Crが20mol以下、残余がCoである組成の金属中に、酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相Aと、前記相Aの中に、金属素地と異なる成分組成の金属相Bを有し、前記金属相Bの最外周より2μm以内に酸化物が占める面積率が80以下で、かつ、前記相Bの平均粒径が10μm以上150μm以下あることを特徴とする非磁性粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット。Crが20mol以下、Ptが5mol以上30mol以下、残余がCoである組成の金属中に酸化物からなる非磁性材量粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相Aと、前記相Aの中に、金属素地と異なる成分組成の金属相Bを有し、前記金属相Bの最外周より2μm以内に酸化物が占める面積率が80以下で、かつ前記相Bの平均粒径が10μm以上150μm以下であることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。前記金属相Bの最外周より2μm以内に占める酸化物の平均長径が10μm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。前記金属相Bの平均アスペクト比が1:2~1:10であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。前記金属相Bは、Cr含有率が10wt以下であるCo合金相である扁平状の相であることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。添加元素としてB、Ti、V、Mn、Zr、Nb、Ru、Mo、Ta、Wから選択した1元素以上を、0.5mol以上10mol以下含有することを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。スパッタリングターゲットの断面において、扁平状の前記金属相Bの占める面積率が、15~50であることを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。一般に、マグネトロンスパッタ装置で強磁性材スパッタリングターゲットをスパッタしようとすると、磁石からの磁束の多くは強磁性体であるターゲット内部を通過してしまうため、漏洩磁束が少なくなり、スパッタ時に放電が立たない、あるいは放電しても放電が安定しないという大きな問題が生じる。この問題を解決するには、スパッタリングターゲットの製造工程で30~150μm程度の母相と成分組成が異なるように考慮して金属粗粒を投入し、ターゲットの組織を意図的に不均一にすることが知られている。これにより、焼結後に前記金属粗粒は母相とは成分組成が異なる金属相を形成し、スパッタリングターゲットの比透磁率を小さくして、漏洩磁束を多くすることより、安定的な放電を得ることができた。しかし、この金属相を形成させると、パーティクルが増加する傾向にあった。本発明は上記問題を鑑みて、マグネトロンスパッタ装置で安定した放電が得られるとともに、スパッタ時のパーティクル発生が少ない、漏洩磁束を向上させた強磁性材スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。上記の課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究を行った結果、ターゲットの組織構造を調整することにより、漏洩磁束の大きく、かつ、パーティクル発生の少ないターゲットが得られることを見出した。このような知見に基づき、本発明は、1Crが20mol以下、残余がCoである組成の金属中に、酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相Aと、前記相Aの中に、金属素地と異なる成分組成の金属相Bを有し、前記金属相Bの最外周より2μm以内に酸化物が占める面積率が80以下で、かつ、前記金属相Bの平均粒径が10μm以上150μm以下あることを特徴とする非磁性粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット。また、本発明は、2Crが20mol以下、Ptが5mol以上30mol以下、残余がCoである組成の金属中に、酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した非磁性材料分散型強磁性スパッタリングターゲットであって、このターゲット組織が、金属素地に酸化物からなる非磁性材料粒子が分散した相Aと、前記相Aの中に、金属素地と異なる成分組成の金属相Bを有し、前記金属相Bの最外周より2μm以内に酸化物が占める面積率が80以下で、かつ、前記金属相Bの平均粒径が10μm以上150μm以下あることあることを特徴とする非磁性粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット。さらに、本発明は、3前記金属相Bの最外周より2μm以内に占める酸化物の平均長径が10μm以下であることを特徴とする上記1又は2に記載の強磁性材スパッタリングターゲット。さらに、本発明は、4前記金属相Bは、平均アスペクト比が1:2~1:10である扁平状の相であることを特徴とする上記1~3のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。さらに、本発明は、5前記金属相BのCr含有率が10wt以下であるCo合金相であることを特徴とする上記1~4のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。さらに、本発明は、6添加元素としてB、Ti、V、Mn、Zr、Nb、Ru、Mo、Ta、Wから選択した1元素以上を、0.5mol以上10mol以下含有することを特徴とする上記1~5のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。さらに、本発明は、7スパッタリングターゲットの断面において、前記金属相Bの占める面積率が、15~50であることを特徴とする上記1~6のいずれかに記載の強磁性材スパッタリングターゲット。このように調整したターゲットは、漏洩磁束が大きく、マグネトロンスパッタ装置で使用したとき、不活性ガスの電離促進が効率的に進み、安定した放電が得られるので、ターゲットの厚みを厚くすることができるため、ターゲットの交換頻度が少なくなり、低コストで磁性体薄膜を製造できるというメリットがある。また、パーティクル発生が少ないため、スパッタ成膜した磁気記録膜の不良品が少なくなり、コスト削減が可能となるというメリットがある。本発明の強磁性材スパッタリングターゲットを構成する主要成分は、Crが20mol以下、残余がCoである金属と、またはCrが20mol以下、Ptが5mol以上30mol以下、残余がCoである金属である。なお、前記Crは必須成分として添加するものであり、0molを除く。すなわち、分析可能な下限値以上のCr量を含有させるものである。Cr量が20mol以下であれば、微量添加する場合においても効果がある。本願発明は、これらを包含する。これらは、磁気記録媒体として必要とされる成分であり、配合割合は上記範囲内で様々であるが、いずれも有効な磁気記録媒体としての特性を維持することができる。