"A下記一般式Iで表される遷移金属化合物、および、B下記一般式IIIまたはIVで表される構造、若しくは、下記一般式Vaで表される繰り返し単位と下記一般式Vbで表される繰り返し単位からなる構造を有し、平均粒子径が0.01~50000μmの範囲にある固体状アルミノキサン、を含むオレフィン重合用触媒。式I中、Mは周期表第4、5族の遷移金属原子を示し、mは、1~4の整数を示し、R1~R5は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの2個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、R6は、水素原子、1級または2級炭素のみからなる炭素数1~4の炭化水素基、炭素数4以上の脂肪族炭化水素基、アリール基置換アルキル基、単環性または二環性の脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基およびハロゲン原子から選ばれ、nは、Mの価数を満たす数であり、Xは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、nが2以上の場合は、Xで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またXで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。式III、IVおよびVa中、Rは炭素原子数1~10の炭化水素基であり、式IIIおよび、IV中、mは2~500の整数を示し、式VaおよびVb中、n、pはそれぞれ1以上の整数を示す。請求項1に記載のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンの単独重合、もしくはエチレンと炭素原子数3~20のオレフィンとを共重合させ、下記Dを満たすエチレン系重合体の製造方法。Dデカリン溶媒中、135°Cで測定した極限粘度[η]が5~50dl/g請求項2に記載の製造方法により得られたエチレン系重合体を含んでなる延伸成形体。固相延伸成形法で得られる請求項3に記載の延伸成形体。前記背景技術から鑑みた、本発明が解決しようとする課題は、高いエチレン重合活性を達成し、かつ優れた延伸成形性示し高強度成形体を与えるエチレン系重合体の製造に適した特定のオレフィン重合用担持型触媒を提供すること、当該触媒を用いたエチレン系重合体の製造方法を提供すること、および当該製造方法で得られるエチレン系重合体を用いた、延伸成形体の製造方法を提供することにある。本発明者らは上記課題を解決する為に検討した結果、特定の遷移金属化合物と特定の構造からなる固体状アルミノキサンからなる担持型触媒によって上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明に係るオレフィン重合用触媒は、A下記一般式Iで表される遷移金属化合物、および、B下記一般式IIIまたはIVで表される構造、若しくは、下記一般式Vaで表される繰り返し単位と下記一般式Vbで表される繰り返し単位からなる構造を有し、平均粒子径が0.01~50000μmの範囲にある固体状アルミノキサン、を含むことを特徴とする。式I中、Mは周期表第4、5族の遷移金属原子を示し、mは、1~4の整数を示し、R1~R5は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの2個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、R6は、水素原子、1級または2級炭素のみからなる炭素数1~4の炭化水素基、炭素数4以上の脂肪族炭化水素基、アリール基置換アルキル基、単環性または二環性の脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基およびハロゲン原子から選ばれ、nは、Mの価数を満たす数であり、Xは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、nが2以上の場合は、Xで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またXで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。式III、IVおよびVa中、Rは炭素原子数1~10の炭化水素基であり、式IIIおよび、IV中、mは2~500の整数を示し、式VaおよびVb中、n、pはそれぞれ1以上の整数を示す。本発明に係るエチレン系重合体の製造方法は、上述のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンの単独重合、もしくはエチレンと炭素原子数3~20のオレフィンとを共重合させ、下記Dを満たすことを特徴とする。Dデカリン溶媒中、135°Cで測定した極限粘度[η]が5~50dl/g本発明に係る延伸成形体は、前記製造方法により得られたエチレン系重合体を含んでいることを特徴とする。前記延伸成形体は、固相延伸成形法で得られることが好ましい。本発明に係るオレフィン重合用触媒は、特定の構造からなる固体状アルミノキサンを必須の構成成分として含むことにより、重合により生成したエチレン系重合体の重合槽壁や攪拌翼等へのファウリングを極少に抑えることができ、さらに、高い重合活性を示すにもかかわらず当該触媒を用いて製造されたエチレン系重合体は、十分な延伸性を示すため高強度の延伸成形体を得ることができる。このように本発明は、工業的実施への適応性と高い生産性を備え、かつ、該エチレン系重合体からなる延伸成形体は実用上の優れた特徴を有する。以下、本発明に係るオレフィン重合用触媒、エチレン系重合体の製造方法、および該エチレン系重合体を用いて得られる延伸成形体についてさらに詳細に説明する。なお、本発明において、エチレン系重合体とはエチレンを主成分とする重合体を意味し、エチレン単独重合体や、エチレンとα-オレフィンとの共重合体を内包する。<オレフィン重合用触媒>本発明に係るオレフィン重合用触媒は、A下記一般式Iで表される遷移金属化合物、およびB特定の構造を有する固体状アルミノキサンとを含む担持触媒であることを特徴とする。以下、上記A、B成分について詳述する。[A遷移金属化合物]本発明に係るオレフィン重合用触媒に含まれるA遷移金属化合物としては、特に特許文献2に記載の、いわゆるフェノキシイミン配位子を有する有機遷移金属錯体が好ましい。具体的には、下記一般式Iの様な構造式を有する有機遷移金属錯体が好ましい態様として挙げられる。上記一般式Iにおいて、Mは周期表第4、5族の遷移金属原子を示し、好ましくは4族の遷移金属原子である。具体的には、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタルなどであり、より好ましくはチタン、ジルコニウム、ハフニウムであり、特に好ましくはチタンまたはジルコニウムである。なお、一般式IにおいてNとMとを繋ぐ点線は、一般的にはNがMに配位していることを示すが、本発明においては配位していてもしていなくてもよい。上記一般式Iにおいて、mは、1~4の整数、好ましくは2~4の整数、さらに好ましくは2を示す。上記一般式Iにおいて、R1~R5は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの2個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。前記炭化水素基としては、炭素原子数1~30の直鎖状または分岐状の脂肪族炭化水素基、炭素原子数3~30の環状炭化水素基、または、炭素原子数6~30の芳香族炭化水素基が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基などの炭素原子数が1~30、好ましくは1~20、さらに好ましくは1~10の直鎖状または分岐状のアルキル基;ビニル基、アリル基、イソプロペニル基などの炭素原子数が2~30、好ましくは2~20の直鎖状または分岐状のアルケニル基;エチニル基、プロパルギル基など炭素原子数が2~30、好ましくは2~20、さらに好ましくは2~10の直鎖状または分岐状のアルキニル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、アダマンチル基などの炭素原子数が3~30、好ましくは3~20、さらに好ましくは3~10の環状飽和炭化水素基;シクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基などの炭素数5~30の環状不飽和炭化水素基;フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ターフェニル基、フェナントリル基、アントラセニル基などの炭素原子数が6~30、好ましくは6~20、さらに好ましくは6~10のアリール基;トリル基、iso-プロピルフェニル基、t-ブチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ジ-t-ブチルフェニル基などのアルキル置換アリール基;などが挙げられる。