"下記一般式Iで表されるオキシムエステル化合物。[式I中、R1及びR2はR、OR、COR、SR、CONRR’又はCNを表し、R3、R4、R5、R6及びR7は水素原子、ハロゲン原子、R、OR又はSRを表し、R8、R9、R10、R11、R12、R13及びR14は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、R、OR、SR又はNRR’を表し、R及びR’は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を表し、R及びR’はハロゲン原子及び/又は複素環基で置換されていてもよく、R及びR’のうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、またR及びR’は一緒になって環を形成していてもよい。]下記一般式IIで表されるオキシムエステル化合物。[式II中、R1及びR2はR、OR、COR、SR、CONRR’又はCNを表し、R3、R4、R5、R6及びR7は水素原子、ハロゲン原子、R、OR又はSRを表し、R及びR’は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を表し、R及びR’はハロゲン原子及び/又は複素環基で置換されていてもよく、R及びR’のうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、またR及びR’は一緒になって環を形成していてもよい。]上記一般式I中のR8、R9、R10、R11、R12、R13及びR14が隣接する環原子上に存在している場合、一緒になって5員若しくは6員の縮合環を形成していてもよく、該5員若しくは6員の縮合環は、0~3個の環ヘテロ原子を含んでいてもよく、また、R、OR及びSRから選択される1以上の置換基でさらに置換されていてもよい、請求項1に記載のオキシムエステル化合物。上記一般式I中のR14がアルコキシ基又はヒドロキシル基である、請求項1に記載のオキシムエステル化合物。上記一般式I、II中のR3及び/又はR7が、ハロゲン原子、R、OR又はSRである、請求項1~4いずれか一項に記載のオキシムエステル化合物。上記一般式I、II中のR1がアルキル基である、請求項1~5のいずれか一項に記載のオキシムエステル化合物。上記一般式I、II中のR2がアルキル基である、請求項1~6のいずれか一項に記載のオキシムエステル化合物。下記一般式IIIで表されるオキシムエステル化合物の製造方法であって、[式III中、R1及びR2はR、OR、COR、SR、CONRR’又はCNを表し、R3、R4、R5、R6及びR7は水素原子、ハロゲン原子、R、OR又はSRを表し、R8、R9、R10、R11、R12及びR13は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、R、OR、SR又はNRR’を表し、R及びR’は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を表し、R及びR’はハロゲン原子及び/又は複素環基で置換されていてもよく、R及びR’のうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、またR及びR’は一緒になって環を形成していてもよい。]下記一般式IVで表される化合物をオキシム化して下記一般式Vで表される化合物を得る工程と、[式IV中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12及びR13は上記一般式IIIで定義した通りであり、R15はアルキル基又はアリール基を表す。][式V中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12及びR13は上記一般式IIIで定義した通りであり、R15は上記一般式IVで定義した通りである。]上記工程で得られた上記一般式Vで表される化合物を加水分解して、下記一般式VIで表される化合物を得る工程と、[式VI中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12及びR13は上記一般式IIIで定義した通りである。]上記工程で得られた上記一般式VIで表される化合物をエステル化する工程と、を含むことを特徴するオキシムエステル化合物の製造方法。請求項1~7のいずれか一項に記載のオキシムエステル化合物を有効成分とする、光重合開始剤。請求項9に記載の光重合開始剤と不飽和結合を有する光重合性化合物を含有する、感光性組成物。しかしながら、従来のオキシムエステル化合物は、光重合開始剤として用いた場合に、感度が十分ではなく、露光後のパターンが剥がれ易いといった課題がある。本発明は、感度が高く、光重合開始剤として有用な新規なオキシムエステル化合物、オキシムエステル化合物の製造方法、オキシムエステル化合物を有効成分とする光重合開始剤、及び、感光性組成物を提供することを目的とする。上記課題を解決すべく、本発明では、次のように構成している。1本発明のオキシムエステル化合物は、下記一般式Iで表される。[式I中、R1及びR2はR、OR、COR、SR、CONRR’又はCNを表し、R3、R4、R5、R6及びR7は水素原子、ハロゲン原子、R、OR又はSRを表し、R8、R9、R10、R11、R12、R13及びR14は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、R、OR、SR又はNRR’を表し、R及びR’は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を表し、R及びR’はハロゲン原子及び/又は複素環基で置換されていてもよく、R及びR’のうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、またR及びR’は一緒になって環を形成していてもよい。]R及びR’はハロゲン原子及び/又は複素環基で置換されていてもよくとは、R及びR’が、ハロゲン原子で置換されていてもよいし、複素環基で置換されていてもよいし、あるいは、ハロゲン原子及び複素環基の両者で置換されていてもよい。2また、本発明のオキシムエステル化合物は、下記一般式IIで表される。[式II中、R1及びR2はR、OR、COR、SR、CONRR’又はCNを表し、R3、R4、R5、R6及びR7は水素原子、ハロゲン原子、R、OR又はSRを表し、R及びR’は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を表し、R及びR’はハロゲン原子及び/又は複素環基で置換されていてもよく、R及びR’のうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、またR及びR’は一緒になって環を形成していてもよい。]上記一般式I、IIに示されるように、本発明のオキシムエステル化合物は、カルバゾール骨格及び縮合環のケトンを有し、オキシムにアリール基が付いた新規なオキシムエステル化合物である。かかる新規なオキシムエステル化合物は、従来のオキシムエステル化合物に比べて、光重合開始剤として用いた場合に感度が高く、露光後のパターンの剥がれが生じにくいものである。3上記一般式I中のR8、R9、R10、R11、R12、R13及びR14が隣接する環原子上に存在している場合、一緒になって5員若しくは6員の縮合環を形成していてもよく、該5員若しくは6員の縮合環は、0~3個の環ヘテロ原子を含んでいてもよく、また、R、OR及びSRから選択される1以上の置換基でさらに置換されていてもよい。4上記一般式I中のR14は、アルコキシ基又はヒドロキシル基であってもよい。5上記一般式I、II中のR3及び/又はR7は、ハロゲン原子、R、OR又はSRであってもよい。R3及び/又はR7は、ハロゲン原子、R、OR又はSRであってもよいとは、R3が、ハロゲン原子、R、OR又はSRであってもよいし、R7が、ハロゲン原子、R、OR又はSRであってもよいし、あるいは、R3及びR7の両者が、ハロゲン原子、R、OR又はSRであってもよい。6上記一般式I、II中のR1はアルキル基であってもよい。