板形状を有するガラス基板の形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面の研磨工程と、前記ガラス基板の洗浄工程と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記研磨工程は、両面研磨装置の上定盤と下定盤の対向する面にそれぞれ研磨パッドを装着し、上定盤に装着した研磨パッドの研磨面と下定盤に装着した研磨パッドの研磨面との間に板形状を有するガラス基板を保持したキャリアを配置し、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨パッドの研磨面と下定盤の研磨パッドの研磨面を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨するものであり、前記上定盤及び前記下定盤は、内周端と外周端のある円盤形状を有し、該外周端により形成される外径が0.6m~2mであって、前記下定盤は回転速度33~49rpmで回転駆動し、前記上定盤は下定盤と反対方向に回転速度10~21rpmで回転駆動し、前記キャリアは下定盤と同方向に速度2~16rpmで公転し、ガラス基板の両主平面を押圧する上定盤と下定盤の圧力は8.0~16.0MPaである研磨方法でガラス基板を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。研磨されているガラス基板の主平面に供給される研磨液の温度Tsは、前記上定盤の研磨面温度Tpより低い温度Ts<Tpである請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。前記研磨液の温度Tsと前記上定盤の研磨面温度Tpとの温度差ΔTps=Tp-Tsは、1°C~12°Cである請求項1または2に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。研磨されているガラス基板の主平面に供給される研磨液の供給流量Vは、2L/minm2~21L/minm2である請求項1~3に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。ガラス基板を研磨する前において、前記上定盤の研磨面と前記下定盤の研磨面との距離Dの定盤面内における研磨面間距離偏差ΔDの絶対値は70μm以下である請求項1~4に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。請求項1~5のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法で製造した磁気記録媒体用ガラス基板であって、同一バッチで研磨加工されたガラス基板間の板厚偏差が1.0μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。請求項1~5のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法で製造した磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の中間部において、中心角が0°、90°、180°、270°である計4箇所の位置で測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値との差同一ガラス基板面内の板厚偏差である平行度aが0.6μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。請求項1~5のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法で製造した磁気記録媒体用ガラス基板であって、レーザ干渉計を用いて測定した、前記磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における両主平面の平行度bが0.7μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。中心部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板は内周側面と外周側面と両主平面とを有し、磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の中間部において、中心角が0°、90°、180°、270°である計4箇所の位置で測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値との差同一ガラス基板面内の板厚偏差である平行度aが0.6μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。中心部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板は内周側面と外周側面と両主平面とを有し、レーザ干渉計を用いて測定した、磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度bが0.7μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。本発明は、平行度などの形状特性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、平行度などの形状特性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で研磨加工するガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の上下主平面を研磨する研磨工程において、両面研磨装置の上定盤及び下定盤は、内周端と外周端のある円盤形状を有し、該外周端により形成される外径が0.6m~2mであり、前記下定盤は回転速度33~49rpmで回転駆動し、前記上定盤は下定盤と反対方向に回転速度10~21rpmで回転駆動し、ガラス基板を保持するキャリアは下定盤と同方向に速度2~16rpmで公転し、ガラス基板の両主平面を押圧する上定盤と下定盤の圧力は8.0~16.0MPaである研磨方法でガラス基板を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。