"式または:[式中、R1は水素原子;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC1-6アルキル;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC5-10アリール;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよい5~10員の飽和または不飽和ヘテロ環;CHO;CONH2;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC1-6アルキルカルボニル;およびヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいCOC5-10アリールからなる群から選択され;WはO、SまたはNR2であり;R2は水素原子;ニトロ、スルホ、シアノ、アセチルまたはC5-10アリールで置換されていてもよいC1-6アルキル;COC1-6アルキル;およびニトロ、スルホ、シアノまたはアセチルで置換されていてもよいCOC5-10アリールからなる群から選択される]で示される化合物の製造方法であって、式:[式中、R1は前記のとおりである]で示される化合物と式または:[式中、R2は前記のとおりであり;R3は水素原子;ニトロ、スルホ、シアノ、アセチルまたはC5-10アリールで置換されていてもよいC1-6アルキル;COC1-6アルキル;およびニトロ、スルホ、シアノまたはアセチルで置換されていてもよいCOC5-10アリールからなる群から選択され;Xは塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子;またはOSO2CF3である]で示される化合物とを塩基、銅触媒およびパラジウム触媒の存在下、非プロトン性極性溶媒中にて反応させる工程を含む、方法。工程で用いられる銅触媒が酸化銅Iである、請求項1記載の方法。R1がヒドロキシで置換されているC1-6アルキルである、請求項2記載の方法。さらに工程で式で示される化合物を用いた場合において得られる式:[式中、各記号は請求項1に定義されるとおりである]で示される化合物を環化する工程を含む、請求項1~3のいずれか記載の方法。パラジウム触媒が式またはの化合物に対して5mol未満のパラジウム触媒である、請求項1~4のいずれか記載の式:[式中、各記号は請求項1に定義されるとおりである]で示される化合物の製造方法。パラジウム触媒が式またはの化合物に対して5mol以上のパラジウム触媒である、請求項1~4のいずれか記載の式:[式中、各記号は請求項1に定義されるとおりである]で示される化合物の製造方法。請求項1~5のいずれか記載の方法で得られる、式:[式中、各記号は請求項1に定義されるとおりである]で示される化合物。請求項1~4または6のいずれか記載の方法で得られる、式:[式中、各記号は請求項1に定義されるとおりである]で示される化合物。式:[式中、各記号は請求項1に定義されるとおりである]で示される化合物。式:[式中、各記号は請求項1に定義されるとおりである]で示される化合物。式:[式中、各記号は請求項1に定義されるとおりである]で示される化合物。工程で用いられる塩基および非プロトン性極性溶媒がいずれもピリジンである、請求項1~6のいずれか記載の方法。本発明は、抗がん活性成分NQ801を含むナフトキノン類に広く適用可能な三環式化合物の新規な製造方法を提供することを目的とする。本発明はまた、従来法と比較して工程数を軽減することにより効率的かつ工業的生産が可能な三環式化合物の新規な製造方法を提供することも目的とする。本発明はさらに、構造の異なる三環式化合物の新規かつ選択的な製造方法を提供することも目的とする。本発明は、以下の具体的態様を提供する:[1]式または:[式中、R1は水素原子;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC1-6アルキル;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC5-10アリール;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよい5~10員の飽和または不飽和ヘテロ環;CHO;CONH2;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC1-6アルキルカルボニル;およびヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいCOC5-10アリールからなる群から選択され;WはO、SまたはNR2であり;R2は水素原子;ニトロ、スルホ、シアノ、アセチルまたはC5-10アリールで置換されていてもよいC1-6アルキル;COC1-6アルキル;およびニトロ、スルホ、シアノまたはアセチルで置換されていてもよいCOC5-10アリールからなる群から選択される]で示される化合物の製造方法であって、式:[式中、R1は前記のとおりである]で示される化合物と式または:[式中、R2は前記のとおりであり;R3は水素原子;ニトロ、スルホ、シアノ、アセチルまたはC5-10アリールで置換されていてもよいC1-6アルキル;COC1-6アルキル;およびニトロ、スルホ、シアノまたはアセチルで置換されていてもよいCOC5-10アリールからなる群から選択され;Xは塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子;またはOSO2CF3である]で示される化合物とを塩基、銅触媒およびパラジウム触媒の存在下、非プロトン性極性溶媒中にて反応させる工程を含む、方法。