7上記一般式I、II中のR2はアルキル基であってもよい。8本発明のオキシムエステル化合物の製造方法は、上記1のオキシムエステル化合物の内、上記一般式I中のR14が、ヒドロキシル基であるオキシムエステル化合物の製造方法である。すなわち、本発明のオキシムエステル化合物の製造方法は、下記一般式IIIで表されるオキシムエステル化合物の製造方法であって、[式III中、R1及びR2はR、OR、COR、SR、CONRR’又はCNを表し、R3、R4、R5、R6及びR7は水素原子、ハロゲン原子、R、OR又はSRを表し、R8、R9、R10、R11、R12及びR13は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、R、OR、SR又はNRR’を表し、R及びR’は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を表し、R及びR’はハロゲン原子及び/又は複素環基で置換されていてもよく、R及びR’のうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、またR及びR’は一緒になって環を形成していてもよい。]下記一般式IVで表される化合物をオキシム化して下記一般式Vで表される化合物を得る工程と、[式IV中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12及びR13は上記一般式IIIで定義した通りであり、R15はアルキル基又はアリール基を表す。][式V中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12及びR13は上記一般式IIIで定義した通りであり、R15は上記一般式IVで定義した通りである。]上記工程で得られた上記一般式Vで表される化合物を加水分解して、下記一般式VIで表される化合物を得る工程と、[式VI中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12及びR13は上記一般式IIIで定義した通りである。]上記工程で得られた上記一般式VIで表される化合物をエステル化する工程とを含んでいる。上記一般式I中のR14が、水素の場合には、オキシム化の選択性が低く、ジオキシム化合物が副生成物として生成される。そこで、R14にアルコキシ基やヒドロキシル基などを導入し、立体障害により選択的にオキシム化合物を得ることが考えられる。しかしながら、ヒドロキシル基の場合には、当初からヒドロキシル基を導入してオキシム化したのでは、ジオキシム化合物の副生を抑制することができない。本発明のオキシムエステル化合物の製造方法では、上記各工程を経てR14にヒドロキシル基を導入するので、ジオキシム化合物が副生成物として生成されるのを抑制してオキシム化の選択性を向上させることができる。9本発明の光重合開始剤は、上記1~7のいずれかのオキシムエステル化合物を有効成分とするものである。10本発明の感光性組成物は、上記9の光重合開始剤と不飽和結合を有する光重合性化合物を含有するものである。本発明のオキシムエステル化合物は、カルバゾール骨格及び縮合環のケトンを有し、オキシムにアリール基が付いた新規なオキシムエステル化合物であり、光重合開始剤として用いた場合に、感度が高く、光重合開始剤及び感光性組成物として有用である。本発明のオキシムエステル化合物の製造方法によれば、ジオキシム化合物が副生されるのを抑制してオキシム化の選択性を高めることができる。以下、本発明のオキシムエステル化合物、オキシムエステル化合物の製造方法、光重合開始剤及び感光性組成物について詳細に説明する。上記一般式I、II中、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13及びR14で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。上記R及びR’で表されるアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、2-エチルヘキシル、第三オクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ビニル、アリル、ブテニル、エチニル、プロピニル、メトキシエチル、エトキシエチル、プロピロキシエチル、メトキシエトキシエチル、エトキシエトキシエチル、プロピロキシエトキシエチル、メトキシプロピル、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、2-ベンゾオキサゾール-2’-イルエテニル等が挙げられ、R及びR’で表されるアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル、クロロフェニル、ナフチル、アンスリル、フェナンスレニル等が挙げられ、R及びR’で表されるアラルキル基としては、例えば、ベンジル、クロロベンジル、α-メチルベンジル、α、α-ジメチルベンジル、フェニルエチル、フェニルエテニル等が挙げられ、R及びR’で表される複素環基としては、例えば、ピリジル、ピリミジル、フリル、チオフェニル等が挙げられ、また、R及びR’が一緒になって形成しうる環としては、例えば、ピペリジン環、モルホリン環等が挙げられる。上記の中でも、R及びR’が炭素数1~8のアルキル基、メトキシエチルまたはメトキシプロピルであることが好ましい。R8、R9、R10、R11、R12、R13及びR14が隣接する環原子上に存在している場合、一緒になって形成しうる5員若しくは6員の環としては、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、ベンゼン、チオフェン、ピリジン等が挙げられる。従って、上記一般式Iで表される本発明のオキシムエステル化合物の具体例としては、例えば、以下の[化3]~[化5]にそれぞれ示される化合物No.1~No.18が挙げられる。ただし、本発明は以下の化合物により何ら制限されるものではない。上記一般式Iで表される本発明のオキシムエステル化合物は、一般的に下記[化6]~[化8]の反応式で示される方法によって製造することができる。まず、[化6]に示すようにカルバゾール化合物1とカルボン酸クロリド2及びカルボン酸クロリド3を順次に塩化アルミニウムの存在下に反応させてアシル化合物4を得る。次いで、[化7]に示すようにアシル化合物4と塩酸ヒドロキシルアミンとをピリジンの存在下に反応させてオキシム化合物5を得る。次いで、[化8]に示すようにオキシム化合物5と酸無水物6とを反応させて上記一般式Iで表される本発明のオキシムエステル化合物を得る。R14が水素の場合、オキシム化の選択性が低く、両方がオキシム化された下記[化9]に示されるジオキシム化合物が副生成物として生成する。R14にアルコキシ基を導入する、又は、R13及びR14で縮合環を形成することで立体障害により選択的に上記オキシム化合物5を得ることができる。なお、R14にヒドロキシル基を導入してもよい。また、R3及び/又はR7に置換基を導入するとオキシムの異性体の選択性を向上させることができる。本発明の光重合開始剤は、本発明のオキシムエステル化合物を有効成分とする光重合開始剤であって、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物の光重合開始剤として有用である。本発明の光重合開始剤としては、本発明のオキシムエステル化合物の1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、これらのオキシムエステル化合物と、他の光重合開始剤あるいは増感剤を併用することも可能であり、その他の光重合開始剤を併用することによって著しい相乗効果を奏する場合もある。本発明のオキシムエステル化合物と併用できる光重合開始剤としては、従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、ベンゾフェノン、フェニルビフェニルケトン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、エチルアントラキノン等が挙げられる。