"造粒したMn3O4粉末を焼成して得られるMn2O3砥粒であって、前記砥粒の平均2次粒子径が1~3μmであり、2次粒子径10μm以上の前記砥粒が含まれていないことを特徴とする遊離砥粒研磨用研磨剤。前記砥粒のBET法による比表面積が4.0m2/g以下であることを特徴とする請求項1に記載の遊離砥粒研磨用研磨剤。前記砥粒の平均1次粒子径が0.5~2μmであることを特徴とする請求項1または2に記載の遊離砥粒研磨用研磨剤。研磨加工対象物がガラスであることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の遊離砥粒研磨用研磨剤。Mn3O4粉末を1~5μmに造粒させた後、平均2次粒子径1~3μmのMn2O3砥粒へ焼成させることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の遊離砥粒研磨用研磨剤の製造方法。Mn3O4粉末をスプレードライ法で造粒することを特徴とする請求項5に記載の遊離砥粒研磨用研磨剤の製造方法。Mn3O4粉末を超音波ノズル又は圧縮空気によりスラリーを噴射する多流体ノズルを用いたスプレードライ法で造粒することを特徴とする請求項6に記載の遊離砥粒研磨用研磨剤の製造方法。スプレードライ法で用いるMn3O4スラリーの濃度が20~50wtであることを特徴とする請求項6または7に記載の遊離砥粒研磨用研磨剤の製造方法。スプレードライ法によって造粒したMn3O4粉末のタップ密度が1.0~1.3g/cm3であることを特徴とする請求項6~8のいずれかに記載の遊離砥粒研磨用研磨剤の製造方法。焼成温度が800°C~1000°Cであることを特徴とする請求項5~9のいずれかに記載の遊離砥粒研磨用研磨剤の製造方法。Mn2O3砥粒へ焼成させた後、前記Mn2O3砥粒を粉砕及び/又は解砕することを特徴とする請求項5~10のいずれかに記載の遊離砥粒研磨用研磨剤の製造方法。分級によって10μm以上のMn2O3砥粒を除去することを特徴とする請求項5~11のいずれかに記載の遊離砥粒研磨用研磨剤の製造方法。本発明は、研磨加工において研磨速度に優れ、表面に傷の発生が無く、且つ経済的に有利な遊離砥粒研磨用研磨剤及び遊離砥粒研磨用研磨剤の製造方法を提供することを目的とする。本発明者は、鋭意検討を行った結果、造粒したMn3O4粉末を焼成して得られるMn2O3砥粒であって、前記砥粒の平均2次粒子径が1~3μmであり、2次粒子径10μm以上の前記砥粒が含まれていないことを特徴とする遊離砥粒研磨用研磨剤は、研磨速度に優れると同時に、研磨加工時に被加工物の表面に傷が発生しないことを見出した。また、Mn3O4粉末の焼成温度を800°C~1000°Cとすることで、前記砥粒のBET法による比表面積が4.0m2/g以下となり、特に研磨速度に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。さらに、前記砥粒の平均1次粒子径が0.5~2μmである遊離砥粒研磨用研磨剤は、さらに研磨速度に優れることを見出した。以下に本発明を詳細に説明する。本発明は、造粒したMn3O4粉末を焼成して得られるMn2O3砥粒であって、前記砥粒の平均2次粒子径が1~3μmであり、2次粒子径10μm以上の前記砥粒が含まれていないことを特徴とする遊離砥粒研磨用研磨剤である。なお、遊離砥粒とは個々の研磨剤粒子が遊離状態になっているものを言う。本発明の遊離砥粒研磨用研磨剤は、主成分である平均2次粒子径が1~3μmのMn2O3砥粒と分散媒を含んでなる。分散媒としては、蒸留水、イオン交換水、アルコール等を挙げることができるが、取り扱い上、水系であることが好ましい。