試料に描画するパターンを複数のストライプ領域に分割し、前記ストライプ領域毎に荷電粒子ビームによる描画を行う描画部と、前記荷電粒子ビームのドリフトを補正する補正区間毎に前記荷電粒子ビームのドリフト量を測定するドリフト測定部と、前記ストライプ領域毎の描画予測時間を算出する描画予測時間算出部と、前記描画予測時間算出部により算出された前記ストライプ領域毎の描画予測時間を用いて、前記補正区間内で描画対象となる前記ストライプ領域の数である描画ストライプ数を算出する描画ストライプ数算出部と、前記描画ストライプ数算出部により算出された前記描画ストライプ数を用いて、前記ドリフト測定部により測定された前記ドリフト量を除算し、前記補正区間内の前記ストライプ領域毎のドリフト補正量を算出するドリフト補正量算出部と、前記ドリフト補正量算出部により算出された前記ストライプ領域毎のドリフト補正量を用いて、前記ストライプ領域毎に前記荷電粒子ビームのドリフトを補正するドリフト補正部と、を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。前記ドリフト補正量算出部は、前記描画ストライプ数算出部により算出された前記描画ストライプ数に1を加算し、その数値を用いて前記ドリフト量を除算することを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。前記ドリフト補正量算出部は、前記描画ストライプ数算出部により算出された前記描画ストライプ数をそのまま用いて前記ドリフト量を除算することを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。前記描画予測時間算出部により算出された前記描画予測時間が前記補正区間以上か否かを判断するストライプ分割判断部と、前記ストライプ分割判断部により前記描画予測時間が前記補正区間以上であると判断された場合、前記描画予測時間が前記補正区間以上である前記ストライプ領域を短手方向に分割するストライプ分割部と、を備えることを特徴とする請求項1、2又は3記載の荷電粒子ビーム描画装置。前記ドリフト測定部は、前記補正区間内での描画中断に応じて、前記ドリフト量の測定を開始し、前記描画ストライプ数算出部は、前記描画中断の解除から残りの前記補正区間内で描画対象となる前記ストライプ領域の数である描画ストライプ数を算出し、前記ドリフト補正量算出部は、前記描画ストライプ数算出部により算出された前記描画ストライプ数を用いて、前記ドリフト測定部により測定された前記ドリフト量を除算することを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の荷電粒子ビーム描画装置。しかしながら、前述のストライプ領域毎の描画時間は一定でなく、隣接するストライプ領域間において大きな差が生じることがあり、この描画時間の差によってストライプ領域間のドリフト補正量の変化量、すなわち補正変化量が大きく異なるため、ストライプ領域間でドリフト補正量が極端に変化してしまう。このドリフト補正量は主偏向座標に加算されるため、そのストライプ領域間のドリフト補正量の極端な変化はストライプ領域間のつなぎに悪影響を及ぼし、そのつなぎ状態が悪化してしまう。本発明が解決しようとする課題は、ストライプ領域間のドリフト補正量の極端な変化を抑え、ストライプ領域間のつなぎ状態を向上させることができる荷電粒子ビーム描画装置を提供することである。本発明の実施形態に係る特徴は、荷電粒子ビーム描画装置において、試料に描画するパターンを複数のストライプ領域に分割し、ストライプ領域毎に荷電粒子ビームによる描画を行う描画部と、荷電粒子ビームのドリフトを補正する補正区間毎に荷電粒子ビームのドリフト量を測定するドリフト測定部と、ストライプ領域毎の描画予測時間を算出する描画予測時間算出部と、描画予測時間算出部により算出されたストライプ領域毎の描画予測時間を用いて、補正区間内で描画対象となるストライプ領域の数である描画ストライプ数を算出する描画ストライプ数算出部と、描画ストライプ数算出部により算出された描画ストライプ数を用いて、ドリフト測定部により測定されたドリフト量を除算し、補正区間内のストライプ領域毎のドリフト補正量を算出するドリフト補正量算出部と、ドリフト補正量算出部により算出されたストライプ領域毎のドリフト補正量を用いて、ストライプ領域毎に荷電粒子ビームのドリフトを補正するドリフト補正部とを備える。