"不織布に樹脂を含浸させて形成した基材に、湿式成膜法により形成した樹脂シートを積層した研磨布において、前記研磨布の研磨面からの深さが最も深い溝最底部が樹脂シートと基材の積層面に達する溝を有することを特徴とする研磨布。前記溝最底部が前記基材に入り込んでいることを特徴とする研磨布。前記基材が前記樹脂シートより、単位体積当たりの吸水量が多いことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の研磨布。これらのスェード研磨布の樹脂シートは疎水性が高いため、研磨液は研磨布に吸水されにくく、研磨布表面に形成した溝の深さが基材上の樹脂シートの厚み以下であるため、溝内の研磨液の多くは研磨加工時の遠心力により研磨液は溝を通って、研磨布内に保持、研磨布表面に供給されることなく、研磨布の周辺に移動し、研磨布の外へ流出する。このように、溝内の研磨液のほんどが研磨に寄与することなく系外へ流れ出るため、多く研磨液の供給が必要であり、時間当たりの研磨量の低下を招いていた。本発明は、上記観点に鑑み創作されたものであり、被研磨物の品質に影響を与えずに、研磨機械装置や研磨機で使用する研磨液の量や濃度、加工圧を増やすことなく、研磨加工に有効に作用する研磨液を増やし、被研磨物の平坦性を確保するための研磨時間を短縮できる研磨布を提供することを課題としている。本発明は、上記の課題を解決するための、第1の解決手段は、不織布に樹脂を含浸させて形成した基材に、湿式成膜法により形成した樹脂シートを積層した研磨布において、前記研磨布の研磨面からの深さが最も深い溝最底部が樹脂シートと基材の積層面に達する溝を有することを特徴とする研磨布を構成としたものである。第2の解決手段は、前記溝最底部が前記基材に入り込んでいることを特徴とする研磨布を構成としたものである。第3の解決手段は、前記基材が前記樹脂シートより、単位体積当たりの吸水量が多いことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の研磨布を構成としたものである。作用上記第1、第2の課題解決手段による作用は、研磨加工時に基材においても研磨液を保持できる。特に第2の課題解決手段によれば、第1の課題解決手段に比べ、基材が溝と接する面が増えるため、より多くの研磨液を基材内に保持することができる。上記第3の課題解決手段による作用は、溝の研磨液の吸水量を増やすことができる。本発明によれば、上記構成、作用よって、被研磨物と研磨布の研磨面間に有効に供給される研磨液量が増え、研磨液の供給量や濃度、加工圧を増やしたりすることなく、被研磨物の平坦性を確保するための研磨時間の短縮が図れる。以下、本発明を詳細に説明する。図1は、本発明の研磨布の一実施形態を概略的に示す断面図である。同図に示すように、本発明の研磨布1は、湿式成膜法により発泡5が形成された樹脂シート2を備えている。すなわち、凝固成分を水混和性の有機溶剤に溶解させた発泡用溶液を基材3に塗布し、次いで発泡用溶液を塗布した基材3を水系凝固液中に浸漬して凝固成分を凝固させることにより発泡5を有する樹脂シート2を積層する。本発明において、樹脂シート2を湿式成膜法により製造する場合、凝固成分としては、特に限定されないが、ポリウレタンエラストマーが好ましく用いられる。ポリウレタンエラストマーは、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系あるいはこれらの共重合体等を用いることができ、目的に応じて単独でまたは2種類以上を混合して用いることができる。凝固成分としてポリウレタンエラストマーの固形分濃度は、好ましくは10~40質量、より好ましくは15~30質量である。エラストマーの固形分濃度が低過ぎる場合、基材上に良好な発泡層が形成されにくくなる。エラストマーの固形分濃度が高過ぎる場合、粘度その他の点で製造上の支障が生じる場合がある。凝固成分としてのポリウレタンエラストマーを溶解する水混和性の有機溶剤としては、特に限定されないが、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、エチルアセテート、ジオキサン等が挙げられる。有機溶剤は目的に応じて単独でまたは2種類以上を混合して用いることができる。