凹部または貫通溝を含むインク流路を有する第1の基板の上に、ローラ状の転写体を用いて、転写方向に平行な所定幅で連続的に転写液を転写し、インクにエネルギを付与するエネルギ発生素子を有する第2の基板を、前記第1の基板に前記転写液を介して貼り合せるインクジェット記録ヘッドの製造方法において、転写時に前記転写体と前記第1の基板とが前記転写液を介して接する前記所定幅の面積が、前記転写方向にわたって同一にされていることを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。前記所定幅の面積は、前記転写方向に平行な中心線に対して対称である、請求項1に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。前記第1の基板は、表面積を減らすための表面積調整用凹部を有する、請求項2に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。前記表面積調整用凹部の深さは、前記転写体の周面に塗布されている前記転写液の厚みよりも大きい、請求項3に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。前記第1の基板は、表面積が、前記転写方向に平行な中心線に対して対称である、請求項3または4に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。前記転写体の周面は、前記第1の基板の前記所定幅における最小表面積と等しい表面積になるように、表面積を減らすための表面積調整用凹部を有する、請求項1に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。前記表面積調整用凹部が前記転写液で埋まらない状態で、前記転写液を前記第1の基板に転写する、請求項6に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。請求項3に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法を用いて製造されたインクジェット記録ヘッドであって、前記表面積調整用凹部が設けられた前記第1の基板を備えるインクジェット記録ヘッド。しかしながら、上述した従来の転写方式では以下のような課題がある。図8aに、転写液を連続的に塗布する転写方向に交差する短辺方向Wの中心線Mに対して、非対称形状の第1の基板の一例を示す。図8aに示すように、転写媒体としての第1の基板102は、インク供給口等を構成する複数の溝部101を有しており、複数の溝部101が、短辺方向Wの中央線Mに対して非対称に配置されている。第1の基板102に、図8bに示すように、転写方向に平行な所定幅で転写液を転写方向に沿って連続的に転写する。図9に、図8a及び図8b中に破線で示すA’-A’線、B’-B’線、C’-C’線、D’-D’線のそれぞれに沿った各断面を示す。図9に示すように、転写体103の表面に転写液105が定量塗布されており、転写体103によって第1の基板102を所定の荷重Fで押し付けながら、転写体103に塗布された転写液105を所定幅で連続的に第1の基板102に転写する。図9aに示すように、第1の基板102のA’-A’断面では、溝部101が形成されていないので、転写液105を押し付ける力Fが第1の基板102の短辺方向にわたって均一に押圧力が作用する。図9b及び図9dに示すように、第1の基板102のB’-B’断面及びD’-D’断面では、第1の基板102の一部に溝部101が形成されている。このため、転写液105を押し付ける荷重Fが第1の基板102に均一に作用せずに、溝部101内の圧力が高くなってしまう。したがって、第1の基板102を保持する力が弱い場合は、第1の基板102が、図9cに示すように傾いてしまう。その結果、転写体103に対して第1の基板102が傾いて浮いた側において、転写液105が転写されないといった不良が発生することがある。また、第1の基板102を保持する力が強い場合は、溝部101が無い断面に比べて第1の基板102が転写液105を多く潰すので、溝部101の内壁部に転写液105が付着するといった弊害が発生することがある。図9d及び図9eに示すように、C’-C’断面では、第1の基板102において溝部101の個数が最大であるので、押圧力がA’-A’断面に比べて非常に高くなっている。このように、転写液105を連続的に塗布する転写方向に沿って連続的な溝部101が第1の基板102に存在する場合、溝部101の有無に応じて、第1の基板102と転写体103との間に存在する転写液105に作用する圧力が異なってしまう。その結果、第1の基板102全域において同一の転写条件で転写液105を転写することができない。