"式1-1[式1-1中、Q1は、-CR1R2-、-S-、-NR1-、-CO-又は-O-を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。Y1は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。]で表されるジヒドロキシベンゼン化合物の製造方法であり、以下の1及び2でそれぞれ示される工程を含む製造方法。1式2-1で表される化合物とルイス酸とを混合し、得られた混合物を攪拌する工程[式2-1中、Q1、R1、R2及びY1は、前記と同じ意味であり、Z1及びZ2は、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基を表す。]21で得られた式3-1で表される化合物を含む生成物を還元処理する工程[式3-1中、Q1、およびY1は上記と同じ意味を表す。]前記ルイス酸が塩化アルミニウムである請求項1記載の製造方法。前記1が、前記混合物を-15°C以上70°C以下で攪拌する工程である請求項1又は2記載の製造方法。前記還元処理が、亜ニチオン酸ナトリウム及び金属水素化物からなる群より選ばれる少なくとも1種の還元剤を用いる処理である請求項1~3のいずれか記載の製造方法。前記還元処理が、水と環状エーテル溶媒との混合溶媒中で行われる請求項1~4のいずれか記載の製造方法。請求項1~5のいずれか記載の製造方法により得られる前記式1-1で表される化合物と、式7-1[式7-1中、G1は、2価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、-R3、-OR3、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-NH-で置換されていてもよい。A1は、2価の脂環式炭化水素基又は2価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、-R3、-OR3、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい。R3は、炭素数1~4のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。B1及びE1は、それぞれ独立に、単結合又は2価の連結基を表す。kは、0~3の整数を表す。kが2以上である場合、複数のA1及びB1は、互いに同一でも異なっていてもよい。F1は、炭素数1~12のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-基は、-O-又は-CO-で置換されていてもよい。P1は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基を表す。]で表される化合物とを反応させる工程を含む、式LC-1[式LC-1中、G1、B1、E1、A1、k、F1、P1、Y1及びQ1は、前記と同じ意味を表し、2つのG1は同一又は相異なり、2つのB1は同一又は相異なり、2つのE1は同一又は相異なり、2つのA1は同一又は相異なり、2つのkは同一又は相異なり、2つのF1は同一又は相異なり、2つのP1は同一又は相異なる。D1及びD2は-CO-O-である。]で表される化合物の製造方法。商業的にジヒドロキシベンゼン化合物を製造するうえでは、該ジヒドロキシベンゼン化合物を高収率で製造できることが望ましい。また、従来のジヒドロキシベンゼン化合物の製造方法では、ピリジン塩酸塩によるメトキシ基の脱保護する工程が高温で行われることもあるため、得られるジヒドロキシベンゼン化合物の一部が分解して、褐色味を帯びた生成物が得られる場合があった。本発明は、以下の[1]~[6]を提供するものである。[1]式1-1[式1-1中、Q1は、-CR1R2-、-S-、-NR1-、-CO-又は-O-を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。Y1は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。]で表されるジヒドロキシベンゼン化合物の製造方法であり、以下の1及び2でそれぞれ示される工程を含む製造方法。1式2-1で表される化合物とルイス酸とを混合し、得られた混合物を攪拌する工程[式2-1中、Q1、R1、R2及びY1は、前記と同じ意味であり、Z1及びZ2は、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基を表す。]21で得られた式3-1で表される化合物を含む生成物を還元処理する工程[式3-1中、Q1、およびY1は上記と同じ意味を表す。][2]前記ルイス酸が塩化アルミニウムである、前記[1]記載の製造方法。[3]前記1が、前記混合物を-15°C以上70°C以下で攪拌する工程である、前記[1]又は[2]記載の製造方法。[4]前記還元処理が、亜ニチオン酸ナトリウム及び金属水素化物からなる群より選ばれる少なくとも1種の還元剤を用いる処理である、前記[1]~[3]のいずれか記載の製造方法。[5]前記還元処理が、水と環状エーテル溶媒との混合溶媒中で行われる、前記[1]~[4]のいずれか記載の製造方法。[6]前記[1]~[5]のいずれか記載の製造方法により得られる前記式1-1で表される化合物と、式7-1[式7-1中、G1は、2価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、-R3、-OR3、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-NH-で置換されていてもよい。A1は、2価の脂環式炭化水素基又は2価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、-R3、-OR3、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい。R3は、炭素数1~4のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。B1及びE1は、それぞれ独立に、単結合又は2価の連結基を表す。kは、0~3の整数を表す。kが2以上である場合、複数のA1及びB1は、互いに同一でも異なっていてもよい。F1は、炭素数1~12のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-基は、-O-又は-CO-で置換されていてもよい。P1は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基を表す。]で表される化合物とを反応させる工程を含む、式LC-1[式LC-1中、G1、B1、E1、A1、k、F1、P1、Y1及びQ1は、前記と同じ意味を表し、2つのG1は同一又は相異なり、2つのB1は同一又は相異なり、2つのE1は同一又は相異なり、2つのA1は同一又は相異なり、2つのkは同一又は相異なり、2つのF1は同一又は相異なり、2つのP1は同一又は相異なる。D1及びD2は-CO-O-である。]で表される化合物の製造方法。本発明のジヒドロキシベンゼン化合物の製造方法によれば、高収率で、かつ褐色味の少ないジヒドロキシベンゼン化合物を製造することができる。本明細書において、化学式中に用いられるR1~R10は、以下の意味を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。R3は、炭素数1~4のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。R4は、炭素数1~6のアルキル基を表す。R5は、炭素数1~4のアルキル基を表す。R6は、炭素数1~6のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。炭素数1~4のアルキル基の具体例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基及びtert-ブチル基などである。炭素数1~6のアルキル基の具体例は、炭素数1~4のアルキル基として例示したものに加え、ペンチル基及びヘキシル基などである。アルキル基に含まれる水素原子がフッ素原子で置換されている基としては、炭素数1~4の場合で例示して、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基及びノナフルオロブチル基などのフッ化アルキル基が挙げられる。炭素数5~6の場合は、ウンデカフルオロペンチル基及びトリデカフルオロヘキシル基などのフッ化アルキル基等が挙げられる。本発明は、前記式1-1で表されるジヒドロキシベンゼン化合物以下、場合により化合物1-1というの製造方法であり、1及び2でそれぞれ示される工程を含む。以下、これらの工程を場合により、工程1及び工程2という。1式2-1で表される化合物以下、場合により化合物2-1というとルイス酸とを混合し、得られた混合物を攪拌する工程[式2-1中、Q1、R1、R2及びY1は、前記と同じ意味であり、Z1及びZ2は、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基を表す。]21で得られた、式3-1で表される化合物を含む生成物を還元処理する工程[式3-1中、Q1、およびY1は上記と同じ意味を表す。]Q1としては、-O-、-S-が好ましく、化合物1-1の製造がより容易であることから-S-がより好ましい。