"一酸化炭素と少なくとも一種のオレフィンを含む物質流から一酸化炭素を吸着により除去するために銅と亜鉛とジルコニウムの酸化物を含む吸着組成物を使用し、その使用後に該組成物を再生する方法であって、該吸着組成物を160~400°Cの範囲の温度に加熱し、不活性キャリアガス中に1000~3000ppmの酸素を含む再生ガスを該吸着組成物中に通過させることからなる方法。上記吸着組成物が、吸着組成物の総量に対して、銅をCuOとして30~99.8質量の量で、亜鉛をZnOとして0.1~69.9質量の量で、且つジルコニウムをZrO2として0.1~69.9質量の量でそれぞれ含む請求項1に記載の方法。上記吸着組成物が、吸着組成物の総量に対して、銅をCuOとして65~75質量の量で、亜鉛をZnOとして15~25質量の量で、且つジルコニウムをZrO2として5~15質量の量でそれぞれ含む請求項1または2に記載の方法。再生後の上記吸着組成物の銅含有部分の還元レベルが少なくとも60で多くても80である請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。再生後の上記吸着組成物の銅含有部分の還元レベルが少なくとも65で多くても75である請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。上記再生ガスが1000~1500ppmの酸素を含む請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。一酸化炭素と少なくとも一種のオレフィンを含む物質流から、銅と亜鉛とジルコニウムの酸化物を含む吸着組成物への吸着により一酸化炭素を除去する方法であって、吸着工程と再生工程を含み、該吸着工程中で、上記吸着組成物が一酸化炭素を含む物質流と接触され、該再生工程中で、上記吸着組成物が180~300°Cの範囲の温度に加熱され、不活性キャリアガス中に1000~3000ppmの酸素を含む再生ガスが該吸着組成物中を通過されることからなる方法。上記吸着組成物が、吸着組成物の総量に対して、銅をCuOとして30~99.8質量の量で、亜鉛をZnOとして0.1~69.9質量の量で、且つジルコニウムをZrO2として0.1~69.9質量の量でそれぞれ含む請求項7に記載の方法。再生工程後の上記吸着組成物の銅含有部分の還元レベルが少なくとも60で多くても80である請求項7または8に記載の方法。再生工程後の上記吸着組成物の銅含有部分の還元レベルが少なくとも65で多くても75である請求項7~9のいずれか一項に記載の方法。上記再生ガスが1300~1500ppmの酸素を含む請求項7~10のいずれか一項に記載の方法。液体プロピレン流から一酸化炭素が除かれる請求項7~11のいずれか一項に記載の方法。上記吸着組成物が、以下の工程:a上記吸着組成物の成分及び/又はこれらの可溶性出発化合物の溶液の製造;b塩基の添加による該溶液からの固体の析出;c該固体の分離と乾燥;d必要なら該固体の焼成;e該固体の成形物への成形;f必要なら該成形物の焼成;およびg上記吸着組成物の銅含有部分の還元レベルの少なくとも60で多くても80の値への調整が記載された順に行われる方法により得られるただし、上記二つの焼成工程dとfの少なくとも一つが実施される請求項7~12のいずれか一項に記載の方法。上記吸着組成物が、以下の工程:a上記吸着組成物の成分及び/又はこれらの可溶性出発化合物の溶液の製造;b前成形された不活性支持体の該溶液での含浸;c該含浸支持体の乾燥;およびd該含浸乾燥支持体の焼成;e上記吸着組成物の銅含有部分の還元レベルの少なくとも60で多くても80の値への調整が記載された順に行われる方法により得られるただし、工程eが工程dの後又は同時に行われる請求項7~12のいずれか一項に記載の方法。酸素含有再生ガスを用いる第一の再生工程が、純粋な不活性ガスを用いる一回以上の再生工程の後に行われる請求項7~14のいずれか一項に記載の方法。本発明の目的は、一酸化炭素とオレフィンを含む物質流から吸着により一酸化炭素を除くために銅と亜鉛とジルコニウムの酸化物を含む吸着組成物を使用した後で、これを再生するための改善された方法を提供することである。もう一つの本発明の目的は、一酸化炭素とオレフィンを含む物質流から吸着により一酸化炭素を除く改善された方法であって、その吸着材料の吸着容量の大きな低下の危険が少なく、このためその使用寿命が延長される方法を提供することである。