また、溝部101では、転写液105に作用する圧力が、溝部101が形成されていない平坦部に比べて高くなるので、溝部101内への転写液105の入り込みが多くなり、転写不良になることがある。そこで、本発明は、凹部または貫通溝を有する第1の基板に対して、転写液を安定的に転写することができるインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。上述した課題を解決するために、本発明に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法は、凹部または貫通溝を含むインク流路を有する第1の基板の上に、ローラ状の転写体を用いて、転写方向に平行な所定幅で連続的に転写液を転写し、インクにエネルギを付与するエネルギ発生素子を有する第2の基板を、第1の基板に転写液を介して貼り合せるインクジェット記録ヘッドの製造方法において、転写時に転写体と第1の基板とが転写液を介して接する所定幅の面積が、転写方向にわたって同一にされていることを特徴とする。なお、本発明において、転写方向とは、所定幅で連続的に転写液を転写する方向を指す。本発明によれば、転写時に転写体と第1の基板とが転写液を介して接する所定幅の面積の転写領域において、転写圧力が均一に保たれるので、転写領域において転写液を安定して転写することができる。以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。転写媒体である第1の基板の上に所定幅で連続的に転写液を転写する際に、第1の基板の転写方向におけるいずれの位置においても均一な転写状態を保つことを可能にする実施形態のインクジェット記録ヘッドの製造方法について説明する。第1の実施形態図1に、第1の実施形態における第1の基板の平面図を示す。本実施形態のインクジェット記録ヘッドの製造方法は、図1に示すように、凹部または貫通溝11を含むインク流路を有する矩形状の第1の基板2の上に、ローラ状の転写体を用いて、転写方向に平行な所定幅で連続的に転写液を転写する工程を有している。本実施形態では、第1の基板2の上に転写液を塗布した後に、インクにエネルギを付与するエネルギ発生素子を有する第2の基板を、第1の基板2に転写液を介して貼り合せる。図1に示すように、第1の基板2には、矩形状をなす複数の溝部1が設けられている。また、第1の基板2には、表面積を減らすための複数の表面積調整用凹部11が設けられている。図2に、転写時の、図1における各A-A線、B-B線、C-C線に沿った各断面図を示す。図2中において、表面積調整用凹部11の深さをV、ロール状の転写体3の周面上に一定厚で塗布された転写液5の塗布厚をtで示す。図1に示すように、第1の基板2には、A-A線及びC-C線に沿った断面において、溝部1が、第1の基板2の転写方向に直交する短辺方向Wに対する片側に溝部1が偏って配置されている。図2bに示すように、B-B断面においては、複数の溝部1が第1の基板2の短辺方向Wの両側にそれぞれ配置されている。このように、第1の基板2の上に形成された溝部1は、転写液5を連続的に転写する転写方向に沿った各断面で様々な形状であるので、転写時に生じる転写圧力が、転写方向に沿った断面ごとに変化してしまう。そのため、本実施形態では、第1の基板2に、表面積調整用凹部11を各断面に設ける。表面積調整用凹部11の大きさは、第1の基板2の表面積が最小となる部分の表面積に応じて設定される。本実施形態では、B-B線に沿った断面B-B断面における、溝部1が占める割合溝部の総幅寸法が最大なので、各断面での溝部1の総幅寸法と、B-B断面での溝部1の総幅寸法との差分を、表面積調整用凹部11の総幅寸法として設定する。また、本実施形態においては、第1の基板2の溝部1の上に、エネルギ発生素子を有する第2の基板不図示が、後工程で配置される。そして、溝部1は、インクにエネルギを付与するエネルギ発生素子を有する第2の基板に、インクを供給するために、転写液5によって溝部1の周囲をそれぞれ覆う必要がある。図1cに示すように、C―C線に沿った断面において、矩形状の溝部1の短辺方向における第1の基板2の両端部に表面積調整用凹部11を配置した場合、転写液5が、エネルギ発生素子を有する第2の基板の裏面に十分に付着しなくなる。そのため、溝部1の周囲を転写液5で覆うことができなくなる。このような場合には、図1に示すように、表面積調整用凹部11を所望の幅寸法で溝部1の短辺方向の両側に相当する位置に、溝部1の周囲から離して配置する。加えて、第1の基板2のA-A線に沿った断面を含む所定幅における表面積を、他の断面を含む所定幅における表面積と同じにする。このようにして、本実施形態では、第1の基板2の各断面を含む所定幅における表面積が一定に揃えられる。すなわち、転写時に転写体3と第1の基板2とが転写液5を介して接する所定幅の面積が、転写方向にわたって同一にされている。