ウエハを収容する内部空間を有するチャンバと、前記内部空間に収容された前記ウエハにイオンビームを照射するイオン放出チューブと、前記イオン放出チューブに対して、前記チャンバを特定方向に往復移動させる移動手段と、前記内部空間に収容された前記ウエハを、ウエハ中心軸の回りに回転させる回転手段と、前記チャンバ外に設けられ、前記内部空間を密閉する密閉手段と、を備え、前記チャンバの外壁にはチャンバ貫通穴が形成されており、前記イオン放出チューブは、先端部が前記チャンバ貫通穴を通って前記チャンバ内に位置し、他端部が前記チャンバ外に位置しており、前記チャンバ貫通穴は、前記特定方向に沿って形成されると共に、前記チャンバが前記特定方向に移動する場合に、前記イオン放出チューブが前記チャンバ貫通穴の内壁に干渉しないように形成されている、ことを特徴とするイオン注入装置。前記チャンバの外周面に固定されているスライドブロックと、前記スライドブロックとスライド移動可能に当接する当接部材と、をさらに備え、前記スライドブロックには、前記チャンバ貫通穴と連通するブロック貫通穴が形成されており、前記スライドブロックは、前記当接部材と対向する対向面に、前記当接部材に向かってエアを噴出するエアベアリングと、前記ブロック貫通穴の周囲を一巡する負圧領域と、を備えており、前記密閉手段は、前記負圧領域に負圧を発生させて前記当接部材と前記スライドブロックとの間をシールする、ことを特徴とする請求項1のイオン注入装置。前記当接部材は、前記スライドブロックの前記特定方向への移動を案内するガイド部を備えており、前記イオン注入装置は、前記ガイド部に案内されるガイド部材と、一端部が前記ガイド部材に固定される一方で、他端部が前記スライドブロックに固定されるプレートと、をさらに備え、前記プレートは、前記スライドブロックの前記対向面に対して鉛直方向に撓み易く、前記対向面に対して水平方向に撓み難い、ことを特徴とする請求項2のイオン注入装置。前記チャンバは、ヒンジによって開閉可能な第1部分及び第2部分を備え、前記第1部分と前記第2部分とを閉じた場合には、前記チャンバ内に前記内部空間が形成され、前記第1部分と前記第2部分とを開いた場合には、前記第1部分と前記第2部分の一方に前記ウエハが水平な状態で載置され得る状態となる、ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項のイオン注入装置。前記ウエハを、前記イオン放出チューブの前記先端部に対して傾斜させるチルト手段をさらに備える、ことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項のイオン注入装置。特許文献1のイオン注入装置では、フレキシブルチューブ内を負圧にしてイオン注入が行われる。このため、フレキシブルチューブには、フレキシブルチューブ内を負圧としたときに外側から作用する大気圧に耐え得る機械的強度が必要とされる。したがって、特許文献1のイオン注入装置では、フレキシブルチューブに金属製のフレキシブルチューブが用いられる。金属製のフレキシブルチューブを用いた場合、樹脂製のフレキシブルチューブを用いた場合と比べて、試料台がXY平面内で変位できる変位量が小さくなる。そのため、試料の広い範囲にイオン注入を行うべく試料台を広い範囲で移動させるためには、試料台と固定フランジの間の距離を長くする必要があるすなわち、フレキシブルチューブの長さを長くする必要がある。その結果、フレキシブルチューブの内部空間の容積が大きくなり、フレキシブルチューブ内の真空引きに要する時間が長くなる。本明細書では、真空引きに要する時間を短縮し得るイオン注入装置を開示する。本明細書が開示するイオン注入装置は、チャンバと、イオン放出チューブと、移動手段と、回転手段と、密閉手段とを備える。チャンバは、内部空間にウエハを収容する。イオン放出チューブは、チャンバの内部空間に収容されたウエハにイオンビームを照射する。移動手段は、イオン放出チューブに対して、チャンバを特定方向に往復移動させる。回転手段は、チャンバの内部空間に収容されたウエハを、ウエハ中心軸の回りに回転させる。密閉手段は、チャンバ外に設けられ、チャンバの内部空間を密閉する。チャンバの外壁にはチャンバ貫通穴が形成されている。イオン放出チューブは、先端部がチャンバ貫通穴を通ってチャンバ内に位置し、他端部がチャンバ外に位置している。