基材と、該基材上に配置された下層と、該下層上に配置された上層と、を備える排ガス浄化用触媒であって、前記上層は、担体と、該担体に担持された貴金属としてPdを備えており、且つ、実質的にPtを備えておらず、前記下層は、担体と、該担体に担持された貴金属としてPt及びPdを備えており、前記上層がさらに、炭化水素吸着材を備えている、排ガス浄化用触媒。前記下層における貴金属を100質量としたとき、前記下層における貴金属のうちPtの含有割合が50質量以上85質量以下である、請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。前記下層が、炭化水素吸着材をさらに備える、請求項1または2に記載の排ガス浄化用触媒。前記上層の厚さが、40μm以上100μm以下である、請求項1~3のいずれか一項に記載の排ガス浄化用触媒。前記上層及び前記下層の合計の厚さが150μm以上250μm以下である、請求項1~4のいずれか一項に記載の排ガス浄化用触媒。前記炭化水素吸着材としてゼオライト粒子を備えている、請求項1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化用触媒。ディーゼルエンジンの排ガスを浄化するために用いられる、請求項1~6のいずれか一項に記載の排ガス浄化用触媒。しかしながら、従来の排ガス浄化用触媒では低温条件下における内燃機関からの排ガス、特にディーゼルエンジンからの排ガスに対するCOの浄化性能は未だ不十分であり、改善の余地がある。CO浄化性能向上のためには、排ガス浄化用触媒のHC被毒を十分に抑制することが必要である。本発明は、かかる排ガス浄化用触媒の事情に鑑みてなされたものであり、排ガス浄化用触媒のHC被毒抑制に着目し、低温条件下においても一酸化炭素COの浄化性能に優れた排ガス浄化用触媒の提供を目的とする。本発明者らは、鋭意研究に努めた結果、以下の構成の排ガス浄化用触媒を創出した。即ち、ここに開示される排ガス浄化用触媒は、基材と、該基材上に配置された下層と、該下層上に配置された上層と、を備える。上記上層は、担体と、該担体に担持された貴金属としてPdを備えており、且つ、実質的にPtを備えておらず、上記下層は、担体と、該担体に担持された貴金属としてPt及びPdを備えている。また、上記上層はさらに、炭化水素吸着材を備えていることを特徴とする。かかる構成の排ガス浄化用触媒では、排ガスが最初に接触する層である上記上層は炭化水素吸着材を備える。このような排ガス浄化用触媒では、排ガス中のHCが効果的に上層中の炭化水素吸着材に吸着される。よって、続いて排ガスが接触する下層にまで到達するHC量は大幅に減少しており、下層における触媒のHC被毒が抑制される。また、かかる構成の排ガス浄化用触媒では、上記下層が貴金属としてPtを備える。上述の通り、上層において効果的にHC成分が吸着されるため、下層に到達するHC成分濃度は低下しており、このような低いHC濃度の環境下でPtは高い触媒活性を示すため、かかる構成の排ガス浄化用触媒は高い浄化性能を示す。さらに、かかる構成の排ガス浄化用触媒では、HCが多量に吸着される炭化水素吸着材を備える上層に、貴金属としてはPdが含まれる。即ち、上層中で上記炭化水素吸着材とPdは比較的近い距離に存在する。Pdは耐HC被毒性に優れており、HC濃度が高い環境下においても触媒活性低下が少ない。このため、排ガス温度の上昇により上記炭化水素吸着材からHCが脱着された場合においても、上記PdはHC被毒の影響を余り受けずに触媒活性を維持することができる。ここで本構成の排ガス浄化用触媒では、上層にPdよりも相対的にHC被毒を受け易いPtが実質的に含まれていない。このため、HC被毒して触媒活性が低下した若しくは喪失したPtの影響を受けることなく、低温域においても上層における炭化水素吸着材とPdとによる効率的な排ガス浄化を実現することができる。さらに、かかる構成の排ガス浄化用触媒では、上記下層に貴金属としてPt及びPdを含む。このような構成によると、上記排ガス浄化用触媒を比較的高温で使用した場合においても、Pdの存在によりPtのシンタリングが抑制され、触媒活性の低下が抑制されるとともに当該下層においてPtの触媒活性を効果的に発揮させることができる。