"支持体上に、第1のバインダーと第1の金属酸化物粒子とを含有する第1の塗布液と、第2のバインダーと第2の金属酸化物粒子とを含有する第2の塗布液と、を塗布し乾燥してなり、前記第1のバインダーと前記第2のバインダーとは屈折率が一致する、塗膜の厚さ方向における屈折率分布を予測する方法であって、前記第1の金属酸化物粒子を構成する第1の主元素および前記第2の金属酸化物粒子を構成する第2の主元素の前記塗膜の厚さ方向における元素分布および前記塗膜の膜厚THdを取得するステップ;および前記ステップで得た取得値を用いて、下記式1を用いて表面から支持体に向かって深さxの地点の屈折率Nxを予測するステップ:式中、Ncは第1のバインダーおよび第2のバインダーの屈折率であり;Na、Nbはそれぞれ、第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子の屈折率であり;aは第1の塗布液における固形分中の第1の金属酸化物粒子の体積分率体積であり;bは第2の塗布液における固形分中の第2の金属酸化物粒子の体積分率体積であり;fax、fbxはそれぞれ、表面から支持体に向かって深さxの地点での第1の主元素または第2の主元素の元素分布であり;THdは塗膜の膜厚μmである。;を含む、屈折率分布の予測方法。支持体上に、第1のバインダーと第1の金属酸化物粒子とを含有する第1の塗布液と、第2のバインダーと第2の金属酸化物粒子とを含有する第2の塗布液と、を塗布し乾燥してなり、前記第1のバインダーと前記第2のバインダーとは屈折率が一致する、塗膜の厚さ方向における屈折率分布を予測するシステムであって、前記塗膜中の表面から支持体に向かって深さxの地点の前記第1の金属酸化物粒子および前記第2の金属酸化物粒子の元素分布ならびに前記塗膜の膜厚を取得する取得部を備える第1の装置と;前記第1の塗布液における固形分中の第1の金属酸化物粒子の体積分率、前記第2の塗布液における固形分中の第2の金属酸化物粒子の体積分率、前記第1の金属酸化物粒子の屈折率、前記第2の金属酸化物粒子の屈折率、前記第1のバインダーおよび第2のバインダーの屈折率の入力を受け付ける入力部、前記入力部で受け付けたデータおよび前記取得部で得られたデータを用いて、下記式1に基づき、表面から支持体に向かって深さxの地点の屈折率Nxを計算する計算部:式中、Ncは第1のバインダーおよび第2のバインダーの屈折率であり;Na、Nbはそれぞれ、第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子の屈折率であり;aは第1の塗布液における固形分中の第1の金属酸化物粒子の体積分率体積であり;bは第2の塗布液における固形分中の第2の金属酸化物粒子の体積分率体積であり;fax、fbxはそれぞれ、表面から支持体に向かって深さxの地点での第1の主元素または第2の主元素の元素分布であり;THdは塗膜の膜厚μmである。;および、前記計算部で計算された結果を出力する出力部を備える第2の装置と;を有するシステム。ドライ製膜法の場合のように、低屈折材料と高屈折材料とのみから形成なる膜であれば、EDXの様な断面方向で元素の分布が測定できる装置で観察することにより屈折率分布を予測することが可能である。しかし、ウェット製膜法を用いる場合、製膜の必須要素であるバインダーの主成分元素である炭素がEDXを用いた測定において定量性がないために、屈折率の分布を予測することが困難である。特に、経済性に優れる同時重層塗布法を用いる場合には、塗膜が塗布液状態で重ねられるために、場合により高屈折率塗布液と低屈折率層塗布液との界面で、高屈折率塗布液から低屈折率層塗布液に向かって高屈折率材料が拡散し、さらに、低屈折率塗布液から高屈折率層塗布液に向かって低屈折率材料が拡散する。このため、低屈折率材料と高屈折率材料の分布が厚さ方向で連続的に変化した界面のはっきりしない塗膜となる。かような層界面の位置が明瞭でない塗膜の屈折率分布を予測することはより一層困難であった。本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、その課題は、ウェット製膜法により製膜されたバインダーおよび屈折率の異なる少なくとも2種の金属酸化物粒子を有する塗膜の厚さ方向の各点での屈折率の分布を容易に予測する方法およびそのシステムを提供することにある。本発明の上記課題は以下の手段により達成される。1.支持体上に、第1のバインダーと第1の金属酸化物粒子とを含有する第1の塗布液と、第2のバインダーと第2の金属酸化物粒子とを含有する第2の塗布液と、を塗布し乾燥してなり、前記第1のバインダーと前記第2のバインダーとは屈折率が一致する、塗膜の厚さ方向における屈折率分布を予測する方法であって、前記第1の金属酸化物粒子を構成する第1の主元素および前記第2の金属酸化物粒子を構成する第2の主元素の前記塗膜の厚さ方向における元素分布および前記塗膜の膜厚THdを取得するステップ;および前記ステップで得た取得値を用いて、下記式1を用いて表面から支持体に向かって深さxの地点の屈折率Nxを予測するステップ:式中、Ncは第1のバインダーおよび第2のバインダーの屈折率であり;Na、Nbはそれぞれ、第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子の屈折率であり;aは第1の塗布液における固形分中の第1の金属酸化物粒子の体積分率体積であり;bは第2の塗布液における固形分中の第2の金属酸化物粒子の体積分率体積であり;fax、fbxはそれぞれ、表面から支持体に向かって深さxの地点での第1の主元素または第2の主元素の元素分布であり;THdは塗膜の膜厚μmである。;を含む、屈折率分布の予測方法。2.支持体上に、第1のバインダーと第1の金属酸化物粒子とを含有する第1の塗布液と、第2のバインダーと第2の金属酸化物粒子とを含有する第2の塗布液と、を塗布し乾燥してなり、前記第1のバインダーと前記第2のバインダーとは屈折率が一致する、塗膜の厚さ方向における屈折率分布を予測するシステムであって、前記塗膜中の表面から支持体に向かって深さxの地点の前記第1の金属酸化物粒子および前記第2の金属酸化物粒子の元素分布ならびに前記塗膜の膜厚を取得する取得部を備える第1の装置と;前記第1の塗布液における固形分中の第1の金属酸化物粒子の体積分率、前記第2の塗布液における固形分中の第2の金属酸化物粒子の体積分率、前記第1の金属酸化物粒子の屈折率、前記第2の金属酸化物粒子の屈折率、前記第1のバインダーおよび第2のバインダーの屈折率の入力を受け付ける入力部、前記入力部で受け付けたデータおよび前記取得部で得られたデータを用いて、下記式1に基づき、表面から支持体に向かって深さxの地点の屈折率Nxを計算する計算部:式中、Ncは第1のバインダーおよび第2のバインダーの屈折率であり;Na、Nbはそれぞれ、第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子の屈折率であり;aは第1の塗布液における固形分中の第1の金属酸化物粒子の体積分率体積であり;bは第2の塗布液における固形分中の第2の金属酸化物粒子の体積分率体積であり;fax、fbxはそれぞれ、表面から支持体に向かって深さxの地点での第1の主元素または第2の主元素の元素分布であり;THdは塗膜の膜厚μmである。;および、前記計算部で計算された結果を出力する出力部を備える第2の装置と;を有するシステム。本発明により、ウェット製膜法で製膜されたバインダーを含む塗膜やシャープな界面が存在せず層界面の位置が明瞭でない塗膜であっても、塗膜内の屈折率分布を容易に予測でき、予測した屈折率分布をもとに、目的の反射波長や、透過波長にするための塗布量を予測することが可能となる。本発明の一形態によれば、支持体上に、第1のバインダーと第1の金属酸化物粒子とを含有する第1の塗布液と、第2のバインダーと第2の金属酸化物粒子とを含有する第2の塗布液と、を塗布し乾燥してなり、前記第1のバインダーと前記第2のバインダーとは屈折率が一致する、塗膜の厚さ方向における屈折率分布を予測する方法が提供される。そして、本形態は、前記第1の金属酸化物粒子を構成する第1の主元素および前記第2の金属酸化物粒子を構成する第2の主元素の前記塗膜の厚さ方向における元素分布および前記塗膜の膜厚THdを取得するステップステップ1;および前記ステップで得た取得値を用いて、下記式1を用いて表面から支持体に向かって深さxの地点の屈折率Nxを予測するステップステップ2を含む点を特徴とする。1塗膜の構成まず、添付した図面を参照しながら、本形態の屈折率分布の予測方法が適用される塗膜について説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態のみには制限されない。図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。本発明の一実施形態において、前記塗膜は近赤外反射フィルム以下、単にフィルムともいうである。すなわち、本発明の一実施形態によれば、近赤外反射フィルムの膜厚方向の屈折率分布の予測方法が提供される。本明細書において、近赤外線反射フィルムは、支持体としての高分子フィルムに互いに屈折率が異なる少なくとも2つの膜高屈折率層および低屈折率層を積層させた多層膜構造を有し、JISR3106:1998で示される可視光領域の透過率が50以上で、かつ、波長900nm~1400nmの領域に反射率50を超える領域を有するものをいう。図1は、本発明の一実施形態に用いられる近赤外反射フィルム以下、単にフィルムともいうの基本構成を示す概略図である。図1に示すように、フィルム1は、支持体14と、支持体14上に形成された積層ユニット10を有する。積層ユニット10は、低屈折率層12と、高屈折率層11とが交互に積層されて構成されている。低屈折率層12は第1の塗布液から形成され、第1の金属酸化物粒子としてのコロイダルシリカ粒子および第1のバインダーを含んで構成される。高屈折率層11は第2の塗布液から形成され、第2の金属酸化物粒子としての酸化チタン粒子および第2のバインダーを含んで構成される。