基板30にマイクロ構造またはナノ構造の被着物を転写するソフトリソグラフィ用装置100であって、前記装置は、-転写によって前記被着を実現できる構造面31、131を、その片面に備えるエラストマ製層3、13と、-前記第1層3、13の前記構造面31、131に対向する面32、132に密接した状態の、エラストマ製第2層2、12であって、軟強磁性材料から成る粒子を分散させたエラストマ製の前記第2層2、12とから成る可撓性スタンプ1、10を備えることを特徴とする装置。前記第2層2、12中に分散した軟強磁性粒子の大きさを、10μm~200μmとすることを特徴とする、請求項1に記載の装置。前記スタンプ1、10の第2層2、12における軟強磁性粒子の割合を、50質量~95質量とすることを特徴とする、請求項2に記載の装置。前記スタンプの前記2層を形成する前記エラストマを、ポリジメチルシロキサンPDMSとすることを特徴とする、請求項1に記載の装置。前記柔軟なスタンプ1、10を把持し、被着できる磁気手段20、221を備えることを特徴とする、請求項1に記載の装置。前記基板30の下に配置する磁場発生装置40と、前記スタンプの前記基板への押圧力を開始し、調整するために前記発生装置を制御する手段とを備えることを特徴とする、請求項1に記載の装置。前記磁場発生装置40と前記基板30との間に配置した電極50と、前記電極50と前記スタンプ1、10の前記第2層2、12との間での静電容量の変化を測定できる手段とを備えることを特徴とする、請求項6に記載の装置。前記磁場発生装置40を磁石とし、前記制御手段により、前記磁石と前記スタンプとの間の距離を制御することを特徴とする、請求項6に記載の装置。前記磁場発生装置がソレノイドを備え、前記制御手段により、前記ソレノイドの電源の電流または電圧を制御することを特徴とする、請求項6に記載の装置。前記磁気把持および被着手段を、3方向の直交軸に従い前記手段を移動できるクロススライドのキャリッジ201、202、203によって支持し、インキングタンク150と基板取付部140、141、142、143、144を備えた際に、前記クロススライドのキャリッジにより、前記磁気把持手段220を前記インキングタンクと前記基板取付部との間で移動可能にすることを特徴とする、請求項5および6に記載の装置。請求項10に記載の前記装置を用いて実施するソフトリソグラフィ法であって、前記方法は、-前記スタンプ1、10を磁気把持手段220で取るステップと、-前記スタンプをインキングタンク150上に移動させて、前記スタンプのマイクロまたはナノ構造面32、132を、前記タンクの内容物と接触させるステップと、-前記スタンプを前記タンクから取出すステップと、-前記スタンプを基板30上に搬送するステップと、-前記スタンプを、前記磁気把持手段から解放するステップと、-前記基板30の下に配置した磁場発生装置40を作動させて、前記スタンプ1、10を前記基板30に均一に押印するステップとを備えることを特徴とする方法。従来技術の欠点を改善するために、本発明では、基板にマイクロ構造またはナノ構造の被着を実現できる可撓性スタンプを備える、転写によるソフトリソグラフィ用装置であって、該可撓性スタンプが、-転写によって被着を実現できる構造面を、その片面に備えるエラストマ製層と、-該第1層の構造面に対向する面に密接した状態のエラストマ製第2層であって、軟強磁性材料から成る粒子を分散させたエラストマから成る第2層とから成る装置を提案する。軟強磁性粒子を存在させることで、適切な磁場を印加して、均一な圧力をスタンプに印加できる。これらの粒子の作用を、強磁性粒子を充填した層の容積全体に行渡らせる。この圧力を、いかなる接触も、機械式アクチュエータも、流体もなく、スタンプに印加する。そのため、スタンプは、最も良好に基板面の形状を取れるように可撓性を留めることができる。柔軟性のある強磁性粒子は、該粒子が受ける磁場が作用しなくなると、磁化し続けない。可撓性スタンプの層に軟強磁性粒子を含むことで、該層を磁化および消磁させるこのような性能により、スタンプを電磁石で厳格な制約なしに容易に扱うことができ、そのため極めて可撓性がありおよび/または複雑な形状のスタンプを含む、スタンプを容易に変更できる。本発明を、以下で説明するように、複数の有利な実施形態で実行してもよく、これらの実施形態は夫々個別の実施形態と見なせると共に、該実施形態の効果的な技術的組合せの一部とも見なすことができる。有利には、軟強磁性粒子の大きさを10μm~200μmとする。粒子を微細にすることで、目標とするスケールで基板に確実にスタンプを均一に加圧することが可能になる。本文献中では、1μmは10-6メーターに相当する。