"反射型空間変調素子と、前記反射型空間変調素子を設置したベースと、前記反射型空間変調素子と前記ベースとの間に設けた断熱層とを、備えることを特徴とする反射型空間変調素子設置装置。前記断熱層は100pa以下の真空層であることを特徴とする請求項1記載の反射型空間変調素子設置装置。前記ベースまたは反射型空間変調素子から断熱層側に突出した突起を形成したことを特徴とする請求項1又は2記載の反射型空間変調素子設置装置。前記断熱層の領域に接する前記ベースの面および前記断熱層の領域に接する前記反射型空間変調素子の面の少なくとも1方の面の放射率が006以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の反射型空間変調素子設置装置。反射型空間変調素子を複雑な構成や部品点数の増加させることなく、光源からの入射光と反射型空間変調素子との熱で反射型空間変調素子を適切な環境下で動作させることができる投射型表示装置を提供することを目的とする。本発明は、上述した従来の技術の課題を解決するため、1反射型空間変調素子と前記反射型空間変調素子を設置したベースと前記反射型空間変調素子と前記ベースとの間に設けた断熱層とを備える反射型空間変調素子装置を提供する。2上記の反射型空間変調素子設置装置において、断熱層は100pa以下の真空層であることを特徴とする反射型空間変調素子装置を提供する。3上記の反射型空間変調素子設置装置において、ベースまたは反射型空間変調素子から断熱層側に突出した突起を形成したことを特徴とする反射型空間変調素子装置を提供する。4上記の反射型空間変調素子設置装置において、断熱層の領域に接するベースの面および前記断熱層の領域に接する前記反射型空間変調素子の面の少なくとも1方の面の放射率が006以下であることを特徴とする反射型空間変調素子装置を提供する。本発明の反射型空間変調素子装置によれば、光源からの入射光と反射型空間変調素子の駆動との熱で反射型空間変調素子を適切な環境下で動作させることが可能となるので、反射型空間変調素子の構造の複雑化や部品点数の増加、さらに消費電力の上昇を防止することができる。以下、本発明の実施形態について、添付図面を参照して説明する。図1は反射型空間変調素子設置装置101、102、103の概略構成図である。なお、図面において、同一の構成であるものは同一符合を付し、説明した符号の詳細な説明は省略する。[第1実施形態]図1において、反射型空間変調素子設置装置101は反射型空間変調素子7、反射型空間変調素子7を固定するためのベース9、フレキシブルワイヤ11から構成される。反射型空間変調素子設置装置101は、図6に示した投射型表示装置60においては、反射型空間変調素子7とベース9の部分である。また、反射型空間変調素子7は図2に示す通り、カウンターガラス12、駆動IC部13、液晶14、液晶シール部材15からなる。図2において、反射型空間変調素子設置装置101は反射型空間変調素子7をベース9に固定するにあたり、反射型空間変調素子7の駆動IC部13のベース9との対向面の外周に沿ってシール材兼接着剤となる樹脂材料18を細い線状に塗布する。その後、シール材18で囲まれた空間が真空100Pa以下になるように調整して、反射型空間変調素子7とベース9を接着する。例えば、この工程を真空雰囲気中で行うことにより、駆動IC13とベース9との隙間のシール材18で囲まれた空間を真空にすることが可能である。このような構造とすることで、反射型空間変調素子7とベース9との間に真空断熱層17が形成され、反射型空間変調素子7からのベースへ熱が流入すること減少させることが出来る。従って、光源からの入射光と反射型空間変調素子7の駆動による発熱で反射型空間変調素子7を50°C以上に加熱することが可能となる。また、真空断熱層17を形成するためのシール材18の熱伝導率は05WmK以下のものを使用することでシール材を介しての熱伝導も抑えることができる。また、反射型空間変調素子7を取り付けるためのベース9の材質も熱伝導率02WmK以下の材料で形成することで、ベース9からの熱伝導による放熱が減少し反射型空間変調素子7の加熱が効率よく行われる。これにより、反射型空間変調素子7に封入されている液晶14の温度を高くすることができ、反射型空間変調素子7を高速応答させることができる。このことにより、反射型空間変調素子7の加熱にヒータ等の他の加熱装置が不要となり、その分、部品点数を削減することがでる。さらに、投射型表示装置の小型化を図ることもできる。この第1実施形態は、真空断熱層を利用し、反射型空間変調素子7の加熱を目的としているため、投射型表示装置の光学系のレイアウトおよび光源については限定されない。