平らな導電性表面に酸化物層を電気化学的に形成する方法であって、前記平らな導電性表面を担っている作用電極を、対電極の平らな導電性表面に対して平行に間隔を隔てた対向する関係で位置決めするステップであって、前記作用電極の前記平らな導電性表面及び前記対電極の前記平らな導電性表面が、概ね対向して水平方向に配向され、それらの間に空間が画定されるように位置決めするステップと、前記作用電極の前記平らな導電性表面に前記酸化物層を形成するために、前記対電極の少なくとも前記平らな導電性表面が有機電解質溶液と接触し、且つ、前記作用電極の実質的に前記平らな導電性表面のみが前記有機電解質溶液と接触するよう、化学薬品を含んだ一定量の前記有機電解質溶液を前記対電極表面の前記平らな導電性表面に溢れさせ、且つ、前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間に画定される前記空間を占有させるステップと、ある時間の間、前記化学薬品に前記作用電極の前記平らな導電性表面に前記酸化物層を形成させるのに十分な大きさで、前記対電極の実質的に前記平らな導電性表面のみと、前記作用電極の実質的に前記平らな導電性表面のみとの間の前記有機電解質溶液中に電流を流すステップとを含む方法。前記平らな対電極表面と前記作用電極の前記平らな導電性表面の間に画定される前記空間を前記量の有機電解質溶液に占有させるステップが、前記作用電極の実質的に前記平らな導電性表面のみが前記有機電解質溶液と接触し、前記作用電極全体は前記有機電解質溶液に浸されないように前記作用電極を保持するステップを含む、請求項1に記載の方法。保持するステップが、前記作用電極の面であって、前記作用電極の前記平らな導電性表面とは反対側の面の実質的な部分を前記有機電解質溶液との接触から保護するステップを含む、請求項2に記載の方法。保護するステップが、前記作用電極の背面をシールを担っている保持表面に対して保持するステップを含み、前記シールが、前記作用電極の前記背面の外周縁に沿って前記作用電極の前記背面と接触するように使用可能に構成される、請求項3に記載の方法。前記作用電極を前記保持表面に対して保持するステップが、雰囲気圧が前記作用電極の前記背面を前記シールに押し付けるよう、前記作用電極の前記背面に沿って負圧を発生させるステップを含む、請求項4に記載の方法。前記負圧を発生させるステップが、前記シールに沿って真空を提供するステップを含む、請求項5に記載の方法。前記作用電極の前記平らな導電性表面及び前記対電極の前記平らな導電性表面が、前記有機電解質溶液の毛管力によって、前記作用電極の前記平らな導電性表面及び前記対電極の前記平らな導電性表面への前記有機電解質溶液の粘着を容易にする距離だけ間隔を隔てる、請求項1から6までのいずれか一項に記載の方法。前記作用電極を位置決めするステップが、前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間の距離が、前記作用電極の長さの約0.1と約20の間になるように前記作用電極を位置決めするステップを含む、請求項1から7までのいずれか一項に記載の方法。前記対電極の前記平らな導電性表面に対する関係で前記作用電極を位置決めするステップが、前記対電極を概ね水平方向の配向で容器内に保持するステップを含み、前記容器が、前記有機電解質溶液を保持し、且つ、前記空間が前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間に画定されるよう、前記対電極から間隔を隔てて前記作用電極を前記容器内に保持するように使用可能に構成される、請求項1から8までのいずれか一項に記載の方法。前記量の有機電解質溶液を前記対電極の前記平らな導電性表面に溢れさせるステップが、予め定義された量の前記有機電解質溶液を前記容器に入れるステップを含む、請求項9に記載の方法。前記予め定義された量の前記有機電解質溶液を入れるステップが、前記予め定義された量を前記対電極内の開口を通過させるステップを含み、前記開口が、前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間の前記空間と連通する、請求項10に記載の方法。前記予め定義された量を開口を通過させるステップが、前記予め定義された量の前記有機電解質溶液を前記開口を介して貯蔵容器からポンプ供給するステップを含む、請求項11に記載の方法。所望の厚さの前記酸化物層が前記作用電極の前記平らな導電性表面に形成されると、前記有機電解質溶液を排液するステップをさらに含む、請求項1から12までのいずれか一項に記載の方法。前記化学薬品が、所望の厚さの前記酸化物層の形成を許容する十分な酸素源を含む、請求項1から13までのいずれか一項に記載の方法。前記酸素源が、溶解酸素又は少なくとも1つの酸素前駆体を含む、請求項14に記載の方法。前記酸素源が少なくとも1つの酸素前駆体を含み、前記少なくとも1つの酸素前駆体が、溶解硝酸塩、亜硝酸塩、過酸化水素及び微量の水のうちの少なくとも1つを含む、請求項15に記載の方法。前記作用電極が材料で形成され、前記酸化物層が前記材料の酸化物であり、前記電流を流すステップが、前記作用電極が陽極として作用する方向に前記電流を流すステップを含む、請求項14から16までのいずれか一項に記載の方法。前記電流が流れている間、前記有機電解質溶液を攪拌するステップをさらに含む、請求項1から17までのいずれか一項に記載の方法。攪拌するステップが、前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間に画定される前記空間を介して前記有機電解質溶液を流すステップを含む、請求項18に記載の方法。前記有機電解質溶液がプロトン溶液であり、前記化学薬品が、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール及びテトラヒドロフルフリルアルコールのうちの少なくとも1つを含む、請求項17から19までのいずれか一項に記載の方法。前記有機電解質溶液が非プロトン溶液であり、前記化学薬品が、N-メチルアセトアミド及びアセトニトリルのうちの少なくとも1つを含む、請求項17から19までのいずれか一項に記載の方法。前記有機電解質溶液及び前記作用電極並びに前記対電極が、通常、摂氏約15度と摂氏約90度の間の一定の温度に維持される、請求項17から21までのいずれか一項に記載の方法。前記電流を流すステップが、酸化物が形成されて前記電流に対する抵抗を示すと、前記作用電極上への酸化物の形成を維持するのに少なくとも十分なレベルの前記電流を維持するステップを含む、請求項17から22までのいずれか一項に記載の方法。前記電流の流れが基準に合致すると、前記電流の流れを停止するステップをさらに含む、請求項17から23までのいずれか一項に記載の方法。前記基準が、前記酸化物層が予め定義された厚さを有する状態を含む、請求項24に記載の方法。前記電流が、前記有機電解質溶液中で約1mA/cm2と約100mA/cm2の間の電流密度を有する、請求項17から25までのいずれか一項に記載の方法。前記酸化物層が金属酸化物層であり、前記電流を流すステップが、前記作用電極が陰極として作用する方向に前記電流を流すステップを含み、前記有機電解質溶液が少なくとも1つの金属イオン源を含む、請求項1から16までのいずれか一項に記載の方法。前記陰極の前記平らな導電性表面にめっきする所望の前記金属酸化物の所望の厚さに基づいて、また、前記金属イオン源の濃度及び前記有機電解質溶液の量に基づいて前記予め定義された量を決定するステップをさらに含む、請求項27に記載の方法。前記酸化物層が酸化アルミニウムを含んだ金属酸化膜を含み、前記金属イオン源が、少なくとも1つの溶解アルミニウム塩又は少なくとも1つのアルミン酸塩、或いは前記少なくとも1つの溶解アルミニウム塩又は少なくとも1つのアルミン酸塩の組合せを含む、請求項27に記載の方法。前記酸化物層が酸化インジウムを含んだ金属酸化膜を含み、前記金属イオン源が少なくとも1つの溶解インジウム塩を含む、請求項27に記載の方法。前記酸化物層が酸化亜鉛を含んだ金属酸化膜を含み、前記金属イオン源が、少なくとも1つの溶解亜鉛塩又は少なくとも1つの亜鉛酸塩、或いは前記少なくとも1つの溶解亜鉛塩又は少なくとも1つの亜鉛酸塩の組合せを含む、請求項27に記載の方法。前記酸化物層がアルミニウムドープ酸化亜鉛を含んだ金属酸化膜を含み、前記金属イオン源が、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解アルミニウム塩を含む、請求項27に記載の方法。前記酸化物層がインジウムドープ酸化亜鉛を含んだ金属酸化膜を含み、前記金属イオン源が、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解インジウム塩を含む、請求項27に記載の方法。前記酸化物層が塩素ドープ酸化亜鉛を含んだ金属酸化膜を含み、前記金属イオン源が少なくとも1つの溶解亜鉛塩を含み、前記有機電解質溶液が少なくとも1つの溶解塩化物を含む、請求項27に記載の方法。前記酸化物層がスズドープ酸化インジウムを含んだ金属酸化膜を含み、前記金属イオン源が、少なくとも1つの溶解インジウム塩及び少なくとも1つの溶解スズ塩を含む、請求項27に記載の方法。前記電気が流れている間、前記有機電解質溶液を静止状態に維持するステップをさらに含む、請求項27から35までのいずれか一項に記載の方法。前記有機電解質溶液がプロトン溶液であり、前記化学薬品が、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール及びグリセリンのうちの少なくとも1つを含む、請求項27から36までのいずれか一項に記載の方法。前記有機電解質溶液が非プロトン溶液であり、前記化学薬品が、ジメチルスルホキシドDMSO及び炭酸プロピレンのうちの少なくとも1つを含む、請求項27から36までのいずれか一項に記載の方法。前記有機電解質溶液及び前記作用電極並びに前記対電極が、摂氏約15度と摂氏約90度の間の温度に維持される、請求項27から38までのいずれか一項に記載の方法。予め定義された数のクーロンが前記電解質溶液を通過すると、前記電流の流れを停止するステップをさらに含む、請求項27から39までのいずれか一項に記載の方法。前記予め定義された数のクーロンが、所望の厚さの前記酸化物層の製造を容易にするために、前記電解質溶液中の実質的にすべての前記金属イオン源が前記有機電解質溶液から減損し、且つ、前記作用電極の前記平らな導電性表面で酸化するだけの十分な数のクーロンである、請求項40に記載の方法。前記電流を一定のレベルに維持するステップが、前記有機電解質溶液中で約0.1mA/cm2と約100mA/cm2の間の電流密度をもたらすレベルで前記電流を維持するステップを含む、請求項41に記載の方法。前記電流が、前記有機電解質溶液中で約1mA/cm3と約1000mA/cm3の間の電流濃度をもたらすレベルで維持される、請求項27から42までのいずれか一項に記載の方法。前記陰極の前記平らな導電性表面に前記所望の厚さの前記金属酸化物がめっきされると、前記金属イオンが実質的に減損した前記有機電解質溶液を排液するステップをさらに含む、請求項41から43までに記載の方法。半導体ウェーハの上に酸化物層を形成する方法であって、請求項1から26までのいずれか一項に記載の方法を含み、前記作用電極が前記半導体ウェーハを含み、前記平らな導電性表面が前記半導体ウェーハの前面又は背面に存在し、前記酸化物層が半導体酸化物層である方法。前記半導体ウェーハが、n型結晶性半導体ウェーハ又はp型結晶性半導体ウェーハを含む、請求項45に記載の方法。前記平らな導電性表面が、前記結晶性半導体ウェーハのn型部分又はp型部分の上に存在し、或いは前記平らな導電性表面が、前記結晶性半導体ウェーハのn型部分又はp型部分の上の金属酸化物層の上に存在する、請求項46に記載の方法。前記方法が、前記電流が流れている時間の少なくとも一部の間、前記作用電極の前記平らな導電性表面を光に露出するステップをさらに含む、請求項46に記載の方法。前記作用電極の前記平らな導電性表面を光に露出するステップが、前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間の前記空間に光を当てるステップを含む、請求項48に記載の方法。前記空間に光を当てるステップが、前記対電極中の開口を介して光を当てるステップ、又は前記空間の少なくとも1つの周辺縁の少なくとも一部を介して光を当てるステップを含む、請求項49に記載の方法。半導体ウェーハの上に金属酸化物層を形成する方法であって、請求項27から44までのいずれか一項に記載の方法を含み、前記作用電極が前記半導体ウェーハを含み、前記作用電極の前記平らな導電性表面が前記半導体ウェーハの前面又は背面に存在し、或いは前記作用電極の前記平らな導電性表面が前記半導体ウェーハの前面又は背面の半導体酸化物層の上に存在する方法。前記作用電極半導体ウェーハの前記平らな導電性表面が、結晶性シリコン光電池のn型部分又はp型部分を含む、請求項51に記載の方法。前記方法が、前記電流が流れている時間の少なくとも一部の間、前記作用電極の前記平らな導電性表面を光に露出するステップをさらに含む、請求項51又は52に記載の方法。前記作用電極の前記平らな導電性表面を光に露出するステップが、前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間の前記空間に光を当てるステップを含む、請求項53に記載の方法。前記空間に光を当てるステップが、前記対電極中の開口を介して光を当てるステップ、又は前記空間の少なくとも1つの周辺縁の少なくとも一部を介して光を当てるステップを含む、請求項54に記載の方法。