"有機材料からなる集光フィルムであって、少なくとも一方の表面に微細な凹凸の繰り返し構造を有し、凹凸高さHが0.1~100μmであり、凹凸周期Pが0.1~500μmであり、各凹凸部が階段状の斜面を有し、階段1段の高さD及び幅Lが凹凸部の底面部に向かって大きくなるように、又は小さくなるように形成されており、階段の1段の高さDが0.01~100μmであり、階段の1段の幅Lが0.01~100μmであることを特徴とする集光フィルム。有機材料は、1.30~1.65の屈折率を有する請求項1記載の集光フィルム。有機材料は、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体、エチレン/クロロトリフルオロエチレン共重合体、クロロトリフルオロエチレン/テトラフルオロエチレン共重合体、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン/パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、及び、ポリビニリデンフルオライドからなる群より選択される少なくとも1種のフッ素樹脂である請求項1又は2記載の集光フィルム。各凹凸部が略錐体状の凹部又は凸部である請求項1、2又は3記載の集光フィルム。凹凸の繰り返し構造が略平行に形成された複数の線状の凹部又は凸部により構成されている請求項1、2又は3記載の集光フィルム。透過型である請求項1、2、3、4又は5記載の集光フィルム。一方の表面に微細な凹凸の繰り返し構造を有し、もう一方の表面が平滑である請求項1、2、3、4、5又は6記載の集光フィルム。両面に微細な凹凸の繰り返し構造を有する請求項1、2、3、4、5又は6記載の集光フィルム。請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載の集光フィルムを備えることを特徴とする太陽電池モジュール。請求項7記載の集光フィルムを備えた太陽電池モジュールであって、平滑な表面が大気に曝されることを特徴とする太陽電池モジュール。太陽電池セルと、前記太陽電池セルが封止された封止材層と、前記封止材層の片面又は両面に設けられた請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載の集光フィルムと、を備えることを特徴とする太陽電池モジュール。太陽電池セルと、前記太陽電池セルが封止された封止材層と、前記封止材層の片面又は両面に設けられた透光性層とを備え、さらに、前記透光性層上に請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載の集光フィルムを備えることを特徴とする太陽電池モジュール。従来の光学素子に用いられている計算機ホログラムは、二値の階調による空間変調度のパターンを有するもののみであり、集光フィルムに適用したとしても、広い角度範囲の入射光を集光することはできなかった。本発明の目的は、広い角度範囲の入射光を高効率で集光することができる集光フィルム、及び、上記集光フィルムを備える太陽電池モジュールを提供することにある。本発明は、有機材料からなる集光フィルムであって、少なくとも一方の表面に微細な凹凸の繰り返し構造を有し、凹凸高さHが0.1~100μmであり、凹凸周期Pが0.1~500μmであり、各凹凸部が階段状の斜面を有し、階段1段の高さD及び幅Lが凹凸部の底面部に向かって大きくなるように、又は小さくなるように形成されており、階段の1段の高さDが0.01~100μmであり、階段の1段の幅Lが0.01~100μmであることを特徴とする集光フィルムである。本発明は、上記の集光フィルムを備えることを特徴とする太陽電池モジュールでもある。本発明の集光フィルムは、上述の構成を有することによって、広い角度範囲の集光例えば、全方位集光が可能となる。また、本発明の集光フィルムをフッ素樹脂により構成すれば、長期安定性を有する集光フィルムとすることができる。太陽電池モジュールに使用する場合には、集光効率を改善することにより、発電効率の改善、低コスト化を図ることができる。以下に本発明を詳細に説明する。本発明の集光フィルムは、少なくとも一方の表面に微細な凹凸の繰り返し構造を有する。図1は、本発明の集光フィルムにおける微細な凹凸の繰り返し構造の例を示す断面図である。凹凸の繰り返し構造を構成する凹凸部10は、少なくともその表面の一部に階段状の斜面11を有する。図1aは、表面に左右対称に階段状の斜面11が形成された凹凸部10の繰り返しから構成される繰り返し構造を模式的に示す断面図である。図1bは、凹凸部10の表面の一部に形成された階段状の斜面11と、底面部13を含む平面からほぼ垂直に立ち上がった垂直部12とからなる凹凸部10の繰り返しから構成される繰り返し構造を模式的に示す断面図である。図1では8段の階段が形成されている。図1に示すように、階段1段の高さD及び幅Lは、凹凸部10の底面部13に向かって大きくなるように形成されている。凹凸部10は、略錐体状の凹部又は凸部であってもよいし、凹凸の繰り返し構造が略平行に形成された複数の線状の凹部又は凸部により構成されていてもよい。本発明の集光フィルムは、一方の表面に微細な凹凸の繰り返し構造を有し、もう一方の表面が平滑であってもよいし、両面に微細な凹凸の繰り返し構造を有してもよい。また、光はいずれの面から入射してもよい。更に、凹凸形状により集光フィルムに意匠性を持たせてもよい。階段1段の高さD及び幅Lは、凹凸部10の底面部13に向かって大きくなるように形成されており、この構成によって高い集光効率が得られる。階段1段の高さD及び幅Lは、凹凸部10の底面部13に向かって小さくなるように形成されていてもよい。階段1段の高さD及び幅Lは、好ましくは底面部13に向かって非線形に大きくなるように形成されることが好ましい。本発明の集光フィルムは、凹凸高さHが0.1~100μmであることが好ましく、0.5~30μmであることがより好ましい。本発明の集光フィルムは、凹凸周期Pが0.1~500μmであることが好ましく、1~10μmであることがより好ましい。本発明の集光フィルムは、階段の1段の高さDが0.01~100μmであることが好ましく、0.03~0.3μmであることがより好ましい。本発明の集光フィルムは、階段の1段の幅Lが0.01~100μmであることが好ましく、0.1~10μmであることがより好ましい。本発明の集光フィルムは、凹凸幅Wが0.1~500μmであることが好ましく、1~10μmであることがより好ましい。さらに、凹凸周期Pと凹凸幅Wの関係がP-W≧0を満たすことが好ましい。本発明の実施形態を図に沿って更に詳細に説明する。図2は、本発明の第1の実施形態における集光フィルムを模式的に示す正面図である。図3は、本発明の一実施形態における集光フィルムを模式的に示す斜視図である。本実施形態における集光フィルム300は、図2及び図3に示すように複数の凹凸部31が線状に形成された繰り返し構造を有しており、凹凸部31が同心円状に多数設けられている。図3における一点鎖線は、集光フィルム表面に同心円状に形成された凹凸の繰り返し構造の中心線を表している。凹凸周期Pは外周に向かって狭くなっており、外周部における凹凸周期が最も小さくなるように形成されている。本実施形態においては、凹凸部31の階段状の斜面が同心円の中心側に向かって形成されているが、同心円の外周側に向かって形成してもよい。又は、その両方を同時に形成してもよい。さらに、この凹凸部の繰り返し構造は上下にポジ/ネガ反転したものであってもよい。凹凸部31は、図3に示すように、階段状に傾斜した斜面32と底面を含む平面からほぼ垂直に立ち上がった垂直部33とから形成され、略三角形状の断面を有する。図1bは、凹凸部31の断面を模式的に表した断面図である。本実施形態においては7段又は8段の階段が形成されている。凹凸部31は、図1aに示すように、2つの階段状の斜面から形成されるものとすることもできる。第1の実施形態によれば、2つの階段状の斜面から形成されたものは、1つの階段状の斜面から形成されたものに比べて、1日を通じた集光性において、効率よく集光性に優れた集光フィルムとすることができる。図4に凹凸の繰り返し構造を有する集光フィルムの第2の実施形態を示す。本実施形態における集光フィルム400は、図4に示すように、複数の凸状の錐体41の繰り返しから構成される凹凸の繰り返し構造を有する。錐体41としては、例えば、三角錐や四角錐等の角錐状や、角錐台状、円錐状、円錐台状等を挙げることができる。これらの中でも、錐体としては、光の入射角度によらず高い効率で集光が可能であることから、四角錐であることが好ましい。なお、本実施形態では、錐体が凸状の四角錐である。錐体が四角錐である場合には、その四角錐の底面部43は正方形や長方形とすることができる。錐体の底面部43の一辺の長さは0.3~30μmであることが好ましく、1~10μmであることがより好ましい。錐体の頂角は、5~150度であることが好ましく、30~90度であることがより好ましい。錐体が円錐状である場合には、円形の底面部の半径が100~4000μmであることが好ましく、200~2000μmであることがより好ましい。隣接する2つの凹凸部の頂点の中心間の最長距離は、入射光の反射が起こらない距離であることが好ましく、0.1~200μmであることがより好ましい。集光フィルム400は、略同一形状の錐体を複数含んでなる構成としてもよいし、形状の異なる複数種類の錐体を複数含んでなる構成としてもよい。また、複数の錐体は、正格子状に配置してもよいし、千鳥格子状に配置してもよいし、例えば六角形を基本とする最密充填状に配置してよく、またランダムに配置してもよい。第2の実施形態における集光フィルムは、図5に示すような複数の凹状の錐体51の繰り返しから構成される構造としてもよい。本実施形態における集光フィルム500は、図5に示すように、複数の凹状の錐体51の繰り返しから構成される凹凸の繰り返し構造を有する。錐体51としては、例えば、三角錐や四角錐等の角錐状や、角錐台状、円錐状、円錐台状等を挙げることができ、それらの好ましい大きさとしては集光フィルム400の好ましい大きさが適用できる。さらに、この複数の凹状の錐体51の表面には第一の実施形態による微細な凹凸の繰り返し構造を有してもよい。第2の実施形態によれば、1日を通じた集光性において効率よく集光が可能な集光フィルムとすることができる。図6に凹凸の繰り返し構造を有する集光フィルムの第3の実施形態を示す。本実施形態における集光フィルム600は、図6に示すように、略平行に並んだ複数の凹凸部61が線状に形成されている。凹凸部61は階段状の2つの斜面62を有し、略二等辺三角形状の断面を有する。本実施形態では、複数の凹凸部の断面形状が全て略同一の形状であるが、形状の異なる複数の凹凸部が線状に形成されていてもよい。上記の本実施形態においては階段の段数を7段ないし8段としたが、3段以上であれば段数は限定されず、4~32段であることが好ましい。また、階段の段数は凹凸ごとに異なった段数としてもよい。凹凸の繰り返し構造を後述する離散フーリエ変換を用いて計算された多値階調パターンにより構成する場合には、階段の段数は2の指数2のべき乗となる。広い角度範囲の入射光を高効率で集光することができるので、凹凸の繰り返し構造は8段の階段状の斜面が形成された凹凸の繰り返しにより構成された構造が好ましい。本発明の集光フィルムは、透過型の集光フィルムであることが好ましい。透過型の集光フィルムとは、集光フィルムの片面に入射した光を、光が入射した面とは反対の面から出射する集光フィルムを意味する。本発明の集光フィルムは、多値階調パターンを有することも好ましい。多値階調パターンを有することで、広い角度範囲での面内集光が可能となる。多値階調パターンは、計算機多値ホログラムによるグレーティングパターン等ともいわれるパターンである。多値階調パターンは、計算機ホログラムを構成するものであることが好ましい。すなわち、本発明の集光フィルムは、多値階調パターンを有する計算機ホログラムを備えることが好ましい。計算機ホログラムは参照光と物体光との干渉縞形成により形成するものではないため、集光フィルムを形成するための材料として、感光性材料を使用する必要がなく、耐久性のあるホログラムを形成することができる。本明細書中で多値階調パターンは、計算機により算出された多値の階調を有するパターンである。多値階調とは、3以上の値を有する階調を意味し、2値の階調とは区別される。また、有機材料にレーザ干渉固定したホログラム回折パターンのような、位相情報が記録された波形パターンとも区別されるものである。ここで、階調は、集光フィルムの膜厚変化の度合いを意味し、例えば、多値階調パターンを有する集光フィルムでは、3段階以上の膜厚の値を有するものとなる。多値階調パターンは、離散フーリエ変換を用いて計算されたパターンであることが好ましい。従来のフーリエ変換を用いて計算した計算機ホログラムでは、広い角度範囲で集光を行うホログラムを計算するためには、大容量の演算処理が必要であり、集光フィルムに用いる大面積の計算機ホログラムを計算することはできず、集光フィルムに用いるための計算機ホログラムとしては二値階調のものが限界であった。離散フーリエ変換を用いることにより、演算速度を飛躍的に向上させ、高品質で大面積の計算機ホログラムを計算することが可能であり、計算機ホログラムを集光フィルムに適用することが可能となる。離散フーリエ変換は、フーリエ変換装置を用いて実行することができる。上記フーリエ変換装置は、N点Nは2以上の整数の入力データに対して離散フーリエ変換を実行するフーリエ変換装置であって、N点の入力データの位相を変化させることでm組mは2以上の整数のN点の位相補正データを生成する位相補正部と、該位相補正部で生成された各組の位相補正データに離散フーリエ変換を並列に施すことでm組のN点の変換データを生成するフーリエ変換部と、上記フーリエ変換部で生成されたm組のN点の変換データを合成してL点Lは、Nのm倍の整数の合成データを生成する合成器とを備え、位相補正部は、L点の周期を持つ回転因子のベキ乗を入力データに乗算することで位相補正データを生成するとともに、フーリエ変換部は、各組の位相補正データに対して、N点の周期を持つ回転因子のベキ乗を用いたN点の離散フーリエ変換を実行する、フーリエ変換装置であることが好ましい。上記入力データは、目標とする集光フィルムの特性が得られるように、適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。上記位相補正部は、上記N点の入力データの位相を変化させ、互いに並列に動作する第0番目~第m-1番目の位相補正器を備えており、第q番目qは0~m-1の整数の位相補正器は、上記L点の周期を持つ回転因子のqの整数倍乗を上記入力データに乗算することで上記位相補正データを生成するものであることが好ましい。第q番目の上記位相補正器は、上記N点の入力データのうち第k番目kは0~N-1の整数の入力データxkに、次式Aで規定される上記回転因子WLのqk乗を乗算することで、次式Bで表現される上記位相補正データxCk,qを算出するとともに、上記フーリエ変換部は、第q番目の上記位相補正器から出力された上記位相補正データxCk,qに対して、次式Cで規定される上記回転因子WNを用いて次式Dに基づいたN点の離散フーリエ変換を実行し、上記N点の変換データXmpqpは0~N-1の整数を生成するものであることが好ましい。上記フーリエ変換装置は、上記合成データの位相を調整する位相補正器をさらに備えることが好ましい。上記フーリエ変換部はN点の高速フーリエ変換を実行する機能を有することが好ましい。図7は、上記フーリエ変換装置の一例を概略的に示すブロック図である。図7に示すようにフーリエ変換装置75は、サンプリング回路70、位相補正部71、フーリエ変換部72、合成器73及び位相補正器74を備えて構成されている。サンプリング回路70は、N点の入力データxkkは0~N-1の整数をサンプリングし、m組mはNの整数倍の入力データxk,xk,...,xkに分岐させて位相補正部71に出力する。また位相補正部71は、入力データxkの位相を変化させ、互いに並列に動作する第0番目~第m-1番目の位相補正器710~71m-1から構成される。