"大気圧より低い圧力下で被処理体を取り扱うための真空室と該真空室の内部に配置された発熱部とを備えた真空処理装置における、前記発熱部で発生した熱を真空室の外へ放熱するための放熱機構であって、前記発熱部に接触するよう固定されて該発熱部から熱が伝えられる第一放熱部と、該第一放熱部から伝えられた熱を真空室の外へ放熱するための第二放熱部と、前記第一放熱部と第二放熱部との間にあって、第一放熱部からの熱を第二放熱部に輻射によって伝熱する伝熱領域とを備え、前記第一放熱部および第二放熱部は、各々の放熱面を備えており、前記伝熱領域に、前記第一放熱部の放熱面から第二放熱部に向けて突出する第一突出部と、第二放熱部の放熱面から第一放熱部に向けて突出する第二突出部とが設けられ、前記第一突出部と第二突出部とが所定空間を置いて対向していることを特徴とする放熱機構。前記第二突出部は第二放熱部の放熱面の面方向に間隔を置いて複数配置され、前記第一突出部は少なくとも一つ設けられるとともに、二つの第二突出部の間に一つの第一突出部が挿入されていることを特徴とする請求項1記載の放熱機構。請求項1または請求項2に記載の放熱機構を備えていることを特徴とする真空処理装置。しかしながら、熱伝導の原理を用いて容器の熱を真空室の外部へ放熱可能とした放熱機構では、放熱機構が容器に対して離着座自在に接触するから、接触した際に接触部分において粉塵パーティクルが発生し易い。そしてこのような粉塵は、半導体ウエハ基板やガラス基板等の繊細な部品である被処理体に付着すると、被処理体の機能低下を発生させてしまうといった課題がある。そこで本発明は、粉塵の発生を防止しつつ、真空室の内部で発生した熱を真空室の外へ放熱できる放熱機構および真空処理装置の提供を目的とする。本発明は、大気圧より低い圧力下で被処理体を取り扱うための真空室と該真空室の内部に配置された発熱部とを備えた真空処理装置における、前記発熱部で発生した熱を真空室の外へ放熱するための放熱機構であって、前記発熱部に接触するよう固定されて該発熱部から熱が伝えられる第一放熱部と、該第一放熱部から伝えられた熱を真空室の外へ放熱するための第二放熱部と、前記第一放熱部と第二放熱部との間にあって、第一放熱部からの熱を第二放熱部に輻射によって伝熱する伝熱領域とを備え、前記第一放熱部および第二放熱部は、各々放熱面を備えており、前記伝熱領域に、前記第一放熱部の放熱面から第二放熱部に向けて突出する第一突出部と、第二放熱部の放熱面から第一放熱部に向けて突出する第二突出部とが設けられ、前記第一突出部と第二突出部とが所定空間を置いて対向していることを特徴としている。上記構成において、発熱部の熱は発熱部から第一放熱部に伝達され、第一放熱部に伝達された熱は第二放熱部へ輻射され、第二放熱部から真空室の外へ放熱される。すなわち、第一放熱部は発熱部に接触するよう固定されているから、第一放熱部に伝達された熱は第一突出部に伝達され、第一突出部と第二突出部とは伝熱領域において所定空間を介して対向しているから、第一突出部に伝達された熱は、放熱面間のみならず、所定空間を介して輻射によって第二突出部に伝達され、第二突出部に伝達された熱は、第二突出部から第二放熱部に伝達され、第二放熱部に伝達された熱は真空室の外へ放熱される。本発明の放熱機構では、前記第二突出部は第二放熱部の放熱面の面方向に間隔を置いて複数配置され、前記第一突出部は少なくとも一つ設けられるとともに、二つの第二突出部の間に一つの第一突出部が挿入されている構成を採用できる。上記構成において、発熱部から第一放熱部に伝達された熱は第一突出部に伝達され、第一突出部に伝達された熱は、所定空間を介して輻射によって第二突出部に伝達され、第二突出部に伝達された熱は、第二突出部から第二放熱部に伝達され、第二放熱部に伝達された熱は真空室の外へ放熱される。本発明の真空処理装置は、前記何れかの放熱機構を備えていることを特徴としている。