"潤滑油基油の製造方法であり、当該方法は、以下の工程iヘテロ原子および芳香族を含み、なおかつ一定の粘度指数を有する潤滑油の供給原料を、抽出溶媒を用いて溶媒抽出条件で溶媒抽出する工程であって、当該工程において、抽出物のストリームおよびラフィネートのストリームが生成され、なおかつ前記ラフィネートのストリームが、前記潤滑油の供給原料よりもヘテロ原子および芳香族の少ないフラクションを含み、かつ前記ラフィネートのストリームの粘度指数が前記潤滑油の供給原料の粘度指数よりも高い、工程と、ii前記ラフィネートの少なくとも一部を水素化処理する工程であって、液体連続式の反応器内で、水素および水素化処理触媒の存在下で、有効な水素化処理の条件下で水素化処理して、水素化処理されたラフィネートのストリームを形成する工程と、iii前記水素化処理されたラフィネートのストリームを脱蝋する工程であって、脱蝋溶媒の存在下で、溶媒脱蝋の条件下で脱蝋して、脱蝋された潤滑油基油が得られ、前記脱蝋された潤滑油基油に含まれる飽和物は少なくとも90重量であり、硫黄の含有量は0.03重量以下であり、なおかつ粘度指数が少なくとも80である、工程とを含む、方法。前記潤滑油の供給原料が、減圧軽油、水素化分解された軽油、水素化分解された減圧軽油、脱アスファルト油、常圧蒸留残油、減圧塔残油および脱アスファルト減圧蒸留残油からなる群から選択される請求項1に記載の方法。前記潤滑油の供給原料が、減圧軽油である請求項2に記載の方法。前記抽出溶媒が、N-メチル-2-ピロリドン、フェノールまたはフルフラールからなる群から選択される請求項1に記載の方法。前記溶媒抽出からの抽出物が溶媒回収工程に送られる請求項1に記載の方法。前記水素化処理されたラフィネートの一部が前記液体連続式の反応器へと循環され、新たなラフィネートとともに再び水素化処理される請求項1に記載の方法。前記液体連続式の反応器への前記循環される水素化処理されたラフィネートと、新たなラフィネートとの容積比が、0.5:1~5:1である請求項6に記載の方法。前記液体連続式の反応器への前記循環される水素化処理されたラフィネートと、新たなラフィネートとの容積比が、1:1~3:1である請求項6に記載の方法。前記液体連続式の反応器から、前記水素化処理されたラフィネートの一部が回収され、水素で飽和され、次に前記液体連続式の反応器へと循環して戻される請求項1に記載の方法。前記水素化処理触媒が、元素の周期表の第VIB族および第VIII族から選択される1またはそれよりも多くの触媒金属を含み、前記触媒金属が耐熱性の支持体上にある請求項1に記載の方法。前記支持体が、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、チタニア、ジルコニアおよびシリカ-アルミナからなる群から選択される請求項10に記載の方法。前記水素化処理工程の処理条件において、温度が400°F~800°Fであり、全圧が200psig~2200psigである請求項1に記載の方法。前記水素化処理工程の処理条件において、温度が600°F~750°Fであり、全圧が1000~1500psigである請求項12に記載の方法。前記ラフィネートのストリームを水素化処理工程に導入する前に、前記ラフィネートのストリームを気液分離ステージに送り、前記ラフィネートのストリーム中に存在し得る過剰のガスがあればその少なくとも一部を除去する請求項1に記載の方法。前記水素化処理されたラフィネートのストリームを脱蝋工程に導入する前に、前記水素化処理されたラフィネートのストリームを気液分離ステージに送り、過剰の水素、ならびにアンモニアおよび硫化水素から選択される混入ガスを除去し、残りの液体の水素化処理されたラフィネートのストリームを溶媒脱蝋工程に送る請求項1に記載の方法。前記脱蝋溶媒が、3~6個の炭素原子を含む脂肪族ケトン、2~4個の炭素原子を含む低分子量の炭化水素からなる群から選択される請求項1に記載の方法。前記脱蝋溶媒が、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロパン、ブタン、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項16に記載の方法。前記脱蝋溶媒を加えて、0~50°Fの脱蝋温度で液体と固体との重量比を5:1~20:1にする請求項1に記載の方法。溶媒脱蝋工程と並行して接触脱蝋工程が行われる請求項1に記載の方法。前記脱蝋された潤滑油基油を水素化仕上げゾーンに送り、前記水素化仕上げゾーンにおいて、前記脱蝋された潤滑油基油を、水素の存在下で水素化仕上げの条件で水素化仕上げ触媒と接触させて、残りの芳香族があればその少なくとも一部を除去し、なおかつ色を改善する請求項19に記載の方法。潤滑油基油の製造方法であり、当該方法は、以下の工程iヘテロ原子および芳香族を含み、なおかつ一定の粘度指数を有する潤滑油の供給原料を、抽出溶媒を用いて溶媒抽出条件で溶媒抽出する工程であって、当該工程において、抽出物のストリームおよびラフィネートのストリームが生成され、なおかつ前記ラフィネートのストリームが、前記潤滑油の供給原料よりもヘテロ原子および芳香族の少ないフラクションを含み、かつ前記ラフィネートのストリームの粘度指数が前記潤滑油の供給原料の粘度指数よりも高い、工程と、ii前記ラフィネートの少なくとも一部を水素化処理する工程であって、液体連続式の反応器内で、水素および水素化処理触媒の存在下で、有効な水素化処理の条件下で水素化処理して、水素化処理されたラフィネートのストリームを形成する工程と、iii前記水素化処理されたラフィネートを接触脱蝋に付す工程であって、水素および脱蝋触媒の存在下で、有効な脱蝋条件下で、なおかつ触媒への供給物の有効な接触時間で接触脱蝋に付され、前記有効な脱蝋条件では、温度が500°F~750°Fであり、圧力が2200psig以下であり、前記有効な接触時間では、蝋質パラフィン成分の少なくとも一部を蝋質の少ないイソパラフィン成分への異性化によって除去し、それにより、飽和物が少なくとも90重量であり、硫黄が0.03重量未満であり、なおかつ粘度指数が少なくとも80である潤滑油基油を生成する工程とを含む、方法。前記潤滑油の供給原料が、減圧軽油、水素化分解された軽油、水素化分解された減圧軽油、脱アスファルト油、常圧蒸留残油、減圧塔残油および脱アスファルト減圧蒸留残油からなる群から選択される請求項21に記載の方法。前記潤滑油の供給原料が、減圧軽油である請求項21に記載の方法。前記抽出溶媒が、N-メチル-2-ピロリドン、フェノールまたはフルフラールからなる群から選択される請求項21に記載の方法。