チャンバ貫通穴は、特定方向に沿って形成されると共に、チャンバが特定方向に移動する場合に、イオン放出チューブがチャンバ貫通穴の内壁に干渉しないように形成されている。上記のイオン注入装置では、移動手段によってイオン放出チューブに対してチャンバを特定方向に往復移動させるとともに、回転手段によってウエハを回転させることによって、ウエハに対するイオン放出チューブの位置を調整する。このとき、チャンバの外壁にはチャンバ貫通穴が形成されており、イオン放出チューブはチャンバ貫通穴の内壁に干渉しない。そのため、従来のイオン注入装置のようにチャンバがウエハの移動に応じて変形する必要がなく、チャンバを大きく形成する必要もない。その結果、チャンバを従来のイオン注入装置に比べて小さくすることができ、チャンバ内の真空引きに要する時間を従来のイオン注入装置に比べて短縮することができる。なお、イオン放出チューブとチャンバ貫通穴との間には隙間が形成されるが、チャンバ外に設けられた密閉手段によってチャンバ内の気密性が確保されるため、チャンバ内に外部の空気が入り込むことはない。イオン注入装置は、スライドブロックと、当接部材とをさらに備えてもよい。スライドブロックは、チャンバの外周面に固定されていることが好ましい。当接部材は、スライドブロックとスライド移動可能に当接することが好ましい。スライドブロックには、チャンバ貫通穴と連通するブロック貫通穴が形成されていることが好ましい。スライドブロックは、当接部材と対向する対向面に、当接部材に向かってエアを噴出するエアベアリングと、ブロック貫通穴の周囲を一巡する負圧領域とを備えていることが好ましい。密閉手段は、負圧領域に負圧を発生させて当接部材とスライドブロックとの間をシールすることが好ましい。この構成によると、エアベアリングが噴出するエアによって、チャンバが当接部材から離れる方向に付勢される。その一方で、負圧領域に発生する負圧により、チャンバが当接部材に近づく方向に吸引される。エアベアリングが噴出するエアによる付勢力と負圧領域に発生する負圧による吸引力とを調整することにより、スライドブロックと当接部材との間の距離を一定に保つことができる。その結果、スライドブロックと当接部材との間をシールしつつ、スライドブロックと当接部材との間の摩擦係数をゼロにして、チャンバをスムースに往復移動させることができる。当接部材は、スライドブロックの特定方向への移動を案内するガイド部を備えていてもよい。イオン注入装置は、ガイド部に案内されるガイド部材と、一端部がガイド部材に固定される一方で、他端部がスライドブロックに固定されるプレートとをさらに備えていてもよい。プレートは、スライドブロックの対向面に対して鉛直方向に撓み易く、対向面に対して水平方向に撓み難いことが好ましい。この構成によると、プレートが対向面に対して鉛直方向に撓み易いため、エアベアリングを作動させた場合に、チャンバが当接部材から離れる方向に変位することを妨げることがない。また、プレートがスライドブロックの対向面に対して水平方向に撓み難いため、ガイド部に沿ってガイド部材を特定方向に往復移動させる場合に、スライドブロックがガイド部材の移動に伴って確実に移動することができる。チャンバは、ヒンジによって開閉可能な第1部分及び第2部分を備えていてもよい。第1部分と第2部分とを閉じた場合には、チャンバ内に内部空間が形成され、第1部分と第2部分とを開いた場合には、第1部分と第2部分の一方にウエハが水平な状態で載置され得る状態となることが好ましい。一般的に、ウエハは水平状態で搬送される場合が多い。そのため、この構成によると、イオン注入装置に搬送されてきたウエハの姿勢を変えることなく、第1部分と第2部分の一方に、ウエハを水平に収容することができる。イオン注入装置は、ウエハを、イオン放出チューブの先端部に対して傾斜させるチルト手段をさらに備えていてもよい。この構成によると、ウエハに対するイオンビームの照射角度を調整することができる。図1に示す本実施例のイオン注入装置2は、チャンバ10と、イオン放出チューブ100と、回転機構30と、スライドブロック50と、定盤70と、移動機構90と、固定盤120と、チルト調整ネジ160を備える。イオン注入装置2は、チャンバ10を定盤70の長手方向図1のY軸方向に沿って移動させるとともに、チャンバ10内に収容したウエハ20を回転させることで、イオン放出チューブ100から放出されるイオンビームをウエハ20のほぼ全面に照射することができるイオン注入装置である。