"A黒色剤と、Bフェノール性水酸基を有する重合体と、C感放射線性酸発生剤と、D酸の作用により架橋反応が進行する架橋剤と、を含有することを特徴とする感放射線性組成物。前記Bフェノール性水酸基を有する重合体が、フェノール性水酸基を有する化合物とホルミル基を有する化合物との縮合物である請求項1に記載の感放射線性組成物。前記Bフェノール性水酸基を有する重合体が、ヒドロキシスチレンにおける重合性不飽和結合が開裂した構造単位を有する重合体である請求項1に記載の感放射線性組成物。前記Bフェノール性水酸基を有する重合体として、フェノール性水酸基を有する化合物とホルミル基を有する化合物との縮合物、及び、ヒドロキシスチレンにおける重合性不飽和結合が開裂した構造単位を有する重合体を含有する請求項1に記載の感放射線性組成物。前記D架橋剤は、メチロール基を含有する化合物である請求項1に記載の感放射線性組成物。更に、E架橋ポリマー粒子を含有する請求項1に記載の感放射線性組成物。固体撮像素子における光電変換部の実装に用いられる絶縁膜形成用の感放射線性組成物である請求項1乃至6のいずれかに記載の感放射線性組成物。固体撮像素子における光電変換部の実装に用いられる絶縁膜の形成方法であって、1電極部を備える基板上に、請求項7に記載の感放射線性組成物からなる塗膜を形成する工程と、2少なくとも前記電極部上に形成された塗膜以外の塗膜を露光する工程と、3露光後の塗膜を現像する工程と、を備えることを特徴とする絶縁膜の形成方法。請求項8に記載の絶縁膜の形成方法により形成したことを特徴とする絶縁膜。請求項1乃至6のいずれかに記載の感放射線性組成物から得られたことを特徴とする絶縁膜。少なくとも、光電変換部、請求項9に記載の絶縁膜、及び電極部を備えることを特徴とする固体撮像素子。前記遮光膜は、通常、遮光膜形成用感放射線性組成物を用いることにより、基板シリコン酸化膜付き基板等に予め形成された絶縁膜の表面に対して形成していた。つまり、固体撮像素子等を製造する際には、基板上に絶縁膜を形成する工程と、この工程により形成された絶縁膜上に遮光膜を形成する工程が少なくとも必要となっていた。そこで、更なるプロセスの簡略化歩留まりの向上のために、絶縁膜を形成する工程及び遮光膜を形成する工程の合理化が検討され、絶縁性及び遮光性の両方の性能を有する絶縁膜を形成可能な組成物の開発が求められている。更に、この絶縁膜には、シリコン酸化膜SiO2及び電極等に対する密着性にも優れていることが必要である。本発明の目的は、感放射線性組成物、特に固体撮像素子における光電変換部の実装に用いられる絶縁膜の形成に好適であり、絶縁性、遮光性及び密着性に優れた感放射線性組成物、絶縁膜の形成方法、絶縁膜及び固体撮像素子を提供することにある。本発明は以下の通りである。[1]A黒色剤と、Bフェノール性水酸基を有する重合体と、C感放射線性酸発生剤と、D酸の作用により架橋反応が進行する架橋剤と、を含有することを特徴とする感放射線性組成物。[2]前記Bフェノール性水酸基を有する重合体が、フェノール性水酸基を有する化合物とホルミル基を有する化合物との縮合物である前記[1]に記載の感放射線性組成物。[3]前記Bフェノール性水酸基を有する重合体が、ヒドロキシスチレンにおける重合性不飽和結合が開裂した構造単位を有する重合体である前記[1]に記載の感放射線性組成物。[4]前記Bフェノール性水酸基を有する重合体として、フェノール性水酸基を有する化合物とホルミル基を有する化合物との縮合物、及び、ヒドロキシスチレンにおける重合性不飽和結合が開裂した構造単位を有する重合体を含有する前記[1]に記載の感放射線性組成物。[5]前記D架橋剤は、メチロール基を含有する化合物である前記[1]に記載の感放射線性組成物。[6]更に、E架橋ポリマー粒子を含有する前記[1]に記載の感放射線性組成物。[7]固体撮像素子における光電変換部の実装に用いられる絶縁膜形成用の感放射線性組成物である前記[1]乃至[6]のいずれかに記載の感放射線性組成物。[8]固体撮像素子における光電変換部の実装に用いられる絶縁膜の形成方法であって、1電極部を備える基板上に、前記[7]に記載の感放射線性組成物からなる塗膜を形成する工程と、2少なくとも前記電極部上に形成された塗膜以外の塗膜を露光する工程と、3露光後の塗膜を現像する工程と、を備えることを特徴とする絶縁膜の形成方法。[9]前記[8]に記載の絶縁膜の形成方法により形成したことを特徴とする絶縁膜。[10]前記[1]乃至[6]のいずれかに記載の感放射線性組成物から得られたことを特徴とする絶縁膜。[11]少なくとも、光電変換部、前記[9]に記載の絶縁膜、及び電極部を備えることを特徴とする固体撮像素子。本発明の感放射線性組成物によれば、絶縁性、遮光性及び密着性に優れる絶縁膜を形成することができる。特に、この感放射線性組成物は、CCD、CMOS等の固体撮像素子における光電変換部の実装に用いられる絶縁膜の形成に好適に用いることができる。本発明の絶縁膜の形成方法によれば、絶縁性、遮光性及び密着性に優れた絶縁膜を形成することができる。そのため、絶縁部と遮光部とを別々に形成する必要がなくなり、従来のプロセスを簡略化することができ、CCD、CMOS等の固体撮像素子を含む固体撮像装置を備える電子機器分野において、好適に用いることができる。本発明の固体撮像素子は、絶縁性、遮光性及び密着性に優れる絶縁膜を備えている。そのため、CCD、CMOS等の固体撮像素子を含む固体撮像装置を備える電子機器分野において、好適に用いることができる。以下、本発明を詳しく説明する。本明細書において、メタアクリルは、アクリル及びメタクリルを、メタアクリレートは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。[1]感放射線性組成物本発明の感放射線性組成物は、A黒色剤以下、黒色剤Aともいう。と、Bフェノール性水酸基を有する重合体以下、重合体Bともいう。と、C感放射線性酸発生剤以下、酸発生剤Cともいう。と、D酸の作用により架橋反応が進行する架橋剤以下、架橋剤Dともいう。と、を含有することを特徴とする。この感放射線性組成物は、CCD、CMOS等の固体撮像素子における光電変換部の実装に用いられる絶縁膜の形成に好適に用いることができる。A黒色剤黒色剤Aとは、広義には赤外線を吸収する化合物を示す。具体的には、ポリメタクリル酸ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算の重量平均分子量;50,000100質量部に対し、黒色剤を1質量部及びメチルエチルケトンを50質量部からなる組成物を、スピンコート法により塗布し、その後、ホットプレートにて100°Cで加熱することにより形成した膜厚20μmの塗膜における、波長1200nmでの光線透過率が、50T以下となるものを示す。前記黒色剤Aとしては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、酸化鉄、酸化マンガン、グラファイト及び染料等が挙げられる。これらのなかでも、カーボンブラック、チタンブラックが好ましい。前記カーボンブラックとしては、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、アセチレンブラック等が挙げられる。また、前記カーボンブラックとしては、三菱化学社製の商品名、2400、2350、2300、2200、1000、980、970、960、950、900、850、MCF88、650、MA600、MA7、MA8、MA11、MA100、MA220、IL30B、IL31B、IL7B、IL11B、IL52B、4000、4010、55、52、50、47、45、44、40、33、32、30、20、10、5、CF9、3050、3150、3250、3750、3950、ダイヤブラックA、ダイヤブラックN220M、ダイヤブラックN234、ダイヤブラックI、ダイヤブラックLI、ダイヤブラックII、ダイヤブラックN339、ダイヤブラックSH、ダイヤブラックSHA、ダイヤブラックLH、ダイヤブラックH、ダイヤブラックHA、ダイヤブラックSF、ダイヤブラックN550M、ダイヤブラックE、ダイヤブラックG、ダイヤブラックR、ダイヤブラックN760M、ダイヤブラックLP;キャンカーブ社製の商品名、サーマックスN990、N991、N907、N908、N990、N991、N908;旭カーボン社製の商品名、旭80、旭70、旭70L、旭F-200、旭66、旭66HN、旭60H、旭60U、旭60、旭55、旭50H、旭51、旭50U、旭50、旭35、旭15、アサヒサーマル;デグサ社製の商品名、ColorBlackFw200、ColorBlackFw2、ColorBlackFw2V、ColorBlackFw1、ColorBlackFw18、ColorBlackS170、ColorBlackS160、SpecialBlack6、SpecialBlack5、SpecialBlack4、SpecialBlack4A、PrintexU、PrintexV、Printex140U、Printex140V等を用いることができる。