"干渉格子を試料上に形成するための装置であって、波長λの光線を発するレーザと、前記レーザによって発せられた前記光線を、第1の方向に偏向される第1の光線11と第2の光線14とに分割する光線分割板と、前記第1の光線を、第1の一定の入射角度θ1で前記試料の点P上に偏向させるための第1の固定式偏向鏡と、前記第2の光線を、第2の入射角度θ2で前記試料の前記点Pに到達する最終経路17に沿って偏向させるための少なくとも1つの第2の固定式偏向鏡であって、それによって干渉格子を、前記第1の入射角度θ1と第2の入射角度θ2との間の角度差θによって決まるピッチで前記試料上に形成する、第2の固定式偏向鏡とを備える装置において、前記第2の光線の前記経路が、複数の第1の衝突点71から前記第2の光線を方向付けし偏向させる移動可能な偏向鏡7、7’を含み、前記第1の衝突点から、前記第2の光線15は、前記第2の鏡8、M2上の複数の第2の衝突点82に向かって方向付けられており、それによって、第1および第2の衝突点71、82を各々が備える複数の対を形成し、その各々は、前記角度θ2の異なる値を有する前記第2の光線の前記最終経路17に対応し、それによって前記入射角度θ2の値を変化させ、したがって前記角度差θを変化させることと、前記第1の衝突点71が、前記試料から遠隔の上流側端部から延びる線形または放物線状経路上に配置され、ここでは、前記経路は、前記第1の方向とは反対方向に、したがって前記試料ECHの前記点Pと衝突する前記第1の光線の前記セグメント12から外方に、前記レーザによって発せられた前記光線10の方向から離間され、前記線形または放物線状経路は、前記試料ECHにより近くなるように下流端部に向かって進んでいる前記第1の光線の前記セグメント12に向かって凹角をなし、それによって前記角度差θのそれぞれの値に各々が対応する前記第1および第2の衝突点71、82の前記対に対して前記第2の光線の光学経路長さの変動を、少なくとも部分的に補償することとを特徴とする、装置。前記第2の光線の前記第1のセグメント14の前記経路上に偏向鏡の対61、62を含み、偏向鏡の前記対61、62から下流の前記第2の光線を、前記第1のセグメント14に対して一定の角度を形成する第2のセグメント15に沿って偏向させることと、前記第2の鏡が、偏向鏡の前記対61、62から下流に位置し、前記第2のセグメント15に沿って並進式に移動可能である鏡7によって構成され、前記第2の光線の前記第2のセグメント15は、前記線形経路に沿って配置された複数の前記第1の衝突点71で前記移動可能な鏡に当たって、前記移動可能な鏡から下流に、前記第2のセグメント15と共に一定の角度を作り出す第3のセグメント16を形成することと、前記装置が、前記第2の衝突点82において前記二次の偏向鏡に当たる前記第2の測定光線の前記第3のセグメント16を、前記試料ECHの前記点Pに当たる前記最終経路17に沿って偏向させながら、前記第1の測定光線11、12に対して少なくとも2つの異なる角度θを作り出すように事前配置された少なくとも2つの前記第2の偏向鏡81、82、...、810を含むこととを特徴とする、請求項1に記載の装置。回転式に移動可能である鏡7’を含み、第1の放物面鏡M1が、第2の光線の経路上および回転式に移動可能である前記鏡7’の回転軸上に置かれた焦点F1を有し、回転式に移動可能である前記鏡7’は、前記第2の光線を、前記焦点F1から前記第1の放物面鏡M1上に複数の前記第1の衝突点71で偏向させて、複数の前記第2の衝突点82において第2の放物面鏡M2に当たる前記第2の光線の中間セグメント16を形成し、前記第1および第2の光線がその上に集束する前記試料ECHの前記点Pが、前記第2の放物面鏡M2の前記焦点F2に位置することを特徴とする、請求項1に記載の装置。前記第2の測定光線の前記第1のセグメント14が、前記レーザから生じる前記光線10と同一線上にあることを特徴とする、請求項2または請求項3に記載の装置。少なくとも2つの測定点を構成するように前記移動可能な鏡7、7’の移動を制御するための制御モジュールを有することを特徴とする、請求項1から4までのいずれか一項に記載の装置。