"[A]エポキシ基を有する構造単位を含む重合体、[B]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤、並びに[D]シアネート基を有する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。[A]重合体が、カルボキシル基を有する構造単位をさらに含む請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物。[D]化合物が、下記式1及び式2で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物である請求項1又は請求項2に記載の感放射線性樹脂組成物。式1中、R1は、フッ素原子で置換されていてもよい2価の連結基である。R2及びR3は、それぞれ独立して炭素数1~4のアルキル基である。a及びbは、それぞれ独立して0~4の整数である。但し、R2及びR3が複数の場合、複数のR2及びR3はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。式2中、R4、R5及びR6は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数1~4のアルキル基である。cは、1~20の整数である。但し、R5が複数の場合、複数のR5は、同一であっても異なっていてもよい。[E]アミン化合物をさらに含有する請求項1、請求項2又は請求項3に記載の感放射線性樹脂組成物。[E]アミン化合物が、1級アミノ基及び2級アミノ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含有する化合物と、エポキシ化合物とを反応させて得られる化合物である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物。層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜の形成に用いられる請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の感放射線性樹脂組成物。1請求項6に記載の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び4上記現像された塗膜を焼成する工程を有する硬化膜の形成方法。上記工程4の焼成温度が200°C以下である請求項7に記載の硬化膜の形成方法。請求項6に記載の感放射線性樹脂組成物から形成される層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜。本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は保存安定性と短時間での低温焼成による硬化を両立し、かつ十分な感度を有する感放射線性樹脂組成物、並びに耐熱性、透過率及び電圧保持率に優れる硬化膜を提供することである。上記課題を解決するためになされた発明は、[A]エポキシ基を有する構造単位を含む重合体以下、[A]重合体とも称する、[B]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物以下、[B]重合性化合物とも称する、[C]感放射線性重合開始剤、並びに[D]シアネート基を有する化合物以下、[D]化合物とも称するを含有する感放射線性樹脂組成物である。感放射線性材料である当該感放射線性樹脂組成物は、感放射線性を利用した露光現像によって容易に微細かつ精巧なパターンを形成でき、かつ充分な感度を有する。また、当該感放射線性樹脂組成物は、[C]感放射線性重合開始剤を含有することで、低露光量の場合であっても耐熱性等をより向上できる。さらに、[D]化合物を含有することで、当該感放射線性樹脂組成物の保存安定性と低温焼成における硬化促進とを高いレベルで両立できる。通常シアネート基を有する化合物はエポキシ化合物と共存させ、感放射線性樹脂組成物を室温付近で保存しても、シアネートのエポキシ基への求核攻撃は進行せず、安定して存在し製品としての品質を損なう不都合がない。一方、[D]化合物とエポキシ化合物とを含む感放射線性樹脂組成物を塗布し、加熱することではじめて架橋反応が進行し硬化膜を形成することができる。[A]重合体は、カルボキシル基を有する構造単位をさらに含むことが好ましい。[A]重合体が、カルボキシル基を有する構造単位をさらに含むことで、[A]重合体を含有する当該感放射線性樹脂組成物から形成される硬化膜の耐熱性等をより向上させることができる。[D]化合物は、下記式1及び式2で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物であることが好ましい。[D]化合物を上記特定化合物とすることで、保存安定性と低温焼成における硬化促進とをより高いレベルで両立できる。式1中、R1は、フッ素原子で置換されていてもよい2価の連結基である。R2及びR3は、それぞれ独立して炭素数1~4のアルキル基である。a及びbは、それぞれ独立して0~4の整数である。但し、R2及びR3が複数の場合、複数のR2及びR3はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。式2中、R4、R5及びR6は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数1~4のアルキル基である。cは、1~20の整数である。但し、R5が複数の場合、複数のR5は、同一であっても異なっていてもよい。当該感放射線性樹脂組成物は、[E]アミン化合物をさらに含有することが好ましい。当該感放射線性樹脂組成物が、[E]アミン化合物をさらに含有することで硬化触媒として機能し、当該感放射線性樹脂組成物の硬化をより促進することができる。[E]アミン化合物は、1級アミノ基及び2級アミノ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含有する化合物と、エポキシ化合物とを反応させて得られる化合物であることが好ましい。[E]アミン化合物を上記特定化合物とすることで、保存安定性を損なわずに硬化触媒として機能し、低温焼成であっても硬化を促進することができる。当該感放射線性樹脂組成物は、層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜を形成するのに好適である。本発明の硬化膜の形成方法は、1当該感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び4上記現像された塗膜を焼成する工程を有する。当該感放射線性樹脂組成物を用いた本発明の形成方法によると、耐熱性、透過率及び電圧保持率に優れる硬化膜を形成することができる。上記工程4の焼成温度としては200°C以下が好ましい。当該感放射線性樹脂組成物は、200°C以下の温度であっても低温焼成による硬化が可能である。従って、当該感放射線性樹脂組成物は、低温焼成が望まれるフレキシブルディスプレイ等に用いられる硬化膜の形成材料として好適である。当該感放射線性樹脂組成物から形成される層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜も本発明に好適に含まれる。なお、本明細書にいう焼成とは、層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜に要求される表面硬度が得られるまで加熱することを意味する。また、感放射線性樹脂組成物の放射線とは、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線、荷電粒子線等を含む概念である。以上説明したように、本発明の感放射線性樹脂組成物は、容易に微細かつ精巧なパターンを形成でき、保存安定性及び短時間での低温焼成による硬化を両立し、かつ十分な感度を有する感放射線性樹脂組成物、並びに耐熱性、透過率及び電圧保持率に優れる硬化膜を提供することができる。従って、当該感放射線性樹脂組成物は、低温焼成が望まれるフレキシブルディスプレイ等に用いられる層間絶縁膜、保護膜、スペーサー等の硬化膜の形成材料として好適である。<感放射線性樹脂組成物>本発明の感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体、[B]重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤及び[D]化合物を含有する。また、当該感放射線性樹脂組成物は、その他の任意成分を含有してもよい。以下、各成分を詳述する。<[A]重合体>[A]重合体は、エポキシ基を有する構造単位を含む重合体である。エポキシ基を有する重合体としては、特に限定されないが[A]重合体を含有する当該感放射線性樹脂組成物から形成される硬化膜の耐熱性等を向上させる観点から芳香族樹脂が好ましい。芳香族樹脂としては、例えばビスフェノールAジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビスフェノールFジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。これらのうち、フェノールノボラックエポキシ樹脂及びクレゾールノボラックエポキシ樹脂が好ましい。[A]重合体は、カルボキシル基を有する構造単位をさらに含むことが好ましい。[A]重合体が、カルボキシル基を有する構造単位をさらに含むことで、[A]重合体を含有する当該感放射線性樹脂組成物から形成される硬化膜の耐熱性等をより向上させることができる。このより好ましい[A]重合体の合成方法としては、溶媒中で重合開始剤の存在下、A1カルボキシル基を有する構造単位を与える化合物以下、A1化合物とも称すると、A2エポキシ基を有する構造単位を与える化合物以下、A2化合物とも称するとを含む単量体をラジカル共重合することによって製造できる。