[2]工程で用いられる銅触媒が酸化銅Iである、[1]記載の方法。[3]R1がヒドロキシで置換されているC1-6アルキルである、[2]記載の方法。[4]さらに工程で式で示される化合物を用いた場合において得られる式:[式中、各記号は[1]に定義されるとおりである]で示される化合物を環化する工程を含む、[1]~[3]のいずれか記載の方法。[5]パラジウム触媒が式またはの化合物に対して5mol未満のパラジウム触媒である、[1]~[4]のいずれか記載の式:[式中、各記号は[1]に定義されるとおりである]で示される化合物の製造方法。[6]パラジウム触媒が式またはの化合物に対して5mol以上のパラジウム触媒である、[1]~[4]のいずれか記載の式:[式中、各記号は[1]に定義されるとおりである]で示される化合物の製造方法。[7][1]~[5]のいずれか記載の方法で得られる、式:[式中、各記号は[1]に定義されるとおりである]で示される化合物。[8][1]~[4]または[6]のいずれか記載の方法で得られる、式:[式中、各記号は[1]に定義されるとおりである]で示される化合物。[9]式:[式中、各記号は[1]に定義されるとおりである]で示される化合物。[10]式:[式中、各記号は[1]に定義されるとおりである]で示される化合物。[11]式:[式中、各記号は[1]に定義されるとおりである]で示される化合物。[12]工程で用いられる塩基および非プロトン性極性溶媒がいずれもピリジンである、[1]~[6]のいずれか記載の方法。本発明は、2,3-ジ置換ナフトキノン誘導体をアルキン化合物と反応させる工程を含むことにより、従来法と比較して、1以上の工程を短縮して所望の三環式化合物を効率的かつ工業的に製造することができる。本発明はまた、2,3-ジ置換ナフトキノン誘導体をアルキン化合物と反応させる工程における反応条件を調節することにより、選択的に所望の三環式化合物を製造することができる。本明細書において用語C1-6アルキルは、炭素数1~6個を有する直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素基を意味する。好ましいC1-6アルキルとしては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、1,1-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチルなどが挙げられる。好ましい置換C1-6アルキルとしては、1-ヒドロキシエチルなどのヒドロキシ置換C1-6アルキル、ベンジルなどが挙げられる。本明細書において用語C1-6アルコキシのC1-6アルキル部分は、前記C1-6アルキルと同義である。好ましいC1-6アルコキシとしては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシなどが挙げられる。本明細書において、好ましいCOC1-6アルキルとしては、アセチルなどが挙げられる。本明細書において用語C5-10アリールは、炭素数5~10個を有する芳香族炭化水素基を意味する。好ましいC5-10アリールとしては、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチルなどが挙げられる。本明細書において、好ましいCOC5-10アリールとしては、ベンゾイルなどが挙げられる。本明細書において用語ヘテロ環としては、単環式または多環式ヘテロ環基などが挙げられ、該基は、窒素原子、硫黄原子または酸素原子から選択される同一または異なる1以上のヘテロ原子を含む。好ましいヘテロ環としては、アジリジル、アゼチジル、ピロリジル、ピペリジル、ピロリル、チエニル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、ベンズオキサゾリル、ベンズチアゾリル、フリル、オキサゾリル、チアゾリル、イソオキサゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピラジル、ピリミジル、ピリダジル、キノリル、イソキノリル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、インドリル、イミダゾ[1,2-a]ピリジル、ジベンゾフラニル、ベンズイミダゾリル、キノキサリル、シンノリル、キナゾリル、インダゾリル、ナフチリジル、キノリノリル、イソキノリノリルなどが挙げられる。本明細書において用語ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。好ましいハロゲン原子は臭素原子またはヨウ素原子である。本明細書において用語非プロトン性極性溶媒としては、ジメチルホルムアミドDMF、ジメチルスルホキシドDMSO、N-メチルピロリドンNMP、ジメチルアセトアミドDMA、テトラヒドロフランTHF、アセトニトリル、アセトン、ピリジン、4-メチルピリジン、2,4-ジメチルピリジンなどが挙げられる。