"少なくとも1つの被調整部品を認識する認識カメラと、前記認識カメラが撮影した画像を処理する画像処理装置と、前記認識カメラと接続されて前記被調整部品に光を射出する照明光源と、前記被調整部品を支持するステージと、前記照明光源から被調整部品に照射される光を用いて位置姿勢検出を行う検出部と、前記検出結果に基づいて前記被調整部品の位置または姿勢を調整する調整部と、前記照明光源から射出されて前記被調整部品に照射される光の光束の幅を切替える切替部と、を備えることを特徴とする調整装置。前記切替部は、パターン認識による位置姿勢検出が行われる場合には光束の幅を広くし、パターン認識と異なる位置姿勢検出が行われる場合には光束の幅を狭くすることを特徴とする請求項1に記載の調整装置。前記切替部は、光を通過させる孔が形成されて前記照明光源から射出された光の光路に挿入され、前記孔の径の変化によって光束の幅を切替えることを特徴とする請求項1または2に記載の調整装置。前記照明光源は、射出される光の光束が異なる複数の光射出部を有し、前記切替部は、前記光射出部を切替えることで前記光束の幅を切替えることを特徴とする請求項1または2に記載の調整装置。前記複数の射出部の少なくとも1つはレーザー光源であることを特徴とする請求項4に記載の調整装置。少なくとも1つの被調整部品を認識する認識カメラと、前記認識カメラが撮影した画像を処理する画像処理装置と、前記認識カメラと接続されて前記被調整部品に光を射出する照明光源と、前記照明光源から被調整部品に照射される光を用いて位置姿勢検出を行う検出部と、前記検出結果に基づいて前記被調整部品の位置または姿勢を調整する調整部と、前記照明光源から射出されて前記被調整部品に照射される光の光束の幅を切替える切替部と、を備え、前記被調整部品は、モータのモータ軸の中心に位置合わせされる光学部品であり、前記認識カメラは、前記モータ軸に沿った方向から前記モータを撮影可能に配置され、前記検出部は、前記光学部品の種類に応じて光束の幅が広い光を用いた位置姿勢検出と、光束の幅が狭い光を用いた位置姿勢検出を行うことを特徴とする光学部品実装装置。前記モータ軸を回転させる回転機構をさらに備え、前記検出部は、前記モータ軸の回転角度を異ならせて撮影された画像に基づいて前記光学部品の位置姿勢検出を行うことを特徴とする請求項6に記載の光学部品実装装置。前記切替部は、パターン認識による位置姿勢検出が行われる場合には光束の幅を広くし、パターン認識と異なる位置姿勢検出が行われる場合には光束の幅を狭くすることを特徴とする請求項6または7に記載の光学部品実装装置。前記切替部は、光を通過させる孔が形成されて前記照明光源から射出された光の光路に挿入され、前記孔の径の変化によって光束の幅を切替えることを特徴とする請求項6~8のいずれか1つに記載の光学部品実装装置。前記照明光源は、射出される光の光束が異なる複数の光射出部を有し、前記切替部は、前記光射出部を切替えることで前記光束の幅を切替えることを特徴とする請求項6~8のいずれか1つに記載の光学部品実装装置。前記複数の射出部の少なくとも1つはレーザー光源であることを特徴とする請求項10に記載の光学部品実装装置。被調整部品に照明光源から射出された光を照射して位置姿勢検出を行い、検出結果に基づいて位置姿勢の調整を行う調整方法であって、前記照明光源から射出された光を切替部によって光束の幅の広い光に切替えて前記被調整部品に照射させ、光束の幅の広い光が照射された被調整部品を認識カメラで撮影してパターン認識により位置姿勢検出を行い、前記照明光源から射出された光を切替部によって光束の幅の狭い光に切替えて前記被調整部品に照射させ、光束の幅の狭い光が照射された被調整部品を認識カメラで撮影して前記被調整部品からの反射光を用いて位置姿勢検出を行い、前記検出結果に基づいて前記被調整部品の位置姿勢を調整する調整方法。しかしながら、パターン認識による位置合せが可能な部品例えば、エンコーダディスクと、パターン認識による位置合せが難しい部品例えば、凹面鏡を同時に調整する場合や、単一部品に対して複数の調整をする場合例えば、パターンを認識した後、反射光を用いて部品のあおり調整を行う場合は、上記の従来技術を用いると、認識カメラとは別に高価な偏芯顕微鏡が必要となる。また、設備が大きくなるとともに、設備費用が高くなるといった問題がある。