"投影露光装置の作動中に照明される物体平面を像平面に結像するためのEUVに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系であって、投影対物系が、複数の別々のミラーセグメント161~163;261~266,281~284;311,312;411,412;510~540を含む少なくとも1つのミラーセグメント配列160,260,280,310,410,500を有し、互いに異なり、かつ物体平面OPの像平面IP内への結像をそれぞれもたらす部分ビーム経路は、同じミラーセグメント配列の前記ミラーセグメントに関連付けられ、該部分ビーム経路は、該像平面IP内で重ね合わされ、該像平面IP内の同じ点において重ね合わされる少なくとも2つの部分ビームは、同じミラーセグメント配列の異なるミラーセグメントによって反射されたものである、ことを特徴とする投影対物系。前記少なくとも1つのミラーセグメント配列160,260,280,310,410,500は、前記像平面側で前記ビーム経路に関して最後のものである投影対物系の反射配列であることを特徴とする請求項1に記載の投影対物系。前記少なくとも1つのミラーセグメント配列160,260,280,310,410,500は、最大の大きさの合計光学的有効面を有する投影対物系の反射配列であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の投影対物系。前記少なくとも1つのミラーセグメント配列160,260,280,310,410,500は、少なくとも3つのミラーセグメント161,162,163;261~266,281~284;411,412;510~540、特に、少なくとも4つのミラーセグメント261~266,281~284;510~540を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の投影対物系。前記同じミラーセグメント配列160,260,280,410,500の前記ミラーセグメント161~163;261~266,281~284;311,312;411,412;510~540は、それぞれ、隣接するミラーセグメントの間に任意的に存在する移行領域によってのみ中断される連続反射面を互いに形成することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の投影対物系。各々が少なくとも2つの別々のミラーセグメント261~266,281~284を有する少なくとも2つのミラーセグメント配列260,280が設けられ、互いに異なり、前記物体平面OPの前記像平面IP内への結像をそれぞれもたらす、かつ該像平面IP内で重ね合わされるビーム経路は、前記同じミラーセグメント配列260,280の前記ミラーセグメント161~266,281~284に関連付けられることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の投影対物系。一方のミラーセグメント配列260の前記ミラーセグメント261~266のうちのそれぞれ1つが、他方のミラーセグメント配列280の前記ミラーセグメント281~284のうちの1つに同じ部分ビーム経路との対毎の関係で関連付けられることを特徴とする請求項6に記載の投影対物系。前記少なくとも1つのミラーセグメント配列310,410の照明を該ミラーセグメント配列の異なるミラーセグメント311,312,411,412に選択的に制限することができるように設計されたシャッター配列315,316,317,415が更に設けられることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の投影対物系。前記ミラーセグメント配列の少なくとも2つのミラーセグメントが、互いに対して移動可能であることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の投影対物系。投影露光装置の作動中に照明される物体平面を像平面に結像するためのEUVに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系であって、投影対物系が、複数のミラーを含み、前記複数のミラーのうちで最大の大きさを有するミラーが、複数の別々のミラーセグメント161~163;261~266,281~284;311,312;411,412;510~540を含むミラーセグメント配列160,260,280,310,410,500として形成される、ことを特徴とする投影対物系。掩蔽シャッター配列が更に設けられ、前記ミラーセグメント配列のミラーセグメントの間に残る少なくとも1つのミラーセグメント中間空間が、該掩蔽シャッター配列の遮光部に少なくとも部分的に配置されることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の投影対物系。投影露光装置の作動において照明される物体平面を像平面に結像するためのEUVに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系であって、複数の別々のミラーセグメント161~163;261~266,281~284;311,312;411,412;510~540;610~650を含む少なくとも1つのミラーセグメント配列160,260,280,310,410,500,600と、前記ミラーセグメント配列のミラーセグメントの間に残る少なくとも1つのミラーセグメント中間空間が、掩蔽シャッター配列710,720,910,920,930,940の遮光部に少なくとも部分的に配置される掩蔽シャッター配列710,720,910,920,930,940と、を含むことを特徴とする投影対物系。