なお、本明細書において実質的にPtを備えていない含まれていないとは、触媒の作製にあたって人為的な意図的なPtの混入を行わないことを意味しており、触媒作製時若しくは触媒使用段階における他方の層からの意図しない及び/又は不可避的な僅かな量の混入を許容する用語である。ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい一態様では、上記下層における貴金属を100質量としたとき、上記下層における貴金属のうちPtの含有割合が50質量以上85質量以下であることを特徴とする。Ptは低HC濃度環境下において、高い浄化性能を有する。このため上記下層におけるPtの含有割合を上記範囲内にすると、触媒全体として高い排ガス浄化性能、特に高いCO酸化性能を発揮させることができる。ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい他の一態様では、上記下層が、炭化水素吸着材をさらに備えることを特徴とする。かかる構成の排ガス浄化用触媒によると、上層において吸着されずに下層に到達したHCを、下層における上記炭化水素吸着材により捕捉することができるため、下層における触媒のHC被毒をより一層抑制することができる。ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい他の一態様では、上記上層の厚さ平均厚さをいう。以下同じ。が、30μm以上100μm以下好ましくは40μm以上70μm以下、より好ましくは40μm以上60μm以下であるであることを特徴とする。上記上層の厚さが上記範囲内であると、浄化すべきCOが下層にまで拡散することができ、下層において効果的にCOが酸化されるため好ましい。また特に低温条件下では、HCは厚さが上記範囲内にある上層において十分に補足されることにより、下層における触媒のHC被毒が抑制され、かかる排ガス浄化用触媒は高いCO浄化性能を示す。ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい他の一態様では、上記上層及び上記下層の合計の厚さ平均厚さをいう。以下同じ。が150μm以上250μm以下より好ましくは175μm以上であることを特徴とする。かかる構成の排ガス浄化用触媒によると、貴金属の絶対量が十分であるため、高い浄化性能を示す。また、上記構成の排ガス浄化用触媒によると、触媒全体に排ガスを行きわたらせることができるため、該触媒中の貴金属を効率的に利用することができ、コスト面で有利である。ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい他の一態様では、上記炭化水素吸着材としてゼオライト粒子を備えていることを特徴とする。ゼオライト粒子は吸着物質の高い選択性を有するため、かかる構成の排ガス浄化用触媒によると、効率的に種々のHC成分例えば、炭素原子が6個以下の低級オレフィン、炭素原子が7個以上の高級炭化水素などを吸着させることができる。ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい他の一態様では、ディーゼルエンジンの排ガスを浄化するために用いられる排ガス浄化用触媒であることを特徴とする。ディーゼルエンジンから排出される排ガスは、ガソリンエンジンから排出される排ガスと比較して、低い温度を有する傾向がある。また、ディーゼルエンジンで用いられる軽油は、炭素数15以上典型的には15~17程度であり、これはガソリンエンジンで用いられるガソリン炭素数4~10程度よりも比較的大きい高級炭化水素である。このため、未燃焼の軽油成分が触媒に付着することによる影響は、未燃焼のガソリン成分による影響より大きい傾向がある。ここで開示される排ガス浄化用触媒は、CO浄化における低温活性に優れ、さらに触媒のHC被毒を抑制することができるため、ディーゼルエンジンの排ガスを浄化するための排ガス浄化用触媒として特に適している。以下、本発明の好適な実施形態を説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事柄は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。ここで開示される排ガス浄化用触媒及び該排ガス浄化用触媒を備える排ガス浄化装置の一実施形態について図面を用いて説明する。