"液浸リソグラフィ装置の液体封じ込めシステムの表面をクリーニングするクリーニングツールであって、前記液体封じ込めシステムが、自身を通って前記液浸リソグラフィ装置の放射ビームが通過できるようにする開口を有し、前記クリーニングツールが、音響変換器と、前記音響変換器とクリーニングすべき表面との間に液体を保持するリザーバと、使用時に音波に対するシールドを形成するために前記リザーバ内で前記開口の下に配置されたバリアとを備える、クリーニングツール。前記バリアが、使用時に、前記開口内のガスギャップを維持することによって、および/または前記バリアの物理的存在によって、前記シールドを形成する、請求項1に記載のクリーニングツール。さらに、クリーニングすべき前記表面の周囲で前記液体封じ込めシステムの前記表面に前記ツールを密封する外部シーリングを備える、請求項1に記載のクリーニングツール。前記バリアが、前記音響変換器から前記開口までの全直線路にある物理的存在である、請求項1に記載のクリーニングツール。さらに、前記バリアと、前記開口を規定する前記液体封じ込めシステムの内縁との間を密封することによって、液体が前記開口に入るのを防止する内部シーリングを備える、請求項1に記載のクリーニングツール。前記バリアが、液体を前記リザーバ内に提供する液体入口を備える、請求項1に記載のクリーニングツール。前記入口が前記リザーバの頂部付近に配置される、請求項6に記載のクリーニングツール。前記入口が、連続的なスリットとして、または前記バリアの外縁の周囲にある複数の別個の入口として設けられる、請求項6に記載のクリーニングツール。前記バリアが、液体が自身を通って前記リザーバから流出できる出口を備える、請求項1に記載のクリーニングツール。前記出口が、前記バリアの前記音響変換器に面していない側にある、請求項9に記載のクリーニングツール。前記ツールが、前記リザーバからの液体が前記開口と前記バリアの間を流れることができるように構成される、請求項10に記載のクリーニングツール。前記開口と前記バリアの間にある液体の流路が直線ではない、請求項11に記載のクリーニングツール。前記開口と前記バリアの間を流れる液体が、重力で前記出口に入るように、前記バリアおよび出口が形成される、請求項9に記載のクリーニングツール。前記出口が実質的に漏斗形である、請求項9に記載のクリーニングツール。前記出口がパイプに接続され、前記パイプが自身内に流れ絞りを有する、請求項9に記載のクリーニングツール。前記出口がパイプに接続され、前記パイプは、使用時に、液体が前記パイプを通って0.5~3リットル/分の流量で流れるような大きさの低圧源に接続される、請求項9に記載のクリーニングツール。前記バリアは、使用時に、前記バリアの一部が、前記音響変換器から遠い方の端部で最も広い実質的に円錐台形になるように、前記音響変換器からの音波に対してある角度がある表面を有する、請求項1に記載のクリーニングツール。使用時に、前記バリアに配置された入口または出口それぞれを通る液体の供給または収集が、クリーニングすべき前記表面に隣り合う前記リザーバ内に、半径方向外側向きまたは半径方向内側向きの液体の流れを引き起こす、請求項1に記載のクリーニングツール。液体封じ込めシステムとクリーニングツールの組合せであって、前記液体封じ込めシステムが、自身を通って液浸リソグラフィ装置の放射ビームが通過できるようにする開口を備え、前記クリーニングツールが、前記液体封じ込めシステムの表面をクリーニングするように構成され、前記クリーニングツールが、音響変換器と、音響変換器とクリーニングすべき表面との間に液体を保持するリザーバと、使用時に音波に対するシールドを形成するために前記リザーバ内で前記開口の下に配置されたバリアとを備える、組合せ。放射ビームを投影する投影システムと、開口の中に液体を封じ込める液体封じ込めシステムであって、前記開口が、自身を通って前記ビームが通過できるようにされ、且つ投影装置の最終要素に対して開いている、液体封じ込めシステムと、前記液体封じ込めシステムの底面をクリーニングするクリーニングツールであって、音響変換器と、前記音響変換器と前記液体封じ込めシステムの前記底面との間に液体を提供する液体供給デバイスと、音波が前記最終要素に到達するのを防止するためにシールドを形成するバリアとを備える、クリーニングツールと、を備える、リソグラフィ投影装置。前記バリアが、使用時に、その物理的存在によって、および/または前記バリアと前記最終要素の間で前記開口内にガスギャップを維持することによって、シールドを形成する、請求項20に記載の装置。さらに、前記開口と前記バリアの間を密封する剥離可能シールを備える、請求項20に記載の装置。前記バリアの断面が漏斗形である、請求項22に記載の装置。前記バリアが、その上面に出口を備える、請求項20に記載の装置。前記バリアが外部縁を有し、前記縁を越えて流れる液体が全て、重力で前記出口に流入する、請求項20に記載の装置。前記バリアと前記液体封じ込めシステムの間で、前記リザーバから前記開口に入る液体の流路が直線ではない、請求項20に記載の装置。液体封じ込めシステムをクリーニングする方法であって、前記液体封じ込めシステムの底面と音波源の間に液体を提供し、音波を発生して、これを前記液体中で前記底面に向かって誘導し、バリアを使用して、前記液体封じ込めシステムの表面の開口に配置された光学要素に音波が到達するのを防止することを含む方法。前記バリアが、前記光学要素の下の前記開口内のガスギャップを維持することによって、および/またはその物理的存在によって前記音波を妨害することによって、前記音波が前記光学要素に到達することを防止する、請求項27に記載の方法。0010例えば、簡単かつ効果的にクリーニングできるリソグラフィ装置を提供し、さらに液浸リソグラフィ装置を効果的にクリーニングする方法を提供することが望ましい。0011本発明の態様によれば、液浸リソグラフィ装置の液体封じ込めシステムの表面をクリーニングするクリーニングツールが提供され、液体封じ込めシステムは、自身を通って液浸リソグラフィ装置の放射ビームが通過できるようにする開口を有し、クリーニングツールは、音響変換器と、音響変換器とクリーニングすべき表面との間に液体を保持するリザーバと、使用時に音波に対するシールドを形成するためにリザーバ内で開口の下に配置されたバリアと、を備える。