また、必要に応じて本発明の遊離砥粒研磨用研磨剤には分散剤等の添加、pH調整を行うこともできる。主成分である平均2次粒子径が1~3μmのMn2O3砥粒は、造粒したMn3O4粉末を焼成して得られる。造粒したMn3O4粉末を焼成することで、平均2次粒子径が1~3μmのMn2O3砥粒となり、2次粒子径10μm以上のMn2O3砥粒が形成されにくくなる。砥粒として用いるMn2O3粒子は平均2次粒子径1~3μmである。平均2次粒子径が1μmよりも小さいとガラスに対する研磨速度が低くなり、3μmよりも大きいと研磨加工時に被加工物の表面に傷が発生することがあるからである。平均2次粒子径の測定方法としては、レーザー回折法や走査型電子顕微鏡による画像解析法がある。なお、Mn2O3砥粒の2次粒子形状は、球状又は等軸状であることが好ましい。形状が球状又は等軸状であることで、研磨粉末の強度が高くなり、高い研磨速度を得ることができると考える。また、鋭利な部分が少ないため研磨加工時に被加工物の表面に傷が発生しにくくなるからである。また、本発明の遊離砥粒研磨用研磨剤の主成分であるMn2O3砥粒の平均1次粒子径が0.5~2μmであることがさらに好ましい。Mn2O3砥粒の平均1次粒子径が0.5~2μmとなることで、砥粒の各粒子の硬さが増加すると考えられるために、研磨速度がさらに向上する。平均1次粒子径の測定方法としては、走査型電子顕微鏡による画像解析法がある。また、本発明の遊離砥粒研磨用研磨剤には、2次粒子径10μm以上のMn2O3砥粒が含まれていないことを特徴とする。研磨剤の中に2次粒子径10μm以上のMn2O3粒子が存在すると、研磨加工時に被加工物の表面に傷が発生しやすくなるからである。なお、本発明の遊離砥粒研磨用研磨剤は、Mn2O3砥粒のBET法による比表面積が4.0m2/g以下であることが好ましい。比表面積が4.0m2/g以下とすることで、砥粒の粒子内部に気孔が少なくなり、粒子強度が向上し、研磨速度が高くなる。次に、本発明の遊離砥粒研磨用研磨剤の製造方法について説明する。本発明の遊離砥粒研磨用研磨剤は、Mn3O4粉末を1~5μmに造粒させた後、平均2次粒子径1~3μmのMn2O3砥粒へと焼成を行い、得られたMn2O3砥粒を分散媒に加えることで製造することができる。Mn3O4粉末は、例えば金属マンガンの加水分解反応で生成する水酸化マンガンを酸化して得る方法や、硫酸マンガン塩を塩基性水溶液で中和、酸化する方法で得ることができるが、これに限定されない。Mn3O4粉末の大きさとしては、1次粒子径は0.05~3μm、平均2次粒子径で1~5μmのものが好ましい。平均2次粒子径が1μmより小さいと、焼成後のMn2O3の2次粒子径が小さくなり、研磨速度が低くなる。平均2次粒子径が5μmより大きいと、焼成後のMn2O3の2次粒子径が大きくなり、研磨加工時に被加工物の表面に傷が発生しやすくなるからである。平均2次粒子径の測定方法としては、レーザー回折法や走査型電子顕微鏡による画像解析法がある。まず、Mn3O4粉末を造粒して平均粒子径1~5μmのMn3O4の造粒粒子にする。造粒方法としては、例えばMn3O4粉末をスラリー化してスプレードライする方法が挙げられる。スプレードライをする際にMn3O4の凝集粒子がある場合は、事前にボールミルやビーズミルを行うことが好ましい。粉砕メディアとしては、アルミナ、ジルコニア等のセラミックスが粉砕効率の高さから好ましい。1次粒径の小さいMn3O4粉末をスラリー化してスプレードライ法にて造粒する場合、スラリーはMn3O4粉末が良く分散された状態でスプレードライすることが好ましい。分散媒としては、イオン交換水、蒸留水、アルコール等が挙げられる。