"表面に周期的に配列する格子状凹凸形状を有すると共に、少なくとも700cm2の面積を有し、前記格子状凹凸形状は、第一微細凹凸パタン部と、第二微細凹凸パタン部と、第一微細凹凸パタン部と第二微細凹凸パタン部との間のパタン接合部とを含み、凸部のピッチが300nm以下であり、凸部の高さが1000nm以下であることを特徴とする微細凹凸パタン基材。前記パタン接合部の50以上の領域で前記第一微細凹凸パタン部と前記第二微細凹凸パタン部との間のパタン段差が1000nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の微細凹凸パタン基材。表面張力の分散力成分が異なる少なくとも2つの成分を含有し、表面張力の分散力成分の最も大きな成分と、表面張力の分散力成分の最も小さな成分と、の間の表面張力の差分が1.4mN/m以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の微細凹凸パタン基材。表面張力の双極子成分が異なる少なくとも2つの成分を含有し、表面張力の双極子成分の最も大きな成分と、表面張力の双極子成分の最も小さな成分と、の間の表面張力の差分が2mN/m以下であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の微細凹凸パタン基材。下記一般式1又は下記一般式2に示すアクリルモノマーの重合物を含有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の微細凹凸パタン基材。式1及び式2中、Rは、極性基を有する炭素数1~炭素数5の官能基である。極性基は、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基、アミノ基、ニトロ基、及びカルボキシレート基からなる群から選択された少なくとも1つの官能基である。請求項1から請求項5のいずれかに記載の微細凹凸パタン基材を元型として、反転形状パタンを転写することによって得られたことを特徴とする金型。請求項1から請求項5のいずれかに記載の微細凹凸パタン基材を元型として、反転形状パタンを転写することによって得られたことを特徴とする微細凹凸パタン付与基材。表面に周期的に配列する格子状凹凸形状を有する少なくとも700cm2の面積を有する微細凹凸パタン基材の製造方法であって、ベース基材上に樹脂組成物を塗布する第一塗布工程と、前記第一塗布工程で塗布した前記樹脂組成物にパタン原版の微細凹凸パタンを転写して第一微細凹凸パタン部を形成する第一転写工程と、前記ベース基材上の前記第一微細凹凸パタン部の一端部を含む領域に樹脂組成物を塗布する第二塗布工程と、前記第二塗布工程で塗布した前記樹脂組成物にパタン原版の微細凹凸パタンを転写して第二微細凹凸パタン部を形成する第二転写工程と、を含み、前記格子状凹凸形状は、凸部のピッチが300nm以下、凸部の高さが1000nm以下であることを特徴とする微細凹凸パタン基材の製造方法。請求項1から請求項5のいずれかに記載の微細凹凸パタン基材と、当該微細凹凸パタン基材上に設けられた金属膜と、を具備することを特徴とするワイヤグリッド偏光板。請求項1から請求項5のいずれかに記載の微細凹凸パタン基材上に金属膜を蒸着又はスパッタリング法で設ける金属膜形成工程を有することを特徴とするワイヤグリッド偏光板の製造方法。本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、微細凹凸パタンのパタン接合部の段差を低減でき、光学特性に優れる微細凹凸パタン基材を提供することを目的とする。本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意努力した結果、複数回の転写によって製造された微細凹凸パタン基材であっても、隣接する微細凹凸パタン部間のパタン接合部の段差を微細凹凸パタン基材の凸部の高さ相当に抑制することにより、パタン接合部の段差が視認されることなく光学特性が良好となることを見出した。本発明の微細凹凸パタン基材は、表面に周期的に配列する格子状凹凸形状を有すると共に、少なくとも700cm2の面積を有し、前記格子状凹凸形状は、第一微細凹凸パタン部と、第二微細凹凸パタン部と、第一微細凹凸パタン部と第二微細凹凸パタン部との間のパタン接合部とを含み、凸部のピッチが300nm以下であり、凸部の高さが1000nm以下であることを特徴とする。本発明の微細凹凸パタン基材においては、前記パタン接合部の50以上の領域で前記第一微細凹凸パタン部と前記第二微細凹凸パタン部との間のパタン段差が1000nm以下であることが好ましい。本発明の微細凹凸パタン基材においては、表面張力の分散力成分が異なる少なくとも2つの成分を含有し、表面張力の分散力成分の最も大きな成分と、表面張力の分散力成分の最も小さな成分と、の間の表面張力の差分が1.4mN/m以下であることが好ましい。本発明の微細凹凸パタン基材においては、表面張力の双極子成分が異なる少なくとも2つの成分を含有し、表面張力の双極子成分の最も大きな成分と、表面張力の双極子成分の最も小さな成分と、の間の表面張力の差分が2mN/m以下であることが好ましい。本発明の微細凹凸パタン基材においては、下記一般式1又は下記一般式2に示すアクリルモノマーの重合物を含有することが好ましい。式1及び式2中、Rは、極性基を有する炭素数1~炭素数5の官能基である。極性基は、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基、アミノ基、ニトロ基、及びカルボキシレート基からなる群から選択された少なくとも1つの官能基である。