"少なくとも1つのEUV放射線源3;31;32の放射を主強度スポット23に伝達するためのEUVコレクター15;32;36;43であって、放射線源3;31;32からのEUV放射線14を伝達強度スポット23,48,49に伝達する少なくとも1つのかすめ入射ミラー251から254を含む少なくとも1つのコレクターサブユニット24;37,38;44から46と、臨界かすめ入射角よりも小さい入射角で入射を受ける楕円体ミラー面29;41,42;52,53を有する少なくとも1つの楕円体ミラー28;33,34;39,40;50,51と、を含み、少なくとも1つのかすめ入射ミラー251から254を含む1つよりも多くないコレクターサブユニット24;37,38;44から46が、前記EUV放射線源3;31;32の位置と前記伝達強度スポット23,48,49の間の該EUV放射線源3;31;32によって放出されるEUV部分ビーム14のビーム経路に、各EUV部分ビーム14が、少なくとも1つのかすめ入射ミラーを含む1つよりも多くない単一のコレクターサブユニット24;37,38;44から46によって反射されるように配置され、前記EUV放射線源3;31;32によって放出される前記EUV部分ビーム14の少なくとも一部が、少なくとも1つのかすめ入射ミラー251から254を含む前記コレクターサブユニット24;37,38;44によってのみ反射される、ことを特徴とするコレクター。少なくとも1つのかすめ入射ミラー251から254を含むちょうど1つのコレクターサブユニット24を特徴とする請求項1に記載のコレクター。少なくとも1つのかすめ入射ミラー251から254を含むちょうど2つのコレクターサブユニット37,38;53,55を特徴とする請求項1に記載のコレクター。少なくとも1つのかすめ入射ミラー251から254を含む前記少なくとも1つのコレクターサブユニット45,46は、前記放射線源3からの前記EUV放射線142,143を中間強度スポット48,49に伝達することを特徴とする請求項1に記載のコレクター。少なくとも1つのかすめ入射ミラー251から254及び楕円体ミラー28;33;39,40;50,51を含むちょうど1つのコレクターサブユニット24;37,38;45,46が、前記EUV放射線源3;31及び32の位置と前記主強度スポット23の間の該EUV放射線源3;31;32によって放出されるEUV部分ビーム14の前記ビーム経路に配置されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のコレクター。前記楕円体ミラー28;33によって反射されたEUV放射線141が、少なくとも1つのかすめ入射ミラー251から254を含む前記コレクターサブユニット24内の貫通開口部31を通じて前記主強度スポット23に直接に案内されるような配列を特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のコレクター。前記楕円体ミラー34によって反射されたEUV放射線14aが、少なくとも1つのかすめ入射ミラー251から254を含む前記コレクターサブユニット24の周囲に配置された空間領域を通じて前記主強度スポット23に直接に案内されるような配列を特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のコレクター。少なくとも1つのかすめ入射ミラー251から254を含む複数のコレクターサブユニット44から46が、EUV放射線源3の前記位置の周囲に配置可能であることを特徴とする請求項4から請求項7のいずれか1項に記載のコレクター。少なくとも1つのEUV放射線源3;31;32の放射を主強度スポット23に伝達するためのコレクター15;33;36;43であって、放射線源3からのEUV放射線14を強度スポット23に伝達する少なくとも1つのかすめ入射ミラー541,542;56,57を含む少なくとも2つのコレクターサブユニット53,55、を含み、前記コレクターサブユニット55のうちの1つが、前記EUV放射線14を反射するために利用される外壁を有する少なくとも1つかすめ入射ミラーシェル57を含み、前記コレクターサブユニット53のうちの別の1つが、前記EUV放射線14を反射するために利用される内壁を有する少なくとも1つかすめ入射ミラーシェル541,542を含む、ことを特徴とするコレクター。結像光学系9によって結像可能である物体視野5を照明するための請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のコレクター、を含むことを特徴とする照明光学系。請求項10に記載の照明光学系と、少なくとも1つのEUV放射線源3;31;32と、を含むことを特徴とする照明系。