分散したスラリーをスプレードライすることで、造粒粉末内の構成粒子が偏りなく均等に配置されるため、その後の焼成時にMn2O3粒子の粒径が均一になる。Mn3O4粉末を分散する方法としては、スラリーのpH調整や分散剤添加を行う方法を例示できる。スプレードライの方式については、特に限定されることはないが、平均粒子径1~5μmの造粒粒子を作成するため、超音波ノズル方式や圧縮空気によりスラリーを噴射する多流体ノズルを用いたスプレードライヤーを使用することが好ましい。圧縮空気によりスラリーを噴射する多流体ノズルとは、例えば2流体ノズルや3流体ノズル、4流体ノズルを挙げる事ができる。スプレードライを行う際のMn3O4スラリーの濃度としては、2~50wtとすることが好ましい。2wtよりも低いと高密度の造粒粒子が得られず、50wtよりも高いとスラリー粘度が高くなりスプレードライ法を行えない。スラリー濃度を高くすると粘度が高くなるが、その場合、アニオン系、カチオン系、ノニオン系などの分散剤を適時添加して粘度を低下させても良い。また、Mn3O4スラリーの濃度を20~50wtとすると、造粒粒子が高密度であるため、焼成時に造粒粒子内の各Mn3O4粒子の焼結が促進されて、平均1次粒子径0.5~2μmのMn2O3砥粒となり、より好ましい。スプレードライ法によって作成した平均粒子径1~5μmであるMn3O4高密度造粒粒子は、タップ密度1.0~1.3g/cm3であることが好ましい。タップ密度が1.0g/cm3よりも低いと、造粒粒子内の各Mn3O4粒子が近接しておらず焼結の促進が少なく、1.3g/cm3よりも高いと1次粒子径が大きくなり、遊離砥粒研磨用研磨剤として使用した際に傷の原因となる。本発明のタップ密度は、市販のタップ密度測定装置株式会社セイシン企業製、KYT-2000を使用し、100mLのシリンダーに50.00gの試料を投入し、タップ高さ20mmで300回タップさせて測定した値である。次に、造粒したMn3O4粉末を焼成することでMn2O3粒子とする。焼成温度は800~1000°Cが好ましい。焼成温度を800~1000°Cとすることで、Mn2O3への酸化が促されると同時に造粒粒子、2次粒子内の焼結が促進され、粒子強度が向上し、研磨速度が向上する。焼成温度が800°Cより低いと、粒子同士はネッキングされた状態であり、あまり焼結されていないため、気孔が多いことから粒子の強度も低く、研磨速度が低くなる傾向にある。焼成する雰囲気としては、酸化される雰囲気、例えば大気中や空気流通の雰囲気、酸素ガス流通の雰囲気が挙げられる。還元性雰囲気は、Mn3O4からMn2O3への酸化反応が発生しないため、好ましくない。構成相がMn2O3であることは、X線回折法等を用いることで確認することができる。構成相がMn2O3となることで、ガラスに対する研磨速度が向上する。この原因については定かではないが、ガラスの構成分子であるSiO2とMnとの間で何らかの化学的相互作用が働いていると思われる。Mn3O4粒子を焼成する方法としては、特に限定されることはないが、箱形炉や環状炉、ロータリーキルンを使用することが挙げられる。特に粉末にかかる温度の均一化や焼成による2次粒子同士の凝集を防ぐことができるため、ロータリーキルンが好ましい。焼成することで得られるMn2O3粒子は粒子同士が凝集している場合があるため、凝集された粒子を平均2次粒子径1~3μmとするため、焼成されたMn2O3粒子をさらに粉砕及び/又は解砕することが好ましい。粉砕及び/又は解砕する方法としては、ボールミルやビーズミルを挙げることができる。粉砕メディアとしては、アルミナ、ジルコニア等のセラミックスが粉砕効率の高さから好ましい。また、Mn2O3粒子の2次粒子形状は球状又は等軸状であることが好ましい。