0012本発明の態様によれば、液体封じ込めシステムとクリーニングツールの組合せが提供され、液体封じ込めシステムは、自身を通って液浸リソグラフィ装置の放射ビームが通過できるようにする開口を備え、クリーニングツールが、液体封じ込めシステムの表面をクリーニングするように構成され、クリーニングツールが、音響変換器と、音響変換器と、クリーニングすべき表面との間に液体を保持するリザーバと、使用時に音波に対するシールドを形成するためにリザーバ内で開口の下に配置されたバリアと、を備える。0013本発明の態様によれば、放射ビームを投影する投影システムと、自身を通ってビームが通過できるように配置され、投影装置の最終要素に対して開いている開口の中に液体を封じ込めるように構成された液体封じ込めシステムと、液体封じ込めシステムの底面をクリーニングするクリーニングツールであって、音響変換器と、音響変換器と液体封じ込めシステムの底面との間に液体を提供する液体供給デバイスと、音波が最終要素に到達するのを防止するためにシールドを形成するバリアとを備えるクリーニングツールと、を備えるリソグラフィ投影装置が提供される。0014本発明の態様によれば、液体封じ込めシステムをクリーニングする方法が提供され、方法は、液体封じ込めシステムの底面と音波源の間に液体を提供し、音波を発生して、これを液体中で底面に向かって誘導し、バリアを使用して、液体封じ込めシステムの表面の開口に配置された光学要素に音波が到達するのを防止することを含む。0023図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、0024放射ビームB例えばUV放射またはDUV放射を調節するように構成された照明システムイルミネータILと、0025パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続されたサポート構造例えばマスクテーブルMTと、0026基板例えばレジストコートウェーハWを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル例えばウェーハテーブルWTと、0027パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C例えば1つまたは複数のダイを含むに投影するように構成された投影システム例えば屈折投影レンズシステムPSとを含む。0028照明システムは、放射の誘導、整形、または制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、またはその任意の組合せなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。0029サポート構造は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。このサポート構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。サポート構造は、例えばフレームまたはテーブルでよく、必要に応じて固定式または可動式でよい。サポート構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書においてレチクルまたはマスクという用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語であるパターニングデバイスと同義と見なすことができる。0030本明細書において使用するパターニングデバイスという用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。0031パターニングデバイスは透過性または反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルLCDパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。0032本明細書において使用する投影システムという用語は、例えば使用する露光放射、または液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システムおよび静電気光学システム、またはその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において投影レンズという用語を使用した場合、これはさらに一般的な投影システムという用語と同義と見なされる。0033ここに示している本装置は透過タイプである例えば透過マスクを使用する。あるいは、装置は反射タイプでもよい例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射マスクを使用する。0034リソグラフィ装置は2つデュアルステージまたはそれ以上の基板テーブルおよび/または2つ以上のマスクテーブルを有するタイプでよい。このようなマルチステージ機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、1つまたは複数の他のテーブルを露光に使用している間に1つまたは複数のテーブルで予備工程を実行することができる。0035図1を参照すると、イルミネータILは放射源SOから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、それぞれ別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび/またはビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムBDの助けにより、放射源SOからイルミネータILへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源SOおよびイルミネータILは、必要に応じてビームデリバリシステムBDとともに放射システムと呼ぶことができる。0036イルミネータILは、放射ビームの角度強度分布を調節するアジャスタADを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側および/または内側半径範囲一般にそれぞれ、σouterおよびσinnerと呼ばれるを調節することができる。