請求項11に記載の照明系と、物体視野5を像視野10に結像するための結像光学系9と、を含むことを特徴とする投影露光装置1。微細又はナノ構造化構成要素を生成する方法であって、レチクル7を準備する段階と、照明光束14に対して感受性であるコーティングを有するウェーハ12を準備する段階と、請求項12に記載の投影露光装置を用いて前記レチクルの少なくとも一部分を前記ウェーハ12上に投影する段階と、前記照明光束14への露光の後に前記ウェーハ12上の前記感光層を現像する段階と、を含むことを特徴とする方法。請求項13に記載の方法に従って生成された構成要素。本発明の目的は、コレクターに対する所定量の構成労力を保証しながら、EUV光源の適確なサイズの集光可能立体角を与えることである。本発明により、この目的は、請求項1及び請求項8に開示する特徴を有するコレクターによって達成される。本発明により、全指向性EUV放射線源の集光可能立体角を増大させるために、少なくとも1つのかすめ入射ミラーを含むコレクターサブユニットの利点を楕円体ミラーの利点と組み合わせることができることが見出されている。以下に続く説明においてコレクターサブユニットに言及する場合には、常に、少なくとも1つのかすめ入射ミラーを含むコレクターサブユニットを指す。コレクターサブユニットは、放射線源によって放出されたEUV放射線の順方向、言い換えれば、主強度スポットの方向を向く立体角領域を集光することができる。相応に、逆方向に放出されたEUV放射線を少なくとも1つの楕円体ミラーが集光することができる。これらの集光対象立体角領域は有利に組み合わせることができ、2πよりも大きい、2.5πよりも大きい、3πよりも大きく、又は3.5πよりも大きい全体の集光対象立体角が形成される。少なくとも1つのコレクターサブユニットは、ミラーシェルの方式で設計された少なくとも1つのかすめ入射ミラーを含むことができる。ミラーシェルは、軸線に関して回転対称とすることができる。コレクターサブユニットは、いくつかのかすめ入射ミラー、例えば、2つ、3つ、4つ、5つ、又は更に多くのかすめ入射ミラーを含むことができる。これらのかすめ入射ミラーは、軸線に関して回転対称なミラーシェルとすることができる。少なくとも1つかすめ入射ミラーを含むコレクターサブユニットによって放射線源からのEUV放射線が伝達される伝達強度スポットは、主強度スポットとすることができる。代替的に、伝達強度スポットは、別の光学系を用いて主強度スポットに伝達することができる中間強度スポットとすることができる。主強度スポットは、ターゲット物体を照明するために、照明光学系を通じてEUV放射線を伝達することを可能にする強度スポットである。EUV放射線源の放射は、全指向性のものとすることができ、言い換えれば、この放射は、全ての空間方向に実質的に等方的に放出することができる。臨界かすめ入射角は70°である。言い換えれば、EUV放射線は、コレクターサブユニットの少なくとも1つのかすめ入射ミラーにより、少なくとも70°の入射角で反射される。楕円体ミラーは、70°よりも小さい入射角でEUV放射線源の放射による入射を受ける。各EUV部分ビームは、少なくとも1つのかすめ入射ミラーを含む1つよりも多くないコレクターサブユニットによって反射され、それによってこれらのコレクターサブユニットによって集光される立体角領域が、特に、効率的な方式で集光されることを保証する。光学系では一般的な慣例であるが、入射角は、反射平面に対する法線と入射放射線の間の角度として定義される。少なくとも1つかすめ入射ミラーを含む少なくとも1つのコレクターサブユニットは、放射線源からのEUV放射線が、それぞれのかすめ入射ミラーにおいて順次発生する2回の反射によって伝達強度スポットに伝達されるように設計されたかすめ入射ミラーを含むことができる。少なくとも1つのかすめ入射ミラーを含む少なくとも1つのコレクターサブユニットは、互いに背後に配置された2つのかすめ入射ミラーを含むことができる。少なくとも1つのかすめ入射ミラーを含む少なくとも1つのコレクターサブユニットは、Wolterコレクターサブユニットとすることができる。コレクターサブユニットは、Wolter-I型のコレクター又はWolter-II型のコレクターとして設計することができる。特に、少なくとも1つのかすめ入射ミラーを含むコレクターの既知の設計を付加的な楕円体ミラーと組み合わせることにより、ちょうど1つのコレクターサブユニットを含むコレクターを得ることができる。ちょうど2つのコレクターサブユニットを含むコレクターをこれらの2つのコレクターサブユニットの一方を用いて集光可能な立体角を増大させるように使用することができる。