"半導体レーザーから成る光源手段と、該光源手段からの光束を偏向走査する偏向手段と、前記光源手段からの光束を前記偏向手段の偏向面又はその近傍に焦線を結像する入射光学系と、前記偏向面で偏向された光束を被走査面に結像する複数の結像レンズを含む結像光学系とを有する光走査装置であって、前記結像光学系を構成する結像レンズのうち、少なくとも1つの光学面は、副走査断面内において非円弧形状であり、前記非円弧形状の非円弧量は主走査方向に変化しており、前記被走査面の光軸上と有効走査範囲の最大像高に結像する光束の副走査方向の近軸像面湾曲を各々dsY=0、dsY=Ymaxとするとき、dsY=0<0dsY=Ymax>0なる条件を満足するように設定されていることを特徴とする光走査装置。副走査光束端部における非円弧量は、500nm以下であり、前記非円弧量は軸上から軸外に向かって単調変化していることを特徴とする請求項1の光走査装置。主走査方向の光軸上において副走査方向の光束端部の非円弧量をδP0、主走査方向の有効端部において副走査方向の光束端部の非円弧量をδP1とするとき、|δP0|>|δP1|なる条件を満たすことを特徴とする請求項1又は2に記載の光走査装置。前記副走査断面内の非円弧面は、副走査方向において光束が入射するときの光束幅が最も広い結像レンズに形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光走査装置。前記光源手段は複数の発光点を有し、前記複数の発光点から放射された複数ビームのうちの最も光軸から離れた光束は、前記偏向手段の偏向面が副走査方向に3分傾いた場合の被走査面上の副走査方向のスポットの強度重心位置の変化が±2μm以下となるように、前記結像光学系は構成されていることを特徴とする請求項1記載の光走査装置。前記結像光学系の副走査方向のパワーが最も強い光学面には、前記複数の発光点から放射される複数のビームの主光線が副走査方向で同一位置を通過することを特徴とする請求項5記載の光走査装置。前記非円弧形状は前記結像光学系の主走査方向で光束の光束幅が最も狭い状態で入射する結像レンズの光学面に形成されていることを特徴とする請求項6に記載の光走査装置。請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の光走査装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記光走査装置で走査された光束によって前記感光体に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、前記現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを備えたことを特徴とする画像形成装置。請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の光走査装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラとを備えたことを特徴とする画像形成装置。特許文献1における光走査装置は、偏向面の幾何光学的な面倒れによる結像位置ずれピッチムラと副走査像面湾曲を同時に低減する技術を開示している。偏向面の幾何光学的な面倒れによるピッチムラの補正方法は、面倒れが発生した場合には被走査面におけるスポット強度振幅分布の重心位置ずれと副走査像面湾曲の双方の低減が難しくなる場合がある。このため幾何学的な方法の代わりに波動光学的な観点で設計性能を行うことが必要になってくる。本発明は、偏向面の面倒れが発生した場合の波動光学的なピッチムラの低減と副走査像面湾曲の低減を図り、高精細な画像形成を行うことができる光走査装置及びそれを用いた画像形成装置の提供を目的とする。本発明の光走査装置は、半導体レーザーから成る光源手段と、該光源手段からの光束を偏向走査する偏向手段と、前記光源手段からの光束を前記偏向手段の偏向面又はその近傍に焦線を結像する入射光学系と、前記偏向面で偏向された光束を被走査面に結像する複数の結像レンズを含む結像光学系とを有する光走査装置であって、前記結像光学系を構成する結像レンズのうち、少なくとも1つの光学面は、副走査断面内において非円弧形状であり、前記非円弧形状の非円弧量は主走査方向に変化しており、前記被走査面の光軸上と有効走査範囲の最大像高に結像する光束の副走査方向の近軸像面湾曲を各々dsY=0、dsY=Ymaxとするとき、dsY=0<0dsY=Ymax>0なる条件を満足するように設定されていることを特徴としている。本発明によれば、偏向面の面倒れが発生した場合の波動光学的なピッチムラの低減と副走査像面湾曲の低減を図り、高精細な画像形成を行うことができる光走査装置が得られる。以下に、本発明の好ましい実施の形態を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。本発明の光走査装置は、半導体レーザーから成る光源手段と、光源手段からの光束を偏向走査する偏向手段と、光源手段からの光束を偏向手段の偏向面又はその近傍に焦線を結像する入射光学系とを有する。更に偏向面で偏向された光束を被走査面に結像する複数の結像レンズを含む結像光学系とを有する。