"透明基材上に、下記a、b、c、及びdを含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有する光学フィルムであって、該ハードコート層の屈折率が1.45以上1.55以下であり、前記ハードコート層形成用組成物において下記a成分の含有量が下記b成分の含有量以上である、光学フィルム。a1分子中に3つ以上の官能基を有する化合物であって、Hoy法によるSP値SPaが19<SPa<25で、質量平均分子量Mwaが40<Mwa<1600である化合物b1分子中に3つ以上の官能基を有するウレタン化合物であって、Hoy法によるSP値SPbが19<SPb<25で、質量平均分子量Mwbが、150≦|Mwb-Mwa|≦500である化合物c前記透明基材に対する溶解能を有する溶剤d前記透明基材に対する膨潤能を有する溶剤前記cの溶剤が酢酸メチル及びアセトンのうち少なくとも1種である、請求項1に記載の光学フィルム。前記dの溶剤がメチルエチルケトンである、請求項1又は2に記載の光学フィルム。前記cの溶剤の含有量が前記dの溶剤の含有量以上である、請求項1~3のいずれか1項に記載の光学フィルム。前記aのSP値SPaが21<SPa<25である、請求項1~4のいずれか1項に記載の光学フィルム。前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである、請求項1~5のいずれか1項に記載の光学フィルム。前記ハードコート層のヘイズが1以下である、請求項1~6のいずれか1項に記載の光学フィルム。透明基材上にヘイズが1.0以下であるハードコート層を有する光学フィルムであって、光干渉法による反射率スペクトルをフーリエ変換して得られたパワースペクトルのピーク強度PV値が0.000~0.006である光学フィルム。前記PV値が0.000~0.003である、請求項8に記載の光学フィルム。請求項1~9のいずれか1項に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして含む偏光板。請求項1~9のいずれか1項に記載の光学フィルム又は請求項10に記載の偏光板を有する画像表示装置。請求項1~7のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法であって、前記透明基材上に、前記ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する、光学フィルムの製造方法。特許文献1に記載の手法でも、透明基材とハードコート層との間の界面反射により生じる干渉ムラがある程度抑制される。しかしながら、最近の画像表示装置はコントラスト比が高く、より黒締りのある高品位画像の要求が高まってきている。また、三波長光源下では干渉ムラが強調され易く、これらに応じて干渉ムラ抑制もより高いレベルのものが求められている。干渉ムラの原因となる界面反射は、透明基材とハードコート層との屈折率差が大きく、両者の間に明瞭な界面がある場合に起こり易い。特許文献4に記載の、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、及び酸化ジルコニウム屈折率:およそ2.20を含む組成物を硬化して得られたハードコート層は、酸化ジルコニウムを含むため屈折率が高い屈折率:およそ1.62ため、干渉ムラ抑制が十分でないと推測される。また、本発明者らの検討結果、特許文献1に記載されるような基材に対して溶解性を有する溶剤や浸透性を有する溶剤の基材の溶解や基材への浸透の程度によっては、ハードコート層形成時に硬化に伴う収縮を透明基材のハードコート層側が強く受けることなりカールが生じてしまう場合や、基材とハードコート層との間の界面がなくならず界面反射を有効に抑えられない場合があることが分かった。本発明の目的は、干渉ムラが抑制され、十分な硬度を有し、更にカールが抑制された光学フィルムを提供することである。本発明の別の目的は、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することである。本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、ハードコート層形成用組成物に用いる溶剤として、基材に対する溶解能と膨潤能を有する溶剤を用いることで、基材の膨潤によるモノマーの基材中への浸透と基材自体の溶解により基材とモノマーとが効果的に混ざり合って基材とハードコート層との屈折率界面での屈折率変化勾配が小さくなり≒界面がなくなり、干渉ムラを従来と比べて大幅に抑えることができることが分かった。また、基材との親和性がよくSP値が近く、低分子量のモノマーを使用することで、基材への該モノマーの浸透が進み、基材とハードコート層との混じり合いに効果的であり、更に官能基数の小さい低分子量モノマーを使用することでカールを抑制できることが分かった。また、基材との親和性がよくSP値が近く、質量平均分子量が40より大きく1600未満の範囲内で異なる2種の3官能以上のモノマーを使用することで、基材への2種のモノマーの浸透性の違いにより、膜厚方向に対して滑らかに変化していない異なった2種のモノマー分布が得られる。しかし2種のモノマーと基材の親和性は良く、混ざりやすいために、膜トータルとしてのモノマーと基材の分布は滑らかに変化することとなり=屈折率が膜厚方向に対して連続的に変化、いわば屈折率が連続的に変化するグラデーション層が形成され、干渉ムラを抑えることができることが分かったここで、2種のモノマー分布は各々膜厚方向に対して滑らかに変化してもよいが、1種のモノマーだけでは基材、グラデーション層、ハードコート層のどこかで屈折率が急峻に変化する領域ができてしまうことが多く、このように1種のモノマー分布が若干屈曲を持ってしまったとしても、もう1種の基材への染みこみ具合が異なるモノマーが存在することで、基材、グラデーション層、ハードコート層の全体では、モノマーの分布は膜厚方向に対して滑らかになるということである。更に、3官能以上の多官能モノマーを使用することで、硬度の高いハードコート層が得られる。即ち、上記本発明の目的は、下記手段により達成することができる。1.透明基材上に、下記a、b、c、及びdを含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有する光学フィルムであって、該ハードコート層の屈折率が1.45以上1.55以下であり、前記ハードコート層形成用組成物において下記a成分の含有量が下記b成分の含有量以上である、光学フィルム。a1分子中に3つ以上の官能基を有する化合物であって、Hoy法によるSP値SPaが19<SPa<25で、質量平均分子量Mwaが40<Mwa<1600である化合物b1分子中に3つ以上の官能基を有するウレタン化合物であって、Hoy法によるSP値SPbが19<SPb<25で、質量平均分子量Mwbが、150≦|Mwb-Mwa|≦500である化合物c前記透明基材に対する溶解能を有する溶剤d前記透明基材に対する膨潤能を有する溶剤2.前記cの溶剤が酢酸メチル及びアセトンのうち少なくとも1種である、上記1に記載の光学フィルム。3.前記dの溶剤がメチルエチルケトンである、上記1又は2に記載の光学フィルム。4.前記cの溶剤の含有量が前記dの溶剤の含有量以上である、上記1~3のいずれか1項に記載の光学フィルム。5.前記aのSP値SPaが21<SPa<25である、上記1~4のいずれか1項に記載の光学フィルム。6.前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである、上記1~5のいずれか1項に記載の光学フィルム。7.前記ハードコート層のヘイズが1以下である、上記1~6のいずれか1項に記載の光学フィルム。8.透明基材上にヘイズが1.0以下であるハードコート層を有する光学フィルムであって、光干渉法による反射率スペクトルをフーリエ変換して得られたパワースペクトルのピーク強度PV値が0.000~0.006である光学フィルム。9.前記PV値が0.000~0.003である、上記8に記載の光学フィルム。10.上記1~9のいずれか1項に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして含む偏光板。11.上記1~9のいずれか1項に記載の光学フィルム又は上記10に記載の偏光板を有する画像表示装置。12.上記1~7のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法であって、前記透明基材上に、前記ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する、光学フィルムの製造方法。本発明によれば、干渉ムラが抑制され、十分な硬度を有し、更にフィルムのカールを抑制できるハードコート層を透明基材上に形成し得るハードコート層形成用組成物を提供することができる。また、本発明によれば、干渉ムラが抑制され、十分な硬度を有し、カールが抑制された光学フィルムを提供することができる。以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、数値1~数値2という記載は数値1以上数値2以下の意味を表す。また、本明細書において、メタアクリレートとの記載は、アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれかの意味を表す。メタアクリル酸、メタアクリロイル等も同様である。なお、本発明においては、モノマーに相当する繰り返し単位、及びモノマーに由来する繰り返し単位とは、モノマーの重合後に得られる成分が繰り返し単位となることを意味している。[光学フィルム]本発明の光学フィルムの一態様は、透明基材上に、下記a、b、c、及びdを含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有する光学フィルムであって、該ハードコート層の屈折率が1.45以上1.55以下であり、前記ハードコート層形成用組成物において下記a成分の含有量が下記b成分の含有量以上である。a1分子中に3つ以上の官能基を有する化合物であって、Hoy法によるSP値SPaが19<SPa<25で、質量平均分子量Mwaが40<Mwa<1600である化合物b1分子中に3つ以上の官能基を有するウレタン化合物であって、Hoy法によるSP値SPbが19<SPb<25で、質量平均分子量Mwbが、150≦|Mwb-Mwa|≦500である化合物c前記透明基材に対する溶解能を有する溶剤d前記透明基材に対する膨潤能を有する溶剤上記構成のハードコート層形成用組成物により、透明基材上にハードコート層を形成すると透明基材とハードコート層との間の界面反射が抑えられ、干渉ムラを抑制することができる。特に、透明基材としてセルロースエステルフィルムなかでもセルロースアシレートフィルムを用いた場合に、干渉ムラ抑制効果が大きい。その理由としては以下のような機構が働いているためと推定している。即ち、dの溶剤がセルロースエステルフィルムを膨潤させることに伴いa及びbの化合物がセルロースエステルフィルムに浸透する。またcの溶剤がセルロースエステルフィルムを溶解することでセルロースエステルがハードコート層側に拡散する。ここで、a及びbの化合物の透明基材中への浸透度が異なるため、セルロースエステルフィルムとハードコート層との間に、化合物分布がセルロースエステルフィルム側からハードコート層側にかけて徐々に変化する領域以下、グラデーション領域又はグラデーション層と呼ぶが形成される。このため、セルロースエステルフィルムとハードコート層との間の屈折率変化が非常に緩やかとなり界面がなくなり、界面反射が抑えられ、干渉ムラが抑制される。なお、ハードコート層から支持体にかけた化合物分布は、必ずしも一定割合で分布量が変化する必要はなく、界面部分で滑らかに分布が変化さえしていれば干渉ムラは抑制される。以下、まずハードコート層形成用組成物について詳細に説明する。[a1分子中に3つ以上の官能基を有する化合物]本発明に係るハードコート層形成用組成物に含有される前記a成分について説明する。本発明に用いる前記a成分は、1分子中に3つ以上の官能基を有する化合物であって、Hoy法によるSP値SPaが19<SPa<25で、質量平均分子量Mwaが40<Mwa<1600である化合物である。a成分のように1分子中に3つ以上の官能基を有する化合物はハードコート層のバインダー及び硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。a成分における1分子中の官能基の数は、3~20であることが好ましく、3~10であることがより好ましく、3~5であることが更に好ましく、3又は4であることがより好ましい。a成分としては、メタアクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基重合性の不飽和二重結合を有する化合物が挙げられ、中でも、メタアクリロイル基及び-COOCH=CH2を有する化合物が好ましい。特に好ましくは下記の1分子内に3つ以上のメタアクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。重合性の官能基を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールのメタアクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールのメタアクリル酸ジエステル類、多価アルコールのメタアクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物のメタアクリル酸ジエステル類、エポキシメタアクリレート類、ウレタンメタアクリレート類、ポリエステルメタアクリレート類等を挙げることができる。