"下記a~fを含む、酸性ガスを除去するのに用いる苛性スクラバーで生じる汚染堆積物の形成を減らす方法:a基本的にNaOH、KOHまたはLIONの一つまたは複数から成るアルカリ性水溶液が供給される苛性スクラバーを用意し、b上記苛性スクラバーのアルカリ性溶液の存在下で重合体の汚染堆積物を作る危険性のある酸素含有化合物と酸性ガスとで汚染されたオレフィン含有炭化水素流を用意し、c上記の炭化水素流を苛性スクラバーへ送って基本的に酸性ガスを含まないオレフィン含有炭化水素流を回収し、d汚染堆積物の形成を減らすのに有効な量の溶剤を苛性スクラバー中および/または苛性スクラバーに送られるアルカリ性溶中に導入し、e苛性スクラバー出口の液体を、アルカリ性溶液から溶剤を分離する手段へ送り、f必要に応じて、苛性スクラバーのアルカリ性溶液の存在下で重合体汚染堆積物への酸素含有化合物の転化を減らすことができる添加剤を、苛性スクラバー中および/またはスクラバーへ送られるアルカリ性溶液中に導入する。段階eでアルカリ性溶液から分離された溶剤を処理して重質化合物を除去し、段階dへ再循環する請求項1に記載の方法。段階eで溶剤をアルカリ性溶液から分離する手段を苛性スクラバーの底部に配置する請求項1または2に記載の方法。酸素含有化合物がカルボニルのエノール化成分である請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。オレフィン含有炭化水素流中の酸素含有化合物の比率が15000wppm以下である請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。オレフィン含有炭化水素流中の酸素含有化合物の比率が10ppm~15000wppmである請求項5に記載の方法。オレフィン含有炭化水素流中の酸性ガスの比率が1以下である請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。オレフィン含有炭化水素流中の酸性ガスの比率が1ppm~1000ppmである請求項7に記載の方法。アルカリ性溶液流に対する溶剤の重量比が0.1以下、一般には0.02~0.1である請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。苛性スクラバーが互いに異なる苛性濃度を有する複数のステージを有する請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。溶剤の注入と抜き出しが各ステージにある請求項10に記載の方法。苛性スクラバーを出たオレフィン含有炭化水素流を、水が供給されるスクラバー水スクラバーへ送って、オレフィン含有炭化水素中の全てのアルカリ含有量を除去する請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。上記水スクラバーを苛性スクラバーの頂部に配置する請求項12に記載の方法。上記水スクラバー中へ溶剤を注入して、頂部に随伴することのあるレッドオイルRedOilsの水を洗浄する請求項12に記載の方法。本発明は、酸性ガスを除去するために使用する苛性スクラバー中に生じる堆積物の形成を減らす方法を提供する。本発明方法は下記a~fを含む、酸性ガスを除去するのに用いる苛性スクラバーで生じる汚染堆積物の形成を減らす方法にある:a基本的にNaOH、KOHまたはLIONの一つまたは複数から成るアルカリ性水溶液が供給される苛性スクラバーを用意し、b上記苛性スクラバーのアルカリ性溶液の存在下で重合体の汚染堆積物を作る危険性のある酸素含有化合物と酸性ガスとで汚染されたオレフィン含有炭化水素流を用意し、c上記の炭化水素流を苛性スクラバーへ送って基本的に酸性ガスを含まないオレフィン含有炭化水素流を回収し、d汚染堆積物の形成を減らすのに有効な量の溶剤を苛性スクラバー中および/または苛性スクラバーに送られるアルカリ性溶中に導入し、e苛性スクラバー出口の液体を、アルカリ性溶液から溶剤を分離する手段へ送り、f必要に応じて、苛性スクラバーのアルカリ性溶液の存在下で重合体汚染堆積物への酸素含有化合物の転化を減らすことができる添加剤を、苛性スクラバー中および/またはスクラバーへ送られるアルカリ性溶液中に導入する。本発明の一実施例では、段階eでアルカリ性溶液から分離された溶剤を処理して重質化合物を除去して段階dへ再循環する。この処理はストリッピングまたは蒸留にすることができる。本発明の一実施例では、段階eで溶剤をアルカリ性溶液から分離する手段を苛性スクラバーの底部に配置する。