"所定のパターンを表現した変調信号によって光を変調し、変調された光によって描画対象物を走査して前記描画対象物の表面に前記パターンを形成する描画装置であって、光源によって生成された第1の光を所定の変調用空間に導く第1光路系と、前記変調用空間に配置され、前記第1の光の断面よりも広い受光面を有するとともに、前記受光面の一部に相当する入射領域に前記第1の光を入射させ、前記受光面の光学的状態を前記変調信号に応じて変化させることにより、前記第1の光を変調して第2の光を生成する空間光変調手段と、前記第2の光を、前記描画対象物の表面に導く第2光路系と、前記第2の光と前記描画対象物とを相対的に移動させることにより、前記第2の光によって前記描画対象物の表面を走査させる走査駆動手段と、前記受光面に平行な方向について、前記受光面と前記第1の光との相対的な位置関係をシフトさせて、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能なシフト機構と、を備えることを特徴とする描画装置。請求項1に記載の描画装置であって、前記シフト機構が、前記光源から前記空間光変調手段に至る光路に設けられた光学要素のうちの少なくとも1つを調整要素として、当該調整要素を可動に保持する可動保持手段と、前記可動保持手段によって可動に保持された前記調整要素を、駆動源によって変位または回動させて、前記受光面と前記第1の光との相対的な位置関係をシフトさせるシフト駆動手段と、を備えることを特徴とする描画装置。請求項1又は2に記載の描画装置であって、前記第1光路系は、前記光源からの前記第1の光を集光して、前記空間光変調手段に向けて出射する集光光学要素、を備え、前記シフト機構は、前記集光光学要素を変位または回動させることにより、前記受光面内での前記入射領域の存在域を変更可能であることを特徴とする描画装置。請求項1又は2に記載の描画装置であって、前記シフト機構は、前記空間光変調手段を変位させることにより、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能であることを特徴とする描画装置。請求項1又は2に記載の描画装置であって、前記第1光路系は、前記光源からの前記第1の光を集光して、前記空間光変調手段に向けて出射するフォーカスレンズと、前記光源から前記フォーカスレンズに至る光路に設置されて前記第1の光を反射する第1ミラーと、を備え、前記シフト機構は、前記第1ミラーを変位または回動させることにより、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能であることを特徴とする描画装置。請求項1又は2に記載の描画装置であって、前記第1光路系は、前記光源からの前記第1の光を集光して、前記空間光変調手段に向けて出射するフォーカスレンズと、前記フォーカスレンズから前記空間光変調手段に至る光路に設置されて前記第1の光を反射する第2ミラーと、を備え、前記シフト機構は、前記第2ミラーを変位または回動させることにより、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能であることを特徴とする描画装置。請求項2に記載の描画装置であって、前記第2の光を検出する光検出手段、をさらに備え、前記光検出手段による検出結果に基づいて前記駆動源を能動化させることを特徴とする描画装置。請求項2に記載の描画装置であって、前記第2の光によって描画されるパターンを画像として検出する光画像検出手段と、前記光画像検出手段による検出結果の画像位置と前記描画対象物に描画すべきパターンの画像位置との差異に基づく補正量を算出する補正量算出手段と、をさらに備え、前記補正量に基づいて前記駆動源を能動化させることを特徴とする描画装置。請求項1ないし8のいずれかに記載の描画装置であって、前記第1の光は、横断面が所定方向に伸びる線状となった光ビームであって、前記シフト機構は、前記所定方向と直交する方向において、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能であることを特徴とする描画装置。請求項1ないし9のいずれかに記載の描画装置であって、前記空間光変調手段は、前記第1の光を変調しつつ反射して前記第2の光を生成する反射型の空間光変調器であることを特徴とする描画装置。請求項10に記載の描画装置であって、前記空間光変調手段は、それぞれがリボン状となっている複数の単位反射面を並列的に配列して構成されており、前記入射領域は、前記配列の方向に伸びて2以上の単位反射面の一部ずつを包含する帯状領域とされていることを特徴とする描画装置。請求項11に記載の描画装置であって、前記空間光変調手段は、固定単位反射面と可動単位反射面とが交互に配列された回折格子型の空間光変調器であることを特徴とする描画装置。請求項10に記載の描画装置であって、前記空間光変調手段は、複数の単位反射面が二次元配列された構造であり、前記入射領域は、前記複数の単位反射面の集合のうちの部分集合であることを特徴とする描画装置。請求項1に記載の描画装置であって、前記シフト機構が、前記光源から前記空間光変調手段までの光学要素のうちの少なくとも1つを調整要素として、当該調整要素を可動に保持する可動保持手段と、前記可動保持手段によって可動に保持された前記調整要素を、手動によって変位または回動させる手動部材と、を備えることを特徴とする描画装置。所定のパターンを表現した変調信号によって光を変調する光学ユニットであって、光源によって生成された第1の光を所定の変調用空間に導く第1光路系と、前記変調用空間に配置され、前記第1の光の断面よりも広い受光面を有するとともに、前記受光面の一部に相当する入射領域に前記第1の光を入射させ、前記受光面の光学的状態を前記変調信号に応じて変化させることにより、前記第1の光を変調して第2の光を生成する空間光変調手段と、前記第2の光を、描画対象物の表面に導く第2光路系と、前記受光面に平行な方向について、前記受光面と前記第1の光との相対的な位置関係をシフトさせることにより、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能なシフト機構と、を備えることを特徴とする光学ユニット。描画装置の調整方法であって、前記描画装置が、光源によって生成された第1の光を所定の変調用空間に導く第1光路系と、前記変調用空間に配置され、前記第1の光の断面よりも広い受光面を有するとともに、前記受光面の一部に相当する入射領域に前記第1の光を入射させ、前記受光面の光学的状態を所定のパターンを表現した変調信号に応じて変化させることにより、前記第1の光を変調して第2の光を生成する空間光変調手段と、前記第2の光を、描画対象物の表面に導く第2光路系と、前記第2の光と前記描画対象物とを相対的に移動させることにより、前記第2の光によって前記描画対象物の表面を走査させる走査駆動手段と、を備えており、前記調整方法が、前記受光面に平行な方向について、前記受光面と前記第1の光との相対的な位置関係をシフトさせることにより、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更するシフト工程、を備えることを特徴とする描画装置の調整方法。しかしながら、特許文献1に開示されているように、シャッタを開閉させて空間光変調素子が露光される時間を制御することによって、空間光変調器の使用時間をより長くすることは限界がある。なぜなら、近年、基板の処理速度の高速化が求められる中で、描画処理時以外の時間、例えば描画済みの基板が露光装置から搬出されて、次処理予定の基板が描画装置に搬入されるまでの時間は、より短縮される傾向にある。このため、空間光変調器の露光時間を制御するだけでは、空間光変調器の長寿命化を図ることは望めない。そして、この問題は、描画対象物が基板であるか否かにかかわらず、空間光変調器を用いる各種の描画装置に共通した問題となる。本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、空間光変調器の使用可能時間をより長く延ばすことによって、空間光変調器の交換の頻度を低減させることを目的とする。