"炭素原子数4以上のモノオレフィンを含む原料ガスと分子状酸素含有ガスとを、触媒の存在下で酸化脱水素反応を行うことにより、対応する共役ジエンを含む反応ガスを得、得られた反応ガスを冷却塔に導入して冷却水と接触させて冷却する共役ジエンの製造方法において、該冷却塔内に棚段部が形成されており、該冷却塔に導入される前記反応ガスの流量と、該冷却塔の棚段部に供給される冷却水の流量との質量比が0.3以下であることを特徴とする共役ジエンの製造方法。前記冷却塔の高さ方向において異なる2箇所以上の供給箇所から前記冷却水を供給して前記反応ガスと接触させることを特徴とする請求項1に記載の共役ジエンの製造方法。前記冷却塔に供給される冷却水の流量の合計に対する該冷却塔の棚段部以外に供給される冷却水の流量の割合が0~35の範囲であることを特徴とする請求項2に記載の共役ジエンの製造方法。前記冷却塔内の棚段部のトレイがシーブ型トレイを含むことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の共役ジエンの製造方法。前記触媒が、下記一般式1で表される複合酸化物触媒であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の共役ジエンの製造方法。MoaBibQcNidReXfYgZhSiiOj1式中、QはコバルトCo及び/又はクロムCrであり、Rは鉄Fe、アルミニウムAl、ガリウムGa、ジルコニウムZr、鉛Pb、ニオブNb、タンタルTa、ハフニウムHf、及びマンガンMnからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、XはマグネシウムMg、カルシウムCa、亜鉛Zn、セリウムCe及びサマリウムSmからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、YはナトリウムNa、カリウムK、ルビジウムRb、セシウムCs及びタリウムTlからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、Zはホウ素B、リンP、砒素As及びタングステンWからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素である。また、a~jはそれぞれの元素の原子比を表し、a=12のとき、b=0.5~7、c=0~10、d=0~10但しcd=1~10、e=0.05~3、f=0~2、g=0.04~2、h=0~3、i=5~48の範囲にあり、またjは他の元素の酸化状態を満足させる数値である。前記原料ガスが、エチレンの2量化により得られる1-ブテン、シス-2-ブテン、トランス-2-ブテン若しくはこれらの混合物を含有するガス、n-ブタンの脱水素若しくは酸化脱水素反応により生成するブテン留分、又は重油留分を流動接触分解する際に得られる炭素原子数が4の炭化水素を多く含むガスであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の共役ジエンの製造方法。上記特許文献1~2に記載の方法を用いると、ブタジエンの製造における反応ガスを冷却するための急冷塔内のヒュームによる閉塞の問題は、ある程度回避することが可能であったが、これらの方法は、プロセスの煩雑さや大規模な設備を必要とするため、工業的に有利な方法とは言えなかった。また、上記特許文献1には、急冷塔内のヒュームに、粒径1.0μm前後の固形微粒子よりも更に粒径の小さい粒径0.5μm以下の固形微粒子が存在することは記載されていないが、本発明者らの検討によれば、この粒径0.5μm以下の固形微粒子は、従来の一般的なスクラバーやフィルターなどのヒューム除去の手段では十分に除去することができず、これらが急冷塔やその塔頂のガス抜き出し配管内に蓄積されて閉塞を起し、工業規模のブタジエン連続製造プロセスにおいて長期安定運転ができないという問題があった。本発明は上記課題に鑑みてなされたものであって、n-ブテン等のモノオレフィンの接触酸化脱水素反応によりブタジエン等の共役ジエンを製造する方法において、反応により得られる反応ガスを冷却塔で冷却するにあたり、冷却塔から抜き出される反応ガス中へのヒュームの混入を防止して、安定的に運転を継続することができる工業的に有利な共役ジエンの製造方法を提供することを目的とする。本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、冷却塔内での反応ガスと冷却水との接触効率を上げることにより、反応ガス中に浮遊する粒径0.5μm以下の固形微粒子をガスからより効率的に分離することができるという考えの下、特定の構造の冷却塔を用い、この冷却塔に供給される反応ガスと冷却水の比を制御することで、ヒューム中の粒径0.5μm以下の固形微粒子を低減できる方法を見出した。本発明はこのような知見に基いて達成されたものであり、以下の[1]~[6]を要旨とする。[1]炭素原子数4以上のモノオレフィンを含む原料ガスと分子状酸素含有ガスとを、触媒の存在下で酸化脱水素反応を行うことにより、対応する共役ジエンを含む反応ガスを得、得られた反応ガスを冷却塔に導入して冷却水と接触させて冷却する共役ジエンの製造方法において、該冷却塔内に棚段部が形成されており、該冷却塔に導入される前記反応ガスの流量と、該冷却塔の棚段部に供給される冷却水の流量との質量比が0.3以下であることを特徴とする共役ジエンの製造方法。[2]前記冷却塔の高さ方向において異なる2箇所以上の供給箇所から前記冷却水を供給して、前記反応ガスと接触させることを特徴とする[1]に記載の共役ジエンの製造方法。[3]前記冷却塔に供給される冷却水の流量の合計に対する該冷却塔の棚段部以外に供給される冷却水の流量の割合が0~35の範囲であることを特徴とする[2]に記載の共役ジエンの製造方法。[4]前記冷却塔内の棚段部のトレイがシーブ型トレイを含むことを特徴とする[1]ないし[3]のいずれかに記載の共役ジエンの製造方法。[5]前記触媒が、下記一般式1で表される複合酸化物触媒であることを特徴とする[1]ないし[4]のいずれかに記載の共役ジエンの製造方法。