本発明の研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の平行度や同一バッチ内の板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる。本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により得た磁気記録媒体用ガラス基板の上に、磁性層などの薄膜を形成して製造した磁気ディスクは、HDDハードディスクドライブ試験において、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触することにより発生する障害をなくすことができる、又は低減できる。以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明は以下に記載される実施形態に限らない。まず、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板10の斜視図を図1に、磁気記録媒体用ガラス基板10をB‐B’線において切断したものの断面斜視図を図2に示す。図1と図2において各符号は、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面101、内周側面102、外周側面103、内周面取り部104、外周面取り部105をそれぞれ示す。図2中、A1とA6は磁気記録媒体用ガラス基板の外径側領域の板厚、A2とA5は磁気記録媒体用ガラス基板の中間領域の板厚、A3とA4は磁気記録媒体用ガラス基板の内径側領域の板厚をそれぞれ示す。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は、磁気記録媒体用ガラス基板の各領域における板厚例えば、A1~A6が均一であるほど優れており、各領域における板厚が不均一板厚偏差が大きいであるほど劣ることになる。一般に、磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程は、以下の工程を含む。1フロート法、フュージョン法又はプレス成形法で成形されたガラス素基板を、円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する形状加工工程。2ガラス基板の上下主平面をラッピング加工するラップ工程。3ガラス基板の側面部と面取り部を端面研磨する端面研磨工程。4ガラス基板の上下主平面を研磨する主平面研磨工程。研磨工程は、1次研磨のみでも良く、1次研磨と2次研磨を行っても良く、2次研磨の後に3次研磨を行っても良い。5ガラス基板を精密洗浄して乾燥する洗浄工程。これらの工程を経て磁気記録媒体用ガラス基板は製造される。6磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成し、磁気ディスクを製造する。なお、上記磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程において、各工程間にガラス基板洗浄工程間洗浄やガラス基板表面のエッチング工程間エッチングを実施してもよい。さらに、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程例えば、化学強化工程を研磨工程前、又は研磨工程後、あるいは研磨工程間で実施してもよい。本発明において、磁気記録媒体用ガラス基板は、アモルファスガラスでもよく、結晶化ガラスでもよく、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラス例えば、化学強化ガラスでもよい。また、本発明のガラス基板のガラス素基板は、フロート法で造られたものでも良く、フュージョン法で造られたものでも良く、プレス成形法で造られたものでもよい。本発明は、4ガラス基板の両主平面に研磨を行う工程に関し、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨加工に係るものである。図3は、両面研磨装置20の概略図である。図3において、10は磁気記録媒体用ガラス基板、30は上定盤の研磨面、40は下定盤の研磨面、50はキャリア、201は上定盤、202は下定盤、203はサンギア、204はインターナルギア、tp1は内周端側の上定盤の研磨面温度測定領域、tp2は外周端側の上定盤の研磨面温度測定領域、をそれぞれ示す。磁気記録媒体用ガラス基板10は、キャリア50のガラス基板保持穴に保持された状態で、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との間に狭持され、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の両主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨する。両面研磨装置20は、上定盤201と下定盤202をそれぞれの回転数で回転駆動するとともに、サンギア203とインターナルギア204をそれぞれ所定の回転比率で回転駆動してキャリア50を自転させながらサンギア203の周りを公転移動させ遊星駆動させるながら、ガラス基板の両主平面を同時に研磨する。上定盤201と下定盤202とのガラス基板と対向する面には、研磨パッドが装着されている。上定盤201と下定盤202に装着された研磨パッドは、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40とをそれぞれ所定の形状とするために、ドレス治具を用いてドレス処理が施される。