"一般式I[式中、Arは、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、1低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Rpは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜1ないし3個、さらにはからなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W1は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRq、SO2NRq、NRqSO2NRr、NRqSO2、CHORq、CONRq、NRqCO、NRqCONRr、NRqCOO、NRqCSO、NRqCOS、CRq=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRq、OCSNRq、SCO、SCONRq又はCOOここにおいて、Rq及びRrは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y1及びY2は、同一又は異なって、単結合又は該2環性若しくは3環性の縮合環を1個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、2低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基及び低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基以下、環上置換基と略す。が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし7員環を形成する含窒素複素芳香環基又は3式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Y1、W1、Y2及びRpは前記の意味を有するで表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし7員環を形成する含窒素複素芳香環基、X及びZは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、R1又はR2及び/若しくはR3と一緒になって、CH又は窒素原子、Yは、CO、SO又はSO2、R1は、水素原子若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rsは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W2は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRt、SO2NRt、NRtSO2NRu、NRtSO2、CHORt、CONRt、NRtCO、NRtCONRu、NRtCOO、NRtCSO、NRtCOS、CRv=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRt、OCSNRt、SCO、SCONRt又はCOOここにおいて、Rt及びRuは、水素原子若しくは低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y3及びY4は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基、又は低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Xと共に窒素原子を形成し、R2及びR3は、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は、前記の意味を有するで示される置換基であるか、R2及びR3の何れか一方が、R1及びXと共に一緒になって形成する、並びにからなる群より選択される飽和の5員ないし8員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに5員ないし7員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するZと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するZ、R1及びXと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Rp、W1、Y1及びY2は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、並びにからなる群より選択される飽和若しくは不飽和の5員ないし8員環基を形成し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は前記の意味を有するで示される置換基又は低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、式は、単結合又は二重結合を示す]で表される化合物又はその塩。一般式I-a[式中、Araは、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、ピラゾリル基及びイミダゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、1’低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ホルミル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基及び低級アルキルスルホニルアミノ基からなる群より選択される置換基並びに式:Y1a-W1a-Y2a-Rpa式中、Rpaは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜1ないし3個、さらにはからなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、インドリル基、エチレンジオキシフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノリル基、ベンゾイミダゾリル基、チアゾリル基、チエニル基及びトリアゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W1aは、酸素原子、硫黄原子、NRqa、SO2NRqa、NRqaSO2、CONRqa、NRqaCO、NRqaCOO、CRqa=CRra、OCO、OCONRqa又はCOOここにおいて、Rqa及びRraは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ホルミル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基及び低級アルキルスルホニルアミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y1a及びY2aは、同一又は異なって、単結合又は該2環性若しくは3環性の縮合環を1個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、2’低級アルキル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群より選択される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし6員環を形成する含窒素複素芳香環基又は3’式:Y1a-W1a-Y2a-Rpa式中、Y1a、W1a、Y2a及びRpaは前記の意味を有するで表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし6員環を形成する含窒素複素芳香環基、Xa及びZaは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、R1a又はR2a及び/若しくはR3aと一緒になって、CH又は窒素原子、Yaは、CO、SO又はSO2、R1aは、水素原子若しくは式:Y3a-W2a-Y4a-Rsa式中、Rsaは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基及びインドリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはテトラヒドロピリジル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基及びモルホリノ基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W2aは、単結合、NRta、CHORta、CONRta、NRtaCO、NRtaCOO、OCONRta又はCOOここにおいて、Rtaは、水素原子、該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す、Y3a及びY4aは、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基又は低級アルキル基、水酸基、カルバモイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3a-W2a-Y4a-Rsa式中、Rsa、W2a、Y3a及びY4aは、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Xと共に窒素原子を形成し、R2a及びR3aは、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式:Y3a-W2a-Y4a-Rsa式中、Rsa、W2a、Y3a及びY4aは、前記の意味を有するで示される置換基であるか、R2a及びR3aの何れか一方が、R1a及びXaと共に一緒になって形成する、並びにからなる群より選択される飽和の5員ないし8員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに5員ないし7員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するZと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するZa、R1a及びXaと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y1a-W1a-Y2a-Rpa式中、Rpa、W1a、Y1a及びY2aは、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、ピリジル基及びピラゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにピペリジニル基及びピロリジニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、並びにからなる群より選択される飽和若しくは不飽和の5員ないし8員環基を形成し、R4a及びR5aは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式:Y3a-W2a-Y4a-Rsa式中、Rsa、W2a、Y3a及びY4aは前記の意味を有するで示される置換基又は低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3a-W2a-Y4a-Rsa式中、Rsa、W2a、Y3a及びY4aは前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、式は、単結合又は二重結合を示す]で表される請求項1に記載の化合物又はその塩。一般式I-b[式中、Arbは、ピリジル基及びピラゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、1’’水酸基、ハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基並びに式:Y1b-W1b-Y2b-Rpb式中、Rpbは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜1ないし3個、さらにはからなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、ピリジル基及びピラゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、テトラヒドロピリジル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W1bは、NRqb、NRqbSO2、CONRqb、NRqbCO、NRqbCOO、OCO又はCOOここにおいて、Rqb及びRrbは、水素原子若しくは水酸基、ハロゲン原子、シクロ低級アルキル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y1b及びY2bは、同一又は異なって、単結合又は該2環性若しくは3環性の縮合環を1個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、2’’低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし6員環を形成する含窒素複素芳香環基又は3’’式:Y1b-W1b-Y2b-Rpb式中、Y1b、W1b、Y2b及びRpbは前記の意味を有するで表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし6員環を形成する含窒素複素芳香環基、Xb及びZbは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、R1b又はR2b及び/若しくはR3bと一緒になって、CH又は窒素原子、Ybは、CO、SO又はSO2、R1bは、水素原子若しくは式:Y3b-W2b-Y4b-Rsb式中、Rsbは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、シクロ低級アルキル基及びアリール基、W2bは、単結合、NRtbCOO又はCOOここにおいて、Rtbは、水素原子、該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す、Y3b及びY4bは、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基、又はヒドロキシ低級アルキル基及び式:Y3b-W2b-Y4b-Rsb式中、Rsb、W2b、Y3b及びY4bは、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Xと共に窒素原子を形成し、R2b及びR3bは、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式:Y3b-W2b-Y4b-Rsb式中、Rsb、W2b、Y3b及びY4bは、前記の意味を有するで示される置換基であるか、R2b及びR3bの何れか一方が、R1b及びXbと共に一緒になって形成する、並びにからなる群より選択される飽和の5員ないし7員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに5員ないし7員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するZと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するZb、R1b及びXbと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選択される置換基並びに式:Y1b-W1b-Y2b-Rpb式中、Rpb、W1b、Y1b及びY2bは、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基並びにピペリジニル基及びピロリジニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、並びにからなる群より選択される飽和若しくは不飽和の5員ないし7員環基を形成し、R4b及びR5bは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子若しくは式:Y3b-W2b-Y4b-Rsb式中、Rsb、W2b、Y3b及びY4bは前記の意味を有するで示される置換基又は低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3b-W2b-Y4b-Rsb式中、Rsb、W2b、Y3b及びY4bは前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、式は、単結合又は二重結合を示す]で表される請求項1又は2に記載の化合物又はその塩。一般式I-p[式中、Arpは、適宜置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、Xpは、炭素原子CH又は窒素原子、R1pは、水素原子又は適宜置換基を有してもよい低級アルキル基、R2pは、水素原子又はオキソ基結合する炭素原子と共にカルボニル基を形成するを示すか、又は結合する炭素原子、R1p及びXpと共に窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種もしくはそれ以上包含してもよく適宜置換基を有していてもよい、飽和もしくは不飽和の5員もしくは6員環基を形成し、R4p及びR5pは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基又は適宜置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す]で表される請求項1ないし3に記載の化合物又はその塩。N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-2-オクチルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-2-メチル-4,4-ジメチルペンチルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-5-メトキシインダン-2-イルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-2-メチルインダン-2-イルアミノメチルピラゾール-上述したとおり、Cdkファミリー阻害作用を有する化合物には、クロモン誘導体が挙げられるが、これらの化合物のCdk4に対する阻害活性は、十分ではなく、一層阻害活性の高い化合物が求められている。さらに例えばCdk6等に対する異質な阻害活性を併せ持った新たな化合物が求められている。本発明者らは、優れたCdk4阻害作用又はCdk6阻害作用を有する化合物を提供することを目的として、鋭意研究した結果、ビアリールウレア骨格を有する新規な化合物がCdk4及び/又はCdk6阻害作用を発揮することを見出し、本発明を完成した。本発明は、一般式I[式中、Arは、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、1低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Rpは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜1ないし3個、さらにはからなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W1は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRq、SO2NRq、NRqSO2NRr、NRqSO2、CHORq、CONRq、NRqCO、NRqCONRr、NRqCOO、NRqCSO、NRqCOS、CRq=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRq、OCSNRq、SCO、SCONRq又はCOOここにおいて、Rq及びRrは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y1及びY2は、同一又は異なって、単結合又は該2環性若しくは3環性の縮合環を1個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、2低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基及び低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基以下、環上置換基と略す。が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし7員環を形成する含窒素複素芳香環基又は3式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Y1、W1、Y2及びRpは前記の意味を有するで表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし7員環を形成する含窒素複素芳香環基、X及びZは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、R1又はR2及び/若しくはR3と一緒になって、CH又は窒素原子、Yは、CO、SO又はSO2、R1は、水素原子若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rsは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W2は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRt、SO2NRt、NRtSO2NRu、NRtSO2、CHORt、CONRt、NRtCO、NRtCONRu、NRtCOO、NRtCSO、NRtCOS、CRv=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRt、OCSNRt、SCO、SCONRt又はCOOここにおいて、Rt及びRuは、水素原子若しくは低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y3及びY4は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基、又は低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Xと共に窒素原子を形成し、R2及びR3は、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は、前記の意味を有するで示される置換基であるか、R2及びR3の何れか一方が、R1及びXと共に一緒になって形成する、並びにからなる群より選択される飽和の5員ないし8員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに5員ないし7員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するZと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するZ、R1及びXと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Rp、W1、Y1及びY2は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、並びにからなる群より選択される飽和若しくは不飽和の5員ないし8員環基を形成し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は前記の意味を有するで示される置換基又は低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、式は、単結合又は二重結合を示すで表される化合物又はその塩及びその製造法に関するものである。次に、本明細書に記載された記号及び用語について説明する。含窒素複素芳香環基とは、少なくとも1個の窒素原子を有する芳香環基を示し、上記窒素原子の他、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1種又はそれ以上のヘテロ原子を有する芳香環基を示す。具体的には、例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基又はベンゾオキサゾリル等が挙げられ、中でも例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、ピラゾリル基又はイミダゾリル基等が好ましく、特に例えばピリジル基又はピラゾリル基等が特に好ましい。低級アルキル基としては、炭素数1ないし6個の直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、中でも、例えばメチル基、エチル基、ブチル基等が好適である。ハロゲン原子とは、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも例えばフッ素原子、塩素原子等が好適である。低級アルカノイル基としては、カルボニル基に炭素数1ないし5個よりなるアルキル基が置換した基が好ましく、具体的には例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ペンタノイル基等が挙げられ、中でも例えばアセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基等が好ましい。低級アルカノイルオキシ基とは、酸素原子に上記の低級アルカノイル基が置換した基を意味し、具体的には例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基等が挙げられ、中でも例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイルオキシ基等が好ましい。ヒドロキシ低級アルキル基としては、水酸基が置換した炭素数1ないし6個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばヒドロキシメチル基、ジヒドロキシメチル基、トリヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、3-ヒドロキシプロピル基、1-ヒドロキシ-2-メチルエチル基、1-ヒドロキシブチル基、1-ヒドロキシ-2-メチルプロピル基、1-ヒドロキシ-2,2-ジメチルエチル基、1-ヒドロキシペンチル基、1-ヒドロキシ-2-メチルブチル基、1-ヒドロキシヘキシル基、1-ヒドロキシ-2-メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-ヒドロキシ-2-メチルエチル基等が好ましい。シアノ低級アルキル基としては、シアノ基が置換した炭素数1ないし6個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばシアノメチル基、1-シアノエチル基、2-シアノエチル基、1-シアノプロピル基、2-シアノプロピル基、3-シアノプロピル基、1-シアノ-2-メチルエチル基、1-シアノブチル基、1-シアノ-2-メチルプロピル基、1-シアノ-2,2-ジメチルエチル基、1-シアノペンチル基、1-シアノ-2-メチルブチル基、1-シアノヘキシル基、1-シアノ-2-メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばシアノメチル基、1-シアノエチル基、2-シアノシエチル基、1-シアノ-2-メチルエチル基等が好ましい。ハロ低級アルキル基としては、ハロゲン原子が置換した炭素数1ないし6個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル基、1-フルオロエチル基、2-フルオロエチル基、1-クロロエチル基、2-クロロエチル基、1-クロロプロピル基、2-クロロプロピル基、1-フルオロ-2-メチルエチル基、1-クロロ-2-メチルエチル基、1-クロロブチル基、1-クロロ-2-メチルプロピル基、1-クロロ-2,2-ジメチルエチル基、1-クロロペンチル基、1-クロロ-2-メチルブチル基、1-クロロヘキシル基、1-クロロ-2-メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばクロロメチル基、トリフルオロメチル基、1-フルオロエチル基、1-クロロエチル基、1-クロロ-2-メチルエチル基等が好ましい。カルボキシ低級アルキル基としては、カルボキシ基が置換した炭素数1ないし6個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばカルボキシメチル基、1-カルボキシエチル基、2-カルボキシエチル基、1-カルボキシプロピル基、2-カルボキシプロピル基、3-カルボキシプロピル基、1-カルボキシ-2-メチルエチル基、1-カルボキシブチル基、1-カルボキシ-2-メチルプロピル基、1-カルボキシ-2,2-ジメチルエチル基、1-カルボキシペンチル基、1-カルボキシ-2-メチルブチル基、1-カルボキシヘキシル基、1-カルボキシ-2-メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばカルボキシメチル基、1-カルボキシエチル基、2-カルボキシエチル基、1-カルボキシ-2-メチルエチル基等が好ましい。カルバモイル低級アルキル基としては、カルバモイル基が置換した炭素数1ないし6個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばカルバモイルメチル基、1-カルバモイルエチル基、2-カルバモイルエチル基、1-カルバモイルプロピル基、2-カルバモイルプロピル基、3-カルバモイルプロピル基、1-カルバモイル-2-メチルエチル基、1-カルバモイルブチル基、1-カルバモイル-2-メチルプロピル基、1-カルバモイル-2,2-ジメチルエチル基、1-カルバモイルペンチル基、1-カルバモイル-2-メチルブチル基、1-カルバモイルヘキシル基、1-カルバモイル-2-メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばカルバモイルメチル基、1-カルバモイルエチル基、2-カルバモイルエチル基、1-カルバモイル-2-メチルエチル基等が好ましい。低級アルコキシ基としては、酸素原子に炭素数1ないし6個よりなるアルキル基が置換した基等が好ましく、具体的には例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基等が挙げられ、中でも例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、tert-ブトキシ基等が好ましい。低級アルコキシカルボニル基とは、カルボニル基に上記の低級アルコキシ基が置換した基を意味し、具体的には例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec-ブトキシカルボニル基、tert-ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、イソヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられ、中でも例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、tert-ブトキシカルボニル基等が好ましい。低級アルキルカルバモイル基とは、カルバモイル基に上記の低級アルキル基がN-置換した置換基を示し、例えばN-メチルカルバモイル基、N-エチルカルバモイル基、N-プロピルカルバモイル基、N-イソプロピルカルバモイル基、N-ブチルカルバモイル基、N-イソブチルカルバモイル基、N-tert-ブチルカルバモイル基、N-ペンチルカルバモイル基、N-ヘキシルカルバモイル基等が挙げられ、中でも例えばN-メチルカルバモイル基、N-エチルカルバモイル基、N-ブチルカルバモイル基等が好適である。ジ低級アルキルカルバモイル基とは、カルバモイル基に上記の低級アルキル基がN,N-ジ置換した置換基を示し、例えばN,N-ジメチルカルバモイル基、N,N-ジエチルカルバモイル基、N,N-ジプロピルカルバモイル基、N,N-ジイソプロピルカルバモイル基、N,N-ジブチルカルバモイル基、N,N-ジイソブチルカルバモイル基、N,N-ジtert-ブチルカルバモイル基、N,N-ジペンチルカルバモイル基、N,N-ジヘキシルカルバモイル基、、N-エチル-N-メチルカルバモイル基、N-メチル-N-プロピルカルバモイル基等が挙げられ、中でも例えばN,N-ジメチルカルバモイル基、N,N-ジエチルカルバモイル基、N,N-ジブチルカルバモイル基、N-エチル-N-メチルカルバモイル基、N-メチル-N-プロピルカルバモイル基等が好適である。低級アルキルカルバモイルオキシ基とは、酸素原子に上記の低級アルキルカルバモイル基置換した置換基を示し、例えばN-メチルカルバモイルオキシ基、N-エチルカルバモイルオキシ基、N-プロピルカルバモイルオキシ基、N-イソプロピルカルバモイルオキシ基、N-ブチルカルバモイルオキシ基、N-イソブチルカルバモイルオキシ基、N-tert-ブチルカルバモイルオキシ基、N-ペンチルカルバモイルオキシ基、N-ヘキシルカルバモイルオキシ基等が挙げられ、中でも例えばN-メチルカルバモイルオキシ基、N-エチルカルバモイルオキシ基、N-ブチルカルバモイルオキシ基等が好適である。ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基とは、酸素原子に上記のジ低級アルキルカルバモイルが置換した置換基を示し、例えばN,N-ジメチルカルバモイルオキシ基、N,N-ジエチルカルバモイルオキシ基、N,N-ジプロピルカルバモイルオキシ基、N,N-ジイソプロピルカルバモイルオキシ基、N,N-ジブチルカルバモイルオキシ基、N,N-ジイソブチルカルバモイルオキシ基、N,N-ジtert-ブチルカルバモイルオキシ基、N,N-ジペンチルカルバモイルオキシ基、N,N-ジヘキシルカルバモイルオキシ基、、N-エチル-N-メチルカルバモイルオキシ基、N-メチル-N-プロピルカルバモイルオキシ基等が挙げられ、中でも例えばN,N-ジメチルカルバモイルオキシ基、N,N-ジエチルカルバモイルオキシ基、N,N-ジブチルカルバモイルオキシ基、N-エチル-N-メチルカルバモイルオキシ基、N-メチル-N-プロピルカルバモイルオキシ基等が好適である。低級アルキルアミノ基とは、アミノ基に上記の低級アルキル基がN-置換した置換基を示し、例えばN-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-イソプロピルアミノ基、N-ブチルアミノ基、N-イソブチルアミノ基、N-tert-ブチルアミノ基、N-ペンチルアミノ基、N-ヘキシルアミノ基等が挙げられ、中でも例えばN-メチルアミノ基、N-エチルアミノ基、N-ブチルアミノ基等が好適である。ジ低級アルキルアミノ基とは、アミノ基に上記の低級アルキル基がN,N-ジ置換した置換基を示し、例えばN,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N,N-ジイソプロピルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ基、N,N-ジイソブチルアミノ基、N,N-ジtert-ブチルアミノ基、N,N-ジペンチルアミノ基、N,N-ジヘキシルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基等が挙げられ、中でも例えばN,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピルアミノ基等が好適である。トリ低級アルキルアンモニオ基とは、アミノ基に上記の低級アルキル基がN,N,N-三置換した置換基を示し、例えばN,N,N-トリメチルアンモニオ基、N,N,N-トリエチルアンモニオ基、N,N,N-トリプロピルアンモニオ基、N,N,N-トリイソプロピルアンモニオ基、N,N,N-トリブチルアンモニオ基、N,N,N-トリイソブチルアンモニオ基、N,N,N-トリtert-ブチルアンモニオ基、N,N,N-トリペンチルアンモニオ基、N,N,N-トリヘキシルアンモニオ基、、N-エチル-N,N-ジメチルアンモニオ基、N,N-ジメチル-N-プロピルアンモニオ基等が挙げられ、中でも例えばN,N,N-トリメチルアンモニオ基、N,N,N-トリエチルアンモニオ基、N,N,N-トリブチルアンモニオ基、N-エチル-N,N-ジメチルアンモニオ基、N,N-ジメチル-N-プロピルアンモニオ基等が好適である。アミノ低級アルキル基としては、アミノ基が置換した炭素数1ないし6個よりなるアルキル基等が好ましく、具体的には例えばアミノメチル基、ジアミノメチル基、トリアミノメチル基、1-アミノエチル基、2-アミノエチル基、1-アミノプロピル基、2-アミノプロピル基、3-アミノプロピル基、1-アミノ-2-メチルエチル基、1-アミノブチル基、1-アミノ-2-メチルプロピル基、1-アミノ-2,2-ジメチルエチル基、1-アミノシペンチル基、1-アミノ-2-メチルブチル基、1-アミノヘキシル基、1-アミノ-2-メチルペンチル基等が挙げられ、中でも例えばアミノメチル基、1-アミノエチル基、2-アミノエチル基、1-アミノ-2-メチルエチル基等が好ましい。低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、低級アルキル基に上記の低級アルキルアミノ基が置換した置換基を示し、例えばN-メチルアミノメチル基、N-エチルアミノメチル基、N-プロピルアミノメチル基、N-イソプロピルアミノメチル基、N-ブチルアミノメチル基、N-イソブチルアミノメチル基、N-tert-ブチルアミノメチル基、N-ペンチルアミノメチル基、N-ヘキシルアミノメチル基等が挙げられ、中でも例えばN-メチルアミノメチル基、N-エチルアミノメチル基、N-ブチルアミノメチル基等が好適である。ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、低級アルキル基に上記のジ低級アルキルアミノ基が置換した置換基を示し、例えばN,N-ジメチルアミノメチル基、N,N-ジエチルアミノメチル基、N,N-ジプロピルアミノメチル基、N,N-ジイソプロピルアミノメチル基、N,N-ジブチルアミノメチル基、N,N-ジイソブチルアミノメチル基、N,N-ジtert-ブチルアミノメチル基、N,N-ジペンチルアミノメチル基、N,N-ジヘキシルアミノメチル基、N-エチル-N-メチルアミノメチル基、N-メチル-N-プロピルアミノメチル基等が挙げられ、中でも例えばN,N-ジメチルアミノメチル基、N,N-ジエチルアミノメチル基、N,N-ジブチルアミノメチル基、N-エチル-N-メチルアミノメチル基、N-メチル-N-プロピルアミノメチル基等が好適である。トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基とは、低級アルキル基に上記のトリ低級アルキルアンモニオ基が置換した置換基を示し、例えばN,N,N-トリメチルアンモニオメチル基、N,N,N-トリエチルアンモニオメチル基、N,N,N-トリプロピルアンモニオメチル基、N,N,N-トリイソプロピルアンモニオメチル基、N,N,N-トリブチルアンモニオメチル基、N,N,N-トリイソブチルアンモニオメチル基、N,N,N-トリtert-ブチルアンモニオメチル基、N,N,N-トリペンチルアンモニオメチル基、N,N,N-トリヘキシルアンモニオメチル基、N-エチル-N,N-ジメチルアンモニオメチル基、N,N-ジメチル-N-プロピルアンモニオメチル基等が挙げられ、中でも例えばN,N,N-トリメチルアンモニオメチル基、N,N,N-トリエチルアンモニオメチル基、N,N,N-トリブチルアンモニオメチル基、N-エチル-N,N-ジメチルアンモニオメチル基、N,N-ジメチル-N-プロピルアンモニオメチル基等が好適である。低級アルカノイルアミノ基とは、アミノ基に上記の低級アルカノイル基が置換した置換基を示し、例えばN-アセチルアミノ基、N-プロピオニルアミノ基、N-ブチリルアミノ基等が挙げられ、中でも例えばN-アセチルアミノ基、N-プロピオニルアミノ基等が好適である。低級アロイルアミノ基とは、アミノ基にアロイル基が置換した置換基を示し、例えばN-ベンゾイルアミノ基、N-ナフチルカルボニルアミノ基等が挙げられ、中でも例えばN-ベンゾイルアミノ基等が好適である。低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基とは、アミジノ低級アルキル基に上記の低級アルカノイル基が置換した置換基を示し、例えばN-アセチルアミジノメチル基、N-プロピオニルアミジノメチル基、N-ブチリルアミジノメチル基等が挙げられ、中でも例えばN-アセチルアミジノメチル基、N-プロピオニルアミジノメチル基等が好適である。低級アルキルスルフィニル基とは、スルフィニル基に上記の低級アルキル基が置換した基を示し、例えばN-メチルスルフィニル基、N-エチルスフィニル基、N-ブチルスルフィニル基等が挙げられ、中でも例えばN-メチルスルフィニル基、N-エチルスルフィニル基等が好適である。低級アルキルスルホニル基とは、スルホニル基に上記の低級アルキル基が置換した基を示し、例えばN-メチルスルホニル基、N-エチルスホニル基、N-ブチルスルホニル基等が挙げられ、中でも例えばN-メチルスルホニル基、N-エチルスルホニル基等が好適である。低級アルキルスルホニルアミノ基とは、アミノ基に上記の低級アルキルスルホニル基がN-置換した置換基を示し、例えばN-メチルスルホニルアミノ基、N-エチルスホニルアミノ基、N-ブチルスルホニルアミノ基等が挙げられ、中でも例えばN-メチルスルホニルアミノ基、N-エチルスルホニルアミノ基等が好適である。低級アルコキシイミノ基とは、イミノ基に上記の低級アルコキシ基が置換した置換基を示し、例えばメトキシイミノ基、エトキシイミノ基、プロポキシイミノ基等が挙げられ、中でも例えばメトキシイミノ基、エトキシイミノ基等が好適である。低級アルケニル基としては、炭素数2ないし6個の直鎖状または分岐状のアルケニル基等が好ましく、例えばビニル基、1-プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、1-ブテニル基、3-ブテニル基、1,3-ブタンジエニル基、2-ペンテニル基、4-ペンテニル基、1-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、5-ヘキセニル基等が挙げられ、中でも例えば1-プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、1-ブテニル基等が好適である。低級アルキニル基としては、炭素数2ないし6個の直鎖状または分岐状のアルキニル基等が好ましく、例えば2-プロピニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、2-ペンチニル基等が挙げられ、中でも例えば2-プロピニル基、2-ブチニル基等が好適である。シクロ低級アルキル基としては、炭素数3ないし10個の単環ないし2環性のアルキル基等が好ましく、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられ、中でも例えばシクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が好適である。アリール基としては、炭素数6ないし15個よりなるアリール基が好ましく、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、中でも例えばフェニル基等が好ましい。芳香族複素環基としては、例えばイミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基等が好ましく、中でも例えばイミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、インドリル基、エチレンジオキシフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノリル基、ベンゾイミダゾリル基、チアゾリル基、チエニル基等が好ましく、特にピリジル基、ピラゾリル基等がより好適である。脂肪族複素環基とは、単環または2もしくは3環からなる縮合環である脂肪族複素環基を示し、それらは飽和脂肪族複素環基であっても不飽和脂肪族複素環基であってもよい。具体的には、例えばイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基、テトラヒドロイソキノリニル基等が好ましく、中でも例えばイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロイソキノリニル基等が好ましく、特にイソキサゾリニル基、テトラヒドロピリジル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロイソキノリニル基等がより好ましい。アラルキル基としては、炭素数7~15個よりなるアラルキル基等が好ましく、具体的には例えばベンジル基、α-メチルベンジル基、フェネチル基、3-フェニルプロピル基、1-ナフチルメチル基、2-ナフチルメチル基、α-メチル1-ナフチルメチル基、α-メチル2-ナフチルメチル基、α-エチル1-ナフチルメチル基、α-エチル2-ナフチルメチル基、ジフェニルメチル基等、ジナフチルメチル基等が挙げられ、特に例えばベンジル基、α-メチルベンジル基、フェネチル基等が好ましい。直鎖状又は分岐状の低級アルキレン基としては、炭素数1ないし6のアルキレン基等が好ましく、具体的には例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ジメチルメチレン基、ジエチルメチレン基等が挙げられ、中でも例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ジメチルメチレン基等が好適である。スピロシクロ低級アルキル基としては、炭素数3ないし6個のスピロ環を形成するアルキル基等が好ましく、例えばスピロシクロプロピル基、スピロシクロブチル基、スピロシクロペンチル基、スピロシクロヘキシル基等が挙げられ、中でも例えばスピロシクロペンチル基、スピロシクロヘキシル基等が好適である。Arとは、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基を示し、中でも例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基等が好ましく、特に例えばピリジル基、ピラゾリル基等がより好ましい。当該含窒素複素芳香環基は、1低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Rpは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜1ないし3個、さらにはからなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W1は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRq、SO2NRq、NRqSO2NRr、NRqSO2、CHORq、CONRq、NRqCO、NRqCONRr、NRqCOO、NRqCSO、NRqCOS、CRq=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRq、OCSNRq、SCO、SCONRq又はCOOここにおいて、Rq及びRrは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y1及びY2は、同一又は異なって、単結合又は該2環性若しくは3環性の縮合環を1個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよく、2低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基及び低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基以下、環上置換基と略す。が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし7員環を形成することができ、3式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Y1、W1、Y2及びRpは前記の意味を有するで表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし7員環を形成することができる。ここで、1の置換基の形態を、詳しく説明すると、具体的な置換基としては、1-1低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに1-2式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Rpは、水素原子又は低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくはシクロ低級アルキル基、アリール基、芳香族複素環基若しくは脂肪族複素環基、W1は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRq、SO2NRq、NRqSO2NRr、NRqSO2、CHORq、CONRq、NRqCO、NRqCONRr、NRqCOO、NRqCSO、NRqCOS、CRq=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRq、OCSNRq、SCO、SCONRq又はCOOここにおいて、Rq及びRrは、水素原子、該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す、Y1及びY2は、同一又は異なって、単結合又は該2環性若しくは3環性の縮合環を1個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基からなる群から選択される置換基が挙げられ、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基が当該含窒素複素芳香環基に置換することができる。1-1において、好適な置換基は、例えば低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ホルミル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基等が挙げられ、特に例えば水酸基、ハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ低級アルキル基等がより好ましい。1-2の式:Y1-W1-Y2-Rpにおいて、Rpが低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基又はシクロ低級アルキル基、アリール基、芳香族複素環基若しくは脂肪族複素環基の場合、これらの各置換基は、低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基を、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基が当該含窒素複素芳香環基に置換することができる。Rpがシクロ低級アルキル基、アリール基、芳香族複素環基又は脂肪族複素環基の場合、これらの各置換基は、上記置換基に加えて、からなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を有することができる。式:Y1-W1-Y2-Rpにおいて、W1は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRq、SO2NRq、NRqSO2NRr、NRqSO2、CHORq、CONRq、NRqCO、NRqCONRr、NRqCOO、NRqCSO、NRqCOS、CRq=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRq、OCSNRq、SCO、SCONRq又はCOOここにおいて、Rq及びRrは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示すを示し、中でも例えば酸素原子、硫黄原子、NRq、SO2NRq、NRqSO2、CONRq、NRqCO、NRqCOO、CRq=CRr、OCO、OCONRq、COO等が好ましく、特に例えばNRq、NRqSO2、CONRq、NRqCO、NRqCOO、OCO、COO等が好ましい。なお、W1中のRq及びRrは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す。該低級アルキル基、該アリール基若しくは該アラルキル基は、低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基を適宜1ないし3個有することができる。式:Y1-W1-Y2-Rpにおいて、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す。該直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基は、上記のからなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を1個有することができる。次に、2の置換基の形態を詳しく説明すると、本置換基は、上記の含窒素複素芳香環基上の置換基の内、例えば低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基等の置換基置が関与し、これらの環上置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし7員環を形成されたものである。なお、該環上置換基としては、例えば低級アルキル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基等が好ましく、中でも、例えば低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基等がより好ましい。次に、3の置換基の形態を詳しく説明すると、本置換基は、式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Y1、W1、Y2及びRpは前記の意味を有するで表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって形成された、からなる群より選択される5員ないし7員環等を意味する。