"X式aaで表される構造単位と式abで表される構造単位とを有する樹脂及びB酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式aa中、Raa1は、水素原子又はメチル基を表す。Aaa1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基又は式a-1で表される基を表す。式a-1中、sは0又は1の整数を表す。X10及びX11は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A10、A11及びA12はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。は-O-CO-Raa2との結合手である。Raa2は、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。][式ab中、Rab1は、水素原子又はメチル基を表す。Aab1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基、式a-2で表される基又は単結合を表す。式a-2中、tは0又は1の整数を表す。X30及びX31は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A30及びA31は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。A32は、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。はW1との結合手である。W1は、置換基を有していてもよい炭素数4~24の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。nは1又は2を表す。Aab2は、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。nが2の場合、2つのAab2は、同一又は相異なる。Rab2は、炭素数1~12のフッ化アルキル基を表し、該フッ化アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチル基に置換されていてもよい。nが2の場合、2つのRab2は、同一又は相異なる。]前記式aaのAaa1が、炭素数1~6のアルカンジイル基である請求項1記載のレジスト組成物。前記式aaのAaa1が、エチレン基である請求項1記載のレジスト組成物。式aaで表される構造単位が、式Iで表される構造単位である請求項1~3のいずれか記載のレジスト組成物。[式I中、Raa1及びAaa1は、上記と同じ意味を表す。A13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~15の2価の脂肪族炭化水素基表す。X12は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~15の1価の脂肪族炭化水素基を表す。ただし、A13又はA14はフッ素原子を有し、A13及びA14の炭素数の合計は16以下である。]前記式IのA13が、炭素数1~6のペルフルオロアルカンジイル基である請求項4記載のレジスト組成物。前記式IのX12が、-CO-O-は、A13との結合手を表す。である請求項4又は5記載のレジスト組成物。前記式IのA14が、シクロヘキシル基、ノルボルニル基又はアダマンチル基である請求項4~6のいずれか記載のレジスト組成物。前記式abの-W1-Aab2-Rab2nが、式W1-1で表される基又は式W1-2で表される基である請求項1~7のいずれか記載のレジスト組成物。[式W1-1中、アダマンタン環に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、アダマンタン環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基に置換されていてもよい。ただし、アダマンタン環及び置換基の合計炭素数は36以下である。はAab1との結合手を表す。Aab2、Rab2及びnは、前記と同義である。][式W1-2中、シクロヘキサン環に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、シクロヘキサン環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基に置換されていてもよい。ただし、シクロヘキサン環及び置換基の合計炭素数は36以下である。はAab1との結合手を表す。Aab2、Rab2及びnは、前記と同義である。]前記Bが、式B1で表される酸発生剤である請求項1~8のいずれか記載のレジスト組成物。[式B1中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、置換基を有していてもよい炭素数1~17の2価の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Yは、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Zは、有機カチオンを表す。]前記式B1のYが、置換基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭化水素基である請求項9記載のレジスト組成物。さらに、Aアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂を含有する請求項1~10のいずれか記載のレジスト組成物。さらに、溶剤を含有する請求項1~11のいずれか記載のレジスト組成物。1請求項1~11のいずれか記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、2塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、3組成物層を露光する工程、4露光後の組成物層を加熱する工程、及び5加熱後の組成物層を現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。従来から知られる上記レジスト組成物から製造されるレジストパターンは、CD均一性CDUが必ずしも満足できない場合があった。本発明は、以下の発明を含む。1X式aaで表される構造単位と、式abで表される構造単位とを有する樹脂及びB酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式aa中、Raa1は、水素原子又はメチル基を表す。Aaa1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基又は式a-1で表される基を表す。式a-1中、sは0又は1の整数を表す。X10及びX11は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A10、A11及びA12はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。はO-CO-Raa2との結合手である。Raa2は、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。][式ab中、Rab1は、水素原子又はメチル基を表す。Aab1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基、式a-2で表される基又は単結合を表す。式a-2中、tは0又は1の整数を表す。X30及びX31は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A30及びA31は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。A32は、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。はW1との結合手である。W1は、置換基を有していてもよい炭素数4~24の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Aab2は、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。nが2の場合、2つのAab2は、同一又は相異なる。Rab2は、炭素数1~12のフッ化アルキル基を表し、該フッ化アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチル基に置換されていてもよい。nが2の場合、2つのRab2は、同一又は相異なる。]2前記式aaのA1が、炭素数1~6のアルカンジイル基である1記載のレジスト組成物。3前記式aaのA1が、エチレン基である1又は前記2記載のレジスト組成物。4式aaで表される構造単位が、式Iで表される構造単位である1~3のいずれか記載のレジスト組成物。[式I中、Raa1及びAaa1は、上記と同じ意味を表す。A13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~15の2価の脂肪族炭化水素基表す。X12は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~15の1価の脂肪族炭化水素基を表す。ただし、A13又はA14はフッ素原子を有し、それらの炭素数の合計は16以下である。]5前記式IのA13が、炭素数1~6のペルフルオロアルカンジイル基である4記載のレジスト組成物。6前記式IのX12が、-CO-O-は、A13との結合手を表す。である4又は5記載のレジスト組成物。7前記式IのA14が、シクロヘキシル基、ノルボルニル基又はアダマンチル基である4~6のいずれか記載のレジスト組成物。8前記式abのW1が、アダマンタン環又はシクロヘキサン環を含む基である前記式abの-W1-Aab2-Rab2nが、式W1-1で表される基又は式W1-2で表される基である1~7のいずれか記載のレジスト組成物。[式W1-1中、アダマンタン環に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、アダマンタン環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基に置換されていてもよい。ただし、アダマンタン環及び置換基の合計炭素数は36以下である。はAab1との結合手を表す。Aab2、Rab2及びnは、前記と同義である。][式W1-2中、シクロヘキサン環に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、シクロヘキサン環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基に置換されていてもよい。ただし、シクロヘキサン環及び置換基の合計炭素数は36以下である。はAab1との結合手を表す。Aab2、Rab2及びnは、前記と同義である。]9前記Bが、式B1で表される酸発生剤である1~8のいずれか記載のレジスト組成物。[式B1中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、置換基を有していてもよい炭素数1~17の2価の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Yは、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Zは、有機カチオンを表す。]10式B1のYが、置換基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭化水素基である、前記9記載のレジスト組成物。11さらに、Aアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂を含有する1~10のいずれか記載のレジスト組成物。12さらに、溶剤を含有する1~11のいずれか記載のレジスト組成物。131上記1~11のいずれか記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、2塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、3組成物層を露光する工程、4露光後の組成物層を加熱する工程、及び5加熱後の組成物層を現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。本発明のレジスト組成物によれば、優れたCD均一性CDUのレジストパターンを製造することができる。また、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ない。本明細書に示す種々の化合物などにおいて共通する基を定義する。この定義において、Cに付して記載した数値は、各々の基の炭素数を示す。炭化水素基とは、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基をいう。脂肪族炭化水素基は、鎖式及び環式を包含し、さらに、鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基が組み合わさった脂肪族炭化水素基を含む。鎖式の脂肪族炭化水素基のうち1価のものは、典型的にはアルキル基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基C1、エチル基C2、プロピル基C3、ブチル基C4、ペンチル基C5、ヘキシル基C6、ヘプチル基C7、オクチル基C8、デシル基C10、ドデシル基C12、ヘキサデシル基C14、ペンタデシル基C15、ヘキシルデシル基C16、ヘプタデシル基C17及びオクタデシル基C18などが挙げられ、これらは直鎖でも分岐していてもよい。この鎖式炭化水素基は特に限定しない限り、ここに例示したアルキル基の一部に炭素-炭素二重結合を含んでいてもよいが、このような炭素-炭素二重結合などを有さない、飽和の鎖式炭化水素基、特に飽和のアルキル基が好ましい。2価の鎖式炭化水素基は、ここに示したアルキル基から水素原子を1個取り去ったアルカンジイル基が該当する。環式の脂肪族炭化水素基以下脂環式炭化水素基ということがあるのうち1価のものは、典型的には、脂環式炭化水素から水素原子1個を取り去った基である。脂環式炭化水素基は、炭素-炭素不飽和結合を含む不飽和脂環式炭化水素基でもよいが、飽和の脂環式炭化水素基が好ましい。また、脂環式炭化水素基は単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素は、典型的にはシクロアルカンであり、以下の式KA-1で表されるシクロプロパンC3、式KA-2で表されるシクロブタンC4、式KA-3で表されるシクロペンタンC5、式KA-4で表されるシクロヘキサンC6、式KA-5で表されるシクロヘプタンC7、式KA-6で表されるシクロオクタンC8及び式KA-7で表されるシクロドデカンC12などが挙げられる。多環式の脂環式炭化水素は、例えば、以下の式KA-8で示されるビシクロ2.2.1ヘプタン以下ノルボルナンということがある。C7、式KA-9で示されるアダマンタンC10及び式KA-10~式KA-22で示される脂環式炭化水素などが挙げられる。2価の脂環式炭化水素基は、式KA-1~式KA-22の脂環式炭化水素から水素原子を2個取り去った基が該当する。芳香族炭化水素基は1価の芳香族炭化水素基であり、典型的にはアリール基である。具体的には、フェニル基C6、ナフチル基C10、アントリル基C14、ビフェニル基C12、フェナントリル基C14及びフルオレニル基C13などが挙げられる。脂肪族炭化水素基は置換基を有することがある。置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基、アリール基、アラルキル基及びアリールオキシ基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基C1、エトキシ基C2、プロポキシ基C3、ブトキシ基C4、ペンチルオキシ基C5、ヘキシルオキシ基C6、ヘプチルオキシ基C7、オクチルオキシ基C8、デシルオキシ基C10及びドデシルオキシ基C12などが挙げられる。これらアルコキシ基は直鎖でも分岐していてもよい。アシル基としては、アセチル基C2、プロピオニル基C3、ブチリル基C4、バレイル基C5、ヘキシルカルボニル基C6、ヘプチルカルボニル基C7、オクチルカルボニル基C8、デシルカルボニル基C10及びドデシルカルボニル基C12などのアルキル基とカルボニル基とが結合したもの、ベンゾイル基C7などのようにアリール基とカルボニル基とが結合したものが挙げられる。これらアシル基のうち、アルキル基とカルボニル基とが結合したものの該アルキル基は直鎖でも分岐していてもよい。アリール基としては、上述の芳香族炭化水素基のアリール基として例示したものと同じであり、アリールオキシ基としては、アリール基と酸素原子とが結合したものである。アラルキル基としては、ベンジル基C7、フェネチル基C8、フェニルプロピル基C9、ナフチルメチル基C11及びナフチルエチル基C12などが挙げられる。芳香族炭化水素基は置換基を有することがある。置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基、アルキル基及びアリールオキシ基が挙げられる。これら置換基は、上述した置換基と同様のものが挙げられる。また、メタアクリル系モノマーとは、CH2=CH-CO-又はCH2=CCH3-CO-の構造を有するモノマーの少なくとも1種を意味する。同様にメタアクリレート及びメタアクリル酸とは、それぞれアクリレート及びメタクリレートの少なくとも1種及びアクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも1種を意味する。<レジスト組成物>本発明のレジスト組成物は、樹脂以下樹脂Xということがある及び酸発生剤を含有する。本発明のレジスト組成物は、樹脂Xを含有することにより、優れたCD均一性のレジストパターンを製造することができる。また、本発明のレジスト組成物は、樹脂Xとは異なり、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるという特性を有する樹脂Aをさらに含有していることが好ましい。樹脂Xがこのような特性を有していてもよい。これにより、本発明のレジスト組成物は、樹脂と酸発生剤との相乗効果によって、より良好なレジストパターンを形成できる。なお、樹脂Xが上記特性を有する場合は、本発明のレジスト組成物は、必ずしも樹脂Aを含有していなくてもよい。本発明のレジスト組成物は、さらにD溶剤及び/又は塩基性化合物を含有していることが好ましい。樹脂X樹脂Xは、式aaで表される構造単位以下構造単位aaということがあると、式abで表される構造単位以下構造単位abということがあるとを有する。構造単位aa構造単位aaは、以下の式aaで表される。[式aa中、Raa1は、水素原子又はメチル基を表す。Aaa1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基又は式a-1で表される基を表す。式a-1中、sは0又は1の整数を表す。X10及びX11は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A10、A11及びA12はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。はO-CO-Raa2との結合手である。Raa2は、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。]Aaa1のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;1-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、1-メチルブタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。アルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基などが挙げられる。Aaa1の基a-1は、X10及びX11のように、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基等の酸素原子を含む部分構造を含む。A10、A11及びA12の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、1-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基等が挙げられる。