"基板上に、下部反射鏡と活性層と上部反射鏡が積層され、前記上部反射鏡における光出射面の上部に表面レリーフ構造を備えた面発光レーザであって、前記表面レリーフ構造は、前記面発光レーザの出射光の少なくとも一部が透過できる材料により形成され、前記基板の法線方向に所定の光学厚さを有する複数の領域が前記基板の面内方向に隣接して構成され、前記光学厚さの前記基板の面内方向の分布が、前記面発光レーザの発光領域の中心軸に対して非対称な光学厚さの分布とされていることを特徴とする面発光レーザ。前記表面レリーフ構造は、前記光学厚さが前記複数の領域の間で異なる光学厚さに構成され、前記面発光レーザの発振波長をλとするとき、前記複数の領域の間での光学厚さの差がλ/2の整数倍に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の面発光レーザ。前記光学厚さの前記基板の面内方向の分布が、前記面発光レーザの発光領域の中心軸に対して反対称な分布と、一様な分布と、によって構成されていることを特徴とする請求項1に記載の面発光レーザ。前記光学厚さの前記基板の面内方向の分布は、前記基板の面内方向における位置の座標をx,yで表わすとき、x方向に非対称性を有し、y方向に対称性を有していることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の面発光レーザ。前記発光領域の中心軸は、前記面発光レーザに備えられた電流狭窄構造の中心軸と一致するように構成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の面発光レーザ。面発光レーザを複数備え、該複数の面発光レーザをアレイ状に配列して構成されている面発光レーザアレイであって、前記複数の面発光レーザの一部または全部が、請求項1から5のいずれか1項に記載の面発光レーザで構成されていることを特徴とする面発光レーザアレイ。前記表面レリーフ構造における複数の領域の前記基板の面内方向の位置が、前記アレイ状に配列された面発光レーザの間で異なった位置に構成されていることを特徴とする請求項6に記載の面発光レーザアレイ。前記表面レリーフ構造における複数の領域の間での光学厚さが、前記アレイ状に配列された面発光レーザの間で異なった光学厚さに構成されていることを特徴とする請求項6に記載の面発光レーザアレイ。前記表面レリーフ構造における複数の領域の間での該領域のサイズが、前記アレイ状に配列された面発光レーザの間で異なったサイズに構成されていることを特徴とする請求項6に記載の面発光レーザアレイ。前記表面レリーフ構造における前記複数の領域の前記基板の面内方向の位置、前記複数の領域の間での光学厚さ、前記領域のサイズの少なくとも一つを、前記アレイ状に配列された面発光レーザの位置に応じて変化させることによって、前記アレイ状に配列された面発光レーザからのFFPの重心方向を変化させるように構成されていることを特徴とする請求項6に記載の面発光レーザアレイ。前記アレイ状に配列された各面発光レーザからのFFPの重心方向を前記基板面に射影した成分が、前記アレイ状に配列された各面発光レーザからその配列内における所定の一点とを結ぶ向きに対して、同じ向きまたは反対向きとなるように構成されていることを特徴とする請求項10に記載の面発光レーザアレイ。前記アレイ状に配列された各面発光レーザからのFFPの重心方向の前記基板面に射影した成分が、前記アレイ状に配列された各面発光レーザからその配列の中心点への向きに対して、逆方向を向くように構成されていることを特徴とする請求項10に記載の面発光レーザアレイ。前記アレイ状に配列された各面発光レーザからのFFPの重心方向に伸ばした直線が、前記発光領域の中心軸の所定の一点で交わるように構成されていることを特徴とする請求項10に記載の面発光レーザアレイ。前記基板面内にあり直交する第1の直線と第2の直線に対し、前記アレイ状に配列された面発光レーザからのFFPの重心方向の第1の直線に平行な成分は配列の中心と反対方向を向くように、該第2の直線に平行な成分は配列の中心の方向を向くように構成されていることを特徴とする請求項10に記載の面発光レーザアレイ。請求項6から14のいずれか1項に記載の面発光レーザアレイと、前記面発光レーザアレイを構成する面発光レーザからの出射光を共通の開口絞りを通じて取り込む光学系と、を備えることを特徴とする光学装置。前記光学系における前記面発光レーザからの主光線の前記基板の面内方向を前記基板面に射影した成分は、前記面発光レーザからのFFPの重心方向の前記基板面に射影した成分と、同じ向きであることを特徴とする請求項15に記載の光学装置。上記した従来例のマルチビームのレーザ光源においては、つぎのような課題を有している。すなわち、各レーザ素子と光学系光軸との距離は一般に異なる。つまり、光学系の開口絞りの中心と各レーザ素子とを結ぶ光線である主光線は、各レーザ素子ごとに方向が異なる。