上記課題を解決するため、第1の発明は、所定のパターンを表現した変調信号によって光を変調し、変調された光によって描画対象物を走査して前記描画対象物の表面に前記パターンを形成する描画装置であって、光源によって生成された第1の光を所定の変調用空間に導く第1光路系と、前記変調用空間に配置され、前記第1の光の断面よりも広い受光面を有するとともに、前記受光面の一部に相当する入射領域に前記第1の光を入射させ、前記受光面の光学的状態を前記変調信号に応じて変化させることにより、前記第1の光を変調して第2の光を生成する空間光変調手段と、前記第2の光を、前記描画対象物の表面に導く第2光路系と、前記第2の光と前記描画対象物とを相対的に移動させることにより、前記第2の光によって前記描画対象物の表面を走査させる走査駆動手段と、前記受光面に平行な方向について、前記受光面と前記第1の光との相対的な位置関係をシフトさせて、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能なシフト機構と、を備えることを特徴とする。第2の発明は、第1の発明に係る描画装置であって、前記シフト機構が、前記光源から前記空間光変調手段に至る光路に設けられた光学要素のうちの少なくとも1つを調整要素として、当該調整要素を可動に保持する可動保持手段と、前記可動保持手段によって可動に保持された前記調整要素を、駆動源によって変位または回動させて、前記受光面と前記第1の光との相対的な位置関係をシフトさせるシフト駆動手段と、を備えることを特徴とする。第3の発明は、第1の発明又は第2の発明に係る描画装置であって、前記第1光路系は、前記光源からの前記第1の光を集光して、前記空間光変調手段に向けて出射する集光光学要素、を備え、前記シフト機構は、前記集光光学要素を変位または回動させることにより、前記受光面内での前記入射領域の存在域を変更可能であることを特徴とする。第4の発明は、第1の発明又は第2の発明に係る描画装置であって、前記シフト機構は、前記空間光変調手段を変位させることにより、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能であることを特徴とする。第5の発明は、第1の発明又は第2の発明に係る描画装置であって、前記第1光路系は、前記光源からの前記第1の光を集光して、前記空間光変調手段に向けて出射するフォーカスレンズと、前記光源から前記フォーカスレンズに至る光路に設置されて前記第1の光を反射する第1ミラーと、を備え、前記シフト機構は、前記第1ミラーを変位または回動させることにより、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能であることを特徴とする。第6の発明は、第1の発明又は第2の発明に係る描画装置であって、前記第1光路系は、前記光源からの前記第1の光を集光して、前記空間光変調手段に向けて出射するフォーカスレンズと、前記フォーカスレンズから前記空間光変調手段に至る光路に設置されて前記第1の光を反射する第2ミラーと、を備え、前記シフト機構は、前記第2ミラーを変位または回動させることにより、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能であることを特徴とする。第7の発明は、第2の発明に係る描画装置であって、前記第2の光を検出する光検出手段、をさらに備え、前記光検出手段による検出結果に基づいて前記駆動源を能動化させることを特徴とする。第8の発明は、第2の発明に係る描画装置であって、前記第2の光によって描画されるパターンを画像として検出する光画像検出手段と、前記光画像検出手段による検出結果の画像位置と前記描画対象物に描画すべきパターンの画像位置との差異に基づく補正量を算出する補正量算出手段と、をさらに備え、前記補正量に基づいて前記駆動源を能動化させることを特徴とする。第9の発明は、第1の発明ないし第8の発明のいずれかに記載の描画装置であって、前記第1の光は、横断面が所定方向に伸びる線状となった光ビームであって、前記シフト機構は、前記所定方向と直交する方向において、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能であることを特徴とする。第10の発明は、第1の発明ないし第9の発明のいずれかに記載の描画装置であって、前記空間光変調手段は、前記第1の光を変調しつつ反射して前記第2の光を生成する反射型の空間光変調器であることを特徴とする。第11の発明は、第10の発明に係る描画装置であって、前記空間光変調手段は、それぞれがリボン状となっている複数の単位反射面を並列的に配列して構成されており、前記入射領域は、前記配列の方向に伸びて2以上の単位反射面の一部ずつを包含する帯状領域とされていることを特徴とする。第12の発明は、第11の発明に係る描画装置であって、前記空間光変調手段は、固定単位反射面と可動単位反射面とが交互に配列された回折格子型の空間光変調器であることを特徴とする。第13の発明は、第10の発明に係る描画装置であって、前記空間光変調手段は、複数の単位反射面が二次元配列された構造であり、前記入射領域は、前記複数の単位反射面の集合のうちの部分集合であることを特徴とする。第14の発明は、第1の発明に係る描画装置であって、前記シフト機構が、前記光源から前記空間光変調手段までの光学要素のうちの少なくとも1つを調整要素として、当該調整要素を可動に保持する可動保持手段と、前記可動保持手段によって可動に保持された前記調整要素を、手動によって変位または回動させる手動部材と、を備えることを特徴とする。第15の発明は、所定のパターンを表現した変調信号によって光を変調する光学ユニットであって、光源によって生成された第1の光を所定の変調用空間に導く第1光路系と、前記変調用空間に配置され、前記第1の光の断面よりも広い受光面を有するとともに、前記受光面の一部に相当する入射領域に前記第1の光を入射させ、前記受光面の光学的状態を前記変調信号に応じて変化させることにより、前記第1の光を変調して第2の光を生成する空間光変調手段と、前記第2の光を、描画対象物の表面に導く第2光路系と、前記受光面に平行な方向について、前記受光面と前記第1の光との相対的な位置関係をシフトさせることにより、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更可能なシフト機構と、を備えることを特徴とする。第16の発明は、描画装置の調整方法であって、前記描画装置が、光源によって生成された第1の光を所定の変調用空間に導く第1光路系と、前記変調用空間に配置され、前記第1の光の断面よりも広い受光面を有するとともに、前記受光面の一部に相当する入射領域に前記第1の光を入射させ、前記受光面の光学的状態を所定のパターンを表現した変調信号に応じて変化させることにより、前記第1の光を変調して第2の光を生成する空間光変調手段と、前記第2の光を、描画対象物の表面に導く第2光路系と、前記第2の光と前記描画対象物とを相対的に移動させることにより、前記第2の光によって前記描画対象物の表面を走査させる走査駆動手段と、を備えており、前記調整方法が、前記受光面に平行な方向について、前記受光面と前記第1の光との相対的な位置関係をシフトさせることにより、前記受光面内における前記入射領域の存在域を変更するシフト工程、を備えることを特徴とする。第1ないし第16の発明によれば、空間光変調手段の受光面内で、変調前の第1の光の入射領域をシフトさせることができる。このため、第1の光によって受光面の入射領域が劣化しても、受光面のうち未照射の領域に入射領域をシフトさせることによって、引き続き当該空間光変調手段を用いて光の空間変調を行うことができる。その結果、空間光変調器の使用可能時間をより長く延ばすことが可能となり、空間光変調器の交換の頻度を低減させることができる。特に、第2の発明によれば、そのような入射領域のシフトを自動で行うことが可能となる。このため、シフトを行う作業の手間を軽減することができる。特に、第4の発明によれば、シフト機構は、空間光変調手段を変位させることにより、受光面内における入射領域の存在域を変更するため、シフトによって第2の光軸のずれが生じない。