"フレキシブル基板6a、6b上に水蒸気バリア層14を製造する方法であって、処理空間5内で前記基板上に無機層を堆積させることを含み、前記処理空間5は大気圧グロー放電プラズマを発生させる少なくとも2つの電極2、3間に形成され、前記バリア層14が少なくとも3つの連続する無機層堆積によって前記基板6a、6b上に形成され、各無機層の堆積が最大20nmの厚さであることを特徴とする前記方法。ガス雰囲気が各処理空間5に供給され、前記ガス雰囲気が4~25の酸素、例えば6~21の酸素を含む、請求項1に記載の方法。堆積した各無機層が、少なくとも5nmの厚さ、例えば少なくとも15nmの厚さである、請求項1または2に記載の方法。前記堆積した無機層が、約0.9のα値、0.2未満のβ値、6より大きいz値を含む動的スケーリング成分特性を有する、請求項1~3のいずれか1項の方法。前記少なくとも3つの無機層堆積が各々個別の処理空間5,5’、5’’、5’’’内で行われる、請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。前記少なくとも3つの無機層堆積のうち2つが同じ処理空間5’’’内で行われる、請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。前記少なくとも3つの無機層のうちの2つ、3つまたは全てが同じ材料で形成される、請求項1~6のいずれか1項に記載の方法。バリア層を有する基板6’に、前記バリア層14に対向する面に接着層15を有する第2の基板9を、積層することによって、シート構造体12を製造することをさらに含み、前記構造体12が順に基板6、バリア層14、接着層15、第2の基板9を含む、請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。少なくとも2つのシート構造体12を、追加的接着層16を間に挟んで積層することをさらに含む、請求項8に記載の方法。大気圧グロー放電プラズマを使用して前記第2の基板9を処理することをさらに含む、請求項8または9に記載の方法。前記基板6および前記第2の基板9がロールに供給され、連続的なプロセスで前記シート構造体12を得る、請求項8、9、または10に記載の方法。前記基板6および前記第2の基板9が同時に処理される、請求項8~11のいずれか1項に記載の方法。2つの基板6a、6bが同じ処理空間で処理される、請求項8~12のいずれか1項に記載の方法。前記基板6が、厚さ約20μm~100μmのPETまたはPENの基板である、請求項8~13のいずれか1項に記載の方法。前記第2の基板9が、厚さ約100μm~300μmのPETまたはPENの基板である、請求項8~14のいずれか1項に記載の方法。請求項1~7のいずれか1項に記載の方法によって作成される、ロールツーロールroll-to-roll式用途に使用するための被処理基板6’のロール。請求項8~15のいずれか1項により製造された多層シート構造体を含む、PVバックシートまたはフロントシート用途のための多層シート構造体12のロール。請求項16または17に係るロールの一部を含む装置。薄いフレキシブル基板材料例えば、PVセル又はPVモジュール用のバックシート又はフロントシートの製造及び商業化技術においては、優れたバリア性、取り扱いの良さ、欠陥が無いこと等の材料の特性が求められていると共に、より高い費用対効果およびより簡易な工程が求められている。本発明によれば、フレキシブル基板上に、バリア層を、特に水蒸気バリア層を製造する方法が提供される。前記方法は、処理空間内で前記基板上に無機層を堆積させることを含み、前記処理空間は、大気圧グロー放電プラズマを発生させるための少なくとも2つの電極の間に形成される。前記バリア層は、基板上に少なくとも3つの無機層を順に堆積させることによって形成され、前記堆積した無機層の各々は、厚さが最大20nmであることを特徴とする。前記少なくとも3つの連続する無機層堆積は、全て同じ処理空間で、または少なくとも2つの個別の処理空間で行うことができる。例えば、無機層の堆積毎に1つの処理空間が与えられてもよい。前記少なくとも3つの無機層の各々は、実質的に同じ材料で例えば、処理空間の各々で、実質的に同じ前駆体ガス組成物を使用することによって形成することができる。しかしながら、前記少なくとも3つの無機層はそれぞれ、2つ、3つ、またはそれ以上の異なる材料を使用して例えば、異なる処理空間でそれぞれ異なる前駆体ガス組成物を使用することによって形成することもできる。本発明に係る方法は、PV用途のためのフロントシートまたはバックシート等、多数の用途に対して優れた特性を有する被処理基板を提供する。