"第1電極と、第2電極と、前記第1,第2電極間に配置された焦電材料とから成り、温度に基づいて分極量が変化するキャパシターと、前記キャパシターを還元ガスから保護する第1還元ガスバリア膜と、を含み、波長が100μm以上、1000μm以下のテラヘルツ波を検出する焦電型検出素子と、第1面と、前記第1面に対向する第2面とを含み、前記第2面が空洞部に臨んで配置され、前記第1面に前記焦電型検出素子を搭載した支持部材と、前記支持部材の前記第2面の一部を支持する支持部と、を有し、前記支持部材は、前記キャパシターが搭載される搭載部材と、前記搭載部材に連結されたアーム部材とを含み、前記第1還元ガスバリア膜は、前記搭載部材の第1外周縁と、前記キャパシターの第2外周縁との間に第3外周縁を有する孤立パターンで形成されていることを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項1において、前記第1還元ガスバリア膜は、SiNよりも熱伝達率の小さい材料にて形成されていることを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項2において、前記第1還元ガスバリア膜は、金属酸化物であることを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項3において、前記第1還元ガスバリア膜は、酸化アルミニウムであることを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項1乃至4のいずれかにおいて、前記第1還元ガスバリア膜は、前記キャパシターに接する第1層膜と、前記第1層膜に積層される第2層膜とを含み、前記第1層膜は前記第2層膜よりも膜密度が低いことを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項1乃至5のいずれかにおいて、前記支持部材は、前記第1面を形成する第1層部材と、前記第1層部材よりも前記第2面側にて前記第1層部材に積層される第2層部材を含み、前記第2層部材は、還元ガスバリア性を有することを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項1乃至6のいずれかにおいて、前記焦電型検出素子は、前記キャパシターの頂面を覆う前記第1還元ガスバリア膜に形成されたコンタクトホールと、前記コンタクトホールに配置されて前記第2電極に接続されるプラグと、前記プラグに接続される配線層と、を有し、前記プラグは、還元ガスバリア性を有する材料にて形成されていることを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項1乃至6のいずれかにおいて、前記焦電型検出素子は、前記第1還元ガスバリア膜を覆う層間絶縁膜と、前記キャパシターの頂面を覆う前記第1還元ガスバリア膜及び前記層間絶縁膜に形成されたコンタクトホールと、前記コンタクトホールに配置されて前記第2電極に接続されるプラグと、前記プラグに接続される配線層と、をさらに有し、前記層間絶縁膜は、前記搭載部材の第1外周縁と前記第1還元ガスバリア膜の前記第3外周縁との間に第4外周縁を有する孤立パターンに形成されていることを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項8において、前記層間絶縁膜は、前記支持部よりも水素含有率が小さいことを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項8または9において、前記焦電型検出素子は、前記層間絶縁膜よりも電磁波入射方向の上流側に設けられた電磁波吸収膜を有し、前記層間絶縁膜は、前記電磁波吸収膜が吸収する波長帯域に吸収特性を有することを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項1乃至9のずれかにおいて、前記焦電型検出素子は、前記キャパシターよりも電磁波射方向の上流側に設けられた電磁波吸収膜と、前記キャパシター及び前記電磁波吸収膜を覆って設けられた第2還元ガスバリア膜と、をさらに有することを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項6において、前記焦電型検出素子は、前記キャパシターよりも電磁波入射方向の上流側に設けられた電磁波吸収膜と、前記キャパシター及び前記電磁波吸収膜を覆って設けられた第2還元ガスバリア膜と、を有し、前記支持部材は、前記キャパシターの周辺に沿って前記第1層部材が孤立状にパターニングされて、前記第2層部材が前記キャパシターの周辺に沿って露出され、前記第2還元ガスバリア膜は、前記キャパシターから前記第2層部材の露出面に至る領域を覆うことを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項1乃至12のいずれかに記載の焦電型検出器を二軸方向に沿って二次元配置したことを特徴とするテラヘルツカメラ。請求項1乃至13のいずれかに記載のテラヘルツカメラを有することを特徴とする電子機器。キャパシターは製造時または実使用時に還元ガスによる酸素欠損が生ずると、特性が劣化する。この点、特許文献1,2ではキャパシターを還元ガスから保護することについては無言である。また、特許文献1では、下部電極自体が引き回されて下部電極配線として兼用され、かつ、上部電極自体が引き回されて上部電極配線層として兼用されている。キャパシターの下部電極及び上部電極は、求められる電気的特性上から電気抵抗が低い材料例えばPtまたはIr等が用いられ、熱伝導率性も高いPtは71.6W/mK、Irは147W/mK。よって、特許文献1の技術では、検出素子の熱が下部電極配線または上部電極配線を介して外部に伝熱されてしまう。このため、温度に基づいて焦電体材料の分極量が変化する検出原理の焦電型検出器として高い特性を担保できない。特許文献2は、特許文献1とは異なるプレーナー型のキャパシターを開示している。特許文献2は、単結晶半導体基板4上に形成される結晶性を有するAl203薄膜6上に下部金属薄膜である下部プラチナ膜8を形成し、下部金属薄膜8の上面の一部分上のみに強誘電体薄膜10を積層し、強誘電体薄膜8の上面の一部分上のみに上部金属薄膜である上部プラチナ膜12を積層している図2,3及び請求項1。下部金属薄膜8及び上部金属薄膜12の上面には、絶縁膜14に覆われない露出部に、金属薄膜にて形成される配線16が接続されている段落0033。しかし、特許文献2は下部金属薄膜8、強誘電体薄膜10及び上部金属薄膜129の結晶性に専ら関心があり、キャパシターを還元ガスから保護することや、配線16からの熱の散逸については無関心である。本発明の幾つかの態様によれば、温度に基づいて焦電体材料の分極量が変化する検出原理に鑑み、キャパシターを還元ガスから保護し、しかも焦電型検出素子から熱が散逸することを抑制して高い検出特性を実現できる焦電型検出器を用いたテラヘルツカメラを提供することができる。本発明の一態様に係るテラヘルツカメラは、第1電極と、第2電極と、前記第1,第2電極間に配置された焦電材料とから成り、温度に基づいて分極量が変化するキャパシターと、前記キャパシターを還元ガスから保護する第1還元ガスバリア膜と、を含み、波長が100μm以上、1000μm以下のテラヘルツ波を検出する焦電型検出素子と、第1面と、前記第1面に対向する第2面とを含み、前記第2面が空洞部に臨んで配置され、前記第1面に前記焦電型検出素子を搭載した支持部材と、前記支持部材の前記第2面の一部を支持する支持部と、を有し、前記支持部材は、前記キャパシターが搭載される搭載部材と、前記搭載部材に連結されたアーム部材とを含み、前記第1還元ガスバリア膜は、前記搭載部材の第1外周縁と、前記キャパシターの第2外周縁との間に第3外周縁を有する孤立パターンで形成されていることを特徴とする。ここで、キャパシターは、キャパシターの形成後の工程で還元ガス水素、水蒸気、OH基、メチル基などがキャパシターに侵入することを抑制する還元ガスバリア層に覆われている。キャパシターの焦電体例えばPZT等は酸化物であり、酸化物が還元されると酸素欠損を生じて、焦電効果が損なわれるが、第1還元ガスバリア膜によりキャパシターを保護できる。また、キャパシターと、それを覆う第1還元ガスバリア膜とは、支持部材の搭載部上にて孤立パターンとして形成されるので、第1還元ガスバリア膜を支持部材の全面に形成するものに比べて、検出素子の熱容量が小さくなり、熱分離性も向上する。