"式;式中、yは2であり、Aはジアルコシキメチル但し、アルコキシは炭素数1~6のアルコキシであるであり、R1はハロゲンであり、R2は炭素数1~6のアルキルスルホニルであり、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は各々水素原子であり、Qは水素原子又はベンゾイルである]で表されるトリケトン系化合物又はその塩。式;式中、yは2であり、Aはジアルコシキメチル但し、アルコキシは炭素数1~6のアルコキシであるであり、R1はハロゲンであり、R2は炭素数1~6のアルキルスルホニルであり、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は各々水素原子であり、Qは水素原子又はベンゾイルである]で表されるトリケトン系化合物又はその塩で表されるトリケトン系化合物又はその塩の製造方法であって、1式I-1;式中、y、A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は前述の通りである]で表される化合物と、R11-C=O-Halで表される化合物[式中、Halはハロゲンであり、R11はフェニルである]とを反応させるか、2式II;式中、y、A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は前述の通りであるで表される化合物を転位させるか、3式I-1-1;式中、y、A、R1、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は前述の通りであり、R14は炭素数1~6のアルキルであるで表される化合物を酸化することを特徴とする方法。請求項1記載のトリケトン系化合物又はその塩を有効成分として含有する除草剤。請求項1記載のトリケトン系化合物又はその塩の除草有効量を施用する有害植物の防除方法。本願発明者等は、より優れた除草剤を見出すべくトリケトン系化合物につき種々検討した結果、本発明を完成した。すなわち本発明は、式I;式中、yは1~6の整数であり、Aは酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれた少なくとも1種のヘテロ原子を1~2含有する5若しくは6員飽和ヘテロ環基又はジアルコキシメチルであり、R1はハロゲンであり、R2はアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、ジアミノスルホニル、ニトロ又はシアノであり、R3、R4、R6、R7及びR8は各々水素原子又はアルキルであり、R5は水素原子、アルキル又はシクロアルキルであり、R5とR8は一緒になって3~6員飽和炭素環を形成してもよく、R5とR6は一緒になってケトンを形成してもよく、Qは水素原子、CnR9、CMR9、CNR10、SO2NR10又はSO2R9であり、L及びMは各々酸素原子又は硫黄原子であり、nは0~3であり、R9及びR10は各々水素原子、アルキル、アルコキシアルキル、アルコキシ、置換されてもよいフェニル又は置換されてもよいベンジルであり、R9とR10は一緒になって5若しくは6員飽和へテロ環基を形成してもよい;但し、yが1であり、Aが1,3-ジオキサン-2-イル又は1,3-ジオキソラン-2-イルである場合を除くで表されるトリケトン系化合物又はその塩、それらの製造方法並びにそれらを含有する除草剤に関する。R9及びR10中の置換されてもよいフェニル又は置換されてもよいベンジルのその置換基としては、例えばハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、ニトロ、シアノなどが挙げられる。当該置換基の置換数は1又は2以上であってもよく、2以上の場合、各置換基は同一でも相異なってもよい。また、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。R9とR10は一緒になって5若しくは6員飽和ヘテロ環基を形成してもよく、当該飽和ヘテロ環基としては、例えばピロリジニル、ピペリジニル、モルホリニルなどが挙げられる。A、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10中のアルキル又はアルキル部分としては、各々炭素数1~6の直鎖又は分枝状のもの、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。R5中のシクロアルキルとしては、炭素数3~4のもの、例えばシクロプロピル、シクロブチルなどが挙げられる。R1、R2、R9及びR10中のハロゲン又はハロゲン部分としては、弗素、塩素、臭素又は沃素の各原子が挙げられる。置換基としてのハロゲンの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、各ハロゲンは同一でも相異なってもよい。また、ハロゲンの置換位置はいずれの位置でもよい。A中の酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれた少なくとも1種のヘテロ原子を1~2含有する5若しくは6員飽和ヘテロ環基としては、例えばテトラヒドロフラン-2-イル、テトラヒドロフラン-3-イル、ジオキソラン-2-イル、ジオキソラン-4-イル、テトラヒドロピラン-2-イル、1,4-ジオキサン-2-イル、1,3-ジオキサン-2-イル、1,3-ジオキサン-4-イル、テトラヒドロチオフェン-2-イル、テトラヒドロチオピラン-2-イル、1,3-ジチアン-2-イル、1,4-ジチアン-2-イル、1,4-チオキサン-2-イル、1,4-チオキサン-3-イルなどが挙げられる。尚、該ヘテロ環基は炭素数1~6のアルキルで置換されていてもよい。R5とR8は一緒になって3~6員飽和炭素環を形成してもよく、例えば以下のような式で表される化合物となる。R5とR6は一緒になってケトンを形成してもよく、例えば以下のような式で表される化合物となる。前記式Iで表されるトリケトン系化合物は、塩を形成することが可能である。その塩としては、農業上許容されるものであればあらゆるものが含まれるが、例えばナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩;マグネシウム塩、カルシウム塩、バリウム塩のようなアルカリ土類金属塩;NH4塩、ジメチルアミン塩、トリエチルアミン塩のようなアンモニウム塩などが挙げられる。前記式Iで表されるトリケトン系化合物には、各種異性体、例えば互変異性体、光学異性体などが存在するが、本発明には各異性体及び異性体混合物の双方が含まれる。尚、本発明には、当該技術分野における技術常識の範囲内において、前記したもの以外の各種異性体も含まれる。また、異性体の種類によっては、前記式Iとは異なる化学構造となる場合があるが、当業者であればそれらが異性体の関係にあることが十分認識できる為、本発明の範囲内であることは明らかである。前記式Iで表されるトリケトン系化合物又はその塩以下本発明化合物と略すは、以下の反応A~E或は、通常の塩の製造方法に従って製造することができる。