更に、特開平11-60988号公報、特開平11-60989号公報、特開平10-330643号公報、特開平11-80583号公報、特開平11-80584号公報、特開平9-124969号公報、特開平9-95625号公報、特開平9-71733号公報に開示されている樹脂被覆カーボンブラックを使用することもできる。前記カーボンブラックは、絶縁性を有するカーボンブラックである方が好ましい。絶縁性を有するカーボンブラックとは、下記のような方法で粉末としての体積抵抗を測定した場合、絶縁性を示す、即ち、体積抵抗値が106Ωcm以上である、カーボンブラックのことであり、例えば、カーボンブラック粒子表面に、有機物が吸着、被覆または化学結合グラフト化しているなど、カーボンブラック粒子表面に有機化合物を有していることをいう。カーボンブラックを、ベンジルメタクリレート及びメタクリル酸に由来する繰り返し構造単位を、モル比70:30で含む共重合体重量平均分子量30,000に対して、質量比20:80となるように、プロピレングリコールモノメチルエーテル中に分散し、分散液を得る。その後、この分散液を、厚さ1.1mm、10cm×10cmのクロム基板上に塗布し、乾燥膜厚3μmの塗膜を作製する。次いで、この塗膜をオーブン中、200°Cで1時間熱処理する。そして、JISK6911に準拠している三菱化学社製の高抵抗率計ハイレスターUPMCP-HT450を用いて印加し、温度23°C及び相対湿度65の条件下、体積抵抗値を測定する。本発明において、好ましいカーボンブラックの体積抵抗値は、好ましくは108Ωcm以上、更に好ましくは109Ωcm以上である。また、前記チタンブラックとしては、TiO、TiO1.25、Ti2O3、Ti4O7、Ti3O5等TixOy;1≦x≦4、1≦y≦7、y/x<1.75の低次酸化チタン;窒化チタン;TiOxNy0.2<x<0.8、0.6<y<1.2の酸窒化チタン等が挙げられる。低次酸化チタンとしては、特公昭52-12733号公報に記載されている、二酸化チタンと金属チタン粉末とを、真空又は還元雰囲気中、550°C~1100°Cの温度で加熱して得られた化合物;特開昭64-11572号公報に記載されている、含水二酸化チタンと金属チタン粉末とを、珪素、アルミニウム、ニオブ、タングステン等を含む化合物からなる焼成処理補助剤の存在下、不活性雰囲気中で加熱して得られた化合物等が挙げられる。また、酸窒化チタンとしては、特公平3-51645号公報、特公平2-42773号公報等に記載されている、二酸化チタンや水酸化チタンの粉末を、アンモニア存在下、550°C~950°C程度の温度で還元して得られた化合物が挙げられる。また、前記チタンブラックとしては、三菱マテリアル社製の商品名、10S、12S、13M、13M-C、13R、13R-N;赤穂化成社製の商品名、TilackD超微粒子タイプ等を用いることができる。尚、前記チタンブラックは、表面処理されたものを用いることもできる。前記黒色剤Aの数平均粒子径は、分散安定性及び沈降防止の観点から、40nm以下であることが好ましく、より好ましくは5~40nm、更に好ましくは5~30nmである。尚、前記数平均粒子径は、電子顕微鏡を用いて測定された値とすることができる。感放射線性組成物中の黒色剤Aの含有量は、後述の重合体Bを100質量部但し、後述のフェノール性低分子化合物が配合されている場合には、重合体Bとフェノール性低分子化合物の合計を100質量部とした場合に、0.1~200質量部であることが好ましく、より好ましくは0.5~120質量部、更に好ましくは5~40質量部である。黒色剤Aの含有量が前記範囲にあると、十分な遮光性を有する絶縁膜を得ることができる。即ち、温度23°Cにおいて、波長1,000nmの光を、厚さ20μmの絶縁膜に照射した場合の透過率を、好ましくは20T以下、より好ましくは15T以下、更に好ましくは10T以下とすることができる。黒色剤Aの含有量が200質量部より多く含まれる場合、絶縁膜の力学的な強度が十分でなくなる可能性がある。また、黒色剤Aを用いる場合、黒色剤Aを分散質とし、分散媒に分散させた黒色剤分散液として用いることが好ましい。この分散媒としては、本発明の感放射線性組成物に利用できる後述の溶剤Gを適用することができる。この際、溶剤Gは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、分散媒の配合量は、黒色剤Aを100質量部とした場合に、200~1200質量部が好ましく、300~1000質量部がより好ましい。更に、黒色剤分散液には、分散剤や分散助剤等を配合することができる。この分散剤や分散助剤としては、黒色剤Aを組成物中で安定に凝集することなく存在させることができるものであれば、特に制限されない。例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系及び両性系等のどのような形態であってもよく、更には、シリコン等の無機元素を含有するものでもよいし、重合体であってもよい。具体的には、例えば、変性アクリル系共重合体、アクリル系共重合体、ポリウレタン、ポリエステル、シランカップリング剤、高分子共重合体のアルキルアンモニウム塩又はリン酸エステル塩、カチオン性櫛型グラフトポリマー等を挙げることができる。ここで、カチオン性櫛型グラフトポリマーとは、複数の塩基性基カチオン性の官能基を有する幹ポリマー1分子に、2分子以上の枝ポリマーがグラフト結合した構造のポリマーをいい、例えば、幹ポリマー部がポリエチレンイミン、枝ポリマー部がε-カプロラクトンの開環重合体で構成されるポリマーが挙げられる。これらのなかでも、変性アクリル系共重合体、ポリウレタン、カチオン性櫛型グラフトポリマー並びにシランカップリング剤であるγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン及びその加水分解縮合物が好ましい。また、このような分散剤や分散助剤は商業的に入手することができ、例えば、変性アクリル系共重合体として、Disperbyk-2000、Disperbyk-2001以上、ビックケミーBYK社製、ポリウレタンとして、Disperbyk-161、Disperbyk-162、Disperbyk-165、Disperbyk-167、Disperbyk-170、Disperbyk-182以上、ビックケミーBYK社製、ソルスパース76500ルーブリゾール株社製、ソルスパース5000、ソルスパース37500、カチオン性櫛型グラフトポリマーとして、ソルスパース24000ルーブリゾール株社製、アジスパーPB821、アジスパーPB822味の素ファインテクノ株式会社製等を挙げることができる。尚、これらの分散剤や分散助剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。前記分散剤や分散助剤を用いる場合、前記分散剤や分散助剤の含有量は、用いられる黒色剤Aの種類及び分散剤等の種類等の組み合わせにより適宜調整する。黒色剤Aを100質量部とした場合に、100質量部以下であることが好ましく、より好ましくは0.5~100質量部、更に好ましくは10~50質量部である。前記分散剤や分散助剤の含有量が100質量部以下であれば、現像性に優れた感放射線性組成物を得ることができる。また、黒色剤分散液の調製方法は、例えば、黒色剤Aを分散媒中、分散剤等の添加剤の存在下で、ディゾルバー、ロッドミル、ビーズミル、ロールミル等を用いて、粉砕混合しつつ黒色剤分散液を調製することができる。Bフェノール性水酸基を有する重合体前記重合体Bは、フェノール性水酸基を有するものであり、アルカリ現像液により現像する場合は、アルカリ可溶性の重合体を用いる。尚、アルカリ可溶性とは、2.38質量のテトラヒドロキアンモニウムハイドロオキサイド水溶液を100質量部とした場合、この水溶液に重合体Bを10質量部以上溶解できる場合をいう。