本発明の真空処理装置によれば、発熱部の熱は、放熱機構によって輻射の原理を用いて真空室の外へ放熱される。本発明の放熱機構によれば、第一突出部と第二突出部とが所定空間を置いて対向しているから、放熱機構には接触離間する部材がなく、このため粉塵の発生を防止しつつ、真空室の内部で発生した熱を真空室の外へ放熱できる。また、本発明の真空処理装置によれば、第一突出部と第二突出部とが所定空間を置いて対向しているから、放熱機構には接触離間する部材がなく、このため粉塵の発生を防止しつつ、真空室の内部で発生した熱を真空室の外へ放熱できる。以下本発明の一実施形態に真空処理装置を、図1および図2を参照しつつ説明する。本実施形態における真空処理装置1は、被処理物の一例である半導体ウエハ等の電子部品2を取り扱うための真空室3を備えている。真空室3は、大気圧より低い圧力下で被処理体を取り扱うための空間である。真空室3は、その形成壁である底壁30、四方の側壁31,32,33,34、および天壁35を隔壁として囲繞されることで、直方体形状に形成されている。形成壁の外側は大気圧であり、真空室3は、大気圧より低い圧力に維持されている。真空処理装置1は、真空室3の内部に、搬送テーブル装置4および大気ボックス5を備えている。搬送テーブル装置4および大気ボックス5は、真空室3の内部をその長手方向Lに移動可能に構成されている。具体的には、搬送テーブル装置4および大気ボックス5は、リニア搬送装置リニアモータ6によって、底壁30の面方向この場合、長手方向Lに沿って往復移動可能に構成されている。搬送テーブル装置4は、板状のテーブル40と、テーブル40を支持する脚体部41とを備えている。テーブル40には、電子部品2を取り扱うためのロボットアーム7が取り付けられている。ロボットアーム7は、テーブル40に載置された駆動部70と、駆動部70に旋回軸71によって縦軸72回りに旋回可能に支持された平板状のアーム部73とを備えている。大気ボックス5は直方体形状に形成されており、形成壁の長手方向Lの側壁31と平行な縦壁50を備える。大気ボックス5は密閉されており、内部は大気圧に維持されている。大気ボックス5には、ロボットアーム7の駆動部70に電力を供給したりアーム部73の動作を制御したりするための制御装置51が内装されている。したがって、駆動部70と制御装置51とは、送電ケーブル8によって電気的に接続されている。このような大気ボックス5は、脚体部41に一体的に取り付けられている。真空処理装置1は、制御装置51に電力を供給するための給電部52をさらに備えている。給電部52は、真空室内に配置された被給電体を備え、被給電体は、大気ボックス5の縦壁50に固定された給電コア53と、給電コア53に巻回された給電コイル54とを備える。給電コア53として、E型コアが用いられている。給電部52は、給電コイル54を励磁させる給電体を備え、給電体として、給電線55を備えている。給電線55はE型コアの両側の凹部に亘るよう、給電コア53とは非接触で配置されている。そして給電線55は、真空室3の長手方向Lに沿って配置され、大気ボックス5の、長手方向Lへの移動ストロークに応じた長さを有している。リニア搬送装置6は、底壁30に、真空室3の長手方向Lに沿って配置されたリニアガイドレール61と、真空室3の外部に配置された一次側磁極部電機子62と、真空室3内で搬送台に連結された二次側磁極部63とを備えている。リニアガイドレール61は、各脚体部41、大気ボックス5の床壁56に対応する位置で、底壁30上に設置されている。すなわち、本実施形態では、リニアガイドレール61は底壁30上に三本平行に並べて配置されている。一次側磁極部62は、コアとコアに巻回されたコイルとを備える。一次側磁極部62は、底壁30の一部に形成した矩形の孔を真空室3の内部側で覆うようにした一次側箱体64に内装されている。このような一次側箱体64は、テーブル40の位置に対応するよう配置されている。