チャンバ10は、ウエハ20を収容するための内部空間を有する容器である。チャンバ10は、表蓋12と、裏蓋16と、表蓋12と裏蓋16とを開閉可能に連結するヒンジ40とを備えている。表蓋12は、略円板状に形成されている。表蓋12の周縁部には、裏蓋16に向かって起立した壁部が形成されている。また、表蓋12には、チャンバ貫通穴14が開口されている。チャンバ貫通穴14には、イオン放出チューブ100の先端部分が挿入される。チャンバ貫通穴14は、上述したチャンバ10の移動方向である図1のY軸方向に伸びる長穴である。裏蓋16は、表蓋12と同様に略円板状に形成されており、その周縁部に表蓋12に向かって起立した壁部が形成されている。図3に示すように、裏蓋16には挿入穴15が開口されている。挿入穴15には、回転機構30のケーシング23後で説明するの先端部が挿入される。図2に示すように、表蓋12と裏蓋16とを閉じると、表蓋12の壁部の周縁部と裏蓋16の壁部の周縁部とが密に当接し、チャンバ10内に内部空間が形成される。一方、図1に示すように、表蓋12と裏蓋16とを開くと、裏蓋16が水平となるように開かれ、裏蓋16に取付けられたウエハホルダ21上にウエハ20を水平に載置可能な状態となる。表蓋12と裏蓋16との開閉動作は、図示しない開閉シリンダによって行われる。図1に示すように、回転機構30は、ウエハホルダ21と、ケーシング23と、モータ29とを備える。図3に示すように、ウエハホルダ21は、ウエハ20が載置される支持部22と、支持部22の裏面に形成された軸部24とを備える。支持部22は、裏蓋16の内部に配置される皿状部材である。支持部22の表面にはウエハ20が載置され、載置されたウエハ20は支持部22によって支持される。具体的には、例えば、支持部22は、図示しないチャック機構によって表面に載置されたウエハ20を吸着することにより、ウェハ20を支持する。軸部24は、一端部が支持部22の裏面に固定されており、他端部がモータ29の出力軸に連結されている。ケーシング23は、軸部24を収容するとともに、軸部24の周囲に配置される磁性流体シール材28と軸受26とを収容する。上述のとおり、ケーシング23の先端部は、裏蓋16の挿入穴15内に気密に嵌め込まれている。磁性流体シール材28は、軸部24とケーシング23の間の隙間をシールする。モータ29は、ウエハホルダ21を回転する駆動源である。すなわち、モータ29を駆動すると、軸部24が回転し、軸部24の回転に伴って支持部22が回転する。支持部22が回転すると、支持部22上に載置されたウエハ20もウエハ中心軸の回りに回転する。従って、モータ29の回転に伴って、支持部22上のウエハ20が回転する。スライドブロック50は、チャンバ10と定盤70との間に備えられる。図3に示すように、スライドブロック50は、チャンバ10の表蓋12の外面に固定されているとともに、定盤70に対してスライド移動可能に当接している。図4に示すように、スライドブロック50は、チャンバ10の表蓋12に固定される側の面である固定面50aと、定盤70と対向し、定盤70と当接する側の面である対向面50bとを有している。スライドブロック50には、チャンバ10のチャンバ貫通穴14と連通するブロック貫通穴52が開口されている。ブロック貫通穴52は、チャンバ貫通穴14と同様に、上述したチャンバ10の移動方向である図1のY方向に伸びる長穴である図6参照。固定面50aには、後で説明するプレート60図6参照を取り付けるためのプレート取り付け部56が形成されている。プレート取り付け部56は、プレート60の形状に適合する凹部である。図6に示すように、本実施例では、プレート取り付け部56は、固定面50aの上端縁と下端縁にそれぞれ2箇所ずつ形成されている。図4に示すように、対向面50bには、多数個のエアベアリング53と、ブロック貫通穴52の周囲を一巡する負圧溝54とが形成されている。エアベアリング53には、図示しないコンプレッサーによってエアが供給される。エアベアリング53に供給されたエアは、定盤70に向けて噴出される。本実施例では、エアベアリング53は、対向面50bのブロック貫通穴52の上側と下側にそれぞれ5個ずつ備えられている。エアベアリング53からエアを噴出することにより、チャンバ10を定盤70から離れる方向に付勢することができる。負圧溝54は、ブロック貫通穴52の周囲を一巡する溝である。