"下記の式1で表される、フルオロアルキル基を有するイオン液体。式中Aは下記の一般式A1、A2またはA3で表される。[式中、R1、R2、R3は互いに独立であり、炭素原子数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合、又はアリール基を有していてもよく、環状構造を有していてもよい。を示す。][式中、R4は炭素原子数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合、又はアリール基を有していてもよい。を示す。][式中、R5は、炭素原子数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合、又はアリール基を有していてもよい。を示す。]下記の式2で表される、フルオロアルキル基を有するイオン液体。式中Aは下記の一般式A4、A5またはA6で表される。[式中、R1、R2、R3は互いに独立であり、炭素原子数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合、又はアリール基を有していてもよく、環状構造を有していてもよい。を示す。][式中、R4は、炭素原子数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合又はアリール基を有していてもよい。を示す。][式中、R5は、炭素結合数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合、又はアリール基を有していてもよい。を示す。]本発明は、フルオロアルキル基を有する新規なイオン液体を提供するものである。本発明は、フルオロアルキル基を有するイオン液体、特に分岐鎖フルオロアルキル基を有する新たなイオン液体を提供することにある。項1.下記の式1で表される、フルオロアルキル基を有するイオン液体。式中Aは下記の一般式A1、A2またはA3で表される。[式中、R1、R2、R3は互いに独立であり、炭素原子数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合、又はアリール基を有していてもよく、環状構造を有していてもよい。を示す。][式中、R4は炭素原子数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合、又はアリール基を有していてもよい。を示す。][式中、R5は、炭素原子数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合、又はアリール基を有していてもよい。を示す。]項2.下記の式2で表される、フルオロアルキル基を有するイオン液体。式中Aは下記の一般式A4、A5またはA6で表される。[式中、R1、R2、R3は互いに独立であり、炭素原子数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合、又はアリール基を有していてもよく、環状構造を有していてもよい。を示す。][式中、R4は、炭素原子数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合又はアリール基を有していてもよい。を示す。][式中、R5は、炭素結合数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基該脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合、又はアリール基を有していてもよい。を示す。]を提供する。本発明により、反応溶媒、電解質、帯電防止剤、潤滑剤などとして使用可能である新規となる分岐鎖を有するフルオロアルキル基を有するイオン液体が提供される。本発明において、炭素数が1~10の飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水素基とは、メチル、エチル、プロピル、n-ブチル、s-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル、プロペニル、アリル等である。これらの脂肪族炭化水素基は所望によりエーテル結合、エステル結合、アミド結合又はアリール基を有していてもよく、例えばメトキシメチル、2-メトキシエチル、2-エトキシエチル等がある。本発明のイオン液体は下記に示した4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ‐3,3-ビストリフルオロメチルヘキシルトリフルオロメタンスルフェイトと有機塩基性化合物との反応合成ルート1より得られ、またこれに続く金属ビストリフルオロメタンスルフォニルイミド化合物との反応合成ルート2により得られる。合成ルート1合成ルート21.合成ルート1合成ルート1は、溶媒の存在下、4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシルトリフルオロメタンスルフェイトと有機塩基性化合物を反応させ、化合物1を得る工程である。4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシルトリフルオロメタンスルフェイトは例えば本願明細書中の合成参考例で示した方法により得ることができる。有機塩基性化合物本発明に用いる有機塩基性化合物としてはアミン類、イミダゾール類、ピリジン類などが挙げられる。