好ましい非プロトン性極性溶媒はDMF、DMSOまたはピリジンである。本明細書において用語銅触媒としては、1価の銅触媒が挙げられ、好ましくは酸化銅Iまたはヨウ化銅Iであり、より好ましくは酸化銅Iである。本方法において適切な銅触媒の選択は、所望の反応の進行のために重要な因子の一つである。本明細書において用語パラジウム触媒としては、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウムII、ジアセトキシパラジウムII以下、酢酸パラジウムとも称するなどが挙げられ、好ましくはII価のパラジウム触媒であり、より好ましくはジアセトキシパラジウムIIである。本方法において適切なパラジウム触媒の種類および量は、所望の反応の進行のために重要な因子の一つである。本明細書において用語塩基としては、アミン化合物が挙げられ、好ましくはピリジン、4-メチルピリジン、2,4-ジメチルピリジン、トリエチルアミン、ジエチルアミンなどであり、より好ましくはピリジンである。塩基としてピリジン、4-メチルピリジンまたは2,4-ジメチルピリジンを用いた場合には、ピリジン、4-メチルピリジンまたは2,4-ジメチルピリジンが非プロトン性極性溶媒としても機能する。本発明の製造方法において、式およびの化合物は、適切な製造条件を採用することにより、選択的に合成することができる。具体的には、パラジウム触媒が式またはの化合物に対して5mol未満、好ましくは1~3molである場合には、式の化合物を選択的に製造することができる。また、パラジウム触媒が式またはの化合物に対して5mol以上、好ましくは6~10molである場合には、式の化合物を選択的に製造することができる。本発明により製造される三環式化合物は、少なくとも一つの不斉炭素原子を有していてもよい。従って、本発明は、ラセミ化合物のみならず、その光学活性体も製造することができる。以下に、本発明における式またはの化合物の製造方法について、例を挙げて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、本明細書において、簡略化のために次の略号を使用することがある。Me:メチル基Et:エチル基Ac:アセチル基Ph:フェニル基THP:テトラヒドロピラニル基NBS:N-ブロモスクシンイミドTHF:テトラヒドロフランDMF:ジメチルホルムアミドDMSO:ジメチルスルホキシドNMP:N-メチルピロリドンDMA:ジメチルアセトアミド本発明のある具体的態様は、以下のスキームA~Dで示される。スキームA:三環式化合物の製造[式中、R1は水素原子;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC1-6アルキル;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC5-10アリール;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよい5~10員の飽和または不飽和ヘテロ環;CHO;CONH2;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC1-6アルキルカルボニル;およびヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいCOC5-10アリールからなる群から選択され;R2およびR3はそれぞれ独立して水素原子;ニトロ、スルホ、シアノ、アセチルまたはC5-10アリールで置換されていてもよいC1-6アルキル;COC1-6アルキル;およびニトロ、スルホ、シアノまたはアセチルで置換されていてもよいCOC5-10アリールからなる群から選択され;Xは塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子、またはOSO2CF3である]上記スキームAの工程1は、例えばチャカーらの文献ChakerLPautetFFillionHChemPharmBull19944222382240に記載された方法に従い行うことができる。工程1において、適当な溶媒に溶解させた5-ヒドロキシナフタレン-14-ジオン以下、ユグロンとも称する;例えば東京化成工業株から入手可能にアミンHNR2R3をそのままで、または適当な溶媒に溶解した溶液にて添加する。ユグロンの溶媒は、有機溶媒であれば特に限定されないが、好ましくはトルエンである。好ましいアミンの溶媒は、水、ヘキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、トルエン、メタノールまたはエタノールである。工程1の反応は、-78°Cから溶媒の還流温度で行うことが可能であるが、好ましくは-40°C~室温の範囲で行われる。特に、-40°C~0°Cの反応温度は、選択性および操作の簡便性の点で有利である。ユグロンについては、メルクインデックスMerckIndex第13版第5288頁およびその参照文献において詳細に記載されている。上記スキームAの工程2において、工程1で得られたアミノナフトキノン誘導体を当分野における通常の方法に従いハロゲン化する。ハロゲン化剤としては、N-ブロモスクシンイミド、臭素、臭化水素、ヨウ素、ヨウ化水素、塩素、塩化水素などが挙げられ、好ましくはN-ブロモスクシンイミドである。