無機ガラスを主成分として、フェライト粉末を含有し、前記フェライト粉末を電磁波の吸収で発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成してなり、基材の表面に対して、前記無機ガラス中に前記フェライト粉末が分散する発熱琺瑯層を形成する、発熱琺瑯釉薬。電磁波を発振する電磁波発振手段と、被加熱体を収納して、前記電磁波の照射で前記被加熱体を加熱する加熱空間と、基材で形成され、前記加熱空間内で前記被加熱体を支持する支持体を含んで構成される電磁誘導加熱装置であって、前記支持体の基材の表面に、前記電磁波の照射で発熱する発熱琺瑯層を形成し、前記発熱琺瑯層は、無機ガラスを主成分として、フェライト粉末を含有し、前記無機ガラス中に前記フェライト粉末を分散して形成され、前記フェライト粉末は、前記電磁波を吸収して発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成される、ことを特徴とする電磁誘導加熱装置。前記加熱空間は、基材で区画され、前記基材の表面に、前記発熱琺瑯層を形成してなる、ことを特徴とする請求項2に記載の電磁誘導加熱装置。前記基材は、前記発熱琺瑯層を被覆するガラス質の保護琺瑯層を有してなる、ことを特徴とする請求項2又は3に記載の電磁誘導加熱装置。製品形状に形成される基材を備え、前記基材の表面に、電磁波の照射で発熱する発熱琺瑯層を形成してなる発熱琺瑯製品であって、前記発熱琺瑯層は、無機ガラスを主成分として、フェライト粉末を含有し、前記無機ガラス中に前記フェライト粉末を分散させて形成され、前記フェライト粉末は、前記電磁波を吸収して発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成される、ことを特徴とする発熱琺瑯製品。本発明は、電磁波を吸収して急激に発熱する発熱琺瑯層を形成する発熱琺瑯釉薬、発熱琺瑯層を有する電磁誘導加熱装置、及び発熱琺瑯層を形成してなる発熱琺瑯製品を提供することにある。本発明の請求項1に係る発明は、無機ガラスを主成分として、フェライト粉末を含有し、前記フェライト粉末を電磁波の吸収で発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成してなり、基材の表面に対して、前記無機ガラス内に前記フェライト粉末を分散させてなる発熱琺瑯層を形成する発熱琺瑯釉薬である。本発明の請求項2に係る発明は、電磁波を発振する電磁波発振手段と、被加熱体を収納して、前記電磁波の照射で前記被加熱体を加熱する加熱空間と、基材で形成され、前記加熱空間内で前記被加熱体を支持する支持体を含んで構成される電磁誘導加熱装置であって、前記支持体の基材の表面に、前記電磁波の照射で発熱する発熱琺瑯層を形成し、前記発熱琺瑯層は、無機ガラスを主成分として、フェライト粉末を含有し、前記無機ガラス中に前記フェライト粉末を分散させて形成され、前記フェライト粉末は、前記電磁波を吸収して発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成されることを特徴とする電磁誘導加熱装置である。本発明の請求項3に係る発明は、前記加熱空間は、基材で区画され、前記基材の表面に、前記発熱琺瑯層を形成してなることを特徴とする請求項2に記載の電磁誘導加熱装置である。本発明の請求項4に係る発明は、前記基材は、前記発熱琺瑯層を被覆するガラス質の保護琺瑯層を有してなることを特徴とする請求項2又は3に記載の電磁誘導加熱装置である。本発明の請求項5に係る発明は、製品形状の形成される基材を備え、前記基材の表面に、電磁波の照射で発熱する発熱琺瑯層を形成してなる発熱琺瑯製品であって、前記発熱琺瑯層は、無機ガラスを主成分として、フェライト粉末を含有し、前記無機ガラス中に前記フェライト粉末を分散させて形成され、前記フェライト粉末は、前記電磁波を吸収して発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成されることを特徴とする発熱琺瑯製品である。本発明の請求項1に係る発明によれば、発熱琺瑯釉薬は、無機ガラスにフェライト粉末を含有し、フェライト粉末を電磁波の吸収で発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成しており、しかも基材の表面に対して、無機ガラス中にフェライト粉末が分散する発熱琺瑯層を形成する。これにより、無機ガラス中に分散するフェライト粉末は、電磁波マイクロ波を吸収すると、急激に発熱して、発熱琺瑯層を急激に温度上昇させる。特に、フェライト粉末は、酸化鉄、及び非磁性酸化金属を含んで組成されるので、酸化鉄の発熱、非磁性酸化金属の発熱による相乗効果で、急激な発熱特性を得られる。フェライト粉末を無機ガラス中に分散すると、フェライト粉末の発熱は無機ガラスで抑制でき、電磁波を照射しても、発熱琺瑯層は、一定温度まで上昇し、その後一定温度以上に昇温することが抑制される。基材は、発熱琺瑯層の無機ガラスで被覆されるので、耐蝕性及び耐錆性に優れたものにされる。フェライト粉末は、無機ガラス中に分散され、無機ガラスで被覆されるので、発熱琺瑯層に電磁波を照射しても、空気酸素に触れることなく、発火を防止できる。フェライト粉末として、第一のフェライト粉末酸化金属粉末は、三酸化第二鉄、非磁性酸化金属である酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化ストロンチウム及び酸化クロムで組成され、第二のフェライト粉末は、三酸化第二鉄、非磁性酸化粉末である酸化亜鉛及び酸化マグネシウムで組成され、第三のフェライト属粉末は、三酸化第二鉄磁性酸化鉄、非磁性酸化金属である酸化亜鉛、酸化ニッケル及び酸化銅で組成される。第一~第三のフェライト粉末の酸化鉄、非磁性酸化金属の配合比率を適宜選択すると、無機発熱琺瑯層の温度、温度上昇幅を制御できる。琺瑯用基材は、鋼、ステンレス鋼、アルミニウム、銀、金、セラミックス陶磁等である。本発明の請求項2に係る発明によれば、電磁誘導加熱装置の支持体の基材表面に発熱琺瑯層を形成したので、支持体の発熱琺瑯層において、フェライト粉末は、電磁波マイクロ波を吸収して急激に発熱する。支持体に支持される被加熱体は、支持体の発熱琺瑯層から直接的に伝達される熱によって急激に加熱される。これにより、被加熱体は、短時間で急激に加熱され、例えば、食材を加熱する調理時間を短縮できる。本発明の請求項3に係る発明によれば、加熱空間を区画する基材の表面に発熱琺瑯層を形成したので、加熱空間を区画する基材の発熱琺瑯層において、フェライト粉末は、電磁波を吸収して急激に発熱する。支持体に支持される被加熱体は、加熱空間を区画する基材の発熱琺瑯層から加熱空間を通して伝搬される熱によって急激に加熱される。これにより、加熱空間内に収納される被加熱体の全体は、均一に加熱される。本発明の請求項4に係る発明によれば、発熱琺瑯層を無機ガラス質の琺瑯層で被覆しているので、発熱琺瑯層のフェライト粉末は、無機ガラス中に閉じ込められ、各琺瑯層から露出することが防止され、フェライト粉末が空気酸素に触れて発火することを防止できる。本発明の請求項5に係る発明によれば、発熱琺瑯製品の無機ガラス中に分散するフェライト粉末は、電磁波マイクロ波を吸収すると、急激に発熱して、発熱琺瑯層を急激に温度上昇させる。特に、フェライト粉末は、電磁波を吸収して発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成されるので、酸化鉄と非磁性酸化金属の発熱による相乗効果によって、急激な発熱特性を得られる。特に、食材を加熱する発熱琺瑯製品において、発熱琺瑯製品の発熱琺瑯層は急激に発熱して、発熱琺瑯層の熱を直接的に食材に伝達して加熱でき、加熱する時間を短縮できる。本発明に係る発熱琺瑯釉薬について説明する。発熱琺瑯釉薬は、無機ガラスを主成分として、フェライト粉末を含有する。フェライト粉末は、電磁波を吸収して発熱する酸化鉄、及び電磁波を吸収して発熱する非磁性酸化金属を含んで組成される。フェライト粉末の具体例として、第一のフェライト粉末Aは、三酸化第二鉄Fe2O3、酸化ケイ素SiO、酸化亜鉛ZnO、酸化マンガンMnO、酸化ストロンチウムSrO及び酸化クロムCr2O3で組成する。