ガラス基板の一方の面に、開口部がロート形状でその底部に細孔を有する凹部が複数配列されてなる細胞培養基材であって、前記凹部が、少なくともガラス基板洗浄工程、Cr膜マスク形成工程、レジストマスク形成工程、エッチングによるCr膜マスク開口形成工程、ガラス基板のウエットエッチング工程からなるプロセスフローを介して形成されたものであることを特徴とする細胞培養基材。前記ウエットエッチング工程において、ガラス基板のエッチングと並行して該ガラス基板からCr膜マスクが剥離するように制御し凹部を形成することを特徴とする請求項1に記載の細胞培養基材。前記細孔の底面が球面または湾曲面構造を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の細胞培養基材。前記ガラス基板が石英ガラスからなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の細胞培養基材。ガラス基板の一方の面に、開口部がロート形状でその底部に細孔を有する凹部が複数配列されてなる細胞培養基材の製造方法であって、前記凹部を、少なくとも下記工程を含むプロセスフローにより形成することを特徴とする細胞培養基材の製造方法。ガラス基板の洗浄工程、前記洗浄されたガラス基板にCr膜マスクを形成する工程、前記Cr膜マスク上にレジストマスクを形成する工程、前記レジストマスクが形成されたCr膜マスクをエッチングにより開口する工程、エッチャントを用いて前記開口からガラス基板のエッチングと該ガラス基板からのCr膜マスクの剥離を並行して進めて凹部を形成するウエットエッチング工程前記Cr膜マスク上にレジストマスクを形成する工程で用いられるレジストマスク材料が、フォトレジスト材料であることを特徴とする請求項5に記載の細胞培養基材の製造方法。前述のように、基材に凹凸構造を設けることにより、基材上で細胞を培養した際に三次元方向立体方向に広がって成長するのを促進することができることが知られている。すなわち、凹凸構造のない平坦な基材上で細胞を培養した場合には、細胞が二次元方向平面方向にのみ広がって単層構造の細胞組織体単層細胞に成長するのに対して、凹凸構造のある基材を用いた場合には三次元方向立体方向に広がるために三次元組織体スフェロイドに成長することが報告されている。つまり、凹凸構造を有する基材を用いることで、単一の細胞から細胞の三次元組織が基材に接着して形成されため、単層細胞や複数の細胞から培養されたスフェロイドと比較して、より生体に近い組織とすることができるというポテンシャルを有する。しかしながら、スクリーニングの効率を上げるためには、凝集体形成効率のさらなる向上が望まれ、より適した細胞培養基材の開発が要請されている。本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであり、細胞凝集体の形成効率が良好で、耐久性及び安定性の優れた細胞培養基材及びその製造方法を提供することを目的とする。本発明者らは、細胞培養基材について、細胞凝集体の形成起点及び細胞凝集体の伸展に着目し、凝集体形成効率の向上に好適な構造を鋭意検討した結果、ガラス基板の一方の面に、開口部がスリ鉢状、所謂ロート形状でその底部に細孔キャビティを有する凹部を複数配列することを創意し、これにより上記課題が解決されることを見出し本発明に至った。すなわち、本発明の細胞培養基材は、ガラス基板の一方の面に、開口部がロート形状でその底部に細孔を有する凹部が複数配列されてなる細胞培養基材であって、前記凹部が、少なくともガラス基板洗浄工程、Cr膜マスク形成工程、レジストマスク形成工程、エッチングによるCr膜マスク開口形成工程、ガラス基板のウエットエッチング工程からなるプロセスフローを介して形成されたものであることを特徴とする。また、本発明の細胞培養基材の製造方法は、ガラス基板の一方の面に、開口部がロート形状でその底部に細孔を有する凹部が複数配列されてなる細胞培養基材の製造方法であって、前記凹部を、少なくとも下記工程を含むプロセスフローにより形成することを特徴とする。ガラス基板の洗浄工程、前記洗浄されたガラス基板にCr膜マスクを形成する工程、前記Cr膜マスク上にレジストマスクを形成する工程、前記レジストマスクが形成されたCr膜マスクをエッチングにより開口する工程、エッチャントを用いて前記開口からガラス基板のエッチングと該ガラス基板からのCr膜マスクの剥離を並行して進めて凹部を形成するウエットエッチング工程本発明の細胞培養基材は、微細加工によりガラス基板上に、開口部がロート形状でその底部に細孔を有する凹部が複数配列された構造を有するため、安定性や耐久性に優れている。