各レーザの遠視野像FFPの重心方向が一様な方向である場合、光学系の光軸と各レーザ光源との位置関係により、開口絞りにより切り取られた各レーザ素子より出射されたビームの強度や形状が異なるという課題が発生する。具体的には、各レーザ光源のFFPの重心方向は、レーザ光源の基板法線と平行であることが一般的である。ここでFFPの重心方向とは、遠視野におけるビームプロファイルの重心がある方向のことである。このとき、軸外のレーザ光源から出射され絞りを通過する光量は、軸上にある同レーザ光源の光量よりも低下する。このため被走査面上での軸外光源による集光スポット強度は、軸上光源のものより小さくなるから、スポットに強度ムラが生じる。また、軸外光源から出射されたビームの瞳端部強度/瞳中央強度の比は、軸上光源のそれよりも小さくなる。このため被走査面上での軸外光源による集光スポット径は軸上光源のものより大きくなるから、スポットに形状ムラが生じる。これらのスポット強度ムラ、形状ムラの結果、画像が劣化する。本発明は、上記課題に鑑み、面発光レーザを構成する基板の法線方向に対し、遠視野像FFPの重心方向を傾けることが可能となる面発光レーザ、及びアレイ位置に応じてFFPを変化させることが可能となる面発光レーザアレイの提供を目的とする。また、本発明は、共通の開口絞りを持つ光学系に対し、被走査面上での集光スポットの強度ムラ及び形状ムラを抑制することが可能となる上記面発光レーザアレイを備えた光学装置の提供を目的とする。本発明の面発光レーザは、基板上に、下部反射鏡と活性層と上部反射鏡が積層され、前記上部反射鏡における光出射面の上部に表面レリーフ構造を備えた面発光レーザであって、前記表面レリーフ構造は、前記面発光レーザの出射光の少なくとも一部が透過できる材料により形成され、前記基板の法線方向に所定の光学厚さを有する複数の領域が前記基板の面内方向に隣接して構成され、前記光学厚さの前記基板の面内方向の分布が、前記面発光レーザの発光領域の中心軸に対して非対称な光学厚さの分布とされていることを特徴とする。また、本発明の面発光レーザアレイは、面発光レーザを複数備え、該複数の面発光レーザをアレイ状に配列して構成されている面発光レーザアレイであって、前記複数の面発光レーザの一部または全部が、上記した面発光レーザで構成されていることを特徴とする。また、本発明の光学装置は、上記した面発光レーザアレイと、前記面発光レーザアレイを構成する面発光レーザからの出射光を共通の開口絞りを通じて取り込む光学系と、を備えることを特徴とする。本発明によれば、面発光レーザを構成する基板の法線方向に対し、遠視野像FFPの重心方向を傾けることが可能となる面発光レーザ、及びアレイ位置に応じてFFPを変化させることが可能となる面発光レーザアレイを実現することができる。また、共通の開口絞りを持つ光学系に対し、被走査面上での集光スポットの強度ムラ及び形状ムラを抑制することが可能となる上記面発光レーザアレイを備えた光学装置を実現することができる。本発明の実施形態の面発光レーザアレイにおける面発光レーザと、その光出射面上に形成された表面レリーフ構造について、図1、図2を用いて説明する。図1に示されるように、本実施形態の面発光レーザ100は、基板110上に下部ミラー下部反射鏡112、活性層114、上部ミラー上部反射鏡116が積層され、垂直共振器が形成されている。上記基板上における活性層114および上部ミラー116は素子分離のため部分的にエッチングされ、メサ構造を形成している。図1には示していないが、エッチング領域の側部および底部上には絶縁膜が設けられていても良い。上部ミラー116には活性層114に流れる電流を空間的に制限する電流狭窄構造118が設けられている。電流狭窄構造118は活性層114の発光領域を規定する。基板下側の下部電極120および上部ミラー上側の上部電極122より、活性層114に電流が注入され、面発光レーザ100は発振に至る。前述した画像形成装置では一般的に、被走査面に単峰の潜像を形成するため、面発光レーザの発振モードとして、図1に示される単峰の強度分布を持つ基本モード130が利用される。共振器内における基本モード130の電場振幅プロファイルは、ほぼガウス関数で近似でき、レーザ素子100の発光領域の中心軸136に対して対称である。上部ミラー116の上部境界面である光出射面142の上部に、表面レリーフ構造150が形成されている。ここで、表面レリーフ構造150は、基板の法線方向に所定の光学厚さを有する複数の領域が、前記基板の面内方向に隣接して構成されている。図1に示された実施形態の表面レリーフ構造150では、基板法線方向に光学厚さが異なる複数の領域が、基板面内方向に配された構造を備えている。表面レリーフ構造150は、レーザ出射光の少なくとも一部が透過できる材料で構成されている。表面レリーフ構造150は、複数の材料から構成されていても良い。面発光レーザ素子i上にある表面レリーフ構造150および環境媒質140の基板法線方向の光学厚さ分布をdix,yとする。ここで、基板の面内方向における位置の座標はx,yで表されるものとする。