"計測対象物に複数の計測点を設定して前記計測点ごとに写真計測用ターゲットを設置し、前記計測対象物を写真計測して該計測対象物の形状を3次元計測座標値として求め、前記計測対象物の3次元計測座標値を該計測対象物の3次元設計座標値と比較することにより前記計測対象物の製作誤差の評価を行う方法において、前記写真計測用ターゲットの表面に複数の光反射部が配置され、前記計測点と該計測点に設置されている前記写真計測用ターゲットの前記光反射部との間のオフセットが、前記光反射部の配置パターンごとに設定されていることを特徴とする製作誤差評価方法。請求項1記載の製作誤差評価方法において、前記計測点を該計測点の特徴に基づいて複数のグループに分類し、分類した前記各グループに種別コードを付し、前記光反射部の配置パターンと前記種別コードとを対応させることを特徴とする製作誤差評価方法。しかしながら、計測対象物の各計測点と該計測点に設置された写真計測用ターゲット面の光反射部との間にはオフセット基準となる点からの相対的な距離が存在するため、写真計測用ターゲット上の光反射部の配置を解析して光反射部の3次元座標値を得るだけでは計測対象物の本来の形状を求めることができないという問題がある。本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、写真計測用ターゲット上の光反射部の配置を解析することにより、該写真計測用ターゲットが設置されている位置におけるオフセットを自動認識して計測対象物の3次元計測座標値を算出し、該計測対象物の3次元設計座標値との比較を行う製作誤差評価方法を提供することを目的とする。上記目的を達成するため、本発明は、計測対象物に複数の計測点を設定して前記計測点ごとに写真計測用ターゲットを設置し、前記計測対象物を写真計測して該計測対象物の形状を3次元計測座標値として求め、前記計測対象物の3次元計測座標値を該計測対象物の3次元設計座標値と比較することにより前記計測対象物の製作誤差の評価を行う方法において、前記写真計測用ターゲットの表面に複数の光反射部が配置され、前記計測点と該計測点に設置されている前記写真計測用ターゲットの前記光反射部との間のオフセットが、前記光反射部の配置パターンごとに設定されていることを特徴としている。ここで、オフセットとは、計測点と該計測点に設置されている写真計測用ターゲットの光反射部複数の光反射部のなかで、例えば基準となる光反射部との間の3次元座標における距離のことをいう。本発明では、計測点と該計測点に設置されている写真計測用ターゲットの光反射部との間のオフセットが、光反射部の配置パターンと対応付けられているので、写真計測用ターゲットの光反射部の配置パターンを識別することで、該写真計測用ターゲットが設置されている位置におけるオフセットを自動認識して計測対象物の3次元計測座標値を正確かつ容易に算出することができる。また、本発明に係る製作誤差評価方法では、前記計測点を該計測点の特徴に基づいて複数のグループに分類し、分類した前記各グループに種別コードを付し、前記光反射部の配置パターンと前記種別コードとを対応させることを好適とする。計測対象物の基準点の位置を示す計測点や、計測対象物の外形線の位置を示す計測点、あるいはボルト孔の位置を示す計測点等、写真計測では、特徴を有する計測点が設定される。当該構成では、全計測点を各計測点の特徴に基づいて複数のグループに分類する。そして、計測点の特徴と光反射部の配置パターンとを種別コードを介して対応付け、写真計測用ターゲットの光反射部の配置パターンを識別することで、該写真計測用ターゲットが設置されている計測点の特徴を瞬時に認識することができる。なお、写真計測用ターゲットが設置されている位置におけるオフセットは、計測点の特徴、即ち種別コードごとに設定しておくと、オフセット処理が容易となる。本発明に係る製作誤差評価方法では、計測点と該計測点に設置されている写真計測用ターゲットの光反射部との間のオフセットを、光反射部の配置パターンと対応付けているので、写真計測用ターゲットの光反射部の配置パターンを識別することで、該写真計測用ターゲットが設置されている位置におけるオフセットを自動認識して計測対象物の3次元計測座標値を算出し、該計測対象物の3次元設計座標値との比較を行うことができる。