さらに具体的には、一次側箱体64は、真空室3の幅方向Bに離間して二列に並ぶよう配置されている。そして、一次側箱体64は各列に、真空室3の長手方向Lに沿って所定間隔置きに配置されることで複数個設けられている。二次側磁極部63は、コアとコアに巻回されたコイルとを備える。二次側磁極部63は、テーブル40の下面に取り付けられた二次側箱体65に内装されている。二次側箱体65は、テーブル40の下面で、各列の一次側箱体64の対向面側に対応する位置に配置されている。真空処理装置1は、真空室3の内部で発生した熱を真空室3の外へ放熱するための、輻射の原理を用いた放熱機構9を、さらに備える。本実施形態の場合、熱を発生する発熱部として、例えば、大気ボックス5内部の制御装置51、二次側磁極部63、ロボットアーム7の駆動部70が挙げられる。このような発熱部は、長手方向Lに移動可能ないし、縦軸72回りに回転するものである。以下では、発熱部を大気ボックス5として、放熱機構9の構成をさらに具体的に説明する。図2に示すように、放熱機構9は、大気ボックス5の縦壁50と形成壁のうち大気ボックス5側の側壁31との間に配置されている。図3および図4に示すように、放熱機構9は、第一放熱部高温部と第二放熱部低温部との組み合わせによって構成されている。第一放熱部および第二放熱部はともに熱伝導性の良好な金属から形成されている。第一放熱部は、第一放熱壁90と第一伝熱壁91とを備える。第二放熱部は、第二放熱壁92と、第二伝熱壁93とを備える。第一放熱壁90と第二放熱壁92との間は、伝熱領域D1とされる。さらに具体的には、第一放熱壁90の壁面90aおよび第二放熱壁92の壁面92aは平面に形成され、第一放熱壁90の壁面90aおよび第二放熱壁92の壁面92aの間の空間が伝熱領域D1である。そして、第一伝熱壁91および第二伝熱壁93は、伝熱領域D1に配置されている。第一放熱壁90は板状に形成され、大気ボックス5の縦壁50に接触するよう固定されている。具体的には、第一放熱壁90は上下方向Hおよび長手方向Lに略等しい正方形形状の板状に形成されている図4参照。第一伝熱壁91は、第一放熱壁90の放熱面である壁面90aに直交する方向に、壁面90aから幅方向B一方側に向けて突出するよう一体的に形成されている。第一伝熱壁91は、第一放熱壁90の壁面90aに、壁面90aの上下方向Hに所定間隔置きに配置されることで複数設けられている。第一伝熱壁91どうしは互いに平行になるよう配置されている。第二放熱壁92は板状に形成され、形成壁のうち大気ボックス5側の側壁31に接触するよう固定されている。具体的には、第二放熱壁92は上下方向Hに比べて長手方向Lが長い長方形形状の板状に形成されている図4参照。また、第二放熱壁92は第一放熱壁90に、真空室3の幅方向Bで対向する位置に配置されている。第二伝熱壁93は、第二放熱壁92の放熱面である壁面92aに直交する方向に、壁面92aから幅方向B他方側に向けて突出するよう一体的に形成されている。第二伝熱壁93は、第二放熱壁92の壁面92aに、上下方向Hに所定間隔置きに配置されることで複数設けられている。第二伝熱壁93どうしは互いに平行になるよう配置されている。また、第一放熱壁90および第二放熱壁92どうしは互いに平行になるよう配置されている。上下方向Hで隣り合う第二伝熱壁93の間には、一個の第一伝熱壁91が挿入されている。したがって、第一伝熱壁91の数は、第二伝熱壁93の数に比べて一個少ない。そして、各第一伝熱壁91の上面91a、下面91b、および、第二放熱壁92側の厚み方向面91cは輻射伝熱面とされている。上下方向Hで隣り合う第二伝熱壁93において、各第二伝熱壁93どうしの対向面93a,93a、および第一放熱壁90側の厚み方向面93bは、第一放熱部からの熱が、輻射によって伝わる輻射伝熱面とされている。また、第一伝熱壁91の厚みは第二伝熱壁93どうしの離間距離に比べて小さく設定され、第二伝熱壁93の厚みは第一伝熱壁91どうしの離間距離に比べて小さく設定されている。