本発明の感光性組成物は、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、本発明のオキシムエステル化合物を有効成分とする本発明の光重合開始剤とを含有している。エチレン性不飽和結合を有する上記光重合性化合物としては、従来、感光性組成物に用いられているものを用いることができる。即ち、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物としては、例えば、スチレン、メタクリル酸、メチルメタアクリレート、n-ブチルメタアクリレート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタアクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニル、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHA等が挙げられる。また、これらの光重合性化合物は、単独で又は2種以上を混合して使用することができ、また2種以上を混合して使用する場合には、それらを予め共重合して共重合体として使用してもよい。感光性組成物は、さらに色材を含有させて着色感光性組成物としてもよい。該色材としては、染料、顔料、天然色素等が挙げられる。これらの色材は、単独で又は2種以上を混合して用いることができる。上記光重合性化合物にさらにエポキシ化合物を反応させて酸価調整を行ってもよい。該エポキシ化合物としては、グリシジルメタクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、イソプロピルグリシジルエーテル等が挙げられる。また、エチレン性不飽和結合を有する上記光重合性化合物とともに、熱可塑性有機重合体を用いることもできる。該熱可塑性有機重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメタアクリル酸、メタアクリル酸-メチルメタクリレート共重合体、エポキシ樹脂等が挙げられる。感光性組成物には、さらに、不飽和結合を有するモノマー、連鎖移動剤、界面活性剤等を併用することができる。また、感光性組成物には、必要に応じて、p-アニソール、ハイドロキノン、ピロカテコール、第三ブチルカテコール、フェノチアジン等の熱重合抑制剤;可塑剤;接着促進剤;充填剤;消泡剤;レベリング剤;表面調整剤;酸化防止剤;紫外線吸収剤;分散助剤;凝集防止剤;触媒;効果促進剤;増感剤;架橋剤;充填剤等の慣用の添加物を加えることができる。感光性組成物には、通常、必要に応じて前記の各成分本発明のオキシムエステル化合物及びエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物等を溶解または分散しえる溶媒、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、3-メトキシブチルアセテートMBA、メチルセロソルブ、クロロホルム、塩化メチレン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートPGMEA、プロピレングリコールモノメチルエーテルPGME、乳酸エチルEL、ジエチレングリコールジブチルエーテルDBDGを加えることができる。感光性組成物は、スピンコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、ソーダガラス、石英ガラス、半導体基板、金属、紙、プラスチック等の支持基体上に適用することができる。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。感光性組成物は、光硬化性塗料、光硬化性インキ、光硬化性接着剤、印刷版、印刷配線板用フォトレジスト及びプリント基板、あるいはカラーテレビ、PCモニタ、携帯情報端末、デジタルカメラ等のカラー表示の液晶表示素子におけるカラーフィルター又は保護膜等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はない。また、オキシムエステル化合物を含有する感光性組成物を硬化させる際に用いられる活性光の光源としては、波長300~450nmの光を発光するものを用いることができ、例えば、高圧水銀、水銀蒸気アーク、カーボンアーク、キセノンアーク等を用いることができる。尚、感光性組成物において、光重合開始剤の添加量は特に限定されるものではないが、本発明のオキシムエステル化合物は、エチレン性不飽和結合を有する上記光重合性化合物100重量部に対して、好ましくは1~50重量部、より好ましくは1~30重量部である。以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。[実施例1]化合物No.1の合成上述の[化3]に例示した化合物No.1を以下の[化10]に示されるスキーム-1のとおり合成した。i化合物IVの合成N-エチルカルバゾール化合物I10.7g、塩化アルミニウム6.9g及び塩化メチレン100gを仕込み、攪拌した。この液を5°Cに冷却し、これに1-ナフトイルクロライド化合物II10.8gを滴下した。滴下終了後、1時間攪拌した。この反応液に、塩化アルミニウム8.4gを添加し、攪拌した。この液を5°Cに冷却し、これに常法により4-メトキシ安息香酸10.0gを酸クロ化して得た化合物IIIを滴下した。滴下終了後、3時間攪拌した。反応液を冷水に注加して、油層を分離し、水洗し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮乾固し、アセトニトリルから再結晶を行った。濾過、アセトニトリルによる洗浄して得た結晶を乾燥し、化合物IV22.2g収率83.5、HPLC純度94.7を得た。ii化合物Vの合成iで得られた化合物IV21.0g、1-メトキシ-2-プロパノール80g、ピリジン4.5g及びヒドロキシルアミン塩酸塩3.9gを仕込み、攪拌した。この液を110°Cに昇温し、3時間攪拌した。反応液に水を加え、析出した固体を濾取した。得られた固形物をカラムクロマトにて精製し、化合物V6.6g収率30.5、HPLC純度89.8を得た。iii化合物No.1の合成iiで得られた化合物V6.4g及び酢酸33gを仕込み、攪拌した。この液に無水酢酸3.9gを滴下した。滴下終了後、40°Cに昇温し、40分間攪拌した。反応液を水に注加して、油層を分離し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮乾固した。得られた固形物をカラムクロマトにて精製し、化合物No.1を4.3g収率61.7、HPLC純度97.5得た。化合物No.1のE/Z比は80/20HPLC、吸収極大波長λmax=339.5、275.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。E体δ[ppm]:8.60d:1H、7.92-8.20m:8H、7.81d:1H、7.32-7.64m:5H、7.00dd:2H、4.42q:2H、3.91s:3H、2.14s:3H、1.49t:3HZ体δ[ppm]:8.48d:1H、7.92-8.20m:8H、7.78d:1H、7.32-7.64m:5H、6.83dd:2H、4.13q:2H、3.83s:3H、2.06s:3H、1.25t:3H[実施例2]化合物No.2の合成上記実施例1において、スキーム-1の化合物IIIを3,4,5-トリメトキシ安息香酸クロライドに変更した以外は同様にして、上述の[化3]に例示した化合物No.2を合成した。化合物No.2のE/Z比は50/50HPLC、吸収極大波長λmax=337.5、295.0、280.0PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。