ここでは、内燃機関としてディーゼルエンジンを備える場合を例にして詳細に説明するが、本発明の適用範囲をかかるディーゼルエンジンに限定することを意図したものではない。本発明は、例えば、ガソリンエンジン等に適用することができる。図1及び図2に示すように、本実施形態に係る排ガス浄化装置100は、大まかに言って、ディーゼルエンジンを主体とするエンジン部1エンジン部1にはエンジンを駆動するためのアクセルその他の操作系を含む。と、該エンジン部1に連通する排気系に設けられる排ガス浄化部40と、該排ガス浄化部40とエンジン部1との間の制御をつかさどるECU電子制御ユニット30とにより構成されている。エンジン部1は、典型的には複数ある燃焼室2と、各燃焼室2に燃料を噴射する燃料噴射弁3とを備えている。各燃焼室2は、吸気マニホルド4および排気マニホルド5と連通している。吸気マニホルド4は吸気ダクト6を介して、排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に接続されている。コンプレッサ7aの入口は、吸入空気量検出器8を介してエアクリーナ9に接続されている。吸気ダクト6内にはスロットル弁10が配置されている。吸気ダクト6の周りには、吸気ダクト6内を流れる空気を冷却するための冷却装置11が配置されている。排気マニホルド5は、排気ターボチャージャ7の排気タービン7bの入口に接続されている。排気タービン7bの出口は、排ガスが流通する排気管12に接続されている。排気マニホルド5と吸気マニホルド4とは、排気ガス再循環以下、EGRと称する。通路18を介して互いに連結されている。EGR通路18内には、電子制御式の制御弁19が配置されている。また、EGR通路18の周りには、EGR通路18内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置20が配置されている。各燃料噴射弁3は、燃料供給管21を介してコモンレール22に接続されている。コモンレール22は、燃料ポンプ23を介して燃料タンク24に接続されている。ここでは燃料ポンプ23は、吐出量可変な電子制御式の燃料ポンプである。ただし、燃料ポンプ23の構成は特に限定される訳ではない。排気管12内には、排気ガス中に燃料を供給噴射する燃料供給弁15が配置されており、さらに下流側には排ガス浄化部40が配置されている。排ガス浄化部40は、排気ガス中のCOやHCを酸化するための排ガス浄化用触媒50と、排ガス中の粒子状物質PMを捕集するパティキュレートフィルタ80を備えている。図2に示すように、ECU30は、エンジン部1と排ガス浄化部40との間の制御を行うユニットであり、デジタルコンピュータを含んでいる。ECU30は、双方向性バスによって互いに接続されたROMリードオンメモリ、RAMランダムアクセスメモリ、CPUマイクロプロセッサ、入力ポートおよび出力ポートを有している。図示しないアクセルペダルには、アクセルペダルの踏込み量に比例した出力電圧を発生する負荷センサが接続されている。該負荷センサの出力電圧は、対応するAD変換機を介して入力ポートに入力される。更に入力ポートには、クランクシャフトが所定の角度例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサが接続される。排ガス浄化部40における温度センサ及び差圧センサからの出力信号は、それぞれ対応するAD変換機を介して入力ポートに入力される。一方、出力ポートは、対応する駆動回路を介して燃料噴射弁3、スロットル弁10の駆動用ステップモータ、制御弁19、燃料ポンプ23及び燃料供給弁15に接続されている。このように、燃料噴射弁3、燃料供給弁15等は、ECU30により制御されている。なお、上述の制御系自体は本発明を特徴付けるものではなく、従来この種の内燃機関自動車用エンジンで採用されるものでよく、これ以上の詳細な説明は省略する。次に、本発明を特徴付ける排ガス浄化部40に備えられた排ガス浄化用触媒50について説明する。ここで開示される排ガス浄化用触媒50を構成する上記基材としては、従来のこの種の用途に用いられる種々の素材及び形態のものが使用可能である。例えば、高耐熱性を有するコージェライト、炭化ケイ素SiC等のセラミックスまたは合金ステンレス等から形成されたハニカム構造を備えるハニカム基材などを好適に採用することができる。