このため、一個の第一伝熱壁91が上下方向Hに隣り合う第二伝熱壁93の間に挿入された状態では、第一伝熱壁91と第二伝熱壁93の間には、幅方向Bおよび長手方向Lで均一の高さの高さ方向隙間所定空間に相当する100が形成されている。すなわち、第一伝熱壁91と第二伝熱壁93とは、高さ方向隙間100を挟んで対向している。ここで、高さ方向隙間100の条件として、第一伝熱壁91と第二伝熱壁93とが接触せず、しかも輻射が可能な距離を有した輻射空間としていることである。さらに、各第一伝熱壁91、各第二伝熱壁93の幅方向B長さは、第一放熱壁90の壁面90aと第二放熱壁92の壁面92aとの幅方向Bの離間距離に比べて小さく設定されている。したがって、各第一伝熱壁91の第二放熱壁92側の厚み方向面91cと第二放熱壁92の壁面92aとの間には幅方向Bの隙間である幅方向隙間101が形成され、各第二伝熱壁93の第一放熱壁90側の厚み方向面93bと第一放熱壁90の壁面90aとの間には幅方向隙間102が形成されている。このように、放熱機構9は、互いに非接触状態とした第一放熱部と第二放熱部との組み合わせによって構成されている。そして第一放熱部と第二放熱部とは、櫛歯形状の第一伝熱壁91および第二伝熱壁93を備えて、これらが高さ方向隙間100で対向し、壁面90a,92aどうしが幅方向Bで対向している。さらに、第一伝熱壁91の厚み方向面91cが幅方向隙間101を輻射空間として、第二放熱壁92の壁面92aに対向し、第二伝熱壁93の厚み方向面93bが幅方向隙間102を輻射空間として、第一放熱壁90の壁面90aに対向している。上記構成の真空処理装置1において、電子部品2はロボットアーム7のアーム部73に載置されており、搬送テーブル装置4のテーブル40がリニア搬送装置6によって長手方向Lに移動することで、電子部品2は、真空室3の内部を長手方向に移動して所定の位置まで搬送される。また、大気ボックス5はテーブル40と一体であるから、テーブル40の移動に伴って大気ボックス5も移動する。ところで、テーブル40を移動させるためにはリニア搬送装置6を駆動させる必要がある。また、テーブル40の移動量等を決定するために、制御装置51に通電して駆動する必要がある。リニア搬送装置6の駆動のためには、一次側磁極部62に通電をして二次側磁極部63を励磁させる。また、制御装置51を駆動するためには、給電部52の給電線55に通電して給電線55に磁界を発生させることで給電コイル54を励磁して、大気ボックス5内の制御装置51に給電する。二次側磁極部63が励磁され、給電コイル54が励磁され、制御装置51の駆動通電等が行われると、それぞれが発熱する。特に、大気ボックス5に収納された制御装置51は、高温になるとその機能に支障が生じるため、大気ボックス5の内部を冷却する必要がある。そして、本実施形態では、大気ボックス5の内部で発生した熱は、放熱機構9によって形成壁の外へ放熱される。すなわち、大気ボックス5の内部に発生して大気ボックス5の縦壁50に伝達された熱は、放熱機構9の第一放熱部から第二放熱部に輻射によって伝達されて、側壁31から真空室3の外へ放熱される。具体的に、第一放熱壁90は縦壁50に接触して固定されているから、縦壁50に伝達された熱の一部は、第一放熱壁90に直接的に伝達伝導される。第一放熱壁90に伝達された熱の一部は、第一放熱壁90から各第一伝熱壁91に直接的に伝達される。そして、各第一伝熱壁91に伝達された熱の一部は、各第一伝熱壁91の上面91a、下面91bから輻射され、輻射空間である高さ方向隙間100から、上面91a、下面91bに対向している各第二伝熱壁93の対向面93a,93aに輻射によって伝達され、各第二伝熱壁93、第二放熱壁92に順に伝達される。