以下の工程を包含する方法により、成形品の表面にめっきを処理する3価クロムめっき成形品の製造方法:a成形品の表面に、光沢硫酸銅めっきによって銅めっき皮膜を形成する工程、b3価クロムイオンと、錯化剤とを含有し、該錯化剤が0.1~2モルLである3価クロムめっき浴を調製する工程、c該銅めっき皮膜の表面に、該3価クロムめっき浴を用いて3価クロムめっきを行い3価クロムめっき皮膜を形成する工程、ここで、該3価クロムめっき皮膜中の炭素含有量が3at以上である、3価クロムめっき成形品の製造方法。前記3価クロムめっき皮膜中の炭素含有量が5~15atである請求項1に記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。前記3価クロムめっき浴が、3価クロムイオン1モルに対し、錯化剤を0.1~2.0モルの範囲で含有する請求項1記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。前記錯化剤が有機カルボン酸である、請求項1記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。前記有機カルボン酸が、ジカルボン酸、オキシカルボン酸、多価カルボン酸又はそれらの塩である、請求項4記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。前記3価クロムめっきを行う際の、3価クロムめっき浴に含まれるクロム濃度が5~35gLである請求項1に記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。前記3価クロムめっきを行う際の、3価クロムめっき浴のpHが15~40である請求項1に記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。前記3価クロムめっき皮膜の厚みが0.5~5μmである請求項1に記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。請求項1~8のいずれかの方法によって得られる3価クロムめっき成形品であって、成形品と、該成形品の表面に形成された膜厚が10~50μmの銅めっき皮膜と、該銅めっき皮膜の表面に形成された膜厚が0.5~5μmμmの3価クロムめっき皮膜と、を有する3価クロムめっき成形品。前記成形品が携帯電話の操作用ボタンである請求項9に記載の3価クロムめっき成形品。本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は従来のニッケルを使用しないめっきの問題点、特に、銅-スズ合金めっきを用いることなく、優れた外観、耐食性、耐磨耗性を有するめっき皮膜構造および工業的に使用可能な処理工程を提供することを目的とする。本発明の他の目的は、6価クロムを用いることなく酸化力の低い3価クロムめっき液を用いた場合でも、6価クロムめっき皮膜と同等の外観、耐食性、耐摩耗性を有する皮膜が得られる3価クロムめっき成形品の製造方法およびその3価クロムめっき成形品を提供することにある。本発明のさらに他の目的は、人体や環境に与える影響が少ない3価クロメート液を用いて高い耐食性を有する3価クロメート皮膜を、銅めっき皮膜上に形成することができる3価クロムめっき成形品の製造方法およびその3価クロムめっき成形品を提供することにある。本発明者は、上記の目的を達成するべく、鋭意研究を重ねてきた。その結果、ニッケルめっきを使用することなく、従来の膜構造と同等の外観、耐食性、耐磨耗性を有する皮膜構造および処理工程を見出し、ここに本発明を完成するに至ったものである。すなわち、本発明は、以下の工程を包含する方法により、成形品の表面に3価クロムめっきを処理する3価クロムめっき成形品の製造方法であり、そのことにより上記目的が達成される。項目1以下の工程を包含する方法により、成形品の表面にめっきを処理する3価クロムめっき成形品の製造方法:a成形品の表面に、光沢硫酸銅めっきによって銅めっき皮膜を形成する工程、b3価クロムイオンと、錯化剤とを含有し、該錯化剤が0.1~2モルLである3価クロムめっき浴を調製する工程、c該銅めっき皮膜の表面に、該3価クロムめっき浴を用いて3価クロムめっきを行い3価クロムめっき皮膜を形成する工程、ここで、該3価クロムめっき皮膜中の炭素含有量が3at以上である、3価クロムめっき成形品の製造方法。項目2前記3価クロムめっき皮膜中の炭素含有量が5~15atである項目1に記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。項目3前記3価クロムめっき浴が、3価クロムイオン1モルに対し、錯化剤を0.1~2.0モルの範囲で含有する項目1記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。