上記の問題は、一酸化炭素と少なくとも一種のオレフィンを含む物質流から一酸化炭素を吸着により除去するために銅と亜鉛とジルコニウムの酸化物を含む吸着組成物を使用した後にこれを再生する方法であって、該吸着組成物を160~400°Cの範囲の温度に加熱し、不活性キャリアガス中に1000~3000ppmの酸素を含む再生ガスを該吸着組成物中を通過させることからなる方法により解決される。不活性ガス流中で吸着組成物を再生する際に、この吸着組成物の銅含有部分の還元レベルが上昇することが明らかとなった。この脱着プロセスの間に一酸化炭素が二酸化炭素に酸化され、このため同時に吸着組成物中に含まれる銅I及び/又は銅IIが還元されているようである。また、吸着組成物上に吸着されているCO精製対象物質流に由来するオレフィンも同様に還元剤として働き、この間にこれら自身が酸化されているようである。再生ガス中に1000~3000ppmの酸素が存在するため、吸着組成物中の銅の還元が妨害され、CO及び/又はオレフィンで還元された銅の温和な再酸化が進行し、あるいはこの酸素が直接、吸着種の酸化除去に用いられる。1000~3000ppmの濃度の酸素では、この再生プロセス間に還元レベルが大きく変化しないか、実質的に不変であることが明らかとなった。再生ガスの酸素含量は、好ましくは1000~1900ppmであり、特に好ましくは1000~1500ppmである。この範囲のO2濃度内では、触媒が飽和炭化水素を含まないオレフィン流、特にプロペン流の精製に使用された場合に再生することが好ましい。酸素含量が1300~1500ppmの場合に、特に良い結果が得られる。もちろん特に好ましい不活性ガスは窒素であるが、吸着組成物に対して化学的に不活性な他のキャリアガス、例えばアルゴンも使用可能である。もう一つの重要なパラメーターは、再生温度である。再生温度は、160°Cをかなり下回ってはならず、400°Cを大きく越えてはならない。一般に180~300°Cの温度範囲が用いられる。再生工程における吸収組成物の温度が190~250°Cである場合、特に190~220°Cである場合に、特に良い結果が得られる。この再生工程では、そのGHSVが一般的には少なくとも100h-1であり、好ましくは少なくとも500h-1である。これは、一般的には多くても5,000h-1であり、好ましくは多くても1,000h-1である。組成が70質量のCuOと20質量のZnOと10質量のZrO2からなり、密度が1.35である吸着組成物では、再生工程で用いる総酸素量は、例えば1リットルの触媒当り2.3±0.5ノルマルリットルである。その時、この触媒質量に対する酸素量は、例えば1.70.35ノルマルリットル/kg-触媒である。再生時間は、一般的には短くとも1時間、好ましくは短くとも10時間、特に好ましくは短くとも15時間であり、また一般的には長くても100時間、好ましくは長くても50時間、特に好ましくは長くても30時間である。本発明のもう一つの対象は、銅と亜鉛とジルコニウムの酸化物を含む吸着組成物への吸着により一酸化炭素と少なくとも一種のオレフィンを含む物質流から一酸化炭素を除去する方法であって、吸着工程と再生工程を含み、該吸着工程中で、上記吸着組成物が一酸化炭素を含む物質流と接触され、該再生工程中で、上記吸着組成物が180~300°Cの範囲の温度に加熱され、不活性キャリアガス中に1000~3000ppmの酸素を含む再生ガスが該吸着組成物中を通過させられることからなる方法である。本発明により使用再生される吸着組成物は、一種以上のオレフィンを含む物質流の精製に好適である。これらは一般に液体の形で用いられる。本発明で使用再生される吸着組成物によりCOが除かれるノルマルオレフィンは、エテン、プロピレン、1-ブテン、2-ブテン、1,3-ブタジエン及び/又はスチレンである。この吸着組成物は、液体プロピレンからの一酸化炭素COの除去に特に好適である。吸着工程の実施前で再生工程の実施後に、本発明で用いられる再生組成物の銅含有部分の還元レベルが60~80を示すことが好ましい。この還元レベルは90を越えてはならず、好ましくは85を越えてはならない。特にこの銅含有部分の還元レベルは65~75である。その場合、この吸着組成物は、その組成物のCO最大吸着容量を示さないが、より還元レベルが高くCO吸収容量が高い組成物よりはかなり再生が容易である。特に、この範囲では、再生により限界還元レベルを超え、CO吸収容量が大きく低下する恐れが非常に小さくなる。したがって、プラント中で二つの吸着器である特定の時間では、一方が吸着に用いられ、他方が再生に用いられるもって、CO含量が大きく変動する物質流からCOを除くのに極めて適当である。