"一般式Iを有する化合物。式中、R1は、C1-C6アルキル基又はC7-C12アラルキル基を示し、R2は、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基及びC7-C12アラルキル基からなる群より選択される基を示し、R3は、C1-C6アルキル基を示し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基、C1-C6アルコキシ基及びシアノ基からなる群より選択される基を示し、nは、1~6から選択される整数を示す。R1が、メチル基であり、R2が、t-ブチル基であり、R3が、メチル基であり、R4が、メチル基であり、R5が、水素原子であり、nが、3である、請求項1に記載の化合物。一般式IIIを有する化合物と、一般式IVを有する化合物とを、常圧又は減圧下、塩基を使用せずに非極性溶媒中で還流することによって、一般式Iを有する化合物を製造する方法。式中、R1は、C1-C6アルキル基又はC7-C12アラルキル基を示し、R2は、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基及びC7-C12アラルキル基からなる群より選択される基を示し、R3は、C1-C6アルキル基を示し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基、C1-C6アルコキシ基及びシアノ基からなる群より選択される基を示し、nは、1~6から選択される整数を示す。R1が、メチル基であり、R2が、t-ブチル基であり、R3が、メチル基、R4が、メチル基であり、R5が、水素原子であり、nが、3である、請求項3に記載の一般式Iを有する化合物を製造する方法。一般式IIIを有する化合物と、一般式IVを有する化合物とを、常圧又は減圧下、塩基を使用せずに非極性溶媒中で還流することによって、一般式Iを有する化合物を製造し、さらに、一般式Iを有する化合物を酸及びアルカリの順で処理することによって、一般式IIを有する化合物を製造する方法。式中、R1は、C1-C6アルキル基又はC7-C12アラルキル基を示し、R2は、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基及びC7-C12アラルキル基からなる群より選択される基を示し、R3は、C1-C6アルキル基を示し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基、C1-C6アルコキシ基及びシアノ基からなる群より選択される基を示し、nは、1~6から選択される整数を示す。R1が、メチル基であり、R2が、t-ブチル基であり、R3が、メチル基であり、R4が、メチル基であり、R5が、水素原子であり、nが、3である、請求項5に記載の一般式IIを有する化合物を製造する方法。一般式IIIを有する化合物と、一般式IVを有する化合物とを、常圧又は減圧下、塩基を使用せずに非極性溶媒中で還流することによって、一般式Iを有する化合物を製造し、一般式Iを有する化合物を酸及びアルカリの順で処理することによって、一般式IIを有する化合物を製造し、さらに一般式IIを有する化合物をアルカリで処理することによって、一般式Vを有する化合物を製造する方法。式中、R1は、C1-C6アルキル基又はC7-C12アラルキル基を示し、R2は、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基及びC7-C12アラルキル基からなる群より選択される基を示し、R3は、C1-C6アルキル基を示し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基、C1-C6アルコキシ基及びシアノ基からなる群より選択される基を示し、nは、1~6から選択される整数を示す。R1が、メチル基であり、R2が、t-ブチル基であり、R3が、メチル基、R4が、メチル基であり、R5が、水素原子であり、nが、3である、請求項7に記載の一般式Vを有する化合物を製造する方法。本発明者らは、免疫抑制剤であるピロール誘導体の製造方法について鋭意検討を行った結果、下に示したような従来の製造方法の欠点を克服して、工業的に利用可能な優れた製造方法を見出して本発明を完成した。従来の製造方法の欠点を以下に示す。1加熱が必要な長時間にわたる反応時間が必要であり、安全性及び経済性の問題があった。2反応が完結せずに原料が残存してしまい低収率でしか目的とする化合物が製造できなかった。3反応を進行させるために大過剰の試薬の使用が必要であり、試薬に由来する副生成物の混入も問題であった。