対象物の脱水処理及び冷凍処理を行なう真空冷却チャンバーと、前記真空冷却チャンバー内に収容され、通気用貫通部、及び上面に前記対象物が載置される載置面を有し、前記対象物を冷却する冷却プレートと、前記真空冷却チャンバー内に収容されると共に、前記冷却プレートの上方に配置され、前記対象物に対して冷媒を噴射する冷媒噴射ユニットと、前記冷却プレートの下面側に装着され、前記冷却プレートの下面及び前記通気用貫通部を露出する空間を有する真空吸引ポートと、前記真空吸引ポート内に設けられた前記空間の圧力を減圧する真空ポンプと、を含むことを特徴とする冷凍装置。前記通気用貫通部は、前記対象物が落下しない形状であることを特徴とする請求項1記載の冷凍装置。前記通気用貫通部は、溝または穴であることを特徴とする請求項1または2記載の冷凍装置。前記冷却プレートは、冷媒を導入する導入部と、前記冷媒を排出する排出部と、前記冷却プレートに内設され、前記導入部及び前記排出部と接続されると共に、前記冷媒を輸送する冷却用管路と、を有することを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の冷凍装置。前記冷媒噴射ユニットと接続され、該冷媒噴射ユニットに冷媒を供給する第1の冷媒供給管と、前記冷却プレートの導入部と接続され、該導入部を介して、前記冷却用管路に冷媒を供給する第2の冷媒供給管と、を有することを特徴とする請求項4記載の冷凍装置。前記冷却プレートの導入部と接続され、前記冷却用管路に前記冷媒を供給する冷媒供給管と、前記冷却プレートの排出部及び前記冷媒噴射ユニットと接続され、前記冷却用管路を通過した前記冷媒を前記冷媒噴射ユニット内に導く管路と、を有することを特徴とする請求項4または5記載の冷凍装置。前記冷媒噴射ユニットと接続され、該冷媒噴射ユニットに冷媒を供給する冷媒供給管と、前記真空吸引ポートの排気口と前記冷却プレートの導入部とを接続する管路と、前記管路を介して、前記真空吸引ポートに設けられた前記空間の圧力を減圧可能なように、前記冷却プレートの排出部と前記真空ポンプとを接続させたことを特徴とする請求項1ないし4のうち、いずれか1項記載の冷凍装置。前記真空冷却チャンバー内に、常温のガスをパージする常温ガスパージ機構を有することを特徴とする請求項1ないし7のうち、いずれか1項記載の冷凍装置。前記冷媒噴射ユニットから前記冷媒として低温ガスを噴射し、前記冷却プレートの前記冷却用管路に前記冷媒として低温液化ガス又は低温ガスを流すことを特徴とする請求項4ないし8記載の冷凍装置。前記低温液化ガスは、液体窒素であることを特徴とする請求項9記載の冷凍装置。ところで、図7及び図8で説明した方法により、対象物202の脱水処理及び冷凍処理を行なう場合、2つの異なるチャンバー間での移し替え作業が必要となる。このため、脱水処理及び冷凍処理の連続性が損なわれると共に、移し替え作業に多くの時間を要するため、生産性が低下してしまうという問題があった。また、移し替えによって異物混入等の衛生面でのリスクが生じる。このような問題を解決する手段として、脱水処理及び冷凍処理を同一の装置の同一のチャンバー内で連続して行なうことが考えられる図9参照。図9に示すように、1つのチャンバー内で真空脱水処理と冷凍処理を順次行うため、チャンバー全体に噴射された低温液化ガスや低温ガスによってチャンバー全体が冷却されるので、次回の真空脱水処理の前に行う常温復帰に多くの時間を要したり、別途設置したヒーターによる加熱復温処理が必要となったりする等の不都合がある。また、液化窒素等の低温液化ガスの噴射で冷凍処理を行う場合、液化窒素の気化によりチャンバー内圧力が上昇するため、チャンバーには圧力上昇を踏まえた構造シール機構が必要となる。一方で、前処理における真空脱水処理では雰囲気が負圧となることを踏まえた構造シール機構が必要となる。したがって、負圧及び陽圧に対応する構造シール機構が要求されるため、装置構成が複雑化してしまう。