"Aアルカリ可溶性ポリシロキサンおよび/またはアルカリ可溶性アクリル系樹脂、Bナフトキノンジアジド化合物、C溶剤、およびD金属キレート化合物を含有するポジ型感光性組成物であって、D金属キレート化合物が下記一般式1で表される構造を有し、D金属キレート化合物の含有量が、Aアルカリ可溶性ポリシロキサンおよび/またはアルカリ可溶性アクリル系樹脂100重量部に対して0.1~5重量部であるポジ型感光性組成物。一般式1で表される金属キレート化合物において、Mは金属原子である。R1は、同一もしくは異なっていてもよく、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、およびそれらの置換体を表す。R2、R3は、同一もしくは異なっていてもよく、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、およびそれらの置換体を表す。jは金属原子Mの原子価、kは0~jの整数を表す。一般式1における金属原子Mが、チタン、ジルコニウムまたはアルミニウム金属原子のいずれか1種である請求項1に記載のポジ型感光性組成物。一般式1における金属原子Mがアルミニウム金属原子である請求項1または2に記載のポジ型感光性組成物。金属キレート化合物の含有量がAアルカリ可溶性ポリシロキサンおよび/またはアルカリ可溶性アクリル系樹脂100重量部に対して、0.1~1.5重量部である請求項3に記載のポジ型感光性組成物。一般式1のMがジルコニウム金属原子であって、D金属キレート化合物の含有量がアルカリ可溶性ポリシロキサンおよび/またはアルカリ可溶性アクリル系樹脂100重量部に対して0.3~4重量部である請求項1または2に記載のポジ感光性組成物。Aアルカリ可溶性ポリシロキサン中にあるフェニル基の含有率がSi原子に対して5モル以上、70モル以下である請求項1~5いずれかに記載のポジ感光性組成物。Aアルカリ可溶性ポリシロキサン中にあるエポキシ基かつ/またはビニル基の含有率がSi原子に対して1モル以上、50モル以下であることを特徴とする請求項1~5いずれかに記載のポジ感光性組成物。さらに、シランカップリング剤として、一般式3で表されるオルガノシランを含有する請求項1~7いずれかに記載のポジ感光性組成物。一般式3で表されるオルガノシランにおいて、式中、R6からR9はそれぞれ独立に水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアシル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表す。これらのアルキル基、アシル基、アリール基はいずれも無置換体、置換体のどちらでもよい。さらに、溶解促進剤を含むことを特徴とする請求項1~8いずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物。溶解促進剤がフェノール化合物である請求項9に記載のポジ感光性組成物。さらに、架橋剤を含む請求項1~10のいずれかに記載のポジ感光性組成物。架橋剤がメチロール系化合物を含む請求項11に記載のポジ感光性組成物。請求項1~12いずれかに記載のポジ感光性組成物から形成された硬化膜であって、波長400nmにおける膜厚3μmあたりの光透過率が85以上である硬化膜。請求項1~12いずれかに記載のポジ感光性組成物から形成された硬化膜であって、アルカリ可溶性ポリシロキサンおよび/またはアルカリ可溶性アクリル系樹脂組成物100重量部に対して、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、亜鉛、コバルト、モリブデン、ランタン、バリウム、ストロンチウム、マグネシウム、カルシウム、から選ばれる1種以上の金属含有率が0.005~1重量部である硬化膜。請求項13または14に記載の硬化膜を具備する素子。しかしながら、特許文献1の透明な平坦化膜は、アクリル樹脂材料を用いたものであるため耐熱性が不十分であった。また、特許文献2、3、4に記載された材料であるアクリル系樹脂は耐熱性や耐薬品性が不十分であり、基板の高温処理や透明電極などの高温製膜、各種エッチング薬液処理により硬化膜が着色して透明性が低下したり、高温製膜中での脱ガスにより電極の導電率が低下したりするという問題があった。また、これらアクリル系材料は一般に感度が低いため生産性が低く、より高感度の材料が求められている。さらに、ディスプレイの進歩に伴いホールパターン等の開口寸法も年々微細化されており、3μm以下の微細パターン形成を求められる場合もあるが、上記アクリル系材料の解像度では不十分であった。特許文献5、6に記載されたポリシロキサン材料は高耐熱性、高透明性を有するが、この材料に於いても、現像時のパターン形成した膜と基板との密着性以降、現像密着性と呼称するが十分とは言えず、特に微細なパターンが現像液やリンス液とともに剥離してしまう。したがって、より良好な現像密着性の良好なポジ型感光性材料が強く求められている。一般的に、現像密着性を良好とするためには、塗布後のプリベーク温度を高くすることが行われている。しかしながら、プリベーク温度を高くすることで、感光剤が失活するために感度が低下してしまう。逆に、プリベーク温度を低く設定すると膜中の残溶剤が多くなり現像密着性が低下してしまうというトレードオフの関係に有り、両立することは非常に困難である。また、耐湿熱性についても、十分とは言えず、より良好な耐湿熱性のポジ型感光性材料が強く求められている。特許文献7に記載された感光性組成物について、どの程度のキレート剤を添加すれば良いかについては言及していない。特許文献8では、導電性膜を形成するため焼成を行い、絶縁性の有機膜は残存しない。特許文献9では、耐湿熱性について言及していない。特許文献10では、ナフトキンジアジドとキレート化合物を同時に使用することに関する記載についての記載が全くなく、また、これらを同時に使用することで、ポジ型感光性の特徴を有しつつ、耐湿熱性と現像密着性を両立することについて容易に類推できる記載は全くない。以上のように、高透明性および高耐湿熱性を有し、かつ、良好な現像密着性を有するポジ型感光性材料が求められているものの、これまでその技術は確立されていなかった。本発明は、上述のような事情に基づいてなされたものであり、高耐熱性、高透明性であって、さらに現像密着性、耐湿熱性の優れた感光性組成物を提供することを課題とする。また、本発明の別の課題は、上記の感光性組成物から形成されたTFT基板用平坦化膜、層間絶縁膜、タッチパネル用保護膜や絶縁膜、コアやクラッド材、レンズ材としての硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、固体撮像素子、光導波路などの素子を提供することである。上記課題を解決するため、本発明のポジ型感光性組成物は次の構成を有する。すなわち、Aアルカリ可溶性ポリシロキサンおよび/またはアルカリ可溶性アクリル系樹脂、Bナフトキノンジアジド化合物、C溶剤、およびD金属キレート化合物を含有する感光性組成物であって、D金属キレート化合物が下記一般式1で表される構造を有し、D金属キレート化合物の含有量が、Aアルカリ可溶性ポリシロキサンおよび/またはアルカリ可溶性アクリル系樹脂以下、アルカリ可溶性樹脂ということがある100重量部に対して0.1~5重量部であるポジ型感光性組成物である。一般式1で表される金属キレート化合物において、Mは金属原子である。R1は、同一もしくは異なっていてもよく、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、およびそれらの置換体を表す。R2、R3は、同一もしくは異なっていてもよく、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、およびそれらの置換体を表す。jは金属原子Mの原子価、kは0~jの整数を表す。また、本発明の硬化膜は次の、のいずれかの構成を有する。すなわち、上記ポジ感光性組成物から形成された硬化膜であって、波長400nmにおける膜厚3μmあたりの光透過率が85以上である硬化膜、または、上記ポジ感光性組成物から形成された硬化膜であって、アルカリ可溶性ポリシロキサンおよび/またはアルカリ可溶性アクリル系樹脂組成物100重量部に対して、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、亜鉛、コバルト、モリブデン、ランタン、バリウム、ストロンチウム、マグネシウム、カルシウム、から選ばれる1種以上の金属含有率が0.005~1重量部である硬化膜である。本発明の素子は次の構成を有する。すなわち、上記硬化膜を具備する素子である。本発明のポジ型感光性組成物は高耐熱性、高透明性であって、かつ現像密着性、耐湿熱性に優れる。また、得られた硬化膜は、TFT基板用平坦化膜や層間絶縁膜、タッチパネル用保護膜絶縁膜、光導波路のコアクラッド材として好適に用いることができる。本発明のポジ型感光性組成物は、Aアルカリ可溶性樹脂、Bナフトキノンジアジド化合物、C溶剤、およびD金属キレート化合物を含有するポジ型感光性組成物であって、D金属キレート化合物が下記一般式1で表される構造を有し、D金属キレート化合物の含有量が、Aアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して0.1~5重量部である。一般式1で表される金属キレート化合物において、Mは金属原子である。R1は、同一もしくは異なっていてもよく、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、およびそれらの置換体を表す。R2、R3は、同一もしくは異なっていてもよく、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、およびそれらの置換体を表す。jは金属原子Mの原子価、kは0~jの整数を表す。本発明において使用するAアルカリ可溶性樹脂は、ポリシロキサンおよび/またはアクリル系樹脂であって、pHが8以上のアルカリ水溶液に溶解する樹脂である。樹脂中には、アルカリ可溶性を発現するために、酸性官能基、たとえば、シラノール基、カルボン酸基、フェノール基の少なくとも一つを有している。好ましい樹脂として、前述の酸性官能基を有するアクリル系樹脂、ポリシロキサンが挙げられる。耐熱性の点からポリシロキサンであることが好ましい。本発明で用いられるアルカリ可溶性アクリル系樹脂は、不飽和カルボン酸a-1の重合単位、必要に応じて上記不飽和カルボン酸a-1と共重合しうる他のラジカル重合性化合物以下、他のラジカル重合性化合物というa-2の重合単位を共重合成分としてさらに含有することができる。本発明で用いられる上記不飽和カルボン酸a-1としては、エチレン性不飽和二重結合を有する不飽和カルボン酸を好ましいものとして挙げられる。このような不飽和カルボン酸a-1の具体例としては、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、o-ビニル安息香酸、m-ビニル安息香酸、p-ビニル安息香酸などのモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、14-シクロヘキセンジカルボン酸、3-ビニルフタル酸、4-ビニルフタル酸、メチル-5-ノルボルネン-23-ジカルボン酸、3456-テトラヒドロフタル酸、1236-テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸などのジカルボン酸が挙げられる。これらのうち、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸などが好ましく用いられる。また、本発明では、不飽和カルボン酸a-1として、カルボン酸基の一部が遊離のまま残存している、上記不飽和カルボン酸の部分エステル化物または部分アミド化物、例えば不飽和ジカルボン酸のハーフエステルまたはハーフアミドを用いることもできる。このような不飽和カルボン酸のハーフエステルまたはハーフアミドとしては、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノブチルなどが好ましく用いられる。これらの不飽和カルボン酸は、単独であるいは2種以上組み合わせて用いることができる。