また、[A]重合体の製造においては、A1化合物及びA2化合物と共に、A3化合物として、上記A1化合物及びA2化合物以外の不飽和化合物をラジカル共重合することもできる。[A1化合物]A1化合物としては、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸の無水物、多価カルボン酸のモノメタアクリロイルオキシアルキルエステル、両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノメタアクリレート、カルボキシル基を有する不飽和多環式化合物及びその無水物等が挙げられる。不飽和モノカルボン酸としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等;不飽和ジカルボン酸としては、例えばマレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等;不飽和ジカルボン酸の無水物としては、例えば上記ジカルボン酸として例示した化合物の無水物等;多価カルボン酸のモノメタアクリロイルオキシアルキルエステルとしては、例えばコハク酸モノ2-メタアクリロイルオキシエチル、フタル酸モノ2-メタアクリロイルオキシエチル等;両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノメタアクリレートとしては、例えばω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレート等;カルボキシル基を有する不飽和多環式化合物及びその無水物としては、例えば5-カルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-6-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-カルボキシ-6-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン無水物等が挙げられる。これらのうち、モノカルボン酸、ジカルボン酸の無水物が好ましく、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸が、共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性及び入手の容易性からより好ましい。これらのA1化合物は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。A1化合物の使用割合としては、A1化合物並びにA2化合物及び必要に応じて任意のA3化合物の合計に基づいて、5質量~30質量が好ましく、10質量~25質量がより好ましい。A1化合物の使用割合を上記範囲とすることで、[A]重合体の溶解性を最適化すると共に、感度に優れる感放射線性樹脂組成物が得られる。[A2化合物]A2化合物としては、エポキシ基含有不飽和化合物である。エポキシ基としては、オキシラニル基1,2-エポキシ構造、オキセタニル基1,3-エポキシ構造が挙げられる。オキシラニル基を有する不飽和化合物としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2-メチルグリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸3,4-エポキシブチル、メタクリル酸3,4-エポキシブチル、アクリル酸6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロへキシルメチル等が挙げられる。これらのうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2-メチルグリシジル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシルが、共重合反応性及び硬化膜の耐熱性等の向上の観点から好ましい。オキセタニル基を有する不飽和化合物としては、例えば3-アクリロイルオキシメチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-メチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2-フェニルオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-アクリロイルオキシメチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2-フェニルオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-2-アクリロイルオキシエチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン等のアクリル酸エステル;3-メタクリロイルオキシメチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-メチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-3-エチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2-フェニルオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-メタクリロイルオキシメチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-エチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-3-エチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-ペンタフルオロエチルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2-フェニルオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2,2-ジフルオロオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2,2,4-トリフルオロオキセタン、3-2-メタクリロイルオキシエチル-2,2,4,4-テトラフルオロオキセタン等のメタクリル酸エステル等が挙げられる。これらのA2化合物は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。A2化合物の使用割合としてはA1化合物並びにA2化合物及び必要に応じて任意のA3化合物の合計に基づいて、5質量~40質量が好ましく、10質量~30質量がより好ましい。A2化合物の使用割合を上記範囲とすることで、優れた耐熱等を有する硬化膜を形成できる。[A3化合物]A3化合物は、上記のA1化合物及びA2化合物以外であって、不飽和化合物であれば特に制限されるものではない。A3化合物としては、例えばメタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、アクリル酸鎖状アルキルエステル、アクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物、マレイミド化合物、不飽和芳香族化合物、共役ジエン、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格を含む不飽和化合物等が挙げられる。メタクリル酸鎖状アルキルエステルとしては、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸sec-ブチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸イソデシル、メタクリル酸n-ラウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸n-ステアリル等が挙げられる。メタクリル酸環状アルキルエステルとしては、例えばメタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2-メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチル、メタクリル酸イソボロニル等が挙げられる。アクリル酸鎖状アルキルエステルとしては、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸sec-ブチル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸イソデシル、アクリル酸n-ラウリル、アクリル酸トリデシル、アクリル酸n-ステアリル等が挙げられる。アクリル酸環状アルキルエステルとしては、例えばシクロヘキシルアクリレート、2-メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート等が挙げられる。メタクリル酸アリールエステルとしては、例えばメタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等が挙げられる。アクリル酸アリールエステルとしては、例えばフェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等が挙げられる。不飽和ジカルボン酸ジエステルとしては、例えばマレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等が挙げられる。