複数の板状部材に対して識別情報を記録する方法であって、前記複数の板状部材は、各々、前記識別情報を記録すべき複数の領域、および前記識別情報を記録すべき領域が複数個集まった複数のクラスタ領域を有し、前記識別情報は、前記複数の領域間ですべて同一であり、かつ前記複数の板状部材間で相互に異なるz1桁の文字列Az1は自然数と、z2桁の文字列Bz2は自然数と、前記クラスタ領域内で前記複数の領域毎に異なるz3桁の文字列Cz3は自然数とを含み、前記文字列Aは、前記複数の板状部材間で相互に異なり、かつ、文字列Cは前記複数のクラスタ領域間および前記複数の板状部材間で共通し、a前記板状部材の表面にフォトレジスト層を形成する工程と、b前記フォトレジスト層における前記複数の領域の各々の前記文字列Aおよび文字列Cが形成されるべき領域に対し、前記文字列Aの全桁および文字列Cの全桁の潜像を形成する第1露光工程と、c前記複数の領域の各々における前記文字列Bが形成されるべき領域に対して、ステッパを用い、前記文字列Bを構成する文字の潜像をクラスタ領域毎に形成する第2露光工程と、を包含する方法。前記文字列Bは、前記クラスタ領域毎に異なる、請求項1に記載の方法。請求項1または請求項2に記載の方法によって露光されたフォトレジスト層を有する前記板状部材を用意する工程と、前記フォトレジスト層を現像する工程と、を包含するフォトレジスト層のパターニング方法。請求項3に記載の方法でパターニングされたフォトレジストを有する前記板状部材を用意する工程と、前記フォトレジスト層をマスクとして、前記板上部材の表面に前記識別情報を転写する工程と、を包含する板状部材への識別情報記録方法。請求項4に記載の方法で識別情報が記録された前記板状部材を用意する工程と、前記板状部材の選択された面上に薄膜を堆積する工程と、前記板状部材を切断することにより、複数の分割部品に分割する工程と、を包含する電子部品の製造方法。しかしながら、上記のフォトリソグラフィ法によれば、ウェハごとに異なる識別情報を記録するには、ウェハの枚数だけ種類の異なるフォトマスクを用意する必要がある。フォトマスクは高価であり、例えば、1枚で数十万円程度もする場合がある。このため、フォトリソグラフィ法による場合は、大量に必要なフォトマスクの価格に起因するコストの大きな上昇が問題になる。本発明はかかる諸点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、多様な識別情報を少ないフォトマスクを用いて板状部材に記録することができる識別情報記録方法を提供することにある。本発明の他の目的は、上記識別情報記録方法で行う新規な露光方法を提供するとともに、この露光方法に用いられるフォトマスクの組フォトマスクセットを提供することにある。本発明による識別情報記録方法は、複数の板状部材に対して相互に異なる識別情報を記録する方法であって、前記識別情報は、z1桁の文字列A、およびz2桁の文字列Bを含む文字列群z1およびz2は自然数であり、a文字列Aを規定する遮光パターンを有する第1フォトマスクと、文字列Bに用いられる文字を規定する遮光パターンを有する第2フォトマスクを用意する工程と、b前記板状部材の表面にフォトレジスト層を形成する工程と、c前記第1フォトマスクを用い、前記フォトレジスト層を露光することにより、前記文字列Aの潜像を前記フォトレジスト層に形成する工程と、d前記第2フォトマスクを用い、前記文字列Bを構成する文字の潜像を前記フォトレジスト層に形成する工程とを包含する。好ましい実施形態において、前記文字列Bは2桁以上であり、前記工程dは、前記文字列Bを構成する文字の潜像を1桁ずつ、前記フォトレジスト層に形成することを含む。好ましい実施形態において、前記工程dは、各々が異なる文字を規定する遮光パターンを有する複数の第2フォトマスクを1枚ずつ用い、前記文字列Bを構成する文字の潜像を1桁ずつ、前記フォトレジスト層に形成することを含む。