処理対象ガスに含まれるアンモニアの全部あるいは一部を酸素雰囲気下で熱分解して窒素酸化物を生成する分解炉と、一端が前記分解炉に接続され、前記分解炉に処理対象ガスを導入する処理対象ガス導入路と、一端が前記処理対象ガス導入路に接続されているとともに、他端が前記分解炉の下流側に接続され、前記処理対象ガス導入路を通流する処理対象ガスの一部を分岐して前記分解炉をバイパスさせ、前記分解炉から排出された処理対象ガスに混合させるバイパス路と、前記バイパス路の他端が接続された位置よりもさらに下流側に接続され、前記バイパス路でバイパスされた処理対象ガス中のアンモニアを還元剤として窒素酸化物を分解する脱硝触媒が収容された脱硝器とを備えており、処理対象ガスに水素が含まれている場合、あるいは前記分解炉の内部温度がアンモニアの熱分解温度よりも高く設定された基準温度以上になった場合に前記バイパス路の開度を開き、逆に、処理対象ガスに水素が含まれない場合、あるいは前記内部温度が前記基準温度よりも低くなった場合に前記バイパス路の開度を絞るバイパス路開度調整バルブが前記バイパス路に設けられていることを特徴とするアンモニアの除害処理装置。前記バイパス路の他端が接続された中央部、および、両端部において前記中央部に比べて小径に形成された縮径部を有しており、一方の前記縮径部が前記分解炉の下流側に接続されているとともに、他方の前記縮径部が前記脱硝器に接続されたバイパスガス混合器と、前記分解炉と前記バイパスガス混合器との間に冷却空気を送給して、前記分解炉から排出された処理対象ガスを前記脱硝触媒による窒素酸化物の分解に適した温度に低下させる冷却空気送給装置とをさらに備えていることを特徴とする請求項1に記載のアンモニアの除害処理装置。前記処理対象ガス導入路から分岐して前記バイパス路に処理対象ガスを流す場合において、その処理対象ガスの割合は、前記脱硝触媒に導入される処理対象ガスにおいて窒素酸化物に対するアンモニアのモル比が1.2以上となるように設定されており、前記脱硝触媒の後流側には、処理対象ガス中のアンモニアを分解するアンモニア触媒が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載のアンモニアの除害処理装置。ケーシングと、前記ケーシングの内部を2つの空間に区分けするとともに、両空間を互いに連通させる複数の貫通孔が形成されたセパレータとを有する分配器をさらに備えており、前記両空間、および前記貫通孔が前記処理対象ガス導入路の一部となっており、前記バイパス路の一端が前記貫通孔のいずれか1つに接続されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のアンモニアの除害処理装置。処理対象ガス導入路に導入された、アンモニアを含む処理対象ガスの内、所定の割合の処理対象ガスをバイパス路に分岐させるとともに、残部の処理対象ガスを、当該処理対象ガスに含まれるアンモニアの全部あるいは一部を酸素雰囲気下で熱分解して窒素酸化物を生成する分解炉に導入し、前記分解炉から排出された処理対象ガスと、前記バイパス路を通って前記分解炉をバイパスした処理対象ガスとを混合した後、バイパスされた処理対象ガス中のアンモニア、および前記分解炉から排出された処理対象ガス中にアンモニアが残留する場合における当該アンモニアを還元剤として窒素酸化物を分解する脱硝触媒に供給するアンモニアの除害処理方法であって、処理対象ガスに水素が含まれている場合、あるいは前記分解炉の内部温度がアンモニアの熱分解温度よりも高く設定された基準温度以上になった場合には、前記バイパス路へ分岐する処理対象ガスの量を減少させ、逆に、処理対象ガスに水素が含まれない場合、あるいは前記内部温度が前記基準温度よりも低くなった場合には、前記バイパス路へ分岐する処理対象ガスの量を増加させることを特徴とするアンモニアの除害処理方法。前記分解炉から排出された処理対象ガスに対し、バイパスした処理対象ガスを混合させる前に、前記分解炉から排出された処理対象ガスを前記脱硝触媒による窒素酸化物の分解に適した温度に低下させる冷却空気を送給し、中央部に比べて小径に形成された縮径部を有するバイパスガス混合器においてバイパスした処理対象ガスを混合させることを特徴とする請求項5に記載のアンモニアの除害処理方法。前記処理対象ガス導入路から分岐して前記バイパス路に流す処理対象ガスの割合は、前記脱硝触媒に導入される処理対象ガスにおいて窒素酸化物に対するアンモニアのモル比が1.2以上となるように設定されており、前記脱硝触媒に処理対象ガスを供給した後、前記脱硝触媒から排出された処理対象ガスを、当該処理対象ガス中のアンモニアを分解するアンモニア触媒に供給することを特徴とする請求項5または6に記載のアンモニアの除害処理方法。しかしながら、1~3の方法のように、アンモニアの除害に際して水を用いる湿式除害方式の場合、アンモニアやアンモニアを中和することによって生成された塩が含まれた排水を処理する排水処理装置をアンモニアの除害処理装置とは別に設ける必要があり、装置全体のイニシャルコストだけでなく、排水処理費用も必要となることからランニングコストも高くなるという問題があった。一方、4あるいは5の方法であれば、水を必要としない乾式除害方法であることから、上述のような排水処理装置を設ける必要はないものの、4の方法では、使用済み固形吸着剤の廃棄あるいは再生処理が大量に必要となるという問題があった。また、5の方法では、固形吸着剤を必要としないものの、アンモニアを熱分解することによって光化学スモッグや酸性雨等を引き起こす大気汚染原因物質である窒素酸化物NOxを排出してしまうという問題があった。