本発明の光走査装置では、結像光学系を構成する結像レンズの少なくとも一面の副走査方向の形状を4次以上の非球面とし、その非球面量を主走査方向に変化させている。これにより副走査方向の像面湾曲を低減している。また、副走査方向の近軸量で計算される副走査方向の近軸像面湾曲を後述する条件式1、2の如く最適な値にしている。これにより、波動光学的ピッチムラの低減を図っている。[実施例1]図1は本発明の光走査装置の実施例1の主走査方向の要部断面図主走査断面図である。図2は図1の発明の実施例1の一部分の副走査方向の要部断面図副走査断面図である。尚、以下の説明において、主走査方向とは回転多面鏡偏向手段の回転軸及び結像光学系の光軸に垂直な方向回転多面鏡で光束が反射偏向偏向走査される方向である。副走査方向とは回転多面鏡の回転軸と平行な方向である。また主走査断面とは主走査方向と結像光学系の光軸を含む平面である。また副走査断面とは、結像光学系の光軸を含み主走査断面と垂直な断面である。図中、1は光源手段であり、複数の発光点発光部を有する半導体レーザーマルチビーム光源より成っている。半導体レーザー1は複数の発光点のうち、少なくとも1つの発光点は、後述するコリメーターレンズ第1の光学手段3の光軸からの距離が他の1つの発光点の光軸からの距離と異なっている。本実施例では図6に示すように発光点が一次元状に配列し、8個の発光点から成る半導体レーザーで構成されている。本実施例では、8ビームレーザーを使用することにより画像形成の高速化及び高精細化を達成している。2は第1の絞りであり、副走査方向の通過光束の光束幅を制限して光源手段1からの光束のビーム形状を整形している。これは、第一の絞り2をコリメータレンズの近傍に配置し、副走査方向の射出瞳位置を結像レンズ6bの近傍に配置する。そして8つの発光点から放射される8ビームの主光線が結像光学系のパワーが最も強い結像レンズ6bの光学面近傍で副走査方向の同一位置を通過するようにしている。3は第1の光学手段の一部を構成するモールディングプロセスで作製されたガラス製の集光レンズ以下、コリメータレンズと称す。である。コリメータレンズ3は偏向手段10側の面が回転対称な非円弧非球面になっており、後述する発光点間のスポット径差を低減するとともに、光源手段1から出射された発散光束を平行光束又は略平行光束に変換している。4は第1の光学手段の一部を構成するレンズ系以下、シリンドリカルレンズと称す。であり、副走査断面内副走査方向にのみパワーを有している。シリンドリカルレンズ4はコリメータレンズ3を通過した光束を副走査断面内で後述する偏向手段10の偏向面反射面10aに線像として結像させている。5は第2の絞りであり、シリンドリカルレンズ4からの主走査方向の通過光束の光束幅を制限してビーム形状を整形している。本実施例における第2の絞り5はコリメータレンズ3の偏向手段10側に配置されている。尚、コリメータレンズ3とシリンドリカルレンズ4を1つの光学素子より構成しても良い。本実施例において第1の絞り2、コリメータレンズ3、シリンドリカルレンズ4、そして第2の絞り5等の各要素は入射光学系LAの一要素を構成している。コリメータレンズ3は後述するように、レンズ光軸から周辺部に向かい凸正のパワー屈折力が弱くなる形状の非球面を有している。これによって複数の発光点からの光束の被走査面7または偏向面10aでの集光位置ピント位置が略同一となるようにして被走査面7での複数光束のスポット径を略同一にしている。また、偏向手段10の近傍に配置されている第2の絞り5は、主走査方向の光束幅を制限するとともに、偏向面10a上での各発光点からの光束の主光線を近接させて、マルチビーム方式を採用したときに発生する縦線ゆらぎを低減している。10は偏向手段としての光偏向器であり、5面構成のポリゴンミラー回転多面鏡より成っており、モーター等の駆動手段不図示により図中矢印A方向に一定速度で回転している。6は集光機能とfθ特性とを有する結像光学系fθレンズ系であり、第1、第2の結像レンズfθレンズ6a,6bより成り、共に主走査面内で非球面形状のアナモフィックレンズより形成されている。結像光学系6は偏向手段10によって反射偏向された画像情報に基づく光束を被走査面としての感光ドラム面7上に結像させている。更に副走査断面内において偏向手段10の偏向面10aと感光ドラム面7との間を共役関係にすることにより、偏向面10aの面倒れ補正を行っている。本実施例の結像レンズ6bの出射面は副走査断面内において非円弧形状であり、その非円弧量を結像レンズ6bの長手方向主走査方向、Y方向に変化させている。これにより、副走査方向の波面収差量を変化させ、副走査方向の波動光学的な像面湾曲を低減させている。又、結像光学系6の副走査方向の近軸像面湾曲を適切に発生させることにより、面倒れが発生した場合の被走査面7における副走査方向のスポット強度の重心変化を低減させ、ピッチムラを低減している。7は被走査面としての感光ドラム面である。本実施例の光走査装置において画像情報に応じて光源手段1から光変調され出射した複数本実施例では8本の光束は第1の絞り2により副走査方向の光束幅が制限される。そしてコリメータレンズ3により平行光束に変換され、シリンドリカルレンズ4に入射する。