本発明に用いるアミン類にとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジブチルメチルアミン、エチルジメチルアミン、ブチルジメチルアミン、1-メチルピペリジン、1-エチルピペリジン、1-ブチルピペリジン、1-メチルピロリジン、1-エチルピロリジン、1-ブチルピロリジン等の化合物を用いることができる。本発明に用いるイミダゾール類としては、1-メチルイミダゾール、1-エチルイミダゾール、1-プロピルイミダゾール、1-ブチルイミダゾール、1-ヘキシルイミダゾール、1-オクチルイミダゾール、1--メトキシエチルイミダゾール、1-2-エトキシエチルイミダゾール等の化合物を用いることができる。本発明に用いるピリジン類としては、ピリジン、3-メチルピリジン、3-エチルピリジン、3-ブチルピリジン、3-オクチルピリジン等の化合物を用いることができる。反応条件本発明に用いる合成ルート1の反応に用いられる溶剤としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランTHF、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン、N,N-ジメチルホルムアミドDMF、N,N-ジメチルアセトアミドDMAなどの非プロトン性極性溶媒が挙げられ、特にジエチルエーテル、テトラヒドロフランを用いることが好ましい。反応温度は0~100°Cの範囲であり、好ましくは、20°C~50°Cである。反応温度が0°C未満の場合は、反応が遅く、50°Cを超えると、副反応が進行するために好ましくない。圧力は常圧で反応が進行する。反応時間は、用いる原料や溶媒及び反応温度等に応じて適宜設定すればよいが、通常は2~48時間の範囲であり、好ましくは4~24時間である。反応比率については、アミン類に対して、フルオロアルキルトリフタート化合物0.8~3.0等量、好ましくは1.0~1.5等量で行うとよい。2.合成ルート2合成ルート2は溶媒の存在下、金属ビストリフルオロメタンスルフォニルイミド化合物を用いて1のアニオン交換を行う工程である。金属ビストリフルオロメタンスルフォニルイミド化合物本発明に用いる金属ビストリフルオロメタンスルフォニルイミド化合物としては、リチウムビストリフルオロメタンスルフォニルイミド、ナトリウムビストリフルオロメタンスルフォニルイミド、カリウムビストリフルオロメタンスルフォニルイミドが挙げられる。反応条件本発明の合成ルート2に用いられる溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランTHF、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン、N,N-ジメチルアセトアミドDMAなどの溶媒が挙げられ、特にジエチルエーテル、テトラヒドロフランを用いることが好ましい。反応温度は、用いる原料や溶媒及び反応温度等に応じて適宜設定すればよいが、通常は0~100°Cの範囲であり、好ましくは、20~50°Cである。反応温度が0°C未満の場合は、反応が遅く、50°Cを超えると、副反応が進行するために好ましくない。反応時間は2~48時間の範囲であり、好ましくは4~24時間である。反応比率については、イオン液体に対して、金属ビストリフルフォニルイミド化合物0.8~3.0等量、好ましくは1.0~1.5等量で行うとよい。精製方法精製は一般的な方法の溶媒抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィーによって行うことができる。本発明の内容を以下の実施例により説明するが、本発明の内容は実施例により限定して解釈されるものではない。[合成参考例]4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシルトリフルオロメタンスルフェイトの合成滴下ロートを備えた2口フラスコに4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシルアルコール3.64g,10mmol、ジエチルエーテル10gを入れた。2口フラスコ内の反応溶液を攪拌しながら、滴下ロートからトリフルオロメタンスルホン酸無水物3.38g,12mmolを滴下した。滴下終了後、室温で反応溶液を5時間攪拌した。攪拌終了後、反応溶液を5炭酸水素ナトリウム水溶液で反応を停止した。混合溶液からジエチルエーテルを用いて抽出した。抽出溶液を減圧化乾燥し目的物を4.46g収率90得た。得られた化合物の1H-NMR、19F-NMRを下記に示す。1H-NMR:2.73ppmt,J=8.0,2H,4.72ppmt,J=8.0,2H内部標準テトラメチルシラン19F-NMR:-122.22ppmm,2F,-106.71ppmm,2F,-79.79ppmt,3F,-73.91ppms,3F,-62.79ppmsept,J=11.28,6F内部標準CFCl3[実施例1]1-4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホン酸塩1の合成滴下ロートを備えた2口フラスコに4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシルトリフルオロメタンスルフェイト4.96g,10mmol、ジエチルエーテル10gを入れた。2口フラスコ内の反応溶液を攪拌しながら、滴下ロートから1-メチルイミダゾール0.99g,0.12mmolを滴下した。滴下終了後、室温で反応溶液を5時間攪拌した。攪拌終了後、析出した固体をろ別し、得られた固体をジエチルエーテルで洗浄した。