反応A中、y、A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は前述の通りであり、Halはハロゲンであり、R11はnR9、MR9又はNR10R9、R10、M及びnは前述の通りである。反応Aは、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基としては、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。塩基は、式I-1の化合物に対して1~3倍モル、望ましくは1~2倍モル使用することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Aの反応温度は、通常-20~50°C、望ましくは0~30°Cであり、反応時間は、通常0.1~12時間、望ましくは0.5~2時間である。反応B中、y、A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8及びHalは前述の通りであり、R12はMR9又はNR10R9、R10及びMは前述の通りである。反応Bは、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基としては、例えば前記反応Aで挙げられたものなどから1種又は2種以上を適宜選択することができる。塩基は、式I-1の化合物に対して1~3倍モル、望ましくは1~2倍モル使用することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば前記反応Aで挙げられたものなどから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Bの反応温度は、通常0~100°C、望ましくは0~50°Cであり、反応時間は、通常1~120時間、望ましくは1~24時間である。反応C中、y、A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8及びHalは前述の通りであり、R13はR9又はNR10R9及びR10は前述の通りである。反応Cは、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基としては、例えば前記反応Aで挙げられたものなどから1種又は2種以上を適宜選択することができる。塩基は、式I-1の化合物に対して1~3倍モル、望ましくは1~2倍モル使用することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば前記反応Aで挙げられたものなどから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Cの反応温度は、通常0~50°C、望ましくは0~30°Cであり、反応時間は、通常1~24時間、望ましくは1~12時間である。反応D中、y、A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は前述の通りである。反応Dは、通常塩基、シアナイド化合物及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基としては、例えばトリアルキルアミン、トリアルカノールアミン、ピリジンのような3級アミン類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。塩基は、式IIの化合物に対して1~4倍モル、望ましくは2~3倍モル使用することができる。シアナイド化合物としては、例えばシアン化ナトリウム、シアン化カリウムのようなアルカリ金属シアナイド;アセトンシアノヒドリン、メチルイソブチルケトンシアノヒドリン、ベンズアルデヒドシアノヒドリン、アセトアルデヒドシアノヒドリン、プロピオンアルデヒドシアノヒドリンのようなシアノヒドリンなどから1種又は2種以上を適宜選択することができる。シアナイド化合物は、式IIの化合物に対して0.01~0.5倍モル、望ましくは0.1~0.2倍モル使用することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Dは、必要に応じて相間移動触媒の存在下で行うことができる。相間移動触媒としては、クラウンエーテル類などが挙げられる。反応Dの反応温度は、通常0~50°C、望ましくは室温であり、反応時間は、通常0.5~48時間、望ましくは1~24時間である。反応E中、y、A、R1、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は前述の通りであり、R14はアルキル又はハロアルキルであり、mは1又は2である。反応Eは、通常酸化剤及び溶媒の存在下で行うことができる。酸化剤としては、例えばメタクロロ過安息香酸、過酸化水素、過酢酸、tert-ブチルハイドロパーオキサイドなどから1種又は2種以上を適宜選択することができる。酸化剤は、式I-1の化合物に対して1~5倍モル、望ましくは1~3倍モル使用することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;酢酸、プロピオン酸のような有機酸;水などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Eの反応温度は、通常-20~100°C、望ましくは-5~50°Cであり、反応時間は、通常0.1~48時間、望ましくは0.1~24時間である。前記反応Dで使用される式IIの化合物エノールエステルは、以下の反応F又はGに従って製造することができる。反応F中、y、A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は前述の通りである。反応Fは、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基としては、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。塩基は、式IVの化合物に対して1~3倍モル、望ましくは1~1.5倍モル使用することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Fの反応温度は、通常0~50°C、望ましくは0~30°Cであり、反応時間は、通常0.5~24時間、望ましくは1~12時間である。反応G中、y、A、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は前述の通りである。反応Gは、通常脱水縮合剤及び溶媒の存在下で行うことができる。脱水縮合剤としては、例えばN,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミドなどが挙げられる。脱水縮合剤は、式Vの化合物に対して1~3倍モル、望ましくは1~1.5倍モル使用することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Gの反応温度は、通常0~50°C、望ましくは0~30°Cであり、反応時間は、通常0.5~48時間、望ましくは1~24時間である。