中でも、多価アルコールとメタアクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリメタアクリレート、EO変性リン酸トリメタアクリレート、トリメチロールエタントリメタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、1,2,3-シクロヘキサンテトラメタクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリスアクリロキシエチルイソシアヌレート等が挙げられる。a成分の質量平均分子量Mwaは40<Mwa<1600である。グラデーション領域の形成による干渉ムラ抑制とハードコート層の硬度向上の観点から、好ましくは100<Mwa<1600であり、より好ましくは200<Mwa<1600である。なお、質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。a成分の、Hoy法によるSP値SPaは19<SPa<25である。グラデーション領域の形成による干渉ムラ抑制の観点から、好ましくは19.5<SPa<24.5であり、より好ましくは20<SPa<24である。なお、本発明におけるSP値溶解性パラメーターは、Hoy法によって算出した値であり、Hoy法は、POLYMERHANDBOOKFOURTHEDITIONに記載がある。a成分の質量平均分子量Mwaと1分子中の官能基数との比率は、70<Mwa/1分子中の官能基数<300であることが好ましい。より好ましくは70<Mwa/1分子中の官能基数<290であり、更に好ましくは70<Mwa/1分子中の官能基数<280である。質量平均分子量Mwaと官能基数との比率をこの範囲とすることで、架橋基密度が高くなり、高硬度にすることができる。a成分としては市販されているものを用いることもできる。例えば、メタアクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類としては、日本化薬株製PET30、KAYARADDPHA、同DPCA-30、同DPCA-120を挙げることができる。また、ウレタンアクリレートとしては、新中村化学工業株製U15HA、同U4HA、A-9300、ダイセルUCB株製EB5129等を挙げることができる。本発明に係るハードコート層形成用組成物中のa成分の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、10~60質量が好ましく、20~55質量がより好ましい。本発明に係るハードコート層形成用組成物は、干渉ムラ抑制、硬度、カールの観点から、後述するb成分と同量か、またはb成分よりもa成分を多く含有する。aの含有量/bの含有量≧1.0であり、好ましくはaの含有量/bの含有量>2.0であり、より好ましくはaの含有量/bの含有量>3.5である。[b1分子中に3つ以上の官能基を有するウレタン化合物]本発明に係るハードコート層形成用組成物に含有される前記b成分について説明する。本発明に用いる前記b成分は、1分子中に3つ以上の官能基を有する化合物であって、Hoy法によるSP値SPbが19<SPb<25で、質量平均分子量Mwbが、150≦|Mwb-Mwa|≦500である化合物である。b成分は、前記a成分との質量平均分子量の差の絶対値が150以上500以下である化合物である。a成分とb成分とでは、上記のように質量平均分子量に特定範囲の差があるため、セルロースエステルフィルム基材への浸透性が異なる。このためセルローエステルフィルム基材とハードコート層との間に、グラデーション領域が形成され、干渉ムラを抑制することができる。また、b成分は1分子中に3つ以上の官能基を有する化合物であり、ハードコート層のバインダー及び硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。b成分が有する重合性官能基の具体例及び好ましい範囲は、前記a成分におけるものと同様である。また、b成分の具体例及び市販品は、前記a成分において記載したウレタン化合物の具体例及び市販品と同様である。本発明に係るハードコート層形成用組成物は、b成分はウレタン化合物である。ウレタン化合物としては、好ましくはウレタン結合を2つ含む化合物が好ましい。また、該ウレタン化合物がメタアクリロイル基を有していることも好ましく、ポリウレタンポリアクリレートがより好ましい。b成分の質量平均分子量Mwbは、前記a成分の質量平均分子量Mwaとの差の絶対値が、150≦|Mwb-Mwa|≦500である。グラデーション領域の形成による干渉ムラ抑制とハードコート層の硬度向上の観点から、好ましくは150≦|Mwb-Mwa|≦450であり、より好ましくは200≦|Mwb-Mwa|≦450である。なお、質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。上記のような分子量差があると、基材への2種のモノマーの浸透性の違いにより、膜厚方向に対して滑らかに変化していないある程度異なった2種のモノマー分布が得られる。そして2種のモノマーと基材の親和性は良く、混ざりやすいために、膜トータルとしてのモノマーと基材の分布は滑らかに変化することとなり=屈折率が膜厚方向に対して連続的に変化、いわば屈折率が連続的に変化するグラデーション層が形成され、干渉ムラを抑えることができる。ただし上記よりも分子量差が大きすぎたり小さすぎたりすると、膜トータルとしてのモノマー分布の変化が連続的に変化することがなくなる。b成分の、Hoy法によるSP値SPbは19<SPb<25である。グラデーション領域の形成による干渉ムラ抑制の観点から、好ましくは19.5<SPb<24.5であり、より好ましくは20<SPb<24.5である。なお、本発明におけるSP値溶解性パラメーターは、Hoy法によって算出した値であり、Hoy法は、POLYMERHANDBOOKFOURTHEDITIONに記載がある。b成分の質量平均分子量Mwbと1分子中の官能基数との比率は、70<Mwb/1分子中の官能基数<300であることが好ましい。より好ましくは70<Mwb/1分子中の官能基数<290であり、更に好ましくは70<Mwb/1分子中の官能基数<280である。質量平均分子量Mwbと官能基数との比率をこの範囲とすることで、架橋基密度が高くなり、高硬度にすることができる。本発明のハードコート層形成用組成物中のb成分の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、5.0~30質量が好ましく、5.0~15質量がより好ましい。また、本発明のハードコート層形成用組成物中のa成分とb成分の含有量の比については前述のとおりである。[c基材に対する溶解能を有する溶剤]本発明に係るハードコート層形成用組成物に含有されるc基材に対する溶解能を有する溶剤について説明する。本発明のハードコート層形成用組成物に用いるc溶剤は、基材に対する溶解能を有する溶剤である。本発明においては、c溶剤と後述するd基材に対する膨潤能を有する溶剤とを用いることで透明基材とハードコート層との間の界面反射を抑えられ、干渉ムラを効果的に抑制することができる。基材に対して溶解能を有する溶剤とは、24mm×36mm厚み80μmの大きさの基材フィルムを該溶剤の入った15ccの瓶に室温下25°Cで60秒浸漬させて取り出した後に、浸漬させた溶液をゲルパーミエーションクロマトグラフィーGPCで分析したとき、基材成分のピーク面積が400mV/sec以上である溶剤のことを意味する。若しくは24mm×36mm厚み80μmの大きさの基材フィルムを該溶剤の入った15ccの瓶に室温下25°Cで24時間経時させ、適宜瓶を揺らすなどして、フィルムが完全に溶解して形をなくすものも、基材に対して溶解能を有する溶剤を意味する。c溶剤としては、1種類でも2種類以上用いてもよい。以下、透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合を例に、溶解能を有する溶剤を例示する。c基材に対して溶解能を有する溶剤としては、例えば、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライドが挙げられ、中でも、グラデーション領域の形成による干渉ムラ抑制の観点から、酢酸メチル、アセトンが好ましい。透明基材とハードコート層との間のグラデーション領域の形成による干渉ムラ抑制の観点から、c溶剤には、酢酸メチル及びアセトンのうち少なくとも1種を含むことが好ましく、酢酸メチルを含むことがより好ましい。[d基材に対する膨潤能を有する溶剤]本発明に係るハードコート層形成用組成物に含有されるd基材に対する膨潤能を有する溶剤について説明する。本発明のハードコート層形成用組成物に用いるd溶剤は、基材に対する膨潤能を有する溶剤である。本発明においては、c溶剤と後述するd基材に対する膨潤能を有する溶剤とを用いることで透明基材とハードコート層との間の界面反射を抑えられ、干渉ムラを効果的に抑制することができる。ここで、本発明において基材に対して膨潤能を有する溶剤とは、24mm×36mm厚み80μmの大きさの基材フィルムを該溶剤の入った15ccの瓶に縦に入れ、25°Cで60秒浸漬し、適宜該瓶を揺らしながら観察し、折れ曲がりや変形が見られる溶剤を意味するフィルムは膨潤した部分の寸度が変化し折れ曲がりや変形として観察される。膨潤能の無い溶媒では折れ曲がりや変形といった変化が見られない。d溶剤としては、1種類でも2種類以上用いてもよい。以下、透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合を例に、膨潤能を有する溶剤を例示する。dセルロースアシレートフィルムに対して膨潤能を有する溶剤としては、例えば、メチルエチルケトンMEKが挙げられる。また、セルロースアシレートフィルムに対して溶解能も膨潤能も持たない溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトンMIBKが挙げられる。本発明ではこのような溶解能も膨潤能も持たない溶剤も本発明の効果を損なわない限り用いることができる。溶解能も膨潤能も持たない溶剤の添加量は、溶解能及び膨潤能を持つ溶剤の効果を得るために使用する全溶剤に対して10質量以下が好ましく、5質量以下がより好ましく、1質量以下が更に好ましい。透明基材とハードコート層との間のグラデーション領域の形成による干渉ムラ抑制の観点から、溶剤には、酢酸メチル、アセトン及びメチルエチルケトンの少なくとも1種を含むことが好ましい。好ましくは、酢酸メチル又はアセトン前記c溶剤と、メチルエチルケトン前記d溶剤とを含む混合溶剤である。透明基材とハードコート層との間のグラデーション領域の形成による干渉ムラ抑制の観点から、c溶剤の含有量はd溶剤の含有量よりも多いことが好ましく、c溶剤の含有量:d溶剤の含有量は50:50~95:5であることが、干渉ムラ抑制に適したグラデーション領域の形成とハードコート層の膜硬度の観点から好ましい。ただし、ハードコート層の膜面温度を高くしたり、ハードコート層形成用組成物を塗布する際の雰囲気ガス濃度を上昇させたりすることにより、溶剤の乾燥速度を遅らせることができる場合は、c溶剤の含有量が少なくても本発明の目的を達成することができると考えられる。本発明に係るハードコート層形成用組成物中の全溶剤量は、組成物中の固形分の濃度が好ましくは1~70質量の範囲、より好ましくは20~70質量の範囲、更に好ましくは40~70質量が好ましく、45~65質量が更により好ましく、50~65質量が特に好ましく、55~65質量が最も好ましい。[e光重合開始剤]本発明に係るハードコート層形成用組成物にはe光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3-ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開2009-098658号公報の段落[0133]~[0151]に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。最新UV硬化技術{株技術情報協会}1991年、p.159、及び、紫外線硬化システム加藤清視著平成元年、総合技術センター発行、p.65~148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。本発明に係るハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、0.5~8質量が好ましく、1~5質量がより好ましい。[fレベリング剤]本発明に係るハードコート層形成用組成物に含んでもよいfレベリング剤について説明する。レベリング剤は、下記含フッ素ポリマー1及び含フッ素ポリマー2から選ばれる少なくともいずれかであることが好ましい。含フッ素ポリマー1は、下記一般式[1]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位を全重合単位に対して50質量より多く含有するポリマーである。上記一般式[1]において、R0は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、Lは2価の連結基を表し、nは1以上18以下の整数を表す。