前記層は一度に厚さが最大20nmで形成されるので、欠陥のないバリア層が得られ、本バリア層は、さらには全体的に許容できる水蒸気透過率を有する。さらなる実施形態では、ガス雰囲気が各処理空間に供給される。前記ガス雰囲気は、4~25の酸素例えば、6~21の酸素を含む。これは、例えば粉塵形成過程による欠陥形成が低減されるので有利である。本発明のさらなる実施形態において堆積した各層は、厚さが少なくとも5nm、例えば少なくとも15nmの厚さである。これにより、得られた層のWVTRが確実に多くの用途に十分なものとなる。さらに1つの実施形態では、前記堆積層は、α値が約0.9、β値が0.2未満、かつz値が6より大きい動的スケーリング成分dynamicscalingcomponents特性を有する。本発明により処理された基板の表面は、相関するスケーリング成分によって特徴付けられる。前記スケーリング成分は、粗さ指数α、成長指数βおよび動的指数zを含む。上記指示範囲により、被処理基板を非常に有用にする種類の表面特性が得られる。前記少なくとも3つの連続する層堆積は、本発明に係る1つの実施形態では、個別の処理空間で実施される。これにより、本方法にける工程毎に微調整を行なえるので、所望の特性を有する被処理基板を得ることができる。さらなる実施形態において、前記少なくとも3つの連続する層堆積のうち2つが、同じ処理空間で行われる。これにより、1つの処理空間のみが、前記少なくとも3つの堆積工程のうちの2つに必要となるので、より高い効率が得られる。さらなる実施形態において、本発明の方法は、シート構造体を製造することをさらに含む。前記シート構造体は、順に基板、バリア層、接着層、第2の基板を含み、バリア層を有する基板に、前記バリア層に対向する面に接着層を有する第2の基板を、積層することによって製造される。本発明の実施形態を用いて形成される基板とバリア層との組み合わせにより、非常に優れた均一な層が設けられ、これは、接着層を使用して第2の基板に接着するために特に好適なものである。得られたシート構造体は、PV用途におけるフロントシートまたはバックシートとしての使用に特に好適である。さらに1つの実施形態において、本発明の方法は、シート構造体を製造することをさらに含む。前記シート構造体は、順に基板、バリア層、接着層、バリア層および基板を含み、バリア層及び接着層を有する2つの基板を、前記バリア層の対向面で積層することによって製造される。さらに1つの実施形態において、本発明の方法は、少なくとも2つのシート構造体を、追加的接着層を間に挟んで積層することをさらに含む。多層シート構造体をさらに重ねることによって、WVTR特性をよりいっそう向上させることができる。さらに1つの実施形態において、本発明の方法は、大気圧グロー放電プラズマを使用して前記第2の基板を処理することをさらに含む。これにより、バリア層を有する被処理基板への接着層を使用した適切で優れた接着が高められる。さらに1つの実施形態において、前記基板および前記第2の基板がロールに供給され、連続的なプロセスでシート構造体を得る。これにより、非常に効率的な製造プロセスが提供される。さらに1つの実施形態において、前記基板および前記第2の基板が同時に処理されることにより、効率がさらに向上する。さらに複数の実施形態において、2つの基板が同じ処理空間で処理されるので、複数のシート構造体の生産効率をより向上させることができる。さらに1つの実施形態において、前記基板は、厚さ約20μm~100μmのPETまたはPENの基板である。さらなる1つの実施形態では、前記第2の基板が、厚さ約100μm~300μmのPETまたはPENの基板である。最終的に、例えばPV用途に使用される、非常に優れた特性を有する薄いシート構造体が形成される。本発明のさらなる態様において、本発明の実施形態のいずれか1つに係る方法によって作成される、ロールツーロールroll-to-roll式用途に使用するための被処理基板ロールが提供される。さらに、多層シート構造体を含む、PVバックシートまたはフロントシート用途のための多層シート構造体ロールが提供される。またさらなる1つの態様では、本発明の実施形態に係るロールの一部を含む装置、例えばPVモジュールが提供される。図1は、本発明の実施形態が適用され得る、簡略化された例示的プラズマ装置10の概略図を示す。本発明の実施形態に係るプラズマ装置10は、少なくとも3つの処理空間5、5’、5’’を含むが、図1では、簡略化のため、1つの処理空間5として示されている。各処理空間5は、エンクロージャ囲い7図1には示されていない内の処理チャンバーであるか、または図1に示すようなオープン構造の処理空間5であってもよい。2つの曲面電極2,3、例えば円筒形状の電極2,3が設けられる。