また、上記荷電粒子ビーム描画装置において、ドリフト補正量算出部は、描画ストライプ数算出部により算出された描画ストライプ数に1を加算し、その数値を用いてドリフト量を除算することが望ましい。また、上記荷電粒子ビーム描画装置において、ドリフト補正量算出部は、描画ストライプ数算出部により算出された描画ストライプ数をそのまま用いてドリフト量を除算することが望ましい。また、上記荷電粒子ビーム描画装置において、描画予測時間算出部により算出された描画予測時間が補正区間以上か否かを判断するストライプ分割判断部と、ストライプ分割判断部により描画予測時間が補正区間以上であると判断された場合、描画予測時間が補正区間以上であるストライプ領域を短手方向に分割するストライプ分割部とを備えることが望ましい。また、上記荷電粒子ビーム描画装置において、ドリフト測定部は、補正区間内での描画中断に応じて、ドリフト量の測定を開始し、描画ストライプ数算出部は、描画中断の解除から残りの補正区間内で描画対象となるストライプ領域の数である描画ストライプ数を算出し、ドリフト補正量算出部は、描画ストライプ数算出部により算出された描画ストライプ数を用いて、ドリフト測定部により測定されたドリフト量を除算することが望ましい。本発明によれば、ストライプ領域間のドリフト補正量の極端な変化を抑え、ストライプ領域間のつなぎ状態を向上させることができる。第1の実施形態本発明の第1の実施形態について図1ないし図8を参照して説明する。図1に示すように、本発明の第1の実施形態に係る荷電粒子ビーム描画装置1は、荷電粒子ビームによる描画を行う描画部2と、その描画部2を制御する制御部3とを備えている。この荷電粒子ビーム描画装置1は、荷電粒子ビームとして例えば電子ビームを用いた可変成形型の描画装置の一例である。なお、荷電粒子ビームは電子ビームに限られるものではなく、イオンビームなどの他の荷電粒子ビームであっても良い。描画部2は、描画対象となる試料Wを収容する描画室2aと、その描画室2aに連通する光学鏡筒2bとを有している。描画室2a内には、試料Wを支持するステージ11が設けられている。このステージ11は水平面内で互いに直交するX方向とY方向に移動可能に形成されており、そのステージ11の載置面上には、例えばマスクやブランクなどの試料Wが載置される。また、光学鏡筒2b内には、電子ビームBを出射する電子銃21と、その電子ビームBを集光する照明レンズ22と、ビーム成形用の第1の成形アパーチャ23と、投影用の投影レンズ24と、ビーム成形用の成形偏向器25と、ビーム成形用の第2の成形アパーチャ26と、試料W上にビーム焦点を結ぶ対物レンズ27と、試料Wに対するビームショット位置を制御するための主偏向器28及び副偏向器29とが配置されている。この描画部2では、電子ビームBが電子銃21から出射され、照明レンズ22により第1の成形アパーチャ23に照射される。この第1の成形アパーチャ23は例えば矩形状の開口を有している。これにより、電子ビームBが第1の成形アパーチャ23を通過すると、その電子ビームの断面形状は矩形状に成形され、投影レンズ24により第2の成形アパーチャ26に投影される。なお、この投影位置は成形偏向器25により偏向可能であり、投影位置の変更により電子ビームBの形状と寸法を制御することが可能である。その後、第2の成形アパーチャ26を通過した電子ビームBは、その焦点が対物レンズ27によりステージ11上の試料Wに合わされて照射される。なお、主偏向器28及び副偏向器29により、ステージ11上の試料Wに対する電子ビームBのショット位置を制御することが可能である。制御部3は、描画動作全体の制御を行うジョブJOB制御部31と、ショットデータを生成するショットデータ生成部32と、描画を制御する描画制御部33と、ステージ11の移動を制御するステージ制御部34と、成形偏向器25、主偏向器28及び副偏向器29を制御する偏向制御部35と、描画データを記憶する描画データ記憶部36と、描画にかかる描画予測時間を算出する描画予測時間算出部37と、描画予測時間データを記憶する描画予測時間データ記憶部38と、電子ビームBのドリフト量を測定するドリフト測定部39と、測定したドリフト量をドリフト測定結果データとして記憶するドリフト測定結果データ記憶部40とを備えている。