A10、A11及びA12における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基などが挙げられる。酸素原子を有する基a-1としては、などが挙げられるは結合手を表す。カルボニル基を有する基a-1としては、などが挙げられるは結合手を表す。カルボニルオキシ基を有する基a-1としては、などが挙げられるは結合手を表す。オキシカルボニル基を有する基a-1としては、などが挙げられるは結合手を表す。Raa2の脂肪族炭化水素基は、部分的に炭素-炭素不飽和結合を有していてもよいが、飽和の脂肪族炭化水素基脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。好ましい脂肪族炭化水素基としては、直鎖又は分岐状のアルキル基及び脂環式炭化水素基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基などが挙げられる。脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基などのシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及びメチルノルボルニル基並びに下記に示す基などが挙げられる。また、これらアルキル基及び脂環式炭化水素を任意に組み合わせた基であってもよい。Raa2の脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、最大2個程度、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。メチレン基が酸素原子又はカルボニル基に置き換わった肪族炭化水素基としては、後述する式a-g2で表される基などが挙げられる。Raa2の脂肪族炭化水素基は、置換基を有する脂肪族炭化水素基が好ましい。置換基としては、フッ素原子又は式a-g3で表される基が好ましい。式a-g3中、X12は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~15の1価の脂肪族炭化水素基を表す。Raa2の脂肪族炭化水素基に式a-g3で表される基が置換される場合、その数は、1又は複数であってもよいが、Raa2及びその置換基の総炭素数は18以下である。よって、Raa2の脂肪族炭化水素基に置換される式a-g3で表される基の数は1であることが好ましい。Raa2は、好ましくは、フッ素原子が置換された基であり、より好ましくは、フッ素原子が置換された脂肪族炭化水素基又は以下の式a-g2で表される基である。式a-g2中、A13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~15の2価の脂肪族炭化水素基表す。X12は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~15の1価の脂肪族炭化水素基を表す。ただし、A13又はA14はフッ素原子を有し、A13及びA14の炭素数の合計は16以下である。Raa2のフッ素原子が置換された脂肪族炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子が置換された飽和の脂肪族炭化水素基であり、より好ましくは、水素原子の全部がフッ素原子に置換された脂肪族炭化水素基例えば、ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは、フッ素原子が置換された飽和の鎖式の脂肪族炭化水素基、特に、ペルフルオロアルキル基が好ましい。鎖式のフッ素原子が置換された脂肪族炭化水素基としては、ジフルオロメチル基、トリオロメチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、1-トリフルオロメチル-1,2,2,2-テトラフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,2,2-テトラフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチル基、2-ペルフルオロプロピルエチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロペンチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、ペルフルオロペンチル基、2-ペルフルオロブチルエチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロヘキシル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基、ペルフルオロオクチル基などが挙げられる。なかでも、好ましくはトリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基であり、より好ましくは、炭素数が1~6のペルフルオロアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数1~3のペルフルオロアルキル基である。式aaにおけるRaa2が式a-g3で表される基を有している場合、式aaで表される構造単位として、式Iで表される構造単位以下構造単位Iということがあるが挙げられる。[式I中、Raa1及びAaa1は、上記と同じ意味を表す。A13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~15の2価の脂肪族炭化水素基表す。X12は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~15の1価の脂肪族炭化水素基を表す。ただし、A13又はA14はフッ素原子を有し、A13及びA14の炭素数の合計は16以下である。]A13の脂肪族炭化水素基としては、鎖式及び環式のいずれか、並びに、これらが組み合わせられた2価の脂肪族炭化水素基が包含される。この脂肪族炭化水素は、炭素-炭素不飽和結合を有していてもよいが、好ましくは飽和の脂肪族炭化水素基である。A13のフッ素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子を有していてもよい飽和の脂肪族炭化水素基である。鎖式のフッ素原子を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、ジフルオロメチレン基、エチレン基、ペルフルオロエチレン基、プロパンジイル基、ペルフルオロプロパンジイル基、ブタンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基、ペンタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基などが挙げられる。環式のフッ素原子を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂肪族炭化水素基としては、シクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基などが挙げられる。多環式の2価の脂肪族炭化水素基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基などが挙げられる。A14の脂肪族炭化水素基としては、鎖式及び環式のいずれか、並びに、これらが組み合わせられた脂肪族炭化水素基が包含される。この脂肪族炭化水素は、炭素-炭素不飽和結合を有していてもよいが、好ましくは飽和の脂肪族炭化水素基である。A14のフッ素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子を有していてもよい飽和の脂肪族炭化水素基である。鎖式のフッ素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,1-トリフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,1,2,2-ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロペンチル基及びペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基、ペルフルオロオクチル基などが挙げられる。環式のフッ素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂肪族炭化水素基としては、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基などが挙げられる。多環式の脂肪族炭化水素基としては、アダマンチル基、ノルボルニル基、ペルフルオロアダマンチル基などが挙げられる。式Iにおいて、-A13-X12-A14で表される部分構造はカルボニル基との結合手としては、以下の構造が挙げられる。特に、式aa及び式IにおけるAaa1としては、炭素数1~6のアルカンジイル基が好ましく、炭素数1~3のアルカンジイル基がより好ましく、エチレン基がさらに好ましい。また、式IにおけるA13の脂肪族炭化水素基は、炭素数1~6が好ましく、2~3がより好ましく、なかでも、鎖式の脂肪族炭化水素基が好ましい。特に、A13は、フッ素原子を有するアルカンジイル基であることが好ましく、炭素数1~6のペルフルオロアルカンジイル基がより好ましい。A14の脂肪族炭化水素基は、炭素数6~12が好ましく、6~10がより好ましい。なかでも、A14は、炭素数6~12の脂環式炭化水素基が好ましく、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基がより好ましい。A13及びA14はともにフッ素原子を有することもあるが、A13がフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基であるか、A14がフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基であることが好ましく、A13がフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。X12は、-CO-O-は、A13との結合手が好ましい。構造単位aa及び構造単位Iとしては、以下のものが挙げられる。上記の構造単位において、Raa1に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位aa又は構造単位Iの具体例として挙げることができる。構造単位aaは、式aa’で表される化合物以下化合物aa’ということがあるから誘導される。式aa’中の符号はいずれも、前記と同義である。化合物aa’は、以下の1~3の方法等によって製造することができる。1化合物aa’は、例えば、式aas-1で表される化合物と、式aas-2で表される化合物とを、溶媒中、塩基性触媒の存在下で反応させることにより製造することができる。溶媒としては、テトラヒドロフランなどが挙げられる。また、塩基性触媒としては、ピリジンなどが挙げられる。式aas-1で表される化合物としては、ヒドロキシエチルメタクリレートなどが挙げられ、市販品を利用することができる。また、例えば、メタアクリル酸又はその誘導体例えば、メタアクリル酸クロリドなどと、適当なジオールHO-Aaa1-OHとを縮合する公知の方法によって得られたものを利用することができる。式aas-2で表される化合物としては、Raa2の種類に応じて、対応するカルボン酸を無水物へと変換して用いることができる。市販品としては、ヘプタフルオロ酪酸無水物などがある。2また、化合物aa’は、例えば、式aas-3で表される化合物と、式aas-4で表される化合物とを、溶媒の存在下又は非存在下で反応させることにより製造することができる。式aas-3で表される化合物は、メタアクリル酸クロリドであり、これは市場から容易に入手できる。式aas-3で表される化合物の塩素原子を、臭素原子又はヨウ素原子に置き換えたものを利用してもよい。このような化合物は、例えば、メタアクリル酸と、適当な臭素化剤又はヨウ素化剤とを反応させることで得ることができる。式aas-4で表される化合物は、Raa2の種類に応じたカルボン酸Raa2-COOH又はその誘導体例えば、Raa2-COClなどと、適当なジオールHO-Aaa1-OHとを縮合することによって得ることができる。式aas-3で表される化合物と、式aas-4で表される化合物との反応の際には適当な脱酸剤例えば、炭酸ナトリウムなどを共存させることもできる。溶媒としては、テトラヒドロフラン、メチルイソブチルケトン、トルエンなどが挙げられる。3さらに、化合物aa’は、式aas-1で表される化合物と、式aas-5で表されるカルボン酸とを、溶媒の存在下で反応させることにより製造することができる。溶媒としては、テトラヒドロフラン及びトルエンなどが用いられる。また、反応の際には、公知のエステル化触媒例えば、酸触媒やカルボジイミド触媒などを共存させてもよい。式aas-5で表されるカルボン酸は、Raa2の種類に応じて公知の方法により製造することができる。特に、構造単位Iは、式I’で表される化合物以下化合物I’ということがあるから誘導される。[式I’中、Raa1、Aaa1、A13、X12及びA14は、上記と同じ意味を表す。]式I’で表される化合物は、例えば、式Is-1で表される化合物と、式Is-2で表されるカルボン酸とを反応させることにより得ることができる。この反応は通常、溶媒の存在下で行われる。溶媒としては、テトラヒドロフラン及びトルエンなどが用いられる。反応の際には、公知のエステル化触媒例えば、酸触媒やカルボジイミド触媒などを共存させてもよい。式Is-1で表される化合物としては、市販品を用いてもよいし、公知の方法で製造して用いてもよい。ここでいう公知の方法とは、例えば、メタアクリル酸又はその誘導体例えば、メタアクリル酸クロリドなどと、適当なジオールHO-Aaa1-OHとを縮合する方法が挙げられる。市販品としては、ヒドロキシエチルメタクリレートなどが挙げられる。式Is-2で表されるカルボン酸は、公知の方法により製造することができる。例えば、以下のいずれかの化合物を用いればよい。構造単位ab構造単位abは、以下の式abで表される。[式ab中、Rab1は、水素原子又はメチル基を表す。Aab1は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基、式a-2で表される基又は単結合を表す。式a-2中、tは0又は1の整数を表す。X30及びX31は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。A30及びA31は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。A32は、置換基を有していてもよい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。はW1との結合手である。W1は、置換基を有していてもよい炭素数4~24の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。nは1又は2を表す。Aab2は、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。nが2の場合、2つのAab2は、同一又は相異なる。Rab2は、炭素数1~12のフッ化アルキル基を表し、該フッ化アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチル基に置換されていてもよい。nが2の場合、2つのRab2は、同一又は相異なる。]Aab1のアルカンジイル基としては、式aaのAaa1と同様のものが挙げられる。置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基などが挙げられる。基a-2のうちA30、A31及びA32の脂肪族炭化水素基は、基a-1におけるA10、A11及びA12と同じものが挙げられる。基a-2のうちA32が単結合以外のものは、基a-1の具体例と同じものを含む。A32が単結合である基a-2を以下に示すはW1との結合手を示す。酸素原子を有する基a-2としては、などが挙げられる。カルボニル基を有する基a-2としては、などが挙げられる。カルボニルオキシ基を有する基a-2としては、などが挙げられる。オキシカルボニル基を有する基a-2としては、などが挙げられる。基a-2は、酸素原子、カルボニル基、オキシカルボニル基及びカルボニルオキシ基からなる群より選ばれる2種以上を含む場合もある。酸素原子及びカルボニルオキシ基を含む基a-2としては、などが挙げられる。なかでも、Aab1としては、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は単結合が好ましく、置換基を有さないアルカンジイル基又は単結合がより好ましく、単結合がさらに好ましい。W1の脂環式炭化水素基としては、上述した式KA-1~式KA-22で表される脂環式炭化水素から水素原子をn1個取り去った基が挙げられ、好ましくは炭素数が5~18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは6~12の脂環式炭化水素基である。なかでも、アダマンタン、シクロヘキサン、ノルボルナン又はノルボルネンから水素原子をn1個取り去った基が好ましく、アダマンタン又はシクロヘキサンから水素原子をn1個取り去った基がより好ましい。W1の脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基が酸素原子又はカルボニル基に置き換わった基としては、例えば、以下の基が挙げられる。メチレン基が酸素原子又はカルボニル基に置き換わってもよい数は、2個程度が好ましい。W1の脂環式炭化水素基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基が挙げられる。ただし、W1では、脂環式炭化水素基及び置換基の合計炭素数は4~36が好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基及びオクチル基などが挙げられ、これらのアルキル基は直鎖でも、分岐していてもよい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ヘキシルオキシ基及びオクチルオキシ基などが挙げられ、これらのアルコキシ基は直鎖でも、分岐していてもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロヘキシル基、アダマンチル基及びノルボルニル基などが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル基及びナフチル基などが挙げられる。Aab2の脂肪族炭化水素基としては、飽和の脂肪族炭化水素基が好ましく、典型的にはアルカンジイル基が挙げられる。アルカンジイル基としては、式aaのAaa1と同様のものが挙げられる。脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基が酸素原子又はカルボニル基に置き換わった基としては、例えば、以下の基が挙げられる。なお、は、W1との結合手を表す。Rab2のフッ化アルキル基としては、以下に表す基を含む、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、1-トリフルオロメチル-1,2,2,2-テトラフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,2,2-テトラフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチル基、2-ペルフルオロプロピルエチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロペンチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、ペルフルオロペンチル基、2-ペルフルオロブチルエチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロヘキシル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基及びペルフルオロヘキシル基等の直鎖又は分岐のフッ化アルキル基が挙げられる。なかでも、好ましくはペルフルオロアルキル基であり、より好ましくは、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基などである。