輻射空間である高さ方向隙間100を介して一方向この場合、上下方向Hで行われる輻射は、第一伝熱壁91および第二伝熱壁93の表面を形成する面のうち、それぞれ大きな面積を占める面上面91a、下面91b、対向面93aで行われるから、主たる輻射である。また、各第一伝熱壁91に伝達された熱の一部は、各第一伝熱壁91の厚み方向面91cからも輻射されて、輻射空間である幅方向隙間101から第二放熱壁92に伝達される。さらに、第一放熱壁90の熱の一部は、幅方向隙間102から第二伝熱壁93の厚み方向面93bに輻射により伝達され、第二伝熱壁93から第二放熱壁92に伝達される。さらに、第一放熱壁90の熱の一部は壁面90aから第二放熱壁92の壁面92aにも輻射により伝達される。そして、第二放熱壁92は側壁31に接触して固定されているから、第二放熱壁92に輻射により伝達された熱は、側壁31に直接的に伝達されて、側壁31から真空室3の外へ放熱される。結果、大気ボックス5の熱が真空室3の外へ放熱され、大気ボックス5内が冷却され、制御装置51が高温下にさらされるのを防止できる。輻射空間である幅方向隙間101、幅方向隙間102を介して別方向この場合、主たる輻射の方向と交差する幅方向Bで行われる輻射は、第一伝熱壁91および第二伝熱壁93の表面を形成する面のうち、それぞれ小さな面積を占める面厚み方向面91c、厚み方向面93bで行われるから、従たる輻射である。また、第一放熱壁90は上下方向Hおよび長手方向Lに略等しい正方形形状の板状に形成されているのに対して、第二放熱壁92は上下方向Hに比べて長手方向Lが長い長方形形状の板状に形成されている。すなわち、第一放熱壁90に比べて第二放熱壁92の面積は大きく設定されており、第一放熱壁90の放熱能力に比べて第二放熱壁92の放熱能力が大きい。このため、第一放熱壁90に、放熱すべき熱が溜まるといった状態を回避でき、放熱は滞ることなく円滑に行われる。しかも、放熱機構9において、第一放熱部における第一伝熱壁91の数は、第二放熱部における第二伝熱壁93の数に比べて少ない。すなわち、第二放熱部に比べて第一放熱部のほうが軽量である。そして、第一放熱部を長手方向Lに移動可能な発熱部に装着してあるから、その分だけ発熱部の移動のために使用する電力が少なくてすむ。なお、発熱は大気ボックス5制御装置51のみではなく、二次側磁極部63が励磁され、給電コイル54が励磁される通電されると、これらも発熱する。しかしながら、これらの発熱は、大気ボックス5が冷却されることで、大気ボックス5に伝導されるから、結果、真空室3の内部もまた、高温化するのを防止できる。そして、第一放熱部と第二放熱部は、輻射空間を置いて対向しているから、第一放熱部が第二放熱部に対して長手方向Lに移動したとしても、第一放熱部と第二放熱部とは互いは接触することはない。このため、放熱機構9において粉塵パーティクルが発生しない。したがって、電子部品2を扱う真空処理装置1において、粉塵によって電子部品2の機能低下が発生することがなく、しかも大気ボックス5の熱は、輻射の原理を用いて、第一放熱部から第二放熱部へ伝わり、真空室3の外へ放熱される。なお、第一放熱部から第二放熱部に輻射により熱を伝達させる際に、第二放熱部の長手方向Lに対する第一放熱部の位置真空室3における大気ボックス5の位置は、特に限定されるものではない。本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の範囲内で多くの変形が可能であり、各部についても変形が可能である。例えば、上記実施形態では、放熱機構9は、大気ボックス5の縦壁50と形成壁のうちの側壁31との間にのみ配置した。しかしながら、上記実施形態と同様の構成の放熱機構9を、大気ボックス5を形成する上壁57と形成壁のうちの天壁35との間に配置することが考えられる。この場合では、第一放熱部は大気ボックス5の上壁57に取り付けられ、第二放熱部は形成壁の天壁35に取り付けられる。すなわち、第一放熱部は、長手方向Lに移動する部材発熱部に取り付けられる。