E体δ[ppm]:8.58d:1H、7.93-8.14m:5H、7.26-7.63m:7H、6.79s:2H、4.46q:2H、3.88s:3H、3.77s:6H、2.08s:3H、1.54t:3HZ体δ[ppm]:8.60d:1H、8.25d:1H、7.93-8.10m:4H、7.78dd:1H、7.26-7.63m:6H、6.56s:2H、4.41q:2H、3.97s:3H、3.82s:6H、2.13s:3H、1.48t:3H[合成例1]4-メトキシ-2-メチル安息香酸の合成下記の実施例3に用いる4-メトキシ-2-メチル安息香酸を以下の[化11]に示されるスキーム-2のとおり合成した。i4-メトキシ-2-メチルアセトフェノンの合成4-ヒドロキシ-2-メチルアセトフェノン10.0g、水30g及び30水酸化ナトリウム水溶液11gを仕込み、攪拌した。この液にジメチル硫酸10.9gを滴下した。滴下終了後、80°Cに昇温し、30分間攪拌した。ジメチル硫酸5g及び30水酸化ナトリウム水溶液5gを追加し、さらに2時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加えて抽出し、30水酸化ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮し、4-メトキシ-2-メチルアセトフェノン9.6g収率87.6、HPLC純度99.9を得た。ii4-メトキシ-2-メチル安息香酸の合成12次亜塩素酸ナトリウム水溶液180g及び30水酸化ナトリウム水溶液15gを仕込み、攪拌した。この液にiで得られた4-メトキシ-2-メチルアセトフェノン9.6gをメタノール20gに溶解した液を滴下した。滴下終了後、85°Cに昇温し、30分間攪拌した。12次亜塩素酸ナトリウム水溶液50gを追加し、さらに30分間攪拌した。トルエンを加え、35塩酸で酸性化した。濃縮し、水を加えて析出した固体を濾過、水洗し、乾燥して4-メトキシ-2-メチル安息香酸8.8g収率90.7、HPLC純度99.3を得た。[実施例3]化合物No.3の合成上述の[化3]に例示した化合物No.3を以下の[化12]に示されるスキーム-3のとおり合成した。i化合物IV-bの合成N-エチルカルバゾール化合物I3.5g及び塩化メチレン40gを仕込み、攪拌した。この液を5°Cに冷却し、これに塩化アルミニウム2.3gを投入し、更に、上述の合成例1で合成した4-メトキシ-2-メチル安息香酸3.1gを常法により酸クロ化して得た化合物II-bを滴下した。滴下終了後、2時間攪拌した。この反応液に、塩化アルミニウム2.3gを添加し、攪拌した。この液を5°Cに冷却し、これに常法により2-エトキシ-1-ナフトエ酸4.2gを酸クロ化して得た化合物III―bを滴下した。滴下終了後、1.5時間攪拌した。反応液を冷水に注加して、油層を分離し、塩化ナトリウム水溶液及び30水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮乾固し、化合物IV-b10.4g収率108を得た。ii化合物V―bの合成iで得られた化合物IV―b9.9g、1-メトキシ-2-プロパノール20g、ピリジン8.7g及びヒドロキシルアミン塩酸塩7.9gを仕込み、攪拌した。この液を120°Cに昇温し、4時間攪拌した。反応液に水を加え、析出した固体を濾取した。得られた固形物をカラムクロマトにて精製し、化合物V―b2.8g収率27.3、HPLC純度95.6を得た。iii化合物No.3の合成iiで得られた化合物V―b4.0g及び酢酸13.4gを仕込み、攪拌した。この液に無水酢酸1.6gを滴下した。滴下終了後、25°Cで2時間攪拌した。反応液を冷水に滴下して、析出した結晶を濾過、水洗し、乾燥して、化合物No.3を6.5g収率90.2、HPLC純度94.5得た。化合物No.3のE/Z比は100/0HPLC、吸収極大波長λmax=340.0、298.0PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.64d:1H、8.19d:1H、7.81-8.00m:4H、7.52-7.58m:1H、7.32-7.40m:5H、7.05d:1H、6.82-6.90m:2H、4.38q:2H、4.14q:2H、3.90s:3H、2.15s:3H、2.08s:3H、1.46t:3H、1.15t:3H[実施例4]化合物No.4の合成上記実施例3において、スキーム-3の化合物III-bを2-メトキシ-1-ナフトエ酸クロライドに変更した以外は同様にして、上述の[化3]に例示した化合物No.4を合成した。化合物No.4のE/Z比は100/0HPLC、吸収極大波長λmax=340.0、298.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.62d:1H、8.22d:1H、7.98-8.04m:2H、7.84-7.90m:1H、7.78dd:1H、7.50-7.56m:1H、7.32-7.42m:5H、7.05d:1H、6.82-6.90m:2H、4.38q:2H、3.90s:3H、3.87s:3H、2.15s:3H、2.08s:3H、1.45t:3H[実施例5]化合物No.5の合成上記実施例3において、スキーム-3の化合物II-bを4-メトキシ安息香酸クロライドに変更した以外は同様にして、上述の[化3]に例示した化合物No.5を合成した。化合物No.5のE/Z比は50/50NMR、吸収極大波長λmax=335.5、295.0PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。E体δ[ppm]:8.58d:1H、7.72-8.20m:4H、7.30-7.60m:9H、6.96-7.02m:1H、6.83-6.90m:1H、4.41q:2H、4.13q:2H、3.91s:3H、2.13s:3H、1.51t:3H、1.15t:3HZ体δ[ppm]:8.55d:1H、7.72-8.20m:4H、7.30-7.60m:9H、6.96-7.02m:1H、6.83-6.90m:1H、4.41q:2H、4.13q:2H、3.83s:3H、2.07s:3H、1.46t:3H、1.15t:3H[合成例2]4-2-メトキシエトキシ-2-メチル安息香酸の合成下記の実施例6で用いる4-2-メトキシ-1-エトキシ-2-メチル安息香酸を以下の[化13]に示されるスキーム-4のとおり合成した。ip-トルエンスルホン酸2-メトキシエチルの合成p-トルエンスルホン酸クロライド50.0g、2-メトキシエタノール18.0g及び酢酸エチル90gを仕込み、攪拌した。この液を15°Cに冷却し、トリエチルアミン23.9gを滴下した。滴下終了後、7時間攪拌した。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出し、塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮し、p-トルエンスルホン酸2-メトキシエチル36.5g収率100、HPLC純度95.1を得た。ii4-2-メトキシエトキシ-2-メチルアセトフェノンの合成4-ヒドロキシ-2-メチルアセトフェノン15.0g、iで得たp-トルエンスルホン酸2-メトキシエチル34.5g、DMFジメチルホルムアミド45g及び炭酸カリウム20.7gを仕込み、攪拌した。この液を100°Cに加熱し、3時間攪拌した。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出し、30水酸化ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮し、4-2-メトキシエトキシ-2-メチルアセトフェノン20.8g収率99.9、HPLC純度95.4を得た。iii4-2-メトキシエトキシ-2-メチル安息香酸の合成12次亜塩素酸ナトリウム水溶液366g及び30水酸化ナトリウム水溶液26gを仕込み、攪拌した。この液にiiで得られた4-2-メトキシエトキシ-2-メチルアセトフェノン20.5gをメタノール40gに溶解した液を滴下した。滴下終了後、80°Cに昇温し、1時間攪拌した。トルエンを加え、35塩酸で酸性にした。析出した固体を濾過、水洗し、乾燥して4-2-メトキシエトキシ-2-メチル安息香酸16.9g収率81.6、HPLC純度99.2を得た。