特に、このコレクターは、全指向性EUV放射線源の放射の立体角領域を一方で主強度スポットに向けて順方向に、他方で逆方向に集光することを可能にする。代替的に、ちょうど2つのコレクターサブユニットを含むコレクターは、1つの同じコレクターを用いて2つの離間EUV放射線源の放射を集光するように使用することができる。請求項4に記載の少なくとも1つのコレクターサブユニットは、別の下流のコレクターサブユニット又は下流の楕円体ミラーと相互作用するように使用することができる。コレクターの中間強度スポットは、有効波長範囲とは異なる波長を有するEUV放射線源の望ましくない放射に対する空間フィルタとして使用することができる。放射線源からのEUV放射線を互いに分離した2つの中間強度スポットに伝達する少なくとも2つのコレクターサブユニットを設けることができる。放射線源からのEUV放射線を中間強度スポットに伝達する2つのコレクターサブユニットは、各場合に1つの対称軸に関して回転対称とすることができる。放射線源からのEUV放射線を中間強度スポットに伝達する少なくとも2つのコレクターサブユニットの2つの対称軸は、互いに一致しないように配置することができる。請求項5に記載のビーム経路は、コレクター内でのEUV放射線の過剰な回数の反射を防止する。この種のコレクター内では、EUV部分ビームは、最初に楕円体ミラーによって反射され、その後に、少なくとも1つのかすめ入射ミラーを含むコレクターサブユニットによって反射されるか、又はその逆に最初にこのコレクターサブユニットによって反射され、その後に、楕円体ミラーによって反射されるかのいずれかとすることができる。請求項6及び請求項7に記載の配列は、一方で小型設計をもたらし、他方で全指向性EUV放射線源の放射の大きい立体角を集光することを可能にする。これらの配列の楕円体ミラーから主強度スポットに直接伝達される放射線は、それぞれの楕円体ミラーによって反射された後に、いずれのコレクターサブユニットによっても反射されない。EUV放射線が、一方でコレクターサブユニット内の貫通開口部を通じて、他方でコレクターサブユニットの周囲に配置された空間領域を通じて伝達されるこれらの配列の組合せを考えることができる。請求項8に記載の複数のコレクターサブユニットの配列は、EUV放射線源の放射の効率的な伝達を保証し、同時に大きい立体角領域を利用することを可能にする。これらのコレクターサブユニットは、正多面体の形態又は不規則な多面体の形態でEUV放射線源の周囲に配置することができる。EUV放射線源の周囲のコレクターサブユニットの配列は、特定の立体角領域が省略され、従って、プラズマ生成レーザ放射線を供給するか又は少なくとも1つの保持デバイスに向けて設置空間を設けることを可能にするようなものとすることができる。ミラーシェルの外壁又は内壁のいずれがEUV放射線を反射する働きをするかにおいて異なる2つの種類のコレクターサブユニットを含むことを特徴とする請求項9に記載のコレクターは、一方の種類のコレクターサブユニットを主強度スポットに向う直接順伝達における小さい立体角に対して用い、他方の種類のコレクターサブユニットを大きい角度に対して使用することができる。この設計の2つのコレクターサブユニットは、特に、互いに内外に配置された入れ子にされたミラーシェル又はミラーシェル群とすることができる。コレクターサブユニットのそのような配列は、上述の実施形態による少なくとも1つの楕円体ミラー又はいくつかの楕円体ミラーの配列と組み合わせることができる。請求項10に記載の照明光学系、請求項11に記載の照明系、請求項12に記載の投影露光装置、請求項13に記載の製造方法、及び請求項14に記載の構成要素の利点は、本発明によるコレクターの利点に関連して上述したものに対応する。EUV放射線源は、LPP光源とすることができる。EUVコレクターは、いくつかのEUV放射線源の放射が、1つの主強度スポットに伝達されるように設計することができる。相応に、照明系は、1つよりも多いEUV放射線源を含むことができる。いくつかのEUV放射線源が設けられる場合には、EUVコレクターを用いて伝達されるEUV放射線の経路は、これらのEUV放射線源のうちの1つからこれらのEUV放射線源のうちの別の1つを通って延びるとすることができる。いくつかのEUV放射線源が設けられる場合には、本発明による照明系は、各場合にEUV放射線源のうちの1つだけが活動中になるように作動させることができる。EUV放射線源の放射の効率的な集光は、所定の放射線源において投影露光に対して高い有効光エネルギが利用可能であることを保証する。それとは逆に、小さいEUV放射線源を用いて所定の有効光エネルギを得ることができる。それによって投影露光における収量又はEUV放射線源を準備するためのコストが高まる。