パターンが形成されたパターン形成面を有するモールドと、前記モールドに対向配置された弾性体と、前記モールドと前記弾性体とで挟んだ基材上の樹脂に前記パターン形成面を押し当てて加圧する加圧装置と、前記基材上の樹脂を硬化させる硬化装置と、を備え、前記モールドに対向する前記弾性体の表面が、前記モールド側へ凸状の曲面であることを特徴とするシート状デバイスの製造装置。前記モールドに対向する前記弾性体の曲面が円筒面の一部を成すことを特徴とする請求項1記載のシート状デバイスの製造装置。前記モールドに対向する前記弾性体の曲面が球面または非球面の一部を成すことを特徴とする請求項1記載のシート状デバイスの製造装置。前記パターンが、平面または、前記弾性体側へ凸状の曲面上に配置されており、前記モールドに対向する前記弾性体の曲面が、前記パターンが配置されている領域の曲率よりも小さい曲率を持つことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のシート状デバイスの製造装置。前記パターンが、前記弾性体側の反対側へ凸状の曲面上に配置されており、前記モールドに対向する前記弾性体の曲面が、前記パターンが配置されている領域の曲率よりも大きい曲率を持つことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のシート状デバイスの製造装置。前記モールドに対向する前記弾性体の曲面が反射防止構造を有することを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載のシート状デバイスの製造装置。前記弾性体として、合成ゴム、天然ゴムのうちの少なくとも1種を使用することを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載のシート状デバイスの製造装置。前記モールドと前記基材とを相対的に移動させる直線または回転の移動軸が1軸以上装備されており、前記基材上の場所をずらしてのインプリント成型が可能であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載のシート状デバイスの製造装置。前記モールドのパターン形成面の外周部に、前記パターン形成面と前記基材上の樹脂とが接触する範囲のうちの所定範囲を硬化させるための遮光構造が設けられたことを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載のシート状デバイスの製造装置。前記基材の張力を調整する張力調整機構を備えたことを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載のシート状デバイスの製造装置。パターンが形成されているパターン形成面を有するモールドと曲率を持つ所定形状の弾性体とで、前記パターン形成面に対面する一方面上に樹脂が設けられた基材を挟み、前記パターン形成面を前記樹脂に押し当てて加圧し、前記基材上の樹脂を硬化させて、前記樹脂に前記パターンを転写するに際し、加圧時に前記パターン形成面と前記樹脂とが接触する範囲が、前記モールドと前記弾性体とを互いに接近する方向へ相対的に移動させるにつれて、前記パターン形成面の内側から外側に向かって広がることを特徴とするシート状デバイスの製造方法。前記モールドに対向する前記弾性体の表面が、その面の内側から外側へ向かって前記パターン形成面から離れていく形状の曲面であり、加圧時に前記パターン形成面と前記樹脂とが接触する範囲が、前記モールドと前記弾性体とを互いに接近する方向へ相対的に移動させるにつれて、前記パターン形成面の内側から外側に向かって広がることを特徴とする請求項11記載のシート状デバイスの製造方法。前記モールドに対向する前記弾性体の表面が円筒面の一部を成し、加圧時に前記パターン形成面と前記樹脂とが接触する範囲が、前記モールドと前記弾性体とを互いに接近する方向へ相対的に移動させるにつれて、線分から外側へ向かって広がることを特徴とする請求項11もしくは12に記載のシート状デバイスの製造方法。前記モールドに対向する前記弾性体の表面が球面または非球面の一部を成し、加圧時に前記パターン形成面と前記樹脂とが接触する範囲が、前記モールドと前記弾性体とを互いに接近する方向へ相対的に移動させるにつれて、点から外側へ向かって広がることを特徴とする請求項11もしくは12に記載のシート状デバイスの製造方法。