"平均粒子径が50μm以上の炭酸水素ナトリウムAの粉体と、疎水性ヒュームドシリカBの粉体と、1次粒子の平均粒子径が50nm以下の膠質炭酸カルシウムCの粉体とを混合し粉砕して酸性成分除去剤の粉体を製造する方法であり、得られる酸性成分除去剤の平均粒子径を3~20μm、酸性成分除去剤中の前記疎水性ヒュームドシリカBの含有割合を0.2~0.5質量、および、酸性成分除去剤中の前記膠質炭酸カルシウムCの含有割合を1.5~2.5質量、とすることを特徴とする酸性成分除去剤の製造方法。粉砕前の前記炭酸水素ナトリウムAの平均粒子径が50~300μmである、請求項1に記載の酸性成分除去剤の製造方法。前記疎水性ヒュームドシリカBの1次粒子の平均粒子径が5~50nmである、請求項1または2に記載の酸性成分除去剤の製造方法。前記膠質炭酸カルシウムCのBET比表面積が30m2/g以上である、請求項1~3のいずれかに記載の酸性成分除去剤の製造方法。前記膠質炭酸カルシウムCの煮亜麻仁油吸油量が50mL/100g以上である、請求項1~4のいずれかに記載の酸性成分除去剤の製造方法。分級手段を備えた粉砕手段で粉砕するとともに粉砕物を分級して前記平均粒径の酸性成分除去剤を得る、請求項1~6のいずれかに記載の酸性成分除去剤の製造方法。前記分級手段により分級された粉砕物のうち前記平均粒径を越える粉体を前記粉砕手段に戻す、請求項6に記載の酸性成分除去剤の製造方法。衝撃式粉砕機およびジェットミルから選ばれた粉砕手段により粉砕する、請求項1~7のいずれかに記載の酸性成分除去剤の製造方法。請求項1~8のいずれかに記載の製造方法で得られた酸性成分除去剤を、貯留設備に一旦貯留した後に、酸性成分を含む気体中に供給する、気体中の酸性成分除去方法。酸性成分除去剤を貯留設備から排出させて気体流に担持させ、酸性成分除去剤を担持した気体流を酸性成分を含む気体中に供給する、請求項9に記載の酸性成分除去方法。4の酸性成分除去剤においては、濾過層の脱落のしやすさやサイロからの排出のしやすさの指標となる引っ張り破断力が、炭酸カルシウムよりも炭酸マグネシウムの方がはるかに小さい特許文献4の表3。また、疎水性ヒュームドシリカよりも親水性ヒュームドシリカの方が小さくなる傾向にある特許文献4の段落[0022]および表3。そのため、実際の現場では、アルカリ土類金属の炭酸塩としては、炭酸マグネシウムが好適に用いられ、ヒュームドシリカとしては、親水性ヒュームドシリカが好適に用いられている。しかし、炭酸水素ナトリウムに炭酸マグネシウムおよび親水性ヒュームドシリカを添加した酸性成分除去剤であっても、酸性成分除去剤を一旦貯留させるサイロから排ガスへの供給が不安定となったり、濾過層の脱落を充分に抑制することはできず、さらなる改善が求められている。本発明は、バグフィルタの濾布における圧力損失の上昇および濾布からの酸性成分除去剤の漏れを抑制し、また、サイロからの排出トラブルが発生しにくく、取り扱い性に優れるとともに、濾布の表面に堆積した濾過層の脱落を充分に抑制できる酸性成分除去剤の製造方法および該製造方法で得られた酸性成分除去剤を用いた気体中の酸性成分除去方法を提供する。すなわち、濾布に与える影響に関する課題と、サイロからの排ガスへの供給の安定性に関する課題の双方の両立する新しい酸性成分除去剤を、粉体層の付着力、壁面摩擦力、ホッパー傾斜角、出口径、破断応力、残留圧損、洩れ濃度の各要素に着目して提供する。本発明の酸性成分除去剤の製造方法は、平均粒子径が50μm以上の炭酸水素ナトリウムAの粉体と、疎水性ヒュームドシリカBの粉体と、1次粒子の平均粒子径が50nm以下の膠質炭酸カルシウムCの粉体とを混合し粉砕して酸性成分除去剤の粉体を製造する方法であり、得られる酸性成分除去剤の平均粒子径を3~20μm、酸性成分除去剤中の前記疎水性ヒュームドシリカBの含有割合を0.2~0.5質量、および、酸性成分除去剤中の前記膠質炭酸カルシウムCの含有割合を1.5~2.5質量、とすることを特徴とする。