対象を位置決めするためのステージ装置であって、本ステージ装置は、前記対象を保持するよう構成されたテーブルと、前記テーブルを支持するよう構成されたサポート構造と、を備え、前記テーブルは前記サポート構造に対して変位可能であり、前記サポート構造は第1データクロックおよび第2データクロックのうちの一方を備え、前記テーブルは前記第1データクロックおよび前記第2データクロックのうちの他方を備え、本ステージ装置はさらに、前記第1データクロックと前記第2データクロックとを同期させるよう構成された回路を備え、前記回路は送信器および受信器を含み、前記送信器は前記第1データクロックから前記第2データクロックへクロック信号データを無線送信するよう構成され、前記回路はさらに、無線送信され前記受信器によって受信されたクロック信号データから、前記第2データクロックを前記第1データクロックと同期させるよう構成された同期回路を含む、ステージ装置。前記送信器および受信器は、第1伝送経路を提供するよう構成された第1送信器および第1受信器と、第2伝送経路を提供するよう構成された第2送信器および第2受信器と、を含み、前記第1伝送経路および前記第2伝送経路はそれぞれ第1方向に沿って逆向きに伸びる、請求項1に記載のステージ装置。前記同期回路は、前記第1受信器および前記第2受信器によって受信されたクロック信号データを混合するよう構成されたミキサと、混合されたクロック信号データの第2高調波部分を選択するよう構成されたハイパスフィルタと、を含む、請求項2に記載のステージ装置。前記同期回路は、前記第1受信器および前記第2受信器によって受信されたクロック信号データを混合するよう構成されたミキサと、混合されたクロック信号データの実質的に一定な信号部分を選択するよう構成されたローパスフィルタと、を含む、請求項2または3に記載のステージ装置。前記第1方向は前記テーブルの移動方向である、請求項2から4のいずれかに記載のステージ装置。前記送信器は、前記第2データクロックから前記第1データクロックへクロック信号データを、前記受信器によって受信された状態で送り返すよう構成される、請求項1に記載のステージ装置。前記同期回路は、前記第1データクロックを、前記第2データクロックへ送信される前に遅延させるよう構成された第1調整可能遅延ユニットと、前記第1データクロックに戻り受け取られた状態の信号を遅延させるよう構成された第2調整可能遅延ユニットと、を含み、前記同期回路は、前記第2データクロックを、前記第2データクロックにおいて受信された状態の遅延第1データクロックと同期させるよう構成され、前記同期回路はさらに前記第1調整可能遅延ユニットおよび前記第2調整可能遅延ユニットを制御するよう構成されたコントローラを含み、前記コントローラは、前記第1データクロックを受信するよう前記第1データクロックと接続された第1コントローラ入力と、前記第2データクロックから受け取った状態の遅延信号を受信する前記第2調整可能遅延ユニットの出力と接続された第2コントローラ入力と、を含み、前記コントローラは、前記第1コントローラ入力によって受信される信号の位相が前記第2コントローラ入力によって受信される信号の位相と実質的に等しくなるように、前記第1調整可能遅延ユニットおよび前記第2調整可能遅延ユニットの遅延を制御するよう構成される、請求項6に記載のステージ装置。前記コントローラは、前記第2コントローラ入力で受信された信号を90度位相シフトで遅延させるよう構成された位相遅延器と、前記第1コントローラ入力における前記第1データクロックを前記位相遅延器の出力信号と混合するよう構成されたミキサと、前記ミキサの出力信号をフィルタするよう構成されたローパスフィルタと、前記ローパスフィルタの出力信号を積分するよう構成された積分器と、を含む、請求項7に記載のステージ装置。前記コントローラは、前記第1調整可能遅延ユニットの遅延と前記第2調整可能遅延ユニットの遅延とが実質的に等しくなるように、前記第1調整可能遅延ユニットおよび前記第2調整可能遅延ユニットを制御するよう構成される、請求項7または8に記載のステージ装置。前記対象は放射感応性材料でコーティングされた基板である、請求項1に記載のステージ装置。前記対象は放射ビームにパターンを付与するよう構成されたパターニングデバイスである、請求項1に記載のステージ装置。パターニングデバイスから基板上へパターンを転写するよう構成されたリソグラフィ装置であって、請求項1から9のいずれかに記載のステージ装置を備えるリソグラフィ装置。前記ステージ装置はパターニングデバイスステージまたは基板ステージである、請求項12に記載のリソグラフィ装置。リソグラフィでは、基板をパターニングデバイスに対して位置決めするよう移動可能な基板ステージやパターニングデバイスステージなどのステージが使用される。