化学的および/または電気化学的な処理、特に導電性の層の無電解めっきのための装置8内においてプレート状の基板10を搬送する装置であって、該装置8が、回転する少なくとも1つの搬送エレメント14を有していて、該搬送エレメント14が、少なくとも部分的に鉱物ガラスから成っていて、搬送エレメント14の搬送部分20が、回転対称的な少なくとも1つの載置エレメント34;44によってプレート状の基板10のために形成されていて、載置エレメント34;44が、搬送エレメント14上に被せ嵌められているか、または収縮嵌めされていることを特徴とする、化学的および/または電気化学的な処理のための装置内においてプレート状の基板を搬送するための装置。搬送エレメント14が、当該搬送エレメント14を回転可能に支承するための、少なくとも部分的に鉱物ガラスにより形成された少なくとも1つの支承手段22と、プレート状の基板10に対する面状または線形の少なくとも1つの接触領域を備えた少なくとも1つの搬送部分20とを有している、請求項1記載の装置。搬送エレメント14が、軸、シャフト基部24もしくはシャフト42を有していて、該軸、シャフト基部24もしくはシャフト42が、鉱物ガラスを有し、かつ/または少なくとも部分的に鉱物ガラスから製造されていて、かつ少なくとも部分的に支承手段22を形成している、請求項1または2記載の装置。軸、シャフト基部24もしくはシャフト42が、少なくとも部分的にガラスロッドまたはガラス管30により形成されていて、該ガラス管30が、少なくとも一方の側で閉じられた端面32を有している、請求項3記載の装置。搬送部分20が、ローラ36または管の形態の、搬送エレメント14の回転対称な中央部分を有していて、該ローラ36/管が、両端面28で、1つもしくは複数の支承手段22のシャフト基部24のための収容区分をそれぞれ有している、請求項1記載の装置。中央部分もしくは搬送部分20の直径が、1つまたは複数の支承手段22のシャフト基部24の直径よりも大きく形成されている、請求項1または請求項5記載の装置。シャフト基部24、および/または中央部分もしくは搬送部分20の少なくとも表面が、鉱物ガラスから成っている、請求項5または6記載の装置。隣り合う2つの載置エレメント44の側方の縁部の間の間隔が、約300mmよりも小さな値を有している、請求項1から7までのいずれか1項記載の装置。載置エレメントが、互いに対して表面接触しておらず、その幾何学形状に関して、小型ホイールおよび/またはディスクおよび/またはローラとして形成されている、請求項1から8までのいずれか1項記載の装置。ガラスの、媒体に接触する箇所における表面粗さが、1μmよりも小さな値を有している、請求項1から9までのいずれか1項記載の装置。少なくとも1つの搬送エレメント14が、特にシャフト基部24の少なくとも1つに配置された回転伝動エレメントもしくは駆動ホイール50を介して駆動されている、請求1から10までのいずれか1項記載の装置。搬送エレメント14が、支承手段収容部26内に回転可能に配置されていて、支承手段収容部26が、1つの通路に流体接続されている、請求項1から11までのいずれか1項記載の装置。それぞれ対になって互いに上下に配置された、請求項1から12までのいずれか1項記載の回転する多数の搬送エレメント14を備えた輸送装置であって、該搬送エレメント14の間を通って各プレート状の基板10が移動可能であることを特徴とする、輸送装置。請求項1から12までのいずれか1項記載の装置もしくは請求項13に記載の輸送装置により基板を搬送することを特徴とする、基板を処理するための方法。