"互いに並べて配置した複数の光ビームを含む光ビーム配列に影響を及ぼす装置であって、前記光ビーム4に対して横方向に可動であり、該光ビームを通過させる場合に該光ビーム4に影響を及ぼすことができ、少なくとも1つの光吸収領域9、19、29を有する、少なくとも1つの光学素子5、15、25を特徴とし、前記光学素子用の駆動デバイスと、前記光ビームの光を検出する測定デバイスと、前記光吸収領域の位置に応じて前記駆動デバイスを制御するよう設計した制御ユニットと、を備えることを特徴とする、装置。請求項1に記載の装置において、個別に又は全体で可動である複数の光学素子5、15、25を、前記光ビームのビーム方向で互いに並べて配置したことを特徴とする、装置。請求項2に記載の装置において、前記光吸収領域9、19、29を、複数の光学素子の場合、個々の前記光学素子それぞれで同じ場所に配置した、又は前記光ビームのビーム方向で前記光学素子のいかなる位置でも重なり合わないよう配置したことを特徴とする、装置。請求項1~3のいずれか1項に記載の装置において、前記駆動デバイスはステッピングモータであることを特徴とする、装置。請求項1~4のいずれか1項に記載の装置において、前記光学素子5、15、25は偏光子であることを特徴とする、装置。複数の光ビーム4により照明されるマルチミラーアレイ7を備え、瞳平面12において各領域11を複数の光ビーム4に割り当てるようにした、マイクロリソグラフィ用の投影露光装置であって、請求項1~5のいずれか1項に記載の装置を備えることを特徴とする、投影露光装置。請求項6に記載の投影露光装置において、前記測定デバイスを、前記瞳平面12における光強度を測定するデバイスにより形成したことを特徴とする、投影露光装置。請求項1~5のいずれか1項に記載の装置又は請求項6又は7に記載の投影露光装置により、互いに並べて配置した複数の光ビーム4を含む光ビーム配列に影響を及ぼす方法であって、前記光ビーム4に対して横方向に可動であり、該光ビームを通過させる場合に該光ビーム4に影響を及ぼし、少なくとも1つの光吸収領域を有する、少なくとも1つの光学素子5、15、25を設けること、該光学素子用の駆動デバイスを設けること、及び前記光ビームの光を検出する測定デバイスを設けることを含み、前記光学素子を前記光吸収領域9、19、29の位置に応じて駆動し、該光吸収領域9、19、29が所望の光ビームに影響を与える位置をとるようにすることを特徴とする、方法。したがって、本発明が扱う課題は、マイクロリソグラフィ用の投影露光装置における光学素子の位置決め及び配置を、より詳細には、互いに並べて配置した複数の光ビームを含む光ビーム配列に影響を及ぼす光学素子の配置を、簡単に可能にするというものである。上記課題は、請求項1の特徴を備える装置、請求項6の特徴を備える投影露光装置、及び請求項8の特徴を含む方法により解決する。従属請求項は、有利な構成に関連する。本発明は、互いに並べて配置した複数の光ビームを含む光ビーム配列に影響を及ぼす光学素子の簡単且つ正確な位置決めを、測定デバイスが光学素子に配置した光吸収領域により強度変化を検出し、光学素子の配置をこのようにして制御可能であることにより達成することができるという仮定に基づく。したがって、光ビームに対して横方向に可動であり、少なくとも1つの光吸収領域を有する少なくとも1つの光学素子を設けた、光ビーム配列に影響を及ぼす装置を提案する。この場合、光ビーム配列における光ビームの配置は、1次元で互いに並べるだけでなく、2次元で互いに並べることができる。さらに、光は、可視波長域の光だけでなく、概して電磁放射線を意味するものと理解されたい。光ビームに対して横方向の、すなわち光ビーム配列のビーム方向に対して横方向の、光学素子の可動性により、光学素子を光ビーム配列のビーム経路内に、又は光ビームの個々のビーム経路内に移動させて、光学素子の透過時に該当の光ビームに影響を及ぼすようにすることができる。光学素子が本発明による光吸収領域を有する場合、光吸収領域はそれより先のビーム経路の遮蔽を引き起こし、これを測定デバイスで検出することができる。したがって、光吸収領域の該当箇所を判定することができ、それに対応して光学素子の駆動を制御ユニットにより制御することができる。光学素子の位置の直接検出は、光学素子の駆動デバイスを単純に設計すること、したがって光学素子の移動及び位置決めを行うアクチュエータの複雑性を低く抑えることを可能にする。特に、個別に又は全体で可動である複数の光学素子を、光ビームのビーム方向で互いに縦列配置することもできる。複数の光学素子の全体移動の場合、光学素子の1つに光吸収領域があれば十分だが、光学素子が個別に可動にする場合、光学素子のそれぞれが少なくとも1つの光吸収領域を有するべきである。