真空ダクト内を進行する粒子線を走査して照射対象に照射するための走査電磁石と、上記真空ダクトから大気中に上記粒子線を取り出すビーム取り出し窓を備えた照射部を有する粒子線治療装置において、上記照射部は、上記真空ダクトが、上記走査電磁石よりも上記照射対象側のフランジ面で分割可能に設置され、上記フランジ面よりも上記照射対象側に設けられた走査式照射法用真空ダクトを、上記粒子線のビームライン上に重ならないように移動させた場合に、上記粒子線のビームライン上であって、移動前に上記走査式照射法用真空ダクトが設置されていた空間にブロードビーム照射法用のリッジフィルタを設置可能に構成されたことを特徴とする粒子線治療装置。上記照射部は、リッジフィルタを上記粒子線のビームライン方向に移動させるリッジフィルタ移動機構を備え、上記走査式照射法用真空ダクトを上記粒子線のビームライン上に重ならないよう移動させた場合に、ブロードビーム照射法用のリッジフィルタを上記フランジ面に近づける方向に移動して設置するよう構成されたことを特徴とする請求項1に記載の粒子線治療装置。上記真空ダクトの上記フランジ面よりも上記粒子線の上流側にゲートバルブを設けたことを特徴とする請求項1に記載の粒子線治療装置。上記走査式照射法用真空ダクトを上記粒子線のビームライン上に重ならないよう移動させた場合に、上記フランジ面に上記ビーム取り出し窓を設置したことを特徴とする請求項1に記載の粒子線治療装置。上記走査式照射法用真空ダクトを、長さの異なる複数個備え、この複数の走査式照射法用真空ダクトを、上記ビームラインに重ならない位置で支持する支持機構と、上記複数の走査式照射法用真空ダクトのうち一の走査式照射法用真空ダクトを、上記支持機構から上記ビームライン上に移動可能とする真空ダクト移動機構とを備えことを特徴とする請求項1に記載の粒子線治療装置。上記照射部を、回転ガントリに搭載したことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。ここで、ブロードビーム照射法の際に必要となる拡大ブラックピーク形成フィルタ以後、リッジフィルタと呼ぶに関して説明する。リッジフィルタは一般的にアルミや真鍮等で作成された山型の断面形状を持つバーリッジを必要な照射野の寸法に合わせた本数を並べることで構成される。このリッジフィルタは平坦な拡大ブラックピーク領域を得るために、バーリッジの斜面は数百マイクロ~数十マイクロオーダの精度での加工が要求され、奥行きが長く、高さが高いバーリッジを製作するには加工に非常に時間=費用がかかる。したがって、リッジフィルタの寸法長さ:L、高さ:hは小さいことが望ましく、またバーリッジのピッチ:λは大きいことが望まれる。リッジフィルタの寸法を小さくするには、リッジフィルタ自体をできる限り照射対象から離して配置することが必要となり、また、バーリッジのピッチ:λを大きくするためにも、リッジフィルタは照射対象までの距離を離して配置することが求められる。このような、照射対象までの距離とバーリッジのピッチとの関係は非特許文献1において詳しく述べられている。ここで特許文献2に記載された構成の問題点を述べる。特許文献2に記載された構成では、ガスチェンバの伸縮により作られるスペースにブロードビーム照射法に用いる機器を挿入する構成となっている。しかし、伸縮式のガスチェンバを用いる場合、ガスチェンバの構成上、最大限縮んだ状態でもガスチェンバの占有する領域は0にはならず、ガスチェンバはビームライン上に位置することになる。特許文献2では、この寸法を小さくするために、ガスチェンバをいくつかの節で分割して、下流になるに従って外形が大きくなる円筒状のガスチェンバでの伸縮機構を提案している。しかしながら、ガスチェンバが縮んだ際のビーム方向の長さを小さくするためには、分割する節の数を増やす必要があり、分割数を増やすにつれて、ガスチェンバの外形はビームを通過させるために必要な寸法に比べて大幅に大きくなってしまう欠点がある。このため、ブロードビーム照射に用いる機器を挿入するための機構はガスチェンバとの干渉がない位置に配置する必要があるため、機器の切替に必要な距離が長くなる。この問題は、ガスチェンバの変わりに真空ベローズ等を用いた場合でも同じである。