前記ミラーセグメント配列のミラーセグメントの間に残る前記少なくとも1つのミラーセグメント中間空間は、回転対称、特に、環状幾何学形状のものであることを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の投影対物系。前記掩蔽シャッター配列は、回転対称、特に、環状幾何学形状のものであることを特徴とする請求項11から請求項13のいずれか1項に記載の投影対物系。前記掩蔽シャッター配列710,720,910,920,930,940は、として定義されるパラメータPMが、少なくとも0.8、特に、少なくとも0.9であり、DSAが、部分開口直径を表し、DCRが、当該平面内の光学面M上の光学的使用視野の全ての視野点にわたって定められる最大主光線間隔を表す投影対物系の平面に配置されることを特徴とする請求項11から請求項14のいずれか1項に記載の投影対物系。前記掩蔽シャッター配列710,720,910,920,930,940は、nがゼロよりも大きい自然数である場合に、光学系軸線に関してn重対称性、特に、4重対称性のものであることを特徴とする請求項11から請求項15のいずれか1項に記載の投影対物系。投影露光装置の作動において照明される物体平面OPを像平面IPに結像するためのEUVに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系を製造する方法であって、投影対物系が、複数のミラーを有し、前記ミラーのうちの少なくとも1つが、複数の別々のミラーセグメント161~163;261~266,281~284;311,312;411,412;510~540から構成される、ことを特徴とする方法。前記像平面IP内の同じ点において重ね合わされる少なくとも2つの部分ビームが、前記複数の別々のミラーセグメント161~163;261~266,281~284;311,312;411,412;510~540の異なるミラーセグメントによって反射されたものであることを特徴とする請求項17に記載の方法。複数の別々のミラーセグメントで構成された前記ミラーは、前記像平面側でビーム経路に関して最後のものであることを特徴とする請求項17又は請求項18に記載の方法。複数の別々のミラーセグメントで構成された前記ミラーは、最大の大きさの合計光学的有効面を有するミラーであることを特徴とする請求項17から請求項19のいずれか1項に記載の方法。前記ミラーセグメントのうちの少なくとも2つが、光学的に途切れることなく互いに結合されることを特徴とする請求項17から請求項20のいずれか1項に記載の方法。前記ミラーセグメントのうちの少なくとも2つが、互いに対して有限の間隔で固定されることを特徴とする請求項17から請求項21のいずれか1項に記載の方法。マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系を光学的に調節する方法であって、投影対物系が、調節作動中にリソグラフィ工程のためにそれらの作動位置に向けられた複数のミラーを有し、前記投影対物系は、複数の別々のミラーセグメント161,162,163;261~266,281~284;311,312;411,412;510~540を含む少なくとも1つのミラーセグメント配列160,260,280,310,410,500を有し、調節が、それぞれの調節段階において物体平面OPの像平面IP内への結像に寄与する前記ミラーセグメントに関して互いに異なる少なくとも2つの調節段階においてなされる、ことを特徴とする方法。マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系を光学的に調節するための配列であって、投影対物系が、調節作動中にリソグラフィ工程のためにそれらの作動位置に向けられる複数のミラーを有し、前記投影対物系は、複数の別々のミラーセグメント161,162,163;261~266,281~284;311,312;411,412;510~540を含む少なくとも1つのミラーセグメント配列160,260,280,310,410,500を有し、配列が、前記ミラーセグメント配列160,260,280,310,410,500の照明を前記ミラーセグメント161,162,163;261~266,281~284;311,312;411,412;510~540のうちの1つ又はそれよりも多くに選択的に制限することができる少なくとも1つの可変シャッター配列315,316,317,415を有する、ことを特徴とする配列。本発明の目的は、より高い開口数の実施を可能にし、同時に上述の生産工学の問題を少なくとも実質的に回避するマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系を提供することである。上述の目的は、独立請求項1に記載の特徴によって得られる。EUVに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の作動中に照明される物体平面を像平面に結像するための投影露光装置の本発明による投影対物系は、複数の別々のミラーセグメントを含む少なくとも1つのミラーセグメント配列を有し、同じミラーセグメント配列のミラーセグメントには、互いに異なり、物体平面の像平面内への結像をそれぞれ可能にする部分ビーム経路が関連付けられ、これらの部分ビーム経路は、像平面内で重ね合わされ、像平面内の同じ点において重ね合わされる少なくとも2つの部分ビームは、同じミラーセグメント配列の異なるミラーセグメントによって反射されたものである。