また、描画制御部33は、描画ストライプ数を算出する描画ストライプ数算出部33aと、ドリフト補正量を算出するドリフト補正量算出部33bとを有している詳しくは、後述する。なお、前述の各部はハードウエアやソフトウエアあるいはそれらの両方により構成されている。ショットデータ生成部32は、図2に示すように、描画データにより規定されるパターンPをストライプ状短冊状の複数のストライプ領域フレーム領域R1に分割し、さらに、各ストライプ領域R1を行列状の多数のサブ領域ブロック領域R2に分割する。加えて、ショットデータ生成部32は、各サブ領域R2内の図形Zの形状や大きさ、位置などを決定し、さらに、図形Zを一回のショットで描画不可能である場合には、描画可能な複数の部分領域に分割し、ショットデータを生成する。なお、ストライプ領域R1の短手方向Y方向の長さは電子ビームBを主偏向で偏向可能な長さに設定されている。描画制御部33は、前述のパターンPを描画する際、ステージ制御部34を介して、ステージ11をストライプ領域R1の長手方向X方向に移動させつつ、偏向制御部35を介して、電子ビームを主偏向器28により各サブ領域R2に位置決めし、副偏向器29によりサブ領域R2の所定位置に電子ビームBをショットして図形Zを描画する。その後、一つのストライプ領域R1の描画が完了すると、ステージ11をY方向にステップ移動させてから次のストライプ領域R1の描画を行い、これを繰り返して試料Wの描画領域の全体にパターンPを描画する。なお、描画中には、ステージ11が一方向に連続的に移動しているため、描画原点がステージ11の移動に追従するように、主偏向器28によってサブ領域R2の描画原点をトラッキングさせている。このように電子ビームBは、主偏向器28と副偏向器29によって偏向され、連続的に移動するステージ11に追従しながら、その照射位置が決められる。ステージ11のX方向の移動を連続的に行うとともに、そのステージ11の移動に電子ビームBのショット位置を追従させることで、描画時間を短縮することができる。ただし、本発明の実施形態では、ステージ11のX方向の移動を連続して行っているが、これに限るものではなく、例えば、ステージ11を停止させた状態で一つのサブ領域R2の描画を行い、次のサブ領域R2に移動するときは描画を行わないステップアンドリピート方式の描画方法を用いても良い。ステージ制御部34は、描画制御部33による制御に応じて、ステージ11の移動を制御する制御部である。また、偏向制御部35は、描画制御部33による制御に応じて、成形偏向器25に加え、主偏向器28及び副偏向器29を制御する制御部である。この偏向制御部35は電子ビームBの偏向量を制御し、その電子ビームBのドリフトを補正するドリフト補正部として機能する。描画データ記憶部36は、前述のパターンPを規定するパターンデータレイアウトデータである描画データを記憶する記憶部である。この描画データは装置外部から入力され、描画データ記憶部36に保存されている。また、描画予測時間算出部37は、描画データを用いてストライプ領域R1毎の描画予測時間を算出し、描画予測時間データとして描画予測時間データ記憶部38に保存する。ドリフト測定部39は、ステージ11上の基準マーク図示せずを走査して検出することで、今回のマーク位置と前回のマーク位置との差分から電子ビームBのドリフト量を求め、求めたドリフト量をドリフト測定結果データとしてドリフト測定結果データ記憶部40に保存する。ここで、基準マークはドリフト量を測定するためのマークであり、ステージ11の表面に形成されている。例えば、この基準マークは十字形状に形成されており、また、表面と異なる反射率を有する材料により形成されている。なお、ドリフト量を測定する測定手段としては、ドリフト量を測定することが可能な手段であれば良く、その手段は特に限定されるものではない。次に、前述の荷電粒子ビーム描画装置1が行う一連の描画動作について説明する。ジョブ制御部31は、ジョブの発生に応じて、ショットデータ生成部32にショット生成開始指示を送る。ショットデータ生成部32は、そのショット生成開始指示を受け取ると、ショットデータ生成を開始する。