化学強化工程前の最終洗浄工程で用いる洗浄液中のカルシウム濃度が5ppm以下であるディスプレイ装置用化学強化ガラス基板の製造方法。前記洗浄液が水である請求項1に記載のディスプレイ装置用化学強化ガラス基板の製造方法。しかしながら、ディスプレイ装置用に化学強化ガラス基板を用いる場合に、美観に問題が生じる場合があった。本発明者らが、美観に問題の生じたガラス基板を解析したところ、ガラス基板の表面に極小さい凹み状の欠点以下凹み状欠点ともいう。が生じていることが分かった。したがって、本発明は、凹み状欠点の発生を抑えることのできるディスプレイ装置用化学強化ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。本発明者らは、上記課題を更に鋭意検討した結果、化学強化工程に供するガラスの表面にカルシウム塩が存在していると、乾燥工程を経ることにより、ガラスの表面にカルシウムが固着し、固着したカルシウムが原因となり、化学強化工程を経ることにより、凹み状欠点が生じることを見出した。さらに、化学強化工程前の最終洗浄工程で用いる洗浄液中のカルシウム濃度を特定濃度以下とすることにより、化学強化工程を経てもガラスにおける凹み状欠点を効果的に抑制できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明の要旨は以下のとおりである。1.化学強化工程前の最終洗浄工程で用いる洗浄液中のカルシウム濃度が5ppm以下であるディスプレイ装置用化学強化ガラス基板の製造方法。2.前記洗浄液が水である前項1に記載のディスプレイ装置用化学強化ガラス基板の製造方法。本発明の製造方法によれば、化学強化工程前の最終洗浄工程で用いる洗浄液中のカルシウム濃度を特定濃度以下とすることにより、化学強化工程に供するガラスの表面にカルシウム塩が存在するのを防ぎ、予熱工程において該カルシウム塩からカルシウムイオンの拡散した層が生じるのを防ぐことができる。このことにより、イオン交換工程において当該カルシウムイオン層がイオン交換の妨げとなることによる、凹み状欠点の発生を抑制することができる。以下、本発明に関して詳細に説明するが、本発明はこれに限定されない。本発明のディスプレイ装置用化学強化ガラス基板の製造方法は、通常、ガラスを研磨加工する研磨工程、洗浄工程、最終洗浄工程、乾燥工程および化学強化工程を順次含む。化学強化工程はイオン交換工程を必須工程として含むが、イオン交換工程の前に予熱工程を含む場合が多い。凹み状欠点発生のメカニズム本発明者らは、化学強化ガラス基板の美観を損ねる原因が凹み状欠点であることを見出し、化学強化ガラス基板における凹み状欠点の原因が、予熱工程前のガラス表面に存在するカルシウム塩であることを見出した。カルシウム塩がガラス表面に付着する原因としては、a研磨工程で用いる研磨剤へのカルシウムの混入、b洗浄工程または最終洗浄工程で用いる洗浄液へのカルシウムの混入、c製造工程において素手で触る等することによる、ヒトの汗に含まれるカルシウムの付着または洗浄液への混入等が挙げられる。本発明者らが見出した化学強化ガラス基板の製造工程における凹み状欠点発生のメカニズムは以下である図1。図1では、イオン交換工程に用いる溶融塩として硝酸カリウム溶融塩を用いた場合を例として説明している。1予熱工程前:予熱工程前のガラス表面にカルシウム塩が付着し、乾燥工程を経ることにより固着する。カルシウム塩としては、例えば、CaCO3、CaNO32およびCaSO4等が挙げられる。2予熱工程:予熱工程において、ガラス表面に固着したカルシウム塩からカルシウムイオンの拡散層が生じる。当該カルシウムイオンの拡散層が後にイオン交換工程において、イオン交換を阻害する障壁物質となる。3イオン交換工程:イオン交換工程において、ガラス中に含まれるナトリウムイオンと、溶融塩中に含まれるナトリウムイオンよりイオン半径が大きいカリウムイオンとが置換されることにより、ガラスが膨張する。一方、カルシウムイオンの拡散層による障壁物質が形成されている箇所においては、カルシウムイオンがイオン交換を阻害するため、カルシウムイオンの拡散層がイオン交換のバリア膜となり、ガラスが膨張せずに凹みが生じ、欠点となる。