"a電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、前記陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っているステップと;b前記電気化学反応器の陰極液コンパートメント内に二酸化炭素ガスを導入するステップであって、陰極液は、膜によって前記陽極液コンパートメントから分離されており、前記陰極液コンパートメントには、陰極が少なくとも部分的に入っており、前記陰極は、陰極触媒を含み、前記陰極触媒は、二酸化炭素をギ酸塩に電気化学的に還元するように配合されており、スズ;および亜鉛を含み、前記亜鉛は、前記陰極触媒の約3重量パーセント~約6重量パーセントの間を占めるステップと;c前記陰極液コンパートメント内に陰極液を導入するステップと;d前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加し、それによって前記二酸化炭素の少なくとも一部がギ酸塩に変換されるステップとを含む方法。前記亜鉛が、前記陰極触媒の約3重量パーセントを占める、請求項1に記載の方法。前記亜鉛が、前記陰極触媒の約6重量パーセントを占める、請求項1に記載の方法。前記陰極液が、二酸化炭素をギ酸塩に電気化学的還元するために配合されている、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。前記陰極液が2Mの塩化カリウムを含む、請求項4に記載の方法。前記陽極液が、二酸化炭素をギ酸塩に電気化学的還元するために配合されている、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。前記陽極液が、二酸化炭素をギ酸に電気化学的還元するために配合されている、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。前記陽極液が約1Mの水酸化ナトリウムを含む、請求項6に記載の方法。前記陽極液が約0.5Mの硫酸を含む、請求項7に記載の方法。容器と;前記容器内に配置され、陰極液コンパートメントと陽極液コンパートメントとに前記容器を分割する膜と;前記陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に入っている陽極液と;前記陰極液コンパートメント内に少なくとも部分的に配置され、陰極触媒を含む陰極であって、前記陰極触媒は、二酸化炭素をギ酸塩に電気化学的に還元するように配合され、スズ;および亜鉛を含み、前記亜鉛は、前記陰極触媒の3重量パーセント~6重量パーセントの間を占める陰極と;前記陰極液コンパートメント内に入っており:陰極液;ガス状二酸化炭素;およびギ酸塩を含む混合物と;前記陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に配置された陽極と;前記陽極および前記陰極と電気的に連絡し、前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加するように構成された電圧源とを備える装置。前記亜鉛が、前記陰極触媒の約3重量パーセントを占める、請求項10に記載の装置。前記亜鉛が、前記陰極触媒の約6重量パーセントを占める、請求項1に記載の装置。前記陰極液が、二酸化炭素をギ酸塩に電気化学的還元するために配合されている、請求項10から12のいずれか一項に記載の装置。前記陰極液が約2MのKClを含む、請求項13に記載の装置。前記陽極液が、二酸化炭素をギ酸塩に電気化学的還元するために配合されている、請求項10から14のいずれか一項に記載の装置。前記陽極液が、二酸化炭素をギ酸に電気化学的還元するために配合されている、請求項15に記載の装置。前記陽極液が約1MのNaOHを含む、請求項15に記載の装置。前記陽極液が0.5Mの硫酸を含む請求項16に記載の装置。0.2mol/Lの濃度の塩化第一スズ二水和物と;0.5mol/Lの濃度のピロリン酸四カリウムと;0.2mol/Lの濃度のグリシンと;0.1g/Lの濃度のポリオキシエチレン12ノニルフェニルエーテルとを含み、4.5のpHを有する溶液。10g/Lの濃度のL-アスコルビン酸をさらに含む、請求項19に記載の溶液。スズ塩と;少なくとも1つの錯化剤と;非イオン性界面活性剤とを含む溶液。前記スズ塩が塩化第一スズ二水和物を含む、請求項21に記載の溶液。前記塩化第一スズ二水和物が、0.08~0.2mol/Lの間の濃度で存在する、請求項22に記載の溶液。前記塩化第一スズ二水和物が、0.2mol/Lの濃度で存在する、請求項23に記載の溶液。前記少なくとも1つの錯化剤がピロリン酸四カリウムを含む、請求項21に記載の溶液。前記ピロリン酸四カリウムが、0.4~0.6mol/Lの間の濃度で存在する、請求項25に記載の溶液。前記ピロリン酸四カリウムが、0.5mol/Lの濃度で存在する、請求項26に記載の溶液。前記少なくとも1つの錯化剤がグリシンを含む、請求項21に記載の溶液。前記グリシンが、0.1~0.2mol/Lの間の濃度で存在する、請求項28に記載の溶液。前記グリシンが、0.2mol/Lの濃度で存在する、請求項29に記載の溶液。L-アスコルビン酸をさらに含む、請求項21に記載の溶液。前記L-アスコルビン酸が、10g/Lの濃度で存在する、請求項31に記載の溶液。前記非イオン性界面活性剤が、ポリオキシエチレン12ノニルフェニルエーテルを含む、請求項21に記載の溶液。前記ポリオキシエチレン12ノニルフェニルエーテルが、0.1g/Lの濃度で存在する、請求項33に記載の溶液。4.5のpHを有する、請求項20に記載の溶液。a炭素繊維紙を、50パーセントのHCl中に10分間浸漬するステップであって、前記炭素繊維紙は、約370ミクロンの厚さ、約78の多孔度を有し、直径が約10ミクロンの炭素繊維を含むステップと;b前記炭素繊維紙をエタノール中に30秒間浸漬するステップと;c前記炭素繊維紙を請求項19に記載の溶液中に浸漬するステップと;dステップcの間に、前記溶液を50~55°Cの間の温度に維持するステップと;dステップcの間に、2.5mA/cm2の電流密度を0.5~1.5時間の間印加するステップとを含む方法。a多孔質導電性材料を、請求項19から35のいずれか一項に記載の溶液中に浸漬するステップと;bステップaの間に、前記溶液を45~70°Cの間の温度に維持するステップと;cステップaの間に、1.5~2.5mA/cm2の電流密度を0.5~2時間の間印加するステップとを含む方法。前記多孔質導電性材料が、炭素繊維紙、グラファイトフェルト、ステンレス鋼発泡体、ニッケル発泡体、および網状ガラス質炭素からなる群から選択される、請求項37に記載の方法。前記多孔質導電性材料が金属発泡体である、請求項37に記載の方法。前記金属発泡体がニッケルを含む、請求項39に記載の方法。前記金属発泡体がステンレス鋼を含む、請求項39に記載の方法。前記多孔質導電性材料が炭素繊維紙である、請求項37に記載の方法。前記多孔質導電性材料が網状ガラス質炭素である、請求項37に記載の方法。容器と;前記容器内に入れられた請求項19から35のいずれか一項に記載の溶液と;前記溶液中に少なくとも部分的に浸漬され、DC電源と電気的に連絡しており、対象とする堆積金属を含む陽極と;前記溶液中に少なくとも部分的に浸漬され、前記電源と電気的に連絡しており、炭素繊維紙、グラファイトフェルト、ステンレス鋼フェルト、ニッケル発泡体、および網状ガラス質炭素からなる群から選択される陰極とを備える装置。前記対象とする堆積金属がスズである、請求項44に記載の装置。多孔質で導電性である基板と;前記基板上に堆積され、0.5ミクロン~5ミクロンの間の粒度を有するスズ堆積物を含むスズ触媒であって、前記スズ堆積物は、前記基板の外側表面を実質的に覆う、スズ触媒とを含む製造物。a多孔質で導電性の基板を、請求項19から35にいずれか一項に記載の溶液中に浸漬するステップと;bステップaの間に、前記溶液を45~70°Cの間の温度に維持するステップと;cステップaの間に、1.5~2.5mA/cm2の陰極電流密度を0.5~2時間の間で印加するステップとを含む方法。請求項47の記載の方法によって形成される製造物。前記多孔質で導電性の基板が、金属発泡体を含む、請求項46または48のいずれか一項に記載の製造物。前記金属発泡体がニッケルを含む、請求項49に記載の製造物。前記多孔質で導電性の基板が金属フェルトを含む、請求項46または48のいずれか一項に記載の製造物。前記金属フェルトがステンレス鋼を含む、請求項51に記載の製造物。前記多孔質で導電性の基板が炭素繊維紙を含む、請求項46または48のいずれか一項に記載の製造物。前記多孔質で導電性の材料が網状ガラス質炭素を含む、請求項46または48のいずれか一項に記載の方法。a電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、前記陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っており、前記陽極は、基板;および前記基板上に堆積された金属酸化物触媒を含むステップと;bガスコンパートメントから前記電気化学反応器の陰極液コンパートメント内に二酸化炭素ガスを導入するステップであって、前記ガスコンパートメントは、前記陰極液コンパートメントと流体連通しており、前記陰極液コンパートメントは、膜によって前記陽極液コンパートメントから分離されており、前記陰極液コンパートメントには、陰極がさらに入っているステップと;c前記陰極液コンパートメント内に陰極液を導入するステップと;d前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加し、それによって、前記二酸化炭素の少なくとも一部が変換されるステップとを含む方法。前記陽極液が酸性であり、それによって、前記二酸化炭素の少なくとも一部がギ酸に変換される、請求項55に記載の方法。前記陽極液がアルカリ性であり、それによって、前記二酸化炭素の少なくとも一部がギ酸塩に変換される、請求項55に記載の方法。前記基板がチタンを含み、前記金属酸化物触媒が酸化イリジウムを含む、請求項55から57のいずれか一項に記載の方法。