本発明で用いられる他のラジカル重合性化合物a-2の具体例としては、メタアクリル酸グリシジル、α-エチルメタアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルメタアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルメタアクリル酸グリシジル、34-エポキシブチルメタアクリレート、34-エポキシヘプチルメタアクリレート、α-エチル-67-エポキシヘプチルメタアクリレート、アリルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、3-ビニルシクロヘキセンオキサイドなどのエポキシ基含有ラジカル重合性化合物;メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸-n-プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸-n-ブチル、メタアクリル酸-sec-ブチル、メタアクリル酸-t-ブチル、メタアクリル酸-2-エチルヘキシル、メタアクリル酸ラウリル、メタアクリル酸ドデシル、メタアクリル酸ジシクロペンタニル、メタアクリル酸イソボロニル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸2-メチルシクロヘキシル、メタアクリル酸ジシクロヘキシル、メタアクリル酸アダマンチル、メタアクリル酸アリル、メタアクリル酸プロバギル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸ナフチル、メタアクリル酸アントラセニル、メタアクリル酸シクロペンチル、メタアクリル酸フリル、メタアクリル酸テトラヒドロフリル、メタアクリル酸ピラニル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸フェネシル、メタアクリル酸クレシル、メタアクリル酸-111-トリフルオロエチル、メタアクリル酸パーフルオロエチル、メタアクリル酸パーフルオロ-n-プロピル、メタアクリル酸パーフルオロイソプロピル、メタアクリル酸トリフェニルメチル、メタアクリル酸クミル、メタアクリル酸-2-ヒドロキシエチル、メタアクリル酸-2-ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸-アミド、メタアクリル酸-NN-ジメチルアミド、メタアクリル酸-NN-ジプロピルアミド、メタアクリル酸-アニリド、メタアクリロニトリル、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルメタクリレートなどのメタアクリロイル基含有ラジカル重合性化合物;アクロレイン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、N-ビニルピロリドン、酢酸ビニル、スチレン、α-メチルスチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、p-メトキシメチルスチレン、p-t-ブトキシスチレン、クロロメチルスチレン、ブタジエン、23-ジメチルブタジエン、イソプレン、o-ビニルベンジルメチルエーテル、m-ビニルベンジルメチルエーテル、p-ビニルベンジルメチルエーテル、o-ビニルベンジルエチルエーテル、m-ビニルベンジルエチルエーテル、p-ビニルベンジルエチルエーテルなどのビニル基含有ラジカル重合性化合物;マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの不飽和ジカルボン酸ジエステルなどが挙げられる。これらのうち、メタアクリル酸グリシジル、スチレン、α-メチルスチレン、p-t-ブトキシスチレン、メタクリル酸ジシクロペンタニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸-2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸ベンジル、ブタジエン、イソプレン、o-ビニルベンジルメチルエーテル、m-ビニルベンジルメチルエーテル、p-ビニルベンジルメチルエーテル、o-ビニルベンジルエチルエーテル、m-ビニルベンジルエチルエーテル、p-ビニルベンジルエチルエーテルなどが好ましく用いられる。これらの化合物を共重合成分として用いることにより、ポリマーのアルカリ溶解性、ガラス転移温度、誘電率などをコントロールすることができ、その結果、解像度、残膜率などのレジストとしての性能や、透明性、耐熱性などの永久膜としての性能が向上する場合がある。これらの化合物は、単独であるいは2種以上組み合わせて共重合成分として用いることができる。本発明で用いられるアルカリ可溶性アクリル系樹脂は、上記の各化合物を共重合させることにより得られる。アルカリ可溶性アクリル系樹脂は不飽和カルボン酸a-1の重合単位を、好ましくは5~50重量、特に好ましくは10~40重量の量で含有している。また、アルカリ可溶性アクリル系樹脂は他のラジカル重合性化合物a-2の重合単位を、好ましくは90重量以下、特に好ましくは20~60重量の量で含有している。アルカリ可溶性アクリル系樹脂中、不飽和カルボン酸a-1の重合単位の含量が上記好ましい範囲であると、得られる被膜はアルカリ水溶液からなる現像液に対する溶解性が高く現像性に優れ、感度が良好である。一方、得られる被膜はアルカリ水溶液に対する溶解性が大きくなりすぎず、得られるレジストパターンの残膜率が悪化しない。アルカリ可溶性アクリル系樹脂中、他のラジカル重合性化合物a-2の重合単位の含量が上記好ましい範囲であると、ポリマーのアルカリ水溶液からなる現像液に対する溶解性のバランスが良好で、パターニングが容易である。本発明で用いられるアルカリ可溶性アクリル系樹脂は、ポリスチレン換算重量平均分子量以下、Mwというは、2×103~1×105であることが好ましく、5×103~5×104であることがより好ましい。Mwが上記好ましい範囲であると、得られる被膜は、現像性、残膜率などが低下せず、またパターン形状、耐熱性などに優れる。一方、感度が低下したりパターン形状に劣ることもない。また、本発明で用いるアクリル系樹脂は、アルカリ可溶性である。アクリル系樹脂の酸価は好ましくは50~150mgKOHg、より好ましくは70~130mgKOHgである。アクリル系樹脂の酸価が上記好ましい範囲であると、現像時に溶け残りが発生しにくい。一方、現像時に未露光部の膜減りが大きくなることはない。上記のような本発明で用いられるアクリル系樹脂は、不飽和カルボン酸a-1と他のラジカル重合性化合物a-2を、種々の重合方法により共重合させることによって得られるが、溶媒中で、触媒重合開始剤の存在下に共重合させる方法が好ましい。共重合に用いられる溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンなどのケトン類;2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類;ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドンなどの非プロトン性極性溶媒が挙げられる。これらの溶媒は、重合性化合物[a-1、a-2]の合計100重量部に対して、通常20~1,000重量部の量で用いられる。また、触媒としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものを広く用いることができ、例えば22’-アゾビスイソブチロニトリル、22’-アゾビス24-ジメチルバレロニトリル、22’-アゾビス4-メトキシ-24-ジメチルバレロニトリルなどのアゾ化合物;ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、t-ブチルパーオキシピバレート、11’-ビスt-ブチルパーオキシシクロヘキサンなどの有機過酸化物および過酸化水素などを用いることができる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型重合開始剤としてもよい。さらに、上記共重合において、α-メチルスチレンダイマーなどの分子量調節剤を添加することもできる。上記アクリル系樹脂は、アルカリ水溶液に対して適度の溶解性を有しており、高感度、高残膜率、現像性などに優れた感放射線性樹脂組成物を与える。さらにこのアクリル系樹脂を用いることによって得られるレジストパターンは、耐熱性、基板との密着性、可視光域での透明性、耐薬品性などの諸特性に優れる。本発明で用いられるアルカリ可溶性ポリシロキサンは、a-3下記一般式2で表されるオルガノシランの1種以上および/またはa-4下記一般式3で表されるオルガノシランの1種以上を加水分解し縮合させることによって合成されるポリシロキサンを含有する。一般式2で表されるオルガノシランにおいて、R4は、水素、炭素数1~10のアルキル基、炭素数2~10のアルケニル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表し、複数のR4はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。また、これらのアルキル基、アルケニル基、アリール基はいずれも無置換体、置換体のいずれでもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基およびその置換体の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、n-デシル基、トリフルオロメチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、3-グリシドキシプロピル基、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基、3-エチル-3-オキセタニルメトキシプロピル基、1-カルボキシ-2-カルボキシペンチル基、3-アミノプロピル基、3-メルカプトプロピル基、3-イソシアネートプロピル基が挙げられる。アルケニル基およびその置換体の具体例としては、ビニル基、3-アクリロキシプロピル基、3-メタクリロキシプロピル基が挙げられる。アリール基およびその置換体の具体例としては、フェニル基、トリル基、p-ヒドロキシフェニル基、1-p-ヒドロキシフェニルエチル基、2-p-ヒドロキシフェニルエチル基、4-ヒドロキシ-5-p-ヒドロキシフェニルカルボニルオキシペンチル基、ナフチル基が挙げられる。一般式2のR5は水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアシル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表し、複数のR2はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。また、これらのアルキル基、アシル基、アリール基はいずれも無置換体、置換体のどちらでもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基が挙げられる。一般式2のnは1から3の整数を表す。n=1の場合は3官能性シラン、n=2の場合は2官能性シラン、n=3の場合は1官能性シランである。一般式2で表されるオルガノシランの具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリn-ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリn-ブトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-ブチルトリメトキシシラン、n-ブチルトリエトキシシラン、n-ヘキシルトリメトキシシラン、n-ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、p-ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、1-p-ヒドロキシフェニルエチルトリメトキシシラン、2-p-ヒドロキシフェニルエチルトリメトキシシラン、4-ヒドロキシ-5-p-ヒドロキシフェニルカルボニルオキシペンチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、3-エチル-3-オキセタニルメトキシプロピルトリメトキシシラン、3-エチル-3-オキセタニルメトキシプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-トリメトキシシリルプロピルコハク酸、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物などの3官能シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジn-ブチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランなどの2官能シラン、トリメチルメトキシシラン、トリn-ブチルエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルジメチルエトキシシランなどの1官能シランが挙げられる。なお、これらのオルガノシランは単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。