工程2の別法において、置換基Xとして脱離基を導入してもよい。脱離基としては、次の工程3および/または4に許容される任意の基であることができ、例えばOSO2CF3基などが挙げられる。上記スキームAの工程3において、アルキンと銅触媒および塩基の存在下、非プロトン性極性溶媒中にて、工程2で得られた置換アミノナフトキノン誘導体およびパラジウム触媒とを反応させてアルキン付加体を得る。本工程における好ましい非プロトン性極性溶媒はDMFまたはピリジンである。本工程における塩基としてピリジンを用いた場合には、ピリジンが非プロトン性極性溶媒としても機能する。工程3において、基質化合物1当量に対し、反応化合物アルキン過剰当量、すなわち1当量以上、好ましくは5~10当量、より好ましくは10当量と反応させる。工程3のアルキンとしては、種々のアルキン化合物を用いることができるが、好ましくは置換されていてもよい末端アルキンである。置換基としては、ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC1-6アルキル;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC5-10アリール;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよい5~10員の飽和または不飽和ヘテロ環;CHO;CONH2;ヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいC1-6アルキルカルボニル;およびヒドロキシ、C1-6アルコキシまたはアミノで置換されていてもよいCOC5-10アリールなどが挙げられ、好ましくはヒドロキシで置換されているC1-6アルキルであり、より好ましくは1-ヒドロキシエチルである。工程3において、不斉炭素を有する末端アルキンを用いることにより、光学活性なナフトキノン類を製造することができる。置換アミノナフトキノン誘導体は、電子供与性の水酸基で置換されており、電子供与性のアミノ基を含んでもよいため、一般にアルキンとのカップリング反応が進行しにくいと考えられる。しかし、本発明の製法により置換アミノナフトキノン誘導体は、良好な収率でアルキンとカップリングすることができる。工程3において、式の化合物に対するパラジウム触媒の量を調節することにより、化合物またはを選択的に製造することができる。そして、化合物の製造条件下では、工程3の系中にて化合物を得ることができるため、次の工程4を省略してもよい。上記スキームAの工程4において、工程3で得られたアルキン付加体を環化させる。工程4の環化は好ましくは水存在下、より好ましくは水/アルコール系溶媒混合物中、水/アセトニトリル混合物中または水/アセトン混合物中にて行うことができる。アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-プロパノール、ブタノールなどが挙げられる。水/アルコール系溶媒混合物、水/アセトニトリル混合物および水/アセトン混合物の好ましい容量比は2/1である。工程4において、付加体のアミノ基NR2R3を水酸基に変換することなく、所望のナフトフランジオン誘導体を得ることができる。また、本発明の環化工程4は、酸を用いることなく行うことができる。化合物およびの製造方法のいずれにおいても、上記工程3および4は、組み合わせて一段階ワンポットとしてもよい。本発明は、上記工程1~4において、ナフトキノン環に結合する水酸基を保護することなく、実施することができるが、常法に従い、適宜当該水酸基を適当な保護基で保護し、当該保護基を適切な段階で除去してもよい。当該保護基としては、THP基またはAc基などが挙げられる。スキームB:三環式化合物の製造[式中、各記号は前記のとおりである]上記スキームBの工程1は、例えばTietzeらの文献ChemEurJ20071399399947に記載された方法に従い行うことができる。例えば、工程1において、適当な溶媒に溶解させた5-ヒドロキシナフタレン-14-ジオンに臭素を添加して3-ブロモユグロンを得る。スキームBの工程2において、例えば、工程1で得られた3-ブロモユグロンなどの置換ユグロンをメチルアミン塩酸塩などのアミンと反応させた後、NBSを加えて撹拌する。得られた反応溶液を精製して式の化合物を得る。工程3は、非プロトン性極性溶媒として好ましくはDMSOが用いられること以外は、上記スキームAと同様に行うことができる。スキームBでは、スキームAの工程4に対応する工程は不要であってもよい。すなわち、化合物とアルキンとのカップリング反応後、中間体の精製または抽出をしなくとも系中で閉環反応が進行し、所望の化合物またはを効率良く合成することができる。スキームC:三環式化合物の製造[式中、各記号は前記のとおりである]スキームCにおいて、工程1~3は上記スキームAと同様に行うことができる。工程4において、アルキン付加体を硫化金属と40°C~60°C、好ましくは50°Cにて反応させることによって、化合物またはを製造することができる。当該硫化金属としては、硫化ナトリウムなどが挙げられる。スキームD:三環式化合物の製造[式中、各記号は前記のとおりである]スキームDにおいて、工程1は上記スキームAと同様に行うことができる。