"複数の磁気記録媒体を処理する方法であって、複数の磁気記録媒体の各々が、非磁性基体上に磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含み、複数の磁気記録媒体をUVランプで照射する第1の照射工程を含み、複数の磁気記録媒体のうちの一部の磁気記録媒体をUVランプで追加的に照射する第2の照射工程を含む方法。第2の照射工程が、一部の磁気記録媒体を所定の滞留時間滞留させながら照射する工程であり、所定の滞留時間が、第1の照射工程の1~1.5倍の時間である、請求項1に記載の方法。しかしながら、カセットごとの処理を行う場合、装置でUV処理を行うためのUVランプハウス下で待機する時間がカセットの場所で異なるため、カセット内でのボンド潤滑層の膜厚のバラつきが出てしまうことが問題となっていた。直接UV光は、全ての磁気ディスク例えば全25枚の磁気ディスクに対してすべて同じ条件で照射されるが、間接UV光は、カセット送りをしてUVランプハウス下のカーテン部分のリフター部にディスクの場所を合わせた状態で照射されるので、カセット内の最後周辺でUV処理される磁気ディスク例えば全25枚中23枚目~25枚目の磁気ディスクに対して間接UV光の照射量が少なくなってしまい、ボンド率が下がってしまうという現象が起きていた。そのため、特にカセット内の最後周辺でUV処理される磁気ディスクにおいても、ボンド潤滑層の膜厚が他の磁気ディスクの膜厚と同等となるような処理方法が必要とされる。本発明は上述の問題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、複数の磁気記録媒体間の潤滑層の膜厚のバラつきを抑制し、均一な潤滑層の膜厚の磁気記録媒体を提供することである。上記目的を達成するために、本発明の複数の磁気記録媒体をUV処理する方法は、複数の磁気記録媒体の各々が、非磁性基体上に磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含み、複数の磁気記録媒体をUVランプで照射する第1の照射工程を含み、複数の磁気記録媒体のうちの一部の磁気記録媒体をUVランプで追加的に照射する第2の照射工程を含む。ここで、第2の照射工程が、一部の磁気記録媒体を所定の滞留時間滞留させながら照射する工程であり、所定の滞留時間が、第1の照射工程の1~1.5倍の時間であることが好ましい。本発明によれば、複数の磁気記録媒体間の潤滑層の膜厚のバラつきが抑制され、均一な潤滑層の膜厚の磁気記録媒体を提供することが可能となる。本発明の複数の磁気記録媒体をUV処理する方法は、複数の磁気記録媒体の各々が、非磁性基体上に磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む。非磁性基体、磁性膜、および保護膜は、通常用いられている非磁性基体、磁性膜、および保護膜を用いることができる。本発明の方法は、複数の磁気記録媒体をUVランプで照射する第1の照射工程を含み、複数の磁気記録媒体のうちの一部の磁気記録媒体をUVランプで追加的に照射する第2の照射工程を含む。第1の照射工程で使用されるUVランプと、第2の照射工程で使用されるUVランプとは、同じ装置および出力であると装置および工程を単純化でき好ましいが、本発明は例えば第1の照射工程で使用されるUVランプと、第2の照射工程で使用されるUVランプとを異なる装置とし、または異なる出力とする構成も含むものである。第1の照射工程と第2の照射工程が連続していると時間短縮化でき好ましいが、本発明は第1の照射工程と第2の照射工程が間隔を空けている構成も含むものである。好ましくは、第2の照射工程が、一部の磁気記録媒体を所定の滞留時間滞留させながら照射する工程であり、所定の滞留時間が、第1の照射工程の1~1.5倍の時間である。所定の滞留時間が、第1の照射工程の1~1.5倍直接光の照射時間と同じ以上直接光の照射時間の1.5倍以下の時間であると磁気記録媒体のカセットポジション内のボンド率のバラつきが最小限に抑えられるという効果が得られる。図1に本発明の方法に使用される装置の一例を示す。図1は、装置10においてUV処理時の磁気ディスク12磁気記録媒体の典型例、カセット14、カーテン16、UVランプ図示せずを収納したUVランプハウス18の位置を示している。磁気ディスク12、カセット14、カーテン16、UVランプハウス18の位置は、直接UV光照射前、照射中、照射後は常にこの状態になっている。直接UV光で磁気ディスク12を処理するため、カセット14をUVランプハウス18下で待機させ、リフター図示せずの位置にカセット14を送りながらカセット14の下からリフターで1枚ずつピックアップしている。直接UV光の照射第1の照射工程は、UVランプハウス18内に磁気ディスク12を1枚ずつ入れて行っている。間接UV光の照射は、待機中にUVランプハウス18から光が漏れてくるために起こっている。滞留時の間接UV光の照射第2の照射工程は、直接UV光の照射終了後にリフターが磁気ディスク12をカセット14に戻した状態でカセット送りをせずに留めておき間接UV光を照射することで行われている。