"公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備であって、浴室へ向かう通路として、消毒エリアと洗浄エリアとを順次に設けてなり、消毒エリアには、25~40°Cの消毒液を横方向に噴射するシャワーが高さ60~120cmの範囲で壁に設けられ、かつ、シャワーから噴射された消毒液を貯留する深さ5~30cmの足洗パンが床に設けられ、洗浄エリアには、かかり湯としての30~42°Cの温水を貯留する温水槽が設けられていることを特徴とする公衆浴場の入口洗浄設備。洗浄エリアには、かかり湯としての30~42°Cの温水を噴射するシャワーが壁に設けられている請求項1に記載の入口洗浄設備。消毒エリア及び洗浄エリアの各壁には、高さ120~150cmの位置に荷物棚が設けられている請求項1又は2に記載の入口洗浄設備。かかり湯としての温水が、逆浸透膜を通して得られた純水である請求項1~3の何れかに記載の入口洗浄設備。ところで、公衆浴場においては、湯の温度が菌の繁殖に適した温度であり、しかも、スイミングプールに比べ、浴槽の水量に対する利用者数が多いため、スイミングプール以上に身体の前洗浄が必要である。特に、入浴前の身体の洗浄では、股間、足先などの下半身を十分に消毒洗浄する必要がある。しかしながら、スイミングプールに適用される身体洗浄技術では、水道水などを全身に浴びせるだけであり、十分な洗浄効果が得られない。また、浴場の場合は、洗髪しない場合は髪を濡らしたくないと言う要望もある。本発明は、上記のような実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備であって、十分な消毒効果および洗浄効果を発揮し得る公衆浴場の入口洗浄設備を提供することにある。本発明は、上記の課題を解決するため、消毒エリアと洗浄エリアとを順次に設け、消毒エリアを通過する際、消毒液のシャワーで入浴者の下半身を消毒し且つ消毒液が貯留された床の足洗パンで入浴者の足先を消毒すると共に、洗浄エリアにおいて、かかり湯により、身体に付着した消毒液を洗い流し且つ上半身を洗浄できるようにした。しかも、消毒液の温度およびかかり湯に使用する温水の温度を特定の温度に設定することにより、消毒洗浄効果を高め、かつ、入浴者に不快感を与えないようにした。すなわち、本発明の要旨は、公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備であって、浴室へ向かう通路として、消毒エリアと洗浄エリアとを順次に設けてなり、消毒エリアには、25~40°Cの消毒液を横方向に噴射するシャワーが高さ60~120cmの範囲で壁に設けられ、かつ、シャワーから噴射された消毒液を貯留する深さ5~30cmの足洗パンが床に設けられ、洗浄エリアには、かかり湯としての30~42°Cの温水を貯留する温水槽が設けられていることを特徴とする公衆浴場の入口洗浄設備に存する。本発明によれば、消毒エリアにおいて、特定の温度の消毒液を噴射するシャワーにより入浴者の下半身を消毒し且つ消毒液を貯留する足洗パンにより入浴者の足先を消毒し、洗浄エリアにおいて、かかり湯により、身体に付着した消毒液を洗い流し且つ上半身を洗浄できるため、浴室内への細菌類の持込みを低減できる。その結果、浴槽内への殺菌剤の過剰な添加も抑制できる。本発明に係る公衆浴場の入口洗浄設備以下、洗浄設備と略記する。の実施形態を図面に基づいて説明する。本発明の洗浄設備は、図5に符号1で示すように、公衆浴場の浴室3の入口に配置される身体洗浄用の設備である。図5は、大規模公衆浴場を例示したものであり、図5に示す公衆浴場は、脱衣室2及び浴室3とから主に構成されている。浴室3には、洗い場4、浴槽5が設置されている。また、浴室3には、サウナ室7及び水浴用の浴槽8が設けられている。更に、浴室3の庭として構築された屋外部分には、露天風呂を構成する浴槽6が設置されている。そして、浴槽6の周囲には、景観を高めるための人口の岩石が配置されている。本発明の洗浄設備1は、図5に示すように、脱衣室2から浴室へ向かう通路として設置されており、図2に示すように、消毒エリア1Aと洗浄エリア1Bとを順次に設けて構成されている。消毒エリア1Aは、入浴者の身体、特に下半身および足先を消毒するために設けられており、洗浄エリア1Bは、身体に付着した消毒液を洗い流し、上半身を洗浄するために設けられている。