さらに、ジョブ制御部31は描画制御部33に描画開始指示を送る。描画制御部33は、その描画開始指示を受け取ると、ショットデータ生成部32にショットデータ生成の進捗状況を問い合わせ、描画が可能であれば、ステージ制御部34と偏向制御部35をコントロールしながらストライプ描画を進める。このストライプ描画の途中にドリフト測定が所定回数だけ実行される。なお、ドリフト測定の開始時刻はランダムな周期で設定されているが、これに限られるものではなく、例えば、一定周期で設定されても良い。現在時刻がドリフト測定の開始時刻に達すると、図3に示すように、ドリフト測定部39は、ジョブ制御部31にドリフト測定許可依頼を送るステップS1。ジョブ制御部31は、そのドリフト測定許可依頼を受け取り、描画制御部33に描画一時停止指示を送るステップS2。描画制御部33は、その描画一時停止指示を受け取り、描画を停止しステップS3、ジョブ制御部31に描画一時停止完了を送るステップS4。ジョブ制御部31は、その描画一時停止完了を受け取り、ドリフト測定部39へドリフト測定許可を送るステップS5。ドリフト測定部39は、そのドリフト測定許可を受け取り、ドリフト測定を行うステップS6。すなわち、ドリフト測定部39は、ステージ制御部34に測定マーク位置への移動指示を送り、さらに、偏向制御部35へマークスキャン指示を送って、マーク位置測定を行う。次いで、ドリフト測定部39は、測定した今回のマーク位置と前回のマーク位置との差分からドリフト量補正区間内総補正量を求め、ドリフト測定結果データとしてドリフト測定結果データ記憶部40に保存する。その後、ドリフト測定部39は、ジョブ制御部31へドリフト測定完了を送るステップS7。なお、ドリフト測定結果データは、例えば、X方向のオフセット値、Y方向のオフセット値、X方向の係数、Y方向の係数、測定日、測定時刻、X方向のリミット値、Y方向のリミット値などを含んでいる。なお、ドリフト量は補正区間の時間と係数から規定されている。ジョブ制御部31は、そのドリフト測定完了を受け取り、描画制御部33へ描画再開指示を送るステップS8。描画制御部33は、その描画再開指示を受け取り、ドリフト測定結果データ記憶部40からドリフト測定結果データを読み込んで描画を再開しステップS9、ジョブ制御部31に描画再開完了を返すステップS10。描画制御部33は、前述の描画再開に応じて、ショットデータ生成部32に対して時間分布データの要求を行い、時間分布データを取得した後、時間分布データから最適なステージ速度プロファイルを決定する。次に、描画制御部33は、ショットデータ生成部32に対してショットデータの準備状況の問い合わせを行い、そのショットデータ生成部32からショット開始許可を受け取ったら、ステージ速度プロファイルをステージ制御部34に設定する。また、ジョブ制御部31は、前述の描画再開完了を受け取ると、次回のドリフト測定の開始時刻予定時刻を描画制御部33に送るステップS11。描画制御部33は、その次回のドリフト測定の開始時刻を受け取り、描画ストライプ数算出部33a及びドリフト補正量算出部33bを用いて、補正区間内に存在するストライプ領域R1毎のドリフト補正量を算出しステップS12、それらのドリフト補正量ドリフト補正値を用いて電子ビームBのドリフトを補正しながらストライプ描画を行うステップS13。前述のステップS12において、描画制御部33は、ジョブ制御部31から受け取った次回のドリフト測定の開始時刻を描画ストライプ数算出部33aに渡す。描画ストライプ数算出部33aは、その次回のドリフト測定の開始時刻を受け取り、さらに、描画予測時間データ記憶部38から描画予測時間データを読み込み、今回のドリフト測定の開始時刻から次回のドリフト測定の開始時刻までの補正区間内で描画対象となるストライプ領域R1の数である描画ストライプ数を算出する。その後、描画ストライプ数算出部33aは、算出した描画ストライプ数をドリフト補正量算出部33bに送る。なお、描画予測時間データは、例えば、カラム番号、ストライプ領域R1毎のストライプ番号及び描画予測時間などを含んでいる。例えば、描画ストライプ数算出部33aは、図4に示すように、今回の補正区間L内に第1のストライプ領域R1の描画予測時間A1、第2のストライプ領域R1の描画予測時間A2、第3のストライプ領域R1の描画予測時間A3及び第4のストライプ領域R1の描画予測時間A4を含むことを判定し、補正区間L内で描画対象となる描画ストライプ数を4と算出する。