当該含窒素複素芳香環基の置換基又は形成基は、1、2及び3の何れにおいても好ましいが、好適な形態は、1’低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ホルミル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基及び低級アルキルスルホニルアミノ基からなる群より選択される置換基並びに式:Y1a-W1a-Y2a-Rpa式中、Rpaは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜1ないし3個、さらにはからなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、インドリル基、エチレンジオキシフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノリル基、ベンゾイミダゾリル基、チアゾリル基、チエニル基及びトリアゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W1aは、酸素原子、硫黄原子、NRqa、SO2NRqa、NRqaSO2、CONRqa、NRqaCO、NRqaCOO、CRqa=CRra、OCO、OCONRqa又はCOOここにおいて、Rqa及びRraは、水素原子、低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ホルミル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基及び低級アルキルスルホニルアミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y1a及びY2aは、同一又は異なって、単結合又は該2環性若しくは3環性の縮合環を1個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基からなる群から選択される置換基、2’低級アルキル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群より選択される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし6員環を形成する含窒素複素芳香環基又は3’式:Y1a-W1a-Y2a-Rpa式中、Y1a、W1a、Y2a及びRpaは前記の意味を有するで表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし6員環であり、さらには、1’’水酸基、ハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基並びに式:Y1b-W1b-Y2b-Rpb式中、Rpbは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜1ないし3個、さらにはからなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、ピリジル基及びピラゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、テトラヒドロピリジル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W1bは、NRqb、NRqbSO2、CONRqb、NRqbCO、NRqbCOO、OCO又はCOOここにおいて、Rqb及びRrbは、水素原子若しくは水酸基、ハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y1b及びY2bは、同一又は異なって、単結合又は該2環性若しくは3環性の縮合環を1個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基からなる群から選択される置換基、2’’低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキルアミノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし6員環又は3’’式:Y1b-W1b-Y2b-Rpb式中、Y1b、W1b、Y2b及びRpbは前記の意味を有するで表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし6員環等が好適である。X及びZは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、R1又はR2及び/若しくはR3と一緒になって、CH又は窒素原子を示す。Yは、CO、SO又はSO2を示す。R1は、水素原子若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rsは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W2は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRt、SO2NRt、NRtSO2NRu、NRtSO2、CHORt、CONRt、NRtCO、NRtCONRu、NRtCOO、NRtCSO、NRtCOS、CRv=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRt、OCSNRt、SCO、SCONRt又はCOOここにおいて、Rt及びRuは、水素原子若しくは低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y3及びY4は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基、又は低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Xと共に窒素原子を形成する。ここで、R1の形態を、詳しく説明すると、R1は、水素原子又は式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は、前記の意味を有するで示される置換基であるか、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Xと共に窒素原子を形成することが挙げられる。式:Y3-W2-Y4-Rsにおいて、Rsは、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、芳香族複素環基又は脂肪族複素環基等であり、これらの各置換基は、低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基を適宜1ないし3個有することができる。なお、好ましい置換基群は、Ar上の置換基と同様に列挙することができる。式:Y3-W2-Y4-Rsにおいて、W2は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRt、SO2NRt、NRtSO2NRu、NRtSO2、CHORt、CONRt、NRtCO、NRtCONRu、NRtCOO、NRtCSO、NRtCOS、CRv=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRt、OCSNRt、SCO、SCONRt又はCOOを示す。ここにおいて、Rt及びRuは、水素原子若しくは低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基であり、該低級アルキル基、該アリール基又は該アラルキル基の各置換基は、Rsと同様に、置換基を適宜1ないし3個有することができる。式:Y3-W2-Y4-Rsにおいて、Y3及びY4は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示す。R1の好ましい例は、例えば水素原子若しくは式:Y3a-W2a-Y4a-Rsa式中、Rsaは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基及びインドリル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはテトラヒドロピリジル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基及びモルホリノ基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W2aは、単結合、NRta、CHORta、CONRta、NRtaCO、NRtaCOO、OCONRta又はCOOここにおいて、Rta及びRuaは、水素原子、該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す、Y3a及びY4aは、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基又は低級アルキル基、水酸基、カルバモイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3a-W2a-Y4a-Rsa式中、Rsa、W2a、Y3a及びY4aは、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Xと共に窒素原子を形成する場合が挙げられ、特に水素原子若しくは式:Y3b-W2b-Y4b-Rsb式中、Rsbは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、シクロ低級アルキル基及びアリール基、W2bは、単結合、、NRtbCOO又はCOOここにおいて、Rtbは、水素原子、該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す、Y3b及びY4bは、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基又はヒドロキシ低級アルキル基及び式:Y3b-W2b-Y4b-Rsb式中、Rsb、W2b、Y3b及びY4bは、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Xと共に窒素原子を形成する場合が挙げられる。R2及びR3は、同一又は異なって、i独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は、前記の意味を有するで示される置換基であるか、iiR2及びR3の何れか一方が、R1及びXと共に一緒になって形成する、並びにからなる群より選択される飽和の5員ないし8員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに5員ないし7員環形成するか、iii又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するZと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するZ、R1及びXと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Rp、W1、Y1及びY2は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、並びにからなる群より選択される飽和若しくは不飽和の5員ないし8員環基を形成する。ここで、R2及びR3を具体的に説明すると、iR2及びR3は、同一又は異なって、独立して置換基を担う場合、iiR2及びR3の何れか一方が他の置換基と共に一緒になって置換基を形成し、形成された当該置換基と他方が一緒になってさらなる置換基を形成する場合及びiiiR2及びR3が一緒になって置換基を形成したり、R2及びR3が他の置換基等と一緒になって置換基を形成する場合の何れの場合も本発明に包含される。次に、R2及びR3の置換基の各態様について説明する。iR2及びR3は、水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基又は式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は、前記の意味を有するで示される置換基を意味し、同一でも異なってもよく、それぞれ依存することなく、独立している。iiR2及びR3の何れか一方が、R1及びXと共に一緒になって並びにからなる群より選択される飽和の5員ないし8員環を形成し、他方は、当該5員ないし8員環と一緒になって、当該環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子と共に5員ないし7員環を形成することができる。iiiR2及びR3は、iii-1一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基を形成するか、iii-2結合するZと共にオキソ基を形成するか、iii-3結合するZ、R1及びXと共に、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよい並びにからなる群より選択される飽和若しくは不飽和の5員ないし8員環基を形成することができる。当該飽和若しくは不飽和の5員ないし8員環基は、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Rp、W1、Y1及びY2は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有することができる。なお、スピロシクロ低級アルキル基の置換基としては、例えば低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、アリール基等が挙げられ、中でも例えば低級アルキル基、低級アルコキシ基等が好ましい。当該飽和若しくは不飽和の5員ないし8員環基は、さらには、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合することができる。この縮合環は、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有することができる。具体的な置換基は、Ar上の置換基と同様のものを例示することができる。R2及びR3は、i、ii及びiiiの何れにおいても好ましいが、好適な形態は、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式:Y3a-W2a-Y4a-Rsa式中、Rsa、W2a、Y3a及びY4aは、前記の意味を有するで示される置換基であるか、R2a及びR3aの何れか一方が、R1a及びXaと共に一緒になって形成する、並びにからなる群より選択される飽和の5員ないし8員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに5員ないし7員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するZと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するZa、R1a及びXaと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基及びアロイルアミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y1a-W1a-Y2a-Rpa式中、Rpa、W1a、Y1a及びY2aは、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、ピリジル基及びピラゾリル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにピペリジニル基及びピロリジニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、並びにからなる群より選択される飽和若しくは不飽和の5員ないし8員環基を形成する場合が挙げられる。中でも、R2b及びR3bは、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式:Y3b-W2b-Y4b-Rsb式中、Rsb、W2b、Y3b及びY4bは、前記の意味を有するで示される置換基であるか、R2b及びR3bの何れか一方が、R1b及びXbと共に一緒になって形成する、並びにからなる群より選択される飽和の5員ないし7員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに5員ないし7員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するZと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するZb、R1b及びXbと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選択される置換基並びに式:Y1b-W1b-Y2b-Rpb式中、Rpb、W1b、Y1b及びY2bは、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基並びにピペリジニル基及びピロリジニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、並びにからなる群より選択される飽和若しくは不飽和の5員ないし7員環基を形成する場合が好ましい。R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は前記の意味を有するで示される置換基又は低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す。ここで、R4及びR5の形態を、詳しく説明すると、R4及びR5は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は前記の意味を有するで示される置換基又は置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す。該低級アルキル基、該アリール基又は該アラルキル基は、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有することができる。置換基の具体例としては、例えば低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基が挙げられる。式は、単結合又は二重結合を示す。当該式に関与する、Z、R1、R2、R3及びXの種類により、何れの結合をとることができる。次に、本発明の一般式Iの化合物について説明する。一般式I[式中、Ar、X、Y、Z、R1、R2、R3、R4、R5及び式は、前記の意味を有する。]の化合物は、良好なCdk4及び/又はCdk6阻害作用を有するが、中でも、一般式I-a[式中、Ara、Xa、Ya、Za、R1a、R2a、R3a、R4a、R5a及び式は、前記の意味を有する。]の化合物が好適であり、特に一般式I-b[式中、Arb、Xb、Yb、Zb、R1b、R2b、R3b、R4b、R5b及び式は、前記の意味を有する。]の化合物が好ましい。なお、一般式I-p[式中、Arpは、適宜置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、Xpは、炭素原子CH又は窒素原子、R1pは、水素原子又は適宜置換基を有してもよい低級アルキル基、R2pは、水素原子又はオキソ基結合する炭素原子と共にカルボニル基を形成するを示すか、又は結合する炭素原子、R1p及びXpと共に窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種もしくはそれ以上包含してもよく適宜置換基を有していてもよい、飽和もしくは不飽和の5員もしくは6員環基を形成し、R4p及びR5pは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基又は適宜置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す]で表される化合物は、一般式Iの化合物に包含され、良好なCdk4及び/又はCdk6阻害作用を示す。以下、一般式I-pの化合物について説明すると、Arpは、例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であり、中でも例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、ピラゾリル基及びイミダゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基が好ましく、特に例えばピリジル基及びピラゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基が好ましい。R2pが結合する炭素原子、R1p及びXと共に形成する飽和もしくは不飽和の5員又は6員環基の具体例としては、又は等が挙げられる。一般式I-pの化合物の内、Arp又はR2pが結合する炭素原子、R1p及びXpと共に形成する飽和もしくは不飽和の5員もしくは6員環基の置換基が、低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基、低級アルコキシイミノ基並びに式:Y1p-W-Y2p-Rpp[式中、Rppは、水素原子又は適宜置換基を有していてもよい、低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基もしくは脂肪族複素環基、Wは、単結合、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、NRqp、SO2NRqp、NRqpSO2NRrp、NRqpSO2、CHORqp、CONRqp、NRqpCO、NRqpCONRrp、NRqpCOO、NRqpCSO、NRqpCOS、CRqp=CRrp、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRqp、OCSNRqp、SCO、SCONRqp又はCOOここにおいて、Rqp及びRrpは、水素原子、適宜置換していてもよい、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す、Y1p及びY2pは、同一又は異なって、単結合又は直鎖状もしくは分枝状の低級アルキレン基を示す]からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい化合物は良好な化合物である。また、一般式I[式中、Ar、X、Y、Z、R1、R2、R3、R4、R5及び式は、前記の意味を有する。]の化合物中、R4、R5及び-HNCONH-Arは、ベンゼン環部分であれば、何れの置換位置においても置換することができる。従って、一般式Iの化合物は、一般式I-1[式中、Ar、X、Y、Z、R1、R2、R3、R4、R5及び式は、前記の意味を有する]の化合物、一般式I-2[式中、Ar、X、Y、Z、R1、R2、R3、R4、R5及び式は、前記の意味を有する]の化合物、一般式I-3[式中、Ar、X、Y、Z、R1、R2、R3、R4、R5及び式は、前記の意味を有する]の化合物及び一般式I-4[式中、Ar、X、Y、Z、R1、R2、R3、R4、R5及び式は、前記の意味を有する]の化合物から構成され、これらの化合物の中で、一般式I-1の化合物が好適である。一般式Iの化合物の医薬として許容される塩としては、医薬上許容される慣用的なものを意味し、置換基として存在する場合の、カルボキシル基または側鎖上の塩基または酸性残基における塩類を挙げることができる。該カルボキシル基または酸性残基における塩基性付加塩としては、例えばアルカリ金属である例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩の他;例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩;例えばアンモニウム塩;例えばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩;ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、プロカイン塩等の脂肪族アミン塩;例えばジベンジルエチレンジアミン等のアラルキルアミン塩;例えばピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩、イソキノリン塩等の複素環芳香族アミン塩;例えばテトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩;アルギニン塩、リジン塩等の塩基性アミノ酸塩等が挙げられる。側鎖上の塩基における酸付加塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、りん酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過塩素酸塩等の無機酸塩;例えば酢酸塩、プロピオン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石酸塩、りんご酸塩、くえん酸塩、アスコルビン酸塩等の有機酸塩;例えばメタンスルホン酸塩、イセチオン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩;例えばアスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等の酸性アミノ酸塩等が挙げられる。一般式Iの化合物の医薬として許容される無毒性エステルとしては、該カルボキシル基における医薬上許容される慣用的なものを意味する。以下に、本発明の一般式Iの化合物中、好適な化合物例について言及するが、後述する実施例化合物を含めて、好適な化合物群は、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-2-オクチルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア563の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-2-メチル-4,4-ジメチルペンチルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア564の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-5-メトキシインダン-2-イルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア581の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-2-メチルインダン-2-イルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア589の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-5-クロロインダン-2-イルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア595の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-6-メチルピリジン-2-イルピラゾール-3-イルウレア605の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-ピロリジン-2-イルピラゾール-3-イルウレア611の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-t-ブチルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア662の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-ピラゾロ[5,4-b]ピリジン-3-イルウレア613の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-1-ヒドロキシメチルシクロペンチルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア572の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]-4-オキソイソインドリン-8-イル-N-5-N-tーブチルーNーメチルーアミノメチルピラゾール-3-イルウレア596の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-ベンジル-1,2,5,6-テトラヒドロピリジン-4-イルピリジン-2-イルウレア254の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-ベンジル-4-ピペリジルピリジン-2-イルウレア255の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-ベンジル-1,2,5,6-テトラヒドロピリジン-3-イルピリジン-2-イルウレア256の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-ベンジル-3-ピペリジルピリジン-2-イルウレア257の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]-4-オキソイソインドリン-8-イル-N-4-1,2,5,6-テトラヒドロピリジン-3-イルピリジン-2-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-アセチル-3-ピペリジルピリジン-2-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-ピペリジノ[3,4-c]ピリジン-6-イルウレア317の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-ピロリジノ[3,4-c]ピリジン-5-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-シクロヘキシルアミノエチルピリジン-2-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-シクロヘキシルピロリジン-3-イルピリジン-2-イルウレア180の化合物、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-ベンジルピロリジン-3-イルピリジン-2-イルウレア165の化合物、N’-N-シクロペンチル-3-メチルイソインドリン-1-オン-4-イル-N-ピリジン-2-イルウレア428の化合物、N’-3-t-ブチルイソインドリノ[3,2-b]オキサゾリジン-4-オン-8-イル-N-4-N-ベンジルピロリジン-3-イルピリジン-2-イルウレア526の化合物、N’-2-メチルイソインドリノ[3,2-b]ペルヒドロ-1,3-オキサジン-5-オン-9-イル-N-4-N-ベンジルピロリジン-3-イルピリジン-2-イルウレア541の化合物及びN’-イソインドリノ[2,3-b]ペルヒドロ-1,4-メタノ-6,11a-ベンゾキサジン-11-オン-7-イルN-ピリジン-2-イルウレア476の化合物等であり、中でも例えばN’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-2-オクチルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-2-メチル-4,4-ジメチルペンチルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-5-メトキシインダン-2-イルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-2-メチルインダン-2-イルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-5-5-クロロインダン-2-イルアミノメチルピラゾール-3-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-ベンジル-1,2,5,6-テトラヒドロピリジン-4-イルピリジン-2-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-ベンジル-4-ピペリジルピリジン-2-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-ピペリジノ[3,4-c]ピリジン-6-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-シクロヘキシルピロリジン-3-イルピリジン-2-イルウレア、N’-ピロリジノ[2,1-b]イソインドリン-4-オン-8-イル-N-4-N-ベンジルピロリジン-3-イルピリジン-2-イルウレア、N’-3-t-ブチルイソインドリノ[3,2-b]オキサゾリジン-4-オン-8-イル-N-4-N-ベンジルピロリジン-3-イルピリジン-2-イルウレア、N’-2-メチルイソインドリノ[3,2-b]ペルヒドロ-1,3-オキサジン-5-オン-9-イル-N-4-N-ベンジルピロリジン-3-イルピリジン-2-イルウレア及びN’-イソインドリノ[2,3-b]ペルヒドロ-1,4-メタノ-6,11a-ベンゾキサジン-11-オン-7-イルN-ピリジン-2-イルウレア等が特に好ましい。次に、本発明の一般式Iの化合物の製造方法について説明する。一般式Iの化合物は、以下の製造法A、製造法B又は製造法Cにより製造することができる。製造法A一般式Iの化合物は、一般式III[式中、X及びZは、同一又は異なって、炭素原子若しくは窒素原子を示すか、適宜、結合する、R10又はR20及び/若しくはR30と一緒になって、CH又は窒素原子、Yは、CO、SO又はSO2、R10は、水素原子若しくは式:Y30-W20-Y40-Rs0式中、Rs0は、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W20は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRt0、SO2NRt0、NRt0SO2NRu0、NRt0SO2、CHORt0、CONRt0、NRt0CO、NRt0CONRu0、NRt0COO、NRt0CSO、NRt0COS、CRv0=CRr0、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRt0、OCSNRt0、SCO、SCONRt0又はCOOここにおいて、Rt0及びRu0は、水素原子若しくは低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y30及びY40は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基、又は低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y30-W20-Y40-Rs0式中、Rs0、W20、Y30及びY40は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Xと共に窒素原子を形成し、R20及びR30は、同一又は異なって、独立して水素原子、保護されていてもよい水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式:Y30-W20-Y40-Rs0式中、Rs0、W20、Y30及びY40は、前記の意味を有するで示される置換基であるか、R20及びR30の何れか一方が、R10及びXと共に一緒になって形成する、並びにからなる群より選択される飽和の5員ないし8員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに5員ないし7員環形成するか、又は一緒になって、スピロシクロ低級アルキル基、結合するZと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するZ、R10及びXと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y10-W10-Y20-Rp0式中、Rp0は、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜1ないし3個、さらにはからなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W10は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRq0、SO2NRq0、NRq0SO2NRr0、NRq0SO2、CHORq0、CONRq0、NRq0CO、NRq0CONRr0、NRq0COO、NRq0CSO、NRq0COS、CRq0=CRr0、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRq0、OCSNRq0、SCO、SCONRq0又はCOOここにおいて、Rq0及びRr0は、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y10及びY20は、同一又は異なって、単結合又は該2環性若しくは3環性の縮合環を1個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、並びにからなる群より選択される飽和若しくは不飽和の5員ないし8員環基を形成し、R40及びR50は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、保護されていてもよい水酸基、保護されていてもよいアミノ基若しくは式:Y30-W20-Y40-Rs0式中、Rs0、W20、Y30及びY40は前記の意味を有するで示される置換基又は低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y30-W20-Y40-Rs0式中、Rs0、W20、Y30及びY40は前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、式は、単結合又は二重結合を示す]で表される化合物と、一般式IV[式中、Ar0は、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、1低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに式:Y10-W10-Y20-Rp0式中、Rp0、W10、Y10及びY20は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、2低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、保護されていてもよいカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基及び低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基以下、保護されていてもよい環上置換基と略す。が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該保護されていてもよい環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される保護されていてもよい5員ないし7員環を形成する含窒素複素芳香環基又は3式:Y10-W10-Y20-Rp0式中、Y10、W10、Y20及びRp0は前記の意味を有するで表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される保護されていてもよい5員ないし7員環を形成する含窒素複素芳香環基を示す]で表される化合物とを反応させ、一般式II[式中、Ar0、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物とし、適宜保護基を除去することにより、一般式I[式中、Arは、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾチアゾリル基及びベンゾオキサゾリル基からなる群から選択される含窒素複素芳香環基であって、1低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基並びに式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Rpは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基若しくは該置換基を適宜1ないし3個、さらにはからなる群より選択される部分構造を含む2環性若しくは3環性の縮合環を有していてもよい、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W1は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRq、SO2NRq、NRqSO2NRr、NRqSO2、CHORq、CONRq、NRqCO、NRqCONRr、NRqCOO、NRqCSO、NRqCOS、CRq=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRq、OCSNRq、SCO、SCONRq又はCOOここにおいて、Rq及びRrは、水素原子若しくは低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y1及びY2は、同一又は異なって、単結合又は該2環性若しくは3環性の縮合環を1個有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい含窒素複素芳香環基、2低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基及び低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基からなる群より選択される置換基以下、環上置換基と略す。が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該環上置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし7員環を形成する含窒素複素芳香環基又は3式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Y1、W1、Y2及びRpは前記の意味を有するで表される置換基が結合する環上の炭素原子、その隣接する炭素原子並びに当該置換基上の炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに一緒になって、からなる群より選択される5員ないし7員環を形成する含窒素複素芳香環基、R1は、水素原子若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rsは、水素原子又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基若しくはイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基、W2は、単結合、酸素原子、硫黄原子、SO、SO2、NRt、SO2NRt、NRtSO2NRu、NRtSO2、CHORt、CONRt、NRtCO、NRtCONRu、NRtCOO、NRtCSO、NRtCOS、CRv=CRr、C≡C、CO、CS、OCO、OCONRt、OCSNRt、SCO、SCONRt又はCOOここにおいて、Rt及びRuは、水素原子若しくは低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群より選択される置換基又は該置換基を適宜1ないし3個有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示す、Y3及びY4は、同一又は異なって、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基を示すで示される置換基、又は低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよい低級アルキル基であるか、又は、Xと共に窒素原子を形成し、R2及びR3は、同一又は異なって、独立して水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は、前記の意味を有するで示される置換基であるか、R2及びR3の何れか一方が、R1及びXと共に一緒になって形成する、並びにからなる群より選択される飽和の5員ないし8員環基において、他方が結合して、環上の炭素原子若しくは窒素原子、当該環上の環上置換基に含まれる、炭素原子、酸素原子及び/又は窒素原子とともに5員ないし7員環形成するか、又は一緒になって、スピロ低級アルキル基、結合するZと共にオキソ基を形成するか、若しくは結合するZ、R1及びXと共に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく、低級アルキル基、置換基を有していてもよいスピロシクロ低級アルキル基、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y1-W1-Y2-Rp式中、Rp、W1、Y1及びY2は、前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基、さらには、適宜1ないし3個の同一若しくは異なる置換基を有してもよいシクロ低級アルキル基、アリール基、イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、イソキノリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、インドリル基、インドリジニル基、イソチアゾリル基、エチレンジオキシフェニル基、オキサゾリル基、、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、キノキサリニル基、キノリル基、ジヒドロイソインドリル基、ジヒドロインドリル基、チオナフテニル基、ナフチリジニル基、フェナジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フリル基、フラザニル基、トリアゾリル基、ベンゾジオキサニル基及びメチレンジオキシフェニル基からなる群より選択される芳香族複素環基並びにイソキサゾリニル基、イソキサゾリジニル基、テトラヒドロピリジル基、イミダゾリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロキノリニル基及びテトラヒドロイソキノリニル基からなる群より選択される脂肪族複素環基からなる群より選択される環と縮合していてもよい、並びにからなる群より選択される飽和若しくは不飽和の5員ないし8員環基を形成し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基若しくは式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は前記の意味を有するで示される置換基又は低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ホルミル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アルキルカルバモイルオキシ基、ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、トリ低級アルキルアンモニオ基、アミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、トリ低級アルキルアンモニオ低級アルキル基、低級アルカノイルアミノ基、アロイルアミノ基、低級アルカノイルアミジノ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び低級アルコキシイミノ基からなる群から選択される置換基並びに式:Y3-W2-Y4-Rs式中、Rs、W2、Y3及びY4は前記の意味を有するで示される置換基からなる群から選択される置換基であって、適宜1ないし3個の同一又は異なる置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を示し、X、Y、Z及び式は、前記の意味を有する]の化合物とすることによって、製造することができる。また、一般式Iの化合物は一般式IIIの化合物に対し、例えばトリクロロアセチル化又はp-ニトロフェノキシカルボニル化を行った後、一般式VIの化合物と反応させることによっても製造することができる。一般式IIIの化合物と一般式IVの化合物との反応は、一般式IIIの化合物1モルに対して、一般式IVの化合物を好ましくは概ね1モル用いて行われる。また、一般式IIIの化合物に対するトリクロロアセチル化又はp-ニトロフェノキシカルボニル化は一般式IIIの化合物1モルに対して、対応するハロゲン化物を1~5モル、好ましくは概ね1モル用いて行われる。次いで、得られた一般式IIIの化合物のトリクロロアセチル化物又はp-ニトロフェノキシカルボニル化物1モルに対し、一般式VIの化合物を1~5モル、好ましくは概ね1モル用いて反応を行う。反応は、通常、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、又はそれらの混合溶媒等不活性溶媒中で行われる。反応温度は、使用される原料化合物に応じて適宜選択されるが、通常、0°Cから反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは20~100°Cである。反応時間は、通常、20分~24時間、好ましくは1時間~4時間で完結するが、適宜増減することができる。なお、一般式IIIの化合物及び一般式IVの化合物において例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の官能基又は当該官能基を含む例えばヒドロキシ低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基等の置換基が存在する場合、当該水酸基、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基等の置換基を、適宜、水酸基の保護基、アミノ基の保護基、カルボキシル基の保護基で保護した後に反応を行を行うことが好ましい。反応終了後に得られた一般式IIの化合物の当該保護基を除去することにより、一般式Iの化合物を製造することができる。水酸基の保護基としては、例えばtert-ブチルジメチルシリル基、tert-ブチルジフェニルシリル基等の低級アルキルシリル基;例えばメトキシメチル基、2-メトキシエトキシメチル基等の低級アルコキシメチル基;例えばベンジル基、p-メトキシベンジル基等のアラルキル基;例えばホルミル基、アセチル基等のアシル基等が挙げられ、特にtert-ブチルジメチルシリル基、アセチル基等が好ましい。アミノ基の保護基としては、例えばベンジル基、p-ニトロベンジル基等のアラルキル基;例えばホルミル基、アセチル基等のアシル基;例えばエトキシカルボニル基、tert-ブトキシカルボニル基等の低級アルコキシカルボニル基;例えばベンジルオキシカルボニル基、p-ニトロベンジルオキシカルボニル基等のアラルキルオキシカルボニル基等が挙げられ、特にp-ニトロベンジル基、tert-ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等が好ましい。カルボキシル基の保護基としては、例えばメチル基、エチル基、tert-ブチル基等の低級アルキル基;例えばベンジル基、p-メトキシベンジル基等のアラルキル基等が挙げられ、特にメチル基、エチル基、ベンジル基等が好ましい。保護基の除去はその種類及び化合物の安定性により異なるが、文献記載の方法[プロテクティブグループスインオーガニックシンセシスProtectiveGroupsinOrganicSynthesis,T.W.グリーンT.W.Greene著、JohnWileySons社1981年参照]又はそれに準ずる方法に従って、例えば酸又は塩基を用いる加溶媒分解、水素化金属錯体等を用いる化学的還元又はパラジウム炭素触媒、ラネーニッケル触媒等を用いる接触還元等により行うことができる。一般式Iの化合物が2環性の縮合環基を形成するときの1例に挙げられる例えばR2及びR3がZと共にオキソ基を形成する化合物、即ち一般式I’[式中、Ar、X、Y、R1、R4及びR5は、前記の意味を有する]の化合物は、一般式IV[式中、Ar0は、前記の意味を有する]で表される化合物と一般式III’[式中、X、Y、R10、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物とを反応させて、一般式II’-a[式中、Ar0、X、Y、R10、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物とし、適宜保護基を除去することにより製造することができる。各工程の反応条件は、製造法Aと同様に行うことができる。なお、この製造法はR2及びR3が水素原子、アルキル基又はアルコキシ基である化合物の製造にも適用することができる。製造法B一般式Iの化合物は、一般式V[式中、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]で表される化合物と一般式VI[式中、Ar0は、前記の意味を有する]で表される化合物とを反応させ、一般式II[式中、Ar0、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物とし、適宜保護基を除去することにより、一般式I[式中、Ar、X、Y、Z、R1、R2、R3、R4、R5及び式は、前記の意味を有する]の化合物とし、製造することができる。本製造法の工程は、製造法Aの一般式Iの化合物及び一般式IIの化合物を製造する工程の方法に準じて行うことができる。製造法C本製造法は、一般式Iにおいて、Arがピラゾリル基である化合物の製造方法である。即ち、一般式VII[式中、Lは、保護されていてもよい他の官能基に変換可能な官能基を有する反応性置換基、T10は、単結合又は適宜、保護された置換基を有していてもよい、直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基、アリール基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基若しくはアラルキル基を含む変換可能な官能基を有するAr0を示す]の化合物と一般式VIIIH2N-NH-R60VIII[式中、R60は、水素原子又はアミノ基の保護基を示す]の化合物を反応させて、一般式IX[式中、T10、R60及びLは、前記の意味を有する]の化合物とし、該化合物、一般式III[式中、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物及びギ酸エステルの反応性誘導体を、適宜塩基の存在下に反応させて、一般式X[式中、X、Y、Z、T10、R10、R20、R30、R40、R50、R60、式及びLは、前記の意味を有する]の化合物とした後、置換基Lの変換反応及び/又は保護基を除去することにより、一般式I’’[式中、T1は、単結合又は直鎖状若しくは分枝状の低級アルキレン基、アリール基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基若しくはアラルキル基を含む変換可能な官能基を有するAr、Qは、W1-Y2-Rpを示しここで、W1、Y2及びRpは前記の意味を有する、X、Y、Z、R、R1、R2、R3、R4、R5及び式は、前記の意味を有する]の化合物を製造することができる。一般式VIIの化合物と一般式VIIIの化合物とを反応させて、一般式IXの化合物を製造する反応は、一般式VIIの化合物1モルに対し、一般式VIIIの化合物1モルないし過剰モル、好ましくは2~3モルを、例えばエタノール、ブタノール等のアルコール中で反応させることにより行うことができる。用いる一般式VIIIの化合物が酸との塩である場合、例えばトリエチルアミン等の塩基を一般式VIIIの化合物1モルに対し2~5モル、好ましくは2~3モルの存在下、一般式VIIIの化合物の遊離体を生成させることが好ましい。反応温度は、通常、20°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは50°C~150°Cであり、反応時間は、通常、1時間~48時間、好ましくは2時間~24時間である。一般式IXの化合物、一般式IIIの化合物及びギ酸エステルの反応性誘導体を、適宜塩基の存在下に反応させて、一般式Xの化合物を製造する反応は、一般式IXの化合物1モルに対し、一般式IIIの化合物を1モルないし過剰モル、好ましくは1~3モルを用いる。ギ酸エステルの反応性誘導体は、一般式IXの化合物1モルに対し1モルないし過剰モル、好ましくは1~3モルを、塩基はギ酸エステルの反応性誘導体に対し、1モルないし過剰モル、好ましくは1~3モルを用いる。なお、ギ酸エステルの反応性誘導体とは、アミドカルボン酸エステルを生成しうるものであれば、特に限定されないが、具体的には例えばクロロギ酸p-ニトロフェニル、クロロギ酸メチル等が挙げられる。