光線の経路上に配置されたλ/2半波長板である、偏光を変化させるための要素を含み、それによって干渉光線を前記試料ECH上に形成し、または前記試料ECHを均一な照明にさらすことを特徴とする、請求項1から5までのいずれか一項に記載の装置。前記半波長板がチョッパに結合されることを特徴とする、請求項6に記載の装置。偏光を変化させるための要素を含み、前記要素は、干渉格子を前記試料ECH上に形成すること、または前記試料を均一な照明にさらすことができる回転式偏光板であることを特徴とする、請求項1から5までのいずれか一項に記載の装置。前記第1の光線の前記経路上に介在させた電気光学変調器を有することを特徴とする、請求項8に記載の装置。各位置において電流IwおよびIw0の値を測定するための装置を含み、Iwは、前記試料上に形成された干渉格子に対応し、Iw0は、前記均一な照明にさらされる前記試料に対応することを特徴とする、請求項6から9までのいずれか一項に記載の装置。前記移動可能な鏡7,7’の移動を制御するためのステッパモータを含むことを特徴とする、請求項1から10までのいずれか一項に記載の装置。前記試料ECHが、光導電素子であることを特徴とする、請求項1から11までのいずれか一項に記載の装置。本発明の目的は、プロセスの自動化に適合された装置であって、特に上記で述べた用途に対する、干渉格子のピッチを変化させることを可能にする装置を提供することである。したがって、本発明は、干渉格子を、たとえば光導電素子によって構成された試料上に形成するための装置であって、波長λの光線を発するレーザと、レーザによって発せられた光線を第1と第2の光線に分割する光線分割板と、第1の光線を、第1の一定の入射角度θ1で試料の点P上に偏向させるための第1の固定式偏向鏡と、第2の光線を、第2の入射角度θ2で試料の前記点Pに到達する最終経路に沿って偏向させるための少なくとも1つの第2の固定式偏向鏡であって、それによって干渉格子を、第1の入射角度と第2の入射角度θ1とθ2の間の角度差θによって決まるピッチで試料上に形成する、第2の固定式偏向鏡とを備える装置において、第2の光線の経路が、第2の光線を複数の第1の衝突点から方向付けし偏向させる移動可能な偏向鏡を含み、第1の衝突点から、第2の光線は、前記第2の鏡上の複数の対応する第2の衝突点に向かって方向付けられ、それによって、各々が第1および第2の衝突点を備える衝突点の複数の対を形成し、その各々は、角度θ2の異なる値を有する第2の光線の前記最終経路に対応し、それによって入射角度の値θ2を変化させ、したがって角度差θを変化させることと、第1の衝突点が、試料から遠隔の上流側端部から延びる線形または放物線状経路上に配置され、ここでは、この経路は、試料の前記点Pと衝突する第1の光線のセグメントから外方に、レーザによって発せられた光線の方向から離間されており、前記線形または放物線状経路は、試料により近くなるように下流端部に向かって進んでいる第1の光線の前記セグメントに向かって凹角をなし、それによって角度差θのそれぞれの値に各々が対応する第1および第2の衝突点の対に対して第2の光線の光学経路長さの変動を最小限に抑えることとを特徴とする、装置を提供する。光学経路の長さ変動に対して適切な補償を与えることを可能にする第1の変形形態では、装置は、第2の光線の第1のセグメントの経路上に偏向鏡の対を含んで、偏向鏡の対から下流の第2の測定光線を、第1のセグメントに対して一定の角度を形成する第2のセグメントに沿って偏向させることと、第2の鏡が、偏向鏡の対から下流に位置し、第2のセグメントに沿って並進式に移動可能である鏡によって構成され、第2の光線の第2のセグメントは、複数の前記第1の衝突点で移動可能な鏡に当たって、移動可能な鏡から下流に第2のセグメントと共に一定の角度を作り出す第3のセグメントを形成することと、装置は、前記第2の衝突点において前記二次の偏向鏡に当たる第2の光線の第3のセグメントを偏向させるように事前配置された少なくとも2つの前記第2の偏向鏡を含んで、試料の前記点Pに当たる前記最終経路を形成して、第1の光線に対して少なくとも2つの異なる角度θを画定することとを特徴とする。