4目的とする化合物を精製するために、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いる必要があったたが、工業化のためにはより低コストの精製方法が必要とされていた。本発明は、1一般式Iを有する化合物であり、式中、R1は、C1-C6アルキル基又はC7-C12アラルキル基を示し、R2は、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基及びC7-C12アラルキル基からなる群より選択される基を示し、R3は、C1-C6アルキル基を示し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基、C1-C6アルコキシ基及びシアノ基からなる群より選択される基を示し、nは、1~6から選択される整数を示す。好適には、2R1が、メチル基であり、R2が、t-ブチル基であり、R3が、メチル基であり、R4が、メチル基であり、R5が、水素原子であり、nが、3である、1に記載の化合物である。また、本発明は、3一般式IIIを有する化合物と、一般式IVを有する化合物とを、常圧又は減圧下、塩基を使用せずに非極性溶媒中で還流することによって、一般式Iを有する化合物を製造する方法であり、式中、R1は、C1-C6アルキル基又はC7-C12アラルキル基を示し、R2は、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基及びC7-C12アラルキル基からなる群より選択される基を示し、R3は、C1-C6アルキル基を示し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基、C1-C6アルコキシ基及びシアノ基からなる群より選択される基を示し、nは、1~6から選択される整数を示す。好適には、4R1が、メチル基であり、R2が、t-ブチル基であり、R3が、メチル基であり、R4が、メチル基であり、R5が、水素原子であり、nが、3である、3に記載の一般式Iを有する化合物を製造する方法、5一般式IIIを有する化合物と、一般式IVを有する化合物とを、常圧又は減圧下、塩基を使用せずに非極性溶媒中で還流することによって、一般式Iを有する化合物を製造し、さらに、一般式Iを有する化合物を酸及びアルカリの順で処理することによって、一般式IIを有する化合物を製造する方法、式中、R1は、C1-C6アルキル基又はC7-C12アラルキル基を示し、R2は、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基及びC7-C12アラルキル基からなる群より選択される基を示し、R3は、C1-C6アルキル基を示し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基、C1-C6アルコキシ基及びシアノ基からなる群より選択される基を示し、nは、1~6から選択される整数を示す。6R1が、メチル基であり、R2が、t-ブチル基であり、R3が、メチル基であり、R4が、メチル基であり、R5が、水素原子であり、nが、3である、5に記載の一般式IIを有する化合物を製造する方法、7一般式IIIを有する化合物と、一般式IVを有する化合物とを、常圧又は減圧下、塩基を使用せずに非極性溶媒中で還流することによって、一般式Iを有する化合物を製造し、一般式Iを有する化合物を酸及びアルカリの順で処理することによって、一般式IIを有する化合物を製造し、さらに一般式IIを有する化合物をアルカリで処理することによって、一般式Vを有する化合物を製造する方法及び式中、R1は、C1-C6アルキル基又はC7-C12アラルキル基を示し、R2は、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基及びC7-C12アラルキル基からなる群より選択される基を示し、R3は、C1-C6アルキル基を示し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基、C3-C6シクロアルキル基、C1-C6アルコキシ基及びシアノ基からなる群より選択される基を示し、nは、1~6から選択される整数を示す。8R1が、メチル基であり、R2が、t-ブチル基であり、R3が、メチル基、R4が、メチル基であり、R5が、水素原子であり、nが、3である、7に記載の一般式Vを有する化合物を製造する方法である。