第2層中の粒子の割合を、有利には、50質量~95質量とする。該粒子を微細にすることで、スタンプの可撓性を損なわずに、このような高レベルに達することができる。スタンプの2層を形成するエラストマを、ポリジメチルシロキサンPDMSとする。同材料にすることで、スタンプの成分としての使用に適した機械特性を確保しながら、軟強磁性粒子を高質量濃度にできる。スタンプは連続する2成形で作製し、該成形は、粒子を注入せずに被着の構造化パターンを備える第1層を、成形し部分的に架橋する第1ステップと、次に第1層の上に、予め混合した強磁性粒子を備える第2層を成形するステップから成る。粒子を微細にした結果、粒子がスタンプの重合に支障を来たさず、該重合中、該粒子は懸濁したまま、第2層に均等に分布した状態となる。有利には、本装置は、スタンプを自動的に変更可能にするために、柔軟なスタンプを把持し被着できる磁気操作手段を備える。本装置は、有利には、基板の下に配置した磁場発生装置と、基板へのスタンプの押圧力を開始し調整するために該発生装置を制御する手段を備える。磁場発生装置を基板の下に配置することで、特許文献1あるいは特許文献2に記載したように、マクロスタンプを使用し、該マクロスタンプが軟強磁性粒子を含む層を備える場合でも、スタンプの基板面への最適な押圧効果を得られる。基板の下に配置する磁場発生装置の種類およびその制御モードは、基板の性質、厚さ、表面や、使用するスタンプの性質に応じて選択する。特定の一実施形態によると、磁場発生装置を磁石とし、制御手段により、該磁石とスタンプとの間の距離を制御する。該磁石を、永久磁石、電磁石またはソレノイドで構成してもよく、電磁石またはソレノイドについては固定した電圧およびアンペア数の電流で通電する。別の実施形態によると、磁場発生装置はソレノイドを備え、制御手段により、上記ソレノイドの電源のアンペア数または電圧を制御する。特に有利な実施形態によると、本装置は、磁場発生装置と基板との間に配置した電極と、該電極とスタンプの第2層との間の静電容量の変化を測定できる手段とを備える。この特徴により、スタンプの基板への押圧力をリアルタイムで測定でき、磁場発生装置をそれに従い制御できる。この制御の容易さは、スタンプに強磁性粒子を存在させることでもたらされ、これによりスタンプの導電率が高まり、その結果、この種の測定が、基本的に非導電性高分子で構成したスタンプを用いても可能になる。したがって、本発明による装置を完全に自動化でき、磁気把持および被着手段を、該手段を3直交軸に従って移動できるクロススライドのキャリッジによって支持する。インキングタンクと基板取付部を本装置に加えることで、クロススライドのキャリッジにより、磁気把持手段をインキングタンクと基板取付部との間で移動できる。有利には、本装置は、基板に被着する異なる製品を収容する複数のインキングタンクを備えることができる。スタンプを変更する性能により、スタンプ洗浄動作を介入せずに、異なる製品を被着するための異なるスタンプを有することができ、その結果、ソフトリソグラフィ動作の生産性を大いに高めることができる。これに関連して、また、本発明は、本発明による装置を用いて実施する有利に最適化したソフトリソグラフィ法にも関し、該方法は、-スタンプを磁気把持手段で取るステップと、-スタンプをインキングタンク上に移動させて、スタンプの構造面をタンクの内容物と接触させるステップと、-スタンプをタンクから取出すステップと、-スタンプを基板上に搬送するステップと、-スタンプを磁気把持手段から解放するステップと、-基板の下に配置した磁場発生装置を作動させて、スタンプを基板に均一に押印するステップとを備える。次に、本発明について、図1~図7で示した好適な非限定的実施形態と関連させて、更に詳細に説明する。図1:ソフトリソグラフィスタンプ1の実施形態によると、該スタンプ1は、ポリジメチルシロキサンPDMS製で、その厚さに応じて、第1層3を備え、該第1層3は、印刷面31と呼ばれる、基板上に転写することにより被着を実現できるマイクロ構造面またはナノ構造面と、第1と実質上平行で対向する第2面32とを備える。また、第2面32に沿って第1層3に密接する第2層2もPDMS製とし、PDMSに、フェライト粒子、即ち、酸化鉄IIIFe2O3、マンガン、亜鉛を主成分とするセラミック等の軟強磁性粒子を充填する。或いは、酸化を防止する可能性のある純鉄粒子、SuperMalloy登録商標等の鉄-ニッケル-モリブデン合金製または鉄-シリコン製の粒子、および一般的に任意の軟強磁性材料、即ち磁場の作用下で磁化され、当該磁場を受けなくなると、残留磁気が存在しなくなる軟強磁性材料を使用できる。また軟強磁性材料は低透磁性を示す。