本実施例によれば、反射型空間変調素子7の加熱を光源からの入射光と反射型空間変調素子7の駆動による発熱で行うため、反射型空間変調素子7と反射型空間変調素子7を取り付けるベース9との間に真空断熱層17を設ける。これにより、反射型空間変調素子7の熱は反射型空間変調素子7を取り付けるベース9へ流入しにくくなるため、従来のように、ヒータ等の加熱なしにLEDやレーザーダイオード等の入射光量の少ない光源でも入射光や駆動による発熱のみで反射型空間変調素子7を加熱することが可能になる。その結果、反射型空間変調素子7を50°C以上に加熱することができる。また、反射型空間変調素子7の加熱用にヒータ等の加熱装置を必要としないため、部品点数の削減と消費電力の低減につながる。従来の反射型空間変調素子7を備えた投射型表示装置60は、反射型空間変調素子7に封入された液晶が低温では動作速度が遅くなり画質劣化の原因になる。また、倍速表示以上で駆動する高速応答素子では、ある程度以上に加熱しておかないと本来の性能で表示ができなくなる。反射型空間変調素子7に封入されている液晶は、低温では動作速度が遅くなり、外気が低温の環境では反射型空間変調素子の動作不良により画質の劣化を招いていた。低温での反射型空間変調素子7の動作不良による画質劣化の代表としては、動画ボケや混色等がある。特に、反射型空間変調素子7が1個でフルカラー表示を行う投射型表示装置では、R赤,G緑,B青の3色の光を時系列順に切り替えて表示をさせるため、反射型空間変調素子をR,G,Bそれぞれの光に対応するように3個使用する投射型表示装置と比較し、3倍の速度で駆動させる必要がある。光学特性劣化を抑えて表示させるために反射型空間変調素子の液晶の立ち上がり応答速度05msec以下が必要とされている。反射型空間変調素子の温度を上昇させると応答速度が速くなることが実験により確認されており、光学特性を劣化させずに高速応答を実現させるためには反射型空間変調素子7を50°C以上に加熱し、液晶の動作速度を低下させないようにする必要があるが、本実施例の形態をとることで、反射型空間変調素子7の温度を50°C以上に加熱することが可能となり、反射型空間変調素子7の高速応答が維持でき、反射型空間変調素子7を1個使用した投射型表示装置でも光学的特性を劣化させることなく高画質な映像を投影できるようになる。また、反射型空間変調素子7をR,G,Bの3色に対応して3個使用した投射型表示装置でも高速応答の実現により2倍速表示や4倍速表示において動画特性の優れた投射装置が実現できる。[第2実施形態]図1、図3、図4は本発明の第2実施形態を示す。図3は反射型空間変調素子設置装置102の断面図を表し、図4は反射型空間変調素子設置装置102から反射型空間変調素子7とフレキシブルワイヤ11を取り除いた図である。この反射型空間変調素子設置装置102では、反射型空間変調素子7とベース9の間の真空断熱層17を形成する領域で、シール材18を塗布する位置より内側のベースに微小な突起19を形成する。反射型空間変調素子7がベース9の微小突起19に接触するように取り付けられることにより、反射型空間変調素子7とベース9間の真空断熱層17の厚みを一定にするとともに、外気圧による反射型空間変調素子7の撓みも防止することが可能となる。また、微小突起19はベース9と一体に形成されるだけでなく、微小突起19のみで形成され、後から接着材でベース9に設置されてもよい。また、微小突起19は駆動IC13の基板上に設置され、真空断熱層17の厚みを一定にするとともに、外気圧による外気圧による反射型空間変調素子7の撓みも防止することも可能である。一方、微小突起19の形状は円柱状、円錐状、角柱状、角錐状、球状が該当する。微小突起19の数および位置は反射型空間変調素子7の大きさに合わせ、外気圧による撓みを防止する構成となる。また、微小突起19からベース9へ反射型空間変調素子7の熱の伝導が最小となる値とする形状とすればよい。[第3実施形態]図1、図5は本発明の第3実施形態を示す。この反射型空間変調素子設置装置103では、実施例1および実施例2で形成された真空断熱層17を形成する反射型空間変調素子7と反射型空間変調素子7を取り付けるベース9とがそれぞれが対向する側の表面20を熱放射が小さくなる放射率006以下にし、反射型空間変調素子7とベース9の間で熱放射による熱の授受を抑える。このことにより、反射型空間変調素子7の放熱性を低くし、反射型空間変調素子7の加熱を補助することで反射型空間変調素子7の加熱効率が高まる。表面を放射率006以下にする代表的な方法はメッキ、蒸着、スパッタリングなどによる金属薄膜の形成や放射率006以下の表面を持った材料を接着剤や粘着材で貼り付ける方法、表面の研磨加工などがある。しかし、処理方法については限定されない。"