中心部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板は内周側面と外周側面と両主平面とを有し、磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の中間部において、0°、90°、180°、270°の計4箇所の位置で測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値の差同一ガラス基板面内の板厚偏差である平行度aが0.5μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板であって、同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の前記平行度aの偏差が0.4μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。中心部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板は内周側面と外周側面と両主平面とを有し、レーザ干渉計を用いて測定した、磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度bが0.6μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。請求項3に記載の磁気記録媒体用ガラス基板であって、同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の前記平行度bの偏差が、0.4μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。請求項1~4のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板であって、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の板厚偏差が1.0μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。本発明は、中心部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板は内周側面と外周側面と両主平面とを有し、磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の中間部において、0°、90°、180°、270°の計4箇所の位置で測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値の差同一ガラス基板面内の板厚偏差である平行度aが0.5μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。本発明の平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の上に、磁性層などの薄膜を形成して製造した磁気ディスクは、HDDハードディスクドライブ試験において、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触することにより発生する障害をなくすことができる、または低減できる。以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明は以下に記載される実施形態に限らない。まず、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板10の斜視図を図1に、磁気記録媒体用ガラス基板10を切断したものの断面斜視図を図2に示す。図1と図2において各符号は、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面101、内周側面102、外周側面103、内周面取り部104、外周面取り部105をそれぞれ示す。図2中、A1とA6は磁気記録媒体用ガラス基板の外径側領域の板厚、A2とA5は磁気記録媒体用ガラス基板の中間領域の板厚、A3とA4は磁気記録媒体用ガラス基板の内径側領域の板厚をそれぞれ示す。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度としては、磁気記録媒体用ガラス基板の各領域における板厚例えば、A1~A6が均一であるほど優れており、各領域における板厚が不均一板厚偏差が大きいであるほど劣ることになる。一般に、磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程は、以下の工程を含む。1フロート法、フュージョン法またはプレス成形法で成形されたガラス素基板を、円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面に面取り加工を行う。2ガラス基板の上下主平面にラッピング加工を行う。3ガラス基板の側面部と面取り部に端面研磨を行う。4ガラス基板の上下主平面に研磨を行う。研磨工程は、1次研磨のみでも良く、1次研磨と2次研磨を行っても良く、2次研磨の後に3次研磨を行っても良い。5ガラス基板の精密洗浄を行い、磁気記録媒体用ガラス基板を製造する。6磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成し、磁気ディスクを製造する。なお、上記磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程において、各工程間にガラス基板洗浄工程間洗浄やガラス基板表面のエッチング工程間エッチングを実施してもよい。さらに、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程例えば、化学強化工程を研磨工程前、または研磨工程後、あるいは研磨工程間で実施してもよい。本発明において、磁気記録媒体用ガラス基板は、アモルファスガラスでもよく、結晶化ガラスでもよく、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラス例えば、化学強化ガラスでもよい。また、本発明のガラス基板のガラス素基板は、フロート法で造られたものでも良く、フュージョン法で造られたものでも良く、プレス成形法で造られたものでもよい。本発明は、4ガラス基板の上下主平面に研磨を行う工程に関し、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨加工に係るものである。