"第1の電極層を有する第1の基板と、前記第1の基板の第1の電極層上に形成された有機層と、前記有機層上に形成された第2の電極層と、接着層を介して前記第2の電極層と接合される第2の基板と、を備え、前記有機層は、前記第1の基板の周縁部のいずれかの領域には形成されておらず、前記第2の電極層は、前記有機層の形成されていない領域に対応する部分において前記第1の電極層との間に絶縁層を介して前記有機層のある領域より外周側に延設され、前記第2の基板及び前記接着層は、前記延設された第2の電極層の端部から外周側の領域と対向する部分には存在せず、前記第1の基板の第1の電極層及び前記延設された第2の電極層が前記第2の基板から露出して夫々第1の電極取出し部及び第2の電極取出し部を構成していることを特徴とする有機ELデバイス。前記延設された第2の電極層は、前記絶縁層よりも内側になるように形成され、前記第1の電極取出し部及び前記第2の電極取出し部が、前記第2の基板に設けられた切欠き部から露出するように形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス。前記延設された第2の電極層の一部が、前記第2の基板及び前記接着層の端部と共に導電性金属から成るメッキ層によって封止されていることを特徴とする請求項2に記載の有機ELデバイス。前記第1の電極取出し部及び前記第2の電極取出し部は、前記第2の基板に設けられた複数の切欠き部から夫々個別に露出するように形成されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の有機ELデバイス。前記第2の基板のうち、前記第2の電極層と向かい合う面には、前記第2の電極層と接触しないように、吸湿層が設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の有機ELデバイス。前記第2の電極層は、前記有機層と当接する主電極部と、前記主電極部と接すると共に、前記有機層とは絶縁された補助電極部と、から構成されることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の有機ELデバイス。前記第2の電極取出し部の第2の電極層は、前記補助電極部の一部であることを特徴とする請求項6に記載の有機ELデバイス。前記主電極部は、低抵抗性を有する細線材を格子状、ライン状又はハニカム状に配置したグリッド電極から構成されていることを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の有機ELデバイス。前記第1の基板は、前記第1の電極層を平滑化する平滑化層を有し、この平滑化層は、前記第1の電極層の、前記有機層が形成された面とは反対側の面に設けられることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の有機ELデバイス。前記第1の基板は、前記平滑化層の、前記第1の電極層とは反対側の面に設けられたバリア層を有することを特徴とする請求項9に記載の有機ELデバイス。しかしながら、上記特許文献1には、電極取出し部をどのように形成するかについて、具体的に記載されていない。通常、電極取出し部を設けるためには、陽極及び発光層を複雑な形状にパターンニング形成する必要があり、上述したロールツーロール方式による製造方法であっても、必ずしもデバイスを効率的に製造することができなかった。本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、電極取出し部を簡易に形成することができ、効率的に製造することができる有機ELデバイスを提供することを目的とする。上記課題を解決するため、本発明に係る有機ELデバイスは、第1の電極層を有する第1の基板と、前記第1の基板の第1の電極層上に形成された有機層と、前記有機層上に形成された第2の電極層と、接着層を介して前記第2の電極層と接合される第2の基板と、を備え、前記有機層は、前記第1の基板の周縁部のいずれかの領域には形成されておらず、前記第2の電極層は、前記有機層の形成されていない領域に対応する部分において前記第1の電極層との間に絶縁層を介して前記有機層のある領域より外周側に延設され、前記第2の基板及び前記接着層は、前記延設された第2の電極層の端部から外周側の領域と対向する部分には存在せず、前記第1の基板の第1の電極層及び前記延設された第2の電極層が前記第2の基板から露出して夫々第1の電極取出し部及び第2の電極取出し部を構成していることを特徴とする。上記有機ELデバイスにおいて、前記延設された第2の電極層は、前記絶縁層よりも内側になるように形成され、前記第1の電極取出し部及び前記第2の電極取出し部が、前記第2の基板に設けられた切欠き部から露出するように形成されることが好ましい。