"下記一般式1で表されるフマル酸ジエステル残基を含むフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して、カチオン系界面活性剤又はアニオン系界面活性剤を0.3~3重量部含有し、表面抵抗値として印加電圧100Vにおいて表面抵抗が1014Ω/□以下を示すことを特徴とする光学フィルム。式中、R1及びR2はそれぞれ独立して炭素数1~12である直鎖状若しくは分岐状アルキル基、又は炭素数3~6である環状アルキル基を示す。下記一般式1で表されるフマル酸ジエステル残基75モル以上100モル未満、及び環員数3~6の環状エーテル基を有するメタアクリル酸エステル残基0モルを超えて25モル以下のフマル酸ジエステル残基単位を含むフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して、カチオン系界面活性剤又はアニオン系界面活性剤を0.3~3重量部含有し、表面抵抗値として印加電圧100Vにおいて表面抵抗が1014Ω/□以下を示すことを特徴とする光学フィルム。式中、R1及びR2はそれぞれ独立して炭素数1~12である直鎖状若しくは分岐状アルキル基、又は炭素数3~6である環状アルキル基を示す。温度200°Cで周波数10Hzにおける動的粘弾性測定から求められる動的貯蔵弾性率E’が2.0×107Pa以上であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学フィルム。カチオン系界面活性剤が、四級アンモニウム塩型界面活性剤であり、アニオン系界面活性剤が、酸塩型界面活性剤であることを特徴とする請求項1~請求項3のいずれかの項に記載の光学フィルム。一般式1で表されるフマル酸ジエステル残基が、フマル酸ジメチル残基、フマル酸ジエチル残基、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ-tert-ブチル残基、フマル酸ジ-n-ブチル残基、フマル酸ジ-sec-ブチル残基、フマル酸イソブチル残基、フマル酸ジペンチル残基、フマル酸ジイソペンチル残基、フマル酸ジ-sec-イソアミル残基、フマル酸ジネオペンチル残基、フマル酸ジ-tert-ペンチル残基、フマル酸ジ-2-エチルヘキシル残基、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロブチル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基及びフマル酸ジシクロヘキシル残基から選ばれる少なくとも1種類以上のフマル酸ジエステル残基であることを特徴とする請求項1~請求項4のいずれかの項に記載の光学フィルム。製膜の後に電子線、光及び/又は熱により架橋させてなることを特徴とする請求項2~請求項5のいずれかの項に記載の光学フィルム。溶液キャスト法を用い、フマル酸ジエステル系樹脂が可溶性を示す溶剤の中から選ばれる溶剤として低沸点の溶剤と高沸点の溶剤とを沸点差が10°C以上となる組み合わせにてそれぞれ重量比にて5:95~95:5の比率で用い、フマル酸ジエステル系樹脂と溶剤を含むドープ溶液として樹脂固形分濃度が5~30重量であり、製膜時の塗工膜の乾燥条件として乾燥温度と時間がそれぞれ低温側40~80°Cにおいて2~5分経た後、90~130°Cにおいて5分以上乾燥させることを特徴とする請求項1~請求項6のいずれかの項に記載の光学フィルムの製造方法。請求項1~請求項6のいずれかの項に記載の光学フィルムから構成されており、全光線透過率が85以上、波長400nmにおける光線透過率が80以上、ヘーズが2以下であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルム。請求項1~請求項6のいずれかの項に記載の光学フィルムから構成されていることを特徴とする偏光板保護フィルム。請求項1~請求項6のいずれかの項に記載の光学フィルムから構成されていることを特徴とする位相差フィルム。請求項1~請求項6のいずれかの項に記載の光学フィルムから構成されていることを特徴とするタッチパネルフィルム。請求項1~請求項6のいずれかの項に記載の光学フィルムから構成されていることを特徴とするフラットパネルディスプレイ用フィルム基板。請求項1~請求項6のいずれかの項に記載の光学フィルムから構成されていることを特徴とする液晶ディスプレイ用プラスチックフィルム基板。請求項1~請求項6のいずれかの項に記載の光学フィルムから構成されていることを特徴とする液晶ディスプレイ用カラーフィルター基板。請求項1~請求項6のいずれかの項に記載の光学フィルムから構成されていることを特徴とする有機ELディスプレイ用プラスチック基板。本発明の目的はフマル酸ジエステル系樹脂を用いた光学フィルムについて、表面抵抗を抑えて静電気帯電による塵埃の吸着、放電など及びハンドリング性を改良した光学フィルム並びにこの光学フィルムの製造方法を提供することにある。本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のフマル酸ジエステル系樹脂を用いた光学フィルムの表面抵抗を低下させ、静電気による帯電によって生じる問題を発生させにくい光学フィルムを見出した。すなわち、本発明は、所定の一般式で表されるフマル酸ジエステル残基を含むフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して、又は所定の一般式で表されるフマル酸ジエステル残基75モル以上100モル未満、及び環員数3~6の環状エーテル基を有するメタアクリル酸エステル残基0モルを超えて25モル以下のフマル酸ジエステル残基単位を含むフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して、カチオン系界面活性剤又はアニオン系界面活性剤を0.3~3重量部含有し、表面抵抗値として印加電圧100Vにおいて表面抵抗が1014Ω/□以下を示すことを特徴とする光学フィルムである。