また、イルミネータILは、インテグレータINおよびコンデンサCOなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。また、イルミネータを用いて放射ビームを調整し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。0037放射ビームBは、サポート構造例えばマスクテーブルMT上に保持されたパターニングデバイス例えばマスクMAに入射し、パターニングデバイスによってパターンが与えられる。放射ビームBはパターニングデバイスMAを通り抜けて、基板Wのターゲット部分C上にビームを集束する投影システムPSを通過する。第二ポジショナPWおよび位置センサIF例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサの助けにより、基板テーブルWTを、例えば放射ビームBの経路において様々なターゲット部分Cに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一ポジショナPMおよび別の位置センサ図1には明示されていないを使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、またはスキャン中に、放射ビームBの経路に対してパターニングデバイスMAを正確に位置決めすることができる。一般的に、サポート構造MTの移動は、第一位置決めデバイスPMの部分を形成するロングストロークモジュール粗動位置決めおよびショートストロークモジュール微動位置決めを用いて実現できる。同様に、基板テーブルWTの移動は、第二ポジショナPWの部分を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールの助けにより実現できる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、サポート構造MTをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。パターニングデバイスMAおよび基板Wは、パターニングデバイスアラインメントマークM1、M2および基板アラインメントマークP1、P2を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用のターゲット位置を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよいスクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる。同様に、パターニングデバイスMA上に複数のダイを設ける状況では、パターニングデバイスアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。0038図示のリソグラフィ装置は以下のモードのうち少なくとも1つにて使用可能である。00391.ステップモードにおいては、サポート構造MTおよび基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影されるすなわち1回の静止露光。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向および/またはY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。00402.スキャンモードにおいては、サポート構造MTおよび基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影するつまり1回の動的露光。サポート構造MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大縮小および像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の動的露光におけるターゲット部分の非スキャン方向における幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分のスキャン方向における高さが決まる。00413.別のモードでは、サポート構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動またはスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、またはスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。0042上述した使用モードの組合せおよび/または変形、または全く異なる使用モードも利用できる。0043局所的液体供給システムIHがある液浸リソグラフィの提案されている別の解決策は、液体供給システムに、投影システムの最終要素と基板テーブルの間にある空間の境界の少なくとも一部に沿って延在するバリア部材を設けることである。このような解決策が図5に図示されている。バリア部材は、XY面では投影システムに対して実質的に静止しているが、Z方向光軸の方向には多少の相対的運動がある。ある実施形態では、バリア部材と基板の表面の間にシールが形成され、これはガスシールなどの非接触シールでよい。0044バリア部材12は、投影システムPSの最終要素と基板Wの間の空間11に液体を少なくとも部分的に閉じ込める。液体が基板表面と投影システムの最終要素との間の空間に封じ込められるように、投影システムの像フィールドの周囲に、基板に対する非接触シール16を形成することができる。この空間は、投影システムPSの最終要素の下方に配置され、それを囲むバリア部材12によって少なくとも一部は形成される。液体は、液体入口13によって投影システムの下方でバリア部材12内の空間に運び込まれ、液体出口13によって除去することができる。バリア部材12は、投影システムの最終要素の少し上まで延在し、液体のバッファが提供されるように、液体レベルが最終要素の上まで上昇する。バリア部材12は、その上端が実施形態では投影システムまたはその最終要素の形状に非常に一致することができ、例えば円形でよい内周を有する。底部では、内周は像フィールドの形状に非常に一致し、例えば長方形であるが、そうである必要はない。