ジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングを有する化学又は核デバイス要素を製造することを目的としたライニングされた組立部品の製造方法であって、前記組立部品が鋼の支持部品及び少なくとも一つのジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングを含んでおり、前記方法は連続する以下の段階を含む。aプレートである鋼の支持部品、鋼のプレートの寸法程度の大きさの薄板であるジルコニウム又はジルコニウム合金のライニング、及び支持部品とライニングとの間の少なくとも一つのろう材を含む初期アセンブリの形成段階であって、前記ろう材が銀及び銅を含む合金である段階。b制御雰囲気ろう付けチャンバ内に初期アセンブリを導入する段階。c前記チャンバ内で制御雰囲気を形成する段階。d支持部品にジルコニウムのライニングをろう付けにより固定するために前記ろう材の溶融温度に少なくとも等しい温度まで前記ユニットを再加熱する段階。前記方法が、前記初期アセンブリの形成の前に前記ジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングにチタン又はチタン合金の層の被着を実施すること、及び、チタン又はチタン合金でライニングされた面を前記ろう材と接触させるように前記ジルコニウムのライニングを位置づけることを特徴とする、ライニングされた組立部品の製造方法。本出願人は、典型的には1mm未満、好ましくは0.5mm未満、さらには0.3mmの厚みを有し、先行技術の方法の欠点を全く示さないジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングを有する化学デバイス要素又は核デバイス要素を得ることを可能にする方法を開発しようと試みた。本発明の第一の目的は、例えばジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングを有する化学デバイス要素を製造することを目的とした、ライニングされた組立部品の製造方法であり、前記組立部品が鋼の支持部品及び少なくとも一つのジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングを含んでおり、前記方法は以下の連続した段階を含む。a鋼の支持部品、典型的にはプレート、ジルコニウム又はジルコニウム合金のライニング、典型的には鋼のプレートの寸法程度の大きさの薄板、そして支持部品とライニングとの間の少なくとも一つのろう材を含む初期アセンブリの形成段階であって、前記ろう材が銀及び銅を含む合金である段階。b制御雰囲気ろう付けチャンバ内に初期アセンブリを導入する段階。c前記チャンバ内の制御雰囲気を形成する段階。d支持部品にジルコニウムのライニングをろう付けにより固定するため前記ろう材の溶融温度に少なくとも等しい温度まで前記ユニットを再加熱する段階。前記方法は、前記初期アセンブリの形成の前に、前記ジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングにチタン又はチタン合金の層を被着させること、及び、チタン又はチタン合金でライニングされた面を前記ろう材と接触させるように前記ジルコニウムのライニングを位置づけることを特徴とする。本出願人は、本発明の方法が、鋼の部品に、1mm未満、さらには0.5mm未満そして一部の有利な幾何形状については0.3mm以下の厚みをもつジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングをしっかりと固定することを可能にするということを確認した。このようにして、ライニングされた組立部品は、充分な延性を有し、可塑変形によって後で整形可能である例えば膨らんだ底面の実現。鋼の支持部品及びジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングは、典型的に単純な形状を有する例えばプレート及び薄板が、場合によっては、特に実現すべき部品が大きな可塑変形を必要とする部分を呈する場合例えば厚みの5倍未満といった小さい半径上の折曲げ又は曲げ加工、予め変形を受けている可能性がある。ライニングは、純粋ジルコニウムVanArkel又は、より一般的にはジルコニウム合金、典型的には化学産業又は核産業で利用されている合金である。化学産業用には、ジルコニウム702UNS規格R60702タイプのジルコニウム-ハフニウム合金、又はジルコニウム705UNS規格R60705タイプのジルコニウム-ハフニウム-ニオブ合金を用いている。