本発明の金型は、上記微細凹凸パタン基材を元型として、反転形状パタンを転写することによって得られたことを特徴とする。本発明の微細凹凸パタン付与基材は、上記微細凹凸パタン基材を元型として、反転形状パタンを転写することによって得られたことを特徴とする。本発明の微細凹凸パタン基材の製造方法は、表面に周期的に配列する格子状凹凸形状を有する少なくとも700cm2の面積を有する微細凹凸パタン基材の製造方法であって、ベース基材上に樹脂組成物を塗布する第一塗布工程と、前記第一塗布工程で塗布した前記樹脂組成物にパタン原版の微細凹凸パタンを転写して第一微細凹凸パタン部を形成する第一転写工程と、前記ベース基材上の前記第一微細凹凸パタン部の一端部を含む領域に樹脂組成物を塗布する第二塗布工程と、前記第二塗布工程で塗布した前記樹脂組成物にパタン原版の微細凹凸パタンを転写して第二微細凹凸パタン部を形成する第二転写工程と、を含み、前記格子状凹凸形状は、凸部のピッチが300nm以下、凸部の高さが1000nm以下であることを特徴とする。本発明のワイヤグリッド偏光板は、上記微細凹凸パタン基材と、当該微細凹凸パタン基材上に設けられた金属膜と、を具備することを特徴とする。本発明のワイヤグリッド偏光板の製造方法は、上記微細凹凸パタン基材上に金属膜を蒸着又はスパッタリング法で設ける金属膜形成工程を有することを特徴とする。本発明によれば、微細凹凸パタンの接合部分の段差を低減でき、光学特性に優れる微細凹凸パタン基材を提供することができる。以下、本発明の実施の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。本発明に係る微細凹凸パタン基材は、少なくとも700cm2以上の面積を有し、表面に周期的に配列された格子状凹凸形状を有する。微細凹凸パタン基材の格子状凹凸形状は、パタン原版からの2回の転写によって設けられ、1回目の転写領域に設けられる第一微細凹凸パタン部と、第一微細凹凸パタン部に隣接した2回目の転写領域に設けられる第二微細凹凸パタン部と、第一微細凹凸パタン部と第二微細凹凸パタン部との間のパタン接合部とを含む。また、微細凹凸パタン基材の格子状凹凸形状は、凸部のピッチが300nm以下であり、凸部の高さが1000nm以下である。以下、本発明に係る微細凹凸パタン基材の構成について説明する。1微細凹凸パタン基材微細凹凸フィルム本発明に係る微細凹凸パタン基材は、樹脂組成物を硬化することにより得られる。樹脂組成物としては、微細凹凸パタンを忠実に転写できる樹脂組成物、例えば、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系などの紫外線UV硬化性樹脂や熱硬化性樹脂などが挙げられる。紫外線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂などの樹脂組成物は、ガラスなどの無機材料、又は熱可塑性樹脂などのベース基材上に塗布される。微細凹凸パタン基材として用いられる樹脂組成物には、樹脂組成物の表面張力を調整してベース基材の表面張力の値に近づけるために、親水基、極性基を骨格に有するモノマーや添加剤を加える。例えば、アクリル系紫外線硬化樹脂には、親水性を高めるため骨格中に水酸基を有するモノマーを所定量加えるなど、組み合わせは任意で実施することができる。本発明に係る微細凹凸パタン基材微細凹凸フィルムにおいて、格子状凹凸形状は、周期構造を有し、周期のピッチが300nm以下、周期の高さが1000nm以下であれば、特に限定されない。周期構造は、複数の周期からなる構造でも良い。周期構造が、特定方向に延在する凹凸形状であれば、ワイヤグリッド偏光板を作製するための基材として用いることができ、特定方向に延在する凹凸形状であれば、微細凹凸パタンを製造する際に、ベース基材上に塗布した樹脂組成物が凹部に沿って拡散するため、樹脂の流動性がより均一になり、薄くムラ無く塗布することが可能となる。また、特定方向に延在する凹凸形状を接合する際、第一微細凹凸パタン部と、第二微細凹凸パタン部との、それぞれの凹凸形状の延在方向のなす角度を正確に制御できるため、パタン接合精度を高くすることができる。第一微細凹凸パタンと第二微細凹凸パタンの、それぞれの凹凸形状の延在方向を同方向となるよう制御することも可能となり、このように制御することで、より視認しにくい微細凹凸パタンを得ることができる。また、本発明に係る微細凹凸パタン基材については、周期構造が、表面内において2次元方向に配列された凹凸形状を有することにより反射防止機能をもつフィルムとして用いることができる。微細凹凸格子の凸部や凹部の断面形状に制限はなく、例えばこれらの断面形状は台形、矩形、方形、三角形、柱形、錐形、プリズム状や半円状などの正弦波形状等が挙げられる。凸部のピッチが300nm以下であれば、特定方向から見たときの回折光による着色がなく、実用上好適に用いることができる。凸部の高さが1000nm以下であれば複数回の転写によって形成されたパタン接合部が視認しにくくなるため好ましく、500nm以下であればほぼ透明となることからより好ましく、200nm以下であれば完全に視認されなくなるため、最も好ましい。また、本発明に係る微細凹凸パタン基材は、700cm2以上の面積を有する。微細凹凸パタン基材の面積が700cm2以上であればA4サイズ以上のディスプレイなどの光学材料として用いることができるため、実用上有用なものとなる。<微細凹凸パタン基材の製造方法>次に、図1a~d及び図2a~dを参照して本発明に係る微細凹凸パタン基材の製造方法について詳細に説明する。