"蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口部を長手方向に複数備える蒸発源と、前記蒸発源を走査して基板に前記蒸着材料を蒸着する2つの処理部とを有する真空蒸着チャンバと、前記基板を受渡室と前記複数の処理部との間を搬送する搬送手段とを具備する真空搬送チャンバとを有する有機ELデバイス製造装置において、前記2つの処理部はそれぞれ基板を保持できる基板保持部を有し、前記2つの基板保持部を垂直または略垂直にした状態で互いに正対可能に設け、前記蒸着物噴射口部を前記2つの基板保持部の前記基板に交互に正対させる蒸発源回転駆動手段を有することを特徴とする有機ELデバイス製造装置。前記蒸発源を垂直又は水平方向に走査させる蒸発源走査手段を有することを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。前記真空蒸着チャンバに隣接して前記蒸発源を保守又は新たな蒸発源と交換できる蒸発源保守交換室と、前記真空蒸着チャンバと前記蒸発源保守交換室との間に設けられ前記真空蒸着チャンバの真空を隔離する隔離手段と、前記真空蒸着チャンバと前記蒸発源保守交換室間を前記蒸発源を移動させる蒸発源走査手段とを有することを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。前記蒸発源走査手段は前記隔離手段に跨って前記蒸発源を移動させるガイドレールを有し、前記ガイドレールを前記隔離手段から除去する蒸発源移動手段分離手段を有することを特徴とする請求項3に記載の有機ELデバイス製造装置。前記蒸発源走査手段は、前記蒸発源の一端にナット有し前記ナットと係合し前記ガイドレールに沿って設けられたボールジョイントと、前記ボールジョイントを駆動する真空シールを介して前記真空蒸着チャンバの外部に設けられた駆動源とを有し、前記ガイドレールに沿って移動させることを特徴とする請求項4に記載の有機ELデバイス製造装置。前記処理部は前記基板を水平の状態から前記垂直または略垂直状態にする基板旋回駆動手段を有することを特徴とする請求項2に記載の有機ELデバイス製造装置。前記搬送手段は前記基板の蒸着面を上面にして前記基板を搬送し、前記基板保持部に水平に載置することを特徴とする請求項6に記載の有機ELデバイス製造装置。蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口部を長手方向に複数備える蒸発源と、前記蒸発源を走査して基板に前記蒸着材料を蒸着する2つの処理部とを有する真空蒸着チャンバと、前記基板を受渡室と前記複数の処理部との間を搬送する搬送手段とを具備する真空搬送チャンバとを有する有機ELデバイス製造装置において、前記蒸発源を垂直又は水平方向にして走査させる蒸発源走査手段と、前記真空蒸着チャンバに隣接して設けられ前記蒸発源を保守又は新たな蒸発源と交換できる蒸発源保守交換室と、前記真空蒸着チャンバと前記蒸発源保守交換室との間に設けられ前記真空蒸着チャンバの真空を隔離する隔離手段と、前記真空蒸着チャンバと前記蒸発源保守交換室間を前記蒸発源を移動させる手段と、を有することを特徴とする有機ELデバイス製造装置。真空蒸着チャンバに設けられた2つの処理部にそれぞれ基板を搬入し、蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口部を長手方向に複数備える蒸発源を走査して前記基板に前記蒸着材料を蒸着する有機ELデバイス製造方法において、前記2つの処理部の有するそれぞれ前記基板を保持する基板保持部を垂直または略垂直にした状態で互いに正対させ、一方の基板から他方の基板に前記蒸着物噴射口部を回転させて他方の基板に正対させ、その後他方の基板に蒸着することを特徴とする有機ELデバイス製造方法。前記蒸発源を垂直又は水平方向に走査させることを特徴とする請求項9に記載の有機ELデバイス製造方法。