本発明において重要なことは、ターゲットの組織が、周囲の組織と異なる成分組成の金属相Bを有し、前記金属相Bの最外周より2μm以内に酸化物が占める面積率が80以下で、かつ、前記金属相Bの平均粒径が、10μm以上150μm以下あることである。さらに、前記相Bの最外周より2μm以内に占める酸化物の平均長径が10μm以下であることが望ましい。最外周より1μm以内の酸化物の長径が10μmを超えると、相Aと相Bの焼結が不十分となり、スパッタリング時において前記相Bの脱離を助長し、パーティクルが発生する原因となるからである。本発明において使用する扁平状とは、例えば、楔くさび、三日月、上弦の月のような形状、若しくは、このような形状のものが2以上連結してなる形状のものを言う。また、これらの形状を定量的に規定した場合、短径と長径の比以下、アスペクト比と称す。が、平均で1:2~1:10のものがこれに該当する。なお、扁平状とは、上から見たときの形状であり、凹凸がなく完全に平べったい状態を意味するものではない。すなわち、多少の起伏又は凹凸があるものも含まれる。このような組織を有するターゲットにおいて、Coアトマイズ粉を楔のような形状にすることによって、まさに楔の効果で金属相の脱離によるパーティクル発生を防ぐことができる。また、球形を破壊することによって、アトマイズ粉が球形のときに生じたエロージョン速度の偏りを軽減することができ、エロージョン速度の異なる境界起因のパーティクル発生を抑制することができる。金属相Bは、平均粒径が10μm以上150μm以下とするのが望ましい。直径が10μm未満の場合は、ターゲット素材を焼結させる際に、金属元素の拡散が進み、相Aと相Bの合金組成が均一になってしまい、相Bの存在が不明確になってしまう。一方、150μmを超える場合には、スパッタリングが進むにつれてターゲット表面の平滑性が失われ、パーティクルの問題が発生しやすくなることがある。また、金属相Bの周囲の酸化物が周囲の組織の中で相対的に多く存在することになり、金属相Bの脱離が進みやすくなるので、スパッタ時のパーティクル発生の原因になる可能性が高くなる。従って金属相Bの大きさは10μm以上150μm以下とするのが望ましい。また、本発明において、金属相Bは、Cr含有率が10wt以下であるCo合金相であることが望ましい。この場合、Crの酸化物は標準生成自由エネルギーが低いので相A中の酸化物を還元し、Cr酸化物として金属相Bの外周に存在しやすくなるためである。また、本発明において、添加元素としてB、Ti、V、Mn、Zr、Nb、Ru、Mo、Ta、Wから選択した1元素以上を0.5mol以上10mol以下の配合比で含有させることも可能である。これらは磁気記録媒体としての特性を向上させるために、必要に応じて添加される元素である。さらに、本発明の強磁性材スパッタリングターゲットは、酸化物からなる無機物材料を、金属素地中に分散した状態で含有することができる。この場合、グラニュラー構造をもつ磁気記録膜、特に垂直磁気記録方式を採用したハードディスクドライブの記録膜の材料に好適な特性を備える。なお、前記酸化物からなる無機物材料に替えて、酸化物以外に、窒化物、炭化物、炭窒化物を用いることもできる。また、これらの無機物材料を複合して使用することもできる。これらは、酸化物と同等の機能を保有させることができる。このように調整したターゲットは、漏洩磁束の大きいターゲットとなり、マグネトロンスパッタ装置で使用したとき、不活性ガスの電離促進が効率的に進み、安定した放電が得られる。またターゲットの厚みを厚くすることができるため、ターゲットの交換頻度が少なくなり、低コストで磁性体薄膜を製造できるというメリットがある。そして、さらには、エロージョン速度の偏りを軽減でき、金属相の脱離を防止することができるため、歩留まり低下の原因となるパーティクルの発生量を低減させることができるというメリットがある。本発明の強磁性材スパッタリングターゲットは、溶解法または粉末冶金法によって作製される。粉末冶金法の場合は、まず各金属元素の粉末と、さらに必要に応じて添加金属元素の粉末を用意する。これらの粉末は最大粒径が20μm以下のものを用いることが望ましい。また、各金属元素の粉末の代わりにこれら金属の合金粉末を用意してもよいが、その場合も最大粒径が20μm以下とすることが望ましい。一方、小さ過ぎると、酸化が促進されて成分組成が範囲内に入らないなどの問題があるため、0.1μm以上とすることがさらに望ましい。そして、これらの金属粉末を所望の組成になるように秤量し、ボールミル等の公知の手法を用いて粉砕を兼ねて混合する。無機物粉末を添加する場合は、この段階で金属粉末と混合すればよい。無機物粉末としては炭素粉末、酸化物粉末、窒化物粉末、炭化物粉末または炭窒化物粉末を用意するが、無機物粉末は最大粒径が5μm以下のものを用いることが望ましい。一方、小さ過ぎると凝集しやすくなるため、0.1μm以上のものを用いることがさらに望ましい。さらに、直径が10~300μmの範囲にあるCoアトマイズ粉末を用意し、高エネルギーボールミルを用いて、Coアトマイズ粉と上記の混合粉末とを粉砕混合する。ここで、使用する高エネルギーボールミルは、ボールミルや振動ミルに比べて、短時間で原料粉末の粉砕混合をすることができる。または、用意した直径が50~300μmの範囲にあるCoアトマイズ粉末を個別で粉砕して粗粒を作製し、上記の混合粉末と混合することができる。混合装置としては、粉砕力を有していない、ミキサー、乳鉢などが好ましい。また、混合中の酸化の問題を考慮すると、不活性ガス雰囲気中あるいは真空中で混合することが好ましい。このようにして得られた粉末を、真空ホットプレス装置を用いて成型焼結し、所望の形状へ切削加工することで、本発明の強磁性材スパッタリングターゲットが作製される。また、成型焼結は、ホットプレスに限らず、プラズマ放電焼結法、熱間静水圧焼結法を使用することもできる。焼結時の保持温度はターゲットが十分緻密化する温度域のうち最も低い温度に設定するのが好ましい。ターゲットの組成にもよるが、多くの場合、800~1200°Cの温度範囲にある。焼結温度を低めに抑えることによって、焼結体の結晶成長を抑制することができるからである。また、焼結時の圧力は300~500kg/cm2であることが好ましい。以下、実施例および比較例に基づいて説明する。なお、本実施例はあくまで一例であり、この例によって何ら制限されるものではない。すなわち、本発明は特許請求の範囲によってのみ制限されるものであり、本発明に含まれる実施例以外の種々の変形を包含するものである。実施例1、比較例1実施例1では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉末を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が80.7Co-12Cr-7.3SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、SiO2粉末、Coアトマイズ粉末を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とSiO2粉末とCoアトマイズ粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で切削加工して直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットを得た。パーティクル数の評価についてパーティクル数の評価は、通常、製品で用いる膜厚記録層の厚さは5~10nmではパーティクル数の差が見えにくいため、膜厚を通常の200倍程度に厚膜にして厚さは1000nm、パーティクルの絶対数を増やすことで評価した。