本発明のC1-C6アルキル基とは、直鎖又は分岐鎖の炭素数1~6のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基がある。本発明のC7-C12アラルキル基とは、C1-C6アルキル基で置換されていてもよいアリール基が置換したメチレン基であり、例えば、ベンジル基、4-メチルフェニルメチル基、インデニルメチル基及びナフチルメチル基である。本発明のC3-C6シクロアルキル基とは、炭素数3~6の環状アルキル基であり、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基である。本発明のC1-C6アルコキシ基とは、C1-C6アルキル基に酸素原子が結合した基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、t-ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基がある。本発明のR1として、好適には、メチル基、エチル基、t-ブチル基及びベンジル基であり、更に好適には、メチル基である。本発明のR2として、好適には、イソプロピル基、t-ブチル基及びベンジル基であり、更に好適には、t-ブチル基である。本発明のR3として、好適には、メチル基又はエチル基であり、更に好適には、メチル基である。本発明のR4として、好適には、フッ素原子、塩素原子、メチル基、メトキシ基及びシアノ基であり、更に好適には、メチル基である。本発明のR5として、好適には、水素原子、塩素原子、メチル基及びメトキシ基であり、更に好適には、水素原子である。本発明のnとして、好適には、3、4及び5であり、更に好適には、3である。本発明の一般式I及び一般式IIを有する化合物は、一般式Vを有する化合物である免疫抑制剤国際公開第2003/059880号パンフレットの中間体として有用である。また、本発明は、これらの中間体を経由する従来の問題点を解決した工業的に利用可能な製造方法により、一般式Vを有する化合物を製造することができることからも有用である。以下に説明するように、一般式IIIを有する化合物と、一般式IVを有する化合物とを、常圧又は減圧下、塩基を使用せずに非極性溶媒中で還流することによって、一般式Iを有する化合物を製造することができる。式中、R1、R2、R3、R4、R5及びnは、上述と同意義を示す。本反応の常圧又は減圧下とは、反応の進行とともに生成する塩酸ガスを反応系から取り除くことができ、かつ、溶媒が必要以上に留去しない圧力であれば良いが、好適には、20~120kPaであり、更に好適には、40~100kPaである。本反応の塩基を使用せずにとは、通常のアシル化反応で使用される塩基などの、有機合成の分野で使用される塩基を使用しないことを意味する。本発明において、鋭意研究の結果、通常アシル化反応で必要と考えられている塩基を用いると目的の反応が妨げられて副反応が起きること、及び、塩基を使用しない場合のほうが目的の反応が収率良く進行することがわかった。本反応の非極性溶媒とは、一般に誘電率または双極子モーメントが低い溶媒であり、塩酸ガスの溶解度が低いものが好ましい、例えば、ヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類であり、好適には、脂肪族炭化水素類及び芳香族炭化水素類であり、更に好適には、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、トルエン及びキシレンである。本反応の還流するとは、反応を進行させるために溶媒が常に沸騰と凝縮を繰り返している状態のことである。本反応では、溶媒を還流させて、塩酸ガスを反応液から取り除くことができることが好ましい。従って、使用する溶媒によって、加熱の温度は異なるが、好適には、50~180°Cであり、更に好適には、70~150°Cである。本反応の反応時間は、通常、5分~48時間であり、好適には、1~24時間である。また、本発明では、一般式Iを有する化合物を1酸処理及び2アルカリ処理の順で処理することによって得られた一般式IIを有する化合物を、更に3アルカリ処理することによって一般式Vを有する化合物を製造することができる。式中、R1、R2、R3、R4、R5及びnは、上述と同意義を示す。1酸処理工程反応に使用される酸は、通常のアセタール基の脱保護に用いられる酸であれば特に限定はないが、例えば、濃塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、リン酸のような無機酸;酢酸、ギ酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸;塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸;又は酸性イオン交換樹脂であり、好適には、無機酸特に好適には、濃塩酸である。