"燃料ガスを反応させる燃料極と、酸素を含むガスを反応させる空気極と、前記燃料極と前記空気極との間に設けられた固体電解質膜と、前記空気極と前記固体電解質膜との間に設けられた反応防止膜と、を備えた固体酸化物形燃料電池において、前記反応防止膜は、緻密層と、前記緻密層と前記固体電解質膜との間に設けられた多孔質層とを含み、前記多孔質層内の閉気孔の内部に前記空気極を構成する成分が含まれている、固体酸化物形燃料電池。請求項1に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記緻密層の気孔率は5以下であり、前記多孔質層の気孔率は5.1~60である、固体酸化物形燃料電池。請求項1又は請求項2に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記多孔質層内の閉気孔の径は、0.1~3μmである、固体酸化物形燃料電池。請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記反応防止膜は、前記固体電解質膜との界面を有する1層の前記多孔質層と、前記空気極との界面を有する1層の前記緻密層と、の2層からなり、前記多孔質層の厚さは0.5~5μmであり、前記緻密層の厚さは1~25μmである、固体酸化物形燃料電池。請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記緻密層、前記多孔質層、及び前記固体電解質膜は、同時焼成によって形成された、固体酸化物形燃料電池。請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記反応防止膜は、セリウムを含んで構成された、固体酸化物形燃料電池。請求項1乃至請求項6の何れか一項に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記固体電解質膜は、ジルコニウムを含んで構成された、固体酸化物形燃料電池。請求項1乃至請求項7の何れか一項に記載の固体酸化物形燃料電池において、前記空気極は、ストロンチウム、及び/又はランタンを含むペロブスカイト型酸化物を含んで構成された、固体酸化物形燃料電池。作用効果次に、上記実施形態に係るSOFCの反応防止膜130の作用効果について説明する。上記実施形態に係る反応防止膜130の作用効果を説明するため、比較例として、上述した特許文献1に記載のSOFCを導入する。図4及び図5はそれぞれ比較例についての、上述した図1及び図2に対応する図である。図4において、図1に示す構成と同じ構成については、図1に示す符号と同じ符号が付されている。比較例に係るSOFCの構成は、反応防止膜130においてのみ上記実施形態に係るSOFCの構成と異なる。即ち、上記実施形態に係るSOFCでは、反応防止膜130が多孔質層131と緻密層132との2層で構成されるのに対し、比較例に係るSOFCでは、反応防止膜130が多孔質層1層のみで構成される。比較例に係るSOFCの反応防止膜1301層の多孔質層の気孔率は10~80である。比較例に係るSOFCの反応防止膜1301層の多孔質層の気孔閉気孔の内部にも、上記実施形態に係るSOFCの多孔質層131と同様、Sr、La等の空気極140LSCFを構成する成分析出物が含まれていることが確認された。また、上述のように上記実施形態に係るSOFCでは、反応防止膜130焼成後が電解質膜120との共焼結1300~1600°Cによって形成されるのに対し、比較例に係るSOFCでは、反応防止膜130焼成後が空気極140との共焼結1000°Cによって形成される。即ち、上記実施形態に係るSOFCでは電解質膜120と反応防止膜130との焼成温度が同じであるのに対し、比較例に係るSOFCでは反応防止膜130の焼成温度が電解質膜120の焼成温度よりも低い。<SOFCの出力の低下に関する評価>本発明者は、比較例に係るSOFCと比較して、上記実施形態に係るSOFCが、長時間使用後においてSOFCの出力が低下し難いことを見出した。以下、このことを確認した試験について説明する。