また、上記特許文献3に示す装置でエンコーダディスクと凹面鏡を同時に調整したり、単一部品に対して複数の調整をしたりする場合には、調整に必要な分の照明が複数必要になる。また、照射部やカメラもしくは部品搭載部を稼動させる機構が必要となり、装置の大型化やコスト増加の問題がある。また、単一照射部の方式の場合では、光路変更部にプリズムやミラーが必要となり、装置の大型化や複雑化の問題がある。本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、装置の大型化や複雑化を抑えつつ、被調整部品の性質や調整方法に応じた位置姿勢検出や位置姿勢調整を行うことのできる調整装置を得ることを目的とする。上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、少なくとも1つの被調整部品を認識する認識カメラと、認識カメラが撮影した画像を処理する画像処理装置と、認識カメラと接続されて被調整部品に光を射出する照明光源と、被調整部品を支持するステージと、照明光源から被調整部品に照射される光を用いて位置姿勢検出を行う検出部と、検出結果に基づいて被調整部品の位置または姿勢を調整する調整部と、照明光源から射出されて被調整部品に照射される光の光束の幅を切替える切替部と、を備えることを特徴とする。本発明によれば、被調整部品に照射される光の光束の幅を切替えることで、1つの光学系で被調整部品の性質や調整方法に応じた位置姿勢検出や位置姿勢調整を行うことができ、装置の大型化やコストの増大も抑えることができる。以下に、本発明にかかる調整装置、光学部品実装装置、および調整方法の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。実施の形態1.図1は、本発明の実施の形態1にかかる調整装置の概略構成を示す概略図である。調整装置は、光学部品が実装される実装基板被調整部品1の搭載位置および姿勢を確認するための認識カメラ4、実装基板1を保持して位置姿勢を調整する調整ステージ2、認識カメラ4からの画像データにより実装基板1の位置を測定するとともに、実装基板1の姿勢を確認調整する制御部検出部,画像処理装置7を備えて構成される。本実施の形態1では、位置姿勢の調整が行われる被調整部品として実装基板1を例示して説明する。照明光源5は、認識カメラ4に接続されており、その光学経路途中に照明光源5の種類を切り替える光源切替部6が設置されている。調整ステージ2は、実装基板1を吸着保持するための負圧空気を発生させるコンプレッサなどの負圧源3に接続されている。調整ステージ2は、XYZ軸調整部21と、被調整部品の姿勢を調整するあおり調整機構調整部22を有して構成されている。制御部7は、認識カメラ4から得た実装基板1の位置データを処理する画像認識処理部8と、その認識カメラ4のデータを基に調整ステージ2のXYZ軸21と実装基板1の姿勢を調整するあおり調整機構22の位置制御を行う位置制御部9を有して構成されている。図2は、光源切替部6の断面図であって、幅広光を被調整部品に照射させる状態を示す図である。図3は、光源切替部6の断面図であって、スポット光を被調整部品に照射させる状態を示す図である。光源切替部6は、照明光源5と認識カメラ4の間の光路上に挿入される。光源切替部6は、照明光源5から射出された光を遮蔽する遮蔽板26を有している。遮蔽板26には、2種類の開口第1孔27と第2孔28が形成されている。各孔27,28は、第1孔27よりも第2孔28のほうが、径が大きくなるように形成されている。光源切替部6は、照明光源5から射出された光を、第1孔27に通過させるか、第2孔28に通過させるかを切替えることで、実装基板1に照射される光の光束の幅を切替える。なお、第2孔28は、照明光源5から射出された光の光束の幅をほとんど変化させない大きさで形成されている。第2孔28よりも径の小さい第1孔27を通過した光は、光束の幅が小さい第1の光束幅のスポット光となって認識カメラ4に到達して実装基板1に照射される。また、第1孔27よりも径の大きい第2孔28を通過した光は、光束の幅が大きい第2の光束幅の幅広光となって認識カメラ4に到達して実装基板1に照射される。図2では、照明光源5から射出される光が第2孔28を通過するように遮蔽板26が配置されており、幅広光が認識カメラ4に到達する。