工程2において、例えば工程1で得られたアミノナフトキノン誘導体を酸10塩酸などの存在下、ジオキサンなどの溶媒中、適当な温度例えば溶媒の還流温度にて反応させることにより2,5-ジヒドロキシナフトキノン誘導体を製造することができる。工程3において、化合物をハロゲン化剤例えばモルホリンヨード錯体:などと反応させることにより式の化合物を製造することができる。工程4において、化合物を塩基、銅触媒およびパラジウム触媒の存在下、非プロトン性極性溶媒中にて式のアルキンと反応させることにより、化合物またはを製造することができる。本工程において、好ましい塩基および非プロトン性極性溶媒としては、ピリジンが挙げられる。製造例12-ジメチルアミノユグロンの製造5-ヒドロキシナフタレン-14-ジオン171mg1mmolのトルエン5mL溶液に、ジメチルアミン075mLTHF中20M溶液15mmolを-20°Cにて添加した。-20°Cにて1時間撹拌後、ジメチルアミン075mLTHF中20M溶液15mmolを添加し、-20°Cにてさらに30分間撹拌し、次いで溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィークロロホルム/酢酸エチル=20/1v/vにより単離精製し、2-ジメチルアミノユグロン872mg40および3-ジメチルアミノユグロン288mg13を得た。2-ジメチルアミノユグロン融点:147~148°C1HNMRδ3255727207457511303-ジメチルアミノユグロン1HNMRδ323584715756759119製造例22-ジメチルアミノユグロンの製造2別法として、Tietzeらの文献ChemEurJ20071399399947およびChakerらの文献ChemPharmBull19944222382240に記載の方法に従い、以下の式のように2-ジメチルアミノユグロンを製造した。5-ヒドロキシナフタレン-14-ジオン171mg1mmolのクロロホルム溶液に、臭素を添加して混合物を撹拌した。次いで、得られた混合物に酢酸およびエタノールを添加して還流下、撹拌して3-ブロモユグロンを得た80。得られた3-ブロモユグロンにジメチルアミンを添加し、トルエン中、室温にて撹拌して2-ジメチルアミノユグロンおよび3-ジメチルアミノユグロンを得た85。得られた2-ジメチルアミノユグロンと3-ジメチルアミノユグロンの収量比は95:5であった。製造例33-ブロモ-2-ジメチルアミノユグロンの製造2-ジメチルアミノユグロン500mg23mmolのDMF15ml溶液に、室温にてNBS491mg276mmolのDMF6ml溶液を5分間で添加し、20分間撹拌した。反応を氷水の添加によりクエンチし、クロロホルムにて抽出した。有機層を水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして溶媒を減圧蒸留した後、紫色固体として3-ブロモ-2-ジメチルアミノユグロン656mg96を得た。1HNMRδ3297227497551248製造例43-ブロモ-5-ヒドロキシ-2-メチルアミノナフタレン-1,4-ジオンの製造文献ChemEurJ20071399399947に従って得られた2-ブロモ-8-ヒドロキシ-1,4-ナフタレンジオン253mg10mmolおよびメチルアミン塩酸塩68mg10mmolのエタノール80mL溶液にトリエチルアミン030mL22mmolを室温にて加え、その反応溶液を1日撹拌した。原料の消失を薄層クロマトグラフィーTLCにて確認した後、反応溶液を氷水にて冷やしながら、NBS267mg15mmolを加えて30分さらに撹拌した。反応溶液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン/酢酸エチル=10/1にて精製し、標記の化合物を茶色、柱状晶として得た250mg89収率mp159160°C。rf0401HNMR34872674875913CNMR3301142119712591299134214331478161017941821IR332516741605155115201466141213621293123111651111829756LRMSmz282284MHHRMSmzMHC11H9NO3Br計算値28197662839745実測値28197292839713製造例5~13当分野における通常の方法に従い、製造例1~4を適宜改変して、以下の製造例5~13の化合物を製造する。製造例142,5-ジヒドロキシナフタレン-1,4-ジオン100mg053mmolの蒸留水5ml溶液に炭酸カリウム218mg158mmolを添加し、室温にて撹拌した。反応液にモルホリンヨード錯体223mg066mmolを2時間かけて15分おきに添加した。モルホリンヨード錯体をすべて添加し終えた後、さらに30分間撹拌し、反応を25リン酸の添加によりクエンチし、10分間撹拌した。反応液を酢酸エチルにて抽出し、有機層を水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮したところ、2,5-ジヒドロキシ-3-ヨードナフタレン-1,4-ジオン156mg94を得た。1HNMRδ7287547661208実施例13-ブロモ-2-ジメチルアミノユグロンのアルキン付加酸化銅I和光純薬工業株144mg101mmolおよびS---3-ブチン-2-オール東京化成工業株798μl101mmol98eeのDMF36mlおよびピリジン15ml溶液を室温にて2時間撹拌した。