本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材の製造方法は、ベース基材上に樹脂組成物を塗布する第一塗布工程と、第一塗布工程でベース基材上に塗布した樹脂組成物にパタン原版の凹凸パタンを転写して第一微細凹凸パタン部を形成する第一転写工程と、ベース基材上の第一微細凹凸パタン部の一端部を含む領域に樹脂組成物を塗布する第二塗布工程と、第二塗布工程でベース基材上に塗布した樹脂組成物にパタン原版の凹凸パタンを転写して第二微細凹凸パタン部を形成する第二転写工程と、を含む。まず、図1a~dを参照して、第一微細凹凸パタン部の製造工程について説明する。図1a~dは、本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材の製造方法における第一微細凹凸パタン部の製造工程の説明図である。図1aに示すように、本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材は、ベース基材101上に設けられる。ベース基材101は、第一微細凹凸パタン部111図2d参照が設けられる領域a1と、第二微細凹凸パタン部112図2d参照が設けられる領域a3と、を有する。また、ベース基材101は、領域a1と領域a3との間に第一微細凹凸パタン部111と第二微細凹凸パタン部112とのパタン接合部113図2d参照が設けられる領域a2を有する。まず、図1aに示すように、第一塗布工程では、ベース基材101表面の領域a1に樹脂組成物102を塗布し、バーコータ301によって、ベース基材101の一端側に向けてベース基材101表面上に樹脂組成物102を引き伸ばす。その結果、図1bに示すように、ベース基材101の領域a1においては、樹脂組成物102の厚さが均一となり、樹脂組成物102の塗工端領域a1の端部から領域a2においては、樹脂組成物102が自重によって拡散して厚さが不均一となる。次に、図1cに示すように、第1転写工程では、表面に微細凹凸パタンが形成された原版201の微細凹凸パタン形成面側に、ベース基材101上の樹脂組成物102の領域a1と領域a2とを付着させる。次に、図1dに示すように、加熱やベース基材101側からの光照射により樹脂組成物102を硬化して第一微細凹凸パタン部111を形成する。第一塗布工程では、ベース基材101に対して濡れ性、接着性、及び微細凹凸パタンの転写性がよい樹脂組成物102を用い、ベース基材101上に未硬化の樹脂組成物102を均一かつできるだけ薄く塗ることが重要である。また、樹脂組成物102は、硬化後の領域a1の樹脂組成物102の厚みが5μm以下図1のh1参照となるように塗布する。例えば、ディスペンサを用いて直線状に定量塗布した樹脂組成物102を2規格のバーコータ301等によって均一に塗布することができる。また、第一塗布工程においては、領域a2では、ベース基材101上に塗布された樹脂組成物102が自重によって拡散し、樹脂組成物102の塗工端からベース基材101の他端側に向けて樹脂組成物102の厚さが減少する。このため、後述するようにベース基材101の表面張力と、樹脂組成物の表面張力とを適切な範囲とすることにより、ベース基材101上に塗布された樹脂組成物102拡散を制御できるので、第一微細凹凸パタン部と第二微細凹凸パタン部との間のパタン段差を低減することが可能となる。このように、本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材の製造方法においては、第一微細凹凸パタン部と第二微細パタン部との間のパタン段差を低減することが可能となるので、光学特性に優れ、大面積の微細凹凸パタン基材を得ることが可能となる。第一転写工程では、図1cに示すようにパタン原版201を下部に配置してベース基材101を上部から原版201に接することで、領域a2の樹脂組成物102がさらに基材と樹脂自身の自重により拡散する。そして、その後の加熱又は光照射により樹脂組成物102は、硬化層を形成する。この際、領域a1の樹脂組成物102の硬化層と領域a2の樹脂組成物との間の境界部は視認されない。また硬化後の領域a2の端部における樹脂組成物の厚みh2は1000nm以下にすることができる。次に、図2a~図2dを参照して、第二微細凹凸パタン部の形成について説明する。まず、図2aに示すように、第二塗布工程では、領域a3に樹脂組成物103を塗布し、バーコータ301等を用いて第一微細凹凸パタン部111の端部近傍からベース基材101の他端側に向けて、第一微細凹凸パタン部111の形成時と同様に直線状に樹脂組成物103を定量塗布する。領域a3の未硬化樹脂の塗工は、樹脂組成物103の硬化後の厚みが5μm以下となるように、バーコータ301を用いて均一塗布する。図2bに示すように、領域a3においては樹脂組成物103の厚さが均一となる。また、領域a2においては、樹脂組成物103が自重によって拡散して厚さが不均一となると共に、第一微細凹凸パタン部111の端部上にも樹脂組成物103が拡散される。ここで、領域a2においては、樹脂組成物103が自重によって拡散するので、樹脂組成物103の塗工端から、ベース基材101の一端側第一微細凹凸パタン部111に向けて樹脂組成物103の量が減少する。すなわち、第二塗布工程においては、第一微細凹凸パタン部111から第二微細凹凸パタン部112に向けて厚さが減少する第一微細凹凸パタン部111の端部に対して、第二微細凹凸パタン部112から第一微細凹凸パタン部111に向けて樹脂組成物103の塗布量が減少する。これにより、領域a2における樹脂組成物102、103の塗布量の総和が、第一微細凹凸パタン部111における樹脂組成物102の塗布量及び第二微細凹凸パタン部112における樹脂組成物103の塗布量とほぼ等しくなるので、第一微細凹凸パタン部111と第二微細凹凸パタン部112との間のパタン接合部113の段差を低減することができる。