以下に、本発明を詳細に説明する。本発明の光学フィルムは、下記一般式1で表されるフマル酸ジエステル残基を含むフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して、カチオン系界面活性剤又はアニオン系界面活性剤を0.3~3重量部含有するものである。式中、R1及びR2はそれぞれ独立して炭素数1~12である直鎖状若しくは分岐状アルキル基、又は炭素数3~6である環状アルキル基を示す。また、本発明の光学フィルムは、上記一般式1で表されるフマル酸ジエステル残基75モル以上100モル未満、及び環員数3~6の環状エーテル基を有するメタアクリル酸エステル残基0モルを超えて25モル以下のフマル酸ジエステル残基単位を含むフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して、カチオン系界面活性剤又はアニオン系界面活性剤を0.3~3重量部含有するものである。ここでフマル酸ジエステル系樹脂としては、一般式1で表されるフマル酸ジエステル残基を含むもの、又は、一般式1で表されるフマル酸ジエステル残基75モル以上100モル未満、及び環員数3~6の環状エーテル基を有するメタアクリル酸エステル残基0モルを超えて25モル以下のフマル酸ジエステル残基単位を含むものである。一般式1で表されるフマル酸ジエステル残基としては、例えば、フマル酸ジメチル残基、フマル酸ジエチル残基、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ-tert-ブチル残基、フマル酸ジ-n-ブチル残基、フマル酸ジ-sec-ブチル残基、フマル酸イソブチル残基、フマル酸ジペンチル残基、フマル酸ジイソペンチル残基、フマル酸ジ-sec-イソアミル残基、フマル酸ジネオペンチル残基、フマル酸ジ-tert-ペンチル残基、フマル酸ジ-2-エチルヘキシル残基、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロブチル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基から選ばれる少なくとも1種類以上のフマル酸ジエステル残基等が挙げられる。その組合わせは特に限定するものではなく、例えば、嵩高い分子構造を有するフマル酸ジ-イソプロピル残基やフマル酸ジ-tert-ブチル残基などを多く配合するような組み合わせが好ましい。また、フマル酸ジエステル系樹脂中に含まれる環員数3~6の環状エーテル基を有するメタアクリル酸エステル残基としては、例えば、アクリル酸グリシジル残基、メタクリル酸グリシジル残基、アクリル酸-3-エチル-3-オキセタニルメチル残基、メタクリル酸-3-エチル-3-オキセタニルメチル残基、アクリル酸テトラヒドロフルフリル残基、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル残基、アクリル酸-3,4-エポキシシクロヘキシルメチル残基、メタクリル酸-3,4-エポキシシクロヘキシルメチル残基等の環員数3~6の環状エーテルを有するメタアクリル酸エステル残基等が挙げられる。これは架橋などの特性を要求される場合などの必要に応じて0モルを超えて25モル以下となるように配合する。フマル酸ジエステル系樹脂は、本発明の効果を奏する限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α-メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;メタアクリル酸残基単位;メタアクリル酸メチル残基単位、メタアクリル酸エチル残基単位、メタアクリル酸ブチル残基単位等のメタアクリル酸エステル類残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル残基単位;N-メチルマレイミド残基単位、N-シクロヘキシルマレイミド残基単位、N-フェニルマレイミド残基単位等のN-置換マレイミド類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位;フマル酸ジ-n-ブチル残基単位、フマル酸ビス2-エチルヘキシル残基単位等の前記フマル酸ジエステル残基単位以外のフマル酸ジエステル類残基単位等より選ばれる1種又は2種以上を挙げることができる。フマル酸ジエステル系樹脂は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィーGPCにより測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が50,000~250,000であることが好ましい。フマル酸ジエステル系樹脂の製造方法としては、該フマル酸ジエステル系樹脂が得られる限り如何なる方法により製造してもよく、例えば、フマル酸ジイソプロピルと炭素数1又は2のアルキル基を有するフマル酸ジエステルをラジカル重合を行なうこと等により製造することができる。前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれも採用可能であるが、粒子径を制御して重合ができ、回収が容易な懸濁重合法が好ましい。