その後、描画ストライプ数算出部33aは、算出した数値である4をドリフト補正量算出部33bに渡す。ここで、第1から第4のストライプ領域R1はその短手方向主偏向方向に順番に並んでいる領域である。なお、ドリフト測定の開始時刻はランダムな周期で設定されているため、補正区間Lの長さ時間長さも変化する。ただし、ドリフト測定の開始時刻は一定周期で設定されても良く、この場合には、補正区間Lの長さも一定となる。次に、ドリフト補正量算出部33bは、描画ストライプ数算出部33aから描画ストライプ数を受け取り、その数値を用いて補正区間Lに存在するストライプ領域R1毎のドリフト補正量を算出する。詳述すると、ドリフト補正量算出部33bは、受け取った描画ストライプ数を用いて、ドリフト測定部39により測定したドリフト量である補正区間内総補正量を均等に除算し、その除算結果を用いて補正区間L内のストライプ領域R1毎のドリフト補正量を算出する。ただし、補正区間内総補正量を均等に除算することが望まれるが、これに限るものではなく、均等に近づけて、すなわちほぼ均等に除算するようにしても良い。なお、その許容範囲は、ストライプ領域R1間のつなぎの悪化を抑止することが可能な範囲であり、描画データパターンPやストライプ領域R1の大きさ、サブ領域R2の大きさなどの各種の要因に応じて決定されることになる。ここで、例えば、図5に示すように、前述の描画ストライプ数が4である場合、ドリフト補正量算出部33bは、補正変化量hを求めるため、描画ストライプ数の4に1を加算し、その加算結果の5で補正区間内総補正量Hを除算して補正変化量hを算出するh=H/5。このとき、補正区間内総補正量Hが均等に割られるため、補正変化量hは第1から第4の各ストライプ領域R1で同じとなる。ただし、補正残りh図5中の右上も存在する。なお、補正区間の始点今回のドリフト測定の開始時間での補正量補正値は、補正区間オフセット値h0であり、この補正区間オフセット値h0はドリフト測定結果から得られる。その後、ドリフト補正量算出部33bは、第1のストライプ領域R1のドリフト補正量を求めるため、前述の補正変化量hに補正区間オフセット値h0を加算し、ドリフト補正量を算出する。同様に、第2のストライプ領域R1のドリフト補正量も、前述の補正変化量hにストライプ番号の2番を乗算し、その乗算結果の数値に補正区間オフセット値h0を加算して求める。すなわち、第2のストライプ領域R1のドリフト補正量は第1のストライプ領域R1のドリフト補正量に補正変化量hを加算した値である。また、第3のストライプ領域R1のドリフト補正量も、前述の補正変化量hにストライプ番号の3番を乗算し、その乗算結果の数値に補正区間オフセット値h0を加算して求める。すなわち、第3のストライプ領域R1のドリフト補正量は第2のストライプ領域R1のドリフト補正量に補正変化量hを加算した値である。第4のストライプ領域R1のドリフト補正量も同様に算出する。また、例えば、図6に示すように、前述の描画ストライプ数が1である場合、すなわち、第1のストライプ領域R1の描画予測時間A1が補正区間L以上である場合、ドリフト補正量算出部33bは、補正変化量hを求めるため、描画ストライプ数の1に1を加算し、その加算結果の2で補正区間内総補正量Hを除算して補正変化量hを算出するh=H/2。このとき、補正区間内総補正量Hが均等に割られるため、補正変化量hと補正残りhは同じとなる。その後、ドリフト補正量算出部33bは、前述の補正変化量hに補正区間オフセット値h0を加算して、第1のストライプ領域R1のドリフト補正量を算出する。前述のようなドリフト補正量の算出を式にまとめると、以下のようになる。なお、主偏向座標に対するドリフト補正量を求める必要があるため、X方向及びY方向ごとにドリフト補正量補正量dx、dyが算出される。補正区間内総補正量Hx=次回測定までの時間×係数X補正区間内総補正量Hy=次回測定までの時間×係数Y補正変化量hx=補正区間内総補正量Hx/描画ストライプ数1補正変化量hy=補正区間内総補正量Hy/描画ストライプ数1補正量dx=補正区間オフセット値h0x補正区間内描画ストライプ番号×補正変化量hx補正量dy=補正区間オフセット値h0y補正区間内描画ストライプ番号×補正変化量hyただし、補正区間内総補正量Hx、Hyはリミット値を越えるとそのリミット値に置き換えられる。