[実施例6]化合物No.6の合成上記実施例3において、スキーム-3の化合物II-bを、合成例2で合成した4-2-メトキシエトキシ-2-メチル安息香酸を常法にて酸クロ化して得た4-2-メトキシエトキシ-2-メチル安息香酸クロライドに、化合物III-bを、2-メトキシ-1-ナフトエ酸クロライドにそれぞれ変更した以外は同様にして、上述の[化3]に例示した化合物No.6を合成した。化合物No.6のE/Z比は99.1/0.9HPLC、吸収極大波長λmax=340.0、298.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.60brs:1H、8.24d:1H、7.95-8.06m:2H、7.82-7.90m:1H、7.76dd:1H、7.50-7.56m:1H、7.32-7.42m:5H、7.04d:1H、6.82-6.94m:2H、4.38q:2H、4.20t:2H、3.85s:3H、3.83t:2H、3.50s:3H、2.13s:3H、2.05s:3H、1.49t:3H[合成例3]4-2-メトキシ-1-メチルエトキシ-2-メチル安息香酸の合成下記の実施例7に用いる4-2-メトキシ-1-メチルエトキシ-2-メチル安息香酸を以下の[化14]に示されるスキーム-5のとおり合成した。ip-トルエンスルホン酸2-メトキシ-1-メチルエチルの合成p-トルエンスルホン酸クロライド30.0g及びピリジン45.0gを仕込み、攪拌した。この液に、1-メトキシ-2-プロパノール22.0gを滴下した。滴下終了後、7時間攪拌した。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出し、3.5塩酸、塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮し、p-トルエンスルホン酸2-メトキシ-1-メチルエチル34.3g収率89.2、HPLC純度99.5を得た。ii4-2-メトキシ-1-メチルエトキシ-2-メチルアセトフェノンの合成4-ヒドロキシアセトフェノン13.9g、iで得たp-トルエンスルホン酸2-メトキシ-1-メチルエチル34.0g、DMFジメチルホルムアミド40g及び炭酸カリウム19.2gを仕込み、攪拌した。この液を120°Cに加熱し、終夜攪拌した。反応液を水に注加し、トルエンで抽出し、30水酸化ナトリウム水溶液、塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮し、4-2-メトキシ-1-メチルエトキシ-2-メチルアセトフェノン18.6g収率90.3、HPLC純度95.8を得た。iii4-2-メトキシ-1-メチルエトキシ-2-メチル安息香酸の合成12次亜塩素酸ナトリウム水溶液260g及び30水酸化ナトリウム水溶液22gを仕込み、攪拌した。この液にiiで得られた4-2-メトキシ-1-メチルエトキシ-2-メチルアセトフェノン18.6gをメタノール36gに溶解した液を滴下した。滴下終了後、80°Cに昇温し、3時間攪拌した。トルエンを加え、35塩酸で酸性にした。酢酸エチルで抽出し、水洗し、濃縮した。酢酸エチル/ヘキサン混合溶媒を加えて、結晶を析出させた。析出した結晶を濾過、ヘキサンで洗浄し、乾燥して4-2-メトキシ-1-メチルエトキシ-2-メチル安息香酸11.4g収率60.6、HPLC純度99.8を得た。[実施例7]化合物No.7の合成上記実施例3において、スキーム-3の化合物II-bを、合成例3で合成した4-2-メトキシ-1-メチルエトキシ-2-メチル安息香酸を常法にて酸クロ化して得た4-2-メトキシ-1-メチルエトキシ-2-メチル安息香酸クロライドに、化合物III-bを、2-メトキシ-1-ナフトエ酸クロライドにそれぞれ変更した以外は同様にして、上述の[化4]に例示した化合物No.7を合成した。化合物No.7のE/Z比は91.9/8.1HPLC、吸収極大波長λmax=340.0、299.0PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.60d:1H、8.26d:1H、8.03dd:1H、7.98d:1H、7.82-7.90m:1H、7.74dd:1H、7.50-7.56m:1H、7.30-7.42m:5H、7.02d:1H、6.90d:1H、6.86dd:1H、4.56-4.70m:1H、4.36q:2H、3.85s:3H、3.50-3.70m:2H、3.45s:3H、2.12s:3H、2.07s:3H、1.40d:3H、1.26t:3H[実施例8]化合物No.8の合成上記実施例3において、スキーム-3の化合物II-bを、2,4-ジメトキシ安息香酸を常法にて酸クロ化して得た2,4-ジメトキシ安息香酸クロライドに、化合物III-bを、2-メトキシ-1-ナフトエ酸クロライドにそれぞれ変更した以外は同様にして、上述の[化4]に例示した化合物No.8を合成した。化合物No.8のE/Z比は96.1/3.9HPLC、吸収極大波長λmax=340.5、298.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.62brs:1H、8.23d:1H、7.95-8.05m:2H、7.78-7.90m:2H、7.50-7.58m:1H、7.30-7.43m:5H、7.04d:1H、6.56-6.64m:2H、4.38q:2H、3.92s:3H、3.88s:3H、3.73s:3H、2.10s:3H、1.44t:3H[実施例9]化合物No.9の合成上記実施例3において、スキーム-3の化合物II-bを、4-メチルチオ安息香酸を常法にて酸クロ化して得た4-メチルチオ安息香酸クロライドに変更した以外は同様にして、上述の[化4]に例示した化合物No.9を合成した。化合物No.9のE/Z比は50/50HPLC、吸収極大波長λmax=337.5、295.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。E体δ[ppm]:8.58d:1H、7.72-8.21m:4H、7.24-7.60m:10H、7.16-7.22m:1H、4.40q:2H、4.13q:2H、2.57s:3H、2.12s:3H、1.51t:3H、1.15t:3HZ体δ[ppm]:8.54d:1H、7.72-8.21m:4H、7.24-7.60m:10H、7.16-7.22m:1H、4.40q:2H、4.13q:2H、2.49s:3H、2.08s:3H、1.46t:3H、1.15t:3H[実施例10]化合物No.10の合成上記実施例3において、スキーム-3の化合物II-bを、2-エトキシ-1-ナフトエ酸を常法にて酸クロ化して得た2-エトキシ-1-ナフトエ酸クロライドに、化合物III-bを、o-トルイル酸クロライドにそれぞれ変更した以外は同様にして、上述の[化4]に例示した化合物No.10を合成した。化合物No.10のE/Z比は98.3/1.7HPLC、吸収極大波長λmax=340.5、298.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.61d:1H、8.22d:1H、7.92-8.04m:4H、7.52-7.58m:1H、7.28-7.45m:8H、7.14d:1H、4.37q:2H、4.14q:2H、2.18s:3H、2.06s:3H、1.45t:3H、1.15t:3H[実施例11]化合物No.11の合成上記実施例3において、スキーム-3の化合物II-bを、2,4-ジメトキシ安息香酸を常法にて酸クロ化して得た2,4-ジメトキシ安息香酸クロライドに、化合物III-bを、2-エトキシ-1-ナフトエ酸クロライドにそれぞれ変更した以外は同様にして、上述の[化4]に例示した化合物No.11を合成した。化合物No.11のE/Z比は91.2/8.8HPLC、吸収極大波長λmax=339.5、297.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.62d:1H、8.20d:1H、7.80-8.00m:4H、7.52-7.58m:1H、7.30-7.40m:5H、7.04d:1H、6.60s:1H、6.59m:1H、4.37q:2H、4.14q:2H、3.91s:3H、3.73s:3H、2.09s:3H、1.44t:3H、1.14t:3H[合成例4]2-メタンスルホニルオキシ-1-ナフトエ酸の合成下記の実施例12に用いる2-メタンスルホニルオキシ-1-ナフトエ酸を以下の[化15]に示されるスキーム-6のとおり合成した。