これらのオルガノシランの中でも、硬化膜の耐クラック性や硬度の点から3官能シランが好ましく用いられる。一般式3で表されるオルガノシランにおいて、式中、R6からR9はそれぞれ独立に水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアシル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表す。これらのアルキル基、アシル基、アリール基はいずれも無置換体、置換体のどちらでもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基が挙げられる。一般式3のmは1から8の整数である。一般式3で表されるオルガノシランを用いることで、高い耐熱性や透明性を維持しつつ、感度と解像度に優れたポジ型感光性組成物が得られる。本発明で用いるポリシロキサンにおける一般式3で表されるオルガノシランの含有比は、ポリシロキサン全体のSi原子モル数に対するSi原子モル比で50以下であることが好ましい。ポリシロキサンにおける一般式3で表されるオルガノシランの含有比がポリシロキサン全体のSi原子モル数に対するSi原子モル比で上記好ましい範囲であると、ポリシロキサンとナフトキノンジアジド化合物との相溶性が良好で、硬化膜の透明性に優れる。一般式3で表されるオルガノシランの含有比は、1H-NMR、13C-NMR、29Si-NMR、IR、TOF-MS、元素分析法および灰分測定などを組み合わせて求めることができる。一般式3で表されるオルガノシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルシリケート51扶桑化学工業株式会社製、Mシリケート51、シリケート40、シリケート45多摩化学工業株式会社製、メチルシリケート51、メチルシリケート53A、エチルシリケート40、エチルシリケート48コルコート株式会社製などが挙げられる。本発明で用いるポリシロキサンの態様として、前述の一般式2で表されるオルガノシランの1種以上、および/または一般式3で表されるオルガノシランの1種以上、ならびにシリカ粒子を反応させることによって合成されるポリシロキサンを用いても良い。シリカ粒子を反応させることで、パターン解像度が向上する。これは、ポリシロキサン中にシリカ粒子が組み込まれることで、膜のガラス転移温度が高くなり熱硬化時のパターンのリフローが抑えられるためと考えられる。シリカ粒子の数平均粒子径は、好ましくは2nm~200nmであり、さらに好ましくは5nm~70nmである。シリカ粒子の数平均粒子径が上記好ましい範囲であると、パターン解像度の向上効果が十分で、一方、硬化膜が光散乱しにくく透明性がに優れる。ここで、シリカ粒子の数平均粒子径は、比表面積法換算値を用いる場合には、シリカ粒子を乾燥後、焼成し、得られた粒子の比表面積を測定した後に、粒子を球と仮定して比表面積から粒子径を求め、数平均として平均粒子径を求める。用いる機器は特に限定されないが、アサップ2020商品名、Micromeritics社製などを用いることができる。シリカ粒子の具体例としては、イソプロパノールを分散媒とした粒子径12nmのIPA-ST、メチルイソブチルケトンを分散媒とした粒子径12nmのMIBK-ST、イソプロパノールを分散媒とした粒子径45nmのIPA-ST-L、イソプロパノールを分散媒とした粒子径100nmのIPA-ST-ZL、プロピレングリコールモノメチルエーテルを分散媒とした粒子径15nmのPGM-ST以上商品名、日産化学工業株製、γ-ブチロラクトンを分散媒とした粒子径12nmのオスカル101、γ-ブチロラクトンを分散媒とした粒子径60nmのオスカル105、ジアセトンアルコールを分散媒とした粒子径120nmのオスカル106、分散溶液が水である粒子径5~80nmのカタロイド-S以上商品名、触媒化成工業株製、プロピレングリコールモノメチルエーテルを分散媒とした粒子径16nmのクォートロンPL-2L-PGME、γ-ブチロラクトンを分散媒とした粒子径17nmのクォートロンPL-2L-BL、ジアセトンアルコールを分散媒とした粒子径17nmのクォートロンPL-2L-DAA、分散溶液が水である粒子径18~20nmのクォートロンPL-2L、GP-2L以上商品名、扶桑化学工業株製、粒子径が100nmであるシリカSiO2SG-SO100商品名、共立マテリアル株製、粒子径が5~50nmであるレオロシール商品名、株トクヤマ製などが挙げられる。また、これらのシリカ粒子は単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。シリカ粒子を用いる場合の混合比率は特に制限されないが、ポリシロキサン全体のSi原子モル数に対するSi原子モル比で70以下が好ましい。シリカ粒子を用いる場合の混合比率が、ポリシロキサン全体のSi原子モル数に対するSi原子モル比で、上記好ましい範囲であると、ポリシロキサンとナフトキノンジアジド化合物との相溶性が良好で、硬化膜の透明性に優れる。また、本発明で用いられるポリシロキサンにおいて、後述するナフトキノンジアジド化合物などとの十分な相溶性を確保し、相分離することなく均一な硬化膜を形成させる目的から、ポリシロキサン中にあるフェニル基の含有率がSi原子に対して5モル以上が好ましく、20モル以上がより好ましく、さらに好ましくは30モル以上、特に好ましくは40モル以上である。フェニル基の含有率が上記好ましい範囲であると、塗布、乾燥、熱硬化中などにおいて、ポリシロキサンとナフトキノンジアジド化合物が相分離を引き起こしにくいので、膜が白濁することはなく、硬化膜の透過率に優れる。また、フェニル基の含有率は70モル以下であることが好ましく、より好ましくは60モル以下、さらに好ましくは50モル以下である。フェニル基の含有率が上記好ましい範囲であると、熱硬化時の架橋が十分に起こって硬化膜の耐薬品性に優れる。フェニル基の含有率は、例えば、ポリシロキサンの29Si-NMRを測定し、そのフェニル基が結合したSiのピーク面積とフェニル基が結合していないSiのピーク面積の比から求めることができる。また、本発明で用いられるポリシロキサンにおいて、ポリシロキサン中にあるエポキシ基および/またはビニル基の含有率がSi原子に対して1モル以上が好ましく、より好ましくは3モル以上、さらに好ましくは5モル以上、特に好ましくは10モル以上である。エポキシ基および/またはビニル基の含有率が上記好ましい範囲であると、感光性樹脂組成物の耐溶剤性に優れる。また、エポキシ基および/またはビニル基の含有率は70モル以下、さらに50モル以下が好ましい。エポキシ基および/またはビニル基の含有率が上記好ましい範囲であると、塗布、乾燥、熱硬化中などにおいて、ポリシロキサンとナフトキノンジアジド化合物が相分離を引き起こしにくいので、膜が白濁することはなく、硬化膜の透過率に優れる。エポキシ基かつ/またはビニル基の含有率は、例えば、ポリシロキサンの29Si-NMR、そのエポキシ基かつ/またはビニル基が結合したSiのピーク面積とエポキシ基かつ/またはビニル基が結合していないSiのピーク面積の比から求めたり、1H-NMR、13C-NMRを測定し、エポキシ基かつ/またはビニル基の含有量を測定し、29Si-NMRの測定と組み合わせたりすることでエポキシ基および/またはビニル基の含有率を求めることができる。また、本発明で用いるポリシロキサンの重量平均分子量Mwは特に制限されないが、好ましくはGPCゲルパーミネーションクロマトグラフィで測定されるポリスチレン換算で500~100,000、さらに好ましくは1,000~50,000である。ポリシロキサンのMwが上記好ましい範囲であると、塗膜性が良好であり、一方、パターン形成時の現像液に対する溶解性も良好である。本発明におけるポリシロキサンは、一般式2および/または3で表されるオルガノシランなどのモノマーを加水分解および部分縮合させることにより合成される。加水分解および部分縮合には一般的な方法を用いることができる。例えば、混合物に溶媒、水、必要に応じて触媒を添加し、50~150°C、好ましくは、90~130°Cで0.5~100時間程度加熱攪拌する。なお、攪拌中、必要に応じて、蒸留によって加水分解副生物メタノールなどのアルコールや縮合副生物水の留去を行ってもよい。上記の反応溶媒としては特に制限は無いが、通常は後述のC溶剤と同様のものが用いられる。溶媒の添加量はオルガノシランなどのモノマー100重量部に対して10~1,000重量部が好ましい。また加水分解反応に用いる水の添加量は、加水分解性基1モルに対して0.5~2モルが好ましい。必要に応じて添加される触媒に特に制限はないが、酸触媒、塩基触媒が好ましく用いられる。酸触媒の具体例としては塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、多価カルボン酸あるいはその無水物、イオン交換樹脂が挙げられる。塩基触媒の具体例としては、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アミノ基を有するアルコキシシラン、イオン交換樹脂が挙げられる。触媒の添加量はオルガノシランなどのモノマー100重量部に対して0.01~10重量部が好ましい。また、組成物の貯蔵安定性の観点から、加水分解、部分縮合後のポリシロキサン溶液には上記触媒が含まれないことが好ましく、必要に応じて触媒の除去を行うことができる。触媒の除去方法に特に制限は無いが、操作の簡便さと除去性の点で、水洗浄および/またはイオン交換樹脂による処理が好ましい。水洗浄とは、ポリシロキサン溶液を適当な疎水性溶剤で希釈した後、水で数回洗浄して得られた有機層をエバポレーター等で濃縮する方法である。イオン交換樹脂による処理とは、ポリシロキサン溶液を適当なイオン交換樹脂に接触させる方法である。本発明のポジ型感光性組成物は、Bナフトキノンジアジド化合物を含有する。ナフトキノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性組成物は、露光部が現像液で除去されるポジ型を形成する。用いるナフトキノンジアジド化合物に特に制限は無いが、フェノール性水酸基を有する化合物にナフトキノンジアジドスルホン酸がエステル結合した化合物であって、当該化合物のフェノール性水酸基のオルト位、およびパラ位がそれぞれ独立して水素、水酸基もしくは一般式4~5で表される置換基のいずれかである化合物が好ましく用いられる。式中、R10、R11、R12はそれぞれ独立して炭素数1~10のアルキル基、カルボキシル基、フェニル基、置換フェニル基のいずれかを表す。また、R10、R11、R12で環を形成してもよい。アルキル基は無置換体、置換体のいずれでもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、トリフルオロメチル基、2-カルボキシエチル基が挙げられる。また、フェニル基上の置換基としては、水酸基、メトキシ基などが挙げられる。また、R10、R11、R12で環を形成する場合の具体例としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、アダマンタン環、フルオレン環が挙げられる。フェノール性水酸基のオルト位、およびパラ位が上記の好ましい置換基の場合、熱硬化によっても酸化分解が起こりにくく、キノイド構造に代表される共役系化合物が形成されにくいので、硬化膜が着色しにくく無色透明性が保たれる。なお、これらのナフトキノンジアジド化合物は、フェノール性水酸基を有する化合物と、ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとの公知のエステル化反応により合成することができる。フェノール性水酸基を有する化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられるいずれも本州化学工業株製。原料となるナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとしては、4-ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドあるいは5-ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドを用いることができる。4-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物はi線波長365nm領域に吸収を持つため、i線露光に適している。また、5-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物は広範囲の波長領域に吸収が存在するため、広範囲の波長での露光に適している。露光する波長によって4-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物、5-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物を選択することが好ましい。