Z1及びZ2としては、入手容易な原料から化合物2-1が得られることから、メチル基が好ましい。Y1は、置換基を有していてもよい1価の芳香族炭化水素基又は1価の芳香族複素環基である。Y1が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、-R3、シアノ基、ニトロ基、-SO2R4、-SOR4、-SR4、-OR4、カルボキシ基及び-NR1R5が挙げられる。以下、Y1が有していてもよい、これらの置換基を場合により、Z3という符号で総称する。Y1は例えば、式Y1-1~式Y1-7でそれぞれ表される基である。[式Y1-1~式Y1-7中、Z3は、前記と同じ意味である。V1及びV2は、それぞれ独立に-CO-、-NR3-、-SO2-、又は16族元素を表す。W1~W6は、それぞれ独立に、-CH=又は-N=を表す。ただし、V1、V2及びW1~W6のうち少なくとも1つは、C、S、N、O又はSeを含む基を表す。aは、0~5の整数を表す。bは、0~3の整数を表す。cは、0~2の整数を表す。なお、同一基中に、Z3が複数存在する場合、これら複数のZ3は互いに同一又は相異なる。は結合手を表す。]化合物1-1の安定性に優れ、且つ、化合物1-1の製造がより容易である点で、Y1は、式Y2-1~式Y2-7で表される基のいずれかであることがより好ましい。[式Y2-1~式Y2-7中、Z3、a、b、c及びは、前記と同じ意味を表す。J1及びJ2は、それぞれ独立に-CO-、-NR1-、又は16族元素を表す。L1は、-CH=又は-N=を表す。]さらに、化合物1-1の製造が特に容易である点で、Y1は、式Y3-1~式Y3-4で表される基のいずれかであることが好ましい。L1としては、-CH=がより好ましい。[式Y3-1~式Y3-4中、Z3、a、b、c、J1及びは、前記と同じ意味を表す。]Z3における-SO2R4としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、sec-ブチルスルホニル基、tert-ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基及びヘキシルスルホニル基などが挙げられる。Z3における-SOR4としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、sec-ブチルスルフィニル基、tert-ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基及びヘキシル基スルフィニルなどが挙げられる。Z3における-SR4としては、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、sec-ブチルスルファニル基、tert-ブチルスルファニル基、ペンチルスルファニル基及びヘキシルスルファニル基などが挙げられる。Z3における-OR4としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基などが挙げられる。Z3における-NR1R5としては、N-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基、N-ブチルアミノ基、N-イソブチルアミノ基、N-sec-ブチルアミノ基、N-tert-ブチルアミノ基、N-ペンチルアミノ基及びN-ヘキシルアミノ基などのN-モノアルキルアミノ基;N,N-ジメチルアミノ基、N-メチル-N-エチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N,N-ジイソプロピルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ基、N,N-ジイソブチルアミノ基、N,N-ジペンチルアミノ基及びN,N-ジヘキシルアミノ基などのN,N-ジアルキルアミノ基が挙げられる。以上、Z3の具体例を示したが、これらの中でも、Z3としては、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、sec-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シアノ基、ニトロ基、メチルスルホニル基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、N,N-ジメチルアミノ基及びN-メチルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、sec-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シアノ基、ニトロ基及びトリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、sec-ブチル基及びペンチル基及びヘキシル基が特に好ましい。以上、Z3をその具体例を示して説明したが、Y1の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基は無置換であるか、1つのZ3を有する芳香族炭化水素基、又は1つのZ3を有する芳香族複素環基が好ましい。V1及びV2は、それぞれ独立に、-S-、-NR1-又は-O-であることが好ましい。化合物1-1の好ましい例としては、以下の化合物A-001~A-076が挙げられる化合物2-1の好ましい例としては、以下の化合物B-001~化合物B-076が挙げられる。工程1は、化合物2-1とルイス酸とを混合し、攪拌する工程である。化合物2-1とルイス酸とを混合することにより、化合物2-1中のZ1で表される基及びZ2で表される基が脱離して、化合物1-1が生成する。それと同時に、副生成物として、式3-1で表される化合物以下、場合により化合物3-1というが生成する場合が多い。[式3-1中、Q1及びY1は前記と同じ意味を表す。]このような化合物3-1は、本発明の製造方法に用いた化合物2-1のQ1及びY1に対応するものが副生することになる。その具体例を挙げると、例えば、以下の式C-001~式C-076でそれぞれ表されるものが挙げられる。前記ルイス酸としては、塩化アルミニウム、三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、三塩化ホウ素、四塩化チタン及び四塩化スズなどが挙げられ、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、四塩化チタン及び四塩化スズが好ましく、塩化アルミニウムがより好ましい。これらのルイス酸は比較的、安定であり、その取り扱いが容易であるという利点がある。前記ルイス酸とともに、反応をより進行させるために、エタンチオール、t-ブチルチオール、エタンジチオール、プロパンチオール、ドデカンチオール及びチオフェノールなどのチオール類を併用してもよい。ルイス酸の使用量は、化合物2-1に対して1当量~10当量の範囲が好ましく、1当量~8当量の範囲がより好ましく、2当量~5当量の範囲がさらに好ましい。工程1は溶媒の存在下に行われることが好ましい。工程1に用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール、フェノール、クロロベンゼン及びニトロベンゼンなどの芳香族溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素及びトリクロロエタンなどの含ハロゲン溶媒が好ましい。中でも、トルエン、キシレン、あるいはトルエン又はキシレンを含む混合溶媒を用いることがより好ましく、トルエン又はキシレンを用いることがより好ましい。これらの溶媒を用いて、化合物2-1とルイス酸との混合液を作製することにより、取り扱いが容易であり、かつルイス酸を失活させる水分の混入を少なくすることができる。工程1における攪拌する温度は特に制限がないが、-20°C~120°Cの範囲が好ましく、-15°C~100°Cの範囲がより好ましく、-15°C~80°Cの範囲がさらに好ましい。工程1における攪拌する時間は、1~72時間の範囲が好ましく、2~48時間の範囲がより好ましい。攪拌後、前記混合液と塩酸水溶液などとを混合して前記混合液中のルイス酸を失活させた後、水層を除去すればルイス酸を除去できる。副生した化合物3-1とルイス酸とが複合体を形成する場合、該複合体が粘稠液体となり、前記混合液中で相分離することがある。このような状態の前記混合液に塩酸水溶液を注ぎこむと、生成物が硬く大きな塊を形成してしまい、ルイス酸を除去しきれない恐れがある。このような場合には、前記混合液中の溶媒層をデカンテーションにより除去した後、アセトニトリルなどの水溶性有機溶媒を加えて前記粘稠液体を溶解させ、次いで塩酸水溶液を加えて、生じた沈殿を濾過などにより集めれば、ルイス酸が除去された生成物を得ることができる。上記デカンテーションにより除去した前記溶媒層に含まれる化合物3-1は、後述の還元処理によって化合物1-1として回収することができる。工程2は、1で得られた生成物を還元処理する工程である。該生成物を還元処理することにより、該生成物中に化合物3-1が含まれていれば、当該化合物3-1を化合物1-1に変換することができる。この還元処理によって、化合物1-1の収率をより向上させることができる。また、工程1で得られた生成物中の化合物3-1の含有量を分析する工程、及び化合物3-1を分離する工程も省略することができる。