平らな導電性表面に酸化物層を電気化学的に形成するための装置であって、前記酸化物層を形成するための化学薬品を含んだ一定の量の有機電解質溶液を保持するように使用可能に構成された容器と、平らな導電性表面を有する対電極であって、前記有機電解質溶液が前記対電極の前記平らな導電性表面に溢れるよう、概ね水平方向の配向の前記平らな導電性表面を前記容器中に有する対電極と、前記酸化物層が形成される前記平らな導電性表面を担っている作用電極を保持するための作用電極ホルダであって、前記対電極の前記平らな導電性表面と前記作用電極の前記平らな導電性表面の間に空間が画定されるよう、概ね水平方向の配向で、前記対電極に対向して平行に間隔を隔てて作用電極を保持し、前記有機電解質溶液の少なくとも一部が、前記空間を占有し、且つ、前記対電極の前記平らな導電性表面及び前記作用電極の前記平らな導電性表面と接触することができる作用電極ホルダと、前記対電極及び前記作用電極に接続され、それにより前記対電極と前記作用電極の間に電流を流して、前記作用電極を前記有機電解質溶液の前記少なくとも一部の中で陽極又は陰極として作用させるように使用可能に構成された直流電流源とを備える装置。前記作用電極ホルダが、前記作用電極の実質的に前記平らな導電性表面のみが前記有機電解質溶液と接触し、前記作用電極全体は前記有機電解質溶液に浸されないように前記作用電極を保持するように使用可能に構成される、請求項56に記載の装置。前記作用電極ホルダが、前記作用電極の一面の実質的な部分を前記有機電解質溶液との接触から保護するように使用可能に構成されたプロテクタを含む、請求項57に記載の装置。前記プロテクタが、前記作用電極の背面の外周縁に沿って前記作用電極の前記背面と接触するように使用可能に構成されたシールを担っている保持表面を含む、請求項58に記載の装置。前記作用電極ホルダが、雰囲気圧が、前記電解質溶液が前記シールを通過して漏れるのを防止する十分な力で前記作用電極の前記背面を前記シールに押し付けるよう、前記作用電極の前記背面に沿って負圧を発生させるための手段を含む、請求項59に記載の装置。負圧を発生させるための前記手段が前記シールに沿った真空開口を備える、請求項60に記載の装置。前記作用電極ホルダが、前記有機電解質溶液の毛管力によって、前記作用電極の前記平らな導電性表面及び前記対電極の前記平らな導電性表面への前記有機電解質溶液の粘着を容易にする距離だけ、前記作用電極の前記平らな導電性表面が前記対電極の前記平らな導電性表面から間隔を隔てるように使用可能に構成される、請求項56から61までのいずれか一項に記載の装置。前記作用電極ホルダが、前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間の距離が、前記作用電極の長さの約0.1と約20の間になるように前記作用電極を位置決めするように使用可能に構成される、請求項56から62までのいずれか一項に記載の装置。前記対電極が、黒鉛板、ガスカーボン板又は黒鉛織物或いは白金板を備える、請求項56から63までのいずれか一項に記載の装置。予め定義された量の前記有機電解質溶液を前記容器に入れるための手段をさらに備える、請求項64に記載の装置。前記予め定義された量の前記有機電解質溶液を入れるための前記手段が、前記予め定義された量を前記容器内へ引き渡す開口を前記対電極中に備える、請求項65に記載の装置。前記予め定義された量の前記有機電解質溶液を入れるための前記手段が、前記予め定義された量の前記有機電解質溶液を貯蔵容器から前記開口を介してポンプ供給するように使用可能に構成されたポンプを備える、請求項66に記載の装置。所望の厚さの前記酸化物層が前記作用電極の前記平らな導電性表面に形成されると、前記有機電解質を排流するように使用可能に構成されたドレインをさらに備える、請求項56から67までのいずれか一項に記載の装置。前記化学薬品が、所望の厚さの前記酸化物層の形成を許容する十分な酸素源を含む、請求項56から68までのいずれか一項に記載の装置。前記酸素源が、溶解酸素又は少なくとも1つの酸素前駆体を含む、請求項69に記載の装置。前記酸素源が少なくとも1つの酸素前駆体を含み、前記少なくとも1つの酸素前駆体が、溶解硝酸塩、亜硝酸塩、過酸化水素及び微量の水のうちの少なくとも1つを含む、請求項70に記載の装置。前記直流電流源が、前記作用電極が陽極として作用する方向に前記電流が流れるように使用可能に構成される、請求項56から71までのいずれか一項に記載の装置。前記電流が流れている間、前記電解質を攪拌するための手段をさらに備える、請求項56から72までのいずれか一項に記載の装置。攪拌するための前記手段が、前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間に画定される前記空間を介して、前記量の有機電解質溶液を流すための手段を備える、請求項73に記載の装置。前記有機電解質溶液がプロトン溶液であり、前記化学薬品が、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール及びテトラヒドロフルフリルアルコールのうちの少なくとも1つを含む、請求項72から74までのいずれか一項に記載の装置。前記有機電解質溶液が非プロトン溶液であり、前記化学薬品が、N-メチルアセトアミド及びアセトニトリルのうちの少なくとも1つを含む、請求項72から74までのいずれか一項に記載の装置。前記有機電解質溶液、前記作用電極及び前記対電極を摂氏約15度と摂氏約90度の間の一定の温度に維持するための手段をさらに備える、請求項72から76までのいずれか一項に記載の装置。前記直流電流源が、酸化物が形成されて前記電流に対する抵抗を示すと、酸化物の形成を維持するだけの少なくとも十分なレベルの前記電流を維持するための手段を備える、請求項72から77までのいずれか一項に記載の装置。前記電流の流れが基準に合致すると、前記電流の流れを停止するための手段をさらに備える、請求項72から78までのいずれか一項に記載の装置。前記基準が、前記酸化物層が予め定義された厚さを有する状態を含む、請求項79に記載の装置。前記直流電流源が、前記量の有機電解質溶液中の電流密度が約1mA/cm2と約100mA/cm2の間になるレベルで前記電流を維持するための手段を備える、請求項72から80までのいずれか一項に記載の装置。前記酸化物層が金属酸化物層であり、前記電解質溶液が少なくとも1つの金属イオン源を含み、前記直流電流源が、前記作用電極が陰極として作用する方向に前記電流が流れるように使用可能に構成される、請求項56から71までのいずれか一項に記載の装置。前記予め定義された量の前記電解質溶液が、前記対電極の前記平らな導電性表面及び前記作用電極の前記平らな導電性表面が前記電解質溶液と接触することを保証する十分な量であり、前記予め定義された量が、所望の厚さの前記金属酸化物層になるまで前記金属酸化物を前記作用電極の前記平らな導電性表面にめっきするのに十分な金属イオン濃度を有する、請求項82に記載の装置。前記金属酸化物層が酸化アルミニウムを含み、前記金属イオン源が、少なくとも1つの溶解アルミニウム塩又は少なくとも1つのアルミン酸塩、或いは前記少なくとも1つの溶解アルミニウム塩又は少なくとも1つのアルミン酸塩の組合せを含む、請求項82に記載の装置。前記金属酸化物層が酸化インジウムを含み、前記金属イオン源が少なくとも1つの溶解インジウム塩を含む、請求項82に記載の装置。前記金属酸化物層が酸化亜鉛を含み、前記金属イオン源が、少なくとも1つの溶解亜鉛塩又は少なくとも1つの亜鉛酸塩、或いは前記少なくとも1つの溶解亜鉛塩又は少なくとも1つの亜鉛酸塩の組合せを含む、請求項82に記載の装置。前記金属酸化物層がアルミニウムドープ酸化亜鉛を含み、前記金属イオン源が、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解アルミニウム塩を含む、請求項82に記載の装置。前記金属酸化物層がインジウムドープ酸化亜鉛を含み、前記金属イオン源が、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解インジウム塩を含む、請求項82に記載の装置。前記金属酸化物層が塩素ドープ酸化亜鉛を含み、前記金属イオン源が少なくとも1つの溶解亜鉛塩を含み、前記有機電解質溶液が少なくとも1つの溶解塩化物を含む、請求項82に記載の装置。前記金属酸化物層がスズドープ酸化インジウムを含み、前記金属イオン源が、少なくとも1つの溶解インジウム塩及び少なくとも1つの溶解スズ塩を含む、請求項82に記載の装置。前記有機電解質溶液が、前記電気が流れている間、静止状態に維持される、請求項82から90までのいずれか一項に記載の装置。前記有機電解質溶液がプロトン溶液であり、前記化学薬品が、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール及びグリセリンのうちの少なくとも1つを含む、請求項82から91までのいずれか一項に記載の装置。前記有機電解質溶液が非プロトン溶液であり、前記化学薬品が、ジメチルスルホキシドDMSO及び炭酸プロピレンのうちの少なくとも1つを含む、請求項82から92までのいずれか一項に記載の装置。前記有機電解質溶液、前記作用電極及び前記対電極を摂氏約15度と摂氏約90度の間の温度に維持するための手段をさらに備える、請求項82から93までのいずれか一項に記載の装置。予め定義された数のクーロンが前記有機電解質溶液を通過すると、前記電流の流れを停止するための手段をさらに備える、請求項82から94までのいずれか一項に記載の装置。前記予め定義された数のクーロンが、所望の厚さの前記酸化物層の製造を容易にするために、前記有機電解質溶液中の実質的にすべての前記金属イオン源が前記有機電解質溶液から減損し、且つ、前記作用電極の前記平らな導電性表面で酸化するだけの十分な数のクーロンである、請求項95に記載の装置。前記電流を一定のレベルに維持するための前記手段が、前記有機電解質溶液中で約0.1mA/cm2と約100mA/cm2の間の電流密度をもたらすレベルで前記電流を維持するための手段を備える、請求項96に記載の装置。前記電流を維持するための前記手段が、前記有機電解質溶液中で約100mA/cm3と約1000mA/cm3の間の電流濃度をもたらすレベルで前記電流を維持するための手段を備える、請求項82から97までのいずれか一項に記載の装置。前記陰極の前記平らな導電性表面に前記所望の厚さの前記金属酸化物がめっきされると、前記金属イオンが実質的に減損した前記有機電解質溶液を排液するための手段をさらに備える、請求項82から98までに記載の装置。半導体ウェーハの上に酸化物層を形成するための装置であって、請求項56から71までのいずれか一項に記載の装置を備え、前記作用電極が前記半導体ウェーハを備え、前記平らな導電性表面が、前記半導体ウェーハの前面又は背面に存在し、前記酸化物層が半導体酸化物層である装置。前記半導体ウェーハが、n型結晶性半導体ウェーハ又はp型結晶性半導体ウェーハを含む、請求項100に記載の装置。前記平らな導電性表面が、前記結晶性半導体ウェーハのn型部分又はp型部分の上に存在し、或いは前記平らな導電性表面が、前記結晶性半導体ウェーハのn型部分又はp型部分の上の金属酸化物層の上に存在する、請求項101に記載の装置。前記装置が、前記電流が流れている時間の少なくとも一部の間、前記作用電極の前記平らな導電性表面を光に露出するための手段をさらに含む、請求項101に記載の装置。前記作用電極の前記平らな導電性表面を光に露出するための前記手段が、前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間の前記空間に光を当てるための手段を備える、請求項103に記載の装置。前記空間に光を当てるための前記手段が前記対電極中に光透過部分を備え、光が前記光透過部分を通過して前記作用電極の前記平らな導電性表面に照射する、請求項104に記載の装置。光を当てるための前記手段が、前記容器中に形成された光透過部分であって、前記空間の少なくとも1つの周辺縁の少なくとも一部を介して前記空間に光を当てるための光透過部分を備える、請求項104に記載の装置。半導体ウェーハの上に金属酸化物層を形成するための装置であって、請求項82から99までのいずれか一項に記載の装置を備え、前記作用電極が前記半導体ウェーハを備え、前記作用電極の前記平らな導電性表面が、前記半導体ウェーハの前面又は背面に存在し、或いは前記作用電極の前記平らな導電性表面が、前記半導体ウェーハの前面又は背面の半導体酸化物層の上に存在する装置。前記作用電極半導体ウェーハの前記平らな導電性表面が、結晶性シリコン光電池のn型部分又はp型部分を含む、請求項107に記載の装置。前記装置が、前記電流が流れている時間の少なくとも一部の間、前記作用電極の前記平らな導電性表面を光に露出するための手段をさらに含む、請求項107又は108に記載の装置。前記作用電極の前記平らな導電性表面を光に露出するための前記手段が、前記作用電極の前記平らな導電性表面と前記対電極の前記平らな導電性表面の間の前記空間に光を当てるための手段を備える、請求項109に記載の装置。前記空間に光を当てるための前記手段が前記対電極中に光透過部分を備え、光が前記光透過部分を通過して前記作用電極の前記平らな導電性表面に照射する、請求項109に記載の装置。光を当てるための前記手段が、前記容器中に形成された光透過部分であって、前記空間の少なくとも1つの周辺縁の少なくとも一部を介して前記空間に光を当てるための光透過部分を備える、請求項109に記載の装置。