Rab2のフッ化アルキル基に含まれる水素原子は、さらに、ヒドロキシ基又はヒドロキシメチルが好ましい。好ましい-W1-Aab2-Rab2nは、以下の式W1-1又は式W1-2で表される基である。式W1-1中、アダマンタン環に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、アダマンタン環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基に置換されていてもよい。ただし、アダマンタン環及び置換基の合計炭素数は36以下である。はAab1との結合手を表す。Aab2、Rab2及びnは、前記と同義である。式W1-2中、シクロヘキサン環に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、シクロヘキサン環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基に置換されていてもよい。ただし、シクロヘキサン環及び置換基の合計炭素数は36以下である。はAab1との結合手を表す。Aab2、Rab2及びnは、前記と同義である。これらアダマンタン環又はシクロヘキサン環に含まれるメチレン基のうち、酸素原子又はカルボニル基に置き換えられるメチレン基の個数は最大2個が好ましく、0個がより好ましい。これらアダマンタン環又はシクロヘキサン環に含まれる水素原子の置換数は、最大3個程度が好ましく、この置換数が2以上の場合、複数の置換基は同一又は相異なる。nは1が好ましく、よって、W1は2価の基であることが好ましい。nが1である場合、好ましいW1はアダマンタンジイル基又はシクロヘキサンジイル基である。式abで表される構造単位としては、以下の構造単位が挙げられる。上記の構造単位において、Rab1に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位abの具体例として挙げることができる。構造単位abは、式ab’で表される化合物以下化合物ab’ということがあるから誘導される。式ab’中の符号はいずれも、前記と同義である。化合物ab’は、公知の方法又はこれを改変した方法等、例えば、国際公開第2008/15876号パンフレットに記載された方法等に準じて製造することができる。樹脂Xにおいて、構造単位aaと構造単位abとは、各々一種ずつ有していてもよいし、一方のみ又は双方とも複数種であってもよい。これらのうち、樹脂Xを容易に製造できる点では、構造単位aaと構造単位abとは、各々一種ずつ有しているものが好ましい。構造単位aa及び構造単位abの組み合わせとしては例えば、以下の表1に示される。なお、表1では、式aa-1で表される構造単位aaを、aa-1などと表記し、同様に式ab-1で表される構造単位abを、ab-1などと表記する。また、例えばaa-6/aa-4の表記は、構造単位aaとして、式aa-6で表される構造単位と、式aa-4で表される構造単位とをともに有することを意味する。なかでも、樹脂Xとしては、X-1~X-28が好ましい。構造単位aa又は構造単位I及び構造単位abの合計含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、好ましくは1~100モルであり、より好ましくは5~100モルであり、さらに好ましくは10~100モルであり、より一層好ましくは30~100モルであり、特に50~100モルである。樹脂Xにおいて、構造単位aa又は構造単位Iと構造単位abとの含有量のモル比は、好ましくは1~99:99:1が挙げられ、3:97~97:3が好ましく、50:50~95:5がより好ましく、60:40~90:10が一層好ましく、70:30~90:10が特に好ましい。このような含有量で構造単位aa又は構造単位I及び構造単位abを有する樹脂Xは、樹脂X製造時に用いる全モノマーの総モル量に対する化合物aa’又は化合物I’及び化合物ab’の使用モル量を調節することにより、製造することができる。樹脂Xは、構造単位aa又は構造単位I及び構造単位ab以外の構造単位を有していてもよい。構造単位aa又は構造単位I及び構造単位ab以外の構造単位としては、後述する樹脂Aに含まれていてもよい構造単位又はモノマー、公知のモノマーなどが挙げられる。樹脂A樹脂Aは、上述したように、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるという特性を有する樹脂である。そのために、樹脂Aは、分子内に1以上の酸不安定基を有する。以下、酸不安定基を有する構造単位を構造単位a1といい、このような構造単位a1を誘導するモノマーを酸不安定モノマーという。ここで、酸不安定基とは、酸との接触により脱離し得る保護基により保護されている親水性基を意味し、このような親水性基としては、ヒドロキシ基又はカルボキシ基が挙げられる。なかでも、カルボキシ基がより好ましい。樹脂Aは、構造単位aa及び構造単位abのいずれかを有していてもよいが、両者を同時に有さない。なお、樹脂Xが、上述した特性を有する場合には、構造単位aa又は構造単位I及び構造単位ab以外に、酸不安定基を有することが好ましい。本発明のレジスト組成物は、このような特性を有する樹脂を含むことにより、酸発生剤との相乗効果によって、優れたCD均一性のレジストパターンを製造することができる。酸不安定基親水性基がカルボキシ基である場合の酸不安定基は、カルボキシ基の水素原子が、有機残基に置き換わり、カルボキシ基の-O-と結合する有機残基の原子が第三級炭素原子である基すなわち第三アルコールのエステルが挙げられる。このような酸不安定基のうち、好ましい酸不安定基は、例えば、以下の式1で表されるもの以下酸不安定基1ということがあるである。[式1中、Ra1~Ra3は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基又は炭素数3~20の脂環式炭化水素基を表し、Ra1及びRa2は結合して、それらが結合する炭素原子とともに炭素数3~20の2価の環を形成してもよい。Ra1及びRa2が結合して形成される炭化水素基、脂環式炭化水素基及び環に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。は結合手を表す。]Ra1~Ra3のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの単環式炭化水素基、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基、下記のような基等の多環式炭化水素基が挙げられる。-CRa1Ra2Ra3基において、Ra1及びRa2が互いに結合して形成するとしては、下記の基が挙げられる。この環は、好ましくは炭素数3~12である。式1においては、Ra1~Ra3の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3~16であり、より好ましくは炭素数3~12である。式1で表される酸に不安定な基としては、例えば、1,1-ジアルキルアルコキシカルボニル基式1中、Ra1~Ra3がアルキル基である基、好ましくはtert-ブトキシカルボニル基、2-アルキルアダマンタン-2-イルオキシカルボニル基式1中、Ra1、Ra2及び炭素原子がアダマンチル基を形成し、Ra3がアルキル基である基及び1-アダマンタン-1-イル-1-アルキルアルコキシカルボニル基式1中、Ra1及びRa2がアルキル基であり、Ra3がアダマンチル基である基などが挙げられる。一方、親水性基がヒドロキシ基である場合の酸不安定基は、ヒドロキシ基の水素原子が、有機残基に置き換わり、アセタール構造又はケタール構造を含む基となったものが挙げられる。このような酸不安定基のうち、好ましい酸不安定基は例えば、以下の式2で表されるもの以下酸不安定基2ということがあるである。[式2中、Rb1~Rb2は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~20の炭化水素基を表し、Rb3は、炭素数1~20の炭化水素基を表す。Rb2及びRb3は結合して、それらが各々結合する炭素原子及び酸素原子とともに炭素数3~20の環を形成してもよい。炭化水素基及びRb2及びRb3が結合して形成される環に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。は結合手を表す。]Rb1~Rb3の炭化水素基は、上述したアルキル基又は脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基のいずれでもよい。Rb2及びRb3が結合して形成する環は、上述したRa1及びRa2が互いに結合して形成する環の1つの炭素原子が1つの酸素原子と置き換わったものが挙げられる。Rb1及びRb2のうち、少なくとも1つは水素原子であることが好ましい。酸不安定基2の具体例としては、以下の基が挙げられる。構造単位a1は、酸不安定基と炭素-炭素二重結合とを有するモノマーから誘導されるものが好ましく、酸不安定基を有するメタアクリル系モノマーから誘導されるものがさらに好ましい。構造単位a1は、好ましくは、酸不安定基1及び/又は酸不安定基2を有するものであり、より好ましくは酸不安定基1を有する。酸不安定基1を有する構造単位a1の中でも、酸不安定基1が、炭素数5~20の脂環式炭化水素基を有するものが好ましい。このような立体的に嵩高い基の構造単位a1を有する樹脂Aを使用することにより、レジスト組成物の解像度を向上させることができる。酸不安定構造単位a1酸不安定基1を有する構造単位a1は、式a1-1で表される構造単位以下構造単位a1-1ということがある及び式a1-2で表される構造単位以下構造単位a1-2ということがあるが好ましい。[式a1-1及び式a1-2中、La1及びLa2は、それぞれ独立に、-O-又は-O-CH2k1-CO-O-を表し、k1は1~7の整数を表し、は-CO-との結合手を表す。Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。Ra6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基を表す。m1は0~14の整数を表す。n1は0~10の整数を表す。n1’は0~3の整数を表す。]La1及びLa2は、好ましくは、酸素原子又はk1が1~4の整数である-O-CH2k1-CO-O-で表される基であり、より好ましくは酸素原子又は-O-CH2-CO-O-であり、さらに好ましくは酸素原子である。Ra4及びRa5は、好ましくはメチル基である。Ra6及びRa7の脂肪族炭化水素基は、好ましくは炭素数1~8のアルキル基又は炭素数3~10の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは炭素数8以下のアルキル基又は炭素数8以下の脂環式炭化水素基であり、さらに好ましくは炭素数6以下のアルキル基又は炭素数6以下の脂環式炭化水素基である。m1は、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は1である。n1は、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は1である。n1’は好ましくは0又は1である。構造単位a1-1としては、以下の構造単位が挙げられる。上記の構造単位において、Ra4に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位a1-1の具体例として挙げることができる。なかでも、式a1-1-1、式a1-1-2、式a1-1-3、これらの構造単位のRa4に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式a1-1-1、式a1-1-2及び式a1-1-3のいずれかで表される構造単位a1-1がより好ましく、式a1-1-1及び式a1-1-2のいずれかで表される構造単位a1-1がさらに好ましい。これら好ましい構造単位a1-1を有する樹脂Aは、樹脂Aを製造する際に、2-メチル-2-アダマンタン-2-イルメタアクリレート、2-エチル-2-アダマンタン-2-イルメタアクリレート又は2-イソプロピル-2-アダマンタン-2-イルメタアクリレートなどを製造用原料モノマーとして用いればよい。構造単位a1-2としては、以下の構造単位が挙げられる。上記の構造単位において、Ra5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位a1-1の具体例として挙げることができる。なかでも、式a1-2-1、式a1-2-2、式a1-2-4、式a1-2-5又はRa5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位がより好ましく、式a1-2-4及び式a1-2-5のいずれかで表される構造単位又はRa5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位がさらに好ましい。このような構造単位a1-2を有する樹脂Aを製造するためには、2-メチルシクロヘキサン-2-イルメタアクリレートなどをモノマーとして用いればよい。樹脂Aが、構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を有する場合、樹脂Aの全構造単位100モルに対するこれらの合計含有量は、10~95モルが好ましく、15~90モルがより好ましく、20~85モルがさらに好ましく、25~60モルが一層好ましい。樹脂Xが構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を有する場合、その合計含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、5~50モルの範囲が好ましく、10~45モルの範囲がより好ましく、15~40モルの範囲がさらに好ましい。構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2の合計含有量を、このような範囲にするためには、樹脂Aを製造する際に、全モノマーの使用量に対する、構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を誘導するモノマーの使用量を調整すればよい。また、構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を有する樹脂Xを製造する場合には、構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を誘導するモノマーの使用量と、化合物aa’及び化合物ab’の合計使用量との割合を調整すればよい。酸不安定モノマー酸不安定基1を有する構造単位a1として、式a1-3で表されるノルボルネン環を有するモノマー以下モノマーa1-3ということがあるに由来する構造単位を用いることができる。式a1-3中、Ra9は、水素原子、ヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1~3のアルキル基、カルボキシル基、シアノ基又は-COORa13Ra13は、炭素数1~20の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。を表す。Ra10~Ra12は、それぞれ独立に、炭素数1~20の脂肪族炭化水素基を表すか、Ra10及びRa11が結合して、これらが結合している炭素原子とともに、炭素数3~20の環を形成する。この脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基などに置換されていてもよく、この脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ra9のヒドロキシ基を有するアルキル基は、例えば、ヒドロキシメチル基及び2-ヒドロキシエチル基などが挙げられる。Ra10~Ra12の脂肪族炭化水素基は、鎖式炭化水素基例えば、アルキル基及び脂環式炭化水素基のいずれでもよい。Ra10及びRa11が結合して形成される環は、脂肪族炭化水素環が好ましく、具体的には、シクロへキサン環及びアダマンタン環がより好ましい。モノマーa1-3としては、5-ノルボルネン-2-カルボン酸-tert-ブチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-シクロヘキシル-1-メチルエチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-メチルシクロヘキシル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸2-メチル-アダマンタン-2-イル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸2-エチル-アダマンタン-2-イル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-4-メチル-シクロヘキシル-1-メチルエチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-4-ヒドロキシシクロヘキシル-1-メチルエチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-メチル-1-4-オキソシクロヘキシルエチル及び5-ノルボルネン-2-カルボン酸1-アダマンタン-1-イル-1-メチルエチルなどが挙げられる。モノマーa1-3を用いて樹脂Aを製造した場合、この樹脂Aにはモノマーa1-3に由来する、立体的に嵩高い構造単位が含まれる。このように立体的に嵩高い構造単位を有する樹脂Aをレジスト組成物に用いることにより、より良好な解像度でレジストパターンを製造することができる。また、モノマーa1-3を用いることにより、樹脂Aの主鎖に剛直なノルボルナン環を導入できるため、樹脂Aを含有するレジスト組成物は、ドライエッチング耐性に優れたレジストパターンが得られ易いという傾向がある。樹脂Aが、モノマーa1-3に由来する構造単位を有する場合、上述のように、良好な解像度で及び/又はドライエッチング耐性に優れたレジストパターンが得られ易いという点から、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、10~95モルが好ましく、15~90モルがより好ましく、20~85モルがさらに好ましい。樹脂Xが、モノマーa1-3に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、5~50モルの範囲が好ましく、10~45モルの範囲がより好ましく、15~40モルの範囲がさらに好ましい。酸不安定基2を有する構造単位a1としては、式a1-4で表されるモノマー以下モノマーa1-4ということがあるに由来する構造単位を用いることができる。式a1-4中、Ra32は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基ハロアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ra33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアシル基、炭素数2~4のアシルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。laは0~4の整数を表す。laが2以上である場合、複数のRa33は同一又は相異なる。Ra34及びRa35は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~12の炭化水素基を表す。Xa2は、単結合又は炭素数1~17の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアシル基又は炭素数2~4のアシルオキシ基に置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又は-NRc-で示される基に置き換わっていてもよい。Rcは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。Ya3は、炭素数1~18の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアシル基又は炭素数2~4のアシルオキシ基に置換されていてもよい。Ra32のハロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基及びとりヨードメチル基などが挙げられる。