一例として外形が円筒形状であるハニカム基材であって、その筒軸方向に排ガス通路としての貫通孔セルが設けられ、各セルを仕切る隔壁リブ壁に排ガスが接触可能となっているものが挙げられる。基材の形状はハニカム形状の他にフォーム形状、ペレット形状などとすることができる。また基材全体の外形については、円筒形に代えて、楕円筒形、多角筒形を採用してもよい。図3は排ガス浄化用触媒の一典型例を模式的に示す斜視図である。即ち、本実施形態の排ガス浄化用触媒50は、ハニカム基材52を用いて構成されており、複数の規則的に配列されたセル56と、該セル56を構成するリブ壁以下、基材ともいう。54を有する。図4は、図3の本実施形態における排ガス浄化用触媒50におけるリブ壁基材54の表面部分の構成を拡大して説明した概略図である。即ち、本実施形態に係る排ガス浄化用触媒50は、基材54、該基材54上に配置された下層60、該下層60上に配置された上層62を有する。上記下層60は、担体64と、該担体64に担持された貴金属としてPd粒子66及びPt粒子68を有している。また上記上層62は、担体64と、該担体64に担持された貴金属としてPd粒子66と、さらに炭化水素吸着材70、を有している。ここで上記上層62と上記下層60における担体64は異なる組成でも構わず、必ずしも同一組成でなくてよい。また上記下層60におけるPd粒子66とPt粒子68は、耐久後において複合化合金化していても構わない。ここで開示される排ガス浄化用触媒50を構成する担体64としては、特に制限されないが、触媒種を高分散させる目的から、比表面積がある程度大きい多孔質担体が好適に用いられる。好適な担体64としては、例えば、アルミナAl2O3、セリアCeO2、ジルコニアZrO2、シリカSiO2、チタニアTiO2、及びそれらの固溶体例えばセリア-ジルコニアCeO2-ZrO2複合酸化物、並びにそれらの組合せからなる群より選択される金属酸化物が挙げられる。また、担体64として用いられる金属酸化物は、タングステンW、プラセオジムPr、ランタンLa、イットリウムY、ネオジムNd、鉄Fe、アルカリ土類金属、からなる群より選択される添加元素の酸化物を更に含有してもよい。これらの添加元素の酸化物は単独酸化物として物理混合してもよいし、複合酸化物の一成分とすることもできる。ここで、このような添加元素の酸化物は、担体64全体に対して、50mol以下、好ましくは40mol以下、より好ましくは30mol以下、さらに好ましくは20mol以下、又は10mol以下の量で含有されていてもよい。ここで開示される排ガス浄化用触媒50を構成する上記上層62には貴金属としてPd粒子66が含まれる。また、ここで開示される排ガス浄化用触媒50を構成する上記下層60には貴金属としてPt粒子68及びPd粒子66が含まれる。かかる貴金属典型的にはPd粒子66、及びPt粒子68は、排ガスとの接触面積を高める観点から十分に小さい粒径を有することが好ましい。典型的には、貴金属の平均粒径は1~20nm程度が好ましいが、触媒の低温活性向上の観点から10nm以下であることがより好ましく、5nm以下であることがさらに好ましい。上記上層62におけるPd粒子66、及び上記下層60におけるPt粒子68及びPd粒子66、の担持量は特に制限されないが、それぞれの層における担体64に対して、それぞれ0.05~4質量、好ましくは0.5~2.5質量の範囲とすることが適当である。上記上層62におけるPd粒子66、又は上記下層60におけるPt粒子68及びPd粒子66、の担持量が上記範囲より少ないと、十分な触媒活性が得られにくいため好ましくない。また、上記範囲より貴金属を多く担持させても効果が飽和する虞があるうえに、触媒の高温使用時に該貴金属の粒成長が生じる虞があり、さらにコスト面でも不利である。上記担体64にPd粒子66又はPt粒子68を担持させる方法としては、特に制限されず、例えば含浸法や吸着法を用いることができる。典型的な含浸法では、パラジウム塩、又は白金塩を含有する水溶液に担体64の粉末を含浸させた後、乾燥させ、焼成することにより調製することができる。このときの焼成温度は300~700°C程度が適当である。焼成温度が700°Cより高すぎると、担体64に担持されたPd粒子66またはPt粒子68の粒成長が進行する虞があるため好ましくない。