MoaBibQcNidReXfYgZhSiiOj1式中、QはコバルトCo及び/又はクロムCrであり、Rは鉄Fe、アルミニウムAl、ガリウムGa、ジルコニウムZr、鉛Pb、ニオブNb、タンタルTa、ハフニウムHf、及びマンガンMnからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、XはマグネシウムMg、カルシウムCa、亜鉛Zn、セリウムCe及びサマリウムSmからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、YはナトリウムNa、カリウムK、ルビジウムRb、セシウムCs及びタリウムTlからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、Zはホウ素B、リンP、砒素As及びタングステンWからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素である。また、a~jはそれぞれの元素の原子比を表し、a=12のとき、b=0.5~7、c=0~10、d=0~10但しcd=1~10、e=0.05~3、f=0~2、g=0.04~2、h=0~3、i=5~48の範囲にあり、またjは他の元素の酸化状態を満足させる数値である。[6]前記原料ガスが、エチレンの2量化により得られる1-ブテン、シス-2-ブテン、トランス-2-ブテン若しくはこれらの混合物を含有するガス、n-ブタンの脱水素若しくは酸化脱水素反応により生成するブテン留分、又は重油留分を流動接触分解する際に得られる炭素原子数が4の炭化水素を多く含むガスであることを特徴とする[1]ないし[5]のいずれかに記載の共役ジエンの製造方法。本発明によれば、n-ブテン等のモノオレフィンの接触酸化脱水素反応によりブタジエン等の共役ジエンを製造する方法において、反応により得られる反応ガスを冷却塔で冷却するにあたり、煩雑なプロセスや大規模な設備を必要とすることなく、冷却塔内でヒュームを冷却水により効果的に洗浄除去し、冷却塔から抜き出される反応ガス中へのヒューム、特に粒径0.5μm以下の固形微粒子の混入を防止して、長期に亘り、安定的に運転を継続することが可能とされる。以下に本発明の共役ジエンの製造方法の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する説明は、本発明の実施態様の一例代表例であり、本発明はこれらの内容に限定されない。本発明の共役ジエンの製造方法は、炭素原子数4以上のモノオレフィンを含む原料ガスと、分子状酸素含有ガスとを、反応器に供給し、触媒の存在下、酸化脱水素反応により対応する共役ジエンを含む反応ガスを得、この反応ガスを冷却塔に導入して冷却水と接触させて冷却する共役ジエンの製造方法において、棚段部、好ましくはシーブ型トレイよりなる棚段部を有する冷却塔を用い、この冷却塔に供給される反応ガスと冷却塔の棚段部に供給される冷却水の質量比を0.3以下に制御することを特徴とする。以下に、本発明の共役ジエンの製造方法に従って、n-ブテンからブタジエンを製造する場合の製造プロセスの系統図を示す図1を参照して本発明を詳細に説明するが、本発明はn-ブテン1-ブテン、2-ブテンシス-2-ブテン、トランス-2-ブテンからのブタジエンの製造に限らず、ペンテン、メチルブテン、ジメチルブテン等の炭素原子数4以上、好ましくは炭素原子数4~6のモノオレフィンの接触酸化脱水素反応による対応する共役ジエンの製造に有効に適用される。これらのモノオレフィンは必ずしも単離した形で使用する必要はなく、必要に応じて任意の混合物の形で用いることができる。例えば目的生成物である共役ジエンとして1,3-ブタンジエンを得ようとする場合には、高純度の1-ブテン又は2-ブテンを原料とすることもできるが、前述のナフサ分解で副生するC4留分BBからブタジエン及びiーブテンを分離して得られるn-ブテン1-ブテン及び2-ブテンを主成分とする留分BBSSやn-ブタンの脱水素又は酸化脱水素反応により生成するブテン留分を使用することもできる。ここでいう、主成分とは、原料ガスに対して、通常40vol以上、好ましくは60vol以上、より好ましくは75vol以上、特に好ましくは99vol以上を占める成分をさす。また、原料ガス中には、本発明の効果を阻害しない範囲で、任意の不純物を含んでいても良い。含んでいても良い不純物として、具体的には、プロパン、n-ブタン、i-ブタン、ペンタンなどの飽和炭化水素やプロピレン、ペンテンなどのオレフィン、1,2-ブタジエンなどのジエン、メチルアセチレン、ビニルアセチレン、エチルアセチレンなどのアセチレン類等が挙げられる。原料ガス中のこれらの不純物の量は、通常60vol以下、好ましくは40vol以下、より好ましくは1vol以下である。原料ガス中の不純物量が多すぎると、主原料である1-ブテンや2-ブテンの濃度が下がって反応が遅くなったり、好ましくない副生物が増える傾向にある。図1において、1は反応器、2はクエンチ塔冷却塔、4,5,9は冷却器熱交換器、6,10はドレンポットを示し、符号100~111は配管を示す。反応器1としては固定床多管式反応器や流動床反応器、プレート式反応器など公知の反応器を使用することが出来るが、ここでは固定床多管式反応器を例に説明する。[反応工程]反応工程では、原料となるn-ブテン或いは前述のBBSS等のn-ブテンを含む混合物を、気化器図示せずでガス化して、窒素ガスなどの不活性ガス、空気分子状酸素含有ガス、及び水水蒸気を導入し、これらの混合ガスを予熱器図示せずで150~250°C程度に加熱した後、配管100より触媒が充填された反応器1に供給する。原料、窒素ガスなどの不活性ガス、空気、及び水水蒸気を反応器1に、直接別々の配管で供給してもよいが、反応器1が固定床反応器の場合は均一に混合した状態で反応器1に供給するのが好ましい。これは、反応器内で不均一な混合ガスが部分的に爆鳴気を形成したり、多管式反応器で管毎に異なる組成の原料が供給されるという事態を防ぐことが出来るというメリットがあるからである。反応器1が流動床反応器の場合は可燃性ガスと酸素を含むガスを別々に反応器に供給することで爆発範囲の回避が容易になる場合もある。分子状酸素含有ガスは、通常、分子状酸素が10vol以上、好ましくは15vol以上、更に好ましくは20vol以上含まれるガスのことであり、具体的に好ましくは空気である。なお、分子状酸素含有ガスを工業的に用意するために必要なコストという観点から、分子状酸素含有ガスの分子状酸素の含有量は50vol以下、好ましくは30vol以下、更に好ましくは21vol以下であることが好ましい。また、本発明の効果を阻害しない範囲で、分子状酸素含有ガスには、任意の不純物を含んでいても良い。含んでいても良い不純物として、具体的には、窒素、アルゴン、ネオン、ヘリウム、CO、CO2、水等が挙げられる。