"支持体上に、赤外線吸収染料、ラジカル重合開始剤及びラジカル重合性化合物を含有し、印刷インキ及び又は湿し水の少なくともいずれかにより除去可能な画像記録層、並びに、下記一般式1で表される界面活性剤及びポリマーを含有する酸素遮断層を、この順に有することを特徴とする平版印刷版原版。ここで、R1,R2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基、Na及びKから選択されるいずれかを表し、R1,R2のうち少なくとも一方は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基を表す。酸素遮断層に含有されるポリマーが水溶性樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版。前記水溶性樹脂がポリビニルアルコールであることを特徴とする請求項2に記載の平版印刷版原版。前記ポリビニルアルコールが、カルボキシ基及びスルホ基の少なくともいずれかを有することを特徴とする請求項3に記載の平版印刷版原版。酸素遮断層が、更に、無機層状化合物を含有することを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。支持体上に、赤外線吸収染料、ラジカル重合開始剤及びラジカル重合性化合物を含有し、印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより除去可能な画像記録層を塗設し、次いで、下記一般式1で表される界面活性剤を有する酸素遮断層を塗設することを特徴とする平版印刷版原版の製造方法。ここで、R1,R2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基、Na及びKから選択されるいずれかを表し、R1,R2のうち少なくとも一方は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基である。酸素遮断層塗設時の酸素遮断層塗布液の塗布量が、15ml/m2以下であることを特徴とする請求項6に記載の平版印刷版原版の製造方法。本発明の目的は、赤外線レーザーによる画像記録が可能であり、インキ着肉性、感度及び耐刷性が良好である機上現像型平版印刷版原版及びその製造方法を提供することにある。1.支持体上に、赤外線吸収染料、ラジカル重合開始剤及びラジカル重合性化合物を含有し、印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより除去可能な画像記録層、並びに、下記一般式1で表される界面活性剤及びポリマーを含有する酸素遮断層を、この順に有することを特徴とする平版印刷版原版。ここで、R1,R2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基、Na及びKから選択されるいずれかを表し、R1,R2のうち少なくとも一方は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基を表す。2.酸素遮断層に含有されるポリマーが水溶性樹脂であることを特徴とする前記1に記載の平版印刷版原版。3.前記水溶性樹脂がポリビニルアルコールであることを特徴とする前記2に記載の平版印刷版原版。4.前記ポリビニルアルコールが、カルボキシ基及びスルホ基の少なくともいずれかを有することを特徴とする前記3に記載の平版印刷版原版。5.酸素遮断層が、更に、無機層状化合物を含有することを特徴とする前記1~4のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。6.支持体上に、赤外線吸収染料、ラジカル重合開始剤及びラジカル重合性化合物を含有し、印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより除去可能な画像記録層を塗設し、次いで、下記一般式1で表される界面活性剤を有する酸素遮断層を塗設することを特徴とする平版印刷版原版の製造方法。ここで、R1,R2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基、Na及びKから選択され、R1,R2のうち少なくとも一方は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基である。7.酸素遮断層塗設時の酸素遮断層塗布液の塗布量が、15ml/m2以下であることを特徴とする前記6に記載の平版印刷版原版の製造方法。本発明においては、酸素遮断層に特定構造の界面活性剤を使用することによって、上記課題を解決できた。本発明の作用機作は必ずしも明確ではないが、従来の酸素遮断層を有する機上現像型平版印刷版原版に対し、特定構造の界面活性剤を使用することによって酸素遮断層塗布時の層間混合を減少させることができ、インキ着肉性を向上させ、更には層間混合の少ない酸素遮断層ができたことによって感度及び耐刷性も向上させることができたものと考えている。本発明によれば、インキ着肉性に優れ、感度、及び耐刷性の良好な機上現像型平版印刷版原版及びその製造方法を提供できる。《平版印刷版原版》本発明の平版印刷版原版は、支持体上に機上現像可能な画像記録層を有し、その上に酸素遮断層を有していることが必須である。また、本発明の平版印刷版原版は、場合によって、支持体と画像記録層の間に下塗り層、画像記録層と酸素遮断層との間に中間層、画像記録層と反対側の支持体表面にバックコート層を有してもよい。以下、本発明の平版印刷版原版の構成要素及び成分などについて説明する。[酸素遮断層]レーザー光による画像露光は、通常、大気中で行われる。そのため、酸素遮断層は、露光により画像記録層中で生じる画像形成反応を阻害する大気中の酸素、塩基性物質等の低分子化合物の画像記録層への侵入を抑制し、大気中での画像形成反応の阻害を防止する。従って、酸素遮断層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いられる光の透過性が良好で、画像記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものであるのが好ましい。このような特性を有する酸素遮断層については、以前より種々検討がなされており、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55-49729号公報に詳細に記載されている。本発明の酸素遮断層は、下記一般式1に示す界面活性剤及び水溶性樹脂を含有することを特徴とする。一般式1に示す界面活性剤ここで、R1,R2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基、Na及びKから選択されるいずれかを表し、R1,R2のうち少なくとも一方は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基である。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基は、好ましくはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数6~18のアルキル基であり、より好ましくは炭素数6~12のアルキル基であり、特に好ましくは、ヘキシル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基、ドデシル基である。R1,R2のうち片方はNa、Kであってもよい。すなわち、この化合物類はスルホコハク酸ナトリウム塩のアルキルエステルである。R1,R2ともに、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数5~20のアルキル基である方が好ましい。具体的には、以下に示す構造が挙げられ、日油株式会社製のラピゾールA-80、ラピゾールA-90、日本乳化剤株式会社製のニューコール290-A、ニューコール297等が好ましく用いられる。これらの化合物を用いると、その他の界面活性剤を使用した場合に比較し、インキ着肉性が向上できる。これは、酸素遮断層塗布時の画像記録層との界面混合が抑制されることによって機上現像後の画像部表面に残存する高親水性の酸素遮断層成分が少なくなるためと考えている。