含フッ素ポリマー1において、一般式[1]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する繰り返し単位の含有量は、含フッ素ポリマー1を構成する全重合単位の50質量を超えるが、好ましくは70質量以上であり、より好ましくは80質量以上である。一般式[1]においてR0は、水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。nは1以上18以下の整数を表し、4~12がより好ましく、6~8が更に好ましく、8であることが最も好ましい。また、含フッ素ポリマー1中に一般式[1]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が2種類以上構成単位として含まれていても良い。含フッ素ポリマー1において、一般式[1]は下記一般式[1-2]であることが好ましい。上記一般式[1-2]において、R0は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子、又は-NR2-を表し、mは1以上6以下の整数を表し、nは1以上18以下の整数を表す。ここで、R2は水素原子又は置換基を有しても良い炭素数1~8のアルキル基を表す。一般式[1-2]において、R0は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Xは酸素原子、硫黄原子、又は-NR2-を表し、酸素原子又は-NR2-がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R2は、水素原子又は置換基を有しても良い炭素数1~8のアルキル基を表し、置換基としてはフェニル基、ベンジル基などが挙げられる。水素原子又は置換基を有しても良い炭素数1~4のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。mは1~6の整数を表し、1~3がより好ましく、1であることが更に好ましい。nは1~18の整数を表し、4~12がより好ましく、6~8が更に好ましく、8であることが最も好ましい。含フッ素ポリマー1中に、一般式[1-2]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が2種類以上構成単位として含まれていても良い。次に、含フッ素ポリマー2について説明する。含フッ素ポリマー2は、下記一般式[2]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位と、ポリオキシアルキレンアクリレート及びポリオキシアルキレンメタクリレートから選ばれる少なくともいずれかに由来する重合単位とを含むポリマーである。上記一般式[2]において、R1は水素原子又はメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子又は-NR2-を表し、mは1以上6以下の整数、nは1~3の整数を表す。R2は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。含フッ素ポリマー2におけるフルオロ脂肪族基の一つは、テロメリゼーション法テロマー法ともいわれる若しくはオリゴメリゼーション法オリゴマー法ともいわれるにより製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれるものであることが好ましい。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、フッ素化合物の合成と機能監修:石川延男、発行:株式会社シーエムシー、1987の117~118ページや、ChemistryofOrganicFluorineCompoundsIIMonograph187,EdbyMilosHudlickyandAttilaE.Pavlath,AmericanChemicalSociety1995の747-752ページに記載されている。上記フルオロ脂肪族基含有モノマー[1]及び[2]、並びに含フッ素ポリマー1及び2の具体例については、特開2010-1549434号公報、特開2010-121137号公報、特開2004-331812号公報、及び特開2004-163610号記載の具体例を挙げることができるが、本発明はそれらに限定されるものではない。また、レベリング剤としては、特許4474114号に記載されているフルオロ脂肪族基含有ポリマーも好ましい。特許4474114号に記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマーの組成比違いとして、フルオロ脂肪族基含有の重合単位の比率が50~70の範囲のフルオロ脂肪族基含有ポリマーもレベリング剤として用いることもできる。本発明において、レベリング剤は、ハードコート層の塗布ムラを解消するために、ハードコート層表面に十分量が並ぶことが望ましい。しかしながら、ハードコート層の上に反射防止層を積層する際、ハードコート層に含有されたレベリング剤が、ハードコート層と反射防止層との界面に残ったままだと密着性を悪化させ、耐擦傷性を著しく減損させてしまう。このため、レベリング剤は反射防止層を積層した際に速やかに反射防止層中に抽出され、界面に残らないことが重要となる。含フッ素ポリマー1は、フルオロ脂肪族基の末端が水素原子であることにより、末端がフッ素原子である含フッ素ポリマー2よりも上層の塗布液をはじきにくく、速やかに上層に抽出されて、反射防止層とハードコート層との界面に残り難いという理由から、含フッ素ポリマー1がより好ましい。本発明に係るハードコート層形成用組成物中のレベリング剤の含有量は、十分なレベリング性を付与して塗布ムラを改良してかつハードコート層と他の層の界面に残存しないよう十分少なく設定する必要がある理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、0.0005質量~2.5質量が好ましく、0.005質量~0.5質量がより好ましい。[gシリカ微粒子]本発明に係るハードコート層形成用組成物に用いることのできるシリカ微粒子のサイズ1次粒径は15nm以上100nm未満、更に好ましくは20nm以上80nm以下、最も好ましくは25nm以上60nm以下であり、微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機微粒子の粒径が小さすぎると、レベリング剤の表面偏在性を高める効果が少なくなり、大きすぎるとハードコート層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。また、シリカ微粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを2種以上併用して用いてもよい。本発明に使用することができるシリカ微粒子は塗布液中での分散性向上、膜強度向上のために表面処理を施していてもよく、表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開2007-298974号公報の[0119]~[0147]に記載のものと同様である。シリカ微粒子の具体的な例としては、MiBK-ST、MiBK-SD以上、平均粒子径15nm、日産化学工業株製シリカゾル、MEK-ST-L平均粒子径50nm、日産化学工業株製シリカゾルなどを好ましく用いることができる。本発明に係るハードコート層形成用組成物には、これらの他に更に添加剤を含有することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、ポリマーの分解を抑える目的で、紫外線吸収剤、亜リン酸エステル、ヒドロキサム酸、ヒドロキシアミン、イミダゾール、ハイドロキノン、フタル酸、などを挙げることができる。また、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物特に、フッ素系界面活性剤、内部散乱性付与の目的でマット粒子などを挙げることができる。[光学フィルムの層構成]本発明の光学フィルムの一態様では、透明基材上に前記ハードコート層形成用組成物を用いて形成されたハードコート層を有する。本発明の光学フィルムは、透明基材上にハードコート層を有し、更に目的に応じて、必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。例えば、反射防止層低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層、防眩層などを設けることができる。本発明の光学フィルムのより具体的な層構成の例を下記に示す。透明基材/ハードコート層透明基材/ハードコート層/低屈折率層透明基材/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層透明基材/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層[透明基材]本発明の光学フィルムにおいては、透明基材支持体として種々用いることができるが、セルロースエステルフィルムが好ましく、セルロースアシレートフィルムを用いることがより好ましい。セルロースアシレートフィルムとしては、特に限定されないが、ディスプレイに設置する場合は、セルローストリアセテートフィルムを偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてそのまま用いることができるため、生産性やコストの点でセルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。透明基材の厚さは、通常、25μm~1000μm程度であるが、取り扱い性が良好で、かつ必要な基材強度が得られる25μm~200μmが好ましく、25μm~120μmがより好ましく、25μm~100μmが更に好ましく、30μm~90μmが特に好ましく、35μm~80μmが最も好ましい。セルロースアシレート本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が59.0~61.5であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D-817-91セルロースアセテート等の試験法におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースアシレートの粘度平均重合度DPは、250以上であることが好ましく、290以上であることが更に好ましい。また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるMw/MnMwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量の値が1.0に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mnの値としては、1.0~1.7であることが好ましく、1.3~1.65であることが更に好ましく、1.4~1.6であることが最も好ましい。一般に、セルロースアシレートの2,3,6位の水酸基は全体の置換度の1/3ずつに均等に分配されるわけではなく、6位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの6位水酸基の置換度が、2,3位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して6位の水酸基が32以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には33以上、特に34以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの6位アシル基の置換度が0.88以上であることが好ましい。6位水酸基は、アセチル基以外に炭素数3以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、NMRによって求めることができる。本発明ではセルロースアシレートとして、特開平11-5851号公報の段落番号0043~0044、実施例、合成例1、段落番号0048~0049、合成例2、段落番号0051~0052、合成例3に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。[セルロースアシレート原料綿]本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ広葉樹パルプ,針葉樹パルプなどがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座17繊維素系樹脂丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、1970年発行や発明協会公開技報2001-17457頁~8頁に記載のセルロースを用いることができ、本発明におけるセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。[セルロースアシレート置換度]次に上述のセルロースを原料に製造される本発明におけるセルロースアシレートについて記載する。本発明におけるセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が2のアセチル基から炭素原子数が22のものまでいずれも用いることができる。本発明におけるセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び/又は炭素原子数3~22の脂肪酸の置換度の測定方法としては、ASTMのD-817-91に準じた方法や、NMR法を挙げることが出来る。