前記パターン形成面によって前記樹脂を加圧し、前記樹脂を硬化させて、前記樹脂に前記パターンを転写する工程を繰り返し、前記基材上の異なる場所に前記パターンを転写することを特徴とする請求項11ないし14のいずれかに記載のシート状デバイスの製造方法。以上説明したように、インプリントをチャンバ内で行うと共に、金型の上部金型のパターンが形成されていない裏面側に設けたチャンバにより、金型の歪制御を行うインプリント装置が提案されている。しかしながら、このインプリント装置のように、モールド型の上部と下部にチャンバをそれぞれ設け、下部のチャンバに挿入した基材に塗布されている樹脂をモールド上のパターンに密着させる構成では、デバイス微細パターン転写面の大面積化が要求された場合に、モールドを大きくする必要があり、装置の大型化を招く。また、モールドが大きくなると、その歪の制御が困難となるので、モールドと基材の平面性状の誤差による未接触部未密着部の発生に起因する未転写やパターン形状不良が現れやすい。この未転写やパターン形状不良の問題は、パターンが微細であるほど顕著に現れる。本発明は、気体の残留やモールドと基材との未接触部未密着部の発生に起因する未転写やパターン形状不良を抑制できるシート状デバイスの製造装置およびシート状デバイスの製造方法を提供することを目的とする。上記目的を達成するために、本発明のシート状デバイスの製造装置は、パターンが形成されたパターン形成面を有するモールドと、前記モールドに対向配置された弾性体と、前記モールドと前記弾性体とで挟んだ基材上の樹脂に前記パターン形成面を押し当てて加圧する加圧装置と、前記基材上の樹脂を硬化させる硬化装置と、を備え、前記モールドに対向する前記弾性体の表面が、前記モールド側へ凸状の曲面であることを特徴とする。また、上記目的を達成するために、本発明のシート状デバイスの製造方法は、パターンが形成されているパターン形成面を有するモールドと曲率を持つ所定形状の弾性体とで、前記パターン形成面に対面する一方面上に樹脂が設けられた基材を挟み、前記パターン形成面を前記樹脂に押し当てて加圧し、前記基材上の樹脂を硬化させて、前記樹脂に前記パターンを転写するに際し、加圧時に前記パターン形成面と前記樹脂とが接触する範囲が、前記モールドと前記弾性体とを互いに接近する方向へ相対的に移動させるにつれて、前記パターン形成面の内側から外側に向かって広がることを特徴とする。本発明によれば、気体の残留やモールドと基材との未接触部未密着部の発生に起因する未転写やパターン形状不良を抑制することができる。以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、同じ構成要素には同じ符号を付して、重複する説明を省略する場合もある。また、図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示している。また図示された各構成要素の厚み、長さ等は図面作成の都合上から、実際とは異なる。実施の形態1まず、本発明の実施の形態1について説明する。図1は、本発明の実施の形態1におけるシート状デバイスの製造装置の一例としてのインプリント装置の全体を示す側面図である。但し、インプリント用のモールド4以下、インプリント用のモールドを、単に、モールドと称す。が底面に配置された筐体3については、その内部を図示している。また、製造されるシート状デバイスとしては、例えば、反射防止シートがある。この実施の形態1におけるインプリント装置は、微細パターン5が形成されたパターン形成面を持つモールド型4を用いて、シート状のシームレスな基材8の一方面をコートしている図示しないUV紫外線硬化性樹脂に微細パターン5を押し当てて加圧した後、モールド4を通してUV照射装置6からのUV光をUV硬化性樹脂へ照射し、シート状の基材8上のUV硬化性樹脂に微細パターンを転写する装置である。さらに、この装置は、加圧時に、シート状の基材8の下部に、基材8側へ凸状の曲面を持つ弾性体9を配置して、モールド4と弾性体9とでシート状の基材8を挟み込むものである。この装置によれば、加圧時に、モールド4のパターン形成面と基材8上のUV硬化性樹脂とが接触する範囲を、弾性体9の形状と弾力によって、パターン形成面の内側から外側に向かって徐々に拡大させることができる。