基板支持部によって支持された一側に配置された第1洗浄タンクから前記基板の他側に配置された第2洗浄タンクに向う第1水平方向に現像ノズルを移動させながら前記基板上に現像液を一次供給する段階と、前記第2洗浄タンクの内部で前記現像ノズルを1次洗浄する段階と、前記第2洗浄タンクから前記第1洗浄タンクに向う第2水平方向に前記現像ノズルを移動させながら前記基板上に現像液を2次供給する段階と、前記第1洗浄タンクの内部で前記現像ノズルを2次洗浄する段階と、を含むことを特徴とする基板現像方法。前記現像液の1次供給後、前記基板を1次洗浄する段階と、前記現像液の2次供給後、前記基板を2次洗浄する段階と、前記基板の2次洗浄後、前記基板を乾燥させる段階と、を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の基板現像方法。基板を支持する基板支持部と、前記基板支持部によって支持された基板の上部で水泳方向に移動可能に配置され、前記基板上に現像液を供給するための現像ノズルと、前記基板支持部の一側に配置され、内部で前記現像ノズルを洗浄する第1洗浄タンクと、前記基板支持部の他側に配置され、内部で前記現像ノズルを洗浄する第2洗浄タンクと、を含むことを特徴とする基板現像装置。前記第1洗浄タンクに連結され、前記第1洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第1洗浄液供給部と、前記第2洗浄タンクに連結され、前記第2洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第2洗浄液供給部と、を更に含むことを特徴とする請求項3に記載の基板現像装置。前記基板支持部を囲むように配置され、上下に移動可能なカップを更に含むことを特徴とする請求項3に記載の基板現像装置。本発明の目的は、現像不良および線幅不良を減少させるおそれがあり、現像工程に所要される時間を短縮することができる基板現像方法を提供することにある。本発明の他の目的は、前述したような基板現像方法を行うのに適合する基板現像装置を提供することにある。本発明の一側面による基板現像方法は、基板支持部によって支持された基板の一側に配置された第1洗浄タンクから現像ノズルを分離させる段階と、前記現像ノズルを前記基板の他側に配置された第2洗浄タンクに向う水平方向に移動させながら前記基板上に現像液を供給する段階と、前記第2洗浄タンクを前記現像ノズルを収容させる段階と、前記第2洗浄タンク内で前記現像ノズルを洗浄する段階と、を含むことができる。本発明の実施例によると、前記現像液の供給後、前記基板支持部を囲むように配置されたカップを前記基板を囲むように上方に移動させ、その後、前記現像液が供給された基板を洗浄するために洗浄液を前記基板上に供給することができる。前記洗浄液によって洗浄された基板を乾燥させ、その後、前記カップを下方に移動させることができる。本発明の他の側面による基板の現像方法は、基板支持部によって支持された一側に配置された第1洗浄タンクから前記基板の他側に配置された第2洗浄タンクに向う第1水平方向に現像ノズルを移動させかつ前記基板上に現像液を一次供給する段階と、前記第2洗浄タンクで前記現像ノズルを1次洗浄する段階と、前記第2洗浄タンクから前記第1洗浄タンクに向う第2水平方向に前記現像ノズルを移動させながら前記基板上に現像液を2次供給する段階と、前記第1洗浄タンクで前記現像ノズルを2次洗浄する段階と、を含むことができる。本発明に実施例によると、前記基板は前記現像液の1次供給後に1次洗浄することができ、前記現像液の2次供給後に2次洗浄することができる。また、前記基板は2次洗浄の後に乾燥させることができる。本発明の更に他の側面による基板現像装置は、基板を支持する基板支持部と、前記基板支持部によって支持された基板の上部で水平方向に移動可能に配置され、前記基板上に現像液を供給するための現像ノズルと、前記基板支持部の一側に配置され、前記現像ノズルを洗浄する第1洗浄タンクと、前記基板支持部の他側に配置され、前記現像ノズルを洗浄する第2洗浄タンクと、を含むことができる。本発明の実施例によると、前記基板現像装置は、前記第1洗浄タンクに連結され、前記第1洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第1洗浄液供給部と、前記第2洗浄タンクに連結され、前記第2洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第2洗浄液供給部と、を更に含むことができる。本発明の実施例によると、前記基板現像装置は、前記基板支持部を囲むように配置され、上下に移動可能なカップを更に含むことができる。前述したような本発明の実施例によると、基板上に現像液を供給した後、現像ノズルは、第1または第2洗浄タンク内で洗浄することができる。よって、前記現像ノズルから現像液が前記基板上に落ちることを防止することができる。結果的に、前記現像液の滴下によって発生しうる問題点を除去することができる。また、現像ノズルを洗浄するために、または現像液の滴下を防止するために前記現像ノズルを不必要に移動させる必要がない。よって、前記現像工程を行うのに所要される時間を短縮することができる。以下、本発明の実施例を添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一実施例による基板現像方法を示すフローチャートであり、図2は、図1に示した基板の現像方法を行うための基板現像装置を説明するための概略図である。