"2枚の基板間に挟持された液晶層を含み表示画面に配置され少なくとも一部が白色画素である複数の画素を具備する液晶表示素子において、前記白色画素のそれぞれは前記基板を透過する光に対して光変調率が異なる複数の光変調領域を有し、少なくとも前記光変調領域のうちの1つに部分的に青色パターン領域を形成したことを特徴とする液晶表示素子。前記青色パターン領域は光変調率が異なる複数の前記光変調領域のうち少なくとも光変調率が最も高い光変調領域に形成されている請求項1に記載の液晶表示素子。光変調率が異なる複数の前記光変調領域に青色顔料を分散した前記青色パターン領域が形成され、光変調率が高い領域ほど前記青色顔料を含む比率が大きい請求項1または2に記載の液晶表示素子。前記表示画面に赤色フィルタ層を有する赤色画素、緑色フィルタ層を有する緑色画素、青色フィルタ層を有する青色画素、および前記白色画素を備え、前記各色フィルタ層上に透明なオーバーコート層が配置され、前記オーバーコート層が前記白色画素の領域において白色フィルタ層を兼ねていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の液晶表示素子。画素電極を配置したアレイ基板と、前記画素電極ごとに白色フィルタ層を含むカラーフィルタ層を配置し前記カラーフィルタ層上に共通電極を形成してなるカラーフィルタ基板と、前記アレイ基板と前記カラーフィルタ基板間に挟持される液晶層とを備え、前記共通電極は画素ごとに導電部と非導電部を有して前記画素電極と前記共通電極間にかかる電圧が無印加状態で前記液晶層が垂直配向される液晶表示素子において、前記白色フィルタ層の前記導電部の領域の一部に青色パターン領域が形成されていることを特徴とする液晶表示素子。赤、緑、青色画素による白色表示は各色の明るさすなわち光変調率を独立して調整するが、白色画素のみを点灯する場合には印加電圧を変化させて黒色、灰色、白色に変化させた際に例えば波長分散のような液晶の特性に依存する色相変化を補償することができない。光変調率が高いと黄色に色付き、低くなるほど青味がかる。実施形態はこの白色画素の明度に対応した色相の変化を低減するものである。実施形態によれば、2枚の基板間に挟持された液晶層を含み表示画面に配置され少なくとも一部が白色画素である複数の画素を具備する液晶表示素子において、前記白色画素のそれぞれは前記基板を透過する光に対して光変調率が異なる複数の光変調領域を有し、少なくとも前記光変調領域のうちの1つに部分的に青色パターン領域を形成している。第1実施形態図1ないし図3を参照してVA垂直配列モードに適用される本実施形態について説明する。図は観察するフロント側からみた画素配列の一部である。表示画面11に色画素RGBWが2行2列で配置された画素12を構成し、この構成の画素を行列方向に多数配列して表示画面が形成される。1画素は赤色画素R、緑色画素Gが1行目に、青色画素B、白色画素Wを2行目に配置している。白色画素Wは赤、緑、青の各波長光の全色光を透過する画素であり、透明フィルタ層を設けて構成される。この色配列の画素行および列方向に隣接している画素は、1行目が青色画素Bおよび白色画素W、2行目が赤色画素Rおよび緑色画素Gの配置になり、これら2種の配列画素が交互に繰り返されて表示画面を形成する。各画素の中央に表示画面に対して垂直方向にマルチドメイン形成用ライン13が設けられる。白色画素Wには、ライン13の両側の水平方向の画素端14と同ラインの中間に青色パターン領域15がラインと平行に配置される。各色画素RGBWは電極への印加電圧と光透過率の関係において光変調率の異なる複数の領域で形成されており、光変調率は色画素のラインと画素端の間の領域16で高く、ライン領域低光変調率領域17で低い。この青色パターン領域15は細長形状でライン13よりも短く、白色画素の高光変調率領域16の一部に形成される。図2は図1の画素12の回路配列を説明するもので、表示画面11上に行方向に延びるゲート線18と列方向に延びる信号線19とが交差する位置に、スイッチング素子を構成する薄膜FET40とITOでできた透明な画素電極22が色画素ごとに設けられており画素12がマトリクス配列されている。