特に、第7および第8の発明によれば、ひとつの入射領域の劣化状態を迅速に把握可能であり、入射領域のシフトを適時に行うことができる。このうち第8の発明では、描画された画像を検出してその結果をフィードバックすることにより、シフト機構としての機能と描画の位置補正のための機能とを兼用させることができる。特に第11の発明によれば、空間光変調手段として、それぞれがリボン状となっている複数の単位反射面を並列的に配列して構成されたものを使用するため、入射領域のシフトによってリボンの長手方向を有効に利用できる。以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。<1.第1の実施形態><1-1.描画装置100の構成>図1及び図2は、本発明の第1の実施形態に係る描画装置100の構成を示した正面図及び平面図である。描画装置100は、レジスト等の感光材料の層が形成された基板Wの上面に光を照射して、パターンを描画する装置いわゆる直接描画装置である。なお、基板Wは、半導体基板、プリント基板、カラーフィルタ用基板、液晶表示装置やプラズマ表示装置に具備されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、光ディスク用基板などの各種基板のいずれでもよい。図示例では円形の半導体基板のための描画装置となっている。描画装置100は、本体フレーム101で構成される骨格の天井面および周囲面にカバーパネル図示省略が取り付けられることによって形成される本体内部と、本体フレーム101の外側である本体外部とに、各種の構成要素を配置した構成となっている。描画装置100の本体内部は、処理領域102と受け渡し領域103とに区分されている。処理領域102には、主として、ステージ10、ステージ移動機構20、ステージ位置計測部30、光学ユニット40、アライメントユニット60が配置される。各構成要素については、後に詳述している。一方、受け渡し領域103には、処理領域102に対する基板Wの搬出入を行う搬送装置70が配置される。また、描画装置100の本体外部には、アライメントユニット60に照明光を供給する照明ユニット61が配置される。また、本体外部には、描画装置100が備える各部と電気的に接続されて、これら各部の動作を制御する制御部90が配置される。なお、描画装置100の本体外部で、受け渡し領域103に隣接する位置には、カセットCを載置するためのカセット載置部104が配置される。受け渡し領域103に配置された搬送装置70は、カセット載置部104に載置されたカセットCに収容された未処理の基板Wを取り出して処理領域102に搬入するとともに、処理領域102から処理済みの基板Wを搬出してカセットCに収容する。カセット載置部104に対するカセットCの受け渡しは、図示しない外部搬送装置によって行われる。以下において、描画装置100を構成する各部の構成について説明する。<ステージ10>ステージ10は、平板状の外形を有し、その上面に基板Wを水平姿勢に載置して保持する保持部である。ステージ10の上面には、複数の吸引孔図示省略が形成されており、この吸引孔に負圧吸引圧を形成することによって、ステージ10上に載置された基板Wをステージ10の上面に固定保持することができるようになっている。<ステージ移動機構20>ステージ移動機構20は、ステージ10を主走査方向Y軸方向、副走査方向X軸方向、及び回転方向Z軸周りの回転方向θ軸方向に移動させる機構である。ステージ移動機構20は、ステージ10を回転させる回転機構21と、ステージ10を回転可能に支持する支持プレート22を支持するベースプレート24と、ベースプレート24を主走査方向に移動させる主走査機構25とを備える。回転機構21、副走査機構23、及び主走査機構25は、制御部90に電気的に接続されており、制御部90からの指示に応じてステージ10を移動させる。回転機構21は、支持プレート22上で、基板Wの上面に垂直な回転軸を中心としてステージ10を回転させる。副走査機構23は、支持プレート22の下面に取り付けられた図示しない移動子とベースプレート24の上面に敷設された図示しない固定子とにより構成されたリニアモータ23aを有している。また、支持プレート22とベースプレート24との間には、副走査方向に延びる一対のガイド部23bが設けられている。このため、リニアモータ23aを動作させると、ベースプレート24上のガイド部23bに沿って支持プレート22が副走査方向に移動する。主走査機構25は、ベースプレート24の下面に取り付けられた移動子と描画装置100の基台106上に敷設された固定子とにより構成されたリニアモータ25aを有している。また、ベースプレート24と基台106との間には、主走査方向に延びる一対のガイド部25bが設けられている。このため、リニアモータ25aを動作させると、基台106上のガイド部25bに沿ってベースプレート24が主走査方向に移動する。<ステージ位置計測部30>ステージ位置計測部30は、ステージ10の位置を計測する機構である。ステージ位置計測部30は、制御部90と電気的に接続されており、制御部90からの指示に応じてステージ10の位置を計測する。ステージ位置計測部30は、例えば、ステージ10に向けてレーザ光を照射し、その反射光と出射光との干渉を利用して、ステージ10の位置を計測する機構により構成することができる。例えばレーザ測長器などを用いることができる。<アライメントユニット60>アライメントユニット60は、基板Wの上面に形成された図示しないアライメントマークを撮像する。アライメントユニット60は、照明ユニット61のほか、鏡筒、対物レンズ、およびCCDイメージセンサいずれも図示省略を備える。アライメントユニット60が備えるCCDイメージセンサは、例えばエリアイメージセンサ二次元イメージセンサにより構成される。照明ユニット61は、鏡筒とファイバ601を介して接続され、アライメントユニット60に対して照明用の光を供給する。照明ユニット61から延びるファイバ601によって導かれる光は、鏡筒を介して基板Wの上面に導かれ、その反射光は、対物レンズを介してCCDイメージセンサで受光される。これによって、基板Wの上面の撮像データが取得されることになる。CCDイメージセンサは、制御部90と電気的に接続されており、制御部90からの指示に応じて撮像データを取得し、取得した撮像データを制御部90に送信する。なお、アライメントユニット60はオートフォーカス可能なオートフォーカスユニットをさらに備えていてもよい。<制御部90>制御部90は、各種の演算処理を実行しつつ、描画装置100が備える各部の動作を制御する。制御部90は、例えば、各種演算処理を行うCPU、ブートプログラム等を記憶するROM、演算処理の作業領域となるRAM、プログラムや各種のデータファイルなどを記憶する記憶部例えばハードディスク、各種表示を行うディスプレイ、キーボード及びマウスなどで構成される入力部、LAN等の介したデータ通信機能を有するデータ通信部、等を備えるコンピュータにより構成される。コンピュータにインストールされたプログラムに従って、コンピュータが動作することにより、当該コンピュータが描画装置100の制御部90として機能する。制御部90で実現される各機能部は、コンピュータによってプログラムが実行されることにより実現されてもよいし、専用のハードウェアによって実現されてもよい。制御部90が備える記憶部には、基板Wに描画すべきパターンを記述したデータパターンデータが格納される。パターンデータは、例えば、CADを用いて生成されたCADデータであり、回路パターンなどを表現している。制御部90は、基板Wに対する一連の処理に先立ってパターンデータを取得して記憶部に格納している。なお、パターンデータの取得は、例えばネットワーク等を介して接続された外部端末装置から受信することにより行われてもよいし、記録媒体から読み取ることにより行われてもよい。<光学ユニット40>光学ユニット40は、ステージ10上に保持された基板Wの上面に光を照射して描画するための機構である。光学ユニット40は、ステージ10及びステージ移動機構20を跨ぐようにして基台106上に架設されたフレーム107に設けられる。