"一般式Iの構造単位を含有する少なくとも1種のポリカーボネート成分を含有するポリカーボネート組成物であって;式中、R1およびR2は、相互に独立して、H、ハロゲン、C1-C8アルキル、C5-C6シクロアルキル、C6-C10アリールおよびC7-C12-アリールアルキルであり、mは4または5であり、R3およびR4は各Xに対して自由に選択でき、相互に独立して、HまたはC1-C8アルキルであり、Xは炭素である、該組成物中の硫黄含有量が20未満であることを特徴とする該ポリカーボネート組成物。一般式IIの構造単位を含有する少なくとも1種のポリカーボネート成分を含有する、請求項1に記載のポリカーボネート組成物;式中、R1およびR2の定義は式Iの通りである。ポリカーボネート成分のうちの少なくとも1種が、式IIIのジフェノールも含有することを特徴とする、請求項1または2に記載のポリカーボネート組成物;式中、Zは、芳香族またはアルキル芳香族基である。ポリカーボネート成分のうちの少なくとも1種が、11ビス4-ヒドロキシフェニル335トリメチルシクロヘキサンBPTMCおよびビスフェノールAのコポリマーであり、使用されるビスフェノールの総モル量に基づく、BPTMCのモル部分が、2~90モルBPTMCであることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載のポリカーボネート組成物。組成物が、ポリカーボネート組成物の総量に基づき、0~5重量の、離型剤、流動助剤、熱安定剤、酸化防止剤、UV吸収剤およびまたはIR吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、染料および顔料、充填剤、熱可塑性物質もしくはエラストマーから成る群から選択される混合物成分またはポリマー添加剤を含有することを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載のポリカーボネート組成物。新たに射出成型した状態におけるそれらの成形品が、2.0未満の、黄色指数YIを介して測定された黄色度を有し、および250時間の間150°Cにて熱気エージングを行った後、それらのY.Iが7.0よりも小さいことを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載のポリカーボネート組成物。界面法または溶融エステル交換法による請求項1から6のいずれかに記載のポリカーボネートの製造方法であって、ポリカーボネートを製造するのに使用されるビスフェノールの硫黄含有量が、15ppm未満であることを特徴とする該方法。製造方法で使用されるビスフェノールの硫黄含有量が、10ppm未満であることを特徴とする、請求項7に記載のポリカーボネートの製造方法。透明、半透明または不透明または着色成形品を製造するための請求項1から6のいずれかに記載のポリカーボネートの使用。請求項1から6のいずれかに記載のポリカーボネート組成物から得られる、成形品、押出品、ホイルおよびホイル積層品。したがって、本発明の目的は、本発明に係る構造特性を有するポリカーボネートを製造することであり、新たに射出成型された状態におけるそれらの成形品は、2.0未満の、黄色指数YIを用いて測定された黄色度を有し、250時間の間150°Cにて熱気エージングを行った後、それらのY.Iは7.0未満である。驚くべきことに、本発明の目的は、ポリカーボネートの合成に使用されるジヒドロキシジフェニルシクロアルカン、特に使用される11ビス4ヒドロキシフェニル335トリメチルシクロヘキサンが、有機硫黄化合物の最小限の含有量を有する該硫黄含有量は、好ましくは1.5ppm未満、特に好ましくは1.0ppm未満であることにより、ポリカーボネート生成物中における硫黄のより低い含有量がもたらされることによって、達成されることが見いだされている。このことは尚更驚くべきことである。なぜならば、先行技術は、ビスフェノールだけでなくポリカーボネート中に、比較的多量の硫黄化合物が存在する多くの実施例が、ポリカーボネートの着色に有利な効果を有するということを含むからである。例えば、JP2005060540およびJP2006028391は、上記量よりも多くの量でビスフェノールに亜硫酸エステルを添加することを記載し、この場合、これらは得られるポリカーボネートに優れた色を提供する。WO2007/004434は、ビスフェノールにジチオニトの添加を記載し、この場合、これらは、それらから製造されるポリカーボネートの色に有利な効果を及ぼす。ポリカーボネートに脂肪族チオ化合物を直接添加することは、US-A4904717において見いだせるように、それらの黄色指数を減少させることができる。ポリカーボネートに硫黄含有酸化防止剤を添加することは、JP2004217734に記載されるように、ポリカーボネートの色に関する有利な効果を同様に有する。また、JP2008111047は、ポリカーボネート中における硫黄の含有量とそれらの色との間における類似した関係を示す。ビスフェノール中の硫黄含有量における減少が得られるポリカーボネートに良好な色をもたらすのに使用できることは、前述の先行技術からは明らかでない。それどころか、先行技術から吉の方法における観点から見ると、当業者は、ポリカーボネート中で硫黄含有量が増加することが有利であると考えるであろう。したがって、本発明は、一般式Iの構造単位を含むポリカーボネートを提供する:式中、R1およびR2は、相互に独立して、H、ハロゲン、C1-C8アルキル、C5-C6シクロアルキル、C6-C10アリールおよびC7-C12-アリールアルキルであり、mは4または5、R3およびR4は各Xに対して自由に選択でき、相互に独立して、HまたはC1-C8アルキルであり、Xは炭素である。特に、一般式IIの構造単位を有するポリカーボネートである:式中、R1およびR2の定義は、上述の式Iに関するとおりである。純粋なポリカーボネート組成物における硫黄含有量は、2.0ppm未満、好ましくは1.5ppm未満であることを特徴とし、この場合において、硫黄含有量は、例えば、化学発光法またはICP-M法誘導結合プラズマ質量分析法または誘導結合プラズマを用いる質量分析により測定できる。これらの方法は当業者に既知であり、文献において十分に記載されている。新たに射出成型した状態における組成物の成形物は、2.0未満、好ましくは1.8未満の、黄色指数YIを介して測定された黄色度を有し、および250時間の間150°Cにて熱気エージングを行った後、それらのY.Iが7.0未満であることが好ましい。これらの改良された光学特性および熱的特性は、一般式Iaの使用されるジヒドロキシジフェニルシクロアルカンの硫黄含有量と直接関係する。式中、R1、R2、R3、R4、Xおよびmは、上述の式Iに関するとおりである。特に、一般式IIaの使用される11ビス4-ヒドロキシアリール335トリメチルシクロヘキサンである。式中、R1およびR2の定義は、上述の式Iに関するとおりである。本発明に係るポリカーボネートを製造するのに使用される式IaおよびIIaのビスフェノールにおける硫黄含有量は、1.5ppmよりも低く、好ましくは1.0ppmよりも低い。