この場合、光吸収領域は、個々の光学素子それぞれで同じ場所に配置してもよく、又は異なる位置にすることで、光ビームのビーム方向での光吸収領域の重なり合いが光学素子のいかなる位置でも生じないように、すなわち光ビームのビーム方向での光吸収領域の重なり合いがビーム経路における光学素子について可能な配置のいかなる組み合わせの場合にも回避されるようにしてもよい。その結果として、個々の光学素子の位置の簡単な識別が可能である。本発明により、例えばステッピングモータ等の単純な駆動デバイスを、光学素子の正確な位置決めに用いることができる。光学素子は、より詳細には、好ましくは旋光板polerotatorplateの形態の偏光子とすることができ、これを、マルチミラーアレイに指向させた光ビームの偏光を設定するために投影露光装置の照明ユニットで用いる。したがって、本発明による装置は、より詳細には、互いに並べて配置した複数の光ビームにより照明されるマルチミラーアレイを備えるマイクロリソグラフィ用の投影露光装置で用いることができ、投影露光装置の瞳平面において、複数の光ビームにそれぞれ1つの領域のみを割り当てることができる。より詳細には、瞳平面における対応の領域を、影響を及ぼすことを意図する光ビームに割り当てることができる。結果として、瞳平面において、本発明に従って光ビーム配列に影響を及ぼす装置に設けたような、光強度を測定する測定デバイスを設けることができる。より詳細には、投影露光装置の瞳平面の領域で、他の目的ですでに用いている測定デバイスを用いることも可能である。このようにして、投影露光装置の照明ユニットにおける偏光子の正確な位置決めのための経費をさらに低減することができる。本発明のさらに他の利点、特性、及び特徴は、添付図面を参照して以下の本発明の例示的な実施形態の詳細な説明において明らかとなるであろう。図1は、マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の照明ユニットの一部を示し、図中、入射光1がいわゆる集束アレイ2、すなわち互いに縦横に並べて配置した配置した集束レンズ3のアレイに衝突して、2次元で互いに並べて配置した多数の光ビーム4からなる対応のビーム配列に変換されるようにする。マルチミラーアレイのミラー8は、2次元で互いに並べて配置したミラー8のアレイを形成する。マルチミラーアレイ7のミラー8により、光ビーム4を所望の形で偏向させることができ、これは、続いてマイクロリソグラフィ投影露光装置のレチクルの照明に用いる光ビームを整形するために行う。この種の構成では、旋光板5の形態の偏光子を設け、これは、投影露光装置の直線偏光を偏光方向の回転により確実に変化させることができる。偏光子5は、光ビーム4に対して横方向の直線移動又は枢動等の任意の他の適当な移動により、個々の光ビーム4のビーム経路内に動かすことができ、これは、上記偏光子を通過する光ビーム4の偏光方向を回転させるために行う。図2から明らかなように、より詳細には3つの偏光子5、15、及び25を光1のビーム方向に縦列配置し、これらの偏光子を、ビーム経路内に移動させて互いに別個に独立して再度移動させることができる。図3は、入射光1の視点からの偏光子5、15、及び25の配置を示し、この図は、光入射方向に関してさらに90°回転させてある。したがって、互いに並べて配置した多数の光ビーム4からなるビーム経路内に半分だけ移動させた偏光子5を、図3の下半分の領域で見ることができ、さらに若干大きく移動させた偏光子15を、偏光子5の上に見ることができ、最も大きく移動させた偏光子25を、図3の偏光子15及び5の上に見ることができる。マルチミラーアレイの個々のミラー8に割り当てた光ビームごとに、2次元で互いに並べて配置した、光ビームを通す仮想チャネル10を画定することが可能である。したがって、図3に示す偏光子5、15、25を位置決めする場合、マルチミラーアレイ7の上2つのチャネル列のチャネル10を進む光ビームは、偏光子5、15、及び25のいずれも通過しないため、それらの偏光方向に関して影響を及ぼすことがない。チャネル10の上から数えて水平方向3列目及び4列目を通過する光ビームは、偏光子25を通過し、例えば偏光子25の旋光板を通して偏光方向を45°回転させる。それよりも下に配置したチャネル列のチャネル10を通過する光ビームは、偏光子25を通過するだけでなく偏光子15も通過するため、偏光子15が偏光子25と同じ方向に45°の回転を引き起こす旋光板である場合でも、全体で90°の偏光方向の回転が行われる。