次に、図2cに示すように、パタン原版201を下側に配置してベース基材101上の樹脂組成物103とパタン原版201の微細凹凸構造面とを接することで、領域a32おける樹脂組成物103はさらに基材と樹脂自身の自重により拡散し、その後の加熱又は光照射により樹脂組成物103は、硬化層を形成する。この際、樹脂組成物103の領域a2の硬化層と領域a3の硬化層との間の境界部は視認されない。以上の工程により、硬化後の領域a2端部の厚みh3が1000nm以下の第二微細凹凸パタン部112が形成される図2d参照。特定方向に延在する凹凸形状において、第一微細凹凸パタン部111に対する第二転写工程の転写方向としては、ベース基材101平面上において、凹凸形状の延在方向と垂直方向に転写する方法と、凹凸形状の延在方向に転写する方法とがあるが、凹凸形状の延在方向と垂直方向に転写する方法がより好ましい。以上の第一及び第二微細凹凸パタン形成工程を2回以上繰り返すことで、700cm2以上の面積を有する大面積の微細凹凸パタン基材を得ることができる。本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材の製造方法においては、パタン原版201の微細凹凸パタン形状は、凸部の高さが、1000nm以下であることが好ましく、500nm以下であることがより好ましく、200nm以下であることが最も好ましい。これは、転写後の第一微細凹凸パタン部と第二微細凹凸パタン部との間のパタン接合部分のパタン段差を高さ1000nm以下とするためである。また、本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材の製造方法においては、パタン原版201の微細凹凸パタン形状としては、例えば特定方向に延在する格子状凹凸形状や、面内に3回対称もしくは4回対称な周期性を有するモスアイ型形状などがある。また、パタン原版201は、凸部の周期が300nm以下の周期性を有する微細凹凸形状とする。凸部の周期を300nm以下とすることで通常視野での光の回折が発生しないため、光学材料として好適に使用することができる。ここで、周期性を有するパタンの延在方向と重ね転写の方向は特に規定はされない。本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材の製造方法においては、パタン接合113のパタン段差は塗工する液量を精度よく制御し、ディスペンサおよびバーコータを用いて、均一に薄膜塗工することによってほぼ一様に1000nm以下とすることができる。また、本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材の製造方法においては、定量塗布装置を用いて直線状に塗工された液の自重による拡散を用いて界面を形成しているため、パタン接合部113の蛇行が少なく、視認性が少ないパタン接合部113を形成することができる。さらに、本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材の製造方法においては、第一微細凹凸パタン部111の形成に用いられる樹脂組成物102と、第二微細凹凸パタン部112の形成に用いられる樹脂組成物103とは同一の樹脂組成物とすることが好ましい。これにより、領域a3における硬化後の樹脂組成物102と、第二塗布工程において硬化後の樹脂組成物102上に塗布される未硬化の樹脂組成物103とが同一の樹脂組成物となる。このため、濡れ性、接着性がきわめて良好であり、自重による拡散で広がった後の接合部におけるパタン接合部の段差は1000nm以下に抑制することができ、ほぼすべてのパタン接合部113で段差が転写する微細凹凸パタンの凸部の高さと一致する。本発明に係る微細凹凸パタン基材においては、パタン接合部の段差は50以上の範囲で1000nm以下となることが好ましく、90以上の範囲で1000nm以下となることがより好ましい。特に、本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材において、第一微細凹凸パタン部111と第二微細凹凸パタン部112との間のパタン接合部113に段差継ぎ目がある場合には、段差に生じる面での光の反射により、段差の存在が視認される。このため、段差の高低差が小さければより視認性が低くなるので、パタン接合部113の段差は、1000nm以下とすることが望ましい。また、パタン接合部113の段差によって微弱な視認性を付与する要因は光散乱であるが、発現可視光の波長と同程度の粒径を持つ微粒子による散乱は、ミー散乱が主体となり、この領域の散乱は粒径が光の波長とほぼ等しくなるとき大きな値を示す。一方、可視光の波長よりさらに小さい微粒子による散乱は、レーリー散乱が主体となる。この領域の散乱は、粒径の6乗に比例する。したがって、粒径が小さくなると急激に散乱が小さくなり透明性を増し、可視光波長の1/4以下の粒径で高い透明性が得られる。この散乱光を低減しパタン接合部113の透明性を高めるためには、パタン接合部113の段差が500nm以下であることがより好ましく、段差の視認性を特に低減するためには、パタン接合部113の段差を200nm以下とすることが最も好ましい。次に、本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材の製造方法に用いられる樹脂組成物について詳細に説明する。