そのようなステージは、例えばアクチュエータショートストロークモータなどやセンサステージに取り付けられるエンコーダ測定ヘッドなどなどに電力を供給するためのケーブル接続を備える。ケーブルは、その剛性などのその生来の性質のため、ステージを高い正確性でおよび/または高速で位置決め/移動するときの機械的な擾乱源に寄与しうる。したがって、できる限り有線接続が取り除かれたステージを提供できることが望ましい。クロックデータがステージへ送信されてもよい。このクロックデータは例えばステージの移動中にステージの位置測定をクロックするすなわち、位置測定の時刻を決めるために使用されうる。ステージがエンコーダ測定ヘッドを備える場合、例えばエンコーダ測定ヘッドによる測定がクロックされてもよい。ステージの移動の範囲が与えられた場合、ステージへクロックデータを無線送信すると、クロックデータの無線送信における遅延が変化することとなる。伝送の伝播経路は伝送経路の長さによって変化するからである。その結果、ステージで受信された状態のクロックデータはステージの位置に応じた遅延を示すこととなる。ステージの移動の高速化および位置決めの高精度化の要請の下、例えば移動中にステージの位置を決定する際に、位置そのものについてだけでなくその位置が測定される時刻についても高い正確性を有することが望ましい。そのため、正確なクロックが望ましい。移動可能なステージへクロックデータを無線送信し、その際、伝播経路の長さに対する伝播遅延の依存性が少なくとも部分的に補償されることが望ましい。本発明のある態様によると、対象を位置決めするためのステージ装置が提供される。このステージ装置は、対象を保持するよう構成されたテーブルと、テーブルを支持するよう構成されたサポート構造と、を備える。テーブルはサポート構造に対して変位可能であり、サポート構造は第1データクロックおよび第2データクロックのうちの一方を備え、テーブルは第1データクロックおよび第2データクロックのうちの他方を備える。ステージ装置はデータクロックを同期させるための回路を含む。回路は送信器と受信器との組を含み、その組は第1データクロックから第2データクロックへクロック信号データを無線送信するよう構成される。回路はさらに、無線送信され受信器によって受信された状態のクロック信号データから、第2データクロックを第1データクロックと同期させるための同期回路を含む。本発明の別の態様によると、そのようなステージ装置を含むリソグラフィ装置が提供される。図1は、本発明の1つの実施の形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す。この装置は、放射ビームB例えば、紫外線UV放射や他の適切な放射を調整する照明システムイルミネータILと、パターニングデバイス例えばマスクMAを支持するよう構成され、第1位置決めデバイスPMに接続されたパターニングデバイスサポートもしくはサポート構造例えばマスクテーブルMTと、を含む。第1位置決めデバイスPMは、パターニングデバイスをあるパラメータに従って正確に位置決めする。この装置は、基板例えばレジストコートウエハWを保持するよう構成され、第2位置決めデバイスPWに接続された基板テーブル例えばウエハテーブルWTもしくは基板サポートを含む。第2位置決めデバイスPWは、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするよう構成される。この装置はさらに、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを、基板Wのターゲット部分C例えば1つもしくは複数のダイを含む上に投影する投影システムたとえば屈折投影レンズシステムPSを含む。照明システムは、放射ビームを方向付け、成形し、あるいは制御するために、屈折光学素子、反射光学素子、磁気光学素子、電磁気光学素子、静電光学素子、あるいはこれらの任意の組み合わせなどの様々な種類の光学素子を含んでもよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスの配向やリソグラフィ装置の設計や、たとえばパターニングデバイスが真空環境中で保持されているか否か等の他の条件などに応じた態様でパターニングデバイスを保持している。パターニングデバイスサポートは、機械的固定、真空固定、静電固定、またはパターニングデバイスを保持するための他の固定用技術を使用できる。パターニングデバイスサポートは、例えば必要に応じて固定または移動させることができるフレームまたはテーブルであってもよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスを例えば投影システムに対して所望の位置に確実に配置することができる。本明細書におけるレチクルまたはマスクという用語の使用はすべて、より一般的なパターニングデバイスという用語の同義語とみなすことができる。