本発明の一態様によれば、平らな導電性表面に酸化物層を電気化学的に形成する方法が提供される。この方法は、平らな導電性表面を担っている作用電極を、対電極の平らな導電性表面に対して平行に間隔を隔てた対向する関係で位置決めするステップであって、作用電極の平らな導電性表面及び対電極の平らな導電性表面が、概ね対向して水平方向に配向され、それらの間に空間が画定されるように位置決めするステップを含む。この方法は、作用電極の平らな導電性表面に酸化物層を形成するために、対電極の少なくとも平らな導電性表面が有機電解質溶液と接触し、且つ、作用電極の実質的に平らな導電性表面のみが有機電解質溶液と接触するよう、化学薬品を含んだ一定量の有機電解質溶液を対電極表面の平らな導電性表面に溢れさせ、且つ、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間に画定される空間を占有させるステップをさらに含む。この方法は、ある時間の間、化学薬品が作用電極の平らな導電性表面に酸化物層を形成することになる十分な大きさで、対電極の実質的に平らな導電性表面のみと、作用電極の実質的に平らな導電性表面のみとの間の有機電解質溶液中に電流を流すステップをさらに含む。平らな対電極表面と作用電極の平らな導電性表面の間に画定される空間を上記の量の有機電解質溶液に占有させるステップは、作用電極の実質的に平らな導電性表面のみが有機電解質溶液と接触し、作用電極全体は有機電解質溶液に浸されないように作用電極を保持するステップを含むことができる。保持するステップは、作用電極の面であって、該作用電極の平らな導電性表面とは反対側の面の実質的な部分を電解質溶液との接触から保護するステップを含むことができる。保護するステップは、作用電極の背面をシールを担っている保持表面に対して保持するステップを含むことができ、シールは、作用電極の背面の外周縁に沿って作用電極の背面と接触するように使用可能に構成される。作用電極を保持表面に対して保持するステップは、雰囲気圧が作用電極の背面をシールに押し付けるよう、作用電極の背面に沿って負圧を発生させるステップを含むことができる。負圧を発生させるステップは、シールに沿って真空を提供するステップを含むことができる。作用電極の平らな導電性表面及び対電極の平らな導電性表面は、有機電解質溶液の毛管力によって、作用電極の平らな導電性表面及び対電極の平らな導電性表面への有機電解質溶液の粘着を容易にする距離だけ間隔を隔てることができる。作用電極を位置決めするステップは、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間の距離が、作用電極の長さの約0.1と約20の間になるように作用電極を位置決めするステップを含むことができる。対電極の平らな導電性表面に対する関係で作用電極を位置決めするステップは、対電極を概ね水平方向の配向で容器内に保持するステップを含むことができ、容器は、有機電解質溶液を保持し、且つ、上記空間が作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間に画定されるよう、対電極から間隔を隔てて作用電極を容器内に保持するように使用可能に構成される。上記量の有機電解質溶液を対電極の平らな導電性表面に溢れさせるステップは、予め定義された量の有機電解質溶液を容器に入れるステップを含むことができる。予め定義された量の有機電解質溶液を入れるステップは、予め定義された量を対電極内の開口を通過させるステップを含むことができ、開口は、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間の空間と連通することができる。予め定義された量を開口を通過させるステップは、予め定義された量の有機電解質溶液を開口を介して貯蔵容器からポンプ供給するステップを含むことができる。この方法は、所望の厚さの酸化物層が作用電極の平らな導電性表面に形成されると、有機電解質溶液を排液するステップを含むことができる。化学薬品は、所望の厚さの酸化物層の形成を許容する十分な酸素源を含むことができる。酸素源は、溶解酸素又は少なくとも1つの酸素前駆体を含むことができる。酸素源は、少なくとも1つの酸素前駆体を含むことができ、また、少なくとも1つの酸素前駆体は、溶解硝酸塩、亜硝酸塩、過酸化水素及び微量の水のうちの少なくとも1つを含むことができる。陽極反応作用電極は材料で形成することができ、また、酸化物層は、その材料の酸化物であってもよく、また、電流を流すステップは、作用電極が陽極として作用する方向に電流を流すステップを含むことができる。この方法は、電流が流れている間、有機電解質溶液を攪拌するステップを含むことができる。攪拌するステップは、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間に画定される空間を介して有機電解質溶液を流すステップを含むことができる。有機電解質溶液はプロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール及びテトラヒドロフルフリルアルコールのうちの少なくとも1つを含むことができる。有機電解質溶液は非プロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、N-メチルアセトアミド及びアセトニトリルのうちの少なくとも1つを含むことができる。有機電解質溶液及び作用電極並びに対電極は、通常、摂氏約15度と摂氏約90度の間の一定の温度に維持することができる。電流を流すステップは、酸化物が形成されて電流に対する抵抗を示すと、作用電極上への酸化物の形成を維持するだけの少なくとも十分なレベルの電流を維持するステップを含むことができる。この方法は、電流の流れが基準に合致すると、電流の流れを停止するステップを含むことができる。この基準は、酸化物層が予め定義された厚さを有する状態を含むことができる。電流は、約1mA/cm2と約100mA/cm2の間の電流密度を有することができる。陰極反応酸化物層は金属酸化物層であってもよく、また、電流を流すステップは、作用電極が陰極として作用する方向に電流を流すステップを含むことができ、また、有機電解質溶液は、少なくとも1つの金属イオン源を含むことができる。この方法は、陰極の平らな導電性表面にめっきする所望の金属酸化物の所望の厚さに基づいて、また、金属イオン源の濃度及び有機電解質溶液の量に基づいて予め定義された量を決定するステップを含むことができる。酸化物層は、酸化アルミニウムの金属酸化膜を含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解アルミニウム塩又は少なくとも1つのアルミン酸塩、或いは少なくとも1つの溶解アルミニウム塩又は少なくとも1つのアルミン酸塩の組合せを含むことができる。酸化物層は、酸化インジウムの金属酸化膜を含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解インジウム塩を含むことができる。酸化物層は、酸化亜鉛の金属酸化膜を含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩又は少なくとも1つの亜鉛酸塩、或いは少なくとも1つの溶解亜鉛塩又は少なくとも1つの亜鉛酸塩の組合せを含むことができる。酸化物層は、アルミニウムドープ酸化亜鉛の金属酸化膜を含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解アルミニウム塩を含むことができる。酸化物層は、インジウムドープ酸化亜鉛の金属酸化膜を含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解インジウム塩を含むことができる。酸化物層は、塩素ドープ酸化亜鉛を含んだ金属酸化膜を含むことができ、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩を含むことができ、また、有機電解質溶液は、少なくとも1つの溶解塩化物を含むことができる。酸化物層は、スズドープ酸化インジウムの金属酸化膜を含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解インジウム塩及び少なくとも1つの溶解スズ塩を含むことができる。この方法は、電気が流れている間、有機電解質溶液を静止状態に維持するステップを含むことができる。有機電解質溶液はプロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール及びグリセリンのうちの少なくとも1つを含むことができる。有機電解質溶液は非プロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、ジメチルスルホキシドDMSO:dimethylsulfoxide及び炭酸プロピレンのうちの少なくとも1つを含むことができる。有機電解質溶液及び作用電極並びに対電極は、摂氏約15度と摂氏約90度の間の温度に維持することができる。この方法は、予め定義された数のクーロンが有機電解質溶液を通過すると、電流の流れを停止するステップを含むことができる。予め定義された数のクーロンは、所望の厚さの酸化物層の製造を容易にするために、電解質溶液中の実質的にすべての金属イオン源が有機電解質溶液から減損し、且つ、作用電極の平らな導電性表面で酸化するだけの十分な数のクーロンにすることができる。電流を一定のレベルに維持するステップは、有機電解質溶液中で約0.1mA/cm2と約100mA/cm2の間の電流密度をもたらすレベルで電流を維持するステップを含むことができる。電流は、有機電解質溶液中で約1mA/cm3と約1000mA/cm3の間の電流濃度をもたらすレベルで維持することができる。この方法は、陰極の平らな導電性表面に所望の厚さの金属酸化物がめっきされると、金属イオンが実質的に減損した有機電解質溶液を排液するステップを含むことができる。半導体ウェーハに適用される陽極反応作用電極は半導体ウェーハであってもよく、平らな導電性表面は、半導体ウェーハの前面又は背面に存在していてもよく、また、酸化物層は半導体酸化物層であってもよい。半導体酸化物層は、作用電極の平らな導電性表面に直接形成することができ、或いは作用電極の平らな導電性表面に既に形成されている金属酸化物層を介して形成することができる。半導体ウェーハは、n型結晶性半導体ウェーハ又はp型結晶性半導体ウェーハを含むことができる。平らな導電性表面は、結晶性半導体ウェーハのn型部分又はp型部分の上に存在していてもよく、或いは平らな導電性表面は、結晶性半導体ウェーハのn型部分又はp型部分の上の金属酸化物層の上に存在していてもよい。この方法は、電流を流すことができる時間の少なくとも一部の間、作用電極の平らな導電性表面を光に露出するステップをさらに含むことができる。作用電極の平らな導電性表面を光に露出するステップは、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間の空間に光を当てるステップを含むことができる。空間に光を当てるステップは、対電極中の開口を介して光を当てるステップ、又は空間の少なくとも1つの周辺縁の少なくとも一部を介して光を当てるステップを含むことができる。半導体ウェーハに適用される陰極反応作用電極は半導体ウェーハであってもよく、作用電極の平らな導電性表面は、半導体ウェーハの前面又は背面に存在していてもよく、また、酸化物は金属酸化物であってもよい。金属酸化物は、平らな導電性表面に直接形成することができ、或いは平らな導電性表面に既に存在している半導体酸化物層の上に形成することができる。作用電極半導体ウェーハの平らな導電性表面は、結晶性シリコン光電池のn型部分又はp型部分を含むことができる。この方法は、電流が流れている時間の少なくとも一部の間、作用電極の平らな導電性表面を光に露出するステップをさらに含むことができる。作用電極の平らな導電性表面を光に露出するステップは、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間の空間に光を当てるステップを含むことができる。空間に光を当てるステップは、対電極中の開口を介して光を当てるステップ、又は空間の少なくとも1つの周辺縁の少なくとも一部を介して光を当てるステップを含むことができる。本発明の他の態様によれば、平らな導電性表面に酸化物層を電気化学的に形成するための装置が提供される。この装置は、酸化物層を形成するための化学薬品を含んだ一定の量の有機電解質溶液を保持するように使用可能に構成された容器と、平らな導電性表面を有する対電極であって、有機電解質溶液が対電極の平らな導電性表面に溢れるよう、概ね水平方向の配向の平らな導電性表面を容器中に有する対電極とを含む。この装置は、酸化物層が形成される平らな導電性表面を担っている作用電極を保持するための作用電極ホルダであって、対電極の平らな導電性表面と作用電極の平らな導電性表面の間に空間が画定されるよう、概ね水平方向の配向で、対電極に対向して平行に間隔を隔てて作用電極を保持する作用電極ホルダをさらに含む。有機電解質溶液の少なくとも一部は、空間を占有し、且つ、対電極の平らな導電性表面及び作用電極の平らな導電性表面と接触することができる。この装置は、対電極及び作用電極に接続され、それにより対電極と作用電極の間に電流を流して、作用電極を有機電解質溶液の少なくとも一部の中で陽極又は陰極として作用させるように使用可能に構成された直流電流源をさらに含む。作用電極ホルダは、作用電極の実質的に平らな導電性表面のみが有機電解質溶液と接触し、作用電極全体は有機電解質溶液に浸されないように作用電極を保持するように使用可能に構成することができる。