粉砕前の前記炭酸水素ナトリウムAの平均粒子径は50~300μmであることが好ましい。また、前記疎水性ヒュームドシリカBの1次粒子の平均粒子径は5~50nmであることが好ましい。さらに、前記膠質炭酸カルシウムCのBET比表面積は30m2/g以上であることが好ましく、また、前記膠質炭酸カルシウムCの煮亜麻仁油吸油量は50mL/100g以上であることが好ましい。また、分級手段を備えた粉砕手段で粉砕するとともに粉砕物を分級して前記平均粒径の酸性成分除去剤を得ることが好ましく、その場合前記分級手段により分級された粉砕物のうち前記平均粒径を越える粉体を前記粉砕手段に戻すことがより好ましい。また、粉砕は、衝撃式粉砕機およびジェットミルから選ばれた粉砕手段により粉砕することが好ましい。本発明は、また、前記本発明の製造方法で得られた酸性成分除去剤を、貯留設備に一旦貯留した後に、酸性成分を含む気体中に供給する、気体中の酸性成分除去方法である。その場合、酸性成分除去剤を貯留設備から排出させて気体流に担持させ、酸性成分除去剤を担持した気体流を酸性成分を含む気体中に供給することが好ましい。本発明の製造方法で得られた酸性成分除去剤およびこれを用いた気体中の酸性成分除去方法によれば、バグフィルタの濾布における圧力損失の上昇および濾布からの酸性成分除去剤の漏れを抑制し、また、サイロからの排出トラブルが発生しにくく、取り扱い性に優れるとともに、濾布の表面に堆積した濾過層の脱落を充分に抑制できる。<酸性成分除去剤の製造方法>本発明の酸性成分除去剤の製造方法は、炭酸水素ナトリウムAの粉体と、疎水性ヒュームドシリカBの粉体と、膠質炭酸カルシウムCの粉体とを混合し、粉砕して製造する。粉砕を行う期間の大部分においてこれら3種の粉体が共存していることが必要である。したがって、これら3種の粉体を混合してその混合物を粉砕機に供給するかまたはこれら3種の粉体をほぼ同時に粉砕機に供給して、粉砕を行うことが好ましい。なお、本明細書において混合前の各粉体を原料粉体という。本発明の酸性成分除去剤の製造方法としては、次の理由から、原料粉体を混合してその混合物を粉砕機に供給するかまたは各原料粉体をほぼ同時に粉砕機に供給し、得られる酸性成分除去剤の平均粒子径が3~20μmになるように粉砕する方法が好ましい。i混合物の粉砕の際に、粉体に強いせん断応力を加えることで、二次凝集しがちな疎水性ヒュームドシリカBと1次粒子の平均粒子径が50nm以下である膠質炭酸カルシウムCを効率的に解砕し、粉砕された炭酸水素ナトリウムAの粒子の表面に疎水性ヒュームドシリカBと1次粒子の平均粒子径が50nm以下である膠質炭酸カルシウムCを1~2次粒子の状態で均一にまぶすことができる。ii粉砕された炭酸水素ナトリウムAの粒子は、粒子径が小さいと粒子同士の付着力が大きくなるため、固結したり、粉体の流動性が悪くなり、扱いにくくなる。また、疎水性ヒュームドシリカBは凝集性が強いため、炭酸水素ナトリウムAを3~20μmに粉砕した後にその炭酸水素ナトリウムAに疎水性ヒュームドシリカBを均一に混合させるには困難が伴う。本発明の方法で得られた酸性成分除去剤は、約3~20μmの平均粒子径となるように粉砕された炭酸水素ナトリウムAの粒子の表面に疎水性ヒュームドシリカBの微細粒子と膠質炭酸カルシウムCの微細粒子とが付着した構造を有する粒子からなると考えられる。