分子状酸素含有ガスの中のこれらの不純物の量は、窒素の場合通常90vol以下、好ましくは85vol以下、より好ましくは80vol以下である。窒素以外の成分の場合、通常10vol以下、好ましくは1vol以下である。分子状酸素含有ガスの不純物量が多すぎると、反応に必要な酸素を供給するのが難しくなる傾向にある。また、反応器1に原料ガスを供給するにあたり、あわせて窒素ガスなどの不活性ガス、及び水水蒸気を供給してもよい。不活性ガスとしては窒素、アルゴン、二酸化炭素などが挙げられるが経済的には窒素が好ましい。不活性ガスは、反応ガスが爆鳴気を形成しないようにブテン等の可燃性ガスと酸素の濃度を調整するという理由から、水水蒸気は不活性ガスと同様に可燃性ガスと酸素の濃度を調整するという理由と触媒のコーキングを抑制するという理由から、ブテン、及び分子状酸素含有ガスと共にこれらを原料ガスとして反応器1に供給するのがこのましい。反応ガスは、冷却塔での冷却後、溶媒と接触させることにより共役ジエンを主成分とする炭化水素を吸収分離する回収工程に供されるが、この回収工程で溶媒に回収されなかった窒素や酸素を主成分とする残存ガスを、この反応器1に循環供給しても良い。これにより原料コストを大きく低下することが出来、工業的に有利になる。この場合、残存ガス中の酸素濃度は前記の分子状酸素含有ガスの好ましい酸素濃度範囲外でも良い。このとき該残存ガスは吸収溶媒よりも高沸点の溶媒と接触させて微量含有する吸収溶媒を分離したり、触媒燃焼装置などの公知の技術を用いて残存する可燃物を除去しても良い。該残存ガスに含まれる酸素は酸素濃度計やガスクトマトグラフィーなどの公知の技術を用いて濃度を測定し、その結果に応じて反応器に新たに供給する分子状酸素含有ガスの量を調節することが望ましい。この反応器1に供給する原料ガスは、酸素と可燃性ガスの混合物であることから、爆発範囲に入らないように各々のガスブテン、空気、及び必要に応じて不活性ガスと水水蒸気を供給する配管に設置された流量計にて流量を監視しながら、反応器入り口の組成制御を行い、例えば次のような原料ガス組成に調整される。<原料ガス組成>n-ブテン:C4留分合計に対して50~100volC4留分合計:5~15volO2:C4留分合計に対して40~120volN2:C4留分合計に対して500~1000volH2O:C4留分合計に対して90~900volなお、ここでいう爆発範囲とは、酸素と可燃性ガスの混合ガスが何らかの着火源の存在下で着火するような組成を持つ範囲のことである。可燃性ガスの濃度がある値より低いと着火源が存在しても着火しないことが知られており、この濃度を爆発下限界という。また可燃性ガスの濃度がある値より高いとやはり着火源が存在しても着火しないことが知られており、この濃度を爆発上限界という。各々の値は酸素濃度に依存しており、一般に酸素濃度が低いほど両者の値が近づき、酸素濃度がある値になったとき両者が一致する。このときの酸素濃度を限界酸素濃度と言い、酸素濃度がこれより低ければ可燃性ガスの濃度によらず混合ガスは着火しない。本発明の接触酸化脱水素反応を開始するときは、最初に反応器に供給する空気などの分子状酸素含有ガス、不活性ガス、水蒸気の量を調整して反応器入り口の酸素濃度が限界酸素濃度以下になるようにしてから可燃性ガスの供給を開始し、次いで可燃性ガス濃度が爆発上限界よりも濃くなるように可燃性ガスと空気などの分子状酸素含有ガスの供給量を増やしていくのが良い。なお、爆発範囲外であっても、ある温度、圧力条件下で、ある時間保持されると発火する場合がある。このときの保持時間を発火遅れ時間という。反応器周りを設計するときは原料配管や反応ガス配管の滞留時間が発火遅れ時間以下になるように設計する必要がある。発火遅れ時間は温度や圧力、組成に依存するので一概には言えないが、混合原料配管の滞留時間は1000秒以下、反応ガス配管の滞留時間は10秒以下もしくは反応ガスを10秒以内に350°C以下に冷却することが望ましい。反応器1には、後述の酸化脱水素反応触媒が充填されており、触媒上でn-ブテンが酸素と反応し、ブタジエンと水が生成する。この酸化脱水素反応は発熱反応であり、反応により温度が上昇するが、反応温度は280~400°Cの範囲に調整することが好ましく、従って、反応器1は適宜冷却例えば熱媒体ジベンジルトルエンや溶融塩、水蒸気などによる除熱して触媒層の温度を一定に制御する。反応器1の圧力は、特に限定されないが、下限は、通常0MPaG以上、好ましくは0.02MPaG以上、更に好ましくは0.05MPaG以上である。この値が大きくなるほど、反応器に反応ガスを多量に供給できるというメリットがある。一方、上限は、通常0.5MPaG以下であり、好ましくは0.3MPaG以下、更に好ましくは0.1MPaGである。この値が小さくなるほど、爆発範囲が狭くなる傾向にある。反応器1の滞留時間は、特に限定されないが、下限は、通常0.36秒以上、好ましくは0.72秒以上、更に好ましくは1.2秒以上である。この値が大きくなるほど、転化率が高くなるというメリットがある。一方、上限は、通常7.2秒以下であり、好ましくは3.6秒以下、更に好ましくは1.8秒である。この値が小さくなるほど、反応器が小さくなる傾向にある。反応器1での接触酸化脱水素反応により得られる反応ガス中に含まれる原料ガス中のn-ブテン等のモノオレフィンに対応するブタジエン等の共役ジエンの濃度は、原料ガス中に含まれるモノオレフィンの濃度に依存するが、通常1~15vol、好ましくは5~13vol、更に好ましくは9~11volである。反応ガス中の共役ジエンの濃度が大きいほど、回収コストが低いというメリットがあり、小さいほど次工程で圧縮したときに重合などの副反応が起き難いというメリットがある。また、反応ガス中には未反応のモノオレフィンも含まれていてもよく、その濃度は、通常0~7vol、好ましくは0~4vol、更に好ましくは0~2volである。反応器1の入り口組成が爆発上限界以上である場合、反応器1出口の組成も通常は爆発上限界以上であり、爆発の恐れはない。しかし、後段の、反応ガスを吸収溶媒と接触させてオレフィンや共役ジエンなどの炭化水素を溶媒に吸収させる回収工程でガス中の炭化水素の濃度が低下して爆発範囲に入る可能性がある。これを回避するには反応ガスを窒素などのイナートガスで希釈してから吸収溶媒と接触させることが考えられるが、反応器1の出口またはクエンチ塔2の出口の組成が限界酸素濃度以下になるように反応器1の入口条件や反応条件を調整した方が簡便である。例えばクエンチ塔2の出口に酸素濃度計を設置し、ここで測定される酸素濃度が8vol以下になるように反応器1に供給する空気流量を調整したり反応温度を調整すれば良い。