このようにすることにより、発熱部の移動のために使用する電力が少なくてすむ。放熱機構9は、その他、ロボットアーム7の駆動部70内部の駆動装置により発熱する発熱部の側面と形成壁における駆動部70側の側壁32との間に配置し、あるいは脚体部41リニア搬送装置6の駆動により発熱する発熱部の側面と側壁32との間に配置することも好ましい。何れにしても、第一放熱部は移動する部材に取り付けられるように、第二放熱部は形成壁に取り付けられるようにする。放熱機構9の構成は上記実施形態に限定されない。図5および図6は、放熱機構9の別の実施形態を表している。これらの図に示した放熱機構9では、第一放熱部の第一伝熱壁91の厚みが、第二放熱壁92側ほど次第に薄くなるよう、上面91aおよび下面91bが傾斜している。また、第二放熱部の第二伝熱壁93の厚みが、第一放熱壁90側ほど次第に薄くなるよう対向面93a,93aが傾斜している。なお、第一伝熱壁91および第二伝熱壁93は、壁面90aと壁面92aの間の空間である伝熱領域D2に配置されている。そして、各上面91aとその上側の各対向面93aとは平行に配置され、上面91aとその上側の対向面93aとの間には高さ方向隙間100が形成されている。下面91bとその下側の対向面93aとは平行に配置され、下面91bとその下側の対向面93aとの間には高さ方向隙間100が形成されている。また、第一伝熱壁91の厚み方向面91cと第二放熱壁92との間には、幅方向隙間101が形成され、第二伝熱壁93の厚み方向面93bと第一放熱壁90との間には幅方向隙間102が形成されている。他の構成は、図3および図4の放熱機構9と同様であるので、同一の符号を付してその説明を省略する。この実施形態のように、第一放熱部の第一伝熱壁91の厚みを、第二放熱壁92側ほど次第に薄くなるようにしていることで、第一伝熱壁91において、その基端側第一放熱壁90側と、先端側第二放熱壁92側との温度分布が均等化される。すなわち、第一伝熱壁91では、基端側から先端側へ熱が伝達されるから、基端側の断面積を先端側に比べて大きくするほうが、全体の温度分布として均等化される。温度分布が均等化されると、その分だけ第二伝熱壁93に対する輻射効率を向上させられる。放熱機構9の他の実施形態として、図7および図8に示す構成が考えられる。この放熱機構9は、発熱部が直線的な移動をするものではなく、例えば、ロボットアーム7の関節部のように、部材どうしが相対的に軸心回りに回転旋回する回転構造部分に使用可能である。すなわち、放熱機構9は、第一放熱部と第二放熱部とから構成され、第一放熱部は、第一放熱壁900と、第一放熱壁900の壁面放熱面900aから、壁面900aに直交する方向に一体的に突出する複数の第一伝熱壁901とを備えている。第一放熱壁900は円板状に形成されている。また、第一放熱壁900の中心に、前記軸心上に配置される回転軸902が形成されている。そして各第一伝熱壁901は、回転軸902を中心同心にした、他の第一伝熱壁901とは径の異なる環状筒状の部材である。第二放熱部は、第二放熱壁903と、第二放熱壁903の壁面放熱面903aから、壁面903aに直交する方向に一体的に突出する複数の第二伝熱壁904とを備えている。第二放熱壁903は円板状に形成されている。また、各第二伝熱壁904は、回転軸902を中心同心に配置された、他の第二伝熱壁904とは径の異なる環状筒状の部材である。そして一つの第一伝熱壁901が、径方向の内外方向で対向する第二伝熱壁904どうしの間に、輻射空間である径方向隙間所定空間に相当する110を置いて挿入されている。なお、伝熱領域D3は、第一放熱部における回転軸902と、第二放熱部における最も外側にある第二伝熱壁904との間の空間である。第一伝熱壁901における第二放熱壁903側の径方向面901aと第二放熱壁903のとの間に、輻射空間である軸方向隙間900bが形成されている。