"半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物の製造方法であって、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物を含む含水率0.8質量以下の溶液を製造する工程と、前記溶液を含水率0.8質量以下で保存する工程を有する、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物の製造方法。半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物の製造方法であって、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物を含む含水率0.8質量以下の溶液を製造する工程と、前記溶液を含水率0.8質量以下かつ湿度が60以下の雰囲気下で保存する工程を有する、請求項1に記載の半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物の製造方法。前記高分子化合物が、活性光線を吸収する光吸収基を有する、請求項1または2記載の製造方法。減圧または不活性ガスによる加圧による水分留去工程を含む、請求項1~3の何れか一項に記載の半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物の製造方法。請求項1~4の何れか一項に記載の方法で得られた半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物。本発明の目的は、分子量の安定した半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物を得ることができる高分子化合物の製造方法および高分子化合物を提供することにある。すなわち、本発明の第一の要旨は、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物を含む含水率0.8質量以下の溶液を製造する工程と、前記溶液を含水率0.8質量以下で保存する工程を有する、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物の製造方法である。また、本発明の第二の要旨は、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物を含む含水率0.8質量以下の溶液を製造する工程と、前記溶液を含水率0.8質量以下かつ湿度が60以下の雰囲気下で保存する工程を有する、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物の製造方法である。また、本発明の第三の要旨は、前記高分子化合物が、活性光線を吸収する光吸収基を有する、上記半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物の製造方法である。また、本発明の第四の要旨は、減圧または不活性ガスによる加圧による水分留去工程を含む、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物の製造方法である。さらに、本発明の第五の要旨は、前記方法で得られた半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物である。本発明によれば、ポリエステル系高分子化合物を含む溶液の保存期間中の加水分解を抑制し、長期に亘り安定に保存することができる。すなわち、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物の分子量を制御し、分子量分布のバラツキ等が減少することにより、塗膜の均一性、パターンの解像性、反射防止能が安定するとともに、生産効率や歩留りも向上させることができる。以下に、本発明を実施するための代表的な態様を具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の態様に限定されるものではない。<ポリエステル系高分子化合物>本発明における半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物としては、一般的には官能基としてカルボン酸とヒドロキシル基を含む、少なくとも二種のモノマーを重合することによって製造されるポリエステル系高分子化合物である。中でも、エッチング速度の観点から、前記高分子化合物は、半導体リソグラフィー用反射防止膜Anti-RefrectiveCoating用として好ましく用いられる。本発明において、縮合重合の反応性を有する限り、前記モノマーが有する官能基は、アルキル基等で保護されていても特に問題ない。また、反射防止膜用として用いられる場合、ポリエステル系高分子化合物としては、反射防止能の観点から、芳香環および/またはイソシアヌル酸等を含むものが好ましい。