有機溶剤を含有するガスから有機溶剤を回収する有機溶剤含有ガス処理システムであって、有機溶剤を含有する有機溶剤含有ガス中の前記有機溶剤を、吸着材を含有した吸着エレメントにて吸着し清浄ガスを生成する吸着部と、前記吸着エレメントに前記有機溶剤含有ガスよりも高温のガスを通過させ、前記吸着エレメントに吸着した前記有機溶剤を脱着し脱着ガスを生成する脱着部を有する濃縮装置と、吸着材を含有する吸着エレメントが、少なくとも原ガス吸着領域、追吸着領域、第1脱着領域、第2脱着領域、冷却領域から構成され、前記濃縮装置の脱着ガスを原ガス吸着領域、追吸着領域、第1脱着領域、第2脱着領域、冷却領域の順序で連続的または間欠的に通過するように構成され、追吸着領域から排出されたガスが冷却領域に接続され、該冷却領域から排出されたガスが第2脱着領域に接続され、該第2脱着領域から排出されたガスが追吸着領域に接続される循環経路を形成しているとともに、第1脱着領域のガスラインに窒素ガスを封入し、原ガス吸着域で吸着されずに通気した有機溶剤含有処理ガスを前記濃縮装置の吸着領域に戻す機能を有し、第1脱着領域から脱着した脱着ガスの全部もしくは一部を凝縮器にて回収する機能を有した回収装置と、を有する有機溶剤含有ガス処理システム。濃縮装置の吸着エレメントが円柱状もしくは円筒状である請求項1に記載の有機溶剤含有ガス処理システム。回収装置の吸着エレメントが円柱状もしくは円筒状である請求項1または2に記載の有機溶剤含有ガス処理システム。濃縮装置の吸着エレメントのエレメント構造がハニカム状である請求項1~3のいずれかに記載の有機溶剤含有ガス処理システム。回収装置の吸着エレメントのエレメント構造がハニカム状であることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の有機溶剤含有ガス処理システム。本発明は従来技術の課題を背景になされたもので、環境への有機溶剤の拡散を安定的に低減でき、特に、低濃度かつ大風量の有機溶剤含有ガスから、効率よく有機溶剤を回収でき、環境にも易しい有機溶剤含有ガス処理システムを提供することを課題とするものである。本発明は、以下の通りの有機溶剤含有ガス処理システムである。1.有機溶剤を含有するガスから有機溶剤を回収する有機溶剤含有ガス処理システムであって、有機溶剤を含有する有機溶剤含有ガス中の前記有機溶剤を、吸着材を含有した吸着エレメントにて吸着し清浄ガスを生成する吸着部と、前記吸着エレメントに前記有機溶剤含有ガスよりも高温のガスを通過させ、前記吸着エレメントに吸着した前記有機溶剤を脱着し脱着ガスを生成する脱着部を有する濃縮装置と、吸着材を含有する吸着エレメントが、少なくとも原ガス吸着領域、追吸着領域、第1脱着領域、第2脱着領域、冷却領域から構成され、前記濃縮装置の脱着ガスを原ガス吸着領域、追吸着領域、第1脱着領域、第2脱着領域、冷却領域の順序で連続的または間欠的に通過するように構成され、追吸着領域から排出されたガスが冷却領域に接続され、該冷却領域から排出されたガスが第2脱着領域に接続され、該第2脱着領域から排出されたガスが追吸着領域に接続される循環経路を形成しているとともに、第1脱着領域のガスラインに窒素ガスを封入し、原ガス吸着域で吸着されずに通気した有機溶剤含有処理ガスを前記濃縮装置の吸着領域に戻す機能を有し、第1脱着領域から脱着した脱着ガスの全部もしくは一部を凝縮器にて回収する機能を有した回収装置と、を有する有機溶剤含有ガス処理システム。2.濃縮装置の吸着エレメントが円柱状もしくは円筒状である上記1に記載の有機溶剤含有ガス処理システム。3.回収装置の吸着エレメントが円柱状もしくは円筒状である上記1または2に記載の有機溶剤含有ガス処理システム。4.濃縮装置の吸着エレメントのエレメント構造がハニカム状である上記1~3のいずれかに記載の有機溶剤含有ガス処理システム。5.回収装置の吸着エレメントのエレメント構造がハニカム状であることを特徴とする上記1~4のいずれかに記載の有機溶剤含有ガス処理システム。本発明の有機溶剤含有ガス処理システムは、濃縮装置及び回収装置共に有機溶剤の脱着にスチームを用いないため、回収溶剤中の水分を最小限に抑えることができ、有機溶剤を効率よく回収することができる。さらには、排水処理費用を大幅に削減でき、コストパフォーマンスにも優れるシステムを提供することができる。図1及び図2は本発明の好ましい実施の形態の一例を示す。本発明は、有機溶剤含有ガスを吸着、脱着することにより、有機溶剤の含有濃度を上げる濃縮装置と、前記濃縮装置から排出される濃縮ガスを吸着、脱着、回収して、かつ処理済ガスを前記濃縮装置に返送することできる回収装置から構成されている有機溶剤含有ガス処理システムである。図1は濃縮装置を示している。装置には、工場などから排出される有機溶剤を含有する原ガスA1が供給される。該原ガスA1は、吸着エレメントの吸着領域2に導入され、吸着エレメントに含有される吸着部材にて原ガス中の有機溶剤が吸着され、排気ダクトを通り清浄空気A2として排出される。また、脱着ガスB1はヒーターにて加熱され、過熱ガスとして脱着領域3に導入され、吸着領域で吸着材に吸着された有機溶剤を脱着し、濃縮ガスB2として排出される。