第0番目~第m-1番目の位相補正器710~71m-1は、それぞれ、位相補正データxCk,0~xCk,m-1を生成してフーリエ変換部72に出力する。またフーリエ変換部72は、N点のFFTfastfouriertransformを実行する複数個のFFT演算器720~72m-1から構成されており、FFT演算器720~72m-1は、それぞれ、位相補正器710~71m-1から入力するN点の位相補正データに対してFFTを実行し、その処理結果の変換データを合成器73に出力する。また合成器73は、後述する方法で、FFT演算器72から入力するm組のN点の変換データを合成して合計L=mN点の合成データXnnは0~L-1の整数を生成し、位相補正器74に出力する。そして位相補正器74は、合成データXnの位相を所定量変化させて出力データを生成して出力する。離散フーリエ変換を用いて計算を実行する方法は、特開2004-206254号公報に詳しく記載されている。また、多値階調パターンは、離散フーリエ変換のほか、反復フーリエ変換を用いて得ることも可能である。これらの計算方法に関しては非特許文献AppliedOptics、1994年、第33巻、pp863-867に詳しく記載されている。集光フィルムは、該集光フィルムの法線方向に対して0°~89°の角度で入射した550nmの波長の光線透過率が平均80以上であることが好ましい。より好ましくは、平均90以上であり、更に好ましくは、平均95以上である。集光フィルムを形成する有機材料の光線透過率を高くすることによって、集光効率を向上させることもできる。また、光線透過率を高くすることによって、蓄熱等による劣化を抑制することができるため、長期間の使用が可能となり、太陽電池用途等に特に好適に用いることができる。上記光線透過率は、紫外-可視分光光度計U-4100Spectrophotometer、株式会社日立ハクテクノロジーズ社製を用いた方法で測定することができる。また、集光フィルムは、該集光フィルムの法線方向に対して0°~89°の角度で入射した550nmの波長の光線透過率が実質的に全ての角度で80以上であることが好ましい。より好ましくは、90以上であり、更に好ましくは95以上である。なお、法線方向に対して0°の角度とは、垂直軸の角度を示し、また法線方向に対して89°の角度とは、水平軸1°の角度を示す。なお、光線透過率は0~89°の範囲を2°毎に測定した値を、測定した値の数で平均化した値を採用することができる。集光フィルムの法線方向に対して0~89°の角度で入射した550nmの波長の光線透過率は、多値階調パターンを有する領域に入射した550nmの波長の光線透過率であることも好ましい。本発明の集光フィルムは有機材料からなる。従来のホログラムを用いた光学素子は、重クロム酸ゼラチン等の感光性材料にホログラム回折パターンを形成したものであったが、感光性材料は耐久性耐湿性、耐候性に欠けるため、このホログラム回折パターンを有する平面フィルムを太陽電池に用いる場合、太陽電池セルの内部へ装着するものとなっており、例えば、非特許文献1で開示されているような内部全反射方式の太陽電池セルとなるため、構造的に広い角度範囲で集光全方位集光するものではなかった。本発明の集光フィルムは、有機材料からなるものであるため、耐久性が高く、長期安定性を有する。上記有機材料は、350~800nmの波長の屈折率が1.30~1.65であることが好ましい。屈折率の上限としては、1.60であることがより好ましく、1.55であることが更に好ましく、1.45であることが特に好ましい。上記屈折率は、アッベ屈折計Digitalthermometer2T、株式会社アタゴ製を用いた方法で測定することができる。測定は25°Cで計測し、光源波長は589nmのナトリウムD線を用いた。なお、集光フィルム用途での最適な屈折率としては、例えば、1.40であることが好ましい。1.42であることも好ましい。有機材料としては特に限定されないが、例えば、熱可塑性樹脂が好ましく、例えば、PMMAポリメチルメタクリレート、PCポリカーボネート、PENポリエチレンナフタレート、PETポリエチレンテレフタレート、TACトリアセチルセルロース、PESポリエーテルサルホン、及び、フッ素樹脂からなる群より選択される少なくとも1種の化合物であることが好ましい。これらの熱可塑性樹脂は、いわゆる耐候性有機材料でもある。また、これらの熱可塑性樹脂の他、これら樹脂上に対するコーティング層として後述する硬化性樹脂などの高分子材料や、ゾルゲル材料等として用いられる有機無機のナノ複合材料等も利用することが可能である。有機材料は、フッ素樹脂であることも好ましい。従来、プラスチック系光学部材にはPMMAポリメチルメタクリレート素材が用いられていたが、成形の際に可塑剤、熱酸化防止剤等の添加剤を添加しており、太陽電池用の集光素子として用いたとしても、黄変ΔYI値の増大等の問題があり、実用上使用することができなかった。フッ素樹脂は、耐候性、耐熱性、耐水蒸気透過性、透明性等に優れるため、太陽光線等による素材の劣化を防ぎ、長期耐久性を有する集光フィルムとすることができる。また、光透過性にも優れている。上記フッ素樹脂は、溶融加工可能なフッ素樹脂であれば特に限定されないが、少なくとも1種の含フッ素エチレン性単量体から誘導される繰り返し単位を有する単独重合体又は共重合体であることが好ましい。上記フッ素樹脂は、含フッ素エチレン性単量体のみを重合してなるものであってもよいし、含フッ素エチレン性単量体とフッ素原子を有さないエチレン性単量体を重合してなるものであってもよい。上記フッ素樹脂は、フッ化ビニルVF、テトラフルオロエチレンTFE、フッ化ビニリデンVdF、クロロトリフルオロエチレンCTFE、フッ化ビニル、へキサフルオロプロピレンHFP、へキサフルオロイソブテン、CH2=CZ1CF2nZ2式中、Z1はH又はF、Z2はH、F又はCl、nは1~10の整数である。で示される単量体、CF2=CF-ORf1式中、Rf1は、炭素数1~8のパーフルオロアルキル基を表す。で表されるパーフルオロアルキルビニルエーテルPAVE、及び、CF2=CF-O-CH2-Rf2式中、Rf2は、炭素数1~5のパーフルオロアルキル基で表されるアルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体からなる群より選択される少なくとも1種の含フッ素エチレン性単量体に由来する繰り返し単位を有することが好ましい。上記PAVEとしては、パーフルオロメチルビニルエーテルPMVE、パーフルオロエチルビニルエーテルPEVE、パーフルオロプロピルビニルエーテルPPVE、パーフルオロブチルビニルエーテル等が挙げられ、なかでも、PMVE、PEVE又はPPVEがより好ましい。上記アルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体としては、Rf2が炭素数1~3のパーフルオロアルキル基であるものが好ましく、CF2=CF-O-CH2-CF2CF3がより好ましい。上記フッ素樹脂は、フッ素原子を有さないエチレン性単量体に由来する繰り返し単位を有してもよく、耐熱性や耐薬品性等を維持する点で、炭素数5以下のエチレン性単量体に由来する繰り返し単位を有することも好ましい形態の一つである。上記フッ素樹脂は、エチレン、プロピレン、1-ブテン、2-ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン及び不飽和カルボン酸からなる群より選択される少なくとも1種のフッ素非含有エチレン性単量体を有することも好ましい。上記不飽和カルボン酸としては、共重合を可能にする炭素-炭素不飽和結合を1分子中に少なくとも1個有し、且つ、カルボニルオキシ基-C=O-O-を1分子中に少なくとも1個有するものが好ましく、脂肪族不飽和モノカルボン酸であってもよいし、カルボキシル基を2個以上有する脂肪族不飽和ポリカルボン酸であってもよく、例えば、国際公開第2005/100420号パンフレットに記載の不飽和カルボン酸が挙げられる。上記脂肪族不飽和カルボン酸としては、メタアクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、フマル酸、イタコン酸、イタコン酸無水物、シトラコン酸、シトラコン酸無水物、メサコン酸及びアコニット酸からなる群より選択される少なくとも1種であることがより好ましい。上記フッ素樹脂としては、ポリクロロトリフルオロエチレンPCTFE、エチレンEt/TFE共重合体ETFE、Et/CTFE共重合体、CTFE/TFE共重合体、TFE/HFP共重合体FEP、TFE/PAVE共重合体PFA、及び、ポリビニリデンフルオライドPVdFからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、PCTFE、ETFE、CTFE/TFE共重合体、FEP及びPFAからなる群より選択される少なくとも1種のフッ素樹脂であることがより好ましい。上記クロロトリフルオロエチレンCTFE/テトラフルオロエチレンTFE共重合体は、CTFE単位とTFE単位とのモル比がCTFE:TFE=2:98~98:2であることが好ましく、5:95~90:10であることがより好ましく、20:80~90:10であることが更に好ましい。CTFE単位が少なすぎると溶融加工が困難になる傾向があり、多すぎると成型時の耐熱性、耐薬品性が悪化する場合がある。CTFE/TFE共重合体は、CTFE、TFE、並びに、CTFE及びTFEと共重合可能な単量体からなる共重合体であることが好ましい。CTFE及びTFEと共重合可能な単量体としては、エチレン、VdF、HFP、CH2=CZ1CF2nZ2式中、Z1はH又はF、Z2はH、F又はCl、nは1~10の整数である。で示される単量体、CF2=CF-ORf1式中、Rf1は、炭素数1~8のパーフルオロアルキル基を表す。で表されるパーフルオロアルキルビニルエーテルPAVE、及び、CF2=CF-O-CH2-Rf5式中、Rf5は炭素数1~5のパーフルオロアルキル基を表す。で表されるアルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体等が挙げられ、なかでも、エチレン、VdF、HFP及びPAVEからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、PAVEであることがより好ましい。上記PAVEとしては、パーフルオロメチルビニルエーテルPMVE、パーフルオロエチルビニルエーテルPEVE、パーフルオロプロピルビニルエーテルPPVE、パーフルオロブチルビニルエーテル等が挙げられ、なかでも、PMVE、PEVE又はPPVEがより好ましい。上記アルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体としては、Rf5が炭素数1~3のパーフルオロアルキル基であるものが好ましく、CF2=CF-O-CH2-CF2CF3がより好ましい。上記CTFE/TFE共重合体は、CTFE及びTFEと共重合可能な単量体に由来する単量体単位が0.1~10モルであり、CTFE単位およびTFE単位が合計で90~99.9モルであることが好ましい。共重合可能な単量体単位が少なすぎると成形性、耐環境応力割れ性および耐ストレスクラック性に劣りやすく、多すぎると耐熱性、機械特性、生産性などに劣る傾向にある。CTFE及びTFEと共重合可能な単量体に由来する単量体単位の下限は0.5モルであることがより好ましく、上限は5モルであることがより好ましい。FEPは、とりわけ耐熱性が優れたものとすることができる点で好ましい。FEPとしては、特に限定されないが、TFE単位70~99モルとHFP単位1~30モルからなる共重合体であることが好ましく、TFE単位80~97モルとHFP単位3~20モルからなる共重合体であることがより好ましい。TFE単位が70モル未満では機械物性が低下する傾向があり、99モルをこえると融点が高くなりすぎ成形性が低下する傾向がある。FEPは、TFE、HFP、並びに、TFE及びHFPと共重合可能な単量体からなる共重合体であってもよく、当該単量体としてはCTFE及びTFEと共重合可能な単量体として例示した単量体であってもよい。当該単量体としては、CF2=CF-ORf6式中、Rf6は炭素数1~5のパーフルオロアルキル基を表す。で表されるパーフルオロアルキルビニルエーテルPAVE、CZ3Z4=CZ5CF2nZ6式中、Z3、Z4及びZ5は、同一若しくは異なって、水素原子又はフッ素原子を表し、Z6は、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、nは2~10の整数を表す。で表されるビニル単量体、及び、CF2=CF-OCH2-Rf7式中、Rf7は炭素数1~5のパーフルオロアルキル基を表す。で表されるアルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体等が挙げられ、なかでも、PAVEであることが好ましい。PAVE及びアルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体としては、CTFE及びTFEと共重合可能な単量体として例示したものと同様である。FEPは、TFE及びHFPと共重合可能な単量体に由来する単量体単位が0.1~10モルであり、TFE単位及びHFP単位が合計で90~99.9モルであることが好ましい。共重合可能な単量体単位が0.1モル未満であると成形性、耐環境応力割れ性および耐ストレスクラック性に劣りやすく、10モルをこえると耐熱性、機械特性、生産性などに劣る傾向にある。PFAは、とりわけ耐熱性が優れたものとすることができる点で好ましい。PFAとしては、特に限定されないが、TFE単位70~99モルとPAVE単位1~30モルからなる共重合体であることが好ましく、TFE単位80~98.5モルとPAVE単位1.5~20モルからなる共重合体であることがより好ましい。TFE単位が70モル未満では機械物性が低下する傾向があり、99モルをこえると融点が高くなりすぎ成形性が低下する傾向がある。上記PAVEとしては、上述したものが挙げられ、なかでも、PMVE、PEVE及びPPVEからなる群より選択される少なくとも1種であることがより好ましく、PMVEであることが更に好ましい。上記PFAは、TFE、PAVE、並びに、TFE及びPAVEと共重合可能な単量体からなる共重合体であってもよく、当該単量体としてはCTFE及びTFEと共重合可能な単量体として例示した単量体であってもよい。当該単量体としては、HFP、CZ3Z4=CZ5CF2nZ6式中、Z3、Z4及びZ5は、同一若しくは異なって、水素原子又はフッ素原子を表し、Z6は、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、nは2~10の整数を表す。で表されるビニル単量体、及び、CF2=CF-OCH2-Rf7式中、Rf7は炭素数1~5のパーフルオロアルキル基を表す。で表されるアルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体等が挙げられる。上記アルキルパーフルオロビニルエーテル誘導体としては、CTFE及びTFEと共重合可能な単量体として例示したものと同様である。上記PFAは、TFE及びPAVEと共重合可能な単量体に由来する単量体単位が0.1~10モルであり、TFE単位及びPAVE単位が合計で90~99.9モルであることが好ましい。共重合可能な単量体単位が0.1モル未満であると成形性、耐環境応力割れ性および耐ストレスクラック性に劣りやすく、10モルをこえると耐熱性、機械特性、生産性などに劣る傾向にある。上記ETFEは、力学物性等が向上する点で好ましい。TFE単位とエチレン単位との含有モル比は20:80~90:10が好ましく、37:63~85:15がより好ましく、38:62~80:20が更に好ましい。上記ETFEは、TFE、エチレン、並びに、TFE及びエチレンと共重合可能な単量体からなる共重合体であってもよい。