また、本発明において、フォトリソグラフィー工程で使用される活性光線を吸収する部位を有するポリエステル系高分子化合物の側鎖に架橋剤が付加されたものであっても良い。本発明において、活性光線を吸収する光吸収基を有するポリエステル系高分子化合物とは、例えば、芳香環および/またはイソシアヌル酸等を含むものであって、官能基としてカルボン酸とヒドロキシル基を含む少なくとも二種のモノマーを重合することによって製造されるポリエステル系高分子化合物またはポリエーテル系高分子化合物を挙げることができる。なお、本発明における活性光線とは、フォトリソグラフィー工程に用いられる光線であり、例えば、g線436nm、i線365nm、KrFエキシマレーザー248nm、ArFエキシマレーザー193nmおよびF2エキシマレーザー波長157nm等がある。<製造工程>本発明では、製造装置として、公知の重合装置を用いることができる。工業的に量産可能な装置として、少なくとも熱媒体供給用の外套缶と、攪拌翼、凝縮器、減圧または加圧ライン、留去塔等を備えた重合槽を用いることが好ましい。前記ポリエステル系高分子化合物は、例えば、酸触媒存在下、官能基としてカルボン酸とヒドロキシル基を含む、少なくとも二種のモノマーを重合溶媒に溶解させ、重合反応に適当な温度まで加熱して縮重合反応により得ることができる。特に制限されないが、目的分子量に達するまでの反応時間の短縮および分子量の精密な制御の観点から、前記縮合重合反応は、100~150°Cが好ましく、120~145°Cが更に好ましい。ポリエステル系高分子化合物の側鎖に架橋剤を付加させる場合は、前記縮合重合反応によって得られたポリエステル系高分子化合物を含む反応溶液に、酸触媒例えば、pトルエンスルホン酸、架橋剤例えば、グリコールウリルやメラミン等を添加し反応させることで、ポリエステル系高分子化合物に含まれる官能基に架橋剤を付加させることができ、高分子化合物の側鎖に架橋剤が付加された高分子化合物を合成することができる。なお、架橋剤付加反応において、反応溶液中に酸触媒が残存している場合は、添加しなくてもよい。前記架橋剤付加反応は、架橋剤付加反応の効率的な進行と分子量の精密な制御の両方の観点から、50°C以下、好ましくは15~30°C、更に好ましくは18~22°Cの範囲が望ましい。前記ポリエステル系高分子化合物の重合に用いられる重合溶媒としては、特に制限されないが、モノマー、酸触媒、および高分子化合物のいずれをも溶解できる溶媒が好ましい。このような有機溶媒としては、例えば、アニソール、ベンゼン、トルエン、キシレン、1,4ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、γブチロラクトン、ヘキサン、ヘプタン、または、これらの混合溶媒等が挙げられる。前記ポリエステル系高分子化合物の重合に用いられる酸触媒としては、特に制限されないが、例えば、シュウ酸、無水マレイン酸、マレイン酸、p-トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、硫酸、塩酸、硝酸等が挙げられる。工業性の観点から、p-トルエンスルホン酸が好ましい。前記縮重合反応において、官能基であるカルボン酸をアルキル基等で保護したモノマーを用いて、脱水および/または脱アルコール反応等を制御することが好ましい。これによりゲル化等を抑制することができるため、フォトリソグラフィー用組成物、特に反射防止膜用高分子化合物に用いるのに適したポリエステル系高分子化合物を得ることが可能である。詳しくは後述するが、前記縮重合反応において、減圧または不活性ガスによる加圧等により、効率良く、脱水および/または脱アルコール反応等を行うことができる。前記高分子化合物において、側鎖に付加される架橋剤としては、例えば、グリコールウリル、メチル化グリコールウリル、ブチル化グリコールウリル、テトラメトキシグリコールウリル、メチル化メラミン樹脂、N―メトキシメチルメラミン、ウレタンウレア、アミノ基またはビニルエーテルを含む群から選択される。特に、反射防止膜性能に優れる観点から、グリコールウリル系が好ましい。更に、非芳香族の特徴を併せ持つことにより、エッチングレートを向上させることができる。<水分留去工程>前記ポリエステル系高分子化合物を含む溶液の水分留去方法について、以下に記述する。しかし、加圧条件や減圧条件等は、反応液の量や粘度等、重合槽の形態容量や形等にも影響を受けるため、これらの例は、本発明の範囲を如何様にも限定もしくは減縮することを意図したものではなく、本発明を実施するために排他的に利用しなければならない条件、パラメータまたは値を教示するものと解釈されるべきものではない。反応工程における加圧留去脱水および/または脱アルコールの手法としては、加圧による留去等がある。反応分子量変化および温度等とのバランスをとりながら、加圧度の調整が必要である。また、副反応等の抑制や安全性の観点から、窒素やヘリウムやアルゴンの希ガス等の不活性ガスを用いることが好ましい。