ラジカル重合を行なう際の重合触媒としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシアセテート、t-ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物;2,2’-アゾビス2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス2-ブチロニトリル、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート、1,1’-アゾビスシクロヘキサン-1-カルボニトリル等のアゾ系開始剤等が挙げられる。そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;ジメチルホルムアミド;酢酸イソプロピル;水等が挙げられ、これらの混合溶媒も用いることができる。ラジカル重合を行なう際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には30~150°Cの範囲で行なうことが好ましい。フマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して、カチオン系界面活性剤又はアニオン系界面活性剤が0.3重量部未満の場合は、表面抵抗が高く帯電防止性能が不十分であり、3重量部を超えると添加量が多すぎるために表面への滲み、汚染などが問題となる。カチオン系界面活性剤としては、例えば、四級アンモニウム塩型界面活性剤等が挙げられる。四級アンモニウム塩型界面活性剤としては、例えば、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、塩化セチルトルメチルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ベヘニルトリメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、塩化ジデシルジメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、塩化ジオレイルジメチルアンモニウム、塩化アルキルベンジルジメチルアンモニウム、塩化アルキルエチルメチル硫酸アンモニウム塩、塩化アルキルビス2-ヒドロキシエチルメチルアンモニウム、塩化ポリオキシエチレンアルキルメチルアンモニウム、塩化オレイルビス2-ヒドロキシエチルメチルアンモニウム、メチルビス2-ヒドロキシエチルココアルキル硝酸アンモニウム塩、メチルビス2-ヒドロキシエチルココアルキルアンモニウム塩化物等を挙げることができ、ここに挙げるもの及びこれらに類するものを1種類以上用いることができ、これらを溶剤などで希釈したものを用いても良い。アニオン系界面活性剤としては、例えば、任意アルキル長鎖を有するカルボン酸型の脂肪酸塩、硫酸型のアルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル硫酸塩、アルキルエーテル硫酸エステル塩、リン酸型のリン酸エステルなどがあり、この他にもアルキルコハク酸塩など各種酸塩型界面活性剤を挙げることができる。一方、ノニオン系界面活性剤は単独で添加しても効果が得られない。また、本発明のフマル酸ジエステル系樹脂は非晶質であり非常に耐熱が高く、従来の公知に知られるポリマー材料のように、ノニオン系界面活性剤を配合するだけではフィルム製膜の際及び製膜後のフィルムハンドリングの際に表面抵抗が低下せず、効果が得られない。本発明の光学フィルムは、表面抵抗値として印加電圧100Vにおいて表面抵抗が1014Ω/□以下である。表面抵抗が1014Ω/□を超えると帯電電位が高く、ハンドリングし難い。帯電電位がより良好であるためには、表面抵抗が109~1014Ω/□が好ましい。本発明の光学フィルムは、より高い耐熱性を有するためには、温度200°Cで周波数10Hzにおける動的粘弾性測定から求められる動的貯蔵弾性率E’が2.0×107Pa以上であることが好ましい。本発明の光学フィルムは、透明性に優れ、全光線透過率が85以上であることが好ましく、特に90以上であることが好ましい。また、波長400nmの光に対する光線透過率が80以上であることが好ましい。さらに、ヘーズが2以下であることが好ましく、特に1以下であることが好ましい。本発明の光学フィルムは、コーティング製膜の際又は光学フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤、紫外線安定剤、光安定剤を含有してもよい。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンE系酸化防止剤その他酸化防止剤が挙げられ、これらの酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、併用してもよい。紫外線安定剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線安定剤、ベンゾフェノン系紫外線安定剤、トリアジン系紫外線安定剤、ベンゾエート系紫外線安定剤等が挙げられる。光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系光安定剤等が挙げられる。本発明の光学フィルムは、例えば、液晶ディスプレイ用フィルム基板などに使用する際に、液晶化合物等の劣化を防止する目的として紫外線吸収剤を含有してもよく、紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤等が挙げられる。本発明の光学フィルムは、光学特性や力学的性質を操作する目的で可塑剤を含有してもよい。可塑剤は、例えば、フタル酸エステル系可塑剤、アジピン酸エステル系可塑剤、ホスフェート系可塑剤等が挙げられ、これら可塑剤はそれぞれ単独又は併用してもよい。