4-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物と5-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物を混合して用いることもできる。本発明で好ましく用いられるナフトキノンジアジド化合物として、下記一般式6で表される化合物が挙げられる。式中、R13、R14、R15、R16は水素原子、炭素数1~8から選ばれるアルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、エステル基のいずれかを示す。各R13、R14、R15、R16は同じであっても異なっていても良い。R17は水素、または炭素数1~8から選ばれるアルキル基またはアリール基を示す。Qは5―ナフトキノンジアジドスルホニル基、水素原子のいずれかを表し、Qの全てが水素原子になることはない。a、b、c、d、e、α、β、γ、δは0~4の整数を表す。ただし、αβγδ≧2である。一般式6で表されるナフトキノンジアジド化合物を用いることで、パターン加工に於ける感度や、解像度が向上する。ナフトキノンジアジド化合物の添加量は特に制限されないが、好ましくはアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して2~30重量部であり、より好ましくは3~15重量部である。ナフトキノンジアジド化合物の添加量が上記好ましい範囲の場合、露光部と未露光部との溶解コントラストが十分に高く、実用に足る感光性を発現でき、一方、ポリシロキサンとナフトキノンジアジド化合物との相溶性が悪くなりにくいので塗布膜の白化が生じず、熱硬化時にキノンジアジド化合物の分解による着色が生じにくいので、硬化膜の無色透明性が保たれる。また、さらに良好な溶解コントラストを得るためには、5重量部以上がさらに好ましい。また、さらに高透明性の膜を得るためには20重量部以下がさらに好ましく、15重量部以下が特に好ましく、10重量部以下が最も好ましい。本発明のポジ型感光性組成物は、C溶剤を含有する。使用する溶剤に特に制限はないが、好ましくはアルコール性水酸基を有する化合物が用いられる。これらの溶剤を用いると、アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド化合物とが均一に溶解し、組成物を塗布成膜しても膜は白化することなく、高透明性が達成できる。上記アルコール性水酸基を有する化合物は特に制限されないが、好ましくは大気圧下の沸点が110~250°Cである化合物である。沸点が上記好ましい範囲であると、塗膜時の乾燥が速すぎず膜表面が荒れにくく塗膜性が良好である一方、膜中の残存溶剤量が少ないのでキュア時の膜収縮が小さくなり、良好な平坦性が得られる。アルコール性水酸基を有する化合物の具体例としては、アセトール、3-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノン、4-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノン、5-ヒドロキシ-2-ペンタノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノn-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノn-ブチルエーテル、プロピレングリコールモノt-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、3-メトキシ-1-ブタノール、3-メチル-3-メトキシ-1-ブタノールなどが挙げられる。なお、これらのアルコール性水酸基を有する化合物は、単独、あるいは2種以上を組み合わせて使用してもよい。また、本発明のポジ型感光性組成物は、本発明の効果を損なわない限り、その他の溶剤を含有してもよい。その他の溶剤としては、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシ-1-ブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシ-1-ブチルアセテート、アセト酢酸エチルなどのエステル類、メチルイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、アセチルアセトンなどのケトン類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジn-ブチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、などのエーテル類、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、δ-バレロラクトン、炭酸プロピレン、N-メチルピロリドン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンなどが挙げられる。溶剤の添加量に特に制限はないが、好ましくはアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して100~2,000重量部の範囲である。本発明の感光性樹脂組成物は、D下記一般式1で表される金属キレート化合物を含有する。一般式1で表される金属キレート化合物において、Mは、金属原子である。R1は、同一もしくは異なっていてもよく、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、およびそれらの置換体を表す。R2、R3は、同一もしくは異なっていてもよく、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、およびそれらの置換体を表す。jは金属原子Mの原子価、kは0~jの整数を表す。本発明で用いられる上記の金属キレート化合物を含有することで、現像密着性や得られる硬化膜の耐湿熱性が向上する。一般式1中、Mは金属原子であり、特に制限されることはないが、透明性の観点から、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、亜鉛、コバルト、モリブデン、ランタン、バリウム、ストロンチウム、マグネシウム、カルシウムなどの金属原子が挙げられる。現像密着性と耐湿熱性の観点から、好ましくは、ジルコニウム、または、アルミニウムの金属原子である。R1はメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、オクタデカニル基、フェニル基、ビニル基、アリル基、オレイル基などが挙げられる。中でも化合物が安定であることから、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-オクタデシル基、フェニル基が好ましい。R2およびR3は水素、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、フェニル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-オクタデシル基、ベンジルオキシ基などが挙げられる。中でも合成が容易であり、かつ化合物が安定であることからメチル基、t-ブチル基、フェニル基、メトキシ基、エトキシ基、n-オクタデシル基が好ましい。一般式1で表される化合物としては、たとえばジルコニウム化合物としては、ジルコニウムテトラn-プロポキシド、ジルコニウムテトラn-ブトキシド、ジルコニウムテトラsecブトキシド、ジルコニウムテトラフェノキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラ、アルミニウムアセチルアセトネートジイソプロポキシド、アルミニウムメチルアセトアセテートジイソプロポキシド、アルミニウムオクタデシルアセトアセテートジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテートなどが挙げられる。チタン化合物としては、チタンテトラn-プロポキシド、チタンテトラn-ブトキシド、チタンテトラsecブトキシド、チタンテトラフェノキシド、チタンテトラアセチルアセトネート、チタンテトラ、アルミニウムアセチルアセトネートジイソプロポキシド、アルミニウムメチルアセトアセテートジイソプロポキシド、アルミニウムオクタデシルアセトアセテートジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテートが好ましく、さらに好ましくは、金属錯体系であることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物において、D金属キレート化合物の含有量は、Aアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して0.1~5重量部とするものである。D金属キレート化合物の含有量がAアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して0.1重量部に満たない場合には耐湿熱性と現像密着性に劣る問題点があり、Aアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して5重量部を越える場合には現像液に溶解すべき未露光部が溶解せず、感光特性が悪化するという問題点がある。D金属キレート化合物の含有量は、好ましくは、Aアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して0.3~4重量部である。ただし、触媒活性の高い金属、たとえば、金属原子Mがアルミニウムの場合、0.1~1.5重量部が好ましく、さらに好ましくは、0.3~1.0重量部である。金属キレート化合物の含有量は、蛍光X線分析、誘導結合プラズマ質量分析法ICP-MSや原子吸光法による金属定量分析、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、1H-NMR、13C-NMRによる有機分析を行うことで同定、定量することが可能である。また、感光性樹脂組成物や硬化膜から、蛍光X線分析、誘導結合プラズマ質量分析法ICP-MSや原子吸光法を用いて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、亜鉛、コバルト、モリブデン、ランタン、バリウム、ストロンチウム、マグネシウム、カルシウムなどの金属の分析が可能である。上記金属は、アルカリ可溶性樹脂組成物100重量部に対して、0.005~1重量部含有される。さらに、本発明のポジ型感光性組成物は必要に応じて、溶解促進剤、シランカップリング剤、架橋剤、架橋促進剤、増感剤、熱ラジカル発生剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、消泡剤などの添加剤を含有することもできる。特に、本発明のポジ型感光性組成物は、アルカリ現像液に対する溶解性を調整するために、溶解促進剤を含有することが好ましい。溶解促進剤としては、上述のフェノール性水酸基を有する化合物の具体例で上記した化7のフェノール化合物やN-ヒドロキシイミド化合物が挙げられる。N-ヒドロキシイミド化合物の例として、N-ヒドロキシ-5-ノルボルネン-2,3-ヒドロキシイミドが挙げられる。フェノール性化合物は、特に限定されないが、透明性の観点から、上述したナフトキノンジアジド化合物の原料として用いたフェノール化合物が好ましい。すなわち、分子内にベンゼン環を2~6個、フェノール性水酸基を2~4個有するフェノール性化合物が好ましい。さらに、耐熱性と耐湿熱性の観点から、2級炭素-CH2-、3級炭素-CH=、シクロアルカン基を含まないフェノール化合物が好ましい。好ましいフェノール化合物の例を次に示す。驚いたことに、本発明の感光性樹脂組成物に、フェノール化合物を添加することで、耐湿熱性が飛躍的に向上する。フェノール化合物の芳香環同士のパッキング性により発現した疎水性バリア効果のために、耐湿熱性が向上したものと推測できる。フェノール化合物の含有量は、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、1~30重量部が好ましく、より好ましくは、3~15重量部である。フェノール化合物の含有量が、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、上記好ましい範囲であると、耐湿熱性の効果が十分で、一方、溶解促進効果が大きくなりすぎないのでパターン形成が容易である。本発明のポジ型感光性組成物は、架橋剤を含有することも好ましい。架橋剤は熱硬化時に本発明で用いるアルカリ可溶性樹脂や溶解促進剤などを架橋し、樹脂中に取り込まれる化合物であり、含有することによって硬化膜の架橋度が高くなる。これによって、硬化膜の耐薬品性と耐湿熱性が向上し、かつ熱硬化時のパターンリフローによるパターン解像度の低下が抑制される。