本発明におけるセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、偏光板保護フィルム、光学フィルムの用途に用いる場合、アシル置換度が高い方がフィルムの透湿性や吸湿性に優れるため好ましい。このため、セルロースの水酸基へのアシル置換度が2.50~3.00であることが好ましい。さらには置換度が2.70~2.96であることが好ましく、2.80~2.94であることがより好ましい。セルロースの水酸基に置換する酢酸及び/又は炭素原子数3~22の脂肪酸のうち、炭素数2~22のアシル基としては、脂肪族基でも芳香族基でもよく特に限定されず、単一でも二種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、iso-ブタノイル、t-ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、t-ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。これらの中でも、合成の容易さ、コスト、置換基分布の制御のしやすさなどの観点から、アセチル基、アセチル基とプロピル基の混合エステル好ましく、アセチル基が特に好ましい。[セルロースアシレートの重合度]本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で180~700であり、セルロースアセテートにおいては、180~550がより好ましく、180~400が更に好ましく、180~350が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる傾向がある。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう傾向がある。平均重合度は、宇田らの極限粘度法宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第18巻第1号、105~120頁、1962年により測定できる。特開平9-95538に詳細に記載されている。また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Mw/MnMwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mnの値としては、1.0~4.0であることが好ましく、2.0~3.5であることがさらに好ましく、2.3~3.4であることが最も好ましい。低分子成分が除去されると、平均分子量重合度が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース100質量部に対して0.5~25質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい分子量分布が狭いセルロースアシレートを合成することができる。本発明におけるセルロースアシレートフィルムの製造時に使用される際には、セルロースアシレートの含水率は2質量以下であることが好ましく、さらに好ましくは1質量以下であり、特に好ましくは0.7質量以下である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており、その含水率は2.5~5質量が知られている。本発明で上記のようなセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートに関しては、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報公技番号2001-1745、2001年3月15日発行、発明協会にて7頁~12頁に詳細に記載されている。本発明では、セルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布などの観点で、単一あるいは異なる二種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。[ポリエステルジオール添加剤]本発明で使用されるポリエステルジオール添加剤について述べる。該ポリエステルジオールは、セルロースアシレートドープおよびセルロースアシレートフィルムと相溶するものを、所望の光学特性を満たすよう、その構造や分子量、添加量を選択することができる。本発明で使用されるポリエステルジオールは、主鎖の両末端がアルコール性の水酸基であることがセルロースアシレートドープおよびセルロースアシレートフィルムとの相溶性と光学特性制御の両立の点から好ましい。特に添加量を、セルロースアシレートに対して5質量以上とすることが必要であり、9~40質量とすることが好ましく、10~30質量であることがより好ましい。本発明におけるセルロースアシレートフィルムにおいて、光学異方性の制御に対してはポリエステルジオールの水酸基価OHVおよび分子量を一定範囲に抑えることが、品質を一定に保つために重要である。特に水酸基価は品質管理にとっても好ましい。水酸基価の測定は、日本工業規格JISK1557-1:2007に記載の無水酢酸法等を適用できる。水酸基価は、40mgKOH/g以上170mgKOH/g以下が好ましく、60mgKOH/g以上150mgKOH/g以下が更に好ましく、90mgKOH/g以上140mgKOH/g以下が特に好ましい。水酸基価が大きすぎると、分子量が小さく、低分子量成分の量が多くなり、揮散性が大きくなり好ましくない傾向があり、また、水酸基価が小さすぎると、溶剤への溶解性やセルロースアシレートとの相溶性が悪くなり、好ましくない傾向がある。本発明におけるポリエステルジオールの数平均分子量Mnは、水酸基価の値からの計算やGPCの測定から求めることが出来る。分子量の値としては650以上2800以下であることが好ましく、700以上2000以下であることが更に好ましく、800以上1250以下であることが特に好ましい。また、光学的に等方性とするためには800以上1200以下であるものが特に好適に用いられる。本発明で使用されるポリエステルジオールは、二塩基酸とグリコールの脱水縮合反応、又は、グリコールへの無水二塩基酸の付加および脱水縮合反応などの公知の方法で製造することが出来る。ここで、本発明で使用されるポリエステルジオールを構成する二塩基酸としては、例えば、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸等を挙げることができ、これらを単独又は二種類以上を併用して用いられ、例えばコハク酸、アジピン酸、またはその混合物等が好ましく用いられる。二塩基酸の炭素数は4~8であることが好ましく、4~6であることがより好ましく、6が特に好ましい。炭素数が少ない方が、セルロースアシレートフィルムの透湿度を下げることができ、また、相溶性の点からも好適であり、コストやポリエステルジオールの取り扱い性から、6が好ましい。また、本発明で使用されるポリエステルジオールを構成するグリコールとしては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール、ブチレングリコールなど、種々のグリコール類から、好適なものを選択することができるが、炭素数2~4のものが好ましく、炭素数2のエチレングリコールが特に好ましい。これは、炭素数が少ない方がセルロースエステルドープもしくはセルロースエステルフィルムとの相溶性に優れ、また湿熱サーモによるブリードアウト泣き出し耐性に優れるため好ましいためである。[添加剤]本発明におけるセルロースアシレートフィルムには、先述のポリエステルジオールだけでなく、更に低分子もしくはオリゴマー、高分子の添加剤を、可塑剤、波長分散制御剤、耐光性改良剤、マット剤、光学異方性調整剤などとして目的に応じて加えることができる。[光学異方性調整剤]これら添加剤の例として、光学異方性調整剤について説明する。本発明におけるセルロースエステルフィルムの光学異方性は、先述のポリエステルジオールの構造によって制御されるが、さらに異なる光学異方性調整剤を加えてもよい。例えば、公開特許公報特開2006-30937号23ページから72ページに記載のRthを低減させる化合物が例に挙げられる。[光学異方性の小さなセルロースアシレートフィルム]本発明におけるセルロースアシレートフィルムは、とくに光学的異方性の小さいものが好適である。波長590nmで測定したReおよびRth下記式Iおよび式IIにて定義されるが、式IIIおよび式IVの両方を満たすように作られることが好ましい。この値は、セルロースエステル綿の置換度や、先述のポリエステルジオールの添加量、光学異方性調整剤の種類と添加量、フィルムの膜厚などにより制御することができ、特に本発明に用いるポリエステルジオールはこの制御に優れる添加剤である。式IRe=nx-ny×d式IIRth={nxny/2-nz}×d式III|Re|<10nm式IV|Rth|<25nm式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの厚さnmである。[波長分散調整剤]また、これら添加剤の例として、本発明におけるセルロースアシレートフィルムを光学的により等方にするための、波長分散を低下させる化合物以下波長分散調整剤ともいうを加えることができる。以下、波長分散調整剤について説明する。波長分散調整剤は、200~400nmの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの|Re400-Re700|および|Rth400-Rth700|を低下させる化合物を少なくとも1種、セルロースアシレート固形分に対して0.01~30質量含むことによってセルロースアシレートフィルムのRe、Rthの波長分散を調整できる。ここで、Reλ、Rthλは、波長λnmにおけるRe、Rthの値である。また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。本発明におけるセルロースアシレートフィルムにおいては、波長380nmにおける分光透過率が45以上95以下であり、かつ波長350nmにおける分光透過率が10以下であることがのぞましい。上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。揮散性の観点から分子量が250以上であることが好ましい。より好ましくは300以上であり、更に好ましくは350以上であり、特に好ましくは400以上である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。波長分散調整剤の添加量上述した本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートの0.01ないし30質量であることが好ましく、0.1ないし20質量であることがより好ましく、0.2ないし10質量であることが特に好ましい。化合物添加の方法またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、2種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。[マット剤微粒子]本発明におけるセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、1次平均粒子径が20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上であるものが好ましい。1次粒子の平均径が5~16nmと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は90~200g/リットル以上が好ましく、100~200g/リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。これらの微粒子は、通常平均粒子径が0.1~3.0μmの2次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、1次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に0.1~3.0μmの凹凸を形成させる。2次平均粒子径は0.2μm以上1.5μm以下が好ましく、0.4μm以上1.2μm以下がさらに好ましく、0.6μm以上1.1μm以下が最も好ましい。1次、2次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子200個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600以上日本アエロジル株製などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811以上日本アエロジル株製の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でアエロジル200V、アエロジルR972Vが1次平均粒子径が20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。本発明において2次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は5~30質量が好ましく、10~25質量が更に好ましく、15~20質量が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は1m2あたり0.01~1.0gが好ましく、0.03~0.3gが更に好ましく、0.08~0.16gが最も好ましい。