"光導波路の形成に用いられる光導波路形成用樹脂組成物であって、下記の一般式1で表される構造単位を有するポリビニルアセタール化合物を主成分とすることを特徴とする光導波路形成用樹脂組成物。光ラジカル重合開始剤を含有する請求項1記載の光導波路形成用樹脂組成物。光導波路形成用樹脂組成物が有機溶剤に溶解されてなり、光導波路形成用樹脂組成物中の樹脂成分に対して、上記一般式1で表される構造単位を有するポリビニルアセタール化合物の混合割合が、20~80重量である請求項1または2記載の光導波路形成用樹脂組成物。光導波路形成用樹脂組成物の硬化物の屈折率が1.50以下である請求項1~3のいずれか一項に記載の光導波路形成用樹脂組成物。基板と、その基板上に形成されたクラッド層とを備え、上記クラッド層中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア層が形成されてなる光導波路の、上記クラッド層形成材料として用いられる請求項1~4のいずれか一項に記載の光導波路形成用樹脂組成物。基板と、その基板上に形成されたクラッド層とを備え、上記クラッド層中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア層が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層が、請求項1~5のいずれか一項に記載の光導波路形成用樹脂組成物によって形成されていることを特徴とする光導波路。ロールトゥロールrolltorollプロセスにより製造されてなる請求項6記載の光導波路。このような技術背景から、クラッド層形成材料として、高柔軟性耐屈曲性、低屈折率化および未硬化時の低タック性を併せ持つ形成材料が強く要望されている。本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、光導波路形成用材料、特にクラッド層形成材料として、優れた耐屈曲性、低屈折率、およびR-to-Rプロセスに適合した低タック性を備えた光導波路形成用樹脂組成物およびそれを用いた光導波路の提供をその目的とする。上記の目的を達成するため、本発明は、光導波路の形成に用いられる光導波路形成用樹脂組成物であって、下記の一般式1で表される構造単位を有するポリビニルアセタール化合物を主成分とする光導波路形成用樹脂組成物を第1の要旨とする。そして、本発明は、基板と、その基板上に形成されたクラッド層とを備え、上記クラッド層中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア層が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層が、上記光導波路形成用樹脂組成物によって形成されている光導波路を第2の要旨とする。本発明者らは、光導波路のクラッド層形成材料として、優れた耐屈曲性、低屈折率、および製造に際してR-to-Rプロセスに適合した低タック性を備えた形成用樹脂組成物を得るべく鋭意検討を重ねた。その結果、配合するバインダー樹脂成分として、上記一般式1で表される構造単位を有する特定のポリビニルアセタール化合物を用いると、所期の目的が達成されることを見出し本発明に到達した。すなわち、上記低屈折率に関しては、上記特定のポリビニルアセタール化合物である固形の脂肪族樹脂をバインダー樹脂として使用することから、従来のフェノキシ樹脂の配合に伴うような屈折率の上昇が生じない。また、低タック性に関しては、固形の脂肪族樹脂であるバインダー樹脂自体が柔軟性を有する樹脂であるため、これを使用することから、バインダー樹脂成分の添加量を増加することができ、他の樹脂成分である液状二官能性脂肪族樹脂の添加量を抑制することが可能となることから、低タック性を付与することが可能となると推測される。このように、本発明は、前記一般式1で表される構造単位を有する特定のポリビニルアセタール化合物を主成分とする光導波路形成用樹脂組成物である。このため、この光導波路形成用樹脂組成物を用いて、例えば、光導波路のクラッド層を形成すると、低屈折率を維持した状態で、優れた耐屈曲性を奏するようになる。同様に、低屈折率を維持した状態でR-to-Rプロセスに適合した未硬化時の低タック性が付与されることとなる。このように、低屈折率を維持したまま、耐屈曲性が向上するため、屈曲損失の改善向上が図られ、また上記固形の脂肪族樹脂をバインダー樹脂として使用するため、低屈折率を維持したままタック性が改善されることとなるのである。つぎに、本発明の実施の形態について詳しく説明する。ただし、本発明は、この実施の形態に限定されるものではない。《光導波路形成用樹脂組成物》本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、特定のポリビニルアセタール化合物を主成分とするものであり、これに光ラジカル重合開始剤を含有する樹脂組成物である。なお、本発明において、上記主成分とは、光導波路形成用樹脂組成物を実質的に構成する主たる成分のことをいい、その使用量のみが関係するものではなく、樹脂組成物全体の物性特性に大きな影響を与えることを意味する。具体的には、光導波路形成用樹脂組成物中の特定のポリビニルアセタール化合物の占める重量割合が樹脂組成物全体の25重量以上、より好ましくは30重量以上をいう。上記特定のポリビニルアセタール化合物は、下記の一般式1で表される構造単位を有するものであり、バインダー樹脂としての役割を奏するものである。上記式1中、Rは炭素数1~3のアルキル基であるが、好ましくはプロピル基である。