作用電極ホルダは、作用電極の一面の実質的な部分を電解質溶液との接触から保護するように使用可能に構成されたプロテクタを含むことができる。プロテクタは、作用電極の背面の外周縁に沿って作用電極の背面と接触するように使用可能に構成されたシールを担っている保持表面を含むことができる。作用電極ホルダは、雰囲気圧が、電解質溶液がシールを通過して漏れるのを防止する十分な力で作用電極の背面をシールに押し付けるよう、作用電極の背面に沿って負圧を発生させるための準備を含むことができる。負圧を発生させるための準備は、シールに沿った真空開口を含むことができる。作用電極ホルダは、有機電解質溶液の毛管力によって、作用電極の平らな導電性表面及び対電極の平らな導電性表面への有機電解質溶液の粘着を容易にする距離だけ、作用電極の平らな導電性表面が対電極の平らな導電性表面から間隔を隔てるように使用可能に構成することができる。作用電極ホルダは、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間の距離が、作用電極の長さの約0.1と約20の間になるように作用電極を位置決めするように使用可能に構成することができる。対電極は、黒鉛板、ガスカーボン板又は黒鉛織物或いは白金板を含むことができる。この装置は、予め定義された量の有機電解質溶液を容器に入れるための準備を含むことができる。予め定義された量の有機電解質溶液を入れるための準備は、予め定義された量を容器内へ引き渡す開口を対電極中に含むことができる。予め定義された量の有機電解質溶液を入れるための準備は、予め定義された量の有機電解質溶液を貯蔵容器から開口を介してポンプ供給するように使用可能に構成されたポンプを含むことができる。この装置は、所望の厚さの酸化物層が作用電極の平らな導電性表面に形成されると、有機電解質を排流するように使用可能に構成されたドレインを含むことができる。化学薬品は、所望の厚さの酸化物層の形成を許容する十分な酸素源を含むことができる。酸素源は、溶解酸素又は少なくとも1つの酸素前駆体を含むことができる。酸素源は、少なくとも1つの酸素前駆体を含むことができ、また、少なくとも1つの酸素前駆体は、溶解硝酸塩、亜硝酸塩、過酸化水素及び微量の水のうちの少なくとも1つを含むことができる。陽極反応直流電流源は、作用電極が陽極として作用する方向に電流が流れるように使用可能に構成することができる。この装置は、電流が流れている間、電解質を攪拌するための準備を含むことができる。攪拌するための準備は、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間に画定される空間を介して、上記量の電解質溶液を流すための準備を含むことができる。有機電解質溶液はプロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール及びテトラヒドロフルフリルアルコールのうちの少なくとも1つを含むことができる。有機電解質溶液は非プロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、N-メチルアセトアミド及びアセトニトリルのうちの少なくとも1つを含むことができる。この装置は、有機電解質溶液、作用電極及び対電極を摂氏約15度と摂氏約90度の間の一定の温度に維持するための準備を含むことができる。直流電流源は、酸化物が形成されて電流に対する抵抗を示すと、酸化物の形成を維持するだけの少なくとも十分なレベルの電流を維持するための準備を含むことができる。この装置は、電流の流れが基準に合致すると、電流の流れを停止するための準備を含むことができる。この基準は、酸化物層が予め定義された厚さを有する状態を含むことができる。直流電流源は、上記量の有機電解質溶液中の電流密度が約1mA/cm2と約100mA/cm2の間になるレベルで電流を維持するための準備を含むことができる。陰極反応酸化物層は金属酸化物層であってもよく、電解質溶液は、少なくとも1つの金属イオン源を含むことができ、また、直流電流源は、作用電極が陰極として作用する方向に電流が流れるように使用可能に構成することができる。予め定義された量の電解質溶液は、対電極の平らな導電性表面及び作用電極の平らな導電性表面が電解質溶液と接触することを保証する十分な量にすることができる。この予め定義された量は、所望の厚さの金属酸化物層になるまで金属酸化物を作用電極の平らな導電性表面にめっきする十分な金属イオン濃度を有することができる。金属酸化物層は酸化アルミニウムを含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解アルミニウム塩又は少なくとも1つのアルミン酸塩、或いは少なくとも1つの溶解アルミニウム塩又は少なくとも1つのアルミン酸塩の組合せを含むことができる。金属酸化物層は酸化インジウムを含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解インジウム塩を含むことができる。金属酸化物層は酸化亜鉛を含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩又は少なくとも1つの亜鉛酸塩、或いは少なくとも1つの溶解亜鉛塩又は少なくとも1つの亜鉛酸塩の組合せを含むことができる。金属酸化物層はアルミニウムドープ酸化亜鉛を含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解アルミニウム塩を含むことができる。金属酸化物層はインジウムドープ酸化亜鉛を含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解インジウム塩を含むことができる。金属酸化物層は塩素ドープ酸化亜鉛を含むことができ、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩を含むことができ、また、有機電解質溶液は、少なくとも1つの溶解塩化物を含むことができる。金属酸化物層はスズドープ酸化インジウムを含むことができ、また、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解インジウム塩及び少なくとも1つの溶解スズ塩を含むことができる。有機電解質溶液は、電気が流れている間、静止状態に維持することができる。有機電解質溶液はプロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール及びグリセリンのうちの少なくとも1つを含むことができる。有機電解質溶液は非プロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、ジメチルスルホキシドDMSO及び炭酸プロピレンのうちの少なくとも1つを含むことができる。この装置は、有機電解質溶液、作用電極及び対電極を摂氏約15度と摂氏約90度の間の温度に維持するための準備を含むことができる。この装置は、予め定義された数のクーロンが有機電解質溶液を通過すると、電流の流れを停止するための準備を含むことができる。予め定義された数のクーロンは、所望の厚さの酸化物層の製造を容易にするために、有機電解質溶液中の実質的にすべての金属イオン源が有機電解質溶液から減損し、且つ、作用電極の平らな導電性表面で酸化するだけの十分な数のクーロンにすることができる。電流を一定のレベルに維持するための供給は、有機電解質溶液中で約0.1mA/cm2と約100mA/cm2の間の電流密度をもたらすレベルで電流を維持するための供給を含むことができる。電流を維持するための供給は、有機電解質溶液中で約100mA/cm3と約1000mA/cm3の間の電流濃度をもたらすレベルで電流を維持するための供給を含むことができる。この装置は、陰極の平らな導電性表面に所望の厚さの金属酸化物がめっきされると、金属イオンが実質的に減損した有機電解質溶液を排液するための準備を含むことができる。半導体ウェーハに適用される陽極反応作用電極は半導体ウェーハを含むことができ、平らな導電性表面は、半導体ウェーハの前面又は背面に存在していてもよく、また、酸化物層は半導体酸化物層であってもよい。半導体酸化物層は、作用電極の平らな導電性表面に直接形成することができ、或いは作用電極の平らな導電性表面に既に形成されている金属酸化物層を介して形成することができる。半導体ウェーハは、n型結晶性半導体ウェーハ又はp型結晶性半導体ウェーハを含むことができる。平らな導電性表面は、結晶性半導体ウェーハのn型部分又はp型部分の上に存在していてもよく、或いは平らな導電性表面は、結晶性半導体ウェーハのn型部分又はp型部分の上の金属酸化物層の上に存在していてもよい。この装置は、電流が流れている時間の少なくとも一部の間、作用電極の平らな導電性表面を光に露出するための準備をさらに含むことができる。作用電極の平らな導電性表面を光に露出するための準備は、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間の空間に光を当てるための準備を含むことができる。空間に光を当てるための準備は、対電極中に光透過部分を含むことができ、光は、この光透過部分を通過して作用電極の平らな導電性表面に照射することができる。光を当てるための準備は、容器中に形成された光透過部分であって、空間の少なくとも1つの周辺縁の少なくとも一部を介して空間に光を当てるための光透過部分を含むことができる。半導体ウェーハに適用される陰極反応作用電極は半導体ウェーハであってもよく、作用電極の平らな導電性表面は、半導体ウェーハの前面又は背面に存在していてもよく、また、酸化物は金属酸化物であってもよい。金属酸化物は、平らな導電性表面に直接形成することができ、或いは平らな導電性表面に既に存在している半導体酸化物層の上に形成することができる。作用電極の平らな導電性表面は、半導体ウェーハの前面又は背面の半導体酸化物層の上に存在していてもよい。作用電極半導体ウェーハの平らな導電性表面は、結晶性シリコン光電池のn型部分又はp型部分を含むことができる。この装置は、電流が流れている時間の少なくとも一部の間、作用電極の平らな導電性表面を光に露出するための準備をさらに含むことができる。作用電極の平らな導電性表面を光に露出するための準備は、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間の空間に光を当てるための準備を含むことができる。空間に光を当てるための準備は、対電極中に光透過部分を含むことができ、光は、この光透過部分を通過して作用電極の平らな導電性表面に照射することができる。光を当てるための準備は、容器中に形成された光透過部分であって、空間の少なくとも1つの周辺縁の少なくとも一部を介して空間に光を当てるための光透過部分を含むことができる。本発明の特定の実施例についての以下の説明を添付の図と共に精査することにより、当業者には本発明の他の態様及び特徴が明らかになるであろう。図面は、本発明の実施例を示したものである。図1を参照すると、平らな導電性表面に酸化物層を形成するための装置が一括して10で示されている。図1及び2を参照すると、装置10は、酸化物層を形成するための化学薬品を含んだ一定の量の有機電解質溶液14を保持するように使用可能に構成された容器12を含む。この装置は、平らな導電性表面18を有する対電極16をさらに含み、対電極16は、上記量の有機電解質溶液14が対電極16の平らな導電性表面18に溢れるよう、容器12内に概ね水平方向に配向されている。装置10は、酸化物層が形成される平らな導電性表面24を担っている作用電極22を保持するための作用電極ホルダ20をさらに含む。図2を参照すると、作用電極ホルダ20は、概ね水平方向の配向で、対電極16と対向して平行に間隔を隔てて作用電極22を保持している。したがって対電極16の平らな導電性表面18と作用電極22の平らな導電性表面24の間に空間26が画定されている。上記量の有機電解質溶液14の少なくとも一部は、この空間26を占有しており、対電極16の平らな導電性表面18及び作用電極22の平らな導電性表面24と同時に接触するだけの十分な量が提供されている。もう一度図1を参照すると、装置10は、対電極と作用電極の間に電流を流し、それにより上記量の有機電解質溶液と接触して作用電極を陽極又は陰極として選択的に作用させるために、対電極16及び作用電極22に接続されるように使用可能に構成された直流電流源30をさらに含む。作用電極22が陽極として作用するか、或いは陰極として作用するかどうかは、直流電流源30の極性によって決まる。作用電極22は、酸素と反応して作用電極22の平らな導電性表面24に酸化物を形成することができる任意の導電性材料で製造することができる。作用電極22の材料の酸化物は、単純な酸化物と呼ぶことができる。作用電極22が鉄板である場合、例えばこの単純な酸化物は酸化鉄になる。作用電極22が結晶性半導体ウェーハである場合、この単純な酸化物は酸化ケイ素になる。単純な酸化物は、作用電極22の極性を対電極16に対して正の電位になるようにすることによって形成することができる。同様に、作用電極が対電極16に対して負の極性を有するように直流電流源30の極性を設定することにより、作用電極22の平らな導電性表面24に金属酸化物を形成することも可能である。単純な酸化物又は金属酸化物を平らな導電性表面24に形成するかどうかに応じて、異なる有機電解質溶液が使用される。説明されている実施例では、作用電極22は半導体ウェーハであり、また、この装置を使用して、直流電流源30の極性を、作用電極22が対電極16に対して正の電位を有するようにすることにより、半導体材料自体の平らな導電性表面24に、或いは半導体材料の上に既に形成されている金属酸化物層の下に半導体酸化物が形成される。