上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで置換されていてもよく、そのような水素原子がハロゲンで置換された炭化水素基として、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基などの炭素原子数1~30、好ましくは1~20のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。また、上記炭化水素基は、他の炭化水素基で置換されていてもよく、そのような炭化水素基で置換された炭化水素基として、例えば、ベンジル基、クミル基などのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。さらにまた、上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合物残基;アルコシキ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基などの酸素含有基;アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩となったものなどの窒素含有基;ボランジイル基、ボラントリイル基、ジボラニル基などのホウ素含有基;メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基などのイオウ含有基;ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、ホスファト基などのリン含有基;ケイ素含有基;ゲルマニウム含有基;またはスズ含有基を有していてもよい。前記ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、およびこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が1~30、好ましくは1~20のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。前記ケイ素含有基としては、シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基などが挙げられ、より具体的には、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、エチルシリル基、ジエチルシリル基、トリエチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、トリフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチル-t-ブチルシリル基、ジメチルペンタフルオロフェニルシリル基などが挙げられる。これらの中では、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、エチルシリル基、ジエチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、トリフェニルシリル基などが好ましく、特にトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基が好ましい。前記炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシ基などが挙げられる。前記ゲルマニウム含有基または前記スズ含有基としては、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムまたはスズに置換した基が挙げられる。上記炭化水素基が有していてもよい基として挙げた基のうち、アルコキシ基として具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、t-ブトキシ基などが挙げられ、アリーロキシ基として具体的には、フェノキシ基、2,6-ジメチルフェノキシ基、2,4,6-トリメチルフェノキシ基などが挙げられ、エステル基として具体的には、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、メトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、p-クロロフェノキシカルボニル基などが挙げられ、アシル基として具体的には、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、p-クロロベンゾイル基、p-メトキシベンゾイル基などが挙げられ、アミノ基として具体的には、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などが挙げられ、イミノ基として具体的には、メチルイミノ基、エチルイミノ基、プロピルイミノ基、ブチルイミノ基、フェニルイミノ基などが挙げられ、アミド基として具体的には、アセトアミド基、N-メチルアセトアミド基、N-メチルベンズアミド基などが挙げられ、イミド基として具体的には、アセトイミド基、ベンズイミド基などが挙げられ、チオエステル基として具体的には、アセチルチオ基、ベンゾイルチオ基、メチルチオカルボニル基、フェニルチオカルボニル基などが挙げられ、アルキルチオ基として具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられ、アリールチオ基として具体的には、フェニルチオ基、メチルフェニルチオ基、ナフチルチオ基などが挙げられ、スルホンエステル基として具体的には、スルホン酸メチル基、スルホン酸エチル基、スルホン酸フェニル基などが挙げられ、スルホンアミド基として具体的には、フェニルスルホンアミド基、N-メチルスルホンアミド基、N-メチル-p-トルエンスルホンアミド基などが挙げられる。上記炭化水素基としては、特に、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基などの炭素原子数1~30、好ましくは1~20の直鎖状または分岐状のアルキル基;フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ターフェニル基、フェナントリル基、アントラセニル基などの炭素原子数6~30、好ましくは6~20のアリール基;これらのアリール基にハロゲン原子、炭素原子数1~30、好ましくは1~20のアルキル基もしくはアルコキシ基、炭素原子数6~30、好ましくは6~20のアリール基もしくはアリーロキシ基などの置換基が1~5個置換した置換アリール基が好ましい。R1~R5は、前述のようにヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基になり得るが、これらの例としては、上記炭化水素基の説明にて例示したものと同様のものが挙げられる。上記一般式IのR1~R5のうちR1については、オレフィン重合触媒活性の観点および高分子量のエチレン系重合体を与えるという観点から、炭素原子数1~20の直鎖状または分岐状の炭化水素基、炭素原子数3~20の脂環族炭化水素基、または炭素原子数6~20の芳香族炭化水素基から選ばれる基であることが好ましい。上記一般式Iにおいて、R6は、水素原子、1級または2級炭素のみからなる炭素数1~4の炭化水素基、炭素数4以上の脂肪族炭化水素基、アリール基置換アルキル基、単環性または二環性の脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基およびハロゲン原子から選ばれる。