配向膜の上部に、光遮断部とワイヤーグリッドパターン部が繰り返し形成された偏光フィルターを位置させ、前記偏光フィルターの上部から光を照射して配向させる光配向段階を含むことを特徴とするパターン化リターダの製造方法。前記配向膜は一定方向に配向されたものであることを特徴とする請求項1に記載のパターン化リターダの製造方法。前記配向膜の配向方向と異なる方向に配向させる光配向段階を含むことを特徴とする請求項2に記載のパターン化リターダの製造方法。前記ワイヤーグリッドパターン部の形状は直線であることを特徴とする請求項1に記載のパターン化リターダの製造方法。配向膜の上部に、第1光遮断部と第1ワイヤーグリッドパターン部が繰り返し形成された第1偏光フィルター部と、第2光遮断部と第1ワイヤーグリッドパターン部のパターンと異なる方向の第2ワイヤーグリッドパターン部が繰り返し形成された第2偏光フィルター部が含まれた偏光フィルターを位置させ、前記偏光フィルターの上部から光を照射して配向させる光配向段階を含むことを特徴とするパターン化リターダの製造方法。前記偏光フィルターは、第1偏光フィルター部の第1光遮断部と第2偏光フィルター部の第2ワイヤーグリッドパターン部が隣接するように形成されたことを特徴とする請求項5に記載のパターン化リターダの製造方法。前記配向膜は、無配向されたことを特徴とする請求項5に記載のパターン化リターダの製造方法。前記第1ワイヤーグリッドパターン部及び第2ワイヤーグリッドパターン部の形状はそれぞれ直線であることを特徴とする請求項5に記載のパターン化リターダの製造方法。光配向された配向膜上に液晶コーティング層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項1または請求項5に記載のパターン化リターダの製造方法。前記光配向段階は、フィルムが密着されながら移動するフィルム密着部;及び発光部で照射された光を前記フィルム密着部に密着されたフィルム部分に伝達し、前記フィルム部分に偏光パターンを形成するパターン形成部を含む露光システムで遂行することを特徴とする請求項1または請求項5に記載のパターン化リターダの製造方法。前記パターン形成部は、偏光フィルターを備えることを特徴とする請求項10に記載のパターン化リターダの製造方法。前記パターン形成部に備えられた偏光フィルターの曲面とローラー曲面との間の距離は、50~150μmの範囲内で一定に維持することを特徴とする請求項11に記載のパターン化リターダの製造方法。本発明は、光の散乱及び光学境界面での界面反射などによる光損失を最小化することができ、1回の光照射による光配向工程で互いに異なる配向方向を有する配向膜形成が可能であり、別途のマスクを備えないため露光装備が簡素化されて、大量生産及び生産性が向上したパターン化リターダの製造方法を提供しようとする。上記のような課題を解決するための本発明のパターン化リターダの製造方法は、配向膜の上部に、光遮断部とワイヤーグリッドパターン部が繰り返し形成された偏光フィルターを位置させ、上記偏光フィルターの上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。上記配向膜は一定方向に配向されたものであり、上記配向膜の配向方向と異なる方向に配向させる光配向段階を含むことができる。上記ワイヤーグリッドパターン部の形状は直線であることができる。さらに、本発明のパターン化リターダの製造方法は、配向膜の上部に、第1光遮断部と第1ワイヤーグリッドパターン部が繰り返し形成された第1偏光フィルター部と、第2光遮断部と第1ワイヤーグリッドパターン部のパターンと異なる方向の第2ワイヤーグリッドパターン部が繰り返し形成された第2偏光フィルター部とが含まれた偏光フィルターを位置させ、上記偏光フィルターの上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。上記偏光フィルターは、第1偏光フィルター部の第1光遮断部と第2偏光フィルター部の第2ワイヤーグリッドパターン部が隣接するように形成されることができる。