"金属で構成された平面状の基材、光吸収性材料からなる第1層、および光反射性材料からなる第2層が積層された積層材を用意する工程と、第2層に対してレーザ光を照射し、目盛りとして、第1層が露出した周期的な開口領域を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学式エンコーダ用スケールの製造方法。レーザ光として、パルスレーザを用いて、パルス照射タイミングに同期して積層材を移動させることを特徴とする請求項1記載の光学式エンコーダ用スケールの製造方法。レーザ光として、紫外レーザを用いることを特徴とする請求項1記載の光学式エンコーダ用スケールの製造方法。しかしながら、特許文献2の手法1に関して、薄肉の金属スケールが自己の形状を保つためには、ある程度の厚みが必要になる。そのため、厚い材料に貫通穴を開けるには大きなレーザエネルギーが要求され、コストと時間がかかるという問題がある。特許文献2の手法2に関して、透過型のロータリーエンコーダ用スケールとして使用するには問題は少ない。しかし、反射型のスケールとして使用する場合には、透明基板を通過した光が迷光とならないように処理しなければならないという問題がある。さらに、リニアエンコーダでは、スケールの長さが例えば数メートルになることがある。手法2を反射型のリニアエンコーダ用のスケールに適用し、透明基板としてガラス材料を用いた場合、それだけの長さのガラススケールを製作すること自体が難しく、そのガラスにスケールを刻むための加工装置も大掛かりなものとなる。透明基板として樹脂材料を用いた場合は、温度変化に対する変動や傷に対して弱いなどの問題がある。手法3は、上記手法1と2の問題点は解消されているものの、粗面の状態をレーザ加工によって制御することは難しく、また粗面領域では散乱反射光が発生するので、鏡面領域からの反射光と交じり合ってしまい、大きなノイズが発生するという本質的な問題がある。本発明の目的は、上記のような問題点を解決するため、小さなレーザエネルギーで生産性良く加工でき、環境変化に対して安定で、かつ反射迷光の少ない光学式エンコーダ用スケールの製造方法を提供することである。本発明に係る光学式エンコーダ用スケールの製造方法は、金属で構成された平面状の基材、光吸収性材料からなる第1層、および光反射性材料からなる第2層が積層された積層材を用意する工程と、第2層に対してレーザ光を照射し、目盛りとして、第1層が露出した周期的な開口領域を形成する工程と、を含むことを特徴とする。本発明によれば、スケール素材として、基材の上に光吸収性材料からなる第1層および光反射性材料からなる第2層が積層された積層材を採用し、第2層にレーザ加工を施して、目盛りとして周期的な開口領域を形成することによって、小さなレーザエネルギーで生産性良く、エンコーダ用スケールを加工することができる。また、第2層に周期的な開口領域を設けることによって、光学式読取器からの検出光に対する第1層と第2層の光学コントラストが向上し、反射や散乱による迷光が少なくなり、温度変化や傷などに対して安定になるため、低ノイズで高精度の位置検出を実現できる。実施の形態1.図1は、本発明に係るスケール素材4の一例を示す斜視図である。スケール素材4は、平面状の基材1の上に、順次、光吸収性の黒下地層2および光反射性の金属膜3が積層された積層材として構成される。基材1は、ガラス、プラスチック、金属等の材料を用いて剛性の高い板状や可撓性のあるテープ状に加工したものが使用でき、特に、金属テープであることが好ましい。金属テープを採用した場合、ガラスとは違ってリールに巻いて収納することができ、また、数メートルに及ぶ長尺スケールも加工できることから、加工や設置の際、運搬や保管の容易さの点で好都合である。また、金属テープは、プラスチックよりも温度に対する膨張が小さいので、温度変化によるスケールの伸び縮みが小さく、傷が付きにくいという利点もある。すなわち、基材1として金属テープを使用することにより、ガラス基板やプラスチック基板よりも扱いやすく、環境の変化に強いという利点がある。