プール100と、前記プール100の水を濾過して循環させる循環路と、を有するプール用循環システムにおいて、前記循環路を循環する循環水を貯水する貯水タンク61と、電源部7070a70b70cと、該電源部7070a70b70cに接続され、前記貯水タンク61内の前記循環水中で放電を生起し、前記循環水中に水酸ラジカルを生成させる電極対6464a64b64x6565x65yと、前記貯水タンク61内の前記循環水に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する前記循環水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部94とを備えていることを特徴とするプール用循環システム。請求項1において、前記貯水タンク61と、前記電極対6464a64b64x6565x65yと、前記電源部7070a70b70cと、前記超音波発生部94とが組み合わせられて水浄化ユニット500が設けられ、前記水浄化ユニット500が前記循環路に設けられていることを特徴とするプール用循環システム。請求項1又は2において、前記循環路は、前記プール100の水を常時循環させる常時循環路110であることを特徴とするプール用循環システム。請求項1又は2において、前記循環路は、前記プール100からオーバーフローした水を循環させるオーバーフロー循環路120であることを特徴とするプール用循環システム。請求項1乃至4の何れか1つにおいて、上記貯水タンク61に銅イオン又は鉄イオンを供給するイオン供給部110124125を備えていることを特徴とするプール用循環システム。請求項1乃至5の何れか1つにおいて、前記電極対6465のうち一方の電極64は前記貯水タンク61の底部に配置されていることを特徴とするプール用循環システム。請求項1乃至6の何れか1つにおいて、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御する第1制御部1と、前記超音波発生部94の動作を制御する第2制御部5とをさらに備え、前記第1制御部1及び前記第2制御部5は、前記貯水タンク61内の前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ及び前記超音波発生部94の動作をそれぞれ制御することを特徴とするプール用循環システム。請求項7において、前記貯水タンク61内の前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ7をさらに備え、前記第1制御部1は、前記センサ7によるモニタ結果に応じて前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御し、前記第2制御部5は、前記センサ7によるモニタ結果に応じて前記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とするプール用循環システム。請求項8において、少なくとも前記循環水中の過酸化水素の濃度が前記上限値を越えた場合には、前記第1制御部1が、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧をオフにして前記放電を停止させるとともに、前記第2制御部5が、前記超音波発生部94を動作させることを特徴とするプール用循環システム。請求項7乃至9の何れか1つにおいて、前記第2制御部5は、前記貯水タンク61内の前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とするプール用循環システム。請求項1乃至6の何れか1つにおいて、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧のオン又はオフの制御、及び前記超音波発生部94の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、前記制御部は、前記貯水タンク61内の前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ、及び前記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とするプール用循環システム。請求項11において、前記制御部は、前記貯水タンク61内の前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧をオフにして前記放電を停止させ、前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とするプール用循環システム。請求項1乃至12の何れか1つにおいて、前記貯水タンク61内の前記循環水中に泡を吐出する吐出手段119と、前記吐出手段119に気体を送る送出手段99とをさらに備え、前記電極対6465は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、前記電源70bは、前記電極対6465にパルス電圧を印加し、前記吐出手段119は、前記電極対6465の間であって、前記貯水タンク61の底部に配置されていることを特徴とするプール用循環システム。しかし、次亜塩素酸ソーダの影響により、眼球が充血したり、毛髪が塩素に侵されて茶色に変色したりし、肌荒れ等が生じたりする等のおそれがある。また、次亜塩素酸ソーダを連続的に使用し続けるとアルカリ性側に傾く傾向性をもって除菌効果が極端に落ちることがある。本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、安全かつ長時間除菌効果を有するプールの水中における雑菌を除菌できるプール用循環システムを提供することを目的とする。第1の発明は、プール100と、前記プール100の水を濾過して循環させる循環路と、を有するプール用循環システムにおいて、前記循環路を循環する循環水を貯水する貯水タンク61と、電源部7070a70b70cと、該電源部7070a70b70cに接続され、前記貯水タンク61内の前記循環水中で放電を生起し、前記循環水中に水酸ラジカルを生成させる電極対6464a64b64x6565x65yと、前記貯水タンク61内の前記循環水に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する前記循環水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部94とを備えていることを特徴とする。第1の発明では、放電によって循環水中に発生した水酸ラジカルを用いて循環水の浄化を行うとともに、超音波照射によって過酸化水素から生成した水酸ラジカルを用いて循環水の浄化を行うことができる。