一般式1で示される界面活性剤の添加量としては、酸素遮断層固形分全体に対する比率が1質量~20質量であることが好ましい。この範囲内で本発明の効果が選り優れたものとなる。1質量以上であれば本発明の効果がより得られ、20質量以下ではより高い耐刷性が得られる。より好ましくは2~15質量、最も好ましくは5~10質量である。また塗布液中の濃度としては、後述の酸素遮断層塗布液の塗布量とも関係するが、一般的な界面活性剤の機能である塗布面質の向上に有効な、0.05~2質量の範囲が好ましい。より好ましくは約0.1~1質量である。ポリマー本発明の酸素遮断層には、皮膜性を持たせるためにポリマーを用いる。ポリマーとしては、画像記録層に密着する均一な皮膜を形成し得るものであれば、特に制限はなく、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができる。具体的には例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸化物、エチレン-ビニルアルコール共重合体、水溶性セルロース誘導体、ゼラチン、デンプン誘導体、アラビアゴム等の水溶性ポリマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタアクリロニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、セロハン等のポリマー等が挙げられる。これらは、必要に応じて2種以上を併用して用いることもできる。これらのうち、非画像部に残存する酸素遮断層の除去の容易性及び皮膜形成時のハンドリング性の観点から、水溶性ポリマーが好ましく、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチン、アラビアゴム等が好適であり、なかでも、水を溶媒として塗布可能であり、かつ、印刷時における湿し水により容易に除去されるという観点から、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、アラビアゴム等が更に好ましい。本発明に係る酸素遮断層に用い得るポリビニルアルコールは、必要な水溶性を有する実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するかぎり、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を含有していてもよい。ポリビニルアルコールの具体例としては、71~100モル加水分解され、重合度が300~2400の範囲のものが挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA-105,PVA-110,PVA-117,PVA-117H,PVA-120,PVA-124,PVA124H,PVA-CS,PVA-CST,PVA-HC,PVA-203,PVA-204,PVA-205,PVA-210,PVA-217,PVA-220,PVA-224,PVA-217EE,PVA-217E,PVA-220E,PVA-224E,PVA-405,PVA-420,PVA-613,L-8等が挙げられる。上記の共重合体としては、88~100モル加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテート又はプロピオネート、ポリビニルホルマール及びポリビニルアセタール及びそれらの共重合体が挙げられる。また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。例えば、カルボキシ基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有する各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、更にはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有する各種重合度のポリビニルアルコール等が挙げられる。機上現像性の観点から、アニオン変性部位を有するポリビニルアルコールが好ましく、なかでもカルボキシ基及びスルホ基の少なくともいずれかを有するポリビニルアルコールが好ましく、特にスルホ基を有するポリビニルアルコールが好ましい。これらのポリビニルアルコールは、カルボキシ基及びスルホ基の少なくともいずれかを有するモノマーと酢酸ビニルとを共重合し、その後ケン化することにより得ることができる。酸変性ポリビニルアルコールの具体例としては、カルボキシ変性ポリビニルアルコールとして、例えば、株式会社クラレ製KL-118ケン化度97モル、平均重合度1,800、KM-618ケン化度94モル、平均重合度1,800、KM-118ケン化度97モル、平均重合度1,800、KM-106ケン化度98.5モル、平均重合度600、日本合成化学工業株式会社製の、ゴーセナールT-330Hケン化度99モル、平均重合度1700、ゴーセナールT-330ケン化度96.5モル、平均重合度1700、ゴーセナールT-350ケン化度94モル、平均重合度1,700、ゴーセナールT-230ケン化度96.5モル、平均重合度1,500、ゴーセナールT-215ケン化度96.5モル、平均重合度1,300、ゴーセナールT-HS-1ケン化度99モル、平均重合度1,300、日本酢ビポバール株式会社製の、AF-17ケン化度96.5モル、平均重合度1,700、AT-17ケン化度93.5モル、平均重合度1,700が挙げられる。また、スルホン酸変性ポリビニルアルコールとして、例えば、株式会社クラレ製の、SK-5102ケン化度98モル、平均重合度200、日本合成化学工業株式会社製の、ゴーセランCKS-50ケン化度99モル、平均重合度300、L-3266ケン化度88モル、平均重合度300が挙げられる。これらの中で、日本合成化学工業株式会社製のゴーセランCKS-50ケン化度99.0モル平均重合度300が最も好ましい。無機層状化合物本発明においては、上記ポリマーと併用して無機層状化合物を含有していてもよく、無機層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式AB,C2-5D4O10OH,F,O2ただし、AはK,Na,Caの何れか、B及びCはFeII,FeIII,Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSi又はAlである。で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO4SiOH2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウムなどが挙げられる。上記雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg3AlSi3O10F2、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si4O10F2等の非膨潤性雲母、及びNaテトラシリリックマイカNaMg2.5Si4O10F2、Na又はLiテニオライトNa,LiMg2LiSi4O10F2、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライトNa,Li1/8Mg2/5Li1/8Si4O10F2等の膨潤性雲母等が挙げられる。また合成スメクタイトも有用である。本発明においては、上記の無機層状化合物の中でも、雲母が好ましく合成の無機層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、この膨潤性合成雲母や、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘土鉱物類等は、10~15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2、Mg2等の陽イオンを吸着している。特に層間の陽イオンがLi、Naの場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベントナイト及び膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、本発明において有用であり、特に膨潤性合成雲母が好ましく用いられる。