ビスフェノール中におけるより高い硫黄含有量は、黄色指数における不利な効果を増加させるか、生成されたポリカーボネートから新たに射出成型された透明な成形品を黄変させる傾向がある。使用されるビスフェノールの硫黄含有量は、元素分析を介して測定され、SMM32g/モルを参照する。硫黄含有量は、無機または有機硫黄化合物について言及するが、主に有機硫黄化合物について言及する。この場合において、これらは、ビスフェノール中の所望でない付随的な化合物として存在し得る。これらの硫黄化合物は、ビスフェノール中に本質的に存在することもあり例えば、硫黄含有共触媒を用いる合成を介する、またはビスフェノールに安定剤例えば、亜ジチオン酸ナトリウム形態で添加されることもできる。本発明によると、例えば、共触媒形態で、または他の外部物質形態で、それらの合成の間にビスフェノール内へ導入される、ビスフェノール中に本質的に存在する有機硫黄化合物は、文献から既知の方法、例えば、ビスフェノールを後処理する間に適当な酸もしくはアルカリ溶液を用いて洗浄することにより大部分が除去され得る。本発明に係るポリカーボネートは、式Iの一種および同一の構造的な繰返し単位を有するホモポリマーであってもよく、または、式Iの構造的な繰返し単位と一般式IIIの1種以上の他の構造単位を有するコポリマーであってもよい。式中、Zは、芳香族またはアルキル芳香族基である。本発明に係るホモポリマーは、好ましくは一般式のビスフェノールから製造されるものであり、特に好ましくは11ビス4-ヒドロキシフェニル335トリメチルシクロヘキサンBPTMCから成るものである。本発明に係るコポリカーボネートは、好ましくは、BPTMCとビスフェノールAから製造されるものである。使用されるビスフェノールの総モル量に基づくBPTMCのモル比率は、本発明に関するポリカーボネート中で変化でき、0~100モルのBPTMC、好ましくは2~90モルのBPTMC、特に好ましくは10~80モルのBPTMC、およびまさに特に好ましくは30~70モルのBPTMCの比較的広い範囲で変化できる。本発明に係るポリカーボネートは、この目的のために製造された低硫黄含有量ビスフェノールから製造される。本発明に係るコポリカーボネートの場合、一般式IIIを有する構造単位中にこれらが存在する場合における、付随して使用される他のビスフェノール二関する硫黄含有量に関する定義は、上記と同じである。ビスフェノール中において所望でない付随成分から生じる、これらのビスフェノールにおける硫黄含有量も、1.5ppmよりも小さく、好ましくは1.0ppmよりも小さい。著しくより高い硫黄含有量を有するビスフェノールから製造されるこの種のポリカーボネートと比較した場合、低硫黄含有量ビスフェノールから製造される、本発明に係るポリカーボネートの特性は、該ポリカーボネートから射出成型を介して製造される成形品における良好な固有色である。新たな透明な射出成型品における固有色は、規定された厚さの射出成型プラークにおけるASTME313により測定される、極めて小さな黄色指数YIにより特徴付けられる。本発明に係るポリカーボネートのYIに関する全てのデータは、この測定法に帰属する。本発明に係るポリカーボネートに関するYI値は、2.0よりも低い、好ましくは1.8よりも低く、また、1.10のYI値を有するポリカーボネート品質を得る特定の場合もまた十分に可能である。ここで、一般式Iの構造単位の含有量は、ポリカーボネート中の一般式の構造単位に関する比較的幅広い限定内で、所望されるように変動できる。薄い固有色を有する本発明に係るポリカーボネートが、より高い硫黄含有量を有するビスフェノールから製造される本発明によらないポリカーボネートと比較される場合、それらは、比較的高い熱応力において長期に亘り、該改良された固有色のより高い安定性を更に示す。成形品の長期の熱エージングの間に黄色指数は増加するが、それにもかかわらず、それは、250時間、150°Cで加熱する間においてYI=7.0よりも低い値を保持する。ここでの方法は、Heraeus製の乾燥オーブン中で標準的な透明成形品YIで規定され使用されるような、同一の厚さのプラークの自由端で吊り下げ、大気中で150°Cの温度にて250時間それらを曝し、室温まで冷却後それらを取り出し、上述のようにしてY.Iを測定することを含む。これらの標準試験方法は、現実的で実用的な条件に極めて良好に近似する。したがって、本発明に係るポリカーボネートは、それらの内部色の結果として生じる変色が実質的に生じない目的における、比較的高い程度で、所望であれば、比較的長期の熱応力に曝され、射出成型または押出しにより製造される透明、不透明または浅色成形品の形態での使用に適する。また、これらの好ましい用途は、適当な溶媒を用いる本発明に係るポリカーボネートの溶液からキャスティング法により製造されるシートまたはホイルである。本発明に係るポリカーボネートは熱塑性的に製造されてもよく、または、例えば環状エーテルなどの適当な溶媒を用いる溶液から製造されてもよい。それらは、好ましくは高分子量であり、10000~300000g/モル、好ましくは15000~80000g/モルおよび特に好ましくは20000~40000g/モルのモル質量Mw重量平均モル質量、Psまたはポリカーボネートから成る校正物質を用いて校正した後にサイズ排除ゲルクロマトグラフィーを用いて測定されるを有する。本発明に係るポリカーボネートは、ポリマー鎖内へ適当な多官能性モノマーを導入することにより分岐鎖を有してもよい。適当な3官能性モノマーの例は、111trisエタン、または135trisベンゼンである。本発明に係るポリカーボネートは、具体的に導入される末端基を有してもよく、これらの導入は、特に、界面法によるそれらの製造の間にポリカーボネートの分子量を調節する。これらの末端基は、ポリカーボネート内へ、適当なモノフェノール、例えばフェノール、tert-ブチルフェノールまたはイソオクチルフェノールを介して導入される。本発明に係るポリカーボネートは、常套の界面法により溶液中で製造でき、またはアリールもしくはアルキルカーボネートを使用するエステル交換法による溶融状態で製造できるH.SchnellのChemistryandPhysicsofPolycarbonates,PolymerReviews,Vol.9,IntersciencePublishers,NewYork1964、第33頁以後参照。界面法は、高いガラス転移温度および/または高いモル質量Mwを有するホモ-またはコポリカーボネートに関して特に適当である。エステル交換法は、比較的高いモル質量での十分に高い溶融流動性を有する本発明に係るポリカーボネートに関して適当である。ポリカーボネートを製造するための、本発明に係る方法において適当なジフェノールは、先行技術において幅広く記載されている。コポリカーボネートを製造するのに使用される材料は、成分Iaおよび/またはIIaのみならず、1種以上の他のジヒドロキシアリール化合物、および、溶媒、ホスゲン、連鎖停止剤、および触媒界面法の場合を含有するか、または他のジヒドロキシアリール化合物ならびにジアリールカーボネートおよび触媒溶融エステル交換法の場合を含有する。