エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動する基板に対し、スリット状開口部から塗布液を吐出して前記基板上に塗布層を形成する基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置であって、前記塗布装置は、少なくとも、スリット状の開口部を備える塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを略上下方向に移動させる塗布ヘッド移動機構と、前記エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動し、塗布ヘッドのスリット状の開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する洗浄機構と、を備えることを特徴とする基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置。前記洗浄機構は、ゴムパッドがスリット状の開口部に当接したまま開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置。前記洗浄機構は、洗浄用ノズルがスリット状の開口部に洗浄用溶剤を吹き付けた状態で開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置。前記洗浄機構は、洗浄用ノズルがスリット状の開口部に洗浄用溶剤と空気の二流体を吹き付けた状態で開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置。前記洗浄機構は、ノズルがスリット状の開口部にドライエアーを吹き付けた状態で開口部に沿って移動することでスリット状開口部を乾燥する乾燥機構を備えること特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置。ところで、空気浮上搬送方式されたガラス基板についてスリットコート方式を適用する場合にも塗布液を吐出した後のノズル先端の清浄化は必要である。空気浮上搬送ではインキ吐出中はノズルを固定してガラス基板を移動させるが、ノズル直下にはガラス基板を浮上させる浮上ユニットが多数備え付けられているため、ノズル先端の清浄化動作を行うには、図6に矢印で示すように塗布ヘッド6を別途設置されている清浄化ユニット9のある位置まで移動させる必要があった。この移動の工程がスリットコート工程のタクトタイム短縮を阻害する要因となっている。また、洗浄ユニット9周辺の装置機構を複雑にしておりにハンドリングとメンテナンス効率を低下させていた。そこで本発明は、空気浮上搬送方式に好適なスリットコート装置のノズル近傍の清浄化機構を備えたスリットコート塗布装置を提供することを課題とした。上記課題を達成するための請求項1に記載の発明は、エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動する基板に対し、スリット状開口部から塗布液を吐出して前記基板上に塗布層を形成する基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置であって、前記塗布装置は、少なくとも、スリット状の開口部を備える塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを略上下方向に移動させる塗布ヘッド移動機構と、前記エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動し、塗布ヘッドのスリット状の開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する洗浄機構と、を備えることを特徴とする基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置としたものである。請求項2に記載の発明は、前記洗浄機構は、ゴムパッドがスリット状の開口部に当接したまま開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置としたものである。請求項3に記載の発明は、前記洗浄機構は、洗浄用ノズルがスリット状の開口部に洗浄用溶剤を吹き付けた状態で開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置としたものである。請求項4に記載の発明は、前記洗浄機構は、洗浄用ノズルがスリット状の開口部に洗浄用溶剤と空気の二流体を吹き付けた状態で開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置としたものである。請求項5に記載の発明は、前記洗浄機構は、ノズルがスリット状の開口部にドライエアーを吹き付けた状態で開口部に沿って移動することでスリット状開口部を乾燥する乾燥機構を備えること特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置としたものである。従来のスリットコート塗布装置の塗布ヘッドノズルの洗浄は、塗布ヘッドを上下水平方向に移動させることが必要であるのに対して本発明は、塗布ヘッドの移動距離が略上下方向の至近距離だけと短いため、ノズルの洗浄に要する時間が短縮される。その結果、高速で基板搬送が可能となり塗布工程全体のタクトタイムが低減され生産性が向上する。塗布ヘッドの移動機構とノズル拭き取り機構の駆動機構の構成が単純化されハンドリングとメンテナンスが容易となる。その結果、多様な拭き取り機構の導入と乾燥機構の導入まで可能となり、塗布工程の生産性が向上する。以下、本装置の概略を図面を用いて説明する。図1は本装置の塗布が始まる前の被塗布基板1、エアー浮上ステージ2、塗布ヘッド6、ノズル洗浄ユニット8等の相対的な位置関係を説明する概略の斜視図である。被塗布基板1を駆動するチャック付スライダー、空気供給用ポンプ等は図示しておらず、また塗布ヘッド6とエアー浮上ステージ2の構成、塗布ヘッド6と洗浄ユニットの駆動用スライダーの詳細も省略されている。