Ra32及びRa33のアルキル基としては、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ra33のアルコキシ基としては、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。Ra34及びRa35の炭化水素基は、鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基のいずれであってもよい。なかでも、鎖式炭化水素基としては、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基が好ましく、脂環式炭化水素基としては、シクロヘキシル基、アダマンチル基、2-アルキル-2-アダマンタン-2イル基、1-1-アダマンタン-1-イル-1-アルキル基及びイソボルニル基が好ましく、芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、2,6-ジエチルフェニル基及び2-メチル-6-エチルフェニルが好ましい。Xa2の脂肪族炭化水素基は、鎖式炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。Ya3は、好ましくは炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基である。Xa2及びYa3の置換基としては、好ましくは、ヒドロキシ基である。モノマーa1-4としては、以下のモノマーが挙げられる。上記モノマーにおいて、Ra32に相当する水素原子がメチル基に置き換わったモノマーも、モノマーa1-4の具体例として挙げることができる。樹脂Aがモノマーa1-4に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、10~95モルが好ましく、15~90モルより好ましく、20~85モルがさらに好ましい。樹脂Xが、モノマーa1-4に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、5~50モルの範囲が好ましく、10~45モルの範囲がより好ましく、15~40モルの範囲がさらに好ましい。酸不安定基2を有する構造単位a1として、式a1-5で表されるモノマー以下モノマーa1-5ということがあるに由来する構造単位を用いることができる。式a1-5中、R31は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。L1~L3は、酸素原子又は硫黄原子又は-O-CH2k1-CO-O-で表される基を表す。ここで、k1は1~7の整数を表し、はカルボニル基-CO-との結合手である。Z1は、単結合又は炭素数1~6のアルカンジイル基であり、該アルカンジイル基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。s1及びs1’は、それぞれ独立して、0~4の整数を表す。式a1-5においては、R31は、水素原子及びメチル基が好ましい。L1は、酸素原子が好ましい。L2及びL3は、一方が酸素原子、他方が硫黄原子が好ましい。Z1は、単結合又は-CH2-CO-O-が好ましい。s1は、1が好ましい。s1’は、0~2の整数が好ましい。モノマーa1-5としては、以下のモノマーが挙げられる。上記モノマーにおいて、R31に相当するメチル基が水素原子に置き換わったモノマーも、モノマーa1-5の具体例として挙げることができる。樹脂Aがモノマーa1-5に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、10~95モルが好ましく、15~90モルより好ましく、20~85モルがさらに好ましい。樹脂Xが、モノマーa1-5に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、5~50モルの範囲が好ましく、10~45モルの範囲がより好ましく、15~40モルの範囲がさらに好ましい。酸不安定基1と炭素-炭素二重結合とを分子内に有する構造単位a1として、以下のモノマーに由来する構造単位を用いることができる。樹脂Aが、上述したモノマーに由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、10~95モルが好ましく、15~90モルより好ましく、20~85モルがさらに好ましい。樹脂Xが、上述したモノマーに由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、5~50モルの範囲が好ましく、10~45モルの範囲がより好ましく、15~40モルの範囲がさらに好ましい。酸安定構造単位樹脂Aは、酸不安定構造単位a1の他に、酸不安定基を有さない構造単位以下酸安定構造単位ということがあるを有していることが好ましい。なお、樹脂Xが、構造単位aa又は構造単位I及び構造単位ab以外に、酸安定構造単位を有していてもよい。酸安定構造単位a2酸安定構造単位は、ヒドロキシ基又はラクトン環を有する構造単位が好ましい。ヒドロキシ基を有する酸安定構造単位以下酸安定構造単位a2ということがある及び/又はラクトン環を有する酸安定構造単位以下酸安定構造単位a3ということがあるを有する樹脂Aを使用することにより、レジストの解像度及びレジストパターンの基板への密着性を向上させることができる。レジスト組成物をKrFエキシマレーザ露光248nm、電子線又はEUV光などの高エネルギー線露光に用いる場合、ヒドロキシ基を有する酸安定構造単位a2として、好ましくは、ヒドロキシスチレン類であるフェノール性ヒドロキシ基を有する酸安定モノマーを由来とする構造単位を使用する。特に、短波長のArFエキシマレーザ露光193nmなどを用いる場合は、ヒドロキシ基を有する酸安定構造単位a2として、好ましくは、式a2-1で表されるヒドロキシアダマンチル基を有する酸安定モノマーに由来する構造単位を使用する。ヒドロキシ基を有する酸安定モノマーに由来する構造単位a2は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。酸安定構造単位a2-0酸安定構造単位a2は、以下の式a2-0で表されるもの以下酸安定構造単位a2-0ということがあるが挙げられる。式a2-0中、Ra30は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ra31は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアシル基、炭素数2~4のアシルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。maは0~4の整数を表す。maが2以上の整数である場合、複数のRa31は同一又は相異なる。Ra30のハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基及びハロゲン原子は、式a1-4のRa32で例示したものと同じである。これらのうち、Ra30は、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ra31のアルコキシ基としては、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。Ra31のアルキル基としては、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、炭素数1又は2のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。maは0、1又は2が好ましく、0又は1がより好ましく、0が特に好ましい。酸安定構造単位a2-0を誘導するモノマーとしては、例えば、以下のものが挙げられる。上記のモノマーにおいて、ベンゼン環に結合しているメチル基、エチル基等を、Ra31として例示したその他の置換基に置き換えたものも、酸安定モノマーa2-0の具体例として挙げることができる。酸安定モノマーa2-0を用いて樹脂Aを製造する場合、酸安定モノマーa2-0にあるフェノール性ヒドロキシ基が保護基で保護されているモノマーを用いることもできる。保護基は、例えば、酸又は塩基で脱離する保護基などが好ましい。酸又は塩基で脱離する保護基で保護されたフェノール性ヒドロキシ基は、酸又は塩基との接触により、脱保護することができる。ただし、樹脂Aは、酸不安定基を含む構造単位a1を有しているので、保護基で保護されたフェノール性ヒドロキシ基を脱保護する際には、構造単位a1の酸不安定基を著しく損なわないよう、塩基との接触により、脱保護することが好ましい。保護基としては、例えば、アセチル基、ベンゾイル基等が好ましい。塩基としては、例えば、4-ジメチルアミノビリジン、トリエチルアミン等が挙げられる。なかでも、酸安定モノマーa2-0としては、4-ヒドロキシスチレン又は4-ヒドロキシ-α-メチルスチレンが好ましい。これら化合物は、フェノール性ヒドロキシ基が適当な保護基で保護したものであってもよい。樹脂Aが酸安定構造単位a2-0を有する場合、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、通常5~95モルであり、10~80モルが好ましく、15~80モルがより好ましい。樹脂Xが酸安定構造単位a2-0を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常、0~90モルであり、10~80モルが好ましく、20~70モルがより好ましい。酸安定構造単位a2-1酸安定構造単位a2-1としては、以下の式a2-1以下酸安定構造単位a2-1ということがあるで表される構造単位が挙げられる。式a2-1中、La3は、酸素原子又は-O-CH2k2-CO-O-k2は1~7の整数を表す。を表し、はカルボニル基-CO-との結合手を表す。Ra14は、水素原子又はメチル基を表す。Ra15及びRa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。o1は、0~10の整数を表す。La3は、好ましくは、k2が1~4の整数である-O-CH2k2-CO-O-で表される基又は酸素原子であり、より好ましくは、-O-CH2-CO-O-又は酸素原子であり、さらに好ましくは酸素原子である。Ra14は、好ましくはメチル基である。Ra15は、好ましくは水素原子である。Ra16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。o1は、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は1である。酸安定構造単位a2-1としては、例えば、以下のものが挙げられる。上記の構造単位において、Ra14に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位a2-1の具体例として挙げることができる。なかでも式a2-1-1、式a2-1-2、式a2-1-13及び式a2-1-15のいずれかで表される酸安定構造単位並びにこれらの酸安定構造単位a2-1のRa14に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式a2-1-1、式a2-1-2、式a2-1-13及び式a2-1-15のいずれかで表される酸安定構造単位がさらに好ましい。これらの酸安定構造単位a2-1を有する樹脂Aは、3-ヒドロキシアダマンタン-1-イルメタアクリレート、3,5-ジヒドロキシアダマンタン-1-イルメタアクリレート又はメタアクリル酸1-3,5-ジヒドロキシアダマンタン-1-イルオキシカルボニルメチルなどを、樹脂A製造用のモノマーとして用いればよい。樹脂Aが酸安定構造単位a2-1を有する場合、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、通常3~40モルであり、5~35モルが好ましく、5~30モルがより好ましい。樹脂Xが酸安定構造単位a2-1を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常、1~90モルであり、10~80モルが好ましく、20~70モルがより好ましい。酸安定構造単位a3酸安定構造単位a3が有するラクトン環は、例えば、β-プロピオラクトン環、γ-ブチロラクトン環及びδ-バレロラクトン環のような単環式でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。これらラクトン環の中で、γ-ブチロラクトン環及びγ-ブチロラクトン環と他の環との縮合環が好ましい。酸安定構造単位a3は好ましくは、以下の式a3-1、式a3-2又は式a3-3で表されるものであり、これらのうち1種のみを有していてもよく、2種以上を有していてもよい。なお、以下の説明においては、式a3-1で示されるものを酸安定構造単位a3-1といい、式a3-2で示されるものを酸安定構造単位a3-2といい、式a3-3で示されるものを酸安定構造単位a3-3という。[式a3-1中、La4は、酸素原子又は-O-CH2k3-CO-O-k3は1~7の整数を表す。を表す。はカルボニル基との結合手を表す。Ra18は、水素原子又はメチル基を表す。p1は0~5の整数を表す。Ra21は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表し、p1が2以上の場合、複数のRa21は同一又は相異なる。式a3-2中、La5は、酸素原子又は-O-CH2k3-CO-O-k3は1~7の整数を表す。を表す。はカルボニル基との結合手を表す。q1は、0~3の整数を表す。Ra22は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表し、q1が2以上の場合、複数のRa22は、同一又は相異なる。式a3-3中、La6は、酸素原子又は-O-CH2k3-CO-O-k3は1~7の整数を表す。を表す。はカルボニル基との結合手を表す。Ra20は、水素原子又はメチル基を表す。r1は、0~3の整数を表す。Ra23は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表し、r1が2以上の場合、複数のRa23は、同一又は相異なる。]式a3-1~式a3-3において、La4~La6は、それぞれ独立に、好ましくは、k3が1~4の整数である-O-CH2k3-CO-O-で表される基又は酸素原子、より好ましくは、-O-CH2-CO-O-又は酸素原子であり、さらに好ましくは酸素原子である。Ra18~Ra21は、好ましくはメチル基である。Ra22及びRa23は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。p1、q1及びr1は、好ましくは0~2の整数であり、より好ましくは0又は1である。γ-ブチロラクトン環を有する酸安定構造単位a3-1としては、例えば、以下のものが挙げられる。γ-ブチロラクトン環とノルボルナン環との縮合環を有する酸安定構造単位a3-2としては、例えば以下のものが挙げられる。γ-ブチロラクトン環とシクロヘキサン環との縮合環を有する酸安定構造単位a3-3は例えば、以下のものが挙げられる。上記の構造単位において、Ra18~Ra20相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、各々酸安定構造単位a3-1、酸安定構造単位a3-2及び酸安定構造単位a3-3の具体例として挙げることができる。また、この例示において、ラクトン環が有する置換基Ra21~Ra23としてメチル基を有するものも例示したが、このメチル基を上述のような基に置き換えたものも、酸安定構造単位a3の具体例として挙げられる。酸安定構造単位a3の中でも、α-メタアクリロイロキシ-γ-ブチロラクトン、β-メタアクリロイロキシ-γ-ブチロラクトン、α-メタアクリロイロキシ-β,β-ジメチル-γ-ブチロラクトン、α-メタアクリロイロキシ-α-メチル-γ-ブチロラクトン、β-メタアクリロイロキシ-α-メチル-γ-ブチロラクトン、メタアクリル酸5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.037]ノナン-2-イル、メタアクリル酸テトラヒドロ-2-オキソ-3-フリル及びメタアクリル酸2-5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.037]ノナン-2-イルオキシ-2-オキソエチルなどから誘導される酸安定構造単位a3が好ましい。樹脂Aが、酸安定構造単位a3-1、酸安定構造単位a3-2及び酸安定構造単位a3-3からなる群より選ばれる酸安定構造単位a3を有する場合、その合計含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、通常、5~70モルであり、好ましくは10~65モルであり、より好ましくは10~60モルである。また、酸安定構造単位a3-1、酸安定構造単位a3-2及び酸安定構造単位a3-3それぞれの含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、5~60モルの範囲が好ましく、10~55モルの範囲がより好ましく、20~50モルの範囲がさらに好ましく、20~45モルの範囲が一層好ましい。樹脂Xが、酸安定構造単位a3-1、酸安定構造単位a3-2及び酸安定構造単位a3-3からなる群より選ばれる酸安定構造単位a3を有する場合、その合計含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常、0~90モルであり、好ましくは10~80モルであり、より好ましくは20~70モルである。酸安定モノマーa4樹脂Aは、酸安定構造単位a2及び酸安定構造単位a3以外の酸安定構造単位を含有していてもよい。酸安定構造単位を誘導するモノマー酸安定モノマーを酸安定モノマーa4という。酸安定モノマーa4としては、以下の式a4-1で表される無水マレイン酸、式a4-2で表される無水イタコン酸及び式a4-3で表されるノルボルネン環を有する酸安定モノマー以下酸安定モノマーa4-3ということがあるなどを挙げることができる。[式a4-3中、Ra25及びRa26は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1~3のアルキル基、シアノ基、カルボキシ基又は基-COORa27Ra27は炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し-COORa27が酸不安定基となるものは除くすなわち、Ra27は、3級炭素原子が-O-と結合するものを含まないを表すか、或いはRa25及びRa26が結合して-CO-O-CO-を形成する。]Ra25及びRa26のヒドロキシ基を有していてもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシメチル基及び2-ヒドロキシエチル基などが好ましい。Ra27の脂肪族炭化水素基は、好ましくは炭素数1~8のアルキル基及び炭素数4~18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基及び炭素数4~12の脂環式炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、2-オキソ-オキソラン-3-イル基及び2-オキソ-オキソラン-4-イル基などがさらに好ましい。酸安定モノマーa4-3としては、例えば、2-ノルボルネン、2-ヒドロキシ-5-ノルボルネン、5-ノルボルネン-2-カルボン酸、5-ノルボルネン-2-カルボン酸メチル、5-ノルボルネン-2-カルボン酸2-ヒドロキシ-1-エチル、5-ノルボルネン-2-メタノール及び5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物などが挙げられる。樹脂Aが、式a4-1で表される無水マレイン酸に由来する構造単位、式a4-2で表される無水イタコン酸に由来する構造単位及びモノマーa4-3に由来する構造単位からなる群より選ばれる構造単位を有する場合、その合計含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、通常2~40モルであり、好ましくは3~30モルであり、より好ましくは5~20モルである。樹脂Xが、式a4-1で表される無水マレイン酸に由来する構造単位、式a4-2で表される無水イタコン酸に由来する構造単位及びモノマーa4-3に由来する構造単位からなる群より選ばれる構造単位を有する場合、その合計含有量は、好ましくは、樹脂Xの全構造単位に対して、5~20モルである。