容器の内部の気体を排出する排出口と、前記容器の内部に気体を注入する注入口とを備えた容器の中に、嫌気性接着剤が塗布されたピボットアッセンブリを配置する工程と、前記容器の内部に、前記ピボットアッセンブリと共に酸化剤としての金属材を配置する工程と、前記注入口より不活性ガスを注入するとともに、前記排出口から前記容器の内部の気体を排出して、前記気体を前記不活性気体に置換する気体置換工程と、加熱装置にて前記軸受けを加熱して前記嫌気性接着剤を硬化する硬化工程とを含むことを特徴とするピボットアッセンブリの製造方法。請求項1に記載のピボットアッセンブリの製造方法において、前記金属材が純鉄の粉末であることを特徴とするピボットアッセンブリの製造方法。請求項2に記載のピボットアッセンブリの製造方法において、前記容器内部に水分を加えることを特徴とするピボットアッセンブリの製造方法。請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のピボットアッセンブリの製造方法において、前記容器内部に注入する前記不活性ガスが窒素ガスであることを特徴とするピボットアッセンブリの製造方法。しかしながら、酸素を遮断するために、真空環境を構成するには密閉容器の強度が十分でないと、大気圧によりつぶれてしまうという問題がある。また、先行技術では酸素が存在しない雰囲気を真空環境としているが、実際には酸素濃度はそれほど下がらないため嫌気性の接着剤は十分には硬化しない場合がある。本案はこのような問題に鑑み、十分に無酸素状態を構成し、嫌気性接着剤を用いた場合であっても未硬化部分が生じることのないピボットアッセンブリの製造方法を提供することを目的とする。上述した目的を達成するべく本発明に係るピボットアッセンブリの製造方法は、容器の内部の気体を排出する排出口と、前記容器の内部に気体を注入する注入口とを備えた容器の中に、嫌気性接着剤が塗布されたピボットアッセンブリを配置する工程と、前記容器の内部に、前記ピボットアッセンブリと共に酸化剤としての金属材を配置する工程と、前記注入口より不活性ガスを注入するとともに、前記排出口から前記容器の内部の気体を排出して、前記気体を前記不活性気体に置換する気体置換工程と、加熱装置にて前記軸受けを加熱して前記嫌気性接着剤を硬化する硬化工程とを含むことを特徴とする。また、前記金属材が純鉄の粉末であるのが好ましい。また、前記容器内部に水分を加えるのが好ましい。また、前記容器内部に注入する前記不活性ガスが窒素ガスであるのが好ましい。本発明の軸受け製造方法によれば、密閉容器内の酸素濃度を嫌気性接着剤が硬化するのに十分な濃度まで容易に下げることが可能である。また、密閉容器の圧力は窒素置換を行うだけであるため、大気圧と大きく変動することが無く、安価な容器にて行うことが出来る。以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。図1は、本発明の一実施形態に係るピボットアッセンブリ1を備えたHDD10を示す概略斜視図である。図2は、ピボットアッセンブリ1を示す概略断面図である。図1において、ピボットアッセンブリ1に支えられたアクチュエーター11の先端にある磁気ヘッド12が磁気ディスク13の上を移動することにより、情報を記憶させたり、記憶させた情報を取り出したりしている。図2において、ピボットアッセンブリ1は、円柱形状のシャフト2と第1のベアリング3と第2のベアリング4と第1のハブ5と第2のハブ6とを備えている。シャフト2は、その一端が第1のベアリング3の内輪31に固定され、他端が第2のベアリング4の内輪41に固定されて支えられている。また、第1のベアリング3の外輪32には第1のハブ5が、第2のベアリング4の外輪42には第2のハブ6が固定されている。シャフト2と第1のベアリング3の内輪31および第2のベアリング4の内輪41とは、接合部1aで嫌気性接着剤7によって固定されている。同様に、第1のベアリング3の外輪32と第1のハブ5との固定および第2のベアリング4の外輪42と第2のハブ6との固定も、接合部1bで嫌気性接着剤7によって行われている。以下に、ピボットアッセンブリ1の製造方法について述べる。図3は、ピボットアッセンブリ1の製造方法を示すフローチャート図である。