この結果を、表1に記載した。漏洩磁束の測定方法についてまた、漏洩磁束の測定は、ASTMF2086-01StandardTestMethodforPassThroughFluxofCircularMagneticSputteringTargetsMethod2に則して実施した。ターゲットの中心を固定し、0度、30度、60度、90度、120度と回転させて測定した漏洩磁束密度を、ASTMで定義されているreferencefieldの値で割り返し、100を掛けてパーセントで表した。そしてこれら5点について平均した結果を、平均漏洩磁束密度PTFとして表1に記載した。酸化物の面積率の測定方法についてまた、金属相Bの最外周より1μm以内に酸化物の占める面積率の測定は、焼結体スパッタリングターゲットを含むの切断面を用いて、220倍の視野において存在する前記酸化物の面積の合計を測定し、これを金属相Bの最外周より1μm以内の面積の合計で割った。これを任意の5視野において実施し、平均とした。なお、視野に一部分のみ含まれる金属相Bは除いた。また、金属相Bは、短径4μm以上のものについて測定した。この結果を、表1に記載した。酸化物の平均長径の測定方法についてまた、金属相Bの最外周より1μm以内に存在する酸化物の長径は、焼結体スパッタリングターゲットを含むの切断面を用いて、220倍の視野において存在する前記酸化物の長径を測定し、平均した。これを任意の5視野において実施し、平均とした。なお、視野に一部分のみ含まれる金属相Bは除いた。また、金属相Bは、短径4μm以上のものについて測定した。この結果を、表1に記載した。金属相Bの大きさの測定方法についてまた、金属相Bの大きさの測定は、焼結体スパッタリングターゲットを含むの切断面を用いて、220倍に拡大した写真上において、30cmの線分によって切断される金属相Bの数をかぞえ、その切断長さの平均値μmにより求めた。これの結果を、平均粒径として表1に記載した。金属相Bのアスペクト比の測定方法についてまた、金属相Bのアスペクト比は、焼結体スパッタリングターゲットを含むの切断面を顕微鏡で観察し、220倍の視野において存在する金属相Bの短径と長径を測定し、これらを平均した。そしてこれを任意の5視野において実施し平均とした。なお、視野の一部分のみに含まれる金属相Bは除いた。また、金属相Bは、短径4μm以上のものについて測定した。この結果を、表1に記載した。なお、表には記載していないが、金属相Bの占める面積率は、焼結体スパッタリングターゲットを含むの切断面を顕微鏡で観察し、220倍の視野において存在する金属相Bの面積を測定し、これを視野全体の面積で割ることにより求めることができる。また、精度を上げるために任意の5視野において実施し平均とすることができる。なお、アスペクト比の測定と同様に、視野の一部分のみに含まれる金属相Bは除いた。また、金属相Bは、短径4μm以上のものについて測定した。その結果、15~50となった。なお、表には記載していないが、金属相Bのうち目的形状となっている粒子の存在比率は、焼結体の切断面を顕微鏡で観察し、220倍の視野において存在する金属相Bのうち目的形状楔状などを含む扁平状となっている個数を計測し、これを視野全体に存在する金属相Bの個数で割った。これを任意の5視野において実施し、平均とした。なお、視野の一部分のみに含まれる金属相Bは除いた。また、金属相Bは、短径4μm以上のものについて測定した。その結果、90以上となった。比較例1では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が30~150μmの範囲にあるCo-Crアトマイズ粉末を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が80.7Co-12Cr-7.3SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、SiO2粉末、Co-Crアトマイズ粉末を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例1の定常状態のパーティクル数が29.3個であり、比較例1の166.7個より著しく減少していることが確認された。また、実施例1の平均漏洩磁束密度は60.6であり、比較例1の52.6に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例1の酸化物の面積率65であり、比較例1の85より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例1の金属相Bの平均粒径は70μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:1と真球になっていることが確認された。実施例1のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像を図1に示す。これに対し、比較例1では金属相Bの平均粒径は70μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:1と真球になっていた。比較例1のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像を図2に示す。このように実施例1においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例2、比較例2実施例2では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が30~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が80.7Co-12Cr-7.3SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、SiO2粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とSiO2粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例2では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が30~150μmの範囲にあるCr-Co粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が80.7Co-12Cr-7.3SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、SiO2粉末、Cr-Co粉砕粉を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例2の定常状態のパーティクル数が12.3個であり、比較例2の22.3個より減少していることが確認された。また、実施例2の平均漏洩磁束密度は54.0であり、比較例2の49.7に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例2の酸化物の面積率65であり、比較例2の85より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例2の金属相Bの平均粒径は30μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:5と扁平状になっていることが確認された。