0045液体は、使用中にバリア部材12の底部と基板Wの表面との間に形成されるガスシール16によって空間11に収容される。ガスシールは、空気または合成空気のような気体で形成されるが、実施形態ではN2または別の不活性ガスであることが好ましく、圧力下で入口15を介してバリア部材12と基板の間のギャップに提供され、出口14を介して抽出される。ガス入口15への過剰圧力、出口14への真空のレベル、およびギャップの幾何学的形状は、液体を封じ込める内側への高速の気体流があるように構成される。これらの入口/出口は、空間11を囲む環状溝でよく、気体16の流れは、液体を空間11に収容させるのに効果的である。このようなシステムが、米国特許出願第US2004-0207824号で開示されている。0046上述したように、液浸リソグラフィ装置は、液体を通して基板に結像する装置である。つまり、投影システムPSの最終要素と基板の間に、液浸液を設ける。この構成は、1つまたは複数の特定の問題を提起する。特に、液体を装置内に封じ込めねばならず、液体は、結像中に欠陥を引き起こす、および/または結像後かつ下流の処理前に基板表面上に残っているような異物粒子が、可能な限りないようにしなければならない。液浸液は、意図的に浮遊する粒子を含むことがある。0047異物粒子の問題に対応する1つの方法は、クリーニングすべき表面にクリーニング液を適用する、および/または音波超音波またはメガ音波を液体中に導入して、表面をクリーニングすることである。クリーニング液は、液浸液と同じであっても、同じでなくてもよい。例えば超純水でよい。0048超音波と比較すると、メガ音波は、非常に小さいキャビテーション泡内破するか振動するを発生し、したがってクリーニングすべき表面に非常に近づくことができる。しかし、メガ音波を使用して液体に導入できるエネルギの量には限りがある。通常、超音波エネルギは、液体のどの部分にも導入することができ、液体全体に分布するが、メガ音波エネルギは、局所でのみ高く、したがってクリーニングすべき表面に直接誘導しなければならない。つまり、メガ音波を導入する変換器と、クリーニングすべき表面との怠惰、直接的な路視線/直線が存在していなければならない。その路の全長を液体で充填する。0049メガ音波の周波数は、一般的に750kHzから3MHzと見なされている。本明細書の目的では、約750kHzより高い、約1Mhz、または1.5MHzより高い周波数を使用する。0050クリーニングすべき対象の表面に近いクリーニング流体の停滞した境界層は、導入された音波エネルギの周波数を増加させると薄くなる。メガ音波の周波数では、メガ音波のパルスおよびクリーニング流体中の高速圧力波での音響流、さらに泡の振動によって、およびこれらより程度は低いがキャビテーションおよび泡の破裂によって、クリーニングが部分的に遂行される。0051メガ音波の周波数では、クリーニングされる表面を損傷せずに、直径が0.5μm未満の粒子を除去することができる。上述したように、変換器からクリーニング中の表面までのクリアな路視線がある。クリーニング効率をさらに上げるために、ガスを液体中に溶解させ、キャビテーション泡の形成を促進することができる。適切なガスは窒素、二酸化炭素または酸素、およびこれらのガス空気を含むの混合物を含むが、オゾン、または水素水を含むなどの他のガスも適切である。液体中で例えば界面活性剤洗剤、石鹸などおよび酸、アルカリ類、または非極性有機溶剤または極性有機溶剤などの溶剤、またはH2O2溶液またはリソグラフィ装置に適切な他の化学物質を使用すると、クリーニング効率をさらに上げることができる。クリーニング液中の洗剤または溶剤を使用するか、H2O2溶液を追加する。これは、流体の酸化性を増大させ、それによって有機汚染物質の除去に役立つことができる。別の例は次亜塩素酸塩である。0052例えば、液体例えば水よりも極性が低い液体混和性溶剤例えば水溶性溶剤を追加することにより、クリーニング流体の極性を変化させることも可能であり、これはアルコール、ケトン、有機酸、アミンなどを含む。アルコールの例は、ジエチルグリコールモノブチルエーテルおよび/またはエトキシ化2次C12-14-アルコール、例えばアルジルオキシポリエチレンオキシエタノールを含む。このような添加剤を追加することに伴う1つの潜在的問題は、その結果のクリーニング流体の引火点が低下することである。したがって、可燃性の危険を引き起こさずに、クリーニング流体の特徴を変化させるために、引火点が高い有機系添加剤を追加することが望ましい。このような添加剤は、N-メチルピロリドンNMP、グリコールエーテルなどを含んでよい。言うまでもなく、他の添加剤を液体に追加してもよい。例えば、除去すべき1つまたは複数の特定の汚染物質を特に化学的に攻撃する化学物質を追加することが望ましい。例えば、メチルエチルケトン、エチルアセテートおよび/またはアセトンなどの化学物質で、レジスト粒子を除去することができる。実施形態では、液体は水、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、およびアルコール、C12-14-2次、エトキシ化、例えばTLDR-A001またはTLDR-A001-C4の混合物でよく、これはTokyoOhkoKogyoCoLtdによって製造されている。0053液浸リソグラフィ装置内でクリーニングしたい対象は、基板Wを支持する基板テーブルWTの1つまたは複数の部品その上面、結像中に液浸液に液浸される投影システムPSの最終要素および/または結像中に投影システムPSの最終要素と基板Wの間に液体を提供する液体封じ込めシステム例えば図2から図5に図示されているようなシステムを含むが、それに制限されない。以下では、本発明の1つまたは複数の実施形態を、基板テーブルおよびバリア部材の上面のクリーニングに関して説明するが、本発明は、基板テーブルおよびバリア部材のクリーニングに制限されない。0054実施形態では、液体供給システムは、音響変換器とクリーニングすべき表面との間に液体を供給する。この実施形態では、液体供給システムが液体の流れを提供し、したがって表面から除去された粒子が運び去られるように、表面がクリーニングされるにつれ、液体が除去される。1つの適切な液体は、極めて純粋な形態の水である。