前記還元処理に係る方法としては、ボラン及びジボランなどのホウ素化合物;ヒドラジン;水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム及び水素化ホウ素リチウムなどの金属水素化物;金属水素化物とルイス酸とを組み合わせた還元剤;亜ニチオン酸ナトリウム等の還元剤を作用させる方法、及びパラジウム炭素を触媒として接触水素還元する方法などが挙げられる。中でも、亜二チオン酸ナトリウム及び金属水素化物からなる群より選ばれる少なくとも1種の還元剤を用いて還元する方法が、安全性の点や水系で反応を行える点で好ましい。ホウ素化合物又は金属水素化物を還元剤として用いる方法では、テトラヒドロフラン、ジオキサン及びエチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル溶媒中で反応させることが好ましい。パラジウム炭素を触媒として接触水素還元する方法では、テトラヒドロフラン、ジオキサン及びエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール溶媒中で反応させることが好ましい。この還元反応を促進させるために、触媒量の酸を加えてもよい。亜二チオン酸ナトリウムを用いる還元処理の方法としては、例えば、以下の方法が挙げられ、中でも1または2が好ましい。1化合物3-1を含む反応生成物を亜ニチオン酸ナトリウム溶液に分散または接触させて反応させる方法2予め化合物3-1を含む反応生成物を非極性溶媒に溶解させた後、亜二チオン酸ナトリウム水溶液と混合して二層系で反応させる方法3有機溶媒に化合物3-1を含む反応生成物を溶解させ、該溶液中に亜ニチオン酸ナトリウムを分散させて反応させる方法前記1において、亜ニチオン酸ナトリウム溶液を調製するための溶媒としては、水、水とエーテル溶媒例えばテトラヒドロフラン、ジオキサンなどとの混合溶媒、及び、水とアルコール溶媒例えばメタノール、エタノール、イソプロパノールなどとの混合溶媒が挙げられる。特に、水とエーテル溶媒との混合溶媒、又は水とアルコール溶媒との混合溶媒を用いると、還元反応が速やかに進行する傾向がある。化合物3-1の含有量が少ないときには、固体として取り出した化合物3-1を含む反応生成物に亜ニチオン酸ナトリウム溶液をかけ洗いなどの方法で接触させて還元処理をしてもよい。前記2において、用いられる非極性溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、トルエン及びエーテルなどが挙げられる。還元反応の際、テトラブチルアンモニウムブロミドなどの界面活性剤、クラウンエーテルなどの相間移動触媒を用いてもよい。前記3において、用いられる有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、メチルセルソルブ及びエチルセルソルブなどが挙げられる。還元処理における温度は特に制限されないが、上記のいずれの方法においても、-20°C~100°Cの範囲が好ましく、0°C~80°Cの範囲がより好ましく、15°C~60°Cの範囲が特に好ましい。還元処理を行う時間は、1分~72時間が好ましく、1分~24時間がより好ましい。前記還元剤の使用量は、工程1で用いた化合物2-1の量に対して、1当量~100当量の範囲が好ましく、1当量~50当量の範囲がより好ましく、1当量~30当量の範囲がさらに好ましい。還元処理後の反応混合物から化合物1-1を取り出すには、各種公知の方法によればよい。また、再結晶、再沈殿及びクロマトグラフィー法などの公知の精製手段を用いることで、化合物1-1をさらに精製することもできる。かくして得られた化合物1-1と、式7-1で表される化合物以下、場合により化合物7-1というとを反応させる、具体的にはエステル化反応させることにより、式LC-1で表される化合物以下、場合により、化合物LC-1というを得ることができる。[式7-1中、G1は、2価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、-R3、-OR3、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-NH-で置換されていてもよい。A1は、2価の脂環式炭化水素基又は2価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、-R3、-OR3、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい。R3は、炭素数1~4のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。B1及びE1は、それぞれ独立に、単結合又は2価の連結基を表す。kは、0~3の整数を表す。kが2以上である場合、複数のA1及びB1は、互いに同一でも異なっていてもよい。F1は、炭素数1~12のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-基は、-O-又は-CO-で置換されていてもよい。P1は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基を表す。][式LC-1中、G1、B1、E1、A1、k、F1、P1、Y1及びQ1は、前記と同じ意味を表し、2つのG1は同一又は相異なり、2つのB1は同一又は相異なり、2つのE1は同一又は相異なり、2つのA1は同一又は相異なり、2つのkは同一又は相異なり、2つのF1は同一又は相異なり、2つのP1は同一又は相異なる。D1及びD2は-CO-O-である。]G1としては、式g-1~式g-10のいずれかで表されるヘテロ原子を含んでもよい脂環式炭化水素基が挙げられる。これらのうち、5員環又は6員環を含む基が好ましい。また、前記式g-1~g-10でそれぞれ表される基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、-R3、-OR3、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい。G1としては、シクロヘキサン-1,4-ジイル基であることが好ましく、トランス-シクロヘキサン-1,4-ジイル基であることがより好ましい。B1及びE1における2価の連結基としては、例えば、-CR7R8-、-CH2-CH2-、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CS-O-、-O-CS-O-、-CO-NR1-、-CH2-O-、-CH2-S-、-NR1-、-CR7=CR8-及び単結合等が挙げられる。R7及びR8は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1~4のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましい。E1としては、-CO-O-、-O-CO-O-、-CO-NR1-、-CH2-O-、-CH2-S-及び単結合が好ましく、-CO-O-がより好ましい。R1は、水素原子、メチル基又はエチル基であることが好ましい。B1は、A1のみに結合しているB1が、-CH2-CH2-、-CO-O-、-CO-NH-、-O-CH2-又は単結合であることが好ましく、化合物LC-1が特に高い液晶性を示すという点で、-CO-O-がより好ましい。F1に結合しているB1は、-O-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CO-NH-又は単結合であることが好ましい。A1における2価の脂環式炭化水素基としては、上記式g-1~式g-10で表される基などが挙げられる。また、A1における炭素数6~20の2価の芳香族炭化水素基としては、式a-1~式a-8で表されるが挙げられる。上記式a-1~式a-8で表される基の水素原子の一部が、メチル基、エチル基、イソプロピル基又はtert-ブチル基などの炭素数1~4程度のアルキル基;メトキシ基又はエトキシ基などの炭素数1~4程度のアルコキシ基;トリフルオロメチル基;トリフルオロメチルオキシ基;シアノ基;ニトロ基;フッ素原子、塩素原子又は臭素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。A1は、p-フェニレン基及びシクロヘキサン-1,4-ジイル基が好ましく、p-フェニレン基がより好ましい。A1が上記の基であると、化合物LC-1の製造が容易である。良好な液晶性を示す化合物LC-1を得る観点からは、2つのkは、それぞれ独立に、0~2の整数であることが好ましい。2つのkの合計は、5以下が好ましく、4以下がより好ましい。F1としては、-CH23-、-CH24-、-CH25-、-CH26-、-CH27-、-CH28-、-CH29-、-CH210-、-CF24-、-CF26-及び-CF28-が好ましく、-CH24-及び-CH26-がより好ましい。2つのP1は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基を表す。化合物LC-1を光学フィルム製造に用いる場合、2つのP1のうち少なくとも1つは、重合性基であることが好ましく、2つのP1がともに重合性基であることがより好ましい。2つのP1が重合性基であると、得られる光学フィルムの膜硬度に優れる傾向がある。