カルシウム濃度と凹み状欠点との相関性本発明者らが凹み状欠点の深さと予熱工程前のガラスと接触させる溶液中のカルシウム濃度との相関性を解析した結果、図2に示すように比例関係にあることが分かった。凹み状欠点の深さと予熱工程前のガラスと接触させる溶液中のカルシウム濃度とが比例関係となる理由としては、以下の理由が考えられる。化学強化工程においてガラス基板表面に凹み状欠点ができる理由は上記したように、ガラス表面上に残留したカルシウムが、予熱工程によりイオン交換のバリア膜となるためである。ナトリウムイオンとカリウムイオンとが交換する行路の深さは、典型的には、数10~数100μmである。一方、ガラス表面におけるカルシウム濃度10ppm程度の水滴が、例えば直径5mmであると想定したときに水分が揮発した後のカルシウムバリア膜の厚みは1nmに満たない。したがって、カリウムイオンおよびナトリウムイオンが実際に移動する行路に対して、前記バリア膜の厚みは十分に薄いので、イオンの拡散に関わる物理パラメーターは不変であると考えることができ、実効的なパラメーターはカルシウム濃度に比例するカルシウムバリア膜の厚みにのみ比例すると考えられる。さらに、本発明者らが、化学強化ガラス基板の凹み状欠点の深さと当該ガラス基板の美観との相関を検討したところ、さらに凹み状欠点の深さが200nmを超えるガラス基板はほぼ全て美観を損ねるが、凹み状欠点の深さが概ね100nm以下であれば美観が損なわれないことがわかった。これは、人間の目で視認できる凹み状欠点の深さが、可視光約400nm以上の1/4である約100nm以上であるためと考えられる。図2に示すグラフから、予熱工程前のガラスと接触させる溶液中のカルシウム濃度を5ppm以下とすれば、凹み状欠点の深さを概ね100nmより小さくすることができる。したがって、前記カルシウムイオンにより生じる凹み状欠点の発生を抑制するためには、化学強化工程前の最終洗浄工程に用いる洗浄液に含まれるカルシウム濃度を5ppm以下とする必要がある。本発明の製造方法においては、化学強化工程前の最終洗浄工程に用いる洗浄液に含まれるカルシウム濃度を5ppm以下とする以外は、従来の方法により、化学強化ガラスを製造することができる。化学強化前のガラスを製造する方法本発明の製造方法において化学強化に供するガラスは、所望のガラス原料を連続溶融炉に投入し、ガラス原料を好ましくは1500~1600°Cで加熱溶融し、清澄した後、成形装置に供給した上で溶融ガラスを板状に成形し、徐冷することにより製造することができる。本発明の製造方法で製造するガラスの組成は特に限定されない。なお、ガラス基板の成形には種々の方法を採用することができる。例えば、ダウンドロー法例えば、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウン法およびリドロー法等、フロート法、ロールアウト法およびプレス法等の様々な成形方法を採用することができる。研磨工程研磨工程は、前記製造方法により製造したガラス基板を、研磨スラリーを供給しながら研磨パッドで研磨する工程である。該研磨スラリーには、研磨材と水を含む研磨スラリーが使用できる。なお、本発明の製造方法において、研磨工程は、必要に応じて採用する任意の工程である。前記研磨材としては、酸化セリウムセリアおよびシリカが好ましい。なお、上記したようにカルシウムがガラス基板の表面に存在すると、予熱およびイオン交換処理を経ることにより凹み状欠点が生じる原因となるため、研磨剤には、カルシウムが含まれないことが好ましい。洗浄工程洗浄工程は、前記研磨工程により研磨したガラス基板を、洗浄液により洗浄する工程である。洗浄液としては、中性洗剤および水が好ましく、中性洗剤で洗浄した後に水で洗浄することがより好ましい。中性洗剤としては市販されているものを用いることができる。また、上記したようにカルシウムがガラス基板の表面に存在すると、予熱およびイオン交換処理を経ることにより凹み状欠点の原因となるため、洗浄工程で用いる洗浄液はカルシウムが含まれないことが好ましい。