"真空チャンバと、前記真空チャンバの内部に設けられて、放電電極面を有する放電電極と、前記真空チャンバの内部に設けられて、前記放電電極面との間に所定の電極面間隔を介して平行に対向する対向電極面を有する対向電極と、前記放電電極および前記対向電極の少なくとも一方を駆動して前記電極面間隔を変更する電極駆動手段と、前記電極面間隔を決定するとともに、前記真空チャンバ内の真空状態を維持しながら前記真空チャンバの外部から前記電極面間隔の設定を調整可能な電極面間隔調整手段と、を備えてなることを特徴とする真空処理装置。前記放電電極および前記対向電極は、その一方が固定電極とされ、他方が前記電極駆動手段に駆動される可動電極とされるとともに、前記電極面間隔調整手段は、前記固定電極または前記可動電極の一方の電極側に設けられて他方の電極に対して接近および離間する方向に移動可能であり、前記他方の電極を突き当てることにより前記電極面間隔を決定するストッパ部材と、前記真空チャンバの外部から前記ストッパ部材を前記他方の電極に対して接近および離間する方向に移動させるストッパ部材移動機構と、を備えて構成されていることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。前記放電電極および前記対向電極は、その一方が固定電極とされ、他方が前記電極駆動手段に駆動される可動電極とされるとともに、前記固定電極または前記可動電極の一方の電極の対向する面の背面側を覆い、他方の電極に対して接近および離間する方向に移動するカバー部材を有し、前記電極面間隔調整手段は、前記カバー部材と、該カバー部材に設けられて前記他方の電極を突き当てることにより前記電極面間隔を決定するストッパ部材と、前記カバー部材を前記ストッパ部材と共に前記他方の電極に対して接近および離間する方向に移動させるカバー部材移動手段と、を備えて構成されていることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。高周波電源により前記放電電極から前記対向電極に放電された電流を、前記対向電極から前記高周波電源のアース側に流す接点部材を有し、この接点部材は、前記ストッパ部材と共に前記一方の電極側に設けられて前記他方の電極側に対して接近および離間する方向に移動可能であり、且つ前記ストッパ部材の位置に拘わらず前記電極面間隔においては、前記他方の電極に圧接されるように設けられたことを特徴とする請求項2または3に記載の真空処理装置。前記可動電極の縁部に、前記可動電極の移動方向に沿う接触面を形成し、前記接点部材を前記ストッパ部材側に設け、この接点部材を前記接触面に圧接させたことを特徴とする請求項4に記載の真空処理装置。前記電極面間隔を前記真空チャンバの外部から測定可能な間隔測定手段を有することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の真空処理装置。前記間隔測定手段は、前記真空チャンバの外部に設けた基準点に第1のレーザ距離計と第2のレーザ距離計を設け、前記第1のレーザ距離計から前記放電電極に設けた第1の反射板に向けて直角にレーザ光を照射して前記第1のレーザ距離計から前記放電電極までの距離を計測するとともに、前記第2のレーザ距離計から前記対向電極に設けた第2の反射板に向けて直角にレーザ光を照射して前記第2のレーザ距離計から前記対向電極までの距離を計測し、前記第1のレーザ距離計から前記放電電極までの距離と、前記第2のレーザ距離計から前記対向電極までの距離を比較演算することによって前記電極面間隔を割り出すようにした構成であることを特徴とする請求項6に記載の真空処理装置。前記間隔測定手段は、前記真空チャンバの外部にレーザ光照射器を設置し、前記レーザ光照射器のレーザ光は、前記放電電極面と前記対向電極面の面方向に直交し、且つ前記電極面間隔よりも幅が広いシート状であって、前記放電電極面と前記対向電極面との間に照射され、前記放電電極面と前記対向電極面の間を通り抜けた前記レーザ光の幅を測定することによって前記電極面間隔を割り出すようにした構成であることを特徴とする請求項6に記載の真空処理装置。請求項1から8のいずれかに記載の真空処理装置を用いて、前記電極駆動手段により前記放電電極および前記対向電極の少なくとも一方を駆動して前記電極面間隔を変更するとともに、前記電極面間隔調整手段により前記真空チャンバ内の真空状態を維持しながら前記真空チャンバの外部から前記電極面間隔の設定を調整することを特徴とする真空処理装置の電極面間隔調整方法。しかしながら、特許文献1に開示されているものは、次のような点で上記要求を十分満たしているとはいえない。即ち、製膜処理を施す基板の大きさが1m四方を越える場合には、対向電極をサーボモータやステップモータで制御しながら放電電極に対して位置決めしても、各構成部材の熱膨張変形のために、対向電極の全面が放電電極に対して求める位置に精度高く停止することには限界がある。また、大型の真空処理装置においては、放電電極と対向電極との間隔の設定は、真空チャンバを開放した状態で行う必要があり、そのためには真空処理装置の稼動を停止させ、完全に冷却させた後で真空チャンバのメンテナンス扉等を開いて大気に開放しなければならない。このため、真空処理装置の稼働率が大きく低下することはもちろん、真空チャンバの内部が外気に晒された際に、空気中の水蒸気成分他が放電電極、対向電極を始めとする各部に付着し、これを放置して真空処理装置を再稼動させると製膜の品質に変動を来たす虞がある。このため、再稼動させる前に加熱状態で真空排気処理を行なって水分や付着物質を除去するベーキングと呼ばれる作業に長い時間を費やす必要があり、これによって更に真空処理装置の稼働率が低下するという問題があった。