この点に関して、本発明によるミラーセグメント配列内で隣接するミラーセグメントは、互いに光学的に途切れることなく組み立てることができ、又は生産工程によって調節することができ、又はミラーセグメント配列の調節の目的で特定的にターゲットを定めて提供することができるかのいずれかである互いに対する有限の間隔にあるとすることができる。本発明よると、像平面内で重ね合わされ、物体平面又はマスクの像平面又はウェーハ平面内への結像にそれぞれ関わり、その像が像平面内で重ね合わされる部分ビーム経路を本明細書ではこれ以降同時部分ビーム経路とも呼ぶ。本発明は、特に、投影対物系の結像ビーム経路内の少なくとも1つのミラーをセグメント別方式に実施し、すなわち、一体的なミラーを複数の別々のミラーセグメントを含むミラーセグメント配列で置換するという概念に基づいている。更に、像平面内の同じ点に重ね合わされる少なくとも2つの部分ビームは、同じミラーセグメント配列の異なるミラーセグメントによって反射されたものである。従って、本発明により、ミラーセグメント配列の異なるミラーセグメントによって反射されて像平面内のこの点に重なるビームが像平面内の1つの同じ点に到達する。言い換えれば、1つの物体視野は、同じミラーセグメント配列の異なるミラーセグメントの寄与又は協働によって1つの像視野内に投影される。従って、本発明は、例えば、異なる物体視野互いから空間的に分離されたが、別々の光路ビーム誘導構成要素として異なるミラーを含むを通じて異なる像視野に割り当てられ、物体視野内の1つの同じ点が、1つだけのミラーによって反射されたビームだけによって照射されるという意味で異なる光学群を有する光学系の従来技術の概念とは異なる。そのような概念とは対照的に、本発明は、大きく高い開口数を提供することを可能にする。少なくとも1つのミラーの上述のセグメント別の構造、すなわち、別々のミラーセグメントを有するミラーセグメント配列による少なくとも1つのミラーの置換は、一方で本発明によるミラーセグメント配列に関して処理される最大直径を対応する非セグメント分割ミラーの最大直径よりも実質的に小さくすることができる限り例えば、僅か70又はそれ未満程度に、生産工学の観点から実質的な利点を有する。その結果、一部の状況下では、ここで全く初めて製造が技術的に可能になるか、又は新しく大きい生産機械への更に別の資本投資を回避することができる。一方、個々のミラーセグメントを薄くすることができるので、処理すべき構成要素は、対応する非セグメント分割ミラーと比較して実質的に少ない質量のものであり全体的に、単なる例として25又はそれ未満程度である。合計質量の低減の結果として、ミラーセグメント又はミラーセグメント配列の自量に起因するこれらのミラーセグメント又はミラーセグメント配列の重力誘発の変形を低減することができる。本発明の開示はまた、EUVに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の作動において照明される物体平面を像平面に結像するための投影露光装置の本発明による投影対物系に関し、それは、複数の別々のミラーセグメントを含む少なくとも1つのミラーセグメント配列を有し、同じミラーセグメント配列のミラーセグメントには、互いに異なり、物体平面の像平面内への結像をそれぞれ可能にする部分ビーム経路が関連付けられ、これらの部分ビーム経路は、像平面内で重ね合わされる。実施形態において、少なくとも1つのミラーセグメント配列は、像平面側でビーム経路に関して最後のものである、投影対物系の反射配列である。実施形態において、少なくとも1つのミラーセグメント配列は、最大の大きさの合計光学的有効面すなわち、合計反射面を有する投影対物系の反射配列である。実施形態において、少なくとも1つのミラーセグメント配列は、少なくとも3つのミラーセグメント、特に少なくとも4つのミラーセグメントを有する。実施形態において、同じミラーセグメント配列のミラーセグメントは、それぞれ、隣接するミラーセグメントの間に任意的に存在する移行領域によってのみ中断される連続反射面を互いに形成する。実施形態において、各々が少なくとも2つの別々のミラーセグメントを有する少なくとも2つのミラーセグメント配列が設けられ、同じミラーセグメント配列のミラーセグメントには、互いに異なり、物体平面の像平面内への結像をそれぞれもたらし、像平面内で重ね合わされるビーム経路が関連付けられる。実施形態において、1つのミラーセグメント配列のミラーセグメントのうちのそれぞれの1つは、他のミラーセグメント配列のミラーセグメントのうちの1つに対して同じ部分ビーム経路との対毎の関係で関連付けられる。実施形態において、少なくとも1つのミラーセグメント配列の照明をこのミラーセグメント配列の異なるミラーセグメントに選択的に制限することができるように設計されたシャッター配列が更に設けられる。本発明はまた、EUVに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の作動において照明される物体平面を像平面に結像するための投影露光装置の投影対物系に関し、投影対物系は、複数のミラーを含み、これらの複数のミラーのうちで最大の大きさを有するミラーは、複数の別々のミラーセグメントを含むミラーセグメント配列として形成される。下記で更に解説するように、最も大きいミラー特に像平面側で最後のミラーとすることができるのセグメント式構成は、このミラーが像側の開口数NAに特に関連しているので特に有利である。