本発明の一態様では、前記第1還元ガスバリア膜は、SiNよりも熱伝達率の小さい材料にて形成することができる。つまり、第1還元ガスバリア膜は、強誘電体メモリーに用いられる同機能の膜代表的にはSiNよりも熱伝達率の小さい材料にて形成することができる。こうすると、キャパシターの熱が、キャパシターと接触する第1還元ガスバリア膜を介して外部に散逸することを抑制できる。熱伝達率の小さい第1還元ガスバリア膜として、金属酸化物、例えば酸化アルミニウムAl2O3を挙げることができる。酸化アルミニウムAl2O3の熱伝導率は29W/mKであり、SiNの熱伝導率70W/mKよりも格段に低い。しかも、酸化アルミニウムAl2O3はSiNと比較して還元ガスバリア性、例えば水素バリア性が高い点でも優れている。水素バリア性が高い酸化アルミニウムAl2O3を第1還元ガスバリア膜として用いれば、SiNで形成する場合よりも膜厚を薄くできる。よって、検出素子の熱容量を小さくできる。本発明の一態様では、前記第1還元ガスバリア膜は、前記キャパシターに接する第1層膜と、前記第1層膜に積層される第2層膜とを含み、前記第1層膜は前記第2層膜よりも膜密度を低くすることができる。こうすると、膜密度の低い第1層膜の熱伝導率を、膜密度の厚い第2層膜よりも低くできる。キャパシターに接触する側の第1層膜の熱伝導率を低くすることで、検出素子の熱分離性が向上する。なお、膜密度の低い第1層膜は、還元ガスバリア性も低くなるが、第1層膜を覆う第2層膜の膜密度が高いので、第1還元ガスバリア膜としての還元ガスバリア性を確保できる。本発明の一態様では、前記支持部材は、前記第1面を形成する第1層部材と、前記第1層部材よりも前記第2面側にて前記第1層部材に積層される第2層部材を含み、前記第2層部材は、還元ガスバリア性を有することができる。こうすると、第1還元ガスバリア膜では保護できない、キャパシターの下方側からの還元ガスの侵入を、支持部材の第2層部材にて抑制することができる。本発明の一態様では、前記焦電型検出素子は、前記キャパシターの頂面を覆う前記第1還元ガスバリア膜に形成されたコンタクトホールと、前記コンタクトホールに配置されて前記第2電極に接続されるプラグと、前記プラグに接続される配線層とをさらに有し、前記プラグは、還元ガスバリア性を有する材料にて形成することができる。このように、第1還元ガスバリア膜を、キャパシターと配線層との間の層間絶縁膜として機能させることができる。この際、第1還元ガスバリア膜にはコンタクトホールが形成され、この領域にて還元ガスバリア性は担保できなくなる。そこで、コンタクトホールに充填されるプラグとして、還元ガスバリア性を有する材料を用い、第1還元ガスバリア膜とプラグとによりキャパシターを保護できる。本発明の一態様では、前記焦電型検出素子は、前記第1還元ガスバリア膜を覆う層間絶縁膜と、前記キャパシターの頂面を覆う前記第1還元ガスバリア膜及び前記層間絶縁膜に形成されたコンタクトホールと、前記コンタクトホールに配置されて前記第2電極に接続されるプラグと、前記プラグに接続される配線層とをさらに有することができる。このように、第1還元ガスバリア膜とは別個に層間絶縁膜を設けることができる。一般に、層間絶縁膜の原料ガスTEOSが化学反応する際には、水素ガスや水蒸気等の還元ガスが発生する。キャパシターの周囲に設けた還元ガスバリア層は、この層間絶縁膜の形成中に発生する還元ガスからもキャパシターを保護することができる。また、層間絶縁膜を設けると、層間絶縁膜上の配線層をパターンエッチングする際に、その下層の還元ガスバリア層がエッチングされてバリア性が低下することを防止できる。また、層間絶縁膜は、同じ絶縁膜である支持部よりも含有水分を少なくし、または水素含有率を低くすることができる。こうすると、層間絶縁膜が形成された後に高温に晒されても、層間絶縁膜からの還元ガスの発生を抑制できる。ここで、前記層間絶縁膜は、前記載置部材の第1外周縁と前記第1還元ガスバリア膜の前記第3外周縁との間に第4外周縁を有する孤立パターンに形成することができる。こうして、層間絶縁膜を設ける場合でも、検出素子の熱容量を小さくし、熱分離性を向上させることができる。本発明の一態様では、前記層間絶縁膜は、前記支持部よりも水素含有率を小さくすることができる。層間絶縁膜の形成後にアニーリング等によって脱水処理することで、脱水処理されない他の絶縁膜である支持部よりも、層間絶縁膜を低水分膜とすることができる。こうすると、第1還元ガスバリア膜の近傍での還元ガスの発生を抑制することができ、層間絶縁膜形成後にキャパシターが高温に晒されても、焦電材料は酸素欠損することを低減できる。本発明の一態様では、前記焦電型検出素子は、前記層間絶縁膜よりも電磁波入射方向の上流側に設けられた電磁波吸収膜をさらに有し、前記層間絶縁膜は、前記電磁波吸収膜が吸収する波長帯域に吸収特性を有することができる。層間絶縁膜が電磁波吸収膜として機能することで、焦電型検出器の感度が向上する。本発明の一態様では、前記焦電型検出素子は、前記キャパシターよりも電磁波入射方向の上流側に設けられた電磁波吸収膜と、前記キャパシター及び前記電磁波吸収膜を覆って設けられた第2還元ガスバリア膜とをさらに有することができる。こうすると、第1,第2還元ガスバリア膜によりバリア性がさらに向上する。本発明の一態様では、前記焦電型検出素子は、前記キャパシターよりも電磁波入射方向の上流側に設けられた電磁波吸収膜と、前記キャパシター及び前記電磁波吸収膜を覆って設けられた第2還元ガスバリア膜とをさらに有し、前記支持部材は、前記キャパシターの周辺に沿って前記第1層部材が孤立状にパターニングされて、前記第2層部材が前記キャパシターの周辺に沿って露出され、前記第2還元ガスバリア膜は、前記キャパシターから前記第2層部材の露出面に至る領域を覆うことができる。こうすると、キャパシターの下方側を、支持部材の第2層部材と第2還元ガスバリア膜とで包囲することができ、バリア性がさらに向上する。本発明の他の態様に係るテラヘルツカメラは、上述した焦電型検出器が二軸方向に沿って二次元配置して構成される。このテラヘルツカメラは、各セルの焦電型検出器にて検出感度が高められるので、明瞭なエネルギー分布画像を提供できる。本発明のさらに他の態様に係る電子機器は、上述したテラヘルツカメラをセンサーとして用いることで、特定物質探知装置、偽造紙幣の判定、封筒内の薬品検出、建造物の非破壊検査等に適用できる。1.焦電型検出装置支持部材210及びそれに搭載される焦電型検出素子検出素子220を各セルがそれぞれ備えた複数セルの焦電型検出器200が、二軸方向例えば直交二軸方向に配列された焦電型検出装置を、図4に示す。なお、1セル分のみの焦電型検出器にて焦電型検出装置が構成されても良い。図4において、基部固定部ともいう100から複数のポスト104が立設され、例えば2本のポスト支持部104に支持された1セル分の焦電型検出器200が、直交二軸方向に配列されている。1セル分の焦電型検出器200が占める領域は、例えば100×100μmである。図4に示すように、焦電型検出器200は、2本のポスト支持部104に連結された支持部材メンブレン210と、焦電型検出素子220と、を含んでいる。1セル分の焦電型検出素子220が占める領域は、例えば80×80μmである。1セル分の焦電型検出器200は、2本のポスト104と接続される以外は非接触とされ、焦電型検出器200の下方には空洞部102図4参照が形成され、平面視で焦電型検出器200の周囲には、空洞部102に連通する開口部102Aが配置される。これにより、1セル分の焦電型検出器200は、基部100や他のセルの焦電型検出器200から熱的に分離されている。支持部材210は、検出素子220を搭載して支持する搭載部搭載部材210Aと、搭載部210Aに連結された2本のアームアーム部材210Bとを有し、2本のアーム210Bの自由端部がポスト104に連結されている。2本のアーム210Bは、検出素子220を熱分離するために、細幅でかつ冗長に延在形成される。図4は、上部電極に接続される配線層より上方の部材を省略した平面図であり、図4には検出素子220に接続された第1電極下部電極配線層222及び第2電極上部電極配線層224が示されている。第1,第2電極配線層222,224の各々は、アーム210Bに沿って延在され、ポスト104を介して基部100内の回路に接続される。第1,第2電極配線層222,224も、検出素子220を熱分離するために、細幅でかつ冗長に延在形成される。