前記重合体Bとしては、例えば、フェノール性水酸基を有する化合物と、ホルミル基を有する化合物との縮合物以下、重合体B1ともいう。を用いることができる。前記フェノール性水酸基を有する化合物としては、例えば、フェノール、m-クレゾール、p-クレゾール、o-クレゾール等のクレゾール類;2,5-キシレノール、3,5-キシレノール、3,4-キシレノール、2,3-キシレノール等のキシレノール類;m-エチルフェノール、p-エチルフェノール、o-エチルフェノール、p-t-ブチルフェノール、p-オクチルフエノール、2,3,5-トリメチルフェノール等のアルキルフェノール類;p-メトキシフェノール、m-メトキシフェノール、3,5-ジメトキシフェノール、2-メトキシ-4-メチルフェノール、m-エトキシフェノール、p-エトキシフェノール、m-プロポキシフェノール、p-プロポキシフェノール、m-ブトキシフェノール、p-ブトキシフェノール等のアルコキシフェノール類;2-メチル-4-イソプロピルフェノール等のビスアルキルフェノール類;m-クロロフェノール、p-クロロフェノール、o-クロロフェノール、ジヒドロキシビフェニル、ビスフェノールA、フェニルフェノール、レゾルシノール、ナフトール等のヒドロキシ芳香化合物等が挙げられる。これらのなかでも、クレゾール類が好ましい。尚、フェノール性水酸基を有する化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。前記ホルミル基を有する化合物としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、α-フェニルプロピルアルデヒド、β-フェニルプロピルアルデヒド、o-ヒドロキシベンズアルデヒド、m-ヒドロキシベンズアルデヒド、p-ヒドロキシベンズアルデヒド、o-クロロベンズアルデヒド、m-クロロベンズアルデヒド、p-クロロベンズアルデヒド、o-ニトロベンズアルデヒド、m-ニトロベンズアルデヒド、p-ニトロベンズアルデヒド、o-メチルベンズアルデヒド、m-メチルベンズアルデヒド、p-メチルベンズアルデヒド、p-エチルベンズアルデヒド、p-n-ブチルベンズアルデヒド、フルフラール、クロロアセトアルデヒド及びこれらのアセタール体、例えば、クロロアセトアルデヒドジエチルアセタール等が挙げられる。これらのなかでも、ホルムアルデヒドが好ましい。尚、ホルミル基を有する化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。この重合体B1は、例えば、フェノール性水酸基を有する化合物を主成分として、酸性触媒の存在下、ホルミル基を有する化合物と付加縮合反応させることにより得ることができる。この酸性触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸等が挙げられる。これらの酸性触媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、前記重合体B1としては、市販のフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂等のノボラック樹脂を用いることもできる。また、前記重合体Bとしては、フェノール性水酸基を有する構造単位b1以下、単に構造単位b1ともいう。を含有する重合体以下、重合体B2ともいう。を用いることもできる重合体B1を除く。前記構造単位b1は、例えば、ヒドロキシスチレン単位即ち、ヒドロキシスチレンにおける重合性不飽和結合が開裂した単位、イソプロペニルフェノール単位即ち、イソプロペニルフェノールにおける重合性不飽和結合が開裂した単位等であることが好ましく、より好ましくはヒドロキシスチレン単位である。構造単位b1を形成し得る単量体としては、例えば、p-イソプロペニルフェノール、m-イソプロペニルフェノール、o-イソプロペニルフェノール、p-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレン、o-ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有化合物が挙げられる。これらのなかでも、p-イソプロペニルフェノール、p-ヒドロキシスチレンが好ましい。また、前記構造単位b1は、例えば、t-ブチル基、アセタール基等でフェノール性水酸基が保護された単量体から得ることもできる。得られた重合体及び共重合体は、公知の方法、例えば、酸触媒下で脱保護することにより、フェノール性水酸基を有する構造単位に変換することができる。前記フェノール性水酸基が保護された単量体としては、例えば、p-1-メトキシエトキシスチレン、p-1-エトキシエトキシスチレン等のアセタール基で保護されたヒドロキシスチレン類、t-ブトキシスチレン、t-ブトキシカルボニルオキシスチレン、アセトキシスチレン等が挙げられる。尚、重合体B2は、構造単位b1を1種のみ含有していてもよいし、2種以上含有していてもよい。また、本発明における前記重合体B2は、前記構造単位b1以外にも、その他の単量体に由来する構造単位b2以下、単に構造単位b2ともいう。を含有していてもよい。前記構造単位b2を形成し得るその他の単量体としては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、o-メトキシスチレン、m-メトキシスチレン、p-メトキシスチレンなどのスチレン類;メタアクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、メサコン酸、シトラコン酸、イタコン酸、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸あるいはそれらの酸無水物類;不飽和カルボン酸のメチルエステル、エチルエステル、n-プロピルエステル、i-プロピルエステル、n-ブチルエステル、i-ブチルエステル、sec-ブチルエステル、t-ブチルエステル、n-アミルエステル、n-ヘキシルエステル、シクロヘキシルエステル、2-ヒドロキシエチルエステル、2-ヒドロキシプロピルエステル、3-ヒドロキシプロピルエステル、2,2-ジメチル-3-ヒドロキシプロピルエステル、ベンジルエステル、イソボロニルエステル、トリシクロデカニルエステル、1-アダマンチルエステル等のエステル類;メタアクリロニトリル、マレインニトリル、フマロニトリル、メサコンニトリル、シトラコンニトリル、イタコンニトリル等の不飽和ニトリル類;メタアクリルアミド、クロトンアミド、マレインアミド、フマルアミド、メサコンアミド、シトラコンアミド、イタコンアミド等の不飽和アミド類;マレイミド、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類;ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エンノルボルネン、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ-3-エン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デセンなどの脂環式骨格を有する化合物;p-ジビニルベンゼン、m-ジビニルベンゼン、o-ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、エチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート;トリエチレングリコールジビニルエーテル等のポリエチレングリコールジビニルエーテル等の架橋性単量体類;メタアリルアルコール等の不飽和アルコール類、N-ビニルアニリン、ビニルピリジン類、N-ビニル-ε-カプロラクタム、N-ビニルピロリドン、N-ビニルイミダゾール、N-ビニルカルバゾール等が挙げられる。これらのなかでも、スチレン、p-メトキシスチレンが好ましい。尚、重合体B2は、構造単位b2を1種のみ含有していてもよいし、2種以上含有していてもよい。特に、前記重合体B2は、構造単位b1からなり、且つこの構造単位b1がヒドロキシスチレン単位を与える単量体を用いて得られる樹脂であることが好ましい。重合体Bは、下記のいずれかの構成であることが好ましい。このような場合、絶縁性、遮光性及び密着性により優れた絶縁膜を形成することができる。