負圧溝54の内部は、図示しないポンプ以下では第1のポンプと呼ぶに接続されている。第1のポンプで負圧溝54内のエアを吸引することによって、負圧溝54の内部を負圧にすることができる。負圧溝54の内部を負圧にすることにより、チャンバ10を定盤70に近づける方向に吸引することができる。図5に示すように、エアベアリング53は、対向面50bの表面から突出するように備えられている。一方、負圧溝54の周囲には、対向面50bの表面から突出するように突出部55が形成されている。従って、エアベアリング53から噴出されたエアは、定盤70に吹き付けられた後、対向面50bの表面に沿って流れ、スライドブロック50の外周縁方向に送り出される。そのため、エアベアリング53から噴出されたエアが、突出部55を乗り越えて負圧溝54内に入りこむことはない。図6に示すように、定盤70は、スライドブロック50とスライド移動可能に当接する。定盤70は、チャンバ10のY軸方向への移動の基準となる部材である。定盤70は、スライドブロック50と対向及び当接する平滑な当接面71を有している。また、図3に示すように、定盤70には、スライドブロック50のブロック貫通穴52と連通する定盤貫通穴72が開口されている。定盤貫通穴72は、イオン放出チューブ100を挿通可能な径に形成されている。定盤70の裏面側の上端部分と下端部分には、それぞれ、ガイドレール74が備えられている。ガイドレール74には、ガイドレール74に案内されてガイドレール74に沿って摺動するガイド部材80が設けられている。図6に示すように、上下2本のガイドレール74には、それぞれ、2個のガイド部材80が設けられている。各ガイド部材80には、ブラケット82の一端部が固定されている。ブラケット82の他端部は、定盤70の当接面71側に突出している。図3及び図6に示すように、ブラケット82の他端部スライドブロック50側の端部の先端面と、スライドブロック50のプレート取り付け部56とに、プレート60が取り付けられている。図3及び図6に示すように、プレート60の一端部は、2箇所をビス止めされて、ブラケット82の他端部の先端面に固定されている。一方、プレート60の他端部は、2箇所をビス止めされて、スライドブロック50のプレート取り付け部56に固定されている。プレート60を備えることで、ガイド部材80とスライドブロック50とが連結される。プレート60は、スライドブロック50の対向面50bに対して鉛直方向図6中のZ軸方向に撓み易く、スライドブロック50の対向面50bに対して水平方向図6中のX軸、Y軸方向に撓み難い板材である。プレート60が対向面50bに対して鉛直方向に撓み易いため、エアベアリング53を作動させた場合に、チャンバ10を定盤70から離れる方向に付勢変位することを妨げることがない。また、プレート60がスライドブロック50の対向面50bに対して水平方向に撓み難いため、ガイドレール74に沿ってガイド部材80をY軸方向に往復移動させる場合に、スライドブロック50がガイド部材80の移動に伴って確実に移動する。図1に示すように、移動機構90は、チャンバ10をY軸方向に往復移動させるための機構であって、モータ92と、ネジ軸94と、ナット96とを備える。モータ92、ネジ軸94、ナット96は、定盤70の下側に備えられている。ナット96は、下側のガイドレール74に取り付けられているガイド部材80のうちの一方に固定されている。また、ナット96はネジ軸94に螺合されている。ネジ軸94は、Y軸方向に沿って備えられている。ネジ軸94の一端はモータ92の出力軸に取り付けられている。モータ92は、後で説明するブラケット150にスライド可能に支持されている。モータ92によってネジ軸94を正逆回転させることにより、ナット96をネジ軸94に沿ってY軸方向に往復移動させることができる。ナット96がY軸方向に往復移動すると、ナット96が固定されているガイド部材80もガイドレール74に沿ってY軸方向に往復移動する。それに伴って、プレート60によってガイド部材80に固定されているスライドブロック50もY軸方向に往復移動する。その結果、スライドブロック50に固定されているチャンバ10がY軸方向に往復移動する。図1に示すように、イオン放出チューブ100は、その先端部からイオンビームを放出してウエハ20にイオンを注入するためのチューブである。