他のFPD照明デバイスと比べ優れた特性を有する有機ELデバイスであるが、製造コストが他のデバイスに比べて高くなりやすい。高価な蒸着材料を使用することとその材料効率が低いことが最大の原因である。2枚の基板を交互に蒸着する従来の方法は、材料効率の改善の点で効果は大きいものの、基板間基板の長さ分は移動しなければならず、その移動時間は蒸着に寄与できない。また、蒸発源の保守に対して考慮はなされていなく、多くの保守時間が必要になる。従って、本発明の第1を目的は、材料の損失の少なくできる有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供することである。また、本発明の第2の目的は、蒸発源の保守時間の短く、稼働率の高い有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供することである。本発明は、上記目的を達成するために、少なくとも下記の特徴を有する。本発明は、真空蒸着チャンバに設けられた2つの処理部にそれぞれ基板を搬入し、蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口部をライン状に備える蒸発源を走査して前記基板に前記蒸着材料を蒸着する有機ELデバイス製造装置又は有機ELデバイス製造方法において、前記2つの処理部の有するそれぞれ前記基板を保持する基板保持部を垂直または略垂直にした状態で互いに正対させ、一方の基板から他方の基板に前記蒸着物噴射口部を回転させて他方の基板に正対させ、その後他方の基板に蒸着することを第1の特徴とする。また、本発明は、前記蒸発源を垂直又は水平にして走査させることを第2の特徴とする。さらに、本発明は、前記蒸発源を前記真空蒸着チャンバに隣接して設けられた保守又は新たな蒸発源と交換できる蒸発源保守交換室に移動し、前記真空蒸着チャンバと前記蒸発源保守交換室との間に設けられ、前記真空蒸着チャンバの真空を隔離する隔離手段を閉じ、前記蒸発源を保守又は新たな蒸発源と交換することを第3の特徴とする。また、本発明は、前記蒸発源保守交換室への移動は、前記隔離手段に跨って設けられたガイドレール上を移動し、その後に、前記ガイドレールを前記隔離手段から除去することを第4の特徴とする。本発明によれば、材料の損失の少なくできる有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供できる。また、本発明によれば、蒸発源の保守時間の短く、稼働率の高い有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供できる。以下本発明に実施形態を図面を用いて説明する。図1乃至図3を用いて本発明の実施形態である有機ELデバイス製造装置を説明する。図1は本発明の第1の実施形態である有機ELデバイス製造装置100を示す。有機ELデバイス製造装置は、単に発光材料層EL層を形成し電極で挟むだけの構造ではなく、陽極の上に正孔注入層や輸送層、陰極の上に電子注入層や輸送層をなど様々な材料が薄膜としてなる多層構造を形成したり、基板を洗浄したりする。図1はその製造装置の一例を示したものである。本実施形態における有機ELデバイス製造装置100は、大別して処理対象の基板6を搬入するロードクラスタ3、基板6を処理する4つのクラスタA~D、各クラスタ間又はクラスタとロードクラスタ3あるいは次工程封止工程との間の設置された5つの受渡室4から構成されている。本実施形態では、基板の蒸着面を上面にして搬送し、蒸着するときに基板を立てて蒸着する。ロードクラスタ3は、前後に真空を維持するためにゲート弁10を有するロードロック室31と、ロードロック室31から基板を受取り、旋回して受渡室4aに基板6を搬入する搬送ロボット5Rとからなる。