図4は、両面研磨装置20の概略図である。図4において、10は磁気記録媒体用ガラス基板、30は上定盤の研磨面、40は下定盤の研磨面、50はキャリア、201は上定盤、202は下定盤、203はサンギア、204はインターナルギア、tp1は上定盤の内周端側の表面温度測定領域、tp2は上定盤の外周端側の表面温度測定領域、をそれぞれ示す。磁気記録媒体用ガラス基板10は、キャリア50のガラス基板保持穴に保持された状態で、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との間に狭持され、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の両主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨する。両面研磨装置20は、サンギア203とインターナルギア204をそれぞれ所定の回転比率で回転駆動することにより、キャリア50を自転させながらサンギア203の周りを公転するように移動させる遊星駆動させるとともに、上定盤201と下定盤202をそれぞれの回転数で回転駆動し、ガラス基板の両主平面を同時に研磨する。上定盤201と下定盤202のガラス基板と対向する面には、研磨パッドが装着されている。上定盤201と下定盤202に装着された研磨パッドは、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40をそれぞれ所定の形状とするため、ドレス治具を用いてドレス処理が施される。ドレス処理は、ドレス治具と研磨パッドとの間にドレス水を供給するとともに、ドレス治具と研磨パッドを相対的に動かして、研磨パッドの表面上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40となる面を削ることにより行われる。両面研磨装置20を用いてガラス基板を研磨すると、研磨中の発熱により定盤温度は変化する。定盤温度の変化により、定盤は温度膨張により体積変化し、定盤形状が変形し、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離Dが変化する。研磨中の定盤間距離Dの変化は、ガラス基板の研磨加工の精度に大きな影響を及ぼす。本発明は、tp1とtp2が特定の関係にあるときに、板厚偏差の少ない平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板が得られることを見出したことに基づく。本発明において、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの上定盤の内周端側で測定した表面温度tp1と外周端側で測定した表面温度tp2との差Δtptp1-tp2の絶対値は3°C以下であることがよい。上定盤表面温度tpの偏差Δtpの絶対値が3°Cを超えた場合、定盤形状が大きく熱変形し、研磨しているガラス基板に対し研磨加工の荷重を均一に負荷することが難しくなり、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロット内で研磨されたガラス基板間の研磨量が不均一となり、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。なお、両面研磨装置20を用いて、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの上定盤201の表面温度tpの測定は、熱電対温度計、放射温度計を用いて測定する。研磨中の上定盤表面温度tpを連続的に測定できるため、温度計として熱電対温度計が好適に用いられる。上定盤表面温度tpの偏差Δtpの絶対値を3°C以下とする手段は、特に限定されるものではなく、研磨中に供給する研磨液の温度を調整する、定盤半径方向の研磨液の供給量バランスを調整する、ガラス基板研磨中に上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が外周端側または内周端側で強く擦れて発生する摩擦熱を抑制する、などが挙げられる。研磨中に供給する研磨液温度や、定盤半径方向の研磨液の供給量バランスは、ガラス基板を研磨したときの上定盤表面温度tpにより、調整方法を決める。例えば、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの、上定盤表面温度tpの偏差Δtpの絶対値が3°Cを超え、上定盤の内周端側の表面温度tp1が、上定盤の外周端側の表面温度tp2に比べて高い場合、研磨中に供給する研磨液温度を上定盤表面温度tpより低くし、定盤半径方向の内周端側から供給する研磨液の供給量を増やし、上定盤の内周端側を冷却して、上定盤の内周端側の表面温度tp1と上定盤の外周端側の表面温度tp2との差を小さくする。ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの、上定盤の内周端側の表面温度tp1が、上定盤の外周端側の表面温度tp2に比べて低く、上定盤の内周端側の表面温度tp1を高くしたい場合、研磨中に供給する研磨液温度を上定盤表面温度tpより高くし、定盤半径方向の内周端側から供給する研磨液の供給量を増やし、上定盤の内周端側を加温する。上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が、外周端側または内周端側で強く擦れることにより発生する摩擦熱を抑制するには、後述する定盤面内の研磨面間距離Dの偏差ΔDの絶対値が小さくなるようにしてガラス基板を研磨するとよい。ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの上定盤の内周端側で測定した表面温度tp1と外周端側で測定した表面温度tp2との差Δtptp1-tp2の絶対値は3°C以下がよく、2.5°C以下が好ましく、2°C以下が特に好ましい。ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの、上定盤の内周端側の表面温度tp1と上定盤の外周端側の表面温度tp2は、tp1≧tp2であることが好ましい。上定盤表面温度tpがtp1<tp2となる主な原因は、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が外周端側で強く当たる外当たりの研磨面形状図6に示した形状でガラス基板を研磨し、外周端側で研磨面が擦れて、外周端側の研磨加工の発熱が高くなるものである。