1フェノール性水酸基を有する化合物と、ホルミル基を有する化合物との縮合物、2ヒドロキシスチレンにおける重合性不飽和結合が開裂した構造単位を有する重合体、3フェノール性水酸基を有する化合物とホルミル基を有する化合物との縮合物、及び、ヒドロキシスチレンにおける重合性不飽和結合が開裂した構造単位を有する重合体を含有するもの。また、重合体Bは、ガラス転移温度Tgが0°Cを超えていることが好ましい。更に、前記重合体Bのゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは、絶縁膜の解像性、熱衝撃性、耐熱性及び残膜率等の観点から、500~300,000であることが好ましく、より好ましくは600~150,000、更に好ましくは1,000~100,000である。重合体Bは1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。C感放射線性酸発生剤前記酸発生剤Cは、放射線等の照射により酸を発生する化合物である。酸発生剤Cへの放射線等の照射により発生する酸の触媒作用によって、後述の架橋剤Dによる架橋反応が生じる。酸発生剤Cとしては、例えば、オニウム塩化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾケトン化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物、スルホンイミド化合物、ジアゾメタン化合物等が挙げられる。前記オニウム塩化合物としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩等が挙げられる。好ましいオニウム塩の具体例としては、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムp-トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフリオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムp-トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4-t-ブチルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、4-t-ブチルフェニルジフェニルスルホニウムp-トルエンスルホネート、1-4,7-ジブトキシ-1-ナフタレニルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリスペンタフルオロエチルトリフルオロホスフェート等が挙げられる。前記ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有複素環式化合物等が挙げられる。好ましいハロゲン含有化合物の具体例としては、1,10-ジブロモ-n-デカン、1,1-ビス4-クロロフェニル-2,2,2-トリクロロエタン、フェニル-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、4-メトキシフェニル-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、スチリル-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、ナフチル-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-フラン-2-イルエテニル]-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン、2-[2-5-メチルフラン-2-イルエテニル]-4,6-ビストリクロロメチル-s-トリアジン等のs-トリアジン誘導体が挙げられる。前記ジアゾケトン化合物としては、例えば、1,3-ジケト-2-ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物等が挙げられ、具体例としては、フェノール類の1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル化合物等が挙げられる。前記スルホン化合物としては、例えば、β-ケトスルホン化合物、β-スルホニルスルホン化合物及びこれらの化合物のα-ジアゾ化合物等が挙げられ、具体例としては、4-トリスフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビスフェナシルスルホニルメタン等が挙げられる。前記スルホン酸化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル類、ハロアルキルスルホン酸エステル類、アリールスルホン酸エステル類、イミノスルホネート類等が挙げられる。好ましい具体例としては、ベンゾイントシレート、ピロガロールトリストリフルオロメタンスルホネート、o-ニトロベンジルトリフルオロメタンスルホネート、o-ニトロベンジルp-トルエンスルホネート等が挙げられる。前記スルホンイミド化合物の具体例としては、N-トリフルオロメチルスルホニルオキシスクシンイミド、N-トリフルオロメチルスルホニルオキシフタルイミド、N-トリフルオロメチルスルホニルオキシジフェニルマレイミド、N-トリフルオロメチルスルホニルオキシビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、N-トリフルオロメチルスルホニルオキシナフチルイミド等が挙げられる。前記ジアゾメタン化合物の具体例としては、ビストリフルオロメチルスルホニルジアゾメタン、ビスシクロヘキシルスルホニルジアゾメタン、ビスフェニルスルホニルジアゾメタン等が挙げられる。酸発生剤Cとしては、オニウム塩化合物が好ましく、ヒドロキシル基含有オニウム塩化合物がより好ましい。尚、これらの酸発生剤Cは1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。酸発生剤Cの含有量は、組成物の感度、解像度、パターン形状等を確保する観点から、重合体Bを100質量部但し、後述のフェノール性低分子化合物が配合されている場合には、重合体Bとフェノール性低分子化合物の合計を100質量部とした場合に、0.1~10質量部であることが好ましく、より好ましくは0.3~5質量部である。酸発生剤Cの含有量が0.1~10質量部である場合、感度、パターン形状の点で好ましい。D酸の作用により架橋反応が進行する架橋剤前記架橋剤Dは、酸の作用により架橋反応が進行するものである。具体的には、酸により反応し、架橋剤同士や他の成分例えば重合体Bとの架橋反応を進行させて、3次元架橋構造を形成するものである。即ち、架橋反応が進行するとは、イオン結合や共有結合等の新たな化学結合を形成するという意味である。この架橋剤Dとしては、例えば、分子中に2個以上のアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物d1以下、アミノ基含有化合物d1という。;オキシラン環含有化合物d2;オキセタニル環含有化合物d3;イソシアネート基含有化合物ブロック化されたものを含む。;o-ヒドロキシベンズアルデヒド等のアルデヒド基含有フェノール化合物、;2,6-ビスヒドロキシメチル-p-クレゾール等のメチロール基を含有するフェノール化合物等が挙げられる。これらのなかでも、アミノ基含有化合物d1及びオキシラン環含有化合物d2から選ばれる少なくとも1種の化合物を用いることが好ましい。また、これらのなかでも、メチロール基を含有する化合物を用いることが好ましい。これらの架橋剤Dは、各成分の配合組成等に応じて適宜選択して用いられる。また、架橋剤Dは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。前記アミノ基含有化合物d1は、例えば、ポリメチロール化メラミン、ポリメチロール化グリコールウリル、ポリメチロール化ベンゾグアナミン、ポリメチロール化ウレア等の窒素化合物中の活性メチロール基CH2OH基の全部又は一部少なくとも2個がアルキルエーテル化された化合物が挙げられる。ここで、アルキルエーテルを構成するアルキル基としては、メチル基、エチル基又はブチル基が挙げられ、これらは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、アルキルエーテル化されていないメチロール基は、一分子内で自己縮合していてもよく、二分子間で縮合して、その結果、オリゴマー成分が形成されていてもよい。