各々が表示領域と非表示領域とを含み、一定間隔だけ離隔された第1基板及び第2基板と;前記第1基板と前記第2基板との間に配置された液晶層と;前記第1基板と前記第2基板との間の前記非表示領域に配置されたシールパターンと;前記第1基板の前記非表示領域に配置されたゲート駆動回路と;前記第1基板と前記第2基板との間の前記表示領域に配置された複数のコラムスペーサーと;前記非表示領域の前記ゲート駆動回路と前記第2基板との間に配置される第1補助スペーサーと;前記第1基板と前記第2基板との間に、前記表示領域の端部に沿って配置された第2補助スペーサーとを含み、前記第1及び第2補助スペーサーは、複数のパターンが配列されたハニカム構造であることを特徴とする液晶表示装置。前記ゲート駆動回路に入力信号配線が接続され、前記第1補助スペーサーは、前記入力信号配線の上部に配置されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。前記第2基板の前記表示領域及び前記非表示領域に配置される共通電極をさらに含み、前記第1補助スペーサーは、前記第2基板の前記非表示領域において前記共通電極の上部に位置することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。前記第1及び第2基板は、複数の単位セルを含み、前記単位セルの間に第3補助スペーサーが配置されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。前記第1及び第2基板は、複数の単位セルを含み、前記単位セル同士の間に第2補助スペーサーが配置されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。前記ゲート駆動回路は、前記シールパターンよりも内側に位置することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。前記第1補助スペーサーは、前記コラムスペーサーと同一物質で形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。前記第1補助スペーサーは、有機物質で形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。表示領域と非表示領域とが定義されている第1基板及び第2基板を準備する段階と;前記第1基板の前記非表示領域にゲート駆動回路を形成する段階と;前記第1及び第2基板のいずれかの前記表示領域に複数のコラムスペーサーを形成する段階と;前記第1及び第2基板のいずれかの前記非表示領域に前記ゲート駆動回路上に第1補助スペーサーを形成する段階と;前記表示領域の端部に複数のパターンが配列されたハニカム構造の第2補助スペーサーを形成する段階と;前記第1及び第2基板のいずれかの前記非表示領域にシールパターンを形成する段階と;前記第1及び第2基板を合着する段階とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。前記第1補助スペーサーを形成する段階は、前記コラムスペーサーを形成する段階と同時に行われることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。前記第1補助スペーサーは、有機物質で形成されることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。前記第1補助スペーサーは、ハニカム構造であることを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置の製造方法。前記シールパターン、前記ゲート駆動回路、前記コラムスペーサー及び前記第1補助スペーサーを各々が含む複数の単位セルを前記第1及び第2基板上に形成する段階と;前記単位セル同士の間に第2補助スペーサーを形成する段階と;前記第1及び第2基板を前記単位セルごとに切断する段階とをさらに含み、前記第1補助スペーサーを形成する段階は、前記第2補助スペーサーを形成する段階と同時に行われることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。前記ゲート駆動回路を形成する段階は、前記ゲート駆動回路への信号配線を形成する段階を含み、前記第1補助スペーサーは、前記入力信号配線に対応する位置に形成されることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。前記第1及び第2基板を合着する段階の後、前記第1基板と前記第2基板との間に液晶を注入する段階をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。