粉砕においては、炭酸水素ナトリウムAの粉砕、疎水性ヒュームドシリカBの二次粒子の一次粒子や微細な二次粒子への解砕、膠質炭酸カルシウムCの一次粒子や微細な二次粒子への解砕、並びに、粉砕された炭酸水素ナトリウムA粒子の表面への微細粒子疎水性ヒュームドシリカBおよび膠質炭酸カルシウムCの一次粒子や微細な二次粒子の付着、等が生じることにより、酸性成分除去剤の粒子が生成すると考えられる。本発明における酸性成分除去剤は粉体であり、このような粒子の集合物からなると考えられる。粉砕手段としては、衝撃式粉砕機高速回転する羽根等による粉砕機、ジェットミル衝突気流による粉砕機、ボールミル等が好ましい。風力式分級機を備えた衝撃式粉砕機を用いると、粉砕機から排出される粒子を分級して粗粒子は再度粉砕機に戻しながら、原料粉末の混合物を粉砕することによって、高い収率で目的の平均粒子径の酸性成分除去剤を得ることができる。また、より細かい粉砕粒子を得たい場合は、ジェットミルを用いることが好ましい。ジェットミルは、動力に要する費用が高くなるが、粉砕手段としては微粒子化に適しており、篩い分けによる粗粒子除去なしに、高い収率で目的の平均粒子径の酸性成分除去剤を得ることができる。炭酸水素ナトリウムA原料粉体としての炭酸水素ナトリウムAは、平均粒子径が50μm以上の粒子からなる粉体であり、通常、平均粒子径が90~300μmの粒子からなる粉体であることが好ましい。炭酸水素ナトリウムの粉体は工業的には通常晶析法で製造される。平均粒子径が50μm未満の原料粉体を晶析法により工業的に効率よく得ることは困難を伴い、かつそのような平均粒子径が小さい原料粉体は流れ性が悪く取扱いにくい。また、平均粒子径が大きすぎる原料粉体では粉砕に大きなエネルギーを要する。なお、ここでいう原料粉体である炭酸水素ナトリウムAの平均粒子径は、標準篩を用いた測定器株式会社セイシン企業社製、自動乾式ふるい分け測定器ロボットシフターRPS-105によって測定したものである。疎水性ヒュームドシリカB原料粉体として使用する疎水性ヒュームドシリカBは、ヒュームドシリカ親水性ヒュームドシリカの表面に疎水化処理を施したものである。ヒュームドシリカとは、合成非晶質シリカのうち、乾式法により製造されるものである。具体的には燃焼法、自己燃焼法、加熱法により製造されるものが挙げられる。疎水化処理としては、ジメチルジクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン、オクチルシラン等によるシラン処理、ビニルトリメトキシシラン等によるシランカップリング剤処理、ジメチルポリシロキサン処理、メチルハイドロジェンポリシロキサン処理、脂肪酸処理等が挙げられる。疎水性ヒュームドシリカBの疎水化度は、0.8以上5以下が好ましい。疎水化度が0.8より少ないと、流動化の効果が充分には得られない。疎水化度が5超では、疎水性ヒュームドシリカBの凝集性が却って強くなり、同様に、充分な効果が得られない。また、疎水性ヒュームドシリカBは、市販のものから任意に選び得る。疎水性ヒュームドシリカBの疎水化度とは、ヒュームドシリカの表面に付着しているジメチルシラン等の疎水化処理剤の付着量の程度を示す指標であり、疎水性ヒュームドシリカBの炭素含有率で表す。疎水性ヒュームドシリカBの炭素含有率は、燃焼式の炭素量測定装置SUMIGRAPHNC-80株式会社住化分析センターやEMIA-110株式会社堀場製作所などによって測定される。酸性成分除去剤においては、疎水性ヒュームドシリカBは、その多くが1次粒子の状態で炭酸水素ナトリウムの粒子の表面に均一に分散されていることが好ましい。疎水性ヒュームドシリカBの多くが1次粒子の状態で分散していることで、疎水性ヒュームドシリカBが2次粒子の状態で存在する場合に比べて、酸性成分除去剤の流動性をさらに適度なものとすることができ、凝集による塊状化を抑制できる。