黒下地層2は、基材1との接着強度が高く、光吸収性の材料で形成される。例えば、基材1として金属テープを使用した場合、黒下地層2として黒色クロムメッキを用いることが好ましい。黒下地層2の表面は、研磨を施すことにより、高い平面性および表面粗さに保たれる。金属膜3は、例えば、蒸着やスパッタ、CVD等により形成することができる。金属膜3の厚さは、光学式エンコーダの検出に使用する波長の光が透過しない程度にできるだけ薄くすることが好ましい。金属膜3が薄いほど、小さなエネルギー量のレーザで金属膜3を剥離できるからである。特に、金属膜3は、厚さ500nm程度の金Auであることが好ましい。黒下地層2の表面が研磨されていると、金属膜3をごく薄く蒸着した場合でも、金属膜3の表面は、下地層と同様に凹凸のない光沢面が得られる。この金属膜3に向けて光学式読取器からの検出光が照射されると、検出光の大部分が正反射し、散乱光はほぼ皆無となって、迷光の少ない良好な信号が得られる。このように黒下地層2をクロム等の金属で形成することによって、傷や薬品に対する耐久性を高めることができ、さらに、研磨により鏡面状態を容易に形成でき、その上に被膜する金属膜3も鏡面状態にすることが可能である。図2は、スケール素材4の加工方法の一例を示す斜視図である。スケール素材4は、X方向に沿って移動可能な移動ステージ21の上に搭載される。レーザ発振器14から出射したレーザ光LBは、転写マスク13を照射する。転写マスク13の像は、ミラー12および転写レンズ11によってスケール素材4の表面上に結像される。転写マスク13の開口形状は、最終的に得られるスケール上の開口領域5の形状に応じて決定される。例えば、スケール目盛りとして、開口領域5の幅X方向が20μm、長さY方向が300μm、ピッチが40μmとなるように設計し、転写レンズ11の縮小転写倍率が1/20とした場合、転写マスク13の開口形状は、幅0.4mm×長さ6mmとなる。移動ステージ21が停止した状態で、レーザ光LBを発生すると、転写マスク13の開口形状に対応した領域における金属膜3が溶融、蒸発して、黒下地層2が露出した開口領域5が形成される。続いて、移動ステージ21をX方向に沿って1ピッチ分移動する。次に、移動ステージ21が停止した状態で、レーザ光LBの照射を行うと、第2の開口領域5が形成される。こうした手順を繰り返し実施することによって、一定ピッチで配列した周期的な開口領域5が得られる。レーザ発振器14として、所定の周期でパルス光を発生するパルスレーザ光源を用いた場合、パルス照射タイミングに同期して、移動ステージ21を連続的に移動させることにより、一定ピッチの周期的な開口領域5を形成することができる。例えば、移動ステージ21の送り速度を、パルス照射の1周期で40μm移動するように設定すれば、40μmピッチの開口領域5が得られる。こうしてパルスレーザ光を使用した場合、移動ステージ21の連続動作だけで一定ピッチの目盛りを加工できるため、生産性が向上する。金属膜3をできるだけ薄くすることにより、少ないレーザパルス数で金属を剥離することが可能である。発明者による実験では、金属膜3を厚さ500nm、金Auとした場合、照射するレーザエネルギー量に依存するが、2,3パルス、あるいは1パルスのレーザで金属膜3を剥離することができた。金属膜3が除去された開口領域5では、光吸収性の黒下地層2が露出するため、金属膜3の光反射領域と開口領域5の光吸収領域との組合せにより、高い光学コントラストを有する目盛りが得られる。次に、黒下地層2の上に金属膜3を設ける利点について説明する。上記特許文献1では、レーザ加工ではなく、エッチングによって感光剤の薄膜を除去するスケール形成法が提案されいるが、その膜の構成は、透明基板の上に金属膜があって、その上に選択除去される遮光膜でもある感光剤が塗布されている。この特許文献1のように、金属膜の上に遮光膜が形成されているスケール素材に対し、レーザ加工によって上部の遮光膜を剥離しようとすると、下地の金属膜にもレーザエネルギーの影響が及ぶ可能性が多分にある。