dix,yは、面発光レーザ素子iの光出射面142から、表面レリーフ構造150上部の基板に平行な面144までの光学厚さの基板の面内方向における分布を表す。面発光レーザ素子iの発光領域の中心軸136がxi0,yi0であるとする。中心軸136に対してdix,yが2回の回転対称性を持たないように表面レリーフ構造150を設定する。すなわち、あるX,Y素子の面内方向の発光領域サイズ以下の数値に対して、dixi0X,yi0Y≠dixi0-X,yi0-Yとなるように表面レリーフ構造150を設定する。このとき、表面レリーフ構造150は、レーザ出射光の少なくとも一部が透過できる材料で構成されているから、光出射面から出射される光電場に対し各々の領域にて異なる位相差が付与される。以上のように、表面レリーフ構造150による面発光レーザの発光領域の中心軸に対する非対称な光学厚さの分布が、発光領域の電場に非対称な位相差分布を与える。この結果、FFPの分布が基板法線方向に対して2回の回転対称性を持たないようにすることができる。すなわち、FFPの重心方向を0°より傾けることができる。本実施形態においては、面発光レーザを複数備え、該複数の面発光レーザがアレイ状に配列して構成されている面発光レーザアレイを、つぎのように構成することができる。複数の面発光レーザにおける一部または全部の面発光レーザ上に、上述の表面レリーフ構造150を設ける。その際、各レーザ素子iのアレイ内における位置に応じて表面レリーフ構造の形状を変え、dix,yを変化させる。すなわち、面発光レーザアレイ102においては、表面レリーフ構造150の形状が異なる素子が存在する。具体的には、あるX,Y素子の面内方向のサイズ以下の数値に対して、daxa0X,ya0Y≠dbxb0X,yb0Yなる素子a、bが存在するということである。表面レリーフ構造の形状とは具体的には、表面レリーフ構造の各領域の面内位置、各領域の光学厚さの差、各領域の面積などである。これにより、アレイ内の素子の位置に応じてFFPの重心方向160を変化させることができる。共通の開口絞りを持つ光学系に対して面発光レーザアレイ102を用いる場合、各素子の主光線の面内方向向きと、各素子のFFPの重心方向の面内方向が同じ向きとなるようにする。また、例えば、アレイのレーザ素子配列の中心に対して、反対側に位置するレーザ素子は、表面レリーフ構造をアレイの中心に対しておおよそ対称となるようにし、FFPの重心方向の基板面内成分が逆向きとなるようにする。入射瞳が素子前方にある場合、図2に示すようにFFPの重心方向160をアレイ中心側に傾けることが好ましい。入射瞳が素子後方にある場合はアレイ端部側に傾けることが好ましい。以下に、本発明の実施例について説明する。[実施例1]実施例1として、本発明を適用した面発光レーザアレイの構成例を、図1乃至図5を用いて説明する。図3は、実施例1の面発光レーザアレイを構成する面発光レーザ104を説明する図であり、aはその断面図およびbは上方からの外観図である。図3aにおいて、面発光レーザの基板110、下部ミラー112、上部電極122、下部電極120は、図1と同じであるから省略している。また、図3aは、断面は発光領域の中心軸136を含みx軸に平行な面における断面図とする。後述の図5、図6a、図8a、図10a、図11aも同様である。材料の一例として、例えば、基板110はGaAs基板であり、下部ミラー112および上部ミラー116はAl0.5Ga0.5As/Al0.9Ga0.1Asのλ/4多層膜反射鏡である。なお、λは面発光レーザ104の発振波長であり、例えばλ=680nmである。例えば下部ミラー112は70ペアの多層膜反射鏡、上部ミラー116は35ペアの多層膜反射鏡である。基板110と下部ミラー112はn型、上部ミラーはp型にドープされている。活性層114は波長λにおいて利得を持つ、GaInP/AlGaInPの多重量子井戸である。上部ミラー116および活性層114は部分的にエッチングされ、半径15μmの円筒状のメサ構造が形成されている。上部ミラー116の上部にTi/Pt/Auからなる上部電極122、基板の下部にAuGe/Auからなる下部電極120が配される。上部電極122には半径10μmの開口が設けられており、そこからレーザ光が取り出される。上部ミラー116と活性層114の間、ないしは上部ミラー116の内部に、Al0.98Ga0.02Asからなる層がある。この層を前記メサ構造の側壁から酸化する事により、部分的に酸化された構造による半径2.8μmの円形の電流狭窄構造118が構成されている。酸化されたAlGaAsは大幅に屈折率が低下するため、酸化/被酸化領域の屈折率分布により、面発光レーザ104の横モードが支配的に決定される。なお、屈折率変化を伴わない電流狭窄構造118の作製たとえばイオン打ち込みなどによる部分的な絶縁化においては、活性層114の利得分布により面発光レーザ104の横モードが決定される。強度分布が単峰な横モードである基本モード130は、例えばスポット径がW=3.5λのガウス関数である。