前記金属酸化物触媒が酸化タンタルをさらに含む、請求項58に記載の方法。前記基板がチタンを含み、前記金属酸化物触媒が、前記基板上に堆積された酸化タンタル;および前記酸化タンタル上に堆積された酸化イリジウムを含む、請求項55から57のいずれか一項に記載の方法。前記陰極が、多孔質導電性基板およびスズ触媒を備える、請求項56から57のいずれか一項に記載の方法。前記陰極が、請求項46、または48から54に記載のいずれか一項に記載の製造物を備える、請求項56から57のいずれか一項に記載の方法。前記陰極が、請求項46、または48から54に記載のいずれか一項に記載の製造物を備える、請求項58に記載の方法。前記陰極が、請求項46、または48から54に記載のいずれか一項に記載の製造物を備える、請求項59に記載の方法。前記陰極が、請求項46、または48から54に記載のいずれか一項に記載の製造物を備える、請求項60に記載の方法。前記陰極がスズ-亜鉛合金触媒を含み、前記スズ-亜鉛合金触媒が、約3~約6パーセントの間の亜鉛を含む、請求項55から57のいずれか一項に記載の方法。前記スズ-亜鉛合金触媒が約3パーセントの亜鉛を含む、請求項66に記載の方法。前記スズ-亜鉛合金触媒が約6パーセントの亜鉛を含む、請求項66に記載の方法。前記陰極がスズ-亜鉛合金触媒を含み、前記スズ-亜鉛合金触媒が、約3~約6パーセントの間の亜鉛を含む、請求項58に記載の方法。前記スズ-亜鉛合金触媒が約3パーセントの亜鉛を含む、請求項69に記載の方法。前記スズ-亜鉛合金触媒が約6パーセントの亜鉛を含む、請求項69に記載の方法。前記陰極がスズ-亜鉛合金触媒を含み、前記スズ-亜鉛合金触媒が、約3~約6パーセントの間の亜鉛を含む、請求項59に記載の方法。前記スズ-亜鉛合金触媒が約3パーセントの亜鉛を含む、請求項72に記載の方法。前記スズ-亜鉛合金触媒が約6パーセントの亜鉛を含む、請求項72に記載の方法。前記陰極がスズ-亜鉛合金触媒を含み、前記スズ-亜鉛合金触媒が、約3~約6パーセントの間の亜鉛を含む、請求項60に記載の方法。前記スズ-亜鉛合金触媒が約3パーセントの亜鉛を含む、請求項75に記載の方法。前記スズ-亜鉛触媒が約6パーセントの亜鉛を含む、請求項75に記載の方法。前記陰極が多孔質であり;前記陰極が、前記陰極液コンパートメントを前記ガスコンパートメントから分離する、請求項55から60または66から77のいずれか一項に記載の方法であって、ステップbの前に、前記ガスコンパートメントから前記陰極を通じて、前記ガス状二酸化炭素を流すステップをさらに含む、方法。ステップbの前に、前記ガスコンパートメントから前記陰極を通じて、前記ガス状二酸化炭素を流すステップをさらに含む、請求項62から65のいずれか一項に記載の方法。容器と;前記容器内に配置され、陰極液コンパートメントと陽極液コンパートメントとに前記容器を分割する膜と;前記陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に入っている陽極液と;前記陰極液コンパートメント内に配置された陰極と;前記陰極液コンパートメント内に少なくとも部分的に入っており、陰極液;および二酸化炭素ガスを含む混合物と;前記陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に配置され、基板;および前記基板上に堆積された金属酸化物触媒を備える陽極と;前記陽極および前記陰極と電気的に連絡しており、前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加するように構成された電圧源とを備える装置。前記陽極液が酸性である、請求項80に記載の装置。前記陽極液がアルカリ性である、請求項80に記載の装置。前記基板がチタンを含み、前記金属酸化物が酸化イリジウムを含む、請求項80から82のいずれか一項に記載の装置。前記金属酸化物触媒が酸化タンタルをさらに含む、請求項83に記載の装置。前記金属酸化物触媒が、前記基板上に堆積された酸化チタン、および前記酸化タンタル上に堆積された酸化イリジウムを含む、請求項80から82のいずれか一項に記載の装置。前記陰極が、基板;およびスズ触媒を備える、請求項80から82のいずれか一項に記載の装置。前記陰極が、請求項46、または48から54のいずれか一項に記載の陰極を備える、請求項80から82のいずれか一項に記載の装置。前記陰極が、請求項46、および48から54のいずれか一項に記載の製造物を備える、請求項83に記載の装置。前記陰極が、請求項46、または48から54のいずれか一項に記載の製造物を備える、請求項84に記載の装置。前記陰極が、請求項46、または48から54のいずれか一項に記載の製造物を備える、請求項85に記載の装置。前記陰極がスズ-亜鉛合金触媒を含み、前記スズ-亜鉛合金触媒が、約3~約6パーセントの間の亜鉛を含む、請求項80から82のいずれか一項に記載の装置。前記スズ-亜鉛合金触媒が約3パーセントの亜鉛を含む、請求項91に記載の装置。前記スズ-亜鉛合金触媒が約6パーセントの亜鉛を含む、請求項91に記載の装置。前記陰極がスズ-亜鉛合金触媒を含み、前記スズ-亜鉛合金触媒が、約3~約6パーセントの間の亜鉛を含む、請求項83に記載の装置。前記スズ-亜鉛合金触媒が約3パーセントの亜鉛を含む、請求項94に記載の装置。前記スズ-亜鉛合金触媒が約6パーセントの亜鉛を含む、請求項94に記載の装置。前記陰極がスズ-亜鉛合金触媒を含み、前記スズ-亜鉛合金触媒が、約3~約6パーセントの間の亜鉛を含む、請求項84に記載の装置。前記スズ-亜鉛合金触媒が約3パーセントの亜鉛を含む、請求項97に記載の装置。前記スズ-亜鉛合金触媒が約6パーセントの亜鉛を含む、請求項97に記載の装置。前記陰極がスズ-亜鉛合金触媒を含み、前記スズ-亜鉛合金触媒が、約3~約6パーセントの間の亜鉛を含む、請求項85に記載の装置。前記スズ-亜鉛合金触媒が約3パーセントの亜鉛を含む、請求項100に記載の装置。前記スズ-亜鉛合金触媒が約6パーセントの亜鉛を含む、請求項100に記載の装置。前記陰極が多孔質であり;前記陰極が、ガスコンパートメントから前記陰極液コンパートメントを分離し、前記ガスコンパートメントには、ガス状二酸化炭素ガスが入っている、請求項80から85または91から102のいずれか一項に記載の装置。a電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、前記陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っているステップと;b前記電気化学反応器の陰極液コンパートメント内にガス状二酸化炭素を導入するステップであって、前記陰極液コンパートメントは、膜によって前記陽極液コンパートメントから分離されており、前記陰極液コンパートメントには、陰極がさらに少なくとも部分的に入っているステップと;c前記陰極液コンパートメント内に陰極液を導入するステップであって、前記陰極液は、約6.5のpHを有する硫酸カリウム、および約5.5のpHを有する硫酸ナトリウムからなる群から選択される約0.1M~約3Mの化合物の水溶液を含むステップと;d前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加し、それによって、前記二酸化炭素の少なくとも一部がギ酸塩に変換されるステップとを含む方法。a電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、前記陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っているステップと;bガスコンパートメントから前記電気化学反応器の陰極液コンパートメント内に二酸化炭素ガスを導入するステップであって、前記ガスコンパートメントは、前記陰極液コンパートメントと流体連通しており、前記陰極液コンパートメントは、膜によって前記陽極液コンパートメントから分離されており、前記陰極液コンパートメントには、陰極がさらに少なくとも部分的に入っており、前記陰極は、基板;およびスズおよびスズ-亜鉛合金からなる群から選択される触媒を備えるステップと;c前記陰極液コンパートメント内に陰極液を導入するステップと;d前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加し、それによって、前記二酸化炭素の少なくとも一部が変換されるステップと;e前記陰極から堆積物を除去するステップであって、陽極分極を印加すること、ディープ陰極分極を印加すること、およびこれらの組合せを印加することからなる群から選択されるステップとを含む方法。定期的に、前記選択された陽極分極、ディープ陰極分極、または陽極分極とディープ陰極分極の組合せを印加するステップをさらに含む、請求項105に記載の方法。前記印加が、前記DC電圧の上に重ね合わされ、合計の定期的な印加は、印加同士間の最大時間間隔の約0.3パーセント~約1.7パーセントの間である、請求項106に記載の方法。前記ディープ陰極分極が、約2~10時間毎に、約5~約30秒の間印加される、請求項105から107のいずれか一項に記載の方法。前記陽極分極が、約2~約10時間毎に、約15秒~約120秒の間印加される、請求項105から107のいずれか一項に記載の方法。ディープ陰極分極と陽極分極の前記組合せが、およそ約2時間~約10時間毎に印加され、前記陽極分極が、約5~約30秒の間で印加され、その直後に前記ディープ陰極分極が、約15~約120秒の間で印加される請求項105から107のいずれか一項に記載の方法。前記陽極分極の電流密度が、前記陽極と前記陰極の間に印加される前記DC電圧によってもたらされる電流密度の約10倍の正の電流密度である、請求項105または110のいずれか一項に記載の方法。前記ディープ陰極分極の電流密度が、前記陽極と前記陰極の間に印加される前記DC電圧によってもたらされる電流密度の約10倍の負の電流密度である、請求項105または110のいずれか一項に記載の方法。