透明基材の裏面に蒸着光学多層膜を備えて着色された着色製品であって、前記蒸着光学多層膜が、誘電体材料で形成された反射率減衰膜と、該反射率減衰膜を挟んで内側および外側に、同種の又は異種の金属材料で形成された光吸収膜および隠蔽膜を備えている、ことを特徴とする着色製品。前記反射率減衰膜が、屈折率nD1.8以下の誘電体材料低屈折率誘電体材料という。で形成されていることを特徴とする請求項1記載の着色製品。更に、前記光吸収膜の内側に前記透明基材の裏面に接して、誘電体材料で形成された色調付与のための単層又は複層の色調付与薄膜を備えていることを特徴とする請求項1記載の着色製品。更に、前記隠蔽膜の外面側に保護膜を備えていることを特徴とする請求項1~3いずれか一記載の着色製品。前記反射率減衰膜及び前記保護膜がSiO2、SiO又はそれらの複合酸化物で形成され、また、前記光吸収膜および前記隠蔽膜がCr、In、Ni、Fe、Ti、SnおよびAlのいずれかで形成されていることを特徴とする請求項4記載の着色製品。前記光吸収膜および隠蔽膜がCrで形成され、前記光吸収膜が3~12nmで、前記隠蔽膜が40~90nmであることを特徴とする請求項5記載の着色製品。前記透明基材が光透過率80以上であることを特徴とする請求項1~6いずれか一記載の着色製品。前記透明基材が、ポリアクリルメタクリル樹脂、ポリカーボネート、PETからなる単層体、又は、それらの積層体であることを特徴とする請求項7記載の着色製品。前記透明基材を含む全層の合計反射率が20以下であることを特徴とする請求項1~8いずれか一記載の着色製品。請求項1~9いずれか一記載の着色製品の製造方法であって、前記蒸着光学多層膜の全ての層を、物理的蒸着法PVDにより形成することを特徴とする着色製品の製造方法。本発明は、上記にかんがみて、背面隠蔽性を有し、かつ、黒色乃至ダーク調の着色を透明基材基板の裏面に容易に形成することができる蒸着光学多層膜を備えた着色製品及びその製造方法を提供することを目的とする。本発明者は、上記課題問題点を解決するために、鋭意開発に努力をした結果、下記構成の着色製品に想到した図3参照。透明基材21の裏面に蒸着光学多層膜を備えて着色された着色製品であって、前記蒸着光学多層膜が、誘電体材料で形成された反射率減衰膜27と、該反射率減衰膜27を挟んで内側および外側に、同種の又は異種の金属材料でそれぞれ形成された光吸収膜25および隠蔽膜29を備えている、ことを特徴とする。上記構成により、透明基材に蒸着光学多層膜でダーク調特に黒色の着色が容易に形成可能となることを知見した。その理由は、下記の如くであると推定される図3参照。透明基材21の裏面に金属材料で形成された光透過可能な光吸収膜25で可視光が吸収されて反射率減衰膜27を通過するため、色調がダーク黒色調となる。更に、反射率減衰膜27を通過した可視光は、隠蔽膜29で若干反射されるが、該反射光は反射率減衰膜27で減衰されて該反射率減衰膜の前面にある光吸収膜25で吸収される。このため、色調がメタリック調シルバー色とならず、可視光波長全域に亘って吸収され黒色調となる。従って、背景隠蔽性を有するとともに落ち着いたダーク調ないし黒色の着色が透明基材21の裏面に形成可能となる。こうして、ダーク調着色を透明基材に対して蒸着光学多層膜により形成することが可能となり、本発明の着色製品は、PDAの透視窓等に適用して、意匠性を向上させることができる。そして、こうして着色した着色製品であるカバー体の裏面に液晶等を直貼りしても、液晶面とカバー体の裏面との間に隙間が殆ど形成されず、従来におけるような問題点が発生しない。なお、上記反射率減衰膜27は、高屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層との2種類以上からなる複層としてもよいが、屈折率1.8以下望ましくは1.5以下の低屈折率誘電体層の単層とすることが望ましい。低屈折率の方が、相対的に光吸収性が増大する。また、単層の方が蒸着光学多層膜隠蔽着色層の薄肉化により寄与する。上記構成の着色製品において、前記光吸収膜の内側に前記透明基材の裏面に接して、誘電体材料で形成された色調付与のための単層又は複層の色調付与膜23を備えている構成とすることが望ましい。金属材料に比して誘電体材料の方が透明基材特に透明プラスチックに対する密着性が良好であるためである。