別法としては、直流電流源30の極性を、対電極16が作用電極22に対して正の電位を有するように設定することにより、作用電極22の平らな導電性表面24に、或いは作用電極の平らな導電性表面に既に形成されている半導体酸化物層の上に金属酸化物層を形成することも可能である。平らな導電性表面24に半導体酸化物を形成するか、或いは金属酸化物を形成するかどうかに応じて、異なる有機電解質溶液が使用される。図2を参照すると、単純な酸化物層を形成するのか、或いは金属酸化物層を形成するのかどうかに無関係に、上記量の電解質溶液14には、電解反応を容易にする化学薬品32が含まれており、また、化学薬品には酸素源34が含まれている。金属酸化物層を形成する場合、化学薬品には、酸素源の他に金属イオン源36が含まれている。装置10について、もう一度図1を参照してより詳細に説明する。図に示されている実施例では、容器12は、テーブル40の頂部部分として形成されている。容器12の形状は、一般的には長方形であり、また、底部部分42及び周囲の直立した壁44を有しており、周囲の直立した壁44は、底部部分42の周囲から上に向かって延在している。底部部分42及び周囲の直立した壁44は、例えばテフロン登録商標、ポリカーボネート、ポリスチレン又はガラスなどの耐化学薬品材料で形成されている。底部部分42は、対電極16を支え、且つ、保持するための長方形の凹所46で形成されている。対電極16は、例えば炭素黒鉛板若しくはガラス黒鉛板又は黒鉛織物材料或いは白金板で形成されており、また、平らな導電性表面18を有している。凹所46は、対電極16の平らな導電性表面18が底部部分42と概ね共面になるように底部部分42に形成されており、図に示されている実施例では、底部部分42は概ね水平方向に配向されている。図3を参照すると、対電極16は、対電極16への電気接続を容易にするために、導体92によってコネクタ90に接続されている。図1に戻ると、コネクタ90は、線94によって直流電流源30の対応するコネクタ96に接続されている。作用電極22も同様に直流電流源30に接続されている。したがって作用電極22、上記量の電解質溶液14及び対電極16は、電流源30と共に直列回路を形成している。したがって直流電流源30は、直流DC:directcurrent源を提供しており、また、対電極16及び作用電極22の両端間に印加される電位の極性を選択的に調整することができ、且つ、作用電極22、上記量の電解質溶液14及び対電極16を含む直列回路を通って流れる電流の量を増減し、或いは維持するために電位を調整することができる自動制御回路31を含む。さらに、この自動制御回路31は、例えば直列回路の抵抗が、予め定義された電流が直列回路に流れる一定のレベルに到達したか否か、などの特定の基準に合致したか否かを決定することも可能であり、自動制御回路31は、その時点で電流源を選択的に停止する。ディスペンスシステム対電極16は、中央に配置された開口48を有しており、また、容器12の底部部分42は、その中央に配置された開口48と整列している、上記量の有機電解質溶液14を容器12に入れるように動作することができる整列開口図示せずを有している。上記量の電解質溶液14は、一括して60で示されているディスペンスシステムによって提供される。図に示されている実施例では、ディスペンスシステム60は、フラッシング溶液64を保持するように使用可能に構成された第1の貯蔵容器62、及び開口48に接続されている可撓性給送コンジット70によって結合された給送コンジット68に、第1の量のフラッシング溶液を第1の貯蔵容器からポンプ供給するための第1のポンプ66を備えている。ディスペンスシステム60は、第1の電解質溶液74を保持するように使用可能に構成された第2の貯蔵容器72、及び予め定義された量の第1の電解質溶液74を第2の貯蔵容器72から給送コンジット68にポンプ供給し、且つ、開口48を介してポンプ供給するための第2のポンプ76をさらに含む。ディスペンスシステム60は、第2の電解質溶液80を保持するように使用可能に構成された第3の貯蔵容器78、及び予め定義された量の第2の電解質溶液80を第3の貯蔵容器78から給送コンジット68にポンプ供給し、且つ、開口48を介してポンプ供給するための第3のポンプ81をさらに含む。コントローラ82は、第1、第2又は第3のポンプ66、76、81を選択的に動作させ、フラッシング溶液64又は予め定義された量の第1又は第2の電解質溶液74、80を給送コンジット50に選択的にポンプ供給し、且つ、開口48を介して選択的にポンプ供給するために提供されており、それにより対電極16の平らな導電性表面18に溢れさせ、したがって容器12内の作用電極22と共に電解槽の一部として使用することができる。フラッシング溶液64は、例えば有機溶媒又は水を含むことができる。第1及び第2の電解質溶液74、80は、形成される酸化物層のタイプに合わせて、それぞれ陽極又は陰極のいずれかとしての作用電極22の使用を容易にするように構成されている。第1及び第2の電解質溶液74、80の各々には、所望の厚さの酸化物層の形成を許容する十分な酸素源を含んだ化学薬品が含まれている。酸素源は、溶解酸素を含むことができ、或いは溶解硝酸塩、亜硝酸塩、過酸化水素及び微量の水のうちの少なくとも1つなどの少なくとも1つの酸素前駆体を含むことができる。酸化物層を形成する電気化学プロセスにすぐに使用するための溶解酸素前駆体の濃度は、所望の厚さの酸化物層の形成を容易にするためには、容器12にディスペンスされる上記の量の電解質に少なくとも十分な酸素源が提供されるように選択しなければならない。コントローラ82は、第1の予め定義された量の第1の電解質溶液74を選択的に容器12に入れ、且つ、作用電極22を陽極として作用させるように電流源30を構成する。第1の予め定義された量は、対電極16の平らな導電性表面18及び作用電極22の平らな導電性表面24がこの第1の予め定義された量の第1の電解質溶液74と接触することを保証する十分な量でなければならない。作用電極22を陽極として作用させる場合、作用電極22の平らな導電性表面24に形成される酸化物は、その作用電極を構築している材料の酸化物、即ち単純な酸化物である。したがって例えば作用電極22が結晶性シリコン半導体ウェーハである場合、第1の電解質溶液74が使用され、また、対電極16に対して正の電位を有するように電流源30が作用電極22を構成すると、酸化ケイ素の層を結晶性シリコン半導体ウェーハの平らな導電性表面に形成することができ、或いは結晶性シリコン半導体ウェーハの上に既に形成されている金属酸化物層の下に酸化ケイ素の層を形成することができる。作用電極22が陽極として使用される場合、有機電解質溶液はプロトン溶液であってもよく、また、第1の電解質溶液74中の化学薬品は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール及びテトラヒドロフルフリルアルコールのうちの少なくとも1つを含むことができる。別法としては、第1の電解質溶液74は非プロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、N-メチルアセトアミド及びアセトニトリルのうちの少なくとも1つを含むことができる。同様に、コントローラ82は、別法として、第2の予め定義された量の第2の電解質溶液80が容器12に入るように第3のポンプ81を動作させ、且つ、作用電極22が陰極として作用するように電流源30を構成することも可能である。第2の予め定義された量の第2の電解質溶液80は、対電極16の平らな導電性表面18及び作用電極22の平らな導電性表面24がこの第2の予め定義された量の第2の電解質溶液80と接触することを保証する十分な量でなければならない。作用電極22が結晶性シリコン半導体ウェーハであるこの実施例では、第2の電解質溶液80が使用され、また、対電極16に対して負の電位を有するように電流源30が作用電極22を構成すると、結晶性シリコン半導体ウェーハの平らな導電性表面24に金属酸化物層が形成されるか、或いは結晶性シリコン半導体ウェーハの平らな導電性表面に既に形成されている半導体酸化物層の上に金属酸化物層が形成されることになる。第2の電解質溶液80はプロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール及びグリセリンのうちの少なくとも1つを含むことができる。別法としては、第2の電解質溶液80は非プロトン溶液であってもよく、また、化学薬品は、ジメチルスルホキシドDMSO及び炭酸プロピレンのうちの少なくとも1つを含むことができる。また、第2の電解質溶液80には、作用電極22の平らな導電性表面24への金属酸化物層の形成、或いは平らな導電性表面24に既に形成されている単純な酸化物層の上への金属酸化物層の形成を容易にするための少なくとも1つの金属イオン源が含まれている。第2の予め定義された量に含まれている金属イオン源の量は、作用電極22の平らな導電性表面24への所望の厚さの金属酸化物層の形成を容易にする十分な量でなければならない。例えばPV電池の上に酸化アルミニウムの層を形成することが意図されている場合、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解アルミニウム塩又は少なくとも1つのアルミン酸塩、或いは少なくとも1つの溶解アルミニウム塩又は少なくとも1つのアルミン酸塩の組合せを含むことができる。溶解アルミニウム塩は、例えば硝酸塩、塩化物又は硫酸塩から選択することができる。有機電解質溶液は、10.16cm~20.32cm4インチ~8インチ平方の光PV電池の上に、約10nmないし約200nmの厚さを有する酸化アルミニウム膜を製造するために、0.0001Eq/Lグラム当量/リットルから0.1Eq/Lのアルミニウム、又は0.0001Eq/Lのアルミニウムから飽和溶液の濃度までを含むことができる。PV電池の上に酸化インジウムの層を形成する場合、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解インジウム塩を含むことができる。少なくとも1つの溶解インジウム塩は、例えば硝酸塩、塩化物又は硫酸塩から選択することができる。有機電解質溶液は、10.16cm~20.32cm4インチ~8インチ平方のPV電池の上に、約50nmないし約130nmの厚さを有する酸化インジウム膜を製造するために、0.0001Eq/Lグラム当量/リットルから0.1Eq/Lのインジウム、又は0.0001Eq/Lのインジウムから飽和溶液の濃度までを含むことができる。PV電池の上に酸化亜鉛の層を形成する場合、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩又は少なくとも1つの亜鉛酸塩、或いは少なくとも1つの溶解亜鉛塩又は少なくとも1つの亜鉛酸塩の組合せを含むことができる。少なくとも1つの溶解亜鉛塩は、例えば硝酸塩、塩化物又は硫酸塩から選択することができる。有機電解質溶液は、10.16cm~20.32cm4インチ~8インチ平方のPV電池の上に、約50nmないし約130nmの厚さを有する酸化亜鉛膜を製造するために、0.0001Eq/Lグラム当量/リットルから0.1Eq/Lの亜鉛、又は0.0001Eq/Lの亜鉛から飽和溶液の濃度までを含むことができる。PV電池の上にアルミニウムドープ酸化亜鉛の層を形成する場合、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解アルミニウム塩を含むことができる。溶解亜鉛塩は、例えば硝酸塩、塩化物又は硫酸塩から選択することができる。溶解アルミニウム塩は、例えば硝酸塩、塩化物又は硫酸塩から選択することができる。有機電解質溶液は、10.16cm~20.32cm4インチ~8インチ平方のPV電池の上に、約80nmないし約100nmの厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛膜を製造するために、約500/1と3:1の間の比率のグラム当量の亜鉛及びアルミニウムを含むことができる。PV電池の上にインジウムドープ酸化亜鉛の層を形成する場合、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解インジウム塩を含むことができる。溶解亜鉛塩は、例えば硝酸塩、塩化物又は硫酸塩から選択することができ、また、少なくとも1つの溶解インジウム塩は、例えば硝酸塩、塩化物又は硫酸塩から選択することができる。有機電解質溶液は、10.16cm~20.32cm4インチ~8インチ平方のPV電池の上に、約50nmないし約130nmの厚さを有するインジウムドープ酸化亜鉛膜を製造するために、約200/1と5:1の間の比率のグラム当量の亜鉛及びインジウムを含むことができる。PV電池の上に塩素ドープ酸化亜鉛の層を形成する場合、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解亜鉛塩及び少なくとも1つの溶解塩化物を含むことができる。少なくとも1つの亜鉛塩は、例えば硝酸塩、塩化物又は硫酸塩から選択することができる。有機電解質溶液は、10.16cm~20.32cm4インチ~8インチ平方のPV電池の上に、約50nmないし約130nmの厚さを有する塩素ドープ酸化亜鉛膜を製造するために、0.0001Eq/Lグラム当量/リットルから0.1Eq/Lの亜鉛、又は0.0001Eq/Lの亜鉛から飽和溶液の濃度まで、及び0.001Eq/Lから0.1Eq/Lの塩化物、又は0.001Eq/Lの塩化物から飽和溶液の濃度までを含むことができる。