そして、このようにモールド4のパターン形成面と基材8上のUV硬化性樹脂とを接触させることにより、気体の残留やモールド4とシート状の基材8との未接触部未密着部の発生に起因する未転写やパターン形状不良を抑制することができる。以下、この実施の形態1におけるシート状デバイスの製造装置インプリント装置およびシート状デバイスの製造方法インプリント方法について詳細に説明する。図1に示すように、この実施の形態1におけるインプリント装置は、X軸テーブル1とY軸テーブル2を備える。X軸テーブル1は、図1の紙面に垂直な方向に直線移動する前後直線移動軸であり、Y軸テーブル2は、図1の紙面の上下方向に直線移動する上下直線移動軸である。Y軸テーブル2は、X軸テーブル1に備え付けられている。Y軸テーブル2には、筐体3が備え付けられており、その筐体3の底面には、微細パターン5が形成されたパターン形成面を有するモールド4が下向きに配置されている。つまり、モールド4は、微細パターン5が下向きとなるように配置されている。また、モールド4は、微細パターン5がXZ平面と平行になるようにあおり傾きを調整した状態で配置されている。なお、この実施の形態1では、モールド4として、微細パターン5が配置されている領域の面方向の形状が平面形状でその平面のサイズ微細パターン5が配置されている領域のサイズが20mm角のモールドを用いた。この微細パターン5の凹凸の深さは、例えば、反射防止シートを製造する場合、200~300nmである。筐体3の内部には、後述するUV硬化性樹脂を硬化させるためのUV照射装置6が配置されている。なお、この実施の形態1では、UV照射装置6をモールド4の上部に配置するため、モールド4の材質としては、UV光を透過できる材質を選定する。例えば、UV光を透過し、表面に微細パターンを加工できる素材として、石英ガラスを用いることができる。筐体3の天井部には、Y軸テーブル2の底面に当接する圧力センサ7が配置されている。この圧力センサ7は成型圧力を計測するために設けられている。モールド4の下部には、モールド4の微細パターン5に対向するシート状のシームレスな基材8が配置される。この実施の形態1では、基材8として、PETフィルムを材質とするシームレス基材を用いた。基材8の下部には、曲率を持つ所定形状の弾性体9が、基材8を挟んでモールド4に対向するように配置されている。この実施の形態1では、弾性体9は直径800mmの円筒形状をしており、X軸と平行に配置されている。この弾性体9の素材には、少なくともモールド型よりも柔らかく、かつ、成型時にモールドのパターンを破壊しない硬度のものを用いる必要がある。この実施の形態1では、弾性体9の材質として、弾性率が3.5MPaのシリコンゴムを選定した。また、この弾性体9の表面には反射防止構造を設けている。これは、モールド4、UV硬化性樹脂、基材8を透過したUV光が弾性体9で反射して、目的とする箇所以外にUV光が照射されるのを防ぐためである。反射防止構造の一例としては、反射を防止できる色に弾性体9の表面を着色したものがある。弾性体9の左右には、蛇行制御ローラ10と回転制御ローラ11が配置されている。この実施の形態1では、蛇行制御ローラ10は直径60mmの円筒形状をしており、X軸と平行に配置されている。また、回転制御ローラ11は、直径60mmの円筒形状をしており、X軸と平行に配置されている。つまり、蛇行制御ローラ10と回転制御ローラ11は共に円筒形状の弾性体9と平行に配置されている。また、基材8は、弾性体9、蛇行制御ローラ10および回転制御ローラ11に掛け渡して巻回されており、回転制御ローラ11を駆動源として回動する。このように、この実施の形態1では、蛇行制御ローラ10と回転制御ローラ11によって、基材8を弾性体9上へ送り出すことができる。このインプリント装置には、回転制御ローラ11をZ方向に移動させることが可能な張力調整機構12が備え付けられている。この張力調整機構12によって、基材8は、たわみが生じないようにセッティングされている。なお、この張力調整機構12は、後述する加圧時に発生する可能性がある基材8の撓みを吸収するために、インプリント中は、常に回転制御ローラ11にZ方向の張力をかけ続けている。この実施の形態1では、蛇行制御ローラ10と弾性体9との間の基材8の角度と、回転制御ローラ11と弾性体9との間の基材8の角度とが、XZ平面から上方向に5度となるように、弾性体9を配置している。これは、弾性体9上の曲面に沿うように基材8が巻回されるために必要な角度であり、回転制御ローラ11や蛇行制御ローラ10、弾性体9の配置によっては5度以外の角度でもよい。