第二のフェライト粉末Bは、三酸化第二鉄Fe2O3、酸化亜鉛ZnO及び酸化マンガンMnOで組成する。第三のフェライト粉末Cは、三酸化第二鉄Fe2O3、酸化亜鉛ZnO、酸化ニッケルNiO及び酸化銅CuOで組成する。発熱琺瑯釉薬は、基礎釉薬に1種類のフェライト粉末を添加撹拌して作成される。基礎釉薬は、無機ガラス粉末を水に撹拌して作成され、無機ガラス粉末を水中に懸濁するため、粘土例:カオリンや電解質物質例:亜硝酸ナトリウム、酸化マグネシウムを添加配合することもでき、更に耐火物例:二酸化ケイ素や顔料を添加配合することもできる。発熱琺瑯釉薬は、基材の表面に施釉塗布され、焼成によって基材の表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末を分散含有してなる。基材は、鋼、ステンレス鋼、アルミニウム、銀、金及びセラミックス陶磁等である。発熱琺瑯釉薬の発熱特性試験1~7について、表1乃至表8、及び図1乃至図9を参照して説明する。<発熱特性試験1>発熱特性試験1は、各種の金属粉末を含有する琺瑯層又は発熱琺瑯層の関係において、琺瑯層又は発熱琺瑯層の温度変化を計測する。1試料板片本発明の実施例A~Fの試料板片、及び比較例1~9の試料板片である表1参照。比較例1の試料板片比較例1において、基礎釉薬に三酸化第二鉄Fe2O3粉末を添加撹拌して試料釉薬1を作成する。比較例1の試料板片は、試料釉薬1を鋼板片に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。比較例1の琺瑯層は、無機ガラス中に三酸化第二鉄粉末:1.6g/0.01molを分散含有する。■基礎釉薬の組成及び配合比率は、無機ガラス:100粘土:7電解質物質:0.6顔料:3水:50である。基礎釉薬の配合比率は、無機ガラス:100に対して、粘土:1~10、電解質物質:0.1~3、顔料:0.1~15、及び水:35~75の範囲で選択することもできる。比較例2の試料板片比較例2において、基礎釉薬に酸化亜鉛ZnO粉末を添加撹拌して試料釉薬2を作成する。比較例2の試料板片は、試料釉薬2を鋼板片に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。比較例2の琺瑯層は、無機ガラス中に酸化亜鉛粉末:0.8g/0.01molを分散含有する。比較例3の試料板片比較例3において、基礎釉薬に二酸化錫SnO2粉末を添加撹拌して試料釉薬3を作成する。比較例3の試料板片は、試料釉薬3を鋼板片に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。比較例3の琺瑯層は、無機ガラス中に二酸化錫粉末:1.5g/0.01molを分散含有する。比較例4の試料板片比較例4において、基礎釉薬に酸化錫SnO粉末を添加撹拌して試料釉薬4を作成する。比較例4の試料板片は、試料釉薬4を鋼板片に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。比較例4の琺瑯層は、無機ガラス中に酸化錫粉末:1.3g/0.01molを分散含有する。比較例5の試料板片比較例5において、基礎釉薬に酸化銅CuO粉末を添加撹拌して試料釉薬5を作成する。比較例5の試料板片は、試料釉薬5を鋼板片に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。比較例5の琺瑯層は、無機ガラス中に酸化銅粉末:0.8g/0.01molを分散含有する。比較例6の試料板片比較例6において、基礎釉薬に二酸化銅CuO2粉末を添加撹拌して試料釉薬6を作成する。比較例6の試料板片は、試料釉薬6を鋼板片に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。比較例6の琺瑯層は、無機ガラス中に二酸化銅粉末:1.4g/0.01molを分散含有する。比較例7の試料板片比較例7において、基礎釉薬に酸化アルミニウムAl2O3粉末を添加撹拌して試料釉薬7を作成する。比較例7の試料板片は、試料釉薬7を鋼板片に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。比較例7の琺瑯層は、無機ガラス中に酸化アルミニウム粉末:1.0gを分散含有する。比較例8の試料板片比較例8において、基礎釉薬に銅Cu粉末を添加撹拌して試料釉薬8を作成する。比較例8の試料板片は、試料釉薬8を鋼板片に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。比較例8の琺瑯層は、無機ガラス中に銅粉末:1.0gを分散含有する。比較例9の試料板片比較例9において、基礎釉薬にゲルマニウムGe粉末を添加撹拌して試料釉薬9を作成する。比較例9の試料板片は、試料釉薬9を鋼板片に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。比較例9の琺瑯層は、無機ガラス中にゲルマニウム粉末:1.0gを分散含有する。実施例Aの試料板片実施例Aにおいて、基礎釉薬にフェライト粉末Aを添加撹拌して発熱琺瑯釉薬Aを作成する。実施例Aの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Aを鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。実施例Aの発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末A:1gを分散含有する。■フェライト粉末Aの組成及び配合比率massは、三酸化第二鉄:80酸化ケイ素:10酸化亜鉛:5.9酸化マンガン:2.7酸化ストロンチウム:0.6酸化クロム:0.3である。実施例Bの試料板片実施例Bにおいて、基礎釉薬にフェライト粉末Bを添付撹拌して発熱琺瑯釉薬Bを作成する。実施例Bの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Bを鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。実施例Bの発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末B:1gを分散含有する。■フェライト粉末Bの組成及び配合比率molは、三酸化第二鉄:52.85酸化亜鉛:11.92酸化マンガン:35.23である。実施例Cの試料板片実施例Cにおいて、基礎釉薬にフェライト粉末Cを添付撹拌して発熱琺瑯釉薬Cを作成する。実施例Cの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Cを鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。実施例Cの発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末C:1gを分散含有する。■フェライト粉末Cの組成及び配合比率molは、三酸化第二鉄:49.54酸化亜鉛:23.30酸化ニッケル:20.91酸化銅:6.25である。実施例Dの試料板片実施例Dにおいて、基礎釉薬にフェライト粉末Dを添加撹拌して発熱琺瑯釉薬Dを作成する。実施例Dの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Dを鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。実施例Dの発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末D:1gを分散含有する。■フェライト粉末Dの組成及び配合比率molは、三酸化第二鉄:49.39酸化亜鉛:32.14酸化ニッケル:12.70酸化銅:5.77である。フェライト粉末Dの組成は、上記フェライト粉末Cと同一組成である。実施例Eの試料板片実施例Eにおいて、上記フェライト粉末Cを1300°Cで二時間過熱して過熱フェライト粉末Eを作成する。基礎釉薬に過熱フェライト粉末Eを添加撹拌して発熱琺瑯釉薬Eを作成する。