ここでスポット径とは光強度が中心強度の1/e2となる半径を指す。また、ここでは発光領域を活性層114が発光する領域とする。発光領域は、一般に電流狭窄構造118の領域よりも大きい。発光領域は、例えば半径が3Wの円形領域であり、また発光領域の中心軸136は電流狭窄構造118の中心軸と一致するものとする。面発光レーザ104の素子iの発光領域の中心軸136の座標をxi0,yi0とする。面発光レーザ104の上部ミラー116の上部境界面142上に、表面レリーフ構造150が形成されている。表面レリーフ構造150は半導体または誘電体であり、エッチングやリフトオフなどの微細加工手段により形成される。表面レリーフ構造150の構成材料は例えばSiO2でありその屈折率n1は1.5、環境媒質140は例えば空気でありその屈折率n0は1である。本実施例の表面レリーフ構造150は、光学厚さがD1である第1のレリーフ層210と、その上部の一部の領域に存在する光学厚さがD2である第2のレリーフ層212からなる。例えば、D1=0.5λ、D2=0.5λである。なお、表面レリーフ構造を、光学厚さが複数の領域の間で異なる光学厚さとし、複数の領域の間での光学厚さの差をλ/2の整数倍に構成する。これにより、表面レリーフ構造150の構造に起因する活性層114から見た上部ミラー116の反射率を一定にすることができる。このような構成を採ることによって、表面レリーフ構造150の形状を面発光レーザアレイ内で変化させても、表面レリーフ構造150を除いて同形状である面発光レーザのしきい値を一定にすることができる。図3に示されたものでは、第2のレリーフ層212は第1のレリーフ層210に対し、x方向のサイズのみが小さいものとされている。すなわち、面発光レーザ104の素子iの表面レリーフ構造150はy=yi0に対し鏡面対称な構造をしている。第2のレリーフ層212のx方向の幅を2R1とする。たとえばR1=2.5λである。第2のレリーフ層212の中心は発光領域の中心軸136の位置からx方向にΔiほどずれている。この表面レリーフ構造150および面発光レーザを囲む環境媒質140を合わせた基板法線方向の光学厚さの面内分布dix,yは、素子iの発光領域において以下のように表せる。dix,y=x,yによらない定数{D2×n0/n1x<xi0Δ1-R1D2xi0Δ1-R1≦x≦xi0Δ1R1D2×n0/n1xi0Δ1R1<x}このとき、x方向に非対称性を有し、dix,yが大きな値を取る領域が、中心軸に対し-x側の領域よりx側の領域で多いため、FFP分布の重心方向160はx方向に傾く。また、dix,yのy方向対称性、すなわちy=yi0に対する鏡面対称性から、重心方向160のy方向成分は0である。また、面発光レーザアレイにおいて、表面レリーフ構造の重心位置、すなわちここではΔiをアレイ位置に応じて変化させることで、FFPの重心方向を変化させることができる。具体的な計算例を図4に示す。なお、面発光レーザアレイにおいて、面発光レーザの構造は異なっていても良いが、ここでは表面レリーフ構造150を除いて面発光レーザの構造はアレイ内で同じであるとする。FFPの放射角をx方向、y方向にとったものをそれぞれθx、θyとする。W=3.5λ、n0=1、n1=1.5、D1=0.5λ、D2=0.5λ、R1=4.0λのとき、Δi=0、2.0λ、4.0λに対する、FFPをθy方向に積算したものを図4aに示す。また、θy=0における遠視野電場の位相分布遠視野での波面と参照球面との差として表示、単位はλを図4bに示す。いずれも横軸はsinθxである。図4aより、Δiに応じてFFPの重心方向は傾いていることがわかる。具体的には、Δi=0、2.0λ、4.0λにおけるFFPのx方向の重心は、それぞれ、0°、0.9°、1.8°である。なお、ここではdix,yはxにのみ依存しているが、第2のレリーフ層を面内で回転させて配置することで、dix,yを回転させx、yに依存させることができる。この場合、FFP重心方向も上記回転した方向に移動する。また、表面レリーフ構造150として、図3では凸型のものを示したが、図5に示す凹型の表面レリーフ構造でも良い。[実施例2]実施例2として、実施例1とは異なる形態の面発光レーザの構成例を、図6、図7を用いて説明する。実施例1では、図4bに示すように遠視野電場の位相に分布がある場合がある。ここで、遠視野電場の位相に分布があるとは、FFPがある程度例えば強度ピークの半値以上存在する範囲において、位相が一定でないということとする。しかし、これは程度によっては好ましくない場合がある。例えば、位相分布が大きくついているとき、結像面上にて位置がずれる場合があり、また、結像面でのデフォーカス特性が悪化する場合がある。これを回避するため、光学厚さの基板の面内方向の分布を、前記面発光レーザの発光領域の中心軸に対して反対称な分布と、一様な分布と、の和として構成した表面レリーフ構造を設けることができる。すなわち、dix,yをx,yによらない定数中心軸に対し反対称な分布とした表面レリーフ構造を設けることができる。