基板上にブラックマトリクスと着色レジスト層が形成され、さらに着色レジスト層の上部にフォトスペーサが形成されてなるカラーフィルタにおいて、前記フォトスペーサの頂点と前記ブラックマトリクスの表面との間の距離が6μm以上であることを特徴とする、カラーフィルタ。前記着色レジスト層と前記フォトスペーサとの間にオーバーコート層が形成されていることを特徴とする、請求項1記載のカラーフィルタ。基板上にブラックマトリクスと着色レジスト層が形成され、さらに着色レジスト層の上部にフォトスペーサが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、前記基板上に前記ブラックマトリクス及び前記着色レジスト層を順次形成する工程と、前記着色レジスト層の上面に前記オーバーコート層及び前記フォトスペーサを順次形成する工程とを備え、前記フォトスペーサの頂点と前記ブラックマトリクスの表面との間の距離が6μm以上となるように前記着色レジスト層及び前記オーバーコート層の膜厚の少なくとも一方を設定したことを特徴とする、カラーフィルタの製造方法。しかしながら、従来の高抵抗率化されたブラックマトリクスには、次に掲げるような課題があった。まず、高抵抗率化を実現するためにはブラックマトリクス内のカーボン濃度を一定以上に上昇させることが難しいため、ブラックマトリクスの光学濃度OD値が低くなる傾向にあり、ブラックマトリクスとして必要とされるOD値を得るためにはブラックマトリクスの厚膜化が必要となる。しかし、ブラックマトリクスを厚膜化すると、カラーフィルタ自身の、ひいては液晶表示装置の細線幅の解像を得ることが難しくなる。また、特許文献1に示すように、高抵抗率化を実現するためにはブラックマトリクスを形成する素材に特殊処理が必要となり、コスト上昇の要因ともなりかねない。さらに、高抵抗率化を実現したブラックマトリクスといえども、カラーフィルタを形成する他のレジスト層、例えば着色レジスト層、オーバーコート層、MVAMultiDomainVerticalAlignment方式用配向制御突起、フォトスペーサと比較すれば依然として抵抗率は低く、帯電しやすい層であることは避けられなかった。本発明は上述した課題に鑑みてなされたもので、ブラックマトリクスの高抵抗率化を図ることなくコントラスト向上を図ることの可能なカラーフィルタ及びその製造法の提供を目的とする。本発明は、基板上にブラックマトリクスと着色レジスト層が形成され、さらに着色レジスト層の上部にフォトスペーサが形成されてなるカラーフィルタに適用され、そして、フォトスペーサの頂点とブラックマトリクスの表面との間の距離が6μm以上であることを特徴とする。ここで、着色レジスト層とフォトスペーサとの間にオーバーコート層が形成されていてもよい。また、本発明は、基板上にブラックマトリクスと着色レジスト層が形成され、さらに着色レジスト層の上部にフォトスペーサが形成されてなるカラーフィルタの製造法に適用され、そして、基板上にブラックマトリクス及び着色レジスト層を順次形成する工程と、着色レジスト層の上面にオーバーコート層及びフォトスペーサを順次形成する工程とを備え、フォトスペーサの頂点とブラックマトリクスの表面との間の距離が6μm以上となるように着色レジスト層及びオーバーコート層の膜厚の少なくとも一方を設定したことを特徴とする。本発明によれば、フォトスペーサの頂点とブラックマトリクスの表面との間の距離を6μm以上としたので、ブラックマトリクスへの帯電を有効に抑制することができ、これにより、ブラックマトリクスの高抵抗率化を図ることなくコントラスト向上を図ることが可能となる。以下、図面を参照して、本発明の一実施形態であるカラーフィルタ及びその製造方法について説明する。まず、従来のカラーフィルタの構造について、図3を参照して説明する。図3において、1はカラーフィルタが上面に形成されるガラス基板等の透明基板、2は透明基板1に形成された着色レジスト層である。本図に示す従来例及び本実施形態においては、カラーフィルタは赤色R、緑色G及び青色Bの3色の着色レジスト層により構成される。各色の着色レジスト層をそれぞれ2R、2G、2Bとして区別する。3はこれら着色レジスト層2R、2G、2Bを区画するために透明基板1上面に形成されたブラックマトリクスである。4は着色レジスト層2上面に形成されたオーバーコート層である。これら透明基板1、着色レジスト層2、ブラックマトリクス3及びオーバーコート層4によりカラーフィルタCが構成されている。カラーフィルタCのオーバーコート層4上方には電極基板であるTFT基板5が配置されている。より詳細には、オーバーコート層4の上面にはフォトスペーサ6が形成され、このフォトスペーサ6によりカラーフィルタCとTFT基板5との間に所定のセルギャップBが形成される。このTFT基板5とカラーフィルタCとの間の空隙が液晶層として利用される。TFT基板5が電界を形成するのであるから、ブラックマトリクス3への帯電を可能な限り防止するためには、TFT基板5とカラーフィルタCとの間の間隔、より詳細にはフォトスペーサ6の頂点とブラックマトリクス3の表面との間の距離Aを広げればよいことになる。距離Aを広げるには、単純にはフォトスペーサ6の高さを高くすれば良いが、フォトスペーサ6の高さはセルギャップBの間隔にほぼ等しく、このセルギャップBを変更すると液晶表示装置全体の表示性能に影響を与える。従って、セルギャップBは、液晶表示装置として適正な表示性能を与える数値に限定されざるを得ない。