上記原因で上定盤表面温度tpがtp1<tp2となっている場合、研磨されたガラス基板は、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロット内で研磨されたガラス基板間の研磨量が不均一となり、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が外周端側で強く当たる外当たりの研磨面形状でガラス基板を研磨したとき、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなる理由については後で述べる。上定盤の内周端側の表面温度tp1と上定盤の外周端側の表面温度tp2を、tp1≧tp2としてガラス基板の両主平面を同時に研磨するとき、Δtptp1-tp2は、0~3°Cであることが好ましい。Δtpが0°C未満であると例えば-4°C、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が外周端側で強く当たる、外当たりの研磨面形状図6に示した形状でガラス基板を研磨しているため、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロット内で研磨されたガラス基板間の研磨量が不均一となり、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。Δtpが3°Cを超える場合、その主な原因は、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当たりすぎ、内周端側で研磨加工の発熱が高くなるものである。上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が内周端側で強く当たりすぎると、上定盤201と下定盤202を安定的に回転駆動することが難しくなり、研磨加工の荷重をガラス基板に対して均一に負荷し難くなり、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロット内で研磨されたガラス基板間の研磨量が不均一となり、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。Δtpは0~3°Cが好ましく、0~2.5°Cが更に好ましく、0~2°Cが特に好ましい。ガラス基板を研磨しているときの、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状を模式的に表す断面図を図5と図6に示す。図5と図6において各符号は、Dは定盤面内の任意の位置における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、D1は内周端側における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、D2は外周端側における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、をそれぞれ表す。上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離Dは、渦電流変位計を用いて計測する。上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離Dは、上定盤の研磨面30の測定位置と下定盤の研磨面40の測定位置が最も近くなる場所上定盤の研磨面30の測定位置から下定盤の研磨面40に対して垂直に下した位置を下定盤の研磨面40の測定位置とするで計測される。図5は、D1<D2である研磨面の形状を模式的に表した断面図であり、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、内当りの研磨面形状である。図6は、D1>D2である研磨面の形状を模式的に表した断面図であり、外周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、外当りの研磨面形状である。両面研磨装置20を用いてガラス基板を研磨加工し、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得るには、研磨面間距離Dの定盤面内の偏差ΔDの絶対値が30μm以下であることが好ましい。研磨面間距離Dの定盤面内の偏差ΔDの絶対値が30μmを超える場合、研磨しているガラス基板に対する研磨加工の荷重が不均一となり、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロット内で研磨されたガラス基板間の研磨量が不均一となり、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。研磨面間距離Dの定盤面内の偏差ΔDの絶対値は30μm以下が好ましく、25μm以下が更に好ましく、20μm以下が特に好ましい。磁気記録媒体用ガラス基板の生産性を向上するため、同一両面研磨装置を用いて同時に研磨する同一ロットガラス基板の枚数を増やすことが好ましい。同一ロットのガラス基板枚数を増やす手段として、両面研磨装置20を大型化する、キャリア50に保持されるガラス基板の枚数を増やす、などが挙げられる。本発明において、同一ロットとは、同一両面研磨装置を用いて同時に研磨加工したガラス基板のことをいう。例えば、外径65mmの磁気記録媒体用ガラス基板を研磨する場合、22B型両面研磨装置の1ロットのガラス基板枚数は150枚~222枚、16B型両面研磨装置の1ロットのガラス基板枚数は90枚~115枚、9B型両面研磨装置の1ロットのガラス基板枚数は20枚~30枚が一般的である。なお、両面研磨装置の型式は、使用するキャリアのサイズで分類され、22B型両面研磨装置では22インチのキャリア、16B型両面研磨装置では16インチのキャリア、9B型両面研磨装置では9インチのキャリアをそれぞれ用いる。図7に、磁気記録媒体用ガラス基板の製造工程で使用されるキャリア50の概略図を示す。図中、50はキャリア、501はガラス基板保持穴、501Aは内径側保持穴、501Bは中間部保持穴、501Cは外径側保持穴をそれぞれ示す。磁気記録媒体用ガラス基板は、キャリア50のガラス基板保持穴501に保持された状態で、ガラス基板の両主平面を同時に研磨される。ガラス基板を研磨するとき、キャリア50の全てのガラス基板保持穴501にガラス基板をセットしなくても良い。