前記反応Fで使用される式IVの化合物は、以下の反応Hに従って製造することができる。反応H中、y、A、R1及びR2は前述の通りである。反応Hは、通常塩素化剤の存在下で行うことができる。塩素化剤としては、塩化チオニル、塩化オキザリルなどが挙げられる。塩素化剤は、式Vの化合物に対して1~5倍モル、望ましくは1~2倍モル使用することができる。また塩素化剤は、過剰に用いれば溶媒を兼ねることができる。反応Hは、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Hは、必要に応じて触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。反応Hの反応温度は、通常0~120°C、望ましくは20~100°Cであり、反応時間は、通常0.5~12時間、望ましくは1~4時間である。前記反応G又はHで使用される式Vの化合物は、以下の反応Iに従って製造することができる。反応I中、y、A、R1及びR2は前述の通りであり、R15はアルキルである。反応Iは一般的な加水分解反応に準じて行うことができ、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物などが挙げられる。塩基は、式VIの化合物に対して1~5倍モル、望ましくは1~3倍モル使用することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類;水などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Iの反応温度は、通常0~100°C、望ましくは0~30°Cであり、反応時間は、通常0.1~24時間、望ましくは3~20時間である。前記反応Iで使用される式VIの化合物は、以下の反応J~Mに従って製造することができる。反応J中、y、A、R1、R2及びR15は前述の通りであり、Gは水酸基、塩素原子又は臭素原子である。反応Jは通常溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Jは、必要に応じて塩基の存在下で行うことができる。塩基としては、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。塩基は、出発物質であるカルボン酸化合物に対して1~5倍モル、望ましくは1~3倍モル使用することができる。反応Jは、必要に応じて脱水縮合剤の存在下で行うことができる。脱水縮合剤としては、例えばトリフェニルホスフィン、ジエチルアゾジカルボキシレートなどから1種又は2種以上を適宜選択することができる。脱水縮合剤は、出発物質であるカルボン酸化合物に対して1~5倍モル、望ましくは1~2倍モル使用することができる。反応Jの反応温度は、通常0~150°C、望ましくは0~120°Cであり、反応時間は、通常0.5~24時間、望ましくは1~20時間である。反応K中、y、A、R1、R14及びR15は前述の通りであり、Dは塩素原子、臭素原子又はニトロであり、Eは水素原子又はアルカリ金属である。反応Kは通常溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Kは、必要に応じて塩基の存在下で行うことができる。塩基としては、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。塩基は、式VI-1の化合物に対して1~5倍モル、望ましくは1~3倍モル使用することができる。反応Kの反応温度は、通常0~150°C、望ましくは20~120°Cであり、反応時間は、通常0.1~72時間、望ましくは0.2~24時間である。反応L中、y、A、R1、R14、R15及びmは前述の通りである。反応Lは、通常酸化剤及び溶媒の存在下で行うことができる。酸化剤としては、例えばメタクロロ過安息香酸、過酸化水素、過酢酸、tert-ブチルハイドロパーオキサイドなどから1種又は2種以上を適宜選択することができる。酸化剤は、式VI-2の化合物に対して1~5倍モル、望ましくは1~3倍モル使用することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;酢酸、プロピオン酸のような有機酸;水などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Lの反応温度は、通常-20~100°C、望ましくは-5~50°Cであり、反応時間は、通常0.1~48時間、望ましくは0.1~24時間である。反応M中、R1、R2及びR15は前述の通りであり、R16は水素原子又はアルキルであり、y’は2~6の整数であり、pは0又は1である。反応Mは通常酸及び溶媒の存在下で行うことができる。酸としては、p-トルエンスルホン酸のような有機酸;硫酸、塩酸、硝酸のような鉱酸などが挙げられる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類などが挙げられる。反応Mの反応温度は、通常80~150°C、望ましくは100~130°Cであり、反応時間は、通常0.1~12時間、望ましくは0.5~5時間である。前記反応Mで使用される式VIIの化合物は、以下の反応Nに従って製造することができる。反応N中、R1、R2、R15及びy’は前述の通りであり、R17はアルキルである。反応Nは通常酸及び溶媒の存在下で行うことができる。酸としては、硫酸、塩酸、硝酸のような鉱酸などが挙げられる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。反応Nの反応温度は、通常0~100°C、望ましくは0~30°Cであり、反応時間は、通常0.1~12時間、望ましくは0.5~4時間である。前記反応Nで使用される式IXの化合物は、以下の反応Oに従って製造することができる。反応O中、R1、R2、R15、R17、y’及びGは前述の通りである。反応Oは、前記反応Jに準じて行うことができる。本発明化合物は、除草剤の有効成分として使用した場合に優れた除草効果を示す。その適用範囲は、水田、畑地、果樹園、桑園などの農耕地、山林、農道、グランド、工場敷地などの非農耕地と多岐にわたり、適用方法も土壌処理、茎葉処理、湛水処理を適宜選択できる。本発明化合物は、例えばイヌビエ、メヒシバ、エノコログサ、アキノエノコログサ、オヒシバ、カラスムギ、セイバンモロコシ、シバムギ、ビロードキビ、パラグラス、アゼガヤ、イトアゼガヤ、スズメノカタビラ、スズメノテッポウなどのイネ科雑草、コゴメガヤツリ、ハマスゲ、キハマスゲ、ホタルイ、ミズガヤツリ、タマガヤツリ、マツバイ、クログワイなどのカヤツリグサ科雑草、ウリカワ、オモダカ、ヘラオモダカなどのオモダカ科雑草、コナギ、ミズアオイなどのミズアオイ科雑草、アゼナ、アブノメなどのゴマノハグサ科雑草、キカシグサ、ヒメミソハギなどのミソハギ科雑草の他、イチビ、マルバアサガオ、シロザ、アメリカキンゴジカ、スベリヒユ、アオビユ、アオゲイトウ、エビスグサ、イヌホウズキ、サナエタデ、ハコベ、オナモミ、タネツケバナ、ホトケノザ、ブタクサ、ヤエムグラ、セイヨウヒルガオ、チョウセンアサガオ、エゾノキツネアザミ、エノキグサなどの広葉雑草などの有害雑草を防除することができる為、有用作物、例えばトウモロコシ、ダイズ、ワタ、コムギ、イネ、オオムギ、エンバク、ソルガム、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、芝、ピーナッツ、アマ、タバコ、コーヒーなどの栽培において選択的に有害雑草を防除する場合或は非選択的に有害雑草を防除する場合において有効に使用される。