そこで、本発明者は、セルギャップBの間隔を変更することなく、カラーフィルタCを構成する着色レジスト層2及びオーバーコート層4の少なくとも一方の膜厚を厚くすることで、フォトスペーサ6の頂点とブラックマトリクス3の表面との間の距離Aを広げ、ブラックマトリクス3への帯電を抑制して液晶表示装置全体のコントラストの向上を図れるのではないかと考えた。図1は、本発明の一実施形態であるカラーフィルタCを示す概略図である。この図において、上述の図3と共通する構成要素については同一の符号を付し、その説明を簡略化する。本実施形態のカラーフィルタCは、図3に示す従来のカラーフィルタCに比較して、着色レジスト層2及びオーバーコート層4の膜厚が厚く形成され、その結果、フォトスペーサ6の頂点とブラックマトリクス3の表面との間の距離A′が従来の距離A図3参照と比較して大きく確保できている。一方、液晶表示装置の表示性能に影響する、フォトスペーサ6の高さ、言い換えればセルギャップBの間隔は従来と変動がない。適切なフォトスペーサ6の頂点とブラックマトリクス3の表面との間の距離A′の値を知るために、本発明がこの距離A′と液晶表示装置のコントラスト値との関係を実験したところ、図2に示すような結果となった。なお、図2では、適切なフォトスペーサ6の頂点とブラックマトリクス3の表面との間の距離A′のかわりに、ほぼ同等の値となるTFT基板5とブラックマトリクス3の表面との間の距離を測定した。図2の実験結果から、距離A′が6μm以上であれば、好ましいコントラスト値を得ることができることが判明した。従って、本実施形態においては、フォトスペーサ6の頂点とブラックマトリクス3の表面との間の距離A′は好ましくは6μm以上とされる。本実施形態のカラーフィルタCは、従来のカラーフィルタCの製造方法と同様の方法により製造可能である。すなわち、まず、透明基板1上にブラックマトリクス3を構成する着色レジストを塗布した後、フォトマスクを用いて所定のパターンに露光し、現像およびポストベークを行うことでブラックマトリクス3を形成する。次いで、透明な樹脂中に顔料、光開始剤、重合性モノマー等と共に適当な溶剤に分散させた着色レジストを透明基板1上に塗布製膜して特定の色の着色レジスト層2R、2G、2Bを形成し、この着色レジスト層2R、2G、2Bをパターン露光、現像することで特定色の着色レジスト層2R、2G、2Bを形成する。具体的には、まず、赤色の着色レジストを塗布、乾燥した後に、着色レジスト層2Rのパターンに対応した開口部を有するフォトマスクを用いてパターン露光し、定法の現像及びポストベーク処理を施すことで、着色レジスト層2Rを形成することができる。以下、同一の手順を繰り返すことにより、着色レジスト層2G、2Bを得ることができる。着色レジスト層2R、2G、2Bの形成に利用可能な有機顔料を以下に列記する。なお、遮光層に含有させる有機顔料は、各種有機顔料の混合物であるが、下記に記載の緑色顔料を抜いても良く、また、遮光層の比誘電率を大きくしない範囲例えば、比誘電率5以下でカーボンを加えても良い。加え得るカーボンは、比誘電率を下げるため、カーボン粒子に樹脂被覆や表面処理を施したものがより好ましい。赤色顔料としては、例えばC.I.PigmentRed7、9、14、41、48:1、48:2、48:3、48:4、81:1、81:2、81:3、97、122、123、146、149、168、177、178、179、180、184、185、187、192、200、202、208、210、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、246、254、255、264、272、279等を用いることができる。緑色顔料としては、例えば、C.I.PigmentGreen1、2、4、7、8、10、13、14、15、17、18、19、26、36、45、48、50、51、54、55、58等を挙げることができる。緑色着色層に含有させる顔料としては、この中でもC.I.PigmentGreen58が好ましい。青色顔料としては、例えばC.I.PigmentBlue15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、80等の青色顔料、好ましくはC.I.PigmentBlue15:6を用いることができる。また、赤緑青の3色に加えて、黄色の着色レジスト層を形成する場合は、黄色顔料として、C.I.PigmentYellow1、2、3、4、5、6、10、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、144、146、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等を利用できる。ここでは、着色レジスト層に利用できる顔料を例示列挙したが、顔料に変えて染料を使用しても良いことは言うまでもない。着色レジストは、着色成分顔料または染料に加えて、多官能モノマー、樹脂、重合開始剤、溶剤、添加剤等を含有する。樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、アルカリ可溶性樹脂、アクリル樹脂、感光性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ブチラール樹脂、スチレン-マレイン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、アルキッド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、セルロース類、ポリブタジエン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド樹脂等が挙げられる。