重合性基とは、化合物LC-1の重合反応に関与し得る基であればよく、具体的には、ビニル基、ビニルオキシ基、スチリル基、p-2-フェニルエテニルフェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、カルボキシ基、アセチル基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、炭素数1~4のN-アルキルアミノ基、アミノ基、オキシラニル基、オキセタニル基、ホルミル基、イソシアナト基及びイソチオシアナト基等が挙げられる。中でも、F1とエーテル結合又はエステル結合を介して結合している基が好ましく、光重合に適するという点で、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易で、化合物LC-1の製造も容易であるという点でアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基がより好ましく、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。化合物LC-1において、-D1-G1-E1-A1-B1k-F1-P1で表される、2つの基は互いに同一であることが好ましい。-D1-G1-E1-A1-B1k-F1-P1で表される基の具体的例としては、式R-1~式R-104でそれぞれ表される基が挙げられる。は結合手を表す。また式R-1~式R-104におけるnは2~12の整数を表す。またシクロヘキサン環はトランス体であることが好ましい。上記-D1-G1-E1-A1-B1k-F1-P1で表される基の具体例のうち、合成の工程数が少なく、光学特性に優れることから、式R-1~式R-40のいずれかで表される基である化合物LC-1がより好ましく、該化合物LC-1の液晶性に優れることから、式R-1~式R-36のいずれかで表される基を有する化合物LC-1が特に好ましい。化合物1-1及び化合物7-1を反応させて、化合物LC-1を得るためには、例えば、化合物7-1に二塩化オキサリル、塩化チオニルを反応させて酸クロリドとしたのちに、この酸クロリドと、化合物1-1と反応させる方法、又は化合物7-1と化合物1-1とを、縮合剤を用いて脱水縮合させる方法といったエステル化反応による。酸クロリドを生成させるために適宜、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルイミダゾリジンを触媒と加えてもよい。化合物7-1の安定性の観点から、該エステル化反応は後者の方法、すなわち、縮合剤を用いた脱水縮合であることがより好ましい。前記縮合剤としては、1-シクロヘキシル-3-2-モルホリノエチルカルボジイミドメト-パラ-トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩一部水溶性カルボジイミド:WSCとして市販されている、ビス2、6-ジイソプロピルフェニルカルボジイミド、ビストリメチルシリルカルボジイミド、N、N’-ジイソプロピルカルボジイミド、などのカルボジイミド、2-メチル-6-ニトロ安息香酸無水物、2,2’-カルボニルビス-1H-イミダゾール、1,1’-オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、14-ニトロベンゼンスルフォニル-1H-1、2、4-トリアゾール、1H-ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、1H-ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリスジメチルアミノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、N,N,N’,N’-テトラメチル-O-N-スクシンイミジルウロニウムテトラフルオロボレート、N-1,2,2,2-テトラクロロエトキシカルボニルオキシスクシンイミド、N-カルボベンゾキシスクシンイミド、O-6-クロロベンゾトリアゾール-1-イル-N,N,N’,N’-テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、O-6-クロロベンゾトリアゾール-1-イル-N,N,N’,N’-テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、2-ブロモ-1-エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、2-クロロ-1,3-ジメチルイミダゾリニウムクロリド、2-クロロ-1,3-ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、2-クロロ-1-メチルピリジニウムアイオダイド、2-クロロ-1-メチルピリジニウムパラートルエンスルホネート、2-フルオロ-1-メチルピリジニウムパラートルエンスルホネート、トリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステルなどが挙げられる。反応性に優れ、低コストであり、種々の溶媒が使用できるという点から、縮合剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミド、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩、ビス2、6-ジイソプロピルフェニルカルボジイミド、ビストリメチルシリルカルボジイミド、N、N’-ジイソプロピルカルボジイミド及び2,2’-カルボニルビス-1H-イミダゾールがより好ましい。化合物LC-1としては、式A1~式A76で表される化合物が挙げられる。式A1中の2つのは、A1-1~A1-8のいずれかのと結合している。式A2中の2つのは、A2-1~A2-8のいずれかのと結合している。式A3中の2つのは、A3-1~A3-8のいずれかのと結合している。式A4中の2つのは、A4-1~A4-8のいずれかのと結合している。式A5中の2つのは、A5-1~A5-8のいずれかのと結合している。式A6中の2つのは、A6-1~A6-8のいずれかのと結合している。式A7中の2つのは、A7-1~A7-8のいずれかのと結合している。式A8中の2つのは、A8-1~A8-8のいずれかのと結合している。式A9中の2つのは、A9-1~A9-8のいずれかのと結合している。式A10中の2つのは、A10-1~A10-8のいずれかのと結合している。式A11中の2つのは、A11-1~A11-8のいずれかのと結合している。式A12中の2つのは、A12-1~A12-8のいずれかのと結合している。式A13中の2つのは、A13-1~A13-8のいずれかのと結合している。式A14中の2つのは、A14-1~A14-8のいずれかのと結合している。式A15中の2つのは、A15-1~A15-8のいずれかのと結合している。式A16中の2つのは、A16-1~A16-8のいずれかのと結合している。式A17中の2つのは、A17-1~A17-8のいずれかのと結合している。式A18中の2つのは、A18-1~A18-8のいずれかのと結合している。式A19中の2つのは、A19-1~A19-8のいずれかのと結合している。式A20中の2つのは、A20-1~A20-8のいずれかのと結合している。式A21中の2つのは、A21-1~A21-8のいずれかのと結合している。式A22中の2つのは、A22-1~A22-8のいずれかのと結合している。式A23中の2つのは、A23-1~A23-8のいずれかのと結合している。式A24中の2つのは、A24-1~A24-8のいずれかのと結合している。式A25中の2つのは、A25-1~A25-8のいずれかのと結合している。式A26中の2つのは、A26-1~A26-8のいずれかのと結合している。式A27中の2つのは、A27-1~A27-8のいずれかのと結合している。式A28中の2つのは、A28-1~A28-8のいずれかのと結合している。式A29中の2つのは、A29-1~A29-8のいずれかのと結合している。式A30中の2つのは、A30-1~A30-8のいずれかのと結合している。式A31中の2つのは、A31-1~A31-8のいずれかのと結合している。式A32中の2つのは、A32-1~A32-8のいずれかのと結合している。式A33中の2つのは、A33-1~A33-8のいずれかのと結合している。式A34中の2つのは、A34-1~A34-8のいずれかのと結合している。式A35中の2つのは、A35-1~A35-8のいずれかのと結合している。式A36中の2つのは、A36-1~A36-8のいずれかのと結合している。式A37中の2つのは、A37-1~A37-8のいずれかのと結合している。式A38中の2つのは、A38-1~A38-8のいずれかのと結合している。式A39中の2つのは、A39-1~A39-8のいずれかのと結合している。式A40中の2つのは、A40-1~A40-8のいずれかのと結合している。式A41中の2つのは、A41-1~A41-8のいずれかのと結合している。式A42中の2つのは、A42-1~A42-8のいずれかのと結合している。式A43中の2つのは、A43-1~A43-8のいずれかのと結合している。式A44中の2つのは、A44-1~A44-8のいずれかのと結合している。式A45中の2つのは、A45-1~A45-8のいずれかのと結合している。式A46中の2つのは、A46-1~A46-8のいずれかのと結合している。式A47中の2つのは、A47-1~A47-8のいずれかのと結合している。式A48中の2つのは、A48-1~A48-8のいずれかのと結合している。式A49中の2つのは、A49-1~A49-8のいずれかのと結合している。式A50中の2つのは、A50-1~A50-8のいずれかのと結合している。