この構成は、パターン認識による位置合わせが可能な被調整部品の位置姿勢調整を行う場合などに用いられる。図3では、照明光源5から射出される光が第1孔27を通過するように遮蔽板26が配置されており、スポット光が認識カメラ4に到達する。この状態は、パターン認識による位置合せが難しい被調整部品の位置姿勢調整を行う場合などに用いられる。第1孔27の径は、例えば約50~100μmである。次に、上述した調整装置による実装基板1の位置姿勢調整を行う動作について説明する。図14は、実施の形態1にかかる調整装置での位置姿勢調整の動作を説明するフローチャートである。まず、図示しない供給手段により実装基板1を調整ステージ2上に供給し、実装基板1を調整ステージ2上に吸着固定するステップS1。次に、実装基板1の姿勢状態を確認するため、光源切替部6を図3に示す状態にして、スポット光を実装基板1に照射するステップS2。そして、実装基板1の所定の部分からの反射光19を認識カメラ4に認識させるステップS3。図4-1は、被調整部品である実装基板1が傾いていない場合の認識カメラ4での反射光の撮像状態を示す概略図である。図4-2は、被調整部品である実装基板1が傾いている場合の認識カメラでの反射光の撮像状態を示す概略図である。図4-1,図4-2に示すように、実装基板1が傾いた状態である場合は、実装基板1が傾いていない場合に比べて、反射光19の認識カメラ4での認識位置にずれが生じる。具体的には、認識カメラ4におけるスポット光の出射位置4aと反射光19の入射位置4bとが、図4-1に示す例では略一致しているが、図4-2に示す例では距離Lのずれが生じている。そして、画像認識処理部8は、撮像情報からずれ量である距離Lを算出するとともに、距離Lから実装基板1の姿勢のずれを算出するステップS4。位置制御部9は、反射光19のずれを解消するように調整ステージ2のあおり調整機構22を動かして、入射位置4bが出射位置4aに一致するように、実装基板1の姿勢を調整するステップS5。このような反射光19による基板姿勢の確認を実装基板1の複数の位置で実行することで、実装基板1の姿勢の調整が行われる。実装基板1の姿勢を調整した後、光源切替部6を図2に示す状態に切替えて、幅広光を実装基板1に照射するステップS6。そして、実装基板1に施されているパターン画像図示せずを画像認識処理部8に取り込み、実装基板1の平面的な位置を算出するステップS7。位置制御部9は、算出された実装基板1の位置に基づいて、実装基板1が規定の位置となるようにXYZ軸21を調整するステップS8。上述したように、本実施の形態によれば、1つの認識カメラ4の鏡筒へ入射する照明光の光路途中に第1孔27と第2孔28を施した遮蔽板26を挿入する機構を用いることで、実装基板1の姿勢調整と位置調整がひとつの光学系で可能となる。これにより、複数の光学系をそれぞれ持つ場合に比べて、コストの増大を抑えることができ、装置の小型化も図ることができる。また、実装基板1をXY方向の位置調整だけでなく、実装基板1のあおり方向の調整を行うことで、実装する部品を高精度に実装することができる。なお、本実施の形態では、幅広光とスポット光を切替えるために複数の孔27,28が形成された遮蔽板26を用いているが、孔の径を可変にし、孔の径を変化させることができるように構成すれば、1つの孔が形成された遮蔽板でも幅広光とスポット光を切替えることができる。図17-1は、実施の形態1の変形例1にかかる調整装置が備える光源切替部の断面図であって、スポット光を被調整部品に照射させる状態を示す図である。図17-2は、実施の形態1の変形例1にかかる調整装置が備える光源切替部の断面図であって、幅広光を被調整部品に照射させる状態を示す図である。図2で示した光源切替部6は、幅広光源をスリットで絞りスポット光とする構造である。一方、本変形例1では、スポット光を形成するレーザー光源35を光源に用いる。また、光源切替部6の遮蔽板26には、透過性を持ち、透過する光を拡散させる拡散板36が設けられる。本変形例1にかかる光源切替部6では、スポット光を得る場合には、図17-1に示すように、レーザー光源35から射出されたレーザー光を直接用いる。また、幅広光を用いる場合には、図17-2に示すように、透過性を持つ拡散板36をレーザー光の光路に進入させる。レーザー光に拡散板36を透過させることで、光の拡散により幅広光を形成して照明として用いることが可能となる。