レンズを保持しうるキャリアと、前記キャリアに上方向を軸として巻回して配置された第一のコイルと、前記第一のコイルの前後左右方向に前記第一のコイルに対向して配置された磁石と、前記磁石を固定するホルダと、を備えた可動ユニットと、前記可動ユニットに対向して少なくとも直交する二方向に配置された第二のコイルと、前記第二のコイルを固定するベースと、前記ホルダと前記ベースとを接続する複数のシャフトを備え、前記シャフトの直径を30μm以上70μm未満とし、前記シャフトの縦弾性率を100GPa以上500GPa未満としたレンズアクチュエータ。前記シャフトの材料はタングステンあるいはタングステンの化合物を含むものとし、前記シャフトの直径を30μm以上60μm未満とし、前記シャフトの縦弾性率を350GPa以上500GPa未満とした請求項1記載のレンズアクチュエータ。前記シャフトの材料は銅合金とし、前記シャフトの直径を40μm以上70μm未満とし、前記シャフトの縦弾性率を100GPa以上150GPa未満とした請求項1記載のレンズアクチュエータ。しかしながら、上記従来のレンズアクチュエータ20においては、第二のコイル18に流す電流を小さくすると、シャフト4の剛性が強く十分に撓まないので、消費電力を抑制するのが困難となるという課題があった。本発明は、このような従来の課題を解決するものであり、省電力化に適したレンズアクチュエータを提供することを目的とする。上記目的を達成するために本発明は、特に、ホルダとベースとを接続する複数のシャフトを備え、シャフトの直径を30μm以上70μm未満とし、シャフトの縦弾性率を100GPa以上500GPa未満として構成される。本発明によれば、ホルダとベースとを接続する複数のシャフトを備え、シャフトの直径を30μm以上70μm未満とし、シャフトの縦弾性率を100GPa以上500GPa未満として構成されることにより、第二のコイルに流れる電流が小さくても可撓性を備えるので、省電力化が可能なレンズアクチュエータを実現することができる。以下、本発明の実施の形態について、図1~図4を用いて説明する。実施の形態図1は本発明の一実施の形態によるレンズアクチュエータ70の断面図、図2は同分解斜視図、図3は上カバー36とフレキシブルプリント配線板35を外した部分斜視図である。ここで、レンズアクチュエータ70は、可動ユニット31とコイルユニット32と下カバー33と、シャフト34A~34Dと、フレキシブルプリント配線板35と上カバー36から構成される。このレンズアクチュエータ70は、例えば左右方向Y軸方向の幅が5mm~20mm、前後方向X軸方向の奥行きが5mm~20mm、上下方向Z軸方向の高さが2mm~10mmで、左右方向の幅と前後方向の奥行きはほぼ同じ寸法で構成される。まず、可動ユニット31の構成から説明する。ここで、図4に示すのは可動ユニット31の部分分解斜視図である。そして、図1の断面図及び図4の分解斜視図から判るように、可動ユニット31は、レンズホルダ41と、磁石ホルダ42と、下バネ43と上バネ44から構成される。このレンズホルダ41は、キャリア45と、キャリア45の外周に上下二段に配置された第一のコイル46A、46Bを備えている。ここで、キャリア45は中央に円孔45Aを備えた方形筒状で、ガラス入りポリカーボネート等の絶縁樹脂を材料として形成されている。ここで円孔45Aは直径が一定であっても、変化していても良い。また、内側にレンズを固定するためのネジ等の形状を備えていても良い。そして、第一のコイル46A、46Bは、線径Φ40μm~Φ60μmのエナメル線等のコイル線が、上方向を軸としてキャリア45に巻回されて形成される。ここで、上方向は円孔45Aの中心軸の方向と一致する。また、磁石ホルダ42は、ホルダ47と磁石48A~48D、磁石49A~49Dから構成されている。ここで、ホルダ47は、中央に角孔47Aを備えた方形筒状でガラス入りポリカーボネート等の絶縁樹脂により形成されている。