続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施の形態に付き説明し、本発明の理解に供する。図1に、本発明の一実施の形態に係る製作誤差評価方法の手順を示したフローチャートを示す。以下、フローチャートに従ってST10~ST14の各処理について説明する。[光反射部の計測]ST10の光反射部の計測では、計測対象物10に複数の計測点を設定して計測点ごとに写真計測用ターゲット11を設置し、計測対象物10を写真計測して、写真計測用ターゲット11上に配置された複数の光反射部の3次元座標値を算出する図2参照。具体的には、計測対象物10の形状を特定できる箇所コーナー部、外形線、ボルト孔等を計測点に選定し、各計測点に写真計測用ターゲット11を設置する。そして、デジタルカメラ15を用いて計測対象物10を複数の方向から撮影し、撮影された画像データをコンピュータ図示省略に転送して画像処理を行う。なお、写真計測用ターゲット11には、写真計測において基準となる点を表す3つの写真計測用ターゲット12と、それ以外の写真計測用ターゲット13とがある。代表的な写真計測用ターゲット11を図3に示す。図3Aは、ボルト孔にセットされる写真計測用ターゲット11であり、底面にボルト18の頭部が接合された矩形状のベースプレート17と、ベースプレート17に対して直角となるようにベースプレート17の上面に接合されたターゲットプレート16とから構成されている。ターゲットプレート16は方形とされ、複数の光反射部20が一方の面に配置されている。この写真計測用ターゲット11では、ボルト18の中心軸とベースプレート17の底面との交点が計測点となる。図3Bもボルト孔にセットされる写真計測用ターゲット11であり、複数の光反射部20が表面に配置された方形状のターゲットプレート16と、ターゲットプレート16の裏面に頭部が接合されたボルト18とから構成されている。この写真計測用ターゲット11では、ボルト18の中心軸とターゲットプレート16の裏面との交点が計測点となる。図3Cは、平板上にセットされる写真計測用ターゲット11であり、複数の光反射部20が表面に配置された方形状のターゲットプレート16と、ターゲットプレート16に対して直角となるようにターゲットプレート16の一端面に接合された矩形状のベースプレート17とから構成されている。この写真計測用ターゲット11では、ベースプレート17の前端面の下辺中央部が計測点となる。ターゲットプレート16の表面に配置される各光反射部20は円形とされ、写真計測用ターゲット11のオフセットを算出する際の基準となる光反射部、もしくは計測点が属する種別コードを認識するための光反射部のいずれかのグループに属している図4参照。オフセットを算出する際の基準となる光反射部20は、ターゲットプレート16を正面視して上下方向に延びる中心軸の下端部に位置するオフセット基準点21及び上端部に位置するオフセット中心点22と、オフセット中心点22から左方向に間隔をあけて配置されたオフセット補助点23とから構成されている。一方、計測点が属する種別コードを認識するための光反射部20はコード補助点24と呼ばれ、オフセット中心点22及びオフセット補助点23とオフセット基準点21の間の領域に配置される。図4は、コード補助点24の最大数が3個である場合における、光反射部20の全配置パターン8パターンを示したものである。同図からわかるように、オフセット基準点21、オフセット中心点22、オフセット補助点23は必須要素とされ、これらの相対配置がターゲットプレート16上において変化することはないが、コード補助点24は必須要素ではなく、0~3個のコード補助点24がターゲットプレート16に配置される。次に、光反射部20の3次元座標値を算出する際に用いられる写真計測の原理について説明する。図5に示すように、デジタルカメラ15の光軸を平行、且つO1、O2の位置を投影中心レンズ中心として、二つの画像31、32写真が撮影されたとする。