アンモニア、水素及び少なくとも1種の触媒並びに場合により溶媒若しくは溶媒混合物の存在下で、イソホロンニトリルの接触水素化及び/又は接触還元アミノ化によって、イソホロンジアミンを製造する方法において、前記水素化に供給される反応混合物中のシアン化物イオン濃度が、用いられるイソホロンニトリルを基準として200ppmw~5000ppmwであることを特徴とする方法。前記シアン化物イオン濃度が200ppmw~3000ppmwであることを特徴とする、イソホロンジアミンの製造法。前記シアン化物イオン濃度を、HCN若しくはシアン化物塩の適切な計量供給によってか、又は200ppmw~5000ppmwのシアン化物イオン濃度を有するIPN品種の使用によって調節することを特徴とする、請求項1又は2記載のイソホロンジアミンの製造法。前記シアン化物イオン濃度の調節を、イミノ化段階においてIPNの適切な逆脱離を引き起こすことによって行うことを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記シアン化物イオン濃度の調節を、イミノ化段階においてIPNからIPNIへの少なくとも80の変換率を達成するために、イミノ化触媒の使用に応じて必要とされる温度より5~50K、有利には7~30K、特に有利には10~20Kだけ上回る形で、イミノ化段階における温度を高めることにより、イミノ化段階におけるIPNの適切な逆脱離を引き起こすことによって行うことを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記方法を、一段階又は多段階で実施することを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。IPDAの製造を二段階のプロセスによって行うことを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。1つ目の段階で、用いられるイソホロンニトリルイミンの少なくとも一部を、イミノ化触媒及び/又は溶媒の存在下若しくは非存在下でアンモニアとの反応によってイソホロンニトリルイミンに変え、その際、IPNからIPNIへの変換率が、前記イミノ化に従って、80超、有利には90超、特に有利には95超であることを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。2つ目の段階で、1つ目の段階の反応生成物を、その発生と同時に、又は後処理後及び/又は更なるアンモニアの添加後に、少なくともアンモニアと水素の存在で、かつ有機溶媒の存在下若しくは非存在下で、20~150°C、有利には40~130°Cの温度、及び0.3~50MPa、有利には5~30MPaの圧力にて、水素化触媒上で水素化アミン生成することを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。IPNからIPDAへの変換を、互いに分けられた3つの反応チャンバー内で行い、その際、1つ目の反応チャンバー内では、IPNからイソホロンニトリルイミンへの変換を、過剰のアンモニアを用いてイミノ化触媒上で、20~150°Cの温度及び5~30MPaの圧力にて行い、2つ目の反応チャンバー内では、発生した反応生成物を、水素により過剰のアンモニアの存在において水素化触媒上で、20~130°Cの温度及び5~30MPaの圧力にて水素化し、そして3つ目の反応チャンバー内では、発生した反応生成物を、触媒上で、100~160°Cの温度及び5~30MPaの圧力で水素化することを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記イミノ化反応を、少なくとも1種のイミノ化触媒の存在下で行うことを特徴とする、請求項1から10までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。液体アンモニアによるイソホロンニトリルのイミノ化を、更なる溶媒の添加なしに実施することを特徴とする、請求項1から11までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記イミノ化段階において、用いられるIPN1モル当たり、アンモニア1~500モル、有利には5~200モル、特に有利には5~100モルを用いることを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記イミノ化を、懸濁触媒又は固定床触媒、有利には少なくとも1種の固定床触媒の存在下で実施することを特徴とする、請求項1から13までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記イミノ化に際して、IPNとアンモニアを、イミノ化触媒が充填された反応管に下方から上方に向かって連続的に通すことを特徴とする、請求項1から14までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記水素化に必要な水素を、反応器に、過剰量、有利には10000モル当量までで供給するか、又は反応によって消費された水素並びに生成物流に溶解して反応器を抜け出す一部の水素が補充される量のみを供給することを特徴とする、請求項1から15までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記水素化を、溶媒としての液体アンモニア中で実施し、その際、IPN1モル当たり、アンモニア1~500モル、有利には5~200モル、特に有利には5~100モルを用いることを特徴とする、請求項1から16までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。触媒として、ニッケル触媒、銅触媒、鉄触媒、パラジウム触媒、ロジウム触媒、ルテニウム触媒及びコバルト触媒、極めて有利にはルテニウム触媒及び/又はコバルト触媒を用いることを特徴とする、請求項1から17までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記触媒が、付加的にドープ金属、有利にはMo、Fe、Ag、Cr、Ni、V、Ga、In、Bi、Ti、Zr及びMn並びに希土類金属を含有することを特徴とする、請求項1から18までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記触媒が、改質剤、有利にはアルカリ金属及びアルカリ土類金属若しくはそれらの化合物、有利にはMg化合物及びCa化合物、並びにリン酸又は硫酸並びにそれらの化合物を含有することを特徴とする、請求項1から19までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。触媒を、粉末又は成形体、例えば押出物若しくは圧縮粉末の形で用いることを特徴とする、請求項1から20までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。触媒として、完全触媒、ラネー型触媒又は担体触媒、有利にはラネー型触媒及び担体触媒を使用することを特徴とする、請求項1から21までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、アルミノケイ酸塩、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、ケイ藻土、アルミニウム-ケイ素の混合酸化物、酸化マグネシウム及び活性炭から選択された担体材料を用いることを特徴とする、請求項1から22までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記水素化触媒を、前記水素化におけるその使用前に、まずアンモニアで調整することを特徴とする請求項1から23までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記イソホロンニトリルイミンを含有する混合物の二段階のプロセスによって、形成された水素化触媒を用いて水素化することを特徴とする、請求項1から24までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記水素化を、ダウンフロー又はアップフロー操作で運転される固定床反応器中で連続的に実施することを特徴とする、請求項1から25までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記水素化を経た反応混合物を一段精製又は多段精製し、かつ前記イソホロンジアミンを得ることを特徴とする、請求項1から26までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。前記水素化を経た反応混合物を2つの工程で精製し、その際、1つ目の工程では、殊に水素、不活性ガス、アンモニア、低沸点不純物及び場合により水を1つ以上の蒸留塔内で完全又は部分的に分離し、そして2つ目の工程では、更なる低沸点不純物、水及び高沸点不純物を完全に又は部分的に蒸留塔内で分離し、かつ前記イソホロンジアミンを得ることを特徴とする、請求項1から27までのいずれか1項記載のイソホロンジアミンの製造法。