以下では、本発明の例示的な実施形態を図面を用いてより詳細に説明する。図1は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置1を通る模式的な子午断面図である。放射線源3に加えて、投影露光装置1の照明系2は、物体平面6内で物体視野5を照明するための照明光学系4を有する。この過程では、物体視野5に配置され、部分的にしか示していないレチクルホルダ8によって固定されたレチクル7が照明される。投影光学系9は、物体視野5を像平面11の像視野10に結像する働きをする。この過程では、レチクル7上の構造が、像平面11の像視野10の領域に配置されたウェーハ12の感光層に結像され、ウェーハ12も、同じく模式的にしか示していないウェーハホルダ13によって同様に固定される。放射線源3は、5nmと30nmの間の範囲の放出される有効放射線を有するEUV放射線源である。EUV放射線源は、プラズマ光源、特に、LPP光源レーザ生成プラズマとすることができる。EUV放射線源は、例えば、GDPP光源ガス放電生成プラズマとすることができる。シンクロトロンベースの放射線源を適切な放射線源3とすることができる。この種の放射線源に関する情報は、例えば、US6,859,515B2において当業者に提供されている。放射線源3によって放出されたEUV放射線14は、コレクター15によいって光束にされる。以下に説明する図2に、コレクター15をより詳細に示している。コレクター15の下流では、EUV放射線14は、中間焦点面16を通って伝播し、その後に、視野ファセットミラー17上に入射する。視野ファセットミラー17は、物体平面6と光学的に共役な、照明光学系4の平面に配置される。以下では、EUV放射線14を照明光又は結像光とも呼ぶ。視野ファセットミラー17の下流において、EUV放射線14は、瞳ファセットミラー18によって反射される。瞳ファセットミラー18は、投影光学系9の瞳平面と光学的に共役な照明光学系4の瞳平面に配置される。瞳ファセットミラー18と、ビーム経路に配置された順番で番号が振られたミラー20、21、及び22を含む伝達光学系19の形態にある結像光学アセンブリとを用いて、以下により詳細に説明する視野ファセットミラー17の視野ファセットが、物体視野5に結像される。伝達光学系19の最後のミラー22はかすめ入射ミラーである。瞳ファセットミラー18及び伝達光学系19は、照明光14を物体視野5に伝達するための後続光学系を形成する。特に、瞳ファセットミラー18が、投影光学系9の入射瞳に配置される場合には、伝達光学系19を省くことができる。位置関係の説明を容易にするために、図1には、物体平面6と像平面11の間の投影露光装置1の構成要素の位置関係を表すための広域座標系としての働きをする直交座標系を提供している。図1では、x軸は、作図面に向けてこの面に対して垂直な方向に延びている。y軸は、図1では右に延びている。z軸は、図1では下向きに、言い換えれば、物体平面6及び像平面11と垂直に延びている。投影露光中に一方では物体視野5により、他方では像視野10によってレチクル7とウェーハ12が変位方向、すなわち、y方向に走査されるように、レチクルホルダ8とウェーハホルダ13とは両方共に変位に向けて作動させることができる。以下では、変位方向yを走査方向とも呼ぶ。以下では、コレクター15を図2を用いてより詳細に説明する。コレクター15は、EUV放射線14、言い換えれば、EUV放射線源3の全指向性放射を中間焦点面16内の主強度スポット、言い換えれば、中間焦点23に伝達する働きをする。コレクター15は、合計で4つのかすめ入射ミラー251から254を含むコレクターサブユニット24を有する。従って、ミラー251から254に対するEUV放射線の入射角は、臨界かすめ入射角を超える。この臨界かすめ入射角は70°である。コレクターサブユニット24は、放射線源3によって放出された全EUV放射線15の一部分を中間焦点23に伝達する。この過程では、コレクターサブユニット24は、放射線源3の順方向の放射の立体角を集光する。放射線源3から見ると、順方向は、中間焦点23が位置する半空間内への放射方向でもある。ミラー251から254は、互いに内外に配置され、図2では外側から内側に番号が振られたミラーシェルである。代替的に、コレクターサブユニット24は、異なる数のミラー25、例えば、1つのミラーシェル、2つのミラーシェル、又は互いに内外に配置された2つよりも多いミラーシェル、例えば、互いに内外に配置された3つ、4つ、5つ、又は更に多くのミラーシェルを含むことができる。ミラー251から254の反射面は、それぞれのミラーシェルの内壁である。