i2-メタンスルホニルオキシ-1-ナフトアルデヒドの合成2-ヒドロキシ-1-ナフトアルデヒド25.0g及びアセトン125gを仕込み、攪拌した。この液にメタンスルホニルクロライド24.9g、トリエチルアミン22.0gを順次滴下した。滴下終了後、25°Cで1時間攪拌した。反応液を水に注加し、析出した結晶を濾過し、水洗して、2-メタンスルホニルオキシ-1-ナフトアルデヒド50.3g収率87.2dry換算、HPLC純度99.0を得た。乾燥しないで次工程にそのまま用いた。ii2-メタンスルホニルオキシ-1-ナフトエ酸の合成iで得た2-メタンスルホニルオキシ-1-ナフトアルデヒド49.3g、メタノール60g、スルファミン酸24.1g及び水30gを仕込み、攪拌した。この液に次亜塩素酸ナトリウム16.8gを投入し。25°Cで20分間攪拌し、次亜塩素酸ナトリウム3.0gを追加して、さらに1時間攪拌した。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出し、塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮後、トルエンを添加して、結晶を析出させた。析出した結晶を濾過し、トルエンで洗浄し、乾燥して2-メタンスルホニルオキシ-1-ナフトエ酸16.0g収率48.5、HPLC純度94.4を得た。[実施例12]化合物No.12の合成上述の[化4]に例示した化合物No.12を以下の[化16]に示されるスキーム-7のとおり合成した。この化合物No.12は、上記[化21]の一般式IIIで表されるオキシムエステル化合物の一例であり、したがって、この実施例12は、本発明のオキシムエステル化合物の製造方法の一つの実施例である。i化合物IV-cの合成N-エチルカルバゾール化合物I7.3g及び塩化メチレン70gを仕込み攪拌した。この液を5°Cに冷却し、これに塩化アルミニウム4.8gを投入し、更に、上述の合成例1で合成した4-メトキシ-2-メチル安息香酸6.5gを常法により酸クロ化して得た化合物II-bを滴下した。滴下終了後、2時間攪拌した。この反応液に、塩化アルミニウム6.0gを添加し、攪拌した。この液を5°Cに冷却し、これに常法により、上述の合成例4で合成した2-メタンスルホニルオキシ-1-ナフトエ酸12.0gを酸クロ化して得た化合物III―cを滴下した。滴下終了後、2時間攪拌した。反応液を冷水に注加して、油層を分離し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮乾固し、化合物IV-c25.7g収率116.3を得た。この化合物IV-cは、上記[化22]の一般式IVで表される化合物に対応する。ii化合物V―cの合成iで得られた化合物IV―c25.5g、1-メトキシ-2-プロパノール51g、ピリジン20.5g及びヒドロキシルアミン塩酸塩18.0gを仕込み、攪拌した。この液を120°Cに昇温し、3時間攪拌した。反応液にメタノール51gを加えたものを水に注加した。析出した固体を濾取し、水洗した。得られた固形物をカラムクロマトにて精製し、化合物V―c16.0g収率61.2、HPLC純度96.7を得た。この化合物V-cは、上記[化23]の一般式Vで表される化合物に対応する。iii化合物VIIの合成iiで得られた化合物V―c12.0g、DMF36g及びメタノール6gを仕込み、攪拌した。この液に、炭酸カリウム6.8gを添加し、25°Cで2時間攪拌した。炭酸カリウム2.7gを追加し、さらに3時間攪拌した。反応液を冷水に滴下し、35塩酸を添加して酸性にした。析出した固体を濾過、水洗し、乾燥した。得られた固体をカラムクロマトにて精製し、化合物VII3.7g収率34.9、HPLC純度95.1を得た。この化合物VIIは、上記[化24]の一般式VIで表される化合物に対応する。iv化合物No.12の合成iiiで得られた化合物VII5.0g及び酢酸10.0gを仕込み、攪拌した。この液に無水酢酸1.3gを滴下した。滴下終了後、25~30°Cで2時間攪拌した。反応液を冷水に滴下して、析出した結晶を濾過、水洗し、乾燥して、化合物No.12を5.2g収率96.3、HPLC純度93.7得た。化合物No.12のE/Z比は100/0HPLC、吸収極大波長はλmax=340.0、297.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:10.52brs:1H、8.53d:1H、8.11d:1H、7.93m:2H、7.76d:1H、7.66dd:1H、7.40t:2H、7.24-7.31m:3H、7.00-7.15m:2H、6.80-6.90m:2H、4.37q:2H、3.45s:3H、2.15s:3H、2.08s:3H、1.47t:3H、1.27t:3H[実施例13]化合物No.13の合成上述の[化5]に例示した化合物No.13を以下の[化17]に示されるスキーム-8のとおり合成した。i化合物IV-d-1の合成N-エチルカルバゾール化合物I44.1g、塩化メチレン500g及び塩化アルミニウム28.6gを仕込み、攪拌した。この液を5°Cに冷却し、合成例3で合成した4-2-メトキシ-1-メチルエトキシ-2-メチル安息香酸54.7gを常法により酸クロ化して得た化合物II-cを滴下した。滴下終了後、1時間攪拌した。反応液を冷水に注加して、油層を分離し、水及び30水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮乾固し、化合物IV-d-158.2g収率101を得た。ii化合物IV-dの合成化合物IV-d-112.6g、塩化メチレン100g及び塩化アルミニウム9.2gを仕込み、攪拌した。この液を10°Cに冷却し、9-アントラセンカルボン酸7.3gを常法により酸クロ化して得た化合物III-dを滴下した。滴下終了後、4時間攪拌した。反応液を冷水に注加して、油層を分離し、水及び30水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮乾固し、化合物IV-d18.5g収率93.1、HPLC純度84.3を得た。iii化合物V―dの合成iiで得られた化合物IV―d18.5g、1-メトキシ-2-プロパノール80g、ピリジン7.3g及びヒドロキシルアミン塩酸塩6.4gを仕込み、攪拌した。この液を110°Cに昇温し、2日間攪拌した。反応液を水に注加し、析出した固体を濾取し、水洗し、乾燥して、化合物V―d17.6g収率92.6、HPLC純度62.6を得た。iv化合物No.13の合成iiiで得られた化合物V―d15.0g及び酢酸エチル50gを仕込み、攪拌した。この液に無水酢酸7.4gを滴下した。滴下終了後、20°Cで2時間攪拌した。反応液を塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮乾固した。得られた固形物をカラムクロマトにて精製し、化合物No.13を5.4g収率34.4、HPLC純度92.5得た。化合物No.13のE/Z比は92.3/7.7HPLC、吸収極大波長λmax=385.5、365.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.59brs:2H、8.18d:1H、8.08d:2H、7.58dd:2H、7.30-7.50m:8H、7.00d:1H、6.81-6.90m:2H、4.58-4.65m:1H、4.35q:2H、3.50-3.70m:2H、3.45s:3H、2.10s:3H、2.05s:3H、1.40d:3H、1.27t:3H[実施例14]化合物No.14の合成上述の[化5]に例示した化合物No.14を以下の[化18]に示されるスキーム-9のとおり合成した。i化合物IV-eの合成N-ブチルカルバゾール化合物I-b20.0g及び塩化メチレン120gを仕込み、攪拌した。