これは、吸着エレメント1が回転移動することにより、連続処理が行われる。図2は回収装置を示している。該回収装置は円筒状吸着体が使用されることが好ましい。円筒状吸着体11は、原ガス吸着領域21、追吸着領域22、第1再生領域23及び第2再生領域24、さらに第2再生領域24から原ガス吸着領域21へ移り変わる間の位置に冷却領域25が設けられている。回転吸着体としては、吸着材をシート担持させ、円筒ハニカム状に成形したディスクハニカム型ハニローターであることが好ましい。原ガス吸着領域21には供給ファン5aによって前記濃縮装置の脱着領域3で脱着して得た濃縮ガスB2が供給される。該原ガス中の有機溶剤は該原ガス吸着領域21内を通過矢印C1方向に示すする間に吸着部材に吸着されて排気ダクトを通り清浄空気として排出される。吸着部材が原ガス吸着領域21に移動する前の冷却領域25の入口側には追吸着領域22を通過矢印C2で示すしたガスを導入し、導入されたガスが矢印E方向に沿って冷却領域25の吸着部材を通過することによって吸着部材を冷却し、原ガス吸着領域21で有機溶剤が吸着されやすいようにする。一方、吸着部材との熱交換によって温度が高まったガスはヒーター6aの入口側へ導入し、第2再生領域24における脱着用ガスとして使用するように構成する。次に、前記第2再生領域24を通過矢印D1方向に示すし、第2再生領域24の吸着部材から有機溶剤を脱着したガスはファン5bを介してクーラー9に供給し、冷却した後に追吸着領域22を流通矢印C2方向に示すさせ、第2再生領域24で脱着した有機溶剤を吸着させ、さらに追吸着領域22の出口ガスは冷却領域25の入口側に循環させる。追吸着領域22においては、原ガス吸着領域21の後に第2再生領域24で脱着した有機溶剤をさらに吸着するので、追吸着領域22の吸着部材の吸着量を増加させることができる。また、前記第1再生領域23で脱着されたガスは有機溶剤を高濃度に含んだ状態であり、その濃度は原ガス濃度に対して100~200倍程度となる。従って、原ガスが200ppm程度の比較的低濃度の場合でも、前記再生ガス濃度は30000ppm3以上になり、有機溶剤によっては爆発下限濃度を超えることになる。従って、前記第1再生領域23における脱着ガスの爆発燃焼に対する安全対策としては、該脱着ガスの酸素濃度を限界酸素濃度以下にする必要がある。通常、爆発燃焼範囲の溶剤ガス中の酸素濃度としては、安全を見て限界酸素濃度の1/3~1/4以下酸素濃度3以下で管理することが望ましく、窒素等の不活性ガスによって酸素と置換する方法が一般的である。そのため、第1脱着領域23ではヒーター6bで加熱した窒素ガスを該第1脱着領域23に通過矢印D2に示すさせ、酸素濃度を限界酸素濃度の1/3~1/4以下になるように調整を行ないながら該第1再生領域23の吸着部材から有機溶剤を脱着する。脱着された有機溶剤含有ガスは凝縮器8へ導入され有機溶剤が凝縮回収される。なお、凝縮器8へ導入する以前に高濃度とするために、バイパス路10及びファン5cを設けて凝縮器8の出口側排ガスを第1再生領域23の入口側へ循環する経路を形成している。このように回転吸着体を用いた連続式方法は、脱着に加熱空気を用いることにより吸着体を迅速に、しかも均一に加熱でき、さらに前記フローを採用することで安全に効率的に吸着脱着処理が安定に高くできるというメリットがある。前記回収装置から排出される被処理ガスは、図1のダクトA1と接続されており、図1の濃縮装置にて処理される。つまり、回収装置の被処理ガスを円筒状に形成されたハニカム状吸着体が吸着領域2と脱着領域3を巡回し連続的に有機溶剤を吸脱着処理を行なうことができる濃縮装置に返送され、該被処理ガス中のリークしている有機溶剤は濃縮装置で吸着され、処理されたガスは清浄ガスとして排出される。さらに濃縮装置及び回収装置ともに脱着にスチームを用いないため、回収溶剤中の水分を最小限に抑えることが出来、排水処理費用を大幅に低減できる、コストパフォーマンスの高いシステムとなる濃縮装置及び/または回収装置の吸着体はともにハニカム構造体が好ましく、素材は活性炭、ゼオライト、シリカゲルなどが好ましい。以下、実施例に基づいて詳細に説明する。実施例有機溶剤含有ガスとして、酢酸エチル200ppmを含む温度30°C、相対湿度60、処理ガス風量400Nm3minで濃縮装置に供給する。濃縮装置は、ゼオライトを担持させた吸着体を使用し、脱着処理には濃縮倍率が約6倍になるように加熱空気量を調整した。濃縮装置において脱着した酢酸エチル含有ガスを回収装置の原ガス吸着領域21に送った。本実施例のシステムにより清浄化されたガス中の酢酸エチル濃度は約4ppmまで低減され、濃縮装置の原ガス吸着領域から算出すると、除去率は約98であった。この濃縮ガス約1200ppmを継続的に回収装置に供給した。第1脱着領域のヒーター温度を140°Cに設定し、キャリアガスとして窒素ガスを約47Lminの流量で循環させた。さらに冷却凝縮の冷媒として5°Cの冷媒を流し、脱着された高濃度ガスを冷却凝縮させた。その結果、回収装置の処理ガス濃度は酢酸エチル約200ppmであった。該被処理ガスを前記濃縮装置の吸着領域2に返送した。