本発明は、このような従来技術の問題に鑑みて開発されたものである。それゆえに本発明の主たる課題は、固形吸着剤等の使用量を極小化できるとともに窒素酸化物の排出を抑制できる、乾式の、アンモニアの除害処理装置およびアンモニアの除害処理方法を提供することにある。請求項1に記載した発明は、処理対象ガスFに含まれるアンモニアの全部あるいは一部を酸素雰囲気下で熱分解して窒素酸化物を生成する分解炉12と、一端が前記分解炉12に接続され、前記分解炉12に処理対象ガスFを導入する処理対象ガス導入路16と、一端が前記処理対象ガス導入路16に接続されているとともに、他端が前記分解炉12の下流側に接続され、前記処理対象ガス導入路16を通流する処理対象ガスFの一部を分岐して前記分解炉12をバイパスさせ、前記分解炉12から排出された処理対象ガスFに混合させるバイパス路20と、前記バイパス路20の他端が接続された位置よりもさらに下流側に接続され、前記バイパス路20でバイパスされた処理対象ガスF中のアンモニアを還元剤として窒素酸化物を分解する脱硝触媒38が収容された脱硝器14とを備えており、処理対象ガスFに水素が含まれている場合、あるいは前記分解炉12の内部温度がアンモニアの熱分解温度よりも高く設定された基準温度以上になった場合に前記バイパス路20の開度を開き、逆に、処理対象ガスFに水素が含まれない場合、あるいは前記内部温度が前記基準温度よりも低くなった場合に前記バイパス路20の開度を絞るバイパス路開度調整バルブ100が前記バイパス路20に設けられていることを特徴とするアンモニアの除害処理装置10である。本発明の除害処理装置10によれば、発生源例えば、GaN窒化ガリウム系のLED製造装置から排出された、アンモニアを含む処理対象ガスFは、処理対象ガス導入路16を通って分解炉12に導入される前に、その一部がバイパス路20に分岐される。分解炉12に導入された処理対象ガスFに含まれるアンモニアは、分解炉12において酸素雰囲気下で熱分解されることによって全部あるいはその一部が窒素酸化物となり、当該分解炉12から排出される。このとき、一部のアンモニアが熱分解された場合には、分解炉12から排出された処理対象ガスF中に窒素酸化物と未分解のアンモニアとが混在することになり、全てのアンモニアが熱分解された場合には、アンモニアは残存しないことになる。一方、バイパス路20に分岐された処理対象ガスFは、分解炉12を経由した処理対象ガスFに混合され、バイパス路20を経由した処理対象ガスF中のアンモニアと、分解炉12を経由した処理対象ガスF中の窒素酸化物およびアンモニア熱分解されずに残存した一部とが混合された状態で脱硝器14に導入される。脱硝器14に導入された窒素酸化物およびアンモニアは、脱硝器14内に収容された脱硝触媒38によって、例えば下記反応式のように無害な窒素と水とに分解される。NONO22NH3→2N23H2Oこのように、本発明のアンモニアの除害処理装置10によれば、発生源から排出されたアンモニアの一部を窒素酸化物に変換し、然る後、当該窒素酸化物と残部のアンモニアとを互いに反応させて双方を無害化するので、固形吸着剤や触媒等で直接的に除害しなければならないアンモニアの量を、発生源から排出されるアンモニアの量に比べて大幅に少なくすることができ、アンモニアの除害処理装置10全体のイニシャルコストおよびランニングコストを低減することができる。加えて、処理対象ガスFの発生源の稼働条件によっては、アンモニアを含む処理対象ガスFに、さらに水素が含まれている場合と含まれていない場合とがあるが例えば、GaN系のLED製造装置であれば、水素ガスが半導体の結晶成長場を還元雰囲気にするために使用されているが、結晶成長場の状態によっては水素ガスがほぼゼロに絞られることもあり得る。、水素含有の有無に拘わらず連続的に処理対象ガスFを処理したいという要望が存在する。処理対象ガスF中の水素は、分解炉12の内部で燃焼し、当該内部の温度を高める役割を有していることから、処理対象ガスFに水素が含まれている場合、分解炉12の内部温度は基準温度アンモニアの熱分解温度約950°Cよりもやや高めに設定された温度以上となって当該処理対象ガスFに含まれているアンモニアが完全に熱分解され、窒素酸化物が発生する熱分解されたアンモニアに対して約1[モル比]の窒素酸化物が発生する。。したがって、処理対象ガスFに水素が含まれている場合=分解炉12の内部温度が基準温度以上になった場合、バイパス路開度調整バルブ100を開け、上述のように、処理対象ガス導入路16から分岐された処理対象ガスFを、分解炉12から排出された窒素酸化物を含む処理対象ガスFに混合させる必要がある。一方、処理対象ガスFに水素が含まれない場合、水素の燃焼熱が発生しないので分解炉12の内部温度は基準温度よりも低くなり、処理対象ガスF中のアンモニアの熱分解はやや不完全な状態となって窒素酸化物の発生量が基準温度よりも高い場合に比べて減少する。このような場合に処理対象ガスFのバイパスを継続すると、分解炉12で発生した窒素酸化物の量に比べて、バイパスされた処理対象ガスF中のアンモニアの量の方が多くなってしまい、分解しきれなかったアンモニアが排出されてしまうおそれがある。そこで、本発明では、バイパス路20にバイパス路開度調整バルブ100を設け、処理対象ガスFに水素が含まれない場合水素の有無については、処理対象ガスFの発生源から受け入れる水素有無信号HSや、処理対象ガスF中の水素流量によって判断することが一例として考えられる、あるいは分解炉12の内部温度が基準温度よりも低くなった場合に、バイパス路開度調整バルブ100の開度を絞ってバイパス路20を通流する処理対象ガスFの量を減少させることにより、分解しきれなかったアンモニアが排出されるおそれを低減し、水素含有の有無に拘わらず処理対象ガスFを連続的に処理することを可能にした。