ある好ましい実施様態においては、製造直後の吸着組成物を先ず再生させ、同時に、再生ガスとして純粋な不活性ガスで、好ましくは純窒素を用いて一度、あるいは一度以上活性化させる。このために、この吸着組成物を180~300°Cの範囲に加熱し、好ましくは190~270°C、特に200~250°Cの範囲に加熱し、酸素流を加えることなく純粋な不活性ガスを吸着組成物中に通過させる。この再生工程でのGHSVは、一般的には少なくとも100h-1であり、好ましくは少なくとも500h-1である。これは、一般的には多くて5000h-1であり、好ましくは多くて1000h-1である。処理時間は、一般的には1~30時間であり、好ましくは1~5時間である。純窒素での再生は、例えば1~5時間、特に2~4時間実施できる。製造直後の触媒の還元の程度が例えば>70である場合には、純窒素を用いる再生工程を200~270°Cの温度で一度行うことが好ましい。製造直後の触媒の還元の程度が65~70である場合には、純粋な窒素を用いる再生工程を200~270°Cの温度、例えば250°Cで2~4時間行うことが好ましい。XPS分析から、この製造直後の触媒がCuOとCuOH2の薄い不動態化層で覆われていることがわっている。酸素を加えることなく純粋な不活性ガスを用いて再生することで、CO及び/又はオレフィンによる不動態化層中のCuOとCuOH2のCu2Oへの還元が起こり、吸着組成物の活性化が起こる。その結果、第二の吸着工程においてそのCO吸着容量が大きく上昇する。ある実施様態では、第一の実際の吸着工程の前に、製造直後の吸着組成物を、それを上流にある処理工程iでガス状のオレフィン、好ましくはガス状のプロピレンを含む不活性ガス流で処理し、次いでそれを再生工程IIで純粋な不活性ガスで再生して活性化される。この不活性ガス流は、一般的には1~100体積のアルケンを含み、好ましくは5~75体積、特に10~50体積のアルケンを含む。GHSVは一般的には100~1000h-1であり、好ましくは200~500h-1である。処理時間は一般的には0.5~10時間であり、好ましくは1~5時間である。この後、上述のように純粋な不活性ガスでの再生が行われる。処理工程iと再生工程iiとを含むこの活性化方法は、複数回、例えば2~4回行うことができる。この還元レベルは、本発明の吸着組成物中に含まれる銅の酸化物含量の尺度である。この還元レベルは、次式により、全体の銅の中に含まれる還元銅の平均物質含有率、即ち酸化状態が0Cu0または1Cu1である銅の平均物質含有率として求められる。式中、nは物質含量モルを意味する。純粋な金属銅の還元レベルは100であり、純粋なCuOの還元レベルは0、純粋なCu2Oの還元レベルは50である。しかしながら、ある一定の還元レベルは、必ずしも本発明の吸着組成物が金属銅またはCuOを含むことを意味しない。一定の還元レベルでも、適当な比率の金属銅Cu0、Cu2OまたはCuOを含むいずれか可能な組成となることがある。この還元レベルは、酸化レベルの異なる銅を定量できる方法ならいずれの方法で測定してもよい。しかし、特に簡単なのは、低くとも250°Cで高くても500°Cの温度で一定重量となるまで空気と接触させて通常少なくとも10分間で長くても12時間、吸着組成物の試料中の銅を完全酸化することである。試料の還元レベルは、重量増が全て酸素によるものであり以下の酸化反応が起こると仮定して、試料の重量増から計算される。2CuO2→2CuOまたは2Cu2OO2→4CuO次いで次式を適用する:式中、Mは、関係する成分CuまたはCuOのモル質量であり、yCuOは、完全酸化された触媒中の酸化物の合計に対するCuOの質量比率であり、Δmは、完全酸化による相対的な質量増である。活性化された吸着組成物の還元レベルは、一般的な少なくとも60、好ましくは少なくとも65であり、一般的には高くて80、好ましくは高くて75である。本発明で用いられる吸着組成物は、酸化と亜鉛とジルコニウムの酸化物を含む。銅は部分的に金属銅として存在でき、あるいはCuIとCuIIの酸化物の形で存在できる。純粋な形では、本発明の吸着組成物は、銅をCuOとして、一般的には吸着組成物の総量に対して少なくとも30質量、好ましくは少なくとも50質量、特に好ましくは少なくとも60質量の量で含み、一般的には多くて99.8質量、好ましくは多くて90質量、特に好ましくは多くて80質量の酸化銅CuOを含む。