光学ユニット40は、光源としてレーザ光を出射するレーザ発振器41と、レーザ発振器41を駆動するレーザ駆動部42と、レーザ発振器41から出射された光スポットビームを、強度分布が均一な線状の光光束断面が線状の光であるラインビームとする照明光学系43と、照明光学系43を介して入射した光にパターンデータに応じた空間変調を施して、基板Wの上面に照射するヘッド部45とを備える。ヘッド部45は、フレーム107のY側に取り付けられた付設ボックスの内部に収容されている。ヘッド部45の構成については、後に詳細に説明する。これらの各部41,42,43は、フレーム107の天板を形成するボックス内部に配置される。また、これらの各部41,42,43は、制御部90と電気的に接続されており、制御部90からの指示に応じて動作する。図3は、照明光学系43及びヘッド部45の構成例を模式的に示す図である。第1ミラー436は、レーザ発振器41と照明系フォーカスレンズ435との光路間に設置され、レーザ発振器41から出射された光を反射して光軸方向を変化させ、光を照明系フォーカスレンズ435に導入させるものである。なお、図3では図示の都合上、第1ミラー436から光が出射されているように記載されているが、第1ミラー436はあくまでも光源であるレーザ発振器41からの光を反射する要素である。従って、第1ミラー436は、照明系フォーカスレンズ435に光を導入できるように、反射面を照明系フォーカスレンズ435に向けて、斜め方向に設置されている。照明系フォーカスレンズ435は、フローティングホルダ433に取り付けられている。第1ミラー436で光軸方向を変化させられた光は、照明系フォーカスレンズ435に入射して集光されることにより断面が線状の光に整形される。なお、図3に示される照明系フォーカスレンズ435は、後述するアクチュエータ432aの位置における縦方向の断面図である。図4は、照明系フォーカスレンズ435の正面図である。照明系フォーカスレンズ435は凸レンズである。図4ではフローティングホルダ433と照明系フォーカスレンズ435とは離間しているように見えるが、実際は、照明系フォーカスレンズ435は、フローティングホルダ433によって外縁部を保持されている。フローティングホルダ433によって保持された照明系フォーカスレンズ435は、フローティングホルダ433と共に、ハウジングフレーム437内に収容されている。なお、フローティングホルダ433の一方の側壁と、ハウジングフレーム437の一方の側壁との間に、バネ439aが介挿されている。また、フローティングホルダ433の他方の側壁には、ハウジングフレーム437の他方の側壁に設けられた規制ピン438が当接しており、フローティングホルダ433の横方向X軸方向の位置規制を行う。光の入射方向に直交する方向X軸方向に沿って並べられた1対の直動式のアクチュエータ432a,432bが、ハウジングフレーム437の天板上に保持されている。アクチュエータ432a,432bが備える伸縮部440a,440bは、天板に設けられた挿通孔を介して、ハウジングフレーム437内に位置している。伸縮部440a,440bの先端はフローティングホルダ433の天板の外側部分に当接している。また、フローティングホルダ433の底板の外側部分とハウジングフレーム437の下面との間には、光の入射方向に直交する方向X軸方向に沿って、1対のバネ439b,439cが設置されている。フローティングホルダ433は、アクチュエータ432a,432bにより下方に向けて押し付けられているため、バネ439b,439cは、常に反発力を有した付勢状態で保持されている。このようなアクチュエータ432a,432bの伸縮部440a,440bの駆動と伸縮部440a,440bの押し込みに起因するバネ439b,439cの伸び縮みによって、照明系フォーカスレンズ435は上下に変位させることができる。本実施の形態では、直動式のアクチュエータ432a,432bの伸縮動作は、アクチュエータ432a,432bの駆動部429a,429bが駆動することにより行われる。後述するように、この実施形態の描画装置100は、後述する空間光変調器441の受光面に平行な方向について、当該受光面と光ビームとの相対的な位置関係をシフトさせることにより、受光面内における光ビームの入射領域の存在域を変更するシフト機構を備える。図3に示す実施形態では照明系フォーカスレンズ435の上下方向の変位によってそのようなシフトが達成される。このため、シフト機構は、アクチュエータ432a,432b及び駆動部429a,429bによって構成されていることになる。具体的には、駆動部429a,429bとして、例えばステッピングモータ、又はサーボモータなどが使用される。駆動部429a,429bは、制御部90と各々独立して電気的に接続されているため、アクチュエータ432a,432bの操作は個別に独立して行うことが可能である。<ヘッド部45>光学ユニット40が備えるヘッド部45の構成について、再び図3を参照しながら説明する。ヘッド部45は、照明光学系43から第2ミラー431を介して所定の角度で入射した光を、パターンデータに基づいて空間変調する空間光変調ユニット44と、空間光変調ユニット44で変調された光を基板Wの表面に導いて当該表面に結像させる投影光学系46とを備える。ヘッド部45が備える各部44,46は、制御部90と電気的に接続されており、制御部90からの指令信号に応じて動作する。なお、ヘッド部45は、さらに、投影光学系46が備える投影系フォーカスレンズ465の位置を調整する駆動部と、基板Wの上面の高さ位置を検出する位置検出ユニットとで構成されるオートフォーカスユニットを備えてもよい。オートフォーカスユニットにオートフォーカスを行わせる場合、制御部90は、位置検出ユニットに基板Wの上面内の描画予定位置の高さ位置を検出させ、取得された位置情報に基づいて駆動部を制御して、投影系フォーカスレンズ465が適切な位置光学ユニット40から照射される光を描画予定位置に結像させる位置に置かれるように調整する。ヘッド部45が備える各部44,46の構成を詳細に説明する。<空間光変調ユニット44>空間光変調ユニット44は、電気的な制御によって入射光を空間変調させる空間光変調器441を備える。一般に、光の空間変調とは、光の進行方向光軸方向や、光量の空間的な分布状態などを変化させることを指すが、この実施形態では、変調信号に応じて光の進行方向を2つの方向すなわち、描画対象物に向かう方向と、それ以外の方向とで切り換える変調となっている。これは、光が照射される状態オン状態と光が照射されない状態オフ状態との2状態の間で変化させる2値的な変調である。既述したように、レーザ発振器41図1参照から出射されて照明光学系43図1参照でラインビーム線状の光とされた光は、第2ミラー431に照射される。第2ミラー431は、照明系フォーカスレンズ435と、所定の変調用空間に配置された空間光変調器441との光路間に設置されている。第2ミラー431が光を反射して光軸方向を変化させることによって、光は、空間光変調器441上の変調動作が行われる反射面受光面に照射される。ただし、空間光変調器441は、その反射面の法線が入射光の光軸に対して傾斜して配置される。空間光変調器441では、以下の説明のように、第2ミラー431を介して入射する光が制御部90の制御に基づいて空間変調され、空間変調された光が投影光学系46に入射することになる。この実施形態では、第1ミラー436、照明光学系43および第2ミラー431から構成される光路系が、レーザ発振器41と空間光変調器441との間で、変調前の光第1の光を伝達する第1光路系として機能する。また、投影光学系46が、空間光変調器441と基板Wとの間で、変調後の光第2の光を空間光変調器441と基板Wとの間で伝達する第2光路系として機能する。空間光変調器441は、例えば回折格子型の空間光変調器、例えば、GLVGratingLightValve:グレーティングライトバルブ:シリコンライトマシーンズ社米国カリフォルニア州サンノゼの登録商標等を利用して構成される。回折格子型の空間光変調器は、格子の深さを変更可能な回折格子であり、例えば、半導体装置製造技術を用いて製造される。