"下記式を満足することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。50nm<Re<400nm-200nm≦Rth≦50nm|Nz|≦10上式において、Reはセルロースアシレートフィルムの面内方向のレターデーション、Rthはセルロースアシレートフィルムの厚み方向のレターデーション、NzはRth/Re0.5を表す。請求項1に記載のセルロースアシレートフィルムであって、該フィルムに含まれるセルロースアシレートの置換度が2.85~3.00で有ることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。請求項1または2に記載のセルロースアシレートフィルムであって、該フィルムが棒状化合物または円盤状化合物を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。請求項1~3のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムであって、該フィルムの幅が0.5~3mであることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。請求項1~4のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムであって、該フィルムの膜厚が40~200μmであることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。請求項1~5のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムであって、該フィルム面内の遅相軸が機械方向と垂直方向にあることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。偏光膜およびその両面に設けられた二枚のフィルムからなる偏光板であって、少なくともその一方のフィルムが請求項1~6のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムからなることを特徴とする偏光板。請求項7に記載の偏光板を用いたことを特徴とする液晶表示装置。IPS方式の液晶表示モードを用いたことを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。置換度が2.85~3.00のセルロースアシレートと棒状化合物または円盤状化合物の少なくとも一種とを含有する溶液を支持体に流延後、形成されたフィルムを剥離して延伸することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。製膜速度が5~300m/分であることを特徴とする請求項10に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。上記の従来技術の課題に鑑みて、本発明は、優れた光学補償能を有しており、生産性が高いフィルムを提供することを目的とした。また、本発明は、視野角特性変化の少ない液晶表示装置と、該装置を製造するための偏光板を提供することも目的とした。本発明者は鋭意検討を重ねた結果、下記の構成を有する本発明によれば上記目的を達成しうることを見いだした。1下記式を満足することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。50nm<Re<400nm-200nm≦Rth≦50nm|Nz|≦10上式において、Reはセルロースアシレートフィルムの面内方向のレターデーション、Rthはセルロースアシレートフィルムの厚み方向のレターデーション、NzはRth/Re0.5を表す。21に記載のセルロースアシレートフィルムであって、該フィルムに含まれるセルロースアシレートの置換度が2.85~3.00で有ることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。31または2に記載のセルロースアシレートフィルムであって、該フィルムが棒状化合物または円盤状化合物を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。41~3のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムであって、該フィルムの幅が0.5~3mであることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。51~4のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムであって、該フィルムの膜厚が40~200μmであることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。61~5のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムであって、該フィルム面内の遅相軸が機械方向と垂直方向にあることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。ここでいう機械方向とは製膜過程におけるフィルムの搬送方向を意味する。7偏光膜およびその両面に設けられた二枚のフィルムからなる偏光板であって、少なくともその一方のフィルムが1~6のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムからなることを特徴とする偏光板。87に記載の偏光板を用いたことを特徴とする液晶表示装置。9IPS方式の液晶表示モードを用いたことを特徴とする8に記載の液晶表示装置。10置換度が2.85~3.00のセルロースアシレートと棒状化合物または円盤状化合物の少なくとも一種とを含有する溶液を支持体に流延後、形成されたフィルムを剥離して延伸することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。11製膜速度が5~300m/分であることを特徴とする10に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。本発明のセルロースアシレートフィルムは、面内のレターデーションReの発現性に優れかつ厚み方向のレターデーションRthが小さいフィルムである。当該セルロースアシレートフィルムは、本発明の製造方法によれば容易に生産性よく製造することが可能である。また、当該セルロースアシレートフィルムを偏光子の保護膜に用いた本発明の偏光板は、視野角特性変化の少ない液晶表示装置を与えうるものである。以下、本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、数値1~数値2という記載は数値1以上数値2以下の意味を表す。また、本明細書において、メタアクリロイルとの記載は、アクリロイルおよびメタクリロイルの少なくともいずれかの意味を表す。メタアクリレート、メタアクリル酸等も同様である。また、水素原子が水素原子以外の原子で置換されている場合、該水素原子以外の原子を便宜上置換基として取り扱う。まず、本発明の光学用セルロースアシレートフィルムについて説明する。[セルロースアシレートフィルム]本発明のセルロースアシレートフィルムとは、セルロースアシレート化合物、およびセルロースを原料として生物的あるいは化学的に官能基を導入して得られるエステル置換セルロース骨格を有する化合物、を含むフィルムである。そのなかでもセルロースアシレートフィルムがより好ましい。セルロースアシレートは、セルロースと酸とのエステルである。エステルを構成する酸は、有機酸が好ましく、カルボン酸がより好ましく、炭素原子数が2~22の脂肪酸がさらに好ましく、炭素原子数が2~4の低級脂肪酸がさらにより好ましく、酢酸が最も好ましい。セルロースアシレートは、セルロースとカルボン酸とのエステルである。セルロースアシレートは、セルロースを構成するグルコース単位の2位、3位および6位に存在するヒドロキシル基の水素原子の全部または一部が、アシル基で置換されている。アシル基の例には、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、イソブタノイル基、tert-ブタノイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基が含まれる。アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、tert-ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基が好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がさらに好ましく、アセチル基が最も好ましい。セルロースアシレートが、セルロースと複数の酸とのエステルであってもよい。セルロースアシレートは、複数のアシル基で置換されていてもよい。また、セルロースアシレートは負の固有複屈折を持つことが好ましい。負の固有複屈折を持つことにより延伸することにより、Rthが減少するという特有の効果を発現する。置換度の大きいセルロースアシレートは負の固有複屈折を有する。セルロースアシレートの置換度は、2.85以上であることが好ましく、2.88~3.00であることがより好ましく、2.92~3.00がさらに好ましく、2.93~3.00が最も好ましい。本明細書において置換度とは、セルロースの2位、3位および6位のそれぞれの水酸基の水素原子が置換されている割合100置換は置換度1の合計を意味する。セルロースアシレートの合成方法について、基本的な原理は、右田伸彦他、木材化学180~190頁共立出版、1968年に記載されている。セルロースアシレートの代表的な合成方法は、カルボン酸無水物-酢酸-硫酸触媒による液相酢化法である。具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート2位、3位および6位のアシル置換度の合計が、ほぼ3.00を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。アシル化反応終了後に、系内に残存している過剰無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒を一部中和するために、中和剤例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒一般には、残存する硫酸の存在下で、50~90°Cに保つことにより鹸化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理によりセルロースアシレートを得る。セルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で200~700が好ましく、250~550がより好ましく、250~400がさらに好ましく、250~350が最も好ましい。粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第18巻第1号、105~120頁、1962年に従い測定できる。粘度平均重合度の測定方法については、特開平9-95538号公報にも記載がある。低分子成分が少ないセルロースアシレートは、平均分子量重合度が高いが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低い値になる。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより行うことができる。また、低分子成分の少ないセルロースアシレートを合成することもできる。低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース100質量に対して0.5~25質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい分子量分布の均一なセルロースアシレートを合成することができる。セルロースアシレートの原料綿や合成方法については、発明協会公開技報公技番号2001-1745号、2001年3月15日発行、発明協会7~12頁にも記載がある。[セルロースアシレートフィルム]セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が実質的にセルロースアシレートからなることが好ましい。実質的にとは、ポリマー成分の55質量以上好ましくは70質量以上、より好ましくは80質量以上、さらに好ましくは90質量以上を意味する。セルロースアシレートフィルムに、二種類以上のセルロースアシレートを併用してもよい。セルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレート溶液を用いるソルベントキャスト法により製造することが好ましい。[セルロースアシレートの状態]セルロースアシレート溶液の原料としては、セルロースアシレート粒子を使用することが好ましい。使用する粒子の90質量以上は、0.5~5mmの粒子サイズを有することが好ましい。また、使用する粒子の50質量以上が1~4mmの粒子サイズを有することが好ましい。セルロースアシレート粒子は、なるべく球形に近い形状を有することが好ましい。セルロースアシレート溶液の調製に使用するセルロースアシレートは、含水率が2質量以下であることが好ましく、1質量以下であることがさらに好ましく、0.7質量以下であることが最も好ましい。セルロースアシレートは一般に、2.5~5質量の含水率を有している。従って、vセルロースアシレートを乾燥してから使用することが好ましい。セルロースアシレートは溶液にするために有機溶媒に溶解する。本発明においては、有機溶媒として、塩素系有機溶媒を主溶媒とする塩素系溶媒と塩素系有機溶媒を含まない非塩素系溶媒とのいずれをも用いることができる。[塩素系溶媒]本発明のセルロースアシレートの溶液を作製するに際しては、主溶媒として塩素系有機溶媒が好ましく用いられる。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し流延,製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りはその塩素系有機溶媒の種類は特に限定されない。これらの塩素系有機溶媒は、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。特にジクロロメタンが好ましい。また、塩素系有機溶媒以外の有機溶媒を混合することも特に問題ない。その場合は、ジクロロメタンは有機溶媒全体量中少なくとも50質量使用することが必要である。本発明で塩素系有機溶剤と併用される他の有機溶媒について以下に記す。すなわち、好ましい他の有機溶媒としては、炭素原子数が3~12のエステル、ケトン、エーテル、アルコール、炭化水素などから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基すなわち、-O-、-CO-および-COO-のいずれかを二つ以上有する化合物も溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を同時に有していてもよい。二種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が3~12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテート等が挙げられる。炭素原子数が3~12のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノン等が挙げられる。炭素原子数が3~12のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等が挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2-エトキシエチルアセテート、2-メトキシエタノールおよび2-ブトキシエタノール等が挙げられる。また塩素系有機溶媒と併用されるアルコールとしては、好ましくは直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級~第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、tert-ブタノール、1-ペンタノール、2-メチル-2-ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、2-フルオロエタノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、2,2,3,3-テトラフルオロ-1-プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。塩素系有機溶媒と他の有機溶媒との組合せ例としては以下の組成を挙げることができるが、本発明で用いることができる組成はこれらに限定されるものではない。