純粋な形では、本発明の吸着組成物は、酸化亜鉛ZnOを、一般的には吸着組成物の総量に対して少なくとも0.1質量、好ましくは少なくとも5質量、特に好ましくは少なくとも10質量の量で含み、一般的には多くて69.9質量、好ましくは多くて40質量、特に好ましくは多くて30質量の量で含む。また純粋な形では、これは、酸化ジルコニウムZrO2を、一般的には吸着組成物の総量に対して少なくとも0.1質量、好ましくは少なくとも3質量、特に好ましくは少なくとも5質量の量で含み、一般的には多くて69.9質量、好ましくは多くて30質量、特に好ましくは多くて20質量の量で含む。吸着組成物中の二酸化ジルコニウム部分が、部分的に酸化アルミニウムAl2O3で置き換わっていてもよい。吸着組成物中の酸化ジルコニウム部分の例えば少なくとも1、少なくとも10、または少なくとも30で、多くても90、多くても80または多くても70が、酸化アルミニウムで置き換わっていてもよい。本発明において、純粋な形とは、銅酸化物と酸化亜鉛と酸化ジルコニウム必要なら部分的に酸化アルミニウムで置き換わっていてもよい以外には、出発物質や反応剤、成形用添加物の残渣などの加工伴う微量成分を除いて他の成分が含まれていないことを意味する。したがって、純粋な形は、この吸着組成物が上述の成分のみからなることを意味する。吸着組成物の含量の合計は100質量である。非常に好適な吸着組成物は、純粋な形で、65~75質量のCuOと、15~25質量のZnOと5~15質量のZrO2からなり、例えば約70質量のCuO、約20質量のZnO、約10質量のZrO2とからなる。なお、これら比率の合計は100質量である。本発明で用いられる吸着組成物は、純粋な形で存在していてもよいが、必ずしも純粋な形である必要はない。これを添加物と混合するか、これを不活性支持体上に塗布することもできる。適当な不活性支持体は、酸化アルミニウムや二酸化ケイ素、二酸化ジルコニウム、アルミノケイ酸塩、クレー、ゼオライト、珪藻土などの既知の触媒支持体である。本発明で用いられる吸着組成物は、既知の酸化物触媒と同様に製造される。簡便で好ましい本発明で用いられる吸着組成物の製造方法は、以下の加工工程をその順で含む:a吸収組成物の成分及び/又はこれらの可溶性出発化合物の溶液の製造;b塩基の添加によるこの溶液から固体の析出;cこの固体の分離と乾燥;d必要に応じてこの固体の焼成;eこの固体の成形物への成形;f必要に応じてこの成形物の焼成;ただし、上記二つの焼成工程dまたはfの少なくとも一つが実施され、工程fの後、あるいはこれと同時に、工程g吸着組成物の銅含有部分の還元レベルが、金属銅の金属銅と酸化銅の合計に対する質量比CuOとして計算された値で少なくとも60で多くても80となる値への調整、が実施される。最初の加工工程工程aでは、吸着組成物の成分の溶液が、通常の方法で、例えば硝酸などの酸の溶解で作られる。必要なら、吸着組成物の成分に代えて、これらの出発材料、例えば金属の硝酸塩、炭酸塩またはヒドロキシ炭酸塩が水溶液中に溶解される。なお、この溶液は酸性であって良く、例えば硝酸を含んでいてもよい。溶液中の塩類の量の比率は、吸着組成物の最終組成に応じて化学量論的に計算され調整される。工程bでは、この溶液から固体が吸着組成物前駆体として析出させられる。これは、通常の方法で行われ、好ましくは塩基を添加して、例えば水酸化ナトリウム溶液またはソーダ溶液を添加して溶液のpHを上げて行われる。原則として工程cでの乾燥の前に、上澄液溶液から生成する固体析出生成物を、例えば濾過またはデカンテーションで分離し、水で洗浄して可溶性の成分、例えば硝酸ナトリウムを除去する。通常この後で他の加工の前に、この析出生成物を通常の乾燥方法で乾燥させる。一般にこの乾燥は、やや高温での処理で行うことができ、例えば少なくとも80°C、好ましくは少なくとも100°C、特に好ましくは少なくとも120°Cで、10分~12時間、好ましくは20分~6時間、特に好ましくは30分~2時間処理できる。析出生成物を、直接吸着組成物中に一定のアルカリ、例えばナトリウムが存在しても一般的には干渉しないまたは洗浄後に、噴霧乾燥により、さらに加工可能な乾燥粉末に変換することも可能であり、また特に便利である。必要なら乾燥後に、析出乾燥した吸着組成物半製品を焼成工程dにかける。これに用いる焼成温度は、一般的には低くとも250°C、好ましくは低くとも300°C、特に好ましくは低くとも350°Cであり、一般的には高くても500°C、好ましくは高くても450°C、特に好ましくは高くても410°Cである。