この試験では、上記実施形態に係るSOFC及び比較例に係るSOFCのそれぞれに対して、反応防止膜GDCの気孔率、及び厚さの組み合わせが異なる複数のサンプルが作製された。具体的には、表1に示すように、18種類の水準組み合わせが準備された。表1において、反応防止膜が1層の多孔質層からなるもの水準1~6が比較例に対応し、反応防止膜が1層の多孔質層と1層の緻密層との2層からなるもの水準7~18が実施形態に対応する。これらのサンプルにおいて、燃料極110Ni-YSZの厚さは500μm、電解質膜120YSZの厚さは5μm、空気極140LSCFの厚さは50μmで一定とされた。また、これらのサンプルを上方からみた形状は、直径が30mmの円形とされた。表1の水準10~18において、多孔質層131内の閉気孔の径最小値~最大値は0.1~3μmであった。各サンプルに対して、燃料極110側に窒素ガス、空気極140側に空気を供給しながら、800°Cまで昇温し、800°Cに達した時点で燃料極110に水素ガスを供給しながら還元処理が3時間行われた。この還元処理後、耐久試験が実施された。耐久試験では、電流密度:0.3A/cm2の定電流条件下で、SOFCセルの電圧の変化率が評価された。ここで、1000時間あたりの電圧の変化率を劣化率と定義する。劣化率が小さいことは、SOFCセル全体の抵抗の変化率が小さいこと、即ち、反応防止膜の電気抵抗の増大が小さいことを表していると考えられる。表1から理解できるように、実施形態に係るSOFCの方が比較例に係るSOFCに比して劣化率が極端に小さい。即ち、実施形態に係るSOFCの方が比較例に係るSOFCに比して、耐久試験後において反応防止膜130の電気抵抗の増大が小さい、ということができる。この結果は、以下の理由に基づくと考えられる。即ち、比較例では、1層の多孔質層からなる反応防止膜130の気孔率が10~80と比較的大きいことに起因して、空気極140を構成する成分Sr等が、反応防止膜130の内部を拡散し易い。従って、空気極140を構成する成分が拡散によって反応防止膜130の内部を通って反応防止膜130と電解質膜120との界面まで到達し易い。よって、長時間使用後耐久試験後では、同界面近傍で空気極140を構成する成分Sr等と電解質膜120を構成する成分Zr等とが出合って高抵抗層SrZrOx等が形成され易い。この結果、長時間使用後耐久試験後において反応防止膜130の電気抵抗が増大し易い、と考えられる。これに対し、実施形態に係るSOFCでは、反応防止膜130の内部に、緻密層132が含まれる。緻密層132内では、多孔質層131内と比べて、空気極140を構成する成分Sr等が内部の粒界を通して拡散し難くなる。従って、緻密層132が強力なバリア層として機能することによって、空気極140を構成する成分が反応防止膜130と電解質膜120との界面まで到達し難くなる。よって、長時間使用後耐久試験後でも、同界面近傍で空気極140を構成する成分Sr等と電解質膜120を構成する成分Zr等との反応に起因する高抵抗層SrZrOx等が形成され難い。この結果、長時間使用後耐久試験後でも、反応防止膜130の電気抵抗が増大し難い、と考えられる。また、空気極140を構成する成分Sr等が拡散によって緻密層132を通り抜けて多孔質層131に進入する場合もあり得ると考えられる。この場合であっても、緻密層132を通り抜けた空気極140を構成する成分が多孔質層131の閉気孔部分にトラップ集積され得る。従って、緻密層132を通り抜けた空気極140を構成する成分が反応防止膜130と電解質膜120との界面まで到達し難くなる。また、比較例では、反応防止膜130の内部の気孔が開気孔であると考えられるので、反応防止膜130の内部では、開気孔即ち、気相を介した所謂気相拡散が容易に発生し得る。従って、比較例では、空気極140を構成する成分Sr等は、反応防止膜130内を容易に拡散していく。これに対し、実施形態では、多孔質層131の内部の気孔が閉気孔であるので、多孔質層131の内部では、粒界即ち、固相を介した所謂固相拡散が発生し得る一方で、上記気相拡散が発生し難い。