シリンドリカルレンズ4に入射した光束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で出射して第2の絞り5により主走査方向の光束幅が制限される。また副走査断面内においては収束して第2の絞り5を通過し主走査方向の光束幅が制限される偏向手段10の偏向面10a又はその近傍に線像主走査方向に長手の線像として結像する。そして偏向手段10の偏向面10aで反射偏向された複数の光束は各々主に主走査方向に凸正のパワーを有する結像レンズ6aに入射する。図2に示す複数の折り返しミラー平面ミラー8a、8bで反射され主に副走査方向に凸正のパワーを有する結像レンズ6bに入射する。結像レンズ6bを通過した光束は折り返しミラー8cで反射し感光ドラム面7上にスポット状に結像する。偏向手段10を矢印A方向に回転させることによって感光ドラム面7上を矢印B方向主走査方向に等速度で光走査している。これにより記録媒体である感光ドラム面7上に複数の走査線を同時に形成し、画像記録を行っている。本実施例では図2に示すように3つの平面ミラー8a、8b、8cを用いることにより結像光学系6の光路をコンパクトに折りたたんで、画像形成装置の幅図2における横方向を小型にしている。本実施例の光源手段半導体レーザ1の発光点は、図6に示すように主走査方向Y方向から角度αが9.2度傾いた状態で8ビームが一次元に配列されており、各々の発光点のピッチは50μmである。さらに各々の発光点は独立変調可能に構成されており、不図示のレーザードライバーにより発光強度やタイミングが制御される。またレーザー光源の組み立て時の取り付け誤差により発生するビーム間隔誤差を調整するために、入射光学系LAに光軸と平行な軸を中心に回転可能に保持されている。尚、図6において発光点1aは入射光学系LAの光軸軸上もしくはその近傍の発光点、発光点1bは主走査方向の最軸外の発光点である。本実施例において、結像光学系6を構成する結像レンズのうち、少なくとも1つの光学面は、副走査断面内において非円弧形状である。そして非円弧形状の非円弧量は主走査方向に変化している。被走査面7の光軸上と有効走査範囲の最大像高に結像する光束の副走査方向の近軸像面湾曲を各々dsY=0、dsY=Ymaxとする。このとき、dsY=0<0dsY=Ymax>0なる条件を満足するように設定されている。本実施例において、結像光学系6の数値例は表1のように構成されている。本実施例において、結像レンズ6aの形状は、それぞれ結像レンズと光軸との交点を原点とする。そして図1に示すように光軸に対して走査開始側7sと走査終了側7eで、光軸をX軸、主走査面内において光軸と直交する方向をY軸、副走査面内で光軸と直交する方向をZ軸とし、以下の関数で表せる。但し、Rはレンズ面の曲率半径、K、B4、B6、B8、B10は非球面係数である。本実施例では主走査方向Y方向の形状を光軸X軸に対し、対称に構成している。つまり走査開始側と走査終了側の非球面係数を一致させている。また結像レンズ6aは、入射面、射出面ともに副走査断面形状が円弧形状である。結像レンズ6bは、出射面の副走査方向の断面形状がZの4次項を有する非円弧形状であり、その非円弧量が長手方向Y方向に変化している。さらに、結像レンズ6bの副走査方向の形状は、光軸に対して走査開始側7sと走査終了側7eで入射面の副走査断面光軸を含み主走査面と直交する面内の曲率1/rと、4次の非球面係数をYの関数とし、レンズの有効部内において連続的に変化させている。結像レンズ6bの副走査方向の形状は光軸に対して走査開始側と走査終了側で前述した座標系を用いると、以下の連続関数で表せる。r1、r2、r3面の副走査方向関数r’は副走査方向曲率半径、Djは曲率変化係数、Miは子線非球面係数Yのプラス側とマイナス側で係数が異なる場合は、サフィックスsは走査開始側、eは走査終了側を表している。また、副走査方向の曲率半径とは主走査方向の形状母線に直交する断面内における曲率半径である。本発明における、設計上のピッチムラの低減手法を図3の比較例を用いて説明する。偏向手段10であるポリゴンミラーは、ポリゴン面の加工誤差や組み立て誤差によって反射面の副走査方向の角度が所望の値設計値からずれる、所謂面倒れと呼ばれる誤差を有している。図3aに示すように、一般的な光走査装置は、副走査方向の結像位置近軸像面=ガウス像面が被走査面とほぼ一致するように設計されている。つまり、結像光学系の副走査方向の結像関係は、偏向面近傍に線上に結像している焦線と、被走査面が共役になるような構成になっている。従来のこの構成では、面倒れが生じると走査に伴う偏向面の光軸方向の変位であるサグ出入りにより、被走査面上の副走査方向の光線到達位置がずれてしまい、所謂、面倒れによるピッチムラが発生する図3b。しかし、本発明では、結像レンズ6bの副走査方向の曲率半径を最適に設定し、副走査近軸像面が湾曲するように構成図3cすることにより面倒れが発生しても、副走査方向のスポット重心位置がずれないようにしている図3d。本発明では偏向面10aが副走査方向に3分傾いた場合の被走査面上の副走査方向の光束のスポットの強度重心位置の変化が±2μm以下となるようにしている。また、副走査方向の像面湾曲は、従来例と同様の手法で低減させている。つまり、副走査方向に4次の非球面を導入し、副走査方向の波面収差を低減することにより、近軸像面は湾曲させたまま、波動光学的な像面位置を被走査面と一致させる構成にしている図3e。