実施例2のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像を図3に示す。これに対し、比較例2では、金属相Bの平均粒径は50μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:3と扁平状になっていた。比較例2のターゲットの研磨面を光学顕微鏡で観察したときの組織画像を図4に示す。このように実施例2においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例3、比較例3実施例3では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が66Co-10Cr-15Pt-3TiO2-2SiO2-4Cr2O3molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、Cr2O3粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とPt粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、Cr2O3粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例3では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末、直径が30~150μmの範囲にあるCr-Coアトマイズ粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が66Co-10Cr-15Pt-3TiO2-2SiO2-4Cr2O3molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、Cr2O3粉末、Cr-Coアトマイズ粉を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例3の定常状態のパーティクル数が2.5個であり、比較例3の49.7個より減少していることが確認された。また、実施例3の平均漏洩磁束密度は52であり、比較例3の50.9に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例3の酸化物の面積率55であり、比較例3の90より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例3の金属相Bの平均粒径は100μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:5と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例2では、金属相Bの平均粒径70μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:1と扁平状になっていた。このように実施例3においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例4、比較例4実施例4では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径5μmのCo-B粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が62Co-14Cr-15Pt-2.5B-6.5SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、B粉末、SiO2粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とPt粉末、B粉末、SiO2粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例4では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径5μmのCo-B粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が30~150μmの範囲にあるCr-Coアトマイズ粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が62Co-14Cr-15Pt-2.5B-6.5SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、B粉末、SiO2粉末、Cr-Coアトマイズ粉を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例4の定常状態のパーティクル数が5.5個であり、比較例4の185.5個より減少していることが確認された。また、実施例4の平均漏洩磁束密度は55.2であり、比較例4の51.2に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例4の酸化物の面積率70であり、比較例3の85より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例4の金属相Bの平均粒径は120μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:6と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例2では、金属相Bの平均粒径70μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:1と扁平状になっていた。このように実施例4においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例5、比較例5実施例5では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が73Co-17Pt-5TiO2-5Cr2O3molとなるように、Co粉末、Pt粉末、TiO2粉末、Cr2O3粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とPt粉末、TiO2粉末、Cr2O3粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例5では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が73Co-17Pt-5TiO2-5Cr2O3molとなるように、Co粉末、Pt粉末、TiO2粉末、Cr2O3粉末を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例5の定常状態のパーティクル数が3.7個であり、比較例5の4.5個より減少していることが確認された。また、実施例5の平均漏洩磁束密度は33.6であり、比較例5の28に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例5の酸化物の面積率65であった。さらに、実施例5の金属相Bの平均粒径は100μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:10と扁平状になっていることが確認された。