好ましい実施形態において、前記フォトレジスト層としてポジ型フォトレジストを用い、現像後におけるフォトレジスト層の前記文字列に対応する部分を、前記板状部材上から除去する。好ましい実施形態において、前記フォトレジスト層としてネガ型フォトレジストを用い、現像後におけるフォトレジスト層の前記文字列に対応する部分を前記板状部材上に残存させる。本発明による識別情報記録方法は、複数の板状部材に対して相互に異なる識別情報を記録する方法であって、前記識別情報は、z1桁の文字列A、およびz2桁の文字列Bを含む文字列群z1は0以上の整数、z2は自然数であり、a文字列AがX軸方向およびY軸方向に沿って周期的に配列された複数の第1フォトマスクと、文字列Bに用いられる1桁の文字がX軸方向およびY軸方向に沿って周期的に配列された遮光パターンを有する複数の第2フォトマスクを用意する工程と、b前記板状部材の表面にフォトレジスト層を形成する工程と、c前記複数の第1フォトマスクから選択した1枚のフォトマスクを用い、前記フォトレジスト層を部分的に露光することにより、前記文字列Aの潜像を前記フォトレジスト層に形成する工程と、d前記複数の第2フォトマスクから必要なフォトマスクを逐次選択し、前記文字列Bを構成する文字の潜像を前記フォトレジスト層に形成する工程とを包含する。好ましい実施形態において、前記工程dは、記第2フォトマスク上の選択された文字が所定の位置に投影されるように、前記第2フォトマスクを前記フォトレジスト層に対して位置あわせする工程d1と、位置あわせがなされた後、前記選択された文字の潜像を前記フォトレジストの前記所定の位置に形成する露光する工程d2と、前記第2フォトマスク上の選択された文字が前記未露光領域の対応する位置に投影されるように、前記第2フォトマスクを前記フォトレジスト層に対して位置あわせする工程d3と、位置あわせがなされた後、前記選択された文字の潜像を前記フォトレジストの前記未露光領域に形成する露光する工程d4とを包含する。好ましい実施形態において、前記板状部材の表面に前記フォトレジスト層を形成する前にアライメントマークを形成する工程を更に包含し、前記位置あわせ工程d1および/または工程d3は前記アライメントマークを用いて実行する。好ましい実施形態において、前記露光を行うとき、マスクアライナを用い、前記フォトレジスト層の全面に前記文字列の潜像を形成する。好ましい実施形態において、前記露光を行うとき、ステッパを用い、前記フォトレジスト層の区分された複数の領域に対して、前記文字列の潜像を順次形成する。本発明による識別情報記録方法は、複数の板状部材に対して相互に異なる識別情報を記録する方法であって、前記識別情報は、z1桁の文字列A、z2桁の文字列B、およびz3桁の文字列Cを含む文字列群z1は0以上の整数、z2およびz3は自然数によって表現され、a前記板状部材の表面にフォトレジスト層を形成する工程と、b前記フォトレジスト層の複数の領域の各々に対し、前記文字列Aおよび文字列Cの潜像を形成する第1露光工程と、c前記複数の領域の各々における前記文字列Bが形成されるべき領域に対して、前記文字列Bを構成する文字の潜像を1桁ずつ形成する第2露光工程とを包含する。好ましい実施形態において、前記文字列Cは、前記レジスト層の前記複数の領域毎に異なっている文字列から構成されている。好ましい実施形態において、前記複数の領域は、行および列からなるマトリックス状に配列されており、前記複数の領域のうち、第M行第N列MおよびNは自然数に位置する領域に割り当てられる文字列CをCMNで表記した場合、M≠Jおよび/またはN≠KJおよびKは自然数とすると、CMN≠CJKが成立する。好ましい実施形態において、前記複数の領域のうち、第M第N列MおよびNは自然数に位置する領域に割り当てられる文字列AをAMNで表記した場合、M≠Jおよび/またはN≠KJおよびKは自然数とすると、AMN=AJKが成立する。