"放射ビームを提供するようになされたイルミネータと、前記放射ビームの断面にパターンを付与するようになされたパターン化デバイスを保持するようになされた支持構造と、基板を保持するようになされた基板テーブルと、パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するようになされた投影システムと、前記投影システムと前記基板、前記基板テーブル若しくはその両方の間の空間の少なくとも一部を充填するべく、前記基板、前記基板テーブル若しくはその両方の局所領域に液体を供給するようになされた液体供給システムとを備えたリソグラフィック装置であって、前記基板テーブルが、液体を収集するようになされた、間隔を隔てて前記基板を取り囲んでいる障壁を備えたリソグラフィック装置。前記障壁が、前記基板テーブルの上面から突出した突起からなる、請求項1に記載の装置。前記障壁の少なくとも一部が親液体材料若しくは被覆剤からなる、請求項1に記載の装置。前記障壁が、前記基板テーブルの上面中に凹所をなした溝からなる、請求項1に記載の装置。前記溝が、毛管作用によって前記溝に沿って前記液体を移送することができるようにサイズ化された、請求項4に記載の装置。前記基板テーブルが、前記溝を介して前記上面と液体接触したチャンバをさらに備え、前記溝が連続したループを形成している、請求項4に記載の装置。前記障壁から液体を除去するようになされた低圧供給装置をさらに備えた、請求項1に記載の装置。前記低圧供給装置が複数の離散出口を備えた、請求項7に記載の装置。前記低圧供給装置が前記液体供給システムとは無関係に動作する、請求項7に記載の装置。前記障壁に沿った液体の移送を容易にするべく、前記障壁中に表面弾性波を発生するようになされた表面弾性波発生器をさらに備えた、請求項1に記載の装置。前記表面弾性波発生器が圧電アクチュエータを備えた、請求項10に記載の装置。前記障壁が、溝及び前記基板テーブルの上面から突出した突起からなる、請求項1に記載の装置。前記基板テーブルが、前記溝を介して前記上面と液体接触したチャンバを備えた、請求項12に記載の装置。前記チャンバの少なくとも一部が前記突起中に形成された、請求項13に記載の装置。前記障壁が、前記基板の外周縁を取り囲んでいる排液溝すなわち障壁の外側に向かって放射状に配置された、請求項1に記載の装置。前記障壁が実質的に前記基板テーブルの外縁若しくは前記基板テーブルの一部分の周りに展開した、請求項1に記載の装置。前記障壁が、前記基板テーブルの上面の前記基板によって覆われていない領域をさらに取り囲んでいる、請求項1に記載の装置。前記障壁が、前記基板テーブルの上面に取り付けられた少なくとも1つのセンサ及び/又は前記液体供給システムを密閉するようになされたクロージャ部材をさらに取り囲んでいる、請求項1に記載の装置。投影システムと基板、基板テーブル若しくはその両方の間の空間の少なくとも一部を充填するべく、前記基板、前記基板テーブル若しくはその両方の局部領域に液体を提供するステップと、パターン化された放射ビームを前記投影システムを使用して前記液体を介して前記基板の目標部分に投射するステップと、間隔を隔てて基板を取り囲んでいる障壁を使用して液体を収集するステップとを含むデバイス製造方法。前記障壁が、前記基板テーブルの上面から突出した突起からなる、請求項19に記載の方法。前記障壁が、前記基板テーブルの上面中に凹所をなした溝からなる、請求項19に記載の方法。低圧供給装置を使用して前記障壁から液体を除去するステップをさらに含む、請求項19に記載の方法。前記障壁から液体を除去するステップが、前記液体を提供するステップとは無関係に動作する、請求項22に記載の方法。前記障壁に沿った液体の移送を容易にするべく、前記障壁中に表面弾性波を発生するステップをさらに含む、請求項19に記載の方法。前記障壁が、溝及び前記基板テーブルの上面から突出した突起からなる、請求項19に記載の方法。前記基板テーブルが、少なくとも一部が前記突起中に形成された、前記溝を介して前記上面と液体接触しているチャンバを備えた、請求項25に記載の方法。前記基板の外周縁を取り囲んでいる、前記障壁の内側に向かって放射状に配置された排液溝すなわち障壁を使用して液体を除去するステップをさらに含む、請求項19に記載の方法。したがって、たとえば、液浸リソグラフィック投影装置内のコンポーネントの液体による汚染の危険を小さくすることが有利である。