"透明基板と、この透明基板上に設けられた回路パターン形状を有する透明導電膜とで構成される透明導電膜構造体において、上記透明導電膜の外縁近傍領域に、透明導電膜を貫通すると共に上記外縁と平行に設けられた複数のスリット群と非スリット群とで構成された屈折率緩衝部を有しており、この屈折率緩衝部は、その幅方向に亘って上記外縁と平行でかつ幅寸法が互いに同一の単位領域により区画されており、上記屈折率緩衝部における単位領域の屈折率が、透明基板と略同一の屈折率を有する最外側の単位領域から透明導電膜と略同一の屈折率を有する最内側の単位領域に向かって連続的に変化していることを特徴とする透明導電膜構造体。但し、上記透明導電膜の外縁と垂直な方向を屈折率緩衝部並びに単位領域の幅方向とし、かつ、各単位領域の屈折率は以下に定める空間屈折率とする。空間屈折率=透明導電膜の屈折率×単位領域内の非スリット部総面積/単位領域総面積透明基板の屈折率×単位領域内のスリット部総面積/単位領域総面積各単位領域の上記幅寸法が、0.1mm以下に設定されていることを特徴とする請求項1に記載の透明導電膜構造体。上記屈折率緩衝部の幅方向外側から内側へ向かうに従い、各単位領域内における非スリット部総面積の割合が連続的に大きくなるように設定されていることを特徴とする請求項1~2のいずれかに記載の透明導電膜構造体。上記屈折率緩衝部の幅寸法が、0.1mmを越え3mm以下に設定されていることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の透明導電膜構造体。上記単位領域における非スリット部の幅方向の縦断面構造が、略矩形状を有していることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の透明導電膜構造体。上記透明導電膜がITOであることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の透明導電膜構造体。請求項1に記載の透明導電膜構造体の製造方法において、化学エッチング法によりスリット群と非スリット群とで構成される屈折率緩衝部を形成することを特徴とする透明導電膜構造体の製造方法。請求項1~6のいずれかに記載の透明導電膜構造体が適用されていることを特徴とする静電容量型タッチパネル。本発明はこのような問題点に着目してなされたもので、その課題とするところは、タッチパネル用構造体として適用された際に透明電極や透明配線部等を構成する透明導電膜の存在に起因して表示装置の視野が妨害されてしまう弊害を解消できる透明導電膜構造体とその製造方法およびタッチパネルを提供することにある。そこで、上記課題を解決するため本発明者が鋭意研究を行なったところ、透明電極や透明配線部等を構成する透明導電膜の外縁近傍領域に、透明導電膜を貫通しかつ外縁と平行に設けられた複数のスリット群と非スリット群とで構成される屈折率緩衝部を形成した場合、透明導電膜の外縁部が目立たなくなることを見出すに至った。すなわち、請求項1に係る発明は、透明基板と、この透明基板上に設けられた回路パターン形状を有する透明導電膜とで構成される透明導電膜構造体において、上記透明導電膜の外縁近傍領域に、透明導電膜を貫通すると共に上記外縁と平行に設けられた複数のスリット群と非スリット群とで構成された屈折率緩衝部を有しており、この屈折率緩衝部は、その幅方向に亘って上記外縁と平行でかつ幅寸法が互いに同一の単位領域により区画されており、上記屈折率緩衝部における単位領域の屈折率が、透明基板と略同一の屈折率を有する最外側の単位領域から透明導電膜と略同一の屈折率を有する最内側の単位領域に向かって連続的に変化していることを特徴とする。但し、上記透明導電膜の外縁と垂直な方向を屈折率緩衝部並びに単位領域の幅方向とし、かつ、各単位領域の屈折率は以下に定める空間屈折率とする。