"露光装置に用いられ、水平な搬送方向に搬送される基板に対向して露光マスクを保持する露光マスク保持装置であって、前記基板の搬送路に対して位置固定され、ガイド部が設けられたフレームと、前記フレームに支持され、前記ガイド部により案内されて前記フレームに対する鉛直方向の位置が調整されるZ軸移動部と、前記Z軸移動部の鉛直下方に位置し前記Z軸移動部に支持されると共に下端部に前記露光マスクを保持し、前記Z軸移動部に対する前記露光マスクの位置を多方向に調整する多方向調整部と、を備え、前記多方向調整部は、鉛直方向に配列された複数の位置調整部位を有しており、各位置調整部位は、各々の直ぐ上方の部位に支持され当該直ぐ上方の部位に対して鉛直以外の所定の方向の位置が調整されることを特徴とする露光マスク保持装置。前記多方向調整部は、前記位置調整部位として、前記Z軸移動部の鉛直下方に位置すると共に前記Z軸移動部に支持され、前記Z軸移動部に対して鉛直軸周りの回転位置が調整されるθ軸移動部と、前記θ軸移動部の鉛直下方に位置すると共に前記θ軸移動部に支持され、前記θ軸移動部に対して水平面に対する傾きが調整されるチルト軸移動部と、前記チルト軸移動部の鉛直下方に位置すると共に前記チルト軸移動部に支持され、前記チルト軸移動部に対し前記搬送方向に直交する水平な方向での位置が調整されると共に、下面で前記露光マスクを保持する水平方向移動部と、を備えたことを特徴とする請求項1に記載の露光マスク保持装置。水平方向に搬送される基板に露光マスクを通して照射光を照射する露光装置であって、請求項1又は2に記載の露光マスク保持装置と、前記基板の搬送路の上方に位置し、前記基板の斜め上後方から前記露光マスクを通して前記照射光を前記基板に照射する第1照射部と、前記基板の搬送路の上方に位置し、前記基板の斜め上前方から前記露光マスクを通して前記照射光を前記基板に照射する第2照射部と、を備え、前記露光マスク保持装置は、前記第1照射部と前記第2照射部との間に設けられていることを特徴とする露光装置。この配向膜形成装置では、第1光及び第2光の照射位置にマスクを保持するためのマスク保持装置を設けることが必要である。しかしながら、上記特許文献1の装置では、マスクの設置位置の前後に第1光の照射部と第2光の照射部とが構築されているので、マスク保持装置を設けるための水平方向のスペースの余裕が小さい。その一方、スペースの都合により側方から露光マスクを支持する構造のマスク保持装置を安易に設ければ、重力によるマスク保持装置自体の撓み等によりマスク位置が変位し、位置合わせ精度を低下させる原因となる。このような問題に対して、特許文献1の配向形成装置においては、露光マスク保持装置の具体的な構成は示されておらず、何らの解決手段も示されていない。そこで、本発明は、水平方向のサイズがコンパクトで、かつ、高精度な位置合わせを可能とする露光マスク保持装置及びこれを用いる露光装置を提供することを目的とする。本発明の露光マスク保持装置は、露光装置に用いられ、水平な搬送方向に搬送される基板に対向して露光マスクを保持する露光マスク保持装置であって、基板の搬送路に対して位置固定され、ガイド部が設けられたフレームと、フレームに支持され、ガイド部により案内されてフレームに対する鉛直方向の位置が調整されるZ軸移動部と、Z軸移動部の鉛直下方に位置しZ軸移動部に支持されると共に下端部に露光マスクを保持し、Z軸移動部に対する露光マスクの位置を多方向に調整する多方向調整部と、を備え、多方向調整部は、鉛直方向に配列された複数の位置調整部位を有しており、各位置調整部位は、各々の直ぐ上方の部位に支持され当該直ぐ上方の部位に対して鉛直以外の所定の方向の位置が調整されることを特徴とする。この露光マスク保持装置では、Z軸移動部の鉛直下方に多方向調整部が支持されており、多方向調整部では、複数の位置調整部位が鉛直方向に配列されている。このように、本発明の露光マスク保持装置は、各構成部位を鉛直軸に沿って配列した構造をなすので、水平方向のサイズをコンパクトにすることができる。