本発明で使用する無機層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は好ましくは20以上であり、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。本発明で使用する無機層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3~20μm、好ましくは0.5~10μm、特に好ましくは1~5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1~50nm、面サイズが1~20μm程度である。このようにアスペクト比が大きい無機層状化合物の粒子を酸素遮断層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる酸素遮断層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。酸素遮断層中の無機層状化合物の含有量は、酸素遮断層に使用されるポリマーの量に対し、質量比で5/1~1/100であることが好ましい。複数種の無機層状化合物を併用した場合でも、これら無機層状化合物の合計の量が上記の質量比であることが好ましい。塗布液調製と酸素遮断層の塗設無機層状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100質量部に先に無機層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5~10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機層状化合物の5~10質量の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて酸素遮断層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、ポリマー溶液と配合して調製するのが好ましい。本発明の酸素遮断層塗布液には、上記の本発明の界面活性剤、ポリマー、無機層状化合物と塗布溶媒を混合して調液される。塗布溶剤はポリマーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、イオン交換水などの精製水を用いることが好ましい。また、酸素遮断層塗布液には、皮膜の物性改良のための水溶性可塑剤など、公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。更に、この塗布液には、画像記録層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。このように調製された酸素遮断層塗布液を、支持体上に備えられた画像記録層の上に塗布し、乾燥して酸素遮断層を形成する。酸素遮断層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号明細書又は特公昭55-49729号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的には、例えば、酸素遮断層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。本発明においては、酸素遮断層塗布液の塗布量が少ない方がインキ着肉性の点で好ましい。ここで酸素遮断層塗布液の塗布量とは、塗布液を画像記録上に塗布したときの乾燥前の単位面積当たりの塗布液体積ml/m2である。酸素遮断層塗布液の塗布量が少ないと、酸素遮断層塗布時の画像記録層との界面混合に対する抑制効果が大きくなり、インキ着肉性が向上すると考えている。本発明の好ましい態様として、酸素遮断層塗布液の塗布量は15ml/m2以下である。より好ましくは3~10ml/m2である。15ml/m2以下であればインキ着肉性がより向上する。酸素遮断層の塗布液には一般的に水が溶媒として含有されるため、100°C以上の温度で乾燥されることが好ましい。特に好ましくは120°C~150°Cである。これらの温度の熱風により乾燥させることが好ましい。酸素遮断層の乾燥後の塗布量としては、0.01~10g/m2の範囲であることが好ましく、0.02~3g/m2の範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02~1g/m2の範囲である。[画像記録層]本発明に用いられる画像記録層は、機上現像可能な画像記録層であることが必須である。画像記録層が含有する機上現像可能な代表的な画像形成態様としては、1A赤外線吸収染料、Bラジカル重合開始剤、及び、Cラジカル重合性化合物を含有して、重合反応を利用して画像部を硬化させる態様と、2A赤外線吸収染料、及び、Eポリマー微粒子を含有して、ポリマー微粒子の熱融着や熱反応を利用して疎水性領域画像部を形成する態様を挙げることができるこのようなポリマー微粒子は疎水化前駆体ともいわれる。また、上記二つの態様が混合したものでもよい。例えば、1重合型の画像記録層にポリマー微粒子を含有させてもよいし、2ポリマー微粒子を含んだ疎水化前駆体型画像記録層にCラジカル重合性化合物などを含有させてもよい。なかでも、A赤外線吸収染料、Bラジカル重合開始剤、及び、Cラジカル重合性化合物を含有する重合型の態様が好ましい。以下に、画像記録層に含有できる各成分について、順次説明する。A赤外線吸収染料赤外線吸収染料は、吸収した赤外線を熱に変換する機能と赤外線により励起して後述のラジカル重合開始剤に電子移動及び/又はエネルギー移動する機能を有する。本発明において使用される赤外線吸収染料は、波長760~1200nmに吸収極大を有する染料である。赤外線吸収染料としては、特開2008-195018号公報の段落番号[0058]~[0087]に記載されている化合物を用いることができる。これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。特に好ましい例として下記一般式aで示されるシアニン色素が挙げられる。一般式a中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、-NR9R10、-X2-L1又は以下に示す基を表す。ここで、R9及びR10は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数6~10の芳香族炭化水素基、炭素原子数1~8のアルキル基、水素原子を表し、またR9とR10とが互いに結合して環を形成してもよい。なかでもフェニル基が好ましい。X2は酸素原子又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1~12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1~12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。以下に示す基において、Xaは後述するZaと同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1~12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Zaは、対アニオンを示す。ただし、一般式aで示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZaは必要ない。好ましいZaは、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。本発明において、好適に用いることのできる一般式aで示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落番号[0017]~[0019]、特開2002-023360号公報の段落番号[0012]~[0021]、特開2002-040638号公報の段落番号[0012]~[0037]に記載されたものを挙げることができる。また、これらのA赤外線吸収染料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開2008-195018号公報[0072]~[0076]に記載の化合物が好ましい。