これによって、図2に示すように、第1の基板2に一定の荷重Fを掛け、転写体3の周面に一定厚で塗布された転写液5に押し付けて転写を行なったときに、各断面の位置において押圧力転写圧力が等しくなる。なお、表面積調整用凹部11は、転写体3の移動方向に対して直交する方向で、溝部1と対称に配置することが望ましい。しかし、溝部1の配置等によって、表面積調整用凹部11を対称に配置することが難しい場合には、ほぼ対象となるように表面積調整用凹部11を配置することが望ましい。また、転写体3上の転写液5を転写時に一定の荷重Fで第1の基板2を押圧したとき、転写液5が押し潰されて薄くなる。そのため、潰された転写液5が表面積調整用凹部11内に入ったときに、潰れた量の転写液5によって、表面積調整用凹部11内が埋められてしまった場合、表面積調整用凹部11が設けられていない状態と実質的に等しくなってしまう。その結果、第1の基板2と転写液5との接触面積が変わってしまい、所定幅における第1の基板2の押圧力が変化してしまう。だだし、所定の荷重Fによって転写液5が潰れる量は、転写液5の粘度等の材料的な要因や、所定の荷重Fの荷重条件等の装置条件によって異なっている。そこで、転写液5によって表面積調整用凹部11内が埋まることを避けるために、表面積調整用凹部11の深さVは、転写体3上に一定厚で塗布された転写液5の塗布厚tよりも大きくなるように形成することが望ましい。上述したように、本実施形態によれば、転写時に転写体3と第1の基板2とが転写液5を介して接する所定幅の面積が、転写方向にわたって同一にされている。これによって、転写時に転写体3と第1の基板2とが転写液5を介して接する所定幅の面積の転写領域において、転写圧力が均一に保つことが可能になる。その結果、転写領域において転写液5を安定して転写することができる。第2の実施形態以下、第2の実施形態について説明する。図3に、第2の実施形態における転写体の模式図を示す。図3aに第1の基板の側面図を示し、図3bに第1の基板のD-D線に沿った断面図を示し、図3cに転写体によって転写液を転写する状態の断面図を示す。図3に示すように、転写体3には、転写体3の表面積を減らすための表面積調整用凹部12が設けられており、転写体3の周面に転写液5が塗布される。第1の基板2の、溝部1が設けられていない平坦な部分が少ないために、第1の実施形態のような表面積調整用凹部11を第1の基板2に設けることが困難な場合がある。このような場合等には、図3a及び図3bに示すように、転写体3側に表面積調整用凹部12を設けることによって、第1の実施形態と同様の効果が得られる。第1の基板2は、転写液5を連続的に転写するときの所定幅において、第1の基板2の表面積が最小となる部分最小表面積がある。表面積調整用凹部12は、第1の基板2に転写液5を連続的に転写するときの所定幅において、第1の基板2の最小表面積と、第1の基板2の他の部分の表面積とが等しくなるように設けられる。表面積調整用凹部12は、第1の基板2に形成された溝部1に対応する以外の部分に設けられている。図3cに、本実施形態において、転写時の第1の基板2、転写体3、転写液5及び表面積調整用凹部12の状態の模式図を示す。図3cに示すように、表面積調整用凹部12は、溝部1と第1の基板2の転写方向に対して対称位置になるように配置することが望ましい。第1の基板2上の溝部1等の配置によって、表面積調整用凹部12を、短辺方向Wの中心線Mに対して対称位置に配置することができない場合は、可能な限り対称位置に近い位置に配置することが好ましい。表面積調整用凹部12を対称位置に近い位置に配置することで、第1の基板2に作用する荷重Fが、転写液5を潰すときに均等に作用し、安定した転写を行うことができる。図4に、本実施形態において、転写体3の表面に転写液5を塗布する状態の断面図を示す。図4に示すように、転写体3上に塗布される転写液5の塗布厚を調整するためにスキージ8を用いてもよい。図4に示すように、転写体3の一部を、容器に溜めた転写液5に浸漬させ、図4中における反時計回りに転写体3を回転させることで、転写液5が転写体3の周面に塗布される。その後、スキージ8と転写体3との隙間を予め調整することで、転写体3に塗布された余分な転写液5が除去され、転写液5が所望の膜厚で転写体3上に塗布される。このとき、表面積調整用凹部12は、転写体3を転写液5に浸漬させたときに、転写液5で埋まらない深さに設定することが望ましい。第3の実施形態以下、第3の実施形態について説明する。図5に、本実施形態における転写方法を説明するための模式図を示す。図5aに示すように、予め転写体3の周面上に転写液5を所望の厚みで塗布する。その後、図5bに示すように、第1の基板2の、転写液5を転写させたい転写面を鉛直下方に向けて配置する。その際、第1の基板2と転写体3の高さの関係では、第1の基板2の厚み及び反り等のばらつきを考慮し、転写体3の周面の最も上の位置よりも第1の基板2の転写面が必ず鉛直下方に位置するように設定することが望ましい。