反応は通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類;例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;例えばジメチルホルムアミド、アセトン、酢酸エチル等の非プロトン性極性溶媒、又はその混合溶媒等が挙げられる。反応温度は、一般式IXの化合物とギ酸エステルの反応性誘導体との反応では、通常、20°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは20°C~50°Cであり、反応時間は、通常、30分間~24時間、好ましくは1時間~24時間である。この反応が完結した後、一般式IIIの化合物と反応させる段階においては、通常、20°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは50°C~100°Cである。さらに一般式Xの化合物に金属錯体を触媒としてカルボキシル基を導入し、常法に従って例えばアミド体、エステル体等に誘導化した後、必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式I’’の化合物を製造することができる。また、一般式Xの化合物は、一般式IXの化合物、一般式IIIの化合物及びギ酸エステルの反応性誘導体を使用する方法に代えて、例えば一般式IIIの化合物を活性炭存在下においてジホスゲンと反応させイソシアネートとした後、一般式IXの化合物と反応させることによっても製造することができる。反応は、通常不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては例えばテトラヒドロフラン等が挙げられる。反応に用いる各試薬の量は、一般式IIIの化合物1モルに対し、ジホスゲンを1モルないし過剰モル、好ましくは1モルであり、活性炭は5g、一般式IXの化合物は1モルないし過剰モル、好ましくは1モルである。反応温度は、通常、20°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは30°C~100°Cである。反応時間は、通常、30分~24時間、好ましくは30分~6時間である。一般式Xの化合物の他の官能基に変換可能な官能基を有する反応性置換基Lを変換する工程は、例えばRが芳香環でLがハロゲン原子である場合、パラジウム錯体を触媒として、ホスフィン配位子及び塩基の存在下、一般式Xの化合物と一酸化炭素とを例えばメタノール、エタノール等のアルコール溶媒中で反応させて、一般式Xのエステルを生成した後、塩基性条件下で当該エステルを加水分解する方法が適用できる。他の官能基に変換可能な官能基を有する反応性置換基とは、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エステル基、ハロゲン原子等の置換基が挙げられる。反応に用いる各試薬の量は、一般式Xの化合物1モルに対し、例えば酢酸パラジウム等のパラジウム錯体及び例えば1,1-ビスジフェニルホスフィノフェロセン等のホスフィン配位子をそれぞれ5~50重量、好ましくは10~20重量を用い、また例えば炭酸水素ナトリウム等の塩基は一般式Xの化合物1モルに対し、2モル~10モル、好ましくは2モル~3モル用いる。反応温度は、通常、20°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは50°C~100°Cであり、反応時間は、通常、30分間~24時間、好ましくは5時間~24時間である。このようにして製造されたカルボン酸をさらに変換する方法は、後述するArの置換基の変換方法と同様に行うことができる。反応終了後、通常の処理を行った後、必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式I’’の化合物を製造することができる。保護基の除去方法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。次に、一般式Iの化合物のAr上の置換基の変換方法を説明する。Arは、前述したように、各種の置換基を有することができる。例えば製造法A及び製造法Bに示すように、当初の原料化合物に所望の置換基を導入したものを使用すれば、所望の化合物を製造することができる。しかしながら、反応性、収率等を向上させるため、例えば-T1-OR7ここにおいて、R7は、水酸基の保護基、T1は、前記の意味を有するを有する一般式IIの化合物を製造した後、更に官能基の変換反応を行ったり変換法A、或いは一般式IIの化合物のウレア部分を保護し、次いで所望の置換基を導入するため、例えば以下の変換法Bないし変換法Hに示すように各種変換反応を行うことができる。変換法A本変換法は、当該ウレア部分を保護せずにAr上の官能基の変換を行う方法である。各種の変換方法は、例えば一般式II-c[式中、ArC0は、置換基:-T1-OR7ここにおいて、R7及びT1は前記の意味を有するを含む前記のAr0を示し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を出発物質として、一般式II-d[式中、Ard0は、置換基:-T1-OHここにおいて、T1は前記の意味を有する含む前記のAr0を示し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物としたり、一般式II-dの化合物を有機合成化学においてよく知られた、アルコールをアミンへ変換する各種の合成方法を利用して、一般式II-e[式中、Are0は、置換基:-T1-NH2ここにおいて、T1は前記の意味を有するを含む前記のAr0を示し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物とする等が挙げられる。水酸基の保護基の除去法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。アルコールをアミンへ変換する各種の合成方法及び反応条件としては、例えばアゾジカルボン酸ジエチルエステル、トリフェニルホスフィン及びフタルイミド又はジフェニルリン酸アジドを用いる、いわゆる光延反応を行うか、又はトリエチルアミン等の塩基の存在下、塩化メタンスルホニル等のスルホニル化剤でスルホニル化し、次いで塩基の存在下、フタルイミド又はアジ化ナトリウムを作用させた後、得られたフタルイミド体又はアジド体をヒドラジンで処理又は還元する方法等が好ましい。上記反応は通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、前記光延反応では、例えばテトラヒドロフラン、クロロホルム、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン等が、またスルホニル化及びフタルイミド又はアジ化ナトリウムを作用させる反応においては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ベンゼン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。また、ヒドラジンによるフタルイミド基の除去反応では、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類等が、さらにアジド体の還元反応において水素化金属錯体を用いる場合、例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類を、トリフェニルホスフィン等でホスフィン還元を行う場合、例えば含水テトラヒドロフラン等を、接触還元による還元では、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類等を使用することが好ましい。使用される試薬の量は、例えば前記光延反応では、一般式II-dの化合物1モルに対し、アゾジカルボン酸ジエチルエステル、トリフェニルホスフィン及びフタルイミド又はジフェニルリン酸アジドがそれぞれ1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モルである。また、スルホニル化後、フタルイミド又はアジ化ナトリウムを反応させる反応では、一般式II-dの化合物1モルに対し、スルホニル化剤が1モルないし過剰モル、好ましくは1~3モルであり、この際使用される塩基はスルホニル化剤に対し、1モルないし過剰モル、好ましくは1~3モルである。次段階のフタルイミド又はアジ化ナトリウムを反応させる反応では、スルホニル化剤1モルに対し、フタルイミド及び塩基又はアジ化ナトリウムを1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モル使用する。ヒドラジンによるフタルイミド基の除去反応では、フタルイミド体1モルに対し、ヒドラジンが1モルないし過剰モル、好ましくは1~10モルであり、アジド体の水素化金属錯体又はトリフェニルホスフィンによる還元反応では、アジド体1モルに対し、還元剤が1モルないし過剰モル、好ましくは1~2モルである。前記光延反応では、反応温度は、通常、-70°C~100°C、好ましくは20°C~50°Cであり、反応時間は、通常、5分間~48時間、好ましくは30分間~24時間である。ヒドラジンによるフタルイミド基の除去反応の場合、反応温度は、通常、0°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは20°C~100°Cであり、反応時間は、通常、5分間~48時間、好ましくは30分間~24時間である。アジド体を還元してアミン体へ変換する反応では、還元剤として水素化金属錯体を用いる場合、反応温度は、通常、-70°C~150°C、好ましくは-20°C~50°Cであり、反応時間は、通常、5分間~48時間、好ましくは10分間~10時間であり、また還元剤としてトリフェニルホスフィンを用いる場合、反応温度は、通常、20°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは30°C~100°Cであり、反応時間は、通常、10分間~48時間、好ましくは30分間~24時間である。接触還元による還元の場合、反応温度は、通常、0°C~100°C、好ましくは20°C~50°Cであり、反応時間は、通常、10分間~48時間、好ましくは10分間~24時間である。反応終了後、通常の処理を行った後、必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式II-eの化合物を製造することができる。一般式II-dの化合物の中で、一般式II-d1[式中、Ard1は、置換基:-T1-CHRd1-OHここにおいて、Rd1は、水素原子、適宜、保護された置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アラルキル基、芳香環基、複素芳香環基又は窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく適宜置換基を有していてもよい飽和若しくは不飽和の脂肪族環基を意味し、T1は前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]で表される化合物について、酸化反応を行い、一般式II-d2[式中、Ard2は、置換基:-T1-C=O-Rd1ここにおいて、Rd1及びT1は前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物とした後、還元的アミノ化を行い、一般式II-d3[式中、Ard3は、置換基:-T1-CHRd1-NRd2Rd3ここにおいて、Rd2及びRd3は、どちらか一方が水素原子、又は同一若しくは異なって、適宜、保護された置換基を有していてもよい、低級アルキル基、アラルキル基、芳香環基、複素芳香環基若しくは窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を1種若しくはそれ以上包含してもよく適宜置換基を有していてもよい飽和若しくは不飽和の脂肪族環基を意味し、Rd1及びT1は前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を製造することができる。一般式II-d1の化合物を酸化して一般式II-d2の化合物を合成する反応は、合成上一般によく知られた酸化反応を適用することができる。一般式II-d2の化合物とRd2Rd3NH式中、Rd2及びRd3は前記の意味を有するで表される化合物との還元的アミノ化反応は、一般式II-d2の化合物1モルに対し、Rd2Rd3NHを1モルないし過剰モル、好ましくは3~5モル用い、還元剤として、例えば水素化ホウ素ナトリウム又は水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム等を1モルないし過剰モル、好ましくは3~5モル用い、必要に応じてモレキュラーシーブス3Aを一般式II-d2の化合物の重量の3倍量を加えて行う。反応は、通常不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、クロロホルム、メタノール又はこれらの混合溶媒等が好ましい。反応温度は、20°Cから用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは20~60°Cである。一般式II-d1の化合物から一般式II-d2の化合物を経て、一般式II-d3の化合物を合成する工程は、変換法Bに示すようにウレア部分を保護した後においても同様に行うことができる。このようにして得られた一般式II-cの化合物、一般式II-dの化合物及び一般式II-eの化合物は、適宜保護基を除去することにより、一般式Iの化合物を製造することができる。なお、保護基の除去方法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。変換法B本製造法は、当該ウレア部分を保護した後、変換を行う方法である。一般式XI[式中、ArC0、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物は、一般式II-c[式中、ArC0は、置換基:-T1-OR6ここにおいて、R6及びT1は前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物をtert-ブチルアミン及びパラホルムアルデヒドから調製したイミン中で攪拌することにより製造し、本変換反応の原料化合物とすることができ、さらに一般式XIの化合物の水酸基の保護基を除去することにより、一般式XII[式中、Ard0は、置換基:-T1-OHここにおいて、T1は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を製造することができる。一般式XIの化合物を製造する反応は、一般式II-cの化合物1モルに対し、tert-ブチルアミン及びパラホルムアルデヒドから調製したイミンを3~5モル、好ましくは4モルを用いて行う。上記反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。反応温度は、通常、50°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは80°C~150°Cであり、反応時間は、通常、12時間~72時間、好ましくは24時間~72時間である。必要に応じて、反応を促進させるために例えば硫酸等の鉱酸を1滴加えてもよい。一般式XIIの化合物は、一般式XIの化合物を用いて、前記変換法Aの一般式II-cの化合物から一般式II-dの化合物を製造する工程の方法に準じて行うことができる。一般式XIIの化合物は、一般式Iの化合物を製造するための鍵中間体であり、例えば以下の変換法Cないし変換法Eに示すように、一般式XIIの化合物又はその誘導体を用いて、誘導化を行うことができる。変換法C一般式XII[式中、Ard0、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物と一般式XIII[式中、Ar2は1ないし2個のニトロ基により置換されたフェニル基を示し、R8は1ないし3個のメトキシ基により置換されたベンジル基を意味する]で表される化合物と反応させることにより、一般式XIV[式中、Ard1は、置換基:-T1-NR8SO2Ar2ここにおいて、T1、R8、Ar2は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]で表される化合物を製造することができる。反応は、一般式XIIの化合物1モルに対して、一般式XIIIの化合物を1モルないし過剰モル、好ましくは1~3モル用いて、光延反応の常法に従って行われる。例えばジエチルアゾジカルボキシレート等のアゾジカルボン酸のジエステルとトリフェニルホスフィン等のホスフィン類により一般式XIIの化合物を活性化し、一般式XIIIの化合物と反応させることにより、一般式XIVの化合物を得ることができる。反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類;例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類又はそれらの混合溶媒等が挙げられる。使用される試薬の量は、一般式XIIの化合物1モルに対して、例えばジエチルアゾジカルボキシレート等のアゾジカルボン酸のジエステルと例えばトリフェニルホスフィン等のホスフィン類をそれぞれ1モルないし過剰モル、好ましくは1モル~3モルである。反応温度は、通常、0°Cないし反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは20°C~40°Cである。反応時間は、通常、1時間~24時間、好ましくは2時間~24時間である。反応終了後、通常の処理を行い、一般式XIVで表される化合物の粗生成物を得ることができる。このようにして得られた一般式XIVで表される化合物を、常法に従って精製し、一般式XIVの化合物を得ることができる。一般式XIVの化合物から一般式XV[式中、Ard2は、置換基:-T1-NHSO2Ar2ここにおいて、T1、Ar2は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を生成する反応は、アミノ基の保護基の1種であるアラルキル基の通常の除去方法、例えば前記文献記載の方法に従って行われる。一般式XVの化合物から一般式XVI[式中、Ard3は、置換基:-T1-NRqSO2Ar2ここにおいて、Rq、T1、Ar2は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を生成する反応は、一般式XVの化合物1モルに対し、Rq-OHここにおいて、Rqは前記の意味を有するを1モルないし過剰モル、好ましくは1~3モル用いて、一般式XIIの化合物と一般式XIIIの化合物との反応と同様な方法で行うことができ、従って、反応条件等も同様な条件を適用できる。一般式XVIの化合物から一般式XVII[式中、Ard4は、置換基:-T1-NHRqここにおいて、Rq、T1は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を生成する反応は、例えばアリールスルホンアミドの加水分解の常法に従って、例えばチオフェノール、炭酸ナトリウム等を使用して、不活性溶媒中で作用させることにより行うことができる。当該不活性溶媒としては例えばジメチルホルムアミド等が好ましい。Rqに合成上、変換可能な置換基が存在する場合、一般式XVIの化合物に対し、必要に応じて合成反応を行うことにより、適宜置換基を導入した後、一般式XVIの化合物から一般式XVIIへ変換する反応と同様の条件を適用することができる。反応温度は、通常、20°Cないし反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは20°C~80°Cである。反応時間は、通常、2時間~48時間、好ましくは2時間~24時間である。一般式XVIIの化合物から一般式II-f[式中、Ard4は、置換基:-T1-NHRqここにおいて、Rq、T1は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を生成する反応は、一般式XVIIの化合物に適当な酸、例えば塩酸、トリフルオロ酢酸等を作用させて行うことができる。必要であれば、テトラヒドロフラン、クロロホルム等の不活性溶媒と酸とを混合して反応を行うことができる。また、一般式XVIの化合物に対し、必要に応じてRq上の置換基の変換反応を行うことにより、適宜置換基を導入した化合物に対しても同様の反応を行うことができる。一般式II-fの化合物は、一般式XXIIIの化合物に対し、還元的アミノ化を行うことによっても合成できる。この合成方法においては、還元的アミノ化反応の前後の適当な段階において、例えば、塩酸、トリフルオロ酢酸等で処理することにより、ウレア部分の保護基を除去することにより、一般式II-fの化合物を製造することができる。本製造法の各工程における化合物中に保護基が存在する場合、それぞれ上記工程の適当な段階において、これらの保護基の除去を行い、最終的にすべての保護基を除去することにより、一般式Iの化合物を製造することができる。保護基の除去方法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。変換法D本変換は、変換法Cで製造した一般式XVIIの化合物を使用して、一般式XIX[式中、Ard5は、置換基:-T1-NRq-T2-Rpここにおいて、T2は、カルボニル基又はスルホニル基を示し、Rp、Rq、T1、Ar2は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物とし、次いで一般式II-g[式中、Ard5は、置換基:-T1-NRq-T2-Rpここにおいて、T1、Ar2、Rp、Rq及びT2は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を製造するものである。一般式XVIIの化合物から一般式XIXを製造する反応は、一般式XVIIの化合物と一般式XVIIIRp-T2-OH[Rp及びT2は前記の意味を有する]で表されるカルボン酸、スルホン酸、又はそれらの反応性誘導体とを反応させることにより製造することができる。一般式XVIIIのカルボン酸又はスルホン酸の反応性誘導体としては、例えば酸ハロゲン化物、混合酸無水物、活性エステル、活性アミド等が用いられる。一般式XVIIIのカルボン酸を用いる場合には、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド、2-クロロ1、3-ジメチルイミダゾリルクロリド等の縮合剤の存在下、反応を行うことが好ましい。一般式XVII化合物と一般式XVIIIの化合物との反応は、一般式XVIIの化合物1モルに対して、一般式[XVIIIの化合物を1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モル用いて行われる。反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類;例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;例えばジメチルホルムアミド、アセトン、酢酸エチル等の非プロトン性極性溶媒、又はそれらの混合溶媒等が挙げられる。反応温度は、通常、-20°Cないし反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは0°C~50°Cである。反応時間は、通常、10分間~48時間、好ましくは30分間~24時間である。また、上記反応は反応を円滑に進めるために塩基の存在下に行うことができる。当該塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、又は例えばトリエチルアミン、N-エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、N、N-ジメチルアニリン等の有機塩基の存在下に行うことが好ましい。当該塩基の使用量は、一般式XVIIIの化合物1モルに対し、1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モルである。一般式XVIIIの酸ハロゲン化物は、一般式XVIIIのカルボン酸又はスルホン酸を定法に従って、ハロゲン化剤と反応させることによって得ることができる。ハロゲン化剤としては、例えば塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、三臭化リン、オキザリルクロリド、ホスゲン等が用いられる。一般式XVIIIのカルボン酸の混合酸無水物は、一般式XVIIIのカルボン酸を定法に従って、例えばクロロギ酸エチル等のクロロギ酸エステル;アセチルクロリド等の脂肪族カルボン酸クロリド等と反応させることにより得ることができる。一般式XVIIIのカルボン酸の活性エステルは、一般式XVIIIのカルボン酸を定法に従って、例えばN,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド、1-エチル-3-3-ジメチルアミノプロピルカルボジイミド等の縮合剤の存在下、例えばN-ヒドロキシスクシンイミド、N-ヒドロキシフタルイミド、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール等のN-ヒドロキシ化合物;4-ニトロフェノール、ペンタクロロフェノール等のフェノール化合物等と反応させることにより得ることができる。一般式XVIIIのカルボン酸の活性アミドは、一般式[xviii]のカルボン酸を定法に従って、例えば1,1’-カルボニルジイミダゾール、1,1’-カルボニルビス2-メチルイミダゾール等と反応させることにより得ることができる。このようにして得られた一般式XIXの化合物から適宜保護基を除去して、一般式II-gの化合物を得、更に保護基を除去することにより、一般式Iの化合物を製造することができる。一般式XIXの化合物に適当な酸、例えば塩酸、トリフルオロ酢酸等を作用させて一般式II-gの化合物を製造することができる。必要であれば、例えばテトラヒドロフラン、クロロホルム等の不活性溶媒と酸とを混合して反応を行うことができる。また、一般式II-gの化合物は、本製造法の方法に準じて、変換法Aの一般式II-fの化合物を原料として製造することができる。変換法E本変換法は、一般式XIIの化合物を使用して、一般式XX[式中、Arh0は、置換基:-T1-ORpここにおいて、Rp及びT1は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物とし、次いで一般式II-h[式中、Arh0は、置換基:-T1-O-Rpここにおいて、Rp及びT1は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を製造するものである。一般式XIIの化合物を使用して一般式XXの化合物を製造する方法は、アルコールをエーテルへ変換する各種の合成方法及び反応条件が利用できる。例えばアリールエーテルの合成には、アゾジカルボン酸ジエチルエステル、トリフェニルホスフィンを用いてアリールアルコールと反応を行う、いわゆる光延反応を行うのが好ましい。また、アルキルエーテルの合成方法としては、例えば塩基の存在下、一般式XXIRp-OH式中、Rpは、前記の意味を有するのアルコールから得られるハロゲン化物市販の試薬が入手できる場合は市販の試薬又はスルホン酸エステル、例えばメタンスルホン酸エステルを反応させる方法等が挙げられる。さらにアルキルエーテル及びアリールエーテルの合成方法としては、例えば一般式XIIの化合物をハロゲン化物あるいはスルホン酸エステルへ変換した後、塩基存在下、一般式XXIRp-OHのアルコールと反応させる方法等が挙げられる。該アルコールから該ハロゲン化物への変換は、通常の方法、例えば四臭化炭素、トリフェニルホスフィンを四塩化炭素等の不活性溶媒中で反応させることにより得ることができる。また、スルホン酸エステル、例えばメタンスルホン酸エステルは、メタンスルホニルクロリドとトリエチルアミン等の塩基を酢酸エチル等の不活性溶媒中で反応を行うことにより得ることができる。こうして得られた一般式XXの化合物を必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式II-hの化合物を製造することができる。上記反応は通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、前記光延反応では、例えばテトラヒドロフラン、クロロホルム、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン等が、ハロゲン化においては、例えば四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、またスルホニル化においては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ベンゼン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド等が好ましい。使用される試薬の量は、例えば前記光延反応では、一般式XIIの化合物1モルに対し、アゾジカルボン酸ジエチルエステル、トリフェニルホスフィン及びアリールアルコールがそれぞれ1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モルである。また、一般式XXIのアルコールをハロゲン化後、一般式XIIの化合物を反応させる反応では、一般式XXIのアルコール1モルに対し、ハロゲン化剤が1モルないし過剰モル、好ましくは1~3モルであり、次段階の一般式XIIの化合物を反応させる反応では、一般式XIIの化合物1モルに対し、ハロゲン化物を1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モル、また塩基をハロゲン化物1モルに対し、1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モル使用する。さらに一般式XXIのアルコールをスルホン酸エステルへ変換した後、一般式XIIの化合物を反応させる反応では、一般式XXIのアルコール1モルに対し、スルホニル化剤が1モルないし過剰モル、好ましくは1~3モル、また塩基をスルホニル化剤1モルに対し、1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モル使用であり、次段階の一般式XIIの化合物を反応させる反応では、一般式XIIの化合物1モルに対し、スルホン酸エステルを1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モル、また塩基をスルホン酸エステル1モルに対し、1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モル使用する。一般式XIIの化合物をハロゲン化物あるいはスルホン酸エステルへ変換した後、塩基存在下、一般式XXIのアルコールと反応させる場合も、上記に従って行うことができる。前記光延反応では、反応温度は、通常、-70°C~100°C、好ましくは20°C~50°Cであり、反応時間は、通常、5分間~48時間、好ましくは30分間~24時間である。一般式XXIのアルコールをハロゲン化後、一般式XIIの化合物を反応させる反応では、反応温度は、通常、0°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは20°C~100°Cであり、反応時間は、通常、5分間~48時間、好ましくは30分間~24時間である。一般式XXIのアルコールをスルホン酸エステルへ変換した後、一般式XIIの化合物を反応させる反応では、反応温度は、通常、0°C~100°C、好ましくは0°C~30°Cであり、反応時間は、通常、5分間~48時間、好ましくは10分間~10時間である。なお、一般式XIIの化合物をハロゲン化物あるいはスルホン酸エステルへ変換した後、塩基存在下、一般式XXIのアルコールと反応させる場合も、上記に従って行うことができる。反応終了後、通常の処理を行った後、必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式II-hの化合物を製造することができ、更に全ての保護基を除去することにより、一般式Iの化合物を製造することができる。保護基の除去方法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。変換法F本変換法は、一般式XIIの化合物を使用して、一般式XXII[式中、Ari0は、置換基:-T1-CHOここにおいて、T1は、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物とした後、一般式XXIII式中、Ari2は、置換基:-T1-CH=Rvここにおいて、T1は、前記の意味を有し、Rvは、エステル基を示すを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を製造するものである。反応は、一般式XIIの化合物1モルに対し、二酸化マンガンを1モルないし過剰モル、好ましくは20モル用いて行い、一般式XXIIの化合物とした後、例えば,ジアルキルホスホノ酢酸エステルと適当な塩基、例えば、水素化ナトリウムをそれぞれ1モルないし過剰モル、好ましくは3~5モル用いて反応を行い、一般式XXIIIの化合物を得ることができる。反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等が挙げられる。反応温度は、一般式XIIの化合物から一般式XXIIの化合物を合成する反応においては、通常、0°Cないし反応に用いる溶媒の沸点、好ましくは、20°Cから50°Cである。また、一般式XXIIの化合物から一般式XXIIIの化合物を合成する反応においては、通常、-78°C~20°C、好ましくは-78°C~0°Cである。一般式XXIIIの化合物に対し、反応性ジエン化合物とのディールスアルダー反応、又は一般的によく知られた1、3双極子付加反応を行った後、酸で処理することにより、一般式II-i[式中、Ari2は、置換基:-T1-Cyここにおいて、T1は、前記の意味を有し、Cyは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、ヘテロ原子を含んでもよい脂肪族環基を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を製造することができる。反応に用いる各試薬の量は、一般式XXIIIの化合物1モルに対し、反応性ジエン化合物1モルないし過剰モル、好ましくは10モルである。上記反応は通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、又はアセトニトリル等が好ましい。反応温度は、0°C~反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは20°C~120°Cである。反応後、得られた化合物に対し、一般式XVIIの化合物から一般式II-fの化合物を製造する工程と同様の条件を適用することにより、一般式II-iの化合物を製造することができる。変換法G一般式XXIV[式中、Arj0は、置換基:-Sn-Rw3ここにおいて、Rwは、低級アルキル基を示すを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物に対し、一般式XXVRx-L1XXV[式中、Rxは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、L1が結合する炭素原子が不飽和結合を有する環式若しくは非環式であってもよい、脂肪族基、芳香環基又は複素芳香環基、L1はハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示す]の化合物を反応させることにより、一般式II-j[式中、Arj1は、置換基:-Rxここにおいて、Rxは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、Arj1と結合する炭素原子が不飽和結合を有する環式若しくは非環式であってもよい、脂肪族基、芳香環基又は複素芳香環基を示すを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を製造することができる。反応は、一般式XXIVの化合物1モルに対し、一般式XXVの化合物を1モルないし過剰モル、好ましくは1~3モル用い、例えばトリスジベンジリデンアセトンジパラジウム0Pd2dba3等のパラジウム触媒、例えばトリフェニルホスフィン等のホスフィン配位子を加え、及び必要に応じて塩化リチウムを添加して、不活性ガス中にて行う。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、例えばトルエン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。反応温度は、20°Cから用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは50~130°Cである。変換法H一般式XII-i[式中、Ark0は、置換基:-CH22-OHを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物から一般式XXVI[式中、Ark1は、置換基:-CH=CH2を含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を合成した後、該化合物と一般式XXVIIRy-SHXXVII[ここにおいて、Ryは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、脂肪族基又は芳香環基を示す]の化合物とを反応させ、一般式II-k[式中、Ark2は、置換基:-CH22-SRyここにおいて、Ryは、前記の意味を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を製造することができる。一般式XII-iの化合物から一般式XXVIの化合物を合成する反応において、一般式XII-iの化合物1モルに対し、例えば塩化メタンスルホニルを1ないし過剰モル、好ましくは1~3モルを用い、適当な塩基、例えば1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ-7-エンDBU等の脂肪族第3級アミンを1ないし過剰モル、好ましくは1~3モルを用いて行う。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等が挙げられる。反応温度は、20°Cから用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは20~50°Cである。一般式XXVIの化合物から一般式II-kの化合物を合成する反応において、一般式XXVIの化合物1モルに対し、Ry-SHを1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モル用い、ナトリウムエトキシド等の塩基を1モルないし過剰モル、好ましくは1~5モル加えて、反応終了後、塩酸等の酸で処理することにより一般式II-kの化合物を得る。反応は、通常、例えばメタノール、エタノール等のアルコール中で行う。反応温度は、0°Cから用いる反応の沸点、好ましくは0~50°Cである。一般式XXVIの化合物に対し、一般式XXIIIの化合物から一般式II-iの化合物を合成する工程と同様の反応を行い、一般式II-i’式中、Ari3は、置換基:-T1-Cyここにおいて、T1は、前記の意味を有し、Cyは、適宜、保護された置換基を有していてもよく、ヘテロ原子を含んでもよい脂肪族環基を有するを含む前記のAr0を意味し、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物を製造することができる。反応は、一般式XXIIIの化合物から一般式II-iの化合物を合成する工程と同様の条件により行うことができる。次に、本発明の原料化合物の製造法について説明する。本発明の一般式Iの化合物は、前記の通り、主として一般式IIIの化合物及び一般式IVの化合物並びに一般式Vの化合物及び一般式VIの化合物を原料化合物として使用して製造することができる。これらの原料化合物は、公知化合物からそれ自体公知の一般的な合成手法を利用して、製造することができるが、主要な製造ルートを以下に説明する。一般式IIIの化合物は、合成法Aないし合成法Jの方法により、一般式IVの化合物は、合成法Kないし合成法Mの方法により、一般式Vの化合物は、合成法Nの方法により、製造することができる。製造法Aで使用する一般式IIIの化合物の内、Xが窒素原子で、YがC=Oの化合物、即ち一般式III-i[式中、X1は窒素原子、Y1はCOを示し、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物は、以下の合成法Aで製造することができる。合成法A一般式1[式中、Qは、ハロゲン原子を示し、R40及びR50は、前記の意味を有する]で表されるカルボン酸を活性誘導体に導き、該活性誘導体1’と一般式2[式中、X1、R10、R20、R30及びZは、前記の意味を有する]の化合物とを反応し、一般式3[式中、X1、R10、R20、R30、R40、R50、Q及びZは、前記の意味を有する]の化合物とした後、パラジウム錯体を触媒として用いて、この化合物を分子内閉環反応に付すことにより、一般式4[式中、X1、R10、R20、R30、R40、R50及びZは、前記の意味を有する]の化合物とし、次いで還元剤を作用させることにより製造することができる。一般式1のカルボン酸の活性誘導体1’と一般式2の化合物との反応は、前記変換法Dで一般式XVIIの化合物から一般式XIXの化合物を製造する工程と同様な方法で行うことができ、従って反応条件等も同様な条件が適用できる。一般式3の化合物から一般式4の化合物を製造する反応は、一般式3の化合物1モルに対し、例えばテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム錯体を5~50重量、好ましくは10~20重量、及び例えば酢酸カリウム等の塩基を2モル~10モル、好ましくは2モル~5モル用いて行われる。反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類;例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;例えばジメチルホルムアミド、アセトン、酢酸エチル等の非プロトン性極性溶媒又はそれらの混合溶媒等が挙げられる。反応温度は、通常、20°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは50°C~100°Cであり、反応時間は、通常、30分間~24時間、好ましくは5時間~24時間である。一般式III-iの化合物は、一般式4の化合物を適当な条件を選択することにより、R20がR10及びXと形成する5員又は6員環が不飽和である化合物III-ia及び飽和である化合物III-ibを製造することができる。反応は、一般式4の化合物1モルに対し、例えば塩酸酸性条件下で鉄粉を5モル~20モル、好ましくは5モル~10モルを作用することにより、不飽和である化合物III-iaを、また一般式4の化合物1モルに対し、例えば10パラジウム炭素触媒を5~50重量、好ましくは10~20重量用い、接触還元を行うことにより、飽和である化合物III-ibを得ることができる。反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、塩酸酸性条件下で鉄粉を作用させる反応においては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類が挙げられ、さらに接触還元に対しては例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;例えばメタノール、エタノール等のアルコール類又はそれらの混合溶媒等が挙げられる。反応温度は、通常、塩酸酸性条件下で鉄還元を行う場合、0°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは20°C~50°Cであり、反応時間は、通常、30分間~24時間、好ましくは30分間~2時間であり、接触還元に対しては0°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは20°C~50°Cであり、反応時間は、通常、1時間~48時間、好ましくは5時間~24時間である。反応終了後、通常の処理を行った後、必要に応じて水酸基、アミノ基及びカルボキシル基等の保護基の除去反応を適宜組み合わせて行うことにより、一般式IIIの化合物を製造することができる。保護基の除去方法は当該保護基の種類及び目的化合物の安定性等により異なるが、例えば前記文献記載の方法又はそれに準ずる方法に従って適宜行うことができる。製造法Aの原料である、一般式III-ii[式中、R21は、水素原子又は水酸基、R31は、水素原子を示し、R10、R40、R50及びX1は、前記の意味を有する]で表される化合物Xが窒素原子、YがCO、Zが炭素原子の化合物は、以下に示す製造法により製造することができる。合成法B一般式III-iiの化合物は、一般式5[式中、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物に対し、光延反応によりアルキル化を行った後、水素化ホウ素ナトリウムを用いて還元し、一般式6[式中、X1、R10、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物とし、さらにパラジウム触媒による接触還元を行うことにより合成することができる。一般式5の化合物の光延反応は、一般式XIIの化合物から一般式XXの化合物を製造する方法と同様に行うことができる。光延反応の後、水素化ホウ素ナトリウムを用いる一般的に知られた還元方法を適用することにより、一般式6の化合物を合成する。一般式6の化合物から一般式III-iiの化合物を合成する反応は、例えば水酸化パラジウム等のパラジウム触媒を用いて、接触還元を行う。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはテトラヒドロフラン、メタノール等が挙げられる。反応温度は、通常、20°Cから用いる溶媒の沸点、好ましくは20~50°Cである。接触還元の反応条件を適宜、調節することにより、一般式III-iiaここにおいて、R21は水素原子を示し、X1、R10、R31、R40及びR50は、前記の意味を有するの化合物と、一般式III-iibここにおいて、、R21は水酸基を示し、X1、R10、R31、R40及びR50は、前記の意味を有するの化合物とを合成することができる。製造法Aの原料である、一般式III-iii[式中、T3は、単結合又は炭素数が1ないし3の、適宜、保護された置換基を有していてもよい、アルキル基若しくはアラルキル基、R10a及びR20aは、同一又は異なって、適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和又は不飽和炭化水素基、R80は、水素原子又はR20a若しくはT3と結合して環構造を形成していてもよく、適宜、保護された置換基を有していてもよい飽和若しくは不飽和炭化水素基を示し、R40及びR50は、前記の意味を有する]で表される化合物は、以下に示す製造法により製造することができる。合成法C一般式III-iiiの化合物は、一般式5の化合物に対し、一般式7R10a-CHOH-T3-CO-R20a7[式中、T3、R10a及びR20aは、前記の意味を有する]の化合物を用いて光延反応を行った後、水素化ホウ素ナトリウムにより還元し、酸性条件において環化することにより、一般式8[式中、T3、R10a、R20a、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物を合成した後、接触還元を行うことにより一般式III-iii’[式中、T3、R10a、R20a、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物を合成し、さらにR80-Liiiここにおいて、Liiiはハロゲン原子を示すを用いて置換基の導入を行い、一般式III-iiiの化合物を製造することができる。一般式5の化合物の光延反応は、一般式XIIの化合物から一般式XXの化合物を製造する方法と同様に行うことができる。光延反応の後、水素化ホウ素ナトリウムを用いる一般的に知られた還元方法により還元を行う。次いで、例えばトリフルオロ酢酸、酢酸又はギ酸等の有機酸を加えて、テトラヒドロフラン等の不活性溶媒中で反応を行うことにより、一般式8の化合物を合成することができる。反応温度は、20°Cから用いる不活性溶媒の沸点まで、好ましくは70~130°Cである。一般式8の化合物の接触還元は、一般式6の化合物から一般式III-iiの化合物を合成する反応と同様な条件を適用して行い、一般式III-iii’の化合物を製造することができる。一般式III-iii’の化合物から一般式III-iiiの化合物へ変換する工程は、合成上、一般によく知られたアミノ基の保護基、例えばtert-ブトキシカルボニル基等で保護した後、適当な塩基、例えばリチウムヘキサメチルジシラジド等の存在下、R80-Liiiと反応させ、アミノ基の保護基を除去することにより一般式[III-iiiの化合物を製造することができる。アミノ基の保護は、通常の条件に従うことができる。R80-Liiiとの反応は、一般式III-iii’の化合物の保護体1モルに対し、R80-Liiiを1モルから過剰モル、好ましくは3モル用い、リチウムヘキサメチルジシラジド等の塩基を1モルから過剰モル、好ましくは3モル用いて行う。反応温度は、-78~20°Cが好ましい。なお、アミノ基の保護基の除去方法は、通常の方法に従うことができる。一般式8の化合物は、一般式9[式中、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物を還元して、一般式10[式中、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物とした後、一般式11R10a-CHNH2-T3-CHOH-R20a11[式中、T3、R10a及びR20aは、前記の意味を有する]の化合物と反応させることによっても合成することができる。一般式9の化合物の還元は、一般式9の化合物1モルに対し、水素化ホウ素ナトリウムを0.5モル用い、例えばテトラヒドロフラン等の不活性溶媒中で行うのが好ましい。反応温度は、0°C以下、好ましくは-78°Cである。一般式10の化合物と一般式11の化合物との反応は、一般式10の化合物1モルに対し、一般式11の化合物を1モルないし過剰量、好ましくは1モル用いて、モレキュラーシーブ4Aを、一般式10の化合物の重量の3倍量を加えて行う。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等が好ましい。反応温度は、20°Cから用いる不活性溶媒の沸点まで、好ましくは100~120°Cである。製造法Aの原料である、一般式III-iv[式中、R20bは、適宜、保護されていてもよい置換基を有する、低級アルキル基又はアラルキル基を示し、R10、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物は、一般式6の化合物を原料として、以下の方法により合成できる。合成法D一般式6の化合物をR20b-OHR20bは、前記の意味を有すると反応させた後、接触還元を行うことにより、一般式III-ivの化合物を合成することができる。一般式6の化合物とR20b-OHとの反応は、一般式6の化合物をR20b-OHに溶解し、例えば、p-トルエンスルホン酸を触媒量、好ましくは、一般式6の化合物1モルに対し、p-トルエンスルホン酸を0.1モル添加して行う。反応温度は、20°Cから用いるR20b-OHR20bは、前記の意味を有するの沸点まで、好ましくは、90~100°Cである。次いで、一般式6の化合物から一般式III-iiの化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式III-ivの化合物を合成することができる。一般式III-ivの化合物を原料として、製造法Aに従って合成される一般式IIで表される化合物は、一般式III-iv’[式中、R10、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物と一般式IVの化合物から合成される一般式IIの化合物に対して、一般式6の化合物とR20b-OHとの反応と同様の条件を適用することによっても製造することができる。製造法Aの原料である、一般式III-v[式中、T4は、適宜、保護された置換基を有していてもよい、炭素数1ないし2のアルキレン基を示し、R10a、R20a、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物は、一般式1の化合物を、ヒドラジドとした後、環化し、一般式12[式中、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物とした後、一般式13R10a-CHLa-T4-CHLa-R20a13[式中、Laは、ハロゲン原子を示し、T4、R10a及びR20aは、前記の意味を有する]の化合物と反応を行い、次いで接触還元を行うことにより合成することができる。合成法E一般式1の化合物のヒドラジドは、一般式1の化合物と一般式2の化合物との反応と同様に行うことができ、従って、一般式1の化合物を同様の条件を用いて活性化した後、ヒドラジンと反応させることにより合成することができる。用いる試薬の量は、一般式1の化合物に対し、ヒドラジンを1モルから過剰量、好ましくは1~3モルである。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等が好ましい。反応温度は、20°Cから用いる不活性溶媒の沸点まで、好ましくは、20~50°Cである。このようにして得られたヒドラジドは、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒中で加熱することにより、一般式12の化合物を合成できる。一般式12の化合物と一般式13の化合物との反応は、一般式12の化合物1モルに対し、一般式13の化合物を1モルから少過剰、好ましくは1モルを用い、例えばジメチルホルムアミド等の不活性溶媒中で行う。通常、塩基を加える必要はないが、適宜、例えばトリエチルアミン等の第3級アミンの存在下で反応を行うことができる。反応温度は、通常、室温から用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは100~120°Cである。上記反応を行った後、一般式6の化合物から一般式III-iiの化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式III-ivの化合物を合成することができる。製造法Aの原料である一般式III-vi[式中、R10、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物の合成は、一般式12の化合物を原料として以下に示す方法により行うことができる。合成法F一般式III-viの化合物は、一般式12の化合物に対し、一般式14R10-La14[式中、Laは前記の意味を有する]の化合物と反応させた後、接触還元を行うことにより合成できる。一般式12の化合物と一般式14の化合物から一般式III-viの化合物を合成する反応は、一般式12の化合物から一般式III-vの化合物を合成する反応と同様の条件を適用して行うことができる。製造法Aの原料である一般式III-vii[式中、P1は、水酸基の保護基を示し、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物は、一般式1の化合物を原料として以下に示す方法により行うことができる。