特に本発明化合物は、トウモロコシ、コムギ、イネなどの栽培、その中でもイネの栽培において選択的に有害雑草を防除する場合において有効に使用される。本発明化合物は通常各種農業上の補助剤と混合して粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、水性懸濁剤、油性懸濁剤、水溶剤、乳剤、錠剤、カプセル剤などの形態に製剤し、除草剤として使用されるが、本発明の目的に適合するかぎり、通常の当該分野で用いられているあらゆる製剤形態にすることができる。製剤に使用することができる補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム、タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト、カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレー、炭酸ナトリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの固型担体;水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ジオキサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、アルコールなどの溶剤;脂肪酸塩、安息香酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルジグリコールエーテル硫酸塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキルアリールリン酸塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩のような陰イオン系の界面活性剤や展着剤;ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ポリグリセライド、脂肪酸アルコールポリグリコールエーテル、アセチレングリコール、アセチレンアルコール、オキシアルキレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルアリールエーテル、ポリオキシエチレングリコールアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシプロピレン脂肪酸エステルのような非イオン系の界面活性剤や展着剤;オリーブ油、カポック油、ひまし油、シュロ油、椿油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ油、米ぬか油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの植物油や鉱物油などが挙げられる。これら補助剤は本発明の目的から逸脱しないかぎり、当該分野で知られたものの中から選んで用いることができる。また、増量剤、増粘剤、沈降防止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤など通常使用される各種補助剤も使用することができる。本発明化合物と各種補助剤との配合割合は0.1:99.9~95:5、望ましくは0.2:99.8~85:15である。本発明化合物を含有する除草剤の施用量は、気象条件、土壌条件、製剤形態、対象雑草の種類、施用時期などの相違により一概に規定できないが、一般に1ヘクタール当り本発明化合物が0.5~5000g、望ましくは1~1000g、さらに望ましくは5~500gとなるように施用する。本発明には、このような除草剤の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。また、本発明化合物を含有する除草剤は、他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或は併用することができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すことがある。他の農薬としては、除草剤、殺菌剤、抗生物質、植物ホルモン、殺虫剤などが挙げられる。特に、本発明化合物と、他の除草剤有効成分化合物の1種又は2種以上とを混用或は併用した混合除草性組成物は、適用草種の範囲、薬剤処理の時期、除草活性等を好ましい方向へ改良することが可能である。尚、本発明化合物と他の除草剤有効成分化合物は各々別々に製剤したものを散布時に混合して使用しても、両者を一緒に製剤して使用してもよい。本発明には、前記した混合除草性組成物も含まれる。本発明化合物と他の除草剤有効成分化合物との混合比は、気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、施用時期、施用方法などの相違により一概に規定できないが、本発明化合物1重量部に対し、他の除草剤は有効成分化合物を1種あたり0.001~10000重量部、望ましくは0.01~1000重量部配合する。また、施用適量は1ヘクタール当りの総有効成分化合物量として0.1~10000g、望ましくは0.2~5000gである。本発明には、このような混合除草性組成物の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。他の除草剤有効成分化合物としては、下記するもの一般名;一部申請中のものを含むが例示できるが、特に記載がない場合であってもこれら化合物に塩、アルキルエステル等が存在する場合は、当然それらも含まれる。12,4-D、2,4-DB、2,4DP、MCPA、MCPB、MCPP、ナプロアニリドnaproanilideのようなフェノキシ系、2,3,6-TBA、ジカンバdicamba、ジクロベニルdichlobenil、ピクロラムpicloram、トリクロピルtriclopyr、クロピラリドclopyralid、アミノピラリドaminopyralidのような芳香族カルボン酸系、その他ナプタラムnaptalam、ベナゾリンbenazolin、キンクロラックquinclorac、キンメラックquinmerac、ダイフルフェンゾピルdiflufenzopyr、チアゾピルthiazopyrなどのように植物のホルモン作用を攪乱することで除草効力を示すとされているもの。