2.焦電型検出素子と支持部材の基本構造図1ABは、本発明の一実施形態に係る検出素子220の基本構造を示し、支持部材210と検出素子220とが示されている。検出素子220は、第1電極下部電極234と、第2電極上部電極236と、それらの間に配置された焦電材料焦電体232とから成り、温度に基づいて分極量が変化するキャパシター230を有する。検出素子220はさらに、キャパシター230を還元ガスから保護する第1還元ガスバリア膜240を有する。検出素子220を支持する支持部材210は、第1面211Aと、第1面211Aに対向する第2面211Bとを含む。支持部材210は、搭載部210Aの第1面211Aに検出素子220を搭載している。支持部材210の第2面211Bは、空洞部102に臨んで配置されている。第1還元ガスバリア膜240は、搭載部210Aの第1外周縁P1と、キャパシター230の第2外周縁P2との間に第3外周縁P3を有する孤立パターンで形成されている。ここで、キャパシター230は、キャパシター230の形成後の工程で還元ガス水素、水蒸気、OH基、メチル基などがキャパシター230に侵入することを抑制する第1還元ガスバリア膜240に覆われている。キャパシター230の焦電体例えばPZT等232は酸化物であり、酸化物が還元されると酸素欠損を生じて、焦電効果が損なわれるが、第1還元ガスバリア膜240によりキャパシター230を保護できる。また、キャパシター230と、それを覆う第1還元ガスバリア膜240とは、図1Bのように支持部材210の搭載部210A上にて孤立パターンとして形成されるので、第1還元ガスバリア膜240を支持部材210の全面に形成するものに比べて、検出素子220の熱分離性が向上する。第1還元ガスバリア膜は、強誘電体メモリーに同機能の膜として用いられるSiNよりも熱伝達率の小さい材料にて形成することができる。こうすると、キャパシター230の熱が、キャパシター230と接触する第1還元ガスバリア膜240を介して外部に散逸することを抑制できる。熱伝達率の小さい第1還元ガスバリア膜240として、金属酸化物例えば酸化アルミニウムAl2O3を挙げることができる。酸化アルミニウムAl2O3の熱伝導率は29W/mKであり、SiNの熱伝導率70W/mKよりも格段に低い。しかも、酸化アルミニウムAl2O3はSiNと比較して還元ガスバリア性例えば水素バリア性が高い点でも優れている。水素バリア性が高い酸化アルミニウムAl2O3を第1還元ガスバリア膜240として用いれば、SiNで形成する場合よりも膜厚を薄くできる。例えば、SiN膜で水素ガスバリア性を高めようとすると膜厚200nmを要するが、酸化アルミニウムAl2O3膜では膜厚60nmで足りる。よって、検出素子220の熱容量を小さくできる。図1Aにて拡大して示すように、第1還元ガスバリア膜240は、キャパシター230に接する第1層膜242と、第1層膜242に積層される第2層膜244とを含むことができる。さらに、第1層膜242は第2層膜244よりも膜密度を低くすることができる。こうすると、膜密度の低い第1層膜242の熱伝導率を、膜密度の厚い第2層膜244よりも低くできる。キャパシター230に接触する側の第1層膜242の熱伝導率を低くすることで、検出素子220の熱分離性が向上する。膜密度の低い第1層膜242は、還元ガスバリア性も低くなるが、第1層膜242を覆う第2層膜244の膜密度が高いので、第1還元ガスバリア膜240としての還元ガスバリア性を確保できる。図1Aにて拡大して示すように、支持部材210は、第1面211Aを形成する第1層部材212と、第1層部材212よりも第2面211B側にて第1層部材212に積層される第2層部材214を含むことができる。第2層部材214は、還元ガスバリア性を有することができる。こうすると、第1還元ガスバリア膜240では保護できない、キャパシター230の下方側からの還元ガスの侵入を、支持部材210の第2層部材214にて抑制することができる。なお、支持部材210はさらに第3層部材216を有することができるが、この点については後述する。図2に示すように、検出素子220は、キャパシター230の頂面を覆う第1還元ガスバリア膜240に形成されたコンタクトホール254と、コンタクトホール254に配置されて第2電極に接続されるプラグ228と、プラグ228に接続される配線層224とをさらに有することができる。プラグ228は、還元ガスバリア性を有する材料にて形成することができる。このように、第1還元ガスバリア膜240を、キャパシター230と配線層224との間の層間絶縁膜として機能させることができる。この際、第1還元ガスバリア膜240にはコンタクトホール254が形成され、この領域にて還元ガスバリア性は担保できなくなる。そこで、コンタクトホール254に充填されるプラグ228として、還元ガスバリア性を有する材料を用い、第1還元ガスバリア膜240とプラグ228とによりキャパシター230を保護できる。図2とは異なる構造を示す図3において、検出素子220は、第1還元ガスバリア膜240を覆う層間絶縁膜250と、キャパシター230の頂面を覆う第1還元ガスバリア膜240及び層間絶縁膜250に形成されたコンタクトホール254と、コンタクトホール254に配置されて第2電極236に接続されるプラグ228とをさらに有することができる。図3では、図2とは異なり、第1還元ガスバリア膜240とは別個に層間絶縁膜250を設けている。この場合、層間絶縁膜250は、搭載部210Aの第1外周縁P1と第1還元ガスバリア膜240の第3外周縁P3との間に第4外周縁P4を有する孤立パターンに形成することができる。こうして、層間絶縁膜250を設ける場合でも、検出素子220の熱容量を小さくし、熱分離性を向上させることができる。また、層間絶縁膜250は、同じ絶縁膜であるポスト支持部104図4参照よりも水素含有率を小さくすることができる。こうすると、層間絶縁膜250が形成された後に高温に晒されても、層間絶縁膜250からの還元ガスの発生を抑制できる。なお、層間絶縁膜250は、電磁波吸収膜としても機能させることができる。この場合、層間絶縁膜250は、後述する電磁波吸収体270が吸収する波長帯域に吸収特性を有する。こうして、吸収特性を向上させることで、テラヘルツ波検出精度を高めることができる。3.熱分離された焦電型検出器の課題とその対策検出素子220は、第1,第2電極配線層222,224や、第1,第2電極配線層222,224と第1,第2電極234,236とを接続する第1,第2プラグ226,228図5参照が、熱伝導路として機能してしまう不適事項がある。つまり、焦電型キャパシター230を駆動するには第1,第2電極配線層222,224及び第1,第2プラグ226,228は不可欠である一方で、キャパシター230の熱が第1,第2電極配線層222,224及び第1,第2プラグ226,228から放熱されてしまう。そこで、本実施形態では、第1,第2電極配線層222,224の材料や、第1,第2プラグ226,228の少なくとも一部を形成する材料の熱伝導率を、第1,第2プラグ226,228と接続される部分の第1,第2電極234,236を形成する材料単層であればその単層電極材料であり、複数層であれば最上層の電極材料の熱伝導率よりも低くしている。第1,第2電極234,236の材料の熱伝導率は、例えばプラチナPtは71.6W/mKであり、イリジウムIrは147W/mKである。一方、一般の配線材料であるアルミニウムAlは237W/mK、銅Cuは403W/mKと、熱伝導率が第1,第2電極234,236高くなるのが通常である。本実施形態では、第1,第2電極234,236の電極材料として好適な金属材料、例えばプラチナPtやイリジウムIrよりも熱伝導率の低い材料として、例えば窒化チタンTiNまたはチタンアルミナイトライドTiAlNにより、第1,第2電極配線層222,224や、第1,第2プラグ226,228の少なくとも一部を形成している。例えば窒化チタンTiNの熱伝導率は29W/mKであり、チタンアルミナイトライドTiAlNの熱伝導率は5~10W/mKであり、第1,第2電極234,236の電極材料として好適な金属材料である例えばプラチナPtやイリジウムIrよりも熱伝導率が充分に低い。こうすると、キャパシター230の駆動に不可欠な第1,第2電極配線222,224及び第1,第2プラグ226,228を介して、焦電体232の熱が放熱されることを抑制でき、検出素子220の熱分離性が向上する。4.