そのとき、点Pは、二つの画像31、32上のそれぞれP1、P2として写る。二つの画像31、32上にそれぞれ画像座標系x1,y1,x2,y2を採ると共に、O1を原点とし、O1からO2に延びる軸をX軸、O1を通る光軸をZ軸とするモデル座標系X,Y,Zを考える。また、O1O2の距離をB、O1、O2から画像31、32に立てた垂線の長さ主点距離をfとする。このとき、P1,P2,Pの座標は、それぞれP1x1,y1,f,P2Bx2,y2,f,PX,Y,Zと表されるから、光線PP1,PP2は1、2式のように書き表すことができる。この二つの光線は点Pにおいて交わっていたのであるから、1、2式を解いて、次のように点Pの3次元座標を求めることができる。上述したように、写真計測により点Pの3次元座標値を求めるためには、対象とする点Pに関する2枚の画像上の像の画像座標を測定すると共に、デジタルカメラのレンズ中心間の距離Bを測っておけば、3式により、その座標値を決定することができる。しかしながら、写真計測においてデジタルカメラの位置及び傾きが事前に判明している場合は殆ど無いと言ってよい。そこで、デジタルカメラの位置及び傾きを算出した後、点Pの3次元座標値を求める方法について説明する。A.相互標定撮影時のデジタルカメラの位置及び傾きを求める作業を相互標定という。なお、デジタルカメラの位置及び傾きは外部標定要素と呼ばれている。相互標定においては、図6に示すように、画像31の投影中心O1を原点とし、O1からO2に延びる軸をX’軸、O1から画像31の主点を通る軸をZ’軸とするモデル座標系X’Y’Z’を考える。また、その際、O1O2の距離は単位長さ1であると決めておく。なお、図中のωi,φi,κii=1,2は、X’軸、Y’軸、Z’軸回りの画像31、32の回転角を表している。このとき、光線P1P、P2Pはそれぞれ4、5式で表される。撮影時には、この二光線が点Pにおいて交わっていたのであるから、この二光線が交点を有する条件として6式が成立しなければならない。ところで、P1、P2のモデル座標X1’,Y1’,Z1’,X2’,Y2’,Z2’と、これらの点の画像座標p1x1,y1,f及びp2x2,y2,fとの間には7、8式の関係がある。但し、ω1はモデル座標系X’Y’Z’の定義よりゼロである。7、8式を6式に代入すると、9式が得られる。この9式において、画像31及び画像32に写る5つの点の画像座標p1jx1j,y1j,f,p2jx2j,y2j,fを用いることにより、連立方程式10式の解として相互標定の解φ1,κ1,ω2,φ2,κ2を求めることができる。実際上の操作としては、5点以上の点について画像座標を測定し、最小二乗法によりφ1,κ1,ω2,φ2,κ2を決定する。相互標定のパラメータφ1,κ1,ω2,φ2,κ2が求められると、7、8式に該パラメータ値と画像座標p1x1,y1,f及びp2x2,y2,fを代入して、モデル座標系におけるP1X1’,Y1’,Z1’,P2X2’,Y2’,Z2’を得ることができる。従って、2つの点P1及びP2より出た光が交わる点として得られる点Pの3次元座標は4及び5式を解いて11~13式のように求められる。B.絶対標定絶対標定は、地上座標系と相互標定で得られたモデル座標系との関係を求める作業である。そのためには、相互標定で求められた点PX’,Y’,Z’が、既知であるその点の地上座標PX,Y,Zと対応するように、このモデル座標系に縮尺と回転及び平行移動を与え、地上座標系に変換すればよい。座標変換のパラメータは、縮尺Sと、X’,Y’,Z’軸回りの回転角Ω,Φ,Κ及び投影中心O1の地上座標系での値X0,Y0,Z0であって、14式の関係が成立する。絶対標定の7つのパラメータは地上座標系の既知の点が3点、例えばX,Y,Zが既知の点が2点と、Z座標値が既知の点が1点あれば、14式を解くことにより決定することができる。本実施の形態では、基準となる点を表す3つの写真計測用ターゲット12を既知の点として用いる。以上のように、写真撮影時の状態を示すパラメータ外部標定要素が求まれば、地上座標PX,Y,Zは、7、8、11~14により計算することができる。