また、特許文献2に記載の冷凍方法では、冷却プレートが対象物に直接接触していないことにより、対象物の冷却が真空雰囲気下での輻射伝熱に限定されてしまうため、十分な冷却速度を得ることができないという問題があった。そこで、本発明は、対象物の脱水処理及び冷凍処理を、構成が簡略化された1つの真空冷却チャンバーを用いて連続処理可能で、かつ対象物に応じて効率よく対象物を冷凍可能な冷凍装置を提供することを目的とする。上記課題を解決するため、請求項1に係る発明によれば、対象物の脱水処理及び冷凍処理を行なう真空冷却チャンバーと、前記真空冷却チャンバー内に収容され、通気用貫通部、及び上面に前記対象物が載置される載置面を有し、前記対象物を冷却する冷却プレートと、前記真空冷却チャンバー内に収容されると共に、前記冷却プレートの上方に配置され、前記対象物に対して冷媒を噴射する冷媒噴射ユニットと、前記冷却プレートの下面側に装着され、前記冷却プレートの下面及び前記通気用貫通部を露出する空間を有する真空吸引ポートと、前記真空吸引ポート内に設けられた前記空間の圧力を減圧する真空ポンプと、を含むことを特徴とする冷凍装置が提供される。また、請求項2に係る発明によれば、前記通気用貫通部は、前記対象物が落下しない形状であることを特徴とする請求項1記載の冷凍装置が提供される。また、請求項3に係る発明によれば、前記通気用貫通部は、溝または穴であることを特徴とする請求項1または2記載の冷凍装置が提供される。また、請求項4に係る発明によれば、前記冷却プレートは、冷媒を導入する導入部と、前記冷媒を排出する排出部と、前記冷却プレートに内設され、前記導入部及び前記排出部と接続されると共に、前記冷媒を輸送する冷却用管路と、を有することを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の冷凍装置が提供される。また、請求項5に係る発明によれば、前記冷媒噴射ユニットと接続され、該冷媒噴射ユニットに冷媒を供給する第1の冷媒供給管と、前記冷却プレートの導入部と接続され、該導入部を介して、前記冷却用管路に冷媒を供給する第2の冷媒供給管と、を有することを特徴とする請求項4記載の冷凍装置が提供される。また、請求項6に係る発明によれば、前記冷却プレートの導入部と接続され、前記冷却用管路に前記冷媒を供給する冷媒供給管と、前記冷却プレートの排出部及び前記冷媒噴射ユニットと接続され、前記冷却用管路を通過した前記冷媒を前記冷媒噴射ユニット内に導く管路と、を有することを特徴とする請求項4または5記載の冷凍装置が提供される。また、請求項7に係る発明によれば、前記冷媒噴射ユニットと接続され、該冷媒噴射ユニットに冷媒を供給する冷媒供給管と、前記真空吸引ポートの排気口と前記冷却プレートの導入部とを接続する管路と、前記管路を介して、前記真空吸引ポートに設けられた前記空間の圧力を減圧可能なように、前記冷却プレートの排出部と前記真空ポンプとを接続させたことを特徴とする請求項1ないし4のうち、いずれか1項記載の冷凍装置が提供される。また、請求項8に係る発明によれば、前記真空冷却チャンバー内に、常温のガスをパージする常温ガスパージ機構を有することを特徴とする請求項1ないし7のうち、いずれか1項記載の冷凍装置が提供される。また、請求項9に係る発明によれば、前記冷媒噴射ユニットから前記冷媒として低温ガスを噴射し、前記冷却プレートの前記冷却用管路に前記冷媒として低温液化ガス又は低温ガスを流すことを特徴とする請求項4ないし8記載の冷凍装置が提供される。また、請求項10に係る発明によれば、前記低温液化ガスは、液体窒素であることを特徴とする請求項9記載の冷凍装置が提供される。本発明の冷凍装置によれば、脱水処理後に脱水用チャンバーの外部に対象物を取り出す必要や、脱水用チャンバーから取り出した対象物を冷却用チャンバー内に収容する必要がなくなると共に、脱水処理及び冷凍処理を連続して行なうことが可能となるので、対象物の脱水処理及び冷凍処理の生産性を向上できる。