基板が上側に固定して設置され、その下側に設置された貫通孔プレートとそのさらに下側に設置された整流羽根の両者が回転する構造を備えたミストを用いた薄膜形成装置。回転部分である貫通孔プレートおよび整流羽根が一体であり、これが固定されている基板に対して回転する構造を備えたミストを用いた薄膜形成装置。回転部分である貫通孔プレートおよび整流羽根と基板の間隔が10mm以下の間隔であることを特徴とするミストを用いた薄膜形成装置。上記請求項において、貫通孔プレートおよび整流羽根を石英ガラスまたは金属母材上に耐酸性コーティングした材料により形成することを特徴とするミストを用いた薄膜形成装置。上記請求項4において、貫通孔プレートおよび整流羽根を金属母材上に酸化スズで耐酸性コーティングした材料により形成することを特徴とするミストを用いた薄膜形成装置。上記請求項において、成長室内におけるミストの結露による液体を抜き取る孔、および液体が成長室下部に垂れるのを防止する傘を設置することを特徴とするミストを用いた薄膜形成装置。光を用いて薄膜形成中に膜厚を測定することを特徴とするミストを用いた薄膜形成装置。本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は均一性に優れた薄膜が形成できる装置を開発することにある。図1は、本発明に係る薄膜形成装置の図である。通常の薄膜形成装置では、基板2が成長室6内の下側に設置されるが、基板温度が高温の場合、ミスト7を含んだ気体が対流により上昇し、基板2への付着確率が減少すると共に、基板上における流れが乱れる。そこで、本発明では基板が成長室6の上側に固定して設置され、その下側に設置された貫通孔プレート4とそのさらに下側に設置された整流羽根5の両者が回転することにより、基板に対して均一にミスト7を供給することが可能となる。また、本発明では基板2が上側に設置されるため、ミスト7が結露して液垂れを起こしても基板上に垂れることが無い。本発明においては、回転部分である貫通孔プレート4と整流羽根5の両者が一体で、これが固定されている基板2に対して回転する。これにより、両者を一体で製作するため部品数が少なくなり、かつ回転部分を一箇所のみにすることができるため、装置構造を簡略化することができる。また、基板回転を行わないため、基板加熱機構ヒータ1も簡略化できる。回転部分である貫通孔プレート4と基板2の間隔は、10mm以下の狭い間隔とする。また、好ましくは5mm以下、さらに最適寸法としては2mm以下である。この狭い間隔であることのメリットは、ミスト7が基板の熱で爆発的に気化する際、その気化した圧力を基板側に加え、薄膜の原料を十分に基板2に供給できる点である。例えば、酸化物薄膜を形成する際、酸素欠陥を削減するためには、十分な酸素供給が必要であり、この狭い間隔が有効に機能する。上記のようなミストを用いた薄膜形成装置を製作する際、ミストとして酸やアルカリを用いる場合が多く、材料の腐食を避けるため、貫通孔プレート4と整流羽根5を石英ガラスまたは金属母材上に耐酸性コーティングした材料により形成する。また、耐酸性コーティングの一例としては、ほとんどの酸に耐性を有する酸化スズが挙げられる。成長室内においてはミスト7の結露が生じるため、この液体を抜き取る孔14、および液体が成長室下部の例えばモータに垂れるのを防止する傘13を設置することが必要となる。薄膜形成中に膜厚を測定するため、上側に設置した基板2のさらに上側から光ファイバーまたは直接光を導き基板に照射し、その反射光または透過光を検出することにより、膜厚を検出することができる。