一態様によれば、放射ビームを提供するようになされたイルミネータと、放射ビームの断面にパターンを付与するようになされたパターン化デバイスを保持するようになされた支持構造と、基板を保持するようになされた基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムと、投影システムと基板、基板テーブル若しくはその両方の間の空間の少なくとも一部を充填するべく、基板、基板テーブル若しくはその両方の局所領域に液体を供給するようになされた液体供給システムとを備えたリソグラフィック装置であって、基板テーブルが、液体を収集するようになされた、間隔を隔てて基板を取り囲んでいる障壁を備えたリソグラフィック装置が提供される。障壁を使用することにより、液体供給システムからこぼれた液体、或いは液体供給システムからリークした液体を収集し、リークした液体でリソグラフィック装置内のコンポーネントを汚染することなく再循環若しくは廃棄することができる。この障壁が占有する基板テーブル上の空間は極めてわずかである。加速しなければならない質量を可能な限り小さくするべく、可能な限り小さく構築される基板テーブル上に空間が限定されるため、これは有利である。一実施例では、障壁は、基板テーブルの上面から突出した突起からなっている。これは、基板テーブルの加速によって生成される力による基板テーブルからの液体の飛散、或いは液体供給システムたとえば、本明細書において説明する解決法のいずれかによるの破局的故障による基板テーブルからの液体の飛散を防止するための単純な物理障壁である。一実施例では、障壁の少なくとも一部が、親液体材料若しくは被覆剤からなっている。このような材料を使用して障壁を構築し、或いはこのような被覆剤を障壁に塗布することにより、障壁に粘着する液体の収集が促進される。一実施例では、障壁は、基板テーブルの上面中に凹所をなしている溝からなっている。これには、基板テーブルの断面輪郭が基板の上面と概ね同じ水準の上面を有するという利点があり、したがって、たとえば基板を交換している間、基板テーブルと液体供給システム及び/又は投影システムの衝突を回避するために、基板テーブル若しくは液体供給システムを投影システムの光軸の方向へ移動させる必要がない。一実施例では、溝は、毛管作用によって溝に沿って液体を移送することができるようにサイズ化されている。このようなサイズ化により、障壁によって収集された液体を、コンポーネントを何ら追加する必要なく、障壁から液体を移動させるようになされた低圧供給装置へ容易に移送することができる。基板テーブルは、溝を介して上面と液体接触したチャンバを備えることができる。溝は、連続した溝にすることができる。チャンバを使用することにより、溝の長さ全体に渡って真空流を均等化することができる。一実施例では、そのために必要なことは、ほんのいくつかの離散出口を使用することだけである。一実施例では、障壁から液体を除去するための低圧供給装置を提供することができる。低圧供給装置は、溝若しくはチャンバに提供することができる個別離散低圧出口を備えることができる。一実施例では、低圧供給装置は液体供給システムに無関係に動作している。この方法によれば、液体供給システムが故障し、液体がオーバフローした場合においても、障壁は動作を継続する。障壁に沿って液体を移送する方法の1つは、障壁中に表面弾性波を発生するようになされた音波発生器を提供することである。一実施例では、これは、有利には極めて小形に構築することができる圧電アクチュエータを使用することによって提供される。一実施例では、障壁は、溝及び基板テーブルの上面から突出した突起からなっている。この組合せの利点は、たとえば、基板テーブルの上面に沿って液体を高速で除去することができることである。突起は本質的にダムとして作用し、ダムに液体が蓄積すると、溝を介して排液される。突起中に任意選択で少なくとも部分的に形成することができる、溝を介して上面と液体接触したチャンバと組み合わせることにより、とりわけ有効な障壁が形成される。一実施例では、障壁は、基板の外周縁を取り囲んでいる排液溝すなわち障壁の外側に向かって放射状に配置されている。基板の外周縁を取り囲んでいるこのような排液溝すなわち障壁は、基板の縁部分が露光され、局所領域液体供給システムが基板上及び基板テーブル上の両方の領域に同時に液体を供給する際に、基板と基板テーブルの間の間隙を介してリークする液体の量が少なくなるように提供される。基板の外周縁を取り囲んでいる排液溝すなわち障壁の実施例については、たとえば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれている米国特許出願第10/705,804号を参照されたい。排液溝すなわち障壁からたまたまリークする液体は、障壁によって収集することができる。