2クロロトルロン、ジウロンdiuron、フルオメツロン、リニュロンlinuron、イソプロチュロンisoproturon、メトベンズロンmetobenzuron、テブチウロンのような尿素系、シマジンsimazine、アトラジンatrazine、アトラトンatratone、シメトリンsimetryn、プロメトリンprometryn、ジメタメトリンdimethametryn、ヘキサジノン、メトリブジンmetribuzin、テルブチラジンterbuthylazine、シアナジンcyanazine、アメトリンametryn、シブトリンcybutryne、トリアジフラムtriaziflam、プロパジンpropazineのようなトリアジン系、ブロマシルbromacil、レナシルlenacil、ターバシル、のようなウラシル系、プロパニルpropanil、シプロミッドcypromidのようなアニリド系、スエップswep、デスメディファム、フェンメディファムphenmediphamのようなカーバメート系、ブロモキシニルbromoxynil、ブロモキシニルオクタノエートbromoxyniloctanoate、アイオキシニルioxynilのようなヒドロキシベンゾニトリル系、その他ピリデートpyridate、ベンタゾンbentazon、アミカルバゾンamicarbazone、メタゾールmethazoleなどのように植物の光合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。3それ自身が植物体中でフリーラジカルとなり、活性酸素を生成させて速効的な除草効力を示すとされているパラコートparaquat、ジクワットdiquatのような4級アンモニウム塩系。4ニトロフェンnitrofen、クロメトキシフェンchlomethoxyfen、ビフェノックスbifenox、アシフルオルフェンナトリウム塩acifluorfensodium、ホメサフェンfomesafen、オキシフルオルフェンoxyfluorfen、ラクトフェンlactofen、エトキシフェンエチルethoxyfenethylのようなジフェニルエーテル系、クロルフタリムchlorphthalim、フルミオキサジンflumioxazin、フルミクロラックペンチルflumicloracpentyl、フルチアセットメチルfluthiacetmethylのような環状イミド系、その他オキサジアルギルoxadiargyl、オキサジアゾンoxadiazon、スルフェントラゾンsulfentrazone、カルフェントラゾンエチルcarfentrazoneethyl、チジアジミンthidiazimin、ペントキサゾンpentoxazone、アザフェニジンazafenidin、イソプロパゾールisopropazole、ピラフルフェンエチルpyraflufenethyl、ベンズフェンジゾンbenzfendizone、ブタフェナシルbutafenacil、メトベンズロンmetobenzuron、シニドンエチルcinidonethyl、フルポキサムflupoxam、フルアゾレートfluazolate、プロフルアゾールprofluazol、ピラクロニルpyrachlonil、フルフェンピルエチルflufenpyrethylなどのように植物のクロロフィル生合成を阻害し、光増感過酸化物質を植物体中に異常蓄積させることで除草効力を示すとされているもの。5ノルフルラゾンnorflurazon、クロリダゾンchloridazon、メトフルラゾンmetflurazonのようなピリダジノン系、ピラゾレートpyrazolate、ピラゾキシフェンpyrazoxyfen、ベンゾフェナップbenzofenap、BAS-670Hのようなピラゾール系、その他アミトロール、フルリドンfluridone、フルルタモンflurtamone、ジフルフェニカンdiflufenican、メトキシフェノンmethoxyphenone、クロマゾンclomazone、スルコトリオンsulcotrione、メソトリオンmesotrione、AVH-301、イソキサフルトールisoxaflutole、ジフェンゾコートdifenzoquat、イソキサクロロトールisoxachlortole、ベンゾビシクロンbenzobicyclone、ピコリナフェンpicolinafen、ビフルブタミドbeflubutamidなどのようにカロチノイドなどの植物の色素生合成を阻害し、白化作用を特徴とする除草効力を示すとされているもの。6ジクロホップメチルdiclofopmethyl、フラムプロップエムメチル、ピリフェノップナトリウム塩pyriphenopsodium、フルアジホップブチルfluazifopbutyl、ハロキシホップメチルhaloxyfopmethyl、キザロホップエチルquizalofopethyl、シハロホップブチルcyhalofopbutyl、フェノキサプロップエチルfenoxapropethyl、メタミホッププロピルmetamifoppropylのようなアリールオキシフェノキシプロピオン酸系、アロキシジムナトリウム塩alloxydimsodium、クレソジムclethodim、セトキシジムsethoxydim、トラルコキシジムtralkoxydim、ブトロキシジムbutroxydim、テプラロキシジムtepraloxydim、カロキシジムcaloxydim、クレフォキシジムclefoxydim、プロホキシジムprofoxydimのようなシクロヘキサンジオン系などのようにイネ科植物に特異的に除草効力が強く認められるもの。7クロリムロンエチルchlorimuronethyl、スルホメツロンメチルsulfometuronmethyl、プリミスルフロンメチルprimisulfuronmethyl、ベンスルフロンメチルbensulfuronmethyl、クロルスルフロンchlorsulfuron、メトスルフロンメチルmetsulfuronmethyl、シノスルフロンcinosulfuron、ピラゾスルフロンエチルpyrazosulfuronethyl、アジムスルフロンazimsulfuron、フラザスルフロンflazasulfuron、リムスルフロンrimsulfuron、ニコスルフロンnicosulfuron、イマゾスルフロンimazosulfuron、シクロスルファムロンcyclosulfamuron、プロスルフロンprosulfuron、フルピルスルフロンflupyrsulfuron、トリスルフロンメチルtrisulfuronmethyl、ハロスルフロンメチルhalosulfuronmethyl、チフェンスルフロンメチルthifensulfuronmethyl、エトキシスルフロンethoxysulfuron、オキサスルフロンoxasulfuron、エタメトスルフロンethametsulfuron、フルピルスルフロンflupyrsulfuron、イオドスルフロンiodosulfuron、スルフォスルフロンsulfosulfuron、トリアスルフロンtriasulfuron、トリベヌロンメチルtribenuronmethyl、トリトスルフロンtritosulfuron、フォーラムスルフロンforamsulfuron、トリフルオキシスルフロンtrifloxysulfuron、イソスルフロンメチルisosulfuronmethyl、フルセトスルフロンflucetosulfuron、メソスルフロンメチルmesosulfuronmethylのようなスルホニルウレア系、フルメツラムflumetsulam、メトスラムmetosulam、ジクロスラムdiclosulam、クロランスラムメチルcloransulammethyl、フロラスラムflorasulam、メトスルファムmetosulfam、ペノクススラムのようなトリアゾロピリミジンスルホンアミド系、イマザピルimazapyr、イマゼタピルimazethapyr、イマザキンimazaquin、イマザモックスimazamox、イマザメスimazameth、イマザメタベンズimazamethabenz、イマザピックimazapicのようなイミダゾリノン系、ピリチオバックナトリウム塩pyrithiobacsodium、ビスピリバックナトリウム塩bispyribacsodium、ピリミノバックメチルpyriminobacmethyl、ピリベンゾキシムpyribenzoxim、ピリフタリドpyriftalid、KUH-021のようなピリミジニルサリチル酸系、フルカーバゾンflucarbazone、プロカーバゾンソディウムprocarbazonesodiumのようなスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系、その他グリホサートglyphosate、グリホサートアンモニウム塩glyphosateammonium、グリホサートイソプロピルアミン塩glyphosateisopropylamine、スルホサートsulfosate、グルホシネートglufosinate、グルホシネートアンモニウム塩glufosinateammonium、ビラナホスbilanafosなどのように植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。8トリフルラリンtrifluralin、オリザリンoryzalin、ニトラリンnitralin、ペンディメタリンpendimethalin、エタルフルラリンethalfluralin、ベンフルラリンbenfluralin、プロジアミンprodiamineのようなジニトロアニリン系、ベンスリドbensulide、ナプロナミドnapronamide、プロナミドpronamideのようなアミド系、アミプロホスメチルamiprofosmethyl、ブタミホスbutamifos、アニロホスanilofos、ピペロホスpiperophosのような有機リン系、プロファムpropham、クロルプロファムchlorpropham、バーバンbarbanのようなフェニルカーバメート系、ダイムロンdaimuron、クミルロンcumyluron、ブロモブチドbromobutideのようなクミルアミン系、その他アシュラムasulam、ジチオピルdithiopyr、チアゾピルthiazopyrなどのように植物の細胞有糸分裂を阻害することで除草効力を示すとされているもの。9アラクロールalachlor、ブタクロールbutachlor、プレチラクロールpretilachlor、メトラクロールmetolachlor、S-メトラクロールSmetolachlor、テニルクロールthenylchlor、ペトキサマイド、アセトクロールacetochlor、プロパクロールpropachlor、プロピソクロールpropisochlorのようなクロロアセトアミド系、その他エトベンザニドetobenzanid、メフェナセットmefenacet、フルフェナセットflufenacet、トリディファンtridiphane、カフェンストロールcafenstrole、フェントラザミドfentrazamide、オキサジクロメフォンoxaziclomefone、インダノファンindanofan、ジメテナミドdimethenamidなどのように植物のタンパク質生合成あるいは脂質生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。10EPTC、ブチレートbutylate、ベルノレートvernolate、モリネートmolinate、ペブレートpebulate、シクロエートcycloate、ジメピペレートdimepiperate、プロスルホカルブprosulfocarb、エスプロカルブesprocarb、チオベンカルブthiobencarb、ピリブチカルブpyributicarb、ジアレートdiallate、トリアレートtriallateのようなチオカーバメート系、その他MSMA、DSMA、エンドタールendothall、エトフメセートethofumesate、ソディウムクロレートsodiumchlorate、ペラルゴン酸pelargonicacid、ホスアミンfosamine、ピノキサデンpinoxaden、HOK-201など。11Xanthomonascampestris、Epicoccosurusnematosurus、Exserohilummonoseras、Drechsrelamonocerasなどのように植物に寄生することで除草効力を示すとされているもの。また本発明化合物は、イネ、コムギ、トウモロコシなどの作物に対し安全性を有し、且つ、雑草を良好に防除できる選択性を示すものを含むが、本発明化合物を前記作物栽培において使用する際、前記した他の除草剤の有効成分化合物中、例えば次のごとき化合物の1種又は2種以上と混用或は併用すれば相乗効果が得られることがある。イネの栽培;2,4-D、MCPA、MCPB、ナプロアニリド、キンクロラック、シメトリン、プロメトリン、ジメタメトリン、プロパニル、スエップ、ベンタゾン、ニトロフェン、クロメトキシフェン、ビフェノックス、オキサジアルギル、オキサジアゾン、スルフェントラゾン、カーフェントラゾンエチル、ペントキサゾン、ピラゾレート、ピラゾキシフェン、ベンゾフェナップ、メトキシフェノン、シハロホップブチル、ベンスルフロンメチル、シノスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、アジムスルフロン、イマゾスルフロン、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、ビスピリバックナトリウム塩、ピリミノバックメチル、アニロホス、ピペロホス、ダイムロン、クミルロン、ブロモブチド、ジチオピル、モリネート、ジメピペレート、エスプロカルブ、チオベンカルブ、ピリブチカルブ、テニルクロール、プレチラクロール、ブタクロール、エトベンザニド、メフェナセット、フルフェナセット、カフェンストロール、フェントラザミド、オキサジクロメフォン、インダノファン、ベンゾビシクロン、ピリベンゾキシム、トリアジフラム、クレフォキシジム、ピラクロニル、ピリフタリドトウモロコシの栽培;2,4-D、MCPA、ジカンバ、クロピラリド、ベナゾリン、ダイフルフェンゾピル、ジウロン、リニュロン、メトベンズロン、シマジン、アトラジン、アトラトン、メトリブジン、テルブチラジン、シアナジン、アメトリン、シプロミッド、