適当なジフェノールの例は、ヒドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキシビフェニル、ビスヒドロキシフェニルアルカン、ビスヒドロキシフェニルシクロアルカン、ビスヒドロキシフェニルスルフィド、ビスヒドロキシフェニルエーテル、ビスヒドロキシフェニルケトン、ビスヒドロキシフェニルスルホン、ビスヒドロキシフェニルスルホキシド、α,α’-ビスヒドロキシフェニルジイソプロピルベンゼン、ならびにまたそれらの環-アルキル化および環-ハロゲン化化合物である。好ましいジフェノールは、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニル-1-フェニルプロパン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルフェニルエタン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,4-ビス4-ヒドロキシフェニル-2-メチルブタン、1,3-ビス[2-4-ヒドロキシフェニル-2-プロピル]ベンゼンビスフェノールM、2,2-ビス3-メチル-4-ヒドロキシフェニルプロパン、ビス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルメタン、2,2-ビス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルプロパン、ビス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルスルホン、2,4-ビス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル-2-メチルブタン、1,3-ビス[2-3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル-2-プロピル]ベンゼンおよび1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンビスフェノールTMCである。特に好ましいジフェノールは、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルフェニルエタン、2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパン、2,2-ビス3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルプロパン、1,1-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキサンおよび1,1-ビス4-ヒドロキシフェニル-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンビスフェノールTMCである。これらおよび他の適当なジヒドロキシアリール化合物は、ドイツ公開特許3832396、フランス公開特許1561518、H.Schnell,ChemistryandPhysicsofPolycarbonates,IntersciencePublishers,NewYork1964,28頁以降.;102頁以降およびD.G.Legrand,J.T.Bendler,HandbookofPolycarbonateScienceandTechnology,MarcelDekkerNewYork2000,72頁以降に例として記載される。ホモポリカーボネートの場合、1種のジフェノールのみが使用されるが、コポリカーボネートの場合には、複数のジフェノールが使用され、合成プロセスに添加される他の化学物質や助剤のすべての場合もまたそうであるように、使用されるジフェノールは、そのものの合成、取り扱いおよび保管に由来する不純物の汚染があり得るが、最高純度の原料を使用するのが望ましい。溶融エステル交換法におけるジヒドロキシアリール化合物との反応に適したジアリールカーボネートは、一般式IIのものである:式中、R、RおよびRは、相互に独立して、同一または異なり、水素、直鎖状または分枝状のC1-C34-アルキル、C7-C34-アルキルアリ-ルまたはC6-C34-アリールであり、そしてRはまた、-COO-Rであることができ、s式中、Rは、水素、直鎖状もしくは分枝状のC1-C34-アルキル、C7-C34-アルキルアリールまたはC6-C34-アリールである。好ましいジアリールカーボネートの例は、ジフェニルカーボネート、メチルフェニルフェニルカーボネートおよびジメチルフェニルカーボネート、4-エチルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-エチルフェニルカーボネート、4-n-プロピルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-n-プロピルフェニルカーボネート、4-イソプロピルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-イソプロピルフェニルカーボネート、4-n-ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-n-ブチルフェニルカーボネート、4-イソブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-イソブチルフェニルカーボネート、4-tert-ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-tert-ブチルフェニルカーボネート、4-n-ペンチルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-n-ペンチルフェニルカーボネート、4-n-ヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-n-ヘキシルフェニルカーボネート、4-イソオクチルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-イソオクチルフェニルカーボネート、4-n-ノニルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-n-ノニルフェニルカーボネート、4-シクロヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-シクロヘキシルフェニルカーボネート、4-1-メチル-1-フェニルエチルフェニルフェニルカーボネート、ジ[4-1-メチル-1-フェニルエチルフェニル]カーボネート、ビフェニル-4-イルフェニルカーボネート、ジビフェニル-4-イルカーボネート、4-1-ナフチルフェニルフェニルカーボネート、4-2-ナフチルフェニルフェニルカーボネート、ジ[4-1-ナフチルフェニル]カーボネート、ジ[4-2-ナフチルフェニル]カーボネート、4-フェノキシフェニルフェニルカーボネート、ジ4-フェノキシフェニルカーボネート、3-ペンタデシルフェニルフェニルカーボネート、ジ3-ペンタデシルフェニルカーボネート、4-トリチルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-トリチルフェニルカーボネート、メチルサリチレートフェニルカーボネート、ジメチルサリチレートカーボネート、エチルサリチレートフェニルカーボネート、ジエチルサリチレートカーボネート、n-プロピルサリチレートフェニルカーボネート、ジn-プロピルサリチレートカーボネート、イソプロピルサリチレートフェニルカーボネート、ジイソプロピルサリチレートカーボネート、n-ブチルサリチレートフェニルカーボネート、ジn-ブチルサリチレートカーボネート、イソブチルサリチレートフェニルカーボネート、ジイソブチルサリチレートカーボネート、tert-ブチルサリチレートフェニルカーボネート、ジtert-ブチルサリチレートカーボネート、ジフェニルサリチレートカーボネートおよびジベンジルサリチレートカーボネートである。