焦電型検出器の概要以下、本実施形態の焦電型検出器200をより具体的に説明する。図5は、焦電型検出器200の全体を示す断面図である。また、図6は、製造工程途中の焦電型検出器200の部分断面図である。図6では、図5の空洞部102が犠牲層150により埋め込まれている。この犠牲層150は、支持部材210及び焦電型検出素子220の形成工程前から形成工程後まで存在しており、焦電型検出素子220の形成工程後に等方性エッチングにより除去されるものである。図5に示すように、基部100は、基板例えばシリコン基板110と、シリコン基板110上の絶縁膜例えばSiO2にて形成されるスペーサー層120とを含んでいる。ポスト支持部104は、スペーサー層120をエッチングすることで形成され、例えばSiO2にて形成されている。ポスト支持部104には、第1,第2電極配線層222,224の一方に接続されるプラグ106を配置することができる。このプラグ106は、シリコン基板110上に設けられる行選択回路行ドライバーか、または列線を介して検出器からのデータを読み出す読み出し回路に接続される。空洞部102は、スペーサー層120をエッチングすることで、ポスト104と同時に形成される。図4に示す開口部102Aは、支持部材210をパターンエッチングすることで形成される。支持部材210の第1面211A上に搭載される検出素子220は、キャパシター230を含んでいる。キャパシター230は、焦電体232と、焦電体232の下面に接続される第1電極下部電極234と、焦電体232の上面に接続される第2電極上部電極236とを含んでいる。第1電極234は、支持部材210の第1層部材例えばSiO2支持層212図6参照との密着性を高める密着層234Dを含むことができる。キャパシター230は、キャパシター230の形成後の工程で還元ガス水素、水蒸気、OH基、メチル基などがキャパシター230に侵入することを抑制する第1還元ガスバリア膜240に覆われている。キャパシター230の焦電体例えばPZT等232は酸化物であり、酸化物が還元されると酸素欠損を生じて、焦電効果が損なわれるからである。第1還元ガスバリア膜240は、図6に示すように、第1バリア層第1層膜242と第2バリア層第2層膜244とを含むことができる。第1バリア層242は、金属酸化物例えば酸化アルミニウムAl2O3をスパッタ法により成膜して形成することができる。スパッタ法では還元ガスが用いられないので、キャパシター230が還元されることはない。第2バリア層244は、例えば酸化アルミニウムAl2O3を例えば原子層化学気相成長ALCVD:AtomicLayerChemicalVaporDeposition法により成膜して形成すことができる。通常のCVDChemicalVaporDeposition法は還元ガスを用いるが、第1層バリア層242によりキャパシター230は還元ガスから隔離される。ここで、第1還元ガスバリア膜240のトータル膜厚は50~70nm、例えば60nmとする。このとき、CVD法で形成される第1バリア層242の膜厚は原子層化学気相成長ALCVD法により形成される第2バリア層244よりも厚く、35~65nm例えば40nmとなる。これに対して、原子層化学気相成長ALCVD法により形成される第2バリア層244の膜厚は薄くでき、例えば酸化アルミニウムAl2O3を5~30nm例えば20nmで成膜して形成される。原子層化学気相成長ALCVD法は、スパッタ法等と比較して、優れた埋め込み特性を有するため、微細化に対応することが可能となり、第1,第2バリア層242,244にて還元ガスバリア性を高めることができる。また、スパッタ法で成膜される第1バリア層242は第2バリア層244に比べて緻密ではないが、それが効を奏して伝熱率を下げる要因となるので、熱伝導率の低い第1バリア層242がキャパシター230と第2バリア層244間に介在することで、キャパシター230からの熱の散逸を防止できる。第1還元ガスバリア膜240上には層間絶縁膜250が形成されている。一般に、層間絶縁膜250の原料ガスTEOSが化学反応する際には、水素ガスや水蒸気等の還元ガスが発生する。キャパシター230の周囲に設けた第1還元ガスバリア膜240は、この層間絶縁膜250の形成中に発生する還元ガスからキャパシター230を保護するものである。層間絶縁膜250上に、図4及び図5にも示した第1電極下部電極配線層222と第2電極上部電極配線層224とが配置される。層間絶縁膜250には、電極配線形成前に予め、第1コンタクトホール252と第2コンタクトホール254が形成される。その際、第1還元ガスバリア膜240にも同様にコンタクトホールが形成される。第1コンタクトホール252に埋め込まれた第1プラグ226により、第1電極下部電極234と第1電極配線層222とが導通される。同様に第2コンタクトホール254に埋め込まれた第2プラグ228により、第2電極上部電極236と第2電極配線層224とが導通される。ここで、層間絶縁膜250が存在しないと、第1電極下部電極配線層222と第2電極上部電極配線層224をパターンエッチングする際に、その下層の第1還元ガスバリア膜240の第2バリア層244がエッチングされて、バリア性が低下してしまう。層間絶縁膜250は、第1還元ガスバリア膜240のバリア性を確保する上でも、第1還元ガスバリア膜240上に形成することが好ましい。ただし、図2に示すように、第1還元ガスバリア膜240を層間絶縁膜として機能させても良い。ここで、層間絶縁膜250は含有水分が少なく、あるいは水素含有率が低いことが好ましい。そこで、層間絶縁膜250はアニーリングにより脱ガス処理される。こうして、層間絶縁膜250の水素含有率または含水率は、第1,第2電極配線層222,224を覆うパッシベーション膜260や、絶縁膜であるポスト支持部104よりも低くされる。こうすると、層間絶縁膜250が形成された後にキャパシター230が高温に晒されても、層間絶縁膜250からの還元ガスの発生を抑制できる。なお、キャパシター230の頂面の第1還元ガスバリア膜240は、層間絶縁膜250の形成時にはコンタクトホールがなく閉じているので、層間絶縁膜250の形成中の還元ガスがキャパシター230に侵入することはない。しかし、第1還元ガスバリア膜240にコンタクトホールが形成された後は、バリア性が劣化する。なお、例えば第2コンタクトホール254は、第2電極上部電極236の面積の0.03~3程度とすることができるが、バリア性の劣化は否めない。これを防止する一例として、例えば図6に示すように第1,第2プラグ226,228を複数層第1層228A,第2層228B図6では第2プラグ228のみ図示とし、その第1層228Aにバリアメタル層を採用している。第1層228Aのバリアメタルにより還元ガスバリア性が担保される。第1層228Aのバリアメタルは、チタンTiのように拡散性の高いものは好ましくなく、拡散性が少なくかつ還元ガスバリア性の高いチタンアルミナイトライドTiAlNを採用できる。なお、コンタクトホールからの還元ガスの侵入を絶つ方法として、図7に示すように、少なくとも第2プラグ228を包囲して還元性ガスバリア膜290を増設しても良い。この還元性ガスバリア膜290は、第2プラグ228の第1層バリアメタル層228Aを併用しても良いし、第1層228Aを排除しても良い。なお、還元性ガスバリア膜290は、第1プラグ226を被覆しても良い。第1,第2電極配線層222,224を覆って、SiO2またはSiNのパッシベーション膜260が設けられている。少なくともキャパシター230の上方には、パッシベーション膜260上に電磁波吸収体270が設けられている。パッシベーション膜260もSiO2またはSiNにて形成されるが、電磁波吸収体270のパターンエッチングの必要上、下層のパッシベーション膜260とはエッチング選択比が大きい異種材料とすることが好ましい。この電磁波吸収体270に電磁波が図5の矢印方向から入射され、電磁波吸収体270は吸収した電磁波量に応じて発熱する。その熱が焦電体232に伝熱されることで、キャパシター230の自発分極量が熱によって変化し、自発分極による電荷を検出することで電磁波を検出できる。なお、層間絶縁膜250も電磁波吸収体として機能させることができる。パッシベーション膜260や電磁波吸収体270のCVD形成時に還元ガスが発生しても、キャパシター230は第1還元ガスバリア膜240及び第1,第2プラグ226,228中のバリアメタルにより保護される。