すなわち、本実施形態において、第1の金属酸化物粒子としてのコロイダルシリカ粒子は低屈折率材料として機能し、第2の金属酸化物粒子としての酸化チタン粒子は高屈折率材料として機能する。そして、第1の金属酸化物粒子および第1のバインダーを含有する第1の塗布液と第2の金属酸化物粒子および第2のバインダーとを含有する第2の塗布液とを塗布し乾燥することにより、低屈折率材料としての第1の金属酸化物粒子を含む塗布液1から低屈折率層12が、高屈折率材料としての第2の金属酸化物粒子を含む塗布液2から高屈折率層11が形成される。本実施形態において、低屈折率層12と高屈折率層11との間には明確な層界面が存在していてもよいが、本発明の予測方法は、低屈折率層12と高屈折率層11との層界面がシャープな系のみならず、該層界面が不明瞭な系に対しても適用することができる。すなわち、後述するように、塗布液1および塗布液2を同時重層して積層ユニットを作成する場合、高屈折率層および低屈折率層の境界が混合領域となり、高屈折率層11と低屈折率層12との層界面の位置が明瞭でない場合もあり得る。本明細書において、高屈折率層と低屈折率層とは、以下のように考える。たとえば、高屈折率層と低屈折率層とがそれぞれ金属酸化物粒子を含む場合、低屈折率層に含まれる第1の金属酸化物粒子と、高屈折率層に含まれる第2の金属酸化物粒子と、が2つの層の界面で混合され、第1の金属酸化物粒子と第2の金属酸化物粒子とを含む層が形成される場合がある。その場合、第1の金属酸化物粒子と第2の金属酸化物粒子との存在比により高屈折率層または低屈折率層とみなす。具体的には、低屈折率層とは、第1の金属酸化物粒子と第2の金属酸化物粒子との合計質量に対して、第1の金属酸化物粒子が、50質量以上100質量以下で含まれる層を意味する。高屈折率層とは、第1の金属酸化物粒子と第2の金属酸化物粒子との合計質量に対して、第2の金属酸化物粒子が、50質量を超えて100質量以下で含まれる層を意味する。なお、屈折率層に含まれる金属酸化物粒子の種類および量は、エネルギー分散型X線分光法EDXにより分析できる。本発明の予測方法の適用に関して、各屈折率層の厚みは特に制限されない。ただし、近赤外線反射フィルムの反射特性面から、高屈折率層の1層あたりの厚み乾燥後の厚みは、20~800nmであることが好ましく、50~350nmであることがより好ましい。また、本発明の低屈折率層の1層あたりの厚み乾燥後の厚みは、20~1000nmであることが好ましく、50~800nmであることがより好ましい。本発明の予測方法が適用される塗膜の厚さ、すなわち、本実施形態においてはフィルム1における積層ユニットの厚さ、は、塗膜の厚さ方向における元素分布の測定が可能である範囲であり、例えば、後述するEDX法を用いて元素分布を測定する場合には、0.05~50μmであることが好ましく、0.1~10μmであることがより好ましい。本発明の予測方法の適用に関して、前記低屈折率層と前記高屈折率層との屈折率差は特に制限されない。高屈折率層および低屈折率層の屈折率は、各屈折率層を構成する金属酸化物粒子の種類や含有率を調整することによって制御されうる。なお、本発明の予測方法の適用に関して、各屈折率層に含有される金属酸化物粒子、すなわち、第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子の屈折率差も特に制限されないことはもちろんである。ただし、近赤外線反射フィルムの反射特性面から、少なくとも隣接した2層高屈折率層11および低屈折率層12の屈折率差が0.1以上であり、好ましくは0.2以上であり、より好ましくは0.3以上であり、更に好ましくは0.45以上である。また、上限には特に制限はないが通常1.4以下である。本実施形態では、第1の金属酸化物粒子が低屈折率材料であり、第2の金属酸化物粒子が高屈折率材料である。すなわち、本実施形態において、第1の金属酸化物粒子は第2の金属酸化物粒子よりも屈折率が小さい材料である。しかし、本発明の予測方法は、第1の金属酸化物粒子と第2の金属酸化物粒子との屈折率が等しい場合であっても適用できる。以下の説明では、第1の金属酸化物粒子が第2の金属酸化物粒子よりも屈折率が小さい形態を例にとって説明する。金属酸化物粒子塗布液第1の塗布液および第2の塗布液は金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子を含有する。金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子は、低屈折率層または高屈折率層を構成するときに用いられる。上記の目的で使用される金属酸化物としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズを挙げることができる。金属酸化物粒子は不定形粒子、球状粒子、針状粒子など任意の形状のものを使用することができる。金属酸化物粒子は、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点から、平均粒径が100nm以下であり、4~50nm、より好ましくは4~10nmであることが望ましい。金属酸化物粒子の平均粒径は、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1,000個の任意の粒子の粒径直径を測定し、それぞれd1、d2didkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2nink個存在するチタン系酸化物粒子の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σvidi}/{Σvi}で表される体積で重み付けされた平均粒径体積平均粒径である。金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子の種類、含有率は、低屈折率層および高屈折率層の所望の屈折率が得られるよう適宜決定すればよい。また、第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子はそれぞれ上記で例示した金属酸化物の1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、近赤外反射フィルムの反射特性を発現させる上では、低屈折率層を構成する第1の金属酸化物粒子と高屈折率層を構成する第2の金属酸化物粒子とは異なる金属酸化物である必要がある。ただし、第1の金属酸化物粒子および/または第2の金属酸化物粒子が2種類以上の金属酸化物を含む場合、少なくとも1つの金属酸化物が第2の金属酸化物の少なくとも1つと異なっていればよい。すなわち、例えば、第1の金属酸化物粒子が二酸化ケイ素およびアルミナを含み、第2の金属酸化物粒子が酸化チタンおよびアルミナを含む形態も本実施形態に含まれる。屈折率層低屈折率層、高屈折率層における金属酸化物粒子の含有量は、屈折率層の全質量100質量に対して、30質量以上が好ましく、60質量以上がより好ましい。金属酸化物粒子の含有量を30質量以上になると、低屈折率層または高屈折率層としての機能を発揮でき、さらに60質量以上とすることでそれが顕著になるためさらに好ましい。一方、金属酸化物同士の結着性を確保し、塗膜を形成させるうえで、金属酸化物粒子の含有量は95質量以下が好ましい。塗布液中の固形分全体に対する金属酸化物粒子の濃度を調整することで、上記範囲の金属酸化物粒子を含む屈折率層を作製することができる。また、塗布液における固形分中の金属酸化物粒子の体積分率は屈折率差をつけ、少ない層数で反射率を上げる観点から、25体積以上であることが好ましく、層内に空隙を作らない観点から66体積以下であることが好ましい。層内に空隙がある場合、乾燥中に隣接する層の成分が、空隙に入り込む可能性があり、面内の屈折率にムラが生じその結果反射ムラが生じる可能性がある。上記の中で低屈折率層を構成する低屈折率材料として適している金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子は、二酸化ケイ素シリカの粒子であり、より好ましくは酸性のコロイダルシリカゾルを用いる。コロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、このコロイダルシリカをインクジェット記録用紙に使用することは、例えば、特開昭57-14091号公報、同60-219083号公報、同60-219084号公報、同61-20792号公報、同61-188183号公報、同63-17807号公報、特開平4-93284号公報、同5-278324号公報、同6-92011号公報、同6-183134号公報、同6-297830号公報、同7-81214号公報、同7-101142号公報、同7-179029号公報、同7-137431号公報、および国際特許公開WO94/26530号公報などに記載されている。シリカおよびコロイダルシリカは、Al、Ca、MgおよびBa等で処理された物であってもよい。また、コロイダルシリカ複合エマルジョンも金属酸化物粒子として使用されうる。コロイダルシリカ複合エマルジョンは、粒子の中心部が重合体或いは共重合体等を主成分としてなり、特開昭59-71316号公報、特開昭60-127371号公報に記載されているコロイダルシリカの存在下でエチレン性不飽和結合を有するモノマーを従来公知の乳化重合法で重合して得られる。二酸化ケイ素シリカの粒子は、その平均粒径が100nm以下であることが好ましく、3~100nmであることがより好ましい。一次粒子の状態で分散された第2の金属酸化物粒子の一次粒子の平均粒径塗布前の分散液状態での粒径は、25nm以下であるのが好ましく、3~25nmであるのがより好ましく、4~20nmであるのがさらに好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、30nm以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。