本明細書で使用されているパターニングデバイスという用語は、放射ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板のターゲット部分にパターンを生成するべく使用することができる任意のデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。放射ビームに付与されるパターンは、たとえばそのパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含んでいる場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。放射ビームに付与されるパターンは、通常、ターゲット部分に生成されるデバイス、たとえば集積回路などのデバイス中の特定の機能層に対応している。パターニングデバイスは透過型であっても反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、例えばマスクやプログラマブルミラーアレイ、プログラマブルLCDパネルなどがある。マスクはリソグラフィの分野では周知であり、バイナリマスクやレベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク、更に各種のハイブリッド型マスクが含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例としては、小型のミラーがマトリックス状に配列され、各ミラーが入射してくる放射ビームを異なる方向に反射するように個別に傾斜されるというものがある。これらの傾斜ミラーにより、マトリックス状ミラーで反射された放射ビームにパターンが付与されることになる。本明細書で使用されている投影システムという用語は、たとえば使用する露光放射に適した、もしくは液浸液の使用または真空の使用などの他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系、磁気光学系、電磁気光学系、静電光学系、またはそれらの任意の組合せを含む任意の種類の投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における投影レンズという用語の使用はすべて、より一般的な投影システムという用語の同義語とみなすことができる。本明細書に示されるように、本装置はたとえば透過マスクを用いる透過型である。あるいはまた、本装置はたとえば、上述した種類のプログラマブルミラーアレイを用いた、あるいは反射マスクを用いた反射型であってもよい。リソグラフィ装置は2つ以上2つの場合にはデュアルステージと呼ばれるの基板テーブルもしくは基板サポートおよび/または2つ以上のマスクテーブルもしくはマスクサポートを備えてもよい。このような多重ステージ型の装置においては追加されたテーブルまたはサポートは並行して使用されるか、あるいは1以上のテーブルまたはサポートで露光が行われている間に他の1以上のテーブルまたはサポートで準備工程を実行するようにしてもよい。また、リソグラフィ装置は、基板の少なくとも一部が比較的屈折率の大きい液体、たとえば水で覆われ、それにより投影システムと基板の間の空間が充填されるタイプの装置であってもよい。液浸液はリソグラフィ装置の他の空間、例えばパターニングデバイスと投影システムとの間に導入されてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を大きくするために使用されうる。本明細書で使用されている液浸という用語は、基板などの構造を液体中に浸すべきであることを意味しているのではなく、単に、露光の間、投影システムと基板の間に液体が置かれることを意味しているにすぎない。図1を参照すると、イルミネータILは、放射源SOから放射ビームを受け取っている。例えば放射源がエキシマレーザである場合、放射源およびリソグラフィ装置は、別個の構成要素とすることができる。このような場合、放射ビームは、たとえば適切な誘導ミラーおよび/またはビームエキスパンダを備えたビーム搬送系BDを使用して放射源SOからイルミネータILへ受け渡される。それ以外のたとえば放射源が水銀灯などの場合、放射源はリソグラフィ装置と一体に構成されていてもよい。放射源SOおよびイルミネータILは、またビーム搬送系BDが必要とされる場合にはこれも合わせて、放射システムと称されてもよい。イルミネータILは、放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタADを備えてもよい。一般には、イルミネータの瞳平面における強度分布の少なくとも半径方向外径および/または内径通常それぞれシグマ-アウタσ-outer、シグマ-インナσ-innerと呼ばれるが調整される。加えて、イルミネータILは、インテグレータINおよびコンデンサCOなどの種々の他の要素を備えてもよい。