核産業用としては、例えば、ジルカロイ2又はジルカロイ4といったジルコニウム-錫合金さらにはジルコニウム-ニオブ合金といった、ハフニウム添加されていないジルコニウムを用いている。本発明による方法によって、ろう材と接触することになっているジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングの表面を加工することで、組立ての整形適性が得られる。この加工は、数ミクロン、典型的には1~10μm、好ましくは2~10μm、より好ましくは2~7μm、さらに一層好ましくは3~6μmのチタン又はチタン合金の層をライニングの表面に被着させることから成る。被着は、104Torr~102Torrの間に含まれる圧力下でマグネトロン陰極を備えたエンクロージャ内で陰極スパッタリングによって実施可能である。標的は、好ましくは、典型的には純度99.995以上である純粋チタンであるが、バナジウム、ニオブ、モリブデン又はクロムといったその他の要素を含むチタン合金、典型的にはTi-Al-V、Ti-Mo-Nb-Al-Si、Ti-Pd、さらにはTi-V-Cr-Al合金の標的を利用することが可能である。プラズマで補助されるPVD物理蒸着での被着、同じくプラズマで補助され得るCVD化学蒸着タイプでの被着、又さらには、例えば冷間溶射タイプの熱プロジェクションによる被着といったその他の被着技術も考慮することができる。好ましくは、ジルコニウム又はジルコニウム合金の薄板は、予め清浄、脱脂され、処理すべき表面はイオン酸洗により酸洗されている。本発明者らは、50μmに達し得るが、好ましくは30μm未満の厚みをもつさらに厚い層を利用することも有利であることを確認した。これにより、特に真空プラズマトーチといったその他の被着技術を利用することが可能となる。支持部品、典型的には鋼炭素鋼又はステンレス鋼のプレート、支持体に対面させられた面にチタン層がライニングされているジルコニウム又はジルコニウム合金の薄板、及び、支持部品とライニングとの間の少なくとも一つのろう材を含む初期アセンブリが形成される。前記ろう材は、好ましくは市場で容易に入手できる、銀及び銅を含む合金である。例えば以下のものを挙げることができる。典型的に67~75の間に含まれるAgと補完的なCuの、共融合金Ag72-Cu28に近い組成であり、その液相線温度が800°C未満共融合金の溶融温度:780°Cである、Ag-Cu二元合金。亜鉛も含む三元合金。三元合金銀-銅-亜鉛は、数多くの変形形態で市場に存在する。銀は、優勢元素であり、流動性の増大、及び特に交番応力に対し継手の耐性の改善を可能にし、銀はさらに、さまざまな形状薄箔、チップ、環、格子などで合金を提供するため、かくしてきわめて多様なケースに合金を適合させるために活用できる延性を合金に付与する。例えばAg33、Zn33.5、Cu33.5の銀-銅-亜鉛タイプの三元合金は、典型的にはおよそ40°Cのかなり小さな凝固間隔で、730°C未満に下降し得る低い液相線温度を有する。例えば、Ag55、Zn22、Cu21及びSn2の銀、銅、亜鉛及び錫を含む四元合金。銀-銅-亜鉛-錫タイプの四元合金は、かなり小さい凝固間隔約30°Cで上述の組成についておよそ660°の低い液相線温度を有する。これらは非常に流動性があり、耐性があり脆性の低い継手を提供する。例えばAg50、Zn16.5、Cu15.5及びCd18の銀、銅、亜鉛及びカドミウムを含む四元合金。銀-銅-亜鉛-カドミウムタイプの四元合金は、かなり小さい凝固間隔約20°Cで、上述の組成について約630°Cの低い液相線温度を有する。これらは非常に流動性があり、耐性があり脆性の低い継手を提供する。制御雰囲気ろう付けチャンバ内に初期アセンブリを導入する。制御雰囲気は、好ましくはかなり高い真空である。チャンバは典型的に105~103mbarsの間、すなわち103~101Paの間に含まれる圧力下に置かれる。ただし、特にろう材が錫又は亜鉛といった昇華傾向をもつ金属処理の際の炉又は装入物の汚染の危険性を含む場合、典型的には5×103~104Paの間に含まれる分圧下のアルゴン、窒素、又はアルゴン-窒素混合物といった中性ガスを制御雰囲気として利用することが好ましい。ろう付けチャンバ内への導入の前に、前記初期アセンブリは、好ましくはろう付け作業中結合表面間の結合の欠陥又は気泡の形成を回避するように選択される間隔Dを得るように前記プレートとライニングされた薄板とを接近させることによって実現される。間隔Dは典型的には0.1mm未満である。ジルコニウムの薄板は、チタン又はチタン合金の層がろう材と接触した状態になるように位置づけられる。