所定のパターンが形成された印刷版が外周面に装着されており、前記印刷版を被印刷体に押圧させつつ、前記印刷版に塗布された印刷材料を前記被印刷体に転写する版胴と、前記版胴に対して相対的に移動するとともに、前記被印刷体を保持するステージと、前記印刷版が前記被印刷体に転写したパターンの空間的な変動量を検出する変動量検出部と、前記印刷版と前記ステージとの間隔を、前記被印刷体における前記版胴の軸心方向に沿う第1方向又は前記第1方向に直交する第2方向の位置毎に、前記変動量に基づいて調節する第1間隔調節機構と、を備える印刷装置。請求項1に記載の印刷装置であって、前記変動量検出部は、前記第1方向における前記パターン各々の位置毎の線幅の変動量を検出し、前記第1間隔調節機構は、前記変動量に基づいて前記版胴の回転軸の傾きを調節することで前記ステージの傾きと前記印刷版の傾きとを平行にさせる、印刷装置。請求項2に記載の印刷装置であって、前記印刷版に印刷材料を供給する塗布液供給ローラと、前記塗布液供給ローラの回転軸の傾きを調節することで、前記塗布液供給ローラの傾きと前記印刷版の傾きとを平行にさせる第2間隔調節機構と、をさらに備える、印刷装置。請求項1ないし3のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記変動量検出部は、前記第2方向における前記パターンの位置毎の線幅の変動量を検出し、前記第1間隔調節機構が、前記基板の第2方向における位置に応じて前記印刷版と前記ステージとの間隔を前記変動量に基づいて調節する、印刷装置。請求項1ないし4のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記変動量検出部は、前記パターンの転写開始位置と転写終了位置との前記第1方向における変動量を検出し、前記第1間隔調節機構が、前記基板の前記第2方向における位置に応じて前記印刷版と前記ステージとの間隔を前記変動量に基づいて調節する、印刷装置。請求項1ないし5のいずれか一つに記載の印刷装置であって、前記パターンは前記第2方向に沿う直線パターンであり、前記被印刷体には複数の前記直線パターンが配列されたストライプパターンが形成されている、印刷装置。所定のパターンが形成された印刷版が外周面に装着された版胴から前記ステージに保持された第1被印刷体に印刷材料を転写する第1印刷工程と、前記第1印刷工程によって前記第1被印刷体に印刷されたパターンの空間的な変動量を検出する変動量検出工程と、前記変動量検出工程で検出された前記変動量に基づいて、前記印刷版と前記ステージとの間隔を、前記第1被印刷体における前記版胴の軸心方向に沿う第1方向又は前記第1方向に直交する第2方向の位置毎に調節しつつ、前記印刷版から第2被印刷体に前記印刷材料を転写する第2印刷工程と、を備える印刷方法。しかしながら、上記特許文献1又は特許文献2に開示されている技術を、有機EL発光材料を用いた印刷に利用しても、被印刷体に印刷されたパターンの変形及びムラは十分に抑えられない。特に印刷版の押し込みが被印刷体の部分毎に変動することに起因する、発光材料の転写量の変動及び印刷版の変形等の問題には対処が難しい。本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、被印刷体に印刷されたパターンの変形及びムラを十分に抑えられる技術を提供することを目的とする。第1の発明は、印刷装置であって、所定のパターンが形成された印刷版が外周面に装着されており、前記印刷版を被印刷体に押圧させつつ、前記印刷版に塗布された印刷材料を前記被印刷体に転写する版胴と、前記版胴に対して相対的に移動するとともに、前記被印刷体を保持するステージと、前記印刷版が前記被印刷体に転写したパターンの空間的な変動量を検出する変動量検出部と、前記印刷版と前記ステージとの間隔を、前記被印刷体における前記版胴の軸心方向に沿う第1方向又は前記第1方向に直交する第2方向の位置毎に、前記変動量に基づいて調節する第1間隔調節機構と、を備える。第2の発明は、第1の発明に係る印刷装置であって、前記変動量検出部は、前記第1方向における前記パターン各々の位置毎の線幅の変動量を検出し、前記第1間隔調節機構は、前記変動量に基づいて前記版胴の回転軸の傾きを調節することで前記ステージの傾きと前記印刷版の傾きとを平行にさせる。第3の発明は、第2の発明に係る印刷装置であって、前記印刷版に印刷材料を供給する塗布液供給ローラと、前記塗布液供給ローラの回転軸の傾きを調節することで、前記塗布液供給ローラの傾きと前記印刷版の傾きとを平行にさせる第2間隔調節機構と、をさらに備える。第4の発明は、第1の発明ないし第3の発明のいずれか一つに係る印刷装置であって、前記変動量検出部は、前記第2方向における前記パターンの位置毎の線幅の変動量を検出し、前記第1間隔調節機構が、前記基板の第2方向における位置に応じて前記印刷版と前記ステージとの間隔を前記変動量に基づいて調節する。