"光共振器の光軸と、レーザガスを光共振器内に供給する方向と、レーザガスを励起する放電の方向とが互いに直交した3軸直交型のガスレーザ装置であって、光共振器の光軸に対して第1ガス流方向に沿ってレーザガスを供給する第1ガス供給機構、および該光軸から第1ガス流方向の上流側に寄せて設置された第1放電電極対を含む第1励起ユニットと、光共振器の光軸に対して、第1ガス流方向とは反対の第2ガス流方向に沿ってレーザガスを供給する第2ガス供給機構、および該光軸から第2ガス流方向の上流側に寄せて設置された第2放電電極対を含む第2励起ユニットと、を備え、第1放電電極対および第2放電電極対のそれぞれの電極対の上下の対の電極がガス流方向において同じ幅を有し、M2値が1.8~3あるいは強度分布のピークがドーナツ状であるビームモードを発生させることを特徴とするガスレーザ装置。ドーナツ状のビームモードは、TEM01モードであることを特徴とする請求項1記載のガスレーザ装置。放電方向に沿って観察して、光共振器の光軸と第1放電電極対との間の距離が、光共振器の光軸と第2放電電極対との間の距離と等しく、第1放電電極対の電極幅と第2放電電極対の電極幅が互いに等しいことを特徴とする請求項1または2記載のガスレーザ装置。光共振器の光軸と第1放電電極対のガス流に対して下流端との間の距離、および該光軸と第2放電電極対のガス流に対して下流端との間の距離が、ドーナツ状のビームモードの中心からピークの位置の距離と一致していることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のガスレーザ装置。光共振器は、複数のミラーと、レーザ光の光路を規定する円形開口を有するアパーチャ部材とを含み、光共振器の光軸と放電電極対のガス流に対して下流端との間の距離をdとし、アパーチャ部材の円形開口の半径をRAとして、RA≦dの関係を満たすことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のガスレーザ装置。光共振器の光軸と放電電極対との間の距離をdとし、3軸直交型CO2レーザ装置において、5mm≦d≦15mmの関係を満たすことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のガスレーザ装置。光共振器の光軸と放電電極対との間の距離をdとし、アパーチャ部材の円形開口の半径をRAとして、RA=d×2√2の関係を満たすことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のガスレーザ装置。光共振器の光軸と放電電極対との間の距離をdとし、アパーチャ部材の円形開口の半径をRA、ビームモード品質を示すM2値をM2として、M2が1.8から3であり、RA=d×2M21/2の関係を満たすことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のガスレーザ装置。3軸直交型CO2レーザ装置において、1.8mm≦d≦5.3mmの関係を満たすことを特徴とする請求項7記載のガスレーザ装置。請求項1~9のいずれかに記載のガスレーザ装置から出力されるレーザ光を用いて、切断、マーキング、穴あけ、溶接、溶着または表面改質を行うことを特徴とするレーザ加工装置。特許文献2のように、複数の電極をガス流方向にシフト配置した場合でも、ガス圧、ガス流速、電極幅、重ね合わせ間隔、重ね合わせ数などの各種パラメータが変化すると、必ずしも利得分布が均一になるとは限らない。以下にその例を示す。図18と図19は、2組の電極をシフト配置した状態で、ガス流速が変化したときの利得分布の一例を示すグラフである。曲線71は、ガス上流側にある第1の電極によって励起されたレーザガスの利得分布を示す。曲線72は、ガス下流側にある第2の電極によって励起されたレーザガスの利得分布を示す。