好ましい実施形態において、前記第1露光工程bは、前記文字列Aおよび文字列Cを規定する遮光パターンを有する第1フォトマスクを用いて前記フォトレジストを露光する工程を含み、前記第2露光工程cは、前記文字列Bを構成する文字を規定する遮光パターンを有する第2フォトマスクを用いて前記フォトレジストを露光する工程を含む。好ましい実施形態において、前記第1露光工程bは、前記文字列Aおよび文字列Cを規定する遮光パターンを有する第1フォトマスクを用いて前記フォトレジストを露光する工程を含み、前記第2露光工程cは、前記文字列Bを構成する文字を規定する遮光パターンを有する第2フォトマスクを用いて前記フォトレジストを露光する工程を含む。好ましい実施形態において、前記第1露光工程bにおいて、マスクアライナを用い、前記フォトレジスト層の全面に前記文字列Aおよび文字列Cの潜像を形成する。好ましい実施形態において、前記第2露光工程cにおいて、ステッパを用い、各々が前記フォトレジスト層の複数の領域を含む更に広い複数の領域の各々に対し、前記文字列Bの潜像を順次形成する。好ましい実施形態において、文字列Bは、前記更に広い複数の領域毎に異なる文字列から構成されている。本発明によるフォトレジスト層のパターニング方法は、上記いずれかの方法によって露光されたフォトレジスト層を有する前記板状部材を用意する工程と、前記フォトレジスト層を現像する工程とを包含する。本発明による板状部材への識別情報記録方法は、上記フォトレジスト層のパターニング方法によってパターニングされたフォトレジストを有する前記板状部材を用意する工程と、前記フォトレジスト層をマスクとして、前記板上部材の表面に前記識別情報を転写する工程とを包含する。好ましい実施形態において、前記識別情報を前記板状部材に転写する工程は、前記板状部材の表面において、前記フォトレジスト層で覆われていない領域を選択的にエッチングする工程を包含する。好ましい実施形態において、前記識別情報を前記板状部材に転写する工程は、前記板状部材の表面において、前記フォトレジスト層で覆われていない領域に、凸部を形成する工程を包含する。好ましい実施形態において、前記識別情報を前記板状部材に転写する工程は、前記板状部材の表面において、前記フォトレジスト層で覆われていない領域をエネルギビームで照射し、表面を改質する工程を包含する。本発明による電子部品の製造方法は、上記の方法で識別情報が記録された前記板状部材を用意する工程と、前記板状部材の選択された面上に薄膜を堆積する工程と、前記板状部材を切断することにより、複数の分割部品に分割する工程とを包含する。好ましい実施形態において、各分割部品の表面には、前記識別情報が記録されている。好ましい実施形態において、各分割部品の表面には、各分割部品に固有の前記識別情報が記録されている。本発明によるフォトマスクセットは、z1桁の文字列Aおよびz2桁の文字列Bを含む文字列群z1は0以上の整数、z2は自然数を含む識別情報をフォトレジスト層に書き込むためのフォトマスクセットであって、文字列AがX軸方向およびY軸方向に沿って周期的に配列された複数の第1フォトマスクと、文字列Bに用いられる少なくとも1桁の文字がX軸方向およびY軸方向に沿って周期的に配列された遮光パターンを有する複数の第2フォトマスクとを備えている。好ましい実施形態において、前記複数の第1フォトマスクの各々には、z3桁の文字列Cz3は自然数がX軸方向およびY軸方向に沿って周期的に配列されている。本発明によれば、多様な識別情報を少ないフォトマスクを用いて板状部材に記録することが可能であり、フォトマスクの価格に起因する製造コストの上昇を大きく抑制することができる。本発明は、ウェハなどの板状部材から複数の部品を切り出す製造方法に対して好適に適用される。実施形態1本実施形態では、複数のセラミックス製ウェハに対して、相互に異なる識別情報を記録する。本実施形態において各ウェハに記録する識別情報は、z1桁z1は自然数の文字列A、および、z2桁z2は自然数の文字列Bを含む文字列群によって表現される。