ビシクロ不飽和化合物としては、例えばビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジエトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-t-ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-フェノキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジt-ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジシクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-2’-ヒドロキシエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5,6-ジ2’-ヒドロキシエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシ-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシ-5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-ヒドロキシメチル-5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン等が挙げられる。マレイミド化合物としては、例えばN-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-4-ヒドロキシフェニルマレイミド、N-4-ヒドロキシベンジルマレイミド、N-スクシンイミジル-3-マレイミドベンゾエート、N-スクシンイミジル-4-マレイミドブチレート、N-スクシンイミジル-6-マレイミドカプロエート、N-スクシンイミジル-3-マレイミドプロピオネート、N-9-アクリジニルマレイミド等が挙げられる。不飽和芳香族化合物としては、例えばスチレン、α-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、ビニルトルエン、p-メトキシスチレン等が挙げられる。共役ジエンとしては、例えば1,3-ブタジエン、イソプレン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン等が挙げられる。テトラヒドロフラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えばテトラヒドロフルフリルメタアクリレート、2-メタクリロイルオキシ-プロピオン酸テトラヒドロフルフリルエステル、3-メタアクリロイルオキシテトラヒドロフラン-2-オン等が挙げられる。フラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えば2-メチル-5-3-フリル-1-ペンテン-3-オン、フルフリルメタアクリレート、1-フラン-2-ブチル-3-エン-2-オン、1-フラン-2-ブチル-3-メトキシ-3-エン-2-オン、6-2-フリル-2-メチル-1-ヘキセン-3-オン、6-フラン-2-イル-ヘキシ-1-エン-3-オン、アクリル酸-2-フラン-2-イル-1-メチル-エチルエステル、6-2-フリル-6-メチル-1-ヘプテン-3-オン等が挙げられる。テトラヒドロピラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えばテトラヒドロピラン-2-イルメチルメタクリレート、2,6-ジメチル-8-テトラヒドロピラン-2-イルオキシ-オクト-1-エン-3-オン、2-メタクリル酸テトラヒドロピラン-2-イルエステル、1-テトラヒドロピラン-2-オキシ-ブチル-3-エン-2-オン等が挙げられる。ピラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えば4-1,4-ジオキサ-5-オキソ-6-ヘプテニル-6-メチル-2-ピラン、4-1,5-ジオキサ-6-オキソ-7-オクテニル-6-メチル-2-ピラン等が挙げられる。その他の不飽和化合物としては、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル等が挙げられる。これらのA3化合物のうち、メタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、マレイミド化合物、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、不飽和芳香族化合物、アクリル酸環状アルキルエステルが好ましい。これらのうち、スチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸n-ラウリル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル、p-メトキシスチレン、2-メチルシクロヘキシルアクリレート、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、ポリエチレングリコールn=2~10モノメタアクリレート、3-メタアクリロイルオキシテトラヒドロフラン-2-オンが、共重合反応性及びアルカリ水溶液に対する溶解性の点からより好ましい。これらのA3化合物は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。A3化合物の使用割合としては、A1化合物、A2化合物及びA3化合物の合計に基づいて、10質量~80質量が好ましく、20質量~70質量がより好ましい。A3化合物の使用割合を上記範囲とすることで、耐熱性等に優れる硬化膜を形成できる。[A]重合体の重量平均分子量Mwとしては、2×103~1×105が好ましく、5×103~5×104がより好ましい。[A]重合体のMwを2×103~1×105とすることで、当該感放射線性樹脂組成物の感度及び現像性を高めることができる。なお、本明細書における重合体のMw及び数平均分子量Mnは下記の条件によるゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCにより測定した。装置:GPC-101昭和電工製カラム:GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803及びGPC-KF-804を結合移動相:テトラヒドロフランカラム温度:40°C流速:1.0mL/分試料濃度:1.0質量試料注入量:100μL検出器:示差屈折計標準物質:単分散ポリスチレン[A]重合体を製造するための重合反応に用いられる溶媒としては、例えばアルコール、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、ケトン類、エステル等が挙げられる。アルコールとしては、例えばベンジルアルコール等;グリコールエーテルとしては、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等;エチレングリコールアルキルエーテルアセテートとしては、例えばエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等;ジエチレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等;ジエチレングリコールジアルキルエーテルとしては、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等;ジプロピレングリコールジアルキルエーテルとしては、例えばジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルメチルエーテル等;プロピレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えばプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル等;プロピレングリコールアルキルエーテルアセテートとしては、例えばプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等;プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとしては、例えばプロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート等;ケトンとしては、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、メチルイソアミルケトン等;エステルとしては、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-エトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸ブチル、2-ブトキシプロピオン酸メチル、2-ブトキシプロピオン酸エチル、2-ブトキシプロピオン酸プロピル、2-ブトキシプロピオン酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸プロピル、3-エトキシプロピオン酸ブチル、3-プロポキシプロピオン酸メチル等が挙げられる。これらの溶媒のうち、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテートが好ましく、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがより好ましい。[A]重合体を製造するための重合反応に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できる。ラジカル重合開始剤としては、例えば2,2’-アゾビスイソブチロニトリルAIBN、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、t-ブチルペルオキシピバレート、1,1’-ビス-t-ブチルペルオキシシクロヘキサン等の有機過酸化物及び過酸化水素が挙げられる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよい。[A]重合体を製造するための重合反応においては、分子量を調整するために、分子量調整剤を使用できる。分子量調整剤としては、例えばクロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類;n-ヘキシルメルカプタン、n-オクチルメルカプタン、n-ドデシルメルカプタン、t-ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類;ジメチルキサントゲンスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類;ターピノーレン、α-メチルスチレンダイマー等が挙げられる。<[B]重合性化合物>当該感放射線性樹脂組成物に含有される[B]重合性化合物としては、例えばω-カルボキシポリカプロラクトンモノメタアクリレート、エチレングリコールメタアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジメタアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジメタアクリレート、2-ヒドロキシ-3-メタアクリロイロキシプロピルメタクリレート、2-2’-ビニロキシエトキシエチルメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、トリ2-メタアクリロイロキシエチルフォスフェート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート等のほか、直鎖アルキレン基及び脂環式構造を有し、かつ2個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に1個以上の水酸基を有し、かつ3個~5個のメタアクリロイロキシ基を有する化合物とを反応させて得られるウレタンメタアクリレート化合物等が挙げられる。上記[B]重合性化合物の市販品としては、例えばアロニックスM-400、同M-402、同M-405、同M-450、同M-1310、同M-1600、同M-1960、同M-7100、同M-8030、同M-8060、同M-8100、同M-8530、同M-8560、同M-9050、アロニックスTO-1450、同TO-1382以上、東亞合成製;KAYARADDPHA、同DPCA-20、同DPCA-30、同DPCA-60、同DPCA-120、同MAX-3510以上、日本化薬製;ビスコート295、同300、同360、同GPT、同3PA、同400以上、大阪有機化学工業製;ウレタンアクリレート系化合物として、ニューフロンティアR-1150第一工業製薬製;KAYARADDPHA-40H、UX-5000以上、日本化薬製;UN-9000H根上工業製;アロニックスM-5300、同M-5600、同M-5700、M-210、同M-220、同M-240、同M-270、同M-6200、同M-305、同M-309、同M-310、同M-315以上、東亞合成製;KAYARADHDDA、KAYARADHX-220、同HX-620、同R-526、同R-167、同R-604、同R-684、同R-551、同R-712、UX-2201、UX-2301、UX-3204、UX-3301、UX-4101、UX-6101、UX-7101、UX-8101、UX-0937、MU-2100、MU-4001以上、日本化薬製;アートレジンUN-9000PEP、同UN-9200A、同UN-7600、同UN-333、同UN-1003、同UN-1255、同UN-6060PTM、同UN-6060P以上、根上工業製;SH-500Bビスコート260、同312、同335HP以上、大阪有機化学工業製等が挙げられる。[B]重合性化合物は、単独で又は2種以上を混合して使用できる。当該感放射線性樹脂組成物における[B]重合性化合物の含有割合としては、[A]重合体100質量部に対して、20質量部~200質量部が好ましく、40質量部~160質量部がより好ましい。[B]重合性化合物の含有割合を上記範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物は密着性に優れ低露光量においても十分な硬度を有した硬化膜が得られる。<[C]感放射線性重合開始剤>当該感放射線性樹脂組成物に含有される[C]感放射線性重合開始剤は、放射線に感応して[B]重合性不飽和化合物の重合を開始しうる活性種を生じる成分である。このような[C]感放射線性重合開始剤としては、O-アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物等が挙げられる。O-アシルオキシム化合物としては、例えばエタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、1-9-エチル-6-ベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-オクタン-1-オンオキシム-O-アセテート、1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-エタン-1-オンオキシム-O-ベンゾエート、1-9-n-ブチル-6-2-エチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-エタン-1-オンオキシム-O-ベンゾエート、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロフラニルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロピラニルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチル-5-テトラヒドロフラニルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-{2-メチル-4-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニルメトキシベンゾイル}-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム等が挙げられる。これらのうち、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチル-4-テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシム又はエタノン-1-9-エチル-6-{2-メチル-4-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニルメトキシベンゾイル}-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシムが好ましい。これらO-アシルオキシム化合物は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。アセトフェノン化合物としては、例えばα-アミノケトン化合物、α-ヒドロキシケトン化合物が挙げられる。α-アミノケトン化合物としては、例えば2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オン、2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン等が挙げられる。α-ヒドロキシケトン化合物としては、例えば1-フェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-4-i-プロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、4-2-ヒドロキシエトキシフェニル-2-ヒドロキシ-2-プロピルケトン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられるこれらのアセトフェノン化合物のうちα-アミノケトン化合物が好ましく、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オン又は2-ジメチルアミノ-2-4-メチルベンジル-1-4-モルフォリン-4-イル-フェニル-ブタン-1-オンがより好ましい。ビイミダゾール化合物としては、例えば2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラキス4-エトキシカルボニルフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4,6-トリクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール等が挙げられる。これらのうち、2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール又は2,2’-ビス2,4,6-トリクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾールが好ましく、2,2’-ビス2,4-ジクロロフェニル-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾールがより好ましい。[C]感放射線性重合開始剤としては、市販品を使用してもよく、例えば2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オンイルガキュア907、2-4-メチルベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オンイルガキュア379、エタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシムイルガキュアOXE02、1,2-オクタンジオン-1-4-フェニルチオ-2-O-ベンゾイルオキシムイルガキュアOXE01以上、チバスペシャルティーケミカルズ製等が挙げられる。[C]感放射線性重合開始剤は、単独で又は2種以上を混合して使用できる。