また、焼成温度が300°Cより低すぎると、焼成時間が長引く傾向があり好ましくない。上記上層62及び上記下層60は、貴金属として上記Pd及び上記Ptの他に、ロジウムRh、ルテニウムRu、オスミウムOs、イリジウムIr、及び銀Ag等を備えていてもよい。これらの貴金属は合金化したものを用いてもよい。ここで開示される排ガス浄化用触媒50を構成する上記上層62には、炭化水素吸着材70が含まれる。ここで、本明細書で言う炭化水素吸着材70とは、多孔質構造を有する材料であって、その多孔質構造内に炭化水素を吸着する材料を意味する。かかる炭化水素吸着70としては、ゼオライト、例えば、A型ゼオライト、フェリライト型ゼオライト、ZSM-5型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライト、β型ゼオライト、X型ゼオライト、及びY型ゼオライト、並びにそれらの組合せからなる群より選択されるゼオライトを挙げることができる。また、比表面積が大きいことから、粒子状のものを好適に用いることができる。ここで開示される排ガス浄化用触媒50は、上下層を有する積層構造に形成されている。かかる積層構造を製造するためには、基材54表面に下層60用の担体64、Pt粒子68、及びPd粒子66、を含むスラリーをウォッシュコートすることにより下層60を形成し、さらに下層60表面に上層62用の担体64、Pd粒子66、炭化水素吸着材70、を含むスラリーをウォッシュコートすることにより上層を形成する。ウォッシュコートにより触媒層を形成するプロセスにおいて、基材54表面、あるいは下層60表面にスラリーを適当に密着させるため、スラリーにはバインダーを含有させることが好ましい。バインダーとしては、例えばアルミナゾル、シリカゾル等を用いることができる。スラリーの粘度は、スラリーがハニカム基材のセル56内へ容易に流入しうるものとすべきである。基材54、または下層60表面にウォッシュコートされたスラリーの焼成条件は基材54または担体64の形状及び寸法により左右されるが、典型的には400~1000°C程度例えば500~600°Cで約1~4時間程度である。ここで開示される排ガス浄化用触媒50を構成する上記上層62は、任意の厚さを有することができるが、好ましくは30μm以上100μm以下、より好ましくは40μm以上であって、70μm以下、又は60μm以下である。なお本発明に関して、層厚さは、基材を流入側端面及び流出側端面からそれぞれ35mmの位置で切断し、それぞれの端面側の任意の4つのセルについて、角部分及び辺部分の層厚さを測定し計16箇所、測定された値の平均値として得られる値である。上層62の厚さが薄すぎる場合、エンジン始動時のように排ガスが低温の場合であって、排ガス中にHC成分が比較的多量に含有されている場合、HCが上層62を通り抜けて下層60に達し、下層60における貴金属に付着して触媒活性を低下させることがある。また、上層62の厚さが厚すぎる場合、浄化すべき一酸化炭素等の排ガス成分が、拡散によっては十分に下層60に達しないことがある。ここで開示される排ガス浄化用触媒50では、上記上層62及び上記下層60の合計の厚さは、任意に設定することができるが、好ましくは150μm以上250μm以下、より好ましくは175μm以上250μm以下であってよい。かかる平均厚さは、上記と同じ方法で測定することができる。上記上層62及び上記下層60の合計の厚さが上記範囲より薄すぎる場合、排ガス浄化用触媒における貴金属の絶対量が不足し、十分な排ガスの浄化が達成できないことがある。また、上記厚さが上記範囲より厚すぎる場合、排ガスが排ガス浄化用触媒の全体に行き渡らない虞があり、担体に担持された貴金属を効率的に利用することができないことがある。また、排ガス浄化用触媒50のセル56内を排ガスが通過する際の圧力損失の上昇を招く虞がある。なお、上記積層構造は上層62として上述したような触媒層があり、下層60として上述したような触媒層があればよく、当該二つの層に加えて他の層例えば基材54に近接した別の層を有する3層以上であってもよい。以下、本発明に関するいくつかの実施例につき説明するが、本発明をかかる具体例に示すものに限定することを意図したものではない。<参考実験:HC被毒性>貴金属としてPd又はPtを用いた場合におけるHC被毒の影響について調べるために参考実験を行った。