曲線73は、曲線71と曲線72を重ね合わせた全体の利得分布を示す。図18において、θ1は、曲線71のピークから上流側における利得変化の傾きであり、θ2は曲線71のピークから下流側における利得変化の傾きである。図18では、特許文献2のように2組の電極をシフト配置した状態で、中間領域においてほぼ均一な利得分布が得られている。一方、図19では、図18と比べてガス流速が大きく、利得曲線71,72がガス流方向に延長するようになり、その結果、中間領域での利得分布が傾斜し、均一な利得分布が得られないことが判る。図20は、図18と比べて、ガス流速が小さい場合の利得分布の一例を示すグラフである。この場合、利得曲線71,72はガス流方向に収縮するようになり、その結果、中間領域での利得分布が傾斜し、均一な利得分布が得られないことが判る。図21は、図18と比べて、電極幅が小さい場合の利得分布の一例を示すグラフである。この場合、利得曲線71,72は互いに離れるようになり、その結果、中間領域での利得分布が傾斜し、均一な利得分布が得られないことが判る。図22は、図18と比べて、レーザガスのガス圧が大きい場合の利得分布の一例を示すグラフである。この場合、利得曲線71,72の傾きが増加するようになり、その結果、中間領域での利得分布が傾斜し、均一な利得分布が得られないことが判る。図23は、図18と比べて、第1電極と第2電極の間隔が大きい場合の利得分布の一例を示すグラフである。この場合、利得曲線71,72は互いに離れてガス流方向に延長するようになり、その結果、中間領域での利得分布が傾斜し、均一な利得分布が得られないことが判る。なお、図18~図23では、簡単のため、2組の電極を使用した場合を説明したが、3組以上の電極をシフト配置した場合でも同様に、均一な利得分布が得られる条件はかなり限定的になる。電極間の中間領域で均一な利得分布が得られる条件は、第1電極の利得曲線71および第2電極の利得曲線72が各ピークの前後でほぼ対称になる場合であり、図18に示すように、ピーク上流側の傾きθ1とピーク下流側の傾きθ2がほぼ等しい場合に限られる。例えば、図19に示したようにガス流速が大きくなると、ピーク下流側の傾きθ2がピーク上流側の傾きθ1より小さくなる。レーザ発振器の効率向上のために、より大きなガス流速に変更する場合、ガス流速、ガス圧、電極幅、電極配置など他のパラメータも同時に変更しなければ、均一な利得分布を達成することは困難である。このように特許文献2の手法では、均一な利得分布を達成できる条件がかなり限定されており、ガス圧、ガス流速、電極幅、重ね合わせ間隔、重ね合わせ数などのパラメータのいずれか1つが変化すると、均一な利得分布が得られなくなる。そのためレーザ発振器の設計の自由度が小さくなり、実際に採用することはかなり難しい。また、設計の段階では均一な利得分布を達成できていても、装置稼働中にガス圧、ガス流速などが変動してしまうと、均一な利得分布が得られなくなる。その結果、出力されるレーザビームが非対称になり、このレーザビームを切断加工に使用した場合、被加工物の切断面に異方性が発生し、切断品質が悪くなる可能性がある。本発明の目的は、ガス流速、ガス圧、電極幅、電極配置などのパラメータが変化しても均一な利得分布を安定に実現できるガスレーザ装置およびこれを用いたレーザ加工装置を提供することである。上記目的を達成するために、本発明の一態様は、光共振器の光軸と、レーザガスを光共振器内に供給する方向と、レーザガスを励起する放電の方向とが互いに直交した3軸直交型のガスレーザ装置であって、光共振器の光軸に対して第1ガス流方向に沿ってレーザガスを供給する第1ガス供給機構、および該光軸から第1ガス流方向の上流側に寄せて設置された第1放電電極対を含む第1励起ユニットと、光共振器の光軸に対して、第1ガス流方向とは反対の第2ガス流方向に沿ってレーザガスを供給する第2ガス供給機構、および該光軸から第2ガス流方向の上流側に寄せて設置された第2放電電極対を含む第2励起ユニットと、を備え、第1放電電極対および第2放電電極対のそれぞれの電極対の上下の対の電極がガス流方向において同じ幅を有し、M2値が1.8~3あるいは強度分布のピークがドーナツ状であるビームモードを発生させる。