空間屈折率=透明導電膜の屈折率×単位領域内の非スリット部総面積/単位領域総面積透明基板の屈折率×単位領域内のスリット部総面積/単位領域総面積次に、請求項2に係る発明は、請求項1に記載の発明に係る透明導電膜構造体において、各単位領域の上記幅寸法が、0.1mm以下に設定されていることを特徴とし、請求項3に係る発明は、請求項1~2のいずれかに記載の発明に係る透明導電膜構造体において、上記屈折率緩衝部の幅方向外側から内側へ向かうに従い、各単位領域内における非スリット部総面積の割合が連続的に大きくなるように設定されていることを特徴とし、請求項4に係る発明は、請求項1~3のいずれかに記載の発明に係る透明導電膜構造体において、上記屈折率緩衝部の幅寸法が、0.1mmを越え3mm以下に設定されていることを特徴とし、請求項5に係る発明は、請求項1~4のいずれかに記載の発明に係る透明導電膜構造体において、上記単位領域における非スリット部の幅方向の縦断面構造が、略矩形状を有していることを特徴とし、請求項6に係る発明は、請求項1~5のいずれかに記載の発明に係る透明導電膜構造体において、上記透明導電膜がITOであることを特徴とする。次に、請求項7に係る発明は、請求項1に記載の透明導電膜構造体の製造方法において、化学エッチング法によりスリット群と非スリット群とで構成される屈折率緩衝部を形成することを特徴とし、請求項8に係る発明は、静電容量型タッチパネルにおいて、請求項1~6のいずれかに記載の透明導電膜構造体が適用されていることを特徴とする。透明基板とこの透明基板上に設けられた回路パターン形状を有する透明導電膜とで構成される本発明に係る透明導電膜構造体は、上記透明導電膜の外縁近傍領域に、透明導電膜を貫通すると共に上記外縁と平行に設けられた複数のスリット群と非スリット群とで構成された屈折率緩衝部を有しており、この屈折率緩衝部は、その幅方向に亘って上記外縁と平行でかつ幅寸法が互いに同一の単位領域により区画されており、上記屈折率緩衝部における単位領域の屈折率が、透明基板と略同一の屈折率を有する最外側の単位領域から透明導電膜と略同一の屈折率を有する最内側の単位領域に向かって連続的に変化していることを特徴としており、透明導電膜の外縁近傍領域に設けられた上記屈折率緩衝部の作用により透明導電膜の外縁部が目立ち難くなる効果を有している。また、本発明に係る透明導電膜構造体の製造方法は、スリット群と非スリット群とで構成される屈折率緩衝部を化学エッチング法により形成することを特徴としており、上記屈折率緩衝部を形成するときのエッチング処理と、透明導電膜の回路パターンを形成成するときのエッチング処理とを同時に行なうことが可能なため、作業工数を増やす必要がない効果を有している。更に、本発明に係る透明導電膜構造体においては、屈折率緩衝部の作用により透明導電膜の外縁部が目立ち難いため、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表面に組み込まれるタッチパネル用構造体として適用した場合、透明導電膜の存在に起因して表示装置の視野が妨害されてしまう弊害を解消できる効果を有している。以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。ITOIndiumtinoxide等で構成された透明導電膜は、文字通り透明であることから目に見えない膜であるが、実際に透明基板上に成膜してパターン等を形成した場合、透明導電膜と基板との屈折率の差により反射率が異なるため形成された回路パターン等が視認されてしまう。このため、透明電極や透明配線部等の回路パターン形状を有する透明導電膜と透明基板とで構成される透明導電膜構造体について、この構造体を、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表面に組み込まれるタッチパネル用構造体として適用した場合、表示装置に表示された画面と、透明導電膜構造体における透明導電膜の回路パターンすなわち、透明電極や透明配線部等の回路パターンが重なって視覚されてしまうことから、視認性に問題があった。