式A51中の2つのは、A51-1~A51-8のいずれかのと結合している。式A52中の2つのは、A52-1~A52-8のいずれかのと結合している。式A53中の2つのは、A53-1~A53-8のいずれかのと結合している。式A54中の2つのは、A54-1~A54-8のいずれかのと結合している。式A55中の2つのは、A55-1~A55-8のいずれかのと結合している。式A56中の2つのは、A56-1~A56-8のいずれかのと結合している。式A57中の2つのは、A57-1~A57-8のいずれかのと結合している。式A58中の2つのは、A58-1~A58-8のいずれかのと結合している。式A59中の2つのは、A59-1~A59-8のいずれかのと結合している。式A60中の2つのは、A60-1~A60-8のいずれかのと結合している。式A61中の2つのは、A61-1~A61-8のいずれかのと結合している。式A62中の2つのは、A62-1~A62-8のいずれかのと結合している。式A63中の2つのは、A63-1~A63-8のいずれかのと結合している。式A64中の2つのは、A64-1~A64-8のいずれかのと結合している。式A65中の2つのは、A65-1~A65-8のいずれかのと結合している。式A66中の2つのは、A66-1~A66-8のいずれかのと結合している。式A67中の2つのは、A67-1~A67-8のいずれかのと結合している。式A68中の2つのは、A68-1~A68-8のいずれかのと結合している。式A69中の2つのは、A69-1~A69-8のいずれかのと結合している。式A70中の2つのは、A70-1~A70-8のいずれかのと結合している。式A71中の2つのは、A71-1~A71-8のいずれかのと結合している。式A72中の2つのは、A72-1~A72-8のいずれかのと結合している。式A73中の2つのは、A73-1~A73-8のいずれかのと結合している。式A74中の2つのは、A74-1~A74-8のいずれかのと結合している。式A75中の2つのは、A75-1~A75-8のいずれかのと結合している。式A76中の2つのは、A76-1~A76-8のいずれかのと結合している。本発明の製造方法により得られる化合物1-1は着色が少ないものであるため、これを原料として製造される化合物LC-1も着色が少ないものが得られる傾向がある。そのため、化合物LC-1は光学フィルムを作製するための重合性液晶化合物として有用である。化合物1-1により得られる化合物LC-1は例えば、該化合物LC-1、重合開始剤、レベリング剤及び溶剤を含む液晶組成物を調製し、該液晶組成物を配向膜上に塗布し、塗布膜中の化合物LC-1を重合させることにより、可視光領域の透過率に優れた光学フィルムを得ることができる。前記液晶組成物には、必要に応じて、化合物LC-1とは異なる液晶化合物以下、場合によち液晶化合物Aという、光増感剤、重合禁止剤を含有してもよい。前記液晶組成物に含まれる各成分は、それぞれ単独で又は2種類以上を組み合わせて用いてもよい。以下、この液晶組成物について説明する。前記の液晶化合物Aの具体例としては、液晶便覧液晶便覧編集委員会編、丸善株平成12年10月30日発行の3章分子構造と液晶性の、3.2ノンキラル棒状液晶分子、3.3キラル棒状液晶分子に記載された化合物が挙げられる。なかでも、重合性基を有していてかつ液晶性を示す化合物が好ましい。前記液晶組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤は、光重合開始剤を含むことが好ましく、光重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤としては、たとえばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩などが挙げられる。ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’-テトラtert-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。アルキルフェノン化合物としては、例えば、α,α-ジエトキシアセトフェノン、2-メチル-2-モルホリノ-1-4-メチルスルファニルフェニルプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルホリノフェニルブタン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1,2-ジフェニル-2,2-ジメトキシ-1-エタノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-4-2-ヒドロキシエトキシフェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-4-1-メチルビニルフェニルプロパン-1-オンのオリゴマーなどが挙げられる。アシルホスフィンオキサイド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。トリアジン化合物としては、例えば、2,4-ビストリクロロメチル-6-4-メトキシフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-4-メトキシナフチル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-4-メトキシスチリル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-5-メチルフラン-2-イルエテニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-フラン-2-イルエテニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニルエテニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビストリクロロメチル-6-2-3,4-ジメトキシフェニルエテニル-1,3,5-トリアジンなどが挙げられる。光重合開始剤としては、イルガキュアIrgacure907、イルガキュア184、イルガキュア651、イルガキュア819、イルガキュア250、イルガキュア369以上、全てチバジャパン株式会社製、セイクオールBZ、セイクオールZ、セイクオールBEE以上、全て精工化学株式会社製、カヤキュアーkayacureBP100日本化薬株式会社製、カヤキュアーUVI-6992ダウ社製、アデカオプトマーSP-152、アデカオプトマーSP-170以上、全て株式会社ADEKA製、TAZ-A、TAZ-PP以上、日本シイベルヘグナー社製及びTAZ-104三和ケミカル社製等の市販の光重合開始剤も用いることができる。得られる光学フィルムの耐熱性及び耐湿熱性が高くなる傾向があるという点で、光重合開始剤としては、アルキルフェノン化合物及びアシルホスフィンオキサイド化合物が好ましい。前記液晶組成物における重合開始剤の含有量は、液晶化合物の合計100質量部に対して、0.1質量部~30質量部であり、好ましくは、0.5質量部~10質量部である。ここで、液晶化合物の合計とは、化合物LC-1と液晶化合物Aとを合わせた量のことをいう。上記範囲内であれば、前記液晶化合物の配向の乱れを抑制した上で、化合物LC-1を重合させることができる。前記液晶組成物は、光増感剤を含有してもよい。光増感剤としては、例えばキサントン又はチオキサントン等のキサントン化合物例えば、2,4-ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン等、アントラセン又はアルコキシ基等の置換基を有するアントラセン系化合物、フェノチアジン或いはルブレンを挙げることができる。光増感剤を用いることにより、化合物LC-1の重合反応を高感度で行ったり、重合して得られる光学フィルムの経時安定性を向上させたりすることができる。また光増感剤の含有量としては、液晶化合物との合計100質量部に対して、0.1質量部~30質量部であり、好ましくは0.5質量部~10質量部である。上記範囲内であれば、前記液晶化合物の配向の乱れを抑制した上で、化合物LC-1を重合させることができる。前記液晶組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤としては、ハイドロキノン又はアルコキシ基等の置換基を有するハイドロキノン化合物、ブチルカテコール等のアルキル基等の置換基を有するカテコール化合物、ピロガロール化合物、2,2、6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカルなどのラジカル補足剤、チオフェノール化合物、β-ナフチルアミン化合物或いはβ-ナフトール化合物などを挙げることができる。重合禁止剤を用いることにより、液晶化合物Aや化合物LC-1の重合を容易に制御することができ、得られる光学フィルムの安定性を向上させることができる。また重合禁止剤の含有量は、液晶化合物の合計100質量部に対して、0.1質量部~30質量部であり、好ましくは0.5質量部~10質量部である。上記範囲内であれば、前記液晶化合物の配向の乱れを抑制した上で、化合物LC-1を重合させることができる。さらに前記液晶組成物は、レベリング剤を含有してもよい。