"弾性表面波霧化装置において、圧電材料から成る基板と、前記基板の表面に弾性表面波を生成するため該基板上に設けられた一対の櫛形電極と、前記基板の表面に生成される弾性表面波によって霧化する液体を該基板上に供給する液体供給部と、を備え、前記一対の櫛形電極は、互いに噛み合わされた櫛歯を有し、前記櫛歯の互いの噛み合わせ長が、該櫛形電極によって生成される弾性表面波の波長の10倍以下とされていることを特徴とする弾性表面波霧化装置。前記櫛歯の互いの噛み合わせ長は、前記櫛形電極によって生成される弾性表面波の波長の5倍以上とされていることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波霧化装置。前記液体供給部は、前記基板の表面に対向して配置され、該基板上に供給される液体を該液体の表面張力によって膜状に分布させるための供給部材を備え、前記供給部材は、前記基板の表面から一様の高さを隔てて該基板の表面に対向し、該基板の表面との間に隙間空間を形成する面を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の弾性表面波霧化装置。前記供給部材は、前記基板の表面に生成される弾性表面波の進行方向に直交する方向における長さが前記櫛歯の互いの噛み合わせ長と同等以下となるように構成されていることを特徴とする請求項3に記載の弾性表面波霧化装置。前記供給部材は、膜状に分布した液体に前記櫛形電極が常態的に曝されることがないように、前記櫛形電極から離間して備えられていることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の弾性表面波霧化装置。前記櫛歯の互いの噛み合わせ長は、前記一対の櫛形電極の各櫛歯において一定であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の弾性表面波霧化装置。前記一対の櫛形電極は、一方向性電極を構成するための反射用の電極を備えていることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の弾性表面波霧化装置。以下、本発明の一実施形態に係る弾性表面波霧化装置について、図面を参照して説明する。図1abcは弾性表面波霧化装置1を示す。弾性表面波霧化装置1は、圧電材料から成る基板2と、基板2の表面Sに弾性表面波Wを生成するため基板2上に設けられた一対の櫛形電極21と、表面Sに生成される弾性表面波Wによって霧化する液体を基板2上に供給する液体供給部3と、を備えている。弾性表面波Wは、櫛形電極21に高周波電圧を印加することにより生成される。一対の櫛形電極21を備えた基板2は弾性表面波Wを生成する振動子を構成する。また、表面Sには、反射用の櫛形電極22が櫛形電極21に隣接配置されている。ここで、説明のため、櫛形電極21の櫛歯の長手方向を方向Yとし、櫛歯に垂直な方向を方向X右方向とし、方向Xにおける原点X=0を、方向X側の最外の櫛歯の最外位置とする。基板2は、例えば、LiNbO3ニオブ酸リチウムのような圧電体そのものからなる圧電材料で構成される。この圧電材料は、非圧電基板の表面に圧電薄膜、例えば、PZT薄膜鉛、ジルコニューム、チタン合金薄膜を形成したものでもよい。その表面の圧電体薄膜の表面部分において、弾性表面波が励振される。一対の櫛形電極21は、圧電材料の表面に2つの櫛形の電極の各櫛歯部分を互いに噛み合わせて形成した電極IDT:インターディジタルトランスジューサである。櫛形電極21の互いに隣り合う櫛歯は互いに異なる電極に属し、励振する弾性表面波Wの波長λの半分の長さのピッチで配列されている。一対の櫛形電極21の櫛歯の互いの噛み合わせ長、すなわち櫛歯が交差した幅は、櫛形電極21によって生成される弾性表面波Wの幅を規定する寸法であり、この噛み合わせ長によって、櫛形電極21の開口幅Dが定義される。この開口幅D噛み合わせ長は、櫛形電極21によって生成される弾性表面波の波長λの5倍乃至10倍とされる。なお、櫛形電極21の各櫛歯は互いに同じ長さを有し、櫛歯の互いの噛み合わせ長は各櫛歯において一定である。この開口幅Dについては、詳細に後述する図2、図3、図4参照。液体供給部3は、液体容器31と、液体容器31から液体4を導出して表面Sに供給する液導出部材32と、基板2の表面Sに対向配置され、液体を膜状に分布させるための供給部材30と、を備えている。