各ロードロック室31及び各受渡室4は前後にゲート弁10を有し、当該ゲート弁10の開閉を制御し真空を維持しながらロードクラスタ3あるいは次のクラスタ等へ基板を受け渡しする。各クラスタA~Dは、一台の搬送ロボット5を有する真空搬送チャンバ2と、搬送ロボット5から基板を受取り、所定の処理をする図面上で上下に配置された2つの処理チャンバ1第1の添え字a~dはクラスタを示し、第2の添え字u、dは上側下側を示すを有する。真空搬送チャンバ2と処理チャンバ1の間にはゲート弁10を設けている。図2は、真空搬送チャンバ2と処理チャンバ1の構成の概要を示す。処理チャンバ1の構成は処理内容によって異なるが、蒸着材料である発光材料を真空中で蒸着しEL層を形成する真空蒸着チャンバ1buを例にとって説明する。図2は、そのとき真空搬送チャンバ2bと真空蒸着チャンバ1buの構成の模式図と動作説明図である。図2における搬送ロボット5は、全体を上下に移動可能矢印59参照で、左右に旋回可能なリンク構造のアーム57を有し、その先端には基板搬送用の櫛歯状ハンド58を有する。本実施形態の処理の第1の基本的な考え方は、図2に示すように、1台の真空蒸着チャンバに処理部を2つ設け、一方の処理部例えばR処理部を蒸着している間に、他方のL処理部では基板の搬出入し、基板6とシャドウマスク8とのアライメントをし、蒸着する準備を完了させることである。そして、一方の処理部の蒸着が完了したら、蒸発源7を180度回転させて、他方の処理部の蒸着を行う。この処理を交互に行なうことによって、基板に蒸着させずに無駄に蒸発昇華している時間を減少させることができる。上記を実現するために、真空蒸着チャンバ1bu以下の説明で特に説明を必要としない範囲において符号1で示すには、各処理部に搬送ロボット5と基板6の受け渡し行なう基板保持部9、基板保持部の櫛歯状ハンド91を旋回させ基板を直立又は略直立例えば1程度まで傾斜させる基板旋回駆動手段93及び直立又は略直立した基板6とアライメントするマスク8を備え、蒸発源7を両処理部の基板保持部9の間でかつ基板保持部9と平行に垂直に設け、両処理部の基板保持部9に蒸着ノズル78が正対して蒸着できるように蒸発源を回転させる。また、本実施形態の処理の第2の基本的な考え方は、図1に示すように、真空蒸着チャンバ1に隣接して蒸発源保守交換室11を設け、蒸発源7が真空蒸着チャンバ1と蒸発源保守交換室11との間を移動できるようにする。そのために、蒸発源7を両者間で移動させ、蒸発源7を蒸発源保守交換室に残し、真空蒸着チャンバ1と蒸発源保守交換室11の間の真空を隔離する。図3は本実施形態に用いる蒸発源7の一例を示したもので、蒸発源7の長手方向に沿って複数の蒸着ノズル78を有する。また、蒸発源7の長手方向上下には、回転用の支持棒7u、7dが存在する。図4、図5は、図1及び図2に示した真空蒸着チャンバ1及び真空蒸着チャンバ1に隣接して設けられた蒸発源保守交換室11の図1に示すA-A’断面図である。図4は、ゲート弁10Aが開いた状態で、蒸発源7が左右方向に走査して基板6に蒸着している状態を示す。図5は、蒸発源7が蒸発源保守交換室11に移動し、真空蒸着チャンバ1と蒸発源保守交換室11とが真空分離されている状態を示す。真空蒸着チャンバ1と蒸発源保守交換室11との間には両者の真空を隔離する隔離手段であるゲート弁10Aが設けられている。なお、ゲート弁10Aのサイズは後述するように、蒸発源7が両室を移動できる高さと幅を有している。特に幅は図1の真空蒸着チャンバ1の真空搬送チャンバ2の反対側の壁全面に亘って存在するものでない。以下、図4、図5を用いて本実施形態における第1の実施例を説明する。第1の実施例は、蒸発源7の両側の基板保持部に載置された基板に蒸着し、蒸発源7が真空蒸着チャンバ1と蒸発源保守交換室11との間を移動できるようにする蒸発源駆動手段50と、蒸発源保守交換室11に移動してきた蒸発源7を蒸発源保守交換室11に残すために蒸発源駆動手段50を分離する蒸発源移動手段分離手段60とを有する。