前記第1及び第2基板を合着する段階の前に、前記第1及び第2基板のいずれかに液晶を滴下する段階をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。前記シールパターンは前記第2基板に形成され、前記液晶は前記第1基板に滴下されることを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置の製造方法。本発明は、前述したような問題を解決するためのものであり、GIP方式の液晶表示装置のゲート駆動回路に含まれる薄膜トランジスタのチャンネルと共通電極間に存在する寄生容量による誤作動を防ぐGIP型の液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。また、ゲート駆動回路における異物の流入による短絡の問題を解決できるGIP型の液晶表示装置及びその製造方法を提供することをも目的とする。さらに、中型もしくは大型の表示パネルを備える液晶表示装置において、ゲート駆動回路と接続される信号配線のラインディレーによってゲート駆動信号の出力が低下される現象を防ぐことのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供することをも目的としている。前述したような目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、各々が表示領域と非表示領域とを含み、一定間隔だけ離隔された第1基板及び第2基板と;前記第1基板と前記第2基板との間に配置された液晶層と;前記第1基板と前記第2基板との間の前記非表示領域に配置されたシールパターンと;前記第1基板の前記非表示領域に配置されたゲート駆動回路と;前記第1基板と前記第2基板との間の前記表示領域に配置された複数のコラムスペーサーと;前記非表示領域の前記ゲート駆動回路と前記第2基板との間に配置される第1補助スペーサーと;前記第1基板と前記第2基板との間に、前記表示領域の端部に沿って配置された第2補助スペーサーとを含み、前記第1及び第2補助スペーサーは、複数のパターンが配列されたハニカム構造であることを特徴とする。前記ゲート駆動回路に入力信号配線が接続され、前記第1補助スペーサーは、前記入力信号配線の上部に配置される。前記第2基板の前記表示領域及び前記非表示領域に配置される共通電極をさらに含み、前記第1補助スペーサーは、前記第2基板の前記非表示領域において前記共通電極の上部に位置する。前記第1及び第2基板は、複数の単位セルを含み、前記単位セルの間に第3補助スペーサーが配置される。前記第1及び第2基板は、複数の単位セルを含み、前記単位セル同士の間に第2補助スペーサーが配置される。前記ゲート駆動回路は、前記シールパターンよりも内側に位置する。前記第1補助スペーサーは、前記コラムスペーサーと同一物質で形成される。前記第1補助スペーサーは、有機物質で形成される。本発明による液晶表示装置の製造方法は、表示領域と非表示領域とが定義されている第1基板及び第2基板を準備する段階と;前記第1基板の前記非表示領域にゲート駆動回路を形成する段階と;前記第1及び第2基板のいずれかの前記表示領域に複数のコラムスペーサーを形成する段階と;前記第1及び第2基板のいずれかの前記非表示領域に前記ゲート駆動回路上に第1補助スペーサーを形成する段階と;前記表示領域の端部に複数のパターンが配列されたハニカム構造の第2補助スペーサーを形成する段階と;前記第1及び第2基板のいずれかの前記非表示領域にシールパターンを形成する段階と;前記第1及び第2基板を合着する段階とを含むことを特徴とする。前記第1補助スペーサーを形成する段階は、前記コラムスペーサーを形成する段階と同時に行われる。前記第1補助スペーサーは、有機物質で形成される。前記第1補助スペーサーは、ハニカム構造である。前記シールパターン、前記ゲート駆動回路、前記コラムスペーサー及び前記第1補助スペーサーを各々が含む複数の単位セルを前記第1及び第2基板上に形成する段階と;前記単位セル同士の間に第2補助スペーサーを形成する段階と;前記第1及び第2基板を前記単位セルごとに切断する段階とをさらに含み、前記第1補助スペーサーを形成する段階は、前記第2補助スペーサーを形成する段階と同時に行われる。前記ゲート駆動回路を形成する段階は、前記ゲート駆動回路への信号配線を形成する段階を含み、前記第1補助スペーサーは、前記入力信号配線に対応する位置に形成される。前記第1及び第2基板を合着する段階の後、前記第1基板と前記第2基板との間に液晶を注入する段階をさらに含む。前記第1及び第2基板を合着する段階の前に、前記第1及び第2基板のいずれかに液晶を滴下する段階をさらに含む。