特に好ましいジアリールカーボネートは、ジフェニルカーボネート、4-tert-ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ4-tert-ブチルフェニルカーボネート、ビフェニル-4-イルフェニルカーボネート、ジビフェニル-4-イルカーボネート、4-1-メチル-1-フェニルエチルフェニルフェニルカーボネート、ジ[4-1-メチル-1-フェニルエチルフェニル]カーボネートおよびジメチルサリチレートカーボネートである。ジフェニルカーボネートがまさに特に好ましい。1種のジアリールカーボネートまたは種々のジアリールカーボネートを使用できる。ジアリールカーボネートはまた、モノヒドロキシアリール化合物から製造される残留含有物を用いてもよい。モノヒドロキシアリール化合物の残留含有物は20重量以下、好ましくは10重量以下、特に好ましくは5重量以下、まさに特に好ましくは2重量以下である。ジアリールカーボネート複数を含むの使用量は、ジヒドロキシアリール化合物複数を含むに基づいて、ジヒドロキシアリール化合物のモル当たり、一般的に1.02~1.30モル、好ましくは、1.04~1.25モル、特に好ましくは、1.045~1.22モル、とりわけに特に好ましくは、1.05~1.20モルである。上記ジアリールカーボネートの混合物を使用することも可能であり、ジヒドロキシアリール化合物のモル当たり上記のモル量は、ジアリールカーボネートの混合物の総モル量を意味する。分子量を制御するのに必要な単官能性連鎖停止剤は、一例としてフェノールまたはアルキルフェノール、特にフェノール、p-tert-ブチルフェノール、イソオクチルフェノール、クミルフェノール、これらのクロロ炭酸エステル、またはモノカルボン酸のアシルクロリド、あるいは、それぞれに、前記連鎖停止剤の混合物は、ホスゲンまたはクロロ炭酸の末端基が反応混合物中にまだ残存している限り、あるいは、それぞれに、連鎖停止剤としてのアシルクロリドおよびクロロ炭酸エステルの場合、形成されるポリマー上に利用可能な十分なフェノール性末端基が存在する限り、ビスフェノレート複数を含むとの反応に導入されるか、または他に合成プロセスの任意の所望の地点で添加されるかのいずれかである。しかし、連鎖停止剤複数を含むは、残留ホスゲンが存在していなくて、触媒がまだ添加されていない場所または地点においてホスゲン化プロセスの後で添加されるのが好ましい。別の方法として、それらは、触媒の前に、触媒と一緒に、あるいは並行して添加することもできる。分枝剤または分枝剤混合物は、必要に応じて、合成プロセスに同じ方法で添加される。しかし、分枝剤は通常、連鎖停止剤の前に添加される。一般的に使用される化合物は、トリスフェノ-ル、クォーターフェノール、またはトリ-もしくはテトラカルボン酸のアシルクロリド、またはポリフェノールの混合物またはアシルクロリドの混合物を含む。3個以上のフェノール性ヒドロキシ基を有する分枝剤として適切な化合物のいくつかの例としては、フロログルシノール、4,6-ジメチル-2,4,6-トリ4-ヒドロキシフェニル-2-ヘプテン、4,6-ジメチル-2,4,6-トリ4-ヒドロキシフェニルヘプタン、1,3,5-トリ4-ヒドロキシフェニルベンゼン、1,1,1-トリ4-ヒドロキシフェニルエタン、トリ4-ヒドロキシフェニルフェニルメタン、2,2-ビス4,4-ビス4-ヒドロキシフェニルシクロヘキシル]プロパン、2,4-ビス4-ヒドロキシフェニルイソプロピルフェノール、およびテトラ4-ヒドロキシフェニルメタンである。他の3官能性化合物のいくつかは、2,4-ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌルおよび3,3-ビス3-メチル-4-ヒドロキシフェニル-2-オキソ-2,3-ジヒドロインドールである。好ましい分枝剤は、3,3-ビス3-メチル-4-ヒドロキシフェニル-2-オキソ-2,3-ジヒドロインドールおよび1,1,1-トリ4-ヒドロキシフェニルエタンである。ポリカーボネートの界面合成で好ましく使用される触媒は、3級アミン、特にトリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、N-エチルピペリジン、N-メチルピペリジン、N-イソ/n-プロピルピペリジン、第4級アンモニウム塩例えば、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、クロリド、ブロミド、硫酸水素塩、およびテトラフルオロホウ酸塩、ならびに対応するトリブチルベンジルアンモニウムおよびテトラエチルアンモニウム塩、およびまた、これらのアンモニウム化合物に対応するホスホニウム化合物である。これらの化合物は、典型的な界面触媒として文献に記載されて、市販されており、当業者によく知られている。触媒は、また、適当な場合ホスゲン化プロセスの事前に、個別に、混合物で、あるいは他に互いに同時にまたは順番に合成プロセスに加えることができるが、好ましいのは、使用する触媒がオニウム化合物またはオニウム化合物の混合物を含む場合を除き、ホスゲンの導入後に添加される。その場合は、ホスゲンの添加前の添加が好ましい。触媒複数を含むは、不活性溶媒、好ましくはポリカーボネートの合成用の溶媒、または他の水性溶液の形態で、希釈せずに添加されることができ、そして、第3級アミンの場合には、これらと酸、好ましくは鉱酸、特に塩酸とのアンモニウム塩の形態で添加が行われる。複数の触媒が使用される場合、あるいは触媒の総量の一部が添加される場合、別の位置でまたは異なる時間に異なる添加方法を使用することは、また、もちろん可能である。触媒の総使用量は、使用されるビスフェノールのモル数に基づいて、0.001~10モル、好ましくは0.01~8モル、特に好ましくは0.05~5モルである。ポリカーボネートを製造するための溶融エステル交換法において使用される触媒は、文献から既知の塩基性触媒、例えばアルカリ金属ヒドロキシドおよびアルカリ土類金属ヒドロキシドおよびアルカリ金属オキシドおよびアルカリ土類金属オキシド、および/またはオニウム塩、例えばアンモニウム塩またはホスホニウム塩である。好ましくはオニウム塩、特に好ましくはホスホニウム塩が合成に用いられる。