固相拡散による拡散速度は、気相拡散による拡散速度より著しく遅い。従って、空気極140を構成する成分Sr等は、多孔質層131内を拡散し難い。このことによっても、実施形態では、緻密層132を通り抜けた空気極140を構成する成分が反応防止膜130と電解質膜120との界面まで到達し難くなるといえる。よって、長時間使用後耐久試験後でも、同界面近傍で緻密層132を通り抜けた空気極140を構成する成分Sr等と電解質膜120を構成する成分Zr等との反応に起因する高抵抗層SrZrOx等が形成され難い。この結果、長時間使用後耐久試験後でも、反応防止膜130の電気抵抗が増大し難い、と考えられる。なお、以上の試験では、反応防止膜130多孔質層131及び緻密層132の材質としてGDCが使用されていたが、SDCが使用された場合であっても上記と同様の傾向があることが確認されている。また、多孔質層131及び緻密層132の材質が異なっていてもよい。本発明は上記実施形態に限定されることはなく、本発明の範囲内において種々の変形例を採用することができる。例えば、上記実施形態では、反応防止膜130が、電解質膜120との界面を有する1層の多孔質層131と、空気極140との界面を有する1層の緻密層132と、の2層で構成されているが、図6に示すように、反応防止膜130が、電解質膜120との界面を有する1層の多孔質層131と、空気極140との界面を有する1層の多孔質層133と、多孔質層131,133の間の緻密層132と、の3層で構成されていてもよい。即ち、反応防止膜電解質膜と空気極との間のセリアを含んで構成された膜の厚さ方向の一部に緻密膜が含まれていて、且つ、その緻密層と電解質膜との間に多孔質層が設けられている限りにおいて、反応防止膜がいくつの層から構成されていてもよい。110...燃料極、120...電解質膜、130...反応防止膜、131...多孔質層、132...緻密膜、133...多孔質層、140...空気極構成図1は、本発明の実施形態に係るSOFCセルの構成を模式的に示す。このSOFCセルは、燃料極110と、燃料極110の上に積層された電解質膜120と、電解質膜120の上に積層された反応防止膜130と、反応防止膜130の上に積層された空気極140と、からなる積層体である。このセルを上方からみた形状は、例えば、1辺が1~30cmの正方形、長辺が5~30cmで短辺が3~15cmの長方形、又は直径が1~30cmの円形である。セルの厚さは0.1~3mmである。燃料極110アノード電極は、例えば、酸化ニッケルNiOとイットリア安定化ジルコニアYSZとを含んで構成される多孔質の薄板状の焼成体である。燃料極110は、酸化ニッケルNiOとイットリアY2O3とを含んで構成されてもよい。燃料極110の厚さは0.1~3mmである。セルの各構成部材の厚さのうち燃料極110の厚さが最も大きく、燃料極110は、セルの支持基板として機能している。燃料極110は、周知の還元処理例えば、NiOをNiに還元する処理を受けることによって導電性を得る。このように燃料極110が導電性を得た状態で、SOFCは作動する。燃料極110は、電解質膜120に接する燃料極活性部と、燃料極活性部以外の残りの部分である燃料極集電部との2層で構成され得る。燃料極活性部は、例えば、酸化ニッケルNiOとイットリア安定化ジルコニアYSZとから構成され得る。或いは、酸化ニッケルNiOとガドリニウムドープセリアGDCとから構成されてもよい。燃料極集電部は、例えば、酸化ニッケルNiOとイットリア安定化ジルコニアYSZとから構成され得る。或いは、酸化ニッケルNiOとイットリアY2O3とから構成されてもよい。このように、燃料極集電部は、電子伝導性を有する物質を含んで構成される。燃料極活性部は、電子伝導性を有する物質と酸素イオン伝導性を有する物質とを含んで構成される。燃料極活性部における気孔部分を除いた全体積に対する酸素イオン伝導性を有する物質の体積割合は、燃料極集電部における気孔部分を除いた全体積に対する酸素イオン伝導性を有する物質の体積割合よりも大きい。電解質膜120は、ジルコニウムを含む材料、例えば、YSZを含んで構成される緻密な薄板状の焼成体である。