前記色調付与膜23が、高屈折率膜23aと低屈折率膜23bとの2種類からなるものとすることが望ましい。色調付与の自由度が増大するためである。上記構成の着色製品において、隠蔽膜29の外側面に接して保護膜31を形成することが望ましい。金属材料で形成されている光吸収膜の酸化防止および耐擦傷性付与のためである。保護膜31は、シリコーン樹脂系のものとしてもよいが、隠蔽着色層形成工程の作業能率向上の見地から、干渉多層膜の組薄膜を形成するのと同一装置で成膜可能な酸化ケイ素又はSiO2、SiO又はそれらの複合酸化物の蒸着膜で形成することが望ましい。更に、前記光吸収膜および前記隠蔽膜は、Cr、In、Ni、Fe、Ti、SnおよびAlのいずれかの金属材料で形成することが望ましい。これらの金属材料のうち、特にCrが望ましい。成膜性に優れているとともに耐久性にも優れているためである。Crで光吸収膜および前記隠蔽膜を形成する場合、各膜厚は、例えば、光吸収膜:3~12nm望ましくは5~10nm、隠蔽膜:50~80nm望ましくは60~70nmとする。上記各構成の着色製品において、前記透明基材は光透過率80以上さらには90以上であることが望ましい。非着色部の視認性の見地からである。また、透明基材は、ポリアクリルメタクリル樹脂、ポリカーボネート、PET、又はそれらの積層体で形成することが望ましい。そして、着色製品の前記透明基材を含む全層の合計反射率は、20以下望ましくは15以下となるように蒸着光学多層膜を設計することが望ましい。ダーク調の着色がより容易となる。そして、上記各着色製品における蒸着光学多層膜は、物理的蒸着法で形成する。PVDとしては、真空蒸着抵抗加熱乃至電子ビーム加熱、スパッタリング、イオンプレーティングのいずれでもよく、透明基材および蒸着膜の材質により適宜選定する。本実施形態の蒸着光学多層膜の膜構成は、図3に示す如く、透明基材基板21の裏面に、色調付与膜23、光吸収膜25、反射率減衰膜27、隠蔽膜29および保護膜31を、順次接して形成したものである。以下、各膜要素について、説明する。1透明基材21:透明基材は、1有機透明基材でも、2無機透明基材でもよい。通常、軽量化、成形性、加工性等の見地から下記有機透明基材を使用する。透明基材は、光透過率可視平均が80以上、望ましくは85以上、さらに望ましくは90以上のものを使用する。なお、有機透明基材の材料名の後の数値は、光透過率および屈折率25°Cである。また、透明基材の形態は、板材や成形品に限らず、可撓性を有するフィルムやシートであってもよい。透明基材の肉厚は、50μm~10mm例えば、PDAのカバー体の場合、05~1mmとする。<有機透明基材>ポリメチルメタクリレートPMMA:92、149、スチレンアクリロニトリルSAN:90、157、ポリカーボネートPC:89、158、ポリスチレンPS:88、159ポリエチレンテレフタレートPET:90、1522色調付与膜23:色調付与膜23は、2種類以上の誘電体材料で形成された組薄膜を一組又は二組以上、積層させて色調色相付与するものである。通常、高屈折率膜23aと低屈折率膜23bの組薄膜とする。図例の如く、高屈折率膜23aを透明基材21に接するように形成するが、低屈折率膜23bを透明基材21に接するように形成してもよい。上記組薄膜の繰り返し数は、1又は2とする。本発明の場合、隠蔽着色層を可及的に薄肉化することが望ましいためである。また、各膜厚は、干渉多層膜に要求される色調により異なり、50~150nmの範囲から適宜設定する。通常、光学膜厚:λ/4になるように設定する。適宜、λ/2、λ/8とすることもできる。例えば、高屈折率膜/低屈折率膜=ZrO2n:20/SiO2n:15、の組み合わせとする場合において、色調をλ中心波長=460nmのブルー系とするとき、λ/4=125nmとなる。すると、ZrO2の膜厚:74nm/2=37nm、SiO2の膜厚:15nm/15=10nmとなる。上記高低屈折率膜を形成する誘電体材料としては、下記のものを好適に使用可能である。表1に各誘電体材料の成膜真空度、加熱温度及び屈折率を示す。1高屈折率の誘電体材料ジルコニアZrO2、アルミナAl2O3、チタニアTiO2、五酸化二タンタルTa2O5、三酸化二クロムCr2O3又はITOIndiumTinoxide2低屈折率の誘電体材料二酸化ケイ素SiO2、一酸化ケイ素SiO又はそれらの複合酸化物。