具体的には、アルミナを担体とし、該担体にPt粒子を担持させた触媒、及び、該担体にPd粒子を担持させた触媒の合計2種類のサンプルを製造し、HC共存下におけるCO酸化性能について測定した。Pt担持サンプルは、Al2O3粉末と、純水、及びジニトロジアンミン白金硝酸塩溶液を混合し、2時間撹拌した後、130°Cで乾燥し、その後500°Cで1時間焼成することにより調製した。このときPtの担持量は、担体であるAl2O3に対して1質量となるように設定した。得られたPt担持サンプルはプレス機を用いてペレット状に成形し、参考例1に係る排ガス浄化用触媒とした。Pd担持サンプルは、Al2O3粉末と、純水、及び硝酸パラジウム水溶液を混合し、その後は、上記参考例1に係る製造プロセスと同様の手順により調製した。このときのPdの担持量は、担体であるAl2O3に対して1質量となるように設定した。得られたPd担持サンプルはプレス機を用いてペレット状に成形し、参考例2に係る排ガス浄化用触媒とした。製造した排ガス浄化用触媒参考例1及び2について耐久試験を施した。具体的には、上記2種類の排ガス浄化用触媒を750°Cに設定した電気炉で5時間加熱処理を行った。耐久試験後の排ガス浄化用触媒について、HC共存下におけるCO浄化性能を評価した。即ち、上記参考例1及び2に係る排ガス浄化用触媒を1g秤量し、評価装置に配置した。その後、かかる排ガス浄化用触媒を20°C/minの速度で昇温させながら、表1に示す組成のガスC3H6の濃度のみを変化させ、他の成分の濃度は一定に設定したガスをガス流量10L/minの条件で流入させ、出口における一酸化炭素CO濃度を測定した。このとき出口におけるCO濃度がガス投入時の濃度の50molにまで浄化により減少した時の温度CO50浄化温度°Cを算出した。上記CO浄化性能の評価について、結果を図5に示す。図5より明らかなように、HCが存在していない雰囲気下においては、Pt担持触媒である参考例1に係る排ガス浄化用触媒は、Pd担持触媒である参考例2に係る排ガス浄化用触媒より良好なCO浄化性能を示す。一方、HC濃度が上昇すると、参考例1に係る排ガス浄化用触媒のCO浄化性能は急激に低下する即ち、CO50浄化温度が上昇するのに対し、参考例2に係る排ガス浄化用触媒のCO浄化性能はあまり低下しないことが確認された。この結果より、Pdは高い耐HC被毒性を有し、Pd担持触媒はHC共存下でも高いCO浄化性能を維持することが明らかとなった。次に、本発明の一実施形態に係る排ガス浄化用触媒について製造し、その性能評価を行った。<浄化用触媒の製造例>実施例1まず、下層用の貴金属粒子担持粉末を調製した。即ち、担体であるAl2O3粉末γ-Al2O380gに対し、Pt含有量が1.33gである適量のジニトロジアンミン白金硝酸塩溶液と、Pd含有量が0.67gである適量の硝酸パラジウム水溶液と、適量の純水を混合した。得られた混合液を2時間撹拌した後、130°Cで乾燥させた後、500°Cで1時間焼成することにより、下層用の貴金属粒子担持粉末を調製した。次に、上記下層用の貴金属粒子担持粉末を用いて、下層用のスラリーを調製した。具体的には、上記下層用の貴金属粒子担持粉末82gに対し、バインダー成分として焼成後のAl2O3量が17.5gとなる硝酸アルミニウム水溶液、及び適量の純水を混合することにより下層用スラリーを調製した。続いて、上記下層用スラリーを触媒用基材の表面にウォッシュコートした。ここで触媒用基材としては、コージェライト製のハニカム基材容量2Lを用いた。具体的には、上記下層用スラリーを、焼成後のコート量で基材1L当たり99.5gとなるように、コージェライト基材にコートし、通風で乾燥させた後、500°Cで1時間焼成することにより、排ガス浄化用触媒の下層を形成した。次に、上層用の貴金属粒子担持粉末を調製した。即ち、担体であるAl2O3粉末γ-Al2O325gに対し、Pd含有量が1gである適量の硝酸パラジウム水溶液、及び適量の純水を混合した。得られた混合液を2時間撹拌した後、130°Cにおいて乾燥させた後、500°Cで1時間焼成することにより、上層用の貴金属粒子担持粉末を調製した。続いて、上記上層用の貴金属粒子担持粉末を用いて、上層用のスラリーを調製した。