ジクロロメタン/メタノール/エタノール/ブタノール80/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/アセトン/メタノール/プロパノール80/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/メタノール/ブタノール/シクロヘキサン80/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール80/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/アセトン/メチルエチルケトン/エタノール/イソプロパノール75/10/10/5/7、質量部ジクロロメタン/シクロペンタノン/メタノール/イソプロパノール80/10/5/8、質量部ジクロロメタン/酢酸メチル/ブタノール80/10/10、質量部、ジクロロメタン/シクロヘキサノン/メタノール/ヘキサン70/20/5/5、質量部、ジクロロメタン/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール50/20/20/5/5、質量部、ジクロロメタン/1、3ジオキソラン/メタノール/エタノール70/20/5/5、質量部、ジクロロメタン/ジオキサン/アセトン/メタノール/エタノール60/20/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/アセトン/シクロペンタノン/エタノール/イソブタノール/シクロヘキサン65/10/10/5/5/5、質量部、ジクロロメタン/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール70/10/10/5/5、質量部、ジクロロメタン/アセトン/酢酸エチル/エタノール/ブタノール/ヘキサン65/10/10/5/5/5、質量部、ジクロロメタン/アセト酢酸メチル/メタノール/エタノール65/20/10/5、質量部、ジクロロメタン/シクロペンタノン/エタノール/ブタノール65/20/10/5、質量部、ジクロロメタン/メタノール85/15、質量部、[非塩素系溶媒]次に、本発明のセルロースアシレートの溶液を作製するに際して好ましく用いられる非塩素系有機溶媒について記載する。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し流延,製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは非塩素系有機溶媒は特に限定されない。本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、炭素原子数が3~12のエステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基すなわち、-O-、-CO-および-COO-のいずれかを2つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。2種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が3~12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが挙げられる。炭素原子数が3~12のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが挙げられる。炭素原子数が3~12のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2-エトキシエチルアセテート、2-メトキシエタノールおよび2-ブトキシエタノールが挙げられる。以上のセルロースアシレートに用いられる非塩素系有機溶媒については、前述のいろいろな観点から選定されるが、好ましくは以下のとおりである。すなわち、非塩素系溶媒としては、前記非塩素系有機溶媒を主溶媒とする混合溶媒が好ましく、互いに異なる3種類以上の溶媒の混合溶媒であって、第1の溶媒が酢酸メチル、酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセトン、ジオキソラン、ジオキサンから選ばれる少なくとも一種あるいは或いはそれらの混合液であり、第2の溶媒が炭素原子数が4~7のケトン類またはアセト酢酸エステルから選ばれ、第3の溶媒として炭素数が1~10のアルコールまたは炭化水素、より好ましくは炭素数1~8のアルコールから選ばれる、混合溶媒である。なお第1の溶媒が、2種以上の溶媒の混合液である場合は、第2の溶媒がなくてもよい。第1の溶媒は、さらに好ましくは酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチルあるいはこれらの混合物であり、第2の溶媒は、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセチル酢酸メチルが好ましく、これらの混合溶媒であってもよい。第3の溶媒であるアルコールは、直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級~第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、tert-ブタノール、1-ペンタノール、2-メチル-2-ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、2-フルオロエタノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、2,2,3,3-テトラフルオロ-1-プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。これらの第3の溶媒であるアルコールおよび炭化水素は単独でもよいし2種類以上の混合物でもよく特に限定されない。第3の溶媒としては、好ましい具体的化合物は、アルコールとしてはメタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、およびシクロヘキサノール、シクロヘキサン、ヘキサンを挙げることができ、特にはメタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノールである。以上の3種類の混合溶媒の混合割合は、混合溶媒全体量中、第1の溶媒が20~95質量、第2の溶媒が2~60質量さらに第3の溶媒が2~30質量の比率で含まれることが好ましく、さらに第1の溶媒が30~90質量であり、第2の溶媒が3~50質量、さらに第3のアルコールが3~25質量含まれることが好ましい。また特に第1の溶媒が30~90質量であり、第2の溶媒が3~30質量、第3の溶媒がアルコールであり3~15質量含まれることが好ましい。以上の本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、さらに詳細には発明協会公開技報公技番号2001-1745号、2001年3月15日発行、発明協会12~16頁に記載されている。本発明の好ましい非塩素系有機溶媒の組成を以下挙げるが、本発明で用いることができる組成はこれらに限定されるものではない。酢酸メチル/アセトン/メタノール/エタノール/ブタノール75/10/5/5/5、質量部、酢酸メチル/アセトン/メタノール/エタノール/プロパノール75/10/5/5/5、質量部、酢酸メチル/アセトン/メタノール/ブタノール/シクロヘキサン75/10/5/5/5、質量部、酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール81/8/7/4、質量部酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール82/10/4/4、質量部酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール80/10/4/6、質量部酢酸メチル/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール80/10/5/5、質量部、酢酸メチル/アセトン/メチルエチルケトン/エタノール/イソプロパノール75/10/10/5/7、質量部、酢酸メチル/シクロペンタノン/メタノール/イソプロパノール80/10/5/8、質量部、酢酸メチル/アセトン/ブタノール85/5/5、質量部、酢酸メチル/シクロペンタノン/アセトン/メタノール/ブタノール60/15/15/5/6、質量部、酢酸メチル/シクロヘキサノン/メタノール/ヘキサン70/20/5/5、質量部、酢酸メチル/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール50/20/20/5/5、質量部、酢酸メチル/1、3-ジオキソラン/メタノール/エタノール70/20/5/5、質量部、酢酸メチル/ジオキサン/アセトン/メタノール/エタノール60/20/10/5/5、質量部、酢酸メチル/アセトン/シクロペンタノン/エタノール/イソブタノール/シクロヘキサン65/10/10/5/5/5、質量部、ギ酸メチル/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール50/20/20/5/5、質量部、ギ酸メチル/アセトン/酢酸エチル/エタノール/ブタノール/ヘキサン65/10/10/5/5/5、質量部、アセトン/アセト酢酸メチル/メタノール/エタノール65/20/10/5、質量部、アセトン/シクロペンタノン/エタノール/ブタノール65/20/10/5、質量部、アセトン/1,3-ジオキソラン/エタノール/ブタノール65/20/10/5、質量部、1、3-ジオキソラン/シクロヘキサノン/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール55/20/10/5/5/5、質量部さらに下記の方法で調製したセルロースアシレート溶液を用いることもできる。酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール81/8/7/4、質量部でセルロースアシレート溶液を作製しろ過濃縮後に2質量部のブタノールを追加添加する方法酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール84/10/4/2、質量部でセルロースアシレート溶液を作製しろ過濃縮後に4質量部のブタノールを追加添加する方法酢酸メチル/アセトン/エタノール84/10/6、質量部でセルロースアシレート溶液を作製しろ過濃縮後に5質量部のブタノールを追加添加する方法本発明に用いるセルロースアシレート溶液ドープには、上記本発明の非塩素系有機溶媒に、ジクロロメタンを全有機溶媒量の10質量以下の量で含有させてもよい。[セルロースアシレート溶液の特性]セルロースアシレート溶液は、前記有機溶媒にセルロースアシレートを10~30質量の濃度で溶解させた溶液であるのが製膜流延適性の点で好ましく、より好ましくは13~27質量であり、特に好ましくは15~25質量である。これらの濃度にセルロースアシレートを実施する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるように実施してもよく、また予め低濃度溶液例えば9~14質量として作製した後に後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度のセルロースアシレート溶液としてもよく、いずれの方法でも本発明のセルロースアシレート溶液濃度になるように実施されれば特に問題ない。本発明では、セルロースアシレート溶液を同一組成の有機溶媒で0.1~5質量にした希釈溶液中のセルロースアシレートの会合体分子量が15万~1500万であることが好ましく、18万~900万であることがより好ましい。この会合分子量は静的光散乱法で求めることができる。その際に同時に求められる慣性自乗半径は10~200nmになるように溶解することが好ましい。さらに好ましい慣性自乗半径は20~200nmである。さらにまた、第2ビリアル係数が-2×104~4×104となるように溶解することが好ましく、第2ビリアル係数が-2×104~2×104となるように溶解することがより好ましい。ここで、本発明での会合分子量、さらに慣性自乗半径および第2ビリアル係数の定義について述べる。これらは下記方法に従って、静的光散乱法を用いて測定する。測定は装置の都合上希薄領域で測定するが、これらの測定値は本発明の高濃度域でのドープの挙動を反映するものである。まず、セルロースアシレートをドープに使用する溶剤に溶かし、0.1質量、0.2質量、0.3質量、0.4質量の溶液を調製する。なお、秤量は吸湿を防ぐためセルロースアシレートは120°Cで2時間乾燥したものを用い、25°C相対湿度10で行う。溶解方法は、ドープ溶解時に採用した方法に従って実施する。続いてこれらの溶液、および溶剤を0.2μmのテフロン製フィルター-Re|および|Rth-Rth|を低下させる化合物を少なくとも1種、セルロースアシレート固形分に対して0.01~30質量含ませることによってセルロースアシレートフィルムのRe、Rthの波長分散を調整できることを見い出した。セルロースアシレートフィルムのRe、Rthの値は一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。したがって相対的に小さい短波長側のRe、Rthを大きくすることによって波長分散を平滑にすることが要求される。一方200~400nmの紫外領域に吸収を持つ化合物は長波長側よりも短波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはRe、Rthの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。したがって上述したような、200~400nmの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のRe、Rthの波長分散が短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのRe、Rthの波長分散を調整することができる。このためには波長分散を調整する化合物はセルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は200~400nmが好ましいが、220~395nmがより好ましく、240~390nmがさらに好ましい。また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、200~400nmの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの|Re-Re|および|Rth-Rth|を低下させる化合物をセルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れている要求される。本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、波長380nmにおける分光透過率が45~95であり、かつ波長350nmにおける分光透過率が10以下であることが望ましい。上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は揮散性の観点から分子量が250~1000であることが好ましい。より好ましくは260~800であり、さらに好ましくは270~800であり、特に好ましくは300~800である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。化合物添加量上述した本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートの0.01~30質量であることが好ましく、0.1~20質量であることがより好ましく、0.2~10質量であることが特に好ましい。化合物添加の方法またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、2種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明で用いることができる化合物はこれらに限定されるものではない。ベンゾトリアゾール系化合物としては、一般式101で示されるものが本発明の波長分散調整剤として好ましく用いられる。一般式101Q1-Q2-OH式中、Q1は含窒素芳香族ヘテロ環Q2は芳香族環を表す。Q1は含窒素方向芳香族へテロ環を表わし、好ましくは5~7員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは5ないし6員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等があげられ、さらに好ましくは、5員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。Q1で表される含窒素芳香族ヘテロ環はさらに置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Tが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環してさらに環を形成してもよい。