上記配向膜は無配向されたものであることができる。上記第1ワイヤーグリッドパターン部及び第2ワイヤーグリッドパターン部の形状はそれぞれ直線であることができる。上記光配向された配向膜上に液晶コーティング層を形成する段階を含むことができる。上記光配向段階は、フィルムが密着されながら移動するフィルム密着部及び発光部で照射された光を上記フィルム密着部に密着されたフィルム部分に伝達して、上記フィルム部分に偏光パターンを形成するパターン形成部を含む露光システムで行うことができる。上記パターン形成部は、偏光フィルターを備えることができる。上記パターン形成部に備えた偏光フィルターの曲面とローラー曲面間の距離は、50~150μm範囲内で一定に維持することができる。本発明は、1枚の偏光フィルターを使用することにより散乱、界面反射などによる光損失が少なくて配向膜に至る光量が高いので光効率に優れたメリットがある。さらに、本発明は、1回の光照射による光配向工程で互いに異なる配向方向を有する配向膜を形成することができる。上記1回の光照射工程時に求められるパターンマスクを備えないので、露光装備を簡素化することができる。また、本発明は、連続的な工程でパターン化リターダを製造することができ、大量生産が可能であり、生産性を高めることができる。本発明は、1枚の偏光フィルターを用いて光の散乱及び光学境界面での界面反射などによる光損失を最小することができ、1回の光照射による光配向工程で互いに異なる配向方向を有する配向膜形成が可能なパターン化リターダの製造方法に関する。以下、本発明を詳細に説明する。本発明に係るパターン化リターダの製造方法は、配向膜の上部に、光遮断部とワイヤーグリッドパターン部が繰り返し形成された偏光フィルターを位置させ、上記偏光フィルターの上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。本発明における偏光フィルターとは、多くの方向に震動する光を、上記偏光フィルターを通過した後、限定された方向だけに震動する偏光に形成することができ、上記偏光フィルターの中で一部分だけが同一方向に震動する偏光に形成することができる光学要素を意味する。上記配向膜は、一定方向に配向されたものを使用する。配向膜はフィルム上に通常の配向膜形成組成物を塗布した後、乾燥して形成される。上記一定方向に配向された配向膜の形成方法は特に限定しないが、コーティング面でラビングロールなどの接触式に比べて偏光露光などの非接触式が好ましい。上記一定方向に配向された配向膜を使用した光配向段階は、図3のように、配向膜が形成されたフィルム5上に、図1の光遮断部21とワイヤーグリッドパターン部22が繰り返し形成された偏光フィルター20を位置させて上記配向膜の配向方向と異なる方向に配向させる。本発明に係る偏光フィルター20を使う方法は、従来の偏光板60とパターンマスク50が分離された方法に比べて露光光の解像度の低下を改善することができる。具体的には、従来は偏光板60とパターンマスク50が分離されてこれらの間の間隔だけを露光光が進行しながら回折されるので、露光光の解像度が下がることになるが、本発明は1枚の偏光フィルター20を露光光が通過するので、この解像度低下に対する問題は考慮されない。さらに、本発明に係るパターン化リターダの製造方法は、配向膜の上部に、第1光遮断部と第1ワイヤーグリッドパターン部が繰り返し形成された第1偏光フィルター部と、第2光遮断部と第1ワイヤーグリッドパターン部のパターンと異なる方向の第2ワイヤーグリッドパターン部が繰り返し形成された第2偏光フィルター部とが含まれた偏光フィルターを位置させ、上記偏光フィルターの上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。この時、配向膜は無配向された配向膜を使う。上記無配向された配向膜を使う光配向段階は、図4のように、配向膜が形成されたフィルム5上に図2の第1光遮断部23と第1ワイヤーグリッドパターン部24が繰り返し形成された第1偏光フィルター部40と、第2光遮断部25と第2ワイヤーグリッドパターン部26が繰り返し形成された第2偏光フィルター部41とを含む偏光フィルター20を使う。