図1及び図2を参照すると、本発明の一実施例による基板現像装置100は、シリコンウエハのような半導体基板またはガラス基板に対する現像工程を行うために用いることができる。前記基板現像装置は、基板支持部110、現像ノズル120、第1洗浄タンク130、及び第2洗浄タンク140を含むことができる。前記基板支持部110は、基板111を支持する支持部材112と前記支持部材112の下部に連結された駆動軸113を含むことができる。前記駆動軸113は、前記基板111に対する洗浄工程および乾燥工程を行うために前記基板111を回転させるモーター図示せずと連結することができる。現像ノズル120は、基板支持部110によって支持された基板111上に現像液を供給することができる。前記現像ノズル120は、駆動部図示せずによって水平方向及び垂直方向に移動可能に配置することができる。特に、前記駆動部は、前記基板111上に前記現像液を供給するために前記現像ノズル120を基板111の上部面と平行な方向に移動させることができる。前記現像ノズル120は、前記水平方向に対して垂直する他の水平方向に長く延長することができ、前記現像液を前記基板111上に供給するためのスリット図示せずを有することができる。特に、前記現像ノズル120は、前記基板111の直径または幅より長い長さを有することができる。本発明の他の実施例によると、前記現像ノズル120は、前記現像液を前記基板111上に供給するために前記現像ノズル120の長手方向に配列された複数のホール図示せずを有することができる。前記現像ノズル120は、現像液供給部図示せずと現像液供給管図示せずを通じて連結することができ、前記現像ノズル120が前記基板111の上部で水平方向に移動する期間、前記基板111上に前記現像液を供給することができる。前記第1洗浄タンク130と第2洗浄タンク140は、前記基板支持部110の互いに向い合う両側にそれぞれ配置することができる。即ち、前記第1洗浄タンク130は、前記基板支持部110によって支持された基板111の一側に配置されることが可能であり、前記第2洗浄タンク140は、前記基板支持部110によって支持された基板111の他側に配置することができる。前記第1洗浄タンク130と第2洗浄タンク140は、前記現像ノズル120が待機する待機ポートとして用いることができる。前記第1洗浄タンク130及び第2洗浄タンク140は、前記現像ノズル120の下部についている現像液を除去するための洗浄液を収容することができる。即ち、それぞれの第1及び第2洗浄タンク130及び140は前記洗浄液を収容するための内部空間及び開放された上部openupperportionを有することができる。また、前記第1洗浄タンク130及び第2洗浄タンク140は前記洗浄液を供給するための第1洗浄液供給部132と第2洗浄液供給部142とそれぞれ連結することができる。前記現像ノズル120は、前記第1または第2洗浄タンク130または140の開放された上部を通じて前記第1または第2洗浄タンク130または140に挿入することができ、前記現像ノズル120についている現像液は前記洗浄液によって除去することができる。前記現像ノズル120は、第1洗浄タンク130から第2洗浄タンク140に向う第2水平方向に移動するか、前記第2洗浄タンク140から第2洗浄タンク130に向う第2水平方向に移動しながら前記基板111上に現像液を供給することができる。前記現像液を供給する前または前記現像液を供給した後、前記現像ノズル120は、前記第1洗浄タンク130または第2洗浄タンク140内で待機することができる。ここで、前記現像ノズル120は、前記第1洗浄タンク130または第2洗浄タンク140に収容された洗浄液によって洗浄することができる。一方、前記基板現像装置100は、前記基板支持部110と前記第1及び第2洗浄タンク130及び140との間に配置されるカップ150を更に含むことができる。前記カップ150は、垂直方向に移動可能に配置することができる。例えば、前記カップ150は、前記基板支持部110によって支持された基板111を囲むように上方に移動することができる。前記基板111に対する現像工程を行った後、前記基板111上に洗浄液を供給することができる。前記基板111は、前記洗浄液を除去するためにそして前記基板111を乾燥させるために前記基板支持部110によって回転することができ、前記カップ150は、前記基板111の回転によって前記基板111から離脱する洗浄液を遮断するために上方に移動することができる。その後、図1及び図2を参照して本発明の一実施例による基板現像方法について説明する。露光工程が行われた基板111を前記基板支持部110上にロードすることができる。ここで、前記現像ノズル120は、前記第1洗浄タンク130内で待機することができる。S10段階で、前記現像ノズル120を第1洗浄タンク130から分離することができる。例えば、前記現像ノズル120は、前記駆動部によって上方に移動することができる。S11段階で、前記現像ノズル120は、前記第1洗浄タンク130から第2洗浄タンク140に向う第1水平方向に前記駆動部によって移動することができ、その間、前記現像液を前記基板111上に供給することができる。ここで、前記基板111と前記現像ノズル120との間隔は約1mm~2mmであってもよい。S12段階で、前記現像ノズル120は、第2洗浄タンク140内に収容することができる。