ここで、近軸像面とは、結像レンズの光軸近傍の形状から幾何光学的に決まる像面位置を示し、波動光学的な像面位置とは、波面収差が最小になる像面位置を示す。図4、図5に本発明の光学性能を示す。図4aは、副走査方向の近軸像面ガウス像面を示している。図4bは主走査方向の近軸像面を示している。前述したように、以下の条件式、dsY=0<01dsY=Ymax>02を満足するように副走査方向の曲率半径を設定している。そして副走査方向に共役関係を全像高で偏向面と共役するのではなく、少なくとも軸上と軸外の共役関係を偏向面と焦線結像位置の間に設定している。これにより図4cに示すように面倒れが発生しても被走査面7上の副走査スポット重心位置図中実践の変化を低減させ、ピッチむらが低減できる構成にしている。また、被走査面7上の副走査方向スポット径ばらつきを低減させるために、前述したように結像レンズ6bの出射面を副走査非円弧面で構成している。そしてその非円弧量を主走査方向に変化させることにより、副走査方向の波面収差を低減させ波動光学的な像面湾曲を低減させている。また、図4cに示す破線の走査線湾曲は、結像光学系6の主光線の到達位置を示している。従来は、被走査面に到達する主光線湾曲量を低減させるように設計していた。しかし、従来の設計手法では、主光線の到達位置を低減できるが、副走査方向のスポット重心位置が変化してしまい、面倒れが生じた場合に被走査面におけるピッチムラは低減できないことを本発明者は見出した。次に前述した条件式1、2の導出を図14を用いて説明する。結像光学系6の光軸Oaに対して光源手段1と反対側の被走査面7の一端7sへ向かうときの偏向面10aの状態を第1の状態もしくは第2の状態、光源手段側の被走査面の一端へ向かうときの偏向面の状態を第2の状態もしくは第1の状態とする。該第1の状態A1と該第2の状態A2との偏向面10aの交点をクロスポイント10割クロスポイントGとする。該クロスポイントGからコリメータレンズを通過した光束の主光線201に垂直に下した距離をΔmmとする。偏向手段10に入射する光束の入射角をα度とする。偏向手段10の面倒れ角をφ度とする。結像光学系6の副走査方向の横倍率をβsとする。偏向手段10の外接円半径をrmmとする。偏向手段10の偏向面10aの面数をM、偏向手段10で反射偏向された光束が被走査面7上の両端へ向かうときの偏向手段10の偏向面10aの回転角θf度とする。偏向手段10の回転角をθp-θf≦Θp≦θf度とする。x-y面主走査断面内でコリメータレンズを通過した光束の主光線方向の偏向手段10の回転に伴う偏向面10aの移動量IHlmmは、次のようになる。式Cにおいて、-θf≦θp≦θfにおけるIHの最大値と最小値の差を偏向反射面のサグ量と定義し、δ=maxIH-minIHを得た。条件式は、副走査方向のガウス像面位置を規定するための条件式である。本実施例では、表1に示すようにr=17M=5θf=17.16α=70又、Δ=0.81β=-1.204δ=1.11より、0.2δβ2=0.320.8δβ2=1.29であり、図4aより軸上及び軸外の副走査方向のガウス像面dsY=0=-0.392dsYmax=163=0.38は条件式dsY=0<0、dsY=Ymax>0を満足するとともに0.2δβ2<|dsY=0|<0.8δβ20.2δβ2<|dsY=Ymax|<0.8δβ2も満足している。尚、本実施例では、偏向手段10の反射面10aを有効利用するために、Δ=0.81としている。本実施例の副走査方向における波動光学的像面の位置副走査ピントを図5に示す。図5は、副走査方向の波面収差量が最小になる位置を示している。一般的に球面収差等の影響で、図4aに示す副走査ガウス像面の位置とは一致しない。本実施例では、副走査ガウス像面を条件式を満足するように1mm湾曲させているが、波動光学的像面は0.5mmの像面湾曲に抑えられている。被走査面は、図5に示す波面収差が最小の位置に配置されるので、本実施例の被走査面における副走査方向のピントずれ量は±0.25mmにおさえられている。本実施例ではガウス像面の湾曲量より波動光学的像面の湾曲量を小さくするために、結像レンズ6bの副走査方向の非球面量を長手方向に連続的に変化単調変化させることにより達成している。次に光源手段1から放射される光束の波長ばらつきによるピッチムラ劣化の低減手法について説明する。面発光レーザーVCSELを光源手段として用いる光走査装置においては、レーザー製造工程において、材料であるウエハーの膜厚がばらつく。そうすると、レーザから放射される光束の波長がばらつく。このときの発振波長のばらつきを考慮して、結像光学系の設計を行う必要がある。素子作製時には同一ウエハー内の膜厚ばらつきは小さく抑えることができるため、同一レーザー素子の複数ビーム間の発振波長ばらつきは例えば1.5nm程度と小さい。しかし、異なるウエハーから作製されたレーザー素子間の発振波長ばらつきは例えば5~10nm程度発生することが知られている。一般的に、波長が変化した場合に発生するピッチムラを低減させるためには、結像光学系の副走査方向の軸上色収差を低減させればよい。しかし、結像光学系の副走査方向の軸上色収差を低減させるためには、ガラスレンズを複数枚用いたり、回折光学素子を使用したりする必要があり、製造が困難になる。