ここで、中心軸xi0,yi0に対して反対称な分布とは、任意のX,Y素子の面内方向の発光領域サイズ以下の数値に対して、fXxi0,Yyi0=-f-Xxi0,-Yyi0を満たすfx,yのことである。以下、dix,yがx,yによらない定数中心軸に対し反対称な分布となる表面レリーフ構造を、反対称な表面レリーフ構造と定義する。反対称な表面レリーフ構造を用いた場合、FFPの重心方向を基板法線から傾けながら、遠視野電場の位相に分布がないようにすることができる。図6は本実施例の面発光レーザアレイ102を構成する面発光レーザ106を説明する図であり、aはその断面図、bは上方からの外観図である。図6に示す表面レリーフ構造150は、光学厚さがD1iである第1のレリーフ層210と、その上部の一部の領域に存在する光学厚さがD2iである第2のレリーフ層212からなる。発光領域は、中心軸136を通る直線ないしは曲線にて中心軸に関して2つの対称な領域に分けられ、その一方に第2のレリーフ層が存在する。例えば、x=xi0の境界にて、x<xi0、xi0<xの2領域に分けられ、xi0<xの領域に第2のレリーフ層が存在する場合、dix,yは、素子iの発光領域において以下のように表せる。dix,y=x,yによらない定数{-D2i×n1-n0/2n1x<xi00x=xi0D2i×n1-n0/2n1xi0<x}上記dix,yの第2項はxi0,yi0に対し反対称な分布をしているため、遠視野電場に位相分布はほぼ生じない。また、実施例1同様、中心軸に対し-x側の領域よりx側の領域で長い領域が多いため、FFPの重心方向160はx方向に傾く。また、dix,yのy方向対称性、すなわちy=yi0に対する鏡面対称性から、重心方向160のy方向成分は0である。面発光レーザアレイにおいて、表面レリーフ構造の段差の厚さ複数の領域の間での光学厚さ、すなわち、ここではD2iをアレイ位置に応じて変化させることで、FFPの重心方向を変化させることができる。第2の表面レリーフ層の上部境界面をアレイ内で揃える、などの作製の都合で、D1iを素子間で適宜変化させても良い。また、D2i×n1-n0/n1がλの整数倍となる場合は、2つの領域間において透過光に与えられる位相差がゼロとなってしまうため、FFPは表面レリーフ構造が無い場合とほとんど変化しない。また、D2i×n1-n0/n1がλ/2の奇数倍となる場合、2つの領域間において透過光に与えられる位相差がπとなるが、反対称な表面レリーフ構造においては、対称性からFFPの重心方向は基板法線方向となってしまう。D2iが大きいほど表面レリーフ構造150のエッジ部での散乱が大きくなるため、散乱を抑えながらFFPの重心方向を傾ける効果を出すため、D2i×n1-n0/2n1<λであることが好ましく、D2i×n1-n0/2n1<λ/2であることが好ましい。具体的な計算例を以下に示す。W=3.5λ、n0=1、n1=1.5、D1i=0.5λのとき、D2=0、0.25λ、0.5λに対する、FFPをθy方向に積算したものを図7aに示す。また、θy=0における遠視野電場の位相分布単位はλを図7bに示す。いずれも横軸はsinθxである。図7aより、D2に応じてFFPの重心方向は傾いていることがわかる。具体的には、D2=0、0.25λ、0.5λにおけるFFPのx方向の重心は、それぞれ、0°、1.0°、1.8°である。実施例1と同様に、第2のレリーフ層を面内で回転させて配置することで、dix,yを回転させx、yに依存させることができる。この場合、FFP重心方向も上記回転した方向に移動する。[実施例3]実施例3として、実施例2同様にdix,yは反対称であり、かつ、素子間での表面レリーフ構造を構成する各層の光学厚さを一定とした構成例について図8、図9を用いて説明する。この場合、一定でない場合に比べて、エッチングやリフトオフなどの作製工程が容易となる場合がある。また、反射率分布を一定とするための各層の光学厚さは限定されるため、実施例2に比べて設計が容易となる場合がある。図8は実施例3の面発光レーザアレイ102を構成する面発光レーザ107を説明する図であり、aはその断面図、bは上方からの外観図である。本実施例の表面レリーフ構造150は、光学厚さがD1である第1のレリーフ層210と、その上部の一部の領域に存在する光学厚さがD2である第2のレリーフ層212、さらにその上部の一部の領域に存在する光学厚さが、D3=D2である第3のレリーフ層214からなる。なお、D2をλ/2の整数倍とすれば、表面レリーフ構造150の構造に起因する反射率分布がほぼ生じないように構成できる。第2のレリーフ層212はx0-R3i<xとなる領域に、第3のレリーフ層214はx0R3i<xとなる領域に存在するものとする。この表面レリーフ構造150および面発光レーザを囲む環境媒質140を合わせた基板法線方向の光学厚さの面内分布dix,yは、素子iの発光領域において以下のように表せる。