なお、本実施の形態に係る製作誤差評価方法では、写真計測用ターゲット11上に配置された光反射部20が写真計測における点Pに対応する。[パターン位置解析]ST11のパターン位置解析では、コンピュータに転送された光反射部20の3次元座標値に基づいて、各写真計測用ターゲット11の表面に配置されている光反射部20の配置パターンを識別する。そして、光反射部20の配置パターンと関連付けられている種別コードを特定する。オフセット基準点21とオフセット中心点22の間の距離H、オフセット基準点21とオフセット補助点23の間の距離F、及びオフセット中心点22とオフセット補助点23の間の距離Eは、予めコンピュータに登録されている図7参照。また、光反射部20の配置パターン図4参照に対応する種別コードとオフセットが、予めコンピュータに登録されている。種別コードは、計測点をその特徴に応じて複数のグループに仕分けするための識別コードであり、光反射部20の配置パターンが8種類の場合、例えば、基準点を示す種別コードとして3種類、ボルト孔を示す種別コードとして2種類、外形線を示す種別コードとして1種類、溶接線を示す種別コードとして1種類、スケールバー尺度基準を示す種別コードとして1種類、設定すればよい。また、本実施の形態では、種別コードごとにオフセットが設定されている。例えば、オフセット基準点21を原点とし、オフセット基準点21からオフセット中心点22に向かう軸をx軸とする右手座標系を定義することにより、計測点Qまでのオフセット値xD,yD,zDを種別コードごとに設定することができる図7参照。パターン位置解析では、3次元座標値が取得された全ての光反射部20に対して、以下の判定基準を満たす光反射部20の探索がコンピュータにより実行される。1対象となる光反射部aについて、光反射部aからHの距離にある光反射部b、及び光反射部aからFの距離にある光反射部cがそれぞれ1個以上存在するかどうか。2光反射部bと光反射部cとの距離がEであるかどうか。上記全ての条件を満たす光反射部a、b、cが抽出されると、光反射部aがオフセット基準点21、光反射部bがオフセット中心点22、光反射部cがオフセット補助点23として確定する。オフセット基準点21、オフセット中心点22、オフセット補助点23の確定後、これら3点により構成される平面上に、これら3点以外の光反射部が、オフセット基準点21、オフセット中心点22、オフセット補助点23から所定の位置に存在するかどうかという判定基準を用いて、コード補助点24を抽出し、抽出されたコード補助点24の配置によって光反射部20の配置パターンが識別される図4参照。そして、予めコンピュータに登録されている光反射部20の配置パターンに対応する種別コードのなかから、識別された配置パターンに対応する種別コードが特定される。[自動オフセット処理]ST12の自動オフセット処理では、予めコンピュータに登録されている種別コードに対応するオフセットのなかから、特定された種別コードに対応するオフセットxD,yD,zDが選択される。[3次元計測座標値の算出]ST13の3次元計測座標値の算出では、オフセット基準点21の3次元座標値にオフセットxD,yD,zDを加えて計測点の3次元座標値を算出することにより、計測対象物10全体の3次元計測座標値を求める。[3次元設計座標値との比較]ST14の3次元設計座標値との比較では、写真計測に基づいて求められた計測対象物10の3次元計測座標値と、設計図から構築した計測対象物10の3次元設計座標値とを重ね合わせることにより、計測対象物10の製作誤差の評価を行う。以上、本発明の一実施の形態について説明してきたが、本発明は何ら上記した実施の形態に記載の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載されている事項の範囲内で考えられるその他の実施の形態や変形例も含むものである。例えば、上記実施の形態では、光反射部の全配置パターン数を8ケースとしたが、オフセットを認識する際の基準点となる光反射部の間隔を変えたり、コード補助点の数を増やすことにより、配置パターンを増やすことができる。また、これに対応して種別コードの数を増やすことができる。"