そこで、上記問題を解決する本発明に係る透明導電膜構造体においては、透明導電膜の外縁近傍領域に、透明導電膜を貫通しかつ外縁と平行に設けられた複数のスリット群と非スリット群とで構成される屈折率緩衝部が設けられている。尚、上記屈折率緩衝部のスリット群と非スリット群は、透明基板上に設けられた透明導電膜の外縁近傍を化学エッチング法等によりエッチング加工して形成されている。そして、上記屈折率緩衝部は、その幅方向に亘って上記外縁と平行でかつ幅寸法が互いに同一の単位領域により区画されており、上記屈折率緩衝部における単位領域の屈折率が、透明基板と略同一の屈折率を有する最外側の単位領域から透明導電膜と略同一の屈折率を有する最内側の単位領域に向かって連続的に変化していることを特徴とする。ここで、上記透明導電膜の外縁と垂直な方向を屈折率緩衝部並びに単位領域の幅方向としており、かつ、各単位領域の屈折率は以下に定める空間屈折率とする。空間屈折率=透明導電膜の屈折率×単位領域内の非スリット部総面積/単位領域総面積透明基板の屈折率×単位領域内のスリット部総面積/単位領域総面積ところで、人間の目で知覚可能な幅寸法は約0.1mmと言われている。このため、幅寸法がそれぞれ0.1mm以下に設定された単位領域で屈折率緩衝部をその幅方向に亘って区画した場合、各単位領域の屈折率は、上記スリット部と非スリット部の屈折率すなわち、透明基板と透明導電膜の屈折率の算術平均として表すことができる。すなわち、屈折率緩衝部の屈折率は、非スリット部の透明導電膜とスリット部の透明基板との中間の屈折率すなわち、上記定義された空間屈折率をとる。そして、屈折率緩衝部における幅方向のより内側に位置する単位領域において透明導電膜である非スリット部の割合を多くし、反対に、屈折率緩衝部における幅方向のより外側に位置する単位領域において透明基板であるスリット部の割合を増やすことで、透明導電膜から透明基板に向かって空間屈折率を徐々に変化させることができる。ここで、上記空間屈折率が、透明導電膜における屈折率の値から透明基板における屈折率の値に向かって滑らか連続的に変化する調整方法を説明する。まず、透明基板上に高屈折率の透明導電膜が形成された場合、上記高屈折率部屈折率=nHから低屈折率部屈折率=nLまで屈折率が線形に減少する範囲すなわち、屈折率緩衝部をL0とする。そして、この範囲屈折率緩衝部がN等分に区画されると、各区間単位領域の幅寸法はL0/Nとなり、区間単位領域kにおける空間屈折率をnkとすると、nk=nH-nH―nLk/N但し、k=0,1,2,......,Nとなる。そして、区間単位領域kにおける高屈折率部屈折率=nHの幅寸法非スリット部の幅寸法bk、低屈折率部屈折率=nLの幅寸法スリット部の幅寸法akとすると、ak=[N-k/N]×L0/Nbk=k/N×L0/Nakbk=L0/N:定数となり、この関係を満たした透明導電膜構造体の屈折率緩衝部を図4に示す。また、空間屈折率を連続的に変化させるための調整方法すなわち、屈折率分布の形成方法については、図4に示す方法以外にもいろいろあり、例えば、図5に示すように、幅wの低屈折率部スリット部を1区間に複数個分布させる方法が挙げられる。また、スリット部と非スリット部とで構成される単位領域の断面形状すなわち、単位領域における非スリット部の幅方向の縦断面形状については特に制限はないが、加工のし易さを考慮した場合、略矩形状であることが望ましい。また、上記単位領域の幅寸法については、目で知覚できないように0.1mm以下であることが好ましい。次に、上記屈折率緩衝部を単位領域で区切ってみたとき、その空間屈折率の変化は滑らか連続的に変化することが重要である。このため、隣接する単位領域における空間屈折率の差は小さい方が好ましく、通常0.3以下であり、0.1以下であるとより好ましい。更に、屈折率緩衝部における幅方向の最内側における単位領域の屈折率透明導電膜の屈折率と略同一から最外側における単位領域の屈折率透明基板の屈折率と略同一まで直線的に変化すると、空間屈折率の変化が最も平均化されるためより一層好ましい。