第5の発明は、第1の発明ないし第4の発明のいずれか一つに係る印刷装置であって、前記変動量検出部は、前記パターンの転写開始位置と転写終了位置との前記第1方向における変動量を検出し、前記第1間隔調節機構が、前記基板の前記第2方向における位置に応じて前記印刷版と前記ステージとの間隔を前記変動量に基づいて調節する。第6の発明は、第1の発明ないし第5の発明のいずれか一つに係る印刷装置であって、前記パターンは前記第2方向に沿う直線パターンであり、前記被印刷体には複数の前記直線パターンが配列されたストライプパターンが形成されている。第7の発明は、印刷方法であって、所定のパターンが形成された印刷版が外周面に装着された版胴から前記ステージに保持された第1被印刷体に印刷材料を転写する第1印刷工程と、前記第1印刷工程によって前記第1被印刷体に印刷されたパターンの空間的な変動量を検出する変動量検出工程と、前記変動量検出工程で検出された前記変動量に基づいて、前記印刷版と前記ステージとの間隔を、前記第1被印刷体における前記版胴の軸心方向に沿う第1方向又は前記第1方向に直交する第2方向の位置毎に調節しつつ、前記印刷版から第2被印刷体に前記印刷材料を転写する第2印刷工程と、を備える。第1の発明ないし第6の発明において、変動量検出部が、被印刷体に転写されたパターンの空間的な変動量を検出し、第1間隔調節機構が印刷版とステージとの間隔を、版胴の軸心方向に沿う第1方向又は第1方向に直交する第2方向の位置毎に、変動量に基づいて調節する。これによって、版胴に装着された印刷版によって被印刷体が押し込まれる押し込み量が調節されるため、転写されたパターンの変形及びムラを抑えられる。特に、第2の発明において、変動量検出部は、第1方向におけるパターン各々の位置毎の線幅の変動量を検出し、第1間隔調節機構が変動量に基づいて版胴の回転軸の傾きを調節することでステージの傾きと印刷版の傾きとを平行にさせる。従って、第1方向における各パターンの線幅は一定の値に近づけることができる。特に、第3の発明において、第2間隔調節機構は、塗布液供給ローラの回転軸の傾きを調節することで、塗布液供給ローラの傾きと印刷版の傾きとを平行にさせる。このため、塗布液供給ローラから印刷材料を均等に印刷版に供給することができる。特に、第4の発明において、変動量検出部は第2方向におけるパターンの位置毎の線幅の変動量を検出し、第1間隔調節機構は、基板の位置に応じて間隔を調節する。従って、第2方向におけるパターンの線幅は一定の値に近づけることができる。特に、第5の発明において、変動量検出部は、パターンの転写開始位置と転写終了位置との第1方向における変動量を検出し、第1間隔調節機構が基板の第2方向における位置に応じて前記印刷版と前記ステージとの間隔を前記変動量に基づいて調節する。従って、パターンが転写開始位置から転写終了位置に向かって第1方向に変動することを抑えられる。第7の発明において、変動量検出工程にて検出された変動量に基づいて、印刷版とステージとの間隔を、第1被印刷体における版胴の軸心方向に沿う第1方向又は第1方向に直交する第2方向の位置毎に調節しつつ、印刷版から第2被印刷体に印刷材料を転写する。これによって、版胴に装着された印刷版によって第2被印刷体が押圧される押圧量が調節されるため、転写されたパターンの変形及びムラを抑えられる。以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。<1.印刷装置について>図1には、印刷装置10の概略側面図が示されている。また、図2には、印刷装置10の上面図が示されている。また、図3には、版胴14とステージ22との間隔を示す図が示されている。図1に示される印刷装置10では、版胴14の外周面に装着された印刷版17の表面に形成された塗布液のパターンPTが被印刷体に転写されることによって有機ELディスプレイの各表示素子画素のパターンPTの形成が行われる。なお、塗布液には有機ELの発光材料有機材料が使用され、被印刷体として基板ガラス基板Wが使用される。印刷装置10は、基台20、基板Wが載置された状態で基台20上を往復移動するステージ22、その外周面に印刷版17を装着する版胴14、軸芯が版胴14の軸芯と平行に配置され、印刷版17の表面に塗布液を供給する塗布液供給ローラ12、この塗布液供給ローラ12の軸芯方向に延びるスリットを有し、塗布液供給ローラ12に塗布液を供給する塗布液供給ノズル11及び転写されたパターンPTの画像を撮影する撮像部80を備える。また、印刷装置10は、装置の各動作機構を制御して印刷処理を実行させるとともに、所定のプログラム70に則って、印刷処理に関するデータを設定することができる制御部90図4参照を備える。本実施形態では制御部90は印刷装置10の一部となっているが、印刷装置10は別体に構成されたコンピュータであってもよい。本実施形態では、制御部90が、印刷版17が基板Wに転写したパターンPTの空間的な変動量を検出する変動量検出部に相当する。