合成法G一般式1の化合物とアミノマロン酸ジエチルエステルとからアミド化合物を合成した後、環化し、次いで塩基性条件下で脱炭酸反応を行う。得られた化合物のエステル基を還元し、新たに生じた水酸基を適当な保護基を用いて保護した後、接触還元を行うことにより、一般式III-viiの化合物を合成することができる。一般式1の化合物とアミノマロン酸ジエチルエステルとの反応は、一般式XVIIの化合物から一般式XIXの化合物を合成する工程と同様の条件を適用して行うことができる。環化反応は、適当な塩基、例えば、水素化ナトリウムを用いて行う。反応に用いる試薬の量は、アミド化合物1モルに対し、水素化ナトリウムを1モルから過剰モル、好ましくは1~3モルを用いる。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシド等が挙げられる。反応温度は、0°Cから用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは20~100°Cである。次いで行う脱炭酸反応は、適当な塩基、例えば水酸化ナトリウムを、環化体1モルに対し、1モルから過剰モル、好ましくは3~5モル用いて行う。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはエタノール等のアルコール類が好ましい。反応温度は、20°Cから用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは50~100°Cが好ましい。エステルの還元は、合成に一般的に用いられるエステルの還元方法、例えば、水素化ホウ素ナトリウムを用いて行うことができる。用いる試薬の量は、エステル体1モルに対し、水素化ホウ素ナトリウムを1モルから過剰モル、好ましくは3~10モルである。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはメタノール、エタノール等が好ましい。反応温度は、0°Cから20°C、好ましくは0°Cである。新たに生じた水酸基の保護基としては、製造法Aに挙げたものを用いることができるが、好ましくはtert-ブチルジメチルシリル基、tert-ブチルジフェニルシリル基等である。反応条件は、一般によく知られた条件を適用することができる。上記反応を行った後、一般式6の化合物から一般式III-iiの化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式III-viiの化合物を合成することができる。製造法Aの原料である、一般式III-viii[式中、R10aは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和又は不飽和炭化水素基、R20cは、水素原子又は適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和若しくは不飽和炭化水素基を示し、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物は、一般式1の化合物を原料として、下記に示す方法により合成することができる。合成法H一般式1の化合物をエステル化し、該エステル化合物と一般式15[式中、Rzは、メチル基又はエチル基を示し、R20cは、前記の意味を有する]の化合物とのカップリング反応を行い、一般式16[式中、Rz、R20c、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物を得る。次いで、一般式16の化合物をR10a-NH2R10aは、前記の意味を有するを用いてアミド化し、酸性条件下で環化を行った後、アルコキシ基及びニトロ基を順次還元して、一般式III-viiiの化合物を合成することができる。一般式1の化合物をメタノール中、少量の濃硫酸を加えて加熱し、メチルエステルとする反応は、合成上、一般的によく知られた条件を用いて行う。上記メチルエステル体と一般式15の化合物との反応は、メチルエステル体1モルに対し、一般式15の化合物を1から過剰モル、好ましくは1~3モル用い、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム錯体を触媒量、好ましくは3~5モル用いて行う。反応は、通常、不活性溶媒中において行い、当該不活性溶媒としてはテトラヒドロフラン等が挙げられる。反応温度は、50~用いる溶媒の沸点、好ましくは70~100°Cである。一般式16の化合物とR10a-NH2のアミド化は、一般式XVIIの化合物から一般式XIXの化合物を合成する工程と同様の条件を適用して行うことができる。上記反応により得られるアミド体の環化反応は、酸成条件下、例えば濃塩酸とエタノール等の不活性溶媒との混合溶媒中において行う反応温度は、20°Cから用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは20~50°Cである。アルコキシ基の還元は、例えばトリエチルシランを用いて、適当な酸を加えて行うことができる。用いる試薬の量は、環化体1モルに対し、トリエチルシランを1モルから過剰モル、好ましくは3~5モル、添加する酸としては、例えば三フッ化ボランのエーテル錯体を1モルから過剰モル、好ましくは3~5モルを用いる。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としては、例えばクロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。反応温度は、0~50°C、好ましくは20°Cである。ニトロ基の還元反応は、一般式6の化合物から一般式III-iiの化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式III-viiiの化合物を合成することができる。一般式III-viii’[式中、R20c1は、水素原子を示し、R10a、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物を原料として、製造法Aに従って合成される、一般式II-viii’[式中、Ar0、R10a、R20c1、R40及びR50は、前記の意味を有する]で表される化合物は、以下の方法によっても合成することができる。一般式III-viiの化合物を一般式14と反応させた後、一般式IVの化合物を用いて製造法Aに従い、一般式II-viii’’[式中、Ar0、R10a、P1、R40及びR50は、前記の意味を有する]で表される化合物を得る。次いで、水酸基の保護基を除去し、メタンスルホン酸エステル化後、塩基性条件下で処理を行い、接触還元することにより、一般式II-viii’の化合物を合成することができる。一般式II-viii’’の化合物の水酸基の保護基を除去は、合成上、一般によく知られた方法を適用することができる。例えば、保護基がtert-ブチルジメチルシリル基等である場合、濃塩酸を用いてメタノール中で反応を行うことができる。メタンスルホン酸エステル化は、上記反応において得られたアルコール体1モルに対し、トリエチルアミンを1モルから過剰モル、好ましくは、1~3モル、塩化メタンスルホニルを1モルから過剰モル、好ましくは、1~3モル用いて行う。続く塩基処理に用いる塩基としては、例えば1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ-7-エンDBU等を1モルから過剰モル、好ましくは、1~3モル用いて行う。反応は、通常、不活性溶媒中にて行い、当該不活性溶媒としてはジメチルホルムアミド等が好ましい。反応温度は、0~50°C、好ましくは0~20°Cである。上記反応により得られた化合物に対し、一般式6の化合物から一般式III-iiの化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式II-viii’の化合物を合成することができる。製造法Aの原料である、一般式III-ix’[式中、R10cは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和又は不飽和炭化水素基を示し、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物及び一般式III-ix’’[式中、R10c、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物は、一般式17[式中、R40及びR50は、前記の意味を有する]で表される既知化合物又は当該既知化合物から自体公知の方法で製造される化合物を原料として下記の方法により合成することができる。合成法I一般式17の化合物とR10c-OH[式中、R10cは前記の意味を有する]とを用いて光延反応を行った後、接触還元を行うことにより、一般式III-ix’の化合物と一般式III-ix’’の化合物とを合成することができる。一般式17の化合物の光延反応は、一般式XIIの化合物から一般式XXの化合物を製造する方法と同様に行うことができる。上記反応により得られた化合物の接触還元は、一般式6の化合物から一般式III-iiの化合物を合成する反応と同様な条件を適用して行い、適当な条件で精製分離することにより、一般式III-ix’の化合物と一般式III-ix’’の化合物とを合成することができる。製造法Aの原料である、一般式III-x[式中、R10dは、適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和又は不飽和炭化水素基を示し、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物は、合成法Iにおける中間体である、一般式18[式中、R10c、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物を原料として下記の方法により合成することができる。合成法J一般式18の化合物を還元し、一般式19[式中、R40及びR50は、前記の意味を有する]の化合物とし、R10d-OH[式中、R10cは、前記の意味を有する]と光延反応を行った後、接触還元を行うことにより、一般式III-xの化合物を合成することができる。一般式18の化合物の還元は、水素化ホウ素ナトリウムを、一般式18の化合物1モルに対し、1モルから過剰モル、好ましくは3~5モル用いて行う。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはテトラヒドロフラン等が好ましい。反応温度は、0°Cから50°C、好ましくは20°Cである。一般式19の化合物の光延反応は、一般式XIIの化合物から一般式XXの化合物を製造する方法と同様に行うことができる。次いで、一般式6の化合物から一般式III-iiの化合物を合成する反応と同様な条件を適用して接触還元を行い、一般式III-xの化合物を合成することができる。なお、一般式1の化合物、一般式5の化合物及び一般式15の化合物は公知化合物であるか、公知化合物を利用して自体公知の化学的手法により、製造することができる。次に、製造法Aのもう一方の原料化合物である一般式IVの化合物の製造法について説明する。一般式IVの化合物は、以下の合成法Kないし合成法Mにより、製造することができる。合成法K一般式IVの化合物は、一般式20[式中、R’は、低級アルキル基を示し、Ar0は、前記の意味を有する]で表されるエステルをヒドラジンで処理した後、亜硝酸を作用させることにより、一般式IV[式中、Ar0は、前記の意味を有する]の化合物を製造することができる。一般式20の化合物をヒドラジンで処理した後、亜硝酸を作用させて一般式IVの化合物へ変換する反応において、用いる各試薬の量は、一般式20のエステル1モルに対し、ヒドラジンは1モル~10モル、好ましくは3モル~5モルであり、次段階の亜硝酸を作用させる反応で一般式20のエステル1モルに対し、亜硝酸ナトリウムが1モル~5モル、好ましくは3モル~5モルであり、1N塩酸は亜硝酸ナトリウム1モルに対し、1L~5L、好ましくは1L~3Lである。反応は、通常、不活性溶媒中で行われ、当該不活性溶媒としては、ヒドラジンとの反応に対しては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類等が挙げられ、また亜硝酸を作用させる反応では、例えば水;例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;例えば塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、又はそれらの混合物が挙げられる。反応温度は、通常、ヒドラジンとの反応に対しては0°Cないし反応に用いる溶媒の沸点まで、好ましくは20°C~50°Cであり、反応時間は、通常、1時間~48時間、好ましくは5時間~24時間であり、また亜硝酸を作用させる反応では、0°C~50°C、好ましくは0°C~20°Cであり、反応時間は、通常、30分間~5時間、好ましくは30分間~2時間である。なお、一般式20の化合物は、公知化合物であるか、エステルの合成法の定法に従って、製造することができる。合成法L一般式IV-i[式中、R’’及びR’’’は、それぞれが結合する炭素原子と共に、窒素原子を包含してもよく、適宜、保護された置換基を有していてもよい、飽和若しくは不飽和の5員又は6員環基を示す]の化合物は、公知化合物である、1,2,4-トリアジン-5-カルボン酸エチルエステルを原料として、一般式21[式中、R’’及びR’’’は、前記の意味を有する]の化合物を合成した後、合成法Kに従い製造することができる。1,2,4-トリアジン-5-カルボン酸エチルエステルを一般式22[式中、R’’及びR’’’は、前記の意味を有する]の化合物と反応を行い、一般式21の化合物を得る。反応に用いる試薬の量は、1,2,4-トリアジン-5-カルボン酸エチルエステル1モルに対し、一般式22の化合物を1モルから過剰モル、好ましくは1から5モルである。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはクロロホルム等が挙げられる。反応温度は、20°Cから用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは20~70°Cである。一般式21の化合物から一般式IV-iの化合物を合成する反応は、合成法Kの一般式20の化合物から一般式IVの化合物を製造する工程と同様に行い、一般式IV-iの化合物を製造することができる。合成法M一般式IV-ii[式中、Ar10は、置換基:-Snn-Bu3を含む前記のAr0を示す]の化合物は、一般式23[式中、Ar10iは、置換基:-X10ここにおいて、X10はハロゲン原子を意味するを含む前記のAr0を示し、R’は、前記の意味を有する]の化合物を原料として合成することができる。一般式23の化合物を、パラジウム錯体、例えばテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムを触媒として、ヘキサ-n-ブチルジチンと反応させることにより、一般式24[式中、Ar10及びR’は、前記の意味を有する]の化合物を合成した後、合成法Kに従い製造することができる。一般式23の化合物とヘキサ-n-ブチルジチンとの反応において、一般式23の化合物1モルに対し、ヘキサ-n-ブチルジチンを1モルから過剰モル、好ましくは1.5~3モル用い、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム錯体を0.05~0.2モル、好ましくは0.1モルを用いる。反応は、通常、不活性溶媒中で行い、当該不活性溶媒としてはジオキサン等が挙げられる。反応温度は、50°Cから用いる不活性溶媒の沸点、好ましくは70~130°Cである。一般式24の化合物から一般式IV-iiの化合物を合成する反応は、合成法Kの一般式20の化合物から一般式IVの化合物を製造する工程と同様に行い、一般式IV-iiの化合物を製造することができる。次に、製造法Bの原料化合物である一般式V[式中、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物の製造法について説明する。一般式Vの化合物は、以下の合成法Nの方法で製造することができる。合成法N一般式Vの化合物は、一般式25[式中、X、Y、Z、R10、R20、R30、R40、R50及び式は、前記の意味を有する]の化合物をクロリドとした後、アジ化ナトリウムを作用させることにより生成することができる。一般式25のカルボン酸クロリドへ変換する工程は、一般式25の化合物を、一般式XVIIIから酸ハロゲン化物を製造する工程と同様な方法で行うことができ、従って反応条件等も同様な条件が適用できる。こうして得られた酸クロリド1モルに対し、アジ化ナトリウム1モル~5モル、好ましくは1モル~3モルを水又は必要であれば水とテトラヒドロフランの混合溶媒中で反応を行い、一般式Vの化合物を得ることができる。反応温度は、通常、0°Cないし50°Cまで、好ましくは0°C~20°Cであり、反応時間は、通常、30分間~12時間、好ましくは1時間~5時間である。また、製造法Bの他の原料化合物の一般式VIの化合物は、公知化合物であるか、アミノ化合物の合成法の定法に従って製造することができる。次に、本発明の有用性を具体的に示すため、本発明品のCdk4及びCdk6活性並びに細胞増殖阻害に対する50阻害濃度IC50値を求めた。Cdk4阻害作用1サイクリンD1-Cdk4及びサイクリンD2-Cdk4の調製まず、Cdk4及びその活性化因子サイクリンD1もしくはサイクリンD2それぞれのcDNAをバキュロウイルス発現ベクタ-に組み込み、組み換えバキュロウイルスを作製した。それを昆虫細胞Sf9に共感染させてサイクリンD1-Cdk4又はサイクリンD2-Cdk4活性複合体として高発現させた。その細胞を回収して可溶化した後、HPLCカラムクロマトグラフィ-で精製した[ジエンボジャ-ナルEMBOJ.、第15巻、7060-7069頁、1996年]。2サイクリンD1-Cdk4及びサイクリンD2-Cdk4の活性測定サイクリンD1-Cdk4及びサイクリンD2-Cdk4の活性測定において、基質はRBタンパク質のアミノ酸775番から787番に相当する合成ペプチドArg-Pro-Pro-Thr-Leu-Ser-Pro-Ile-Pro-His-Ile-Pro-Argを用いた[ジエンボジャ-ナルEMBOJ.、第15巻、7060-7069頁、1996年]。反応は北川等の方法[オンコジ-ンOncogene、第7巻、1067-1074頁、1992年]を一部改変して行った。反応液量は21.1μlで、反応バッファ-Rバッファーの組成は20mMトリス-塩酸バッファ-pH7.4/10mM塩化マグネシウム/4.5mM2-メルカプトエタノ-ル/1mMエチレングリコールビスβ-アミノエチルエーテル-N,N,N’,N’-テトラアセチックアシッドEGTAで、そこに精製したサイクリンD1-Cdk4もしくはサイクリンD2-Cdk4と100μMの基質ペプチドと50μMの非標識アデノシン三リン酸ATPおよび1μCiの[γ-33P]標識ATP2000-4000Ci/mmoleを添加して、反応温度30°Cで45分間反応させた。その後、10μlの350mMリン酸バッファ-を反応系に添加して反応を停止させた。基質ペプチドをP81ペ-パ-に吸着させた後、その放射活性を液体シンチレ-ションカウンタ-で測定した。[γ-33P]標識ATPは第一化学薬品社から購入した。被検化合物の反応系への添加は、ジメチルスルホキシドDMSOに溶解させた溶液を1.1μl加えることによって行った。反応系へDMSOのみを1.1μl加えたものを対照群とした。本発明化合物の代表化合物として実施例131、165、329、579を選択し、この化合物のサイクリンD1-Cdk4又はサイクリンD2-Cdk4活性に対するIC50値を求めた。その結果を下記の表に示す。本発明の化合物のサイクリンD1-Cdk4又はサイクリンD2-Cdk4阻害活性は、Cdk4阻害活性を有する公知の化合物±flavopiridolのそれと比較して著しく高いことは明らかである。Cdk6阻害作用1サイクリンD1-Cdk6及びサイクリンD3-Cdk6の調製サイクリンD1-Cdk4と同様に、Cdk6及びその活性化因子サイクリンD1もしくはサイクリンD3それぞれのcDNAをバキュロウイルス発現ベクタ-に組み込み、組み換えバキュロウイルスを作製した。それを昆虫細胞Sf9に共感染させてサイクリンD1-Cdk6又はサイクリンD3-Cdk6活性複合体として高発現させた。その細胞を回収して可溶化した後、HPLCカラムクロマトグラフィ-で精製した。2サイクリンD1-Cdk6及びサイクリンD3-Cdk6の活性測定サイクリンD1-Cdk6の活性測定において、基質は合成ペプチドLys-Ala-Pro-Leu-Ser-Pro-Lys-Lys-Ala-Lysを用い、サイクリンD3-Cdk6の活性測定において、基質は合成ペプチドArg-Pro-Pro-Thr-Leu-Ser-Pro-Ile-Pro-His-Ile-Pro-Argを用いた[ジエンボジャ-ナルEMBOJ.、第15巻、7060-7069頁、1996年]。反応は北川等の方法[オンコジ-ンOncogene、第7巻、1067-1074頁、1992年]を一部改変して行った。反応液量は21.1μlで、Rバッファーに精製したサイクリンD1-Cdk6と400μMの基質ペプチド、もしくはサイクリンD3-Cdk6と100μMの基質ペプチド、と50μMの非標識ATPおよび1μCiの[γ-33P]標識ATP2000-4000Ci/mmoleを添加して、反応温度30°Cで20分間もしくは45分間反応させた。その後、10μlの350mMリン酸バッファ-を反応系に添加して反応を停止させた。基質ペプチドをP81ペ-パ-に吸着させた後、その放射活性を液体シンチレ-ションカウンタ-で測定した。本発明化合物の反応系への添加は、DMSOに溶解させた溶液を1.1μl加えることによって行った。反応系へDMSOを1.1μl加えたものを対照群とした。本発明化合物の代表化合物として実施例131、165、329、579を選択し、この化合物のサイクリンD1-Cdk6又はサイクリンD3-Cdk6活性に対するIC50値を求めた。その結果を下記の表に示す。この結果から本発明化合物が強いサイクリンD1-Cdk6又はサイクリンD3-Cdk6阻害活性を有することは明らかである。細胞増殖抑制作用1細胞培養の方法臨床分離癌細胞株HCT116は10牛胎児血清添加ダルベッコ変法イ-グル培地を用いて、臨床分離癌細胞株MKN-1は10牛胎児血清添加RPMI1640培地を用いて37°Cで5CO2存在下、飽和水蒸気の環境にて培養した。2細胞増殖抑制作用の測定細胞増殖抑制作用は、スケハンSkehan等の方法[ジャ-ナルオブナショナルキャンサ-インスティテュ-トJ.Natl.CancerInst.、第82巻、1107-1112頁、1990年]を改変して測定した。HCT116あるいはMKN-1を生細胞数として1X103個含むそれぞれの細胞の培養用培地100μlずつを96ウエル細胞培養用ディッシュに分注し、一晩培養した。翌日、まず化合物131および±flavopiridolのDMSO溶液から、DMSOによる希釈系列を調製した。次いでその希釈系列をあるいは薬剤非添加対照用としてDMSOのみをそれぞれの細胞の培養用培地に添加した。最後に、96ウエルディッシュで培養した細胞に、各薬剤の希釈系列あるいはDMSOのみを添加した培養用培地を100μlずつ添加し、さらに3日間培養した。各ウエルに50トリクロロ酢酸を50μlずつ加えて細胞を固定した。0.4スルホロ-ダミンBで細胞を染色した後、10mMトリスバッファ-を用いてスルホロ-ダミンBを抽出した。450nmを対照波長として560nmにおける光学濃度を測定して対照群と比較した。実施例131の化合物と±flavopiridolの細胞増殖50阻害濃度IC50を求めた結果を以下の表に示した。本発明化合物は、Cdk阻害作用を有する既知の化合物±flavopiridolと比較して明らかに強い細胞増殖阻害作用を示していることから、抗腫瘍剤として有用である。従って、本発明化合物の治療効果が期待される好適な腫瘍としては、例えばヒトの大腸癌等が挙げられる。本発明化合物は、抗腫瘍剤として使用される場合には、その薬学的に許容しうる塩としても使用することができる。薬学的に許容しうる塩の典型例としては、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩等を挙げることができる。本発明の化合物の薬学的に許容しうる塩の製造法は、有機合成化学分野で通常用いられる方法を適宜組み合わせて行うことができる。具体的には、本発明化合物の遊離型の溶液をアルカリ溶液で中和滴定すること等が挙げられる。本発明化合物を抗腫瘍剤として使用する際の投与形態としては各種の形態を選択でき、例えば錠剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤、液剤等の経口剤、例えば溶液、懸濁液等の殺菌した液状の非経口剤等が挙げられる。固体の製剤は、そのまま錠剤、カプセル剤、顆粒剤又は粉末の形態として製造することもできるが、適当な添加物を使用して製造することもできる。該添加物としては、例えば乳糖、ブドウ糖等の糖類、例えばトウモロコシ、小麦、米等の澱粉類、例えばステアリン酸等の脂肪酸、例えばメタケイ酸ナトリウム、アルミン酸マグネシウム、無水リン酸カルシウム等の無機塩、例えばポリビニルピロリドン、ポリアルキレングリコール等の合成高分子、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム等の脂肪酸塩、例えばステアリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール類、例えばメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の合成セルロース誘導体、その他、水、ゼラチン、タルク、植物油、アラビアゴム等通常用いられる添加物等が挙げられる。これらの錠剤、カプセル剤、顆粒剤、粉末等の固形製剤は、一般的には0.1~100重量、好ましくは5~100重量の有効成分を含むことができる。液状製剤は、水、アルコール類又は例えば大豆油、ピーナツ油、ゴマ油等の植物由来の油等液状製剤において通常用いられる適当な添加物を使用し、懸濁液、シロップ剤、注射剤等の形態として製造することができる。特に、非経口的に筋肉内注射、静脈内注射、皮下注射で投与する場合の適当な溶剤としては、例えば注射用蒸留水、塩酸リドカイン水溶液筋肉内注射用、生理食塩水、ブドウ糖水溶液、エタノール、静脈内注射用液体例えばクエン酸、クエン酸ナトリウム等の水溶液、電解質溶液例えば点滴静注、静脈内注射用等又はこれらの混合溶液が挙げられる。又、これらの注射剤は予め溶解したものの他、粉末のまま又は適当な添加物を加えたものを用時溶解する形態もとることができる。これらの注射液は、通常0.1~10重量、好ましくは1~5重量の有効成分を含むことができる。又、経口投与の懸濁剤又はシロップ剤等の液剤は、0.5~10重量の有効成分を含むことができる。本発明の化合物の実際に好ましい投与量は、使用される化合物の種類、配合された組成物の種類、適用頻度及び治療すべき特定部位及び患者の病状によって適宜増減することができる。例えば、一日当りの成人一人当りの投与量は、経口投与の場合、10ないし500mgであり、非経口投与、好ましくは静脈内注射の場合、1日当り10ないし100mgである。なお、投与回数は、投与方法及び症状により異なるが、単回又は2ないし5回に分けて投与することができる。以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、もとより本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。実施例および参考例の薄層クロマトグラフィーは、プレートとしてSilicagel60F254Merckを、検出法としてUV検出器を用いた。カラム用シリカゲルとしては、WakogelTMC-300又はC-200和光純薬を用いた。高速液体クロマトグラフィーとしては、HP1100シリーズヒューレットパッカードHPを用いた。MSスペクトルは、JMS-SX102A日本電子JEOL又はQUATTROIIマイクロマスを用いて測定した。NMRスペクトルは、重クロロホルム溶液で測定する場合には、内部基準としてテトラメチルシランTMSを用い、重メタノール溶液で測定する場合にはメタノールを、重ジメチルスルホキシド溶液で測定する場合にはジメチルスルホキシドを用い、Gemini-200200MHz;Varian、Gemini-300300MHz;Varian、またはVXR-300300MHz;Varian型スペクトロメータを用いて測定し、全δ値をppmで示した。NMR測定における略号の意味を以下に示す。s:シングレットd:ダブレットdd:ダブルダブレットt:トリプレットdt:ダブルトリプレットq:クァルテットm:マルチプレットbr:ブロードJ:カップリング定数Hz:ヘルツCDCl3:重クロロホルムD2O:重水DMSO-d6:重ジメチルスルホキシドCD3OD:重メタノール反応式等における略号の意味を以下に示す。Ac:アセチル基Et:エチル基n-Bu:n-ブチル基Bn:ベンジル基n-Pr:n-プロピル基i-Pr:イソプロピル基Me:メチル基Ph:フェニル基Py:ピリジル基TEA:トリエチルアミン次に、本発明に係る実施例化合物を以下の表に具体的に例示する。実施例14-アミノ-9-フルオレノン29mg0.15mmolに2-ピリジンカルボニルアジド22mg0.15mmolのテトラヒドロフラン0.5ml溶液を室温にて加え、反応液を2時間還流した。反応液を室温に戻しヘキサン、酢酸エチルの混合液を加えて結晶化した。得られた粗生成物を酢酸エチル、メタノールにて順次洗浄後濾取し、黄色粉末34mg実施例1の化合物を得た。1H-NMRDMSO-d6δ:7.071H,J=8.3Hz,5.1Hz,7.34-7.454H,m,7.64-7.692H,m,7.78-7.841H,m,8.041H,d,J=7.9Hz,8.081H,d,J=7.7Hz,8.291H,dd,J=5.0Hz,1.2Hz,10.01H,s,11.11H,brs.mass:316M1.実施例2-実施例8実施例1の方法に準じて、実施例2ないし実施例8の化合物を製造した。実施例21H-NMRDMSO-d6δ:2.353H,s,7.02-7.111H,m,7.34-7.483H,m,7.60-7.743H,m,8.02-8.223H,m,8.191H,m,8.921H,m,12.11H,m.mass:330M1.実施例31H-NMRDMSO-d6δ:7.011H,dd,J=5.6Hz,8.0Hz,7.261H,dd,J=2.0Hz,8.0Hz,7.35-7.463H,m,7.672H,d,J=7.3Hz,7.811H,dd,J=2.0Hz,5.6Hz,8.111H,dd,J=1.8Hz,7.3Hz,8.151H,d,J=7.3Hz,8.401H,s,11.81H,s.mass:332M1.実施例41H-NMRDMSO-d6δ:3.282H,s,7.36-7.466H,m,7.563H,d,J=7.6Hz,7.62-7.702H,m,7.691H,dd,J=5.0Hz,8.0Hz,7.881H,d,J=5.0Hz,8.04-8.142H,m,8.481H,s,11.81H,s.mass:422M1.実施例51H-NMRDMSO-d6δ:7.23-7.281H,m,7.39-7.483H,m,7.65-7.702H,m,8.07-8.102H,m,8.481H,dt,J=7.8Hz,1.6Hz,8.561H,d,J=5.0Hz.mass:360M1.実施例61H-NMRDMSO-d6δ:2.353H,s,6.961H,d,J=5.0Hz,7.151H,s,7.36-7.493H,m,7.64-7.742H,m,8.08-8.152H,m,8.191H,d,J=5.0Hz,10.01H,s,11.31H,brs.mass:330M1.実施例71H-NMRDMSO-d6δ:7.181H,d,J=6.0Hz,7.35-7.453H,m,7.571H,s,7.62-7.672H,m,7.931H,d,J=7.0Hz,7.981H,d,J=7.0Hz,8.281H,d,J=4.0Hz,10.11H,s,10.41H,s.実施例81H-NMRDMSO-d6δ:2.976H,s,6.431H,s,6.431H,dd,J=7.3Hz,2.0Hz,7.33-7.413H,m,7.62-7.672H,m,7.881H,d,J=6.0Hz,8.141H,d,J=6.7Hz,8.201H,d,J=6.7Hz,9.631H,s.実施例9参考例1の化合物および2-アミノ-4-N-エトキシカルボニルアミノピリジンを用いて実施例26と同様の手順で調製した化合物50mg0.12mmolをエタノール2mlに溶解したところへ5N水酸化ナトリウム水溶液2.0ml10mmolを室温で加え、反応液を1時間還流した。反応液を室温に戻し水を加えて酢酸エチル-テトラヒドロフランで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム-メタノール、100:0~95:5で精製し黄色結晶8mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:6.191H,s,6.251H,d,J=5.9Hz,6.282H,s,7.34-7.413H,m,7.62-7.692H,m,7.741H,d,J=5.7Hz,8.151H,d,J=7.1Hz,8.211H,d,J=7.1Hz,9.661H,s,12.31H,br.mass:331M1.実施例10実施例9の化合物33mg0.10mmolをテトラヒドロフラン3mlに溶解し、n-ブチルアルデヒド27μl0.30mmolおよびトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム63mg0.30mmolを室温で加え、同温度で反応液を6時間攪拌した。反応液に飽和重曹水を加え酢酸エチル-テトラヒドロフランで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィークロロホルム-テトラヒドロフラン、70:30で精製し、黄色結晶23mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:0.903H,t,J=7.2Hz,1.31-1.402H,m,1.48-1.532H,m,2.98-3.022H,m,6.191H,s,6.281H,d,J=6.1Hz,1.9Hz,6.791H,dt,7.31-7.403H,m,7.62-7.682H,m,7.751H,d,J=6.2Hz,8.141H,dd,J=7.1Hz,1.9Hz,8.201H,d,J=8.2Hz,9.601H,s,12.31H,br.mass:387M1.実施例11実施例802の化合物を用い、実施例803の方法に準じて参考例3の化合物にかわって4-アミノ-9-フルオレノンと反応を行い調製した化合物に対し、実施例804と同様の操作を行って、無色結晶21mgを得た。1H-NMRCDCl3δ:4.522H,d,J=5.3Hz,5.471H,t,J=5.3Hz,7.001H,d,J=4.7Hz,7.28-7.696H,m,8.05-8.223H,m,10.01H,s,11.41H,s.mass:346M1.実施例12-実施例17実施例1の方法に準じて、実施例12ないし実施例17の化合物を製造した。実施例121H-NMRDMSO-d6δ:2.283H,s,7.251H,d,J=7.6Hz,7.16-7.453H,m,7.63-7.723H,m,8.04-8.143H,m,9.921H,s,11.11H,br.mass:330M1.実施例131H-NMRDMSO-d6δ:7.34-7.473H,m,7.581H,d,J=8.9Hz,7.662H,m,7.951H,d,J=7.8Hz,7.992H,m,8.311H,d,J=2.6Hz,10.01H,br.mass:350,352M1.実施例141H-NMRDMSO-d6δ:7.35-7.483H,m,7.541H,d,J=8.9Hz,7.62-7.722H,m,7.931H,d,J=9.2Hz,7.961H,d,J=5.1Hz,8.001H,dd,J=8.9Hz,2.2Hz,8.391H,d,J=2.8Hz,10.11H,m.mass:394,396M1.実施例151H-NMRDMSO-d6δ:7.36-7.564H,m,7.64-7.742H,m,7.962H,t,J=8.6Hz,7.94-8.021H,m,8.601H,m,9.161H,m.mass:361M1.実施例161H-NMRDMSO-d6δ:7.39-7.496H,m,7.68-7.733H,m,7.99-8.083H,m,8.23-8.261H,m,8.801H,s.mass:359M1.実施例171H-NMRDMSO-d6δ:7.37-7.483H,m,7.551H,d,J=8.8Hz,7.62-7.692H,m,7.951H,d,J=7.9Hz,8.021H,d,J=6.9Hz,8.251H,dd,J=8.8Hz,2.3Hz,8.791H,d,J=2.2Hz.mass:360M1.実施例181参考例1の化合物および2-アミノ-5-N-tert-ブトキシカルボニルアミノピリジンを用いて実施例26と同様の手順で調製した化合物0.613g1.40mmolにトリフルオロ酢酸10mlを室温で加え、同温度で反応液を6時間攪拌した。反応液に飽和重曹水を加え酢酸エチル-テトラヒドロフランで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム-メタノール、100:0~90:10で精製し粗結晶0.431gを得た。このものをエーテルで洗浄し黄色結晶0.302gを得た。21で得られた化合物33mgを用いて実施例10の方法に準じて黄色結晶3.4mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:0.933H,t,J=7.2Hz,1.37-1.432H,m,1.50-1.572H,m,2.97-3.032H,m,5.591H,t,7.11-7.132H,m,7.35-7.453H,m,7.64-7.703H,m,8.11-8.162H,m,9.611H,s.mass:387M1.実施例19-実施例20実施例26の方法に準じて、実施例19及び実施例20の化合物を製造した。実施例191H-NMRDMSO-d6δ:3.813H,s,7.052H,d,J=8.8Hz,7.38-7.474H,m,7.64-7.704H,m,8.02-8.133H,m,8.541H,d,J=2.6Hz,10.10.3H,s,11.00.2H,br.mass:422M1.実施例201H-NMRDMSO-d6δ:2.513H,s,7.041H,d,J=7.1Hz,7.21-7.271H,m,7.47-7.593H,m,7.72-7.843H,m,8.00-8.041H,m,8.171H,d,J=7.6Hz,10.11H,s,11.31H,brs.mass:330M1.実施例21参考例1の化合物及び2-アミノ-6-N-tert-ブトキシカルボニルアミノピリジンを用いて実施例181に準じて目的化合物を製造した。1H-NMRDMSO-d6δ:6.07-6.102H,m,6.281H,d,J=7.5Hz,7.34-7.414H,m,7.46-7.481H,m,7.52-7.571H,m,7.651H,d,J=6.7Hz,7.771H,d,J=7.1Hz,7.931H,d,J=7.6Hz,9.551H,s,11.61H,brs.mass:331M1.実施例22実施例21の化合物を用いて実施例10に準じて目的化合物を製造した。1H-NMRDMSO-d6δ:0.683H,t,J=7.4Hz,1.03-1.152H,m,1.32-1.422H,m,2.99-3.052H,m,6.071H,d,J=8.2Hz,6.311H,d,J=7.8Hz,6.651H,t,J=5.4Hz,7.34-7.403H,m,7.481H,d,J=6.3Hz,7.551H,dd,J=7.6Hz,6.4Hz,7.651H,d,J=7.3Hz,7.701H,d,J=7.2Hz,7.811H,d,J=7.4Hz,9.561H,s,11.41H,br.mass:387M1.実施例23-実施例25実施例26の方法に準じて、実施例23ないし実施例25の化合物を製造した。実施例231H-NMRDMSO-d6δ:1.163H,t,J=7.4Hz,2.363H,s,2.732H,q,J=7.6Hz,6.941H,d,J=7.7Hz,7.36-7.473H,m,7.57-7.683H,m,7.881H,d,J=7.9Hz,8.061H,d,J=7.0Hz.mass:358M1.実施例241H-NMRDMSO-d6δ:2.263H,s,2.343H,s,6.771H,s,6.891H,s,7.38-7.433H,m,7.63-7.682H,m,7.901H,dd,J=8.0Hz,1.9Hz,8.051H,d,J=7.5Hz,9.921H,s,11.4-11.51H,br.mass:344M1.実施例251H-NMRDMSO-d6δ:2.393H,s,2.413H,s,6.941H,s,7.37-7.483H,m,7.60-7.692H,m,7.881H,d,J=7.9Hz,8.041H,d,J=7.6Hz,8.112H,brs,8.770.7H,s,9.020.3H,s.mass:387M1.実施例262-アミノピリミジン13mg0.14mmolのテトラヒドロフラン1ml溶液に参考例1の化合物1.25mg0.1mmolのテトラヒドロフラン1ml溶液を加え30分還流した。析出した結晶を濾取しクロロホルムで洗浄後乾燥し目的化合物10mgを黄色結晶として得た。1H-NMRDMSO-d6δ:7.231H,t,J=4.9Hz,7.38-7.503H,m,7.67-7.722H,m,8.06-8.102H,m,8.742H,d,J=4.9Hz,10.60.3H,s,11.60.3H,s.mass:317M1.実施例27-実施例53実施例26の方法に準じて、実施例27ないし実施例53の化合物を製造した。実施例271H-NMRDMSO-d6δ:7.36-7.959H,m.mass:333M1.実施例281H-NMRDMSO-d6δ:3.283H,s,7.071H,d,J=5.3Hz,7.36-7.976H,m,8.051H,d,J=7.3Hz,8.531H,d.mass:331M1.実施例291H-NMRDMSO-d6δ:2.383H,s,2.523H,s,7.27-7.353H,m,7.53-7.572H,m,7.811H,d,J=7.9Hz,7.901H,d,J=7.6Hz,9.001H,s.mass:373M1.実施例301H-NMRDMSO-d6δ:2.273H,s,2.383H,s,7.36-7.483H,m,7.65-7.702H,m,7.75-7.781H,m,7.921H,d,J=7.4Hz,9.021H,brs.mass:345M1.実施例311H-NMRDMSO-d6δ:3.343H,s,3.923H,s,7.39-7.514H,m,7.69-7.813H,m,7.991H,d,J=7.6Hz.mass:377M1.実施例321H-NMRDMSO-d6δ:2.193H,s,5.951H,br,6.751H,br,7.39-7.442H,m,7.49-7.521H,m,7.63-7.692H,m,7.78-7.811H,m,7.94-7.971H,m.mass:347M1.実施例331H-NMRDMSO-d6δ:1.76,1.893H,sx2,2.01,2.183H,sx2,7.37-7.505H,m,7.61-7.672H,m,7.77-7.801H,m,7.93-7.971H,m.mass:361M1.実施例341H-NMRDMSO-d6δ:7.43-7.533H,m,7.68-7.732H,m,7.94-8.022H,m,8.34-8.392H,m,8.991H,s.mass:317M1.実施例351H-NMRDMSO-d6δ:6.601H,brs,7.33-7.497H,m,7.63-7.754H,m,7.91-8.052H,m.mass:381M1.実施例361H-NMRDMSO-d6δ:5.852H,brs,7.30-7.455H,m,7.61-7.692H,m,8.13-8.201H,m.mass:321M1.実施例371H-NMRDMSO-d6δ:1.343H,t,J=7.5Hz,4.052H,q,J=7.5Hz,6.181H,m,7.33-7.464H,m,7.63-7.733H,m,7.841H,d,J=7.5Hz.mass:333M1.実施例381H-NMRDMSO-d6δ:6.451H,s,7.31-7.474H,m,7.54-7.638H,m,7.691H,d,J=7.5Hz,8.791H,s,8.951H,s.mass:381M1.実施例391H-NMRDMSO-d6δ:1.393H,s,5.451H,s,6.49-6.614H,m,6.69-6.858H,m,7.911H,brs,8.061H,brs.mass:395M1.実施例401H-NMRDMSO-d6δ:6.331H,d,J=3.8Hz,6.55-6.664H,m,6.81-6.852H,m,7.00-7.041H,m,7.081H,d,J=7.6Hz,8.031H,brs.mass:322M1.実施例41mass:336M1.実施例42mass:422M1.実施例43mass:408M1.実施例441H-NMRDMSO-d6δ:1.303H,t,J=7.5Hz,4.312H,q,J=7.5Hz,7.36-7.504H,m,7.60-7.691H,m,7.831H,d,J=7.5Hz,7.901H,d,J=7.5Hz,8.721H,s.mass:437M1.実施例451H-NMRDMSO-d6δ:7.29-7.506H,m,7.551H,s,7.60-7.662H,m,7.81-7.944H,m.mass:398M1.実施例461H-NMRDMSO-d6δ:7.402H,t,7.493H,d,7.60-7.663H,m,7.831H,d,J=7.6Hz,7.913H,d,J=7.6Hz.mass:432M1.実施例471H-NMRDMSO-d6δ:7.35-7.432H,m,7.48-7.521H,m,7.60-7.662H,m,7.721H,d,J=7.6Hz,7.811H,d,J=7.6Hz,8.20-8.283H,m,8.38-8.442H,m,8.89-9.020.2H,br.mass:507M1.実施例481H-NMRDMSO-d6δ:2.453H,s,6.51-6.703H,m,6.79-6.974H,m,7.13-7.371H,m,7.800.3H,s,8.200.3H,s.mass:336M1.実施例491H-NMRDMSO-d6δ:7.36-7.432H,m,7.472H,d,J=7.5Hz,7.61-7.652H,m,7.771H,d,J=7.5Hz,7.841H,d,J=7.5Hz.mass:400,402M1.実施例501H-NMRDMSO-d6δ:7.35-7.452H,m,7.521H,d,J=6.9Hz,7.60-7.672H,m,7.771H,d,J=8.0Hz,7.851H,d,J=7.5Hz,8.601H,s.mass:367M1.実施例511H-NMRDMSO-d6δ:7.251H,t,7.403H,t,7.481H,d,J=7.6Hz,7.60-7.683H,m,7.86-7.933H,m,9.150.5H,br.mass:372M1.実施例521H-NMRDMSO-d6δ:1.493H,s,6.411H,d,J=7.5Hz,6.57-6.907H,m,7.00-7.051H,brm,7.10-7.151H,brm.mass:386M1.実施例531H-NMRDMSO-d6δ:6.451H,dt,6.602H,t,6.701H,d,J=7.6Hz,6.80-6.903H,m,7.00-7.103H,m.mass:390M1.実施例54-実施例55実施例54及び実施例55の化合物は、実施例1の方法に準じて製造した。実施例541H-NMRDMSO-d6δ:7.07-7.111H,m,7.34-7.381H,m,7.531H,s,7.78-7.842H,m,7.92-7.951H,m,8.071H,d,J=8.3Hz,8.321H,d,J=1.8Hz,8.381H,s.実施例551H-NMRDMSO-d6δ:7.061H,dd,J=7.2Hz,5.1Hz,7.20-7.231H,m,7.421H,d,J=7.3Hz,7.71-7.802H,m,8.351H,dd,J=5.0Hz,1.9Hz,8.741H,d,J=8.5Hz,12.00.4H,s,11.30.4H,brs,12.6br.実施例56実施例55の化合物56mg0.20mmol、トリフェニルホスフィン157mg0.6mmolおよびメタノール19mg0.60mmolをジメチルホルムアミド5mlに溶解し、室温にてジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液600.17ml0.60mmolを加え、同温で30分反応液を攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し水で洗浄した。有機層を分離し、析出した結晶を濾取して目的化合物41mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:3.033H,s,7.04-7.091H,m,7.191H,brd,J=7.9Hz,7.451H,dd,J=7.2Hz,0.8Hz,7.70-7.812H,m,8.391H,dd,J=5.0Hz,1.9Hz,8.741H,d,J=8.6Hz,10.20.3H,s,12.70.3H,br.実施例57-実施例74実施例57ないし実施例74の化合物は、実施例56の方法に準じて製造した。実施例571H-NMRDMSO-d6δ:1.183H,t,J=7.2Hz,3.602H,q,J=7.2Hz,7.071H,dd,J=7.3Hz,5.0Hz,7.19-7.211H,m,7.421H,d,J=7.2Hz,7.71-7.812H,m,8.391H,m,8.751H,d,J=8.6Hz,10.20.3H,s,12.70.3H,br.実施例581H-NMRDMSO-d6δ:0.873H,t,J=7.4Hz,1.622H,q,J=7.3Hz,3.532H,t,J=7.1Hz,7.071H,dd,J=7.3Hz,5.1Hz,7.221H,m,7.461H,d,J=7.3Hz,7.71-7.812H,m,8.381H,m,8.751H,d,J=8.5Hz,10.20.3H,s,12.60.3H,br.実施例591H-NMRDMSO-d6δ:1.426H,d,J=6.9Hz,4.37-4.421H,m,7.05-7.091H,m,7.21-7.231H,brm,7.431H,d,J=7.2Hz,7.70-7.812H,m,8.391H,m,8.741H,d,J=8.5Hz,10.20.2H,s,12.60.2H,br.実施例601H-NMRDMSO-d6δ:0.903H,t,J=7.3Hz,1.26-1.362H,m,1.54-1.632H,m,3.572H,t,J=7.0Hz,7.071H,ddd,J=7.3Hz,5.0Hz,1.0Hz,7.201H,d,J=7.9Hz,7.461H,d,J=7.2Hz,7.71-7.812H,m,8.381H,dd,J=5.0Hz,1.8Hz,8.751H,d,J=8.5Hz,10.21H,s,12.61H,br.実施例611H-NMRDMSO-d6δ:1.40-1.472H,m,1.61-1.682H,m,3.392H,t,J=6.4Hz,3.582H,t,J=6.8Hz,4.380.3H,m,7.04-7.091H,m,7.19-7.221H,m,7.41-7.471H,m,7.71-7.822H,m,8.34-8.391H,m,8.751H,d,J=8.2Hz,10.20.5H,s,12.60.4H,br.実施例621H-NMRDMSO-d6δ:3.34-3.483H,m,3.592H,d,J=7.5Hz,4.432H,m,7.05-7.091H,m,7.201H,d,J=8.2Hz,7.461H,d,J=6.9Hz,7.71-7.812H,m,8.381H,dd,J=4.8Hz,1.6Hz,8.741H,d,J=8.6Hz,10.21H,s,12.61H,br.実施例631H-NMRDMSO-d6δ:1.213H,t,J=7.1Hz,4.162H,q,J=7.1Hz,4.422H,s,7.071H,dd,J=7.2Hz,5.1Hz,7.18-7.211H,m,7.541H,d,J=7.3Hz,7.75-7.832H,m,8.35-8.381H,m,8.811H,d,J=8.6Hz,10.20.5H,s,12.70.4H,br.実施例641H-NMRDMSO-d6δ:4.782H,s,7.061H,ddd,J=7.3Hz,5.0Hz,1.0Hz,7.19-7.366H,m,7.501H,d,J=7.1Hz,7.74-7.802H,m,8.361H,dd,J=4.9Hz,1.9Hz,8.771H,d,J=8.6Hz,10,20.3H,s,12.60.3H,br.実施例651H-NMRDMSO-d6δ:2.942H,t,J=7.3Hz,3.812H,t,J=7.3Hz,7.081H,dd,J=7.2Hz,5.0Hz,7.15-7.336H,m,7.431H,d,J=7.3Hz,7.70-7.812H,m,8.371H,dd,J=4.8Hz,1.4Hz,8.731H,d,J=8.6Hz,10.20.3H,s,12.60.3H,br.実施例661H-NMRDMSO-d6δ:4.612H,s,6.501H,t,J=7.2Hz,6.671H,d,J=7.7Hz,6.93-7.094H,m,7.17-7.221H,m,7.41-7.712H,m,7.74-7.802H,m,8.361H,d,J=4.7Hz,8.781H,d,J=8.6Hz,10.20.5H,s,12.60.5H,br.実施例671H-NMRDMSO-d6δ:4.622H,s,6.41-6.463H,m,6.951H,t,J=7.9Hz,7.061H,dd,J=7.2Hz,5.0Hz,7.19-7.221H,m,7.501H,d,J=7.2Hz,7.74-7.802H,m,8.371H,d,J=5.6Hz,8.771H,d,J=8.4Hz,10.20.3H,s,12.60.3H,br.実施例681H-NMRDMSO-d6δ:4.912H,s,7.031H,dt,J=6.3Hz,1.1Hz,7.17-7.292H,m,7.421H,dd,J=7.9Hz,1.0Hz,7.521H,d,J=7.2Hz,7.73-7.823H,m,8.311H,dd,J=4.5Hz,1.5Hz,8.441H,dd,J=4.5Hz,1.8Hz,8.791H,d,J=8.6Hz,10.20.3H,s,12.60.2H,br.実施例691H-NMRDMSO-d6δ:4.812H,s,7.061H,dd,J=7.2Hz,5.0Hz,7.09-7.221H,m,7.351H,dd,J=7.8Hz,4.8Hz,7.491H,d,J=6.9Hz,7.72-7.803H,m,8.371H,d,J=3.9Hz,8.481H,dd,J=4.8Hz,1.6Hz,8.601H,s,8.761H,d,J=8.0Hz,10.20.3H,s,12.60.3H,br.実施例701H-NMRDMSO-d6δ:4.812H,s,7.041H,dd,J=6.9Hz,5.5Hz,7.18-7.211H,m,7.332H,d,J=5.7Hz,7.511H,d,J=7.2Hz,7.74-7.812H,m,8.331H,d,J=3.9Hz,8.512H,d,J=6.0Hz,8.781H,d,J=8.6Hz,10.20.4H,s,12.60.3H,br.実施例711H-NMRDMSO-d6δ:3.823H,s,4.852H,s,7.041H,dd,J=6.2Hz,1.1Hz,7.07-7.211H,m,7.472H,d,J=8.5Hz,7.511H,d,J=7.3Hz,7.74-7.802H,m,7.922H,d,J=8.5Hz,8.341H,d,J=4.0Hz,8.781H,d,J=8.6Hz,10.20.2H,s,12.60.2H,br.実施例721H-NMRDMSO-d6δ:1.65-1.681H,brm,1.82-1.982H,brm,2.04-2.143H,brm,4.72-4.761H,brm,5.611H,dd,J=10Hz,1.2Hz,5.82-5.861H,m,7.03-7.061H,brm,7.21-7.271H,brm,7.42-7.451H,m,7.70-7.802H,m,8.361H,brs,8.72-8.741H,m,10.20.4H,brs,12.40.4H,br.