項目4前記錯化剤が有機カルボン酸である、項目1記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。項目5前記有機カルボン酸が、ジカルボン酸、オキシカルボン酸、多価カルボン酸又はそれらの塩である、項目4記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。項目6前記3価クロムめっきを行う際の、3価クロムめっき浴に含まれるクロム濃度が5~35gLである項目1に記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。項目7前記3価クロムめっきを行う際の、3価クロムめっき浴のpHが15~40である項目1に記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。項目8前記3価クロムめっき皮膜の厚みが0.5~5μmである項目1に記載の3価クロムめっき成形品の製造方法。項目9項目1~8のいずれかの方法によって得られる3価クロムめっき成形品であって、成形品と、該成形品の表面に形成された膜厚が10~50μmの銅めっき皮膜と、該銅めっき皮膜の表面に形成された膜厚が0.5~5μmμmの3価クロムめっき皮膜と、を有する3価クロムめっき成形品。項目10前記成形品が携帯電話の操作用ボタンである項目9に記載の3価クロムめっき成形品。上記したように、有害なシアンを含有する、あるいは制御の困難である銅-スズ合金めっきを行うことなく、銅めっき皮膜上に直接クロムめっきを行うことにより、簡単に、低コストで問題となるニッケルめっきアレルギー対策を行うことが可能である。銅-スズ合金めっき皮膜は、光沢硫酸銅めっき皮膜と比較して硬度が高いため、耐磨耗性試験などでは銅-スズ合金めっき皮膜が存在することは皮膜構造としては有利である。しかし、現状、銅-スズ合金めっき浴として安定な性能を示すものは有害なシアンを含有するシアン浴であり、排水処理、作業環境上からも好ましくない。近年では、錯化剤としてシアンを含有しないものも開発されてはいるが、実際の過酷な作業条件ではめっき浴の安定性などの点から問題がある。光沢硫酸銅めっきは広く用いられているめっき浴であり、錯化剤を添加することで、酸化力の低い3価クロムめっき液を用いた場合でも、6価クロム皮膜に匹敵する外観、耐食性、耐摩耗性を付与することができる。すなわち、クロム源として3価クロム塩を用い、錯化剤としてある種の錯化剤を用いることで、皮膜中に炭素を共析させたCr-C合金めっき皮膜を硫酸銅めっき皮膜上に直接成膜することができ、6価クロム皮膜に匹敵する外観、耐食性、耐摩耗性を付与することができるようになる。本発明の方法では、酸化性の高い6価クロムCrO3を使用しないため、めっき液中に硫酸銅めっき皮膜を浸漬した場合に、その表面に外観不良の原因となる酸化皮膜が形成され難いため、6価クロムめっきを直接成膜した場合に起こる外観不良が発生しない。また、6価クロムを使用しないため、人体や環境に与える影響も少ない。さらに、クロムめっき皮膜を1層とすることができ、工程数が低減する。耐食性に関しては、酸化性の低い3価クロムめっき浴から得られた皮膜はめっき表面に不動態化膜クロムの水和酸化物層の形成が不十分であり、一般的には6価クロムめっき皮膜に劣る。しかし、6価クロムめっき皮膜はある程度の膜厚以上ではクラックが発生する。これに対して3価クロムめっき皮膜は皮膜応力が低く、クラックが発生しにくく、特に膜厚が厚い場合には、耐食性が向上する。また、皮膜中に炭素などの不純物を含有しない3価クロムめっき皮膜の結晶構造は、6価クロムと同様の結晶質である。皮膜が結晶性を示す場合には、粒子間に存在する粒界原子配列が不連続部分では、その上に形成される不動態化膜も連続性が低いと考えられる。これに対して、本発明のように、皮膜中に炭素を共析させた場合、XRD測定においても結晶性の低下アモルファス化が確認されており、耐食性が向上する。耐摩耗性については、炭素の共析により、皮膜硬度および耐磨耗性が向上する。以下に、本発明を詳細に説明する。本発明で使用する成形品は、ABS樹脂、PCABS樹脂、ナイロンなどの樹脂によって成形されたものがあげられる。例えば、射出成形された成形品があり、具体的には携帯電話、デジタルカメラの操作ボタンなどがある。特に、ABS樹脂にて形成された一次成形品と、該一次成形品の内側に二色成形によって成形された二次成形品とを有する2色成形品を使用することができる。2次成形品はPC等の透明な樹脂にて形成することもできる。また、樹脂素材以外に、各種の金属を対象として本発明の方法に従ってめっきすることもできる。この成形品の表面に以下の工程によりめっき処理が行われる。1光沢硫酸銅めっき図1に光沢硫酸銅めっきの概略工程を示す。成形品の表面を脱脂し、水洗した後、定法に基づいてクロム酸-硫酸エッチングを行う。好ましいエッチング条件は、次のとおりである。クロム酸350~450gLと98硫酸350~450gLと、CRPエッチング添加剤05~10mlLとを含有するエッチング液を使用することができる。