図3に示すように、イオン放出チューブ100の後端部は、図示しないイオン発生源に接続されると共に、固定盤120に固定されている。イオン放出チューブ100の先端部は、上記の定盤貫通穴72、ブロック貫通穴52、チャンバ貫通穴14を通ってチャンバ10の内部空間に備えられている。固定盤120は、定盤70の裏面側に配置されている。図3に示すように、固定盤120の表面と定盤70の裏面との間には、フレキシブルチューブ130が備えられている。フレキシブルチューブ130は、外周面が蛇腹状に形成されている。フレキシブルチューブ130の一端は定盤70の裏面に気密に接続されている。また、フレキシブルチューブ130の他端は固定盤120の表面に気密に接続されている。上記の定盤貫通穴72は、フレキシブルチューブ130の内側に位置する。イオン放出チューブ100は、フレキシブルチューブ130の内部空間に配置される。本実施例では、チャンバ10の内部空間、チャンバ貫通穴14の内部空間、ブロック貫通穴52の内部空間、定盤貫通穴72の内部空間、及び、フレキシブルチューブ130の内部空間を含む空間200図3参照の内部は、図示しないポンプ以下では第2のポンプと呼ぶで真空引きされる。本実施例では、空間200内部を真空引きする第2のポンプは、上記の負圧溝54内部を真空引きする第1のポンプとは異なるポンプである。本実施例では、空間200内部は、第2のポンプによって、負圧溝54内部よりも低圧になるように真空引きされる。図1に示すように、定盤70のY軸方向両端には、チャンバ10側に突出するブラケット140が設けられている。また、固定盤120のY軸方向両端にも、チャンバ10側に突出するブラケット150が設けられている。上記のモータ92は、ブラケット150に備えられている。ブラケット150には、スライド穴152が設けられており、モータ92をスライド穴に沿ってスライド移動可能としている。ブラケット140は、ブラケット150に固定されたチルト軸142に回転可能に取付けられている。図3に示すように、チルト軸142のY座標値Y軸方向の位置とZ座標値Z軸方向の位置は、ウエハ20にイオンビームが照射される位置BのY座標値とZ座標値とそれぞれ同じである。図1に示すように、チルト調整ネジ160は、ブラケット150の端部に固定されている。チルト調整ネジ160の上端面は、ブラケット140の先端部を下方から支持している。そのため、チルト調整ネジ160の高さを調整することにより、ブラケット140の先端部の高さを変化させることができる。ブラケット140の先端部の高さが変化すると、ブラケット140がチルト軸142を中心に回転する。その結果、固定盤120に対する定盤70の傾斜角度が変わる。図7に示すように、固定盤120に対する定盤70の傾斜角度が変わると、それに伴ってスライドブロック50、チャンバ10の傾斜角度も変わる。一方、固定盤120に固定されているイオン放出チューブ100は、定盤70等の傾斜に伴って傾斜することはない。この結果、ウエハ20に対するイオンビームの照射角度を調整することができる。上述の通り、チルト軸142のYZ座標値は、ウエハ20へのイオンビーム照射位置BのYZ座標値とそれぞれ同じである図3参照ため、イオンビームの照射角度が変わったとしても、ウエハ20に対するイオンビームの照射位置は変わらない。なお、図7に示すように、定盤70等が傾斜する場合に、イオン放出チューブ100は、定盤貫通穴72の内壁、ブロック貫通穴52の内壁、チャンバ貫通穴14の内壁のいずれにも干渉しない。また、定盤70等が傾斜する場合には、フレキシブルチューブ130は、定盤70の傾斜に追随して変形する。なお、本実施例では、固定盤120に対して定盤70等が傾斜した場合、ブラケット150に備えられているモータ92は、ネジ軸94の移動に追随して、スライド穴152に沿ってスライド移動する。イオン注入装置を用いてイオン注入を行う場合の例続いて、本実施例のイオン注入装置2を用いてウエハ20にイオン注入を行う手順の一例を説明する。まず、図1に示すように、チャンバ10の表蓋12と裏蓋16とを開く。このとき、裏蓋16はほぼ水平に開かれ、裏蓋16内の支持部22も水平な状態となっている。このため、ウエハ20を水平な支持部22上に載置し、支持させる。支持部22は、図示しないチャック機構によって表面に載置されたウエハ20を吸着することにより、載置されたウェハ20を支持する。一般的に、ウエハ20は水平状態で搬送される場合が多い。