"以下の工程:a式I:X1X2の化合物と式II:CF3CH=CH2の化合物とを反応させて式III:CF3CHX1CH2X2の化合物を含む反応生成物を生産すること[式中、X1及びX2はそれぞれ、X1及びX2は双方が水素ではないという条件で、水素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から独立に選択される];b式IIIのX2がフッ素でない場合、式IIIの化合物をフッ素化して式III[ここで、X1は上記の通りであり、X2はフッ素である]の化合物を含む反応生成物を生産すること;及び、c前記式IIIの化合物を1,3,3,3-テトラフルオロプロペンに変換するのに効果的な反応条件に式IIIの化合物をさらすこと;を含む、1,3,3,3-テトラフルオロプロペンの合成方法。式IのX1及びX2が、それぞれ、F、Cl、Br及びIから選択され、そしてX1及びX2が同一ではない、請求項1に記載の方法。前記反応工程aが、触媒の存在下、約0°C乃至約250°Cの温度で、前記式Iの化合物と前記式IIの化合物を反応させることを含む、請求項2に記載の方法。前記触媒が6属金属の酸化物を含む、請求項3に記載の方法。前記触媒がV2O5を含む、請求項4に記載の方法。前記式Iの化合物がClFで構成される、請求項2に記載の方法。式IのX1及びX2がそれぞれ同一であって、F、Cl、Br及びIから選択される、請求項1に記載の方法。反応工程aが、前記式Iの化合物と前記式IIの化合物を、溶媒の存在下、約-10°C乃至約10°Cの温度で反応させることを含む、請求項7に記載の方法。前記反応工程aと前記反応工程bが実質的に同時に起こる、請求項1に記載の方法。前記さらす工程が、式IIIの化合物を脱ハロゲン化水素することを含む、請求項1に記載の方法。式IのX1及びX2がそれぞれ同一であって、F、Cl、Br及びIから選択される、請求項10に記載の方法。前記脱ハロゲン化水素する工程が反応することを含む、請求項11に記載の方法。以下の工程:a塩素と式I:CH3CH=CH2の化合物とを反応させて式II:CCl3CHClCH2Clの化合物を含む反応生成物を生産すること;b式IIの化合物をフッ素化して式III:CF3CHClCH2Fの化合物を含む反応生成物を生産すること;及び、c前記式IIIの化合物を1,3,3,3-テトラフルオロプロペンに変換するのに効果的な反応条件に式III化合物をさらすこと;を含む、1,3,3,3-テトラフルオロプロペンの合成方法。前記さらす工程が、前記式IIIの化合物を反応器中で鉄-ベースの触媒にさらすことを含む、請求項13に記載の方法。前記さらす工程が、前記式IIIの化合物を鉄塩を含む反応器に導入することを含む、請求項13に記載の方法。前記反応工程aが、前記塩素と前記式Iの化合物をUV照射にさらすことを含む、請求項13に記載の方法。前記工程aの反応が、約0°C乃至約300°Cの温度で行なわれる、請求項16に記載の方法。前記反応工程aが液相反応である、請求項16に記載の方法。前記反応工程aが、塩素と前記式Iの化合物を、Au、及びTiの酸化物を含む触媒の存在下で反応させることを含む、請求項18に記載の方法。前記反応工程aが液相反応であり、そしてCCl4がその液相反応のための溶媒である、請求項16に記載の方法。以下の工程:a一種以上の式I:X1X2の化合物と式II:CF3CH=CH2の化合物とを反応させて式III:CF3CHX1CH2X2の化合物を含む反応生成物を生産すること[式中、X1及びX2は双方が水素ではなく、式IIIのX1がフッ素で、そして式IIIのX2がフッ素以外のハロゲンである、という条件で、X1及びX2はそれぞれ、水素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から独立に選択される];及びb前記式IIIの化合物を2,3,3,3-テトラフルオロプロペンに変換するのに効果的な反応条件に式IIIの化合物をさらすこと;を含む、2,3,3,3-テトラフルオロプロペンHFO-1234yfの合成方法。