この電磁波吸収体270を含む焦電型検出器200の外表面を覆って、第2還元ガスバリア膜280が設けられている。この第2還元ガスバリア層280は、電磁波吸収体270に入射する電磁波の透過率を高くするために、例えば第1還元ガスバリア膜240よりも薄肉に形成される必要がある。このために、原子の大きさレベルで膜厚が調整できる原子層化学気相成長ALCVD法が採用される。通常のCVD法では厚すぎて電磁波透過率が悪化してしまうからである。本実施形態では、例えば酸化アルミニウムAl2O3を10~50nm、例えば20nmの厚さで成膜して形成される。上述の通り、原子層化学気相成長ALCVD法は、スパッタ法等と比較して、優れた埋め込み特性を有するため、微細化に対応して原子レベルで緻密な膜を形成することが可能となり、薄くても還元ガスバリア性を高めることができる。また、基部100側では、空洞部102を規定する壁部、つまり空洞部102を規定する底壁110Aと側壁104Aには、焦電型検出器200を製造する過程で空洞部102に埋め込まれていた犠牲層150図6参照を等方性エッチングする時のエッチングストップ膜130が形成されている。同様に、支持部材210の下面犠牲層150の上面にもエッチングストップ膜140が形成されている。本実施形態では、エッチングストップ膜130,140と同一材料により第2還元ガスバリア膜280を形成している。つまり、エッチングストップ膜130,140も還元ガスバリア性を有することになる。このエッチングストップ膜130,140も、酸化アルミニウムAl2O3が原子層化学気相成長ALCVD法により膜厚20~50nmで成膜されて形成される。エッチングストップ膜130が還元ガスバリア性を有することで、犠牲層150をフッ酸により還元雰囲気で等方性エッチングしたとき、支持部材210を透過してキャパシター230に還元ガスが侵入することを抑制できる。また、基部100を覆うエッチングストップ膜140が還元ガスバリア性を有することで、基部100内に配置される回路のトランジスターや配線が還元されて劣化することを抑制できる。5.支持部材の構造図5に示すように、下層から上層に向う第1方向D1に沿って、基部100上に、支持部104、支持部材210及び焦電型検出素子220が積層されている。支持部材210は、第1面211A側に密着層234Dを介して焦電型検出素子220を搭載し、第2面211B側は空洞部102に面している。なお、密着層234Dは、焦電型検出素子220の一部最下層である。支持部材210は、図7に示すように、少なくとも密着層234Dと接する第1面側の第1層部材212を絶縁層例えばSiO2支持層としている。このSiO2支持層第1層部材212は、図5に示す第1方向D1とは逆方向を第2方向D2としたとき、SiO2支持層第1層部材212よりも第2方向D2に位置する他のSiO2層である例えばポスト支持部104より水素含有率が小さい。これはCVD膜成膜時にO2流量を通常の層間絶縁膜CVD時よりも多くして水素や水分の膜中含有量を低減することにより得られる。こうして、SiO2支持層第1層部材212は、水素含有率が他のSiO2層である例えばポスト支持部104よりも低い低水分膜となる。密着層234Dと接する支持部材210の最上層のSiO2支持層第1層部材212の水素含有率が小さいと、焦電体232の形成後に熱処理により高温に晒されても、SiO2支持層第1層部材212自体から還元ガス水素、水蒸気が発生することを抑制できる。こうして、キャパシター230中の焦電体232に対して、そのキャパシター230の直下の下方支持部材210側から侵入する還元種を抑制することができ、焦電体232が酸素欠損することを抑制できる。SiO2支持層第1層部材212よりも第2方向D2に位置する他のSiO2層である例えばポスト支持部104の水分も還元種となり得るが、キャパシター230から離れているので、SiO2支持層第1層部材212よりも影響度は少ない。ただし、ポスト支持部104の水分も還元種となり得るので、SiO2支持層第1層部材212よりも第2方向D2に位置する支持部材210中に、還元ガスバリア性のある膜を形成しておくことが好ましい。この点も含め、支持部材210のより具体的構造について以下に説明する。支持部材210は、図5に示す第2方向D2に沿って、図6に示すように、上述したSiO2支持層第1層部材212と、中間層第2層部材214と、他のSiO2層第3層部材216とを積層して形成することができる。つまり、本実施形態では、単一材料では反りが生じてしまう支持部材210を、複数の異種材料を積層することで形成している。具体的には、第1,第3層部材212,216を酸化膜SiO2とし、中間層である第2層部材214を窒化膜例えばSi3N4で形成することができる。例えば第1層部材212及び第3層部材216に生ずる例えば圧縮残留応力と、第2層部材214に生ずる引張残留応力とを互いに相殺する方向に作用させる。これにより、支持部材210全体としての残留応力をさらに低減するか消滅させることができる。特に、第2層部材214の窒化膜が有する強い残留応力を、上下2層の酸化膜である第1,第3層部材212,216の逆向きの残留応力にて相殺するように作用させて、支持部材210に反りを生じさせる応力を低減できる。支持部材210を、密着層234Dと接する酸化膜SiO2と、窒化膜例えばSi3N4との二層で形成しても、反りを抑制する効果がある。なお、支持部材210を、例えば特願2010-109035に開示された方法により形成すれば反りの発生を防止できるので、支持部材210は必ずしも積層構造でなくてもよく、例えばSiO2層等の絶縁層の単層にて形成しても良い。ここで、第2層部材214を形成する窒化膜例えばSi3N4は、還元ガスバリア性を有する。これにより、キャパシター230の焦電体232に支持部材210側から侵入する還元性阻害要因をブロックする機能を、支持部材210自体に持たせることができる。このため、第2層部材214よりも、図5の第2方向D2に位置する第3層部材216が、SiO2支持層第1層部材212よりも水素含有率が多い他のSiO2層であっても、第3層部材216中の還元種水素、水蒸気が焦電体232に侵入することを、還元ガスバリア性を有する第2層部材214により抑制することができる。6.キャパシターの構造6.1.熱コンダクタンス図8は、本実施形態の要部を説明するための概略断面図である。上述した通り、キャパシター230は、第1電極下部電極234と第2電極上部電極236との間に焦電体232を含む。このキャパシター230は、入射された電磁波によって焦電体232の自発分極量が変化すること焦電効果またはパイロ電子効果を利用して電磁波を検出できる。本実施形態では、入射された電磁波が電磁波吸収体270にて吸収されて電磁波吸収体270が発熱し、電磁波吸収体270と焦電体232との間にある固体熱伝導路を介して、電磁波吸収体270の発熱が伝達される。本実施形態のキャパシター230では、支持部材210と接する第1電極下部電極234の熱コンダクタンスG1を、第2電極上部電極236の熱コンダクタンスG2よりも小さくしている。こうすると、キャパシター230は、電磁波に起因した熱が第2電極上部電極236を介して焦電体232に伝達されやすく、しかも、焦電体232の熱が第1電極下部電極234を介して支持部材210に逃げ難くなり、検出素子220の信号感度が向上する。しかも、第2電極236に電気的に接続される第2電極配線層224の熱伝導率も上述のように低いので、焦電型検出器200の熱分離特性は向上する。上述した特性を有するキャパシター230の構造を、図8を参照してさらに詳細に説明する。先ず、第1電極下部電極234の厚さT1は、第2電極上部電極236よりも厚いT1>T2である。第1電極下部電極234の熱伝導率をλ1とすると、第1電極下部電極234の熱コンダクタンスG1は、G1=λ1/T1となる。第2電極上部電極236の熱伝導率をλ2としたとき、第2電極上部電極236の熱コンダクタンスG2は、G2=λ2/T2となる。熱コンダクタンスの関係をG1<G2とするためには、例えば第1,第2電極234,236の材質を例えば共に白金PtまたはイリジウムIr等の同一の単一材料とすれば、λ1=λ2となり、図8からT1>T2であるのでG1<G2の関係を満足できる。そこで先ず、第1,第2電極234,236の各々を、それぞれ同一材料にて形成することについて考察する。キャパシター230は、焦電体232の結晶方向を揃えるために、焦電体232が形成される下層の第1電極234との界面の結晶格子レベルを整合させる必要がある。