図1に示されるように、基台20上には、一対の直動ガイド32、リニアモータ31、リニアスケール33が配設されている。この直動ガイド32は、その長手方向が版胴14の回転軸に直交する方向Y軸方向に沿うように基台20上に配設されており、リニアモータ31はこの一対の直動ガイド32の間に配設されている。なお、以下において、版胴14の回転軸に沿う方向X軸方向を軸心方向第1方向と称し、版胴14の回転軸に直交する方向Y軸方向を印刷方向第2方向と称する。また、基板Wが載置されるステージ22の面に直交する方向Z軸方向を高さ方向と称する。このX軸及びY軸により構成される面が水平面であるとともに、Z軸が水平面に対する鉛直軸である。ステージ22は、これらの直動ガイド32、リニアモータ31及びリニアスケール33と連結されている。従って、ステージ22は、リニアモータ31の駆動をうけて直動ガイド32に沿って往復移動する。ステージ22の位置情報はリニアスケール33によって検出され、制御部90に送信される。ステージ22の上面には複数の図示しない吸引孔が形成されており、この吸引孔に負圧吸引圧を形成することによって、ステージ22上に載置された基板Wは水平姿勢に固定保持される。版胴14は、円筒形状を有するローラであり、軸心方向X軸方向に沿って延設された回転軸141を中心にしてモータ142によって回転可能に配置されている。この版胴14は、基板Wの搬送路をまたぐようにして設置されており、版胴14の回転軸141の両端に設けられた一対のボールネジ140によって支持されている。このボールネジ140は、直動ガイド32の側方における基台20の面から、高さ方向に延び出ている。ボールネジ140と版胴14との接続部分は、ボールネジ140の各々に接続された一対のモータ1401の駆動によって昇降、すなわち高さ方向に変位する。このボールネジ140が本実施形態における第1間隔調節機構に相当する。制御部90がモータ1401の駆動を制御する。つまり、ボールネジ140と版胴14との接続部分は制御部90からの信号に基づいて高さ方向に変位する。なお、本実施形態では、一方のボールネジ140が接続されている版胴14の端部とステージ22との間隔を間隔Z1、他方のボールネジ140が接続されている版胴14の端部とステージ22との間隔を間隔Z2とする図3参照。制御部90は、ボールネジ140各々を個別に制御して間隔Z1と間隔Z2とを調節する。つまり、版胴14の回転軸141の傾きはステージ22の表面に対して自在に調節され、軸心方向における印刷版17の部分とステージ22との間隔が調節される。制御部90はモータ1401の駆動を制御することでボールネジ140と版胴14との接続部分の高さ方向の変位量を算出し、初期状態の間隔Z1及び間隔Z2の値から当該変位量に基づいて、変位後の間隔Z1及びZ2の値を算出する。なお、非接触センサなどを用いてステージ22の表面と版胴14の下端との間隔をより厳密に計測する機構が採用されても構わない。版胴14の外周面には印刷版17が装着される。この印刷版17は、ポリエステル系樹脂またはゴムなどで作製される。印刷版17はパターンに応じて形成された凸部を構成する樹脂層と、樹脂層を支持するベース層と、を備える凸版である。凸部は、複数の直線状のパターンPTが平行に配置されたストライプパターンを形成している。この印刷版17に形成されたストライプパターンは、有機ELディスプレイのマトリクス状の画素配列の各列に対応して設計された設計データ上のストライプパターンに一致する。設計データは、例えば、CADなどによってコンピュータ上に作成される。レーザ光がこの設計データに基づいて直接版上に出力を行うことによって、印刷版17が作製される。印刷版17は版胴14の外周面上に、版胴14の回転軸に対して直線状のパターンPTが直交する向きに装着される。つまり、版胴14に装着された印刷版17では、その直線状のパターンPTの長手方向が印刷方向に一致する。このような印刷版17が印刷処理に使用されることによって、図2に示されるようなパターンPTが基板W上に形成される。塗布液供給ローラ12は、版胴14と平行につまりX軸方向に沿って配置されている。塗布液供給ローラ12の上方には塗布液の貯留源に連結された塗布液供給ノズル11が設置されている。塗布液供給ノズル11は、塗布液供給ローラ12の回転軸心方向X軸方向に延びるスリットから、塗布液供給ローラ12の表面に塗布液として有機ELの高分子材料を吐出する。この塗布液供給ローラ12の回転軸121の一端にはモータ122が設けられており、塗布液供給ローラ12を回転させる。この回転軸121の両端には、回転軸121を支持する一対の回転軸支持部125が設置されている。なお、モータ122が設けられた回転軸121の一端では、モータ122の下端に回転軸支持部125が設けられた構造が採用されている。このような一対の回転軸支持部125各々がボールネジ120に接続されている。ボールネジ120各々はその長手方向が印刷方向に沿うように設置されており、一対のモータ1201に接続されている。