第2の発明は、第1の発明において、前記貯水タンク61と、前記電極対6464a64b64x6565x65yと、前記電源部7070a70b70cと、前記超音波発生部94とが組み合わせられて水浄化ユニット500が設けられ、前記水浄化ユニット500が前記循環路に設けられていることを特徴とする第2の発明では、前記貯水タンク61と、前記電極対6465と、前記電源部70とが組み合わせられて水浄化ユニット500を構成しているため、既存のプール用循環システムに設置しやすい。第3の発明は、第1又は第2の発明において、前記循環路は、前記プール100の水を常時循環させる常時循環路110であることを特徴とする。第3の発明では、常時循環路110の循環水中の雑菌を除去できるため、プール100の水の洗浄度を向上できる。第4の発明は、第1又は第2の発明において、前記循環路は、前記プール100からオーバーフローした水を循環させるオーバーフロー循環路120であることを特徴とする。第4の発明においても、オーバーフロー循環路120の循環水中の雑菌を除去できるため、プール100の水の洗浄度を向上できる。第5の発明は、第1乃至第4の何れかの発明において、上記貯水タンク61に銅イオン又は鉄イオンを供給するイオン供給部110124125を備えていることを特徴とする。第5の発明では、イオン供給部110124125から銅イオンや鉄イオンが貯水タンク61へ供給される。過酸化水素を含む水中において、銅イオンや鉄イオンが共存する条件下では、いわゆるフェントン反応Fenton反応により、銅イオンや鉄イオンが触媒的に作用して、水酸ラジカルが生成される。よって、貯水タンク61の水中では、水酸ラジカルの生成量が増大し、有害物質の分解効率が向上する。第6の発明は、第1乃至第5の何れかの発明において、前記電極対6465のうち一方の電極64は前記貯水タンク61の底部に配置されていることを特徴とする。第6の発明では、活性種や過酸化水素を放電に伴う熱によって貯水タンク61内を効率よく対流させることができる。第7の発明は、第1乃至第6の発明の何れか1つにおいて、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御する第1制御部1と、前記超音波発生部94の動作を制御する第2制御部5とをさらに備え、前記第1制御部1及び前記第2制御部5は、前記貯水タンク61内の前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ及び前記超音波発生部94の動作をそれぞれ制御することを特徴とする。第8の発明は、第7の発明において、前記貯水タンク61内の前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ7をさらに備え、前記第1制御部1は、前記センサ7によるモニタ結果に応じて前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧のオン又はオフを制御し、前記第2制御部5は、前記センサ7によるモニタ結果に応じて前記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする。第9の発明は、第8の発明において、少なくとも前記循環水中の過酸化水素の濃度が前記上限値を越えた場合には、前記第1制御部1が、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧をオフにして前記放電を停止させるとともに、前記第2制御部5が、前記超音波発生部94を動作させることを特徴とする。第10の発明は、第7乃至第9の発明の何れか1つにおいて、前記第2制御部5は、前記貯水タンク61内の前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする。第11の発明は、第1乃至第6の発明の何れか1つにおいて、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧のオン又はオフの制御、及び前記超音波発生部94の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、前記制御部は、前記貯水タンク61内の前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧のオン又はオフ、及び前記超音波発生部94の動作を制御することを特徴とする。第12の発明は、第11の発明において、前記制御部は、前記貯水タンク61内の前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、前記電極対6464a64b64x6565x65yに印加する電圧をオフにして前記放電を停止させ、前記循環水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部94をオン状態にすることを特徴とする。第13の発明において、第1乃至第12の発明の何れか1つにおいて、前記貯水タンク61内の前記循環水中に泡を吐出する吐出手段119と、前記吐出手段119に気体を送る送出手段99とをさらに備え、前記電極対6465は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、前記電源70bは、前記電極対6465にパルス電圧を印加し、前記吐出手段119は、前記電極対6465の間であって、前記貯水タンク61の底部に配置されていることを特徴とする。本発明によれば、放電によって水酸ラジカルを生成させて循環水の浄化を行うとともに、この水酸ラジカルが変化して生じた過酸化水素を超音波照射により水酸ラジカルに戻すことによって、過酸化水素濃度を上げずに循環水の浄化を行うことができる。更に過酸化水素の残留性により、長時間除菌効果を有する。第2の発明によれば、水浄化ユニット500を構成しているため、既存のプール用循環システムに設置しやすい。第3の発明によれば、常時循環路110の循環水中の雑菌を除去してプール100の水の洗浄度を向上できる。第4の発明によれば、オーバーフロー循環路120の循環水中の雑菌を除去してプール100の水の洗浄度を向上できる。第5の発明によれば、過酸化水素の存在下に鉄イオン又は銅イオンを供給することで、フェントン反応を利用して多量の水酸ラジカルを発生できる。従って、この水酸ラジカルを用いて水中の有害物質等を効果的に除去できる。第6の発明によれば、活性種や過酸化水素を貯水タンク61内を効率よく対流させることにより的確に水中の有害物質等を除去できる。