このように実施例5においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例6、比較例6実施例6では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径8μmのRu粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が68Co-17Pt-5Ru-5TiO2-5Cr2O3molとなるように、Co粉末、Pt粉末、Ru粉末、TiO2粉末、Cr2O3粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とPt粉末、Ru粉末、TiO2粉末、Cr2O3粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例6では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径8μmのRu粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が68Co-17Pt-5Ru-5TiO2-5Cr2O3molとなるように、Co粉末、Pt粉末、Ru粉末、TiO2粉末、Cr2O3粉末を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例6の定常状態のパーティクル数が2.6個であり、比較例5の3.5個より減少していることが確認された。また、実施例6の平均漏洩磁束密度は38.8であり、比較例6の32.9に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例6の酸化物の面積率60であった。さらに、実施例6の金属相Bの平均粒径は70μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:6と扁平状になっていることが確認された。このように実施例6においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例7、比較例7実施例7では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が70Co-5Cr-15Pt-2TiO2-3SiO2-5Cr2O3molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、Cr2O3粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とPt粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、Cr2O3粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例7では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCr2O3粉末、直径が30~150μmの範囲にあるCo-Crアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が70Co-5Cr-15Pt-2TiO2-3SiO2-5Cr2O3molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、Cr2O3粉末、Co-Crアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例7の定常状態のパーティクル数が9.1個であり、比較例7の120.5個より減少していることが確認された。また、実施例7の平均漏洩磁束密度は38.2であり、比較例7の36.5に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例7の酸化物の面積率70であり、比較例7の85より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例7の金属相Bの平均粒径は30μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:8と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例7では、金属相Bの平均粒径70μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:1と扁平状になっていた。このように実施例7においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例8、比較例8実施例8では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径5μmのCo-Mn粉末、平均粒径1μmのTa2O3粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が61Co-14Cr-17Pt-2Mn-1Ta2O3-5SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、Mn粉末、Ta2O3粉末、SiO2粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とPt粉末、Mn粉末、Ta2O3粉末、SiO2粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例8では、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径5μmのCo-Mn粉末、平均粒径1μmのTa2O3粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が30~150μmの範囲にあるCo-Cr粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が61Co-14Cr-17Pt-2Mn-1Ta2O3-5SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、Mn粉末、Ta2O3粉末、SiO2粉末、Co-Cr粉砕粉を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例8の定常状態のパーティクル数が10.1個であり、比較例8の60.2個より減少していることが確認された。また、実施例8の平均漏洩磁束密度は67.4であり、比較例8の65.5に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例8の酸化物の面積率65であり、比較例8の90より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例8の金属相Bの平均粒径は80μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:8と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例8では、金属相Bの平均粒径50μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:3と扁平状になっていた。