一般に、前記電極対、すなわち電極2、3は、処理空間5において大気圧でグロー放電を発生かつ持続可能にするため誘電体バリアを備える。基板6がソースロール4から処理空間5を介して給送され、基板6の表面に層を堆積させることにより、または次の処理に備えて基板6の表面処理を行うことによって、被処理基板6’が得られる。ガイディングまたはテンションローラー8を設けて、確実に基板6が電極2、3の表面でしっかりと保持されるようにする。一例として、前記被処理基板6’は、他のプロセスでさらに使用される半製品として例えばロールに保持される。図2aには、本発明の複数の実施形態を実施することができるプラズマ装置10の概略図が示されている。この場合、プラズマ装置は、3つの異なるエンクロージャ7、7’、7’’内に3つの個別の処理空間5,5’、5’’を備え、各処理空間5、5’、5’’において、2つの基板6a、6bが同時に処理される。各処理空間5,5’、5’’には、図1を参照して記載されたものと全て同様に、電極対2、3;2’、3’;2’’、3’’が設けられている。プラズマ装置10中を基板6a、6bを適切にガイドするために、特定の位置にガイディングローラー8が設けられている。一例として回収ローラー4’が、被処理基板6a’、6b’を回収するために設けられている。図2aの例では、2つの基板6a、6bが同じ処理空間5,5’、5’’を介して同時に給送されるが、これは必須ではない。図2bは、プラズマ装置10の代替の設定を示しており、第1の基板6aが、所望によりエンクロージャ7’’’および電極対2’’’、3’’’を有する個別の処理空間5’’’内で2回処理される。第2の基板6bは、図2aの実施形態と同様に、3つの処理空間5,5’、5’’内で連続的に処理される。第1の基板6aの第3処理は、処理空間5’’における第2の基板6bの第3処理と同時に行われる。本発明の実施形態の特徴とするところは、基板6が、連続的に少なくとも3つの同じまたは異なる処理空間5を介して給送されることである。各処理空間5,5’、5’’等において、無機層が、厚さ5nm~最大20nmの範囲の無機バリア量で堆積する。5nm未満の堆積では、水蒸気透過率WVTR特性に優れたバリアにはならない。1つの処理空間5内での堆積が20nmを超えると、例えば粉塵によって引き起こされる欠陥を生じさせやすい。本方法の少なくとも3つの処理空間5,5’、5’’を介して基板6を導く実施形態の結果、堆積した無機層14を有する被処理基板6’が提供され図3a参照、前記3つの連続的堆積の結果として、前記無機層は15nm以上の厚さを有し得る。少なくとも3つの処理空間5,5’、5’’を使用した結果、バリアの最大厚みは限定されず、450nmを超えることさえあり得るが、経済的観点から最大50nmの厚み量が有効である。前記電極2、3;2’、3’;2’’、3’’は、例えば取付軸および/またはベアリング配列を使用して、回転動作ができるように取付けられてもよい。電極2、3;2’、3’;2’’、3’’は、自由に回転する、またはコントローラもしくは駆動装置そのようなものとして当業者には公知であるものを使用して特定の角速度で駆動されてもよい回転電極rollingeletrode2、3;2’、3’;2’’、3’’として設けられてもよい。さらなる代替として、前記電極2、3は、平坦/環状か、環状/平坦か、または平坦/平坦である構成を有する電極対を使用して設けられてもよい。電極2、3はまた、複数のセグメントから形成されてもよい。効率的および均一的な堆積のため、図2a、図2bの実施形態で示されているように、2つの基板6a、6bは同じ処理空間5、5’、5’’、5’’’で同時に処理されてもよい。前記基板6a、6bは各ロール4から処理空間5に供給されてもよく、ガイディングローラー8を使用して処理空間5への基板6a、6bの連続給送が可能になる。被処理基板6a’、6b’は、さらなる処理または例えば保管のために処理空間5、5’、5’’等を出る。前記少なくとも3つの同じ処理空間5、5’、5’’で2つの基板6a、6bを同時に処理することによって、各基板6a、6bのための個別処理プロセスを別々に使用する用途と比べて、よりいっそう均一で効果的なプラズマ処理が行われる。グロー放電プラズマの形成は、電極2、3;2’、3’;2’’、3’’に接続されたプラズマ制御装置11図1参照を使用して変位電流を制御すること動的整合によって誘導されてもよく、処理空間5で基板6a、6bの表面が均一に活性化される。例えばプラズマ制御装置11は、参照により本明細書に取り込まれる出願人の係属中の国際特許出願PCT/NL2006/050209および欧州特許出願EP-A-1381257、EP-A-1626613に記載されているように、電源および関連する制御回路を含む。