形状が球状又は等軸状であることで、Mn2O3粒子の強度が高くなり、高い研磨速度を得ることができると考える。また、鋭利な部分が少ないため、研磨加工時に被加工物の表面に傷が発生しにくくなるからである。球状又は等軸状の砥粒を作成する方法としては、Mn3O4粉末のスラリーをスプレードライすることや、液中での合成によって球状となったMn3O4粉末を熱処理することで得られる。また、熱処理後に粒子同士の凝集がある場合には、粉砕を行うことが好ましい。また、本発明の遊離砥粒研磨用研磨剤は、2次粒子径10μm以上のMn2O3粒子が無いことを特徴とする。研磨剤の中に2次粒子径10μm以上のMn2O3粒子が存在すると、研磨加工時に被加工物の表面に傷が発生しやすくなるからである。Mn3O4粉末を1~5μmに造粒させた後、平均2次粒子径1~3μmのMn2O3砥粒へと焼成を行えば、2次粒子径10μm以上のMn2O3粒子はほとんど形成されないが、砥粒の粉砕及び/又は解砕することや、液中サイクロン等による分級を行うことで、2次粒子径10μm以上のMn2O3粒子を実質的になくすことができる。本発明の遊離砥粒研磨用研磨剤は、十分な研磨速度を有し、研磨加工時に被加工物の表面に傷が発生しにくいことから様々な材料の研磨工程に用いることができるが、特にマザーガラスやフォトマスク用石英ガラス、ハードディスク用強化ガラスなどのガラス材料に対して好適に用いることができる。本発明の遊離砥粒研磨用研磨剤は、十分な研磨速度を有し、研磨加工時に被加工物の表面に傷が発生しにくいことから様々な材料の研磨工程に用いることができ、しかも安価に製造することができる。以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら制限されるものではない。実施例1Mn3O4粉末として、東ソー製のブラウノックス一次粒径0.08μmを用いた。Mn3O4粉末50gに対してイオン交換した蒸留水を950gの割合で入れた。直径10mmのジルコニアボールを使用して48時間のボールミルを実施し、Mn3O4スラリーを作成した。前記スラリーを4流体ノズル方式であるスプレードライヤー藤崎電機製、商品名MDL-050Mを用いて入口温度200°C、風量1.00m3/minの条件で造粒乾燥を行ない、Mn3O4造粒品を得た。粒度分布計島津製作所製、商品名SALD-7100により測定した平均粒径D50は3.5μmであった。Mn3O4造粒品に対し、箱形電気炉を用いて550°Cで24時間の焼成を行った。焼成の雰囲気は大気とした。焼成で得られた粉末をX線回折装置理学電機製、商品名RINTUltima1IIIによって構成相の同定を行い、Mn2O3単相であることを確認した。焼成して得られたMn2O3粉末に対してSCミル三井鉱山社製、商品名SC150を用い、イオン交換した蒸留水とφ1mmのジルコニアビーズを粉砕メディアとして使用して湿式のビーズミルを実施した。粉砕時間は固形分1kg当り10分とした。得られた研磨用スラリーを粒度分布径島津製作所製、商品名SALD-7100で測定した結果、平均2次粒子径は2.3μmであり、10μm以上の砥粒は無かった。また、研磨用スラリーを乾燥した砥粒に対するBET測定装置湯浅アイオニクス社製、商品名MONOSORBによるBET比表面積は、7.7m2/gであった。実施例2実施例1と同様の方法でMn3O4造粒品を作製し、箱形電気炉を用いて700°Cで24時間の焼成を行った。焼成の雰囲気は大気とした。焼成で得られた粉末をX線回折装置によって構成相の同定を行い、Mn2O3単相であることを確認した。焼成して得られたMn2O3粉末を実施例1と同様の方法で湿式のビーズミルを実施して研磨用スラリーを得た。