請求項2に記載した発明は、請求項1に記載したアンモニアの除害処理装置10に関し、前記バイパス路20の他端が接続された中央部、および、両端部において前記中央部に比べて小径に形成された縮径部44a、44bを有しており、一方の前記縮径部44bが前記分解炉12の下流側に接続されているとともに、他方の前記縮径部44aが前記脱硝器14に接続されたバイパスガス混合器44と、前記分解炉12と前記バイパスガス混合器44との間に冷却空気CAを送給して、前記分解炉12から排出された処理対象ガスFを前記脱硝触媒38による窒素酸化物の分解に適した温度に低下させる冷却空気送給装置80とをさらに備えていることを特徴とする。分解炉12から排出された直後の処理対象ガスFは高温になっており、高温の処理対象ガスFに対して、バイパスさせた処理対象ガスFを混合させると、バイパスさせた処理対象ガスF中のアンモニアが高温分解して脱硝器14で窒素酸化物を分解できなくなってしまい、制御が不安定になるおそれがある。しかしながら、本発明では、分解炉12から排出された処理対象ガスFを前記脱硝触媒38による窒素酸化物の分解に適した温度に低下させるための冷却空気CAを送給する冷却空気送給装置80が設けられており、当該冷却空気CAによって冷却された分解炉12からの処理対象ガスFに対して、バイパスガス混合器44においてバイパスさせた処理対象ガスFが混合されるようになっているので、アンモニアが高温分解してしまうのを回避し、制御が不安定になるおそれをなくすことができる。加えて、本発明のバイパスガス混合器44には、その両端部に縮径部44a、44bが形成されていることから、冷却空気CAが混合された分解炉12からの処理対象ガスFがバイパスガス混合器44内に導入される際、および、バイパスされた処理対象ガスFがさらに混合された上でバイパスガス混合器44から排出される際の両方において、流路が拡大収縮することによって発生する乱流により、混同の度合いをより高めることができる。請求項3に記載した発明は、請求項1または2に記載したアンモニアの除害処理装置10に関し、前記処理対象ガス導入路16から分岐して前記バイパス路20に処理対象ガスFを流す場合において、その処理対象ガスFの割合は、前記脱硝触媒38に導入される処理対象ガスFにおいて窒素酸化物に対するアンモニアのモル比が1.2以上となるように設定されており、前記脱硝触媒38の後流側には、処理対象ガスF中のアンモニアを分解するアンモニア触媒40が設けられていることを特徴とする。バイパス路20に処理対象ガスFを流す場合、理論上=反応効率100、脱硝器14に導入されるアンモニアの量を窒素酸化物の量と同じすなわちモル比=1.0にすれば、脱硝触媒38から排出される処理対象ガスF中のアンモニアおよび窒素酸化物はゼロになる。しかしながら、実際の装置で反応効率が100ということはありえないことから、上記モル比を1.0に設定すると、反応しなかったアンモニアおよび窒素酸化物の両方が脱硝触媒38から排出されてしまい、脱硝触媒38の後流側にアンモニアを除去する装置および窒素酸化物を除去する装置の両方を設けなければならなくなって不合理である。そこで、本発明の除害処理装置10では、窒素酸化物に対するアンモニアのモル比を1.2以上に設定することにより、脱硝触媒38において窒素酸化物を確実に分解するとともに、窒素酸化物と未反応のままで脱硝触媒38から排出されたアンモニアを当該脱硝触媒38の後流側に設けられたアンモニア触媒40で分解して、アンモニアの除害処理装置10から排出される処理対象ガス中の窒素酸化物やアンモニアの量を極小化するようにしている。これにより、脱硝触媒38の後流側に窒素酸化物を除去する装置を設ける必要がなくなり、アンモニアの除害処理装置10のイニシャルコストおよびランニングコストを確実に低減することができる。なお、窒素酸化物に対するアンモニアのモル比は、1.2に近い方が、脱硝触媒38から排出されるアンモニアの量が少なくなってアンモニア触媒40の装置容量を小さくすることができる点で好適である。また、アンモニア触媒40は、脱硝器14の内部における脱硝触媒38の後流側に配置してもよいし、脱硝器14の後流側において、脱硝器14とは別体のアンモニア分解器を設け、その内にアンモニア触媒40を配置してもよい。請求項4に記載した発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載したアンモニアの除害処理装置10に関し、ケーシング60と、前記ケーシング60の内部を2つの空間58a、58bに区分けするとともに、両空間58a、58bを互いに連通させる複数の貫通孔70が形成されたセパレータ62とを有する分配器22をさらに備えており、前記両空間58a、58b、および前記貫通孔70が前記処理対象ガス導入路16の一部となっており、前記バイパス路20の一端が前記貫通孔70のいずれか1つに接続されていることを特徴とする。この分配器22によれば、セパレータ62によって区分けされた、ケーシング60内の両空間58a、58bおよびこれらを互いに連通させる複数の貫通孔70が処理対象ガス導入路16の一部になっていることから、上流から流れてきた処理対象ガスFは、一方の空間58aに入った後で各貫通孔70にほぼ均等に分配され、それぞれ均等な流速で通過する貫通孔70の数が多ければ多いほど、各貫通孔70を通流する処理対象ガスFの流量はより均一になる。。