PV電池の上にスズドープ酸化インジウムの層を形成する場合、金属イオン源は、少なくとも1つの溶解インジウム塩及び少なくとも1つの溶解スズ塩を含むことができる。溶解インジウム塩は、例えば硝酸塩、塩化物又は硫酸塩から選択することができ、また、少なくとも1つの溶解スズ塩は、例えば硝酸塩、塩化物又は硫酸塩から選択することができる。有機電解質溶液は、10.16cm~20.32cm4インチ~8インチ平方のPV電池の上に、約50nmないし約130nmの厚さを有するスズドープ酸化インジウム膜を製造するために、約200/1と1:1の間の比率のグラム当量のインジウム及びスズを含むことができる。コントローラ82及び直流電流源30は互いに通信しており、作用電極22が陽極として作用する方向に電流を流す前に第1の予め定義された量の第1の電解質溶液74が容器12に入ることを保証し、また、作用電極22が陰極として作用する方向に電流を流す前に第2の予め定義された量の第2の電解質溶液80が容器12に入ることを保証し、且つ、使用に先立って、また、連続する使用と使用の間に容器12がフラッシング溶液64でフラッシングされ、したがって連続する使用毎に、先行する使用によって汚染されることなく、新しい予め定義された量の第1又は第2の電解質溶液74又は80のいずれかが容器12に入ることを保証している。もう一度図3を参照すると、使用済みの電解質溶液の容器のフラッシングを容易にするために、容器12の底部部分42は、底部部分の周囲のへりに沿って延在している、対電極16に隣接する排流通路100を有している。排流通路100は、排流開口102と連通している。排流通路100は、排流開口102に液体つまり、それぞれフラッシング溶液64若しくは第1又は第2の電解質溶液74又は80を導くために適切に傾斜が付けられている。図4を参照すると、容器12の下側に電磁弁104が取り付けられており、排流開口102及び排流コンジット106と連通している。電磁弁104は、コントローラ図1の82によって制御され、フラッシング溶液64若しくはすべての第1又は第2の電解質溶液74、80を容器12から排液し、或いはフラッシング溶液若しくは第1又は第2の電解質溶液74、80を容器12に入れるために必要に応じて選択的に開閉される。したがって電磁弁104は、第1又は第2の電解質溶液74、80を容器12に入れる場合、及び電解操作中は閉じた状態に維持され、また、電解操作が終了した後に使用済みの電解質溶液を容器12から排液するために、及び/又はフラッシングのためにフラッシング溶液64を容器12に入れるために開けられる。コントローラ82、排流通路100、排流開口102及び電磁弁104は、電気めっきサイクルが完了すると、共同して電解質溶液を容器12から指定されたコレクタへ排液する。個々の量のフラッシング溶液64、第1の電解質溶液74及び第2の電解質溶液を集めるために個別のコレクタを提供することができ、また、適切な弁システムを提供することができ、それにより排流開口102で受け取った液体を適切なコレクタに選択的に導くことができる。図1に戻ると、テーブル40は、容器12から上に向かって延在しているサポート110を含む。サポート110には、サポートの上を、サポートに対して、矢印114で示されている垂直方向にスライドするように動作させることができるスライド式カラー112が接続されている。ストップ116は、サポート110に確実に締め付けることができ、スライド式カラー112の垂直方向の移動を制限する役割を果たすことができる。スライド式カラー112は、作用電極ホルダ120に締め付けられているチャックマウント118に接続されている。このマウント118により、矢印114で示されているスライド式カラー162の移動方向に対して概ね直角の方向である矢印122の方向に作用電極ホルダ120を移動させることができる。マウント118は、作用電極ホルダ120を保持するためのクランプ124を有しており、このクランプ124は、マウント118に対する作用電極ホルダの垂直方向の調整を提供している。当然、ロボティクスを代替として使用して、作用電極ホルダ120を本明細書において説明されている位置に配置することも可能である。図5を参照すると、この実施例では、装置は、電解質溶液、作用電極22及び対電極16を/-摂氏約1度の精度で摂氏約15度と摂氏約90度の間の温度に維持するための準備を含む。これらの準備には、導電性の板130を含むための作用電極ホルダ120の形成を含み、導電性の板130は、この実施例では、約2cmの厚さを有するアルミニウムの金属板を含んでいるが、この板は、別法としては例えばステンレス鋼、銀若しくは白金又は他の金属或いは金属合金で構築することも可能であり、また、この板は、異なる厚さを有することも可能である。板130は、プラグ134によって密閉された複数の通路132を有するように形成されており、これらの通路132は、金属板130の頂部表面164の第1及び第2の配管コネクタ136及び138と連通している。図1に戻ると、ソース及び排流管140及び142は、それぞれ第1及び第2の配管コネクタ136及び138に接続されている。排流管142は液体加熱器144と連通しており、また、ポンプ146は、ポンプコンジット148を介して加熱器と連通している。ポンプ146を動作させると、ポンプは、ポンプコンジット148を介して加熱器91から熱流体を引き込み、引き込んだ熱流体をソース管140を介して第1の配管コネクタ136に引き渡し、次に、通路132を経て、第2の配管コネクタ138から排流管142へ流出させて液体加熱器144へ戻す。通路132並びに配管コネクタ86及び88のこの構造により、例えば水などの熱流体を第1の配管コネクタ86から通路132を介して第2の配管コネクタ88へポンプ供給することができ、それにより板80を通過させる熱流体の流れを提供し、延いては熱流体を保持している作用電極22を概ね一定の温度に維持することができる。熱流体は、例えば水であっても、或いは水とエチレングリコール不凍液の50/50混合物であってもよい。別法としては、板130を形成するために使用される金属と両立する他の熱流体を使用することも可能である。或いは別法として、板130を電気的に加熱することも可能である。もう一度図5を参照すると、作用電極ホルダ120は直立部材150を有しており、この直立部材150は、直立部材150を板130から電気的に隔離する電気絶縁マウント152によって板130に締め付けられている。図1を参照すると、直立部材150は、作用電極ホルダ120を直立部材150に取り付けるためのクランプ124によって保持されている。図6を参照すると、板130の下側の表面160が示されている。板は、図5に示されている板の頂部表面164と、図6に示されている板の下側の表面160の間を貫通して延在している穴162を有している。下側の表面160は、表面に切りかかれた例えばフライス盤などによって、穴162と連通し、且つ、下側の表面160の周囲のへりの周りに延在している周辺通路168と連通している真空供給通路166を有している。図5及び6を参照すると、穴162は真空ホースコネクタ170と連通しており、真空ホースコネクタ170は、図1を参照すると、テーブル40の上に取り付けられた真空ポンプ174に接続された真空ホース172に接続されている。図1及び6を参照すると、真空ポンプ174が起動されると、穴162に真空が印加され、とりわけ作用電極22が下側の表面160のすぐ近傍に位置している場合、通路166及び168にその真空が伝えられる。図5を参照すると、図に示されている実施例では、真空ホースコネクタ170は金属製であり、また、板130も金属製である。真空ホースコネクタ170は、真空ホースコネクタ170を板130に接続するためのねじ山を有しており、また、真空ホースコネクタ及び板の両方が金属製であるため、それらは互いに電気接触している。電気端子ラグ173のリング171は、真空ホースコネクタを板130の穴162にねじ込む前に、真空ホースコネクタ170のねじ山に受け取られる。図1及び5を参照すると、電気端子ラグ173に接続されている線175は、直流電流源30の第2の端子177に電気接続されている。金属製の板130及び金属製の真空ホースコネクタ170を使用することにより、線175を板130に容易に電気接続することができる。当然、線を板に接続するための任意の他の適切な方法を使用することができる。図6を参照すると、下側の表面160は、例えばシリコンゴムなどの軟らかいゴム材料で形成されたゴムシール182を保持している周囲の溝181を同じく有している。周囲の溝181によって囲まれた領域184には、作用電極ホルダ120によって保持される作用電極22と同じ形で、且つ、それより若干小さくなることが意図されている。図7に最も良好に示されているように、板130の下側の表面160からのゴムシールの突出が約0.1mmと約0.5mmの間以内になるよう、周囲の溝181は、約1mmと3mmの間の幅を有し、且つ、約0.1mmと約1mmの間の厚さを有するように形成され、また、ゴムシール182も、約1mmと3mmの間の幅を有し、且つ、約0.1mmと約1mmの間の厚さを有するようにサイズ化されている。周囲の溝及びゴムシール182によって囲まれた領域184を除く板130のすべての表面は、これらの表面を保護するために予め深く陽極処理されている。この陽極処理により、電気絶縁層が形成され、且つ、これらの表面が第1及び第2の電解質溶液74及び78に対して、また、フラッシング溶液64に対して化学的に不活性になる。別法としては、例えばテフロン登録商標などの不活性コーティング材でこれらの表面を予めコーティングすることも可能である。したがって以下で説明するように、板130は、作用電極22及び対電極16が第1又は第2の電解質溶液74又は80と接触して置かれ、且つ、それらを通って電流が流れると生じる電気化学反応に含まれない。領域184には事前陽極処理は施されず、板130への作用電極22の電気接続を容易にするために導電性を維持する。別法としては、アルミニウム板130の代わりに黄銅板を使用することも可能である。電解質に露出される黄銅板の表面は、第1及び第2の電解質溶液74、80、並びにフラッシング溶液64に対して化学的に不活性なテフロン登録商標又は他のコーティング材でコーティングすることができる。黄銅板を使用する場合、周囲の溝181で囲まれた領域184は、作用電極22との良好な電気接触を提供するために、例えば銀でめっきすることができる。黄銅板の使用は、装置の製造面からすると場合によっては最適である。操作図1及び7を参照すると、装置10を使用するために、酸化物の層がその上に形成される対象が板130の下側の表面160の近傍にもたらされ、次に真空ポンプ174が起動される。対象は、その形状が概ね平らな平面状であることが意図されており、この実施例では半導体ウェーハ又は光電池である。他の実施例では、他の導電性又は半導電性の平面状の対象を対象として同様に作用させることができる。本明細書において、その上に酸化物の層が形成される対象に関連して使用されている導電性という用語は、導電性材料及び半導電性材料を含むことを意味している。対象は背面表面180を有しており、その背面表面180とは反対側の対象の面に、その上に酸化物の層が形成されることになる平らな平面状の導電性表面24を担っている。穴162を介して通路168及び図6に示されている166に伝えられる真空によって背面表面180が引き込まれ、板130の下側の表面160と接触する。これらの通路166及び168に伝えられる真空によって背面表面180と板130の間に負圧が生成され、それにより背面表面180が雰囲気圧によって板130の下側の表面160に押し付けられて保持される。対象は、適切に寸法化されていなければならず、また、図7に示されているように、背面表面180の大部分がゴムシール182によって囲まれている領域184の内側になるよう、ゴムシール182が対象の外縁に緊密に隣接して背面表面180に接触するよう、真空ポンプ174を駆動する前に、下側の表面160に対して慎重に対象を位置決めしなければならない。雰囲気圧によって対象がゴムシール182に強く押し付けられ、事実上、ゴムシール182によって囲まれている背面表面180の領域184が密閉される。したがってゴムシール182は、装置が使用中である場合に、ゴムシールによって囲まれている背面表面180の領域184を電解質との接触から保護するように作用している。ゴムシール182は、ごくわずかしか下側の表面160から突出していないため、また、シールは、対象の周辺縁に緊密に隣接して延在しているため、対象は、穴162の近くに位置している対象の中央内部部分183がより高い真空に遭遇しても、比較的平らな平面状の状態で保持される。中央内部部分183は、撓み、且つ、引き込まれて、板130の下側の表面160と機械接触及び電気接触することになる。板130は、直流電流源の第2の端子177と電気接触しているため、対象が板130の下側の表面160と電気接触すると、真空ホースコネクタ170に接続されている線175を介して対象も同じく直流電流源30と電気接触する。対象が作用電極ホルダ120に固着され、且つ、作用電極ホルダ120と電気接触すると、対象は作用電極22になる。図1及び2を参照すると、作用電極22が所定の位置に位置すると、スライド式カラー112が、作用電極22の平らな導電性表面24及び対電極16の平らな導電性表面18が間隔を隔てて平行になり、それらの間に空間26が画定されるまで、サポート110をスライドして下に下がる。