反応器1の入口と出口との流量差としては、原料ガスの反応器入口での流量、及び反応ガスの反応器出口での流量に依存するが、通常入口流量に対する出口の流量の比率が100~110mol、好ましくは102~107mol、更に好ましくは103~105molである。出口流量が増えるのはブテンが酸化脱水素されてブタジエンと水が生成する反応や副反応でCOやCO2が生成する反応において化学量論的に分子数が増えるためである。出口流量の増加が少ないと反応が進行していないので好ましくなく、出口流量が増えすぎると副反応でCOやCO2が増加しているため好ましくない。[冷却工程]反応器1からの反応ガスは次いで配管101よりクエンチ塔冷却塔2の塔底に送給される。図示していないが、反応器1とクエンチ塔2の間に冷却用の熱交器を設置して反応ガスから熱回収を行なっても良い。クエンチ塔2では反応ガスを冷却水と接触させて反応ガスを冷却する。このクエンチ塔2では反応ガスの冷却に加えて酢酸などの水溶性の副生物が除去される。前述の如く、この冷却工程において副生成物である粒径0.5μm以下の微小な固体粒子がヒュームに含有されていると考えられる。後述の如く、この微小な固体粒子はテレフタル酸及びイソフタル酸を主成分とするものである。これらは、ガス中の微粒子濃度が低いため一般的なスクラバーでは十分に除去することが出来ない。フィルターを使用して除去する方法は、短期間でフィルターが閉塞するために年産数千~数万トン規模で共役ジエンを製造するプラントを有するような工業的規模のプラントでは、フィルター交換などの運転管理やフィルターコストなどの設備費用の観点から好ましくない。クエンチ塔2の型式は棚段塔、充填塔、スプレー塔など公知のものが使用でき、幾つかの方式を組み合わせても良いが、本発明では少なくとも一部には棚段部2Aが形成された冷却塔を使用する。例えば塔底に近い部分は高沸点化合物による汚れが懸念されるのでスプレーを採用し、塔の上側を棚段部とするという組み合わせにしても良い。充填層は汚れに弱いので、塔底に近い部分に使うよりも、他の方式と組み合わせて汚れにくい部分に採用するのが望ましい。棚段部におけるトレイの形式としてシーブ型トレイ、デュアルフロー型トレイ、バッフル型トレイなど公知のものが使用できるが、デュアルフロー型トレイやバッフル型トレイは汚れには強いものの段効率が悪いため、少なくともトレイの一部はシーブ型トレイを含むことが好ましい。また、塔底に近い部分をバッフル型トレイとし、塔頂に近い部分はシーブ型トレイにするなど複数の形式のトレイを組み合わせても良い。クエンチ塔2の棚段部2Aの実段数は通常6~100段、好ましくは10~30段とする。棚段部の段数が少ないと冷却が不十分となったり水溶性副生物が除去できないデミリットがあり、多すぎるとクエンチ塔2の差圧が増大して反応器1の入口圧力が高くなり、爆発範囲が広がるデメリットがある。また、図1に示すクエンチ塔2のように、棚段部2Aの下部に空塔部冷却水の噴霧領域を形成する場合、棚段部2Aはクエンチ塔2の全高の1/1.1~1/2の領域とし、空塔部はクエンチ塔2の全高の1/4~1/20の領域とすることが好ましい。冷却水は、クエンチ塔2の塔頂から供給配管102し、塔底から抜き出して配管103塔底の液面のレベルが一定になるように制御して廃水処理工程図示せずへ送液配管106する。塔頂から供給する冷却水は、反応ガスに含まれる水を冷却して凝縮させたものやクエンチ塔塔底から抜き出した水の少なくとも一部、フレッシュな水、他の工程で排出された水などを使用することが出来る。また、少なくとも一部の水を塔の中段及び/または塔底に供給しても良いし、塔の中段から少なくとも一部の水を抜き出しても良い。抜き出した水は塔に循環しても良いし配管104,105、廃水処理工程配管106に送っても良い。クエンチ塔2に供給する水は温度制御することが望ましく、特に塔から抜き出した水を塔に循環する場合は冷却する冷却器4ことが望ましい。塔から抜き出した水は固形物を含む場合があるのでストレーナーなどの公知手段で固形物を分離除去することが望ましい。また、クエンチ塔から抜き出した水を冷却するときに析出物が発生して冷却器が汚れることがあるので、冷却器を2器以上並列に設置して交互に運転/洗浄の切り替えを行なっても良い。図1に示すクエンチ塔2では、塔頂から配管102より供給した冷却水を、塔底から配管103を経て抜き出し、ポンプ3により、配管106を経て一部を図示しない廃水処理工程に送給して処理し、残部のうちの一部を配管104を経てクエンチ塔2の棚段部2Aの高さ方向の中間位置に循環し、他部を配管105より棚段部2Aの下方に循環している。このように、冷却水をクエンチ塔の高さ方向において、異なる2箇所以上で供給することにより、粒径0.5μm以下の微小な固体粒子の除去効果を高めることができるので好ましい。本発明においては、このクエンチ塔2内で、反応ガスに含まれるヒューム中の粒径0.5μm以下の微小な固体粒子を効率よく除去するために、クエンチ塔2に供給する反応ガスとクエンチ塔2の棚段部2Aに供給する冷却水の流量の質量比以下反応ガス/棚段部冷却水流量比と称す場合がある。を以下のように設定する。反応ガス流量/棚段部に供給する冷却水の流量≦0.3ここで、クエンチ塔2の棚段部2Aに供給する冷却水とは、棚段部2Aを通過する冷却水であり、図1に示されるクエンチ塔2の棚段部2Aであれば、配管102よりクエンチ塔2の塔頂に供給されて棚段部2Aを上から下まで流下する冷却水の流量と、配管104より棚段部2Aの高さ方向の中間位置に供給されて棚段部2Aの一部を流下する冷却水流量の合計の流量となる。この反応ガス/棚段部冷却水流量比が0.3超であると、十分な微粒子除去効果を得られない傾向がある。反応ガス/棚段部冷却水流量比は小さい程微粒子除去効果の面から好ましいが、反応ガス/棚段部冷却水流量比を小さくするには大量の冷却水が必要となり、冷却水コストが上昇する。このため、反応ガス/棚段部冷却水流量比は0.1~0.3、特に0.15~0.22とすることが好ましい。なお、棚段部2Aを通過する冷却水であっても、その供給位置が過度に低いと、供給された冷却水が棚段部2Aを通過する時間及び流域が短いことにより、十分な微粒子除去効果が得られない。従って、クエンチ塔2の棚段部2Aに供給される冷却水のうち、10以上、例えば15~100、好ましくは50~80は、クエンチ塔2の塔頂から供給されることが好ましく、また、棚段部2Aの高さ方向の中間位置に供給される冷却水は、棚段部2Aの上部から、理論段数の1/4以上、例えば1/3~1/1.3程度の高さ位置に供給されることが好ましい。