しかし、他のタイプの液体が適切なこともある。さらに、上述したように界面活性剤などの液体を追加することも、有利なことがある。他のクリーニング液は、例えば水/過酸化水素、水/エタノール、水/イソプロピルアルコールIPA、水/アンモニアまたは水/アセトンの混合物である。添加物として有用な他の化学物質は、水酸化テトラメチルアンモニウムTMAHおよびSC-1またはSC-2を含む。0055液体にガスまたは何らかの溶剤を導入する1つの理由は、これが安定したキャビテーションを促進するからである。その結果、液体中に安定した泡が形成される。次に、これらの泡をメガ音波で振動させ、その結果、溶剤が効かして泡に入り、次に内破するか崩壊するキャビテーションである、いわゆる過渡的キャビテーションよりも、クリーニング中の表面への損傷が少ないようであるクリーニングになる。これらの暴力的な内破は、表面の損傷につながり、通常は超音波周波数で見られ、超音波周波数で発生するよりも小さい泡を生成するメガ音波の周波数では、それほど重要ではない。しかし、上述したように、メガ音波は、クリーニングすべき表面の視線で供給しなければならない。0056最大100秒のプロセス時間で、約1MHzの周波数にて最大100の粒子除去効率にすることができる。音響周波数が3MHzをはるかに上回る場合、粒子除去効率は、1MHzよりわずかに高い周波数と比較して、大幅に低下する。液体中にガスを導入すると、粒子除去効率に大きい影響を及ぼす。直径34nmのSiO2粒子の除去は、20ppmのレベルで酸素を液体中に導入すると、ゼロの除去効率から30の除去効率まで上昇させることができる。したがって、約5ppmを超えるガス濃度が有用である。0057温度も重要であり、高温でより少ないガスを溶解させるよりも、高温例えば55°Cで反応時間を速くすることを優勢にしなければならない。0058液体のpHの効果もある。低いpHでは、液体中に多くのHイオンがあり、その結果、表面電荷がプラスになる。同様に、高いpHでは、液体が多くのOHイオンを含み、その結果、表面電荷がマイナスになる。したがって、液体のpHがpH7から確実に離れていると、粒子の除去後に、その再堆積が生じない可能性が高くなる。さらに、粒子と表面の両方がプラスであれマイナスであれ等しい電荷の場合、その間の静電反発力は、粒子を表面から持ち上げることを補助する。0059変換器の力は0.2W/cm2と5W/cm2の間、照射距離は5mmと20mmの間、クリーニング時間は10秒と90秒の間であることが望ましい。メガ音波変換器からの音波が、メガ音波変換器からクリーニングすべき表面への直通路を進む場合、液浸リソグラフィ装置の様々な部品をクリーニングするために、幾つかの設計が提案されている。0060メガ音波クリーナは、表面からの粒子の除去に非常に適している。0061液浸リソグラフィ装置の汚染の問題は、例えば2006年5月22日に出願された米国特許出願第11/437,876で対応されている。この出願では、リソグラフィ装置が、表面を簡単かつ効果的にクリーニングするように構成されたメガ音波変換器を有している。メガ音波変換器は、表面からの粒子の除去に非常に適している。しかし、粒子が再堆積し、クリーニング中の表面に再付着することがある。再堆積は、流体の流れが正確に制御されていない場合に生じ、これは通常、ゼロ流速の1つまたは複数の位置停滞ゾーン、または流体とガス例えば空気との境界面で生じる。したがって、メガ音波変換器とクリーニング中の表面との間に、液体の流れを提供することが望ましい。特に、ゼロ流速の位置停滞ゾーンがないように装置を設計することが望ましい。0062例えば、クリーニング中の表面への汚染粒子の再堆積を最小限にするように、クリーニング流体の流れが効果的に制御されるリソグラフィ装置を提供することによって、粒子の再付着の前述した問題を軽減することが望ましい。粒子が浮遊している液体が迅速に除去されるように、メガ音波変換器とクリーニング中の表面との間に液体の流れを提供することも望ましい。したがって、ゼロ流速の位置停滞ゾーンの数が減少し、再堆積が回避される。0063変換器とクリーニングされる表面との間の距離に、液体の流れがあることが望ましいが、必須ではない。0064表面への粒子の再付着を防止するか、少なくとも軽減する別の方法は、粒子が表面に付着せず、望ましくは表面から反発するような粒子のゼータ電位と表面のゼータ電位であることを保証するために、変換器と表面の間にある液体の1つまたは複数の特性を変化させることである。0065ゼータ電位は、液体中の表面の電位である。ゼータ電位は通常、表面からの距離とともに減少する。所与のタイプの材料は、特定のタイプの液体について、所与のゼータ電位を有する。表面のゼータ電位を変更する1つの方法は、液体中の電解質の濃度を変化させることであり、ゼータ電位を変化させる代替方法またはさらなる方法は、液体のpHを変化させることである。液体中の電解質例えば塩の濃度および/または液体のpHを慎重に選択することにより、i粒子が除去される表面および/または接着を回避すべき任意の他の表面のゼータ電位、およびii粒子のゼータ電位を選択することができる。この2つのゼータ電位は、同じ極性を有し、したがって個々のゼータ電位を有する各対象または対象の一方が他方から反発できるように選択できることが望ましい。0066液体のpHおよび/または電解質の濃度は、クリーニング中の表面の材料に関する知識、および粒子を作成した可能性がある材料のタイプに関する知識により選択することができる。材料が同じである場合、ゼータ電位が表面と粒子の両方についてゼロではないpHおよび/または電解質濃度を選択することは容易なはずである。その状況では、電位は表面と粒子の両方でプラスまたはマイナスになり、したがって相互から反発し、粒子が表面に付着する可能性は低くなる。材料が異なる場合は、pHおよび/または電解質濃度の選択がより困難になることがあるが、ゼータ電位が両方の材料で同じ極性を有する少なくとも1つのpHおよび/または電解質濃度があるようである。0067液体のpHを変化させると、材料の可溶性に悪影響を与えることがあり、これ自体が、汚染させるか、材料の完全性を失わせる結果になることがある。これが問題になる場合は、pHではなく電解質濃度を変化させることが望ましい。よく選択した塩例えばNaClを追加することによって、これを実行すると、液体のpHに大きい影響を与えないつまり液体が中性のままである。