蒸発源駆動手段50は、大別して蒸発源7を紙面左右方向に走査する蒸発源走査手段51と、蒸発源7の両側の基板保持部に載置された基板を蒸着できるように蒸発源を例えば180α度回転可能な蒸発源回転駆動手段55とを有する。また、蒸発源走査手段51は、真空蒸着チャンバ1内に基本的に構成されるチャンバ内走査手段52と、蒸発源保守交換室11内に構成される保守室内移動手段53とに分かれる。蒸発源移動手段分離手段60は、蒸発源走査手段51を構成するチャンバ内走査手段52と保守室内移動手段53との間の接続を分離する。まず、本実施形態の特徴の一つである蒸発源回転駆動手段55を説明する。蒸発源7は、その下部を蒸発源7が左右に走査するための蒸発源固定台52kに回転可能に保持され、上部を蒸発源固定台52kによる移動に伴って蒸発源7が従動的にスムーズに上部ガイドレール52gu上を移動する摺動部52qに回転可能に設けられている。蒸発源固定台52kには蒸発源を回転させる駆動源であるモータ55mが固定され、磁気シール55jを介して蒸発源7の下部回転軸7dに連結されている。同様に、摺動部52qには、蒸発源7の上部回転軸7uが磁気シール55jを介して回転可能に支持される回転支持部55rが固定されている。この構成によって、蒸発源7を図2及び図4に示す矢印H方向に回転させ、蒸着方向を自由に変えることができる。また、蒸発源7の姿勢をただ回転させるだけなので、蒸発源内部の変化を齎すこともない。従って、蒸発源の内圧の上昇させることもなく再開放時の蒸発昇華速度の変化や材料の変質を齎すこともない。次に、蒸発源走査手段51を構成するチャンバ内走査手段52を説明する。チャンバ内走査手段52は、蒸発源7を垂直に固定する蒸発源固定台52kと、蒸発源固定台52kの内部に設けられた破線で示すナット52nと、ナット52nと係合しナット52nを移動させるボールジョイント52bと、ボールジョイント52bを駆動する駆動源のモータ52mと、蒸発源固定台52kが回転せずに移動できるようにする下部ガイドレール52gdと、下部ガイドレール52gdを真空蒸着チャンバ1に固定するチャンバ固定台52cと、ボールジョイント52bの左端に設けられボールジョイント52bを支持する支持部52sと、を有する。本実施形態では、モータ52mを冷却の都合から真空蒸着チャンバ1の外部に設置する。このモータ52mの動力を真空蒸着チャンバ1内に伝達するのに磁性流体シール52jを設けている。また、モータ52mとボールジョイント52bとの軸間の変位や角度誤差を吸収するカップリング52pを設けて、スムーズな動力の伝達を可能としている。また、チャンバ内走査手段52は、真空蒸着チャンバ1の上部に蒸発源7のスムーズな走査を可能とするための上部ガイドレール52guと、上部ガイドレール52guを摺動する蒸発源7の上部に設けられた摺動部52qとを有する。上部ガイドレール52guは後述するように蒸発源保守交換室11内の上部ガイドレール53guを介してガイド支持部53fで支持されているので、摺動部52qは安定して移動できる。さらに、後述するように、チャンバ内走査手段52は、上部ガイドレール52guが上部ガイドレール53guから分離されたときに、ボールジョイント52bと上部ガイドレール52guを支持するために真空蒸着チャンバ1内を移動可能な連結部52rを有する。連結部52rは、ボールジョイント52bと契合する破線で示すナット52rnと、ナット52rnを内部で固定している連結部支持部52rkと、ナット52rnによる移動に伴い上部ガイドレール52gu上を摺動する連結部摺動部52rsと、連結部支持部52rkと連結部支持部52rkと連結する連結棒52rbとを有する。一方、保守室内移動手段53は、ボールジョイント52bと連結可能なボールジィント53bと、蒸発源固定台52kが移動する下部ガイドレール53gdと、図5に示すようにボールジョイント52bを支持でき下部ガイドレール53gdに固定された支持部53sと、蒸発源7が蒸発源保守交換室11に入ってきたときにスムーズに走行させる上部ガイドレール53guと、上部ガイドレール53guを支持するガイド支持部53fとを有する。