本発明の一実施例では、苛性スクラバーが苛性アルカリ濃度の異なる複数のステージを有する。各ステージに溶剤の注入部と抜取り部を配置することができる。アルカリ性溶液のNaOH、KOHまたはLiOHの濃度は3~30の重量、有利には5~15にすることができる。NaOHを用いるのが有利である。苛性の追加は苛性スクラバーの一つまたは複数の箇所で行うことができる。苛性スクラバーの一つまたは複数の箇所でアルカリ性溶液をパージすることができる。苛性のスクラバーとしては通常の吸収システムで使用されるカラムを挙げることができる。本発明の一実施例では、吸収システムとして充填カラムを使用するが、プレート式吸収塔も使うことができる。他の実施例では吸収塔が吸収塔の頂部に位置したアルカリ性溶液液体の入口を有する。吸収カラムの液体アルカリ性溶液はカラムの頂部全体に均一に分配される。吸収液体を均一に分配するために液体分配板を使用するか、スプレーノズルを使用するのが望ましい。吸収カラムの底部には酸素含有化合物および酸性ガスで汚染されたオレフィン含有炭化水素流を吸収塔中へ入れるガス入口がある。蒸気成分はカラム中を上昇し、吸収カラム中を下降する吸収液体と向流する。これは向流吸収として公知である。カラム中のパッキンまたはプレートはカラム中で蒸気と液体成分との間が密に接触するための表面を提供する。向流吸収塔では、液相中および気相中の可溶性ガスの濃度はカラム底部で最大で、カラム最上位で最低である。液体の出口は吸収塔の底部、一般にはガス入口の下側にある。液体吸収剤に最も可溶なガスが減った気相の出口は吸収塔の最上部、一般には液体入口より上側にある。苛性スクラバーは任意の圧力、有利にはオレフィン含有炭化水素流の圧力よりわずかに低い圧力下で運転することができる。温度はアルカリ性溶液が液体を保つような温度である。本発明の一実施例では、苛性スクラバーをでるオレフィン含有炭化水素流は、水が供給されるスクラバー水スクラバーへ送られて、オレフィン含有炭化水素流中の全てのアルカリ含有量を除去する。本発明の好ましい実施例では上記の水スクラバーは苛性スクラバーの上方にある。本発明の一実施例では、この水スクラバー中には溶剤炭化水素等が噴射されて、この頂部セクションに随伴するレッドオイルRedOilsの水を洗浄する。酸素含有化合物および酸性ガスで汚染されたオレフィン含有炭化水素流中の酸素含有化合物は例えばカルボニル化合物である。炭素酸素二重結合を有し、エノール化可能な全ての分子はレッドオイルRedOilsを作る。このカルボニル化合物にはアルデヒドおよびケトンを含むが、これに限定されるものではない。アルデヒドとしてはアセトアルデヒドおよびプロピオンアルデヒドが挙げられる。ケトンの中ではアセトンおよびより高分子量ケトンが挙げられる。オレフィン含有炭化水素流中の酸素含有化合物の比率は1.5重量以下、通常は10ppmから15000wppm、200~5000wppm、大抵は300~3000wppmの範囲である。オレフィン含有炭化水素流中の酸性ガスの比率は1重量以下、通常は1wppmから1000wppmで変る。酸性ガスは例えばCO2およびH2Sである。酸素含有化合物および酸性ガスで汚染したオレフィン含有炭化水素流は例えばアルコール脱水ユニットまたはMTOユニットから来る。汚染堆積物の形成を減らすことができる溶剤は基本的にアルカリ性溶液に不溶な溶剤を選ぶことが勧められる。この溶剤は炭化水素にすることができ、芳香族、例えばベンゼン、トルエンおよびキシレンを挙げることができる。溶剤は苛性スクラバー中へ供給するか、一部を苛性スクラバーへ送られるアルカリ性溶液中へ供給し、一部を苛性スクラバーへ導入することができる。アルカリ性溶液流に対する溶剤の重量比は0.1以下、通常は0.02~0.1の範囲である。必要に応じて、溶剤を苛性スクラバーの各ステージへ導入できる。このアルカリ性溶液流とはパージ分を補償するために導入される新しいアルカリ性溶液であるアルカリ性溶液の追加分を意味する。アルカリ性溶液の存在下で酸素含有化合物を重合体の汚染堆積物へ転化させるのに有効な添加剤としては、酸素含有化合物のスカベンジャー、有利にはカルボニルスカベンジャーを挙げることができ、硼化水素、ヒドロキシルアミンおよび硫酸ヒドロキシルアミンを挙げることができる。他の例として特許文献2米国特許第US5,770,041号明細書を挙げることができる。この特許では非エノール化カルボニル化合物の堆積物抑制有効量を苛性溶液に加える。