本発明における画像記録層中の赤外線吸収染料の含有量は、画像記録層の全固形分の0.1~10.0質量が好ましく、より好ましくは0.5~5.0質量である。Bラジカル重合開始剤本発明に用いられるBラジカル重合開始剤としては、Cラジカル重合性化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明において使用しうるラジカル重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。本発明におけるラジカル重合開始剤としては、例えば、a有機ハロゲン化物、bカルボニル化合物、cアゾ化合物、d有機過酸化物、eメタロセン化合物、fアジド化合物、gヘキサアリールビイミダゾール化合物、h有機ホウ酸塩化合物、iジスルホン化合物、jオキシムエステル化合物、kオニウム塩化合物、が挙げられる。a有機ハロゲン化物としては、特開2008-195018号公報の段落番号[0022]~[0023]に記載の化合物が好ましい。bカルボニル化合物としては、特開2008-195018号公報の段落番号[0024]に記載の化合物が好ましい。cアゾ化合物としては、例えば、特開平8-108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。d有機過酸化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0025]に記載の化合物が好ましい。eメタロセン化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0026]に記載の化合物が好ましい。fアジド化合物としては、2,6-ビス4-アジドベンジリデン-4-メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。gヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0027]に記載の化合物が好ましい。h有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0028]に記載の化合物が好ましい。iジスルホン化合物としては、特開昭61-166544号、特開2003-328465号公報等に記載の化合物が挙げられる。jオキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0028]~[0030]に記載の化合物が好ましい。kオニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,3871974、T.S.Baletal,Polymer,21,4231980に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4-365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2-150848号、特開2008-195018号の各公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivelloetal,Macromolecules,106,13071977、J.V.Crivelloetal,J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.,17,10471979に記載のセレノニウム塩、C.S.Wenetal,Teh,Proc.Conf.Rad.CuringASIA,p478Tokyo,Oct1988に記載のアルソニウム塩、特開2008-195018号公報に記載のアジニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。上記の中でもより好ましいものとして、オニウム塩、なかでもヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩が挙げられる。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、更に好ましくは非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-メトキシフェニル-4-2-メチルプロピルフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-2-メチルプロピルフェニル-p-トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4-ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=1-ペルフルオロブタンスルホナート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス4-t-ブチルフェニルヨードニウム=テトラフェニルボラートが挙げられる。スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス4-クロロフェニルフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス4-クロロフェニル-4-メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス4-クロロフェニルスルホニウム=3,5-ビスメトキシカルボニルベンゼンスルホナートが挙げられる。アジニウム塩の例としては、1-シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-シクロヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-エトキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-クロロ-1-シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-エトキシ-4-シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4-ジクロロ-1-2-エチルヘキシルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-ベンジルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-フェネチルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=p-トルエンスルホナート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=ブロミド、1-2-エチルヘキシルオキシ-4-フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。ラジカル重合開始剤は、画像記録層を構成する全固形分に対し0.1~50質量が好ましく、より好ましくは0.5~30質量、特に好ましくは0.8~20質量の割合で添加することができる。この範囲で良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。Cラジカル重合性化合物本発明に用いることができるCラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれることが好ましい。このような化合物群は当該産業分野において広く知られているものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。具体例としては、特開2008-195018号公報の段落番号[0089]~[0098]に記載の化合物が挙げられる。なかでも好ましいものとして、脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などとのエステルが挙げられる。別の好ましいラジカル重合性化合物としては特開2005-329708号公報に記載のイソシアヌル酸構造を有する重合性化合物が挙げられる。