反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ-テル類;メタノ-ル、エタノ-ル、n-プロパノ-ル、イソプロパノ-ル、n-ブタノ-ル、イソブタノ-ル、t-ブタノ-ル、ジエチレングリコールのようなアルコ-ル類;水であり、好適には、アルコール類最も好適には、メタノール、水、及び水と上記有機溶媒との混合溶媒であり、メタノールと水との混合溶媒が特に好ましい。反応温度は、通常、0~100°C好適には、20~80°Cである。反応時間は、通常、30分~48時間好適には、1~10時間である。2アルカリ処理工程反応に使用される塩基としては、通常塩基として使用されるもので反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム-t-ブトキシドのような金属アルコキシド類;又はアンモニア水、濃アンモニア-メタノ-ルのようなアンモニア類であり、好適には、アルカリ金属水酸化物類であり、更に好適には、水酸化ナトリウム例えば、25水酸化ナトリウム水溶液である。反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ-テル類;メタノ-ル、エタノ-ル、n-プロパノ-ル、イソプロパノ-ル、n-ブタノ-ル、イソブタノ-ル、t-ブタノ-ル、ジエチレングリコールのようなアルコ-ル類;水であり、好適には、アルコール類最も好適には、メタノール、水、及び水と上記有機溶媒との混合溶媒であり、メタノールと水との混合溶媒が特に好ましい。反応温度は、原料化合物、用いられる試薬、溶媒の種類等によって異なるが、通常、0~100°C好適には、20~80°Cである。反応時間は、通常、5分~10時間好適には、30分~5時間である。3アルカリ処理工程反応に使用される塩基としては、通常塩基として使用されるもので反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム-t-ブトキシドのような金属アルコキシド類;又はアンモニア水、濃アンモニア-メタノ-ルのようなアンモニア類であり、好適には、アルカリ金属水酸化物類であり、更に好適には、水酸化ナトリウム例えば、25水酸化ナトリウム水溶液である。反応に使用される不活性溶媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ-テル類;メタノ-ル、エタノ-ル、n-プロパノ-ル、イソプロパノ-ル、n-ブタノ-ル、イソブタノ-ル、t-ブタノ-ル、ジエチレングリコールのようなアルコ-ル類;水であり、好適には、アルコール類特に好適には、プロパノール又はn-ブタノ-ル、水及び水と上記有機溶媒との混合溶媒であり、好適には、n-プロパノ-ル又はn-ブタノ-ルと水との混合溶媒である。反応温度は、通常、0~150°C好適には、60~120°Cである。反応時間は、通常、30分~20時間好適には、1~10時間である。以下に実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。NMRスペクトルは、内部基準としてテトラメチルシランを用いて測定し、全δ値をppmで示した。なお、実施例記載中の化合物及び溶媒の表示は次の意味を表す。Compound1:1-{5-[3R-3-アミノ-4-ヒドロキシ-3-メチルブチル]-1-メチル-1H-ピロール-2-イル}-4-4-メチルフェニルブタン-1-オンCompound2:メチル2R、4R-2-t-ブチル-4-メチル-4-[2-1-メチル-1H-ピロール-2-イルエチル]-1,3-オキサゾリジン-3-カルボキシラート又は、2R、4R-2-t-ブチル-4-メチル-4-[2-1-メチル-1H-ピロール-2-イルエチル]-1,3-オキサゾリジン-3-カルボン酸メチルCompound3:メチル2R,4R-2-t-ブチル-4-メチル-4-2-{1-メチル-5-[4-4-メチルフェニルブタノイル]-1H-ピロール-2-イル}エチル-1,3-オキサゾリジン-3-カルボキシラート又は、2R,4R-2-t-ブチル-4-メチル-4-2-{1-メチル-5-[4-4-メチルフェニルブタノイル]-1H-ピロール-2-イル}エチル-1,3-オキサゾリジン-3-カルボン酸メチルCompound4:メチルN-1R-1-ヒドロキシメチル-1-メチル-3-{1-メチル-5-[4-4-メチルフェニルブタノイル]-1H-ピロール-2-イル}プロピルカルバメートCompound5:4R-4-メチル-4-2-{1-メチル-5-[4-4-メチルフェニルブタノイル]-1H-ピロール-2-イル}エチル-1,3-オキサゾリジン-2-オンMCH:メチルシクロヘキサンECH:エチルシクロヘキサンDMF:N,N-ジメチルホルムアミド実施例1Compound1を製造する方法1-14-4-メチルフェニルブタン酸クロリドの調製4-4-メチルフェニルブタン酸20.8gをMCH95mLに溶解し、室温、窒素雰囲気下でDMF90μL、オキサリルクロリド15.9gを加えた。