Q2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。芳香族炭化水素環として好ましくは好ましくは炭素数6~30の単環または二環の芳香族炭化水素環例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。であり、より好ましくは炭素数6~20の芳香族炭化水素環、さらに好ましくは炭素数6~12の芳香族炭化水素環である。さらに好ましくはベンゼン環である。芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環である。Q2で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Q2はさらに置換基を有してもよく、後述の置換基Tが好ましい。置換基Tとしては例えばアルキル基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~12、特に好ましくは炭素数1~8であり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。、アルケニル基好ましくは炭素数2~20、より好ましくは炭素数2~12、特に好ましくは炭素数2~8であり、例えばビニル基、アリル基、2-ブテニル基、3-ペンテニル基などが挙げられる。、アルキニル基好ましくは炭素数2~20、より好ましくは炭素数2~12、特に好ましくは炭素数2~8であり、例えばプロパルギル基、3-ペンチニル基などが挙げられる。、アリール基好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12であり、例えばフェニル基、p-メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。、置換または未置換のアミノ基好ましくは炭素数0~20、より好ましくは炭素数0~10、特に好ましくは炭素数0~6であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。、アルコキシ基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~12、特に好ましくは炭素数1~8であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。、アリールオキシ基好ましくは炭素数6~20、より好ましくは炭素数6~16、特に好ましくは炭素数6~12であり、例えばフェニルオキシ基、2-ナフチルオキシ基などが挙げられる。、アシル基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~16、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。、アルコキシカルボニル基好ましくは炭素数2~20、より好ましくは炭素数2~16、特に好ましくは炭素数2~12であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。、アリールオキシカルボニル基好ましくは炭素数7~20、より好ましくは炭素数7~16、特に好ましくは炭素数7~10であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。、アシルオキシ基好ましくは炭素数2~20、より好ましくは炭素数2~16、特に好ましくは炭素数2~10であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。、アシルアミノ基好ましくは炭素数2~20、より好ましくは炭素数2~16、特に好ましくは炭素数2~10であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。、アルコキシカルボニルアミノ基好ましくは炭素数2~20、より好ましくは炭素数2~16、特に好ましくは炭素数2~12であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。、アリールオキシカルボニルアミノ基好ましくは炭素数7~20、より好ましくは炭素数7~16、特に好ましくは炭素数7~12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。、スルホニルアミノ基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~16、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。、スルファモイル基好ましくは炭素数0~20、より好ましくは炭素数0~16、特に好ましくは炭素数0~12であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。、カルバモイル基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~16、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。、アルキルチオ基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~16、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。、アリールチオ基好ましくは炭素数6~20、より好ましくは炭素数6~16、特に好ましくは炭素数6~12であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。、スルホニル基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~16、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。、スルフィニル基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~16、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。、ウレイド基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~16、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。、リン酸アミド基好ましくは炭素数1~20、より好ましくは炭素数1~16、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基好ましくは炭素数1~30、より好ましくは1~12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。、シリル基好ましくは、炭素数3~40、より好ましくは炭素数3~30、特に好ましくは、炭素数3~24であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられるなどが挙げられる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。一般式101として好ましくは、下記一般式101-Aで表される化合物である。一般式101-A式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基ととしては前述の置換基Tが適用できる。またこれらの置換基はさらに別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。R1およびR3として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素1~12アルキル基であり、特に好ましくは炭素数1~12のアルキル基好ましくは炭素数4~12である。R2、およびR4として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素1~12アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。R5およびR8として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素1~12アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。R6およびR7として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。一般式101としてより好ましくは、下記一般式101-Bで表される化合物である。一般式101-B式中、R1、R3、R6およびR7はそれぞれ独立に一般式101-Aにおけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。以下に一般式101で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明で用いることができる化合物は下記具体例に何ら限定されるものではない。以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が320以下のものを含まずに本発明のセルロースアシレートフィルムを作製した場合、保留性の点で有利であることが確認された。また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるベンゾフェノン系化合物としては一般式102で示されるものが好ましく用いられる。一般式102式中、Q1およびQ2はそれぞれ独立に芳香族環を表す。XはNRRは水素原子または置換基を表す。、酸素原子または硫黄原子を表す。Q1およびQ2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。Q1およびQ2で表される芳香族炭化水素環として好ましくは好ましくは炭素数6~30の単環または二環の芳香族炭化水素環例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。であり、より好ましくは炭素数6~20の芳香族炭化水素環、さらに好ましくは炭素数6~12の芳香族炭化水素環である。さらに好ましくはベンゼン環である。Q1およびQ2で表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかひとつを少なくとも1つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。Q1およびQ2で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数6~10の芳香族炭化水素環であり、さらに好ましくは置換または無置換のベンゼン環である。Q1およびQ2はさらに置換基を有してもよく、後述の置換基Tが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、4級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。XはNRRは水素原子または置換基を表す。置換基としては後述の置換基Tが適用できる。、酸素原子または硫黄原子を表し、Xとして好ましくは、NRRとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基はさらに置換してもよい。、またはOであり、特に好ましくはOである。置換基Tとしては、前記のものを挙げることができる。一般式102として好ましくは、下記一般式102-Aで表される化合物である。一般式102-A式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基ととしては前述の置換基Tが適用できる。またこれらの置換基はさらに別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。R1、R3、R4、R5、R6、R8およびR9として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素1~12アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。R2として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数0~20のアミノ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは炭素数1~20のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数1~12のアルコキシ基である。R7として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数0~20のアミノ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは水素原子、炭素数1~20のアルキル基好ましくは炭素数1~12、より好ましくは炭素数1~8、さらに好ましくはメチル基であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。一般式102としてより好ましくは、下記一般式102-Bで表される化合物である。一般式102-B式中、R10は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表す。R10は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、置換基としては前述の置換基Tが適用できる。R10として好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数5~20の置換または無置換のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数5~12の置換または無置換のアルキル基n-ヘキシル基、2-エチルヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。であり、特に好ましくは、炭素数6~12の置換または無置換のアルキル基2-エチルヘキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-ドデシル基、ベンジル基である。一般式102で表される化合物は、特開平11-12219号公報記載の公知の方法により合成できる。以下に一般式102で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明で用いることができる化合物は下記具体例に何ら限定されるものではない。また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるシアノ基を含む化合物としては、一般式103で示されるものが好ましく用いられる。一般式103式中、Q1およびQ2はそれぞれ独立に芳香族環を表す。X1およびX2はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか1つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Q1およびQ2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。芳香族炭化水素環として好ましくは好ましくは炭素数6~30の単環または二環の芳香族炭化水素環例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。であり、より好ましくは炭素数6~20の芳香族炭化水素環、さらに好ましくは炭素数6~12の芳香族炭化水素環である。さらに好ましくはベンゼン環である。芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環である。Q1およびQ2で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。Q1およびQ2はさらに置換基を有してもよく、前述の置換基Tが好ましい。X1およびX2は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか1つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。X1およびX2で表される置換基は前述の置換基Tを適用することができる。また、X1およびX2はで表される置換基はさらに他の置換基によって置換されてもよく、X1およびX2はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。X1およびX2として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、さらに好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基-C=OORRは:炭素数1~20アルキル基、炭素数6~12のアリール基およびこれらを組み合せたものである。