そのため、原料粉体として使用する疎水性ヒュームドシリカBの1次粒子の平均粒子径は、5~50nmが好ましい。疎水性ヒュームドシリカBの1次粒子の平均粒子径が5nm未満では、凝集性が強く、酸性成分除去剤中への分散が難しい。疎水性ヒュームドシリカBの1次粒子の平均粒子径が50nmを超えると、所定の効果が得られない。ここでいう疎水性ヒュームドシリカBの1次粒子とは、SEM走査型電子顕微鏡観察像の目視により判断される構成粒子の最小単位をいう。また、疎水性ヒュームドシリカBの1次粒子の平均粒子径は、SEM走査型電子顕微鏡よって実測したものであり、具体的には100個の一次粒子についてその粒子径を計測し、計測値を算術平均したものである。膠質炭酸カルシウムC膠質炭酸カルシウムCとは、通常、1次粒子径が0.2μm以下の、いわゆるコロイダル炭酸カルシウムまたはコロイド炭酸カルシウムと呼ばれる沈降炭酸カルシウム合成炭酸カルシウムを指す。本発明においては、この膠質炭酸カルシウムCを原料粉体として使用する。原料粉体として使用する膠質炭酸カルシウムCの1次粒子の平均粒子径は、50nm以下であり、30nm以下がより好ましい。ここでいう膠質炭酸カルシウムCの1次粒子とは、SEM走査型電子顕微鏡観察像の目視により判断される構成粒子の最小単位をいう。また、膠質炭酸カルシウムCの1次粒子の平均粒子径は、SEM走査型電子顕微鏡よって実測したものであり、具体的には100個の一次粒子についてその粒子径を計測し、計測値を算術平均したものである。窒素吸着法での測定による膠質炭酸カルシウムCのBET比表面積は、30m2/g以上が好ましく、40m2/g以上がより好ましい。また、BET比表面積は85m2/g以下が好ましい。膠質炭酸カルシウムCの煮亜麻仁油吸油量は、50mL/100g以上が好ましい。また煮亜麻仁油吸油量は100mL/100g以下が好ましい。ここでいう膠質炭酸カルシウムCの煮亜麻仁油吸油量は、JISK5101-13によって測定したものである。割合酸性成分除去剤中の各成分の割合含有割合は製造に使用した各原料粉体の混合割合にほぼ等しい。ただし、酸性成分除去剤の製造において酸性成分除去剤に取り込まれなかった成分がある場合には各原料粉体の混合割合と酸性成分除去剤中の各成分の含有割合は異なる場合がある。たとえば、所定の大きさにまで粉砕されずに酸性成分除去剤に取り込まれなかった炭酸水素ナトリウムAが生じる場合がある。酸性成分除去剤中の各成分の含有割合は、そのような酸性成分除去剤に取り込まれなかった成分の量を除くことにより、各原料粉体の混合割合から計算することができる。また、得られた酸性成分除去剤中の各成分の量を測定することにより、酸性成分除去剤中の各成分の含有割合を決めることもできる。酸性成分除去剤100質量中の各成分の含有割合は、疎水性ヒュームドシリカBが0.2~0.5質量、膠質炭酸カルシウムCが1.5~2.5質量である。少量の添加物がある場合を除き、残余は炭酸水素ナトリウムAである。本発明で見出した組み合わせにおいて、疎水性ヒュームドシリカBの含有割合が0.2質量以上であれば、サイロからの排出性が充分に向上し、0.5質量以下であれば、濾布目詰まり等の問題も起こらない。膠質炭酸カルシウムCの含有割合が1.5質量未満では、粉体層の破断応力が大きくなり充分な効果を得られない一方、2.5質量を超える場合それ以上添加しても得られる効果は変わらない。酸性成分除去剤の平均粒子径酸性成分除去剤の平均粒子径は、3~20μmであり、5~10μmが好ましい。酸性成分除去剤の平均粒子径が3μm以上であれば、疎水性ヒュームドシリカBおよび膠質炭酸カルシウムCを併用することにより、充分な流動性が得られる。また、粒径が小さすぎて濾布を通過してしまう問題も回避できる。