共重合可能な単量体としては、下記式CH2=CZ7Rf3、CF2=CFRf3、CF2=CFORf3、CH2=CRf32式中、Z7は水素原子またはフッ素原子、Rf3はエーテル結合性酸素原子を含んでいてもよいフルオロアルキル基を表す。で表される単量体が挙げられ、なかでも、CF2=CFRf3、CF2=CFORf3及びCH2=CZ7Rf3で表される含フッ素ビニルモノマーが好ましく、HFP、CF2=CF-ORf4式中、Rf4は炭素数1~5のパーフルオロアルキル基を表す。で表されるパーフルオロアルキルビニルエーテルPAVE及びRf3が炭素数1~8のフルオロアルキル基であるCH2=CZ7Rf3で表される含フッ素ビニルモノマーがより好ましい。上記式で示される含フッ素ビニルモノマーの具体例としては、1,1-ジヒドロパーフルオロプロペン-1、1,1-ジヒドロパーフルオロブテン-1、1,1,5-トリヒドロパーフルオロペンテン-1、1,1,7-トリヒドロパーフルオロへプテン-1、1,1,2-トリヒドロパーフルオロヘキセン-1、1,1,2-トリヒドロパーフルオロオクテン-1、2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロペンチルビニルエーテル、パーフルオロメチルビニルエーテル、パーフルオロプロピルビニルエーテル、ヘキサフルオロプロペン、パーフルオロブテン-1、3,3,3-トリフルオロ-2-トリフルオロメチルプロペン-1、2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロ-1-ペンテンCH2=CFCF2CF2CF2Hがあげられる。また、TFE及びエチレンと共重合可能な単量体としては、上述したイタコン酸、無水イタコン酸等の脂肪族不飽和カルボン酸であってもよい。TFE及びエチレンと共重合可能な単量体は、含フッ素重合体に対して0.1~10モルが好ましく、0.1~5モルがより好ましく、0.2~4モルが特に好ましい。フッ素樹脂としては、ETFE、PCTFE、FEP及びPVdFからなる群より選択される少なくとも一種のフッ素樹脂であることがより好ましい。従来ホログラム材料として用いられてきたPMMAは、全光線透過率が90以下であり、特に低波長側での光吸収が大きかった。上記ETFE、PCTFE、FEP及びPVdFは、高光透過性の材料であり、更に薄膜性も高いため、光の吸収反射を抑制し、集光効率を向上させることができる。上記フッ素樹脂は、パーハロポリマーであることも好ましい形態の一つである。パーハロポリマーを使用することにより、耐薬品性等に優れるものとなる。上記パーハロポリマーは、重合体の主鎖を構成する炭素原子の全部にハロゲン原子が結合している重合体である。上記パーハロポリマーとしては、上述したCTFE/TFE共重合体、FEP及びPFAからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。上述した共重合体の各単量体の含有量は、NMR、FT-IR、元素分析、蛍光X線分析を単量体の種類によって適宜組み合わせることで算出できる。本発明において、上記フッ素樹脂は特に限定されないが、融点が160~270°Cであることが好ましい。上記フッ素樹脂の分子量は、得られる集光フィルムが求められる機械的特性等の特性を発現できるような範囲であることが好ましい。例えば、メルトフローレートMFRを分子量の指標として、フッ素樹脂一般の成形温度範囲である約230~350°Cの範囲の任意の温度におけるMFRが0.5~100g/10分であることが好ましい。本明細書において、各樹脂の融点は、DSC装置セイコー社製を用い、10°C/分の速度で昇温したときの融解熱曲線における極大値に対応する温度として求めたものであり、MFRは、メルトインデクサー東洋精機製作所社製を用い、各温度、5kg荷重下で直径2mm、長さ8mmのノズルから単位時間10分間に流出するポリマーの重量gを測定したものである。上記フッ素樹脂は、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、塊状重合等、従来公知の重合方法により得ることができる。上記重合において、温度、圧力等の各条件、重合開始剤やその他の添加剤は、所望のフッ素樹脂の組成や量に応じて適宜設定することができる。有機材料の例示以下、本発明の集光フィルムに用いることができる有機材料について更に説明する。上記有機材料としては、上記した熱可塑性樹脂等の他、それら樹脂上などへのコーティング層として、硬化性樹脂などの高分子材料や、ゾルゲル材料等として利用する有機無機のナノ複合材料等も用いることも可能である。熱可塑性樹脂からなる樹脂上などへのコーティング層として用いられる硬化性樹脂は、基材上へのコーティング、または樹脂単体して塗膜を形成する塗料として用いられることが好ましい。すなわち、塗料として用いた場合、硬化性樹脂を基材に塗布し、硬化させた後、基材から剥がしてフィルムとしてもよいし、可能であれば、基材上に配置されたまま集光フィルムに加工してもよい。以下に、これらの有機材料について説明する。耐候性有機材料本発明の集光フィルムを構成する有機材料としては特に限定されないが、耐候性有機材料であることが好ましい。耐候性有機材料としては、上述した熱可塑性樹脂等の他、それら樹脂上などへのコーティング層として、硬化性樹脂などの高分子材料等が挙げられる。耐候性有機材料は、フッ素樹脂からなる有機材料であることが好ましい。フッ素樹脂からなる有機材料としては、上述したフッ素樹脂からなる有機材料等が挙げられるが、例えば、熱可塑性フッ素樹脂からなる有機材料、I水酸基および/またはカルボキシル基を有するフルオロオレフィン共重合体、Vフッ素シリコーン樹脂、VI官能基を有していないフッ化ビニリデンの単独重合体もしくは共重合体、及び、VII官能基を有しないフッ素樹脂、からなる群より選択される少なくとも1種の化合物からなる有機材料、又は、下記硬化性樹脂組成物VIII及び下記硬化性樹脂組成物IXからなる群より選択される少なくとも1種の有機材料が好ましい。上記熱可塑性フッ素樹脂は、耐加水分解の点で好ましい。上記I、V、VI、VII、VIII、IXで示される化合物からなる有機材料又は硬化性樹脂組成物は、耐光性の点で好ましい。上記耐候性有機材料は、溶剤可溶性であることが好ましい。耐候性有機材料としては、上記化合物からなる有機材料の他、IIアクリルラッカー樹脂、IIIアクリルポリオール樹脂、IVアクリルシリコン樹脂等からなる有機材料も挙げられるが、使用実績の点からは、I水酸基および/またはカルボキシル基を有するフルオロオレフィン共重合体、及び、IIIアクリルポリオール樹脂からなる群より選択される少なくとも1種の化合物からなる有機材料であることも好ましい。上記水酸基および/またはカルボキシル基を有するフルオロオレフィン共重合体Iとしては、たとえば特公昭60-21686号公報、特開平3-121107号公報、特開平4-279612号公報、特開平4-28707号公報、特開平2-232221号公報などの各公報に記載されているようなものがあげられ、該共重合体の数平均分子量GPCによるとしては、1000~100000であり、1500~30000が好ましい。上記分子量が1000未満であれば硬化性、耐候性が不充分になる傾向があり、100000を超えると作業性、塗装性に問題が生じる傾向がある。上記水酸基および/またはカルボキシル基を有するフルオロオレフィン共重合体の水酸基価としては、0~200mgKOH/gであり、0~150mgKOH/gであることが好ましい。上記水酸基が少なくなると硬化不良になりやすい傾向があり、200mgKOH/gを超えると可撓性に問題が生じる傾向がある。上記水酸基および/またはカルボキシル基を有するフルオロオレフィン共重合体の酸価としては、0~200mgKOH/gであり、0~100mgKOH/gであることがさらに好ましい。酸価が多くなると可撓性に問題が生じる傾向がある。なお、上記水酸基および/またはカルボキシル基を有するフルオロオレフィン共重合体のひとつとして、防汚染付着性、汚染除去性、防錆性の点からテトラフルオロエチレン共重合体を用いることもできる。上記水酸基および/またはカルボキシル基を有するフルオロオレフィン共重合体としては、たとえばダイキン工業株式会社製ゼッフル登録商標、旭硝子株製ルミフロン登録商標、セントラル硝子株製セフラルコート登録商標、大日本インキ化学工業株製フルオネート登録商標、東亜合成株製ザフロン登録商標などの市販品があげられる。上記アクリルポリオール樹脂IIIとしては、たとえばa水酸基含有メタアクリル酸エステル、ヒドロキシビニルエーテル、アリルアルコールなどの水酸基含有エチレン性不飽和単量体と、b水酸基を含まないオレフィン類、ビニルエーテル、アリルエーテル、ビニルエステル、プロペニルエステル、メタアクリル酸エステル、ビニル芳香族化合物、メタアクリロニトリル、カルボキシル基含有不飽和単量体、エポキシ基含有不飽和単量体、アミノ基含有不飽和単量体などの水酸基不含有不飽和単量体との重合体があげられる。アクリルポリオール樹脂は、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、及びアミノ基からなる群より選択される少なくとも一種の基を有していてもよい。アクリルポリオール樹脂IIIの水酸基価としては0~200mgKOH/gであり、0~100mgKOH/gであることが好ましい。水酸基価が多くなると可撓性に問題が生じる傾向がある。上記アクリルポリオール樹脂IIIの酸価としては、0~200mgKOH/gであり、0~100mgKOH/gであることがさらに好ましい。上記酸価が多くなると可撓性に問題が生じる傾向がある。アクリルラッカー樹脂IIとしては、たとえばアクリルポリオール樹脂に使用されるモノマーを原料にした樹脂であって、水酸基価がゼロで酸価が0~10のものなどがあげられる。アクリルポリオール樹脂III又はアクリルラッカー樹脂IIとしては、たとえば三菱レーヨン株製ダイヤナール登録商標、大日本インキ化学工業株製アクリディック登録商標、日立化成工業株製ヒタロイド登録商標、三井東圧化学株製オレスター登録商標などの市販品を用いることができる。上記アクリルシリコン樹脂IVとしては、たとえば1分子中に、少なくとも1個のシラン基とラジカル重合性不飽和基とを有するアクリルシリコン単量体を上記水酸基含有エチレン性不飽和単量体aおよび/または上記水酸基不含有不飽和単量体bと共重合したものがあげられる。アクリルシリコン樹脂IVは加水分解性シリル基、水酸基、エポキシ基を有してもよい。アクリルシリコン樹脂IVとしては、たとえば株カネカ製ゼムラック登録商標、三洋化成工業株製クリヤマー登録商標などの市販品を用いることができる。また、上記耐候性有機材料に、加水分解性脱離基をもつ有機金属化合物、そのオリゴマーおよび/または2種以上の該有機金属化合物のコオリゴマーを添加することにより、表面を親水化させた樹脂として用いることができる。この有機金属化合物は、下記一般式1:Z8eMOR22dR23f1[式中、dは0または1~6の整数、eは0または1~5の整数、fは0または1~6の整数ただし、def≧3であり、dとfとは同時に0にはならない、Z8は同じかまたは異なりいずれも酸素原子、チッ素原子、フッ素原子および/または塩素原子を含んでいてもよい炭素数1~5000の1価の有機基または水素原子、Mは少なくとも3価の原子価を有する金属原子、R22は同じかまたは異なりいずれも酸素原子、チッ素原子、フッ素原子および/または塩素原子を含んでいてもよい炭素数1~1000の1価の有機基、シロキサン残基または水素原子、R23は同じかまたは異なりいずれも酸素原子、チッ素原子、フッ素原子および/または塩素原子を含んでいてもよいキレート化の能力を有する炭素数1~20の有機基を表す]で示される有機金属化合物、特にR22またはR23の少なくとも1つが含フッ素基である含フッ素有機金属化合物が好ましい。かかる有機金属化合物としては上記一般式1で示される化合物が好ましい。これらの有機金属化合物、そのオリゴマーまたはこれらの2種以上のコオリゴマーは国際公開第97/11130号パンフレットに記載されているものである。ただし該パンフレットで除外している下記一般式2:式中、nは1~20の整数、R15はすべてが異なるかまたは少なくともふたつが同じでいずれも炭素数1~1000の1価の有機基であって、酸素原子、チッ素原子および/またはケイ素原子を含んでいてもよく、該有機基の水素原子の一部または全部がフッ素原子またはフッ素原子と塩素原子とで置換されていてもよいで示される有機金属化合物も本発明では使用可能である。これらの有機金属化合物は塗膜の表面を親水化する作用を有するが、目的とする機能、用途によって、より好ましい置換基や分子量などを選択して使用すればよい。以下、まず本発明において一般式1で示される有機金属化合物の好適な態様を説明する。上記一般式1中のdは、表面濃縮性、加水分解性、脱離性の点から0または1~6の整数であり、2~4の整数であることが好ましい。上記一般式1中のeは、表面濃縮性、親水性の点から0または1~5の整数であり、0~1の整数であることが好ましい。上記一般式1中fは表面濃縮性、加水分解性、脱離性の点から0または1~6の整数であり、0~3の整数であることが好ましい。なお、d、eおよびfの合計量は、金属原子Mの原子価で決まる量であるが、一般式1においてはOR22またはR23のいずれか一方は、防汚染付着性、表面濃縮性、加水分解性のために必要であるので、dおよびfが同時に0になることはなく、d、eおよびfの合計量は少なくとも3である。上記一般式1中Z8は、水素原子でもよく、またたとえばつぎの1~3にあげるような酸素原子、チッ素原子、フッ素原子および/または塩素原子を含んでいてもよい炭素数1~5000の1価の有機基であることが好ましい。1上記有機基Z8は、たとえばHCH2p、CH32CH、HCH2pC=O、FCF2qCH2p、CF32CH、HCF2qCH2p式中、pは0または1~6の整数、qは1~10の整数、フッ素原子の一部は塩素原子で置換されていてもよいなどがあげられ、これらの有機基は直鎖でも分岐鎖でもよい。これらの具体例は、たとえばCH3、CH3CH2、CH3CH2CH2、CH32CH、CF3CH2、CF3CF2CH2、CF32CH、FCF24CH2CH2、FCF28CH2CH2、HCF24CH2などがあげられるが、表面濃縮性、加水分解性、脱離性の点からCF3CF2CH2、CF32CHが好ましい。2また上記有機基Z8は、たとえばNH2、第二級アミノ基、第三級アミノ基、OH、NCO、CO2H、CO2Na、CO2K、SO3H、SO2Na、SO3K、エポキシ基、オキシエチレン基CH2CH2Oなどの官能基を有する有機基などがあげられる。これらの具体例は、たとえばH2NCH23、OCNCH23、CH3OCH2CH2OCH23、CH3OCH2CH2O5CH23、CH3OCH2CH2O10CH23、下記式:で表される官能基などがあげられるが、親水性、相溶性、密着性の点からOCNCH23、CH3OCH2CH2O5CH23が好ましい。3また上記有機基Z8は、たとえば酸素原子、チッ素原子、フッ素原子、塩素原子、ケイ素原子などを含んでいてもよい重合性の有機基があげられる。これらの具体例としては、たとえばCH2=CCH3CO2CH23、CH2=CH、CH2=CHCH2、CH2=CHOCH23、CH2=CHOCOCH23、CH2=CHC6H4、CH2=CHCO2CH23などがあげられるが、重合性、入手の容易さの点からCH2=CCH3CO2CH23、CH2=CHOCH23が好ましい。なお、本発明においては、このような重合性の有機基を有する式1で示される化合物を重合または共重合してえられ、分子量が2000~20万、好ましくは5000~20000の重合体または共重合体も好ましいものである。上記一般式1中R22は、同じかまたは異なりいずれも酸素原子、チッ素原子、フッ素原子および/または塩素原子を含んでいてもよく、表面濃縮性、加水分解性、脱離性の点から炭素数1~1000の1価の有機基、シロキサン残基または水素原子であり、上記炭素数としては1~100であることが好ましく、1~16であることがさらに好ましい。