障壁は、本質的に基板テーブルの外縁若しくは基板テーブルの一部分の周りに展開している。したがって液体供給システムの基板テーブル上のいかなる相対位置においても、障壁を使用してこぼれた液体を収集することができる。障壁は、基板テーブル上面の基板で覆われていない領域をさらに取り囲むことができる。また、障壁は、基板テーブルの上面及び/又は液体供給システムを密閉するようになされたクロージャ部材に取り付けられた少なくとも1つのセンサをさらに取り囲むこともできる。センサは、アラインメントに使用されるトランスミッションイメージセンサであっても良い。クロージャ部材は、たとえば1枚の基板を露光した後、次の基板の露光に先立って基板を交換している間に液体供給システムに液体を充填するべく、液体供給システムの底部に接続するように設計された円板の形態にすることも可能である。参照によりその全体が本明細書に組み込まれている米国特許出願第US10/705,785号に、クロージャ部材の典型的な実施例が開示されている。他の態様によれば、投影システムと基板、基板テーブル若しくはその両方の間の空間の少なくとも一部を充填するべく、基板、基板テーブル若しくはその両方の局部領域に液体を提供するステップと、パターン化された放射ビームを投影システムを使用して液体を介して基板の目標部分に投射するステップと、間隔を隔てて基板を取り囲んでいる障壁を使用して液体を収集するステップとを含むデバイス製造方法が提供される。本明細書においては、リソグラフィック装置の、とりわけICの製造における使用が参照されているが、本明細書において説明するリソグラフィック装置は、集積光学系、磁気領域メモリのための誘導及び検出パターン、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッド等の製造などの他のアプリケーションを有していることを理解されたい。このような代替アプリケーションのコンテキストにおいては、本明細書におけるウェハ或いはダイという用語の使用はすべて、それぞれより一般的な基板或いは目標部分という用語の同義語と見なすことができることは当業者には理解されよう。本明細書において参照されている基板は、たとえばトラック通常、基板にレジスト層を塗布し、且つ、露光済みレジストを現像するツール或いは度量衡学ツール若しくは検査ツール中で、露光前若しくは露光後に処理することができる。適用可能である場合、本明細書における開示は、このような基板処理ツール及び他の基板処理ツールに適用することができる。また、基板は、たとえば多層ICを生成するべく複数回に渡って処理することができるため、本明細書に使用されている基板という用語は、処理済みの複数の層が既に含まれている基板を指している場合もある。本明細書に使用されている放射及びビームという用語には、紫外UV放射たとえば波長が365nm、248nm、193nm、157nm若しくは126nmの放射を含むあらゆるタイプの電磁放射が包含されている。本明細書に使用されているパターン化デバイスという用語は、投影ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板の目標部分にパターンを生成するべく使用することができるデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。また、投影ビームに付与されるパターンは、基板の目標部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。通常、投影ビームに付与されるパターンは、目標部分に生成されるデバイス、たとえば集積回路中の特定の機能層に対応している。パターン化デバイスは、透過型であっても或いは反射型であっても良い。パターン化デバイスの実施例には、マスク、プログラム可能ミラーアレイ及びプログラム可能LCDパネルがある。マスクについてはリソグラフィにおいては良く知られており、バイナリ、交番移相及び減衰移相などのマスクタイプ、及び様々なハイブリッドマスクタイプが知られている。プログラム可能ミラーアレイの実施例には、マトリックスに配列された微小ミラーが使用されている。微小ミラーの各々は、入射する放射ビームが異なる方向に反射するよう、個々に傾斜させることができるため、この方法によって反射ビームがパターン化される。パターン化デバイスのいずれの実施例においても、支持構造には、たとえば、必要に応じて固定若しくは移動可能にすることができ、且つ、たとえば投影システムに対してパターン化デバイスを確実に所望の位置に配置することができるフレーム若しくはテーブルが使用されている。