このように実施例8においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例9、比較例9実施例9では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径5μmのMo粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCoO粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が61.5Co-7Cr-16.5Pt-2Mo-4TiO2-5SiO2-4CoOmolとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、Mo粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、CoO粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とPt粉末、Mo粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、CoO粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例9では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径5μmのMo粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCoO粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCo-Cr粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が61.5Co-7Cr-16.5Pt-2Mo-4TiO2-5SiO2-4CoOmolとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、Mo粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、CoO粉末、Co-Cr粉砕粉を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例9の定常状態のパーティクル数が9.5個であり、比較例9の51.5個より減少していることが確認された。また、実施例9の平均漏洩磁束密度は39.5であり、比較例9の38.2に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例9の酸化物の面積率60であり、比較例9の90より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例9の金属相Bの平均粒径は80μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:8と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例8では、金属相Bの平均粒径50μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:3と扁平状になっていた。このように実施例9においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例10、比較例10実施例10では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が68Co-10Cr-14Pt-8TiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、TiO2粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とPt粉末、TiO2粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例10では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCo-Cr粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が68Co-10Cr-14Pt-8TiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、TiO2粉末、Co-Cr粉砕粉を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例10の定常状態のパーティクル数が4.2個であり、比較例10の71.2個より減少していることが確認された。また、実施例10の平均漏洩磁束密度は43.5であり、比較例10の41.6に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例10の酸化物の面積率65であり、比較例10の85より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例10の金属相Bの平均粒径は30μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:6と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例8では、金属相Bの平均粒径50μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:3と扁平状になっていた。このように実施例10においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例11、比較例11実施例11では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径1μmのTa2O5粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が62Co-15Cr-17Pt-2Ta2O5-4SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、Ta2O5粉末、SiO2粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とPt粉末、Ta2O5粉末、SiO2粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例11では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径1μmのTa2O5粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCo-Cr粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が62Co-15Cr-17Pt-2Ta2O5-4SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、Ta2O5粉末、SiO2粉末、Co-Cr粉砕粉を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例11の定常状態のパーティクル数が8個であり、比較例11の50.5個より減少していることが確認された。