一般式103として好ましくは下記一般式103-Aで表される化合物である。一般式103-A式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。X1およびX2は一般式20におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基ととしては前述の置換基Tが適用できる。またこれらの置換基はさらに別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。R1、R2、R4、R5、R6、R7、R9、およびR10として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素1~12アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。R3、およびR8として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数0~20のアミノ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは水素原子、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。一般式103としてより好ましくは下記一般式103Bで表される化合物である。一般式103B式中、R3およびR8はそれぞれ独立に一般式103-Aにおけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。X3は水素原子または置換基を表す。X3は水素原子、または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Tが適用でき、また、可能な場合はさらに他の置換基で置換されてもよい。X3として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、さらに好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基-C=OORRは:炭素数1~20アルキル基、炭素数6~12のアリール基およびこれらを組み合せたものである。一般式103としてさらに好ましくは、一般式103-Cで表される化合物である。一般式103-C式中、R3およびR8はそれぞれ独立に一般式103-Aにおけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。R21は炭素数1~20のアルキル基を表す。R21として好ましくはR3およびR8が両方水素の場合には、炭素数2~12のアルキル基であり、より好ましくは炭素数4~12のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数6~12のアルキル基であり、特に好ましくは、n-オクチル基、tert-オクチル基、2-エチルへキシル基、n-デシル基、、n-ドデシル基であり、最も好ましくは2-エチルへキシル基である。R21として好ましくはR3およびR8が水素以外の場合には、一般式103-Cで表される化合物の分子量が300以上になり、かつ炭素数20以下の炭素数のアルキル基が好ましい。本発明一般式103で表される化合物はJounalofAmericanChemicalSociety63巻3452頁1941記載の方法によって合成できる。以下に一般式103で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明で用いることができる化合物は下記具体例に何ら限定されるものではない。[マット剤微粒子]本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、1次平均粒子サイズが20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上であるものが好ましい。1次粒子の平均径が5~16nmと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は90~200g/リットルが好ましく、100~200g/リットルがさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。上記二酸化珪素微粒子を用いる場合の使用量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分100質量部に対して0.01~0.3質量部とするのが好ましい。これらの微粒子は、通常平均粒子サイズが0.1~3.0μmの2次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、1次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に0.1~3.0μmの凹凸を形成させる。2次平均粒子サイズは、0.2μm~1.5μmが好ましく、0.4μm~1.2μmがさらに好ましく、0.6μm~1.1μmが最も好ましい。2次平均粒子サイズが上記範囲であれば、きしみ防止効果が十分発現すると共にヘイズが小さい。1次、2次粒子サイズはフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子サイズとする。また、場所を変えて粒子200個を観察し、その平均値をもって平均粒子サイズとする。二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600以上日本アエロジル株製などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976およびR811以上日本アエロジル株製の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でアエロジル200V、アエロジルR972Vが1次平均粒子サイズが20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。本発明において2次平均粒子サイズの小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ調製し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子がさらに再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースアシレートを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は5~30質量が好ましく、10~25質量がさらに好ましく、15~20質量が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は1m2あたり0.01~1.0gが好ましく、0.03~0.3gがさらに好ましく、0.08~0.16gが最も好ましい。使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースアシレートの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。[ドープ調製]次にセルロースアシレート溶液ドープの調製について述べる。セルロースアシレートの溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。これらに関しては、例えば特開平5-163301号、特開昭61-106628号、特開昭58-127737号、特開平9-95544号、特開平10-95854号、特開平10-45950号、特開2000-53784号、特開平11-322946号、さらに特開平11-322947号、特開平2-276830号、特開2000-273239号、特開平11-71463号、特開平04-259511号、特開2000-273184号、特開平11-323017号、特開平11-302388号の各公報などにセルロースアシレート溶液の調製法が記載されている。以上記載したこれらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、本発明においても適宜本発明の範囲であればこれらの技術を適用できるものである。これらの詳細は、特に非塩素系溶媒系については発明協会公開技報公技番号2001-1745号、2001年3月15日発行、発明協会22~25頁に詳細に記載されている方法で実施される。さらに本発明のセルロースアシレートのドープ溶液は、溶液濃縮,ろ過が通常実施され、同様に発明協会公開技報公技番号2001-1745号、2001年3月15日発行、発明協会25頁に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。セルロースアシレート溶液は、その溶液の粘度と動的貯蔵弾性率が以下に述べる範囲であることが、流延しやすく好ましい。試料溶液1mLをレオメーターに直径4cm/2°のSteelConeを用いて測定する。測定条件はOscillationStepTemperatureRampで40°C~-10°Cの範囲を2°C分で可変して測定し、40°Cの静的非ニュートン粘度nおよび-5°Cの貯蔵弾性率Gを求める。尚、試料溶液は予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に測定を開始する。本発明では、40°Cでの粘度が1~400Pasであり、15°Cでの動的貯蔵弾性率が500Pa以上であるのが好ましく、より好ましくは40°Cでの粘度が10~200Pasで、15°Cでの動的貯蔵弾性率が100~100万である。さらには低温での動的貯蔵弾性率が大きいほど好ましく、例えば流延支持体が-5°Cの場合は動的貯蔵弾性率が-5°Cで1万~100万Paであることが好ましく、支持体が-50°Cの場合は-50°Cでの動的貯蔵弾性率が1万~500万Paが好ましい。本発明においては、前述の特定のセルロースアシレートを用いているので、高濃度のドープが得られるのが特徴であり、濃縮という手段に頼らずとも高濃度でしかも安定性の優れたセルロースアシレート溶液が得られる。さらに溶解し易くするために低い濃度で溶解してから、濃縮手段を用いて濃縮してもよい。濃縮の方法としては、特に限定するものはないが、例えば、低濃度溶液を筒体とその内部の周方向に回転する回転羽根外周の回転軌跡との間に導くとともに、溶液との間に温度差を与えて溶媒を蒸発させながら高濃度溶液を得る方法例えば、特開平4-259511号公報等、加熱した低濃度溶液をノズルから容器内に吹き込み、溶液をノズルから容器内壁に当たるまでの間で溶媒をフラッシュ蒸発させるとともに、溶媒蒸気を容器から抜き出し、高濃度溶液を容器底から抜き出す方法例えば、米国特許第2,541,012号、米国特許第2,858,229号、米国特許第4,414,341号、米国特許第4,504,355号各明細書等などに記載の方法等で実施できる。溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。セルロースアシレート溶液の濾過には絶対濾過精度が0.1~100μmのフィルタを用いることが好ましく、さらには絶対濾過精度が0.5~25μmであるフィルタを用いることが好ましい。フィルタの厚さは、0.1~10mmが好ましく、さらには0.2~2mmが好ましい。その場合、ろ過圧力は1.6MPa以下が好ましく、より好ましくは1.2MPa以下、さらには1.0MPa以下、特に0.2MPa以下で濾過することが好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知である材料を好ましく用いることができ、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。セルロースアシレート溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、通常10Pas~2000Pasの範囲に調製されることが好ましく、30Pas~1000Pasがより好ましく、40Pas~500Pasがさらに好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは-5~70°Cであり、より好ましくは-5~55°Cである。[製膜]本発明のセルロースアシレートフィルムは、前記セルロースアシレート溶液を用いて製膜を行うことにより得ることができる。製膜方法および設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機釜から調製されたドープセルロースアシレート溶液を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金スリットからエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜ウェブとも呼ぶを金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。電子ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。以下に各製造工程について簡単に述べるが、これらに限定されるものではない。まず、調製したセルロースアシレート溶液ドープは、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製される際に、ドープをドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が5~40質量となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が30°C以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましく用いられ、特には-10~20°Cの金属支持体温度であることが好ましい。さらに特開2000-301555号、特開2000-301558号、特開平07-032391号、特開平03-193316号、特開平05-086212号、特開昭62-037113号、特開平02-276607号、特開昭55-014201号、特開平02-111511号、および特開平02-208650号の各公報に記載の方法を本発明では用いることができる。また、製膜速度は5~300m/分が好ましく、20~100m/分がさらに好ましく、40~80m/分がもっとも好ましい。本明細書でいう製膜速度とは、流延法で製膜する場合は流延速度を意味する。[重層流延]セルロースアシレート溶液を、金属支持体としての平滑なバンド上或いはドラム上に単層液として流延してもよいし、2層以上の複数のセルロースアシレート液を流延してもよい。複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭61-158414号、特開平1-122419号、および特開平11-198285号の各公報などに記載の方法が適応できる。また、2つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってフィルム化することでもよく、例えば特公昭60-27562号、特開昭61-94724号、特開昭61-947245号、特開昭61-104813号、特開昭61-158413号、および特開平6-134933号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭56-162617号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高、低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出すセルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。さらに、特開昭61-94724号および特開昭61-94725号の各公報に記載の外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。或いはまた2個の流延口を用いて、第一の流延口により金属支持体に成型したフィルムを剥離し、金属支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭44-20235号公報に記載されている方法である。流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらにセルロースアシレート溶液は、他の機能層例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、UV吸収層、偏光膜などを同時に流延することも実施しうる。従来の単層液では、必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多かった。