さらに、真空処理装置における製膜回数が増えていくと、放電電極および対向電極を始めとする製膜室内の各部品類に製膜成分が付着して堆積し、これによって放電電極と対向電極との間のプラズマ空間を形成させるための間隔が不均一に変化し、製膜品質および製膜性能に影響が生じる。しかし、上記のように真空チャンバを大気に開放すると、再稼動させるのに多大な手間と時間が掛かるため、放電電極と対向電極との間隔を一度設定して真空処理を開始し始めてしまうと、容易に放電電極と対向電極との間隔を変更することができない。したがって、性能歩留りの低下、メンテナンスインターバルが短い等の課題があった。本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、シンプルな構成により、放電電極と対向電極との間の電極面間隔を正確に設定でき、安定した製膜品質を得るとともに、製膜処理を施す基板の生産性を向上させることのできる真空処理装置およびその電極面間隔調整方法を提供することを目的とする。上記課題を解決するために、本発明は以下の手段を採用する。即ち、本発明に係る真空処理装置の第1の態様は、真空チャンバと、前記真空チャンバの内部に設けられて、放電電極面を有する放電電極と、前記真空チャンバの内部に設けられて、前記放電電極面との間に所定の電極面間隔を介して平行に対向する対向電極面を有する対向電極と、前記放電電極および前記対向電極の少なくとも一方を駆動して前記電極面間隔を変更する電極駆動手段と、前記電極面間隔を決定するとともに、前記真空チャンバ内の真空状態を維持しながら前記真空チャンバの外部から前記電極面間隔の設定を調整可能な電極面間隔調整手段と、を備えてなることを特徴とする。上記構成によれば、放電電極または対向電極の少なくとも一方が電極駆動手段に駆動されることにより、放電電極面と対向電極面との間の電極面間隔が変更される。この電極面間隔は、電極面間隔調整手段によって決定され、電極面間隔調整手段は、真空チャンバの外部から電極面間隔の設定を調整可能である。このため、例えば製膜処理を施す基板の大きさが1m四方を越えるような大型の真空処理装置である場合においても、この真空処理装置の放電電極の周辺を構成する各部材の一部が熱膨張変形等を起こして電極面間隔が変更されても、電極面間隔調整手段を調整することによって電極面間隔を正確に設定し、安定した製膜品質を得ることができる。しかも、電極面間隔調整手段は、真空チャンバの外部から電極面間隔の設定を調整可能であるため、電極面間隔の設定を調整する際に真空チャンバを開放する必要がない。したがって、真空処理装置の稼働を停止させたり、真空処理装置の内部が外気に晒されたことによる加熱処理を行ったりしなくてもよく、これによって真空処理装置の稼働率が低下することを防止し、製膜処理を施す基板の生産性を向上させることができる。また、本発明に係る真空処理装置の第2の態様は、前記第1の態様において、前記放電電極および前記対向電極は、その一方が固定電極とされ、他方が前記電極駆動手段に駆動される可動電極とされるとともに、前記電極面間隔調整手段は、前記固定電極または前記可動電極の一方の電極側に設けられて他方の電極に対して接近および離間する方向に移動可能であり、前記他方の電極を突き当てることにより前記電極面間隔を決定するストッパ部材と、前記真空チャンバの外部から前記ストッパ部材を前記他方の電極に対して接近および離間する方向に移動させるストッパ部材移動機構と、を備えて構成されていることを特徴とする。上記構成によれば、一方の電極側に設けられたストッパ部材が、ストッパ部材移動機構の作用により、他方の電極側に対して接近および離間する方向に移動する。このため、真空チャンバの外部からストッパ部材の位置、即ち一方の電極と他方の電極との間の電極面間隔を設定することができる。そして、ストッパ部材に他方の電極を突き当てて位置決めすることにより、一方の電極と他方の電極との間の電極面間隔を正確に設定して両電極間における放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。また、本発明に係る真空処理装置の第3の態様は、前記第1の態様において、前記放電電極および前記対向電極は、その一方が固定電極とされ、他方が前記電極駆動手段に駆動される可動電極とされるとともに、前記固定電極または前記可動電極の一方の電極の対向する面の背面側を覆い、他方の電極に対して接近および離間する方向に移動するカバー部材を有し、前記電極面間隔調整手段は、前記カバー部材と、該カバー部材に設けられて前記他方の電極を突き当てることにより前記電極面間隔を決定するストッパ部材と、前記カバー部材を前記ストッパ部材と共に前記他方の電極に対して接近および離間する方向に移動させるカバー部材移動手段と、を備えて構成されていることを特徴とする。上記構成によれば、製膜を行う真空処理装置に標準的に装備されるカバー部材を、そのままストッパ部材の取付部として活用することができるため、非常にシンプルな構成によって真空チャンバの外部からストッパ部材を可動できるようにし、このストッパ部材に他方の電極を突き当てて位置決めし、一方の電極と他方の電極との間の電極面間隔を正確に設定して放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。また、本発明に係る真空処理装置の第4の態様は、前記第2または第3の態様において、高周波電源により前記放電電極から前記対向電極に放電された電流を、前記対向電極から前記高周波電源のアース側に流す接点部材を有し、この接点部材は、前記ストッパ部材と共に前記一方の電極側に設けられて前記他方の電極側に対して接近および離間する方向に移動可能であり、且つ前記ストッパ部材の位置に拘わらず前記電極面間隔においては、前記他方の電極に圧接されるように設けられたことを特徴とする。