つまり、第1電極234は結晶のシード層としての機能を有するが、白金Ptは自己配向性が強いので、第1電極234として好ましい。イリジウムIrもシード層材料として好適である。また、第2電極上部電極236は、焦電体232の結晶性を崩さずに、第1電極234、焦電体232から第2電極236に至るまで結晶配向が連続的につながることが好ましい。そのため、第2電極236は第1電極234と同一材料にて形成することが好ましい。このように、第2電極236を第1電極234と同一材料例えばPtまたはIr等の金属にて形成すると、第2電極236の上面を反射面とすることができる。この場合、図8に示すように、電磁波吸収体270の頂面から第2電極236の頂面までの距離Lをλ/4λは電磁波の検出波長とすると良い。こうすると、電磁波吸収体270の頂面と第2電極236の頂面との間で、検出波長λの電磁波が多重反射されるので、検出波長λの電磁波を電磁波吸収体270にて効率よく吸収できる。6.2.電極多層構造次に、図8に示す本実施形態のキャパシター230の構造について説明する。図8に示すキャパシター230は、焦電体232、第1電極234及び第2電極236の結晶配向は、その優先配向方位が例えば111面方位で揃えられている。111面方位に優先配向されることで、他の面方位に111配向の配向率が例えば90以上に制御される。焦電係数を大きくするには111配向よりもむしろ100配向などが好ましいが、印加電界方向に対して分極を制御しやくするために111配向としている。ただし、優先配向方位はこれに限定されない。第1電極234は、支持部材210から順に、第1電極234を例えば111面に優先配向するように配向制御する配向制御層例えばIr層234Aと、第1還元ガスバリア層例えばIrOx層234Bと、優先配向のシード層例えばPt層234Cとを含むことができる。第2電極236は、焦電体232側から順に、焦電体232と結晶配向が整合する配向整合層例えばPt層236Aと、第2還元ガスバリア層例えばIrOx層236Bと、第2電極236に接続される第2プラグ228との接合面を低抵抗化する低抵抗化層例えばIr層236Cとを含むことができる。本実施形態にてキャパシター230の第1,第2電極234,236を多層構造とした理由は、熱容量の小さい検出素子220でありながら、能力を低めずに低ダメージで加工して界面での結晶格子レベルを整合させ、しかも、キャパシター230の周囲が製造時または使用時に還元雰囲気となっても焦電体酸化物232を還元ガスから隔離することにある。焦電体232は例えばPZTPbZr,TiO3の総称:チタン酸ジルコン酸鉛またはPZTNPZTにNbを添加したものの総称等を例えば111方位で優先配向させて結晶成長させている。PZTNを用いると、薄膜になっても還元されにくく酸化欠損を抑制できる点で好ましい。焦電体232を配向結晶化させるために、焦電体232の下層の第1電極234の形成段階から配向結晶化させている。このために、下部電極234には配向制御層として機能するIr層234Aがスパッタ法で形成される。なお、図8に示すように、配向制御層234Aの下に密着層234DとしてたとえばチタンアルミナイトライドTiAlN層または窒化チタンTiN層を形成すると良い。支持部材210の最上層であるSiO2支持層第1層部材212のSiO2との密着性を確保できるからである。この種の密着層234DとしてチタンTiも適用可能であるが、チタンTiのように拡散性の高いものは好ましくなく、拡散性が少なくかつ還元ガスバリア性の高いチタンアルミナイトライドTiAlNまたは窒化チタンTiNの方が好ましい。また、密着層234Dの下層に位置する支持部材210の第1層部材212をSiO2で形成するとき、該SiO2層の前記第1電極と接する密着層側の表面ラフネスRaは30nm未満とすることが好ましい。こうすると、支持部材210がキャパシター230を搭載する表面の平坦性を確保できるからである。もし、配向制御層234Aが形成される面が粗面であれば、結晶成長中に粗面の凹凸が反映されてしまうから好ましくない。この密着層234Dは、還元ガスバリア性を有することができる。チタンアルミナイトライドTiAlNまたは窒化チタンTiNは、還元ガスバリア性を有する。よって、支持部材210のSiO2支持層から還元性ガスが漏れたとしても、還元ガスバリア性の密着層234Dによって還元性ガスがキャパシター230に侵入することを阻止できる。密着層234Dの熱伝導率は第1電極234を形成する金属材料の熱伝導率よりも小さくすることができる。こうすると、キャパシター230の熱が密着層234Dを介して支持部材210側に逃げにくくなり、焦電体232での温度変化に基づく信号精度を高めることができる。上述の通り、SiO2支持層212との密着性が良好な密着層234DはチタンTi系とすることができ、チタンTiの熱伝導率は21.9W/mKと、第1電極234に好適な金属例えば白金Ptの熱伝導率71.6W/mKやイリジウムIrの熱伝達率147W/mKよりも格段に小さく、チタンの窒化物であるチタンアルミナイトライドTiAlNまたは窒化チタンTiNの熱伝導率は、窒素/チタンの混合率に応じてさらに低くなる。密着層234Dの水分解触媒活性度は、第1電極234の他の材料の水分解触媒活性度よりも低いことが好ましい。密着層234Dが、水分解触媒活性度例えば水分と反応して水素を発生させる触媒活性度が低ければ、下層の層間絶縁膜中や表面のOH基や吸着水との反応によって還元ガスが発生することを抑制できる。第1電極234中にて還元ガスバリア層として機能するIrOx層234Bは、キャパシター230の下方からの還元性の阻害因子から焦電体232を隔離するために、還元ガスバリア性を呈する支持部材210の第2層部材例えばSi3N4及び支持部材210のエッチングストップ膜例えばAl2O3140と共に用いられる。例えば焦電体セラミック232の焼成時や他のアニール工程での基部100からの脱ガスや、犠牲層150の等方性エッチング工程に用いる還元ガスが、還元性阻害因子となる。なお、焦電体232の焼成工程中など、高温処理時にはキャパシター230内部で蒸発気体が生成されることがあるが、その蒸発気体の逃げ道が、支持部材210の第1層部材212にて確保される。つまり、キャパシター230内部で発生する蒸発気体を逃がすには、第1層部材212にはガスバリア性を備えず、第2層部材214にガスバリア性を備える方が良い。また、IrOx層234Bは、それ自体の結晶性は少ないが、Ir層234Aとは金属-金属酸化物の関係となって相性が良いので、Ir層234Aと同一の優先配向方位を持つことができる。第1電極234中にてシード層として機能するPt層234Cが、焦電体232の優先配向のシード層となり、111配向される。本実施形態では、Pt層234Cは二層構造となっている。第1層目のPt層で111配向の基礎をつくり、第2層目のPt層で表面にマイクロラフネスを形成して、焦電体232の優先配向のシード層として機能させる。焦電体232は、シード層234Cにならつて111配向される。第2電極236では、スパッタ法で成膜されるとは物理的に界面が荒れ、トラップサイトが生じて特性が劣化する虞があるので、第1電極234、焦電体232、第2電極236の結晶配向が連続的につながるように、結晶レベル格子整合の再構築を行なっている。第2電極236中のPt層236Aはスパッタ法で形成されるが、スパッタ直後で界面の結晶方向は不連続となる。そこで、その後にアニール処理してPt層236Aを再結晶化させている。つまり、Pt層236Aは、焦電体232と結晶配向が整合する配向整合層として機能する。第2電極236中のIrOx層236Bは、キャパシター230の上方からの還元性劣化因子のバリアとして機能する。また、第2電極236中のIr層236Cは、IrOx層236Bの抵抗値が大きいので、第2プラグ228との間の抵抗値を低抵抗化させるために用いられる。Ir層236Cは、IrOx層236Bと金属酸化物-金属の関係で相性がよく、IrOx層236Bと同一の優先配向方位を持つことができる。このように、本実施形態では、第1,第2電極234,236は、焦電体232側から順に、Pt、IrOx、Irと多層に配置され、焦電体232を中心として、形成材料が対称配置されている。ただし、第1,第2電極234,236を形成する多層構造の各層の厚さは、焦電体232を中心として非対称となっている。