上記一般式1中R22のうちの1価の有機基は、たとえばHCH2m、CH32CH、HCH2mC=O、FCF2nCH2m、CF32CH、HCF2nCH2m、FCF2nCH2mC=O、HCF2nCH2mC=O、FCF2nCH2m2N、CF32CH2N、HCF2nCH2m2N、FCF2nOCFCF3CF2OmCFCF3C=O、FCF2nCH2m2C=N、CF32CH2C=N、HCF2nCH2m2C=N、FCF2nCH2mC=ONR3、HCF2nCH2mC=ONR3、FCF2nCH2mC=CH2、HCF2nCH2mC=CH2、FCF2nCH2mC=CF2、HCF2nCH2mC=CF2式中、mは0または1~6の整数、nは1~10の整数、R3は炭素数1~6のアルキル基を表し、アルキル基は直鎖でも分岐鎖でもよいで示されるものが好ましい。これらの有機基の具体例としては、たとえばCF3CH2、CF3CF2CH2、CF3CF22CH2、CF3CF23CH2CH2、CF32CH、CF3CF27CH2CH2、HCF22CH2、HCF23CH2、HCF24CH2、CF3C=O、CF3CF2C=O、CF3CF26C=O、CF3CF27C=Oなどがあげられるが、表面濃縮性、加水分解性、脱離性の点からCF3CH2、CF3CF2CH2、CF3CF22CH2、CF3CF23CH2CH2、CF3C=O、CF3CF2C=Oが好ましくCF3CH2、CF3CF2CH2がさらに好ましい。上記一般式1中R22のうちのシロキサン残基は、たとえばSiOR222OnR22式中、R22は上記したR22のうちの1価の有機基と同じなどがあげられる。上記一般式1中R23は、同じかまたは異なっていてもよく、フッ素原子および/または塩素原子を含んでいてもよいキレート化の能力を有しており、表面濃縮性、加水分解性、脱離性の点から炭素数が1~20であり、2~10であることが好ましい有機基である。本発明においては、このようなキレート化の能力を有する有機基が結合している有機金属化合物を用いることにより、貯蔵安定性、反応性、溶解性、相溶性により優れる。このようなキレート化の能力を有する有機基になりうる化合物としては、たとえば2,4-ペンタンジオン、2,4-ヘプタンジオンなどのβ-ジケトン類、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ブチルなどのケトステル類、乳酸、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸アンモニウム塩、サリチル酸、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、リンゴ酸、リンゴ酸エチル、酒石酸、酒石酸エチルなどのヒドロキシカルボン酸類またはそのエステル、塩類、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、4-ヒドロキシ-2-ペンタノン、4-ヒドロキシ-2-ヘプタノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ヘプタノンなどのケトアルコール類、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N-メチルモノエタノールアミン、N-エチルモノエタノールアミン、N,N-ジメチルエタノールアミン、N,N-ジエチルエタノールアミンなどのアミノアルコール類、マロン酸ジエチル、メチロールメラミン、メチロール尿素、メチロールアクリルアミドなどのエノール性活性水素化合物類などが好ましく、これらの水素原子の全部または一部がフッ素原子および/または塩素原子で置換された化合物などが表面濃縮性の点からさらに好ましい。上記一般式1中金属原子Mは、たとえばB、Al、Ga、In、Tl、Sc、Y、La、Ac、Si、Ge、Sn、Pb、Ti、Zr、Hf、As、Sb、Bi、V、Nb、Ta、Te、Po、Cr、Mo、W、At、Mn、Tc、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptなどがあげられるが、合成および入手の容易さの点からAl、Ti、B、ZrまたはSi、特にSiが好ましい。また、本発明におけるオリゴマーまたはコオリゴマーとしては、直鎖状、分岐鎖状、環状、三次元化などのオリゴマーまたはコオリゴマーがあげられる。本発明におけるオリゴマーまたはコオリゴマーの重合度としては2~100が好ましく、4~20であることがさらに好ましい。重合度が小さくなるとオリゴマーまたはコオリゴマーが低沸点となりやすく、塗装時に揮発しやすくなり、塗膜に取り込まれにくくなる。重合度が100を超えると、合成時に重合度の制御が困難となったり、オリゴマーまたはコオリゴマーの粘度が高くなりやすく、作業性に劣る傾向がある。ただし、オリゴマーまたはコオリゴマーが、一般式1においてdが4、eとfが0およびMがSiでフッ素原子を有しているとき、その重合度は塗膜外観、耐タレ性、耐アルカリ性の点から4を超え30以下であることが好ましい。耐候性有機材料に、加水分解性脱離基をもつ有機金属化合物、そのオリゴマーおよび/または2種以上の該有機金属化合物のコオリゴマーを添加することにより、得られた親水化された樹脂には、硬化剤を添加することが可能である。硬化剤としては、たとえばイソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、メラミン樹脂、二塩基酸、非加水分解性基含有シラン化合物、エポキシ樹脂または酸無水物などがあげられるが、耐候性、耐酸性雨性の点からイソシアネート、ブロックイソシアネート、エポキシ樹脂が好ましい。上記イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物としては、たとえば2,4-トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン-4,4′-ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、メチルシクロヘキシルジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、n-ペンタン-1,4-ジイソシアネート、これらの三量体、これらのアダクト体やビュウレット体、これらの重合体で2個以上のイソシアネート基を有するもの、さらにブロック化されたイソシアネート類などがあげられるが、これらに限定されるものではない。イソシアネートと耐候性有機材料との混合割合はNCO/OHモル比で0.5~5.0が好ましく、0.8~1.2がより好ましい。また、イソシアネートが湿気硬化タイプの場合は1.1~1.5が好ましい。上記メラミン樹脂としては、たとえばメラミン樹脂のほか、メラミンをメチロール化したメチロール化メラミン樹脂、メチロール化メラミンをメタノール、エタノール、ブタノールなどのアルコール類でエーテル化したアルキルエーテル化メラミン樹脂などがあげられるが、これらに限定されるものではない。上記エポキシ化合物としては、たとえば、下記式:で表される化合物などがあげられるが、これらに限定されるものではない。上記酸無水物としては、たとえば無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水1,2-シクロヘキシルジカルボン酸、無水コハク酸、無水マレイン酸などがあげられるがこれらに限定されるものではない。また、フマル酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、1,2-シクロヘキシルジカルボン酸などの二塩基酸も硬化剤として用いられる。硬化触媒としては、たとえば有機スズ化合物、有機酸性リン酸エステル、有機チタネート化合物、酸性リン酸エステルとアミンとの反応物、飽和または不飽和の多価カルボン酸またはその酸無水物、有機スルホン酸、アミン系化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、ジルコニウムキレート化合物などがあげられる。上記有機スズ化合物の具体例としては、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズマレエート、ジオクチルスズマレエート、ジブチルスズジアセテートなどがあげられる。上記有機酸性リン酸エステルの具体例としては、下記式:で表される化合物などがあげられる。上記有機チタネート化合物としては、たとえばテトラブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、トリエタノールアミンチタネートなどのチタン酸エステルがあげられる。さらに上記アミン系化合物の具体例としては、たとえばブチルアミン、オクチルアミン、ジブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジアミン、トリエチレンジアミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、2,4,6-トリスジメチルアミノメチルフェノール、モルホリン、N-メチルモルホリン、1,8-ジアザビシクロ5.4.0ウンデセン-7DBUなどのアミン系化合物、さらにはそれらのカルボン酸などの塩、過剰のポリアミンと多塩基酸よりえられる低分量ポリアミド樹脂、過剰のポリアミンとエポキシ化合物の反応生成物などがあげられる。上記キレート化合物の具体例としてはアルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスアセチルアセトナート、ジルコニウムテトラキスアセチルアセトナート、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセテートチタネートなどがあげられる。VII官能基を有しないフッ素樹脂としては、特公昭43-10363号公報、特開平3-28206号公報、特開平4-189879号公報などの各公報に記載のフッ化ビニリデンの単独重合体または共重合体などを使用でき、上記の官能基を有する樹脂にブレンドすることもできる。また、官能基を有しない樹脂を用いる場合、硬化剤や硬化触媒を用いる必要は必ずしもない。さらに、耐候性有機材料としては、この他、以下の硬化性樹脂組成物VIIIも用いることが可能である。硬化性樹脂組成物VIIIは、Aフルオロオレフィン単位および水酸基含有ラジカル重合性不飽和単量体単位を含む水酸基含有含フッ素共重合体A-1と、1個のイソシアネート基と少なくとも1個のラジカル重合性不飽和基を有するイソシアネート基含有不飽和化合物A-2との反応生成物およびBアクリルモノマーを含む。水酸基含有含フッ素共重合体A-1におけるフルオロオレフィン単位としては、テトラフルオロエチレンTFE単位、クロロトリフルオロエチレンCTFE単位、フッ化ビニルVF単位、フッ化ビニリデンVdF単位、ヘキサフルオロプロピレンHFP単位、トリフルオロエチレンTrFE単位、パーフルオロアルキルビニルエーテルPAVE単位などの1種または2種以上があげられ、PAVE単位としては、パーフルオロメチルビニルエーテル単位、パーフルオロプロピルビニルエーテル単位があげられる。TFE単位を含む2種以上の単位の組み合わせとしては、TFE/HFP単位、TFE/PAVE単位、TFE/エチレン単位、TFE/ビニルエーテル単位、TFE/ビニルエステル単位、TFE/ビニルエステル/ビニルエーテル単位、TFE/ビニルエーテル/アリルエーテル単位などがあげられる。これらのうち、エチレン性不飽和基含有単量体への混合が良好な点から、TFE/エチレン単位、TFE/ビニルエーテル単位、TFE/ビニルエステル単位、TFE/ビニルエステル/ビニルエーテル単位、TFE/ビニルエーテル/アリルエーテル単位などが好ましい。CTFE単位を含む2種以上の単位の組み合わせとしては、CTFE/HFP単位、CTFE/PAVE単位、CTFE/エチレン単位、CTFE/ビニルエーテル単位、CTFE/ビニルエステル単位、CTFE/ビニルエステル/ビニルエーテル単位、CTFE/ビニルエーテル/アリルエーテル単位などがあげられる。これらのうち、エチレン性不飽和基含有単量体への混合が良好な点から、CTFE/エチレン単位、CTFE/ビニルエーテル単位、CTFE/ビニルエステル単位、CTFE/ビニルエステル/ビニルエーテル単位、CTFE/ビニルエーテル/アリルエーテル単位などが好ましい。同様にHFP単位を含む2種以上の単位の組み合わせとしては、CTFE/HFP単位、TFE/HFP単位、HFP/ビニルエーテル単位、HFP/ビニルエステル単位、HFP/ビニルエステル/ビニルエーテル単位、HFP/ビニルエーテル/アリルエーテル単位などがあげられる。これらのうち、エチレン性不飽和基含有単量体への混合が良好な点から、HFP/ビニルエーテル単位、HFP/ビニルエステル単位、HFP/ビニルエステル/ビニルエーテル単位、HFP/ビニルエーテル/アリルエーテル単位などが好ましい。VdF単位を含む2種以上の単位の組み合わせとしては、VdF/TFE単位、VdF/HFP単位、VdF/TFE/HFP単位、VdF/CTFE単位、VdF/TFE/PAVE単位、VdF/CTFE/TFE単位、VdF/CTFE/HFP単位などがあげられる。これらのうち、エチレン性不飽和基含有単量体への混合が良好な点から、VdF単位が重合体中に50モル以上含有されていることが好ましい。水酸基含有含フッ素共重合体A-1における水酸基含有ラジカル重合性不飽和単量体単位の具体例としては、例えば下記式:ここで、式中、R1は-OR2または-CH2OR2ただし、R2は水酸基を有するアルキル基であるで表わされるヒドロキシアルキルビニルエーテルやヒドロキシアルキルアリルエーテルがあげられる。R2としては、たとえば炭素数1~8の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基に1~3個、好ましくは1個の水酸基が結合したものである。これらの例としては、たとえば2-ヒドロキシエチルビニルエーテル単位、3-ヒドロキシプロピルビニルエーテル単位、2-ヒドロキシプロピルビニルエーテル単位、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピルビニルエーテル単位、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル単位、4-ヒドロキシ-2-メチルブチルビニルエーテル単位、5-ヒドロキシペンチルビニルエーテル単位、6-ヒドロキシヘキシルビニルエーテル単位、2-ヒドロキシエチルアリルエーテル単位、4-ヒドロキシブチルアリルエーテル単位、エチレングリコールモノアリルエーテル単位、ジエチレングリコールモノアリルエーテル単位、トリエチレングリコールモノアリルエーテル単位、グリセリンモノアリルエーテル単位があげられるが、これらの中で、特に炭素数が3~8のヒドロキシアルキルビニルエーテル、なかでも、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル単位または2-ヒドロキシエチルビニルエーテル単位が、重合が容易であるという観点から好ましい。水酸基含有含フッ素共重合体A-1は、アクリルモノマーとの溶解性を高めるという観点から、さらに水酸基を含まない非フッ素ビニルエーテル単位および/または非フッ素ビニルエステル単位を含むことが好ましい。水酸基含有含フッ素共重合体A-1における水酸基を含まない非フッ素ビニルエーテル単位および/または非フッ素ビニルエステル単位の具体例としては、例えば下記式:ここで、式中、R3は-OR4、-COOR4または-OCOR4ただし、R4はアルキル基であるで表わされるアルキルビニルエーテルやアルキルアリルエーテルがあげられる。R4としては、たとえば炭素数1~8の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基である。これらの例としては、たとえばシクロヘキシルビニルエーテル単位、メチルビニルエーテル単位、エチルビニルエーテル単位、プロピルビニルエーテル単位、n-ブチルビニルエーテル単位、イソブチルビニルエーテル単位、酢酸ビニル単位、プロピオン酸ビニル単位、酪酸ビニル単位、イソ酪酸ビニル単位、ピバリン酸ビニル単位、カプロン酸ビニル単位、バーサティック酸ビニル単位、ラウリン酸ビニル単位、ステアリン酸ビニル単位、シクロヘキシルカルボン酸ビニル単位が好ましい。