そして本発明では、凝固成分を水混和性の有機溶剤に溶解させた溶液に顔料、発泡助剤、親水剤、撥水剤等を配合した発泡用溶液を用いる。本発明に用いられる基材3としては、研磨液を保持する空隙を有する、レーヨン、ポリアミド、ポリエステル等の繊維またはこれらの混合物からなる編織布や不織布が挙げられる。本発明の研磨布1を製造するには、例えば次の様にすればよい。即ち、上述の如き組成に調整されたポリウレタンエラストマー溶液発泡用溶液を前記基材3上にロールコーター、ナイフコーター等の適宜な塗布手段を用いて、150~1,500g/m2の塗布量溶液としてになるように塗布し、次いで水或は水とポリウレタンエラストマーの溶剤との混合液中に浸漬して湿式凝固せしめた後、脱溶剤のための水洗、乾燥をすることにより、基材3上に、積層面4にほぼ垂直にならぶ紡錘状発泡5を有する樹脂シート2を形成する。さらに、樹脂シート2の表面基材3の反対側をサンドペーパー等で研削処理し、発泡5を開口させ、研磨面6を形成する次に、研磨面6に溝7を形成し、研磨布1を作製した。溝7の加工手段としては、切削または研削加工、もしくはレーザー加工によるものがあるが、これらに限定されるものではない。溝7の溝最底部8は基材3と樹脂シート2の積層面4に達していなければならない。さらに、溝7の溝最底部8は積層面4より基材3に0.1mm以上入り込んでいることが好ましい。溝最底部8が樹脂シート2である場合は、本願発明の効果である研磨加工時間を短縮することが困難である。また、溝最底部8が積層面4より基材3に0.1mm以上入り込んでいる場合は、より一層の研磨加工時間の短縮が図れる。また、溝7の幅、間隔ピッチおよび断面の形状例えば、凹状、U字状、V字状等、形態例えば、格子状、同心円状、斜交状、亀の甲状、放射状等については適宜選択することができる。本発明の研磨布1を用いた被研磨物の研磨加工は、通常、コロイダルシリカ、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化セリウム等の研磨剤を含むスラリ状の研磨液を供給しながら行われる。本発明の研磨布1は、例えば、ハードディスク用アルミニウム基板およびガラス基板、液晶ディスプレイ用ガラス基板、シリコンウエハ等の研磨に好適である。以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。<実施例1>図1は実施例1による研磨布1の断面図を示す。ポリエステル短繊維繊度1.5dtex、長さ51mmよりなるニードルパンチされた不織布目付125g/m2、厚み0.8mmに、ポリウレタンエラストマー溶液を含浸させ、水に浸漬して湿式凝固せしめた後、水洗乾燥、研削処理し、厚さ0.4mmの基材3を得た。一方、固形分濃度30のポリエステル系ポリウレタンエラストマー溶液100質量部に、ジメチルホルムアミド60質量部、発泡助剤1.5質量部、および顔料であるカーボンブラックを20質量含有するジメチルホルムアミド分散液10質量部を加え、ポリウレタンエラストマー溶液発泡用溶液を作製した。得られた溶液発泡用溶液を基材3にロールコーターで1000g/m2塗布した後、凝固浴の中に浸漬して凝固させ、温水で十分に脱溶媒した後、100°Cにて熱風乾燥を行った。このようにして不織布の基材3上にポリウレタンエラストマーの発泡5を有する樹脂シート2を積層し、次に、樹脂シート2の表面基材3の反対側を、サンドペーパー240、クリアランス10、ラインスピード1.5m/分、ペーパー回転数1000rpmの条件で、穴開け研削し、樹脂シート2上に研磨面6を形成し、樹脂シート2の厚みを0.6mmとした。上述の研削処理後、溝切り加工機三菱マテリアルテクノ株式会社製直線溝入れ加工機により、溝幅2mm、溝の間隔20mm、研磨面6からの深さ0.6mmの碁盤目状縦横の格子状の溝7を研磨面6に形成し、厚み1.0mmの研磨布1を得た。次に溝加工後の研磨布1の溝7を目視し、溝最底部8が積層面4に達していることを確認した。<実施例2>図2は実施例2による研磨布1の断面図を示す。実施例2では、研磨面6に形成する溝7の研磨面6からの深さを07mmとした以外は、実施例1と同様にし、研磨布1を得た。樹脂シート2の厚みは0.6mmであるから、溝7の最底部8は積層面4より基材3に0.1mm入り込んでいる。溝7を目視し、その溝最底部8が基材3であることを確認した。