最終洗浄工程最終洗浄工程は、前記洗浄工程により洗浄したガラス基板を、洗浄液により洗浄する工程である。洗浄液としては、例えば、水、エタノールおよびイソプロパノールなどが挙げられる。中でも水が好ましい。最終洗浄工程で用いる洗浄液に含まれるカルシウム濃度は5ppm以下とする。なお、洗浄工程が一つの工程である場合、該一つの工程が最終洗浄工程となる。最終洗浄工程で用いる洗浄液に含まれるカルシウム濃度を5ppm以下とする手段としては、例えば、洗浄液へのカルシウムの混入を防ぐことが挙げられる。具体的には、例えば、水道水にはカルシウムが一定濃度混入していることから、イオン交換水または蒸留水を用いることがより好ましい。また、上記したように人間の汗の成分としてカルシウムが含まれていることから、素手でガラス基板を触ることにより洗浄液へのカルシウムの混入を防ぐことが好ましい。さらに、最終洗浄工程で用いる洗浄液に含まれるカルシウム濃度を定期的に測定し、カルシウム濃度が5ppmを超えないように洗浄液を交換することが好ましい。該洗浄液に含まれるカルシウム濃度は、従来公知の方法により測定することができる。具体的には、例えば、ICPプラズマ発光分析により測定することができる。乾燥工程乾燥工程は、前記最終洗浄工程で洗浄したガラス基板を乾燥させる工程である。乾燥条件は、洗浄工程で用いた洗浄液、およびガラスの特性等を考慮して最適な条件を選択すればよい。なお、本発明の製造方法において、乾燥工程は、必要に応じて採用する任意の工程である。化学強化工程は、イオン交換工程を必須工程として含み、イオン交換工程の前に予熱工程を含む場合が多い。予熱工程予熱工程は、乾燥工程を経たガラス基板を予め設定した予熱温度に加熱する工程である。予熱条件は、ガラスの特性、イオン交換工程に用いる溶融塩等を考慮して最適な条件を選択すればよい。具体的な条件としては、例えば、予熱温度は、300~400°Cとすることが好ましい。また、予熱時間は、2~6時間とすることが好ましい。イオン交換工程イオン交換工程は、ガラスの表面のイオン半径が小さいアルカリ金属イオン例えば、ナトリウムイオンをイオン半径の大きなアルカリ金属イオン例えば、カリウムイオンに置換する工程である。例えば、ナトリウムイオンを含有するガラスを、カリウムイオンを含む溶融処理塩で処理することにより行うことができる。イオン交換処理は、例えば400~550°Cの硝酸カリウム溶液中にガラス板を1~8時間浸漬することによって行うことができる。イオン交換条件は、ガラスの粘度特性や、用途、板厚、ガラス内部の引っ張り応力等を考慮して最適な条件を選択すればよい。イオン交換処理を行うための溶融塩としては、例えば、硝酸カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、塩化ナトリウムおよび塩化カリウム等のアルカリ硫酸塩およびアルカリ塩化塩などが挙げられる。これらの溶融塩は単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。本発明において、イオン交換処理の処理条件は、特に限定されず、ガラスの特性および溶融塩等を考慮して最適な条件を選択すればよい。溶融塩の加熱温度は典型的には、350°C以上が好ましく、380°C以上がより好ましい。また、500°C以下が好ましく、480°C以下がより好ましい。溶融塩の加熱温度を350°C以上とすることにより、イオン交換速度の低下により化学強化が入りにくくなるのを防ぐ。また、500°C以下とすることにより溶融塩の分解劣化を抑制することができる。ガラス基板を混合溶融塩に接触させる時間は、十分な圧縮応力を付与するためには典型的には、1時間以上が好ましく、2時間以上がより好ましい。また、長時間のイオン交換では、生産性が落ちるとともに、緩和により圧縮応力値が低下するため、24時間以下が好ましく、20時間以下がより好ましい。以下、本発明を実施例によって説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。実施例1各種溶液による凹み状欠点の深さの解析美観を損ねたディスプレイ用の化学強化ガラス基板の表面を観察したところ、美観を損ねるのは凹み状欠点が生じているためであることが分かった。