このとき、バイパス路20の一端が貫通孔70のいずれか1つに接続されていることから、当該バイパス路20には、上流から流れてきた処理対象ガスFの全流量を貫通孔70の数で除した分の処理対象ガスFが分岐されることになり例えば、貫通孔70の数が20であれば、バイパス路20に分岐される処理対象ガスFの割合は、1/20=0.05=5となる。、この割合は、処理対象ガスFの流量が極端に少なくならない限り、流量の変動に拘わらずほぼ一定になる。したがって、本発明によれば、処理対象ガスFの流量変動に拘わらず、予め設定した割合=貫通孔70の数の処理対象ガスFをバイパス路20に分岐することによって、除害処理を安定して継続できるアンモニアの除害処理装置10を提供することができる。請求項5に記載した発明は、請求項1におけるアンモニアの除害処理装置10を用いて行うアンモニアの除害処理方法に関し、処理対象ガス導入路16に導入された、アンモニアを含む処理対象ガスFの内、所定の割合の処理対象ガスFをバイパス路20に分岐させるとともに、残部の処理対象ガスFを、当該処理対象ガスFに含まれるアンモニアの全部あるいは一部を酸素雰囲気下で熱分解して窒素酸化物を生成する分解炉12に導入し、前記分解炉12から排出された処理対象ガスFと、前記バイパス路20を通って前記分解炉12をバイパスした処理対象ガスFとを混合した後、バイパスされた処理対象ガスF中のアンモニア、および前記分解炉12から排出された処理対象ガスF中にアンモニアが残留する場合における当該アンモニアを還元剤として窒素酸化物を分解する脱硝触媒38に供給するアンモニアの除害処理方法であって、処理対象ガスFに水素が含まれている場合、あるいは前記分解炉12の内部温度がアンモニアの熱分解温度よりも高く設定された基準温度以上になった場合には、前記バイパス路20へ分岐する処理対象ガスFの量を減少させ、逆に、処理対象ガスFに水素が含まれない場合、あるいは前記内部温度が前記基準温度よりも低くなった場合には、前記バイパス路20へ分岐する処理対象ガスFの量を増加させることを特徴とする。請求項6に記載した発明は、請求項5に記載したアンモニアの除害処理方法に関し、前記分解炉12から排出された処理対象ガスFに対し、バイパスした処理対象ガスFを混合させる前に、前記分解炉12から排出された処理対象ガスFを前記脱硝触媒38による窒素酸化物の分解に適した温度に低下させる冷却空気CAを送給し、中央部に比べて小径に形成された縮径部44a、44bを有するバイパスガス混合器44においてバイパスした処理対象ガスFを混合させることを特徴とする。また、請求項7に記載した発明は、請求項5または6に記載したアンモニアの除害処理方法に関し、前記処理対象ガス導入路16から分岐して前記バイパス路20に流す処理対象ガスFの割合は、前記脱硝触媒38に導入される処理対象ガスFにおいて窒素酸化物に対するアンモニアのモル比が1.2以上となるように設定されており、前記脱硝触媒38に処理対象ガスFを供給した後、前記脱硝触媒38から排出された処理対象ガスFを、当該処理対象ガスF中のアンモニアを分解するアンモニア触媒40に供給することを特徴とする。本発明によれば、処理対象ガス中に含まれるアンモニアの一部を窒素酸化物に変換し、当該窒素酸化物および残存するアンモニアの双方を脱硝触媒で無害化することにより、固形吸着剤等の使用量を極小化して低コストでアンモニアを乾式除害でき、かつ、窒素酸化物の排出を抑えることのできる、イニシャルコストおよびランニングコストの低い、アンモニアの除害処理装置およびアンモニアの除害処理方法を提供することができた。本発明を適用したアンモニアの除害処理装置10の実施例について、図面を用いて説明する。図1は、このアンモニアの除害処理装置10のフロー図である。本実施例のアンモニアの除害処理装置10は、大略、分解炉12と、脱硝器14と、処理対象ガス導入路16と、処理対象ガス連絡路18と、バイパス路20と、排気ファン23とを備えている。分解炉12は、導入された処理対象ガスFにおけるアンモニアの一部あるいは全部を酸素雰囲気下で熱分解して窒素酸化物を生成する装置であり、ケーシング24と、ケーシング24の天面から挿設された電気ヒータ26と、分解炉12内に酸素源および炉内温度調整媒体として空気Aを送給する空気送給装置28と、処理対象ガス導入路16から導入された処理対象ガスFを分解炉12内に供給する処理対象ガス供給管30とを備えている。ケーシング24は、ステンレス等の金属で形成された有蓋円筒状のケーシング本体24aとその内側壁に取り付けられた耐火断熱材24bとで構成されており、その底部はコーン状に縮径された後、処理対象ガス連絡路18に接続されている。電気ヒータ26は、電気を熱源とするシーズヒータ等の棒状体であり、分解炉12の内部温度をアンモニアの熱分解温度以上約950°Cの高温にする能力を有している。なお、本実施例では、2本の電気ヒータ26がケーシング24の天面から挿設されているが、分解炉12の内部温度をアンモニアの熱分解温度以上にすることが可能であれば、電気ヒータ26の本数や1本当たりのワット数あるいは形状等はどのようなものでもよい。また、電気ヒータ26に替え、大気圧プラズマや燃料バーナを用いてアンモニアを熱分解してもよい。空気送給装置28は、空気送給ファン32と、空気供給管34とを備えており、空気供給管34を介して、分解炉12内におけるアンモニアの熱分解に必要な空気酸素および分解炉12内を冷却する空気を、空気送給ファン32から送給するようになっている。