本実施の形態に係る微細凹凸パタン基材の製造方法においては、ベース基材101上において、未硬化樹脂組成物102、103が十分に拡散し、濡れ広がるためには、ベース基材101の表面張力値と、組成物102、103の表面張力値と、が近い値になるように樹脂組成物を選択する必要がある。本発明において、塗工する樹脂組成物の硬化後の表面張力の値を、3つの溶媒水、α-ブロモナフタレン、ジヨードメタンの3種類の溶媒との接触角から北崎畑理論により算出した表面張力の分散力成分非極性成分:γa、双極子成分極性成分:γb、水素結合γcをもとに、ベース基材101の表面張力値と近い値となるように、未硬化樹脂の組成を調整する。本実施の形態においては、樹脂組成物の硬化後の表面張力の値γa1、γb1、γc1とベース基材101の表面張力γa2、γb2、γc2のうち分散力成分の差が|γa1―γa2|<1.4mN/mであり、なおかつ自重による拡散性を付与できるためには表面張力値の双極子成分極性成分の差が|γb1-γb2|<2.0mN/mに調整することがより好ましい。ベース基材101と未硬化樹脂の親和性を高め、塗工厚みを5μm以下とするためには、|γb1-γb2|<1.0mN/mに調整することがより好ましく、均一にはじきなどの欠陥なく塗工するためには、|γb1-γb2|<0.5mN/mにすることが最も好ましい。樹脂組成物としては、塗工する樹脂組成物の表面張力を調整するため、微細凹凸が忠実に転写可能であるアクリレート系紫外線硬化樹脂が用いられる。これにより、ナノインプリント樹脂としてのパタン転写性を維持しながらも、ベース基材101との濡れ性をコントロールすることができる。アクリレート系紫外線硬化樹脂の中でも、ベース基材101との濡れ性を制御するために使用される親水性アクリルモノマーが好ましい。具体的には、下記一般式1又は下記一般式2に示すアクリルモノマーの重合物を主成分として含有することが好ましい。下記一般式1又は下記一般式2において、官能基Rとしては、極性基を有する炭素数1~炭素数5の官能基が粘度の観点から好ましい。極性基としては、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基、アミノ基、ニトロ基及びカルボキシレート基からなる群から選択された少なくとも1つの官能基であることが好ましい。これらの中でも、極性基が水酸基であることが好ましく、具体的な化合物としては、例えば、HPMA2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、BHEA2-ヒドロキシエチルアクリレート、HPA2-ヒドロキシプロピルアクリレートが好ましい。本発明に係る微細凹凸パタン基材においては、表面張力の分散力成分が異なる少なくとも2つの成分を含有し、表面張力の分散力成分の最も大きな成分と、表面張力の分散力成分の最も小さな成分と、の間の表面張力の差分が1.4mN/m以下であることが好ましい。このように分散力成分が異なる成分の表面張力を制御することにより、基材上に未硬化樹脂を極めて薄く塗工することが可能となり、基材を上側にして、下側の金型原版を接触させる工程によって、基材と金型原版間に余計な加圧をすることなく基材と樹脂の自重による拡散力のみにより塗工樹脂厚みが制御され、金型の凹凸パタン深さに相当する段差程度の微細凹凸パタン層を均一に形成することが可能となる。また、本発明に係る微細凹凸パタン基材においては、表面張力の双極子成分が異なる少なくとも2つの成分を含有し、表面張力の双極子成分の最も大きな成分と、表面張力の双極子成分の最も小さな成分と、の間の表面張力の差分が2mN/m以下であることが好ましい。このように双極子成分が異なる成分の表面張力を制御することにより、基材上に未硬化樹脂を極めて薄く塗工することが可能となり、基材を上側にして、下側の金型原版を接触させる工程によって、基材と金型原版間に余計な加圧をすることなく基材と樹脂の自重による拡散力のみにより塗工樹脂厚みが制御されるため、金型の凹凸パタン深さに相当する段差程度の微細凹凸パタン層を均一に形成することが可能となる。本発明に係る微細凹凸パタン基材の製造方法においては、上記第一微細凹凸パタン部111、及び第二微細凹凸パタン部112の形成に加え、第二微細凹凸パタン部112の他の端部不図示と未硬化の樹脂組成物の端部とが重なるように、さらに塗布工程及び転写工程を行ってもよい。このように、パタン原版201からの転写を同様に繰り返すことにより、多回転写における転写時に加圧することなく、未硬化の樹脂組成物の自重による拡散を利用することができるので、パタン接合部113の直線性を得ることが可能となる。このため、転写時の加圧による微細凹凸パタンのダメージの発生を防ぐ効果がある。周期性を有する微細凹凸パタンの延在方向と重ね転写の方向とは特に規定されないが、およそ微細凹凸パタンの周期性が崩れない方向に転写することが、パタン接合部113の段差が視認しづらくする観点からより好ましい。次に、本発明に係る金型について説明する。本発明に係る金型は、上記微細凹凸パタン元型として電解めっき等を施すことにより、微細凹凸パタンの反転形状パタンを転写して得られる。また、複数回の転写により面積が拡大された少なくとも一つのパタン接合部を有する微細凹凸パタン基材から、金型を作製することにより、上記微細凹凸パタン基材を大量に複製することができる。次に、本発明に係る微細凹凸パタン付与基材について説明する。本発明に係る微細凹凸パタン付与基材は、上記微細凹凸パタン基材を元型とし、反転形状パタンを転写することにより得られる。例えば、複数回の転写により面積が拡大された少なくとも一つのパタン接合部を有する微細凹凸パタン基材から、反転凹凸パタンを有する有機、無機材料を主成分とする微細凹凸パタン付与基材モールドパタンを作製することにより、上記微細凹凸パタン基材を大量に複製することができる。