前記シールパターンは前記第2基板に形成され、前記液晶は前記第1基板に滴下される。以下、図面を参照して、本発明の実施例による液晶表示装置及びその製造方法を説明する。本発明の実施例によるGIP方式の液晶表示装置及びその製造方法は、ゲート駆動回路に含まれる薄膜トランジスタのチャンネルと第2基板間に存在する寄生容量による誤作動を防ぎ、また、製造工程の際に、ゲート駆動回路に異物が流入することを防ぐ。さらに、中型もしくは大型の表示パネルを備える液晶表示装置において、ゲート駆動回路と接続される信号配線のラインディレーによってゲート駆動信号の出力が低下される現象を防ぐ。本発明の実施例は、液晶表示装置の製造工程において、従来と同様の工程を含む。従来の製造工程におけるst4段階では、スペーサーとしてボールスペーサーが幅広く利用されていた。これに対して、本発明においては、最近提案されたフォトエッチング工程を利用して、一定な位置にスペーサーパターンを形成する方式のコラムスペーサーを利用する。コラムスペーサーによると、セルギャップを容易に維持して、非画素領域上に固定されるように形成できるので、スペーサーによる光漏れの発生を減らすことができる。また、より小さいセルギャップが要求されるモデルに適用した場合にも、セルギャップを精密に制御し、スペーサーの位置の固定によって製品の堅固性を高めることができ、物が画面に触れた時のリップル現象を防ぐことができるという長所を有する。図4は、本発明の第1実施例による液晶表示装置の液晶パネルの平面図である。図4に示したように、本発明の実施例による液晶パネル100は、ゲート駆動回路120が実装される非表示領域NAを含む第1基板102が配置されており、第1基板102と対向された位置には、コラムスペーサー204が形成される第2基板104が配置されていて、第1基板102、第2基板104の枠部には、側部に液晶注入口210を有するシールパターン220が形成されている。シールパターン220の領域の内側は、画面を表示する表示領域AAとして定義される。表示領域AA内には、感光性物質であるフォトレジストを利用したパターニング工程で定義されるフォトエッチング工程によって表示領域AA内のセルギャップを一定に維持する役割のコラムスペーサー204が相互に一定間隔離隔して複数形成されている。コラムスペーサー204の材質としては、アクリル系有機物が利用される。また、感光性有機物質を利用して、別途のフォトレジストなしに、当該感光性有機物質を直接露光及び現像することによって形成することもできる。また、第1基板102と第2基板104との間には、液晶層が形成されている。さらに、第2基板104には、ゲート駆動回路120の上部に、コラムスペーサー204と同一物質で形成された補助スペーサー202が形成されている。補助スペーサー202は、コラムスペーサー204と同一工程で同一物質で形成される。別途の追加工程は不要である。補助スペーサー202は、望ましくは、ゲート駆動回路120の上部をできるだけ全部覆う形態で形成される。補助スペーサー202の材質としては、例えば有機物が使用される。これによって、補助スペーサー202がゲート駆動回路120の上部を覆い、図1のst5段階である第1基板102と第2基板104とを合着する段階以後の工程で発生する異物の流入が防げる。図5は、図4のV-V’線に沿って切断した断面図である。図5に示したように、液晶パネル100の側部においては、第1基板102及び第2基板104が所定距離離隔して合着されている。シールパターン220よりも内側には表示領域AAが形成され、この部分には、液晶層160が形成される。一方、シールパターン220より外側には非表示領域NAが形成される。また、非表示領域NAにおいて、第1基板102の上部にはゲート駆動回路120及びその信号配線125が実装される。第2基板104の下部には、共通電極106が形成され、特に、ゲート駆動回路120に対応する位置に補助スペーサー202が形成されている。これによって、第1及び第2基板102、104の合着工程以後に発生する異物の流入が防げる。以下、図面を参照して、本発明の他の実施例による液晶表示装置及びその製造方法を説明する。本発明の他の実施例は、液晶パネルの大型化によってゲート駆動回路の信号配線が長くなることにより発生するラインディレーによるゲート駆動信号の出力低下現象を改善するためのものである。図6は、本発明の第2実施例による液晶表示装置用液晶パネルの断面図である。図6では、便宜上、第1実施例の一例と同一な構成要素には、同一な符号を示している。図6に示したように、液晶パネル100の側部において、第1基板102及び第2基板104が所定距離離隔して合着されている。シールパターン220より内側には表示領域AAが形成され、この部分には液晶層160が形成される。