また、耐候性、溶解性、廉価性に優れる点からバーサティック酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキシルカルボン酸ビニル、酢酸ビニルがより好ましい。これらのなかでも耐薬品性の点から、非芳香族系カルボン酸ビニルエステル、特にカルボン酸の炭素数が6以上のカルボン酸ビニルエステルが好ましく、さらに好ましくはカルボン酸の炭素数が9以上のカルボン酸ビニルエステルである。カルボン酸ビニルエステルにおけるカルボン酸の炭素数の上限は20以下、さらには15以下が好ましい。具体例としてはバーサティック酸ビニルが最も好ましい。水酸基含有含フッ素共重合体A-1には、カルボキシル基含有モノマー単位を含んでいてもよい。カルボキシル基含有モノマー単位はカルボキシル基を含み水酸基と芳香族基とを含まないものであり、この点で他の単位と異なる。カルボキシル基含有モノマー単位は、硬化性樹脂組成物に調製する場合、水酸基含有含フッ素共重合体A-1の分散性、硬化反応性を改善し、得られる塗膜の光沢、硬度、基材への密着性などを改善する作用を有する。カルボキシル基含有モノマー単位としては、たとえば下記式:ここで、式中、R3、R4およびR5は同じかまたは異なり、いずれも水素原子、アルキル基、カルボキシル基またはエステル基、nは0または1である、または下記式:ここで、式中、R6およびR7は同じかまたは異なり、いずれも飽和または不飽和の直鎖または環状アルキル基、nは0または1、mは0または1であるで表わされるカルボキシル基含有ビニルモノマーなどがあげられる。具体例としては、たとえばアクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、桂皮酸、3-アリルオキシプロピオン酸、イタコン酸、イタコン酸モノエステル、マレイン酸、マレイン酸モノエステル、マレイン酸無水物、フマル酸、フマル酸モノエステル、フタル酸ビニル、ピロメリット酸ビニルなどの1種または2種以上があげられ、それらのなかでも単独重合性の低いクロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、マレイン酸モノエステル、フマル酸、フマル酸モノエステル、3-アリルオキシプロピオン酸が好ましい。カルボキシル基含有モノマー単位の割合の下限は0.1モル、好ましくは0.4モルであり、上限は2.0モル、好ましくは1.5モルである。2.0モルを超えると塗膜の硬化速度の点で好ましくない。水酸基含有含フッ素共重合体A-1の具体例としては、たとえば、ここで、式中、a、bおよびcの比率はモル比で、a:b:c=40~60:3~15:5~45である;ここで、式中、a、b、cおよびdの比率はモル比で、a:b:c:d=40~60:3~15:5~45:5~45である;ここで、式中、a、b、cおよびdの比率はモル比で、a:b:c:d=40~60:3~15:5~45:5~45である;ここで、式中、a、b、cおよびdの比率はモル比で、a:b:c:d=40~60:3~15:5~45:5~45であり、i-Buはイソブチル基を意味する;テトラフルオロエチレン/バーサティック酸ビニル/ヒドロキシブチルビニルエーテル;テトラフルオロエチレン/バーサティック酸ビニル/ヒドロキシエチルビニルエーテル/tert-ブチル安息香酸ビニル;テトラフルオロエチレン/バーサティック酸ビニル/ヒドロキシブチルビニルエーテル/クロトン酸;テトラフルオロエチレン/バーサティック酸ビニル/ヒドロキシエチルビニルエーテル/安息香酸ビニル/クロトン酸があげられる。イソシアネート基含有不飽和化合物A-2におけるラジカル重合性不飽和基としては、メタクリル基、アクリル基、2-フルオロアクリル基、2-クロロアクリル基があげられるが、重合反応性、コスト、合成のしやすさの観点からメタクリル基、アクリル基が、なかでもアクリル基がもっとも好ましい。イソシアネート基含有不飽和化合物A-2としては、例えば下記式:ここで、式中、R5、R6またはR7は同じであっても異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1~4のアルキル基であり、R8は、-COO-R9-、-OCO-R9-または-O-R9-ただし、R9は炭素数1~20のアルキル基であるで表わされる、アルキルビニルエーテルやアルキルアリルエーテルがあげられる。イソシアネート基含有不飽和化合物A-2としては、例えば、下記式:で表される2-イソシアネートエチルアクリレート、下記式:で表される2-イソシアネートエチルメタクリレート、4-イソシアネートブチルアクリレート、4-イソシアネートブチルメタクリレートなどがあげられる。さらに、多価イソシアネートに対して不飽和モノアルコールを反応させた反応生成物のなかで、1個のイソシアネート基を有するものがあげられる。多価イソシアネートとしては、たとえば、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネートと2,6-トリレンジイソシアネートとの混合イソシアネート、P,P’-ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネートなどがあげられる。また、不飽和モノアルコールとしては、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレートなどのアクリロイル基またはメタクリロイル基を有するモノアルコール類、アリルアルコール、アリルセロソルブ、トリメチルプロパンジアリルエーテルなどのアリル基を有するモノアルコール類があげられる。これらの中で合成の容易さ、反応性の高さから、2-イソシアネートエチルアクリレートまたは2-イソシアネートエチルメタクリレートが好ましい。反応生成物Aとは、水酸基含有含フッ素共重合体A-1における水酸基と、イソシアネート基含有不飽和化合物A-2におけるイソシアネート基とがウレタン結合したものである。反応生成物Aのフッ素含有量は、耐候性、撥水撥油性、防汚性が良好であるという点から、2質量以上が好ましく、5質量以上がより好ましく、10質量以上がさらに好ましい。また、反応生成物Aのフッ素含有量は、アクリルに対する溶解性が良好であるという点から、50質量以下が好ましく、さらには、30質量以下がより好ましく、25質量以下がさらに好ましい。反応生成物Aの分子量は数平均分子量で、硬化性組成物に調製し、硬化させた硬化物の強度、表面硬度の観点から、1000以上が好ましく、2000以上がより好ましく、3000以上がさらに好ましい。また、反応生成物Aの分子量は数平均分子量で、粘度が大きくなり取扱いが困難いう観点から、100000以下が好ましく、アクリルに対する溶解性が良好であるという観点から、50000以下がより好ましく、組成物の粘度が低く、取り扱いが良好であるという観点から、30000以下がさらに好ましい。硬化性樹脂組成物VIIIにおけるアクリルモノマーBとは、アクリロイル基、メタクリロイル基、2-フルオロアクリロイル基、2-クロロアクリロイル基を1個または2個以上有するモノマーをいい、ラジカル重合性不飽和基を有するイソシアネート基含有不飽和化合物A-2とは異なるものをいう。アクリルモノマーBにおけるラジカル重合性不飽和基としては、水酸基含有含フッ素共重合体A-1の溶解性が高く、粘性が低いという観点から1個が好ましく、また、硬化性組成物に調製し、硬化させた硬化物の強度が良好であるという観点から2個以上が好ましく、さらに、硬化性組成物の硬化速度が良好であるという観点から3個以上がより好ましい。アクリルモノマーBとしては、具体的には、メチルメタクリレートMMA、メタクリル酸MA、エチルメタクリレートEMA、n-ブチルメタクリレートnBMA、イソブチルメタクリレートiBMA、2-エチルヘキシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、3-トリメトキシシリルプロピルメタクリレートMSPM、2-フェニルホスホリルエチルメタクリレートphenyl-P、2,2-ビス4-メタクリロキシフェニルプロパンBPDMA、2,2-ビス4-メタクリロキシエトキシフェニルプロパンBis-MEPP、2,2-ビス4-メタクリロキシポリエトキシフェニルプロパンBis-MPEPP、ジメタクリロキシエチルトリメチルヘキサメチレンジウレタンUDMA、トリメチロールプロパントリメタクリレートTMPT、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エチレングリコールジメタクリレートEDMAまたは1G、ジエチレングリコールジメタクリレートDiEDMA、トリエチレングリコールジメタクリレートTriEDMA、1,4-ブタンジオールジメタクリレート1,4-BuDMA、1,3-ブタンジオールジメタクリレート1,3-BuDMA、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート16HZ6などのメタクリレートモノマー;2-ヒドロキシエチルメタクリレートHEMA、2-ヒドロキシ-3-β-ナフトキシプロピルメタクリレートHNPM、N-フェニル-N-2-ヒドロキシ-3-メタクリロキシプロピルグリシンNPG-GMA、2,2-ビス4-2-ヒドロキシ-3-メタクリロキシプロポキシフェニルプロパンBis-GMAなどの水酸基含有メタクリレートモノマーなどがあげられる。また、これらに対応する各アクリレート、各2-クロロアクリレートを例示することができる。また、含フッ素アクリルモノマーの例としては、上記メタクリレートモノマーまたは水酸基含有メタクリレートモノマーに対応する2-フルオロアクリレート、CH2=CCH3COOCH2CF33FMA、CH2=CCH3COOCH2CF2CF2H4FMA、CH2=CCH3COOCH2CF2CF35FMA、CH2=CCH3COOCH2CF2CFHCF36FMA、CH2=CCH3COOCH2CF23CF2H8FMA、CH2=CCH3COOCH2CH2CF23CF39FMA、CH2=CCH3COOCH2CF25CF2H12FMA、CH2=CCH3COOCH2CH2CF25CF313FMA、CH2=CCH3COOCH2CH2CF27CF317FMA、CH2=CCH3COOCHCF32HFIP-MA、CH2=CCH3COOCH2CCH3CF326FNP-MA、CH2=CCH3COOCH2CFCF3OCF2CF2CF36FOn1-MA、また、これらに対応する各アクリレート、各2-フルオロアクリレート、各2-クロロアクリレートを例示することができる。上記の2-フルオロアクリレートとしては例えば、CH2=CFCOOCH2CF2CF2H4FFA、CH2=CFCOOCH2CF2CF35FFA、CH2=CFCOOCH2CF23CF2H8FFA、CH2=CFCOOCH2CF25CF2H12FFA、CH2=CFCOOCHCF32HFIP-FAなどを例示することができる。また、硬化性官能基を有するアクリルモノマーを用いると、密着性、耐薬品性、硬化性などに優れる硬化物が得られるため好ましい。硬化性官能基を有するアクリルモノマーとしては、たとえば水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基などを有するアクリルモノマーがあげられる。具体例としては、先に挙げた具体例と重なるが、たとえばヒドロキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、メタアクリル酸、グリシジルメタアクリレート、2-アミノエチルメタアクリレート、2-アミノプロピルメタアクリレートなどの硬化性官能基含有アクリルモノマーなどを例示することができる。以上のようなアクリルモノマーがあげられるが、水酸基含有含フッ素共重合体A-1、イソシアネート基含有不飽和化合物A-2およびその反応生成物Aの溶解性が良好であるという観点から、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレートが好ましい。反応生成物AとアクリルモノマーBの質量比は、95:5~5:95が好ましく、80:20~20:80がより好ましく、70:30~30:70がさらに好ましい。反応生成物AとアクリルモノマーBの質量比が95:5からはずれて反応生成物Aの質量が大きくなると粘性が高く、取り扱いづらくなる傾向がある。また、反応生成物AとアクリルモノマーBの質量比が5:95からはずれて反応生成物Aの質量が小さくなるとフッ素含有率が低下してくるため、硬化性組成物を硬化させた硬化物の耐候性、撥水撥油性、防汚性が低下してくる傾向がある。反応生成物AとアクリルモノマーBの割合は、別の観点からは、反応生成物A100質量部に対して、アクリルモノマーBは10質量部以上が好ましく、40質量部以上がより好ましく、60質量部以上がさらに好ましい。アクリルモノマーBの量が少なくなると粘性が高く、取り扱いづらくなる傾向がある。また、反応生成物A100質量部に対して、アクリルモノマーBは1500質量部以下が好ましく、1200質量部以下がより好ましく、1000質量部以下がさらに好ましい。アクリルモノマーBの量が多くなるとフッ素含有率が低下してくるため、硬化性組成物を硬化させた硬化物の耐候性、撥水撥油性、防汚性が低下してくる傾向がある。硬化性樹脂組成物の25°Cにおける粘度は、粘性が低すぎると液だれが多く、かえって取り扱い性が低下するため、5mPas以上が好ましく、薄膜形成性が良好であるという観点から、10mPas以上がより好ましく、硬化の際の硬化収縮が小さいという観点から、50mPas以上がさらに好ましい。また、硬化性樹脂組成物の25°Cにおける粘度は、取り扱い性が良好であるという観点から、100000mPas以下が好ましく、成型加工の際に細部にわたって硬化性組成物がいきわたるという観点から、5000mPas以下がより好ましく、薄膜を形成した際にレベリング表面平滑性が良好であるという観点から、3000mPas以下がさらに好ましい。硬化性樹脂組成物は、さらに硬化剤を含んでいてもよい。硬化剤としては、水酸基含有含フッ素共重合体A-1の硬化反応性基と反応して架橋する化合物であり、たとえば不飽和結合を有さないイソシアネート類やアミノ樹脂類、酸無水物類、ポリエポキシ化合物、イソシアネート基含有シラン化合物などが通常用いられる。上記の不飽和結合を有さないイソシアネート類の具体例としては、たとえば2,4-トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン-4,4’-ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、メチルシクロヘキシルジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、n-ペンタン-1,4-ジイソシアネートまたはこれらの三量体、これらのアダクト体やビュウレット体、これらの重合体で2個以上のイソシアネート基を有するもの、さらにブロック化されたイソシアネート類などがあげられるが、これらに限定されるものではない。上記アミノ樹脂類の具体例としては、たとえば尿素樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、グリコールウリル樹脂のほか、メラミンをメチロール化したメチロール化メラミン樹脂、メチロール化メラミンをメタノール、エタノール、ブタノールなどのアルコール類でエーテル化したアルキルエーテル化メラミン樹脂などがあげられるが、これらに限定されるものではない。酸無水物類の具体例としては、たとえば無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸などがあげられるが、これらに限定されるものではない。ポリエポキシ化合物やイソシアネート基含有シラン化合物としては、たとえば特開平2-232250号公報、特開平2-232251号公報などに記載されているものが使用できる。