架橋剤に特に制限は無いが、好ましくは一般式7で表されるメチロール系構造、エポキシ構造、オキセタン構造の群から選択される構造を2個以上有する化合物が挙げられる。上記構造の組み合わせは特に限定されないが、選択される構造は同じものであることが好ましい。一般式7で表されるメチロール系構造を2個以上有するメチロール系化合物において、R18は水素、炭素数1~10のアルキル基のいずれかを表す。なお、化合物中の複数のR18はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、n-デシル基が挙げられる。メチロール系構造を2個以上有するメチロール系化合物の具体例としては、メチロール系構造を2つ有するものとして、DM-BI25X-F、46DMOC、46DMOIPP、46DMOEP以上、商品名、旭有機材工業株製、DML-MBPC、DML-MBOC、DML-OCHP、DML-PC、DML-PCHP、DML-PTBP、DML-34X、DML-EP、DML-POP、DML-OC、ジメチロール-Bis-C、ジメチロール-BisOC-P、DML-BisOC-Z、DML-BisOCHP-Z、DML-PFP、DML-PSBP、DML-MB25、DML-MTrisPC、DML-Bis25X-34XL、DML-Bis25X-PCHP以上、商品名、本州化学工業株製、ニカラックMX-290商品名、株三和ケミカル製、2,6-ジメトキシメチル-4-t-ブチルフェノール、2,6-ジメトキシメチル-p-クレゾール、2,6-ジアセトキシメチル-p-クレゾールなどが挙げられる。メチロール系構造を3つ有するものとしては、TriML-P、TriML-35XL、TriML-TrisCR-HAP以上、商品名、本州化学工業株製などが挙げられる。メチロール系構造を4つ有するものとしては、TM-BIP-A商品名、旭有機材工業株製、TML-BP、TML-HQ、TML-pp-BPF、TML-BPA、TMOM-BP以上、商品名、本州化学工業株製、ニカラックMX-280、ニカラックMX-270以上、商品名、株三和ケミカル製などが挙げられる。メチロール系構造を6つ有するものとしては、HML-TPPHBA、HML-TPHAP、HMOM-TPPHBA、HMOM-TPHAP以上、商品名、本州化学工業株製、ニカラックMW-390、ニカラックMW-100LM、ニカラック30-HM以上、商品名、株三和ケミカル製などが挙げられる。これらのうち、本発明では熱架橋性基を少なくとも2つ含有するものが好ましく、特に好ましくは、熱架橋性基を2つ有するものとして46DMOC、46DMOEP、DML-MBPC、DML-MBOC、DML-OCHP、DML-PC、DML-PCHP、DML-PTBP、DML-34X、DML-EP、DML-POP、ジメチロール-BisOC-P、DML-PFP、DML-PSBP、DML-MTrisPC、ニカラックMX-290、B-a型ベンゾオキサジン、B-m型ベンゾオキサジン、2,6-ジメトキシメチル-4-t-ブチルフェノール、2,6-ジメトキシメチル-p-クレゾール、2,6-ジアセトキシメチル-p-クレゾールなど、熱架橋性基を3つ有するものとしてTriML-P、TriML-35XLなど、熱架橋性基を4つ有するものとしてTM-BIP-A、TML-BP、TML-HQ、TML-pp-BPF、TML-BPA、TMOM-BP、ニカラックMX-280、ニカラックMX-270など、熱架橋性基を6つ有するものとしてHML-TPPHBA、HML-TPHAP、HMOM-TPPHBA、HMOM-TPHAPなどが挙げられる。また、さらに好ましい例として、ニカラックMX-280、ニカラックMX-270、ニカラックMW-100LM、ニカラックMW-390、ニカラック30HM商品名、株三和ケミカル製などが挙げられる。これらe架橋剤のうち、たとえば、メチロール基またはアルコール性水酸基の水素原子を置換したメチロール基を有する化合物は、以下のように、ベンゼン環に直接付加する反応機構によって架橋する。本発明の感光性樹脂組成物に特に好ましく用いられる代表的な熱架橋性化合物の構造を次に示す。特に驚いたことには、本発明のポジ型感光性組成物に、メチロール系化合物と上述のフェノール化合物との組合せることにより、その硬化膜の耐湿熱性がさらに飛躍的に向上する。エポキシ構造やオキセタン構造を2個以上有する化合物の具体例としては、エポライト40E、同100E、同200E、同400E、同70P、同200P、同400P、同1500NP、同80MF、同4000、同3002以上商品名、共栄社化学工業株製、デナコールEX-212L、同EX-214L、同EX-216L、同EX-850L、同EX-321L以上商品名、ナガセケムテックス株製、GAN、GOT、EPPN502H、NC3000、NC6000以上商品名、日本化薬株製、エピコート828、同1002、同1750、同1007、YX8100-BH30、E1256、E4250、E4275以上商品名、ジャパンエポキシレジン株製、エピクロンEXA-9583、同HP4032、同N695、同HP7200以上商品名、大日本インキ化学工業株製、テピックS、同G、同P以上商品名、日産化学工業株製、エポトートYH-434L商品名、東都化成株製が挙げられる。なお、上記の架橋剤は、単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。架橋剤の添加量は特に制限されないが、好ましくはアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して0.1~20重量部の範囲である。架橋剤の添加量が上記好ましい範囲であると、樹脂の架橋効果が十分となる一方、硬化膜の無色透明性が保たれ、組成物の貯蔵安定性にも優れる。本発明のポジ型感光性組成物は、シランカップリング剤を含有しても良い。シランカップリング剤を含有することで、基板との密着性が向上する。シランカップリング剤の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-ブチルトリメトキシシラン、n-ブチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-1,3-ジメチル-ブチリデンプロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、3-エチル-3-オキセタニルメトキシプロピルトリメトキシシラン、3-エチル-3-オキセタニルメトキシプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3-トリメトキシシリルプロピルコハク酸、N-t-ブチル-3-3-トリメトキシシリルプロピルコハク酸イミド、また、一般式3で表されるオルガノシランなどが挙げられる。一般式3で表されるオルガノシランにおいて、式中、R6からR9はそれぞれ独立に水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアシル基、炭素数6~15のアリール基のいずれかを表す。これらのアルキル基、アシル基、アリール基はいずれも無置換体、置換体のどちらでもよい。一般式3で表されるオルガノシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルシリケート51扶桑化学工業株式会社製、Mシリケート51、シリケート40、シリケート45多摩化学工業株式会社製、メチルシリケート51、メチルシリケート53A、エチルシリケート40、エチルシリケート48コルコート株式会社製などが挙げられる。好ましくは、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N-t-ブチル-3-3-トリメトキシシリルプロピルコハク酸イミド、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルシリケート51扶桑化学工業株式会社製、Mシリケート51、シリケート40、シリケート45多摩化学工業株式会社製、メチルシリケート51、メチルシリケート53A、エチルシリケート40、エチルシリケート48コルコート株式会社製である。シランカップリング剤の添加量に特に制限は無いが、好ましくはアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して0.1~10重量部の範囲である。シランカップリング剤の添加量が上記好ましい範囲であると、密着性向上の効果が十分で、一方、保管中にシランカップリン剤同士が縮合反応しにくいので、現像時の溶け残りが起こらない。本発明のポジ型感光性組成物は、界面活性剤を含有しても良い。界面活性剤を含有することで、塗布ムラが改善し均一な塗布膜が得られる。フッ素系界面活性剤や、シリコーン系界面化成剤が好ましく用いられる。フッ素系界面活性剤の具体的な例としては、1,1,2,2-テトラフロロオクチル1,1,2,2-テトラフロロプロピルエーテル、1,1,2,2-テトラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ1,1,2,2-テトラフロロブチルエーテル、ヘキサエチレングリコール1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロペンチルエーテル、オクタプロピレングリコールジ1,1,2,2-テトラフロロブチルエーテル、ヘキサプロピレングリコールジ1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロペンチルエーテル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-デカフロロドデカン、1,1,2,2,3,3-ヘキサフロロデカン、N-[3-パーフルオロオクタンスルホンアミドプロピル]-N,N′-ジメチル-N-カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル-N-エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビスN-パーフルオロオクチルスルホニル-N-エチルアミノエチル、モノパーフルオロアルキルエチルリン酸エステルなどの末端、主鎖および側鎖の少なくとも何れかの部位にフルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物からなるフッ素系界面活性剤を挙げることができる。また、市販品としては、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183、同F444、同445、同F475、同477以上、大日本インキ化学工業株製、エフトップEF301、同303、同352新秋田化成株製、フロラードFC-430、同FC-431住友スリーエム株製、アサヒガードAG710、サーフロンS-382、同SC-101、同SC-102、同SC-103、同SC-104、同SC-105、同SC-106旭硝子株製、BM-1000、BM-1100裕商株製、NBX-15、FTX-218、DFX-218株ネオス製などのフッ素系界面活性剤がある。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、SH28PA、SH7PA、SH21PA、SH30PA、ST94PAいずれも東レダウコーニングシリコーン株製、BYK-333ビックケミージャパン株製などが挙げられる。界面活性剤の含有量は、感光性組成物中、0.0001~1重量とするのが一般的であり好ましい。本発明のポジ型感光性組成物は、架橋促進剤を含有しても良い。架橋促進剤とは、熱硬化時のアルカリ可溶性樹脂の架橋を促進する化合物であり、熱硬化時に酸を発生する熱酸発生剤や、熱硬化前のブリーチング露光時に酸を発生する光酸発生剤が用いられる。熱硬化時に膜中に酸が存在することによって、アルカリ可溶性樹脂中の未反応シラノール基やエポキシ基の縮合反応が促進され、硬化膜の架橋度が高くなる。これによって、硬化膜の耐薬品性が向上し、かつ熱硬化時のパターンリフローによるパターン解像度の低下が抑制されたり、耐薬品性が向上したりする。本発明で好ましく用いられる熱酸発生剤は、熱硬化時に酸を発生する化合物であり、組成物塗布後のプリベーク時には酸を発生しない、もしくは少量しか発生しないことが好ましい。故に、プリベーク温度以上、例えば100°C以上で酸を発生する化合物であることが好ましい。プリベーク温度以上で酸が発生する化合物であると、プリベーク時にアルカリ可溶性樹脂の架橋が起こることはないので、感度が低下することはなく、現像時に溶け残りが発生することもない。