具体的には、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラブトキシメチルグリコールウリル等を用いることができる。感放射線性組成物中に、アミノ基含有化合物d1を含有することにより、解像度及び耐薬品性の点で優れた絶縁膜を得られるため好ましい。前記オキシラン環含有化合物d2としては、分子内にオキシラン環が含有されていればよく、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、テトラフェノール型エポキシ樹脂、フェノール-キシリレン型エポキシ樹脂、ナフトール-キシリレン型エポキシ樹脂、フェノール-ナフトール型エポキシ樹脂、フェノール-ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂;レゾルシノールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル等の多官能グリシジル化合物等が挙げられる。オキシラン環含有化合物d2を含有することにより、解像度及び耐薬品性の点で優れた絶縁膜を得られるため好ましい。架橋剤Dとしては、アミノ基含有化合物d1、オキシラン環含有化合物d2が好ましく、アミノ基含有化合物d1とオキシラン環含有化合物d2とを併用することもできる。また、併用する場合、合計を100質量としたときに、オキシラン環含有化合物d2が50質量以下であることが好ましく、5~40質量であることがより好ましい。このような質量割合で併用した場合、高解像性を損なうことなく、且つ耐薬品性に優れた絶縁膜を形成することができるため好ましい。架橋剤Dの含有量は、重合体Bを100質量部但し、後述のフェノール性低分子化合物が配合されている場合には、重合体Bとフェノール性低分子化合物の合計を100質量部とした場合に、1~100質量部であることが好ましく、5~50質量部であることがより好ましい。この架橋剤Dの含有量が1~100質量部であれば、硬化反応が十分に進行し、形成される絶縁膜は高解像度で良好なパターン形状を有し、且つ耐熱性、電気絶縁性等に優れるため好ましい。E架橋ポリマー粒子本発明の感放射線性組成物は、架橋ポリマー粒子を更に含有していてもよい。架橋ポリマー粒子を含有する場合には、絶縁性及び密着性により優れた絶縁膜を形成することができるため好ましい。前記架橋ポリマー粒子は、不飽和重合性基を2個以上有する架橋性単量体以下、単に架橋性単量体という。と、架橋ポリマー粒子のTgが0°C以下となるように選択される1種又は2種以上の他の単量体とを共重合させた共重合体である。特に、他の単量体を2種以上併用し、且つ他の単量体のうちの少なくとも1種が、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、ヒドロキシル基等の重合性基以外の官能基を有するものであることがより好ましい。また、この架橋ポリマー粒子のポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常、100万以上である。更に、この架橋ポリマー粒子を20質量の乳酸エチル溶液としたときの、溶液の曇り価ヘイズは、通常、8以上である。尚、前述の重合体Bの20質量の乳酸エチル溶液における曇り価は、通常、0.5以下である。前記架橋性単量体としては、例えば、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、エチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート等の重合性不飽和基を複数有する化合物が挙げられる。これらのなかでも、ジビニルベンゼンが好ましい。また、前記他の単量体としては、例えば、ブタジエン、イソプレン、ジメチルブタジエン、クロロプレン、1,3-ペンタジエン等のジエン化合物;メタアクリロニトリル、α-クロロアクリロニトリル、α-クロロメチルアクリロニトリル、α-メトキシアクリロニトリル、α-エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイン酸ジニトリル、フマル酸ジニトリル等の不飽和ニトリル化合物類;メタアクリルアミド、N,N’-メチレンビスメタアクリルアミド、N,N’-エチレンビスメタアクリルアミド、N,N’-ヘキサメチレンビスメタアクリルアミド、N-ヒドロキシメチルメタアクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチルメタアクリルアミド、N,N-ビス2-ヒドロキシエチルメタアクリルアミド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミド等の不飽和アミド類;メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸プロピル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸ヘキシル、メタアクリル酸ラウリル、ポリエチレングリコールメタアクリレート、ポリプロピレングリコールメタアクリレート等のメタアクリル酸エステル化合物;スチレン、α-メチルスチレン、o-メトキシスチレン、p-ヒドロキシスチレン、p-イソプロペニルフェノール等の芳香族ビニル化合物;ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、グリコールのジグリシジルエーテル等とメタアクリル酸、ヒドロキシアルキルメタアクリレート等との反応によって得られるエポキシメタアクリレート類、ヒドロキシアルキルメタアクリレートとポリイソシアナートとの反応によって得られるウレタンメタアクリレート類、グリシジルメタアクリレート、メタアリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有不飽和化合物;メタアクリル酸、イタコン酸、コハク酸-β-メタアクリロキシエチル、マレイン酸-β-メタアクリロキシエチル、フタル酸-β-メタアクリロキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸-β-メタアクリロキシエチル等の不飽和酸化合物;ジメチルアミノメタアクリレート、ジエチルアミノメタアクリレート等のアミノ基含有不飽和化合物;メタアクリルアミド、ジメチルメタアクリルアミド等のアミド基含有不飽和化合物;ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート、ヒドロキシブチルメタアクリレート等のヒドロキシル基含有不飽和化合物等が挙げられる。これらの他の単量体のなかでも、ブタジエン、イソプレン、ジメチルブタジエン、クロロプレン、1,3-ペンタジエン等のジエン化合物、イソプレン、メタアクリロニトリル、メタアクリル酸アルキルエステル類、スチレン、p-ヒドロキシスチレン、p-イソプロペニルフェノール、グリシジルメタアクリレート、メタアクリル酸、ヒドロキシアルキルメタアクリレート類等が好ましい。架橋ポリマー粒子を製造する際における、前記架橋性単量体の使用量は、共重合に用いられる単量体の合計を100質量とした場合に、1~20質量であることが好ましく、より好ましくは2~10質量である。また、架橋ポリマー粒子を製造する際において、前記ジエン化合物特に、ブタジエンを他の単量体として用いる場合には、ジエン化合物の使用量は、共重合に用いられる単量体の合計を100質量とした場合に、20~80質量であることが好ましく、より好ましくは30~70質量である。ジエン化合物の使用量が20~80質量である場合、架橋ポリマー粒子がゴム状の軟らかい微粒子となり、形成される絶縁膜等の硬化物にクラック割れが発生するのを防止することができ、より耐久性に優れる絶縁膜等とすることができる。また、架橋ポリマー粒子の平均粒径は、通常、30~500nmであり、好ましくは40~200nm、更に好ましくは50~120nmである。この架橋ポリマー粒子の粒径の制御方法は、例えば、乳化重合により架橋ポリマー粒子を合成する場合、使用する乳化剤の量により乳化重合中のミセルの数を制御することにより、粒径を調整することができる。