上記の中で高屈折率層を構成する高屈折率材料として適している金属酸化物粒子第2の金属酸化物粒子は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛からなる群から選択される少なくとも一種を含む。より好ましくは、酸化チタンを含む。また、酸化チタンと他の金属酸化物とを混合する形態や複数種の酸化チタンを混合する形態も好ましく、高屈折率層を構成する第2の金属酸化物粒子の全体100質量のうち、酸化チタンの含有量が好ましくは30質量~90質量であり、より好ましくは70~85質量である。酸化チタンの含有量が高いほど、層の屈折率を高められる観点で好ましいが、酸化チタン粒子の隙間を有機バインダー等で埋められなくなるとその部分が空隙となるために、10質量以上はその他の金属酸化物成分がある方が好ましい。好ましいその他の金属酸化物成分は、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛等が挙げられる。酸化チタンはその表面に例えば、二酸化ケイ素シリカ成分を付着させたものが好ましく使用できる。酸化チタンとして具体的には、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタン等を挙げることができる。さらには、チタン系酸化物に、錫、バリウム、バナジウム、マンガン、コバルト、ニッケル、ガリウム、アルミニウム、ゲルマニウム、アンチモン、インジウム、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、ニオブ、ジルコニウム、マグネシウム、イットリウム、ランタン、ユーロピウム、亜鉛、鉛、クロム、鉄、銅、銀、金、白金、タングステン、セリウム等の異種金属原子をドーピングした化合物を使用してもよい。中でも、特に好ましい酸化チタンは、屈折率が高く、かつ光触媒能力が低いルチル型酸化チタンである。また、好ましい酸化チタンの態様としては、微粒子の酸化チタンが水または有機溶媒に分散された、酸化チタンゾルであることが好ましい。酸化チタンの調製方法としては、例えば、特開昭63-17221号公報、特開平7-819号公報、特開平9-165218号公報、特開平11-43327号公報等参照にすることができる。また、その他の酸化チタンの調製方法としては、例えば、特開昭63-17221号公報、特開平7-819号公報、特開平9-165218号公報、特開平11-43327号公報等参照にすることができる。酸化チタン微粒子の平均粒径として好ましい一次粒子径は、4~50nmであり、より好ましくは4~10nmである。バインダー塗布液第1の塗布液、第2の塗布液はバインダー第1のバインダー、第2のバインダーを含有する。本明細書において、バインダーとは、塗布液に含まれる成分のうち金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子以外の成分をいう。すなわち、第1の塗布液中に含まれる成分のうち第1の金属酸化物粒子以外の成分が第1のバインダーであり、第2の塗布液中に含まれる成分のうち第2の金属酸化物粒子以外の成分が第2のバインダーである。本発明において、第1の塗布液中に含まれる第1のバインダーと第2の塗布液中に含まれる第2のバインダーとは屈折率が一致する。本明細書において、屈折率が一致するとは、小数点第3位を四捨五入した値が一致することをいい、より好ましくは小数点第4位を四捨五入した値が一致することをいう。さらに好ましくは、第1のバインダーの屈折率Nc1と第2のバインダーの屈折率Nc2とがNc1=Nc2±0.003であることをいう。バインダーは、金属酸化物粒子同士を結着させて塗膜の構造を維持する目的で添加される。バインダーとしては、金属酸化物粒子の結着性が確保できるものであれば特に制限されず、例えば、近赤外反射フィルムを形成するための塗布液に用いるバインダーとしては水溶性樹脂、その他の添加剤が用いられる。水溶性樹脂塗布液は、バインダーとして水溶性樹脂を含有することが好ましい。水溶性樹脂とは、水温度25°Cに対し1質量以上、好ましくは3質量以上溶解する高分子化合物をいう。水溶性樹脂は、ポリビニルアルコール等の合成樹脂、ゼラチン、増粘多糖類、無機ポリマーからなる群から選択される少なくとも1種を含み、より好ましくはポリビニルアルコールおよび/またはゼラチンを含む。これら水溶性樹脂は1種類または複数種類を混合してもよい。水溶性樹脂の重量平均分子量は、1,000以上200,000以下が好ましい。更には、3,000以上40,000以下がより好ましい。本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCを用いて下記測定条件下で測定した値を採用する。溶媒:0.2MNaNOH3,NaH2P04,pH7カラム:ShodexColumnOhpakSB-802.5HQ,8×300mmとShodexColumnOhpakSB-805HQ,8×300mmの組み合わせカラム温度:45°C試料濃度:0.1質量検出器:RID-10A株式会社島津製作所製ポンプ:LC-20AD株式会社島津製作所製流量:1ml/min校正曲線:ShodexスタンダードGFC水系GPCカラム用StandardP-82標準物質プルランによる校正曲線を使用合成樹脂合成樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸-アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム-アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル-アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸-アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂、スチレン-アクリル酸共重合体、スチレン-メタクリル酸共重合体、スチレン-メタクリル酸-アクリル酸エステル共重合体、スチレン-α-メチルスチレン-アクリル酸共重合体、もしくはスチレン-α-メチルスチレン-アクリル酸-アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン-スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン-2-ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン-2-ヒドロキシエチルアクリレート-スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン-マレイン酸共重合体、スチレン-無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン-アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン-マレイン酸共重合体、酢酸ビニル-マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル-クロトン酸共重合体、酢酸ビニル-アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体、アリルエーテル共重合体、およびそれらの塩が挙げられる。これらの中で、特に好ましい例としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン類及びそれを含有する共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールには、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールやアニオン性基を有するアニオン性基含有ポリビニルアルコール等の修飾ポリビニルアルコールも含まれる。酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が1,000以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が1,500~5,000のものが好ましく用いられる。また、ケン化度は、70~100のものが好ましく、80~99.5のものが特に好ましい。カチオン性基含有ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61-10483号に記載されているような、第一~三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル-2-アクリルアミド-2,2-ジメチルエチルアンモニウムクロライド、トリメチル-3-アクリルアミド-3,3-ジメチルプロピルアンモニウムクロライド、N-ビニルイミダゾール、N-ビニル-2-メチルイミダゾール、N-3-ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル-2-メタクリルアミドプロピルアンモニウムクロライド、N-1,1-ジメチル-3-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド等が挙げられる。カチオン性基含有ポリビニルアルコールのカチオン性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1~10モル、好ましくは0.2~5モルである。アニオン性基含有ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1-206088号に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61-237681号および同63-307979号に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体及び特開平7-285265号に記載されているような水溶性基を有する修飾ポリビニルアルコールが挙げられる。