また、各繰り返し数k,m,nにおいて、好ましくはkは60~80、mは1~10、nは10~39である。上記特定のポリビニルアセタール化合物としては、重量平均分子量が10000~100000であることが好ましく、より好ましくは40000~60000である。なお、上記重量平均分子量は、例えば、原料となるポリビニルアルコールに対して各ブチラール化、アセタール化、アセチル基導入量によって算出される。上記特定のポリビニルアセタール化合物は、例えば、樹脂組成物が有機溶剤に溶解されてなる場合、光導波路形成用樹脂組成物中の樹脂成分に対して、20~80重量の割合で含有することが好ましく、より好ましくは20~60重量、特に好ましくは20~40重量である。すなわち、特定のポリビニルアセタール化合物の含有量が少な過ぎると、所望の効果を得ることが困難となり、逆に特定のポリビニルアセタール化合物の含有量が多過ぎると、光反応性基の存在量が相対的に減少するためパターニング形状が悪化する傾向がみられる。本発明の光導波路形成用樹脂組成物には、上記特定のポリビニルアセタール化合物以外に、他の樹脂成分、例えば、アクリレート系樹脂、エポキシ系樹脂等が適宜用いられる。上記アクリレート系樹脂としては、具体的には、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、トリメチロールプロパンアルキレンオキサイド変性トリアクリレート樹脂、例えば、ジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、1,3-ブタンジオールジメタアクリレート、2-メチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、ビスフェノールAジメタアクリレート、ビスフェノールFジメタアクリレート、ビスフェノールAFジメタアクリレート、フルオレン型ジメタアクリレートなどの芳香族メタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート等があげられる。上記光ラジカル重合開始剤は、光導波路形成用樹脂組成物に対して光照射による硬化性を付与するため、例えば、紫外線硬化性を付与するために用いられるものである。上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン類、ベンゾインアルキルエーテル類、アセトフェノン類、アミノアセトフェノン類、アントラキノン類、チオキサントン類、ケタール類、ベンゾフェノン類、キサントン類、フォスフィンオキサイド類等の光重合開始剤があげられる。具体的には、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、1-4-2-ヒドロキシエトキシ-フェニル-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン、2-ヒドロキシ-1-{4-4-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル-ベンジルフェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-4-モルフォリノフェニル-ブタノン-1,2-メチル-1-4-メチルチオフェニル-2-モルフォリノプロパン-1-オン、ビス2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド、ビスη5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル-ビス2,6-ジフルオロ-31H-ピロール-1-イル-フェニルチタニウム、2-ヒドロキシ-1-{4-4-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル-ベンジルフェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン等があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。中でも、速い硬化速度や厚膜硬化性という観点から、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-1-{4-4-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル-ベンジルフェニル}-2-メチル-プロパン-1-オンを用いることが好ましい。上記光ラジカル重合開始剤の含有量は、光導波路形成用樹脂組成物の樹脂成分100重量部に対して0.5~5重量部に設定することが好ましく、特に好ましくは1~3重量部である。すなわち、光ラジカル重合開始剤の含有量が少なすぎると、充分満足のいく紫外線照射による光硬化性が得られ難く、また光ラジカル重合開始剤の含有量が多すぎると、光感度が上がり、パターニングに際して形状異常を来すこと、および、ワニスのポットライフの短寿命化という傾向がみられるからである。本発明の光導波路形成用樹脂組成物には、上記特定のポリビニルアセタール化合物、また特定のポリビニルアセタール化合物以外の樹脂成分、および光ラジカル重合開始剤以外に、必要に応じて、例えば、接着性を高めるためにシラン系あるいはチタン系のカップリング剤、オレフィン系オリゴマーやノルボルネン系ポリマー等のシクロオレフィン系オリゴマーやポリマー、合成ゴム、シリコーン化合物等の可撓性付与剤等の化合物、酸化防止剤、消泡剤等があげられる。これら添加剤は、本発明における効果を阻害しない範囲内にて適宜に配合される。