ドレス処理は、ドレス治具と研磨パッドとの間にドレス水を供給するとともに、ドレス治具と研磨パッドを相対的に動かして、研磨パッドの表面上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40となる面を削ることにより行われる。磁気記録媒体用ガラス基板の生産性を向上させるため、ガラス基板の両主平面を押圧する上定盤201と下定盤202の圧力以下、研磨加工圧という。を高くして加工速度を速くする検討や、両面研磨装置を大型化して同時に研磨加工するガラス基板の枚数を増加する検討がなされている。しかし、研磨加工圧を高くして加工速度を速くすると、研磨加工されたガラス基板主平面の表面うねり特性が悪化する、同一バッチ内の板厚偏差が大きくなる、ガラス基板の平行度が悪化するなど、磁気記録媒体用ガラス基板の形状特性が悪化するおそれがある。また、大型の両面研磨装置を用いて多数のガラス基板を同時に研磨加工すると、ガラス基板の平行度が悪くなる、同一バッチ内の板厚のバラツキが大きくなるなどの不具合が生じ、形状特性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を確実に得ることが難しくなるおそれがある。本発明者らは、近年の高記録密度化に対応した磁気ディスクに使用できる形状特性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を、高い生産性で確実に得る製造方法について鋭意検討した結果、上定盤201及び下定盤202の外周端により形成される外径が0.6m~2mの両面研磨装置を用い、さらに上定盤の回転速度と、下定盤の回転速度と、キャリアの公転速度と、研磨加工圧とを所定の条件とすることで、形状特性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で安定して研磨加工できることを見出した。本発明によれば、両面研磨装置を大型化した場合においても、同一バッチで研磨加工したガラス基板の形状特性のバラツキを抑制でき、形状特性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で確実に得ることができる。本発明の研磨方法は、両面研磨装置20を大型化して同一バッチで研磨加工するガラス基板の枚数を増やした場合において、特に好適に適用されるものである。大型の両面研磨装置20に本発明の研磨方法を適用すると、同一バッチで研磨加工したガラス基板の形状特性のバラツキを抑制でき、平行度や板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板が得られる。両面研磨装置20の上定盤201及び下定盤202は、図3に示すように、内周端と外周端のある円盤形状を有し、外周端により形成される外径は0.6m~2mである。外径が0.6m未満の場合、同一バッチで研磨加工できるガラス基板の枚数が少なくなり、磁気記録媒体用ガラス基板の生産性に劣るおそれがある。外径が2mを超える場合、同一バッチで研磨加工できるガラス基板の枚数は多くなるが、同一バッチで研磨加工されたガラス基板の形状特性のバラツキが大きくなるおそれがある。両面研磨装置20の上定盤201及び下定盤202の外周端により形成される外径は0.6m~2mであり、0.9m~2mが更に好ましく、1.1m~2mが特に好ましい。磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、形状特性のバラツキを抑制しながら磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で研磨加工できる研磨方法は、両面研磨装置20の下定盤202を回転速度33~49rpmで回転駆動し、上定盤201は下定盤202と反対方向に回転速度10~21rpmで回転駆動し、キャリア50は下定盤202と同方向に速度2~16rpmで公転し、ガラス基板の両主平面を押圧する上定盤201と下定盤202の圧力を8.0~16.0MPaとしてガラス基板を研磨するものである。ガラス基板の両主平面を押圧する上定盤201と下定盤202の圧力研磨加工圧を高くすることのみで、ガラス基板の加工速度を速くすると、研磨加工されたガラス基板主平面の表面うねり特性が悪化するおそれがある。一方、研磨加工するガラス基板に対する上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の相対速度を速くすることのみで、ガラス基板の加工速度を速くすると、ガラス基板の平行度が悪化する、同一バッチで研磨加工されたガラス基板の板厚の偏差が大きくなる、などの不具合が生じるおそれがある。なお、本発明において同一バッチとは、同一両面研磨装置20を用いて同時に研磨加工されるガラス基板をいう。例えば、外径65mmの磁気記録媒体用ガラス基板10を研磨加工する場合、22B型両面研磨装置の1バッチのガラス基板枚数は150枚~222枚、16B型両面研磨装置の1バッチのガラス基板枚数は90枚~115枚、9B型両面研磨装置の1バッチのガラス基板枚数は20枚~30枚が一般的である。なお、両面研磨装置20の型式は、使用するキャリア50のサイズで分類されており、22B型両面研磨装置では22インチのキャリア50、16B型両面研磨装置では16インチのキャリア50、9B型両面研磨装置では9インチのキャリア50をそれぞれ用いる。両面研磨装置20を用いてガラス基板を研磨すると、定盤温度は研磨中の発熱により変化する。定盤温度が変化すると、定盤は熱膨張して体積変化し、定盤形状が変形する。研磨中に定盤形状が変形すると、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離Dが変化するため、研磨されたガラス基板の加工精度に大きな影響を及ぼす。研磨中の発熱により定盤温度が変化し、定盤形状が熱変形することを抑制するため、両面研磨装置20に供給する研磨液を、定盤を冷却する媒体としても使用することが好ましい。つまり、研磨液の温度や供給量を調整することにより、研磨中の定盤温度の変化や定盤形状の熱変形を制御する。