好ましく用いられる熱酸発生剤の具体例としては、サンエイドSI-60、SI-80、SI-100、SI-200、SI-110、SI-145、SI-150、SI-60L、SI-80L、SI-100L、SI-110L、SI-145L、SI-150L、SI-160L、SI-180L以上商品名、三新化学工業株製、4-ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、2-メチルベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-アセトキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4-メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジル-4-メトキシカルボニルオキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート以上、三新化学工業株製などが挙げられる。なお、これらの化合物は単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明で好ましく用いられる光酸発生剤は、ブリーチング露光時に酸を発生する化合物であり、露光波長365nmi線、405nmh線、436nmg線、もしくはこれらの混合線の照射によって酸を発生する化合物である。したがって、同様の光源を用いるパターン露光においても酸が発生する可能性はあるが、パターン露光はブリーチング露光と比べて露光量が小さいために、少量の酸しか発生せずに問題とはならない。また、発生する酸としてはパーフルオロアルキルスルホン酸、p-トルエンスルホン酸などの強酸であることが好ましく、カルボン酸が発生するキノンジアジド化合物はここでいう光酸発生剤の機能は有しておらず、本発明において架橋促進剤として機能しない。好ましく用いられる光酸発生剤の具体例としては、SI-100、SI-101、SI-105、SI-106、SI-109、PI-105、PI-106、PI-109、NAI-100、NAI-1002、NAI-1003、NAI-1004、NAI-101、NAI-105、NAI-106、NAI-109、NDI-101、NDI-105、NDI-106、NDI-109、PAI-01、PAI-101、PAI-106、PAI-1001以上商品名、みどり化学株製、SP-077、SP-082以上商品名、株ADEKA製、TPS-PFBS以上商品名、東洋合成工業株製、CGI-MDT、CGI-NIT以上商品名、チバジャパン株製、WPAG-281、WPAG-336、WPAG-339、WPAG-342、WPAG-344、WPAG-350、WPAG-370、WPAG-372、WPAG-449、WPAG-469、WPAG-505、WPAG-506以上商品名、和光純薬工業株製などが挙げられる。なお、これらの化合物は単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。また、架橋促進剤として、上述した熱酸発生剤と光酸発生剤とを併用して用いることも可能である。架橋促進剤の添加量は、特に制限は無いが、好ましくはアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して0.01~5重量部の範囲である。添加量が上記好ましい範囲であると、架橋促進効果が十分で、一方、プリベーク時やパターン露光時にポリシロキサンの架橋が起こりにくい。本発明のポジ型感光性組成物は、増感剤を含有しても良い。増感剤を含有することによって、感光剤であるナフトキノンジアジド化合物の反応が促進されて感度が向上するとともに、架橋促進剤として光酸発生剤が含有されている場合は、ブリーチング露光時の反応が促進されて硬化膜の耐溶剤性とパターン解像度が向上する。本発明で用いられる増感剤は特に制限されないが、好ましくは熱処理により気化する増感剤および/または光照射によって退色する増感剤が用いられる。この増感剤は、パターン露光やブリーチング露光における光源の波長である365nmi線、405nmh線、436nmg線に対して吸収をもつことが必要であるが、これら吸収がそのまま硬化膜に残存すると可視光領域に吸収が存在するために無色透明性が低下してしまう場合がある。そこで、増感剤による無色透明性の低下を防ぐために、用いられる増感剤は、熱硬化などの熱処理で気化する化合物増感剤および/またはブリーチング露光などの光照射によって退色する化合物増感剤が好ましい。上記の熱処理により気化する増感剤および/または光照射によって退色する増感剤の具体例としては、3,3’-カルボニルビスジエチルアミノクマリンなどのクマリン、9,10-アントラキノンなどのアントラキノン、ベンゾフェノン、4,4’-ジメトキシベンゾフェノン、アセトフェノン、4-メトキシアセトフェノン、ベンズアルデヒドなどの芳香族ケトン、ビフェニル、1,4-ジメチルナフタレン、9-フルオレノン、フルオレン、フェナントレン、トリフェニレン、ピレン、アントラセン、9-フェニルアントラセン、9-メトキシアントラセン、9,10-ジフェニルアントラセン、9,10-ビス4-メトキシフェニルアントラセン、9,10-ビストリフェニルシリルアントラセン、9,10-ジメトキシアントラセン、9,10-ジエトキシアントラセン、9,10-ジプロポキシアントラセン、9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ジペンタオキシアントラセン、2-t-ブチル-9,10-ジブトキシアントラセン、9,10-ビストリメチルシリルエチニルアントラセンなどの縮合芳香族などが挙げられる。これらの増感剤の中で、熱処理により気化する増感剤は、好ましくは熱処理により昇華、蒸発、熱分解による熱分解物が昇華または蒸発する増感剤である。また、増感剤の気化温度としては、好ましくは130°C~400°Cである。増感剤の気化温度が上記好ましい範囲であると、増感剤がプリベーク中に気化することはなく露光プロセス中に存在するので感度を高く保つことができる一方、増感剤が熱硬化時に気化して硬化膜中に残存しないので、無色透明性を保つことができる。プリベーク中の気化を極力抑えるためには、増感剤の気化温度は150°C以上がより好ましい。また、熱硬化時に十分に気化させるためには、増感剤の気化温度は250°C以下がより好ましい。一方、光照射によって退色する増感剤は、透明性の観点から可視光領域における吸収が光照射によって退色する増感剤が好ましい。また、さらに好ましい光照射によって退色する化合物は、光照射によって二量化する化合物である。光照射によって二量化することによって、分子量が増大して不溶化するので、耐薬品性向上、耐熱性向上、透明硬化膜からの抽出物の低減という効果が得られる。また、増感剤は高感度を達成できるという点に加えて、光照射によって二量化して退色するという点から、アントラセン系化合物が好ましく、また、9,10-二置換アントラセン系化合物が熱に安定であるので、より好ましい。さらに、増感剤の溶解性の向上と光二量化反応の反応性の観点から、一般式8で表される9,10-ジアルコキシアントラセン系化合物がさらに好ましい。一般式8のR19~R26は、それぞれ独立して水素、炭素数1~20のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アシル基、およびそれらが置換された有機基を表す。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基が挙げられる。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基が挙げられる。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、アクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基が挙げられる。化合物の気化性、光二量化の反応性の点から、R19~R26は水素、または炭素数は1~6までの有機基であることが好ましい。さらに好ましくは、R19、R22、R23、R26は水素であることが好ましい。一般式8のR27、R28は炭素数1~20のアルコキシ基、およびそれらが置換された有機基を表す。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基が挙げられるが、化合物の溶解性と光二量化による退色反応の点から、プロポキシ基、ブトキシ基が好ましい。増感剤の添加量は、特に制限は無いが、好ましくはアルカリ可溶性樹脂100重量部に対して0.01~5重量部の範囲で添加するのが好ましい。増感剤の添加量が上記好ましい範囲であると、透明性が低下したり、感度が低下したりすることはない。本発明のポジ型感光性組成物を用いた硬化膜の形成方法について説明する。本発明のポジ型感光性組成物をスピナー、スリットなどの公知の方法によって下地基板上に塗布し、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置でプリベークする。プリベークは、50~150°Cの範囲で30秒~30分間行い、プリベーク後の膜厚は、0.1~15μmとするのが好ましい。プリベーク後、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナーMPA、パラレルライトマスクアライナーPLAなどの紫外可視露光機を用い、10~4,000J/m2程度波長365nm露光量換算を所望のマスクを介してパターン露光する。露光後、現像により露光部が溶解し、ポジパターンを得ることができる。現像方法としては、シャワー、ディップ、パドルなどの方法で現像液に5秒~10分間浸漬することが好ましい。現像液としては、公知のアルカリ現像液を用いることができる。具体的例としてはアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、ホウ酸塩などの無機アルカリ、2-ジエチルアミノエタノール、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等のアミン類、水酸化テトラメチルアンモニウム、コリン等の4級アンモニウム塩を1種あるいは2種以上含む水溶液等が挙げられる。また、現像後は水でリンスすることが好ましく、必要であればホットプレート、オーブンなどの加熱装置で50~150°Cの範囲で脱水乾燥ベークを行うこともできる。その後、ブリーチング露光を行うことが好ましい。ブリーチング露光を行うことによって、膜中に残存する未反応のナフトキノンジアジド化合物が光分解して、膜の光透明性がさらに向上する。ブリーチング露光の方法としては、PLAなどの紫外可視露光機を用い、100~20,000J/m2程度波長365nm露光量換算を全面に露光する。ブリーチング露光した膜を、必要であればホットプレート、オーブンなどの加熱装置で50~150°Cの範囲で30秒~30分間ソフトベークを行った後、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置で150~450°Cの範囲で1時間程度キュアすることで、表示素子におけるTFT用平坦化膜、半導体素子における層間絶縁膜、あるいは光導波路におけるコアやクラッド材といった硬化膜が形成される。本発明のポジ型感光性組成物を用いて作製した硬化膜は、波長400nmにおける膜厚3μmあたりの光透過率が85以上であり、さらに好ましくは90以上である。光透過率が85より低いと、液晶表示素子のTFT基板用平坦化膜として用いた場合、バックライトが通過する際に色変化が起こり、白色表示が黄色味を帯びる。前記の波長400nmにおける膜厚3μmあたりの透過率は、以下の方法により求められる。組成物をテンパックスガラス板にスピンコーターを用いて任意の回転数でスピンコートし、ホットプレートを用いて100°Cで2分間プリベークする。その後、ブリーチング露光として、PLAを用いて、膜全面に超高圧水銀灯を3,000J/m2波長365nm露光量換算露光し、オーブンを用いて空気中220°Cで1時間熱硬化して膜厚3μmの硬化膜を作製する。得られた硬化膜の紫外可視吸収スペクトルを株島津製作所製MultiSpec1500を用いて測定し、波長400nmでの透過率を求める。この硬化膜は表示素子におけるTFT用平坦化膜、半導体素子における層間絶縁膜、タッチパネル用絶縁膜保護膜あるいは光導波路におけるコアやクラッド材等に好適に使用される。本発明における素子は、上述のような高耐熱性、高透明性の硬化膜を有する表示素子、半導体素子、あるいは光導波路材を指し、特に、TFT用平坦化膜として有する液晶、ならびに有機EL表示素子、タッチパネル機能つき表示素子に好適である。以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。なお、用いた化合物のうち、略語を使用しているものについて、以下に示す。DAA:ダイアセトンアルコールPGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートGBL:γ-ブチロラクトンEDM:ジエチレングリコールメチルエチルエーテルDPM:ジプロピレングリコールモノエーテルメチル。