簡単化のため、ここでは図3aに示すように、文字列Aが1桁の文字A1から構成され、文字列Bが2桁の文字B1B2から構成される場合を説明する。また、文字A1、B1およびB2の各々は、0~9までの10種類の数字を取り得るものとする。すなわち、文字列Aおよび文字列Bから構成される識別情報は、000~999の1000通りある。なお、文字列を構成する各文字は、数字だけではなく、アルファベット、かな、漢字、記号など、識別情報を表現し得る符号単位であれば何でも良い。識別情報ABは、図3bに示すように各ウェハの複数の領域に記載することが好ましいが、図3cに示すように各ウェハのどこか1箇所に記載するようにしてもよい。図3cのようにして識別情報をウェハに記録した場合、識別情報はウェハ単位で種々の製造プロセスを行う各工程で利用され得るが、ウェハを複数のチップ部品に分割したあとは、識別情報の機能を発揮しなくなる。従来のフォトリソグラフィ方法を用いて、1000通りの識別情報を1000枚のウェハに刻印するには、1000枚のフォトマスクレチクルが必要であった。この場合、例えば150枚目のフォトマスクには150の文字列を規定する遮光パターンが形成されるというように、各フォトマスクに異なる識別情報が割り当てられることになる。これに対して、本実施形態では、2種類のフォトマスク第1フォトマスクと第2フォトマスクを含むフォトマスクセットを用いて型フォトレジスト層に複数回の露光工程を行うことにより、従来よりも格段に少ない枚数のフォトマスクで必要な識別情報をウェハに刻印することが可能になる。以下、図4aおよびbを参照しながら、本実施形態で使用するフォトマスクを説明する。まず、図4aを参照する。本実施形態における第1フォトマスクでは、文字列Aを規定する遮光パターンが形成されている。ここで、文字列Aを規定する遮光パターンとは、フォトマスク上における遮光層の開口部によって文字列Aの文字部分が形成されたパターンを意味している。図4aおよびbにおいては、各フォトマスクの白い部分が遮光層であり、黒い文字数字の部分が遮光層中の開口部である。ウェハ毎に異なる識別情報をウェハ内の複数の領域に対して書き込む場合、各第1フォトマスク上において、上記の文字列Aの遮光パターンがX軸方向およびY軸方向に沿って周期的に配列される。本実施形態では、識別情報が書き込まれる各領域において、文字A1が配置されている。この例では、文字A1は0~9の数であるため、10種類の第1フォトマスクが必要になる。もしも、文字列Aが2桁の数字であれば、文字列00~99に対応して、100枚の第1フォトマスクが必要になる。一方、第2フォトマスクでは、図4bに示すように、文字列Bに用いられる文字1桁分を規定するパターンがX軸方向およびY軸方向に沿って周期的に配列されている。この周期は、文字列Aの周期と同一であり、第2フォトマスク上の文字は、第1フォトマスクの遮光マスクによって遮光された領域非露光領域に重ね合わせられるように配置される。なお、図4の例では、第1フォトマスクと第2フォトマスクが同一の遮光パターンを有しているが、このような場合、第1フォトマスクが第2フォトマスクを兼ねても良い。また、第1フォトマスクと第2フォトマスクが同一の遮光パターンを有している必要はなく、例えば、第1フォトマスクはアルファベットの文字を規定し、第2フォトマスクが数字を規定しても良い。次に、図5~図7を参照しながら、上記のフォトマスクセットを用いて行う露光方法を説明する。ここでは、図5aに示す第1フォトマスク62を用いる。この第1フォトマスク62上には、文字A1を規定する遮光パターン62aが設けられている。このようなフォトマスクは、ガラスなどの透明基板上に遮光性を有する金属膜や樹脂膜を形成し、その膜から文字部分をくり抜くことによって得られる。遮光パターン62aの開口部62bが文字の形状を有している。図では、簡単化のため、1つの識別情報に関する遮光パターン62aのみを示しているが、現実のフォトマスク62上には同様の遮光パターン62aが存在している。