当該感放射線性樹脂組成物における[C]感放射線性重合開始剤の含有割合としては、[A]重合体100質量部に対して、1質量部~40質量部が好ましく、5質量部~30質量部がより好ましい。[C]感放射線性重合開始剤の含有割合を上記特定範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物は、低露光量の場合でも高い硬度及び密着性を有する硬化膜が形成できる。<[D]化合物>当該感放射線性樹脂組成物が、[D]化合物を含有することで当該感放射線性樹脂組成物の保存安定性と低温焼成における硬化促進とを高いレベルで両立できる。通常シアネート基を有する化合物はエポキシ化合物と共存させ、感放射線性樹脂組成物を室温付近で保存しても、シアネートのエポキシ基への求核攻撃は進行せず、安定して存在し、製品としての品質を損なう不都合がない。一方、[D]化合物とエポキシ化合物とを含む感放射線性樹脂組成物を塗布し、加熱することではじめて架橋反応が進行し硬化膜を形成することができる。[D]化合物としては、特に限定されないが、上記式1及び式2で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物であることが好ましい。[D]化合物を上記特定化合物とすることで、保存安定性と低温焼成における硬化促進とをより高いレベルで両立できる。上記式1中、R1は、フッ素原子で置換されていてもよい2価の連結基である。R2及びR3は、それぞれ独立して炭素数1~4のアルキル基である。a及びbは、それぞれ独立して0~4の整数である。但し、R2及びR3が複数の場合、複数のR2及びR3はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。上記R1が示す2価の連結基としては、例えば炭素数1~30の2価の鎖状若しくは分岐状の炭化水素基、炭素数3~30の2価の脂肪族環状炭化水素基、炭素数6~30の2価の芳香族炭化水素基、エーテル基、エステル基、カルボニル基、イミノ基、アミド基、又はこれらの基を2種以上組み合わせた縮合環を含む2価の基が挙げられる。上記炭素数1~30の2価の鎖状炭化水素基としては、例えばメタンジイル基、エタンジイル基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、オクタンジイル基、デカンジイル基、ウンデカンジイル基、ヘキサデカンジイル基、イコサンジイル基等のアルカンジイル基;エテンジイル基、プロペンジイル基、ブテンジイル基、ペンテンジイル基、ヘキセンジイル基、オクテンジイル基、デセンジイル基、ウンデセンジイル基、ヘキサデセンジイル基、イコセンジイル基等のアルケンジイル基;エチンジイル基、プロピンジイル基、ブチンジイル基、オクチンジイル基、ブタジエンジイル基、ヘキサジエンジイル基、オクタトリエンジイル基等のアルキンジイル基等が挙げられる。上記炭素数3~30の2価の脂肪族環状炭化水素基としては、例えばシクロプロパンジイル基、シクロブタンジイル基、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、シクロヘプタンジイル基、シクロオクタンジイル基、シクロデカンジイル基、メチルシクロヘキサンジイル基、エチルシクロヘキサンジイル基等の単環式飽和炭化水素基;シクロブテンジイル基、シクロペンテンジイル基、シクロヘキセンジイル基、シクロヘプテンジイル基、シクロオクテンジイル基、シクロデセンジイル基、シクロペンタジエンジイル基、シクロヘキサジエンジイル基、シクロオクタジエンジイル基、シクロデカジエンジイル基等の単環式不飽和炭化水素基;ビシクロ[2.2.1]ヘプタンジイル基、ビシクロ[2.2.2]オクタンジイル基、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジイル基、トリシクロ[3.3.1.13,7]デカンジイル基、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカンジイル基、アダマンタンジイル基等の多環式飽和炭化水素基;ビシクロ[2.2.1]ヘプテンジイル基、ビシクロ[2.2.2]オクテンジイル基、トリシクロ[5.2.1.02,6]デセンジイル基、トリシクロ[3.3.1.13,7]デセンジイル基、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデセンジイル基等の多環式不飽和炭化水素基等が挙げられる。上記炭素数6~30の2価の芳香族炭化水素基としては、例えばフェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ベンジレン基、フェニレンエチレン基、フェニレンシクロへキシレン基、ナフチレン基等が挙げられる。R2及びR3が示す炭素数1~4のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。上記式2中、R4、R5及びR6は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数1~4のアルキル基である。cは、1~20の整数である。但し、R5が複数の場合、複数のR5は、同一であっても異なっていてもよい。R4、R5及びR6が示す炭素数1~4のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。[D]化合物の具体例としては、例えばビス4-シアネートフェニルメタン、ビス3-メチル-4-シアネートフェニルメタン、ビス3-エチル-4-シアネートフェニルメタン、ビス3,5-ジメチル-4-シアネートフェニルメタン、1,1-ビス4-シアネートフェニルエタン、2,2-ビス4-シアネートフェニルプロパン、2,2-ビス4-シアネートフェニル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、ジ4-シアネートフェニルエーテル、ジ4-シアネートフェニルチオエーテル、4,4’-ジシアネート-ジフェニル等が挙げられる。これらのうち、ビス3,5-ジメチル-4-シアネートフェニルメタン、1,1-ビス4-シアネートフェニルエタンが好ましい。[D]化合物は、単独で又は2種以上を使用できる。当該感放射線性樹脂組成物における[D]化合物の含有割合としては、[A]重合体100質量部に対して、1質量部~100質量部が好ましく、5質量部~50質量部がより好ましい。[D]化合物の含有割合を上記特定範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物の保存安定性と硬化膜の硬化促進とをより高いレベルで両立できる。<[E]アミン化合物>当該感放射線性樹脂組成物は、[E]アミン化合物をさらに含有することが好ましい。当該感放射線性樹脂組成物が、[E]アミン化合物をさらに含有することで硬化触媒として機能し、当該感放射線性樹脂組成物の硬化をより促進することができる。[E]アミン化合物は、1級アミノ基及び2級アミノ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含有する化合物と、エポキシ化合物とを反応させて得られる化合物であることが好ましい。[E]アミン化合物を上記特定化合物とすることで、保存安定性を損なわずに硬化触媒として機能し、低温焼成であっても硬化を促進することができる。1級アミノ基及び2級アミノ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含有する化合物としては、例えば下記式3~5で表される化合物等が挙げられる。上記式3中、R7及びR8は、それぞれ独立して炭素数1~10のアルキル基である。但し、上記炭素数1~10のアルキル基は、炭素鎖中に酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を有していてもよい。また、R7及びR8は、それぞれが結合している窒素原子と共に環構造を形成していてもよい。dは、1~3の整数である。但し、R7及びR8が複数の場合、複数のR7及びR8はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。R9は、de価の炭化水素基である。但し、R9が複数の場合、複数のR9は同一であっても異なっていてもよい。R10は、水素原子又は炭素原子数1~10のアルキル基である。但し、上記炭素数1~10のアルキル基は、炭素鎖中に酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を有していてもよい。eは、1~2の整数である。但し、R10が複数の場合、複数のR10はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。上記炭素数1~10のアルキル基としては例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。上記式4中、R11及びR13は、それぞれ独立して2価の炭素水素基である。但し、上記2価の炭素水素基は、炭素鎖中に酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を有していてもよい。R12は、上記R10と同義である。fは、0~10の整数である。但し、R11及びR12が複数の場合、複数のR11及びR12はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。上記炭素数1~10のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が挙げられる。上記2価の炭化水素基としては例えばメチレン基、炭素数2~10のアルキレン基、アルキレン-アリーレン-アルキレン基等が挙げられる。上記式5中、R14及びR15、並びにR18及びR19は、上記R7及びR8とそれぞれ同義である。R16及びR17は、上記R10と同義である。gは、1~10の整数である。