したがって、図示の下3つのチャネル列のチャネル10を通過する光ビームは、3つの偏光子、すなわち偏光子5、15、及び25を連続して通過する結果として、偏光方向が3回影響を受け、例えば回転する。偏光子5、15、25の変位の結果として、種々のチャネル10を通過する光ビームの偏光方向に、続いて目標通りの影響を及ぼすことができる。したがって、偏光子5、15、25を正確に位置決めできる必要がある。この目的で、本発明は、偏光子5、15、25が例えばクロム等の金属蒸着層の形態の光吸収領域9、19、29を備えるようにする。図4に示す例示的な実施形態では、光吸収領域9、19、29を、偏光子5、15、25それぞれの同じ場所に、すなわち図示の例示的な実施形態では旋光板の右上隅に設ける。図5から明らかなように、瞳平面12において特定の領域11を各チャネル10に割り当てることができ、領域11と各チャネル10とは、大文字のA~Hを用いて同じ表示で識別する。ここで、光強度を検出する測定デバイスを瞳平面12に配置することができる。このような測定デバイスは、例えば、投影露光装置に他の目的のためにもすでに設けられていて、本発明で併用されてもよい。チャネルC、E、及びFの領域に配置した光吸収領域9、19、及び29により、瞳平面12においてC、E、及びFで識別される領域11では、放射線強度が全く確認できないか又は低い放射線強度しか確認できないため、対応の制御及び/又は評価ユニット、より詳細にはプログラミングに関して適宜設定されるデータ処理デバイスの形態の制御及び/又は評価ユニットにより、偏光子5、15、25の光吸収領域9、19、29をビーム経路における対応の位置に位置決めする必要があることを確認することが可能である。しかしながら、偏光子5、15、25の光吸収領域9、19、29は、偏光子5、15、25の同じ場所にそれぞれ設けられているため、瞳平面12における光強度の測定から、どの偏光子が瞳平面12のどの領域11のカバーに関与しているのかを直接確認することが不可能である。しかしながら、これは、偏光子5、15、25の移動の初期調整及び後続追跡中に判定することができる。代替的に、互いに縦列配置した偏光子5、15、25の光吸収領域9,19、29を、図6において光吸収領域9’、19’、29に関して示すように偏光子5、15、25の異なる場所に設けることができる。偏光子25の光吸収領域29は、図4の例示的な実施形態のように旋光板の右上隅に再度配置されるが、偏光子5の光吸収領域9’及び偏光子15の光吸収領域19’は、他の場所に、厳密に言えば、より詳細には残りの偏光子の他の光吸収領域に対して少なくとも1チャネル幅分ずれた領域に配置される。したがって、偏光子5は、内外移動の場合、大文字A~Hで示すチャネル10のみをその光吸収領域9’でカバーするが、偏光子15は、表示A’~H’を有するチャネル10をその光吸収領域19’でカバーすることができ、偏光子25は、A’’~H’’で識別されるチャネル10をその光吸収領域29でカバーすることができる。したがって、例えば図5の実施形態の場合のように重なり合いが起こり得ないため、瞳平面において、光吸収領域9’、19’、29により生じる遮蔽を互いに精密に分離することができる。したがって、個々の偏光子5、15、及び25の位置を瞳平面12における光強度の検出により判定することができ、偏光子5、15、及び25の移動をそれに従って制御することができる。例えば、図6に示すように、チャネル10の下3列に案内されるビームを偏光子5に通過させる程度まで、偏光子5をビーム配列のビーム経路内に移動させることを意図するならば、光吸収領域9’を、大文字Fで識別されるチャネル10の領域に配置する。この目的で、偏光子5を、例えばステッピングモータ等の駆動デバイスにより駆動して直線移動を実行するが、図7に大文字Fで識別される領域11が光吸収領域9’によりカバーされるようになって光強度が全く又はほとんど確認できないことを、瞳平面12における測定デバイスが確認するまで、この直線移動を実行する。したがって、偏光子5の移動を続いて停止させることができ、偏光子5は正しい位置に配置される。結果として、偏光子5の正確な位置決めのために、例えばステッピングモータ等の単純な設計の駆動デバイスを用いることが可能である。対応の偏光子15及び25も同様に制御し移動させる。本発明を例示的な実施形態に基づき詳細に説明したが、当業者には自明であるように、本発明はこれらの例示的な実施形態に限定されるのではなく、添付の特許請求の範囲の保護範囲から逸脱しない限り、本発明を他の状況でも用いることができ、提示した個々の特徴を省くか又は提示した特徴の異なる組み合わせを実現するように変更を加えることができる。特に、本開示は、個別に提示した全ての特徴のあらゆる組み合わせを含む。"