そのようなホスホニウム塩は例えば式IVで表されるものである:式中、R7-10は、同一または異なる、所望により置換される、C1-C10-アルキル、C6-C14-アリール、C7-C15-アリールアルキルまたはC5-C6-シクロアルキル基、好ましくはメチルまたはC6-C14-アリール、特に好ましくはメチルまたはフェニルであり、および、X-は、ヒドロキシド、スルフェート、硫化水素塩、炭酸水素塩、カーボネート、ハライド、好ましくはクロライドおよび式-OR11式中、R11は要すれば置換してもよいC6-C14-アリール、C7-C15-アリールアルキルまたはC5-C6-シクロアルキル基、C1-C20-アルキル、好ましくはフェニルである。のアリールオキシまたはアルキルオキシからなる群からなる選択されるアニオンである。特に好ましい触媒は塩化テトラフェニルホスホニウム、水酸化テトラフェニルホスホニウムおよびテトラフェニルホスホニウムフェノレートであり、とりわけ特に好ましくはテトラフェニルホスホニウムフェノレートである。触媒の好ましい使用量は、ジヒドロキシアリール化合物の1モルにつき10-8~10-3モル、好ましくは10-7~10-4モルである。所望により、ポリ縮合の速度を増加させるために共触媒を用いてもよい。これらは例えばアルカリ金属およびアルカリ土類金属のアルカリ塩、例えば、リチウム、ナトリウムおよびカリウムの、ヒドロキシドおよび所望により置換されたC1-C10-アルコキシドおよびC6-C14-アリールオキシドであってもよく、好ましくは、ナトリウムの、ヒドロキシドおよび所望により置換されたC1-C10-アルコキシドおよびC6-C14-アリールオキシドである。水酸化ナトリウム、フェノール化ナトリウムおよび2,2-ビス4-ヒドロキシフェニルプロパンのジナトリウム塩が好ましい。アルカリ金属またはアルカリ土類金属イオンがそれらの塩の形で導入される場合、原子吸収分光分析法によって決定されたアルカリ金属またはアルカリ土類金属イオンの量は形成されたポリカーボネートに基づいて1~500ppb、好ましくは5~300ppbおよび最も好ましくは5~200ppbである。しかしながら、本発明による方法の好ましい態様では、アルカリ金属塩を使用しない。ポリカーボネート合成法は連続的またはバッチで行ってもよい。従って反応は攪拌容器、チューブ状反応器、ポンプ化循環反応器および攪拌容器カスケードまたはそれらの組合せ中で行ってもよい。既に述べた要素の複数を用いて、水層および有機層は、合成混合物が完全に反応し、すなわちホスゲンまたはクロロ炭酸エステルからの加水分解性塩素の残基を含まないときに、可能な限り分離することが確保される。界面法においてホスゲンを導入した後に、適切であれば、ビスフェノレートと共に添加されない限り、分岐剤に添加する前に、および連鎖停止剤ならびに触媒を添加する前に、所定の期間、有機層および水層を混合することが有利である。この種の後反応時間は、各添加の後が有利である。このような連続攪拌時間は、10秒~60分、好ましくは30秒~40分、特に好ましくは1~15分である。有機層は溶媒または複数の溶媒の混合物から構成されてもよい。適当な溶媒は塩素化炭化水素脂肪族および/または芳香族、好ましくはジクロロメタン、トリクロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタンおよびクロロベンゼンならびにそれらの混合物である。しかしながら、芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、m/p/o-キシレンまたは芳香族エーテル、例えばアニソールを単独で、塩素化炭化水素との混合物としてまたは塩素化炭化水素に添加して用いてもよい。合成法の他の態様ではポリカーボネートを溶解せずに膨潤するだけの溶媒を用いる。ポリカーボネートの非溶媒を溶媒と組み合わせて用いることも可能である。溶媒成分が第2の有機層を形成する場合には、使用される溶媒は水層に溶解しうる溶媒、例えばテトラヒドロフラン、1,3/1,4-ジオキサンまたは1,3-ジオキソランであってもよい。少なくとも2層の反応混合物が、クロロカルボン酸エステルの大部分の残存痕跡<2ppmを含み完全に反応している場合、それを静置して相分離させる。溶媒および触媒成分が分離され回収される場合には、水性アルカリ層は、水相の状態でポリカーボネート合成プロセスに完全にまたは部分的戻るか、または水-水処理に移動できる。別の処理変形例において、適当な場合、特定のpHに例えば、水酸化ナトリウム溶液により調整された後、有機不純物、特に溶媒およびポリマー残渣は除去され、適当な場合、水相は合成プロセスに戻される間に、例えば、クロロアルキル電解工程を通過することにより、塩は除去される。ポリカーボネートを含有する有機層は精製してアルカリ性、イオン性または触媒型のすべての不純物を除く。1回以上の静置した後に、有機層は、液滴形態で水性アルカリ相の一部の含有物を含有し、また、触媒、例えば第三級アミンを含有する。有機相が、沈殿槽、攪拌容器、コアレッサー若しくは分離器、またはそれらの組合せを通過するによって、所望により、相分離を促進できる。この場合、能動的または受動的な混合装置を用いる環境下、各分離工程またはいくつかの分離工程において、所望により水を計量添加できる。アルカリ性水性層を除去するこの大まかな分離の後、有機層を1回および数回希釈酸、鉱酸、カルボン酸、ヒドロキシカルボン酸および/またはスルホン酸で洗浄する。水性鉱酸、特に塩酸、亜リン酸およびリン酸またはこれらの酸の混合物が好ましい。これらの酸の濃度は0.01~50重量、好ましくは0.01~5重量であるべきである。さらに、有機層は脱ミネラル化水または蒸留水で繰返し洗浄される。個々の洗浄工程の後、所望により水相の一部で分散させた有機相は、沈殿槽、攪拌容器、コアレッサー若しくは分離器、またはそれらの組合せを用いて除去され、この場合、能動的または受動的な混合装置を所望により用いる場合、洗浄水を計量添加できる。水洗工程の間または水洗の後、酸、好ましくはポリマー溶液の基礎を形成する溶媒中に溶解された酸を必要に応じて添加してもよい。塩酸ガスおよびリン酸または亜リン酸これらは混合物として用いてもよいをここでは好ましく用いられる。ポリエステルカーボネートの調製に好適な芳香族ジカルボン酸の例は、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、tert-ブチルイソフタル酸、3,3-ジフェニルジカルボン酸、4,4ジフェニルジカルボン酸、4,4-ベンゾフェノンジカルボン酸、3,4ベンゾフェノンジカルボン酸、4,4-ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4-ジフェニルスルホンジカルボン酸、2,2-ビス4-カルボキシフェニルプロパン、トリメチル-3-フェニリンダン-4,5-ジカルボン酸である。芳香族ジカルボン酸の中で、テレフタル酸および/またはイソフタル酸が特に好ましく用いられる。ジカルボン酸の誘導体は、ジアシルジハライドおよびジアルキルジカルボキシレート、特にジアシルジクロリドおよびジメチルジカルボキシレートである。芳香族ジカルボン酸エステル基によるカルボネート基の置換は実質的に化学量論および/または定量的に行われて反応試薬のモル比が調製されたポリエステルカーボネート中でも起こる。芳香族ジカルボン酸エステル基の導入はランダムまたはブロックで行われてもよい。