以下、添付の図面を参照して本発明の実施形態について具体的に説明するが、当該実施形態は本発明の原理の理解を容易にするためのものであり、本発明の範囲は、下記の実施形態に限られるものではなく、当業者が以下の実施形態の構成を適宜置換した他の実施形態も、本発明の範囲に含まれる。《実施形態1》図1は本発明の実施形態1におけるプール用循環システム900の構成図である。プール用循環システム900は、プール100の水を循環濾過させることでプール100内の水質を維持させるものであり、水泳等用の水が貯留されるプール100と、プール100の水を常時循環させる常時循環路110と、前記プール100からオーバーフローした水を循環させるオーバーフロー循環路120と、を備える。常時循環路110は、常時プール100内の水を循環させているものであり、常時循環路110の一端はプール100の側面に設けられた第一循環流入口111に接続され、他端はプール100の側面に設けられた第一給水口114に接続される。常時循環路110には、循環水を矢印方向に循環させる第一循環ポンプ112及び循環水を濾過する第一濾過装置113が配設される。オーバーフロー循環路120は、オーバーフロー水を循環させるものであり、オーバーフローしたプール100の水を排出する第一配管124と、その第一配管124を通ってオーバーフローした循環水を貯留するオーバーフロー水槽123と、オーバーフロー水槽123に貯留されたオーバーフロー水を再びプール100に循環させる第二配管125と、を有して構成される。プール100の上面周囲にオーバーフロー溝121が設けられ、オーバーフロー溝121において所定位置の底部に第二循環流入口122が設けられている。また、プール100の側面には、第二給水口126が設けられている。第一配管124の一端は第二循環流入口122に接続されており、他端はオーバーフロー水槽123に接続されている。第二配管125の一端はオーバーフロー水槽123に接続されており、他端は第二給水口126に接続している。第二配管125には、循環水を矢印方向に循環させる第二循環ポンプ140と循環水を濾過する第二濾過装置141とが設けられている。第二配管125において、第二濾過装置141の下流側には、流量計や差圧計等の検知器142が設けられている。プール100をオーバーフローさせて循環濾過する時には、プール100内の水圧や水位等を検知器142により検知し、第二循環ポンプ140の流量をインバータ143によって制御させる。このように、オーバーフロー循環路120では、プール100のオーバーフローに必要な流量となるように第二循環ポンプ140を効率よく制御させる。常時循環路110、第一配管124及び第二配管125は、例えば銅管で構成されている。銅管で構成することにより、その内壁から銅イオンを生成することで、後述する貯水タンク61に銅イオンを供給するイオン供給部を構成している。常時循環路110には、第一濾過装置113と第一給水口114との間において、水浄化ユニット500が配設される。次に水浄化ユニット500の詳細構造について説明する。プール用循環システム900は、水浄化ユニット500を備えている。水浄化ユニット500は、水中での放電によって水中にOHラジカル水酸ラジカル等の浄化成分を生成するとともに水酸ラジカルから生成した過酸化水素を超音波照射によって水酸ラジカルに戻し、この浄化成分によって冷却水の浄化を行うものである。図2に示されるように、水浄化ユニット500は、貯水タンク61と、放電ユニット62と、貯水タンク61内の水に超音波を照射する超音波発生部94とを有している。また、本実施形態のプール用循環システム900は、高電圧発生部に接続された放電波形発生部3と、電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部と、増幅器9を介して超音波発生部94に所定の周波数の交流電圧を供給する超音波波形発生部8と、超音波波形発生部8を介して超音波発生部94の動作を制御する制御部5と、貯水タンク61内の水の過酸化水素濃度をモニタするセンサ7とを備えている。なお、図示しないが、センサ7のモニタ結果に基づいて制御部15を制御する中央演算装置CPUが設けられていてもよい。制御部15による放電ユニット62及び超音波発生部94の制御方法については、後に説明する。なお、後述のいわゆるフィードフォワード制御を行う場合、センサ7は必ずしも設けられなくてもよい。貯水タンク61は密閉型の容器状に形成され、貯水タンク61への流入側の流入側流路110a及び流出側の流出側流路110bが接続されている。放電ユニット62は、電極A64及び電極B65と、この電極対6465に電圧を印加する高電圧発生部電源部70と、電極A64を内部に収容する絶縁ケーシング71とを備えている。電極対6465は、水中で放電を生起するためのものである。電極対6465の一方の電極である電極A64は、絶縁ケーシング71の内部に配置されている。絶縁ケーシング71は貯水タンク61の底部に配置されている。そのため電極A64は、絶縁ケーシング71の底面を介して貯水タンク61の底部に配置されている。電極A64を貯水タンク61の底部に配置することにより、後述するように発生した過酸化水素を放電に伴う熱によって貯水タンク61内を対流させて拡散を促進させるためである。電極A64は、上下に扁平な板状に形成されている。電極A64は、高電圧発生部70に接続されている。電極対6465の他方の電極である電極B65は、絶縁ケーシング71の外部に配置されている。電極B65は、もう一方の電極A64の上方に設けられている。電極B65は、上下に扁平な板状であって、且つ上下に複数の貫通孔66を有するメッシュ形状ないしパンチングメタル形状に構成されている。電極B65は、電極A64と略平行に配設されている。電極B65は、高電圧発生部70に接続されている。これらの電極6465は、耐腐食性の高い導電性の材料で構成されている。高電圧発生部70は、例えば電極対6465に所定の電圧を印加する電源で構成されていてもよい。即ち、高電圧発生部70は、電極対6465に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源ではなく、電極対6465に対して常に数キロボルトの電圧を印加する電源であってもよい。また、高電圧発生部70には、電極対6465の放電電力を一定に制御する定電力制御部が設けられている図示省略。絶縁ケーシング71は、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されている。絶縁ケーシング71は、一面上面が開放された容器状のケース本体72と、該ケース本体72の上方の開放部を閉塞する板状の蓋部73とを有している。ケース本体72は、角型筒状の側壁部72aと、該側壁部72aの底面を閉塞する底部72bとを有している。電極A64は、底部72bの上側に敷設されている。