また、チャンバー間の移動に起因する対象物への異物の混入を抑制できるため、衛生面でのリスク低減につながる。また、本発明の冷凍装置によれば、対象物に対して噴射された冷媒を真空冷却チャンバー内に拡散する前に冷却プレートの下面に装着された真空吸引ポートを介して回収するので、冷却プレート、冷媒噴射ユニット及び真空吸引ポートといった限られた部材のみが冷却される。よって、冷凍処理後の常温復帰が容易なものとなる。さらに、冷媒として低温液化ガスを噴射した場合であっても、真空吸引ポートより速やかに回収されるため、低温液化ガスの気化に起因するチャンバー内圧力上昇が抑えられる。このため、真空冷却チャンバーの構造及びシール機構を真空状態のみ考慮したものとすることができ、チャンバー構造の簡略化が可能となる。以下、図面を参照して本発明を適用した実施の形態について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、本発明の実施形態の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の冷凍装置の寸法関係とは異なる場合がある。第1の実施の形態図1は、本発明の第1の実施の形態に係る冷凍装置の概略構成を示す模式図である。図1では、後述する図2に示す通気用貫通部26及び冷却用管路27共に冷却プレート17の構成要素の図示を省略する。図1を参照するに、第1の実施の形態の冷凍装置10は、真空冷却チャンバー12と、冷媒噴射ユニット13と、第1の冷媒供給管14と、バルブ15と、冷却プレート17と、第2の冷媒供給管18と、バルブ19と、排出管20と、真空吸引ポート21と、真空ポンプ22と、常温ガスパージ機構と、を有する。真空冷却チャンバー12は、対象物11の脱水処理及び冷凍処理を行なうチャンバーである。真空冷却チャンバー12は、減圧真空状態に耐え得る構造とされている。真空冷却チャンバー12の形状としては、球形や円筒形、或いは立方体等を用いることが可能であるが、対象物11の配置の観点から、立方体が好ましい。真空冷却チャンバー12の材料としては、例えば、SUS304を用いることができる。冷媒噴射ユニット13は、真空冷却チャンバー12内に収容されている。冷媒噴射ユニット13は、冷却プレート14と対向するように配置されている。冷媒噴射ユニット13は、対象物11に対向するように配置され、かつ対象物11に対して冷媒を噴射するガス噴射口23と、冷媒導入口24と、を有する。冷媒噴射ユニット13から噴射させる冷媒としては、液化窒素等の低温液化ガス、温度-20°C以下の低温窒素ガス等の低温ガスを使用することができるが、ガス噴射口23からの噴射量の制御が容易なことから、低温窒素ガス等の低温ガスの使用が好ましい。冷媒噴射ユニット13は、対象物11の近傍に配置されている。冷媒噴射ユニット13から対象物11までの距離は、ガス噴射口23の開口径の値の10倍以内の距離にするとよい。また、冷媒噴射ユニット13の位置は、冷媒の噴射流速の顕著な減衰や拡散が起こらない位置とする。ガス噴射口23の寸法及び個数は、脱水処理及び冷凍処理後に製品となる対象物11の特性や、対象物11の配列に応じて、最適となるように適宜選択することができる。ガス噴射口23の形状は、スリット状や円形孔、或いは角孔のいずれの形状でもよい。例えば、ガス噴射口23の形状を円形孔とした場合、ガス噴射口23の孔寸法は、例えば、3~30mmとすることができる。冷媒導入口24は、第1の冷媒供給管14と接続されており、第1の冷媒供給管14により供給された冷媒を冷媒噴射ユニット13内に導入する。上記構成とされた冷媒噴射ユニット13の材料としては、超低温に対して耐性のある材料が好ましい。具体的には、冷媒噴射ユニット13の材料としては、例えば、SUS304や銅合金、或いはアルミ合金等を用いることが可能であるが、SUS304を用いることが好ましい。第1の冷媒供給管14は、一方の端が冷媒供給源図示せずと接続されており、他方の端が冷媒導入口24と接続されている。