好ましい非エノール化カルボニル化合物はホルムアルデヒド、グリオキサール、ベンズアルデヒド、p-アニスアルデヒド、蟻酸、グリオキサル酸およびパラホルムアルデヒドである。非エノール化カルボニル化合物はカルボニルに対する非エノール化カルボニルのモル比が約25:1からまで3:1となる量で、消費された苛性スクラバー/ストリッパーシステムに加えることができる。その好ましい比は約10:1から3:1であり、最も好ましい比は約5:1から3:1である。他の例として特許文献4米国特許第US5,194,143号明細書を挙げることができる。この特許ではアセトアセテートエステル化物の有効量を苛性スクラバーシステムに加える。このエステルは式:CH3COCH2CO2CxHyであるのが有利である。ここで、xは1~約8の整数であり、yは約3~約17の整数である。1モルのアルデヒドに対して1モルのアセトアセテートエステル化物が必要である。アセトアセテートエステル化物は1モルのアルデヒドに約0.5~約10モルの量で苛性スクラバーに加えなければならない。好ましい供給比は1モルのアルデヒドに対して1~約3モルのアセトアセテートエステル化物、特に好ましいモル比は1.0である。アセトアセテートエステル化物は、アセトアセテートエステルが全ての望ましくない未反応のカルボニル汚染物と反応するのに十分なモル量となる量で塩基洗浄装置に加えなければならない。この特許の方法では充分な量のアセトアセテートエステル化合物が洗浄礎システム中に存在することが必要である。塩基洗浄システム中へのアセトアセテートエステル化合物の添加量の範囲は洗浄する炭化水素中の不純物レベルに依存する。カルボニルのレベルを測定する方法がない場合には、大まかに言って100万部の塩基洗浄液に対して約1~約10,000ppmのアセトアセテートエステル化合物が充分な処理範囲である。他の例として特許文献3を挙げることができる。この特許では2-アミノフェノール、4-アミノフェノール、4-アミノベンゼンスルホン酸およびその塩、4-アミノ-o-クレゾール、3-アミノフェノール、2-アミノ安息香酸およびその塩、3-アミノ安息香酸およびその塩および4-アミノ安息香酸およびその塩から成る群の中から選択される苛性溶液に可溶な置換芳香族アミンの沈澱抑制有効量を苛性溶液に添加する。好ましい置換芳香族アミンは4-アミノベンゼンスルホン酸のソーダ塩の水溶液である。置換芳香族アミンはカルボニルに対するアミンのモル比を約10:10~約1.0:25.0にしてアルカリスクラバーに加えることができる。置換芳香族アミンはカルボニルに対するアミンのモル比を約1.0:3.0~約1.0:9.0にしてアルカリスクラバーに加えるのが好ましく、最も好ましくはカルボニルに対するアミンのモル比で約.0:1.0~1.0:2.0にして置換芳香族アミンをアルカリスクラバーに加える。他の例として特許文献5を挙げることができる。米国特許第US6,372,121号明細書この特許ではα-アミノ酸およびそのエステル、アミドおよびその塩およびこれらの混合物またはメルカプト酢酸Mercaptoaceticおよびそのアルキルエステルから成る群の中から選択される化合物をカルボニル化合物を含む流れまたは塩基洗浄単位操作へ加える。上記化合物は水溶性かつ塩基可溶で、上記の流れの中または塩基洗浄単位操作中に凝集しないものを選択する。上記の流れはその流れが塩基洗浄単位操作に入る前か、入る時に同時に上記化合物と接触させる。あるいは、上記の流れはその流れが塩基洗浄単位操作に入る前か、入る時に同時に塩基洗浄単位操作に加える。カルボニル化合物を含む上記の流れ中または塩基洗浄単位操作中へ加える上記化合物の量は約0.01ppm~約10000ppm、好ましくは約0.1ppm~約1000ppm、より好ましくは約1ppm~約100ppmである。他の例として特許文献6を挙げることができる。米国特許第US4,952,301号明細書この特許では有効量のエチレンジアミン化合物例えばエチレンジアミン、ジエチレントリアミン等を苛性洗浄システムに加える。この処理ではE.D.Aのモル量が望ましくないカルボニル汚染物の全てと反応するのに十分な量となるように洗浄系に加えなければならない。カルボニルの含有量を測定する方法がない場合の処理量は100万部の洗浄媒当たり約1~10,000ppmのE.D.Aである。他の例として特許文献7を挙げることができる。米国特許第US5,220,104号明細書この特許では第I族または第II族の金属の過炭酸化物の溶液を使用する。塩基洗浄に加える好ましい過炭酸化物の調整物は10の過炭酸ナトリウムと、90の水とから成る。