イルミネータは、ビーム断面における所望の均一性及び強度分布を得るべく放射ビームを調整するために用いられる。放射ビームBは、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTに保持されたパターニングデバイス例えば、マスクMAに入射して、当該パターニングデバイスによりパターンを付与される。パターニングデバイス例えば、マスクMAを透過した後、放射ビームBは、投影システムPSを通過する。投影システムPSは、ビームを基板Wのターゲット部分Cに合焦させる。第2位置決めデバイスPWと位置センサIF例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなどとにより基板テーブルWTは正確に移動され、例えば放射ビームBの経路に異なる複数のターゲット部分Cをそれぞれ位置決めするように移動される。同じように、第1位置決めデバイスPMともう1つの位置センサ図1に明確には示されていないとを用いて、例えばマスクライブラリから機械検索後、または走査中に、パターニングデバイス例えば、マスクMAを放射ビームBの経路に対して正確に位置決めすることができる。通常、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTの移動は、第1位置決めデバイスPMの一部を形成しているロングストロークモジュール粗い位置決め用およびショートストロークモジュール精細な位置決め用を使用して実現することができる。同様に、基板テーブルWTもしくは基板サポートの移動は、第2位置決め器PWの一部を形成しているロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合スキャナとは対照的に、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTは、ショートストロークアクチュエータのみに接続され、あるいは固定される。パターニングデバイス例えば、マスクMAおよび基板Wは、パターニングデバイスアライメントマークM1、M2および基板アライメントマークP1、P2を使用して整列させることができる。図では、基板アライメントマークは専用のターゲット部分を占有しているが、基板アライメントマークは、ターゲット部分間のスペースに配置されてもよいこのような基板アライメントマークは、スクライブラインアライメントマークとして知られている。同様に、1つ以上のダイがパターニングデバイス例えば、マスクMA上に設けられる場合、ダイ間にパターニングデバイスアライメントマークが配置されてもよい。図示の装置は、以下に示すモードのうちの少なくとも1つのモードで使用することができる。1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射でターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートおよび基板テーブルWTもしくは基板サポートは、実質的に静止状態とされるすなわち1回の静的な露光。そして基板テーブルWTもしくは基板サポートがX方向及び/またはY方向に移動されて、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズによって、1回の静的露光で結像されるターゲット部分Cの寸法が制限されることになる。2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートおよび基板テーブルWTもしくは基板サポートは、同期して走査されるすなわち1回の動的な露光。パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートに対する基板テーブルWTもしくは基板サポートの速度及び方向は、投影システムPSの拡大縮小特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが1回の動的露光でのターゲット部分Cの非走査方向の幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の走査方向の長さを決定する。3.その他のモードにおいては、パターニングデバイスサポート例えば、マスクテーブルMTもしくはマスクサポートはプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、基板テーブルWTもしくは基板サポートが移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、基板テーブルWTもしくは基板サポートが移動する毎に、あるいは連続する放射パルス間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。