この供給位置が低過ぎると微粒子除去効果が劣るものとなり、高過ぎると、冷却水をクエンチ塔2の高さ方向の複数箇所で供給することによる微粒子除去効果の向上効果を十分に得ることができない。また、図1に示すクエンチ塔2において、配管105より棚段部2Aの下方に供給される冷却水のように、棚段部2A以外の箇所に供給され、棚段部2Aを通過しない冷却水の流量は、クエンチ塔2に供給される全冷却水流量図1のクエンチ塔2では、配管102からの冷却水と配管104からの冷却水と配管105からの冷却水の合計の0~35、特に0~20であることが好ましい。この棚段部2A以外の箇所に冷却水を供給することにより、高沸成分が凝固して分離されるのでクエンチ塔が高沸成分により汚れることが防止されるという効果が奏されるが、この冷却水量が過度に多いと、棚段部2Aに冷却水を供給することによる微粒子の除去効果が損なわれる。なお、冷却水の温度については特に制限はなく、通常の冷却水温度条件が採用される。一般的には、クエンチ塔2の塔頂からの冷却水の温度は5~70°Cが好ましく、クエンチ塔2の塔底の液温は50~90°C、塔頂の温度は10~70°C程度となるように調整することが好ましい。クエンチ塔2で冷却された反応ガスは配管107よりクエンチ塔2の塔頂から抜き出され、必要に応じて冷却器5で更に冷却される。冷却により発生した凝縮水はクエンチ塔2に戻しても良いし、この凝縮水をクエンチ塔2の冷却水として用いても良い。冷却された反応ガスは、配管109、フィルター7、配管110、圧縮機8、必要に応じて更に冷却器9、及び配管111を経て、反応ガスからブタジエンなどの共役ジエンを主成分とする炭化水素成分を回収するための図示しない回収工程へ供給されるが、クエンチ塔の塔頂圧力を制御するために少なくとも一部のガスを抜き出しても良いし、回収工程が稼動していないときは全量抜き出しても良い。抜き出したガスは貯蔵しても良いが、工業的には通常はフレアなどで焼却処理される。[回収工程]冷却された反応ガスから炭化水素を回収する技術として、反応ガスを炭素原子数6~10の飽和炭化水素や炭素原子数6~8の芳香族炭化水素、アミド化合物などの溶媒と接触させて吸収させる方法が知られている。吸収効率を向上するために圧縮機8で反応ガスを圧縮することが望ましく、通常0.1~0.9MPaG、好ましくは0.2~0.6MPaG、更に好ましくは0.25~0.35MPaGで実施される。この圧力が大きいほど、回収工程における吸収効率が良くなるというメリットがあり、小さいほど建設費が下がるというメリットがある。吸収溶媒の種類によっては加水分解するものがあるため、必要に応じて反応ガスをモレキュラーシーブなどの脱水剤と接触させるなどの公知技術により脱水しても良い。加水分解しない溶媒の場合は反応ガスを脱水処理する必要はないが、必要に応じて蒸留精製したり非水溶性溶媒の場合は分液するなどの方法で水を分離しても良い。炭化水素ガスを吸収した溶媒は、必要に応じて微量溶存する酸素や窒素などを分離するために加熱処理を行った後、蒸留して共役ジエンを主成分とする炭化水素と溶媒とを分離する。蒸留により得られた共役ジエンを主成分とする炭化水素留分は、必要に応じて更に精製処理を行なったり、重合禁止剤を添加しても良い。[複合酸化物触媒]以下に、本発明で好適に用いられる酸化脱水素反応触媒について説明する。本発明で用いる酸化脱水素反応複合酸化物触媒は、下記一般式1で表される複合酸化物触媒であることが好ましい。MoaBibQcNidReXfYgZhSiiOj1式中、QはコバルトCo及び/又はクロムCrであり、Rは鉄Fe、アルミニウムAl、ガリウムGa、ジルコニウムZr、鉛Pb、ニオブNb、タンタルTa、ハフニウムHf、及びマンガンMnからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、XはマグネシウムMg、カルシウムCa、亜鉛Zn、セリウムCe及びサマリウムSmからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、YはナトリウムNa、カリウムK、ルビジウムRb、セシウムCs及びタリウムTlからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、Zはホウ素B、リンP、砒素As及びタングステンWからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素である。また、a~jはそれぞれの元素の原子比を表し、a=12のとき、b=0.5~7、c=0~10、d=0~10但しcd=1~10、e=0.05~3、f=0~2、g=0.04~2、h=0~3、i=5~48の範囲にあり、またjは他の元素の酸化状態を満足させる数値である。また、この複合酸化物触媒は、この複合酸化物触媒を構成する各成分元素の供給源化合物を水系内で一体化して加熱する工程を経て製造する方法であって、モリブデン化合物、Rから選ばれる化合物、ニッケル化合物及びQから選ばれる化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種とシリカとを含む原料化合物水溶液又はこれを乾燥して得た乾燥物を加熱処理して触媒前駆体を製造する前工程と、該触媒前駆体、モリブデン化合物及びビスマス化合物を水性溶媒とともに一体化し、乾燥、焼成する後工程とを有する方法で製造されたものであることが好ましく、特にRとしてはFeが好ましく、QとしてはCoが好ましい。このような方法で製造された複合酸化物触媒であれば、その高い触媒活性で高収率でブタジエン等の共役ジエンを製造することができる。以下に本発明に好適な複合酸化物触媒の製造方法について説明する。この複合酸化物触媒の製造方法においては、前記前工程で用いられるモリブデンが、モリブデンの全原子比aの内の一部の原子比a1相当のモリブデンであり、前記後工程で用いられるモリブデンが、モリブデンの全原子比aからa1を差し引いた残りの原子比a2相当のモリブデンであることが好ましい。また、前記a1が1<a1/cde<3を満足する値であることが好ましい。さらに、前記a2が0<a2/b<8を満足する値であることが好ましい。上記成分元素の供給源化合物としては、成分元素の酸化物、硝酸塩、炭酸塩、アンモニウム塩、水酸化物、カルボン酸塩、カルボン酸アンモニウム塩、ハロゲン化アンモニウム塩、水素酸、アセチルアセトナート、アルコキシド等が挙げられ、その具体例としては、下記のようなものが挙げられる。