また、キャリア50のガラス基板保持穴501の数は任意に設定できる。キャリア50のガラス基板保持穴501は、キャリア50の中央を中心とした同心円状に形成される。両面研磨装置20を用いてガラス基板を研磨するとき、ガラス基板を保持したキャリア50は自転しながらサンギア203の周りを公転する遊星駆動。そのため、研磨されるガラス基板の周速は、キャリア50の保持されている位置で異なり、キャリア50の中央に近い位置内径側保持穴501Aに保持されたガラス基板の周速は遅く、キャリア50の中央から離れた位置外径側保持穴501Cに保持されたガラス基板の周速は速くなる。大型の両面研磨装置20でガラス基板を研磨したとき、ガラス基板の周速は、研磨面の内周端側より外周端側を通過するときに速くなる。研磨されるガラス基板の研磨速度は、ガラス基板の周速が速いと高く研磨量が多くなり、ガラス基板の周速が遅いと低く研磨量が少なくなる。大型の両面研磨装置20を用いてガラス基板を研磨する場合、キャリア50内での研磨量のバラツキを抑制し、内径側保持穴501Aと外径側保持穴501Cに保持されたガラス基板間の板厚や平行度にバラツキが生じないようにする必要がある。上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が外周端側で強く当たる、外当たりの研磨面形状図6に示した形状でガラス基板を研磨した場合、ガラス基板に対する研磨加工の荷重は、研磨面の外周端側で高くなる。そのため、研磨されるガラス基板は、研磨面の外周端側を通過するときに研磨速度が速くなり、研磨量が多くなる。外当たりの研磨面形状でガラス基板を研磨すると、ガラス基板が研磨面の外周端側を通過するときに研磨加工の荷重が高く、ガラス基板の周速も速くなるため、キャリア50内の外径側保持穴501Cに保持されたガラス基板の研磨量は、内径側保持穴501Aに保持されたガラス基板の研磨量に比べて多くなる。そのため、外当たりの研磨面形状でガラス基板を研磨すると、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロット内で研磨されたガラス基板間の研磨量が不均一となり、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。大型の両面研磨装置20でガラス基板を研磨するとき、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40は、平行または内当たりの研磨面形状図5に示した形状であることが好ましい。つまり、内周端側における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離D1と、外周端側における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離D2が、D1≦D2であることが好ましい。平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得るには、D2-D1が0~30μmであることが好ましい。D2-D1が0μm未満の場合例えば-20μm、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40は外当たりの研磨面形状図6に示した形状となるため、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロット内で研磨されたガラス基板間の研磨量が不均一となり、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。D2-D1が30μmを超える場合、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当たりすぎ、上定盤201と下定盤202を安定的に回転駆動することが難しくなる。そのため、研磨加工の荷重をガラス基板に対して均一に負荷し難くなり、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一ロット内で研磨されたガラス基板間の研磨量が不均一となり、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。D2-D1は0~30μmが好ましく、0~25μmが更に好ましく、0μm~20μmが特に好ましい。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は、マイクロメータ、レーザ変位計、レーザ干渉計などの測定機を用いて測定する。マイクロメータやレーザ変位計を用いた平行度aの測定は、磁気記録媒体用ガラス基板の面内において任意に決めた複数箇所で板厚を測定し、最大板厚値と最小板厚値の差を求めることにより行う。レーザ干渉計は、光の波長を物差しとしているので高精度に平行度bを測定できる。また、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度bを、1回のデータ取得で測定できるため、測定効率に優れる。図3に、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度bを、本発明の実施例で用いたレーザ干渉計フジノン社製、製品名:平面測定用フィゾー干渉計、G102Sで測定した例を示す。レーザ干渉計を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度bの測定は、両主平面から反射した反射光の位相差により形成される干渉縞を観察し、得られた干渉縞を解析することにより行う。レーザ干渉計で観察される明暗の干渉縞は等高線となっており、その間隔は光源の波長と入射角により決定される。図3に、レーザ干渉計で観察された干渉縞の画像と、観察された干渉縞を解析して得た平行度bの値を示す。観察された干渉縞本数が少ないほど、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は優れている、つまり、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度bを測定した領域の板厚偏差が小さく、同一ガラス基板面内の板厚分布が優れることを意味する。本発明の研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の板厚偏差が1.0μm以下の磁気記録媒体用ガラス基板を、高い生産性で製造できる。磁気記録媒体用ガラス基板間の板厚偏差は1.0μm以下が好ましく、0.7μm以下が更に好ましく、0.5μm以下が特に好ましい。