この解決として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に金属支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができた。共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の1~50であることが好ましく、より好ましくは2~30の厚さである。ここで、3層以上の共流延の場合は金属支持体に接した層と空気側に接した層のトータル膜厚を外側の厚さと定義する。共流延の場合、前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロースアシレート溶液を共流延して、積層構造のセルロースアシレートフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層/コア層/スキン層といった構成のセルロースアシレートフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよい。また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えばスキン層に低揮発性の可塑剤および紫外線吸収剤のうち少なくともいずれかを含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。また、剥離促進剤を金属支持体側のスキン層のみ含有させることも好ましい態様である。また、冷却ドラム法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、スキン層に貧溶媒であるアルコールをコア層より多く添加することも好ましい。スキン層とコア層のTgが異なっていても良く、スキン層のTgよりコア層のTgが低いことが好ましい。また、流延時のセルロースアシレートを含む溶液の粘度もスキン層とコア層で異なっていても良く、スキン層の粘度がコア層の粘度よりも小さいことが好ましいが、コア層の粘度がスキン層の粘度より小さくてもよい。[流延]溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやTダイタイプ等があるがいずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施でき、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造するのに使用されるエンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルトバンドといってもよいが用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムの製造に用いられる加圧ダイは、金属支持体の上方に1基或いは2基以上の設置でもよい。好ましくは1基または2基である。2基以上設置する場合には流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるセルロースアシレート溶液の温度は、-10~55°Cが好ましく、より好ましくは25~50°Cである。その場合、工程のすべてが同一でもよく、あるいは工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。[乾燥]セルロースアシレートフィルムの製造に係わる金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属支持体ドラム或いはベルトの表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム或いはベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム或いはベルトを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度はドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より1~10°C低い温度に設定することが好ましい。尚、流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。[延伸処理]本発明のセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することができる。さらには、積極的に幅方向に延伸する方法もあり、例えば、特開昭62-115035号、特開平4-152125号、特開平4-284211号、特開平4-298310号、および特開平11-48271号の各公報などに記載されている。これは、セルロースアシレートフィルムの面内レターデーション値を高い値とするために、製造したフィルムを延伸する。フィルムの延伸は、常温または加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度を挟む±20°Cであることが好ましい。これは、カ ゙ラス転移温度より極端に低い温度で延伸すると、破断しやすくなり所望の光学特性を発現させることができない。また、ガラス転移温度より極端に高い温度で延伸すると、延伸により分子配向したものが熱固定される前に、延伸時の熱で緩和し配向を固定化することができず、光学特性の発現性が悪くなる。フィルムの延伸は、縦あるいは横だけの一軸延伸固定幅、自由幅でもよく同時あるいは逐次2軸延伸でもよい。延伸は10~200の延伸が行われる。好ましくは12~100の延伸が、特に好ましくは15から80延伸を行う。液晶表示装置用の位相差膜として使用する場合には偏光子の吸収軸と直交する方向にセルロースアシレートフィルムの屈折率の大きい方向があることが必要であり、偏光子とのロールツーロールでの加工のため、光学フィルムの幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなることが好ましい。また、延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理しても良い。前者の場合には残留溶剤量ウエット比を含んだ状態で延伸を行っても良く、残留溶剤量ウエット比残留溶剤量/残留溶剤量固形分量が2~50で好ましく延伸することができる。乾燥後得られる本発明のセルロースアシレートフィルムの膜厚は、使用目的によって異なり、通常5~500μmの範囲であることが好ましく、さらに40~200μmの範囲が好ましく、さらに好ましくは40~180μmであり、特に好ましくは40~150μm、とりわけ好ましくは40~130μmの範囲である。また、光学用として特に液晶表示装置用としては40~120μmであることが好ましい。レターデーションの絶対値は膜厚に比例するため、膜厚を調整することでフィルムの光学特性を調節することが可能である。また、透湿度も膜厚に反比例して減少するため膜厚を大きくすることで透湿度は小さくなり、より水を通しにくくなる。60°C相対湿度90における500時間の偏光板耐久性試験などで有利である。フィルム厚さの調製は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。以上のようにして得られたセルロースアシレートフィルムの幅は0.5~3mが好ましく、より好ましくは0.6~2.5m、さらに好ましくは0.8~2.2m、とくに好ましくは1.0~2.2mである。幅が細すぎる場合には、生産効率が低くなりやすく、また大型液晶表示装置への用途に応用しにくい。長さは1ロールあたり100~10000mで巻き取るのが好ましく、より好ましくは500~7000mであり、さらに好ましくは1000~6000mである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、幅は3mm~50mmが好ましく、より好ましくは5mm~30mm、高さは0.5~500μmが好ましく、より好ましくは1~200μmである。これは片押しであっても両押しであっても良い。[セルロースアシレートフィルムの光学特性]本発明のセルロースアシレートフィルムの面内のレターデション値Re、厚み方向レターデーション値Rthは、それぞれ下記数式XI、XIIを満たす。これによって、液晶表示装置、特にIPSモード液晶表示装置の視野角を広くすることができるため好ましい。数式XI:50nm<Re<400nm数式XII:-200nm≦Rth≦50nm[式中、Reは波長λnmにおける面内レターデーション値単位:nm、Rthは波長λnmにおける厚み方向のレターデーション値単位:nmである。またnxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの厚さである。]本発明のセルロースアシレートフィルムは、下記数式を満たすことがより好ましい。数式XIII:110nm≦Re≦300nm数式XIV:-100nm≦Rth≦20nm本発明のセルロースアシレートフィルムは、下記数式を満たすことがさらに好ましい。数式XV:150nm≦Re≦300nm数式XVI:-50nm≦Rth≦5nmまた、下記数式で表されるNz値の絶対値は10以下であることが好ましく、1以下であることがさらに好ましく、0.7以下であることがもっとも好ましい。数式A:Nz=Rth/Re0.5特にIPS型液晶表示装置に用いる場合、本発明のセルロースアシレートフィルムは、Reが200~330nm、|Nz|が0.3~0.7であることが好ましく、より好ましくはReが220~300nm、|Nz|が0.4~0.6、さらに好ましくはReが250~290nm、|Nz|が0.4~0.6である。また特定の光学特性を有する本発明のセルロースアシレートフィルムと、他の光学補償層とを積層した光学補償シートを作製することで、様々な光学特性を実現することが可能となり、光学設計の自由度を高めることができる。また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、25°C相対湿度10におけるRe値と25°C相対湿度80におけるRe値との差ΔRe=Re10RH-Re80RHが、0~50nmであり、25°C相対湿度10におけるRth値と25°C相対湿度80におけるRth値との差ΔRth=Rth10RH-Rth80RHが、0~30nmであるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくするうえで好ましい。Reの幅手方向での膜厚分布は、フィルム端部より5cm内側の位置から幅手方向に順次等間隔に、2cm幅手方向×3cm幅手直交方向のサンプルを10個採取して厚みを測定することにより評価することができる。各試験片2cm×3cmの膜厚は、フィルムの面内において縦、横方向それぞれ3個所ずつ合計9点測定することにより求めることができる。幅手方向の膜厚の最大値、最小値、平均値をそれぞれRmax、Rmin、Raveとしたときの膜厚分布RをR=Rmax-Rmin/Rave×100と定義したとき、Rは0~8に調整されていることが好ましく、0~7.8に調整されていることがより好ましく、0~7.6に調整されていることがさらに好ましい。Re、Rthは膜厚に比例した値となるため、膜厚の幅手方向で膜厚の分布は小さいほどRe590、Rth590のばらつきが小さくなるため好ましい。Re590、Rth590の分布は上記膜厚バラツキに起因して、或いは、延伸ムラ、乾燥ムラなどに起因して発生するが、このReの分布バラツキは5以下に、Rthの分布は10以下に調整されていることが好ましい。より好ましくはReの分布は4.8以下に、Rthの分布は9.8以下であり、さらに好ましくはReの分布が4.6以下、Rthの分布は9.6以下であることが好ましい。以上の膜厚分布R、Re分布、Rth分布は、液晶表示装置で当該フィルムを用いて表示させたときに表示ムラが低減されるため好ましい。本発明において光学特性の測定は以下の方法で行なった。ReはKOBRA21ADH王子計測機器株製において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。また、Rthは前記Re、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して40°傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して-40°傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて測定したレターデーション値の計3つの方向で測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値1.48および膜厚を入力し算出した。本明細書においては特に限定のない限りレターデーション値は波長590nmで測定した値とする。また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、90°C、500時間経時させる前後での色差ΔEabは、0.8以下であることが好ましく、0.7以下であることが好ましく、0.5以下であることがより好ましい。また、140°C、24時間経時させる前後での色差は、1.5以下であることが好ましく、1.0以下であることがより好ましく、0.5以下であることがさらに好ましい。90°C500時間や140°C24時間経時などの環境強制条件下で、フィルムが着色すると位相差膜としての光学補償能の低下が起こり好ましくなく、また外観上でも好ましくない。色差の測定は、UV3100島津製作所製を用いた。測定の仕方は、フィルムを25°C相対湿度60に2時間以上調湿した後にサーモ経時前のフィルムのカラー測定を行ない初期値L0、a0、b0を求めた。その後、フィルム単体で空気恒温槽に所定時間放置した。所定時間の経過後、フィルムを恒温槽から取り出し、25°C相対湿度60に2時間調湿した後に、カラー測定を行い、サーモ経時後の値L1、a1、b1を求めた。これらから、色差ΔEab=L0-L12a0-a12b0-b1212を求めた。また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、25°C相対湿度80における平衡含水率が5.0以下であるのが好ましく、4.0以下であるのがさらに好ましく、3.2以下であるのがより好ましく、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。含水率の測定法は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料7mm×35mmを水分測定器、試料乾燥装置CA-03、VA-05、共に三菱化学株にてカールフィッシャー法で測定する。水分量gを試料質量gで除して算出する。また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、60°C相対湿度95、24時間の透湿度膜厚80μm換算が、400g/m224時間~1800g/m224時間であるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。測定された透湿度は、基準膜厚を80μmとして換算される。透湿度の換算値は、80μm換算の透湿度=実測の透湿度×実測の膜厚μm/80μmにより計算される。透湿度の測定法は、高分子の物性II高分子実験講座4共立出版の285頁~294頁:蒸気透過量の測定質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法に記載の方法を適用することができる。ガラス転移温度の測定は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料未延伸5mm×30mmを、25°C相対湿度60で2時間以上調湿した後に動的粘弾性測定装置バイブロン:DVA225アイティー計測制御株式会社製で、つかみ間距離20mm、昇温速度2°C/分、測定温度範囲30°C~200°C、周波数1Hzで測定し、縦軸に対数軸で貯蔵弾性率、横軸に線形軸で温度°Cをとった時に、貯蔵弾性率が固体領域からガラス転移領域へ移行する際に見受けられる貯蔵弾性率の急激な減少を固体領域で直線1を引き、ガラス転移領域で直線2を引いたときの直線1と直線2の交点を、昇温時に貯蔵弾性率が急激に減少しフィルムが軟化し始める温度であり、ガラス転移領域に移行し始める温度であるため、ガラス転移温度Tg動的粘弾性とする。弾性率の測定は、本発明の乾膜のセルロースアシレートフィルム試料10mm×150mmを、25°C相対湿度60で2時間以上調湿した後、引張り試験機ストログラフ-R2東洋精機製で、チャック間距離100mm、温度25°C、延伸速度10mm/分で行なった。また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、ヘイズが0.01~2であるのが好ましい。ここで、ヘイズは、以下のようにして測定される。本発明のセルロースアシレートフィルム試料40mm×80mmを、25°C相対湿度60でヘイズメーターHGM-2DP、スガ試験機でJISK-6714に従って測定する。また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、80°C相対湿度90の条件下に48時間静置した場合の質量変化が、0~5であるのが好ましい。