"第1方向に延びた第1の長パターンの束に対し、平面視でこの第1方向に交差する第2方向に延びた複数の短パターンを導通させて略一定のピッチのメッシュ構造を形成しており、当該第1の長パターンの束が前記第2方向に沿って互いに離間して配置された接触感知用の第1電極パターンと、前記第2方向に延びた第2の長パターンの束に対し、前記第1方向に延びた複数の短パターンを導通させて前記ピッチと同ピッチのメッシュ構造を形成しており、当該第2の長パターンの束が前記第1方向に沿って互いに離間して配置されるとともに、この第2の長パターンと前記第1の長パターンとを導通させずに前記平面視で互いに交差しても前記ピッチと同ピッチのメッシュ構造を形成できる接触感知用の第2電極パターンと、前記ピッチと同ピッチのメッシュ構造で形成され、前記第1電極パターンと前記第2電極パターンとで囲まれた空間を埋めるダミーパターンと、前記平面視で互いに向かい合う前記第1電極パターンと前記ダミーパターンとの間に設けられた第1パターン隙間、並びに、前記平面視で互いに向かい合う前記第2電極パターンと前記ダミーパターンとの間に設けられた第2パターン隙間とを具備し、これら第1パターン隙間及び第2パターン隙間の各間隔は、前記ピッチの略1/2倍の長さに設定されていることを特徴とする静電容量型タッチパネル。請求項1に記載の静電容量型タッチパネルであって、前記メッシュ構造は、前記第1電極パターンの延在方向や前記第2電極パターンの延在方向に対して平行に配置されることを特徴とする静電容量型タッチパネル。請求項1又は2に記載の静電容量型タッチパネルであって、前記ダミーパターンの外周縁は連続した線で結ばれており、この外周縁の内側に形成されたメッシュ構成パターンが前記第1パターン隙間や前記第2パターン隙間に突出せず、前記第1電極パターンの短パターンが前記平面視で前記ダミーパターンの外周縁に対向した前記第1の長パターンで結ばれており、この第1電極パターンの短パターンが前記第1パターン隙間に突出せず、前記第2電極パターンの短パターンが前記平面視で前記ダミーパターンの外周縁に対向した前記第2の長パターンで結ばれており、この第2電極パターンの短パターンが前記第2パターン隙間に突出しないことを特徴とする静電容量型タッチパネル。請求項1から3のいずれか一項に記載の静電容量型タッチパネルであって、前記第1電極パターン、前記第2電極パターン、及び前記ダミーパターンの各線幅は、5.0μmから20μmの範囲に設定されることを特徴とする静電容量型タッチパネル。しかしながら、仮に、特許文献1のメッシュ構造の電極パターンと特許文献2,3のダミーパターンとを組み合わせてみても、利用者に違和感を与えるという問題が依然として残されている。詳しくは、透明基板のみの領域をダミーパターンで埋めるに際し、まず、このダミーパターンは、X,Y軸方向に延びた金属製の細長いラインから離間させる必要がある。それは、細長いラインとダミーパターンとが接すると、周囲の電極パターンよりも太い線として際立つし、また、細長いラインとダミーパターンとが重なると、メッシュ構造の電極パターンを透明基板に重ねた場合の光の透過率よりもさらに大きな透過率になるからである。そして、これら太い線の状態や大きな透過率の状態を回避すると、ダミーパターンの外側が透明基板のみの領域になる。つまり、互いに向かい合う金属製の細長いラインとダミーパターンとの間には、X軸方向ではX電極とのパターン隙間が、Y軸方向ではY電極とのパターン隙間がそれぞれ存在し、これらX,Y電極とのパターン隙間が四角形の輪郭を形成する。すなわち、単にダミーパターンをX,Y軸方向に延びた金属製の細長いラインから離間させて配置すると、X電極とのパターン隙間及びY電極とのパターン隙間が連続した空白の帯として浮かび上がり、当該帯状の空白部分の内側に位置するダミーパターンが際立ち初め、また、当該帯状の空白部分の外側に位置するメッシュ構造の電極パターンも際立ち初め、肉眼でも目立つ。これでは、表示ユニットの情報が、この情報とは無関係のメッシュ構造パターンが目立ち、この情報が利用者に視認し難くなる。そこで、本発明の目的は、上記課題を解消し、利用者が表示情報を見易くなることにより、操作性の向上を図ることができる静電容量型タッチパネルを提供することである。上記目的を達成するための第1の発明は、接触感知用の第1電極パターン、接触感知用の第2電極パターン、及びダミーパターンで構成された静電容量型タッチパネルである。詳しくは、まず、第1電極パターンは、第1方向に延びた第1の長パターンの束に対し、平面視でこの第1方向に交差する第2方向に延びた複数の短パターンを導通させて略一定のピッチのメッシュ構造を形成しており、第1の長パターンの束が第2方向に沿って互いに離間して配置される。次に、第2電極パターンは、第2方向に延びた第2の長パターンの束に対し、第1方向に延びた複数の短パターンを導通させて上記ピッチと同ピッチのメッシュ構造を形成しており、第2の長パターンの束が第1方向に沿って互いに離間して配置されるとともに、この第2の長パターンと第1の長パターンとを導通させずに平面視で互いに交差しても上記ピッチと同ピッチのメッシュ構造を形成できる。続いて、ダミーパターンは、上記ピッチと同ピッチのメッシュ構造で形成され、第1電極パターンと第2電極パターンとで囲まれた空間を埋める。そして、本発明の静電容量型タッチパネルは、平面視で互いに向かい合う第1電極パターンとダミーパターンとの間に設けられた第1パターン隙間、並びに、平面視で互いに向かい合う第2電極パターンとダミーパターンとの間に設けられた第2パターン隙間とを具備し、これら第1パターン隙間及び第2パターン隙間の各間隔は、メッシュ構造のピッチの略1/2倍の長さに設定されている。