空間光変調器441の構成について、図5を参照しながら模式的に説明する。空間光変調器441は、基板400上に、複数の可動リボン401と複数の固定リボン402とが、その長手方向を互いに平行して各々交互に配列された構成を備えている。なお、各リボン401,402の短尺方向に沿う幅は、略同一とされてもよいし、コントラストや反射率を考慮して、微量に異なるものとされてもよい。ここで、互いに隣接する可動リボン401と固定リボン402とをリボン対403とすると、互いに隣接する3個以上本実施形態では、4個のリボン対403によって形成されるリボン対集合404が、描画されるパターンの1つの画素画素単位に対応する。すなわち、1個のリボン対集合404が、1つの画素に対応する空間光変調素子4411を構成する。空間光変調素子4411の構成について、図6、図7を参照しながらより詳細に説明する。各リボン401,402の表面は、帯状の反射面を形成する。固定リボン402は、スペーサ図示省略を介して基板400上に配設されており、基板400から一定の距離だけ離間した位置に固定されている。従って、固定リボン402の表面は、基板400の表面以下、基準面400fというと平行な姿勢で基準面400fに対して固定された固定反射面402fを形成する。一方、可動リボン401は、固定リボン402と同じ位置すなわち、基板400から一定の距離だけ離間した位置と、基準面400fの側に引き下げられた位置との間で移動可能とされている。従って、可動リボン401の表面は、基準面400fと平行な姿勢を維持しつつ基準面400fに対して移動可能な可動反射面401fを形成する。つまり、空間光変調器441は、複数の固定反射面402fと可動反射面401fとが交互に一次元に配列された構成となっている。なお、以下において、固定反射面402f及び可動反射面401fを合わせた、空間光変調器441が備える反射面の全体領域を全体反射面420fと称する。空間光変調素子4411の動作は、可動リボン401と基板400との間に印加する電圧のオン/オフで制御される。電圧がオフされている状態では、可動リボン401は、基準面400fとの離間距離が固定リボン402と等しい位置にあり、可動反射面401fと固定反射面402fとが面一になる。つまり、電圧がオフされている状態では、空間光変調素子4411の表面は平面となっている。この状態で、光が空間光変調素子4411に入射すると、その入射光L1は回折せずに正反射する。これにより、正反射光0次光L2が発生する。一方、電圧がオンされている状態では、可動リボン401は、基準面400fの側に引き下げられた位置にあり、可動反射面401fが固定反射面402fよりも基準面400fの側に引き下がった状態となる。つまり、電圧がオンされている状態では、空間光変調素子4411の表面には、平行な溝が周期的に並んで複数本形成される。この状態で、空間光変調素子4411に光が入射すると、可動反射面401fで反射される反射光と、固定反射面402fで反射される反射光との間に光路差が生じる。ただし、空間光変調素子4411では、以下に説明するように、この光路差が光路差d=n1/2λただし、λは入射光L1の波長、nは任意の整数値であるとなるようにされている。従って、正反射光0次光は打ち消しあって消滅し、他の次数の回折光±1次回折光、及びさらに高次の回折光L3が発生する。なお、上記では、電圧がオフの時に可動リボン401と固定リボン402とが等しい位置基準面400fから等しい距離だけ離間した位置であり、0次光が発生する位置となる状態が形成されるとしたが、電圧と各リボン401,402の位置との関係は、必ずしもこれに限られるものではなく、任意の電圧時に、等しい位置0次光が発生する位置となり、また、別の電圧時に、1次回折光が発生する位置となるように構成してもよい。光路差dは、電圧がオンされた状態での可動反射面401fと固定反射面402fとの離間距離Df、入射光L1の波長λ、及び入射光L1の入射角αを用いて式1で規定される。ただし、入射光L1の入射角αは、入射光L1の光軸と、反射面401f,402fの法線方向とがなす角度をいう。d=2Dfcosα式1つまり、空間光変調素子4411では、離間距離Df及び入射光L1の入射角αは、式2の関係を満たす値に調整されている。n1/2λ=2Dfcosα式2ただし、空間光変調素子4411に入射する入射光L1の光軸は、反射面401f,402fの法線方向に対して角度αだけ傾斜して、かつリボン401,402の配列方向すなわち、各リボン401,402の長手方向と直交する方向に垂直とされる。なお、各リボン401,402の長手方向の両端側の全体反射面420fの領域は、各リボン401,402と基板400との固定点に近いため、可動反射面401fと固定反射面402fとの間で離間距離Dfを形成し難い領域である。従って、上述のような入射光L1の空間変調が行われる全体反射面420fの領域以下において、有効反射面ERと称する。は、各リボン401,402の長手方向の中心部周辺の領域となる。ここで、入射光L1は、光軸及びリボン401,402の配列方向に垂直な方向に関してわずかに集光しつつ、配列方向に関して平行な状態とされている。つまり、入射光L1は、光束断面が配列方向に長い線状の光である。図8に示されているように、このような入射光L1が、有効反射面ER上に入射すると、入射光L1の入射領域NR1が有効反射面ER上に形成される。上述のように、入射領域NR1は、各リボン401,402の配列方向に沿って線状の領域である。このような線状の光は、その断面が長手方向を有した矩形状の光であるといえる。つまり、有効反射面ERは入射光L1の横断面よりも広い面積を持ち、入射領域NR1は有効反射面ERのうち現に入射光L1が照射される矩形状の領域である。具体的には、入射領域NR1の長手方向の長さは、全体反射面420fの長手方向の長さ、つまり各リボン401,402が複数配列された配列方向に沿う長さと略一致している。一方、入射領域NR1の短尺方向の長さは、有効反射面ERの短尺方向の長さのおよそ1/8程度である。つまり、入射領域NR1は、各固定反射面402f及び各可動反射面401fの部分領域が、複数の固定反射面402f及び複数の可動反射面401f全体にわたって、配列方向に沿って集合することで構成された領域に形成されている。換言すれば、空間光変調器441は、それぞれがリボン状となっている複数の単位反射面リボン401,402...を並列的に配列して構成されており、入射領域NR1は、この配列の方向に伸びて2以上の単位反射面リボン401,402...の一部ずつを包含する帯状領域である。上述のように、入射領域NR1は有効反射面ER上の一部分のみに形成されており、入射領域NR1を中心として、有効反射面ERの短尺方向各反射面の長手方向両端部の領域は、入射光L1が未照射の領域となっている。本実施形態では、入射光L1の入射領域NR1を固定反射面402fあるいは可動反射面401fの長手方向に沿って相対的に移動させる。これによって、入射領域NR1は、光が未照射の領域にシフトされることとなる。具体的な光シフト処理については後に詳述する。空間光変調器441は、空間光変調器441が備える複数の空間光変調素子4411各々に対して独立に電圧を印加可能なドライバ回路ユニット4412を備える。各空間光変調素子4411の表面状態は、ドライバ回路ユニット4412から当該空間光変調器441に印加される電圧以下、入力電圧というに応じて、0次光L2を出射する状態オフ状態と1次、及び更に高次の回折光L3±1次回折光、±2次回折光、±3次回折光を出射する状態オン状態との間で切り替えられる。各空間光変調素子4411から出射される光0次光L2、あるいは1次回折光L3は、投影光学系46に導かれる。以下に説明する通り、投影光学系46は、1次回折光L3を遮断し、0次光L2のみを通過させる。すなわち、0次光L2のみが基板Wの表面まで到達することになる。ドライバ回路ユニット4412は、制御部90と接続されており、制御部90からの指示に応じて、指示された空間光変調素子4411に対して電圧を印加する。