、精密な膜厚制御を必要とする成膜工程において、効率的な乾燥能力を保ちつつ、乾燥ムラの発生を抑制することができる塗布膜の乾燥装置を提供することである。本発明は上記の課題を解決するために、まず発明の請求項1に係る発明は、走行する帯状可撓性支持体に塗布液を連続的に塗布手段により塗布し、塗布された塗布膜を乾燥させる塗布膜の乾燥装置において、塗布膜面側の支持体に近接した位置に、支持体幅方向に開いたスリットを有するスリット板が支持体流れ方向に連続して配置され、そのスリットの角度が支持体垂直方向に対して、隣接のスリット角度が、交互に鋭角と鈍角となっていることを特徴とする乾燥装置。請求項2に係る発明は、前記スリット板に対して、前記支持体と反対側に、給気と排気を有する送風排気手段を備えたことを特徴とする、請求項1に記載の乾燥装置。請求項3に係る発明は、前記支持体に対して、スリット板と反対側に、支持体加熱手段を備えたことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の乾燥装置。請求項4に係る発明は、前記スリット板と、前記支持体との間隔が1mmから50mmであることを特徴とする、請求項1または請求項2または請求項3に記載の乾燥装置本発明によれば、塗布膜面から蒸発した溶剤成分が、その自重によって緩やかに支持体とスリット板間を落下し、交互に鈍角と鋭角になったスリットからの流れを自然に形成することによって、整流された新鮮風による乾燥を実現でき、乾燥効率を維持しつつ、ムラの発生を抑制することが出来る。特に、ムラの発生に大きく影響を与える、乾燥初期部分に設置することにより、より効果を発揮することが出来る。また、本発明によれば、前記整流された新鮮風を制御することができ、安定して乾燥効率維持と、ムラ抑制が可能となる。また、本発明によれば、支持体を加熱することが出来、ムラを抑制しつつ、乾燥効率を上げることも可能となる。また、本発明によれば、スリット板と支持体との間隔を1mmから50mmと狭く保つことにより、ムラの発生をよりよく制御出来るようになる。本発明の乾燥装置を実施の形態に沿って以下に図面を参照にしながら詳細に説明する。図1は本発明の一実施例を示す。本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。本発明の乾燥装置は図1に示すように、巻き出し3より巻き出された支持体4の片方の面に、塗工ヘッド1にて液状組成物を塗布した後に、塗布面近傍にスリット板5が近接して設置される。スリット板5は、支持体幅方向に、少なくとも塗布幅以上に開口しており、幅方向全体に空気の出入りが可能となっている。また、スリット板5のスリットは、支持体流れ方向に連続的に複数開口しており、その開口角度が、支持体直角方向に対して、交互に鋭角と鈍角を繰り返す構造となっている。ここでスリット板5の全体の設置角度は、水平ではなく、角度を持って設置され、塗布対象品種や、含有溶剤種類によって任意に設定される。スリット板5に対して支持体と反対側には、排気および吸気を備えた送風装置6を設置しても良く、送風の方向は、支持体流れ方向でも、幅方向でも構わない。また、支持体に対してスリット板と反対側に、支持体加熱手段7を設置しても良く、支持体加熱方式としては、近赤外線ヒーター、遠赤外線ヒーター、熱線ヒーター、マイクロ波ヒーター、等による非接触加熱方式や、温水、蒸気、オイル、熱線等によって熱せられたロールを抱かせることによって支持体を加熱する接触加熱方式でも良い。また、スリット板と塗布された支持体との距離は1mmから50mmの間に設定することが望ましく、塗布対象によって、選択できることが望ましい。本発明における乾燥装置は、塗布膜面に悪影響を与えず蒸発溶剤を取り除き、わずかな乾燥ムラの発生を抑制することができるため、その効果が最も現れるのは乾燥初期である。したがって、乾燥装置の全長すべてが本発明の乾燥装置によるものではなく、基材4への塗布直後の乾燥初期段階のみに本発明の乾燥装置を導入することも可能である。その場合、本発明の乾燥装置の後に、公知の第二乾燥装置を導入してもよい。第二乾燥装置としては、スリットノズルやパンチングメタルから基材に形成された塗布膜に温度を上昇させた噴流を当てるような方式を導入しても良いし、クイックリターン方式のノズルや基材の搬送方向に平行流を流す方式のノズルから熱風を噴出する方式でも良い。また、片面だけでなく両面から加熱手段を設けても良い。市販されているいかなる乾燥装置を使用しても本発明の効果をさまたげるものではない。本発明で使用される塗工ヘッド1としては、ダイコーター、バーコーター、カーテンコーター、エクストルージョンコーター、ロールコーター、ディップコーター、スピンコーター、グラビアコーターなどの装置を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。本発明で使用される支持体4は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテートトリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフイルムなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、紙および紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が2~10のα-ポリオレフィン類を塗布又はラミネートしたもの、さらに、アルミニウム、銅、錫等の金属箔も挙げられるが、これらに限定されるものではない。本発明で使用される塗布液は、溶剤を含むものであり、基材上に塗膜を形成するものであれば、公知のいずれの塗布液を用いることができる。本発明で使用される溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2-メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトールブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタンオクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられ、1種、または、2種類以上の混合物として用いてよいが、これらに限定されるものではない。図1に示すような乾燥装置により、基材に塗布液を塗布した直後の塗布膜を乾燥させて、乾燥ムラが発生するかどうかを確認した。塗布直後よりスリット板を配置し、スリット板に対して支持体と反対側にボックスを設置し、支持体流れ方向に送風機能を設けた。また、支持体に対してスリット板と反対側に、遠赤外線ヒーターを設置した。ここで、スリット板の全長は2mとし、支持体とスリット板の間隔を10mmとした。各スリットの間隔は50mmとし、スリット板の厚さを30mm、スリットの幅は5mmとした。また、スリットの角度は支持体垂直方向に対して45°にて、交互に配置した。送風機の風速は約1m/minになるように調整し、ボックス内の圧力をゼロになるように、排気側送風機をコントロールした。また、遠赤外線ヒーターの表面温度が100°Cになるように調整し、支持体からの距離が100mmになるように配置した。塗布液としては、トルエン溶剤50、アクリル系樹脂50の塗布液を用い、基材には厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフイルムを用いた。塗布条件としては、塗布速度20m/minでダイコーティングにより塗布を行った。上記条件にて塗布を行ったところ、問題となるようなムラは確認できなかった。<比較例>本発明の乾燥装置を全く設置していない状態にて、上記実施例と同じ条件にて塗布を行ったところ、塗布膜にモヤモヤとしたムラが確認でき、製品としては良品を得ることが出来なかった。"