上記式3~5で表される化合物のうち、式3及び4で表される化合物が好ましく、式3中、d及びeが1であり、R10が水素原子である化合物並びに式4中、fが0であり、R13が、キシリレン基である化合物がより好ましい。また、1級アミノ基及び2級アミノ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含有する化合物と反応するエポキシ化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂等のフェノール樹脂が好ましい。上記エポキシ化合物の含有割合としては、1級アミノ基及び2級アミノ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含有する化合物100質量部に対して、300質量部以下が好ましく、250質量部以下がより好ましい。[E]アミン化合物は、単独で又は2種以上を使用できる。当該感放射線性樹脂組成物における[E]アミン化合物の含有割合としては、[A]重合体100質量部に対して、15質量部以下が好ましく、0.1質量部~10質量部がより好ましい。[E]アミン化合物の含有割合を上記特定範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物の保存安定性と硬化膜の硬化促進とをより高いレベルで両立できる。<その他の任意成分>当該感放射線性樹脂組成物は、上記の[A]重合体、[B]重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤、[D]化合物及び[E]アミン化合物に加え、本発明の効果を損なわない範囲で必要に応じて密着助剤、界面活性剤、保存安定剤、耐熱性向上剤等の任意成分を含有できる。これらの各任意成分は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。以下、順に詳述する。[密着助剤]密着助剤は、得られる硬化膜と基板との接着性をさらに向上させるために使用できる。このような密着助剤としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましく、例えばトリメトキシシリル安息香酸、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等が挙げられる。密着助剤の使用量としては、[A]重合体100質量部に対して、20質量部以下が好ましく、15質量部以下がより好ましい。密着助剤の使用量が20質量部を超えると現像残りを生じやすくなる傾向がある。[界面活性剤]界面活性剤は、当該感放射線性樹脂組成物の塗膜形成性をより向上させるために使用できる。界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤及びその他の界面活性剤が挙げられる。上記フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基及び/又はフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましく、例えば1,1,2,2-テトラフロロ-n-オクチル1,1,2,2-テトラフロロ-n-プロピルエーテル、1,1,2,2-テトラフロロ-n-オクチルn-ヘキシルエーテル、ヘキサエチレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロ-n-ペンチルエーテル、オクタエチレングリコールジ1,1,2,2-テトラフロロ-n-ブチルエーテル、ヘキサプロピレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロ-n-ペンチルエーテル、オクタプロピレングリコールジ1,1,2,2-テトラフロロ-n-ブチルエーテル、パーフロロ-n-ドデカンスルホン酸ナトリウム、1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロ-n-デカン、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-デカフロロ-n-ドデカンや、フロロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フロロアルキルリン酸ナトリウム、フロロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキスフロロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フロロアルキルアンモニウムヨージド、フロロアルキルベタイン、他のフロロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフロロアルキルポリオキシエタノール、パーフロロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フロロアルキルエステル等が挙げられる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えばBM-1000、BM-1100以上、BMCHEMIE製、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183、同F178、同F191、同F471、同F476以上、大日本インキ化学工業製、フロラードFC-170C、同-171、同-430、同-431以上、住友スリーエム製、サーフロンS-112、同-113、同-131、同-141、同-145、同-382、サーフロンSC-101、同-102、同-103、同-104、同-105、同-106以上、旭硝子製、エフトップEF301、同303、同352以上、新秋田化成製、フタージェントFT-100、同-110、同-140A、同-150、同-250、同-251、同-300、同-310、同-400S、FTX-218、同-251以上、ネオス製等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えばトーレシリコーンDC3PA、同DC7PA、同SH11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA、同SH-190、同SH-193、同SZ-6032、同SF-8428、同DC-57、同DC-190以上、東レダウコーニングシリコーン製、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452以上、GE東芝シリコーン製、オルガノシロキサンポリマーKP341信越化学工業製等が挙げられる。その他の界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル;ポリオキシエチレン-n-オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン-n-ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル;ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート等のポリオキシエチレンジアルキルエステル等のノニオン系界面活性剤、メタアクリル酸系共重合体ポリフローNo.57、同No.95以上、共栄社化学製等が挙げられる。界面活性剤の使用量としては、[A]重合体100質量部に対して、1.0質量部以下が好ましく、0.8質量部以下がより好ましい。界面活性剤の使用量が1.0質量部を超えると、膜ムラを生じやすくなる。[保存安定剤]保存安定剤としては、例えば硫黄、キノン類、ヒドロキノン類、ポリオキシ化合物、アミン、ニトロニトロソ化合物等が挙げられ、より具体的には、4-メトキシフェノール、N-ニトロソ-N-フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム等が挙げられる。保存安定剤の使用量としては、[A]重合体100質量部に対して、3.0質量部以下が好ましく、1.0質量部以下がより好ましい。保存安定剤の配合量が、3.0質量部を超えると、当該感放射線性樹脂組成物の感度が低下してパターン形状が劣化する場合がある。[耐熱性向上剤]耐熱性向上剤としては、例えばN-アルコキシメチルグリコールウリル化合物、N-アルコキシメチルメラミン化合物等が挙げられる。N-アルコキシメチルグリコールウリル化合物としては、例えばN,N’,N’’,N’’’-テトラメトキシメチルグリコールウリル、N,N’,N’’,N’’’-テトラエトキシメチルグリコールウリル、N,N’,N’’,N’’’-テトラn-プロポキシメチルグリコールウリル、N,N’,N’’,N’’’-テトラi-プロポキシメチルグリコールウリル、N,N’,N’’,N’’’-テトラn-ブトキシメチルグリコールウリル、N,N’,N’’,N’’’-テトラt-ブトキシメチルグリコールウリル等が挙げられる。これらのうち、N,N’,N’’,N’’’-テトラメトキシメチルグリコールウリルが好ましい。N-アルコキシメチルメラミン化合物としては、例えばN,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサメトキシメチルメラミン、N,N,N’,N’,N’’N’’-ヘキサエトキシメチルメラミン、N,N,N’,N’,N’’N’’ヘキサn-プロポキシメチルメラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサi-プロポキシメチルメラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサn-ブトキシメチルメラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサt-ブトキシメチルメラミン等が挙げられる。これらのうち、N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサメトキシメチルメラミンが好ましく、市販品としては、例えばニカラックN-2702、同MW-30M以上、三和ケミカル製等が挙げられる。