従って、本実施形態では、光走査装置の組み立て時に波長ばらつきによる共役点位置ずれを測定し、偏向面と被走査面の光路長を変化させる手段を用いている。表1に本実施例の結像光学系の非球面係数を示す。ここでE-xは10-xを示している。R1面は結像レンズ6aの光偏向器10側の面、R2面は結像レンズ6aの被走査面7側の面、R3面は結像レンズ6bの光偏向器10側の面、R4面は結像レンズ6bの被走査面7側の面である。上記のように、結像レンズ6bの入射面は、母線方向主走査方向、子線方向副走査方向ともに円弧で、子線の曲率が主走査方向に連続的に変化する屈折面で構成されている。又、結像レンズ6bの出射面は、母線方向、子線方向ともに非円弧で、かつ子線の曲率の非円弧量非球面量が主走査方向に連続的に変化する屈折面を有している。子線方向の非球面量を母線方向に変化させることにより、前述したように副走査方向の波動光学的な像面湾曲を補正している。また、子線方向の非円弧面を結像光学系6の中で副走査方向で光束の光束幅が最も広い状態で入射する結像レンズ6bの光学面に形成することにより、非球面効果を高めて波面収差を補正しやすい構成としている。更に、主走査方向で光束の光束幅が最も狭い状態で入射する結像レンズ6bに副走査方向で非円弧面の光学面を用いることにより、被走査面のスポット形状の劣化を低減させている。図7に本実施例に係る非円弧面の非円弧量を示す。図7aは図1におけるレンズ6bの出射面の副走査方向の非円弧量を示す。本実施例の副走査方向の光束幅は4mmなのでZ=±2mmの位置が副走査方向のマージナル光線が通過する位置副走査光束端となる。同図において、横軸はレンズ面の副走査方向Zを示しZ=0の副走査方向の光軸近傍からZ=2の副走査光束端に向かって子線非円弧量が連続的に変化させている。また、書き出し側Y座標側有効端部の非円弧量より、光軸近傍および書き終わり側端部の非円量が大きくなるように構成し、ピッチムラ低減と波動光学的の像面位置補正を両立させている。図7bに副走査方向の光束端の非円弧量の主走査方向変化を示す。レンズ6bの出射面の被円弧量はレンズの光軸近傍レンズ座標Y=-20mmで最大で50nmの被円弧量になるように構成され、レンズ長手Y方向の端部にむかって単調に減少している。書き出し側の像高Yプラスの被円弧量は、画像中心近傍および聴き終わり側Yマイナスより小さくなるように構成されている。書き出し側と書き終わり側が光軸に対して非対称に構成されているのは、偏向面のサグの影響を補正するためである。また非円弧量がほぼ全域でプラスの値を有するのは、副走査方向におお球面収差を補正するためである。図8に本実施例の発光点1a、1b、1cから放射される光束に対する面倒れ性能を示す。同図において、横軸は、像高を示し、縦軸は偏向面が3分倒れた時の被走査面における副走査方向のスポット重心位置ずれを示している。本実施例では、偏向面が3分たおれても被走査面全域で発光点1a~1cを含むすべてのビームで重心変化0.7μm以下を達成し、±2μm以下を達成している。本実施例では、非円弧面をレンズ6bの出射面に構成したが、入射面に構成する場合は、非円弧量の符号が反転すれば本実施例と同等の性能を確保することができる。以上のように、本実施例ではレンズ作製上有利なように副走査光束端部における非円弧量を500nm以下にし、副走査方向の光束端部の非円弧量をδP0と主走査方向の有効端部における副走査方向の光束端部の非円弧量をδP1とする。このとき、|δP0|>|δP1|を満たすように構成し、ピッチムラの低減と波動光学的な像面位置補正を行っている。本実施例の副走査方向の非円弧形状は、後述する非球面形状の数式においてZの4次のみで構成したが、6次以上の非円弧を用いてもよい。また、本実施例の結像光学系6は、結像レンズ6a、6bを光透過性のパワーを有するプラスティックレンズで構成している。これにより、結像レンズの製造を容易にするとともに、非球面を用いることにより設計上の自由度を向上させている。又、主に主走査方向のパワーを有する結像レンズ6aは、ガラス材料であってもよく、ガラス材料で構成した場合は、主走査方向の光学性能も環境特性に優れた光走査装置を得ることが容易になる。また本実施例では結像光学系6を2枚の結像レンズで構成しているが、これに限らず、1枚もしくは3枚以上で構成しても上記の実施例と同様の効果を得ることができる。また表1に本発明の実施例1における光走査装置を構成する各部材の各数値を示す。以上のように、結像レンズの副走査方向の曲率半径と副走査方向の非円弧量を適切に設定することにより、面倒れによる副走査スポット重心位置ずれが低減することができる。これにより高精細な画像形成を行うことができる光走査装置及びそれを用いた画像形成装置が得られる。[実施例2]図9は本発明の実施例2の光走査装置に用いる光源手段の各発光部の配置位置を示した要部断面図である。同図において図1に示した要素と同一要素には同符番を付している。本実施例において前述の実施例1と異なる点は、光源手段1の構成である。その他の構成、及び光学的作用は実施例1と同様であり、これにより同様な効果を得ている。本実施例の光源手段1は、2次元配列の面発光レーザーで構成されており、実施例1より画像形成装置の高速化、高精細化を容易にしている。