0068以上の技術の2つ以上特に、pHおよび/または電解質濃度を変化させて、ゼータ電位を変化させることと表面活性剤を使用することを組み合わせて使用することが、最善の方法になり得る。0069液浸フード例えば図5参照などの液体封じ込めシステムLCSのクリーニング時に遭遇する1つの問題は、クリーニングを下からその場で実行すると、メガ音波が投影システムの最終光学要素例えばレンズを加熱してしまうことである。これは、開口200が液体封じ込めシステムLCSを通して作成されているので、投影システムPSの一部が下から露光されるからである。開口200は、基板の結像中に、液体で充填され、投影ビームPBが開口200を通って基板Wへと至る。したがって、光学要素、通常はWELLEレンズを加熱せず、光学要素にエネルギを分散せずに、液体封じ込めシステムLCSの表面をクリーニングすることが望ましい。米国特許出願第11,437,876号に対する優先権を主張する2007年5月18日出願の米国特許出願第11/802,082号で以前に示されているように、ガス例えば空気のギャップをシールドとして使用し、光学要素をメガ音波から隔離することができる。しかし、特定の状況では、液体がそのギャップに入ることがある。0070実施形態では、板を備えることが望ましいシールドを使用して、投影システムの最終要素をメガ音波および/または液体から保護することができる。シールドは、変換器20と、開口200を通して露光される投影システムPSの部分との間の固体バリア310であることが望ましい。実施形態では、シールドは、変換器20から開口200への全直線路にある物理的存在バリアである。バリアおよび/またはガスギャップ75バリアがその維持に役立っているは、変換器20からの音波振動を開口200から反射するのに効果的である。実施形態では、バリア310は、液体が開口200に入らないように、開口200も密封する。これは、ガスのギャップが保全され、液体が光学要素の表面に接触しないことを保証するのに役立つ。0071図6および図7は、液体封じ込めシステムLCSの下側に固定できるクリーニングツールを示す。図6の実施形態について、最初に説明する。装置は、平面図では全体的に円形であるが、本発明の実施形態は、円形でなくても、任意のタイプの液体封じ込めシステムで作動できることに留意されたい。ツールは、クリーニングツールの本体300を液体封じ込めシステムLCSの下面に密封する外部シーリング400によって、液体封じ込めシステムLCSに固定される。外部シーリング400は通常、Oリングである。外部シーリングは、クリーニングされる液体封じ込めシステムLCSの下側の最大表面を規定する。ツール本体300内には、液体封じ込めシステムLCSの下面にメガ音波を誘導するように構成されたメガ音波変換器20がある。クリーニング流体は、ツール本体300と液体封じ込めシステムLCSの下面との間にある空間を充填し、したがってリザーバを形成する。0072クリーニング装置はシールドを有し、これはリザーバの上面と光学要素の間のガスギャップ75に加えて、変換器20とギャップ75の間に中実の隔離板を形成するバリア310を備える。バリア310は、メガ音波を光学要素から反射させることによって、シールドの有効性を改善する。バリア310は、光学要素に対する傘として機能的に作用する形態であり、つまり光学要素を液体から保護する。傘は、開口200の周囲で液体封じ込めシステムLCS内に形成された内縁318によって規定された開口200を覆い、バリア310傘と液体封じ込めシステムLCSに固定の間の、通常はOリングである内部シーリング500によって液体封じ込めシステムLCSに固定される。内部シーリング500は、クリーニング液がギャップ75に入って、ギャップ75の性能を損なうことを防止する。0073クリーニングツールは、バリア310に取り付けられた管320も備える。管はツール本体300を通過している。管は、クリーニング液をリザーバに供給する入口330を有する。入口は、クリーニング液リザーバの頂部付近に、またはそれに隣接し、液体封じ込めシステムLCS内に形成された内縁318の近くに配置される。入口330は、液体の流れを全ての半径方向に提供するように、1つのスリットとして、または複数の別個の穴として、バリア310の外縁の周囲に設けられる。液体封じ込めシステムLCSの下面には、クリーニング流体を除去するために低圧源例えば湿性真空に接続された出口10が形成される。出口10は、クリーニングされる液体封じ込めシステムLCSに近接、隣接または隣り合い、従来通りの液体封じ込めシステムに既に存在するフィーチャである例えば図2から図4のいずれかの出口OUTおよび/または図5の出口14。したがって、使用時には、クリーニング液がツール本体と液体封じ込めシステムLCSの間を出口に向かって流れる。したがって、この実施形態は、クリーニング中の表面を過ぎる液体の流れも提供する。液体の流れは半径方向であるが、この実施形態では、流れは全体的に外方向である。しかし、変換器20はクリーニングされる表面に対して移動しないので、これはこの実施形態では重要ではない。0074クリーニングツールは、インライン式またはオフライン式の構成で実現することができる。オフライン式構成で実現する場合、液体封じ込めシステムLCSは、クリーニングツールを取り付けるためにリソグラフィ装置から外すことができる。0075図6に示す実施形態には、1つまたは複数の問題がある。潜在的な不安定性の起源は、クリーニングツール内の低圧、つまり低圧への出口10の接続である。吸引は変動することがあり、泡の形成および圧力の変動のせいで、制御することが困難である。低圧が大きすぎる場合は、クリーニング槽内に泡が形成される。泡は、メガ音波変換器20の性能を損なう。液体中に表面活性剤および/または洗剤を使用する場合は、発泡が生じることがある。以下を参照されたい。低圧が小さすぎる場合は、装置内に圧力が蓄積し、それによってクリーニング液が液体封じ込めシステムLCS内の既存の通路を通って流れ、したがってガスギャップ75から溢れる。0076ツールと液体封じ込めシステムLCSの間のシール500が劣化し、液体がギャップ75内に漏れることがある。クリーニング液が光学要素に接触すると、光学要素がメガ音波を吸収し、加熱することがある。