"生分解性高分子の表面にUV-オゾン処理を施すことにより、生分解性高分子表面の改質を行い、生分解性高分子の分解速度を制御する方法。照射するUVの強度を制御することを特徴とする請求項1に記載の方法。前記生分解性高分子が、脂肪族ポリエステルである請求項1又は2に記載の方法。生分解性高分子の表面に、部分的にUV-オゾン処理を施した後、全表面を酵素分解処理することにより、生分解高分子の表面にパターンを形成する方法。照射するUVの強度を制御することにより、形成されるパターンの凹凸を制御することを特徴とする請求項4に記載のパターン形成方法。前記生分解性高分子が、脂肪族ポリエステルである請求項4又は5に記載のパターン形成方法。しかしながら、特許文献1に記載の方法は、生分解性樹脂中に予めキトサン等の生分解速度の抑制物質を添加しておく必要があり、成形品には適用しえない。また、特許文献2に記載の方法も、分解速度を遅延させるには、生分解性樹脂又は生分解性樹脂組成物にカルボジイミド基を含有する化合物などの架橋剤を配合する必要がある。さらに、引用文献3に記載の方法では、1~5時間程度のグラフト重合時間が必要であり、分解開始のためには、表面にある修飾したビニルエステルを加水分解などで取り除く必要がある。本発明は、こうした現状を鑑みてなされたものであって、簡便な方法で、生分解性高分子の分解速度を制御する方法を提供することを目的とするものである。本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、UV-オゾン処理することにより、生分解性高分子の表面改質を行い、特に、分解速度を簡単に遅くすることができることを見出した。また、酵素分解と併用することで、生分解生体適合性を有する高分子をナノ~マイクロメートルのスケールで加工する手法を提供できることも判明した。本発明はこれらの知見に基づいて完成に至ったものであり、本発明によれば、以下の発明が提供される。[1]生分解性高分子の表面にUV-オゾン処理を施すことにより、生分解性高分子表面の改質を行い、生分解性高分子の分解速度を制御する方法。[2]照射するUVの強度を制御することを特徴とする[1]に記載の方法。[3]前記生分解性高分子が、脂肪族ポリエステルである[1]又は[2]に記載の方法。[4]生分解性高分子の表面に、部分的にUV-オゾン処理を施した後、全表面を酵素分解処理することにより、生分解高分子の表面にパターンを形成する方法。[5]照射するUVの強度を制御することにより、形成されるパターンの凹凸を制御することを特徴とする[4]に記載のパターン形成方法。[6]前記生分解性高分子が、脂肪族ポリエステルである[4]又は[5]に記載のパターン形成方法。本発明によれば、UV-オゾン処理を用いることで、非常に簡便に分解速度を低下させることができる。したがって、特に酵素分解速度が速すぎて、実用しにくかった生分解性高分子には特に有効な手段である。また、UV-オゾン処理のマスク形状を適切に選択することで、凹凸形状をナノ~マイクロメートルのスケールで加工することができるようになる。直接の加工には酵素分解を使用するため、環境に優しい加工法といえる。さらに、UV処理だけにする、あるいはUVランプからの距離を変えるだけで分解速度を速くすることもできるため、オゾン処理との組み合わせで凹凸形状を反転させることができる。本発明の方法は、UV-オゾン処理することにより、生分解性高分子の表面改質を行い、特に、分解速度を簡単に遅くすることができるものである。また、本発明は、UV-オゾン処理と酵素分解と併用することで、生分解性高分子を、ナノメートル又はマイクロメートルのスケールで加工する手法を提供するものである。UV-オゾン処理は、基材の表面の浄化処理方法又は表面改質方法として公知の方法である。従来から知られているように、低圧水銀ランプより放射される主な紫外線の波長は、1849nm及び2537nmであり、装置内に導入した酸素O2は、1849nmの紫外線を吸収してオゾンO3を発生し、オゾンO3は2537nmの紫外線を吸収して、活性酸素を生成する。本発明においては、このUV-オゾン処理を施すことにより、生分解性高分子の表面が改質され、酵素分解速度は、未処理のものに対して40~50低下する。