1つの反応性ガスまたは複数の反応性ガスを使用する反応性マグネトロンスパッタリングプロセスを制御する方法であって、プロセス全圧を前記1つの反応性ガスまたは前記複数の反応性ガスの流量によって調節し、前記1つの反応性ガスまたは前記複数の反応性ガスの前記流量は、その振動を決定して、前記プロセス全圧を決定するために、フィードバックして使用することを特徴とする方法。前記1つの反応性ガスまたは前記複数の反応性ガスの前記流量を使用する前記プロセス全圧の前記調節が、PID調節器によって、制御されることを特徴とする請求項1に記載の方法。反応性ガス流量の最後のN個の値からの平均偏差がプロセス全圧値の調節に使用され、ここで、であり、Nが2~50の範囲にあることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。Nが、最初の粗く速い探索では8~12の範囲で、好ましくは10として選択されることを特徴とする請求項3に記載の方法。Nが、遅い微調整では25~35の範囲で、好ましくは30として選択されることを特徴とする請求項3または4に記載の方法。使用される前記反応性ガスが、窒素および酸素、および窒素と酸素との混合物を含む群から選択されることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の方法。本発明の目的は、反応性マグネトロンスパッタリングプロセスの改善された制御の方法を見出すことである。本発明の目的は、請求項1に記載の方法によって解決される。マグネトロンスパッタリングによって化学量論的被覆を堆積する間、プロセス全圧を絶えず補正することが必要である。この補正の重要性は、マグネトロンの電力が高く、排気速度が不十分なシステムでは増大する。補正が避けられない理由は、真空計の長期的較正の不正確さ、プロセス中のターゲット表面品質の変化、チャンバの温度の変化温度測定で必ず検出されるとは限らない、プロセス初期段階と比べての不純物の分圧のゆるやかな低下があるためである。本発明は、プロセス中の最適プロセス全圧および通しの補正through-correctionを制御するためのフィードバックを見出す解決策を提供する。新しい解決策は、プロセス全圧の評価とガス流量の制御との間の最適フィードバックを見出すことにある。ヒステリシスの初期部分に、プロセス全圧測定のために使用されるプローブ、ガス入力の適用システム、真空チャンバのサイズ、適用真空排気システムの排気速度、マグネトロンの印加電力、および使用されるフィードバック調節のタイプに直接依存するようなフィードバックの振動が存在する。適用するフィードバック調節を正確に手直しすることによって、フィードバック振幅のサイズに基づいてプロセスをヒステリシス領域の正確に規定した初期部分に確実に保持することが可能になる。制御の全方法が窒素反応性ガスの場合について説明される。その再現性は他の反応性ガスについても実験的に証明された。図1は、Tiターゲットおよび10kWのターゲット電力を使用する反応性マグネトロンスパッタリングでの窒素流量への窒素分圧の依存性を示すThinSolidFilms、1711989171~181で発表されたSproul等によるものから得られた。化学量論的被覆には、領域Bで動作することが最適である。領域Aでは、不足化学量論的被覆が堆積され、領域Cでは、過剰化学量論的被覆が堆積される。図1から、領域Aでの窒素流量の変化は窒素分圧したがって、さらにプロセス全圧もの非常にわずかな変化を引き起こすにすぎないことが明らかである。これに反して、領域Bでは窒素流量のわずかな変化でさえプロセス全圧の大きな変化を引き起こす。この事実は、発明者等が提案する制御の方法で首尾よく使用される。調節のPIDPIアルゴリズムが、窒素流量を用いるプロセス全圧調節で使用されている。提案するプロセス制御の方法は、さらに、他の調節アルゴリズムとともに使用することができる。ここでは、絶えずより高いプロセス全圧を設定し、それに基づいて、PI調節器によって設定される流量を調節することを意図しており、それについて研究する。この実験が図2に示される。図1は、調節に使用される窒素プロセス全圧への窒素流量の依存性を示し、ここで、特定されたゾーンA、B、およびCは図1のそれぞれのゾーンに対応する。PI調節器の比例および積分係数が正確に設定され、ガス調節の要求がゾーンBから生じる場合、調節器は振動oscillateし図2の点Bで示されるように、調節する際のプロセス全圧の値がゾーンCに近づくほどこの振幅は高くなる図2の点B→Cで示すように。次に、窒素流量の非常に低い振幅amplitudeはゾーンAに対応する。振動の要求値が、点Aに対応する振幅値と点B→Cに対応する振幅値との間に設定される場合、最適化学量論をもつ被覆を得ることができることが実験的に証明された。