図1及び図2に示すように、消毒エリア1Aには、25~40°Cの消毒液を横方向に噴射するシャワー10が高さ60~120cmの範囲で壁に設けられている。消毒液としては、通常、次亜塩素酸ナトリウム水溶液塩素濃度100~600ppmが使用される。シャワー10は、水平方向に伸長された配管にスプレーノズルを取り付けて構成されており、シャワー10の配管は、消毒エリア1Aの左右の壁側に沿ってそれぞれ水平に配置されている。シャワー10を構成するスプレーノズルは、1つの配管に対して3~10個取り付けられている。通常、左右のシャワー10の間隔配管の間隔は、60~70cm程度であり、1つのシャワー10の長さスプレーノズルが取り付けられた配管の水平方向長さは1~1.5m程度である。シャワー10は、ポンプ13の稼働および当該ポンプの下流部に取り付けられた電磁弁図示省略の作動により、立上がり配管図1中の手前左側の縦配管、床下配管図1、図2中に仮想線で示した横配管及び立上がり配管図1中の手前右側の縦配管を通じて消毒液タンク12の消毒液を上記の水平な各配管に供給し、そして、スプレーノズルから噴射するようになされている。消毒液を貯留する消毒液タンク12は、高濃度の消毒液原液を貯留する原液タンク図示省略と、希釈用の水を供給する給水管と、スクリュー等の攪拌機と、消毒液の濃度を検出する濃度計図示省略とを備えており、消毒液タンク12おいては、後述する制御装置による消毒液原液および水の供給制御により、消毒液の貯液量と濃度を一定に維持するようになされている。消毒液タンク12は、予め一定濃度に調整された消毒液を残量に応じて供給するように構成されていてもよい。なお、シャワー10を作動させるための上記の電磁弁は、後述する入口のセンサー1sの信号に基づいて制御されるようになされている。シャワー10の設置高さスプレーノズルの高さは、通常は60~120cmの範囲、好ましくは90~100cmの範囲で設定される。シャワー10の高さを上記の範囲で設定することにより、身体の股間や臀部を直接消毒、洗浄することができ、浴室3内への細菌や汚れの持込みを確実に低減できる。シャワー10から噴射される消毒液の温度は、消毒エリア1Aを通過する入浴者に不快感を与えないため、通常は25~40°C、好ましくは30~35°Cに設定される。上記の消毒液タンク12には、ヒーター及び温度計図示省略が付設されており、検出温度に基づいてヒーターの通電を制御することにより、消毒液タンク12においては、消毒液の温度が一定、例えば30~35°Cに保持するようになされている。消毒エリア1Aには、シャワーから噴射された消毒液を貯留する深さ5~30cmの足洗パン11が床に設けられている。足洗パン11は、上記のシャワー10から噴射された消毒液を一時的に貯留し、消毒エリア1Aを通過する入浴者の足を消毒するため、床に落し込まれた構造で設けられている。足洗パン11に貯留される消毒液の温度は、シャワー10から噴射される消毒液の温度調節により、20~35°Cに設定されている。足洗パン11の深さは、通常は5~30cm、好ましくは10~20cmに設定されている。足洗パン11の深さを上記の範囲に設定することにより、歩行を困難にすることなく且つ足先の消毒、洗浄を効果的に行うことができる。なお、足洗パン11の消毒液は、後述する洗浄エリア1Bの床の排水ピット11pを通じて系外に排出されて入れ替るようになされている。また、消毒エリア1Aの一方の壁には、高さ120~150cmの位置に棚14が設けられている。すなわち、棚14は、上記のシャワー10よりも高い位置に配置されている。斯かる棚14は、入浴者が消毒エリア1Aを通過する際、浴室3へ持ち込む手荷物を濡らさないように一時的に載せておくためのものである。更に、図1に示すように、棚14の下方に棚15が設けられ、入浴者が手先や上半身を別途消毒するための消毒液の容器が載せられていてもよい。図1及び図2に示すように、洗浄エリア1Bには、かかり湯としての30~42°Cの温水を貯留する温水槽16が設けられている。温水槽16の温水としては、洗浄効果を高めるため、例えば逆浸透膜を通して得られた純水RO水、または、硬度80以下のいわゆる軟水が使用される。特に、洗浄効果の観点からは上記の純水が好ましい。斯かる純水RO水は、以下の純水製造装置によって製造することができる。