"非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をUV処理する方法であって、磁気記録媒体をUVランプで照射するUV照射工程を含み、UV照射工程が、磁気記録媒体を樹脂で保持した状態で行われる方法。樹脂がべスペルである請求項1に記載の方法。非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をUV処理する装置であって、磁気記録媒体をUVランプで照射するUV照射部と、磁気記録媒体を保持するための保持部とを含み、保持部が樹脂で形成されている装置。樹脂がべスペルである請求項3に記載の装置。しかしながら、UVハウス内で磁気ディスクを上下に揺動させる際に、磁気ディスクを保持する部分爪との接触による外周部分の傷が付いてしまうことが問題となっていた。更に記録容量の増大に伴って、これまでに比べて広範囲、特に外周の部分にも浮上安定性が求められてきている。また、外周部分の浮上性に関わる傷の改善が急務になっている。特に、これまでUV処理で磁気ディスクの保持部分に使われていた素材は、長時間のUV照射でも変色や変形をしないように金属製のものが用いられてきたが、近年、UV照射時間の短縮化や効率を上げるためにより高出力のランプが使われており、金属製以外の素材を保持部分に用いることは困難とされていた。本発明は上述の問題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、磁気記録媒体のUV処理時における磁気記録媒体外周部分の傷の発生を防止することである。上記目的を達成するために、本発明の磁気記録媒体をUV処理する方法は、非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をUV処理する方法であって、磁気記録媒体をUVランプで照射するUV照射工程を含み、UV照射工程が、磁気記録媒体を樹脂で保持した状態で行われることを特徴とする。或いは、本発明の磁気記録媒体をUV処理する装置は、非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をUV処理する装置であって、磁気記録媒体をUVランプで照射するUV照射部と、磁気記録媒体を保持するための保持部とを含み、保持部が樹脂で形成されていることを特徴とする。ここで、樹脂はべスペルであることが好ましい。本発明によれば、外周傷の発生を抑えた磁気記録媒体の作製が可能となり、より外周側まで浮上性が安定した磁気記録媒体を提供することが可能となる。本発明の磁気記録媒体のUV処理方法は、非磁性基体上に、磁性膜、保護膜、および潤滑膜を含む磁気記録媒体をUV処理する方法である。非磁性基体、磁性膜、および保護膜は、通常用いられている非磁性基体、磁性膜、および保護膜を用いることができる。本発明の方法は、磁気記録媒体をUVランプで照射するUV照射工程を含み、UV照射工程が、磁気記録媒体を樹脂で保持した状態で行われる。なお、以下の実施例においては、保持部分の全体が樹脂で形成されているが、保持部分の一部を爪として構成し、この爪のみを樹脂で形成することもできる。磁気記録媒体を適切に保持するためには、樹脂の厚さは、2mm以上であるのが好ましい。ここで、樹脂はべスペル登録商標であることが好ましい。他に好ましい樹脂は、例えば、ピークまたはポリアミドイミドである。好ましい潤滑剤としては、潤滑剤の主鎖部分に化学式1と化学式2のようにパーフルオロポリエーテルを含み、末端部分R1、R2、R3の少なくとも1つが複数の官能基を有しており、分子量が500~10,000の間で規定されるものである。上記記載の末端構造において、官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルデヒド基、1級および2級アミン基、ニトロ基、ニトリル基、イソニトリル基、イソシアナート基、チオール基、スルホ基、複素環のうちいずれか1つまたは複数から選択されることが好ましい。なお、潤滑剤に添加剤を加える場合もあるが、その場合でも本願発明の効果は得られることになる。図1は、本発明に好適に使用される磁気ディスクおよび保持部分の一例を示す概念図である。磁気ディスク10は、図示省略した装置の保持部分12の爪12aに保持される。こうして、磁気記録媒体の外周部分の接触による傷を防止するため、保持部分に樹脂を用いてUV処理の接触時に発生する外周傷を制御する。特にベスペルは耐熱性および耐磨耗性を有する樹脂であるため、UV処理の接触時に発生する外周傷がより効果的に抑制される。