上記の中でも、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ビスアクリロイルオキシエチルヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。本発明において、Cラジカル重合性化合物は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5~80質量、更に好ましくは15~75質量の範囲で使用される。Dバインダーポリマー本発明の画像記録層には、画像記録層の膜強度を向上させるため、バインダーポリマーを用いることができる。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。なかでも、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。なかでも本発明に好適なバインダーポリマーとしては、特開2008-195018号公報に記載のような、画像部の皮膜強度を向上するための架橋性官能基を主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。架橋性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。架橋性官能基としては、メタアクリル基、ビニル基、アリル基などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するアクリルポリマーやポリウレタンとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。バインダーポリマー中の架橋性基の含有量は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1~10.0mmol、より好ましくは1.0~7.0mmol、最も好ましくは2.0~5.5mmolである。また、本発明のバインダーポリマーは、更に親水性基を有することが好ましい。親水性基は画像記録層に機上現像性を付与するのに寄与する。特に、架橋性基と親水性基を共存させることにより、耐刷性と現像性の両立が可能になる。親水性基としては、たとえば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホ基、リン酸基等などがあり、なかでも、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~9個有するアルキレンオキシド構造が好ましい。特にエチレンオキシド単位を2~8個有するポリエチレンオキシド構造が好ましい。バインダーポリマーに親水性基を付与するには親水性基を有するモノマーを共重合すればよい。また、本発明のバインダーポリマーには、着肉性を制御するため、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基などの親油性の基を導入できる。具体的には、メタクリル酸アルキルエステルなどの親油性基含有モノマーを共重合すればよい。以下に本発明に用いられるバインダーポリマーの具体例1~11を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお繰り返し単位の比はモル比である。なお、本発明におけるバインダーポリマーは質量平均モル質量Mwが2000以上であることが好ましく、5000以上であるのがより好ましく、1万~30万であるのが更に好ましい。本発明では必要に応じて、特開2008-195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを用いることができる。また、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することもできる。バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、通常5~90質量であり、5~80質量であるのが好ましく、10~70質量であるのがより好ましい。Eポリマー微粒子本発明では、機上現像性を向上させるため、ポリマー微粒子を用いることができる。特に、ポリアルキレンオキシド構造を有するポリマー微粒子が好ましい。特に側鎖にポリアルキレンオキシド基を有するポリマー微粒子が好ましい。これらにより、湿し水の浸透性が向上し、機上現像性が良好となる。本発明におけるポリマー微粒子は、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる疎水化前駆体であることが好ましい。疎水化前駆体ポリマー微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及びミクロゲル架橋ポリマー微粒子から選ばれる少なくともひとつの粒子が好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。機上現像性を向上させるためには、上記の如く、ポリアルキレンオキシド構造を有することが好ましい。疎水性熱可塑性ポリマー微粒子としては、1992年1月のResearchDisclosureNo.333003、特開平9-123387号公報、同9-131850号公報、同9-171249号公報、同9-171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。本発明に用いられる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01~2.0μmが好ましい。本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられ、これらは、熱反応による架橋、及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など、カチオン重合性基例えば、ビニル基、ビニルオキシ基など、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などを好適なものとして挙げることができる。本発明で用いられるマイクロカプセルとしては、例えば、特開2001-277740号公報、特開2001-277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものである。なお、画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。更に、マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。本発明においては、架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様であってもよい。このミクロゲルは、その中及び/又は表面に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができ、特に、Cラジカル重合性化合物をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化、若しくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01~3.0μmが好ましい。0.05~2.0μmが更に好ましく、0.10~1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。ポリマー微粒子の含有量としては、画像記録層全固形分の5~90質量の範囲であることが好ましい。Fその他の成分本発明における画像記録層には、必要に応じて、更に他の成分を含有することができる。1低分子親水性化合物本発明における画像記録層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類、等が挙げられる。本発明においてはこれらの中でも、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類、ベタイン類の群から選ばれる少なくとも一つを含有させることが好ましい。