本明細書におけるレチクル或いはマスクという用語の使用はすべて、より一般的なパターン化デバイスという用語の同義語と見なすことができる。本明細書に使用されている投影システムという用語には、たとえば使用する露光放射に適した、或いは液浸液の使用若しくは真空の使用などの他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系及びカタディオプトリック光学系を始めとする様々なタイプの投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書におけるレンズという用語の使用はすべて、より一般的な投影システムという用語の同義語と見なすことができる。また、照明システムには、投影放射ビームを導き、整形し、或いは制御するための屈折光学コンポーネント、反射光学コンポーネント及びカタディオプトリック光学コンポーネントを始めとする様々なタイプの光学コンポーネントが包含されており、このようなコンポーネントについても、以下、集合的若しくは個々にレンズと呼ぶ。リソグラフィック装置は、場合によっては2つ二重ステージ以上の基板テーブル及び/又は複数のマスクテーブルを有するタイプの装置であり、このような多重ステージマシンの場合、追加テーブルを並列に使用することができ、或いは1つ又は複数の他のテーブルを露光のために使用している間、1つ又は複数のテーブルに対して予備ステップを実行することができる。以下、本発明の実施例について、単なる実施例に過ぎないが、添付の略図を参照して説明する。図において、対応する参照記号は対応する部品を表している。図1は、本発明の特定の実施例によるリソグラフィック装置を略図で示したものである。このリソグラフィック装置は、-投影放射たとえばUV放射ビームPBを提供するための照明システムイルミネータILと、-パターン化デバイスたとえばマスクMAを支持するための、パターン化デバイスをアイテムPLに対して正確に位置決めするための第1の位置決めデバイスPMに接続された第1の支持構造たとえばマスクテーブルMTと、-基板たとえばレジスト被覆ウェハWを保持するための、基板をアイテムPLに対して正確に位置決めするための第2の位置決めデバイスに接続された基板テーブルたとえばウェハテーブルWTと、-パターン化デバイスMAによって投影ビームPBに付与されたパターンを基板Wの目標部分Cたとえば1つ又は複数のダイからなるに画像化するための投影システムたとえば屈折投影レンズPLとを備えている。図に示すように、このリソグラフィック装置は、透過型たとえば透過型マスクを使用したタイプの装置である。別法としては、このリソグラフィック装置は、反射型たとえば上で参照したタイプのプログラム可能ミラーアレイを使用したタイプの装置であっても良い。イルミネータILは、放射源から放射ビームを受け取っている。放射源がたとえばエキシマレーザである場合、放射源及びリソグラフィック装置は、個別の構成要素にすることができる。このような場合、放射源は、リソグラフィック装置の一部を形成しているとは見なされず、放射ビームは、たとえば適切な誘導ミラー及び/又はビームエキスパンダを備えたビーム引渡しシステムを使用して放射源からイルミネータILへ引き渡される。それ以外のたとえば放射源が水銀灯である場合、放射源はリソグラフィック装置の一構成要素である。放射源及びイルミネータILは、必要に応じてビーム引渡しシステムと共に放射システムと呼ぶことができる。イルミネータILは、放射ビームの角強度分布を調整するための調整手段AMを備えることができる。通常、イルミネータのひとみ平面内における強度分布の少なくとも外部及び/又は内部ラジアルエクステント一般に、それぞれσ-外部及びσ-内部と呼ばれているは調整が可能である。また、イルミネータILは、通常、インテグレータIN及びコンデンサCOなどの他の様々なコンポーネントを備えている。イルミネータは、投影ビームPBと呼ばれる、所望する一様な強度分布をその断面に有する調整済み放射ビームを提供している。マスクテーブルMT上に保持されているマスクMAに投影ビームPBが入射する。マスクMAを透過した投影ビームPBは、投影ビームを基板Wの目標部分Cに集束させるレンズPLを通過する。基板テーブルWTは、第2の位置決めデバイスPW及び位置センサIFたとえば干渉デバイスを使用して正確に移動させることができ、それによりたとえば異なる目標部分Cを投影ビームPBの光路に配置することができる。