酸安定モノマーa4として、例えば、式a4-4で表されるスルトン環を有するもの以下酸安定モノマーa4-4ということがあるが挙げられる。[式a4-4中、La7は、酸素原子又は-T-CH2k2-CO-O-をk2は1~7の整数を表す。Tは酸素原子又はNHである。表し、はカルボニル基との結合手を表す。Ra28は、水素原子又はメチル基を表す。W10は、置換基を有していてもよいスルトン環基を表す。]スルトン環基に含まれるスルトン環は、脂環式炭化水素に含まれるメチレン基のうち、隣り合うメチレン基の一方が酸素原子、他方がスルホニル基に置き換わったものであり、下記に示すものなどが挙げられる。スルトン環基の代表例は、下記スルトン環にある水素原子の1つが、結合手に置き換わったものであり、式a4-4においてはLa7との結合手が該当する。置換基を有していてもよいスルトン環基とは、上述の結合手に置き換わった水素原子以外の水素原子がさらに置換基水素原子以外の1価の基に置換されたものであり、この置換基としては、ヒドロキシ基、シアノ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のフッ化アルキル基、炭素数1~6のヒドロキシアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~7のアルコキシカルボニル基、炭素数1~7のアシル基及び炭素数1~8のアシルオキシ基などが挙げられる。酸安定モノマーa4-4の具体例を示す。上記のモノマーにおいて、Ra28に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位a4-4の具体例として挙げることができる。樹脂Aがモノマーa4-4に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、通常2~40モルであり、好ましくは3~35モルであり、より好ましくは5~30モルである。樹脂Xがモノマーa4-4に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常0~90モルであり、好ましくは10~80モルであり、より好ましくは20~70モルである。酸安定モノマーa4として、以下に示すようなフッ素原子を有するモノマー以下酸安定モノマーa4-5ということがあるも挙げられる。このような酸安定モノマーa4-5の中でも、単環式又は多環式の脂肪族環を有するメタアクリル酸5-3,3,3-トリフルオロ-2-ヒドロキシ-2-[トリフルオロメチル]プロピルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル、メタアクリル酸6-3,3,3-トリフルオロ-2-ヒドロキシ-2-[トリフルオロメチル]プロピルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル、メタアクリル酸4,4-ビストリフルオロメチル-3-オキサトリシクロ[4.2.1.02,5]ノニルが好ましい。樹脂Aがモノマーa4-5に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、通常1~20モルであり、好ましくは2~15モルであり、より好ましくは3~10モルである。樹脂Xがモノマーa4-5に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、好ましくは、樹脂Xの全構造単位に対して、5~40モルである。樹脂Aは、以下に示す式3で表される基を有する酸安定モノマーa4に由来する構造単位を含有することができる。[式3中、R10は、炭素数1~6のフッ化アルキル基を表す。は結合手を表す。]R10のフッ化アルキル基としては、ジフルオロメチル基、ペルフルオロメチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、1-トリフルオロメチル-1,2,2,2-テトラフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、1,1,2,2-テトラフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,2-トリフルオロエチル基、2-ペルフルオロプロピルエチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロペンチル基、1,1-ビストリフルオロメチル-2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、ペルフルオロペンチル基、2-ペルフルオロブチルエチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロヘキシル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。R10のフッ化アルキル基は、炭素数1~4が好ましく、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基及びペルフルオロプロピル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。式3で表される基を有する酸安定モノマーa4としては、以下の酸安定モノマー[以下酸安定モノマーa4-6ということがある]が挙げられる。上記のモノマーにおいて、部分構造M’を部分構造A’に置き換えたものも、酸安定モノマーa4-6の具体例として挙げることができる。また、酸安定モノマーa4-6としては、以下のものも挙げることができる。樹脂Aがモノマーa4-6に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、通常5~90モルであり、好ましくは10~80モルであり、より好ましくは20~70モルである。樹脂Xがモノマーa4-6に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常0~90モルであり、好ましくは10~80モルであり、より好ましくは20~70モルである。樹脂Aは、以下に示す式4で表される基を有する酸安定モノマーa4に由来する構造単位を含有することができる。[式4中、R11は置換基を有してもよい炭素数6~12の芳香族炭化水素基を表す。R12は、置換基を有してもよい炭素数1~12の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。A3は、単結合、-CH2m10-SO2-O-又は-CH2m10-CO-O-を表し、-CH2m10-に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基又はスルホニル基に置き換わっていてもよく、該-CH2m10-に含まれる水素原子は、フッ素原子に置き換わっていてもよい。m10は、1~12の整数を表す。]R11における炭素数6~12の芳香族炭化水素基としては、上述したものが挙げられる。この芳香族炭化水素基が置換基を有する場合、その置換基は、炭素数1~4のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、フェニルオキシ基及びtert-ブチルフェニル基などである。R11としては、以下の基が挙げられる。なお、は炭素原子との結合手である。R12における炭素数1~12の炭化水素基は、鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基のいずれでもよい。脂肪族炭化水素基としては、典型的にはアルキル基であり、その具体例は炭素数が1~12の範囲において、すでに例示したものを含む。脂環式炭化水素基としては、炭素数が12以下の範囲において、すでに例示したものを含む。R12が脂肪族炭化水素基である場合、該脂肪族炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。ヘテロ原子としては、ハロゲン原子、硫黄原子、酸素原子及び窒素原子などである連結基として、スルホニル基、カルボニル基を含む形態でもよい。このようなヘテロ原子を含むR12としては、以下の基が挙げられる。R12が芳香族炭化水素基である場合、その具体例は、R11の場合と同じである。A3としては、下記に示す基が挙げられる。式4で表される基を含む酸安定モノマーa4としては、以下の酸安定モノマー[以下酸安定モノマーa4-7ということがある]が挙げられる。[式a4-7中、R13は、水素原子又はメチル基を表す。R11、R12及びA3は、前記と同義である。]酸安定モノマーa4-7としては、例えば、以下のものが挙げられる。上記のモノマーにおいて、部分構造M’を部分構造A’に置き換えたものも、酸安定モノマーa4-7の具体例として挙げることができる。樹脂Aがモノマーa4-7に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、通常5~90モルであり、好ましくは10~80モル、より好ましくは20~70モルである。樹脂Xがモノマーa4-7に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常0~90モルであり、好ましくは10~80モル、より好ましくは20~70モルである。酸安定モノマーa4としては、以下の式a4-8で示されるモノマー[以下酸安定モノマーa4-8ということがある]が挙げられる。[式a4-8中、環W2は、炭素数3~36の脂肪族炭化水素環を表す。A4は、単結合又は炭素数1~17の脂肪族炭化水素基を表す。該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、A4のうち、酸素原子に結合している原子は炭素原子である。R14は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のハロアルキル基を表す。R15及びR16は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のハロアルキル基を表す。]環W2は、単環式又は多環式の炭素数3~36の脂肪族炭化水素環であり、その炭素数は5~18が好ましく、6~12がより好ましい。すなわち、式a4-8においてで示される部分構造は、式KA-1~式KA-22の脂環式炭化水素に含まれる水素原子の1個がA4との結合手に、脂環式炭化水素の環に含まれる炭素原子の1つに結合している2つの水素原子が、-O-CO-R15及び-O-CO-R16との結合手に置き換わったものを挙げることができる。環W2の脂肪族炭化水素環は、シクロヘキサン環、アダマンタン環、ノルボルナン環及びノルボルネン環が特に好ましい。A4の脂肪族炭化水素基は、炭素数が17以下の範囲において、すでに例示したアルカンジイル基及び2価の脂環式炭化水素基を挙げることができ、炭素数が17以下の範囲であれば、アルカンジイル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた脂肪族炭化水素基であってもよい。A4の脂肪族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。例えば、アルカンジイル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた脂肪族炭化水素基としては、以下の式Xx-A、式Xx-B及び式Xx-Cで表される基などが挙げられる。式中、XX1及びXX2は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基を表し、XX1及びXX2がともに単結合であることはなく、式Xx-A、式Xx-B及び式Xx-Cで表される基の総炭素数は17以下である。A4の脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基が酸素原子又はカルボニル基に置き換わった基としては、例えば、式aaの基a-1で例示したものが挙げられる。なかでも、A4は、単結合又は-CH2s1-CO-O-は-O-との結合手を表し、s1は1~6の整数を表す。で表される基が好ましく、単結合又は-CH2-CO-O-は-O-との結合手を表す。で表される基がより好ましい。R14~R16のアルキル基としては、炭素数が1~6の範囲において、その具体例は、すでに例示したものを含む。ハロアルキル基としては、フッ素原子を有するアルキル基が特に好ましい。R15及びR16のハロアルキル基としては、好ましくは、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基及びペルフルオロブチル基などであり、より好ましくは、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基及びペルフルオロプロピル基である。R14は、水素原子又はメチル基が好ましい。酸安定モノマーa4-8としては、以下に示すものが挙げられる。以下の式において、R14~R16及びA4は、前記と同義である。これらの中でも、で示される酸安定モノマーa4-8がより好ましい。酸安定モノマーa4-8として、より具体的には、以下で表されるものが挙げられる。上記のモノマーにおいて、R14に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、構造単位a4-8の具体例として挙げることができる。酸安定モノマーa4-8は、例えば、式a4-8-aで表される化合物と、式a4-8-bで表される化合物とを反応させることにより製造することができる。式a4-8-aで表される化合物は、例えば、特開2002-226436号公報に記載されている1-メタクリロイルオキシ-4-オキソアダマンタンなどが挙げられる。式a4-8-bで表される化合物としては、例えば、ペンタフルオロプロピオン酸無水物、ヘプタフルオロ酪酸無水物及びトリフルオロ酢酸無水物などが挙げられる。この反応は、用いる式a4-8-bで表される化合物の沸点温度付近で加温することにより、実施することが好ましい。[式a4-8-a及び式a4-8-b中の符号はいずれも、前記と同義である。]樹脂Aがモノマーa4-8に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Aの全構造単位100モルに対して、通常5~90モルであり、好ましくは10~80モルであり、より好ましくは20~70モルである。樹脂Xがモノマーa4-8に由来する構造単位を有する場合、その含有量は、樹脂Xの全構造単位100モルに対して、通常0~90モルであり、好ましくは10~80モルであり、より好ましくは20~70モルの範囲である。上述したように、樹脂Xが、酸安定モノマーa4に由来する構造単位を有する場合、酸安定モノマーa4に由来する構造単位としては、式3で表される基を有する酸安定モノマーa4-6及び/又は式4で表される基を有する酸安定モノマーa4-7に由来する構造単位が好ましく、酸安定モノマーa4-6に由来する構造単位がさらに好ましい。<樹脂の製造方法>樹脂Xは、化合物aa’と化合物ab’とを重合すること、あるいは化合物aa’と、化合物ab’と、他の構造単位を誘導するモノマーとを重合することによって得ることができる。樹脂Xに含まれる他の構造単位を誘導するモノマーとしては、好ましくは、酸安定モノマーa4、より好ましくは、酸安定モノマーa4-6及び/又は酸安定モノマーa4-7が挙げられる。樹脂Xが構造単位a1を含有する場合、構造単位a1の含有量と酸安定性構造単位の含有量との比は、構造単位a1/酸安定構造単位で表して、好ましくは10~80モル/90~20モルであり、より好ましくは20~60モル/80~40モルである。酸安定構造単位の含有量は、構造単位aa及び構造単位abの含有量を含めて算出することが好ましい。樹脂Aは、構造単位a1を誘導するモノマー[好ましくは、構造単位a1-1又は構造単位a1-2を誘導するモノマー]を共重合させたものであり、より好ましくは構造単位a1を誘導するモノマーと、酸安定構造単位を誘導するモノマーとを共重合させたものであり、さらに好ましくは、構造単位a1-1及び/又は構造単位a1-2を誘導するモノマーと、酸安定構造単位a2及び/又は酸安定構造単位a3を誘導するモノマーとを共重合させたものである。樹脂Aは、構造単位a1として、アダマンチル基を有する構造単位a1-1及び構造単位a1-2のうち、少なくとも1種を有することが好ましく、アダマンチル基を有する構造単位a1-1を有することがさらに好ましい。酸安定構造単位a2としては、ヒドロキシアダマンチル基を有する構造単位a2-1を用いることが好ましい。酸安定構造単位a3としては、γ-ブチロラクトン環を有する酸安定構造単位a3-1及びγ-ブチロラクトン環とノルボルナン環との縮合環を有する酸安定構造単位a3-2の少なくとも1種を有することが好ましい。樹脂Aが酸安定構造単位を有する場合、構造単位a1の含有量を基準にして、酸安定性構造単位の含有量を定めるとよい。構造単位a1の含有量と酸安定性構造単位の含有量との比は、構造単位a1/酸安定構造単位で表して、好ましくは10~80モル/90~20モルであり、より好ましくは20~60モル/80~40モルである。構造単位a1がアダマンタン環を有する構造単位、特に構造単位a1-1を含む場合、構造単位a1の総量100モルに対して、構造単位a1-1の割合を15モル以上とすることが好ましい。このようにすると、樹脂Aを含有する本レジスト組成物から得られるレジストパターンのドライエッチング耐性がより良好になる傾向がある。本発明のレジスト組成物は、樹脂Xと樹脂Aとを組み合わせて用いることが好ましく、酸不安定基a1を有さない樹脂Xと樹脂Aとを組み合わせて用いることがより好ましい。樹脂Xと樹脂Aとを組み合わせて用いる場合、その混合質量比は、樹脂と後述する酸発生剤との相互作用により、本発明のレジスト組成物によってレジストパターンが製造できるように、適宜調整する。例えば、混合質量比は、樹脂Xが酸不安定基a1を有する場合、樹脂A10質量部に対して、樹脂Xは、0.1~100質量部が好ましく、1~50質量部がより好ましい。樹脂Xが酸不安定基a1を有さない場合、樹脂A10質量部に対して、樹脂Xは、0.01~2質量部が好ましく、0.1~1質量部がより好ましい。樹脂X及び樹脂Aは、上述したモノマーを公知の重合法例えばラジカル重合法に供することにより重合共重合させればよい。樹脂Xの重量平均分子量は、好ましくは5,000以上が、より好ましくは8,000以上、さらに好ましくは10,000以上である。また、好ましくは80,000以下、より好ましくは60,000以下、さらに好ましくは50,000以下である。樹脂Aの重量平均分子量は、2,500以上50,000以下が好ましく、3,000以上30,000以下がより好ましい。重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー分析により、標準ポリスチレン基準の換算値として求められるものである。この分析の詳細な分析条件は、本願の実施例に記載する。<酸発生剤以下酸発生剤Bということがある>酸発生剤Bは、非イオン系とイオン系とに分類されるが、本発明のレジスト組成物においては、いずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤としては、有機ハロゲン化物、スルホネートエステル類例えば2-ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、N-スルホニルオキシイミド、N-スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン4-スルホネート、スルホン類例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン等が挙げられる。イオン系酸発生剤は、オニウムカチオンを含むオニウム塩例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩及びヨードニウム塩などが挙げられる。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン及びスルホニルメチドアニオンなどが挙げられる。酸発生剤としては、例えば特開昭63-26653号、特開昭55-164824号、特開昭62-69263号、特開昭63-146038号、特開昭63-163452号、特開昭62-153853号、特開昭63-146029号、米国特許第3,779,778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用できる。また、酸発生剤は、公知の方法によって製造することができる。