また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、60°C相対湿度95の条件下に24時間静置した場合の寸度変化および90°C相対湿度5の条件下に24時間静置した場合の寸度変化が、いずれも0~5であるのが好ましい。本発明のセルロースアシレートフィルムの光弾性係数は、50×1013cm2dyne以下であるのが液晶表示装置の経時による色味変化を少なくするうえで好ましい。具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料10mm×100mmの長軸方向に対して引っ張り応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメーターM150、日本分光株で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出する。[偏光板]次に、本発明の偏光板について説明する。偏光板は、通常、偏光子およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。そして、本発明では、少なくとも一方の保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いる。他方の保護膜は、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いても、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。例えば、得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平6-94915号、特開平6-118232号各公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護膜処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。偏光板は偏光子およびその両面を保護する保護膜で構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成してもよい。プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸と本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。なお、偏光板クロスニコル下で作製した偏光板は、本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸透過軸と直交する軸との直交精度が1°より大きいと、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下して光抜けが生じ、液晶セルと組み合わせた場合に、十分な黒レベルやコントラストが得られない為、本発明のセルロースアシレートフィルムの主屈折率nxの方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが1°以内、好ましくは0.5°以内であることが好ましい。本発明においては、偏光板の単板透過率、平行透過率、直交透過率はUV3100PC島津製作所社製を用いて測定した。測定では、25°C相対湿度60条件下、380nm~780nmの範囲で測定し、単板、平行、直交透過率ともに、10回測定の平均値を用いた。偏光板耐久性試験は1偏光板のみと2偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた、2種類の形態で次のように行った。偏光板のみの測定は、2つの偏光子の間に光学補償膜が挟まれるように組み合わせて直交、同じものを2つ用意し測定した。ガラス貼り付け状態のものはガラスの上に偏光板を光学補償膜がガラス側にくるように貼り付けたサンプル約5cm×5cmを2つ作製する。単板透過率測定ではこのサンプルのフィルムの側を光源に向けてセットして測定した。2つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を単板の透過率とした。偏光性能の好ましい範囲としては単板透過率、平行透過率、直交透過率の順でそれぞれ、40.0≦TT≦45.0、30.0≦PT≦40.0、CT≦2.0であり、より好ましい範囲としては40.2≦TT≦44.8、32.2≦PT≦39.5、CT≦1.6であり、さらに好ましい範囲としては41.0≦TT≦44.6、34≦PT≦39.1、CT≦1.3である。これらの透過率から偏光度Pは計算され偏光度Pが大きいほど、クロス配置したときの漏れ光がすくなくなり偏光板の性能が高いことを示している。偏光度Pは95.0以上であることが好ましく、より好ましくは96.0以上、さらに好ましくは97.0以上である。本発明の偏光板は、波長λにおける直交透過率をTλとしたときに、T、T、Tが下記式e~gの少なくとも1つ以上を満たすことが好ましい。eT≦2.0fT≦1.0gT≦0.5より好ましくはT380≦1.95、T410≦0.9、T700≦0.49であり、さらに好ましくはT380≦1.90、T410≦0.8、T700≦0.48である。本発明の偏光板は、60°C相対湿度95の条件下に500時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔCT、偏光度変化量ΔPが下記式j、kの少なくとも1つ以上を満たすことが好ましい。j-6.0≦ΔCT≦6.0k-10.0≦ΔP≦0.0ただし、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値を示すより好ましくは-5.8≦ΔCT≦5.8、-9.5≦ΔP≦0.0、さらに好ましくは、-5.6≦ΔCT≦5.6、-9.0≦ΔP≦0.0である。本発明の偏光板は、60°C相対湿度90の条件下に500時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔCT、偏光度変化量ΔPが下記式h、iの少なくとも1つ以上を満たすことが好ましい。h-3.0≦ΔCT≦3.0i-5.0≦ΔP≦0.0本発明の偏光板は、80°Cの条件下に500時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔCT、偏光度変化量ΔPが下記式l、mの少なくとも1つ以上を満たすことが好ましい。l-3.0≦ΔCT≦3.0m-2.0≦ΔP≦0.0また偏光板耐久性試験ではその変化量はより小さいほうが好ましい。[表面処理]本発明のセルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層例えば、下塗層およびバック層との接着の向上を達成することができる。表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、103~20Torrの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、さらにまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報公技番号2001-1745号、2001年3月15日発行、発明協会30~32頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば10~1000KeV下で20~500kGyの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは30~500KeV下で20~300kGyの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法または鹸化液をセルロースアシレートフィルム塗布する方法で実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびE型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液をセルロースアシレートフィルムに対して塗布するために、濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によってセルロースアシレートフィルム表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、KOH、NaOHがさらに好ましい。鹸化塗布液のpHは10以上が好ましく、12以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で1秒~5分が好ましく、5秒~5分がさらに好ましく、20秒~3分が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。また、本発明の偏光板は、偏光板の他方の側の保護膜の表面にハードコート層、防眩層、反射防止層の少なくとも一層を設けたものであるのが好ましい。すなわち、図2に示すように偏光板の液晶表示装置への使用時において液晶セルと反対側に配置される保護膜TAC2には反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましく、かかる機能性膜としてハードコート層、防眩層、反射防止層の少なくとも一層を設けるのが好ましい。なお、各層はそれぞれ別個の層として設ける必要はなく、例えば反射防止層に防眩層としての機能を持たせることにより反射防止層を反射防止層および防眩層として機能する層としても良い。[反射防止層]本発明では、保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層してなる反射防止層、または保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層してなる反射防止層が好適に用いられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。保護膜上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層の好ましい例について述べる。光散乱層には、マット粒子が分散されているのが好ましく、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は1.50~2.00の範囲にあることが好ましい。低屈折率層の屈折率は、1.20~1.49の範囲にあることが好ましい。本発明において光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、1層でもよいし、複数層、例えば2層~4層で構成されていてもよい。反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さRaが0.08~0.40μm、10点平均粗さRzがRaの10倍以下、平均山谷距離Smが1~100μm、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が0.5μm以下、中心線を基準とした平均山谷距離Smの標準偏差が20μm以下、傾斜角0~5度の面が10以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。また、C光源下での反射光の色味がa値-2~2、b値-3~3、380nm~780nmの範囲内での反射率の最小値と最大値の比が0.5~0.99であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またC光源下での透過光のb値を0~3とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。また、面光源上と本発明の反射防止フィルムの間に120μm×40μmの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が20以下であると、高精細パネルに本発明のフィルムを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。本発明で用いることができる反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率2.5以下、透過率90以上、60度光沢度70以下とすることが好ましい。このようにすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上する。特に鏡面反射率は1以下がより好ましく、05以下であることが最も好ましい。ヘイズ20~50、内部ヘイズ/全ヘイズ値0.3~1、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が15以内、くし幅0.5mmにおける透過像鮮明度20~50、垂直透過光/垂直から2度傾斜方向の透過率比が1.5~5.0とすることで、高精細LCDパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。[低屈折率層]保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層してなる反射防止層における低屈折率層について以下に説明する。低屈折率層の屈折率は、好ましくは1.20~1.49であり、さらに好ましくは1.30~1.44の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式XVを満たすことが低反射率化の点で好ましい。数式XV:m/4×0.7<n1d1<m/4×1.3式中、mは正の奇数であり、n1は低屈折率層の屈折率であり、そして、d1は低屈折率層の膜厚nmである。また、λは波長であり、500~550nmの範囲の値である。低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。低屈折率層は、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが好ましい。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数0.03~0.20、水に対する接触角90~120°、純水の滑落角が70°以下の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の偏光板を画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、引張り試験機で測定した場合に500gf以下が好ましく、300gf以下がより好ましく、100gf以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、0.3GPa以上が好ましく、0.5GPa以上がより好ましい。低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物例えばヘプタデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロデシルトリエトキシシランの加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の構成成分である含フッ素モノマー単位を形成するモノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール等、メタアクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類例えばビスコート6FM大阪有機化学製やM-2020ダイキン製等、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。架橋反応性付与のための構成単位としては、グリシジルメタアクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー例えばメタアクリル酸、メチロールメタアクリレート、ヒドロキシアルキルメタアクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によってメタアクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できるが挙げられる。また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等、アクリル酸エステル類アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸エステル類メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等、スチレン誘導体スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン等、ビニルエーテル類メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等、ビニルエステル類酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等、アクリルアミド類N-tert-ブチルアクリルアミド、N-シクロヘキシルアクリルアミド等、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。