本発明の光学フィルムは、発明の主旨を逸脱しない範囲において、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等の添加剤を含有してもよい。本発明の光学フィルムの製造方法としては、溶液キャスト法により製膜することができる。溶液キャスト法とは、例えば、樹脂を溶剤に溶解させて調製したドープ液を支持基材上に流延した後、加熱等により溶剤を除去して光学フィルムを形成する方法である。その際、ドープ液を支持基材上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、グラビアロール法、ドクターブレード法、バーコート法、ロールコーター法、リップコーター法等を用いることができる。特に工業的にはダイからドープ液をベルト状又はドラム状の支持基材上に連続して押出して塗工するTダイ法や凹凸パターンロールにドープ液をすくい上げて支持基材側へ転写するグラビアロール法等が最も一般的に行なわれている。用いられる支持基材としては、例えば、ガラス基板、積層された偏光板を構成するトリアセチルセルロース組成物などから構成されるTAC系フィルム、アクリル樹脂フィルム、環状オレフィン系フィルム、PP系フィルム等の偏光子の保護及び位相差付与を目的とするフィルム等があり、ここに挙げたものに限定されず、広く塗工用の支持基材として用いることができる。また、本発明の光学フィルムと支持基材との十分な密着強度を得るために粘接着剤処理、基材表面処理等を施してもよく、公知の材料、手法を利用することができる。この際の光学フィルムの塗布厚さは、乾燥後の状態において塗工外観に優れ、均一性が高く表面抵抗が低いフィルムを得るため、10~150μmであることが好ましい。製膜の際、フマル酸ジエステル系樹脂の溶解に用いる溶剤は同樹脂が可溶性を示す溶剤の中から選ばれる低沸点の溶剤と高沸点の溶剤との組み合わせとして溶剤の沸点差が10°C以上となる低沸点溶剤と高沸点溶剤をそれぞれ重量比にて5:95~95:5の比率で用いる。この場合、溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン沸点:80°C、メチルイソブチルケトン沸点:116°C、シクロヘキサノン沸点:156°C、酢酸エチルエステル沸点:77°C、酢酸ブチルエステル沸点:126°C、酢酸イソブチルエステル沸点:117°C、セロソルブアセテート沸点:156°C、イソプロピルアルコール沸点:82°C、n-ブチルアルコール沸点:118°C、sec-ブチルアルコール沸点:100°C、イソブチルアルコール沸点:108°C、テトラヒドロフラン沸点:66°C、トルエン沸点:111°C、キシレン沸点:139°C、セロソルブ沸点:136°C、ブチルセロソルブ沸点:170°C、メチルカルビトール沸点:194°C、エチルカルビトール沸点:202°C、ブチルカルビトール沸点:230°Cなどを挙げることができる。これらの溶剤から2種類を組み合わせて用いることができる。ここで溶剤の組み合わせとしては例えば、沸点差が34°Cとなるイソプロピルアルコール沸点:82°Cとメチルイソブチルケトン沸点:116°Cとを比率を重量比としてそれぞれ5:95~95:5の範囲で用いることができ、また、沸点差が23°Cとなるメチルイソブチルケトン沸点:116°Cとキシレン沸点:139°Cとを比率を重量比にてそれぞれ5:95~95:5の範囲で用いることができる。このように沸点温度差を10°C以上となるように組み合わせて溶剤組成を重量比として低沸点成分と高沸点成分とで5:95~95:5にて併用することで製膜後のフィルムの表面抵抗を低くするのに有効である。一方、低沸点溶剤又は高沸点溶剤を単独溶剤として用いる場合には製膜後のフィルムの表面抵抗の低下挙動が十分ではないため好ましくない。特に低沸点の溶剤として例えばメチルエチルケトン沸点:80°Cなどを単独で用いて溶液調製した場合、製膜後のフィルムの表面抵抗の低下挙動が十分ではなく、また、130°Cを超えるような高沸点溶剤のみを用いてポリマー溶液を調製し、製膜した場合にはフィルム背面への不均一な帯電防止剤の滲みを生じるおそれもあることから好ましくない。フマル酸ジエステル系樹脂と上述のような溶剤を含むドープ溶液を調製する際の樹脂固形分濃度は5~30重量であり、10~20重量が好ましい。樹脂固形分が30重量を超えて配合する場合、著しく粘度が高くなるために製膜が難しくなる。一方、樹脂固形分が5重量未満である場合にも粘度が低いために製膜の際に液膜の厚さを稼ぐことが難しく、薄膜フィルムとしてハンドリング可能な膜厚さを有するものを得ることが難しいことから好ましくない。上述のような溶剤を用いて、樹脂固形分を配合し溶液を調製するドープ液の調製方法としては公知の方法を用いることができ、ラボ攪拌装置であれば、サンプル瓶などを用いてスターラーチップを用いた攪拌や、スリーワンモーターなどの小型モーター式攪拌翼を有する装置を用いて攪拌する方法、またミキサーとしては例えば、バッチ型ミキシング方式と循環型インラインミキシング方式等があり、攪拌羽根の形状としては、例えば、プロペラ式、軸流タービン式、放射タービン式、インペラー式、ノコギリ歯ブレード式、閉式ローター式、ローター/ステーター式等を挙げることができる。係る方法で溶剤中に樹脂を溶解させたドープ液は未溶解物が残留しないように溶解調整する必要があり、併せて異物、ゴミなどを除去する目的からもフィルターろ過してもよく、例えば目開き3μmのフィルターを用いて溶液をろ過することで未溶解物や3μm以上のサイズの異物、ゴミを除去できる。代表的なフィルターとしては目開き0.5~20μm程度のものがあり、各種組合わせて用いることができる。