同温度で2時間攪拌した後、減圧度2.7~7.5kPa、外温60°CにてMCHを留去した内温約50~60°C。再度MCH36mLを加え、減圧度2.7~7.5kPa、外温60°CにてMCHを留去した内温約50~60°C。調製した4-4-メチルフェニルブタン酸クロリド溶液は窒素雰囲気下で一夜静置した後、特に精製することなくアシル化反応1-2に使用した。1-2Compound2を原料として用いて、Compound3を製造する工程Compound218.0gにMCH45mLを加えて加温、還流し、調製した4-4-メチルフェニルブタン酸クロリド溶液は還流状態を維持するように滴下した後、還流下4時間攪拌を行った。反応液を50°Cまで冷却し、25水酸化ナトリウム水溶液23.3gおよび水道水54mL、MCH54mLを加え、同温度で1時間攪拌した後分液し、有機層を得た。続いて28ナトリウムメトキシド1.7gを加えて30分攪拌した後、水道水54mLを加えて分液し、有機層を得た。有機層を約54mLまで留去した後内温約50~60°C、n-プロパノール90mLを加えて再度54mLまで留去した。得られた溶液にn-プロパノール126mL、水道水153mLを加え、内温約40°CでCompound3の種晶20mgを接種し1時間攪拌した。その後内温約0°Cまで冷却し1時間攪拌後、結晶をろ過、洗浄、乾燥しCompound3の結晶24.4g、収率89.4を得た。分析データメチル2R,4R-2-t-ブチル-4-メチル-4-2-{1-メチル-5-[4-4-メチルフェニルブタノイル]-1H-ピロール-2-イル}エチル-1,3-オキサゾリジン-3-カルボン酸エステルCompound31HNMR:09514119521023023024025027027336836838539751359268570071013CNMR:2092222232652703293493643843845206377759721066118912831289130713521388141915641907MS:mz469MH1-3Compound3を原料として用いて、Compound1を製造する工程1-3-1脱N,O-アセタール化工程Compound330gにメタノール360mLを加え、45°Cに加温して溶解させた後、濃塩酸2.6mLを加えた。同温度にて3時間攪拌した後、25水酸化ナトリウム水溶液46.7mLを加えて反応を停止した。室温まで冷却した後、5倍量150mLになるまで減圧濃縮し、n-プロパノール300mLを加えて再度5倍量150mLになるまで減圧濃縮し、Compound4とCompound5との混合物のn-プロパノール溶液を得た。Compound4とCompound5との混合物のn-プロパノール溶液は精製することなく次工程に使用した。1-3-2脱カルボニル化工程前工程で得たCompound4とCompound5との混合物のn-プロパノール溶液に、7倍量210mLになるまでn-プロパノールを加え、さらに水道水30mLおよび25水酸化ナトリウム水溶液51.2mLを加え、還流するまで加熱した。還流下で7時間攪拌した後、室温まで冷却し、トルエン300mLと水道水300mLを加えて分液した。得られた有機層を5倍量150mLになるまで減圧濃縮し、トルエン300mLを加えて再度5倍量150mLになるまで減圧濃縮した。濃縮液に10倍量300mLになるまでトルエンを加え、さらにMCH300mLを加えて室温で30分間攪拌した後、5°C以下に冷却した。同温度で30分間攪拌した後、析出した結晶をろ過し、冷トルエンとMCHの混合溶媒混合比:1/2で洗浄した。結晶を40°Cにて10時間以上真空乾燥し、Compound1の粗結晶20.4g,収率93.2を得た。1-3-3精製工程前工程で得られた粗結晶19.0gにメタノール285mLを加え溶解させた後、5倍量150mLになるまで減圧濃縮した。