また、ホルダ47の底面には四方に張り出したホルダ側リム部47Bが設けられており、ホルダ側リム部47Bには略V字状の溝としてホルダ側係止部47Cが設けられている。そして、ホルダ47の前後左右方向の側面に直方体形状でやや大型の磁石48A~48D、同じく直方体形状でやや小型の磁石49A~49Dが、磁石48A~48Dを上方、磁石49A~49Dを下方として所定の間隔を離間して、接着剤図示せず等で固定される。ここで、磁石48A~48Dと磁石49A~49Dは、それぞれの内側面側の磁極が互いに異なる磁極となるように着磁され、一方、それに伴いそれぞれの外側面側の磁極も互いに異なる磁極となるように着磁されている。例えば、磁石48A~48Dの内側面がS極で着磁され、磁石49A~49Dの内側面がN極で着磁されている。これに伴い、磁石48A~48Dの外側面がN極で着磁され、磁石49A~49Dの外側面がS極で着磁される。このように、上下方向に配置された磁石48A~48Dと磁石49A~49Dの内側面及び外側面の磁極を交互に異なるように着磁しているので、磁界の放射方向が整流され、より強い磁界を発生することができる構成となっている。ここで、磁石48A~48D、磁石49A~49Dは、ネオジム、鉄、ホウ素を主成分とする希土類磁石であるネオジム磁石等が用いられる。本発明は、ネオジム磁石以外の磁石でも実施可能であるが、ネオジム磁石は磁力が大きいため、第一のコイル46A、46Bに流す電流を小さくすることができ、省電力化の点で有利である。また、ネオジム磁石の保持力は500kA/m~3000kA/mで、残留磁束密度は1.3~1.5Tのものを使用するのが望ましい。さらに、磁石48A~48Dの内側面がS極で着磁され、磁石49A~49Dの内側面がN極で着磁されているので、各磁石48A~48Dの間、磁石49A~49Dの間では、互いに反発力をおよぼしあう。そこで、ホルダ47には、磁石48A~48D、磁石49A~49Dの外側に磁石48A~48D、磁石49A~49Dと接する側壁を設けることが望ましい。そして、ホルダ47の角孔47Aにレンズホルダ41が収納され、第一のコイル46A、46Bと磁石48A~48D、磁石49A~49Dが対向する。つまり可動ユニット31において、第一のコイル46A、46Bに電流が流れることにより、磁石48A~48D、磁石49A~49Dとの間で電磁力が生じ、レンズホルダ41が磁石ホルダ42に対し上下に可動するよう構成されている。また、下バネ43は、外周部43Aと内周部43Bとが、蛇行した複数のバネ部43Cで接続された導電金属製の板バネである。また、上バネ44も、外周部44Aと内周部44Bとが、蛇行した複数のバネ部44Cで接続された導電金属製の板バネである。そして、外周部43Aと外周部44Aは磁石ホルダ42に固定され、内周部43Bと内周部44Bはレンズホルダ41に固定されている。これにより、第一のコイル46A、46Bに電流が流れていない場合は、レンズホルダ41が磁石ホルダ42に対し所定位置に復帰可能な構成となっている。ここで、可動ユニット31は、第一のコイル46A、46Bに電流を流すことにより、レンズホルダ41が磁石ホルダ42に対し上下に可動し、あるいはレンズホルダ41の重量と下バネ43、上バネ44のバネ力と電磁力との均衡をとってレンズホルダ41を停止させる。また、第一のコイル46A、46Bに電流が流れていない場合は、レンズホルダ41が磁石ホルダ42に対し所定位置に復帰するものである。次に、図1~図3を用いて、可動ユニット31以外の構成要素について説明する。ここで、コイルユニット32は、ベース51と第二のコイル52A~52Dから構成されている。そして、ベース51は角孔51Aを中央に備えた方形筒状で、絶縁樹脂等により形成されている。そして、前後左右の側壁にT字状の溝51Bを備え、上面には四方に突出した複数のベース側リム部51Cと、ベース側リム部51Cそれぞれに孔51Dを備えている。また、第二のコイル52A~52Dは、溝51Bの上半分に接着剤図示せず等で固定されている。