メガ音波エネルギによる機械的損傷が問題となることがある。これらの理由から、温度およびメガ音波を絶縁するシールドとしてのガスギャップの性能が、損なわれることがある。0077内部シール500のさらなる、または代替的問題は、クリーニングツールの設計が、内部シール500が機能するために必要なバリア310傘のサイズによって規定されることである。クリーニングツールは一般的なものであり、したがって異なる設計の液体封じ込めシステムLCSには異なる設計のクリーニングツールが必要になる。また、液体封じ込めシステムLCS内には、液体封じ込めシステムLCSの下側に対して開き、さらに開口200と流体連絡する1つまたは複数の開口があってよい。液体が、これらの1つまたは複数の開口を通り、液体封じ込めシステムLCSを通ってギャップ75内へと移動することが可能である。ギャップに入ると、図6の実施形態でその液体を除去する方法はない。0078超純水などのクリーニング液に添加剤例えば界面活性剤および/または洗剤を追加すると、クリーニングを改善することができるが、添加剤は問題を引き起こすことがある。湿性真空システムでは、クリーニング液が攪拌され、これによってクリーニング液が発泡する。発泡が問題となるのは、センサなどのリソグラフィ装置の特定の構成要素が、泡と接触して損傷されることがあるからである。泡によって、リソグラフィ装置は誤作動するか、製造環境のさらなる問題を引き起こすことがある。問題は、湿性真空発生器内で再循環ループを使用することによって強化される。湿性真空によって与えられるよりも低い圧力を使用すると、これによってリザーバ内の圧力が蓄積し、したがって1つまたは複数の開口を通って上述したギャップ75内へと液体を漏れる可能性が高くなる。0079図7および図8には、液体封じ込めシステムLCSの下面に取り付けたクリーニングツールのさらなる実施形態が図示されている。これは、図6に示したツールと同じフィーチャを幾つか有するが、以下のように改造されている。液体30は、リザーバおよびバリア310を通って反対方向に流れ、したがってバリア310内の開口が出口10として働く。バリア310の開口の縁部317が、クリーニングされる液体封じ込めシステムLCSの下面に近接、隣接または隣り合う。液体封じ込めシステムLCSの下面の内縁318とバリア310の間には、クリーニング液30がクリーニングリザーバからシールド310の開口によって規定された出口10内へと流れるのに十分なクリアランスがある。0080バリア310は傘として働き、漏斗形または、言い換えるとリザーバ内の円錐台形である。この形状は、このクリーニングツールの他のフィーチャとともに、使用時に、メガ音波がシールドに入射するのとは異なる角度で光学要素から反射するという点で、絶縁シールドの有効性を改善することができる。液体30は、バリア310の縁部317上を流れ、重力の影響で下向きに出口10に入り、流出管320に入る。したがって、バリア310は、液体が重力によりリザーバを出る出口10を提供する。したがって、システムは、閉じたシステムと見なすことができる図6の実施形態と比較して開いたシステムであると見なすことができる。さらに、出口10および管320が漏斗形である結果、リザーバから液体が穏やかに流出する。これは特に、口および管320が漏斗の形状だからであり、したがって液体は口の傾斜表面を出口の管部分の開始点まで下降する。この方法で、液体には小さい力が加わり、発泡の可能性が低下する。リザーバの中心から液体を抽出する結果、半径方向の流れは、図6の実施形態の半径方向外側向きとは反対に、半径方向内側向きになる。液体の入口が設けられ、これはツール本体300および/または液体封じ込めシステムLCSの表面に設けることができる。0081縁部317には、液体封じ込めシステムLCSの内縁318を補完する断面の変動または形状を設けることができ、したがってリザーバから出るクリーニング液30の流路は、縁部317を内縁318から分離する空間を通る時に湾曲するか、他の方法で方向転換するつまり直線ではない。図8を参照されたい。これは、メガ音波が口200に入るのを防止することができる。代替的または追加的に、縁部317の形状を補完するように、液体封じ込めシステムLCSの内縁318の断面を変動するか、成形することができる。縁部317の頂部の高さ、およびリザーバの静圧が、ギャップ75のサイズを決定する。0082液体の流れは、液体中の泡の発生を回避するために小さい低圧を提供する出口10に接続された遅いポンプ325によって補助することができる。典型的な流量は0.5~3リットル/分である。実施形態では、液体の流れが湿性真空を通過しない。漏斗形のバリア310と遅いポンプの間には、絞り328つまり流れ絞りがあってよく、これは流出管320内にあることが望ましい。絞りは、泡の形成を最小限に抑えるのに役立つ。0083実施形態では、液体をクリーニングツールに通して流すために使用する圧力が、常に同じである。圧力は、漏斗形バリア310の縁部317と、クリーニング液30をリザーバに供給するための入口との高さの差によって決定される。実施形態では、クリーニング装置を動作させるために必要な圧力が、自動的に制御されるので、クリーニング装置は安定したシステムである。したがって、ギャップ75が溢れる危険性が低下し、したがってギャップ75がさらに安定する。ツールは、温度の変動および/またはメガ音波から光学要素を効果的に絶縁するシールドを提供することができる。0084安全性を改善し、さらなる制御を提供するフィーチャは、漏斗形バリア310と平行に設けることができ、インジケータとして使用できるリザーバと流体連絡する管340である。管340内の液体のレベルは、リザーバ内の液体のレベルと同じであり、したがってガスギャップ75が十分に大きいか判断することができる。インジケータは、バリア310内の管内に、ガスギャップ75をクリーニング流体30で溢れさせるような妨害物があるか示すことができる。0085ツール内の圧力が一定であることの利点は、リザーバ内に形成される泡の量を減少させることである。その結果、メガ音波変換器の有効性を向上させることができる。0086クリーニング液がクリーニングツールを通って滑らかに流れるので、既知の湿性真空システムよりもガスとクリーニング液との接触を少なくすることができる。