この反応混合液に3-ブロモ-2-ジメチルアミノユグロン300mg101mmol、および酢酸パラジウム東京化成工業株68mg3molのDMF42ml溶液を加え、一晩撹拌した。反応を氷水の添加によりクエンチし、反応混合液をクロロホルムにて抽出した。有機層を氷水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=6/1により精製すると、紫色固体として2-ジメチルアミノ-3-3-ヒドロキシブタ-1-イン-1-イルユグロン220mg76を得た。1HNMRδ150342479711737740126113CNMR23945359177278310291041114411901246132113451555160418251878IR3468167016241547147413851196115210691045895777融点:156~158°CLRMSmz284MHHRMSmzMHC16H14NO4計算値2840923実測値2840904実施例2NQ801の製造1実施例1で得られた化合物100mg035mmolの蒸留水120mlおよびメタノール60ml溶液を95°Cにて4時間撹拌し、反応液を室温まで冷却後、クロロホルムにて抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして溶媒を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=10/1により精製すると、黄色固体として--2-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]フラン-4,9-ジオン72mg80を得た。実施例3NQ801の製造2酸化銅I和光純薬工業株48mg034mmolおよびS---3-ブチン-2-オール東京化成工業株266μl338mmol98eeのDMF12mlおよびピリジン5ml溶液を室温にて2時間撹拌した。この反応混合液に3-ブロモ-2-ジメチルアミノユグロン100mg034mmol、および酢酸パラジウム東京化成工業株23mg3molのDMF14ml溶液を加え、一晩撹拌した。反応を氷水の添加によりクエンチし、反応混合液をクロロホルムにて抽出した。有機層を氷水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物の蒸留水120mlおよびメタノール60ml溶液を95°Cにて4時間撹拌し、反応液を室温まで冷却後、クロロホルムにて抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして溶媒を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=10/1により精製すると、黄色固体として--2-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]フラン-4,9-ジオン59mg68を得た。融点170°C。1HNMRδ166223505685728762776121813CNMR215638103411521200125313101327136315211623165417271865α25D23598ee実施例4オルトキノン誘導体の製造酸化銅I和光純薬工業株48mg034mmolおよび3-ブチン-2-オール東京化成工業株263μl338mmolのDMF12mlおよびピリジン5ml溶液を室温にて2時間撹拌した。この反応混合液に3-ブロモ-2-ジメチルアミノユグロン100mg034mmol、および酢酸パラジウム東京化成工業株46mg6molのDMF5ml溶液を加え、60°Cにて1時間撹拌した。その後、70°Cにて1時間撹拌し、反応を氷水の添加によりクエンチした。反応混合液をクロロホルムにて抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして減圧濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=1/1により精製すると、目的化合物を得た。1HNMRδ14647765270271774213CNMR206627103412111241125612981315152716011604162917451804IR3443312430821670166515871319128810801067995939885826691669融点:>300°CLRMSmz257MHHRMSmzMHC14H9O5計算値2570450実測値2570432実施例5~16当分野における通常の方法に従い、実施例1~3を適宜改変して、以下の実施例5~16の化合物を製造する。表中、は不斉炭素を示す。実施例171-メチル-2-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]ピロール-4,9-ジオンの製造1酸化銅I和光純薬工業株71mg05mmolおよび3-ブチン-2-オール東京化成工業株389μl50mmolのDMF18mlおよびピリジン74ml溶液を室温にて2時間撹拌した。この反応混合液に3-ブロモ-2-モノメチルアミノユグロン141mg05mmol、および酢酸パラジウム東京化成工業株34mg3molのDMF20ml溶液を加え、室温にて一晩撹拌した。