すなわち、余分なレーザエネルギーに起因して、反射すべき金属膜の表面が荒れてしまうと、光学式読取器からの検出光が散乱してしまい、良好な信号を得ることができない。これに対して本発明に係るスケール素材4の構成は、反射面である金属膜3の下に光吸収層である黒下地層2を設けているため、仮にレーザエネルギー量が強すぎて黒下地層2の表面が荒れてしまった場合でも、そこは検出光を吸収する領域であるので、光散乱などの問題が生じないという利点がある。また、特許文献2の手法3では金属表面を粗面領域に加工する手法を用いているが、本発明では、光反射領域と光吸収領域との間で光のコントラストを増強しているため、迷光が抑制され、高S/N比の信号が得られる。このように、図1に示すスケール素材4に対してレーザ加工を適用することによって、上面の金属膜3は非常に薄いので、小さなエネルギー量のレーザ光あるいは少ないレーザパルス数のレーザ光で金属膜3を剥離できる。よって、低コストで短時間で生産性よく光学式エンコーダ用スケールを加工することができる。また、基材1の上に黒下地層2を設け、その上に金属膜3を設けているため、万一、照射するレーザエネルギー量が強すぎて黒下地層2の表面が荒れてしまった場合でも、荒れた表面は光吸収面であることから、散乱光が余り発生しない。従って、照射レーザエネルギー量の許容範囲が拡大するため、スケールの生産性が高くなる。なお、以上の説明では、レーザ光を転写マスク13に照射し、転写レンズ11を用いてスケール素材4に転写する方法について説明したが、本発明はこの方法に限定されるものでない。例えば、転写マスク13および転写レンズ11の代わりに、ガルバノミラーなどのレーザスキャナーを用いて、移動ステージ21の移動とともにレーザビームを開口領域5の範囲で走査することによって、金属膜3を剥離することができる。さらに、転写マスク13とレーザスキャナーの組合せによるレーザ加工も可能である。実施の形態2.図3は、本発明に係るスケール素材4の他の例を示す断面図である。スケール素材4は、平面状の基材1の上に、順次、光吸収性の黒下地層2および光反射性の金属膜3が積層された積層材として構成され、さらに金属膜3の表面および開口領域5での黒下地層2の表面に、反射防止膜6が施されている。反射防止膜6は、黒下地層2と大気との間の屈折率変化を緩和して、表面反射を低減する役割を果たす。例えば、金属膜3として金Auを使用し、黒下地層2としてクロムCrを使用した場合、金の複素屈折率は、n=1.0、消衰係数k=7であり、クロムの複素屈折率は、n=2.7、消衰係数k=3.0である。複素屈折率を用いたフレネルの式によると、金の反射率は92、クロムの反射率は52と計算される。光吸収面での反射率52という数値は決して小さくなく、反射防止膜6を設けることによって、この反射率を低減することができる。反射防止膜6の屈折率は、黒下地層2の屈折率と金属膜3の屈折率との間の実屈折率を持つことが好ましく、この場合、金属膜3に対しては反射防止膜6の干渉条件は成立しない。例えば、反射防止膜6の材料として、屈折率1.37のフッ化マグネシウムMgF2を用いた場合、クロムの実屈折率2.7の方が高くなるため、黒下地層2での反射の際に光の位相が反転する。また、反射防止膜6をMgF2単層で構成した場合、検出光の波長λを0.88μmとして、干渉により光を打ち消すための反射防止膜6の厚さはMgF2内でのλ/4に相当し、0.88/1.37/4=0.16μmとなる。一方、金の実屈折率は、MgF2よりも小さく、金とMgF2の界面では光の位相が反転しないため、0.16μm厚のMgF2単層は、金属膜3に対する反射防止として機能せず、金属膜3の表面は高反射率に保たれる。このように、黒下地層2と金属膜3の中間の屈折率を持つ反射防止材料を選択することにより、黒下地層2に対しては光をよく吸収し、金属膜3に対しては反射防止として機能しない反射防止膜6を実現できる。その結果、開口領域5からの反射迷光が少なくなり、高いコントラストの信号が得られる。