第1の冷媒供給管14は、冷媒供給源図示せずから供給された低温窒素ガス等の冷媒を冷媒噴射ユニット13に供給するための管路である。バルブ15は、第1の冷媒供給管14に設けられている。バルブ15は、冷媒噴射ユニット13に供給する冷媒の量を調整する。図2は、図1に示す冷凍装置の主要部拡大図である。図2では、図1に示す導入部29及び排出部31の図示を省略する。図1を参照するに、冷却プレート17は、真空冷却チャンバー12内に収容され、かつ冷媒噴射ユニット13と対向するように、冷媒噴射ユニット13の下方に配置されている。図1及び図2を参照するに、冷却プレート17は、プレート本体25と、通気用貫通部26と、冷却用管路27と、導入部29と、排出部31と、を有する。図2を参照するに、プレート本体25は、板状とされた部材である。プレート本体25の上面は、対象物11が載置される平坦な載置面25aを有する。プレート本体25の材料としては、超低温に対する耐性を有し、かつ熱伝導率に優れた材料を用いるとよい。具体的には、プレート本体25の材料としては、例えば、高密度ポリエチレン等の樹脂や、SUS304等を用いることができる。通気用貫通部26は、プレート本体25を貫通するように複数設けられている。通気用貫通部26は、冷媒噴射ユニット13が噴射する冷媒を、プレート本体25の上面側からプレート本体25の下面25b側に通過させて、冷媒を真空吸引ポート21内に誘導するための通気口である。通気用貫通部26は、プレート本体25に配置される対象物11が落下しない形状であればよい。具体的には、通気用貫通部26としては、溝スリットまたは穴を用いることができる。図3は、冷却プレートの一例を示す平面図である。図3では、図1及び図2に示す構造体と同一構成部分には、同一符号を付す。図3に示すように、通気用貫通部26として溝33を用いた場合、溝33は、溝33の延在方向に対して直交する方向に複数配置することができる。溝33の幅は、対象物11の大きさに依存するが、例えば、5~30mmの範囲で適宜選択することができる。図2及び図3を参照するに、冷却用管路27は、プレート本体25のうち、載置面25aを構成する部分に内設されている。冷却用管路27の一方の端は、導入部29と接続されており、冷却用管路27の他方の端は、排出部31と接続されている。冷却用管路27は、導入部29から導入された冷媒を輸送することで、載置面25a上に配置された対象物11を冷却する。冷却用管路27に通過させる冷媒としては、液化窒素等の低温液化ガス、低温窒素ガス等の低温ガスを使用することができる。図3を参照するに、導入部29は、プレート本体25の側面に設けられている。図1及び図3を参照するに、導入部29は、冷却用管路27の一方の端、及び第2の冷媒供給管18と接続されている。導入部29は、第2の冷媒供給管18から供給された冷媒を冷却用管路27に導入する。排出部31は、プレート本体25の側面に設けられている。排出部31は、冷却用管路27の他方の端、及び排出管20と接続されている。排出部31は、冷却用管路27を通過し、対象物11の冷却に寄与した冷媒をプレート本体25の外部に排出するための管路である。図1を参照するに、第2の冷媒供給管18は、一方の端が冷媒供給源図示せずと接続されており、他方の端が導入部29と接続されている。第2の冷媒供給管18は、冷媒供給源図示せずから供給された液化窒素等の冷媒を、導入部29を介して、冷却用管路27に供給する。バルブ19は、第2の冷媒供給管18に設けられている。バルブ19は、冷却用管路27に供給する冷媒の量を調整する。排出管20は、冷却用管路27の他方の端、及び排出部31と接続されている。排出管20は、排出部31から排出された冷媒対象物11の冷却に使用された冷媒を冷凍装置10の外部に排出する。真空吸引ポート21は、真空冷却チャンバー12内に収容されている。図2を参照するに、真空吸引ポート21は、冷却プレート17の下面17aプレート本体25の下面25bに装着されており、冷却プレート17の下面17a及び複数の通気用貫通部26を露出する空間34と、排気口35と、を有する。