焼成時間は、一般的には短くとも10分間であり、好ましくは短くとも20分間、特に好ましくは短くとも30分間であり、一般的には長くても12時間、好ましくは長くても6時間、特に好ましくは長くても4時間である。乾燥工程cと焼成工程dが一体化していてもよい。乾燥工程cまたは焼成工程dの後で、吸着組成物またはその前駆体は、成形工程eで通常の成形プロセス例えば押出、タブレット化またはペレット化により、成形物例えば、押出品、タブレットまたは球状ペレットに加工される。必要ならこの成形工程の後に、この吸着組成物またはその前駆体を焼成工程fにかけてもよい。工程fで用いる焼成条件は、焼成工程dの焼成条件と同じである。製造中、この吸着組成物はこれら二つの焼成工程dまたはfの少なくとも一つにかけられ、必要なら両方にかけられる。この一つ以上の焼成工程中で、この吸着組成物前駆体が実際の吸着組成物に変換され、通常のようにこの吸着組成物のBET表面積と細孔容積が確立される。なお、よく知られているように、この間の焼成時間と焼成温度が増加するとこのBET表面積と細孔容積が減少する。焼成は、少なくとも、吸着組成物の炭酸塩含量CO32-としてのが焼成生成物の総質量に対して多くても10質量となり、そのBET表面積が少なくとも40m2/gで多くても100m2/gの範囲の値となるよう時間行うことが好ましい。焼成の間に、吸水量として測定される吸着組成物の細孔容積は、少なくとも0.05ml/gに調整される。これらの値が本発明の吸着組成物に好ましい。上述のように、本発明で用いられる吸着組成物は支持体上に塗布できる。これは通常の含浸方法あるいは付着析出方法で行われる。よく知られているように、付着析出プロセスは、支持体または支持体前駆体の存在下での析出プロセスである。付着析出プロセスを実施するには、上述の析出プロセスにおいて、支持体または支持体前駆体を、工程aで製造した溶液に添加することが好ましい。この支持体がすでに前成形された最終成形物、即ち純粋な含浸プロセスで処理された最終成形物である場合、成形工程eが省かれ、そうでない場合は、この支持体がまた、吸着組成物半製品の析出乾燥焼成成形での加工中に成形される。本発明の吸着組成物の製造のために好ましい含浸プロセスは、前成形された支持体を使用し、以下の加工工程をその順で含む:a吸着組成物成分及び/又はこれらの可溶性出発化合物の溶液の製造;b前成形された支持体をこの溶液で含浸;cこの含浸支持体の乾燥;およびdこの含浸乾燥支持体の焼成。なお、工程dの後またはこれと同時に、e吸着組成物の銅含有部分の、金属銅と酸化銅の合計に対する金属銅の質量比で表される、CuOとして計算された還元レベルの少なくとも60で多くて80ヘの調整、が行われる。この含浸プロセスの加工工程aは、上述の析出プロセスの工程aと同様に実施される。工程bでは、前成形された支持体がこの溶液で含浸させられる。この前成形支持体は、使用用途に対応した形状を、例えば押出品、タブレットまたは球状ペレットの形状をもつ。含浸は、過剰の溶液あるいは支持体の細孔容積初期の濡れ性に相当する量の溶液で行われる。含浸の後、この含浸支持体を、上記析出プロセスの析出生成物と同様に工程cとdで乾燥焼成させる。しかし前成形された支持体の場合、この成形工程は除かれる。析出プロセスと含浸プロセスの両方で、銅の還元レベルを調整する工程が必要である。これは、焼成特に銅を完全酸化しない雰囲気下での焼成中であるいは焼成後の剥離加工工程中で、適当なプロセス条件を確立することで行われる。なお、後者の場合、還元レベルの調整は焼成直後に行う必要はない。還元レベルの調整は、銅の酸化レベルを変化させるのに適当な公知の何れのプロセスで行ってもよい。銅が主に還元型で存在する場合は酸素と反応させ、銅が主に酸化型で存在する場合は水素と反応させる。多くの場合、焼成は空気下で行われ、この結果、焼成後に得られる本発明の吸着組成物の前駆体中では、銅がCuOの形で存在する。次いで銅を還元してこの還元レベルを所望の還元レベルに調整する。これは、焼成後に存在する前駆体を還元剤で処理して行われる。銅を還元可能ないずれの還元剤も使用可能である。用いる正確な還元条件は、前駆体とその組成また使用する還元剤に依存し、数回の簡単な試験で容易に決めることができる。好ましい方法は、この前駆体の水素での処理であり、主にその上を水素含有ガス、好ましくは水素/窒素混合物を高温で流すことで行われる。先ず本発明で用いられる吸着組成物の前駆体を完全に還元し、次いでこれを所望の還元レベルまで酸化することも可能である。