本発明のレジスト組成物に含有される酸発生剤は、以下の式B1で表される酸発生剤以下酸発生剤B1ということがあるが好ましい。なお、以下の説明において、この酸発生剤B1のうち、正電荷を有するZは有機カチオンといい、該有機カチオンを除去してなる負電荷を有するものをスルホン酸アニオンということがある。式B1中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、置換基を有していてもよい炭素数1~17の2価の脂肪族炭化水素基を表す。該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Yは、置換基を有していてもよい炭素数1~18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基又はスルホニル基に置き換わっていてもよい。Zは、有機カチオンを表す。Q1及びQ2のペルフルオロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。式B1では、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、好ましくはトリフルオロメチル基又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。Lb1の2価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の脂環式炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組み合わせたものでもよい。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基、ヘプタデカン-1,17-ジイル基、メチリデン基、エチリデン基、プロピリデン基、2-プロピリデン基等の直鎖状アルカンジイル基;直鎖状アルカンジイルに、アルキル基特に、炭素数1~4のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の側鎖を有したもの、例えば、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の脂環式炭化水素基;ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボルナン-2,5-ジイル基、アダマンタン-1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジイル基等の多環式の脂環式炭化水素基等が挙げられる。Lb1の脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基が、酸素原子又はカルボニル基に置き換わったものとしては、例えば、式b1-1~式b1-6が挙げられる。式b1-1~式b1-6は、その左右を式B1に合わせて記載しており、左側でCQ1Q2-と結合し、右側で-Yと結合する。以下の式b1-1~式b1-6の具体例も同様である。式b1-1~式b1-6中、Lb2は、単結合又は炭素数1~15の脂肪族炭化水素基を表し、この脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。Lb3は、単結合又は炭素数1~12の脂肪族炭化水素基を表し、この脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。Lb4は、炭素数1~13の脂肪族炭化水素基を表し、この脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。但しLb3及びLb4の合計炭素数の上限は13である。Lb5は、炭素数1~15の脂肪族炭化水素基を表し、この脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。Lb6及びLb7は、それぞれ独立に、炭素数1~15の脂肪族炭化水素基を表し、これらの脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。但しLb6及びLb7の合計炭素数の上限は16である。Lb8は、炭素数1~14の脂肪族炭化水素基を表し、この脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。Lb9及びLb10は、それぞれ独立に、炭素数1~11の脂肪族炭化水素基を表し、これらの脂肪族炭化水素基は脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。但しLb9及びLb10の合計炭素数の上限は12である。Lb1は、好ましくは式b1-1~式b1-4のいずれかで表される基であり、より好ましくは式b1-1~式b1-3のいずれかで表される基であり、さらに好ましくは式b1-1又は式b1-2であり、一層好ましくは式b1-1で表される2価の基である。なかでも、Lb2が単結合又はメチレン基である式b1-1で表される2価の基がより好ましい。式b1-1で表される2価の基は例えば、以下のものが挙げられる。式b1-2で表される2価の基は例えば、以下のものが挙げられる。式b1-3で表される2価の基は例えば、以下のものが挙げられる。式b1-4で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。式b1-5で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。式b1-6で表される2価の基としては、例えば以下のものが挙げられる。Lb1の脂肪族炭化水素基における置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、炭素数7~21のアラルキル基、炭素数2~4のアシル基及びグリシジルオキシ基等が挙げられる。Yの脂肪族炭化水素基としては、アルキル基及び脂環式炭化水素が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、1-メチルエチル基イソプロピル基、1,1-ジメチルエチル基tert-ブチル基、2,2-ジメチルエチル基、プロピル基、1-メチルプロピル基、2,2-ジメチルプロピル基、1-エチルプロピル基、ブチル基、1-メチルブチル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基、1-プロピルブチル基、ペンチル基、1-メチルペンチル基、ヘキシル基、1,4-ジメチルヘキシル基、ヘプチル基、1-メチルヘプチル基、オクチル基、メチルオクチル基、メチルノニル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基等が挙げられる。脂環式炭化水素基としては、以下の式Y1~式Y11で表される基等が挙げられる。なかでも、Yは、炭素数1~6のアルキル基及び炭素数3~12の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数3~12の脂環式炭化水素基がより好ましい。Yの脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基が、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わった基としては、例えば、上述したアルキル基に含まれる-CH2-が酸素原子又はカルボニル基に置き換わった基、環状エーテル基脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基の1つ又は2つが酸素原子に置き換わった基、環状ケトン基脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基の1つ又は2つがカルボニル基に置き換わった基、スルトン環基脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基のうち隣り合う2つのメチレン基が、それぞれ、酸素原子及びスルホニル基に置き換わった基及びラクトン環基脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基のうち隣り合う2つのメチレン基が、それぞれ、酸素原子及びカルボニル基に置き換わった基などが挙げられる。具体的には、以下の式Y12~式Y26で表される基等が挙げられる。Yの脂環式炭化水素基の好ましい基は、式Y11、式Y14、式Y15、式Y16及び式Y19のいずれか、より好ましくは、式Y11、式Y14、式Y15及び式Y19のいずれか、さらに好ましくは、式Y11及び式Y14のいずれかで表される脂環式炭化水素基である。Yにおける脂肪族炭化水素基の置換基は、例えば、ハロゲン原子但し、フッ素原子を除く、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、炭素数7~21のアラルキル基、炭素数2~4のアシル基、グリシジルオキシ基又は-CH2j2-O-CO-Rb1で表される基式中、Rb1は、炭素数1~16の炭化水素基を表す。j2は、0~4の整数を表す。などが挙げられる。Yの置換基である芳香族炭化水素基及びアラルキル基は、例えば、アルキル基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基をさらに有していてもよい。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素原子が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペントキシ基、n-ヘキトキシ基等が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、トリチル、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。アシル基としては、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル等が挙げられる。Yとしては、例えば以下のものが挙げられる。Yは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、さらに好ましくはアダマンチル基、オキソアダマンチル基及びヒドロキシアダマンチル基である。式B1で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、好ましくは、式b1-1-1~式b1-1-9で表されるアニオンが挙げられる。以下の式においては、置換基の定義は上記と同じ意味であり、置換基Rb2及びRb3は、それぞれ独立に炭素数1~4のアルキル基好ましくは、メチル基を表す。式B1で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、具体的には、特開2010-204646号公報に記載されたアニオンが挙げられる。さらに、好ましくは、Lb1が式b1-1で表される基であり、Yが式Y1又は式で表される脂環式炭化水素基であるスルホン酸アニオンである。Yが無置換の脂肪族炭化水素基であるスルホン酸アニオンとしては、以下の式b1-s-0~式b1-s-9のいずれかで表されるものが挙げられる。Yがヒドロキシ基を有する脂環式炭化水素基であるスルホン酸アニオンとしては、以下の式b1-s-10~式b1-s-18のいずれかで表されるものが挙げられる。Yが環状ケトン基であるスルホン酸アニオンとしては、以下の式b1-s-19~式b1-s-29のいずれかで表されるものが挙げられる。Yが芳香族基を有する脂環式炭化水素基であるスルホン酸アニオンとしては、以下の式b1-s-30~式b1-s-35のいずれかで表されるものが挙げられる。Yが、前記ラクトン環基又は前記スルホン酸環基であるスルホン酸アニオンとしては、以下の式b1-s-36~式b1-s-41のいずれかで表されるものが挙げられる。酸発生剤B1中の有機カチオンZは例えば、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、有機ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオンなどの有機オニウムカチオンが挙げられ、好ましくは有機スルホニウムカチオン又は有機ヨードニウムカチオン、より好ましくは有機スルホニウムカチオンである。有機スルホニウムカチオンは、好ましくは以下の式b2-1、式b2-3及び式b2-4のいずれかで表される有機カチオンである。有機ヨードニウムカチオンは、好ましくは式b2-2で表される有機カチオンである。式b2-1~式b2-4において、Rb4、Rb5及びRb6は、それぞれ独立に、炭素数1~30の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、炭素数1~30のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基及び炭素数6~18の芳香族炭化水素基が好ましく、前記アルキル基は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基を有していてもよく、前記脂環式炭化水素基は、ハロゲン原子、炭素数2~4のアシル基又はグリシジルオキシ基を有していてもよく、前記芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は炭素数1~12のアルコキシ基を有していてもよい。Rb7及びRb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。m2及びn2は、それぞれ独立に0~5の整数を表す。Rb9及びRb10は、それぞれ独立に、炭素数1~18のアルキル基又は炭素数3~18の脂環式炭化水素基を表すか、Rb9とRb10は、それらが結合する硫黄原子とともに互いに結合して3員環~12員環好ましくは3員環~7員環を形成する。該環に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基に置き換わってもよい。Rb11は、水素原子、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基を表す。Rb12は、炭素数1~18の炭化水素基を表す。該炭化水素基において、芳香族炭化水素基は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は炭素数1~12のアルキルカルボニルオキシ基を有していてもよい。Rb11とRb12は、それらが結合する-CH-CO-とともに3員環~12員環好ましくは3員環~7員環を形成していてもよく、該環に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基に置き換わってもよい。Rb13~Rb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。Lb11は、酸素原子又は硫黄原子を表す。o2、p2、s2、及びt2は、それぞれ独立に、0~5の整数を表す。q2及びr2は、それぞれ独立に、0~4の整数を表す。u2は0又は1を表す。o2が2以上であるとき、複数のRb13は同一又は相異なり、p2が2以上であるとき、複数のRb14は同一又は相異なり、s2が2以上であるとき、複数のRb15は同一又は相異なり、t2が2以上であるとき、複数のRb18は同一又は相異なる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基が挙げられる。脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などのシクロアルキル基が挙げられる。多環式の飽和炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基、下記のような基等が挙げられる。は、アダマンタン環又はシクロヘキサン環との結合手を表す。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基などが挙げられる。アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n-プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n-ブチルカルボニルオキシ基、sec-ブチルカルボニルオキシ基、tert-ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び2-エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。好ましいアルキル基は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基であり、特に、Rb9~Rb12のアルキル基は、好ましくは炭素数1~12である。好ましい脂環式炭化水素基は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基、2-アルキルアダマンタン-2-イル基、1-アダマンタン-1-イル-1-アルキル基及びイソボルニル基などである。特に、Rb9~Rb11の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3~18、より好ましくは炭素数4~12である。好ましい芳香族炭化水素基は、フェニル基、4-メチルフェニル基、4-エチルフェニル基、4-tert-ブチルフェニル基、4-シクロへキシルフェニル基、4-メトキシフェニル基、ビフェニル基及びナフチル基などが好ましい。芳香族炭化水素基にアルキル基が置換したものは、典型的にはアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。Rb9とRb10とが結合する硫黄原子とともに形成する環としては、例えば、チオラン-1-イウム環テトラヒドロチオフェニウム環、チアン-1-イウム環及び1,4-オキサチアン-4-イウム環などが挙げられる。Rb11とRb12とが結合する-CH-CO-とともに形成する環としては、例えば、オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環及びオキソアダマンタン環などが挙げられる。式b2-1~式b2-4で表される有機カチオンとしては、特開2010-204646号公報に記載されたものが挙げられる。カチオンb2-1~カチオンb2-4の中でも、好ましくは、カチオンb2-1であり、より好ましくは、式b2-1-1で表されるカチオンであり、特に好ましくは、トリフェニルスルホニウムカチオン式b2-1-1中、v2=w2=x2=0、ジフェニルトリルスルホニウムカチオン式b2-1-1中、v2=w2=0、x2=1であり、Rb21がメチル基である。又はトリトリルスルホニウムカチオン式b2-1-1中、v2=w2=x2=1であり、Rb19、Rb20及びRb21がいずれもメチル基である。である。式b2-1-1中、Rb19、Rb20及びRb21は、それぞれ独立に、ハロゲン原子より好ましくはフッ素原子、ヒドロキシ基、炭素数1~18の脂肪族炭化水素基又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。v2、w2及びx2は、それぞれ独立に0~5の整数好ましくは0又は1を表す。v2が2以上のとき、複数のRb19は同一又は相異なり、w2が2以上のとき、複数のRb20は同一又は相異なり、x2が2以上のとき、複数のRb21は同一又は相異なる。Rb19~Rb21のアルキル基は、好ましくは炭素数が1~12である。脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数が4~18である。なかでも、Rb19、Rb20及びRb21は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子より好ましくはフッ素原子、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数1~12のアルコキシ基である。好適な有機カチオンであるカチオンb2-1-1の具体例を示す。また、有機カチオンとしては、式b2-3で表される有機カチオンのうち、以下の有機カチオンも好適なものとして挙げることができる。酸発生剤B1は、上述のスルホン酸アニオン及び有機カチオンの組合せである。上述のアニオンとカチオンとは任意に組み合わせることができる。これらスルホン酸アニオン及び有機カチオンの組み合わせを表3に示す。酸発生剤B1としては、さらに好ましくは、以下の式B1-1~式B1-17のいずれかで表されるものである。