また、ポリシロキサン溶液、アクリル系樹脂溶液の固形分濃度、およびポリシロキサン、アクリル系樹脂の重量平均分子量Mwは、次の通り求めた。固形分濃度アルミカップにポリシロキサン溶液またはアクリル系樹脂溶液を1g秤取し、ホットプレートを用いて250°Cで30分間加熱して液分を蒸発させた。加熱後のアルミカップに残った固形分を秤量して、ポリシロキサン溶液またはアクリル系樹脂の固形分濃度を求めた。重量平均分子量重量平均分子量はGPCWaters社製410型RI検出器、流動層:テトラヒドロフランにてポリスチレン換算により求めた。ポリシロキサン中の一般式2と一般式3で表されるオルガノシラン構造の比率29Si-NMRの測定を行い、全体の積分値から、それぞれのオルガノシランに対する積分値の割合を算出して、比率を計算した。試料液体は直径10mmのテフロン登録商標製NMRサンプル管に注入し測定に用いた。29Si-NMR測定条件を以下に示す。装置:日本電子社製JNMGX270、測定法:ゲーテッドデカップリング法測定核周波数:536693MHz29Si核、スペクトル幅:20000Hzパルス幅:12μsec45°パルス、パルス繰り返し時間:300sec溶媒:アセトンD6、基準物質:テトラメチルシラン測定温度:室温、試料回転数:00Hz。合成例1:ポリシロキサン溶液の合成500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを81.72g0.60mol、フェニルトリメトキシシランを59.49g0.30mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを24.64g0.10mol、DAAを163.1g仕込み、室温で攪拌しながら水55.8gにリン酸0.54g仕込みモノマーに対して0.3重量を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを40°Cのオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115°Cまで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから1.5時間加熱攪拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を0.05Lリットルmin流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計131g留出した。得られたポリシロキサン溶液の固形分濃度は43重量、ポリシロキサンの重量平均分子量は4,200であった。なお、ポリシロキサン中のフェニル基置換シランの含有比はSi原子モル比で30であった。合成例2:ポリシロキサン溶液の合成500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを54.48g0.40mol、フェニルトリメトキシシランを99.15g0.50mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを24.64g0.1mol、DAAを179.5g仕込み、室温で攪拌しながら水55.8gにリン酸0.54g仕込みモノマーに対して0.3重量を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを40°Cのオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115°Cまで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから2時間加熱攪拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を0.05Lリットルmin流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計121g留出した。得られたポリシロキサン溶液の固形分濃度は42重量、ポリシロキサンの重量平均分子量は3,200であった。なお、ポリシロキサン中のフェニル基置換シランの含有比はSi原子モル比で50であった。合成例3:ポリシロキサン溶液の合成500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを27.24g0.20mol、フェニルトリメトキシシランを138.81g0.70mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを24.64g0.1mol、DAAを195.89g仕込み、室温で攪拌しながら水55.8gにリン酸0.54g仕込みモノマーに対して0.3重量を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを40°Cのオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115°Cまで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから3時間加熱攪拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を0.05Lリットルmin流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計125g留出した。得られたポリシロキサン溶液の固形分濃度は41重量、ポリシロキサンの重量平均分子量は3,000であった。なお、ポリシロキサン中のフェニル基置換シランの含有比はSi原子モル比で70であった。合成例4:ポリシロキサン溶液の合成500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを40.86g0.30mol、フェニルトリメトキシシランを99.15g0.5mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを12.32g0.05mol、Mシリケート51多摩化学工業株式会社製を17.63g0.15mol、PGMEAを170.77g仕込み、室温で攪拌しながら水53.55gにリン酸0.51g仕込みモノマーに対して0.3重量を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを40°Cのオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115°Cまで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから2時間加熱攪拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を0.05Lリットルmin流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計125g留出した。得られたポリシロキサン溶液の固形分濃度は43重量、ポリシロキサンの重量平均分子量は8,500であった。なお、ポリシロキサン中のフェニル基置換シランの含有比はSi原子モル比で50であった。合成例5:ポリシロキサン溶液の合成500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを24.52g0.18mol、フェニルトリメトキシシランを118.98g0.60mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを14.78g0.06mol、Mシリケート51多摩化学工業株式会社製を42.30g0.36mol、PGMEAを181.89g仕込み、室温で攪拌しながら水62.64gにリン酸0.60g仕込みモノマーに対して0.3重量を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを40°Cのオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115°Cまで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから2時間加熱攪拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を0.05Lリットルmin流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計150g留出した。得られたポリシロキサン溶液の固形分濃度は44重量、ポリシロキサンの重量平均分子量は11,400であった。なお、ポリシロキサン中のフェニル基置換シランの含有比はSi原子モル比で50であった。合成例6:ポリシロキサン溶液の合成500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを40.86g0.30mol、フェニルトリメトキシシランを99.15g0.50mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを49.28g0.20mol、PGMEAを173.02g仕込み、室温で攪拌しながら水57.60gにリン酸0.57g仕込みモノマーに対して0.3重量を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを40°Cのオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115°Cまで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから2時間加熱攪拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を0.05Lリットルmin流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計139g留出した。得られたポリシロキサン溶液の固形分濃度は43重量、ポリシロキサンの重量平均分子量は8,000であった。なお、ポリシロキサン中のフェニル基置換シランの含有比はSi原子モル比で50であった。合成例7:ポリシロキサン溶液の合成500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを20.43g0.15mol、フェニルトリメトキシシランを99.15g0.50mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを49.28g0.20mol、Mシリケート51多摩化学工業株式会社製を17.63g0.15mol、PGMEAを170.90g仕込み、室温で攪拌しながら水56.25gにリン酸0.56g仕込みモノマーに対して0.3重量を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを40°Cのオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115°Cまで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから2時間加熱攪拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を0.05Lリットルmin流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計139g留出した。得られたポリシロキサン溶液の固形分濃度は43重量、ポリシロキサンの重量平均分子量は9,500であった。なお、ポリシロキサン中のフェニル基置換シランの含有比はSi原子モル比で50であった。合成例8:ポリシロキサン溶液の合成500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを27.24g0.20mol、フェニルトリメトキシシランを99.15g0.50mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを73.92g0.30mol、PGMEAを173.02g仕込み、室温で攪拌しながら水59.40gにリン酸0.60g仕込みモノマーに対して0.3重量を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを40°Cのオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115°Cまで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから2時間加熱攪拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を0.05Lリットルmin流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計139g留出した。