電解質膜120の厚さは3~30μmである。反応防止膜130は、セリアを含んで構成される薄板状の焼成体である。セリアとしては、具体的には、GDCガドリニウムドープセリア、SDCサマリウムドープセリア等が挙げられる。反応防止膜130は、セル作製時、又はSOFC作動時において、電解質膜120内のジルコニウムZrと空気極140内のストロンチウムSrとが反応して電解質膜120と空気極140との間に高抵抗層が形成される現象の発生を抑制するために、電解質膜120と空気極140との間に介装されている。図1に示す例では、反応防止膜130は、電解質膜120との界面を有する電解質膜120と接触する1層の多孔質層131と、空気極140との界面を有する空気極140と接触する1層の緻密層132と、の2層で構成される。多孔質層131の厚さは0.5~5μmであり、緻密層132の厚さは1~25μmである。換言すれば、反応防止膜130電解質膜120と空気極140との間に存在する膜では、電解質膜120との界面から0.5~5μmの領域のみにおいて気孔が分布しているといえる。反応防止膜130の厚さ多孔質層131の厚さ緻密層132の厚さは3~30μmである。反応防止膜130の詳細な構成、並びに、この構成の作用効果については後に詳述する。空気極140カソード電極は、例えば、ペロブスカイト型酸化物を含んで構成される多孔質の薄板状の焼成体である。ペロブスカイト型酸化物としては、ランタンストロンチウムコバルトフェライトLSCFLa,SrCo,FeO3、LSF=La,SrFeO3ランタンストロンチウムフェライト、LNF=LaNi,FeO3ランタンニッケルフェライト、LSC=La,SrCoO3ランタンストロンチウムコバルタイト等が採用され得る。空気極140の厚さは10~100μmである。以上、図1に示したSOFCセルの構成の概要について説明した。複数のSOFCセルが、集電用部材インターコネクタを介して電気的に直列に接続されて使用され得る。これにより、高出力を得ることができる。複数のSOFCセルが電気的に直列に接続される態様として、燃料極、電解質膜、及び、空気極の積層体である発電部が積層方向に複数積層される形式所謂縦縞型、或いは、発電部が板状の支持体の表面上の異なる位置にそれぞれ配置される形式所謂横縞型が採用され得る。製造方法次に、図1に示したSOFCセルの製造方法の一例について説明する。以下、成形体とは、焼成前の状態を指すものとする。先ず、燃料極110の成形体が以下のように形成された。即ち、NiO粉末とYSZ粉末とが混合され、この混合物にバインダーとしてポリビニルアルコールPVAが添加されてスラリーが作製された。このスラリーがスプレードライヤーで乾燥造粒され、燃料極用の粉末が得られた。この粉末が金型プレス成形法により成形されて、燃料極110の成形体が形成された。次に、電解質膜120の成形体が、以下のように燃料極110の成形体の上面に積層形成された。即ち、YSZ粉末に水とバインダーが加えられ、この混合物がボールミルで24時間混合されてスラリーが作製された。このスラリーが、燃料極110の成形体の上面に塗布乾燥されて、電解質膜120の成形体膜が形成された。なお、燃料極110の成形体の上面に電解質膜120の成形体を形成するに際し、テープ積層法、印刷法等が用いられてもよい。次いで、反応防止膜130の成形体が、以下のように電解質膜120の成形体の上面に形成された。即ち、GDC粉末に水とバインダーが加えられ、この混合物がボールミルで24時間混合されてスラリーが作製された。このスラリーが、電解質膜120の成形体の上面に塗布乾燥され、反応防止膜130の成形体膜が形成された。なお、電解質膜120の成形体の上面に反応防止膜130の成形体を形成するに際し、テープ積層法、印刷法等が用いられてもよい。図1に示す例では、反応防止膜130が多孔質層131と緻密層132の2層で構成されている。この場合、電解質膜120の成形体の上面に多孔質層131用の成形体膜が形成され、その後に多孔質膜131の成形体の上面に緻密層132用の成形体膜が形成されてもよいし以下、個別形成と呼ぶ、電解質膜120の成形体の上面に、多孔質層131と緻密層132の2層用の1つの成形体膜が形成されてもよい以下、同時形成と呼ぶ。