耐熱性向上剤の使用量としては、[A]重合体100質量部に対して、50質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましい。耐熱性向上剤の使用量が50質量部を超えると、当該感放射線性樹脂組成物の感度が低下してパターン形状が劣化する場合がある。<当該感放射線性樹脂組成物の調製方法>当該感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体、[B]重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤及び[D]化合物に加え、必要に応じて任意成分を所定の割合で混合することにより調製される。この感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。当該感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、[A]重合体、[B]重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤及び[D]化合物に加え、必要に応じて任意成分を均一に溶解又は分散し、各成分と反応しないものが用いられる。このような溶媒としては、上述した[A]重合体を合成するために使用できる溶媒として例示したものと同様のものが挙げられる。溶媒は、単独で又は2種以上を混合して使用できる。各成分の溶解性、各成分との反応性、塗膜形成の容易性等の観点から、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸3-メトキシブチル、酢酸シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、3-メトキシブタノールが好ましい。さらに、上記溶媒とともに膜厚の面内均一性を高めるため、高沸点溶媒を併用できる。高沸点溶媒としては、例えばN-メチルピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、1-オクタノール、1-ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ-ブチロラクトン、炭酸プロピレン等が挙げられる。これらのうち、N-メチルピロリドン、γ-ブチロラクトン又はN,N-ジメチルアセトアミドが好ましい。当該感放射線性樹脂組成物の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その使用量としては、全溶媒量に対して、50質量以下が好ましく、40質量以下がより好ましく、30質量以下が特に好ましい。高沸点溶媒の使用量が50質量以下の時、塗膜の膜厚均一性、感度及び残膜率が良好となる。当該感放射線性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、固形分濃度組成物溶液中に占める溶媒以外の成分は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意の濃度例えば5質量~50質量に設定できる。より好ましい固形分濃度としては、基板上への塗膜の形成方法により異なるが、これについては後述する。このようにして調製された組成物溶液については、孔径0.5μm程度のミリポアフィルタ等を用いて濾過した後、使用に供することができる。<硬化膜の形成方法>当該感放射線性樹脂組成物から形成される層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜も本発明に好適に含まれる。本発明の硬化膜の形成方法は、1当該感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、2上記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、3上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び4上記現像された塗膜を焼成する工程を有する。当該感放射線性樹脂組成物を用いた本発明の形成方法によると、耐熱性、透過率及び電圧保持率に優れる硬化膜を形成することができる。以下、各工程を詳述する。[工程1]本工程では、透明基板の片面に透明導電膜を形成し、この透明導電膜の上に当該感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する。透明基板としては、例えばソーダライムガラス、無アルカリガラス等のガラス基板、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックからなる樹脂基板等が挙げられる。透明基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズSnO2からなるNESA膜米国PPG製の登録商標、酸化インジウム-酸化スズIn2O3-SnO2からなるITO膜等が挙げられる。塗布法により塗膜を形成する場合、上記透明導電膜の上に当該感放射線性樹脂組成物の溶液を塗布した後、好ましくは塗布面を加熱プレベークすることにより、塗膜を形成することができる。塗布法に用いる組成物溶液の固形分濃度としては、5質量~50質量が好ましく、10質量~40質量がより好ましく、15質量~35質量が特に好ましい。当該感放射線性樹脂組成物の塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法スピンコート法、スリット塗布法スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法が採用できる。これらのうち、スピンコート法又はスリット塗布法が好ましい。上記プレベークの条件としては、各成分の種類、配合割合等によって異なるが、70°C~120°Cが好ましく、1分~15分間程度である。塗膜のプレベーク後の膜厚は、0.5μm~10μmが好ましく、1.0μm~7.0μm程度がより好ましい。[工程2]本工程では、形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する。このとき、塗膜の一部にのみ照射する際には、例えば所定のパターンを有するフォトマスクを介して照射する方法によることができる。照射に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線等が挙げられる。このうち波長が250nm~550nmの範囲にある放射線が好ましく、365nmの紫外線を含む放射線がより好ましい。放射線照射量露光量は、照射される放射線の波長365nmにおける強度を照度計OAImodel356、OpticalAssociatesInc.製により測定した値として、100J/m2~5,000J/m2が好ましく、200J/m2~3,000J/m2がより好ましい。当該感放射線性樹脂組成物は、従来知られている組成物と比較して感度が高く、上記放射線照射量が850J/m2以下であっても所望の膜厚、良好な形状、優れた密着性及び高い硬度の硬化膜を得ることができる。[工程3]本工程では、放射線照射後の塗膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定のパターンを形成する。現像に使用される現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等のアルカリ性化合物の水溶液が挙げられる。上記アルカリ性化合物の水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒及び/又は界面活性剤を適当量添加してもよい。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー法等のいずれでもよく、現像時間は、常温で10秒~180秒間程度が好ましい。現像処理に続いて、例えば流水洗浄を30秒~90秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素で風乾することによって所望のパターンが得られる。[工程4]本工程では、得られたパターン状塗膜をホットプレート、オーブン等の適当な加熱装置により焼成ポストベークすることにより硬化膜を得る。焼成温度としては、100°C~200°Cが好ましく、150°C~180°Cがより好ましい。焼成時間としては、例えばホットプレート上では5分~30分間、オーブンでは30分~180分間が好ましい。当該感放射線性樹脂組成物は、200°C以下の温度であっても低温焼成による硬化が可能である。従って、当該感放射線性樹脂組成物は、低温焼成が望まれるフレキシブルディスプレイ等に用いられる硬化膜の形成材料として好適である。以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例に本発明が限定的に解釈されるものではない。<[A]重合体の合成>共重合体A-1としては、フェノールノボラックエポキシ樹脂を使用した。[合成例1]冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル7質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きA1化合物としてメタクリル酸16質量部、A2化合物としてメタクリル酸グリシジル20質量部、並びにA3化合物としてメタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル16質量部、メタクリル酸メチル38質量部及びスチレン10質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇し、この温度を4時間保持して重合することにより、共重合体A-2を含有する溶液を得た固形分濃度=34.4質量、Mw=8,000、Mw/Mn=2.3。