以下本発明の実施例を説明する。なお、実施例は本発明の代表例に過ぎず、本発明は実施例の記載に限定されるものではない。潤滑剤として末端基に-OHを持つZ-Tetraolソルベイソレクシス社製とADOHモレスコ社製の混合体を用いた。ADOHの添加割合は37.5で行った。UV処理時に保持部分の爪を従来の金属製と本発明の樹脂製以下の例ではべスペル製としたものを用いてOSAオプティカルサーフェスアナライザーを用いて外周部分の傷を比較した。[磁気記録媒体への塗布および特性評価]1、サンプル作製‐潤滑剤塗布プラズマCVD法で作成した膜厚2.0nmの非晶質カーボン保護膜で覆われた直径65mm、95mmの磁気ディスク基板に対し、上記の潤滑剤混合体をDip法により塗布した。具体的には、溶媒としてVertrelXF三井デュポンフロロケミカル社製を用いた潤滑剤混合体に磁気ディスク基板を72秒間浸漬させ、1.5mm/secの速度で引上げ、その後乾燥させて磁気ディスクを作成した。塗布後の磁気ディスクのサンプルに対し、185nm/254nmの波長を持つ200WのUVランプを用いて8秒間UV処理を行った。上記手法により作製したサンプルについて、潤滑層の膜厚をフーリエ変換式赤外分光光度計FT-IRにより測定した。潤滑層の標準膜厚については、トータル膜厚が8.00Å、ボンド潤滑層の膜厚が6.00Å、ボンド率が75.0になるように、磁気ディスクを作製した。ここで、前述に示したトータル膜厚、ボンド潤滑層の膜厚、ボンド率について説明する。一般に、カーボン表面に存在する官能基と潤滑剤との結合割合は、フッ素系溶媒による洗浄前の潤滑層の膜厚に対するフッ素系溶媒による洗浄後の潤滑層の膜厚の割合として表され、その百分率値がボンド率と呼ばれる。ここで、洗浄前の潤滑層の膜厚がトータル膜厚であり、洗浄後の潤滑層の膜厚がボンド潤滑層の膜厚である。ボンド潤滑層の膜厚は、実際にカーボン表面と結合している潤滑層の膜厚量を表している。フッ素系溶媒としては、VertrelXF三井デュポンフロロケミカル社製を用いることが一般的であるため、本評価においてもこの溶媒を用いている。2、保持部分の爪の作製本試験では、図1に示すような形状の保持部分を磁気ディスク磁気記録媒体の典型例に対して使用し、UV処理を行った。保持部分12の爪12aは、磁気ディスクとの接点をできるだけ少なくなるように溝の深さ方向に対して45°の傾斜面を含むY字の形状を有する。この爪12aは、磁気ディスク10のディスク端を溝の中で水平に立つようにして保持するようになっている。爪12aは、成形、切削、および研磨工程を経てベスペルから形成した。3、外周部分の傷評価前記プロセスにより作製した磁気ディスクのサンプルに対し、磁気ディスクを支える爪を変えて実施し、OSA測定をCandela社製のOSA6100を用いて実施した。図2および図3は、95mm-板厚1.75mmtの磁気ディスクに対してUV処理した時のOSA画像データを示す。図2が従来の金属製の爪で処理したもの、図3が本発明の樹脂性べスペル製の爪で処理したものである。OSA画像のQ-phaseモードP波とS波が合成され潤滑剤の観察に一般的に使われているモードでは潤滑膜の膜厚が薄くなっている部分ほど白く見え、PscモードP波の反射を利用して、表面の傷やパーティクルを観察するのに使われているモードでは傷やパーティクルがあると白く反射して見える。図2において、上側の写真がQ-phaseモードのデータを示し、下側の写真がPscモードのデータを示す。Q-phaseモードで周辺と異なって見えている部分とPscモードで白くなっている部分が重なっていることから、爪が接触している部分に傷が発生しており、8面中8面で同程度の外周傷が発生してしまった。図3において、上側の写真がQ-phaseモードのデータを示し、下側の写真がPscモードのデータを示す。Q-phaseモード、Pscモードともに爪の部分が見えづらくなっており外周の傷発生が抑えられていることが分かる。発生頻度は8面中0面であった。これらの結果から、UV処理時の爪を樹脂製に変えることが外周傷の発生の低減に有効であることが確認された。特に、今回樹脂として用いたべスペルは耐磨耗性および耐熱性に優れている樹脂として知られており、更に検証結果から長時間のUV光にも安定して使用できることが分かり、外周傷を低減させるための金属製爪に代わる爪材料として非常に優れていると言える。本発明によって従来技術に比較し、外周傷の発生が抑えられるUV処理が可能となり外周傷の少ない磁気ディスクの製造が可能となることが見出された。"