個別形成が採用される場合、後述するように、多孔質層131及び緻密層132の気孔率の調整は、GDC粉末の粉体特性粒径、比表面積、スラリー特性固液比率、バインダ等の有機材料の組成等を調整することによって達成され得る。具体的には、多孔質層131に用いられるGDC粉末としては、平均粒径:0.6~2.0μm、比表面積:1~10m2/gの粉末材料が使用されることが好ましい。更に造孔材が添加されてもよい。造孔材としては、平均粒径は0.1~1μmのPMMAポリメタクリル酸メチル樹脂が使用され得る。造孔材の添加量は、外配で0.1~10重量であることが好ましい。一方、緻密層132に用いられるGDC粉末としては、平均粒径:0.1~1.0μm、比表面積:5~30m2/gの粉末材料が使用されることが好ましい。同時形成が採用される場合、後述するように、多孔質層131の気孔率の調整は、電解質膜120の成形体と反応防止膜130の成形体とを共焼結する際の各元素の拡散速度の相違を利用して形成され得る。具体的には、GDC粉末としては、平均粒径:0.3~1.5μm、比表面積:3~20m2/gの粉末材料が使用されることが好ましい。以上より、燃料極110の成形体、電解質膜120の成形体、及び反応防止膜130の成形体の積層体焼成前が形成された。この積層体焼成前が、1300~1600°Cで1~20時間共焼結されて、多孔質の燃料極110、緻密な電解質膜120、及び、多孔質層131と緻密層132の2層からなる反応防止膜130の積層体焼成後が得られた。このように、反応防止膜130焼成後は、電解質膜120との共焼結によって形成される。次に、空気極140が、以下のように前記積層体焼成後の反応防止膜130の上面に形成された。即ち、LSCF粉末に水とバインダーが加えられ、この混合物がボールミルで24時間混合されてスラリーが作製された。このスラリーが、反応防止膜130の上面に塗布乾燥され、電気炉酸素含有雰囲気中で空気中にて1000°Cで1時間焼成されて、反応防止膜130の上面に多孔質の空気極140が形成された。以上、図1に示したSOFCセルの製造方法の一例について説明した。反応防止膜の詳細次に、図1に示したSOFCセルの反応防止膜130について詳述する。図2は、図1に示したSOFCセルのサンプルを厚さ方向積層方向に切断して得られた断面の一例を示すSEM走査型電子顕微鏡画像である。図2に示すように、反応防止膜130は、1層の多孔質層131と、1層の緻密層132との2層で構成される。多孔質層131は、電解質膜120と接触している電解質膜120との界面を有する。緻密層132は、空気極140と接触している空気極140との界面を有する。多孔質層131と緻密層132との境界界面は、例えば、以下のように決定される。先ず、反応防止膜130の厚さ方向における断面のSEM画像が取得される。このSEM画像視野において、反応防止膜130即ち、電解質膜120と空気極140との間に存在する膜における電解質膜120との界面から近い領域のみに分布している複数の気孔が特定される。上記特定された複数の気孔のうちで、空気極140に面して存在する複数の気孔が抽出される。図2に示した例では、特定された複数の気孔の全てが空気極140に面して存在する気孔として抽出される。抽出された複数の気孔のそれぞれについて、気孔内に対応する領域において最も空気極140側図2では上側の点が特定される図2では、各気孔の上部に付された黒いドットを参照。特定された複数の点と周知の統計的手法の一つ例えば、最小二乗法とを用いて、特定された複数の点のそれぞれの近傍を通る直線が決定される。この線図2に示した例では、線分Lが、多孔質層131と緻密層132との境界界面となる。多孔質層131と電解質膜120との境界界面は、例えば、以下のように決定される。先ず、反応防止膜130と電解質膜120とを含む積層部分の厚さ方向における断面について、EPMAを用いて、前記厚さ方向におけるライン分析が行われる。