本発明によれば、光共振器の光軸に対してレーザガス供給方向が互いに反対であって、ガス上流側に放電電極対を備えた第1励起ユニットおよび第2励起ユニットを設けることによって、ガス流速、ガス圧、電極幅、電極配置などのパラメータが変化しても均一な利得分布を安定に実現でき、出力されるレーザビームの対称性が向上する。実施の形態1.図1は、本発明の実施の形態1を示す正面図であり、図2は平面図、図3は側面図である。3軸直交型ガスレーザ装置は、部分反射ミラー2、折り返しミラー3,4、全反射ミラー5を含む光共振器と、光共振器の光軸に沿って設置された複数ここでは2個の励起ユニットU1,U2と、レーザガスを外気と遮断する筐体11などで構成される。ここで理解容易のため、光共振器の光軸方向をY方向、レーザガスを光共振器内に供給する方向と平行な方向をX方向、レーザガスを励起する放電の方向をZ方向とする。本実施形態では、YZ面内に3つの光軸10a,10b,10cを有するZ型共振器を使用した場合を例示するが、その他の構成、例えば、ファブリペロ共振器、複合共振器、リング型共振器、V型共振器、W型共振器、コ字型共振器なども同様に使用できる。部分反射ミラー2は、光共振器の内部で増幅されたレーザ光の一部を外部に取り出す出力ミラーとして機能する。全反射ミラー5は、光共振器の内部で増幅されたレーザ光を低損失で反射するリアミラーとして機能する。折り返しミラー3,4は、光共振器の光軸を折り畳むために設けられ、これにより装置全体の小型化が図られる。部分反射ミラー2および折り返しミラー4の近傍には、レーザ光の光路を規定する円形開口を有するアパーチャ部材6aが設けられる。折り返しミラー3および全反射ミラー5の近傍にも同様に、レーザ光の光路を規定する円形開口を有するアパーチャ部材6bが設けられる。励起ユニットU1は、放電電極対1aと、熱交換器7aと、送風機8aと、ガスダクト9aなどを備える。放電電極対1aは、高周波電源不図示から交番電圧が印加されると、電極間の放電空間14aにZ方向に沿った無声放電を形成する。送風機8aは、筐体11内に封入されたレーザガスをガスダクト9a内で方向12aに沿って循環させる。これにより放電空間14aに向けてレーザガスが-X方向に沿って供給される。放電空間14aを通過したレーザガスは、熱交換器7aで冷却され、再び送風機8aに戻る。励起ユニットU2は、励起ユニットU1と同様なコンポーネントを有し、放電電極対1bと、熱交換器7bと、送風機8bと、ガスダクト9bなどを備える。なお図1では、理解容易のため、図示を一部省略している。放電電極対1bは、高周波電源不図示から交番電圧が印加されると、電極間の放電空間14bにZ方向に沿った無声放電を形成する。送風機8bは、筐体11内に封入されたレーザガスをガスダクト9b内で方向12bに沿って循環させる。これにより放電空間14bに向けてレーザガスがX方向に沿って供給される。放電空間14bを通過したレーザガスは、熱交換器7bで冷却され、再び送風機8bに戻る。無声放電によってレーザガス中の分子または原子がレーザ上準位に励起されると、光の増幅作用を示すようになる。例えば、レーザガスとしてCO2分子を含む混合ガスを使用した場合、CO2分子の振動準位間の遷移により波長10.6μmのレーザ発振光が得られる。部分反射ミラー2から出力されるレーザビームは、一般に、TEMnmn,mは0または正の整数で表されるビームモードを有する。ビームモードは、光共振器の利得分布、アパーチャ部材6a,6bの開口形状などで制御可能である。図2では、光軸周りにドーナツ状に分布するTEM01モードの強度分布13を例示している。