第1の発明によれば、タッチパネル用のパターンが、接触感知用の第1電極パターン、接触感知用の第2電極パターン、及びダミーパターンの3種で構成され、いずれもメッシュ構造を有する。詳しくは、まず、第1電極パターンでは、第1の長パターンの束と複数の短パターンとが導通状態で交差した網目状に形成されている。これら網目状は、いずれも略一定のピッチである。次に、第2電極パターンでは、第2の長パターンの束と複数の短パターンとが用いられる。これら第2の長パターン及び短パターンが導通状態で交差した網目状に形成されており、これら網目状もまた、第1電極パターンのメッシュ構造と同じピッチである。さらに、第1の長パターンと第2の長パターンとは導通していないものの、平面視では互いに交差する。したがって、上述した第1電極パターン自体や第2電極パターン自体の他、互いに絶縁状態にある第1電極パターンと第2電極パターンとによっても上記メッシュ構造を形成できる。一方、第1の長パターンは、その束と束とが第2方向に沿って互いに離れて配置される。これに対し、第2の長パターンは、その束と束とが第1方向に沿って離れて配置される。すなわち、平面視では、第1電極パターンと第1電極パターンとの間であって、第2電極パターンと第2電極パターンとの間には、これら第1電極パターンや第2電極パターンの無い領域が形成される。そこで、これら隣り合う第1電極パターンの間、かつ、隣り合う第2電極パターンの間の双方に相当する領域はダミーパターンで埋める。これらダミーパターンは、第1電極パターンや第2電極パターンのメッシュ構造と同じピッチのメッシュ構造であり、タッチパネルを備えた画面のうち、第1電極パターンや第2電極パターンの存在しない空間を目立たなくする機能を有する。ここで、本発明によれば、第1パターン隙間の間隔及び第2パターン隙間の間隔をメッシュ構造の大きさに関連付けて規定しており、ダミーパターンや、その周囲の第1電極パターン及び第2電極パターン、又は第1,2電極パターンの組み合わせ部分が、従来に比して目立ち難くなる。より詳しくは、メッシュ構造のピッチの略1/2倍という規則に基づいて第1パターン隙間の間隔や第2パターン隙間の間隔を設定すれば、第1パターン隙間や第2パターン隙間が太い帯状の空白部分として浮かび上がらない。また、第1電極パターンとダミーパターン、或いは第2電極パターンとダミーパターンとで太い線として認識されることもない。よって、ダミーパターンや、その周囲の第1電極パターン及び第2電極パターン、又は第1,2電極パターンの組み合わせ部分が肉眼で目立ち難くなる。この結果、利用者への違和感を真に無くして操作性の向上を達成でき、その位置情報を速やかに検出することができる。しかも、第1電極パターン自体や第2電極パターン自体がメッシュ構造を有していれば、汎用の導電材料を利用することができ、安価な静電容量型タッチパネルを提供できる。さらに、上記メッシュ構造によれば、第1電極パターンや第2電極パターンの信頼性も高くなる。なぜならば、仮にメッシュ構造に部分的な断線が生じてしまったとしても、メッシュ構造全体でみて導通が維持されていれば、その位置情報の検出が可能になるからである。第2の発明は、第1の発明の構成において、メッシュ構造は、第1電極パターンの延在方向や第2電極パターンの延在方向に対して平行に配置されることを特徴とする。第2の発明によれば、第1の発明の作用に加えてさらに、メッシュ構造が第1の長パターンや第2の長パターンと完全に平行、換言すれば、肉眼で検査した場合よりも厳密に精査してメッシュ構造のバイアス角度が0°に設定されることから、第1パターン隙間や第2パターン隙間が帯状の空白部分として全く浮かび上がらない。第3の発明は、第1や第2の発明の構成において、ダミーパターンの外周縁は連続した線で結ばれており、この外周縁の内側に形成されたメッシュ構成パターンが第1パターン隙間や第2パターン隙間に突出せず、第1電極パターンの短パターンが平面視でダミーパターンの外周縁に対向した第1の長パターンで結ばれており、この第1電極パターンの短パターンが第1パターン隙間に突出せず、第2電極パターンの短パターンが平面視でダミーパターンの外周縁に対向した第2の長パターンで結ばれており、この第2電極パターンの短パターンが第2パターン隙間に突出しないことを特徴とする。第3の発明によれば、第1や第2の発明の作用に加えてさらに、第1電極パターン、第2電極パターンやダミーパターンは、いずれもいわゆる閉じた図形となり、第1パターン隙間及び第2パターン隙間には、第1電極パターンの短パターン、第2電極パターンの短パターン、及びダミーパターンの内側に形成されたメッシュ構成パターンが突出しない。すなわち、メッシュ構造をなす短パターンの終端部分やメッシュ構成パターンの終端部分が解放されない。よって、各終端部分の寸法バラツキが生じず、これら各終端部分が却って第1パターン隙間や第2パターン隙間を浮かび上がらせることもない。第4の発明は、第1から第3の発明の構成において、第1電極パターン、第2電極パターン、及びダミーパターンの各線幅は、5.0μmから20μmの範囲1μm=1.0×10-6mに設定されることを特徴とする。第4の発明によれば、第1から第3の発明の作用に加えてさらに、各パターンの線幅が5.0μmから20μmの範囲に設定されてあれば、微細な線幅を構成でき、メッシュ構造を製造し易く、また、肉眼で目立ち難くなる。詳しくは、この線幅が5.0μm未満であると、均一な線幅を形成することが困難になるからである。さらに、パターンの表面抵抗値も約0.1Ω/sq.よりも高くなって感度低下も招く。一方、この線幅が20μmを超えてしまうと、メッシュ構造が非常に際立つのである。本発明によれば、第1パターン隙間の間隔及び第2パターン隙間の間隔をメッシュ構造の大きさに関連付けて規定しており、利用者への違和感を真に無くして操作性の向上を図る静電容量型タッチパネルを提供することができる。