提案するプロセス制御のシステムの利点の1つは、特に、初期のプロセス全圧を正確に設定する必要がないことにある。点Bと点Cとの間の任意の圧力を初期圧力として設定すれば十分である。アルゴリズム自体が正しいプロセス全圧を見出す。本発明の別の利点は、既存の状況と比較することによって明らかになる反応性ガスの分圧に調節を適用する必要がない。したがって、チャンバのプロセス全圧を使用することが可能であり、調節機能は変わらないままである。さらに、プロセス全圧測定で使用される真空計を正確に較正する必要がない。この制御のシステムにより、十分に化学量論的な被覆を堆積するための長期安定条件を見出すことができる。プロセスの有利な改良について、請求項2~4に記載される。請求項2によれば、それぞれ、1つの反応性ガスまたは複数の反応性ガスの流量を使用するプロセス全圧の調節が、PID調節器によって制御される。詳細には、好ましい実施形態において窒素である反応性ガス流量の最後のN個の値からの平均偏差のが、プロセス全圧値の本発明の調節で使用され、ここで、であり、ここで、であり、ここで、qiはi番目に測定された反応性ガス値である。qNは最後に測定された反応性ガス値であり、qN-1はqNの前に測定された反応性ガス値であり、q1まで続き、q1は考慮される最後の反応性ガス値である。Nは、最初の粗く速い探索では2を超え、好ましくは8~12、最も好ましくは10であり、遅い微調整では好ましくは25~35、最も好ましくは30である。使用される反応性ガスは、請求項6によれば、窒素および酸素、さらに窒素と酸素との混合物を含む群から選択される。上述の要素と、さらに、本発明により使用され、特許請求され、以下の例示の実施形態で説明される要素とには、特許請求の範囲の明確な定義以外にそれらのサイズ、形状、材料の使用、およびそれらの技術的設計に関して特定の例外がなく、したがって、使用されるそれぞれの分野で既知の選択基準を無制限で使用することができる。本発明の例示の実施形態が、図面を参照しながら以下でより詳細に説明される。図5は、本発明による制御の方法を実施することができる反応性マグネトロンスパッタリングプロセス用デバイスを示す。デバイスのチャンバは壁1によって画定された密閉空間2から形成される。ガスは入口3によってチャンバに導入され、ガスは4に接続されたポンプ装置で排気される。ポンプ装置は図示されていない。ターゲット5はスパッタされる金属から形成され、直流または高周波交流のいずれかとすることができる発生器6に接続される。基板ホルダ7は、直流または高周波交流のいずれかとすることができる発生器8に接続される。上述のデバイスは当技術分野でよく知られている。上述のデバイスは、発生器としての回転円筒状ターゲット8とともに使用される。ターゲットの高さは500mmであり、直径は110mmであった。負の直流電圧がターゲットに印加される。ターゲットに印加された電力は20kWの範囲にあった。基板はターゲットのまわりの基板ホルダとしての3-回転カルーセル3-rotationcarousel7に取付けられ、基板とターゲットとの間の距離は約50mmであった。プロセスのタイプに応じて50V~200Vの範囲で負の直流電圧が基板に印加される。Al、Ti、Cr、AlTi、およびAlCrを含むいくつかのターゲット材料が首尾よく試験されている。制御の方法のために、反応性ガス流量の最後のN個の値からの平均偏差を反映するが用いられ、であり、ここで、であり、ここで、qiはi番目に測定された反応性ガス値である。qNは最後に測定された反応性ガス値であり、qN-1はqNの前に測定された反応性ガス値であり、q1まで続き、q1は考慮される最後の反応性ガス値である。の値がプロセス全圧値の調節に使用される場合、ゾーンB図2を参照の安定な堆積は、の調節範囲と標本数Nとの正確な設定の結果として達成することができる。図3は、反応性ガス流量の最後のN個の値からの平均偏差の値によるプロセス全圧調節の一例を示す。図3で分かるように、最初に、プロセス全圧の値はCに近いゾーンから設定され、ある程度の時間の後、プロセス全圧値は点Bの近くのプロセス値に徐々に落ち着く。図4は、調節アルゴリズムの説明を示す。窒素流量を用いて一定のプロセス全圧に調節することがプロセスの間に適用されると仮定すると、図4のダイアグラムに部分的に示される制御の方法を使用することができる。制御の方法の図示の部分は、窒素ガス流量の変化ごとに実施される。Nの値は2~50の間の値が推奨される。本発明の好ましい実施形態では、Nは、最初の粗く速い探索では8~12の範囲で好ましくは10に選択され、遅い微調整では25~35の範囲で好ましくは30に選択される。反応性ガス流量の最後のN個の値からの平均偏差の調節される値は、図2に従って行われた実験から1と10との間の値であることが推奨される。