高分子の種類によっては90以上もの分解速度抑制効果が認められる。また、本発明の方法によれば、生分解性高分子の分解速度制御を行えることから、寿命を自在にコントロールした材料の製造に役立つ。また、UV-オゾン処理は、大がかりな設備を必要とせず、簡便かつ環境低負荷なナノ~マイクロメートルの加工法となる。特に、湿式であるアルカリ加水分解等による親水化処理と比べた利点は、膜の厚さが減らないこと、および、見た目には未処理部分との区別が付かないところにある。したがって、隠し印刷することも可能であるため、分解度合いの目視による確認等が可能となる。さらに、電子顕微鏡用グリッド等をマスクとして、UV-オゾン処理を行うと、マスクした部分が先に分解される。一方で、UV光源から近い場所で処理を行うと、マスク部分以外が先に分解される。すなわち、光源からの距離を変えるだけで凹凸形状を反転させることができる。本発明において用いられる生分解性高分子としては、脂肪族ポリエステルであるポリ乳酸、ポリカプロラクトン、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンサクシネート、ポリヒドロキシアルカン酸、ポリエチレンアジペート、およびそれらを含む共重合体が用いられ、特に、ポリ乳酸、ポリカプロラクトンが好ましく用いられる。本発明の方法を、生分解性高分子に応用した場合には、酵素分解速度を抑制できるため、生分解性材料の寿命制御が可能となる。特に、分解速度の速すぎるような生分解性高分子に対して大きな力を発揮できる。また、マスクの形状を変えるだけで、ナノメートル又はマイクロメートルのパターニングが可能であり、UVランプからの試料の距離を変化させるだけで、凹凸形状を反転させることが可能である。さらに、酵素分解という穏和な条件で進行する処理法を利用することで、大型の真空機器等を必要としないグリーンなナノマイクロ加工法となりうる。パターニング手法として広範に利用されている光リソグラフィーでは、ポジ型あるいはネガ型の二種類のフォトレジストを使い分けて、凹凸形状を変更している。一方、本発明の利点は、複数のレジストを塗布せずとも、UV-オゾン処理の方法を微妙に変化させるだけで、凹凸形状を反転させることができる点にある。さらには、所定のマスクをしてUV-オゾン処理をすることで、分解の進行を目視により確認ができるような材料を造ることが可能となる。以下、本発明について、図面及び実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。ポリ乳酸薄膜の作製ポリ乳酸ポリサイエンス社製、分子量30万の15wtクロロホルム溶液を調製した。膜厚は、溶液濃度によってコントロールすることができる。そしてクロロホルム溶液をシリコン基板の上に3000rpmでスピンキャストすることで、キャスト薄膜を作製した。次いで、該基板を220°Cで溶融後、0°Cに急冷することでアモルファスのポリ乳酸薄膜PLLA膜、膜厚約200nmを調製した。UV-オゾン処理及び酵素分解処理図1は、UV-オゾン処理及び酵素分解処理の工程を模式的に示した図である。図1に示すとおり、上記のポリ乳酸薄膜の上に、電子顕微鏡用グリッド日新EM、ファイングリッド、ホールサイズ:43μm、バーサイズ:20μmを置き、UV-オゾンクリーナーFilgen、型式UV253を用いて、UV-オゾン処理を施した。まず、UV光源からの試料までの距離は6cmとした。この結果、グリッド直下のバー部分の薄膜は、UV-オゾン処理を受けていないものとなる。次いで、上記グリッドを取り除き、プロティナーゼKロシュダイアグノスティックス社、リコンビナント、PCRグレードを1mg/mLとなるように50mMトリス塩酸緩衝溶液pH=85に溶解し、30μLをスポット状スポット径=3~5mmに滴下して、25°Cで酵素分解処理を行った後、水洗浄した。酵素分解後の観察図2は、前記の図1に示す処理を行った後の薄膜表面、及び用いたTEMグリッドを、光学顕微鏡OlympusBXFMFで観察した画像である。図2に示すように、グリッドでマスキングされなかった部分は残存しているが、グリッド直下のマスキングされた部分のポリ乳酸薄膜は、酵素により優先的に分解されていることが観察された。