これらのうち、オレフィン重合触媒活性の観点、高分子量のエチレン系重合体を与えるという観点および重合時の水素耐性の観点から、炭素原子数4以上の脂肪族炭化水素基、アリール基置換アルキル基、単環性または二環性の脂環族炭化水素基および芳香族炭化水素基から選ばれる基であることが好ましく、より好ましくはt-ブチル基などの分岐型炭化水素基;ベンジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基クミル基、1-メチル-1,1-ジフェニルエチル基、1,1,1-トリフェニルメチル基トリチル基などのアリール置換アルキル基;1位に炭化水素基を有するシクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロドデシル基などの炭素数6~15の脂環族または複式環構造を有する脂環族炭化水素基が挙げられる。上記一般式Iにおいてnは、Mの価数を満たす数であり、上記一般式IにおいてXは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、nが2以上の場合は、Xで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またXで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。Xにおいて、前記ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基としては、上記R1~R5の説明で例示したものと同様のものが挙げられる。これらのうち、好ましくはハロゲン原子や炭化水素基である。本発明において一般式Iで表される遷移金属化合物は、前述した特許文献3に記載の製造方法により制限なく製造することができる。[固体状アルミノキサンB]本発明に係るオレフィン重合用触媒に含まれる固体状アルミノキサンBとしては、下記一般式IIIまたはIVで表される構造のアルミノキサンおよび下記一般式Vaで表される繰り返し単位と下記一般式Vbで表される繰り返し単位とを構造として有するアルミノキサンの少なくとも1種から選ばれるアルミノキサンである。前記一般式III、IVおよびVa中、Rは炭素原子数1~10、好ましくは1~4の炭化水素基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソプロペニル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、フェニル基、トリル基、エチルフェニル基などの炭化水素基を例示することができる。これら例示したもののうちで、メチル基、エチル基、イソブチル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。また、前記一般式III、IVおよびVa中、Rの一部が塩素、臭素などのハロゲン原子で置換され、かつハロゲン含有率が40重量以下であってもよい。前記一般式IIIおよびIV中、mは2~500の整数を示し、好ましくは6~300、特に好ましくは10~100の範囲にある。前記一般式VaおよびVb中、n、pはそれぞれ1以上の整数を示す。前記一般式Vaで表される繰り返し単位と前記一般式Vbで表される繰り返し単位とを有するアルミノキサンは、ベンゼンの凝固点降下法により測定した分子量が200~2000の範囲内にあることが好ましい。さらに本発明における固体状アルミノキサンBの平均粒子径は、一般に0.01~50000μm、好ましくは1~1000μm、特に好ましくは3~50μmの範囲にある。固体状アルミノキサンの平均粒子径は、走査型電子顕微鏡により粒子を観察し、100個以上の粒子の粒径を測定し、重量平均化することにより求めた。固体状アルミノキサンの粒径は、ピタゴラス法最大長を粒子像より測定した。即ち、水平方向、垂直方向それぞれに、粒子像を2本の平行線ではさんだ長さを測り、下式をもって計算で求めた。粒径=水平方向長さ2垂直方向長さ20.5重量平均粒子径は、上記で求めた粒径を用いて下式により求めた。平均粒径=Σnd4/Σnd3ここでn;粒子個数、d;粒径さらに、本発明における固体状アルミノキサンBの比表面積は、10~25m2/mmol-Alの範囲であることが好ましい。さらに、本発明の固体状アルミノキサンは25°Cの温度に保持されたn-ヘキサンに対し溶解する割合が、通常0~40モル、好ましくは0~20モル、特に好ましくは0~10モルの範囲を満足する。固体状アルミノキサンのn-ヘキサンに対する溶解割合は、25°Cに保持された50mlのn-ヘキサンに固体状アルミノキサン担体2gを加えた後2時間の撹拌を行ない、次いでG-4グラス製フイルターを用いて溶液部を分離して、この濾液中のアルミニウム濃度を測定することにより求めた。従って、溶解割合は用いたアルミノキサン2gに相当するアルミニウム原子の量に対する前記濾液中に存在するアルミニウム原子の割合として決定する。本発明における固体状アルミノキサンBは、特開2000-95810号公報や国際公開2010/055652パンフレットに開示されている固体状アルミノキサンなど、公知の固体状アルミノキサンを際限なく用いることができる。一般的に、背景技術で述べたシリカなどの無機固体成分にアルミノキサンが担持された担体をオレフィン重合用触媒の担体として用いた場合には、遷移金属錯体Aが当該担体の表面に局在化していると考えられる。一方で、本発明に係るオレフィン重合用触媒は、上述のような高い比表面積を有する構造の固体状アルミノキサンBをオレフィン重合用触媒の担体として用いていることから、遷移金属錯体Aが、固体状アルミノキサンBの内部まで均一に分散して担持できると考えられる。そのため、本発明に係るオレフィン重合用触媒では、エチレン系重合体鎖の生長点が担体内に高度に分散し、活性点間の距離も一定程度に保たれていることから、仮に重合速度を上げたとしても、エチレン系重合体鎖間の絡み合いが発生しにくいものと考えられる。加えて、本発明における固体状アルミノキサンBは、有機系化合物からなる担体であり、当該触媒を用いて製造された重合体中に当該アルミノキサンが均一に馴染んだ状態で分散していると考えられる。一方、背景技術で述べた、シリカなどの固体状無機物は、無機物であることから重合体とのなじみが悪く、当該触媒を用いて製造された重合体中にはシリカなどが粗大な状態で分散していることになる。このような相違から、後述する延伸成形体の製造に当たっては、重合体中の担体の分散度合に違いが生じ、ひいては、延伸成形体の物性に多大な影響を及ぼすものと想定される。すなわち、本発明に係る延伸成形体は、触媒の担体として用いられる上記アルミノキサンが構造上の欠陥を生じさせないものであり、結果的に重合速度向上による強度物性低下の要因を補うだけの、構造上の機能を有していると考えられる。[オレフィン重合用触媒に用いることのできるその他の成分]本発明に係るオレフィン重合用触媒は、上述したA,B成分を含むことを必須とする。当該オレフィン重合用触媒を用いてエチレン系重合体の製造方法をより高活性で行うことや、得られるエチレン系重合体の物性を調整する目的において、当該オレフィン重合用触媒にA,B成分以外のその他の成分を追加で用いることもできる。当該その他の成分は、A,B成分を含むオレフィン重合用触媒の性能を阻害させない限りにおいて、特に制限することなく用いることができる。それらのうち、代表的に用いられ得る、C:A成分と反応してイオン対を形成する化合物について、以下に説明する。[C:A成分と反応してイオン対を形成する化合物]本発明において、オレフィン重合用触媒の成分として用いることのできる、A成分と反応してイオン対を形成する化合物Cとしては、有機アルミニウム化合物、ハロゲン化ホウ素化合物、ハロゲン化リン化合物、ハロゲン化イオウ化合物、ハロゲン化チタン化合物、ハロゲン化シラン化合物、ハロゲン化ゲルマニウム化合物、ハロゲン化錫化合物などが挙げられる。これらのうち、有機アルミニウム化合物としては、下記式C-1、C-2またはC-3で表される化合物が挙げられる。RanAlX3-nC-1式C-1中、Raは炭素原子数1~12の炭化水素基であり、Xはハロゲン原子または水素原子であり、nは1~3である。炭素原子数1~12の炭化水素基は、例えばアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基などである。このような有機アルミニウム化合物としては、具体的には以下のような化合物が挙げられる。トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム;イソプレニルアルミニウムなどのアルケニルアルミニウム;ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、ジイソブチルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムブロミドなどのジアルキルアルミニウムハライド;メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、イソプロピルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド;メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、イソプロピルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライド;ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのアルキルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。また、下記式で表される有機アルミニウム化合物を用いることもできる。RanAlY3-nC-2式C-2中、Raは上記式C-1と同様であり、Yは-ORb基、-OSiRc3基、-OAlRd2基、-NRe2基、-SiRf3基または-NRgAlRh2基であり、nは1~2であり、Rb、Rc、RdおよびRhはメチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基などであり、Reは水素、メチル基、エチル基、イソプロピル基、フェニル基、トリメチルシリル基などであり、RfおよびRgはメチル基、エチル基などである。式C-2で表される有機アルミニウム化合物としては、具体的には、以下のような化合物が用いられる。iRanAlORb3-nで表される化合物、例えばジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウム-2-エチルヘキソキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド。iiRanAlOSiRc33-nで表される化合物、例えばEt2AlOSiMe3、iso-Bu2AlOSiMe3、iso-Bu2AlOSiEt3など。iiiRanAlOAlRd23-nで表される化合物、例えばEt2AlOAlEt2、iso-Bu2AlOAliso-Bu2など。ivRanAlNRe23-nで表される化合物、例えばMe2AlNEt2、Et2AlNHMe、Me2AlNHEt、Et2AlNMe3Si2、iso-Bu2AlNMe3Si2など、vRanAlSiRf33-nで表される化合物、例えばiso-Bu2AlSiMe3など。viRanAlNRg-AlRh23-nで表される化合物、例えばEt2AlNMe-AlEt2、iso-Bu2AlNEtAliso-Bu2など。また、有機アルミニウム化合物として、第I族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物である下記式C-3で表される化合物を用いることができる。M1AlRj4C-3式C-3中、M1はLi、Na、Kであり、Rjは炭素原子数1~15の炭化水素基である具体的には、LiAlC2H54、LiAlC7H154などが挙げられる。上述した有機アルミニウム化合物のうち、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドが特に好ましい。また、ハロゲン化ホウ素化合物、ハロゲン化リン化合物、ハロゲン化イオウ化合物、ハロゲン化チタン化合物、ハロゲン化シラン化合物、ハロゲン化ゲルマニウム化合物、ハロゲン化錫化合物としては、具体的には以下の化合物などが用いられる。三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素などのハロゲン化ホウ素化合物;三塩化リン、三臭化リン、三ヨウ化リン、五塩化リン、五臭化リン、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、プロピルジクロロホスフィン、ブチルジクロロホスフィン、シクロヘキシルジクロロホスフィン、フェニルジクロロホスフィン、メチルジクロロホスフィンオキシド、エチルジクロロホスフィンオキシド、ブチルジクロロホスフィンオキシド、シクロヘキシルジクロロホスフィンオキシド、フェニルジクロロホスフィンオキシド、メチルフェニルクロロホスフィンオキシド、ジブロモトリフェニルホスホラン、テトラエチルホスホニウムクロリド、ジメチルジフェニルホスホニウムヨージド、エチルトリフェニルホスホニウムクロリド、アリルトリフェニルホスホニウムクロリド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、アリルトリフェニルホスホニウムブロミド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロミドなどのハロゲン化リン化合物;二塩化イオウ、塩化チオニル、塩化スルフリル、臭化チオニルなどのハロゲン化イオウ化合物;四フッ化チタン、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタン、メトキシトリクロロチタン、エトキシトリクロロチタン、ブトキシトリクロロチタン、エトキシトリブロモチタン、ブトキシトリブロモチタン、ジメトキシジクロロチタン、ジエトキシジクロロチタン、ジブトキシジクロロチタン、ジエトキシジブロモチタン、トリメトキシクロロチタン、トリエトキシクロロチタン、トリブトキシクロロチタン、トリエトキシブロモチタンなどのハロゲン化チタン化合物;四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、四ヨウ化ケイ素、メトキシトリクロロシラン、エトキシトリクロロシラン、ブトキシトリクロロシラン、エトキシトリブロモシラン、ブトキシトリブロモシラン、ジメトキシジクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、ジブトキシジクロロシラン、ジエトキシジブロモシラン、トリメトキシクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、トリブトキシクロロシラン、トリエトキシブロモシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、ブチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、ジブチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、トリブチルクロロシラン、トリフェニルクロロシランなどのハロゲン化シラン化合物;四フッ化ゲルマニウム、四塩化ゲルマニウム、四ヨウ化ゲルマニウム、メトキシトリクロロゲルマニウム、エトキシトリクロロゲルマニウム、ブトキシトリクロロゲルマニウム、エトキシトリブロモゲルマニウム、ブトキシトリブロモゲルマニウム、ジメトキシジクロロゲルマニウム、ジエトキシジクロロゲルマニウム、ジブトキシジクロロゲルマニウム、ジエトキシジブロモゲルマニウム、トリメトキシクロロゲルマニウム、トリエトキシクロロゲルマニウム、トリブトキシクロロゲルマニウム、トリエトキシブロモゲルマニウムなどのハロゲン化ゲルマニウム化合物;四フッ化錫、四塩化錫、四臭化錫、四ヨウ化錫、メトキシトリクロロ錫、エトキシトリクロロ錫、ブトキシトリクロロ錫、エトキシトリブロモ錫、ブトキシトリブロモ錫、ジメトキシジクロロ錫、ジエトキシジクロロ錫、ジブトキシジクロロ錫、ジエトキシジブロモ錫、トリメトキシクロロ錫、トリエトキシクロロ錫、トリブトキシクロロ錫、トリエトキシブロモ錫、メチルトリクロロ錫、エチルトリクロロ錫、ブチルトリクロロ錫、フェニルトリクロロ錫、ジメチルジクロロ錫、ジエチルジクロロ錫、ジブチルジクロロ錫、ジフェニルジクロロ錫、トリメチルクロロ錫、トリエチルクロロ錫、トリブチルクロロ錫、トリフェニルクロロ錫などのハロゲン化錫化合物。これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせてもよい。また、炭化水素、ハロゲン化炭化水素に希釈してもよい。