分解炉12内を冷却する空気を送給する理由について簡単に説明すると、分解炉12内で生じるアンモニアの熱分解は発熱反応であることから、仮に分解炉12内に冷却用の空気分解反応に必要な分以上の空気を送給しなければ、分解炉12内の温度が過大となって耐火断熱材24bや電気ヒータ26が損傷したり、脱硝器14に導入される処理対象ガスFの温度が高くなりすぎて脱硝効率が低下したりするといった問題が生じるからであるとりわけ、アンモニアだけでなく、多量の水素が処理対象ガスFに含まれている場合[例えば、LED製造工程でのGaN成膜装置から排出される処理対象ガスF]、分解炉12において水素の燃焼熱が大量に生じることから、この分解炉12内の温度が過大になるという問題が顕著となる。。空気送給ファン32から送給される空気Aの量は、分解炉12のケーシング本体24aに取り付けられた温度計35で測定された分解炉12の内部温度に基づいて調整されるようになっている。また、空気供給管34の分解炉12側部分は、処理対象ガスFを分解炉12に供給する処理対象ガス供給管30の径よりも小径に設定され、当該処理対象ガス供給管30の内側に挿設されている。つまり、空気供給管34の分解炉12側端部は、その外周を処理対象ガス供給管30で覆われて二重管構造となっており、処理対象ガス供給管30から供給された処理対象ガスFが、空気送給ファン32から送給された空気Aを外側から巻き込むようにして効率よく混ざりあった状態で分解炉12内に導入される。脱硝器14は、ステンレス等の金属で形成された有底円筒状のケーシング36と、ケーシング36の内部において処理対象ガスFの上流から下流に向かって順に配設された、脱硝触媒38、アンモニア触媒40、および酸化触媒42とを備えている。ケーシング36は、その側面下部に、処理対象ガス連絡路18を構成するバイパスガス混合器44が接続される処理対象ガス連絡路接続孔46が設けられており、また、その天面には、処理対象ガスFを排気ファン23に排出する処理対象ガス排気ダクト48が接続される処理対象ガス排気ダクト接続孔50が設けられている。なお、ケーシング36の上部は、上方すなわち、処理対象ガスFの下流側に向けて縮径するコーン状に形成されており、当該コーンの頂部に前述の処理対象ガス排気ダクト接続孔50が設けられている。脱硝触媒38は、例えば、ハニカム状あるいはプレート状の基材にバナジウムVを担持させたものが使用されておりもちろん、基材の形状や担持体の種類はこれに限られるものではない。、下記反応式のようにアンモニアを用いて、窒素酸化物を無害な窒素と水とに分解する役割を有している。NONO22NH3→2N23H2Oアンモニア触媒40は、脱硝触媒38の後流側に設けられ、脱硝触媒38から排出された処理対象ガスF中に残存するアンモニアを分解する触媒である。アンモニアを分解する触媒には、大きく分けて、アンモニアを酸化分解する方式下記式Aと、アンモニアを非酸化分解する方式下記式Bとがあり、いずれの方式のものを使用してもよいが、本実施例では、後者非酸化分解の方式を使用している。4NH33O2→2N26H2O...式A2NH3→N23H2...式B酸化触媒42は、アンモニア触媒40の後流側に設けられ、アンモニア触媒40から排出された処理対象ガスF中に含有される水素を酸化燃焼させる触媒である。本実施例のように、アンモニア触媒40としてアンモニアを非酸化分解するものを使用すると、上図式Bに示すように、アンモニアが分解されることによって水素が生成されるが、高い可燃性を有する水素を処理対象ガスFとともに排出することはできないことから、本実施例のアンモニアの除害処理装置10では、酸化触媒42を設けて当該水素を酸化して無害な水にするようにしている下式参照。2H2O2→2H2O処理対象ガス導入路16は、アンモニアを含有する処理対象ガスFの発生源図示せずから分解炉12に処理対象ガスFを導入するための流路であり、本実施例では、一端が当該発生源に接続され、他端が分解炉12に接続されたステンレス製の処理対象ガス導入管52の内側に形成されている。もちろん、処理対象ガスFの流量に応じて、より断面積の大きなダクト等で処理対象ガス導入路16を構成してもよい。また、管やダクトの材質は、処理対象ガスFに含まれるガスの性質腐食性等に応じて適宜選択される。これらは、本明細書で説明するすべての管やダクトにおいて共通する。処理対象ガス連絡路18は、分解炉12から排出された窒素酸化物を含有する処理対象ガスFを脱硝器14に導入する流路であり、本実施例では、分解炉12の下端に接続された有底筒状の下部ケーシング54と、前述のように脱硝器14のケーシング36の側面下部にその一端が接続され、他端が下部ケーシング54の側面に接続されたバイパスガス混合器44とで構成されている。また、バイパスガス混合器44の両端部には、当該バイパスガス混合器44の中央部に比べて小径の縮径部44a、44bが形成されている。また、本実施例では、下部ケーシング54内の処理対象ガス連絡路18に脱硝器14に導入する処理対象ガスFの温度を脱硝触媒38による窒素酸化物の分解に適した温度例えば、350~400°Cに低下させる冷却空気CAを送給する冷却空気送給装置80が設けられている。逆に、脱硝器14に導入する処理対象ガスFの温度が窒素酸化物の分解に適した温度よりも低くなってしまうおそれがある場合には、バイパスガス混合器44に電気ヒータ図示せずを設けてもよい。冷却空気送給装置80は、冷却空気送給ファン82と冷却空気供給管84とを備えており、冷却空気送給ファン82からの冷却空気CAが冷却空気供給管84を介して下部ケーシング54内の処理対象ガス連絡路18に送給される。