この、第二のコイル52A~52Dは、線径Φ40μm~Φ60μmのコイル線が前後方向あるいは左右方向を軸として巻回され形成される。なお、第二のコイル52A~52Dを形成するコイル線として、ポリウレタン銅線、ポリエステル銅線、ポリアミド系銅線等のエナメル線が好ましい。なお、第二のコイル52A~52Dの固定方法は、例えば樹脂製のボビンを形成し、ボビンの周りに1本のコイル線を直接巻く方法と、空芯コイルを形成してからベース51に接着材等でとりつける方法がある。空芯コイルを形成する方が小型化の観点で望ましく、その場合、自己融着のエナメル線を用い、熱風もしくはアルコールでコイル線同士を融着させ形状を安定させるのが望ましい。あるいは、第二のコイル52A~52Dとしてプリントコイルを用いることができる。プリントコイルとは製膜及びパターニングを行うことによって形成されるコイルである。製膜は、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、無電解メッキ、電解メッキ等の形成方法があり、パターニングはフォトレジストによるマスクの形成とエッチングを組み合わせる形成方法等がある。プリントコイルを作製する手順の例としては、銅薄膜を製膜してパターニングを行った後に電解メッキを行う手順や、銅薄膜上にフォトレジストでマスクを形成して電解メッキを行った後にパターン以外の部分の銅をエッチング等によって除去する手順等がある。エッチングはドライエッチングであってもウェットエッチングであってもよい。また、プリントコイルはプリント基板上に形成しても良く、その場合、組立時にプリントコイルが変形することはないので組立て性が向上する。そして、シャフト34A~34Dは、弾性を備えた導電金属線で、一般にはサスペンションワイヤと称されることもある。ここで、可動ユニット31は、ベース51の角孔51Aに収納されると共に、このシャフト34A~34Dの上端はベース51の孔51Dに係止され、下端はホルダ47のホルダ側係止部47Cに係止されている。なお、磁石48A~48Dを、第二のコイル52A~52Dに対向するように、可動ユニット31は、ベース51の角孔51Aに収納される。つまり、可動ユニット31は、シャフト34A~34Dを介してコイルユニット32と接続されており、シャフト34A~34Dは可動ユニット31をコイルユニット32内で前後左右に水平を維持しつつ移動できるよう構成されている。また、磁石48A~48Dは、第二のコイル52A~52Dに対向しているので、第二のコイル52A~52Dに電流を流すと、可動ユニット31がコイルユニット32内で電磁力により可動するものである。そして、フレキシブルプリント配線板35は、端面に複数の端子を有するコネクタ61を備えた柔軟性のあるフレキシブルプリント配線板で、内部に複数の配線図示せずが配設されている。そして、立体的に折り返され、ベース51の四方の側面に沿うように、さらに折り曲げられている。そして、フレキシブルプリント配線板35のベース51の側面に接する面に、二つの磁界検出素子62A、62Bが配置されている。この磁界検出素子62A、62Bは例えばホール効果を利用して磁界の強さを検出するホール素子等である。磁界検出素子62A、62Bに磁石49B、49Cが接近すると磁界検出素子62A、62Bで検出される磁界が強くなり、また磁界検出素子62A、62Bから磁石49B、49Cが離れると磁界検出素子62A、62Bで検出される磁界が弱くなる。これにより、可動ユニット31がコイルユニット32内で移動した際に、磁界検出素子62Bが可動ユニット31の前後方向の位置を、磁界検出素子62Aが可動ユニット31の左右方向の位置を検出しうるよう構成されている。なお、第一のコイル46A、46Bは、下バネ43、上バネ44、シャフト34A~34D等を介し、フレキシブルプリント配線板35のコネクタ61に設けられた端子に電気的に接続されている。