a電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、前記陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っているステップと;b前記電気化学反応器の陰極液コンパートメント内に陰極液を導入するステップであって、前記陰極液コンパートメントは、膜によって前記陽極液コンパートメントから分離されており、多孔質陰極によってガスコンパートメントからさらに分離されており、前記陰極および前記膜は、前記陰極液コンパートメントを少なくとも部分的に画定し、前記陰極は、スズ、または請求項46、もしくは48から54のいずれか一項に記載の製造物を備えるステップと;c前記ガスコンパートメント内に二酸化炭素ガスを導入するステップと;d前記ガスコンパートメントから前記陰極内に前記二酸化炭素ガスを導入するステップと;e前記陰極から前記陰極液中に前記二酸化炭素ガスを導入するステップと;f前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加し、それによって、前記二酸化炭素の少なくとも一部が変換されるステップとを含む方法。前記陰極液コンパートメントには、多孔質吸収性非導電性パッドが入っており、前記パッドは、前記膜に隣接している、請求項113に記載の方法。a前記多孔質吸収性非導電性パッド内に前記陰極液の少なくとも一部を導入するステップをさらに含む、請求項114に記載の方法。a前記陰極内に前記二酸化炭素ガスを導入する前に、前記ガスコンパートメントからディフューザー内に前記二酸化炭素ガスを導入するステップであって、前記ディフューザーは、前記陰極に隣接しているステップをさらに含む、請求項113から115のいずれか一項に記載の方法。a電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、前記陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っているステップと;b前記電気化学反応器の陰極液コンパートメント内に陰極液を導入するステップであって、前記陰極液コンパートメントは、膜によって前記陽極液コンパートメントから分離されており、触媒でコートされた多孔質陰極によってガスコンパートメントからさらに分離されており、前記陰極および前記膜は、前記陰極液コンパートメントを少なくとも部分的に画定するステップと;c前記ガスコンパートメント内に二酸化炭素ガスを導入するステップと;d前記ガスコンパートメントから前記陰極内に前記二酸化炭素ガスを導入するステップと;e前記陰極から前記陰極液中に前記二酸化炭素ガスを導入するステップと;f前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加し、それによって、前記二酸化炭素の少なくとも一部がギ酸塩に変換されるステップとを含む方法。前記陰極液コンパートメントには、多孔質吸収性非導電性パッドが入っており、前記パッドは、前記膜に隣接している、請求項117に記載の方法。a前記パッド内に前記陰極液の少なくとも一部を導入するステップをさらに含む、請求項118に記載の方法。a前記陰極内に前記二酸化炭素ガスを導入する前に、前記ガスコンパートメントからディフューザー内に前記二酸化炭素ガスを導入するステップをさらに含む、請求項117から119のいずれか一項に記載の方法。a電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、前記陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っているステップと;b触媒でコートされた多孔質陰極内に陰極液を導入するステップであって、前記陰極は、陰極液コンパートメント内に入っており、前記陰極液コンパートメントは、膜によって前記陽極液コンパートメントから分離されており、前記陰極は、前記膜に隣接しているステップと;cガスコンパートメントから前記陰極内に二酸化炭素ガスを導入するステップと;d前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加し、それによって、前記二酸化炭素の少なくとも一部がギ酸塩に変換されるステップとを含む方法。a前記陰極内に前記二酸化炭素ガスを導入する前に、前記ガスコンパートメントからディフューザー内に前記二酸化炭素ガスを導入するステップであって、前記ディフューザーは、前記陰極に隣接しているステップをさらに含む、請求項121に記載の方法。容器と;前記容器内に配置され、陰極液コンパートメントと陽極液コンパートメントとに前記容器を分割する膜と;前記陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に配置された陽極と;前記陰極液コンパートメントをガスコンパートメントから分離し、スズ、または請求項46、もしくは48から54のいずれか一項に記載の製造物を備える多孔質陰極と;前記陰極液コンパートメント内に少なくとも部分的に入っており、前記陰極と流体連通している陰極液であって、前記陰極は、前記ガスコンパートメントから前記陰極内に、次いで前記陰極液中に二酸化炭素ガスを導入することを可能にするように構成されている陰極液と;前記陽極および前記陰極と電気的に連絡しており、前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加するように構成された電圧源とを備える装置。前記陰極液コンパートメント内に配置され、前記膜に隣接してさらに配置されている多孔質吸収性非導電性パッドをさらに備える、請求項123に記載の装置。前記パッドと直接流体連通した陰極液フィード部をさらに備え、前記パッドが前記陰極液の少なくとも一部を含有する、請求項124に記載の装置。前記ガスコンパートメントと前記陰極の間に配置され、前記陰極に隣接し、前記ガスコンパートメントと流体連通し、前記陰極と流体連通しているディフューザーをさらに備え、前記ガスコンパートメント、前記ディフューザー、および前記陰極は、二酸化炭素ガスが、前記ガスコンパートメントから前記ディフューザーを通じ、次いで前記陰極を通じ、次いで前記陰極液中に流れることを可能にするように構成されている、請求項123から125のいずれか一項に記載の装置。容器と;前記容器内に配置され、陰極液コンパートメントと陽極液コンパートメントとに前記容器を分割する膜と;前記陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に配置された陽極と;陰極液チャンバー内に少なくとも部分的に入っている触媒でコートされた多孔質陰極と;前記陰極と流体連通したガスコンパートメントと;前記陽極および前記陰極と電気的に連絡しており、前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加するように構成された電圧源とを備える装置。前記陰極液チャンバー内に少なくとも部分的に入っており、前記膜に隣接している多孔質吸収性非導電性パッドをさらに備える、請求項127に記載の装置。前記パッドと直接流体連通した陰極液フィード部をさらに備え、前記パッドが陰極液の少なくとも一部を含有する、請求項128に記載の装置。前記ガスコンパートメントと前記陰極の間に配置され、前記陰極に隣接し、前記ガスコンパートメントと流体連通し、前記陰極と流体連通しているディフューザーをさらに備え、前記ガスコンパートメント、前記ディフューザー、および前記陰極は、二酸化炭素ガスが、前記ガスコンパートメントから前記ディフューザーを通じ、次いで前記陰極を通じ、次いで前記陰極液中に流れることを可能にするように構成されている、請求項127から129のいずれか一項に記載の装置。容器と;前記容器内に配置され、陰極液コンパートメントと陽極液コンパートメントとに前記容器を分割する膜と;前記陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に配置された陽極と;陰極液チャンバー内に入っている、触媒でコートされた多孔質陰極と;前記陰極と流体連通した陰極液フィード部であって、前記陰極は、陰極液の少なくとも一部を含有する陰極液フィード部と;前記陰極と流体連通したガスコンパートメントと;前記陽極および前記陰極と電気的に連絡しており、前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加するように構成された電圧源とを備える装置。前記ガスコンパートメントと前記陰極の間に配置され、前記陰極に隣接し、前記ガスコンパートメントと流体連通し、前記陰極と流体連通しているディフューザーをさらに備え、前記ガスコンパートメント、前記ディフューザー、および前記陰極は、二酸化炭素ガスが、前記ガスコンパートメントから前記ディフューザーを通じ、次いで前記陰極を通じ、次いで前記陰極液中に流れることを可能にするように構成されている、請求項131に記載の装置。前記陰極液チャンバー内に少なくとも部分的に入っており、前記膜に隣接している多孔質吸収性非導電性パッドをさらに備える、請求項131または132のいずれか一項に記載の装置。a電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に酸性陽極液を導入するステップであって、前記陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っており、前記陽極は、チタン基板;前記基板上に堆積された酸化タンタル;および前記酸化タンタル上に堆積された酸化イリジウムを備えるステップと;b前記電気化学反応器の陰極液コンパートメント内に陰極液を導入するステップであって、前記陰極液コンパートメントは、膜によって前記陽極液コンパートメントから分離されており、前記陰極液コンパートメントには、多孔質吸収性非導電性パッドが入っており、前記パッドは、前記膜の陰極液コンパートメント側に隣接しており、前記陰極液コンパートメントには、陰極が入っており、前記陰極は、ガスコンパートメントから陰極コンパートメントを分離し、炭素繊維紙基板;前記基板上に堆積され、約0.5ミクロン~約5ミクロンの間の粒度を有するスズ堆積物を含むスズ触媒であって、前記スズ堆積物は、前記基板の外側表面を実質的に覆う、スズ触媒を備えるステップと;c前記ガスコンパートメントからディフューザー内に二酸化炭素ガスを導入するステップであって、前記ディフューザーは前記陰極のガスコンパートメント側に隣接し、前記ガスコンパートメントは、前記陰極と流体連通し、前記陰極液と流体連通しているステップと;d前記ディフューザーから前記陰極内に前記二酸化炭素ガスを導入するステップと;f前記陰極から前記陰極液中に前記二酸化炭素ガスを導入するステップと;g前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加し、それによって、前記二酸化炭素の少なくとも一部がギ酸に変換されるステップとを含む方法。