また、第1の基板2は、転写体3に対して一定の荷重Fを負荷する押圧機構不図示によって押圧される。そして、図5cに示すように、第1の基板2を図5中の矢印a方向に移動させることで、転写面を転写体3上に沿って移動させる。このとき、転写体3は、第1の基板2の移動に伴って図5中の反時計回りに回転され、転写体3の周面に連続的に転写液5が供給される。また、第1の基板2は、一定の荷重Fが作用する方向と反対方向に移動可能に支持されている。このため、第1の基板2の厚みまたは反り等がばらついた場合でも、一定の荷重F以上の反力が生じたときに、第1の基板2は、一定の荷重Fが作用する方向と反対方向に逃げるように支持されている。以上のようなインクジェット記録ヘッドの製造方法を用いて製造されたインクジェット記録ヘッドを示す。インクジェット記録ヘッドは、いずれも電気信号に応じて膜沸騰をインクに対して生じさせるための熱エネルギを生成する電気熱変換素子を用いたバブルジェット登録商標方式のインクジェット記録ヘッドである。さらに、電気熱変換素子とインク吐出口とが対向して配置された、いわゆるサイドシュータ型のインクジェット記録ヘッドである。1インクジェット記録ヘッド図6に、インクジェット記録ヘッドの分解斜視図を示す。図6に示すように、インクジェット記録ヘッドは、第1の基板としての基準プレートH1500、エネルギ発生素子を有する第2の基板としての素子基板H1100、フレキシブル配線部材H1300、転写液としての接着剤H1600を備えて構成されている。1-1エネルギ発生素子を有する基板H1100図7に、エネルギ発生素子を有する素子基板H1100の構成を説明するための斜視図を、一部破断して示す。図7に示すように、素子基板H1100は、例えば、厚さ0.5mm~1mm程度のSi基板H1110を用いて形成されている。素子基板H1100は、Si基板H1110に、インク流路としての長溝状の貫通口であるインク供給口H1102が、Siの結晶方位を利用した異方性エッチングやサンドブラスト等の方法で形成されている。Si基板H1110には、インク供給口H1102を間に挟んでその両側に、エネルギ発生素子としての電気熱変換素子H1103が1列ずつ並べて配置されている。さらに、Si基板H1110には、電気熱変換素子H1103に電力を供給する不図示の電気配線が、Al等によって形成されている。これら電気熱変換素子H1103と電気配線は、既存の成膜技術を利用して形成することができる。各列の電気熱変換素子H1103は、互いに千鳥状になるように配列されている。すなわち、各列の吐出口の位置が、その列方向に直交する方向に並ばないように、列方向に対して位置をずらして配置されている。電気熱変換素子H1103を有する素子基板H1100では、インク供給口H1102から供給されたインクは、各電気熱変換素子H1103の発熱によって発生した気泡の圧力によって、各電気熱変換素子H1103に対向する吐出口1107から吐出される。1-2フレキシブル配線部材H1300フレキシブル配線部材H1300は、電気熱変換素子H1103を有する素子基板H1100に対して、インクを吐出用の電気信号を印加する電気信号経路が形成されており、ポリイミドのベース基材上に、銅箔の配線パターンが形成されてなる。また、電気熱変換素子H1103を有する素子基板H1100を組み込むための開口部が形成されている。この開口部の縁付近には、電気熱変換素子H1103を有する素子基板H1100の電気接続端子部H1104に相当する位置に電極部H1304が形成されている。さらに、フレキシブル配線部材H1300には、装置本体からの電気信号を受け取るための外部信号入力端子H1302が形成されており、この外部信号入力端子H1302と電極部H1304が連続した銅箔の配線パターンで繋がれている。1-3基準プレートH1500基準プレートH1500は、例えば、セラミックによって形成されている。基準プレートH1500には、インク流路の下流部に、電気熱変換素子H1103を有する基板H1100にインクを供給するための溝部であるインク供給口H1102が形成されている。また、基準プレートH1500には、表面積を減らすための表面積調整用凹部11が配置されている。基板H1100と基準プレートH1500とを接合するために用いられる接着剤H1600としては、低粘度で硬化温度が低く、短時間で硬化し、硬化後は、比較的高い硬度を有し、かつ、耐インク性を有するものが望ましい。この接着剤H1600としては、例えばエポキシ樹脂を主成分とした熱硬化接着剤が挙げられる。この熱硬化接着剤を用いた場合には、その接着層の厚みが10μm程度になることが望ましい。また、電気熱変換素子H1103を有する素子基板H1100の接着面の周囲の平面には、フレキシブル配線部材H1300の一部の裏面が、同一の接着剤によって接着固定される。