この調整物を酸素化された化合物またはカルボニル化合物に対する過炭酸ナトリウムのモル比が1:1以上となるように洗浄物に加える。100万部の洗浄溶液当たり1~10,000部の上記調整物を使用して処理する。他の例としてヒドロキシルアミンおよびその塩を記載した特許文献8を挙げることができる。米国特許第US4,673,489号明細書この特許ではインヒビターがカルボニル化合物と錯体を形成し、この錯体は重合せず、従って、汚染を防ぐことができると記載されている。1モルのカルボニル化合物当たり1モルのインヒビターが必要である。しかし、他の未知の副反応によってインヒビターが消費されるので、モル比は1:1以上にしなければならない。一般に、カルボニル含有量に対するインヒビターのモル比は1:1で十分であり、好ましくは1:1~3:1である。塩基洗浄物に加えるヒドロキシルアミン調節物の好ましい重量組成は12のヒドロキシルアミンまたはその塩化物または硫酸塩と88の水である。この調節物を酸素化物またはカルボニル化合物に対してヒドロキシルアミンのモル比が1:1以上となるような量で洗浄物に加える。処理では100万部の洗浄溶液に対して約1~10,000部の調節物を使用することができる他の例としては炭化水素流の洗浄での塩基溶液中の汚染原料の形成、析出を抑制する方法に関する特許文献9を挙げることができる。欧州特許第EP264280号公報この特許では酸素化炭化水素成分の重合体の形成に起因する汚染を抑制するために充分な量の水溶性亜硫酸塩または亜硫酸水素塩を塩基洗浄液に加える。非エノール化カルボニル化合物の例としてはグリセルアルデヒドのようなアルドースまたはより高い分子量のアルドースを挙げることができる。これらのアルドースは末端アルデヒドおよび一般組成CH2Oを有する化合物と定義される。非エノール化アルデヒド基が残るこれらアルドースからの誘導体も有効である。また、アルドースのヒドロ化可能なダイマーもスクラバー中で加水分解されるので、有効である。[図1]は本発明の実施例を示し、1は酸素含有化合物と酸性ガスで汚染されオレフィン含有炭化水素流であり、2は基本的に酸性ガスを含まないオレフィン含有炭化水素流である。この実施例は2つの苛性スクラバーと、頂部の水スクラバーとを有する。以下の実施例ではアルカリ性溶液は全てNaOH溶液である。最初の実験はポリアルドールの生成に対する各種アルデヒドまたはケトンを比較する。アセトアルデヒドが最高のポリアルドール先駆体であるということが明らかになった。この分子のメチル部の水素基の酸性度からこれは驚くべきことではない。アセトアルデヒド濃度を変えると、作られるポリアルドールの量はアセトアルデヒド濃度とともに直線的に増加する。しかし、平均5つのアセトアルデヒドを有するポリアルドールを作るとした場合、最大のポリアルドール含有量は初期濃度が1000ppmの時に660mg/100m1である。これは単に平均で、実際には異なるモル重量のポリアルドールの混合物である。この予想をベースにすると、アセトアルデヒド濃度とともにポリアルドール収率が増加することが分かる。苛性タワーでは有効面積上での滞留時間は約30分であるので、この滞留時間の近くで実験を行なった。この条件下ではポリアルドールのせ形成は時間とともに直鎖的に増加する。これはデッドゾーンでの滞留時間を減らし、苛性アルカリを更新することの重要性を示している。次の表から40°Cを越えると温度が収率に重要な影響を与えることが明らかである。苛性濃度も影響する。いくつかのスチームクラッカー苛性タワSteamcrackerCausticTowerでは洗浄オイルWashOilsを使用した。または、複数の芳香族の凝縮をした。ポリアルドール形成におけるトルエン存在の影響をテストした。溶剤の存在はポリアルドールを抽出すると共に、ポリアルドールの形成を減らすことが明らかである。2つの異なるタイプの添加剤をテストした。NaBH4はアルデヒド官能基を水素化し、ヒドロキシルアミンはアルデヒドとオキシムを作る。最初のテストではアセトアルデヒドの同じ潜在的転化をテストした。硫酸ヒドロキシルアミンが最も活性であるようにみえる。しかし、相違は反応性にあり、反応速度が多分異なるであろう。このテストと工業的状況との違いは全てのアセトアルデヒドを苛性アルカリ中に迅速に混入する点と、全ての添加剤を混合する点である。工業的状況下ではアセトアルデヒドの連続吸収と添加剤の連続的添加とが平衡状態にある。NaBH4についての他の相違点は添加剤の全化学量論量を加える点にある。"