前記スズ堆積物が、約30~約50ミクロンの深さまで前記炭素繊維紙基板に浸透する、請求項134に記載の方法。容器と;前記容器内に配置され、陽極液コンパートメントと陰極液コンパートメントとに前記容器を分割する膜と;前記陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に入っている酸性陽極液と;前記陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に配置され、チタン基板;前記基板上に堆積された酸化タンタル;および前記酸化タンタル上に堆積された酸化イリジウムを備える陽極と;前記陰極液コンパートメント内に配置され、ガスコンパートメントから陰極コンパートメントを分離し、炭素繊維紙基板;前記基板上に堆積され、約0.5ミクロン~約5ミクロンの間の粒度を有するスズ堆積物を含むスズ触媒であって、前記スズ堆積物は、前記基板の外側表面を実質的に覆う、スズ触媒を備える陰極と;前記膜の陰極液コンパートメント側に隣接した多孔質吸収性非導電性パッドと;前記陰極のガスコンパートメント側に隣接したディフューザーと;前記陰極液コンパートメント内に少なくとも部分的に入っており、陰極液;二酸化炭素ガス;およびギ酸を含む混合物と;前記陽極および前記陰極と電気的に連絡しており、前記陽極と前記陰極の間にDC電圧を印加するように構成された電圧源とを備える装置。前記スズ堆積物が、約30~約50ミクロンの深さまで前記炭素繊維基板に浸透する、請求項136に記載の装置。したがって、全体的なエンジニアリングおよび全体的な性能の改善をもたらす電気化学的プロセスの必要性がある。本発明の様々な実施形態は、スズ系Sn系陰極、およびこのような陰極の調製方法、スズ-亜鉛Sn-Zn合金系陰極、高表面積の陰極製作、改善された陰極液組成物、酸性陽極液中の混合金属酸化物触媒陽極、陽極および陰極のパルス分極、ならびに3コンパートメント反応器の様々な構成を含み、これらのそれぞれは、ECRC、特に、ギ酸塩およびギ酸へのECRCの性能を改善する。一実施形態では、一プロセスは、一部分において、電気化学反応器の陰極液コンパートメント内にCO2ガスを導入するステップを含み、ここで陰極液コンパートメントには、Sn-Zn合金を含む触媒を含む陰極が少なくとも部分的に入っており、Znは、触媒の約3重量パーセント~約6重量パーセントの間を占める。さらなる実施形態では、装置は、一部分において、先ほど述べたSn-Zn合金を含む陰極を含み、陰極液コンパートメントは、陰極液、ガス状二酸化炭素、ならびにギ酸塩およびギ酸を含む混合物を含む。さらなる実施形態では、多孔質導電性基板上にSnを堆積するように配合された溶液は、Sn塩、少なくとも1つの錯化剤、任意選択により抗酸化剤、および非イオン性界面活性剤を含む。さらなる実施形態では、一プロセスは、先ほど述べた溶液中に多孔質導電性基板を浸漬するステップ、溶液の温度を維持するステップ、および基板上に電流密度をもたらすステップを含む。さらなる実施形態では、一製造物は、上にSn触媒が堆積された多孔質導電性基板を含む。Sn触媒は、約0.5ミクロン~約5ミクロンの間の粒度を有するSn堆積物を含み、この堆積物は、基板の外側表面を実質的に覆う。さらなる実施形態では、一製造物は、Sn塩、少なくとも1つの錯化剤、任意選択により抗酸化剤、および非イオン性界面活性剤を含む溶液を使用して、基板上にSnを堆積させるためのプロセスによって形成される。さらなる実施形態では、一製造物は、金属発泡体、金属フェルト、炭素繊維紙、または網状ガラス質炭素を含む基板を含む。さらなる実施形態では、一プロセスは、基板および混合金属酸化物触媒を備える陽極が入っている陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップ、およびまた、ガスコンパートメントから陰極液コンパートメント内にCO2ガスを導入するステップであって、陰極液コンパートメントには、陰極液および陰極が入っているステップを含む。さらに、陽極と陰極の間にDC電圧を印加すると、CO2の少なくとも一部が変換される。さらなる実施形態では、陽極液は酸性であり、CO2は、ギ酸に変換される。さらなる実施形態では、陽極液はアルカリ性であり、CO2の少なくとも一部は、ギ酸塩に変換される。さらなる実施形態では、陽極は、チタンTiを含む基板を備え、金属酸化物は、基板上に堆積された酸化タンタルTa2O5、および酸化タンタル上に堆積された酸化イリジウムIrO2を含む。さらなる実施形態では、陰極は、多孔質導電性基板およびSn系触媒を備える。さらなる実施形態では、一装置は、容器、この容器内に配置され、陰極が入った陰極液コンパートメントと、陽極が入った陽極液コンパートメントとに容器を分割する膜を含み、陽極は、基板、およびこの基板上に堆積された混合金属酸化物触媒を備える。陰極液およびCO2ガスを含む混合物が、陰極液チャンバー内に少なくとも部分的に入っている。陽極と陰極の間にDC電圧を印加するように構成された電圧源が提供される。さらなる実施形態では、ギ酸塩へのECRCのために構成されたプロセスは、陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップ、陰極液コンパートメント内に、以下、すなわち、約6.5のpHを有する硫酸カリウムK2SO4、および5.5のpHを有する硫酸ナトリウムNa2SO4から選択される約0.1M~約2Mの化合物の水溶液を含む陰極液を導入するステップを含む。CO2も、陰極液コンパートメント内に導入される。DC電圧が陽極と陰極の間に印加され、それによって、CO2の少なくとも一部がギ酸塩に変換される。さらなる実施形態では、一プロセスは、電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っているステップと;電気化学反応器のガスコンパートメントから陰極液コンパートメント内にCO2ガスを導入するステップであって、ガスコンパートメントは、陰極液コンパートメントと流体連通しており、陰極液コンパートメントは、膜によって陽極液コンパートメントから分離されており、陰極液コンパートメントには、陰極がさらに入っており、陰極は、基板、およびSnまたはSn-Zn合金を含有する陰極触媒を備えるステップと;陰極液コンパートメント内に陰極液を導入するステップと;陽極と陰極の間にDC電圧を印加し、それによってCO2の少なくとも一部が変換されるステップと;陽極分極、ディープ陰極分極deepcathodicpolarization、およびこれらの組合せを定期的に適用することによって、陰極から堆積物を除去するステップとを含む。さらなる実施形態では、定期的なディープ分極deeppolarizationは、DC電圧の上に重ね合わされ、合計の印加は、24時間未満の印加同士間の最大時間間隔の約0.3パーセント~約1.7パーセントの間である。さらなる実施形態では、陽極分極の電流密度は、陽極と陰極の間に印加されるDC電圧によってもたらされる電流密度の約10倍の正の電流密度である。さらなる実施形態では、ディープ陰極分極の電流密度は、陽極と陰極の間に印加されるDC電圧によってもたらされる電流密度の約10倍の負の電流密度である。さらなる実施形態では、陽極分極およびディープ陰極分極は、順次適用される。さらなる実施形態では、一プロセスは、電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っているステップと;電気化学反応器の陰極液コンパートメント内に陰極液を導入するステップであって、陰極液は、膜によって陽極液コンパートメントから分離されており、陰極液コンパートメントは、多孔質陰極によってガスコンパートメントからさらに分離されており、陰極および膜は、陰極液コンパートメントを少なくとも部分的に画定し、陰極は、上記で本明細書に定義されたSn系触媒を含むステップと;ガスコンパートメント内にCO2ガスを導入するステップと;陰極から陰極液中にCO2ガスを導入するステップと;陽極と陰極の間にDC電圧を印加し、それによってCO2の少なくとも一部が変換されるステップとを含む。さらなる実施形態では、フェルトまたは発泡体などの多孔質吸収性非導電性パッドが、陰極の膜側に隣接している。さらなる実施形態では、このプロセスは、多孔質吸収性非導電性パッド内に陰極液の少なくとも一部を導入するステップをさらに含む。さらなる実施形態では、このプロセスは、陰極内にCO2ガスを導入する前に、ガスコンパートメントからディフューザー内にCO2ガスを導入するステップを含み、ディフューザーは陰極に隣接している。さらなる実施形態では、一プロセスは、電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っているステップと;電気化学反応器の陰極液コンパートメント内に陰極液を導入するステップであって、陰極液コンパートメントは、膜によって陽極液コンパートメントから分離されており、陰極液コンパートメントは、触媒でコートされた多孔質陰極によってガスコンパートメントからさらに分離されており、陰極および膜は、陰極液コンパートメントを少なくとも部分的に画定するステップと;ガスコンパートメント内にCO2ガスを導入するステップと;ガスコンパートメントから陰極内にCO2ガスを導入するステップと;陰極から陰極液中にCO2ガスを導入するステップと;陽極と陰極の間にDC電圧を印加し、それによって二酸化炭素の少なくとも一部がギ酸塩に変換されるステップとを含む。さらなる実施形態では、陰極液コンパートメントには、フェルトまたは発泡体などの多孔質吸収性非導電性パッドが入っており、多孔質吸収性非導電性パッドは、陰極の膜側に隣接している。