同様に、第1の位置決めデバイスPM及びもう1つの位置センサ図1には明確に示されていないを使用して、たとえばマスクライブラリから機械的に検索した後、若しくは走査中に、マスクMAを投影ビームPBの光路に対して正確に配置することができる。通常、対物テーブルMT及びWTの移動は、位置決めデバイスPM及びPWの一部を形成している長ストロークモジュール粗位置決め及び短ストロークモジュール精密位置決めを使用して実現されているが、ステッパの場合スキャナではなく、マスクテーブルMTは、短ストロークアクチュエータのみに接続することができ、或いは固定することも可能である。マスクMA及び基板Wは、マスク位置合せマークM1、M2及び基板位置合せマークP1、P2を使用して位置合せすることができる。図に示す装置は、以下に示す好ましいモードで使用することができる。1.ステップモードでは、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影されるすなわち単一静止露光。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップモードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。2.走査モードでは、投影ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査されるすなわち単一動的露光。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの倍率縮小率及び画像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって単一動的露光における目標部分の幅非走査方向のが制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ走査方向のが左右される。3.その他のモードでは、プログラム可能パターン化デバイスを保持するべくマスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン化デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラーアレイなどのプログラム可能パターン化デバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。本発明の第1の実施例について、図5を参照して説明する。図には、基板Wを支持している基板テーブルWTが示されている。基板テーブルWTには、リソグラフィック装置に対して移動する、大まかな位置移動用に設計された下部部分と、該下部部分に対して移動する、正確な短ストローク位置決め用に設計された上部部分が利用されるタイプの基板テーブルを始めとする任意の種類の基板テーブルを使用することができる。また、基板テーブルWTは、チャックを開放可能に基板テーブルWTに取り付けることができ、且つ、該チャックが基板テーブルWTによって支持されるタイプの基板テーブルの1つであっても良い。以下の説明は、あらゆるタイプの基板テーブルWTに適用され、その記述は包括的なものである。液浸リソグラフィに使用される基板テーブルWTは、基板Wの外周縁を取り囲む排液溝すなわち障壁40を備えることができる。排液溝すなわち障壁40は、基板Wの縁部分を露光している間に基板Wからこぼれる液浸液を回収することができるよう、低圧源に接続されている。このような排液溝すなわち障壁40の実施例については、参照によりその全体が本明細書に組み込まれている米国特許出願第10/705,804号を参照されたい。また、基板テーブルの上面には、基板Wの上面と実質的に同じ平面内に存在する別の対象20が配置されている。この別の対象20は、図6に示すセンサ24たとえばトランスミッションイメージセンサTIS及び/又はスポット線量センサを始めとするセンサ或いはいわゆるクロージングディスク22を備えることができる。トランスミッションイメージセンサ24は、基板Wを基板テーブルWTに対して整列させている間、使用され、通常、投影システムを介して投影ビームPBによって照射される。クロージングディスク22は、通常、基板を交換している間、使用される。基板の露光が終了すると、基板テーブルWTから基板が除去され、新しい未露光基板Wに交換される。最終エレメント上のマークの乾燥を回避するためには、この期間の間、投影システムの最終エレメントが液体に浸された状態を維持することが有利であり、そのために、液体の破局的損失を招くことなく液体供給システムが動作状態を維持することができるよう、液体供給システムの下面に接続することができるクロージングディスク22が提供されている。