中でも、トリフェニルスルホニウムカチオン又はトリトリルスルホニウムカチオンを含む式B1-2、式B1-3、式B1-6、式B1-7、式B1-11~B1-14のいずれかで表されるものがより好ましい。酸発生剤Bは、上述したように、酸発生剤B1とは異なる酸発生剤を含んでいてもよく、この場合は、酸発生剤Bの総量における酸発生剤B1の含有割合は、70質量以上が好ましく、90質量以上がより好ましい。ただし、本発明のレジスト組成物における酸発生剤Bは、実質的に酸発生剤B1のみであることがさらに好ましい。<塩基性化合物以下塩基性化合物Cということがある>塩基性化合物Cは、酸を捕捉するという特性を有する化合物、特に、酸発生剤Bから発生する酸を捕捉する特性を有する化合物である。塩基性化合物Cは、好ましくは塩基性の含窒素有機化合物であり、例えばアミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。塩基性化合物Cとして、好ましくは、式C1で表される化合物~式C8で表される化合物が挙げられ、より好ましくは式C1-1で表される化合物が挙げられる。[式C1中、Rc1、Rc2及びRc3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数5~10の脂環式炭化水素基又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基を表し、該アルキル基及び該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、アミノ基又は炭素数1~6のアルコキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数5~10の脂環式炭化水素又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基で置換されていてもよい。][式C1-1中、Rc2及びRc3は、前記と同義である。Rc4は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数5~10の脂環式炭化水素又は炭素数6~10の芳香族炭化水素基を表す。m3は0~3の整数を表し、m3が2以上のとき、複数のRc4は、同一又は相異なる。][式C2、式C3及び式C4中、Rc5、Rc6、Rc7及びRc8は、それぞれ独立に、Rc1と同じ意味を表す。Rc9は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数3~6の脂環式炭化水素基又は炭素数2~6のアルカノイル基を表す。n3は0~8の整数を表し、n3が2以上のとき、複数のRc9は、同一又は相異なる。]アルカノイル基としては、アセチル基、2-メチルアセチル基、2,2-ジメチルアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、2,2-ジメチルプロピオニル基等が挙げられる。[式C5及び式C6中、Rc10、Rc11、Rc12、Rc13及びRc16は、それぞれ独立に、Rc1と同じ意味を表す。Rc14、Rc15及びRc17は、それぞれ独立に、Rc4と同じ意味を表す。o3及びp3は、それぞれ独立に0~3の整数を表し、o3が2以上であるとき、複数のRc14は同一又は相異なり、p3が2以上であるとき、複数のRc15は同一又は相異なる。Lc1は、炭素数1~6のアルカンジイル基、-CO-、-C=NH-、-S-又はこれらを組合せた2価の基を表す。][式C7及び式C8中、Rc18、Rc19及びRc20は、それぞれ独立に、Rc4と同じ意味を表す。q3、r3及びs3は、それぞれ独立に0~3の整数を表し、q3が2以上であるとき、複数のRc18は同一又は相異なり、r3が2以上であるとき、複数のRc19は同一又は相異なり、s3が2以上であるとき、複数のRc20は同一又は相異なる。Lc2は、単結合又は炭素数1~6のアルカンジイル基、-CO-、-C=NH-、-S-又はこれらを組合せた2価の基を表す。]式C1で表される化合物としては、1-ナフチルアミン、2-ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、2-,3-又は4-メチルアニリン、4-ニトロアニリン、N-メチルアニリン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス2-2-メトキシエトキシエチルアミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’-ジアミノ-1,2-ジフェニルエタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルジフェニルメタン及び4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチルジフェニルメタンなどが挙げられ、これらの中でも、ジイソプロピルアニリンが好ましく、2,6-ジイソプロピルアニリン特に好ましい。式C2で表される化合物としては、ピペラジンなどが挙げられる。式C3で表される化合物としては、モルホリンなどが挙げられる。式C4で表される化合物としては、ピペリジン及び特開平11-52575号公報に記載されているピペリジン骨格を有するヒンダードアミン化合物などが挙げられる。式C5で表される化合物としては、2,2’-メチレンビスアニリンなどが挙げられる。式C6で表される化合物としては、イミダゾール、4-メチルイミダゾールなどが挙げられる。式C7で表される化合物としては、ピリジン、4-メチルピリジンなどが挙げられる。式C8で表される化合物としては、1,2-ジ2-ピリジルエタン、1,2-ジ4-ピリジルエタン、1,2-ジ2-ピリジルエテン、1,2-ジ4-ピリジルエテン、1,3-ジ4-ピリジルプロパン、1,2-ジ4-ピリジルオキシエタン、ジ2-ピリジルケトン、4,4’-ジピリジルスルフィド、4,4’-ジピリジルジスルフィド、2,2’-ジピリジルアミン、2,2’-ジピコリルアミン及びビピリジンなどが挙げられる。アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、3-トリフルオロメチルフェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムサリチラート及びコリンなどが挙げられる。<溶剤D>本発明のレジスト組成物には、溶剤Dが含むことが好ましい。溶剤Dは、用いる樹脂Xなどの種類及びその量、酸発生剤の種類及びその量などに応じ、さらに後述するレジストパターンの製造において、基板上に本発明のレジスト組成物を塗布する際の塗布性が良好となるという点から適宜、最適なものを選ぶことができる。好適な溶剤Dの例としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチルなどのエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン及びシクロヘキサノンなどのケトン類;γ-ブチロラクトンなどの環状エステル類を挙げることができる。溶剤Dは、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。<その他の成分>本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、樹脂X、酸発生剤、樹脂A、溶剤D及び塩基性化合物C以外の構成成分を含有していてもよい。この構成成分を成分Fという。成分Fとしては、本技術分野で広く用いられている添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤及び染料などが挙げられる。<レジスト組成物の調製>本発明のレジスト組成物は、樹脂特に、樹脂A及び樹脂Xの組み合わせ及び酸発生剤、並びに、必要に応じて用いられる塩基性化合物C溶剤D及び成分Fを混合することによって調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、10~40°Cの範囲から、樹脂などの種類、樹脂等の溶剤Dに対する溶解度等に応じて適切な温度範囲を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、0.5~24時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合などを用いることができる。各成分を混合した後は、孔径0.01~0.2μm程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。本発明のレジスト組成物に対する樹脂樹脂A及び樹脂Xの合計含有量は、本発明のレジスト組成物の固形分の総質量に対して、80質量以上99質量以下が好ましい。固形分とは、本発明のレジスト組成物から溶剤Dを除いた成分の合計を意味する。溶剤Dの含有量が90質量である場合、本発明のレジスト組成物総質量に対する固形分の含有量は10質量に該当する。本発明のレジスト組成物に対する酸発生剤の含有量は、酸発生剤が酸発生剤B1である場合、樹脂100質量部に対して、酸発生剤B1の含有量は、好ましくは1質量部以上であり、より好ましくは3質量部以上であり、好ましくは30質量部以下であり、より好ましくは25質量部以下である。本発明のレジスト組成物に塩基性化合物Cを用いる場合、その含有量は、本発明のレジスト組成物の固形分の総質量に対して、0.01~1質量程度が好ましい。本発明のレジスト組成物に溶剤Dを用いる場合、その含有量は、樹脂Xの種類などに応じて適宜調節できる。溶剤Dの含有量は、本発明のレジスト組成物総質量に対して、好ましくは90質量以上、より好ましくは92質量以上であり、さらに好ましくは94質量以上であり、好ましくは99質量以下であり、より好ましくは99.9質量以下である。レジスト組成物がこのような含有量で溶剤Dを含有することにより、後述するレジストパターンの製造方法において、厚み30~300nm程度の薄い組成物層を形成することができる。樹脂樹脂A及び/又は樹脂X、酸発生剤、溶剤D及び塩基性化合物Cの各々の含有量は、レジスト組成物を調製する際の各々の使用量により制御可能であり、レジスト組成物を調製後には、本発明のレジスト組成物を、例えばガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー等の公知の分析手段に供して求めることもできる。なお、成分Fを本発明のレジスト組成物に用いる場合には、当該成分Fの種類に応じて、適切な含有量を調節することもできる。<レジストパターンの製造方法>本発明のレジストパターンの製造方法は、1本レジスト組成物を基板上に塗布する工程、2塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、3組成物層を露光する工程、4露光後の組成物層を加熱する工程、5加熱後の組成物層を現像する工程を含む。レジスト組成物の基板上への塗布は、スピンコーターなど、半導体の微細加工のレジスト材料塗布用として広く用いられている塗布装置によって行うことができる。塗布装置の条件塗布条件を種々調節することで、塗布膜の膜厚が調整可能であり、適切な予備実験などを行うことにより、所望の膜厚の塗布膜になるように塗布条件を選ぶことができる。レジスト組成物を塗布する前の基板は、微細加工を実施しようとする種々のものを選ぶことができる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄したり、反射防止膜を形成してもよい。反射防止膜は、市販の有機反射防止膜用組成物を用いて形成することができる。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いていわゆるプリベーク行なうか、減圧装置を用いて行うか、あるいは、これらを組み合わせて用いて行なう。これによって、レジスト組成物から溶剤が蒸発して除去され、組成物層が形成される。この場合の温度は、例えば、50~200°C程度が例示される。また、圧力は、1~1.0×105Pa程度が例示される。得られた組成物層を、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。この際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源としては、KrFエキシマレーザ波長248nm、ArFエキシマレーザ波長193nm、F2レーザ波長157nmのような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源YAG又は半導体レーザ等からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの等、種々のものを用いることができる。また、露光機は、電子線や、超紫外光EUVを照射するものであってもよい。マスクを介して露光することにより、組成物層には露光された部分露光部及び露光されていない部分未露光部が生じる。露光部の組成物層では、組成物層に含まれる酸発生剤が露光エネルギーを受けて酸を発生し、さらに発生した酸の作用により、樹脂A又は樹脂Xにある酸不安定基が脱保護反応を生じ、結果として露光部の組成物層にある樹脂A又は樹脂Xはアルカリ水溶液に可溶なものとなる。一方、未露光部では露光エネルギーを受けていないため、樹脂A又は樹脂Xはアルカリ水溶液に対して不溶又は難溶のままとなる。このように、露光部にある組成物層と未露光部にある組成物層とは、アルカリ水溶液に対する溶解性が著しく相違することとなる。露光後の組成物層を、脱保護基反応を促進するために加熱処理いわゆるポストエキスポージャーベークする。加熱温度としては、通常50~200°C程度、好ましくは70~150°C程度である。加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、アルカリ現像液を利用して現像する。ここでいう現像とは、加熱後の組成物層をアルカリ水溶液と接触させることにより、露光部の組成物層を該アルカリ水溶液に溶解させ、未露光部の組成物層を基板上に残すことにより、当該基板上にレジストパターンが製造される。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド通称コリンの水溶液等が挙げられる。現像後、超純水でリンスし、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。<用途>本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線EB露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物として好適である。実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。実施例中、含有量ないし使用量を表す及び部は、特記しないかぎり質量基準である。樹脂の組成比樹脂製造に用いた各モノマーに由来する構造単位の、樹脂に対する共重合比は、重合終了後の反応液における未反応モノマー量を、液体クロマトグラフィーを用いて測定し、得られた結果から重合に用いられたモノマー量を求めることにより算出した。重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。なお、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの分析条件は下記のとおりである。カラム:TSKgelMultiporeHXLMx3guardcolumn東ソー社製溶離液:テトラヒドロフラン流量:10mL/min検出器:RI検出器カラム温度:40°C注入量:100μl分子量標準:標準ポリスチレン東ソー社製合成例1式M-Eで表される化合物の合成式E-2で表される化合物10.00部、テトラヒドロフラン40.00部及びピリジン7.29部を、23°Cで30分間攪拌混合し、0°Cまで冷却した。同温度を保持したまま、得られた混合物に、式E-1で表される化合物33.08部を、1時間かけて添加し、さらに、23°C程度まで温度を上げ、同温度で3時間攪拌した。得られた反応物に、酢酸エチル361.51部及び5塩酸水溶液20.19部を加え、23°Cで30分間攪拌した。攪拌静置し、分液することにより回収された有機層に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液81.42部を仕込み、23°Cで30分間攪拌し、静置した。その後、これを分液することにより有機層を回収した。回収された有機層に、イオン交換水90.38部を仕込み23°Cで30分間攪拌、静置し、分液することにより有機層を水洗した。このような水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層を濃縮し、式M-Eで表される化合物23.40部を得た。質量スペクトル:326.0分子ピーク合成例2:式M-Lで表される化合物の合成式L-2で表される化合物88.00部、メチルイソブチルケトン616.00部及びピリジン60.98部を、23°Cで30分間攪拌混合し、0°Cまで冷却した。同温度を保持したまま、得られた混合物に、式L-1で表される化合物199.17部を、1時間かけて添加し、さらに、10°C程度まで温度を上げ、同温度で1時間攪拌した。得られた反応物に、n-へプタン1446.22部及び2塩酸水溶液703.41部を加え、23°Cで30分間攪拌した。静置、分液することにより回収された有機層に、2塩酸水溶液337.64部を仕込み、23°Cで30分間攪拌し、静置した。その後、これを分液することにより有機層を回収した。回収された有機層に、イオン交換水361.56部を仕込み23°Cで30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を水洗した。回収された有機層に、10炭酸カリウム水溶液443.92部を仕込み、23°Cで30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を回収した。このような洗浄操作を2回繰り返した。回収された有機層に、イオン交換水361.56部を仕込み、23°Cで30分間攪拌、静置し、分液することにより有機層を水洗した。このような水洗操作を5回繰り返した。回収された有機層を濃縮し式M-Lで表される化合物163.65部を得た。MS質量分析:276.0分子イオンピーク合成例3:式M-Mで表される化合物の合成式M-2で表される化合物9.60部、テトラヒドロフラン38.40部及びピリジン5.99部を、23°Cで30分間攪拌混合し、0°Cまで冷却した。同温度を保持したまま、得られた混合物に、式M-1で表される化合物14.00部を、1時間かけて添加し、さらに、10°C程度まで温度を上げ、同温度で1時間攪拌した。得られた式M-3で表される化合物を含む反応混合物に、式M-4で表される化合物1-3-ジメチルアミノプロピル-3-エチルカルボジイミド塩酸塩14.51部及び式M-5で表される化合物8.20部を添加し、23°Cで3時間攪拌した。得られた反応溶液に、酢酸エチル271.95部及び5塩酸水溶液16.57部を加え、23°Cで30分間攪拌した。静置、分液することにより回収された有機層に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液63.64部を加え、23°Cで30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を洗浄した。このような洗浄操作を2回繰り返した。洗浄後の有機層に、イオン交換水67.99部を仕込み23°Cで30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を水洗した。このような水洗操作を5回繰り返した。水洗後の有機層を濃縮した。得られた濃縮物に、酢酸エチル107.71部を添加し完全に溶解するまで攪拌し、これにn-ヘプタン646.26部を滴下した。滴下終了後、23°Cで30分間攪拌し、ろ過することにより、式M-Mで表される化合物15.11部を得た。MS質量分析:486.2分子イオンピーク合成例4:式M-Nで表される化合物の合成式N-2で表される化合物6.32部、テトラヒドロフラン30.00部及びピリジン5.99部を、23°Cで30分間攪拌混合し、0°Cまで冷却した。同温度を保持したまま、得られた混合物に、式N-1で表される化合物14.00部を、1時間かけて添加した。さらに、これを、10°C程度まで温度を上げ、同温度で1時間攪拌した。得られた式N-3で表される化合物を含む反応混合物に、式N-4で表される化合物1-3-ジメチルアミノプロピル-3-エチルカルボジイミド塩酸塩14.51部及び式N-5で表される化合物8.20部を添加し、23°Cで3時間攪拌した。