つまり、制御部90が、パターンデータに基づいてドライバ回路ユニット4412に指示を与え、ドライバ回路ユニット4412が指示された空間光変調素子4411に対して電圧を印加することによって、入射光L1に、パターンデータに応じた空間変調を形成することができる。なお、光学ユニット40は、空間光変調器441が、当該空間光変調器441が備える空間光変調素子4411の配列方向が副走査方向X軸方向に沿うように配置される。従って、空間光変調器441が備える空間光変調素子4411の個数をN個とすると、空間光変調器441からは、副走査方向に沿うN画素分の、空間変調された光、すなわち、互いに平行でかつ個別に空間変調されたN本の単位光ビームの集合が第2の光として出射されることになる。後に説明するように、光学ユニット40は、副走査方向に沿うN画素分の空間変調された光を断続的に照射し続けながらすなわち、基板Wの表面にパルス光を繰り返して投影し続けながら、主走査方向Y軸方向に沿って基板Wに対して相対的に移動する。従って、光学ユニット40が主走査方向に沿って基板Wを1回横断すると、基板Wの表面に、副走査方向に沿ってN画素分の幅を持つ1本のパターン群1ストライプ領域が描画されることになる。<投影光学系46>続いて、投影光学系46について、図3を参照しながら説明する。投影光学系46は、空間光変調ユニット44で空間変調された光を、基板Wの表面に導いて、基板Wの表面に結像させる機能部である。投影光学系46は、例えば、空間光変調ユニット44側から順に、ゴースト光を遮断する遮光板461と、ズーム部を構成する2個のレンズ462,463と、高次回折光を遮断する絞り板464と、フォーカス部を構成する投影系フォーカスレンズ465と、が配置される。レンズ462,463を通過した光は、開口を有する絞り板464へと導かれる。ここで、一部の光0次光L2は、絞り板464の開口を通過して投影系フォーカスレンズ465へ導かれ、残りの光±1次回折光L3は、絞り板464により遮断される。投影系フォーカスレンズ465を通過した光0次光L2は、定められた倍率で基板Wの表面に導かれる。なお、投影光学系46は、必ずしも遮光板461、レンズ462,463、絞り板464、及び投影系フォーカスレンズ465により構成される必要はなく、他の光学素子が追加される等してもよい。また、0次光L2を遮断し、±1次回折光L3を基板Wの表面に照射するように構成してもよい。<1-2.処理の流れ><1-2-1.全体の流れ>描画装置100で実行される一連の処理の流れについて説明する。なお、描画装置100で処理対象となる基板Wには、図示しない複数のアライメントマークが形成されている。アライメントマークは、例えば、基板Wの前後方向の位置合わせに用いられるマーク部分基板Wの前後方向に沿う長尺のマーク部分と、基板Wの左右方向の位置合わせに用いられるマーク部分基板Wの査収方向に沿う長尺のマーク部分とが重ねられた十字状のマークである。図9は、描画装置100によって実行される一連の処理の流れを示す図である。搬送装置70が処理対象の基板Wを搬入してステージ10上に載置すると、当該基板Wに対する一連の処理が開始されるステップS1。まず、アライメントユニット60の下方に、基板Wのアライメントマークの形成位置が置かれるように基板Wを移動させる。基板Wが目標位置まで移動させられると、アライメントユニット60は、制御部90からの指示に応じて、基板Wの表面を撮像するステップS2。続いて、ステージ10の位置調整が行われるステップS3。この処理では、制御部90は、まず、ステップS2で得られた複数の撮像データに基づいて、ステージ位置計測部30及びステージ移動機構20を制御してステージ10の位置を調整する。なお、ステップS3の処理は、光学ユニット40に対する基板Wの位置が調整されるようにパターンデータを修正することで対応してもよい。すなわち、ステップS3の処理は、ステージ10の位置を調整するのではなく、パターンデータを補正処理することにより行われてもよい。続いて、パターンデータの補正処理が行われるステップS4。この処理では、制御部90は、まずステップS2で得られた複数の撮像データからアライメントマークの位置を検出する。そして、当該検出位置の理想位置基板Wが変形していない場合に検出されるべきアライメントマークの位置からのズレの幅をズレ量として検出する。パターンデータに記述されるパターンを検出されたズレ量分だけずらすように修正することによって、パターンデータに記述されるパターンを、基板Wと同じように変形させる。なお、この処理は、ステップS3の処理と並行して行われてもよい。ステップS3及びステップS4の処理が完了すると、ステップS4で得られた修正されたパターンデータに基づいて、基板Wに対するパターンの描画処理が行われるステップS5。この処理については、後にさらに具体的に説明する。基板Wに対するパターンの描画処理が終了すると、搬送装置70が処理済みの基板Wを搬出し、当該基板Wに対する一連の処理が終了するステップS6。<1-2-2.描画処理>描画装置100で実行されるパターンの描画処理について説明する。基板Wに対するパターンの描画処理は、制御部90が、ステージ移動機構20を制御してステージ10に載置された基板Wを光学ユニット40に対して相対的に移動させるとともに、光学ユニット40から基板Wの上面に空間変調された光を照射させることにより行われる。具体的には、ステージ移動機構20は、制御部90からの指示に応じて、ステージ10を主走査方向Y軸方向に沿って移動させることによって、基板Wを光学ユニット40に対して相対的に移動させる。基板Wが主走査方向に沿って相対的に移動させられる間、光学ユニット40は、制御部90からの指示に応じて、修正パターンデータ具体的には、ラスタライズされた修正パターンデータに応じて空間変調された光を、基板Wに向けて照射する。基板WのY側の端部が光学ユニット40の下方を通過すると、1回の主走査が終了する。1回の主走査が終了すると、ステージ移動機構20が、ステージ10を副走査方向X軸方向に沿って、1ストライプ領域の幅に相当する距離だけ移動させることによって、基板Wを光学ユニット40に対して副走査方向に沿って相対的に移動させる。1回分の副走査方向のステップ移動が終了すると、再び主走査が行われる。ここでも、光学ユニット40は、制御部90からの指示に応じて、修正されたパターンデータに応じて空間変調された光を基板Wに向けて照射する。これによって、先の主走査で描画された1ストライプ分の描画領域の隣に、さらに1ストライプ分の領域の描画が行われることになる。このように、主走査と副走査とが繰り返して行われることによって、基板Wの表面のレジスト層感光材料層の全域にパターンが描画されることになる。この描画で得られるパターン像は潜像であり、描画後にレジスト層の現像と選択的除去が行われることにより、物理的構造としてのレジストパターンが出現する。レジストパターンが得られた後は、レジストパターンの下にある層についての周知の選択的エッチングなどの処理が実行される。<1-2-3.光シフト処理>続いて、描画装置100で実行される光シフト処理について説明する。光シフト処理は、レーザ発振器41から出射されて有効反射面ERに形成された入射光L1の入射領域の存在域を、それまでの入射領域NR1から、有効反射面ERのうち入射光L1が未照射である他領域にシフトさせる処理である。光シフト処理は、たとえば、空間変調された光を用いた描画処理が、一定時間以上行われた段階で実施される。具体的には、オペレータが、描画装置100の入力部を介して制御部90に光シフト処理の実施を指示する。制御部90は、光シフト処理の信号を、アクチュエータ432a,432bの駆動部429a,429bに送信する。これによって、アクチュエータ432a,432bの伸縮部440a,440bが、設定された距離だけ伸び出る、又は縮み込むこととなる。アクチュエータ432a,432bの伸縮部440a,440bが縮む場合、伸縮部440a,440bに押し込められていたバネ439b,439cが、フローティングホルダ433と共に、照明系フォーカスレンズ435を上方に押し上げる。このようにして、照明系フォーカスレンズ435は上方に変位する。