本発明の更に別の態様において、個々のミラーセグメントの間に中間空間が発生し、結像特性に影響を及ぼすという事実を考慮する。この問題は、特にビーム経路内の最後のミラーに関連して発生する場合があり、より具体的には、このミラーが、像平面側でテレセントリックであるビーム経路によって正確に瞳平面に存在せず、その結果、誘発される結像誤差が視野依存成分を有する場合に発生する可能性がある。ここで、本発明は、系の瞳平面に適切な掩蔽シャッター配列を配置することにより、厳密に又は少なくとも部分的に上述のミラーセグメント中間空間が掩蔽シャッターの遮光部内に収まるような、又は瞳平面から外れた掩蔽の遮光部が厳密に又は少なくとも部分的にミラーセグメント中間空間を覆うような掩蔽効果を提供することが可能になるという概念に関わる。言い換えれば、本発明により、ミラーセグメント中間空間が、掩蔽シャッター配列の遮光部がちょうど対応する領域上に生成される限り、結像特性に対する外乱的影響を伴わないままに留まるということが利用される。言い換えれば、ミラーセグメント配列上への掩蔽シャッターの遮光投影は、ミラーセグメント中間空間上を少なくとも部分的に覆う。従って、掩蔽シャッターがない場合にミラーセグメント中間空間上に入射することになる光は、掩蔽シャッターによって遮蔽される/絞られる。以上の背景を念頭に、実施形態により、投影対物系の瞳平面に掩蔽シャッターが設けられ、掩蔽シャッターは、ミラーセグメント配列上の掩蔽シャッターの遮光投影がミラーセグメント中間空間上を覆うように設計される。更に、有利な実施形態において、少なくとも1つのミラーセグメント配列は、ミラーセグメントの間のミラーセグメント中間空間が、少なくとも領域毎に環状形状又は環セグメント形状のものである幾何学形状のものであるように又は個々のミラーセグメントの間にそのような仕切りを有するように設計される。ミラーセグメント中間空間におけるそのような環状幾何学形状は、掩蔽に起因して方向性依存の結像効果が発生しないという更に別の利点を有する。それとは対照的に光伝播方向又は光学系軸に関して異なる方位角で配置され、半径方向に延びるミラーセグメント中間空間は、ある一定の回折次数がミラーセグメント中間空間の領域内に通過し、他の回折次数がミラーセグメント中間空間上に進まず、従って、互いに異なる向きを有する構造が異なる結像特性を示すという効果を有する。しかし、上述の概念は、環形態又は環セグメント形状にあるミラーセグメント中間空間に限定されず、従って、ミラーセグメント中間空間が掩蔽シャッターの遮光部内に収まる他の幾何学形状も含まれる。掩蔽シャッター配列は、結像特性に対して可能な限り弱い又は僅かな外乱しかもたらさない影響を有するものであるので、好ましくは、回転対称性を有するしかし、本発明は、これに限定されない。結像特性に対する掩蔽シャッター配列の影響は、掩蔽シャッター配列が環状幾何学形状のものである時に最も弱く、これは、この場合、結像される各構造又は各回折次数が、その向きとは無関係に同じ掩蔽効果を受けるからである。更に別の実施形態において、掩蔽シャッター配列は、ある一定の構造又は回折次数において同じ掩蔽が得られるように、光学系軸に関してn重対称性特に4重対称性を有するように設計することができる。更に別の態様において、本発明はまた、EUVに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の作動において照明される物体平面を像平面に結像するための投影露光装置の投影対物系を製造する方法に関し、投影対物系は、複数のミラーを有し、ミラーのうちの少なくとも1つは、複数の別々のミラーセグメントから構成される。実施形態により、複数の別々のミラーセグメントの上述のミラーの構成は、像平面内の同じ点に重ね合わされる少なくとも2つの部分ビームが、これらの複数の別々のミラーセグメントのうちの異なるミラーセグメントによって反射されたものであるように作られる。実施形態により、複数の別々のミラーセグメントから構成される上述のミラーは、像平面側でビーム経路に関して最後のものである。実施形態により、複数の別々のミラーセグメントから構成される上述のミラーは、最大サイズの合計光学的有効面を有するミラーである。実施形態により、これらのミラーセグメントのうちの少なくとも2つは、互いに光学的に途切れることなく結合することができる例えば、割り込みにより。更に、これらのミラーセグメントのうちの少なくとも2つは、互いに対して有限の間隔で固定することもできる。更に別の態様において、本発明はまた、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系を光学的に調節する方法に関し、投影対物系は、調節作動中にリソグラフィ工程のための作動位置に向けられる複数のミラーを有し、投影対物系は、複数の別々のミラーセグメントを含む少なくとも1つのミラーセグメント配列を有し、調節は、それぞれの調節段階において物体平面の像平面内への結像に寄与するミラーセグメントに関して互いに異なる少なくとも2つの調節段階で達成される。本発明は、更に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系を光学的に調節するための配列に関し、投影対物系は、調節作動中にリソグラフィ工程のための作動位置に向けられる複数のミラーを有し、投影対物系は、複数の別々のミラーセグメントを含む少なくとも1つのミラーセグメント配列を有し、配列は、ミラーセグメント配列の照明をミラーセグメントのうちの1つ又はそれよりも多くに選択的に制限することができる少なくとも1つの可変シャッター配列を有する。