酸性成分除去剤の平均粒子径が20μm以下であれば、排ガス中の酸性成分を効率よく除去できる。酸性成分除去剤の平均粒子径は、レーザ回折散乱式粒度分布測定装置たとえば、日機装社製、マイクロトラックFRA9220を用いて測定した体積基準における平均粒子径である。以下、単に平均粒子径という場合、エタノールを媒体として該方法にて測定した値をいうものとする。酸性成分除去剤の特性酸性成分除去剤の粉体層の破断応力は、300mN以下が好ましく、250mN以下がより好ましい。酸性成分除去剤の粉体層の破断応力は、サイロ等の粉体を一旦貯留させる設備内部における粉体層の固結強度、崩れ易さの指標となる。すなわち、粉体層の破断応力が300mN以下であれば、濾布の表面に堆積した濾過層の脱落が生じにくく、また、濾布に対して逆流洗浄逆洗を施す際に、濾過層を濾布から容易に取り除くことができ、かつサイロでのラットホールやブリッジ形成の現象が発生しにくくなり、酸性成分除去剤を安定して供給することができる。粉体層の破断応力は小さい方が好ましいが、小さ過ぎると濾布の表面に濾過層を形成しにくくなり排ガス中の酸性成分を除去する機能が低下したり薬剤が無駄になるため、50mN以上であること好ましい。酸性成分除去剤の粉体層の破断応力は、吊り下げ式粉体層付着力測定装置ホソカワミクロン社製、コヒテスタCT-2型を用い、二分割セル法による計測によって求めることができる。酸性成分除去剤を用いた際の濾布における残留圧損は、後述する濾布残留圧損試験の方法によって得られる数値が、150Pa以下となることが好ましく、125Pa以下となることがより好ましく、100Pa以下となることがさらに好ましい。濾布における残留圧損が150Pa以下であれば、バグフィルタの濾布を構成する繊維の隙間に酸性成分除去剤の粒子の侵入の度合が小さく、バグフィルタの長期の安定した運転が可能となる。ただし、残留圧損が小さ過ぎると、濾布表面での濾過層が形成されにくくなり排ガス中の酸性成分を除去する機能が低下したり薬剤が無駄になるため、50Pa以上であることが好ましい。濾布からの酸性成分除去剤の漏れ濃度は、15mg/Nm3以下が好ましく、5mg/Nm3以下がさらに好ましい。濾布からの酸性成分除去剤の漏れが無いことが最も好ましいが、漏れ濃度が15mg/Nm3以下であれば、排出される煤塵による生活環境への負荷を低い水準に抑制できる。濾布における残留圧損および濾布からの酸性成分除去剤の漏れ濃度は、DINドイツ規格協会の制定したドイツ連邦規格に準拠した集塵性能試験装置FilterMediaTesterや、2007年に制定されたJISZ8909-1集塵用濾布の試験方法に準拠した装置による計測によって求めることができる。気体中の酸性成分除去方法本発明の製造方法で得られた酸性成分除去剤により処理し得る酸性成分を含む気体としては、一般廃棄物都市ゴミ、産業廃棄物、医療廃棄物等の焼却炉等からの塩化水素、フッ化水素、硫黄酸化物二酸化硫黄等を含む排ガス;ボイラ等からの硫黄酸化物二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫酸、窒素酸化物等を含む排ガス;各種製品の製造工程において不純物として酸性を示す物質が成分として混入しているガス等が挙げられる。酸性成分を含む気体の温度は、酸の露点酸の露点とは、酸性成分が、排ガス中の水分と結びついて液化する温度である。より高いことが好ましい。ゴミの焼却炉の排ガス処理の場合、ダイオキシンの生成抑制の点からは低い温度が好ましく、具体的には100~200°Cが好ましい。また、酸性成分除去の効率の観点と燃焼排ガスの熱を有効に利用するための熱回収効率の観点では150~250°Cが好ましい。