なお、前述の式において描画ストライプ数に1を加算することは、補正区間L内のストライプ領域R1が一つだけであった場合描画ストライプ数が1であった場合でも、必ず補正区間内総補正量Hを二等分するためである図6参照。ドリフト補正量算出部33bは、前述のようにストライプ領域R1毎のドリフト補正量補正量dx及び補正量dyを算出し、その算出した値を偏向制御部35に設定し、その後、ショット開始指示を送るとともに、ステージ制御部34に描画移動開始指示を送り、ストライプ描画を開始させる。これにより、補正区間L内の各ストライプ領域R1の補正変化量hが一定となり、ストライプ領域R1間のドリフト補正量の極端な変化に起因するストライプつなぎの悪化を抑止することができる。ここで、第1の比較例として、描画ストライプ数が4である場合、前述のように補正区間内総補正量Hを均等に除算せず、時間比例のドリフト補正量で補正を行うと、図7に示すように、第1から第4の各ストライプ領域R1の補正変化量h1~h5はそれぞれ大きく異なることになる特に、補正変化量h3が極端に大きい。これは、ストライプ領域R1毎の先頭の時刻で補正変化量、すなわちドリフト補正量を生成するため、ドリフト補正量がストライプ領域R1の描画開始時間の影響を受けるためである。一方、図5に示すように、補正区間内総補正量Hを均等に除算した補正変化量hを用いた場合には、第1から第4の各ストライプ領域R1の補正変化量hはストライプ領域R1の描画開始時間の影響を受けずに同じになる。これにより、図7のような場合に比べ、ストライプ領域R1間のドリフト補正量の極端な変化に起因してストライプつなぎが悪化することを抑えることができる。さらに、第2の比較例として、描画ストライプ数が1である場合、前述のように補正区間内総補正量Hを均等に除算せず、時間比例のドリフト補正量で補正を行うと、図8に示すように、第1のストライプ領域R1の補正変化量h1はストライプ領域R1の描画開始時間に影響を受け、非常に小さくなり、補正区間Lの補正残りh2が極端に大きくなってしまう。一方、図6に示すように、補正区間内総補正量Hを二等分した補正変化量hを用いた場合には、第1のストライプ領域R1の補正変化量hと補正残りhは同じになる。これにより、図8のような場合に比べ、補正残りを小さくすることが可能になり、補正残りに起因する補正区間境界でのドリフト補正量の極端な変化を緩和することができる。以上説明したように、本発明の第1の実施形態によれば、ストライプ領域R1毎の描画予測時間を用いて、補正区間L内で描画対象となるストライプ領域R1の数である描画ストライプ数を算出し、その後、算出した描画ストライプ数を用いて、ドリフト測定部39により測定されたドリフト量である補正区間内総補正量Hを除算し、補正区間L内のストライプ領域R1毎のドリフト補正量を算出する。この補正区間内総補正量Hの除算により補正区間L内のストライプ領域R1毎の補正変化量が求められ、それらの補正変化量hは各ストライプ領域R1の描画開始時間に依存することなく同じになるので、補正区間L内でドリフト補正量が著しく変化することを防止することが可能となる。したがって、ストライプ領域R1間のドリフト補正量の極端な変化を抑え、ストライプ領域R1間のつなぎ状態を向上させることができる。また、描画ストライプ数算出部33aにより算出した描画ストライプ数に1を加算し、その数値を用いてドリフト量を除算することによって、補正区間L内のストライプ領域R1が一つだけであった場合でも、必ず補正区間内総補正量Hを二等分することが可能になるので、補正残りを小さくすることができる。その結果、補正残りに起因する補正区間境界でのドリフト補正量の極端な変化を抑えることができる。なお、補正区間L内で新たなイベントが発生して描画を中断し、そのイベント終了後に描画を再開する場合には、まず、ドリフト測定部39は補正区間L内での描画中断に応じてドリフト量の測定を開始する。その後、描画ストライプ数算出部33aは、描画中断の解除から残りの補正区間L内で描画対象となるストライプ領域R1の数である描画ストライプ数を算出し、ドリフト補正量算出部33bは、その算出した描画ストライプ数を用いて前述のドリフト量の除算を行い、補正区間L内のストライプ領域R1毎のドリフト補正量を算出する。