上記有機ELデバイスにおいて、前記延設された第2の電極層の一部が、前記第2の基板及び前記接着層の端部と共に導電性金属から成るメッキ層によって封止されていることが好ましい。上記有機ELデバイスにおいて、前記第1の電極取出し部及び前記第2の電極取出し部は、前記第2の基板に設けられた複数の切欠き部から夫々個別に露出するように形成されることが好ましい。上記有機ELデバイスにおいて、前記第2の基板のうち、前記第2の電極層と向かい合う面には、前記第2の電極層と接触しないように、吸湿層が設けられていることが好ましい。上記有機ELデバイスにおいて、前記第2の電極層は、前記有機層と当接する主電極部と、前記主電極部と接すると共に、前記有機層とは絶縁された補助電極部と、から構成されることが好ましい。上記有機ELデバイスにおいて、前記第2の電極取出し部の第2の電極層は、前記補助電極部の一部であることが好ましい。上記有機ELデバイスにおいて、前記主電極部は、低抵抗性を有する細線材を格子状、ライン状又はハニカム状に配置したグリッド電極から構成されていることが好ましい。上記有機ELデバイスにおいて、前記第1の基板は、前記第1の電極層を平滑化する平滑化層を有し、この平滑化層は、前記第1の電極層の、前記有機層が形成された面とは反対側の面に設けられることが好ましい。上記有機ELデバイスにおいて、前記第1の基板は、前記平滑化層の、前記第1の電極層とは反対側の面に設けられたバリア層を有することが好ましい。本発明によれば、第1の電極層及び延設された第2の電極層を、第2の基板から露出させて夫々第1の電極取出し部及び第2の電極取出し部となしたので、第2の基板を切欠く等の簡易な手順により電極取出し部を形成でき、有機ELデバイスを効率的に製造することができる。本発明の第1の実施形態に係る有機ELデバイスの構成について、図1乃至図5を参照して説明する。本実施形態の有機ELデバイス1は、図1に示すように、第1の基板2と、第1の基板2上に形成された有機層3と、有機層3上に形成され、この有機層3に正孔を供給する陽極層4と、接着層5を介して陽極層4と接合される第2の基板6と、を備える。本実施形態において、第1の基板2は、有機層3を形成するための基板として機能するだけでなく、有機層3に電子を供給する陰極層21としても機能する。なお、陰極層21を第1の電極層とした場合、陽極層4は第2の電極層に相当する。有機層3は、第1の基板2側から順に、電子注入層31と、発光層32と、ホール輸送層33と、ホール注入層34と、から構成される。陽極層4は、有機層3と当接する主電極部41と、主電極部41と接すると共に、有機層3とは絶縁層7によって絶縁された補助電極部42と、から構成される。第2の基板6のうち、陽極層4と向かい合う面には、有機層3が形成される領域と重なり合わないように、また、陽極層4と接触しないように、吸湿層8が設けられる。有機層3は、第1の基板2の周縁部のいずれかの辺には形成されていない。本例においては、図2のB線及びC線で示す部分には、有機層3が形成されていない。この有機層3が形成されていない領域は、第1の基板2の4辺のいずれかに設けられていればよく、また、一辺の全長に亘って設けられていなくてもよく、部分的に設けられていてもよい不図示。一方、図2のA線及びD線で示す部分には、有機層3が端部まで形成されている図3aも参照。なお、本実施形態の有機ELデバイス1の製造工程において、第1の基板2に対して有機層3がロールツーロール方式で形成される場合、ロール進行方向は、図2のA線及びD線方向となる。図2のA線及びD線で示す部分を含む両辺には、有機層3等を封止すると共に、有機ELデバイス1の側部を保護する保持部材不図示が設けられる。この保持部材は、図2のB線及びC線で示す部分を含む両辺にも設けられてもよい。有機層3が形成されていない領域の一部、すなわち本例では、図2のB線で示す部分には、絶縁層7を介して補助電極部42の一部が、有機層3のある領域より外周側へ延設されている図1参照。また、図3bに示すように、第2の基板6及び接着層5は、延設された補助電極部42の端部から外周側の領域と対向する部分には存在せず、第1の基板2の陰極層21及び延設された補助電極部42が第2の基板6から露出している。具体的には、延設された補助電極部42は、絶縁層7よりも内側になるように形成されており、また、第2の基板6に切欠き部61が形成されている図1も参照。そのため、延設された補助電極部42、及びこの補助電極部42より外周側に位置する第1の基板2は、切欠き部61によって第2の基板6側へ露出し、夫々陰極取出し部40b及び陽極取出し部40aを構成する。陰極取出し部40bを第1の電極取出し部とした場合、陽極取出し部40aが第2の電極取出し部に相当する。図2のC線で示す部分には、図3cに示すように、補助電極部42が延設されていない。なお、本実施形態においては、矩形状の有機ELデバイス1の一辺の1箇所に陽極取出し部40a及び陰極取出し部40bが形成された例を示すが、2箇所以上に設けられてもよい。