そして、上記光導波路形成用樹脂組成物では、本発明の優れた効果を阻害しない範囲において、上記各配合成分に加えて有機溶媒を配合し、溶解混合することにより、ワニスとして調製し塗布作業に用いることが行なわれる。上記有機溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、エチルラクテート、2-ブタノン、N,N-ジメチルアセトアミド、ジグライム、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールメチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラメチルフラン、ジメトキシエタン、乳酸エチル等があげられる。これら有機溶媒は、単独でまたは2種類以上併用して、塗布に好適な粘度が得られるように、適量用いられる。上記有機溶媒を配合して調製する際の濃度は、塗布作業性を考慮して適宜設定されるが、例えば、20~80重量となるように設定することが好ましい。《光導波路》つぎに、本発明の光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路について説明する。本発明の光導波路は、例えば、図1に示すように、基板1と、その基板1上に形成された、アンダークラッド層2aとオーバークラッド層2bからなるクラッド層2とを備え、上記クラッド層2中に、所定パターンで、光信号を伝搬するコア層3が形成されてなる。そして、本発明の光導波路では、上記クラッド層2を、前述の光導波路形成用樹脂組成物によって形成される。特に、アンダークラッド層2a形成材料およびオーバークラッド層2b形成材料の双方ともに本発明の光導波路形成用樹脂組成物を用いることが好ましい。なお、本発明の光導波路において、上記クラッド層2は、コア層3よりも屈折率が小さくなるよう形成する必要がある。そして、本発明の光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成されたクラッド層2硬化物の屈折率は1.50以下であることが好ましく、特に好ましくは1.49以下の屈折率である。すなわち、クラッド層2硬化物の屈折率が1.50以下であることにより、例えば、芳香族系樹脂材料からなるコア層3との比屈折率が大きく光導波路の静的折り曲げ損失に対して有利に働く通常、一般的な芳香族系樹脂材料の屈折率が1.56~1.58付近という効果を奏する。なお、上記クラッド層2硬化物の屈折率は、例えば、次のようにして測定される。シリコーンウェハの平滑面上に厚み約10μmのクラッド層2硬化物を作製し、SAIRONTECHNOLOGY社製のプリズムカップラーSPA-4000型番を用いて硬化フィルムの屈折率を測定する。本発明において、光導波路は、例えば、図2a~fに示すような工程を経由することにより製造することができる。すなわち、図2aに示すように、まず基板1を準備する。そして、図2bに示すように、その基板1面に、上記光導波路形成用樹脂組成物を用いたワニスを塗布した後、紫外線照射等の光照射を行ない、さらに必要に応じて加熱処理を行なうことにより、アンダークラッド層2aクラッド層2の下方部分を形成する。ついで、図2cに示すように、上記アンダークラッド層2a上にコア層3形成材料を塗布することによりコア形成層3’を形成する。そして、図2dに示すように、このコア形成層3’面上に、所定パターン光導波路パターンを露光させるためのフォトマスク9を配設し、このフォトマスク9を介して紫外線等の光照射を行ない、さらに必要に応じて加熱処理を行なう。その後、上記コア形成層3’の未露光部分を、現像液を用いて溶解除去することにより、図2eに示すように所定パターンのコア層3を形成する。つぎに、図2fに示すように、上記コア層3上に、上記オーバークラッド層形成材料を塗布した後、紫外線照射等の光照射を行ない、さらに必要に応じて加熱処理を行なうことにより、オーバークラッド層2bクラッド層2の上方部分を形成する。このような工程を経由することにより、目的とする光導波路を製造することができる。上記基板1材料としては、例えば、シリコーンウェハ、金属製基板、高分子フィルム、ガラス基板等があげられる。そして、上記金属製基板としては、SUS等のステンレス板等があげられる。また、上記高分子フィルムとしては、具体的には、ポリエチレンテレフタレートPETフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリイミドフィルム等があげられる。そして、その厚みは、通常、10μm~3mmの範囲内に設定される。上記光照射では、具体的には紫外線照射が行なわれる。上記紫外線照射での紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯,高圧水銀灯,超高圧水銀灯等があげられる。また、紫外線の照射量は、通常、10~10000mJ/cm2、好ましくは50~5000mJ/cm2、より好ましくは500~3000mJ/cm2程度があげられる。上記紫外線照射による露光後、光反応による硬化を完結させるためにさらに加熱処理を施してもよい。上記加熱処理条件としては、通常、80~250°C、好ましくは、100~150°Cにて、10秒~2時間、好ましくは、5分~1時間の範囲内で行なわれる。また、上記クラッド層2形成材料として、本発明の光導波路形成用樹脂組成物を用いた場合は、コア層3形成材料としては、例えば、フェノキシ樹脂をバインダー成分とし、アクリル系感光性樹脂成分、さらには前述の各種光ラジカル重合開始剤を適宜含有する樹脂組成物があげられる。