本発明の目的に関して、C1-C4-アルキルの例は、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチルであり、C1-C6-アルキルはさらにn-ペンチル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、シクロヘキシル、シクロペンチル、n-ヘキシル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,2,2-トリメチルプロピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-2-メチルプロピルまたは1-エチル-2-メチルプロピルであり、C1-C10-アルキルの例は、さらにn-ヘプチルおよびn-オクチル、ピナシル、アダマンチル、アイソマー状メンチル、n-ノニル、n-デシルであり、C1-C34-アルキルの例は、さらにn-ドデシル、n-トリデシル、n-テトラデシル、n-ヘキサデシルまたはn-オクタデシルである。同じことが、例えばアラルキルまたはアルキルアリール、アルキルフェニルまたはアルキルカルボニル基中の対応するアルキル基にも適用される。対応するヒドロキシアルキルまたはアラルキルまたはアルキルアリール基中のアルキレン基は例えば上記アルキル基に対応するアルキレン基を表わす。アリールは骨格炭素原子6~34を有するカルボ環状芳香族基を意味する。同じことがアリールアルキル基またはアラルキル基の芳香族部分にも適用され、より複雑な基のアリール置換基、例えばアリールカルボニル基のアリール基にも適用される。C6-C34-アリールの例は、フェニル、o-、p-およびm-トリル、ナフチル、フェナントレニル、アントラセニルまたはフルオレニルである。アリールアルキルおよびアラルキルはそれぞれ、独立して直鎖、環状、分岐または非分岐アルキル基上記定義に対応するであり、上述のようなアリール基によって単一、複合的または完全な置換基を有することができる。上記リストは例示するものであり、限定するものとは理解されない。本発明に係るポリカーボネートは、いずれの場合もポリカーボネート成分の総重量部に基づき、0~5重量部、好ましくは0~2.5重量部、特に好ましくは0~1重量部の量で、常套の添加剤、例えば、離型剤、流動助剤、熱安定剤、UV吸収剤および/またはIR吸収剤、難燃剤、染料および充填剤、ならびに他のポリマーを含有できる。本発明に係る組成物は、また、慣習的な量で、これらの熱可塑性物質に関する常套の更なる添加物質を含有でき、例えば、充填剤、UV安定剤、IR安定剤、熱安定化剤、帯電防止剤および顔料、着色剤など;離型挙動、流動挙動および/または難燃性を、外部離型剤、流動剤、および/または難燃剤例えば、アルキルおよびアリールホスフィット、アルキルおよびアリールリン酸塩、アルキルおよびアリールホスファン、アルキルおよびアリール低分子量カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、塩、石灰、石英粉末、ガラス繊維および炭素繊維、顔料およびそれらの組み合わせの添加により改良することもできる。そのような化合物は、例えば、WO99/55772、15~25頁中に、およびPlasticAdditivesR,GaechterandH.Mueller,HanserPublishers1983に記載されている。本発明による組成物に対して適当な場合に添加される離型剤は、好ましくは、ペンタエリスリチルテトラステアレート、グリセリルモノステアレート、例えばステアリルステアレートおよびプロパンジオールステアレートなどの長鎖脂肪酸エステルおよびそれらの混合物からなる群から選択される。該離型剤の使用量は、成形組成物に対して、0.05重量~2.00重量の量で、好ましくは0.1重量~1.0重量の量で、特に好ましくは0.15重量~0.60重量の量で、また特に非常に好ましくは成形組成物に対して、0.2重量~0.5重量の量である。適当な添加物質の例は、例えば、AdditivesforPlasticsHandbook、JohnMurphy,Elsevier,Oxford1999中に、またPlasticAdditivesHandbook、HansZweifel,Hanser,Munich2001中に記載されている。適当な酸化防止剤および熱安定剤はそれぞれ以下のものである:アルキル化モノフェノール、アルキルチオメチルフェノール、ハイドロキノンおよびアルキル化ハイドロキノン、トコフェロール、ヒドロキシ化チオジフェニルエーテル、アルキリデンビスフェノール、O-、N-およびS-ベンジル化合物、ヒドロキシベンジル化マロネート、芳香族ヒドロキシベンジル化合物、トリアジン化合物、アシルアミノフェノール、β-3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオン酸のエステル、β-5-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-3-メチルフェニルプロピオン酸のエステル、β-3,5-ジシクロヘキシル-4-ヒドロキシフェニルプロピオン酸のエステル、3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル酢酸のエステル、β-3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニルプロピオン酸のアミド、適当なチオ相乗作用剤、二次酸化防止剤、亜リン酸塩および亜ホスホン酸塩、ベンゾフラノンおよびインドリノンである。有機ホスフィン例えば、トリフェニルホスフィン、亜リン酸塩、ホスホン酸塩およびリン酸塩例えば、トリイソオクチルホスフェート、TOFが好ましく、その有機部分の大部分は、完全にあるいは部分的に、場合により置換された芳香族部分から構成される。重金属用およびアルカリの痕跡を中和するための適当な錯化剤は、o/m-リン酸、完全にあるいは部分的にエステル化したリン酸塩、あるいは亜リン酸塩である。適当な光安定剤UV吸収剤は、2-2-ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、2-ヒドロキシベンゾフェノン、置換もしくは未置換の安息香酸のエステル、アクリル酸、立体障害アミン、オキサミドおよび2-ヒドロキシフェニル-1,3,5-トリアジンあるいは置換されたヒドロキシアルコキシフェニル、1,3,5-トリアゾール;例えば2-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-3,5-tert-ブチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-5-tert-オクチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-アミルフェニルベンゾトリアゾール、2-[2-ヒドロキシ-3-3,4,5,6-テトラヒドロフタルイミドエチル-5-メチルフェニル]ベンゾトリアゾールおよび2,2メチレンビス[4-1,1,3,3-テトラメチルブチル-6-2H-ベンゾトリアゾール-2-イルフェノール]などである。