"カソードアークエバポレータからプラズマ源出口まで粗大粒子フィルタを備えるマプラズマ-光学システムにおいて、電磁気的コイルによって生成される輸送磁界に応答して真空カソードアークプラズマを輸送する方法であって、前記輸送磁界は、一定磁界と、プラズマ源の構造要素の表面からプラズマ流を偏向させる可変の複数の追加磁界との重ね合わせにより誘起され、前記可変の複数の追加磁界が、複数の追加の電磁気的コイルを使用して誘導されており、対応する追加磁界が、前記プラズマ流が対応するプラズマ源の構造要素に接近すると増加され、前記プラズマ流が同一の前記構造要素の面から離れると減少されることを特徴とする、方法。線形プラズマ-光学システムにおけるプラズマガイドによるプラズマ流の輸送の間、前記一定磁界は、2つの電磁気的コイルによって誘導され、前記電磁気的コイルのうちの1つはカソードを取り囲み、他の一つがプラズマガイドの出口付近を取り囲むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。非線形プラズマ-光学システムにおけるプラズマガイドによるプラズマ流の輸送の間、前記一定磁界は、2つの電磁気的コイルによって誘導され、前記電磁気的コイルのうちの1つはカソード、アノード、および前記プラズマ-光学システムの非線形部分を取り囲むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。前記アノードの内側をプラズマ流が輸送される間、前記アノードの内側の前記追加磁界は、前記アノードを取り囲む追加の電磁気的コイルを使用して確立され、当該磁界は、前記一定の輸送磁界と同一方向とされており、前記追加磁界の強度は、前記カソードと前記アノードとの間の特定の電位差が、前記アノードの内側を流れるアーク電流に正比例するか、または前記アノードの内側を流れる前記に特定されるアーク電流が前記アノードの電位低下に反比例するように可変されることを特徴とする、請求項2または3に記載の方法。前記プラズマ源において、前記アノードの内側には前記アノードに接続されると共にその軸上に配置され、かつ粗大粒子を反射させるために前記カソードに向かって閉じた端部を備える導電性のチューブセグメントを備え、前記チューブセグメントの外側面と前記アノードの内側面との間の前記プラズマ流が、前記チューブセグメントの内部において同軸に配置された電磁気的偏向コイルによって誘導される追加磁界に晒されて輸送されており、当該磁界は、前記プラズマ-光学システムの軸上で一定の前記輸送磁界とは反対向きであり、当該コイルによって誘導される磁界の磁界強度が前記チューブセグメントを通して流れる前記アーク電流の増減に正比例して増減される、請求項4に記載の方法。前記アノードからの前記プラズマ流は、前記プラズマガイド内を輸送され、当該プラズマガイド内では、前記プラズマ流が前記プラズマガイドを取り囲む追加の電磁気的コイルで生成され、一定の前記輸送磁界と同方向の追加磁界に晒されており、前記追加磁界の強度は、前記プラズマガイドを流れる前記電流の増減に正比例して増減される、請求項4に記載の方法。前記アノードからの前記プラズマ流は、前記プラズマガイド内を輸送され、当該プラズマガイド内では、前記プラズマ流が前記プラズマガイドを取り囲む追加の電磁気的コイルで生成され、一定の前記輸送磁界と同方向の追加磁界に晒されており、前記追加磁界の強度は、前記プラズマガイドを流れる前記電流の増減に正比例して増減される、請求項5に記載の方法。前記アノードからの前記プラズマ流は、互いに絶縁されかつ前記アノードから電気的に絶縁されたインレットおよびアウトレットを備える前記プラズマガイド内を、一定の輸送磁界と同方向であり、前記プラズマガイドの前記インレットを取り囲む追加の電磁気的コイルによって提供される追加磁界に晒されて輸送され、前記追加磁界の強度は、前記プラズマガイドの前記アウトレットを通して流れる前記電流の増減に正比例して増減することを特徴とする、請求項4に記載の方法。前記アノードからの前記プラズマ流は、互いに絶縁されかつ前記アノードから電気的に絶縁されたインレットおよびアウトレットを備える前記プラズマガイド内を、一定の輸送磁界と同方向であり、前記プラズマガイドの前記インレットを取り囲む追加の電磁気的コイルによって提供される追加磁界に晒されて輸送され、前記追加磁界の強度は、前記プラズマガイドの前記アウトレットを通して流れる前記電流の増減に正比例して増減することを特徴とする、請求項5に記載の方法。