反応を氷水の添加によりクエンチし、反応混合液をクロロホルムにて抽出し、有機層を氷水およびブラインで洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=4/1により精製すると、目的化合物57mg42を得た。薄黄色針状物mp219220°Crf0201HNMR16819841149366571775376313CNMR221334620105111541192124112681318134313541454162017571867IR3530163014581374135212191080LRMSmz270MHHRMSmzMHC15H13NO4計算値2700766実測値2700757実施例181-メチル-2-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]ピロール-4,9-ジオンの製造2酸化銅I和光純薬工業株22mg015mmolおよび3-ブチン-2-オール東京化成工業株120μl152mmolのDMF5mlおよびピリジン23ml溶液を室温にて2時間撹拌した。この反応混合液に3-ヨード-2-モノメチルアミノユグロン50mg015mmol、および酢酸パラジウム東京化成工業株10mg3molのDMF4ml溶液を加え、80°Cにて1時間撹拌した。反応を氷水の添加によりクエンチし、反応混合液をクロロホルムにて抽出し、有機層を氷水およびブラインで洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=4/1により精製すると、目的化合物33mg80を得た。薄黄色針状物mp219220°Crf0201HNMR16819841149366571775376313CNMR221334620105111541192124112681318134313541454162017571867IR3530163014581374135212191080LRMSmz270MHHRMSmzMHC15H13NO4計算値2700766実測値2700757実施例19S-5-ヒドロキシ-2-1-ヒドロキシエチル-1H-ベンゾ[f]インドール-4,9-ジオンの製造酸化銅I和光純薬工業株48mg034mmolおよびS---3-ブチン-2-オール東京化成工業株266μl338mmolのDMF12mlおよびピリジン5ml溶液を室温にて2時間撹拌した。この反応混合液に3-ブロモ-2-ジメチルアミノユグロン100mg034mmol、および酢酸パラジウム東京化成工業株23mg3molのDMF14ml溶液を加え、一晩撹拌した。反応を氷水の添加によりクエンチし、反応混合液をクロロホルムにて抽出した。有機層を氷水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして減圧濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物のNMP20ml溶液に28アンモニア水和光純薬工業株208μl257mmolを添加し、80°Cにて1時間撹拌した後、無水炭酸カリウム和光純薬工業株35mg026mmolを添加し、80°Cにて30分間撹拌した。反応液にさらに無水炭酸カリウム和光純薬工業株248mg180mmolを添加し、100°Cにて3時間撹拌した。反応液をクロロホルムにて抽出し、有機層を3M塩酸、水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして溶媒を減圧濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=2/1にて精製すると、黄色固体としてS-5-ヒドロキシ-2-1-ヒドロキシエチル-1H-ベンゾ[f]インドール-4,9-ジオン20mg23を得た。1HNMRδ1645086587217547681263IR35751623145813771254120410991034764LRMSmz256MHHRMSmzMHC14H10NO4計算値2560610実測値2560604実施例202-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオンの製造1酸化銅I和光純薬工業株24mg0167mmolおよび3-ブチン-2-オール東京化成工業株133μl169mmolのDMF6mlおよびピリジン25ml溶液を室温にて2時間撹拌した。この反応混合液に3-ブロモ-2-ジメチルアミノユグロン50mg0167mmol、および酢酸パラジウム東京化成工業株11mg3molのDMF7ml溶液を加え、一晩撹拌した。反応を氷水の添加によりクエンチし、反応混合液をクロロホルムにて抽出した。有機層を氷水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして減圧濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物のメタノール8mlおよび蒸留水100μl溶液に硫化ナトリウム無水和光純薬工業株26mg0334mmolを添加し、室温にて一晩撹拌した。