上述の使用モードの組み合わせおよび/または変形、もしくは全く異なった使用モードが使われてもよい。図2はステージ装置を非常に模式的に示す。ステージ装置は、サポート構造STRに対して移動可能なテーブルTAを備える。この例では、テーブルは矢印DMで示される移動方向に移動可能である。このテーブルは、例えばリソグラフィ装置の基板テーブルまたはマスクテーブルすなわち、サポートによって形成されてもよい。サポート構造は、メトロロジフレームなどの参照フレームや他の静止構造によって形成されてもよい。また、サポート構造は、ロングストロークアクチュエータなどの移動可能な構造によって形成されてもよい。その場合、移動方向は例えばリソグラフィ装置のショートストロークアクチュエータの移動方向によって形成されてもよい。図2および図3を参照して説明される思想は、例えばテーブルが移動方向DMなどの単一の方向に移動可能な場合に適用されうる。第1データクロックC1はサポート構造STRに設けられる。第1データクロックはサポート構造において生成されてもよいし、有線または無線のデータクロック信号やデータクロックバスなどの任意の適切な送信器を介してサポート構造に送信されてもよい。第2データクロックC2はテーブルTAに設けられる。第2データクロックは同期可能なデータクロック生成器などの適切なデータクロック生成器によって提供されてもよいし、および/または後述のように無線送信されたクロック信号データから導かれてもよい。図2に示されるように、第1データクロックC1は二重無線伝送経路を介してテーブルTAへ送信される。第1は伝送経路CT1aであり、第2は伝送経路CT1bである。そのため、対応する送信器はサポート構造STRに設けられ、対応する受信器はテーブルTAに設けられる。したがって、テーブルTAは第1クロックC1からクロックデータを2回受け取る。テーブルTAは移動方向DMに沿って移動しうる。したがって、経路CT1aおよび経路CT1bの長さは変化しうる。その結果、経路CT1aおよび経路CT1bのそれぞれを介した遅延は、サポート構造STRに対するテーブルTAの位置によって変化しうる。したがって、2つの伝送経路に沿って伝送されるので、クロックデータはテーブルTAにおいて2回受信される。テーブルTAが方向DMに沿って一方の側に動かされるほど、伝送経路の一方は短くなりしたがって、その伝送経路を介した遅延は短くなる、一方で伝送経路の他方は長くなるしたがって、その伝送経路を介した遅延は長くなる。2つの伝送経路は移動方向DMに沿って逆向きに伸びるからである。2つの無線伝送経路を介して受信されたクロックデータの両方は、受信された状態で同期回路SYNに与えられる。同期回路SYNは、両伝送経路を介して受信された状態のクロックデータを混合し、それらから第2データクロックC2の同期を導くよう構成される。ある実施の形態では、同期回路は基本的に、第2データクロックC2を両伝送経路を介した遅延の平均に同期させてもよい。そのような平均化に加えて、例えば経路長や送信エレクトロニクス、受信エレクトロニクスおよび/または処理エレクトロニクスにおける遅延を補償するために、一定の例えば、較正された遅延が加えられてもよい。因果システムでは、現実世界の遅延を補償するような負の遅延は不可能であるかもしれないことは理解されるべきである。しかしながら、データクロックは周期信号を提供するので、360度位相シフトした遅延は実効的にはゼロ遅延を与える。したがって、例えば送信エレクトロニクス、受信エレクトロニクスおよび/または処理エレクトロニクスで生じる遅延や伝送経路に沿った遅延などをさらなる遅延によって補償し、理想的な定常状態挙動を実質的に生じせしめることが可能である。図3は、図2を参照して説明された実施の形態の同期回路の実施の形態を説明するための、模式的なブロック回路を示す。伝送経路CT1aおよび伝送経路CT1bを介して受信されたクロックデータは、受信された状態でミキサMXに与えられる。受信されたクロックデータの両方は同じ周波数を有しているが位相は異なりうるので、ミキサはその出力において、データクロック周波数の実質2倍の周波数の信号成分と、実質的に一定のDC-直流信号成分と、を提供する。データクロック周波数の2倍の周波数の信号成分は、ハイパスフィルタHPFによって選択される。除算器DIVは、ハイパスフィルタHPF後に残る信号の周波数を例えば因子2で除算する。2倍周波数の信号成分は、2つの伝送経路に沿って受信された状態のクロック周波数の和および2つの伝送経路に沿って受信された状態の位相の和として表され、位相の和は移動方向DMに沿ったテーブルTAの位置によらない一定値となるであろう。したがって、除算器の出力信号はテーブルTAの位置によらない正確で一定な位相シフトを提供する。この除算器の出力信号は、例えば送信エレクトロニクス、受信エレクトロニクスおよび/または処理エレクトロニクスで生じる遅延や伝送経路に沿った遅延などを少なくとも部分的に補償するため、遅延ユニットDLYによってさらに遅延される。