このような複数回の転写によって形成された大面積の微細凹凸パタン形状基材上、もしくはそれらの反転凹凸パタン形状を有する金型などから複製された大面積の微細凹凸パタン基材上に反射性を有する金属を直線状に形成することによって得られたワイヤグリッド偏光板は、クロスニコル時の光漏れがなく、重ね部分の視認性がない、大面積反射型偏光板として使用することができる。2ワイヤグリッド偏光板次に、上記実施の形態に係る微細凹凸パタン基材を用いたワイヤグリッド偏光板に関して説明する。本実施の形態に係るワイヤグリッド偏光板は、特定方向に延在する格子状凹凸形状を有する上記微細凹凸パタン基材と、格子状凹凸形状を有する基材凸部の一方向側の側面に接し基材凸部頂部より上方に延在するように設けられた金属膜金属ワイヤと、を備える。また、本発明に係るワイヤグリッド偏光板においては、基材上に設けられた特定方向に延在する格子状凹凸形状に対して、同一方向に延在する格子状凹凸形状を新たに作製することにより、基材の面積を拡大することが可能となり、700cm2以上の面積を有するワイヤグリッド偏光板を作製することができる。また、本発明に係るワイヤグリッド偏光板は、上記微細凹凸パタン基材を基に作成した金型又はモールドにより大量に複製することが可能となる。<基材>基材としては、上記実施の形態に係る微細凹凸パタン基材を用いることができる。また、基材としては、ナノインプリント樹脂との接着性を発現するために片面に易接着層を形成した複合基材を用いても良い。<金属ワイヤ>金属ワイヤとしては、アルミニウムや銀などを用いることができる。また、その他、対象とする光の波長領域に応じて、銅、白金、金またはこれらの各金属を主成分とする合金を金属ワイヤとして使用することもできる。<金属ワイヤ断面形状>金属ワイヤは、格子状凸部の側方および凸部頂部よりも高さ方向において上方に延在するように形成される。金属ワイヤの高さは、基材の格子状凹凸形状の凸部の高さの1.1倍以上10倍以下の範囲であることが好ましく、1.3倍以上2.5倍以下の範囲であることが透過光の吸収損失を抑制する上でより好ましい。また、金属ワイヤの幅の平均値は、ピッチの0.2倍~0.5倍であることが好ましく、0.3倍~0.4倍であることが偏光特性、透過率を両立する上で最も好ましい。金属ワイヤは、特に限定は無いが、製造コストや生産性の観点から真空下における斜め蒸着法によって設けることが好ましい。斜め蒸着法とは、格子状凹凸形状の延在方向と垂直に交わる平面内において、蒸着源が基材表面の垂直方向に対して入射角度αを持ちながら金属を蒸着、積層させていく方法である。入射角度αは、格子状凸部と作製する金属ワイヤの断面形状から好ましい範囲が決まる。入射角度αは、一般的には5°~40°であることが好ましく、10°~30°であることがより好ましい。さらに、蒸着中に積層した金属の射影効果を考慮しながら、入射角度αを徐々に減少または増加させることが金属ワイヤの高さなど断面形状を制御する上で好適である。なお、このような製法から格子状凹凸形状の延在方向と金属ワイヤの延在方向とは等しくなる。本発明に係るワイヤグリッド偏光板において、所望の金属ワイヤ形状を達成するための金属蒸着量は、格子状凸部の形状によって決まるが、一般には、平均蒸着厚みは50nm~150nm程度である。なお、蒸着工程におけるフィルム送り速度は、0.1m/分~100m/分の範囲で行われる。ここでいう平均厚みとは、平滑ガラス基板上にガラス面に垂直方向から物質を蒸着させたと仮定した時の蒸着物の厚みのことを指し、金属蒸着量の目安として使用する。<誘電体>基材と金属ワイヤとの間の密着性向上のため、両者の間に両者と密着性が高い誘電体材料を設けることが好ましい。例えば、珪素Siの酸化物、窒化物、ハロゲン化物、炭化物の単体、またはその複合物誘電体単体に他の元素、単体または化合物が混じった誘電体や、アルミニウムAl、クロムCr、イットリウムY、ジルコニアZr、タンタルTa、チタンTi、バリウムBa、インジウムIn、錫Sn、亜鉛Zn、マグネシウムMg、カルシウムCa、セリウムCe、銅Cuなどの金属の酸化物、窒化物、ハロゲン化物、炭化物の単体またはそれらの複合物を用いることができる。誘電体材料は、透過偏光性能を得ようとする波長領域において実質的に透明であればよい。誘電体材料の積層方法には特に限定は無く、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理的蒸着法を好適に用いることができる。なお、積層工程におけるフィルム送り速度は、0.1m/分~100m/分の範囲で行われる。<エッチング工程>光学特性の観点から、必要に応じ格子状凹凸形状の凹部底部に積層する金属を、エッチングにより除去する。エッチング方法としては、基材や誘電体層に悪影響を及ぼさず、必要量の金属が除去できるエッチング方法であれば特に限定は無いが、生産性や装置コストの観点から酸やアルカリの水溶液に浸漬させるエッチング方法が好ましい。<光学特性>格子状凹凸形状の延在方向に対する垂直な断面内において、微細凹凸パタン基材表面に対する垂直方向凸部の立設方向に対して、それぞれ左右対称方向から入射する光に関し、光線透過率の差の許容値は、使用する製品によって異なるが、画像表示装置に用いた場合、対象とする同一波長で4以下であれば差の認識は難しく、十分といえる。格子状凹凸形状の延在方向に垂直な面内における基材面の垂直方向に対し、それぞれ左右の対称方向から入射する光の光線透過率の差が、可視光領域における同一波長で4以下であることが好ましく、2であることがより好ましい。