したがって軟強磁性材料は、-磁場に対する反応、および特にスタンプから基板への磁気吸着力を発生させる可能性、-同様の磁気吸着装置を様々なスタンプに対して、同程度に均一な圧力性能で使用するのに十分な低透磁性、-磁気刺激および同刺激の停止に対する迅速な反応、その結果高インク転写率を可能にすること、-格納中にスタンプが金属粉塵等の汚染物質を吸着しないように、使用後に残留磁気が存在しない状態にすること、に対して良好に折衷させたものを提供する。これらの粒子を、直径10μm~200μmの実質上球体とする。図2:マクロスタンプ10の実施形態によると、該マクロスタンプは、複数のスタンプ13を備え、マクロスタンプ本体12と密接した状態の、其々印刷面131と対向する面132を備える。好適には、スタンプ13をPDMS製とする。本体12を、軟強磁性粒子を50重量~95重量充填したPDMS製とする。軟強磁性粒子の透磁性と、これらの強磁性粒子を備える層に残留磁気を無くすことにより、異なるスタンプ間で磁気が相互作用する問題が生じることなく、マクロスタンプにおいて各スタンプの結合が可能になる。これらの実施形態によるスタンプまたはマクロスタンプを製造する原理は実質上同じである。マイクロまたはナノ構造パターンを備え、強磁性粒子を含まない層3、13を成形する第1ステップを、実行する。この成形ステップに続いて、例えば上記層を15分間60°Cで予備硬化させて、部分的に架橋させる。その後、強磁性粒子を含む層2、12を第1層上に被覆成形する。次にこれら2層を共硬化させる。第1の部分的架橋により、強磁性粒子で充填した層を被覆成形中に2層が混合するのを防止する一方で、その後の共硬化ステップ中に1つの層が別の層に接着する性能を維持する。強磁性粒子を存在させることで、該粒子を含む層2、12が磁場に対して敏感に反応可能になり、この特性がスタンプの操作に使用可能になる。また、これらの粒子の存在により、層の導電率が変化し、電気抵抗が数万オームにまで減少する。これらの特性の変化を利用して、ソフトリソグラフィ法を自動化する。図3:実施例によると、強磁性層2、12の存在により、磁場を生成できるコイルまたはソレノイド20を備える装置でスタンプ1またはマクロスタンプ10を把持できる。上記コイルを電流で通電すると、磁場が生成され、該磁場によりスタンプ1またはマクロスタンプ10が吸着可能になり、スタンプがコイル20に付いた時点で移動可能になる。スタンプ1を基板30、例えばガラススライドに押印するには、コイルへの電力を切断する。基板30の下に配置した、磁場を発生させる装置40は、スタンプまたはマクロスタンプを吸着して、上記基板に押圧する傾向があり、その結果強制的にスタンプを上記基板面に合わせる。スタンプ1を基板30に押印する力を、磁場発生装置40の性質に応じて異なるモードで制御できる。非限定的な例としては、-磁場発生装置40が永久磁石を備えることができることにより、押圧力の調整を、磁石を移動させるか、スタンプを移動させるかして、スタンプ1と磁石との間の距離によって実現する。-上記装置40が、コイルまたはソレノイドでも具現化できることにより、押圧力の調整をコイルの電源の強度または電圧を変化させて実現する。-上記装置40が、電磁石、即ち磁石を囲むソレノイドでも具現化できることにより、押圧力の調整を、ソレノイドの電源の電流強度、および/またはスタンプと電磁石との間の距離を調整して実現する。当該力の調整を、スタンプ1と基板との間の有効接触領域で制御できる。この接触領域を予測するために、有利には、電極50を磁場発生装置40と基板30との間に配置する。強磁性粒子で充填した層2、12の導電率を活用して、スタンプ1と基板30との間に存在する絶縁部である空気の量を表す静電容量の変動を測定でき、その量は、スタンプと基板との間の有効接触領域に比例する。この測定では、磁場が影響を及ぼしていないことを利点にできる。図6:磁場発生装置と基板30との間に配置した電極50は、強磁性粒子で充填したスタンプの第2層2、12と、これら2つを分離する誘電空間とで、コンデンサを形成する。空間の厚さによって影響を受ける、このコンデンサの静電容量における変動またはこのコンデンサを含む電気回路の静電容量における変動測定することで、スタンプ1、10の基板30への押圧力の信号特性が得られる。図6A:したがって、スタンプ1が基板に接触していない状態では、基板の下に配置した電極50と第2層2によって形成したコンデンサの静電容量は低くなる。図6B:2電極間の距離が縮まると、静電容量は増加し、プラトーに達する。図7では、基板へのスタンプの押圧力400による上記コンデンサの静電容量500における変化600を示している。