レベリング剤としては、例えば放射線硬化塗料用添加剤ビックケミージャパン製:BYK-352,BYK-353,BYK-361N、塗料添加剤東レダウコーニング株式会社製:SH28PA、DC11PA、ST80PA、塗料添加剤信越化学工業株式会社製:KP321、KP323、X22-161A、KF6001又はフッ素系添加剤DIC株式会社製:F-445、F-470、F-479等を挙げることができる。レベリング剤を用いることにより、より平滑な光学フィルムを得ることができる。さらに光学フィルムの製造過程で、前記液晶組成物の流動性を制御したり、得られる光学フィルム中の架橋密度を調整したりすることができる。レベリング剤の使用量の具体的な数値は、例えば液晶化合物の合計100質量部に対して、0.01質量部~30質量部であり、好ましくは0.05質量部~10質量部である。上記範囲内であれば、液晶化合物の配向の乱れを抑制できる。前記液晶組成物は、その流動性の点で、溶剤を含むことが好ましい。溶媒としては、化合物LC-1、液晶化合物Aなどを溶解し得る溶剤であって、これらの重合反応に不活性な溶剤であればよく、具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤;トルエン、キシレン、フェノール等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤;アセトニトリル等のニトリル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤;クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤;フェノール等が挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。特に、化合物LC-1を含む液晶組成物は、相溶性に優れ、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、非塩素化脂肪族炭化水素溶剤及び非塩素化芳香族炭化水素溶剤に溶解し得るため、クロロホルム等の塩素化炭化水素溶剤を用いることなく、成膜することができる。溶剤の含有量は、前記液晶組成物に対して、好ましくは50質量~98質量であり、より好ましくは50~95質量である。換言すると、前記液晶組成物中の固形分の濃度は、2~50質量であり、5~50質量が好ましい。固形分の濃度が2質量以上であると、光学フィルムが薄くなりすぎず、液晶パネルの光学補償のために必要な複屈折率を有する光学フィルムが得られやすい傾向がある。また、固形分の濃度が50質量以下であると、組成物の粘度が小さくなりすぎず、光学フィルムの膜厚のムラが生じにくくなる傾向がある。ここで、固形分とは、前記液晶組成物から溶剤を除いた成分をいう。前記液晶組成物が溶剤を含む場合、その粘度は、光学フィルムの膜厚のムラが生じにくくなる傾向があるという点で、0.1~10mPas、好ましくは0.1~7mPasである。得られる光学フィルムとは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムをいう。光学的な機能とは、屈折、複屈折などを意味する。光学フィルムの一種である位相差フィルムは、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光又は楕円偏光を直線偏光に変換したりするために用いられる。前記光学フィルムは、化合物LC-1に由来する構造単位を有し、該構造単位の含有量を変更することにより、光学フィルムの波長分散特性を調整することができる。光学フィルムに含まれる全構造単位中、本発明の製造方法により得られる化合物に由来する構造単位の含有量が多くなれば、長波長になるほど複屈折が大きくなる性質いわゆる逆波長分散特性を示しやすくなる傾向がある。具体的には、以下のa~eに示す操作により決定した、化合物LC-1に由来する構造単位の含有量を含む光学フィルムが得られるような液晶組成物を調製すればよい。a化合物LC-1の含有量が異なる液晶組成物を2~5種類程度調製する、b調製したそれぞれの液晶組成物について、同じ膜厚であり、化合物LC-1に由来する構造単位の含有量が異なる光学フィルムを製造する、cbで得られた光学フィルムの位相差値を求める、dcで得られた位相差値に基づいて、化合物LC-1に由来する構造単位の含有量と光学フィルムの位相差値との相関を求める、edで得られた相関関係から、上記膜厚における光学フィルムに所望の位相差値を与えるために必要な本発明の化合物に由来する構造単位の含有量を決定する。ある波長λにおける位相差値Reλを550nmにおける位相差値Re550で除した値Reλ/Re550が1に近い波長域や、[Re450/Re550]<1かつ[Re650/Re550]>1の逆波長分散性を示す波長域では、一様の偏光変換が可能である。光学フィルムは、前記液晶組成物を塗布し、乾燥し、光照射及び/又は加熱することで、該液晶組成物に含まれる重合性成分を重合させることにより得られる。前記液晶組成物を塗布し、乾燥したフィルムがネマチック相等の液晶相を示す場合、得られる光学フィルムは、モノドメイン配向による複屈折性を示す。前記液晶組成物に含まれる化合物LC-1の含有量や支持基材上への本発明の組成物の塗布量を適宜調整することにより、光学フィルムの膜厚を調製することができる。化合物LC-1の量が一定である場合、得られる光学フィルムの位相差値リタデーション値、Reλは、式7Reλ=d×Δnλ7式中、Reλは、波長λnmにおける位相差値を表し、dは膜厚を表し、Δnλは波長λnmにおける複屈折率を表わす。に従って決定されるため、所望のReλを得るためには、膜厚d及びΔnλを調整すればよい。前記液晶組成物から光学フィルムを得るには、まず、この液晶組成物を支持基材上に塗布する。支持基材への液晶組成物の塗布方法としては、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、CAPコーティング法又はダイコーティング法などが挙げられる。またディップコーター、バーコーター又はスピンコーターなどのコーターを用いて塗布する方法等が挙げられる。上記支持基材としては、例えばガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム又は透光性フィルムを挙げることができる。なお上記透光性フィルムとしては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム又はポリフェニレンオキシドフィルムなどが挙げられる。光学フィルムの貼合工程、運搬工程、保管工程等、光学フィルムの強度が要求される工程においても、支持基材を用いることにより、破れ等がなく容易に取り扱うことができる。支持基材上に配向膜を形成した後、該配向膜上に前記液晶組成物を塗布することが好ましい。配向膜は、前記液晶組成物の塗布時に、該液晶組成物に溶解しない溶剤耐性を持つことが好ましい。また、配向膜は、溶剤の除去や液晶の配向の加熱処理における耐熱性をもつことが好ましい。さらに、ラビング時に、摩擦等による剥がれ等が起きないことが好ましい。かかる配向膜としては、配向性ポリマー又は配向性ポリマーを含有する組成物からなることが好ましい。上記配向性ポリマーとしては、例えば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、2種類以上混ぜたり、共重合体したりしてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミン等による重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。またこれらの配向性ポリマーは、溶剤に溶解して、溶液として用いられる。溶剤は、特に制限はないが、具体的には、水;メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤;トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤;クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤;等が挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。また配向膜は、市販の配向膜材料をそのまま使用して形成してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー登録商標、日産化学工業株式会社製又はオプトマー登録商標、JSR株式会社製などが挙げられる。このような配向膜を用いるとば、延伸による屈折率制御を行う必要がないため、複屈折の面内ばらつきが小さくなる。それゆえ、支持基材上にフラットパネル表示装置FPDの大型化にも対応可能な大きな光学フィルムを提供することが可能である。支持基材上に配向膜を形成する方法としては、例えば支持基材上に、市販の配向膜材料や配向膜の材料となる化合物を溶液にして塗布し、その後、アニールする方法が挙げられる。配向膜の厚さは、10nm~10000nmであり、好ましくは10nm~1000nmである。上記範囲とすれば、前記液晶組成物に含まれる化合物LC-1などを該配向膜上で所望の角度に配向させることができる。必要に応じて、配向膜をラビング処理してもよいし、配向膜に偏光UV照射を行ってもよく、かかる処理により前記液晶組成物に含まれる化合物LC-1等を所望の方向に配向させることができる。すなわち、製造した光学フィルムの複屈折状態を示す屈折率楕円体の形状や傾きを調整することができる。