前記さらす工程bが脱ハロゲン化水素を含む、請求項21に記載の方法。以下の工程:aIFと式II:CF3CH=CH2の化合物とを反応させてCF3CHFCH2Iを含む反応生成物を生産すること;及びbCF3CHFCH2Iを2,3,3,3-テトラフルオロプロペンに変換するのに効果的な反応条件にCF3CHFCH2Iをさらすこと;を含む、2,3,3,3-テトラフルオロプロペンHFO-1234yfの合成方法。前記さらす工程bが脱ヨウ化水素を含む、請求項23に記載の方法。本発明者らは、少なくとも上記の先行技術の欠点を克服する、1,3,3,3-テトラフルオロプロペンの合成のための方法を発見した。本発明の一つの態様における方法は、概して、a式I:X1X2の化合物と式II:CF3CH=CH2の化合物とを反応させて式III:CX23CHX1CH2X2の化合物を含む反応生成物を生産すること[式中、X1及びX2はそれぞれ、X1及びX2は双方が水素ではないという条件で、水素、塩素、臭素、フッ素及びヨウ素からなる群から独立に選択される];b式IIIのX2がフッ素でない場合、式IIIの化合物をフッ素化して式III:CX23CHX1CH2X2[式中、X1は上記の通りであり、X2はフッ素である]の化合物を含む反応生成物を生産すること;及び、c前記式IIIの化合物を1,3,3,3-テトラフルオロプロペンに変換するのに効果的な反応条件にその化合物をさらすこと;を含む。限定する意図ではなく便宜目的で、この態様の方法を、本明細書においてハロゲン化水素付加方法ということがある。本発明の別の態様における方法は、概して、a塩素と式I:CH3CH=CH2の化合物とを反応させて式II:CCl3CHClCH2Clの化合物を含む反応生成物を生産すること;b式IIの化合物をフッ素化して式III:CF3CHClCH2Fの化合物を含む反応生成物を生産すること;及び、c前記式IIIの化合物を1,3,3,3-テトラフルオロプロペンに変換するのに効果的な反応条件に式IIIの化合物をさらすこと;を含む。第一工程がこの態様の方法の好ましい形態にあるので、限定する意図ではなく便宜目的で、この態様の方法を、本明細書において塩素化方法ということがある。従って、本発明は、簡単に入手可能でそして相対的に安価な出発材料から、スケールアップの容易な、CF3CH=CFHの生産のための方法に向けられたものである。本発明は、1,3,3,3-テトラフルオロ-2-プロペン:CF3CH=CHFHFC-1234zeのシス-及びトランス-の両方の異性体の生産のための方法に関するものである。限定する意図ではなく便宜目的で、ハロゲン化水素付加方法と塩素化方法とを、以下で別々に記述する。ハロゲン化水素付加方法式Iの化合物と式IIの化合物とを反応させる工程は、本明細書に含まれる教示に従って、非常に多くの具体的プロセス条件および工程に従うものであり、そしてそのような変法の総てが本発明の広い範囲に含まれる。例えば、その反応工程は、液相または気相の付加反応を含むことができ、そして、それらは、一般に、触媒される反応が好ましいが、触媒されても触媒されなくてもよい。式IのX1及びX2がそれぞれ、X1及びX2が同一ではないという条件で、F、Cl、Br及びIから選択される例えばその化合物がClFである態様について、その反応工程は、好ましくは、約0°C乃至約100°Cの温度で、触媒、好ましくは6属金属の酸化物、例えばV2O5、の存在下に反応物質をさらすことを含むことが好ましい。式IのX1及びX2が同一であって、F、Cl、Br及びIから選択される例えばその化合物がBr2である態様について、その反応工程aは、好ましくは、約-10°C乃至約50°Cの温度で、溶媒の存在下に反応物質をさらすことを含むことが好ましい。例えば酢酸、四塩化炭素、クロロホルム及びジクロロメタン等、広範な溶媒を使用することができる。