前記溶媒抽出からの抽出物が溶媒回収工程に送られる請求項21に記載の方法。前記水素化処理されたラフィネートの一部が前記液体連続式の反応器へと循環され、新たなラフィネートとともに再び水素化処理される請求項21に記載の方法。前記液体連続式の反応器への前記循環される水素化処理されたラフィネートと、新たなラフィネートとの容積比が、0.5:1~5:1である請求項26に記載の方法。前記液体連続式の反応器への前記循環される水素化処理されたラフィネートと、新たなラフィネートとの容積比が、1:1~3:1である請求項27に記載の方法。前記液体連続式の反応器から、前記水素化処理されたラフィネートの一部が回収され、水素で飽和され、次に前記液体連続式の反応器へと循環して戻される請求項21に記載の方法。前記水素化処理触媒が、元素の周期表の第VIB族および第VIII族から選択される1つまたはそれよりも多くの触媒金属を含み、前記触媒金属が耐熱性の支持体上にある、請求項21に記載の方法。前記支持体が、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、チタニア、ジルコニアおよびシリカ-アルミナからなる群から選択される請求項30に記載の方法。前記水素化処理工程の処理条件において、温度が400°F~800°Fであり、全圧が200psig~2200psigである請求項21に記載の方法。前記水素化処理工程の処理条件において、温度が600°F~750°Fであり、全圧が1000~1500psigである請求項32に記載の方法。前記ラフィネートのストリームを水素化処理工程に導入する前に、前記ラフィネートのストリームを気液分離ステージに送り、前記ラフィネートのストリーム中に存在し得る過剰のガスがあればその少なくとも一部を除去する請求項21に記載の方法。前記接触脱蝋の温度が550°F~750°Fである請求項21に記載の方法。前記接触脱蝋触媒が、結晶性のアルミノシリケートおよびシリコアルミノホスフェートからなる群から選択される請求項21に記載の方法。前記接触脱蝋触媒が、ZSM-22、ZSM-23、ZSM-35およびZSM-48ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される結晶性のアルミノシリケートである請求項36に記載の方法。前記接触脱蝋触媒が、アルミナ、チタニア、シリカ、シリカ-アルミナ、ジルコニア、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されるバインダ材料を含む請求項37に記載の方法。前記接触脱蝋触媒が、Pt、PdおよびNiからなる群から選択される少なくとも1つの金属を含む請求項37に記載の方法。前記接触脱蝋触媒が、WおよびMoから選択される金属をさらに含む請求項39に記載の方法。450°F~675°Fの温度および400~2200psigの全圧で、水素および水素化仕上げ触媒の存在下で、前記脱蝋された潤滑油を水素化仕上げに付す請求項21に記載の方法。前記水素化仕上げ触媒が、元素の周期表の第VIII族および第VI族から選択される1つまたはそれよりも多くの金属を含む請求項41に記載の方法。前記水素化仕上げ触媒が、第VIII族の少なくとも1つの金属と、第VIB族の少なくとも1つの金属とを含む請求項42に記載の方法。前記水素化仕上げ触媒が、PtおよびPdから選択される貴金属を含み、前記貴金属がメソポーラスの結晶性の支持体上にある請求項42に記載の方法。前記メソポーラスの結晶性の支持体がMCM-41である請求項44に記載の方法。グループIの潤滑油基油の品質を向上させる方法であって、90重量未満の飽和物および0.03重量よりも多い硫黄を含むグループIの潤滑油基油を、液体連続式の反応器において、有効な水素化処理条件下で、水素および水素化処理触媒の存在下で水素化処理して、飽和物の濃度が90重量よりも高く、なおかつ硫黄の濃度が0.03重量未満である水素化処理された潤滑油基油を形成する工程を含む方法。前記水素化処理されたグループIの基油の一部が前記液体連続式の反応器へと循環され、新たなグループIの基油とともに再び水素化処理される請求項46に記載の方法。前記液体連続式の反応器への前記循環される水素化処理されたグループIの基油と、新たなグループIの基油との容積比が、0.5:1~5:1である請求項46に記載の方法。前記液体連続式の反応器への前記循環される水素化処理されたグループIの基油と、新たなグループIの基油との容積比が、1:1~3:1である請求項48に記載の方法。前記液体連続式の反応器から、前記水素化処理されたグループIの基油の一部が回収され、水素で飽和され、次に前記液体連続式の反応器へと循環して戻される請求項46に記載の方法。前記水素化処理触媒が、元素の周期表の第VIB族および第VIII族から選択される1またはそれよりも多くの触媒金属を含み、前記触媒金属が耐熱性の支持体上にある請求項46に記載の方法。前記支持体が、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、チタニア、ジルコニアおよびシリカ-アルミナからなる群から選択される請求項51に記載の方法。前記水素化処理工程の処理条件において、温度が400°F~800°Fであり、全圧が200psig~2200psigである請求項46に記載の方法。前記水素化処理工程の処理条件において、温度が600°F~750°Fであり、全圧が1000~1500psigである請求項53に記載の方法。前記接触脱蝋工程が、液体連続式の反応器においても行われる請求項21に記載の方法。水素化仕上げ工程を含み、前記水素化仕上げ工程が液体連続式の反応器において行われる請求項55に記載の方法。グループIIまたはグループIIIの基油又はベースオイルの仕様スペックによって、芳香族の全含有量は、10重量未満に制限される。さらに重くより多くの芳香族供給原料を処理するためには、水素化分解ゾーンおよび脱蝋ゾーンにおいて、より高度な芳香族の転化コンバージョンが求められるが、これは、従来の潤滑油処理技術では困難である。グループIIおよびグループIIの基油の製造には、より重い多くの供給物フィードの使用を可能とする改良された処理技術に対する当該分野での要請がある。要旨本明細書の開示によると、以下の工程i、iiおよびiiiを含む潤滑油基油の製造方法が提供される。