これらのC成分として例示される化合物の具体例のうち、好ましくは、トリアルキルアルミニム、アルケニルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、アルキルアルミニウムジハライド、アルキルアルミニウムハイドライド、アルキルアルミニウムアルコキシド、iso-Bu2AlOSiMe3、iso-Bu2AlOSiEt3、Et2AlOAlEt2、iso-Bu2AlOAliso-Bu2、LiAlC2H54、ハロゲン化シラン化合物およびハロゲン化チタン化合物であり、より好ましくは、トリアルキルアルミニウム、アルケニルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、アルキルアルミニウムジハライド、アルキルアルミニウムハイドライド、アルキルアルミニウムアルコキシドが挙げられ、より好ましくは、トリアルキルアルミニウムおよびアルキルアルミニウムハライドであり、さらに好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムモノクロライド、ジイソブチルアルミニウムモノクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジクロライドである。<エチレン系重合体の製造方法>本発明に係るエチレン系重合体の製造方法は、上記の遷移金属化合物Aと固体状アルミノキサンBとを含むオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンの単独重合、もしくはエチレンと炭素原子数3~20のオレフィンとを共重合させることを特徴としている。なお、本発明において、共重合には、ランダム共重合、ブロック共重合などの意味が含まれる。本発明のエチレン系重合体の製造方法では、上記オレフィン重合用触媒の存在下にα-オレフィンを予備重合prepolymerizationさせて得られる予備重合触媒の存在下で、本重合polymerizationを行うことも可能である。この予備重合は、例えばAおよびBを含むオレフィン重合用触媒1g当り0.01~1000g、好ましくは0.03~500g、特に好ましくは0.1~100gの量でα-オレフィンを予備重合させることにより行われる。予備重合は、公知の方法を制限無く用いることができる。次に、前記の予備重合を経由した後に、あるいは予備重合を経由することなく実施される本重合polymerizationについて説明する。本重合polymerizationにおいては、上記のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンの単独重合、もしくはエチレンと炭素原子数3~20のオレフィンとを共重合させる。炭素原子数が3~20のオレフィンとしては、炭素原子数が3~20のα-オレフィン、たとえば、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エイコセンなどの直鎖状オレフィンや、4-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ブテン等の分岐状オレフィンが挙げられる。これらのα-オレフィンとしてはプロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテンが好ましい。その他のオレフィンとして、スチレン、アリルベンゼン等の芳香族ビニル化合物;ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘプタン等の脂環族ビニル化合物を用いることもできる。上述のオレフィンは1種単独すなわち、エチレンとの共重合2成分系のほか、2種以上を組み合わせて使用することもできる。本発明では、予備重合および本重合は、スラリー重合あるいは気相重合法のいずれの方法でも実施できる。本重合がスラリー重合の反応形態を採る場合、反応媒体としては、不活性炭化水素媒体が好ましい。具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油などの脂肪族炭化水素;シクロヘプタン、メチルシクロヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロペンタン、シクロオクタン、メチルシクロオクタンなどの脂環族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;エチレンクロリド、クロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素;あるいはこれらの混合物などを挙げることができる。これらの不活性炭化水素媒体のうちでは、特に脂肪族炭化水素および芳香族炭化水素あるいはこれらの混合物を用いることが好ましい。これらの他には反応温度において液体であるオレフィンを反応媒体とすることもできる。上記の不活性炭化水素媒体を用いる場合、予備重合はバッチ式で行うことが好ましい。一方、オレフィン自体を溶媒として予備重合を行うこともできるし、また実質的に溶媒の無い状態で予備重合することもできる。この場合には、予備重合を連続的に行うのが好ましい。本発明のエチレン系重合体の製造方法における本重合で、前記遷移金属化合物Aは、重合容積1リットル当り遷移金属原子に換算して、通常は0.000001ミリモル~0.5ミリモル、好ましくは0.00005ミリモル~0.1ミリモルの量で用いられる。また、前記固体状アルミノキサンBは、前記遷移金属化合物A中予備重合を行う場合は予備重合触媒成分中の遷移金属原子1モルに対し、通常1モル~200000モル、好ましくは5モル~50000モルとなるような量で用いられる。また、上述のC成分を用いる場合には、C成分とA成分中の全遷移金属原子Mとのモル比C/Mが通常0.01~100000、好ましくは0.05~50000となるような量で用いられる。本重合を水素の存在下に行えば、得られる重合体の分子量を調節することができる。本発明における本重合において、オレフィンの重合温度は、通常は0°C~200°C、好ましくは20°C~100°C、より好ましくは30°C~90°C、特に好ましくは40°C~80°Cである。特に本発明において得られたエチレン系重合体を固相延伸成形する場合、重合温度の上記範囲は、触媒活性と重合体分子鎖の絡み合い抑制とのバランスの観点から特に好ましいと考えられる。重合圧力は、通常は常圧~10MPa、好ましくは常圧~5MPaに設定される。本発明のエチレン系重合体の製造方法において重合反応は、回分式、半連続式、連続式の何れの方法においても行うことができる。また、後述する成分a、成分bの各々の重合は、上記の方法を組み合わせて実施することもできる。本発明のエチレン系重合体の製造方法は、重合反応の条件を変えて二段以上に分けて重合反応を行う、いわゆる多段重合方法であってもよい。より具体的には、後述するa工程とb工程とを含む、いわゆる二段重合が好ましい例である。さらに詳細にはa工程で、極限粘度[η]が2dl/g以上、20dl/g以下、好ましくは3dl/g以上、18dl/g以下、より好ましくは5dl/g以上、15dl/g以下のエチレン系重合体を製造し、他の工程以後、b工程と称すで、極限粘度[η]が15dl/g以上50dl/g以下、好ましくは20dl/g以上45dl/g以下、より好ましくは23dl/g以上40dl/g以下のエチレン系重合体を製造する条件でエチレン系重合体を製造することが好ましい。但し、前記a工程とb工程では異なる[η]の重合体が生成することが好ましい。a工程とb工程を実施する順は制限されないが、より低分子量のエチレン系重合体成分を製造する工程をa工程とすると、このa工程を最初に行い、より高分子量のエチレン系重合体成分を製造するb工程を引き続いて行うことが好ましい。この場合、a工程で製造された成分の極限粘度は、当該成分の一部をサンプリングした実測値として得ることができる。また、b工程で製造された成分の極限粘度は後述する式に基づいて算出できる。また、a工程で形成される成分aと、b工程で形成される成分bとの質量割合の上限および下限は、それぞれの成分の極限粘度にもよるが、成分aの上限は好ましくは50、より好ましくは40、更に好ましくは35であり、下限は、好ましくは5、更に好ましくは10である。一方、成分bの上限は好ましくは95、より好ましくは90であり、下限は50、好ましくは60、より好ましくは65である。この質量比は、各工程でのエチレン吸収量測定や、各工程で得られた樹脂を少量且つ規定量をサンプリングし、その質量やスラリー濃度、樹脂中の触媒成分の含有率等から各工程での樹脂生成量を計算する事によって決定することができる。また、2段目に製造された重合体の極限粘度は以下の式に基づいて算出する。