別の実施形態において、各電極対は、電極対2、3;電極対2’、3’、電極対2’’、3’’それぞれに対する専用の電力制御装置を有することができ、前記電力制御装置の各々は、参照により本明細書に取り込まれる出願人の前記係属中の国際特許出願PCT/NL2006/050209および欧州特許出願EP-A-1381257、EP-A-1626613に記載されているように、電源および関連する制御回路を含む。処理空間5内に、少なくとも1つのガス供給装置図示されないから、前駆体を含むガスの組み合わせが導入されてもよい。ガス供給装置は、当業者に公知であるような、貯留部、供給部、混合部を備えていてもよい。その目的は、前駆体を処理空間内で化合物または化学元素に分解して基板表面に堆積させることである。各々異なる処理空間5内に多くの異なる前駆体を導入すると効率的になり得る場合もあるが、PV用途におけるバックシートとしてのシートの場合、1つの前駆体を導入することが模範的であり、結果的に全く同一の堆積組成物が得られる。一般に、ガスの組み合わせは、処理空間5において前駆体の他に例えば酸素などの活性ガスおよび不活性ガス混合体を含む。1つの実施形態において、このガスの組み合わせは調整されて、活性ガスとして酸素を4~25の範囲で含む。別の実施形態では、前記組み合わせは、6~21の範囲で活性ガスとして酸素を含んでもよい。別の実施形態では、ガス混合体として空気が使用される。電源オン時間をこれらのパルス例の電源オン時間と電源オフ時間との合計で割ったものとして定義されるデューティサイクルは大きく、典型的には90以上の範囲で、例えば100であってもよい。一または複数の電源各電極対2、3は、他の電極対2、3から独立した電源を有してもよいのでは、幅広い周波数を提供する電源であることが可能である。例えば、オン時間の間、低周波数f=10kHz~450kHzの電気信号を提供することができる。また、例えば、f=450kHz~30MHzの高周波数電気信号を提供することができる。さらに、450kHz~1MHzまたは1MHz~20MHz等の様な他の周波数を提供することもできる。一般に、ガス組成物の前駆体濃度が2ppm~500ppmおよび、例えば、気相の酸素濃度が4以上、例えば6、且つ25未満、例えば10あれば、良好な結果が得られる。本発明において反応性ガスとして酸素には多くの利点があるが、例えば水素、二酸化炭素、アンモニア、窒素酸化物等の他の反応性ガスを使用してもよい。処理空間毎に異なるガス組成物を使用することが有利な場合もある。本発明では、前駆体は以下から選択されることが可能であるしかしこれらに限定されない:WCO6、NiCO4、MoCO6、Co2CO8、Rh4CO12、Re2CO10、CrCO6、またはRu3CO12、タンタルエトキシドTaOC2H55、テトラジメチルアミノチタンすなわちTDMATSiH4CH4、B2H6またはBCl3、WF6、TiCl4、GeH4、Ge2H6Si2H6GeH33SiH、GeH32SiH2、ヘキサメチルジシロキサンHMDSO、テトラメチルジシロキサンTMDSO、1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタンシロキサン、テトラエトキシシランTEOS、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-ブチルトリメトキシシラン、i-ブチルトリメトキシシラン、n-ヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アミノメチルトリメチルシラン、ジメチルジメチルアミノシラン、ジメチルアミノトリメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、ジエチルアミノジメチルシラン、1-トリメチルシリルピロール、1-トリメチルシリルピロリジン、イソプロピルアミノメチルトリメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、アニリノトリメチルシラン、2-ピペリジノエチルトリメチルシラン、3-ブチルアミノプロピルトリメチルシラン、3-ピペリジノプロピルトリメチルシラン、ビスジメチルアミノメチルシラン、1-トリメチルシリルイミダゾール、ビスエチルアミノジメチルシラン、ビスブチルアミノジメチルシラン、2-アミノエチルアミノメチルジメチルフェニルシラン、3-4-メチルピペラジノプロピルトリメチルシラン、ジメチルフェニルピペラジノメチルシラン、ブチルジメチル-3-ピペラジノプロピルシラン、ジアニリロジメチルシラン、ビスジメチルアミノジフェニルシラン