また、ビニルアルコールの水酸基以外のノニオン性基含有ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7-9758号に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8-25795号に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体等が挙げられる。ポリビニルアルコールは、重合度や修飾の種類違いなど二種類以上を併用することもできる。ゼラチンゼラチン水膨潤性天然高分子としては、石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチンに加え、さらに加水分解をすすめたコラーゲンペプチド、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチンおよびゼラチン誘導体、すなわち分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基を有し、それと反応して得る基を持った試薬で処理し改質したものでもよい。ゼラチンの一般的製造法に関してはよく知られており、たとえば、T.H.James:TheTheoryofPhotographicProcess4th.ed.1977Macmillan55頁、科学写真便覧上72~75頁丸善、写真工学の基礎-銀塩写真編119~124頁コロナ社等の記載を参考にすることができる。また、リサーチディスクロージャー誌第176巻、No.176431978年12月のIXページに記載されているゼラチンを挙げることができる。また、これらのゼラチンは、単独でも2種以上を併用してもよい。多糖類多糖類としては、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類及び合成複合多糖類に挙げることができ、これら多糖類の詳細については、生化学事典第2版,東京化学同人出版、食品工業第31巻198821頁等を参照することができる。本発明でいう多糖類とは、糖類の重合体であり分子内に水素結合基を多数有するもので、温度により分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きな特性を備えた多糖類であり、さらに金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こすものであり、その粘度上昇幅は、添加することにより40°Cにおける粘度が1.0mPas以上の上昇を生じる多糖類であり、好ましくは5.0mPas以上であり、更に好ましくは10.0mPas以上の粘度上昇能を備えた多糖類である。多糖類としては、例えば、β1-4グルカン例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース等、ガラクタン例えば、アガロース、アガロペクチン等、ガラクトマンノグリカン例えば、ローカストビーンガム、グアラン等、キシログルカン例えば、タマリンドガム、タマリンドシードガム等、グルコマンノグリカン例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等、ガラクトグルコマンノグリカン例えば、針葉樹材由来グリカン、アラビノガラクトグリカン例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン、アラビアガム等、グルコラムノグリカン例えば、ジェランガム等、グリコサミノグリカン例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等、ペクチン、カラヤガム、トラガントガム、ファーセルラン、プルラン、アルギン酸及びアルギン酸塩、寒天、κ-カラギーナン、λ-カラギーナン、ι-カラギーナン、ファーセレラン、ジェランガム等の紅藻類に由来する天然高分子多糖類等が挙げらる。これらは、一種で用いてもよいし、二種類以上の多糖類を併用してもよい。無機ポリマー無機ポリマーとしては、ジルコニウム原子含有化合物あるいはアルミニウム原子含有化合物等の無機ポリマーが挙げられる。本発明に適用可能なジルコニウム原子を含む化合物は、酸化ジルコニウムを除くものであるが、その具体例としては、二フッ化ジルコニウム、三フッ化ジルコニウム、四フッ化ジルコニウム、ヘキサフルオロジルコニウム酸塩例えば、カリウム塩、ヘプタフルオロジルコニウム酸塩例えば、ナトリウム塩、カリウム塩やアンモニウム塩、オクタフルオロジルコニウム酸塩例えば、リチウム塩、フッ化酸化ジルコニウム、二塩化ジルコニウム、三塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウム、ヘキサクロロジルコニウム酸塩例えば、ナトリウム塩やカリウム塩、酸塩化ジルコニウム塩化ジルコニル、二臭化ジルコニウム、三臭化ジルコニウム、四臭化ジルコニウム、臭化酸化ジルコニウム、三ヨウ化ジルコニウム、四ヨウ化ジルコニウム、過酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、硫化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、p-トルエンスルホン酸ジルコニウム、硫酸ジルコニル、硫酸ジルコニルナトリウム、酸性硫酸ジルコニル三水和物、硫酸ジルコニウムカリウム、セレン酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、リン酸ジルコニウム、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニウム、酢酸ジルコニル、酢酸ジルコニルアンモニウム、乳酸ジルコニル、クエン酸ジルコニル、ステアリン酸ジルコニル、リン酸ジルコニル、シュウ酸ジルコニウム、ジルコニウムイソプロピレート、ジルコニウムブチレート、ジルコニウムアセチルアセトネート、アセチルアセトンジルコニウムブチレート、ステアリン酸ジルコニウムブチレート、ジルコニウムアセテート、ビスアセチルアセトナトジクロロジルコニウム、トリスアセチルアセトナトクロロジルコニウム等が挙げられる。これらの化合物の中でも、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニル、硝酸ジルコニル、酸塩化ジルコニル、乳酸ジルコニル、クエン酸ジルコニルが好ましく、特に、炭酸ジルコニルアンモニウム、酸塩化ジルコニル、酢酸ジルコニルが好ましい。上記化合物の具体的商品名としては、第一稀元素化学工業株式会社製の酢酸ジルコニルZA商品名や、第一稀元素化学工業株式会社製の酸塩化ジルコニル商品名等が挙げられる。ジルコニウム原子を含む化合物は、単独で用いても良いし、異なる2種類以上の化合物を併用してもよい。また、本発明で用いることのできる分子内にアルミニウム原子を含む化合物しては、フッ化アルミニウム、ヘキサフルオロアルミン酸例えば、カリウム塩、塩化アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム例えば、ポリ塩化アルミニウム、テトラクロロアルミン酸塩例えば、ナトリウム塩、臭化アルミニウム、テトラブロモアルミン酸塩例えば、カリウム塩、ヨウ化アルミニウム、アルミン酸塩例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、塩素酸アルミニウム、過塩素酸アルミニウム、チオシアン酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウムカリウムミョウバン、硫酸アンモニウムアルミニウムアンモニウムミョウバン、硫酸ナトリウムアルミニウム、燐酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、燐酸水素アルミニウム、炭酸アルミニウム、ポリ硫酸珪酸アルミニウム、ギ酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、蓚酸アルミニウム、アルミニウムイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセトネート等を挙げることができる。これらの中でも、塩化アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、塩基性硫酸珪酸アルミニウムが好ましく、塩基性塩化アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウムが最も好ましい。その他の添加剤塗布液第1の塗布液、第2の塗布液には、必要に応じてバインダーとしての各種の添加剤を含有させることができる。硬化剤塗布液第1の塗布液、第2の塗布液には、バインダーである水溶性樹脂を架橋させるため、硬化剤を使用することが好ましい。硬化剤としては、水溶性樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はなく、一般的には水溶性樹脂と反応し得る基を有する化合物あるいは水溶性樹脂が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、水溶性樹脂の種類に応じて適宜選択して用いられる。例えば、水溶性樹脂がポリビニルアルコールの場合には、ホウ酸及びその塩やエポキシ基含有化合物が好ましい。ホウ酸またはその塩とは、ホウ素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびそれらの塩が挙げられる。硬化剤としてのホウ素原子を有するホウ酸およびその塩は、単独の水溶液でも、また、2種以上を混合して使用しても良い。