以下、本発明の好適な実施形態を図面に基づいて説明する。図1には、本実施例の静電容量型タッチパネル6を備えたディスプレイ2が示されている。このディスプレイ2は、例えば金融機関のATMに設置にされており、金融機関が当該ATMを介して利用者に提供できるサービス内容などを表示できる。このATMの装置本体は、顔を上げてその前に立った利用者の視界に入る位置に、正面壁図示しないを有する。当該正面壁は上下方向に沿って延び、その適宜位置には、通帳や磁気カードの挿入受け取り口が前方に向けて開口している。また、ATMの装置本体は、この正面壁の下側が利用者に向けて膨出し、この正面壁に交差する平面壁1を有する。詳しくは、平面壁1は、その顔を下方に向けた利用者の視界に入る位置であり、この利用者の手の届く位置に設けられている。これら平面壁1と上述した正面壁との交差位置には、紙幣や硬貨の受け取り投入口図示しないが上方に向けて開口している。そして、ディスプレイ2は平面壁1の略中央位置に設置される図1。本実施例のディスプレイ2はケーシング4を有する。このケーシング4は、上方に向けて開口したカップ状をなし、当該開口の周縁部分が四角形状に形成され、ディスプレイ2の外枠として平面壁1から突出している。このケーシング4の内部には、静電容量型タッチパネル6や表示ユニット8が収納される。本実施例の表示ユニット8は、その構造の図示は省略するが、液晶層の表裏をガラス基板や偏光板で挟持した液晶セルや、この液晶セルの裏側に配置されるバックライトを有する。さらに、これら液晶セルやバックライトを駆動制御する制御基板も備えており、上記サービス内容などの複数の指示画像をカラー表示可能である。例えば図1を、ATMの前に立った利用者が最初に見る画面として説明すれば、灰色の背景画像10の内部に、計8個の指示画像12が青色で表示され、各指示画像12にはお引き出し、お預け入れ、お振り込み、お振り替え、通帳記入残高照会、通帳繰越、暗証番号変更や、預金取引の文字等が黒色でそれぞれ表示されている。ここで、利用者の指が所望の指示画像12に接近すると、当該指示画像12の色が反転して選択される。続いて、この選択した指示画像12に関するサービスの次の画面に進み、具体的な入力が実行される。このように、利用者は、表示ユニット8の表示内容に沿ってATMを自ら操作すれば、金融機関の窓口を経由することなく、その提供するサービスを受けることができる。それは、静電容量型タッチパネル6が、利用者の指と表示ユニット8との間に介在しており、この利用者の操作内容を検出しているからである。本実施例の静電容量型タッチパネル6は、背景画像10や指示画像12の表示を妨げない透明材料や薄膜で形成され、図2では明確に示されるように、表示ユニット8の表面に載置されている。具体的には、静電容量型タッチパネル6は、図1では背景画像10や指示画像12の説明を助けるために、これら背景画像10や指示画像12の表示を妨げないように示していたが、図2では、この静電容量型タッチパネル6の構造の理解を容易にするべく、後述のX電極パターン第1電極パターン66、Y電極パターン第2電極パターン36やダミーパターン56を濃く、かつ、大きく描いている。つまり、これら図1及び図2は同一のディスプレイ2を描いており、いずれも静電容量型タッチパネル6が表示ユニット8を覆う。次に、本実施例の静電容量型タッチパネル6は計3枚の透明基板20,30,60を帳合して構成されている。詳しくは、図2の静電容量型タッチパネル6を切断した図3や、図2の静電容量型タッチパネル6を分解した図4各パターン36,56,66をより明確に表示するために、これら各パターン36,56,66をやや簡略化して描いているにも示されるように、まず、上位置の透明基板20は、例えばPETフィルムで構成され、ケーシング4の開口の周縁部分よりもやや大きな四角形状で形成されており、表面21が外部に露出して利用者の指に接触可能に構成される。このため、透明基板20は耐久性のある厚さや硬さを有している。次に、中位置の透明基板30は透明基板20と同等の面積を有した四角形状に形成され、この透明基板30の表面31が透明基板20の裏面22に対峙する図3。透明基板30と透明基板20とは絶縁性のある透明粘着剤を用いた粘着剤層24で貼り合わされる。一方、本実施例の透明基板30は例えば銅箔PET積層フィルムで構成される。具体的には、厚さ約125μm1μm=1.0×10-6mのPETフィルムの上に、絶縁性のある透明接着剤を用いた厚さ約15μmの接着剤層33が塗布され図3、その上に薄膜の厚さ約10μmの銅箔が重ねられている。後述のように、この銅箔部分がY電極パターン36やダミーパターン56になる。続いて、下位置の透明基板60は透明基板20,30と同等の面積を有した四角形状に形成され、この透明基板60の表面61が透明基板30の裏面32に対峙する図3。透明基板60と透明基板30とも絶縁性のある透明粘着剤を用いた粘着剤層34で貼り合わされる。本実施例の透明基板60は中位置の透明基板30と同じく例えば銅箔PET積層フィルムで構成される。つまり、透明基板60についても、厚さ約125μmのPETフィルムの上に、厚さ約15μmの接着剤層63が塗布され図3、その上に薄膜の厚さ約10μmの銅箔が重ねられており、後述のように、この銅箔部分がX電極パターン66になる。そして、図3に示した透明基板60の裏面62と表示ユニット8の表面とが重ね合わされ、静電容量型タッチパネル6が表示ユニット8を覆っている。なお、本実施例の透明基板20,30,60は、いずれもPETフィルムの例で説明したが、絶縁性を有した透明の基板であれば、アクリルやポリカーボネートなどの汎用のプラスチックシートであっても良く、その基板の厚さも、ディスプレイ2の薄型軽量化や耐久性などを考慮して約12μmから約250μmまで種々の仕様を選択可能である。