ボールネジ120は、モータ1201の駆動によって、回転軸121と回転軸支持部125との接続部分を印刷方向に沿って変位させる。これによって、版胴14の外周面と塗布液供給ローラ12の外周面との間隔が調節される。つまり、印刷版17と塗布液供給ローラ12との間隔が調節される。このボールネジ120が本実施形態における第2間隔調節機構に相当する。本実施形態では、一方のボールネジ120に接続された塗布液供給ローラ12の端部と版胴14との間隔を間隔H1とし、他方のボールネジ120に接続された塗布液供給ローラ12の端部と版胴14との間隔を間隔H2とする図2参照。モータ1201は制御部90によってその駆動を制御され、ボールネジ120を各々動作させることが可能である。つまり、間隔H1と間隔H2とは個別の値に設定可能である。制御部90はモータ1201の駆動を制御することで回転軸121と回転軸支持部125との接続部分の印刷方向における変位量を算出し、初期状態の間隔H1及び間隔H2の値から変位後の間隔H1及び間隔H2の値を算出する。なお、非接触センサなどを用いて版胴14の表面と塗布液供給ローラ12の表面との距離をより厳密に計測する機構が採用されても構わない。撮像部80は、転写されたパターンPTを撮影するライセンサカメラ801とパターンPTに光を照射する照明802とを備える。このライセンサカメラ801及び照明802は、昇降テーブル21よりも基板Wの搬送方向の下流側において、基板Wの搬送路の上方に設置されている。この撮像部80では、照明802が基台20に向けて光を照射しつつ、ライセンサカメラ801が、搬送されてくる基板Wに形成されたパターンPTの画像を順次撮影していく。撮影された画像のデータは制御部90に送信され、パターンPTの変動量の算出に使用される。本実施形態では、撮像部80は3基設置されており、各撮像部80が軸心方向に3等分された基板Wの領域を撮影する。なお、上述の塗布液供給ノズル11、塗布液供給ローラ12、版胴14、撮像部80などは基板Wの搬送路をまたぐようにして設けられた昇降テーブルに一体に搭載される形態であっても構わない。この場合、昇降テーブルを第1間隔調節機構として採用しても構わない。図4は、制御部90のハードウェア構成を示すブロック図である。制御部90のハードウェアとしての構成は、一般的なコンピュータと同様である。即ち、制御部90は各種演算処理を行うCPU91、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるRОM92、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるRAM93及び制御用ソフトウェア、又はデータなどを記憶しておく磁気ディスク94をバスライン99に接続して構成されている。磁気ディスク94には後述するプログラム70が記憶されている。また、キーボード及びマウスなどの入力部95がバスライン99に接続されている。また、バスライン99には、版胴14を回転させるモータ142、塗布液供給ローラ12を回転させるモータ122、ボールネジ140のモータ1401、ボールネジ120のモータ1201、ライセンサカメラ801、照明802、ステージ22を直動移動させるリニアモータ31、ステージ22の位置情報を検出するリニアスケール33などが、電気的に接続されている。上記の構成以外にも印刷装置10は、版胴14及び塗布液供給ローラ12をそれぞれ洗浄する洗浄機構を備えている。<2.印刷処理について>図5には、処理の流れを示すフローチャートが示されている。このフローチャートに沿って、上述の構成を有する印刷装置10における処理動作について説明する。本実施形態では、はじめに調整工程が行われる。この調整工程において、版胴14とステージ22との間隔に関する補正データが算出され、制御部90のメモリに記憶される。調整工程では、はじめに調整用印刷処理ステップS1が実施され、調整用基板CW上にパターンPTが転写される。以下において、調整用印刷処理を具体的に説明する。実際の印刷処理で用いられる基板Wと同程度のサイズを有する調整用基板CWがステージ22上に載置された状態で搬送されてくる。それとともに、塗布液供給ノズル11から塗布液供給ローラ12に塗布液の供給が開始される。これによって、塗布液供給ローラ12の外周面に塗布液の被膜が形成される。版胴14及び塗布液供給ローラ12の回転が開始されると、塗布液供給ローラ12と版胴14に装着された印刷版17との当接部分から塗布液が印刷版17に供給される。版胴14の回転によって、塗布液が供給された印刷版17が、搬送されてくる調整用基板CWの表面に押し込まれ、パターンPTが調整用基板CWに転写される。つまり、印刷方向に沿う直線状のパターンPTが平行に複数配列されたストライプパターンが調整用基板CW上に形成される。本実施形態では、調整用基板CW上の3箇所にストライプパターンが形成されている図2参照。なお、最初の調整用印刷処理時には、ステージ22と版胴14との間隔及び版胴14と塗布液供給ローラ12との間隔は一定に保持されている。