このライン分析によって、各元素の濃度分布データが取得される。この濃度分布データに基づいて、セリウムの濃度とジルコニウムの濃度が一致するラインの位置が、多孔質層131と電解質膜120との境界界面となる。多孔質層131の気孔率は5.1~60であり、緻密層132の気孔率は5以下である。ここで、多孔質層131の気孔率とは多孔質層131の総体積に対する気孔空隙の体積の割合を指し、緻密層132の気孔率とは緻密層132の総体積に対する気孔空隙の体積の割合を指す。多孔質層131の気孔率は、例えば、反応防止膜130の厚さ方向における断面のSEM画像を取得することで算出され得る。即ち、先ず、このSEM画像視野において、上述の手法によって多孔質層131と緻密層132との境界界面が取得される。次いで、このSEM画像における多孔質層131に対応する領域内に存在する複数の気孔閉気孔が特定される。次いで、このSEM画像における多孔質層131に対応する領域の総面積が取得される。次いで、このSEM画像における上記特定された複数の気孔の面積の総和が取得される。そして、複数の気孔の面積の総和を多孔質層131に対応する領域の総面積で除することによって、多孔質層131の気孔率が算出される。このように2次元の組織から3次元の構造を推定する手法については、水谷惟恭、尾崎義治、木村敏夫、山口喬著、セラミックプロセッシング、技報堂出版株式会社、1985年3月25日発行、第190頁から第201頁に詳細に記載されている。1つの断面から得られた1つの画像視野に基づいて算出された1つの気孔率が多孔質層全体の気孔率とみなされてもよいし、複数の断面からそれぞれ得られた複数の画像視野に基づいてそれぞれ算出された複数の気孔率の平均値が多孔質層全体の気孔率とみなされてもよい。緻密層132の気孔率も、多孔質層131の気孔率と同様の手法によって算出され得る。また、多孔質層131内の多数の気孔閉気孔の径は0.1~3μmである。ここで、或る気孔閉気孔の径とは、例えば、上述のSEM画像におけるその気孔に対応する領域の面積と等しい面積を有する円の直径等である。このような反応防止膜1302層が上述の個別形成で形成される場合、多孔質層131及び緻密層132の気孔率の調整は、反応防止膜の原料例えば、GDCとなる粉末の粉体特性粒径、比表面積、スラリー特性固液比率、バインダ等の有機材料の組成等を調整することによって達成され得る。具体的には、例えば、緻密層132用のスラリーの固液比率全体中の固体、即ち、反応防止膜材料の割合が、多孔質層131用のスラリーの固液比率より大きくされる。これは、スラリーの固液比率が大きいほど、成形体の密度が高くなることによって焼成後の成形体の気孔率が小さくなるという事実に基づく。或いは、緻密層132用の材料例えば、GDCの粉末の比表面積が、多孔質層131用の材料例えば、GDCの粉末の比表面積より大きくされる。これは、粉末の比表面積が大きいほど、焼結性が高くなることによって気孔率が小さくなるという事実に基づく。また、反応防止膜1302層が上述の同時形成で形成される場合、反応防止膜1302層の全体用のスラリーとしては緻密層132用のスラリーのみが使用される。他方、多孔質層131の気孔は、電解質膜120の成形体と反応防止膜130の成形体とを共焼結する際の各元素の拡散速度の相違を利用して積極的に形成され得る。換言すれば、多孔質層131の気孔は、所謂カーケンダルポアとして形成される。加えて、多孔質層131の気孔閉気孔の内部には、空気極140LSCFを構成する成分が含まれる場合がある。図3は、図2に示すZ部についてSrのマッピングを行った結果の一例を示す。図3において、画像の明度は元素濃度を表し、明度が大きい白に近い方が元素濃度が大きく、明度が小さい黒に近い方が元素濃度が小さいことを示す。なお、これらの画像、及び分析結果は、日本電子株式会社製の電界放射型分析電子顕微鏡JXA-8500Fを用いて取得された。図3から理解できるように、多孔質層131の気孔閉気孔の内部には、Sr空気極140LSCFを構成する成分の1つが含まれる場合がある。