他の適当なUV安定剤は、ベンゾトリアゾール例えば、Ciba製のTinuvin、Ciba製トリアジンCGX-06、ベンゾフェノンBASF製のUvinul、シアノアクリレートBASF製のUvinul、桂皮酸エステルおよびオキサルアニリドおよびこれらのUV安定剤の混合物からなる群から選択される。適当なUV吸収剤の例は;a式Iのマロン酸エステル;式中、Rは、アルキルである。Rは、好ましくは、C1~C6アルキル、特にC1~C4アルキルであり、特に好ましくはエチルである。b式IIのベンゾトリアゾール誘導体;式II中、含有するROおよびXは、同一あるいは異なっており、水素あるいはアルキルあるいはアルキルアリールである。X=1,1,3,3-テトラメチルブチルおよびRO=HであるTinuvin登録商標329、X=tert-ブチルおよびR0=2-ブチルであるTinuvin登録商標350、およびXおよびRO=1,1-ジメチル-1-フェニルであるTinuvin登録商標234が、好ましい。c式IIIの二量体ベンゾトリアゾール誘導体;式III中、R1およびR2は、同一あるいは異なっており、水素、ハロゲン、C1~C10アルキル、C5~C10シクロアルキル、C7~C13アラルキル、C6~C14アリール、-OR5あるいは-CO-O-R5R5=HあるいはC1~C4アルキルである。式III中、R3およびR4は、同様に同一あるいは異なっており、水素、C1~C4アルキル、C5~C6シクロアルキル、ベンジル、またはC6~C14アリールである。式III中、mは、1、2または3を意味し、nは、1、2、3または4である。R1=R3=R4=H;n=4;R2=1,1,3,3-テトラメチルブチル;m=1であるTinuvin登録商標360が、好ましい。d式IVの二量体ベンゾトリアゾール誘導体;式中、ブリッジは、次式を意味し、R、R、mおよびnは、式IIIについて述べた意味を持ち、式中、pは、0~3の整数、qは、1~10の整数、Yは、-CH2-CH2-、-CH23-、-CH24-、-CH25-、-CH26-またはCHCH3-CH2-であり、R3およびR4は、式IIIについて述べた意味を示す。R1=H;n=4;R2=tert-ブチル;m=1;R2は、OH基に対してオルソの位置に結合しており;R3=R4=H;p=2;Y=-CH25-;q=1であるTinuvin登録商標840が、好ましい。e式Vのトリアジン誘導体;式中、R1、R2、R3およびR4は、同一あるいは異なっており、水素、アルキル、アリール、CNあるいはハロゲンであり、Xは、アルキル、好ましくはイソオクチルである。R1=R2=R3=R4=H;X=ヘキシルであるTinuvin登録商標1577が、好ましく、R1=R2=R3=R4=メチル;XがオクチルであるCyasorb登録商標UV-1164が、好ましい。f式Vaのトリアジン誘導体;式中、R1は、C1アルキル~C17アルキルであり、R2は、HあるいはC1アルキル~C4アルキルであり、nは、0~20である。g式VIの二量体トリアジン誘導体;式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8は、同一あるいは異なっていてもよく、水素、アルキル、CNあるいはハロゲンであり、Xは、アルキリデン、好ましくはメチリデンあるいは-CH2CH2-O-n-C=O-であり、nは、1~10、好ましくは1~5、特には1~3である。h式VIIのジアリールシアノアクリレート;式中、R~R40は、同一あるいは異なっていてもよく、水素、アルキル、CNあるいはハロゲンである。R1~R40=HであるUvinul登録商標3030が、好ましい。本発明による成形組成物用に特に好ましいUV安定剤は、ベンゾトリアゾールbと二量体ベンゾトリアゾールcおよびd、マロン酸エステルaおよびシアノアクリレートh、およびこれらの化合物の混合物からなる群からの化合物である。UV安定剤の量は、成形組成物に基づき、0.01重量~15.00重量、好ましくは、全組成物に基づき、0.05重量~1.00重量、特に好ましくは0.08重量~0.5重量、とりわけ特に好ましくは0.1重量~0.4重量である。安定剤として、ポリプロピレングリコール単独、あるいは例えばスルホンあるいはスルホンアミドとの組み合わせは、ガンマ線による損傷を回避するために使用できる。これらの安定剤および他の安定剤を、個々にあるいは組み合わせて使用でき、これらは、ポリマーに対して、前記の形態で添加できる。適当な更なる難燃性物質は、リン酸エステル、すなわち、トリフェニルリン酸エステル、レゾルシノールジリン酸エステル、例えば臭素化リン酸エステル、臭素化オリゴカーボネートおよびポリカーボネートなどの臭素含有化合物、ならびに好ましくはフッ素化有機スルホン酸の塩である。適当な強化剤は、グラフト化されたスチレン-アクリロニトリルあるいはメタクリル酸メチルを有するブタジエンゴム、グラフト化した無水マレイン酸を有するエチレン-プロピレンゴム、グラフト化したメタクリル酸メチルあるいはスチレン-アクリロニトリルを有するエチルおよびブチルアクリレートゴム、グラフト化したメタクリル酸メチルあるいはスチレン-アクリロニトリルを有する相互貫入シロキサンおよびアクリレートネットワークである。さらに、有機色素あるいは顔料あるいは無機顔料などの着色剤、IR吸収剤を、個別に、混合物として、あるいは安定剤、ガラス繊維、中空ガラス球、無機充填剤と組み合わせて添加してもよい。好ましくは、特に好ましくは、あるいはとりわけ特に好ましくは等の文言の下に記述されているパラメータ、化合物、定義および説明を用いた実施態様が、それぞれ好ましく、特に好ましく、あるいはとりわけ特に好ましい。しかしながら、好ましい範囲で記載されている記述あるいは定義、パラメータ、化合物、および説明中に記載されている一般的な定義、パラメータ、化合物、および説明を、互いに任意に、すなわち、それぞれの範囲および好ましい範囲の間で組み合わせることができる。本発明によるポリカーボネート組成物は、好ましくは、例えば多軸押出機による配合によって調製される。本発明による熱可塑性成形組成物は、各成分を公知の様式で混合され、および、内部混練器、押出機および2軸装置などの常套の装置中で、240°C~300°Cの温度にて、それらを配合し押出すことにより調製される。各成分の混合は、連続的に、あるいは同時に、公知の様式で行うことができる。同様に、本発明は、成形組成物の製造方法および成形物の生産のための成形組成物の使用に関するものであり、またそれらの成形物自体に関するものである。本発明による成形組成物は、あらゆる種類の成形物の製造のために使用できる。これらは、射出成型、押し出しおよびブロー成形法によって製造できる。さらなる処理の形態は、既に製造されたシートあるいはフィルムからの熱形成による成形物の製造である。本発明によるポリカーボネート組成物を、場合により、他の熱可塑性プラスチックおよび/または常套の添加物との混合物として加工し、如何なる所望の成形物/押出物をも与えることができ、これらは、既に公知のポリカーボネート、ポリエステルカーボネートおよびポリエステルが使用される場所ではどこでも使用可能である。その特性プロフィールのために、これらは、相対的に大きな成形物、例えば、自動車のフロントガラスの射出成型材料として、特に適している。