エポキシ含有化合物としては、ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ジグリシジルシクロヘキサン、N,N-ジグリシジル-4-グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。この他にも公知のものが使用でき、硬化剤の具体例としては、例えば、アルデヒド系硬化剤ホルムアルデヒド、グリオキザール等、活性ハロゲン系硬化剤2,4-ジクロロ-4-ヒドロキシ-1,3,5-s-トリアジン等、活性ビニル系化合物1,3,5-トリス-アクリロイル-ヘキサヒドロ-s-トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等、アルミニウム明礬等が挙げられる。水溶性樹脂がゼラチンの場合には、例えば、ビニルスルホン化合物、尿素-ホルマリン縮合物、メラニン-ホルマリン縮合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、活性オレフィン類、イソシアネート系化合物などの有機硬膜剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウムなどの無機多価金属塩類などを挙げることができる。水溶性樹脂が増粘性多糖類の場合には、例えば、エポキシ系化合物、アルデヒド系化合物などを挙げることができる。上記硬化剤の総使用量は、上記水溶性樹脂1g当たり1~600mgが好ましく、更には、上記水溶性樹脂1g当たり100~600mgが好ましい。その他塗布液第1の塗布液、第2の塗布液には、上記添加剤に加えて、または、代えて、例えば、特開昭57-74193号公報、同57-87988号公報及び同62-261476号公報に記載の紫外線吸収剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭59-42993号公報、同59-52689号公報、同62-280069号公報、同61-242871号公報および特開平4-219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有させることもできる。塗布液第1の塗布液、第2の塗布液におけるバインダーの濃度としては、塗布液全体100質量に対して、0.2~60質量であることが好ましく、1~40質量の範囲であることがより好ましい。支持体支持体14としては、種々の樹脂フィルムを用いることができ、ポリオレフィンフィルムポリエチレン、ポリプロピレン等、ポリエステルフィルムポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム以降ポリエステルと称すとしては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、2,7-ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス4-ヒドロキシエトキシフェニルプロパン、ビス4-ヒドロキシフェニルスルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や2,6-ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや1,4-シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6-ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。本発明に用いられるフィルム支持体の厚みは、10~300μm、特に20~150μmであることが好ましい。また、本発明のフィルム支持体は、2枚重ねたものであっても良く、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。フィルムの製造方法本発明の予測方法が適用される塗膜は、支持体上に第1の塗布液と第2の塗布液とを塗布し乾燥してなる。具体的には、第1の塗布液と第2の塗布液とを、各々単独にあるいは同時に、交互に湿式塗布、乾燥して積層体を形成することが好ましく、これにより、高屈折率層11および低屈折率層12が交互に積層された積層ユニット1を有するフィルム1が形成される。塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第2,761,419号、同第2,761,791号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。好ましくは、屈折率が段階的または連続的に変化する形態、すなわち、異なった金属酸化物微粒子第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子同士の比率が複数段階または連続的に変化する形態とすることが好ましい。かような形態は、例えば、重層塗布方法によって得られうる。重層塗布具体的には、高屈折率層、低屈折率層を含む複数の構成層を、公知の塗布方式から適宜選択して、支持体上に水系で同時重層塗布した後、セット、乾燥して製造することがより好ましい。同時重層塗布により、高屈折領域から低屈折領域へと屈折率を混合領域混在層において連続的に変化させることができる。本形態においては、重層塗布により積層体を形成するため、各層塗布液において前記バインダーと金属酸化物粒子との質量比F/Bが0.3~20の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.3~10の範囲であり、さらに好ましくは0.5~10の範囲であり、特に好ましくは1.0~10の範囲であり、最も好ましくは0.5~5の範囲である。また、塗布液第1の塗布液、第2の塗布液においてバインダーの好ましい濃度は0.3~3質量、より好ましくは0.35~2質量である。同時重層塗布を行う際の各塗布液の塗布時における粘度としては、スライドビード塗布方式を用いる場合には、5~100mPasの範囲が好ましく、さらに好ましくは10~50mPasの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、5~1200mPasの範囲が好ましく、さらに好ましくは25~500mPasの範囲である。また、塗布液の15°Cにおける粘度としては、100mPas以上が好ましく、100~30,000mPasがより好ましく、さらに好ましくは3,000~30,000mPasであり、最も好ましいのは10,000~30,000mPasである。塗布および乾燥方法としては、塗布液を30°C以上に加温して、塗布を行った後、形成した塗膜の温度を1~15°Cに一旦冷却し、10°C以上で乾燥することが好ましく、より好ましくは、乾燥条件として、湿球温度5~50°C、膜面温度10~50°Cの範囲の条件で行うことである。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜均一性の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。その他の構成近赤外線反射フィルム1は、低屈折率層12および高屈折率層11から構成される積層ユニット10と支持体14との間、または積層ユニット10もしくは支持体14の上部に、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層接着層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層金属層、液晶層、着色層可視光線吸収層、合わせガラスに利用される中間膜などの機能層の1つ以上を有していてもよい。これらの層の形成方法についても特に制限はないが、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、スピンコーティング法、スプレー法、ブレードコーティング法、エアーナイフコート法、ディップコート法、転写法等のウエットコーティング法により形成することが好ましい。本発明の予測方法は、上記実施形態に係る赤外遮蔽フィルムが適用された様々な部材にも適用可能である。例えば、本発明の予測方法は上記実施形態に係る赤外遮蔽フィルムが基体の少なくとも一方の面に設けられてなる赤外遮蔽体にも適用することができる。基体に、赤外遮蔽フィルムを設ける方法としては、特に制限されないが、直接または接着剤粘着層を介して基体に貼合する方法が挙げられる。貼合方法としては、そのまま基体にフィルムを貼る乾式貼合、水貼り貼合する方法が適応できるが、基体と赤外線遮蔽フィルムの間に空気が入らないようにするため、また基体上での赤外線遮蔽フィルムの位置決め等、施工のしやすさの観点で水貼り法により貼合することがより好ましい。適用可能な接着剤としては、光硬化性または熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤が挙げられる。接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル接着剤またはシリコーン接着剤が好ましい。さらに粘着特性やコストの観点から、アクリル接着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、溶剤系およびエマルジョン系アクリル接着剤が好ましく、溶剤系アクリル接着剤がより好ましい。溶剤系アクリル接着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。接着剤の塗工方法としては、任意の公知の方法が使用でき、例えば、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法、ディップコート法、転写法等が好ましく挙げられ、単独または組合せて用いることができる。これらは適宜、接着剤を溶解できる溶媒にて溶液にする、または分散させた塗布液を用いて塗工することができ、溶媒としては公知のものを使用することができる。粘着層は、先の塗工方式にて、接着剤を直接赤外線遮蔽フィルムに塗工して形成してもよいし、また、一度剥離フィルムに接着剤を塗工して乾燥させた後、赤外線遮蔽フィルムを貼り合せて接着剤を転写させても良い。