Moの供給源化合物としては、パラモリブデン酸アンモニウム、三酸化モリブデン、モリブデン酸、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸等が挙げられる。Feの供給源化合物としては、硝酸第二鉄、硫酸第二鉄、塩化第二鉄、酢酸第二鉄等が挙げられる。Coの供給源化合物としては、硝酸コバルト、硫酸コバルト、塩化コバルト、炭酸コバルト、酢酸コバルト等が挙げられる。Niの供給源化合物としては、硝酸ニッケル、硫酸ニッケル、塩化ニッケル、炭酸ニッケル、酢酸ニッケル等が挙げられる。Siの供給源化合物としては、シリカ、粒状シリカ、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ等が挙げられる。Biの供給源化合物としては、塩化ビスマス、硝酸ビスマス、酸化ビスマス、次炭酸ビスマス等が挙げられる。また、X成分Mg,Ca,Zn,Ce,Smの1種又は2種以上やY成分Na,K,Rb,Cs,Tlの1種又は2種以上を固溶させた、BiとX成分やY成分との複合炭酸塩化合物として供給することもできる。例えば、Y成分としてNaを用いた場合、BiとNaとの複合炭酸塩化合物は、炭酸ナトリウム又は重炭酸ナトリウムの水溶液等に、硝酸ビスマス等の水溶性ビスマス化合物の水溶液を滴下混合し、得られた沈殿を水洗、乾燥することによって製造することができる。また、BiとX成分との複合炭酸塩化合物は、炭酸アンモニウム又は重炭酸アンモニウムの水溶液等に、硝酸ビスマス及びX成分の硝酸塩等の水溶性化合物からなる水溶液を滴下混合し、得られた沈殿を水洗、乾燥することによって製造することができる。上記炭酸アンモニウム又は重炭酸アンモニウムの代わりに、炭酸ナトリウム又は重炭酸ナトリウムを用いると、Bi、Na及びX成分との複合炭酸塩化合物を製造することができる。その他の成分元素の供給源化合物としては、下記のものが挙げられる。Kの供給源化合物としては、硝酸カリウム、硫酸カリウム、塩化カリウム、炭酸カリウム、酢酸カリウム等を挙げることができる。Rbの供給源化合物としては、硝酸ルビジウム、硫酸ルビジウム、塩化ルビジウム、炭酸ルビジウム、酢酸ルビジウム等を挙げることができる。Csの供給源化合物としては、硝酸セシウム、硫酸セシウム、塩化セシウム、炭酸セシウム、酢酸セシウム等を挙げることができる。Tlの供給源化合物としては、硝酸第一タリウム、塩化第一タリウム、炭酸タリウム、酢酸第一タリウム等を挙げることができる。Bの供給源化合物としては、ホウ砂、ホウ酸アンモニウム、ホウ酸等を挙げることができる。Pの供給源化合物としては、リンモリブデン酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、リン酸、五酸化リン等を挙げることができる。Asの供給源化合物としては、ジアルセノ十八モリブデン酸アンモニウム、ジアルセノ十八タングステン酸アンモニウム等を挙げることができる。Wの供給源化合物としては、パラタングステン酸アンモニウム、三酸化タングステン、タングステン酸、リンタングステン酸等を挙げることができる。Mgの供給源化合物としては、硝酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム、炭酸マグネシウム、酢酸マグネシウム等が挙げられる。Caの供給源化合物としては、硝酸カルシウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、炭酸カルシウム、酢酸カルシウム等が挙げられる。Znの供給源化合物としては、硝酸亜鉛、硫酸亜鉛、塩化亜鉛、炭酸亜鉛、酢酸亜鉛等が挙げられる。Ceの供給源化合物としては、硝酸セリウム、硫酸セリウム、塩化セリウム、炭酸セリウム、酢酸セリウム等が挙げられる。Smの供給源化合物としては、硝酸サマリウム、硫酸サマリウム、塩化サマリウム、炭酸サマリウム、酢酸サマリウム等が挙げられる。Cr、Al、Ga、Zr、Pb、Nb、Ta、Hf、Mnなどの供給源化合物としては、各々対応する硝酸塩、塩化塩、炭酸塩、酢酸塩などが挙げられる。前工程において用いる原料化合物水溶液は、触媒成分として少なくともモリブデン全原子比aの内のa1相当、鉄R、ニッケル又はコバルトQの少なくとも一方、及びシリカを含む水溶液、水スラリー又はケーキである。この原料化合物水溶液の調製は、供給源化合物の水性系での一体化により行われる。ここで各成分元素の供給源化合物の水性系での一体化とは、各成分元素の供給源化合物の水溶液あるいは水分散液を一括に、あるいは段階的に混合及び/又は熟成処理を行うことをいう。即ち、イ上記の各供給源化合物を一括して混合する方法、ロ上記の各供給源化合物を一括して混合し、そして熟成処理する方法、ハ上記の各供給源化合物を段階的に混合する方法、ニ上記の各供給源化合物を段階的に混合熟成処理を繰り返す方法、及びイ~ニを組み合わせる方法のいずれもが、各成分元素の供給源化合物の水性系での一体化という概念に含まれる。ここで、熟成とは、工業原料もしくは半製品を、一定時間、一定温度等の特定条件のもとに処理して、必要とする物理性、化学性の取得、上昇あるいは所定反応の進行等を図る操作をいい、一定時間とは、通常10分~24時間の範囲であり、一定温度とは通常室温~水溶液又は水分散液の沸点範囲をいう。上記の一体化の具体的な方法としては、例えば、触媒成分から選ばれた酸性塩を混合して得られた溶液と、触媒成分から選ばれた塩基性塩を混合して得られた溶液とを混合する方法等が挙げられ、具体例としてモリブデン化合物の水溶液に、鉄化合物とニッケル化合物及び/又はコバルト化合物との混合物を加温下添加し、シリカを混合する方法等が挙げられる。このようにして得られたシリカを含む原料化合物水溶液触媒前駆体用スラリーを60~90°Cに加温し、熟成する。この熟成とは、上記触媒前駆体用スラリーを所定温度で所定時間、撹拌することをいう。この熟成により、スラリーの粘度が上昇し、スラリー中の固体成分の沈降を緩和し、とりわけ次の乾燥工程での成分の不均一化を抑制するのに有効となり、得られる最終製品である複合酸化物触媒の原料転化率や選択率等の触媒活性がより良好となる。上記熟成における温度は、60~90°Cが好ましく、70~85°Cがより好ましい。熟成温度が60°C未満では、熟成の効果が十分ではなく、良好な活性を得られない場合がある。一方、90°Cを超えると、熟成時間中の水の蒸発が多く、工業的な実施には不利である。