また、アクチュエータ432a,432bの伸縮部440a,440bが伸びる場合、フローティングホルダ433は、バネ439b,439cの反発力を受けつつ、さらに下方に押し込められて保持される。このようにして、フローティングホルダ433と共に、照明系フォーカスレンズ435は、下方に変位する。このように、アクチュエータ432a,432bの動作によって、照明系フォーカスレンズ435の設置位置は、ハウジングフレーム437の天板に向かう上方向、又はハウジングフレーム437の底板に向かう下方向のいずれかに、設置角度を維持した状態で変位する。照明系フォーカスレンズ435の設置位置が上方向、又は下方向に変化することによって、照明系フォーカスレンズ435からの出射光が入射するミラー431の反射面上の領域が移動する。この結果、ミラー431の反射光が空間光変調器441の有効反射面ERに入射する入射位置が変位することとなる。より具体的には、図10において、照明系フォーカスレンズ435が設置位置UT1から設置位置UT2へと下方に変位することによって、ミラー431の反射面での光の入射位置が入射位置MT1から入射位置MT2へと変化する。この結果、ミラー431の反射光が入射する有効反射面ER上の入射領域は、今までの入射領域NR1から新たな入射領域NR2にシフトされる。なお、光シフト処理が行われた結果、図8に示される未照射領域SR1に新たに規定される入射領域を入射領域NR2と称する。一方、図10において、照明系フォーカスレンズ435が設置位置UT1から設置位置UT3へと上方に変位することによって、ミラー431の反射面での光の入射位置が入射位置MT1から入射位置MT3へと変化する。この結果、ミラー431の反射光が入射する有効反射面ER上の入射領域は、入射領域NR1から入射領域NR3へとシフトされる。なお、図8に示されるように、未照射領域SR2に新たに規定される入射領域を入射領域NR3と称する。このように、入射領域NR1は、照明系フォーカスレンズ435を変位させることによって、有効反射面ER上での形成位置がシフトされる。具体的には、入射領域NR1は、有効反射面ERのうち、固定反射面402fあるいは可動反射面401fの長手方向両端側の領域の一方にシフトされる。このように、入射領域NR1がシフトされることにより、入射光L1が、光が未照射である有効反射面ERの領域未照射領域に新たに照射されて、入射光L1の空間変調が行われる。なお、図10では、光シフト処理が行われた後の投影光学系46内への変調光路が、光シフト処理が行われる前の変調光路よりも、基板Wの走査方向に沿って位置ずれしている。このような光軸の位置ずれの問題は、例えば基板Wの搬送速度を変化させるなど、変調光が基板Wに供給されるタイミングを、位置ずれ量を補償するように、ずらすことによって解決する。また、空間光変調器441よりも下流の光学素子を、光軸の移動路を補償するように光学的に逆方向に変位あるいは回動させることによって、光軸の位置ずれ量を補償することもできる。さらに、このような光軸の位置ずれ量が、パターンの形成位置に実質的な影響を生じさせないような微差であるときには、そのような補償を省略することもできる。以下、図12及び図13の場合においても同様である。光シフト処理が行われて、入射領域NR2あるいは入射領域NR3で空間変調された変調光によって描画処理が一定時間行われると、再度光シフト処理が実施されて、入射領域は、有効反射面ER上の別の未照射領域に再シフトされる。このように、シフト処理は、全体反射面420f上の有効反射面ER内の領域であって、光が未照射の領域が残存している限り、複数回実施することが可能である。以上のように、本実施形態に係る空間光変調器441は、これまで有効活用されていなかった、有効反射面ER上のうち光が未照射である領域も空間変調に利用することが可能である。従来であれば空間光変調器は、有効反射面上の一部の領域のみが空間変調に用いられる形態であった。このため、当該一部の領域が、光を一定時間以上受光することによって劣化し、光が十分な空間変調効果を受けることができなくなると、空間光変調器は交換せざるを得なかった。しかしながら、本実施形態では、有効反射面ER上の複数領域を光の空間変調に利用することが可能であるため、空間光変調器441の使用時間は従来よりも長く延ばすことが可能となり、空間光変調器441の交換の頻度を低減させることができる。なお、本実施形態では、描画処理が一定時間行われた後に、光シフト処理が行われるとしたが、光の空間変調が正確に行われなくなったと判定された段階で、光シフト処理が行われても構わない。つまり、オペレータが、入射領域を更新せずに描画を続けると所要の精度を維持できないと判断した段階で、制御部90に光シフト処理の実施指示を入力する形態であってもよい。なお、オペレータの判断は、フォトリソグラフィ後の基板の物理的なパターンを顕微鏡で観察するなどの方法に基づいて行われる。また、本実施形態では、制御部90からの指示で、アクチュエータ432a,432bを動作させて、照明系フォーカスレンズ435の設置位置を変位させていた。しかしながら、このような形態に限らず、オペレータが、手動で照明系フォーカスレンズ435の位置を変位させる形態であっても構わない。つまり、光シフト処理による照明系フォーカスレンズ435の設定量分の変位が自動的に行われる形態に限らず、手動で行われる形態であってもよい。このような手動による光シフト処理の場合でも、照明系フォーカスレンズ435は変位可能にしておく。すなわち図4に示す構成のうち、アクチュエータ432a,432bのかわりに手動ネジなどを設けるが、他の構成は図4と同様に照明系フォーカスレンズ435を上下に変位させるためのバネなどの要素を設けておく。これによって、入射領域の存在域は、手動によってシフトすることが可能になる。すなわち、シフト機構は、照明系フォーカスレンズ435または後述する他の光学的要素を調整要素として、当該調整要素を可動に保持する可動保持手段を有する。図4の例では、ハウジングフレーム437内のバネ439b,439cや規制ピン438などが可動保持手段に相当する。このような可動保持手段の可動性によって調整要素の変位あるいは回動が可能であり、それによって光シフト処理が可能となる。調整要素の実際の光シフト処理を自動で行うように構成する場合には駆動源を使用するが、光シフト処理を手動で行う場合は、手動ネジその他の手動部材を調整要素の可動部に結合することによって、それを実現できる。また、上記実施形態では、照明系フォーカスレンズ435一般的には、集光光学要素の配置を変化させることで、入射領域をシフトさせていたが、このような形態には限られない。シフト機構が、例えば、空間光変調器441自体に取り付けられており、空間光変調器441を直接変位させることによって、照射光の入射領域をシフトさせる形態であっても構わない。図11では、空間光変調器441は、シフト機構SFaによって空間光変調器441を移動させることにより、入射領域NRの短尺方向に沿って、実線で描かれた位置NM1から一点鎖線で描かれた位置NM2に移動している。これによって、入射領域は入射領域UR1から入射領域UR2へとシフトされることとなる。シフト機構SFaは、駆動手段によって駆動されるアクチュエータを備えることによって自動シフトを実現してもよく、空間光変調器441を可動に支持して、手動のネジやピンなどで空間光変調器441を変位させる構成であってもよい。これについては後記のシフト機構SFb,SFcも同様である。また、第2ミラー431に、シフト機構が設けられていても構わない。図12では、ミラー431の設置位置が、実線で描かれた設置位置MM1から一点鎖線で描かれた設置位置MM2へとシフト機構SFbによって移動することにより、空間光変調器441の入射領域は入射領域OR1から入射領域OR2へとシフトされる。光シフト処理は、ミラー431の設置位置を変化させる、または設置角度を変化させることで実現可能である。さらに、照明光学系43が備える第1ミラー436にシフト機構が設けられていても構わない。図13に示されるように第1ミラー436は、シフト機構としてのシフト機構SFcによって設置位置及び設置角度が変化して、実線で描かれた位置LM1から一点鎖線で描かれた位置LM2に変位する。