ミラー251から254は、放射線源3が配置される中心軸26に関して回転対称でもある。図2に示す子午断面図では、ミラー251から254の各々は、軸26を取り囲む屈曲領域27を有する。図2でEUV放射線14の代表的なビーム経路において示すように、ミラー251から254によってかすめ方式で反射されたEUV放射線14は、各場合にミラー251から254によって2度、すなわち、屈曲領域27の上流と屈曲領域27の下流とで反射される。コレクターサブユニット24の方式のコレクターは、WO2009/095220A2に開示されている。コレクターサブユニット24は、Wolter-I型のコレクターの方式で設計することができ、双曲体と楕円体との組合せで構成することができる。これらのコレクターに関するより詳細な情報は、H.Wolter著SpiegelsystemestreifendenEinfallsalsabbildendeOptikenfurRontgenstrahlen及びVerallgemeinerteSchwarzschildscheSpiegelsystemestreifenderReflexionalsOptikenfurRontgenstrahlen、AnnalenderPhysik、第10巻、94~114ページ及び286~295ページ、1952年、並びにインターネット上ではhttp://www.x-ray-optics.deというページ上TypesofOptics、Reflectingoptics、及びCurvedmirrorsというキーワードを参照されたいに見出すことができる。コレクターサブユニット24に加えて、図2に記載のコレクター15は、楕円体ミラー面29を有する楕円体ミラー28を有する。放射線源3は、楕円形ミラー面29の一方の強度スポットに配置され、それに対して中間焦点23は、楕円形ミラー面29の他方の強度スポットに配置される。EUV放射線14を反射するのに使用することができるミラー面29の外径は、コレクターサブユニット24の最内側ミラー254のミラーシェルの内径とほぼ同じサイズを有する。この外径に近いミラー面29の縁部領域は、このミラー254の直近に配置される。楕円体ミラー28は、放射線源3に対して後方に放出される全てのEUV放射線14、言い換えれば、放射線源3から中間焦点23が位置しない半空間内に放出される放射線を受光する。更に、楕円体ミラー28は、順方向に放出されたEUV放射線の一部分を反射する。順方向と逆方向とを定義する2つの半空間は、回転対称軸26が垂直であり、放射線源3が位置する平面30によって互いから分離される。ミラー面29は、臨界かすめ入射角よりも小さい入射角でEUV放射線14による入射を受ける。光学系では一般的な慣例であるが、入射角は、反射平面に対する法線と入射放射線の間の角度として定義される。コレクター15は、ちょうど1つのコレクターサブユニット24を有し、言い換えれば、少なくとも1つのかすめ入射ミラーを含むいずれの他のコレクターサブユニットも持たない。EUV放射線14のかすめ入射に関して、EUV放射線源3と中間焦点23の間のEUV放射線14のそれぞれの放出EUV部分ビームのビーム経路にはコレクターサブユニット24のみが配置される。言い換えれば、かすめ入射ミラー25を含むコレクターサブユニット24以外には、コレクターサブユニット24によって既に誘導済みであるEUV放射線14の上述の部分ビームを誘導するかすめ入射ミラーを含むいずれの他のコレクターサブユニットも存在しない。下流照明光学系を含み、投影露光装置内に代替的に設けることができる実施形態のコレクター図示せずでは、コレクターサブユニット24及び楕円体ミラー28によってEUV放射線14が伝達されるコレクター15の伝達強度スポット又は中間強度スポットと中間焦点面16内の中間焦点23との間にこの強度スポットを中間焦点23に伝達する働きをする中継光学系が存在する。図2には示していないが、この場合には、伝達強度スポットは、中間焦点23、言い換えれば、主強度スポットと一致しない。一方、図2に記載の場合には、伝達強度スポットは、主強度スポットと一致する。楕円体ミラー28によって反射されたEUV放射線14は、コレクターサブユニット24の最内側ミラー254内の貫通開口部31を通じてもたらされる。以下は、図1に記載の投影露光装置1においてコレクター15の代わりに使用することができる別の実施形態のコレクター32の図3を用いた説明である。図1及び図2を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。図3に記載の実施形態では、他の点では図2に記載の実施形態の楕円体ミラー28に対応する楕円体ミラー33は、逆方向に放出された放射線源3の事実上全てのEUV放射線14を集光するように設計される。