上記のポリマーに対しては特開平10-25388号および特開平10-147739号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。[光散乱層]光散乱層は、表面散乱および内部散乱の少なくともいずれかによる光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。また、このような光散乱層を設けることにより、該光散乱層が防眩層としても機能し、偏光板が防眩層を有することになる。光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する目的で、1~10μmが好ましく、1.2~6μmがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が不足となる。光散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの共重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、および窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を含むものを選択することもできる。二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールとメタアクリル酸とのエステル例えば、エチレングリコールジメタアクリレート、ブタンジオールジメタアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリレート、1,4-シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,2,3-シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体例えば、1,4-ジビニルベンゼン、4-ビニル安息香酸-2-アクリロイルエチルエステル、1,4-ジビニルシクロヘキサノン、ビニルスルホン例えば、ジビニルスルホン、アクリルアミド例えば、メチレンビスアクリルアミドおよびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは2種以上併用してもよい。高屈折率モノマーの具体例としては、ビス4-メタクリロイルチオフェニルスルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4-メタクリロキシフェニル-4apos-メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を保護膜上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を保護膜上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒子サイズが1~10μm、好ましくは1.5~7.0μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、TiO2粒子等の無機化合物の粒子;アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。また、粒子サイズの異なる2種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子サイズのマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子サイズのマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。さらに、上記マット粒子の粒子サイズ分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子サイズは、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子サイズよりも20以上粒子サイズが大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の1以下であることが好ましく、より好ましくは0.1以下であり、さらに好ましくは0.01以下である。このような粒子サイズ分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは10~1000mg/m2、より好ましくは100~700mg/m2となるように光散乱層に含有される。マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、平均粒子サイズが0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.06μm以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒子サイズは前述の無機フィラーと同じである。光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、TiO2、ZrO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、ITOとSiO2等が挙げられる。TiO2およびZrO2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理またはチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の10~90であることが好ましく、より好ましくは20~80であり、特に好ましくは30~75である。なお、このようなフィラーは、粒子サイズが光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。光散乱層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、1.50~2.00であることが好ましく、より好ましくは1.51~1.80である。屈折率を上記範囲とするには、バインダーおよび無機フィラーの種類および量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を光散乱層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。次に保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止層について述べる。保護膜上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層最外層の順序の層構成から成る反射防止層は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>保護膜の屈折率>低屈折率層の屈折率また、保護膜と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。さらには、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい。例えば、特開平8-122504号公報、同8-110401号公報、同10-300902号公報、特開2002-243906号公報、特開2000-111706号公報等に記載の反射防止層が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの例えば、特開平10-206603号公報、特開2002-243906号公報等等が挙げられる。反射防止層のヘイズは、5以下あることが好ましく、3以下がさらに好ましい。また膜の強度は、JISK5400に従う鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。[高屈折率層および中屈折率層]反射防止層の高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ100nm以下の高屈折率の無機化合物微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化膜から成る。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率1.65以上の無機化合物の微粒子が挙げられ、好ましくは屈折率1.9以上のものが挙げられる。例えば、Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等の微粒子が挙げられる。平均粒子サイズ100nm以下の微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること例えば、シランカップリング剤等:特開平11-295503号公報、同11-153703号公報、特開2000-9908号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤:特開2001-310432号公報等、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること例えば、特開2001-166104号公報等、特定の分散剤併用例えば、特開平11-153703号公報、米国特許第6,210,858B1号明細書、特開2002-2776069号公報等等挙げられる。マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。さらに、ラジカル重合性およびカチオン重合性の少なくともいずれかの重合性基を2個以上含有する多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物およびその部分縮合体含有組成物から選ばれる少なくとも1種の組成物が好ましい。例えば、特開2000-47004号公報、同2001-315242号公報、同2001-31871号公報、同2001-296401号公報等に記載の組成物が挙げられる。また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開2001-293818号公報等に記載されている。高屈折率層の屈折率は、1.70~2.20であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、5nm~10μmであることが好ましく、10nm~1μmであることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50~1.70であることが好ましい。また、厚さは5nm~10μmであることが好ましく、10nm~1μmであることがさらに好ましい。[低屈折率層]次に、保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層してなる反射防止層における低屈折率層について説明する。低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は1.20~1.55であることが好ましい。より好ましくは1.30~1.50である。耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。また、含フッ素化合物はフッ素原子を35~80質量の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。例えば、特開平9-222503号公報明細書段落番号[0018]~[0026]、同11-38202号公報明細書段落番号[0019]~[0030]、特開200140284号公報明細書段落番号[0027]~[0028]、特開2000-284102号公報等に記載の化合物が挙げられる。含フッ素化合物の屈折率は1.35~1.50であることが好ましい。より好ましくは1.36~1.47である。シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン例えば、サイラプレーンチッソ株製等、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン特開平11-258403号公報等等が挙げられる。架橋または重合性基を有する含フッ素ポリマーおよびシロキサンポリマーの少なくともいずれかのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより低屈折率層を形成することが好ましい。また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物特開昭58-142958号公報、同58-147483号公報、同58-147484号公報、特開平9-157582号公報、同11-106704号公報等に記載の化合物、フッ素含有長鎖基であるポリパーフルオロアルキルエーテル基を含有するシリル化合物特開2000-117902号公報、同2001-48590号公報、同2002-53804号公報記載の化合物等等が挙げられる。低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤例えば、二酸化珪素シリカ、含フッ素粒子フッ化マグネシウム,フッ化カルシウム,フッ化バリウム等の一次粒子平均径が1~150nmの低屈折率無機化合物、特開平11-3820公報の段落番号0020~0038に記載の有機微粒子等、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。低屈折率層の膜厚は、30~200nmであることが好ましく、50~150nmであることがさらに好ましく、60~120nmであることが最も好ましい。[ハードコート層ハードコート層は、反射防止層を設けた保護膜に物理強度を付与するために、保護膜の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光および熱の少なくともいずれかの手段で、硬化性化合物の架橋反応または重合反応により形成されることが好ましい。硬化性化合物における硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。また加水分解性官能基含有の有機金属化合物や有機アルコキシシリル化合物も好ましい。これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したものと同様のものが挙げられる。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開2002-144913号公報、同2000-9908号公報、国際公開第00/46617号パンフレット等記載のものが挙げられる。高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。ハードコート層は、平均粒子サイズ0.2~10μmの粒子を含有させて防眩機能アンチグレア機能を付与した防眩層を兼ねることもできる。ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、0.2~10μmであることが好ましく、より好ましくは0.5~7μmである。ハードコート層の強度は、JISK5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。また、JISK5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。[反射防止層の他の層]さらに、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。[帯電防止層]帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が108Ωcm3以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により108Ωcm3の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色しているものがあるが、このような金属酸化物を導電性層素材として用いるとフィルム全体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属としてZn,Ti,Al,In,Si,Mg,Ba,Mo,W,またはVを挙げることができ、これを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例としては、ZnO,TiO2,SnO2,Al2O3,In2O3,SiO2,MgO,BaO,MoO3,V2O5等あるいはこれらの複合酸化物がよく、特にZnO,TiO2,およびSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl,In等の添加物、SnO2に対してはSb,Nb,ハロゲン元素等の添加、またTiO2に対してはNb,TA等の添加が効果的である。