反応工程aがX2がフッ素でない式IIIの化合物を生じる態様式IIがBr2である場合が相当するであろうでは、得られた化合物についてフッ素化が行なわれる。フッ素化条件の多くの変法が本発明の目的に対して効果的であることが考えられ、そしてそのような条件は総て、本発明の広い範囲に含まれる。一般に気相フッ素化が好ましいが、フッ素化を気相または液相で行なうことを考えることができる。気相フッ素化について、概して、HF、好ましくは無水HFガスの存在下、約250°C乃至約500°Cの温度で、触媒的気相フッ素化、好ましくはCr-酸化物Cr2O3に触媒される気相フッ素化を利用することが好ましい。ある好ましい態様において、フッ素化反応のためにフロー反応器が用いられる。フッ素化反応は、一般に、CF3CHX1CH2F式中、X1は好ましくはFではないを含む反応生成物を生じる。非常に好ましい態様において、フッ素化反応は工程aの反応と実質的に同時に起こる。例えば、フッ化水素の存在下で、そしてZhuranlOrganicheskoiKhimii2864280本文献は参照として本明細書に援用されるに開示されているような適切な条件で、工程aの反応を実施するような場合である。本明細書で具体的に開示された好ましい条件以外に、本明細書に含まれている教示を基に、反応工程aへの良好な結果を伴って、多様な反応条件を利用することができるということが考えられる。反応工程aの後、または存在する場合にはフッ素化工程bの後、本発明は、式IIIの化合物:CF3CHX1CH2Fを1,3,3,3-テトラフルオロプロペンを含む反応生成物を生産するのに効果的な反応条件にさらすことを必要とする。好ましい態様において、このさらす工程は、気相及び/または液相で式IIIの化合物を脱ハロゲン化水素することを含む。本明細書に含まれる教示に従って、良好な結果を伴って、多くの脱ハロゲン化水素工程が利用できることが考えられ、ある態様では、脱ハロゲン化水素工程は、式IIIの化合物を1,3,3,3-テトラフルオロプロペンに変換するのに十分な時間、相対的に高い温度で式IIIの化合物を触媒と接触させることを含む。脱臭化水素については、一般に、式IIIの化合物を触媒の存在下、KOH水溶液中で反応させることが好ましい。ある脱ハロゲン化水素反応は、式IIIの化合物を含むストリームを触媒、好ましくは鉄-ベース触媒、より好ましくはFeCl3、の触媒床を含み、約200°C乃至約400°Cの温度に維持された反応器に導入し、そしてその条件で約2秒乃至約30秒の接触時間を作り出すことを含む。好ましくは、反応圧は約0psig乃至約200psigに維持される。このさらす工程は、また、米国特許6,548,719B1の教示に従って行なうことができるこの米国特許は本発明の譲受人に譲渡されており、そして参照として本明細書に援用される。適切な触媒及び高い温度を用いた気相脱ハロゲン化フッ素は、また、米国特許5,986,151この米国特許は参照として本明細書に援用されるに開示されている手順に従って行なうことができる。このさらす工程は、好ましくは、1,3,3,3-テトラフルオロプロペンを含む反応生成物ストリーム、より好ましくは1,3,3,3-テトラフルオロプロペンの大部分を含む反応生成物ストリーム、さらに好ましくは少なくとも約45の1,3,3,3-テトラフルオロプロペンを含む反応生成物ストリーム、を生じる。このさらす工程において、化合物IIIの量に基づいた1,3,3,3-テトラフルオロプロペン収率は、好ましくは、少なくとも約60molである。反応生成物ストリームに含まれる副生成物は、周知の手段蒸留等によって望みの程度まで除くことができる。本発明の一つの特定の態様は、以下のスキーム1に示される反応工程を含む。スキーム1本発明者らは、上記スキーム1で示される本発明の態様は、ある場合、副生成物として式:CF3CHFCH2X1式中、X1はフッ素以外のハロゲンであるの化合物を生じることに気付き、そして、ある好ましい態様では、本発明の所望のフルオロオレフィン、すなわちCF3CF=CH2HFO-1234yfを生じるように、その化合物を、好ましくは脱ハロゲン化水素によって、反応させるさらなる工程を実施することが好ましいであろう。