絶縁ケーシング71では、蓋部73と底部72bとの間の上下方向の距離が、電極A64の厚さよりも長くなっている。つまり、電極A64と蓋部73との間には、所定の間隔が確保されている。これにより、絶縁ケーシング71の内部では、電極A64とケース本体72と蓋部73との間に空間Sが形成される。図2及び図3に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73には、該蓋部73を厚さ方向に貫通する1つの開口74が形成されている。この開口74により、電極A64と電極B65との間の電界の形成が許容されている。蓋部73の開口74の内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のように、絶縁ケーシング71は、電極対6465のうちの一方の電極電極A64のみを内部に収容し、且つ電極対6465の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を成す開口74を有する絶縁部材を構成している。加えて、絶縁ケーシング71の開口74内では、電流経路の電流密度が集中することで、水がジュール熱によって気化して気泡Bが形成される。つまり、絶縁ケーシング71の開口74は、該開口74に気相部を成す気泡Bを形成する気相形成部として機能する。次に、図2に示す例において、超音波発生部94は、板状の圧電セラミックス95と、間に圧電セラミックス95を挟むように設けられた一対の金属板96a96bとで構成される。超音波発生部94を封入するケース97は密閉され、貯水タンク61の底部に配置されている。超音波発生部94は、電極対6465よりも、貯水タンク61の給水口に近い位置言い換えれば、注水口から遠い位置に配置される。金属板96a96bには、増幅器9によって増幅された超音波波形発生部8の出力信号交流電圧が供給される。これにより、超音波発生部94は任意の周波数の超音波を貯水タンク61内の水に照射する。ただし、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数が、100kHz以上程度であれば特に好ましい。なお、超音波発生部94は、貯水タンク61内の水に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてもよい。例えば、図4aに示すように、超音波発生部94が貯水タンク61の底部外側に設置されていてもよく、貯水タンク61の内部において、電極対6465よりも注水口流入側の開口部に近い位置に設置されていてもよい。超音波発生部94が貯水タンク61の底部外側に設置されている場合、超音波は貯水タンク61の壁面を介して水に伝達される。また、超音波発生部94の構成は、図2に示す例に限られない。例えば、図4bに示すように、金属ケース97aの上部と金属板96とで板状の圧電セラミックス95を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよい。以上のように構成された本実施形態に係るプール用循環システム900について、以下その使用態様を説明する。常時循環路110では、プール100内の水を第一循環流入口111から流出させて、第一循環ポンプ112及び第一濾過装置113を通過させ、再び第一給水口114からプール100に戻す。オーバーフロー循環路120では、プール100からオーバーフローした水は、第二循環流入口122から第一配管124を通ってオーバーフロー水槽123に流入して貯留され、更にオーバーフロー水槽123から第二配管125を通って再びプール100の側面に設けられた第二給水口126からプール100に流入する。本実施形態のプール用循環システム900では、水浄化ユニット500が運転されることで、第一循環ポンプ112を流れる水の浄化がなされる。このような水浄化ユニット500による水の浄化動作について詳細に説明する。水浄化ユニット500の運転の開始時には、図2に示すように、絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。例えば、高電圧発生部70から電極対6465に所定の電圧例えば1kVが印加され、電極B65に負極が接続され、電極A64に正極が接続された場合、電極対6465の間に電界が形成される。この際、電極A64の周囲は、絶縁ケーシング71で覆われている。このため、電極対6465の間での漏れ電流が抑制されるとともに、開口74内の電流経路の電流密度が集中した状態となる。開口74内の電流密度が上昇すると、開口74内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング71では、開口74の近傍において、水の気化が促進されて気泡Bが形成される。気泡Bは、図7に示すように、開口74のほぼ全域を覆う状態となり、電極B65に導通する負極側の水と、正極側の電極A64との間に気泡Bが介在する。従って、この状態では、気泡Bが、電極A64と電極B65との間での水を介した導電を阻止する抵抗として機能する。これにより、電極A64と電極B65との間の漏れ電流が抑制され、電極対6465間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡B内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。以上のようにして、気泡Bで放電が行われると、貯水タンク61内の水中では、水酸ラジカル等の活性種や、水酸ラジカルが変化した過酸化水素等が生成される。水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素は、放電に伴う熱によって貯水タンク61内を対流する。これにより、水中での活性種や過酸化水素の拡散が促される。また、気泡Bで放電が行われると、この放電に伴ってこの気泡Bでイオン風を生成し易くなる。よって、貯水タンク61内では、このイオン風を利用して、活性種や過酸化水素の拡散効果を更に向上できる。また、上述したように、貯水タンク61には、常時循環路110、第一配管124及び第二配管125から析出した銅イオンが供給される。過酸化水素と銅イオンの存在下では、フェントン反応Fenton反応により、銅イオンが触媒的に作用して水酸ラジカルの生成が促進される。これにより、水酸ラジカルによる水の浄化効率が向上する。加えて、銅イオンは菌の繁殖を抑制する効果があるため、水中での殺菌作用も高くなる。以上のようにして、水中に拡散した水酸ラジカル等の活性種は、水中に含まれる被処理成分例えばアンモニア等を酸化分解して水の浄化に利用される。また、水中に拡散した過酸化水素は、水の殺菌に利用される。