なお、多孔質層131の気孔閉気孔の内部には、その他の成分として、La、Co、Fe空気極140LSCFを構成するその他の成分が含まれる場合があることも確認されている。このように多孔質層131の気孔閉気孔に存在するこれらの成分は、多孔質層131用のスラリー内には存在しない。即ち、これらの成分は、SOFCセル作製時、又はSOFC作動時において、反応防止膜130の内部の粒界を通じた拡散により、空気極140から緻密層132を経て多孔質層131の気孔閉気孔の内部に移動してきたもの析出物と考えられる。作用効果次に、上記実施形態に係るSOFCの反応防止膜130の作用効果について説明する。上記実施形態に係る反応防止膜130の作用効果を説明するため、比較例として、上述した特許文献1に記載のSOFCを導入する。図4及び図5はそれぞれ比較例についての、上述した図1及び図2に対応する図である。図4において、図1に示す構成と同じ構成については、図1に示す符号と同じ符号が付されている。比較例に係るSOFCの構成は、反応防止膜130においてのみ上記実施形態に係るSOFCの構成と異なる。即ち、上記実施形態に係るSOFCでは、反応防止膜130が多孔質層131と緻密層132との2層で構成されるのに対し、比較例に係るSOFCでは、反応防止膜130が多孔質層1層のみで構成される。比較例に係るSOFCの反応防止膜1301層の多孔質層の気孔率は10~80である。比較例に係るSOFCの反応防止膜1301層の多孔質層の気孔閉気孔の内部にも、上記実施形態に係るSOFCの多孔質層131と同様、Sr、La等の空気極140LSCFを構成する成分析出物が含まれていることが確認された。また、上述のように上記実施形態に係るSOFCでは、反応防止膜130焼成後が電解質膜120との共焼結1300~1600°Cによって形成されるのに対し、比較例に係るSOFCでは、反応防止膜130焼成後が空気極140との共焼結1000°Cによって形成される。即ち、上記実施形態に係るSOFCでは電解質膜120と反応防止膜130との焼成温度が同じであるのに対し、比較例に係るSOFCでは反応防止膜130の焼成温度が電解質膜120の焼成温度よりも低い。<SOFCの出力の低下に関する評価>本発明者は、比較例に係るSOFCと比較して、上記実施形態に係るSOFCが、長時間使用後においてSOFCの出力が低下し難いことを見出した。以下、このことを確認した試験について説明する。この試験では、上記実施形態に係るSOFC及び比較例に係るSOFCのそれぞれに対して、反応防止膜GDCの気孔率、及び厚さの組み合わせが異なる複数のサンプルが作製された。具体的には、表1に示すように、18種類の水準組み合わせが準備された。表1において、反応防止膜が1層の多孔質層からなるもの水準1~6が比較例に対応し、反応防止膜が1層の多孔質層と1層の緻密層との2層からなるもの水準7~18が実施形態に対応する。これらのサンプルにおいて、燃料極110Ni-YSZの厚さは500μm、電解質膜120YSZの厚さは5μm、空気極140LSCFの厚さは50μmで一定とされた。また、これらのサンプルを上方からみた形状は、直径が30mmの円形とされた。表1の水準10~18において、多孔質層131内の閉気孔の径最小値~最大値は0.1~3μmであった。各サンプルに対して、燃料極110側に窒素ガス、空気極140側に空気を供給しながら、800°Cまで昇温し、800°Cに達した時点で燃料極110に水素ガスを供給しながら還元処理が3時間行われた。この還元処理後、耐久試験が実施された。耐久試験では、電流密度:0.3A/cm2の定電流条件下で、SOFCセルの電圧の変化率が評価された。ここで、1000時間あたりの電圧の変化率を劣化率と定義する。劣化率が小さいことは、SOFCセル全体の抵抗の変化率が小さいこと、即ち、反応防止膜の電気抵抗の増大が小さいことを表していると考えられる。表1から理解できるように、実施形態に係るSOFCの方が比較例に係るSOFCに比して劣化率が極端に小さい。即ち、実施形態に係るSOFCの方が比較例に係るSOFCに比して、耐久試験後において反応防止膜130の電気抵抗の増大が小さい、ということができる。この結果は、以下の理由に基づくと考えられる。