本実施形態において、図2と図3に示すように、励起ユニットU1における放電電極対1aは、光共振器の光軸からレーザガスの上流側寄りに、X方向にシフト配置している。一方、励起ユニットU2における放電電極対1bは、光共振器の光軸からレーザガスの上流側寄りに、-X方向にシフト配置している。このように光共振器の光軸に対してレーザガス供給方向が互いに反対であって、ガス上流側に放電電極対を有する2つの励起ユニットU1,U2を光軸に関して左右対称に配置することによって、各励起ユニットでの利得分布の形状は互いに鏡像の関係になり、両者を重ね合わせた全体の利得分布は対称になる。そのため、ガス流速、ガス圧、電極幅、電極配置などのパラメータが変動して、一方の利得分布形状が変化したとしても、他方の利得分布形状も対称に変化する。その結果、均一な利得分布を安定に実現でき、出力されるレーザビームの対称性を向上させることができる。例えば、レーザビームを用いて切断加工を行う場合、切断面の品質を向上させることができる。ここで、放電方向Z方向に沿って観察したとき、光軸10a,10b,10cを含むYZ面Pから放電電極対1aまでの距離をd1、YZ面Pから放電電極対1bまでの距離をd2とする。また、放電電極対1aの電極幅をw1、放電電極対1bの電極幅をw2、アパーチャ部材6a,6bの円形開口の半径をRAとする。図4は、励起ユニットU1,U2を光軸に関して対称配置した場合、レーザガスの利得分布の一例を示すグラフである。曲線16aは、励起ユニットU1の放電電極対1aによって励起されたレーザガスの利得分布を示す。曲線16bは、励起ユニットU2の放電電極対1bによって励起されたレーザガスの利得分布を示す。曲線18は、曲線16aと曲線16bを重ね合わせた全体の利得分布を示す。励起ユニットU1の電極幅w1は、YZ面Pからガス上流側に距離d1だけシフトしており、電極幅w1のガス下流端と曲線16aのピークが一致する。励起ユニットU2の電極幅w2は、YZ面Pからガス上流側に距離d2だけシフトしており、電極幅w2のガス下流端と曲線16bのピークが一致する。ここで、d1=d2=dおよびw1=w2=wに設定することが好ましく、これにより曲線16aと曲線16bはYZ面Pに関して鏡像の関係になり、両者を重ね合わせた曲線18は左右対称になり、光軸を含む中間領域においてほぼ均一な利得分布が得られることが判る。図5は、図4と比べて、各励起ユニットU1,U2でのガス流速が大きい場合の利得分布の一例を示すグラフである。この場合、個々の利得曲線16a,16bはガス流方向に延長するようになるが、両者を重ね合わせた曲線18は左右対称になり、光軸を含む中間領域においてほぼ均一な利得分布が得られることが判る。図6は、図4と比べて、各励起ユニットU1,U2でのガス流速が小さい場合の利得分布の一例を示すグラフである。この場合、個々の利得曲線16a,16bはガス流方向に収縮するようになるが、両者を重ね合わせた曲線18は左右対称になり、光軸を含む中間領域においてほぼ均一な利得分布が得られることが判る。図7は、図4と比べて、各励起ユニットU1,U2での電極幅wが小さい場合の利得分布の一例を示すグラフである。この場合、個々の利得曲線16a,16bの半値幅が小さくなるが、両者を重ね合わせた曲線18は左右対称になり、光軸を含む中間領域においてほぼ均一な利得分布が得られることが判る。図8は、図4と比べて、各励起ユニットU1,U2でのレーザガスのガス圧が大きい場合の利得分布の一例を示すグラフである。この場合、個々の利得曲線16a,16bの傾きが増加するようになるが、両者を重ね合わせた曲線18は左右対称になり、光軸を含む中間領域においてほぼ均一な利得分布が得られることが判る。レーザガス圧が大きくなると、利得分布の均一性が若干低下するが、従来の非対称配置での利得分布例えば、図22と比べると、利得分布の均一性は改善されており、発生するレーザビーム形状の対称性が向上する。