つまり、ステージ22の表面、版胴14の回転軸及び塗布液供給ローラ12の回転軸は平行に配置された状態である。また、転写されたパターンPTの線幅が設計データ上のパターンPTの線幅と同様に形成されるように、ステージ22と版胴14との間隔は調節されている。調整用印刷処理によってパターンPTが転写された調整用基板CWに対して画像撮影処理ステップS2が実施される。画像撮影処理では、撮像部80が調整用基板CWに形成されたパターンPTを撮影し、撮影されたパターンPTの転写データを制御部90に送信する。撮像部80が複数基存在する場合には、撮像部80毎に撮影領域は分割されて、画像撮影処理が行われる。続いて、変動量検出処理ステップS3が実施される。制御部90は撮影されたパターンPTの転写データに基づいて、パターンPTの空間的な変動量を検出し、変動量が適正値の範囲に収まっているか否かを判定するステップS4。ここで、適正値とは、製品の品質を保持可能な許容される変動量をいう。変動量が適正値の範囲外である場合には補正処理ステップS5が行われる。なお、変動量検出処理及び補正処理以下において、その2つを合わせて補正データ算出処理と称するについては後に詳述する。補正処理において、版胴14とステージ22との間隔を補正する補正データが算出される。パターンPTの変動量を適正値の範囲に収められる補正データが算出されるまで、調整工程は繰り返される。算出された補正データはその都度制御部90に記憶される。パターンPTの変動量を適正値の範囲内に収められる補正データが算出されると、当該補正データに則って、版胴14とステージ22との間隔が調節された状態で、実際の製品を製造するための印刷処理ステップS6が実施される。印刷処理は以下の流れで実施される。はじめに、塗布液が塗布液供給ノズル11から塗布液供給ローラ12に供給され、塗布液供給ローラ12の外周面に塗布液の被膜が形成される。版胴14及び塗布液供給ローラ12の回転が開始され、塗布液供給ローラ12と版胴14に装着された印刷版17との当接部分から塗布液が印刷版17に供給される。版胴14の回転によって、塗布液が供給された印刷版17が、搬送されてくる基板Wの表面に押し込まれ、パターンPTが基板Wに転写される。基板Wのサイズ、またはパターンPTが変更されるまで、印刷処理は連続して行われる。<2-1.調整工程について>以下において、補正データ算出処理変動量検出処理及び補正処理を中心に、調整工程について説明する。パターンPTの空間的な変動量とは、本来ならば一定の値であるべきパターンPTの特定の指標値が、実際の転写されたパターンPTではどの程度変動しているかを示す値である。つまり、変動量は、設計データ上のパターンPTの指標値と、実際に転写されたパターンPTの指標値との差をいう。具体的な指標値としては、軸心方向に沿って並ぶパターンPT毎の線幅、印刷方向におけるパターンPTの線幅、及びパターンPTにおける印刷の開始位置と終了位置との線幅の中心値を表す座標位置の軸心方向の値などが挙げられる。変動量は撮像部80が撮影した画像に基づいて検出され、変動量を適正値の範囲に収められる補正データが算出される。以下において、その処理について説明する。<第1の補正データ算出処理>第1の補正データ算出処理は、調整用基板CWに形成され、軸心方向に沿って並ぶ各パターンPTの線幅が軸心方向の位置毎に変動している場合に実施される。具体的には、パターンPTの線幅の値が、軸心方向における一端に形成されたパターンPTから他端に形成されたパターンPTにかけて、単調に増加する傾向、又は減少する傾向を有する場合に当該処理は実施される。このような変動傾向の線幅は、版胴14の表面に取り付けられた印刷版17が、軸心方向における一端と他端との間で傾斜して設置されている場合などに得られる。第1補正データ算出処理は、画像撮影処理の結果に応じて実施の有無を判断される。ここで、画像撮影処理について説明する。図2に示されるように、撮像部80は3基設置されている。この撮像部80各々が、調整用基板CWの表面のうち、軸心方向に3等分された領域各々を撮影する。本実施形態では、撮像部80aが、版胴14のモータ142側の領域を撮影し、撮像部80bが基板Wの軸心方向における中心部分の領域、そして撮像部80cが残りの軸心方向における端部の領域を撮影する。つまり、撮像部80aと撮像部80cとが基板Wにおける軸心方向の両端の領域を撮影する。これらの各撮像部80が撮影したパターンPTの転写データは制御部90に送信される。制御部90は、各転写データに基づいてパターンPTの線幅を計測する。図6には、第1の補正データ算出処理における軸心方向の各位置でのパターンの線幅の一例が実線で示されている。本実施形態では、図6の実線で示されるように、転写データの各パターンPTの線幅が、撮像部80aから撮像部80cに向かって、単調に増加する傾向を有する。なお、撮像部80bの転写データにおけるパターンPTの線幅が、撮像部80a及び撮像部80cの転写データにおけるパターンPTの線幅よりも大きい、又は小さい場合には第1の補正データ算出処理が実施されることはない。