図2を参照するに、空間34は、真空吸引ポート21の上端側プレート本体25の下面25b側から下方に離間するにつれて、幅が狭くなるような形状とされている。図1及び図2を参照するに、排気口35は、真空吸引ポート21の下端に配置されており、真空ポンプ22と接続されている。図1を参照するに、真空ポンプ22は、真空吸引ポート21の排気口35と接続されている。図1及び図2を参照するに、真空ポンプ22は、排気口35を介して、空間34及び真空冷却チャンバー12の圧力を減圧する真空にするためのものである。真空ポンプ22は、冷媒噴射ユニット13から噴射された冷媒により、対象物11を冷凍させる際、空間34の圧力を減圧することで、通気用貫通部26を介して、該冷媒を空間34内に移動させて、真空冷却チャンバー12内の空間12Aへの冷媒の拡散を抑制する。これにより、真空冷却チャンバー12内の空間12Aの圧力が上昇することを抑制できる。脱水処理時における真空冷却チャンバー12内の圧力は、負圧例えば、1Pa~100kPaとし、冷凍処理時における真空冷却チャンバー12内の圧力は大気圧~10kPaとする。真空ポンプ22による排気速度は、真空冷却チャンバー12内の容積と冷媒の供給速度とを考慮して決定する。常温ガスパージ機構図示せずは、冷凍処理後に真空冷却チャンバー12内を常温に戻す必要がある場合、真空冷却チャンバー12に常温ガスを供給するためのものである。第1の実施の形態の冷凍装置によれば、対象物11の脱水処理及び冷凍処理を行なう真空冷却チャンバー12を設けることにより、脱水処理後に脱水用チャンバーの外部に対象物を取り出す必要や、脱水用チャンバーから取り出した対象物を冷却用チャンバー内に収容する必要がなくなると共に、脱水処理及び冷凍処理を連続して行なうことが可能となるので、対象物11の脱水処理及び冷凍処理の生産性を向上できる。また、脱水処理後に脱水用チャンバーの外部に対象物を取り出す必要や、脱水用チャンバーから取り出した対象物を冷却用チャンバー内に収容する必要がなくなることで、チャンバー間の移動に起因する対象物11への異物の混入を抑制できる。また、真空冷却チャンバー12内に収容され、通気用貫通部26、及び上面に対象物11が載置される載置面25aを有し、対象物11を冷却する冷却プレート17と、真空冷却チャンバー12内に収容されると共に、冷却プレート17の上方に配置され、対象物11に対して冷媒を噴射する冷媒噴射ユニット13と、を設けることにより、冷媒が直接対象物11に噴射されると共に、対象物11と冷却プレート17とが直接接触するため、対象物11を効率よく冷凍できる。また、通気用貫通部26が形成された冷却プレート17の下面17aを露出するように、冷却プレート17の下面17a側に装着された真空吸引ポート21と、真空吸引ポート21内に設けられた空間34の圧力を減圧する真空ポンプ22と、を有することにより、対象物11に対して噴射された冷媒が、真空冷却チャンバー12内に拡散する前に、真空吸引ポート21を介して、真空ポンプ22により回収することが可能となる。これにより、対象物11に対して噴射された冷媒が、真空冷却チャンバー12内に広がることなくなるため、冷媒により、脱水時に減圧した真空冷却チャンバー12内の圧力が上昇することを抑制可能となる。したがって、真空冷却チャンバー12は、真空状態のみを考慮した構造及びシール機構でよいため、真空冷却チャンバー12の構成を簡略化できる。また、真空冷却チャンバー12内において、冷却される部材は、冷却プレート17、冷媒噴射ユニット13、及び真空吸引ポート21のみであるため、対象物11の冷凍処理後に、常温ガスを用いて短時間でパージすることで容易に復温させることができる。図4は、第1の実施の形態の冷凍装置を用いた対象物の脱水処理及び冷凍処理を説明するためのフローチャートである。