"一方の面にパターンを有する反射型フォトマスクを収納して、前記パターンへの塵付着を防止するための塵付着防止用治具であって、前記反射型フォトマスクの一方の面の周端面を覆う基部と前記反射型フォトマスクの側面を覆う側壁部とからなるフレーム、及び前記反射型フォトマスクのパターンを所定の間隔を隔てて覆うように前記フレームの基部に設けられた保護膜を具備し、前記フレームの側壁部の上端が、前記反射型フォトマスクの他方の面とともに、固定部材により固定されることを特徴とする反射型フォトマスクの塵付着防止用治具。前記固定部材は、前記フレームの側壁部の上端、及び前記反射型フォトマスクの他方の面を静電吸着する静電チャックであることを特徴とする請求項1に記載の塵付着防止用治具。前記フレームの側壁部の上端、及び前記反射型フォトマスクの他方の面には、導電性材料からなる静電吸着層が設けられていることを特徴とする請求項2に記載の塵付着防止用治具。前記導電性材料は、Cr又はCrNであることを特徴とする請求項3に記載の塵付着防止用治具。前記フレームの基部には、前記反射型フォトマスクを塵付着防止用治具内に収納する際に用いられるフォトマスク昇降手段が備える、前記反射型フォトマスクの一方の面の周端部を支持する昇降ピンが貫通する昇降ピン通過孔が設けられていることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の塵付着防止用治具。一方の面にパターンを有する反射型フォトマスクを収納して、前記パターンへの塵付着を防止するための塵付着防止用治具を反射型フォトマスクに取付ける塵付着防止用治具の取付け方法であって、請求項5に記載の塵付着防止用治具を前記反射型フォトマスクの下に配置する工程、前記フォトマスク昇降手段を上昇させて、前記昇降ピンを前記フレームの基部に設けられた昇降ピン通過孔に貫通させ、その先端部において前記反射型フォトマスクの一方の面の周端部を支持する工程、前記フォトマスク昇降手段を下降させて、前記昇降ピンを前記昇降ピン通過孔から引き抜き、反射型フォトマスクを前記塵付着防止用治具内に収納する工程、及び前記固定手段により、前記フレームの側壁部の上端を、前記反射型フォトマスクの他方の面とともに固定する工程を具備することを特徴とする反射型フォトマスクの塵付着防止用治具の取付け方法。前記固定する工程の後において、前記塵付着防止用治具と反射型フォトマスクとは非接触であることを特徴とする請求項6に記載の塵付着防止用治具の取付け方法。一方の面にパターンを有する反射型フォトマスクを収納して、前記パターンへの塵付着を防止するための塵付着防止用治具を反射型フォトマスクに取付ける塵付着防止用治具の取付け装置であって、請求項5に記載の塵付着防止用治具を前記反射型フォトマスクの下に支持する塵付着防止用治具支持手段、上昇により前記昇降ピンを前記フレームの基部に設けられた昇降ピン通過孔に貫通させ、その先端部において前記反射型フォトマスクの一方の面の周端部を支持し、下降により前記昇降ピンを前記昇降ピン通過孔から引き抜き、反射型フォトマスクを前記塵付着防止用治具内に収納するフォトマスク昇降手段、及び前記フレームの側壁部の上端を、前記反射型フォトマスクの他方の面とともに固定する手段を具備することを特徴とする反射型フォトマスクの塵付着防止用治具の取付け装置。一方の面にパターンを有する反射型フォトマスクを、前記パターンへの塵付着を防止するための塵付着防止用治具内に保管する反射型フォトマスクの保管装置であって、前記反射型フォトマスクの一方の面の周端面を覆う基部と前記反射型フォトマスクの側面を覆う側壁部とからなり、内側隅部に前記反射型フォトマスクを支持する支持ピンを有するフレーム、及び前記反射型フォトマスクのパターンを所定の間隔を隔てて覆うように前記フレームの基部に設けられた保護膜を備える塵付着防止用治具、前記塵付着防止用治具の上部開口面を覆う蓋部材、及び前記塵付着防止用治具を支持する塵付着防止用治具支持アームを具備することを特徴とする反射型フォトマスクの保管装置。本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、フォトマスクを汚染することのない反射型フォトマスク用の塵付着防止用治具、その取付け方法、その取付け装置、及び反射型フォトマスクの保管装置を提供することを目的とする。