更に100°Cを超えると、溶解槽に耐圧容器が必要となり、また、ハンドリングも複雑になり、経済性及び操作性の面で著しく不利となる。上記熟成にかける時間は、2~12時間がよく、3~8時間が好ましい。熟成時間が2時間未満では、触媒の活性及び選択性が十分に発現しない場合がある。一方、12時間を超えても熟成効果が増大することはなく、工業的な実施には不利である。上記撹拌方法としては、任意の方法を採用することができ、例えば、撹拌翼を有する撹拌機による方法や、ポンプによる外部循環による方法等が挙げられる。熟成されたスラリーは、そのままで、又は乾燥した後、加熱処理を行う。乾燥する場合の乾燥方法及び得られる乾燥物の状態については特に限定はなく、例えば、通常のスプレードライヤー、スラリードライヤー、ドラムドライヤー等を用いて粉体状の乾燥物を得てもよいし、また、通常の箱型乾燥器、トンネル型焼成炉を用いてブロック状又はフレーク状の乾燥物を得てもよい。上記の原料塩水溶液又はこれを乾燥して得た顆粒あるいはケーキ状のものは空気中で200~400°C、好ましくは250~350°Cの温度域で短時間の熱処理を行う。その際の炉の形式及びその方法については特に限定はなく、例えば、通常の箱型加熱炉、トンネル型加熱炉等を用いて乾燥物を固定した状態で加熱してもよいし、また、ロータリーキルン等を用いて乾燥物を流動させながら加熱してもよい。加熱処理後に得られた触媒前駆体の灼熱減量は、0.5~5質量であることが好ましく、1~3質量であるのがより好ましい。灼熱減量をこの範囲とすることで、原料転化率や選択率が高い触媒を得ることができる。なお、灼熱減量は、前記のように、次式により与えられる値である。灼熱減量=[W0-W1/W0]×100W0:触媒前駆体を150°Cで3時間乾燥して付着水分を除いたものの質量gW1:付着水分を除いた前記触媒前駆体を更に500°Cで2時間熱処理した後の質量g後工程では、上記の前工程において得られる触媒前駆体とモリブデン化合物全原子比aからa1相当を差し引いた残りのa2相当とビスマス化合物の一体化を、水性溶媒下で行う。この際、アンモニア水を添加するのが好ましい。X、Y、Z成分の添加もこの後工程で行うのが好ましい。この際、ビスマス供給源化合物は、水に難溶性ないし不溶性のビスマスであるため、この化合物は、粉末の形態で使用することが好ましい。触媒製造原料としてのこれら化合物は粉末より大きな粒子のものであってもよいが、その熱拡散を行わせるべき加熱工程を考えれば小さい粒子である方が好ましい。従って、原料としてのこれらの化合物がこのように粒子の小さいものでなかった場合は、加熱工程前に粉砕を行うべきである。次に、得られたスラリーを充分に撹拌した後、乾燥する。このようにして得られた乾燥品を、押出し成型、打錠成型、あるいは担持成型等の方法により任意の形状に賦形する。次に、このものを、好ましくは450~650°Cの温度条件にて1~16時間程度の最終熱処理に付す。以上のようにして、高活性で、かつ目的とする酸化脱水素反応生成物を高い収率で与える複合酸化物触媒が得られる。このようにして得られる複合酸化物触媒は、通常、反応活性を調整するためのイナートボールと共に反応器に充填されて固定床が形成される。イナートボールとしては、アルミナ、ジルコニア等のセラミックの球状体が用いられる。イナートボールは通常、複合酸化物触媒と同等の大きさであり、その粒径は2~10mm程度である。以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。なお、以下において部は質量部を意味する。[参考例1:複合酸化物触媒の調製]パラモリブデン酸アンモニウム54部を純水250部に加温して溶解させる。次に硝酸第二鉄7.18部、硝酸コバルト31.8部及び硝酸ニッケル31.8部を純水60部に加温して溶解させる。これらの溶液を、充分に撹拌しながら徐々に混合する。次に、シリカ64部を加えて、充分に攪拌する。このスラリーを75°Cに加温し、5時間熟成する。その後、スラリーを加熱乾燥した後、空気雰囲気中、300°Cで1時間の熱処理に付す。得られた触媒前駆体の粒状固体を粉砕し、パラモリブデン酸アンモニウム40.1部を純水150部にアンモニア水9部を加えて溶解した溶液に分散させる。次に、純水40部にホウ砂0.85部及び硝酸カリウム0.36部を加温下に溶解させて、上記スラリーに加える。次に、Naを0.45固溶した次炭酸ビスマス58.1部を加えて、撹拌混合する。このスラリーを加熱乾燥した後、得られた粒状固体を小型成形機にて径5mm、高さ4mmの錠剤に打錠成型し、次に500°Cで4時間の焼成を行って、複合酸化物触媒を得た。[実施例1]図1に示す方法で1,3-ブタジエンの製造を行った。内径27mm、長さ3500mmの反応管を113本備えた反応器1内の反応管に、反応管1本当たり、製造例1で製造された複合酸化物触媒622mlとイナートボールTiptonCorp.製384mlとを充填した。ナフサ分解で副生するC4留分からのブタジエンの抽出分離プロセスから排出されたBBSSと、空気と窒素と水蒸気を下記の流量で供給して、原料ガスとして混合した後、予熱器図示せずで217°Cに加熱した後、反応器1に供給した配管100。反応器1内の反応管の周囲には、約331°Cの熱媒熱媒ラインは図示せずを流して反応管内部の温度を約344~390°Cに調整した。原料ガスの流量は以下の通りで合計を質量換算すると237.8質量部/hrであった。BBSS:16.5容量部/hr空気:88.8容量部/hr窒素:54.3容量部/hr水蒸気:17.6容量部/hr反応器1からの反応ガスは、クエンチ塔2の塔底に供給した配管101。クエンチ塔2は実段数30段のシーブ型トレイを有する棚段塔で、その塔頂に純水を200質量部/hrで供給配管102し、ダウンカマーを通って塔底に落下した水は塔底から抜き出し配管103、塔底の液面計釜下部の湾曲部より上に200mmの位置を液面0、反応ガスの入口ノズルから下に500mmの位置を液面100となるように液面計を設定の指示が30になるように制御して一部の水を廃水タンク図示せずへ送液配管106した。また、一部の水をポンプのミニマムフローとしてクエンチ塔塔底へ循環図示せずし、残りの水を熱交換器4で50°Cまで冷却して、その一部をクエンチ塔2の上から数えて16段目のトレイへ供給配管104して反応ガスと接触させ、残りの水をトレイ下部に噴霧配管105して反応ガスと接触させた。なお、クエンチ塔のトレイ設置部分は、クエンチ塔の全高の1/1.4の領域であり、トレイ下部の噴霧領域は、クエンチ塔の全高の1/7.2の領域である。