本発明の研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度aが0.5μm以下の磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度aは0.5μm以下であり、0.4μm以下が特に好ましい。さらに、本発明の研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の平行度aの偏差が0.5μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる。本発明の研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度bが0.6μm以下の磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度bは0.6μm以下であり、0.5μm以下が更に好ましく、0.4μm以下が特に好ましい。さらに、本発明の研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の平行度bの偏差が0.4μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる。本発明の研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された磁気記録媒用ガラス基板は、磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における両主平面の平行度aが0.5μm以下および/または、平行度bが0.6μm以下であるため、磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成して製造した磁気ディスクのHDDハードディスクドライブ試験において、磁気ヘッドの浮上姿勢が乱れず、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触する障害が発生しない。以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。[磁気記録媒体用ガラス基板の調整]外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmの磁気記録媒体用ガラス基板用に、フロート法で成形されたSiO2を主成分とするガラス基板をドーナツ状円形ガラス基板中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板に加工した。このドーナツ状円形ガラス基板の内周側面と外周側面を、面取り幅0.15mm、面取り角度45°の磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように面取り加工し、その後アルミナ砥粒を用いて、ガラス基板上下主平面をラッピングし、砥粒を洗浄除去した。次に、ガラス基板の外周側面と外周面取り部を、研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を用いて研磨し、外周側面と外周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように外周端面を研磨加工した。外周端面研磨後のガラス基板は、アルカリ性洗剤を用いたスクラブ洗浄と、アルカリ性洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄により、砥粒を洗浄除去される。外周端面研磨後のガラス基板の内周側面と内周面取り部を研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を用いて研磨し、内周側面と内周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように内周端面を研磨加工した。内周端面研磨を行ったガラス基板は、アルカリ性洗剤を用いたスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄により、砥粒を洗浄除去する。[磁気記録媒体用ガラス基板の1次~3次研磨]端面加工後のガラス基板は、研磨具として硬質ウレタン製の研磨パッドと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液平均粒子直径、以下、平均粒径と略す、約1.3μmの酸化セリウムを主成分した研磨液組成物を用いて、22B型両面研磨装置スピードファム社製、製品名:DSM22B-6PV-4MHにより上下主平面を1次研磨した。1次研磨工程において、両面研磨装置の上定盤と下定盤に装着した研磨パッドは、ガラス基板を研磨する前に、ダイヤモンド砥粒を含有するペレットからなるドレス治具を用いてドレス処理し、所定の研磨面に形成される。1次研磨は、メインの研磨加工圧力は85gcm2、下定盤回転数は30rpm、研磨量は上下主平面の厚さ方向で計40μmとなるように研磨時間を設定して実施した。本実施例では、1ロットでキャリアを6枚使用し、216枚のガラス基板を同時に研磨した。研磨後のガラス基板は、酸化セリウムを洗浄除去した後、平行度と板厚を測定した。研磨されたガラス基板の板厚と平行度aは、レーザ変位計キーエンス社製、レーザーヘッドはLK-G15/アンプLKG3000Vを用いて測定した。本実施例において、板厚は、磁気記録媒体用ガラス基板の中心部から20mmの領域で記録再生領域の中間部、0°、90°、180°、270°の計4箇所の位置で測定した。同一ガラス基板面内の4箇所の位置で測定した板厚の平均値をガラス基板の板厚とし、同一ガラス基板面内の4箇所の位置で測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値の差同一ガラス基板面内の板厚偏差を平行度aとした。1ロット216枚につき、各キャリア6枚からそれぞれ3枚のガラス基板を抜き取り、計18枚のガラス基板を測定した。板厚と平行度aを測定するガラス基板は、各キャリアの内径側保持穴501A、中間部保持穴501B、外径側保持穴501Cからそれぞれ抜き取り、同一キャリア内と同一ロット内で、板厚と平行度aの偏差を調べた。研磨されたガラス基板の平行度bは、レーザ干渉計フジノン社製、製品名:G102Sを用いて測定した。