真空ベローズの場合はガスチェンバの場合よりも状況は悪くなると考えられる真空ベローズの場合、ベローズが縮んでも最大で全長の半分程度である。上記の理由により、特許文献2のブロードビーム照射時の機器配置では、ガスチェンバの配置スペース分、リッジフィルタの位置は走査電磁石よりも大幅に離れることになる。上述のように、リッジフィルタと照射対象は距離を取る必要があるため、結果として、照射に必要な機器を配置するためのスペースが多く必要となる。本発明は、がん治療などで使用される粒子線治療装置において、一つの照射ノズルで複数の照射法を実現する粒子線治療装置に関わるものであり、以上のような従来の装置の問題点を解消するためになされたもので、走査電磁石から照射対象までのスペースが少なくても、製作が容易なリッジフィルタを用いることができる粒子線治療装置を得ることを目的とする。この発明は、真空ダクト内を進行する粒子線を走査して照射対象に照射するための走査電磁石と、真空ダクトから大気中に粒子線を取り出すビーム取り出し窓を備えた照射部を有する粒子線治療装置において、照射部は、真空ダクトが、走査電磁石よりも照射対象側のフランジ面で分割可能に設置され、フランジ面よりも照射対象側に設けられた走査式照射法用真空ダクトを、粒子線のビームライン上に重ならないように移動させた場合に、粒子線のビームライン上であって、移動前に走査式照射法用真空ダクトが設置されていた空間にブロードビーム照射法用のリッジフィルタを設置可能に構成したものである。この発明に関わる粒子線治療装置は、走査式照射法の機器構成から、ブロードビーム照射法の機器構成へと切替る際に、ブロードビーム照射法において不可欠であるリッジフィルタを走査電磁石近くに設置することが可能となるため、走査電磁石から照射対象までのスペースが少なくても製作が容易なリッジフィルタを用いることができる。実施の形態1.図1は、この発明の実施の形態1による粒子線治療装置の要部である照射部を示す構成図である。図2は、この発明を適用する粒子線治療装置の全体構成の一例を示す概略鳥瞰図である。図2において、前段加速器16で発生し前段加速された粒子線は、加速器シンクロトロン14に入射され、必要なビームエネルギーまで加速され、出射デフレクタからビーム輸送部17に出射され、照射部18に至り、照射対象である患者の患部に照射される。ビーム輸送部17は偏向電磁石12、13、真空ダクト15などから構成されている。図1では、偏向電磁石13の位置で、ビーム輸送系統が分岐され、一方のビーム輸送系統は回転ガントリ19に接続されている。ビーム輸送部17の一部と照射部18aとは回転ガントリ19に搭載され、回転ガントリ19の回転で照射部18aの照射方向を変えることができる。分岐された他方のビーム輸送系に接続されている照射部18bは回転ガントリに搭載されていないが、照射部18a、18bの構成は基本的には同一である。ここでは、照射部18a、18bをまとめて照射部18と称する。図1は、走査式照射法を実施する場合の構成を示している。図1において、加速器14から出射された粒子線は、真空ダクト15内で輸送され、照射部18では、真空領域を確保する連通した真空ダクト4、および走査式照射法用真空ダクト6を通って、粒子線を取り出すビーム取り出し窓7aから大気中に取り出されて、照射対象である患部に照射される。図1では、患部の基準位置であるアイソセンタ11だけを示している。粒子線は、走査電磁石5a、5bあわせて走査電磁石5とも称するにより照射対象を走査する。照射部18は、また、ブロードビーム照射法の機器配置の構成に切り替えるため、走査式照射法用真空ダクト6をビームライン1ビームラインの中心を符号1の一点鎖線で示している。から退避させる真空ダクト移動機構60、真空ダクト4の取り合いフランジ面47、真空ダクト4の、走査電磁石5の直前にて真空領域を分断するためのゲートバルブ48、粒子線を照射野にあわせて散乱させるための散乱体41を備えている。さらに、粒子線のブラックピークを深さ方向に広げるためのリッジフィルタ42、粒子線の飛程を調整するためのレンジシフタ43なども備えている。ここで、リッジフィルタ42、レンジシフタ43はビームライン1と平行な方向に移動可能なように、リッジフィルタ移動機構61に取り付けられている。