この時の乾燥温度は、残留溶剤ができるだけ少なくなることが好ましく、そのためには乾燥温度や時間は特定されないが、好ましくは50~150°Cの温度で、10秒~5分の乾燥時間を設けることが好ましい。2屈折率分布の予測方法続いて、フィルム1の屈折率分布の予測方法について説明する。1ステップ1元素分布の取得ステップ1では、第1の金属酸化物粒子を構成する第1の主元素および第2の金属酸化物粒子を構成する第2の主元素の前記塗膜の厚さ方向における元素分布プロファイルfax、fbxを取得する。本明細書において、主元素とは、金属酸化物粒子に含まれる元素のうち最も含有比率の高い金属元素のことをいう。本実施形態において、第1の金属酸化物粒子はコロイダルシリカ粒子であり、第2の金属酸化物粒子は酸化チタン粒子である。したがって、本実施形態において、第1の主元素はシリコンSiであり、表面から支持体に向かって深さxの地点での第1の主元素であるシリコンSiの元素分布faxを取得する。また、第2の主元素はチタンTiであり、表面から支持体に向かって深さxの地点での第2の主元素であるチタンTiの元素分布fbxを取得する。第1の金属酸化物粒子および/または第2の金属酸化物粒子が2種類以上の金属酸化物を含む場合には、塗布液中に含まれる各金属酸化物粒子を構成する主元素についてそれぞれ元素分布f1x、f2x、、fnxを取得し、それらの総和f1xf2xfnxを元素分布とする。例えば、第1の金属酸化物粒子がコロイダルシリカ粒子とアルミナ粒子との2種類を含む場合、コロイダルシリカ粒子の主元素であるシリコンSiとアルミナ粒子の主元素であるアルミニウムAlとの2つが第1の主元素である。この2つの主元素について元素分布faSix、faAlxを取得し、この2つの主元素シリコン、アルミニウムについて元素分布の総和faSixfaAlxを第1の主元素の元素分布faxとする。塗膜の厚さ方向における元素分布プロファイルを取得する方法としては特に制限されないが、例えば、エネルギー分散型X線分光法EDX;Energy-dispersiveX-rayanalysisを用いた半定量分析が挙げられる。試料に電子線を照射すると元素固有のX線特性X線が発生する。この特性X線を検出することで、試料を構成する元素の同定が行えるとともに、その強度から組成に関する情報が得られる。EDXはこの特性X線のエネルギーを分光検出することにより元素分析や組成分析を行う手法である。このような検出部は、SEMまたはTEMに付属している。EDX分光の特徴は、1測定範囲の全エネルギーB~Uまでが同時に短時間で測定できる;2検出効率に優れているので、少ないプローブ電流で測定が可能である;3分析のための前処理がほとんど必要ない;4未知試料の分析に適している;5元素の種類にもよるが、通常1atomic程度の検出感度検出下限を有する;6TEM付属のEDXは数nm程度の高空間分解能測定ができる;等の点で優れている。具体的には、EDXによって構成元素ごとの特性X線波長とその強度の情報を測定し、定量データ変換quantitativecollectioncalculationにより元素分布を得ることができる。定量データ変換とは、特性X線の測定データカウント数を元素の定量変換データに変換し、相対強度とする補正計算の操作をいう。EDXによる特性X線の測定データカウント数は元素の含有量に比例するため、定量変換することにより、相対強度とすることができる。定量データ変換定量化は、元素濃度の明らかな標準試料の特性X線強度と、未知試料の特性X線強度とを比較することによって行うことができる。この際の補正方法としては、ZAF法原子番号、吸収、蛍光励起の各効果の補正法、スタンダードレスZAF法、φρz法、スタンダードレスφρz法等が知られている。また、薄片化された試料における定量データ変換定量化は特性X線の吸収、蛍光励起効果は無視可能なため、未知試料から得られる構成元素ごとの特性X線波長とその強度の情報のみに基づいて定量結果を求める半定量計算によって行ってもよい。これらの補正計算は、通常、EDX装置に付属した解析ソフトウェアAMETEC社製、GENESIS等を用いて行うことができる。すなわち、本発明の一実施形態において、元素分布の取得は、EDXにより第1の金属酸化物粒子を構成する第1の主元素および前記第2の金属酸化物粒子を構成する第2の主元素の前記塗膜の厚さ方向における特性X線の強度分布を取得し、取得した強度分布を定量データ比で変換することを含む。膜厚の取得また、ステップ1では、塗膜の膜厚THdを取得する。膜厚の測定方法は特に制限されず、上記EDXにより得られた元素分析プロファイルから求めてもよいし、膜厚計接触式膜厚計や干渉式膜厚計などを用いて測定してもよい。なお、塗膜の断面が不定形状である場合には、5cm四方25cm2あたり5箇所以上の点で膜厚を測定し、その平均値をTHdとするものとする。図2に、ステップ1の取得結果の具体例として、図1に示す実施形態における積層ユニットのEDXを用いて得られた第1の主元素シリコンおよび第2の主元素チタンの元素分布を示す。測定サンプルは、第1の金属酸化物粒子としてコロイダルシリカ粒子を使用し、第2の金属酸化物粒子としてシリカ付着酸化チタン粒子を使用し、同時重層塗布により作製された塗膜である。図2において、左端は膜積層ユニット10の最上層側に対応し、右端が支持体14側に相当する。すなわち、Siのカウント数が立ち下がっている深さx=0.23mの地点が塗膜の最上面に相当し、右端、すなわち、Siのカウント数が立ち上がっている部分である深さx=1.75μmの地点が支持体と塗膜との境界部分に相当する。すなわち、当該元素分析結果から、THd=1.75-0.23=1.52μmと求まる。なお、測定の際には、断面撮影のためにエポキシ樹脂でフィルムを固めてからフィルムを切断する。x=0.1μm付近のピークは、膜フィルムとエポキシ樹脂との境目をわかりやすくするために、エポキシ塗布前に膜の表面に蒸着させたマーカー物質を示している。2ステップ2続いて、前記ステップ1で取得したデータ、すなわち、塗膜の厚さ方向における主元素の元素分布fax、fbxおよび塗膜の膜厚THdを用いて、下記式1を用いて表面から支持体に向かって深さxの地点の屈折率Nxを予測する。aNc上記式1中、Ncは、第1のバインダーおよび第2のバインダーの屈折率である。上述のように、本発明において、第1のバインダーと第2のバインダーとは屈折率が一致しており、この同一のバインダーの屈折率がNcである。屈折率が一致するとは、小数点第3位好ましくは第4位を四捨五入した値が一致することをいうが、第1のバインダーの屈折率と第2のバインダーの屈折率とで少数点3桁以降の値が異なる場合には、第1のバインダーの屈折率と第2のバインダーの屈折率との平均値をNcとする。例えば、第1のバインダーの屈折率が1.7147であり、第2のバインダーの屈折率が1.7149である場合にはNc=1.71471.7149/2=1.7148となる。第1のバインダーおよび/または第2のバインダーが2種類以上の材料から構成される場合には、各材料の屈折率を、その存在比率で重価平均することにより算出される。各材料の混合比率は仕込み量から求めてもよいし、分光学的手法で分析してもよい。バインダーの屈折率は、高分子ハンドブックや各種便覧など記載の屈折率の値を用いてもよいし、後述の実施例に記載の方法で測定してもよい。bNa、Nb上記式1中、Na、Nbはそれぞれ、第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子の屈折率である。ここで、第1の金属酸化物粒子および/または第2の金属酸化物粒子が2種類以上の金属酸化物を含む場合には、各金属酸化物粒子の屈折率を、その存在比率で重価平均することにより算出される。各材料の混合比率は仕込み量から求めてもよいし、分光学的手法で分析してもよい。金属酸化物の屈折率は、化学便覧やその他のデータベース例えば、SOPRALAB社のWEBサイトなどからダウンロードできるもの屈折率の値を用いてもよいし、後述の実施例に記載の方法で測定してもよい。ca、b上記式1中、aは第1の塗布液における固形分中の第1の金属酸化物粒子の体積分率体積であり、第1の塗布液中に含まれる第1の金属酸化物粒子および第1のバインダーの合計体積=固形分体積に対する第1の金属酸化物粒子の体積の比率を意味する。また、bは第2の塗布液における固形分中の第2の金属酸化物粒子の体積分率体積であり、第2の塗布液中に含まれる第2の金属酸化物粒子および第2のバインダーの合計体積=固形分体積に対する第2の金属酸化物粒子の体積の比率を意味する。なお、金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子、バインダー第1のバインダー、第2のバインダーが複数種の材料から構成される場合、塗布液中に含まれる金属酸化物粒子の体積の合計の体積分率を金属酸化物粒子第1の金属酸化物粒子、第2の金属酸化物粒子の体積分率とする。例えば、第1の金属酸化物粒子がコロイダルシリカ粒子とアルミナ粒子との2種類を含む場合、第1の塗布液中のコロイダルシリカ粒子の体積と、アルミナ粒子の体積との総和が第1の金属酸化物粒子の体積であり、塗布液中の固形分の体積すなわち、第1の金属酸化物粒子および第1のバインダーの体積の合計に対する第1の金属酸化物粒子の体積をaとする。dfax、fbx上記式1中、fax、fbxはそれぞれ、表面から支持体に向かって深さxの地点での第1の主元素または第2の主元素のカウント数の定量変換データであり、上記ステップ1で得られた塗膜の厚さ方向における定量データ変換後の元素分布に相当する。上述したように、本実施形態において、faxは、第1の主元素であるシリコンSiのカウント数の定量変換データに相当し、fbxは、第2の主元素であるチタンTiのカウント数の定量変換データに相当する。上記式1中、Σfax、Σfbxはそれぞれ、塗膜中の第1の主元素または第2の主元素の元素分布の総計、すなわち、faxの積分値、fbxの積分値である。以下、上記式1による屈折率分布の導出過程について説明する。