実施例Eの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Eを鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。実施例Eの発熱琺瑯層は、無機ガラス中に過熱フェライト粉末E:1gを分散含有する。実施例Fの試料板片実施例Fにおいて、上記フェライト粉末Dを1300°Cで二時間過熱して過熱フェライト粉末Fを作成する。基礎釉薬に過熱フェライト粉末Fを添加撹拌して発熱琺瑯釉薬Fを作成する。実施例Fの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Fを鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。実施例Fの発熱琺瑯層は、無機ガラス中に過熱フェライト粉末F:1gを分散含有する。2試験条件比較例1~9の試料板片、実施例A~Fの試料板片を、電子レンジ電磁誘導加熱装置内に装着し、マイクロ波電磁波を試料板片の琺瑯層又は発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、2450MHzとする。マイクロ波の照射後、比較例1~9の琺瑯層の温度、及び実施例A~Fの発熱琺瑯層の温度を計測する。琺瑯層、発熱琺瑯層の温度は、マイクロ波を照射する前の照射前温度ST、及びマイクロ波を3分間照射した後の照射後温度180FTを計測する。3発熱特性試験1の結果発熱特性試験1の結果について、表1、及び図1のグラフに示し、説明する。表1は、比較例1~9、及び実施例A~Fにおいて、金属粉末の配合重量g、照射前温度ST、照射後温度180FT及び温度上昇幅180HTを表示している。図1のグラフは、照射前温度ST及び照射後温度180FTの温度差である温度上昇幅180HTを表示している。上記表1において、比較例1~7の琺瑯層は、1種類の酸化金属粉末を分散含有し、照射後温度180FT:43.3°C~141.5°C、温度上昇幅180HT:17.2°C~115.3°Cの温度値を示している。1種類の酸化金属粉末を分散含有する琺瑯層は、酸化銅又は二酸化銅を分散含有すると、照射後温度180FT:140°C前後、温度上昇幅180HT:115°C前後の温度値を示す発熱特性にできる図1参照。比較例8の琺瑯層は、1種類の銅粉末を分散含有し、照射後温度180FT:299.7°C、温度上昇幅180H:271.4°Cの温度値を示し、比較例9の琺瑯層は、1種類のゲルマニウム粉末を分散含有し、照射後温度180FT:162.1°C、温度上昇幅180HT:134.7°Cの温度値を示している。比較例8の銅粉末は、マイクロ波を吸収して繰り返し発熱すると酸化され、比較例5、6の酸化銅粉末、二酸化銅粉末の照射後温度180FT:140°C前後、及び温度上昇幅180HT:115°C前後の温度値を示す発熱特性になる。1種類の金属粉末を分散含有する琺瑯層は、ゲルマニウム粉末を分散含有すると、照射後温度180FT:162°C前後、温度上昇幅180HT:135°C前後の温度値を示す発熱特性を得られる。発熱特性試験1において、1種類の酸化金属粉末、又は1種類の金属粉末を分散含有する琺瑯層比較例1~9は、比較例9において、最高の照射後温度180FT:162°C前後及び最高の温度上昇幅180HT:115°C前後の温度値を示す発熱特性を得られる。上記表1において、実施例Aの発熱琺瑯層は、フェライト粉末Aを分散含有し、照射後温度180FT:286.3°C、温度上昇幅180HT:259.8°Cの温度値を示す発熱特性を得ている図1参照。実施例Bの発熱琺瑯層は、フェライト粉末Bを分散含有し、照射後温度180FT:200.3°C、温度上昇幅180HT:161.3°Cの温度値を示す発熱特性を得ている。実施例Cの発熱琺瑯層は、フェライト粉末Cを分散含有し、照射後温度180FT:218.3°C、温度上昇幅180HT:179.1°Cの温度値を示す発熱特性を得ている。実施例Eの発熱琺瑯層は、過熱フェライト粉末Eを分散含有し、照射後温度180FT:245.5°C、温度上昇幅180HT:216.0°Cの温度値を示す発熱特性を得ている図1参照。実施例A~C、Eの発熱特性は、比較例1~9の発熱特性よりも、高温域の照射後温度180FTの温度値を示し、温度上昇幅180HTも大きい温度上昇幅を示している。これにより、実施例A~C、Eのフェライト粉末A~C、Eは、マイクロ波を吸収して急激に発熱し、発熱琺瑯層を200°C程度の照射後温度180FTまで温度上昇している。200°Cの温度は、食材等を加熱、又は加熱調理するのに適した温度であり、実施例A~C、Eの発熱琺瑯層は、急激に温度上昇して200°Cの温度領域に達し、食材等の加熱を短時間で実施できる。実施例Aのフェライト粉末Aは、磁性酸化鉄三酸化第二鉄粉末、非磁性酸化金属酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化ストロンチウム、酸化クロム粉末、及び酸化ケイ素粉末で組成され、実施例Bのフェライト粉末Bは、磁性酸化鉄三酸化第二鉄粉末、及び非磁性酸化金属酸化亜鉛、酸化マンガン粉末で組成され、実施例C、Eのフェライト粉末C、Eは、磁性酸化鉄三酸化第二鉄粉末、及び非磁性酸化金属酸化亜鉛、酸化ニッケル、酸化銅粉末で組成される。酸化鉄粉末及び非磁性酸化金属粉末を分散含有する発熱琺瑯層は、酸化鉄粉末の発熱及び非磁性酸化金属の発熱による相乗効果に加えて、無機ガラスの影響によって、マイクロ波を効率的、急速に吸収して、発熱量を飛躍的に増大していると考えられる。実施例A~C、Eにおいて、フェライト粉末A~C、Eは、発熱琺瑯層の無機ガラス中に分散することで、粉末粒子の接触、重なりを最小限にでき、マイクロ波を効率的に吸収していると考えられる。このように、実施例A~C、Eの発熱琺瑯層では、フェライト粉末を酸化鉄粉末おy美非磁性酸化金属粉末で組成することで、急激な発熱、急激な温度上昇の発熱特性を得ることができる。上記表1において、実施例D、Fの発熱琺瑯層は、フェライト粉末D、過熱フェライト粉末Fを分散含有し、照射後温度180FT:131.2°C、110.2°C、温度上昇幅180HT:103.3°C、82.0°Cの温度値を示す発熱特性を得ている図1参照。実施例D、Fの発熱特性は、比較例6の二酸化銅粉末と同程度の温度値発熱特性を示している。実施例D、Fのフェライト粉末D、Fは、実施例C、Eのフェライト粉末C、Eと同一組成でなり、三酸化第二鉄、酸化亜鉛、酸化ニッケル及び酸化銅の配合比率molを異にする。フェライト粉末D、Fの配合比率molと、フェライト粉末C、Eの配合比率molを対比すると、三酸化第二鉄の配合比率は同程度49.54mol/49.39molであり、酸化亜鉛の配合比率及び酸化ニッケルの配合比率は9mol前後で相異している。従って、フェライト粉末C~Dでは、三酸化第二鉄、酸化亜鉛、酸化ニッケル、及び酸化銅の配合比率molに基づいて、照射後温度180FT及び温度上昇幅180HTも変動し、照射後温度180FT及び温度上昇幅180HTの温度値に影響を与える要因になる。なお、フェライト粉末A、Bにおいても、フェライト粉末C、Dと同様であり、フェライト粉末A、Bの配合比率は、照射後温度180FT及び温度上昇幅180HTの温度値に影響を与える要因になる。上記表1において、実施例C、Eのフェライト粉末C、Eは、同一組成及び同一の配合比率molで構成され、過熱処理によって、実施例Eの発熱琺瑯層は、実施例Cと比較して、高い照射後温度180FT及び温度上昇幅180HTを示しており、フェライト粉末を過熱することは、電磁波を吸収して発熱する発熱量に影響を与える要因となる。<発熱特性試験2>発熱特性試験2は、発熱琺瑯層に分散含有するフェライト粉末B、Cの重量gの関係において、発熱琺瑯層の温度変化を計測する。1試料板片本発明の実施例B1~B5の試料板片、及び本発明の実施例C1~C4の試料板片である表2参照実施例B1~B5の試料板片実施例B1~B5の試料板片は、上記実施例Bと同様で、発熱琺瑯釉薬Bで鋼板片基材表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。