図2は、本発明の実施の形態1におけるインプリント装置の要部を拡大して示す側断面図である。図2に示すように、基材8の微細パターン5に対面する一方面には所定量のUV硬化性樹脂13が均一な厚みで塗布されている。この実施の形態1では、基材8の厚みは、50~500μmのものを想定している。また、モールド4のパターン形成面の外周部微細パターン5が配置されている領域の外側の領域には、遮光構造の一例として、UV光を遮光する遮光膜14を有する斜面が設けられている。続いて、この実施の形態1におけるインプリント装置の動作について説明する。図3a~dおよび図4は、この実施の形態1におけるインプリント装置により基材8上の1箇所をインプリント成型する工程を示す図である。詳しくは、図3a~dは、モールド4と弾性体9とで基材8を挟み、モールド4のパターン形成面をUV硬化性樹脂13に押し付けて加圧する工程を、順番に時系列で示す図である。また、図4は、図3a~dに示す加圧工程の後、UV硬化性樹脂13を硬化させる工程を示す図である。図3a~dのそれぞれにおいて、上図はモールド4のパターン形成面とUV硬化性樹脂13との接触範囲を示す図であり、下図は工程別側断面図である。また、図4において、上図はモールド4のパターン形成面とUV硬化性樹脂13との接触範囲およびUV硬化性樹脂13の硬化範囲を示す図であり、下図は工程別側断面図である。まず、仮成型を行うことにより、モールド4と弾性体9との位置を合わせた後、本成型へ移行する。本成型では、まず、Y軸テーブル2を下降させることにより、モールド4のパターン形成面と円筒形状の弾性体9の表面曲面とで、パターン形成面に対面する一方面がUV硬化性樹脂13によってコートされた基材8を挟む。そして、モールド4のパターン形成面をUV硬化性樹脂13に押し付けて加圧する。この加圧工程において、Y軸テーブル2は、微細パターン5とUV硬化性樹脂13とが接触する直前から、微細パターン5とUV硬化性樹脂13との間に気体がかみこまないように十分に遅い等速度で下降して、モールド4のパターン形成面をUV硬化性樹脂13に押し付けて加圧する。この実施の形態では、Y軸テーブル2を、10mm/minで等速度下降させた。まず、弾性体9上における基材8の面方向の形状が、円筒形状の弾性体9の外周面円筒面の一部に沿った形状であることから、パターン形成面微細パターン5とUV硬化性樹脂13とは線で接触し始める図3a参照。その後、Y軸テーブル2が下降するにつれて、Y軸テーブル2からの荷重によって、基材8を下支えしている円筒形状の弾性体9が徐々に押し潰される。そのため、図3a~図3dに示すように、モールド4のパターン形成面とUV硬化性樹脂13との接触範囲が、モールド4と弾性体9とを互いに接近する方向へ相対的に移動させるにつれて、つまりY軸テーブル2を下降させるにつれて、パターン形成面の内側から外側へ向かって徐々に広がる。つまり、接触範囲接触箇所は、Y軸テーブル2を下降させるにつれて、線分から外側へ向かって徐々に拡大する。以上の動作により、パターン形成面微細パターン5とUV硬化性樹脂13との間に気体が封入されることなく、微細パターン5とUV硬化性樹脂13とを確実に接触密着させることができるので、未転写やパターン形状不良を抑制できる。なお、Y軸テーブル2からモールド4へ付与される荷重は圧力センサ7によって測定されている。したがって、例えば、圧力センサ7の測定値が所定値以上になるとY軸テーブル2の下降動作を停止させることで、圧力センサ7の測定値に基いたY軸テーブル2の下降動作の制御を実現できる。このように圧力センサ7の測定値に基づいて制御することで、未転写やパターン形状不良をさらに抑制することができる。また、図3dに示すように、UV硬化性樹脂13に所望のパターンが付与される深さまで微細パターン5がUV硬化性樹脂13に埋まったとき密着したときには、弾性体9の変形により、基材8はXZ平面に水平ないしは略水平となる。また、このとき、図3dに示すように、微細パターン5が配置されている範囲を超えて、モールド4のパターン形成面がUV硬化性樹脂13に接触密着する。その後、図4に示すように、微細パターン5がUV硬化性樹脂13に密着した状態で、モールド4を通じて、UV照射装置6からのUV光をUV硬化性樹脂13へ照射することにより、UV硬化性樹脂13を硬化させる。