加工性UV-オゾン処理による表面処理に際し、試料とUVランプの距離を変えることで、凹凸形状を制御し、加工の自在性の確保を試みた。図3は、本発明による加工の精巧性凹凸の反転を示すものであって、左から順に、加工法を示す模式図、原子間力顕微鏡像、該像における黒線部分の高さを示す断面図、及び形成されたパターンを模式的に示す図である。図3の上の図は、UV-オゾン処理時のUV光源から試料までの距離を6cmとし、酵素分解処理を施した試料である。原子間力顕微鏡AFM、SIIナノテクノロジーSPA400SPI4000で測定した高さ像及び断面図を見ると、TEMグリッドによってマスクされていた部分から優先的に分解していること凸状構造がわかる。一方、図3の下の図は、オゾン処理時のUV光源から試料までの距離を3cmとし、酵素分解処理を施した試料である。この場合には、TEMグリッドでマスクした領域以外の部分が優先的に酵素分解していること凹状構造がわかる。すなわち、試料とUV光源の距離を変化させるだけで、凹凸形状を反転させることができるといえる。UV-オゾン処理時のUV光源からの試料までの距離を変えると、薄膜試料に到達するUV強度が図4のように変化することがわかった。さらに、UV-オゾンクリーナーの酸素供給を断ち、UV照射のみとすると、図5に示すとおり、凹構造の形成が顕著となった。したがって、UV光源からの距離を変えることで、UV処理あるいはUV-オゾン処理のいずれが優先的に作用するかによって、容易に凹凸形状の反転を執り行えると考えられた。次いで、マスク形状の自在性を確認するため、異なる形状のTEMグリッドVecoヘキサゴナルメッシュ/ピッチ:63μm、ホールサイズ:30μm、バーサイズ:33μm、およびGilderサポートメッシュ/ピッチ:125μm、ホールサイズ:75μm、バーサイズ:5μmを用いて、前記と同様に、UV-オゾン処理と、オゾン無しのUV処理を試した。結果を図6に示す。図中、A、Bは、Vecoヘキサゴナルメッシュを用いたものを示し、C、Dは、Gilderサポートメッシュを用いたものを示している。また、A、Cは、UV-オゾン処理を施したもの、B、Dは、オゾン無しのUV処理を施したもの、をそれぞれ示している。図6に示すとおり、マスクの形状やサイズが変化しても、マスク形状に依存して自在に加工形態を変更できることがわかる。分解速度UV-オゾン処理が酵素分解速度に与える影響を評価するため、酵素分解によって形成された段差をAFMで計測した。図7は、UV-オゾン処理の有無と酵素分解速度の関係を評価する方法を示す写真、並びに、その結果を示すAFM観察像及び段差部分のAFMによる計測結果を示す図である。図7において、Aの段差は、UV-オゾン処理を施したポリ乳酸薄膜が酵素によって分解された高さとなる。また、Bの段差は、TEMグリッドでマスクをかけていた部分と、UV-オゾン処理された領域が酵素分解されて形成された段差に相当する。したがって、Aの高さおよびBの高さをそれぞれAFMで測定し、さらにABの高さを算出することで、UV-オゾン処理の有無に関わる分解速度の相違を見積もることが可能となる。接触角の測定上記UV-オゾン処理して得られた薄膜表面の親水性の違いを評価するために、接触角測定装置共和界面科学、ドロップマスターAK400を用い、薄膜表面にMilliQ水を10μL滴下することで静的接触角を測定した。親水化の方法として、1N水酸化ナトリウム溶液で40秒処理、UV-オゾン処理時間15分、照射距離3cm、UV-オゾン処理15分、照射距離6cmを行った。図8に、その結果を示す。接触角は、UV-オゾン処理15分、照射距離6cm<UV-オゾン処理15分、照射距離3cm<1N水酸化ナトリウム溶液処理<未処理ポリ乳酸の関係になっていた。したがって、UV-オゾン処理15分、照射距離6cmで最も効果的に親水化されていることがわかった。分解速度の測定次いで、ポリ乳酸薄膜をUV-オゾン処理により親水化した際の、プロティナーゼK処理時の分解抑制度の違いを調べた。分解速度は、所定時間におけるポリ乳酸薄膜の分解深さを、AFMを用いて図7に示した方法で測定した。