それぞれの流量は弁を手動操作で調整したため多少の変動が見られたが、平均で16段目のフィードが約955質量部/hr、塔底への噴霧が約507質量部/hrであった。シーブ型トレイに供給した配管102、104からの冷却水量の合計は平均で約1155質量部/hrであった。クエンチ塔2の塔底に供給された反応ガス質量部/hrとシーブ型トレイに供給した水質量部/hrとの流量の比率は0.21=237.8/1155であった。クエンチ塔2に供給した冷却水循環水を含むの内、塔底に噴霧した水の比率は31={507/5071155}×100であった。クエンチ塔塔底に供給された反応ガスは塔頂及び16段から供給された水、塔底にスプレーされた水と接触して冷却されたのち塔頂から抜き出された配管107。塔頂に供給した水の温度は気温の影響で変動が見られたが9~15°Cであった。クエンチ塔塔底の液温度は約67°C、塔頂温度は10~23°Cであった。塔頂から抜き出した反応ガスは、更に5°Cの冷水を冷却媒体に用いた熱交換器5で冷却して反応ガス中に含まれる水分を凝縮させた。ここで凝縮した水はクエンチ塔の塔底に戻した凝縮した水をクエンチ塔塔底に戻す配管は図示せず。水分を凝縮した後の反応ガスの一部はクエンチ塔塔頂の圧力を25kPaGに維持するように制御する圧力調整弁を通してフレアに放出して燃焼させた。残りのガスはフィルター7を通してから圧縮機8に供給した。ガス流量は圧縮機8の交流に設置した流量調節弁で制御した図示せず。ガス流量は約75時間目までは約88容量部/hrで、それ以降は109容量部/hrとした。フィルター7は、反応ガスに含まれる固形物を回収することを目的に日本ポ-ル社製のポールセルフィルター定格ろ過精度0.5μmをフィルターハウジングに12本並列に装着して使用した。フィルターの二次側に圧力計を設置し、フィルターの二次側の圧力を記録した。フィルターが固形物で閉塞して圧損が大きくなるとフィルターの二次側の圧力が低下するので、この圧力低下を反応ガス中に含まれる固形物量の目安とした。フィルター7にガスを流通し始めたときのフィルター7の二次側の圧力は21kPaGであったが、371時間後には161kPaGとなった。ガス流量を109容量部/hrに増やした後の圧力の低下速度を一次近似すると-0.0068kPa/hrとなった。このときのガス流量と圧力の変化を図2に示す。また、運転前後のフィルターの質量差及びハウジングに付着していた固形物を回収して質量を測定した結果から、運転期間中にクエンチ塔から飛散した固形物の量を求めた。これを運転期間中にフィルターに流したガス量で割ることでガス中の固形物濃度を求めたところ0.01g/Nm3未満であることが分かった。結果を表1に示す。[実施例2]運転条件を以下のようにした以外は実施例1と同様に実施した。原料ガスの流量は以下の通りであり、合計を質量換算すると180質量部/hrであった。BBSS:13.2容量部/hr空気:62.0容量部/hr窒素:30.9容量部/hr水蒸気:35.3容量部/hr反応器1の熱媒温度は328°Cとした。フィルター7に流したガス流量は85容量部/hrであった。ただし、285時間目に一旦運転を停止し、運転再開後の約20時間のみガス流量を約22容量部/hrとした経過時間には停止した時間は含まない。クエンチ塔の上から16段目のトレイに供給する冷却水量は平均で約941質量部/hrとし、クエンチ塔塔底への噴霧水量は平均で約508質量部/hrとした。シーブ型トレイに供給した配管102、104からの冷却水量の合計は平均で約1141質量部/hrであった。クエンチ塔塔底に供給された反応ガス質量部/hrとシーブ型トレイに供給した冷却水質量部/hrとの流量の比率は0.16であった。クエンチ塔に供給した冷却水循環水を含むの内、塔底に噴霧した水の比率は31であった。フィルター7に通したガス流量とフィルター7の二次側圧力の変化を図3に示す。ガス流量を減らしたときを除くと圧力の低下速度は一次近似で-0.0019kPa/hrとなった。ガス流通を停止後にフィルターを取り出したところ、フィルターに固形物はほとんど付着していなかった。やや湿っていたので乾燥させてから質量を測定したところ運転前よりも軽くなり、付着した固形物量を定量することが出来なかった。新品のフィルターがわずかに吸湿していたために乾燥による質量減少が固形物の付着量よりも大きかったと考えられる。結果を表1に示す。[比較例1]反応条件を以下のようにした以外は実施例1と同様に実施した。原料ガスの流量は以下の通りで合計を質量換算すると224.7質量部/hrであった。BBSS:16.5容量部/hr空気:75.0容量部/hr窒素:41.1容量部/hr水蒸気:44.1容量部/hr反応器1の熱媒温度は344°Cとした。フィルターに流したガス流量は85容量部/hrであった。クエンチ塔の上から16段目のトレイに供給する冷却水量は平均で約333質量部/hrとし、クエンチ塔塔底への噴霧水量は平均で約996質量部/hrとした。シーブ型トレイに供給した配管102、104からの冷却水量の合計は平均で533質量部/hrであった。クエンチ塔塔底に供給された反応ガス質量部/hrとシーブ型トレイに供給した冷却水質量部/hrとの流量の比率は0.42であった。クエンチ塔に供給した冷却水循環水を含むの内、塔底に噴霧した水の比率は65であった。比較例1において、反応ガスの冷却に用いた配管102、104、105からの冷却水量の合計は平均で約1529質量部/hrであり、実施例1及び2と大きな差はない。塔頂に供給した水の温度は気温の影響で変動が見られたが14~16°Cであった。クエンチ塔塔底の液温度は約75°C、塔頂温度は17~25°Cであった。原料のスチームが増えているために塔底温度は実施例1よりも高いが塔頂は十分に冷えている。フィルター7に通したガス流量とフィルター7の二次側圧力の変化を図4に示す。フィルター7の二次側圧力は、運転前に21.25kPaGであったのが61時間後に5.65kPaGと急速に低下した。圧力の低下速度は一次近似で-0.256kPa/hとなった。フィルター及びハウジングに付着した固形物の質量を測定し、反応ガス中の固形物濃度を求めたところ0.023g/Nm3であった。結果を表1に示す。なお、フィルターに捕捉されていた固形物をSEM日本電子製JSM-6340F型FE-SEMで観察したところ、粒子径が約0.5μmであることがわかった図5。この固形物をIRで分析したところ主成分はテレフタル酸及びイソフタル酸であることが分かった。"