また、本実施例の透明基板30,60には銅箔が用いられているものの、この銅に替えてアルミニウム、銀、ニッケルなどの汎用の導電材料も利用可能である。ところで、本実施例の各パターン36,56,66は、いずれも導通したメッシュ構造を備えている。まず、X電極パターン66は、図2の一部分を構成する図5に示されるように、X軸方向第1方向に向けて直線状に延び、本実施例では、当該X軸に直交するY軸方向第2方向に沿って略一定の間隔で形成されている。詳しくは、1個のX電極パターン66は、X軸方向に延びた例えば計3本からなる長い横パターン第1の長パターン67の束を有し、隣接した長い横パターン67,67同士は略一定の縦ピッチPy例えば約300μmの長さだけ離れて配置されている。また、これら計3本で1組の長い横パターン67の束には、Y軸方向に延びた例えば計7本からなる短い縦パターン短パターン68が導通してメッシュ構造を形成する。より具体的には、隣接した短い縦パターン68,68同士は略一定の横ピッチPx例えば約300μmの長さだけ離れて配置され、当該メッシュ構造は、四角形の網目状模様が計12個X軸方向に6個、Y軸方向に2個の集合群で構成される。図2や図5に示した例で云えば、この計12個で1組のメッシュ構造の集合群がX軸方向に沿って計3組配置されており、隣接したメッシュ構造の集合群同士は横ピッチPxの4倍長の間隔で配置されている。このように、1個のX電極パターン66は、計3本からなる長い横パターン67の束と計21本7本×3組からなる短い縦パターン68との組み合わせによって、計36個12個×3組の網目状模様を備えている。そして、図2や図5に示した例で云えば、当該X電極パターン66がY軸方向に沿って計4組配置され、隣接したX電極パターン66,66同士は縦ピッチPyの8倍長の間隔で配置されている。これら計4組のX電極パターン66は、図2や図5で見た上下方向、換言すれば、平面壁1の前後方向の位置情報を広範囲に亘って検出できる。本実施例のX電極パターン66は、透明基板60の銅箔部分をフォトリソグラフィー方式によるエッチング加工して形成される。具体的には、まず、透明基板60の銅箔部分に対してフォトレジスト液を均一に塗布するレジスト塗布工程。次いで、X電極パターン66を得るための所定パターンのマスクを重ね、紫外線を照射して当該パターンを転写し露光工程、未感光部分を除去する現像工程。続いて、X電極パターン66を形成しエッチング工程、最後に、フォトレジスト液を除去するとレジスト剥離工程、その線幅が約5.0μm~約20μmの範囲内に設定され、パターンの表面抵抗率が約0.1Ω/sq.よりも小さな値のX電極パターン66を得ることができる。さらに、当該X電極パターン66のメッシュ構造は、約300μmのピッチであるために、より長いピッチで構成した場合に比して肉眼で認識され難く、一方、より短いピッチで構成した場合に比してその製造も容易である。しかも、上記製造工程によってバイアス角度が0°、つまり、X電極パターン66の延在方向やY電極パターン36の延在方向に対して全く傾斜しない網目状模様を容易に形成可能になる。次に、Y電極パターン36は、図2の一部分を構成する図6に示される如く、Y軸方向に向けて直線状に延び、X軸方向に沿って略一定の間隔で形成されている。具体的には、1個のY電極パターン36は、Y軸方向に延びた例えば計3本からなる長い縦パターン第2の長パターン37の束を有し、隣接した長い縦パターン37,37同士は略一定の横ピッチPxの長さだけ離れて配置される。また、これら計3本で1組の長い縦パターン37の束には、X軸方向に延びた例えば計7本からなる短い横パターン短パターン38が導通してメッシュ構造を形成する。より詳しくは、隣接した短い横パターン38,38同士は略一定の縦ピッチPyの長さだけ離れて配置され、当該メッシュ構造は、四角形の網目状模様が計12個X軸方向に2個、Y軸方向に6個の集合群で構成される。図2や図6に示した例で云えば、この計12個で1組のメッシュ構造の集合群がY軸方向に沿って計3組配置されており、隣接したメッシュ構造の集合群同士は縦ピッチPyの4倍長の間隔で配置されている。このように、1個のY電極パターン36は、計3本からなる長い縦パターン37の束と計21本7本×3組からなる短い横パターン38との組み合わせによって、計36個12個×3組の網目状模様を備えている。そして、図2や図6に示した例で云えば、当該Y電極パターン36がX軸方向に沿って計4組配置され、隣接したY電極パターン36,36同士は横ピッチPxの8倍長の間隔で配置されている。これら計4組のY電極パターン36は、図2や図6で見た左右方向、換言すれば、平面壁1の左右方向の位置情報を広範囲に亘って検出できる。ここで、図6に示す1個のY電極パターン36に注目すると、Y軸方向で隣接したメッシュ構造同士は縦ピッチPyの4倍長を空けて配置されている。そして、当該Y軸方向で隣接したメッシュ構造同士の間隔は、図5に示した1個のX電極パターン66のうち、長い横パターン67,67同士の間隔縦ピッチPyの4倍長に等しいことが分かる。また、この1個のX電極パターン66に注目すると、X軸方向で隣接したメッシュ構造同士は横ピッチPxの4倍長の間隔を設けて配置される。そして、当該X軸方向で隣接したメッシュ構造同士の間隔の長さは、図6に示した1個のY電極パターン36のうち、長い縦パターン37,37同士の間隔横ピッチPxの4倍長に等しい。そこで、下位置の透明基板60、中位置の透明基板30を重ね合わせ図2の例で云えば上位置の透明基板20も重ね合わせ、図5のX電極パターン66のうち上記メッシュ構造を有しない領域長い横パターン67のみの部分と、図6のY電極パターン36のうち上記メッシュ構造を有しない領域長い縦パターン37のみの部分とを平面視で互いに交差させれば、X電極パターン66のメッシュ構造、或いはY電極パターン36のメッシュ構造と同じピッチ横ピッチPx,縦ピッチPyの網目状模様を形成できる図2。