また、第二のコイル52A~52Dを構成するコイル線の端部がフレキシブルプリント配線板35に接続されることで、フレキシブルプリント配線板35のコネクタ61に設けられた端子に第二のコイル52A~52Dが電気的に接続されている。つまり、第一のコイル46A、46Bと、第二のコイル52A~52Dは、ともに、コネクタ61に設けられた端子を介して電流が流されるように構成されている。そして、下カバー33は中央に円孔33Aを備えた、例えばアルミニウムや洋白等の非磁性材料で形成された金属板で、この下カバー33はベース51の下面に接着剤図示せず等で固定されている。また、上カバー36は、中央に円孔36Aを備え、下面開放の方形箱状に、アルミニウムや洋白等の非磁性材料で形成されている。そして、上カバー36は下カバー33との間に、可動ユニット31、コイルユニット32、シャフト34A~34D、フレキシブルプリント配線板35を収納して、下カバー33に溶接等で固定されている。なお、円孔36A、円孔45A、円孔33Aは連なっており、レンズアクチュエータ70の上面から下面へ貫通孔が形成される。ここで、上カバー36と下カバー33は共に非磁性の材料で形成されているので、第一のコイル46A、46Bと磁石48A~48D、磁石49A~49Dとの間、あるいは第二のコイル52A~52Dと磁石48A~48D、磁石49A~49Dとの間で生じる電磁力に与える影響が抑制されるため、レンズアクチュエータ70を安定して動作させることができる。そして、このように構成されたレンズアクチュエータ70の、レンズホルダ41の円孔45Aにレンズ図示せずが保持され、下方にCCDイメージセンサやCMOSイメージセンサ等の撮像素子図示せずが配置されて、カメラや携帯電話等の電子機器に装着される。そして、機器の電子回路図示せずに、第一のコイル46A、46Bと、第二のコイル52A~52Dがコネクタ61の端子等を介して、接続される。このように構成されたレンズアクチュエータ70において、例えば電子機器のシャッター用の押釦図示せずを軽く押圧操作すると、電子回路から電圧が印加されて第一のコイル46A、46Bに電流が流れ、レンズホルダ41及びレンズホルダ41の円孔45Aに保持されたレンズが上下方向へ移動して、オートフォーカス制御が行われ、映像または画像のピント合わせを自動的に行う。また、シャッター用の押釦をさらに押圧操作して撮影を行った際に、手振れ等が生じた場合には、振動を電子機器内に別途設けた角速度センサ図示せず等によって電子回路で検出し、電子回路が第二のコイル52A~52Dに流す電流を制御して前後または左右方向へ可動ユニット31を移動させ、振れ補正制御が行われる。ここで、電子機器の薄型化のため、レンズアクチュエータ70の高さは4mm以下が望ましい。また、この場合シャフト34A~34Dの長さは2.5mm以上3.2mm以下が望ましい。シャフト34A~34Dの長さはレンズアクチュエータ70の高さの制限を受けると共に、過度に短くすると所望のバネ定数を実現するために、その直径を小さくする必要があり、落下による衝撃に弱くなるからである。シャフト34A~34Dの材料は、バネ特性ヒステリシス、耐久性、強度等の観点から銅合金もしくはタングステンもしくはタングステン合金が望ましく、シャフト34A~34Dによって給電を行う場合には導電率が大きい銅合金が望ましい。なお、タングステンの化合物の例として、ドープタングステン酸化カリウム等をドープしたタングステン、レニウムタングステンレニウムとタングステンの合金等がある。ここで、銅合金を用いる場合、バネ特性の観点から、銅、りん青銅、ベリリウム銅、銅とニッケルとスズを含む銅合金CuNiSn合金が望ましい。特に落下強度の観点から、ベリリウム銅、或いはCuNiSn合金が望ましい。なお、銅合金の引張強度に比べて、タングステンあるいはタングステンの化合物の引張強度は約2倍以上の値であるので、シャフト34A~34Dの材料として、タングステンあるいはタングステンの化合物を用いた場合には、レンズアクチュエータ70の落下時の強度を向上することができる。