平均2次粒子径は2.0μmであり、10μm以上の砥粒は無かった。また、BET比表面積は、5.8m2/gであった。実施例3実施例1と同様の方法でMn3O4造粒品を作製し、箱形電気炉を用いて800°Cで24時間の焼成を行った。焼成の雰囲気は大気とした。焼成で得られた粉末をX線回折装置によって構成相の同定を行い、Mn2O3単相であることを確認した。焼成して得られたMn2O3粉末を実施例1と同様の方法で湿式のビーズミルを実施して研磨用スラリーを得た。平均2次粒子径は1.4μmであり、10μm以上の砥粒は無かった。また、BET比表面積は、4.0m2/gであった。実施例4実施例1と同様の方法でMn3O4造粒品を作製し、箱形電気炉を用いて900°Cで24時間の焼成を行った。焼成の雰囲気は大気とした。焼成で得られた粉末をX線回折装置によって構成相の同定を行い、Mn2O3単相であることを確認した。図1に焼成した粉末のX線回折パターンを示す。焼成して得られたMn2O3粉末を実施例1と同様の方法で湿式のビーズミルを実施して研磨用スラリーを得た。平均2次粒子径は1.0μmであり、10μm以上の砥粒は無かった。また、BET比表面積は、1.6m2/gであった。実施例5Mn3O4粉末として、東ソー製のブラウノックス一次粒径0.08μmを用いた。Mn3O4粉末20gに対してイオン交換した蒸留水980gを入れた。直径10mmのジルコニアボールを使用して48時間のボールミルを実施し、Mn3O4スラリーを作成した。前記スラリーを超音波ノズル方式であるスプレードライヤー日本ビュッヒ製、商品名B90を用いて入口温度120°C、風量120L/minの条件で造粒乾燥を行ない、Mn3O4造粒品を得た。この粉末のSEM画像から測定した平均粒径D50は1.0μmであった。Mn3O4造粒品に対し、箱形電気炉を用いて900°C、24時間の焼成を行った。焼成の雰囲気は大気とした。焼成で得られた粉末をX線回折装置によって構成相の同定を行い、Mn2O3単相であることを確認した。焼成して得られたMn2O3粉末に対してSCミルを用い、イオン交換した蒸留水とφ1mmのジルコニアビーズを粉砕メディアとして使用して湿式のビーズミルを実施した。粉砕時間は固形分1kg当り3分とした。得られた研磨用スラリーを乾燥させた粉末のSEM画像から測定した平均2次粒子径は1.0μmであり、10μm以上の砥粒は無かった。図2に900°Cで焼成した後、粉砕を行った粉末のSEM像を示す。形状は球状となっていた。また、BET比表面積は、2.6m2/gであった。実施例6Mn3O4粉末として、東ソー製のブラウノックスを用いた。スラリー濃度が20wtとなるようにMn3O4粉末とイオン交換した蒸留水を投入し、アニオン系分散剤として花王製の商品名ポイズ530をMn3O4粉末量に対して1.5wt添加してボールミルを実施し、Mn3O4スラリーを作成した。このスラリーを実施例1と同様の装置、同様の条件でスプレードライを行い、Mn3O4造粒品を得た。実施例1と同様の粒度分布計により測定した平均粒径D50は4.1μmであった。造粒した粒子のタップ密度を測定したところ、1.01g/cm3であった。Mn3O4造粒品に対し、実施例1と同様の箱形電気炉を用いて900°Cで8時間の焼成を行った。焼成で得られた粉末を実施例1と同様の方法で構成相の同定を行い、Mn2O3単相であることを確認した。焼成して得られた粉末を走査型電子顕微鏡にて観察したところ、平均1次粒子径0.7μmの粒子で構成されていた。焼成して得られたMn2O3粉末に対して実施例1と同様の方法で湿式のビーズミルを実施した。