ミキサMXの出力における他方の信号成分は、CT1aからのクロックデータとCT1bからのクロックデータとの間の周波数の差および位相の差に実質的に対応する。受信周波数は実質的に等しいので、位相差を表す信号成分が残る。位相差は位置依存なので、テーブルTAの位置を表す位置データPOSがローパスフィルタLPFの出力から導かれうる。図4は、テーブルTAが複数方向に伸びる移動範囲を有する場合に適用されうる別の実施の形態を示す。これを実現可能とするため、送信器-受信機の組はさらに、第2データクロックすなわち、この例ではテーブルからクロックデータを第1データクロックすなわち、この例ではサポート構造STRに送り返すよう構成される。クロックデータを第2クロックに送り再び第1クロックに送り返すことにより、伝送に伴い生じる遅延についての情報が、送り返された状態のクロックデータから導かれうる。これは例えば第1データクロックと2回送信された状態の信号とを比較することによりなされうる。そのため、本実施の形態では、第1データクロックを一方とし、第2データクロックすなわち、この例ではテーブルTAへ送信され第1データクロックに送り返された状態のクロックデータを他方とする比較から同期を導くために、制御回路またはコントローラCONが設けられる。制御回路CONの制御下にある複数の調整可能すなわち、可変遅延ユニットTDが設けられる。複数の調整可能遅延ユニットTDおよび制御回路CONは同期回路SYNに含まれる。遅延ユニットTDのうちの第1のものは、第1クロックから第2クロックへの伝送経路と直列に設けられる。遅延ユニットTDのうちの第2のものは、第2クロックから第1クロックへ戻る伝送経路と直列に設けられる。本実施の形態では両方の遅延ユニットは第1クロックの側に設けられる。すなわち、本実施の形態では、両方の遅延ユニットはサポート構造STRに設けられる。制御回路は、その第1入力で受ける信号すなわち、第1データクロックC1のクロック信号の位相が第2入力で受ける信号すなわち、送り出して送り返されかつ両方の遅延ユニットTDによって遅延された状態の信号の位相と等しくなるように、調整可能遅延ユニットTDを制御するよう構成される。両方の調整可能遅延ユニットTDの遅延の値が等しい場合、第2クロックへの無線送信によって生じる遅延TAは遅延ユニットTDの第1のものによって補償され、一方で第1クロックすなわち、本実施の形態ではサポート構造STRへの返送によって生じる遅延は遅延ユニットTDの第2のものによって補償される。第2クロックすなわち、この例では、テーブルTAにおいて、例えばエレクトロニクスなどに起因して残留する遅延は、例えば遅延が較正値に設定されていてもよい遅延ユニットDLYによって補償されてもよい。第2クロックC2は、遅延ユニットDLYの出力信号に同期されてもよいし、またはその出力信号から導かれてもよい。制御回路CONの実施の形態が図5を参照して説明される。再度受信された状態のクロックデータ図4および図5においてRCLと称されるは、90度の位相遅延を受ける。第1データクロックC1と90度位相遅延された受信信号とは次にミキサMXによって混合される。その結果、クロック周波数の2倍の周波数を有する信号成分と、実質的に一定の直流DC信号とが得られる。後者はクロックC1と受信クロックデータRCLとの位相差に依存する。この成分はローパスフィルタLPFを使用したローパスフィルタリングによって選択され、次に積分器INTによって積分されおよび/または増幅器AMPによって増幅される。これにより、図4に示されるように、調整可能遅延ユニットTDの遅延を制御するための制御信号が得られる。その結果、調整可能遅延ユニットtdを十分なループゲインおよび要求される正確さで制御することが可能となる。図2から4を参照して説明された実施の形態は、対象を位置決めするためのステージ装置であって、本ステージ装置は、対象を保持するためのテーブルと、テーブルを支持するためのサポート構造と、を備え、テーブルはサポート構造に対して変位可能であり、サポート構造は第1データクロックおよび第2データクロックのうちの一方を備え、テーブルは第1データクロックおよび第2データクロックのうちの他方を備え、本ステージ装置はさらにデータクロックを同期させるための回路を備え、回路は送信器および受信器を含み、それらは第1データクロックから第2データクロックへクロック信号データを無線送信するよう構成され、回路はさらに、無線送信され受信器によって受信された状態のクロック信号データから、第2データクロックを第1データクロックと同期させるための同期回路を含む、ステージ装置の例を提供する。これにより、クロック信号データをステージに有線で送信する必要性を除去しつつ、ステージにおいて正確なクロックタイミングが可能となる。