上記構成によれば、ストッパ部材と共に一方の電極に設けられた接点部材が、常に他方の電極に圧接されるため、一方の電極と他方の電極との間の間隔に拘わらず、常に接点部材を他方の電極に確実に電気的に導通するよう接触させることができる。このため、放電された電流が接点部材を経由して確実にアース側に流れることができ、これにより電極間における放電を安定させて基板に対して安定した製膜処理を行い、製品品質を向上させて、生産性を高めることができる。また、本発明に係る真空処理装置の第5の態様は、前記第4の態様において、前記可動電極の縁部に、前記可動電極の移動方向に沿う接触面を形成し、前記接点部材を前記ストッパ部材側に設け、この接点部材を前記接触面に圧接させたことを特徴とする。上記構成によれば、固定電極と可動電極の相対位置に拘わらず、ストッパ部材側に設けられた接点部材が、可動電極側に設けられた接触面に常に一定の圧力で圧接されて電気的に導通するため、放電された電流が接点部材を経由して確実にアース電位側に還流することができ、これにより電極間における放電を安定させて基板に対して安定した製膜処理を行い、製品品質を向上させて、生産性を高めることができる。また、本発明に係る真空処理装置の第6の態様は、前記第1から第5のいずれかの態様において、前記電極面間隔を前記真空チャンバの外部から測定可能な間隔測定手段を有することを特徴とする。上記構成によれば、真空チャンバの外部から電極面間隔を測定可能になるため、電極面間隔を正確に把握して的確な設定を行い、両電極間における放電を安定させて良好な製膜品質を得ることができる。また、本発明に係る真空処理装置の第7の態様は、前記第6の態様において、前記間隔測定手段は、前記真空チャンバの外部に設けた基準点に第1のレーザ距離計と第2のレーザ距離計を設け、前記第1のレーザ距離計から前記放電電極に設けた第1の反射板に向けて直角にレーザ光を照射して前記第1のレーザ距離計から前記放電電極までの距離を計測するとともに、前記第2のレーザ距離計から前記対向電極に設けた第2の反射板に向けて直角にレーザ光を照射して前記第2のレーザ距離計から前記対向電極までの距離を計測し、前記第1のレーザ距離計から前記放電電極までの距離と、前記第2のレーザ距離計から前記対向電極までの距離を比較演算することによって前記電極面間隔を割り出すようにした構成であることを特徴とする。上記構成によれば、放電電極と対向電極との間の正確な電極面間隔を把握することができる。即ち、真空処理装置を構成する各部材が熱膨張変形したり、製膜の回数が増えていくうちに各構成部材に製膜成分が付着して堆積し、放電電極または対向電極の表面位置の寸法が変化し、放電電極と対向電極との間のプラズマ空間を形成させるための間隔が不均一に変化したりしても、常に放電電極面と対向電極面との間の実際の間隔を測定することができる。このため、電極面間隔を正確に設定して放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。また、本発明に係る真空処理装置の第8の態様は、前記第6の態様において、前記間隔測定手段は、前記真空チャンバの外部にレーザ光照射器を設置し、前記レーザ光照射器のレーザ光は、前記放電電極面と前記対向電極面の面方向に直交し、且つ前記電極面間隔よりも幅が広いシート状であって、前記放電電極面と前記対向電極面との間に照射され、前記放電電極面と前記対向電極面の間を通り抜けた前記レーザ光の幅を測定することによって前記電極面間隔を割り出すようにした構成であることを特徴とする。上記構成によれば、第7の態様と同じく、放電電極と対向電極との間の正確な電極面間隔を把握し、電極面間隔を正確に設定して放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。この第8の態様によれば、第7の態様に比べて簡素な構成にすることができる。また、本発明に係る真空処理装置の電極面間隔調整方法は、前記第1から第8のいずれかの態様の真空処理装置を用いて、前記電極駆動手段により前記放電電極および前記対向電極の少なくとも一方を駆動して前記電極面間隔を変更するとともに、前記電極面間隔調整手段により前記真空チャンバ内の真空状態を維持しながら前記真空チャンバの外部から前記電極面間隔の設定を調整することを特徴とする。この電極面間隔調整方法によれば、真空チャンバの外部から電極面間隔の設定を調整することができるため、電極面間隔の設定を調整する際に真空チャンバを開放する必要がない。したがって、真空処理装置の稼働を停止させたり、真空処理装置の内部が外気に晒されたことによる加熱処理を行ったりしなくてもよく、これによって真空処理装置の稼働率が低下することを防止し、製膜処理を施す基板の生産性を向上させることができる。以上のように、本発明に係る真空処理装置によれば、シンプルな構成により、放電電極と対向電極との間隔を正確に設定し、これにより基板に対して安定した放電処理を行い、製膜品質を高めるとともに、製膜処理を施す基板の生産性を向上させることができる。また、本発明に係る真空処理装置の電極面間隔調整方法によれば、真空処理装置の稼働を停止させずに電極面間隔の設定を調整可能にし、製膜処理を施す基板の生産性を向上させることができる。以下に、本発明の複数の実施形態について、図1~図7を参照しながら説明する。本実施形態においては、本発明を、一辺が1mを越える大面積な基板Sに対して、アモルファス太陽電池や微結晶太陽電池等に用いられる非晶質シリコン、微結晶シリコン等の結晶質シリコン、窒化シリコン等からなる膜の製膜処理をプラズマCVD法によって行うことが可能な、製膜装置真空処理装置に適用した場合について説明する。