図3において、ピボットアッセンブリ1の製造方法は、ピボットアッセンブリ1を配置する工程としてのステップ1S1と、金属材20を配置する工程としてのステップ2S2と、気体置換工程としてのステップ3S3と、硬化工程としてのステップ4S4とを含む。図4に、ピボットアッセンブリ1の製造方法に用いる容器100の概略図を示した。図4において、容器100は、容器100の内部の気体を排出する排気口110と、容器100の内部に気体を注入する注入口120とを備えている。ピボットアッセンブリ1を配置する工程S1では、容器100の内部に、嫌気性接着剤7が塗布されたピボットアッセンブリ1を配置する。図5は、嫌気性接着剤7が塗布されたピボットアッセンブリ1の様子を示す概略断面図である。図5において、例えば、嫌気性接着剤7は、シャフト2と第1のベアリング3の内輪31との間に塗布する。このとき、嫌気性接着剤7には、はみ出し部71が生じる場合がある。金属材20を配置する工程S2では、容器100の内部に、ピボットアッセンブリ1と共に酸化剤としての金属材20を配置する。酸化剤としての金属材20は純鉄、マグネシウム、亜鉛、銅などが好適であり、金属材20はその表面積を大きくするためにバルク材よりは粉末状にする方が好ましい。例えば、容器100の内部に配置した金属材20による化学反応式は次のようになる。4Fe3O2→2Fe2O3鉄の場合2MgO2→2MgOマグネシウムの場合2ZnO2→2ZnO亜鉛の場合CuO→CuO銅の場合ピボットアッセンブリ1を配置する工程S1と金属材20を配置する工程S2との順序は、どちらが先でもよい。ここで、図6に示すように、金属材20として、特に純鉄を用いた場合、水30を含ませることにより、純鉄と容器100内の酸素と水30が反応し、酸素がより消費される結果、容器内部の酸素濃度が速やかに低下する。この場合の化学反応式は次のようになる。4Fe3O26H2O→4FeOH3気体置換工程S3では、注入口120より不活性ガスを注入するとともに、排出口110から容器100の内部の気体を排出して、気体を不活性気体に置換する。不活性ガスとしては、窒素が好ましい。この工程により、容器100の内部の酸素濃度は徐々に低下し、嫌気性接着剤7の硬化に必要な酸素濃度に達する。窒素置換にかかる時間は容器100の大きさにもよるが、量産で使用できるレベルである1立方メートルで30分程度、さらに酸化が進み無酸素状態の容器内に30分放置するだけで嫌気性接着剤7の金属非接触部および隠蔽箇所の硬化が完了する。硬化工程S4では、図示しない加熱装置にてピボットアッセンブリ1を加熱して嫌気性接着剤7を硬化する。加熱装置としては、よく知られているヒーターを用いることができる。嫌気性接着剤7の硬化を促進するための熱は通常の真空状態では70°Cから100°C以上が必要とされるが、窒素置換と酸化剤による脱酸素状態を作り上げることにより、60°Cから70°Cという低い温度でも硬化が促進される。実施例嫌気性接着剤7の硬化処理温度と硬化度を評価した結果を、比較例1および比較例2、実施例1から実施例4として表1に示した。硬化度は硬さおよび耐薬品性で評価した。酸化剤としては、純鉄の粉末を用いた。表には、酸化剤のあり、なし、処理温度、容器100内の雰囲気、処理圧力を示した。評価は、下記の4段階で行った。◎:優非常に優れる○:良良好△:不可劣る×:不可非常に劣る表1からわかるように、比較例1の真空状態だけでは加熱装置にて処理温度100°Cに加熱した状態であっても嫌気性接着剤7の硬化は促進されない。また、比較例2では容器100の内部の雰囲気を窒素ガスで置換したものであるが、窒素ガスで置換することによって比較例1よりは接着剤の硬化の促進が見られる。しかし、まだ必ずしも十分な硬化が得られていない。これに対して、本願発明のように容器100の内部の雰囲気を窒素ガスで置換すると共に、容器100の内部に純鉄の粉末からなる酸化剤を設置することによって著しい硬化の促進が図られ、非常に優れた接着剤の硬化を得ることができ、かつ優れた耐薬品性を示す。さらに低い処理温度であっても十分な硬化を得られる。本実施の形態では、容器内の雰囲気として工業的に安価な窒素ガスを用いているが、窒素ガスに限定されるものではなく、不活性ガスであればよい。酸化剤を容器の底部に設置した場合には、窒素ガスより比重の重いアルゴンガスを用いた方がより効果的である。