このように、第1の補正データ算出処理の実施の可否を判断する目安として撮像部80bの転写データが使用される。第1の補正データ算出処理では、制御部90は、撮像部80a~80cが撮影した転写データの各パターンPTの線幅の変動量が適正値の範囲に収まるように補正データが算出され、間隔Z1と間隔Z2とのうちいずれか一方の値を補正する。算出された補正データは制御部90にて記憶される。より具体的には、印刷版17の表面が軸心方向に傾いている場合、撮像部80aによる転写データの線幅の変動量と、撮像部80cによる転写データの線幅の変動量との傾向から印刷版17の表面の傾きが推測される。この印刷版17の表面の傾きがステージ22の表面に沿うように、版胴14の傾きが設定される。このような版胴14の傾きの値を実現できるような間隔Z1又は間隔Z2の値が補正データとして算出される。本実施形態では、初期状態の間隔よりも小さい間隔Z1の値が補正データとして算出されるものとする。算出された間隔Z1の値に応じて、制御部90は、間隔Z1を調節するモータ1401を駆動させ、ボールネジ140と版胴14との接続部分を高さ方向に変位させる。これによって、版胴14の回転軸が傾き、設定された値の間隔Z1が実現される。図6の点線は、このときの軸心方向における位置ごとの版胴14の押し込み量の一例を示している。間隔Z1側のボールネジ140と版胴14との接続部分の位置を高さ方向に下げることで間隔Z1が実現される場合、間隔Z1側の版胴14の押し込み量は処理前と比較して大きくなる。一方、間隔Z2は調節されていないため版胴14の押し込み量は変化しておらず、間隔Z2側における版胴14の押し込み量は間隔Z1側における版胴14の押し込み量よりも小さくなる。このように、版胴14の一端を高さ方向に変位させることによって、版胴14とステージ22との間隔が軸心方向における調整用基板CWの位置ごとに調節される。パターンPTの線幅は、印刷版17が基板Wを押し込む押し込み量が大きい場合には大きくなり、押し込み量が小さい場合には小さくなる。本実施形態のように、版胴14に装着された印刷版17の軸心方向における傾きとステージ22の表面の軸心方向における傾きとを平行にすることで、印刷版17の軸心方向における押し込み量は一定に近づく。これによって、その軸心方向における線幅の変動傾向は補正される。また、処理が開始される前に、転写されたパターンPTの線幅が設計データ上のパターンPTの線幅に一致するようにステージ22と版胴14との間隔は調節されているため、各パターンPTの線幅の変動傾向が補正されれば、転写されたパターンPTの線幅の変動量は適正値の範囲に収まる。上述のように、印刷版17の表面が版胴14の軸心方向における一方の端部と他方の端部との間で傾斜している場合、塗布液供給ローラ12についてもその傾きを調節する必要がある。具体的には、印刷版17の表面における傾きと塗布液供給ローラ12の回転軸121の傾きとが沿うように調節される必要がある。これによって、塗布液供給ローラ12は印刷版17に対して均等に当接するため、塗布液供給ローラ12上の塗布液は印刷版17に均等に供給される。この塗布液供給ローラ12の版胴14に対する回転軸121の傾きは、版胴14のステージ22に対する回転軸141の傾きと同等である。従って、ステージ22に対する版胴14の回転軸141の傾きと同じ傾きが得られるように、制御部90は間隔H1または間隔H2の補正データを算出する。本実施形態では、版胴14の間隔Z1が調節されたため、対応する側の間隔H1に補正データが適用される。制御部90は、間隔H1の側における端部を支持するボールネジ120のモータ1201を制御し、塗布液供給ローラ12と回転軸支持部125との接続部分を所定量だけ変位させる。これによって、塗布液供給ローラ12と版胴14との間隔は、設定された間隔H1に調節され、印刷版17の表面の傾きに対して塗布液供給ローラ12の回転軸121の傾きは平行になる。このようにして算出された補正データの各値、すなわち間隔Z1及び間隔Z2、そして間隔H1及び間隔H2は制御部90のメモリに記憶される。そして、印刷装置10がこれらの値に設定された状態で、再び調整用印刷処理、画像撮影処理及び変動量検出処理が実施される。転写データの各パターンPTの線幅の変動量が適正値の範囲内に収まっていることを制御部90が判断すると、このときの補正データの値に設定された状態の印刷装置10が製品を製造するための印刷処理を実施する。<第2の補正データ算出処理>図7には、第2の補正データ算出処理における印刷方向の各位置でのパターンの線幅の一例が示されている。また、図8には、第2の補正データ算出処理における印刷方向の各位置での版胴14の押し込み量の一例が示されている。第2の補正データ算出処理は、図7に示されるように、調整用基板CWに形成された各パターンPTの線幅が印刷方向の位置毎に変動する傾向を有する場合に実施される。