また、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、内層への添加はせず、表層側のみに添加することが好ましく、この場合は、表層のマット剤の添加量としては0.001質量以上、0.2質量以下が好ましく、0.01質量以上、0.1質量以下がより好ましい。分散に使用される溶剤としては低級アルコール類が好ましく、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースアシレートの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。[その他の添加剤]上記の光学的に異方性を低下する化合物、波長分散調整剤の他に、本発明におけるセルロースアシレートフィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外線吸収剤、などを加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば20°C以下と20°C以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開2001-151901号などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開2001-194522号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開2001-151902号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報公技番号2001-1745、2001年3月15日発行、発明協会にて16頁~22頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。[添加剤の添加量]本発明におけるセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が5000以下の化合物の総量は、セルロースアシレート質量に対して0.1~45質量であることが好ましい。より好ましくは0.5~30質量であり、さらにのぞましくは0.5~20質量である。<糖エステル化合物>本発明の光学フィルムは、下記一般式Iで表される芳香族糖エステル化合物と、下記一般式IIで表される芳香族糖エステル化合物と、下記一般式IIIで表される脂肪族糖エステル化合物を含有し、前記一般式Iで表される芳香族糖エステル化合物と前記一般式IIで表される芳香族糖エステル化合物の平均エステル置換度が94未満であることが好ましい。一般式IHOm-G-L-R1n一般式IIHOp-G-L-R1q一般式IIIHOt-G’-L’-R2r一般式I~III中、GおよびG’はそれぞれ独立に単糖残基または二糖残基を表す。R1はそれぞれ独立に脂肪族基または芳香族基を表し、少なくとも1つは芳香族基を表す。R2はそれぞれ独立に脂肪族基を表す。LおよびL’はそれぞれ独立に2価の連結基を表す。mは0以上の整数を表し、n、pおよびqはそれぞれ独立に1以上の整数を表し、rは3以上の整数を表し、tは0以上の整数を表す。但し、mn≧4であり、pq≧4であり、m>pであり、n<qである。また、mnおよびpqはそれぞれ前記Gが残基ではなく同じ骨格の環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しく、rtは前記G’が残基ではなく同じ骨格の環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しい。具体的には、本発明では、エステル置換度が異なる複数の芳香族糖エステル化合物と、脂肪族糖エステル化合物とを、上記の条件を満たすように混合した糖エステル化合物混合体を用いることが好ましい。前記糖エステル化合物混合体をセルロースエステルフィルムに添加することにより、面状故障が少なく、光学性能経時変化も小さく、また偏光板に保護フィルムとして組み込んだときに偏光板の経時性能変化が小さなセルロースエステルフィルムを得ることができる。以下、前記糖エステル化合物混合体に用いられる各糖エステル化合物に共通する好ましい範囲と、一般式I~IIIをそれぞれ満たす各糖エステル化合物特有の好ましい範囲について、説明する。各糖エステル化合物に共通する性質前記糖エステル化合物混合体に用いられる各糖エステル化合物は、単糖残基または二糖残基を骨格とする。すなわち、前記一般式I~III中、GおよびG’はそれぞれ独立に単糖残基または二糖残基を表す。前記糖エステル化合物とは、該化合物を構成する糖骨格構造中の置換可能な基例えば、水酸基、カルボキシル基の少なくとも1つと、少なくとも1種の置換基とがエステル結合されている化合物のことを言う。すなわち、ここで言う糖エステル化合物には広義の糖誘導体類も含まれ、例えばグルコン酸のような糖残基を構造として含む化合物も含まれる。すなわち、前記糖エステル化合物には、グルコースとカルボン酸のエステル体も、グルコン酸とアルコールのエステル体も含まれる。本発明に用いることができる前記一般式I~IIIで表される前記糖エステル化合物は、フラノース構造もしくはピラノース構造を有する化合物であることが好ましい。フラノース構造もしくはピラノース構造を糖骨格として有する場合、前記一般式I~III中、mn≧4であり、pq≧4でありrは3以上という条件を満たすことができる。また、フラノース構造もしくはピラノース構造を糖骨格として有する場合、mnおよびpqはそれぞれ前記Gが残基ではなく同じ骨格の環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しく、rtは前記G’が残基ではなく同じ骨格の環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しいという条件も満たすことができる。なお、前記mn、pqおよびrtの上限値は、前記GまたはG’の種類によって定まる値を採用することができ、GまたはG’が単糖残基であれば5、二糖残基であれば8となる。前記一般式I~IIIで表される前記糖エステル化合物は、フラノース構造もしくはピラノース構造を1個有する前記GまたはG’が単糖残基である化合物A中の、又は、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも1種を2個結合した前記GまたはG’が二糖残基である化合物B中の、OH基の全て又は一部をエステル化したエステル化化合物であるのが好ましい。但し、前記一般式IおよびII中、m>pおよびn<qを満たすことを本発明で用いられる糖エステル化合物混合体は特徴としており、すなわち、少なくとも前記一般式Iで表される糖エステル化合物はOH基の全てがエステル化されることはない。このようにエステル置換度が異なる複数の芳香族糖エステル化合物を用いることで、製造工程における揮散性が低くなり、かつ、製膜後にセルロースエステルフィルムからブリードアウトしにくくなる。化合物Aの例としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、あるいはアラビノースが挙げられるが、これらに限定されるものではない。化合物Bの例としては、ラクトース、スクロース、ニストース、1F-フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースあるいはケストースが挙げられる。このほか、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられが、これらに限定されるものではない。これらの化合物A及び化合物Bの中で、特にフラノース構造とピラノース構造の双方を有する化合物が好ましい。例としては、スクロース、ケストース、ニストース、1F-フクラトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、更に好ましくは、スクロースである。また、化合物Bにおいて、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも1種を2個結合した化合物であることも、好ましい態様の1つである。化合物A及び化合物B中のOH基の全てもしくは一部をエステル化するのに用いられる置換基としては、特に制限はない。その中でも、モノカルボン酸を用いることが好ましい。すなわち、前記一般式I並びに前記一般式II中の前記R1、および前記一般式III中の前記R2が、それぞれ独立にアシル基を表すことが好ましい。前記モノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種類以上の混合であってもよい。前記R1または前記R2が複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。一方、前記一般式I並びに前記一般式II中の前記L、および前記一般式III中の前記L’が、それぞれ独立に単結合、-O-、-CO-、-NR11-R11は1価の置換基を表すのいずれか一つを表すことが好ましく、また、前記Lまたは前記L’が複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。その中でも、前記Lまたは前記L’が-O-を表すことが、前記R1およびR2としてアシル基で容易に置換できる観点から好ましい。一般式IおよびIIで表される芳香族糖エステル化合物の混合体次に、前記一般式IおよびIIで表される芳香族糖エステル化合物の好ましい態様について説明する。前記一般式IおよびII中、前記R1はそれぞれ独立に脂肪族基または芳香族基を表し、少なくとも1つは芳香族基を表す。その中でも、前記R1はそれぞれ独立に芳香族基のみを表すことが好ましく、全て同一の芳香族基を表すことがより好ましい。前記一般式Iで表される芳香族糖エステル化合物と前記一般式IIで表される芳香族糖エステル化合物の平均エステル置換度が94未満であることを特徴とする。このように2種以上の芳香族糖エステル化合物の混合体の平均エステル置換度が94未満であることで、得られるセルロースエステルフィルムのヘイズを顕著に小さくすることができ、光学フィルムとして偏光板や液晶表示装置に良好に用いることができる。前記前記一般式Iで表される芳香族糖エステル化合物と前記一般式IIで表される芳香族糖エステル化合物の平均エステル置換度は、62以上94未満であることが、偏光板に組み込んだときの湿熱環境下での直交透過率の経時変化を小さくできる観点から好ましい。さらに、前記一般式Iおよび前記一般式II中の前記Gがスクロース骨格であり、前記一般式Iで表される芳香族糖エステル化合物と前記一般式IIで表される芳香族糖エステル化合物の平均エステル置換度が5~7.5であることが、偏光板に組み込んだときの湿熱環境下での直交透過率の経時変化を小さくできる観点からより好ましく、5.5~7.0であることが特に好ましい。また、前記一般式IおよびII中において、mは0以上の整数を表し、n、pおよびqはそれぞれ独立に1以上の整数を表し、m>pであり、n<qである。本発明では、前記Gが二糖残基の場合、前記一般式II中のqが8である芳香族糖エステルの添加量が、前記一般式Iで表される芳香族糖エステル化合物および前記一般式IIで表される芳香族糖エステル化合物の合計添加量に対して、20質量未満であることが、得られるセルロースエステルフィルムのヘイズを顕著に小さくする観点から好ましい。前記Gが二糖残基の場合、ヒドロキシル基を置換基として一つも有していない芳香族糖エステル化合物の含有量が、全芳香族糖エステルの含有量に対して20質量以下であることが好ましく、15質量以下であることがより好ましく、10質量以下であることが特に好ましく、5質量以下であることがより特に好ましい。一方、本発明では、前記一般式Iで表される芳香族糖エステル化合物と前記一般式IIで表される芳香族糖エステル化合物は、前記Gが二糖残基の場合、nが3以上であることが好ましく、5以上であることも好ましい。すなわち、本発明では、少なくとも前記芳香族糖エステル化合物混合体に含まれる芳香族糖エステル化合物は、少なくとも3置換体以上であることが好ましく、少なくとも5置換体以上であることも好ましい。前記芳香族糖エステル化合物が2糖類である場合、エステル化された置換基が3~5個の3~5置換体の含有率が芳香族糖エステル化合物全体に対して10~70であることが好ましく、20~50であることがより好ましい。6~7置換体の含有量が芳香族糖エステル化合物全体に対して20~85であることが好ましく、20~75であることがより好ましい。R1によって置換されるときに用いられる好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環に、アルキル基又はアルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸;ケイ皮酸;ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸;及びこれらの誘導体;を挙げることができ、より、具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ-イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α-イソジュリル酸、クミン酸、α-トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、o-アニス酸、m-アニス酸、p-アニス酸、クレオソート酸、o-ホモサリチル酸、m-ホモサリチル酸、p-ホモサリチル酸、o-ピロカテク酸、β-レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、o-ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、o-ホモベラトルム酸、フタロン酸、p-クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。