得られたポリシロキサン溶液の固形分濃度は43重量、ポリシロキサンの重量平均分子量は9,500であった。なお、ポリシロキサン中のフェニル基置換シランの含有比はSi原子モル比で50であった。合成例9:ポリシロキサン溶液の合成500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを27.24g0.20mol、フェニルトリメトキシシランを99.15g0.50mol、2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランを26.64g0.10mol、ビニルトリメトキシシランを29.65g0.20mol、PGMEAを164.40g仕込み、室温で攪拌しながら水55.80gにリン酸0.54g仕込みモノマーに対して0.3重量を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを40°Cのオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115°Cまで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから2時間加熱攪拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を0.05Lリットルmin流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計139g留出した。得られたポリシロキサン溶液の固形分濃度は43重量、ポリシロキサンの重量平均分子量は8,800であった。なお、ポリシロキサン中のフェニル基置換シランの含有比はSi原子モル比で50であった。合成例10:ポリシロキサン溶液の合成500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを68.10g0.50mol、フェニルトリメトキシシランを99.15g0.50mol、PGMEAを150.40g仕込み、室温で攪拌しながら水54.00gにリン酸0.50g仕込みモノマーに対して0.3重量を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを40°Cのオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115°Cまで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100°Cに到達し、そこから2時間加熱攪拌し内温は100~110°C、ポリシロキサン溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を0.05Lリットルmin流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計137g留出した。得られたポリシロキサン溶液の固形分濃度は43重量、ポリシロキサンの重量平均分子量は7,000であった。なお、ポリシロキサン中のフェニル基置換シランの含有比はSi原子モル比で50であった。合成例11:アクリル系樹脂溶液の合成500mLのフラスコに22’-アゾビスイソブチロニトリルを5g、t-ドデカンチオールを5g、PGMEAを180g仕込んだ。その後、メタクリル酸を40g、ベンジルメタクリレートを35g、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン-8-イルメタクリレートを35g仕込み、室温で攪拌してフラスコ内を窒素置換した後、70°Cで5時間加熱攪拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを15g、ジメチルベンジルアミンを1g、p-メトキシフェノールを0.2g添加し、90°Cで4時間加熱攪拌し、アクリル系樹脂溶液を得た。得られたアクリル系樹脂溶液の固形分濃度は40重量、アクリル系樹脂の重量平均分子量は12,000、酸価は91mgKOHgであった。合成例12:ナフトキノンジアジド化合物の合成乾燥窒素気流下、TrisP-PA商品名、本州化学工業株製21.23g0.05molと5-ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド37.62g0.14molを1,4-ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4-ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン15.58g0.154molを系内が35°C以上にならないように滴下した。滴下後30°Cで2時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、下記構造のナフトキノンジアジド化合物を得た。合成例13:ナフトキノンジアジド化合物の合成乾燥窒素気流下、TrisP-HAP商品名、本州化学工業株製15.32g0.05molと5-ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド26.87g0.1molを1,4-ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4-ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン11.13g0.11molを系内が35°C以上にならないように滴下した。滴下後30°Cで2時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、下記構造のナフトキノンジアジド化合物を得た。合成例14:ナフトキノンジアジド化合物の合成乾燥窒素気流下、Ph-cc-AP商品名、本州化学工業株製15.32g0.05molと5-ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド37.62g0.14molを1,4-ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4-ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン15.58g0.154molを系内が35°C以上にならないように滴下した。滴下後30°Cで2時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、下記構造のナフトキノンジアジド化合物を得た。合成例15:ナフトキノンジアジド化合物の合成5-ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリドの添加量を33.59g0.125molに変更する以外は合成例10と同様に、下記構造のナフトキノンジアジド化合物を得た。実施例1合成例1で得られたポリシロキサン溶液15.43g、合成例7で得られたナフトキノンジアジド化合物0.59g、溶剤としてDAA3.73g、PGMEA9.84gを黄色灯下で混合、攪拌して均一溶液とした後、0.45μmのフィルターで濾過して組成物1を調製した。組成物1をシリコンウェハおよびOA-10ガラス板日本電気硝子株製、モリブデンスパッタ膜を具備するガラス基板にスピンコーターミカサ株製1H-360Sを用いて任意の回転数でスピンコートした後、ホットプレート大日本スクリーン製造株製SCW-636を用いて90°Cで2分間プリベークし、膜厚3μmの膜を作製した。作製した膜をパラレルライトマスクアライナー以下、PLAと略するキヤノン株製PLA-501Fを用いて、超高圧水銀灯を感度測定用のグレースケールマスクを介してパターン露光した後、自動現像装置滝沢産業株製AD-2000を用いて2.38重量水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液であるELM-D商品名、三菱ガス化学株製で60秒間シャワー現像し、次いで水で30秒間リンスした。その後、ブリーチング露光として、PLAキヤノン株製PLA-501Fを用いて、膜全面に超高圧水銀灯を3,000J/m2波長365nm露光量換算露光した。その後、ホットプレートを用いて110°Cで2分間ソフトベークし、次いでオーブンタバイエスペック株製IHPS-222を用いて空気中230°Cで1時間キュアして硬化膜を作製した。感光特性および硬化膜特性の評価結果を表5に示す。なお、感光特性および硬化膜特性の評価は以下の方法で行った。なお、下記の~の評価はシリコンウェハ基板を、の評価はOA-10ガラス板を、~の評価はモリブデンスパッタ膜付ガラス基板用いて行った。膜厚測定ラムダエースSTM-602商品名、大日本スクリーン製を用いて、屈折率1.50で測定を行った。現像時の未露光部の膜厚減少現像時の未露光部の膜厚減少は以下の式に従って算出した。未露光部の膜厚減少=現像前の膜厚-未露後部の現像後の膜厚感度の算出露光、現像後、10μmのラインアンドスペースパターンを1対1の幅に形成する露光量以下、これを最適露光量というを感度とした。解像度の算出最適露光量における現像後の最小パターン寸法を現像後解像度、キュア後の最小パターン寸法をキュア後解像度とした。耐熱性実施例1記載の方法で作製した硬化膜を基板から削りとり、アルミセルに約10mg入れ、熱重量測定装置TGA-50、株島津製作所製を用い、窒素雰囲気中、昇温速度10°Cminで150°Cまで加熱し150°Cで1時間温度保持した後、昇温速度10°Cminで400°Cまで昇温した。この際に重量減少が1となる温度Td1を測定し、比較した。Td1が高いほど、耐熱性は良好である。光透過率の測定MultiSpec1500商品名、株島津製作所を用いて、まずOA-10ガラス板のみを測定し、その紫外可視吸収スペクトルをリファレンスとした。次にOA-10ガラス板上に組成物の硬化膜を形成パターン露光は行わないし、このサンプルをシングルビームで測定し、3μmあたりの波長400nmでの光透過率を求め、リファレンスとの差異を硬化膜の光透過率とした。現像密着性モリブデンスパッタ膜付ガラス基板に、前記記載の方法で作製した現像後の膜の残しパターンの基板上に残存している最小パターン寸法を現像密着性とした。微細なパターンほど、現像時に剥がれやすいため、値が小さいほど、現像密着性が良いこととなる。耐湿熱性モリブデンスパッタ膜付ガラス基板に、前記記載の方法で硬化膜を作製した後、121°C、湿度100、気圧2.1atmのチャンバーエスペック株式会社製、HASTCAHMBEREHS221MD商品名内に10時間または24時間放置する試験を行った後、モリブデンの変色度合いを評価した。また、モリブデンスパッタ膜のみのガラス基板も同時に試験を行い、試験前後の変色度合いの指標とし、以下のように判定した。5:試験前後で、硬化膜下のモリブデンに変色が見られない。4:試験前後で、硬化膜下のモリブデンが硬化膜に覆われていないものと比較し、1割程度の面積が度変色した。3:試験前後で、硬化膜下のモリブデンが硬化膜に覆われていないものと比較し、2割程度の面積が変色した。2:試験前後で、硬化膜下のモリブデンが硬化膜に覆われていないものと比較し、4割程度の面積が変色した。1:試験前後で、硬化膜下のモリブデンが硬化膜に覆われていないものと比較し、6割程度以上の面積が変色した。実施例2~40、比較例1~4組成物1と同様に、組成物2~35を表1~表4に記載の組成にて調製した。なお、シランカップリング剤として用いたKBM303は、信越化学工業株製の2-3,4-エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランである。溶解促進剤として用いたフェノール化合物Phcc-AP、TrisP-PA、BisPFLいずれも本州化学工業株製および、架橋剤として用いたニカラックMW-390、ニカラック-MX270商品名、三和ケミカル株製は下記に示した構造の化合物である。また、架橋促進剤として用いた、CGI-MDT商品名、チバジャパン株製、WPAG-469商品名、和光純薬工業株製は4-メチルフェニルジフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホナート20PGMEA溶液、増感剤として用いたDPA商品名、川崎化成工業株製は9,10-ジプロポキシアントラセンである。得られた各組成物を用いて、実施例1と同様にして各組成物の評価を行った。ただし、アクリル系樹脂の評価において、現像は0.4重量水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で60秒間シャワー現像して行った。結果を表5および表6に示す。比較例4において、キレート化合物の添加量が多すぎたため、3,000J/m2の露光量を照射しても、解像することがなかった。"