さらなる実施形態では、このプロセスは、陰極液の少なくとも一部を多孔質吸収性非導電性パッド内に導入するステップをさらに含む。さらなる実施形態では、このプロセスは、陰極内にCO2ガスを導入する前に、ガスコンパートメントからディフューザー内にCO2ガスを導入するステップをさらに含む。さらなる実施形態では、一プロセスは、電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップであって、陽極液コンパートメントには、陽極が少なくとも部分的に入っているステップと;触媒でコートされた多孔質陰極内に陰極液を導入するステップであって、陰極は、陰極液コンパートメント内に入っており、陰極液コンパートメントは、膜によって陽極液コンパートメントから分離されており、陰極は、膜に隣接するステップと;ガスコンパートメントから陰極内にCO2ガスを導入するステップと;陽極と陰極の間にDC電圧を印加し、それによってCO2の少なくとも一部がギ酸塩に変換されるステップとを含む。さらなる実施形態では、このプロセスは、陰極内にCO2ガスを導入する前に、ガスコンパートメントからディフューザー内にCO2ガスを導入するステップを含み、ディフューザーは陰極に隣接している。さらなる実施形態では、一装置は、容器と;この容器内に配置され、陰極液コンパートメントと陽極液コンパートメントとに容器を分割する膜と;陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に配置された陽極と;ガスコンパートメントから陰極液コンパートメントを分離し、Sn系触媒を含む多孔質陰極と;陰極液コンパートメント内に少なくとも部分的に入っており、ガスコンパートメントから陰極内、次いで陰極液中にCO2ガスを導入することを可能にするように構成された陰極と流体連通している陰極液と;陽極と陰極の間にDC電圧を印加するように構成された、陽極および陰極と電気的に連絡した電圧源とを含む。さらなる実施形態では、この装置は、陰極液コンパートメント内に配置され、触媒の膜側に隣接してさらに配置された、フェルトまたは発泡体などの多孔質吸収性非導電性パッドをさらに備える。さらなる実施形態では、この装置は、陰極液の少なくとも一部を含有する多孔質吸収性非導電性パッドと流体連通した陰極液フィード部feedをさらに備える。さらなる実施形態では、この装置は、ディフューザーをさらに含み、このディフューザーは、ガスコンパートメントと陰極の間に配置され、陰極に隣接し、ガスコンパートメントと流体連通し、陰極と流体連通しており、ガスコンパートメント、ディフューザー、および陰極は、CO2ガスが、ガスコンパートメントからディフューザーを通じ、次いで陰極を通じ、次いで陰極液中に流れることを可能にするように構成されている。さらなる実施形態では、一装置は、容器と;この容器内に配置され、陰極液コンパートメントと陽極液コンパートメントとに容器を分割する膜と;陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に配置された陽極と;陰極液チャンバー内に少なくとも部分的に入っている触媒でコートされた多孔質陰極と;陰極と流体連通したガスコンパートメントと;陽極と陰極の間にDC電圧を印加するように構成された、陽極および陰極と電気的に連絡した電圧源とを含む。さらなる実施形態では、この装置は、陰極液チャンバー内に少なくとも部分的に入っており、陰極の膜側に隣接した、フェルトまたは発泡体などの多孔質吸収性非導電性パッドをさらに含む。さらなる実施形態では、この装置は、陰極液の少なくとも一部を含有する多孔質吸収性非導電性パッドと流体連通した陰極液フィード部をさらに含む。さらなる実施形態では、この装置は、ディフューザーをさらに含み、このディフューザーは、ガスコンパートメントと陰極の間に配置され、陰極に隣接し、ガスコンパートメントと流体連通し、陰極と流体連通しており、ガスコンパートメント、ディフューザー、および陰極は、CO2ガスが、ガスコンパートメントからディフューザーを通じ、次いで陰極を通じ、次いで陰極液中に流れることを可能にするように構成されている。さらなる実施形態では、一装置は、容器と;この容器内に配置され、陰極液コンパートメントと陽極液コンパートメントとに容器を分割する膜と;陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に配置された陽極と;陰極液チャンバー内に入っている触媒でコートされた多孔質陰極と;陰極液の少なくとも一部を含有する陰極と流体連通した陰極液フィード部と;陰極と流体連通したガスコンパートメントと;陽極と陰極の間にDC電圧を印加するように構成された、陽極および陰極と電気的に連絡した電圧源とを含む。さらなる実施形態では、この装置は、ディフューザーをさらに含み、このディフューザーは、ガスコンパートメントと陰極の間に配置され、陰極に隣接し、ガスコンパートメントと流体連通し、陰極と流体連通しており、ガスコンパートメント、ディフューザー、および陰極は、CO2ガスが、ガスコンパートメントからディフューザーを通じ、次いで陰極内に、次いで陰極液中に流れることを可能にするように構成されている。さらなる実施形態では、この装置は、陰極液チャンバー内に少なくとも部分的に入っており、陰極の膜側に隣接した、多孔質吸収性非導電性パッドをさらに含む。さらなる実施形態では、一プロセスは、電気化学反応器の陽極液コンパートメント内に酸性陽極液を導入するステップを含み、陽極液コンパートメントには、Ti基板、基板上に堆積されたTa2O5、およびTa2O5上に堆積されたIrO2を備える陽極が入っている。さらなるステップは、反応器の陰極液コンパートメント内に陰極液を導入することを含み、ここで、陰極液コンパートメントは、膜によって陽極液コンパートメントから分離されている。陰極液コンパートメントには、膜の陰極液コンパートメント側に隣接して、フェルトまたは発泡体などの多孔質吸収性非導電性パッドが入っている。陰極液コンパートメントには、ガスコンパートメントから陰極コンパートメントを分離する陰極も入っている。陰極は、炭素繊維基板、およびこの基板上に堆積されたSn触媒を備える。Sn堆積物は、約0.5ミクロン~約5ミクロンの間の粒度を有し、基板の外側表面を実質的に覆う。さらなるステップは、ガスコンパートメントから、陰極のガスコンパートメント側に隣接しているディフューザー内にCO2ガスを導入することを含み、ガスコンパートメントは、陰極と流体連通し、陰極液と流体連通している。さらなるステップは、ディフューザーから陰極内にCO2ガスを導入すること、陰極から陰極液にCO2を導入すること、ならびに陽極と陰極の間にDC電圧を印加し、それによってCO2の少なくとも一部がギ酸に変換されることを含む。さらなる実施形態では、一装置は、容器と;この容器内に配置され、陽極液コンパートメントと陰極液コンパートメントとに容器を分割する膜とを含む。さらに、酸性陽極液が、陽極と同様に、陽極液コンパートメント内に少なくとも部分的に入っている。陽極は、Ti基板、この基板上に堆積されたTa2O5、およびTa2O5上に堆積されたIrO2を備える。炭素繊維紙基板、およびこの基板上に堆積されたSn触媒を備える陰極は、陰極液コンパートメント内に配置される。Sn触媒は、約0.5ミクロン~約5ミクロンの間の粒度を有するSn堆積物を含み、これは、基板の外側表面を実質的に覆う。陰極は、ガスコンパートメントから陰極コンパートメントを分離する。多孔質吸収性非導電性パッドが膜の陰極液コンパートメント側に隣接しており、ディフューザーが陰極のガスコンパートメント側に隣接している。陰極液、CO2ガス、およびギ酸を含む混合物は、陰極液コンパートメント内に少なくとも部分的に入っている。陽極および陰極と電気的に連絡した電圧源が、陽極と陰極の間にDC電圧を印加するように構成されている。本発明の追加の目的、特徴、および利点は、好適な実施形態の以下の詳細な説明、図面、および特許請求の範囲を考慮すると、当業者に明らかとなるであろう。本発明は、添付の図面を参照することによって、より容易に理解されることになり、図中、同様の参照番号は、同様のエレメントを示す。図面は、本明細書中に組み込まれており、本明細書の一部を構成し、本発明と一致するいくつかの実施形態を例示し、本説明と一緒に、本発明の原理を説明する役割を果たす。例示の目的のために、図面は、縮尺にして表されていない場合がある。図1を最初に見ると、電気化学反応器の全般的な概略図、一般に10は、プロセスの相互に関連する性質を例示する。容器12内に陽極液コンパートメント18および陰極液コンパートメント20があり、これらは、膜22例えば、Nafion登録商標117、duPont、Wilmington、DEなどの陽イオン交換膜によって分離されている。陽極液コンパートメント18内には、所望の反応複数可のために配合された陽極液24、および陽極14が含められている。陰極液コンパートメント20内には、やはり所望の反応複数可のために配合された陰極液25、および陰極16が含められている。陽極14および陰極16は、膜22に隣接して示されているが、これは、この構成である必要はないことに留意されたい。陽極14および陰極16と電気的に連絡したDC電圧源38が反応器を完成する。連続的な稼動では、図1の電気化学反応器は、陽極液フィード部36、使用済み陽極液の他に反応生成物複数可も含まれ得る陽極液回収部withdrawal44、陰極液フィード部34、および同様に使用済み陰極液の他に反応生成物複数可も含まれ得る陰極液回収部も含む。図1には、式:VCELL=VCATHODEIRVANODE、式中、I=電流、R=内部および外部抵抗であり、これらの積IRは、セル内の電圧損失を指すによる様々な電圧降下および抵抗も例示されている。したがって、反応器構成内のコンポーネントのいずれかが変化すると、反応器全体の働きを潜在的に変化させる場合がある。例えば、改善された陽極触媒を使用することによって、VANODEが減少する場合があり、これは、VCELLを減少させ、プロセス全体のエネルギー消費量を低減する。その理由は、総エネルギー消費量Eは、E=VCELLIT、式中、Iは、生成物例えば、ギ酸塩/ギ酸に変換されるフィード例えば、CO2の量に基づき、Tは、稼動時間例えば、1年であるによって定義することができるためである。