尚、架橋ポリマー粒子の平均粒径は、光散乱流動分布測定装置大塚電子社製、型式LPA-3000を使用し、架橋ポリマー粒子の分散液を常法に従って希釈して測定した値である。これらの架橋ポリマー粒子は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明の感放射線性組成物における架橋ポリマー粒子の含有量は、重合体Bを100質量部但し、後述のフェノール性低分子化合物が配合されている場合には、重合体Bとフェノール性低分子化合物の合計を100質量部とした場合に、0.5~50質量部であることが好ましく、より好ましくは1~30質量部である。架橋ポリマー粒子の含有量が0.5~50質量部である場合、絶縁性及び密着性により優れた絶縁膜を形成することができる。更には、他の成分との相溶性又は分散性に優れ、形成される絶縁膜等の耐熱性等を向上させることができる。F他の添加剤本発明の感放射線性組成物には、必要に応じて、他の添加剤を、本発明の特性を損なわない程度に含有させることができる。前記他の添加剤としては、フェノール性低分子化合物、密着促進剤、増感剤、クエンチャー、レベリング剤、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等が挙げられる。前記フェノール性低分子化合物を用いることにより、感放射線性組成物の感度や解像度を向上させることができる。前記フェノール性低分子化合物としては、例えば、4,4’-{1-[4-2-4-ヒドロキシフェニル-2-プロピルフェニル]エチリデン}ビスフェノール、4,4’-{1-[4-1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチルフェニル]エチリデン}ビスフェノール、4,4’-ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテル、トリス4-ヒドロキシフェニルメタン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-1-フェニルエタン、トリス4-ヒドロキシフェニルエタン、1,3-ビス[1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル]ベンゼン、1,4-ビス[1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル]ベンゼン、4,6-ビス[1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル]-1,3-ジヒドロキシベンゼン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-1-[4-1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチルフェニル]エタン、1,1,2,2-テトラ4-ヒドロキシフェニルエタン等が挙げられる。これらのフェノール性低分子化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。このフェノール性低分子化合物の配合量は、前記重合体Bを100質量部とした場合に、40質量部以下であることが好ましく、より好ましくは1~30質量部である。前記密着助剤を用いることにより、絶縁膜と基板との密着性を向上させることができる。前記密着助剤としては、例えば、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基等の反応性置換基を有する官能性シランカップリング剤等が挙げられる。具体的には、トリメトキシシリル安息香酸、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、1,3,5-N-トリストリメトキシシリルプロピルイソシアヌレート等が挙げられる。これらの密着助剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。この密着助剤の含有量は、重合体Bを100質量部但し、後述のフェノール性低分子化合物が配合されている場合には、重合体Bとフェノール性低分子化合物の合計を100質量部とした場合に、10質量部以下であることが好ましく、より好ましくは0.2~10質量部、更に好ましくは0.5~8質量部である。また、本発明の感放射線性組成物には、前記黒色剤A以外の金属粒子や金属化合物粒子が含まれていないことが好ましい。これらの金属粒子や金属化合物粒子が配合されると、十分な絶縁性が得られなくなるおそれがある。G溶剤本発明の感放射線性組成物は、通常、前述の各成分が、溶剤に溶解又は分散されてなる組成物である。この溶剤としては、例えば、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、他のエーテル化合物、ケトン化合物、乳酸アルキルエステル、他のエステル化合物、芳香族炭化水素、アミド化合物、ラクトン化合物等が挙げられる。これらは、1種単独で用いてよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。前記アルキレングリコールモノアルキルエーテルとしては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。前記アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとしては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。前記他のエーテル化合物としては、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。前記ケトン化合物としては、メチルエチルケトン、メチル-n-ペンチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン等が挙げられる。前記乳酸アルキルエステルとしては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n-プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸n-ブチル、乳酸イソブチル等が挙げられる。前記他のエステル化合物としては、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、ぎ酸n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸n-ブチル、酪酸エチル、酪酸n-プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n-ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n-プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸エチル等が挙げられる。前記芳香族炭化水素としては、トルエン、キシレン等が挙げられる。前記アミド化合物としては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等が挙げられる。前記ラクトン化合物としては、γ-ブチロラクトン等が挙げられる。これらの溶剤のなかでも、溶解性、分散性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、メチル-n-ペンチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン、乳酸エチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、ぎ酸n-アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸n-ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸n-ブチル、ピルビン酸エチル等が好ましい。尚、前記溶剤は、ベンジルエチルエーテル、ジ-n-ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オクタノール、1-ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶剤を含んでもよい。