さらに、本実施形態に係るプール用循環システムの貯水タンク61内では、放電により生成された過酸化水素が超音波照射により水酸ラジカルに変換されることで、消毒及び有機物の除去が行われる。これを含めた水の浄化方法について、以下説明する。図5は、水浄化ユニット500における水処理の基本サイクルを示す図である。同図に示すように、貯水タンク61内に溜められた水は、まず、電極対6465間に生起される放電によって浄化される。この際には、放電によって水中に水酸ラジカル等の活性種が生成し、有機物等の分解や殺菌などが行われる図5中のステップSt1、St2。水酸ラジカルは短時間で過酸化水素に変化するステップSt3。次に、超音波発生部94から水へと超音波を伝搬させ、水中の過酸化水素を分解し、水酸ラジカルに変化させるステップSt4。超音波照射により発生した水酸ラジカルは、再度過酸化水素に変化する。ただし、除菌等、水の浄化反応に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は低下してゆくことになる。なお、上記の水の浄化は、1回ごとに貯水タンク61内の水を全て入れ替える、いわゆるバッチ処理によって行ってもよい。あるいは、流入側流路110aから貯水タンク61への注水と貯水タンク61から流出側流路110bへの水の流出を連続的に行う連続処理によって浄化を行ってもよい。次に、放電と超音波処理を組み合わせた水の浄化制御の具体例について説明する。図6aは、水中の過酸化水素の濃度を用いて水の浄化のフィードバック制御を行う例を示すタイムチャートである。以下の方法では、水中の過酸化水素はセンサ7によって検知される。この方法において、まず貯水タンク61内に水が溜まった状態で運転を開始する。制御部1は、電極対間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部94はオフ状態にしておく。これにより、水が浄化されるとともに、水中の過酸化水素の濃度が上昇する。次いで、水の過酸化水素濃度があらかじめ設定された下限値を超えた場合、制御部1は電極対6465への電圧供給を継続させ、制御部は、超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって水が浄化される。放電によって生成される過酸化水素の量は超音波によって分解される過酸化水素の量よりも多いので、この期間中も液中の過酸化水素の濃度は上昇する。次に、水の過酸化水素濃度があらかじめ設定された上限値を超えた場合、制御部1は電極対6465への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部5は、引き続き超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって水が浄化される。この期間中、超音波によって過酸化水素が分解されるので、液中の過酸化水素の濃度は減少する。次いで、水の過酸化水素濃度が上述の下限値を下回った時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を再開する。これにより、液中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間と超音波照射と放電とを組み合わせる期間とを繰り返すことで、水の過酸化水素濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化する。以上の方法において、制御部1は、動作開始後に水の過酸化水素濃度が上限値に達するまでは放電を生起させて水酸ラジカルを発生させ、水を浄化することができる。また、制御部5は、水の過酸化水素濃度が所定の下限値を超える期間中に超音波発生部94をオン状態にする、言い換えれば、過酸化水素濃度が所定の下限値を下回る期間中には超音波発生部94をオフ状態にする。つまり、液中に十分な過酸化水素が存在する場合に超音波によって水酸ラジカルを発生させているので、水を効果的に浄化することができる。さらに、十分な濃度の過酸化水素の存在下で超音波を継続的に照射することで、継続的に水酸ラジカルを生成することができるので、強い浄化能力を所定の期間中維持することができる。さらに、上述の方法によれば、貯水タンク61から流出側流路110bへと供給される水中の過酸化水素の濃度を上限値以下に抑えることができるので、過酸化水素を除去するための工程を容易にすることができる。本実施形態のプール用循環システムによれば、上述のように、液中での放電と、水への超音波照射とを組み合わせることで、水の過酸化水素濃度を上昇させずに浄化能力の向上を図ることが可能になる。なお、水を連続処理する場合には、図2に示すように、超音波発生部94を電極対6465よりも給水口側に配置することにより、放電によって生じた過酸化水素から超音波照射により効果的に水酸ラジカルを発生させることができる。また、図2では、電極対6465に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部1と、超音波発生部94の動作を制御する制御部5とを別個に設けたが、1つの制御部で電極対6465に印加する電圧のオン又はオフと超音波発生部94の動作とを制御することもできる。なお、本実施形態の水浄化ユニット500では、放電及び超音波照射によって生じる水酸ラジカルによって、水の浄化処理と同時に貯水タンク61内に繁殖する細菌等を効果的に殺菌することもできる。以上のように、本実施形態のプール用循環システム900では、循環水の清浄度が高いレベルで保たれる。以下、本実施形態に係る水浄化ユニット500における水の浄化方法の変形例について説明する。図6bは、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いて水の浄化のフィードフォワード制御を行う例を示すタイムチャートである。ここで用いられるプール用循環システム900には、必ずしもセンサ7が設けられていなくてもよい。ただし、放電のみを行った場合に貯水タンク61内の水の過酸化水素濃度が0から下限値に達するまでに要する時間T1、放電と超音波照射とを同時に行った場合に水の過酸化水素濃度が下限値から上限値になるまでに要する時間T2、超音波照射のみを行った場合に上限値から下限値に達するのに要する時間T3を、それぞれあらかじめ測定しておき、それらの測定データを制御部15の内部又は外部に設けられたメモリ図示せずに記憶させておく。制御部15は測定データに基づいて以下の制御を行う。制御部15の内部又は外部には、時間をカウントするタイマを設けておく。本変形例に係る方法において、まず制御部1は、電極対間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部94はオフ状態にしておく。