これにより、UV硬化性樹脂13に微細パターンが転写される。この実施の形態1では、モールド4のパターン形成面の外周部微細パターン5が配置されている領域の外側に設けられた遮光構造により、モールド4のパターン形成面とUV硬化性樹脂13とが接触する範囲のうちの所定範囲を硬化させることができる。つまり、この実施の形態1のインプリント装置では、モールド4のパターン形成面の外周部に、UV光を遮光する遮光膜14が設けられていることから、微細パターン5の外側には光が届き難く、その結果、UV硬化性樹脂13の硬化範囲と非硬化範囲を分けることができる。さらに、この実施の形態1のインプリント装置では、モールド4のパターン形成面の外周部に斜面が形成されていることから、微細パターン5の外周付近では、UV硬化性樹脂13の酸素阻害特性が作用する。その結果、硬化範囲と非硬化範囲との境界を、図4に示すように、直線ではなく不規則な曲線にすることができる。UV硬化性樹脂13の硬化後は、Y軸テーブル2を上昇させることにより、モールド4とUV硬化性樹脂13を剥離する。以上の動作により、基材8上の1箇所をインプリント成型することができる。なお、以上説明した動作は、インプリント装置全体の動作を制御する制御装置を設けて自動的に制御することができる。続いて、この実施の形態1におけるインプリント装置により、大面積のシームレスな基材8に対して上記したインプリント成型を繰り返して、基材8上の異なる場所に微細パターン5を転写する工程を説明する。図5は、大面積のシームレスな基材8に対してインプリント成型を繰り返す際におけるインプリント装置の動作を説明するための斜視図である。この実施の形態1のインプリント装置は、モールド4のパターン形成面によってUV硬化性樹脂13を加圧し、モールド4を通じてUV光を照射することによってUV硬化性樹脂13を硬化させる。このUV硬化性樹脂13に微細パターンを転写する工程を繰り返すことで、基材8上の異なる場所に微細パターン5を転写する。この際、既に成型されているパターンに隣接させてパターン成型を行う。この動作により、パターンがつなぎ合わされた大面積のシート状デバイスを得ることができる。以下、この工程を具体的に説明する。図5に示すように、X軸テーブル1を操作してモールド4をX軸方向へずらしながら、円筒形状の弾性体9上の基材8に対して、上述のインプリント成型工程を複数回繰り返す。これにより、X軸方向の一列分のインプリント成型が完了する。一列のインプリント成型の完了後、基材8を回転制御ローラ11によって一列分送り、次の一列のインプリント成型を行う。この動作を繰り返すことにより、1つの微細パターンをつなぎ合わせた大面積の微細パターン転写面を得ることができる。また、上記したように、UV硬化性樹脂13に転写されたパターンの境界硬化範囲の境界は、図4に示すように直線ではなく規則性のない曲線である。規則性のない曲線は目視しづらいため、パターンのつなぎ目を目立たなくすることができる。なお、パターンの境界の曲線幅図4に示す幅hは、モールド4のパターン形成面の外周部に設けた斜面の形状高さや幅と遮光膜14の範囲によりコントロールすることができる。この実施の形態1では、幅hは、50μm程度であった。加えて、上記したように、UV硬化性樹脂13の硬化範囲と非硬化範囲を分けることができる。そのため、パターンをつなぎ合わせるために、既に成型されているパターンに隣接させてパターン成型を行っても、樹脂が硬化されていない非硬化範囲でパターン成型を行うことができる。よって、パターンのつなぎ目の段差を0.5μm以下にすることが可能となる。したがって、この実施の形態1によれば、パターンのつなぎ目が不規則な曲線のつながりであり、そのつなぎ目に0.5μm以下の段差を有するシート状デバイスを得ることができる。なお、この実施の形態1では、直線移動軸のX軸テーブル1と回転移動軸の回転制御ローラ11によって、基材8上の場所をずらしてのインプリント成型を実現しているが、モールド4と基材8とを相対的に移動させる構成は特に限定されるものではない。例えば、モールド4と基材8とを相対的に移動させる直線または回転の移動軸が1軸以上装備されている等、基材8上の異なる場所でのインプリント成型が可能となる構成であればよい。また、この実施の形態1では、微細パターン5が配置されている領域の面方向の形状が平面形状でその平面のサイズが20mm角のモールド4を用いると共に、弾性率が3.5MPaのシリコンゴムからなる円筒形状の弾性体9を用いた。