iヘテロ原子および芳香族を含み、なおかつ一定の粘度指数を有する潤滑油の供給原料を、抽出溶媒を用いて溶媒抽出条件で溶媒抽出する工程であって、当該工程において、抽出物のストリームおよびラフィネートのストリームが生成され、なおかつ前記ラフィネートのストリームが、前記潤滑油の供給原料よりもヘテロ原子および芳香族の少ないフラクションを含み、かつ前記ラフィネートのストリームの粘度指数が前記潤滑油の供給原料の粘度指数よりも高い、工程、ii前記ラフィネートの少なくとも一部を水素化処理する工程であって、液体連続式の反応器内で、水素および水素化処理触媒の存在下で、有効な水素化処理の条件下で水素化処理して、水素化処理されたラフィネートのストリームを形成する工程、およびiii前記水素化処理されたラフィネートのストリームを脱蝋する工程であって、脱蝋溶媒の存在下で、溶媒脱蝋の条件下で脱蝋して、脱蝋された潤滑油基油が得られ、前記脱蝋された潤滑油基油に含まれる飽和物は少なくとも90重量であり、硫黄の含有量は0.03重量以下であり、なおかつ粘度指数が少なくとも80である、工程。本明細書に開示の別の実施形態では、接触脱蝋によって、脱蝋が達成される。好ましい実施形態では、水素化処理されたラフィネートの一部が、循環リサイクルされ、新たなラフィネートとともに水素化処理される。別の好ましい実施形態では、液体連続式の反応器から、水素化処理されたラフィネートの一部が回収され、水素で飽和され、次に液体連続式の反応器へと循環して戻される。本明細書に開示のさらに別の実施形態では、グループIの基油が、前記グループIの基油の少なくとも一部を、液体連続式の反応器において、水素および水素化処理触媒の存在下で、有効な水素化処理条件下で水素化処理して、水素化処理されたグループIの基油を形成する工程を含む方法によって処理される。詳細な説明本明細書の詳細な説明および特許請求の範囲に記載の全ての数値は、表示の値が約またはおよそで修飾され、なおかつ、当業者によって予測され得る実験誤差や偏差が考慮されるものである。本明細書の開示は、グループIIおよびグループIIIの潤滑油基油の製造に関する。APIPublication1509EngineOilLicensingandCertificationSystemのAppendixE-APIBaseOilInterchangeabilityGuidelinesforPassengerCarMotorOilandDieselEngineOilsには、基油ベースオイルのカテゴリーが記載されている。グループIIの基油は、90重量以上の飽和物と、0.03重量以下の硫黄とを含み、粘度指数が80以上かつ120未満のものである。グループIIIの基油は、90重量以上の飽和物と、0.03重量以下の硫黄とを含み、粘度指数が120以上のものである。用語粘度指数VIは、ASTMD2270によって規定される測定値を意味する。本発明で使用するのに適した供給原料又はフィードストックは、少なくとも600°F316°Cの標準沸点を有する石油精製ストリームの1つ、またはそれらの組み合わせが好ましい。ただし、435°F224°C程度の低い初期沸点の炭化水素精製ストリームを使用してもよい。少なくとも600°F316°Cの標準沸点を有するとは、供給原料の85容量が少なくとも600°F316°Cの沸点を大気圧で有することを意味する。より高い沸点の潤滑油の供給原料を本明細書の開示に従って処理することができる。ただし、好ましい供給原料は、供給原料の少なくとも85容量が、最大で1250°F677°C、より好ましくは最大で1100°F593°Cで標準沸点を有するような沸点範囲を有するものである。このような供給原料、特に減圧軽油は、35重量~70重量の芳香族を含み、そのうち少なくとも40は、二環式およびそれよりも多環式の芳香族である。本明細書の開示に従って処理され得る代表的な供給原料としては、軽油および減圧軽油VGO、水素化分解された軽油および水素化分解された減圧軽油、脱アスファルト油、常圧蒸留残油、減圧塔残油又は減圧塔ボトム、脱アスファルト減圧蒸留残油が挙げられる。これらの供給物における窒素、硫黄および飽和物の含有量は、多数の要因に依存して変動する。本明細書の開示において、好ましい供給原料では、混入したオイル又はエントレインドオイルの粘度は、40を超える。より好ましい実施形態では、供給原料に混入したオイルの粘度指数は、50~110の範囲内である。潤滑油の精製装置は、処理能力を高めることと、より多くの処理し難い供給原料を処理することとに絶えず挑戦し続けている。これらの目的を達成するためには、従来の溶媒に基づく潤滑油のプラントには制約があり、増加した速度、ならびに非常に処理し難い供給物又はフィードの抽出に付随する貧弱な収率に対処するためには、費用対効果に優れる隘路打開デボトルネッキングが必要である。さらに、従来の溶媒に基づく潤滑油の精製は、高圧での水素化処理能力がない場合には、典型的には、グループIIの芳香族の仕様スペック最大でも10重量を満たすことができない。本明細書に開示の方法は、従来の溶媒に基づく潤滑油の精製装置又は製油所もしくはリファイナリーに水素化処理を組み入れて費用対効果に優れる手段を提供する。本明細書の開示は、本明細書に添付の図面を参照すれば、より良く理解される。かかる図面には、本明細書に開示の好ましい実施形態を実施する設備の主要な構成要素が示されている。補助的な設備、例えば、バルブ、ポンプ、コンプレッサ、熱交換器、ヒータなどは、簡潔さの理由から、図示していない。このような補助的な設備は、当業者によく知られているものである。潤滑油の供給原料は、ライン10を介して、溶媒抽出ステージ100へと導入される。溶媒抽出は、物理的な分離のプロセス又は処理もしくは工程であり、このプロセスでは、溶媒を使用して、温度とともに大きな粘度の変化を引き起こす潤滑油の供給原料から、芳香族および他の極性化合物を優先的に溶解して除去する。溶媒抽出により、これらの成分の一部が除去され、なおかつ、粘度指数VI、酸化安定性、色および酸化防止剤の応答が向上する。オイルのVIは、不定の相対的な測定値であり、オイルの温度による粘度変化の測定値である。所定の温度変化において、オイルの粘度変化が小さくなると、そのオイルのVI値は、高くなる。高品質のモーターオイルでは、高いVIが望ましい。抽出される物質の量は、必要とされるVIの増加に依存する。また、抽出は、コンラドソンConradson炭素および硫黄の含有量を低下させる。芳香族および硫黄の低い含有量は、生成される基油の良好な酸化安定性および色をもたらす。溶媒抽出は、N-メチル-2-ピロリドン、フェノールまたはフルフラールなどの溶媒を用いて適切に実施する。溶媒は、その芳香族型の石油分子の相対的な可溶化の観点、およびその比較的低い沸点の観点から選ばれ、それにより、抽出物からの溶媒の容易な分離を可能とする。抽出は、溶媒抽出装置内で進行する。