次に動作について説明する。実施の形態1による粒子線治療装置にて、走査式照射法により照射する場合、粒子線はビームの散乱をできる限り抑えて、ビーム照射位置でのビームスポットサイズを小さくするために、ビーム照射位置手前まで真空ダクトを配置する構成とする。この時、散乱体41は不要であるため、真空ダクト4内でビームライン1横に退避させておく。粒子線が陽子線である照射の場合、走査式照射法においては、リッジフィルタ42は不要であるが、他の粒子線では、エネルギー幅を若干拡げるためにリッジフィルタを用いる場合がある。例えば、炭素などの重粒子線の場合、ブラックピーク幅は陽子に比べて非常に鋭いため、照射時間を削減するために、1回の走査である程度の深さ幅を照射するようある程度数mmの拡大ブラックピークSOBPを形成するためにリッジフィルタを用いることがある。ただし、この際のリッジフィルタはSOBP幅を数mmに拡げるリッジフィルタであって、バーリッジの高さはSOBP幅以下で良く、例え配置位置が照射対象から離れていなくても、ブロードビーム用のリッジフィルタよりもはるかに製作が容易なリッジフィルタを用いることができる。また、粒子線の到達深さ飛程距離は粒子線のエネルギーで決まるので、エネルギービームの飛程距離を変化させるには粒子線のエネルギーを変化させる必要がある。エネルギーの変化を、加速器のエネルギー調整のみで実施することは、エネルギーの切替に時間を要するという問題がある。このため、粒子線のエネルギーを変化させるために、粒子線のエネルギーを低減させるレンジシフタを使用する場合がある。レンジシフタで粒子線が散乱することを考えると、レンジシフタはできるだけ下流側、つまり、照射対象にできるだけ近い位置に配置することが望ましい。したがって、走査式照射法においてリッジフィルタ42やレンジシフタ43を用いる場合、図1のような配置が好ましい。次に、走査式照射法から、ブロードビーム照射法に切り替える場合を説明する。図3に、図1に示した照射部において、走査式照射法からブロードビーム照射法に切り替えた照射部の状態を示す。走査式照射法ではビームスポットサイズが拡がらないよう、照射位置近くまで走査式照射法用真空ダクト6を配置する構成としていた。一方、ブロードビーム照射法では、粒子線のエネルギー幅を大きく拡げる必要があり、そのためのリッジフィルタ42は、照射対象から離れた位置に配置する必要がある。本実施の形態1による粒子線治療装置においては、走査電磁石5の下流の走査式照射法用真空ダクト6をすべて取り外して、ビームライン1上から退避させることで、大きいスペースを確保できるようにしている。図1において、走査式照射法用真空ダクト6は、走査電磁石5の下流のフランジ面47にて真空ダクト4から切り離すことが可能な構成となっている。また、走査式照射法用真空ダクト6をフランジから取り外した際に、走査式照射法用真空ダクト6を受ける駆動ベースと駆動レールを備えた真空ダクト移動機構60により、走査式照射法用真空ダクト6をスライドさせて、ビームライン1上から、容易にビームライン1に重ならない位置に退避させる構成となっている。走査式照射法用真空ダクト6を取り外した後、真空ダクト取り合いフランジ面47は真空の最終面となるため、図3に示すように、このフランジ面47にビーム取り出し窓7bを取り付ける。走査式照射法用真空ダクト6を、真空ダクト移動機構60によりスライドさせることでできたスペースに、リッジフィルタ42をリッジフィルタ移動機構61により、フランジ面47に近づける方向に移動してビーム取り出し窓7bの直下まで上昇させて設置する。このとき、リッジフィルタ42は、走査式照射法用から、ブロードビーム照射法用に取り換える。また、レンジシフタ43も必要に応じて上下させ、必要に応じてボーラス44、患者コリメータ45を装着する。また、走査式照射法のときにはビームライン1から退避させていた散乱体41をビームライン1上に移動させる。これらにより、ブロードビーム照射が可能となる。ボーラス44、患者コリメータ45はレンジシフタ43の下面に挿入用のホルダーをレールなどで取りつける構成としておくことで、容易に設置可能である。