特に、経済的観点から、窒素を用いることが最も好ましい。前述の通り、加圧条件は、反応液の量や粘度等、重合槽の形態容量や形等にも影響を受けるため、一概には言えないが、本発明の好ましい一実施態様として、反応制御や水分留去の観点から、前記ポリエステル系高分子化合物を含む溶液反応液1Lに対し、008~1.7L/min、好ましくは0.2~1.2L/min、特に好ましくは0.3~1.0L/minの範囲で窒素フローすることが好ましい。反応工程における減圧留去脱水および/または脱アルコール反応時の温度と減圧条件は相関関係にあり、また装置の形態、攪拌状態によっても著しく変わるが、それぞれ共沸により溶媒が著しく留去しない範囲でバランスをとりながら調整する必要がある。前述の通り、減圧条件は、反応液の量や粘度等、重合槽の形態容量や形等にも影響を受けるため、一概には言えないが、本発明の好ましい一実施態様として、反応制御や水分留去の観点から、真空度500~750torr、好ましくは650~700torrの範囲で減圧することが好ましい。減圧留去前記縮重合中の脱水および/または脱アルコールの方法を説明したが、重合反応後の高分子化合物溶液においても同様にエバポレーターにて減圧処理を行うことで、脱水および/または脱アルコールを行う事が出来る。脱水および/または脱アルコール反応時の温度と減圧条件は相関関係にあり、また装置の形態、攪拌状態によっても著しく変わるが、それぞれ共沸により溶媒が著しく留去しない範囲でバランスをとりながら調整する必要がある。前述の通り、減圧条件は、重合液の量や粘度、溶媒種等、重合槽の形態容量や形等にも影響を受けるため、一概には言えないが、本発明の好ましい一実施態様として、水分留去の観点から、真空度100~750torr、好ましくは200~600torr、更に好ましくは、300~500torrの範囲で減圧することが好ましい。また、温度は高分子化合物が反応しない温度であれば特に限定されないが、該高分子化合物の分子量変化抑制の観点から、60°C以下が好ましく、さらに50°C以下が好ましく、特に40°C以下が好ましい。<保存工程>本発明において、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物を含む溶液中の水分量を0.8質量以下、好ましくは0.5質量以下に保存する工程を有する。前記条件で保存することにより、加水分解等による分子量の変動を抑制することができる。なお、半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物を含む溶液を保存する場合、水分量が0.8質量以下であれば、必要に応じて、適宜溶媒等を用いて希釈してもよい。保存温度前記ポリエステル系高分子化合物を含む溶液の保存においては、加水分解反応の抑制の観点から、30°C以下が好ましく、更に好ましくは15°C以下、特に好ましくは0°C以下である。保存圧力保存圧力については特に限定されないが、通常大気圧である。保存環境保存の水分量を一定に保つために、密閉した状態で保存する事が好ましい。密閉する方法は、密閉機能を備えた空間で貯蔵しておく方法、密閉機能を備えた袋に貯蔵しておく方法、密閉機能を備えたシートで覆う方法、密閉容器に保存する方法等が挙げられる。この中でも、密閉容器に貯蔵する事が最も簡便で好ましい。保存湿度得られたポリエステル系高分子化合物を含む溶液は加水分解して、劣化を起こすため、容器に充填した際の空隙部分の湿度を60以下にする事が好ましく、40以下がより好ましく、20以下とすることがさらに好ましい。また、ポリエステル系高分子化合物を含む溶液は、光による劣化を起こしやすいため、遮光下で保存することが好ましい。遮光する方法としては、ポリエステル系高分子化合物が遮光されている状態であれば特に制限されないが、具体的には、遮光機能を備えた空間で貯蔵しておく方法、遮光機能を備えた容器に貯蔵しておく方法、遮光機能を備えたシートで覆う方法等が挙げられる。この中でも、遮光機能を備えた容器に入れ、貯蔵することもしくは、遮光空間で貯蔵する事が遮光性の面から好ましい。本発明において、保存する前記ポリエステル系高分子化合物を含む溶液は、前記ポリエステル系高分子化合物を含む溶液であれば特に限定されず、重合反応後の溶液、再沈殿精製して得られた高分子化合物の粉体を良溶媒に再溶解したものであってもよい。以下の具体例は、本発明を利用した高分子化合物の製造方法の例示である。しかし、これらの例は、本発明の範囲を如何様にも限定もしくは減縮することを意図したものではなく、本発明を実施するために排他的に利用しなければならない条件、パラメータまたは値を教示するものと解釈されるべきものではない。評価方法分子量測定方法下記実施例および比較例において得られた高分子化合物の重量平均分子量は、GPCにより、ポリスチレン換算で求めた測定条件:乾粉50mg/溶離液5mL、溶離液:1.7mMリン酸/THF。