また、透明導電膜の外縁近傍領域に形成される上記屈折率緩衝部の幅寸法に関しては、0.1mmを越え3mm以下であることが好ましい。幅寸法が0.1mm以下であると、透明導電膜と透明基板との屈折率差が大きい場合に屈折率緩衝部として十分に機能し得ないことがあるからである。また、幅寸法が3mmを越えると、形成される回路パターンの幅に影響を及ぼす場合があるからである。ここで、透明電極を構成する透明導電膜の外縁近傍領域に上記屈折率緩衝部が形成された透明導電膜構造体の一例を図6Aに示す。尚、この透明導電膜構造体においては、相対向する透明電極の隙間部分透明電極の外側近傍部位に上記屈折率緩衝部が形成された構造になっているが、各透明電極の大きさや抵抗値に余裕がある場合には、上記隙間部分に代えて透明電極内側の外縁近傍領域に上記屈折率緩衝部を形成してもよい。更に、図6Bに示すように上記屈折率緩衝部の各単位領域が接続部を介して互いに電気的に繋がっている構造を採用してもよい。このような構造を採ることで電気量を稼ぐ効果を得ることが可能となる。次に、透明導電膜を構成する材料ついては特に限定されないが、高い透明性と導電性を有するITOIndiumtinoxideであることが好ましい。また、上記スリット群と非スリット群とで構成される屈折率緩衝部を形成する方法も原則として任意であるが、化学エッチング法により形成することが好ましい。通常、透明導電膜に回路パターンすなわち、透明電極や透明配線部等の回路パターンを形成する場合、透明基板上に透明導電膜を一様に形成した後、化学エッチングにより回路を形成することが多い。このため、化学エッチングを用いれば、上記回路パターンを形成すると同時に屈折率緩衝部も形成できることから、処理工程が増えない分、好ましい。そして、化学エッチングに適用されるエッチング剤は、エッチングされる透明導電膜の材質に合わせて適宜選択される。このようにして得られた屈折率緩衝部を有する透明導電膜構造体は、上記屈折率緩衝部の作用により透明導電膜の外縁部が目立ち難いことから、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表面に組み込まれるタッチパネル用構造体として適用された場合、透明導電膜の存在に起因して表示装置の視野が妨害される弊害を解消できるため、例えば、静電容量型タッチパネルに好適に用いられる利点を有している。以下、本発明の実施例について具体的に説明する。[実施例1]透明導電膜材料としてITOを使用し、ガラス基板上にスパッタリング法にてITO膜の厚さが約1μmとなるように一様に成膜した。尚、ITO膜の屈折率は2.0、透明基板を構成するガラスの屈折率は1.4であった。次に、一様に成膜された上記ITO膜上に以下に示すパターン加工を可能とするマスクを形成し、このマスクを介し化学エッチング処理して回路パターン形状の透明導電膜と、この透明導電膜の外縁近傍領域に複数のスリット群と非スリット群とで構成されかつ幅寸法が互いに同一の単位領域により区画された屈折率緩衝部を形成した。尚、上記屈折率緩衝部の幅寸法を1mm=1000μmに設定し、かつ、この屈折率緩衝部を幅方向に亘り10等分に区画して各単位領域の幅寸法を0.1mm=100μmに設定すると共に、各単位領域は図4に示したように一対の非スリット部とスリット部とで構成している。また、上記屈折率緩衝部における幅方向最内側の単位領域について幅寸法90μmの非スリット部と幅寸法10μmのスリット部とで構成し、これに隣接する単位領域について幅寸法80μmの非スリット部と幅寸法20μmのスリット部とで構成し、以下、幅方向最外側へ向かうに従って非スリット部の幅寸法を10μmずつ狭くスリット部の幅寸法は10μmずつ広くして屈折率緩衝部を形成した。また、化学エッチング処理のエッチング液としては、0.1重量のKHSO4に対し10重量のHNO3と0.5重量のH2O2および水を添加したものを使用した。そして、ガラス基板とITOの透明導電膜とで構成される実施例1に係る透明導電膜構造体を目視で観察したところ、上記屈折率緩衝部の作用により透明導電膜の端部を視認することはできなかった。