製膜装置の第1実施形態まず、本発明に係る製膜装置の第1実施形態を、図1と図2に基づいて説明する。図1は、製膜装置の概略構成を説明する模式的な斜視図であり、図2は図1に示す製膜装置の要部を示す縦断面図である。この製膜装置1は、開閉可能な箱状に構成された真空チャンバ2の内部に形成された製膜室3に、放電電極4と対向電極5とが互いに対向するように水平に設置された横型のものである。そして、放電電極4と対向電極5との間に基板Sが搬入され、後述する製膜工程において基板Sの一面に微結晶シリコン層等の薄膜が製膜形成される。図1において、X方向は製膜装置1の幅方向、Y方向は同じく奥行き方向、Z方向は高さ方向となっている。なお、基板Sを鉛直、もしくは急角度に保持して製膜処理を施す縦型のものとしてもよい。真空チャンバ2は真空容器であり、上面板7と底面板8とを有し、その周囲が側面板9によって囲まれている。図2にも示すように、上面板7の下面に固着されてX方向に離間して互いに平行に対向する一対の電極支持板11が設けられ、この電極支持板11の間に架設される形で放電電極4が支持されている。放電電極4は、例えばX方向に延在する複数の電極棒4a図1参照がY方向に平行に配列されることによって矩形に構成されている。放電電極4は、そのZ方向の位置が固定された固定電極であり、その下面が平坦な放電電極面4bとなっている。一方、対向電極5は、非磁性材料からなる導電性の板であり、放電電極4の外形寸法よりも一回り大きい矩形の平板形状を有し、放電電極4の下方に平行に配置されている。対向電極5の上面には基板Sを載置するための一段高い基板テーブル5aが形成され、この基板テーブル5aの上面が平坦な対向電極面5bとなっており、この対向電極面5bと、放電電極4の放電電極面4bとの間に所定の電極面間隔C図2参照が設定される。基板Sは、対向電極面5bの上に載置され、図示しない固定手段によって基板テーブル5aに固定される。対向電極5は、そのZ方向の位置を変更することのできる可動電極であり、電極駆動機構15電極駆動手段に駆動されてZ方向に移動し、これによって放電電極4との間の電極面間隔Cが変更される。電極駆動機構15は、例えば対向電極5の四隅を下方から支持する4本の支持ロッド16と、これらの支持ロッド16をZ方向に駆動するラックアンドピニオン機構17と、図示しないサーボモータ等により構成されているが、他の機構に置き換えてもよい。なお、支持ロッド16が真空チャンバ2の底面板8を貫通する部分にはOリング等を用いた真空シール部材18が設けられて真空チャンバ2内部の真空度が損なわれないようにされている。対向電極5の四隅を下方から支持する4本の支持ロッド16は、図示しないサーボモータを所定の制御量を駆動させることで、支持ロッド16をZ方向に所定距離駆動し、対向電極5のZ方向の位置を所定の位置へ移動させる。さらに、真空チャンバ2の上面板7と放電電極4との間に防着板21カバー部材が設けられている。この防着板21は、例えばX方向に延びる複数の防着板支持部材22を介して電極支持板11に固定され、電気的に真空チャンバ2の上面板7と導通されて、図示しない高周波電源のアース電位側へ接地されている。この防着板21が放電電極4を上方から覆うことにより、後述する製膜工程において、製膜を行うための材料ガスの流れが整流されるとともに、プラズマの広がる範囲が抑えられ、膜が形成される範囲が制限される。放電電極4を構成する各電極棒4aは、その両端部から電極支持部材24が延びており、この電極支持部材24が防着板21と電極支持板11とを貫通し、絶縁支持部品25を介して電極支持板11に対し絶縁された状態で固定されている。電極支持部材24の内部には、放電電極4に高周波電源非図示から高周波電力を供給するための同軸ケーブル非図示が配設されている。さらに、この製膜装置1には、電極面間隔調整装置28電極面間隔調整手段が設けられている。この電極面間隔調整装置28は、放電電極4の放電電極面4bと対向電極5の対向電極面5bとの間の電極面間隔Cを決定するとともに、この電極面間隔Cを真空チャンバ2の外部から調整できる機構であって、ストッパ部材29と、ストッパ部材移動機構30とを備えて構成されている。なお、図1には主要構造がわかり易くするためにストッパ部材29のみが示されていて他は省略してある。ストッパ部材29は、例えば固定電極である放電電極4側の電極支持板11付近の所定の部材に6箇所設けられており、可動電極である対向電極5を突き当てることにより確実に電極面間隔Cを決定する部材であり、メカニカルストッパの機能を有する。即ち、支持ロッド16を所定の距離だけ駆動して、対向電極5の位置を所定の位置へ移動させるにあたり、ストッパ部材29に接触した位置を原点となるように、駆動用サーボモータへ若干の溜り量駆動分を追加させることで、ストッパ部材29に押し付けて停止するように制御する。ストッパ部材29の材料としては、非磁性材料の金属製の部材でも良いが、対向電極5の周縁領域での電位分布への影響をより低減させるには、絶縁性材料の方が好ましい。例えば、耐電圧性が高くてフッ素ラジカルの腐食環境に耐久性のあるアルミナAl2O3を材料としたセラミック等が望ましいが、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化アルミニウムを材料とするセラミックで形成してもよい。また、プラズマ雰囲気への電位影響が少なくなるように小さいサイズを選定した金属製部材としてもよい。金属製とする場合は、非磁性材料が望ましく、ステンレス鋼例えば、SUS304あるいはセルフクリーニングを行う場合は耐フッ素ラジカル性からニッケル合金例えば、インコネル、アルミニウム、アルミニウム合金の使用が好ましい。さらに、耐熱性を持つポリイミド系等の樹脂を用いてもよい。