"電気光学効果を有し、厚みが10μm以下の薄板と、該薄板には光導波路が形成されており、該薄板に接着層を介して接着された補強基板とを有する光導波路素子において、該光導波路素子の側面の一部に、反射防止膜が形成されていることを特徴とする光導波路素子。請求項1に記載の光導波路素子において、該反射防止膜が形成されている面は、該光導波路の出射側端部が配置されている面であることを特徴とする光導波路素子。請求項1又は2に記載の光導波路素子において、該反射防止膜は、該薄板と該補強基板との両方に跨って形成されていることを特徴とする光導波路素子。請求項1乃至3のいずれかに記載の光導波路素子において、該反射防止膜は、対接着剤で設計されていることを特徴とする光導波路素子。本発明が解決しようとする課題は、上述したような問題を解決し、電気光学効果を有し、厚みが10μm以下の薄板を用いる光導波路素子に対し、当該素子の端面で反射するスラブ伝搬光を除去し、動作特性の劣化を抑制した光導波路素子を提供することである。上記課題を解決するため、請求項1に係る発明は、電気光学効果を有し、厚みが10μm以下の薄板と、該薄板には光導波路が形成されており、該薄板に接着層を介して接着された補強基板とを有する光導波路素子において、該光導波路素子の側面の一部に、反射防止膜が形成されていることを特徴とする。請求項2に係る発明は、請求項1に記載の光導波路素子において、該反射防止膜が形成されている面は、該光導波路の出射側端部が配置されている面であることを特徴とする。請求項3に係る発明は、請求項1又は2に記載の光導波路素子において、該反射防止膜は、該薄板と該補強基板との両方に跨って形成されていることを特徴とする。請求項4に係る発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載の光導波路素子において、該反射防止膜は、対接着剤で設計されていることを特徴とする。請求項1に係る発明により、電気光学効果を有し、厚みが10μm以下の薄板と、該薄板には光導波路が形成されており、該薄板に接着層を介して接着された補強基板とを有する光導波路素子において、該光導波路素子の側面の一部に、反射防止膜が形成されているため、薄板の端面等で反射するスラブ伝搬光を除去でき、動作特性の劣化を抑制した光導波路素子を提供することが可能となる。請求項2に係る発明により、反射防止膜が形成されている面は、光導波路の出射側端部が配置されている面であるため、光導波路が延在する方向に伝搬するスラブ伝搬光を効果的に除去することが可能となり、動作特性をより一層改善することができる。請求項3に係る発明により、反射防止膜は、薄板と補強基板との両方に跨って形成されているため、反射防止膜の接着面積が増加し、膜体の剥離や欠けの発生を抑制することも可能となる。請求項4に係る発明により、反射防止膜は、対接着剤で設計されているため、光ファイバを光導波路素子に接着剤でバッドジョイントする際に、光導波路と接着剤との間での反射が抑制され、結合損失を低減させることが可能となる。以下、本発明の光導波路素子について、好適例を用いて詳細に説明する。本発明の光導波路素子は、図1に示すように、電気光学効果を有し、厚みが10μm以下の薄板と、該薄板には光導波路が形成されており、該薄板に接着層を介して接着された補強基板とを有する光導波路素子において、該光導波路素子の側面の一部に、反射防止膜が形成されていることを特徴とする。電気光学効果を有する基板薄板としては、特に、LiNbO3,LiTaO5又はPLZTジルコン酸チタン酸鉛ランタンのいずれかの単結晶が好適に利用可能である。特に、光変調器で多用されているLiNbO3,LiTaO5が、好ましい。また、基板に形成する光導波路は、例えば、LiNbO3基板LN基板上にチタンTiなどの高屈折率物質を熱拡散することにより形成される。光導波路素子には、光導波路を伝搬する光波を変調するための変調電極を設けることができる。変調電極は、信号電極や接地電極から構成され、基板表面に、TiAuの電極パターンを形成し、金メッキ方法などにより形成することが可能である。さらに、必要に応じて光導波路形成後の基板表面に誘電体SiO2等のバッファ層を設けることも可能である。薄板と補強基板とを接合する接着剤は、紫外線硬化性接着剤などが利用可能である。ただし、接着層の厚みは、10μm~1000μmが好ましい。10μmより薄いと、変調信号であるマイクロ波と光導波路を伝搬する光波との速度整合が達成し難くなる。また、接着層の厚みが1000μmより大きくなると、接着層自体の膨張収縮による内部応力が大きくなり、また、補強基板による補強効果が薄れ、薄板が破損し易くなる。補強基板の材料としては、薄板と同様の材料が、熱膨張率を薄板と整合させる上でも好ましい。例えば、LN基板を利用する場合には、厚さは400μm~600μmが好ましい。厚過ぎると光導波路素子が大型化し、補強基板の熱膨張や焦電効果が薄板にも影響を及ぼすこととなる。また薄過ぎると、補強作用が余り期待できなくなる。反射防止膜としては、膜種は、SiO2,TiO2,Ta2O5,Al2O3,Nb2O5,MgF2などが利用可能である。また、膜厚は、0.05μm~3μmが好ましい。反射防止膜は、スパッタ法蒸着法CVD法等の真空成膜によるドライ法、若しくは、スピンコートによるウェット法により形成することが可能である。特に、反射防止膜SiO2,TiO2等は、図1に示すように、生産性を考えると単層の方が良いが、反射率で考えると、広い波長領域で反射率を高く低減可能な多層膜の方が好ましいため、少なくとも2層以上の積層構造膜体1、膜体2とすることが好ましい。図1のような反射防止膜SiO2:0.087μm,Ta2O5:0.062μmの積層構造を形成することで、図2の反射率の波長依存性のグラフに示すように、光導波路素子の端面でのスラブ伝搬光迷光の反射が抑えられ、迷光が光導波路へ結合することを防ぐことにより、On/Off消光比、波長依存性等の光学的特性が劣化する要因の排除が期待できる。しかも、副次効果として損失Lossの低減も得ることができる。例えば、光導波路素子に光ファイバをバットジョイントする時に、塗布する接着材は、チップ端面の幅、厚さ方向の断面全体に、塗布されてしまう。そのため、反射防止膜を対接着材で設計することにより、光導波路と接着材間での反射が抑えられ、結合ロスが4程度低減する。さらに、図1に示すように、反射防止膜が形成されている面は、光導波路の出射側端部が配置されている面とすることで、光導波路が延在する方向に伝搬するスラブ伝搬光を効果的に除去することが可能となり、光導波路素子の特性をより一層改善することができる。また、反射防止膜は、図1に示すように、薄板と補強基板との両方に跨って形成することにより、光導波路素子の側面において、反射防止膜の接着面積が増加し、膜体の剥離や欠けの発生を抑制することも可能となる。"