なお、固形分濃度は共重合体溶液の全質量に占める共重合体質量の割合を意味する。[合成例2]冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル8質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル220質量部を仕込んだ。引き続きA1化合物としてメタクリル酸20質量部、A2化合物としてメタクリル酸グリシジル20質量部、並びにA3化合物としてメタクリル酸n-ラウリル30質量部及びスチレン30質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇し、この温度を5時間保持して重合することにより、共重合体A-3を含有する溶液を得た固形分濃度=31.9質量、Mw=8,000、Mw/Mn=2.3。[合成例3]冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル8質量部及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル220質量部を仕込んだ。引き続きA1化合物としてメタクリル酸20質量部、A2化合物としてメタクリル酸3,4-エポキシシクロヘキシル50質量部、並びにA3化合物としてメタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イル25質量部及びスチレン5質量部を仕込み、窒素置換した後、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70°Cに上昇し、この温度を5時間保持して重合することにより、共重合体A-4を含有する溶液を得た固形分濃度=32.3質量、Mw=8,000、Mw/Mn=2.3。<[E]アミン化合物の合成>E-1としては、N,N-ジメチルアミノプロピルアミンを使用した。また、比較例に使用したアミン化合物e-1は、トリエチルアミンである。[合成例4]フラスコに、N,N-ジメチルアミノプロピルアミン130gを仕込み、80°Cに加温した。この系内の温度を100°C~110°Cに保ちながら、アデカレジンEP-4100EADEKA製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量190213gN,N-ジメチルアミノプロピルアミン1モルに対するアデカレジンEP-4100Eのエポキシ当量は1.12を、少しずつ加えた。アデカレジンEP-4100Eを添加した後、系を140°Cに昇温し、1.5時間反応させて変性ポリアミンを得た。得られた変性ポリアミン100gに対してフェノール樹脂30gを仕込み、180°C~190°C、30~40トールで1時間かけて脱溶媒を行い、潜在性硬化剤E-2を得た。[合成例5]使用したアミンをN,N-ジエチルアミノプロピルアミン100gとした以外は、合成例4と同様の操作により潜在性硬化剤E-3を得た。[合成例6]使用したアミンをm-キシリレンジアミン100gとした以外は、合成例4と同様の操作により潜在性硬化剤E-4を得た。<感放射線性樹脂組成物の調製>[実施例1][A]重合体としてのA-1100質量部、[B]重合性化合物としての後述するB-150質量部及びB-450質量部、[C]感放射線性重合開始剤としてのC-125質量部並びに[D]化合物としてのD-110質量部を混合し、さらに密着助剤としてのγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5質量部、界面活性剤としてのFTX-218ネオス製0.5質量部及び保存安定剤としての4-メトキシフェノール0.5質量部を混合し、固形分濃度が30質量となるように、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えた後、孔径0.5μmのミリポアフィルタでろ過することにより、感放射線性樹脂組成物を調製した。[実施例2~10及び比較例1~4]表1に示す種類、量の各成分を使用したこと以外は実施例1と同様に操作し、各感放射線性樹脂組成物を調製した。なお、表1中の-は該当する成分を使用しなかったことを表す。実施例及び比較例で使用した各成分の詳細を示す。<[B]重合性化合物>B-1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物KAYARADDPHA日本化薬製B-2:KAYARADDPHA-40H日本化薬製B-3:1,9-ノナンジオールジアクリレートB-4:アロニックスM-5300東亞合成製<[C]感放射線性重合開始剤>C-1:1,2-オクタンジオン-1-4-フェニルチオ-2-O-ベンゾイルオキシムイルガキュアOXE01、チバスペシャルティーケミカルズ製C-2:エタノン-1-9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル-1-O-アセチルオキシムイルガキュアOXE02、チバスペシャルティーケミカルズ製C-3:2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オンイルガキュア907、チバスペシャルティーケミカルズ製C-4:2-4-メチルベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタン-1-オンイルガキュア379、チバスペシャルティーケミカルズ製<[D]化合物>D-1:ビス3,5-ジメチル-4-シアネートフェニルメタンD-2:シアネートエステル樹脂ロンザ製、シアネートLeCy:CE<評価>調製した各感放射線性樹脂組成物及び各感放射線性樹脂組成物から形成した硬化膜を用いて下記の評価を行った。結果を表1にあわせて示す。[感度J/m2]無アルカリガラス基板上に、調製した各感放射線性樹脂組成物をスピンナーにより塗布した後、100°Cのホットプレート上で2分間プレベークすることにより、膜厚4.0μmの塗膜を形成した。得られた塗膜に、直径15μmの丸状残しパターンを複数有するフォトマスクを介して、高圧水銀ランプを用いて露光量を200J/m2~1,000J/m2の範囲で変量して放射線照射を行った。その後、0.1質量水酸化カリウム水溶液を用いて25°Cで現像後、純水洗浄を1分間行った。さらにオーブン中180°Cにて60分間ポストベークすることにより、硬化膜を形成した。硬化膜の現像前と現像後の膜厚を、レーザー顕微鏡キーエンス製、VK-8500を用いて測定した。下記式で表される残膜率から感度J/m2を評価した。なお、この硬化膜は、層間絶縁膜、保護膜又はスぺーサーとしても評価できる。残膜率=現像後の膜厚/現像前の膜厚×100この残膜率が90以上になる最小の露光量を感度とした。感度が800J/m2以下の場合、感度が良好と判断した。[耐熱性]フォトマスクを介さずに800J/m2で露光したこと以外は上記感度評価と同様に操作して硬化膜を得た。硬化膜をさらにオーブン中で230°Cで20分加熱し、加熱前後の膜厚変化を触針式膜厚測定機アルファステップIQ、KLAテンコール製で測定した。下記式で表される残膜率を耐熱性として評価した。残膜率=追加加熱後膜厚/ポストベーク後膜厚×100この時、残膜率が95以下の場合、熱による硬化収縮、分解等が発生し残膜率が低下したと考えられる。従って、残膜率が95以上の場合、耐熱性は概ね良好と判断した。[透過率]フォトマスクを介さずに700J/m2で露光したこと以外は上記感度評価と同様に操作して硬化膜を得た。この硬化膜について、波長400nmにおける透過率を、分光光度計150-20型ダブルビーム、日立製作所製を用いて測定した。透過率が90以上の場合、良好と判断した。[電圧保持率]表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO2膜が形成され、さらにITOインジウム-酸化錫合金電極を所定形状に蒸着したソーダガラス基板上に、各感放射線性樹脂組成物を、スピンコートした後、90°Cのクリーンオーブン内で10分間プレベークを行って、膜厚2.0μmの塗膜を形成した。次いで、フォトマスクを介さずに、塗膜に高圧水銀ランプを用いて500J/m2の露光量で露光した。その後、0.04質量水酸化カリウム水溶液の現像液にて、23°C、1分間浸漬して現像した。次いで、超純水で洗浄して風乾し、さらに230°Cで30分間ポストベークを行い塗膜を硬化させて、永久硬化膜を形成した。次いで、この硬化膜を有する基板とITO電極とを所定形状に蒸着した基板とを、0.8mmのガラスビーズを混合したシール剤で貼り合わせた後、液晶メルク製、MLC6608を注入して、液晶セルを作製した。この液晶セルを60°Cの恒温層に入れて、液晶セルの電圧保持率を、液晶電圧保持率測定システムVHR-1A型、東陽テクニカ製により測定した。このときの印加電圧は5.5Vの方形波、測定周波数は60Hzである。なお、ここで電圧保持率とは、下記式から算出される値である。電圧保持率=基準時から16.7ミリ秒後の液晶セル電位差/0ミリ秒で印加した電圧×100液晶セルの電圧保持率が90未満の場合、液晶セルは16.7ミリ秒の時間、印加電圧を所定レベルに保持できず、十分に液晶を配向させることができないことを意味し、残像などの焼き付きを起こすおそれが高い。[保存安定性]上記感度の評価と同様に操作して、調製直後の各感放射線性樹脂組成物の硬化膜を形成し、膜厚を測定した下記式において、調製直後の膜厚と称する。また、5日間25°Cで各感放射線性樹脂組成物溶液を保存し、5日後に同様に形成した硬化膜の膜厚を測定した下記式において、5日後の膜厚と称する。膜厚増加率を下記式から算出した。膜厚増加率=5日後の膜厚-調製直後の膜厚/調製直後の膜厚×100上記膜厚増加率が3以下の場合、保存安定性が良好と判断した。表1の結果から本発明の感放射線性樹脂組成物は良好な感度及び保存安定性を有することがわかった。また、当該感放射線性樹脂組成物から形成された硬化膜は200°Cで以下の低温焼成で形成されたにも関わらず耐熱性、透過率及び電圧保持率に優れることがわかった。"