すなわち、前記一般式Iおよび前記一般式II中の前記R1が、ベンゾイル基を表すことが好ましい。複数の前記エステル置換度が異なる芳香族糖エステル化合物を混合する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。また、複数の前記エステル置換度が異なる芳香族糖エステル化合物の混合のタイミングは、例えば溶液製膜法を採用する場合、セルロースエステルドープに添加する前であってもよく、セルロースエステルドープに複数の糖エステル化合物を個別に添加した後でもよい。脂肪族糖エステル化合物の好ましい態様次に、前記一般式IIIで表される脂肪族糖エステル化合物の好ましい態様について説明する。前記一般式III中、前記R2はそれぞれ独立に脂肪族基を表す。R2によって置換されるときに用いられる好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2-エチル-ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸;ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸;等を挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。前記R2は、それぞれ独立に非環式脂肪族基を表すことが好ましく、全てのR2が非環式脂肪族基を表すことが好ましい。前記R2は、2種以上の脂肪族基を表すことが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の中でも、前記一般式IIIで表される脂肪族糖エステル化合物は、少なくとも酢酸で置換されていることが好ましい。すなわち、前記一般式III中の前記R2の少なくとも1つがアセチル基を表すことが好ましい。一方、前記R2のうち少なくとも1種が、分岐状の脂肪族基を表すことがより好ましく、前記R2が2種以上の脂肪族基を表す場合において1種のみが分岐状の脂肪族基を表すことが特に好ましい。その中でも、前記一般式IIIで表される脂肪族糖エステル化合物は、酢酸の他にイソ酪酸でも置換されていることが好ましい。すなわち、前記一般式III中の前記R2がアセチル基とイソブチリル基を含むことが好ましく、アセチル基とイソブチリル基のみを含むことが光学性能経時変化の観点から好ましい。前記一般式III中の前記G’は二糖残基を表すことが、得られるセルロースエステルフィルムの面状故障を改善し、かつ、偏光板耐久性を改善する観点から好ましい。前記一般式III中の前記R2がアセチル基とイソブチリル基のみからなる場合、例えば前記G’が二糖残基のとき、その割合はアセチル基/イソブチリル基=1/7~4/4であることが好ましく、1/7~3/5であることがより好ましく、2/6であることが特に好ましい。これら脂肪族モノカルボン酸で置換された脂肪族糖エステル化合物の製造方法は、例えば、特開平8-245678号公報に記載されている。前記エステル化化合物の製造例の一例は、以下の通りである。グルコース29.8g、166mmolにピリジン100mlを加えた溶液に無水酢酸200mlを滴下し、24時間反応させた。その後、エバポレートで溶液を濃縮し氷水へ投入した。1時間放置した後、ガラスフィルターにてろ過し、固体と水を分離し、ガラスフィルター上の固体をクロロホルムに溶かし、これが中性になるまで冷水で分液した。有機層を分離後、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過により除去した後、クロロホルムをエバポレートにより除き、更に減圧乾燥することによりグリコースペンタアセテート58.8g、150mmol、90.9を得た。尚、上記無水酢酸の替わりに、上述のモノカルボン酸を使用することができる。以下に、本発明に用いることができる一般式I~IIIで表される糖エステル化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。また、下記の具体例には各糖エステル化合物のエステル置換度を記載していないが、本発明の趣旨に反しない限りにおいて任意のエステル置換度の糖エステル化合物を用いて、糖エステル化合物混合体とすることができる。特に、一般式IおよびIIで表される芳香族糖エステル化合物は、本発明の要件を満たす任意の組み合わせを選択して用いることができる。以下の構造式中、Rはそれぞれ独立に任意の置換基を表し、複数のRは同一であっても、異なっていてもよい。芳香族糖エステル化合物と脂肪族糖エステル化合物の混合以上の条件を満たすエステル置換度が異なる芳香族糖エステル化合物を複数種と、前記脂肪族糖エステル化合物とを混合してセルロースエステルフィルムに添加することで、エステル置換度が異なる芳香族糖エステル化合物のみの混合体と比較して、湿熱環境下でのフィルムの光学性能耐久性と偏光板耐久性をさらに改善することができる。なお、いわゆるTPP/BDPなどの公知のリン酸エステル系可塑剤に対しても当然フィルムの光学性能耐久性と偏光板耐久性を改善することができる。また、ハードコート層と積層した場合には密着性に優れ、鉛筆硬度も良好なフィルムを得ることもできる。本発明におけるセルロースエステルフィルムは、前記一般式IおよびIIで表される芳香族糖エステル化合物を合計で、セルロースエステルに対して1~30質量含むことが好ましく、5~20質量含むことがより好ましく、5~15質量含むことが特に好ましい。本発明におけるセルロースエステルフィルムは、前記一般式IIIで表される脂肪族糖エステル化合物を、セルロースエステルに対して1~30質量含むことが好ましく、1~10質量含むことがより好ましく、1~5質量含むことが特に好ましい。前記一般式IおよびIIで表される芳香族糖エステル化合物と、前記一般式IIIで表される脂肪族糖エステル化合物の混合割合としては特に制限はない。その中でも、芳香族糖エステル化合物の添加量/脂肪族エステル化合物の添加量質量比が1を超えることが好ましく、2~10であることがより好ましく、3~5であることが特に好ましい。本発明におけるセルロースエステルフィルムは、前記一般式I~IIIで表される糖エステル化合物を合計で、セルロースエステルに対して1~30質量含むことが好ましく、5~30質量含むことがより好ましく、5~20質量含有することが特に好ましく、5~15質量含有することがより特に好ましい。この範囲内であれば、ブリードアウトなどもなく好ましい。また、後述する重縮合エステル可塑剤を前記糖エステル化合物と併用する場合は、重縮合エステル可塑剤の添加量質量部に対する前記糖エステル化合物の添加量質量部は、2~10倍質量比加えることが好ましく、3~8倍質量比加えることがより好ましい。また、後述する少なくとも2つの芳香環を有する化合物を前記糖エステル化合物と併用する場合は、少なくとも2つの芳香環を有する化合物の添加量質量部に対する前記糖エステル化合物の添加量質量部は、2~10倍質量比加えることが好ましく、3~8倍質量比加えることがより好ましい。また、複数の前記芳香族糖エステル化合物と前記脂肪族糖エステル化合物の混合のタイミングは、例えば溶液製膜法を採用する場合、セルロースエステルドープに添加する前であってもよく、セルロースエステルドープに複数の糖エステル化合物を個別に添加した後でもよい。<重縮合エステル>本発明のフィルムは、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、重縮合エステル以下、オリゴマー可塑剤とも言うを含んでいてもよい。前記重縮合エステルは、少なくとも一種の芳香族ジカルボン酸芳香環を有するジカルボン酸と少なくとも一種の脂肪族ジカルボン酸と、少なくとも一種の脂肪族ジオールと、少なくとも一種のモノカルボン酸とを含む混合物を原料として得ることができる。オリゴマー可塑剤の好ましい例には、ジオール成分とジカルボン酸成分との重縮合エステル及びその誘導体、並びにメチルアクリレートMAのオリゴマー及びその誘導体以下、MAオリゴマー可塑剤という場合があるが含まれる。前記重縮合エステルは、ジカルボン酸成分とジオール成分との重縮合エステルである。ジカルボン酸成分は、1種のジカルボン酸のみからなっていても、又は2種以上のジカルボン酸の混合物であってもよい。中でも、ジカルボン酸成分として、少なくとも1種の芳香族性ジカルボン酸及び少なくとも1種の脂肪族ジカルボン酸を含むジカルボン酸成分を用いるのが好ましい。一方、ジオール成分についても1種のジオール成分のみからなっていても、又は2種以上のジオールの混合物であってもよい。中でも、ジオール成分として、エチレングリコール及び/又は平均炭素原子数が2.0より大きく3.0以下の脂肪族ジオールを用いるのが好ましい。前記重縮合エステルとしては、特開2010-079241号公報の[0029]~[0045]に記載の化合物を好ましく用いることができる。<少なくとも2つの芳香環を有する化合物>本発明におけるセルロースエステルフィルムは、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、さらに、少なくとも2つの芳香環を有する化合物を含有していてもよい。以下に少なくとも2つの芳香環を有する化合物について説明する。少なくとも2つ以上の芳香環を有する化合物は一様配向した場合に光学的に正の1軸性を発現することが好ましい。少なくとも2つ以上の芳香環を有する化合物の分子量は、300ないし1200であることが好ましく、400ないし1000であることがより好ましい。本発明におけるセルロースエステルフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、光学特性とくにReを好ましい値に制御するには、延伸が有効である。Reの上昇はフィルム面内の屈折率異方性を大きくすることが必要であり、一つの方法が延伸によるポリマーフィルムの主鎖配向の向上である。また、屈折率異方性の大きな化合物を添加剤として用いることで、さらにフィルムの屈折率異方性を上昇することが可能である。例えば上記の2つ以上の芳香環を有する化合物は、延伸によりポリマー主鎖が並ぶ力が伝わることで該化合物の配向性も向上し、所望の光学特性に制御することが容易となる。少なくとも2つの芳香環を有する化合物としては、例えば特開2003-344655号公報に記載のトリアジン化合物、特開2002-363343号公報に記載の棒状化合物、特開2005-134884及び特開2007-119737号公報に記載の液晶性化合物等が挙げられる。より好ましくは、上記トリアジン化合物または棒状化合物である。少なくとも2つの芳香環を有する化合物は2種以上を併用して用いることもできる。[セルロースアシレート溶液の有機溶媒]本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液ドープを用いてフィルムは製造される。本発明の主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が3~12のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が1~7のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基すなわち、-O-、-CO-および-COO-のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。以上本発明におけるセルロースアシレートフィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としても良いし、発明協会公開技報2001-174512頁~16頁に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としても良く、本発明におけるセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。その他、本発明におけるセルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開2000-95876、特開平12-95877、特開平10-324774、特開平8-152514、特開平10-330538、特開平9-95538、特開平9-95557、特開平10-235664、特開平12-63534、特開平11-21379、特開平10-182853、特開平10-278056、特開平10-279702、特開平10-323853、特開平10-237186、特開平11-60807、特開平11-152342、特開平11-292988、特開平11-60752、特開平11-60752などに記載されている。これらの特許によると本発明におけるセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。