磁気記録媒体の好ましい潤滑剤としては、潤滑剤の主鎖部分に化学式1と化学式2のようにパーフルオロポリエーテルを含み、末端部分R1、R2、R3の少なくとも1つが複数の官能基を有しており、分子量が500~10,000の間で規定されるものである。上記記載の末端構造において、官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルデヒド基、1級および2級アミン基、ニトロ基、ニトリル基、イソニトリル基、イソシアナート基、チオール基、スルホ基、複素環のうちいずれか1つまたは複数から選択されることが好ましい。なお、潤滑剤に添加剤を加える場合もあるが、その場合でも本願発明の効果は得られることになる。こうして、例えば、間接UV光によるボンド潤滑層形成の制御方法として、通常の処理ではボンド層膜厚が低くなってしまうカセットの最後周辺例えば23枚目~25枚目で滞留させてボンド層膜厚を上昇させることでカセット内ボンド潤滑剤膜厚のバラつきを低減させることが可能となる。以下本発明の実施例を説明する。なお、実施例は本発明の代表例に過ぎず、本発明は実施例の記載に限定されるものではない。潤滑剤として末端基に-OHを持つZ-Tetraolソルベイソレクシス社製を用いた。従来通りのUV処理を行った場合第1の照射工程のみを行った場合と、カセットの最後周辺23枚目~25枚目で滞留させた場合第1の照射工程および追加の第2の照射工程を行った場合とで、ボンド潤滑層の膜厚のバラつきを調査した。[磁気記録媒体への塗布および特性評価]1、サンプル作製‐潤滑剤塗布プラズマCVD法で作成した膜厚2.0nmの非晶質カーボン保護膜で覆われた直径65mm2.5、95mm3.5の磁気ディスク基板に対し、上記の潤滑剤混合体をDip法により塗布した。具体的には、溶媒としてVertrelXF三井デュポンフロロケミカル社製を用いた潤滑剤混合体に磁気ディスク基板を72秒時間浸漬させ、1.5mm/secの速度で引上げ、その後乾燥させて磁気ディスクを作成した。測定するポジションに磁気ディスクを入れ、その他の場所にはダミーディスクを入れ常に25枚でUV処理ができるような状態にした。塗布後の磁気ディスクのサンプルに対し、185nm/254nmの波長を持つ200WのUVランプを用いて95mmの磁気ディスクには10秒間、65mmの磁気ディスクには9秒間UV処理を行った。上記手法により作製したサンプルについて、潤滑層の膜厚をフーリエ変換式赤外分光光度計FT-IRにより測定した。潤滑層の標準膜厚については、トータル膜厚が8.00Å、ボンド潤滑層の膜厚が6.00Å、ボンド率が75.0になるように、磁気ディスクを作製した。ここで、前述に示したトータル膜厚、ボンド潤滑層の膜厚、ボンド率について説明する。一般に、カーボン表面に存在する官能基と潤滑剤との結合割合は、フッ素系溶媒による洗浄前の潤滑層の膜厚に対するフッ素系溶媒による洗浄後の潤滑層の膜厚の割合として表され、その百分率値がボンド率と呼ばれる。ここで、洗浄前の潤滑層の膜厚がトータル膜厚であり、洗浄後の潤滑層の膜厚がボンド潤滑層の膜厚である。ボンド潤滑層の膜厚は、実際にカーボン表面と結合している潤滑層の膜厚量を表している。フッ素系溶媒としては、VertrelXF三井デュポンフロロケミカル社製を用いることが一般的であるため、本評価においてもこの溶媒を用いている。2、ボンド潤滑層の膜厚評価前記プロセスにより作製したサンプルにUV処理を行い、ボンド率カセット内でのボンド潤滑層の膜厚のバラつきを測定した。最後周辺23枚目~25枚目の磁気ディスクの滞留は、直接UV光照射後にUVランプハウスの下で所定時間3.5では10秒間、2.5では13.5秒間放置し、間接UV光を照射した。図2は直径95mm磁気ディスクのボンド率を示すグラフであり、図3は直径65mmの磁気ディスクのボンド率を示すグラフである。図2および図3のデータを第1表~第5表に示す。滞留は、25枚目の磁気ディスクに直接UV光を照射してカセットに戻した直後カセット排出前に所定の時間放置させボンド率の低い周辺23枚目~25枚目へ間接UV光を照射し、ボンド率を上昇させる方法で行っている。図2の滞留ありの場合、滞留時間は直接UV光と同じ照射時間9秒間とした。図3の滞留1の場合、滞留時間は直接UV光と同じ照射時間9秒間とした。図3の滞留2の場合、滞留時間は直接UV光の1.5倍の時間13.5秒間とした。図2のデータでは、最後周辺の磁気ディスクを滞留させることで滞留なしに比べてボンド率のバラつきが約0.3の改善が見られ、図3ではボンド率のバラつきが滞留なしでは5.2、滞留1では3.3、滞留2では1.6と滞留を入れることでバラつきを低減させる効果が見られる。これらの結果から、磁気ディスクのサイズに関わらずボンド率の低くなる磁気ディスクの周辺に滞留処理をいれることが間接UV光の照射を促しボンド潤滑層の膜厚の形成に繋がるため、バラつきの改善に有効であると言える。本発明によって、通常処理ではボンド潤滑層の膜厚が低い一部の磁気記録媒体に対して間接UV光の制御が可能となり、カセット内でのボンド潤滑層の膜厚のバラつきが低減でき均一な磁気ディスクの製造が可能となる。"