本発明の製造方法で得られた酸性成分除去剤を用いて気体中の酸性成分を除去する方法としては、酸性成分を含む気体中に、本発明の製造方法で得られた酸性成分除去剤を一旦貯留させたサイロ等から排ガス中に供給し分散させて反応させた後、バグフィルタ等によって捕集する方法または、酸性成分除去剤を排ガス流にのせてバグフィルタの濾布表面担持させ、形成された濾過層を排ガスが通過する際に反応させる方法、またはこれらの併用が好ましい。通常一般には、効率のよい併用の手法が採用されている。サイロ等の酸性成分除去剤の貯留設備からの酸性成分除去剤の排出方法では、通常一般に使用される、ロータリーバルブやテーブルフィーダー等を問題なく使用できる。気体中への酸性成分除去剤の分散手段としては、たとえば、図1に示すような、排ガス中の酸性成分の除去装置を用いればよい。該装置においては、バグフィルタの濾布の表面に酸性成分除去剤の濾過層が形成されるため、効率的に酸性成分を除去できる。作用効果以上説明した本発明の製造方法で得られた酸性成分除去剤にあっては、疎水性ヒュームドシリカBと膠質炭酸カルシウムCを含むため、酸性成分除去剤の流動性を適度なものとすることができ、凝集による塊状化を抑制できる。また、膠質炭酸カルシウムCを含むため、酸性成分除去剤を構成する粒子同士の固結を防止することができる。このように適度な流動性と固結防止能を兼ね備えているため、濾布における圧力損失の上昇を抑制するとともに濾布の表面に堆積した濾過層の過度の脱落を抑制できる。また、サイロからの排出トラブルを未然に抑制でき、排ガスへの供給不良や、排ガスに対する分散不良による排ガス中の酸性成分と酸性成分除去剤との反応性の低下を抑制できる。特に、本発明の製造方法で得られた酸性成分除去剤にあっては、疎水性ヒュームドシリカBと膠質炭酸カルシウムCとを組み合わせているため、従来の酸性成分除去剤炭酸水素ナトリウムに炭酸マグネシウムおよび親水性ヒュームドシリカを添加した酸性成分除去剤、特許文献4に比べ、付着力、壁面摩擦角、ホッパー傾斜角、出口径の評価すべてにおいて優れ、濾布における圧力損失の上昇を抑制するとともに、濾布の表面に堆積した濾過層の脱落を充分に抑制でき、また、サイロからの排出トラブルを未然に抑制できる。特許文献4においては、炭酸カルシウムよりは炭酸マグネシウム、疎水性ヒュームドシリカよりは親水性ヒュームドシリカが優れていると考えられていたが、本発明においては、疎水性ヒュームドシリカBと1次粒子の平均粒子径が50nm以下である膠質炭酸カルシウムCとの組み合わせが最も優れていることが判明した。これは、混合、粉砕の操作時に1次粒子の平均粒子径が50nm以下である膠質炭酸カルシウムCの吸油量が大きい、すなわち2次粒子内の空隙率が高いため、より1次粒子に解砕されやすいことによると考えられる。また、ヒュームドシリカは球形で滑りがよく、特に疎水性ヒュームドシリカBの流動化剤としての効果が高いが、バグフィルターの目を詰まらせるなど、時に効きすぎの傾向がみられるが、1次粒子の平均粒子径が50nm以下である膠質炭酸カルシウムCの1次粒子は、立方体や紡錘状等、異形であり、同様の現象は起きにくいため、最適な効果が得られた、と考えている。以下に実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。疎水性ヒュームドシリカの疎水化度疎水性ヒュームドシリカの疎水化度は、燃焼式の炭素量測定装置CNアナライザーSUMIGRAPHNC-80により測定した。具体的には、ヘリウム、酸素の順にガスを燃焼炉内に通流させ、燃焼炉内を800°Cに昇温した後、石英セルに測定試料を20~30mg秤量して燃焼炉内へ入れ、炉内で1分間燃焼させた後、発生したガスをCNアナライザーにより測定し、試料中の炭素含有率を求め、それを疎水化度とした。