この微細パターン5が配置されている領域の面方向の形状およびサイズと、円筒形状の弾性体9の弾性率から、有限要素解析シミュレーションにより、弾性体の円筒の直径は800mm以上が望ましいことがわかり、この実施の形態1では800mmに設定した。また、この実施の形態1では、蛇行制御ローラ10および回転制御ローラ11と弾性体9との間の基材8の角度が、それぞれXZ平面から上方向に5度となるように弾性体9を配置した。だが、微細パターン5が平面に配置されている場合には、蛇行制御ローラ10と弾性体9との間の基材8の角度と、回転制御ローラ11と弾性体9との間の基材8の角度がマイナスでなれければ、モールド4のパターン形成面と基材8上のUV硬化性樹脂13とを線で接触させることができる。但し、蛇行制御ローラ10と弾性体9との間の基材8の角度と、回転制御ローラ11と弾性体9との間の基材8の角度に応じて、加圧速度などの成型条件を適宜調整する必要がある。また、この実施の形態1では、遮光構造として、遮光膜14を有する斜面を用いたが、段差形状の表面に遮光膜14を設けた構造としてもよい。斜面でなく段差形状とした場合は、遮光範囲をより細かく制御することができる。また、この実施の形態1では円筒形状の弾性体9を用いたが、モールド4のパターン形成面に対向する範囲の表面曲面が円筒面の一部を成す形状の弾性体を用いてもよい。実施の形態2続いて、本発明の実施の形態2について説明する。この実施の形態2は、弾性体が球状である点で、前述した実施の形態1と異なる。以下、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。図6a~dおよび図7は、この実施の形態2におけるインプリント装置により基材8上の1箇所をインプリント成型する工程を示す図である。詳しくは、図6a~dは、モールド4と弾性体15とで基材8を挟み、モールド4のパターン形成面をUV硬化性樹脂13に押し付けて加圧する工程を、順番に時系列で示す図である。また、図7は、図6a~dに示す加圧工程の後、UV硬化性樹脂13を硬化させる工程を示す図である。図6a~dのそれぞれにおいて、上図はモールド4のパターン形成面とUV硬化性樹脂13との接触範囲を示す図であり、下図は工程別側断面図である。また、図7において、上図はモールド4のパターン形成面とUV硬化性樹脂13との接触範囲およびUV硬化性樹脂13の硬化範囲を示す図であり、下図は工程別側断面図である。まず、仮成型を行うことにより、モールド4と弾性体15との位置を合わせた後、本成型へ移行する。本成型では、まず、Y軸テーブル2を下降させることにより、モールド4のパターン形成面と球状の弾性体15の表面曲面とで、パターン形成面に対面する一方面がUV硬化性樹脂13によってコートされた基材8を挟む。そして、モールド4のパターン形成面をUV硬化性樹脂13に押し付けて加圧する。なお、この実施の形態2では、弾性率3.5MPaのシリコンゴムからなる直径800mmの球状の弾性体15を用いた。また、微細パターン5が配置されている領域の面方向の形状が平面形状でその平面のサイズ微細パターン5が配置されている領域のサイズが20mm角のモールド4を用いた。この加圧工程において、Y軸テーブル2は、微細パターン5とUV硬化性樹脂13とが接触する直前から、微細パターン5とUV硬化性樹脂13との間に気体がかみこまないように十分に遅い等速度で下降して、モールド4のパターン形成面をUV硬化性樹脂13に押し付けて加圧する。まず、弾性体15上における基材8の面方向の形状が、球状の弾性体15の外周面球面の一部に沿った形状であることから、パターン形成面微細パターン5とUV硬化性樹脂13とは点で接触し始める図6a参照。その後、Y軸テーブル2が下降するにつれて、Y軸テーブル2からの荷重によって、基材8を下支えしている球状の弾性体15が徐々に押し潰される。そのため、図6a~図6dに示すように、モールド4のパターン形成面とUV硬化性樹脂13との接触範囲が、モールド4と弾性体15とを互いに接近する方向へ相対的に移動させるにつれて、つまりY軸テーブル2を下降させるにつれて、パターン形成面の内側から外側へ向かって徐々に広がる。つまり、接触範囲は、Y軸テーブル2を下降させるにつれて、点から外側へ向かって徐々に拡大する。