実施例B1の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末B:1gを分散含有する。実施例B2の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末B:3gを分散含有する。実施例B3の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末B:6gを分散含有する。実施例B4の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末B:9gを分散含有する。実施例B5の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末B:12gを分散含有する。実施例C1~C4の試料板片実施例C1~C4の試料板片は、上記実施例Cと同様で、発熱琺瑯釉薬Cで鋼板片基材表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。実施例C1の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末C:1gを分散含有する。実施例C2の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末C:3gを分散含有する。実施例C3の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末C:6gを分散含有する。実施例C4の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末C:9gを分散含有する。2試験条件実施例B1~B5の試料板片、実施例C1~C4の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、2450MHzとする。マイクロ波照射後、実施例B1~B5の発熱琺瑯層の温度、及び実施例C1~C4の発熱琺瑯層の温度を計測する。実施例B1~B3、及び実施例C3の発熱琺瑯層は、照射前温度ST、マイクロ波を30秒間照射した後の照射後温度30FT、マイクロ波を1分間照射した後の照射後温度60FT、マイクロ波を2分間照射した後の照射後温度120FT、マイクロ波を3分間照射した後の照射後時間180FT、マイクロ波を4分間照射した後の照射後温度240FT、マイクロ波を5分間照射した後の照射後温度300FT及びマイクロ波を6分間照射した後の照射後温度360FTを計測する。実施例B4、B5、及び実施例C1、C2、C4の発熱琺瑯層は、照射前温度ST及び照射後温度180FTを計測する。3発熱特性試験2の結果発熱特性試験2の結果について、表2、表3及び図2のグラフ、図3のグラフに示し、説明する。表2は、実施例B1~B5、及び実施例C1~C4について、照射前温度ST、照射後温度180FT及び温度上昇幅180FTを表示する。図2のグラフは、表2の照射前温度STを25°Cに補正して、温度上昇幅180FTを表示する。表3は、実施例B1~B3、及び実施例C3について、照射前温度ST、及び各照射後時間30FT~360FTを表示し、更に各照射後時間30FT~360FTに関する温度上昇幅30HT~360HTを表示する。図3のグラフは、表3の温度前温度を25°Cに補正して、実施例B1~B3、C3の各照射後温度30FT~360FTを表示する。上記表2において、実施例B1~B5の発熱琺瑯層は、照射後温度180FT:181.1°C~228.8°C、温度上昇幅180HT:158.1°C~205.9°Cの温度値を示し、急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている図2参照。実施例B1~B5の発熱琺瑯層は、無機ガラス中に分散含有するフェライト粉末Bの重量gに起因して、照射後温度180FT及び温度上昇幅180HTの温度値が変動している。従って、発熱琺瑯層に分散含有するフェライト粉末Bの重量gは、照射後温度及び温度上昇幅の温度値に影響を与える要因となる。特に、フェライト粉末Bの重量gの増加に従って、発熱及び温度上昇の発熱特性は急激になる図2参照。また、実施例B1~B5の発熱琺瑯層で、食材等の加熱に適した温度:200°C程度の温度領域まで加熱できる。実施例C1~C4の発熱琺瑯層は、照射後温度180FT:192.6°C~209.3°C、温度上昇幅180HT:169.1°C~184.5°Cの温度値を示し、急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている。実施例C1~C4の発熱琺瑯層は、無機ガラス中に分散含有するフェライト粉末Cの重量gに起因して、照射後温度180FT及び温度上昇幅180HTの温度値が変動している。従って、発熱琺瑯層に分散含有するフェライト粉末Cの重量gは、照射後温度及び温度上昇幅の温度値に影響を与える要因となる。また、実施例C1~C4の発熱琺瑯層は、食材等の加熱に適した温度:200°C程度の温度領域まで加熱できる。上記表3において、実施例B1の発熱琺瑯層は、照射後温度60FT:161.3°Cの温度値を示し、照射時間:1分間で急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている。実施例B2の発熱琺瑯層は、照射後時間60FT:175.6°Cの温度値を示し、照射時間0~1分間で急激な発熱、急激な温度上昇の発熱特性を得ている。実施例B3の発熱琺瑯層は、照射後温度60FT:190.7°Cの温度値を示し、照射時間0~3分間で急激な発熱、急激な温度上昇の発熱特性を得ている。実施例B1~B3の発熱特性を比較すると、図3のグラフに示すように、照射時間:1分間のグラフ温度勾配値ΔT1は、急激な温度勾配値を示し、実施例B1<実施例B2<実施例B3の関係になる。従って、発熱琺瑯層の温度上昇は、実施例B1<実施例B2<実施例B3の関係で急激になり、発熱琺瑯層に分散含有するフェライト粉末Bの重量gは、照射後温度の温度値に影響を与える要因となる。実施例B1の発熱琺瑯層は、照射後温度120FT~360FT:181.3°C、181.3°C、186.2°C、188.0°C、195.0°Cの温度値を示し、照射時間:2分間を経過すると、図3のグラフに示すように、グラフ温度勾配値ΔT2は、緩やかな温度勾配値を示しており、一定温度範囲185°C~200°Cの温度値を示すと考えられる。実施例B2の発熱琺瑯層は、照射後温度120FT~360FT:191.3°C、203.5°C、204.6°C、198.7°C、199.3°Cの温度値を示し、照射時間:2分間を経過すると、図3のグラフに示すように、グラフ温度勾配値ΔT2は、緩やかな温度勾配値を示しており、一定温度範囲195°C~210°Cの温度値を示すと考えられる。実施例B3の発熱琺瑯層は、照射後温度120FT~360FT:203.1°C、210.7°C、220.1°C、223.8°C、236.2°Cの温度値を示し、照射時間:2分間を経過すると、図3のグラフに示すように、グラフ温度勾配値ΔT2は、緩やかな温度勾配値を示しており、一定温度範囲225°C~240°Cの温度値を示すと考えられる。従って、マイクロ波照射時間は、照射後温度の温度値に影響を与える要因となる。上記表3において、実施例C3の発熱琺瑯層は、照射後温度120FT:197.3°C、温度上昇幅120HT:173.7°Cの温度値を示し、照射時間:2分間で急激な発熱、急激な温度上昇の発熱特性を得ている。実施例C3の発熱特性と、実施例B3の発熱特性を比較すると、図3に示すように、グラフ温度勾配値ΔT1は、実施例C3<実施例B3の関係になる。実施例C3、実施例B3において、フェライト粉末B、Cを発熱琺瑯層に分散含有する重量gは同一重量6gであるものの、グラフ温度勾配値ΔT1は相異し、発熱及び温度上昇の発熱特性も異なる。この発熱特性の相異は、フェライト粉末B、Cの組成の相異によるものである。実施例B1~B3、及び実施例C3によれば、図3に示すように、発熱琺瑯層は、短時間のマイクロ波照射で180°C~200°C範囲に急激に発熱し、その後は一定温度範囲:200°C前後に収束すると考えられ、200°C前後の温度領域で食材等を加熱することができる。