転写用金型に形成された凹凸形状を透明シート材に転写して配向膜を形成するパターン位相差フィルムの作製方法において、前記パターン位相差フィルムは、前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、前記パターン位相差フィルムの作製方法は、平板上に、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤を作製する原盤作製工程と、前記原盤を電鋳処理して、前記原盤の表面に電鋳処理によるメッキ膜を作製する電鋳処理工程と、前記原盤より前記メッキ膜を取り外し、前記転写用金型に係る母材の表面に配置して前記転写用金型を作製するメッキ膜処理工程と、前記転写用金型を用いて、前記透明シート材を処理して前記パターン位相差フィルムを作製する透明シート材の処理工程とを備えることを特徴とするパターン位相差フィルムの作製方法。表面に形成された凹凸形状の透明シート材への転写によりパターン位相差フィルムの配向膜を作製するパターン位相差フィルム作製用の金型であって、電鋳処理により原盤に形成された凹凸形状を転写したメッキ膜が、母材の表面に配置されて、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状が形成されたことを特徴とするパターン位相差フィルム作製用の金型。表面に形成された凹凸形状の透明シート材への転写によりパターン位相差フィルムの配向膜を作製するパターン位相差フィルム作製用金型の作製方法であって、前記パターン位相差フィルムは、前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、前記パターン位相差フィルム作製用金型の作製方法は、平板上に、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤を作製する原盤作製工程と、前記原盤を電鋳処理して、前記原盤の表面に電鋳処理によるメッキ膜を作製する電鋳処理工程と、前記原盤より前記メッキ膜を取り外し、母材の表面に配置して前記パターン位相差フィルム作製用金型を作製するメッキ膜処理工程とを備えることを特徴とするパターン位相差フィルム作製用金型の作製方法。本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、パターン位相差フィルムを容易かつ大量に作製することができるパターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用金型及びその作製方法を提供することを目的とする。本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、原盤に凹凸形状を形成し、この凹凸形状を電鋳処理により写し取って金型を作製する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。1転写用金型に形成された凹凸形状を透明シート材に転写して配向膜を形成するパターン位相差フィルムの作製方法において、前記パターン位相差フィルムは、前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、前記パターン位相差フィルムの作製方法は、平板上に、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤を作製する原盤作製工程と、前記原盤を電鋳処理して、前記原盤の表面に電鋳処理によるメッキ膜を作製する電鋳処理工程と、前記原盤より前記メッキ膜を取り外し、前記転写用金型に係る母材の表面に配置して前記転写用金型を作製するメッキ膜処理工程と、前記転写用金型を用いて、前記透明シート材を処理して前記パターン位相差フィルムを作製する透明シート材の処理工程とを備えることを特徴とするパターン位相差フィルムの作製方法。2表面に形成された凹凸形状の透明シート材への転写によりパターン位相差フィルムの配向膜を作製するパターン位相差フィルム作製用の金型であって、電鋳処理により原盤に形成された凹凸形状を転写したメッキ膜が、母材の表面に配置されて、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状が形成されたことを特徴とするパターン位相差フィルム作製用の金型。3表面に形成された凹凸形状の透明シート材への転写によりパターン位相差フィルムの配向膜を作製するパターン位相差フィルム作製用金型の作製方法であって、前記パターン位相差フィルムは、前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、前記パターン位相差フィルム作製用金型の作製方法は、平板上に、前記パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤を作製する原盤作製工程と、前記原盤を電鋳処理して、前記原盤の表面に電鋳処理によるメッキ膜を作製する電鋳処理工程と、前記原盤より前記メッキ膜を取り外し、母材の表面に配置して前記パターン位相差フィルム作製用金型を作製するメッキ膜処理工程とを備えることを特徴とするパターン位相差フィルム作製用金型の作製方法。本発明によれば、ロール版等の転写用金型の作製に適用して、高価な装置を使用しなくても、短時間で転写用の金型を作製することができる。またそのために必要な平板による原盤にあっても、汎用性の高い設備を使用して、簡易に作製することができる。従ってパッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、容易かつ大量に作製することができる。以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。第1実施形態図1は、本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。パターン位相差フィルム1は、透明シート材による基材2に配向膜3、位相差層4が順次作製される。パターン位相差フィルム1は、位相差層4が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜3の配向規制力によりパターニングする。