また、本発明の露光マスク保持装置は、各構成部位が鉛直方向に順に吊り下げられた構造をなし、下端部に露光マスクが保持される。この構造により、本発明の露光マスク保持装置は、重力に起因する装置全体の撓みを小さく抑えることができ、撓みに起因する露光マスクの変位が小さく、その結果、高精度な露光マスクの位置合わせが可能になる。また、具体的には、多方向調整部は、位置調整部位として、Z軸移動部の鉛直下方に位置すると共にZ軸移動部に支持され、Z軸移動部に対して鉛直軸周りの回転位置が調整されるθ軸移動部と、θ軸移動部の鉛直下方に位置すると共にθ軸移動部に支持され、θ軸移動部に対して水平面に対する傾きが調整されるチルト軸移動部と、チルト軸移動部の鉛直下方に位置すると共にチルト軸移動部に支持され、チルト軸移動部に対し搬送方向に直交する水平な方向での位置が調整されると共に、下面で露光マスクを保持する水平方向移動部と、を備えてもよい。この構成によれば、露光マスクの、鉛直位置、鉛直軸周りの回転位置、水平面に対する傾き、及び搬送方向に直交する水平な方向での位置を調整することが可能になる。本発明の露光装置は、水平方向に搬送される基板に露光マスクを通して照射光を照射する露光装置であって、前述の何れかの露光マスク保持装置と、基板の搬送路の上方に位置し、基板の斜め上後方から露光マスクを通して照射光を基板に照射する第1照射部と、基板の搬送路の上方に位置し、基板の斜め上前方から露光マスクを通して照射光を基板に照射する第2照射部と、を備え、露光マスク保持装置は、第1照射部と第2照射部との間に設けられていることを特徴とする。この露光装置は、第1及び第2の照射部を備えることで、基板の斜め上前方及び斜め上後方からの照射が同時に可能となる。このような構成の露光装置においては、露光マスクの保持位置合わせを行う装置を、第1及び第2の照射部の間の比較的小さいスペースに設置する必要性が高い。そこで、コンパクトな前述の露光マスク保持装置を採用することにより、第1及び第2の照射部の間に露光マスク保持装置を設置すると共に、露光マスクの高精度な位置合わせが可能になる。本発明の露光マスク保持装置によれば、水平方向のサイズがコンパクトで、かつ、高精度な位置合わせを可能とする露光マスク保持装置及びこれを用いる露光装置を提供することができる。以下、図面を参照しつつ本発明に係る露光マスク保持装置及び露光装置の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図に示すように、Z軸を鉛直軸としXY平面を水平面とするXYZ座標系を設定し、X、Y、Zを便宜的に説明に用いる場合がある。図1に示す露光装置1は、液晶ディスプレイ用のカラーフィルター基板WをX方向に搬送し、基板Wが露光処理位置Pに達したときに、露光マスクMを通して紫外線U照射光を基板Wに照射することで、基板W上に配向部を形成するものである。なお、基板Wの搬送路はRの符号を付して図に示している。以下、説明中で前、後の概念を含む語を用いる場合は、基板Wの搬送方向における前後に対応させるものとし、搬送方向の下流側を前、上流側を後とする。露光装置1は、基板Wを浮上させ搬送路R上でX方向に搬送する浮上ユニット3を備えている。浮上ユニット3としては、例えば、基板を載置するトレーやトレーを浮上させる吸排気エアパッド等からなる公知のものを用いればよい。浮上ユニット3は、所定の装置ベース上に設置されたフレーム上に固定される。露光装置1は、搬送路Rの上方で露光処理位置Pよりも後方に設けられた第1照射部7と、搬送路Rの上方で露光処理位置Pよりも前方に設けられた第2照射部9と、を備えている。第1照射部7は、基板Wの斜め上後方から露光マスクMを通して、紫外線を基板W上に照射する。第2照射部9は、基板Wの斜め上前方から露光マスクMを通して紫外線を基板W上に照射する。このような2つの照射部7,9を備えることにより、露光処理位置Pの基板W上に、露光マスクMのパターンに対応して、配向が異なる2種類の配向部を同時に形成させることができる。基板W上に配向が異なる2種類の配向部を形成することにより、いわゆるマルチドメイン型のカラーフィルター基板を製作することができる。