また、冷却空気送給ファン82から送給される冷却空気CAの量は、バイパスガス混合器44に取り付けられた温度計86で測定された処理対象ガスFの温度に基づいて調整されるようになっている。なお、冷却空気送給ファン82は、必須の構成要素ではなく、当該冷却空気送給ファン82を設けずに冷却空気供給管84の吸気側端を開放しておき、当該冷却空気供給管84に設けたダンパ120もちろんバルブでもよいの開度を調節することにより、処理対象ガス連絡路18に送給する冷却空気CAの流量を調節してもよい。ダンパ120は、自動調節でもよいし、手動固定でもよい。バイパス路20は、発生源から供給された処理対象ガスFの一部を処理対象ガス導入路16から分岐して分解炉12を経由することなく、直接、処理対象ガス連絡路18に導入するための流路であり、本実施例では、その一端が処理対象ガス導入路16に接続されており、他端がバイパスガス混合器44に接続されたバイパス管56の内側に構成されている。もちろん、バイパス管56の他端を、下部ケーシング54における、冷却空気供給管84の接続位置よりも上流側、あるいは下流側に接続してもよい。しかしながら、分解炉12から排出された直後の処理対象ガスFは高温になっており、高温の処理対象ガスFに対してバイパスさせた処理対象ガスFを混合させると、バイパスさせた処理対象ガスF中のアンモニアが高温分解して脱硝器14で窒素酸化物を分解できなくなってしまい、制御が不安定になることから、上述の通り、バイパス管56の他端をバイパスガス混合器44に接続し、分解炉12から排出された処理対象ガスFと冷却空気CAとが十分に混合されて温度が低下した位置でバイパスさせた処理対象ガスFを混合させるのが好適である。また、このバイパス路20には、バイパス路開度調整バルブ100が設けられており、さらに、必要に応じて、当該バイパス路開度調整バルブ100の下流側にバイパス流量調節弁101が設けられている。バイパス路開度調整バルブ100は、処理対象ガスFに水素が含まれている場合、あるいは分解炉12の内部温度がアンモニアの熱分解温度よりも高く設定された基準温度以上になった場合に開き、逆に、処理対象ガスFに水素が含まれない場合、あるいは当該内部温度が基準温度よりも低くなった場合に閉じるように設定されている。もちろん、バイパス路開度調整バルブ100は、単に全開全閉するだけでなく、分解炉12の内部が所定の温度となるように、あるいは、脱硝器14に導入される処理対象ガスF中のアンモニアまたは窒素酸化物濃度が所定の濃度となるようにバイパス路20の開度を自動調整するものとしてもよいなお、バイパス路開度調整バルブ100を用いてバイパス路20の開度を自動調整する場合、バイパス流量調節弁101は不要になる。。処理対象ガスF中の水素は、分解炉12の内部で燃焼し、当該内部の温度を高める役割を有していることから、処理対象ガスFに水素が含まれている場合、分解炉12の内部温度はアンモニアの熱分解温度約950°Cよりも高く設定された基準温度以上となって当該処理対象ガスFに含まれているアンモニアが完全に熱分解され、窒素酸化物が発生する熱分解されたアンモニアに対して約1[モル比]の窒素酸化物が発生する。。したがって、処理対象ガスFに水素が含まれている場合=分解炉12の内部温度が基準温度以上になった場合、バイパス路開度調整バルブ100を開け、上述のように、分配器22で分岐された処理対象ガスFを、分解炉12から排出された窒素酸化物を含む処理対象ガスFに混合させる必要がある。一方、処理対象ガスFに水素が含まれない場合、水素の燃焼熱が発生しないので分解炉12の内部温度は基準温度よりも低くなり、処理対象ガスF中のアンモニアの熱分解はやや不完全な状態となって窒素酸化物の発生量が基準温度よりも高い場合に比べて減少する。このような場合に処理対象ガスFのバイパスを継続すると、分解炉12で発生した窒素酸化物の量に比べて、バイパスされた処理対象ガスF中のアンモニアの量の方が多くなってしまい、分解しきれなかったアンモニアが排出されてしまうおそれがある。しかし、上述のように、バイパス路20にバイパス路開度調整バルブ100をさらに必要に応じてバイパス流量調節弁101も設け、処理対象ガスFに水素が含まれない場合水素の有無については、処理対象ガスFの発生源から受け入れる水素有無信号HSや、処理対象ガスF中の水素流量によって判断することが一例として考えられる、あるいは分解炉12の内部温度が基準温度よりも低くなった場合にバイパス路20の開度を絞るあるいは閉じることにより、分解しきれなかったアンモニアが排出されるおそれを低減し、水素の有無に拘わらず処理対象ガスFを連続的に処理することが可能となる。バイパス流量調節弁101は、バイパス路20における通流量を調節するため、必要に応じて、上述のようにバイパス路開度調整バルブ100の下流側に設けられた手動固定バルブである。もちろん、当該バイパス流量調節弁101をバイパス路開度調整バルブ100の上流側に設けてもよいし、分解炉12の内部温度に基づいてその開度を調節する自動調節弁であってもよい。排気ファン23は、アンモニアの除害処理装置10中の処理対象ガスFを吸引して装置10の内部を負圧に維持するためのものであり、後述する前処理装置76の上流側における処理対象ガス導入路16の圧力を検出端として、当該圧力が所定の負圧となるように制御されている。このようなアンモニアの除害処理装置10を用いて、処理対象ガスFの発生源図示せずから排出された、アンモニアを含む処理対象ガスFを除害する手順について説明する。