これらの高沸点溶剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。前記溶剤の含有量は、組成物の塗布性、安定性等の観点から、組成物中の溶剤を除いた各成分の合計割合が、通常、5~50質量、好ましくは10~40質量となるように用いる。[2]感放射線性組成物の製造方法本発明における感放射線性組成物を製造する方法は、例えば、前記溶剤Gの中で、所定量の黒色剤A、重合体B、酸発生剤C、架橋剤D及び他の添加剤等を一括して又は分割配合して混合する方法等とすることができる。尚、黒色剤Aは、前述の黒色剤分散液として配合してもよい。混合装置としては、二本ロール、三本ロール、ボールミル、トロンミル、ディスパー、ニーダー、コニーダー、ホモジナイザー、ブレンダー、単軸押出機、2軸押出機等が挙げられる。混合後、必要に応じて、フィルターで濾過を行ってもよい。[3]絶縁膜及びそれを備える固体撮像素子本発明の絶縁膜は、前記感放射線性組成物から得られるもの、又は後述する絶縁膜の形成方法により形成されたことを特徴する。また、本発明の固体撮像素子は、前記絶縁膜を備えることを特徴とするものであり、具体的には、少なくとも、光電変換部、前記絶縁膜、及び電極部を備えるものである。例えば、固体撮像素子としては、貫通電極を有する固体撮像素子や、商品名NeoPACOptoPACInc.社製等の構造を有する固体撮像素子であって、前記絶縁膜を有する固体撮像素子等を挙げることができる。以下、本発明の固体撮像素子用における光電変換部の実装に用いられる絶縁膜及びそれを備える本発明の固体撮像素子について説明する。本発明の絶縁膜及び本発明の固体撮像素子の代表例を例示する図1及び図2参照。図1は、絶縁膜16を含む固体撮像素子1の要部断面図であり、シリコンウエハ等からなる支持基板11と、この支持基板11の一面側以下、上面側という。及び他面側以下、下面側という。を貫通する貫通孔の内壁面並びに支持基板11の下面表面に形成された絶縁層12と、前記貫通孔の内表面を含む絶縁層12の表面に形成された配線部13と、配線部13の表面において部分的に形成された電極部15と、この電極部15の周縁であって、支持基板11の下面表面における絶縁層12の表面、及び電極部が形成されていない配線部13の表面に形成された絶縁膜16とを備える。尚、この図1において、支持基板11の上面側に配された光電変換部等は省略した。また、図2は、図1の固体撮像素子1における電極部15の露出部に半田ボール17を備える固体撮像素子1’である。[4]絶縁膜の形成方法本発明の絶縁膜の形成方法は、固体撮像素子における光電変換部の実装に用いられる絶縁膜の形成方法であって、1電極部を備える基板上に、感放射線性組成物からなる塗膜を形成する工程と、2少なくとも前記電極部上に形成された塗膜以外の塗膜を露光する工程と、3露光後の塗膜を現像する工程と、を備えることを特徴とする。前記絶縁膜16図1及び図2参照は、具体的には、例えば、下面表面に部分的に電極部15を有する絶縁膜形成用基板図示せず上に、前記本発明の感放射線性組成物を塗布した後、プレベークを行って、塗膜被膜を形成する。次いで、この被膜に、フォトマスクを介して現像後に少なくとも電極部15が露出するように設計された所定のパターンで露光する。そして、現像し、被膜の未露光部を溶解除去する。その後、必要に応じてポストベークを行うことにより、絶縁膜16を得ることができる。前記本発明の感放射線性組成物を塗布する際には、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等、公知の塗布方法を適用することができる。その後、前記塗膜をプレベークする際の温度は、塗膜の構成成分等により、適宜、選択されるが、通常、70~130°Cの範囲、好ましくは80~120°Cの範囲から選ばれる。この熱処理は、前記範囲において、温度一定として行ってよいし、昇温及び降温を組み合わせて行ってもよい。次に、プレベーク後の被膜に対して、光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等の光放射線を露光する。その後、露光後の被膜を現像する。現像に用いられる現像液としては、通常、アルカリ現像液が用いられる。アルカリ現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8-ジアザビシクロ-[5,4,0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ-[4.3.0]-5-ノネン等の水溶液が好ましい。また、この水溶液は、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤、界面活性剤等が、適量添加されたものであってもよい。現像方法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ浸漬現像法、液盛り現像法等が挙げられる。現像時間は、通常、常温22°C~28°Cで5~300秒である。現像を行った後、通常、水洗及び乾燥を行う。乾燥方法としては、ホットプレート、オーブン等を用いた熱乾燥;エアーガン等を用いた風乾等が挙げられる。現像後、得られたパターン化した被膜パターン化被膜は、必要に応じて、ポストベークされて、絶縁膜となる。前記パターン化被膜をポストベークする際の温度は、パターン化被膜の構成成分等により、適宜、選択されるが、通常、150~250°Cの範囲、好ましくは180~230°Cの範囲から選ばれる。前記絶縁膜は、単一層及び多層のいずれでもよい。前記絶縁膜の厚さは、絶縁性、遮光性及び密着性の観点から、好ましくは30μm以下であることが好ましく、より好ましくは1~25μm、更に好ましくは2~20μmである。尚、前記絶縁膜の厚さが30μm以下であれば、赤外線を含む外部からの光を十分に遮光することができ、且つ、クラック等のない絶縁膜を形成できる。前記絶縁膜は、その表面に保護膜を備えてもよい。その場合、保護膜形成材料としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物等を用いることができる。以下に、実施例を挙げ、本発明を更に詳細に説明するが、本発明の主旨を超えない限り、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。ここで、部及びは、特記しない限り質量基準である。[1]感放射線性組成物の調製1-1黒色剤分散液の調製下記表1に示す割合で、黒色剤A、分散剤H、及び溶剤Iをビーズミルにより混合して、黒色剤分散液Ax-1~Ax-3を調製した。尚、表1における黒色剤A、分散剤H、及び溶剤Iの詳細を以下に示す。<黒色剤A>A-1:カーボンブラック光散乱法による粒子径:10~200μmA-2:チタンブラック光散乱法による粒子径:10~200μm<分散剤H>H-1:変性アクリル系ブロック共重合体ビックケミージャパン社製、商品名DISPERBYK-2001H-2:表面処理剤ビックケミージャパン社製、商品名DISPERBYK-165H-3:3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン<溶剤I>I-1:3-メトキシブチルアセテート1-2感放射線性組成物の調製実施例1~3下記表2に示すように各成分を混合することにより、実施例1~3の感放射線性組成物を調製した。尚、各成分の詳細は以下の通りである。<黒色剤分散液Ax>Ax-1:前述の黒色剤分散液Ax-1Ax-2:前述の黒色剤分散液Ax-2<重合体B>B-1:m-クレゾール/p-クレゾール=60/40モル比からなるクレゾールノボラック樹脂ゲルパーミエーションカラムクロマトグラフィーによるポリスチレン換算重量平均分子量=6500B-2:p-ヒドロキシポリスチレンゲルパーミエーションカラムクロマトグラフィーによるポリスチレン換算重量平均分子量=3000<低分子化合物b>b-1:4,4’-[1-[4-[1-4-ヒドロキシフェニル-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール<酸発生剤C>C-1:1-4,7-ジブトキシ-1-ナフタレニルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホナート<架橋剤D>D-1:ヘキサメトキシメチルメラミン三井サイテック株式会社製、商品名サイメル300D-2:トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテルナガセケムテックス株式会社製、商品名デナコールEX321L<架橋ポリマー粒子E>E-1:ブタジエン/アクリロニトリル/ヒドロキシブチルメタクリレート/メタクリル酸/ジビニルベンゼン=64/20/8/6/2モル比、光散乱法による重量平均粒子径=70nm<他の添加剤F>F-1:3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランF-2:ジグリセリンEO付加物ペルフルオロノネニルエーテル株式会社ネオス製、商品名FTX-218<溶剤G>G-1:メチル-n-ペンチルケトンG-2:乳酸エチル1-3感放射線性組成物の調製比較例11-3-1重合体R-1の調製フラスコ内で、メタクリル酸25部、N-フェニルマレイミド30部、スチレン18部、ベンジルメタクリレート15部及び2-アクリロイロキシオキシエチルコハク酸12部を、シクロヘキサノン200部に溶解した。