水分量測定方法下記実施例および比較例で得られた高分子化合物の水分量は、カールフィッシャー水分測定装置三菱化学CA-200型を用い、定電流分極電位差法により検出した。また、大気中の水分を吸湿しないように、乾燥窒素雰囲気中で測定を実施した。湿度測定方法下記実施例および比較例で得られた湿度の測定は、CUSTOM製CTH-201を用いて測定した。尚、本実施例および比較例において、特に断りの無い限り、反応工程は200rpmの攪拌条件下で実施した。[実施例1]1、3、5トリスイソシアヌレート、デカヒドロ-2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル、pトルエンスルホン酸水和物1.303g,6.85mmol、およびアニソールを三口フラスコに充填し、DeanStarkトラップを用いて脱水および脱メタノール反応を行いながら130°Cで10時間重合し、下記式1に示すポリエステル系高分子化合物重量平均分子量:3,184、収率:約40を得た。尚、反応の際、0.02L/minで窒素フロー反応液1Lに対して、0.5L/minし、原料環境由来および反応生成物である水を効率よく留去した。反応後、反応液の水分量を測定すると、0.6質量であった。[実施例2]1、3、5トリスイソシアヌレート、デカヒドロ-2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル、pトルエンスルホン酸水和物1.303g,6.85mmol、およびアニソールを三口フラスコに充填し、DeanStarkトラップを用いて脱水および脱メタノール反応を行いながら130°Cで10時間重合し、前記式1に示すポリエステル系高分子化合物重量平均分子量:3,286、収率:約40を得た。尚、反応の際、0.04L/minで窒素フロー反応液1Lに対して、1.0L/minし、原料環境由来および反応生成物である水を効率よく留去した。反応後、反応液の水分量を測定すると、0.3質量であった。実施例31、3、5トリスイソシアヌレート、デカヒドロ-2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル、pトルエンスルホン酸水和物1.303g,6.85mmol、およびアニソールを三口フラスコに充填し、DeanStarkトラップを用いて脱水および脱メタノール反応を行いながら130°Cで9時間重合し、前記式1に示すポリエステル系高分子化合物重量平均分子量:3,175、収率:約40を得た。尚、反応の際、内圧700torrまで減圧し、原料環境由来および反応生成物である水を効率よく留去した。反応後、反応液の水分量を測定すると、0.6質量であった。実施例41、3、5トリスイソシアヌレート、デカヒドロ-2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル、pトルエンスルホン酸水和物1.303g,6.85mmol、およびアニソールを三口フラスコに充填し、DeanStarkトラップを用いて脱水および脱メタノール反応を行いながら130°Cで9時間重合し、前記式1に示すポリエステル系高分子化合物重量平均分子量:3,284、収率:約40を得た。尚、反応の際、内圧650torrまで減圧し、原料環境由来および反応生成物である水を効率よく留去した。反応後、反応液の水分量を測定すると、0.3質量であった。実施例51、3、5トリスイソシアヌレート、デカヒドロ-2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル、pトルエンスルホン酸水和物1.303g,6.85mmol、およびアニソールを三口フラスコに充填し、DeanStarkトラップを用いて脱水および脱メタノール反応を行いながら120°Cで13.5時間重合し、前記式1に示すポリエステル系高分子化合物重量平均分子量:3,188、収率:約40を得た。この重合液をフラスコに移し替えエバポレーターにセットして、温度40°C、真空度300torrで脱水を行った。脱水後の反応液の水分を測定すると0.6質量であった。実施例61、3、5トリスイソシアヌレート、デカヒドロ-2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル、pトルエンスルホン酸水和物1.303g,6.85mmol、およびアニソールを三口フラスコに充填し、DeanStarkトラップを用いて脱水および脱メタノール反応を行いながら130°Cで10時間重合し、前記式1に示すポリエステル系高分子化合物重量平均分子量:3,280、収率:約40を得た。尚、反応の際、0.02L/minで窒素フローした。この重合液をフラスコに移し替えエバポレーターにセットして、温度40°C、真空度300torrで脱水を行った。脱水後の反応液の水分を測定すると0.3質量であった。