任意の適切な溶媒抽出装置を本明細書に開示の実施に用いることができる。本明細書に開示の実施に用いることができる溶媒抽出装置の非限定的な例としては、回転ディスク接触器、充填塔、バッフルトレイ塔および遠心式接触器が挙げられる。アスファルトを含む供給原料が本明細書に開示の実施に使用される場合、好ましくは、脱アスファルト処理の後に溶媒抽出される。脱アスファルト処理に好適な溶媒としては、低沸点のパラフィン系の炭化水素類が挙げられ、例えば、エタン、プロパン、ブタン、ペンタンまたはそれらの混合物が挙げられる。プロパンが好ましい脱アスファルト溶媒であり、高収率の脱アスファルト油が望ましい場合には、ペンタンが最も適切な溶媒である。また、これら低沸点のパラフィン系の溶媒は、メタノールおよびイソプロパノールなどのアルコールとの混合物としても使用することができる。溶媒抽出の苛酷さ又はセビリティを典型的には十分な条件で維持して、脱蝋されたときに粘度指数が少なくとも80、好ましくは少なくとも95となる抽出オイル生成物を生成する。本明細書の開示に有用な潤滑油の供給原料の製造に適した溶媒抽出のプロセスは、高品質の潤滑油の基原料又はベースストックの製造において一般に用いられるよりも低い苛酷さで実施することができる。溶媒抽出の苛酷さの低下は、溶媒使用量の減少および/または溶媒抽出温度の低下において見られ、なおかつ抽出装置を通過する処理量の増加を可能にすることができる。また、溶媒抽出工程の苛酷さを低下させると、より高い収率をもたらし、これにより、生じるラフィネート中に混入したオイルのVIを低下させる。過少抽出アンダーエクストラクトされたラフィネートでは、芳香族およびヘテロ原子の濃度は、より高いものとなる。それ故、結果として、VIを許容できるレベルまで引き上げるために追加の工程が必要となる。ラフィネートの水素化処理によって、低収率で不利益ではあるが、VIを増加させるという潜在的な利益が提供され、その一方で、基油の芳香族をグループIIのレベルにまで下げるという潜在的な利益が提供される。非常に苛酷な水素化処理の操作よって、VIの増加をもたらすことができ、これは、グループIIIの基油を生成するのに十分に大きいものである。溶媒抽出条件を維持することによって、本発明の方法で製造される潤滑油基油の所望の粘度指数よりも粘度指数が少なくとも5低い、好ましくは5~20の範囲で低いオイル生成物を形成することができる。グループIIの潤滑油基油の所望の粘度指数が80である場合、本発明の方法の溶媒抽出の前処理工程を維持して、粘度指数が75未満、好ましくは60~75の範囲内の潤滑油の供給原料を生成する。同様に、グループIIの潤滑油基油の所望の粘度指数が95である場合、溶媒抽出を維持して、粘度指数が90未満、好ましくは75~90の範囲内の潤滑油の供給原料を生成する。ここで、本明細書に添付の図1を参照すると、溶媒抽出100からの抽出物は、ライン11を介して、溶媒回収図示せずに送られる。溶媒回収の技術は、当該分野においてよく知られているので、その詳細な検討は本願においては保証しない。典型的には、フラッシュカラムまたはスチームストリッパ図示せずなどの設備に抽出物を導入することで溶媒を回収する。マルチ多重フラッシュカラムによって、全体的な熱の利用が向上し得る。なぜなら、より高圧のフラッシュカラムで回収された溶媒は有効に使用することができ、炭化水素の流れストリームに熱含有量を移すことができるからである。プロセスの溶媒回収に影響を与える変数としては、このラフィネートのストリームおよび抽出物のストリームの溶媒含有量の制限の中では、還流比、圧力、温度およびストリッピングスチームなどの変数が挙げられる。溶媒抽出100からのラフィネートのストリームは、ライン12を介して、主として適切な反応器である液体連続式の水素化処理ステージ200へと送られる。必要に応じて、補給水素を、ライン14を介して導入することができる。補給水素は、供給ラインに沿って、任意の適切な箇所に添加できることが理解され、あるいは反応器200に直接に添加してもよいことが理解される。また、液体連続式で水素化処理する反応器200への気体および液体の流れフローが、スタティックな混合条件下でブレンドされることも本明細書の開示の範囲内である。スタティックな混合条件とは、1以上、好ましくは1よりも多くの幾何学的な混合要素が、パイプの内側に固定されていて、移動するストリームのエネルギーを使用して2以上の流体を混合させることを意味する。従って、スタティックミキサー自体は可動部を有していない。本明細書に開示のスタティックミキサーのダイナミックミキサーに対する利点は、スタティックミキサーには可動部がないという点事実に加えて、スタティックミキサーが、何百回、または何千回もストリームを分けて、それによって、不連続相の非常に細かな滴を含む連続相が得られる点にある。その結果、ダイナミックミキサーと比べた場合、かなり大きな表面積が得られる。また、気体および液体の混合物は、反応器200に入る前に適切な容器でフラッシュされてもよく、過剰の気体があればその少なくとも一部を除去してもよい。あるいは、過剰の気体は、反応器200から直接排気してもよい図示せず。反応の液相内に十分な水素が存在することを確保するために、この液体連続式で水素化処理する反応器から、液体の生成物を循環又はリサイクルさせることが必要であってもよい。この循環する液体は、さらなる可溶性の水素の担体として役立つ。また、あるいは、反応器に沿った1以上の箇所で、好ましくは1以上の軸線方向の箇所で液体を回収し、この回収した液体を水素で再飽和し、次いで、これを反応器内に再注入して戻すことによって、水素を反応器に加えてもよい。また、これは、上記の液体の循環と組み合わせてもよい。このアプローチは、必要とされる液体の循環量を減少させるのに使用してもよい。200からの液体の流出物は、溶解したガスのみを含むので、反応器の下流において高圧での分離工程を設ける必要はない。溶解したガスおよび過剰のガスを、生成物を分留又はフラクショネーションする前に排気するためには、低圧でのフラッシュ工程が必要とされるだけである。高圧の生成物の回収設備を省略することによって、特に本明細書の開示を既存の潤滑油のプラントの隘路打開デボトルネッキングに使用する場合、そのコストは顕著に減少する。上述のとおり、本明細書の開示で用いられる反応器200を操作して、液相が反応器内で連続相を示すようにする。従来では、水素化処理を含む水素化精製は、トリクルベッド反応器内で行われ、そこで過剰のガスが反応器内で連続した気相となる。液体連続反応器では、供給原料は、1またはそれよりも多くの触媒床に曝される。