さらに、ワニスとして調製し塗布するために、前記と同様、有機溶媒を混合し、塗布に好適な粘度が得られるように、適量用いられる。上記アクリル系感光樹脂成分としては、例えば、ジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、ジプロピレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジメタアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、1,3-ブタンジオールジメタアクリレート、2-メチル-1,3-プロパンジオールジメタアクリレート、ビスフェノールAジメタアクリレート、ビスフェノールFジメタアクリレート、ビスフェノールAFジメタアクリレート、フルオレン型ジメタアクリレート等の芳香族メタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート等があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。なお、上記基板1上における、各層の形成材料を用いての塗布方法としては、例えば、スピンコーター、コーター、円コーター、バーコーター等の塗工による方法や、スクリーン印刷、スペーサを用いてギャップを形成し、そのなかに毛細管現象により注入する方法、マルチコーター等の塗工機によりロールトゥロールrolltorollで連続的に塗工する方法等を用いることができる。また、上記光導波路は、上記基板1を剥離除去することにより、フィルム状光導波路とすることも可能である。このようにして得られた光導波路は、例えば、光電気混載基板の光配線材料として用いることができる。つぎに、本発明を実施例に基づいて説明する。ただし、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。実施例1まず、実施例となる光導波路の作製に先立ち、クラッド層形成材料およびコア層形成材料である各感光性ワニスを調製した。<クラッド層形成材料の調製>遮光条件下にて、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-1:式1中、R=-C3H7、k=65±3、m=3以下、n=約34、重量平均分子量4000030g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM35g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40135g、光ラジカル重合開始剤としてイルガキュア819チバジャパン社製1.0gとイルガキュア127チバジャパン社製3.0gを、シクロヘキサノン233gに混合し、85°C加熱下にて撹拌完溶させ、その後室温25°Cまで冷却した後、直径7.0μmのフィルターを用いて加熱加圧濾過を行なうことにより、クラッド層形成材料となる感光性ワニスを調製した。<コア層形成材料の調製>遮光条件下にて、芳香族二官能エポキシアクリレート新中村化学社製、NKオリゴEA-102050g、フェノキシ樹脂三菱化学社製、エピコート100750g、光ラジカル重合開始剤としてイルガキュア819チバジャパン社製1.0gとイルガキュア184チバジャパン社製3.0gを、シクロヘキサノン70gに混合し、85°C加熱下にて撹拌完溶させ、その後室温25°Cまで冷却した後、直径4.5μmのフィルターを用いて加熱加圧濾過を行なうことにより、コア層形成材料となる感光性ワニスを調製した。<アンダークラッド層の作製>スピンコーターを用いて、上記クラッド層形成材料である感光性ワニスをシリコーンウェハ基材上に塗工条件:4000rpm×10秒した後、ホットプレート上にて有機溶剤を乾燥させる120°C×10分間ことにより、未硬化状態のアンダークラッド層を形成した。形成された未硬化のアンダークラッド層をUV照射機3000mJ/cm2短波長カットフィルタにて露光を行なうことにより、アンダークラッド層厚み15~20μmを作製した。<コア層の作製>形成されたアンダークラッド層上に、スピンコーターを用いて、コア層形成材料である感光性ワニスを塗工条件:1500rpm×10秒した後、ホットプレート上にて有機溶剤を乾燥させる80°C×5分間120°C×10分間ことにより、未硬化状態のコア層を形成した。形成された未硬化のコア層をUV照射機2000mJ/cm2短波長カットフィルタの所定のマスクパターンパターン幅/パターン間隔L/S=50μm/200μmにて露光を行なった。その後、γ-ブチロラクトン中にて現像を行ない、水洗し、ホットプレート上にて水分を乾燥120°C×5分間させることにより、所定パターンのコア層厚み50~55μmを作製した。<オーバークラッド層の作製>形成されたコア層上に、スピンコーターを用いて、上記クラッド層形成材料である感光性ワニスを塗工条件:800rpm×10秒した後、ホットプレート上にて有機溶剤を乾燥させる50°C×5分間120°C×10分間ことにより、未硬化状態のオーバークラッド層を形成した。形成された未硬化のオーバークラッド層をUV照射機3000mJ/cm2短波長カットフィルタにて露光を行なうことにより、オーバークラッド層厚み15~20μmを作製した。このようにしてシリコーンウェハ基材上に、アンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。実施例2クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-140g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM30g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40130gに変えた。