この時、第2ワイヤーグリッドパターン部26は、第1ワイヤーグリッドパターン部24のパターンと異なる方向にパターン化されて、配向膜が互いに異なる方向の配向領域を有するように配向させる。上記偏光フィルター20は、第1偏光フィルター部40と第2偏光フィルター部41が配向膜の進行方向に対して並び、第1偏光フィルター部40の第1光遮断部23と第2偏光フィルター部41の第2ワイヤーグリッドパターン部26が隣接するように形成された。図2の偏光フィルター20を、一定方向に配向された配向膜に使用する場合には、光露出により配向方向が固定されない成分で構成された配向膜形成組成物によって形成された配向膜を使うことが好ましい。上記光遮断部21、第1光遮断部23及び第2光遮断部25は、それぞれ入射される光を吸収及び反射して配向膜上に至らないように遮断する構造であり、上記ワイヤーグリッドパターン部22、第1ワイヤーグリッドパターン部24及び第2ワイヤーグリッドパターン部26は、それぞれ入射される光を偏光させて配向膜上に至る構造である。ワイヤーグリッドパターン部22、第1ワイヤーグリッドパターン部24及び第2ワイヤーグリッドパターン部26の形状は、それぞれ直線であり、具体的に、多数の平行した直線状に突出された金属ワイヤが所定の周期で配列される。金属ワイヤは、アルミニウム、銀、クロム、銅、ニッケル、Ti、金またはこれらの少なくとも2種の合金から形成される。ワイヤーグリッドパターン部22、第1ワイヤーグリッドパターン部24及び第2ワイヤーグリッドパターン部26の形成方法は当分野における通常的な方法を使うことができる。例えば、マスターパターンを形成した後、形成されたマスターパターンの逆像であるモールドを用いて製造し、透明保護フィルムまたは硝子基板上に金属層と高分子層を順に積層した後、モールドを用いて高分子層にパターンを成形する。次に成形されたパターン上に傾斜蒸着を通じて金属格子を蒸着させてワイヤーグリッドパターンを形成することができる。または、成形されたパターンの高分子層を蝕刻し、表面に露出した金属層を乾式蝕刻または湿式蝕刻して金属パターンを形成した後、形成された金属パターン上に残っている高分子をとり除く方法でワイヤーグリッドパターンを形成することもできる。ワイヤーグリッドパターン部22、第1ワイヤーグリッドパターン部24及び第2ワイヤーグリッドパターン部26において、それぞれの金属ワイヤの幅、高さ、金属ワイヤ間の間隔は、透過率及び反射率のような偏光特性に係る光学的設計によりその値が調節されることができる。例えば、パターンの幅は150nm以下、好ましくは10~100nmであり、パターンの高さは600nm以下、好ましくは50~500nmであり、パターンの周期は300nm以下、好ましくは20~200nmであることができる。偏光フィルター20の長さ、第1偏光フィルター部40と第2偏光フィルター部41の長さは、配向膜の大きさ及び移動方向により調節することができる。また、光遮断部21とワイヤーグリッドパターン部22、第1光遮断部23と第1ワイヤーグリッドパターン部24及び第2光遮断部25と第2ワイヤーグリッドパターン部26のそれぞれの大きさ及びこれらの間の間隔は、目的とするパターン化リターダにより調節することができる。光は特に限定しないが、電子ビーム、イオンビーム、プラズマビーム及び放射線などを使用することができ、取り扱いが容易な紫外線を使うことが好ましい。本発明により製造されたパターン化リターダは、配向方向が互いに垂直となるように光配向段階を行うことが好ましい。この時、垂直とは二つの線が90°をなす状態だけでなく、実質的に垂直した効果を示すことができる場合を含む。上記光配向段階を行い、配向膜が硬化された後に液晶コーティング層を形成する。液晶コーティング層は、硬化された配向膜上に光学異方性を有し、光による架橋性を有する液晶化合物が含まれた液晶コーティング層形成組成物を塗布し、乾燥して形成する。