次に、図5bに示すように、ポジ型フォトレジスト層61が塗布されたウェハ60を用意し、第1フォトマスク62を用いてウェハ60上のフォトレジスト層61を露光する。この露光により、フォトレジスト層61の複数の領域の各々に、文字A1を規定するパターン62aの潜像厳密には、開口部62bの形状を持つ潜像が形成される。具体的には、0~9のうちのいずれかの文字A1図では1の文字の領域が露光されるため、遮光パターン62aの開口部62bを透過した光により、レジスト層61が部分的に露光される図5c。図5cでは、ポジ型レジスト層61の露光部分をドットで示している。ポジ型レジスト層61の露光部分は、ポジ型レジストの性質上、あとで行う現像工程で現像液に溶解し、開口部を形成する。その結果、本実施形態ではフォトレジスト層61の文字部分がくり抜かれることになる。なお、上記の露光を行うに際しては、例えばアライナを用いて、ウェハ60の全面に対して文字列Aを規定する潜像を形成することが効率的である。次に、現像工程を行う前に、文字列Bの記録を行う。具体的には、図4bに示すような10枚の第2フォトマスクから適切な第2フォトマスクを選択し、選択した第2フォトマスクを用いて、文字B1の潜像をレジスト層61に形成する。図6aは、選択した第2フォトマスク63の一部を示している。第2フォトマスク63には、文字列Bの文字を規定する遮光パターン63aが設けられている。遮光パターン63aには文字B1の形状を持つ開口部63bが形成されている。第2フォトマスク63のアライメントを適切に行うことにより、文字B1の位置を文字A1の潜像位置に対して適切な関係を持つ位置に合わせ、図6bに示すように、光を照射する。フォトレジスト層61の文字列A以外の領域は未露光領域であったため、文字B1を規定するパターンを持った光で照射されると、遮光パターン63aの開口部63bに対応した形状の潜像が形成される図6c。次に、図7a~図7dを参照する。上記の露光工程の後、前述の第2フォトマスクから適切な第2フォトマスク64を選択し、選択した第2フォトマスク64を用いて文字B2の潜像をレジスト層61に形成する。第2フォトマスク64には、文字列Bの文字を規定する遮光パターン64aが設けられている。遮光パターン64aには文字B2の形状を持つ開口部64bが形成されている。このとき、第2フォトマスク64のアライメントを適切に行うことにより、文字A1の潜像位置に対して適切な関係を持つ位置に文字B2の位置を合わせ、図7bに示すように、光を照射する。これにより、文字B2を規定するパターンを持った光でレジスト層61の未露光領域が照射され、遮光パターン64aの開口部64bに対応した形状を持つ潜像がレジスト層61に形成されることになる図7c。以上の露光工程により、ポジ型フォトレジスト層61における複数の領域の各々に対して、図7dに示すように識別情報が書き込まれる。この後、現像工程を経て、露光部分図のドット部分がレジスト層61から除去され、文字を規定する開口部がレジスト層61に形成される。図8aは、現像後のポジ型フォトレジスト層61の断面を模式的に示している。図8b~eを参照しながら、パターニングされたフォトレジスト61を用いてウェハ60に識別情報を記録する方法を説明する。まず、エッチング法による場合を説明する。この場合、レジスト付きウェハ60を不図示のエッチング装置内にロードし、適切なエッチャントとウェハ表面とを反応させる。こうすることにより、図8bに示すように、ウェハ60のレジスト層61によって覆われていない表面部分がエッチングされ、文字列AおよBがウェハ61に転写される。エッチングは、被エッチング対象であるウェハの材料に応じて適宜好ましいエッチング条件が選択される。プラズマを用いたRIE反応性イオンエッチングなどのドライエッチングの他、ウェットエッチングを行ってもよい。現像後のフォトレジスト層61を用いて、ウェハ60に識別情報を記録する方法は上記のエッチング方法に限定されない。