本発明の更に別の構成は、本明細書及び添付の特許請求の範囲に見出されるものとする。以下では本発明を一例として添付図面に示す実施形態を用いてより詳細に説明する。図1は、ミラーが、別々のミラーセグメントを含むミラーセグメント配列によって置換された投影対物系100の構造の概略図を示している。この投影対物系の基本構造本発明によるセグメント分割のないは、US7538856B2から公知であり、従って、本出願の請求主題に属さない。投影対物系100内では、EUV放射線は、照明系図示せずから結像される構造を有するマスクレチクルR上にマスクRのうちで照明される領域を定義するスロットSを通じて入射する。投影対物系100は、複数のミラー図示の実施形態では6つのミラー110~160を有し、像平面側でビーム経路に関して最後のものである、図1には概略的にしか示していないミラー160は、別々のミラーセグメント161、162、及び163を含むミラーセグメント配列の形態にある。像平面側で最後のものである同時に最も大きいミラーのセグメント式構成は、このミラーが像側の開口数NAに特に関連している限り特に有利である。しかし、本発明は、上述のセグメント式構成に限定されず、従って、像平面側で最後のものであるミラーの代わりに、投影対物系100の別のミラーを別々のセグメントに再分割することができる。更に別の実施形態において、以下に図2を参照して説明するように、複数のミラーすなわち、2つ又はそれよりも多くのミラーを別々のセグメントに再分割することができる。更に、3つのミラーセグメントという図1で選択した個数は、単に例示的なものであり、より多い又はより少ないミラーセグメントすなわち、2つのみへのセグメント分割を行うことができることは認められるであろう。投影対物系100は、像平面側でテレセントリックであるが、照明系から入射する光との干渉現象を回避するために、物体平面側すなわち、マスクRの側では非テレセントリックである。この図では概略的にしか示していない測定配列170は、以下でより詳細に説明するように、同時発生の部分ビーム経路又はその重ね合わせの測定のためなどに機能する。図2は、セグメント分割特性を有する2つのミラーが存在する本発明の更に別の実施形態による投影対物系200の構造を例示する概略図を示している。この投影対物系の基本構造本発明によるセグメント分割のないは、WO2009/052932A1から公知であり、従って、本出願の請求主題に属さない。投影対物系200は、6つの非セグメント分割ミラー210~250及び270と2つのミラーセグメント配列260、280とを有し、これらのミラーセグメント配列のうちで、ビーム経路に関して最後のものであるミラーセグメント配列280は、4つのミラーセグメント281~284に再分割され、それに対して光伝播方向に最後から第3の位置にあるミラーセグメント配列260は、6つのミラーセグメント261~266に再分割される。更に、像平面側にビーム経路に関して最後の3つの位置に配置されたミラーセグメント配列260及び280、並びにミラー270は、それぞれ掩蔽され、光軸OAの位置に入射する光に対する貫通開口部を有する。ビーム経路に関して最後から4番目の位置に配置されたミラー250は掩蔽されず、その外側周縁によって投影対物系の瞳平面PP内に定義される遮光部を生成する。ビーム経路に関して最後のものであるミラーセグメント配列280と像平面IPの間には、中間像IMIが存在する。図2の投影対物系200では、ミラーセグメント配列260のミラーセグメント261~266のうちのそれぞれの1つは、他方のミラーセグメント配列280のミラーセグメント281~284のうちの1つと共に、同じ部分ビーム経路と対毎の関係で関連付けられる。図2では、そのようなミラーセグメント対すなわち、ミラーセグメント261と284とを含むものと対応する部分ビーム経路部分との両方を矢印で強調している。これらのセグメント対の全ての合計は、1組の同時部分ビーム経路を定義する。図2に略示し、参照名290で表し、以下で説明する測定配列は、一方で各部分ビーム経路がそれ自体で無収差であり、他方でこれらの部分ビーム経路によってそれぞれ生成される像が、ウェーハ平面内でそれぞれの像構造幅に従って重なることを保証するように機能する。投影対物系を調節するために、ミラーセグメント配列のミラーセグメントは、互いと系全体としての両方に対してアクチュエータを用いて方向付けられる。それに応じて、本発明は、測定配列との組合せ及びミラーセグメントの調節を可能にするアクチュエータ系にも関する。本発明による測定配列は、系の組み立て又は初期調節中に既に使用することができ、それと共に投影露光装置の既存作動中又はスキャナにおいて使用することもできる。基本的に適切な配列は、能動ミラーの測定のためのかすめ入射干渉計を開示するWO2007/062808A1に説明されている。本発明によるミラーセグメント配列の測定において、この干渉計を類似の方式に使用することができる。更に、ミラー全体の向きを検査するために、US2008/0144043A1に開示されている系波面干渉計を使用することができる。この干渉計を使用する時には、投影対物系の収差がミラーの位置又は向きによる影響を受け、更に系波面干渉計を用いてこれらの収差変化を検出することができるという事実が使用される。同時部分ビーム経路上述の定義によるは、1つしかミラーセグメント配列が存在しない場合に既に存在し、この場合、これらの部分ビーム経路の重ね合わせは、これらの部分ビーム経路によって像平面にそれぞれ生成されて互いに重ね合わされた関係にある像が、投影対物系によって得られる分解能に関して等しく、可能な限り正確に一致するように厳密でなければならない。