しかしながら、その低吸水性および関連した改良された寸法安定性のために、それらは、例えば、CD、CD-R、DVD、DVD-R、ブルーレイデイスクあるいは先端光デイスクAODなどの光学データ保存用基板材料としても特に適しているが、例えば、電気セクターにおけるフィルムとして、自動車構築の成形物として、特に、該セクターにおけるヘッドランプハウジング、散乱パネルおよびランプカバー、および安全/防犯領域におけるカバー用パネルとしても使用できる。本発明に係るポリカーボネートに関する好ましい用途は、射出成型品、押出し品、例えば、シート、ホイル異形材、半製品、および高分子量ポリカーボネートから成るキャストホイル、および高温に対する成形品の耐性について厳しい要求がなされる用途向けの、本発明に係るポリカーボネートの溶液から成る配合物である。特に好ましい用途は、内部色および光透過率が特に重要である、透明、不透明または浅色成形品の形態での使用に適する。本発明の目的に関して、ppmは他に記載のない限り重量部を意味する。以下の例は、本発明を説明することを目的とし、例の範囲に制限されない。硫黄含有量の測定:硫黄含有量は、当業者に既知の化学発光法により測定した。例1-3本発明に係る44重量のBP-TMCと56重量のBPAを有するコポリカーボネートの製造ビスフェノールとホスゲンの反応は、ポンプ循環反応装置と管状反応装置から成る連結アッセンブリを用い既知の界面法により行う。ここで、ポンプ循環反応装置は、ポンプ循環回路、反応エマルションをポンプ循環させるポンプ、有機相ホスゲン含有溶媒および水相アルカリ溶液およびジフェノール成分用の、適当な場合は混合物の形態で設計される供給位置、熱交換器、および副ストリームを連続除去するための除去手段を並列して備えている保持タンクから構成される。ここで、管状反応装置は、混合管および保持管から構成され、ポンプ循環反応装置の下流に設置され、該保持タンクの除去位置の裏側に設置される。T-継ぎ手を用いることにより、ポンプに先立つポンプ循環反応装置内へ以下のものが供給される;0.17重量のOH過剰量を有するBPAを14.9重量含有する、希薄な水酸化ナトリウム溶液中のビスフェノールAのアルカリ溶液を10000kg/時、および0.22重量OH過剰量を有する14.3重量のBP-TMCを含有する、希薄な水酸化ナトリウム溶液中のビスフェノールTMC11ビス-335トリメチルシクロヘキサンのアルカリ溶液を8191kg/時。以下のものは、更なるT-継ぎ手を用いて供給される;50重量部の塩化メチレンと50重量のモノクロロベンゼンから構成される、17760kg/時の溶媒中に溶解した、1285kg/時のホスゲン。塩基性を維持するために、510kg/時の50濃度水酸化ナトリウム溶液が、更なる下流のT-継ぎ手にて供給される。そして、反応混合物は、熱交換器および保持容器を経由して元のポンプに戻り、上記の塊massストリームは、この工程の間に添加される。温度は38°Cである。流入原料の全体と同じ大きさであるエマルションの一部を、保持容器から更なるポンプへとBPAとホスゲンの供給位置に先立って通過させ、および管状反応器を通って送り出す。50濃度の水酸化ナトリウム溶液327kg時と、純粋なフェノールの溶融体の401kg時を、該ストリームに連鎖停止剤として供給する。約10分の滞留時間の後、溶媒混合物50重量部の塩化メチレンと50重量部のモノクロロベンゼン中の、7重量濃度のNエチルピペリジンの357kg時を添加し、およびエマルションを、更なるポンプを用いて更なる管状反応器を通って送り出す。更に10分の滞留時間の後、反応エマルションを、水相と有機相へと分離容器中で分離させ、ポリカーボネートを含有する有機溶媒相を、既知の方法例えば、遠心分離技術を用いて希薄な鉱酸で洗浄し、その後、電解質が存在しなくなるまで脱イオン水で洗浄する。ポリカーボネート溶液を、常套の方法により溶媒を取り除いてもよい。単一溶媒として塩化メチレンを使用するスプレー乾燥法によるか、ここで用いるように、蒸発による濃縮システムを用いることにより、濃度を増加させ、その後、ベント型押出中で残留する揮発性物質を除去する。それらから放出されたポリカーボネート溶融ストランドは、水中ペレット化またはストランドペレット化によりペレット形態にされ、そこからそれらは熱塑性的に加工される。例1、2および3のそれぞれは、同じポリカーボネートの異なるバッチである。例4本発明に係る67重量のBP-TMCと33重量のBPAを有するコポリカーボネートの製造ビスフェノールとホスゲンの反応に使用されるプラント配置は、例1~3に記載されたものと同じである。T-継ぎ手を用いることにより、ポンプに先立つポンプ循環反応装置内へ以下のものが供給される;0.17重量のOH過剰量を有するBPAを14.9重量含有する、希薄な水酸化ナトリウム溶液中のビスフェノールAのアルカリ溶液を10000kg/時、および0.22重量のOH過剰量を有する14.3重量のBP-TMCを含有する、希薄な水酸化ナトリウム溶液中のビスフェノールTMC11ビス-335トリメチルシクロヘキサンのアルカリ溶液を20991kg/時。以下のものは、更なるT-継ぎ手を用いて供給される;50重量部の塩化メチレンと50重量のモノクロロベンゼンから構成される、31380kg/時の溶媒中に溶解した、2077kg/時のホスゲン。塩基性を維持するために、832kg/時の50濃度水酸化ナトリウム溶液が、更なる下流のT-継ぎ手にて供給される。そして、反応混合物は、熱交換器および保持容器を経由して元のポンプに戻り、上記の塊massストリームは、この工程の間に添加される。温度は38°Cである。流入原料の全体と同じ大きさであるエマルションの一部を、保持容器から更なるポンプへのBPAとホスゲンの供給位置に先立って通過させ、および管状反応器を通って送り出す。50濃度の水酸化ナトリウム溶液531kg時と、純粋なフェノールの溶融体の610kg時を、該ストリームに連鎖停止剤として供給する。約10分の滞留時間の後、溶媒混合物50重量部の塩化メチレンと50重量部のモノクロロベンゼン中の、7重量濃度のNエチルピペリジンの651kg時を添加し、およびエマルションを、更なるポンプを用いて更なる管状反応器を通って送り出す。更に10分の滞留時間の後、反応エマルションを、水相と有機相へと分離容器中で分離させ、ポリカーボネートを含有する有機溶媒相を、例13に記載したように更に後処理した。比較例57158ppmの硫黄含有量を有するBP-TMCを42重量有するBPAコポリカーボネートの製造これらのコポリカーボネートを、適切に適応されたBPAとBPTMCのストリーム量を有する、例13に記載された方法と同じ方法で製造した。比較例5、6および7のそれぞれは、同じポリカーボネートの異なるバッチである。比較例810200ppmの硫黄含有量を有するBP-TMCを41重量有するBPAコポリカーボネートの製造これらのコポリカーボネートを、適切に適応されたBPAとBPTMCのストリーム量を有する、例13に記載された方法と同じ方法で製造した。比較例8、9および10のそれぞれは、同じポリカーボネートの異なるバッチである。表1は、測定YIの測定結果と、構成および全ての例の硫黄含有量を含む"