<せん断試験>リング状のせん断セルジェニケセル、内直径:64mm、ステンレス鋼SUS316製を用いたせん断試験を実施し、酸性成分除去剤の付着力、壁面摩擦角、ホッパー傾斜角、出口径を下記のようにして求めた。付着力試験に用いる垂直荷重Wおよびせん断荷重W1~W3は、試験粉体のかさ比重にしたがい、表1のように決定した。酸性成分除去剤を詰めた下部固定型せん断セル上蓋に垂直荷重かけて予圧密を行い、同じ垂直荷重を加えたまま定常値になるまでせん断し、圧密を行った。この後、表1にしたがい、せん断荷重をかけながらせん断応力を測定し、プロットして破壊包絡線を得て、この破壊包絡線の切片から、酸性成分除去剤の付着力を求めた。壁面摩擦角試験に用いる垂直荷重Wおよびせん断荷重W1~W4は、試験粉体のかさ比重にしたがい、表2のように決定した。酸性成分除去剤を詰めた底部材質がステンレス鋼SUS316となっているせん断セル上蓋に垂直荷重かけて予圧密を行い、この後、表2にしたがい、せん断荷重をかけながらせん断応力を測定し、プロットして壁破壊包絡線を得た。この壁破壊包絡線の傾きから、ステンレス鋼SUS316との壁面摩擦角を得た。ホッパー傾斜角測定値から算出された壁面摩擦角を用い、ff等高線より酸性成分除去剤のホッパー傾斜角を得た。出口径付着力試験の際の垂直荷重をレベル1とし、表3のレベル2~4についても同様の試験を行い、それぞれの破壊包絡線を得た。これらのプロットから各々のレベルの最大主応力と、非拘束破壊応力を読み取り、粉体の流動関数として直線FFを求めた。このFFと、壁面摩擦角とホッパー傾斜角による直線ffとの交点からfc非拘束破壊応力を求めた。さらに次式より出口径を得た。出口径[cm]=fc×出口関数÷使用粉体のかさ密度ここでいう出口関数は、ホッパー傾斜角とホッパーの形状によって決定される関数を指す。<破断応力試験>吊り下げ式粉体層付着力測定装置ホソカワミクロン社製、コヒテスタCT-2型を用いた破断応力試験を実施し、酸性成分除去剤の破断応力を下記のようにして求めた。破断応力試料の約20gを、2つの円筒内径:50mm、高さ:20mmを底面で重ねてなる二分割セルに充填し、予圧密荷重:480Pa、温度:20°C、相対湿度:50の環境下で2時間加圧し、粉体層を圧縮した。該セルの片方を1mm/分の速度で円筒の軸に直交する方向に引張り、円筒の底面部で粉体層にせん断応力を与え、粉体層の破断時の破断応力を測定した。<濾布残留圧損試験>JISZ8909-1集塵用濾布の試験方法に準拠した集塵性能試験装置を用い、残留圧損、漏れ濃度を下記のようにして求めた。残留圧損テストフィルタとして、ガラス繊維二重織濾布ユニチカ社製、WB992KRを用い、濾過面積:0.0139m2、濾過速度:2.0m/分、ダスト濃度:5.0g/m3、パルス圧力:0.5MPa、パルスによるフィルタークリーニングの実行圧=逆洗時のフィルターの差圧:1,000Pa、パルス作動時間:50ms、の条件にて集塵払い落としを15回行う運転を継続の後、運転を停止して、ダストの供給を停止し、10回のパルスジェットを実施し、その後に測定した圧力損失を残留圧損として採用した。漏れ濃度さらに、濾布からの漏れ濃度は、テストフィルタの後段に設置したアブソリュートフィルタで捕捉した粉体量と、通過ガス量とから算出した。原料粉体A1:高反応性消石灰レーザ回折散乱式粒度分布測定装置による平均粒径:9μm、BET比表面積:45m2/g。A2:炭酸水素ナトリウム標準篩を用いた篩分け方による平均粒子径:95μm。B1:疎水性ヒュームドシリカSEMでの実測による1次粒子の平均粒子径:20nm、疎水化度:1。B2:親水性ヒュームドシリカSEMでの実測による1次粒子の平均粒子径:20nm、疎水化度:0。C1:塩基性炭酸マグネシウムレーザ回折散乱式粒度分布測定装置による平均粒子径:7μm。