ろう材は、好ましくは、均質な結合層を得て、これら二つの要素間へ接触表面を増大させるために腐食防止ライニングと支持部品との間に均等分布されている。ろう材は、典型的には粉末、帯板、又は格子の形状を呈している。本出願人は、試験中で、格子が結合表面間の間隔Dの潜在的変動を効率良く補償するという利点を示すことを確認した。ろう付けチャンバ内に位置づけられた初期アセンブリは、ろう材の液相線温度よりわずかに高い温度にされ、その結果ろう材は溶融し、接触している要素と密な結合を生成する。ろう付け温度は、約900°C未満、好ましくは支持体の鋼のオーステナイト化温度未満、すなわち、ろう付け温度は鋼にしたがい、一般的に760°C~850°Cの間に含まれる温度より低い。本発明の方法は、有利には、ろう付け作業の全体又はその一部にわたり前記初期アセンブリに面圧力を加える段階を含む。より正確に言うと、前記再加熱の前及び/又は最中に前記アセンブリに機械的面圧力を加えることが有利である。この面圧力は、支持部品と腐食防止ライニングが互いに挟持されるように、かつ、ろう材を圧縮するように加えられ、これにより特に支持部品とライニングとの間の間隔Dに望ましい値を得ることができる。典型的に0.1MPaを超える面圧力圧接圧力とも呼ばれるは、控え棒、バネ、及び挟持板のシステムといったような機械的挟持システム、又は、エアバックといったような空気圧システム、又さらには油圧シリンダを用いたシステムにより適用することができる。低温でのろう付け作業は、機械的挟持システムの劣化を制限する。本発明によると、鋼の支持体とジルコニウムのライニングとの間の界面を脆化するジルコニウム-銅化合物の形成が回避される。その結果、基板/ライニングの結合は、ろう付け後に可塑変形により整形されることができるような充分な延性を有する。好ましくは、ジルコニウムの薄板に被着されるチタン又はチタン合金の層の厚みは10μmを超えない。この厚みは、典型的に1~10μmの間、好ましくは2~10μmの間、さらに一層好ましくは2~7μmの間、そして最も好ましくは3~6μmの間に含まれる。本出願人は、実際に、チタン又はチタン合金の層の厚みがさらに大きい場合、組立てのろう付けが劣化することを確認した。本出願人はこの劣化を以下のように説明している。-チタンの供給は、865°C純粋なジルコニウムから約900°Cに向かって、すなわち溶接合金の溶融温度典型的に750°C~850°Cよりもはるかに高い温度へと、アルファ型ジルコニウムち密な六角構造からベータ型ジルコニウム心立方体構造への同素体相転移温度を上昇させる効果をもつ。したがって、ろう付け中、ジルコニウム又はジルコニウム合金のライニング内の相の転移の危険性は少なくなる。しかしながら、この転移は、ろう材特に銅及びチタンの層に由来する原子の拡散に有利に作用する構造の細分化結晶粒界数の増化をひき起こす。かくして、同素体相転移を回避することにより、ジルコニウムへの銅の過度に速い拡散が回避され、かくして脆化化合物の形成が制限される。-チタンの供給が過度に多い場合ここで問題となっている幾何形状については10μmを超える層、共析晶組成物を超え得る含有量で、ひいては冷却中の多数の脆化金属間相の生成の危険性を伴って、Zr-Ag-Cu-Ti合金が局所的に生成される。ライニングされた部品の可塑変形による整形は、典型的には、圧延加工、カレンダ加工、型打ち加工、又は打ち出し加工により実現される。ライニングされた部品の形状は、典型的には膨らんだ形状、半円筒形又はその他である。化学デバイス要素を生産するためのライニングされたアセンブリ部品の組立て作業には、典型的には、例えば米国特許第4073427号明細書又は国際公開第03/097230号パンフレットに記述されている既知のあらゆる手段にしたがった溶接作業による前記部品間の継手の形成が含まれる。本発明のもう一つの目的は、典型的には1~10μmの間、好ましくは2~10μmの間、より好ましくは2~7μmの間、より一層好ましくは3~6μmの間に含まれる厚みのチタン又はチタン合金の層でその片面がライニングされていることを特徴とするジルコニウム又はジルコニウム合金の薄板にある。このような薄板は、可塑変形により容易に整形できるジルコニウムでライニングされた鋼のプレートを実現するのに特に適している。1mm未満、さらには0.5mm未満、場合によっては0.3mm以下の厚みで、これらの薄板は、さほど高価でない化学デバイス又は化学デバイス要素部品の製造を可能にする。