結果を図9に示す。図中、それぞれ、◆は、未処理のポリ乳酸薄膜、■は、UV-オゾン処理15分のポリ乳酸薄膜、▲は、UV-オゾン処理30分のポリ乳酸薄膜、を示している。UV-オゾン処理時間が長くなるほど酵素分解が抑制されていることがわかる。ポリ乳酸の密度1248g/cm3から、重量変化に換算した分解速度μg/cm2minは、以下のとおりであった。無処理のポリ乳酸薄膜:130μg/cm2minUV-オゾン処理15分のポリ乳酸薄膜:078μg/cm2minUV-オゾン処理30分のポリ乳酸薄膜:065μg/cm2minこの結果から、UV-オゾン処理により、酵素分解速度が40~50程度抑制されているといえる。さらに、UV-オゾン処理30分のポリ乳酸薄膜に対して、様々な濃度のプロティナーゼKで7分反応させた後、薄膜表面に吸着しているプロティナーゼKをAFMで観察した。そして、単位面積当たり100×100nm四方の酵素吸着量をプロットし、未処理のポリ乳酸薄膜に対する酵素吸着量Biomacromolecules2005,6,850857参照と比較した。結果を図10に示す。図中、それぞれ、◆は、未処理のポリ乳酸薄膜、▲は、UV-オゾン処理30分のポリ乳酸薄膜、を示している。図10に示すとおり、未処理のポリ乳酸薄膜よりもUV-オゾン処理30分をしたポリ乳酸薄膜の方が酵素吸着量は少ないことが確認できた。したがって、静的接触角のデータ図8、分解速度の関係図9、及び酵素吸着量のデータ図10を考えると、ポリ乳酸薄膜の表面が、UV-オゾン処理により親水化されることで酵素吸着が抑制され、それゆえに酵素分解速度が低下していると推察される。ポリカプロラクトンへの適用溶液濃度を15wtとしたポリカプロラクトンPCL、分子量13万のクロロホルム溶液を調製し、スピンキャスト法3000rpmによりシリコン基板上に成膜した。ポリカプロラクトン薄膜を100°Cで溶融して室温まで急冷した後に、デシケーター中で1週間以上乾燥させて薄膜を作製した。typeXIIIリパーゼSigmaChemical、Pseudomonasspを01Mリン酸緩衝溶液pH=74に1mg/mLとなるように溶解して酵素溶液を調製した。UV-オゾン処理30分、照射距離6cmを施した薄膜、あるいは処理無しのポリカプロラクトン薄膜に30μLの酵素溶液を滴下した。25°Cで所定時間酵素分解後、水洗して酵素分解によって形成された段差をAFM測定することで酵素分解速度を算出した。結果を図11に示す。図中、それぞれ、▲は、未処理のポリカプロラクトン薄膜、◆は、UV-オゾン処理30分のポリカプロラクトン薄膜、を示している。図11に示すとおり、処理無しのポリカプロラクトン薄膜では30分程度で膜厚約100nmの薄膜が酵素分解されて貫通している。一方、UV-オゾン処理を施したポリカプロラクトン薄膜では、膜を貫通するのに約8時間も要していることがわかる。ポリカプロラクトンの密度1146g/cm3から、重量変化に換算した分解速度μg/cm2minは、以下のとおりであった。無処理のポリカプロラクトン薄膜:025μg/cm2minUV-オゾン処理30分のポリカプロラクトン薄膜:0022μg/cm2minこの結果から、ポリカプロラクトンの場合にはUV-オゾン処理によって分解速度が90以上も抑制されているといえる。また、TEMグリッド日新EM、ファイングリッド、ホールサイズ:43μm、バーサイズ:20μmをのせてUV-オゾン処理30分、照射距離6cmおよびリパーゼによる酵素分解を4時間させたときの光学顕微鏡像、AFM像及び断面図を、図12に示す。グリッドの形状に合わせて分解加工されていることがわかる。さらに、UV30分、照射距離3cmのみで処理し、その後リパーゼによる酵素分解を1分間させたところ、ポリカプロラクトン薄膜でも凹凸形状を逆転させることができた。図13は、その光学顕微鏡像、AFM像、及び断面図である。以上のポリ乳酸およびポリカプロラクトンにUV-オゾン処理を施した後の酵素分解試験の結果から、あらゆる脂肪族ポリエステルに対して本手法が分解速度の抑制に有効であるといえる。また、部分的に生分解性高分子の分解速度を制御して、様々な生分解高分子の表面にパターン形成できることが示された。"