比較例11、3、5トリスイソシアヌレート、デカヒドロ-2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル、pトルエンスルホン酸水和物1.303g,6.85mmol、およびアニソールを三口フラスコに充填し、DeanStarkトラップを用いて脱水および脱メタノール反応を行いながら120°Cで13.5時間重合し、前記式1に示すポリエステル系高分子化合物重量平均分子量:3,180、収率:約40を得た。尚、反応の際、加圧も減圧も実施しなかった。反応後、反応液の水分量を測定すると、1.3質量であった。比較例2反応温度を125°Cで行った以外は、比較例1と同様に実施した。反応後、反応液の水分量を測定すると、0.9質量であった。重量平均分子量:3,282、収率:約40実施例1~6および比較例1、2で作製した反応液を密閉容器に保存し、5°C、25°Cの温度でサンプルを保存し、3日後25°C保存または14日後5°C保存の分子量の減少率および含水率を評価した。評価結果を表1に示す。表1の評価は、GPCで重量平均分子量Mwを測定し、そのMw減少率によって評価した。評価基準は、下記の通りである。◎:3日以上保存しても、Mw変化率が4未満○:3日以上保存しても、Mw変化率が4~6未満×:3日以上保存しても、Mw変化率が6以上[実施例7]実施例2と同様にして得た反応液に、テトラヒドロフラン75.15gとテトラメトキシグリコールウリルTMGU12.81g,0.805molを添加し、20°Cで5.5時間反応させた。その後、トリエチルアミン0.6932g,6.85mmolを加えて反応を停止させた。この反応液をTHF11gおよびIPA35gの混合溶媒で希釈し、下記式2に示すポリエステル系高分子化合物重量平均分子量:5,721を得た。反応液の水分量を測定すると、0.3質量であった。[実施例8]実施例3と同様にして得た反応液に、テトラヒドロフラン75.15gとテトラメトキシグリコールウリルTMGU12.81g,0.805molを添加し、20°Cで5.5時間反応させた。その後、トリエチルアミン0.6932g,6.85mmolを加えて反応を停止させた。この反応液をTHF11gおよびIPA35gで希釈し、前記式2に示すポリエステル系高分子化合物重量平均分子量:5,721を得た。反応液の水分量を測定すると、0.6質量であった。[比較例3]比較例1と同様にして得た反応液に、テトラヒドロフラン75.15gとテトラメトキシグリコールウリルTMGU12.81g,0.805molを添加し、20°Cで5.5時間反応させた。その後、トリエチルアミン0.6932g,6.85mmolを加えて反応を停止させた。この反応液をTHF11gおよびIPA35gで希釈し、前記式2に示すポリエステル系高分子化合物重量平均分子量:5,719を得た。反応液の水分量を測定すると、1.3質量であった。[比較例4]比較例2と同様にして得た反応液を用いた以外は、比較例3と同様に実施した。反応液の水分量を測定すると、0.9質量であった。重量平均分子量:5725、収率:約40実施例7および8、比較例3および4で作製した反応液を密閉容器に保存し、5°C、25°Cの温度でサンプルを-15°Cで保存し、分子量の変化率および含水率を評価した。評価結果を表2に示す。表2の評価は、GPCで重量平均分子量Mwを測定し、そのMw変化率によって、前記の評価基準と同様に評価した。[実施例9~11]実施例2の方法で得られたポリエステル系高分子化合物を含む溶液を、湿度20、40、60環境下で遮蔽容器に充填し、温度25°Cで各々保存した。[実施例12~14]実施例7の方法で得られたポリエステル系高分子化合物を含む溶液を、湿度20、40,60の環境下で容器に充填し、温度-15°Cで各々保存した。実施例9~14で作製した反応液を密閉容器に保存し、分子量の変化率および含水率を評価した。評価結果を表3に示す。表3の評価は、GPCで重量平均分子量Mwを測定し、そのMw変化率によって、前記の評価基準と同様に評価した。表1より、実施例1~6で得られた反応液の様に、ポリエステル系高分子化合物を含む溶液の含水率が0.8質量以下の場合は、加水分解による分子量の変動を抑制することができた。また、保存温度が低い方が、長期に亘り、安定的である傾向が確認された。一方、比較例1および2の様に、ポリエステル系高分子化合物を含む溶液の含水率が0.8質量より多い場合は、加水分解反応の抑制が困難であり、安定的に保存することができなかった。表2より、架橋剤が付加したポリエステル系高分子化合物を含む溶液においても、含水率が0.8質量以下の実施例7および8は、加水分解による分子量の変動を抑制することができた。一方、比較例3および4の様に、含水率が0.8質量より多い場合は、加水分解反応等の抑制が困難であり、安定的に保存することができなかった。また、保存温度が低い方が、長期に亘り、安定的である傾向が確認された。表3より、溶液中の含水率に加え、保存湿度を60以下に保つことにより、加水分解を抑制し、安定に保存できることが確認できた。よって、本発明により、安定的に半導体リソグラフィー用ポリエステル系高分子化合物を製造することができる。"