<発熱特性試験3>発熱特性試験3は、発熱琺瑯層の膜厚の関係において、発熱琺瑯層の温度変化を測定する。1試料板片本発明の実施例C6~C10の試料板片である表4及び表5参照。実施例C6~C10の試料板片実施例C6~C10において、基礎釉薬:150gにフェライト粉末C:50gを添加し、更に水:20gを追加撹拌して発熱琺瑯釉薬Gを作成する。実施例C6~C10の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Gを鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に各種膜厚の発熱琺瑯層を形成する。実施例C6において、発熱琺瑯層の膜厚は、94マイクロメータ実施例C7において、発熱琺瑯層の膜厚は、65マイクロメータ実施例C8において、発熱琺瑯層の膜厚は、100マイクロメータ実施例C9において、発熱琺瑯層の膜厚は、159マイクロメータ実施例C10において、発熱琺瑯層の膜厚は、176マイクロメータである。なお、鋼板片基材寸法は、100mm×100mm、厚:0.6mmである。2試験条件実施例C6~C10の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、2450MHzとする。マイクロ波照射後、実施例C6~C10の発熱琺瑯層の温度を計測する。実施例C6において、照射前温度ST、照射後温度60FT、照射後温度120FT、照射後温度180FT及び照射後温度240FTを計測する。実施例C7~C10において、照射前温度ST及び照射後温度180FTを計測する。3発熱特性試験3の結果発熱特性試験3の結果について、表4、表5及び図4のグラフ、図5のグラフに示し、説明する。表4は、実施例C6について、照射前温度ST、照射後時間60FT、120FT、180FT、240FTを表示し、更に各照射後時間60FT~240FTに関する温度上昇幅60HT、120HT、180HT、240HTを表示する。図4のグラフは、表4の照射前温度STを25°Cに補正して、照射後温度60HT~240HTを表示する。表5は、実施例C7~C10について、照射前温度ST及び照射後温度180FTを表示し、更に照射後温度180FTに関する温度上昇幅180HTを表示する。図5のグラフは、表5の照射前温度STを25°Cに補正して、照射後温度180FTを表示す。上記表4において、実施例C6の発熱琺瑯層は、照射後温度60FT:177.4°Cの温度値を示し、照射時間:1分間で急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている図4参照。上記表4において、実施例C6の発熱琺瑯層は、照射後温度180FT:186.3°C、温度上昇幅180HT:165.1°Cの温度値を示す発熱特性を得ている。上記表5において、実施例C7の発熱琺瑯層は、照射後温度180FT:158.2°C、温度上昇幅180HT:136.1°Cの温度値を示す発熱特性を得ており、実施例C8の発熱琺瑯層は、照射後温度180HT:166.2°C、温度上昇幅180HT:142.6°Cの温度値を示す発熱特性を得ている。実施例C9の発熱琺瑯層は、照射後温度180FT:172.8°C、温度上昇幅180HT:152.6°Cの温度値を示す発熱特性を得ており、実施例C10の発熱琺瑯層は、照射後温度180FT:180.8°C、温度上昇幅180FT:161.3°Cの温度値を示す発熱特性を得ている図5参照。実施例C6~C10において、発熱琺瑯層の膜厚は、実施例C765マイクロメータ<実施例C694マイクロメータ<実施例C8100マイクロメータ<実施例C9159マイクロメータ<実施例C10176マイクロメータの関係にあり、発熱琺瑯層の膜厚に起因して、照射後温度及び温度上昇幅の温度値に影響を与える要因となる。実施例C7~C9において、照射後温度180HT及び温度上昇幅180HTは、表5、及び図5のグラフに示すように、発熱琺瑯層の膜厚の増加に従って、高い温度値を示している。特に、発熱琺瑯層の膜厚:65マイクロメータ~159マイクロメータの範囲において、照射後温度180FTは、図5に示すように、比例直線的な温度値の関係を示している。<発熱特性試験4>発熱特性試験4は、金属材料、及び琺瑯層、発熱琺瑯層の関係において、金属材料、及び琺瑯層、発熱琺瑯層の温度変化を測定する。1試料板片比較例10~15の試料板片、及び本発明の実施例C11の試料片である。比較例10~15の試料板片比較例10の試料片は、鋼板片琺瑯層、発熱琺瑯層:無である比較例11の試料板片は、酸洗、ニッケル鍍金処理した鋼板片琺瑯層、発熱琺瑯層:無である。比較例12の試料板片は、酸洗して鋼板片琺瑯層、発熱琺瑯層:無である。比較例13の試料板片は、SUS304ステンレス鋼板片琺瑯層、発熱琺瑯層:無である。比較例14の試料板片は、SUS430ステンレス鋼板片琺瑯層、発熱琺瑯層:無である。比較例15の試料板片は、基礎釉薬を鋼板片に施釉塗布し、焼成して無機ガラス質の琺瑯層を形成する。実施例C11の試料板片実施例C11の試料板片は、発熱特性試験3の発熱琺瑯釉薬Gを鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に発熱琺瑯層を形成する。2試験条件比較例10~15の試料板片、及び実施例C11の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を比較例10~14の試料板片、比較例15の試料板片の琺瑯層、及び実施例C11の試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、2450MHzである。マイクロ波照射後、比較例10~14の試料板片の温度、比較例15の琺瑯層の温度、及び実施例C11の発熱琺瑯層の温度を計測する。比較例10~15、及び実施例C11において、マイクロ波を3分間照射した後の照射後温度180FTを計測する。3発熱特性試験4の結果発熱特性試験4の結果について、図6グラフに示し、説明する。図6のグラフは、照射前温度STを25°Cに補正して、照射後温度180FTを表示する。図6のグラフにおいて、実施例C11は、照射後温度180FT:180°C前後の温度値を示し、比較例10~15の照射後温度180FTよりも、高い温度値を示し、急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている。実施例C11の発熱琺瑯層は、食材等の加熱、加熱調理に適した温度:180°C~200°Cまで加熱できる。<発熱特性試験5>発熱特性試験5は、鋼板、及び琺瑯層、発熱琺瑯層の関係において、鋼板、及び琺瑯層、発熱琺瑯層の温度変化を計測する。1試料板片比較例16、17の試料板片、及び本発明の実施例C12の試料板片である表6参照。比較例16、17の試料板片比較例16の試料板片は、鋼板片琺瑯層、発熱琺瑯層:無である。比較例17の試料板片は、基礎釉薬を鋼板片に施釉塗布し、焼成して無機ガラス質の琺瑯層を形成する。なお、鋼板片寸法は、100mm×100mm、厚:0.6mmである。実施例C12の試料板片実施例C12の試料板片は、発熱特性試験3の発熱琺瑯釉薬Gを鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して鋼板片表面に発熱琺瑯層を形成する。なお、鋼板片基材寸法は、100mm×100mm、厚:0.6mmである。2試験条件比較例16、17の試料板片、及び実施例C12の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を比較例16の試料板片、比較例17の試料板片の琺瑯層、及び実施例C12の試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、2450MHzである。マイクロ波照射後、比較例16の試料板片の温度、比較例17の琺瑯層の温度、及び実施例C12の発熱琺瑯層の温度を計測する。