シールパターン220より外側には、共通電極106が延長して形成される非表示領域NAが形成される。これは、第1実施例と同様の構造であるが、非表示領域NAで第1基板102の上部に実装されるゲート駆動回路120の信号配線125に対応する位置に第2基板104の補助スペーサー302が形成されている点で第1実施例と異なる。第1実施例及び第2実施例の構成を併せて、ゲート駆動回路120及びその信号配線125の両方の上部に補助スペーサーを配置することもできる。この場合、ゲート駆動回路120とその信号配線125との段差を考慮する必要がある。第2基板104上の共通電極106を第1基板102上に実装される駆動回路に連結するため、一般的には、銀接点が第1基板102と第2基板104との間に形成される。しかし、このような銀接点を形成する工程は、非常に複雑で多くの時間を必要とするという問題がある。従って、最近、導電性ボールスペーサーを内部に含むシールパターンを利用して共通電極を駆動回路に連結させる方法が提案されている。このようなシールパターンを利用する本発明の第3実施例による液晶パネルを図7及び図8に示している。図7は、本発明の第3実施例による液晶表示装置用液晶パネルの平面図であって、図8は、図7のVIII-VIII’線に沿って切断した断面図である。図7と図8に示したように、本発明の第3実施例による液晶パネル400は、第1基板402及び第2基板404を含み、第1基板402及び第2基板404には、画像が表示される表示領域AAと表示領域を取り囲む非表示領域NAとが定義される。図面には示していないが、表示領域AAの第1基板402の内側面においては、複数のゲート配線とデータ配線が交差して画素領域を定義している。ゲート配線とデータ配線の交差地点には薄膜トランジスタが配置されており、各画素領域には、薄膜トランジスタに連結される画素電極が配置されている。また、画素領域には、画素電極に連結されるストレージキャパシターがさらに配置される。表示領域AAの第2基板404の内側面には、ブラックマトリックスとカラーフィルター層及び共通電極406が形成されている。共通電極406は、画素電極と共に液晶キャパシターを形成して、非表示領域NAまで延在している。表示領域AAにおいて、画素領域以外の部分には、複数のコラムスペーサー504が形成され、第1基盤402と第2基板404との間の間隔を均一に維持する。非表示領域NAには、表示領域AAを取り囲むシールパターン520が形成されており、シールパターン520の内側には、ゲート駆動回路420及びその信号配線425が形成されている。ゲート駆動回路420の上部には、補助スペーサー502が形成されている。コラムスペーサー504とシールパターン520は、相互に異なる基板に形成されてもよい。すなわち、コラムスペーサー504は第2基板404に形成されて、シールパターン520は第1基板402に形成される。または、コラムスペーサー504とシールパターン520は、同一基板に形成されてもよい。表示領域AAにおいて、第1基板402と第2基板404との間には、液晶層460が形成されている。ここで、シールパターン520は、液晶滴下方式に利用される閉構造を有する。液晶滴下方式を利用した液晶表示装置の製造方法では、液晶パネルの一基板上にシールパターンを形成して、他の基板上にコラムスペーサーを形成した後、コラムスペーサーが形成された基板上に液晶を滴下する。それから、二つの基板を合着して、合着された二つの基板をセル単位に切断する。このような液晶滴下方式は、基板上に直接液晶を滴下するので所要時間が短く、基板に滴下される液晶の量が正確に制御されるので、液晶の消耗率を低減することができる。この時、シールパターンが形成された基板上に液晶を滴下することもできるが、シールパターンと液晶の接触による不良を最小化するために、望ましくは、シールパターンと異なる基板上に液晶を滴下する。前述したように、シールパターン520の内部には、導電性ボールスペーサーが形成される。従って、ゲート駆動回路420がシールパターン520よりも外側に形成される場合、シールパターン520がゲート駆動回路420及びゲート配線と接触することにより、相互に異なるゲート配線間、またはゲート配線と共通電極406との間に電気的短絡が発生する。これを防ぐために、本発明の第3実施例では、ゲート駆動回路420がシールパターン520よりも内側に配置される。ところが、ゲート駆動回路420がシールパターン520よりも内側に位置する場合、液晶層460がゲート駆動回路420の上部にも位置するので、ゲート駆動回路420と共通電極406との間に液晶層460を誘電体とする寄生容量が生ずる。従って、本発明の第3実施例では、ゲート駆動回路420の上部に補助スペーサー502を形成して、ゲート駆動回路420と共通電極406との間に寄生容量が生ずることを防止する。