この液体のラフィネートは、好ましくは、反応器の頂部または上部から入り、反応器の触媒床を通って下方に流れる。この液体の下方への流れは、触媒がこの触媒床の適切な位置に留まることができるのを助けることができる。液体連続式の反応器の利点は、それらがほぼ等温的に作動することである。反応器内にホットスポットが実質的に存在しないので、それにより、反応器の操作を調整して、より正確に製品の品質のニーズに合わせることが可能となる。水素化処理のプロセス又は工程もしくは処理は、典型的には、水素化処理の有効な条件で、水素の存在下で、供給物を適切な触媒に曝すことを含む。あらゆる特定の理論に拘束されることなく、従来のトリクルベッド反応器において、反応器を典型的に操作して、反応器内で3つの相が存在するようにする。水素化処理触媒は、固相に相当する。反応器容量の実質的に別の部分は、気相によって占められる。この気相第2の相は、水素化処理のための水素と、任意の幾らかの希釈ガスと、その他のガス水素化処理の間に形成される混入ガスコンタミナントガスなどとを含む。気相中の水素ガスの量は、典型的には、水素化処理反応に必要とされる量に対して実質的に過剰に存在する。従来のトリクルベッド反応器では、固体の水素化処理触媒および気相が、反応器容量の少なくとも80、あるいは少なくとも85、あるいはさらに少なくとも90を占めていてもよい。第3の相は、液体の供給原料に相当するものである。従来のトリクルベッド反応器では、この供給原料は、典型的には、20未満、あるいは10未満、あるいは5未満など、反応器容量の小さな部分を占めているだけである。結果、液体の供給原料は、連続相を形成しない。その代わり、液体の相は、例えば、水素化処理触媒の粒子を覆う供給原料の薄膜を含む。あらゆる特定の理論に拘束されることなく、液体連続反応器は、トリクルベッド反応器と比較して、異なるタイプの処理環境を提供する。液体連続反応器において、反応ゾーンは、主として、2つの相のみから構成される。第1の相は、固相であり、これは水素化処理触媒に対応し、この場合には水素化処理触媒に対応する。第2の相は、液相であり、これはラフィネートの供給原料に対応する。液体の供給原料の相は、本明細書に開示の液体連続反応器では連続相として存在する。1つの実施形態では、水素化処理反応の間に消費される水素は、液相中に溶解されたものである。また、水素の使用量に応じて、一部の水素は、液相中にて、水素の泡の形態であってもよい。この水素は、液相中に溶解した水素に追加添加した水素に対応する。別の実施形態では、反応は液体連続反応器中で進行するので、液相中に溶解した水素を使い尽くしてもよい。このような実施形態では、水素は、まず、ガス状の泡の形態で存在し、このような水素が液相中に溶解して液相を再飽和することができ、反応器中で進行する反応に水素を追加して提供することができる。種々の実施形態において、液体連続反応器において気相が占める容量は、反応器容量の10未満、あるいはさらに5未満であってもよい。反応器200への液体供給物は、好ましくは、水素を含む処理ガスと混合される。この水素を含む処理ガスは、好ましくは、少なくとも50容量、より好ましくは少なくとも80容量、さらにより好ましくは少なくとも90容量、最も好ましくは少なくとも95容量の水素を含む。過剰なガスは、それが反応器に入る前に混合物から排気され得るか、あるいは過剰なガスは、反応器から直接排気され得る。好ましくは、反応器内における液位を制御して、反応器中の触媒を完全に湿潤させる。いくつかの実施形態では、床ベッド、ステージおよび/または反応器における水素化処理反応は、多くの水素を必要としていてもよく、その量は、新たな液体供給物中に溶解し得る量よりも多いものであってもよい。このような実施形態では、1またはそれよりも多くの技術を使用して、水素化処理反応のために水素を追加して提供してもよい。1つの選択肢は、反応器から生成物の一部を循環させることである。生成物の循環する部分は、既に水素化処理ステージを通過しているので、水素の消費が減少するものと思われる。なぜなら、これが水素化処理ステージを再び通過するからである。さらに、循環する供給物の溶解度は、未処理の同等の供給物よりも大きくすることができる。結果、循環する生成物の一部を新たな供給物とともに含むことによって、新たな供給物とともに反応に利用することができる水素の量を増加させることができる。別の選択肢は、水素の追加のストリームを水素化処理の反応器内に直接導入することである。1またはそれよりも多くの追加の水素ストリームを反応器内の任意の都合のよい箇所に導入してもよい。追加の水素ストリームとしては、補給水素のストリーム、循環される水素のストリーム、または任意の他の都合のよい水素を含むストリームを挙げることができる。いくつかの実施形態では、生成物の循環と、反応器の軸線方向の寸法に沿った追加の水素ストリームの注入との両方を使用して、十分な水素を反応に提供してもよい。液体連続式で水素化処理された生成物を循環させることを包含する実施形態では、循環させる生成物は、反応器200への投入量の一部として使用され、反応器200への生成物を循環させる量と、新たな供給物の量との容量比反応器200への生成物を循環させる量:新たな供給物の量は、少なくとも0.5:1、あるいは少なくとも1:1、あるいは少なくとも1.5:1である。この生成物を循環させる量と、新たな供給物の量との容量比は、5:1またはそれ未満、あるいは3:1またはそれ未満、あるいは2:1またはそれ未満としてもよい。本明細書に開示の水素化処理触媒は、第VIB族および/または第VIII族の金属の少なくとも1つを含み、かかる金属は、必要に応じて、支持体上に存在していてもよい。任意の適切な耐熱性の支持体材料は、本明細書に開示の実施に使用することができる。このような適切な支持体材料の非限定的な例としては、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ-アルミナ、これらの組み合わせが挙げられる。本発明で使用することのできる第VIB族の金属の例としては、モリブデン、タングステン、またはそれらの組み合わせが挙げられる。本発明において使用することのできる第VIII族の金属の例としては、ニッケル、コバルト、鉄、またはそれらの組み合わせが挙げられる。本明細書中にて言及されている族は全て、サージェントウェルチの元素周期表1968年にSargent-WelchScientificCompany社により版権が取得されているものにおいて見出されたものである。好ましい触媒の組成は、5重量を超える第VIB族金属、好ましくは5~40重量のモリブデンおよび/またはタングステンと、少なくとも0.5重量、一般には1~15重量のニッケルおよび/またはコバルトとを含む。