比較例16、17及び実施例C12において、照射前温度ST、マイクロ波を30秒間照射した後の照射後温度30FT、マイクロ波を1分間照射した後の照射後温度60FT、マイクロ波を2分間照射した後の照射後温度120FT、マイクロ波を3分間照射した後の照射後温度180FT、マイクロ波を4分間照射した後の照射後温度240FT、マイクロ波を5分間照射した後の照射後温度300FT、及びマイクロ波を6分間照射した後の照射後温度360FTを計測する。3発熱特性試験5の結果発熱特性試験5の結果について、表6及び図7のグラフに示し、説明する。表6は、比較例16の試料板片鋼板、比較例17の琺瑯層、及び実施例C12の発熱琺瑯層について、照射前温度ST、各照射後温度30FT~360FTを表示し、更に照射後温度30FT~360FTに関する温度上昇幅30HT~360HTを表示する。図7のグラフは、表7の照射前温度STを25°Cに補正して、照射後温度30FT~360FTを表示する。上記表6において、実施例C12は、照射後温度60FT:124.1°C、温度上昇幅60HT:101.4°Cの温度値を示し、比較例16.17の照射後温度60FT及び温度上昇幅60FTよりも、高い温度値の発熱特性を得ている。これにより、実施例C12の発熱琺瑯層は、比較例16の鋼板、比較例17の琺瑯層よりも、図7に示すように、グラフ温度勾配値ΔT3は急激に傾斜しており、急激に発熱、及び急激に温度上昇する。上記表6において、実施例C12の発熱琺瑯層は、照射後時間360FT:200.4°Cの温度値を示し、比較例16、17の照射後温度360FTよりも、高い温度値を示す発熱特性を得ている。比較例16の鋼板片は、照射後温度300FT:177.8°C、照射後温度360FT:177.3°Cの温度値を示し、比較例17の琺瑯層は、照射後温度300FT:149.6°C、照射後温度360FT:139、2°Cの温度値を示している。比較例16の鋼板片では、照射時間:5分を超えると、照射後温度300FT、360FTの温度上昇はなく、比較例17の琺瑯層も同様に、照射後温度300FT、360FTの温度上昇はなくなるので、190°C以上の温度域することは困難であると考えられる。<発熱特性試験6>発熱特性試験6は、発熱琺瑯釉薬に添加する磁性酸化粉末の重量gと、発熱琺瑯層の膜厚の関係において、発熱琺瑯層の温度変化を計測する。1試料板片実施例B6~B9の試料板片である表7参照。実施例B6~B9において、発熱琺瑯層の膜厚は、同程度の膜厚になるように、100マイクロメート前後に調整している。なお、鋼板片基材寸法は、100mm×100mm、厚:0.5mmである。実施例B6の試料板片実施例B6において、基礎釉薬:150gにフェライト粉末B:20gを添加撹拌して発熱琺瑯釉薬Hを作成する。実施例B6の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Hを鋼板片に施釉塗布し、焼成して発熱鋼層を形成する。実施例B6において、発熱琺瑯層の膜厚は108マイクロメータである。実施例B7の試料板片実施例B7において、基礎釉薬:150gにフェライト粉末B:50gを添加して発熱琺瑯釉薬Iを作成する。実施例B7の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Iを鋼板片に施釉塗布し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。実施例B7において、発熱琺瑯層の膜厚は、89マイクロメータである。実施例B8の試料板片実施例B8において、基礎釉薬:150gにフェライト粉末B:100gを添加して発熱琺瑯釉薬Jを作成する。実施例B8の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Jを鋼板片に施釉塗布し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。実施例B8において、発熱琺瑯層の膜厚は、97マイクロメータである。実施例B9の試料板片実施例B9において、基礎釉薬:150gにフェライト粉末B:150gを添加して発熱琺瑯釉薬Kを作成する。実施例B9の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Kを鋼板片に施釉塗布し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。実施例B9において、発熱琺瑯層の膜厚は、109マイクロメータである。2試験条件実施例B6~B9の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、2450MHzである。マイクロ波照射後、実施例B6~B9の発熱琺瑯層の温度を計測する。実施例B6~B9において、照射前温度ST、及びマイクロ波を3分間照射した後の照射後温度180FTを計測する。3発熱特性試験6の結果発熱特性試験6の結果について、表7、及び図8のグラフに示し、説明する。表7は、実施例B6~B9において、照射前温度ST、及び照射後温度180FTを表示し、更に照射後温度180FTに関する温度上昇幅180HTを表示する。図8のグラフは、表7の照射前温度STを25°Cに補正して、温度上昇幅180HTを表示する。上記表7において、実施例B6~B9の発熱琺瑯層は、照射後温度180FT:161.7°C~168.3°C、温度上昇幅180HT:142.8°C~149.0°Cの温度値を示し、急激に発熱、及び急激に温度上昇の発熱特性を得ている図8参照。実施例B6~B9において、同程度の膜厚であって、基礎釉薬に添加するフェライト粉末Bの重量gが相異しても、図8のグラフに示すように、温度上昇幅18HTは142°C~149°Cの温度値を示し、同程度の発熱特性を得ている。<発熱特性試験7>発熱特性試験7は、発熱琺瑯層の膜厚、金属板片試料板片の表面積の関係において、発熱琺瑯層の温度変化を測定する。1試料板片実施例B10~12の試料板片、及び実施例C13~C16の試料板片である表8参照。実施例B10~B12、及び実施例C13~C16において、発熱琺瑯層の膜厚は、同程度の膜厚になるように、100マイクロメート前後に調整している。実施例B10~B12において、基礎釉薬:150gにフェライト粉末B:50gを添加して発熱琺瑯釉薬Iを作成する。実施例C13~C16において、基礎釉薬:150gにフェライト粉末C:50gを添加して発熱琺瑯釉薬Lを作成する。なお、鋼板片基材寸法は、厚:0.5mmである。実施例B10の試料板片実施例B10の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Iを、表面積:25cm25cm×5cmの鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。実施例B10において、発熱琺瑯層の膜厚は、98マイクロメータである。実施例B11の試料板片実施例B11の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Iを、表面積:49cm27cm×7cmの鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。実施例B10において、発熱琺瑯層の膜厚は、108マイクロメータである。実施例B12の試料板片実施例B12の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Iを、表面積:169cm213cm×13cmの鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。実施例B12において、発熱琺瑯層の膜厚は、101マイクロメータである。実施例C13の試料板片実施例C13の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Lを、表面積:25cm25cm×5cmの鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。実施例C13において、発熱琺瑯層の膜厚は、104マイクロメータである。実施例C14の試料板片実施例C14の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Lを、表面積:49cm27cm×7cmの鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。