クロージングディスクについては、参照によりその全体が本明細書に組み込まれている米国特許出願第US10/705,785号に、より詳細に記載されている。障壁100は、基板W、排液溝40、クロージングディスク22及びトランスミッションイメージセンサ24を取り囲んでいる。また、障壁100は、基板テーブルWTの上面の他の領域を取り囲んでいる。障壁100は連続しており、実質的に基板テーブルWTの上面の外縁若しくは基板テーブルWTの上面の一部分に配置されている。障壁100は、物理的に基板テーブルWT及び基板Wの上面の平面外に位置している。基板チャック及びテーブルを備えたタイプの基板テーブルWTの場合、障壁100は、チャックの外側の周りに配置するか、或いは基板テーブルの外側の周りに配置することができる。この第1の実施例では、障壁100は、基板テーブルWTの上面中に凹所をなした溝110からなっている。溝110は連続したループ円形であれ、非円形であれであるが、必ずしも連続したループである必要はない。溝110は、基板テーブルWTの上面から上に向かって突出した突起140を従えることができる。一実施例では、突起140は、溝110の外側に向かって放射状に配置されている。低圧供給装置が複数の離散出口120に取り付けられている。離散出口120は、一実施例では、液体供給システムに無関係の低圧供給装置に接続されており、したがって障壁100によって収集されるすべての液体を除去し、廃棄するか或いは任意選択で再循環させることができる。一実施例では、離散出口120を連続したループ円形であれ、非円形であれにすることが可能である。有利には、障壁100は、障壁100と接触する液体がすべて障壁100に引き付けられるよう、親液体材料を使用して構築されているか、或いは親液体被覆が施されており、したがってより有効に液体を収集することができる。一実施例では、溝110は、断面がU字形になるように形成されており、溝の中の液体に毛管力が作用するようにサイズ化されている。したがって1つ又は複数の離散出口120まで液体を移送し、基板テーブルWTから液体を除去することができる。障壁100に沿って液体を移送する代替は、障壁たとえば溝の表面上及び/又は表面の直ぐ下の時間変動変形すなわち振動である表面弾性波を発生することである。液体は、表面の時間変動変形によって移送される。表面弾性波は、圧電アクチュエータを備えることができる表面弾性波発生器によって発生することができる。この設計は極めてコンパクトであり、表面上で極めて局部的に表面弾性波を発生することができる。したがって表面弾性波が伝搬するのは障壁100の材料の表面に沿ってのみであるため、基板テーブル若しくはチャックに機械的なひずみが生じることはない。次に、図6を参照して第2の実施例について説明するが、以下の説明を除き、第1の実施例と同じである。第2の実施例では、障壁100の対向するコーナに2つの収液凹所122が提供されている。この収液凹所122の形状は半球であり、その最も深く凹んだポイントに出口120を有している。溝110は、溝110の中のすべての液体が重力の力によって収液凹所122に向かって移動するよう、溝の長さに沿って僅かに傾斜している。当然、溝110は、毛管力によって収液凹所122に向かって液体が移動するようにサイズ化することができ、或いはその目的のために表面弾性波発生器を使用することができる。次に、図7を参照して第3の実施例について説明するが、以下の説明を除き、第1の実施例と同じである。第3の実施例では、障壁100は、基板テーブルWTの外縁若しくは基板テーブルWTの一部分の周りに展開した連続した溝110からなっている。連続した溝110は、基板テーブル中に形成された、溝の断面積より広い断面積を有する連続した環状チャンバ130と流体連絡している。低圧源に接続された複数の離散出口120若しくは連続した単一の出口120は、チャンバ130と流体連絡している。この方法によれば、溝110内の低圧が溝の長さ全体に沿って均等化されるため、液体を排液システム中に強制する力が障壁100の長さ全体に沿って等しくなる。他の実施例の場合と同様であるが、排液溝40とは対照的に、障壁100は、基板Wが基板テーブルWT上の基板Wに指定された領域に配置されると、基板Wと間隔を隔てている。第4の実施例は、次に図8を参照して説明する点を除いて第3の実施例と同じである。第4の実施例は、たとえば、基板テーブルWTの上面で高速度を有する液体を最適除去するために設計されている。液体は、基板テーブルが投影システムの光軸に直角の平面内を高速で移動すると、基板テーブル上に高速度を展開する。