一方、ダミーパターン56は、図2の一部分を構成する図7に示されるように、X電極パターン66及びY電極パターン36で囲まれた空間を埋めている。それは、上述の如くX電極パターン66とY電極パターン36とを平面視で交差させると、図2の例では、Y軸方向で隣接したX電極パターン66,66同士が縦ピッチPyの8倍長の間隔を空けて配置され、X軸方向で隣接したY電極パターン36,36同士も横ピッチPxの8倍長の間隔を空けて配置されるので、X電極パターン66やY電極パターン36の存在しない大きな空間ができるからである。より具体的には、当該大きな空間は、横ピッチPxや縦ピッチPyを基準にすると、この図2の例で云えば、計64個X軸方向に8個、Y軸方向に8個の網目状模様の集合群に相当し、計9箇所存在している。ただし、本実施例のダミーパターン56は、横ピッチPxの8倍長の横辺と縦ピッチPyの8倍長の縦辺とに設定して上記大きな空間を完全に埋めるものではなく、図2や図7に示される如く、当該大きな空間X軸方向に8個、Y軸方向に8個に対しては、横ピッチPxの7倍長の横辺と縦ピッチPyの7倍長の縦辺とに設定する。つまり、図2に示されるように、X電極パターン66とダミーパターン56とは平面視で互いに向かい合っており、これらパターン66,56の間にはX電極とのパターン隙間第1パターン隙間71が設けられる。詳しくは、このX電極とのパターン隙間71は、その長手方向がX軸に沿うのに対し、その間隔、すなわち、向かい合うX電極パターン66とダミーパターン56とのY軸方向で見た最短距離は、縦ピッチPyの約半分の長さ本実施例では約150μmに設定されている。換言すれば、1個のダミーパターン56はY軸方向では計2箇所のX電極とのパターン隙間71,71に挟まれており、X電極とのパターン隙間71の間隔は、これら計2箇所分を合計して縦ピッチPyの1個分の長さにしている。また、Y電極パターン36とダミーパターン56とも平面視で互いに向かい合っており、これらパターン36,56の間にはY電極とのパターン隙間第2パターン隙間72が設けられる。詳しくは、このY電極とのパターン隙間72は、その長手方向がY軸に沿うが、その間隔、すなわち、向かい合うY電極パターン36とダミーパターン56とのX軸方向で見た最短距離は、横ピッチPxの約半分の長さ本実施例では約150μmに設定される。換言すれば、1個のダミーパターン56はX軸方向でも計2箇所のY電極とのパターン隙間72,72に挟まれ、Y電極とのパターン隙間72の間隔は、これら計2箇所分を合計すれば横ピッチPxの1個分の長さになる。しかも、この図2に示される如く、本実施例のX電極とのパターン隙間71には、X電極パターン66の短い縦パターン68が突出しない。つまり、この短い縦パターン68の両端Y軸方向に延びた両端は、いずれも長い横パターン67に連結される。また、Y電極とのパターン隙間72についても同様に、Y電極パターン36の短い横パターン38が突出しておらず、この短い横パターン38の両端X軸方向に延びた両端は、いずれも長い縦パターン37に連結される。ところで、本実施例のダミーパターン56は、横ピッチPxの7倍長の横辺と縦ピッチPyの7倍長の縦辺とによる外周縁57を有する図7。また、ダミーパターン56は内部にメッシュ構成パターン58を有し、このメッシュ構成パターン58は、X電極パターン66のメッシュ構造、Y電極パターン36のメッシュ構造、さらにはX電極パターン66とY電極パターン36との交差によるメッシュ構造と同じピッチ横ピッチPx,縦ピッチPyの網目状模様を有している。より具体的には、1個のダミーパターン56は、四角形の網目状模様が計49個X軸方向に7個、Y軸方向に7個の集合群で構成される。さらに、本実施例では、X電極とのパターン隙間71やY電極とのパターン隙間72には、メッシュ構成パターン58が突出しておらず、このメッシュ構成パターン58の両端X軸方向及びY軸方向にそれぞれ延びた両端は、いずれも外周縁57に連結されている。なお、図2や図7などで示されたダミーパターン56は、その構造の理解を助けるために大きく表示している。しかし、1個のダミーパターン56は、仮に本実施例の寸法縦ピッチPyや横ピッチPx:約300μmを用いたとしても約2.1mm×約2.1mm程度の面積であり、肉眼で確認できるが、図1に示された指先よりも当然に小さな形状である。また、本実施例のY電極パターン36及びダミーパターン56も、透明基板30の銅箔部分をフォトリソグラフィー方式によるエッチング加工して形成されており、X電極パターン66の場合と同様に、レジスト塗布工程、露光工程、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程を経る。これにより、その線幅が約5.0μm~約20μmの範囲内であり、パターンの表面抵抗率も約0.1Ω/sq.よりも小さな値のY電極パターン36やダミーパターン56が得られる。さらに、これらY電極パターン36のメッシュ構造や、ダミーパターン56のメッシュ構造も約300μmのピッチであるので、X電極パターン66のメッシュ構造と同様に、肉眼で認識され難く、かつ、その製造も容易である。さらにまた、上記製造工程によってバイアス角度が0°、つまり、X電極パターン66の延在方向やY電極パターン36の延在方向に対して全く傾斜しない網目状模様を形成可能になる。なお、本実施例のダミーパターン56は、Y電極パターン36と同じ金属で透明基板30に形成されているが、X電極パターン66とともに透明基板60に形成可能である。