好ましい変形形態では、方法は、回転式に移動可能である鏡を含み、第1の放物面鏡は、第2の光線の経路上および回転式に移動可能である鏡の回転軸上に置かれた焦点を有し、回転式に移動可能である鏡は、第2の光線を、前記焦点から第1の放物面鏡上に複数の第1の衝突点で偏向させて、複数の第2の衝突点において第2の放物面鏡に当たる中間セグメントを形成し、第1および第2の光線がその上に集束する試料ECHの前記点Pが、第2の放物面鏡の焦点に位置することを特徴とする。第2の測定光線の第1のセグメントは、好ましくは、レーザから生じる光線と同一線上にある。装置は、有利には、少なくとも2つの測定点を構成するように移動可能な鏡の移動を制御するための制御モジュールを有することを特徴とする。装置は、たとえば第1の光線の光の偏光を変化させるための要素を含んでもよく、この装置は、有利には、場合によってチョッパに結合された、回転式に移動可能な要素上に配置され得るλ/2半波長板、または電気光学変調器に選択的に結合された回転式偏光板であり、それによって干渉格子を試料上に形成し、または試料を均一な照明にさらす。装置は、次いで、各位置において電流IwおよびIw0の値を測定するための装置を含んでもよく、この場合、Iwは、試料上に形成された干渉格子に対応し、Iw0は、前記均一な照明にさらされる試料に対応する。装置は、好ましくは、並進式に移動可能である鏡の線形または回転式の移動を制御するためのステッパモータを有する。本発明の他の特性および利点は、図を参照して以下の説明を読み取ることによってより良好に明らかになる。図1に示す装置は、偏光板2によってたとえば縦方向に線形に偏光される光線を発するレーザ1を含む。主光線10は光線分割鏡3によって2つに分割され、それによって鏡3によって反射される第1の光線11と、光線分割鏡3から直接伝送される第2の光線14とをもたらす。第1の光線は、光線12を与えるために鏡4上で反射され、この光線は、任意選択で電気光学変調器EOMおよび回転式偏光板5を通り抜ける。従来の方法では、場合によっては偏光板に関連付けられる変調器EOMの機能は、試料ECH上の電極の末端から信号を拾い上げる際、また同期検波によって信号を処理する際に測定を実施することをより容易にするために光の強度を変調させることである。変調器EOMおよび偏光板を備えるこの対は、有利には、チョッパおよびλ/2半波長板によって置き換えられてよい。反射された光線12は、点Pにおいて、第1の入射角度θ1で、たとえば90°の角度で試料ECHの表面と交わる。第2の光線14は、2つの偏向鏡61光線14’および62によって偏向され、それによって第1の光線14に対して傾斜された第2の部分15を形成する。第2の光線部分15の軸に沿って線形に移動可能である偏向鏡7は、二次偏向鏡8の1つによって偏向される第3の光線部分16を形成する働きをし、二次偏向鏡8の1つは、偏向鏡7の各位置において、最終軌跡を構成する第4の光線部分17が、点Pにおいて入射角度θ2で試料ECHの表面に到達して、第2の光線部分12と共に、具体的には試料ECHの垂直線と共に角度θを形成するように選択された傾斜の位置および角度を有し、この角度θは、偏向鏡8ごとに異なり、したがって、光線部分12と17との間の角度θを変化させることによって、干渉格子のピッチの値の範囲で走査することが可能になる。偏向鏡7の各々の位置は、第2の光線が点Pに到達するように二次偏向鏡8からの第2の偏向点82と1対1の関係で対応する第1の偏向点71を画定する。特許文献1で説明された測定方法を実施することが望ましい場合、並進式に移動可能である鏡7の各位置において、電流IwおよびIw0の測定が行われる。この目的のために、半波長板5または回転式偏光板は、点Pで交差する2つの光線12と17とが、偏光を有することを可能にするように向けられ、これらの偏光は、平行であり、それによってこれらが表面上に干渉を作り出し、したがって電流Iwを測定することを可能にし、または垂直であり、したがって干渉格子が均一な照明によって置き換えられ、そのため電流Iw0を測定することを可能にする。上記で説明された装置は、調整を実施する必要なく光線間の角度θを変更することを可能にしながら、干渉を形成できるように点Pにおいて優れた重なりも維持し、したがって異なるピッチの干渉格子を得ることを自動式に可能にし、それによって測定を自動的に実施することが特に可能になる。