上記課題を解決するため、本発明の第1の態様は、一方の面にパターンを有する反射型フォトマスクを収納して、前記パターンへの塵付着を防止するための塵付着防止用治具であって、前記反射型フォトマスクの一方の面の周端面を覆う基部と前記反射型フォトマスクの側面を覆う側壁部とからなるフレーム、及び前記反射型フォトマスクのパターンを所定の間隔を隔てて覆うように前記フレームの基部に設けられた保護膜を具備し、前記フレームの側壁部の上端が、前記反射型フォトマスクの他方の面とともに、固定部材により固定されることを特徴とする反射型フォトマスクの塵付着防止用治具を提供する。このような塵付着防止用治具において、前記固定部材として、前記フレームの側壁部の上端、及び前記反射型フォトマスクの他方の面を静電吸着する静電チャックを用いることが出来る。この場合、前記フレームの側壁部の上端、及び前記反射型フォトマスクの他方の面に、導電性材料からなる静電吸着層を設けることが出来る。前記導電性材料として、Cr又はCrNを用いることが出来る。また、前記フレームの基部に、前記反射型フォトマスクを塵付着防止用治具内に収納する際に用いられるフォトマスク昇降手段が備える、前記反射型フォトマスクの一方の面の周端部を支持する昇降ピンが貫通する昇降ピン通過孔を設けることが出来る。本発明の第2の態様は、一方の面にパターンを有する反射型フォトマスクを収納して、前記パターンへの塵付着を防止するための塵付着防止用治具の取付け方法であって、上述した塵付着防止用治具を前記反射型フォトマスクの下に配置する工程、前記塵付着防止用治具の下に配置されたフォトマスク昇降手段を上昇させて、前記昇降ピンを前記フレームの基部に設けられた昇降ピン通過孔に貫通させ、その先端部において前記反射型フォトマスクの一方の面の周端部を支持する工程、前記フォトマスク昇降手段を下降させて、前記昇降ピンを前記昇降ピン通過孔から引き抜き、反射型フォトマスクを前記塵付着防止用治具内に収納する工程、及び前記固定手段により、前記フレームの側壁部の上端を、前記反射型フォトマスクの他方の面とともに固定する工程を具備することを特徴とする反射型フォトマスク塵付着防止用治具の取付け方法を提供する。このような塵付着防止用治具の取付け方法において、前記固定する工程の後において、前記塵付着防止用治具と反射型フォトマスクとを非接触とすることが出来る。本発明の第3の態様は、一方の面にパターンを有する反射型フォトマスクを収納して、前記パターンへの塵付着を防止するための塵付着防止用治具を反射型フォトマスクに取付ける塵付着防止用治具の取付け装置であって、上述した塵付着防止用治具を前記反射型フォトマスクの下に支持する塵付着防止用治具支持手段、上昇により前記昇降ピンを前記フレームの基部に設けられた昇降ピン通過孔に貫通させ、その先端部において前記反射型フォトマスクの一方の面の周端部を支持し、下降により前記昇降ピンを前記昇降ピン通過孔から引き抜き、反射型フォトマスクを前記塵付着防止用治具内に収納するフォトマスク昇降手段、及び前記フレームの側壁部の上端を、前記反射型フォトマスクの他方の面とともに固定する手段を具備することを特徴とする反射型フォトマスクの塵付着防止用治具の取付け装置を提供する。本発明の第4の態様は、一方の面にパターンを有する反射型フォトマスクを、前記パターンへの塵付着を防止するための塵付着防止用治具内に保管する反射型フォトマスクの保管装置であって、前記反射型フォトマスクの一方の面の周端面を覆う基部と前記反射型フォトマスクの側面を覆う側壁部とからなり、内側隅部に前記反射型フォトマスクを支持する支持ピンを有するフレーム、及び前記反射型フォトマスクのパターンを所定の間隔を隔てて覆うように前記フレームの基部に設けられた保護膜を備える塵付着防止用治具、前記塵付着防止用治具の上部開口面を覆う蓋部材、及び前記塵付着防止用治具を支持する塵付着防止用治具支持アームを具備することを特徴とする反射型フォトマスクの保管装置を提供する。本発明によると、フォトマスクを汚染することのない反射型フォトマスク用の塵付着防止用治具、その取付け方法、その取付け装置、及び反射型フォトマスクの保管装置が提供される。