対電極16及び作用電極22は、対電極の平らな導電性表面18及び作用電極の平らな導電性表面24と同様、水平方向に配向されている。この実施例では、作用電極22は、作用電極の平らな導電性表面24が対電極16の平らな導電性表面18から距離190だけ離れるように配置されている。距離190は、例えば作用電極22の長さ192の約0.1と約20の間にすることができる。作用電極22が例えば半導体ウェーハ又は光電池である場合、作用電極22は、例えば一辺の長さが15cmの正長方形板の形を有することができ、したがって距離190は、例えば約0.15mmと約30mmの間になるように予め定義することができる。クランプ124及びスライド式カラー112は、作用電極22のサイズに合わせるために、作用電極22の平らな導電性表面24と対電極16の平らな導電性表面18の間の分離を約0.15mmないし約30mmの範囲内で調整することができるように設計されることが望ましい。クランプ124は、スライド式カラー112がストップ116の上に位置すると、作用電極22の平らな導電性表面24と対電極16の平らな導電性表面18の間に予め定義された距離190が提供されるように予め設定することができる。作用電極22が、図2に示されているように平行に間隔を隔てた近接した関係で配置されると、図1に示されているコントローラ82は、第1又は第2のポンプ76又は81を動作させて、平らな導電性表面18が電解質溶液中に浸され、且つ、実質的に作用電極22の平らな導電性表面24のみが電解質溶液と接触するよう、対電極16の平らな導電性表面18と作用電極22の平らな導電性表面24の間の空間26に、予め定義された量の第1又は第2の電解質溶液74又は80をディスペンスする。ゴムシール182は、有機電解質溶液が作用電極22の背面表面180に接触するのを防止するため、作用電極22全体が有機電解質溶液中に浸されるわけではない。さらに、図に示されている実施例では、対電極16の平らな導電性表面18及び作用電極22の平らな導電性表面24も、同じく極めて近接して間隔を隔てているため、電解質の毛管力によって作用電極の平らな導電性表面及び対電極の平らな導電性表面への電解質の粘着が生じる。したがってこの実施例では、電流が電解質を通って流れる際に生じる電解反応を容易にするために必要な電解質溶液の量は極めて少ない。別法としては、図8に示されているように、作用電極22の平らな導電性表面24と対電極16の平らな導電性表面18の間のより広い間隔を使用することも可能であるが、この実施例では、電解質溶液74又は80の毛管力は、作用電極の平らな導電性表面と対電極の平らな導電性表面の間の空間に電解質を維持しない。この実施例は、比較的より多くの電解質溶液74又は80を使用している。使用される電解質溶液74又は80の量を最少に維持するためには、場合によっては、周囲の直立した壁44の内側の表面194を作用電極22より極わずか大きくすることが望ましい。例えば周囲の直立した壁は、作用電極22の任意の縁198と、周囲の直立した壁44の隣接する部分の内側の表面194との間の距離196即ち間隔が、約8mmと約10mmの間になるように、或いは作用電極22の縁198と、周囲の直立した壁44の隣接する部分の内側の表面194との間の排流通路100の幅に適応する少なくとも十分な間隔になるように形成することができる。別法としては、必要な電解質の量を最少に維持するために、排流通路のための空間を作用電極22の縁198のすぐ隣に提供し、且つ、排流通路のすぐ上の空間を占有するよう、周囲の直立した壁44にアンダーカットを施すことも可能である。作用電極22が、図7又は8に示されているように容器12内に配置されると、最初に容器がフラッシング溶液64でフラッシングされ、あらゆる汚染物質が除去される。そのために、コントローラ82は、排流を容易にするために電磁弁104を駆動して電磁弁を開け、且つ、第1のポンプ66を駆動して、作用電極22と対電極16の間の空間26に、フラッシング溶液の連続する流れを開口48を介してポンプ供給する。フラッシングが終了すると、容器12は、いつでも一定の量の電解質溶液を受け取ることができる。容器12が受け取る特定の電解質溶液は、作用電極を構築している材料の酸化物を含んだ単純な酸化物層を導電性表面24に形成することが意図されているか、或いは金属酸化物層を導電性表面に形成することが意図されているかどうかに応じて選択される。作用電極がPV電池の半導体ウェーハであり、且つ、単純な酸化物層を形成する場合、作用電極を形成している材料の導電性表面24は、純粋な表面であっても、或いはその上に既に金属酸化物が形成されている表面であってもよい。作用電極が半導体ウェーハ又はPV電池であり、且つ、金属酸化物層を形成する場合、作用電極を形成している材料の導電性表面24は、純粋な表面であっても、或いはその上に既に単純な酸化物層が形成されている表面であってもよい。陽極としての作用電極の使用作用電極がPV電池の半導体ウェーハであり、且つ、作用電極22の純粋な導電性表面に単純な酸化物層を形成するか、或いはその純粋な導電性表面に既に形成されている金属酸化物層の下に単純な酸化物層を形成することが望ましい場合、コントローラ82は、第1の予め定義された量が容器12に入り、第1の予め定義された量の一部が空間26に存在して、対電極16の平らな導電性表面18と作用電極22の平らな導電性表面24の間に含まれてそれらと電気接触するよう、第2のポンプ76を駆動して、第2のポンプ76に、給送コンジット68から可撓性給送コンジット70を介して、また、対電極16に形成されている開口48を介して、第1の予め定義された量の第1の電解質溶液74をポンプ供給させる。対電極16と作用電極22の間の間隔が図2に示されているような間隔である場合、第1の予め定義された量は、この間隔が図8に示されているような間隔である場合より少なくなる。したがって第1の電解質溶液74は、第1の予め定義された量が少なくとも所望の厚さの酸化物層の成長を容易にする十分な溶解酸素を有するよう、選択された実施例と共に使用するのに適した溶解酸素前駆体の濃度を有するように構成しなければならない。作用電極22の背面表面180は、シール182によって第1の電解質溶液74への露出から保護されており、したがって事実上、作用電極の平らな導電性表面24のみが第1の電解質溶液74に露出されて電解反応に関係することになる。電解質に露出される板130の表面は、耐化学薬品材料で予め陽極処理されているか、或いは予めコーティングされているため、板の材料は電解反応には関係しない。作用電極22の平らな導電性表面24及び対電極16の平らな導電性表面18が第1の電解質溶液74と接触すると、コントローラ82は、作用電極に対して負-の電位である対電極16に対して、作用電極22が正の電位になるように電流源30を駆動する。これにより、作用電極22と対電極16の間の第1の予め定義された量の第1の電解質溶液74を通って電流が流れ、酸素前駆体の電気化学分解が提供される。例えば酸素前駆体が水である場合、水は、水素イオンH及び酸素イオンO2-に分解される。酸素イオンは、作用電極22の平らな導電性表面24へ移動して表面を酸化し、それにより表面に酸化物を形成する。それと同時に水素イオンが対電極16の平らな導電性表面18へ移動し、そこで還元されて水素ガスH2を形成する。平らな導電性表面24の半導体酸化物形成の深さは、作用電極と対電極の間の電位を高くし、且つ、時間を長くすることによって深くすることができ、また、それとは逆に作用電極と対電極の間の電位を低くし、且つ、時間を短くすることによって浅くすることができ、したがって自動制御回路31によって制御することができる。図に示されている実施例では、自動制御回路31は、酸化物が形成されて電流に対する抵抗の増加を示すと、酸化物の形成を維持するだけの少なくとも十分なレベルの電流を維持している。例えば自動制御回路31は、半導体酸化物層の形成によって示される抵抗が増加すると、作用電極22と対電極16の間の電位を高くして、所与のレベルの電流を維持することができる。或いは自動制御回路31は、酸化物層の形成に応じて電流を大きくし、或いは小さくすることができる。印加される電圧を知り、且つ、維持される電流を知ることにより、目標厚さの半導体酸化物層に関連する目標抵抗に到達するまで、酸化物層の形成によって示される抵抗の増加が自動コントローラ回路31によってモニタされ、自動制御回路31は、目標抵抗に到達した時点で電流源30を停止する。したがって事実上、自動制御回路31は、電流が基準に合致すると電流の流れを停止する。説明されている実施例では、基準は、例えば目標厚さの半導体酸化物層を示す目標値の抵抗を電流が示していることである。別法としては、基準は時間測値を含むことも可能であり、目標厚さの半導体酸化物層の展開を示す目標時間の間、定義されたレベルの電流が印加されるとこの基準に合致する。自動制御回路31は、一定のレベルの電流を維持し、それにより例えば第1の予め定義された量の電解質溶液74中における電流密度が約1mA/cm2と約100mA/cm2の間になるように構成することができる。作用電極22の上に半導体酸化物層を形成している間は、電流が流れている間、第1の予め定義された量の第1の電解質溶液74を攪拌することが望ましい。攪拌は、電解質溶液がよどんだり、或いは静止しないよう、第1の予め定義された量の電解質溶液74に流れを生じさせることによって提供することができる。これは、第1の予め定義された量の電解質溶液74の流れが、作用電極22の平らな導電性表面24と対電極16の平らな導電性表面18の間に画定される空間26を通過するよう、テーブル40の上に振動機を使用して、対電極16、延いては対電極16と接触している第1の予め定義された量の電解質溶液74に振動運動を伝達することによって実施することができる。別法としては、容器12は、作用電極22の平らな導電性表面24と対電極16の平らな導電性表面18の間に画定される空間26を介して第1の予め定義された量の電解質溶液74を循環させるために、循環ポンプ図示せずを使用して構成することも可能である。既に示したように、電解質溶液74、80、作用電極22及び対電極16は、摂氏約15度と摂氏約90度の間の一定の温度に維持されることが望ましく、これは、加熱器144中の熱流体をこの範囲内の温度に維持し、且つ、作用電極ホルダ120の板130を介して熱流体をポンプ供給するようにポンプ146を動作させることによって達成される。上記の条件の下では、半導体酸化物層は、作用電極22の平らな導電性表面24に形成される。半導体酸化物層が所望の厚さに到達すると、電流源30が停止され、コントローラ82は電磁弁104を駆動し、次に第1のポンプ66を駆動して、一定の量のフラッシング溶液64を穴162を介して容器12にディスペンスする。フラッシング溶液64の持続したディスペンスにより、使用済みの第1の予め定義された量の第1の電解質溶液74が容器12から集水装置へフラッシングされ、リサイクルされるか、或いは少なくとも解毒される。一定の期間のフラッシングが終了すると、作用電極ホルダ120によって作用電極22を容器12から持ち上げることができ、且つ、例えばアニーリングなどの更なる処理のために個別の材料処理装置図示せずに引き渡すことができる。別法としては、個別の材料処理装置は、単純に作用電極22を上下逆さまに回転させて、上で説明したプロセスをもう一度開始することも可能であり、その場合、半導体酸化物層が形成されたばかりの表面が、今度は、真空によって作用電極ホルダ120に固着される背面表面180になり、最初は背面表面180であった面にいつでも上で説明した電解反応サイクルを施すことができ、それにより、最初は作用電極の背面表面180であった面に半導体酸化物層が形成される。別法としては、上で説明したプロセスによって陽極処理されたばかりの平らな導電性表面の、形成されたばかりの半導体酸化物層の上に、以下で説明する金属酸化物層を形成することも可能であり、或いは背面表面に以下で説明する金属酸化物層を形成することも可能である。陰極反応作用電極22の純粋な導電性表面に金属酸化物層を形成するか、或いはその純粋な導電性表面に既に形成されている半導体酸化物層の上に金属酸化物層を形成することが望ましい場合、コントローラ82は、第2の予め定義された量の一部が空間26に存在し、対電極16の平らな導電性表面18と作用電極22の平らな導電性表面24の間に含まれてそれらと電気接触するよう、第2の予め定義された量が容器12に入るよう、第3のポンプ81を駆動して、第3のポンプ81に、給送コンジット68から可撓性給送コンジット70を介して、また、対電極16に形成されている開口48を介して、第2の予め定義された量の第2の電解質溶液80をポンプ供給させる。対電極16と作用電極22の間の間隔が図2に示されているような間隔である場合、第2の予め定義された量は、この間隔が図8に示されているような間隔である場合より少なくなる。したがって第2の電解質溶液80は、第2の予め定義された量が所望の厚さの金属酸化物層の成長を容易にする十分な溶解酸素前駆体を有するよう、選択された実施例と共に使用するのに適した溶解酸素前駆体の濃度を有するように構成しなければならない。さらに、第2の予め定義された量の電解質溶液80中の金属源の濃度は、金属源の実質的にすべての金属イオンが第2の予め定義された量の電解質溶液80から減損すると、作用電極130の平らな導電性表面24の表面に形成された金属酸化物の厚さが、容器12に入れられた上記の量の電解質溶液中の金属源の量に対応するように選択される。したがって適切な第2の電解質溶液を製造するためには、目標厚さを有する金属酸化物層を形成するために必要な溶解金属イオンのモル数を決定しなければならず、また、少なくともこの量の溶解金属イオンが第2の予め定義された量の第2の電解質溶液80中に存在することを保証しなければならない。