このように、本変形例1にかかる調整装置でも、レーザー光源35によってスポット光と幅広光を得ることができるため、複数の光学系をそれぞれ持つ場合に比べて、コストの増大を抑えることができ、装置の小型化も図ることができる。実施の形態2.図5は、本発明の実施の形態2にかかる部品実装装置の概略構成を示す概略図である。図6は、パターン認識による位置合せが可能な光学部品としてのエンコーダディスクの概略図である。図7は、パターン認識による位置合せが難しい光学部品としての凹面鏡の概略断面図である。なお、上記実施の形態と同様の構成については、同様の符号を付して詳細な説明を省略する。光学部品実装装置は、ステージ16に支持されたモータ14のモータ軸15に対して、光学部品12を位置合わせして取り付ける。光学部品12を位置合わせする際に、光学部品12の位置姿勢調整が行われる。また、図6に示すエンコーダディスク被調整部品31は、パターン認識による位置合わせが可能な光学部品12として例示される。また、図7に示す凹面鏡被調整部品32は、パターン認識による位置合わせが難しい光学部品12として例示される。図5に示すように、光学部品実装装置において、吸着ヘッド11は、調整する光学部品12を吸着保持するための負圧空気を発生させる負圧源10に接続されている。また、吸着ヘッド11は、XYZステージ18に固定されて、XYZ方向に移動可能な構造となっている。一方、モータ14は、モータ14を位置決め固定するステージ16に人手もしくは図示しない供給機構によって供給され、図示しない位置決め機構部でモータ14本体が位置決めされる。次に、モータ軸15を把持し、所定角度回転させるための回転チャック17にてモータ軸15が把持固定される。また、吸着ヘッド11の上部には、吸着ヘッド11を光学部品搭載部13に光学部品12を用いて供給した後、光学部品12の搭載位置を確認するための認識カメラ4が設置されている。照明光源5は認識カメラ4に接続されており、その光学経路途中に照明光源5の種類を切り替える光源切替部6が設置されている。光源切替部6は、照明光源5と認識カメラ4をつなぐ光路途中にあり、認識カメラ4へ入射する照明光の大きさ光束の幅を変更する遮蔽板26が光路上に挿入される構成となっている図2および図3も参照。また、制御部7は、この認識カメラ4から得た光学部品12の位置データを処理する画像認識処理部8と、そのデータを基にXYZステージ18の位置制御を行う位置制御部9を有して構成される。認識カメラ4からの画像データから光学部品12の位置を測定するとともに、光学部品12の中心位置とモータ軸15の回転中心位置との距離を計算して、その値を位置制御部9に送って位置制御部9に光学部品12の位置調整を行わせる。次に、パターン認識による位置合せが可能な光学部品12としてエンコーダディスク31を例示し、モータ軸15の回転中心位置に対して所定の偏芯量以内にエンコーダディスク31が配置されるように調整する動作について説明する。エンコーダディスク31を認識する場合においては、図2に示すように光源切替部6は第2孔28に光を通過させる状態に切替えられ、第2孔28を通過した幅広光を用いて認識カメラ4にてエンコーダディスク31を認識する。図8は、認識カメラ4で撮像されたエンコーダディスク31の画像の概略図である。また、図15は、エンコーダディスク31の位置姿勢調整の手順を示すフローチャートである。まず、吸着ヘッド11に手または機械にてエンコーダディスク31を供給し、吸着把持させるステップS11。次に、モータ14をステージ16上に人手または機械にて供給するステップS12。次に、図示しない位置機構でモータ14本体を位置決めし、モータ軸15を回転チャック17で把持するステップS13。エンコーダディスク31を吸着把持した吸着ヘッド11をモータ14上に移動させ、吸着ヘッド11を下降させてエンコーダディスク31をモータ14の軸上に供給するステップS14。次に、吸着をOFFし、吸着ヘッド11を退避させるステップS15。次に、エンコーダディスク31のパターン画像201の位置を画像認識処理部8に取り込み、位置を算出するステップS16。位置を算出した回数が所定回数以下であればステップS17,No、モータ軸15を回転チャック17で120度回転させてステップS18ステップS16に戻り、エンコーダディスク31のパターン画像201の位置を画像認識処理部8に取り込み、位置を算出する。