これらは対応の酸化物として測定したものである。このタイプの水素化処理触媒は、触媒の供給業者から、容易に入手可能である。これらの触媒は、一般に、H2Sまたは他の適切な硫黄含有化合物を使用して予めスルフィド化される。また、本明細書に開示のものを実施する際においては、嵩高多金属触媒バルクマルチメタリック触媒を芳香族の飽和化に使用してもよい。このような触媒は、米国特許第6,156,695号明細書、同第6,162,350号明細書および同第6,299,760号明細書に記載されており、これら全ての明細書が本明細書中に参照として援用される。これらの特許に記載されている触媒は、少なくとも1つの第VIII族の非貴金属と、少なくとも2つの第VIB族の金属とを含む嵩高多金属触媒であり、この触媒において、第VIB族の金属と、第VIII族の非貴金属との比第VIB族の金属:第VIII族の非貴金属は、10:1~1:10である。かかる触媒は、以下の式を有する前駆体から調製される。XaMobWdOz式中、Xは、第VIII族の非貴金属であり、式中、a、bおよびcのモル比ならびにa、bおよびcは、0.1<bc/b<10の通りであり、zは、z=[2a6bc]/2である。前駆体は、d=2.53および1.70オングストロームにX線回析のピークを有する。この前駆体をスルフィド化して、対応する活性化状態の触媒を得る。芳香族の飽和および触媒の脱硫活性の程度は、実験的な手段によって見出すことができる。かかる手段では、固定した水素化処理条件のもとで、組成が既知の供給物を使用する。また、水素化処理工程での反応パラメータの制御によって、生成物の特性を変える有用な方法が提供される。水素化処理の温度が上昇するに従って、脱硫の程度が増加する。水素化は、発熱反応であり、温度を低くすることが好ましいものであるが、脱硫は、通常、複素環化合物の開環が幾らか起こることを必要とするものであり、かかる反応は吸熱反応であり、温度をさらに高くすることが好ましいものである。水素化処理工程の間の温度を、過剰な脱硫が進行する閾値未満の値で維持することができれば、酸化安定性が改善された生成物が得られる。水素化処理触媒にニッケル-モリブデンなどのバイメタルを使用する場合、良好な酸化安定性のためには、温度が400°F~800°F205°C~427°C、好ましくは600°F~750°F316°C~399°Cであることが推奨される。また、水素化処理装置での空間速度によって、脱硫の程度の減少をもたらす苛酷さの低下に対応したより高速での脱硫の制御の可能性が提供される。好ましくは、水素化処理された生成物の有機の硫黄の含有量は、300wppm未満、好ましくは200wppm未満であることが好ましい。また、水素化処理工程の間の水素の圧力の変動によって、より低い圧力で脱硫を制御することができ、そして過酸化化合物および窒素を、望ましくはそれらの全てを排除することができる。なお、より低い圧力は、一般に、少ない脱硫をもたらし、なおかつ、芳香族の飽和の傾向が少なくなる。従って、減少した脱硫の程度と、水素化処理の他の望ましい効果の損失との間でのバランスが達成される必要があってもよい。一般に、200~2200psig1480~15300kPa絶対の圧力が満足できるものであり、所定の供給物で進行する脱硫の測定によって経験的に得られる金属官能基および他の反応条件の適切な選択によって、1000~1500psig7000~10450kPa絶対の圧力で良好な結果が与えられる。水素化処理は、供給原料を有効な水素化処理条件下で水素化処理触媒に曝すことによって行われる。有効な水素化処理条件では、温度は少なくとも600°F~750°Fであり、圧力は200~2200psiであり、水素化処理触媒での液空間速度LHSVは、0.2~5であり、処理ガス速度は、500~10,000標準立方フィート/バレルscf/bblである。さらに別の実施形態では、液体連続式の反応器の温度、圧力およびLHSVは、トリクルベッド反応器での使用に適切な条件であってもよい。液体から過剰のガスが排気される実施形態では、反応器内で利用可能な水素は、液体中に溶解した水素の量に対応する。従って、処理ガス速度が大きくなると、利用可能な水素の量が増加しないこともある。このような状況では、反応器内での有効な処理ガス速度は、供給原料の溶解限度に依存してもよい。典型的な炭化水素供給原料の水素の溶解限度は、30scf/bbl~200scf/bblである。液体連続式の反応器の1つの利点は、大過剰の水素が反応器に供給されるべきではないことである。大過剰の水素を使用すると、典型的には、過剰な水素を回収してしばしば循環し得るので、複雑で高価な分離設備を必要とする。典型的には、トリクルベッド反応器においては、水素の循環に使用される循環コンプレッサは、組み立てた処理ユニットの全コストの10~15に相当する。その代わりに、液体連続反応器は、望ましいことに、水素化処理反応に必要とされる量と同等の水素量のみを供給して、触媒のコーキングを軽減するので望ましい。例えば、水素化処理のプロセスは、150scf/bbl27sm3/m3~1000scf/bbl180sm3/m3の水素を消費することができる。ここで、本明細書に添付の図1を参照すると、200からの流出物のストリームは、ライン16を介して、分離ゾーン300へと導入され、分離ゾーン300では、水素化処理された液体のラフィネートの相から、気相が分離される。かかる気相は、主に、過剰の水素と、アンモニアおよびH2Sなどの混入ガスコンタミナントガスから構成されるものである。気相は、排気され得るか、あるいはライン18を介して、さらなる処理または循環の方に送られ得る。水素化処理された液体のラフィネートの相は、ライン20を介して、脱蝋ステージ400へと導入される。脱蝋ステージ400は、溶媒脱蝋のプロセス又は工程もしくは処理、あるいは接触脱蝋のプロセス又は工程もしくは処理のいずれであってもよいが、この図1の目的では、かかる脱蝋ステージは、溶媒脱蝋処理である。溶媒脱蝋処理は、典型的には、溶媒抽出ユニットからのラフィネートの供給物フィードを、冷却した脱蝋溶媒と混合して、オイルと溶媒とで溶液を形成することを包含し、沈澱した蝋質ワックスは、その後、例えば濾過によって分離される。温度および溶媒を選択して、冷却した溶媒がオイルを溶解するようにして、その間に蝋質を沈殿させる。この場合、ラフィネートの供給物は、水素化処理した後に脱蝋処理に送られる。好ましい溶媒脱蝋のプロセスは、冷却塔の使用を包含し、この冷却塔において、溶媒は予備冷却され、かつ冷却塔の高さに沿って、幾つかの箇所で漸次溶媒が添加される。