本実施例では、支持部22が水平になるようにチャンバ10の表蓋12と裏蓋16とが開かれているため、イオン注入装置2の近傍まで水平状態で搬送されてきたウエハ20は、その姿勢を変えることなく、支持部22上にウエハ20を載置することができる。支持部22上にウエハ20を支持させると、図2に示すように、チャンバ10の表蓋12と裏蓋16とを閉じる。図3に示すように、チャンバ10の表蓋12と裏蓋16とを閉じることにより、空間200が密閉される。次いで、コンプレッサー、第1のポンプ、及び、第2のポンプを作動させる。第2のポンプが動作することにより、空間200内が真空引きされる。空間200内は、イオン注入行うのに適する気圧例えば10-3~10-2Pa程度まで真空引きされる。また、コンプレッサーが動作することにより、スライドブロック50の対向面50bに備えられたエアベアリング53から定盤70の当接面71に向けてエアが噴出される。エアベアリング53からエアが噴出されることにより、スライドブロック50及びチャンバ10が、定盤70から離れる方向に付勢される。一方、第1のポンプ図示しないが動作することにより、スライドブロック50の対向面50bに設けられた負圧溝54内が真空引きされ、負圧溝54内に負圧が発生する。負圧溝54内の気圧は、空間200内より高くなるように真空引きされる。例えば、負圧溝54内の気圧は10-2~10-1Pa程度とされる。負圧溝54に発生する負圧により、スライドブロック50及びチャンバ10が定盤70に近付く方向に吸引される。このとき、エアベアリング53から噴出されるエアによる付勢力と、負圧溝54内に発生する負圧による吸引力とは、スライドブロック50と定盤70の当接面71との間の距離を一定に保つように調整される。特に、本実施例では、スライドブロック50と定盤70の当接面71との間の距離が3~5μmに保たれるように調整される。スライドブロック50と定盤70の当接面71との間の距離をごく小さい距離例えば3~5μmに保つことにより、外部の空気がスライドブロック50と定盤70の間から、ブロック貫通穴52を通って空間200内に入り込むことを防ぐことができる。その結果、スライドブロック50と定盤70との間をシールしつつ、スライドブロック50と定盤の接合面との間の摩擦係数をゼロにして、チャンバ10をスムースにY軸方向に移動させ得る状態となる。この状態で、回転機構30と移動機構90を駆動して、ウエハ20に対するイオン放出チューブ100の位置を調整する。すなわち、ウエハ20の回転は、回転機構30のモータ29を動作させることによって行う。モータ29が動作すると、ウエハホルダ21の軸部24が回転する。軸部24の回転に伴って支持部22も回転する。その結果、支持部22上のウエハ20も回転する。また、ウエハ20の移動は、移動機構90のモータ92を動作させることによって行う。モータ92が動作すると、ネジ軸94が回転し、ナット96がネジ軸94に沿ってY軸方向に移動する。ナット96がY軸方向に移動すると、ナット96が固定されているガイド部材80もガイドレール74に沿ってY軸方向に移動する。それに伴ってスライドブロック50及びチャンバ10がY軸方向に移動する。チャンバ10がY軸方向に移動することにより、ウエハ20がY軸方向に移動する。なお、本実施例では、チャンバ10及びスライドブロック50がY軸方向に移動する場合であっても、イオン放出チューブ100は、チャンバ貫通穴14の内壁及びブロック貫通穴52の内壁に干渉することはない。次いで、イオン放出チューブ100の先端部からイオンビームを放出し、ウエハ20にイオンビームを照射する。この結果、ウエハ20にイオンが注入される。次いで、ウエハ20を回転及び移動させて、ウエハ20に対するイオンビーム照射位置を変更して、イオンビームを照射する。以後、イオンビーム照射位置の変更とイオンビームの照射を所定回数繰り返して行い、ウエハ20のほぼ全面にイオン注入を行う。ウエハ20のほぼ全面にイオン注入が行われると、コンプレッサー、第1のポンプ、及び、第2のポンプの動作を停止させる。また、モータ92を動作させて、チャンバ10を初期位置まで移動させる。次いで、チャンバ10の表蓋12と裏蓋16とを開く。上記の通り、裏蓋16は水平に開かれる。水平な状態の支持部22からウエハ20を取り出すことにより、イオン注入装置2を用いたウエハ20へのイオン注入処理が終了する。