図8cに示すように、パターニングされたレジスト層61で覆われたウェハ61に対して金属膜などの薄膜65を堆積し、その後、レジスト層61を除去することによっても識別情報をウェハ61に転写することができる。このような方法はリフトオフと呼ばれ、レジスト層61上に堆積した薄膜65はレジスト層61とともにウェハ表面から取り除かれる。その結果、図8dに示すように、レジスト層61の開口部本実施形態では文字部分に薄膜65が残存し、文字部分が他の面から凸状に突出する。エッチング法やリフトオフ法によってウェハ表面に凹凸を形成する方法以外の方法でも、識別情報の記録を行うことは可能である。図8eに示すように、パターニングされたレジスト層61で覆われたウェハ60に対して、例えばイオンビームなどのエネルギビームを照射し、それによってウェハ60の露出表面領域を改質しても、識別情報をウェハに転写することも可能である。表面の改質により、反射率特性や導電性などの物理的パラメータが変化するため、この変化を検知すれば、識別情報をウェハから再生することが可能である。なお、ウェハがAl2O3およびTiCの2種類の材料から構成されたAl2O3-TiC系セラミックスなどの複合材料から形成されている場合、本出願人が特願2000-239431の明細書および図面に開示している方法を用いてウェハを選択エッチングすることが望ましい。この選択エッチング法によれば、文字部分の表面に微細な凹凸が形成されるため、エッチング深さが小さくても、識別情報について充分に大きな光反射率コントラストが得られるからである。なお、識別情報から文字列Aを省略することも可能である。文字列Aを省略する場合、本明細書では文字列Aの桁数Z1は0ゼロであると称することとする。従って、本実施形態における識別情報は、z1桁z1は0以上の整数の文字列A、および、z2桁z2は自然数の文字列Bを含む文字列群によって表現される。文字列Aが複数の文字、例えば文字A1およびA2から構成されている場合、それらの文字A1およびA2は、ウェハ上で隣接して配置される必要はない。文字A1およびA2が文字列Bを間に挟むように配置されていても良い。文字列Aが複数の文字A1~Anから構成されている場合、それらの文字A1~Anは、直線上に1列で配置されている必要はない。文字A1~Anは、行および列に分けられて2次元的に配置されていても良いし、曲線上に配置されていても良い。これらの文字配置形態については、文字列Bも文字列Aと同様である。実施形態2本実施形態において各ウェハに記録する識別情報は、z2桁の文字列Bおよびz3桁の文字列Cz2およびz3は自然数によって表現される。ここでは、ウェハ内の位置に応じて異なる文字列Cを用いて識別情報を構成する例について説明する。ウェハ内の複数の領域に対して異なる識別情報を付与すれば、図1に示すように1枚のウェハから複数の分割部品を切り出す場合、各分割部品に固有の識別情報を割り当てることができる。説明を簡単にするため、図9aに示す4桁の識別情報を用いる場合を説明する。この識別情報における文字列Bは2桁の文字B1B2から構成され、文字列Cは2桁の文字C1C2から構成されている。ここでは、文字B1B2の各々がa~zまでの26種類のアルファベット記号を取り得るものとし、文字C1C2文字の各々が0~9までの10種類の数字を取り得るものとする。すなわち、文字列BおよびCから構成される識別情報は、aa00~zz99の262×102通りある。2桁の文字列Cは、例えば、マトリクス状に配列された10行×10列=100個の領域に対して異なる識別情報を与えるために用いられ得る。図9bは、上記識別情報が記録されたウェハ面を模式的に示している。文字列Cの桁数を増やせば、更に多数の領域に異なる識別情報を付与することが可能になる。本明細書では、行列状に配列された複数の領域のうちの第M行第N列MおよびNは自然数に位置する領域に割り当てられる文字列CをCMNで表記する。すなわち、C1C2=CMNである。本実施形態では、M≠Jおよび/またはN≠KJおよびKは自然数であれば、CMN≠CJKが成立する。