この吸着組成物前駆体の完全還元は、吸着組成物中に含まれる銅の金属銅への還元により行われる。原則としてこれは、銅を酸化状態IまたはIIから酸化状態0に還元できるものならいずれの還元剤を用いて行ってもよい。これを液体還元剤か溶解した還元剤で行うこともできるが、この場合には還元後に乾燥が必要となる。したがって、ガス状還元剤での還元が、特にその上に水素含有ガスを通過させる水素での還元が極めて簡便である。この際に用いる温度は、一般的には低くとも80°C、好ましくは低くとも100°C、特に好ましくは低くとも110°Cであり、一般的な高くても250°C、好ましくは高くても220°C、特に好ましくは高くても190°Cである。ある適当な温度は、例えば約180°Cである。この還元は発熱性である。加える還元剤の量は、選ばれた温度範囲から外れないように調整する必要がある。活性化の進行状況は、吸着剤床中で測定される温度で追跡できる温度プログラム還元、TPR。好ましい吸着組成物前駆体の還元方法は、窒素気流中での乾燥の後に所望の還元温度とし、窒素流に少量の水素を加えることである。例えば、適当な混合ガスは、初めに窒素中に少なくとも0.1体積の水素を含み、好ましくは少なくとも0.5体積、特に好ましくは少なくとも1体積、多くて10体積、好ましくは多くて8体積、特に好ましくは多くて5体積の水素を含む。適当な値は、例えば2体積である。所望の温度範囲とし、またその範囲に維持するために、この初期濃度をそのまま維持したり増加させたりする。還元剤のレベルを維持または増加させても組成物床の温度が低下する場合は、還元が終了している。代表的反応時間は、一般的には少なくとも1時間であり、好ましくは少なくとも10時間、特に好ましくは少なくとも15時間、また一般的には長くて100時間、好ましくは長くて50時間、特に好ましくは長くて30時間である。必要なら吸着組成物の前駆体の乾燥が、この前駆体を、一般的には少なくとも100°Cの温度に、好ましくは少なくとも150°C、特に好ましくは少なくとも180°Cの温度に、また一般的には高くて300°C、好ましくは高くて250°C、特に好ましくは高くて220°Cの温度に加熱して行われる。適当な乾燥温度は、例えば約200°Cである。付着水の妨害残渣が存在しなくなるまで、この前駆体をこの乾燥温度に維持する。これは、一般的には、乾燥時間が少なくとも10分間、好ましくは少なくとも30分間、特に好ましくは少なくとも1時間であり、一般的には長くて100時間、好ましくは長くて10時間、特に好ましくは最大で4時間である場合である。水分を床から輸送して除くために、この乾燥をガス流中で行うことが好ましい。このために、例えば乾燥空気を用いることもできるが、不活性ガスをこの床に通すことが特に好ましく、その場合には窒素またはアルゴンが特に適当である。完全還元の後で、吸着組成物前駆体を酸化して還元レベルを調整する。銅を酸化可能な公知の何れの酸化剤を用いてこれを行ってもよい。このためには酸素の使用が便利であり、特に空気または酸素/窒素混合物または空気/窒素混合物希薄空気の使用が便利である。吸着組成物前駆体の酸化に好ましい一つの方法は、還元後に水素の供給を停止し、窒素で反応容器から残留水素を追い出し、次いで所望の酸化温度に調整し、小量の酸素を窒素流に混合することである。簡単な試験でそれぞれの場合の還元レベルを測定して、温度と総ガス体積、酸素含量、処理時間を最適にする必要がある。好適な代表的な混合ガスは、窒素中に例えば少なくとも0.05体積の酸素、好ましくは少なくとも0.1体積、特に好ましくは少なくとも0.15体積を含み、また多くても0.5体積、好ましくは多くても0.4体積、特に好ましくは多くても0.25体積の酸素を含む。適当な値は、例えば0.2体積である。典型的な酸化時間は、一般的には短くとも24時間、好ましくは短くとも48時間、特に好ましくは短くとも60時間であり、一般的には長くても100時間、好ましくは長くても90時間、特に好ましくは長くても80時間である。例えば、酸化は70時間行われる。用いるガスの体積は、通常、1リットルの吸着組成物前駆体に対して1時間当り少なくとも100NLのガスNL=通常のリットル、0°C、常圧であり、好ましくは少なくとも150NL/lhr、特に好ましくは少なくとも200NL/lhrであり、また一般的には多くても1,000NL/lhr、好ましくは多くて750NL/lhr、特に好ましくは多くて500NL/lhrである。例えば250NL/lhrsが非常に好適である。