また、銅合金、タングステンあるいはタングステンの化合物のいずれを用いても、シャフト34A~34Dに通電する際の電気抵抗を小さくする目的でシャフト34A~34Dの表面に銀もしくは銅のメッキを行うことができる。そして、銅合金、タングステンあるいはタングステンの化合物のいずれを用いても、このシャフト34A~34Dの縦弾性率は100GPa以上500GPa未満が好ましい。ここで、シャフト34A~34Dの加工性の観点からは、シャフト34A~34Dの材料は銅合金が望ましく、この場合のシャフト34A~34Dの縦弾性率は100GPa以上150GPa未満が好ましい。また、ベリリウム銅或いはCuNiSn合金を用いた場合の縦弾性率はおよそ110GPa以上140GPa未満となる。また、シャフト34A~34Dの材料として、タングステンもしくはタングステンの化合物を用いた場合、その縦弾性率は、350GPa以上500GPa未満の範囲とし、より好ましくは350GPa~450GPaの範囲とする。次に、シャフト34A~34Dの直径の設計基準について説明する。ここで、シャフト34A~34Dの直径により、シャフト34A~34Dのバネ定数が定まる。シャフト34A~34Dの四本で可動ユニット31を支持した場合の合計のバネ定数の値は、以下の理由からある決められた範囲内に含まれる必要がある。シャフト34A~34Dのバネ定数と可動ユニット31の質量からレンズアクチュエータ70の共振周波数が定まる。ここで、振れ補正制御を正確に行うために共振周波数は50Hz以上が望ましく、この観点からバネ定数の下限が定まる。一方、バネ定数の上限は、振れ補正制御を行うための可動ユニット31の移動量から定まる。ここで、可動ユニット31の重量は、およそ0.3g以上0.7g以下の範囲に含まれる。また、振れ補正制御を行うための可動ユニット31の移動量は、振れ補正制御を行う補正角度と焦点距離によって決まり、焦点距離が6mm以下で補正角度が±0.5°以上である場合においては、可動ユニット31の移動量は約60μm以上である必要がある。上記条件において、振れ補正制御を正確に行うために共振周波数を50Hz以上にし、可動ユニット31の移動量を60μm以上にするための、シャフト34A~34Dの直径は、銅合金を用いた場合と、タングステンもしくはタングステンの化合物を用いた場合とで適正値が若干異なる。ここで、銅合金を用いた場合から説明するが、シャフト34A~34Dの直径は、40μm以上70μm未満が適しており、加工性の観点から50μm以上70μm未満がより望ましい。また、動画撮影などを想定して振れ補正制御の効果を大きくするために可動ユニット31の移動量を80μm以上にする場合にはシャフト34A~34Dの直径が66μm以下であることが望ましい。なお、可動ユニット31の重量は磁石48A~48D、磁石49A~49Dを備えることから概ね0.5g以上となり、この場合にはシャフト34A~34Dの直径は68μm以下であることが望ましい。また、可動ユニット31の重量が0.5g以上で可動ユニット31の移動量を80μm以上にする場合には、シャフト34A~34Dの直径は62μm以下であることが望ましい。なお、上記ではシャフト34A~34Dの四本として説明したが、シャフトの本数が四本より多い場合には直径は上記範囲より小さい値が望ましい。とくにシャフトとして八本で支持する場合にはシャフトの直径は61μm以下の範囲に含まれることが望ましい。一方、タングステンもしくはタングステンの化合物を用いた場合は、シャフト34A~34Dの直径は、30μm以上60μm未満が適しており、加工性の観点から40μm以上60μm未満がより望ましい。上記のように、シャフト34A~34Dの直径を設計することで、携帯電話などの電子機器に搭載されたカメラのレンズアクチュエータ70として、より適したものとなる。ここで、電子機器に搭載されたカメラのレンズアクチュエータ70では、レンズに傾きが生じると端部においてピントがぼける現象のために画質劣化が生じる。