この冷却工程の間にオイルと溶媒との混合物を撹拌して、予備冷却した溶媒と、オイルとの実質的に即時の混合を可能とする。予備冷却した溶媒を冷却塔の長さに沿って漸次添加し、10°F/分以下、通常は1~5°F/分の平均冷却速度を維持するようにする。この冷却塔において、オイルおよび溶媒/沈澱した蝋質の混合物の最終温度は、通常、0~50°F-17.8~10°Cである。混合物は、次に、キサゲ面冷却器又はスクレイプトサーフェスチラーに送られ、混合物から、沈殿した蝋質を分離してもよい。一般に、溶媒の添加量は、脱蝋温度において、溶媒/オイルの容積比が1.5:1~5:1において、液体/固体の重量比が5:1~20:1を提供するのに十分なものである。溶媒脱蝋されるオイルは、典型的には、中間の流動点、好ましくは10°C未満へと脱蝋される。本明細書の開示の実施において使用することができる脱蝋溶媒の非限定的な例としては、3~6個の炭素原子を含む脂肪族ケトン類メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトンなど、低分子量の炭化水素類プロパンおよびブタンなど、ならびにそれらの混合物が挙げられる。これらの溶媒は、1つ以上の他の溶媒ベンゼン、トルエンまたはキシレンなどと混合することができる。本発明で有用な溶媒脱蝋のプロセスのさらなる説明は、米国特許第3,773,650号明細書および同第3,775,288号明細書に開示されていて、これらの明細書は両方とも、本明細書中に参照としてその全体が援用される。本明細書に添付の図1を再び参照すると、溶媒脱蝋ステージ400から、2つのストリームが回収される。沈澱した蝋質は、ライン22を介して回収され、そして、ライン24を介して、グループIIまたはグループIIIの基油ベースオイルが回収される。本明細書に添付の図2は、本明細書の開示の別の実施形態の概略フロー図であり、ここでは、溶媒脱蝋の代わりに、接触脱蝋を使用する。この図2の全ての構成要素および数字は、水素化処理ゾーン200までおよびそれを含めて、本明細書に添付の図1のものと同一である。分離ゾーン300からの水素化処理したラフィネートのストリームは、ライン20を介して、接触脱蝋ステージ400へと通される。脱蝋されたストリームは、ライン30を介して、第2の分離ゾーン600へと送られ、第2の分離ゾーン600では、気体の流出物のストリームは、ライン32を介してオフガスとして除去され、脱蝋された液体の流出物のストリームは、ライン34を介して、ストリッパー700へと送られ、残存するあらゆるガス状の部分が除去される。形成されたグループIIまたはグループIIIの基油を、ライン36を介して回収する。この基油は、少なくとも、上記で論じたAPIのグループIIの基油の要件を満たす。あるいは、水素化処理ステージ200からの流出物のストリームを分離ゾーン300に導入する代わりに、このストリームを、ライン17および20を介して、脱蝋ステージ500へと直接導入してもよい。なぜなら、この代替の方法では、混入ガスが除去されないので、酸性の環境で脱蝋触媒が作用することになる。従って、水素の消費が比較的に少なくなり、液体連続式の反応器の場合、脱蝋反応器への液体の循環の必要は潜在的に不要となる。水素化処理ステージ200からの流出物のストリームは、脱蝋ステージ500へと直接導入される代わりに、分離ゾーン300へと第一に通されることが好ましい。接触脱蝋処理は、水素化処理されたラフィネートを、有効な接触脱蝋条件下で脱蝋触媒に曝すことによって行う。有効な脱蝋条件では、温度が、少なくとも500°F260°C、あるいは少なくとも550°F288°C、あるいは少なくとも600°F316°C、あるいは少なくとも650°F343°Cであってもよい。あるいは、温度は、750°F399°C以下、もしくは700°F371°C以下、もしくは650°F343°C以下であってもよい。圧力は、少なくとも200psig1.4MPa、あるいは少なくとも400psig2.8MPa、あるいは少なくとも750psig5.2MPa、あるいは少なくとも1000psig6.9MPaであってもよい。あるいは、圧力は、2200psig15.3MPa以下、もしくは1500psig10.4MPa以下、もしくは1000psig6.9MPa以下、もしくは800psig5.5MPa以下であってもよい。脱蝋触媒での液空間速度LHSVは、少なくとも0.1/時、あるいは少なくとも0.2/時、あるいは少なくとも0.5/時、あるいは少なくとも1.0/時、あるいは少なくとも1.5/時であってもよい。あるいは、このLHSVは、10.0/時以下、もしくは5.0/時以下、もしくは3.0/時以下、もしくは2.0/時以下であってもよい。さらに別の実施形態では、液体連続式の反応器の温度、圧力およびLHSVは、トリクルベッド反応器において典型的に使用されるものと同じ条件であってもよい。接触脱蝋処理は、供給物から長鎖パラフィン系分子を除去すること、および/または異性化することを包含する。接触脱蝋処理は、これら直鎖状の分子を選択的に分解または水素化異性化することによって達成することができる。水素化脱蝋触媒は、結晶性のアルミノシリケートゼオライトまたはシリコ-アルミノホスフェートSAPOなどのモレキュラーシーブから選択することができる。ある実施形態では、モレキュラーシーブは、1-Dまたは3-Dのモレキュラーシーブであってもよい。別の実施形態では、モレキュラーシーブは、10員環の1-Dモレキュラーシーブであってもよい。文献において脱蝋活性が示されているモレキュラーシーブの例としては、ZSM-48、ZSM-22、ZSM-23、ZSM-35、Beta、USY、ZSM-5、およびこれらの組み合わせを挙げることができる。ある実施形態では、モレキュラーシーブは、ZSM-22、ZSM-23、ZSM-35、ZSM-48、またはこれらの組み合わせであってもよい。さらに別の実施形態では、モレキュラーシーブは、ZSM-48、ZSM-23、ZSM-5、またはこれらの組み合わせであってもよい。さらに別の実施形態では、モレキュラーシーブは、ZSM-48、ZSM-23、またはこれらの組み合わせであってもよい。必要に応じて、脱蝋触媒は、モレキュラーシーブ用のバインダを含んでいてもよく、アルミナ、チタニア、シリカ、シリカ-アルミナ、ジルコニア、またはこれらの組み合わせなどのバインダを含んでいてもよい。また、脱蝋触媒は、第VIII族金属などの金属水素化成分を含んでいてもよい。適切な第VIII族金属としては、Pt、Pd、Ni、またはこれらの組み合わせを挙げることができる。