これによって照明系フォーカスレンズ435に入射する光の位置及び照明系フォーカスレンズ435から出射される光のミラー431表面における射位置が変化する。この結果、空間光変調器441に入射する入射領域が、入射領域PR1から入射領域PR2へとシフトされる。このように、入射領域の長手方向に直交する方向に沿って、入射領域を有効反射面に対して相対的に移動させることで、有効反射面のうち光が未照射である領域に入射領域をシフトさせることができる。空間光変調器441、第2ミラー431又は第1ミラー436を変位または回動させるシフト機構SFa~SFcでは、アクチュエータの駆動手段として、例えばステッピングモータやサーボモータなどの電気駆動手段のほか、圧空を用いた駆動手段なども利用できる。このように、光シフト処理は、照明系フォーカスレンズ435のみならず、光源から空間光変調器までの区間内にある要素すなわち、空間光変調器およびその上流の光学的要素であれば、空間光変調器441、第2ミラー431、及び第1ミラー436、のいずれか1つの配置を変化させることによって、行うことができる。これらのうち複数の要素を同時に変位あるいは回動させて光シフト処理を行うように構成してもかまわない。空間光変調器よりも下流にある光学的要素については、空間光変調器の上流の光学的要素の光シフト処理に伴う光軸のずれを補償する目的で、上流の光学的要素とあわせて変位あるいは回動移動させることもできる。<2.第2の実施形態>次に、図14を参照しつつ、本発明の第2の実施形態における描画装置100bについて説明する。なお、以下の実施形態において、上記第1の実施形態に示された構成要素と同じ構成要素は、同じ参照符号が付されており、上記第1の実施形態における描画装置と異なる点についてのみ説明するものとする。この第2の実施形態にけるシフト機構もまた、照明系フォーカスレンズ435に設けられているものとする。第2の実施形態では、描画装置100bは、照射光撮影部50を備えている。照射光撮影部50は、各光学ユニット40から出射される変調光を撮影して光画像を取得する。照射光撮影部50は、カメラ51と、ベースプレート24の端辺に固定されたガイドレール52と、ガイドレール52に沿ってカメラ51を副走査方向に移動させるカメラ移動機構53と、を有する。カメラ移動機構53は、例えば、カメラ51とガイドレール52との間に設けられたリニアモータとして実現される。照射光撮影部50による変調光の撮影は以下の流れで行われる。最初に、ベースプレート24が移動して、カメラ51を光学ユニット40の下方に配置させる。そして、カメラ51が下方に配置されている光学ユニット40が変調光を出射する。カメラ51のレンズ面と光学ユニット40の変調光の出射面とは対向しており、カメラ51のレンズ面に直接変調光が入射して、変調光の画像の撮影が行われる。カメラ51は、ガイドレール52に沿って、副走査方向に移動しつつ、各光学ユニット40から出射された変調光を順次撮影していく。撮影された変調光の画像は制御部90に送信される。制御部90は、変調光の画像から、例えば光量を特定して所定の閾値と比較するなどの処理を通じて、これ以後も有効なパターンの描画を行うことが可能であるか判断する。つまり、変調光の画像に基づいて、制御部90は、光シフト処理が必要か、それとも不要であるかの判断を行う。光シフト処理が必要であると制御部90が判断すれば、上記実施形態と同様に光シフト処理が実施される。描画装置100bが、照射光撮影部50を備えることによって、反射面の劣化による変調光の変異を自動的に検出して、入射光が未照射である有効反射面の領域に、入射光の入射領域を自動的にシフトさせることができる。従って、オペレータは光シフト処理を行う作業の手間を軽減できる。また、光シフト処理の判断は、カメラ51が撮影する画像に基づくため、オペレータが判断する場合と比較して正確に行われる。このようなカメラ51による変調光の画像の撮影は、描画処理が一定時間行われる都度実施される。また、このようにカメラ51を用いて変調光の画像を撮影することによって、変調光の画像のズレも検出し、それに基づくフィードバック制御によって描画位置の補正をすることも可能である。具体的には、カメラ51が撮影した変調光の画像の位置と、制御部90に記憶されている変調光の画像の理想位置CADデータ上で本来撮影されるべき位置とを制御部90が比較する。制御部90が、カメラ51が撮影した変調光の画像と理想位置との間に差異を検出すると、制御部90は差異に基づいて補正量を算出する。そして、制御部90は、シフト機構の要素であるアクチュエータ432a,432b各々に対して独立して補正指示信号を送信し、ズレを補正するように、アクチュエータ432a,432b各々を補正量分駆動させる。このようにして、照明系フォーカスレンズ435の位置補正が行われるため、変調光の画像を基板W上の正確な位置に形成することができる。以上のように、照射光撮影部50を用いたフィードバックループを形成することにより、入射領域のシフト機構としての機能と、画像の位置補正を自動的に行う機能とが兼用された装置を実現できる。なお、変調光の画像の位置補正は、必ずしも制御部90がシフト機構に補正指示を送信して補正を行う場合に限らない。例えば、投影光学系46に補正手段としてプリズムが設けられており、空間光変調素子によって変調された光がプリズムに入射することで光路の補正が行われ、画像の位置補正が行われる形態であっても構わない。これによって、シフト機構を操作することなく、光画像の位置を対象物上の正確な位置に結像させることができる。<3.変形例>本願発明は上記実施形態に限られるものではない。上記実施形態では、空間光変調器441として変調単位である固定リボン402と可動リボン401とが一次元に配設された回折格子型の空間光変調器であるGLVが用いられていたが、このような形態には限られない。例えば、GLVに限らず、ミラーのような変調単位が、一次元に配列されている空間光変調器が利用される形態であってもよい。光源そのものを変位あるいは回動させて光シフト処理を行ってもよい。ただし、上記の実施形態のような基板の描画に用いられるような装置では、使用する光源の重量が大きいため、上記の実施形態のように光源から空間光変調器までの光学要素のいずれかの変位または回動によって光シフト処理を行うことが好ましい。光シフト処理は、調整要素が空間光変調器自身である場合は変位によって実現する。他の光学要素を調整要素とする場合には、それを変位させることによって光シフト処理を行ってもよく、調整要素の回動によって光シフト処理を実現してもよい。もっとも、レンズ類やプリズムなど屈折性の光学要素を調整要素とする場合には収差などの影響を最小限とするために変位の方が好ましい。ミラー系の場合には変位と回動とのいずれも好適に利用できる。また、例えば、DMDDigitalMicromirrorDevice:デジタルマイクロミラーデバイス:テキサスインスツルメンツ社の登録商標のような変調単位であるマイクロミラーが二次元的に配列された空間光変調器が利用されてもよい。DMDが用いられる場合、入射領域は、全マイクロミラーで構成される集合体のうちの一部の範囲部分集合だけである。当該一部の範囲が劣化する時期あるいはそれ以前に、入射領域を当該集合体の他の範囲部分集合にシフトさせることによって、DMD全体を有効利用して、DMDの交換の頻度を低下させることができる。また、空間光変調器441は、反射型の空間光変調器に限られず、透過型の空間光変調器が用いられても構わない。透過型の空間光変調器が用いられる場合、透過面の一部分に光が入射することによって光は空間変調される。このような透過面の全体領域のうち、光が未照射である領域に、入射領域をシフトさせることによって、光シフト処理が行われる。また、上記実施形態では、光学ユニット40は、描画装置100,100bに搭載されており、基板Wの表面にパターンを描画するために用いられていたが、このような形態には限られない。光学ユニット40は、例えばプロジェクタ投射型の画像表示装置など、対象物に対して光を照射する形態の装置に搭載されていても構わない。"