まず、画像撮影処理において撮像部80から送信された転写データに基づいて、パターンPTの印刷方向における空間的な変動量を計測する。変動量の計測結果に基づいて、制御部90は、補正データを作成し、変動量を適正値の範囲に収められる版胴14とステージ22との間隔Z1及び間隔Z2を設定する。この補正データは、搬送される基板Wの位置情報を含んでいる。補正データが算出されると、制御部90のメモリに記憶されるとともに、調整用印刷処理が再び実施される。制御部90は、リニアスケール33が検出する調整用基板CWの位置に応じて、モータ1401の駆動を制御し、ボールネジ140と回転軸141との接続部分を高さ方向に変位させる。つまり、印刷方向における基板Wの位置ごとに版胴14とステージ22との間隔Z1及び間隔Z2とが設定される。図7に示されるように、転写されたパターンの転写開始位置から転写終了位置に至るまでの間で、線幅が目標となる一定の指標値目標値よりも小さい状態から大きい状態に移行していく場合を考える。この場合、印刷版17が、目標値よりも小さい線幅のパターンPTが形成される調整用基板CWの部分に接する間、間隔Z1及び間隔Z2が印刷処理開始時における間隔よりも各々同一量ずつ小さくなるように、制御部90はボールネジ140の駆動を制御する。つまり、版胴14は、印刷版17が基板Wをより強く押し込むように高さ方向に変位する。これによって、版胴14による当該部分への押し込み量はそれまでと比較して増大するため、形成されるパターンPTの当該部分における線幅はその分大きくなる。また、印刷版17が、目標となる一定の指標値よりも大きい線幅のパターンPTが形成される調整用基板CWの部分に接する間、間隔Z1及び間隔Z2は印刷処理開始時における間隔よりも各々同一量ずつ大きくなるように制御部90はボールネジ140の駆動を制御する。つまり、版胴14は、印刷版17が基板Wをより弱く押し込むように高さ方向に変位する。これによって、版胴14による当該部分への押し込み量はそれまでと比較して減少するため、形成されるパターンPTの当該部分における線幅はその分小さくなる。このように、基板Wの印刷方向における位置毎に版胴14による押し込み量は調節され図8参照、印刷方向における線幅の変動傾向が補正される。版胴14の軸心方向における一端側のパターンPTの線幅の変動傾向と他端側のパターンPTの線幅の変動傾向とが同等であれば、間隔Z1と間隔Z2との変位量は同等に調節される。つまり、版胴14の傾きは維持された状態で、印刷方向における位置ごとに間隔Z1及び間隔Z2が同量で調節される。これに対して、版胴14の軸心方向における一端側のパターンPTの線幅の変動傾向と他端側のパターンPTの線幅の変動傾向とが異なる場合、間隔Z1と間隔Z2とは各々個別に調節される。調整用印刷処理の実施後、調整用基板CWに転写されたパターンPTの画像撮影処理及び変動量検出処理が実施される。その結果、制御部90が、転写データにおける各パターンPTの線幅の変動量が印刷方向に沿っていずれの位置においても適正値の範囲内に収まっていると判断すれば、当該補正データの値に設定された印刷装置10が製品を製造するための印刷処理を実施する。<第3の補正データ算出処理>図9には、第3の補正データ算出処理におけるパターン領域の一例が示されている。また、図10には、第3の補正データ算出処理における印刷方向の各位置でのパターンの変動量及び押し込み量の一例が示されている。調整用基板CWに形成されたパターン領域PRの形状は台形状に形成される場合がある。これは、印刷版17が基板Wの表面に押し込められることにより、変形した状態で処理が行われることに起因する。なお、パターン領域PRは、図9に示されるように軸心方向における両端に形成されたパターンPT、当該パターンPTの印刷開始位置をつなぐ点線および当該パターンPTの印刷終了位置をつなぐ点線で構成された領域をいう。このように、台形状のパターン領域PRでは、各パターンPTにおける印刷開始位置の軸心方向における長さよりも、印刷終了位置の軸心方向における長さが長くなっている。なお、転写開始位置における線幅中心の位置座標の軸心方向を表す値と、設計データ上のパターンPTにおける線幅中心の位置座標の軸心方向を表す値とは、一致するものとする。制御部90は、パターン領域PRが台形状であることを転写データに基づいて判断すると、その変動量以下において、変動量HRと称する。を算出する。具体的には、各パターンPTのうち、軸心方向における両端部に形成されたパターンPTが着目される。なお、このパターンPTの印刷開始位置における線幅の中心の位置座標を基準位置STとする。そして、パターンPTの印刷方向における各位置での線幅の中心の位置座標を測定位置MTとする。これらの基準位置STの位置座標と測定位置MTの位置座標との軸心方向、すなわちX軸方向を表す値の差を変動量HRとして制御部90は検出する。図10には、印刷方向の各位置でのパターンPTの変動量の一例が実線で示されている。