調整温度は、一般的には少なくとも30°C、好ましくは少なくとも35°C、特に好ましくは40°Cであり、また一般的には高くて80°C、好ましくは高くて70°C、特に好ましくは高くて60°Cである。例えば50°Cが非常に好適である。利用するためには、これらの吸着組成物成形物を、吸着器しばしば反応器と呼ばれる容器中に充填し、この中で精製すべき物質流と接触させる。もし必要なら微量の残留水分を除いて吸着容量を増加させるために、最終吸着組成物を、COの吸着に使用する前に乾燥させることが好ましい。この最終吸着組成物の乾燥は、上述の前駆体の乾燥と同様に行われる。還元レベルの調整と乾燥はこの吸着器内で行うことが便利である。そうでない場合は、吸着器へ充填する際に、使用可能な活性化吸着組成物を、空気と水分から保護するのに大きな努力が必要となる。還元レベルの調整と、この還元レベルの調整の前または後で行われることのある乾燥運転の後で、本発明の吸着組成物が使用可能となる。本発明の吸着方法は、ポリマーグレードオレフィンに許容される値まで一酸化炭素含量を下げるために、エテンやプロペン、1-ブテン、2-ブテン、1,3-ブタジエン、ブテン混合物、ブテン/ブタジエン混合物またはスチレンから一酸化炭素を除去するのに特に好適である。極めて好ましい実施様態では、本発明の方法により液体プロペンから一酸化炭素が吸着的に除かれる。本発明の吸着方法は、一般的には少なくとも0.001ppmガスでは体積ppm、液体では質量ppmの一酸化炭素を含む、好ましくは少なくとも0.01ppm、また一般的には多くても1000ppm、好ましくは多くても100ppm、特に好ましくは多くても10ppmの一酸化炭素を含む物質流から一酸化炭素を除くに特に適している。比較的高初期濃度の一酸化炭素には、通常、前もって異なる既知の精製プロセスを実施し例えば蒸留、一酸化炭素の酸素での二酸化炭素への触媒的酸化、または一酸化炭素の酸化銅での酸化による金属銅と二酸化炭素の形成を実施し、必要なら続いて二酸化炭素と酸素化生成物を分離することがより経済的である。そうでない場合は、吸着組成物の吸着容量への到達があまりに速く起こる。本発明の吸着方法を実施するために、一酸化炭素を除去すべき物質流が、吸着器内に入れられた本発明の吸着組成物成形物の床の上を通過させられる。技術的観点から見て、この時の温度は、本発明の吸着方法にとって重要ではないか、極めて重要ではない。代表的な温度は、少なくとも-270°C、好ましくは少なくとも-100°C、特に好ましくは-40°Cで、高くても300°C、好ましくは高くても200°C、特に好ましくは高くても100°Cの範囲内にある。排除レベルの決定に重要な変数は、物質流と吸着組成物の間の接触時間である。この接触時間は、物質流の流速と吸着組成物床の体積により決まる。多くの場合、精製対象の物質流の体積流量は、上流または下流の装置の能力により予め決められている。少なくとも2台の吸着器が存在し、このうちの少なくとも一台が精製対象の物質流に暴露され、他の少なくとも一台の吸着器でこの吸着組成物が再生されることが好ましい。選ばれる吸着器の大きさにもよるが、その中に含まれる吸着組成物の一酸化炭素に対する最大吸収容量に遅かれ早かれ到達し、これを再生する必要が出てくる。本発明の吸着組成物の再生のためには、先ず精製対象の物質流を停止し、平行して設けられた、フレッシュなあるいは再生された吸着組成物が充填された吸着器に通過させることが好ましい。本発明を、以下の実施例でより詳細に説明する。プロピレンガス流からCOを除去するための吸着組成物の吸着性能を、ある気相装置中で系統的に検討した。この吸着組成物は、70質量のCuOと20質量のZnOと10質量のZrO2からなる酸化物前駆体組成物の還元物である。この酸化物前駆体組成物の製造のために、Cu-Zn-Zr硝酸塩溶液金属含量が15.2質量で、CuO:ZnO:ZrO2質量比としてのCu:Zn:Zr比が7:2:1から、pHが6.5で70°Cのソーダ溶液20質量を用いて析出させた。析出終了後、懸濁液をさらに120分間、pHが6.5で70°Cで攪拌した。次いでこの溶液を濾過し、濾塊を純粋で洗浄して硝酸塩を除き、120°Cで乾燥した。この乾燥粉末を強制空気オーブン中で300°Cで240分間焼成し、次いで3質量のグラファイトと混合し、横圧力が50Nで圧縮して3×3mmのタブレットとした。このタブレットを、さらに425°Cで120分間焼成した。この気相装置は、電気ジャケット加熱装置を備えた反応器からなっていた。反応器中の流れは、下向きである。