一般に、振れ補正制御が必要とされる例えば8Mピクセル以上の高画素カメラにおいてはレンズ傾きを約0.25°以内に抑えることが望ましい。仮に、レンズアクチュエータ70で、シャフト34A~34D以外の部分が完全な剛体であれば、レンズを含む可動ユニット31がシャフト34A~34Dと直交する方向に移動する際にレンズの傾きは発生しない。しかしながら、実際には、落下強度を保つためにシャフト34A~34Dの端が接続される、可動ユニット31やコイルユニット32は若干の弾性を備える必要がある。そのため、振れ補正制御を行う駆動力や、カメラを傾けたときに加わる重力などによって生じる回転方向の力のモーメントによりレンズの傾きが発生する。レンズの傾きは、部品の寸法ばらつきや組み立てばらつきによっても発生するので、レンズの傾きの合計を約0.25°以下にするためには、上記の回転方向の力のモーメントによって発生するレンズの傾きを0.05°以内にすることが望ましい。このレンズの傾きを抑制するように、シャフト34A~34Dの直径を定めている。これにより、可動ユニット31が移動した際には、光軸方向となる上下方向へのバネ定数が大きく、それに比して光軸方向と直交する前後左右方向へのバネ定数が小さくなる。つまり、手振れ補正を行う駆動力や、カメラを傾けたときに加わる重力などによって生じる回転方向の力のモーメント、或いは部品の寸法ばらつきや組み立てばらつきを加味して、シャフト34A~34Dの直径が設計されている。なお、上記の説明では、シャフト34A~34Dの上端がコイルユニット32に接続されてシャフト34A~34Dの下端が可動ユニット31に接続される構成について説明したが、シャフト34A~34Dの上端が可動ユニット31に接続されてシャフト34A~34Dの下端がコイルユニット32に接続される構成であってもよい。また、本発明のレンズアクチュエータ70によって撮影される映像もしくは画像は、静止画であっても動画であってもよい。また上記の説明では、上カバー36の側面に平行に磁石48A~48D、49A~49Dを配置する構成について説明したが、上カバー36の四隅の位置に磁石48A~48D、49A~49Dを配置する構成であってもよい。また、上記の説明においては、磁石48A~48D、49A~49Dの磁極が形成された面に対向する位置に磁界検出素子62A、62Bを配置する場合について示したが、いずれかの磁石48A~48D、49A~49Dの上面あるいは下面に対向する位置に磁界検出素子62A、62Bを配置してもよい。また、可動ユニット31の位置を検出する手段は磁界検出素子62A、62Bで磁界を検出するものとしたが、赤外線の反射を用いるフォトリフレクターなど磁界検出以外の方法を用いてもよい。また、上記の説明においては、シャフト34A~34Dの四本のシャフトを用いるものとして説明したが、シャフトの本数は三本以上であれば本発明の実施は可能である。このように本実施の形態によれば、可動ユニット31のホルダ47とベース51を接続するシャフト34A~34Dの直径を30μm以上70μm未満とし、シャフト34A~34Dの縦弾性率を100GPa以上500GPa未満としたもので、第二のコイル52A~52Dに流れる電流が小さくても可撓性を備えるため、省電力化に適したレンズアクチュエータ70を得ることができる。また、シャフト34A~34Dの材料をタングステンあるいはタングステンの化合物を含むものとした場合には、シャフト34A~34Dの直径を30μm以上60μm未満とし、シャフト34A~34Dの縦弾性率を350GPa以上500GPa未満とすることで、レンズアクチュエータ70の落下時の強度を、さらに向上することができる。また、シャフト34A~34Dの材料を銅合金とした場合には、シャフト34A~34Dの直径を40μm以上70μm未満とし、シャフト34A~34Dの縦弾性率を100GPa以上150GPa未満とすることで、シャフト34A~34Dを介した給電を効率よく行うことが可能となる。