ここで、補助スペーサー502は、有機物で形成されて、工程数を減少するためにコラムスペーサー504と同一物質で同一工程によって形成される。補助スペーサー502は、できるだけゲート駆動回路420の上部を全部覆う形態で形成される。また、第2実施例のように、補助スペーサー502を信号配線425の上部に形成したり、ゲート駆動回路420と信号配線425の両方の上部に補助スペーサー502を形成したりすることもできる。前述したように、液晶をシールパターンとは異なる基板上に滴下する場合、液晶が表示領域の外側の方に流れる問題が発生することもある。従って、本発明では、これを防ぐために、表示領域の端側にハニカム構造の補助スペーサーをさらに形成する。このようなハニカム構造の補助スペーサーを含む本発明の第4実施例による液晶パネルを図9及び図10に示している。図9は、本発明の第4実施例による液晶表示装置用液晶パネルの平面図であって、図10は、図9のX-X’線に沿って切断した断面図である。図9及び図10に示したように、本発明の第4実施例による液晶パネル600は、第1基板602及び第2基板604を含み、第1基板602及び第2基板604には、画像が表示される表示領域AAと表示領域を取り囲む非表示領域NAが定義される。表示領域AAには、画素領域以外の部分に複数のコラムスペーサー704が形成されて、第1基板602と第2基板604との間の間隔を均一に維持する。非表示領域NAには、表示領域AAを取り囲むシールパターン720が形成されており、非表示領域NAのシールパターン720の内側には、ゲート駆動回路620及びその信号配線625が形成されている。シールパターン720は、閉構造を有して、内部に導電性ボールスペーサーを含む。ゲート駆動回路620の上部には、第1補助スペーサー702が形成されている。表示領域AAの端側には、第2補助スペーサー706がさらに形成される。シールパターン720よりも内側の第1基板602と第2基板604との間には、液晶層460が形成されている。第1補助スペーサー702は、表示領域AAの端側の一側まで延長され、第2補助スペーサー706と共に液晶層460を取り囲む。第1及び第2補助スペーサー702、706は、複数のパターンが細かく離隔されるハニカム構造である。従って、前述したように、第1及び第2補助スペーサー702、706は、滴下された液晶が表示領域AAの外側の方に流れるのを防ぐ。工程数の減少のために、このような第1及び第2補助スペーサー702、706は、望ましくは、コラムスペーサー704と同一物質で同一工程によって形成される。一方、このようなハニカム構造の第1補助スペーサー702は、信号配線625の上部に形成されたり、ゲート駆動回路620と信号配線625の両方の上部に形成されたりすることもできる。このように、本発明の第4実施例では、ゲート駆動回路620の上部にハニカム構造の第1補助スペーサー702を形成することにより、ゲート駆動回路620と共通電極606間に発生する寄生容量が防げる。前述したように、液晶表示装置は、大型の基板上に液晶パネルになる単位セルを複数形成した後、これを各々単位セルに切断して形成する。この時、基板の大きさが大きくなるほど、製造工程の際に二つの基板間の間隔を均一に維持することが重要となるので、このために、単位セル間には、別途の補助スペーサーを形成する。このような単位セル間の補助スペーサーを含む本発明の第5実施例による液晶パネルを図11に示している。図11は、本発明の第5実施例による液晶表示装置用液晶パネルの平面図である。図11は、各々液晶パネルになる複数の単位セルを含む二つの基板が合着される模様を示している。図11に示したように、各単位セルには、表示領域AAと非表示領域NAが定義されている。表示領域AAには、複数のコラムスペーサー904が形成されており、液晶層が形成されている。非表示領域NAには、表示領域AAを取り囲むシールパターン920が形成されていて、シールパターン920の内側には、ゲート駆動回路820が位置する。ゲート駆動回路820の上部には、第1補助スペーサー902が形成されている。単位セル間には、第2補助スペーサー910が形成されている。単位セルのうち、任意の二つの間に位置する第2補助スペーサー910は、他の部分に位置するのとは分離された形態であったり、一つのパターンであったりする。ここで、第1補助スペーサー902は、単位セル間の第2補助スペーサー910と同一物質で、同一工程によって形成される。前述したように、本発明の望ましい実施例を参照して説明したが、該当技術分野の当業者は、特許請求の範囲に記載した本発明の技術的思想及び領域から脱しない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させることができる。