供給部材30は、基板2上に供給される液体4を液体4の表面張力によって基板2の表面Sに膜状に分布させるための隙間空間Gを形成する。供給部材30は、細長い部材であって、基板2の表面Sとの間に隙間空間Gを形成する面を有し、その面は基板2の表面Sから一様の高さgを隔てて、表面Sに近接して対向している。また、供給部材30は、その長手方向を基板2の表面Sに生成される弾性表面波Wの進行方向Xに直交する方向Yに向けており、方向Yにおける長さ隙間空間Gを形成する面の長さが開口幅Dと同等以下となるように、構成されている。言い換えると、隙間空間Gは、弾性表面波Wの進行方向Xに直交する幅方向Yの幅が開口幅Dと同等以下となるように形成される。また、供給部材30は、方向Yにおける隙間空間Gの全幅が櫛形電極21から望む開口幅Dの大略内部に収まるように配置されている。液体4は、この隙間空間Gに自身の表面張力によって保持されることにより、表面S上に膜状に分布する。従って、方向Yにおける液体4の分布は、開口幅Dの大略内部に収まる。供給部材30は、液体4を漏出させる細孔を有するパイプを用いて構成したり、表面に微細構造を有して毛細管現象によって液体4を輸送する部材、例えば棒材、板材などを用いて構成したりすることができる。次に、弾性表面波霧化装置1の動作を説明する。櫛形電極21に高周波電圧印加用の電気回路23から高周波例えば、MHz帯電圧を印加することにより、櫛形電極21によって電気的エネルギが波の機械的エネルギに変換されて、基板2の表面にレイリー波と呼ばれる弾性表面波Wが励振される。櫛形電極21によって励振された弾性表面波Wは、開口幅Dに基づく幅で生成され、櫛形電極21の両側方向すなわち、方向Xおよびその反対方向左方向に伝搬する。励振された弾性表面波Wの振幅は、櫛形電極21に印加する電圧の大きさで決まる。左方向に伝搬する弾性表面波は、櫛形電極21の左方に設けられた反射用の櫛形電極22によって反射されて戻される。反射用の櫛形電極22は、弾性表面波を全反射する、いわゆる反射器を構成する。櫛形電極21は、この反射用の櫛形電極22と組み合わされて、X方向にのみ伝搬する弾性表面波Wを生成する、いわゆる一方向性電極を構成する。なお、一方向性電極の構成は、本実施形態に示したものに限られない。液体4は、液体供給部3によって基板2の表面Sに供給され、表面Sを伝搬して来た弾性表面波Wによって霧化され、微粒子41となって飛翔する。表面張力によって保持された液体4は、霧化によって消費されると、表面張力の作用により、液導出部材32を介して自動的に補充される。弾性表面波Wによる霧化は、液体4の表面を伝搬する表面張力波キャピラリ波によって、液体4の表面から液滴が離脱飛翔することによって行われる。従って、液体4の膜厚が厚いと弾性表面波のエネルギが液体4の表面に到達する前に減衰してしまい、霧化することができない。そこで、弾性表面波の振幅をできるだけ高くすると共にエネルギを液体4に集中して供給すること、および、できるだけ液体4の膜厚を薄くすることが必要である。液体4への高いエネルギの集中は開口幅Dの適正設計によって行うことができ、液体4の膜厚は上述の高さgを調整することによって、さらには、表面Sの粗度や液体との親和性などを調整することによって最適化することができる。弾性表面波霧化装置1は、例えば、小電力の乾電池によって駆動する医療用の吸霧器として用いられる。この場合、霧化される液体4は、水や、水に薬品を溶かした薬液などである。また、弾性表面波霧化装置1を比較的大電力で駆動する場合は、例えば、乾燥防止用の湿度調整装置として用いられる。次に、開口幅Dを、波長λの5倍乃至10倍とすることについて説明する。開口幅Dの適正化は、基板2の表面Sにおける霧化領域つまり液体4が存在して霧化が行われる領域の位置の適正化と共に行われる。すなわち、櫛形電極21が液体4に常態的に曝されると電極の劣化が進むので、霧化領域は櫛形電極21からある程度離間して設定する必要がある。また、霧化領域が櫛形電極21から離れ過ぎると、弾性表面波の広がりや減衰によって霧化の効率が悪くなるので、霧化領域は櫛形電極21から離れ過ぎないように設定する必要がある。このように霧化領域を設定することを前提として、以下のように開口幅Dの設定が行われる。霧化領域は、供給部材30によって形成される隙間空間Gの形状および配置によって設定される。