陽極取出し部40aは、補助電極部42の一部を除いて、絶縁層7と共に封止材9によって封止される。これにより、上述の図2、図3b及び図4に示すように、封止材9を挟むように併設された陽極取出し部40a及び陰極取出し部40bが、切欠き部61から露出する。これら露出した補助電極部42及び陰極層21の一部に、外部給電端子等に電気的に接続される。第1の基板2の陰極層21は、アルミニウム、銅、ステンレス、ニッケル、錫、鉛、金、銀、鉄又はチタン等の金属又は合金等から成るシート材が用いられ、このシート材は、ロール巻取りが可能な程度の可撓性を有するものが好ましい。シート材の表面は、素子の短絡を抑制するため、平滑性を有することが必要であり、その表面粗さは、Ra100nm以下であることが好ましく、Ra10nm以下であることが更に好ましい。また、本実施形態における陰極層21は、水分やガス等に対するバリア性を有する金属材料から構成されていることが好ましい。こうすれば、水分やガス等による有機層3の劣化を抑制することができる。また、陰極層21は、仕事関数の小さい金属、合金、導電性化合物又はこれらの混合物から成る電極材料から構成されることが好ましい。また、陰極層21には、アルミニウムや銀等の金属、又はこれら金属を含む化合物を用いることができ、アルミニウムと他の電極材料とを組み合わせて、積層構造等として構成されたものを用いてもよい。このような電極材料の組み合わせとしては、アルカリ金属とアルミニウムとの積層体、アルカリ金属と銀との積層体、アルカリ金属のハロゲン化物とアルミニウムとの積層体、アルカリ金属の酸化物とアルミニウムとの積層体、アルカリ土類金属や希土類金属とアルミニウムとの積層体、これらの金属種と他の金属との合金等が挙げられる。具体的には、ナトリウム、ナトリウム-カリウム合金、リチウム、マグネシウム等とアルミニウムとの積層体、マグネシウム-銀混合物、マグネシウム-インジウム混合物、アルミニウム-リチウム合金、フッ化リチウムLiF/アルミニウム混合物/積層体、アルミニウム/酸化アルミニウムAl2O3混合物等が挙げられる。有機層3を構成する電子注入層31としては、陰極層21を構成する材料と共通のもの、酸化チタン、酸化亜鉛等の金属酸化物、上記材料を含めて、電子注入を促進させるドーパントを混合した有機半導体材料等が用いられる。また、発光層32としては、有機EL素子の発光材料として知られる任意の材料が用いられる。このような発光材料としては、例えば、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス8-ヒドロキシキノリナートアルミニウム錯体、トリス4-メチル-8-キノリナートアルミニウム錯体、トリス5-フェニル-8-キノリナートアルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ-p-ターフェニル-4-イルアミン、ピラン、キナクリドン、ルブレン、及びこれらの誘導体、あるいは、1-アリール-2,5-ジ2-チエニルピロール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、スチリルアミン誘導体、及びこれらの発光性化合物から成る基を分子の一部分に有する化合物あるいは高分子等が挙げられる。また、上記化合物に代表される蛍光色素由来の化合物のみならず、いわゆる燐光発光材料、例えば、Ir錯体、Os錯体、Pt錯体、ユーロピウム錯体等々の発光材料、又はそれらを分子内に有する化合物、若しくは高分子も好適に用いることができる。また、これらの材料から成る発光層32は、蒸着、転写等乾式プロセスによって成膜しても良いし、スピンコート、スプレーコート、ダイコート、グラビア印刷等、塗布によって成膜するものであってもよい。ホール輸送層33は、例えば、ホール輸送性を有する化合物の群から選定することができる。この種の化合物としては、例えば、4,4’-ビス[N-ナフチル-N-フェニル-アミノ]ビフェニルα-NPD、N,N’-ビス3-メチルフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミンTPD、2-TNATA、4,4’,4-トリスN-3-メチルフェニルN-フェニルアミノトリフェニルアミンMTDATA、4,4’-N,N’-ジカルバゾールビフェニルCBP、スピロ-NPD、スピロ-TPD、スピロ-TAD、TNB等を代表例とする、トリアリールアミン系化合物、カルバゾール基を含むアミン化合物、フルオレン誘導体を含むアミン化合物等を挙げることができるが、一般に知られる任意のホール輸送材料を用いることができる。ホール注入層34は、例えは、銅フタロシアニンCuPc等の低分子量の有機化合物や、チオフェントリフェニルメタン、ヒドラゾリン、アリールアミン、ヒドラゾン、スチルベン、トリフェニルアミン等を含む有機材料が挙げられる。