[η]1×w1[η]2×w2=[η]t式中、[η]1はa工程で生成した重合体の極限粘度、[η]2はb工程で生成した重合体の極限粘度、[η]tは最終生成物の極限粘度、w1はa工程の質量分率、w2はb工程の質量分率をそれぞれ示す。上記のとおり、本発明に係るエチレン系重合体の製造を二段重合で行うことが好ましい理由としては、以下のように推察している。本発明において用いられるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンや必要に応じて他のオレフィンの重合反応を行う場合、その重合反応が触媒成分中の触媒活性点で起こる。生成した重合体は活性点から離れていくため、重合反応初期に生成する重合体は生成する重合体粒子の表面部に、重合反応後期に生成する重合体は重合体粒子の内側に、それぞれ偏在すると推測されている。木の年輪と類似した構成を有すると考えられる。従って、本発明で2段以上に反応条件を分けてエチレン系重合体を製造する場合、1段目に製造する重合体の極限粘度[η]が、最終的に得られる重合体の[η]より低くなる条件で製造すると、重合体粒子表面に相対的に分子量の低い重合体が存在する可能性が高く、固相延伸成形の際に粒子同士が圧着し易いと考えられる。また、本発明に係るオレフィン重合用触媒はいわゆるシングルサイト触媒である。このため、前記の低分子量部と高分子量部が偏在する構造の部位が、より均一、且つ、微細に分布することが予想される。このため、後述する固相延伸成形時に、均一な延伸が起こり、延伸中の切断が起こり難い為、高い延伸倍率を示すと考えられる。本発明のエチレン系重合体はバッチ式、連続式等、公知の重合法で製造することができる。上記のような多段階の重合工程で製造する場合は、バッチ式を採用することが好ましい。バッチ式プロセスで得られるエチレン系重合体は、重合体粒子毎の1段目の重合工程と2段目の重合工程で得られるエチレン系重合体のバラツキが少なく、均一分散構造により有利であると考えられる為である。<エチレン系重合体>本発明の製造方法により得られるエチレン系重合体は、以下の特徴を有することが好ましい。極限粘度[η]が5dl/g以上50dl/g以下の範囲にある。好ましい下限値は10dl/g、より好ましくは15dl/gである。一方、好ましい上限値は45dl/g、より好ましくは40dl/g、特に好ましくは30dl/gである。本発明に係るエチレン系重合体の製造方法により得られるエチレン系重合体は、エチレンの単独重合体、エチレンと少量のα-オレフィン、例えばプロピレン、1-ブテン、4-メチル-1-ペンテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン等とを共重合して得られるエチレンを主体とした結晶性の共重合体が挙げられるが、結晶化度を高める観点や後述する固相延伸成形における延伸性の観点からは、エチレンの単独重合体であることが好ましい。一方、成形品に耐クリープ性などが必要とされる場合にはプロピレンなどが共重合されていることが好ましい。エチレンの単独重合体であっても使用するオレフィン重合用触媒によっては分岐構造を有するエチレン系重合体が得られることがあるが、本発明のエチレン系重合体は、特定の有機金属錯体を含むこれフィン重合用触媒を用いている為、このような分岐が極めて少ないと考えられる。このような重合体が得られる重合法であれば、分子構造制御の自由度がより高くなり、後述する固相延伸成形体などの性能向上に有利である。本発明のエチレン系重合体の製造方法により得られるエチレン系重合体は、後述するように固相延伸成形に適している。固相延伸成形のようにエチレン系重合体を融点以下の温度で成形する場合、重合体粒子間の接着性と分子量が成形性を支配する大きな因子であると考えられる。上記のエチレン系重合体は、必要に応じて公知の各種安定剤と組み合わせて用いても良い。この様な安定剤としては、例えば、テトラキスメチレン3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシヒドロシンナメートメタン、ジステアリルチオジプロピオネート等の耐熱安定剤、あるいはビス2,2’,6,6’-テトラメチル-4-ピペリジンセバケート、2-2-ヒドロキシ-t-ブチル-5-メチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾル等の耐候安定剤などが挙げられる。また着色剤として無機系、有機系のドライカラーを添加してもよい。また、滑剤や塩化水素吸収剤等として公知のステアリン酸カルシウムなどのステアリン酸塩も好適な安定剤として挙げることができる。<エチレン系重合体から得られる延伸成形体および延伸成形体の製造方法>本発明に係るエチレン系重合体から得られる延伸成形体は、上記のエチレン系重合体を公知のポリエチレン用延伸成形法で成形することによって得られる。本発明の延伸成形体の中でも特に好ましくは、固相延伸成形法で得られる延伸成形体である。固相延伸成形は溶媒を用いずに成形する方法であるため、成形設備が比較的シンプルでありまた環境への悪影響も少ない成形法である。このような方法で延伸成形体を提供することは、社会への貢献度が高いと考えられる。本発明に係るエチレン系重合体は、固相延伸成形を行う場合、極めて高い延伸性能を示すので、高い強度を有する繊維、フィルム、シート、骨代替材料などの生体材料等を得ることができる。固相延伸成形の条件は、上記のエチレン系重合体を用いる以外は公知の条件を制限無く用いることができる。例えば、本発明のエチレン系重合体を、1MPa以上の圧力で圧着してシート状に成形し、これを比較的高温で引張延伸したり、ロール等を用いて圧力をかけながら延伸したりする方法が挙げられる。この圧着工程、延伸工程などの成形の温度は、エチレン系重合体の粒子の融点以下であることが好ましいが、実質的に溶融流動が起こらなければ融点以上での成形となっても構わない。好ましくは本発明に係るエチレン系重合体の融点プラス5°C程度を上限とし、融点マイナス20°C程度を下限とする温度範囲であることが好ましい。本発明に係るエチレン系重合体を用いた成形体の延伸性、すなわち延伸倍率や得られる延伸成形体の物性は、後述する実施例に記載の方法延伸倍率、延伸成形体の強度で決定される。本発明に係るエチレン系重合体を用いると上記の延伸倍率が50倍以上の延伸成形体を得ることができる。より好ましくは80倍以上、さらに好ましくは100倍以上である。以下に、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限り下記の実施例に限定されないことは言うまでもない。極限粘度[η]極限粘度[η]は、超高分子量エチレン系重合体をデカリンに溶解させ、温度135°Cのデカリン中で測定した。延伸倍率エチレン系重合体を温度131°Cもしくは136°C、圧力7MPaで30分間、加圧することで、厚さ約500μmのプレスシートを作製し、縦35mm×横7mmの矩形に切り出した。高密度ポリエチレンにて直径10mmφの円柱形状の射出成形品を作成し、この成形品を中心軸にそって半割りする以下、これをビレットという。上記の切り出したシートを、ビレットの半割りした平面部分に挟んで固定する。東洋精機製作所製キャピラリーレオメーターIIBを120°Cに加熱し、先に作製したビレットをシリンダー内にセットする。押込み棒を用いてビレットを上部より2mm/secの速度で押込み、凹型テーパー形状のノズルを通過させることによって圧縮延伸する。シリンダー径と凹型テーパー形状のノズルの出口径を元に計算した断面積の比は6:1であり、シートはノズルを通過する間に長手方向に6倍に延伸される。次いで、上記の予備延伸で得られた延伸シートを切り出して、標線間距離が5mmとなるように標線をシートにマーキングする。チャック間を7mm設定した引張試験機インストロン社製、万能試験機1123型に得られたシートをセットし、温度135°C、引張速度が14mm/分の条件で、前記予備延伸と同じ方向に破断が起こるまで一軸延伸する。測定は3回~5回行い、破断時の標線間距離を初期の標線間距離5mmで除した値を二回目延伸倍率とした。上記二回目延伸倍率に、前記圧縮延伸での延伸倍率である6倍を乗じた値を当該評価の延伸倍率として評価する。延伸成形体の強度上記延伸倍率の測定の際に製造された一軸延伸された延伸成形体の延伸方向の引張強度を、引張試験機インストロン社製、万能試験機1123型を用いて、温度23°C、チャック間30mm、引張速度30mm/minの条件で測定した。