以上のように、2次元配列の多ビームの光源手段を用いた場合でも面倒れによるピッチムラを低減することができ、高精細かつ高速な画像形成を行うことができる光走査装置及びそれを用いた画像形成装置が得られる。[実施例3]本発明の光走査装置の実施例3を説明する。本実施例と実施例2と異なる点は、被走査面における光束のスポット径である。その他の構成、作用は、実施例2と同様である。本実施例では、主走査方向と、副走査方向ともに被走査面における光束の最小スポット径が40μmになるように入射光学系LAを構成する第1の絞り2と第2の絞り5の絞り径をそれぞれ7.0mm、1.14mmに設定している。これにより、実施例2よりさらに高精細な画像形成装置を容易にしている。[実施例4]図10に本発明の実施例4の主走査断面図を示す。図中、1は光源手段であり、複数の発光点発光部を有する面発光レーザーマルチビーム光源より成っている。面発光レーザー1は複数の発光点のうち、少なくとも1つの発光点は、後述する第1の光学手段3の光軸からの距離が他の1つの発光点光軸からの距離と異なっている。本実施例では図6に示すように発光点が一次元状に配列し、8個の発光点から成る半導体レーザーで構成されている。これは、8ビームレーザーを使用することにより高速化、高精細化を達成するためである。2は第1の絞りであり、副走査方向の通過光束の光束幅を制限してビーム形状を整形している。これは、第1の絞り2をコリメータレンズ3の近傍に配置し、副走査方向の射出瞳位置をfθレンズ20b近傍に配置し、8ビームの主光線がfθレンズ20b近傍で副走査方向に交差させるためである。3は第1の光学手段としてのモールディングプロセスで作製されたガラス製の集光レンズ以下、コリメータレンズと称す。である。コリメータレンズ3は偏向手段10側の面が回転対称な非円弧非球面になっており、後述する発光点間のスポット径差を低減するとともに、光源手段1から出射された発散光束を平行光束に変換している。4は、ガラス製の正の屈折力の凸球面レンズ球面レンズであり、非走査面でのスポット径を調整ための球面レンズである。5は、第1の光学手段としてのレンズ系以下、シリンドリカルレンズと称す。であり、副走査断面内副走査方向にのみパワーを有している。シリンドリカルレンズ5はコリメータレンズ3、球面レンズ4を通過した光束を副走査断面内で後述する光偏向器10の偏向面反射面10aに線像として結像させている。6は第2の絞りであり、主走査方向の通過光束の光束幅を制限してビーム形状を整形している。本実施例における第2の絞り5はコリメータレンズ3の光偏向器10側に配置されている。7は、主走査方向にくさび形状を有するプリズムであり、第2の絞り6とプリズム7の入射面が一致するように配置されている。プリズム7の入射面と出射面は主走査方向に5°の角度を有している。これは、出射面からの反射光が後述に光量検知センサー9が入射しないようにするためである。8は結像レンズであり、プリズム7の入射面で反射した光束を光量検知センサー9に集光するためのレンズである。9は光量検知センサーであり、面発光レーザー1の各ビームが所望の光量で発光させるためのものである。面発光レーザー1は端面発光型のレーザーと異なり、APCAutoPowerControlセンサーを素子内に配置できないので、レーザーの外部にAPC用センサー9を有している。尚、コリメータレンズ3とシリンドリカルレンズ5を1つの光学素子より構成しても良い。また第1の絞り2、コリメータレンズ3、球面レンズ4、シリンドリカルレンズ5、そして第2の絞り6の各要素は入射光学系LAの一要素を構成している。またプリズム7、結像レンズ8、光量検知センサー9は、APC光学系の一要素を構成している。コリメータレンズ3は後述するように、レンズ光軸から周辺部に向かい正のパワーが弱くなる非球面が付加された非球面形状を有している。これによって複数の発光点からの光束の被走査面または偏向面での集光位置ピント位置を略同一にして被走査面での複数光束のスポット径を略同一にすることができる。また、偏向器10近傍に配置されている第2の絞り6は、主走査方向の光束幅を制限するとともに、偏向面上での各発光点からの光束の主光線を近接させることができるので、マルチビーム時に発生する縦線ゆらぎを低減できる。10は偏向手段としての光偏向器であり、5面構成のポリゴンミラー回転多面鏡より成っており、モーターの駆動手段不図示により図中矢印A方向に一定速度で回転している。20は集光機能とfθ特性とを有する結像光学系fθレンズ系であり、第1、第2の結像レンズfθレンズ20a,20bより成っている。結像レンズ20aはガラス製の平凸球面レンズ、結像レンズ20bは主走査面内で非球面形状のアナモフィックレンズより形成されている。結像光学系20は光偏向器10によって反射偏向された画像情報に基づく光束を被走査面としての感光ドラム面30上に結像させ、かつ副走査断面内において光偏向器10の反射面10aと感光ドラム面7との間を共役関係にすることにより、面倒れ補正を行っている。本実施例の結像レンズ20bの出射面は副走査断面の形状が非円弧であり、その非円弧量を結像レンズ20bの長手方向主走査方向に変化させることにより、副走査方向の波面収差量を変化させ、副走査方向の波動光学的な像面湾曲を低減させている。