具体的には、ポリビニルカルバゾールPVCz、ポリエチレンジオキシチオフェン:ポリスチレンスルホネートPEDOT:PSS、TPD等の芳香族アミン誘導体等で、上記材料を単独で用いてもよく、また、二種類以上の材料を組み合わせて用いてもよい。陽極層4の主電極部41には、有機EL素子の陽極材料として知られる任意の材料を用いることができる。陽極材料としては、銀、インジウム-錫酸化物ITO、インジウム-亜鉛酸化物IZO、錫酸化物、金等の金属のナノワイヤー、ナノドットを含むナノ粒子、導電性高分子、導電性の有機材料、ドーパントドナー又はアクセプタ含有有機層、導電体と導電性有機材料高分子含むの混合物が挙げられ、導電性及び透光性を有していればよく、これらに限定されない。また、導電性物質の他にバインダーを含んだものであってもよい。バインダーとしては、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ジアクリルフタレート樹脂、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、その他の熱可塑性樹脂や、これらの樹脂を構成する単量体の2種以上の共重合体が挙げられる。また、主電極部41は、図5に示すように、低抵抗性を有する細線材43を格子状、ライン状又はハニカム状に配置した、いわゆるグリッド電極41’から構成されたものであってもよい。細線材43の径は、主電極部41の透光性を低下させ難いように、100μm以下であることが好ましい。また、図示したような、細線材43が格子状に配置されたものの場合、各細線材43の間隔は、導電性を維持できる範囲で広く設定され、好ましくは、開口率が90以上となるように設定される。細線材43としては、銀、アルミニウム、銅、ニッケル、錫、鉛、金、チタン等の各種金属及び合金、カーボン等の導電性材料が挙げられる。グリッド電極41’は、上記金属又は導電性材料を含むペーストをスクリーン印刷やグラビアコート、ダイコート等により、有機層3上にパターン形成される。このグリッド電極41’は、塗布による膜成形が容易であり、有機ELデバイス1を効率的に製造する上で有効である。なお、これらの材用や形成方法は、有機層3への濡れ性や、有機層3へのダメージを発生させないものであれば、特に限定されない。補助電極部42は、有機層3の周縁を囲うように枠状に配置されると共に、その一部が上述したように有機層3のある領域より外周側に延設されて、この延設された部分が陽極取出し部40aを構成する。補助電極部42は、絶縁層7上に、上述した形状となるようにパターニング形成される。このとき、補助電極部42の端部が、第1の基板2と短絡しないように、絶縁層7よりも内側になるように形成される。すなわち、有機ELデバイス1は、構成上、陰極として機能する第1の基板2と、陽極の一部として機能する補助電極部42が近接している。しかし、補助電極部42が上述のように構成されていることにより、絶縁層7の端部が僅かに損傷した程度では、補助電極部42が第1の基板2に接触して短絡することはなく、デバイスの信頼性を向上させることができる。なお、発光層32と対向する主電極部41に透明性の高い材料を用い、周囲の補助電極部42に導電性の高い材料を用いれば、陽極層4全体としては、透光性が高く、且つ導電性も高くすることができる。補助電極部42の構成材料としては、一般的な配線電極に用いられる各種金属が用いられ、主電極部41との電気伝導性が良いものであれば、特に限定されない。また、主電極部41とは異なり、透光性を有していなくてもよい。接着層5は、第2の基板6及び陽極層4との接着性に優れ、且つ発光層32から出射した光を透過することができる透明な樹脂材から成るペースト状又はシート状の部材が、有機層3及び陽極層4の周縁を覆うように配置されたものである。接着層5の構成材料としては、例えば、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。第2の基板6は、第1の基板2と同形状に形成された透明な板状部材であり、板厚が均一で、表面平滑性を有するものが用いられる。第2の基板6の構成材料としては、例えば、ソーダライムガラスや無アルカリガラス等の透光性ガラスや、透光性樹脂材料等が用いられる。絶縁層7は、補助電極部42と略相似形状で、補助電極部42よりも幅広となるようにパターン形成されたものである。絶縁層7は、その内周縁が有機層3の外周縁を被覆するように配置され、絶縁層7上に設けらた補助電極部42と有機層3との間の絶縁性を確保する。絶縁層7の構成材料としては、熱硬化性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等から成る熱硬化性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレン等の熱可塑性樹脂をウェットプロセスにより形成するか、SiOやSiN等の酸化物や窒化物をスパッタ等のドライプロセスで形成することができる。