また、基材の格子状凹凸形状の凸部の一方向側の側面にのみ金属ワイヤが存在することも重要である。実施例次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。なお、本発明は以下の実施例によって何ら限定されるものではない。<樹脂組成物>三官能以上のアクリレート化合物である単量体としてトリメチロールプロパントリアクリレートTMPTAを32質量、N-ビニル化合物である単量体としてN-ビニル-2-ピロリドンNVPを32質量、その他の単量体として1,9-ノナンジオールジアクリレートを33質量、光重合開始剤として2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドダロキュアTPO、チバスペシャリティケミカルズ社製を2質量、アクリル基を含有するシリコン化合物としてシリコンジアクリレートを1質量配合し、異物をろ過して光硬化性樹脂樹脂組成物1を調整した。樹脂組成物1に所定量光を照射して光硬化しところ、樹脂組成物1の硬化物には微量の不純物が含まれていたが、99質量以上が光硬化反応によって結合して固体となった成分からなる光硬化性樹脂であった。この光硬化性樹脂樹脂組成物1に対し、ヒドロキシエチルメタクリレートを10重量配合して樹脂組成物2とし、ヒドロキシエチルメタクリレートを50質量配合して樹脂組成物3とした。樹脂組成物2に所定の量の光を照射した樹脂組成物2の硬化物は、JISK-5600-5-6に準拠した碁盤目剥離試験で分類1以上の基材付着性を示した。また、エポキシ系紫外線硬化性樹脂テスク社製、A-1771を樹脂組成物4とした。<基材>易接着PETフィルム東洋紡績社製、A4100のPET易接着面を基材1とし、この易接着PETフィルムの未処理面を基材2として使用した。トリアセチルセルロースフィルム富士フイルム社製、フジタックTD80ULを基材3とし、ポリカーボネートフィルム帝人化成社製、パンライトD-92を基材4として使用した。樹脂組成物1~樹脂組成物4の硬化物及び基材1~基材4について、自動接触角計協和界面科学製、CA-VEを用いて3つの溶媒水、α-ブロモナフタレン、ジヨードメタンに対する接触角を測定した。各溶媒に対する接触角の値をもとに、統合解析ソフトウエア協和界面科学社製、FAMASの北崎、畑理論式を用いて固体の表面張力のうちの分散力成分、双極子成分、水素結合成分の値を算出した。結果を下記表1に示す。<第一塗布工程>凸部のピッチが145nmであり、凸部の高さが180nmである微細凹凸格子を表面に有するニッケル金型ニッケルスタンパを用いた。このニッケルスタンパの微細凹凸格子は、矩形の縞状格子形状であった。このニッケルスタンパの一部に微粘着ポリエチレンフィルムをゴムローラーにて密着させた。基材を500mm×600mmに切り出し、この基材の第一微細凹凸パタン部を形成する領域に樹脂組成物をそれぞれ塗工して第一塗布工程を実施した。第一塗布工程では、ディスペンサにて基材に樹脂組成物を直線的に0.5cc塗布し、バーコーター型番:♯2を用いて240×200mmの面積に薄膜塗工した。この際の樹脂組成物の膜厚は5000nm以下であり、塗工ムラはなかった。樹脂組成物1から樹脂組成物4の未硬化物と基材1から基材4について組み合わせて第一塗布工程を実施した。結果を下記表2に示す。欠陥などの塗工ムラがなく、非重なり部分を5μm以下の厚みで薄膜塗工ができたものを◎とし、はじきなどの発生により一部樹脂が塗工されなかったもの○とし、樹脂液量を増やすことにより塗工は可能であったが、塗工厚みが5μm以下にできなかったものを△とし、基材と組成物とがはじいてバーコータによる塗工ができなかったものを×とした。これらの結果、固体の表面自由エネルギーを分散力成分、双極子成分の近い樹脂と基材の組み合わせにおいて薄膜塗工が可能であった。特に、分散力成分が近く、なおかつ双極子成分のエネルギーが極めて近い値である樹脂組成物2と基材1との組み合わせにおいて最も良好な塗工が可能であった。<第一転写工程>上記の第一塗布工程で樹脂組成物が塗工された基材をニッケルスタンパ上に接触させ、フィルム側から中心波長365nmの紫外線ランプを用いて紫外線を1000mJ/cm2照射してニッケルスタンパの微細凹凸格子を転写した。この時、UV樹脂の塗工端をニッケルスタンパ上の微粘着フィルムから10mm離してスタンパに接触させる。スタンパ付着物の除去樹脂組成物2を2cc取り、ニッケルスタンパ上に塗布し、ゴムローラーを利用して別の易接着性PETフィルムをニッケルスタンパに密着させていく。紫外線照射方法により、樹脂を光硬化させ、ニッケルスタンパ上に残った樹脂薄膜を除去する。樹脂組成物2の剥離性は良好であるが、この工程をおこなう方が好ましい。<第二塗布工程及び第二転写工程>続けて、基材の第二微細凹凸パタン部の形成領域に240×200mmの面積で樹脂組成物を第一塗布工程と同様に塗工した。次に、ニッケルスタンパ上に基材上に塗布した樹脂組成物を接触させ、紫外線を照射して微細凹凸格子を転写した。第二転写工程においては、基材固定治具を用いて第一転写工程で形成された第一微細凹凸パタン部の凹凸形状との間で、凹凸形状の延在方向の角度がずれないようにして転写して微細凹凸パタン基材を作製した。ここで、第一微細凹凸パタン部に対する第二転写工程における転写の方向は、基材平面上において、凹凸形状の延在方向と垂直方向とした得られた微細凹凸パタンの電界放出型走査型電子顕微鏡写真を図3で示す。得られた微細凹凸パタン基材第一転写工程で転写された第一微細凹凸パタン部と第二転写工程で転写された第二微細凹凸パタン部とが重なった部分を電界放出型走査型電子顕微鏡FE-SEMで観察したところ、第一微細凹凸パタン部と第二微細凹凸パタン部との間の接合部の段差は第一微細凹凸パタン部の端部塗工端に対して平行であり直線的であった。