テーブルにおける第2データクロックC2は、クロックデータ取得例えば、エンコーダや干渉計などの位置センサによるテーブル位置の位置測定に適用できると共に、アクチュエータ/アクチュエータコントローラなどにデータを提供するためにも適用されうる。データクロッククロックとも称されるという用語は、データ取得、データ処理、データ保存、データ通信、例えばアクチュエータやドライバなどへのデータ出力などのデータ操作のタイミングをとるための反復信号を生成する回路として理解されてもよい。さらに、データクロックという用語は、反復信号を生成するよう構成された回路だけでなく、反復信号そのものを指し示すものとされてもよいことを注意しておく。クロックデータおよびクロック信号データという用語は、任意の種類のデータクロック関連データを含むものとして解釈されるべきである。そのようなデータクロック関連データは、反復クロック信号そのものやそれから導かれる任意の信号やそれに関連する任意の信号などを含む。ある実施の形態では、無線送信されるクロックデータは、変換や処理などによる遅延のないことまたは少ないことを求めるため、反復クロック信号そのものそれ自体またはキャリア上に変調された状態を含む。無線送信は無線周波数や赤外線などの任意のタイプの無線送信を含んでもよい。回路回路、同期回路などという用語は、アナログおよび/またはデジタルエレクトロニクスやディスクリート電気および/または電子回路および/または集積電気および/または電子回路などを含む、任意の種類の電気および/または電子回路を含むものとして理解されるべきである。説明されたステージは、リソグラフィ装置および/または他のアプリケーションに適用されてもよい。本明細書ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、リソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用ガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイLCD、薄膜磁気ヘッドなどがある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書におけるウエハあるいはダイという用語がそれぞれ基板あるいはターゲット部分という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。基板は露光前または露光後においてトラック典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置、メトロロジツール、及び/またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ICを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味する。ここでは特に光リソグラフィを本発明に係る実施の形態に適用したものを例として説明しているが、本発明は例えばインプリントリソグラフィなど文脈が許す限り他にも適用可能であり、光リソグラフィに限られるものではない。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが基板に生成されるパターンを決める。パターニングデバイスのトポグラフィが基板に塗布されているレジスト層に押し付けられ、電磁放射や熱、圧力、あるいはこれらの組み合わせによってレジストが硬化される。レジストが硬化されてから、パターニングデバイスは、パターンが生成されたレジストから外されて外部に移動される。本明細書において放射およびビームという用語は、紫外UV放射例えば約365nm、248nm、193nm、157nm、または126nmの波長を有するおよび極端紫外EUV放射例えば5nm-20nmの範囲の波長を有するを含むあらゆる種類の電磁放射、およびイオンビームや電子ビームなどの粒子線を示す。レンズという用語は、文脈が許す限り、屈折光学素子、反射光学素子、磁気的光学素子、電磁気的光学素子、静電的光学素子を含む1つまたは各種の光学素子の組み合わせを指し示すものであってもよい。本発明の具体的な実施の形態が上述のように説明されたが、本発明は上述の形式以外の形式でも実施可能であると理解されたい。例えば、本発明はコンピュータプログラムの形式を取ってもよい。このコンピュータプログラムは機械に読み取り可能な命令の1つもしくは複数のシーケンスを含む。命令は、上述の方法を記述する。あるいはまた、本発明は、そのようなコンピュータプログラムを記憶保持するデータ記憶媒体例えば半導体メモリ、磁気もしくは光学ディスクの形式を取ってもよい。上述の記載は例示を目的としており、それに限定されるものではない。したがって下記の請求の範囲から逸脱することなく記載された発明に変更を加えることができるということは、関連技術の当業者には明らかなことであろう。