本発明のもう一つの目的は、典型的には1~10μmの間、好ましくは2~10μmの間、より好ましくは2~7μmの間、そしてより一層好ましくは3~6μmの間の厚みのチタン又はチタン合金の層でライニングされたジルコニウム又はジルコニウム合金の薄板の実現方法であって、104Torr~102Torrの間に含まれる圧力下でマグネトロン陰極を備えたエンクロージャ内で陰極スパッタリングによってチタンを被着させることを特徴とする方法である。好ましくは、ジルコニウム又はジルコニウム合金の薄板は、予め清浄、脱脂され、処理すべき表面はイオン酸洗により酸洗いされている。本発明のもう一つの目的は、典型的かつ好ましくは1mm~50mmの間に含まれる厚みの鋼の支持体の層炭素鋼又はステンレス鋼、チタン又はチタン合金の中間層、及び典型的かつ好ましくは5mm未満、好ましくは1mm未満、さらには0.5mm未満、及びさらには0.3mm以下の厚みのジルコニウム又はジルコニウム合金の層を含む、ジルコニウム又はジルコニウム合金の層でライニングされた鋼のプレートである。本発明のもう一つの目的は、ジルコニウム又はジルコニウム合金の層でライニングされた鋼のプレートの製造方法であって、前記方法は以下の段階を含む。a鋼のプレート、典型的には鋼のプレートの寸法に近い大きさのジルコニウム又はジルコニウム合金の薄板、及び支持部品とライニングとの間の少なくとも一つのろう材を含むアセンブリの形成段階であって、前記ろう材が銀及び銅を含む合金である段階。b制御雰囲気ろう付けチャンバ内に初期アセンブリを導入する段階。c前記チャンバ内の制御雰囲気を形成する段階。d鋼のプレートにジルコニウムの薄板をろう付けにより固定するため、前記ろう材のろう付け温度に少なくとも等しい温度まで前記ユニットを再加熱する段階。前記方法は、前記アセンブリの形成の前に、前記ジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングにチタン又はチタン合金の層を被着させること、及び、チタン又はチタン合金でライニングされた面を前記ろう材と接触させるように前記ジルコニウムのライニングを位置づけることを特徴とする方法である。前述のように、ジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングは1mm未満、さらには0.5mm未満、場合によっては0.3mm以下の厚みである。被着は、104Torr~102Torrの間に含まれる圧力下でマグネトロン陰極を備えたエンクロージャ内での陰極スパッタリングによって実施可能である。プラズマで補助されるPVD被着、又は例えば冷間溶射タイプの熱プロジェクションによる被着、又さらには真空下のプラズマトーチによる被着といったその他の被着技術も考慮することができる。これらのあらゆる場合において、被着を実施する表面は、好ましくは、例えば清浄、脱脂され、場合によってイオン酸洗により酸洗いされるように、被着の前に適切に準備される。前述の通り、ろう材は、好ましくは市場で容易に入手できる銀及び銅を含む合金、典型的には、共融合金Ag72-Cu28に近い組成のAg-Cu二元合金、亜鉛も含む三元合金、又は、例えばAg55、Zn22、Cu21、及びSn2の銀、銅、亜鉛及び錫を含む四元合金、又さらには、例えばAg50、Zn16.5、Cu15.5及びCd18の銀、銅、亜鉛又はカドミウムを含む四元合金である。前述の通り、制御雰囲気は好ましくはかなり高い真空である。チャンバは典型的には103~101Paの間に含まれる低圧力下に設定される。しかしながら、特にろう材が錫又は亜鉛といった昇華傾向をもつ金属処理の際の炉又は装入物の汚染の危険性を含む場合、制御雰囲気として、典型的には5×103~104Paの間に含まれる分圧下のアルゴン、窒素、又はアルゴン-窒素混合物といったような中性ガスを利用することが好ましい。前述の通り、初期アセンブリは、約900°C未満、好ましくは支持体の鋼のオーステナイト化温度より低い温度にされる。本発明の方法には、有利には、ろう付け作業の全体又は一部分の間、典型的には0.1MPaを超える面圧力圧接圧力とも呼ばれるを前記アセンブリに加える段階が含まれる。本発明のもう一つの目的は、ライニングされた少なくとも一つの第一及び第二の組立部品を有する、ジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングを含む化学デバイス要素の製造方法であって、各々の前記ライニングされた組立部品が一つの鋼の支持部品及び少なくとも一つのジルコニウム又はジルコニウム合金のライニングを含んでおり、前記製造方法は以下の連続した段階を含むことを特徴とする。a請求項1~9のいずれか一つに記載のライニングされた組立部品を製造する段階。