具体的には、上記上層用の貴金属粒子担持粉末26gに対し、HC吸着材としてSi/Al比が40であるBEA型ゼオライトを60g、バインダーとして焼成後のAl2O3量が17.5gとなる硝酸アルミニウム水溶液、及び適量の純水を混合することにより上層用スラリーを調製した。上記上層用スラリーを、上記下層が形成されている基材の表面にウォッシュコートした。具体的には、上記上層用スラリーを、焼成後のコート量で基材1L当たり103.5gとなるように、上記基材にコートし、通風で乾燥させた後、500°Cで1時間焼成することにより、排ガス浄化用触媒の上層を形成した。上記の一連のプロセスにより製造された排ガス浄化用触媒を実施例1に係る排ガス浄化用触媒とする。比較例1比較例として、実施例1に係る排ガス浄化用触媒のような二層構造ではなく、一層構造に係る排ガス浄化用触媒を製造した。まず、担体であるAl2O3粉末105gに対し、Pt含有量が2gである適量のジニトロジアンミン白金硝酸塩溶液と、Pd含有量が1gである適量の硝酸パラジウム水溶液と、適量の純水を混合し、これを2時間撹拌した後、130°Cで乾燥、500°Cで1時間焼成することにより、貴金属粒子担持粉末を調製した。次に、上記貴金属粒子担持粉末108gに対し、BEA型ゼオライト60g、バインダーとして焼成後のAl2O3量が35gである硝酸アルミニウム水溶液、及び適量の純水を混合し、スラリーを調製した。得られたスラリーを、焼成後のコート量で基材1L当たり203gとなるように、コージェライト基材にコートし、通風で乾燥させた後、500°Cで1時間焼成することにより、比較例1に係る排ガス浄化用触媒を製造した。比較例2比較例として、上層に係る貴金属粒子としてPt及びPdを用いた二層構造に係る排ガス浄化用触媒を製造した。具体的には、比較例2に係る下層用の貴金属粒子担持粉末、及び下層用スラリーの調製、及び下層の形成は、上記実施例1に係る組成及び製造プロセスと同様に行った。次に、比較例2に係る上層用の貴金属粒子担持粉末を作製するためには、担体であるAl2O3粉末γ-Al2O325gに対し、Pt含有量が0.67gである適量のジニトロジアンミン白金硝酸塩溶液と、Pd含有量が0.33gである適量の硝酸パラジウム水溶液と、適量の純水を混合した。得られた混合液を2時間撹拌した後、130°Cにおいて乾燥し、その後500°Cで1時間焼成することにより、上層用の貴金属粒子担持粉末を調製した。その後の比較例2に係る上層用スラリーの調製、及び上層の形成は、上記で得られた上層用の貴金属粒子担持粉末を用いること以外は、実施例1に係る組成と製造プロセスと同様に行った。実施例1、及び比較例1及び2に係る排ガス浄化用触媒における、貴金属粒子の組成について表2に示す。また、実施例1、及び比較例1及び2に係る排ガス浄化用触媒におけるコート組成、及び層厚さを表3に示す。<耐久試験>実施例1、及び比較例1及び2に係る排ガス浄化用触媒について、電気炉を用いて、空気中において750°Cで37時間にわたって加熱することにより、簡易耐久を施した。<浄化性能評価>耐久試験後の実施例1、及び比較例1及び2に係る排ガス浄化用触媒について、2.2リットルのディーゼルエンジンからの排ガスを用いて、排ガス浄化性能を評価した。ここでは、上記ディーゼルエンジンを用いて、NEDCNewEuropeanDrivingCycleモード図6参照を再現し、図6中における領域2~4の入りガス平均温度が150°Cになるようにトルクを調整した。また前処理として、5分間触媒床温度を600°Cにすることにより粒子状物質PMの燃焼による再生処理を行った。上記浄化性能評価の結果を図7に示す。図7より明らかなように、実施例1に係る排ガス浄化用触媒は、1層型触媒である比較例1や、上層にPtを含む2層型触媒である比較例2に係る排ガス浄化用触媒と比較し、高い一酸化炭素浄化率を示すことが確認された。これは、上層にHCの吸着層を配したことにより、下層における触媒のHC被毒が抑制されたためである。またさらに、上層の貴金属粒子に耐HC被毒性が高いPdを採用したことにより、吸着後、温度上昇により脱着したHCを効果的に浄化することができたためである。即ち、上層に耐HC被毒性が高いPd担持触媒を配し、下層に酸化性能の高いPt及びPdを担持させた触媒を配することにより、本実施形態に係る排ガス浄化用触媒は、高い一酸化炭素CO浄化性能を示すことが確認された。