以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る反射型フォトマスク用塵付着防止用治具を、EUVフォトマスクに取り付けた状態を示す断面図である。図1において、塵付着防止用治具1及びEUVフォトマスク2は、いずれも静電チャック3に静電的に取り付けられている。即ち、静電チャック3に取り付けられたEUVフォトマスク2のパターン2aが形成されている面及び周縁を覆うように、塵付着防止用治具1が静電チャック3に取り付けられている。この場合、塵付着防止用治具1とEUVフォトマスク2とは、非接触であることが望ましい。図2は、図1に示す塵付着防止用治具1のみを抜き出して示す断面図である。図2において、塵付着防止用治具1は、矩形のフレーム4の開口面に、フォトマスク2のパターン2aに対する保護膜、即ちペリクル膜5が取り付けられた構造を有する。フレーム4は、ガスの発生が少ない材料、例えば、アルミニウムやステンレス等の金属により構成されるのが望ましい。フレーム4の上端、即ち、静電チャック3への取り付け面には、静電吸着膜6aが設けられている。なお、図1に示すEUVフォトマスク2のパターン形成面とは反対側の面にも、静電吸着膜6bが設けられている。これら静電吸着膜6a,6bは導電性材料、例えばCrNやCrをスパッタリングにより成膜することにより形成される。静電吸着膜6a,6bの厚さは、例えば、30nm~200nmである。フレーム4の内側隅部には、後述する塵付着防止用治具1の取り付けプロセスの途中の工程においてEUVフォトマスク2を支持するための支持ピン7が、例えば3ヶ所ないし4ヶ所設けられている。これらの支持ピン7は、上部がテーパー状をなし、EUVフォトマスク2の端面を支持するものである。フレーム4のペリクル膜5の取り付け部分には、後述するEUVフォトマスク昇降ピンが貫通する第1の昇降ピン通過孔8が設けられている。第1の昇降ピン通過孔8は、例えば0.3~2.0mmの直径を有し、EUVフォトマスク2を塵付着防止用治具1に収納するプロセスと、EUVフォトマスク2及び塵付着防止用治具1を静電チャック3に吸着させるプロセスにおいて、EUVフォトマスク2の支持用及び位置合せ用に用いるものである。図3~図10は、塵付着防止用治具1をEUVフォトマスク2に取り付けるプロセスを工程順に示す断面図であり、そのうち図3~図6は、EUVフォトマスク2を塵付着防止用治具1に収納するプロセスであり、図7~図10は、塵付着防止用治具1を静電チャックに吸着するプロセスである。最初に、EUVフォトマスク2を塵付着防止用治具1に収納するプロセスについて、図3~図6を参照して説明する。図3は、EUVフォトマスク2を塵付着防止用治具1に収納する前の状態を示す。塵付着防止用治具1は塵付着防止用治具支持アーム9に支持されている。塵付着防止用治具支持アーム9は、塵付着防止用治具1を支持する塵付着防止用治具支持ピン10、及び第2の昇降ピン通過孔11を備えている。この第2の昇降ピン通過孔11は、塵付着防止用治具支持アーム9の下に配置されたフォトマスク昇降アーム12の昇降ピン13が通る孔である。塵付着防止用治具支持アーム9の材質としては、アルミニウムやステンレス等の金属を用いることができる。塵付着防止用治具支持アーム9は、上下左右の方向への移動を可能とするように、ロボットアーム図示せず等に接続されている。塵付着防止用治具支持アーム9により支持された塵付着防止用治具1の下方には、フォトマスク昇降アーム12が配置されている。このフォトマスク昇降アーム12は、EUVフォトマスク2を支持して昇降移動させる昇降ピン13を備えている。フォトマスク昇降アーム12及び第2の昇降ピン13の材質は、アルミニウムやステンレス等の金属を用いることができる。昇降ピン13の太さは、第1の昇降ピン通過孔8及び第2の昇降ピン通過孔11の直径よりも細いことが必要であり、通常は直径0.2~1.9mmである。昇降ピン13の長さは、EUVフォトマスク2と、フレーム4の上端静電チャック3への取り付け面との間に、上下方向の若干の間隙ができる程度の長さであることが望ましい。