両面研磨装置20の定盤温度は、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40とがガラス基板の主平面を研磨したときに生じる摩擦の発熱で温度が高くなる。定盤温度が高くなった場合、両面研磨装置20に供給する研磨液を用いて定盤温度を調整する。両面磨装置20に供給される研磨液の温度Tsは、上定盤201の研磨面温度Tpより低い温度Ts<Tpであることが好ましい。本明細書において、上定盤201の研磨面温度Tpとは、上定盤201の内周端側の領域tp1で測定した研磨面温度と外周端側の領域tp2で測定した研磨面温度のうち、高い方の研磨面温度をいう。両面研磨装置20に供給される研磨液の温度Tsが、上定盤201の研磨面温度Tpより高くなると、定盤温度の変化や定盤形状の熱変形が抑制されず、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離Dが大きく変化してしまい、研磨されるガラス基板に対して研磨加工圧を均一に負荷することが難しくなる。その結果、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一バッチ内で研磨されたガラス基板間の研磨量が不均一となり、平行度や板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。両面研磨装置20に供給される研磨液の温度Tsと上定盤201の研磨面温度Tpとの温度差ΔTps=Tp-Tsは、1°C~12°Cであることが好ましい。温度差ΔTpsが1°C未満の場合、ガラス基板との摩擦による発熱で温度が高くなった定盤の研磨面温度Tpを冷却する効果が不充分となり、定盤形状の熱変形を充分に抑制できないおそれがある。温度差ΔTpsが12°Cを超える場合、定盤の研磨面温度Tpと研磨液の温度Tsとの差が大きいため、両面研磨装置20の定盤全体において研磨面温度Tpを均一にすることが難しくなり、定盤温度の変化や定盤形状の熱変形を適切に調整できないおそれがある。温度差ΔTps=Tp-Tsは、1°C~12°Cが好ましく、3°C~8°Cが更に好ましく、4°C~7°Cが特に好ましい。なお、両面研磨装置20を用いて、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの上定盤201の研磨面温度Tpは、熱電対温度計又は放射温度計を用いて測定する。なお、研磨中の上定盤研磨面温度Tpを連続的に測定する場合には、温度計として熱電対温度計を用いることが好ましい。両面研磨装置20に供給される研磨液の供給流量Vは、2L/minm2~21L/minm2とすることが好ましい。供給流量Vが2L/minm2未満の場合、研磨液の供給量が不充分となり、両面研磨装置20の定盤温度の変化を適切に調整できないおそれがある。供給流量Vが21L/minm2を超える場合、上定盤の研磨面30又は下定盤の研磨面40とガラス基板の主平面との間に、研磨液が過剰に存在するため、ガラス基板の主平面を適切な研磨加工圧で押圧することが難しくなるおそれがある。ガラス基板の研磨中に、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が、外周端側又は内周端側で強く擦れることにより局所的な摩擦熱が発生し、定盤の熱変形を引き起こす原因となる。このような摩擦熱分布のばらつきを抑制するには、定盤面内の研磨面間距離Dの偏差ΔDの絶対値を小さくしてガラス基板を研磨することが好ましい。ガラス基板を研磨する前の、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状を模式的に表す断面図を図4と図5に示す。図4と図5において各符号は、Dは定盤面内の任意の位置における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、D1は内周端側における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、D2は外周端側における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、をそれぞれ表す。図4は、D1<D2である研磨面の形状を模式的に表した断面図であり、内周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、内当りの研磨面形状である。図5は、D1>D2である研磨面の形状を模式的に表した断面図であり、外周端側で上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が強く当る、外当りの研磨面形状である。両面研磨装置20を用いてガラス基板を研磨加工し、平行度や板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得るには、研磨面間距離Dの定盤面内の偏差ΔDの絶対値が70μm以下であることが好ましい。定盤面内の偏差ΔDの絶対値が70μmを超える場合、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40が、外周端側又は内周端側で強く擦れることにより発生する摩擦熱が大きくなり、研磨中の定盤の熱変形が大きくなるおそれがある。また、定盤面内の偏差ΔDの絶対値が70μmを超えると、研磨加工されるガラス基板に対して研磨加工圧を均一に負荷することが難しく、同一ガラス基板面内の研磨量や、同一バッチ内で研磨加工されたガラス基板間の研磨量が不均一となり、平行度や板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが難しくなるおそれがある。研磨面間距離Dの定盤面内の偏差ΔDの絶対値は70μm以下が好ましく、60μm以下が更に好ましく、40μm以下が特に好ましい。