これにより、水が浄化されるとともに、水中の過酸化水素の濃度が上昇する。次いで、運転開始から時間T1が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を継続させ、制御部は、超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって水が浄化される。この期間中も液中の過酸化水素の濃度は上昇する。次に、時間T2が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部5は、引き続き超音波発生部94をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって水が浄化される。この期間中、液中の過酸化水素の濃度は減少する。次いで、さらに時間T3が経過した時点で、制御部1は電極対6465への電圧供給を再開し、この状態を時間T2の間継続する。これにより、液中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間時間T3と超音波照射と放電とを組み合わせる期間時間T2とを繰り返すことで、水の過酸化水素濃度を下限値以上且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化する。以上の方法によっても水中の過酸化水素の濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化することができる。なお、これは浄化方法の一変形例であって、他の方法によっても水の浄化を行うことができる。《実施形態2》上述の実施形態1では、絶縁ケーシング71の蓋部73に1つの開口74が形成されている。しかしながら、例えば図8及び図9に示すように、絶縁ケーシング71の蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。この変形例では、絶縁ケーシング71の蓋部73が、略正方形板状に形成され、この蓋部73に複数の開口74が等間隔を置きながら碁盤目状に配列されている。一方、電極A64及び電極B65は、全ての開口74に跨るような正方形板状に形成されている。この変形例においても、各開口74が、電界密度集中部、及び気相形成部として機能する。これにより、高電圧発生部70から電極対6465に電圧が印加された場合、各開口74の電流密度が上昇し、各開口74で気泡Bが形成される。その結果、各気泡Bでそれぞれ放電が生起され、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素が生成される。《実施形態3》実施形態3に係るプール用循環システム900は、上述した実施形態1と放電ユニット62の構成が異なるものである。以下には、上記実施形態1と異なる点を主として説明する。図10に示すように、実施形態3の放電ユニット62は、貯水タンク61の外側から内部に向かって挿入されて固定される、いわゆるフランジユニット式に構成されている。また、実施形態3の放電ユニット62は、電極A64と電極B65と絶縁ケーシング71とが一体的に組立てられている。実施形態3の絶縁ケーシング71は、大略の外形が円筒状に形成されている。絶縁ケーシング71は、ケース本体72と蓋部73とを有している。実施形態3のケース本体72は、例えばガラス質又は樹脂製の絶縁材料で構成されている。ケース本体72は、円筒状の基部76と、該基部76から貯水タンク61側に向かって突出する筒状壁部77と、該筒状壁部77の外縁部から更に貯水タンク61側に向かって突出する環状凸部78とを有している。また、ケース本体72には、環状凸部78の先端側に先端筒部79が一体に形成されている。基部76の軸心部には、円柱状の挿入口76aが軸方向に延びて貫通形成されている。筒状壁部77の内側には、挿入口76aと同軸となり、且つ挿入口76aよりも大径となる円柱状の空間Sが形成されている。実施形態3の蓋部73は、略円板状に形成されて環状凸部78の内側に嵌合している。蓋部73は、例えばセラミックス材料で構成されている。蓋部73の軸心には、実施形態1と同様、蓋部73を上下に貫通する円形状の1つの開口74が形成されている。電極A64は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極で構成されている。電極A64は、基部76の挿入口76aに嵌合している。これにより、電極A64は、絶縁ケーシング71の内部に収容されている。実施形態3では、電極A64のうち貯水タンク61とは反対側の端部が、貯水タンク61の外部に露出される状態となる。このため、貯水タンク61の外部に配置される高電圧発生部70と、電極A64とを電気配線によって容易に接続することができる。電極A64のうち貯水タンク61側の端部64aは、絶縁ケーシング71の内部の空間Sに臨んでいる。なお、図10に示す例では、電極A64の端部64aが、挿入口76aの開口面よりも上側貯水タンク61側に突出しているが、この端部64aの先端面を挿入口76aの開口面と略面一としてもよいし、端部64aを挿入口76aの開口面よりも下側に陥没させてもよい。また、電極A64は、実施形態1と同様、開口74を有する蓋部73との間に所定の間隔が確保されている。電極B65は、円筒状の電極本体65aと、該電極本体65aから径方向外方へ突出する鍔部65bとを有している。電極本体65aは、絶縁ケーシング71のケース本体72に外嵌している。鍔部65bは、貯水タンク61の壁部に固定されて放電ユニット62を保持する固定部を構成している。放電ユニット62が貯水タンク61に固定された状態では、電極B65の電極本体65aの一部が浸水された状態となる。電極B65は、電極本体65aよりも小径の内側筒部65cと、該内側筒部65cと電極本体65aとの間に亘って形成される連接部65dとを有している。内側筒部65c及び連接部65dは、貯水タンク61内の水中に浸漬している。内側筒部65cは、その内部に円柱空間67を形成している。内側筒部65cの軸方向の一端は、蓋部73と当接して該蓋部73を保持する保持部を構成している。また、電極本体65aと内側筒部65cと連接部65dの間には、ケース本体72の先端筒部79が内嵌している。内側筒部65cの軸方向の他端側には、円柱空間67を覆うようにメッシュ状の漏電防止材68が設けられている。この漏電防止材68は、電極B65と接触することで、実質的にアースされている。これにより、漏電防止材68は、貯水タンク61の内部の空間水中のうち、円柱空間67の内側から外側への漏電を防止している。電極B65は、電極本体65aの一部が貯水タンク61の外部に露出される状態となる。