モータ駆動の線形キャリヤによって単一の鏡を移動させることにより、約1マイクロメータμmの刻み幅で移動をもたらすことが可能になり、それによって、固定式の二次偏向鏡8の正確に規定された位置と組み合わせると、多様な事前調整された角度での正確な偏向を確実にすることが可能になる。装置は、たとえばλ=633ナノメートルnmの波長を有するレーザを用いて、通常は1μmから15μmまで延びる干渉格子ピッチサイズの範囲で測定を行う働きをする。偏光は、たとえば、回転式に制御可能である要素上に置かれたλ/2半波長板または回転式偏光板5を介在させることによって変更される。測定を自動化すること、すなわち線形キャリヤを用いて鏡の移動を制御し、電流を測定し増幅する回転式キャリヤを用いて半波長板または回転式偏光板の移動を制御し、次いで測定に関連する算出を引き続き実施すること、たとえば少数キャリヤの拡散距離LDを算出することはすべて、特有のソフトウェアを用い、登録商標Labviewとして知られているプログラム言語で開発されたコンピュータによって制御することができる。2つの光線間の経路長さの相違は、以下のように補正され得る:比較的安価であり、したがってそれほど大きい可干渉距離を有さないレーザを使用するためには、2つの光線の光学経路長さは、どの偏向鏡8が使用されるか図1bに関係なくできるだけ互いに近い値を有することをできるだけ確実にすることが必要である。図1cのレイアウトは、対照的に、補償を有さない簡単なレイアウトを示しており、ここでは、移動可能な鏡7は、光線分割板3から生じる非偏向のセグメント14に沿って移動する。光線分割板3と光線部分12および16が交差する点Aとの間のセグメント14および16の長さは、同じである距離を有するが、同じでない光学経路を有する。光線12が変調器の液晶を通り抜けることにより、その経路は約5センチメートルcm液晶長さ×n-lであり、式中、nは液晶の屈折率である長くされる。点Aから試料ECHに到達するために、光線16’、17は、直角三角形の短辺および斜辺に沿って進行し、一方で他方の光線12は長辺に沿って進行する。したがって、光線16’、17は、光線12のものより長い、点Aから試料ECHまでの経路を有する。そうではあるが、これは、光線12が点Aに到達する前に進行し得るさらなる5cmを常に補償するとは限らない。図1cの形状が使用される場合、光線14、16、17と光線11、12との間の光線分割板3から試料ECHまでの経路長さの合計の差は、偏向鏡81の場合の-4.3cmから偏向鏡810の場合の3.6cmまでの範囲にある。第1の鏡から最後の鏡まで進む2つの光線間の経路長さの差は、したがって±4cmで変化し、これは、短い可干渉距離を有するレーザで実施されたときの実験の良好な作動に有害になり得る。図1bは、部分的な補償を達成するための偏向鏡の配置のより詳細な図を示している。これらの鏡は、81から810で番号付けされる。光線12は、破線で表され、さまざまな光線16が、鏡7の位置に応じて示されている。これらの差を補償するために、鏡Miは、光線12に対して平行ではなく、凹角で移動され図1aおよび1d、それによって偏向鏡81に当たったときには光線14、15、16の経路長さを増大させ、偏向鏡810に当たったときには同経路長さを減少させる。この補正は、関係する方程式が線形ではないために部分的のみになり得る。図1dは、この補償を少なくとも部分的にもたらすように適合されたレイアウトを示している。以下の算出により、この部分的な補償を最適化することが可能になる。光線14、14’、15、16、17が、光線分割板3から試料ECHに進行し、偏向鏡81を通過する光学経路長さChIは、以下の通りに算出される:式中、Dは、試料ECHと光線12および16が交差する点Aとの間の距離を指定し、0.7は、偏向鏡を通過することから生じる余分の経路長さcmを指定する。変調器EOMを通り抜けて光線分割板3から試料ECHに至る他方の光線11、12の光学経路長さChIIは、以下の通りに算出される:すべての大きさはcmで表される。方程式2の最後の5cmは、変調器EOM内の追加の経路長さから生じるものである。