したがって、クリーニングツール内の発泡を減少させることができる。これによって、通常は過度に発泡し、したがって通常は使用が禁止されている添加剤表面活性剤および/または洗剤をクリーニング流体に追加することができる。このような添加剤は、石鹸などの表面活性剤でよい。添加剤は、添加剤の発泡特性を制御する作用物質を含む石鹸処方などの処方でよい。処方がこのような作用物質を含まない場合は、泡消し添加剤を液体に追加して、発泡を抑制し、制御することができる。泡消し剤の例は、パラフィン、ポリグリコール、またはポリジメチルシロキサンなどのシリコーン系の化合物を含むが、それに制限されない。0087実施形態では、システムは閉じずに開いていることに留意されたい。したがって、内部シールの必要性はないなお、外部シールはある。これは、利点を提供することができる。図6の実施形態では、傘310は、液体封じ込めシステムLCS内に形成された口200に適合するような寸法であった。したがって、異なるタイプの液体封じ込めシステムLCSには、わずかに異なる設計のクリーニングツール、および完全に異なるプロセス設定が必要なことがある。図7および図8のクリーニング装置は、幾つかのタイプの液体封じ込めシステムLCSで使用し、固定のプロセス設定を使用することができる。0088図6から図8に示すクリーニングツールは、クリーニング流体30が半径方向の流れを呈するように改造することができる。0089さらに、発泡を回避するために、重力でクリーニングツール内のリザーバからクリーニング液を排出するという概念は、図7および図8に示したタイプに限らず、任意のタイプのクリーニングツールに使用することができる。0090メガ音波クリーニングツールを液体封じ込めシステムLCSに取り付け、変換器20を起動すると、クリーニングされる部分に例えばMHz範囲の振動を引き起こす。この範囲の振動は、泡のキャビテーション、メガ音波のパルシング、および音響波を引き起こすことがあり、これが一緒になってメガ音波クリーニングの基礎となることができる。特に、クリーニング液30は、光学要素をメガ音波エネルギから保護するような方法で供給され、クリーニング流体は、装置の悪影響泡、粒子の再堆積および/または発泡などを回避するような方法で導入される。0091例示的な流体供給構成は、例えばリソグラフィ装置のクリーンさを改善することによって、製品の歩留まりを改善することができ、これは欠陥レベルの低下にも寄与する。0092全ての実施形態はオフライン式に実現することができる。実施形態をインライン式に実現することもできる。0093本文ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用誘導および検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどである。こうした代替的な用途に照らして、本明細書でウェーハまたはダイという用語を使用している場合、それぞれ、基板またはターゲット部分という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことは、当業者に明らかである。本明細書に述べている基板は、露光前または露光後に、例えばトラック通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール、計測ツールおよび/または検査ツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ICを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。0094本明細書で使用する放射およびビームという用語は、紫外線UV放射例えば、365nm、248nm、193nm、157nmまたは126nm、またはその近辺の波長を有するを含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。0095レンズという用語は、状況が許せば、屈折および反射光学部品を含む様々なタイプの光学部品のいずれか、またはその組合せを指す。したがって、レンズは光学要素であり、実施形態では、光学要素はレンズである。0096以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の1つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、またはこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気または光ディスクの形態をとることができる。本発明は、恐らく上述したコンピュータプログラムでプログラムされた制御装置の制御下で実行することができる。0097本発明の1つまたは複数の実施形態は、任意の液浸リソグラフィ装置、特に上述したタイプに、液浸液が槽の形態で設けられるか、基板の局所的表面区域にのみ設けられるかにかかわらず適用することができるが、それに制限されない。本明細書で想定されるような液体供給システムは、広義に解釈されたい。特定の実施形態では、投影システムと基板および/または基板テーブルの間の空間に液体を提供する機構または構造の組合せがあってよい。これは、液体を空間に提供する1つまたは複数の構造、1つまたは複数の液体入口、1つまたは複数のガス入口、1つまたは複数のガス出口、および/または1つまたは複数の液体出口の組合せを備えてよい。実施形態では、空間の表面が基板および/または基板テーブルの一部であるか、空間の表面が、基板および/または基板テーブルの表面を完全に覆うか、空間が基板および/または基板テーブルを囲むことができる。液体供給システムは、任意選択でさらに、液体の位置、量、品質、形状、流量または任意の他の特徴を制御する1つまたは複数の要素を含んでよい。0098装置内で使用する液浸液は、所望の特性および使用される露光放射の波長に従って、異なる組成を有してよい。193nmの露光波長では、超純水または水性組成を使用することができ、この理由から、液浸液を水と呼ぶことがあり、親水性、疎水性、湿度などの水に関連する用語を使用することができる。0099上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。"