このため、高電圧発生部70と電極B65とを電気配線によって容易に接続することができる。実施形態3のプール用循環システム900においても、水浄化ユニット500が運転されることで、常時循環路110を流れる水の浄化がなされる。水浄化ユニット500の運転の開始時には、図10に示すように、絶縁ケーシング71の内の空間Sが浸水した状態となっている。高電圧発生部70から電極対6465に所定の電圧例えば1kVが印加されると、開口74の内部の電流密度が上昇していく。図10に示す状態から、電極対6465へ更に電圧が継続して印加されると、開口74内の水が気化されて気泡Bが形成される図11を参照。この状態では、気泡Bが開口74のほぼ全域を覆う状態となり、円柱空間67内の負極側の水と、電極A64との間に気泡Bの抵抗が付与される。これにより、電極A64と電極B65との間の電位差が保たれ、気泡Bで放電が発生する。その結果、水中では、水酸ラジカルや過酸化水素を生成され、これらの成分が冷却水の浄化に利用される。なお、上記実施形態3では、円板状の蓋部73の軸心に1つの開口74を形成しているが、この蓋部73に複数の開口74を形成してもよい。図12に示す例では、蓋部73の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、5つの開口74が等間隔置きに配列されている。このように蓋部73に複数の開口74を形成することで、各開口74の近傍でそれぞれ放電を生起させることができる。《実施形態4》上述の実施形態1乃至3においては、水浄化ユニット500は常時循環路110に配設された。しかし本発明の範囲はこのような実施形態に限定されない。実施形態4においては、図13に示されるように、オーバーフロー循環路120に水浄化ユニット500が配設される。水浄化ユニット500は、検知器142と第二給水口126との間に配設されており、貯水タンク61には、貯水タンク61への流入側の流入側流路125a及び流出側の流出側流路125bが接続されている。その他の構成及び動作については上述の実施形態1乃至3と共通である。本実施形態のプール用循環システム900では、水浄化ユニット500が運転されることで、第二循環ポンプ140を流れる水の浄化がなされ、水中に拡散した水酸ラジカル等の活性種は、水中に含まれる被処理成分例えばアンモニア等を酸化分解して水の浄化に利用される。また、水中に拡散した過酸化水素は、水の殺菌に利用される。これにより、本実施形態のプール用循環システム900においても、循環水の清浄度が保たれる。また、超音波処理によって処理後の水の過酸化水素の濃度は許容範囲を超えないようになっているので、安全性も向上している。上述した実施形態1乃至3においては、水浄化ユニット500は常時循環路110に配設され、実施形態4においてはオーバーフロー循環路120に配設された。しかしながら本発明の範囲はこのような実施形態に限定されることはなく、水浄化ユニット500は常時循環路110及びオーバーフロー循環路120の双方に配設されることも可能である。上述した各実施形態の高電圧発生部70には、放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部を用いている。しかしながら、定電力制御部に代えて、放電時の放電電流を一定に制御する定電流制御部を設けることもできる。この定電流制御を行うと、洗浄水の導電率によらず放電が安定するため、スパークの発生も未然に回避できる。また、上述した各実施形態では、高電圧発生部70が直流電源である場合には、正極に電極A64を接続し、高電圧発生部70の負極に電極B65を接続することを説明した。しかしながら、高電圧発生部70の負極に電極A64を接続し、高電圧発生部70の正極に電極B65を接続することで、電極対6465の間で、いわゆるマイナス放電を行うようにしてもよい。また、上述した各実施形態では、常時循環路110、第一配管124及び第二配管125を銅管とすることで、銅イオンのイオン供給部としている。しかしながら、イオン供給部としては、例えば鉄イオンを生成する鉄製の配管を用いることもできる。鉄イオンも銅イオンと同様、過酸化水素の存在下でフェントン反応を促進させるため、水酸ラジカルの生成量を増大できる。また、例えば銅片や鉄片を貯水タンク61内に浸漬することで、これらをイオン供給部とすることもできる。《実施形態5》図14は、本発明の実施形態5における水浄化ユニットを示す構成図である。同図では、実施形態1に係る水浄化ユニット500と同様の構成については図2と同じ符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図14では図示を省略しているが、実際には本実施形態の水浄化ユニット500に設けられている。以下では、主に実施形態1に係る水浄化ユニット500と異なる点について説明する。本実施形態の水浄化ユニット500は、貯水タンク61と、貯水タンク61内に配置された電極対64x65xと、電極対64x65xに接続された高電圧発生部電源部70aと、貯水タンク61の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。電極64xは絶縁ケーシング71aの内部に収納され、電極65xは絶縁ケーシング71bの内部に収納されている。電極64x及び電極65xは、それぞれ扁平な板状に形成されている。また、電極64x及び電極65xはステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。高電圧発生部70aは、数キロボルト程度の交流電圧を電極対64x65xに供給する。絶縁ケーシング71a71bは、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されており、図1に示す絶縁ケーシング71と同様の構成を有している。すなわち、絶縁ケーシング71aは、一面図14では右側の面が開放された容器状のケース本体180aと、該ケース本体180aの上記開放部を閉塞する板状の蓋部73aとを有している。また、絶縁ケーシング71bは、一面図14では左側の面が開放された容器状のケース本体180bと、該ケース本体180bの上記開放部を閉塞する板状の蓋部73bとを有している。絶縁ケーシング71aの蓋部73aには、該蓋部73aを厚さ方向に貫通する1つの開口74aが形成されている。絶縁ケーシング71bの蓋部73bにも、該蓋部73bを厚さ方向に貫通する1つの開口74bが形成されている。これらの開口74a74bにより、電極64xと電極65xとの間の電界の形成が許容されている。開口74a74bの内径は、0.02mm以上0.5mm以下であることが好ましい。