それ以外は実施例1と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。実施例3クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-150g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM25g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40125gに変えた。それ以外は実施例1と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。実施例4クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合組成のうち、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-130gを、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-S:式1中、R=-C3H7、k=73±3、m=4~6、n=約22、重量平均分子量5300030gに代えた。それ以外は実施例1と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。実施例5クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-S40g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM30g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40130gに変えた。それ以外は実施例4と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。実施例6クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-S50g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM25g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40125gに変えた。それ以外は実施例4と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。実施例7クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-120g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM40g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40140gに変えた。それ以外は実施例1と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。実施例8クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-S20g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM40g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40140gに変えた。それ以外は実施例4と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。実施例9クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-170g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM15g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40115gに変えた。それ以外は実施例1と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。実施例10クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、ポリビニルブチラール積水化学社製、エスレックBM-S70g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM15g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40115gに変えた。それ以外は実施例4と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。比較例1クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、フェノキシ樹脂新日鐵化学社製、エピコートYP-70:重量平均分子量50000~6000010g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM45g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40145gに変えた。それ以外は実施例1と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。比較例2クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、フェノキシ樹脂新日鐵化学社製、エピコートYP-7030g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM35g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40135gに変えた。それ以外は比較例1と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。比較例3クラッド層形成材料である感光性ワニスの調製において、樹脂成分の配合割合を、フェノキシ樹脂新日鐵化学社製、エピコートYP-7050g、ウレタンアクリレート樹脂三菱化学社製、UA-160TM25g、トリメチロールプロパンEOトリアクリレート樹脂三洋化成社製、TA-40125gに変えた。それ以外は比較例1と同様にしてシリコーンウェハ基材上にアンダークラッド層が形成され、このアンダークラッド層上に所定パターンのコア層が形成され、さらにこのコア層上にオーバークラッド層が形成された光導波路を作製した。このようにして得られた各光導波路を用いて、引張り弾性率、屈曲性、屈折率、比屈折率差、屈曲損失、タック性に関して下記に示す方法に従って測定評価した。これらの結果を配合組成とともに後記の表1~表2に併せて示す。引張り弾性率上記硬化条件にて作製した厚み約80μmのクラッド層形成材料からなるフィルムを幅10mm×長さ120~140mmに切断し、評価用サンプルとして用いた。そして、上記サンプルの引張り弾性率を、引張り試験機ミネベア社製、TG1KN型を用いて測定した。測定条件としては、チャック間距離50mm、引張り速度50mm/minの条件下にて引張り試験を行い、引張り弾性率を求めた。屈曲性上記硬化条件にて作製したクラッド層形成材料からなるフィルムを幅5mm×長さ50mmに切り出し、屈曲半径r=1.5mm、スライド距離20mm、スライド速度20mm/秒でIPCスライド試験を行なった。その結果、下記に基準に基づき評価した。○:10万回を超える屈曲を行なっても破断が生じなかった。△:3万~10万回の屈曲回数にて破断が生じた。×:3万回未満の屈曲回数にて破断が生じた。屈折率得られた各光導波路のクラッド層の屈折率をつぎのようにして測定した。すなわち、厚み0.56mmのシリコーンウェハ上に、スピンコート法によりクラッド層形成材料を均一に塗布し上記硬化条件にて硬化した厚み約10μmのフィルムを作製した。このフィルムを用いて、SAIRONTECHNOLOGY社製プリズムカップラーSPA-4000型番により、850nmにおける屈折率を測定した。比屈折率差コア層の屈折率を、コア層形成材料を用いて上記と同様にして測定し、屈折率1.57を得た。得られたクラッド、コア両層の屈折率より、下式により比屈折率差を算出した。比屈折率差=コア層屈折率-クラッド層屈折率/コア層屈折率×100屈曲損失直径2mmの金属棒に各光導波路を360°巻き付けた際の屈曲損失を、三喜社製850nmVCSEL光源OP250から発振された光をマルチモードファイバー三喜社製,FFP-G120-0500直径50μmMMF、NA=0.2にて就航し上記サンプルに入射した。そして、サンプルから出射された光をレンズ清和光学製作所社製,FH14-11倍率20、NA=0.4で集光し、光計測システムアドバンテスト社製,オプティカルマルチパワーメーターQ8221にて6チャンネルを評価した。その平均全損失から同様に評価した直線損失時の全損失の差により屈曲損失を算出した。その結果、下記の基準に基づき評価した。その結果、下記の基準に基づき評価した。○:初期値に比べて損失の増加値が0.3dB未満であった。△:初期値に比べて損失の増加値が0.3~0.5dBであった。×:初期値に比べて損失の増加値が0.5dBを超える結果となった。タック性タック性に関しては、各光導波路のクラッド層表面を指触にて確認した。その結果、下記の基準に基づき評価した。○:クラッド表面に指触痕が残らず、指に何も転写がなかった。△:クラッド表面には指触痕が残るが、指に何も転写がなかったマイラー等の表面保護層使用にてR-to-R工程流動可能。×:クラッド層表面が荒れ、樹脂成分が指に転写したマイラー等の表面保護層使用でもR-to-R工程流動不可。上記結果から、特定のポリビニルアセタール化合物を配合してなる感光性ワニスを用いて形成されたクラッド層を備えた光導波路である実施例品は、良好な耐屈曲性を備え、屈曲損失およびタック性に関しても優れた結果が得られた。特に、実施例1,2,4品に関しては、一層優れた耐屈曲性およびタック性を備えたものであった。これに対して、特定のポリビニルアセタール化合物に代えてフェノキシ樹脂を樹脂成分全体の10重量配合してなる感光性ワニスを用いて形成されたクラッド層を備えた光導波路である比較例1品は、屈折率が高く、屈曲損失に関しても実施例品に比べて劣る結果となり、タック性評価では転写が生じた。また、フェノキシ樹脂を樹脂成分全体の30重量配合してなる感光性ワニスを用いて形成されたクラッド層を備えた光導波路である比較例2品は、耐屈曲性、屈曲損失およびタック性の全てにおいて劣る結果となった。そして、フェノキシ樹脂を樹脂成分全体の50重量配合してなる感光性ワニスを用いて形成されたクラッド層を備えた光導波路である比較例3品は、タック性に関しては良好な結果が得られたが、耐屈曲性および屈曲損失に関して劣る結果となった。"