電流密度mA/cm2も維持または増強する改善された陽極触媒は、追加の利点をもたらす。ギ酸塩へのECRCという状況において、陽極液回収部44には、陽極液と酸素O2が入っており、陰極液フィード部34には、陰極液が入っていることに加えてCO2が入っており、陰極液コンパートメント20から回収され、陰極液混合物回収部43には、陰極液、ギ酸塩またはギ酸、H2、CO、および未反応のCO2が入っている。陰極25における反応は、2CO2aq4H4e-→2HCOOHaq;2CO2aq4H4e-→2COg2H2O;および4H4e-→2H2gを含む。陽極14における反応は、2H2O→O24H4e-;および4OH-→O22H2O4e-を含む。一実施形態では、ギ酸塩へのECRCのための陰極触媒としてSn-Zn合金が使用され、この場合、Znは、陰極触媒の約3重量パーセント~約6重量パーセントの間を占める。さらなる実施形態では、Znは、約3重量パーセントを占め、さらなる実施形態では、Znは、陰極触媒の約6重量パーセントを占める。Sn-Zn合金陰極触媒の試験図3は、陰極触媒にSn-Zn合金を試験するのに使用される垂直電気化学ハーフセル試験装置200の概略図である。CO2ガス30を、CO2ガスフィード部32を介してフラスコ202に送った。次いでCO2ガス30は上昇し、ガラスフリット52を通過し、陰極液コンパートメント20としても作用する容器204内に入れられた陰極液25中に入る。ガラスフィルター52の陰極液側に密接に配置された対象とするSn-Zn合金は、示したように、すべてコイルの形状であるコイル陰極16b、すなわち作用電極である。したがって、試験合金によってバブリングされ、試験合金を通過するCO230は、コイル陰極16bにおいてギ酸塩/ギ酸、または陰極液コンパートメント混合物26も含有する3相条件を作り出す。装置の残りは、参照電極、飽和カロメル電極SCE50、陽極液24が入った陽極液コンパートメント18、および陽極14として作用する対電極を含んでいた。Nafion登録商標膜22は、陽極液コンパートメント18から陰極液コンパートメント20を分離した。ポテンシオスタット図示せずを電圧源として使用した。図4は、陰極触媒にSn-Zn合金を試験するのに使用される、ハーフセル水平容器304を有する、類似するが水平の電気化学ハーフセル試験装置300の概略図である。垂直装置200と同様のエレメントは、水平装置300において同様に参照されている。合金は、SophisticatedAlloys,Inc、Butler、PAから得、純粋な99.99パーセント元素金属から製作した。各電位での定電位分極を2時間行い、ギ酸塩濃度をDionex登録商標イオンクロマトグラフDionexCorp.、Sunnyvale、CAを用いて分析した。純粋なCO2ガス30を、75ml/分でコイル型陰極16bを通じて連続的にパージした。コイル自体は、長さ40cmおよび直径1mmであった。陰極液25は、400mlの2MのKClであり、陽極14は、1MのNaOHの陽極液24中に浸漬されたPtワイヤーであった。図5は、-1.7VSCE、-1.8VSCE、ならびに-1.9VSCEの値で、いくつかのSn-Zn合金陰極触媒ならびに純粋なSnについてFEを評価した結果を示す。これらの試験に使用した装置は、図3に例示し、上述した垂直電気化学ハーフセル200であった。VSCEの範囲は、最良のFE、またはギ酸塩へのCO2の選択性を与えるように選んだ。その範囲より上または下の値は、FEを有意に減少させる傾向がある。図5に示したように、SnZn33パーセントのZnを有するSn、SnZn66パーセントのZnを有するSn、SnZn99パーセントのZnを有するSn、およびSnZn2020パーセントのZnを有するSnはすべて、対象とするVSCE値で正常に動作する。すなわち、各合金についてのFEは、-1.7VSCE~-1.9VSCEの間でわずかしか変化せず、したがって、より広いVSCE範囲にわたって、よりロバストな反応器の働きを可能にする。さらに、SnZn3およびSnZn6は、SnZn9またはSnZn20より良好なFEを示し、SnZn9は、SnZn20より良好なFEを示す。SnZn3およびSnZn6はまた、-1.7VSCEおよび-1.8VSCEについて、純粋なSnより良好なFEを示す。したがって、より低いZnレベルで稼働することに予期しない利点が存在し、FEは、Zn含量を増加させることによって改善しない。1m2の範囲の電極を有する大きい反応器では、表面上で電位変動が存在するが、FEが一定のままである場合、全体的な反応器のFEは、一定のままとなり、より均一な生成物選択性が得られる。図6において、様々なSn系陰極触媒についてのFE値を、純粋なSnに対して正規化した。したがって、SnZn3およびSnZn6の正規化された値は、-1.9VSCEにおいて純粋なSnの値より低いが、すべての他の電位値において純粋なSnの値より高い。さらなる実施形態では、陰極触媒としてのSn-Zn合金は、2MのKClを含む、ギ酸塩へのECRCのために配合された陰極液と合わされる。さらなる実施形態では、陰極触媒としてのSn-Zn合金は、1Mの水酸化ナトリウムNaOHまたは0.5Mの硫酸H2SO4を含む、ギ酸塩へのECRCのために配合された陽極液と合わされる。さらなる実施形態では、Sn-Zn合金陰極触媒は、図2に示した2コンパートメント電気化学反応器、および図7に示した3コンパートメント電気化学反応器、ならびに以下で本明細書に記載されるこれらのバリエーションにおいて使用される。図2に注意を向けると、2コンパートメント電気化学反応器100が示されており、この中で、容器12は、陽極液コンパートメント18、陽極14、稼動中に陽極液24、膜22、陰極液コンパートメント20、陰極16、および稼動中に陰極液コンパートメント混合物26を囲んでいる。稼動中、2相の陰極液/CO2フィード陰極液フィード部34およびCO2ガスフィード部32からが、陰極液コンパートメント20内に導入される。陰極液コンパートメント20には陰極16が入っており、陽極液コンパートメント18には陽極14が入っており、陰極液コンパートメント20および陽極液コンパートメント18は、膜22によって分離されている。陽極14、陰極16のいずれか、または両方は、ギ酸塩へのECRCのために配合された触媒も含むことができる。陽極液フィード部36、CO2フィード部32と接続して陰極液コンパートメント20内に向かう陰極液フィード部34、陽極液24の他に他の陽極反応生成物も回収する陽極液回収部44、および陰極液混合物回収部42がさらに含められている。稼動中に陰極液コンパートメント20内に入れられているのは、陰極液コンパートメント混合物26であり、この混合物は、陰極液、CO2、ならびにギ酸塩およびギ酸などのECRC生成物を含む。次に図7に注意を向けると、3コンパートメント電気化学反応器350が示されており、この中で、3コンパートメント容器12aは、陽極液コンパートメント18、陽極14、および稼動中に、陽極液コンパートメント18内に入っている陽極液24;膜22;陰極液コンパートメント20、多孔質陰極16a、および稼動中に、陰極液コンパートメント20に入っている陰極液コンパートメント混合物26;ならびに稼動中にCO2ガス30が入っているガスコンパートメント28を囲んでいる。膜22は、陽極液コンパートメント18および陰極液コンパートメント20を分離し、多孔質陰極16aは、ガスコンパートメント28から陰極液コンパートメントを分離する。やはり稼動中、陽極液フィード部36は、陽極液コンパートメント18内に陽極液24を導入し、陽極液回収部44は、陽極液24の他に、他の陽極反応生成物も取り出し、陰極液フィード部34は、陰極液コンパートメント20内に陰極液25を導入し、陰極液コンパートメント混合物回収部42は、陰極液コンパートメント混合物26を取り出し、CO2ガスフィード部32は、ガスコンパートメント28内にCO2ガス30を導入する。稼動中、ガスコンパートメント28内のCO2ガス30は、多孔質陰極16aにまたがって異なる圧力下で、分散され矢印40で示した、多孔質陰極16aを通り、陰極液混合物26中に流れる。多孔質陰極16aは、適当な陰極触媒、例えば、本明細書に記載されるSnまたはSn系合金に基づくものを含むことができる。多孔質陰極16aは、基板、および本明細書に記載されるように堆積される陰極触媒をさらに備えることができる。さらなる実施形態では、多孔質導電性材料は、陰極16aの基板を形成する。一実施形態では、この基板は、炭素繊維紙CFPを含む。CFPTGP-H-120TorayFuelCellEarth,LLC、Stoneham、MAを用いて、良好な結果が得られた。図8は、繊維パターンを示すCFPの試料の顕微鏡写真であり、図9は、示したように、より高い拡大率での同じCFPを示す。繊維の公称径は、約7.5ミクロンμm~約10μmであり、これらの長さは、数百μm内である。呼び厚さは約370μmであり、多孔度Φは約78である。これらの寸法および特性は、TorayCFPに特定のものであり、様々な構成を有する他の同様の材料も適当であることが、当業者によって理解されるであろう。CFPは、電気化学反応器350図7へのガスフィードストリーム32例えば、図7を参照中のCO2ガス30が、多孔質陰極16aの厚さを通って陰極液25に流れ、そこでCO2が、ギ酸塩/ギ酸に変換されるフロースルー構造をもたらす。このような多孔質材料は、3次元3Dとして分類することができる。すなわち、二次元の表面の幾何学的領域を画定する長さおよび幅に加えて、この材料は、さらに呼び厚さも有する。したがって、陰極触媒が表面の幾何学的領域を越えて堆積される多孔質3D陰極は、陰極の内側、表面の幾何学的領域の内側内で反応物を生成物に触媒的に変換することができる。例えば、約370μmの呼び厚さを有する、本明細書で上記に論じたCFP陰極は、以下で本明細書に論じられるように製作される場合、各側部から表面の幾何学的領域の内側に約25μm~約35μmの深さにおいて堆積物を示した。堆積方法1さらなる実施形態では、図10に例示した堆積装置400、および以下で本明細書に説明される堆積プロセスを使用して、図11および図12に示したように、純粋なSnが均一なコーティングでCFP上に堆積された。