配向膜をラビングする方法としては、例えばラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられ搬送されている配向膜に接触させる方法が挙げられる。かかる支持基材上に積層した配向膜上に未重合フィルムを積層する方法は、液晶セルを作製し、該液晶セルに液晶化合物を注入する方法に比べて、生産コストを低減することができる。さらにロールフィルムでのフィルムの生産も可能である。溶剤の除去方法としては、例えば自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥等の方法が挙げられる。乾燥温度は、0~250°Cが好ましく、0~200°Cがより好ましく、30~190°Cがさらに好ましい。また乾燥時間としては、10秒間~60分間であることが好ましく、30秒間~30分間であることがより好ましい。乾燥温度及び乾燥時間が上記範囲内であれば、上記支持基材として、耐熱性が必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。乾燥後、前記液晶組成物に含まれる重合性成分を重合させることにより、本発明の化合物の配向が固定されたフィルムが得られる。かくして得られる光学フィルムは配向が固定されているため、熱による複屈折への影響を受けにくい。前記液晶組成物に含まれる重合性成分を重合させる方法は、化合物LC-1の種類に応じて、適宜決定すればよい。化合物LC-1が有する重合性基が光重合性であれば光重合法が用いられ、該重合性基が熱重合性であれば熱重合法が用いられる。光重合法によれば低温で未重合フィルムを重合させることができ、支持基材の耐熱性の選択幅が広がるという点及び工業的に製造が容易であるという点で、光重合性の重合性基を有する化合物LC-1を用いることが好ましい。また成膜性の観点からも光重合が好ましい。光重合法による硬化未重合フィルムに可視光、紫外光又はレーザー光を照射することにより行われる。取り扱いやすいという点で、紫外光が好ましい。光照射は、本発明の化合物が液晶相をとる温度で行う。マスキングして光照射を行う等によってパターニングされた光学フィルムを得ることもできる。複屈折率Δnλは、重合時の露光量、加熱温度、加熱時間適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように調製することができる。本発明の光学フィルムは、ポリマーを延伸することによって位相差を与える延伸フィルムと比較して、より膜厚が薄い。支持基材を剥離することにより、配向膜と光学フィルムとが積層されたフィルムが得られる。さらに、配向膜を剥離して、光学フィルムのみからなるフィルムを得ることができる。かくして得られた光学フィルムは、透明性に優れ、様々な表示装置用フィルムとして使用される。光学フィルムの厚みは、上記のとおり、光学フィルムの位相差値によって、異なるものであるが、0.1~10μmであることが好ましく、光弾性を小さくする点で0.2~5μmであることがより好ましく、0.5~3μmであることが特に好ましい。複屈折性を示す光学フィルムの位相差値としては、50~500nmであり、好ましくは100~300nmである。このように、薄膜でより広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムは、液晶パネルや有機ELパネル等のフラットパネル表示装置において、光学補償フィルムとして用いることができる。前記液晶組成物を用いて得られる光学フィルムは、広帯域λ/4板又はλ/2板として使用することができる。広帯域λ/4板又はλ/2板として使用する場合には、光学フィルム中の化合物LC-1に由来する構造単位の含有量を適宜選択すればよい。λ/4板の場合には、得られる光学フィルムのRe550を113~163nm、好ましくは135~140nm、特に好ましくは約137.5nmに膜厚を調整すればよく、λ/2板の場合には、得られる光学フィルムのRe550を250~300nm、好ましくは273~277nm、特に好ましくは約275nmとなるように、膜厚を調整すればよい。前記液晶組成物を用いて得られる光学フィルムは、VAVerticalAlingmentモード用光学フィルムとして使用することもできる。VAモード用光学フィルムとして使用する場合には、本発明の化合物に由来する構造単位の含有量を適宜選択すればよい。得られる光学フィルムのRe550が、好ましくは40~100nm、より好ましくは60~80nmとなるように膜厚を調整すればよい。また、前記液晶組成物を用いて得られる光学フィルムは、アンチリフレクションARフィルム等の反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、楕円偏光フィルム、広帯域円偏光フィルム、視野角拡大フィルム又は透過型液晶ディスプレイの視野角補償用光学補償フィルム等にも用いることができる。該光学フィルムは1枚でも優れた光学特性を示すが、複数枚を積層して用いてもよい。また、他のフィルムと組み合わせて用いてもよい。他のフィルムと組み合わせた具体例としては、偏光フィルムに本発明の光学フィルムを貼合させた楕円偏光板、該偏光フィルムに光学フィルムを広帯域λ/4板として貼合させた広帯域円偏光板等が挙げられる。前記液晶組成物を用いて得られる光学フィルムは、支持基材又は配向膜上に塗布し、重合させることによって形成することができるため、図1に示すように従来よりも簡便にカラーフィルタ上に広帯域の例えばλ/4、λ/2の光学フィルムを形成することができる。以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の及び部は、特記ない限り、質量及び質量部である。化合物1-1の合成実施例1[化合物1-1の合成]化合物A-036は以下のスキームにしたがって合成した。なお、このスキームにおけるMeはメチル基を表す。<化合物36-bの合成例>化合物36-a16.0g、2,4-ビス4-メトキシフェニル-1,3-ジチア-2,4-ジホスフェタン-2,4-ジスルフィドローソン試薬9.2g及びトルエン100gを混合し、得られた混合液を80°Cに昇温して12時間反応させた。冷却後濃縮し、化合物36-bとローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘稠固体を得た。<化合物B-036の合成例>前項で得られた化合物36-bを含む混合物、水酸化ナトリウム11.8g及び水250gを混合し、得られた混合液を氷冷下で反応させた。続いてフェリシアン化カリウム44.17gを含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。60°Cで12時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、次いでヘキサンで洗浄し、トルエンで結晶化させた。得られた黄色を真空乾燥して、化合物B-036を主成分とする黄土色固体4.1gを得た。収率は化合物36-a基準で25であった。<化合物A-036の合成例>塩化アルミニウム5.89gを50mLのトルエンに分散させ、窒素雰囲気下で10分攪拌した。この溶液に化合物B-0365.00g加え、室温で3時間攪拌した後、60°Cで5時間攪拌した。室温まで放冷後、1N塩酸を加えて30分攪拌した。析出した橙色沈殿を濾取し、1N塩酸で懸洗後、さらに純水50mLで洗浄した。得られた橙色粉末をテトラヒドロフラン50mL、純水50mLに分散し、窒素雰囲気下で15分攪拌した後、亜ニチオン酸ナトリウム15gを加え、室温で5時間攪拌した。反応溶液からエバポレータにてテトラヒドロフランを留去し、析出した黄色粉末を濾取した。純水50mLで洗浄後、さらにトルエン50mLで洗浄し、真空乾燥させて化合物A-036を4.16g得た。収率は化合物B-036基準で90.7であった。化合物A-036の1H-NMRDMSO:δppm2.43s、3H、2.52s、3H、6.71~6.80m、2H、7.00s、1H、7.36s、1H、7.76s、1H、9.58s、1H、9.90、9.92s、1H実施例3[化合物1-1の合成]化合物A-001を以下のスキームにしたがって合成した。<化合物001-b化合物B-001の合成例>実施例1、2と同様に化合物001-aを原料に、ローソン試薬と反応後、フェリシアン化カリウムで芳香族化させて化合物B-001を合成した。<化合物A-001の合成例>塩化アルミニウム7.21gを50mLのトルエンに分散させ、窒素雰囲気下で10分攪拌した。この溶液に化合物B-001を5.00g加え、50°Cで24時間攪拌した。室温まで放冷後、1N塩酸を加えて30分攪拌した。析出した橙色沈殿を濾取し、1N塩酸で懸洗後、さらに純水50mLで洗浄した。得られた橙色粉末をテトラヒドロフラン50mL、純水50mLに分散し、窒素雰囲気下で15分攪拌した後、亜ニチオン酸ナトリウム15gを加え、室温で5時間攪拌した。反応溶液からエバポレータにてテトラヒドロフランを留去し、析出した淡黄色粉末を濾取した。純水50mLで洗浄後、真空乾燥させて化合物A-001を4.20g得た。収率は化合物B-001基準で93.4であった。化合物A-001の1H-NMRDMSO:δppm6.65~6.74m、2H、7.21~7.24m、1H、7.77~7.79dd、1H、7.81~7.83dd、1H。実施例4[化合物LC-1の合成]化合物A36-1は以下のスキームにしたがって合成した。<化合物A36-1の合成>化合物A-0363.00g、化合物A8.47g、ジメチルアミノピリジン0.12g及びクロロホルム40mLを混合した。