反応液を塩化アンモニウム水溶液にてクエンチし、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして溶媒を減圧濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=10/1にて精製すると、黄色固体として2-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオン21mg46を得た。薄黄色針状物mp193°Crf020α25D18099ee1HNMR16722752272775076277613CNMR259652116011971211124913401371142714321621164617731852IR327531871649163214511288831752702LRMSmz273MHHRMSmzMHC14H9O4S計算値2730222実測値27302161HNMRδ1645167277497627761234実施例21~32当分野における通常の方法に従い、実施例20を適宜改変して、以下の実施例21~32の化合物を製造する。表中、は不斉炭素を示す。実施例332,5-ジヒドロキシ-3-ヨードナフタレン-1,4-ジオン30mg0095mmolのピリジン35ml溶液に酸化銅I135mg0095mmol、3-ブチン-2-オール75μl0949mmolおよびジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム2mg3molを添加し、反応温度を80°Cにて30分間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、反応を2M塩酸の添加によりクエンチし、反応液をクロロホルムにて抽出した。有機層を氷水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=4/1により精製すると、黄色固体として2-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]フラン-4,9-ジオン172mg70を得た。1HNMRδ166223505685728762776121813CNMR215638103411521200125313101327136315211623165417271865NQ801の製造実施例34実施例1で得られた化合物30mg0105mmolの蒸留水20mlおよびブタノール10ml溶液を120°Cにて一晩撹拌し、反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして溶媒を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=6/1により精製すると、2-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]フラン-4,9-ジオン164mg61を得た。実施例35実施例1で得られた化合物30mg0105mmolの蒸留水20mlおよびエタノール10ml溶液を100°Cにて5時間撹拌し、反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして溶媒を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=6/1により精製すると、2-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]フラン-4,9-ジオン148mg55を得た。実施例36実施例1で得られた化合物30mg0105mmolの蒸留水20mlおよびアセトニトリル10ml溶液を100°Cにて一晩撹拌し、反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして溶媒を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=6/1により精製すると、2-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]フラン-4,9-ジオン11mg41を得た。実施例37実施例1で得られた化合物30mg0105mmolの蒸留水20mlおよびアセトン10ml溶液を100°Cにて一晩撹拌し、反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水およびブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして溶媒を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=6/1により精製すると、2-1-ヒドロキシエチル-5-ヒドロキシナフト[2,3-b]フラン-4,9-ジオン10mg37を得た。比較例1非特許文献4記載の方法に従い、カップリング反応を試みた。ヨウ化銅和光純薬工業株30mg016mmolおよび3-ブチン-2-オール東京化成工業株11μl015mmolのDMSO500μlおよびクロロホルム350μl溶液にトリエチルアミン東京化成工業株18μl013mmol、3-ブロモ-2-ジメチルアミノユグロン30mg01mmolおよびビストリフェニルホスフィンパラジウムIIジクロリド東京化成工業株300μg043molを添加し、一晩撹拌したが、目的生成物は得られなかった。"