また、X電極パターン66やY電極パターン36と同色であれば、各パターン66,36と異なる金属や非金属で構成されていても良い。上記構成の静電容量型タッチパネル6では、このダミーパターン56を除き、上述したX電極パターン66及びY電極パターン36は図示しない制御基板に電気的に接続される。当該制御基板には電源部や検出部が搭載され、この電源部は所定の高周波電圧をX電極パターン66やY電極パターン36に供給している。ここで、利用者の指が例えばお引き出しの指示画像12に接近すると、当該指示画像12の上方を覆ったX電極パターン66やY電極パターン36の静電容量が増加する。次いで、上記検出部は、増加した静電容量に基づいてX座標データやY座標データを取得し、この取得結果を上述した表示ユニット8の制御基板に向けて出力する。これにより、表示ユニット8は、当該指示画像12の色を反転させて選択を確定し、次の例えば暗証番号の入力画面や金額の入力画面に移行する。ところで、上述した横ピッチPxと縦ピッチPyとを異なる長さに形成することができる。詳しくは、本実施例では、横ピッチPxや縦ピッチPyがいずれも等しい長さ約300μmに設定され、上記メッシュ構造は正方形の網目状模様で形成されている。しかしながら、横ピッチPxと縦ピッチPyとを違う長さに設定し、メッシュ構造を長方形の網目状模様で形成可能である。そして、この場合には、X電極とのパターン隙間第1パターン隙間71の間隔はY軸方向第2方向に沿う縦ピッチPyの略1/2倍に設定され、Y電極とのパターン隙間第2パターン隙間72の間隔はX軸方向第1方向に沿う横ピッチPxの略1/2倍に設定される。一方、上記の本実施例では、X電極パターン66やY電極パターン36は、メッシュ構造の無い領域をそれぞれ備え図5や図6、これらメッシュ構造の無い領域では、平面視で互いに交差してメッシュ構造を初めて形成しているが、X電極パターン66自体やY電極パターン36自体が総てメッシュ構造で形成されていても良い。そして、この場合にも透明基板60と透明基板30とを重ね合わせ、X電極パターン66のメッシュ構造とY電極パターン36のメッシュ構造とを絶縁状態で重ねても良い。これらが正確に重なれば、平面視では同じ太さのパターンだけが見えるため、周囲のパターンとの差異が認識されず、利用者に違和感を与えなくなるからである。以上のように、本実施例によれば、静電容量型タッチパネル6用のパターンが、接触感知用のX電極パターン66、接触感知用のY電極パターン36、及びダミーパターン56の3種で構成され、いずれもメッシュ構造を有する。詳しくは、まず、X電極パターン66では、例えば3本の長い横パターン67と例えば7本の短い縦パターン68とが導通状態で交差した網目状に形成されている。これら網目状は、いずれも略一定のピッチ横ピッチPx,縦ピッチPyである。次に、Y電極パターン36では、例えば3本の長い縦パターン37と例えば7本の短い横パターン38とが用いられる。これら長い縦パターン37及び短い横パターン38も導通状態で交差した網目状に形成されており、これら網目状もまたX電極パターン66のメッシュ構造と同じピッチ横ピッチPx,縦ピッチPyである。このように、X電極パターン66自体やY電極パターン36自体がメッシュ構造を有していれば、酸化インジウム錫ITO、酸化インジウム亜鉛IZOなどの導電性に特に優れた材料を用いずに、汎用の導電材料例えば銅、アルミニウム、銀、ニッケルなどの金属を利用することができ、安価な静電容量型タッチパネル6を提供できる。さらに、当該メッシュ構造によれば、X電極パターン66やY電極パターン36の信頼性も高くなる。なぜならば、仮にメッシュ構造に部分的な断線が生じてしまったとしても、メッシュ構造全体でみて導通が維持されていれば、その位置情報の検出が可能になるからである。ここで、本実施例では、上述した長い横パターン67と長い縦パターン37とは導通していないものの、平面視では互いに交差する。したがって、上述したX電極パターン66自体やY電極パターン36自体の他、互いに絶縁状態にあるX電極パターン66とY電極パターン36との組み合わせによっても上記メッシュ構造を形成できる。一方、X電極パターン66は、例えば計4組がY軸方向に沿って等間隔で配置される。これに対し、Y電極パターン36は、例えば計4組がX軸方向に沿って等間隔で配置される。すなわち、平面視では、X電極パターン66とX電極パターン66との間であって、Y電極パターン36とY電極パターン36との間には、これらX電極パターン66やY電極パターン36の無い領域が形成される。そこで、これらX電極パターン66及びY電極パターン36の双方で囲まれた領域はダミーパターン56で埋める。ダミーパターン56は、X電極パターン66やY電極パターン36のメッシュ構造と同じピッチ横ピッチPx,縦ピッチPyのメッシュ構造であり、静電容量型タッチパネル6で覆われた表示ユニット8のうち、X電極パターン66やY電極パターン36の存在しない空間を目立たなくする機能を有する。そして、本実施例によれば、X電極とのパターン隙間71の間隔やY電極とのパターン隙間72の間隔を上記メッシュ構造の大きさに関連付けて規定、より具体的には、メッシュ構造のピッチの略1/2倍という規則に基づいてX電極とのパターン隙間71の間隔やY電極とのパターン隙間72の間隔を設定しており、ダミーパターン56や、その周囲のX電極パターン66及びY電極パターン36、並びにX,Y電極パターン66,36の組み合わせ部分が従来に比して目立ち難くなる。この点について詳述すると、図8は本実施例の拡大図であり、図2の一部分を拡大してX電極パターン66、Y電極パターン36やダミーパターン56をより明瞭にした図である。上述のように、X電極とのパターン隙間71及びY電極とのパターン隙間72の各間隔は、いずれも横ピッチPxや縦ピッチPyの50の長さ約150μmに設定されている。