dix,y=x,yによらない定数{-D2×n1-n0/n1x<x0-R3i0x0-R3i≦x≦x0R3iD2×n1-n0/n1x0R3i<x}実施例2同様に、上記dix,yの第2項はxi0,yi0に対し反対称な分布をしているため、遠視野電場に位相分布はほぼ生じない。また、実施例1同様、中心軸に対し-x側の領域よりx側の領域で長い領域が多いため、FFP分布の重心方向160はx方向に傾く。また、dix,yのy方向対称性、すなわちy=yi0に対する鏡面対称性から、重心方向160のy方向成分は0である。なお、実施例2と同様の理由で、D2×n1-n0/n1がλ/2の整数倍であるとき、FFPの重心方向が基板法線方向となってしまうため、D2×n1-n0/n1<λ/2となるようD2を選ぶことが好ましい。面発光レーザアレイにおいて、第2の表面レリーフ層が最上層である領域のサイズ、すなわちここではR3iをアレイ位置に応じて変化させることで、FFPの重心方向を変化させることができる。具体的な計算例を以下に示す。W=3.5λ、n0=1、n1=1.5、D1=D2=D3=0.5λのとき、R3i=3.0λ、2.0λ、1.0λに対する、FFPの分布をθy方向に積算したものを図9aに示す。また、θy=0における遠視野電場の位相分布単位はλを図9bに示す。いずれも横軸はsinθxである。図9aより、R3iに応じてFFPの重心方向は傾いていることがわかる。具体的には、R3i=3.0λ、2.0λ、1.0λにおけるFFPのx方向の重心は、それぞれ、0.8°、1.8°、2.8°である。実施例1と同様に、第2のレリーフ層を面内で回転させて配置することで、dix,yを回転させx、yに依存させることができる。この場合、FFP重心方向も上記回転した方向に移動する。また、実施例3の表面レリーフ構造150の別の形状として、図10に示す構造を取ることもできる。図10は実施例3の面発光レーザアレイ102を構成する別の形態の面発光レーザ108を説明する図であり、aはその断面図、bは上方からの外観図である。この表面レリーフ構造においては、dix,y=x,yによらない定数{-D2×n1-n0/n1x<x0-R3iかつx2y2>R3i2D2×n1-n0/n1x0R3i<xかつx2y2>R3i20x2y2≦R3i2}となる。[実施例4]実施例4とし、上記各実施例と異なる形態の面発光レーザの構成例について、図11を用いて説明する。図11は実施例4の面発光レーザアレイ102を構成する面発光レーザ109を説明する図であり、aはその断面図、bは上方からの外観図である。表面レリーフ構造150は、光学厚さがD1iである第1のレリーフ層210と、その上部の一部の領域に存在する光学厚さがD2iである第2のレリーフ層212からなる。第2のレリーフ層212はx0-R4i≦x<0、および、x0R4i≦xとなる領域に存在するものとする。この表面レリーフ構造150および面発光レーザを囲む環境媒質140を合わせた基板法線方向の光学厚さの面内分布dix,yは、素子iの発光領域において以下のように表せる。dix,y=x,yによらない定数{-D2×n1-n0/2n1x<x0-R4iD2×n1-n0/2n1x0-R4i≦x<x00x=x0-D2×n1-n0/2n1x0<x≦x0R4iD2×n1-n0/2n1x0R4i<x}実施例2と同様に、dix,yはxi0,yi0に対し反対称な分布をしているため、遠視野電場に位相分布はほぼ生じない。また、実施例1同様、中心軸に対し-x側の領域よりx側の領域で長い領域が多いため、FFPの重心方向160はx方向に傾く。また、dix,yのy方向対称性、すなわちy=yi0に対する鏡面対称性から、重心方向160のy方向成分は0である。また、実施例3と同様に、第2の表面レリーフ層が最上層である領域のサイズ、すなわちここではR4iをアレイ位置に応じて変化させることで、FFPの重心方向を変化させることができる。実施例4の表面レリーフ構造150は、実施例3の表面レリーフ構造150に比べて表面レリーフ層が1つ減少しているので、作製が容易となる場合がある。以上、実施例1~4では、表面レリーフ構造150の形状をアレイ内で変化させ、FFPの重心方向160をアレイ位置に応じて傾けられる面発光レーザアレイを開示した。形状パラメータとして、重心位置Δ、表面レリーフ層の段差の光学厚さD、表面層の領域のサイズRを挙げたが、これらの複数を同時に変化させても良い。また、本発明の範囲内で、他のパラメータを使用しても良い。例えば、表面レリーフの構成材料として、面内で屈折率分布を持つ材料を用いても良い。また、面発光レーザの材料や形状は上記の例に限らず、他の材料や形状を使用しても良い。[作製方法]実施例1乃至実施例4に開示された面発光レーザを含む面発光レーザアレイ102の作製方法の例について説明する。例えば、基板110は600μm厚のGaAs基板であり、基板110上に例えばMOCVD法などを用いて、実施例1に開示した下部ミラー112、活性層114、上部ミラー116を成長させる。半導体リソグラフィープロセスを用いて、上部ミラー116および活性層114をレジストによるパターニング後、エッチングしメサ構造を形成する。