得られた反応溶液に、酢酸エチル270部及び5塩酸水溶液16.57部を加え、23°Cで30分間攪拌した。これを、静置、分液することにより回収された有機層に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液65部を加え、23°Cで30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を洗浄した。このような洗浄操作を2回繰り返した。洗浄後の有機層に、イオン交換水65部を仕込み23°Cで30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を水洗した。このような水洗操作を5回繰り返した。水洗後の有機層を濃縮した。得られた濃縮物を、カラム分取カラム分取条件固定相:メルク社製シリカゲル60-200メッシュ展開溶媒:n-ヘプタン/酢酸エチルすることにより、式M-Nで表される化合物9.90部を得た。MS質量分析:434.1分子イオンピーク合成例5:式M-Oで表される化合物の合成式O-2で表される化合物7.08部、テトラヒドロフラン30.00部及びピリジン5.99部を、23°Cで30分間攪拌混合し、0°Cまで冷却した。同温度を保持したまま、得られた混合物に、式O-1で表される化合物14.00部を、1時間かけて添加し、さらにこれを、10°C程度まで温度を上げ、同温度で1時間攪拌した。得られた式O-3で表される化合物を含む反応混合物に、式O-4で表される化合物1-3-ジメチルアミノプロピル-3-エチルカルボジイミド塩酸塩14.51部及び式O-5で表される化合物8.20部を添加し、23°Cで3時間攪拌した。得られた反応溶液に、酢酸エチル270部及び5塩酸水溶液16.57部を加え、23°Cで30分間攪拌した。静置、分液することにより回収された有機層に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液65部を加え、23°Cで30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を洗浄した。このような洗浄操作を2回繰り返した。洗浄後の有機層に、イオン交換水65部を仕込み23°Cで30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を水洗した。このような水洗操作を5回繰り返した。水洗後の有機層を濃縮した。得られた濃縮物を、カラム分取カラム分取条件固定相:メルク社製シリカゲル60-200メッシュ展開溶媒:n-ヘプタン/酢酸エチルすることにより、式M-Oで表される化合物10.24部を得た。MS質量分析:446.1分子イオンピーク合成例6:式M-Qで表される化合物の合成式Q-2で表される化合物6.32部、テトラヒドロフラン30.00部及びピリジン5.99部を、23°Cで30分間攪拌混合した後、0°Cまで冷却した。同温度を保持したまま、得られた混合物に、式Q-1で表される化合物14.00部を、1時間かけて添加し、更に、10°C程度まで温度を上げ、同温度で1時間攪拌した。得られた式Q-3で表される化合物を含む反応混合物に、式Q-4で表される化合物1-3-ジメチルアミノプロピル-3-エチルカルボジイミド塩酸塩14.51部及び式Q-5で表される化合物11.74部を添加し、23°Cで3時間攪拌した。得られた反応溶液に、酢酸エチル300部及び5塩酸水溶液16.57部を加え、23°Cで30分間攪拌した。静置、分液することにより回収された有機層に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液65部を加え、23°Cで30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を洗浄した。このような洗浄操作を2回繰り返した。洗浄後の有機層に、イオン交換水100部を仕込み23°Cで30分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を水洗した。このような水洗操作を5回繰り返した。水洗後の有機層を濃縮した。得られた濃縮物を、カラム分取カラム分取条件固定相:メルク社製シリカゲル60-200メッシュ展開溶媒:n-ヘプタン/酢酸エチルすることにより、式M-Qで表される化合物16.89部を得た。MS質量分析:490.2分子イオンピーク樹脂の合成樹脂の合成において使用した化合物モノマーを下記に示す。以下、これらのモノマーをモノマーM-A~モノマーM-Qという。合成例7樹脂A1の合成モノマーとして、モノマーM-E及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-E:モノマーM-Gが70:30となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1mol及び3mol添加し、72°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.4×104の樹脂A1共重合体を収率77で得た。この樹脂A1は、以下の構造単位を有するものである。合成例8樹脂A2の合成モノマーとして、モノマーM-E及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-E:モノマーM-Gが80:20となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1mol及び3mol添加し、これらを72°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.2×104の樹脂A2共重合体を収率75で得た。この樹脂A2は、以下の構造単位を有するものである。合成例9樹脂A3の合成モノマーとして、モノマーM-E及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-E:モノマーM-Gが90:10となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1mol及び3mol添加し、これらを72°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.3×104の樹脂A3共重合体を収率70で得た。この樹脂A3は、以下の構造単位を有するものである。合成例10樹脂A4の合成モノマーとして、モノマーM-E、モノマーM-F及びモノマーM-Hを用い、そのモル比モノマーM-E:モノマーM-F:モノマーM-Hが30:10:60となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1.2mol及び3.6mol添加し、これらを72°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.2×104の樹脂A4共重合体を収率91で得た。この樹脂A4は、以下の構造単位を有するものである。合成例11樹脂A5の合成モノマーとして、モノマーM-I、モノマーM-J、モノマーM-D、モノマーM-K及びモノマーM-Cを用い、そのモル比モノマーM-I:モノマーM-J:モノマーM-D:モノマーM-K:モノマーM-Cが32:7:8:10:43となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1mol及び3mol添加し、これらを73°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.2×103の樹脂A5共重合体を収率63で得た。この樹脂A5は、以下の構造単位を有するものである。合成例12樹脂A6の合成モノマーとして、モノマーM-B、モノマーM-C及びモノマーM-Dを用い、そのモル比モノマーM-B:モノマーM-C:モノマーM-Dが35:45:20となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1.0mol及び3.0mol添加し、これらを75°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.0×103の樹脂A6共重合体を収率75で得た。この樹脂A6は、以下の構造単位を有するものである。合成例13樹脂A7の合成モノマーとして、モノマーM-A及びモノマーM-Bを用い、そのモル比モノマーM-A:モノマーM-Bが80:20となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、0.5mol及び1.5mol添加し、これらを70°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量2.8×104の樹脂A7共重合体を収率70で得た。この樹脂A7は、以下の構造単位を有するものである。合成例14:樹脂A8の合成モノマーとして、モノマーM-L、モノマーM-M及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-L:モノマーM-M:モノマーM-Gが80:10:10となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、0.7mol及び2.1mol添加し、これらを75°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量2.0×104の樹脂A8共重合体を収率84で得た。この樹脂A8は、以下の構造単位を有するものである。合成例15:樹脂A9の合成モノマーとして、モノマーM-N及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-N:モノマーM-Gが90:10となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、0.7mol及び2.1mol添加し、これらを75°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量1.9×104の樹脂A9共重合体を収率83で得た。この樹脂A9は、以下の構造単位を有するものである。合成例16:樹脂A10の合成モノマーとして、モノマーM-O及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-O:モノマーM-Gが90:10となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、0.7mol及び2.1mol添加し、これらを75°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、ジオキサンに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量2.1×104の樹脂A10共重合体を収率79で得た。この樹脂A10は、以下の構造単位を有するものである。合成例17:樹脂A11の合成モノマーとして、モノマーM-I、モノマーM-J、モノマーM-D、モノマーM-C及びモノマーM-Kを用い、そのモル比モノマーM-I:モノマーM-J:モノマーM-D:モノマーM-C:モノマーM-Kが、30:14:6:20:30の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルとを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1.00molと3.00molとなるように添加した。これを73°Cで約5時間加熱することにより重合した。その後、重合反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒質量比メタノール:水=4:1に注いで、樹脂を沈殿させた。この樹脂をろ過回収した。再度、ジオキサンに溶解させ、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、沈殿した樹脂をろ過回収するという操作を2回行うことにより再沈殿精製し、重量平均分子量が8.1×103である樹脂A11共重合体を収率65で得た。この樹脂A11は、以下の構造単位を有するものである。合成例18:樹脂A12の合成モノマーとして、モノマーM-P、モノマーM-J、モノマーM-D、モノマーM-C及びモノマーM-Kを用い、そのモル比モノマーM-P:モノマーM-J:モノマーM-D:モノマーM-C:モノマーM-Kが、30:14:6:20:30の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルとを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1.00molと3.00molとなるように添加した。これを73°Cで約5時間加熱することにより重合した。その後、重合反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒質量比メタノール:水=4:1に注いで、樹脂を沈殿させた。この樹脂をろ過回収した。再度、ジオキサンに溶解させ、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、沈殿した樹脂をろ過回収するという操作を2回行うことにより再沈殿精製し、重量平均分子量が7.8×103である樹脂A12共重合体を収率68で得た。この樹脂A12は、以下の構造単位を有するものである。合成例19:樹脂A13の合成モノマーとして、モノマーM-P、モノマーM-D及びモノマーM-Cを用い、そのモル比モノマーM-P:モノマーM-D:モノマーM-Cが、50:25:25となるように混合し、さらに、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルとを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1molと3molとの割合で添加し、これを80°Cで約8時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒質量比メタノール:水=4:1に注いで、樹脂を沈殿させた。この樹脂をろ過回収した。再度、得られた樹脂を、ジオキサンに溶解させ、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、沈殿した樹脂をろ過回収するという操作を3回行うことにより再沈殿精製し、重量平均分子量が約9.2×103である樹脂A13共重合体を収率60で得た。この樹脂A13は、以下の構造単位を有するものである。合成例20樹脂A14の合成モノマーとして、モノマーM-L及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-L:モノマーM-Gが90:10となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、1mol及び3mol添加し、これらを70°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.4×104の樹脂A14共重合体を収率82で得た。この樹脂A14は、以下の構造単位を有するものである。合成例21樹脂A15の合成モノマーとして、モノマーM-N及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-N:モノマーM-Gが90:10となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、0.9mol及び2.7mol添加し、これらを70°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.5×104の樹脂A15共重合体を収率82で得た。この樹脂A15は、以下の構造単位を有するものである。合成例22樹脂A16の合成モノマーとして、モノマーM-Q及びモノマーM-Gを用い、そのモル比モノマーM-Q:モノマーM-Gが90:10となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のジオキサンを加えて溶液とした。当該溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス2,4-ジメチルバレロニトリルを全モノマー量に対して各々、0.9mol及び2.7mol添加し、これらを70°Cで約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のn-ヘプタンに注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.4×104の樹脂A16共重合体を収率82で得た。この樹脂A16は、以下の構造単位を有するものである。<レジスト組成物の調製>合成例7~合成例22で得られた樹脂A1~A16;以下に示す酸発生剤B1~B3;以下に示す塩基性化合物C1;の各々を表4に示す質量部で、以下に示す溶剤に溶解し、さらに孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過して、レジスト組成物を調製した。<樹脂>A1~A16:樹脂A1~樹脂A16このうち、A1~A4、A8~A10及びA14~A16が、樹脂Xに相当する。<酸発生剤>B1:特開2010-152341号住友化学の実施例に従って合成B2:WO2008/99869号の実施例に従って合成B3:特開2007-108581の実施例に従って合成<塩基性化合物:クエンチャー>C1:2,6-ジイソプロピルアニリン東京化成製<溶剤>プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート265.0部プロピレングリコールモノメチルエーテル20.0部2-ヘプタノン20.0部γ-ブチロラクトン3.5部<液浸露光によるレジストパターンの製造>シリコンウェハに、有機反射防止膜用組成物ARC-29;日産化学株製を塗布して、205°C、60秒の条件でベークすることによって、膜厚78nmの有機反射防止膜を形成した。次いで、この有機反射防止膜上に、上記のレジスト組成物を乾燥プリベーク後の膜厚が85nmとなるように塗布スピンコートした。塗布後、シリコンウェハをダイレクトホットプレート上にて、表4のPB欄に記載された温度で60秒間プリベークして、組成物層を形成した。組成物層が形成されたシリコンウェハに、液浸露光用ArFエキシマステッパーXT:1900Gi;ASML社製、NA=1.35、3/4AnnularX-Y偏光で、コンタクトホールパターンホールピッチ100nm/ホール径70nmを形成するためのマスクを用いて、露光量を段階的に変化させて露光した。なお、液浸媒体としては超純水を使用した。露光後、前記シリコンウェハを、ホットプレート上にて、表4のPEB欄に記載された温度で60秒間、加熱ポストエキスポジャーベーク処理した。次いでこのシリコンウェハを、2.38テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行い、レジストパターンを得た。現像後に得られたレジストパターンにおいて、前記マスクを用いて形成したホール径が55nmとなる露光量を実効感度とした。<CD均一性CDU評価>実効感度において、ホール径70nmのマスクで形成したパターンのホール径を、一つのホールにつき24回測定し、その平均値を一つのホールの平均ホール径とした。同一ウェハ内の、ホール径70nmのマスクで形成したパターンの平均ホール径を400箇所測定したものを母集団として標準偏差を求めた。その結果を表5に示す。CDU評価は、走査型電子顕微鏡CDSEMHitachi:CG-4000を用いて行った。<欠陥評価>12インチのシリコン製ウェハ基板に、レジスト組成物を、乾燥後の膜厚が0.15μmとなるように塗布スピンコートした。塗布後、ダイレクトホットプレート上にて、表4のPB欄に示す温度で60秒間プリベークPBして、ウェハ上に組成物層を形成した。このようにして組成物層を形成したウェハに、現像機[ACT-12;東京エレクトロン株製]を用いて、60秒間、水リンスを行った。その後、欠陥検査装置[KLA-2360;KLAテンコール製]を用いて、ウェハ上の欠陥数を測定した。その結果を表5に示す。実施例1~実施例20のレジスト組成物を用いることにより、CD均一性に優れたレジストパターンを製造することができた。一方、比較例1のレジスト組成物では、得られるレジストパターンのCD均一性は不良であった。また、実施例1~実施例20のレジスト組成物を用いることにより、得られたレジストパターンにおいては、欠陥の発生数が、比較例1のレジスト組成物に比して少なかった。"