板状の試料の表面にマスク孔を通して1次X線を照射するX線源と、試料から発生する2次X線の強度を測定する検出手段と、前記検出手段で測定した1次X線の特性X線の散乱線の強度を所定の強度と比較して、前記マスク孔に対する試料の設置状態の可否を判定する判定手段とを備えた蛍光X線分析装置。しかし、特許文献1に記載の装置は、例えばシリコンウエハである試料の表面とX線源間の距離について、試料の厚みやそりのばらつきによる最適距離からの±30μm程度のずれを解消するためのものであり、マスク孔に対する試料の設置状態により試料の表面とX線源間の距離がmm単位で変化する前記問題には対処できない。また、いずれの試料からも同じ蛍光X線が十分な強度で発生することを前提としているため、さまざまな組成の試料に幅広く適用することもできない。本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたもので、試料の表面にマスク孔を通して1次X線を照射する蛍光X線分析装置において、さまざまな組成の試料についてマスク孔に対する試料の設置状態の可否を的確に判定できる装置を提供することを目的とする。前記目的を達成するために、本発明の蛍光X線分析装置は、板状の試料の表面にマスク孔を通して1次X線を照射するX線源と、試料から発生する2次X線の強度を測定する検出手段と、前記検出手段で測定した1次X線の特性X線の散乱線の強度を所定の強度と比較して、前記マスク孔に対する試料の設置状態の可否を判定する判定手段とを備えている。本発明の装置によれば、試料から発生する2次X線のうち、1次X線の特性X線の散乱線の強度を所定の強度と比較することにより、マスク孔に対する試料の設置状態の可否を判定するので、さまざまな組成の試料についてマスク孔に対する試料の設置状態の可否を的確に判定できる。以下、本発明の一実施形態の蛍光X線分析装置について、図にしたがって説明する。図1に示すように、この装置は、試料ホルダ11に装填された試料3が載置される試料台8と、試料の表面3aにマスク孔12aを通して1次X線2を照射するX線管などのX線源1と、試料3から発生する蛍光X線や散乱線などの2次X線4の強度を測定する検出手段9と、検出手段9で測定した1次X線の特性X線の散乱線4の強度を所定の強度と比較して、マスク孔12aに対する試料3の設置状態の可否を判定する判定手段10とを備えている。検出手段9は、試料3から発生する2次X線4を分光する分光素子5と、分光された2次X線6ごとにその強度を測定する検出器7で構成される。なお、分光素子5を用いる検出手段9には、測定する2次X線4の波長が固定された固定型と、測定する2次X線4の波長を走査できる走査型とがあるが、必要に応じ、いずれをいくつ備えてもよい。また、分光素子5を用いずに、エネルギー分解能の高い検出器を検出手段とすることもできる。この装置で用いられる試料ホルダ11は、図2に示すように、円板状の試料マスク12および円板状の試料ガイド13を上部とし、円板状の底板17を底部とし、試料ガイド13と底板17の周辺部を4本の円柱状の側柱14で連結した円筒状である。図1~3において、左右に1本ずつ描かれた側柱14は、紙面垂直方向に2本ずつ存在するものが重なっている。試料マスク12には、円板状の試料3よりもわずかに小径のマスク孔12aが形成され、試料ガイド13には、マスク孔12aと同心であって、試料3よりもわずかに大径で、かつ下ほど大径になるテーパのついたガイド孔13aが形成されている。また、円板状で、周辺部に4本の側柱14と係合する4つのU字形の切欠きが形成され、上下方向にスライドする昇降板15が設けられ、昇降板15と底板17の間にコイルばね16が挿入されることにより、昇降板15が上方へ付勢される。この試料ホルダ11に、例えば以下のようにして、円板状で所定の寸法に形成された試料3が自動装填される。まず、試料ホルダ11の側方から図示しない押え具が進出してきて、昇降板15を底板17近くまで押し下げる。次に、押え具と対向する側方から図示しないプッシャーが試料3を押しながら進出してきて、押え具とで試料3を挟み込んだ状態で停止する。