最後に、以下の方程式が使用される:光線14、14’、15、16、17が、偏向鏡810を通過しながら光線分割板3から試料まで進行する光学経路長さCh’Iは、以下の通りに算出される:式中、dは、点Bと試料ECHとの間の距離であり、8.6は、偏向鏡810を通過する際に進行する余分の経路長さである。光線分割光線3から試料ECHまでの光学経路長さChIIは、同じようにして算出される:すべての大きさは引き続きcmで表される。方程式5内の最後の5cmは、上記と同様に、電子光学変調器EOMを通る追加の経路長さから生じるものである。以下の方程式が、最終的に得られる:このとき、方程式3および6がゼロになるようにxおよびyを求めることが可能であり、それによって、たとえば両端の鏡81と810に関して2つの光線間でゼロの経路長さ距離が得られる。言い換えれば、これは以下の解答に達する:冗長的であるが簡単な算出後、x=3.46cmおよびy=12.9cmが与えられる。この補正は部分的のみであるが、その理由は、光学経路長さの差が、鏡81および810に関してはゼロであるにも関わらず、鏡84および87に対して実施された類似の算出が、それぞれ[CHI-CHII]=-0.75cmおよび[Ch’I-ChII]=-0.97cmを与えるためである。そうではあるが、最大の光学経路長さの差は、センチメートル程度しかないことが分かり、それにより、光信号を事前に処理することなく、比較的短い数cm可干渉距離を有し、したがって比較的安価であるが恐らくレーザダイオードではないレーザを使用することが可能になる。経路長さの差が、偏向鏡の他の対、たとえば82および89または84および87に関して2つの光線間でゼロになるようにされる最適化を算出することが可能であることが認められるべきである。上記の算出はまた、電子光学変調器が使用されない場合にも適用されることが認められるべきである。2つの光線間の経路長さの差は、ここでは、たとえば偏向鏡の対によって補償され得る。図では、角度θ1=90°が選択されている。これは、光学ベンチの調整を容易にするので好ましい実施である。試料が、点P周りで、図の平面に対して垂直な軸周りを回転しても、角度θは同じままであるため、干渉が形成される方法は変更されないことが容易に分かる。さらには、セグメント12および16は、垂直である必要はない。正確な補償が、焦点軸が平行の状態で反対方向を向く2つの放物面鏡を用いることによって得られてよい。試料ECHの点Pは、軸外し放物面鏡M2の焦点F2に置かれる図2。他方の軸外し放物面鏡M1の焦点F1には、平面鏡7’の回転軸が置かれ、平面鏡7’は、回転時、両方の光線を同じ平面内に保ちながら、光線14が放物面鏡M1に到達する角度を変更する働きをする。点F1から試料までの光線の経路は、一定のままである。したがって、2つの光線間の経路長さの差は定数であり、この定数は、鏡91および92のシステムを用いて、幾何学的形状に応じて経路の一方または他方を長くすることによって補償され得る。例として、図2では、補償は光線12上で実施される偏向鏡91および92。利点a/2つの光線間の経路長さの差は、正確にゼロにすることができ、したがって単一モードダイオードである前提でレーザダイオードを使用することを可能にする。b/試料に当たる光線17の角度の変動は連続的であり、従来技術として説明した実施形態のように別個のものではなく、この角度の値を、放物面鏡の焦点F1に位置する鏡上に課された角度から設定することが可能である。c/調整の不備が発生した場合、試験され再度調整される必要がある鏡の数は、従来技術として説明した実施形態よりもかなり少ないものである。実施例異なる軸上の、7.5cmの同じ焦点長さおよび7.5cmの直径を有する2つの放物面鏡は、約60°を中心とする偏向角度と、放物面の軸と鏡の軸との間に約10cmのオフセットとを与える。放物面鏡の一方および/または他方は、一揃えの平面鏡図2の参照番号m1およびm2を参照によって置き換えられてよく、平面鏡は、このようにして置き換えられた放物面鏡のそれぞれの点71および/または82において正接のものであり、それによって衝突点71および82の対の数が制限される。"