即ち、比較例では、1層の多孔質層からなる反応防止膜130の気孔率が10~80と比較的大きいことに起因して、空気極140を構成する成分Sr等が、反応防止膜130の内部を拡散し易い。従って、空気極140を構成する成分が拡散によって反応防止膜130の内部を通って反応防止膜130と電解質膜120との界面まで到達し易い。よって、長時間使用後耐久試験後では、同界面近傍で空気極140を構成する成分Sr等と電解質膜120を構成する成分Zr等とが出合って高抵抗層SrZrOx等が形成され易い。この結果、長時間使用後耐久試験後において反応防止膜130の電気抵抗が増大し易い、と考えられる。これに対し、実施形態に係るSOFCでは、反応防止膜130の内部に、緻密層132が含まれる。緻密層132内では、多孔質層131内と比べて、空気極140を構成する成分Sr等が内部の粒界を通して拡散し難くなる。従って、緻密層132が強力なバリア層として機能することによって、空気極140を構成する成分が反応防止膜130と電解質膜120との界面まで到達し難くなる。よって、長時間使用後耐久試験後でも、同界面近傍で空気極140を構成する成分Sr等と電解質膜120を構成する成分Zr等との反応に起因する高抵抗層SrZrOx等が形成され難い。この結果、長時間使用後耐久試験後でも、反応防止膜130の電気抵抗が増大し難い、と考えられる。また、空気極140を構成する成分Sr等が拡散によって緻密層132を通り抜けて多孔質層131に進入する場合もあり得ると考えられる。この場合であっても、緻密層132を通り抜けた空気極140を構成する成分が多孔質層131の閉気孔部分にトラップ集積され得る。従って、緻密層132を通り抜けた空気極140を構成する成分が反応防止膜130と電解質膜120との界面まで到達し難くなる。また、比較例では、反応防止膜130の内部の気孔が開気孔であると考えられるので、反応防止膜130の内部では、開気孔即ち、気相を介した所謂気相拡散が容易に発生し得る。従って、比較例では、空気極140を構成する成分Sr等は、反応防止膜130内を容易に拡散していく。これに対し、実施形態では、多孔質層131の内部の気孔が閉気孔であるので、多孔質層131の内部では、粒界即ち、固相を介した所謂固相拡散が発生し得る一方で、上記気相拡散が発生し難い。固相拡散による拡散速度は、気相拡散による拡散速度より著しく遅い。従って、空気極140を構成する成分Sr等は、多孔質層131内を拡散し難い。このことによっても、実施形態では、緻密層132を通り抜けた空気極140を構成する成分が反応防止膜130と電解質膜120との界面まで到達し難くなるといえる。よって、長時間使用後耐久試験後でも、同界面近傍で緻密層132を通り抜けた空気極140を構成する成分Sr等と電解質膜120を構成する成分Zr等との反応に起因する高抵抗層SrZrOx等が形成され難い。この結果、長時間使用後耐久試験後でも、反応防止膜130の電気抵抗が増大し難い、と考えられる。なお、以上の試験では、反応防止膜130多孔質層131及び緻密層132の材質としてGDCが使用されていたが、SDCが使用された場合であっても上記と同様の傾向があることが確認されている。また、多孔質層131及び緻密層132の材質が異なっていてもよい。本発明は上記実施形態に限定されることはなく、本発明の範囲内において種々の変形例を採用することができる。例えば、上記実施形態では、反応防止膜130が、電解質膜120との界面を有する1層の多孔質層131と、空気極140との界面を有する1層の緻密層132と、の2層で構成されているが、図6に示すように、反応防止膜130が、電解質膜120との界面を有する1層の多孔質層131と、空気極140との界面を有する1層の多孔質層133と、多孔質層131,133の間の緻密層132と、の3層で構成されていてもよい。即ち、反応防止膜電解質膜と空気極との間のセリアを含んで構成された膜の厚さ方向の一部に緻密膜が含まれていて、且つ、その緻密層と電解質膜との間に多孔質層が設けられている限りにおいて、反応防止膜がいくつの層から構成されていてもよい。"