まず、排気ファン23を稼働させてアンモニアの除害処理装置10内部全体を負圧にするとともに、分解炉12の電気ヒータ26を稼働させて分解炉12の内部空間を昇温する。分解炉12の内部空間が所定の温度=酸素雰囲気下におけるアンモニアの熱分解可能温度に達したことを確認した後、空気送給装置28の空気送給ファン32を稼働させ、空気供給管34を介してアンモニア分解用の空気Aを分解炉12に送給し、然る後、発生源から処理対象ガス導入路16に処理対象ガスFを導入する。処理対象ガス導入路16に導入された処理対象ガスFは、前処理装置76を通ってシラン等のガスを吸着除去された後、分配器22の上流空間58aに供給される。分配器22の上流空間58aに供給された処理対象ガスFは、各貫通孔70での通流抵抗が処理対象ガス導入管5252aや上流空間58aに比べて大きいことから、セパレータ62に形成された各貫通孔70に対してほぼ均等な量で流れ込む。このため、バイパス管56のノズル部72が接続された1つの貫通孔70に流れ込んだ処理対象ガスFのみが、分解炉12を経由することなくバイパス路20を通って下部ケーシング54内の処理対象ガス連絡路18に導かれ、それ以外の処理対象ガスFは、下流側処理対象ガス導入管接続孔68を通過して処理対象ガス導入路16に入り、分解炉12に導入される。分解炉12に導入された処理対象ガスFに含まれるアンモニアの一部は、分解炉12において空気送給装置28から送給された空気Aによる酸素雰囲気下で熱分解されることにより、窒素酸化物となって処理対象ガス連絡路18に排出される。一方、バイパス路20を通って分解炉12を通過することなく処理対象ガス連絡路18に導入された、アンモニアを含有する処理対象ガスFは、分解炉12を経由した処理対象ガスFと処理対象ガス連絡路18で合流し、バイパス路20を経由した処理対象ガスF中のアンモニアと分解炉12を経由した処理対象ガスF中の窒素酸化物とが混合された状態で脱硝器14に導入される。なお、上述のように、本実施例では、発生源から供給される処理対象ガスFの内、5をバイパス路20に流し、残りの95を分解炉12に導入するようになっており、かつ、実験により、分解炉12における分解効率つまり、アンモニアから窒素酸化物への変換率は約48であることが判っていることから、この分岐割合によれば、脱硝触媒38において、窒素酸化物に対するアンモニアのモル比が最適な1.2となる。アンモニアの割合/窒素酸化物の割合=0.050.95×0.52/0.95×0.48≒1.2脱硝器14に導入された窒素酸化物およびアンモニアは、脱硝器14のケーシング36内に収容された脱硝触媒38によって無害な窒素と水とに分解される。このとき、窒素酸化物に対するアンモニアのモル比が1.2であるつまり、窒素酸化物よりもアンモニアの方が多いことから、窒素酸化物はほぼ分解され、未反応のアンモニアが脱硝触媒38から排出された処理対象ガスF中に残存する。未反応のアンモニアを含有する処理対象ガスFは、脱硝触媒38の後流側に配置されたアンモニア触媒40によって窒素と水素とに分解される。然る後、当該水素は、酸化触媒42によって酸化燃焼して無害な水になる。このように、処理対象ガスF中のアンモニアおよび窒素酸化物が無害な窒素および水に分解された後、当該処理対象ガスFは、処理対象ガス排気ダクト48および排気ファン23を介してアンモニアの除害処理装置10の外へ排出される。このアンモニアの除害処理装置10によれば、発生源から排出されたアンモニアの一部を窒素酸化物に変換し、然る後、当該窒素酸化物と残部のアンモニアとを反応させて双方を無害化するので、固形吸着剤や触媒等で直接的に除害しなければならないアンモニアの量を、発生源から排出されたアンモニアの量に比べて大幅に少なくすることができ、アンモニアの除害処理装置10全体のイニシャルコストおよびランニングコストを低減することができる。また、このアンモニアの除害処理装置10では、窒素酸化物に対するアンモニアのモル比を1.2以上に設定することにより、脱硝触媒38において窒素酸化物を確実に分解するとともに、窒素酸化物と未反応のままで脱硝触媒38から排出されたアンモニアを当該脱硝触媒38の後流側に設けられたアンモニア触媒40で分解して、アンモニアの除害処理装置10から排出される処理対象ガス中の窒素酸化物やアンモニアの量を極小化するようにしている。これにより、脱硝触媒38の後流側に窒素酸化物を除去する装置を設ける必要がなくなり、アンモニアの除害処理装置10のイニシャルコストおよびランニングコストを確実に低減することができる。なお、モル比は1.2に近い方が、脱硝触媒38から排出されるアンモニアの量が少なくなり、アンモニア触媒40の容量を小さくすることができる点で好適である。なお、本発明の効果を奏するのに必須の構成要素ではないが、図1に示すように、バイパス路20の分岐位置よりも上流側における処理対象ガス導入管5252aに、発生源から供給される処理対象ガスFに含まれるシランSiH4あるいは有機金属等を乾式吸着方法によって事前に吸着除去するための前処理装置76を取り付けてもよい。また、当該前処理装置76をバイパスする前処理装置バイパス路102を設け、アンモニアの除害処理装置10の始動時等において、分解炉12の内部温度が所定の始動開始温度になるまでの昇温期間中、前処理装置76をバイパスさせるようにしてもよい。