一方で楕円体ミラー33の立体角集光領域と、他方でコレクターサブユニット24との間には、対称軸26を取り囲み、半平面を分離するための平面30の直近にある方向を含む立体角のリングが存在する。これらの立体角は、ミラー面35を有する別の楕円体ミラー34によってコレクター32内に集光される。同様に、ミラー面35の楕円形状は、放射線源3がミラー面35の一方の強度スポットに配置され、それに対して中間焦点23が他方の強度スポットに配置されるようなものである。楕円体ミラー34は、EUV放射線14を反射する働きをするミラー面35を定義する内壁を有するリング形ミラーシェルの形状を有する。このミラーシェルは、軸26の回りに回転対称方式で配置される。ミラー面35の有効領域の内径は、コレクターサブユニット24の最外側ミラー251の有効領域の外径よりも大きい。楕円体ミラー34によって反射されたEUV放射線14aは、コレクターサブユニット24の周囲に配置された空間領域を通じて中間焦点23にもたらされる。以下は、図1に記載の投影露光装置1において、この投影露光装置1に2つの離間EUV放射線源31及び32が装備された場合に設けることができる別の実施形態のコレクター36の図4を参照しての説明である。上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。コレクター36は、2つのコレクターサブユニット37、38を有する。これらの2つのコレクターサブユニット37、38の各々は、2つの放射線源31、32の一方に割り当てられる。コレクターサブユニット37、38の各々は、図2及び図3に記載の実施形態のミラー251から254の方式で互いに内外に配置されたミラーシェルの形態にあるいくつかのミラーを有する。図4にはこれを示していない。コレクターサブユニット37、38のミラーシェルは、各場合に放射線源31、32と中間焦点23の間の接続線と一致する対称軸261、262に対して回転対称である。従って、2つのコレクターサブユニット37、38は、同じ対称軸に関して鏡面対称ではない。コレクターサブユニット37、38は、各場合に図2及び図3のコレクターサブユニット24の方式で設計される。コレクターサブユニット37、38は、各場合に放射線源31、32の一方によって順方向に放出されたEUV放射線141、142を集光する。放射線源31、32の放射の順方向をその逆方向から区別するための半空間分離平面301、302は、各場合に放射線源31、32が配置され、対称軸261、262が垂直である平面として定義される。半空間分離平面301、302と少なくとも部分的に一致する方向に放出されるEUV放射線を以下では横方向の放射と呼ぶ。2つのコレクターサブユニット37、38に加えて、コレクター36は、2つの楕円体ミラー39、40を有する。放射線源32に近い楕円体ミラー40は、放射線源31によって横方向に放出されたEUV放射線141を受光する。放射線源31に近い楕円体ミラー39は、放射線源32によって横方向に放出されたEUV放射線142を受光する。図4では、光源31、32によって放出され、コレクター36が同様に使用することができるEUV放射線の立体角領域39a、40aを強調表示している。2つの楕円体ミラー39、40のミラー面41、42は、1つの同じ楕円体上に配置され、2つの放射線源31、32は、この楕円体の2つの強度スポットに配置される。2つのミラー面41、42の各々は、この楕円体の一部分を形成する。ミラー面41、42は、楕円体ミラー39、40の凹内壁部分である。放射線源31によって横方向に放出され、楕円体ミラー40のミラー面42によって反射されたEUV放射線141は、次に、第2の放射線源32の場所にもたらされ、第2の放射線源32を通過し、その後にコレクターサブユニット38によって受光され、中間焦点23にもたらされる。コレクターサブユニット38の集光立体角40aは、ミラー面42によって反射された放射線を放射線源32の場所を通過した後にコレクターサブユニット38によって集光することができるように、楕円体ミラー40のミラー面42に適応される。相応に、放射線源32によって横方向に放出されたEUV放射線142は、楕円体ミラー39のミラー面41によって反射され、その後に他方の放射線源31の場所を通過し、次に、ミラー面41の面に適応された集光立体角を有するコレクターサブユニット37によって集光され、その後に、中間焦点23にもたらされる。コレクター36を含む投影露光装置1の作動時には、2つのプラズマ放射線源31、32は、2つの放射線源31、32の一方が放射線を放出している時に、2つの放射線源31、32のうちの他方のものが作動中にならないように異なる時点で点火される。