さらに、第二伝熱壁904における第一放熱壁900側の径方向面904aと第一放熱壁900との間に、輻射空間である軸方向隙間900cが形成されている。なお、第一伝熱壁901と第二伝熱壁904とは互いに平行である。なお、回転軸902は、最も内側内径側に配置された第二伝熱壁904の内側に径方向隙間110を置いて挿入されている。上記構成の放熱機構9では、第一放熱部の回転軸902が前記回転構造部分のうちの回転可能部に取り付けられ、第二放熱部が回転構造部分のうちの固定部に取り付けられる。このような構成の放熱機構9であっても、発熱部から第一放熱部に伝達された熱が、輻射空間である径方向隙間110および軸方向隙間900b,900cを介して、輻射により第二放熱部に伝達され、発熱部を冷却することができる。図9および図10に示した放熱機構9も、発熱部が直線的な移動をするものではなく、部材どうしが相対的に軸心回りに回転旋回する回転構造部分に使用可能である。すなわち、放熱機構9は、第一放熱部と第二放熱部とから構成され、第一放熱部は、第一放熱軸905と、第一放熱軸905の放熱面である外周面905aから、外周面905aに直交する径方向に一体的に突出する複数の第一伝熱壁906とを備えている。各第一伝熱壁906は円板状に形成されるとともに、第一放熱軸905上に、軸心方向に所定間隔置きに配置されている。第二放熱部は、第二放熱体907を備えている。第二放熱体907は中空の円柱状に形成されており、その環状の内周面907aが第一放熱軸905の外周面905aに対向する放熱面とされている。また、第二放熱体907の幅方向Bの一方側および他方側が、それぞれ円板状の蓋壁908,909によって閉じられている。他方側の蓋壁909には、第一放熱軸905が非接触で挿通されている。第二放熱体907の内部は、複数の第二伝熱壁910によって複数の領域に仕切られている。第二伝熱壁910は、内周面907aから、内周面907aに直交する方向に突出する円板状に形成されている。これら第二伝熱壁910は、第一放熱軸905の軸心方向に所定間隔置きに配置されている。各第二伝熱壁910の中心には、第一放熱軸905が非接触で挿通されている。また、前記各領域に、第一伝熱壁906が一つずつ内装されている。第一伝熱壁906と第二伝熱壁910は、輻射空間である軸方向隙間所定空間に相当する120を置いて非接触に配置されている。伝熱領域D4は、第一放熱部における第一放熱軸905と第二放熱部における第二放熱体907の内周面907aとの間の空間である。第一伝熱壁906の外周面906aと第二放熱体907の内周面907aとは、径方向隙間907bを置いて非接触に配置されている。なお、第一伝熱壁906と第二伝熱壁910とは平行に配置されている。図1ないし図10に示した各実施形態における放熱機構9は、第一放熱壁と第二放熱壁とを、幅方向や高さ方向で対向させた場合で説明した。しかしながら、第一放熱壁と第二放熱壁とは必ずしも対向させる必要はない。例えば、図11、図12で示した実施形態における放熱機構9では、板状の第一放熱壁9000と第二放熱壁9200とを直交する方向で、且つ非接触に配置している。第一放熱壁9000は、例えば大気ボックス5の縦壁50に固定され、第二放熱壁9200は、真空室3の形成壁である底壁30に固定されている。第一放熱壁9000および第二放熱壁9200はともに矩形に形成され、第一放熱壁9000の長手方向Lの長さは、第二放熱壁9200の長手方向の長さに比べて短く設定されている。第一伝熱壁9100は、第一放熱壁9000の壁面9000aに、その壁面9000aから第二放熱壁9200の壁面9200aに向かって傾斜下傾斜するよう一体的に形成されている。具体的には、第一伝熱壁9100は、壁面9000aから45°で傾斜しており、第一伝熱壁9100は複数枚本実施形態では十五枚形成されている。そして、各第一伝熱壁9100の先端面である厚み方向面9100aは、第二放熱壁9200の壁面9200aからの離間間隔を同一としているから、下位の第一伝熱壁9100ほど傾斜距離が短くなっている。