なお、本実施例のイオン注入装置2では、チルト調整ネジ160によるチャンバ10の傾斜角度即ちイオンビーム照射角度の調整は、チャンバ10にウエハ20を収容する前に予め行っておく。上述したように、チルト調整ネジ160によるチャンバ10の傾斜角度の調整は、チルト調整ネジ160の高さを変更することによって行うことができる。以上、実施例について詳しく説明した。本実施例と請求項の記載の対応関係を説明しておく。モータ92、モータ29が、それぞれ移動手段、回転手段の一例である。空間200内を密閉するための各要素固定盤120、フレキシブルチューブ130、定盤70、スライドブロック50、チャンバ10が密閉手段の一例である。図1のY軸方向が特定方向の一例である。定盤70が当接部材の一例である。負圧溝54が負圧領域の一例である。ガイドレール74がガイド部の一例である。ガイド部材80とブラケット82がガイド部材の一例である。表蓋12、裏蓋16が、それぞれ第1部分、第2部分の一例である。チルト調整ネジ160がチルト手段の一例である。本実施例の効果上記の通り、本実施例のイオン注入装置2では、モータ92によってチャンバ10をY軸方向に往復移動させるとともに、モータ29によってウエハ20を回転させることによって、ウエハ20に対するイオン放出チューブ100の位置を調整する。このとき、チャンバ10の表蓋12にはチャンバ貫通穴14が形成されており、イオン放出チューブ100はチャンバ貫通穴14の内壁に干渉しない。そのため、本実施例のイオン注入装置2では、従来のイオン注入装置のようにチャンバがウエハの移動に応じて変形する必要がなく、チャンバ10を大きく形成する必要もない。そのため、本実施例のイオン注入装置2では、チャンバ10を従来のイオン注入装置に比べて小さくすることができる。その結果、チャンバ10内の真空引きに要する時間を、従来のイオン注入装置に比べて短縮することができる。また、本実施例のイオン注入装置は、スライドブロック50と、定盤70とをさらに備える。スライドブロック50は、エアベアリング53と負圧溝54とを備える。エアベアリング53から噴出されるエアにより、チャンバ10は、定盤70から離れる方向に付勢される。その一方で、負圧溝54内に発生する負圧により、チャンバ10は、定盤70に近づく方向に吸引される。エアベアリング53から噴出による付勢力と負圧溝による吸引力とを調整することにより、スライドブロックと接合部材との間の距離を一定本実施例では3~5μmに保つことができる。スライドブロック50と定盤70の当接面71との間の距離をごく小さい一定の距離例えば3~5μmに保つことにより、外部の空気がスライドブロック50と定盤70の間から、ブロック貫通穴52を通って空間200内に入り込むことを防ぐことができる。その結果、スライドブロック50と定盤70との間をシールしつつ、スライドブロック50と定盤の接合面との間の摩擦係数をゼロにして、チャンバ10をスムースにY軸方向に往復移動させることができる。本実施例では、図6に示すように、ブラケット82の端部と、スライドブロック50のプレート取り付け部56とに、プレート60が取り付けられている。即ち、プレート60を備えることで、ガイド部材80とスライドブロック50とが連結されている。プレート60は、スライドブロック50の対向面50bに対して鉛直方向図1中のZ軸方向に撓み易い。そのため、エアベアリング53を作動させた場合に、チャンバ10を定盤70から離れる方向に付勢することを妨げることがない。また、プレート60は、スライドブロック50の対向面50bに対して水平方向図1中のX、Y軸方向に撓み難い。そのため、ガイドレール74に沿ってガイド部材80を特定方向に往復移動させる場合に、スライドブロック50がガイド部材80の移動に伴って確実に移動する。以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。例えば、上述した実施例では、定盤70に対してチャンバ10をY軸方向に移動させることで、ウエハ20に対するイオン放出チューブ100の位置を調整したが、このような実施例に限られない。チャンバに対してイオン放出チューブ側を移動させることで、ウエハに対するイオン放出チューブの位置を調整するようにしてもよい。また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。