次いで、2、2’-アゾビスイソブチロニトリル1部、及びα-メチルスチレンダイマー2.5部を投入し、80°Cで5時間加熱し、重合体R-1を得た。重合体R-1のゲルパーミエーションカラムクロマトグラフィーによるポリスチレン換算重量平均分子量は22000であった。尚、本実施例における、ゲルパーミエーションカラムクロマトグラフィーによるポリスチレン換算重量平均分子量の測定条件は以下の通りである。<重量平均分子量Mwの測定>東ソー社製GPC商品名HLC-8220GPCのGPCカラム商品名G2000HXL2本、商品名TSKgel、GMPW1本、商品名G3000PW1本を使用し、流量:1.0mL/分、溶出溶剤:テトラヒドロフラン、カラム温度:40°Cの分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィGPCにより測定した。1-3-2感放射線性組成物比較例1の調製上述のようにして調製した重合体R-120部、前記黒色剤分散液Ax-150部、多官能性単量体ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート商品名MAX3510、東亞合成株式会社製8部、光重合開始剤2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-4’-モルフォリノブチロフェノン2.2部、光重合開始剤2,2’-ビス2-クロロフェニル-4,5,4’,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール1.7部、光重合開始剤4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン0.6部、水素供与体2-メルカプトベンゾチアゾール0.8部、界面活性剤3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5部、界面活性剤DIC社製、商品名メガファックF4750.6部、溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート12.8部、溶剤シクロヘキサノン10部を混合することにより、比較例1の感放射線性組成物を調製した。[2]感放射線性組成物の評価前述のようにして得られた実施例1~3及び比較例1の感放射線性組成物について、下記項目について評価した。その結果を表3に示す。2-1パターン形状残渣、最小パターンサイズ感放射線性組成物を、シリコンウエハ基板に、スピンコーターを用いて塗布した後、110°Cのホットプレート上で3分間但し、比較例1の感放射線性組成物については、90°Cのホットプレート上で2.5分間プレベークを行って、被膜を形成した。次いで、基板を室温に冷却し、露光装置商品名マスクアライナーMA200e、SUSS社製を用いて、マスクを介して、被膜に365nm、405nm及び436nmの各波長を含む紫外線を露光した。このときの露光量は2000mJ/cm2但し、比較例1の感放射線性組成物については、露光量500mJ/cm2であった。その後、23°Cのポリオキシエチレン系界面活性剤含有0.05質量テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて、基板を1分間シャワー現像した。そして、超純水を用いて洗浄して風乾した。次いで、180°Cのホットプレート上で60分間ポストベークを行って、基板上にパターン化被膜膜厚20μmを形成した。得られたパターン化被膜を電子顕微鏡にて観察し、画素パターンの残渣が認められるかどうかについて、下記基準にて判定した。また、このときパターン全体が剥離することなく残存していた最小のパターンサイズμmを測定した。○:残渣が認められない。×:残渣が多い。2-2密着性感放射線性組成物をガラス基板表面にSiO2層を有する基板及び表面に銅箔を有するシリコンウエハ基板に、スピンコーターを用いて塗布した後、110°Cのホットプレート上で3分間但し、比較例1の感放射線性組成物については、90°Cのホットプレート上で2.5分間プレベークを行って被膜を形成した。次いで、露光装置商品名マスクアライナーMA200e、SUSS社製を用いて、被膜全面に365nm、405nm及び436nmの各波長を含む紫外線を露光した。このときの露光量は2000mJ/cm2但し、比較例1の感放射線性組成物については、露光量500mJ/cm2であった。その後、180°Cのホットプレートで60分間ポストベークを行って、被膜化し、膜厚20μmの絶縁膜を得た。密着性は、ブランク被膜及び下記条件aに供した絶縁膜に対して、JISK5400に準拠したカッター及びカッターガイドを用いて、1mm角の碁盤目を100個作成し、テープにより密着性を確認した碁盤目試験。テープを剥離した後に残った碁盤目を計数した。a絶縁膜付き基板を、高度加速寿命試験装置型式TPC-212、エスペック社製を用いて、温度110°C及び湿度100の条件下、168時間放置した後の絶縁膜。2-3電気絶縁性体積抵抗率感放射線性組成物を、表面に銅箔を有するシリコンウエハ基板に、スピンコーターを用いて塗布した後、110°Cのホットプレート上で3分間但し、比較例1の感放射線性組成物については、90°Cのホットプレート上で2.5分間プレベークを行って被膜を形成した。次いで、露光装置商品名マスクアライナーMA200e、SUSS社製を用いて、被膜全面に365nm、405nm及び436nmの各波長を含む紫外線を露光した。このときの露光量は2000mJ/cm2但し、比較例1の感放射線性組成物については、露光量500mJ/cm2であった。その後、180°Cのホットプレートで60分間ポストベークを行って、被膜化し、膜厚20μmの絶縁膜を得た。体積抵抗率は、ブランク被膜及び下記条件bに供した絶縁膜に対して測定を実施した。b絶縁膜付き基板を、高度加速寿命試験装置型式TPC-212、エスペック社製を用いて、温度110°C及び湿度100の条件下、168時間放置した後の絶縁膜。2-4透過率感放射線性組成物を、ガラス基板に、スピンコーターを用いて塗布した後、110°Cのホットプレート上で3分間但し、比較例1の感放射線性組成物については、90°Cのホットプレート上で2.5分間プレベークを行って被膜を形成した。次いで、この被膜を有する基板を室温に冷却し、露光装置商品名マスクアライナーMA200e、SUSS社製を用いて、被膜全面に365nm、405nm及び436nmの各波長を含む紫外線を露光した。このときの露光量は2000mJ/cm2但し、比較例1の感放射線性組成物については、露光量500mJ/cm2であった。その後、180°Cのホットプレートで60分間ポストベークを行って、被膜化し、膜厚20μmの絶縁膜を得た。透過率は、ブランク被膜及び下記の各種条件c~eに供した絶縁膜に対して、分光光度計型式V7300、日本分光社製を用いて、温度23°C、波長範囲400~1,200nmにおいて測定し、1,000nmにおける透過率を評価した。c絶縁膜付き基板を、恒温恒湿試験装置型式PSL-2KPH、エスペック社製を用いて、温度85°C及び湿度85の条件下、168時間放置した後の絶縁膜。d絶縁膜付き基板を、高度加速寿命試験装置型式TPC-212、エスペック社製を用いて、温度110°C及び湿度100の条件下、168時間放置した後の絶縁膜。e絶縁膜付き基板を、ホットプレート上で、大気中、260°C1時間放置した後の絶縁膜。"