このようにして、描画再開後も、補正区間L内のストライプ領域R1毎のドリフト補正量を正確に算出することが可能になるので、ストライプ領域R1間のドリフト補正量の極端な変化を確実に抑えることができる。第2の実施形態本発明の第2の実施形態について図9ないし図12を参照して説明する。本発明の第2の実施形態は基本的に第1の実施形態と同様である。第2の実施形態では、第1の実施形態との相違点について説明し、第1の実施形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。図9に示すように、本発明の第2の実施形態では、ショットデータ生成部32がストライプ分割判断部32aを備えている。このストライプ分割判断部32aは、描画予測時間データ記憶部38から描画予測時間データを読み込み、ショットデータ生成を行うストライプ領域R1の描画予測時間と補正区間Lとを比較し、その描画予測時間が補正区間L以上であると判断した場合、ショットデータ生成部32にストライプ分割を行う指示を出す。ショットデータ生成部32は、ストライプ分割を行う指示を受け取ると、図10に示すように、指定のストライプ領域R1を短手方向主偏向方向に例えば二つに分割し、ストライプ領域R1aとストライプ領域R1bを生成する。このショットデータ生成部32が、ストライプ領域R1を分割するストライプ分割部として機能する。なお、このときの分割数は、ストライプ分割判断部32aからの指示に含まれており、少なくとも二以上の数値である。次に、前述のストライプ分割判断部32aを備える荷電粒子ビーム描画装置1が行う一連の描画動作について説明する。まず、ジョブ制御部31は、ジョブの発生に応じて、ショットデータ生成部32にショット生成開始指示とともに、補正区間Lの時間長さである最小区間時間をショットデータ生成部32に送る。ショットデータ生成部32は、そのショット生成開始指示を受け取ると、ショットデータ生成を開始し、最小区間時間をストライプ分割判断部32aに渡す。ストライプ分割判断部32aは、描画予測時間データ記憶部38から描画予測時間データを読み込み、ショットデータ生成を行うストライプ領域R1の描画予測時間と最小区間時間とを比較し、その描画予測時間が最小区間時間以上である場合、ショットデータ生成部32に対してストライプ分割指示を渡す。ショットデータ生成部32は、ストライプ分割判断部32aからストライプ分割指示を受け取ると、ストライプ領域R1の分割を行い、ストライプ分割情報を保持し、そのストライプ分割情報を通常のストライプ情報とともに描画制御部33に送る。描画制御部33は、そのストライプ分割情報及びストライプ情報を受け取り、ストライプ分割情報を描画ストライプ数算出部33aに渡す。なお、ストライプ分割情報は、例えば、カラム番号、ストライプ番号及び分割数などを含んでいる。また、ジョブ制御部31は描画制御部33に描画開始指示を送る。描画制御部33は、その描画開始指示を受け取ると、ショットデータ生成部32にショットデータ生成の進捗状況を問い合わせ、描画が可能であれば、ステージ制御部34と偏向制御部35をコントロールしながらストライプ描画を進める。その後、処理は前述の第1の実施形態と同様であるが、図3に示すステップS12では、描画ストライプ数算出部33aは、描画予測時間データからストライプ分割情報に該当するストライプ領域R1を抽出し、ストライプ分割情報を反映した分割後描画予測時間データを作成し、描画予測時間データに加える。描画ストライプ数算出部33aは、その分割後描画予測時間データを含む描画予測時間データに基づいて補正区間L内で描画対象となるストライプ領域R1の数である描画ストライプ数を算出する。なお、分割後描画予測時間データは、例えば、カラム番号、ストライプ番号、ストライプ番号枝番及び描画予測時間などを含んでいる。ここで、例えば、図11に示すように、前述の描画ストライプ数が4である場合、ドリフト補正量算出部33bは、補正変化量hを求めるため、描画ストライプ数の4で補正区間内総補正量Hを除算して補正変化量hを算出するh=H/4。このとき、補正区間内総補正量Hが均等に割られるため、補正変化量hは第1から第4の各ストライプ領域R1で同じとなる。