有機スルホン酸塩の具体的な化合物としては、n-ブチルスルホン酸ナトリウム、n-ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2-エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n-オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11-トリオキサペンタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、13-エチル-5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14-テトラオキサテトラデコサン-1-スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p-トルエンスルホン酸ナトリウム、p-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p-スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル-5-スルホン酸ナトリウム、1-ナフチルスルホン酸ナトリウム、4-ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5-ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6-ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩などが挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。有機硫酸塩としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位は1~4であるのが好ましく、塩は、ナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素原子数が1~5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3-ヒドロキシ-4-トリメチルアンモニオブチラート、4-1-ピリジニオブチラート、1-ヒドロキシエチル-1-イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3-トリメチルアンモニオ-1-プロパンスルホナート、3-1-ピリジニオ-1-プロパンスルホナートなどが挙げられる。上記の低分子親水性化合物は、疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部画像部へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持できる。これら低分子親水性化合物の画像記録層への添加量は、画像記録層全固形分量の0.5質量以上20質量以下であることが好ましい。より好ましくは1質量以上10質量以下であり、更に好ましくは2質量以上10質量以下である。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。2感脂化剤本発明の画像記録層には、着肉性を向上させるために、画像記録層にホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を用いることができる。特に、酸素遮断層に無機層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。好適なホスホニウム化合物としては、特開2006-297907号公報及び特開2007-50660号公報に記載のホスホニウム化合物を挙げることができる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4-ビストリフェニルホスホニオブタン=ジヘキサフルオロホスファート、1,7-ビストリフェニルホスホニオヘプタン=スルファート、1,9-ビストリフェニルホスホニオノナン=ナフタレン-2,7-ジスルホナート、1,9-ビストリフェニルホスホニオノナン=ジヘキサフルオロホスファートなどが挙げられる。上記含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第4級アンモニウム塩類が挙げられる。またイミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。なかでも、第4級アンモニウム塩類、及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p-トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファートなどが挙げられる。上記アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すれば如何なるものでもよいが、側鎖にアンモニウム基を有するメタアクリレートを共重合成分として5~80モル含有するポリマーが好ましい。上記アンモニウム塩含有ポリマーは、下記の測定方法で求められる還元比粘度単位:cSt/g/mlの値で、5~120の範囲のものが好ましく、10~110の範囲のものがより好ましく、15~100の範囲のものが特に好ましい。<還元比粘度の測定方法>30質量ポリマー溶液3.33g固形分として1gを、20mlのメスフラスコに秤量し、N-メチルピロリドンでメスアップする。この溶液をウベローデ還元比粘度管粘度計定数=0.010cStsに入れ、30°Cにて流れ落ちる時間を測定し、計算式動粘度=粘度計定数×液体が細管を通る時間秒を用いて定法により算出した。以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。12-トリメチルアンモニオエチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体モル比10/9022-トリメチルアンモニオエチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体モル比20/8032-エチルジメチルアンモニオエチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体モル比30/7042-トリメチルアンモニオエチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2-エチルヘキシルメタクリレート共重合体モル比20/8052-トリメチルアンモニオエチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体モル比40/6062-ブチルジメチルアンモニオエチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体モル比20/8072-ブチルジメチルアンモニオエチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体モル比20/8082-ブチルジメチルアンモニオエチルメタクリレート=13-エチル-5,8,11-トリオキサ-1-ヘプタデカンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体モル比20/8092-ブチルジメチルアンモニオエチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート/2-ヒドロキシ-3-メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体モル比15/80/5上記感脂化剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して0.01~30.0質量が好ましく、より好ましくは0.1~15.0質量、1~10質量が更に好ましい。3その他更にその他の成分として、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機層状化合物、及び共増感剤若しくは連鎖移動剤などを添加することができる。具体的には、特開2008-284817号公報の段落番号[0114]~[0159]、特開2006-091479号公報の段落番号[0023]~[0027]、米国特許公開2008/0311520号明細書[0060]に記載の化合物及び添加量が好ましい。