なお、ガラス基板を研磨する前の上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離Dの定盤面内における偏差ΔD=D2-D1は、真直度計又はダイヤルゲージを用いて上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状を測定し、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状測定結果から算出することにより求める。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は、マイクロメータ、レーザ変位計、レーザ干渉計などの測定機を用いて測定する。マイクロメータやレーザ変位計を用いて測定する平行度aは、磁気記録媒体用ガラス基板の面内において任意に決めた複数箇所で板厚を測定し、最大板厚値と最小板厚値の差を求めることにより行う。平行度bはレーザ干渉計を用いて測定する。レーザ干渉計は、光の波長を物差しとしているので、平行度bを高精度に測定できる。さらに、レーザ干渉計は、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度bを、1回のデータ取得で測定できるため、測定効率に優れる。図6に、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度bを、本発明の実施例で用いたレーザ干渉計フジノン社製、製品名:平面測定用フィゾー干渉計、G102Sを用いて測定した結果干渉縞の画像と、観察された干渉縞を解析して得た平行度bの値を示す。磁気記録媒体用ガラス基板の平行度bの測定は、両主平面から反射した反射光の位相差により形成される干渉縞を観察し、得られた干渉縞を解析することにより行う。レーザ干渉計で観察される明暗の干渉縞は等高線となっており、その間隔は光源の波長と入射角により決定される。観察された干渉縞の本数が少ないほど、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度は優れている、つまり、磁気記録媒体用ガラス基板の平行度bを測定した領域の板厚偏差が小さく、同一ガラス基板面内の板厚分布が優れていることを意味する。本発明の研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、同一バッチで研磨加工されたガラス基板間の板厚偏差が1.0μm以下の磁気記録媒体用ガラス基板を、高い生産性で製造できる。磁気記録媒体用ガラス基板間の板厚偏差は1.0μm以下が好ましく、0.9μm以下が更に好ましく、0.7μm以下が特に好ましい。本発明の研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度aが0.6μm以下の磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度aは0.5μm以下が好ましく、0.4μm以下が特に好ましい。本発明の研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度bが0.7μm以下の磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる。磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面の平行度bは0.6μm以下が好ましく、0.5μm以下が更に好ましく、0.4μm以下が特に好ましい。本発明の研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された磁気記録媒用ガラス基板は、磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における両主平面の平行度aが0.6μm以下及び/又は、平行度bが0.7μm以下であるため、磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成して製造した磁気ディスクのHDDハードディスクドライブ試験において、磁気ヘッドの浮上姿勢が乱れず、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触するなどの障害が発生しない。以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。[磁気記録媒体用ガラス基板の調整]外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmの磁気記録媒体用ガラス基板用に、フロート法で成形されたSiO2を主成分とするガラス基板を中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板に加工した。この中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板の内周側面と外周側面を、面取り幅0.15mm、面取り角度45°の磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように面取り加工し、その後アルミナ砥粒を用いて、ガラス基板上下主平面をラッピングし、砥粒を洗浄除去した。次に、ガラス基板の外周側面と外周面取り部を、研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を用いて研磨し、外周側面と外周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように外周端面を研磨加工した後、砥粒を洗浄除去した。外周端面研磨後のガラス基板の内周側面と内周面取り部を研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を用いて研磨し、内周側面と内周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように内周端面を研磨加工し、砥粒を洗浄除去した。