溶液キャスト法による製膜及び乾燥後の膜厚は特に限定するものではないが、10~150μm程度が好ましく、この際の乾燥条件としては乾燥温度と時間の関係がそれぞれ低温側40~80°Cにおいて少なくとも2~5分を経た後、90~130°Cにおいて5分以上の時間乾燥させる。低温側として40~80°Cにて2分未満乾燥した後に、高温側として90~130°Cにて乾燥させる場合、表面抵抗が低下せず好ましくない。一方、低温側にて更に長時間乾燥させても表面抵抗を低下させることが可能であるが、実用的な製膜プロセスを考慮すれば、より短時間での乾燥が好ましいことから少なくとも2~5分程度必要である。本発明におけるフマル酸ジエステル系樹脂は、硬化性の環員数3~6の環状エーテル基を有するメタアクリル酸エステル残基を含有する場合、電子線、光及び/又は熱により架橋させてなる架橋フィルムであり、架橋により耐溶剤性、加熱時の寸法安定性を向上させることもできる。ここで、架橋を行なう際に均一かつ効率的に架橋を行なわせ、品質が良好なディスプレイ用光学フィルムを得るために、架橋促進剤を用いることが好ましく、該架橋促進剤としては、例えば、フェニルジアソニウムヘキサフルオロアンチモン酸、フェニルジアソニウムヘキサフルオリン酸、フェニルジアゾニウムテトラフルオロホウ酸等の芳香族ジアソニウム塩;ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモン酸、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロリン酸、ジフェニルヨードニウムトトラフルオロホウ酸等の芳香族ヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸、トリフェニルヘキサフルオリン酸、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロホウ酸等の芳香族スルホニウム塩;1-ベンジル-2-シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモン酸、1-ベンジル-2-シアノピリジニウムヘキサフルオリン酸、1-ベンジル-2-シアノピリジニウムテトラフルオロホウ酸等の芳香族アンモニウム塩、エチルトリフェニルホスホニウムテトラフルオロアンチモン酸、等の芳香族ホスホニウム塩:2,4-シクロペンタジエン-1-イル1-メチルエチルベンゼン-鉄錯体;o-ニトロベンジルシリルエーテル-アルミニウム錯体などが挙げられる。その際の架橋促進剤の添加量は、フマル酸ジエステル系樹脂100gに対して、好ましくは0.1g~10g、特に好ましくは、0.2g~5gである。熱により架橋する方法としては単に加熱する方法が挙げられ、光によって架橋する方法としては、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマーランプ等を光源として用いる方法などが挙げられる。また、電子線により架橋する方法としては、一般的に用いられる電子線照射装置の使用が可能である。この電子線による架橋方法においては反応効率をより高めるために、例えばトリアクリル酸トリメチロールプロパン、シアヌル酸トリアリル等の多官能ビニル化合物等の架橋助剤を用いることが好ましい。電子線による架橋を行なう場合において、電子線の照射強度は5~500kGyであることが好ましく、特に10~100kGyであることが好ましい。該電子線による架橋は、特に架橋効率に優れることから耐熱性に優れるフマル酸ジエステル系樹脂の架橋に適したものであり、得られるディスプレイ用光学フィルムは特に耐熱性に優れる。本発明の光学フィルムは、偏光板に直接コーティングして一体化したり、予めコーティングした支持基材を偏光板と積層することで一体化した偏光板積層体として用いることもできる。本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、タッチパネル、フラットパネルディスプレイ用フィルム基板、液晶ディスプレイ用プラスチック基板、液晶ディスプレイ用カラーフィルター基板、有機ELディスプレイ用プラスチック基板などにも有用である。本発明の目的はフマル酸ジエステル系樹脂を用いた光学フィルムとして表面抵抗を抑えて静電気帯電による塵埃の吸着、放電などならびにハンドリング性を改良した光学フィルムが得られることから、液晶ディスプレイなどの光学フィルム、フィルムの製造方法として有用である。以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。以下、実施例の評価測定に用いた方法を示す。<数平均分子量の測定>ゲルパーミエイションクロマトグラフィーGPC装置東ソー製、商品名:C0-8011を用いて測定し、標準ポリスチレン換算値として算出した。<フマル酸ジエステル系樹脂の組成の確認>核磁気共鳴測定装置日本電子製、商品名:JNM-GX270を用い、プロトン核磁気共鳴分光1H-NMRスペクトル分析より導出した。<フィルムの動的貯蔵弾性率E’の測定>粘弾性測定装置レオロジー社製、DVE-V4を用いて、周波数10Hz、温度200°Cのフィルムの動的貯蔵弾性率を測定し、2.0×107Pa以上であるか否か並びに200°Cを超える耐熱性を有するかを判定した。<光学フィルムの光線透過率の測定>JIS-K-7361-1に準拠してヘーズメーター日本電色工業製、商品名:NDH5000により測定した。<光学フィルムの複屈折及び位相差量の測定>全自動複屈折計王子計測器製、商品名:KOBRA-21ADHを用いて測定した。ここで光学フィルムの複屈折は、製膜方向を基準として薄膜面内の2つの軸方向の屈折率をそれぞれ基準軸を遅相軸nx、これと直交する進相軸ny、薄膜厚さ方向の軸をnz、薄膜厚さをdとした場合、薄膜面内の複屈折Δnとして表される面内の平均屈折率の差の絶対値|nx-ny|として表される。