更に、露光装置1は、露光マスクMを保持し当該露光マスクMを微小量で駆動することが可能なマスク保持装置21を備えている。マスク保持装置21は、第1照射部7と第2照射部9との間に設けられている。マスク保持装置21は、露光処理位置Pに存在する基板Wの直上の位置で、基板Wに対向して露光マスクMを保持すると共に、露光マスクMの位置合わせを行う。露光マスクMと基板Wとの相対的な位置合わせには、露光処理位置Pの下方に設けられ、露光マスクMや基板Wの位置合わせ用マークを読み取るカメラ等図示省略が利用される。マスク保持装置21は、フレーム23と、Z軸移動部25と、多方向調整部50とを備えている。また、詳細は後述するが、多方向調整部50は、θ軸移動部27と、チルト軸移動部29と、水平方向移動部31と、を備えている。前述の浮上ユニット3はフレーム23に設置されており、フレーム23は、浮上ユニット3及び搬送路Rに対して位置固定されている。搬送路Rの上方において、フレーム23には、Z軸移動部25を上下に移動させるZ軸駆動部24が設けられている。Z軸移動部25は、Z軸駆動部24によって上下に案内されながら駆動され、フレーム23に対し鉛直方向に上下移動するように、フレーム23に支持されている。例えば、Z軸駆動部24は、Z軸移動部25の上下動を案内するリニアガイド機構ガイド部24aと、鉛直方向に延びるボールネジ24bと、ボールネジ24bを回転させるACサーボ24cと、を有している。Z軸移動部25の側部に設けられた移動子25aがボールネジ24bに係合している。ACサーボ24cの駆動でボールネジ24bが回転すると、Z軸移動部25がリニアガイド機構24aで案内されて上下移動し、Z軸移動部25の上下位置が調整される。多方向調整部50は、Z軸移動部25の鉛直下方に位置しZ軸移動部25に支持されると共に下端部に露光マスクMを保持する。多方向調整部50は、Z軸移動部25に対する露光マスクMの位置を多方向に調整する機能を有している。当該機能を実現するため、多方向調整部50は、鉛直方向に配列された位置調整部位として、θ軸移動部27と、チルト軸移動部29と、水平方向移動部31と、を備えている。θ軸移動部27は、Z軸移動部25の鉛直下方に位置すると共に当該Z軸移動部25の下面25tに連結されている。θ軸移動部27は、Z軸移動部25に対しZ軸鉛直軸周りに回転可能であるように、軸移動部25に支持されている。そして、例えば、θ軸移動部27の回転中心から離れた位置に、θ軸移動部27を周方向に微動させるボイスコイルモータとリニアスケールとを設けることで、Z軸移動部25に対するθ軸移動部27の回転位置を調整することができる。チルト軸移動部29は、θ軸移動部27の鉛直下方に位置すると共に当該θ軸移動部27の下面27tに連結されている。チルト軸移動部29は、θ軸移動部27に対して水平面に対する2軸周りの傾きX軸周りの傾き及びY軸周りの傾きが調整可能であるように、θ軸移動部27に支持されている。チルト軸移動部29の傾きを調整可能にする機構の一例として、次のような機構を用いればよい。例えば、チルト軸移動部29の上面29sに、θ軸移動部27の下面27tの3つの各支持点に連結された3つのアクチュエータを配置する。各アクチュエータは、θ軸移動部27の下面27tに直交する方向に伸縮し、各支持点を移動させることができる。3つの上記支持点を三角形の配置とし、3つの各アクチュエータを独立して駆動することで、チルト軸移動部29の2軸周りの傾きが調整可能である。なお、このような機構は、特開2004-47852号公報等にも開示されているとおり公知のものであるので、更に詳細な説明は省略する。水平方向移動部31は、チルト軸移動部29の鉛直下方に位置すると共に当該チルト軸移動部29の下面29tに連結されている。水平方向移動部31は、チルト軸移動部29に対しY軸方向に平行移動可能であるように、チルト軸移動部29に支持されており、チルト軸移動部29に対するY軸方向の位置が調整可能である。