ブロモキシニル、ブロモキシニルオクタノエート、ピリデート、ベンタゾン、パラコート、オキシフルオルフェン、フルミクロラックペンチル、フルチアセットメチル、フルリドン、スルコトリオン、メソトリオン、イソキサフルトール、カーフェントラゾンエチル、プリミスルフロンメチル、リムスルフロン、ニコスルフロン、プロスルフロン、ハロスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、フルメツラム、メトスラム、イマゼタピル、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートイソプロピルアミン塩、グルホシネートアンモニウム塩、トリフルラリン、ペンディメタリン、EPTC、ブチレート、アラクロール、メトラクロール、S-メトラクロール、アセトクロール、プロパクロール、ジメテナミド、トリディファン、フロラスラム、メトベンズロン、メトスルファン、オキサスルフロン、テプラロキシジム、アミカルバゾン、フォーラムスルフロンコムギの栽培;MCPB、キンメラック、リニュロン、イソプロチュロン、プロメトリン、ブロモキシニル、ブロモキシニルオクタノエート、ピリデート、ビフェノックス、カーフェントラゾンエチル、チジアジミン、ピラフルフェンエチル、フルルタモン、ジフルフェニカン、スルコトリオン、ジクロホップメチル、トラルコキジム、クロルスルフロン、メトスルフロンメチル、プロスルフロン、ハロスルフロンメチル、フルメツラム、メトスラム、ペンディメタリン、バーバン、イマザメタベンズ、シニドンエチル、エトキシフェンエチル、フロラスラム、フルアゾレート、フルポキサム、イオドスルフロン、メトスルファム、ピリベンゾキシム、スルフォスルフロン、トラルコキシジム、フルカルバゾンソディウム、ピコリナフェン、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、イマザモックス、ビフルブタミド、フルカーバゾン、プロカーバゾンソディウム本発明の望ましい態様は以下の通りである。Qが水素原子、CnR9、CMR9、CNR10、SO2NR10又はSO2R9である、前記式Iの化合物又はその塩。Qが水素原子、CnR9、CMR9又はSO2R9である、前記式Iの化合物又はその塩。Qが水素原子又はCnR9である、前記式Iの化合物又はその塩。R9及びR10が各々水素原子、アルキル又は置換されてもよいフェニルである、前記~いずれかの化合物又はその塩。Qが水素原子である、前記式Iの化合物又はその塩。Aが酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれた少なくとも1種のヘテロ原子を1~2含有する5若しくは6員飽和ヘテロ環基又はジアルコキシメチルである、前記~いずれかの化合物又はその塩。Aが酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれた少なくとも1種のヘテロ原子を1~2含有する5若しくは6員飽和ヘテロ環基である、前記~いずれかの化合物又はその塩。Aが酸素原子を1~2含有する5若しくは6員飽和ヘテロ環基である、前記~いずれかの化合物又はその塩。Aが酸素原子を1~2含有する5員ヘテロ環基である、前記~いずれかの化合物又はその塩。Aが酸素原子を2含有する5員ヘテロ環基である、前記~いずれかの化合物又はその塩。R2がハロアルキル、ハロアルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、ニトロ又はシアノである、前記~いずれかの化合物又はその塩。R2がハロアルキル、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ニトロ又はシアノである、前記~いずれかの化合物又はその塩。R2がアルキルチオ、アルキルスルフィニル又はアルキルスルホニルである、前記~いずれかの化合物又はその塩。R2がアルキルスルホニルである、前記~いずれかの化合物又はその塩。yが2~6の整数である、前記~いずれかの化合物又はその塩。yが2又は3である、前記~いずれかの化合物又はその塩。yが2である、前記~いずれかの化合物又はその塩。R3、R4、R5、R6、R7及びR8が各々水素原子又はメチルである、前記~いずれかの化合物又はその塩。R3、R4、R5、R6、R7及びR8が各々水素原子である、前記~いずれかの化合物又はその塩。前記~いずれかの化合物又はその塩を有効成分として含有する除草剤。前記~いずれかの化合物又はその塩の除草有効量を施用する有害植物の防除方法。次に本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらに限定されるものではない。まず、本発明化合物の合成例を記載する。合成例122’クロロ3’2エトキシ4’メチルスルホニルベンゾイル13シクロヘキサンジオン後記化合物No.18の合成24ジクロロ3ヒドロキシ安息香酸メチル50g及びジメチルホルムアミド30mlの混合物に、213ジオキソラン614g及び炭酸カリウム625gを加え、110°Cで15時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、エーテルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=19にて精製して、油状の24ジクロロ32エトキシ安息香酸メチル545gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm223-245387-395398-4041851973375124ジクロロ32エトキシ安息香酸メチル545g及びジメチルホルムアミド30mlの混合物にナトリウムチオメトキシド119gを加え、50°Cで15分間反応させた。反応混合物を水中に投入し、エーテルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=19にて精製して、油状の2クロロ32エトキシ4メチルチオ安息香酸メチル34gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm222-228244385-392396-4014165207017602クロロ32エトキシ4メチルチオ安息香酸メチル34g及びクロロホルム60mlの混合物に、氷冷下でメタクロロ過安息香酸485gを加え、室温に戻し15時間反応させた。反応混合物を濾過し、濾液を炭酸カリウム水溶液で洗浄し、次いで水洗した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮し、油状の2クロロ32エトキシ4メチルスルホニル安息香酸メチル42gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm228-234325387-392396-4054405167637922クロロ32エトキシ4メチルスルホニル安息香酸メチル42g及びテトラヒドロフラン60mlの混合物に、水酸化ナトリウム184g及び水30mlの混合物を加え、室温で15時間反応させた。