薄膜の面内位相差Reはnx-ny×d、薄膜の面外複屈折ΔPはnxny/2-nz、薄膜の面外位相差Rthはnxny/2-nz×dとして表される。合成例1フマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル/フマル酸ジエチル共重合体の合成攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1Lオートクレーブにヒドロキシプロピルメチルセルロース信越化学製、商品名:メトローズ60SH-502g、水600g、フマル酸ジイソプロピル365g、フマル酸ジエチル35g及び重合開始剤としてt-ブチルパーオキシピバレート3gを投入し、窒素バブリングを1時間行った後、400rpmで攪拌しながら45°Cで24時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、水及びメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル/フマル酸ジエチル共重合体を得た収率:65。得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は132,000であり、平均粒子径は130μmであった。また、1H-NMR測定により、樹脂組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=91/9モルであった。合成例2フマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル/フマル酸ジエチル共重合体の合成攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1Lオートクレーブにヒドロキシプロピルメチルセルロース信越化学製、商品名:メトローズ60SH-502g、水600g、フマル酸ジイソプロピル330g、フマル酸ジエチル70g及び重合開始剤としてt-ブチルパーオキシピバレート3gを投入し、窒素バブリングを1時間行った後、400rpmで攪拌しながら45°Cで36時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、水及びメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル/フマル酸ジエチル共重合体を得た収率:75。得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は120,000であり、平均粒子径は110μmであった。また、1H-NMR測定により、樹脂組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=84/16モルであった。合成例3フマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル/アクリル酸-3-エチル-3-オキセタニルメチル共重合体の合成攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた0.5Lの4口フラスコに、ポリビニルアルコール分子量2,000、けん化度800.4g、蒸留水260g、フマル酸ジイソプロピル122g0.609モル、アクリル酸-3-エチル-3-オキセタニルメチル18g0.106モル及びラジカル重合開始剤としてtert-ブチルパーオキシピバレート0.8g0.005モルを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、550rpmで攪拌しながら50°Cで24時間保持することによりラジカル重合を行なった。重合反応の終了後、フラスコ中の重合物をろ別し、蒸留水及びメタノールで洗浄することでフマル酸ジエステル系樹脂を得た収率:53。1H-NMR測定により、得られたフマル酸ジエステル系樹脂は、フマル酸ジイソプロピル残基/アクリル酸-3-エチル-3-オキセタニルメチル残基=86/14モルであった。なお、フマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は81,000であり、平均粒子径は80μmであった。合成例4フマル酸ジイソプロピル単独重合樹脂の合成例アクリル酸-3-エチル-3-オキセタニルメチルを用いなかった以外は、合成例3と同様の方法により、フマル酸ジイソプロピル単独重合樹脂を得た。得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合樹脂の数平均分子量は81,500であり、平均粒子径は100μmであった。実施例1250cc容器中、メチルイソブチルケトンMIBKとキシレンとの混合溶剤MIBK/キシレン=80/20重量比136gをプライミクス社製、TK-ロボミクスを用いて回転数1,400rpmで攪拌中に、合成例1のフマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=91/9モル24g及び東邦化学製アンスティックスC-200四級アンモニウム塩系の界面活性剤0.72gフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対する界面活性剤:3重量部を攪拌開始から1分間投入し、1時間攪拌し、ドープ液を調製した。このドープ液を用いて、ブレードコーターによる溶液キャスト法によりPETフィルム上に乾燥後の膜厚さで30μmとなるように塗工し、乾燥条件として40°Cにて2分乾燥後、90°Cにて5分乾燥し、更に130°Cにて5分乾燥させてフィルムを作製したフィルム中の界面活性剤:フマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して3重量部。