図1、図2、及び図4を参照して、第1の実施の形態の冷凍装置10を用いた対象物11の脱水処理及び冷凍処理について説明する。始めに、予め、複数の対象物11を準備し、STEP1では、真空冷却チャンバー12内に収容された冷却プレート17の載置面25aに複数の対象物11を配置配列する。次いで、STEP2では、真空冷却チャンバー12内の空間12Aを減圧して真空とすることで、複数の対象物11に含まれる水分を除去して、対象物11の脱水処理を行なう。次いで、STEP3では、脱水処理に使用したチャンバーと同じ真空冷却チャンバー12を用いて、対象物11の冷凍処理を行なう。具体的には、冷却プレート17の載置面25aにより、複数の対象物11を冷却すると共に、冷媒噴射ユニット13により、複数の対象物11に噴射した冷媒により、複数の対象物11を冷凍する。次いで、STEP4では、真空冷却チャンバー12内から脱水処理及び冷凍処理された複数の対象物11を取り出す。これにより、脱水処理及び冷凍処理された対象物11よりなる製品が複数製造される。また、繰り返し、対象物11を脱水処理及び冷凍処理する場合には、処理はSTEP1へと戻り、上記STEP1~4の処理を行う。第2の実施の形態図5は、本発明の第2の実施の形態に係る冷凍装置の概略構成を示す模式図である。図5において、図1に示す第1の実施の形態の冷凍装置10と同一構成部分には同一符号を付す。図5を参照するに、第2の実施の形態の冷凍装置40は、第1の実施の形態の冷凍装置10に設けられた第1の冷媒供給管14、バルブ15、及び排出管20の替わりに、管路41を設けた以外は、冷凍装置10と同様に構成される。管路41は、一方の端が冷却プレート17に設けられた排出部31と接続されており、他方の端が冷媒噴射ユニット13に設けられた冷媒導入口24と接続されている。管路41は、冷却プレート17内の冷却用管路27を通過した後の冷媒を冷媒噴射ユニット13に供給する。冷媒噴射ユニット13は、管路41により輸送された冷媒を対象物11に直接噴射することで、対象物11を冷凍させる。冷却プレート17内の冷却用管路27に液化窒素等の低温液化ガスを供給した場合、冷却用管路27及び管路41を通過することによりガス噴射口23から噴射されるときにはガス状となっている。つまり、第2の実施の形態の冷凍装置40では、冷却プレート17に設けられた排出部31、及び冷媒噴射ユニット13に設けられた冷媒導入口24と接続された管路41を設けることで、冷却プレート17の載置面25aに配置された対象物11の冷却に使用した冷媒を再利用する。このような構成とされた第2の実施の形態の冷凍装置40では、冷却プレート17で使用した冷媒を冷媒噴射ユニット13で再利用するため、対象物11の脱水処理及び冷凍処理に使用する冷媒の量を削減することが可能となる。これにより、対象物11の脱水処理及び冷凍処理に要するコストを低減できる。また、第1の冷媒供給管14、及びバルブ15が不要になることにより、第1の実施の形態の冷凍装置10と比較して、第2の実施の形態の冷凍装置40の小型化を図ることができる。また、第2の実施の形態の冷凍装置40は、第1の実施の形態の冷凍装置10と同様な効果を得ることができる。第3の実施の形態図6は、本発明の第3の実施の形態に係る冷凍装置の概略構成を示す模式図である。図6において、図1に示す第1の実施の形態の冷凍装置10と同一構成部分には同一符号を付す。第3の実施の形態の冷凍装置50は、第1の実施の形態の冷凍装置10に設けられた第2の冷媒供給管18、バルブ19、及び排出管20の替わりに、真空吸引ポート21の排気口35及び冷却プレート17の導入部29と接続された管路51を設けると共に、冷却プレート17の排出部31と真空ポンプ22とを接続した以外は、冷凍装置10と同様に構成される。第3の実施の形態の冷凍装置50では、真空ポンプ22により、冷媒噴射ユニット13から対象物11に噴射された低温窒素ガス等の冷媒を、通気用貫通部26を介して、真空吸引ポート21内に設けられた空間34図6には図示せず、図2参照。