又、結像光学系20の副走査方向の近軸像面湾曲を適切に発生させることにより、面倒れが発生した場合の被走査面における副走査スポット位置ずれを低減させ、ピッチムラを低減している。30は被走査面としての感光ドラム面である。本実施例において画像情報に応じて光源手段1から光変調され出射した複数本実施例では8本の光束は第1の絞り2により副走査方向の光束幅が制限され、コリメータレンズ3と球面レンズ4により平行光束に変換され、シリンドリカルレンズ5に入射する。シリンドリカルレンズ5に入射した光束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で出射して第2の絞り6により主走査方向の光束幅が制限される。また副走査断面内においては収束して第2の絞り6を通過し主走査方向の光束幅が制限される光偏向器10の偏向面10a近傍に線像主走査方向に長手の線像として結像する。そして光偏向器10の偏向面10aで反射偏向された複数の光束は各々主に主走査方向に正のパワーを有する結像光学系20に入射し、感光ドラム面30上にスポット状に結像する。光偏向器10を矢印A方向に回転させることによって感光ドラム面30上を矢印B方向主走査方向に等速度で光走査している。これにより記録媒体である感光ドラム面上に複数の走査線を同時に形成し、画像記録を行っている。本実施例の設計パラメータを表2に示す。本実施例において、走査光学系は表2のように構成されている。本実施例において、結像レンズ20bの形状は、それぞれ結像レンズと光軸との交点を原点とする。図14に示すように光軸に対して走査開始側と走査終了側で、光軸をX軸、主走査面内において光軸と直交する方向をY軸、副走査面内で光軸と直交する方向をZ軸とし、前述したa、bの関数で表せる。また結像レンズ20bは、入射面が副走査方向の断面形状が円弧形状であり、出射面は副走査方向の断面形状がZの4次項を有する非円弧形状である。出射面は、非円弧量が長手方向に変化している。さらに、結像レンズ20bの副走査方向の形状は、光軸に対して走査開始側と走査終了側で入射面の副走査断面光軸を含み主走査面と直交する面内の曲率1/rと、4次の非球面係数をYの関数とし、レンズの有効部内において連続的に変化させている。副走査方向の形状は光軸に対して走査開始側と走査終了側で光軸をX軸、主走査面内において光軸と直交する方向をY軸、副走査面内で光軸と直交する方向をZ軸とし、以下の連続関数で表せる。r3、r4面の副走査方向関数r’は副走査方向曲率半径、Djは曲率変化係数、Miは子線非球面係数Yのプラス側とマイナス側で係数が異なる場合は、サフィックスsは走査開始側、eは走査終了側を表している。また、副走査方向の曲率半径とは主走査方向の形状母線に直交する断面内における曲率半径である。本実施例において、図11に示すように副走査方向のガウス像面は、dsY=0=-0.11dsYmax=170=0.81であり、条件式dsY=0<0dsY=Ymax>0を満足している。また、r=17M=5θf=19.56α=70又、Δ=0.50β=-1.68より、0.2δβ2=0.700.8δβ2=2.81であり、図12より軸上及び軸外の副走査方向のガウス像面は条件式を満足するように構成されていることがわかる。0.2δβ2<|dsY=Ymax|<0.8δβ2図12に本実施例の非円弧量を示す。図12aは図9におけるレンズ20bの出射面の副走査方向の非円弧量を示す。本実施例の副走査方向の光束幅は6mmなのでZ=±3mmの位置が副走査のマージナル光線が通過する位置副走査光束端となる。同図において、横軸はレンズ面の副走査方向Zを示しZ=0の副走査光軸近傍からZ=3の副走査光束端に向かって子線非円弧量が連続的に変化させている。また、書き出し側Y座標側有効端部および書き終わり側Y座標-側有効端部の非円弧量より、光軸近傍および書き終わり側端部の非円量が大きくなるように構成し、ピッチムラ低減と波動光学的像面位置補正を両立させている。図12bに副走査光束端の非円弧量の主走査方向変化を示す。レンズ20bの出射面の被円弧量はレンズの光軸近傍レンズ座標Y=-7mmで最大で268nmの被円弧量になるように構成され、レンズ長手Y方向端部にむかって単調に減少している。書き出し側の像高Yプラスおよび書き終わり側Yマイナスの被円弧量は、画像中心近傍より小さくなるように構成されている。また非円弧量がほぼ全域でプラスの値を有するのは、副走査方向の球面収差を補正するためである。図13に本実施例の発光点1a、1b、1cから放射される光束に対する面倒れ性能を示す。同図において、横軸は、像高を示し、縦軸は偏向面が3分倒れた時の被走査面における副走査方向のスポット重心位置ずれを示している。本実施例では、偏向面が3分たおれても被走査面全域で発光点1a~1cを含むすべてのビームで重心変化0.7μm以下を達成し、±2μm以下を達成している。画像形成装置図15は、本発明の画像形成装置の実施例を示す副走査方向の要部断面図である。図において、符号104は画像形成装置を示す。この画像形成装置104には、パーソナルコンピュータ等の外部機器117からコードデータDcが入力する。このコードデータDcは、装置内のプリンタコントローラ111によって、画像データドットデータDiに変換される。