また、熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フマル酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂として、メラミン樹脂とイソシアネート基を含有する化合物とを反応させたものを用いてもよい。アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基又は水酸基を含む樹脂であれば特に限定はない。例えばエポキシアクリレート系樹脂、ノボラック系樹脂、ポリビニルフェノール系樹脂、アクリル系樹脂、カルボキシル基含有エポキシ樹脂、カルボキシル基含有ウレタン樹脂等が挙げられる。中でもエポキシアクリレート系樹脂、ノボラック系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、特にエポキシアクリレート系樹脂やノボラック系樹脂が好ましい。アクリル系樹脂としては、単量体として、例えばメタアクリル酸;メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、t-ブチルメタアクリレートペンジルメタアクリレート、ラウリルメタアクリレート等のアルキルメタアクリレート;ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルメタアクリレート等の水酸基含有メタアクリレート;エトキシエチルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート等のエーテル基含有メタアクリレート;及びシクロヘキシルメタアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルメタアクリレート等の脂環式メタアクリレート等を使用した重合体が挙げられる。なお、ここで列挙した単量体は、単独で、または、2種以上を併用して使用することができる。さらに、これらの単量体と共重合可能なスチレン、シクロヘキシルマレイミド、及びフェニルマレイミド等の化合物の共重合体でもよい。また、感光性樹脂としては、例えばメタアクリル酸等のエチレン性不飽和基を有するカルボン酸を共重合し、得られた共重合体と、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基及び不飽和二重結合を含有する化合物とを反応させたり、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基含有メタアクリレートの重合体、または、エポキシ基含有メタアクリレートとその他のメタアクリレートとの共重合体に、メタアクリル酸等のカルボン酸含有化合物を付加させたりすることによって得ることができる。さらに、例えばヒドロキシエチルメタアクリレート等のモノマーを重合させた水酸基を有する重合体に、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基及びエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させることによっても、感光性を有する樹脂を得ることができる。本実施形態では、図1に示すように、着色レジスト層2の膜厚が従来のカラーフィルタCの着色レジスト層2よりも厚く形成されている。本実施形態の着色レジスト層2の膜厚は、フォトスペーサ6の頂点とブラックマトリクス3の表面との間の距離A′が6μm以上となるように設定されている。このため、着色レジスト層2全体の色度が、従来の着色レジスト層2の色度とほぼ同等となるように、着色レジスト層2を構成する顔料や染料といった着色成分の濃度が従来の濃度よりも下げられている。さらに、スピンコート法等により、着色レジスト層2の上面にオーバーコート層4を形成し、そして、このオーバーコート層4上に感光性レジストを塗布した後、フォトマスクを用いて所定のパターンに露光し、現像及びポストベークを行うことでフォトスペーサ6を形成する。本実施形態では、図1に示すように、オーバーコート層4についてもその膜厚が従来のカラーフィルタCのオーバーコート層4よりも厚く形成されている。本実施形態のオーバーコート層4の膜厚は、フォトスペーサ6の頂点とブラックマトリクス3の表面との間の距離A′が6μm以上となるように設定されている。以上の工程により、カラーフィルタCを製造することができる。この後、TFT基板5載置、液晶層形成等の工程を経て液晶表示装置を製造することができる。以上説明したように、本実施形態によれば、フォトスペーサ6の頂点とブラックマトリクス3の表面との間の距離A′が6μm以上となるように着色レジスト層2及びオーバーコート層4の膜厚を設定したので、ブラックマトリクス3への帯電を有効に抑制でき、これにより、ブラックマトリクス3に特段の高抵抗率化処理を図ることなく液晶表示装置全体のコントラスト向上を図ることが可能となる。また、ブラックマトリクス3に特段の高抵抗率化処理をする必要がなくなるため、ブラックマトリクス3を形成する材料の選択幅が広がり、厚膜化をすることもなく、所望のOD値を有するブラックマトリクス3を形成することができるとともに、液晶表示装置の細線幅の解像も可能となる。なお、本発明のカラーフィルタ及びその製造方法は、その細部が上述の一実施形態に限定されず、種々の変形例が可能である。一例として、上述の一実施形態では着色レジスト層2及びオーバーコート層4の膜厚をいずれも従来より厚膜化していたが、いずれか一方を厚膜化すれば本発明の目的は達成できる。いずれを厚膜化するか、また、双方を厚膜化するかは、任意に選択可能である。