それによって作動中のそれぞれの放射線源31、32によって逆方向に放出され、ミラー面42、41によって他方の放射線源の場所に向けて反射されたEUV放射線142、141のこの他方の放射線源32、31のプラズマによる望ましくない吸収が阻止される。以下は、図1に記載の投影露光装置1においてコレクター15の代わりに使用される別の実施形態のコレクター43の図5を参照しての説明である。図1から図4を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。前と同様にコレクター43は、ちょうど1つのEUV放射線源3による作動に向けて設計される。図5に記載の放射線源3は、図5の前と同様に模式的な子午断面図に示す3つのコレクターサブユニット44、45、及び46によって前と同様に囲まれる。EUV放射線14のうちで、放射線源3によって観測者の方向とその反対方向とに放出された部分を集光することができ、例えば、2つのこの種の更に別のコレクターサブユニットを図5の作図面の外に配置することができる。一般的に、図5の作図面内だけでなく、放射線源3の周囲に、例えば、正多面体いわゆるプラトンの立体、不規則な多面体いわゆるアルキメデスの立体、又はいずれかの他の空間配列の形状でコレクターサブユニットを配置することができる。これらの構成の各々は、プラズマ生成レーザ放射線の供給に適するか又はデバイスを保持するための設置空間としての働きをすることができる中間領域を有することができる。コレクターサブユニット44は、図2及び図3に記載の実施形態のコレクターユニット24と同様に配置され、図5に記載の子午平面内で放射線源3によって放出された反射角のほぼ3分の1を集光する。図5に記載の子午平面内の放射線源3の反射角の他の3分の2は、他の2つのコレクターサブユニット45、46によって集光され、従って、図5に記載の子午平面内で、3つのコレクターサブユニット44から46の入射前側領域47が、放射線源3を正三角形方式で取り囲む。コレクターサブユニット44によって集光されると、放射線源3のEUV放射線14は、図2から図4の記載を参照して上述したように中間焦点23に直接に伝達される。他の2つのコレクターサブユニット45、46は、集光したEUV放射線142、143を各場合にコレクターサブユニット45、46の下流にある中間強度スポット48、49に伝達する。コレクターサブユニット44から46の各々は回転対称である。コレクターサブユニット44は、対称平面61と作図面との交差部に一致する対称軸に関して回転対称である。2つのコレクターサブユニット45、46は、各場合に対称軸261、262に関して回転対称である。コレクターサブユニット44から46が回転対称にその周囲に配置される対称軸は、互いに一致しない。コレクターサブユニット45、46の下流のEUV放射線142、143のビーム経路には、ミラー面50a、51aを含む楕円体ミラー50、51が各場合に配置される。コレクターサブユニット45の射出口にある中間強度スポット48は、楕円体ミラー50のミラー面50aによって定義される楕円体の強度スポットに配置される。中間焦点23は、この楕円体の他方の強度スポットに配置される。コレクターサブユニット46の射出口にある中間強度スポット49は、楕円体ミラー51のミラー面51aによって定義される楕円体の強度スポットに配置される。中間焦点23は、この楕円体の他方の強度スポットに配置される。付加的に設けることができて、例えば、図5に記載の作図面に対して垂直な方向から放射線源3の放射を集光する更に別のコレクターサブユニットには、相応に成形及び配置された楕円体ミラーが割り当てられる。図5に記載のコレクター43の別の実施形態では、コレクターサブユニット44を省くことができる。以下は、図1に記載の投影露光装置1においてコレクター15の代わりに使用される別の実施形態のコレクター52の図6を用いた説明である。図1及び図5を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。コレクター52は、合計で2つのかすめ入射ミラー541及び542を含むコレクターサブユニット53を有する。これらのミラー541及び542は、互いに内外に配置され、中心回転対称軸26に関して回転対称であるミラーシェルである。コレクター52は、2つのかすめ入射ミラー56、57を含む別のコレクターユニット55を付加的に有する。ミラー56は、コレクターサブユニット53の最内側ミラー542の内側に配置され、同様に中心対称軸26に対して回転対称である別のミラーシェルである。ミラー57は、ミラー56に配置された別のミラーシェルである。