メサ構造のアレイ配置は、例えば50μm間隔で8×8の斜方格子状に配置する。エッチングは例えばプラズマによるドライエッチングやウエットエッチングである。ドライエッチングの際に、上部ミラー116でエッチングしない領域の上部を誘電体膜などで保護しても良い。上部ミラー116または上部ミラー116と活性層114の間にある酸化しうる層、例えば30nm厚のAl0.98Ga0.02Asを水蒸気を含む窒素雰囲気化で450°Cで30分加熱することで酸化し、電流狭窄構造118を形成する。その後、エッチング領域の側壁および底部に、誘電体などによる絶縁膜を成膜し、上部ミラー116の上部の光出射面142上に表面レリーフ構造150を形成する。表面レリーフ構造150を半導体を用いて形成する場合、上部ミラー116を部分的にエッチングすることで形成できる。この場合は、表面レリーフ構造150の下部境界面を光出射面142と見なすものとする。表面レリーフ構造150を誘電体を成膜して形成する場合、所望の厚さを成膜して部分的に除去するエッチング法、予め成膜したい領域のみ除かれたリフトオフレジストパターンを形成し、成膜後リフトオフレジストを除去するリフトオフ法などにより形成できる。また、これらを組み合わせたり複数回用いたりしても良い。誘電体の成膜は、例えばプラズマCVD法やスパッタ法による。また、表面レリーフ構造150とメサ構造のパターニングはセルフアラインプロセスにより同時に行っても良い。また、上部ミラー116上に上部電極122を形成し、基板110下に下部電極120を形成する。電極は、例えば実施例1に開示された金属電極であり、電子ビーム蒸着や抵抗加熱蒸着による。上部電極122はリフトオフ法により開口が設けられている。表面レリーフ構造150の形成と、上部電極122、下部電極120の形成順序は入れ替えても良い。[実施例5]実施例5として、画像形成装置の光学系において、面発光レーザアレイの出射側に入射瞳がある場合の面発光レーザアレイおよび入射瞳170の例について、図12、図13を用いて説明する。図13は、面発光レーザアレイの上方光出射側からの外観模式図である。方向171は画像形成装置における主走査方向であり、方向171と直交する方向173は副走査方向とする。面発光レーザアレイ102においては面発光レーザが斜方格子状に配されており、特に副走査方向においては等間隔に配された基準線図13の破線上に1つずつ面発光レーザが配されている。アレイ配列の中心は入射瞳の中心を有する光学系の光軸上にある。面発光レーザアレイ102は、実施例1~4に開示された面発光レーザを有する。面発光レーザのFFPの重心方向160は基板法線より傾いている。図13におけるFFPの重心方向160は、基板に平行な向きを表している。165は画像形成装置の光学系の光軸である。ここで、アレイ状に配列された各面発光レーザからのFFPの重心方向を前記基板面に射影した成分が、アレイ状に配列された各面発光レーザからその配列内における所定の一点とを結ぶ向きに対して、同じ向きまたは反対向きとなるように構成されている。例えば、入射瞳が光源の出射側にある場合は、各面発光レーザからのFFPの重心方向の基板面に射影した成分が、各面発光レーザからアレイ中心を向くように、表面レリーフ構造は設計される。また、入射瞳が光源の出射側の反対側にある場合は、各面発光レーザからのFFPの重心方向の基板面に射影した成分が、各面発光レーザからアレイ中心と逆方向を向くように、表面レリーフ構造は設計される。こうすることで、レーザの出射光を瞳内に多く取り込むことができる。また、各面発光レーザからのFFPの重心方向が、該光軸上のある一点で交わるように表面レリーフ構造が設計される。そして、該一点と入射瞳の中心点180が一致し、面発光レーザとそのFFPの重心方向を結ぶ直線が主光線となるように、面発光レーザアレイと光学系とは設置される。また、画像形成装置の光学系において、主走査方向と副走査方向とで倍率の異なるアナモフィックな光学系が用いられる場合があり、また、開口絞りが主走査方向と副走査方向とで異なる位置にある場合がある。このような場合、入射瞳の位置は主走査方向と副走査方向で異なる場合がある。例えば、副走査方向の入射瞳が光源の出射側にあり、主走査方向の入射瞳が光源の出射側の反対側にある場合、前記基板面内にあり直交する第1の直線と第2の直線に対し、前記アレイ状に配列された各面発光レーザからのFFPの重心方向の第1の直線に平行な成分は配列の中心と反対方向を向くように、該第2の直線に平行な成分は配列の中心の方向を向くように構成されている。ここで、第1の直線の方向は主走査方向に、第2の直線の方向は副走査方向にそれぞれ対応する。面発光レーザのFFPの重心方向160は基板法線より傾いている。基板に平行であり、かつ面発光レーザアレイの外部にあり、かつ互いにねじれの位置にある2直線に対し、面発光レーザとそのFFPの重心方向を結ぶ直線が前記の2直線を通るようにする。