図9は、図4と比べて、各励起ユニットU1,U2での距離dが大きい場合の利得分布の一例を示すグラフである。この場合、個々の利得曲線16a,16bが互いに離れるようになるが、両者を重ね合わせた曲線18は左右対称になり、光軸を含む中間領域においてほぼ均一な利得分布が得られることが判る。距離dが大きくなると、利得分布の均一性が若干低下するが、従来の非対称配置での利得分布例えば、図23と比べると、利得分布の均一性は改善されており、発生するレーザビーム形状の対称性が向上する。このように2つの励起ユニットU1,U2を光軸に関して左右対称に配置することによって、各励起ユニットの利得分布を重ね合わせた全体の利得分布が対称になるため、ガス流速、ガス圧、電極幅、電極配置などのパラメータが変動しても、均一な利得分布を安定に実現でき、出力されるレーザビームの対称性を向上させることができる。以上の説明では、2つの励起ユニットU1,U2を光軸に関して対称配置した場合を例示したが、2個以上の励起ユニットU1および2個以上の励起ユニットU2を光軸に沿って交互に配置しても同様な効果が得られる。次に、アパーチャ部材6a,6bの円形開口について説明する。レーザビームの対称性を確保するためには、レーザビームが通る範囲で均一な利得分布が得られていることが好ましい。そのため光共振器の光軸を含むYZ面Pから放電電極対1a,1bまでの距離d、およびアパーチャ部材6a,6bの円形開口の半径RAは、RA≦dの関係を満たすことが好ましい。例えば、3軸直交型CO2レーザ装置において、アパーチャ半径RAは、一般に5mm~15mm程度に設定されている。従って、距離dは、RA≦dの関係を保ちつつ、5mm≦d≦15mmに設定することが好ましい。なお、市販されているCO2レーザ用の部分反射ミラー2は、最大直径でφ2インチまでのものが一般的であるため、レーザビーム直径も一般に2インチ以下に設定される。実施の形態2.図10Aと図10Bは、本発明の実施の形態2に係る3軸直交型ガスレーザ装置の利得分布、ビームモード形状およびアパーチャの位置関係を示す説明図である。3軸直交型ガスレーザ装置は、図1~図3に示したものと同様な構成を有し、光共振器の光軸に対してレーザガス供給方向が互いに反対であって、ガス上流側に放電電極対を有する2つの励起ユニットU1,U2を光軸に関して左右対称に配置している。アパーチャ部材6a,6bが半径RAの円形開口を有する場合、レーザ装置から出力されるレーザビームの強度分布20は、例えば図10Bに示すようなTEM01モードなどの光軸周りにドーナツ状に分布するモードであることが好ましい。TEM01モードは、一般に下記式で表される。ここで、wは基本モードビーム半径、rは径方向距離、I0は定数である。TEM01モードでは、ビーム品質を示すM2値は2となる。図10Aでは、2組の励起ユニットU1,U2で得られる全体の利得分布の均一性が、ガス圧、ガス流速などのパラメータ変動に起因して若干低下している場合を例示している。ここで、各放電電極対1a,1bのガス下流端が、利得分布曲線16a,16bの各ピーク位置と一致するように距離d1,d2を設定している。所望のビームモード形状のレーザ光を効率的に発振させるためには、ビームモードの強度分布が強い部分と、レーザガスが大きな利得を示す部分とが一致することが好ましい。図10Bに示すTEM01モードでは、強度のピークはレーザビーム中心ではなく、光軸周りにドーナツ状に分布する。本実施形態では、2組の励起ユニットU1,U2で得られる全体の利得分布のピーク位置とTEM01モードのピーク位置とが一致するように、距離d1,d2を設定している。これによりTEM01モードを有するレーザビームが効率的に発振するようになる。こうした設定により、ガス圧、ガス流速などのパラメータ変動に起因して利得分布の均一性が低下した場合でも、利得分布のピーク位置とビームモードのピーク位置が一致しているため、ビームモード形状の選択性が良くなる。