エッチングの温度は65°C~70°C、エッチング時間は5~15分である。特に好ましいエッチング条件は図1に示したとおり、クロム酸400gLと98硫酸400gLと、CRPエッチング添加剤07mlLとを含有するエッチング液を使用する。エッチングの温度は67°C、エッチング時間は8~10分である。次に、成形品を水洗した後、中和、水洗を行い、プレディップし、次いで触媒化する。触媒化した成形品を水洗した後、定法に従って、導体化し、水洗した後、電気銅めっきを行う。なお、上記光沢硫酸銅めっき方法は、一例であるので、その他の公知の方法に従って、実施してもよい。なお、上記で使用したCRPクリーナーとは脱脂剤、CRPコンディショナー222とは表面電荷調整剤、CRPキャタリスト85Hとはスズパラジウム触媒、CRPセレクターA-Kとは導電化処理剤、CRPセレクターBとは導電化処理剤、トップルチナ2000MUとは硫酸銅めっき用光沢剤、トップルチナ2000Aとは硫酸銅めっき用光沢剤である。2銅めっきの浴種装飾用に使用される銅めっきとしては、ほとんどが、硫酸銅であり、他のピロリン酸浴、シアン浴が使用されることはない。銅めっき浴に使用される光沢剤については、特に限定的でなく、必要な光沢を得ることができれば、従来より公知のものを使用可能である。例えば、光沢剤としては、トップルチナ870、20003000があげられる。この段階で、光沢が不十分であれば、3価クロムめっき処理後の光沢が出ない。33価クロムめっきを行う必要性硫酸銅めっきによって形成された皮膜上に、6価クロムめっきを直接製膜することは困難である。この理由は、6価クロムめっき浴のpHや酸化力が影響しているものと思われる。すなわち、一般的な、6価クロムめっき浴サージェント浴は、クロム酸250gL98硫酸2.5gL程度の組成であり、pHが低く、めっき浴の酸化力が高い酸化還元電位ORPが高いことが特徴である。このため、銅めっき皮膜が6価クロムめっき浴中に浸漬された時点で銅表面の酸化、溶解が起こるために正常にきれいにクロムめっきができないものと推測される。これに対して、3価クロムめっきでは、金属塩が3価クロム塩硫酸クロムなどであり、金属濃度も6価クロム浴と比較すると、低く、ORP酸化還元電位も低い値を示す。3価クロムめっき浴は、一般にpHも3程度であり、3価クロムめっき浴中に銅めっき皮膜が浸漬された場合でも、銅めっき皮膜の酸化あるいは溶解が起こりにくいため、銅めっき皮膜上に3価クロムめっきは正常に製膜するものと思われる。本発明においては、このようにして基体上に銅めっき皮膜を析出させた後、水洗し、3価クロムめっき液で処理を行う。43価クロムめっき浴3価クロムめっき浴は、以下a~gを含有することができる。aクロム成分としては、硫酸クロム、塩基性硫酸クロム、塩化クロム、酢酸クロムなどの水溶性3価クロム化合物を含むことができる。上記3価クロムの供給源は、1種あるいは2種以上を使用することができる。処理溶液中の3価クロムイオンの濃度として5~35gLの範囲が好ましく、より好ましくは10~30gLの範囲であり、さらに好ましくは15~25g/Lの範囲である。b導電性塩として硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、硫酸アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化アンモニウム、フッ化カリウム、フッ化アンモニウム、フッ化カリウムなどを含むことができる。これらの無機酸の含有量は任意とすることができるが、好ましくは1~200gLの範囲であり、より好ましくは10~100gLの範囲である。cクロムの錯化剤として、好ましくは有機カルボン酸である。また、有機カルボン酸の中でも、蟻酸、酢酸などのモノカルボン酸またはその塩、シュウ酸、マロン酸、マレイン酸などのジカルボン酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール酸などのヒドロキシカルボン酸、またはそれらの塩を含有することができる。錯化剤は、1種又は2種以上を使用することができる。処理溶液中の錯化剤の濃度は、3価クロムイオン1モルに対し、0.1~2モルの範囲が好ましく、さらに好ましくは0.2~1.0モルの範囲である。錯化剤を所定量含有することにより、3価クロム化成処理皮膜の加熱による皮膜硬度の低下を防止し、耐摩耗性などを向上することができる。また、付き回り性を向上させる目的でFe、Niなどを添加してもよい。また、皮膜中の炭素含有量は3at以上が好ましく、さらに好ましくは5~15atである。このように、炭素を共析させることにより、皮膜硬度および耐磨耗性を向上させることができる。皮膜中の炭素含有量が3at未満の場合には、硬度が低下し、また耐摩擦性が低下する傾向にある。さらに、dpH緩衝剤として、ホウ酸、ホウ酸ナトリウム、硫酸アルミニウムなどを含んでもよい。