この場合には、第1の実施形態と比べ図5参照、補正区間Lの補正残りは発生しない。また、例えば、前述の描画ストライプ数が1である場合、すなわち、第1のストライプ領域R1の描画予測時間A1が補正区間L以上であるため図6参照、そのストライプ領域R1が二つのストライプ領域R1a及びR1bに分割される図10参照。これにより、図12に示すように、それらのストライプ領域R1aの描画予測時間A1a及びストライプ領域R1bの描画予測時間A1bが補正区間Lに含まれることになり、描画ストライプ数は2となる。ドリフト補正量算出部33bは、その描画ストライプ数の2で補正区間内総補正量Hを除算して補正変化量hを算出するh=H/2。このとき、補正区間内総補正量Hが均等に割られるので、補正変化量hはストライプ領域R1aとストライプ領域R1bで同じとなる。この場合には、第1の実施形態と比べ図6参照、補正区間Lの補正残りは発生しない。前述のようなドリフト補正量の算出を式にまとめると、以下のようになる。なお、主偏向座標に対するドリフト補正量を求める必要があるため、X方向及びY方向ごとにドリフト補正量補正量dx、dyが算出される。補正区間内総補正量Hx=次回測定までの時間×係数X補正区間内総補正量Hy=次回測定までの時間×係数Y補正変化量hx=補正区間内総補正量Hx/描画ストライプ数補正変化量hy=補正区間内総補正量Hy/描画ストライプ数補正量dx=補正区間オフセット値h0x補正区間内描画ストライプ番号×補正変化量hx補正量dy=補正区間オフセット値h0y補正区間内描画ストライプ番号×補正変化量hyただし、補正区間内総補正量Hx、Hyはリミット値を越えるとそのリミット値に置き換えられる。なお、前述の式においては、第1の実施形態と異なり、描画ストライプ数に1を加算せず、そのままの数を用いて補正変化量hx、hyの算出を行っている。これにより、補正残りの発生を防止することができる。また、ストライプ領域R1の描画予測時間が補正区間L以上であった場合、すなわち描画ストライプ数が1であった場合には、そのストライプ領域R1が二つ以上のストライプ領域R1a、R1bに分割される。これにより、補正区間L内に二つ以上のストライプ領域R1a、R1bが必ず存在することになるので、補正残りの発生を確実に防止することができる。ドリフト補正量算出部33bは、前述のようにストライプ領域R1毎のドリフト補正量補正量dx及び補正量dyを算出し、その算出した値を偏向制御部35に設定し、その後、ショット開始指示を送るとともに、ステージ制御部34に描画移動開始指示を送り、ストライプ描画を開始させる。これにより、補正区間L内の各ストライプ領域R1の補正変化量hが一定となり、ストライプ領域R1間のドリフト補正量の極端な変化に起因するストライプつなぎの悪化を防止することができる。さらに、補正残りが無くなるため、補正残りに起因する補正区間境界でのドリフト補正量の極端な変化も緩和することができる。以上説明したように、本発明の第2の実施形態によれば、前述の第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、描画ストライプ数算出部33aにより算出した描画ストライプ数をそのまま用いてドリフト量である補正区間内総補正量Hを除算することによって、補正区間L内の補正残りが無くなるため、補正残りに起因する補正区間境界でのドリフト補正量の極端な変化も抑えることができる。また、ストライプ領域R1の描画予測時間を補正区間L以上か否かを判断し、そのストライプ領域R1の描画予測時間が補正区間L以上であると判断した場合、描画予測時間が補正区間L以上であるストライプ領域R1を短手方向主偏向方向に分割することによって、ストライプ領域R1の描画予測時間が補正区間L以上となると、そのストライプ領域R1が二つ以上のストライプ領域R1a、R1bに分割されるので、補正区間L内に二つ以上のストライプ領域R1a、R1bが必ず存在することになる。これにより、補正残りの発生を確実に防止することが可能となるので、その補正残りに起因する補正区間境界でのドリフト補正量の極端な変化を確実に抑えることができる。以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。