本発明の細胞培養基材を用いることにより、細胞凝集体の形成効率凝集体形成効率:平板効率及びスフェロイド効率が向上し、生体に近い細胞凝集体を形成することができるため、創薬においてスクリーニングの精度や効率を向上することができる。前述のように本発明における細胞培養基材は、ガラス基板の一方の面に、開口部がロート形状でその底部に細孔を有する凹部が複数配列されてなる細胞培養基材であって、前記凹部が、少なくともガラス基板洗浄工程、Cr膜マスク形成工程、レジストマスク形成工程、エッチングによるCr膜マスク開口形成工程、ガラス基板のウエットエッチング工程からなるプロセスフローを介して形成されたものであることを特徴とするものである。上記細胞培養基材の凹部に設けた細孔キャビティが基材上に播種された細胞例えば、単一細胞または細胞株等の凝集起点となり、ロート形状スリ鉢状の斜面構造が細胞の三次元方向立体方向への伸展に好適な培地を提供することができる。これにより、細胞培養の効率が向上し、良好な細胞凝集体形成効率平板効率、スフェロイド効率を得ることができる。凹部は通常、複数が規則的に配列される。本発明の細胞培養基材は、ガラス基板に凹部を微細加工により設けたものであるため、安定性寸法安定性、耐熱性、耐損傷性など及び耐久性耐環境性や耐劣化性などにも優れている。本発明の細胞培養基材を用いることにより、細胞凝集体の形成効率細胞凝集体形成効率が向上し、生体に近い細胞凝集体を形成することができ、創薬においてスクリーニングの精度や効率を向上することができる。つまり、上記表面構造を最適化した耐久性及び安定性の優れた細胞培養基材略、基材を用いることにより、平板効率やスフェロイド効率が向上して細胞から三次元組織体が基材に接着して形成され生体に近い組織体となる。また、培地の交換が容易に実施でき培養操作も容易となり、創薬におけるスクリーニングの精度や効率が向上する。なお、凹部は連結している隣接する開口部同志が繋がっているのが望ましい。それにより、凹部と凹部との間開口部が形成されていない領域で不均一な細胞凝集体の形成が起きるのを抑えることができる。本発明において、より生体に近い組織とされた細胞凝集体を、三次元組織体あるいはスフェロイドと呼称することがある。ここで、細胞凝集体形成効率略称:形成効率は、下記定義の平板効率やスフェロイド効率により評価することができる。平板効率:播種した細胞数/単位面積あたりに対する培養後所定日数経過時におけるコロニー細胞集合の形成数から算出した値スフェロイド効率:播種した細胞数/単位面積あたりに対する培養後所定日数経過時におけるスフェロイド細胞凝集体の形成数から算出した値ここで、前記ウエットエッチング工程において、ガラス基板のエッチングと並行して該ガラス基板からCr膜マスクが剥離するように制御し凹部を形成することが好ましい。後述のように、ガラス基板からCr膜マスクを剥離する度合いは、通常のウエットエッチングでみられるマスクアンダーカット以上の剥離速度、つまり、剥離部からのガラス基板のエッチングの進行により開口部がロート形状でその底部に細孔キャビティが形成されるように制御される必要がある。なお、前記細孔の底面が球面または湾曲面構造を有することが好ましい。前記凹部における開口部のロート形状と細孔キャビティがなだらかな連続形状で接続することにより、細胞の凝集起点から細胞の三次元方向立体方向への伸展がスムーズに進行するものと想定される。なお、ロート形状のスロープ角度は単一の細胞凝集体形成が可能な範囲に選択される。また、ガラス基板が石英ガラスからなることが好ましい。石英ガラスからなる基板を用いれば、半導体等に用いられる確立された微細加工技術を適用して、底部に細孔を有するロート形状の凹部を緻密なパターン例えば、格子状の配置、千鳥状の配置で複数配列形成することができる。また、前記キャビティが、球面または湾曲面からなる底面を有する微細ホールであることが好ましい。球面または湾曲面の底面は、細胞培養において複数個の細胞凝集体が形成されない範囲に設定される。通常100μm以下で、20μm以下が好ましいが、これに限定されるものではない。本発明の細胞培養基材基材を用いて培養する細胞の種類は特に限定されない。