洗浄ユニット8の洗浄機構としては、図4に模式的に示すようにノズル7周辺を挟み込むようにゴム製のパッド14を押し付けて拭き取るタイプのものと、洗浄用溶剤をノズル7周囲に吹き付けるタイプのいずれか又は併用することが可能である。更に、洗浄後ドライエアーを吹き付けて乾燥させることができる。図4で示す上部にV字状の切れ込みがある洗浄ユニット8の図は、これら全てを抽象的に示す図であって、ゴム製パッド14があることも切れ込まれた斜面に溶剤噴出用、空気噴出用の孔図示せずが形成されたそれぞれの洗浄ユニットを代表して示している。エアー浮上ステージ2の構成は図からは読み取れないが、一例として図7のような構成を例示できる。これは、適当な大きさの浮上ユニット3を被搬送基板1の大きさに合わせてマトリックス状に敷設したものである。浮上ユニット3の表面には所定の間隔でエアー噴出用のピンホール5が形成されており、配管を通じて送られたエアーを上方に噴出する。エアー源としては、高圧ブロワや空調用ファンユニットを使用することができる。浮上ユニット3は上部端面が土手状に突出しており、被搬送基板1が直接浮上ユニット3に触れることを防止するとともにエアーの抜け道としてエアー圧力を調整するようになっている。浮上ユニット3の別の構成例としては、無数の微細な孔の開いた板状物質の下部に中空空間を設け、この中空空間にエアーを加えることによって均一な上向きの空エアー流を形成するものであってもよい。エアー流調整用として吸引孔を別に設けた態様としても構わない図示せず。浮上ユニットは、基板搬送のためだけでなく、後述するように、洗浄時には洗浄ユニットを浮上させるためにも使用するから洗浄装置の底面の大きさとマッチング可能な大きさとするのが好ましい。基板を加速、走行、停止させるためには、基板の端部を吸引するか把持しながら基板移動方向に移動するスライダー機構図示せずを使用する。いずれの方式の浮上ユニットであれ、浮上ユニットは被搬送体であるガラス基板により上部が覆われると、基板とユニットで閉じた空間を形成するようになっており、囲われた空間にエアーを閉じ込めることで浮上の圧力を形成する。この矩形状の浮上ユニットをマトリック状に配置することで、薄くて変形しやすいガラス基板に均一な圧力を加えて基板の平行性を保つことができる。図2は、塗布液を塗布ヘッドが吐出しているときの状態を説明する図である。被塗布基板1は浮上ステージ2から噴出されるエアーによって浮上しており、且つ基板の進行方向に平行な端部両側をチャック付スライダーで吸着保持された状態で移動する。スリットコータノズルから吐出される塗布液により基板上に厚みが均一の塗布膜が形成されるものである。基板が所定の距離だけ浮上搬送されて塗布が終了すると、基板はスライダーの吸着を外れ、スライダーは次の基板に対応できるように所定の位置に戻る。塗布液の吐出が終わるとノズル内に塗布液を引き込むと同時にノズル先端に付着した残留塗布液をできるだけ速く拭き取って塊りにならないようにする必要がある。本発明は、そこで図3に示すように洗浄ユニット8が浮上ステージ2と塗布ヘッド6の間に入れるように塗布ヘッド2は上方向に退避する。洗浄ユニット8は架台に支えられつつ退避位置から浮上ステージ2上に移動し、当該架台が浮上ユニット3から噴出するエアーで浮上するようになっている。洗浄ユニット8は、基板の浮上に使用される同じ浮上ユニット3で浮上させて使用する。洗浄ユニット8の底面積はガラス基板より狭いので使われる浮上ユニット3の数は少なくて済む。また、洗浄ユニットの重量に応じて、浮上エアーの流量を増加させて洗浄ユニットを浮上させても良い。洗浄ユニット8を残留した吐液を拭き取るためにノズル開口部に沿って移動させるのにはスライダー機構を利用する。エアー浮上を使わずスライダー機構だけで浮かして駆動することも可能である。塗布ヘッドのノズル部と当接しつつ塗布液を拭き取る洗浄部の一態様としては、図4に示すV字型の切れ込みにゴムパッド14を装着して架台に搭載したものを挙げられる。切れ込み部のゴムパッド14上面がノズル7の開口部と側面と接するようになっている。従来技術では、洗浄ユニット8は、図6に示すように塗布ヘッド6の直下を略上下に移動するのではなく、塗布ヘッド8の基板進行方向の前方か後方の浮上ユニット2の上方に備え付けられている別の洗浄装置9上で行われるので、塗布ヘッド6をその位置まで移動させる必要があった。本発明では移動距離が短く、略上下方向の移動だけで済むので移動距離も短く機械的な構成が簡略化されるという特長がある。また、ノズル周辺が洗浄されている間に次に塗布される基板1が搬送機構から所定の位置に受け渡される。この際には、浮上ユニットに敷設形成された基板受け渡し用のピン12がピンアップすることでなされる。洗浄ユニット8は洗浄処理が終われば元の退避位置に戻り、洗浄後の塗布ヘッド8が下方向に降りて基板1への塗布液吐出の準備が整うことになる。塗布が終了した基板1は、ロボットハンド等で次工程に引き渡される。上記記載の手順でスリットコートとノズルの洗浄が基板ごとに繰り返されるが、この拭き取り動作だけでは徐々に拭き取り跡がノズル周辺に蓄積して汚れていく。そのためには、上記工程とは異なる洗浄処理を定期的あるいはオプションとして導入する必要がある。この場合の洗浄は開口部周辺の拭き取りではなく、溶剤をヘッド周囲に吹きかけて拭き取った後の洗浄痕を溶解させて洗い流す洗浄である。これは単純な溶剤洗浄であってもよいし、溶剤とエアーを同時に吹き付ける二流体洗浄のような洗浄方法であってもよい。この際、溶剤が周囲に飛散しないように排気を取りながらノズル開口部に沿って洗浄ユニット8を移動させてもよいし、ドライエアーを噴出しながら移動させることもできる。これらの洗浄ユニットもまた、エアー浮上機構とスライダー動力を利用する。従来技術では、塗布ヘッド6が塗布位置と洗浄ユニット位置行き来するためには、上方向と横方向にそれぞれ約50cm程度往復移動する必要があり、その移動の為に10秒程度の時間が掛かってしまってた。一方、本発明では上下方向への20から30cm程度の移動だけで済む為、約3秒程度の移動時間で済み、約7秒もの処理時間の短縮が可能になった。