ゲート線18はゲート制御回路30によって、信号線19は信号制御回路31によって制御される。図3は白色画素の構成を示しており、ガラスの透明基板33を有するアレイ基板35と同じくガラスの透明基板34を有するカラーフィルタ基板36間に、液晶層37が挟持される。液晶層37は誘電異方性が負のネマティック液晶からなり、電圧無印加時に垂直配向される。アレイ基板35は、透明基板33上にゲート線18および信号線19図2参照が相互に絶縁されて格子状に交差して設けられ、これらの線で囲まれた領域に画素12領域が形成される。薄膜FET40はゲート電極40gがゲート線18に接続される。またソース電極40sは信号線に接続される。ドレイン電極40dは層間絶縁膜41の液晶層37側に成膜されたITOの透明画素電極22に、この層間絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して接続される。続いて画素電極上にスペーサ図示しないが形成され、さらに垂直配向膜42が印刷される。カラーフィルタ基板36には画素12領域の画素電極22に対応して、透明基板34上に各色のフィルタ層43赤色フィルタ層43R,緑色フィルタ層43G,青色フィルタ層43B,白色フィルタ層43Wが配置される。図3では白色画素を示したが、図1は各色フィルタ層を各色画素に重複して示している。各色フィルタ層はゲート線と信号線に囲まれる画素領域に対応して配置され、色画素間を遮光層44で区画している。フィルタ層43は透過光波長に対応した顔料染料を含むで着色されており、赤色フィルタ層43Rに赤色顔料、緑色フィルタ層43Gに緑色顔料、青色フィルタ層43Bに青色顔料が分散されている。遮光層44およびフィルタ層43はフォトエッチングプロセスにより形成される。遮光層44は黒色樹脂レジストを基板全面に塗布し、パターニングして形成する。同様に各色フィルタ層43は遮光層形成後に、顔料を分散させた例えば感光性アクリル樹脂レジストを用いて全面に塗布し、パターン露光、現像処理して形成する。このプロセスが各色フィルタについて順次実施される。白色フィルタ層43Wについては顔料を分散させないアクリル樹脂レジストで形成する。本実施形態においてこの白色画素の高光変調率領域16の一部でかつライン13と画素端14間に青色パターン領域15を形成している。この青色パターン領域は白色フィルタ層形成前に、青色画素用の青色顔料を分散した感光性樹脂レジストを用いて、青色フィルタ層形成と同工程で形成する。この青色顔料を分散した微小な青色パターン領域はマルチドメイン形成用のライン13と遮光層44の中間にライン両側にライン13と平行してラインと重ならないストライプ状に形成され、白色フィルタ層43W中に埋め込まれる。さらにこれらのフィルタ層上に色顔料の拡散を防止するために全面にオーバーコート層45を塗布する。その上にITO等の透明導電膜をスパッタ成膜して共通電極46を形成する。共通電極は画素電極ごとにマルチドメイン形成用ライン13を設けている。ライン13は透明導電膜を切り欠いたスリット状非導電部であり、色画素ごとに共通電極46に導電部16Aと非導電部17Aが形成される。スリット幅は5~20μmである。さらに共通電極46層上に垂直配向膜47を形成し、カラーフィルタ基板36が得られる。次にカラーフィルタ基板周辺に沿って接着剤を塗布し、これにアレイ基板35を配向膜42,47が対面するように配置して加熱加圧して接着剤を硬化させて両基板を貼り合わせる。通常、大きなサイズのガラス母基板を用いて複数の液晶表示素子を同時に形成するので、上記接着剤が硬化後に、素子単位で切り出し、接着剤に設けた注入口から液晶組成物を注入した後、注入口を紫外線硬化樹脂で封口する。この素子に偏光板と位相差板を組み合わせた光学フィルムを両面に貼り付けて液晶表示装置を得る。各面に設けた偏光板は吸収軸が相互に直交するように配置され、画素電極と共通電極間の電圧無印加時に黒表示となり、電圧を印加することにより光を透過する。電圧を調整することにより、色相と明度が制御可能になる。