[磁気記録媒体用ガラス基板の1次~3次研磨]端面加工後のガラス基板は、研磨具として硬質ウレタン製の研磨パッドと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液平均粒子直径、以下、平均粒径と略す、約1.3μmの酸化セリウムを主成分した研磨液組成物を用いて、22B型両面研磨装置スピードファム社製、製品名:DSM22B-6PV-4MHにより上下主平面を1次研磨した。本実施例で用いた22B型両面研磨装置の上定盤と下定盤の外周端により形成される外径は1.7mであった。1次研磨工程において、両面研磨装置の上定盤と下定盤に装着した研磨パッドは、ガラス基板を研磨する前に、ダイヤモンド砥粒を含有するペレットからなるドレス治具を用いてドレス処理が施され、所定の研磨面に形成される。本実施例では、1バッチで200枚のガラス基板を同時に研磨した。研磨後のガラス基板は、酸化セリウムを洗浄除去した後、平行度と板厚を測定した。研磨されたガラス基板の板厚と平行度aは、レーザ変位計キーエンス社製、レーザーヘッドはLK-G15/アンプLK-G3000Vを用いて測定した。本実施例において、板厚は、磁気記録媒体用ガラス基板の中心部から20mmの領域で記録再生領域の中間部、中心角が0°、90°、180°、270°である計4箇所の位置で測定した。同一ガラス基板面内の4箇所の位置で測定した板厚の平均値をガラス基板の板厚とし、同一ガラス基板面内の4箇所の位置で測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値の差同一ガラス基板面内の板厚偏差を平行度aとした。本明細書において中心角とは、磁気記録媒体用ガラス基板の中心から外周側面103に向って引いた1本の線を基準線として決めた角度をいう。前記基準線の位置を中心角0°として、時計回り方向に中心角が90°、180°、270°とした。研磨されたガラス基板の平行度bは、レーザ干渉計フジノン社製、製品名:G102Sを用いて測定した。平行度bは、図6に示すように、ガラス基板両主平面からの反射光の位相差により形成される干渉縞を観察し、干渉縞解析装置フジノン社製、製品名:A1を用いて算出した自動計算。平行度bの測定領域は、外径65mm、内径20mmの磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域を含むように設定した。本実施例において、測定領域は円盤中心部から10mm~32.5mm領域に設定した。研磨されたガラス基板の表面うねりWaは、光干渉式表面形状測定器KLA―Tencor社製、製品名:Opti-FLATIIを用いて測定した。表面うねりWaの測定領域は、外径65mm、内径20mmの磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域を含むように設定した。本実施例において、測定領域は円盤中心部から10mm~32.5mm領域に設定した。板厚、平行度aと平行度b、表面うねりWaは、1バッチ200枚につき、18枚のガラス基板を抜き取り測定した。本実施例において、両面研磨装置に供給される研磨液の温度Tsは、研磨液の温度調整を行う研磨液供給タンクで測定した。研磨液は、研磨液供給タンクで温度調整された後、直ちに研磨されているガラス基板の研磨面に供給される。ガラス基板を研磨した両面研磨装置の上定盤の研磨面温度Tpは、ガラス基板の研磨加工が終了した時点上定盤の研磨面温度Tpが最も高くなっている時点において、熱電対型温度計を用いて、内周端側の上定盤の研磨面温度測定領域tp1と、外周端側の上定盤の研磨面温度測定領域tp2で測定した。本実施例において、ガラス基板を研磨する前の上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離Dの定盤面内における偏差ΔD=D2-D1は、真直度計Hitzハイテクノロジー社製、製品名:HSS-1700を用いて上定盤の研磨面30の形状と下定盤の研磨面40の形状とを測定し、上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40の形状測定結果から算出することにより求めた。1次研磨の研磨加工条件である下定盤の回転数、上定盤の回転数、キャリアの公転速度、メインの圧力メイン研磨加工圧力、上定盤の研磨面温度Tp、供給される研磨液の温度Tsと研磨液の供給流量V、研磨面間距離偏差ΔDと、各研磨加工条件で研磨加工したガラス基板のバッチ内板厚偏差、平行度aのバッチ内平均値、平行度bのバッチ内平均値、表面うねりWaのバッチ内平均値の測定結果を表1に示す。1次研磨後のガラス基板は、研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、上記の酸化セリウム砥粒よりも平均粒径が小さい酸化セリウム砥粒を含有する研磨液平均粒径約0.5μmの酸化セリウムを主成分とする研磨液組成物を用いて、両面研磨装置により上下主平面を研磨し、酸化セリウムを洗浄除去した。2次研磨後のガラス基板は、3次研磨を行う。3次研磨の研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、コロイダルシリカを含有する研磨液一次粒子の平均粒径が20~30nmのコロイダルシリカを主成分とする研磨液組成物を用いて、両面研磨装置により上下主平面を研磨加工した。3次研磨を行ったガラス基板は、アルカリ性洗剤によるスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥された。洗浄乾燥した後、磁気記録媒体用ガラス基板の板厚、平行度aと平行度b、表面うねりWaを、1次研磨後のガラス基板と同様の方法により測定した。例1~例16の1次研磨後のガラス基板に2次研磨と3次研磨を施し、洗浄乾燥を行った磁気記録媒体用ガラス基板は、同一バッチで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の板厚偏差は1.0μm以下であり、平行度aは0.5μm以下であり、平行度bは0.6μm以下、表面うねりWaは0.8nm以下であった。