さらに、凹み状欠点の深さを測定したところ、200nmを超える深さの凹み状欠点が生じることにより、美観を損ねることが分かった。また、凹み状欠点の深さが概ね100nm以下であれば、美観が損なわれることはないことが分かった。凹み状欠点が生じる原因を調べるため、ガラス基板において、各種溶液を滴下したスポットにおける凹み状欠点の深さを測定した。ガラス組成モル:SiO264.5、Al2O36.0、Na2O12.0、K2O4.0、MgO11.0、CaO0.1、ZrO22.5に、表1に示す各種溶液を20μl滴下し、90°Cにて60分間乾燥し、400°Cにて4時間予熱した後、KNO3を溶融塩として用い、450°Cにて7時間イオン交換処理をし、化学強化ガラスを得た。得られた化学強化ガラスにおける凹み状欠点の深さを、光学顕微鏡と二光束干渉対物レンズCCDカメラを組み合わせ、干渉像を垂直走査することにより、対象物の表面形状を三次元計測することにより測定した。その結果を表1に示す。表1に示すように、カルシウムを含む溶液をガラス基板と接触させて、さらに予熱およびイオン交換処理をすることにより、200nmを超える深さの凹み状欠点が生じ、美観が損なわれることが分かった。実施例2カルシウムを含む溶液の滴下により生じる凹み状欠点およびその近傍のガラス表面組成の解析実施例1で用いたものと同じ組成のガラス基板に、20μlのCaNO32水溶液100ppmを滴下し、実施例1と同様の条件で予熱およびイオン交換処理をして、ガラス表面の組成を走査型電子顕微鏡で観察し、凹み状欠点部分についてエネルギー分散型X線分光法により解析した。Naの含有量は凹み状欠点の外側ではNa2O換算で3質量であるのに対して、凹み状欠点部分では10質量、Kの含有量は凹み状欠点の外側ではK2O換算で20質量であるのに対して、凹み状欠点部分では7質量であった。この、凹み状欠点部分のNaとKの含有量はイオン交換前のガラスのNa2OとK2Oの含有量に近い。さらに、Caの含有量は凹み状欠点の外側ではCaO換算で0.18質量であるのに対して、凹み状欠点部分では0.22質量であった。このことから、カルシウムを含む溶液とガラスとを接触させた後に予熱およびイオン交換処理をしたガラスに生じた凹み状欠点において、カルシウム塩が生成しており、ナトリウムイオンとカリウムイオンとのイオン交換が阻害されていることが分かった。実施例3カルシウムを含む溶液の滴下により生じる凹み状欠点の解析1実施例1で用いたものと同じ組成のガラス基板に、100ppmのCaNO32水溶液を20μl滴下した後に、実施例1と同様の条件で予熱およびイオン交換処理をして、さらに3μm径のダイアモンド砥粒で再研磨した図3。その後、ガラス表面においてCaNO32水溶液を滴下した部位に生じた凹み状欠点のテクスチャ画像、並びに凹み状欠点の深さおよび幅を解析した。凹み状欠点のテクスチャ画像は菱化システム製MM40により解析した。また、凹み状欠点の深さは光学顕微鏡と二光束干渉対物レンズCCDカメラを組み合わせ、干渉像を垂直走査し、対象物の表面形状を三次元計測することにより測定した。凹み状欠点のテクスチャ画像の結果を図4に、凹み状欠点の深さおよび幅を図5に示す。2実施例1で用いたものと同じ組成のガラス基板に、100ppmのCaNO32を含む水溶液20μl滴下した後に、実施例1と同様の条件で予熱およびイオン交換処理をして、さらに5分間超音波洗浄した。その後、ガラス表面においてCaNO32水溶液を滴下した部位に生じた凹み状欠点の画像、並びに凹み状欠点の深さおよび幅を1と同様にして解析した。凹み状欠点のテクスチャ画像の結果を図6に、凹み状欠点の深さおよび幅を図7に示す。図4~7に示すように、カルシウムを含む溶液を滴下したガラス表面においては、凹み状欠点が生じた。この結果から、カルシウムを含む溶液をガラス表面に接触させた後に、予熱工程およびイオン交換工程を経ることにより、凹み状欠点が生じることが分かった。なお、この凹み状欠点部のガラス組成におけるCa含有量はその他の部分に比べて多い。