実施例C14において、発熱琺瑯層の膜厚は、101マイクロメータである。実施例C15の試料板片実施例C15の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Lを、表面積:64cm28cm×8cmの鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。実施例C15において、発熱琺瑯層の膜厚は、117マイクロメータである。実施例C16の試料板片実施例C16の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Lを、表面積:169cm213cm×13cmの鋼板片基材に施釉塗布し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。実施例C16において、発熱琺瑯層の膜厚は、105マイクロメータである。2試験条件実施例B10~B12、及び実施例C13~C16の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、2450MHzである。マイクロ波照射後、実施例B10~B12、及び実施例C13~C16の発熱琺瑯層の温度を計測する。実施例B10~B12、及び実施例C13~C16において、照射前温度ST、及びマイクロ波を3分間照射した後の照射後温度180FTを計測する。3発熱特性試験7の結果発熱特性試験7の結果について、表8、及び図9のグラフに示し、説明する。表8は、実施例B10~B12、及び実施例C13~C16において、照射前温度ST、及び照射後温度180FTを表示し、更に照射後温度180FTに関する温度上昇幅180HTを表示する。図9のグラフは、表8の照射前温度STを25°Cに補正して、温度上昇幅180HTを表示する。上記表8において、実施例B10~B12の発熱琺瑯層は、照射後温度180FT:180.5°C、177.0°C、172.0°C、温度上昇幅180HT:161.8°C、157.8°C、153.7°Cの温度値を示し、急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている図9参照。実施例B10~B12において、上記表8、及び図9のグラフに示すように、照射後温度180FTは、実施例B10の発熱琺瑯層<実施例B11の発熱琺瑯層<実施例B12の関係にある温度値を示し、温度上昇幅180HTは、実施例B10の発熱琺瑯層<実施例B11の発熱琺瑯層<実施例B12の関係にある温度幅を示している。これは、試料板片に形成される発熱琺瑯層の表面積に起因するもので、表面積が小さくなるに従って、フェライト粉末Bは無機ガラス中に多く分散含有され、単位面積当たりの無機ガラス中に分散するフェライト粉末Bの重量の相異であると考えられる。上記表8において、実施例C13~C19の発熱琺瑯層は、照射後温度180FT:167.8°C、162.3°C、168.3°C、165.8°C、温度上昇幅180HT:150.4°C、144.9°C、151.0°C、147.0°Cの温度値を示し、急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている図9参照。実施例B10~B12と、実施例C13~C16を比較すると、実施例B10~B12の照射後温度:180FT及び温度上昇幅180HTは、実施例C13~C16よりも高い温度値を示しており、フェライト粉末Bは、フェライト粉末Cよりも高い発熱量を放出する特性を有している。以上、発熱特性試験1~7に示した通り、本発明の発熱琺瑯釉薬は、電磁波の照射で急激に発熱する発熱琺瑯層を形成でき、比較例1~17で得られない発熱特性を得られる。発熱琺瑯釉薬による急激な発熱は、基礎釉薬に添加されるフェライト粉末によるもので、フェライト粉末は効率良く、急速に電磁波を吸収して発熱しており、一定温度まで発熱琺瑯層を温度上昇させる。これは、フェライト粉末を組成する酸化鉄の発熱、及び非磁性酸化金属の発熱によるもので、しかもフェライト粉末を無機ガラス中に分散することで、無機ガラスによりある程度の温度上昇を抑制されていると考えられる。従って、フェライト粉末を無機ガラス中に分散含有する発熱琺瑯層は、マイクロ波の照射によって、食材等の加熱、又は加熱調理に適した180°C~250°Cに急激に温度上昇し、食材等を急速に加熱でき、食材等を加熱する発熱体として好適であると言える。しかも、発熱琺瑯層は、マイクロ波照射時間が長くなっても、200°C~250°C程度の温度に収束するもので、食材等を最適に加熱加熱調理できる。そして、発熱琺瑯層を電磁波の照射で急激に加熱するため、i発熱琺瑯釉薬は、基礎釉薬にフェライト粉末A~Cの1種類を添加撹拌し、酸化鉄及び非磁性酸化金属の配合比率を調整して作成することが好ましい。ii発熱琺瑯釉薬は、基礎釉薬:150に対して、1種類のフェライト粉末:20~150添加撹拌して作成し、発熱琺瑯層の膜厚を50マイクロメータ~180マイクロメータにすることが好ましい。iii発熱琺瑯釉薬は、単位面積当たりの発熱琺瑯層に分散含有されるフェライト粉末の重量を適宜調整することで、急激な発熱の発熱特性を得ることが好ましい。<発熱琺瑯釉薬発熱琺瑯層を適用した具体例>次に、発熱琺瑯釉薬発熱琺瑯層を適用した具体例について、図10乃至図15を参照して説明する。図10乃至図13では電磁誘導加熱装置を説明し、図14及び図15では発熱琺瑯製品を説明する。<電磁誘導加熱装置>図10乃至図12において、電磁誘導加熱装置Xは、例えば、マイクロ波電磁波で被加熱体Zを加熱する電子レンジで構成される。なお、電磁誘導加熱装置Xとして、電子レンジについて説明するが、これに限定されるものでない。電磁誘導加熱装置X:以下電子レンジXと称するは、装置本体1、電磁波発振手段2、加熱空間3及び支持体5を含んで構成される。被加熱体は、例えば、食材、液体、及び食材や液体の調理容器発熱琺瑯層:無を意味する。電磁波発振手段2は、図10に示すように、マイクロ波を発振するマイクロ波発振装置マグネトロンで構成されている。電磁波発振手段2:以下マイクロ波発振装置2と称するは、装置本体1内に設置されている。加熱空間3は、被加熱体Zを収納して、マイクロ波の照射で被加熱体Zを加熱する。加熱空間3は、装置本体1内に形成され、装置本体1前方に開口3Aする。加熱空間3の開口3Aは、開閉扉図示しないで開閉され、開閉扉は装置本体1に回転自在に支持されている。加熱空間3は、左右の側基材8A、8B、上基材8C、下基材8D及び後基材8Eで装置本体1内に区画されている。各基材8A~8Eは、鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板又はセラミックス等で形成される。加熱空間3とマイクロ波発振装置2は、マイクロ波伝送路9を通して連通されている。マイクロ波伝送路9は、装置本体1内に形成され、加熱空間3の上基材8Cに開口している。マイクロ波発振装置2のマイクロ波は、マイクロ波伝送路9を通して上基材8Cの開口から加熱空間3内に照射される。支持体5は、加熱空間3内で被加熱体Zを支持して回転する。支持体5は、例えば、ターンテーブルで構成され、回転軸10に支持される。回転軸10は、加熱空間3内に配置され、加熱空間3の下基材8D側に回転自在として軸支されている。回転軸10は、駆動モータ図示しないに連結され、駆動モータは装置本体1内に設置されている。支持体5は、図11に示すように、基材11で円形板状に形成され、基材11の表面にマイクロ波の照射で発熱する発熱琺瑯層HRを形成している。発熱琺瑯層HRは、図11に示すように、無機ガラスを主成分として、マイクロ波を吸収して発熱するフェライト粉末を含有し、無機ガラス中にフェライト粉末を分散含有している。基材11は、鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板又はセラミックス等で形成される。発熱琺瑯層HRは、発熱琺瑯釉薬を基材11の表面に施釉塗布し、焼成して支持体5の基材11表面に形成される。発熱琺瑯釉薬は、基礎釉薬に1種類のフェライト粉末を添加撹拌して作成される。