また、細胞培養に用いる培地の種類も特に限定されず、細胞の種類に応じて適当な培地を選択することができる。従って、本発明の基材を用いて細胞を培養すれば、より生体に近い組織とされた細胞凝集体三次元組織体:スフェロイドを形成することができる。培養条件は細胞の種類に応じて適宜選択され限定されるものではないが、一般的にはpH、温度、雰囲気などが調整される。例えば、pH6~8、温度30~40°C、CO25濃度程度存在下等の条件下で培養を行うことができる。以下、図面を参照しながら、本発明の細胞培養基材基材の形状とその形成方法について説明する。はじめに形状の特徴を示した後、その製造方法を示す。図1に、本発明の細胞培養基材をSEMにより観察した基材表面の斜視図図1a、及びSEMにより観察した基材側面の断面図図1bを示す。図1の基材はガラス基板洗浄工程、Cr膜マスク形成工程、レジストマスク形成工程、エッチングによるCr膜マスク開口形成工程、ガラス基板のウエットエッチング工程並行して該ガラス基板からCr膜マスクが剥離するように制御からなるプロセスフローを介して形成されたものである。図1のロート形状の表面近傍の開口部径は凡そ20μm、底部の細孔部径は凡そ10μm、凹部の深さは凡そ10μmである。図2の模式図に、本発明に係る細胞培養基材における凹部の特徴的な断面形状を一例として示す。図2において、符号1は凹部、符号2はロート形状の開口部、符号3は細孔を示す。細孔は底面が球面または湾曲面構造を有する。本発明の細胞培養基材は、上記のような凹部がガラス基板に複数配列され、好ましくは凹部が規則的に配列されて構成されるが、配列パターンとしては複数の凹部を格子状や千鳥状等に配置したものを選択することできる。上記凹部個々の開口部径は特には限定されないが、創薬においてスクリーニングの精度や効率を上げるために用いる細胞凝集体スフェロイドとして直径が10μm以上であればより好ましいことから、例えば、10μm~200μm程度とすることができる。本発明の細胞培養基材を用いて形成される細胞凝集体スフェロイドに対して、薬剤等を添加してスフェロイドを形成する細胞に対して、作用、効果等を示すものをスクリーニングすることができる。また、スフェロイドは疾病の悪性度鑑別、食品または薬剤の安全性評価あるいは再生医療等の分野においても活用することができる。前述のように、本発明の細胞培養基材の製造方法は、ガラス基板の一方の面に、開口部がロート形状でその底部に細孔を有する凹部が複数配列されてなる細胞培養基材の製造方法であって、前記凹部を、少なくとも下記工程を含むプロセスフローにより形成することを特徴とする。ガラス基板の洗浄工程、前記洗浄されたガラス基板にCr膜マスクを形成する工程、前記Cr膜マスク上にレジストマスクを形成する工程、前記レジストマスクが形成されたCr膜マスクをエッチングにより開口する工程、エッチャントを用いて前記開口からガラス基板のエッチングと該ガラス基板からのCr膜マスクの剥離を並行して進めて凹部を形成するウエットエッチング工程凹部の形成プロセスはマスク形成とエッチングに基づく通常の微細プロセスを用いることができる。一例を挙げて以下説明する。1ガラス基板の洗浄工程:例えば、硫酸過水でガラス基板を洗浄し乾燥する。2洗浄されたガラス基板にCrをスパッタ法により真空蒸着厚さ100nm程度し、Cr膜マスクを形成する。3Cr膜マスク上にフォトレジスト材料を用いてレジストを形成厚さ3μm程度し、フォトマスクを使用して露光、現像によりレジストマスクを形成する。4レジストマスクが形成されたCr膜マスクをCrエッチャント例えば、硝酸2アンモニウムセリウム、酢酸、水の混合液を用いてエッチングにより開口する。5エッチャント例えば、HFエッチャントを用いて前記開口からガラス基板のエッチングと該ガラス基板からのCr膜マスクの剥離を並行して進めて凹部を形成するウエットエッチングする。通常のウエットエッチングでは等方性エッチングとなり、半球状の凹部が形成されるが、本発明においては5に記載のようにウエットエッチングにおいて、ガラス基板のエッチングとともにCr膜マスクがガラス基板から剥離していくことを利用して、開口部がロート形状でその底部にキャビティ球面または湾曲面からなる底面を有する微細ホールを有する凹部を形成する。ここで、Cr膜マスクがガラス基板から剥離する度合いは、通常のウエットエッチングでみられるマスクアンダーカット以上の剥離速度を指す。