また、実施例11の平均漏洩磁束密度は60.1であり、比較例11の58.2に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例11の酸化物の面積率60であり、比較例11の90より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例11の金属相Bの平均粒径は70μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:8と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例11では、金属相Bの平均粒径50μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:3と扁平状になっていた。このように実施例11においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例12、比較例12実施例12では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径30μmのTi粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCoO粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が57Co-17Cr-17Pt-2Ti-5SiO2-2CoOmolとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、Ti粉末、SiO2粉末、CoO粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とPt粉末、Ti粉末、SiO2粉末、CoO粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例12では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径30μmのTi粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、平均粒径1μmのCoO粉末、直径が30~150μmの範囲にあるCo-Cr粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が57Co-17Cr-17Pt-2Ti-5SiO2-2CoOmolとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、Ti粉末、SiO2粉末、CoO粉末、Co-Cr粉砕粉を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例12の定常状態のパーティクル数が10.1個であり、比較例12の90.5個より減少していることが確認された。また、実施例12の平均漏洩磁束密度は72.1であり、比較例11の70.8に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例12の酸化物の面積率65であり、比較例11の90より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例12の金属相Bの平均粒径は80μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:5と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例12では、金属相Bの平均粒径50μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:3と扁平状になっていた。このように実施例12においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。実施例13、比較例13実施例13では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径100μmのTa粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が50~150μmの範囲にあるCoアトマイズ粉粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が64Co-10Cr-15Pt-1Ta-5TiO2-5SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、Ta粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、Coアトマイズ粉粉砕粉を秤量した。次に、Co粉末とCr粉末とPt粉末、Ta粉末、TiO2粉末、SiO2粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。さらに得られた混合粉末とCoアトマイズ粉粉砕粉をボール容量約7リットルの遊星運動型ミキサーで10分間混合した。この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1050°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を、表1に示す。比較例12では、原料粉末として、平均粒径3μmのCo粉末、平均粒径5μmのCr粉末、平均粒径2μmのPt粉末、平均粒径100μmのTa粉末、平均粒径1μmのTiO2粉末、平均粒径1μmのSiO2粉末、直径が30~150μmの範囲にあるCo-Cr粉砕粉を用意した。これらの粉末をターゲットの組成が64Co-10Cr-15Pt-1Ta-5TiO2-5SiO2molとなるように、Co粉末、Cr粉末、Pt粉末、Ta粉末、TiO2粉末、SiO2粉末、Co-Cr粉砕粉を秤量した。そして、これらの粉末を、粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量10リットルのボールミルポットに封入し、20時間回転させて混合した。次に、この混合粉をカーボン製の型に充填し、真空雰囲気中、温度1100°C、保持時間2時間、加圧力30MPaの条件のもとホットプレスして、焼結体を得た。さらにこれを旋盤で直径が180mm、厚さが5mmの円盤状のターゲットへ加工し、パーティクル数をカウントし、平均漏洩磁束密度を測定した。この結果を表1に示す。表1に示すとおり、実施例13の定常状態のパーティクル数が8.8個であり、比較例13の90.5個より減少していることが確認された。また、実施例13の平均漏洩磁束密度は59.8であり、比較例13の57.1に比べて漏洩磁束密度が高いターゲットが得られた。また、光学顕微鏡で観察した結果、実施例13の酸化物の面積率60であり、比較例13の85より小さいターゲットが得られた。さらに、実施例13の金属相Bの平均粒径は70μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:6と扁平状になっていることが確認された。これに対し、比較例13では、金属相Bの平均粒径50μmであり、また、金属相Bのアスペクト比は1:3と扁平状になっていた。このように実施例13においては、周囲の組織とは成分組成が異なる金属相Bの最外周より1μm以内にある酸化物の占める面積率が80以下であることが認められた。そして、このような構造のターゲットにおいては、スパッタ時のパーティクルの発生が抑制し、かつ、エロージョンを均一にするとともに、漏洩磁束を向上させるために非常に重要な役割を有することが分かる。