得られた混合液にN,N’-ジイソプロピルカルボジイミド2.92gを氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、セライト濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、ヘプタンで洗浄、真空乾燥して化合物A36-1を白色粉末として8.82g得た。収率は化合物A-036基準で84であった。化合物A36-1の1H-NMRCDCl3:δppm1.45~1.85m、24H、2.36~2.87m、18H、3.93~3.97t、4H、4.15~4.20t、4H、5.79~5.84dd、2H、6.07~6.17m、2H、6.37~6.45m、2H、6.87~7.01m、9H、7.20s,1H、7.23s、2H、7.53s,1H比較例1[化合物1-1の合成]化合物A36-1、化合物A-036を以下のスキームにしたがって合成した。は比較例として本発明によらない製造方法で合成したことを示す。<化合物A-036の合成例>化合物B-0364.0g及び塩化ピリジニウム40.0g10倍質量を混合し、200°Cに昇温して3時間反応させた。得られた混合液を氷に加え、得られた沈殿を濾取した。水で懸洗後、トルエンで洗浄、真空乾燥させて、化合物A-036を主成分とする褐色固体3.4gを得た。収率は化合物36-c基準で93であった。比較例2[化合物1-1の合成]化合物A-034は以下のスキームにしたがって合成した。<化合物A-034の合成例>化合物B-03423.31g及び塩化ピリジニウム233.1gを混合し、180°Cに昇温して3時間反応させた。得られた混合物を氷に加え、得られた沈殿を濾取した。水で懸洗後、トルエン、洗浄後、クロロホルムに分散させて室温で2時間攪拌した。分散液をろ過し、さらに沈殿を純水で洗浄後真空乾燥させて、化合物A-034を主成分とする橙色固体21.2gを得た。収率は化合物B-034基準で100であった。比較例3[化合物1-1の合成]化合物A-001は以下のスキームにしたがって合成した。<化合物A-001の合成>化合物B-00134.67g及び塩化ピリジニウム173.35gを混合し、175°Cに昇温して4時間反応させた。得られた混合物を氷に加え、得られた沈殿を濾取した。水で懸洗後、トルエン、洗浄後、クロロホルムに分散させて室温で2時間攪拌した。分散液をろ過し、さらに沈殿を純水で洗浄後真空乾燥させて、化合物A-001を主成分とする橙色固体22.4gを得た。収率は化合物B-001基準で72であった。比較例4[化合物LC-1の合成]<化合物A36-1の合成>化合物A-0363.00g、化合物A8.47g、ジメチルアミノピリジン0.12g及びクロロホルム40mLを混合した。得られた混合液にN,N’-ジイソプロピルカルボジイミド2.92gを氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、セライト濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、ヘプタンで洗浄、真空乾燥して化合物A36-1を褐色粉末として8.65g得た。収率は化合物A-036基準で81であった。化合物A36-1の1H-NMRCDCl3:δppm1.45~1.85m、24H、2.36~2.87m、18H、3.93~3.97t、4H、4.15~4.20t、4H、5.79~5.84dd、2H、6.07~6.17m、2H、6.37~6.45m、2H、6.87~7.01m、9H、7.20s,1H、7.23s、2H、7.53s,1H<化合物の吸光度測定>実施例4で得られた化合物A36-1、及び比較例4で得られた化合物A36-1について、それぞれの1mMのクロロホルム溶液の紫外可視光スペクトルをUV2450日本分光製を用いて測定した。400nmにおける各化合物の吸光度とモル吸光係数εを表1に示す。評価例1<液晶組成物の調整>下記の成分を混合して、液晶組成物を調整した。化合物LC-1;実施例2で得られた化合物A36-119.4部重合開始剤;ビス2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイドイルガキュア819;BASFジャパン社製0.58部レベリング剤;ポリアクリレート化合物BYK-361N;ビックケミージャパン製0.02部溶剤;シクロペンタノン80部<光学フィルムの製造例>ガラス基板に、ポリビニルアルコールポリビニルアルコール1000完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製の2質量水溶液を塗布し、乾燥後、厚さ89nmの膜を形成した。続いて、得られた膜の表面にラビング処理を施し、ラビング処理を施した面に、上記で得られた液晶組成物をスピンコート法により塗布し、150°Cで1分間乾燥した。次いで、95°Cで、積算光量2400mJ/cm2365nm基準の紫外線を照射して、光学フィルムを得た。<光学フィルムの評価>光学フィルムの正面位相差値を測定機KOBRA-WR、王子計測機器社製を用いて測定した。尚、基材に使用したガラス基板には、複屈折性が無いため、ガラス基板付きフィルムを測定機で計測することにより、ガラス基板上に作製した光学フィルムの正面位相差値を得ることができる。得られた光学測定正面位相差値は、波長447.3nm、546.9nm、及び627.8nmにおいて、それぞれ測定し、[Re447.3/Re546.9]αとする及び[Re627.8/Re546.9]βとするを算出した。また、光学フィルムの膜厚dμmをレーザー顕微鏡LEXT、オリンパス社製を用いて測定した。Δnは、Re546.9の値を膜厚で割って算出したΔn=Re546.9/d。各波長における透過率は、UV2450日本分光製によって測定した。結果を表2に示す。評価例2実施例4で得られた化合物A36-1を比較例4で得られた化合物A36-1に代える以外は実施例5と同様の方法で、液晶組成物を調整した。また、実施例5と同様の方法で光学フィルムを作製し、評価を行った。結果を表2に示す。上記の結果から、本発明の製造方法によれば、高温反応を必要とすることなく、高い収率で、褐色味が抑制されたジヒドロキシベンゼン化合物が得られることが確認された。また本発明の製造方法によって得られたジヒドロキシベンゼン化合物から製造された液晶化合物によれば、可視光領域において高透過率、すなわち着色の少ない光学フィルムが得られることが確認された。実施例3の化合物A-001製造、及び実施例4の化合物A36-1製造において、1工程ルイス酸塩化アルミニウムと混合し、攪拌する工程の反応溶媒を、トルエンからキシレンに変更して実験を行った。実施例5<化合物A-001の合成例-2>塩化アルミニウム7.21gを50mLのキシレンに分散させ、窒素雰囲気下で10分攪拌した。この溶液に化合物B-001を5.00g加え、40°Cで24時間攪拌した。室温まで放冷後、1N塩酸を加えて30分攪拌した。析出した橙色沈殿を濾取し、1N塩酸で懸洗後、さらに純水50mLで洗浄した。4N―塩酸で繰り返し懸洗し、得られた黄土色粉末をさらに飽和亜ニチオン酸ナトリウム水溶液、クロロホルムで洗浄し真空乾燥させて化合物A-001を4.40g得た。収率は化合物B-001基準で95.2であった。実施例7<化合物A36-1の合成例-2>塩化アルミニウム5.89gを50mLのキシレンに分散させ、窒素雰囲気下で10分攪拌した。この溶液に化合物B-0365.00g加え、室温で1時間攪拌した後、60°Cで5時間攪拌した。室温まで放冷後、1N塩酸を加えて30分攪拌した。析出した橙色沈殿を濾取し、1N塩酸で懸洗後、さらに純水50mLで洗浄した。4N―塩酸で繰り返し懸洗し、得られた黄土色粉末をさらに飽和亜ニチオン酸ナトリウム水溶液、トルエンで洗浄し、真空乾燥させて化合物A36-1を4.46g得た。収率は化合物B-036基準で93.7であった。実施例8<化合物A-002の合成例>化合物A-002を以下のスキームにしたがって合成した。B-002はB-001と同様の方法で5-メチル-2-チオフェンカルボン酸を出発物質として、アミド化、チオアミド化、Jacobsson環化反応により合成できた。<化合物A-002の合成例>塩化アルミニウム5.89gを50mLのトルエンに分散させ、窒素雰囲気下で10分攪拌した。この溶液に化合物B-0024.88g加え、室温で1時間攪拌した後、50°Cで4時間攪拌した。室温まで放冷後、1N塩酸を加えて30分攪拌した。析出した橙色沈殿を濾取し、1N塩酸で懸洗後、さらに純水50mLで洗浄した。4N―塩酸で繰り返し懸洗し、得られた黄土色粉末をさらに飽和亜ニチオン酸ナトリウム水溶液、トルエンで洗浄し、真空乾燥させて化合物A-036を4.55g得た。収率は化合物B-036基準で94.3であった。実施例9精製工程を改善すれば、濃塩酸による洗浄工程も大幅に簡略化できた。<化合物A-036の合成例-3>塩化アルミニウム5.89gを50mLのキシレンに分散させ、窒素雰囲気下で10分攪拌した。この溶液に化合物B-0365.00g加え、室温で1時間攪拌した後、60°Cで5時間攪拌した。室温まで放冷後、キシレン層をデカンテーションにより除去した。残渣にアセトニトリルを50mL加えて、攪拌し、濃赤色溶液を得た後、冷水200mLを加えて結晶化させた。得られた黄色結晶を濾取、飽和亜ニチオン酸ナトリウム水溶液、水ついでトルエンで洗浄後、真空乾燥させて化合物A36-1を4.66g得た。収率は化合物B-036基準で95.9であった。"