静電容量が第1プラトー610に達すると、当該静電容量は実験的にスタンプ1またはマクロスタンプ10の基板30への最適押圧力に相当する。図6C:押圧力が過大になった場合は、スタンプが圧潰状態となり、コンデンサの静電容量が大幅に増加しスタンプ1が基板に完全に圧潰した状態に相当するプラトーまで増大する。図7:静電容量の変化における第2プラトー620は、スタンプの圧潰状態に相当する。したがって、電極50と第2層とで形成したコンデンサの静電容量変化を追跡することで、この静電容量の変化で測定した第1プラトー610に相当する最適な押圧力を得るように、磁場発生装置を制御できる。図4:自動ソフトリソグラフィ装置100の実施形態によると、該装置はテーブル120を備え、該テーブル上には、ガントリ200を支持するガイド125、126を固定する。上記ガントリを、動力化手段300によって、上記ガイド125、126から分かるように長手方向軸に沿ってテーブル120に対して並進移動可能とする。ガントリは、スタンプまたはマクロスタンプ10用の磁気把持装置220を支持し、これにより該装置をガントリ200と共にテーブル120に対して長手方向に移動できる。テーブルの長手方向軸に沿って、テーブルは、スタンピングによる被着に必要な様々な動作に対応する5つのステーションを支持する。第1ステーション110は、スタンプまたはマクロスタンプの格納領域に相当する。磁気把持装置220によって、異なるスタンプを使用でき、且つこれらのスタンプを自動的に変更できる。第2ステーション140は、例えば、スライド等の基板を受容可能な被着領域とする。このステーションは、有利には、上記スライドの下に配置した電磁石を備えて、スタンピング中に、確実にスタンプまたはマクロスタンプが基板面へ均一に加圧できるようにする。第3ステーション160は、送風によりスタンプまたはマクロスタンプを乾燥する領域とする。第4ステーション150を、インキングステーションとして知られるステーションとする。該ステーションは、基板に被着する溶液または分子を収容する複数のタンクを備える。タンクの1つには、スタンプまたはマクロスタンプを洗浄する溶液を収容してもよい。第5ステーション141、142、143、144は、構造化した被着を受けるための他の基板を備える。この実施例では、このステーションは最大4枚のスライドを収容できる。別の実施形態によると、このステーションと関連する磁場発生装置を、永久磁石で構成する。図5:ガントリ200は、ガイド125、126上に載置するクロスメンバ203を含む。ガントリは、案内要素204と動力化要素205とを支持し、該要素によりクロススライドと呼ばれるキャリッジ202を、上記クロスメンバ203に平行に、即ちテーブル120の長手方向と垂直に、横断線として知られる方向に、移動可能にする。クロススライド202は、長手方向および横断方向に直交する、鉛直方向として知られる一方向に延在する案内要素207と、磁気把持装置220を支持する、鉛直方向として知られるキャリッジ201の移動を可能にする動力化要素206を支持する。磁気把持装置を、3つのソレノイド221で構成し、該ソレノイドを電流で通電すると、次のステーションまでマクロスタンプ10またはスタンプを担持できる。或いは、該把持装置を、電流で通電しなくてもスタンプを担持できる磁場を発生させる3個の電磁石で構成してもよい。この実施例では、電磁石のソレノイドに給電することで、スタンプを解放できる。この実施形態は、有利には、極めて可撓性で軽量なスタンプに対して使用する。より重いスタンプまたはマクロスタンプに関しては、ソレノイドを反転給電することで、吸着力を増大できる。したがって、スタンプ1またはマクロスタンプ10を取った後に、本装置はまず、タンクの1つに浸漬するインキングステーション150にスタンプまたはマクロスタンプを搬送する。インキングを、タンクの1つにスタンプを浸漬して行う。有利には、磁気把持装置により、ソレノイドの電源を浸漬中に変調させて、インキングの均一性を強化するために、スタンプを溶液槽内で揺動可能にする。磁気把持手段220に取着したスタンプを、次に乾燥領域130の上まで搬送する。その後、スタンプをスライドの1枚等に押印する。或いは、スタンプをスタンピング動作毎に変更できる。以上の説明で、本発明の様々な特徴や効果を通して、本発明が目指す目的に到達することを明確に示している。特に、本発明により、基板表面へのソフトリソグラフィスタンプまたはマクロスタンプの印加圧力を、簡単に効率的に制御でき、自動的スタンプ変更を組み込むことで、ソフトリソグラフィ法の自動化を促進する。本発明は、特にバイオチップの製造に適している。