脱蝋触媒は、少なくとも0.1重量、あるいは少なくとも0.3重量、あるいは少なくとも0.5重量、あるいは少なくとも1.0重量、あるいは少なくとも2.5重量、あるいは少なくとも5.0重量の第VIII族金属を含んでいてもよい。あるいは、脱蝋触媒は、10.0重量以下、もしくは5.0重量以下、もしくは2.5重量以下、もしくは1.5重量以下、もしくは1.0重量以下の第VIII族金属を含んでいてもよい。また、いくつかの実施形態では、脱蝋触媒は、少なくとも1つの第VIB族金属を含んでいてもよいWまたはMoなど。このような第VIB族金属は、典型的には、NiまたはCoなどの少なくとも1つの第VIII族金属と組み合わされて使用される。このような実施形態の一例が、NiおよびW、Mo、あるいはWとMoとの組み合わせを含む脱蝋触媒である。このような実施形態では、脱蝋触媒は、少なくとも0.5重量、あるいは少なくとも1.0重量、あるいは少なくとも2.5重量、あるいは少なくとも5.0重量の第VIB族金属を含んでいてもよい。あるいは、脱蝋触媒は、20.0重量以下、もしくは15.0重量以下、もしくは10.0重量以下、もしくは5.0重量以下、もしくは1.0重量以下の第VIB族金属を含んでいてもよい。ある実施形態では、脱蝋触媒は、Pt、Pdまたはこれらの組み合わせを含んでいてもよい。別の実施形態では、脱蝋触媒は、CoおよびMo、NiおよびW、NiおよびMo、あるいはNi、W、ならびにMoを含んでいてもよい。接触脱蝋処理が用いられる場合、補給水素を含む処理ガスは、必要に応じて、接触脱蝋の反応器の上流に加えることができる。接触脱蝋ゾーンからの流出物は、次に、液体/気体の分離装置に送ることができ、そこで気体の流出物が液体の流出物から分離される。気体の流出物は、排気され得るか、あるいは、さらなる処理工程へと送ることができ、なおかつ、液体の流出物は、ストリッパーに送られ、軽量の副生成物を除去することができる。本明細書の開示の範囲内には、並行して実施される2つの脱蝋工程が含まれる。一方の脱蝋工程は、溶媒脱蝋であり、他方は接触脱蝋であってもよい。一方のタイプの基油は溶媒脱蝋処理することができ、他方は接触脱蝋処理する。グループIIの基油を従来の潤滑油プラントで製造すること、および基油の製品を増加させることが望ましい場合には、水素化処理のプロセス又は工程もしくは処理のユニットおよび脱蝋処理のユニットの両方を加えることが必要とされ得る。このような場合には、接触脱蝋処理が好ましいだろう。なぜなら、接触脱蝋処理は、最も費用のかからない選択肢であり、なおかつ、水素化処理装置とうまく結合し得るからである。溶媒脱蝋処理または接触脱蝋処理のいずれかの後に水素化仕上げ工程が続き得ることが理解される。接触脱蝋処理を用いる場合、脱蝋処理の後に水素化仕上げ工程が続くことが好ましい。水素化仕上げ処理は、穏やかな比較的に低温の水素化処理のプロセス又は工程もしくは処理であり、触媒、水素および穏やかな反応条件を用いて、痕跡量のヘテロ原子の化合物、芳香族類およびオレフィン類を除去し、主として酸化安定性と色とを改善する。水素化仕上げ処理の反応条件では、温度が、300°F~675°F149°C~357°C、好ましくは400°F~600°F204°C~316°Cであり、全圧が、400~2200psig2860~15270kPa絶対であり、液空間速度LHSV/時が、0.1~5/時、好ましくは0.5~3/時の範囲である。水素処理ガス速度は、500~5000scf/bbl89~890m3/m3の範囲である。溶媒脱蝋処理の後に続く水素化仕上げ処理は、通常、200~1000psigの圧力で行われ、接触脱蝋処理の後に続く水素化仕上げ処理は、通常、脱蝋工程の圧力と同様の圧力で行われる。水素化仕上げ触媒は、支持成分と、1またはそれよりも多くの触媒金属成分とを含み得る。1またはそれよりも多くの金属は、第VIB族Mo、W、Crおよび第VIII族Ni、Coおよび貴金属のPtおよびPdから選択される。これらの族は、サージェントウェルチの元素周期表1968年にSargent-WelchScientificCompany社により版権が取得されているものにおいて見出されたものである。金属単数または複数は、貴金属については触媒組成の0.1重量程度の少ない量から存在していてもよく、非貴金属については触媒組成の30重量程度までの高い量で存在していてもよい。好ましい支持体の材料は、酸が少ないもの、例えば、アモルファスまたは結晶性の金属酸化物が挙げられ、例えば、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、およびメソポーラスの結晶性の材料として知られる超大型孔の結晶性の材料であり、そのなかでも、MCM-41が好ましい支持体の成分である。また、支持されていない塩基性の金属非貴金属の触媒も、水素化仕上げ触媒として適用できる。水素化仕上げ処理からの流出物のストリームは、分離ゾーンに送ることができ、この分離ゾーンでは、得られる液相の潤滑油の基原料ベースストックから、気体の流出物のストリームを分離する。この気体の流出物のストリームは、その一部が未反応の水素を含む処理ガスであり、これは水素化処理ステージ200へと循環され得る。結果として得られる潤滑油の基原料ベースストックは、基油ベースオイルのグループIIまたはグループIIIの要件に合致する。本明細書中に引用された全ての特許および特許出願、試験手順例えば、ASTM法、UL法など、ならびにその他の文献は、その全てが参照として援用され、その開示内容が本明細書の開示内容と矛盾しない程度まで、かかる援用が認められる全ての法のもとで援用される。数値の下限および数値の上限が本明細書中に記載されている場合、任意の下限から任意の上限までの範囲が企図される。本明細書中に開示の例示的な実施形態について特別に説明してきたが、当業者には、本明細書の開示の趣旨および範囲から逸脱することなく、様々な他の改変又は修飾が明らかであり、これは容易に行われ得るものと理解される。従って、本明細書に添付の特許請求の範囲の範囲が、本明細書中に記載の実施例および説明に限定されることは意図されない。また、特許請求の範囲は、本明細書の開示内容に存する特許性のある新規性の特徴の全てを含むものとして解釈され、かかる特徴には、それと均等なものとして、本発明の開示内容に関連する当業者によってみなされ得る特徴の全てが含まれることを意図する。以上、複数の実施形態および特定の実施例を参照して本明細書の開示内容について説明してきた。上記の詳細な説明の範囲内で、当業者には多くのバリエーションが示唆される。このような明らかなバリエーションの全てが、添付の特許請求の範囲の意図した範囲内に全て含まれる。"