なお、何れのプロセスにおいてもパターニングが必要であり、特にウェットプロセスとしては、好ましくはスクリーン印刷、ダイコート、スプレーコート、グラビアコート等の方法によって絶縁層7を形成することができる。吸湿層8は、乾燥剤を含有させた樹脂材料を、有機層3が形成される領域が開口するよう枠状にパターン形成されたものである。この吸湿層8を設けることにより、接着層5に僅かに侵入した水分がブロックされるので、有機層3の劣化を効果的に抑制することができる。吸湿層8の構成材料には、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂等から成る光硬化型接着性樹脂に、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、酸化マグネシウム等から成る乾燥剤が添加されたものを用いることができる。なお、吸湿層8は、第2の基板6と陽極層4とが接合される前に、予め第2の基板6のうち、陽極層4と向かい合う面に設けられていることが好ましい。封止材9は、陽極取出し部40aの端部から、絶縁層7の端部、及び陰極取出し部40bの一部を覆うように設けられる図3b参照。このように、有機層3と接する絶縁層7が、封止材9によって封止されることにより、デバイス内に水分等が浸入し難くなり、有機層3の劣化を抑制することができる。なお、封止材9の材料には、接着層5と同様の材料が用いられるが、有機層3が形成される領域の外側、又は第1の基板2の裏側に配置されるので、接着層5とは異なり、透光性を有しない材料が用いられてもよい。これらの材料を用いることにより、第1の基板2上には、図1に示したように、有機層3が積層され、この有機層3の上に、絶縁層7、補助電極部42及び主電極部41が夫々所定の形状にパターン形成される。以下、第1の基板2上に有機層3、絶縁層7及び陽極層4補助電極部42及び主電極部41が形成された状態のものを、便宜上、発光シートという。一方、第2の基板6には、陽極層4と向かい合う面の所定位置に、吸湿層8が設けられる。そして、接着層5が、補助電極部42の一部及び主電極部41全体を覆うように配置され、接着層5によって第2の基板6が発光シートに接合される。切欠き部61は、第2の基板6と発光シートとの接合前に形成されても、接合後に形成されてもよい。また、この切欠き部61において、絶縁層7及び補助電極部42等の端部には、封止材9が設けられる。このような手順により、陽極取出し部40aを備えた有機ELデバイス1が製造される。すなわち、有機ELデバイス1は、第1の基板2陰極層21及び延設された補助電極部42の端部を、第2の基板6側に露出させることにより、陽極取出し部40a及び陰極取出し部40bを簡易に形成することができるので、効率的に製造することができる。また、本実施形態の有機ELデバイス1は、陽極取出し部40a及び陰極取出し部40bが隣合う位置に存在するので、外部給電用の配線の接続を容易にすることができる。更に、第1の基板2、有機層3、絶縁層7、補助電極部42及び主電極部41といった発光シートを構成する材料には、可撓性を有する材料を用いることができ、また、第2の基板6は、可撓性又は硬質性のいずれを有するものであってもよい。つまり、可撓性を有するように作成された発光シートを、可撓性又は硬質性を有する適宜の第2の基板6に接合させれば、同一構成の発光シートを用いて、フレキシブル型及びハード型の両方の有機ELデバイス1を製造することができる。また、本実施形態の有機ELデバイス1は、第1の基板2として、ロール状に巻かれた状態で供給される帯状のシート材を用いることもできる。この場合、帯状の第1の基板2の表面上に、有機層3をスリットコータ等によって連続的に形成し、更に、絶縁層7、補助電極部42及び主電極部41を夫々スクリーン印刷等によって定間隔で形成し、形成後、再びロール状に巻き取り回収する。こうすれば、いわゆるロールツーロール方式により、複数の発光シートが連続的に形成された発光シートロール不図示を作成することができる。そして、帯状の第1の基板2と同じ幅で、且つ同じ長さに形成された長尺の第2の基板6に、この発光シートロールを接着し、これらを定間隔で裁断すると共に、上述したように、陽極取出し部40a及び陰極取出し部40bを露出させる。こうすれば、図2に示したような有機ELデバイス1を、短時間で数多く製造することができる。特に、近年では、発光層32の複層化や、それらの間に電荷調整層を配置する等、有機層3が多層化される傾向にあり、ロールツーロール方式による有機層3の形成は、上述したような多数層から成る有機層を、同時に数多く製造することができる。