液晶化合物は屈折率異方性が005以上の物質であって、例えば反応性液晶化合物を使用することが好ましい。上記乾燥したコーティング層を光硬化して配向膜の配向方向によって液晶が配向されたパターン化リターダを製造する。本発明は配向膜上に特定の偏光フィルター20を使って行う光配向段階以外の部分、例えば配向膜及び液晶コーティング層の種類、形成方法、厚さなどの特性、光配向条件などは上述した説明のほかにも、当技術分野において一般的に求められる光学特性を示すように適切に選択して適用されることができる。一方、本発明に係るパターン化リターダは当分野において一般的に使われる装置を使って製造されることができる。例えば、図6のように、ロールフィルムを巻出及びまたは巻取して移送させる移送部11と、移送される上記フィルムに配向膜を形成する配向膜形成部と、上記フィルム上に形成された配向膜に光を照射して配向させる光配向部1と、上記配向膜の上部に液晶コーティング層を形成した後、光を照射してパターン化リターダを形成するパターン化リターダ形成部3を含む製造装置を使うことができる。移送部11の第1ロール7及び第2ロール9は、独立的にモーターなどの駆動源とベルトやチェインなどの動力伝達部材で繋がれ、駆動力が伝達されて回転するように配置されることが好ましい。また、張力維持及び安定的なフィルムの移送のためのガイドロール及び工程によってフィルムの移送量を制御するアキュムレータを多数備えることができる。また配向膜が形成されたフィルム5は通常のロールツロール方式で移動されることが好ましい。配向膜形成は、配向膜形成部によって配向の直前過程で形成されることもでき、場合によって別途の配向膜形成工程を通じて配向膜がフィルム上に形成されることができる。また、必要によって配向膜形成部には形成された配向膜を硬化させるために通常の乾燥装置を使うことができる。パターン化リターダ形成部3は、混合溶液塗布部31、混合溶液乾燥部33及び硬化部35を含む。さらに、本発明は、パターン化リターダ形成部3の以後に、欠点検査部を含めてパターン化リターダの欠点検査を実施することもできる。欠点検査部は、光学フィルターなどをスキャンして規定された欠点を特定し、特定された欠点にインクマーキング、バーコードマーキングなどのマーキング装置を使って表示するか、別途の格納部に欠点情報を格納して立体画像表示装置に適用する時にこれを活用することもできる。上記光配向部1に使われる露光システムは、連続的に進行するフィルムの蛇行及び震えることを最小化するため、図7のように、フィルムを円筒状のローラー160に密着しながら遂行することができる。具体的には、露光システムは、フィルムが密着されながら移動するフィルム密着部及び発光部光源110で照射された光を上記フィルム密着部に密着されたフィルム部分に伝達して、上記フィルム部分に偏光パターンを形成するパターン形成部150を含むことができる。上記フィルム密着部は、円筒状のローラー160であり、上記配向膜が形成されたフィルム5は、上記ローラーの曲面に密着されながら移動することが好ましい。上記パターン形成部150は、発光部光源110から照射される光を上記ローラー160の回転軸に向けて伝達する役目をする。パターン形成部150は、本発明による偏光フィルター20を含み、パターン形成部150に備えられた偏光フィルター20の曲面とローラー160の曲面の間の距離は一定に維持されるようにする。上記パターン形成部150に備えられた偏光フィルター20の曲面とローラー160の曲面の間の距離は50~150μm、好ましくは50~100μmを維持することが良い。さらに、パターン形成部150は、パターンを形成することができる部分であれば、ローラー160の入口部、中央部及び出口部など特別に限定せずに位置させることができる。また、上記パターン形成部150は、偏光フィルター20の曲面を調整するために内部気圧が調整されるチャンバを含むことが好ましい。上記ローラー160の表面は、無反射または無散乱処理されたことが好ましい。