それに応じて、測定配列においては、一方で、全ての同時発生ビーム経路に関する光学歪曲効果がある一定の許容範囲限度内で等しいことを確実にすべきであり、他方で、それぞれの像を分解能限度の範囲で可能な限り正確に重ね合わすべきであるという2つの課題が存在する。同時部分ビーム経路及びその重ね合わせのための測定配列の基本的に可能な実施形態を以下で図3a~図3c及び図4を参照して説明する。図3a~図3c及び図4に限って示す光学投影系300及び400は、それぞれ、上述の実施形態と同様に、少なくとも1つのミラーセグメント配列310及び410それぞれを含み、簡略化の目的で、それぞれ1つの更に別の非セグメント分割ミラー320及び420しか示していない。図4の測定配列は、光伝播方向に投影対物系400概略的にしか示していないの下流に配置された少なくとも1つの検出器455を有する。更に、測定配列は、光伝播方向に投影対物系400の上流に、物体平面内で定義された特性を有する放射線を生成する測定光源401を有する。同時部分ビーム経路及びその重ね合わせのための測定配列は、特に以下の作業を実施することになる:a点光源を結像する時に部分ビーム経路によって生成される波面時に系波面とも呼ぶの収差を測定する段階。点光源は、物体平面OP内の様々な場所、好ましくは、いわゆるスキャナスロットの領域に配置することができる。これらの収差を測定するのに適する配列及び方法は、例えば、US2008/0144043A1又はUS7333216B2から公知である。b部分ビーム経路により、特にスキャナスロットの領域内に生成される像の歪曲を測定する段階。当業技術では、歪曲測定に適するのに適する配列及び方法は、同じく例えばUS7019824B2から公知である。c少なくとも2つの部分ビーム経路によって像平面IP又はウェーハ平面、特にスキャナスロットSの領域内に生成される像の重ね合わせを測定する段階。更に、測定配列は、光の所定の立体角領域を選択するための選択的作動シャッター配列415を有し、それによって少なくとも1つのミラーセグメント配列の照明をミラーセグメントのうちの異なるものに選択的に制限することが可能になる。図3a~図3cに略示す光伝播方向に関して、そのようなシャッター配列は、物体平面OPに配置されたマスクRの直ぐ下流図3aの参照名315を参照されたい、2つのミラー又はミラーセグメント配列310と320との間図3bの参照名316を参照されたい、又は光伝播方向に検出器配列の直ぐ上流図3cの参照名317のいずれかに配置することができる。この点に関して、シャッター配列を用いた部分ビーム経路の選択において、全ての個別開口部を共通のシャッター平面に配置し、変位可能シャッターによってこれらの開口部うちのそれぞれの1つを選択することが有利である。シャッター配列内の開口部は、位置及びサイズに関して、測定光源301及び401それぞれによってそれぞれのミラー対に沿って生成される部分ビーム経路によって決定される。従って、各部分ビーム経路に対して、それぞれの位置、形状、及びサイズを有する関係するシャッター開口部が存在する。本発明による測定配列は、特に、像平面に生成される全体像に対する個別部分ビーム経路のそれぞれの寄与を別々に又はターゲットを定めて選択可能な組合せで検査することができることを可能にする。a及びbに記載の上述の作業を実施するための既に言及した方法は、従来技術から公知である。従って、部分ビーム経路の選択のための上述のシャッター配列との組合せにより、各部分ビーム経路における収差及び歪曲を測定することができる。cに記載の作業、すなわち、少なくとも2つの部分ビーム経路によってウェーハ平面に生成される像の重ね合わせを測定する段階の実施は、本発明による選択的作動シャッター配列が、像の重ね合わせのための更に別の測定配列と組み合わされる段階を含む。部分ビーム経路によって生成される像の重ね合わせのための測定配列は、重ね合わせに関する情報を提供することができるように、少なくとも1つの面要素を像平面において位置分解方式で評価すべきである。この目的のために、上述のUS7019824B2による歪曲測定のためのモアレ原理に基づく装置は、図4に略示すように適切に拡大することができる。図4を参照すると、物体平面OPに配置された第1のパターン402は、像平面IPに配置された第2のパターン435上に結像され、重ね合わせによってモアレパターンを形成し、次に、このモアレパターンは、その後の光学結像系445によって結像され、位置分解カメラ455によって記録することができる。上述の実施形態と同様に、図4に限って示す光学投影系400は、少なくとも1つのミラーセグメント配列410を含み、簡略化のために、1つの更に別の非セグメント分割ミラー420しか示していない。第1のパターン402及び第2のパターン435は、可能な最低限の測定段階数で異なる空間方向の情報を取得するために、特に寄せ木細工様の方式に実施することができる。重ね合わせによって形成されるモアレパターンの評価は、光学的に生成される像と第2のパターンとの間の差、特に像位置の変化に対応する歪曲を認識することを可能にする。段階的な手順で像を構成するために、1つ又はそれよりも多くの部分ビーム経路を用いて光学結像を系統的に行うことができ、この点に関して、異なる部分ビーム経路の効果を互いに比較することができ、その協働性を検査することができる。上述の測定配列を用いて部分ビーム経路を互いに対して方向付けて、これらの経路を調節する可能な方法は、以下の通りに実施することができる。