なお、高屈折率膜誘電体材料の内で、高屈折率のもの例えばZrO2と低屈折率のものAl2O3とを組合わせて組薄膜とすることも可能である。3光吸収膜25:光吸収膜25は、光吸収性を有する金属材料により形成され、可視光の略全波長域において光吸収作用を発揮し、色調を黒色化ダーク調化に寄与するとともに、隠蔽膜からの反射光を吸収して色調がメタリック調シルバー色になるのを阻止するものである。光吸収性を有する金属材料としては、表2に示すものを好適に使用できる。表2に、各金属材料の成膜真空度、加熱温度および屈折率を示す。また、表3-1~表35に、各金属材料のCrの各波長における屈折率および吸収係数を示す。そして、この光吸収膜25の厚さは、金属材料および光吸収膜に要求される光吸収度により異なる。例えば、光吸収膜をCrで形成する場合、3~12nm望ましくは5~8nmとする。光吸収膜の膜厚が薄過ぎると、隠蔽膜からの金属反射光を充分に吸収し難く、シルバー色となってダーク調色特に黒色の着色を得難くなる。他方、当該膜厚が厚すぎると、光吸収膜自体の反射光が顕現してやはりメタリック調シルバー色となり易い。なお、光吸収係数が大きい金属、例えば、Sn等を用いれば、光吸収膜の膜厚は、相対的に薄いもので済む。4反射率減衰膜27:上記と同様、誘電体材料で形成するが、該誘電体材料は、低屈折率誘電体薄膜とすることが望ましい。即ち、前述の低屈折率誘電体材料、例えば、SiO2、SiO又はそれらの複合酸化物を使用することが望ましい。高屈折率材料に比して反射率が小さいためである。この反射率減衰膜27の膜厚は、使用誘電体材料により異なる。例えば、上記シリカ系SiO2、SiO又はそれらの複合酸化物の低屈折率1.8以下、望ましくは1.5以下の誘電体材料を使用する場合は、40~130nmとする。反射率減衰膜の膜厚が厚すぎると、割れが発生し易く、薄すぎると、隠蔽膜29の反射光の減衰率が低下して、シルバー色になり易い。即ち、ダーク調、特に黒色を得難くなる。5隠蔽膜29:該隠蔽膜も、前記吸収薄膜と同種又は異種の金属で形成する。蒸着膜の成膜能率の見地からは、同種金属を使用することが望ましい。隠蔽膜29は、背景色を隠蔽する必要があるため、所定厚み以上が必要である。例えば、40~90nm、望ましくは50~70nmとする。しかし、隠蔽膜の厚みが増大すると、金属反射率が大きくなり、やはり、シルバー色となって、ダーク調の着色が困難となる。4保護膜31:隠蔽膜を形成する金属が、硬度が高くて耐擦傷性が十分であり、酸化され難い場合例えば、TiやAlは必然的ではない。しかし、耐擦傷性が不十分であったり、耐酸化性が不十分であったりする場合は、必然的である。保護膜31の膜厚は、保護作用を奏する範囲で可及的に薄い方が望ましい。金属種により異なるが、SiO2膜の場合、5~150nmの範囲から適宜設定する。なお、保護膜31は、基材保護の見地から非着色部にも形成することもできる。上記蒸着光学多層膜は、通常、物理的蒸着法PVDの一つであり、低温成膜可能な真空蒸着抵抗加熱で形成する。透明基材が耐熱性を有する場合、スパッタリング、イオンプレーティング等のPVDでもよい。真空蒸着の場合、例えば、成膜開始真空度:09mPa、電子ビーム蒸発、成膜時基材温度:60±30°Cで行なう。以上、PDAの透視窓用の成形品カバー体を例に採り説明したが、本発明の着色製品は、PDAと同様、EL点灯ディスプレー画面を有する各種電子製品や、さらには、店舗のショウウィンド等への適用も期待できる。以下、本発明を実施例に基づいて、さらに具体的に説明する。PDAの透視窓用のPMMA成形品22mm×46mm×1mmt有機透明基材の裏面に、表4に示す膜厚設計で、色調付与膜2層、光吸収膜単層、反射率減衰膜単層、隠蔽膜単層および保護膜を、前記表12の条件で真空蒸着により順次形成した図3参照。こうして製造した成形品着色製品は、表示するような各色調のダーク調着色が得られることが確認できた。なお、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲の記載の範囲内で各種態様に及ぶもので、上記実施形態又は実施例に限定されるものではない。