好適な例としては、たとえば、OCNC3H6SiOC2H53、OCNC2H4SiOCH33などがあげられる。硬化剤の配合量は、前記水酸基含有含フッ素共重合体A-1中の化学的硬化反応性基1当量に対して0.1~5当量、好ましくは0.5~1.5当量である。本発明の組成物は通常0~200°Cで数分間ないし10日間程度で硬化させることができる。また、硬化性樹脂組成物を硬化させる際に、反応生成物AおよびアクリルモノマーBを重合させる際にUV照射によって硬化させるため、硬化性樹脂組成物中に光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、α-アミノアセトフェノンなどのアセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ-プロピルベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、ミヒラーケトンなどのベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、クロロチオキサンソン、メチルチオキサンソン、ジエチルチオキサンソン、ジメチルチオキサンソンなどのチオキサンソン類;その他の化合物として、ベンジル、α-アシルオキシムエステル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、3-ケトクマリン、2-エチルアンスラキノン、カンファーキノン、アンスラキノンなどがあげられる。また、必要に応じてアミン類、スルホン類、スルフィン類などの公知の光開始助剤を添加してもよい。硬化性樹脂組成物は、ラジカル反応性基を有さない有機溶剤およびフッ素系の溶剤を含まないことが、硬化性樹脂組成物を硬化した後に溶媒を除去する工程が不要である点、残留溶媒による耐熱性の低下、強度の低下、白濁といった悪影響がない点で好ましい。硬化触媒は1種を用いてもよく、2種以上を併用してもよい。好ましい硬化触媒としては、有機スズ化合物、アルミニウムキレート化合物があげられる。さらに、酸性リン酸エステル、酸性リン酸エステルとアミンとの反応物、飽和または不飽和の多価カルボン酸またはその酸無水物、有機チタネート化合物、アミン系化合物、オクチル酸鉛などがあげられる。前記有機スズ化合物の具体例としては、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズマレエート、ジオクチルスズマレエート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズフタレート、オクチル酸スズ、ナフテン酸スズ、ジブチルスズメトキシドなどがあげられる。また前記酸性リン酸エステルとは、で表される部分を含むリン酸エステルのことであり、たとえば式中、bは1または2、R8は有機残基を示すで示される有機酸性リン酸エステルなどがあげられる。具体的には、などがあげられる。前記有機チタネート化合物としては、たとえばテトラブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、トリエタノールアミンチタネートなどのチタン酸エステルがあげられる。さらに前記アミン系化合物の具体例としては、たとえばブチルアミン、オクチルアミン、ジブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジアミン、トリエチレンジアミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、2,4,6-トリスジメチルアミノメチルフェノール、モルホリン、N-メチルモルホリン、1,8-ジアザビシクロ5.4.0ウンデセン-7DBUなどのアミン系化合物、さらにはそれらのカルボン酸などの塩、過剰のポリアミンと多塩基酸よりえられる低分子量ポリアミド樹脂、過剰のポリアミンとエポキシ化合物の反応生成物などがあげられる。硬化触媒は1種を用いてもよく、また、2種以上を併用してもよい。硬化促進剤の配合割合は共重合体100質量部に対して1.0×10-6~1.0×10-2質量部が好ましく、5.0×10-5~1.0×10-3質量部がより好ましい。上記耐候性有機材料と上記有機金属化合物との配合割合としては、目的や用途などによって異なるが、通常、耐候性有機材料100重量部に対して有機金属化合物0.1~50重量部であり、1~30重量部であることが好ましい。0.1重量部未満であると親水化作用が充分ではなくなる傾向があり、50重量部を超えると塗膜の外観不良、樹脂との相溶性が低下する傾向がある。さらに、耐候性有機材料としては、この他、以下の硬化性樹脂組成物IXも用いることが可能である。硬化性樹脂組成物IXは、Aフッ素原子および水酸基を含有するラジカル重合性不飽和単量体単位を含む水酸基含有含フッ素重合体A-1と、1個のイソシアネート基と少なくとも1個のラジカル重合性不飽和基を有するイソシアネート基含有不飽和化合物A-2との反応生成物とBアクリルモノマーを含む。水酸基含有含フッ素共重合体A-1における水酸基含有ラジカル重合性不飽和単量体単位の具体例としては、例えば式I:ここで、式中、X1およびX2は、同じであっても異なっていてもよく、フッ素原子または水素原子;X3はフッ素原子、水素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基;R1は、水酸基を少なくとも1個以上含有する炭素数1~30の鎖状または分岐鎖状のアルキル基、フルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基であって、鎖中にエーテル結合、エステル結合、ウレタン結合を含んでいてもよい。ただし、少なくとも1つのフッ素原子をX1~X3およびR1のいずれかに含むで示される水酸基含有含フッ素エチレン性単量体である。中でも式IIで示される水酸基含有含フッ素エチレン性単量体がより好ましい。ここで、式中、X1およびX2は、同じであっても異なっていてもよく、フッ素原子または水素原子;X3はフッ素原子、水素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基;X4およびX5は同じであっても異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基;aは0~3の整数;bは0または1;R2は水酸基を少なくとも1個以上含有する炭素数1~29の鎖状または分岐鎖状のアルキル基、フルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基であって、鎖中にエーテル結合、エステル結合、ウレタン結合を含んでいてもよい。ただし、少なくとも1つのフッ素原子をX1~X5およびR2のいずれかに含むさらに好ましい水酸基含有含フッ素エチレン性単量体は式IIIで示される。ここで、式中、R3は水酸基を少なくとも1個以上含有する炭素数1~29の鎖状または分岐鎖状のアルキル基、フルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基であって、鎖中にエーテル結合、エステル結合、ウレタン結合を含んでいてもよい次にR1~R3に含まれている水酸基に関して説明する。水酸基が直接結合している炭素原子は一般に、水酸基が結合している炭素に結合している炭素数によって、1級炭素、2級炭素そして3級炭素の3種類に分類できる。まず、1級炭素であるが、R-CH2-OHのように水酸基が結合している炭素に結合している炭素数が1個の場合ここでRは炭素数1以上の有機基である。具体的に1価の水酸基含有有機基としては、などがあげられる。次に2級炭素であるが、R-CR’H-OHのように水酸基が結合している炭素に結合している炭素数が2個の場合ここでR、R’は炭素数1以上の有機基である。具体的に1価の水酸基含有有機基としては、などがあげられる。次に3級炭素であるが、R-CR’R’’-OHのように水酸基が結合している炭素に結合している炭素数が3個の場合ここでR、R’、R’’は炭素数1以上の有機基である。具体的に1価の水酸基含有有機基としては、などがあげられる。これらの中で、立体障害の観点から1級および2級炭素に結合している水酸基が、反応性の観点より好ましくは1級炭素に結合した水酸基が好ましい。次に上記で示したような1級~3級の炭素に結合した水酸基を有する炭素数1から10の1価の水酸基含有有機基をY1とし、具体的なR1~R3の構造をYを用いて説明する。ここでYはY1または単に水酸基を表す。式中、l、mおよびnは整数であって、lは1~10、mは1~10、nは1~5であるここで、式中、X4、X7はFまたはCF3、X5、X6はHまたはFであり、opqは1~10;rは0または1;s、tは0または1であるなどがあげられる。III式の具体例としては、さらに詳しくは、などがあげられる。これらの中でアクリルモノマーに対する溶解性、イソシアネート基-NCOとの反応性の観点から、が特に好ましい。水酸基含有含フッ素重合体はさらに水酸基を含有していない単量体単位を、アクリルに対する溶解性を損なわない範囲で構造単位に含んでもよい。そのような単量体単位の具体例は国際公開第02/18457号パンフレット記載の構造単位AやMの中で水酸基をもたないものをすべて採用できる。その中でもアクリルモノマーに対する溶解性の観点から特に、-CH2-CF2-、-CH2-CFCF3-、が好ましい。具体的な水酸基含有含フッ素重合体としてはアクリルモノマーに対する溶解性、NCOとの反応性の観点から、ここで、式中、pとqの比はモル比で20/80~99/1であるなどがあげられる。イソシアネート基含有不飽和化合物A-2におけるラジカル重合性不飽和基としては、メタクリル基、アクリル基、2-フルオロアクリル基、2-クロロアクリル基があげられるが、重合反応性、コスト、合成のしやすさの観点からメタクリル基、アクリル基が好ましく、なかでもアクリル基が特に好ましい。イソシアネート基含有不飽和化合物A-2としては、例えば式IV:ここで、式中、R4、R5またはR6は同じであっても異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1~4のアルキル基であり、R7は、-COO-R8-、-OCO-R8-または-O-R8-ただし、R8は炭素数1~20のアルキル基であるで表わされる、アルキルビニルエーテルやアルキルアリルエーテルがあげられる。イソシアネート基含有不飽和化合物A-2としては、例えば、式V:CH2=CHCOOCH2CH2NCOVで表される2-イソシアネートエチルアクリレート、式VI:CH2=CCH3COOCH2CH2NCOVIで表される2-イソシアネートエチルメタクリレート、式VII:で表される化合物、4-イソシアネートブチルアクリレート、4-イソシアネートブチルメタクリレートなどがあげられる。さらに、多価イソシアネートに対して不飽和モノアルコールを反応させた反応生成物のなかで、1個のイソシアネート基を有するものがあげられる。多価イソシアネートとしては、例えば、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネートと2,6-トリレンジイソシアネートとの混合イソシアネート、P,P’-ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネートなどがあげられる。また、不飽和モノアルコールとしては、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレートなどのアクリロイル基またはメタクリロイル基を有するモノアルコール類、アリルアルコール、アリルセロソルブ、トリメチルプロパンジアリルエーテルなどのアリル基を有するモノアルコール類があげられる。これらの中で合成の容易さ、反応性の高さから、2-イソシアネートエチルアクリレートまたは2-イソシアネートエチルメタクリレートが好ましい。反応生成物Aとは、水酸基含有含フッ素重合体A-1における水酸基と、イソシアネート基含有不飽和化合物A-2におけるイソシアネート基とがウレタン結合したものである。反応生成物Aのフッ素含有量は、耐候性、撥水撥油性、防汚性が良好である、いう点から20質量以上が好ましく、可視~近赤外域にかけての広い波長範囲で透明性が良好であるという点から40質量以上がより好ましく、50質量以上がさらに好ましい。また、反応生成物Aのフッ素含量は、アクリルに対する溶解性が良好であるという点から75質量以下が好ましく70質量以下がより好ましく、65質量以下がさらに好ましい。反応生成物Aの分子量は数平均分子量で、硬化性組成物に調製し、硬化させた硬化物の強度、表面硬度が良好であるという観点から1000以上が好ましく、2000以上がより好ましく、3000以上がさらに好ましい。また、反応生成物Aの分子量は数平均分子量で、粘度が大きくならず、取扱いが良好であるという観点から、500000以下が好ましく、アクリルに対する溶解性が良好である、という観点から、100000以下がより好ましく、組成物の粘度が低く、取り扱いが良好であるという観点から、50000以下がさらに好ましい。硬化性樹脂組成物IXにおけるアクリルモノマーBとは、アクリロイル基、メタクリロイル基、2-フルオロアクリロイル基、2-クロロアクリロイル基を1個または2個以上有するモノマーをいい、ラジカル反応基を有するイソシアネート基含有不飽和化合物A-2とは異なるものをいう。アクリルモノマーBにおけるラジカル重合性不飽和基としては、水酸基含有含フッ素重合体A-1の溶解性が高く、粘性が低いという観点から1個が好ましく、また、硬化性組成物に調製し、硬化させた硬化物の強度が良好であるという観点から2個以上がより好ましく、さらに、硬化性組成物の硬化速度が良好であるという観点から3個以上がさらに好ましい。アクリルモノマーBとしては、具体的には、メチルメタクリレートMMA、メタクリル酸MA、エチルメタクリレートEMA、n-ブチルメタクリレートnBMA、イソブチルメタクリレートiBMA、2-エチルヘキシルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレートHEMA、フェニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、3-トリメトキシシリルプロピルメタクリレートMSPM、2-フェニルホスホリルエチルメタクリレートphenyl-P、2-ヒドロキシ-3-β-ナフトキシプロピルメタクリレートHNPM、N-フェニル-N-2-ヒドロキシ-3-メタクリロキシプロピルグリシンNPG-GMA、エチレングリコールジメタクリレートEDMAまたは1G、ジエチレングリコールジメタクリレートDiEDMA、トリエチレングリコールジメタクリレートTriEDMA、1,4-ブタンジオールジメタクリレート1,4-BuDMA、1,3-ブタンジオールジメタクリレート1,3-BuDMA、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート16HX、2,2-ビス4-2-ヒドロキシ-3-メタクリロキシプロポキシフェニルプロパンBis-GMA、2,2-ビス4-メタクリロキシフェニルプロパンBPDMA、2,2-ビス4-メタクリロキシエトキシフェニルプロパンBis-MEPP、2,2-ビス4-メタクリロキシポリエトキシフェニルプロパンBis-MPEPP、ジメタクリロキシエチルトリメチルヘキサメチレンジウレタンUDMA、トリメチロールプロパントリメタクリレートTMPA、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPEHAなどがあげられる。また、これらに対応する各アクリレート、各2-フルオロアクリレート、各2-クロロアクリレートを例示することができる。