チルト軸移動部29に対して水平方向移動部31を水平移動させる機構としては、例えば、リニアガイド機構と、ボールネジと、ボールネジを回転させるACサーボと、を組み合わせた公知の機構を採用すればよい。水平方向移動部31の下面31tには、露光マスクMを吸着保持する吸着部が設けられており、露光マスクMは、水平方向移動部31の下面31tに保持される。すなわち、水平方向移動部31は、露光マスクMを保持するマスク保持部としての機能を持っている。以上のマスク保持装置21の構成によれば、上述の各移動部25~31の協働によって、露光マスクMのY位置、Z位置、Z軸周りの回転位置、X軸周りの傾き、及びY軸周りの傾きを調整することができ、露光マスクMと基板Wとの位置合わせが可能になる。以上説明したとおり、マスク保持装置21では、Z軸移動部25と、θ軸移動部27と、チルト軸移動部29と、水平方向移動部31と、が鉛直方向に配列されている。そして、上記の各移動部25~31は、それぞれ上の移動部に支持される構造をなしており、最も下に位置する水平方向移動部31の下面に露光マスクMが保持される。このように、マスク保持装置21は、各移動部25~31を鉛直軸に沿って配列した構造をなすので、水平方向のサイズをコンパクトにすることができる。また、マスク保持装置21は、各移動部25~31がフレーム23から鉛直方向に順に吊り下げられた構造をなし、下端に露光マスクMが保持される。この構造により、マスク保持装置21は、重力に起因する装置全体の撓みを小さく抑えることができる。すなわち、マスク保持装置21は、全体として、フレーム23とZ軸移動部25との連結部から下方に延在する構造であるので、重力によって発生する延在方向の曲げ変形が小さい。従って、装置全体の撓みに起因する露光マスクMの変位が小さく、その結果、高精度な露光マスクMの位置合わせが可能になる。また、上記のようなマスク保持装置21の構造は、例えば位置合わせ用のカメラを高精度に位置合わせする機構にも転用が可能である。マスク保持装置21が備えるZ軸移動部25と、θ軸移動部27と、チルト軸移動部29と、水平方向移動部31と、の各移動部は、互いに位置関係を入れ替えても、上記と同様の露光マスクMの位置合わせは可能である。例えば、θ軸移動部27がフレーム23に支持され、フレーム23に対するθ軸移動部27の回転位置が調整され、θ軸移動部27に対してZ軸移動部25が上下移動してもよい。マスク保持装置21においては、各移動部25~31の中でも、Z軸移動部25をフレーム23に連結する構成としている。この構成によれば、露光マスクMのZ方向の移動範囲を大きく取ることができる。従って、例えば、水平方向移動部31を搬送路Rから大きく持ち上げて、水平方向移動部31下面のマスク吸着部のメンテナンスや、各軸各移動部25~31の構成部品等のメンテナンスを容易に行うことができる。また、この露光装置1は、第1照射部7及び第2照射部9を備えることで、露光処理位置Pの基板W上に、露光マスクMのパターンに対応して、配向が異なる2種類の配向部を同時に形成させることができる。そして、基板W上に配向が異なる2種類の配向部を効率良く形成することにより、マルチドメイン型のカラーフィルター基板の製作を効率化することができる。その一方、このような構成の露光装置1においては、マスクの保持装置を、第1及び第2照射部7,9の間の比較的小さいスペースに設置する必要性が高い。そこで、前述の通りコンパクト化が図られたマスク保持装置21を採用することにより、第1及び第2照射部7,9の間にマスク保持装置21を設置すると共に、露光マスクMの高精度な位置合わせが可能になる。本発明は、前述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上記例示した各移動部25~31を移動させる機構はあくまで一例であり、例示のものとは異なるタイプの機構を用いてもよい。また、実施形態では本発明を、カラーフィルター基板Wの露光装置に適用した例を示しているが、本発明は、その他の種々の露光装置にも適用することができる。"