本来であれば、直線状のストライプパターンが基板W上に形成されるため、基準位置STにおける線幅中心のX座標の値と、測定位置MTにおける線幅中心のX座標の値とは一致するはずである。しかしながら、本実施形態のように、パターン領域PRは台形状に規則的に変形しているため、これらの値が一致することはなく、変動量HRは図10に示されるように線形に増加する。算出された変動量HRに基づいて、制御部90は版胴14とステージ22との間隔Z1及び間隔Z2を補正データとして算出し、制御部90のメモリに記憶する。補正データには、搬送される基板Wの位置情報と、印刷方向における基板Wの位置ごとに設定された間隔Z1及び間隔Z2とが設定される。パターン領域PRは、印刷方向における転写の開始位置から終了位置に至るにつれて、印刷版17が基板Wを押し込む量が大きくなることによって台形状に形成される。これを抑えるため、補正データは、転写の開始位置から終了位置にかけて、間隔Z1及び間隔Z2が印刷方向における位置ごとに線形に大きくなるように設定される。補正データが算出されると、調整用基板CWに対して調整用印刷処理が再び実施される。搬送される基板Wの位置情報はリニアスケール33によって検出され、制御部90に送信される。制御部90は、補正データに則って、基板Wの位置に応じてボールネジ140の駆動を制御し、間隔Z1と間隔Z2とを調節する。つまり、基板Wの印刷方向における位置毎に版胴14とステージ22との間隔が調節される。この結果、図10の点線に示されるように、版胴14の押し込み量は印刷方向の位置に応じて一定の割合で小さくなっていく。このため、パターンPTは軸心方向に広がる力を印刷版17から受けにくくなり、台形状のパターン領域PRが形成されることを抑えられる。なお、パターン領域PRの台形状の広がりは、軸心方向における一方の端部においても、他方の端部においても同程度の広がりであると考えられるため、調節される間隔Z1と間隔Z2とは同一量である。調整用印刷処理の実施後、調整用基板CWに転写されたパターンの画像撮影処理及び変動量検出処理が実施される。その結果、制御部90が、各パターンPTの線幅の変動量が印刷方向におけるいずれの位置においても適正値の範囲内に収まっていると判断すれば、当該補正データの値に設定された状態の印刷装置10が製品を製造するための印刷処理を実施する。なお、台形状に形成されたパターン領域PRを構成する各パターンPTの線幅は、印刷開始位置から印刷終了位置にかけて大きくなる場合がある。この場合、本補正処理が行われることによって、線幅の値についても一定に補正される。以上のように、本実施形態では、制御部90が、基板Wに転写されたパターンPTと設計データ上のパターンPT、すなわちいずれのパターンPTにおいても転写開始位置から転写終了位置までが一定の線幅で、各パターンPTが直線状に形成されているパターンPT、との空間的な変動量を検出する。この変動量に基づいて、版胴14とステージ22との間隔は、版胴14の回転軸の方向に沿う軸心方向第1方向又は軸心方向に直交する印刷方向第2方向の位置毎に、ボールネジ140によって調節されつつ、印刷処理が行われる。これによって、版胴14の押し込み量が調節されるため、版胴14に装着された印刷版17による基板Wへの押し込み量が調節される。従って、転写されたパターンPTの変形及び線幅のムラを抑えられる。また、補正は自動的に行われるため、補正に費やされる時間は短縮することができる。特に、バンクが形成された基板Wが被印刷体に使用される場合、パターンPTが変形することによって、パターンPTがバンクを乗り越えてはみ出すことを抑えられるため、発光材料の混色を抑えられる。また、印刷装置10側のアライメントマージン及び印刷版17の寸法精度のマージンも大きくなる。また、制御部90は軸心方向におけるパターンPT各々の位置毎の線幅の変動量を検出し、ボールネジ140が変動量に基づいて版胴14の回転軸141の傾きを調節することでステージ22の傾きと印刷版17の傾きとを平行にさせる。従って、軸心方向における各パターンPTの線幅は一定の値に近づけることができる。また、ボールネジ140は、塗布液供給ローラ12の回転軸121の傾きを調節することで、塗布液供給ローラ12の傾きと印刷版17の傾きとを平行にさせる。このため、塗布液供給ローラ12から塗布液を均等に印刷版17に供給することができる。また、制御部90は印刷方向におけるパターンPTの位置毎の線幅の変動量を検出し、ボールネジ140は基板Wの位置に応じて版胴14とステージ22との間隔を調節する。従って、印刷方向におけるパターンPTの線幅は一定の値に近づけることができる。また、制御部90は、パターンPTの転写開始位置と転写終了位置との軸心方向X軸方向における変動量を検出し、ボールネジ140が基板Wの印刷方向における位置に応じて印刷版17とステージ22との間隔を変動量に基づいて調節する。従って、パターンPTが転写開始位置から転写終了位置に向かって軸心方向に変動すること、つまり台形状に広がることを抑えられる。