図2abに示すように櫛形電極21の櫛歯の互いの噛み合わせ長を変えて開口幅Dを変えた基板2を作成し、レーザドップラ振動計によって櫛形電極21の方向X側における弾性表面波の振幅Aの分布を測定し、図3、図4に示す測定結果が得られた。測定に用いた基板2は、開口幅Dを、D=1λ,2.5λ,5λ,10λ,20λの5段階に変えたものである。図3に示す振幅Aのグラフは、一対の櫛形電極21の中心軸上における、X=0λ,25λ,50λの3点における測定値を任意単位で示している。ここで、X=0λ、すなわちX=0における振幅Aは、比較のために表示されているものであり、上述したように、櫛形電極21を保護する観点から、このX=0の近傍領域を霧化領域とすることはない。また、図4abcdは、それぞれ、D=2.5λ,5λ,10λ,20λについて振幅Aの面分布を、互いに同じ広さの測定領域について示している。その測定領域の大きさは、方向Xで70λ、方向Yで20λである。また、櫛形電極21に印加した高周波電圧の周波数はMHz帯であり、20MHzから400MHzにおいて同様の測定結果が得られている。図3に示す振幅Aは、X=25λ,50λの2点における測定値に注目すると、開口幅Dの増加に対して増加して減少する山形の変化を示し、方向Xにおける位置が遠いほど低くなる傾向を示している。なお、X=25λ,50λの2点における2曲線の平均曲線を求めてみると、より滑らかな山形形状が見られる。このような振幅Aの変化は、櫛形電極21における開口幅Dの範囲内の各点で生成される弾性表面波が、広がりながら方向Xに向けて伝搬する際に、互いに干渉する結果と理解される。また、図4により、波の干渉による振幅Aの高まりと、波の伝搬と広がりに伴う振幅Aの減衰の様子が見られる。図3において、開口幅Dが10λを超えた領域で、振幅Aが単調減少している。また、図4dに示すように、開口幅Dが広すぎる場合、弾性表面波は、広がった状態で生成された小さい振幅値のまま伝搬推移している。これに対し、開口幅Dが10λ以下においては、全般的に大きい振幅値の状態が得られている。これらの測定結果から、開口幅Dを、波長λの10倍以下、すなわち、D≦10λとすることが好ましいと結論される。また、開口幅Dが5λより狭い場合、図3、図4aに示すように、X=0近傍、すなわち最外の櫛歯近傍では大きな振幅値が得られるものの、伝搬に伴う広がりが大きいので、開口幅Dを波長λの5倍以上とすることがより好ましいと結論される。このように伝搬に伴う広がりが大きい場合、広がった状態の弾性表面波を用いることも考えられるが、霧化領域における振幅Aを十分大きくするために発生源のエネルギ密度を高くすると、櫛形電極21への負荷が過大になるので好ましくない。以上をまとめると次のようになる。弾性表面波霧化を効率良く行うために振幅Aを大きく維持する必要があり、開口幅Dを狭めることにより波の振幅Aを高め、開口幅Dを狭めることによって生じる波の広がりを、開口幅Dに対する適切な下限値以上に設定することにより回避することができる。つまり、開口幅DをD≦10λとすることにより波の振幅Aを高め、5λ≦Dとすることにより波の広がりを回避することができる。これにより、弾性表面波霧化装置1は、エネルギ効率良く安定して霧化することができる。また、隙間空間Gを、基板2の表面Sに生成される弾性表面波Wの進行方向に直交する幅方向の長さを開口幅Dと同等以下となるように形成することにより、弾性表面波Wの広がりに見合った幅で分布する液体4を霧化でき、液体4の有効利用を図ることができる。開口幅Dの範囲は、波長λの5倍乃至10倍が好ましいが、この範囲よりも数波長分広い範囲とすることも許容される。なお、本発明は、上記構成に限られることなく種々の変形が可能である。例えば、励振された弾性表面波Wの波束の長さは、電圧の印加時間の長さに対応することから、櫛形電極21を間欠的に励振することにより、パルス状の弾性表面波Wを生成して、パルス状に霧化することもできる。パルス動作により、パワーを集中して濃度の濃い霧を発生させることができる。また、液体4の供給は、供給部材30を用いることに代えて、液体4を表面Sに滴下することや、基板2の一部を液体中に浸して液面と表面Sとの界面における表面張力による這い上がり現象を用いたりすることで行ってもよい。本願は日本国特許出願2010-165379に基づいており、その内容は、上記特許出願の明細書及び図面を参照することによって結果的に本願発明に合体されるべきものである。"