[セルロースアシレートフィルムの製造工程][溶解工程]本発明におけるセルロースアシレート溶液ドープの調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよく、さらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報公技番号2001-1745、2001年3月15日発行、発明協会にて22頁~25頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。[流延、乾燥、巻き取り工程]次に、本発明におけるセルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明におけるセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機釜から調製されたドープセルロースアシレート溶液を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金スリットからエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜ウェブとも呼ぶを金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。別の態様としては、先述の金属支持体を0°C以下に冷却したドラムとし、ドラム上にダイから流延したドープをゲル化してから約1周した時点で剥ぎ取り、ピン状のテンターで延伸しながら搬送し、乾燥する方法など、ソルベントキャスト法で製膜する様々な方法をとることが可能である。本発明におけるセルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性偏光板保護フィルムやハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報公技番号2001-1745、2001年3月15日発行、発明協会にて25頁~30頁に詳細に記載されており、流延共流延を含む,金属支持体,乾燥,剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。[フィルムの厚さ]また、セルロースアシレートフィルムの厚さは20~120μmが好ましく、30~90μmがさらに好ましく、35~80μmが特に好ましい。また、液晶パネルに貼合する偏光子保護フィルムとして用いる場合は、30~65μmであると温湿度変化に伴うパネルの反りが小さく特に好ましい。[ハードコート層の物性]前記ハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層の屈折率は、干渉ムラ抑制及び反射防止性能を得るための光学設計から、1.45以上1.55以下とする。好ましくは1.46以上1.54以下であり、より好ましくは1.48以上1.54以下である。ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、0.5μm~20μmとし、好ましくは1μm~10μm、更に好ましくは1μm~5μmである。ここで、ハードコート層の膜厚には、後述するグラデーション領域の厚みは含まない。また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。更に、JISK5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。[反射防止層]低屈折率層本発明の光学フィルムは、前記ハードコート層上に直接又は他の層を介して反射防止層低屈折率層などを有することが好ましい。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。低屈折率層をハードコート層上に直接設ける場合には、層厚200nm以下の薄膜層とすることが好ましい。更に、光学層厚で設計波長の約1/4の層厚で形成すればよい。但し、最も単純な構成である低屈折率層1層で反射防止を行う1層薄膜干渉型の場合は、反射率0.5以下を満足し、かつ、ニュートラルな色味、高い耐擦傷性、耐薬品性、耐候性を有する実用的な低屈折率材料がないため、更に低反射化が必要な場合には、ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層を形成する2層薄膜干渉型、又は、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層を順次形成する3層薄膜干渉型など、多層の光学干渉によって反射を防止する多層薄膜干渉型反射防止フィルムとすればよい。この場合、低屈折率層は、屈折率が1.30~1.51であることが好ましく、1.30~1.46であることがより好ましく、1.32~1.38が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着CVD法や物理蒸着PVD法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。低屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開2007-298974号公報に記載の含フッ素硬化性樹脂と無機微粒子を含有する組成物や、特開2002-317152号公報、特開2003-202406号公報、及び特開2003-292831号公報に記載の中空シリカ微粒子含有低屈折率コーティングを好適に用いることができる。高屈折率層及び中屈折率層高屈折率層の屈折率は、1.65~2.20であることが好ましく、1.70~1.80であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、1.55~1.65であることが好ましく、1.58~1.63であることが更に好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着CVD法や物理蒸着PVD法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。中屈折率層、高屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分として公知のものを用いる事ができ、具体的には特開2008-262187の段落番号[0074]~[0094]に示される。グラデーション領域本発明の光学フィルムでは、透明基材とハードコート層との間には化合物分布基材成分とハードコート層成分が透明基材側からハードコート層側にかけて徐々に変化するグラデーション領域が存在する。ここで、ハードコート層とは、ハードコート層成分のみが含まれており、基材成分を含まない部分を指し、基材とは、ハードコート層成分を含まない部分を示すこととする。グラデーション領域の厚さは、干渉ムラ抑制の観点から、ハードコート層の厚さに対して5以上200以下であることが好ましく、5以上150以下であることが更に好ましく、5以上95以下であることが最も好ましい。上記の領域が好ましい理由として、グラデーション領域が薄ければ薄く形成できると、ハードコート厚みがその分厚くなるので良好なハードコート性高硬度低カールを保ちやすいためである。光学フィルムの製造方法本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。まずハードコート層形成用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法米国特許2681294号明細書、特開2006-122889号公報参照がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。塗布した後、乾燥、光照射してハードコート層形成用組成物から形成される層を硬化し、これによりハードコート層が形成される。必要に応じて、透明基材上にあらかじめその他の層を塗設しておき、その上にハードコート層を形成することも可能である。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。また必要に応じて前記したようなその他の層を設けることもできる。本発明の光学フィルムの製造方法において、複数の層を同時に塗布してもよいし、逐次塗布してもよい。[低PV値の光学フィルム]本発明は、透明基材上にクリアなヘイズが1.0以下のハードコート層を有する光学フィルムであって、光干渉法による反射率スペクトルをフーリエ変換して得られたパワースペクトルのピーク強度PV値が0.000~0.006である光学フィルムにも関する。PV値としては、0.000~0.003が好ましい。まず、PV値について、説明する。図1のように、基板1上にコーティングされた膜2膜厚dを例にとると、対象サンプル上方から入射した光は膜2の表面で反射しR1、更に膜を透過した光が基板1と膜2との界面で反射するR2。このとき光路差による位相のズレによって起こる光干渉により、図2のような反射率スペクトルが得られる。このような反射率スペクトルのピークとバレイの位置と数は、入射光の波長、膜の屈折率n、及び膜厚dに依存するため、ピーク波長及びバレイ波長から膜の膜厚を演算することができる。例えば、2つのピーク波長λ1とλ2との間隔から膜厚を演算することができる。反射率が小さくてノイズの影響が大きいと反射率スペクトルからピークとバレイの検出が困難で、正しい膜厚を得られないことがあるが、そのような反射率スペクトルに対してはフーリエ変換を行うと、ノイズの影響をほとんど受けずに、また、多層膜の膜厚も解析できる。具体的には、反射率スペクトルをフーリエ変換し、そのパワースペクトルを見ると、それぞれ光学的膜厚値屈折率×膜厚;ndのところにピークをもつスペクトルとなり、ピーク値の値を読み取ると対応した膜の膜厚を知ることができる。多層膜の場合は、各薄膜層の屈折率と膜厚の積、すなわち光学的膜厚に由来する周期を持つスペクトルになるため、フーリエ変換により各層の光学膜厚を抽出する事が可能になる。PV値とは界面の反射の大きさを表す値で、上記のような反射率スペクトルの薄膜干渉由来の変動を高速フーリエ変換して得たパワースペクトルのピーク強度をいう。界面での屈折率差が小さければ強度は小さく、屈折率差が大きくなれば強度は大きくなる。本発明では、上記パワースペクトルにおける透明基材とグラデーション層及びグラデーション層とハードコート層との2つの界面に対応するピーク強度のうち値の大きい方をPV値として、干渉ムラの指標とする。この値が小さいほど干渉ムラがより抑制されたことを意味する。また実際は、PV値の値が同じでも、2つの界面の両方でPV値が検出される場合は、1つの界面のみでPV値が検出される場合と比べて、干渉ムラのレベルが悪いことが分かっている。これは界面反射量が後者は前者のおおよそ倍になるためである。PV値が0.000~0.006である光学フィルムにおいて、透明基材としては前述した透明基材を用いることができる。またクリアハードコート層とは、ヘイズが1以下のハードコート層を意味し、例えば、前述のハードコート層形成用組成物から形成することができる。PV値が0.000~0.006である光学フィルムは、以下の1又は2の手段により作製することもできる。1ハードコート層の屈折率を透明基材の屈折率に近づけて、基材とハードコート層との屈折率差の絶対値を減らす。ハードコート層は、透明基材に対して溶解能を有する溶剤を用いて形成する。基材とハードコート層との屈折率差の絶対値を減らす方法としては、基材と屈折率の近い素材をハードコート層に使用する方法や、ハードコート層の硬化度合いを調整する方法がある。2ハードコート層形成用組成物に透明基材に対して溶解能と膨潤能を有する溶剤を用い、干渉条件により硬化性化合物モノマーの透明基材中への拡散を調整する。例えば、透明基材の裏からヒーターを当ててモノマーの基材中への拡散を促進したり、乾燥速度を遅らせることなどが挙げられる。[偏光板用保護フィルム]光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム偏光板用保護フィルムとして用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。偏光子の2枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム位相差フィルムは、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001-100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が親水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から3分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が3質量~25質量であり、処理温度は30°C~70°C、処理時間は15秒~5分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。本発明の光学フィルムの帯電防止層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム偏光板用保護フィルムとして用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルローストリアセテートフィルムであることが好ましい。[偏光板]次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、2枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。