具体的には、ガラス基板からのCr膜マスクの剥離速度をガラス基板のエッチング速度の2~6倍とするのが好ましく、3~5倍とするのがより好ましい。実験により形成した本発明の細胞培養基材における凹部の形状とシミュレーションにより再現した形状を図3に示す。図3において、ドットで示した部分が実験結果であり、実線-で示した部分が計算結果である。なお、矩形で示した部分がCr膜マスクを示す。シミュレーションにおいて、ガラス基板のエッチング速度に対して4倍の速さでマスクがガラス基板から剥離し、剥離部からもガラス基板のエッチングが進行するとして計算することで開口部がロート形状でその底部にキャビティを有する凹部が再現される。前記Cr膜マスク上にレジストマスクを形成する工程で用いられるレジストマスク材料が、フォトレジスト材料であることが好ましい。フォトレジスト材料を用いることにより、簡易なプロセスとなって生産性が高くなるメリットがある。また、前記ウエットエッチング工程において、レジストマスクを除去することなくウエットエッチングを行うことが好ましい。これにより、Crマスクを補強することができるため、ピンホールなどCrマスクに欠陥がある場合でも所望のエッチングを行うことができる。以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明は実施例に何ら限定されるものではない。[実施例1]下記表1に示すプロセスフローに準拠して、ガラス基板の一方の面に開口部がロート形状でその底部にキャビティを有する凹部が複数規則的格子状に配列されてなる細胞培養基材を作製した。形成された細胞培養基材のSEM観察図は図1と同様であった。各プロセスは以下の通りである。1ガラス基板の洗浄工程、ガラス基板として石英ガラス基板を用い、硫酸過水で洗浄し乾燥した。2洗浄した石英ガラス基板表面に、下記表2に示すスパッタ条件でCrをスパッタし、厚さ100nmのCr膜マスクを形成した。3Cr膜マスク上にフォトレジスト材料OFPR800東京応化製を用いて厚さ3μmのレジストを形成した後、直径8μmの開口がピッチ50μmで形成されたフォトマスクを使用して露光、現像によりレジストマスクを形成した。レジストの塗布及びレジスト形状作製は下記表3に示す作製条件に準じて実施した。4下記表4に記載の処方からなるCrエッチャントを用いて、レジストマスクが形成されたCr膜マスクをエッチングにより開口した。エッチング処理時間は5~6分とした。5前記表1に記載のように、HFエッチャントを用いて前記開口からガラス基板のエッチングと該ガラス基板からのCr膜マスクの剥離を並行して進め、この際ガラス基板からのCr膜マスクの剥離速度をガラス基板のエッチング速度の4倍程度として凹部を形成した。次に、上記で作製した細胞培養基材を用いてα-MEM培地とともにヒトグリオーマ由来の細胞株U251細胞を1000個播種し、37°C、2CO2の雰囲気下で7日間途中、2回培地を交換した培養して細胞凝集体であるスフェロイドを形成し、平板効率とスフェロイド効率を算出して培養効率を調べた。結果を下記表5に示す。平板効率は、播種した細胞数/単位面積あたりに対する培養後所定日数経過時3日におけるコロニー細胞集合の形成数から算出した値スフェロイド効率は、播種した細胞数/単位面積あたりに対する培養後所定日数経過時7日におけるスフェロイド細胞凝集体の形成数から算出した値[比較例1]実施例1においてガラス基板の洗浄工程以外の工程は適用しない、所謂、表面に凹部が形成されていない平板の石英ガラス基板を細胞培養基材として用い、実施例1と同様にして細胞培養を実施し、培養効率平板効率とスフェロイド効率を調べた。結果を下記表5に示す。表5に示す結果から、本発明の凹部開口部がロート形状でその底部に細孔を有するが複数配列されてなる細胞培養基材を用いた場合には、表面に凹部が形成されていない平板の石英ガラス基板を細胞培養基材とした場合に比較して平板効率、スフェロイド効率のいずれも大きな値を示し、培養効率が向上したことを示している。すなわち、本発明の細胞の凝集起点となる細孔キャビティと、細胞の三次元方向への伸展に好適なロート形状スリ鉢状からなる凹部構造を備えた細胞培養基材を用いることにより、細胞凝集体の形成効率細胞凝集体形成効率が向上し、生体に近い細胞凝集体を形成することができ、創薬においてスクリーニングの精度や効率を向上することができる。