この実施の形態2のインプリント装置は、点から拡大する構成であるので、線から拡大する前述の実施の形態1のインプリント装置と比べて、より気体が封入される可能性を低減することができる。以上の動作により、パターン形成面微細パターン5とUV硬化性樹脂13との間に気体が封入されることなく、微細パターン5とUV硬化性樹脂13とを確実に接触密着させることができるので、未転写やパターン形状不良を抑制できる。また、図6dに示すように、UV硬化性樹脂13に所望のパターンが付与される深さまで微細パターン5がUV硬化性樹脂13に埋まったとき密着したときには、弾性体15の変形により、基材8はXZ平面に水平ないしは略水平となる。また、このとき、図6dに示すように、微細パターン5が配置されている範囲を超えて、モールド4のパターン形成面がUV硬化性樹脂13に接触密着する。その後、図7に示すように、微細パターン5がUV硬化性樹脂13に密着した状態で、モールド4を通じて、UV照射装置6からのUV光をUV硬化性樹脂13へ照射することにより、UV硬化性樹脂13を硬化させる。これにより、UV硬化性樹脂13に微細パターンが転写される。なお、この実施の形態2においても、前述した実施の形態1と同様に、モールド4のパターン形成面の外周部に設けられた遮光構造斜面と遮光膜14により、UV硬化性樹脂13の硬化範囲と非硬化範囲を分けることができ、さらに、硬化範囲と非硬化範囲の境界を、直線ではなく不規則な曲線にすることができる。UV硬化性樹脂13の硬化後は、Y軸テーブル2を上昇させることにより、モールド4とUV硬化性樹脂13を剥離する。以上の動作により、基材8上の1箇所をインプリント成型することができる。続いて、この実施の形態2におけるインプリント装置により、大面積の基材8に対して上記したインプリント成型を繰り返して、基材8上の異なる場所に微細パターン5を転写する工程を説明する。この実施の形態2においても、前述した実施の形態1と同様に、モールド4のパターン形成面によってUV硬化性樹脂13を加圧し、モールド4を通じてUV光を照射することによってUV硬化性樹脂13を硬化させて、UV硬化性樹脂13に微細パターンを転写する工程を繰り返し、基材8上の異なる場所に微細パターン5を転写することで、パターンがつなぎ合わされた大面積のシート状デバイスを得ることができる。但し、球状の弾性体15を用いるため、この実施の形態2のインプリント装置には、X軸方向の一列分のインプリント成型を実施する際に、モールド4と弾性体15とを対にしてX軸方向へずらすための機構が備え付けられている。また、この実施の形態2においても、UV硬化性樹脂13に転写されたパターンの境界硬化範囲の境界は、直線ではなく規則性のない曲線であるため、パターンのつなぎ目を目立たなくすることができるし、UV硬化性樹脂13の硬化範囲と非硬化範囲を分けることができるので、パターンのつなぎ目の段差を0.5μm以下にすることが可能となる。したがって、この実施の形態2においても、パターンのつなぎ目が不規則な曲線のつながりであり、そのつなぎ目に0.5μm以下の段差を有するシート状デバイスを得ることができる。なお、この実施の形態2では、微細パターン5が配置されている領域の面方向の形状が平面形状でその平面のサイズが20mm角のモールド4を用いると共に、弾性率が3.5MPaのシリコンゴムからなる球状の弾性体15を用いた。この微細パターン5が配置されている領域の面方向の形状およびサイズと、球状の弾性体15の弾性率から、有限要素解析シミュレーションにより、弾性体の球の直径は800mm以上が望ましいことがわかり、この実施の形態2では800mmに設定した。また、この実施の形態2では表面が球面形状の弾性体を用いたが、表面が非球面形状の弾性体や、モールド4のパターン形成面に対向する範囲の表面曲面が球面または非球面の一部を成す形状の弾性体を用いてもよい。以上説明した実施の形態1および2では、シリコンゴムからなる弾性体9、15を用いたが、弾性率が所定の条件を満たしていれば、弾性体の素材は特に限定されるものではない。例えば、シリコンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム、クロロプレンゴム、二トリルゴム、エチレンプロピレンゴム、ブチルゴム、クロロスルフォン化ポリエチレンゴム等の合成ゴムや天然ゴムのうちの少なくとも1種を使用することができる。また、弾性変形可能な金属を用いてもよい。