また、リッジフィルタ42、レンジシフタ43の挿入は、エアもしくはモータでの直進駆動機構もしくは回転駆動機構を用いることで実現可能である。また、上記では走査式照射法用真空ダクト6の退避はスライド式による構成としたが、回転式の支持機構を設けて、フランジと挿入スペースを支持機構の回転によって切替える方法でも実現可能である。走査式照射法用真空ダクト6より粒子線の上流側に真空の分離面がなく、走査式照射法用真空ダクト6が上流から連通している場合、走査式照射法用真空ダクト6を取り外すことで、ビーム輸送系のすべての真空が破られることになる。この場合、真空度を上げる作業に時間がかかってしまうため、走査電磁石5の直ぐ上流側にゲートバルブ48を配置するのが好ましい。ゲートバルブ48の位置は、走査電磁石5の直ぐ下流側であっても良い。走査式照射法用真空ダクト6を取外す際は、ゲートバルブ48を閉めることにより、真空度への影響はゲートバルブ48より下流側のみに抑える事が出来る。この際、ゲートバルブ48が最終のビーム取り出し窓の役割を兼ねる構成にすれば、ビーム取り出し窓7bを新たに取り付ける必要性がなくなり、切替えをより短時間で実施することが可能となる。以上のように、本実施の形態1によれば、ブロードビーム照射法のときには、走査式照射法のときに用いる走査式照射法用真空ダクト6を、ビームが通過するビームライン1に重ならないよう退避させ、空いた空間にリッジフィルタ42をビームライン方向に移動させて配置するようにしたため、リッジフィルタ42を照射対象から離れた位置に配置でき、照射部全体がコンパクトにできるとともに、製作容易なリッジフィルタを用いることができる効果がある。実施の形態2.図4および図5は、この発明の実施の形態2による粒子線治療装置の要部である照射部の部分を示す構成図である。図4は、実施の形態2による粒子線治療装置において、走査式照射法を実施する場合の構成を示している。実施の形態1では、走査式照射法においてもリッジフィルタを使用する構成であった。走査式照射法により照射する場合、粒子線はビームの散乱をできる限り抑えて、ビーム照射位置でのビームスポットサイズを小さくするために、図4のようにビーム照射位置手前まで真空ダクトを配置する構成とする場合が多い。この時、散乱体41、リッジフィルタ42、レンジシフタ43などは不要であるため、ビームライン1に重ならないように退避している。次に、本実施の形態2において、走査式照射法の機器構成から、ブロードビーム照射法の機器構成に切り替える際の方法に関して記載する。走査式照射法ではビームスポットサイズを小さくするために、照射位置直前まで真空ダクトを配置する構成としていたが、この構成の場合、ブロードビーム照射法で使用するリッジフィルタ等を配置するためのスペースがない。図4で示す走査式照射法用真空ダクト6の配置のままリッジフィルタ等を配置する場合は、走査式照射法用真空ダクト6の下流照射位置手前のスペースとなり、照射対象までの距離が短く、この距離で使用できるリッジフィルタは製作が困難となる。特許文献2ではガスチェンバを収縮させることで装置の配置スペースを設けていたが、本実施の形態2では、走査電磁石5の下流の走査式照射法用真空ダクト6を取り外して、ビームライン1上から退避させることで、特許文献2よりもはるかに大きいスペースを確保する構成としている。図4において、走査式照射法用真空ダクト6は走査電磁石5の下流のフランジ面47にて、真空ダクト4から分離することが可能な構成となっている。また、走査式照射法用真空ダクト6をフランジから取り外した際に、真空ダクトを受ける駆動ベースと駆動レールを備えた真空ダクト移動機構60により、走査式照射法用真空ダクト6をスライドによりビームライン1上から、容易にビームライン1に重ならない位置に退避させる構成となっている。図5は、本実施の形態2において、ブロードビーム照射法へ切り替わった後の構成を示している。走査式照射法用真空ダクト6を取り外した後、真空ダクト取り合いフランジ面47は真空の最終面となるため、このフランジ面にビーム取り出し窓7bを取り付ける。走査式照射法用真空ダクト6をスライドさせることでできた空間に、リッジフィルタ42、レンジシフタ43を挿入させる。また、走査式照射法のときにはビームライン1から退避させていた散乱体41をビームライン1上に移動させる。