このような文字列Cを見れば、ウェハのどの行および列の位置に割り当てられた識別情報かがわかるため、文字列Cを行列番号コラムロウナンバーと称することとする。ウェハが複数の部品に小さく分割される場合、各分割部品に対して上記識別情報が刻印されていれば、その分割部品がどのウェハのどの部分から切り出されものかが特定される。以下、図9cを参照しながら、本実施形態で使用するフォトマスクを説明する。本実施形態における第1フォトマスクにおいて、文字列Cの文字を規定する遮光パターンが形成されている。ここで、文字列Cの文字を規定する遮光パターンとは、フォトマスク上における遮光層の開口部によって文字列Cの文字部分が形成されたパターンを意味している。各第1フォトマスク上においては、上記文字列Cの遮光パターンが、X軸方向およびY軸方向に沿って周期的に配列される。実施形態1の文字列Aと本実施形態の文字列Cとの違いは、2桁の文字列Cが1枚のウェハの位置に応じて異なる値を持つ点にある。また、文字列Cは、ウェハ毎に異なる値を持つ必要はない。故に、文字列Cを書き込むためのフォトマスクは1種類で足りる。一方、第2フォトマスクは、実施形態1で用いた第2フォトマスクと同様の構成を有している。このような第2フォトマスクを用いることによって、図9bに示す文字aや文字bが1桁ずつレジスト層に書き込まれることになる。次に、本実施形態における露光方法を説明する。まず、ポジ型フォトレジスト層が塗布されたウェハを用意し、第1フォトマスクを用いてフォトレジスト層の複数の領域の各々に対する露光を行う。この露光により、文字列C00~99の潜像がそれぞれレジスト層の異なる位置に形成される。次に、複数の第2フォトマスクから適切な第2フォトマスクを選択し、選択した第2フォトマスクを用いて、文字B1の潜像をレジスト層に形成する。このとき、第2フォトマスクのアライメントを適切に行うことにより、文字B1の位置を文字列Cの潜像の位置に対して合わせ、ポジ型レジスト層の未露光部分に光を照射する。更に、上記複数の第2フォトマスクから適切な第2フォトマスクを選択し、選択した第2フォトマスクを用いて、文字B2の潜像をレジスト層に形成する。このとき、第2フォトマスクのアライメントを適切に行うことにより、文字B2の位置を文字列Cの潜像の位置に対して合わせ、レジスト層の未露光部分に光を照射する。以上の方法により、ポジ型レジスト層における複数の領域の各々に対して、文字列Bおよび文字列Cが書き込まれる。この後、現像工程を経て、露光部分がレジスト層から除去されることにより、文字部がレジスト層からくり抜かれる。次に、エッチング装置にウェハをロードし、適切なエッチャントとウェハ表面とを反応させれば、ウェハ表面のレジスト層によって覆われていない部分がエッチングされるため、文字列BおよCがウェハに転写されることになる。実施形態2では、識別情報に文字列Aを含めなかったが、文字列Aを含めてもよい。この場合、文字列Aのためのフォトマスクによって、文字列Cのための第1フォトマスクを兼用することができる。ただし、その場合は、文字列Aの形成に用いる複数の第1フォトマスクのそれぞれに文字列Cを規定する遮光パターンを設ける必要がある。一方、文字列Cを形成すためのフォトマスクと、文字列Aを形成するために用いるフォトマスクとを別々にしてもよい。実施形態3以下、識別情報が、z1桁の文字列A、z2桁の文字列B、およびz3桁の文字列Cを含む文字列群z1は0以上の整数、z2およびz3は自然数によって表現される実施形態を説明する。本実施形態では、図10に示すように、文字列ABCを形成す領域が複数個集まって1つのクラスタ領域を形成している。1枚のウェハには、複数のクラスタ領域が割り当てられ、クラスタ領域毎に異なる文字列Bが割り当てられている。具体的には、1枚のウェハ上の第L番目のクラスタ領域における第M行第N列の領域には、文字列AMNBLCMNによって表現される識別情報が記録される。ここで、Lは整数である。