図2に示すように、ストッパ部材移動機構30は、例えば電極支持板11の端面に設けられてZ方向に延びるガイドレール31と、このガイドレール31にガイドされながらZ方向に移動できるブロック状のストッパブラケット32とを備えており、ストッパブラケット32をZ方向に貫通する形でストッパ部材29が螺合されている。したがって、ストッパ部材29はストッパブラケット32と共にガイドレール31に沿ってZ方向対向電極5側に対して接近および離間する方向に移動可能である。また、ストッパ部材29は周囲にネジ構造があり、ストッパ部材29を捩ることによって、ストッパ部材29の位置をストッパブラケット32に対してZ方向に微調整することができる。このため、放電電極面4bと対向電極面5bが全面に亘って均一な電極面間距離Cを保てるように、ストッパ部材29の初期位置を適切な位置とすることが可能である。さらに、ストッパ部材移動機構30は、ストッパブラケット32に固定されてX方向に沿って放電電極4から離れる方向に延びる取付板33と、直進棒34と、サーボモータ35を備えている。直進棒34はZ方向に沿って延びており、その下端部が取付板33の上面にガタつきが無いように連結され、ここから上方に延びて真空チャンバ2の上面板7を貫通して外部に延出している。この外部に延出した部分にはラックギヤ36が形成され、上面板7の上面に取り付けられたサーボモータ35のピニオンギヤ37がラックギヤ36に噛合している。なお、直進棒34が真空チャンバ2の上面板7を貫通する部分にはOリング等を用いた真空シール部材38が設けられて真空チャンバ2内部の真空度が保たれる。サーボモータ35が作動すると、直進棒34がZ方向に進退し、同時に取付板33とストッパブラケット32とストッパ部材29がZ方向に移動する。このストッパ部材移動機構30は、ストッパ部材29の数に合わせて複数設けられており、各々のストッパ部材移動機構30を個別に制御可能になっている。なお、必要に応じて、これら複数のストッパ部材移動機構30を一斉に同期させて動作させてもよい。上記のようにストッパ部材29をZ方向に移動させることにより、対向電極5が放電電極4に近付くことができる位置、つまり電極面間隔Cが決定される。そして、この電極面間隔Cは、電極面間隔調整装置28にストッパ部材29の位置をZ方向に移動させることによって、真空チャンバ2の外部から調整可能である。このように真空チャンバ2の外部から電極面間隔Cを調整する時には、第4実施形態の次に説明する間隔測定装置間隔測定手段により、真空チャンバ2の外部から電極面間隔Cを測定しながら間隔調整を行う。ところで、製膜装置1には、放電電極4から対向電極5に放電された電流を、対向電極5から高周波電力のアース接地電位側に流す接点機構41が設けられている。この接点機構41は、2つの接点部材42,43を有している。接点部材42,43は、例えばベリリウム銅合金等からなる板金材料を湾曲させて、その弾性を利用して接地側部材に圧接させる円弧状板バネ接触子である。その支持構造としては、まず、放電電極4に対して絶縁され、且つアース電位側に電気的に接地されている防着板21に、高さ調整支持機構45を介して水平板状の接点部材保持板46が設けられている。そして、この接点部材保持板46の下面に接点部材42が下方に凸となるように固定されて電気的に接続して導通され、この接点部材42が対向電極5に圧接されている。また、放電電極4の絶縁支持部品25の下部には接地プレート48が設けられ、この接地プレート48が、放電電極4に高周波電力を供給するための同軸ケーブル非図示のアースシールドアース接地に電気的に接続して導通されている。そして、接地プレート48の下面に接点部材43が下方に凸となるように固定されて電気的に接続して導通され、この接点部材43が接点部材保持板46の上面に圧接されている。このため、放電電極4から対向電極5に放電された電流が、対向電極5→接点部材42→接点部材保持板46→接点部材43→接地プレート48→同軸ケーブルのアースシールドの順に流れてアース側に還流される。放電電極4と対向電極5との間の電極面間隔Cを変更する時において、接点部材42,43の接触圧力が不均等にならないように、初期調整段階で高さ調整支持機構45を操作して接点部材保持板46の高さを調整し、接点部材42,43の接触圧力が均等になるようにする。以上のように構成された製膜装置1を用いて、基板Sに製膜処理を施す製膜工程を実施する。真空チャンバ2には基板Sを真空雰囲気下で待機できるロード室非図示などがゲート弁などによる基板搬入部分非図示を介して連結されている。製膜工程を実施される場合には、真空チャンバ2に設けたゲート弁などによる基板搬入部分非図示を開放し、電極駆動機構15を動作させて対向電極5を下降させ、放電電極面4bと対向電極面5bとの間に充分な間隔を形成した後に、対向電極5の基板テーブル5a上に基板Sを載置する。そして、然るべく固定手段非図示により基板Sを基板テーブル5aに固定した後、電極駆動機構15を動作させて対向電極5がストッパ部材29に突き当たるまで対向電極5を上昇させる。ストッパ部材29の位置は、基板Sの諸元および製膜の種類等、諸々の条件に応じて予め目標値付近に設定しておく。そして、真空チャンバ2に設けたゲート弁などによる基板搬入部分非図示を閉じる。次に、真空ポンプ等により、真空チャンバ2の内部を所定の真空度、例えば、10-6Paまで真空排気する。そして、図示しない原料ガス供給部より、真空チャンバ2内に所定の原料ガス、例えばSiH4H2を供給する。この真空引きおよび原料ガスの供給に前後して、図示しない間隔測定装置により真空チャンバ2の外部から電極面間隔Cを測定し、電極面間隔Cが目標値から乖離するようであれば、電極面間隔調整装置28によって電極面間隔Cを調整する。