なおこの液晶分子の配向を図1では細長い楕円により示す。このパターニングにより、パターン位相差フィルム1は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Aと、左目用の領域Bとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。パターン位相差フィルム1は、基材2の表面に紫外線硬化樹脂5が塗布された後、この紫外線硬化樹脂5の表面に微細な凹凸形状が形成され、これにより紫外線硬化樹脂を介して基材2の表面に凹凸形状が形成される。パターン位相差フィルム1は、この紫外線硬化樹脂5の表面の凹凸形状により配向膜3が形成される。この凹凸形状は、一方向に延長する多数のすじによるすじ状模様により形成され、各すじの延長方向が、配向膜3近傍における液晶材料の配向方向と一致する一方向に設定される。従ってこの紫外線硬化樹脂5の表面に形成される凹凸形状は、このすじの延長方向が、右目用及び左目用の領域A及びBで、90度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向に対して45度傾くように形成される。なおこの各領域の延長方向に対する傾きにあっては、基材2のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。図2は、このパターン位相差フィルム1の製造装置を示す略線図である。この製造装置10は、基材2がロールにより提供され、この基材2を供給リール11から供給する。製造装置10は、ダイ12によりこの基材2に紫外線硬化樹脂を塗布する。この製造装置10において、ロール版13は、パターン位相差フィルム1の配向膜3に係る凹凸形状が周囲に形成された円筒形状の金型である。製造装置10は、紫外線硬化樹脂が塗布されてなる基材2を加圧ローラ14によりロール版13に押圧し、紫外線照射装置15による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造装置10は、ロール版13に形成された凹凸形状を基材2に転写する。その後、剥離ローラ16によりロール版13から基材2を剥離し、ダイ19により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置17による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール18に巻き取る。パターン位相差フィルム1は、この巻き取りリール18に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム1では、ロール版13を用いた凹凸形状の転写により、ロールにより提供される基材2を連続して処理して効率良く作製される。図3は、ロール版13を示す斜視図である。ロール版13は、中心軸方向に、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A及び左目用の領域Bにそれぞれ対応するリング状の領域WA、WBが順次交互に形成される。また各領域WA、WBには、それぞれ対応する凹凸形状が形成される。図4は、このロール版13の製造工程の説明に供する図である。この工程では、初めに原盤21が作製される。ここで原盤21は図4a、ロール版13の各領域WA、WBに対応する凹凸形状が表面に作製された平板である。この工程では、原盤21を電鋳処理し、ニッケルによるメッキ膜22を作製する図4b。続いてこのメッキ膜22を剥離し、ロール版13の母材23に貼り付ける図4c。ここで母材23は、周囲を研磨した銅による円筒形状のベース材に、ニッケル膜等の保護膜を成膜して形成される。この工程では、この母材23の側面を1周する長さでメッキ膜22が作製され、このメッキ膜22を母材23の側面に巻き付けた後、このメッキ膜22をレーザーにより母材23に溶接してロール版13が作製される。このようにして平盤による原盤21を電鋳処理して作製した電鋳膜を円筒形状の母材に配置してロール版を作製することにより、簡易な構成により短時間でロール版を作製することができ、このロール版を用いてパターン位相差フィルムを容易かつ大量に作製することができる。なお母材23へのメッキ膜22の配置にあっては、例えば熱硬化樹脂を用いた接着等、各種の手法を広く適用することができる。図5は、原盤21の作製工程を示す図である。この原盤作製工程は、表面が平滑に仕上げられた基板25の表面に、ラビング処理用の樹脂層26を作製する図5a。なおこの基板25には、例えばガラス基板が適用され、樹脂層26には、ポリイミド樹脂が適用されるものの、必要に応じて各種の材料を適用することができる。続いてこの原盤作製工程は、樹脂層26の表面にレジスト層27を形成し図5b、パターン位相差フィルム1に設ける右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に遮光部が設けられているマスク28を用いてレジスト層27を露光処理する図5c。なおマスクを用いた露光処理に代えて、レーザービームの走査により露光処理しても良い。続いてこの原盤作製工程は、現像、洗浄の処理を実行し、パターン位相差フィルム1の左目用の領域B又は右目用の領域Aに対応する領域に、選択的にレジスト層27を取り残したラビング処理用のマスクを作製する図5d。なおこのように未露光箇所を除去するポジ型レジストの使用に代えて、ネガ型レジストを使用しても良い。続いてこの工程は、図6に示すように、ラビング処理用のロールRによりラビング処理し、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に、対応する凹凸形状を作製する図6e。また続いてレジスト層27を除去する図6f。また続いて全面にレジスト層29を作製し図6g、パターン位相差フィルム1の、右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に遮光部が設けられているマスク30を用いてレジスト層29を露光処理する図6h。