この液を5°Cに冷却し、これに塩化アルミニウム11.6gを投入し、さらにこれに常法により2-エトキシ-1-ナフトエ酸19.9gを酸クロ化して得た化合物III―bを滴下した。滴下終了後、1.5時間攪拌した。この反応液に、o-トルイル酸クロライド化合物II-d15.2gを滴下し、さらに塩化アルミニウム13.9gを添加した。添加終了後、2時間攪拌した。反応液を冷水に注加して、油層を分離し、水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮乾固し、化合物IV-e52.4g収率108を得た。ii化合物V―eの合成iで得られた化合物IV―e48.0g、1-メトキシ-2-プロパノール96g、ピリジン42.2g及びヒドロキシルアミン塩酸塩12.4gを仕込み、攪拌した。この液を120°Cに昇温し、6時間攪拌した。反応液にメタノール、酢酸エチルを加え、析出した固体を濾取した。得られた固体を乾燥し、化合物V―e33.8g収率68.4、HPLC純度96.2を得た。iii化合物No.14の合成iiで得られた化合物V―e30.0g及び酢酸90gを仕込み、攪拌した。この液に無水酢酸11.0gを滴下した。滴下終了後、50°Cで3.5時間攪拌した。反応液を冷水に滴下して、析出した結晶を濾過、水洗し、乾燥して、化合物No.14を31.0g収率96.1、HPLC純度97.3得た。化合物No.14のE/Z比は91.0/9.0HPLC、吸収極大波長λmax=340.0、298.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.60brs:1H、8.20brs:1H、7.12-8.00m:14H、4.30q:2H、4.12q:2H、2.15s:3H、2.05s:3H、1.67-1.82m:2H、1.30-1.47m:2H、1.15t:3H、0.96t:3H[実施例15]化合物No.15の合成上記実施例14において、スキーム-9の化合物I-bをN-ヘキシルカルバゾールに変更した以外は同様にして、上述の[化5]に例示した化合物No.15を合成した。化合物No.15のE/Z比は95.1/4.9HPLC、吸収極大波長λmax=340.5、298.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.60d:1H、8.20d:1H、7.11-8.02m:14H、4.30q:2H、4.12q:2H、2.18s:3H、2.05s:3H、1.80-1.92m:2H、1.22-1.40m:6H、1.15t:3H、0.85t:3H[実施例16]化合物No.16の合成上記実施例14において、スキーム-9の化合物I-bをN-ヘキシルカルバゾールに、スキーム-9の化合物II-dをo-メトキシベンゾイルクロライドに変更した以外は同様にして、上述の[化5]に例示した化合物No.16を合成した。化合物No.16のE/Z比は100/0HPLC、吸収極大波長λmax=340.0、297.5、275.0PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.60d:1H、8.20d:1H、7.92-8.00m:2H、7.80-7.88m:2H、7.30-7.66m:8H、7.02-7.16m:3H、4.25-4.33m:2H、4.13q:2H、3.75s:3H、2.06s:3H、1.80-1.90m:2H、1.20-1.40m:5H、1.01-1.18m:3H、0.80-0.90m:3H[実施例17]化合物No.17の合成上記実施例14において、スキーム-9の化合物I-bをN-ヘキシルカルバゾールに、スキーム-9の化合物II-dをo-クロロベンゾイルクロライドに変更した以外は同様にして、上述の[化5]に例示した化合物No.17を合成した。化合物No.17のE/Z比は100/0HPLC、吸収極大波長λmax=341.0、298.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.62d:1H、8.20d:1H、7.94-8.02m:2H、7.80-7.90m:2H、7.32-7.60m:9H、4.26-4.35m:2H、4.10-4.20m:3H、2.05-2.10m:3H、1.80-1.93m:2H、1.10-1.45m:9H、0.80-0.90m:3H[合成例5]o-ヘキシルチオサリチル酸の合成下記の実施例18に用いるo-ヘキシルチオサリチル酸を以下の[化19]に示されるスキーム-10のとおり合成した。チオサリチル酸10.0g、DMFジメチルホルムアミド50g、炭酸カリウム20.6g及び亜硫酸ナトリウム0.5gを仕込み、攪拌した。この液にヘキシルブロマイド13.9gを滴下した。滴下終了後、60°Cに加熱し、1時間攪拌した。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出し、塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。濾過液を濃縮し、o-ヘキシルチオサリチル酸9.45g収率61.1、HPLC純度99.9を得た。[実施例18]化合物No.18の合成上記実施例3において、スキーム-3の化合物II-bを合成例5で合成したo-ヘキシルチオサリチル酸を常法にて酸クロ化して得たo-ヘキシルチオベンゾイルクロライドに変更した以外は同様にして、上述の[化5]に例示した化合物No.18を合成した。化合物No.18のE/Z比は100/0HPLC、吸収極大波長λmax=340.5、298.5、260.5PGMEA溶液であった。構造は1H-NMRスペクトルCDCl3により確認した。δ[ppm]:8.63d:1H、8.21d:1H、7.92-8.02m:2H、7.78-7.90m:2H、7.30-7.60m:10H、4.38q:2H、4.10-4.20m:3H、2.78-2.85m:2H、2.08s:3H、1.38-1.58m:4H、1.00-1.32m:9H、0.70-0.80m:3H上記の実施例3、4、8、14、15、5及び9でそれぞれ合成した化合物No.3、4、8、14、15、5及び9のオキシム化反応後のE/Z比を表1に示す。表1に示されるように、ベンゼン環のオルト位に置換基を導入した実施例3、4、8、14、15は、無置換の実施例5、9と比較してオキシムの異性体の選択性を向上させることができる。光重合開始剤としては、一方の幾何異性体が多い方がよく、また、その純度はより高い方が好ましいので、かかる置換基の導入は有効である。実施例19~21、比較例1上述の実施例1~18は、本発明のオキシムエステル化合物についての実施例であったが、次の実施例19~21、後述の実施例22~25及び実施例26~28は、本発明のオキシムエステル化合物を光重合開始剤として含有する本発明の感光性組成物についての実施例である。すなわち、本発明のオキシムエステル化合物を光重合開始剤として含有する実施例19~21の感光性組成物及び従来の光重合開始剤を含有する比較例1の感光性組成物を調製し、これら実施例19~21及び比較例1の感光性組成物を用いてブラックマトリクスのパターンを形成して評価を行った。実施例19~21及び比較例1の感光性組成物の組成を表2に示す。光重合成性化合物として、ベンジルメタクリレート/グリシジルメタクリレート/メタクリル酸共重合物の30.83-メトキシブチルアセテートMBA溶液と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートDPHAとを使用した。実施例19、20及び21の光重合開始剤として、上記実施例4、11及び15でそれぞれ合成した化合物No.4、11及び15のオキシムエステル化合物を使用し、比較例1の光重合開始剤として、下記[化20]に示される、エタノン1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-0-アセチルオキシムを使用した。実施例19~21及び比較例1について、上記成分からなる混合物を攪拌機で1分間混合し、感光性組成物を得た。得られた感光性組成物をガラスプレパラート上にスピンコーターSC2005:株アイデン製を用いて乾燥膜厚が0.6μmとなるように塗布し、110°Cで1分間乾燥して感光性組成物の膜感光層を形成した。