上記のように、普通のCFPの顕微鏡写真で、図11は、全体にSnが上に堆積された繊維パターンを示す。図12は、同じ堆積であるが、示したようにより高い拡大率での堆積を示す。次に図10に注意を向けると、堆積装置400は、温度制御のための流体浴ジャケットfluidbathjacket66を含み、堆積浴72が入っている。磁気撹拌子68が浴70を混合し、温度プローブ64が浴72中に挿入される。装置400は、参照電極58、およびエッジ効果を回避するために、Snが堆積される作用電極60に付着される陰極基板材料70よりわずかに大きいサイズにされているPtコートNbメッシュの2つの対電極56を含む。対電極56は、作用電極60に並行して配置される。ポテンシオスタット54は、作用電極60と対電極56の間に一定の電流密度を供給し、ここで作用電極60は、堆積の間、負に帯電している。TorayCFPについて、表面の幾何学的面積に基づいて約2.5mA/cm2の電流密度を使用した。例えば、長さが約3cmであり、幅が約3.3cmである長方形の基板材料70は、約10cm2の表面の幾何学的面積を有する。円形の基板材料70は、5cm2の表面の幾何学的面積に対して2.54cmの直径を有する。浴72の温度は、約50°C~約55°Cの間に維持した。堆積時間は、30分~約1.5時間の範囲であった。さらなる実施形態では、堆積浴72は、以下の通りであった:塩化第一スズ二水和物SnCl22H2O0.19mol/L0.08~0.20mol/Lピロリン酸四カリウムK4P2O70.56mol/L0.40~0.60mol/LグリシンC2H5NO20.17mol/L0.10~0.20mol/L水酸化アンモニウムNH4OH0.04mol/LpH8~9上記の括弧内の値は、示した化合物についての範囲である。全体のプロセスは、濡れ性を改善するために、エタノール中に約30秒間浸漬することによって陰極基板材料70を濡らすステップと、上記で本明細書に記載した基板70上にSnを電着させるステップと、浴72から基板70を取り出すステップと、大量の蒸留水中に基板70を浸漬するステップと、脱イオンDI水中に基板70を浸漬するステップと、超音波洗浄器内で約3分間洗浄するステップと、DI水ですすぐステップと、窒素N2ガスで徐々にブロー乾燥させるステップとを含んでいた図11および図12を参照。CFP-SN陰極触媒の陰極試験-堆積方法1次に図16に注意を向けると、方法1で上記のように調製した陰極を、図7に示した3コンパートメント反応器内で試験した。陰極は、CFP基板、および方法1で、上記で本明細書に記載したように堆積されたSnを備え、10cm2の表面の幾何学的面積を有していた。CO2ガス流量は、226ml/分~550ml/分の間であった。陰極液は、CO2で予め飽和した2MのKClであり、流量は、2.25ml/分~2.5ml/分の間の範囲であった。陽極液は、1MのKOHであり、流量は、40ml/分~80ml/分の間であった。陰極液コンパートメントおよび陽極液コンパートメントの内部の圧力は同様であり、陰極液コンパートメントの値は、0.295psig~0.395psigの間の範囲内であり、陽極液コンパートメントについては、0.28psig~0.528psigの間であった。ガスコンパートメント内の圧力は、0.45psig~2.01psigの間であった。ガスコンパートメント内の圧力は、陰極液コンパートメントの圧力より常に高く、差異は、約0.055psi~約1.646psiの間であった。Ni板およびTi板の両方/Ta2O5/IrO2の陽極以下で本明細書に論じるを使用した。VCELLは3Vであった。図16は、図7に示した3コンパートメントフローセル内のSnが堆積されたCFP陰極の経時的な性能を例示する。図16に示したように、FEおよび電流密度はともに高いままであり、4日の実験にわたって比較的一定であった。堆積方法2さらなる実施形態では、図10に示し、上記で本明細書に説明した堆積装置400を使用してSnをCFP上に堆積させた。さらに、作動パラメータは、温度が55~65°Cの間であり、堆積時間が1~2時間の間であったことを除いて同じであった。堆積浴は、スズ塩、少なくとも1つの錯化剤、抗酸化剤、および非イオン性界面活性剤を含むことができる。具体的には、堆積浴は、以下のものを含んでいた:塩化第一スズ二水和物SnCl22H2O0.2mol/Lピロリン酸四カリウムK4P2O70.5mol/LグリシンC2H5NO20.2mol/LL-アスコルビン酸C6H8O610g/Lポリオキシエチレン12ノニルフェニルエーテル0.1g/LpH4.5結果を、図13、14、および15に示す。これらは、高密度な均一なコーティングを示す。図13は、全体にSnが上に堆積された繊維パターンを示す。図14は、同じ堆積であるが、示したようにより高い拡大率での堆積を示し、個々のSn結晶粒を示している。最後に、図15は、Ni発泡体上に堆積されたSnを示す。使用したNi発泡体は、Incofoam登録商標NovametSpecialtyProducts、Wyckoff、NJであった。顕微鏡写真は、発泡体の内側に焦点を合わせ、したがって背景中の結晶粒は、より輪郭がはっきりしている。CFP-SN陰極触媒の陰極試験-堆積方法2方法2で上記のように調製した陰極も、図7に示した3コンパートメント反応器内で試験した。陰極は、CFP基板、および方法2で、上記で本明細書に記載したように堆積されたSnを備え、10cm2の表面の幾何学的面積を有していた。CO2ガスの流量は、70ml/分であった。陰極液は、7~8ml/分の間の流量を伴った、CO2で予め飽和した2MのKClであり、陽極液は、1MのKOHであった。陽極は、PtコートNbメッシュであった。VCELLは、2.6V~4.0Vの間であった。CO2ガスおよび陰極液の流量は、ガス/液体G/L比によって制御した。図17に示したように、方法2は、方法1と比較して、優れた結果をもたらすように思われる。3.75Vの同じVCELLで、例えば、方法1によって調製された陰極は、45mA/cm2の電流密度を達成し、一方、方法2によって調製された陰極は、75mA/cm2の電流密度を達成した。いずれの特定の理論によっても束縛されることを望まないが、Snの被覆率の増大、およびより微細な結晶粒のより均一な堆積図11および図12対図13および図14を参照が、観察された改善に寄与したと考えられる。さらなる実施形態では、ギ酸塩へのECRCのための改善された陰極液組成物を含むプロセスが提供される。図18は、図3に示した垂直ハーフセル内の選択された陰極液中の純粋なSnコイル電極の短時間2時間での性能を例示する。75ml/分で、長さ40cm、直径1mmのコイル陰極を通じて、純粋なCO2ガスを連続的にパージした。陽極は、1MのNaOHの陽極液中に浸漬されたPtワイヤーであった。図18に示したように、pH5.5の2MのKCl、pH5.3の2MのNaCl、およびpH5.5の0.5MのNa2SO4中で、純粋なSn陰極を使用して、高いFEが得られた。試験した他の陰極液は、pH7.5の0.5MのKHCO3、pH2.5の2MのKCl、およびpH6.5のK2SO4を含む。さらなる実施形態では、金属酸化物触媒が入った陽極液コンパートメント内に陽極液を導入するステップを含むECRCプロセスを含むプロセスが提供される。特に、陽極液は酸性であり、陽極は混合金属酸化物触媒を含む。図19は、酸性陽極液中の混合金属酸化物陽極についての電流密度mA/cm2を示す。図7に示した装置を使用して図19中のデータを作った。使用した陽極液は、45ml/分の流量の0.5MのH2SO4であった。陰極液は、5~10ml/分の間の流量で反応器内に導入する前にCO2で予め飽和した2MのKClであった。CO2の流量は、69~84ml/分の間に維持した。実験のすべてで使用した陰極は、堆積方法1で、上記で本明細書に記載したようにCFP上に堆積されたSnであった。陽極と陰極の間に印加されるVCELLを3.25V~4.25Vの間で変更し、電流密度を測定した。陰極液試料を定期的に収集し、ギ酸の濃度を評価した。この分析のために、陰極液試料のpHを、NaOHを使用して、2~3の間の元の陰極液の値から7に最初に上昇させることによって、すべてのギ酸をギ酸塩イオンに変換した。イオンクロマトグラフを使用してギ酸塩イオンの濃度を測定した。陽極液としてアルカリ性溶液例えば、KOHおよびNaOHが使用される場合と異なり、酸性陽極液の場合では、Hイオンが形成され、陽イオン交換膜を越えて輸送される。これは、アルカリ性陽極液の場合のようにギ酸塩イオンではなく、陰極側でギ酸の直接形成を可能にする。これにより、ギ酸が所望の生成物である場合、後の後処理でギ酸塩イオンをギ酸に変換する際の化学物質消費コストが下がる。また、アルカリ性陽極液の場合では、ヒドロキシド種4OH-→O22H2O4e-が消費され、置換される必要がある。これにより、稼動中のアルカリヒドロキシドのコストが加わることになる。酸性陽極液の場合では、水だけが酸性電解質から消費され、酸性電解質は、水を添加した後に再利用することができ、化学物質の運転費用を低減する。次に図19に注意を向けると、上記で本明細書に論じた酸性環境中のいくつかの陽極について、全セル電圧VCELLに対して電流密度mA/cm2がプロットされている。混合金属酸化物MMOは、Tiプレート基板、この基板上に堆積されたTa2O5層、およびTa2O5層上に堆積されたIrO2層Ti/Ta2O5/IrO2を有する電極である。材料は、NMTElectrodesPtyLtd、Ashwood、ZAから得た。PtコートNbメッシュは、AnometProducts、Shrewsbury、MAから得た電極である。Niおよび316ステンレス鋼SS316は、平型の金属板であった。NiおよびSS316陽極はともに、ECRCの間に孔食および溶解を示した。図20に示したように、MMOは、Pt-Nbメッシュに対して性能の改善、および一定の電流密度でVCELLの低下を示した。次に図21に注意を向けると、電流密度対VCELLが、様々な混合金属酸化物、およびいくつかの他の陽極材料について示されている。これらの試験に使用した装置は、連続稼動下での図7に示した3コンパートメント反応器である。