基礎釉薬は、例えば、無機ガラス、粘土、電解質物質、顔料及び水で組成され、無機ガラス、粘土、電解質物質、顔料を水に添加撹拌して作成する上記発熱特性試験1の基礎釉薬参照。フェライト粉末は、酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成され、第一のフェライト粉末Aは、三酸化第二鉄、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化ストロンチウム及び酸化クロムで組成される。第一のフェライト粉末Aの配合比率massは、例えば、上記発熱特性試験1の実施例Aを同一配合比率にする。第二のフェライト粉末Bは、三酸化第二鉄、酸化亜鉛及び酸化マンガンで組成される。第二のフェライト粉末Bの配合比率molは、例えば、上記発熱特性試験1の実施例Bと同一配合比率にする。第三のフェライト粉末Cは、三酸化第二鉄、酸化亜鉛、酸化ニッケル及び酸化銅で組成される。第三のフェライト粉末Cの配合比率molは、例えば、上記発熱特性試験1の実施例Cと同一配合比率にする。電子レンジXにおいて、操作者は、加熱空間3の開口3Aから被加熱体Zを加熱空間3に収納し、支持体5上に載置する。操作者は、上記開閉扉で加熱空間3の開口3Aを閉じ、マイクロ波照射時間加熱時間:例えば、3分間を設定して、スタートボタン7を操作する。電子レンジXは、スタートボタン7の操作を受けると、マイクロ波発振装置2を作動し、上記駆動モータを駆動させる。マイクロ波発振装置2は、マイクロ波を発振させる。マイクロ波は、マイクロ波伝送路9を通して上基体8Cの開口から加熱空間3内に照射される。加熱空間3に照射されるマイクロ波は、直接、又は各基材8A~8Eで反射されて、支持体5に照射される。支持体5の発熱琺瑯層HRにおいて、フェライト粉末は、マイクロ波を吸収して急激に発熱する。支持体5に支持される被加熱体Zは、支持体5の発熱琺瑯層HRから直接的に伝達される熱によって急激に加熱される。上記駆動モータは、回転軸10及び支持体5を回転させて、支持体5上の被加熱体Zも回転させる。電磁誘導加熱装置Xは、支持体5の基材11表面に発熱琺瑯層HRを形成し、発熱琺瑯層11にフェライト粉末を含有するので、フェライト粉末はマイクロ波を吸収して急激に発熱する上記発熱特性試験1~7参照。これにより、被加熱体Zを急激に加熱することができ、被加熱体Zを加熱する時間調理時間を短縮できる。特に、支持体5の発熱琺瑯層HRは、食材等の加熱、加熱調理に適した180~200°Cまで急激に発熱し、食材等を加熱できる。支持体5の表面は、無機ガラス質の発熱琺瑯層HGで被覆されているので、基材11の腐蝕、錆等を防止でき、発熱琺瑯層HGに付着した汚れも容易に除去できる。電磁誘導加熱装置Xにおいて、加熱空間3を区画する各基材8A~8Eの表面に発熱琺瑯層HRを形成する構成を採用できる図11参照。これにより、各基材8A~8Eは、加熱空間8内に照射されるマイクロ波を吸収して急激に発熱する。支持体5に支持される被加熱体Zは、基材8A~8Eの発熱琺瑯層HRから加熱空間3を通して伝搬される熱によって急激に加熱される。支持体5の基材11の表面に発熱琺瑯層HRを形成し、更に各基材8A~8Eの表面に発熱琺瑯層HRを形成すると、加熱空間3内での発熱琺瑯層HRの面積を最大にでき、更に被加熱体Zの加熱時間調理時間の短縮を図れる。電磁誘導加熱装置Xにおいて、図13に示すように、支持体5の基材11、各基材8A~8Eは、発熱琺瑯層HRを被覆するガラス質の保護琺瑯層GRを有する構成を採用できる。保護琺瑯層GHは、上記基礎釉薬を各基材11、8A~8Eの発熱琺瑯層HRに施釉し、焼成して形成する。これにより、発熱琺瑯層HRは、ガラス質の保護琺瑯層GHで被覆され、フェライト粉末は無機ガラス中に閉じ込められ、各琺瑯層HG、GHから露出することが防止され、マイクロ波を吸収して発熱するフェライト粉末の発火を抑制できる。電磁誘導加熱装置Xにおいて、支持体5は、ターンテーブルに限定されず、回転されず、加熱空間3に設置される受皿、ターンテーブル上に設置される受皿であって良く、各受皿の表面に発熱琺瑯層HRを形成し、必要に応じて、発熱琺瑯層HRを保護琺瑯層GRで被覆する構成も採用できる。<発熱琺瑯製品>図14において、発熱琺瑯製品Yは、調理用鍋を例示している。発熱琺瑯製品Y:以下調理用鍋Yと称するは、鍋本体51及び鍋蓋52を備え、鍋本体51及び鍋蓋52は、製品形状に形成される基材53で構成される。鍋本体51及び鍋蓋52は、基材53の表面に発熱琺瑯層HRを形成してなる。発熱琺瑯層HRは、図14に示すように、無機ガラスを主成分として、マイクロ波を吸収して発熱するフェライト粉末を含有し、無機ガラス中にフェライト粉末を分散含有している。基材53は、鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板又はセラミックス陶磁等で形成される。発熱琺瑯層HRは、発熱琺瑯釉薬を鍋本体51及び鍋蓋52の基材53の表面に施釉塗布し、焼成して鍋本体51及び鍋蓋52の基材53表面に形成される。発熱琺瑯釉薬は、基礎釉薬に1種類のフェライト粉末を添加撹拌して作成される。基礎釉薬は、例えば、無機ガラス、粘土、電解質物質、顔料及び水で組成され、無機ガラス、粘土、電解質物質、顔料を水に混入して撹拌する上記発熱特性試験1の基礎釉薬参照。フェライト粉末は、磁性酸化鉄及び複数種の酸化金属を含んで構成され、第一のフェライト粉末Aは、三酸化第二鉄、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化ストロンチウム及び酸化クロムで組成される。第一のフェライト粉末Aの配合比率massは、例えば、上記発熱特性試験1の実施例Aを同一配合比率にする。第二のフェライト粉末Bは、三酸化第二鉄、酸化亜鉛及び酸化マンガンで組成される。第二のフェライト粉末Bの配合比率molは、例えば、上記発熱特性試験1の実施例Bと同一配合比率にする。第三のフェライト粉末Cは、三酸化第二鉄、酸化亜鉛、酸化ニッケル及び酸化銅で組成される。第三のフェライト粉末Cの配合比率molは、例えば、上記発熱特性試験1の実施例Cと同一配合比率にする。図14において、食材等の被加熱体Zを調理用鍋Yの鍋本体51内に収納し、鍋本体51を鍋蓋52で閉塞する。図10乃至図12の電子レンジXにおいて、操作者は、加熱空間3の開口3Aから調理用鍋Yを加熱空間3内に収納し、支持体5上に載置する。操作者は、開閉扉で加熱空間3の開口3Aを閉じ、マイクロ波照射時間加熱時間:例えば、3分間を設定して、スタートボタン7を操作する。電子レンジXは、スタートボンタン7の操作を受けると、マイクロ波発振装置2を作動し、駆動モータを駆動させる。マイクロ波発振装置2は、マイクロ波を発振させる。マイクロ波は、マイクロ波伝送路9を通して上基材8Cの開口から加熱空間3に照射される。加熱空間3内に照射されるマイクロ波は、直接、又は各基材8A~8Eで反射されて、調理用鍋Yに照射される。調理用鍋Yの発熱琺瑯層HRにおいて、フェライト粉末は、マイクロ波を吸収して急激に発熱する。調理用鍋Y内に収納されている被加熱体Zは、鍋本体51の発熱琺瑯層HRから直接的に伝達される熱、及び鍋蓋52の発熱琺瑯層HRから伝搬される熱によって急激に加熱される。発熱琺瑯製品Yは、基材53の表面に発熱琺瑯層HRを形成し、発熱琺瑯層HRにフェライト粉末を含有するので、フェライト粉末はマイクロ波電磁波を吸収して急激に発熱する上記発熱特性試験1~7参照。これにより、被加熱体Zを急激に加熱することができ、被加熱体を加熱する時間を短縮できる。特に、調理用鍋Yの発熱琺瑯層HRは、食材等の加熱、加熱調理に適した180~200°Cまで急激に発熱し、食材等を加熱できる。発熱琺瑯製品Yは、調理用鍋に限定されず、例えば、食材等の皿、コップ等で被加熱体を電磁波で加熱する各種容器、又は電磁加熱誘導装置Xを構成する各基材8A~8E、11等も含まれる。発熱琺瑯製品Yにおいて、発熱琺瑯層の破損等を防止するため、図16に示すように、発熱琺瑯製品Yをシリコン等の耐熱樹脂で被覆して、発熱琺瑯製品Yに電磁波を照射する構成も採用できる。発熱琺瑯製品Yの発熱琺瑯層HRをガラス質の保護琺瑯層GRで被覆して、発熱琺瑯層HRを保護する構成も採用できる。