また、第一伝熱壁9100の厚みは、第一放熱壁9000の厚みに比べて薄く設定されている。第二伝熱壁9300は、第二放熱壁9200の壁面9200aに、その壁面9200aから第一放熱壁9000の壁面9000aに向かって傾斜上傾斜するよう一体的に形成されている。具体的には、第二伝熱壁9300は、壁面9200aから45°で傾斜しており、第二伝熱壁9300は複数枚本実施形態では十六枚形成されている。そして、各第二伝熱壁9300の先端面である厚み方向面9300aは、第一放熱壁9000の壁面9000aからの離間間隔を同一としているから、下位の第二伝熱壁9300ほど傾斜距離が短くなっている。また、第二伝熱壁9300の厚みは、第二放熱壁9200の厚みに比べて薄く設定されている。第一伝熱壁9100は、一対の第二伝熱壁9300の間に挿入されている。そして、第一伝熱壁9100と第二伝熱壁9300とは、所定空間である傾斜方向隙間1100を介して壁面どうしが対向している。傾斜方向隙間1100の条件として、第一伝熱壁9100と第二伝熱壁9300とが接触せず、しかも輻射が可能な距離を有した輻射空間としていることである。また、第一伝熱壁9100の厚み方向面9100aと第二放熱壁9200の壁面9200aとの間に、下方隙間1110が形成されている。さらに、第二伝熱壁9300の厚み方向面9300aと第一放熱壁9000の壁面9000aとの間に、側方隙間1120が形成されている。伝熱領域D5は、第一放熱壁9000の壁面9000aと第二放熱壁9200の壁面9200aとの間の空間である。上記構成を備えた放熱機構9において、第一放熱壁9000の熱は、各第一伝熱壁9100に伝わり、各第一伝熱壁9100から傾斜方向隙間1100を介して各第二伝熱壁9300に輻射され、各第二伝熱壁9300に輻射された熱は、第二放熱壁9200に伝わり、底壁30から真空室の外へ放熱される。また、図3ないし図6に示した櫛歯形状の放熱機構とする場合、第一放熱部と第二放熱部を、次のように構成することも可能である。すなわち、1第一放熱壁第二放熱壁と第一伝熱壁第二伝熱壁とを、別体に形成したものを一体に形成した放熱機構。2第一放熱壁第二放熱壁を、別体に形成したパーツどうしを一体に形成するよう組み付けた放熱機構。この場合、第一伝熱壁第二伝熱壁は、第一放熱壁第二放熱壁に一体であっても別体であってもよい。また、図3ないし図6に示した櫛歯形状の放熱機構では、一対の第二伝熱壁の間の全てに、それぞれ第一伝熱壁が挿入される形態を説明した。しかしながら、必ずしも、一対の第二伝熱壁の間の全てに、それぞれ第一伝熱壁が挿入されなくてもよい。この場合、上記1、2で記載したように、第一放熱壁第二放熱壁と第一伝熱壁第二伝熱壁とを、別体に形成したものを一体に形成してもよいし、第一放熱壁第二放熱壁を、別体に形成したパーツどうしを一体に形成するよう組み付けてもよい。さらに、図示しないが、第一放熱部を矩形や円形の第一放熱壁から形成し、該第一放熱壁の壁面に、該壁面に直交する方向の杆状の突起を複数本、所定間隔置きに並べ、第二放熱部を、各突起が輻射空間を置いて非接触で挿入される孔部を有した構成とすることも可能である。また、第一放熱部高温部にペルチェ素子を配置し、第一放熱部側の温度を高く設定して、第二放熱部の温度差を大きくすることで、第一放熱部から第二放熱部への熱の輻射を高効率にすることができる。上記各実施形態では、対になった第二伝熱壁の間のそれぞれに、第一伝熱壁を第二伝熱壁に非接触に挿入した。しかしながら、第一伝熱壁は、必ずしも対になった第二伝熱壁のそれぞれ全てに挿入しなくてもよい。すなわち、充分な輻射効果が期待できるのであれば、例えば、複数の第一伝熱壁から、特定の第一伝熱壁を間引く形態とすることも可能である。このようにすることにより、移動する第一伝熱部を軽量化することができる。"