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は91、ヘーズは0.4であり、表面抵抗は印加電圧100Vにおいて9×1010Ω/□と低かった。比較例1実施例1において溶剤としてキシレン単独溶剤を用いた以外は同様にして溶液を調製及び製膜し、光学特性ならびに表面抵抗を測定した。得られたフィルムの全光線透過率は90.5、ヘーズは0.5であり、PETフィルムから剥離したフィルム面にはアンスティックスの著しい滲み、ベタツキが見られた。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であった。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて1×1016Ω/□と高く、静電気帯電が顕著であった実施例2実施例1においてMIBK溶剤を用いた以外は同様にして溶液を調製及び製膜し、光学特性ならびに表面抵抗を測定した。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は91、ヘーズは0.4であり、表面抵抗は印加電圧100Vにおいて2×1012Ω/□と低かった。実施例3実施例1において合成例1のフマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=91/9モルの代わりに合成例2のフマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル残基/フマル酸ジエチル残基単位=84/16モル、溶剤としてMIBKとキシレンとの混合溶剤MIBK/キシレン=95/5重量比とした以外は同様にて溶液を調製及び製膜し、光学特性ならびに表面抵抗を測定した。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は91、ヘーズは0.3であり、フィルム外観は良好であった。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて1×1011Ω/□と低かった。実施例4実施例1において合成例1のフマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=91/9モルの代わりに合成例3のフマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル残基単位/アクリル酸-3-エチル-3-オキセタニルメチル残基単位=86/14モルとし、溶液調整の際にジフェニルヨードニウムヘキサフルオリン酸0.36gを追加した以外は同様にして溶液を調製し、フィルムを製膜乾燥した。このフィルムに水銀ランプにて光を10分間照射し、架橋を行い、架橋フィルムとした。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は90.5、ヘーズは0.4であり、フィルム外観は良好であった。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて7×1010Ω/□と低かった。比較例2実施例1において乾燥温度を130°Cにて10分のみとした以外は同様にして溶液を調製及び製膜し、光学特性及び表面抵抗を測定した。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は90.5、ヘーズは0.5であり、フィルム外観は良好であった。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて1×1017Ω/□と高く、静電気帯電が顕著であった。実施例5実施例1において合成例1のフマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=91/9モルの代わりに合成例4のフマル酸ジエステル系樹脂フマル酸ジイソプロピル単独重合樹脂とした以外は同様にして溶液を調製し、フィルムを製膜乾燥した。このフィルムに水銀ランプにて光を10分間照射し、架橋を行い、架橋フィルムとした。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は91、ヘーズは0.5であり、フィルム外観は良好であった。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて7×1010Ω/□と低かった。実施例6実施例1においてフィルム製膜厚さを150μmとした以外は同様にして溶液の調製から製膜、評価を行なった。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は91、ヘーズは0.5であり、フィルム外観は良好であった。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて7×1010Ω/□と低かった。実施例7実施例1において東邦化学製アンスティックスC-200四級アンモニウム塩系の界面活性剤0.36gフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対する界面活性剤:1.5重量部とした以外は同様にして溶液の調製から製膜、評価を行なったフィルム中の界面活性剤:フマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して1.5重量部。