上部ガイドレール53guは、チャンバ内走査手段52の上部ガイドレール52guと連結可能な構造を有する。このような構成によって、チャンバ内走査手段52と保守室内移動手段53とを有する蒸発源走査手段51によって、蒸発源7は、真空蒸着チャンバ内の走査と共に、蒸発源保守交換室11内への移動もすることができる。次に、本実施形態の他の特徴である蒸発源移動手段分離手段60を図5を用いて説明する。蒸発源移動手段分離手段60は、一端を下部ガイドレール53gdの空洞部内60kに固定された破線で示すにナット60nと係合し、他端を支持部60sに回転可能に支持されボールジョイント60bと、チャンバ内走査手段52のモータ52mと同様に磁性流体シール60jやカップリング60pを介してボールジョイント60bを駆動する駆動源であるモータ60mと、下部ガイドレール53gdを摺動させる下部ガイドレール60gdと、下部ガイドレール60gdを固定するレール固定部60cとを有する。また、蒸発源移動手段分離手段60は、上部ガイドレール53guを移動させために、一端を支持部53sに、他端を上部ガイドレール53guに固定された連結棒60rを有する。連結棒60rは、ボールジョイント60bを駆動に伴い移動する支持部53sにより上部ガイドレール53guをそれを支持するガイド支持部53f内を摺動させる。上述した蒸発源移動手段分離手段60によって、下部ガイドレール53gdの矢印G方向の移動に伴い、下部ガイドレール53gdに固定された支持部53sも矢印G方向に移動する。支持部53sの移動に伴い、ボールジィント53bと連結棒60r介して支持部に固定された上部ガイドレール53guとが矢印G方向に移動する。また支持部53sの移動に伴い、ボールジィント53bを介して支持部53sに固定された蒸発源固定台52k蒸発源7も矢印G方向に移動する。その結果、ボールジィント53bと上部ガイドレール53guとがそれぞれボールジィント52bと上部ガイドレール52guとの連結を解消し、ボールジィント53b、上部ガイドレール53gu及び下部ガイドレール53gdとを蒸発源保守交換室11内に引込み、蒸発源7が蒸発源保守交換室11内に移動する。また、下部ガイドレール53gdの蒸発源保守交換室11内への引込みによって、ゲート弁10Aを閉じることができる。このとき、蒸発源蒸発源固定台52k連結を解消したとき、上部ガイドレール52guは連結部60rによって支持される。また、連結を外された上部ガイドレール52guは連結部52rによってその姿勢を維持できる。次に、上述した手段を有する有機ELデバイス製造装置100による蒸着処理フローを図6に示す。まず、一方、例えばL処理部において蒸発源走査手段51により蒸発源7を走査させて基板を蒸着するStep1。このとき、他方のR処理部では蒸着済みの基板6を搬出し、新たな基板を搬入し、新たな基板6を垂直又は略垂直1度以内に傾斜に立て、アライメントし蒸着準備を完了させるStep2。L処理部での蒸着が終了したら、蒸発源回転手段55によって蒸発源7を180度回転し、R処理部に正対させるStep3。その後、R、L処理部でのStep1、2の処理を互いを交換して行なうStep4、5。次に、R処理部での蒸着が終了したら、蒸発源回転手段55によって蒸発源7を180度回転し、L処理部に正対させるStep6。その後は、Step1からStep6の処理を所定基板枚数分行なうStep7。以上説明したように、ただ単に蒸発源7が180度を回転することで一方の基板から他方の基板へ蒸発源7を移動させることができる。従って、横並びに並んだ2枚の基板間を蒸発源が移動させて交互に蒸着する方法に比べさらに蒸着に寄与しない蒸着材料を低減できる。