この反応器の内径は44.3mmDN40であり、長さは168mmであった。この再使用可能な熱電対の外径は3.2mmであり、5個の測定点をもっていた。通常の市販の流量制御器を用いてガスを供給した。オンラインでIR吸収により一酸化炭素濃度を測定した。試験条件は次の通りである:T:室温p:1bar触媒体積:85mlプロピレン流:150NLh-1GHSV:1.765h-1CO濃度:100ppmCOの破過までの吸着組成物の積分CO吸収容量を測定した。なお、反応器排出ガス中に10体積ppmのCOが測定される時を破過とみなした。具体的には、還元レベルの関数としてのCO吸収容量を決めるために、異なる還元レベルの数種の吸着組成物を製造し、それぞれを上記のように試験した。個々の吸着組成物の還元レベルは上述の式で決定した。CO吸収容量が大きく銅の還元レベルに依存することが観察された。R=0の酸化物材料は、CO吸収容量がゼロであった。Rが2まで、吸収容量が速やかに0.3NL-CO1リットルの吸着組成物当りまで上昇し、その後R=2とR=30の間で0.05NL-COに減少した。さらにR=30より上では、CO吸収容量が、全体として最大値である0.8NL-COまで上昇した。R=85~90でこの最大値に到達した。R=90より上では、CO吸収容量が突然減少し、R=100では、この材料はなんらCO吸収容量を示さなかった。図1に測定結果を示す。CO吸収容量が還元レベルに大きく依存するため、運転時に還元レベルを実質的に一定に保つことが非常に重要である。65~75の範囲の還元レベルが最適である。これは、この時の吸着組成物がすでに十分に高い吸収容量である0.4NL-COを示すが、低吸収容量を引き起こす還元レベルからは十分に離れているためのである。純粋な不活性ガスでの再生によるさらなる活性化吸着組成物の最大CO吸収容量に至ると、直ちにCOの破過が観察された。この時点でガス供給を停止し、触媒を再生のために200°Cに加熱した。効果的な再生に必要な最低温度は190°Cであった。180°C未満では、十分な再生が認められなかった。この再生は、工業用窒素を用いて200~250°Cで行った。IR分析の結果、再生の際に吸着組成物から脱着されるのはCOではなくCO2であることが分った。また吸着されたプロピレンも、再生の際に格子酸素原子により酸化され、CO2もまた形成されている。その結果、純窒素で実施される再生工程では、常に触媒が還元される。還元レベルは、再生工程ごとに1.5~2増加する。例えば初期還元レベルRが77である製造直後の触媒は、N2での再生により、吸着工程から吸着工程へのCO吸着容量の増加を示した。しかしながら約7回の再生後では、その時点で限界還元レベルを超えるため、このCO吸収容量が大きく低下し始めた。図2は、初期還元レベルが77の吸着組成物を用いた試験結果を示す。二つの再生工程の間に、それぞれ一回の吸着工程を実施し、最大CO吸収容量が決めた。最初の吸着工程では、製造直後の吸着組成物は、一般的には低いCO吸収容量を示した。XPS測定の結果、触媒の製造直後では、表面の吸着活性なCulが、CuOとCuOH2の薄層で覆われることがわかった。この層がCOの吸着を妨害する。純粋なN2を再生ガスとして用い最初の再生サイクルで、このCuOとCuOH2を含有する層が、吸着された種COとプロピレンの酸化のためCu2Oの層に還元された。この結果、第二の吸着サイクルでのCO吸収容量が、第一の吸着サイクルとくらべて大きく増加した。初期還元レベルRが67と低い吸着組成物は、最適CO吸収容量に到達するのに、初期還元レベルが77の吸着組成物と較べて、より多くの再生サイクルが必要である。図3は、初期還元レベルが67である吸着組成物を、工業用窒素を用いて250°Cで再生した場合の結果を示す。二つの再生工程の間に、それぞれ一回の吸着工程を実施し、最大CO吸収容量を求めた。酸素含有不活性ガスでの再生工業的に純粋な窒素で再生を行う活性化相の後で、各吸着工程の後で、1500ppmの酸素を含む窒素流を用いて再生を行った。この際の温度は200°Cであり、GHSVは500h-1であった。3時間かけて、1リットルの触媒あたり2.3NLの酸素を供給した。図4は、再生工程1~4を純粋なN2を用いて250°Cで実施し、再生工程5~9を200°Cで1500ppmのO2を含む窒素で実施した場合の試験結果を示す。これらそれぞれの間に吸着工程を実施し、最大CO吸収容量を測定した付録参照。図4から明らかなように、酸素含有再生ガスで再生しても、吸着組成物のCO吸収容量は実質的に一定に保たれた。"