実施例731H-NMRDMSO-d6δ:0.93-1.112H,brm,1.13-1.163H,brm,1.63-1.746H,brm,3.422H,d,J=6.9Hz,7.081H,dt,J=6.2Hz,1.1Hz,7.19-7.231H,brm,7.471H,d,J=7.1Hz,7.72-7.822H,m,8.381H,d,J=4.9Hz,8.751H,d,J=8.6Hz,10.20.5H,s,12.70.4H,br.実施例741H-NMRDMSO-d6δ:2.284H,m,2.494H,m,4.493H,s,5.76-5.851H,m,7.04-7.091H,m,7.17-7.211H,brm,7.481H,d,J=7.2Hz,7.71-7.802H,m,8.351H,d,J=4.2Hz,8.761H,d,J=8.6Hz,10.20.5H,s,12.60.5H,br.実施例79参考例3の化合物及び2-ピリジンカルボニルアジドを用いて実施例1の方法に準じて目的化合物を製造した。1H-NMRDMSO-d6δ:1.06-1.201H,m,2.30-2.432H,brm,2.52-2.571H,m,3.28-3.351H,m,3.50-3.601H,m,4.831H,dd,J=10Hz,5.7Hz,7.061H,dd,J=7.2Hz,5.1Hz,7.28-7.332H,m,7.461H,t,J=7.7Hz,7.76-7.821H,m,8.29-8.322H,m,9.951H,s,11.21H,br.mass:309M1.実施例8014-ヒドロキシメチルピコリン酸エチルエステル2.00g11.0mmolをジメチルホルムアミド80mlに溶解し、イミダゾール1.88g27.0mmol、クロロ-tert-ブチルジフェニルシラン7.60ml27.0mmolを室温にて加え、同温度で反応液を2時間攪拌した。反応液をヘキサン-酢酸エチル1:1で希釈し飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、95:5~70:30で精製し、無色固体4.27gを得た。21で得られた化合物3.14g7.40mmolをメタノール60mlに溶解し、ヒドラジン1水和物1.80ml37.0mmolを室温にて加え、同温度で反応液を12時間攪拌した。反応液を濃縮し残渣をクロロホルムに溶解した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、有機層を濃縮して油状物を得た。このものは精製を行わずに次の反応に使用した。32で得られた化合物をクロロホルム10mlに溶解したところへ1N塩酸22.2ml22.2mmolを室温にて加えた。この混合物を氷冷し、亜硝酸ナトリウム1.02g14.8mmolを同温度で加え、さらに反応液を同温度で30分攪拌した。反応液をクロロホルムで抽出し、有機層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。得られた残渣に参考例3の化合物0.622g3.30mmolのテトラヒドロフラン50ml溶液を室温にて加え、反応液を1晩還流した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム-テトラヒドロフラン、10:0~9:1で精製し淡褐色不定形物2.03gを得た。43で得られた化合物2.03g3.30mmolをテトラヒドロフラン10mlに溶解し、フッ化テトラ―n-ブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液1.0M6.60ml6.60mmolを室温で加え、反応液を同温度で1時間攪拌した。反応液をテトラヒドロフラン、酢酸エチルで希釈し飽和食塩水で洗浄した。有機層を濃縮し、析出した淡黄色結晶を濾取した。濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム-メタノール、100:0~95:5で精製し黄色結晶を得た。先に濾取した結晶とあわせて目的化合物1.02gを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.07-1.201H,m,2.31-2.442H,m,2.45-2.581H,m,3.28-3.351H,m,3.50-3.601H,m,4.522H,d,J=5.6Hz,4.831H,dd,J=10Hz,5.3Hz,5.471H,t,J=5.7Hz,6.991H,d,J=4.7Hz,7.261H,s,7.321H,d,J=7.5Hz,7.471H,t,J=7.8Hz,8.231H,d,J=5.3Hz,8.331H,d,J=7.6Hz,9.961H,s,11.41H,br.mass:339M1.実施例811参考例5の化合物3.50gのテトラヒドロフラン35ml溶液にフッ化テトラ―n-ブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液1.0M7.10ml7.10mmolを室温にて加え、反応液を同温度で1時間攪拌した。反応液を濃縮しエーテルで希釈した。水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過濃縮した。残渣をエーテルで洗浄後、乾燥し目的化合物を無色固体として1.66g得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.02-1.221H,m,2.26-2.312H,brm,2.46-2.621H,m,2.702H,t,J=6.3Hz,3.22-3.401H,m,3.48-3.713H,m,4.711H,brt,4.79-4.901H,m,6.951H,d,J=6.3Hz,7.111H,s,7.301H,d,J=6.3Hz,7.441H,t,J=7.9Hz,8.191H,d,J=6.3Hz,8.301H,d,J=7.9Hz,9.861H,s,11.41H,br.mass:353M1.実施例821実施例80の化合物45mg0.13mmolをピリジン1mlに溶解し、メタンスルホニルクロリド40μl0.52mmolを室温にて加え、反応液を同温度で1時間攪拌した。反応液を1N塩酸で酸性にして酢酸エチル、テトラヒドロフランの混合液で抽出した。有機層を1N塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をジメチルホルムアミド1mlに溶解し、室温にてアジ化ナトリウム85mg1.3mmolを加え、反応液を80°Cで30分攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し濃縮して淡黄色固体35mgを得た。このものは精製を行わずに次の反応に使用した。21で得られた化合物35mgをメタノール-テトラヒドロフラン5:27mlに溶解し、室温にて10パラジウム炭素触媒5mgを加えた。容器内を水素置換し、水素気流下室温で反応液を1晩攪拌した。反応液をセライトで濾過し濾液を濃縮した。析出した結晶を濾取して淡黄色結晶13mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.02-1.101H,m,2.21-2.604H,m,3.45-3.522H,m,4.06-4.092H,m,4.79-4.851H,m,5.16-5.201H,m,6.931H,d,J=5.9Hz,7.201H,s,7.261H,d,J=7.6Hz,7.39-7.451H,m,8.101H,d,J=4.9Hz,8.271H,d,J=7.7Hz,10.31H,br,11.71H,br.mass:338M1.実施例83参考例9の化合物260mgをメタノール-テトラヒドロフラン1:110mlに溶解し、10パラジウム炭素触媒200mgを室温にて加えた。反応容器内を水素で置換し、反応液を同温度で1晩攪拌した。不溶物を濾過し濾液を濃縮して表題化合物105mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.01-1.221H,m,2.28-2.403H,brm,2.62-2.722H,m,2.80-2.882H,m,3.182H,s,3.45-3.602H,m,4.821H,dd,J=9.8Hz,6.2Hz,6.951H,d,J=6.2Hz,7.121H,s,7.301H,d,J=6.8Hz、7.451H,t,J=7.4Hz,8.201H,d,J=5.5Hz,8.301H,d,J=6.2Hz,9.941H,br,11.41H,br.mass:352M1.実施例841実施例80の化合物1.02g3.02mmolをジメチルホルムアミド-テトラヒドロフラン1:890mlに溶解し、室温にて二酸化マンガン3.92g45.1mmolを加え、反応液を同温度で6時間攪拌した。反応液をセライトで濾過した。濾液を濃縮し、析出した結晶を濾取して黄色結晶0.211gを得た。21で得られた化合物34mg0.10mmolおよびn-ブチルアミン22mg0.30mmolをクロロホルム5mlに溶解し、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム212mg1.0mmolを室温にて加え、反応液を同温度で24時間攪拌した。反応液を3N塩酸で中和しクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。析出した結晶を濾取して目的化合物13mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:0.883H,t,J=7.3Hz,1.08-1.171H,m,1.28-1.382H,m,1.42-1.512H,m,2.31-2.393H,m,2.47-2.542H,m,2.592H,t,J=7.2Hz,3.50-3.571H,m,3.812H,s,4.831H,dd,J=11Hz,5.5Hz,7.091H,d,J=5.3Hz,7.31-7.332H,m,7.471H,t,J=7.9Hz,8.261H,d,J=5.3Hz,8.311H,d,J=8.1Hz,9.981H,s,11.21H,br.mass:394M1.実施例85-94実施例85ないし実施例94の化合物は、実施例84に準じて製造した。実施例851H-NMRDMSO-d6δ:1.11-1.181H,m,2.22-2.445H,m,2.582H,t,J=5.8Hz,3.46-3.583H,m,3.732H,s,4.511H,t,J=5.4Hz,4.841H,dd,J=10Hz,5.6Hz,7.051H,d,J=5.4Hz,7.261H,s,7.331H,d,J=7.4Hz,7.481H,t,J=7.9Hz,8.241H,d,J=5.3Hz,8.341H,d,J=8.2Hz,9.931H,s,11.41H,br.mass:382M1.実施例861H-NMRDMSO-d6δ:1.06-1.201H,m,2.28-2.432H,m,2.48-2.601H,m,3.001H,br,3.28-3.401H,m,3.50-3.601H,m,3.714H,s,4.831H,m,7.061H,d,J=4.6Hz,7.251H,d,J=7.4Hz,7.29-7.396H,m,7.461H,t,J=7.4Hz,8.231H,d,J=5.5Hz,8.341H,d,J=7.4Hz,9.971H,s,11.51H,br.mass:428M1.実施例871H-NMRDMSO-d6δ:1.06-1.201H,m,2.29-2.432H,m,2.49-2.601H,m,3.322H,s,3.492H,s,3.53-3.601H,m,3.642H,s,4.831H,dd,J=11Hz,5.6Hz,4.912H,s,6.512H,d,J=8.3Hz,6.991H,d,J=8.2Hz,7.042H,d,J=5.4Hz,7.261H,s,7.321H,d,J=7.4Hz,7.471H,t,J=7.8Hz,8.221H,d,J=5.4Hz,8.331H,d,J=8.1Hz,9.941H,s,11.51H,br.mass:443M1.実施例881H-NMRDMSO-d6δ:1.07-1.181H,m,2.32-2.442H,m,2.51-2.665H,m,3.28-3.402H,m,3.54-3.611H,m,3.722H,s,4.823H,s,6.482H,d,J=8.2Hz,6.862H,d,J=8.2Hz,7.031H,d,J=5.2Hz,7.241H,s,7.321H,d,J=7.3Hz,7.481H,t,J=7.6Hz,8.221H,d,J=5.0Hz,8.341H,d,J=8.3Hz,9.941H,s,11.41H,br.mass:457M1.実施例891H-NMRDMSO-d6δ:1.12-1.211H,m,2.33-2.422H,m,2.50-2.592H,m,2.90-3.151H,br,3.51-3.581H,m,3.702H,s,3.772H,s,4.841H,dd,J=11Hz,5.6Hz,7.081H,d,J=5.3Hz,7.28-7.464H,m,7.481H,t,J=7.8Hz,7.572H,d,J=8.2Hz,7.792H,d,J=8.3Hz,8.251H,d,J=5.3Hz,8.341H,d,J=8.2Hz,9.961H,s,11.41H,br.mass:507M1.実施例901H-NMRDMSO-d6δ:1.08-1.151H,m,2.30-2.575H,m,2.71-2.834H,m,3.48-3.551H,m,3.712H,s,4.78-4.831H,m,6.991H,d,J=5.3Hz,7.23-7.253H,m,7.301H,d,J=7.6Hz,7.392H,d,J=8.0Hz,7.451H,t,J=7.8Hz,7.712H,d,J=7.9Hz,8.201H,d,J=4.9Hz,8.311H,d,J=8.0Hz,9.911H,s,11.41H,br.mass:521M1.実施例911H-NMRDMSO-d6δ:1.05-1.181H,m,2.26-2.402H,m,2.46-2.602H,m,3.001H,br,3.50-3.581H,m,3.692H,s,3.712H,s,4.821H,dd,J=10Hz,5.9Hz,7.051H,d,J=5.3Hz,7.312H,d,J=7.5Hz,7.382H,d,J=5.5Hz,7.461H,t,J=7.9Hz,8.231H,d,J=5.4Hz,8.321H,d,J=8.1Hz,8.502H,d,J=5.9Hz,9.951H,s,11.41H,br.mass:429M1.実施例921H-NMRDMSO-d6δ:1.03-1.171H,m,2.28-2.403H,m,2.47-2.541H,m,2.734H,s,3.26-3.341H,m,3.50-3.581H,m,3.702H,s,4.801H,dd,J=11Hz,5.6Hz,6.981H,d,J=5.5Hz,7.232H,d,J=6.1Hz,7.231H,s,7.291H,d,J=6.6Hz,7.441H,t,J=7.8Hz,8.191H,d,J=5.3Hz,8.301H,d,J=7.3Hz,8.422H,d,J=5.9Hz,9.911H,s,11.41H,br.mass443M1.実施例931H-NMRDMSO-d6δ:1.05-1.251H,m,2.27-2.644H,m,3.20-3.413H,m,3.49-3.602H,m,4.242H,brm,4.84-4.921H,m,7.33-7.636H,m,8.291H,d,J=7.7Hz,8.401H,d,J=5.5Hz,9.081H,s,9.852H,brm,10.31H,s,10.71H,brm.mass:432M1.実施例941H-NMRDMSO-d6δ:0.99-1.145H,m,1.75-1.854H,m,2.25-2.383H,m,2.47-2.551H,m,3.26-3.352H,m,3.48-3.571H,m,3.712H,s,4.441H,d,J=4.4Hz,4.811H,dd,J=10Hz,5.6Hz,7.021H,d,J=5.5Hz,7.231H,s,7.291H,d,J=7.4Hz,7.451H,t,J=7.7Hz,8.191H,d,J=5.3Hz,8.301H,d,J=8.2Hz,9.901H,s,11.41H,br.mass:436M1.実施例95N-2-アミノエチルカルバミド酸tert-ブチルエステルを用いて実施例96に準じて目的化合物を製造した。1H-NMRDMSO-d6δ:1.01-1.151H,m,2.25-2.613H,brm,2.97-3.032H,brm,3.14-3.356H,brm,3.50-3.591H,m,3.80-4.001H,brm,4.80-4.861H,m,7.051H,brd,7.25-7.342H,m,7.461H,dd,8.21-8.304H,m,9.482H,br,10.21H,brs,10.91H,br.mass:395M1.実施例9614-ニトロベンゼンスルホニルクロリド844mg3.81mmolのクロロホルム9ml溶液を氷冷したところへトリエチルアミン0.531ml3.81mmolを加え、反応液を室温にもどした。この溶液0.3mlを室温にてn-プロピルアミン10μl0.122mmolのクロロホルム0.3ml溶液に加え、反応液を同温度で1晩攪拌した。反応混合物を薄層クロマトグラフィークロロホルム-メタノール、19:1で精製し目的化合物を得た。21で得られた化合物に参考例7の化合物38mgとトリフェニルホスフィン29mg0.111mmolのクロロホルム0.6ml溶液を室温にて加え、さらに反応液にジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液400.047ml0.108mmolを加えて、反応液を室温で3日間攪拌した。反応混合物を薄層クロマトグラフィークロロホルム-メタノール、19:1で精製した。32で得られた化合物をジメチルホルムアミド1mlに溶解し炭酸ナトリウム35mg0.330mmol及びチオフェノール11μl0.107mmolを室温にて加え、反応液を同温度で1日攪拌した。不溶物を濾過し濾液をテトラヒドロフラン3mlに溶解し、反応液に1N塩酸1mlを室温にて加え、さらに反応液を室温で1時間攪拌した。反応液を濃縮し残渣をトルエンで共沸した。ここへメタノール-エーテルを加えて、固化し目的化合物を得た。1H-NMRDMSO-d6δ:0.933H,t,J=7.5Hz,1.03-1.171H,m,1.58-1.702H,m,2.26-2.402H,brm,2.55-2.651H,brm,2.85-2.952H,brm,2.96-3.032H,m,3.12-3.222H,brm,2.28-2.351H,m,3.50-3.601H,m,4.80-4.861H,m,7.061H,d,J=5.2Hz,7.30-7.352H,m,7.481H,t,J=7.9Hz,8.27-8.322H,m,8.862H,br,10.41H,brs,10.91H,br.mass:394M1.実施例97-実施例98実施例97及び実施例98の化合物は、実施例96に準じて製造した。実施例971H-NMRDMSO-d6δ:0.893H,t,J=7.8Hz,1.01-1.171H,m,2.26-2.402H,m,2.52-2.632H,m,2.26-2.392H,m,2.50-2.611H,m,2.88-3.004H,m,3.10-3.212H,m,3.26-3.341H,m,3.50-3.601H,m,4.80-4.861H,m,7.021H,d,J=4.6Hz,7.26-7.342H,m,7.461H,t,J=7.8Hz,8.26-8.302H,m,8.802H,m,10.21H,s,11.01H,br.mass:408M1.実施例981H-NMRDMSO-d6δ:0.863H,t,1.00-1.201H,m,1.21-1.344H,m,1.54-1.662H,m,2.26-2.382H,m,2.40-2.631H,m,2.85-3.004H,m,3.08-3.232H,m,3.26-3.351H,m,3.50-3.601H,m,4.80-4.861H,m,7.031H,d,J=4.3Hz,7.26-7.352H,m,7.461H,t,J=7.8Hz,8.26-8.302H,m,8.812H,brm,10.31H,s,11.01H,br.mass:422M1.実施例99グリコールアルデヒドジエチルアセタールを用いて、実施例96に準じて製造した。1H-NMRDMSO-d6δ:1.05-1.151H,m,2.25-2.403H,m,2.43-2.631H,m,2.90-3.376H,m,3.48-3.601H,m,4.77-4.851H,m,6.97-7.021H,m,7.23-7.342H,m,7.40-7.501H,m,8.23-8.322H,m,8.660.5H,brm,9.00-9.231H,brm,10.11H,s,11.01H,br.mass:394M1.実施例100グリシンtert-ブチルエステルを用いて実施例96に準じて製造した。1H-NMRDMSO-d6δ:1.03-1.101H,m,2.23-2.402H,brm,2.54-2.651H,brm,2.97-3.052H,brm,3.17-3.403H,m,3.50-3.591H,m,3.942H,brs,4.81-4.861H,m,7.031H,d,J=5.5Hz,7.28-7.342H,m,7.461H,t,J=7.8Hz,8.262H,d,J=6.5Hz,9.232H,br,10.41H,br,10.91H,br.mass:466M1.実施例101-実施例108実施例101ないし実施例108の化合物は、実施例96に準じて製造した。実施例1011H-NMRDMSO-d6δ:1.03-1.151H,m,2.25-2.633H,m,2.95-3.052H,m,3.19-3.373H,m,3.50-3.611H,m,4.10-4.192H,m,4.80-4.861H,m,5.262H,s,7.001H,d,J=5.5Hz,7.28-7.498H,m,8.26-8.322H,m,9.372H,brm,10.21H,s,10.91H,br.mass:500M1.実施例1021H-NMRDMSO-d6δ:1.03-1.171H,m,2.26-2.633H,brm,2.97-3.052H,brm,3.10-3.212H,brm,3.26-3.371H,brm,3.50-3.601H,m,3.783H,s,4.06-4.172H,brm,4.80-4.881H,m,6.98-7.033H,m,7.261H,brm,7.341H,d,J=8.3Hz,7.43-7.503H,m,8.25-8.302H,m,9.182H,brm,10.31H,brs,10.91H,br.実施例1031H-NMRDMSO-d6δ:1.02-1.181H,m,2.25-2.403H,m,2.44-2.632H,m,3.06-3.092H,m,3.25-3.353H,m,3.50-3.591H,m,4.82-4.881H,m,7.041H,dd,J=6.0Hz,1.1Hz,7.30-7.352H,m,7.45-7.553H,m,7.921H,t,8.282H,d,J=7.0Hz,8.671H,m,9.392H,brm,10.41H,brm,10.91H,br.mass:443M1.実施例1041H-NMRDMSO-d6δ:1.01-1.151H,m,2.30-2.403H,m,2.41-2.561H,m,2.57-2.641H,m,3.04-3.112H,m,3.20-3.363H,m,3.50-3.591H,m,4.82-4.871H,m,7.071H,d,J=6.6Hz,7.31-7.352H,m,7.481H,t,J=7.8Hz,7.83-7.901H,m,8.25-8.292H,m,8.461H,d,8.831H,dd,J=5.3Hz,1.3Hz,8.981H,s,9.792H,brm,10.31H,br,10.91H,br.mass:443M1.実施例1051H-NMRDMSO-d6δ:1.03-1.171H,m,2.26-2.402H,m,2.50-2.651H,m,3.05-3.152H,m,3.21-3.373H,m,3.50-3.611H,m,4.40-4.452H,m,4.81-4.891H,m,7.051H,d,J=4.6Hz,7.25-7.352H,m,7.461H,t,J=8.3Hz,7.992H,d,J=7.4Hz,8.282H,d,J=7.4Hz,8.862H,d,J=6.5Hz,9.90-10.02H,m,10.31H,s,10.91H,br.mass:443M1.実施例1061H-NMRDMSO-d6δ:1.03-1.171H,m,2.25-2.372H,m,2.40-2.601H,m,2.91-3.014H,m,3.14-3.355H,m,3.49-3.591H,m,4.80-4.851H,m,7.021H,d,J=5.3Hz,7.26-7.377H,m,7.461H,t,8.26-8.292H,m,8.942H,brm,10.21H,s,11.01H,br.mass:456M1.実施例1071H-NMRDMSO-d6δ:1.03-1.171H,m,2.26-2.503H,brm,2.54-2.631H,brm,2.832H,t,3.002H,t,3.06-3.233H,brm,3.26-3.371H,m,3.50-3.581H,m,4.80-4.861H,m,6.722H,d,J=8.3Hz,7.053H,d,J=8.3Hz,7.28-7.352H,m,7.461H,t,J=7.8Hz,8.26-8.322H,m,8.942H,brm,10.31H,s,11.01H,br.mass:472M1.実施例1081H-NMRDMSO-d6δ:1.05-1.151H,m,2.26-2.402H,brm,2.43-2.632H,brm,2.98-3.062H,m,3.20-3.436H,brm,3.50-3.651H,m,4.81-4.881H,m,7.031H,d,J=5.5Hz,7.30-7.352H,m,3.45-3.501H,m,7.952H,d,J=5.5Hz,8.282H,d,J=5.5Hz,8.862H,d,J=5.5Hz,8.722H,brm,10.21H,s,10.91H,br.mass:457M1.実施例109参考例8に記載のとおり、目的化合物80mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.03-1.252H,m,2.26-2.432H,brm,2.50-2.651H,m,2.576H,s,2.88-3.063H,m,3.26-3.401H,m,3.50-3.591H,m,4.82-4.861H,m,7.001H,d,J=5.5Hz,6.26-6.342H,m,7.461H,t,J=7.8Hz,8.231H,d,J=5.5Hz,8.301H,d,J=8.3Hz,10.01H,s,10.50.5H,br,11.11H,br.mass:380M1.実施例110参考例11の化合物30mg0.038mmolのクロロホルム1ml溶液に塩化n-ブタノイル6μl0.058mmolとトリエチルアミン13μl0.093mmolを室温にて加え、反応液を同温度で1時間攪拌した。反応液に塩化n-ブタノイル6μl0.058mmolとトリエチルアミン10μl0.072mmolを室温にて加え、反応液を同温度で10分攪拌した。反応液に水1mlを加え有機層を分離した。有機層を水1mlで洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をテトラヒドロフラン1mlに溶解し、反応液に1N塩酸1mlを室温にて加えて、反応液を同温度で15分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣にトリフルオロ酢酸2mlを加えて、反応液を室温で15分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣にメタノール-エーテルを加えて固化し目的化合物を得た。1H-NMRDMSO-d6δ:0.803H,t,J=7.8Hz,1.03-1.151H,m,1.42-1.542H,m,2.002H,t,J=6.9Hz,2.25-2.402H,brm,2.55-2.631H,brm,2.70-2.782H,brm,3.28-3.393H,brm,3.50-3.601H,brq,4.80-4.861H,m,7.011H,d,J=4.6Hz,7.141H,s,7.341H,d,J=8.3Hz,7.481H,t,J=7.8Hz,7.882H,brm,8.231H,d,J=4.6Hz,8.261H,d,J=8.3Hz,10.41H,br,11.11H,br.mass:422M1.実施例111-実施例114実施例111ないし実施例114の化合物は、実施例110に準じて製造した。実施例1111H-NMRDMSO-d6δ:1.00-1.231H,m,2.26-2.603H,m,2.702H,br,3.152H,br,3.40-3.602H,m,4.342H,s,4.80-4.901H,m,6.971H,d,J=4.9Hz,7.151H,s,7.301H,d,J=8.0Hz,7.40-7.526H,m,8.231H,d,J=4.3Hz,8.301H,d,J=8.0Hz,8.54-8.631H,m,9.941H,s,11.41H,br.mass:470M1.実施例1121H-NMRDMSO-d6δ:1.00-1.201H,m,2.26-2.402H,m,2.41-2.601H,m,2.832H,brt,3.151H,s,3.20-3.401H,m,3.43-3.572H,m,4.75-4.861H,m,6.971H,d,J=7.6Hz,7.151H,s,7.301H,d,J=11Hz,7.40-7.524H,m,7.802H,d,J=10Hz,8.211H,d,J=6.7Hz,8.301H,d,J=11Hz,8.591H,brt,9.941H,s,11.41H,br.mass:456M1.実施例1131H-NMRDMSO-d6δ:1.06-1.201H,m,2.25-2.412H,m,2.722H,t,3.10-3.202H,m,3.26-3.421H,m,3.48-3.601H,m,3.75-3.901H,m,4.362H,s,4.80-4.861H,m,6.991H,d,J=5.7Hz,7.131H,s,7.19-7.407H,m,7.461H,t,J=7.6Hz,8.231H,d,J=3.8Hz,8.281H,d,J=8.6Hz,10.01H,s,11.21H,br.実施例1141H-NMRDMSO-d6δ:1.43-1.601H,m,2.50-3.003H,brm,3.03-3.152H,brm,3.34-3.482H,brm,3.65-3.801H,brm,3.85-4.001H,m,5.17-5.261H,m,7.311H,d,J=5.4Hz,7.461H,s,7.721H,dd,J=6.8Hz,0.6Hz,7.871H,t,7.94-8.033H,m,8.10-8.203H,m,8.581H,d,J=4.7Hz,8.701H,d,J=8.1Hz,10.41H,s,11.71H,br.mass:492M1.実施例115実施例83の化合物を用いて実施例961に準じて目的化合物を製造した。1H-NMRDMSO-d6δ:1.04-1.191H,m,2.26-2.412H,m,2.48-2.601H,m,2.66-2.742H,m,3.10-3.202H,m,3.28-3.391H,m,3.51-3.591H,m,4.79-4.821H,m,6.901H,d,J=4.6Hz,7.011H,s,7.321H,d,J=8.3Hz,7.461H,t,J=8.3Hz,7.972H,d,J=9.2Hz,8.172H,m,8.29-8.373H,m,9.901H,s,11.21H,br.mass:537M1.実施例116フェノール及び参考例7の化合物を用いて実施例56に準じて調製した化合物に対し実施例124と同様の操作を行い、目的化合物を製造した。1H-NMRDMSO-d6δ:1.081H,t,J=7.4Hz,2.25-2.402H,m,2.60-2.691H,m,3.102H,t,J=5.5Hz,3.25-3.351H,m,3.541H,q,J=9.2Hz,4.252H,t,J=5.5Hz,4.80-4.861H,m,6.921H,d,J=12Hz,6.942H,d,J=7.4Hz,7.201H,d,J=5.5Hz,7.25-7.374H,m,7.481H,t,J=7.4Hz,8.23-8.282H,m,10.5-11.02H,br.mass:429M1.実施例11713-アミノ-5-フェニルピラゾール544mg3.4mmolのジメチルホルムアミド10ml溶液に水素化ナトリウム164mg4.1mmol、ベンジルブロミド0.45ml3.8mmolを加え室温で6時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を分離し、水、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウム乾燥し、濾液を濃縮した。残差をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、4:1で精製し、目的物509mgを得た。21で得られた化合物509mg2.0mmolのピリジン5.0ml溶液にクロロギ酸メチル0.19ml2.5mmolを加え室温で2時間攪拌した。反応液に1N塩酸を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を分離し飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥し濾液を濃縮した。残差をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、4:1~2:1で精製し、目的物450mgを得た。32で得られた化合物440mg1.4mmolのトルエン5.0ml溶液にトリエチルアミン0.40ml2.9mmolを加え80°Cで10分間攪拌し、B-クロロカテコールボラン450mg2.9mmolを加え同温度で10分間攪拌した。参考例3の化合物290mg1.5mmolを加え同温度で30分間攪拌した。B-クロロカテコールボラン440mg2.9mmolを加え100°Cで1時間攪拌した。反応液に1N塩酸を加えクロロホルムで抽出した。有機層を分離し1N水酸化ナトリウム、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウム乾燥し濾液を濃縮した。残差にクロロホルム-エーテルを加え析出した結晶400mgを濾取した。43で得られた化合物400mg0.87mmolをメタノール-テトラヒドロフラン1:120mlに溶解した。10パラジウム炭素触媒200mgを加え反応容器内を水素置換し50°Cで1晩攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残差にエーテル-酢酸エチルを加えて結晶化し、目的化合物220mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.02-1.101H,m,2.27-2.372H,brm,2.62-2.671H,brm,3.26-3.371H,m,3.48-3.571H,m,4.751H,dd,J=11Hz,5.7Hz,6.601H,brs,7.281H,d,J=7.5Hz,7.30-7.484H,m,7.732H,d,J=7.3Hz,8.261H,d,J=8.2Hz,9.611H,s,12.81H,br.実施例1181α-シアノ-o-ヨードアセトフェノン3.81g13.3mmol、ベンジルヒドラジン2塩酸塩7.80g40.0mmol、トリエチルアミン18.0ml129mmol及びn-ブタノール50mlの混合物を120°Cで1晩攪拌した。反応液を室温に戻した後濃縮し、残渣をエーテルに溶解して水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、5:1~2:1で精製し、淡黄色結晶2.61gを得た。21で得られた化合物1.23g3.27mmolとクロロギ酸p-ニトロフェニル0.859mg4.26mmol、4-ジメチルアミノピリジン1.00g8.19mmol、クロロホルム10mlの混合物を室温で30分攪拌した。反応液に参考例3の化合物0.920g4.96mmolを加え、反応液を100°Cで1晩攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、1N水酸化ナトリウム、1N塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム-メタノール、98:2~97:3で精製し黄色固体1.60gを得た。32で得られた化合物236mg0.461mmolと酢酸パラジウム11mg0.0490mmol、1、1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセン30mg0.0541mmol及び炭酸水素ナトリウム71mg0.845mmolをメタノール4mlに混合し容器内を一酸化炭素で置換して、反応液を7時間還流した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム-メタノール、98:2~97:3で精製し黄色固体180mgを得た。43で得られた化合物40mgをエタノール5mlに溶解した。反応液に水酸化パラジウム10mgを室温にて加え容器内を水素で置換し、反応液を70°Cで1晩攪拌した。反応液をセライトで濾過し濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム-メタノール、10:1で精製し、目的化合物8.6mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.03-1.151H,m,2.25-2.402H,m,2.62-2.771H,m,3.43-3.582H,m,3.733H,s,4.74-4.781H,m,6.251H,m,7.271H,d,J=7.6Hz,7.41-7.745H,m,8.23-8.261H,m,8.311H,s,9.591H,s.mass:432M1.実施例1191実施例1183で得られた化合物140mg0.268mmolをメタノール3mlに溶解し、反応液に1N水酸化ナトリウム1.00ml1.00mmolを室温にて加え、反応液を室温で暫く攪拌した後、さらに50°Cに加熱して2時間攪拌した。反応液を1N塩酸で酸性とした後濃縮した。残渣をクロロホルムに溶解し、これを水で洗浄した。水層はさらにクロロホルムで2回抽出し、有機層をあわせて硫酸マグネシウム乾燥後濾過濃縮した。残渣にエーテル、クロロホルムを加えて析出した結晶73mgを濾取した。21で得られた化合物36mg0.0699mmolをエタノール4mlに溶解し、室温にて反応液に水酸化パラジウム10mgを加えて容器内を水素で置換し、反応液を70°Cで1晩攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣にエーテル、クロロホルムを加えて結晶を析出させ目的化合物を13mg得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.01-1.141H,m,2.25-2.342H,m,2.65-2.681H,m,3.35-3.532H,m,4.741H,dd,J=10Hz,5.8Hz,6.341H,br,7.272H,d,J=7.5Hz,7.432H,t,J=7.8Hz,7.541H,d,J=3.8Hz,7.701H,d,J=7.4Hz,8.261H,d,J=8.1Hz,9.591H,s.mass:418M1.実施例1201α-シアノ-m-ヨードアセトフェノンを用いて実施例1181から3と同様の手順に従って調製した化合物に対し、実施例1191に準じて反応を行い、目的化合物を得た。21で得られた化合物を用いて、実施例1192に準じて目的化合物を製造した。1H-NMRDMSO-d6δ:1.02-1.171H,m,2.25-2.401H,m,2.63-2.722H,m,3.34-3.412H,m,4.74-4.801H,m,6.651H,br,7.281H,d,J=7.6Hz,7.441H,t,J=7.6Hz,7.581H,t,J=7.7Hz,7.911H,d,J=8.0Hz,7.971H,d,J=7.9Hz,8.251H,d,J=8.2Hz,8.301H,d,J=4.3Hz,9.681H,s.mass:418M1.実施例1211実施例1201で得られた化合物56mg0.11mmolをジメチルホルムアミド1.5mlに溶解し、反応液に室温にて、1、1’-カルボニルジイミダゾール25mg0.15mmolを加え、反応液を室温で30分攪拌した。室温にて反応液にフェニルエチルアミン42μl0.33mmolを加え、反応温度を室温から70°Cに加熱して反応液をさらに10分攪拌した。反応液を濃縮し残渣を薄層クロマトグラフィークロロホルム-メタノール、10:1で精製し粗生成物を得た。このものはこのまま次の反応に使用した。21で得られた化合物51mg0.084mmolをメタノール-テトラヒドロフラン2:13mlに溶解し、反応液に室温にて水酸化パラジウム51mgを加えて容器内を水素で置換し、反応液を室温で1晩攪拌した。反応液をセライトで濾過した後濾液を濃縮し目的化合物25mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.02-1.101H,m,2.25-2.362H,m,2.43-2.561H,m,2.652H,t,J=7.1Hz,2.872H,t,J=7.5Hz,3.16-3.252H,m,4.73-4.791H,m,6.701H,br,7.16-7.337H,m,7.441H,t,J=7.9Hz,7.541H,t,J=7.7Hz,7.791H,d,J=7.0Hz,7.871H,d,J=6.3Hz,8.191H,s,8.261H,d,J=7.7Hz,8.721H,br,9.691H,br.mass:521M1.実施例12212-ブロモ-3-ニトロ安息香酸10.0g40.7mmol、ピロール-2-カルボキシアルデヒド7.74g81.4mmol、トリエチルアミン20.0ml143mmol及び塩化チオニル30mlを用いて参考例21と同様の手順に従い、目的化合物9.07gを得た。21で得られた化合物9.07g28.0mmolのテトラヒドロフラン400ml溶液を-78°Cに冷却した。同温度で反応液に水素化ジイソプロピルアルミニウムのトルエン溶液1.0M33.6ml33.6mmolを加え、さらに反応液を同温度で2時間攪拌した。反応液に同温度にて飽和塩化アンモニウム水溶液15mlを加え、室温に戻して反応液を2時間攪拌した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾液を濃縮した。得られた残渣を塩化メチレン200mlに溶解し、室温にて反応液にクロロtert-ブチルジメチルシラン6.32g41.9mmolおよびイミダゾール3.80g55.8mmolを加え、反応液を室温で1晩攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、有機層を水200ml3回、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル、10:1~5:1で精製し、無色油状物9.34gを得た。32で得られた化合物9.34g21.3mmolおよびジイソプロピルエチルアミン8.24g63.8mmolをジメチルホルムアミド200mlに溶解し、反応容器内を窒素で置換した。室温にて反応液にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム2.46g2.13mmolを加え、反応液を130°Cで2時間攪拌した。反応液を酢酸エチル1L、水500mlに加え有機層を分離した。水層をさらに酢酸エチル300mlで抽出し、有機層を合わせて水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグンネシウム乾燥後、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル、20:1~5:1で精製し、黄色固体4.73gを得た。43で得られた化合物4.73g13.2mmolをメタノール-テトラヒドロフラン1:1400mlに溶解し、反応液に室温にて10パラジウム炭素触媒500mgを加えた。反応容器内を水素置換し、反応液を室温で2時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル、2:1~1:1で精製した。画分1低極性物質としてピロール体1.20g、画分2高極性物質としてピロリジン体2.40gを得た。画分1低極性物質1H-NMRCDCl3δ:0.146H,s,0.959H,s,3.842H,brs,4.882H,s,5.981H,d,J=3.1Hz,6.09-6.111H,m,6.781H,d,J=7.1Hz,7.021H,t,J=7.7Hz,7.141H,d,J=7.3Hz.画分2高極性物質1H-NMRCDCl3δ:0.026H,s,0.749H,s,1.60-1.701H,m,2.15-2.231H,m,2.42-2.502H,m,3.682H,brs,3.95-4.022H,m,4.361H,dd,J=10Hz,5.2Hz,4.631H,dd,J=12Hz,5.5Hz,6.801H,d,J=7.0Hz,7.20-7.242H,m.54で得られた画分2高極性物質、2.40g7.23mmolを用いて実施例1と同様の手順に従い黄色固体2.71gを得た。65で得られた化合物2.71g6.00mmolをメタノール-テトラヒドロフラン1:1200mlに懸濁し、反応液に室温にて2N塩酸10mlを加えて、さらに反応液を同温度で6時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をトルエンで2回共沸脱水した。得られた粗生成物をヘキサン-酢酸エチル-テトラヒドロフランから再結晶し、目的化合物1.85gを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.27-1.401H,m,1.72-1.781H,m,2.20-2.271H,m,2.40-2.501H,m,2.53-2.621H,m,3.591H,t,J=7.5Hz,3.85-3.931H,m,4.901H,dd,J=8.0Hz,5.5Hz,5.971H,br,7.17-7.221H,m,7.331H,d,J=8.0Hz,7.401H,d,J=9.0Hz,7.471H,t,J=7.5Hz,7.981H,t,J=8.0Hz,8.181H,d,J=7.0Hz,8.301H,d,J=4.0Hz,10.61H,br,11.01H,br.mass:339M1.実施例1231実施例1311で得られた化合物4.50g13.4mmolを用いて実施例1222と同様の手順に従い黄色固体3.94gを得た。21で得られた化合物3.94g8.47mmolを用いて実施例12234と同様の手順に従い、画分1低極性物質238mg及び画分2高極性物質1.14gを得た。画分1低極性物質:1H-NMRCDCl3-CD3ODδ:0.083H,s,0.113H,s,0.939H,s,1.513H,d,J=6.2Hz,3.842H,br,5.261H,m,5.961H,d,J=3.3Hz,6.101H,dd,J=3.1Hz,1.0Hz,6.781H,d,J=8.0Hz,7.011H,t,J=7.7Hz,7.131H,d,J=7.3Hz.画分2高極性物質:1H-NMRCDCl3δ:0.073H,s,0.113H,s,0.85-0.951H,m,0.929H,s,1.24-1.352H,m,1.523H,d,J=6.3Hz,1.52-1.551H,m,5.271H,q,6.281H,d,J=3.4Hz,7.071H,d,J=3.6Hz,7.311H,dd,J=8.5Hz,7.3Hz,7.921H,dd,J=7.3Hz,1.0Hz,8.281H,dd,J=8.5Hz,1.0Hz.32で得られた画分2高極性物質、300mg0.87mmolを用いて実施例1と同様の手順に従い黄色固体389mgを得た。43で得られた化合物200mg0.429mmolを用いて参考例7と同様の手順に従い目的化合物92mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:0.80-0.951H,m,1.143H,d,J=6.3Hz,1.17-1.281H,m,2.25-2.402H,m,3.70-3.741H,m,3.80-3.901H,m,4.78-4.852H,m,7.061H,dd,J=7.2Hz,5.0Hz,7.332H,t,J=7.4Hz,7.461H,t,J=7.9Hz,7.76-7.821H,m,8.26-8.302H,m,9.901H,s,11.01H,br.実施例124実施例1285で得られた画分2高極性物質14mgをメタノール-テトラヒドロフラン1:12mlに溶解し、室温にて反応液に1N塩酸1.0mlを加えて、反応液を同温度で30分攪拌した。反応液を飽和重曹水で中和し、クロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー酢酸エチル-メタノール、30:1で精製し目的化合物を4.1mgおよび実施例127の化合物を3.8mg得た。1H-NMRDMSO-d6δ:0.92-1.091H,m,1.182H,d,J=6.6Hz,1.60-1.741H,br,2.68-2.761H,m,2.80-3.001H,m,3.281H,dd,J=11Hz,9.0Hz,3.631H,dd,J=11Hz,8.5Hz,4.871H,dd,J=11Hz,5.2Hz,6.971H,d,J=4.6Hz,6.99-7.051H,m,7.45-7.602H,m,7.68-7.761H,m,8.19-8.231H,m,8.321H,dd,J=7.7Hz,1.3Hz,8.941H,br,12.001H,br.mass:323M1.実施例1251実施例1281の化合物12.3g38.2mmolをテトラヒドロフラン150mlに溶解し、反応液を-78°Cに冷却した。反応液に同温度で水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液1.0M46.0ml46.0mmolを加え、そのまま反応液を15分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液25mlを加えて室温に戻した。反応液に硫酸マグネシウムを加えて濾過し、濾液を濃縮した。残渣をクロロホルム150mlに溶解し、イミダゾール5.20g81.1mmolおよびクロロトリイソプロピルシラン9.40ml43.9mmolを室温にて加えて容器内を窒素置換し、反応液を室温で12時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈して、水、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、10:1で精製し、黄色固体17.2gを得た。21で得られた化合物17.2g15.6mmolを用いて参考例2の2に準じて反応を行い黄色固体を4.90g得た。32で得られた化合物4.90g12.2mmolをテトラヒドロフラン70mlに溶解し、反応液に室温にて6N塩酸20mlを加えて、反応液を同温度にて1時間攪拌した。1N水酸化ナトリウムで反応液を塩基性にし、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。析出した結晶を濾取しヘキサン-酢酸エチルで洗浄、乾燥後黄色固体2.94gを得た。43で得られた化合物180mg0.73mmolをメタノール5.0mlおよびテトラヒドロフラン16mlに溶解し、トリエチルアミン0.20ml、10パラジウム炭素触媒100mgを加え、水素気流下50°Cで1時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮して無色固体163mgを得た。54で得られた化合物163mg0.75mmolと2-ピリジンカルボニルアジド107mg0.72mmolを用いて実施例1に準じて目的化合物7mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.03-1.101H,m,3.02-3.211H,m,3.30-3.654H,m,3.87-3.891H,m,4.95-5.021H,m,7.06-8.457H,m,9.021H,br,11.91H,br.mass:339M1.実施例1261実施例125の化合物85mg0.251mmol及びトリフェニルホスフィン132mg0.503mmolのテトラヒドロフラン6ml溶液に、ジフェニルリン酸アジド0.140ml0.650mmol及びジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液400.220ml0.505mmolを室温にて加え、反応液を同温度で1時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水及び飽和食塩水で順次洗浄して、有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィークロロホルム-メタノール、10:1で精製した。エーテルを加えて結晶24mgを得た。21で得られた化合物24mgをメタノール-テトラヒドロフラン1:12mlに溶解し、室温にて反応液に10パラジウム炭素触媒10mgを加えた。容器内を水素置換し、水素気流下、反応液を室温で原料が消失するまで攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣にエーテルを加えて結晶化した。この結晶を濾取して酢酸エチル、クロロホルムで洗浄後、乾燥し目的化合物4.6mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:0.97-1.101H,m,2.72-2.821H,m,2.87-3.002H,m,3.10-3.201H,m,3.30-3.602H,m,4.96-5.011H,m,7.03-7.141H,m,7.31-7.341H,m,7.40-7.502H,m,7.77-7.831H,m,8.162H,br,8.261H,d,J=8.1Hz,8.371H,d,J=4.0Hz,10.11H,s,11.21H,br.mass:338M1.実施例127目的化合物は、実施例124の製造反応において得られた。1H-NMRDMSO-d6δ:0.452H,d,J=7.0Hz,1.55-1.701H,br,2.08-2.191H,m,2.48-2.681H,m,2.88-3.021H,m,3.41-3.531H,m,3.66-3.801H,m,4.961H,d,J=5.3Hz,6.921H,d,J=8.3Hz,6.99-7.051H,m,7.46-7.602H,m,7.72-7.771H,m,8.20-8.231H,m,8.32-8.371H,m,8.661H,br,12.001H,br.mass:323M1.実施例1281ピロール-3-カルボキシアルデヒドを用いて参考例2の1と同様の操作を行い目的物を得た。21で得られた化合物139mg0.433mmolを用いて実施例122の2と同様の手順に従い目的化合物を得た。32で得られた化合物を用いて参考例2の2と同様の手順に従い位置異性体との2:1の混合物を得た。43で得られた化合物を用いて実施例122の4と同様の手順に従い精製混合物を得た。このまま次の反応に使用した。54で得られた精製混合物22mgと2-ピリジンカルボニルアジド26mg0.17mmolを用いて実施例1と同様の手順に従った。反応液を濃縮し、残渣を薄層クロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、1:2で精製して、画分1低極性物質および画分2高極性物質を得た。65で得られた画分1低極性物質11mgをメタノール-テトラヒドロフラン1:51.2mlに溶解し、室温にて反応液に1N塩酸1.0mlを加えて、反応液を同温度で攪拌した。反応液を濃縮し、残渣を酢酸エチルで希釈して、飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィークロロホルム-メタノール、10:1で精製し、目的化合物3.1mgを得た。