C2:膠質炭酸カルシウム1次粒子の平均粒子径:20nm、BET比表面積49m2/g、煮亜麻仁油吸油量:85mL/100g。C3:膠質炭酸カルシウム1次粒子の平均粒子径:80nm、BET比表面積18m2/g、煮亜麻仁油吸油量:25mL/100g。比較例1~5、実施例1、2酸性成分除去剤の製造酸性成分除去剤中の固結防止剤の割合が表4に示す割合となるように、炭酸水素ナトリウムの原料粉末と表4に示す固結防止剤の原料粉体とを混合した後、風力式分級機を備えた衝撃式粉砕機ホソカワミクロン社製、ACMパルベライザーACM―10A型を用い、粉砕機から排出される粉末を分級し、粗粒子は再度粉砕機に戻しながら粉砕することによって、平均粒子径:9μmの酸性成分除去剤を得て、高反応性消石灰と比較した。なお、酸性成分除去剤の平均粒子径は、レーザ回折散乱式粒度分布測定装置日機装社製、マイクロトラックFRA9220を用いて測定した体積基準における平均粒子径である。後述の比較例6~12、実施例3~8においても同じである。せん断試験得られた酸性成分除去剤について前述のせん断試験を実施し、付着力、壁面摩擦角、ホッパー傾斜角、出口径を求めた。結果を表4に示す。表中の評価はそれぞれ、◎:優、○:良、△:可、×:不可であることを示す。付着力は、酸性成分除去剤の粉体同士の相互付着力の指標であり、小さい方が好ましい。壁面摩擦角は、酸性成分除去剤と容器との相互付着力の指標であり、小さい方が好ましい。ホッパー傾斜角は、図4に説明される粉体のサイロからの安定した排出に必要とされるサイロ底面傾きの角度αであり、大きい方がより取扱やすい。出口径は、酸性成分除去剤のサイロからの安定した排出に必要とされるサイロ出口の口径であり、小さい方が好ましい。これまでは、従前より用いられてきた消石灰以上に、サイロ内の流動性が優れた酸性成分除去剤はなかなか得られなかったが、実施例1と、特に実施例2の酸性成分除去剤が、すべての評価項目において優れた結果を示していることがわかる。比較例6~12、実施例3~8酸性成分除去剤の製造酸性成分除去剤中の固結防止剤の割合が表5に示す割合となるように、炭酸水素ナトリウムの原料粉体と表5に示す固結防止剤の原料粉体とを混合した後、風力式分級機を備えた衝撃式粉砕機ホソカワミクロン社製、ACMパルベライザーACM―10A型を用い、粉砕機から排出される粉末を分級し、粗粒子は再度粉砕機に戻しながら粉砕することによって、平均粒子径:9μmの酸性成分除去剤を得た。破断応力試験、濾布残留圧損試験得られた酸性成分除去剤について前述の破断応力試験、濾布残留圧損試験を実施し、破断応力、残留圧損、漏れ濃度を求めた。結果を表5に示す。破断応力は、圧密時の粉体層の崩れやすさを反映するため、濾布の表面に堆積した濾過層の脱落しやすさおよびサイロなど貯留設備からの排出のしやすさを示す指標であり、小さい方が好ましい。実施例3~8の酸性成分除去剤が、すべての評価項目において優れた結果を示していることがわかる。なお、比較例12は特許文献4における実施例13と同じ配合であるが、残留圧損の値が違う。これは特許文献4においてはドイツ規格に準じた装置であったのに対し、本明細書においてはJIS規格に準じた装置で測定を行ったためである。貯留設備からの供給と酸性成分の除去実施例4で得た酸性成分除去剤を、粉体流動化策としてのエアレーションノズルエムテクニック社製、フルイダイザーを設置したサイロに一旦貯留し、テーブルフィーダーにて排出し、図1に示されるフローを流れる塩化水素を含む排ガス中へ供給を実施したところ、酸性成分除去剤は安定してサイロから排出され、塩化水素は安定して除去された。また、バグフィルタでの問題は一切発生せず安定した運転が得られた。"