次に、上述した手段を有する有機ELデバイス製造装置100による蒸発源7を保守する又は新たな蒸発源と交換する処理フローを図7を用いて説明する。図8はその処理フローにおける真空蒸着チャンバ1と蒸発源保守交換室11との状態を示す図である。まず、図4に示す真空蒸着チャンバ1内で基板6に蒸着して状態から、図8aに示すように蒸発源7を蒸発源保守交換室11内に移動させるStep1。このとき、連結部60rはゲート弁10Aの手前で停止させる。即ち、蒸発源7と連結部60rとの間隔は、図5に示すようにゲート弁10Aを閉じることができる距離となるように設定する。次に、図8bに示すように、蒸発源移動手段分離手段60よって下部ガイドレール53gdを矢印Gの方向に移動させ、ボールジィント53bと上部ガイドレール53guのそれぞれボールジィント52bと上部ガイドレール52guとの連結を解消し、ゲート弁10Aが挿入できる空間54を形成するStep2。その後、ゲート弁10Aを挿入して閉じ、2つに室の真空を分離し図5の状態にStep3する。そして、蒸発源保守交換室11の真空を解除するStep4。次に、蒸発源保守交換室11で当該蒸発源を保守するか又は新たな蒸発源と交換するStep5。保守又は交換後、蒸発源保守交換室11を所定に真空度にするStep6。この場合、図1に示すように、蒸発源保守交換室11は真空蒸着チャンバ1と比べてその容積は小さいので所定の真空度にする時間を短縮することができる。次に、所定の真空度になったらゲート弁を開きStep7、蒸発源移動手段分離手段60よって下部ガイドレール53gdを図8bの示す矢印Gとは反対方向に移動させ、ボールジィント53bと上部ガイドレール53guとをそれぞれボールジィント52bと上部ガイドレール52guとに連結し、蒸発源7を真空蒸着チャンバ1内に移動させるStep8。その後、蒸発源駆動手段50によって蒸発源7を走査し蒸着を再開するStep9。以上説明した実施形態によれば、相対する2つの基板に蒸着ノズル78が正対できるように蒸発源7を回転させることによって、材料の損失の少なくできる有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供できる。また以上説明した実施形態によれば、真空蒸着チャンバ1に隣接して蒸発源保守交換室11を有する本実施形態によれば、短時間で蒸発源を保守又は新たな蒸発源と交換でき蒸着しない時間を短縮できるので、その分だけ稼働率の高い有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供できる。さらに以上説明した実施形態によれば、内圧の上昇による再開放時の蒸発昇華速度の変化や材料の変質を齎すことない有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供できる。次に、本発明の実施形態における第2の実施例を図9を用いて説明する。図9は、図5に対応する図で、図1及び図2に示した真空蒸着チャンバ1及び真空蒸着チャンバ1に隣接して設けられた蒸発源保守交換室11の図1に示すA-A’断面図で、本実施形態の第2の実施例を示す。第2の実施例は、第1の実施例とは蒸発源保守交換室11の構成と蒸発源走査手段51とが異なり、蒸発源移動手段分離手段60と蒸発源回転駆動手段55は基本的には同じである。蒸発源保守交換室11は、第1の実施例同様に基板に蒸着するときはゲート弁10Aが開かれ真空雰囲気となり、蒸発源7を保守又は交換するときは大気雰囲気となる蒸発源保守交換実施室11Aと、保守室内移動手段53Aを有し常に大気雰囲気である保守室内移動手段室11Bとを有する。蒸発源保守交換実施室11Aは、第1の実施例と同様に蒸発源移動手段分離手段60を有し、後述するチャンバ内走査手段52Aの構成要素のうち蒸発源7を走査させるガイド配管などの延長部材を備えるが基本的には保守室内移動手段を有しない点が異なる。