<比較例1>図3に比較例1、2による研磨布9の断面図を示す。比較例1では、研磨面6に形成する溝10の研磨面6からの深さを05mmとした以外は、実施例1と同様にし、研磨布9を得た。次に溝加工後の研磨布9の溝10を目視し、その溝最底部11が樹脂シート2であることを確認した。<比較例2>比較例3では、樹脂シート2の厚さを0.8mm、基材3の厚さを0.2mmとした以外は、実施例1と同様にし、研磨布9を得た。次に溝加工後の研磨布9の溝10を目視し、その最底面部11が樹脂シート2であることを確認した。<吸水量測定のための試料の作製>樹脂シート2および基材3の吸水量を測定するための試料12について、図4にその概略を示す。<試料の作製>試料12は、図4に示すように、樹脂シート2および基材3の測定用シート13100mm×100mmの正方形の水を吸水させる面以外からの水の侵入を防ぐために、その両面に測定シート13の大きさを上回る、水を透過しない粘着シート14を測定シート13の両面に貼着し、測定シート13を密閉する。さらに水を吸水させる面の粘着シート14の中央をφ40の円形に剥がし、吸水窓15を設けたものである。<樹脂シートの測定用シート>樹脂シート2の測定用シート13は、PETポリエチレンテレフタラート基材上に実施例1と同様の樹脂シート2を形成し、樹脂シート2からPET基材を剥がし、上述の大きさに切断加工したものである。<樹脂シートの測定用シート>基材3の測定用シート13は、実施例1と同様に作製した基材3上の樹脂シート2を研削処理にて取り除き、上述の大きさに切断加工したものである。<吸水量の測定方法>上述の試験片12を十分乾燥させ、吸水前の重量を測定した。次に、水を満たした水槽中に試験片12を沈め、90時間放置後、水槽から取り出し表面の余分な水分を拭き取り、吸水後の重量を測定した。吸水後の重量から吸水前の重量を引き、樹脂シート2、基材3の吸水量を算出した。上述の吸水量の測定方法により、樹脂シート2および基材3ついて、おのおの5枚の試料12を測定し、その平均値を表1に示す。実施例1、2および比較例3、4の研磨布について次の研磨試験を行った。オスカー式の片面研磨装置を用い、予め板厚を精密に測定した、板厚0.7mm、サイズ680mm×880mmの液晶用向けガラス基板を、径1200mmの上方の加圧盤の下面に貼着された厚さ1mmの水を含んだバックパッドに押圧して接触させ吸着固定させた。前記片面研磨装置の下方の径1500mm加圧盤の上面に研磨布を両面テープにより貼着し、加圧盤を回転させ、酸化セリウムからなる研磨砥粒を水に分散させ研磨液とした市販の研磨液を毎分5リットル供給しつつ、ガラス基板を加圧盤にて研磨布に押しつけ研磨を行った。その際の自転軸を中心に自転可能な上方の加圧盤の揺動幅を380mm、揺動速度を50mm/秒、下方の加圧盤の回転数を90rpm回転数/分、研磨圧を100g/cm2とし、研磨を行い、ガラス基板表面に0.01μm~0.03μmの表面凹凸がなくなるまでの研磨時間を測定した。ガラス基板における表面凹凸の有無については、表面粗さ計株式会社東京精密社製、サーフコム1400を用い測定した。上述の研磨加工試験により、実施例および比較例の研磨布について、おのおのガラス基板10枚を研磨し、その平均研磨時間を表2に示す。表2に示すように、研磨面6より積層面4まで達する溝を形成した実施例1による研磨布1を用いた研磨時間は平均297秒、研磨面6より基材3まで入り込んでいる溝を形成した実施例2による研磨布1を用いた研磨時間は平均276秒、研磨面より基材3まで及ばない溝を形成した比較例1の研磨布9を用いた研磨時間は平均325秒であった。よって、比較例1に比較し、ガラス基板表面に0.01μm~0.03μmの表面凹凸がなくなるまでの研磨時間が実施例1では28秒、実施例2では49秒短縮した。また、実施例2と比較例2の比較より、同じ溝の深さであっても、基材3まで入り込む溝を形成した場合は、ガラス基板表面に0.01μm~0.03μmの表面凹凸がなくなるまでの研磨時間が43秒短縮した。よって、上述の吸水量、研磨加工試験に示すように、基材が樹脂シートより単位体積当たりの吸水量が大きい研磨面の溝を形成した研磨布において、溝最底部が、積層面もしくは基材までおよぶ研磨布は、研磨加工時間の短縮が図れる。"