濃縮液に10倍量190mLになるまでメタノールを加え、さらに水道水190mLを25°C~40°Cを保つように加えた。外温を20°Cに設定し、結晶が析出するまでゆっくり冷却させた後、晶出した温度にて30分間攪拌した。水道水190mLを追加し、さらに5°C以下に冷却して30分間攪拌した後、析出した結晶をろ過し、冷33メタノール水で洗浄した。結晶を40°Cにて10時間以上真空乾燥し、Compound1の結晶18.4g、収率97.0を得た。実施例2Compound1を製造する方法2-14-4-メチルフェニルブタン酸クロリドの調製4-4-メチルフェニルブタン酸8.66gをECH70mLに溶解し、室温、窒素雰囲気下でDMF10μL、オキサリルクロリド4.5mLを加えた。その溶液を同温度で3時間攪拌した後、減圧度6.5kPa、外温75°Cに設定し、ECH10mLを留去した内温約54°C。この調製した溶液4-4-メチルフェニルブタン酸クロリドのECH溶液は窒素雰囲気下で一夜静置した後、特に精製することなくアシル化反応2-2に使用した。2-2Compound2を原料として用いて、Compound5を製造する工程4-4-メチルフェニルブタン酸クロリドのECH溶液に、室温、窒素雰囲気下でCompound210gを添加した後、減圧度45kPa、外温135°Cに設定し、ECH10mLを留去した内温約106°C。外温を保持したまま減圧度を55kPaに変更し、還流下で8時間攪拌を行った。反応液を50°Cまで冷却し、25水酸化ナトリウム水溶液7.8mLおよび水道水30mLを加え、同温度で1時間攪拌し一夜静置した。得られた溶液にECH50mLを加え、50°Cに加温した。同温度にて分液し水層を除去した後、得られたECH層に水道水30mLを加え再度分液し、有機層を得た。有機層を5倍量50mLになるまで減圧濃縮し、メタノール100mLおよび塩酸2.7mLを加えて50°Cに加温した。同温度で2.5時間攪拌した後、25水酸化ナトリウム水溶液4.6mLおよび水道水20mLを加え、50°Cに加温した。同温度で1.0時間攪拌した後分液し、ECH層を除去した。得られたメタノール水層を30°Cまで冷却し、Compound5の種晶を接種した。晶出を確認後、水道水30mLを加え、同温度で1.0時間攪拌した後、5°C以下まで冷却した。同温度で30分間攪拌した後、析出した結晶をろ過し、冷70メタノール水で洗浄した。結晶を50°Cにて10時間以上真空乾燥し、Compound5の結晶10.6g,収率88.6を得た。分析データ4R-4-メチル-4-2-{1-メチル-5-[4-4-メチルフェニルブタノイル]-1H-ピロール-2-イル}エチル-1,3-オキサゾリジン-2-オンCompound51HNMR:14218521023226028038540941759266068570072013CNMR:2102112582703303493843875757561067118912841290130913521388140715951909MS:mz369MHなお、Compound5は、Compound3を原料として用いた場合には、以下のように製造した。Compound322.0gにメタノール132mL、濃塩酸2.3mLを加えて45~50°Cに加温し2.5時間攪拌した後、25水酸化ナトリウム水溶液4.5gを加え、同温度で2時間攪拌した後内温20~25°Cに冷却した。Compound5の種晶を接種した後水道水103mLを加え、同温度で1時間攪拌した後、結晶をろ過、洗浄、乾燥し、Compound5の結晶16.3g、収率94.5を得た。2-3Compound5を原料として用いて、Compound1を製造する工程Compound5の結晶15.0gにn-ブタノール90mL、25水酸化ナトリウム水溶液32.5gを加え、加温、還流した。還流下5時間攪拌した後、約60°C付近まで冷却し、水道水45mLを加えて分液した。得られた有機層を45mLまで減圧濃縮し、ヘプタン60mLを加えて再度45mLまで減圧濃縮した。濃縮液を内温40~45°Cに調整し、ヘプタン195mLを加えて結晶を析出させた後30分攪拌し、内温5°C以下に冷却した。同温度で1時間攪拌した後、結晶をろ過、洗浄、乾燥し、Compound1の結晶12.0g,収率86.2を得た。分析データ1-{5-[3R-3-アミノ-4-ヒドロキシ-3-メチルブチル]-1-メチル-1H-ピロール-2-イル}-4-4-メチルフェニルブタン-1-オンCompound1Compound1の結晶は、図1に示すような粉末X線回折パターンを示した。鋭い回折ピークが観測されていることから、Compound1が結晶であることが確認された。"