最初にシャッター配列415を用いて第1の部分ビーム経路が選択され、物体平面OPに配置された第1のマスク402の像と、像平面に配置された第2のマスク403との重ね合わせが、この第1の部分ビーム経路に対して観察され、この時マスク402、403は、互いに対して方向付けられる。この場合に生成される第1のモアレパターンから第1の部分ビーム経路における歪曲を推測することができる。次に、マスク位置を変更せずに、シャッター配列415を用いて第2の部分ビーム経路が選択され、第2の部分ビーム経路は、第2のモアレパターンを生成し、第1の部分ビーム経路からのこの第2の部分ビーム経路の逸脱は、第2のモアレパターンと第1のモアレパターンの間の差をもたらす。2つのモアレパターンの間の逸脱から、第1の部分ビーム経路からの第2の部分ビーム経路の光学特性逸脱を推測することができる。更に、上述の情報を使用すると、第2の部分ビーム経路を第1の部分ビーム経路に対して像の位置及び歪曲に関して適切なマニピュレータ系を用いて最適化することができる。この段階は、結果として全ての部分ビーム経路が互いに対して方向付けられるように、全ての部分ビーム経路に対して繰り返される。更に別の実施形態により、シャッター配列415の位置は、1つよりも多い部分ビーム経路が結像に同時に寄与するように変更することができる。この場合、個別の部分像は、像平面内で非コヒーレントに重ね合わされ、同じく説明する通りに評価することができる複数の部分像が形成される。この組合せは、全ての部分ビーム経路の開口部が、結果として全体としての投影対物系が全てのミラーセグメント配列で調節されるように発生するまで同時に実施することができる。図5は、本発明の更に別の実施形態を例示する概略図を示している。この目的のために、図5は、一例として、瞳の近くにあり、かつビームが通過するためのミラー開口部又はミラー孔を有する比較的大きい回転対称ミラーのセグメント分割を示している。射出瞳は中心で掩蔽される。ミラーセグメント配列500は、最初は上述の実施形態と類似の方式でミラーのセグメント分割によって与えられる。この場合、ミラーセグメント配列500におけるセグメント分割は、それぞれ設定される照明設定に依存して行われる。言い換えれば、適切なセグメント分割を選択する前に、使用される照明設定が最初に確立される。個々のミラーセグメントの間の移行領域又は切れ目は、この場合、回折次数がこれらの移行領域上に入射しないように選択される。図5の特定の例では、照明設定は、y軸に対してそれぞれ45°だけ回転された4つの照明極501~504を有し、それぞれの回折次数を水平及び垂直に向けられた密な線それぞれで例示している。この照明設定に関連して、図5に示すように、図示の座標系におけるy軸に対して45°だけ回転された対応する4つのセグメント内にそれぞれ配置された4つのミラーセグメント510~540へのミラーセグメント配列500のセグメント分割又は分割が使用される。図5の配列は、一方で視野一定の低次数瞳誤差、例えば、非点収差及びコマ収差を補償することを可能にする。この配列における更に別の利点は、ミラーセグメント510~540のうちで同じ構造の回折像に寄与するものを互いに対して調節することのみが必要であるということである。水平及び垂直の密な線の特定的な実施形態において、2つのそれぞれのミラーセグメント対のみが互いに対して調節されることになり、より具体的には一方でミラーセグメント520と540とが互いに対して調節され、他方でミラーセグメント510と530とが互いに対して調節されることになる。それとは対照的に、例えば、ミラーセグメント530又はミラーセグメント510に対するミラーセグメント520の相対配列は重要ではない。それによって全表面積にわたって使用される適応可能ミラーと比較すると、半数のパラメータしか共同制御しなくてもよいので、調節に対する要求が大きく軽減する。更に、原理的に、投影露光装置の設計に関して、光学面を提供し、かつ機械的な安定性をもたらす機能を異なる構成要素ミラーセグメント及び担体構造に分散させることができるという利点がある。図6は、ミラーセグメントの間のミラーセグメント中間空間が、少なくとも領域毎に環形状又は環セグメント形状である幾何学形状のものであるように又は個々のミラーセグメントの間にそのような仕切りを有するように設計されたミラーセグメント配列600の実施形態を示している。図6に略示するミラーセグメント配列600は、生産工学に関する態様に関して適切に選択することができるサイズを有する主ミラーとして中心ミラーセグメント610を含み、従って、主ミラー610は、比較的問題なく製造することができる。更に、図示の実施形態にある本発明がこの実施形態に限定されることなくミラーセグメント配列600は、主ミラーを形成する中心ミラーセグメント610の回りに、中心ミラーセグメント610に対してある一定の半径方向間隔で配置されるように実質的に半径方向に延びるセグメント中間空間を有するリングセグメントの形態にある2次ミラーとして4つのミラーセグメント620、630、640、及び650を有する。この半径方向間隔は、例えば、ホルダ要素、センサ手段、及び/又はアクチュエータ手段に向けて使用することができる。更に、ミラーセグメント620、630、640、及び650は、互いに対してすなわち、図示の座標系においてz方向に延びる光学系軸に関して方位角方向に可能な最小間隔であり、従って、方位角方向には取り立てて説明する程の構造的空間を必要としない。