軟鋼やステンレス鋼のレーザ切断加工において薄い材料を高速に切断する場合はレーザのビーム品質を示すM2値は小さい方がよく、放電電極のガス下流端を光軸に一致させて利得分布の最も高くなる位置をビーム中心に設定することが通常であった。一方、軟鋼やステンレス鋼のレーザ切断加工において、例えば厚みが6mm以上の厚い材料を切断する場合、アシストガスを材料裏面まで十分に到達させるために、切断カーフ幅はある程度広くなければならない。この場合、レーザビームの集光性はある程度低い方が好ましく、ビーム品質を示すM2値が1.8~3程度のものを使用するのがよい。例えば、図24および図25はM2値が1.8程度、図26および図27はM2値が2、図28および図29はM2値が2.5付近、図30および図31はM2値が3程度のビームモードの鳥瞰図およびその断面図である。また、図32および図33はM2値が2.5~3付近のドーナツ状のピークを示す強度分布をもつビームの鳥瞰図およびその断面図である。本実施形態では、2組の放電電極対1a,1bで形成される利得分布曲線16a,16bの各ピーク位置とビームモードのピーク位置とが一致するように、距離d1,d2を設定することによって、板金加工に適したビームモード形状のレーザが発振しやすくなり、図14に示したような非対称モードのビーム発振を抑制でき、その結果、板金の切断性能を向上させることができる。ここで、3軸直交型レーザ発振器におけるアパーチャ半径RAは、ビームの損失が小さく、かつビームモード形状が規定できるように設定されている。このため、アパーチャ半径RAは、ビームの基本モード径の約2倍程度、すなわちRA≒2w程度に設定することが好ましい。また、図10Bに示したTEM01モードの強度分布20において、ピーク位置をRpとすると、Rp=w/√2になる。本実施形態では、ピーク位置Rpと、光軸から放電電極のガス下流端までの距離dとが等しく、即ち、Rp=d=d1=d2に設定しているため、RA=d×2√2の関係を満たすことが好ましい。例えば、3軸直交型CO2レーザ装置では、実施の形態1でも説明したように、アパーチャ半径RAは、一般に5mm~15mm程度に設定されている。従って、距離dは、1.8mm≦d≦5.3mmの関係を満たすことが好ましい。図11は、TEM01モードと他の対称モード例えば、TEM00が混合したモードの強度分布を示すグラフであり、M2値は1.8である。また、図24から図33はM2値が1.8~3のビームモードであるが、これらのモードでもTEM01モードの場合と同様、全体の利得分布のピーク位置とビームモードの最も外側のドーナツ状のピーク位置とが一致するように距離dを設定することにより、同様な効果が得られる。これらのモードのピーク位置は、ピーク位置をRpとすると、Rp=w/M2値1/2になる。本実施形態では、ピーク位置Rpと、光軸から放電電極のガス下流端までの距離dとが等しく、即ち、Rp=d=d1=d2に設定しているため、RA=d×2M2値1/2の関係を満たすことが好ましい。なお、各実施形態ではレーザガスとしてCO2を使用した場合を例示したが、その他のレーザガス、例えば、CO,N2,He-Cd,HF,Ar,ArF,KrF,XeCl,XeFなどを使用した場合も本発明は適用可能である。実施の形態3.本実施形態に係るレーザ加工装置は、実施の形態1または2に開示されたガスレーザ装置と、ガスレーザ装置から出力されるレーザ光を被加工物に向けて集光するための集光光学系と、被加工物を所望の方向に移動したり、所望の位置で停止させるための加工テーブルあるいは被加工物の所望の位置にレーザ光を集光させるための移動可能な該集光光学系などを備える。上述したように、対称性に優れたビームモード、例えば、TEM01モードのレーザ光を用いて、切断、マーキング、穴あけ、溶接、溶着または表面改質を行うことによって、高品質でレーザ加工を行うことができる。"