さらに、ノズル前面に必要に応じてボーラス44、患者コリメータ45を装着することで、ブロードビーム照射が可能となる。ボーラス44、患者コリメータ45はレンジシフタ43の下面に挿入用のホルダーをレールなどで取りつける構成としておくことで、容易に設置可能である。また、リッジフィルタ42、レンジシフタ43の挿入は、エアもしくはモータでの直進駆動機構もしくは回転駆動機構を用いることで実現可能である。また、上記では走査式照射法用真空ダクト6の退避方法をスライド式としたが、回転式の支持機構を設けて、フランジと挿入スペースを支持機構の回転によって切替える方法でも実現可能である。以上のように、本実施の形態2によれば、ブロードビーム照射法のときには、走査式照射法のときに用いる走査式照射法用真空ダクト6を、ビームが通過するビームライン1から退避させ、空いた空間にリッジフィルタ42を挿入して配置するようにした。このため、リッジフィルタ42を照射対象から離れた位置に配置でき、照射部全体がコンパクトにできるとともに、製作容易なリッジフィルタを用いることができる効果がある。実施の形態3.図6および図7は、この発明の実施の形態3による粒子線治療装置の要部である照射部を示す構成図である。図7は、図6のA-A位置での断面を示す図である。実施の形態1や実施の形態2の構成では、走査式照射法の場合、最終のビーム取り出し窓位置は走査式照射法用真空ダクト6の長さによって決まってくるため、ビーム取り出し窓位置を照射対象の大きさに合わせて調整することはできない。しかし。走査式照射法の場合、スポットサイズをできるだけ小さくするために、ビーム取り出し窓位置はできる限り照射対象に近づけることが望ましい。実施の形態3はビーム取り出し窓の高さを変更することが可能な構成を実現したものである。図6および図7を用いて、実施の形態3による粒子線治療装置の照射部を説明する。実施の形態3は異なる長さの複数の走査式照射法用真空ダクト6a、6b、6cを保持するための回転円盤型真空ダクト支持機構62を備えることに特徴がある。まず、図6および図7においてビームライン1上に取り付けられている走査式照射法用真空ダクト6aを取り外し、真空ダクト移動機構63によりスライド移動させて、ビームライン1に重ならない位置で走査式照射法用真空ダクト6aを支持する支持機構である回転円盤型真空ダクト支持機構62の空きスペースに退避させる。その後、回転円盤型真空ダクト支持機構62を回転させ、走査式照射法用真空ダクト6aとは長さの異なる、例えば走査式照射法用真空ダクト6bが設置可能な角度に設定する。この設定で、真空ダクト移動機構63により、長さの異なる走査式照射法用真空ダクト6bを、ビームライン1上に移動させることができる。走査式照射法用真空ダクト6bを真空ダクト取り合いフランジ面47に取り付けることで、ビーム取り出し窓7aの高さを変更することが可能となる。図7では3種類の真空ダクトを配置する場合を記載したが、回転円盤の寸法を大きくすることで、変更可能な長さの種類を増やすことが可能である。また、実施の形態1で説明したリッジフィルタ移動機構61を備えることで、ビーム取り出し窓の高さを変更後に、リッジフィルタ、レンジシフタをビーム取り出し窓の高さにあわせて位置を変更することが可能となる。本実施の形態3では、ビームライン1に重ならない位置で複数の走査式照射法用真空ダクトを支持する支持機構として回転円盤方式を記載した。その他にも、ビームライン1に重ならない位置で複数の走査式照射法用真空ダクトを支持する支持機構として、真空ダクト移動機構の退避側に複数の分岐点を設ける構成、または、真空ダクトをビームライン1方向に分割できる構造にして、分割単位ごとに真空ダクト移動機構を持たせる構成にすることでも、上記同様に真空ダクトの長さ変更は可能である。実施の形態4.図1に示した回転ガントリ19に搭載されている照射部18aとして、上記実施の形態1~3で説明した照射部18を適用することができる。粒子線の照射は、一般的に回転ガントリは停止した状態で行う。回転ガントリに、実施の形態1~3で説明した照射部18を搭載した場合、真空ダクトの移動作業はガントリ角度0度照射部が垂直に配置される角度にて実施することが作業性の観点から好ましい。