1H-NMRacetone-d6δ:1.291H,br,2.52-2.612H,m,3.00-3.102H,m,3.29-3.411H,m,3.54-3.702H,m,5.081H,d,J=5.4Hz,7.05-7.121H,m,7.231H,d,J=8.4Hz,7.32-7.361H,m,7.451H,t,J=7.7Hz,7.78-7.871H,m,8.36-8.422H,m,8.961H,br,11.91H,br.実施例1291参考例22で得られた化合物100mg0.467mmolのメタノール15ml溶液に室温にて鉄粉200mg3.58mmol、6N塩酸0.500ml3.00mmolを加え、反応液を室温で30分攪拌した。反応液を酢酸エチル200mlで希釈し、飽和重曹水100ml、水、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム乾燥後、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル、5:1で精製し、淡緑色固体71mgを得た。21で得られた化合物50mgを用いて実施例1と同様の手順に従い目的化合物65mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:6.341H,t,J=3.1Hz,6.651H,d,J=3.1Hz,7.081H,dd,J=6.7Hz,5.6Hz,7.24-7.293H,m,7.381H,d,J=7.3Hz,7.77-7.831H,m,8.271H,d,J=8.2Hz,8.311H,dd,J=5.1Hz,1.1Hz,10.11H,brs,11.01H,br.実施例130実施例1224で得られた画分1低極性物質、300mg0.91mmolを用いて実施例12256と同様の手順に従い目的化合物216mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:4.602H,s,5.651H,br,6.201H,s,6.681H,s,7.14-7.201H,m,7.251H,t,J=7.4Hz,7.35-7.432H,m,7.941H,t,J=6.9Hz,8.201H,d,J=7.4Hz,8.341H,d,J=5.5Hz,10.82H,br.実施例13112-ブロモ-3-ニトロ安息香酸10.0g40.7mmol、2-アセチルピロール8.90g81.6mmolを用いて参考例21と同様の手順に従い黄色固体9.20gを得た。21で得られた化合物2.00g5.93mmolを用いて参考例22と同様の手順に従い、淡緑色固体941mgを得た。32で得られた化合物300mg1.17mmolを用いて実施例129と同様の手順に従い目的化合物277mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:6.32-6.351H,m,6.741H,s,7.071H,dd,J=7.2Hz,5.2Hz,7.191H,s,7.261H,s,7.401H,t,J=8.0Hz,7.471H,d,J=8.6Hz,7.661H,dd,J=7.9Hz,1.5Hz,7.78-7.831H,m,8.251H,dd,J=5.2Hz,1.6Hz,8.471H,dd,J=8.0Hz,1.6Hz,10.11H,s,10.81H,brs,12.01H,s.mass:347M1.実施例1321実施例1311で得られた化合物4.5g13.4mmolを用いて実施例1222の手順に従い目的物3.94gを得た。21で得られた化合物3.94g8.47mmolを用いて実施例12234と同様の手順に従い画分1低極性物質238mgおよび画分2高極性物質1.14gを得た。32で得られた画分1低極性物質200mg0.58mmolを用いて実施例1と同様の手順に従い結晶247mgを得た。43で得られた化合物247mg0.53mmolを用いて参考例7と同様の手順に従い目的化合物85mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.583H,d,J=7Hz,5.021H,q,J=7Hz,6.071H,d,J=3Hz,6.551H,d,J=3Hz,6.961H,brd,J=8Hz,7.061H,t,J=5Hz,7.221H,t,J=7Hz,7.431H,d,J=7Hz,7.69-7.751H,m,8.23-8.272H,m.実施例1331実施例299の1の化合物を16mgのエタノール0.2ml溶液に1-ブタンチオール4.2μl及びナトリウムエトキシド2.6mgを加え室温で15時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をTLCMerckArt5744、ヘキサン-酢酸エチル1:5で精製し目的物8mgを得た。21の化合物8mgのテトラヒドロフラン2ml溶液に1N塩酸1mlを加え室温で15分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をエーテル-メタノールで結晶化して、表題化合物である白色固体4mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.873H,t,J=7.2Hz,1.07-1.241H,m,1.28-1.402H,m,1.492H,tt,J=7.3,7.7Hz,2.25-2.585H,m,2.71-2.884H,m,3.27-3.341H,m,3.38-3.821H,m,4.821H,dd,J=5.4,11Hz,7.031H,d,J=5.4Hz,7.171H,s,7.321H,d,J=7.5Hz,7.471H,t,J=7.8Hz,8.221H,d,J=5.4Hz,8.281H,d,J=8.4Hz,10.11H,br,11.11H,br.mass:425M1.実施例1341参考例8の化合物を用いて実施例289の6に準じて反応を行い、目的化合物を得た。21の化合物19mg、イソプロパノール15μl及びトリフェニルホスフィン50mgのテトラヒドロフラン0.2ml溶液を0°Cに冷却し、アゾジカルボン酸ジエチルエステル82μlを加え、室温で30分攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール20:1で精製し目的物18mgを得た。32の化合物18mgを用いて、参考例11に準じて反応を行った後、実施例133の2に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として白色固体5mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.06-1.201H,m,1.246H,sx2,2.25-2.443H,m,2.93-2.992H,m,3.11-3.162H,m,3.21-3.362H,m,3.49-3.591H,m,4.80-4.861H,m,7.04-7.061H,m,7.26-7.332H,m,7.461H,t,J=7.8Hz,8.26-8.292H,m,8.782H,br,10.21H,s,10.91H,br.mass:394M1.実施例135-136実施例135及び実施例136の化合物は、実施例134に準じて製造した。実施例135mass:420M1.実施例136mass:434M1.実施例1371参考例8の化合物及びサリチルアルデヒドのtert-ブチルジフェニルシリルエーテルを用い、実施例84の2に準じて目的化合物を得た。21の化合物を用い、実施例133の2に準じて表題化合物である白色固体3mgを得た。mass:696M1.実施例1381実施例137の1の化合物を用いて参考例7に準じて反応を行い、目的物を得た。21の化合物を用いて実施例133の2に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として白色固体4mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.06-1.241H,m,2.25-2.482H,m,2.49-2.631H,m,2.98-3.032H,m,3.13-3.272H,m,3.27-3.351H,m,3.45-3.791H,m,4.11-4.142H,m,4.80-4.851H,m,6.83-7.013H,m,7.22-7.383H,m,7.44-7.491H,m,8.25-8.292H,m,8.902H,br,10.11H,br,10.21H,br,11.01H,br.mass:458M1.実施例1391実施例137の1の化合物29mg、ジtert-ブチルジカーボネートBoc2O16mg、トリエチルアミン15μl及びクロロホルム0.2mlの混合物を室温で3時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をTLCMerchArt5744、クロロホルム-メタノール20:1で精製し目的物32mgを得た。21の化合物35mgを用いて参考例7に準じて目的物24mgを得た。32の化合物24mg、1-ブタノール5μlを用いて、実施例134の2に準じて目的物3mgを得た。43の化合物8mgを用いて実施例133の2に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として白色固体3mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.913H,t,J=7.5Hz,1.06-1.241H,m,1.432H,tt,J=6.6,7.5Hz,1.732H,tt,J=6.6,6.6Hz,2.25-2.593H,m,2.98―3.052H,m,3.14-3.242H,m,3.27-3.351H,m,3.43-3.651H,m,4.032H,t,J=6.6Hz,4.152H,brt,J=5.4Hz,4.79-4.861H,m,6.97-7.103H,m,7.27-7.495H,m,8.25-8.292H,m,9.011H,br,10.11H,br,10.91H,br.mass:514M1.実施例1401参考例8の化合物30mg及びo-アニスアルデヒド9μlを用い、実施例84の2に準じてモノアルキル体A16mg及びジアルキル体B11mgを得た。21-Aの化合物16mgを用いて実施例133の2に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として淡黄色固体12mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.05-1.121H,m,2.26-2.613H,m,2.99-3.052H,m,3.14-3.212H,m,3.22-3.351H,m,3.49-3.841H,m,3.853H,s,4.13-4.172H,m,4.81-4.861H,m,6.98-7.032H,m,7.101H,d,J=4.8Hz,7.27-7.342H,m,7.40-7.493H,m,8.26-8.292H,m,9.012H,br,10.31H,br,10.91H,br.mass:472M1.実施例141実施例140の1-Bの化合物7mgを用いて実施例133の2に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として淡黄色固体4mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.03-1.101H,m,2.26-2.813H,m,3.16-3.404H,m,3.703H,s,3.753H,s,3.43-3.992H,m,4.29-4.464H,m,4.81-4.861H,m,6.90-7.135H,m,7.27-7.352H,m,7.42-7.515H,m,8.22-8.282H,m,8.931H,br,10.31H,br,10.81H,br.mass:592M1.実施例1421実施例164の3の化合物30mgをアセトニトリル-塩化メチレン3:10.4mlに溶解し、反応容器内を窒素置換した後、Boc2O0.12ml、ニトロエタン25μl及び4-ジメチルアミノピリジン4mgを加え、室温で1時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール30:1で精製し、付加体32mgを得た。このものについてHPLCでジアステレオマーを分割し、Rt=9.64分CHIRALPAKADダイセル化学工業株、0.46φx25cm、ヘキサン-エタノール20:80、1.0ml/minの分画A12mg及びRt=14.58分の分画B13mgを得た。21-A及び1-Bの化合物についてそれぞれ実施例133の2に準じて、1-Aから実施例142の化合物として淡黄色粉末を、1-Bから実施例143の化合物として淡黄色粉末を得た。mass:392M1.実施例143実施例142の化合物のジアステレオマーとして、実施例143の化合物を得た。mass:392M1.実施例144-147実施例144ないし実施例147は、実施例142に準じて製造した。実施例1441H-NMRCDCl31.183H,t,J=7.5Hz,1.16-1.441H,m,2.402H,q,J=7.5Hz,2.36-2.442H,m,2.57-2.651H,m,2.871H,dd,J=7.2,17Hz,3.42-3.532H,m,3.73-3.821H,m,4.801H,dd,J=5.7,11Hz,5.541H,dd,J=7.2,11Hz,6.971H,d,J=9.0Hz,6.981H,br,7.56-7.572H,m,8.201H,d,J=5.1Hz,8.371H,d,J=7.2Hz,9.051H,br,11.91H,br.mass:406M1.実施例145mass:406M1.実施例146mass:406M1.実施例147mass:406M1.実施例148-151実施例148ないし実施例151はジアステレオマーの混合物であり、実施例142に準じて製造した。実施例148mass:420M1.実施例149mass:420M1.実施例150mass:448M1.実施例151mass:448M1.実施例152-155実施例152ないし155は単一のジアステレオマーであり、実施例156に準じて製造した。実施例152mass:434M1.実施例153mass:434M1.実施例154mass:434M1.実施例155mass:434M1.実施例1561実施例164の3の化合物30mg、1-ピロリンN-オキシド59mg及びクロロホルム2mlの混合物を80°Cで23時間攪拌した。反応液を室温に戻してクロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerchArt5744、クロロホルム-メタノール20:1で精製し、淡黄色油状物24mgを得た。21の化合物6mgを用い、実施例133の2に準じて表題化合物5mgを得た。1H-NMRCDCl31.22-1.351H,m,1.58-1.863H,m,1.99-2.172H,m,2.35-2.624H,m,3.13-3.221H,m,3.33-3.492H,m,3.72-3.842H,m,4.791H,dd,J=5.7,11Hz,5.081H,t,J=7.2Hz,6.95-7.012H,m,7.471H,t,J=7.5Hz,7.541H,d,J=6.3Hz,8.091H,s,8.161H,d,J=5.1Hz,8.321H,d,J=6.6Hz,11.91H,s.mass:420M1.実施例157実施例164の3の化合物の光学異性体を用い、実施例156に準じて製造した。mass:420M1.実施例1581実施例164の3の化合物30mg及び2-2-ニトロエトキシテトラヒドロピラン53μlを用い、実施例142に準じて目的物39mgを得た。21の化合物7mgを用い、実施例133の2に準じて表題化合物である淡黄色固体4mgを得た。1H-NMRCDCl31.22-1.391H,m,2.35-2.623H,m,3.041H,dd,J=6.9,17Hz,3.42-3.823H,m,4.471H,d,J=14Hz,4.541H,d,J=14Hz,4.791H,dd,J=5.7,10Hz,5.66-5.731H,m,6.85-6.881H,m,6.991H,s,7.22-7.261H,m,7.481H,t,J=7.8Hz,7.541H,d,J=7.5Hz,8.191H,d,J=5.4Hz,8.25-8.301H,m,9.161H,br,11.91H,s.mass:408M1.実施例159実施例164の3の化合物の光学異性体を用い、実施例158に準じて製造した。mass:408M1.実施例160実施例160の化合物はジアステレオマーの混合物であり、実施例156に準じて製造した。mass:478M1.実施例161実施例161の化合物はジアステレオマーの混合物であり、実施例157に準じて製造した。mass:478M1.実施例162実施例164の2-Bの化合物を用い、実施例164の3から5に準じて反応を行い実施例162の化合物として淡黄色不定形物質7mg及び実施例163の化合物として淡黄色不定形物質9mgを得た。mass:468M1.実施例163実施例162の化合物のジアステレオマーとして、実施例163の化合物を得た。mass:468M1.実施例1641参考例6の化合物3.08gをHPLCで光学分割を行い、Rt=14.54分CHIRALCELODダイセル化学工業株、0.46φx25cm、ヘキサン-イソプロパノール60:40、0.4ml/minの分画A1.37g及びRt=25.58分の分画B1.21gを得た。21-A15.6g及び1-B15.9gについて、それぞれ参考例7に準じて反応を行い、2-Aとして無色不定形物質11.0g及び2-Bとして無色不定形物質10.9gを得た。32-Aの化合物727mgを用い、実施例299の1に準じて無色不定形物質606mgを得た。43の化合物606mgを用い、実施例300の1に準じて目的物712mgを得た。このものについてHPLCを用いてジアステレオマーを分割し、Rt=22.58分CHIRALPAKADダイセル化学工業株、0.46φx25cm、エタノール、0.5ml/minの分画A360mg及びRt=38.84分の分画B329mgを得た。54-A及び4-Bについて実施例133の2に準じて反応を行い、4-Aから実施例164の化合物として淡黄色不定形物質291mgを、4-Bから実施例165の化合物として淡黄色不定形物質235mgを得た。mass:468M1.実施例165実施例164の化合物のジアステレオマーとして、実施例165の化合物を得た。1H-NMRCDCl31.24-1.311H,m,1.82-1.991H,m,2.30-2.453H,m,2.58-2.743H,m,2.821H,dt,J=5.4,9Hz,2.901H,t,J=8.7Hz,3.29-3.341H,m,3.41-3.501H,m,3.62-3.813H,m,6.791H,dd,J=6,11Hz,6.801H,s,6.951H,d,J=5.1Hz,7.23-7.365H,m,7.451H,t,J=7.2Hz,7.531H,d,J=7.5Hz,8.091H,d,J=5.4Hz,8.251H,s,8.331H,d,J=9Hz,12.01H,s.mass:468M1.実施例166-169実施例166ないし169は、実施例183に準じて製造した。実施例166mass:392M1.実施例167mass:392M1.実施例168mass:392M1.実施例169mass:392M1.実施例170実施例162の化合物を用い、実施例171に準じて製造した。mass:478M1.実施例171実施例164の化合物を291mg、Boc2O2.86ml、20水酸化パラジウム-炭素触媒150mg、酢酸エチル30ml及びメタノール5mlの混合物を水素気流下で60°C、15.5時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコ-ゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル1:1~1:5で精製し、表題化合物として無色不定形物質183mgを得た。1H-NMRCDCl31.22-1.441H,m,1.499H,s,1.96-2.041H,m,2.27-2.473H,m,2.58-2.641H,m,3.30-3.342H,m,3.41-3.492H,m,3.57-3.893H,m,4.791H,dd,J=5.7,11Hz,6.811H,s,6.881H,d,J=5.4Hz,7.46-7.572H,m,8.151H,d,J=5.1Hz,8.341H,d,J=6.9Hz,8.760、5H,br,8.880.5H,br,12.01H,br.mass:478M1.実施例172実施例165の化合物を用い、実施例171に準じて製造した。mass:478M1.実施例173実施例163の化合物を用い、実施例171に準じて製造した。mass:478M1.実施例174実施例170の化合物を25mg及び4N塩酸-ジオキサン6mlの混合物を室温で15分攪拌した。反応液を濃縮後、乾燥し、表題化合物として白色固体17mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.07-1.141H,m,1.89-1.971H,m,2.25-2.413H,m,2.42-2.581H,m,3.04-3.797H,m,4.80-4.861H,m,7.09-7.111H,m,7.31-7.342H,m,7.471H,t,J=7.8Hz,8.26-8.292H,m,9.162H,br,10.11H,s,10.91H,br.mass:378M1.実施例175実施例173の化合物を用い、実施例174に準じて製造した。mass:378M1.実施例176実施例171の化合物を用い、実施例174に準じて製造した。mass:378M1.実施例177実施例172の化合物を用い、実施例174に準じて製造した。mass:378M1.実施例178実施例174の化合物のラセミ体の塩酸塩を5mg及びtert-ブチルN-2-オキソエチルカーバメート8mgを用い、実施例84の2に準じて表題化合物5mgを得た。1H-NMRCDCl31.22-1.421H,m,1.459H,s,1.82-1.891H,m,2.29-2.493H,m,2.51-2.804H,m,2.81-2.982H,m,3.22-3.343H,m,3.41-3.491H,m,3.71-3.811H,m,4.791H,dd,J=5.4,11Hz,5.041H,br,6.821H,s,6.931H,d,J=5.7Hz,7.461H,t,J=7.8Hz,7.541H,d,J=7.2Hz,8.101H,d,J=5.4Hz,8.301H,d,J=7.8Hz,8.481H,br,12.01H,br.mass:521M1.実施例179-182実施例179ないし実施例182の化合物は、実施例183に準じて製造した。実施例179mass:460M1.実施例180mass:460M1.実施例181mass:460M1.実施例182mass:460M1.実施例183実施例177の化合物を7mg及びブチルアルデヒド7μlを用い、実施例178に準じて表題化合物である淡黄色油状物7mgを得た。1H-NMRCDCl30.933H,t,J=7.2Hz,1.25-1.433H,m,1.522H,quintet,J=7.8Hz,1.71-1.911H,m,2.32-2.668H,m,2.751H,t,J=7.2Hz,2.961H,t,J=8.7Hz,3.30-3.351H,m,3.42-3.481H,m,3.72-3.821H,m,4.791H,dd,J=5.4,11Hz,6.801H,br,6.961H,d,J=5.7Hz,7.471H,t,J=7.5Hz,7.541H,d,J=7.5Hz,8.101H,d,J=5.7Hz,8.341H,d,J=8.1Hz,8.381H,br,12.01H,br.mass:434M1.実施例184-190実施例184ないし実施例190の化合物は、実施例183に準じて製造した。実施例184mass:434M1.実施例185mass:434M1.実施例186mass:434M1.実施例187mass:561M1.実施例188mass:561M1.実施例189mass:561M1.実施例190mass:561M1.実施例191実施例187の化合物を用い、実施例193に準じて製造した。mass:461M1.実施例192実施例188の化合物を用い、実施例193に準じて製造した。mass:461M1.実施例193実施例189の化合物を6mg用い、実施例133の2に準じて表題化合物の塩酸塩である黄色固体4mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.04-1.111H,m,1.65-2.033H,m,2.19-2.599H,m,3.13-3.343H,m,3.36-4.036H,m,4.841H,dd,J=5.4,10Hz,7.331H,d,J=7.2Hz,7.471H,t,J=7.8Hz,7.16-7.552H,m,8.261H,d,J=7.8Hz,8.311H,d,J=5.4Hz,9.521H,br,10.31H,brd,J=10Hz,10.81H,br,11.71H,br.mass:461M1.実施例194実施例190の化合物を用い、実施例193に準じて製造した。mass:461M1.実施例195-210実施例195ないし実施例210の化合物は、実施例183に準じて製造した。実施例195mass:488M1.実施例196mass:488M1.実施例197mass:488M1.実施例198mass:488M1.実施例199mass:504M1.実施例200mass:504M1.実施例201mass:504M1.実施例202mass:504M1.実施例203mass:494M1.実施例204mass:494M1.実施例205mass:494M1.実施例206mass:494M1.実施例207mass:551M1.実施例208mass:551M1.実施例209mass:551M1.実施例210mass:551M1.実施例211-240実施例211ないし実施例240の化合物は、実施例178に準じて製造した。実施例211mass:434M1.実施例212mass:448M1.実施例213mass:482M1.実施例214mass:462M1.実施例215mass:420M1.実施例216mass:518M1.実施例217mass:518M1.実施例218mass:448M1.実施例219mass:446M1.実施例220mass:474M1.実施例221mass:420M1.実施例222mass:462M1.実施例223mass:507M1.実施例224mass:512M1.実施例225mass:512M1.実施例226mass:484M1.実施例227mass:458M1.実施例228mass:504M1.実施例229mass:450M1.実施例230mass:432M1.実施例231mass:519M1.実施例232mass:457M1.実施例233mass:471M1.実施例234mass:469M1.実施例235mass:469M1.実施例236mass:469M1.実施例237mass:452M1.実施例238mass:472M1.実施例239mass:458M1.実施例240mass:522M1.実施例241実施例178の化合物を4mgを用い、実施例133の2に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩として4mgを得た。1H-NMRCD3OD1.14-1.281H,m,1.51-1.761H,m,2.30-2.483H,m,2.62-2.752H,m,3.42-3.7610H,m,4.951H,dd,J=5.7,11Hz,7.551H,br,7.57-7.593H,m,8.04-8.071H,m,8.301H,d,J=6.6Hz.mass:421M1.実施例242-247実施例242ないし実施例247の化合物は、実施例178に準じて製造した。実施例242mass:500M1.実施例243mass:514M1.実施例244mass:514M1.実施例245mass:486M1.実施例246mass:472M1.実施例247mass:484M1.実施例248実施例249に準じて製造した。mass:496M1.実施例249実施例174の化合物のラセミ体の塩酸塩5mgをアセトン-水2:10.3mlに溶解し、酢酸ナトリウム4mgを加えて0°Cに冷却し、塩化2,6-ジクロロベンゾイル2μlを加えて4時間攪拌した。反応液に水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerchArt5744、クロロホルム-メタノール20:1で精製し、表題化合物として白色固体5mgを得た。1H-NMRCDCl31.21-1.361H,m,2.06-2.181H,m,2.33-2.644H,m,3.24-4.036H,m,4.21-4.271H,m,4.74-4.831H,m,6.740.5H,s,6.820.5H,s,6.880.5H,d,J=5.7Hz,6.940.5H,d,J=5.7Hz,7.23-7.383H,m,7.45-7.772H,m,8.161H,dd,J=5.4,12Hz,8.311H,t,J=8.4Hz,8.531H,s,11.80.5H,s,11.90.5H,s.mass:550M1.実施例250-253実施例250ないし実施例253の化合物は、実施例249に準じて製造した。実施例250mass:488M1.実施例251mass:483M1.実施例252mass:483M1.実施例253mass:483M1.実施例2541実施例264の1の化合物3.8g及びエノールトリフラート1-ベンジル-4-ピペリドン、リチウムジイソプロピルアミド、N-フェニルトリフルオロメタンスルホンイミド及びテトラヒドロフランから通常の方法に従って調整した2.8gを用いて実施例264の3の方法に準じて褐色油状物1.9gを得た。21の化合物1.9gを用いて実施例802、3の方法に準じて、白色固体230mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.281H,m,2.20-2.807H,m,3.221H,d,J=2.6Hz,3.451H,m,3.672H,s,3.781H,m,4.791H,dd,J=5.6,11Hz,6.361H,br,6.881H,s,7.001H,d,J=5.6Hz,7.20-7.506H,m,7.501H,d,J=7.9Hz,8.101H,d,J=5.6Hz,8.351H,d,J=7.9Hz,8.861H,s,12.01H,br.mass:480M1.実施例255実施例254の化合物160mgを用いて参考例3に準じて反応を行い、白色固体52mg得た。1H-NMRDMSO-d61.321H,m,1.70-2.004H,m,2.032H,m,2.25-2.804H,m3.082H,m,3.491H,m,3.602H,s,3.811H,m,4.821H,dd,J=5.6,11Hz,6.721H,s,6.921H,d,J=5.2Hz,7.20-7.505H,m,7.491H,t,J=7.9Hz,7.551H,d,J=7.9Hz,8.071H,s,,8.151H,d,J=5.2Hz,8.401H,d,J=7.9Hz,12.01H,br.mass:482M1.実施例2561-ベンジル-3-ピペリドンを用いて実施例254に準じて反応を行い、白色固体52mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.301H,m,2.20-2.807H,m,3.351H,d,J=2.0Hz,3.481H,m,3.722H,s,3.761H,m,4.811H,dd,J=5.7,11Hz,6.441H,m,6.781H,s,6.951H,d,J=5.6Hz,7.20-7.405H,m,7.491H,d,J=7.9Hz,7.531H,d,J=7.9Hz,8.111H,d,J=5.6Hz,8.351H,d,J=7.9Hz,8.521H,s,12.01H,br.mass:480M1.実施例257実施例256の化合物を30mg用いて参考例3に準じて反応を行い、白色固体12mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.20-1.401H,m,1.60-2.205H,m,2.20-2.703H,m,2.80-3.003H,m,3.451H,m,3.552H,s,3.751H,m,4.781H,dd,J=5.6,11Hz,6.711H,s,6.871H,d,J=5.2Hz,7.10-7.405H,m,7.471H,t,J=7.5Hz,7.541H,d,J=7.9Hz,8.081H,d,J=5.2Hz,8.121H,s,8.341H,d,J=5.2Hz,12.01H,br.mass:482M1.実施例258実施例256の化合物を180mg用いて実施例260に準じて、黄色固体17mg得た。1H-NMRDMSO-d61.251H,m,2.20-2.705H,m,3.012H,m,3.451H,m,3.702H,s,3.751H,m,4.791H,dd,J=5.6,11Hz,6.481H,m,6.671H,s,6.981H,d,J=5.2Hz,7.461H,t,J=7.9Hz,7.521H,s,7.581H,d,J=7.9Hz,8.301H,d,J=7.9Hz,12.01H,br.mass:390M1.実施例259実施例258の化合物を20mg用いて実施例261に準じて白色固体5mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.251H,m,2.203H,s,2.30-2.805H,m,3.40-3.904H,m,4.422H,m,4.811H,dd,J=5.6,11Hz,6.501H,m,5.821H,s,7.001H,d,J=5.2Hz,7.481H,t,J=7.9Hz,7.551H,d,J=7.9Hz,8.202H,m,8.351H,d,J=7.9Hz,11.91H,br.mass:432M1.実施例2601実施例254の化合物を280mg、クロロギ酸1-クロロエチルエステル100mg、トリエチルアミン71mg及びクロロホルム5mlの混合物を室温で30分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール100:0~98:2で精製し、295mgの固体を得た。21の化合物295mgをメタノール5mlに溶解し、3時間還流した。反応液を室温に戻して飽和重曹水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーFL60D富士シリシア株式会社、クロロホルム-メタノール100:0~95:5で精製し、淡黄色固体160mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.281H,m,2.403H,m,2.621H,m,3.122H,m,3.451H,m,3.592H,s,3.771H,m,4.801H,dd,J=5.6,11Hz,6.421H,m,6.811H,s,7.021H,d,J=5.3Hz,7.261H,s,7.461H,t,J=7.9Hz,7.551H,d,J=7.9Hz,8.131H,d,J=5.3Hz,8.331H,s,,8.351H,d,J=7.9Hz,12.01H,br.mass:390M1.実施例261実施例260の化合物を30mg、塩化アセチル6.6μl、トリエチルアミン13μl及びクロロホルム3mlの混合物を室温で1時間攪拌した。反応液に飽和重曹水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過して、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール9:1で精製し、白色結晶5mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.251H,m,2.223H,s,2.20-2.805H,m,3.40-3.954H,m,4.352H,m,4.821H,dd,J=5.6,11Hz,6.401H,m,6.801H,s,7.031H,d,J=5.6Hz,7.491H,t,J=7.9Hz,7.571H,t,J=7.9Hz,8.202H,m,8.331H,d,J=7.9Hz,11.91H,br.mass:432M1.実施例262実施例260の化合物を20mg用いて実施例84の2に準じて白色固体3mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.05-2.2014H,m,2.20-2.906H,m,3.22-3.503H,m,3.70-3.821H,m,4.781H,dd,J=5.8,11Hz,6.371H,m,6.771H,s,7.011H,d,J=5.4Hz,7.541H,d,J=7.8Hz,8.121H,d,J=5.4Hz,8.321H,d,J=7.8Hz,12.01H,s.mass:472M1.実施例263実施例263の化合物は、実施例262に準じて製造した。mass:506M1.実施例26414-クロロピリジン-2-カルボン酸メチルエステルの塩酸塩3gをジオキサン140mlに加え、ヘキサブチルジチン8.4g及びテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムを加えて、窒素気流下、12時間還流した。反応液を室温に戻し、10フッ化カリウム水溶液を加えて30分攪拌後、エーテルで希釈して濾過した。濾液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル1:0~2:1で精製し、無色油状物0.9gを得た。21の化合物6.3gを用いて実施例802、3の方法に準じて、油状物2.8gを得た。32の化合物60mg、3-ブロモピリジン47mg、2-ジシクロヘキシリホスフィノビフェニル21mg、塩化リチウム9mg、トリスジベンジリデンジパラジウム21mg及びテトラヒドロフラン2mlの混合物を1晩還流した。反応液に10フッ化カリウム水溶液、クロロホルムを加え有機層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール9:1で精製し、白色結晶5mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.10-1.201H,m,2.33-2.401H,m,2.40-2.782H,m,3.28-3.331H,m,3.531H,m,4.841H,m,7.311H,d,J=7.7Hz,7.43-7.491H,m,7.561H,dd,J=4.5,7.7Hz,7.611H,s,8.101H,dd,J=2.3,7.7Hz,8.301H,d,J=7.7Hz,8.411H,d,J=5.5Hz,8.681H,d,J=5.5Hz,8.911H,d,J=2.3Hz,10.01H、s,11.01H,br.mass:386M1.実施例265-277実施例265ないし実施例277の化合物は、実施例264に準じて製造した。実施例265mass:385M1.実施例266mass:423M1.実施例267mass:386M1.実施例268mass:386M1.実施例269mass:392M1.実施例270mass:391M1.実施例271mass:465M1.実施例272mass:435M1.実施例273mass:435M1.実施例274mass:391M1.実施例275mass:389M1.実施例276mass:407M1.実施例277mass:445M1.実施例278実施例82の化合物を用いて実施例261に準じて反応を行い、白色固体9mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.893H,t,J=7.3Hz,1.151H,m,1.572H,q,J=7.3Hz,2.152H,q,J=7.3Hz,2.20-2.603H,m,3.301H,m,3.551H,m,4.241H,d,J=6.0Hz,4.821H,dd,J=5.6,11Hz,6.921H,d,J=5.6Hz,7.131H,s,7.461H,t,J=7.9Hz,7.481H,d,J=7.9Hz,8.231H,d,J=5.6Hz,8.301H,d,J=7.9Hz,8.421H,t,J=6.0Hz,9.971H,s,11.31H、br.mass:408M1.実施例279実施例80の化合物30mg及び塩化ブタノイルをジメチルホルムアミドに溶解し、90°Cで30分攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-テトラヒドロフラン7:3で精製し、白色結晶8mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.973H,t,J=7.3Hz,1.251H,m,1.702H,q,J=7.3Hz,2.30-2.601H,m,2.402H,q,J=7.4Hz,2.30-2.552H,m,2.601H,m,3.451H,m,3.791H,m,4.801H,dd,J=5.6,11Hz,5.132H,s,6.841H,s,6.961H,d,J=5.5Hz,7.491H,t,J=7.9Hz,7.551H,d,J=7.9Hz,8.191H,d,J=5.5Hz,8.311H,d,J=7.9Hz,11.91H,br.mass:409M1.実施例280実施例280の化合物は、実施例279に準じて製造した。mass:449M1.実施例281実施例281の化合物は、実施例278に準じて製造した。mass:448M1.実施例28212-アミノピリジン-4-カルボン酸1g、塩化チオニル2.8ml及びメタノール36mlの混合物を1晩還流した。反応液を濃縮し、残渣に飽和重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール100:0~98:2で精製し、目的物1.05gを得た。2参考例3の化合物1.8g、トリクロロ酢酸無水物0.35ml、トリエチルアミン0.2ml、塩化メチレン5ml及びテトラヒドロフラン10mlの混合物を室温で2時間攪拌した。反応液に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-テトラヒドロフラン9:1~8:2で精製し、褐色無定形物質2.92gを得た。得られた化合物1.77g、1の化合物1.05g、DBU1ml及びジメチルスルホキシド8mlの混合物を100°Cで3時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール97:3で精製し、目的物1.21gを得た。32の化合物300mg、1N水酸化ナトリウム水溶液10ml及びメタノール3mlの混合物を90°Cで1時間攪拌した。反応液を1N塩酸でpH4にした後、クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をクロロホルム-酢酸エチルで洗浄し、白色固体80mgを得た。43の化合物18mgを用いて実施例409の1に準じて、表題化合物である白色固体5mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.923H,t,J=7.2Hz,1.131H,m,1.321H,m,1.532H,m,2.20-2.703H,m,3.20-3.704H,m,4.851H,dd,J=5.6,11Hz,7.321H,d,J=7.9Hz,7.381H,d,J=5.2Hz,7.491H,t,J=7.9Hz,7.751H,s,8.301H,d,=7.9Hz,8.431H,d,J=5.2Hz,8.701H,t,J=6.7Hz,10.11H,s,10.81H,br.mass:408M1.実施例283-286実施例283ないし実施例286の化合物は、実施例282に準じて製造した。実施例283mass:434M1.実施例284mass:443M1.実施例285mass:443M1.実施例286mass:443M1.実施例2871イソキノリン-3-カルボン酸90mgを用いて参考例1に準じて黄色固体14mgを得た。21の化合物14mgを用いて実施例79に準じて表題化合物である白色固体13mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.10-1.201H,m,2.25-2.502H,m,2.58-2.701H,m,3.20-3.401H,m,3.48-3.621H,m,4.831H,dd,J=5.6,10Hz,7.331H,d,J=7.9Hz,7.492H,m,7.701H,t,J=7.9Hz,7.871H,d,J=7.9Hz,8.021H,s,8.071H,d,J=7.9Hz,8.311H,d,J=7.9Hz,9.181H,s,9.701H,br,9.901H,s.mass:359M1.実施例2881イソキノリン-3-カルボン酸300mg、酸化白金30mg、4N塩酸-ジオキサン5ml及びメタノール5mlを混合し、容器内を水素置換して室温で6時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮して粗生成物32mgを得た。21の化合物130mgを用いて実施例287に準じて表題化合物である白色固体23mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.00-1.201H,m,1.60-1.804H,m,2.20-2.707H,m,3.20-3.351H,m,3.45-3.601H,m,4.771H,dd,J=5.5,10Hz,6.951H,s,7.281H,d,J=7.9Hz,7.431H,t,J=7.9Hz,8.001H,s,8.291H,d,J=7.9Hz,9.711H,s,11.21H,br.mass:363M1.実施例28914-ピリジンカルボキシアルデヒドのジメチルアセタール15gのテトラヒドロフラン300ml溶液を-78°Cに冷却し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液1.6M73mlを加えて-78°Cから0°Cに昇温した。3-ブロモブタノールのtert-ブチルジメチルシリルエーテル25gを加えて0°Cで3時間攪拌した。反応液を室温に戻し、飽和重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル2:1で精製し、油状物17gを得た。21の化合物7gを用いて参考例7に準じて油状物3.9gを得た。32の化合物3gを用いて参考例8に準じて褐色油状物7gを得た。43の化合物7g、トリフェニルホスフィン5.8gを水-テトラヒドロフラン1:10に加え、50°Cで2時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーFL60D富士シリシア株式会社、クロロホルム-メタノール100:0~98:2で精製し、褐色油状物2.1gを得た。54の化合物2.1gのクロロホルム10ml溶液にギ酸5mlを加え80°Cで2時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をメタノール10mlに溶解したところへ水素化ホウ素ナトリウム7.4gを加え室温で1時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーFL60D富士シリシア株式会社、クロロホルム-メタノール100:0~98:2で精製し、0.57gを得た。65の化合物0.57g、塩化p-ニトロベンゼンスルホニル1.7g、ジメチルアミノピリジン0.71g及びクロロホルム5mlの混合物を室温で2時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール100:0~98:2で精製し、目的物0.73gを得た。76の化合物0.73g、二酸化マンガン50mg、30過酸化水素水5ml及びクロロホルム20mlの混合物を室温で6時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール100:0~98:2で精製し、結晶0.78gを得た。87の化合物0.78g、トリエチルアミン0.71ml、トリメチルシリルシアニド0.66ml及びアセトニトリル-クロロホルムの混合物を80°Cで3時間攪拌した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール100:0~98:2で精製し、結晶0.71gを得た。98の化合物を用いて参考例4、5に準じて目的物75mgを得た。109の化合物75mgを用いて参考例11に準じて表題化合物である淡黄色固体を18mg、及び実施例292の化合物である黄色固体1.4mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.251H,m,1.60-2.003H,m,2.20-2.604H,m,2.641H,m,3.152H,m,3.451H,m,3.781H,m,4.181H,t,J=7.2Hz,4.801H,dd,J=5.6,11Hz,6.981H,s,6.991H,d,J=5.6Hz,7.461H,t,J=7.9Hz,4.551H,d,J=7.9Hz,8.111H,d,J=5.6Hz,8.391H,d,J=7.9Hz,8.401H,s,12.01H,br.mass:378M1.実施例290実施例289の化合物7mgをメタノール2mlに溶解し、ホルマリン50μlを加えて室温で4時間攪拌した。反応液にメタノール3mlを加え、水素化ホウ素ナトリウム100mgを加えて室温で1時間攪拌した。反応液に1N塩酸を加えて過剰の試薬を分解した後、飽和重曹水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過,濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーFL60D富士シリシア株式会社、クロロホルム-メタノール9:1で精製し、表題化合物である黄色固体3mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.251H,m,1.55-2.104H,m,2.223H,s,2.20-2.403H,m,2.651H,m,3.141H,m,3.251H,m,3.501H,m,3.791H,m,4.821H,dd,J=5.6,11Hz,6.891H,s,7.031H,d,J=5.6Hz,7.491H,t,J=7.9Hz,7.561H,d,J=7.9Hz,8.051H,s,8.151H,d,J=5.6Hz,8.351H,d,J=7.9Hz,12.01H,br.mass:392M1.実施例291実施例289の化合物を7mg、無水酢酸6mg、ジメチルアミノピリジン5mg及びクロロホルム2mlの混合物を室温で1晩攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール7:3で精製し、表題化合物の固体3mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.251H,m,1.80-2.103H,m,2.113H,s,2.20-2.704H,m,3.30-3.804H,m,4.60-5.202H,m,6.60-6.901H,m,7.40-7.602H,m,8.00-8.402H,m,9.101H,br,11.91H,br.実施例292実施例292の化合物は、実施例289の化合物を製造する最終工程において得られた。1H-NMRDMSO-d61.20-1.603H,m,2.102H,m,2.402H,m,2.601H,m,2.902H,m,3.451H,m,3.781H,m,4.801H,dd,J=5.6,11Hz,7.10-7.604H,m,8.00-8.403H,m,11.81H,br.mass:376M1.実施例2931実施例80の3の化合物9gを用いて参考例6に準じて褐色油状物8.5gを得た。21の化合物8.5gを用いて実施例80の4に準じて褐色不定形物質4.7gを得た。32の化合物250mgを用いて実施例84の1に準じて目的物210mgを得た。4ジ-o-トルイルホスホノ酢酸エチルエステル38mgのテトラヒドロフラン2ml溶液を-78度に冷却し、3の化合物43mgのテトラヒドロフラン1ml溶液を加え-78°Cで2時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて室温に戻した。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール100:0~97:3次いでTLCMerchArt5744、クロロホルム-テトラヒドロフラン9:1で精製し、無色油状物40mgを得た。54の化合物40mg、6N塩酸及びテトラヒドロフラン5mlの混合物を室温で15分攪拌した。反応液をクロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮して表題化合物である無色固体を19mg得た。1H-NMRDMSO-d61.153H,t,J=7.1Hz,1.09-1.151H,m,2.30-3.382H,m,2.48-2.561H,m,3.20-3.311H,m,3.51-3.551H,m,4.112H,q,J=7.1Hz,4.79-4.851H,m,6.231H,d,J=13Hz,7.042H,m,7.30-7.322H,m,7.461H,t,J=7.7Hz,8.28-8.302H,m,9.991H,s,11.01H,br.mass:407M1.実施例2941ジエチルホスホノ酢酸エチルエステル22mgのテトラヒドロフラン2ml溶液を氷冷し、水素化ナトリウム4mgを加えて30分攪拌した。実施例293の3の化合物43mgのテトラヒドロフラン1ml溶液を加えて2時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて室温に戻し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール100:0~97:3で精製して白色固体42mgを得た。21の化合物42mgを用いて実施例293の5に準じて表題化合物である白色固体21mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.00-1.201H,m,1.283H,t,J=7.1Hz,2.20-2.402H,m,2.40-2.601H,m,3.20-3.401H,m,3.45-3.601H,m,4.231H,q,J=7.1Hz,4.841H,m,6.781H,d,J=16Hz,7.331H,d,J=7.9Hz,7.40-7.503H,m,7.571H,d,J=16Hz,8.301H,d,J=7.9Hz,8.361H,d,J=5.6Hz,10.01H,s,10.81H,br.mass:407M1.実施例295実施例294の1の化合物50mgのクロロホルム5ml溶液に塩化亜鉛27mg及び水素化ホウ素ナトリウム7mgを加え、3時間還流した。実施例290と同様の後処理を行い、表題化合物である白色固体32mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.00-1.201H,m,2.20-2.603H,m,3.20-3.602H,m,4.172H,m,4.841H,dd,J=5.6,11Hz,5.041H,t,J=6.3Hz,6.531H,d,J=16Hz,6.661H,d,J=16Hz,7.151H,d,J=5.3Hz,7.221H,s,7.311H,d,J=7.9Hz,7.471H,t,J=7.9Hz,8.241H,d,J=5.3Hz,8.321H,d,J=7.9Hz,9.941H,s,11.31H,br.mass:365M1.実施例296実施例294の1の化合物30mgのメタノール10ml溶液に塩化銅I10mg及び水素化ホウ素ナトリウム4mgを加え原料が消失するまで攪拌した。実施例290と同様の後処理を行い、表題化合物である白色固体13mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.05-1.251H,m,1.153H,t,J=7.1Hz,2.20-2.603H,m,2.642H,t,J=7.1Hz,2.832H,t,J=7.1Hz,3.20-3.401H,m,3.45-3.601H,m,4.042H,q,J=7.1Hz,4.811H,m,6.961H,d,J=5.3Hz,7.111H,s,7.301H,d,J=7.9Hz,7.451H,d,J=7.9Hz,8.191H,d,J=5.4Hz,8.301H,d,J=7.9Hz,9.901H,s,12.31H,br.mass:409M1.