EDX測定では、元素の含有量に比例して、EDXのカウント数が増減する。上記ステップにおける定量データ変換により、生データで得られた主元素のカウント数を定量変換データに変え、相対強度とすることができる。ここで得られた相対強度カウント数は、測定が異なると同じ量でも異なる値となる。そこで、得られた定量データ変換後の元素分布プロファイルから、単膜の状態を、測定ごとに表すことができれば、これを屈折率分布に変換できると考えられる。そこで、第1の金属酸化物粒子およびバインダーから構成される第1の層第1の金属酸化物粒子:バインダー=a:1-a体積比と第2の金属酸化物粒子およびバインダーから構成される第2の層第1の金属酸化物粒子:バインダー=b:1-b体積比との2層の単膜積層形態を仮定する。EDXにより得られた定量データ変換後の元素分布を、第1の主元素と第2の主元素とに2分すると、単膜の状態ではそれぞれの元素分布の相対強度カウント数の高さの比第1の主元素の強度/第2の主元素の強度がb/aとなる。したがって、EDXの生データ特性X線強度を相対強度に変換する比例係数をαと設定した場合、定量変換後のプロファイルにおいて2層の単膜積層形態を仮定した場合の各主元素の平均相対強度はそれぞれ、bα、aαとなる。例えば、図2に示すように、第1の主元素Siと第2の主元素Tiの相対強度を2分し、図2の左側にTiを、右側にSiを集めて、第2の層図2の左側、積層ユニットの上側と第1の層図2の右側、積層ユニットの下側支持体側との2層形態を仮定する。図2において、点線で示されるプロットが仮想的な2層形態の主元素SiまたはTiの平均相対強度を示す。一方、第1の主元素の深さxの位置での相対強度元素分布をfax、第2の主元素の深さxの位置での相対強度元素分布をfbxとした場合第1の主元素のトータル相対強度は、Σfaxと、第2の主元素のトータル相対強度は、Σfbxと表される。EDX測定による定量変換後の元素分布の総和Σfax、Σfbxは塗膜中で検出される全主元素の量を示している。すなわち、本実施形態において、Σfaxは検出される第1の主元素Siの全量を示し、Σfbxは検出される第2の主元素Tiの全量を示す。したがって、第1の層と第2の層との2層単膜積層形態を仮定した場合の、第1の層図2の主元素Siの層の理論膜厚をAHd、第2の層図2の主元素Tiの層の理論膜厚をBHdとすると、ΣfaxおよびΣfbxはそれぞれ、2層単膜積層形態を仮定した場合の主元素の平均相対強度aαまたはbαと、理論膜厚AHdまたはBHdとの積と等しくなる。また、第1の層と第2の層との2層単膜積層形態を仮定した場合の、第1の層図2の主元素Siの層の理論膜厚AHdと、第2の層図2の主元素Tiの層の理論膜厚BHdとの和AHdBHdは全体の膜厚THdに相当するから、上記式から以下のように比例係数αが導出される。第1の主元素Siの体積分率がaである時の平均相対強度はaαであり、第2の主元素Tiの体積分率がbである時の平均相対強度はbαであるため、膜厚x時点での各主元素Si,Tiの比率はそれぞれ、Fax/aα、Fbx/bαとなる。したがって、第1の主元素および第2の主元素の元素分布はそれぞれ第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子の粒子分布に対応するため、第1の金属酸化物粒子の屈折率をNa、第2の金属酸化物粒子の屈折率をNb、バインダーの屈折率をNcとすると、下記のように膜厚x時点での屈折率Nxが算出され、上記式1が導出される。3屈折率の予測システム本発明の予測方法は多様な装置およびシステムにより実施することができる。すなわち、本発明の他の一形態によれば、支持体上に、第1のバインダーと第1の金属酸化物粒子とを含有する第1の塗布液と、第2のバインダーと第2の金属酸化物粒子とを含有する第2の塗布液と、を塗布し乾燥してなり、前記第1のバインダーと前記第2のバインダーとは屈折率が一致する、塗膜の厚さ方向における屈折率分布を予測するシステムが提供される。当該システムは、取得部を備える第1の装置と、入力部、計算部、および出力部を備える第2の装置とを有する。図3Aは、本発明の一実施形態における予測システムの概略構成を示すブロック図であり、図3Bは本発明の一実施形態における第1の装置の概略構成を示すブロック図であり、図3Cは本発明の一実施形態における第2の装置の概略構成を示すブロック図である。図3Aに示すとおり、本実施形態の予測システム100は、第1の装置と第2の装置300とを有する。本実施形態において、第1の装置200と第2の装置300とはネットワークを介して接続されている。ただし、第1の装置200と第2装置300とはネットワーク接続されていなくてもよい。第1の装置200は、例えば、エネルギー分散型蛍光X線分析装置EDSである。EDSはSEMやTEMに付属している装置を使用可能である。第1の装置200は取得部210を備えている。取得部210は、塗膜中の表面から支持体に向かって深さxの地点の第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子の元素分布ならびに塗膜の膜厚を取得する。より詳細には、取得部210はエネルギー分散型X線分光法EDXにより、構成元素ごとの特性X線波長とその強度の情報を測定する測定部211と、前記測定部211により得られた特性X線の測定データを定量データ変換quantitativecollectioncalculationして相対強度とするための補正計算を行う補正処理部212とを有する。補正処理部212により、EDXの測定データに基づいて第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子の元素分布fax、fbx、ならびに塗膜の膜厚THdμmが算出される。測定部211は、例えば、EDS内のEDXの検出器システムであり、補正処理部212は、例えば、EDS内のEDX解析システムソフトウェアであり、例えば、解析ソフトウェアAMETEC社製、GENESIS等がある。なお、各パラメータについては、上記で説明したので、ここでは詳細な説明を省略する。第2の装置は、入力部310、インターフェース320、計算部330、出力部340を有し、これらの各部は、バスを介して相互に接続されている。入力部310は、例えば、キーボード、タッチパネル、およびマウスなどのポインティングデバイスである。入力部310は、第1の塗布液における固形分中の第1の金属酸化物粒子の体積分率a体積、第2の塗布液における固形分中の第2の金属酸化物粒子の体積分率b体積、第1の金属酸化物粒子の屈折率Na、前記第2の金属酸化物粒子の屈折率Nb、前記第1のバインダーおよび第2のバインダーの屈折率Ncの入力を受け付ける。インタフェース320は、第1の装置200から送信される取得部210で取得した主元素の元素分布fax、fbxおよび塗膜の膜厚THdのデータなどを受信する。ただし、インタフェース320を設けず、入力部310において、主元素の元素分布および膜厚のデータを入力し、これを用いて計算部330において演算処理を行ってもよい。計算部330は、入力部310で入力を受け付けたデータと、取得部210で得られたデータ、すなわち、インターフェース320で受信したデータとを用いて、上記式1に基づき、表面から支持体に向かって深さxの地点の屈折率Nxを計算する。計算部330は、例えば、CPUである。出力部330は、計算部で計算された結果を出力する。出力部330は、例えば、液晶ディスプレイおよびCRTディスプレイなどである。以上のとおり、本実施形態における予測システム100では、EDXにより得られる元素分布および塗膜の膜厚データ、ならびに、塗膜を構成する材料の物性値金属酸化物およびバインダーの屈折率、体積分率から、塗膜の厚さ方向の屈折率分布が算出される。上記実施形態においては、補正処理部212が第1の装置200の取得部210に設けられている。ただし、補正処理部212を、第2の装置300に設け、測定部211取得部210から得られたデータを用いて、第2の装置300内で定量変換の補正処理を行ってもよい。すなわち、本発明のさらなる他の一実施形態の予測システムは、測定部を有する取得部を備える第1の装置と、補正処理部、入力部、計算部、出力部、およびインタフェースを備える第2の装置とから構成されていてもよい。この場合、第1の装置内の取得部で得られた測定データを第2の装置内のインタフェースで受信し、補正処理部において補正処理を行えばよい。そして、補正処理部で得られる定量変換後の第1の金属酸化物粒子および第2の金属酸化物粒子の元素分布fax、fbxおよび膜厚THdのデータおよび入力部で受け付けたデータ屈折率、体積分率を用いて計算部において屈折率Nxが計算される。以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。なお、実施例において、部の表示を用いるが、特に断りがない限り質量、質量部を表す。1.シリカ付着酸化チタンゾルの調製ケイ酸水溶液の調製ケイ酸ソーダ4号日本化学社製をSiO2濃度が2.0質量となるように純水で希釈した。シリカ付着酸化チタン粒子の調製15.0質量酸化チタンゾル体積平均粒径5nm、ルチル型酸化チタン粒子堺化学社製:商品名SRD-W0.5kgに純水2kgを加えた後、90°Cに加熱した。次いで、上記ケイ酸水溶液1.3kgを徐々に添加し、ついでオートクレーブ中、175°Cで18時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が、20質量のSiO2を表面に付着させた酸化チタンゾル以下、シリカ付着酸化チタンゾルと称するを得た。2.塗布液の調製低屈折率層用塗布液L1の調製15.0質量酸化シリカゾル体積平均粒径15nm、二酸化ケイ素粒子扶桑化学工業社製:商品名PL-1460部に、コラーゲンペプチドHACP-01;ゼライス製の4.0質量水溶液30部を混合した後、純水で1000部に仕上げ、45°Cに加熱し、撹拌しながら、牛骨アルカリ処理ゼラチンAD4;ニッピ社製の4.0質量水溶液760部を添加した。