また、上記した実施の形態1および2では、PETフィルムからなるシームレスな基材8を用いたが、ロールベルトとして使える鏡面の薄い他の樹脂または金属を用いてもよい。また、上記した実施の形態1および2では、モールド4と弾性体9、15とで基材8を挟ませ、その基材8上のUV硬化性樹脂13にモールド4のパターン形成面を押し当てて加圧する加圧装置として、Y軸テーブル2を用いたが、Y軸テーブルは一例であって、加圧装置の構成は特に限定されるものではない。また、上記した実施の形態1および2では、基材8上に設ける樹脂にUV硬化性樹脂13を用いたが、気体の残留やモールド4と基材8との未接触部未密着部の発生に起因する未転写やパターン形状不良を抑制できるものであればよい。例えば、気体の残留やモールド4と基材8との未接触部未密着部の発生に起因する未転写やパターン形状不良を抑制できるものであれば、UV光以外の光によって硬化する樹脂や、電子線によって硬化する樹脂や、熱によって硬化する樹脂等を用いてもよい。また、デバイス微細パターン転写面の大面積化に対して、パターンのつなぎ目が目立たず、かつ、つなぎ目に段差が発生しないインプリントを実現するには、1箇所のインプリント成型において硬化範囲と非硬化範囲を分けることが可能で、かつ、硬化範囲の境界を直線ではなく規則性のない曲線にできる樹脂を用いる必要がある。そのような樹脂の一例として、上記した実施の形態1および2ではUV硬化性樹脂13を用いたが、デバイス微細パターン転写面の大面積化に対して、パターンのつなぎ目が目立たず、かつ、つなぎ目に段差が発生しないインプリントを実現できるものであればよい。例えば、デバイス微細パターン転写面の大面積化に対して、パターンのつなぎ目が目立たず、かつ、つなぎ目に段差が発生しないインプリントを実現できるものであれば、UV光以外の光によって硬化する樹脂や、電子線によって硬化する樹脂や、熱によって硬化する樹脂等を用いてもよい。また、上記した実施の形態1および2ではUV硬化性樹脂13を用いたので、モールド4のパターン形成面に接触している樹脂を硬化させる硬化装置としてUV照射装置6を用いたが、樹脂を硬化させる装置はUV照射装置に限定されるものではなく、樹脂の種類に応じて選定すればよい。また、上記した実施の形態1および2では、モールド4を通してUV光をUV硬化性樹脂13へ照射する構成としたので、モールド4の材質として、UV光を透過できる材質を選定した。だが、モールド4の材質はUV光を透過できる材質に限定されるものではなく、樹脂の種類や硬化装置の設置位置等に応じて選定することができる。また、上記した実施の形態1および2では、蛇行制御ローラ10と回転制御ローラ11によって基材を弾性体上へ送り出したが、基材を弾性体上へ送り出す機構の構成は特に限定されるものではない。また、上記した実施の形態1および2では、円筒形状の弾性体9または球状の弾性体15を用いたが、モールド4に対向する弾性体の表面が、その面の内側から外側へ向かって、モールド4のパターン形成面から離れていく形状の曲面であればよい。つまりは、モールド4に対向する弾性体の表面がモールド側へ凸状の曲面であればよい。このような弾性体の表面形状により、加圧時に、モールド4のパターン形成面とUV硬化性樹脂13との接触範囲を、パターン形成面の内側から外側に向かって拡大させることができる。また、上記した実施の形態1および2では、微細パターン5が配置されている領域の面方向の形状が平面形状でその平面のサイズ微細パターン5が配置されている領域のサイズが20mm角のモールド4を用いた。だが、微細パターン5が配置されている領域の面方向の形状やサイズは特に限定されるものではない。但し、微細パターン5が配置されている領域の面方向の形状に応じて、モールド4に対向する弾性体の曲面の曲率を調整するのが好適である。詳しくは、微細パターン5が、平面または、弾性体側へ凸状の曲面上に配置されている場合には、モールド4に対向する弾性体の曲面の曲率を、微細パターン5が配置されている領域の曲率よりも小さく設定するのが好ましい。また、微細パターン5が、弾性体側とは反対側へ凸状の曲面凹状の曲面上に配置されている場合には、モールド4に対向する弾性体の曲面の曲率を、微細パターン5が配置されている領域の曲率よりも大きくするのが好ましい。このようにすれば、モールド4のパターン形成面と基材8上のUV硬化性樹脂との接触範囲を、パターン形成面の内側から外側に向かって徐々に拡大させることができる。