実施例297実施例293の化合物60mgをクロロホルム30mlに溶解し、水素化ジイソプロピルアルミニウムのトルエン溶液1.0Mを0.9ml加えて-30~-20°Cで30分攪拌した。実施例290と同様の後処理を行い、表題化合物である白色固体17mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.251H,m,2.20-2.703H,m,3.301H,m,3.531H,m,4.15-4.402H,m,4.811H,dd,J=5.6,11Hz,5.001H,m,6.001H,m,6.381H,m,6.891H,d,J=5.4Hz,7.121H,s,7.311H,d,J=7.9Hz,7.451H,t,J=7.9Hz,8.282H,m,9.901H,s,11.11H,br.mass:365M1.実施例298実施例294の化合物を40mg、2N水酸化ナトリウム水溶液5ml、テトラヒドロフラン2ml及びメタノール2mlの混合物を室温で1時間攪拌した。反応液に1N塩酸を加えてpH3としてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerchArt5744、クロロホルム-メタノール9:1で精製した後、再結晶を行い、表題化合物の白色固体22mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.00-1.201H,m,2.20-2.603H,m,3.151H,m,3.45-3.601H,m,4.821H,m,6.681H,d,J=16Hz,7.20-7.605H,m,8.281H,d,J=7.9Hz,8.351H,d,J=5.6Hz,10.21H,s,10.91H,br,12.81H,br.mass:379M1.実施例2991実施例7の化合物727mg、DBU1.496ml及びテトラヒドロフラン10mlの混合物を0°Cに冷却し、塩化メタンスルホニル0.310mlのテトラヒドロフラン2ml溶液を加えて室温で11時間攪拌した。反応液に水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル1:1~0:1で精製し、無色不定形物質606mgを得た。2実施例133の2に準じて表題化合物を得た。1H-NMRDMSO-d61.07-1.141H,m,2.29-2.573H,m,3.24-3.882H,m,4.79-4.851H,m,5.581H,d,J=11Hz,6.081H,d,J=18Hz,6.741H,dd,J=11,18Hz,7.22-7.241H,m,7.29-7.342H,m,7.471H,t,J=7.5Hz,8.22-8.272H,m,10.11H,s,11.01H,br.mass:335M1.実施例3001実施例294の1の化合物80mgの塩化メチレン5ml溶液を氷冷し、トリフルオロ酢酸274mg及びN-メトキシメチル-N-トリメチルシリルメチルベンジルアミン190mgを加え3時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール9:1で精製した後、再結晶を行い、淡黄色油状物91mgを得た。21の化合物91mgを用いて実施例293の5に準じて表題化合物である白色固体50mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.241H,m,1.243H,t,H=7.4Hz,2.20-2.753H,m,2.801H,m,2.951H,m,3.051H,m,3.191H,m,3.451H,m,3.60-3.904H,m,4.182H,q,J=7.4Hz,4.781H,dd,J=5.6,11Hz,6.931H,s,7.031H,d,J=5.6Hz,7.10-7.455H,m,7.501H,t,J=7.9Hz,7.551H,d,J=7.9Hz,8.131H,d,J=5.6Hz,8.371H,d,J=7.9Hz,8.821H,s,12.01H,br.mass:540M1.実施例301実施例301の化合物は、実施例293の4の化合物を用い、実施例300に準じて製造した。mass:540M1.実施例302実施例300の化合物の30mgのテトラヒドロフラン3ml溶液を氷冷し、水素化アルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液2M56μl及びメタノールのテトラヒドロフラン溶液1M0.22mlを加えて室温で30分攪拌した。実施例290と同様の後処理を行い、表題化合物低極性分画の白色固体1.2mg及び表題化合物のジアステレオマーである実施例303の化合物高極性分画の白色固体2.3mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.251H,m,2.20-2.603H,m,3.30-4.4012H,m,4.781H,m,6.60-7.002H,m,7.20-7.807H,m,8.10-8.402H,m,11.81H,br.mass:498M1.実施例303実施例303の化合物は、実施例302のジアステレオマーとして得られた。1H-NMRDMSO-d61.251H,m,2.00-2.703H,m,2.80-4.4012H,m,4.781H,m,6.751H,s,6.981H,d,J=5.4Hz,7.20-7.707H,m,8.101H,d,J=5.4Hz,8.281H,d,J=7.9Hz,11.81H,br.mass:498M1.実施例304実施例304の化合物は、実施例301の化合物を用い、実施例303に準じて製造した。mass:498M1.実施例3051実施例293の4の化合物50mg、イソプレン34mg及びトルエン3mlの混合物を封管中で120°Cで1晩反応させた。反応液を濃縮し、残渣をTLCMerchArt5744、クロロホルム-メタノール9:1で精製し、付加体52mgを得た。21の化合物について実施例293の5に準じて反応を行い、表題化合物である白色固体18mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.033H,t,J=7.3Hz,1.251H,m,1.68s,1.72s,1.68-1.723H,2.00-3.209H,m,3.421H,m,3.781H,m,3.982H,q,J=7.3Hz,4.801H,dd,J=5.6,11Hz,5.491H,m,6.842H,m,7.461H,d,J=7.9Hz,7.551H,d,J=7.9Hz,8.101H,d,J=5.2Hz,8.401H,d,J=7.9Hz,9.251H,s,12.01H,br.mass:475M1.実施例3061実施例3の化合物及び塩化4-ニトロベンゾイルを用いて実施例261に準じて黄色固体を得た。21の化合物22.1gをHPLCCHIRALPAKAD、ヘキサン-エタノール1:1~1:4で光学分割して、Rt=22分の化合物Aを11.2g及びRt=30分の化合物B10.1gを得た。32-Aの化合物10g、6N塩酸30ml及び酢酸30mlの混合物を80°Cで3日間攪拌した。反応液を室温に戻して、飽和重曹水で塩基性とした後クロロホルムで抽出した。有機層を1N水酸化カリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール100:0~98:2で精製した後、エタノールから再結晶を行い、白色固体3.1g98eeを得た。43の化合物を用いて実施例80に準じて白色固体を得た。54の化合物を用いて実施例84に準じて表題化合物実施例91の化合物の光学活性体白色固体を得た。mass:429M1.実施例307実施例306の2-Bの化合物を用いて実施例306の3から5に準じて表題化合物である白色固体を得た。mass:429M1.実施例308実施例308の化合物は、実施例306に準じて製造した。mass:429M1.実施例309実施例309の化合物は、実施例307に準じて製造した。mass:429M1.実施例310実施例310の化合物は、実施例307に準じて製造した。mass:469M1.実施例311実施例311の化合物は、実施例306に準じて製造した。mass:429M1.実施例312実施例312の化合物は、実施例307に準じて製造した。mass:429M1.実施例313実施例91の化合物51mgを用いて実施例290に準じて白色固体12mgを得た。mass:429M1.実施例3141シクロペンタノン504mg、ピロリジン498mg、モレキュラーシーブス4A2g及びトルエン30mlの混合物を室温で1晩攪拌した。反応液をセライト濾過して、濾液を濃縮した。残渣をクロロホルム20mlに溶解したところへ、1,2,4-トリアジン-5-カルボン酸エチルエステルのクロロホルム10ml溶液を加え、室温で30分、45°Cで6時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル4:1~1:1で精製し、黄色油状物734mgを得た。21の化合物100mgを用いて参考例5に準じて表題化合物である白色固体101mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.301H,m,2.142H,quintet,J=7.5Hz,2.402H,m,2.621H,m,2.924H,t,J=7.5Hz,3.421H,m,3.751H,m,4.791H,dd,J=5.6,11Hz,6.681H,s,7.481H,t,J=7.4Hz,7.531H,d,J=7.4Hz,7.661H,s,8.031H,s,8.331H,d,J=7.4Hz,12.11H,s.mass:349M1.実施例315-319実施例315ないし実施例319の化合物は、実施例314に準じて製造した。実施例315mass:377M1.実施例316mass:378M1.実施例317mass:454M1.実施例318mass:454M1.実施例319mass:450M1.実施例320実施例319の化合物を100mg、4N塩酸-ジオキサン5ml及びメタノール3mlの混合物を室温30分攪拌した。反応液にトリエチルアミンを加えた後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーFL60D富士シリシア株式会社、クロロホルム-メタノール100:0~95:5で精製し、白色固体72mgを得た。mass:350M1.実施例321実施例320の化合物を17mg及びシクロペンタノン12mgを用い、実施例84の2に準じて表題化合物を得た。mass:418M1.実施例322実施例322の化合物は、実施例321に準じて製造した。mass:364M1.実施例3231実施例164の2-Aの化合物を用い、参考例8に準じて目的物を得た。21の化合物を用い、実施例133の2に準じて表題化合物の塩酸塩を得た。1H-NMRDMSO-d61.00-1.231H,m,2.20-2.907H,m,3.40-3.612H,m,4.811H,m,6.90-7.514H,m,8.08-8.372H,m,9.951H,brs,11.41H,brs.mass:352M1.実施例324実施例164の2-Bの化合物を用い、実施例323に準じて表題化合物の塩酸塩を得た。mass:352M1.実施例325実施例164の2-Aの化合物を用い、実施例133の2に準じて表題化合物を得た。1H-NMRDMSO-d61.00-1.211H,m,2.25-2.795H,m,3.21-3.724H,m,4.65-4.902H,m,6.90-7.524H,m,8.13-8.382H,m,9.851H,s,11.41H,brs.mass:353M1.実施例326実施例164の2-Bの化合物を用い、実施例133の2に準じて表題化合物を得た。mass:353M1.実施例3271実施例323の1の化合物を用い、実施例96の1に準じて目的物を得た。21の化合物を用い、実施例133の2に準じて表題化合物を得た。1H-NMRDMSO-d61.01-1.201H,m,2.22-2.785H,m,3.08-3.202H,m,3.321H,m,3.551H,m,4.811H,m,6.85-7.524H,m,7.92-8.407H,m,9.901H,s,11.21H,brs.mass:538M1.実施例3281実施例164の2-Bの化合物を用い、実施例323の1に準じて目的物を得た。21の化合物を用い、実施例327に準じて表題化合物を得た。mass:538M1.実施例329実施例327の1の化合物及び1-ブタノールを用い、実施例96の2及び3に準じて表題化合物の塩酸塩を得た。1H-NMRDMSO-d60.893H,t,J=7.8Hz,1.01-1.171H,m,1.25-1.412H,m,1.52-1.642H,m,2.26-2.402H,m,2.52-2.631H,m,2.85-3.004H,m,3.08-3.232H,m,3.26-3.351H,m,3.50-3.601H,m,4.80-4.861H,m,7.031H,d,J=4.3Hz,7.26-7.352H,m,7.561H,t,J=7.8Hz,8.26-8.302H,m,8.812H,m,10.31H,s,11.01H,brs.mass:408M1.実施例3301実施例328の1の化合物を用い、実施例327の1に準じて目的物を得た。21の化合物を用い、実施例329に準じて表題化合物の塩酸塩を得た。mass:408M1.実施例331参考例8の化合物及びR-3-tert-ブトキシカルボニルアミノ-1,4-ジメタンスルホニルオキシブタンを用い、実施例334に準じて表題化合物の塩酸塩を得た。1H-NMRDMSO-d61.051H,m,2.00-2.755H,m,3.05-4.9511H,m,7.12-7.524H,m,8.21-8.804H,m,10.5-11.84H,m.実施例332実施例331の化合物を15mg、塩化アセチル24μl、トリエチルアミン92μl及びジメチルホルムアミド0.5mlの混合物を室温で5分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をTLCMerckArt5713、クロロホルム-メタノール19:1で精製し、表題化合物である淡黄色固体11mgを得た。1H-NMRCD3OD1.10-1.301H,m,1.651H,m,1.903H,s,2.221H,m,2.40-2.9211H,m,3.451H,m,3.651H,m,4.291H,m,4.861H,m,6.87-7.002H,m,7.39-7.522H,m,8.14-8.302H,m.mass:463M1.実施例333実施例331の化合物20mgを用い、実施例96の1に準じて表題化合物である淡黄色固体16mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.121H,m,1.451H,m,1.891H,m,2.20-2.7510H,m,3.25-3.754H,m,4.75-4.851H,m,6.87-7.504H,m,8.00-8.436H,m.実施例3341実施例323の1の化合物100mg、S-3-tert-ブトキシカルボニルアミノ-1,4-ジメタンスルホニルオキシブタン34mg、N,N-ジイソプロピルエチルアミン46mg及びジメチルホルムアミド1mlの混合物を80°Cで1時間攪拌した。反応液を室温に戻し、クロロホルムで希釈して飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール1:0~4:1にて精製し、エステルを90mg得た。21の化合物100mgを用い、実施例133の2に準じて表題化合物の塩酸塩である白色固体50mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.051H,m,2.00-2.755H,m,3.05-4.9511H,m,7.12-7.524H,m,8.21-8.804H,m,10.5-11.84H,m.mass:421M1.実施例335実施例164の2-Bを用い、参考例8に準じて合成した化合物に対し、実施例334に準じて反応を行い、表題化合物の塩酸塩を得た。mass:421M1.実施例33612-N-tert-ブトキシカルボニルアミノ-4-メチルピリジン2.26gのテトラヒドロフラン100ml溶液を-78°Cに冷却し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液1.5M18.2mlを加え室温に上げた。反応液を-78°Cに冷却し、n-ブチルアルデヒド1.48mlを加え徐々に室温に上げた。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル1:0~1:1にて精製し、白色固体1.37g得た。21の化合物1.00gを用い、参考例8の1に準じて目的物700mgを得た。32の化合物700mg、トリフェニルホスフィン700mg、水2ml及びテトラヒドロフラン30mlの混合物を30分攪拌した。反応液を室温に戻し、トルエン及びメタノールを加えて濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、クロロホルム-メタノール1:0~4:1にて精製し、目的物600mg得た。43の化合物を用い、実施例96の1に準じて目的物を得た。54の化合物100mg及びエタノールを用い、実施例96の2に準じて目的物105mgを得た。65の化合物53mgを用い、実施例118の2に準じてウレア体40mgを得た。このものをHPLCCHIRALPAKADで分割し、Rtの小さい順に化合物Aとして19mg、化合物Bとして19mgを得た。76-Aの化合物20mgを用い、実施例96の3に準じて表題化合物である無色油状物3.8mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.70-1.4211H,m,2.10-2.828H,m,3.05-3.812H,m,4.37-4.881H,m,6.90-6.971H,m,7.101H,s,7.28-7.512H,m,8.15-8.372H,m,9.881H,s,11.81H,s.mass:422M1.実施例337実施例336の6-Bの化合物を用い、実施例96の3に準じて表題化合物である無色油状物5.7mgを得た。mass:422M1.実施例3381参考例8の化合物及び2,4-ジメトキシベンズアルデヒドを用い、実施例84の2に準じて目的物を得た。21の化合物及び1-プロパンスルホニルクロリドを用い、実施例96の1に準じて目的物を得た。32の化合物のトリフルオロ酢酸溶液を室温で15分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣にエーテル-メタノールを加えて結晶化し、表題化合物を得た。mass:458M1.実施例339実施例339の化合物は、実施例140に準じて製造した。mass:472M1.実施例340実施例340の化合物は、実施例138に準じて製造した。mass:458M1.実施例3411o-アニシジンを用い参考例10に準じて目的化合物を得た。21の化合物を用いて参考例11に準じて反応を行った後、粗生成物をメタノールに溶解して1N塩酸で処理した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をエーテル-メタノールで固化して、表題化合物である白色固体を得た。mass:458M1.実施例342-360実施例342ないし実施例360の化合物は、実施例341に準じて製造した。実施例342mass:458M1.実施例343mass:419M1.実施例344mass:472M1.実施例345mass:485M1.実施例346mass:510M1.実施例347mass:435M1.実施例348mass:436M1.実施例349mass:479.M1.実施例350mass:428M1.実施例3511H-NMRDMSO-d61.071H,m,2.25-2.352H,m,2.581H,m,2.932H,t,J=6.9Hz,3.291H,m,3.531H,m,3.862H,t,J=6.9Hz,4.821H,dd,J=5.6,11Hz,6.901H,d,J=5.5Hz,7.081H,s,7.321H,d,J=7.6Hz,7.461H,t,J=7.6Hz,7.972H,d,J=8.9Hz,8.171H,s,8.211H,d,J=5.5Hz,8.261H,d,J=7.6Hz,8.352H,d,J=8.9Hz,10.31H,br,11.01H,br,13.01H,br.mass:620M1.実施例352mass:430M1.実施例353mass:429M1.実施例354mass:429M1.実施例355mass:429M1.実施例356mass:479M1.実施例357mass:430M1.実施例358mass:468M1.実施例359mass:479M1.実施例360mass:430M1.実施例36116-アミノキノリンを用い、参考例10及び参考例11に準じて反応を行い、副生成物としてスルフィド体を得た。21の化合物64mgを用い、実施例133の2に準じて表題化合物である白色固体21mgを得た。mass:445M1.実施例36216-アミノキノリンを用い、参考例10及び参考例11に準じて反応を行い、副生成物として塩化物を得た。21の化合物26mgを用い、実施例133の2に準じて表題化合物である白色固体18mgを得た。mass:371M1.実施例363-364実施例363及び実施例364は、実施例341に準じて製造した。実施例363mass:479M1.実施例364mass:418M1.実施例36514-ヒドロキシベンズアルデヒドのtert-ブチルジフェニルシリルエーテルを用い、実施例137の1に準じて目的物を得た。21の化合物を用い、実施例139に準じて表題化合物の塩酸塩である黄色粉末を得た。1H-NMRDMSO-d61.07-1.161H,m,2.26-2.613H,m,2.803H,s,2.833H,s,3.00-3.173H,m,3.25-3.341H,m,3.45-3.563H,m,4.112H,t,J=4.2Hz,4.362H,t,J=4.3Hz,4.822H,dd,J=6.2,12Hz,6.97-7.073H,m,7.25-7.545H,m,8.23-8.282H,m,9.372H,br,10.21H,br,10.41H,br,10.91H,br.mass:529M1.実施例366-375実施例366ないし実施例375の化合物は、実施例365に準じて製造した。実施例366mass:549M1.実施例367mass:555M1.実施例368mass:569M1.実施例369mass:571M1.実施例370mass:549M1.実施例371mass:577M1.実施例372mass:549M1.実施例373mass:577M1.実施例374mass:583M1.実施例375mass:585M1.実施例37612-ピリジンカルボキシアルデヒド510mgのベンゼン20ml溶液にトリフェニルホスホラニリデン酢酸メチルエステル1.70gを加え、室温で2時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル4:1~3:1で精製し、目的物を621mg得た。21の化合物621mgを用い、実施例297に準じて目的物252mgを得た。32の化合物20mgを用い、実施例365に準じて表題化合物の塩酸塩である黄色固体24mgを得た。1H-NMRCD3OD1.131H,m,2.422H,m,2.701H,m,3.60-3.822H,m,3.37-3.473H,m,4.031H,m,4.20-4.383H,m,4.962H,m,6.81-8.7216H,m.実施例37713-ヒドロキシベンズアルデヒドのtert-ブチルジフェニルシリルエーテルを用い、実施例137の1に準じて目的物を得た。21の化合物を用い、実施例139に準じて表題化合物の塩酸塩である白色固体を得た。1H-NMRDMSO-d61.041H,m,2.23-2.342H,m,2.701H,m,3.07-3.204H,m,3.281H,m,3.511H,m,4.162H,m,4.841H,dd,J=6.4,10Hz,5.392H,s,7.08-7.202H,m,7.28-7.394H,m,7.43-7.522H,m,7.711H,m,7.861H,d,J=8.6Hz,8.20-8.282H,m,8.771H,m,9.642H,br,10.71H,br,11.11H,br.mass:549M1.実施例378-387実施例378ないし実施例387の化合物は、実施例377に準じて製造した。実施例378mass:549M1.実施例379mass:549M1.実施例380mass:577M1.実施例381mass:577M1.実施例382mass:529M1.実施例383mass:585M1.実施例384mass:571M1.実施例385mass:555M1.実施例386mass:569M1.実施例387mass:583M1.実施例388実施例376を19mgを用い、参考例3に準じて表題化合物14mgを得た。1H-NMRCD3OD1.121H,m,2.24-2.413H,m,2.701H,m,3.32-3.414H,m,3.55-3.752H,m,4.02-4.325H,m,4.923H,m,6.882H,m,7.222H,m,7.301H,m,7.40-7.503H,m,7.891H,m,8.032H,m,8.221H,m,8.431H,m,8.691H,m.実施例38916-アミノニコチン酸1.01g、水素化リチウムアルミニウム835mg及びテトラヒドロフランの混合物を23時間還流した。反応液を室温に戻し、水840μl、1N水酸化ナトリウム840μl及び水840μlを順次加えてセライトで濾過した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール50:1~10:1で精製し、目的物を223mg得た。21の化合物223mg、tert-ブチルジメチルクロロシラン332mg、イミダゾール244mg及びジメチルホルムアミド5mlの混合物を室温で30分攪拌した。反応液に水を加えて、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル3:2で精製し、目的物を341mg得た。32の化合物320mgを用い、実施例118の2に準じて目的物138mgを得た。43の化合物103mg、酢酸1ml、水1ml及びテトラヒドロフラン1mlの混合物を室温で3日間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール10:1で精製し、表題化合物として白色粉末44mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.071H,m,2.22-2.573H,m,3.301H,m,3.531H,m,4.462H,d,J=5.0Hz,4.821H,dd,J=5.6,10Hz,5.231H,t,J=5.0Hz,7.251H,d,J=8.6Hz,7.311H,dd,J=0.9,8.0Hz,7.461H,t,J=8.0Hz,7.731H,dd,J=2.3,8.6Hz,8.231H,d,J=2.3Hz,8.311H,dd,J=0.9,8.0Hz,9.921H,s,11.21H,br.mass:339M1.実施例390実施例390の化合物は、実施例498に準じて製造した。mass:352M1.実施例3911実施例389の化合物を103mg、トリエチルアミン0.6ml及びジメチルスルホキシド3mlの混合物に三酸化硫黄ピリジン錯体265mgを加えて室温で4時間攪拌した。ここへ、三酸化硫黄ピリジン錯体195mgを加えて室温で1時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈して水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。得られた粗生成物はそのまま次の反応に用いた。21の化合物36mg及びエチルアミンのメタノール溶液2.0M2mlを用い、実施例84の2に準じて表題化合物である白色粉末20mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.151H,m,1.203H,t,J=7.3Hz,2.32-2.382H,m,2.531H,m,3.002H,q,J=7.3Hz,3.301H,m,3.551H,m,4.142H,s,4.791H,dd,J=5.6,10Hz,7.331H,d,J=7.9Hz,7.461H,d,J=8.8Hz,7.481H,t,J=7.9Hz,7.881H,dd,J=2.3,8.8Hz,8.271H,d,J=7.9Hz,8.361H,d,J=2.3Hz,10.10.2H,s,10.60.3H,br.mass:366M1.実施例392実施例392の化合物は、実施例391に準じて製造した。mass:380M1.実施例39312-アミノ-5-ニトロピリジン139mgを用い実施例118の2に準じて目的物33mgを得た。21の化合物33mgを用い参考例3に準じて表題化合物である白色粉末26mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.121H,m,2.31-2.453H,m,2.551H,m,3.531H,m,4.771H,dd,J=4.5,10Hz,5.052H,s,6.991H,m,7.071H,dd,J=3.1,8.8Hz,7.271H,d,J=7.8Hz,7.431H,t,J=7.8Hz,7.671H,d,J=3.1Hz,8.321H,d,J=7.8Hz,9.471H,s.mass:324M1.実施例39412-アミノ-5-ブロモピリジン643mgを用い実施例118の2に準じて目的物989mgを得た。21の化合物218mgを用い参考例6に準じて目的物150mgを得た。32の化合物30mg、1-メチルピペラジン10μl、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム03mg、1,1’-ビスジフェニルホスフィノフェロセン3mg、2,2’-ビスジフェニルホスフィノ-1,1’-ビナフチル3mg、ナトリウムtert-ブトキシド9mg及びテトラヒドロフラン2mlの混合物を封管中で100°Cで2時間反応させた。反応液を室温に戻し、シリカゲル及びセライトを通して濾過した。濾液を濃縮し、残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール10:1で精製し、目的化合物17mgを得た。43の化合物17mgを用い、実施例133の2に準じて表題化合物の塩酸塩である白色固体15mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.041H,m,2.23-2.382H,m,2.581H,m,2.80s,2.81s,2.80-2.813H,3.06-3.224H,m,3.301H,m,3.48-3.583H,m,3.75-3.792H,m,4.831H,dd,J=5.6,10Hz,7.301H,dd,J=0.9,8.1Hz,7.361Hbrd,J=9.2Hz,7.451H,t,J=8.1Hz,7.651H,dd,J=2.7,9.2Hz,7.991H,d,J=2.7Hz,8.241H,dd,J=0.9,8.1Hz,10.11H,br,10.81H,br.mass:407M1.実施例395-397実施例395ないし実施例397の化合物は、実施例394に準じて製造した。実施例395mass:366M1.実施例396mass:352M1.実施例397mass:338M1.実施例39812-アミノ-5-ブロモピリジン、トリブチルビニルスズを用いて実施例429の2に準じて反応を行い、目的物を得た。21の化合物6mgを用いて実施例118の2に準じて表題化合物である白色粉末2mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.80-0.921H,m,2.35-2.502H,m,2.55-2.651H,m,3.02-3.501H,m,3.72-3.821H,m,4.77-4.841H,m,5.351H,d,J=9.0Hz,5.731H,d,J=18Hz,6.681H,dd,J=9.0,18Hz,6.72-7.001H,m,7.45-7.603H,m,7.801H,m,8.171H,m,8.271H,d,J=7.0Hz,11.81H,br.mass:335M1.実施例399実施例398の化合物4mgを用いて参考例3に準じて表題化合物である白色粉末3mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.80-0.901H,m,1.223H,t,J=7.4Hz,2.40-2.502H,m,2.58-2.651H,m,2.622H,q,J=7.4Hz,3.42-3.501H,m,3.70-3.821H,m,4.801H,m,6.701H,d,J=9.0Hz,7.461H,t,J=7.0Hz,7.50-7.602H,m,8.041H,d,8.301H,d,J=7.4Hz,11.91H,br.mass:337M1.実施例40012-アセトアミノピリジン-4-カルボン酸メチルエステル19mg、過ヨウ素酸ナトリウム7mg、ヨウ素12mg、水25μl及び酢酸0.12mlを混合したところへ濃硫酸を1滴加えて85°Cで23時間攪拌した。反応液にチオ硫酸ナトリウム水溶液5mlを加えてクロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール20:1で精製し、目的物として黄色粉末15mgを得た。21の化合物を用いて実施例398に準じて反応を行い、表題化合物として白色粉末2mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.85-0.921H,m,2.37-2.472H,m,2.55-2.591H,m,3.43-3.511H,m,3.74-3.811H,m,3.973H,s,4.821H,m,5.431H,d,J=10Hz,5.661H,dd,J=1.0,10Hz,7.22-7.321H,m,7.491H,t,J=7.8Hz,7.581H,m,8.051H,s,8.261H,d,J=8.0Hz,8.431H,s,11.51H,br.mass:393M1.実施例401実施例400の化合物2mgを用いて参考例3に準じて表題化合物である白色粉末1mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.70-0.801H,m,1.253H,t,J=7.5Hz,2.30-2.502H,m,2.942H,q,J=7.5Hz,3.41-3.501H,m,3.74-3.821H,m,3.983H,s,4.24-4.301H,m,4.78-4.8201H,m,7.201H,s,7.43-7.602H,m,7.67-7.761H,m,8.171H,s,8.261H,d,J=7.2Hz,11.61H,br.mass:395M1.実施例4022-アミノピリミジン86mgを用い、実施例118の2に準じて表題化合物である淡赤色粉末15mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.171H,m,2.24-2.402H,m,2.521H,m,3.301H,m,3.541H,m,4.871H,dd,J=5.0,10Hz,7.181H,t,J=5.0Hz,7.341H,dd,J=0.9,7.8Hz,7.491H,t,J=7.8Hz,8.301H,dd,J=0.9,7.8Hz,8.712H,d,J=5.0Hz,10.41H,s,11.61H,s.mass:310M1.実施例40312-アミノ-4,6-ジクロロピリミジン1.0g、1-メチルピペラジン733mg、トリエチルアミン1.3ml及び1-ブタノール15mlの混合物を80°Cで22時間攪拌した。反応液を濃縮後、クロロホルム-メタノール10:1で希釈し、シリカゲルワコーゲルC-200を通して濾過した。濾液を濃縮して目的物を含む粗生成物を得た。21の化合物をエタノール18mlに溶解し、参考例3に準じて目的物390mgを得た。32の化合物74mgを用い、実施例118の2に準じて表題化合物である白色固体を14mg得た。1H-NMRCDCl31.271H,m,2.353H,m,2.34-2.607H,m,3.421H,m,3.64-3.805H,m,4.761H,dd,J=5.3,11Hz,5.221H,d,J=6.4Hz,7.361H,s,7.451H,t,J=7.7Hz,7.521H,dd,J=1.1,7.7Hz,7.941H,d,J=6.4Hz,8.261H,dd,J=1.1,7.7Hz,11.81H,s.mass:408M1.実施例404-405実施例404及び実施例405の化合物は、実施例406に準じて製造した。実施例404mass:385M1.実施例405mass:359M1.実施例4061インドールを用い、参考例2に準じて目的物を得た。21の化合物を用い、実施例129に準じて表題化合物を得た。mass:355M1.実施例407実施例407の化合物は、実施例408に準じて製造した。mass:363M1.実施例4081実施例406の1の化合物を用い、参考例3に準じて目的物を得た。21の化合物を用い、実施例1に準じて表題化合物を得た。mass:357M1.実施例40912-クロロ-3-ニトロ安息香酸3g、アミノマロン酸ジエチルエステル塩酸塩3.47g、HOBTの1水和物2.51g、トリエチルアミン3.11ml及びジメチルホルムアミド36mlの混合物を氷冷し、WSC塩酸塩3.37gを加えて室温にて3時間攪拌した。反応液を酢酸エチル200mlで希釈し、1N塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥し、濾過、濃縮して固体の粗生成物を得た。酢酸エチルで洗浄して、1次結晶2.49g、2次結晶0.895gを得た。21で得られた1次結晶1.50gのジメチルスルホキシド30ml溶液を氷冷し、水素化ナトリウム230mgを加え、90°Cで10分攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチル150mlで希釈した後、有機層を分離した。有機層は、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濃縮して粗生成物1.36gを得た。32で得られた粗生成物16.47gのエタノール溶液600mlを100°Cに加熱し、1N水酸化ナトリウム水溶液52mlを加えて40分攪拌した。反応液を氷冷後、濾過した。濾液は濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル1:1~3:5にて精製し、エステルを5.76g得た。43の化合物5.76gをメタノール90mlに懸濁し、氷冷したところへ水素化ホウ素ナトリウム3.61gを4回に分けて加え、50分攪拌した。飽和塩化アンモニウム2mlを加えて濾過し、得られた固体をメタノールで洗浄して、白色粉末3.48g得た。54の化合物1.00g、イミダゾール650mg及びジメチルホルムアミド16mlの混合物にtert-ブチルジメチルクロロシラン1.50gを加えて室温で1時間25分攪拌した。反応液を酢酸エチル200mlで希釈し、水、飽和食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥し、濾過、濃縮して粗生成物を得た。精製を行わずに次の反応を行った。65の粗生成物全量をエタノール100mlに溶解し、参考例3と同様の反応を行った。得られた粗結晶をエーテル-ヘキサンで洗浄し、アミン1.13gを得た。76の化合物1.13gと2-ピリジンカルボニルアジド650mgを用いて実施例1の方法に準じて、目的化合物1.48gを製造した。87の化合物1.48gのメタノール30ml溶液に濃塩酸4mlを加えて室温で30分攪拌した。析出した固体を濾取し、テトラヒドロフランで洗浄して表題化合物を1.18gを得た。1H-NMRDMSO-d63.621H,dd,J=5.7Hz,11Hz,3.941H,dd,J=3.9Hz,11Hz,4.751H,m,7.091H,m,7.362H,m,7.441H,t,J=7.7Hz,7.851H,m,8.141H,d,J=7.7Hz,8.311H,m,8.601H,s,10.181H,s,10.921H,s.mass:299M1.実施例410-413実施例410ないし実施例413の化合物は、実施例414に準じて製造した。実施例410mass:313M1.実施例411mass:327M1.実施例412mass:341M1.実施例413mass:355M1.実施例4141実施例409の6の化合物26mgをジメチルホルムアミド-テトラヒドロフラン1:11mlに溶解し、水素化ナトリウム5mg、臭化ベンジル12μlを加えて室温で30分攪拌した。反応液をシリカゲルで濾過し、シリカゲルをヘキサン-酢酸エチル1:1で洗浄した。濾液及び洗液を合わせて濃縮して次の反応に使用した。21の化合物と2-ピリジンカルボニルアジドを用いて実施例1の方法に準じて、目的化合物を製造した。32の化合物を用いて、実施例409の8と同様の反応を行い、表題化合物を淡黄色粉末25mgを得た。1H-NMRDMSO-d63.92-4.002H,m,4.341H,d,J=11Hz,4.581H,t,J=4.5Hz,5.201H,d,J=11Hz,7.101H,m,7.25-7.385H,m,7.43-7.503H,m,7.861H,m,8.081H,m,8.201H,m,10.21H,s,10.51H,s.mass:389M1.実施例415-423実施例415ないし実施例423の化合物は、実施例414に準じて製造した。実施例415mass:338M1.実施例416mass:355M1.実施例417mass:369M1.実施例418mass:375M1.実施例419mass:403M1.実施例420mass:409M1.実施例421mass:395M1.実施例422mass:379M1.実施例423mass:381M1.実施例424-426実施例424ないし実施例426の化合物は、実施例427に準じて製造した。実施例424mass:297M1.実施例425mass:311M1.実施例426mass:339M1.実施例4271実施例414の化合物を11mg、トリエチルアミン40μl及び塩化メタンスルホニル10μlの混合物を室温で20分攪拌した。DBU20μlを加えて室温で25分、80°Cで14.5時間攪拌した。反応液を室温に戻してシリカゲルで濾過し、シリカゲルをヘキサン-酢酸エチル1:1で洗浄した。濾液及び洗液を合わせて濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール20:1で精製し、目的化合物6.4mgを得た。21の化合物をエタノール-テトラヒドロフランの混合溶媒に溶解し、参考例3と同様の反応を行った。得られた粗生成物をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール20:1で精製し、表題化合物3.8mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.453H、d、J=6.6Hz,4.401H,d,J=16Hz,4.551H,q,J=6.6Hz,5.081H,d,J=16Hz,7.021H,ddd,J=0.9,5.1,7.2Hz,7.24-7.396H,m,7.42-7.512H,m,7.751H,ddd,J=2.1,7.2,8.7Hz,8.13-8.172H,m,9.721H,s,10.731H,s.mass:373M1.実施例428実施例428の化合物は、実施例427に準じて製造した。mass:365M1.実施例42912-クロロ-3-ニトロ安息香酸1.49g、濃硫酸50μl及びメタノール50mlの混合物を22時間還流した。反応液をクロロホルムで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥、濾過して濃縮した。粗生成物1.56gを得た。21の化合物50mg及びテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム9mgをテトラヒドロフラン1mlに懸濁した。脱気を行った後、トリブチル1-エトキシビニルスズ79μlを加え、室温で1時間、50°Cで2時間、さらに2.5時間還流した。反応液を室温に戻してシリカゲルで濾過した。シリカゲルは、ヘキサン-酢酸エチル3:1で洗浄し、濾液と洗液を合わせて濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、ヘキサン-酢酸エチル3:1で精製し、目的物として淡黄色油状物53mgを得た。32の化合物110mgのエタノール2ml溶液に1N水酸化ナトリウム437μlを加え、室温で17時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣を水4mlに溶解してヘキサンで洗浄した。水層を濃縮して目的物95mgを得た。43の化合物45mgとアニリン18μlを用いて、実施例409の1と同様の反応を行い、目的物を45mg得た。54の化合物45mg、濃塩酸20μl及びエタノール2mlの混合物を室温で50分攪拌した。反応液を濃縮し、得られた固体をクロロホルム-酢酸エチル3:1で洗浄した。洗液をTLCMerckArt5744、ヘキサン-酢酸エチル3:1で精製し、目的物を得た。65の化合物及びトリエチルシラン30μlのクロロホルム溶液を氷冷し、三フッ化ホウ素エーテル錯体23μlを加えて室温で2時間45分攪拌した。反応液をTLCMerckArt5744、ヘキサン-酢酸エチル3:1で精製し、目的物を得た。76の化合物をエタノールに溶解し、参考例3と同様の反応を行った。87の化合物7mg及び2-ピリジンカルボニルアジド12mgを用いて実施例1の方法に準じて、反応を行った。粗生成物をTLCMerckArt5744、ヘキサン-酢酸エチル1:1で精製し、表題化合物4mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.433H,d,J=6.6Hz,5.601H,q,J=6.6Hz,7.051H,m,7.24-7.332H,m,7.46-7.574H,m,7.68-7.822H,m,8.28-8.332H,m,9.921H,s,11.31H,s.mass:359M1.実施例430実施例430の化合物は、実施例431に準じて製造した。mass:339M1.実施例43198の化合物12mg及びプロピオンアルデヒドのジエチルアセタール100μlをクロロホルム-テトラヒドロフラン1:12mlに溶解し、三フッ化ホウ素エーテル錯体40μlを加えて120°Cで6時間攪拌した。プロピオンアルデヒドのジエチルアセタール50μlを追加し120°Cで3時間、プロピオンアルデヒドのジエチルアセタール200μlを追加し120°Cで2.5時間攪拌した。反応液をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール10:1で精製し、表題化合物2.3mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.983H,t,J=7.0Hz,1.752H,m,3.191H,t,J=10Hz,4.491H,t,J=10Hz,5.182H,m,7.051H,m,7.35-7.583H,m,7.781H,m,8.292H,m,9.881H,s,10.81H,s.mass:339M1.実施例432-437実施例432ないし実施例437の化合物は、実施例431に準じて製造した。実施例432mass:387M1.実施例433mass:341M1.実施例434mass:311M1.実施例435mass:417M1.実施例436mass:417M1.実施例437mass:417M1.実施例43813-ニトロフタルイミド2.00g、エタノール800μlを用いて実施例56に準じて、目的化合物2.11gを得た。21の化合物2.11gをメタノール-テトラヒドロフラン1:450mlに溶解し-15°Cに冷却したところへ、水素化ホウ素ナトリウム360mgを加えて1時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて室温に戻し、水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮した。得られた固体をヘキサンで洗浄し、目的物1.134gを得た。32の化合物120mgを用いて参考例3と同様の反応を行い、目的物70mgを得た。43の化合物70mg及び2-ピリジンカルボニルアジド65mgを用いて実施例1の方法に準じて、表題化合物26mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.253H,t,J=7.2Hz,3.421H,m,3.711H,m,6.001H,d、J=9.0Hz,6.631H,d、J=9.0Hz,7.101H,ddd,J=1.0,5.0,7.0Hz,7.301H,d,J=7.5Hz,7.371H,dd,J=1.0,7.0Hz,7.541H,t,J=7.5Hz,7.821H,ddd,J=2.1,7.0,7.5Hz,8.36-8.392H,m,9.981H,s,11.71H,s.mass:313M1.実施例439実施例439は、実施例440に準じて製造した。mass:327M1.実施例440実施例438の化合物13mgをエタノール2mlに溶解し、p-トルエンスルホン酸を触媒量加えて90°Cで1時間攪拌した。反応液を濃縮し、得られた固体をヘキサン酢酸エチルで再結晶して表題化合物7.3mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.013H、t、J=6.9Hz,1.203H,t,J=7.1Hz,2.851H,m,2.601H,m,3.251H,m,3.641H,m,6.151H.s,7.041H,dd,J=5.4,6.6Hz,7.211H,d,J=8.0Hz,7.361H,d,J=7.2Hz,7.531H,t,J=8.0Hz,7.771H,ddd,J=2.1,6.6,7.2Hz,8.281H,dd,J=2.7,5.4Hz,8.361H,d,J=8.0Hz,9.971H,s,11.81H,s.mass:341M1.実施例441-448実施例441ないし実施例448の化合物は、実施例440に準じて製造した。実施例441mass:355M1.実施例442mass:369M1.実施例443mass:369M1.実施例444mass:383M1.実施例445mass:367M1.実施例446mass:395M1.実施例447mass:381M1.実施例448mass:403M1.実施例449113-ニトロフタルイミド2.02g、シクロペンタノール1.20mlを用いて実施例56に準じて、目的化合物2.27gを得た。21の化合物2.27gを用いて実施例438の2に準じて反応を行い、目的物1.429gを得た。32の化合物827mgを用いて実施例440に準じて反応を行い、反応液を濃縮してそのまま次の反応に使用した。43の化合物を用いて参考例3と同様の反応を行い、目的物772mgを得た。54の化合物772mg及び2-ピリジンカルボニルアジド600mgを用いて実施例1の方法に準じて、表題化合物448mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.528H,m,2.813H,s,4.211H,m,6.241H,s,7.041H,ddd,J=1.0,5.0,7.5Hz,7.231H,d,J=7.5Hz,7.341H,dd,J=1.0,7.0Hz,7.521H,t,J=7.5Hz,7.761H,m,8.241H,m,8.341H,m,9.951H,s,11.61H,s.mass:335M-MeOH.実施例450実施例449の化合物を25mgをエタノールに溶解し、実施例440に準じて反応を行い、表題化合物を18mg得た。1H-NMRDMSO-d60.993H,t,J=7.5Hz,1.55-2.008H,m,2.781H,m,3.121H,m,4.221H,m,6.211H,s,7.041H,ddd,J=1.0,5.0,7.5Hz,7.201H,d,J=7.5Hz,7.331H,d,J=7.0Hz,7.511H,t,J=7.5Hz,7.771H,m,8.271H,m,8.371H,d,J=7.5Hz,9.961H,s,11.81H,s.mass:381M1.実施例451-466実施例451ないし実施例466の化合物は、実施例467に準じて製造した。実施例4511H-NMRDMSO-d61.55-1.9914H,m,4.301H,m,4.452H,s,7.031H,m,7.32-7.503H,m,7.761H,m,8.151H,d,J=7.8Hz,8.281H,m,9.731H,s,10.71H,br.mass:379M1.実施例4521H-NMRDMSO-d61.10-1.7012H,m,1.951H,m,3.382H,d,J=7.8Hz,4.472H,s,7.052H,m,7.33-7.513H,m,7.781H,m,8.081H,d,J=7.5Hz,9.751H,s,10.81H,br.mass:379M1.実施例4531H-NMRDMSO-d61.10-1.254H,m,1.79-1.924H,m,2.10-2.224H,m,4.121H,m,4.452H,s,7.051H,m,7.33-7.573H,m,7.781H,m,8.181H,d,J=7.5Hz,8.281H,d,J=2.1Hz,9.691H,s,10.61H,br.実施例454mass:419M1.実施例455mass:419M1.実施例456mass:283M1.実施例457mass:297M1.実施例458mass:311M1.実施例459mass:311M1.実施例460mass:323M1.実施例461mass:337M1.実施例462mass:327M1.実施例4631H-NMRDMSO-d63.622H,t,J=7.5Hz,3.913H,s,4.342H,t,J=7.5Hz,4.602H,s,7.021H,m,7.38-7.513H,m,7.991H,m,8.201H,d,J=7.8Hz,8.391H,d,J=2.1Hz,9.801H,s,11.01H,br.実施例464mass:331M1.実施例465mass:337M1.実施例466mass:337M1.実施例4671実施例449の2の化合物20mg、20水酸化パラジウム-炭素触媒20mg、メタノール1ml及びテトラヒドロフラン1mlの混合物を水素気流下、室温で15時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール19:1で精製し、目的物5mgを得た。21の化合物5mgを用い、実施例1に準じて表題化合物である淡黄色固体2mgを得た。mass:337M1.実施例468実施例468の化合物は、実施例467に準じて製造した。mass:339M1.実施例469-492実施例469ないし実施例492の化合物は、実施例493に準じて製造した。実施例469mass:365M1.実施例470mass:369M1.実施例471mass:387M1.実施例472mass:401M1.実施例473mass:407M1.実施例474mass:401M1.実施例475mass:379M1.実施例476mass:391M1.実施例477mass:325M1.実施例478mass:339M1.実施例479mass:353M1.実施例480mass:353M1.実施例481mass:401M1.実施例482mass:339M1.実施例483mass:461M1.実施例484mass:353M1.実施例485mass:367M1.実施例486mass:367M1.実施例487mass:367M1.実施例488mass:367M1.実施例489mass:367M1.実施例490mass:387M1.実施例491mass:401M1.実施例492mass:379M1.実施例49313-ニトロフタル酸無水物125gのテトラヒドロフラン2.5L溶液を-78°Cに冷却し、水素化ホウ素ナトリウム48.8gを加え、1時間攪拌した。反応液に1N塩酸を加え、室温に戻し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル2:1にて精製し、目的物88.4gを得た。21の化合物200mg、3-アミノ-1-プロパノール90mg、モレキュラーシーブス3A500mg及びテトラヒドロフラン3mlの混合物を1晩還流した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮後、残渣をTLCMerchArt5744、ヘキサン-酢酸エチル1:1で精製し、目的物180mgを得た。