この調整は真空チャンバ2を開放することなく、真空チャンバ2の真空度を維持したままで外部から行うことができる。次に、放電電極4に所定の高周波電力を供給する。これにより、放電電極4と対向電極5との間で放電が起こると同時に、両電極4,5間に原料ガスであるSiH4H2のプラズマが発生し、基板S上にシリコン薄膜が製膜される。この時、放電電極4と対向電極5は、その各々の内部に設けられた図示しない熱媒体流通管に熱媒体が流通されることで温度変化を抑制しながら所定の適温となるように制御される。なお、放電電極4を覆うように設けられた防着板21により、製膜成分が真空チャンバ2の内部の不必要な部分に付着することが防止される。そして、所定の時間に亘ってプラズマ放電が行われ、基板Sへの製膜処理が完了したら、真空チャンバ2の内部を所定の真空度、例えば、10-6Paまで真空排気する。真空チャンバ2に設けたゲート弁などによる基板搬入部分非図示を開放し、電極駆動機構15を動作させて対向電極5を下降させ、基板Sを真空チャンバ2の外部に搬出する。この製膜装置1によれば、対向電極5が電極駆動機構15に駆動されることにより、放電電極面4bと対向電極面5bとの間の電極面間隔Cが変更される。この電極面間隔Cの大きさは、電極面間隔調整装置28によって真空チャンバ2の外部から調整可能である。このため、例えば製膜装置1が1m四方を越す大きな基板Sを収容できる大型のものであり、しかもこの製膜装置1を構成する各部材の一部が熱膨張変形等を起こして電極面間隔Cが変更されたような場合であっても、電極面間隔調整装置28を調整することによって電極面間隔Cを常に目標値に正確に設定し、安定した製膜品質を得ることができる。しかも、このように電極面間隔調整装置28が真空チャンバ2の外部から電極面間隔Cを調整できる構造であるため、電極面間隔Cの設定を調整する際に真空チャンバ2を大気状態に開放する必要がない。したがって、製膜装置1の稼働を長時間停止させたり、製膜装置1の内部が外気中の水分に晒されたことによる加熱処理を行ったりしなくてもよく、これによって製膜装置1の稼働率が低下することを防止し、製膜処理を施す基板Sの生産性を飛躍的に向上させることができる。製膜装置の第2実施形態次に、本発明に係る製膜装置の第2実施形態を、図3に基づいて説明する。図3は、本発明の第2実施形態に係る製膜装置51の要部を示す縦断面図である。この製膜装置51は、その接点機構52以外の構成については、第1実施形態の製膜装置1と同一であるため、同一構成を有する各部には同一符号を付して説明を省略する。接点機構52は、2つの接点部材42,43を有している。これらの接点部材42,43の材質や形状等は第1実施形態の場合と同様である。また、接点部材42が取り付けられる接点部材保持板46も第1実施形態と同様である。接点機構52は、さらにストッパ部材移動機構30のストッパブラケット32に固定されてX方向に沿って放電電極4に近付く方向に延びる接点支持板53と、この接点支持板53の自由端部を、例えば防着板21に対してZ方向にスライド自在に支持するスライドガイド機構54とを備えており、スライドガイド機構54の下端部に接点部材保持板46が固定されている。そして、接点部材保持板46の下面に接点部材42が下方に凸となるように固定されて電気的に接続して導通され、この接点部材42が対向電極5に圧接されている。また、放電電極4の絶縁支持部品25の下部に接地プレート48が設けられ、この接地プレート48が図示しない同軸ケーブルのアースシールドに電気的に接続され、接地プレート48の下面に接点部材43が下方に凸となるように固定されて電気的に接続して導通されている点は第1実施形態と同様であり、接点部材43が接点部材保持板46の上面に圧接されている。このため、放電電極4から対向電極5に放電された電流が、対向電極5→接点部材42→接点部材保持板46→接点部材43→接地プレート48→同軸ケーブルのアースシールドの順に流れて高周波電源のアース電位側に還流される。この接点機構52において、接点部材42は、ストッパ部材29と共に放電電極4側に設けられて対向電極5側に対して接近および離間する方向Z方向に移動可能であり、ストッパ部材29の位置に拘わらず、対向電極5に対して一定の距離にある。このため、電極面間隔調整装置28によってストッパ部材29の位置がZ方向に移動しても、ストッパ部材29に追従して接点部材保持板46も移動し、これによって接点部材42が常に一定の圧力で対向電極5に圧接される。このように、接点部材42がストッパ部材29の上下動に追従して移動し、対向電極5に対する相対間隔が変化しないため、放電電極4と対向電極5との間の間隔電極面間隔Cに拘わらず、常に接点部材42を対向電極5に確実に接触させて電気的に導通させることができる。このため、放電された電流が接点部材42を経由して確実にアース電位側に流れることができる。したがって、放電電極4と対向電極5との間における放電を安定させて基板Sに対して安定した製膜処理を行い、製品品質を向上させて、生産性を高めることができる。しかも、接点部材42の伸縮量が小さくなるので接点部材42を小型化することができ、コストダウンを図ることができる。また、接点部材42の伸縮量を第1実施形態と同様なものにすれば、ストッパ部材29の可動範囲を広げることができ、電極面間隔Cの選択可能範囲が広くなり好ましい。製膜装置の第3実施形態次に、本発明に係る製膜装置の第3実施形態を、図4に基づいて説明する。図4は、本発明の第3実施形態に係る製膜装置61の要部を示す縦断面図である。この製膜装置61は、その防着板21カバー部材の支持構造と、電極面間隔調整装置62電極面間隔調整手段以外の構成については、第1実施形態の製膜装置1と同一であるため、同一構成を有する各部には同一符号を付して説明を省略する。