先ず、第1電極234のトータル厚さT1と、第2電極236のトータル厚さT2とは、上述したよりも関係T1>T2を満足している。ここで、第1電極234のIr層234A、IrOx層234B、Pt層234Cの各熱伝導率をλ1、λ2、λ3とし、各厚さをT11、T12、T13とする。第2電極のIr層236C、IrOx層236B、Pt層236Aの各熱伝導率は第1電極234と同じくλ1、λ2、λ3となり、その各厚さをT21、T22、T23とする。また、第1電極234のIr層234A、IrOx層234B、Pt層234Cの各熱コンダクタンスをG11、G12、G13とすると、G11=λ1/T11、G12=λ2/T12、G13=λ3/C13となる。第2電極236のIr層236C、IrOx層236B、Pt層236Aの各熱コンダクタンスをG21、G22、G23とすると、G21=λ1/T21、G22=λ2/T22、G13=λ3/T23となる。第1電極234のトータル熱コンダクタンスG1は、1/G1=1/G111/G121/G13で表わされるので、G1=G11×G12×G13/G11G12G13...1同様に、第2電極236のトータル熱コンダクタンスG2は、1/G2=1/G211/G221/G23で表わされるので、G2=G21×G22×G23/G21G22G23...2となる。次に、第1,第2電極234,236を形成する多層構造の各層の厚さは、T11T12T13=T1>T2=T21T22T23を満たす条件下でほぼ次の通りの関係である。Ir層234A,236CT11:T21=1:0.7IrOx層234B,236BT12:T22=0.3:1Pt層234C,236AT13:T23=3:1このような膜厚関係とした理由は以下の通りである。まず、Ir層234A,236Cについて言えば、第1電極234中のIr層234Aは配向制御層として機能するから、配向性を有するには所定の膜厚が必要であるのに対して、第2電極236のIr層236Cの目的は低抵抗化にあり、薄くするほど低抵抗化を実現できる。次に、IrOx層234B,236Bについて言えば、キャパシター230の下方及び上方からの還元性阻害因子のバリア性は他のバリア膜第2層部材214、第1還元ガスバリア膜240、エッチングストップ膜140兼第2還元ガスバリア膜280を併用しており、第1電極234のIrOx層234Bは薄くしているが、第2電極236のIrOx層236Bは第2プラグ228でのバリア性が低いことに備えて厚くしている。最後に、Pt層234C,236Aに関して言えば、第1電極234中のPt層234Cは焦電体232の優先配向を決定付けるシード層として機能するから所定の膜厚が必要であるのに対して、第2電極236のPt層236Aの目的は焦電体232の配向と整合する配向整合層として機能するので、第1電極234中のPt層234Cよりも薄く形成しても良い。また、第1電極234のIr層234A、IrOx層234B、Pt層234Cの肉厚比は、例えばT11:T12:T13=10:3:15とし、第2電極236のIr層236C、IrOx層236B、Pt層236Aの肉厚比は、例えばT21:T22:T23=7:10:5とした。ここで、Ptの熱伝達率λ3=71.6W/mKであり、Irの熱伝達率λ1は、λ1=147W/mKとPtの熱伝達率λ3のほぼ2倍である。IrOxの熱伝導率λ2は熱度や酸素/金属比O/Mによって変化するが、Irの熱伝達率λ1を超えることはない。上述した膜厚の関係と熱伝達率の関係を式12に代入してG1,G2の大小関係を求めると、G1<G2が成立することが分かる。このように、本実施形態のように第1,第2電極234,236を多層構造にしても、熱伝達率と膜厚の関係からG1<G2が満足される。また、上述した通り、第1電極234が支持部材210との接合面に密着層234Dを有する場合には、第1電極234の熱コンダクタンスC1はより小さくなるので、G1<G2の関係を満足し易くなる。なお、キャパシター230のエッチングマスクはエッチングの進行に従い劣化するので、多層構造とするほどキャパシター230の側壁は、図8に示すように上側ほど狭く下側ほど広いテーパ形状となる。しかし、水平面に対するテーパ角は80度程なので、キャパシター230の全高がナノメートルオーダーであることを考慮すれば、第2電極236に対する第1電極234の面積拡大は小さい。よって、第1,第2電極234,236の熱コンダクタンスの関係から、第1電極234での熱伝達量を第2電極236での熱伝達量よりも小さくできる。6.3.キャパシター構造の変形例以上の通り、キャパシター230の第1,第2電極234,236の各々について、単層構造及び多層構造を説明したが、キャパシター230の機能を維持しながら、熱コンダクタンスの関係をG1<G2とする他の種々の組み合わせが考えられる。先ず、第2電極236のIr層236Cを削除することができる。この場合、第2プラグ228の材料に例えばIrを用いれば、同様に低抵抗化の目的は達成されるからである。こうすると、第2電極236の熱コンダクタンスG2は図8の場合よりも大きくなるので、G1<G2の関係を満足させ易くなる。また、この場合には、図8に示すL=λ/4を規定する反射面は、第2電極236のPt層236Aに代わるが、同様に多重反射面を担保できる。次に、図8の第2電極236中のIrOx層236Bの厚さを、第1電極234中のIrOx層234Bと同一厚さ以下とすることができる。上述の通り、キャパシター230の下方及び上方からの還元性阻害因子のバリア性は他のバリア膜第2層部材214、第1還元ガスバリア膜240、エッチングストップ膜140兼第2還元性ガスバリア膜280を併用しているからで、第2プラグ228での還元ガスバリア性が例えば図7のようにして高められれば、第2電極236中のIrOx層236Bの厚さを第1電極234中のIrOx層234Bより厚くする必要はない。こうすると、第2電極236の熱コンダクタンスG2はより大きくなり、よりG1<G2の関係を成立がし易くなる。次に、図8の第1電極234中のIrOx層234Bを削除することができる。IrOx層234Bを削除しても、Ir層234AとPt層234Cとの結晶の連続性は妨げられないので、結晶配向に関して何ら問題はない。IrOx層234Bを削除することで、キャパシター230はその下方からの還元性阻害因子に対してバリア膜を持たないことになる。ただし、キャパシター230を支持する支持部材210にて第2層部材214が、支持部材210の下面にはエッチングストップ膜140が、それぞれ存在し、第2層部材214及びエッチングストップ膜140が還元ガスバリア性を有する膜で形成されれば、キャパシター230はその下方からの還元性阻害因子に対するバリア性を担保できる。ここで、第1電極234中のIrOx層234Bを削除すると、第1電極234の熱コンダクタンスG1は大きくなる。よって、G1<G2の関係を成立させるには、第2電極236の熱コンダクタンスG2も大きくする必要が生ずるかもしれない。その場合、例えば第2電極236中のIrOx層236Bを削除することが考えられる。IrOx層236Bを削除できれば、Ir層236Cもまた不要となる。Ir層236Cに代えてPt層236Aが低抵抗層として機能するからである。キャパシター230の上方からの還元性阻害因子についてのバリア性は、上述した第1還元ガスバリア膜240や、図6に示す第1層228Aや、あるいは図7の還元性ガスバリア膜290により担保できる。図8の第2電極234は上述した通りPt層236Aのみで形成したとき、第1電極234は、Pt層234Cの単層か、Ir層234A及びPt層234Cの二層か、あるいは図8の通りIr層234A、IrOx層234B及びPt層234Cの三層とすることができる。これらの場合のいずれでも、例えば第1電極234のPt層234Cの厚さT11を第2電極236のPt層236Aの厚さT21よりも厚くすればT11>T21、G1<G2の関係を容易に成立させることができる。以上の通り、本実施形態では、第1,第2プラグ226,228と接続される部分の第1,第2電極234,236を形成する材料単層であればその単層電極材料であり、複数層であれば最上層の電極材料として、プラチナPtまたはイリジウムIrを採用している。いずれの場合であって、第1,第2電極配線層222,224として例えば窒化チタンTiNまたはチタンアルミナイトライドTiAlNを用いることで、第1,第2電極配線層222,224の熱伝導率を第1,第2電極234,236の熱伝導率の低くでき、焦電型検出器200の熱分離特性を改善できる。