また、含フッ素アクリルモノマーの例としては、CH2=CCH3COOCH2CF33FMA、CH2=CCH3COOCH2CF2CF2H4FMA、CH2=CCH3COOCH2CF2CF35FMA、CH2=CCH3COOCH2CF2CFHCF36FMA、CH2=CCH3COOCH2CF23CF2H8FMA、CH2=CCH3COOCH2CH2CF23CF39FMA、CH2=CCH3COOCH2CF25CF2H12FMA、CH2=CCH3COOCH2CH2CF25CF313FMA、CH2=CCH3COOCH2CH2CF27CF317FMA、CH2=CCH3COOCHCF32HFIP-MA、CH2=CCH3COOCH2CCH3CF326FNP-MA、CH2=CCH3COOCH2CFCF3OCF2CF2CF36FOn1-MA、また、これらに対応する各アクリレート、各2-フルオロアクリレート、各2-クロロアクリレートを例示することができる。上記の2-フルオロアクリレートとしては例えば、CH2=CFCOOCH2CF2CF2H4FFA、CH2=CFCOOCH2CF2CF35FFA、CH2=CFCOOCH2CF23CF2H8FFA、CH2=CFCOOCH2CF25CF2H12FFA、CH2=CFCOOCHCF32HFIP-FAなどを例示することができる。以上のようなアクリルモノマーがあげられるが、水酸基含有含フッ素重合体A-1、イソシアネート基含有不飽和化合物A-2およびその反応生成物Aの溶解性が良好であるという観点から、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレートが好ましい。反応生成物AとアクリルモノマーBの質量比は、95:5~5:95が好ましく、80:20~20:80がより好ましく、70:30~30:70がさらに好ましい。反応生成物AとアクリルモノマーBの質量比が95:5からはずれて反応生成物Aの質量が大きくなると粘性が高く、取り扱いづらくなる傾向がある。また、反応生成物AとアクリルモノマーBの質量比が5:95からはずれて反応生成物Aの質量が小さくなるとフッ素含有率が低下してくるため、硬化性組成物を硬化させた硬化物の耐候性、撥水撥油性、防汚性が低下してくる傾向がある。硬化性樹脂組成物の30°Cにおける粘度は、粘性が低すぎると液だれが多く、かえって取り扱い性が低下するため、5mPas以上が好ましく、薄膜形成性が良好であるという観点から、10mPas以上がより好ましく、硬化の際の硬化収縮が小さいという観点から、50mPas以上がさらに好ましい。また、硬化性樹脂組成物の30°Cにおける粘度は、取り扱い性が良好であるという観点から、100000mPas以下が好ましく、成型加工の際に細部にわたって硬化性組成物がいきわたるという観点から、50000mPas以下がより好ましく、薄膜を形成した際にレベリング表面平滑性が良好であるという観点から、20000mPas以下がさらに好ましい。硬化性樹脂組成物IXは、さらに硬化剤を含んでいてもよい。硬化剤としては、水酸基含有含フッ素重合体A-1の硬化反応性基と反応して架橋する化合物であり、例えば不飽和結合を有さないイソシアネート類やアミノ樹脂類、酸無水物類、ポリエポキシ化合物、イソシアネート基含有シラン化合物などが通常用いられる。前記の不飽和結合を有さないイソシアネート類の具体例としては、例えば2,4-トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン-4,4’-ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、メチルシクロヘキシルジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、n-ペンタン-1,4-ジイソシアネートまたはこれらの三量体、これらのアダクト体やビュウレット体、これらの重合体で2個以上のイソシアネート基を有するもの、さらにブロック化されたイソシアネート類などがあげられるが、これらに限定されるものではない。前記アミノ樹脂類の具体例としては、例えば尿素樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、グリコールウリル樹脂のほか、メラミンをメチロール化したメチロール化メラミン樹脂、メチロール化メラミンをメタノール、エタノール、ブタノールなどのアルコール類でエーテル化したアルキルエーテル化メラミン樹脂などがあげられるが、これらに限定されるものではない。酸無水物類の具体例としては、例えば無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸などがあげられるが、これらに限定されるものではない。ポリエポキシ化合物やイソシアネート基含有シラン化合物としては、例えば特開平2-232250号公報、特開平2-232251号公報などに記載されているものが使用できる。好適な例としては、例えば、OCNC3H6SiOC2H53、OCNC2H4SiOCH33などがあげられる。硬化剤の配合量は、前記水酸基含有含フッ素重合体A-1中の化学的硬化反応性基1当量に対して0.1~5当量、好ましくは0.5~1.5当量である。本発明の組成物は通常0~200°Cで数分間ないし10日間程度で硬化させることができる。また、硬化性樹脂組成物を硬化させる際に、反応生成物AおよびアクリルモノマーBを重合させる際にUV照射によって硬化させるため、硬化性樹脂組成物中に光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、α-アミノアセトフェノンなどのアセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ-プロピルベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2-ヒドロキ-2-メチルプロピオフェノンなどのベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、クロロチオキサンソン、メチルチオキサンソン、ジエチルチオキサンソン、ジメチルチオキサンソンなどチオキサンソン類;その他の化合物として、ベンジル、α-アシルオキシムエステル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、3-ケトクマリン、2-エチルアンスラキノン、カンファーキノン、アンスラキノンなどがあげられる。また、必要に応じてアミン類、スルホン類、スルフィン類などの公知の光開始助剤を添加してもよい。硬化性樹脂組成物IXは、ラジカル反応性基を有さない有機溶剤およびフッ素系の溶剤を含まないことが、硬化性樹脂組成物を硬化した後に溶媒を除去する工程が不要である点、残留溶媒による耐熱性の低下、強度の低下、白濁といった悪影響がない点で好ましい。また、硬化性樹脂組成物IXも硬化性樹脂組成物VIIIと同様に、先に例示した硬化触媒を用いることが可能である。さらに、用途によっては耐候性有機材料に有機溶剤を配合することもできる。有機溶剤としては、たとえばキシレン、トルエン、ソルベッソ100、ソルベッソ150、ヘキサンなどの炭化水素系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコール、酢酸ジエチレングリコールなどのエステル系溶剤、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン系溶剤、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルアセトアミド、アセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N-メチルホルムアミドなどのアミド系溶剤、ジメチルスルホキシドなどのスルホン酸エステル系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール重合度3~100、CF3CH2OH、FCF22CH2OH、CF32CHOH、FCF23CH2OH、FCF24C2H5OH、HCF22CH2OH、HCF23CH2OH、HCF24CH2OHなどのアルコール系溶剤などがあげられるが、相溶性、塗膜外観、貯蔵安定性の点から低級アルコール、低級フッ素アルコールなどのアルコール系溶剤が好ましい。耐候性有機材料とアルコール系溶剤との配合割合としては、耐候性有機材料100重量部に対してアルコール1~50重量部であり、硬化性、塗膜外観の点から1~25重量部であることがさらに好ましい。また、硬化剤が常温硬化型のイソシアネートなどのようにアルコールと反応性の高い場合には、さらに1~15重量部が好ましく、アルコールの種類も2級または3級アルコールが好ましい。親水化塗料にはさらに紫外線吸収剤、シランカップリング剤および/または親水化促進剤などを配合することができる。紫外線吸収剤を配合するときは、塗膜に下地保護性や耐候性の改善作用を与える。具体例としては、たとえばベンゾフェノン系およびベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤、シアノアクリレート系の紫外線吸収剤が好適であり、これらのうちでもベンゾフェノン系では、2,2′-ジヒドロキシ-4,4′-ジメトキシベンゾフェノン、2,2′-ジヒドロキシ-4-メチトキベンゾフェノンおよび2,2′,4,4′-テトラヒドロキシベンゾフェノンが、ベンゾトリアゾール系では2-2′-ヒドロキシ-5′-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-5′-メチルフェニル-5,6-ジクロルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-5′-tert-ブチルフェニルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-ブチルフェニル-5-クロル-ベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-5′-フェニルフェニル-5-クロルベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′-tertブチルフェニル-5-クロロベンゾトリアゾール、2-2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジtertブチルフェニルベンゾトリアゾールおよび2-2′-ヒドロキシ-5′-tertオクチルフェニルベンゾトリアゾールが有効である。シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、たとえば2-エチルヘキシル2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリレート、エチル2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリレートなどが有効に使用できる。とくに好適な紫外線吸収剤は、下記式:ここで、式中、R10およびR11は同じかまたは異なり、いずれも水素原子、低級アルキル基、殊に分岐鎖状の低級アルキル基、またはアリール基、とくにフェニル基を表わし、Xは水素原子またはハロゲン原子、とくに塩素原子であるで示されるタイプのものである。また、シアノアクリレート系紫外線吸収剤は加水分解の影響を受けにくいので、特に好ましい。シランカップリング剤は塗膜に重ね塗り接着性を与える。具体例としては、たとえば上記シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、N-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-トリメトキシシリルプロピルイソシアネート、3-トリエトキシシリルプロピルイソシアネート、メチルトリスエチルメチルケトオキシムシランなどがあげられ、アルキルケトオキシム基またはイソシアネート基を含有するものが好ましい。特にリコート性が良好であることから、イソシアネート基またはエポキシ基を有するシランカップリング剤が好ましい。親水化促進剤を添加することにより、本発明においては、高親水化能を有する有機金属化合物の加水分解を助け、塗膜表面の親水化を促進させる。また、有機材料中の塗料用樹脂が硬化型の場合、塗膜の硬化促進に寄与する。具体例としては、上記した硬化触媒で列挙したものがあげられる。親水化の点から有機スズ化合物、アルミニウムキレート化合物が好ましい。そのほか耐候性有機材料には、たとえば、増粘剤、レベリング剤、消泡剤、造膜助剤、HALS、艶消し剤、フィラー、コロイダルシリカ、防カビ剤、皮張り防止剤、酸化防止剤、難燃剤、タレ防止剤、帯電防止剤、防錆剤、水溶性樹脂ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイドなどなどの添加剤を配合することもできる。有機材料からなるフィルムを形成する方法としては用途に応じた適切な公知の方法を採用することができる。例えば膜厚をコントロールする必要がある場合は、ロールコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、フローコート法、バーコート法、スプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法などが採用できる。硬化方法は材料に対して最適なものが選ばれるものであるが、通常は熱インプリント法、もしくは光インプリント法のどちらかが用いられる。熱インプリント法では、熱可塑性の材料を用い、高温で型に密着させた後に、温度を下げて離型を行う。光インプリントでは、光硬化性の樹脂またはゾルゲル材料などを用い、型に材料を流し込んだ後に、主に紫外線を照射することで材料を硬化させその後、離型を行う。離型に際し離型剤として、オプツールDSX商品名、ダイキン工業株式会社製、デュラサーフHD-1100、2100シリーズ商品名、ハーベス社製等の従来公知の離型剤を塗布して使用してもよい。集光フィルムは、該集光フィルムの法線方向に対して0~89°の角度で入射した光を平均80以上集光するものであることが好ましい。従来の計算機ホログラムを用いた平面フィルムでは、二値の階調を有するパターンの集光フィルムしか作製することができなかったため、集光フィルムの面内方向に対して浅い角度で入射する光を充分に集光することができなかった。本発明の集光フィルムは、多値階調パターンを有するため、0~89°の角度で入射した光であっても、集光率を平均80以上とすることができる。集光フィルムの法線方向に対して0~89°の角度で入射した光は、多値階調パターンを有する領域に入射した光もあることが好ましい。上記集光率は、受光素子を用いた方法で測定することができるが、光学設計ソフトウェアZEMAX株式会社ティーイーエム製を用いたシミュレーションにより算出してもよい。集光フィルムの厚みは、使用される用途によって適宜設定すればよいが、例えば、0.03~20mmの厚みであることが好ましい。より好ましくは、0.1~5mmである。上記範囲の厚みであれば、太陽電池用の集光フィルムとして好適に用いることができる。上記膜厚は、膜厚計を用いて、集光フィルムの最大厚みを測定したものである。集光フィルムは、黄変度ΔYI値が20以下であることが好ましい。より好ましくは、10以下であり、更に好ましくは、5以下である。黄変度ΔYI値は、飽和蒸気加圧試験を105°C、100RHの雰囲気下で、200時間行った集光フィルムを、色差計によって測定して得られる値である。本発明の集光フィルムは、入射光が集光フィルムの面内方向に対して浅い角度で入射した光であっても、集光を可能として、高効率で集光を行うことができる。そのため、太陽電池モジュールに用いた場合には、朝昼夜それぞれの太陽の向きに応じて太陽電池の向きを変化させる追尾型太陽電池とすることなく、非追尾で高効率の発電効率を実現することができる全方位での集光。これにより、従来の太陽電池と比較して、低コスト化、設備の簡易化等が可能となる。本発明の集光フィルムとして、例えば、太陽電池や、ビル、商業施設、一般家庭等での照明用の集光用途の他、マイクロ流体デバイス、光学デバイス、記録メディア、LED拡散板等の用途に好適である。上記マイクロ流体デバイスとしては、例えば、マイクロリアクターチップ、マイクロTASが挙げられる。