即ち、前記駆動部は、前記現像ノズル120の下部が前記第2洗浄タンク140に収容された洗浄液に浸漬するように前記現像ノズル120を下方に移動させることができる。S13段階で、前記現像ノズル120が前記第2洗浄タンク140内で待機する期間、前記現像ノズル120は、前記第2洗浄タンク140内に収容された洗浄液によって洗浄することができる。前記現像ノズル120についている現像液が前記洗浄液によって除去されることが可能である。前記のように、前記基板111上に現像液を供給した後、前記現像ノズル120が前記第2洗浄タンク140内で待機するので、前記第1洗浄タンク130に戻る必要がない。即ち、前記現像ノズル120の不必要な移動段階を除去することができる。結果的に、前記現像ノズル120の不必要な移動段階を除去することができる。結果的に、前記現像ノズル120の不必要な移動段階を行うことで発生しうる問題点、例えば、現像不良、線幅不良、などを除去することができ、また前記現像工程に所要される時間を短縮することができる。一方、前記現像ノズル120は、前記第2洗浄タンク140から前記第1洗浄タンク130に向う第2水平方向に移動しながら後続する基板上に前記現像液を供給することができる。段階S14で、前記カップ150によって前記基板111が囲まれるように前記カップ150を上方に移動することができる。S15段階で、前記基板111を洗浄するために前記基板111上に洗浄液を供給することができる。前記洗浄液は、洗浄ノズル図示せずから前記基板111の中心部位に供給することができ、前記基板111は既に設定された速度で回転することができる。ここで、前記遠心力によって前記基板111から飛散される洗浄液は前記カップ150によって遮断することができる。S16段階で、前記洗浄段階S15を行った後、前記基板111は、既に設定された速度で回転することができ、これによって前記基板111を乾燥させることができる。S17段階で、前記カップ150を下方に移動することができ、その後、基板移送部図示せずによって前記基板111を前記基板支持部110からアンロードすることができる。図3は、本発明の他の実施例による基板現像方法を示すフローチャートであり、図4は、図3に示した基板現像方法を説明するための概略図である。図3及び図4を参照すると、露光工程の行われた基板111を前記基板支持部110上にロードすることができる。ここで、前記現像ノズル120は、前記第1洗浄タンク130内で待機することができる。S20段階で、前記現像ノズル120は、前記第1洗浄タンク130から分離することができ、その後、前記現像ノズル120は前記第1洗浄タンク130から第2洗浄タンク140に向う第1水平方向に前記駆動部によって異動することができる。また、前記現像ノズル120が第1水平方向に移動する期間、前記現像液を前記基板111上に1次供給することができる。S21段階で、前記現像ノズル120は、前記第2洗浄タンク140内に収容することができる。前記現像ノズル120が前記第2洗浄タンク140内で待機する期間、前記現像ノズル120は、前記第2洗浄タンク140内に収容された洗浄液によって1次洗浄することができる。即ち、前記現像ノズル120についている現像液を前記洗浄液によって除去することができる。S22段階で、前記カップ150によって前記基板111が囲まれるように前記カップ150が上方に移動することができる。S23段階で、前記基板111を1次洗浄するために前記基板111上に洗浄液を供給することができる。前記洗浄液は洗浄ノズル図示せずから前記基板111の中心部位に供給することができ、前記基板111は、既に設定された速度で回転することができる。ここで、遠心力によって前記基板111から飛散される洗浄液は前記カップ150によって遮断されることが可能である。S24段階で、前記カップ150が下方に移動することができる。S25段階で、前記現像ノズル120を第2洗浄タンク140から分離することができ、その後、前記現像ノズル120は、前記第2洗浄タンク140から第1洗浄タンク130に向う第2水平方向に前記駆動部によって移動することができる。また、前記現像ノズル120が第2水平方向に移動する期間、前記現像液を前記基板111上に2次供給することができる。ここで、前記1次現像段階S20で前記現像ノズル120についている現像液は前記第2洗浄タンク140内で除去されるので、前記現像ノズル120についている洗浄液による現像不良および線幅のような問題は発生しない。S26段階で、前記現像ノズル120は、第1洗浄タンク130内に収容することができる。前記現像ノズル120が前記第1洗浄タンク130内で待機する期間、前記現像ノズル120は、前記第2洗浄タンク130内に収容された洗浄液によって2次洗浄することができる。S27段階で、前記カップ150によって前記基板111が囲まれるように前記カップ150を上方に移動することができる。S28段階で、前記基板111を2次洗浄するために前記基板111上に洗浄液を供給することができ、前記基板111は、既に設定された速度で回転することができる。S29段階で、前記2次洗浄段階S28を行った後、前記基板111は既に設定された速度で回転することができ、これによって前記基板111を乾燥させることができる。S30段階で、前記カップ150が下方に移動することができ、その後、基板移送部図示せずによって前記基板111が前記基板支持部110からアンロードされることが可能である。