すなわちRGB画素は色相を変化させるとともに、モノクロ表示では灰色表示時、白色表示時の色相変化が少なくなるように電圧設定する。白色画素Wによる白色表示ではRGB画素による白色表示の液晶印加電圧とγ特性がほぼ一致するように電圧を設定する。本実施形態のVAモードセルにおいて、図3に示すように、液晶層を挟持する画素電極と共通電極間に電圧を印加しない時の液晶分子Lmは配向膜42,47にほぼ垂直または垂直に近い斜方向に配列し、電圧印加の大小によって液晶分子が水平方向に傾斜する。非導電部17Aを境界にして傾斜方向が変わり、いわゆるマルチドメインが形成されて広視野角特性が得られる。この液晶分子の傾斜の程度に応じて、液晶を透過する光波長の位相が変化し、電圧により光を変調することができる。導電部領域16と非導電部領域17とで光変調率が異なる。図6は画素電極22と共通電極46間に印加する電圧に対する光透過率の一例を示すもので、曲線T1が導電部領域16の特性、T2が非導電部領域17の特性である。導電部領域ではオフセット電圧Voff1が非導電部領域のオフセット電圧Voff2よりも低く、光変調率が非導電部領域の光変調率よりも大きい。図7は白色画素のxy色度図を示すもので、本実施形態の特性をa、青色パターン領域のない白色画素の特性をbで表わしている。表示画像は黒表示座標Blから白表示座標Whまでcのように直線であることが望ましいが、従来は印加電圧を高くしていくと、特性bのようになり青味から黄味がかる色相変化が目につくのに対して、本実施形態では特性aのようにほぼ望ましい特性cに近付いており、色相変化が改善されている。なおマルチドメイン用の前記スリットは垂直方向に延びるラインとしたが、十字形状など他の形状にすることもでき、この場合も青色パターン領域を導電部領域に設ける。なお青色パターン領域17Aを非導電部領域にも形成することができるが、この場合は導電部領域における青色顔料比率を高くする。第2実施形態本実施形態を図4により説明する。第1実施形態と同符号の部分は同様部分を示しており、重複する説明を省略する。本実施形態において第1実施形態と異なる部分は白色画素フィルターレジスト層を形成しない点である。青色パターン領域15を形成した後、オーバーコート層45を形成し、その上に共通電極46と垂直配向膜47を形成する。オーバーコート層45を白色フィルタ層として代用し、フィルタ層形成のための顔料非分散の樹脂レジストの塗布、露光、現像工程を省略している。カラーフィルタ層の層厚は例えば2.3μmから3.0μmであるが、オーバーコート層の層厚を2.0μm以上と十分に厚くすることにより遮光層や青色パターンとの重複部分の段差が円滑になり、配向膜の塗布や液晶配列に影響を与えることがない。本実施形態によれば、第1実施形態よりも製造プロセスを省略することができる。第3実施形態本実施形態はIPS水平配列モードの例を示しており、白色画素50のアレイ基板上に一対の櫛型電極51,52をその電極指51A,52Aを入り組ませ平行に対向させて配置している。この構造は、電極指に平行な方向に配向された液晶分子を両電極に電圧を印加することにより電極指に垂直方向に再配列させるもので、電極指間53の光変調率が高く、電極指上では低い。本実施形態では、電極指間の領域の一部にライン状に青色パターン領域55を配置したものである。これにより黒色から灰色、白色表示にわたって白黒画像が色付くのを低減することができる。他の実施形態上記実施形態で白色フィルタ層中の青色パターン領域をストライプ状に形成したが、ストライプの代りに複数のドットを並べたパターンでもよく、導電部領域の中でとりわけ光変調率の高い領域に形成することが好ましい。またVAモードやIPSモードに限らずNモードなどその他のモードのセルにも適用することができる。さらにモノクローム表示素子にも適用することができる。また以上説明した実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規の実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。"