上記光学デバイスとしては、例えば、マイクロレンズ、光学素子が挙げられる。本発明の物品として、更に、バイオチップ、反射防止フィルター、触媒担持体等も挙げられる。本発明の集光フィルムは、離散フーリエ変換により多値階調パターンを計算する工程、及び、多値階調パターンを有する集光フィルムを形成する工程、を含む製造方法により製造できる。上記のように、離散フーリエ変換により演算速度を向上させることができるため、製造される集光フィルムは、高品質であり、大面積の多値階調パターンを形成することができる。多値階調パターンを計算する工程は、上述のフーリエ変換装置を用いることによって行うことができる。上記製造方法において、離散フーリエ変換により計算した多値階調パターンの反転パターンを有する鋳型を形成する工程、及び、該鋳型を有機材料からなるフィルムに接触させて、多値階調パターンを有する集光フィルムを形成する工程、又は、該鋳型を金型として用いた射出成形、または熱および室温、UVインプリントによる成形により、多値階調パターンを有する集光フィルムを形成する工程を含むことが好ましい形態の一つである。上記鋳型は、例えば、電子線EB、アルゴンレーザ363nm光源波長、青色半導体レーザ405nm光源波長、クリプトンレーザ413nm光源波長、ヘリウム-カドミウムレーザ442nm光源波長などの光源を用いて、場所によって強度を変化させながら照射することで露光するフォトリソグラフィ法を用いて製造することができる。鋳型を製造する場合、露光後にレジストを現像すると、照射した電子線等の光源強度に応じて多値階調を有する凹凸のあるレジストが形成される。これにプラズマでレジスト表面をアッシングエッチング処理を施したり、または現像処理されたレジスト表面に直接、金属膜を蒸着し、電鋳処理を行った後、基板とレジストを離型することで金属鋳型が得られる。鋳型の材料としては、特に限定されないが、例えば、ニッケル、シリコン等の金属素材、石英、ガラス等が好ましい。なお、多値階調パターンの反転パターンとは、多値階調パターンとは凹凸形状が逆のパターンであり、該反転パターンを目的とする有機材料に接触させた場合に、多値階調パターンを形成することができるものである。上記鋳型を有機材料に接触させる方法としては、該鋳型の反転パターンが形成された面を有機材料からなるフィルムに接触させて、多値階調パターンを転写する方法、該鋳型を金型として射出成形する方法等が挙げられる。上記集光フィルムの製造方法は、有機材料からなるフィルムにレーザを照射して、多値階調パターンを有する集光フィルムを形成する工程、を含むことも好ましい形態の一つである。この場合、有機材料からなるフィルムに、上述の離散フーリエ変換により計算した多値階調パターンを直接レーザで描画して、多値階調パターンを有する集光フィルムを形成するものであって、上述したレーザ干渉固定により作製するホログラムとは区別されるものである。有機材料からなるフィルムにレーザを照射する場合に使用するレーザとしても、上記フォトリソグラフィ法で用いるレーザを使用することができる。本発明の集光フィルムは、種々の光学分野で使用することができる。例えば、集光フィルムで集光した光を太陽電池や、ビル、商業施設、一般家庭での照明等に用いることができる。照明としては、例えば、植物工場での照明LED等やTVバックライトの代替にも有効である。更に、本発明の集光フィルムは、入射した光を拡散させることもでき、例えば、LEDテレビなどに用いられるLED光源から出射された光を拡散させる拡散板の代替としても有効である。本発明の集光フィルムを備えることを特徴とする太陽電池モジュールも本発明の一つである。本発明の太陽電池モジュールは、上記集光フィルムを備えるので、広い角度範囲での集光が可能となり、非追尾型の太陽電池に使用した場合であっても、高効率で発電することができる。上記太陽電池モジュールは、追尾型または非追尾型太陽電池のいずれにも使用することができるが、広い角度範囲での集光が可能であることから、非追尾型太陽電池に使用することが特に好適である。本発明の太陽電池モジュールは、柔軟性を有するフレキシブル太陽電池であってもよい。本発明の太陽電池モジュールは、集光フィルムの平滑な表面が大気に曝されるように設置されていることが好ましい。本発明の集光フィルムは、微細な凸凹の繰り返し構造を有する表面から太陽光線を入射させる必要がなく、集光フィルムの平滑な表面が大気に曝されるように設置しても高い集光効率で集光できる。そして、集光フィルムの平滑な表面が大気に曝されるように設置したことにより、高い防汚性を得ることができる。本発明の太陽電池モジュールは、太陽電池セルと、上記太陽電池セルが封止された封止材層と、上記封止材層の片面又は両面に設けられた集光フィルムと、を備えることを特徴とする太陽電池モジュールでもある。図8は、本発明の太陽電池モジュールの一実施形態を模式的に示す断面図である。本実施形態における太陽電池モジュール800は、太陽電池セル81と、太陽電池セル81が封止された封止材層82と、封止材層82の両面に設けられた集光フィルム83と、を備える。本発明の太陽電池モジュールは、太陽電池セルと、上記太陽電池セルが封止された封止材層と、上記封止材層の片面又は両面に設けられた透光性層とを備え、さらに、上記透光性層上に集光フィルムを備えることを特徴とする太陽電池モジュールでもある。図9は、本発明の太陽電池モジュールの一実施形態を模式的に示す断面図である。本実施形態における太陽電池モジュール900は、太陽電池セル81と、太陽電池セル81が封止された封止材層82と、封止材層82の両面に設けられた透光性層84と、透光性層84上に設けられた集光フィルム83と、を備える。透光性層を封止材層の両面に設け、そのうちのいずれか一方の透光性層の上のみに集光フィルムを設けてもよい。上記太陽電池セルは、受光することにより発電することができるものであればよく、例えば、n型半導体とp型半導体とをpn接合したものが挙げられる。用いることができるn型半導体及びp型半導体としては特に限定されず、通常太陽電池に用いられている材料を使用することができる。例えば、Si、Ge等のIV族半導体、GaAs、InP、AlGaAs等のIII-V族化合物半導体、CdS、CdTe、Cu2S等のII-VI族化合物半導体、CuInSe2、CuInS2、CuIn,GaSe2等のI-III-VI族化合物半導体、フタロシアニン、ポリアセチレン等の有機半導体や、InGaP/InGaAs/Geなど3接合した積層体、やCdTe等の半導体などが挙げられる。また、太陽電池セルは結晶型、非晶型アモルファスを問わず用いることが可能である。さらに、セルは量子効果型や色素増感型太陽電池であっても広い角度範囲での集光が可能となり、追尾型であっても、非追尾型の太陽電池であっても高効率で発電することが可能である。通常太陽電池は、上記太陽電池セルに接続された配線を含む。本発明の太陽電池モジュールは、フレネルレンズと集光フィルム、または集光フィルムのみが接着層によって接着された構造を有する集光素子と、太陽電池セルとを備えるものであってもよい。フレネルレンズと集光フィルムからなる集光素子を備えた太陽電池モジュールによれば、集光フィルムにより面内集光された光を、フレネルレンズによって更に一点集光し、太陽電池セルで集光された光を受光する。このように、集光素子と太陽電池セルとの間に間隔を設けることによって、集光することができるため、太陽電池セルを小さくすることができ、コスト削減を図ることができる。本発明の集光フィルムは集光素子に使用することができ、上記集光フィルムによって広い角度範囲での集光が可能であるため、集光素子の面内集光効率を著しく向上させることができる。上記集光素子は、少なくとも上記集光フィルムを備えるものであればよく、形状は平面状、ドーム状半球面状等でよい。上記集光素子は、集光フィルムとレンズとを備えることが好ましい。レンズとしては、プリズムレンズ、フライアイレンズ、レンズアレイ、リニアフレネルレンズ、後述するフレネルレンズ、レンチキュラレンズ等が挙げられるが、特に限定されるものではない。上記レンズはフッ素樹脂からなることが好ましい。上記レンズがフッ素樹脂であることによって、集光素子としての耐久性が向上し、太陽電池等に好適に用いることができる集光素子となる。レンズに用いるフッ素樹脂としては、上述した集光フィルムについて例示したフッ素樹脂が好ましく例示される。好ましいフッ素樹脂としては、ETFE、PCTFE、EFEP、FEP及びPVdFからなる群より選択される少なくとも一種のフッ素樹脂である。集光素子は、集光フィルムの他、さらにフレネルレンズ及びレンチキュラレンズからなる群より選択される少なくとも1つのレンズを備えることも可能である。フレネルレンズ及びレンチキュラレンズは、それぞれ一般的にフレネルレンズ又はレンチキュラレンズと呼称されるものであればよく、特に限定されない。これにより、集光フィルムにより全方位で面内集光された光を、フレネルレンズ又はレンチキュラレンズによって更に一点に集光することができる。集光フィルムのみであっても、全方位集光をすることは可能であるが、集光フィルムと、フレネルレンズ又はレンチキュラレンズとを併用することによって、集光距離の制御や光密度を高め、発電効率を飛躍的に向上させることが容易になる。なお、本発明の集光フィルムは、計算機ホログラムの結果を制御することにより、太陽光線を面内集光させる他、従来のフレネルレンズやレンチキュラレンズに比べてより均一で無収差であり、かつ高精細な一点集光の機能を発現させることも可能である。つぎに本発明を実施例及び比較例をあげて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。実施例11多値階調パターンの計算ホログラムの干渉縞を計算するために、物体光の回折計算、および参照光の複素振幅を計算し両者を干渉させて、その後計算機ホログラムの微細な凹凸の回折パターンを作製した。計算機ホログラム多値階調パターンは、その干渉縞を256階調のBMP形式の濃淡で出力し、このデータを基に露光用レジストに厚さ方向に8階調を与え作製した。多値階調パターンは、集光フィルムを構成する有機材料の光線透過率が95、屈折率が1.40、集光フィルムの膜厚最大膜厚を100um、集光フィルムを直径160mmφの円形とする条件で、離散フーリエ変換を用いて計算した。プログロムは曇り空のような散乱光にも対処するため、拡散板を物体とした計算機ホログラムパターンも加味することも可能である。画素数としては2000×2000で、サンプリング周波数1000dots/mmで設計した。そのため、一つのホログラムパターンは4mm角に収まる34リングからなる同心円パターンとなるが、これを描画装置で6×6に配列して描画し、24mm角の計算機ホログラム多値階調パターンを作製した図10。なお、ここでは、MATLAB言語による、MAX32階調の多値階調用プログラムが作製に好ましい。すなわち、各グレースケール位相回折格子パターンのデータをMATLABプログラムにより作製した。このデータをコンバージョン用PCにて、レーザ直接描画装置のLICファイルに変換可能を確認した後、このLICファイルをレーザ直接描画装置に転送して、描画動作が可能であることを確認して行った。2集光フィルムの製造多値階調パターンを形成する有機材料フィルムとしては、ETFEフィルムを用いた。離散フーリエ変換による計算にて求めた、目的とする集光フィルムの多値階調パターンの反転パターンを有する鋳型は、レーザ直接フォトリソグラフィ法を用いて作製した。まず、ガラス基板上に膜厚1.4μmにて塗布したレジストAZ1350:クラリアント社製に対して、ヘリウム-カドニウムレーザg線:442nm波長光源を用いて、場所によって強度を変化させながら露光照射した。その後、レジストを現像液AZ-Developer:クラリアント社製にて室温20°C、現像時間1分、揺動ありの条件で現像を行い、照射した光源強度に応じた多値階調を有する凹凸のあるレジスト膜を形成した。このレジスト膜に直接ニッケルを金属蒸着した後、金属蒸着による金型とレジスト膜とを離型した。これにより得られた金型は、8階調からなり、凹凸高さHが1μm、かつ凹凸周期Pが同心円の最外周では30μm、かつ同心円の中周で78μm、中心部では185μmであった。また得られた金型は、階段の1段の高さDが125nmであった。さらに階段の1段の幅Lは凹凸矩形状になっており、その同心円の最外周で平均値として3.75μm、かつ同心円の中周で9.75μm、中心部では23.1μmであり非線形なグラデーション状に長さが次第に変化していた図11。また、ここでは凹凸幅Wは凹凸周期Pと同じであり、凹凸周期Pと凹凸幅Wの関係がP-W=0を満たしていた。次に、該金属鋳型を有機材料であるETFEフィルム商品名:ネオフロンETFE、ダイキン工業株式会社製、熱変形温度104°C、膜厚100μmに、ナノインプリント装置NANOIMPRINTERNM-0501明昌機工株式会社製を用いて、8階調からなる上記金属矩形状鋳型を、250°Cにて10MPaの圧力で5分間押しつけ、多値階調パターンを有する集光フィルムを形成した。得られた集光フィルムは、多値階調パターンを有する領域において、8階調からなり、凹凸高さHが1μm、かつ凹凸周期Pが同心円の最外周では30μm、かつ同心円の中周で78μm、中心部では185μmであった。また階段の1段の高さDが125nmであった。さらに階段の1段の幅Lは凹凸矩形状になっており、その同心円の最外周で平均値として3.75μm、かつ同心円の中周で9.75μm、中心部では23.1μmであり、非線形なグラデーション状に長さが次第に変化していた。なお、上述のように多値階調パターンを形成した後、フィルム表面に形成されたパターン断面形状をレーザプローブ式非接触表面形状測定三鷹光器社製で観察した。その結果、得られた集光フィルムには、鋳型モールドの形状が正確に転写されていることが確認された図12。集光フィルムの連続製造方法ETFEフィルムまたはPCTFE商品名:ネオフロンETFEまたはPCTFE、ダイキン工業株式会社製からなるフッ素樹脂フィルム130を、図13で示すように、フィルムロール131から連続して押し出しながら、インプリント装置133を用いて、多値階調パターンの反転パターンを有する鋳型132をフッ素樹脂フィルム130に接触させて、多値階調パターンをフッ素樹脂フィルム130に転写して、その後、複数のロール134によって、ラミネート加工を行い、切断機135を用いて所望の大きさに切断し、全方位集光が可能な集光フィルムを形成することも可能である。集光性能を有する太陽電池モジュールの製造方法上述の方法で製造した集光フィルムを、アクリル系粘着剤を使用した高透明性自己粘着フィルム商品名:高透明性自己粘着フィルムCEF08A07L53M社製、アイオノマー、シリコーン樹脂、熱可塑性樹脂、さらに熱硬化剤を含んだ熱可塑性樹脂EVAを用いて接着することで集光素子を形成した。この集光素子を、太陽電池モジュール表面へ全面にわたり敷き詰め、設置することにより、集光性能を有する太陽電池モジュールを製造した。実施例2実施例1におけるナノインプリント装置NANOIMPRINTERNM-0501明昌機工株式会社製において、転写基材表面に対して膜厚10μmのUV塗膜層PAK-01:東洋合成社製を設け、室温下で金型を基材塗膜層へ1MPaの圧力で1分間押しつけ、同時に2000mJの紫外線光を照射した以外は、同様に多値階調パターンを有する集光フィルムを形成した。比較例1実施例1において使用した太陽電池モジュールと同じ太陽電池モジュールを用意した。集光フィルムが設置されていない点で、実施例1の集光性能を有する太陽電池モジュールと相違する。実施例1及び比較例1の太陽電池モジュールの集光率を太陽集光シミュレーター1.5G,WacomElectricCo.,Ltd.製を使用して測定した。結果を表1に示す。実施例1で得られた多値階調パターンからなる集光フィルムを有するモジュールでは、集光フィルムを装着していない比較例1の太陽電池モジュールと比べて、入射角度5度の場合に99の発電の増大率を示し、平均でも最大出力Pmax約5の集光発電率の増大を示した。一方、比較例1の太陽電池モジュールは、光線入射角が低くなるにつれて集光率が著しく低下することが分かった。"