従って、コレクター52は、合計で4つのミラー、すなわち、コレクターサブユニット53の2つの外側ミラー541及び542、並びにコレクターサブユニット55の2つの内側ミラー56、57を有する。かすめ入射の場合には、コレクターサブユニット53のミラー541及び542が、図2及び図3に記載の実施形態のミラー251から254のように使用される。EUV放射線14は、ミラー541及び542により、言い換えれば、そのミラーシェル内壁によって反射される。ミラーシェル内壁は、中心回転対称軸26に向くミラーシェル壁である。相応に、ミラーシェルの外壁は、中心回転対称軸26から対向するように配置された壁である。2つの内側ミラーシェル、言い換えれば、コレクターサブユニット55を形成するミラー56及び57は、放射線源3によって放出されてこれらの2つのミラー56、57の間の領域に入射するEUV放射線14が、最初に最内側ミラーシェル、言い換えれば、ミラー57の外壁によって反射され、その後に、ミラー56、57の屈曲領域27の下流で最内側ミラー57を取り囲むコレクターサブユニット55のミラー56のミラーシェル内壁によって反射されるように設計される。従って、内側コレクターサブユニット55は、Wolter-IIコレクターである。コレクター52は、楕円体ミラー28又は33、34の方式にある楕円体ミラーを付加的に含むことができる。更に、コレクター52は、例えば、コレクターサブユニット37、38、及び44から46の機能を提供する図4及び図5に記載のコレクターシステムのうちの1つの一部とすることができる。以下は、図4に記載のコレクター36と同様に図1に記載の投影露光装置1においてこの投影露光装置1に2つの離間EUV放射線源31及び32が装備された場合に同様に使用することができるコレクター58の図7を用いた説明である。図1から図6、特に、図4を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。コレクター38のミラー及びコレクターに加えて、コレクター58には、図2に記載のコレクター32の楕円体ミラー34のものと類似の機能を有する2つの更に別のシェル様の楕円体ミラー59、60が更に装備される。楕円体ミラー59は部分リングシェル、例えば、半シェルであり、放射線源31は、ミラー59の一方の強度スポットに配置され、それに対して中間焦点23は、他方の強度スポットに配置される。放射線源32は、ミラー60の楕円の2つの強度スポットの一方に配置され、それに対して中間焦点23は、他方の強度スポットに配置される。ミラー60は、対称平面61に関してミラー59と鏡面対称である。2つの対称軸261、262の間の角二等分線を含み、図7の作図面に対して垂直な対称平面61は、コレクター58の全ての光束誘導構成要素に対する鏡面対称平面である。図4に記載のコレクター36内にも、対応する対称平面が設けられる。ミラー59は、逆方向に放出され、最初に楕円体ミラー40によって反射された放射線源32のEUV放射線142を受光する働きをする。ミラー59は、このEUV放射線142をコレクターサブユニット37の外側のそばを通過して中間焦点23の方向に誘導する。同様に、放射線源31によって逆方向に放出されたEUV放射線141は、最初に楕円体ミラー39により、次に、ミラー60によって反射され、その後にコレクターサブユニット38の外側のそばを通過して共通の中間焦点23の方向に反射される。図4に記載のコレクター36を参照した以上の説明と同様に、EUVビーム経路142及び141は、その瞬間には作動状態にないそれぞれの他方のEUV放射線源31及び32を通過して、その後にミラー50、60によって反射される。図3のミラー34を参照した以上の説明と同様に、更にミラー59は、放射線源31によって横方向に放出された光を中間焦点23に向けて反射する。また、ミラー60も、放射線源32によって横方向に放出された光を中間焦点23に向けて反射する。結論付けると、この配列は、光源31及び32によって順方向及び逆方向、並びに2つの異なる横方向に放出された光を共通の強度スポットに集光することを可能にする。投影露光装置1が、上述のコレクター実施形態のうちの1つを用いて作動される場合には、最初の段階でレチクル7と、照明光14に対して感光性を有するコーティングが設けられたウェーハ12とが準備され、次に、投影露光装置1を用いてレチクル7の少なくとも一部分がウェーハ12に投影される。照明光束14に露光されたウェーハ12上の感光層は現像され、それによって微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素、例えば、半導体チップが製造される。"