G画像記録層の形成本発明における画像記録層は、例えば、特開2008-195018号公報の段落番号[0142]~[0143]に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、これを支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することで形成される。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量固形分は、用途によって異なるが、一般的に0.3~3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。[下塗り層]本発明の平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。下塗り層に用いる化合物としては、具体的には、特開平10-282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2-304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が挙げられる。より好ましいものとして、特開2005-125749号及び特開2006-188038号公報に記載のごとき、支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基、及び架橋性基を有する高分子樹脂が挙げられる。この高分子樹脂は、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。より具体的には、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-、-COCH2COCH3などの吸着性基を有するモノマーと、親水性のスルホ基を有するモノマーと、更にメタクリル基、アリル基などの重合性の架橋性基を有するモノマーとの共重合体である高分子樹脂が挙げられる。この高分子樹脂は、高分子樹脂の極性置換基と、対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。下塗り層用高分子樹脂中の不飽和二重結合の含有量は、高分子樹脂1g当たり、好ましくは0.1~10.0mmol、最も好ましくは2.0~5.5mmolである。下塗り層用の高分子樹脂は、質量平均モル質量が5000以上であるのが好ましく、1万~30万であるのがより好ましい。本発明の下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時における汚れ防止のため、キレート剤、第2級又は第3級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基とアルミニウム支持体表面と相互作用する基とを有する化合物等例えば、1,4-ジアザビシクロ[2,2,2]オクタンDABCO、2,3,5,6-テトラヒドロキシ-p-キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸などを含有することができる。下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量固形分は、0.1~100mg/m2であるのが好ましく、1~30mg/m2であるのがより好ましい。[支持体]本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体としては、公知の支持体が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。また、上記アルミニウム板は必要に応じて、特開2001-253181号公報や特開2001-322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートあるいは米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行うことができる。支持体は、中心線平均粗さが0.10~1.2μmであるのが好ましい。本発明の支持体には必要に応じて、裏面に、特開平5-45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6-35174号公報に記載されているケイ素のアルコキシ化合物を含むバックコート層を設けることができる。《製版方法》本発明の平版印刷版原版の製版は機上現像方法で行うことが好ましい。機上現像方法は、平版印刷版原版を画像露光する工程と、露光後の平版印刷版原版になんらの現像処理を施すことなく、油性インキと水性成分とを供給して、印刷する印刷工程とを有し、該印刷工程の途上において平版印刷版原版の未露光部分が除去されることを特徴とする。画像様の露光は平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で行ってもよいし、プレートセッターなどで別途行ってもよい。後者の場合は、露光済み平版印刷版原版は現像処理工程を経ないでそのまま印刷機に装着される。その後、該印刷機を用い、油性インキと水性成分とを供給してそのまま印刷することにより、印刷途上の初期の段階で機上現像処理、すなわち、未露光領域の画像記録層が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出され非画像部が形成される。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が用いられる。以下、更に詳細に説明する。本発明において画像露光に用いられる光源としては、レーザーが好ましい。本発明に用いられるレーザーは、特に限定されないが、波長760~1200nmの赤外線を照射する固体レーザー及び半導体レーザーなどが好適に挙げられる。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10~300mJ/cm2であるのが好ましい。レーザーにおいては、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。露光された平版印刷版原版は、印刷機の版胴に装着される。レーザー露光装置付きの印刷機の場合は、平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着したのち画像露光される。画像様に露光した平版印刷版原版に湿し水と印刷インキとを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する印刷インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された湿し水及び/又は印刷インキによって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキは露光領域の画像記録層に着肉して印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、湿し水でもよく、印刷インキでもよいが、湿し水が未硬化の画像記録層に浸透するのを印刷インキが妨げない点で、最初に湿し水を供給するのが好ましい。このようにして、本発明の平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は質量平均モル質量Mwであり、繰り返し単位の比率はモル百分率である。[実施例1~23及び比較例1~16]1.平版印刷版原版1~39の作製1支持体の作製その1厚み0.3mmのアルミニウム板材質JISA1050の表面の圧延油を除去するため、10質量アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50°Cで30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス-水懸濁液比重1.1g/cm3を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45°Cの25質量水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60°Cで20質量硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含む、液温50°Cであった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。