[実施例1]<固体状アルミノキサンB-1の調製>固体状アルミノキサンの調製は、国際公開2010/055652パンフレットに記載の方法予備実験1および実施例5に準じて実施した。ただし、トリメチルアルミニウムの発火等の安全性に配慮して、当該文献に開示されている条件の約1/6倍の濃度で実施した。具体的には、攪拌装置を有するガラス製反応器に0.5mol/Lに調整したトリエチルアルミニウムのトルエン溶液100mLを装入した。この溶液を15°Cになるまで冷却し、これに安息香酸2.18gを溶液の温度が25°C以下になるような速度でゆっくりと添加した。その後50°Cで加熱熟成を1時間行った。この時、トリメチルアルミニウムと安息香酸の酸素原子のモル比は、1.40であった。反応液を70°Cで4時間加熱し、その後60°Cで6時間加熱した後、一度室温まで冷却した。次いで100°Cで8時間加熱し、固体状アルミノキサンを析出させた。溶液を30°C以下まで冷却した後、洗浄のためにn-ヘキサン100mLを攪拌下に添加した。30分間静置した後、上澄み液150mLを除去し、さらにn-ヘキサン150mLを攪拌下に添加した。15分間静置した後、上澄み液150mLを除去し、さらにn-ヘキサン150mLを攪拌下に添加した。最後に15分間静置した後、上澄み液180mLを除去し、n-ヘキサンを総量が42mLになるように添加した。得られた固体状アルミノキサンのヘキサンスラリーの一部を採取し、濃度を調べたところ、スラリー濃度:14.2g/L、Al濃度:0.202mol/Lであった。また、得られた固体状アルミノキサンを走査型電子顕微鏡により粒子を観察したところ平均粒子径は6.8μm、比表面積は18.1m2/mmol―Alであった。<オレフィン重合用触媒の調製B’-1><オレフィン重合用触媒B’-1の調製>磁気攪拌子を備え、充分に窒素置換した30mLガラス容器に脱水トルエン7.91mLを装入し、上記実施例1で調製した固体状アルミノキサンB-1のヘキサンスラリーを11.29mLAl原子換算で2.28mmol装入した。次いで、前記遷移金属化合物A-1のトルエン溶液4.80mLTi原子換算で0.00912mmolを滴下装入し、室温で10分間反応させ、オレフィン重合用触媒B’-1を得た。[実施例2]<オレフィン重合用触媒B’-2の調製>磁気攪拌子を備え、充分に窒素置換した10mLガラス容器に脱水トルエン2.2mLを装入し、上記実施例1で調製した固体状アルミノキサンB-1のヘキサンスラリーを2.6mLAl原子換算で0.525mmol装入した。次いで、下記遷移金属化合物A-2のトルエン溶液0.47mLZr原子換算で0.00026mmolを滴下装入し、室温で30分間反応させ、オレフィン重合用触媒B’-2を得た。[実施例3]<エチレン重合>充分に窒素置換した撹拌機付き1Lオートクレーブに、脱水ヘプタン500mLを装入し、エチレンを吹き込み、液相および気相をエチレンで飽和させた。続いて48°Cに昇温した後、エパン720第一工業製薬株製0.8mg、トリn-オクチルアルミニウムをAl原子換算で0.15mmol、実施例1で調整したオレフィン重合用触媒B’-1をTi原子換算で0.0030mmol加え、全圧が0.9MPaゲージ圧となるように水素濃度200ppmを含むエチレンを供給しながら、50°Cで60分間重合を行った。重合終了後、得られたポリマーをヘキサンで洗浄した後、80°Cにて10時間減圧乾燥した。得られたエチレン重合体は、56.2gであり、[η]は26.3dl/gであった。得られたエチレン重合体を用いて、上述のとおり温度136°Cでプレスシートを作製し、延伸倍率を測定した。また得られた延伸成形体の強度を測定した。測定結果を表1に示す。[実施例4]<エチレン重合>第1工程充分に窒素置換した撹拌機付き1Lオートクレーブに、脱水ヘプタン500mLを装入し、エチレンを吹き込み、液相および気相をエチレンで飽和させた。続いて48°Cに昇温した後、エパン720第一工業製薬株製0.8mg、トリn-オクチルアルミニウムをAl原子換算で0.15mmol、実施例1で調整したオレフィン重合用触媒B’-1をTi原子換算で0.0038mmol加え、水素50mLを加えた後、全圧が0.3MPaゲージ圧となるようエチレンを供給しながら、50°Cで60分間重合を行った。重合終了後、常圧に戻し、48°Cで30分間窒素パージを行った。この時点でオートクレーブから重合スラリー5mLを抜き出し、ろ過、乾燥して得られたエチレン重合体の極限粘度[η]を測定したところ、6.5dl/gであった。第2工程上記第1工程の重合終了後、全圧が0.9MPaゲージ圧になるよう水素濃度100ppmを含むエチレンを供給しながら、50°Cで、第1工程重合中の積算流量に対して7/3倍のエチレンが供給されるまで重合を行った。その結果重合時間は2.4時間であった。重合終了後、得られたポリマーをヘキサンで洗浄した後、80°Cにて10時間減圧乾燥した。得られたエチレン重合体は、91.6gであり、[η]は27.0dl/gであった。得られたエチレン重合体を用いて、上述のとおり温度131°Cでプレスシートを作製し、延伸倍率を測定した。また得られた延伸成形体の強度を測定した。測定結果を表1に示す。[実施例5]<エチレン重合>第1工程充分に窒素置換した撹拌機付き1Lオートクレーブに、脱水ヘプタン500mLを装入し、エチレンを吹き込み、液相および気相をエチレンで飽和させた。続いて48°Cに昇温した後、エパン720第一工業製薬株製0.8mg、トリn-オクチルアルミニウムをAl原子換算で0.15mmol、実施例1で調整したオレフィン重合用触媒B’-1をTi原子換算で0.0038mmol加え、水素100mLを加えた後、全圧が0.3MPaゲージ圧となるようにエチレンを供給しながら、50°Cで60分間重合を行った。重合終了後、常圧に戻し、48°Cで30分間窒素パージを行った。この時点でオートクレーブから重合スラリー5mLを抜き出し、ろ過、乾燥して得られたエチレン重合体の極限粘度[η]を測定したところ、4.4dl/gであった。第2工程上記第1工程の重合終了後、全圧が0.9MPaゲージ圧になるよう水素濃度100ppmを含むエチレンを供給しながら、50°Cで、第1工程重合中の積算流量に対して7/3倍のエチレンが供給されるまで重合を行った。その結果重合時間は3.2時間であった。重合終了後、得られたポリマーをヘキサンで洗浄した後、80°Cにて10時間減圧乾燥した。得られたエチレン重合体は、73.9gであり、[η]は26.6dl/gであった。得られたエチレン重合体を用いて、上述のとおり温度131°Cでプレスシートを作製し、延伸倍率を測定した。また得られた延伸成形体の強度を測定した。測定結果を表1に示す。[実施例6]<エチレン重合>第1工程充分に窒素置換した撹拌機付き1Lオートクレーブに、脱水ヘプタン500mLを装入し、エチレンを吹き込み、液相および気相をエチレンで飽和させた。続いて63°Cに昇温した後、エパン720第一工業製薬株製4.0mg、トリイソプロピルアルミニウムをAl原子換算で0.15mmol、実施例3で調整したオレフィン重合用触媒B’-2をZr原子換算で0.00026mmol加え、水素75mLを加えた後、全圧が0.3MPaゲージ圧となるようにエチレンを供給しながら、65°Cで60分間重合を行った。重合終了後、常圧に戻し、50°Cで30分間窒素パージを行った。この時点でオートクレーブから重合スラリー5mLを抜き出し、ろ過、乾燥して得られたエチレン重合体の極限粘度[η]を測定したところ、6.0dl/gであった。第2工程上記第1工程の重合終了後、全圧が0.35MPaゲージ圧になるようエチレンを供給しながら、55°Cで、第1工程重合中のエチレン積算流量に対して7/3倍のエチレンが供給されるまで重合を行った。その結果重合時間は4.4時間であった。重合終了後、得られたポリマーをヘキサンで洗浄した後、80°Cにて10時間減圧乾燥した。得られたエチレン重合体は、97.3gであり、[η]は24.0dl/gであった。得られたエチレン重合体を用いて、上述のとおり温度131°Cでプレスシートを作製し、延伸倍率を測定した。また得られた延伸成形体の強度を測定した。測定結果を表1に示す。[比較例1]<アルミノキサン担持シリカゲルWの調製>窒素流通下、150°Cで5時間乾燥した平均粒径5μmのシリカゲルSiO230gを470mLの脱水トルエンに懸濁した後、メチルアルモキサンのトルエン溶液Al原子換算で3.07mmol/mL130mLを氷浴中0°Cで30分間にわたり滴下装入した。滴下終了後、氷浴中で30分間撹拌し、次いで95°Cまで昇温し、95°Cで4時間反応させた。