例えば、上記のスキームにおいて、ある態様での最初の反応はCF3CHFCH2Brの生産をもたらすことがあり、そしてそれは脱臭化水素されてHFO-12324yfを生じることができる。本発明の別の特定の態様は、以下のスキーム2に示すように、二重結合へのIFの付加、及び引き続いての脱ハロゲン化によってCF3CH=CFHを与えることを含む。スキーム2スキーム1に関して上述したことと同様に、発明者らは、上記スキーム2で示される本発明の態様は、ある場合、副生成物として式:CF3CHFCH2Iの化合物を生じることに気付き、そして、ある好ましい態様では、本発明の所望のフルオロオレフィン、すなわちCF3CF=CH2HFO-1234yfを生じるように、その化合物を、好ましくは脱ヨウ化水素によって、反応させるさらなる工程を実施することが好ましいであろう。塩素化方法この態様に従う反応工程aは、広い意味での塩素化工程である。そしてこの塩素化工程は、本明細書に含まれる教示に従って非常に多くの具体的なプロセス条件及び工程に従うものであり、そしてそのような変法の総てが本発明の広い範囲に含まれる。しかしながら、反応工程aは光塩素化を含むことが特に好ましい。そのため、好ましい反応工程aは、反応物質を、好ましくは液相で、塩素化触媒、好ましくはAu/TiO2触媒、の存在下、ニートneatで、紫外線照射、好ましくは約200乃至400nmの範囲の紫外線照射、にさらすことを含む。反応は、好ましくは、溶媒中で、より好ましくは、CCl4等の塩素化溶媒中で、行なわれる。反応は、好ましくは約0°C乃至約300°Cの温度で実施され、より好ましくは、約0°C乃至約300°Cで約0.5時間乃至約70時間、好ましくは約0.5時間乃至約48時間、の時間で行なわれる。不要な副生成物を除きそして式IIの化合物が相対的に高濃度であるストリームを生産するために、式IIの化合物を含む反応生成物について、一つ以上の分離工程蒸留等を随意に行なうことができる。随意の分離工程の後、反応工程aからの式IIの化合物に対してフッ素化が行なわれる。本発明の目的のために、多様なフッ素化条件が効果的であることが考えられ、そして、そのような条件は総て本発明の広い範囲に含まれる。一般に気相フッ素化が好ましいが、フッ素化を気相または液相で行なうことができると考えられる。気相フッ素化については、概して、HF存在下、好ましくは無水HFガス存在下、約250°C乃至約500°C、好ましくは約250°C乃至約400°Cの温度で、触媒的気相フッ素化、好ましくはCr酸化物Cr2O3に触媒される気相フッ素化、を利用することが好ましい。ある好ましい態様において、フッ素化反応にはフロー反応器が使用され、そして、好ましくは、その反応は、約1秒乃至約50秒、より好ましくは約5秒乃至約50秒の接触時間を生じる条件で行なわれる。フッ素化反応は、概して、式III:CF3CHClCH2Fの化合物を含む反応生成物を生じる。ある好ましい態様においては、フッ素化反応は工程aの反応と実質的に同時に起こることが想定される。例えば、フッ化水素の存在下で、適切な条件で、工程aの反応を実施するような場合である。反応工程a及びフッ素化工程bの後、本発明のこの態様は、好ましくは、1,3,3,3-テトラフルオロプロペンを含む反応生成物を生産するのに効果的な反応条件に式III:CF3CHClCH2Fの化合物をさらすことを含む。好ましい態様において、このさらす工程は、気相及び/または液相で、式IIIの化合物を脱塩化水素することを含む。本明細書に含まれる教示に従って、良好な結果を伴って、多くの脱塩化水素工程が利用できることが考えられ、ある態様では、脱塩化水素工程は、式IIIの化合物を、1,3,3,3-テトラフルオロプロペンに変換するのに十分な時間、相対的に高い温度で式IIIの化合物を触媒と接触させることを含む。