さらに、本発明の露光システムは、上記発光部光源110で出力される光を反射させる第1反射部120、上記第1反射部120で反射された光を集光して伝達する集光器130、及び上記集光器130から伝達された光を上記パターン形成部150で反射させる第2反射部140をさらに含むことができる。この時、パターン形成部150は、上記発光部光源110で照射された光を直接入力受けて上記フィルム密着部に密着されたフィルム部分に伝達することができる。以下、本発明の理解のために好ましい実施例を提示するが、下記の実施例は本発明を例示するものであり、本発明の範疇及び技術思想の範囲内で多様な変更及び修正が可能であることは当業者にとって明白であり、そのような変形及び修正は、当然、本発明の特許請求範囲に属するものである。実施例1図6の製造装置のように、トリアセチルセルロースフィルムを移送部11によって移送した。移送されるフィルム上にアクリレート系配向液を塗布し、40°Cで120秒間熱風乾燥して1000Å厚さの配向膜を形成した。その後、配向膜上に14mW露光ランプで偏光された紫外線を照射して一定方向に配向された配向膜を形成した。上記配向膜が形成されたフィルム5が移動しながら図1の偏光フィルター20が配置された光配向部1で20mW/cm2である紫外線を1秒間4m/minの速度で基板を移動させながら連続的に照射し、光がワイヤーグリッドパターン部22だけを通過して上記配向膜の方向と異なる配向方向を有するように形成した。上記配向膜の硬化が行われた後に液晶コーティング層形成組成物を塗布し、80°Cで20秒間予備乾燥してから、110°Cで5秒間乾燥して1.5μm厚さのコーティング層を形成した。その後、14mW露光ランプで500秒間紫外線で光硬化してパターン化リターダを製造した。上記パターン化リターダの生産速度は4m/minであった。実施例2上記実施例1と同様に実施するが、無配向された配向膜及び図2の偏光フィルター20を使用してパターン化リターダを製造した。上記パターン化リターダの生産速度は8m/minであった。実施例3上記実施例1と同様に実施するが、図7のように、フィルムが円筒状のローラー160に密着しながら光配向される露光システムを用いてパターン化リターダを製造した。この時、パターン形成部150に備えられた偏光フィルター20の曲面とローラー160の曲面間の距離は70μmを維持した。上記パターン化リターダの生産速度は8m/minであった。比較例上記実施例1と同様に実施するが、図5のように、配向膜上に光透過領域と光遮断領域が繰り返し形成されたパターンマスク50及び上記パターンマスク上にそれぞれ異なる偏光を透過させる領域を有する偏光子60を位置させてパターン化リターダを製造した。上記パターン化リターダの生産速度は4m/minであった。試験例上記実施例及び比較例のパターン化リターダの製造方法による光損失を以下の方法で測定し、その結果を下記表1に示した。光損失上記で製造されたパターン化リターダを吸収軸が互いに直交する偏光板上に載せ、上記偏光板及びパターン化リターダを通過する画像を顕微鏡で画像をキャプチャーした。上記キャプチャー画像は、デジタル映像分析プログラムを用いて一定領域の輝度を測定した。この時、キャプチャー画像は図8、図9のように光漏れが発生される部分が面形状または線形状で示される。下記のキャプチャー画像において、黒色部分は配向がよく形成された状態であり、色の曇った部分は回折現象によって配向が二重で形成されて配向方向が不明になったものである。この時、比較例は上下方向にパターンが形成されており、実施例1は右上部から左下部に向ける方向にパターンが形成されたものである。実施例はパターン間の境界部が狭くて鮮明であるが、比較例はパターン間の境界部が広いため、パターン化リターダの精度が低下されることを確認することができる。輝度が0であれば画像が完全ブラックであり、光損失が0であると看做し、輝度が100であれば画像が完全ホワイトであり、光損失が100であると看做した。上表のように、本発明による実施例1~実施例3は、比較例と同等以上の生産速度を示すとともに、光損失が顕著に低いということを確認することができた。