なおこの場合も、マスクを用いた露光処理に代えて、レーザービームの走査により露光処理しても良い。続いてこの原盤作製工程は、現像、洗浄の処理を実行し、図7に示すように、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に、選択的にレジスト層29を取り残したラビング処理用のマスクを作製する図7i。なおこの場合も、ポジ型レジストの使用に代えて、ネガ方レジストを使用しても良い。続いてこの工程は、ラビング処理用のロールRによりラビング処理し、パターン位相差フィルム1の左目用の領域B又は右目用の領域Aに対応する領域に、対応する凹凸形状を作製する図7j。また続いてレジスト層29を除去し図7k、原盤21を完成する。この実施形態では、原盤の凹凸形状を電鋳処理によりメッキ膜に転写し、このメッキ膜を使用してロール版を作製することにより、直接、母材に凹凸形状を形成してロール版を作製する場合に比して、格段的に簡易な構成によりロール版を作製し、このロール版を用いた連続の処理によりパターン位相差フィルムを作製することができる。従って従来に比して容易かつ大量にパターン位相差フィルムを作製することができる。第2実施形態この実施形態では、図5について上述した原盤21に代えて、図8及び図9の作製工程により作製される原盤34を用いてロール版を作製する。この第2実施形態では、この原盤が異なる点を除いて、第1実施形態と同一に構成される。ここでこの原盤作製工程は、表面が平滑に仕上げられた基板25の表面に、ラビング処理用の樹脂層26が作製される図8a。なおこの基板25には、例えばガラス基板が適用され、樹脂層26には、ポリイミド樹脂が適用されるものの、必要に応じて各種の材料を適用することができる。続いてこの原盤作製工程は、ラビング処理用のロールRにより全面をラビング処理し、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する凹凸形状を全面に作製する図8b。続いて全面にレジスト層27を作製した後図8c、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に遮光部が設けられているマスク28を用いてレジスト層27を露光処理する図8d。なおこの場合も、マスクを用いた露光処理に代えて、レーザービームの走査により露光処理しても良い。続いてこの原盤作製工程は、現像、洗浄の処理を実行し、図9に示すように、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A又は左目用の領域Bに対応する領域に、選択的にレジスト層27を取り残したラビング処理用のマスクを作製する図9e。なおこの場合も、ポジ型レジストの使用に代えて、ネガ型レジストを使用しても良い。続いてこの工程は、ラビング処理用のロールRによりラビング処理し、パターン位相差フィルム1の左目用の領域B又は右目用の領域Aに対応する領域に、対応する凹凸形状を作製する図9f。この場合、当該領域において、最初のラビング処理で作製された凹凸形状は、この2回目のラビングの処理により除去され、当該領域には、この2回目のラビング処理による凹凸形状のみが残ることになる。この工程は、続いてレジスト層27を除去し図9g、これにより原盤34が完成する。この実施形態では、他の製造方法により原盤を作製する場合でも、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。またこの実施形態では、全面をラビング処理した後、マスクラビングにより局所的に凹凸形状を変更して原盤を作製することにより、第1実施形態に比して簡易な工程で原盤を作製することができる。従って全体として一段と簡易な構成によりパターン位相差フィルムを作製することができる。他の実施形態以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらに組み合わせることができる。すなわち上述の実施形態では、ラビング処理により配向規制力を有する微細な凹凸形状を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、番手の細かなやすりによる研磨によりこの種の凹凸形状を作製する場合等、種々の手法を広く適用することができる。また上述の実施形態では、平板による原盤に直接、電鋳処理してメッキ膜を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、上述した平板から凹凸形状を転写して原盤としても良い。この場合、原本の原盤から多数のコピーによる原盤を作製してロール版をそれぞれ作製することになり、一段とパターン位相差フィルムを大量生産することができる。また他のロール版を用いて基材に凹凸形状を作製したシート材を、原盤として使用することも可能であり、この場合は、簡易にロール版を複製することができる。また上述の実施形態では、ロール版の外周に、リング状に、右目用の領域に係る凹凸形状の領域、左目用の領域に係る凹凸形状の領域を順次作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、これと直交する方向である軸方向に延長するように、各凹凸形状の領域を形成する場合にも広く適用することができる。また上述の実施形態では、円筒形状の母材にメッキ膜を配置してロール版を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、円柱形状により母材を作製してロール版としてもよく、さらには平板の母材にメッキ膜を配置して平板の金型を作製しても良い。また上述の実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提としたパターン位相差フィルムを作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ELパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提に、偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。