なお、本実施の形態では、パターン画像201の位置を3点に移動させて位置検出を行う。すなわち、位置を算出する所定回数は3回となる。もちろん4回以上の位置検出を行うように構成しても構わない。図10-1は、エンコーダディスク31の位置姿勢検出を説明するためにモータ部分を拡大した側面図である。図10-2は、図10-1に示す矢印Aに沿って撮影した画像を例示する図である。位置を算出した回数が所定回数に達していればステップS17,Yes、図10-2に示すパターン位置211~213の3点の位置からモータ軸15の回転中心位置215を算出するとともに、モータ軸15の回転中心位置215からエンコーダディスク31のパターン画像までの距離を求めるステップS19。図10-2において、パターン位置211は初めにエンコーダディスク31を光学部品搭載部13に供給した状態でのエンコーダディスク31に施されたパターン画像201の位置である。パターン位置212は、そこからモータ軸15を120度回転させた時のエンコーダディスク31のパターン画像201の位置である。パターン位置213は更に120度回転させた時のエンコーダディスク31のパターン画像201の位置である。このように、モータ軸15を所定量回転させることで、エンコーダディスク31のパターン画像201の位置を計測し、モータ軸15の回転中心位置215を制御部7で計算する。すなわち、パターン位置211、212、213の3点を通る円214を計算より導出し、その中心点を回転中心位置215とし、円214の半径偏芯量216を求める。この半径216がエンコーダディスク31の中心位置とモータ軸15の回転中心位置とのズレ偏芯量となる。そして、このようにして求めた偏芯量216が所定量より大きい場合にはステップS20,No、吸着ヘッド11を下降させてエンコーダディスク31を吸着把持し、モータ軸15の回転中心位置にパターンが重なるようにエンコーダディスク31を移動させ、吸着ヘッド11を退避させるステップS21、再度ステップS16~S19までの動作を行う。そして、偏芯量216が所定量以下である場合にはステップS20,Yes、エンコーダディスク31の位置姿勢調整を終了する。次に、パターン認識による位置合わせが難しい光学部品として凹面鏡32を例示し、モータ軸15の回転軸中心位置に対して所定の偏芯量以内に凹面鏡32が配置されるように調整する動作について説明する。凹面鏡32を認識する場合においては、図3に示すように光源切替部6は第1孔27に光を通過させる状態に切替えられ、第1孔27を通過したスポット光を用いて認識カメラ4にて凹面鏡を認識する。図9は、認識カメラ4で撮像された凹面鏡32の画像の概略図である。図11-1は、凹面鏡32の位置姿勢検出を説明するためにモータ14部分を拡大した側面図である。図11-2は、図11-1に示す矢印Bに沿って撮影した画像を例示する図である。図12は、凹面鏡32の位置姿勢検出を行うための認識カメラ4内での光学要素の概略構成を示す図である。図12に示すように、光源切替部6を通過したスポット光111は、プリズム114で90度に反射され、対物レンズ115に入射された後、凹面鏡32の手前位置に相当する近軸焦点で像を結ぶ。この凹面鏡32に入射された光は、凹面鏡32の近軸焦点から発射された光と同等であることから、凹面鏡32の凹面から平行光112として反射され、対物レンズ115に入射される。この対物レンズ115に入射された光は、プリズム114を透過し、投影レンズ121に入射されて拡大される。拡大された像が受光センサ122に投影され、図9に示すように反射光202として観察される。この反射光202の位置が凹面鏡32の凹部の中心位置32aと対向する位置となる。図16は、凹面鏡32の位置姿勢調整の手順を示すフローチャートである。まず、吸着ヘッド11に手または機械にて凹面鏡32を供給し、吸着把持させるステップS31。次に、モータ14をステージ16上に人手または機械にて供給するステップS32。次に、図示しない位置機構でモータ14本体を位置決めし、モータ軸15を回転チャック17で把持するステップS33。凹面鏡32を吸着把持した吸着ヘッド11をモータ14上に移動させ、吸着ヘッド11を下降させて凹面鏡32をモータ14の軸上に供給するステップS34。