作用電極22の背面表面180は、シール182によって第2の電解質溶液80への露出から保護されており、したがって事実上、作用電極の平らな導電性表面24のみが第2の電解質溶液80に露出されて電解反応に関係することになる。作用電極22の平らな導電性表面24及び対電極16の平らな導電性表面18が第2の電解質溶液80と接触すると、コントローラ82は、作用電極22に対して正の電位である対電極16に対して、作用電極22が負-の電位になるように電流源30を駆動する。これにより、作用電極22と対電極16の間の第2の予め定義された量の第2の電解質溶液80を通って電流が流れ、溶解酸素又は酸素前駆体を還元するための、或いは作用電極22の導電性表面24の近傍の溶液中に溶解している金属イオンとの相互反応のための電子源が提供される。これにより作用電極22の導電性表面24に金属酸化物が直接析出する。金属酸化物の成長速度は、第2の電解質溶液80中の電流密度を大きくするか、或いは小さくすることによって速くし、また、遅くすることができ、したがって自動制御回路31によって制御することができる。また、金属酸化物の成長速度は、第2の電解質溶液80の温度によって制御することも可能である。第2の電解質中の金属イオンの数が金属酸化物として平らな導電性表面24に析出すると、平らな導電性表面の金属酸化物層の厚さが増し、また、第2の電解質溶液は、金属イオンが減損した溶液になる。第2の電解質溶液から実質的に金属イオンが減損すると、金属酸化物層は特定の厚さを有することになる。実質的にすべての金属イオンが第2の電解質溶液から減損したことを保証するためには、電流によって十分な数のクーロンを提供しなければならない。クーロン計を使用して電解質を通過したクーロンの数を測定することができ、或いは電流の時間積分を計算してクーロンの数を得ることができる。製造運転を開始する前に、特定の電流、金属イオン濃度及び異なる温度、並びにp型結晶性半導体表面又はn型結晶性半導体表面などの異なる表面におけるクーロン又は時間に対する酸化物層の厚さをプロットした較正曲線を作成し、且つ、使用して、所望の厚さの金属酸化物層を製造する製造運転のための適切な金属イオン濃度、温度、電流及び時間のパラメータを決定することができる。図に示されている実施例では、自動制御回路31は、金属酸化物層が形成されると、金属酸化物の形成を維持するだけの少なくとも十分なレベルの電流を維持している。金属酸化物層が形成されると、電流に対する抵抗を示すことになる。自動制御回路31は、金属酸化物層の形成によって示される抵抗が増加すると、作用電極22と対電極16の間の電位を高くして、所与のレベルの電流を維持することができる。或いは自動制御回路31は、金属酸化物層の形成に応じて電流を大きくし、或いは小さくすることができる。自動制御回路31は、電流を大きくする場合であれ、小さくする場合であれ、或いは一定に維持する場合であれ、それらに無関係に、予め定義された数のクーロンが第2の電解質溶液80を通過すると電流の流れを停止し、この予め定義された数は、第2の電解質溶液中の実質的にすべての金属イオン源が第2の電解質溶液から減損し、作用電極22の平らな導電性表面で酸化し、所望の厚さの金属酸化物層を形成したことを保証する十分な数である。説明されている実施例では、電流の時間積分は、第2の電解質溶液80を通過した予め定義された数のクーロンの電子を表しており、この予め定義された数のクーロンは、金属酸化物層の目標厚さを表している。自動制御回路31は、第2の予め定義された量の第2の電解質溶液中における約0.1mA/cm2ないし約100mA/cm2程度の電流密度をもたらすように電流を制御することができる。最適電流密度は、特定の金属酸化物の好ましい堆積、及び金属の堆積と対立する潜在的な反応の除去に対応する範囲内に選択される。例えば酸化アルミニウムを堆積させるための適切な電流密度は、約1mA/cm2と約5mA/cm2の間の範囲にすることができる。図2に示されている実施例では、作用電極22の平らな導電性表面24と対電極16の平らな導電性表面18の間の分離距離190が短いため、約1mA/cm3ないし約1000mA/cm3の範囲、好ましくは約10mA/cm3ないし約100mA/cm3の範囲の高電流濃度が可能である。作用電極22の上に金属酸化物層を形成している間は、電流が流れている間、第2の予め定義された量の第2の電解質溶液80を攪拌しないことが望ましく、この第2の予め定義された量の第2の電解質溶液は、静止状態に維持することが望ましい。既に示したように、第2の予め定義された量の第2の電解質溶液80、作用電極22及び対電極16は、摂氏約15度と摂氏約90度の間の一定の温度に維持されることが望ましく、これは、加熱器144中の熱流体をこの範囲内の温度に維持し、且つ、作用電極ホルダ120の板130を介して熱流体をポンプ供給するようにポンプ146を動作させることによって達成される。平らな導電性表面24に形成される金属酸化物層の厚さは、十分な数のクーロンの電子が第2の電解質溶液80を通過することを条件として、第2の電解質溶液80中の溶解金属イオンの量によって制御される。したがって所望の厚さの金属酸化物層の形成に必要な溶解金属イオンのモル数を最初に決定しなければならず、次に、作用電極22の平らな導電性表面24及び対電極16の平らな導電性表面18が第2の電解質溶液と接触することを保証するためには十分な量が存在していなければならないことを知って、第2の予め定義された量の第2の電解質溶液中に必要な溶解金属イオンの濃度を決定することができる。それにより、金属酸化物層の厚さの極めて正確な制御が提供され、また、第2の電解質溶液80中のすべての金属イオンのほぼ100の利用が提供される。十分な数のクーロンが第2の電解質溶液80を通過し、第2の予め定義された量の電解質溶液80中の金属源の実質的にすべての金属イオンが第2の電解質溶液から減損し、且つ、作用電極22の平らな導電性表面24に所望の厚さの金属酸化膜が形成されると、金属酸化物層が電流に対する抵抗を示し、この抵抗が自動制御回路31によって検出される。自動制御回路31は、それに応答して電流源30を停止する。電流源30が停止されると、コントローラ82は電磁弁104を駆動し、次に第1のポンプ66を駆動して、一定の量のフラッシング溶液を開口48を介して容器12にディスペンスする。フラッシング溶液の持続したディスペンスにより、使用済みの第2の予め定義された量の第2の電解質溶液が容器12から集水装置へフラッシングされ、リサイクルされるか、或いは少なくとも解毒される。次に、真空ポンプ108をスイッチオフすることによって真空を解放し、且つ、例えばアニーリングなどの更なる処理ステージのために、現在は表面に金属酸化物がめっきされている作用電極22を材料処理装置図示せずの上に降ろすことができる。作用電極22が更なる処理のために除去され、且つ、減損した電解質が容器12から排流されると、装置10は、次に、金属酸化物が形成される平らな導電性表面を担っている他の作用電極をいつでも受け取ることができ、或いは作用電極22を裏返しにして、今度は、金属酸化物層が形成されたばかりの表面を作用電極ホルダ120に取り付け、また、背面表面180を露出させて、上記プロセスに従って金属酸化物層を形成することができる。上で説明したプロセスを使用して、純粋な半導体表面に半導体酸化物層を形成し、また、その半導体酸化物層の上に金属酸化物層を形成することができる。この場合、金属酸化物層の形成は、半導体酸化物層がまだ濡れている間、つまり半導体酸化物層が形成された直後で、且つ、何らかのアニーリングの前に実施しなければならない。同様に、上記プロセスを使用して、純粋な半導体表面に直接金属酸化物層を形成し、また、その金属酸化物層が形成された後に半導体酸化物層を形成することも可能である。この場合、半導体酸化物層の形成は、金属酸化物層がまだ濡れている間に実施しなければならない。半導体酸化物層は、平らな導電性表面に侵入し、且つ、成長して、その表面が半導体酸化物層として形成されることが分かっている。これは、半導体酸化物層が半導体材料の純粋な表面に形成されるか、或いは金属酸化物層が上で説明したプロセスによって純粋な表面に既に形成された後に形成されるかどうかに応じて生じる。また、所望の半導体酸化物層及び金属酸化物層は、何らかのアニーリングの前に、前面表面及び/又は背面表面に形成することが望ましい。アニーリングは、上記プロセスによって得られる半導体酸化物又は金属酸化物を必要な結晶構造にするために結局は必要である。アニーリングは、化学薬品の組成及び半導体酸化物の厚さ又はめっきされた金属酸化物の厚さに応じて、摂氏約300度ないし摂氏約700度の範囲の温度で、大気中で、或いは特殊なガス雰囲気中で実施することができる。この目的のための特殊なガス雰囲気は、例えば窒素又は不活性ガスと平衡した約3ないし約10の水素からなるガスを含むことができる。アニーリングプロセスには、場合によっては例えば約15分ないし約2時間が必要である。上記装置は、光電池などの半導体デバイスの上に金属酸化物を形成するのにとりわけ適している。この場合、作用電極22の平らな導電性表面24は、n型半導体基板又はp型半導体基板の表面であり、また、装置10は、n型半導体基板又はp型半導体基板の表面に単純な酸化膜又は金属酸化膜を形成する。このような膜を使用して半導体基板表面の光学品質を不動態化し、且つ、改善することができる。ある実験では、上で説明したプロセスを使用して、酸化アルミニウム膜がp型Si結晶性ウェーハの上にめっきされた。第2の電解質は、イソプロパノール中のAlCl3の飽和溶液であった。電解質は摂氏約30度の温度に保持され、また、電流密度は、2分間で約0.25mA/cm2であった。X線回折解析図示せずによれば、典型的なピークが2θ1=32.903度より強い及び2θ2=32.092それほど強くないの、k-Al2O3の形態の遷移酸化アルミニウムが見出された。作用電極22の表面積は100cm2であった。作用電極22の平らな導電性表面24と対電極16の平らな導電性表面18の間の距離190は1mmであった。アルミニウムイオンの濃度は0.005Eq/Lグラム当量/リットルであった。作用電極22がp型半導体基板であり、また、直流電流源は、作用電極が陰極として作用するように電流を流し、したがって平らな導電性表面24に金属酸化物がめっきされるか、或いは作用電極22がn型半導体基板であり、また、直流電流源は、作用電極が陽極として機能するように電流を流し、したがって平らな導電性表面に半導体酸化物層が形成される図9を参照すると、電気が流れている間、作用電極22の平らな導電性表面24を照明する、つまり光を当てることによって酸化物形成プロセスを強化することができる。そのために、作用電極22の平らな導電性表面24と対電極16の平らな導電性表面18の間の距離190を例えば約3cmに設定することができ、また、平らな導電性表面24及び平らな導電性表面18が依然として電解質溶液と接触することを保証するために、第1又は第2の電解質溶液74、80の量が増加されている。これを達成するために、容器12の直立した周囲の壁44の高さが高くされ、また、例えばポリスチレンのガラスで形成された光透明窓220を備えており、したがって外部の光源図示せずによって生成された光222は、この窓220を通過し、電解質溶液74、80を通って作用電極22の平らな導電性表面24に当たる。図10を参照すると、他の実施例では、230で示されているような開口を対電極16中に提供し、且つ、容器12の底部部分42を例えばポリスチレンのガラスなどの透明な材料で形成することによって距離190を短くすることができる。光源232は、光が容器の底部部分42を通過し、且つ、対電極16の開口230及び上記の量の電解質溶液を通って作用電極22の平らな導電性表面24に到達することができるよう、容器12の真下に置くことができる。上記装置及び方法によれば、作用電極22の平らな導電性表面24と対電極16の平らな導電性表面18の間の距離、電解質溶液の量及び溶解金属塩の量、並びに電解質溶液中の他の化学成分の量に対する正確な制御が提供される。したがって対象の表面に形成される半導体酸化物又は金属酸化物の厚さを正確に制御することができ、これは、対象が例えばPV電池のための半導体基板である場合にとりわけ有利である。さらに、作用電極22の平らな導電性表面24と対電極16の平らな導電性表面18の間の距離が比較的短いため、電解質溶液が示す抵抗が比較的小さく、そのために低い電圧を使用することができ、その一方で高い電流密度を達成することができ、したがって電解質溶液中における熱の発生が極めて小さく、そのために電解質中における対流運動が極めて小さく、これは、光電池のために使用される結晶性シリコンウェーハなどの半導体の表面に金属酸化物を形成する場合にとりわけ有利である。さらに、上記装置及び方法によれば、作用電極ホルダ上のゴムシールの密閉効果により、作用電極の背面の個別の電気絶縁の使用が回避され、また、上記方法及び装置によれば、所与のめっき操作に使用される上記の量の第2の電解質中の金属イオンのほぼ100の利用が提供される。最後に、上記装置及び方法によれば、同じ装置を選択的に使用して、電解質を変え、且つ、電流の方向を変えるだけで、半導体ウェーハ又はPV電池の同じ導電性表面に半導体酸化物及び金属酸化物を形成することができる。以上、本発明の特定の実施例について説明し、且つ、図に示したが、このような実施例は、単に本発明を説明するためのものと見なすべきであり、特許請求の範囲に従って解釈される本発明を制限するものと見なしてはならない。