また、その一端を前処理装置バイパス路102の接続位置よりも上流側における処理対象ガス導入管52に接続するとともに、他端を処理対象ガス排気ダクト48に接続し、アンモニアの除害処理装置10にトラブル例えば、流路の閉塞が発生した場合、処理対象ガスFを直接、処理対象ガス排気ダクト48にバイパスするための流路を構成するバイパスダクト74を取り付けてもよい。さらに、当該バイパスダクト74に、処理対象ガスF中のアンモニアを除害するバイパス用アンモニア除害器104を設けてもよい。また、排気ファン23を介して外部へ排出する処理対象ガスFの温度を低下させるため、処理対象ガス排気ダクト48に処理対象ガスFを冷却するためのチラーや熱交換器を取り付けてもよい。さらに、空気送給装置28に非常用空気供給器106を追加してもよい。この非常用空気供給器106は、大略、乾燥圧縮空気CDAを貯留する空気タンク108と、当該空気タンク108内の乾燥圧縮空気CDAを空気送給装置28の空気供給管34へ供給するための非常用空気供給管110と、非常用空気供給管110に設けられ、通常通電時は閉状態となっており、停電等によって空気送給ファン32が非常停止した場合に開状態となる非常用バルブ112とで構成されている。処理対象ガスFの除害処理中に停電が発生したとき、排気ファン23や空気送給ファン32が停止し、分解炉12や脱硝器14中にあった処理対象ガスFはその位置で滞留してしまうことから、停電等を感知したときには、処理対象ガス導入管52に窒素ガス等のパージガスが導入されるようになっている。このようなパージガスが導入されると、処理対象ガス導入管52から処理対象ガス排気ダクト48かけての処理対象ガスFが順に押し流されて行くことになるが、そのままでは、処理対象ガス導入管52内にあった処理対象ガスFは、酸素不足により分解されることなく排出されるおそれがあった。しかし、非常用空気供給器106を設けることにより、停電が発生すると、非常用バルブ112が開いて空気タンク108中の乾燥圧縮空気CDAが非常用空気供給管110および空気供給管34を経由して分解炉12内に入り、当該乾燥圧縮空気CDAと耐火断熱材24b等で構成されて熱容量の大きい分解炉12内の熱とによってパージガスで流されてきた処理対象ガスFに含まれているアンモニアや水素を燃焼分解することができる。このように非常用空気供給器106によれば、万一、停電等が発生しても、未処理の処理対象ガスFを排出することもなく、かつ、分解炉12や脱硝器14内に処理対象ガスFが滞留しないクリーンな状態で装置10を停止させることができる。さらに、図2に示すように、処理対象ガス導入路16とバイパス路20との分岐位置すなわち、処理対象ガス導入管52とバイパス管56との接合位置に分配器22を設けてもよいなお、分配器22を設ける場合、バイパス流量調節弁101は不要になる。。分配器22は、所定の割合の処理対象ガスFを当該処理対象ガス導入路16から分岐してバイパス路20に流す役割を有するものであり、図3に示すように、大略、内部空間58を有するケーシング60と、当該内部空間58を処理対象ガスFの上流空間58aと下流空間58bとに区分けする図中では左右方向に区分けする例を示しているが、もちろん上下方向に区分けしてもよい。セパレータ62とを備えている。上流空間58aを臨むケーシング60の側面には、処理対象ガスFを分配器22に供給する処理対象ガス導入管5252aが接続される上流側処理対象ガス導入管接続孔64が形成されており、下流空間58bを臨むケーシング60の側面には、バイパス管56が挿通されるバイパス管挿通孔66が形成されており、さらに、下流空間58bを臨むケーシング60の下面には、分配器22で分配された後の処理対象ガスFを分解炉12に導入する処理対象ガス導入管5252bが接続される下流側処理対象ガス導入管接続孔68が形成されている。セパレータ62は、所定の厚さを有する板材であってその表面から裏面にかけて互いに等しい直径にて複数の貫通孔70が形成されており、この貫通孔70によってケーシング60の上流空間58aと下流空間58bとが互いに連通されている。ここで、バイパス管56の端部には、貫通孔70の径とほぼ同じ内径を有するノズル部72が形成されており、当該ノズル部72の先端がセパレータ62に形成された複数の貫通孔70のうちのいずれか1つに接続されている。なお、バイパス管56の端部にノズル部72を形成せず、貫通孔70の径よりも大径のままでバイパス管56の端を、対応する貫通孔70に被せるようにしてセパレータ62に接続してもよい。この分配器22によれば、セパレータ62によって区分けされた、ケーシング60内の両空間58a、58bおよびこれらを互いに連通させる複数の貫通孔70が処理対象ガス導入路16の一部になっていることから、上流から流れてきた処理対象ガスFは、一方の空間58aに入った後で各貫通孔70にほぼ均等に分配され、それぞれ均等な流速で通過する貫通孔70の数が多ければ多いほど、各貫通孔70を通流する処理対象ガスFの流量はより均一になる。。このとき、バイパス路20の一端が貫通孔70のいずれか1つに接続されていることから、当該バイパス路20には、上流から流れてきた処理対象ガスFの全流量を貫通孔70の数で除した分の処理対象ガスFが分岐されることになり例えば、貫通孔70の数が20であれば、バイパス路20に分岐される処理対象ガスFの割合は、1/20=0.05=5となる。、この割合は、処理対象ガスFの流量が極端に少なくならない限り、流量の変動に拘わらずほぼ一定になる。したがって、本発明によれば、処理対象ガスFの流量変動に拘わらず、予め設定した割合=貫通孔70の数の処理対象ガスFをバイパス路20に分岐することによって、除害処理を安定して継続できるアンモニアの除害処理装置10を提供することができる。