また、3価クロムめっき浴の酸化還元電位は、100~250mVが好ましい。さらに好ましくは、140~200mVである。3価クロムめっき浴のpHは、15~5.0が好ましい。さらに好ましくは、20~3.5である。市販品としては、奥野製薬工業製のトップファインクロムSPを使用することができる。本発明のめっき方法において、3価クロムめっきの条件としては、例えば25~50°Cの液温で2~10分めっきするのが好ましく、より好ましくは3~8分めっきする。この3価クロムめっきによって形成される皮膜クロムめっき皮膜の厚みは0.5~5.0μmが好ましい。さらに好ましくは、1.0~3.0μmである。53価クロムめっきの構造が必要である理由ニッケルめっきが要求される部品は、人が触れる部分携帯電話、デジタルカメラの操作ボタンなどに用いられるため、ある程度の耐磨耗性が要求される。一般的に3価クロムめっきの皮膜硬度は6価クロムめっきの皮膜硬度とほぼ同程度の900~1000Hv程度を示す。本発明の方法における、ニッケルめっきを使用しない工程では、銅-スズ合金めっきを行わないため、耐磨耗性を維持するために、クロムめっき皮膜の膜厚を1μm以上製膜することが望ましい。6基本的なめっき皮膜構造膜厚などABS樹脂などで成形品を製造する場合には、光沢外観を得るために光沢硫酸銅めっき皮膜は、10~50μm程度の膜厚が好ましい。さらに好ましくは20~40μmである。3価クロムの膜厚は厚くする必要はなく、0.5~5μmであれば十分である。特に好ましい3価クロムの膜厚は、1~3μmである。以下に実施例および比較例を挙げて本発明を説明する。比較例1および実施例1~4については、素材にPCABS樹脂の2色成形品を使用した。この成形品についてクロム酸-硫酸エッチング処理を行い、成形品の表面に親水性および微細孔を形成した後、直接硫酸銅めっきプロセス奥野製薬工業製トップCRPプロセスを用いて、触媒付与、導電化処理、直接硫酸銅めっきを行ったものを使用した。実施例1光沢硫酸銅めっき膜厚30μmを行ったPCABS樹脂よりなる成形品を用いて、銅-スズ合金めっきを行わずに、表1に示す組成のめっき液を用い、表1に示す条件で、直接成形品の表面に3価クロムめっきを行い、2.1μm製膜した。実施例2光沢硫酸銅めっき膜厚30μmを行ったPCABS樹脂よりなる成形品を用いて、銅-スズ合金めっきを行わずに、表1に示す組成のめっき液を用い、表1に示す条件で、直接3価クロムめっきを行い、2.3μm製膜した。実施例3光沢硫酸銅めっき膜厚30μmを行ったPCABS樹脂よりなる成形品を用いて、銅-スズ合金めっきを行わずに、表1に示す組成のめっき液を用い、表1に示す条件で、直接3価クロムめっきを行い、2.0μm製膜した。実施例4光沢硫酸銅めっき膜厚30μmを行ったPCABS樹脂よりなる成形品を用いて、銅-スズ合金めっきを行わずに、表1に示す組成のめっき液を用い、表1に示す条件で、直接3価クロムめっきを行い、2.3μm製膜した。比較例1光沢硫酸銅めっき膜厚30μmを行ったPCABS樹脂よりなる成形品を用いて、銅-スズ合金めっきを行わずに、表1に示す組成のめっき液を用い、表1に示す条件で、直接3価クロムめっきを行い、2.1μm製膜した。評価方法皮膜外観処理外観については、目視により曇りなどの外観不良について評価を行った。膜厚測定クロムめっき皮膜の膜厚は、蛍光X線膜厚計セイコーインスツルメンツ製SEA5120により測定した。皮膜中の炭素含有率得られたクロムめっき皮膜中の炭素含有率は、XPS光電子分光分析装置、アルバックファイ社製ESCA-5800を用いて測定した。スパッタ速度3nmminSiO2換算のArイオン銃を用い、最表面から1分間スパッタを行い、Cr2p、O1s、C1s、C2p光電子スペクトルについて測定を行い、付属の定量ソフトを用いて皮膜中に存在する各元素の存在比率を計算した。ビッカース硬度測定得られた皮膜について、荷重100gでビッカース硬度を測定した。耐摩耗性の評価スガ磨耗試験器NVS-ISO-3を用い、荷重550g、研磨紙320、摩耗回数300回の条件で皮膜の磨耗減量を測定した。消しゴム磨耗試験は、市販の砂消しゴムを用い、荷重500gで1分間に30往復させる条件で300回往復させた場合に、下地である銅めっき皮膜の露出で判定した。上記実施例および比較例で得られた各めっき成形品について、上記試験項目を評価し、その結果を表1に示した。以上の結果から次のことがわかる。実施例1~4で示した光沢硫酸銅めっき上に直接3価クロムめっきを行った場合では、耐食性、耐磨耗性を満足させるための膜厚を厚くすることが必要であるが、外観、耐食性、耐磨耗性を満足することが可能である。加えて、比較的浴寿命が短く、管理が難しい銅-スズ合金めっきを使用することなく、ニッケルめっきを使用しない簡単な皮膜構造により生産コストも低減できる。また、皮膜中に炭素を共析させることができるので、皮膜硬度および耐磨耗性が向上した。