平行度bは、図3に示したように、ガラス基板両主平面からの反射光の位相差により形成される干渉縞を観察し、縞解析装置フジノン社製、製品名:A1によって算出した自動計算。平行度bの測定領域は、外径65mm、内径20mmの磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域を含むように設定した。本実施例において、測定領域は、円盤中心部から10.0mm~32.5mm領域に設定した。平行度bは、1ロット216枚につき、4~12枚のガラス基板を抜き取り測定した。平行度bを測定するガラス基板は、キャリアの内径側保持穴501Aと外径側保持穴501Cからそれぞれ抜き取り、同一キャリア内と同一ロット内での平行度bの偏差を調べた。本実施例において、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの、上定盤表面温度tp上定盤の内周端側の表面温度tp1と、外周端側の表面温度tp2は、ガラス基板の研磨加工が終了した時点において、熱電対型温度計タイプKを用いて測定した。本実施例において、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの、研磨面間距離D内周端側の研磨面間距離D1と、外周端側の研磨面間距離D2は、ガラス基板の研磨加工が終了した時点において、渦電流式変位計を用いて測定した。ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの、上定盤の内周端側の表面温度tp1と外周端側の表面温度tp2と、内周端側の研磨面間距離D1と外周端側の研磨面間距離D2を表1に、各上定盤表面温度tpと研磨面間距離Dとを有する両面研磨装置を用いて研磨したガラス基板の板厚と、ガラス基板の平行度aと、ガラス基板の平行度bの測定結果を表2にそれぞれ示す。表1と表2において、例1~例3は実施例、例4~例6は比較例である。ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの、上定盤の内周端側の表面温度tp1と外周端側の表面温度tp2との差Δtpの絶対値が3°C以下である例1~例3において、内周端側の研磨面間距離D1と外周端側の研磨面間距離D2の偏差ΔDの絶対値は30μm以下であった。また、例1~例3の上定盤表面温度tpと研磨面間距離Dを有する両面研磨装置で研磨したガラス基板は、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の板厚偏差は1.0μm以下であり、平行度aは0.5μm以下であり、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の平行度aの偏差最大平行度値と最小平行度値との差は0.4μm以下であった。さらに、例1~3において、平行度bは0.6μm以下であり、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の平行度bの偏差最大平行度値と最小平行度値との差は0.4μm以下であった。ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの、上定盤の内周端側の表面温度tp1と外周端側の表面温度tp2の差Δtpの絶対値が3°Cを超えた例4~例5において、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の板厚偏差は1.0μmを超え、平行度aは0.5μmを超え、平行度bは0.6μmを超えており、平行度や板厚の均一性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることができなかった。両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面が外周端側で強く当る、外当り状態の研磨面形状図6に示した形状で、ガラス基板の両主平面を同時に研磨した結果を例6に示す。上定盤の内周端側の表面温度tp1と外周端側の表面温度tp2の差Δtpは-3.8°Ctp1-tp2が0~3μmの範囲外であり、内周端側の研磨面間距離D1と外周端側の研磨面間距離D2の偏差ΔDは-20μmD2-D1が0~30μmの範囲外であった。例6の上定盤表面温度tpと研磨面間距離Dを有する両面研磨装置で研磨したガラス基板は、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の板厚偏差は1.0μmを超え、平行度aは0.5μmを超え、平行度bは0.6μmを超えており、平行度や板厚の均一性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることができなかった。1次研磨後のガラス基板は、研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、上記の酸化セリウム砥粒よりも平均粒径が小さい酸化セリウム砥粒を含有する研磨液平均粒径約0.5μmの酸化セリウムを主成分とする研磨液組成物を用いて、両面研磨装置により上下主平面を研磨し、酸化セリウムを洗浄除去した。2次研磨後のガラス基板は、3次研磨を行う。3次研磨の研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、コロイダルシリカを含有する研磨液一次粒子の平均粒径が20~30nmのコロイダルシリカを主成分とする研磨液組成物を用いて、両面研磨装置により上下主平面を研磨加工した。3次研磨を行ったガラス基板は、アルカリ性洗剤によるスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥された。洗浄乾燥した後、磁気記録媒体用ガラス基板の板厚と、平行度aと、平行度bを測定した。板厚と、平行度aと、平行度bの測定は、1次研磨後のガラス基板と同じ方法で実施した。1次研磨後の例1~例3のガラス基板に2次研磨と3次研磨を施し、洗浄乾燥して得た磁気記録媒体用ガラス基板は、同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の板厚偏差は1.0μm以下であり、平行度aは0.5μm以下であり、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の平行度aの偏差最大平行度値と最小平行度値との差は0.4μm以下であった。また、平行度bは0.6μm以下であり、同一ロットで研磨加工されたガラス基板間の平行度bの偏差最大平行度値と最小平行度値との差は0.4μm以下であった。