この製膜装置61における防着板21は、第1実施形態の製膜装置1と同様に、固定電極である放電電極4を覆うように設けられ、電気的に高周波電源のアース電位に接地されているが、第1実施形態と異なり、防着板21は対向電極5に対して接近および離間する方向Z方向に移動することができる。即ち、防着板21は複数の防着板支持部材22とスライド保持機構63を介し、電極支持板11に対してZ方向にスライド自在に保持されている。電極面間隔調整装置62は、第1実施形態の場合と同じく、放電電極4の放電電極面4bと対向電極5の対向電極面5bとの間の電極面間隔Cを決定するとともに、この電極面間隔Cを真空チャンバ2の外部から調整できる機構である。電極面間隔調整装置62は、防着板21と、防着板21に設けられたストッパ部材64と、防着板21をストッパ部材64と共にZ方向に移動させる防着板移動機構65カバー部材移動手段とを備えて構成されている。ストッパ部材64は、防着板21に設けられた、例えばブロック状のストッパブラケット66をZ方向に貫通する形で螺合されており、防着板21と共にZ方向に移動可能である。また、ストッパ部材64を捩ることによって、ストッパ部材64の位置を防着板21に対してZ方向に微調整することができる。このストッパ部材64に、Z方向に可動する対向電極5が突き当たることにより、電極面間隔Cが決定される。一方、防着板移動機構65は、直進棒67と、サーボモータ68を備えている。直進棒67はZ方向に沿って延びており、その下端部が防着板21の上面にガタが無いように連結され、ここから上方に延びて真空チャンバ2の上面板7を貫通して外部に延出している。この外部に延出した部分にはラックギヤ69が形成され、上面板7の上面に取り付けられたサーボモータ68のピニオンギヤ70がラックギヤ69に噛合している。なお、直進棒67が真空チャンバ2の上面板7を貫通する部分にはOリング等を用いた真空シール部材71が設けられて真空チャンバ2内部の真空度が保たれる。サーボモータ68が作動すると、直進棒67がZ方向に進退し、同時に防着板21とストッパブラケット66とストッパ部材64がZ方向に移動する。ストッパ部材64がZ方向に移動することによって電極面間隔Cが調整される点は第1実施形態と同様である。防着板移動機構65は、ストッパ部材64の数に合わせて複数設けられており、各々の防着板移動機構65を個別に制御可能になっている。なお、必要に応じて、これら複数の防着板移動機構65を一斉に同期させて動作させてもよい。この第3実施形態の製膜装置61によれば、プラズマ処理により製膜を行う製膜装置に標準的に装備されるカバー部材である防着板21を、そのままストッパ部材64の取付部として活用することができる。このため、非常にシンプルな構成によって真空チャンバ2の外部からストッパ部材64を可動できるようにし、このストッパ部材64に対向電極5を突き当てて位置決めし、放電電極4と対向電極5との間の電極面間隔Cを正確に設定して放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。製膜装置の第4実施形態次に、本発明に係る製膜装置の第4実施形態を、図5に基づいて説明する。図5は、本発明の第4実施形態に係る製膜装置81の要部を示す縦断面図である。この製膜装置81は、その接点機構82以外の構成については、第3実施形態の製膜装置61図4参照と同一であるため、同一構成を有する各部には同一符号を付して説明を省略する。接点機構82は、第1実施形態の製膜装置1と同様な2つの接点部材42,43を有している。その支持構造としては、まず、放電電極4に対して絶縁され、且つ電気的に接地されている防着板21に、高さ調整支持機構45を介して接点部材保持板85が設けられている。この接点部材保持板85は、図2中に示す通り略L字形をなし、対向電極5に平行する水平板部85aと、この水平板部85aの自由端から鉛直下に延びる垂直板部85bとを有している。そして、この垂直板部85bの内側面に接点部材42が対向電極5に向って凸となるように固定されて電気的に接続されて導通している。一方、対向電極5の縁部には、対向電極5の移動方向Z方向に沿う接触面5cが形成されており、この接触面5cに接点部材42が圧接されている。また、放電電極4の絶縁支持部品25の下部に接地プレート48が設けられ、この接地プレート48が、放電電極4に電力を供給するための同軸ケーブルのアースシールド非図示に電気的に接続されている。そして、接地プレート48の下面に接点部材43が下方に凸となるように固定されて電気的に接続され、この接点部材43が接点部材保持板85の水平板部85aの上面に圧接されている。このため、放電電極4から対向電極5に放電された電流が、対向電極5接触面5c→接点部材42→接点部材保持板85→接点部材43→接地プレート48→同軸ケーブルのアースシールドの順に流れて高周波電源のアース電位側に還流される。対向電極5の高さが変更される場合、または防着板21およびストッパ部材64の高さが変更される場合には、対向電極5と接点部材保持板85との間の相対位置がZ方向に変化するが、対向電極5の接触面5cと接点部材保持板85の垂直板部85bとの間の距離は変化しない。このため、接点部材42が接触面5cに圧接される圧力は一定であり、接点部材42の変形量が変化することもない。この第4実施形態の製膜装置81によれば、放電電極4と対向電極5の相対位置に拘わらず、固定電極である放電電極4側に設けられた接点部材42が、可動電極である対向電極5側に設けられた接触面5cに常に一定の圧力で圧接される。このため、放電電極4から対向電極5に放電された電流が接点部材42を経由して確実にアース側に還流することができる。したがって、放電電極4と対向電極5の間における放電を安定させ、基板Sに対して安定した製膜処理を行い、製品品質を向上させるとともに生産性を高めることができる。