この画像データDiは、実施例1から3のいずれかに示した構成を有する光走査ユニットマルチビーム光走査装置100に入力される。そして、この光走査ユニット100からは、画像データDiに応じて変調された光ビーム103が出射され、この光ビーム103によって感光ドラム101の感光面が主走査方向に走査される。静電潜像担持体感光体たる感光ドラム101は、モータ115によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム101の感光面が光ビーム103に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム101の上方には、感光ドラム101の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ102が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ102によって帯電された感光ドラム101の表面に、前記光走査ユニット100によって走査される光ビーム103が照射されるようになっている。先に説明したように、光ビーム103は、画像データDiに基づいて変調されており、この光ビーム103を照射することによって感光ドラム101の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光ビーム103の照射位置よりもさらに感光ドラム101の回転方向の下流側で感光ドラム101に当接するように配設された現像器107によってトナー像として現像される。現像器107によって現像されたトナー像は、感光ドラム101の下方で、感光ドラム101に対向するように配設された転写器の一要素を構成する転写ローラ108によって被転写材たる用紙112上に転写される。用紙112は感光ドラム101の前方図15において右側の用紙カセット109内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット109端部には、給紙ローラ110が配設されており、用紙カセット109内の用紙112を搬送路へ送り込む。以上のようにして、未定着トナー像を転写された用紙112はさらに感光ドラム101後方図15において左側の定着器へと搬送される。定着器は内部に定着ヒータ図示せずを有する定着ローラ113とこの定着ローラ113に圧接するように配設された加圧ローラ114とで構成されている。そして転写部から搬送されてきた用紙112を定着ローラ113と加圧ローラ114の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙112上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ローラ113の後方には排紙ローラ116が配設されており、定着された用紙112を画像形成装置の外に排出せしめる。図15においては図示していないが、プリントコントローラ111は、先に説明したデータの変換だけでなく、モータ115を始め画像形成装置内の各部や、後述する光走査ユニット内のポリゴンモータなどの制御を行う。[カラー画像形成装置]図16は本発明の実施例のカラー画像形成装置の要部概略図である。本実施例は、光走査装置マルチビーム光走査装置を4個並べ各々並行して像担持体である感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。図16において、60はカラー画像形成装置、11,12、13,14は各々実施例に示したいずれかの構成を有する光走査装置である。21,22,23,24は各々像担持体としての感光ドラム、31,32,33,34は各々現像器、51は搬送ベルトである。図16において、カラー画像形成装置60には、パーソナルコンピュータ等の外部機器52からRレッド、Gグリーン、Bブルーの各色信号が入力する。これらの色信号は、装置内のプリンタコントローラ53によって、Cシアン,Mマゼンタ,Yイエロー、Bブラックの各画像データドットデータに変換される。これらの画像データは、それぞれ光走査装置11,12,13,14に入力される。そして、これらの光走査装置からは、各画像データに応じて変調された光ビーム41,42,43,44が出射され、これらの光ビームによって感光ドラム21,22,23,24の感光面が主走査方向に走査される。本実施例におけるカラー画像形成装置は光走査装置を4個並べ、各々がCシアン,Mマゼンタ,Yイエロー、Bブラックの各色に対応している。そして各々平行して感光ドラム21,22,23,24面上に画像信号画像情報を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。本実施例におけるカラー画像形成装置は上述の如く4つの光走査装置11,12,13,14により各々の画像データに基づいた光ビームを用いて各色の潜像を各々対応する感光ドラム21,22,23,24面上に形成している。その後、記録材に多重転写して1枚のフルカラー画像を形成している。前記外部機器352としては、例えばCCDセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置360とで、カラーデジタル複写機が構成される。"