反応終了後、デカンテーションにより上澄み液を除去し、得られた固体成分を脱水トルエンで3回洗浄することで、アルミノキサン担持シリカゲルWのトルエンスラリーを調製した。得られたアルミノキサン担持シリカゲルWの一部を採取し、濃度を調べたところ、スラリー濃度:0.15g/mL、Al濃度:1.20mmol/mL、Al/Si=0.81m.r.、コールターカウンターによる平均粒径は5.3μmであった。<オレフィン重合用触媒の調製W’-1>磁気攪拌子を備え、充分に窒素置換した50mLガラス容器に脱水トルエン22.9mLを装入し、上記で調製した固体状アルミノキサンWのトルエンスラリーを5.08mLAl原子換算で6.0mmol装入した。次いで、前記遷移金属化合物A-1のトルエン溶液20mLTi原子換算で0.024mmolを滴下装入し、室温で10分間反応させ、オレフィン重合用触媒W’-1を得た。<エチレン重合>充分に窒素置換した撹拌機付き1Lオートクレーブに、脱水ヘプタン500mLを装入し、エチレンを吹き込み、液相および気相をエチレンで飽和させた。続いて63°Cに昇温した後、エパン720第一工業製薬株製0.8mg、トリn-オクチルアルミニウムをAl原子換算で0.15mmol、前記オレフィン重合用触媒W’-1をTi原子換算で0.0040mmol加え、全圧が0.9MPaゲージ圧となるように水素濃度500ppmを含むエチレンを供給しながら、50°Cで60分間重合を行った。重合終了後、得られたポリマーをヘキサンで洗浄した後、80°Cにて10時間減圧乾燥した。得られたエチレン重合体は、33.3gであり、[η]は28.1dl/gであった。得られたエチレン重合体を用いて、上述のとおり温度136°Cでプレスシートを作製し、延伸倍率を測定した。また得られた延伸成形体の強度を測定した。測定結果を表1に示す。[比較例2]<エチレン重合>第1工程充分に窒素置換した撹拌機付き1Lオートクレーブに、脱水ヘプタン500mLを装入し、エチレンを吹き込み、液相および気相をエチレンで飽和させた。続いて48°Cに昇温した後、エパン720第一工業製薬株製0.8mg、トリn-オクチルアルミニウムをAl原子換算で0.15mmol、上記比較例1で調整したオレフィン重合用触媒W’-1をTi原子換算で0.01mmol加え、水素50mLを加えた後、全圧が0.3MPaゲージ圧となるようにエチレンを供給しながら、50°Cで60分間重合を行った。重合終了後、常圧に戻し、48°Cで30分間窒素パージを行った。この時点でオートクレーブから重合スラリー5mLを抜き出し、ろ過、乾燥して得られたエチレン重合体の極限粘度[η]を測定したところ、6.6dl/gであった。第2工程上記第1工程の重合終了後、全圧が0.9MPaゲージ圧になるよう水素濃度100ppmを含むエチレンを供給しながら、50°Cで、第1工程重合中の積算流量に対して7/3倍のエチレンが供給されるまで重合を行った。その結果重合時間は1.5時間であった。重合終了後、得られたポリマーをヘキサンで洗浄した後、80°Cにて10時間減圧乾燥した。得られたエチレン重合体は、95.3gであり、[η]は26.4dl/gであった。得られたエチレン重合体を用いて、上述のとおり温度131°Cでプレスシートを作製し、延伸倍率を測定した。また得られた延伸成形体の強度を測定した。測定結果を表1に示す。[比較例3]<エチレン重合>第1工程充分に窒素置換した撹拌機付き1Lオートクレーブに、脱水ヘプタン500mLを装入し、エチレンを吹き込み、液相および気相をエチレンで飽和させた。続いて48°Cに昇温した後、エパン720第一工業製薬株製0.8mg、トリn-オクチルアルミニウムをAl原子換算で0.15mmol、上記比較例1で調整したオレフィン重合用触媒W’-1をTi原子換算で0.01mmol加え、水素100mLを加えた後、全圧が0.3MPaゲージ圧となるようにエチレンを供給しながら、50°Cで60分間重合を行った。重合終了後、常圧に戻し、48°Cで30分間窒素パージを行った。この時点でオートクレーブから重合スラリー5mLを抜き出し、ろ過、乾燥して得られたエチレン重合体の極限粘度[η]を測定したところ、4.3dl/gであった。第2工程上記第1工程の重合終了後、全圧が0.9MPaゲージ圧になるよう水素濃度100ppmを含むエチレンを供給しながら、50°Cで、第1工程重合中の積算流量に対して7/3倍のエチレンが供給されるまで重合を行った。その結果重合時間は1.7時間であった。重合終了後、得られたポリマーをヘキサンで洗浄した後、80°Cにて10時間減圧乾燥した。得られたエチレン重合体は、93.6gであり、[η]は26.1dl/gであった。[比較例4]<オレフィン重合用触媒W’-2の調製>窒素置換した200mLのガラス製フラスコに精製トルエン150mLを入れ、攪拌下、上記で調製したアルミノキサン担持シリカゲルWのトルエンスラリーAl原子換算で10.0mmolを装入した。次いで、前記遷移金属化合物A-2のトルエン溶液Zr原子換算で0.001mmol/mL40.0mLを15分かけて滴下し、室温で1時間反応させた。その後、上澄み液をデカンテーションにより除去し、精製トルエンで3回洗浄し、精製デカンで2回洗浄した後精製デカン100mLを加えてオレフィン重合用触媒W’-2のデカンスラリーを調製した。得られたオレフィン重合用触媒W’-2のデカンスラリーの一部を採取して濃度を調べたところ、Zr濃度0.000340mmol/mL、Al濃度0.0793mmol/mLであった。<エチレン重合>第1工程充分に窒素置換した撹拌機付き1Lオートクレーブに、脱水ヘプタン500mLを装入し、エチレンを吹き込み、液相および気相をエチレンで飽和させた。続いて63°Cに昇温した後、エパン720第一工業製薬株製4.0mg、トリイソプロピルアルミニウムをAl原子換算で0.15mmol、前記オレフィン重合用触媒W’-2をZr原子換算で0.0030mmol加え、水素75mLを加え、全圧が0.4MPaゲージ圧となるようにエチレンを供給しながら、65°Cで60分間重合を行った。重合終了後、常圧に戻し、50°Cで30分間窒素パージを行った。この時点でオートクレーブから重合スラリー5mLを抜き出し、ろ過、乾燥して得られたエチレン重合体の極限粘度[η]を測定したところ、6.1dl/gであった。第2工程上記第1工程の重合終了後、全圧が0.35MPaゲージ圧になるようエチレンを供給しながら、55°Cで、第1工程重合中のエチレン積算流量に対して7/3倍のエチレンが供給されるまで重合を行った。その結果重合時間は2.0時間であった。重合終了後、得られたポリマーをヘキサンで洗浄した後、80°Cにて10時間減圧乾燥した。得られたエチレン重合体は、158.6gであり、[η]は21.2dl/gであった得られたエチレン重合体を用いて、上述のとおり温度131°Cでプレスシートを作製し、延伸倍率を測定した。また得られた延伸成形体の強度を測定した。測定結果を表1に示す。上記の結果によると、実施例3と比較例1は共に単段重合により製造され、極限粘度[η]も同等であることから分子量設計も同等である。しかし、実施例3における触媒活性は比較例1の約2.3倍、グラム触媒あたりの重合体生成量は約4.3倍であり極めて生産性が高い。一方で得られる固相延伸成形体の強度は同等もしくはそれ以上であり、成形体の物性が触媒活性の向上によって損なわれていないことが分かる。実施例4と比較例2は共に2段重合により製造され、極限粘度[η]も同等であることから各工程の分子量設計も同等である。しかし、実施例4における触媒活性は比較例2の約1.9倍、グラム触媒あたりの重合体生成量は約4.8倍であり、極めて生産性が高い。一方で得られる固相延伸成形体の強度は同等もしくはそれ以上であり、成形体の物性が触媒活性の向上によって損なわれていないことが分かる。実施例5と比較例3は共に2段重合により製造され、極限粘度[η]も同等であることから各工程の分子量設計も同等である。しかし、実施例5における触媒活性は比較例3の約1.3倍、グラム触媒あたりの重合体生成量は約4.1倍であり、極めて生産性が高い。一方で得られる固相延伸成形体の強度は同等もしくはそれ以上であり、成形体の物性が触媒活性の向上によって損なわれていないことが分かる。実施例6と比較例4は共に2段重合により製造され、極限粘度[η]も同等であることから各工程の分子量設計も同等である。しかし、実施例6における触媒活性は比較例4の約3.9倍、グラム触媒あたりの重合体生成量は約2.0倍であり、極めて生産性が高い。一方で得られる固相延伸成形体の強度は実施例6が上回っており、成形体の物性が触媒活性の向上によって損なわれていないことが分かる。"