これは、EUVフォトマスク2を塵付着防止用治具1に収納する際に、EUVフォトマスク2をアーム図示せずで掴んで下降することができるように、間隙が必要なためである。ただし、EUVフォトマスク2を裏面側から静電チャック等により支持する場合には、より短くてもよい。フォトマスク昇降アーム12は、上下左右の方向への移動を可能とするように、ロボットアーム図示せず等に接続されている。次に、図4に示すように、フォトマスク昇降アーム12が上昇し、昇降ピン13が、塵付着防止用治具支持アーム9の第2の昇降ピン通過孔11及びフレーム4の第1の昇降ピン通過孔8を順次貫通するとともに、塵付着防止用治具支持アーム9に接触する位置で停止する。次いで、他のアーム又は静電チャックにより支持されたEUVフォトマスク2が下降し、図5に示すように、EUVフォトマスク2がフォトマスク昇降アーム12の昇降ピン13により下方から支持された状態となる。その後、フォトマスク昇降アーム12が下降し、それに伴ってEUVフォトマスク2も下降し、フォトマスク昇降アーム12の昇降ピン13が塵付着防止用治具支持アーム9の第2の昇降ピン通過孔11から抜けると、図6に示すように、EUVフォトマスク2がフレーム4の内側隅部にある支持ピン7により支持された状態となる。この時、EUVフォトマスク2の上面のレベルと、フレーム4の上端静電チャック3への取り付け面のレベルとは、後者のほうが高くなるように、フレーム4の高さHが設定されるのが望ましい。例えば、EUVフォトマスク2の厚さを6.35mmとした場合、Hを6.4mm以上とすることが望ましい。この状態で、塵付着防止用治具1とフォトマスク昇降アーム12との間隙において、アーム図示せずにより塵付着防止用治具1を掴むことにより、塵付着防止用治具1及びEUVフォトマスク2を移動することも可能である。以上のようにして、塵付着防止用治具1内へのEUVフォトマスク2の収納プロセスが完了する。なお、塵付着防止用治具1にEUVフォトマスク2が収納された状態で、塵付着防止用治具1の上部開口に蓋をし、これを他の塵防止用ケース内に収納して、保管することもできる。即ち、本発明の他の実施形態は、このようにEUVフォトマスク2を収容し、上部開口に蓋がされた塵付着防止用治具1を、塵付着防止用治具支持アーム9により支持した構造からなる、EUVフォトマスクの保管装置を提供する。次に、塵付着防止用治具1を静電チャックに吸着する工程について、図7~図10を参照して説明する。図7は、塵付着防止用治具1にEUVフォトマスク2が収納された状態を示し、上方に静電チャック3が配置されている。図8に示すように、静電チャック3が下降すると、静電チャック3は、EUVフォトマスク2の上面よりも少し上方に位置するフレーム4の上端の静電吸着膜6aに静電吸着する。次いで、フォトマスク昇降アーム12が上昇し、昇降ピン13がEUVフォトマスク2に接触した後、上方に押し上げ、図9に示すように、EUVフォトマスク2の静電吸着膜6bを静電チャック3に接触させ、その結果、EUVフォトマスク2は静電チャック3に静電吸着される。このときのEUVフォトマスク2のパターン形成面とフレーム4の内周面との間隙Dは、0.3~1.0mmと狭いことが望ましい。その理由は、第1の昇降ピン通過孔8から塵が混入した場合、間隙Dを前記程度に狭くすることにより、塵の間隙Dの通過を抑制し、パターン形成部に塵が到達することを防止するためである。その後、フォトマスク昇降アーム12及び塵付着防止用治具支持アーム9が順次下降して、塵付着防止用治具1を静電チャックに吸着する工程は完了する図10。以上のように、本実施形態によると、塵付着防止用治具1及びEUVフォトマスク2を静電チャックのような固定手段により固定することにより、塵付着防止用治具1をEUVフォトマスク2に取り付けているため、従来のペリクルフレームをフォトマスクに糊により貼り付ける方法により生じていた問題点、即ち、接着能力の低下、パターンへの汚染、パターン位置精度の変動等をすべて解決することができた。以上の実施形態では、フォトマスク及び塵付着防止用治具を固定する手段として、静電チャックを用いたが、本発明はこれに限らず、他の手段を用いてもよい。そのような手段として、例えば、バキュームによる固定手段が挙げられる。"