その結果、方位角ミラーセグメント中間空間の存在に関連する上述の影響、すなわち、異なる向きにある等しい構造が異なる結像特性を有するという影響は、少なくとも実質的に回避される。図7a及び図7bは、本発明により好ましくは瞳平面又はその近く以下に図9を参照して定義するに配置されたそれぞれの掩蔽シャッター配列710及び720の例を例示する概略図を示している。この点に関して、図7aの掩蔽シャッター配列710は、中心瞳掩蔽を持たない光学系に向けて定義され、図7bの掩蔽シャッター配列720は、中心瞳掩蔽を有する光学系に向けて設計される。掩蔽シャッター配列710及び720によってそれぞれ遮光される領域をそれぞれ710a、720a、及び720bに示している。掩蔽シャッター配列710及び720は、以下に説明するように、各場合にシャッター配列710及び720がミラーセグメント配列600上に投射する遮光部が、半径方向に延びるミラーセグメント中間空間の上を覆うように設計される。従って、それぞれの掩蔽シャッター配列710及び720のねらい及び目的は、結像特性における視野依存の影響又は視野依存の変化が回避されるように、掩蔽シャッター配列710及び720がない場合に主ミラー610と2次ミラー620~650の間の環状間隙A内に入射することになる光を予め遮断することである。図8は、レチクルRの構造をウェーハW上に結像するために合計で8つのミラー810~880を有し、像平面側でビーム経路に関して最後のものであるミラー880を別々のミラーセグメントを含むミラーセグメント配列の形態にあるとすることができ、NA=0.6の開口数を有し、EUV放射線に向けて設計された投影対物系800の実施形態を示している。ビーム経路内で第2のミラー820は、瞳近接ミラーを形成する。瞳近接性及び同じく視野近接性の基準の定義のために図9を参照されたい。図9を参照して、瞳近接性又は視野近接性は、それぞれ、パラメータPMを用いて定量的に説明することができ例えば、US2008/0165415A1に説明されているように、この場合、パラメータPMは次式で定義される1。ここで、DSAは、当該平面内の光学面M上の部分開口直径を表し、DCRは、最大主光線間隔光学的使用視野の全ての視野点からの又は全ての視野点にわたって定義されるを表している。従って、視野ミラーには、PM=0が適用され部分開口直径は0、瞳ミラーには、PM=1が適用される主光線間隔は0。上述のミラー820は、掩蔽シャッター配列と同様に、好ましくは、パラメータPMが少なくとも0.8、特に少なくとも0.9である投影対物系の平面に配置される。掩蔽シャッター配列890図8には示していないも、上述の定義による瞳近接に配置される。図10aに示す掩蔽シャッター配列890は、環形掩蔽シャッター891と中心掩蔽シャッター892とを有する。図10bは、像平面側の最後のミラー880の場所にある掩蔽シャッター配列890の作用からもたらされるそれぞれの遮光領域を示しており、参照名891は、環形掩蔽シャッター891の遮光部を表し、参照名892aは、中心掩蔽シャッター892の遮光部を表している。図11は、掩蔽シャッター配列910、920、930、及び940の更に別の可能な実施形態を略示している。これらの掩蔽シャッター配列910~940に共通なことは、各々が4重対称性を含むことである。図11a及び図11bを参照すると、掩蔽シャッター配列910及び920を形成するのに適する掩蔽シャッター911~914及び921~924は、それぞれ、外周方向又は方位角方向に図示の座標系におけるz方向に延びる光学系軸に関して、より具体的にはそれぞれの中心軸又は対称軸に関してy軸に対して45°、135°、225°、及び315°それぞれの角度で配置される。この場合、掩蔽シャッター911~914の幾何学形状は、非遮光領域の十字形の幾何学形状が与えられるように選択され、それに対して掩蔽シャッター921~924の幾何学形状は、非遮光領域の星形の幾何学形状が与えられるように選択される。ミラーセグメント中間空間を掩蔽シャッターの遮光部内に収めるという本発明による概念は、図11に図示の実施形態によって実施することができることに注意されたい。しかし、この場合、環又は環セグメントの形状にあるミラーセグメント中間空間を有する上述の有利な構成は、これらの実施形態において照明設定の限られた選択しか許されないように与えられるわけではないことに注意されたい。図11c及び図11dを参照すると、掩蔽シャッター配列930及び940を提供するのに適する掩蔽シャッター931~934及び941~944は、それぞれ、外周方向又は方位角方向に図示の座標系におけるz方向に延びる光軸に関して、より具体的にはそれぞれの中心軸又は対称軸に関してy軸に対して0°、90°、180°、及び270°それぞれの角度で配置される。この場合、図11cの掩蔽シャッター931~934の幾何学形状は、図11aと同じく非遮光領域の十字形の幾何学形状が与えられるように選択され、それに対して図11dの掩蔽シャッター941~944の幾何学形状は、非遮光領域の星形の幾何学形状を含むように選択される。本発明を特定的な実施形態を参照して説明したが、当業者には、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び/又は交換によって多くの変形及び別の実施形態が明らかであろう。従って、当業者により、そのような変形及び別の実施形態が同じく本発明によって包含され、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲及びその均等物の意味においてのみ限定されることが認められるであろう。"