これにより、試料3が昇降板15上の適切な位置に載置される。なお、押え具とプッシャーで試料3を挟み込むことに代えて、個々の昇降板15に、試料3の押え具に対向する側面下部が当接するストッパーを設け、そのストッパーとプッシャーで試料3を挟み込むようにしてもよい。次に、プッシャーおよび押え具が退避することにより、試料3が昇降板15を介してコイルばね16で上方へ付勢され、試料の表面3aの外周部が試料マスク12の下面におけるマスク孔12aの周囲に当接し、図2に示す状態になる。試料3が上方へ付勢されて移動する際に、上方から見て試料の表面3aの中心がマスク孔12aの中心と厳密に合致しておらず、多少ずれていても、試料3がガイド孔13aに沿って上方へ移動するうちに、ずれが修正され、マスク孔12aに対する試料3の設置状態は良好となる。しかし、まれではあるが、試料3が上方へ移動する際に、図3に示すように、試料の表面3aの外周部が試料ガイド13の下面におけるガイド孔13aの周囲に引っ掛かり、試料3が試料ガイド13の下に潜り込んでしまうことがある。このように自動装填の失敗によってマスク孔12aに対する試料3の設置状態が不良であると、図1から理解されるように、試料の表面3aがX線源1から遠のき、測定条件が変わってしまうので、適切な測定データが得られず、そのような設置状態不良の試料3が混入していることに気付かなければ、複数の試料3の測定に基づく分析全体が不正確になってしまう。そこで、この実施形態の装置では、各試料3について、分析線、すなわち測定対象の2次X線4の強度を測定する際に、併せて1次X線の特性X線の散乱線、例えばRh-Kα線のコンプトン散乱線4の強度Iも測定して記憶しておく。また、マスク孔12aに対する設置状態が良好であることを確認した試料3について測定したRh-Kα線のコンプトン散乱線4の強度を、基準となる所定の強度Itとして判定手段10に記憶させておく。判定手段10は、各試料3について、測定強度Iを所定の強度Itと比較して、例えば測定強度Iが所定の強度Itの80以下であると、その試料3についてマスク孔12aに対する設置状態が不良であると判定する。このように1次X線の特性X線の散乱線の測定強度を利用するのは、蛍光X線と異なり、試料3の組成の影響を受けにくいからである。なお、80と例示した域値は、この装置または同型の装置において、設置状態に関し良好であるか不良であるかが確認され、両者が混在している複数の試料3について、Rh-Kα線のコンプトン散乱線4の強度を測定することにより、あらかじめ実験的に求めることができる。そして、複数の試料3についての一連の測定が終了して、その結果が図示しない液晶ディスプレイなどの表示手段に表示される際に、判定手段10により判定されたマスク孔12aに対する各試料3の設置状態の可否も、併せて表示される。操作者は、その表示を参照して、設置状態不良と判定された試料3についての測定データを不採用にすることにより、複数の試料3の測定に基づく分析全体が不正確になるのを回避できる。以上のように、この実施形態の蛍光X線分析装置によれば、さまざまな組成の試料3についてマスク孔12aに対する試料3の設置状態の可否を的確に判定できる。なお、この実施形態の蛍光X線分析装置は、試料ホルダ11に自動装填された試料3の表面3aに、試料ホルダ11のマスク孔12aを通して、試料3の上方から1次X線2を照射する、いわゆる上面照射型の装置であるが、本発明はこのような装置に限定されず、試料の下方から1次X線を照射する、いわゆる下面照射型の装置であってもよい。また、マスク孔に対する試料の設置の仕方についても限定されず、自動でも手動でもよい。特に、下面照射型の装置において、試料ホルダを用いず、試料マスクおよびその上の試料ガイドが蛍光X線分析装置本体に設けられ、試料マスクに向けて試料ガイドの上方から試料が落とし込まれて設置されるような装置では、試料が試料ガイドの上に乗り上げてしまうことにより、マスク孔に対する試料の設置状態が不良となるが、本発明は、このような装置にも適用できる。