また、反射防止膜6を全面に設けることによって、金属膜3および黒下地層2の酸化を防止したり、傷や薬品に対して耐性のある保護コートとしての役割も果たす。実施の形態3.本実施形態は、図2に示したレーザ発振器14として、紫外レーザ光を発生するレーザ発振器を使用している。金属は、一般に、可視領域では反射率が高く、吸収率が低いが、紫外域では吸収率が高くなるので、小さなエネルギーのレーザでも金属膜3の剥離が可能になる。従って、紫外レーザを用いることによって、小さなエネルギー量のレーザ光あるいは少ないレーザパルス数のレーザ光で金属膜3を剥離できる。よって、低コストで短時間で生産性よく光学式エンコーダ用スケールを加工することができる。実施の形態4.実施の形態1.では、黒下地層2が黒色クロムメッキを施した研磨面の場合を例にとり詳細に説明をした。しかしながら、黒下地層2は、単層ではなくとも、黒色の金属層とその上に施された透明な樹脂コーティング層の2層で構成されていても良い。ここではそのような場合について述べる。平面状の基材1である金属テープとしての材料として、例えばステンレスが挙げられる。ステンレスは黒色顔料を混ぜた焼付けによって、その表面を黒色にすることができる。しかし、その表面は鏡面ではなく光散乱面であるので、その上に金を蒸着してもその金の表面は下地の散乱面の凹凸を反映して光散乱面となってしまう。また、焼付けの層は薄いので、鏡面にしようとして研磨をすると黒色の層がなくなってしまうという問題がある。その問題を解決するために、ステンレスの黒色表面上に、表面の凹凸をならして鏡面状態にするのに十分な厚みの透明樹脂を塗布する。具体的な厚みとしては、例えば数10μmから数100μmの厚みである。あまり厚すぎると、樹脂は一般的に熱膨張係数が大きく、温度によるスケール目盛りの変化が大きくなってしまうという問題が発生するので、鏡面状態を保てる範囲でできるだけ薄くするのが良い。このように散乱面を持った黒色表面でもその上に透明樹脂を塗布することで表面を鏡面状態にすることができ、その上に金を蒸着すると金の蒸着面も鏡面状態となる。レーザ加工によって金の蒸着面を剥離すると、その剥離された領域は黒色となる。すなわち、エンコーダに使用する光が照射されると、透明樹脂領域を通してステンレスの黒色表面上でその光は吸収される。よって、金の蒸着面が残っている領域とレーザによって剥離された領域との反射光の違いが大きく、高コントラストの信号が得られるという利点がある。黒色クロムメッキ等のクロムを使った工程は、クロムの廃棄処理にコストがかかる可能性がある。また、数mにおよぶ長い金属テープの表面を研磨するのは設備費がかかる可能性がある。これに対して本実施形態の構成によれば、金属表面は、黒色メッキや焼付けなど簡単な工程で黒色処理を施して、その上に塗布された樹脂コーティングによりその表面上は鏡面状態になることから、研磨工程を省くことができる。すなわち、散乱状態である黒色表面の上に樹脂コーティングを設けることで、光反射材料である第2層の表面状態も鏡面状態に保つことができる。このような素材でエンコーダ用スケールを製作すると第2層からの反射光は散乱光のない良好な信号となり、高コントラストの信号が得られるという利点がある。以上の説明では、スケール素材4として、基材1の上に黒下地層2と金属膜3を積層した構成例を示したが、基材1と黒下地層2との間に単層または複数層が介在してもよく、黒下地層2と金属膜3との間に単層または複数層が介在してもよく、金属膜3と反射防止膜6との間に単層または複数層が介在してもよく、いずれの構成も本発明の範囲内である。また、以上の説明では、直線方向の変位や移動距離を検出するためのリニアスケールを作成する方法を例示したが、回転方向の変位や移動距離を検出するためのロータリスケールを作成する場合は、円板状に形成したスケール素材4を回転ステージ21に搭載し、スケール素材4を回転させながらレーザ光を照射することによって、円周方向に沿った周期的な開口領域5を形成することができる。"