洗浄後の固体を減圧化乾燥し化合物1を5.49g収率95得た。得られた化合物の1H-NMR、19F-NMRを下記に示す。1H-NMR:3.14ppmt,J=8.0,2H,4.08ppms,3H,4.85ppmt,J=8.0,2H,7.78ppmm,1H,7.97ppmm,1H,9.32ppmm,1H内部標準テトラメチルシラン19F-NMR:-122.22ppmm,2F,-106.71ppmm,2F,-79.79ppmm,3F,-77.91ppms,3F,-62.79ppmsept,J=11.28,6F内部標準CFCl3[実施例2]1-4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシル-3-ブチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホン酸塩2の合成実施例1の1-メチルイミダゾールを1-ブチルイミダゾールに変更した以外は同様の方法で、化合物2を収率83で得た。得られた化合物の1H-NMR、19F-NMRを下記に示す。1H-NMRCDCl3:0.94ppmt,J=8.0,3H,1.39ppmm,2H,1.94ppmm,2H,3.17ppmt,J=8.0,2H,4.41ppmt,J=8.0,2H,4.88ppmt,J=8.0,2H,7.79ppmm,1H,8.04ppmm,1H,9.40ppmm,1H内部標準テトラメチルシラン19F-NMRCDCl3:-122.22ppmm,2F,-106.71ppmm,2F,-79.79ppmm,3F,-77.91ppms,3F,-62.79ppmsept,J=11.28,6F内部標準CFCl3[実施例3]1-4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシル-ピリジニウムトリフルオロメタンスルホン酸塩3の合成実施例1の1-メチルイミダゾールをピリジンに変更した以外は同様の方法で、化合物3を収率86で得た。得られた化合物の1H-NMR、19F-NMRを下記に示す。1H-NMRCDCl3:3.40ppmt,J=8.0,2H,5.33ppmt,J=8.0,2H,8.35ppmm,2H,8.83ppmm,1H,9.38ppmm,2H内部標準テトラメチルシラン19F-NMRCDCl3:-122.22ppmm,2F,-106.71ppmm,2F,-79.79ppmm,3F,-77.91ppms,3F,-62.79ppmsept,J=11.28,6F内部標準CFCl3[実施例4]1-4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシル-3-メチルイミダゾリウムビストリフルオロメチルスルホニルイミド4の合成丸底フラスコに実施例1で合成した化合物117.34g、30mmol、ビストリフルオロメタンスルホニルイミドリチウム10.33g、36mmol、蒸留水50gを入れた。反応溶液を24時間室温で攪拌した。攪拌終了後、反応溶液を蒸留水、ジエチルエーテルの順で洗浄した。洗浄後の液体を減圧下乾燥し化合物4を18.48g、収率86で得た。得られた化合物の1H-NMR、19F-NMRを下記に示す。1H-NMRCDCl3:3.15ppmt,J=8.0,2H,4.10ppms,3H,4.87ppmt,J=8.0,2H,7.79ppmm,1H,8.00ppmm,1H,9.31ppmm,1H内部標準テトラメチルシラン19F-NMRCDCl3:-122.27ppmm,2F,-106.72ppmm,2F,-79.80ppmm,3F,-78.86ppms,6F,-62.79ppmsept,J=11.28,6F内部標準CFCl3[実施例5]1-4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシル-3-ブチルイミダゾリウムビストリフルオロメチルスルホニルイミド5の合成実施例4の化合物1を実施例2で合成した化合物2に変更した以外は同様の方法で、化合物5を収率97で得た。得られた化合物の1H-NMR、19F-NMRを下記に示す。1H-NMRCDCl3:0.94ppmt,J=8.0,3H,1.39ppmm,2H,1.94ppmm,2H,3.17ppmt,J=8.0,2H,4.41ppmt,J=8.0,2H,4.88ppmt,J=8.0,2H,7.79ppmm,1H,8.04ppmm,1H,9.40ppmm,1H内部標準テトラメチルシラン19F-NMRCDCl3:-122.27ppmm,2F,-106.72ppmm,2F,-79.80ppmm,3F,-78.86ppms,6F,-62.79ppmsept,J=11.28,6F内部標準CFCl3[実施例6]1-4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロ-3,3-ビストリフルオロメチルヘキシル-ピリジニウムビストリフルオロメチルスルホニルイミド6の合成実施例4の化合物1を実施例3で合成した化合物3に変更した以外は同様の方法で、化合物6を収率85で得た。得られた化合物の1H-NMR、19F-NMRを下記に示す。1H-NMRCDCl3:3.40ppmt,J=8.0,2H,5.33ppmt,J=8.0,2H,8.35ppmm,2H,8.83ppmm,1H,9.39ppmm,2H内部標準テトラメチルシラン19F-NMRCDCl3:-122.27ppmm,2F,-106.72ppmm,2F,-79.80ppmm,3F,-78.86ppms,6F,-62.79ppmsept,J=11.286F内部標準CFCl3"