また、接点部材42を、大きな変形量を必要としない廉価版にしてコストダウンを図ることができる。また、ストッパ部材64の可動範囲を広げることができ、電極面間隔Cの選択可能範囲が広くなり好ましい。ところで、上記第1~第4実施形態における製膜装置1,51,61,81は、前述したように、真空チャンバ2の外部から電極面間隔Cを測定することができる間隔測定装置間隔測定手段を備えている。この間隔測定装置の2つの実施形態について、以下に説明する。間隔測定装置の第1実施形態図6は、間隔測定装置の第1実施形態を示す縦断面図である。この間隔測定装置91は次のように構成されている。まず、真空チャンバ2の外部上方に基準点92が設けられる。この基準点92は、固定電極である放電電極4に対して不動であることが望ましい。基準点92には第1のレーザ距離計93と第2のレーザ距離計94が設けられている。第1のレーザ距離計93は、真空チャンバ2の上面板7に設けられた第1の透過窓96を経て、放電電極4の上面に設けられた第1の反射板97に向かって直角にレーザ光L1を照射し、第1の反射板97で反射されたレーザ光L2を捕捉することによって、第1のレーザ距離計93から放電電極4までの距離D1を計測する。この距離データはCPU98等の制御手段に入力される。また、第2のレーザ距離計94は、真空チャンバ2の上面板7に設けられた第2の透過窓99を経て、対向電極5の上面に設けられた第2の反射板101に向かって直角にレーザ光L3を照射し、第2の反射板101で反射されたレーザ光L4を捕捉することによって、第2のレーザ距離計94から対向電極5までの距離D2を計測する。この距離データもCPU98に入力される。そして、CPU98により、第1のレーザ距離計93から放電電極4までの距離D1と、第2のレーザ距離計94から対向電極5までの距離D2とが比較演算され、放電電極4の放電電極面4bと対向電極5の対向電極面5bとの間の距離、即ち電極面間隔Cが割り出されて表示される。上記のように構成された間隔測定装置91によれば、真空チャンバ2の外部から電極面間隔Cを測定できるため、製膜装置の熱膨張等に起因する寸法変化に影響されることなく、実際の電極面間隔Cを正確に把握することができる。したがって、電極面間隔Cが目標値に対して乖離している場合には、前記実施形態の電極面間隔調整装置28,62を操作することにより、電極面間隔Cを正確に設定することができる。このため、放電電極4と対向電極5との間における放電を安定させ、基板Sに対して良好な製膜品質を付与することができる。また、放電電極4と対向電極5との間の正確な電極面間隔Cをリアルタイムで把握することができるため、製膜装置を構成する各部材が熱膨張変形しても、常に放電電極面4bと対向電極面5bとの間の実際の間隔を測定することができる。このため、電極面間隔Cを正確に設定して放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。なお、CPU98と電極面間隔調整装置28,62を連動させて、電極面間隔Cが目標値に対して乖離している場合には自動的に補正するように制御してもよい。間隔測定装置の第2実施形態図7は、間隔測定装置の第2実施形態を示す縦断面図である。間隔測定装置105は次のように構成されている。まず、真空チャンバ2の外部側方にレーザ光照射器106が設置されている。また、真空チャンバ2の一方の側面板9に第1の透過窓107が設けられ、他方の側面板9に第2の透過窓108が設けられている。さらに、レーザ光照射器106と第1の透過窓107との間に一対の円筒レンズ111,112が対向して設置され、第2の透過窓108の外部にレーザ光投影板113が設置されている。レーザ光照射器106から照射されたレーザ光L5は、円筒レンズ111,112を通過することによって、放電電極面4bと対向電極面5bの面方向に直交し、電極面間隔Cよりも幅が広いシート状に変換されるようになっている。そして、この縦方向のシート状に変換されたレーザ光L5が放電電極面4bと対向電極面5bの間を通過して、レーザ光投影板113に投影された幅を測定することにより、放電電極4の放電電極面4bと対向電極5の対向電極面5bとの間の正確な電極面間隔Cを割り出すことができる。上記のように構成された間隔測定装置105によれば、放電電極4と対向電極5との間の電極面間隔Cを正確に把握し、これに基づいて電極面間隔Cを目標値に整合させ、放電を安定させて良好な製膜品質を得ることができる。しかも、放電電極面4bと対向電極面5bに付着した製膜成分が厚くなった場合に、それを検出することができる。なお、この間隔測定装置105は、第1実施形態の間隔測定装置91に比べて簡素な構成にすることができる。ところで、上記の間隔測定装置105では、一条のレーザ光L5のみによって電極面間隔Cを測定しているが、より多くのレーザ光を放電電極4と対向電極5との間に照射してもよい。その場合には、複数のレーザ光を平行に照射する、もしくは交差させて照射する、あるいは斜めに照射する、といった照射方法を採ることによって、放電電極4や対向電極5の機械的な歪み等を検知することもできる。なお、本発明は上記の各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において適宜変更することができる。例えば、製膜装置の構成は、第1~第4の構成を組み合わせる等してもよい。また、上記各実施形態では、放電電極4が固定電極、対向電極5が可動電極とされているが、この関係は逆であってもよい。さらに、上記各実施形態では、電極面間隔調整装置28,62電極面間隔調整が、固定電極放電電極4側に設けられているが、可動電極対向電極5側に設けてもよい。"