次に、吸着をOFFし、吸着ヘッド11を退避させるステップS35。次に、凹面鏡32からの反射光202の画像の位置を画像認識処理部8に取り込み、位置を算出するステップS36。位置を算出した回数が所定回数以下であればステップS37,No、モータ軸15を回転チャック17で120度回転させてステップS38ステップS36に戻り、凹面鏡32からの反射光の画像の位置を画像認識処理部8に取り込み、位置を算出する。なお、本実施の形態では、凹面鏡からの反射光202の位置を3点に移動させて位置検出を行う。すなわち、位置を検出する所定回数は3回となる。もちろん4回以上の位置検出を行うように構成しても構わない。位置を算出した回数が所定回数に達していればステップS37,Yes、図11-2に示す反射光位置221~223の3点の位置からモータ軸15の回転中心位置225を算出するとともに、モータ軸15の回転中心位置225から反射光位置221~223までの距離を求めるステップS39。図11-2において、反射光位置221は、初めに凹面鏡32を光学部品搭載部13に供給した状態での凹面鏡32からの反射光202の位置である。反射光位置222はそこからモータ軸15を120度回転させた時の凹面鏡32からの反射光202の位置である。反射光位置223は更に120度回転させた時の凹面鏡32からの反射光202の位置を示す。このように、モータ軸15を所定量回転させることで、凹面鏡32の反射光202の位置を計測し、モータ軸15の回転中心位置225を制御部7で計算する。すなわち、反射光位置221、222、223の3点を通る円224を計算より導出し、その中心点を回転中心位置225とし、円224の半径偏芯量226を求める。この半径226が、凹面鏡32の中心位置とモータ軸15の回転中心位置とのズレ偏芯量となる。そして、このようにして求めた偏芯量226が所定量より大きい場合にはステップS40,No、吸着ヘッド11を下降させて凹面鏡32を吸着把持し、モータ軸15の回転中心位置に凹面鏡32の中心位置が重なるように凹面鏡32を移動させ、吸着ヘッド11を退避させステップS41、再度ステップS36~S39までの動作を行う。そして、偏芯量226が所定量以下である場合にはステップS40,Yes、凹面鏡32の位置姿勢調整を終了する。上述したように、本実施の形態によれば、認識カメラ4の鏡筒へ入射する照明光の光路途中に第1孔27および第2孔28が形成された遮蔽板26を挿入する機構を用いることで、パターン認識による位置合せが可能な光学部品12例えば、エンコーダディスク31と、パターン認識による位置合せが難しい光学部品12例えば、凹面鏡32の位置姿勢調整がひとつの光学系で可能となる。これにより、複数の光学系をそれぞれ持つ場合に比べて、コストの増大を抑えることができ、装置の小型化も図ることができる。実施の形態3.図13は、本発明の実施の形態3にかかる光学部品実装装置の概略構成を示す概略図である。本実施の形態3では、照明光源5が、光を射出する複数の光射出部34a,34bを有する。例えば、一方の光射出部34aから射出された光は第2孔28図2,3を参照を通過して幅広光として照射され、他方の光射出部34bから射出された光は第1孔27図2,3を参照を通過してスポット光として照射されるように構成する。このように構成することで、光射出部34a,34bの電源を交互にON/OFF切替えることで、被調整部品に照射される光の光束の幅を切替えることができる。そして、第1孔27を通過した光と第2孔28を通過した光の両方が、単一の光路で認識カメラ4に到達するようにプリズムなどを設ければ、遮蔽板26図2,3を参照を移動させる機構を省略することができる。これにより、上記実施の形態と同様に、被調整部品の位置姿勢調整がひとつの光学系で可能となる。また、複数の光学系をそれぞれ持つ場合に比べて、コストの増大を抑えることができ、装置の小型化も図ることができる。なお、光射出部34a,34bのうちスポット光を照射させる側の光射出部をレーザー光源とすることで、遮蔽板26図2,3を参照を用いずにスポット光を照射させることができるとともに、光径をより小さく絞る数μm~数十μmことで、より高精度の位置調整をする事が可能となる。なお、このような光射出部を切替える構成は、上述した実施の形態1の構成にも適用することができる。"