そして、前記2直線が、主走査方向第1の直線の方向の入射瞳の中心線181および副走査方向第2の直線の方向の入射瞳の中心線182と一致し、面発光レーザとそのFFPの重心方向を結ぶ直線が主光線となるように、面発光レーザアレイと光学系とは設置される。例えば、面発光レーザアレイの出射側に副走査方向の入射瞳174が、出射と反対側に主走査方向の入射瞳172がある場合の面発光レーザアレイと入射瞳を図14に示す。また、面発光レーザアレイの上方光出射側からの外観模式図を図15に示す。光源とコリメータレンズの間に副走査方向の開口絞りが、コリメータレンズと走査光学系との間に主走査方向の開口絞りがある場合などにこのような配置となることがある。図15における面発光レーザアレイ102のレーザ素子配置は図13同じであるが、表面レリーフ構造が異なっている。面発光レーザアレイの出射側に副走査方向の入射瞳が、出射と反対側に主走査方向の入射瞳がある。主走査方向についてはFFPの重心方向160の面内成分がアレイ中心とは反対方向を向くように、副走査方向についてはアレイ中心方向を向くように、各表面レリーフ構造は構成される。FFPの重心方向を傾ける程度は、各々の光源と瞳との距離や、光学系のFナンバーに応じて決めることができる。光軸から遠い面発光レーザほど、FFPの重心方向160を基板法線から傾けることが好ましい。例えば、入射側Fナンバーが30、光源から入射瞳までの距離が12mm、光学系光軸から面発光レーザまでの距離が0.5mm、であるとき、該面発光レーザから該入射瞳を見た方向は、基板法線に対し2.4°傾いている。また、同様に、入射瞳の瞳端においては、基板法線に対し1.4°から3.3°の範囲にある。この場合、該面発光レーザにおいては、FFPの重心方向が1.4°から3.3°の間にあるように、表面レリーフ構造の形状を決めることが好ましい。特に、FFPの重心方向が2.4°となるようにすることが好ましい。表面レリーフ構造の形状として、たとえば実施例1乃至4に示すものが選択でき、また本発明の範囲で他の形状も選択できる。[実施例6]実施例6として、実施例1乃至4の面発光レーザを複数配して構成された面発光レーザアレイ光源および光学装置を用いた応用例の一形態として、画像形成装置を構成した一例について、図16を用いて説明する。図16は、本発明による面発光レーザアレイ102を備えた電子写真記録方式の画像形成装置の構造図である。図16aは画像形成装置の平面図であり、図16bは同装置の側面図である。図16において、500は感光ドラム、502は帯電器、504は現像器、506は転写帯電器、508は定着器、510は回転多面鏡、512はモータである。また、102は面発光レーザアレイ光源、516は反射鏡、520はコリメータレンズ及び522はf-θレンズである。図16において、モータ512は回転多面鏡510を回転駆動するものである。本実施例における回転多面鏡510は、6つの反射面を備えている。面発光レーザアレイ102は、記録用光源となるものであり、ドライバ図示せずにより画像信号に応じて点灯または消灯するように構成されている。こうして光変調されたレーザ光は、面発光レーザアレイ102からコリメータレンズ520を介し回転多面鏡510に向けて照射される。ここでは、主走査方向の開口絞り175がコリメータレンズ520と回転多面鏡510の間に、副走査方向の開口絞り176が面発光レーザアレイ102とコリメータレンズ520の間に置かれている図16bでは省略。なお、有限の径であるレンズ自身が開口絞りとなる場合もある。回転多面鏡510は矢印方向に回転していて、面発光レーザアレイ102から出力されたレーザ光は、回転多面鏡510の回転に伴い、その反射面で連続的に出射角度を変える偏向ビームとして反射される。この反射光は、f-θレンズ522により歪曲収差の補正等を受け、反射鏡516を経て感光ドラム500に照射され、感光ドラム500上で主走査方向に走査される。このとき、回転多面鏡510の1面を介したビーム光の反射により、感光ドラム500の主走査方向に面発光レーザアレイ102に対応した複数のライン分の画像が形成される。本実施例においては、16×4の面発光レーザアレイ102を用いており、64ライン分の画像が形成される。感光ドラム500は、予め帯電器502により帯電されており、レーザ光の走査により順次露光され、静電潜像が形成される。また、感光ドラム500は矢印方向に回転していて、形成された静電潜像は、現像器504により現像され、現像された可視像は転写帯電器506により、転写紙図示せずに転写される。可視像が転写された転写紙は、定着器508に搬送され、定着を行った後に機外に排出される。なお、感光ドラム500の側部における主走査方向の走査開始位置近傍に、ビーム検出センサBeamDetectセンサ:以下BDセンサが配置されている不図示。回転多面鏡510の各反射面で反射されたレーザ光は、ライン走査に先立ってBDセンサにより検出される。この検出信号は、主走査方向の走査開始基準信号としてタイミングコントローラ図示せずに入力され、この信号を規準として各ラインにおける走査方向の書き出し開始位置の同期が取られる。"