以上のような開口74a74bは、電極対64x65xの間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。絶縁ケーシング71a71bは、貯水タンク61内の互いに対向する側面に、蓋部73a73b同士が対向するように設置されている。言い換えれば、電極64xと電極65xとは互いに対向するよう配置されている。絶縁ケーシング71a71bの開口74a74b内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡が形成される。つまり、絶縁ケーシング71a71bの開口74a74bは、該開口74a74bに気相部としての気泡を形成する気相形成部として機能する。この構成により、交流電圧が電極対64x65xに供給された場合に電極対64x65x間の気泡内に放電を生起させることができる。なお、超音波発生部94の具体的な構成は実施形態1に係る水浄化ユニット500と同様である。以上の構成をとることにより、交流電圧を電極対64x65xに供給する場合でも、電極対64x65x間に放電を生起させることができ、高い浄化能力を発揮することができる。なお、高電圧発生部70aから電極対64x65xへは交流電圧を印加してもよいが、矩形波を印加しても電極対64x65x間に放電を生起することができる。本実施形態の水浄化ユニット500を、図6a、bに示す方法で運転することにより、水中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、貯水タンク61内の水を効果的に浄化することができる。《実施形態6》図15は、本発明の実施形態6における水浄化ユニット500を示す構成図である。同図では、実施形態1に係る水浄化ユニット500と同様の構成については図2と同じ符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図15では図示を省略しているが、実際には本実施形態の水浄化ユニット500に設けられている。以下では、主に実施形態1に係る水浄化ユニット500と異なる点について説明する。本実施形態の水浄化ユニット500は、貯水タンク61と、貯水タンク61内に配置された電極対6465と、電極対6465に接続された高電圧発生部電源部70bと、貯水タンク61の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。本実施形態の水浄化ユニット500においては、電極A64及び電極B65がそれぞれ高電圧発生部70bの正極側及び負極側にそれぞれ接続され、高電圧発生部70bから電極対6465に高電圧のパルス電圧が供給される。また、電極A64を囲む絶縁ケーシングは設けられない。電極A64及び電極B65は共に板状であり、貯水タンク61内の側面に、互いに対向するように設置される。さらに、水浄化ユニット500には、例えば貯水タンク61の底部など、少なくとも電極対6465の間であって、電極対6465よりも低い位置に設けられたノズル吐出手段119と、ノズル119に空気等の気体を送るエアポンプ送出手段99とが設けられている。エアポンプ99によって貯水タンク61内の気体は、ノズル119を介して循環される。ただし、エアポンプ99によって貯水タンク61内に外部から気体を供給してもよい。超音波発生部94の構成は実施形態1に係る水浄化ユニット500と同様であり、貯水タンク61の底部に設置されていてもよいが、貯水タンク61内の水に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。少なくとも放電処理を行う期間中、ノズル119から水中へと泡が吐出される。水中に泡が存在する状態で電極対6465にパルス電圧を供給することにより、泡の内部で放電が生起され、水酸ラジカルが生成する。本実施形態の水浄化ユニット500では、実施形態1に係る水浄化ユニット500と基本的に同じ方法、すなわち図6a、bに示す方法で、放電と超音波照射とを組み合わせた水浄化が行われる。ただし、図6a、bに示す放電処理の期間中は、高電圧発生部70bから電極対6465へとパルス電圧が間欠的に供給され、電極対6465間に間欠的に放電が生起される。以上の構成及び方法によれば、電極対6465間にパルス放電を発生させる場合でも、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。《実施形態7》図16は、本発明の実施形態7における水浄化ユニット500を示す構成図である。同図では、実施形態1、実施形態5に係る水浄化ユニット500と同様の構成については図2及び図14と同じ符号を付している。また、放電波形発生部3、制御部15、増幅器9及びセンサ7は図16では図示を省略しているが、実際には本実施形態の水浄化ユニット500に設けられている。以下では、主に実施形態5に係る水浄化ユニット500と異なる点について説明する。本実施形態の水浄化ユニット500は、貯水タンク61と、貯水タンク61内に配置された電極対64b65yと、電極対64b65yに接続された高電圧発生部電源部70cと、貯水タンク61の底部に設置された超音波発生部94とを備えている。電極64bと電極65yとは、それぞれ貯水タンク61内の側面に、互いに対向するように設置されている。電極64bは、少なくとも1つの導電部164と、導電部164を囲む絶縁部165とを有している。電極65yは、少なくとも1つの導電部166と、導電部166を囲む絶縁部167とを有している以上のように、電極64bにおける導電部164の露出面、及び電極65yにおける導電部166の露出面の面積は小さいので、電圧を電極対64b65yに供給した場合には導電部164166の表面で電流密度の集中部が形成される。そのため、導電部164166の表面では水がジュール熱によって気化して気泡が形成される。この泡によって導電部164166の露出面が覆われた状態で高電圧発生部70cからの電圧供給を継続することにより、泡の内部で放電が生起される。なお、超音波発生部94の具体的な構成は実施形態1及び実施形態5に係る水浄化ユニット500と同様である。本実施形態の水浄化ユニット500を、図6a、bに示す方法で運転することにより、水中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、貯水タンク61内の水を効果的に浄化することができる。以上の構成によっても、電極対64b65y間での放電と、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。以上で説明した実施形態において、各部材の形状、配置、材質等、あるいは水浄化ユニット500の運転方法は本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。