[実施例2]上記屈折率緩衝部の幅寸法を0.2mm=200μmに設定し、屈折率緩衝部を幅方向に亘り10等分に区画して各単位領域の幅寸法を0.02mm=20μmに設定している点を除き実施例1と略同様にして、ガラス基板とITOの透明導電膜とで構成される実施例2に係る透明導電膜構造体を製造した。尚、この透明導電膜構造体においても、図4に示す一対の非スリット部とスリット部とで各単位領域が構成されている。また、屈折率緩衝部における幅方向最内側の単位領域について幅寸法18μmの非スリット部と幅寸法2μmのスリット部とで構成し、これに隣接する単位領域について幅寸法16μmの非スリット部と幅寸法4μmのスリット部とで構成し、以下、幅方向最外側へ向かうに従って非スリット部の幅寸法を2μmずつ狭くスリット部の幅寸法は2μmずつ広くして屈折率緩衝部を形成した。そして、ガラス基板とITOの透明導電膜とで構成される実施例2に係る透明導電膜構造体を目視で観察したところ、実施例1と同様、屈折率緩衝部の作用により透明導電膜の端部を視認することはできなかった。[実施例3]上記屈折率緩衝部の幅寸法を2mm=2000μmに設定し、かつ、屈折率緩衝部を幅方向に亘り20等分に区画して各単位領域の幅寸法を0.1mm=100μmに設定すると共に、屈折率緩衝部における幅方向最内側の単位領域については幅寸法5μmである1個のスリット部と残り1個のスリット部とで構成し、これに隣接する単位領域については幅寸法5μmである2個のスリット部と残り2個のスリット部とで構成し、以下、幅方向最外側へ向かうに従い幅寸法5μmのスリット部を順次1個ずつ増やす図5に示した構造を採用している点を除き実施例1と略同様にして、ガラス基板とITOの透明導電膜とで構成される実施例3に係る透明導電膜構造体を製造した。そして、ガラス基板とITOの透明導電膜とで構成される実施例3に係る透明導電膜構造体を目視で観察したところ、実施例1と同様、屈折率緩衝部の作用により透明導電膜の端部を視認することはできなかった。[実施例4]上記屈折率緩衝部の幅寸法を3mm=3000μmに設定し、幅寸法が0.1mm=100μmの単位領域により屈折率緩衝部を区画すると共に、屈折率緩衝部における幅方向最内側の単位領域については幅寸法が6μmである1個のスリット部と幅寸法が94μmである1個の非スリット部とで構成し、これに隣接する単位領域については上記幅寸法6μmの1.1倍6μm×1.1である1個のスリット部と残り寸法100μm-6μm×1.1である1個の非スリット部とで構成し、以下、幅方向最外側へ向かうに従ってスリット部の幅寸法を順次1.1倍に増加させた図4に示す構造を採用している点を除き実施例1と略同様にして、ガラス基板とITOの透明導電膜とで構成される実施例4に係る透明導電膜構造体を製造した。そして、ガラス基板とITOの透明導電膜とで構成される実施例4に係る透明導電膜構造体を目視で観察したところ、実施例1と同様、屈折率緩衝部の作用により透明導電膜の端部を視認することはできなかった。[比較例1]上記屈折率緩衝部における幅方向最外側の単位領域について幅寸法90μmの非スリット部と幅寸法10μmのスリット部とで構成し、これに隣接する単位領域について幅寸法80μmの非スリット部と幅寸法20μmのスリット部とで構成し、以下、幅方向最内側へ向かうに従って非スリット部の幅寸法を10μmずつ狭くスリット部の幅寸法は10μmずつ広くして屈折率緩衝部を形成している点すなわち、実施例1の屈折率緩衝部とは逆パターンを除き実施例1と略同様にして、ガラス基板とITOの透明導電膜とで構成される比較例1に係る透明導電膜構造体を製造した。そして、ガラス基板とITOの透明導電膜とで構成される比較例1に係る透明導電膜構造体を目視で観察したところ、比較例1の屈折率緩衝部は、実施例1の屈折率緩衝部とは異なる逆パターンに設定されて実施例1の屈折率緩衝部と同様に作用しないため、透明導電膜の端部が視認されるものであった。"