図9は、図5~図8とは異なり、支持部材210の第2層部材214と第2還元ガスバリア膜280とでキャパシター230の下方のバリア性をさらに向上させた焦電型検出器の概略断面図である。図9では、支持部材210の第1層部材212は、下部電極234の直下の領域にのみ形成されている。つまり、支持部材210の第1層部材212は、キャパシター230をパターニングする時に同時にパターニングされている。これにより、第1層部材212は、下部電極234の直下の領域にのみ形成され、キャパシター230の周囲を含む他の領域では、第2層部材214が露出する。よって、図9に示すように、第2還元ガスバリア膜280は、支持部材210の第2層部材214と接触して形成されることになる。上述した通り、第2層部材214は窒化膜例えばSi3N4で形成され、還元ガスバリア性を有する。このため、キャパシター230の下部周囲では、第2還元ガスバリア膜280が支持部材210の第2層部材214と接触して配置されるので、キャパシター230の下部は第2還元ガスバリア膜280及び第2層部材214で完全に包囲することができる。こうすることで、図5~図8の構造とは異なり、キャパシター230の下方からの劣化要因還元ガスの侵入ルートを、2還元ガスバリア膜280及び第2層部材214で完全に遮断することができる。7.電子機器図10に本実施形態の焦電型検出器を含む電子機器の構成例を示す。この電子機器は、光学系400、センサーデバイス焦電型検出器410、画像処理部420、処理部430、記憶部440、操作部450、表示部460を含む。なお本実施形態の電子機器は図10の構成に限定されず、その構成要素の一部例えば光学系、操作部、表示部等を省略したり、他の構成要素を追加したりするなどの種々の変形実施が可能である。光学系400は、例えば1又は複数のレンズや、これらのレンズを駆動する駆動部などを含む。そしてセンサーデバイス410への物体像の結像などを行う。また必要であればフォーカス調整なども行う。センサーデバイス410は、上述した本実施形態の焦電型検出器200を二次元配列させて構成され、複数の行線ワード線、走査線と複数の列線データ線が設けられる。センサーデバイス410は、二次元配列された検出器に加えて、行選択回路行ドライバーと、列線を介して検出器からのデータを読み出す読み出し回路と、A/D変換部等を含むことができる。二次元配列された各検出器からのデータを順次読み出すことで、物体像の撮像処理を行うことができる。画像処理部420は、センサーデバイス410からのデジタルの画像データ画素データに基づいて、画像補正処理などの各種の画像処理を行う。処理部430は、電子機器の全体の制御や、電子機器内の各ブロックの制御を行う。この処理部430は、例えばCPU等により実現される。記憶部440は、各種の情報を記憶するものであり、例えば処理部430や画像処理部420のワーク領域として機能する。操作部450は、ユーザが電子機器を操作するためのインターフェースとなるものであり、例えば各種ボタンやGUIGraphicalUserInterface画面などにより実現される。表示部460は、例えばセンサーデバイス410により取得された画像やGUI画面などを表示するものであり、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイなどの各種のディスプレイにより実現される。このように、1セル分の焦電型検出器をセンサーとして用いる他、1セル分の焦電型検出器を二軸方向例えば直交二軸方向に二次元配置することでセンサーデバイス410を構成することができ、こうすると電磁波に起因する熱分布画像を提供することができる。このセンサーデバイス410を用いて、特定物質探知装置、偽造紙幣の判定、封筒内の薬品検出、建造物の非破壊検査などのテラヘルツカメラを用いる電子機器を構成することができる。図11Aに図10のセンサーデバイス410の構成例を示す。このセンサーデバイスは、センサーアレイ500と、行選択回路行ドライバー510と、読み出し回路520を含む。またA/D変換部530、制御回路550を含むことができる。このセンサーデバイスを用いることで、高性能なテラヘルツカメラを実現できる。センサーアレイ500には、例えば図4に示すように二軸方向に複数のセンサーセルが配列配置される。また複数の行線ワード線、走査線と複数の列線データ線が設けられる。なお行線及び列線の一方の本数が1本であってもよい。例えば行線が1本である場合には、図11Aにおいて行線に沿った方向横方向に複数のセンサーセルが配列される。一方、列線が1本である場合には、列線に沿った方向縦方向に複数のセンサーセルが配列される。図11Bに示すように、センサーアレイ500の各センサーセルは、各行線と各列線の交差位置に対応する場所に配置形成される。例えば図11Bのセンサーセルは、行線WL1と列線DL1の交差位置に対応する場所に配置されている。他のセンサーセルも同様である。行選択回路510は、1又は複数の行線に接続される。そして各行線の選択動作を行う。例えば図11BのようなQVGA320×240画素のセンサーアレイ500焦点面アレイを例にとれば、行線WL0、WL1、WL2WL239を順次選択走査する動作を行う。即ちこれらの行線を選択する信号ワード選択信号をセンサーアレイ500に出力する。読み出し回路520は、1又は複数の列線に接続される。そして各列線の読み出し動作を行う。QVGAのセンサーアレイ500を例にとれば、列線DL0、DL1、DL2DL319からの検出信号検出電流、検出電荷を読み出す動作を行う。A/D変換部530は、読み出し回路520において取得された検出電圧測定電圧、到達電圧をデジタルデータにA/D変換する処理を行う。そしてA/D変換後のデジタルデータDOUTを出力する。具体的には、A/D変換部530には、複数の列線の各列線に対応して各A/D変換器が設けられる。そして、各A/D変換器は、対応する列線において読み出し回路520により取得された検出電圧のA/D変換処理を行う。なお、複数の列線に対応して1つのA/D変換器を設け、この1つのA/D変換器を用いて、複数の列線の検出電圧を時分割にA/D変換してもよい。制御回路550タイミング生成回路は、各種の制御信号を生成して、行選択回路510、読み出し回路520、A/D変換部530に出力する。例えば充電や放電リセットの制御信号を生成して出力する。或いは、各回路のタイミングを制御する信号を生成して出力する。図12に本実施形態の焦電型検出器を含むテラヘルツカメラの例を示す。前述のセンサーデバイス410の電磁波吸収材は、その吸収波長がテラヘルツ波で最適になるように設定されており、テラヘルツ光照射ユニットと組み合わせてテラヘルツカメラ1000を構成した例を示す。テラヘルツカメラ1000は、制御ユニット1010と、照射光ユニット1020と、光学フィルター1030と、撮像ユニット1040と、表示部1050とを備えて構成されている。撮像ユニット1040は、図示しないレンズなどの光学系と前述の焦電型検出器の電磁波吸収材の吸収波長をテラヘルツ域で最適化したセンサーデバイスを含んで構成されている。制御ユニット1010は、本装置全体を制御するシステムコントローラーを含み、該システムコントローラーは制御ユニットに含まれる光源駆動部および画像処理ユニットを制御する。照射光ユニット1020は、テラヘルツ光波長が100μm~1000μmの範囲にある電磁波を指す。出射するレーザー装置と光学系を含み、テラヘルツ光を検査対象の人物1060に照射する。人物1060からの反射テラヘルツ光は、探知対象である特定物質1070の分光スペクトルのみを通過させる光学フィルター1030を介して撮像ユニット1040に受光される。撮像ユニット1040で生成された画像信号は、制御ユニット1010の画像処理ユニットで所定の画像処理が施され、その画像信号が表示部1050へ出力される。そして人物1060の衣服内等に特定物質1070が存在するか否かにより受光信号の強度が異なるので特定物質1070の存在が判別できる。以上、いくつかの実施形態について説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるものである。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。本発明は、種々の焦電型検出器に広く適用することができる。なお、検出する電磁波の波長は、特にテラヘルツ波である場合に有効な技術である。"