異なる点は蒸発源走査手段51Aを説明するときに合わせて説明する。第2の実施例では蒸発源7の一端をワイヤ51wに固定し、該ワイヤを真空蒸着チャンバ1及び蒸発源保守交換室11内を巡回させて、蒸発源7を真空蒸着チャンバ1内を走査させ蒸着処理すると共に、蒸発源7を蒸発源保守交換実施室11Aに移動させる。そのために、チャンバ内走査手段52Aは、ワイヤ51wを内部に通し、蒸発源7を垂直に固定する蒸発源固定台52kと、蒸発源固定台52kの内部に設けられ蒸発源固定台52kにワイヤ51wを固定する破線で示すワイヤ固定部52eと、蒸発源7を垂直に固定する蒸発源固定台52kが外表面を摺動する下部ワイヤ配管52hdと、真空蒸着チャンバ1の上部に設けられワイヤ51wを内部に通し、蒸発源7の上部に設けられた摺動部52qが従動的に移動する上部ワイヤ配管52huと、下部ワイヤ配管52hdと上部ワイヤ配管52huとを内部にプリー52vを備える上下の支持部52sを介して接続する接続ワイヤ配管52hsとを有する。これらの3つのワイヤ配管とプリー52vを有する支持部52sは大気雰囲気を有し、大気雰囲気を有する保守室内移動手段室11Bに開放されている。また、チャンバ内走査手段52Aは、第1の実施例と同様に、蒸発源固定台52kが回転せずに移動できるように下部ガイドレール52gd及び下部ガイドレール53gd等とを有する。一方、ワイヤ51wの駆動部である保守室内移動手段53Aは、ワイヤ51Wを巻回し駆動する駆動プリー53jと、駆動プリー53jを回転駆動する駆動源であるモータ53mと、下部ワイヤ配管52hdと、上部ワイヤ配管52huの端部に設けられたプリー53vと、ワイヤ51wの張力を維持する張力プリー53tと、張力プリー53tにテンションを掛けるテンション部53aとを有する。上記に説明した蒸発源走査手段52Aによって蒸発源7を走査させ蒸着処理を行なうと共に、次のようにして蒸発源7を蒸発源保守交換実施室11Aに移動させ、図9に示すように蒸発源7を保守又は新たな蒸発源と交換できようにする。そのためにまず、蒸発源走査手段52Aによって、蒸発源7を蒸発源保守交換実施室11Aに移動させる。次に、蒸発源移動手段分離手段60によって、実施例1と同様に下部ガイドレール53gdを下部ガイドレール60gd上を矢印G方向に摺動させ、ゲート弁10Aを閉じる領域を形成する。このとき、蒸発源固定台52kは移動する下部ガイドレール53gdを摺動して位置を変えることなく停止している。次に、ゲート弁10Aを閉じ、図9の状態にする、その後、蒸発源7の保守又は新たな蒸発源と交換を行なう。なお、ゲート弁10Aは、下部ワイヤ配管52hdと上部ワイヤ配管52huを真空シールしながらゲートできる構造を有する。以上説明した第2の実施例によれば,蒸発源走査手段52Aを大気雰囲気で形成できるので、モータ53mの発熱による真空蒸着チャンバ1への影響を避けることができる。以上説明した第2の実施例によれば、短時間で蒸発源を保守又は新たな蒸発源と交換できるので、稼働率の高い有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供できる。上記実施形態では、上部ガイドレール又は上部ワイヤ配管によって蒸発源の走査及び移動をガイドしたが、下部ガイドレール又は下部ワイヤ配管のみで蒸発源が安定して走査及び移動できれば必ずしも設ける必要はない。また、駆動ガイド側を上部ガイドレール又は上部ワイヤ配管側に設けてもよい。さらに、上記実施形態のうち蒸発源保守交換室を設ける実施例は、処理部2つに限らず一つの処理部の基板に蒸着する蒸発源にも適用できる。さらに、上記実施形態では、蒸発源を垂直に立て水平方向に走査又は移動させたが、蒸発源を水平に上下方向に走査又は移動させてもよい。その場合の保守室内移動手段室の配置並びに蒸発源駆動手段、蒸発源回転手段及び蒸発源移動手段分離手段の構成は、例えば、図4又は図9に示した配置、構成を90度回転させて得られる。"