[画像表示装置]本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。本発明の光学フィルム、反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置LCD、プラズマディスプレイパネルPDP、エレクトロルミネッセンスディスプレイELDや陰極管表示装置CRTのような画像表示装置に好適に用いることができる。特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型/半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された2枚の偏光板を有し、液晶セルは、2枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に2枚配置されることもある。液晶セルは、TNモード、VAモード、OCBモード、IPSモード又はECBモードであることが好ましい。以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、部及びは質量基準である。<実施例1>光学フィルムの作製下記に示す通りに、各層形成用の塗布液を調製し、各層を形成して、光学フィルム試料1~13を作製した。ハードコート層用塗布液の調製下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液A-1固形分濃度58質量とした。溶剤表1記載21.0質量部2種以上の場合には合計量aモノマー:PET3022.52質量部bモノマー:ウレタンモノマー6.30質量部光重合開始剤イルガキュア184、チバスペシャルティケミカルズ株製0.84質量部レベリング剤SP-130.006質量部ハードコート層用塗布液A-1と類似の方法で、各成分を下記表1のように混合して溶剤に溶解して表1記載の比率になるように調整し、固形分濃度58質量のハードコート層用塗布液A-2~A-14を作製した。それぞれ使用した化合物を以下に示す。レベリング剤SP-13:PET30:日本化薬株製、下記構造の化合物の混合物。質量平均分子量は298で、1分子中の官能基の数は3.4平均。ウレタンモノマー:下記構造の化合物。質量平均分子量は596で、1分子中の官能基の数は4。DPCA-30:日本化薬株製、下記構造の化合物。質量平均分子量は921で、1分子中の官能基の数は6。DPCA-120:日本化薬株製、下記構造の化合物。質量平均分子量は1947で、1分子中の官能基の数は6。A-9300:新中村化学工業株製、下記構造の化合物。質量平均分子量は423で、1分子中の官能基の数は3。EB5129:ダイセルUCB株製、下記構造の化合物。質量平均分子量は765で、1分子中の官能基の数は6。低屈折率層用塗布液の調製パーフルオロオレフィン共重合体1の合成上記構造式中、50:50はモル比を表す。内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7g及び過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレンHFP25gをオートクレーブ中に導入して65°Cまで昇温した。オートクレーブ内の温度が65°Cに達した時点の圧力は、0.53MPa5.4kg/cm2であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が0.31MPa3.2kg/cm2に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N-ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体1を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.422、質量平均分子量は50000であった。中空シリカ粒子分散液Aの調製中空シリカ粒子微粒子ゾルイソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業株製CS60-IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量、シリカ粒子の屈折率1.31500質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.51質量部加え混合した後に、イオン交換水9質量部を加えた。60°Cで8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力30Torrで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度18.2質量の中空シリカ粒子分散液Aを得た。得られた中空シリカ粒子分散液AのIPA残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ0.5質量以下であった。低屈折率層用塗布液Aの調製パーフルオロオレフィン共重合体1の21.0質量部、反応性シリコーンX22-164C、信越化学株製2.5質量部、イルガキュア127チバスペシャルティケミカルズ株製1.5質量部、中空シリカ粒子分散液A137.4質量部をメチルエチルケトンに添加して1000質量部とし、攪拌の後、孔径5μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Aを調製した。ハードコート層A-1の作製厚さ80μmの透明基材としてのセルローストリアセテートフィルムTD80UF、富士フイルム株製、屈折率1.48上に、前記ハードコート層用塗布液A-1をグラビアコーターを用いて塗布した固形分塗布量:12.1g/m2。100°Cで乾燥した後、酸素濃度が1.0体積以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプアイグラフィックス株製を用いて、照度400mW/cm2、照射量150mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層A-1を形成し、フィルム試料No.1を作製した。同様の方法で固形分塗布量12.1g/m2のハードコート層用塗布液A-2~13を用いてハードコート層A-2~13をそれぞれ作製し、フィルム試料No.2~13を作製した。低屈折率層Aの作製各フィルムのハードコート層の上に、低屈折率層用塗布液Aをグラビアコーターを用いて塗布し、厚さ94nmの低屈折率層を形成した。低屈折率層の乾燥条件は60°C、60秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.1体積以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプアイグラフィックス株製を用いて、照度600mW/cm2、照射量300mJ/cm2の照射量とした。低屈折率層の屈折率は1.36であった。ハードコート層及び低屈折率層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約4μmの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計DR-M2アタゴ株製にて測定した。DR-M2,M4用干渉フィルター546enm部品番号:RE-3523のフィルターを使用して測定した屈折率を波長550nmにおける屈折率として採用した。また、低屈折率層の膜厚は、反射分光膜厚計FE-3000大塚電子株製を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用して調整した。光学フィルムの評価以下の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表2に示す。1PV値、干渉ムラ各試料について、低屈折率層を設けない試料を同条件で作製し、透明基材の裏面ハードコート層を設けていない側の面を紙やすりでやすり、その面に黒く塗り潰したPETフィルム貼り付けた。該試料を反射分光膜厚計FE-3000大塚電子株製にセットし、3波長光源を用いて、反射率スペクトルを求めた。得られた反射率スペクトルをフーリエ変換し、光学膜厚に対するパワースペクトルを求めた。得られたパワースペクトルから透明基材とハードコート層との界面からのピーク強度をPV値として求めた。FE-3000においてフーリエ変換解析を行う際の測定条件及び演算条件は以下記載の通りである。測定条件測定手法:絶対反射率測定モード:マニュアル演算条件材料カテゴリ:Standardアルゴリズム:FFT計算方法:2層2ピークn1d1形式:FIX屈折率:前述の方法で測定したハードコート層の屈折率を指定n2d2形式:FIX屈折率:前述の基材の屈折率と前述の方法で測定したハードコート層の屈折率の平均値を指定得られたPV値に基づいて、下記の基準により干渉ムラを評価した。◎:PV値が0.000以上0.003以下○:PV値が0.003超0.006以下×:PV値が0.006超2カール、F式カールF式カールの評価法フィルムのカール値は、ANSI/ASCPH1.29-1985、MethodAの方法に従って行った。作製した各フィルムを3mm×35mmに、裁断したサンプルをカール板に垂直にかつセットする支柱からサンプルがきっちりはみ出さないようにセットし、25°C、相対湿度60、調湿時間10時間で調湿する。調湿後、サンプルの先がカール板のどのメモリまでカールしているかを読み取る=F式カール値。このときフィルムのカールする方向によって±がつくが、絶対値が大きいほどカールが強いことを意味する。図3は光学フィルムのカールをANSI/ASCPH1.29-1985、MethodAの方法に従って測定する一例を表す図である。図3では、光学フィルム1のカールはカール板2のメモリが0.5以下となっている。各フィルムのカール絶対値を以下の基準で評価した。◎:0.5以下○:0.5より大きく1.5以下×:1.5より大きい3鉛筆硬度JISK5400に記載の鉛筆硬度評価を行った。各フィルム試料を温度25°C、湿度60RHで2時間調湿した後、JISS6006に規定する試験用鉛筆を用いて下記の基準で評価した。◎:4H以上○:3H×:2H未満4ヘイズJIS-K7136に準じて、得られたフィルムの全ヘイズ値を測定した。装置には日本電色工業株製ヘーズメーターNDH4000を用いた。表2に示すように、本発明の光学フィルムは、硬度が高く、干渉ムラ及びカールが抑制されていた。<実施例2>下記表3に示すドープB-1及びB-2を用いてそれぞれ基材1~3を前述の[0157]~[0159]記載の手順で作製した。下記表4に示す基材及びハードコート層塗布液を用いた以外はフィルム試料No.1と同様にして、光学フィルムNo.14~18を作成し、干渉ムラ及び鉛筆硬度について、表2と同様の評価を行った。ここで試料No.16に用いた基材は富士フイルム株製ZRD60SLアセチル置換度2.86のセルロースアシレートフィルム、膜厚60μmである。表4に示すように本発明の光学フィルムは、40μm或いは60μmといった薄手の基材を用いた場合においても硬度が高く、干渉ムラが抑制され、優れた性能であった。なお、光学フィルム試料14~18はいずれも全ヘイズが0.1以下であった。次に、光学フィルムNo.14において使用したハードコート層塗布液A-2に使用した溶剤を、酢酸メチル:MEK=5:5から酢酸メチル:MEK:アセトン=5:2:3とした以外はハードコート層塗布液A-2と同様の塗布液A-15を調整した。ハードコート層塗布液A-2の代わりにハードコート層塗布液A-15を用いた以外は光学フィルムNo.14と同様にして光学フィルムNo.19を作成したところ、干渉ムラ、鉛筆硬度、カール性能について、光学フィルムNo.14と同様に良好な結果であった。光学フィルムの鹸化処理前記試料No.1に以下の処理を行った。1.5mol/lの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、55°Cに保温した。0.01mol/lの希硫酸水溶液を調製し、30°Cに保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に20秒間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を120°Cで十分に乾燥させた。このようにして、鹸化処理済みの光学フィルムを作製した。偏光板の作製1.5mol/L、55°CのNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗した、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルムTAC-TD80U、富士フイルム株製と、鹸化処理済みの光学フィルムを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護して偏光板を作製した。円偏光板の作製偏光板試料の低屈折率層と反対側の面にλ/4板を粘着剤で貼り合せ円偏光板を作製し、有機ELディスプレイの表面に低屈折率層が外側になるように該円偏光板を粘着剤で貼り付けた。傷つきや色ムラがなく、良好な表示性能が得られた。反射型液晶ディスプレイ及び半透過型液晶ディスプレイの表面の偏光板として、低屈折率層が外側になるように上記円偏光板を用いたところ、傷つきや色ムラがなく、良好な表示性能が得られた。なお、上記トリアセチルセルロースフィルムを厚さ60μmのものTAC-TD60U、富士フイルム株製に替えても、同様に傷つきや色ムラがなく、良好な表示性能が得られた。"