続いて、塩酸0.5質量水溶液アルミニウムイオンを0.5質量含む、液温50°Cの電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。次に、この板に15質量硫酸アルミニウムイオンを0.5質量含むを電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体1を作製した。その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体1に2.5質量3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60°Cで10秒間、シリケート処理を施し、その後、水洗して支持体2を得た。Siの付着量は10mg/m2であった。この基板の中心線平均粗さRaを直径2μmの針を用いて測定したところ、0.45μmであった。2下塗り層の形成次に、上記支持体2上に、下記下塗り層用塗布液1を乾燥塗布量が20mg/m2になるよう塗布して、以下の実験に用いる下塗り層を有する支持体を作製した。<下塗り層用塗布液1>下記構造の下塗り層用化合物10.18gヒドロキシエチルイミノ二酢酸0.10gフェノチアジン0.01gメタノール55.24g水6.15g3画像記録層の形成上記のようにして形成された下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液1をバー塗布した後、100°C60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。画像記録層塗布液1は下記感光液1及びミクロゲル液1を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。<感光液1>バインダーポリマー1下記構造0.240g赤外線吸収剤1下記構造0.030gラジカル重合開始剤1下記構造0.162gラジカル重合性化合物トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレートNKエステルA-9300、新中村化学株製0.192g低分子親水性化合物トリス2-ヒドロキシエチルイソシアヌレート0.062g低分子親水性化合物1下記構造0.050g感脂化剤ホスホニウム化合物1下記構造0.055g感脂化剤ベンジル-ジメチル-オクチルアンモニウムPF6塩0.018g感脂化剤アンモニウム基含有ポリマー[下記構造、還元比粘度44cSt/g/ml]0.035gフッ素系界面活性剤1下記構造0.008g2-ブタノン1.091g1-メトキシ-2-プロパノール8.609g<ミクロゲル液1>ミクロゲル12.640g蒸留水2.425g上記の、バインダーポリマー1、赤外線吸収染料1、ラジカル重合開始剤1、ホスホニウム化合物1、低分子親水性化合物1、アンモニウム基含有ポリマー、及びフッ素系界面活性剤1の構造は、以下に示す通りである。-ミクロゲル1の合成-油相成分として、下記構造の多官能イソシアナート三井化学ポリウレタン製;75質量酢酸エチル溶液4.46g、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート、メチル片末端ポリオキシエチレン付加体三井化学ポリウレタン製;50質量酢酸エチル溶液0.86g、ペンタエリスリトールテトラアクリレートサートマー製、SR399E1.72g、及びパイオニンA-41C竹本油脂製;メタノール70質量溶液0.05gを酢酸エチル4.46gに溶解した。油相成分及び水相成分としての水17.30gを混合し、ホモジナイザーを用いて10000rpmで15分間乳化した。得られた乳化物を、40°Cで4時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、21.8質量になるように水を用いて希釈した。平均粒径は0.25μmであった。4酸素遮断層の形成上記画像記録層上に、更に下記組成の酸素遮断層塗布液1を塗布量が5ml/m2~17.5ml/m2のバーを用いて塗布した後、120°C、60秒でオーブン乾燥し、表1に記載の塗布量の酸素遮断層を形成して平版印刷版原版1~39実施例1~23用及び比較例1~16用を得た。<酸素遮断層用塗布液1>無機層状化合物分散液11.5g表1に記載のポリマー6質量水溶液又は水分散液0.85g表1に記載の界面活性剤表1に記載の添加量イオン交換水6.0g無機層状化合物分散液1の調製イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME-100コープケミカル株製6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径レーザー散乱法が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。2.平版印刷版原版の評価1塗布面質得られた平版印刷版原版1~39を白灯下で目視し、面質異常塗布スジ、段ムラ、ハジキなどがないか確認した。結果を表2に示す。○は面質異常なし、×は面質異常あり。2感度得られた平版印刷版原版1~39を水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力Wを変化させて、外面ドラム回転数250rpm、解像度2400dpiの条件で、10μmの細線を露光した。得られた露光済み原版をハイデルベルグ社製印刷機SpeedMaster74の版胴に取り付け、湿し水ZeroIPA-Ecolity20富士フイルム株製/水道水=2/98容量比の湿し水とFusion-GN墨インキ大日本インキ化学工業株製とを用い、SpeedMaster74の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像を行った後、毎時8000枚の印刷速度で、500枚の印刷を行った。機上現像完了後の印刷物に10μmの細線が途切れることなく再現できたレーザー最小出力Wから求めた照射エネルギー量mJ/cm2を感度として評価した。その結果を表2に示す。3インキ着肉性得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム株製LuxelPLATESETTERT-6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50網点チャートを含むようにした。得られた露光済み原版を現像処理することなく、株小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity-2富士フイルム株製/水道水=2/98容量比の湿し水とFusion-GN墨インキ大日本インキ化学工業株製とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート76.5kg紙に印刷を100枚行った。露光部である画像部のインキ濃度が、規定のインキ濃度に達するまでに要した印刷用紙の枚数をインキ着肉性として計測した。これらの結果を表2に示す。4耐刷性上述した機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。結果を表2に示す。ポリアクリロニトリル微粒子メカニカルスターラーを備え付けた200mlの三口フラスコに水80g、ドデシル硫酸ナトリウムSDS0.3g、アクリロニトリル6.0gを添加し完全に溶解した。次いで、系内を窒素置換した後、窒素フロー流量:10ml/minした。次に、70°Cに昇温したのち、300rpmの回転速度で攪拌しながら過硫酸カリウム水溶液過硫酸カリウム0.27g、水10gを2時間かけて滴下した。滴下終了後、70°Cで3時間攪拌し、次いで、80°Cに昇温して、窒素フロー流量を100ml/minとして2時間攪拌した。留去したアクリロニトリルは、冷却管を備え付けたディーンスターク管により捕捉した。固形分量は6.0質量、平均粒径は125nmである。上記表2から、酸素遮断層に一般式1で表される界面活性剤を用いた本発明の平版印刷版原版は、その他の種々の界面活性剤を用いた平版印刷版原版と比較して、インキ着肉性に優れ、感度及び耐刷性が良好であることが判る。"