その後、2000部に純水で仕上げ、低屈折率層用塗布液L1を調製した。低屈折率層用塗布液L2の調製15.0質量酸化シリカゾル体積平均粒径15nm、二酸化ケイ素粒子扶桑化学工業社製:商品名PL-1460部に、アリルエーテルコポリマーAKM-0531;日油製の4.0質量水溶液30部、ホウ酸の3.0質量水溶液150部をそれぞれ混合した。その後、純水で1000部に仕上げて、低屈折率層用塗布液L2を調製した。低屈折率層用塗布液L3の調製15.0質量酸化シリカゾル体積平均粒径15nm、二酸化ケイ素粒子扶桑化学工業社製:商品名PL-1460部に、アリルエーテルコポリマーAKM-0531;日油製の4.0質量水溶液30部、ホウ酸の3.0質量水溶液150部をそれぞれ混合した。その後、純水で1000部に仕上げて、分散液を調製した。次いで、上記分散液を45°Cに加熱し、撹拌しながら、変性ポリビニルアルコールエクセバールRS-1717、クラレ製の4.0質量水溶液760部を添加した後、アニオン性界面活性剤ジ2-エチルヘキシルスルホ琥珀酸ナトリウムの1質量水溶液を40部添加し、低屈折率層用塗布液L3を調製した。高屈折率層用塗布液H1の調製上記で得た20.0質量のシリカ付着酸化チタンゾル28.9部と、1.92質量のクエン酸水溶液10.5部と、10質量のコラーゲンペプチドCPAM-5;ゼライス製水溶液2.0部、純水16.3部に、5.0質量の豚皮アルカリ処理ゼラチンポリビニルアルコールBD230;ニッピ製の水溶液33.5部を添加した。さらに、アニオン性界面活性剤ジ2-エチルヘキシルスルホ琥珀酸ナトリウムの1質量水溶液を0.5部添加し、最後に純水で1000部に仕上げて、高屈折率層用塗布液H1を調製した。高屈折率層用塗布液H2の調製上記で得た20.0質量のシリカ付着酸化チタンゾル28.9部と、1.92質量のクエン酸水溶液10.5部と、10質量のアリルエーテルコポリマーAKM-0531;日油製水溶液2.0部と、3質量のホウ酸水溶液9.0部を混合した。次いで、純水16.3部に、5.0質量のポリビニルアルコールJF-17;日本酢ビポバール製の水溶液33.5部を添加した。更に、アニオン性界面活性剤ジ2-エチルヘキシルスルホ琥珀酸ナトリウムの1質量水溶液を0.5部添加し、最後に純水で1000部に仕上げて、高屈折率層用塗布液H2を調製した。高屈折率層用塗布液H3の調製上記で得た20.0質量のシリカ付着酸化チタンゾル28.9部と、1.92質量のクエン酸水溶液10.5部と、10質量のアリルエーテルコポリマーAKM-0531;日油製水溶液2.0部と、3質量のホウ酸水溶液9.0部を混合した。次いで、純水16.3部に、5.0質量のポリビニルアルコールRS-2117;クラレ製水溶液33.5部を添加した。更に、アニオン性界面活性剤ジ2-エチルヘキシルスルホ琥珀酸ナトリウムの1質量水溶液を0.5部添加し、最後に純水で1000部に仕上げて、高屈折率層用塗布液H3を調製した。3.フィルム試料の作製試料1の作製厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム東洋紡製A4300:両面易接着層上に、9層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、前記の低屈折率層用塗布液L1および高屈折率層用塗布液H1を45°Cに保温しながら、低屈折率層用塗布液を最上層にしてそれぞれ交互に、最下層を低屈折率層として950nmとなるように計9層の同時重層塗布を行った。塗布直後、5°Cの冷風ゾーンを通過させた後、80°Cの温風中で乾燥させて、9層からなる重層塗布品としての試料1を作製した。試料2の作製低屈折率層用塗布液L1および高屈折率層用塗布液H1を低屈折率層用塗布液L2および高屈折率層用塗布液H2に変更したこと以外は、試料1の作製と同様にして、試料2を作製した。試料3の作製低屈折率層用塗布液L1および高屈折率層用塗布液H1を低屈折率層用塗布液L3および高屈折率層用塗布液H2に変更したこと以外は、試料1の作製と同様にして、試料3を作製した。試料4の作製低屈折率層用塗布液L1および高屈折率層用塗布液H1を低屈折率層用塗布液L3および高屈折率層用塗布液H3に変更したこと以外は、試料1の作製と同様にして、試料4を作製した。4.屈折率予測上記で作製した試料1~4について、EDXAMETEC社製、Apollo40を用いて、膜厚方向の特性X線強度を測定した。すなわち、低屈折率層用塗布液L1~L3に含まれる第1の金属酸化物粒子の第1の主元素としてのケイ素Siおよび低屈折率層用塗布液L1~L3に含まれる第2の金属酸化物粒子の第2の主元素としてのチタンTiの膜厚方向の元素分布を測定した。なお、第2の金属酸化物粒子としてのシリカ付着酸化チタンは、ルチル型酸化チタンの表面に、シリカをごく薄く付着させたものであり、1つの粒子として存在している。実際、TEM撮影においても、紡錘型のルチルのチタニア粒子のシリカの付着前後で粒子の形状の差はほとんど観察されず、シリカ付着後シリカに起因する球形の粒子が観察されることはなかった。したがって、第2の金属酸化物粒子シリカ付着酸化チタンの第2の主元素としてはチタンのみを採用し、第2の金属酸化物粒子の屈折率Nbは、シリカ付着酸化チタン自体の屈折率を採用している。測定されたデータを、EDXに付属の解析ソフトウェアGENESISを用いて、定量データ変換した。試料1~4についての定量データ変換後のプロファイルをそれぞれ図4A~図7Aに示す。また、上記プロファイルから得られた各試料1~4の塗膜の全膜厚THdはそれぞれ下記の通りであった。THdの値試料1:1.72μm試料2:1.69μm試料3:1.68μm試料4:1.71μm。次に、各試料について下記の入力データをキーボードからパソコンの表計算ソフトExcelに入力した。入力データ試料1:Na二酸化ケイ素粒子の屈折率=1.42Nbシリカ付着酸化チタン粒子の屈折率=1.92Ncバインダーの屈折率=1.52a二酸化ケイ素粒子の固形分中の体積分率=0.517bシリカ付着酸化チタン粒子の固形分中の体積分率=0.476試料2:Na二酸化ケイ素粒子の屈折率=1.42Nbシリカ付着酸化チタン粒子の屈折率=1.92Ncバインダーの屈折率=1.52a二酸化ケイ素粒子の固形分中の体積分率=0.517bシリカ付着酸化チタン粒子の固形分中の体積分率=0.476試料3:Na二酸化ケイ素粒子の屈折率=1.42Nbシリカ付着酸化チタン粒子の屈折率=1.92Ncバインダーの屈折率=1.52a二酸化ケイ素粒子の固形分中の体積分率=0.517bシリカ付着酸化チタン粒子の固形分中の体積分率=0.476試料4:Na二酸化ケイ素粒子の屈折率=1.42Nbシリカ付着酸化チタン粒子の屈折率=1.92Ncバインダーの屈折率=1.52a二酸化ケイ素粒子の固形分中の体積分率=0.517bシリカ付着酸化チタン粒子の固形分中の体積分率=0.476なお、上記において、Ncは下記の方法で測定した。バインダーの屈折率Ncの測定方法基材上にバインダーを単層で塗設したサンプルを作製し、このサンプルを10cm×10cmに断裁する。断裁後のサンプルを、分光光度計としてU-4000型日立製作所社製を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域400nm~700nmの反射率を25点測定して平均値を求め、その測定結果より平均反射スペクトルを求める。続いてフィルムの膜厚を測定する。膜厚の測定は、膜厚計接触式膜厚計や干渉式膜厚計などを用いて測定してもよいし、フィルムを切断し、切断面のSEM観察の画像から膜厚を得てもよい。その後、この膜厚を用いて光学薄膜シミュレーションソフトEssentialMcloadにて、反射率を変動させ、得られるスペクトルを測定したスペクトルが一致した時の屈折率をバインダーの屈折率Ncとする。また、Na、Nbは下記の方法で測定した。金属酸化物の屈折率Na、Nbの測定方法基材上に金属酸化物粒子およびバインダーを単層で塗設したサンプルを作製し、このサンプルを10cm×10cmに断裁する。断裁後のサンプルを、分光光度計としてU-4000型日立製作所社製を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域400nm~700nmの反射率を25点測定して平均値を求め、その測定結果より平均反射スペクトルを求める。続いてフィルムの膜厚を測定する。膜厚の測定は、膜厚計接触式膜厚計や干渉式膜厚計などを用いて測定してもよいし、フィルムを切断し、切断面のSEM観察の画像から膜厚を得てもよい。その後、この膜厚を用いて光学薄膜シミュレーションソフトEssentialMcloadにて、反射率を変動させ、得られるスペクトルを測定したスペクトルが一致した時の屈折率をこの層の屈折率Nとする。求められた屈折率は、バインダーおよび金属酸化物の混合塗膜の屈折率であるため、バインダーと金属酸化物との混合体積比率バインダー:金属酸化物=1-m:mと使用したバインダーの屈折率Ncから、下記式2に基づいて、金属酸化物の屈折率Nmが測定される。そして、上記で得た定量データ変換後のプロファイルと、上記入力データとを用いて、表計算ソフトExcelにて、上記式1に基づき、膜厚方向の屈折率分布を計算した。得られた試料1~4についての屈折率分布の予測結果をそれぞれ図4B~図7Bに示す。評価実測スペクトルとの対比上記で得た試料1~4についての屈折率分布の予測結果をもとに、光学シミュレーションソフトEssentialMcloadにて、反射スペクトルを計算した。計算結果を図4C~図7Cに示す。また、分光光度計積分球使用、日立製作所社製、U-4000型を用いて、上記で作製した試料1~4の300nm~2000nmの領域における反射スペクトルを測定した。実測の反射スペクトルを図4C~図7Cの予測スペクトルに重ねて示す。図4C~図7Cから、本発明の予測方法および予測システムを用いて予測された屈折率分布から計算された反射スペクトルは、実測のスペクトルとほぼ一致しており、本発明の屈折率分布の計算方法が、妥当であることが確認される。"