好ましくは、脱塩化水素反応は、式IIIの化合物を含むストリームを触媒、好ましくは鉄-ベース触媒、より好ましくはFeCl3、の触媒床を含み、約200°C乃至約400°Cの温度に維持された反応器に、約2秒乃至約50秒、より好ましくは約20秒乃至約30秒、の接触時間を作り出す条件下で導入することを含む。好ましくは、反応圧は約0psig乃至約200psigである。このさらす工程は、また、米国特許6,548,719B1の教示に従って行なうことができるこの米国特許は本発明の譲受人に譲渡されており、そして参照として本明細書に援用される。適切な触媒及び高い温度を用いた気相脱塩化水素は、また、米国特許5,986,151この米国特許は参照として本明細書に援用されるに開示されている手順に従って行なうことができる。このさらす工程は、好ましくは、1,3,3,3-テトラフルオロプロペンを含む反応生成物ストリーム、より好ましくは1,3,3,3-テトラフルオロプロペンの大部分を含む反応生成物ストリーム、さらに好ましくは少なくとも約50重量の1,3,3,3-テトラフルオロプロペンを含む反応生成物ストリーム、を生じる。このさらす工程において、化合物IIIの量に基づいた1,3,3,3-テトラフルオロプロペン収率は、好ましくは、少なくとも約60molである。本発明の態様において、反応生成物ストリームに含まれるいずれもの副生成物は、一般に、周知の手段蒸留等によって望みの程度まで除くことができる。以下の実施例は本発明の具体的な実例として示したものである。そして、本発明が以下の実施例に説明された詳細なものに限定されるものではないことに留意すべきである。CF3CH=CFHの総ての異性体シス及びトランスが本発明の範囲に含まれる。実施例実施例1Br2及びHFBrF並びにCF3CH=CH2からのCF3CH=CHFの合成テフロン登録商標で覆われたモネルのオートクレーブ中、触媒としての約0.005モルのFeCl3またはSbF5の存在下、約-30°C乃至-60°Cで、CF3CH=CH20.5モルをBr20.4モル及びHF50モルと反応させる。反応時間は、前記の温度で約10乃至30分、そしてその後室温で1時間であった。反応生成物をCH2Cl2で抽出する。主生成物はCF3CHBrCH2F55であって、副生成物は主にCF3CHBrCH2Br40であった。CF3CHBrCH2Fを蒸留によって単離し、そして、それを525°C、接触時間約20秒乃至約30秒で、約50グラムgmの活性炭からなる触媒床上を通して脱臭化水素を行い、CF3CH=CHFを含む反応生成物を約95の収率で得た。実施例2IF及びCF3CH=CH2からのCF3CH=CHFの合成CF3CHICH2Fを生産するのに効果的な条件下、適切な割合で、CF3CH=CH2とIFI2とIF5の反応、またはI2とHFの反応によって形成されるとを反応させる。そして、CF3CH=CHFを含む反応生成物を、好ましくは約95の収率で、生じるに効果的な条件でCF3CHICH2Fの脱ヨウ化水素を行なう。実施例3CH3CH=CH2及びCl2からのCF3CH=CHFの合成CCl4を溶媒として使用し、フロー反応器中、1-3のAu/TiO2触媒の存在下、UV200-400nm光下、0°Cで、約0.5モルのCH3CH=CH2と0.2モルのCl2を反応させる。0°C乃至10°Cで約5乃至20秒間、反応を行なってCCl3CHClCH2Clを与える。その後、得られた生成物を単離し、そして50gの1/8インチのCr2O3の触媒床上、5モル過剰のHF存在下、約250-400°Cで約5乃至50秒の接触時間で、フロー反応器を通して、CF3CHClCH2Fを与える。そして、そのCF3CHClCH2Fを、425-550°C、接触時間25乃至30秒でCr2O3触媒50g上を通すことによって脱塩化水素を行いCF3CH=CFHを得た。CF3CH=CFHの単離収率は40-60であった。"