反応混合物に水を加え、ジクロロメタンで洗浄した。水層を塩酸で酸性にし、酢酸エチルで抽出した後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して融点142~144°Cの2クロロ32エトキシ4メチルスルホニル安息香酸376gを得た。2クロロ32エトキシ4メチルスルホニル安息香酸376g、13シクロヘキサンジオン144g及びジクロロメタン50mlの混合物に、氷冷下で、NN’ジシクロヘキシルカルボジイミド243g及びジクロロメタン30mlの混合物を滴下した。滴下終了後、室温に戻し15時間反応させた。反応混合物を濾過し、濾液を炭酸カリウム水溶液で洗浄し、水洗した後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮してエノールエステル48gを得た。前工程で得たエノールエステル48g及びアセトニトリル50mlの混合物にトリエチルアミン216g及びアセトンシアノヒドリン023gを加え、室温で4時間反応させた。反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮した後ジクロロメタン及び炭酸カリウム水溶液を加え分液した。水層を塩酸で酸性にし、ジクロロメタンで抽出した後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮してアメ状の目的物368gを得た。合成例222’クロロ3’2エトキシ4’メチルスルホニルベンゾイル13シクロヘキサンジオン後記化合物No.110の合成24ジクロロ3ヒドロキシ安息香酸メチル05g、2エタノール036g、トリフェニルホスフィン089g及びテトラヒドロフラン15mlの混合物に、氷冷下で、ジエチルアゾジカルボキシレート123g及びテトラヒドロフラン5mlの混合物を滴下した。滴下終了後室温に戻し15時間反応させた。反応混合物を水洗した後減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー展開溶媒:酢酸エチルnヘキサン=19にて精製して、油状の24ジクロロ32エトキシ安息香酸メチル067gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1HNMRδppm126-131222-228343392396-40415-42152273475124ジクロロ32エトキシ安息香酸メチル067gを出発原料とし、前記合成例1~に準じた方法にて、アメ状の目的物032gを得た。合成例322’クロロ3’2エトキシ4’メチルスルホニルベンゾイル3ベンゾイルオキシ2シクロヘキセン1オン後記化合物No.148の合成前記合成例1に準じて合成された22’クロロ3’2エトキシ4’メチルスルホニルベンゾイル13シクロヘキサンジオン03g及び12ジクロロエタン10mlの混合物に、トリエチルアミン01g、塩化ベンゾイル095gを加え室温で15時間反応させた。反応混合物を水洗し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮し、油状の目的物037gを得た。合成例422’クロロ3’4’メチルスルホニルベンゾイル13シクロヘキサンジオン後記化合物No.139の合成前記合成例1の工程において、213ジオキソランに替えて3クロロ11ジエトキシプロパンを使用すること以外、前記合成例1に準じた方法により、油状の目的物12gを得た。次に、前記式Iで表される本発明化合物の代表例を第1~5表に、それらの物性を第6~7表に挙げるが、これら化合物は前記合成例或は前記した本発明化合物の種々の製造方法に基づいて合成することができる。尚、表中、Meはメチル基を、Etはエチル基を、Prはプロピル基を、Phはフェニル基を各々示す。また、表中、2MePhとあるのは、2位にメチル基が置換したフェニル基を示し、他の同様の記載もこれに準じる。次に本発明の試験例を記載する。試験例1/1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を詰め、ノビエ及びホタルイの種子を播種し、その上に軽く覆土した。その後湛水深0.5~1cmの状態で温室内に静置し、翌日又は2日後にウリカワの塊茎を植え込んだ。その後湛水深を3~4cmに保ち、ノビエ及びホタルイが0.5葉期、ウリカワが初生葉期に達した時点で、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤の水希釈液を、所定有効成分量になるようにピペットで均一に滴下処理した。また1/1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を詰め、代かきを行い、湛水深を3~4cmとし、翌日に2葉期のイネ品種:日本晴を移植深3cmに移植した。移植後4日目に本発明化合物を前述と同様に処理した。薬剤処理後14日目にノビエ、ホタルイ及びウリカワの生育状態を、薬剤処理後21日目にイネの生育状態を各々肉眼観察し、0無処理区と同等~100完全枯殺の抑草率で除草効果を評価し、第8表の結果を得た。次に、本発明の製剤例を記載する。製剤例11本発明化合物75重量部2ゲロポンT-77商品名;ローヌプーラン社製14.5重量部3NaCl10重量部4デキストリン0.5重量部以上の各成分を高速混合細粒機に入れ、さらにそこへ20の水を加え造粒、乾燥して顆粒水和剤が得られる。製剤例21カオリン78重量部2ラベリンFAN商品名;第一工業製薬株製2重量部3ソルポール5039商品名;東邦化学工業株製5重量部4カープレックス商品名;塩野義製薬株製15重量部以上、1~4の成分の混合物と本発明化合物とを9:1の重量割合で混合して水和剤が得られる。製剤例31ハイフィラーNo.10商品名;松村産業株製33重量部2ソルポール5050商品名;東邦化学工業株製3重量部3ソルポール5073商品名;東邦化学工業株製4重量部4本発明化合物60重量部以上の1~4の各成分を混合して水和剤が得られる。製剤例41本発明化合物4重量部2ベントナイト30重量部3炭酸カルシウム61.5重量部4トキサノンGR-31A商品名;三洋化成工業株製3重量部5リグニンスルホン酸カルシウム塩1.5重量部予め粉砕した1と、2及び3とを混合し、そこへ4、5及び水を加えて混合し、押出し造粒する。その後、乾燥、整粒して粒剤が得られる。製剤例51本発明化合物30重量部2ジークライト商品名;ジークライト株製60重量部3ニューカルゲンWG-1商品名;竹本油脂株製5重量部4ニューカルゲンFS-7商品名;竹本油脂株製5重量部1、2及び3を混合し、粉砕機を通した後、4を加えて混練後、押出し造粒する。その後、乾燥、整粒して顆粒水和剤が得られる。製剤例61本発明化合物28重量部2ソプロポールFL商品名;ローヌプーラン社製2重量部3ソルポール355商品名;東邦化学工業株製1重量部4IPソルベント1620商品名;出光石油化学株製32重量部5エチレングリコール6重量部6水31重量部以上の1~6の成分を混合し、湿式粉砕機ダイノ-ミルを用いて粉砕して水性懸濁剤が得られる。"