カソードアークエバポレータからプラズマ源出口まで粗大粒子フィルタを備えるマプラズマ-光学システムにおいて、電磁気的コイルによって生成される輸送磁界に応答して真空カソードアークプラズマを輸送するためのプラズマガイドを備える線形プラズマ-光学システムであって、粗大粒子リフレクタと、カソードを取り囲む複数の電磁気的コイルと、アノードと、プラズマガイドと、前記アノードに電気的に接続され、内部に同軸に配置された電磁気的な偏向コイルを備えると共に前記カソードに向かって閉じた端部を備え、かつ前記アノードの内側で同軸に配置された導電性のチューブセグメントとを備え、カソードアークエバポレータの電源が、前記アノードを取り囲むと共に、前記チューブセグメントの内側に巻かれた前記電磁気的偏向コイルの最初の回巻きに接続されることにより前記アノードに接続されており、前記コイルの最後の回巻きの先端が前記カソードアークエバポレータの電源の正端子に接続される、線形プラズマ-光学システム。前記チューブセグメントの内側の前記電磁気的偏向コイルは、水冷パイプであることを特徴とする、請求項10に記載の線形プラズマ-光学システム。前記プラズマガイドは、一端が前記プラズマガイドに電気的に接続され、他端が別体となった電源の正端子に接続され、前記電源の負端子が前記アノードに接続された追加の電磁気的コイルによって取り囲まれていることを特徴とする、請求項10または11に記載のプラズマ-光学システム。前記プラズマガイドは、互いに電気的に絶縁されていると共に前記アノードから絶縁された2つの部分インレットおよびアウトレットから構成されており、前記プラズマガイドの前記インレットは、電磁気的コイルによって取り囲まれており、かつ一端が前記プラズマガイドの前記アウトレットに電気的に接続され、他端が別体となった電源の正端子に接続されており前記電源の負端子が、前記アノードに接続されることを特徴とする、請求項10または11に記載のプラズマ-光学システム。実施例1.本発明の実装例として、提案する装置をまず考察する。これは、粗大粒子フィルタを備え、真空カソードアークプラズマを輸送するためのプラズマ-光学システムである。このシステム図面参照は、環状スクリーン3の形状とされた粗大粒子リフレクタが内部に配置されたカソード1と、アノード2とを備えている。このシステムのプラズマガイドは、インレット4と、アウトレット5という2つの部材で構成され、これらは、互いに絶縁されていると共にアノード2からも絶縁されている。内側において、これらのプラズマガイドの部材は、環状スクリーン6,7のセットの形状とされた粗大粒子リフレクタを含んでいる。輸送磁界の一定成分8は、電磁気的コイル9,10によって形成されており、これらは、カソード1およびプラズマガイド5のアウトレット部材をそれぞれ取り囲んでいる。内側において、アノード2は、それと同軸に配置され、チューブセグメント11の形状とされた粗大粒子リフレクタを含んでおり、チューブセグメント11は、カソード1に向いて閉じた端部を備えている。内側において、チューブセグメントは、電磁気的コイル12を含んでおり、電磁気的コイルは、水冷用の回巻きパイプを備えている。この電磁気的コイルは、輸送磁界8の一定成分とはシステム軸に関して反対向きの追加の偏向磁界13を生成するように設計されている。ユニット14は、真空アークを着火するように設計されている。真空カソードアーク用の電源15は、取り囲むように配置された電磁気的コイル16の回巻きを通ってアノード2に接続されている。チューブセグメント11は、電磁気的な偏向コイル12の一端に電気的に接続され、その他端は、真空カソードアーク電源15の正端子に接続されている。プラズマガイドは、別体の電源17に接続され、その負端子がアノード2に接続され、その正端子は、プラズマガイドのインレットのセクション4を取り囲んでいるコイル18の回巻きを通ってそのアウトレット領域5に接続されている。ここで、装置動作を説明することにより方法実施例を考察する。アークは、アーク着火ユニット14図面参照に高電圧パルスを供給することによって着火され、カソード1の横側面上でアークカソードスポットを生成し、アークカソードスポットは、カソードのワーキング面上への磁界によって駆動される。アーク電流に依存して、カソード1のワーキング面は、いくつかのカソードスポットを生成することができ、これらのカソードスポットは、ワーキング面を横断して移動し、カソード材料の粗大粒子と共に高度にイオン化されたカソードプラズマのジェットを放出する。