示したPTAメッシュは、OPTIMA商標PTASeriesの、白金めっき被覆されplatinum-plated,clad、熱的に堆積された陽極である。基板はチタンであるSiemensAS,WaterTechnologies、Warrendale、PA。Ti板上のIrO2もNMTElectrodesPtyLtd.から得た。Ti板上のIrO2、Ta2O5二重層もNMTから得た。次に図22に注意を向けると、ギ酸塩へのECRCのTi/Ta2O5/IrO2の選択性ファラデー効率は、Pt-Nbよりも酸性陽極液において、特に3.30V~3.75VのVCELL範囲で、両方の陽極で同じO2発生反応が生じているにもかかわらず高いことが意外にも見出された。いずれの特定の理論によっても束縛されることを望まないが、不適当な陽極材料、例えば、Pt、Ni、および鉄Feステンレス鋼由来などの、それぞれの陽イオンへの腐食または溶解が、高い印加陽極電位で、酸性陽極液溶液中で起こり得ると考えられる。そのとき、これらのイオンは、陰極触媒の表面に電着し、この表面をコートする場合があり、それによってSnおよびSn合金触媒の面積を低減し、したがって、ギ酸塩/ギ酸の生成速度を低減し、したがってFEを低下させる。その理由は、Ni、Fe、およびPtは、ギ酸塩生成に良好な電気化学的触媒として作用しないためである。さらなる実施形態では、瞬間のパルス分極により、経時的に劣化したFEを回復させる。長時間にわたる陰極における高電流密度での高いFEが、ECRCにとって望ましい。このような条件下で、長いランタイムで、純粋なSnを含めた金属電極上に、黒色堆積物が形成し得る。例えば、上記で本明細書に論じた純粋なSnおよびSn-合金コイル陰極を用いて、ハーフセル内で最大20時間のランタイム内に、堆積物はまったく見出されなかった。しかし、様々な量を伴った黒色堆積物スポットまたは完全に覆われたコーティングが、一般に、約10mA/cm2の電流密度で20時間超の後に、純粋なSnおよびSn系合金の電極上で見出された。堆積物の走査電子顕微鏡法におけるエネルギー分散X線EDXおよびラマン顕微鏡法分析は、これらはおそらくグラファイトであることを示す。グラファイトは、ギ酸塩へのECRCの良好な触媒でないので、陰極表面上のグラファイトの部分的または完全な被覆は、FE減少の原因となり得る。いずれの特定の理論によっても束縛されることを望まないが、炭素形成は、ギ酸塩生成物が触媒に非常に長く接触して留まる場合、触媒の表面上でのギ酸塩のさらなる還元の結果であると考えられる。ディープ陰極分極DCP、陽極分極AP、およびこれらの組合せを含めた様々な分極処理方法を利用することによって、長いランタイムの純粋なSnワイヤーから黒色堆積物を除去した。分極は、様々なpHHClおよび/またはCO2を用いて調整の2MのKClで実施した。視覚的な結果は、分極処理後、AP、DCPの両方、およびAPとDCPの組合せは、電気分解を長時間実行した後に陰極表面をコートした黒色堆積物を除去することができることを示した。図23に示したように、APは、100mA/cm2で30秒間、DCPは、-100mA/cm2で30秒間、AP/DCPの組合せは、それぞれ100mA/cm2および-100mA/cm2で、それぞれ30秒間であった。図23は、これらの様々な分極処理の前後の、使用した純粋なSn電極のFEを例示する。試験は、図3に示した垂直ハーフセル試験装置で実施した。陰極はコイル型であった。陰極液は2MのKCLであり、陽極液は1MのNaOHであった。上の点線は、黒色堆積物の被覆によってFEが劣化する前の元の純粋なSn陰極の平均の高いFEである。下の一点鎖線は、分極処理の前の元の純粋なSn陰極の平均の低いFEである。正方形の記号は、分極処理したSn陰極のFEを特定し、これらは、上の点線と同様であり、FEの完全な回復が分極処理によって達成されることを示した。上記実験で使用した陰極は、大規模商業用ユニットと比較して相対的に小さく、この場合、100mA/cm2~500mA/cm2のオーダーのベースライン電流密度が見出されるはずである。その場合、それぞれ500mA/cm2および5000mA/cm2のオーダーのAPパルス、およびDCPパルスのそれは、それぞれ-500mA/cm2および-5000mA/cm2のオーダーとなる。したがって、APパルスの電流密度は、陽極および陰極にわたって印加されるDC電圧によってもたらされる電流密度の約10倍の正の電流密度である。同様に、DCPパルスの電流密度は、陽極および陰極にわたって印加されるDC電圧によってもたらされる電流密度の約10倍の負の電流密度である。APパルスおよびDCPパルスはまた、順次印加することができる。このパルスは、低頻度で短い継続時間のものであり、典型的には、2~10時間毎に約5~約120秒の間、または一般に、印加同士間の間隔の約0.3パーセント~1.7パーセントの間である。いずれの特定の理論によっても束縛されることを望まないが、これらの分極方法は、少量のSnを溶解させて、不安定であるSn-ヒドリドを形成する場合があると考えられる。このプロセスにおいて、黒色堆積物は、陰極から除去される。図24は、3コンパートメント反応器350を示し、上記で本明細書に論じた図7の改変である。多孔質陰極16aに隣接して、発泡体またはフェルトなど多孔質吸収性非導電性パッド46がさらに含められている。多孔質陰極16aと接触した多孔質吸収性非導電性パッド46は、電解質中の連続性を破る場合のある、多孔質陰極16a付近でのガス層の形成を防ぐ。良好な結果が、無地のplain-backed1/8インチ厚の羊毛フェルトシートItem8341K31、McMaster-Carr、Aurora、OHで得られた。図25は、3コンパートメント反応器360を示し、多孔質吸収性非導電性パッド46内に陰極液フィード部34をさらに含む、図24の改変である。これは、陰極液25と膜22の間の密接な接触を可能にする。図26は、3コンパートメント反応器370を示し、多孔質陰極16aのガスコンパートメント側で多孔質陰極16aに隣接してディフューザー48をさらに含む、図25の改変である。良好な結果が、CO2ガス30の分散を促進するPTFEコート多孔質材料で得られた。さらなる実施形態では、ディフューザー48は、CO2ガス30がディフューザー48の厚さを横断することを可能にするだけでなく、CO2ガス30が、ディフューザー48の厚さを横断する際に、ディフューザー48の長さまたは幅に沿って横方向に移動することを可能にするように製作される。図27は、3コンパートメント反応器380を示し、陰極16aのガスコンパートメント側で陰極16aに隣接したディフューザー48をさらに含む、図24の改変である。良好な結果が、CO2ガス30の分散を促進するPTFEコート多孔質材料で得られた。さらなる実施形態では、ディフューザー48は、CO2ガス30がディフューザー48の厚さを横断することを可能にするだけでなく、CO2ガス30が、ディフューザー48の厚さを横断する際に、ディフューザー48の長さまたは幅に沿って横方向に移動することを可能にするように製作される。図28は、3コンパートメント反応器390を示し、陰極16aのガスコンパートメント側で陰極16aに隣接したディフューザー48をさらに含む、図7の改変である。良好な結果が、CO2ガス30の分散を促進するPTFEコート多孔質材料で得られた。さらなる実施形態では、ディフューザー48は、CO2ガス30がディフューザー48の厚さを横断することを可能にするだけでなく、CO2ガス30が、ディフューザー48の厚さを横断する際に、ディフューザー48の長さまたは幅に沿って横方向に移動することを可能にするように製作される。次に図29に注意を向けると、3コンパートメント電気化学反応器410が示されており、この中で、3コンパートメント容器12aは、陽極液コンパートメント18、および陽極14、および稼動中に、陽極液コンパートメント18内に入っている陽極液24;膜22;陰極液コンパートメント20、多孔質陰極16a、および稼動中に、陰極液コンパートメント20に入っている陰極液コンパートメント混合物26;ならびに稼動中にCO2ガス30が入っているガスコンパートメント28を囲んでいる。膜22は、陽極液コンパートメント18および陰極液コンパートメント20を分離する。多孔質陰極16aは、膜22に隣接し、示したように陰極液コンパートメント20を実質的に占有する。ガスコンパートメント28は、陰極液コンパートメント20および多孔質陰極16aに隣接している。やはり稼動中、陽極液フィード部36は、陽極液コンパートメント18内に陽極液24を導入し、陽極液回収部44は、陽極液24の他に、他の陽極反応生成物も取り出し、陰極液フィード部34は、陰極液コンパートメント20および多孔質陰極16a内に陰極液25を導入し、陰極液コンパートメント混合物回収部42は、陰極液コンパートメント混合物26を取り出し、CO2ガスフィード部32は、ガスコンパートメント28内にCO2ガス30を導入する。稼動中、ガスコンパートメント28内のCO2ガス30は、多孔質陰極16aと異なる圧力下で、分散され矢印40で示した、多孔質陰極16a中ならびに、陰極液16および陰極液混合物26中に流れる。多孔質陰極16aは、適当な陰極触媒、例えば、本明細書に記載されるSnまたはSn系合金に基づくものを含むことができる。多孔質陰極16aは、基板、および本明細書に記載されるように堆積される陰極触媒をさらに備えることができる。図30は、3コンパートメント反応器420を示し、陰極16aのガスコンパートメント側で陰極16aに隣接したディフューザー48をさらに含む、図29の改変である。良好な結果が、CO2ガス30の分散を促進するPTFEコート多孔質材料で得られた。さらなる実施形態では、ディフューザー48は、CO2ガス30がディフューザー48の厚さを横断することを可能にするだけでなく、CO2ガス30が、ディフューザー48の厚さを横断する際に、ディフューザー48の長さまたは幅に沿って横方向に移動することを可能にするように製作される。本発明のある特定の好適な実施形態を詳細に開示してきたが、様々な改変を、本発明の精神および以下の特許請求の範囲から逸脱することなく採用することができることが理解されるべきである。"