すなわち、純水製造装置は、井戸水などの原水を貯留する原水槽と、粒状の塩を収容した殺菌用の塩素添加装置と、砂濾過器、無撚糸膜フィルター及び粒状炭素が収容されたカーボンフィルターを配置してなる前処理装置と、中空糸膜、スパイラル膜またはチューブラー膜からなる逆浸透膜モジュールと、逆浸透膜モジュールを透過させて得られた水を貯留する濾過水槽とから主として構成されている。そして、原水槽の水をポンプで塩素添加装置、前処理装置に供給することにより、殺菌処理を施し且つ異物や臭気を除去した後、更にポンプで逆浸透膜モジュールに供給することにより、塩類やその他の不純物、細菌類が完全に除去された純水を製造し、濾過水槽に蓄えるようになされている。上記のような純水製造装置の基本的な構造は周知であり、特開2007-326029、特開2008-161818、特開2010-08261等に開示されている。温水槽16は、洗浄エリア1Bの一方の壁側に沿って設けられている。温水槽16は、幅25~40cm程度、長さ80~150cm程度、上端高さ80~100cm程度の細長の箱状の水槽であり、その貯水量は80~300リットル程度とされている。温水槽16の湯の温度は、入浴者に不快感を与えないため、通常は30~42°C、好ましくは35~40°Cに設定されている。温水槽16は、上記の純水製造装置で製造され且つ加熱器で一定温度に加熱された温水が当該温水槽内の給湯口図示省略及び壁側の給湯口16cを通じて供給されるように構成されている。また、図2に示すように、洗浄エリア1Bには、かかり湯としての30~42°Cの温水を噴射するシャワー19が壁に設けられていてもよい。シャワー19は、温水槽16に供給する温水の一部、すなわち、純水製造装置で製造されて加熱器で一定温度に加熱された温水を噴射するようになされている。更に、図1及び図2に示すように、洗浄エリア1Bの壁には、高さ120~150cmの位置に棚17が設けられている。斯かる棚17は、入浴者が洗浄エリア1Bを通過する際、浴室3へ持ち込む手荷物を濡らさないように一時的に載せておくためのものである。なお、洗浄エリア1Bの床には、足洗パン11から溢れた消毒液、かかり湯として使用した水、温水槽16から溢れた水を系外に排出する排水ピット11pが温水槽16の下方に設けられている。本発明の洗浄設備1は、別途設けられた制御装置図示省略及び入口のセンサー1sによって作動するように構成されている。すなわち、図1及び図2に示すように、消毒エリア1Aの入口には、光源および受光部からなる光センサー等のセンサー1sが付設されており、シャワー10は、消毒エリア1Aに入った入浴者をセンサー1sで検出し、制御装置の働きで作動するようになされている。具体的には、洗浄設備1においては、入浴者が消毒エリア1Aに入るとシャワー10が作動し、消毒エリア1Aを通過する際、シャワー10により入浴者の下半身を消毒することができる。また、消毒液が貯留された床の足洗パン11により入浴者の足先を消毒することができる。更に、入浴者は、洗浄エリア1Bにおいて、温水槽16の温水を使用し、かかり湯によって身体に付着した消毒液や汚れを洗い流し且つ上半身を洗浄することができる。かかり湯としてシャワー19を使用することもできる。しかも、本発明では、消毒液の温度およびかかり湯に使用する温水の温度が特定の温度に設定されているため、消毒洗浄効果を高めることができ、かつ、入浴者に不快感を与えることがない。上記のように、本発明の洗浄設備1を使用した場合には、浴室3へ入室する入浴者の身体をその行動の流れにおいて消毒洗浄するため、浴室3内への細菌類の持込みを確実に低減できる。その結果、浴槽5,6の湯の汚れも低減でき、浴槽内への殺菌剤の過剰な添加も抑制できる。また、浴室3内への細菌類の持込みが減るため、感染症の発生を抑制することもできる。なお、本発明の洗浄設備は、図3に示すように、浴場の規模に応じて複数基、例えば2基を並列に配置することもできる。また、図5に示すように、浴場には、身体洗浄用の出口洗浄設備9が浴室3の出口に配置されていてもよい。出口洗浄設備9は、図4に示すように、洗浄エリアとして構成された洗浄設備であり、かかり湯としての温水を貯留する温水槽91が設置されている。また、かかり湯としての温水を噴射するシャワー93が壁に設けられている。符号92,94は、退室者がかかり湯を浴びる際に手荷物を置く棚を示している。そして、かかり湯に使用する温水としては、前述の洗浄設備1におけるかかり湯と同様に、逆浸透膜を通して得られた純水RO水が好ましい。公衆浴場に上記のような出口洗浄設備9を設けた場合には、家庭への細菌類の持ち帰りを減らすことができる。"