さらにまた、特公昭59-6235号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子あるいは繊維状物例えば酸化チタンに上記の金属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。尚、体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較することはできないが、体積抵抗値で108Ωcm3以下の導電性を確保するためには、該帯電防止層が概ね1010Ω/□以下の表面抵抗値を有していればよく、さらに好ましくは108Ω/□以下である。帯電防止層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値であり、帯電防止層を形成する途中の段階で測定することができる。[液晶表示装置]一般的な液晶表示装置の構成セルロースアシレートフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合は、偏光素子の透過軸と、セルロースアシレートフィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは透明電極層の接着に用いるアンダーコート層下塗り層を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に50μm~2mmの厚さを有する。液晶表示装置の種類本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。TNTwistedNematic、IPSInPlaneSwitching、FLCFerroelectricLiquidCrystal、AFLCAntiferroelectricLiquidCrystal、OCBOpticallyCompensatoryBend、STNSupperTwistedNematic、VAVerticallyAligned、ECBElectricallyControlledBirefringence、およびHANHybridAlignedNematicのような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のセルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。TN型液晶表示装置本発明のセルロースアシレートフィルムを、TNモードの液晶セルを有するTN型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板の保護膜として用いてもよい。TNモードの液晶セルとTN型液晶表示装置については、古くから良く知られている。TN型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平3-9325号、特開平6-148429号、特開平8-50206号、特開平9-26572号の各公報に記載がある。また、モリMori他の論文JpnJApplPhysVol36p143や、JpnJApplPhysVol36p1068に記載がある。STN型液晶表示装置本発明のセルロースアシレートフィルムを、STNモードの液晶セルを有するSTN型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板の保護膜として用いてもよい。一般的にSTN型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が90~360度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性Δnとセルギャップdとの積Δndが300~1500nmの範囲にある。STN型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開2000-105316号公報に記載がある。VA型液晶表示装置本発明のセルロースアシレートフィルムは、VAモードの液晶セルを有するVA型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板の保護膜として用いてもよい。VA型液晶表示装置に用いる光学補償シートのReレターデーション値を0~150nmとし、Rthレターデーション値を70~400nmとすることが好ましい。Reレターデーション値は、20~70nmであることがさらに好ましい。VA型液晶表示装置に二枚の光学異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのRthレターデーション値は70~250nmであることが好ましい。VA型液晶表示装置に一枚の光学異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのRthレターデーション値は150~400nmであることが好ましい。VA型液晶表示装置は、例えば特開平10-123576号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。IPS型液晶表示装置およびECB型液晶表示装置本発明のセルロースアシレートフィルムは、IPSモードおよびECBモードの液晶セルを有するIPS型液晶表示装置およびECB型液晶表示装置の光学補償シート、光学補償シートの支持体、または偏光板の保護膜としても特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。特にIPS型液晶表示装置用には、Reが200~330nm、|Nz|が0.3~0.7、より好ましくはReが220~300nm、|Nz|が0.4~0.6、さらに好ましくはReが250~290nm、|Nz|が0.4~0.6である本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板のセル側保護膜に使用し、液晶セルを挟んで対向する偏光板のセル側保護膜には、Reが3nm以下、Rth値の絶対値|Rth|が10nm以下、より好ましくはReが1nm以下、|Rth|が5nm以下のフィルムを用いることが好ましい。OCB型液晶表示装置およびHAN型液晶表示装置本発明のセルロースアシレートフィルムは、OCBモードの液晶セルを有するOCB型液晶表示装置あるいはHANモードの液晶セルを有するHAN型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板の保護膜として用いてもよい。OCB型液晶表示装置あるいはHAN型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。OCB型液晶表示装置あるいはHAN型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学異方性層と支持体との配置により決定される。OCB型液晶表示装置あるいはHAN型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平9-197397号公報に記載がある。また、モリMori他の論文JpnJApplPhysVol38p2837に記載がある。反射型液晶表示装置本発明のセルロースアシレートフィルムは、TN型、STN型、HAN型、GHGuestHost型の反射型液晶表示装置の光学補償シートまたは偏光板の保護膜として用いてもよい。これらの表示モードは古くから良く知られている。TN型反射型液晶表示装置については、特開平10-123478号公報、国際公開第98/48320号パンフレット、特許第3022477号公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、国際公開第00/65384号パンフレットに記載がある。その他の液晶表示装置本発明のセルロースアシレートフィルムは、ASMAxiallySymmetricAlignedMicrocellモードの液晶セルを有するASM型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板の保護膜として用いてもよい。ASMモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、TNモードの液晶セルと同様である。ASMモードの液晶セルとASM型液晶表示装置については、クメKume他の論文KumeetalSID98Digest1089に記載がある。以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。[実施例1]セルロースアシレート表1に記載されるようにアシル基の種類と置換度の異なるセルロースアシレートを以下の手順にしたがって調製した。セルロース100質量部に触媒として硫酸7.8質量部を添加し、さらにアシル置換基の原料となるカルボン酸を添加して40°Cでアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の種類と量を調整することによって、表1に記載されるようにアシル基の種類と置換度を調整した。アシル化後に40°Cで熟成を行った。得られた混合物中のセルロースアシレートの低分子量成分を、アセトンで洗浄することによって除去した。なお、表1において、CAPとは、セルロースアセテートプロピオネートアシル基がアセチル基とプロピオニル基からなるセルロースエステル誘導体の略称、CABとはセルロースアセテートブチレートアシル基がアセチル基とブチル基からなるセルロースエステル誘導体の略称、CTAとは、セルローストリアセテートアシル基がアセチル基のみからなるセルロースエステル誘導体の略称である。ドープの調製<1-1>セルロースアシレート溶液の調製下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、さらに90°Cで約10分間加熱した後、平均孔径34μmのろ紙および平均孔径10μmの焼結金属フィルターでろ過してセルロースアシレート溶液を調製した。―――――――――――――――――――――――――――――――――セルロースアシレート溶液―――――――――――――――――――――――――――――――――セルローストリアセテート置換度2.85100.0質量部メチレンクロライド403.0質量部メタノール60.2質量部―――――――――――――――――――――――――――――――――<1-2>マット剤分散液の調製上記方法で調製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。――――――――――――――――――――――――――――――――――マット剤分散液――――――――――――――――――――――――――――――――――平均粒子サイズ16nmのシリカ粒子aerosilR972日本アエロジル株製2.0質量部メチレンクロライド72.4質量部メタノール10.8質量部セルロースアシレート溶液10.3質量部――――――――――――――――――――――――――――――――――<1-3>Re発現剤溶液の調製上記方法で調製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して溶解し、Re発現剤溶液を調製した。―――――――――――――――――――――――――――――――――Re発現剤溶液―――――――――――――――――――――――――――――――――Re発現剤A-1220.0質量部メチレンクロライド58.3質量部メタノール8.7質量部セルロースアシレート溶液12.8質量部―――――――――――――――――――――――――――――――――上記の溶液を、セルロースアシレートを100質量部とした時に、マット剤が0.15質量部、Re発現剤が表1に示す割合になるように混合し、混合溶剤、ジクロロメタン/メタノール87/13質量部に綿の質量濃度が19質量となるように攪拌しながら投入して加熱攪拌し溶解し製膜用ドープを調製した。流延上述のドープをバンド流延機を用いて20m/minの速度製膜速度で流延した。残留溶剤量ウエット比が25~35質量でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、テンターゾーンの給気温度140°C排気温度は90°C~125°Cの範囲で、80の延伸倍率表1参照で幅方向に延伸し、面内の遅相軸が機械方向と垂直方向にあるセルロースアシレートフィルム1厚さ92μm、幅1.3m、長さ2600mを製造した。[実施例2~14および比較例1,2]アシル基の種類、置換度、Re発現剤の種類および添加量、延伸倍率、膜厚を表1に記載されるように変更して、実施例1と同様の手順で本発明のセルロースアシレートフィルム2~18、比較例のセルロースアシレートフィルムC1、C2を作製した。[試験例1]実施例1~14および比較例1,2で得られた各セルロースアシレートフィルムについて、Re、Rth、|Nz|を測定した結果を表1にまとめて示した。ReとRthの測定は、上記のようにKOBRA21ADHを用いて行った。[実施例101~114および比較例101,102]偏光板の作製セルロースアシレートフィルム1を60°Cに調温した1.5mol/LのNaOH水溶液けん化液に2分間浸漬した後、0.05mol/Lの硫酸水溶液に30秒間浸漬し、さらに水洗浴を通して十分に洗い流した。最後に試料を120°Cで十分に乾燥させた。特開2001-141926号公報の実施例1に従い、2対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸して作製した厚み20μmの偏光膜に対し、一方の面にフジタックTD-80UFを、他方にけん化した本発明のセルロースアシレートフィルム1をポリビニルアルコール株クラレ製PVA-117H3水溶液を接着剤として貼り合わせ、偏光子の吸収軸とセルロースアシレートフィルム1の面内の遅相軸が直交するように偏光板101を作製した。対向偏光板の作製下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した。シリカ粒子はあらかじめ溶媒に分散した後に投入した。――――――――――――――――――――――――――――――――――――――セルロースアシレート溶液A――――――――――――――――――――――――――――――――――――――平均酢化度2.93のセルロースアセテート100.0質量部メチレンクロライド第1溶媒517.6質量部メタノール第2溶媒77.3質量部平均粒子サイズ16nmのシリカ粒子0.13質量部AEROSILR972、日本アエロジル株製光学異方性を低下する化合物下記構造式11.7質量部波長分散調整剤UV-1021.2質量部クエン酸エステル0.01質量部――――――――――――――――――――――――――――――――――――――上記セルロースアシレート溶液Aをバンド流延機を用いて流延し、残留溶剤量約60でフィルムをバンドから剥離しテンターにより搬送した。乾燥ゾーンの平均温度は135°Cとした。得られたセルロースアシレートフィルムL1はRe=0.3nm、Rth=1.0nmであった。このようにして作製したフィルムとTD-80UFを用いて、偏光板101の作製方法と同様にして偏光板L101を作製した。偏光板101および偏光板L101を用いて、液晶表示装置のパネルに実装して評価を行った。IPSモード液晶セルの作製一枚のガラス基板上に、隣接する電極間の距離が20μmとなるように電極を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔ギャップ;dを3.9μmとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性Δnが0.0769および誘電率異方性Δεが正の4.5であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のdΔnの値は300nmであった。この液晶セルの光源側に本発明の偏光板101を液晶セルの遅相軸と偏光板101の吸収軸が直交するようにまた、セルロースアシレートフィルム1が液晶セル側となるように粘着剤により貼り付け、液晶セルの反対側に対向の偏光板101と吸収軸が直交するように偏光板L101のセルロースアシレートフィルムL1側を液晶セル側にし、粘着剤により貼り付けIPS型液晶表示装置101を作製した。[実施例102~114および比較例101,102]実施例2~12および比較例1,2で作製したセルロースアシレートフィルム2~12、C1、C2を用いて、実施例101と同様に偏光板加工を行い、IPS液晶表示装置102~112およびC101,C102を作製した。[試験例2]位相差膜の評価および作製した液晶表示装置の漏れ光の測定作製した液晶表示装置の透過率の視野角依存性を測定した。抑角は正面から斜め方向へ10°毎に80°まで、方位角は水平右方向0°を基準として10°毎に360°まで測定した。黒表示時の輝度は正面方向から抑角が増すにつれ、漏れ光透過率も上昇し、抑角70°近傍で最大値をとることがわかった。また黒表示透過率が増すことで、コントラストが悪化することもわかった。そこで、正面の黒表示透過率と抑角60°の漏れ光透過率の最大値で、視野角特性を評価することにした。表示特性の評価◎視野角特性差が極めてわずかであり極めて良好○視野角特性差がわずかであり良好△視野角特性差がほとんどない×視野角特性差が大きい結果を表2に示した。"