得られた研磨用スラリーを実施例1と同様の方法で測定したところ、平均2次粒子径は1.2μmであり、10μm以上の砥粒は無かった。また、BET比表面積は、1.5m2/gであった。実施例7スラリー濃度を30wtとした以外は、実施例6と同様にしてスプレードライを行い、造粒した粒子のタップ密度を測定したところ、1.18g/cm3であった。得られたMn3O4造粒品を実施例6と同様の条件で焼成を行った。焼成で得られた粉末をX線回折装置によって構成相の同定を行い、Mn2O3単相であることを確認した。焼成して得られた粉末を走査型電子顕微鏡にて観察したところ、平均1次粒子径1.0μmの粒子で構成されていた。焼成して得られたMn2O3粉末に対して実施例1と同様の方法で湿式のビーズミルを実施した。得られた研磨用スラリーを実施例1と同様の方法で測定した平均2次粒子径は1.4μmであり、10μm以上の砥粒は無かった。また、BET比表面積は、1.3m2/gであった。実施例8スラリー濃度を45wtとした以外は、実施例6と同様にしてスプレードライを行い、造粒した粒子のタップ密度を測定したところ、1.24g/cm3であった。得られたMn3O4造粒品を実施例6と同様の条件で焼成を行った。焼成で得られた粉末をX線回折装置によって構成相の同定を行い、Mn2O3単相であることを確認した。焼成して得られた粉末を走査型電子顕微鏡にて観察したところ、平均1次粒子径1.2μmの粒子で構成されていた。焼成して得られたMn2O3粉末に対して実施例1と同様の方法で湿式のビーズミルを実施した。得られた研磨用スラリーを実施例1と同様の方法で測定した平均2次粒子径は1.4μmであり、10μm以上の砥粒は無かった。図3に900°Cで焼成した後、粉砕を行った粉末のSEM像を示す。また、BET比表面積は、1.1m2/gであった。比較例1東ソー製のブラウノックスを焼成することなく、そのまま研磨砥粒としてイオン交換した蒸留水を添加して25の濃度に調整し、研磨用スラリーとした。比較例2東ソー製ブラウノックスをスプレードライを行わずに箱形電気炉にて大気雰囲気で900°C、24時間の焼成を行った。焼成の雰囲気は大気とした。焼成で得られた粉末をX線回折装置によって構成相の同定を行い、Mn2O3単相であることを確認した。焼成して得られたMn2O3粉末に対してφ10mmのアルミナボールを用いた湿式のボールミルを5時間行った。得られた研磨用スラリーの粒度分布径による平均2次粒子径は5.2μmであり、10μm以上の砥粒も存在した。また、BET比表面積は、1.4m2/gであった。研磨評価800mm×920mmの石英ガラス基板を片面大型研磨装置岡本工作機械製、商品名SPL-1400Rに設置し、SCミルによって得られた実施例1~5及び比較例1,2のスラリーに対してイオン交換した蒸留水を添加して25の濃度に調整し、研磨用スラリーとした。前記スラリーを使用して2時間の遊離砥粒研磨加工を実施した。研磨パッドはニッタハース製IC1000を用い、研磨圧力は0.1MPa、ガラスと工具の回転数は40rpmとした。加工後のガラス基板は、研磨加工前後の重量変化から研磨速度を、目視観察から研磨による傷の有無を評価した。結果を表1に示すが、実施例1~5の各温度で焼成したMn2O3粉末の研磨速度は、6~11μm/hであり、目視による傷も確認されなかった。特に、800°C、900°Cで焼成した粉末の研磨速度が高かった。比較例1では、加工速度が遅いものであった。また、比較例2では、研磨速度は10μm/hと良好であったが、目視傷が存在した。実施例6~8で作製したスラリーについても実施例1と同様の条件で研磨評価を行った。結果を表2に示すが、研磨速度は11~12μm/hであり、目視による傷も確認されなかった。"