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は91、ヘーズは0.5であり、フィルム外観は良好であった。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて3×1010Ω/□と低かった。実施例8実施例1において東邦化学製アンスティックスC-200四級アンモニウム塩系の界面活性剤0.072gフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対する界面活性剤:0.3重量部とした以外は同様にして溶液の調製から製膜、評価を行なったフィルム中の界面活性剤:フマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して0.3重量部。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は91、ヘーズは0.5であり、フィルム外観は良好であった。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて8×1013Ω/□と低かった。比較例3実施例1において東邦化学製アンスティックスC-200四級アンモニウム塩系の界面活性剤1.2gフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対する界面活性剤:5重量部とした以外は同様にして溶液の調製から製膜、評価を行なったフィルム中の界面活性剤::フマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して5重量部。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は91、ヘーズは0.5であり、PETフィルムから剥離したフィルム面にはアンスティックスの著しい滲み、ベタツキが見られた。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて2×1010Ω/□と低かった。実施例9実施例1において東邦化学製アンスティックスC-200四級アンモニウム塩系の界面活性剤の代わりに米国ACL社製スタティサイドConcメチルビス2-ヒドロキシエチルココアルキル硝酸アンモニウム塩及びメチルビス2-ヒドロキシエチルココアルキルアンモニウム塩を主成分として60重量含有0.4gフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対する界面活性剤:1重量部とした以外はとした以外は同様にして溶液の調製から製膜、評価を行なったフィルム中の界面活性剤:フマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して1重量部。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は91.5、ヘーズは0.4であった。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて2×1010Ω/□と低かった。実施例10実施例1において東邦化学製アンスティックスC-200四級アンモニウム塩系の界面活性剤の代わりにエレクトロストリッパーME-2ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸塩3.6gフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対する界面活性剤:1.5重量部とした以外は同様にして溶液の調製から製膜、評価を行なったフィルム中の界面活性剤:フマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して1.5重量部。得られたフィルムの動的貯蔵弾性率E’は200°C、周波数10Hzにおいて2.0×107Pa以上であり、200°C以上の耐熱性を有していた。得られたフィルムの全光線透過率は91、ヘーズは0.5であった。この時のフィルム表面抵抗は印加電圧100Vにおいて3×1012Ω/□と低かった。実施例11実施例1のフィルムであって、面内位相差Reは0nm、面外位相差Rthは135nmであり、フィルムの屈折率はnx=1.4685、ny=1.4685、nz=1.4730であり、その関係はnz>nx=nyであった。このフィルムを偏光板保護フィルムとして、該偏光板保護フィルムの一方の面にポリエステルポリオールとイソシアネートの酢酸エチル溶液をバーコーターを用いて塗布し、ポリビニルアルコールヨウ素偏光板の両面に貼り合わせ、120°Cで1時間熱処理した。貼り合せたフィルム積層体は、加熱による剥離もなく、位相差補償フィルム及び/又は偏光板保護フィルムとして使用可能であった。実施例12実施例3のフィルムからなり、オーブン耐熱として200°C、30分保持にて劣化のないフィルムを室温、バックグラウンド圧として110-7torr、スパッタガス圧として0.6PaにおいてAr:80SCCM、N2:20SCCM、印加電圧としてRFマグネトロン500Wの条件にてスパッタを行い、厚み100nmの窒化ケイ素層をフィルム両面に形成した。このフィルム上に、温度200°C、バックグラウンド圧として110-7torr、スパッタガス圧として0.6PaAr:80SCCM、O2:20SCCM、印加電圧としてRFマグネトロン500wにてITOスパッタ処理にてITO膜を形成した。形成されたバリア膜およびITO膜は良好な密着を示し、タッチパネルフィルムとして使用可能であった。実施例13実施例3のフィルムからなり、オーブン耐熱として200°C、30分保持にて劣化のないことから液晶ディスプレイ用カラーフィルター基板として使用可能であった。"