b前記ライニングされた組立部品を得るように、典型的には、圧延加工、曲げ加工、カレンダ加工、型打ち加工、又は打ち出し加工により、ライニングされた前記の中間の部品を整形する段階。c前記化学デバイス要素を得るようにライニングされた組立部品を組立てる段階。チタンでライニングされたジルコニウムの薄板の製造厚みが1mmでその長さ及び幅が被覆すべき鋼製薄板に応じて選択され、典型的には2m×1mである、ジルコニウム-ハフニウム合金Zr702参照番号UNSR60702の薄板を用いる。有機溶剤でジルコニウム-ハフニウム合金薄板を脱脂する。次に、被着に利用されることになるものと同じ設備を利用してライニングすべき表面のイオン酸洗を実施する。陰極スパッタリングにより、純粋Ti99.995の標的のチタン5μmの被着を実施する。化学デバイス要素の製造三つの初期アセンブリを実現する。その各々について、支持体薄板は、厚み10mm、長さ2m、幅1mのステンレス鋼316L参照番号UNSS31603である。-第一のものは、上述のものと同一であるがチタンのライニングをしていないジルコニウムの薄板を用いている。-第二のものは、先行例で記述されているものと同一であるチタンでライニングされたジルコニウムの薄板、及び、銀-銅のろう合金を用いている。-第三のものは、先行例で記述されているものと同一であるチタンでライニングされたジルコニウムの薄板、及び、銀-銅-亜鉛-錫の四元ろう合金を用いている。第一のアセンブリ-本発明外ジルコニウムの薄板を鋼の薄板に位置づける。前もって、有機溶剤を用いて脱脂したAg72-Cu28の合金帯状物を鋼の薄板に被着させた。この帯状物を、鋼の支持体とジルコニウムのライニングとの間にくるように位置づける。控え棒及び挟持板を用いて0.1MPaに近い圧力つまり一平方メートルあたり10トンの圧力を加えることにより、鋼の薄板とライニングとを一つに維持する。全体を真空下の炉内で830°Cの温度で、5×105mbarに近い圧力つまり5×103Paの圧力下でろう付けする。ライニングされた薄板を、まずは600°C程度の安定域まで真空を維持し、次に約500°Cまで窒素雰囲気下で、その後200°Cまで強制対流下で、ゆっくりと冷却する。全体の冷却時間は48時間に達する。課せられたこれらのゆっくりとした冷却条件にもかかわらず、ろう材とジルコニウムの薄板との間の界面付近で大きな離脱ゾーンが確認される。次に、この界面付近でアセンブリから試片を切取る。次に、これらの試片は、20mmの曲率半径で90°での折曲げ試験の対象となる。折曲げは、変形前にすでに観察された欠陥を悪化させるだけである。第二のアセンブリ第一の実施例において実現したチタンでライニングされたジルコニウムの薄板を、チタン面を鋼の薄板の方に向けて鋼の薄板に位置づける。前もって、有機溶剤を用いて脱脂されたAg72-Cu28合金の帯状物を鋼の薄板に被着させた。この帯状物を、ジルコニウムのライニングのチタン層と鋼の支持体との間にくるように位置づける。控え棒及び挟持板を用いて0.1MPa程度の圧力つまり一平方メートルあたり10トンの圧力を加えることにより、鋼の薄板とライニングとを一つに維持する。全体を真空下の炉内で830°Cの温度で、5×105mbar程度の圧力、つまり5×103Paの圧力下でろう付けする。次に、第一のアセンブリについて前述した通りに、全体をゆっくりと冷却する。ろう材とジルコニウムの薄板との間の界面は、チタン層が存在するおかげで離脱欠損を免れる。次に、この界面付近でアセンブリから試片を切取った。これらの試片で、20mmの曲率半径で90°での折曲げ試験を行った。この追加変形にもかかわらず、いかなる離脱も現われなかった。第三のアセンブリ第一の実施例において実現したチタンでライニングされたジルコニウムの薄板を、チタン面を鋼の薄板の方に向けて鋼の薄板に位置づける。前もって、Ag55-Cu21-Zn22-Sn2四元合金の帯状物を鋼の薄板に被着させた。この帯状物を有機溶剤を用いて脱脂し、ジルコニウムのライニングのチタン層と鋼の支持体との間にくるように位置づけた。控え棒及び挟持板を用いて0.1MPa程度の圧力を加えることにより、鋼の薄板とライニングとを一つに維持する。全体を真空下の炉内で750°Cの温度で、そしておよそ90mbar、すなわち、9×103Paのアルゴン分圧でろう付けする。次に、アセンブリを48時間冷却する。それから、半径250mmの半円筒形シェルを実現するために、アセンブリを曲げ加工する。その後、米国特許第4073427号明細書又は国際公開第03/097230号パンフレット中に記述されている技術の一つにしたがって、円筒形シェルをもう一つの半円筒形シェルに突合せ接合する。