に導き、空間34に導いた冷媒を、管路51を介して、冷却プレート17の冷却用管路27に供給する。つまり、第3の実施の形態の冷凍装置50では、冷媒噴射ユニット13から対象物11に噴射された冷媒を再利用して、冷却プレート17上に配置された対象物11を冷却する。このような構成とされた第3の実施の形態の冷凍装置50では、冷媒噴射ユニット13から対象物11に噴射された冷媒を冷却プレート17で再利用するため、対象物11の脱水処理及び冷凍処理に使用する冷媒の量を削減することが可能となる。これにより、対象物11の脱水処理及び冷凍処理に要するコストを低減できる。また、第2の冷媒供給管18、及びバルブ19が不要になることにより、第1の実施の形態の冷凍装置10と比較して、第3の実施の形態の冷凍装置50の小型化を図ることができる。また、第3の実施の形態の冷凍装置50は、第1の実施の形態の冷凍装置10と同様な効果を得ることができる。以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形変更が可能である。例えば第1~第3の実施形態においては、真空脱水処理と冷凍処理をこの順に実施する方法について説明したが、真空脱水処理前又は真空脱水処理と冷凍処理との間に、冷却プレート17による予備冷却を行っても構わない。また、真空脱水処理前に冷媒噴射ユニット13からの低温窒素ガス等の噴射による冷却を行っても構わない。実施例実施例として、図1に示す第1の実施の形態の冷凍装置10を用いて、図4に示すフローに基づいて、対象物11として牛肉の脱水処理及び冷凍処理を行なった。真空冷却チャンバー12には、内容積が40Lのチャンバーを用いた。先ず、対象物を真空冷却チャンバー12内の冷却プレート17上へ複数配置し、脱水処理を行った。脱水処理は、対象物11の脱水率が5となるまで行った。乾燥処理の条件は、温度5°C、10kPaとした。次に、同一チャンバー内で冷凍処理を行った。冷凍処理は、対象物11が-18°Cとなるまで行った。冷凍処理は、冷媒噴射ユニット13からの-80°Cの低温窒素ガスの噴射と、冷却プレート17の冷却用管路27へ液化窒素の供給を20分間実施することにより行った。その後、常温状態となるまで復温を行った。全体の所要時間は、脱水処理10分、冷凍処理20分、復温3分の合計33分であった。比較例比較例として、図7に示す真空チャンバー201を有する脱水処理装置200、及び冷却チャンバー211を有する冷凍装置210を使用して、図8に示すフローにより、実施例と同じ種類の対象物11の脱水処理及び冷凍処理を行なった。真空チャンバー201及び冷却チャンバー211には、それぞれ内容積が40L、40Lのチャンバーを用いた。本比較例では、真空チャンバー20での真空脱水、真空チャンバー20からの対象物の取り出し、冷却チャンバー21での冷却の順で処理を行った。脱水処理、冷凍処理及び復温の条件は、実施例と同様とした。全体の所要時間は、脱水処理10分、真空破壊3分、真空チャンバー20から冷却チャンバー21への移し替え2分、冷凍処理20分の合計35分であった。参考例参考例として、図9に示すフローにより、1つのチャンバー内容積が40Lのみを用いて、実施例と同じ種類の対象物11の脱水処理及び冷凍処理を行なった。図9は、1つのチャンバーで脱水処理及び冷凍処理を実施する場合のフローチャートである。参考例では、冷却プレートと真空吸引ポートが分離した構造のチャンバーを用い、図9に示す工程で脱水処理及び冷凍処理を行った。脱水処理、冷凍処理条件は実施例と同様とした。なお復温は、チャンバー全体をヒーターで加熱することにより実施した。全体の所要時間は、脱水処理10分、真空破壊3分、冷凍処理20分、加熱復温30分の合計63分であった。実施例、比較例、参考例の結果をあわせて表1に示す。表1を参照するに、実施例によれば、異なるチャンバー間への対象物11の入れ替え時間が不要になり、かつ参考例と比較して、復温に要する時間を大幅に短縮することが可能となることが分かった。