そして、表示ユニット8に適用して人間の視覚による評価良い、やや良い、どちらでもない、やや悪い、悪いによる5段階評価を行ったところ、10人中10人が良いと評価した。その理由について比較例1~4を挙げて説明する。これら比較例1~4は図9~12にそれぞれ示しており、いずれも図8と同じ倍率の拡大図である。まず、図9の比較例1は、X電極とのパターン隙間71A及びY電極とのパターン隙間72Aが、いずれも横ピッチPxや縦ピッチPyの等倍の長さ約300μmに設定されている。つまり、1個のダミーパターン56Aは、四角形の網目状模様が計36個X軸方向に6個、Y軸方向に6個の集合群で構成される。当該比較例1に対する人間の視覚による評価は、10人中10人が悪いであった。その理由は、上記ピッチと等倍100の長さで構成した場合には、X電極とのパターン隙間71AやY電極とのパターン隙間72Aが太い帯状の空白部分として浮かび上がるからであった。一方、この指摘について本実施例を検討すると、図8の本実施例においてもX電極とのパターン隙間71及びY電極とのパターン隙間72による帯状の空白部分は存在する。しかし、各パターン隙間71,72の間隔が1個分のピッチよりも狭く、かつ、この1個分のピッチをダミーパターン56のX軸方向で見た両側或いはY軸方向で見た両側で等分割しており、当該帯状の空白部分は、比較例1に比して注視しなければ認識できないことが分かる。このように、本実施例では半ピッチずらす点に着目し、X電極とのパターン隙間71やY電極とのパターン隙間72を構造的にも切りの良い狭さで設置すれば、上記帯状の空白部分は浮かび上がらず、当該帯状の空白部分の内側に位置するダミーパターン56や、当該帯状の空白部分の外側に位置するX電極パターン66及びY電極パターン36、並びにX,Y電極パターン66,36の組み合わせ部分が際立っていない。次に、図10の比較例2は、1個のダミーパターン56Bが、四角形の網目状模様が計49個X軸方向に7個、Y軸方向に7個:本実施例と同じの集合群で構成される。一方、X電極とのパターン隙間71BやY電極とのパターン隙間72Bが、いずれも横ピッチPxや縦ピッチPyの40の長さ約120μmに設定されている。当該比較例2に対する人間の視覚による評価は、10人中10人がどちらでもないであった。その理由は、上記ピッチの半分50よりも短くすると、本実施例と同様に、X電極とのパターン隙間71BやY電極とのパターン隙間72Bが太い帯状の空白部分として浮かび上がらない。しかし、X電極とのパターン隙間71BやY電極とのパターン隙間72Bの各間隔が狭くなって、これらパターン隙間71B,72Bが潰れる。これでは、X電極パターン66とダミーパターン56B、或いはY電極パターン36とダミーパターン56Bとが近付き過ぎて周囲の線よりも太い線として認識され易くなるからであった。一方、この指摘について図8の本実施例を再び検討すると、X電極とのパターン隙間71やY電極とのパターン隙間72が、半ピッチという視覚的にも程好い狭さで設置されており、潰れていないことが分かる。このため、X電極パターン66とダミーパターン56、或いはY電極パターン36とダミーパターン56とが太い線として認識されない。続いて、図11の比較例3は、1個のダミーパターン56Cは、四角形の網目状模様が計36個X軸方向に6個、Y軸方向に6個:比較例1と同じの集合群で構成されるものの、X電極とのパターン隙間71CやY電極とのパターン隙間72Cが、いずれも横ピッチPxや縦ピッチPyの半分の長さ約150μm:本実施例と同じに設定される。具体的には、当該比較例3では、上記比較例1の構成に対し、短い縦パターン68Cの終端部分がX電極とのパターン隙間71Cに、短い横パターン38Cの終端部分がY電極とのパターン隙間72Cにそれぞれ突出する。さらに、メッシュ構成パターン58Cの終端部分も外周縁57Cに収まらず、やはりX電極とのパターン隙間71CやY電極とのパターン隙間72Cにそれぞれ突出している。当該比較例3に対する人間の視覚による評価は、10人中10人が悪いであった。その理由は、メッシュ構造の一部をなす上記各終端部分が解放されるので、これら終端部分が種々の長さで形成されてしまうし、また、X電極とのパターン隙間71CやY電極とのパターン隙間72Cが、いびつな帯状の空白部分として浮かび上がる。これでは、その内側に位置するダミーパターン56Cは、外周縁57Cが強調されて特に際立ってしまうからであった。なお、当該いびつな帯状の空白部分は、上記図10の比較例2にも存在する。詳しくは、上述した比較例2では、メッシュ構造のピッチを統一しつつ、X電極とのパターン隙間71BやY電極とのパターン隙間72Bの各間隔をピッチの40の長さに狭めた。そのため、これら各間隔を狭めた側の反対側では、メッシュ構成パターン58Bの終端部分が外周縁57Bに収まらずに解放されているためである。よって、この比較例2も上記比較例3と同様に、終端部分の寸法バラツキや外周縁57Bの強調との短所を有する。一方、この指摘について図8の本実施例を再び検討すると、X電極パターン66、Y電極パターン36やダミーパターン56は、いずれもいわゆる閉じた図形である。より具体的には、X電極とのパターン隙間71及びY電極とのパターン隙間72には、短い縦パターン68、短い横パターン38、及びメッシュ構成パターン58が突出していないことが分かる。すなわち、メッシュ構造の一部をなす上記各終端部分がいずれも解放されておらず、これら終端部分の寸法バラツキが生じない。よって、これら終端部分が却ってX電極とのパターン隙間71やY電極とのパターン隙間72を浮かび上がらせないし、その内側に位置するダミーパターン56の外周縁57も際立たない。