文字列AMNBLCMNのうち、文字列CMNはクラスタ領域が異なっていても同じであるが、文字列BLはクラスタ領域ごとに異なっている。このため、文字列BLによって、クラスタ領域を特定することができ、文字列Cによって各クラスタ領域内の位置を特定することができる。各クラスタ領域内において、M≠Jおよび/またはN≠KJおよびKは自然数の場合、AMN≠AJKが成立するようにしてもよいし、AMN=AJKが成立するようにしてもよい。文字列Aは、ウェハを識別するための情報を表現する。文字列CMNについては、M≠Jおよび/またはN≠KJおよびKは自然数の場合、CMN≠CJKが成立するため、各クラスタ内の位置による識別は文字列CMNによって可能であるため、クラスタ内の位置に応じて文字列AMNを変化させる必要はない。なお、文字列A、文字列B、および文字列Cの配列順序や、クラスタ領域の配置形態は、図10に示す例に限定されない。本実施形態では、第1フォトマスクを用いて、ポジ型フォトレジスト層の複数の領域の各々に対し、文字列Aおよび文字列Cの潜像を形成する第1露光工程を行う。その後、上記ポジ型レジストの未露光部分に対し、文字列Bを構成する文字の潜像を1桁ずつ形成する第2露光工程を行う。第2露光工程は、文字列Bの桁数だけ行うことになる。文字列BLは1桁である必要はない。第1露光工程では、アライナを用い、ウェハ全面のレジスト層に対して文字列Aおよび文字列Cの潜像を形成することが好ましい。これに対して、第2露光工程では、ステッパを用い、クラスタ領域毎に文字列Bの露光を行うことが好ましい。なお、文字列Aと文字列Cの潜像は、別々のフォトマスクを用いて別々に形成しても良い。以上の実施形態では、いずれも、ポジ型フォトレジストを用いてきたが、本発明はこれに限定されない。本発明は、ネガ型フォトレジストを用いても実施できる。ただし、ネガ型フォトレジストを用いる場合は、レジストの非露光部分が現像液中に溶解するため、前述のフォトマスクを用いると、レジストの文字部分露光部分が現像後に残存することになる。このようにしてパターニングされたネガ型フォトレジストをマスクとしてウェハをエッチングすると、ウェハ表面の文字部分以外の領域がエッチングされることになる。ただし、識別情報のウェハへの転写は、ウェハをエッチングする場合に限定されない。パターニングされたネガ型レジストを用い、リフトオフ法を実行すれば、文字部分を凹部にすることも可能である。各フォトマスクによるパターンの位置あわせアライメントは、ウェハ上に形成したアライメントマークを基準にして実行する。例えば、図11aに示すようなアライメントマークを前もってウェハ上に形成しておく。このようなアライメントマークは、レジストパターンから形成することが好ましい。一方、第1フォトマスクや第2フォトマスクには、上記アライメントマークに重ね合わせられるべき他のアライメントマークを設けている。第1および第2フォトマスクに設けられるアライメントマークとしては、図11bに示すような複数のパターンを採用することが好ましい。図11bに示すようなアライメントマークを採用すれば、マスクアライメントを高い精度で実行できる。本発明が適用される板状部材は、セラミクスウェハに限定されず、その材料は任意である。また、板状部材とは、ウェハに限定されず、識別情報が書き込まれる2次元的な広がりを有する表面をもつ部材であれば何でも良い。識別情報が書き込まれる表面は、平面である必要はなく、曲面であってもよい。また、識別情報は平坦な領域に書き込まれることが望ましいが、板状部材の表面のすべてが平坦である必要はない。識別情報が書き込まれる領域以外の領域には、既に何らなの凹凸や段差か形成されてもよい。識別情報をセラミクスウェハやシリコンウェハに書き込む場合、識別情報の記録は、ウェハ上に種々の薄膜を堆積するプロセスを開始する前に行うことに限定されない。識別情報は、一連の薄膜堆積プロセスやパターニングプロセスの途中または終了後の任意の段階でウェハに記録することが可能である。