32の化合物180mgを用い、参考例3に準じて目的物139mgを得た。43の化合物30mgを用い、実施例1に準じて表題化合物36mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.50-4.306H,m,5.861H,s,7.051H,t,J=5.0Hz,7.191H,d,J=8.0Hz,7.361H,d,J=6.0Hz,7.531H,t,J=8.0Hz,7.781H,t,J=8.0Hz,8.321H,d,J=5.0Hz,8.381H,d,J=8.0Hz,9.991H,s.mass:325M1.実施例494-502実施例494ないし実施例502の化合物は、実施例493に準じて製造した。実施例494mass:339M1.実施例495mass:341M1.実施例496mass:341M1.実施例497mass:340M1.実施例498mass:325M1.実施例499mass:339M1.実施例500mass:387M1.実施例501mass:399M1.実施例502mass:369M1.実施例503-530実施例503ないし実施例530の化合物は、実施例531に準じて製造した。実施例503mass:498M1.実施例504mass:546M1.実施例505mass:558M1.実施例506mass:528M1.実施例507mass:524M1.実施例508mass:528M1.実施例509mass:546M1.実施例510mass:560M1.実施例511mass:566M1.実施例512mass:560M1.実施例513mass:538M1.実施例514mass:550M1.実施例515mass:484M1.実施例516mass:560M1.実施例517mass:498M1.実施例518mass:512M1.実施例519mass:512M1.実施例520mass:560M1.実施例521mass:512M1.実施例522mass:526M1.実施例523mass:526M1.実施例524mass:526M1.実施例525mass:526M1.実施例526mass:526M1.実施例527mass:546M1.実施例528mass:560M1.実施例529mass:538M1.実施例530mass:599M1.実施例5311ピコリン酸150g、ジメチルホルムアミド20ml及び塩化チオニル500mlの混合物を100°Cで1時間攪拌した。反応液を0°Cに冷却し、メタノール200mlを加えた後、酢酸エチルで希釈し、飽和重曹水を加えた。有機層を分離し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-100、ヘキサン-酢酸エチル2:1~1:1にて精製し、目的物148gを得た。21の化合物18g及びトリブチルビニルスズ35gを用いて実施例429の2に準じて反応を行い、目的物16gを得た。32の化合物16gを用い、実施例300に準じて目的物19.7gを得た。43の化合物19.7gを用い、参考例5の1、2に準じて14.1gを得た。1H-NMRCDCl31.851H,m,2.30-2.905H,m,3.481H,quintet,J=7.0Hz,3.682H,d,J=7.0Hz,7.20-7.405H,m,7.451H,d,J=8.0Hz,8.091H,s,8.591H,d,J=8.0Hz.54の化合物50mg及び実施例493の3の化合物30mgを用い、実施例1に準じて表題化合物41mgを得た。1H-NMRCDCl31.60-4.6015H,m,5.691H,s,6.831H,s,6.911H,d,J=5.0Hz,7.20-7.606H,m,8.131H,d,J=5.0Hz,8.451H,d,J=5.0Hz,8.771H,s.mass:484M1.実施例532実施例532の化合物は、実施例531に準じて製造した。mass:498M1.実施例53313-ニトロフタルイミド2.00g及び4-ヒドロキシ-2-ブタノン1.37gを用い、実施例438の1、2に準じて目的物1.78gを得た。21の化合物1.78g、モレキュラーシーブス3Aを5g、トリフルオロ酢酸1ml及びテトラヒドロフラン25mlの混合物を100°Cで1晩攪拌した。反応液を室温に戻して濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル1:1にて精製し、目的物963mgを得た。32の化合物963mgを参考例3に準じて目的物680mgを得た。43の化合物30mgを用い、実施例1に準じて表題化合物28mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.163H,d,J=7.0Hz,1.70-4.305H,m,5.951H,s,6.90-8.707H,m,10.01H,s,11.61H,br.mass:339M1.実施例534mass:353M1.実施例535mass:339M1.実施例536mass:353M1.実施例537mass:353M1.実施例538mass:367M1.実施例5391実施例493の3の化合物1.70g、Boc2O5.50g、4-ジメチルアミノピリジン3.00g及びテトラヒドロフラン40mlの混合物を室温で1晩攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル10:1~5:1にて精製し、目的物2.56gを得た。21の化合物500mgのテトラヒドロフラン25ml溶液を-78°Cに冷却し、ヨウ化ブチル400μl及びリチウムヘキサメチルジシラジドのテトラヒドロフラン溶液1.0M3.6mlを加え、徐々に室温まで温度を上げた。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル10:1にて精製し、目的物484mgを得た。32の化合物484mg、トリフルオロ酢酸4ml及び水0.4mlの混合物を室温で10分攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、ヘキサン-酢酸エチル10:1にて精製し、目的物249mgを得た。43の化合物50mgを用い、実施例1に準じて表題化合物48mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.611H,m,0.633H,t,J=7.0Hz,1.00-3.808H,m,3.951H,brd,J=11Hz,4.181H,brd,J=11Hz,4.391H,dt,J=2.0,11Hz,7.00-7.202H,m,7.371H,d,J=7.0Hz,7.501H,t,J=8.0Hz,7.781H,t,J=8.0Hz,8.231H,d,J=5.0Hz,8.381H,d,J=8.0Hz,10.01H,s,11.81H,br.mass:381M1.実施例540実施例540の化合物は、実施例541に準じて製造した。mass:498M1.実施例541実施例533の3化合物30mg及び実施例531の4の化合物50mgを用い、実施例1に準じて表題化合物48mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.173H,d,J=7.0Hz,1.20-2.9010H,m,3.662H,s,4.212H,m,5.941H,s,7.041H,d,J=5.0Hz,7.181H,s,7.20-7.406H,m,7.561H,t,J=8.0Hz,8.221H,d,J=5.0Hz,8.451H,d,J=8.0Hz,9.961H,s,11.71H,br.mass:498M1.実施例542-545実施例542ないし実施例545の化合物は、実施例541に準じて製造した。実施例542mass:512M1.実施例543mass:512M1.実施例544mass:512M1.実施例545mass:526M1.実施例54612-クロロ-3-ニトロ安息香酸10.1g及びヒドラジン1水和物4.85mlを用い、実施例121の1に準じて目的物9.00gを得た。21の化合物9.00gのエタノール1L溶液を封管中、150°Cで15時間攪拌した。反応液を室温に戻し、析出した結晶を濾取して乾燥し、目的物5.00gを得た。32の化合物40mg、1,4-ジヨードブタン29μl及びジメチルホルムアミド1mlの混合物を15時間還流した。反応液を室温に戻して酢酸エチルで希釈し、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerchArt5744、ヘキサン-酢酸エチル1:2で精製し、目的物44mgを得た。43の化合物49mgを用い、参考例3に準じて目的物25mgを得た。54の化合物25mgを用い、実施例1に準じて表題化合物である白色固体を得た。1H-NMRDMSO-d61.65-1.782H,m,1.88-2.112H,m,3.39-3.502H,m,3.80-3.962H,m,7.00-7.131H,m,7.20-7.392H,m,7.40-7.491H,m,7.75-7.851H,m,8.15-8.221H,m,8.321H,s,9.931H,s,11.11H,s.mass:324M1.実施例547実施例546の2の化合物及び1,3-ジヨードプロパンを用い、実施例546の3から5に準じて表題化合物である白色固体を得た。1H-NMRDMSO-d62.492H,m,3.55-3.712H,m,3.71-3.812H,m,7.01-7.101H,m,7.18-7.221H,m,7.28-7.402H,m,7.76-7.821H,m,8.08-8.352H,m,9.971H,s,11.11H,s.実施例5481グリコール酸エチルエステル9.64g、塩化4-メトキシベンジル13.2ml、水素化ナトリウム3.89g及びジメチルホルムアミド200mlの混合物を0°Cで1晩攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル20:1で精製し、目的物16.0gを得た。2アセトニトリル4.11mlのテトラヒドロフラン400ml溶液を-78°Cに冷却し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液1.6M46.3mlを加えたところへ、1の化合物16.0gのテトラヒドロフラン150ml溶液を加え、-78°Cから室温まで温度を上げて、原料が消失するまで攪拌した。反応液に水を加え、1N塩酸で酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。有機層にエタノール200mlを加えたところへ、ヒドラジン1水和物20mlを加えて、1晩還流した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール98:2で精製し、目的物13.9gを得た。32の化合物13.9g、Boc2O15.1ml、水素化ナトリウム2.62g及びジメチルホルムアミド300mlの混合物を原料が消失するまで室温で攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル10:1~1:1で精製し、目的物7.32gを得た。43の化合物7.32gを用い、実施例118の2に準じて目的物4.16gを得た。54の化合物4.16g、10Pd-炭素触媒3g、メタノール-テトラヒドロフラン1:1140mlの混合物を水素気流下で50°C、3時間攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、クロロホルム-メタノール98:2~80:20で精製し、Boc保護体A602mg及び表題化合物593mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.98-1.181H,m,2.20-2.412H,m,2.60-2.781H,m,3.03-3.602H,m,4.442H,d,J=5.5Hz,4.61-4.791H,m,5.291H,t,J=5.5Hz,6.001H,s,7.261H,d,J=6.7Hz,7.421H,dd,J=6.7,7.9Hz,8.271H,d,J=7.9Hz,9.411H,s,12.31H,s.mass:328M1.実施例5491実施例548の化合物510mgを用い実施例84の1に準じて目的物295mgを得た。21の化合物121mg、1-メチルピペラジン414μl、モレキュラーシーブス3A100mg、及びクロロホルム-メタノール1:14mlの混合物を室温で12時間攪拌した。ここへ水素化ホウ素ナトリウム41mgを加え、原料が消失するまで攪拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、クロロホルム-メタノール20:1~4:1で精製し、表題化合物のラセミ体139mgを得た。3このものをHPLCCHIRALPAKADダイセル化学工業株で光学分割し、Rt=8.3minCHIRALPAKADダイセル化学工業株、0.46φx25cm、エタノール、0.5ml/minAの化合物を表題化合物として6mg、及びRt=11.1minBの化合物を実施例550の化合物として19mg得た。1H-NMRDMSO-d60.98-1.131H,m,2.133H,s,2.22-2.4710H,m,2.51-2.721H,m,3.422H,s,3.23-3.602H,m,4.62-4.781H,m,5.961H,s,7.261H,d,J=7.5Hz,7.421H,dd,J=7.5,7.9Hz,8.261H,d,J=7.9Hz,9.441H,s,12.31H,s.mass:410M1.実施例550実施例550の化合物を、実施例549の光学異性体として得た。mass:410M1.実施例551-591実施例551ないし実施例591の化合物は実施例549の2に準じて製造した。実施例5511H-NMRDMSO-d60.826H,t,J=7.5Hz,0.98-1.141H,m,1.364H,dq,J=7.2,7.5Hz,2.21-2.402H,m,2.48-2.652H,m,3.23-3.602H,m,3.672H,s,4.63-4.741H,m,6.021H,s,7.261H,d,J=6.7Hz,7.421H,dd,J=6.7,8.0Hz,8.261H,d,J=8.0Hz,9.411H,s,12.21H,s.mass:397M1.実施例552mass:383M1.実施例553mass:397M1.実施例554mass:397M1.実施例555mass:417M1.実施例556mass:417M1.実施例557mass:417M1.実施例558mass:445M1.実施例5591H-NMRDMSO-d60.98-1.141H,m,1.146H,d,J=6.9Hz,2.24-2.402H,m,2.59-2.701H,m,2.741H,dq,J=6.9,6.9Hz,3.22-3.602H,m,4.221H,d,J=6.0Hz,4.64-4.731H,m,5.941H,t,J=6.0Hz,6.081H,s,6.401H,d,J=7.0Hz,6.441H,d,J=7.1Hz,6.511H,s,6.981H,dd,J=7.0,7.1Hz,7.261H,d,J=7.0Hz,7.421H,dd,J=7.0,8.2Hz,8.251H,d,J=8.2Hz,9.401H,s,12.31H,s.実施例560mass:445M1.実施例561mass:443M1.実施例562mass:431M1.実施例563mass:439M1.実施例564mass:439M1.実施例565mass:443M1.実施例566mass:461M1.実施例567mass:399M1.実施例568mass:399M1.実施例569mass:491M1.実施例570mass:438M1.実施例571mass:493M1.実施例572mass:425M1.実施例573mass:427M1.実施例574mass:500M1.実施例575mass:436M1.実施例576mass:413M1.実施例577mass:506M1.実施例578mass:503M1.実施例579mass:477M1.実施例580mass:473M1.実施例581mass:473M1.実施例582mass:489M1.実施例583mass:489M1.実施例584mass:443M1.実施例585mass:461M1.実施例586mass:522,524M1.実施例587mass:477M1.実施例588mass:512M1.実施例589mass:457M1.実施例590mass:493M1.実施例591mass:493M1.実施例592-595実施例592ないし実施例595の化合物は、実施例549の2及び3に準じて製造した。実施例592mass:477M1.実施例593mass:477M1.実施例594mass:477M1.実施例595mass:477M1.実施例596実施例662の化合物を62mg用い、実施例290に準じて表題化合物15mgを得た。mass:397M1.実施例597実施例597の化合物は、実施例596に準じて製造した。mass:491M1.実施例598実施例598の化合物は、実施例649の2の化合物を用い、実施例596に準じて製造した。mass:501M1.実施例5991L-N-ベンジルプロリンエチルエステルを用い、実施例548の23に準じて目的物を得た。21の化合物623mgを用い、実施例118の2に準じて目的物408mgを得た。32の化合物288mg及び塩酸-メタノール5mlの混合物を室温で15分攪拌した。反応液を濃縮し、クロロホルムで希釈して飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥し、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール99:1で精製し、表題化合物の混合物119mgを得た。43の化合物をHPLCで分割し、Rt=14.6分CHIRALCELODダイセル化学工業株、0.46φx25cm、ヘキサン-エタノール80:20、0.6ml/minの分画Aとして表題化合物を38mg及びRt=18.3分の分画Bとして実施例600の化合物を39mgを得た。mass:457M1.実施例600実施例600の化合物は、実施例599の化合物のジアステレオマーとして得た。1H-NMRDMSO-d60.98-1.041H,m,1.64-1.803H,m,2.04-2.404H,m,2.59-2.902H,m,3.161H,d,J=13Hz,3.42-3.603H,m,3.761H,d,J=13Hz,4.62-4.681H,m,6.091H,brs,7.20-7.366H,m,7.421H,dd,J=7.9,8.0Hz,8.261H,d,J=7.9Hz,9.431H,s,12.41H,s.mass:457M1.実施例601D-N-ベンジルプロリンエチルエステルを用い、実施例599及び実施例600に準じて、Rt=14.0分CHIRALCELODダイセル化学工業株、0.46φx25cm、ヘキサン-エタノール80:20、0.6ml/minの分画Aとして表題化合物を68mg、及びRt=16.8分の分画Bとして実施例602の化合物64mgを得た。mass:457M1.実施例602実施例602の化合物は、実施例601の化合物のジアステレオマーとして得た。mass:457M1.実施例603-607実施例603ないし実施例607の化合物は、実施例599の1から3に準じて製造した。実施例603mass:388M1.実施例604mass:424M1.実施例605mass:389M1.実施例606mass:424M1.実施例607mass:388M1.実施例608実施例599の化合物を610mg、10Pd-炭素触媒300mg、ギ酸アンモニウム800mg及びエタノール15mlの混合物を4時間還流した。反応液を室温に戻してセライトで濾過し、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーSilicagel60Nspherialneutral関東化学株、クロロホルム-メタノール98:2~5:1で精製し、表題化合物290mgを得た。mass:367M1.実施例609mass:367M1.実施例610mass:367M1.実施例611mass:367M1.実施例612実施例612の化合物は、実施例599の1から3に準じて製造した。mass:375M1.実施例61312-クロロ-3-シアノピリジン1.87gを用い、実施例118の1に準じて目的物1.35gを得た。21の化合物818mgを用い、実施例548の3に準じて、N-保護体618mgを得た。32の化合物294mgを用い実施例118の2に準じて表題化合物45mgを得た。1H-NMRDMSO-d61.04-1.201H,m,2.30-2.412H,m,2.62-2.711H,m,3.28-3.351H,m,3.48-3.591H,m,4.74-4.821H,m,7.12-7.201H,m,7.331H,d,J=7.6Hz,7.481H,dd,J=7.6,7.9Hz,8.321H,d,J=7.9Hz,8.51-8.542H,m,9.801H,s,10.21H,s.mass:349M1.実施例614-615実施例614及び実施例615は、実施例599の1から3に準じて製造した。実施例614mass:468M1.実施例615mass:380M1.実施例616-619実施例616ないし実施例619の化合物は、実施例306の3の化合物及び実施例306の2-Bから実施例306の3に準じて合成した化合物を用い、実施例599の1から3に準じて製造した。実施例616mass:366M1.実施例617mass:366M1.実施例618mass:473M1.実施例619mass:473M1.実施例620-621実施例620及び実施例621の化合物は、実施例618の化合物及び実施例619の化合物を用い、実施例548の5に準じて製造した。実施例620mass:383M1.実施例621mass:383M1.実施例622-625実施例622ないし実施例625の化合物は、実施例306の3の化合物及び実施例306の2-Bから306実施例306の3に準じて合成した化合物を用い、実施例599の1から3に準じて得られたジアステレオマーの混合物をHPLCCHIRALPAKADダイセル化学工業株、2φx25cmで分割を行った。実施例622mass:471M1.実施例623mass:471M1.実施例624mass:471M1.実施例625mass:471M1.実施例626実施例626の化合物は、実施例599の1から3に準じて製造した。mass:471M1.実施例627実施例616の化合物は、実施例622に準じて製造した。mass:424M1.実施例628-629実施例628の化合物及び実施例629の化合物は、実施例622に準じて製造した。実施例628mass:424M1.実施例629mass:424M1.実施例6301実施例599の3の化合物を用い、実施例610に準じて目的物を得た。21の化合物85mg、N-ジエチルカルバモイル-N-メトキシホルムアミド81μl及びクロロホルム2mlの混合物を60°Cで2時間攪拌した。反応液を室温に戻してクロロホルムで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerchArt5744、クロロホルム-メタノール10:1で精製し、ジアステレオマーの混合物を得た。このものを実施例549の3と同様にして分割し、表題化合物を4mg及び実施例631の化合物を3mg得た。mass:395M1.実施例631mass:395M1.実施例6321実施例630の1の化合物171mgを用い、実施例295に準じてジアステレオマーの混合物70mgを得た。21の化合物について実施例549の3と同様にして分割し、実施例632を13mg及び実施例633を26mg得た。mass:381M1.実施例633実施例633の化合物は、実施例632のジアステレオマーとして得た。mass:381M1.実施例634実施例636を42mg及び1-ブチルアミン120μlを用い、実施例549の2に準じて反応を行った後、10塩酸-メタノールで処理して乾燥し、表題化合物の塩酸塩を22mg得た。mass:397M1.実施例635実施例635の化合物は、実施例634に準じて製造した。実施例636実施例639の2の化合物1.20gを用い、実施例84の1に準じて反応を行った後、実施例599の3に準じて表題化合物591mgを得た。mass:340M1.実施例637実施例639の1の化合物を用い、実施例599の3に準じて表題化合物708mgを得た。mass:432M1.実施例638実施例638の化合物は、実施例634に準じて製造した。実施例63912-ベンジルオキシプロピオン酸エチルエステルを用い、実施例599の12に準じて目的物を得た。21の化合物4.30gを用い、実施例548の5に準じて反応を行った。反応液に10塩酸-メタノールを加えてBoc基の除去を行った後、酢酸エチルを加えて析出した結晶を濾取、乾燥して表題化合物2.21gを得た。mass:342M1.実施例640-646実施例640ないし実施例646の化合物は、実施例634に準じて製造した。実施例640mass:369M1.実施例641mass:383M1.実施例642mass:445M1.実施例643mass:409M1.実施例644mass:381M1.実施例645mass:383M1.実施例646mass:409M1.実施例6471L-N-ベンジルプロリンエチルエステルを用い、実施例548の2に準じて目的物を得た。21の化合物1.34g、水素化ナトリウム243mg、ヨウ化メチル0.38ml及びジメチルホルムアミド20mlの混合物を原料が消失するまで室温で攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-300、クロロホルム-メタノール98:2で精製し、表題化合物350mgを得た。32の化合物340mgを用い、実施例118の2に準じて反応を行い、目的物252mgを得た。43の化合物252mgを用い、実施例610に準じてジアステレオマーの混合物86mgを得た。このものについて実施例549と同様の方法により分割を行い、表題化合物を20mg及びジアステレオマーである実施例648の化合物を17mg得た。mass:381M1.実施例648実施例648の化合物は、実施例647の化合物とともに得られた。mass:381M1.実施例6491グリコール酸エチルエステル及び臭化ベンジルを用い、実施例548の1及び2に準じて目的物を合成した。21の化合物1.31mg、水素化ナトリウム271mg、ヨウ化メチル421μl及びジメチルホルムアミド30mlの混合物を0°Cで60分攪拌した。反応後通常の後処理を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール99:1~98:2で精製し、目的物593mgを得た。32の化合物593mgを用い、実施例118の2に準じて目的物535mgを得た。43の化合物を用い、実施例548の5、続いて実施例84の1に準じて目的物176mgを得た。54の化合物30mg及び2-アミノインダン100mgを用い、実施例549の2に準じて表題化合物を31mg、実施例650の化合物を11mg及び実施例651の化合物を12mg得た。1H-NMRDMSO-d60.93-1.101H,m,2.24-2.382H,m,2.52-2.631H,m,2.671H,d,J=6.6Hz,2.721H,d,J=6.6Hz,3.021H,d,J=7.0Hz,3.081H,d,J=7.0Hz,3.28-3.583H,m,3.723H,s,3.742H,s,4.71-4.801H,m,6.081H,s,7.06-7.184H,m,7.261H,d,J=7.4Hz,7.431H,dd,J=7.4,7.9Hz,8.261H,d,J=7.9Hz,9.431H,s.mass:457M1.実施例650実施例650の化合物は、実施例649の化合物の副生成物として得られた。mass:386M1.実施例651実施例651の化合物は、実施例649の化合物の副生成物として得られた。mass:342M1.実施例652-656実施例652ないし実施例656の化合物は、実施例649に準じて製造した。実施例652mass:487M1.実施例653mass:475M1.実施例654mass:535,537M1.実施例655mass:491M1.実施例656mass:491M1.実施例657-687実施例657ないし実施例687の化合物は、実施例549の2に準じて製造した。実施例657mass:383M1.実施例658mass:409M1.実施例659mass:417M1.実施例660mass:369M1.実施例661mass:369M1.実施例6621H-NMRDMSO-d60.95-1.121H,m,1.369H,s,2.22-2.382H,m,2.62-2.751H,m,3.23-3.371H,m,3.42-3.601H,m,4.102H,m,4.791H,dd,J=5.9,10Hz,6.471H,s,7.291H,d,J=7.3Hz,7.451H,t,J=7.3Hz,8.221H,d,J=7.3Hz,9.093H,br,9.911H,s.mass:383M1.実施例663mass:355M1.実施例664mass:395M1.実施例665mass:381M1.実施例666mass:341M1.実施例667mass:324M1.実施例6681H-NMRDMSO-d60.90-1.201H,m,1.20-2.008H,m,2.20-2.704H,m,3.00-3.401H,m,3.40-3.601H,m,3.742H,m,4.691H,m,7.251H,d,J=7.9Hz,7.411H,t,J=7.9Hz,8.211H,d,J=7.9Hz,9.441H,br,12.21H,br.mass:395M1.実施例669mass:383M1.実施例670mass:397M1.実施例6711H-NMRDMSO-d60.70-0.956H,m,0.95-1.151H,m,1.15-1.508H,m,2.10-2.704H,m,3.10-3.401H,m,3.40-3.601H,m,3.662H,s,4.701H,dd,J=6.0,11Hz,6.011H,br,7.271H,d,J=7.9Hz,7.431H,t,J=7.9Hz,8.271H,d,J=7.9Hz,9.401H,s,12.11H,br.mass:425M1.実施例672mass:425M1.実施例673mass:439M1.実施例674mass:411M1.実施例675mass:397M1.実施例676mass:411M1.実施例677mass:445M1.実施例678mass:445M1.実施例679mass:445M1.実施例680mass:481M1.実施例681mass:481M1.実施例682mass:437M1.実施例683mass:468M1.実施例684mass:489M1.実施例685mass:484M1.実施例686mass:459M1.実施例687mass:399M1.実施例68812-アミノインダンの塩酸塩1.93g、臭素5.0ml及び酢酸30mlを加えて50°Cで3日間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をクロロホルム50mlに溶解した。ここへBoc2O4ml及びトリエチルアミン15mlを加え、原料が消失するまで攪拌した。反応液を1N塩酸で洗浄し、有機層を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200で精製し、目的物1.38gを得た。21の化合物1.38gを用い、実施例599の3に準じて目的物553mgを得た。32の化合物14g、ブロモ酢酸エチル5.85ml、トリエチルアミン14.7ml及びトルエン100mlの混合物を室温で1晩攪拌した。反応液をエーテル-酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をクロロホルム150mlに溶解し、Boc2O12.6ml加えて原料が消失するまで室温で攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチルで精製し、目的物11.68gを得た。43の化合物10.13gを用い、実施例548の2に準じて目的物1.95gを得た。53-ヒドロキシ-2-ブタノンを用いて実施例533の1から3に準じて合成したアミン及び4の化合物を用い、実施例118の2に準じてウレア体を得た。65の化合物を4N塩酸-ジオキサンで処理してBoc保護基を除去し、表題化合物を得た。mass:551,553M1.実施例689-690実施例689及び実施例690の化合物は、実施例688に準じて製造した。実施例6891H-NMRDMSO-d60.78-1.207H,m,2.24-2.784H,m,2.89-3.102H,m,3.40-3.591H,m,3.722H,s,4.10-4.221H,m,4.781H,s,6.101H,brs,7.271H,d,J=6.5Hz,7.291H,d,J=7.7Hz,7.351H,d,J=6.5Hz,7.401H,s,7.481H,dd,J=7.7,8.5Hz,8.321H,d,J=8.5Hz,9.551H,s,12.11H,brs.mass:565,567M1.実施例690mass:551,553M1.実施例691-692実施例691及び実施例692の化合物は、実施例693に準じて製造した。実施例691mass:548M1.実施例692mass:474M1.実施例6931実施例120の化合物54mg、トランス-1,4-ジアミノシクロヘキサンのモノBoc保護体トランス-1,4-ジアミノシクロヘキサン、Boc2O及びクロロホルムを用い、通常の方法に従い合成した56mgを用い、実施例409の1に準じて目的物61mgを得た。21の化合物61mgを用い、実施例548の2に準じて目的物37mgを得た。1H-NMRDMSO-d60.98-1.201H,m,1.48-1.534H,m,1.88-2.094H,m,2.26-2.432H,m,2.63-2.711H,m,2.90-3.081H,m,3.23-3.833H,m,4.74-4.851H,m,6.711H,s,7.261H,d,J=7.4Hz,7.441H,dd,J=7.4,7.9Hz,7.541H,dd,J=7.7,8.3Hz,7.801H,d,J=8.3Hz,7.881H,d,J=7.7Hz,8.02-8.132H,br,8.231H,s,8.261H,d,J=6.6Hz,8.481H,d,J=7.9Hz,9.20-9.401H,br,9.841H,s.mass:514M1.実施例694-700実施例694ないし実施例700の化合物は、実施例693に準じて製造した。実施例694mass:490M1.実施例695mass:514M1.実施例696mass:514M1.実施例697mass:560M1.実施例698mass:527M1.実施例699mass:536M1.実施例700mass:528M1.実施例701実施例703の化合物を100mg用い、実施例118の4に準じて表題化合物69mgを得た。mass:298M1.実施例70213-アミノ-4-エトキシカルボニルピラゾールを用い、実施例703に準じて目的物を得た。21の化合物300mgを用い、実施例118の4に準じて表題化合物を得た。mass:370M1.実施例70313-アミノピラゾール3.00g、臭化ベンジル5.60g、水素化ナトリウム1.72g及びジメチルホルムアミド30mlの混合物を室温で3時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル3:1~1:1にて精製し、目的物を2.87g得た。21の化合物2.89gを用い、実施例118の2に準じて表題化合物989mgを得た。mass:388M1.実施例7041実施例702の1の化合物300mgのテトラヒドロフラン20ml溶液を0°Cに冷却し、水素化リチウムアルミニウム30mgを加え30分攪拌した。反応液に1N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、ヘキサン-酢酸エチル1:1~1:2にて精製し、表題化合物248mgを得た。mass:418M1.実施例7053-アミノ-1-メチルピラゾール100mgを用い、実施例118の2に準じて表題化合物196mgを得た。mass:312M1.実施例7061参考例3の化合物280mgのクロロホルム5ml溶液に塩素ガスを吹き込み、生成した濾取した。このものを水酸化ナトリウム水溶液及びクロロホルムの混合物に溶解し、有機層を分離して濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール10:1で精製し、モノクロロ体Aを84mg及びジクロロ体Bを66mg得た。21-Aの化合物42mgを用い実施例1に準じて表題化合物である白色結晶を得た。mass:343M1.実施例7071参考例3の化合物2.02gのクロロホルム溶液を-20°Cに冷却し、臭素1.16mlを加え、10分攪拌した。反応液を室温に戻し、析出した固体を濾取した。このものを水酸化ナトリウム水溶液及びクロロホルムの混合物に溶解し、有機層を分離して濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーワコーゲルC-200、クロロホルム-メタノール99:1にて精製し、モノブロモ体Aを1.30g及びジブロモ体Bを1.14g得た。21-Aの化合物1.03gを用い、実施例1に準じて表題化合物1.24gを得た。1H-NMRDMSO-d60.98-1.141H,m,2.22-2.402H,m,2.43-2.601H,m,3.27-3.401H,m,3.49-3.601H,m,4.73-4.801H,m,7.061H,dd,J=7.2,12Hz,7.261H,d,J=8.7Hz,7.591H,d,J=8.4Hz,7.791H,ddd,J=2.1,8.7,12Hz,8.301H,dd,J=2.1,7.2Hz,8.261H,d,J=8.4Hz,10.01H,s,11.31H,s.mass:387,389M1.実施例708実施例707の1-Bの化合物を用い、実施例1に準じて表題化合物を得た。mass:467,469M1.実施例709実施例706の1-Bの化合物37mgを用い実施例1に準じて表題化合物を得た。mass:378M1.実施例71014-ニトロ-1,2-ベンゾイソチアゾール-3-オン1,1,-ジオキシド100mg及び2-プロパノール67μlを用い、実施例56に準じて2種の化合物の混合物として淡黄色固体121mgを得た。21の混合物30mgを用い、参考例3に準じて反応を行った。粗生成物をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール80:1で精製し、N-アルキル体Aを6mg及びO-アルキル体Bを20mg得た。32-Aの化合物6mgを用い、実施例1に準じて表題化合物である白色固体2mgを得た。1H-NMRCDCl31.656H,d,J=7.8Hz,4.551H,dq,J=7.8,7.8Hz,6.951H,d,J=7.8Hz,7.041H,t,J=6.3Hz,7.471H,d,J=7.5Hz,7.611H,br,7.66-7.781H,m,8.471H,d,J=5.7Hz,9.001H,d,J=8.4Hz,13.11H,br.mass:361M1.実施例711実施例710の2-Bの化合物75mgを用い、実施例1に準じて表題化合物である淡黄色固体93mgを得た。1H-NMRCDCl31.456H,d,J=6Hz,5.491H,dq,J=6,6Hz,6.851H,d,J=8.1Hz,7.03-7.071H,m,7.59-7.753H,m,8.27-8.301H,m,8.361H,d,J=9.3Hz,11.81H,br.mass:361M1.実施例712-713実施例712ないし実施例713の化合物は、実施例710及び実施例711に準じて製造した。実施例712mass:387M1.実施例713mass:387M1.実施例714実施例711の化合物を55mgをテトラヒドロフラン4mlに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム17mgを加えて室温で30分攪拌した。反応液に飽和重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濾過、濾液を濃縮した。残渣をTLCMerckArt5744、クロロホルム-メタノール80:1で精製し、表題化合物である白色固体5mgを得た。1H-NMRDMSO-d64.412H,br,7.041H,t,J=6Hz,7.401H,d,J=7.2Hz,7.471H,d,J=8.1Hz,7.561H,t,J=8.1Hz,7.75-7.872H,m,8.25-8.332H,m,9.841H,s,10.91H,br.mass:305M1.実施例715実施例714の化合物を5mg及び2-プロパノール7μlを用い、実施例56に準じて、表題化合物である白色固体3mgを得た。1H-NMRCDCl31.463H,t,J=7.2Hz,4.472H,q,J=7.2Hz,4.942H,s,6.831H,d,J=8.1Hz,7.041H,t,J=8.4Hz,7.541H,d,J=6.9Hz,7.611H,t,J=8.1Hz,7.731H,t,J=8.7Hz,7.971H,s,8.331H,d,J=3.3Hz,8.461H,d,J=7.8Hz,12.51H,s.mass:377M1.参考例19-フルオレノン-4-カルボン酸10.0g44.6mmol、塩化チオニル50mlおよびジメチルホルムアミド1mlの混合物を1時間還流した。反応液を濃縮し目的とする酸塩化物を黄色固体として得た。このものは精製せずに次の反応を行った。アジ化ナトリウム4.06g62.5mmolを水50mlに溶解し氷冷したところへ、上記酸塩化物をテトラヒドロフラン200mlに懸濁させたものを一気に加え、同温度で反応液を1時間攪拌した。反応液をテトラヒドロフラン-酢酸エチル10:1で抽出し、有機層を分離し、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥した。濾液を濃縮し、析出した結晶を濾過して目的化合物を10.3g得た。1H-NMRCDCl3δ:7.29-7.432H,m,7.561H,dt,J=7.7Hz,1.3Hz,7.751H,d,J=7.5Hz,7.901H,dd,J=7.3Hz,1.3Hz,8.021H,dd,J=7.9Hz,1.2Hz,8.431H,d,J=7.9Hz.mass:250M1.参考例212-クロロ-3-ニトロ安息香酸2g10.0mmolと塩化チオニル30mlを室温にて混合し、4-ジメチルアミノピリジン122mg1.00mmolを加え、反応液を12時間還流した。反応液を濃縮し酸クロライドの粗生成物を得た。ピロール3.5ml50.0mmolとトリエチルアミン7.0ml50.0mmolの塩化メチレン80ml溶液に上記酸クロライドを室温にて加え、反応液を同温度にて6時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濃縮し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン酢酸エチル、1:0~7:3にて精製し、黄色油状物2.43gを得た。21で得られた黄色油状物2.40g9.60mmolのジメチルアセトアミド180ml溶液に酢酸カリウム1.80g19.2mmolを加えて系内を窒素で置換した。ここへテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム1.10g0.960mmolを室温で加え130°Cで反応液を1晩攪拌した。反応液を酢酸エチル-エーテル1:2で希釈し水、飽和食塩水で順次洗浄、硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濃縮し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-クロロホルム、1:0~1:1で精製し褐色固体の化合物2.24gを得た。1H-NMRCDCl3δ:6.341H,t,J=3.2Hz,7.101H,dd,J=3.3Hz,0.85Hz,7.211H,m,7.351H,dd,J=8.3Hz,7.3Hz,7.941H,dd,J=7.3Hz,1.0Hz,8.281H,dd,J=8.5Hz,1.0Hz.参考例3参考例2の化合物2.24gのメタノール-テトラヒドロフラン1:180ml溶液に10パラジウム炭素触媒0.200gを室温で加え、反応液を水素気流下、室温にて12時間攪拌した。不溶物をセライト濾過し、濾液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム-メタノール、1:0~98:2~95:5にて精製し、褐色固体の化合物参考例3の化合物1.03gを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:0.80-0.931H,m,2.10-2.302H,m,2.43-2.511H,m,3.18-3.241H,m,3.38-3.471H,m,4.501H,dd,J=10Hz,5.5Hz,5.342H,s,6.721H,d,J=7.9Hz,6.761H,d,J=7.4Hz,7.111H,t,J=7.6Hz.参考例41窒素気流下、エタノール90mlを氷冷したところへナトリウム500mg22mmolを加え、反応液を室温で50分攪拌した。反応液を氷冷し、4-[2-[[1、1-ジメチルエチルジフェニルシリル]オキシ]エチル]-2-ピリジンカルボニトリル45g120mmolのエタノール150ml溶液を15分かけて加え、反応液を室温に戻して4時間攪拌した。反応液に氷冷下1N塩酸120ml120mmolを加えて酸性にした後、さらに同温度で反応液に水50mlを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、1N水酸化ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濃縮し褐色オイルを得た。シルカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、2:1~1:1にて精製し、黄色オイル42gを得た。1H-NMRCDCl3δ:1.009H,s,1.453H,t,J=7.0Hz,2.892H,t,J=6.3Hz,3.902H,t,J=6.3Hz,4.492H,q,J=7.0Hz,7.281H,d,J=4.9Hz,7.32-7.456H,m,7.554H,dd,7.991H,s,8.621H,d,J=5.6Hz.参考例51参考例4の化合物13g32mmolのメタノール200ml溶液にヒドラジン1水和物7.8ml160mmolを室温にて加え、反応液を同温度で19時間攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮し黄色オイル14gを得た。このものは精製せずに次の反応に用いた。21で得られた化合物のクロロホルム100ml溶液を氷冷し、1N塩酸97ml97mmolおよび亜硫酸ナトリウム4.5g65mmolを加え、同温度で反応液を40分攪拌した。反応液にクロロホルムを加え有機層を分離、硫酸マグネシウム乾燥後濾過、濾液を濃縮し黄色オイル14gを得た。このものは精製せずに次の反応に用いた。32で得られた化合物14g32mmolのテトラヒドロフラン200ml溶液に参考例3の化合物2.00g10.6mmolを室温にて加え、反応液を95°Cで2.5時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、1:1~1:2にて精製し、淡黄色結晶8.0gを得た。1H-NMRCDCl3δ:1.019H,s,1.22-1.371H,m,2.33-2.472H,m,2.58-2.651H,m,2.812H,t,J=6.3Hz,3.451H,t,J=10Hz,3.781H,dt,3.902H,t,J=6.3Hz,4.801H,dd,6.531H,s,6.821H,d,J=5.2Hz,7.30-7.478H,m,7.53-7.585H,m,8.071H,d,J=4.2Hz,8.321H,d,J=7.3Hz,12.01H,s.参考例6参考例5の化合物8.0g14mmolをクロロホルム50mlに溶解したところへパラホルムアルデヒド71.44g2.38molとtert-ブチルアミン250ml2.38molを室温で攪拌して調製したイミン50mlおよび濃硫酸1滴を加え、反応液を95°Cで3日間攪拌した。反応液を濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、3:1~1:1~1:2にて精製し、無色粉末7.0gを得た。1H-NMRCDCl3δ:0.989H,s,0.98-1.021H,m,1.289H,s,2.20-2.353H,m,2.802H,t,J=6.0Hz,3.33-3.421H,m,3.64-3.731H,m,3.862H,t,J=7.2Hz,4.671H,d,J=12Hz,4.73-4.801H,m,4.851H,d,J=8.8Hz,5.05-5.151H,br,5.43-5.521H,br,6.861H,d,J=5.6Hz,7.30-7.416H,m,7.491H,dd,7.54-7.605H,m,7.762H,d,J=12Hz,8.231H,d,J=4.8Hz.参考例7参考例6の化合物2.00gをテトラヒドロフラン20mlに溶解し、フッ化テトラ-n-ブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液1.0M3.50ml3.50mmolを室温にて加え、反応液を同温度で1時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥濾過した。濾液を濃縮し析出した結晶を濾取した。濾液を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、1:2~0:1~クロロホルム-メタノール、50:1にて精製した。先に濾取した結晶と合わせて目的化合物を700mg得た。1H-NMRCDCl3δ:1.2-1.351H,m,1.309H,s,2.20-2.403H,m,2.832H,t,J=6.6Hz,3.33-3.451H,m,3.61-3.741H,m,3.782H,t,J=6.6Hz,4.64-4.893H,m,5.07-5.201H,m,5.42-5.551H,m,6.911H,d,J=5.3Hz,7.45-7.592H,m,7.74-7.812H,m,8.281H,d,J=5.3Hz.参考例81参考例7の化合物190mgをクロロホルム2mlに溶解しトリフェニルホスフィン146mg0.56mmol、ジフェニルリン酸アジド0.12ml0.56mmolおよびジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液400.24ml0.55mmolを室温にて加え、反応液を同温度で15時間攪拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて水、飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィークロロホルム-メタノール、19:1で精製し、淡黄色不定形物130mgを得た。21で得られた化合物130mgをメタノール-テトラヒドロフラン1:12mlに溶解し、室温で10パラジウム炭素触媒130mgを加え水素気流下、反応液を同温度で2時間攪拌した。不溶物をセライトで濾過し濾液を濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィークロロホルム-メタノール、19:1で精製し表題化合物を淡黄色油状物として32mgおよび実施例109の化合物80mgを得た。1H-NMRDMSO-d6δ:1.23-1.351H,m,1.299H,s,2.21-2.413H,m,2.892H,brt,3.002H,brt,3.34-3.411H,m,3.62-3.711H,m,4.651H,d,J=12Hz,4.73-4.801H,m,4.831H,d,J=12Hz,5.00-5.201H,br,5.40-5.501H,br,6.811H,d,J=5.6Hz,7.502H,t,7.712H,d,J=8.8Hz,8.261H,d,J=5.6Hz.参考例9実施例81の化合物800mgをピリジン25mlに溶解し、室温にて塩化メタンスルホン酸0.263ml3.40mmolを加え、反応液を同温度で1時間攪拌した。不溶物を濾過し濾液を濃縮した。残渣をジメチルホルムアミドに溶解し、室温にてアジ化ナトリウム295mg4.54mmolを加え、反応液を80°Cで30分攪拌した。反応液を室温に戻して水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後、濾過濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、1:2~0:1にて精製し目的物265mgを得た。1H-NMRCDCl3δ:1.23-1.371H,m,2.33-2.512H,m,2.57-2.671H,m,2.902H,t,J=6.4Hz,3.461H,dt,J=10Hz,3.2Hz,3.612H,t,J=6.4Hz,3.771H,q,4.77-4.841H,m,6.811H,s,6.901H,d,J=6.4Hz,7.501H,t,J=8.0Hz,7.571H,d,J=4.8Hz,8.171H,d,J=4.8Hz,8.341H,d,J=7.2Hz,8.761H,s.参考例101p-ニトロベンゼンスルホニルクロリド5.00g22.6mmolのクロロホルム50ml溶液を氷冷したところへ、トリエチルアミン4.72ml33.8mmolおよび2,4-ジメトキシベンジルアミン5.05g30.1mmolを加え、反応液を室温で1時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて1N塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウム乾燥後濾過し、濾液を濃縮した。このものは精製を行わずに次の反応を行った。21で得られた化合物1.12gと参考例7の化合物1.00gをクロロホルム10mlに溶解し、トリフェニルホスフィン758mg2.89mmolとジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液401.26ml2.89mmolを室温にて加え、反応液を同温度で15時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン-酢酸エチル、1:2~1:4で精製し黄色不定型物1.54gを得た。1H-NMRCDCl3δ:1.20-1.401H,m,1.309H,s,2.20-2.433H,m,2.742H,t,J=7.6Hz,3.33-3.453H,m,3.613H,s,3.67-3.731H,m,3.733H,s,4.362H,s,4.661H,d,J=12Hz,4.71-4.801H,m,4.841H,d,J=12Hz,6.291H,d,J=4.0Hz,6.401H,dd,J=8.0Hz,4.0,6.731H,d,J=4.0Hz,7.161H,d,J=8.0Hz,7.43-7.573H,m,7.672H,t,7.771H,d,J=8.0Hz,7.802H,d,J=8.0Hz,8.19-8.223H,m.参考例11参考例10の化合物750mgをジメチルホルムアミド7.5mlに溶解し、室温にて炭酸ナトリウム290mg2.74mmolとチオフェノール0.120ml1.17mmolを反応液に加え、さらに反応液を室温で4日間攪拌した。不溶物を濾過し濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム-メタノール、50:1~9:1~4:1にて精製し淡黄色不定型物を350mg得た。1H-NMRCDCl3δ:1.3010H,s,2.10-2.373H,m,2.75-2.904H,m,3.34-3.431H,m,3.73-3.779H,m,4.671H,d,J=9.6Hz,4.771H,dd,4.851H,d,J=9.6Hz,5.05-5.151H,br,5.40-5.501H,br,6.392H,d,J=8.0Hz,6.871H,d,J=6.4Hz,7.091H,dd,7.47-7.572H,m,7.752H,d,J=6.4Hz,8.251H,d,J=4.8Hz."