さらに、いわゆる閉じた図形をなす本実施例では、仮にエッチング加工の条件露光時間、エッチング時間などに変動が生じてもその影響を受けない。したがって、製造し易い静電容量型タッチパネル6になる。次いで、図12の比較例4は、X電極とのパターン隙間71及びY電極とのパターン隙間72が、いずれも横ピッチPxや縦ピッチPyの半分の長さ約150μm:本実施例と同じに設定される。一方、当該比較例4は、X電極パターン66D、Y電極パターン36Dやダミーパターン56Dに形成されたメッシュ構造のバイアス角度が45°に設定されている。当該比較例4に対する人間の視覚による評価は、10人中10人が悪いであった。その理由は、X電極とのパターン隙間71及びY電極とのパターン隙間72の各間隔を上記ピッチの半分の長さに設定しても、X電極パターン66Dの延在方向やY電極パターン36Dの延在方向に対して明らかに傾斜した網目状模様であると、X電極とのパターン隙間71やY電極とのパターン隙間72が明らかな帯状の空白部分として浮かび上がるからであった。一方、この指摘について図8の本実施例を再び検討すると、メッシュ構造がX電極パターン66やY電極パターン36と完全に平行、換言すれば、肉眼検査よりも厳密に精査してバイアス角度が0°に設定されることから、X電極とのパターン隙間71やY電極とのパターン隙間72が帯状の空白部分として全く浮かび上がらないのである。このように、本実施例によれば、比較例1~4との対比からより明らかなように、ダミーパターン56や、その周囲のX電極パターン66及びY電極パターン36、並びにX,Y電極パターン66,36の組み合わせ部分が肉眼で目立ち難くなることが分かる。この結果、利用者への違和感を真に無くして操作性の向上を達成でき、その位置情報を速やかに検出することができる。さらに、各パターン66,36,56の線幅が5.0μmから20μmの範囲に設定されてあれば、微細な線幅を構成でき、メッシュ構造を製造し易く、また、肉眼で目立ち難くなる。詳しくは、この線幅が5.0μm未満であると、均一な線幅をエッチングによって形成することが困難になるからである。さらに、パターンの表面抵抗値も約0.1Ω/sq.よりも高くなって感度低下も招く。一方、この線幅が20μmを超えてしまうと、メッシュ構造が非常に際立ちかつ光の透過率が落ちるのである。また、本実施例の如く、X電極パターン第1電極パターン66とY電極パターン第2電極パターン36とは、互いに異なる透明基板60,30に形成され、これら透明基板60,30を重ね合わせることにより、導通せずに平面視で互いに交差している。このように、複数枚の透明基板60,30を用いて製造すれば、1枚の透明基板を用いた場合に比して、万一、X電極パターン第1電極パターン66或いはY電極パターン第2電極パターン36の製造を誤っても、その製造を誤った透明基板60或いは透明基板30のいずれかのみを改めて製造すれば足りることから、静電容量型タッチパネル6の歩留まり向上に寄与する。本発明は、上記実施例に限定されず、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で種々の変更を行うことができる。例えば、上記実施例では、X電極パターン66とY電極パターン36及びダミーパターン56とを2枚の透明基板60,30に別個に形成した。しかし、X電極パターン第1電極パターン、Y電極パターン第2電極パターン、及びダミーパターンは、同じ透明基板のうち平面視で対峙した別個の面例えば表面と裏面に分かれて形成しても良い。このように、1枚の透明基板を用いて製造すれば、複数枚の透明基板を重ね合わせた場合に比して、静電容量型タッチパネルの薄型化を達成できる。また、複数枚の透明基板を用いた場合に比して、X電極パターン第1電極パターン、Y電極パターン第2電極パターンやダミーパターンの位置合わせが容易になり、静電容量型タッチパネルの製造が容易になる。或いは、X電極パターン第1電極パターン、Y電極パターン第2電極パターン、及びダミーパターンは、同じ透明基板の同一面例えば表面に形成され、これらX電極パターン第1電極パターンとY電極パターン第2電極パターンとが絶縁されていても良い。詳しくは、例えば一方の電極パターンと他方の電極パターンとの交差部分に絶縁層を介在させる、若しくは、一方の電極パターンと他方の電極パターンとの交差部分に中継電極を配置すれば構成可能である。より具体的には、この中継電極は、ブリッジのように一方の電極パターンを跨ぎ、他方の電極パターン同士を接続させるのである。そして、1枚の透明基板を用いて製造されるため、複数枚の透明基板を重ね合わせた場合に比して、静電容量型タッチパネルの薄型化を達成できる。しかも、各電極パターンが同一面に形成されるため、複数枚の透明基板を用いた場合や、同じ透明基板であっても異なる面に分けて形成した場合に比して、X電極パターン第1電極パターン、Y電極パターン第2電極パターンやダミーパターンの位置合わせが容易になり、静電容量型タッチパネルの製造が容易になる。続いて、上記実施例では、直交するX軸とY軸の例を挙げて説明したが、本発明は、第1方向と第2方向とが交差すれば良く、必ずしも直交する例だけに限定されない。つまり、三角形や六角形など公知の網目状模様を形成可能である。また、そのメッシュ構造のバイアス角度も0°の例に限定されるものではなく、メッシュ構造が、例えば肉眼で見た場合に、第1の長パターンや第2の長パターンと平行であっても良い。最後に、本実施例はATMに具現化した例で説明されているが、静電容量型タッチパネルを用いた電子機器である限り、本発明は、切符等の自動販売機、タブレット端末、パーソナルコンピューターや、テレビジョン受像機などにも当然に適用可能である。そして、これら場合にも、上記と同様に操作性の向上を図ることができるとの効果を奏する。"