実施例4凹み状欠点の深さとカルシウム濃度との相関性実施例3と同様に、CaNO32を含む水溶液カルシウム濃度:10、13または100ppmまたはイオン交換水をガラス基板に20μl滴下した後、実施例1と同様の条件で予熱およびイオン交換処理をして、さらに研磨剤2μm径のダイヤモンドスラリーを浸透させた研磨布で擦り、ガラス表面に付着した異物を除去した。また、CaNO32を含まないイオン交換水カルシウム濃度:0ppmを13枚のガラス基板に20μlずつ滴下し、実施例1と同様の条件で予熱およびイオン交換処理をして、さらに研磨剤2μm径のダイヤモンドスラリーを浸透させた研磨布で擦り、ガラス表面に付着した異物を除去し、目視で観察した。その結果、目視では凹み状欠点は認められなかった。その後、ガラス基板上の凹み状欠点の深さを実施例1と同様にして測定した結果を表2に示す。また、カルシウム濃度を0、10、13ppmとした場合の凹み状欠点の深さをプロットし、近似したグラフを図2に示す。その結果、図2に示すように、予熱およびイオン交換処理の前にガラス基板に接触させる溶液に含まれるカルシウム濃度xと凹み状欠点の深さyとは、比例関係y=0.0205xとなっており、相関性があることが分かった。さらに、図2のグラフから、当該カルシウム濃度を5ppm以下とすることにより、凹み状欠点の深さが、概ね100nm以下となり、美観が損なわれないことがわかった。実際、実施例3と同様に、CaNO32を含む水溶液2種カルシウム濃度:1ppm、5ppmまたはイオン交換水20μlを各5枚のガラス基板に滴下した後、実施例1と同様の条件で予熱およびイオン交換処理をして、さらに研磨剤2μm径のダイヤモンドスラリーを浸透させた研磨布で擦り、ガラス表面に付着した異物を除去して観察したところ、いずれのガラス基板についても凹み状欠点は目視では認められなかった。カルシウム濃度xと凹み状欠点の深さyとが比例関係となる理由としては、上記したように、カリウムイオンおよびナトリウムイオンが実際に移動する行路に対して、カルシウムによるイオン交換に対するバリア膜の厚みは十分に薄いので、イオンの拡散に関わる物理パラメーターは不変であると想定され、実効的なパラメーターはカルシウム濃度に比例するバリア膜の厚みにのみ比例するものと考えられる。参考例カルシウムを含む溶液を滴下した後に、予熱およびイオン交換処理することによりガラス表面に生じた凹み状欠点の表面におけるガラス組成の分析実施例1と同じガラス組成を有するガラス基板に、CaCl2を100ppm含有する水溶液10mlを滴下し、90°Cにて60分間乾燥し、450°Cにて3時間予熱した後、KNO3を溶融塩として用い、450°Cにて7時間イオン交換処理をし、化学強化ガラスを得た。得られた化学強化ガラスには凹み状欠点が生じており、その欠点部分およびその近傍部分のガラス表面のK2O、Na2OおよびCaOの含有量単位:質量をエネルギー分散型X線分光法により測定した。その結果を図8に示す。図8中央のハロー状部分が凹み状欠点部分である。また、図8中央やや下方に左右に点状に連なるものは分析痕である。図8の縦軸右は、ガラス組成におけるK2OおよびNa2Oの含有量質量を示し、縦軸右は、ガラス組成におけるCaOの含有量質量を示す。また、図8の横軸は図左端からの分析位置μmを示し、図8右上の黒いスケールの長さは100μmである。図8に示すように、K2O、Na2O、CaOの各含有量は欠点近傍部分ではそれぞれ18~20質量、2質量、0.2~0.6質量であったが、欠点部分ではそれぞれ11~18質量、3~6質量、0.6~1質量であった。この結果は、カルシウムを含む溶液とガラスとを接触させた後に予熱およびイオン交換処理をしたガラスに生じた凹み状欠点において、カルシウム塩が生成しており、ナトリウムイオンとカリウムイオンとのイオン交換が阻害されていることを示す。本発明を特定の態様を用いて詳細に説明したが、本発明の意図と範囲を離れることなく様々な変更および変形が可能であることは、当業者にとって明らかである。なお本出願は、2010年12月3日付で出願された日本特許出願特願2010-270395に基づいており、その全体が引用により援用される。