次いでこの膜にネガマスクを介して高圧水銀ランプマルチライト:ウシオ電機株製で5分間露光した。そののち、0.5炭酸ナトリウム水溶液に5分間浸漬して現像することでブラックマトリクスのパターンを形成した。上述のようにして得られた実施例19~21及び比較例1のマトリクスのパターンニングの評価を、パターンの直進性、剥がれ、及び、残渣についてそれぞれ目視で行ったその結果を表3に示す。パターンの直進性は0.5炭酸ナトリウム水溶液に5分間浸漬後、比較例1との目視比較により評価し、直線性が同等以上のものを良好とした。パターン剥がれは0.5炭酸ナトリウム水溶液に5分間浸漬後の外観を目視により評価し、外観変化もなくレジストの剥離もなかったものを良好とした。残渣は0.5炭酸ナトリウム水溶液に5分間浸漬後、未露光部分におけるレジストの残存有無を目視により評価し、残存のないものを残渣なしとした。表3に示すように、実施例19~21で得られたパターンは直進性に優れ、顔料残渣や基板との剥がれは確認されなかった。一方、比較例1は、パターン剥がれが生じた。このように実施例19~21の感光性組成物は、感度の高い本発明の新規なオキシムエステル化合物を有効成分とする光重合開始剤を用いているので、比較例1の感光性組成物に比べて露光後のパターンの剥がれが生じない。一方、実施例19~21に使用する開始剤をE/Z比が50/50である化合物No.5に変更すると、パターンが形成されなかった。このことから、光重合開始剤としては、一方の幾何異性体が多い方がよく、また、その純度はより高い方が好ましいと言える。よって、ベンゼン環のオルト位に置換基を有する化合物の使用が有効である。実施例22~25、比較例2本発明のオキシムエステル化合物を光重合開始剤として含有する実施例22~25の感光性組成物及び従来の光重合開始剤を含有する比較例2の感光性組成物を調製し、これら実施例22~25及び比較例2の感光性組成物を用いてブラックマトリクスのパターンを形成して評価を行った。実施例22~25、比較例2は実施例19~21、比較例1よりもレジストとしての性能評価の精度を高めるために、使用する樹脂を変更して実施した。実施例22~25及び比較例2の感光性組成物の組成を表4に示す。光重合成性化合物として、アクリル系光重合性化合物の20.0MBA溶液とDPHAとを使用した。実施例22、23、24及び25の光重合開始剤として、上記実施例15、16、17及び18でそれぞれ合成した化合物No.15、16、17及び18のオキシムエステル化合物を使用し、比較例2の光重合開始剤として、上記[化20]に示される、エタノン1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-0-アセチルオキシムを使用した。実施例22~25、比較例2について、上記成分からなる混合物を攪拌機で5分間混合し、感光性組成物を得た。得られた感光性組成物をガラス基盤上にスピンコーターSC2005:株アイデン製を用いて乾燥膜厚が0.4μmとなるように塗布し、90°Cで10分間乾燥して感光性組成物の膜感光層を形成した。次いでこの膜にネガマスクを介して高圧水銀ランプマスクアライナー:カールズース株式会社を用いて80mJで露光した。そののち、0.2水酸化テトラメチルアンモニウムTMAH水溶液に30秒浸漬して現像することでブラックマトリクスのパターンを形成した。上述のようにして得られた実施例22~25及び比較例2のマトリクスのパターンニングの評価を、通常の評価に従い、線幅計測、パターンの直進性、剥がれ、及び残渣にて行った。その結果を表5に示す。線幅計測は、パターン像を、カラー3Dレーザー顕微鏡VK-8710:キーエンス製を用いて拡大観察×2000し、平面計測機能により、パターンの幅を計測することで行った。パターンの直進性は0.2TMAH水溶液に30秒浸漬後、比較例2との目視比較により評価し、直線性が同等以上のものを良好とした。パターン剥がれは0.2TMAH水溶液に30秒浸漬後の外観を目視により評価し、外観変化もなくレジストの剥離もなかったものを良好とした。残渣は0.2TMAH水溶液に30秒浸漬後、未露光部分におけるレジストの残存有無を目視により評価し、残存のないものを残渣なしとした。光重合開始剤の性能を評価する手段の一つにパターンの線幅の大きさという指標がある。一般的に、高感度特性を有する光重合開始剤は低感度のものよりもレジストの光硬化反応がより進行する。それに伴い、現像時のアルカリ耐性も向上するためパターンの線幅が大きくなる。表5に示すように、実施例22~25の感光性組成物は、得られたパターンは20μmのマスク幅に対してレジスト像の線幅が比較例2と比較して大きいことから、比較例2の感光性組成物に比べて感度がよい。すなわち、本発明の新規なオキシムエステル化合物を有効成分とする光重合開始剤は、比較化合物よりも高感度である。本発明のオキシムエステル化合物を光重合開始剤として含有する実施例26~28の感光性組成物及び従来の光重合開始剤を含有する比較例3の感光性組成物を調製し、これら実施例26~28及び比較例3の感光性組成物を用いてブラックマトリクスのパターンを形成して評価を行った。実施例26~28、比較例3は実施例19~21、22~25、比較例1及び2よりもレジストとしての性能評価の精度を高めるために、使用する樹脂を変更して実施した。実施例26~28及び比較例3の感光性組成物の組成を表6に示す。光重合成性化合物として、ジメタクリル酸=2-ヒドロキシプロパン-1,3-ジイルメタクリル酸メタクリル酸シクロヘキシルメタクリル酸メチル共重合物の31.9PGMEA溶液とDPHAとを使用した。実施例26、27及び28の光重合開始剤として、上記実施例16、17及び18でそれぞれ合成した化合物No.16、17及び18のオキシムエステル化合物を使用し、比較例3の光重合開始剤として、上記[化20]に示される、エタノン1-[9-エチル-6-2-メチルベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル]-1-0-アセチルオキシムを使用した。実施例26~28、比較例3について、上記成分からなる混合物を攪拌機で5分間混合し、感光性組成物を得た。得られた感光性組成物をガラス基盤上にスピンコーターK-359SD1:株共和理研製を用いて乾燥膜厚が1.0μmとなるように塗布し、90°Cで10分間乾燥して感光性組成物の膜感光層を形成した。次いでこの膜にネガマスクを介して高圧水銀ランプマスクアライナー:カールズース株式会社を用いて20、40、60、80mJで露光した。そののち、0.1TMAH水溶液に浸漬して現像することでブラックマトリクスのパターンを形成した。上述のようにして得られた実施例26~28及び比較例3のマトリクスのパターンニングの評価を、通常の評価に従い、線幅計測にて行った。その結果を表7、図1に示す。線幅計測は、パターン像を、カラー3Dレーザー顕微鏡VK-8710:キーエンス製を用いて拡大観察×2000し、平面計測機能により、パターンの幅を計測することで行った。表7に示すように、実施例26~28の感光性組成物では、得られたパターンは20μmのマスク幅に対してレジスト像の線幅が比較例3と比較して大きいことから、比較例3の感光性組成物に比べて感度がよい。表7、図1に示すように露光エネルギー40、60、80mJの場合、実施例26~28の感光性組成物では20μmパターン幅を維持することが可能であるが、比較例3の感光性組成物においては、露光エネルギー40mJまで低下させるとパターン幅が20μm以下に至るという結果となった。また、露光エネルギー20mJの場合、実施例26~28の感光性組成物では計測不能ではあったがパターンは保持された。一方、比較例3ではパターンは全て剥がれ落ちた。上記結果より、本発明の新規なオキシムエステル化合物を有効成分とする光重合開始剤は、比較化合物よりも高感度を有し、露光後のパターンが剥がれにくい光重合開始剤である。より感度の高い光重合開始剤を使用することで、露光エネルギーを下げることが可能となり、エネルギー消費量を下げられるメリットがある。また、より少ない使用量で比較化合物と同等の性能を発揮することが可能というメリットがある。"