第4の実施例の障壁100は、基板テーブルWTの上面から上に向かって突出した突起140からなっている。突起140は、実質的に基板テーブルWTの外縁若しくは基板テーブルWTの一部分で、基板テーブルWTの外縁若しくは基板テーブルWTの一部分の周りに展開している。突起140中に溝110が形成され、基板テーブルWTの上面に実質的に直角に展開している前述の実施例の溝とは対照的に、基板テーブルWTの上面に実質的に平行に水平方向に展開している。しかしながらこの第4の実施例の場合も他の実施例と同様、溝110は、基板テーブルWTの上面に対して任意の角度にすることができる。第4の実施例の場合、液体が突起140の放射状の内面に対して強制されると、図8に示すように、左から右への基板テーブルWTの加速によって、溝110を介して液体を強制するための有効な力が液体に働くため、溝110は水平角度であることが好ましい。図に示す突起140の内面は、基板テーブルWTの上面に対して直角をなしている。放射状の内面に対して液体が蓄積する際に、液体が突起140の頂部を越えて強制される可能性が少なくなるため、突起140が基板テーブルWTの上面に張り出すことになる角度つまり内側に向かって角度が付けられていることが有利ではあるが、機械加工のためには、突起140の内面が基板テーブルWTの上面に対して直角をなしていることが恐らく最も容易な形状であると思われる。第4の実施例のチャンバ130は、少なくともその一部が突起140中に形成されている。必ずしもその必要はないが、チャンバ130の少なくとも一部を突起140中に形成することにより、より容易に製造することができる。実際、チャンバ130全体を突起140の内部に形成することも可能であり、この方法によれば、たとえば、基板テーブルWTの上面ににかわ付けされるか或いは取り付けられる、断面の形状がU字形の環状リングで障壁100を形成することができる。他の形状及び断面も可能であることは明らかであろう。上で説明した使用モードの組合せ及び/又はその変形形態若しくは全く異なる使用モードを使用することも可能である。提案されているもう1つの液浸リソグラフィ解決法は、投影システムの最終エレメントと基板テーブルの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って展開したシール部材を備えた液体供給システムを提供することである。シール部材は、Z方向光軸の方向における若干の相対移動が存在する可能性があるが、投影システムに対して実質的にXY平面内に静止している。シール部材と基板の表面の間にシールが形成される。このシールは、ガスシールなどの非接触シールであることが好ましい。たとえば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれている米国特許出願第US10/705,783号に、このようなシステムが開示されている。図4は、局所液体供給システムを使用した他の液浸リソグラフィ解決法を示したものである。液体は、投影システムPLの両側の2つの溝入口INによって供給され、入口INの外側に向かって放射状に配置された複数の離散出口OUTによって除去される。入口IN及びOUTは、投射される投影ビームが通過する孔が中心に穿たれたプレートに配置することができる。液体は、投影システムPLの一方の側の1つの溝入口INによって供給され、投影システムPLのもう一方の側の複数の離散出口OUTによって除去され、それにより投影システムPLと基板Wの間に液体の薄膜の流れが形成される。使用する入口INと出口OUTの組合せの選択は、基板Wが移動する方向によって決まる入口INと出口OUTの他の組合せは非活動状態である。参照によりその全体が本明細書に組み込まれている欧州特許出願第03257072.3号に、二重ステージ液浸リソグラフィ装置の着想が開示されている。このような装置は、基板を支持するための2つの基板テーブルを備えている。液浸液が存在しない第1の位置で、基板テーブルを使用して水準測定が実施され、液浸液が存在している第2の位置で、基板テーブルを使用して露光が実施されている。この装置は、別法として、第1の位置と第2の位置の間を移動する1つの基板テーブルのみを有することも可能である。本発明は、あらゆる液浸リソグラフィ装置に適用することができ、それらに限定されないが、とりわけ上で言及したタイプの液浸リソグラフィ装置に適用することができる。以上、本発明の特定の実施例について説明したが、説明した以外の方法で本発明を実践することができることは理解されよう。以上の説明は、本発明の制限を意図したものではない。"