粗大粒子は、直線的な飛跡で移動し、リフレクタ3,6,7およびチューブセグメント11の閉塞した端部の面で捕捉される。プラズマジェットは、そのイオン化が100まで達し、チューブセグメント11を取り囲むと共にリフレクタ3,6,7の全部のアパーチャを通過する凸に構成した輸送磁界8に沿ってプラズマ源出口に向かって移動する。カソードのワーキング面上でのカソードスポットの位置に応じて、アノード2およびプラズマガイド4のインレット領域をそれぞれ取り囲む電磁気的コイル16,18は、強い可変電磁界を誘導する。これらの電磁界は、電磁気的コイル9,10を使用して一定成分が生成することで得られる輸送磁界の形状および強度を変化させる。プラズマ流は、またアノード2内の追加の偏向磁界13によっても影響を受ける。この偏向磁界は、システム軸上の一定の輸送磁界に対して反対に向いており、フィルタ要素11のチューブ状領域の内側に同軸に配置された電磁気的偏向コイル12を使用して誘導されている。電源15が定アーク電流モードで動作する場合、アノード2内の追加磁界の強度は、アノード2および粗大粒子リフレクタ11のチューブセグメントを通して流れるアーク電流に比例する。これらの磁界の強度は、またアノードの電位低下に逆比例する。電源15が定電圧モードで動作する場合、アノード2の内側面またはチューブセグメント11の外側面に接近するプラズマ流については、これらの電極へのアノード電流が増加する。これは、それぞれのコイル16,12を通して流れる電流およびそれぞれの磁界の強度を増加させ、これらがプラズマ源のそれぞれの構造要素の壁からプラズマ流を偏向させる。電源の正端子17を追加の電磁気的コイル18を通してプラズマガイドのアウトレット部材5に接続しているので、電磁気的コイル18に供給されるアノードに対する特定の一定電位について、プラズマガイドのインレット領域4の内側の追加磁界の強度は、プラズマガイドのアウトレット部材5を通して流れる電流に比例する。上述した条件の下でカソードのワーキング面状でのカソードスポットの如何なる移動について、本発明者らは磁界に沿った輸送領域におけるプラズマ流の動的平衡化を達成し、磁界を横切るプラズマ損失を最低化させるのである。この場合、プラズマ流の動的平衡の安定性およびカソードアークの電圧降下の安定化は、両方アーク電流に比例して向上する。実施例2.提案する方法および装置の非線形プラズマ-光学システムについての態様は、輸送磁界の一定成分がカソード、アノード、およびプラズマガイドを取り囲む電磁気的コイルによって生成される点で、線形プラズマ-光学システムの態様とは異なる。非線形システムのアノードの内側には、電磁気的偏向コイルが配置されたチューブセグメントは存在しない。アーク直流モードにおける非線形プラズマ-光学システムの動作は、アノードを取り囲む追加の電磁気的コイルの励起方法において異なる。この違いは、より具体的には、コイルは、別に制御される電源から励起されることにあり、この電源は、アークのアノード電位低下Uaに関連して次の比率に対応する負帰還の直流増幅器を備える:Ua=Uarc-Uc。この式中、UcおよびUarcは、カソードアーク電位低下および前アーク電位低下である。この特定の形態において、Uaは、コンパレータを通して決定され、このコンパレータは、特定のカソード材料について選択される一定値のUcを設定する。アーク放電が存在しない場合、Uarc=Uocvであり、Uocvは、アーク電源の開回路電圧となる。この条件下で、追加の電磁気的コイルの電源は、切断されており、コイルの電流はゼロである。アークが着火されている間、Uaは低下し、コイル電源が起動される。この結果、コイルを通じた電流は、アノードの電位低下Uaに対して逆比例し、この結果、対応する追加磁界を生成する。ブラズマジェットがアノードの内側面に接近する場合、Uaは減少し、アノード内の追加磁界強度は対応して増加する。プラズマジェットがアノードの内側面からその軸に向かって引き出される場合、Uaは、増加し、アノード内の追加磁界強度は対応して減少する。プラズマ流に対する追加磁界の影響は、アーク放電の安定性を損なわず、かつアノード内の平均のプラズマ輸送損失が低減する。プラズマガイド内におけるプラズマ流のさらなる輸送の間には、アノードに対して正の電位がプラズマガイドを取り囲む追加の電磁気的コイルを通して非線形プラズマガイドに供給される。"