また、レーザー顕微鏡を用いてパタン接合部の段差hを測定したところ、第一微細凹凸パタン部と第二微細凹凸パタン部との間の接合部の90以上の領域でパタン段差が150nmであった。パタン接合部の電界放出型走査型電子顕微鏡写真を図3に示す。また、微細凹凸パタンが付与された面積は940cm2であった。<金型作製>以上のようにして得られた微細凹凸パタン基材の微細凹凸格子表面に導電化処理として金をスパッタリングにより30nm被覆した。次に、ニッケルを電気メッキし、厚さ0.3mm、縦240mm、横400mmの微細凹凸格子を表面に有する金型ニッケルスタンパを作製した。<ロールスタンパ作製>このニッケルスタンパを溶接により円形に接合し、ロールスタンパとした。この際、接合は微細凹凸格子の延在方向とロールスタンパの円周方向が直交する向きで行った。<格子状凸部転写フィルムロールの作製>厚み0.08mmのトリアセチルセルロースフィルム以下、TACフィルムのロールフィルム長250mに連続的に紫外線硬化性樹脂を約0.01mm塗布した。次に、塗布面を145nmピッチの微細凹凸格子を表面に有する上記ロールスタンパ上に接触させ、フィルム側から中心波長365nmの紫外線ランプを用いて紫外線を1000mJ/cm2照射した。次に、ロールスタンパの微細凹凸格子を連続的に転写した後、ロール状に巻き取った以下、このロールを原反ロールという。。得られた格子状凸部転写フィルムをFE-SEMにより観察し、その断面形状が矩形で、上面からの形状が縞状格子状となっていることを確認した。また、格子状凸部の凸部高さ/凸部の半値幅の値が3.0であり、格子状凸部の半値幅は、ピッチの0.4倍であった。<原反ロールの乾燥>以上のようにして得られた原反ロールに含まれる水分を乾燥するために、原反ロールを200Wの赤外線ヒーターが3台設けられた真空槽に移し、フィルムを真空中でほどきながら2m/分で走行させ、加熱後、ロール状に巻き取った。フィルム走行停止時の真空度は0.03Pa、フィルム走行中乾燥中の真空度は0.15Paであった。また、ヒーター通過後のTACフィルムの表面温度を知るためにTACフィルム上には予めサーモラベルを貼っておいた。ヒーター通過後のTACフィルムの表面温度は60°Cから70°Cの間であった。<スパッタリング法を用いた誘電体層の形成>乾燥後の原反ロールを乾燥機の真空槽中に12時間放置したところ、フィルムの温度は23°Cまで下がった。その後、原反ロールの格子状凸部転写面を誘電体形成用及び金属ワイヤ形成用の真空チャンバへと移した。誘電体形成には反応性ACマグネトロンスパッタリング法を用いた。ターゲットサイズ127mm×750mm×10mmtのシリコンターゲットを2枚並べ、基板からターゲットの距離80mm、アルゴンガス流量200sccm、窒素ガス流量300sccm、出力11kW、周波数37.5kHz、走行速度5m/分で原反ロールをほどきながらフィルム搬送用ロールメインローラーで巻取ロール側に送りながら窒化珪素層を設け、その後ロール状に巻き取った。スパッタリングの際の張力は30N、メインローラー温度は30°C、スパッタリング開始前のバックグラウンドの真空度は0.005Pa、スパッタリング中の真空度は0.38Paであった。同じ条件でSiチップに窒化珪素を成膜し、エリプソメーターにて窒化珪素層の厚みを算出したところ3nmであった。<アルミニウム蒸着>原反ロールの格子状凸部転写面に誘電体層として窒化珪素をスパッタリング法にて形成した後、フィルムをスパッタリング時と逆方向にメインローラーで送り、抵抗加熱蒸着法にて格子状凸部転写面に金属ワイヤを形成し、ロール状に巻き取った。本実施例では、金属としてアルミニウムAlを用いた場合について説明する。このとき、蒸着ボート加熱前の真空度は0.005Paであった。また、アルミニウムの蒸着には斜め蒸着法を用い、格子の立設方向と垂直に交わる平面内において基材面の法線蒸着源とのなす角が32°θsから始まり15°θdで終わるようにマスクを配置して行った。このときのフィルム搬送方向のマスク開口幅は60mm、マスク開口部中心と蒸着ボートとの間の距離は400mmであった。以上のような配置にて、フィルム送り速度3.5m/分で格子状凸部転写フィルムを走行させながら、加熱されたボート上に純度99.9以上、線径1.7mmのアルミワイヤを送り速度200mm/分でフィードし、蒸着を行った。蒸着中の全圧は0.007Paであった蒸着後、原反ロールを真空槽から取り出し、アルミニウムの膜厚を蛍光X線の発光強度より換算したところ130nmであった。したがって、本実施例のアルミニウムの平均成膜速度vは、アルミニウムの膜厚を蒸着時間で除した値130/1.03で、126.4nm/sであった。<アルミニウムのエッチング>実施例及び比較例に記載された方法で作製された、窒化珪素及びアルミニウムが成膜された格子状凸部転写フィルムロールを、フィルムをほどきながら温度23°Cの0.5重量のNaOHaq槽内を50秒間走行させ、次いで、これを水洗風乾し、目的とするワイヤグリッドフィルムのロールを得た。<バックライト上での白輝度および黒輝度の視認性評価>バックライト上にLCDの裏面偏光板としてPVA型偏光板と置き換えてワイヤグリッド偏光板を配置し、正面の白輝度、黒輝度を測定した。それぞれ240cd/m2、0.2cd/m2320cd/m2、0.3cd/m2であった。コントラストが変化したが、白表示、黒表示状態でパタン接合部におけるワイヤグリッドの視認性の変化はなく、実用上問題ないレベルであった。"