次に、本実施形態の有機ELデバイス1の変形例について、図6を参照して説明する。この変形例は、上記有機ELデバイスにおいて、延設された補助電極部42の一部上面側が、第2の基板6の切欠き部61を含む部分と、接着層5の端部と共に導電性金属から成るメッキ層40a’によって封止されているものである。こうすれば、接着層5の端部の強度を上げることができる共に、この端部からの水分等の侵入を抑制することができ、且つ補助電極部42と第2の基板6との位置関係を安定化することができる。また、図示したように、補助電極部42及び絶縁層7の端部が、封止材9’によって封止される。こうすれば、補助電極部42と陰極層21として機能する第1の基板2との間の距離を確保することができ、これらの間における短絡を抑制することができる。また、封止材9’メッキ層40a’の一部に被るように形成されることがより好ましい。こうすれば、補助電極部42とメッキ層40a’との接合部を保護することができ、第2の基板6における切欠き部61を構造的に保護することができる。次に、本発明の第2の実施形態に係る有機ELデバイスについて、図7乃至図9を参照して説明する。本実施形態の有機ELデバイス1は、図7及び図8に示すように、陰極取出し部40b及び陽極取出し部40aが、第2の基板6に設けられた複数の切欠き部61から夫々個別に露出するように形成されるものである。本例では、図8のB線で示す部分が、図9bに示すように、陽極取出し部40aとして、C線で示す部分が、図9cに示すように、陰極取出し部40bとして形成されている。すなわち、各取出し部が、対峙する2辺の夫々に1箇所づつ切欠き部61が形成された構成を示す。また、上記第1の実施形態では、延設された補助電極部42が、絶縁層7よりも内側に位置する構成を示したが図3b参照、本実施形態では、延設された補助電極部42が、第1の基板2の端部まで形成されている。なお、図示したように、各取出し部が、対峙する2辺の夫々に1箇所づつ切欠き部61が形成された構成に限らず、例えば、片辺の2箇所に切欠き部61が形成され、夫々に陰極取出し部40b及び陽極取出し部40aが形成されてもよい。図8のA線又はD線で示す部分は、図9aに示すように、第1に基板2が、後述するように、多層構成となった点を除き、上記第1の実施形態と同様である。また、本実施形態の有機ELデバイス1は、第1の基板2が、陰極層21を平滑化する平滑化層22を有し、この平滑化層22は、陰極層21の、有機層3が形成された面とは反対側の面に設けられる。また、平滑化層22の、陰極層21とは反対側の面には、水分やガス等に対するバリア性を有するバリア層23が設けられる。平滑化層22には、例えば、熱硬化性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン等から成る熱硬化性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ABS樹脂、AS樹脂、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂や、ポリアミド、ナイロン、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂等が用いられる。上記樹脂を含む溶液を金属箔上に塗布する、又は上記樹脂を陰極層21を構成するシート材と加熱ラミネートにより接合する等によって、陰極層21を平滑化することができる。平滑化層22によって第1の基板2が平滑化されるので、第1基板2上に形成される有機層3を、塗布等の方法によって均一な膜に仕上げることが容易となり、膜厚及び膜抵抗が均一で、輝度ムラの少ないELデバイスを実現することができる。バリア層23には、水分やガス等に対するバリア性を有する樹脂又は金属材料から構成され、汎用のバリアフィルム又は凹凸金属箔等は用いられる。このバリア層23によって、平滑化層22及び陰極層21に対して、水分やガス等が浸透することを抑制することができ、これら水分やガス等による有機層3の劣化を抑制することができる。また、本実施形態の有機ELデバイス1によれば、陰極取出し部40b及び陽極取出し部40aを、夫々別の切欠き部61から露出させるので、第2の基板6を除去を精密加工によらず行なうことができ、電極取出し部を容易に形成することができる。なお、本発明は、基板の周縁部のいずれかに有機層が形成されいない領域があり、この領域に配された電極層の一部が、対向する基板側に露出することによって、電極取出し部として露出されているものであれば、上記実施形態に限らず、種々の変形が可能である。また、第1の基板6陰極層21、主電極部41又は補助電極部42等を構成する材料を適宜に選択することにより、上述した陰極及び陽極の機能を夫々逆にすることもできる。すなわち、第1の基板6側を陽極層として機能させ、主電極部41及び補助電極部42側を陰極層として機能させることもできる。"