、1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、1,3-ビスクロロメチル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、ジブチルスズジアセテート、アルミニウムイソプロポキシド、トリス2,4-ペンタジオナトアルミニウム、ジブチルジエトキシスズ、ブチルスズトリス2,4-ペンタンジオナト、テトラエトキシスズ、メチルトリエトキシスズ、ジエチルジエトキシスズ、トリイソプロピルエトキシスズ、エチルエトキシスズ、メチルメトキシスズ、イソプロピルイソプロポキシスズ、テトラブトキシスズ、ジエトキシスズ、ジメトキシスズ、ジイソプロポキシスズ、ジブトキシスズ、ジブチリロキシスズ、ジエチルスズ、テトラブチルスズ、ビス2,4-ペンタンジオナトスズ、エチルスズアセトアセトナート、エトキシスズ2,4-ペンタンジオナト、ジメチルスズ2,4-ペンタンジオナト、ジアセトメチルアセタートスズ、ジアセトキシスズ、ジブトキシジアセトキシスズ、ジアセトキシスズジアセトアセトナート、水素化スズ、二塩化スズ、四塩化スズ、トリエトキシチタン、トリメトキシチタン、トリイソプロポキシチタン、トリブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、メチルジメトキシチタン、エチルトリエトキシチタン、メチルトリプロポキシチタン、トリエチルチタン、トリイソプロピルチタン、トリブチルチタン、テトラエチルチタン、テトライソプロピルチタン、テトラブチルチタン、テトラジメチルアミノチタン、ジ2,4-ペンタンジオナトジメチルチタン、トリ2,4-ペンタンジオナトエチルチタン、トリス2,4-ペンタンジオナトチタン、トリスアセトメチルアセタートチタン、トリアセトキシチタン、ジプロポキシプロピオニロキシチタン、ジブチリロキシチタン、水素化一チタン、水素化二チタン、トリクロロチタン、テトラクロロチタン、テトラエチルシラン、テトラメチルシラン、テトライソプロピルシラン、テトラブチルシラン、テトライソプロポキシシラン、ジ2,4-ペンタンジオナトジエチルシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラハイドライドシラン、ヘキサハイドライドジシラン、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、イソプロポキシアルミニウム、トリス2,4-ペンタンジオナトニッケル、ビス2,4-ペンタンジオナトマンガン、イソプロポキシボロン、トリ-n-ブトキシアンチモン、トリ-n-ブチルアンチモン、ジ-n-ブチルビス2,4-ペンタンジオナトスズ、ジ-n-ブチルジアセトキシスズ、ジ-t-ブチルジアセトキシスズ、テトライソプロポキシスズ、ジ2,4-ペンタンジオナト亜鉛、およびこれらの組み合わせ。さらに、例えば、欧州特許出願EP-A-1351321または欧州特許出願EP-A-1371752に記載されている様な前駆体を使用することができる。本発明の実施形態において、大気圧グロー放電プラズマによって堆積される前駆体を含むプラズマガスは、例えば、連続的なロール状の2つの樹脂基板6a、6bに同時に接触させることができる。図2aの実施形態に示されるように、少なくとも3つの処理空間5,5’、5’’が使用される。これらの工程の結果、前駆体および/または担体物質の消費が低減され、そのため、基板6a、6b上に使用される前駆体を含むプラズマガスがよりいっそう効率的に印加されるので、経済的および商業化的観点から利点がある。上記図1、図2a、図2bに関連して記載された実施形態は、同時に2つの樹脂ロール例えば、基板6a、6bと接触するプラズマガスを単に例証するものであり、本方法は、遠隔操作型プラズマ装置の使用および同時に2つの樹脂ロール6a、6b上に堆積される前駆体元素を含むプラズマガスを噴射することも含んでいてもよいと理解され得る。さらに、大気圧グロー放電の使用により、複雑で高価な真空機器の使用が避けられ、製造プロセスがより簡単でより費用対効果の高いものになる。基板6上への堆積の結果、無機層14が15nm以上の厚さで形成される。フレキシブル基板6上における15nm以上というそのような低堆積量は文献に記載されたことはあるが、PVモジュール用のフロントシートまたはバックシート用途において、そのような低量の無機バリアを有して大気圧中で調製された基板は使用できない。なぜならば、こうしたバリア層には欠陥があまりに多く、耐湿熱試験DampHeattestへの暴露後、PVシートの接着効果の点で特に目に見えて十分な均一性がないからである。さらに、この均一な堆積の結果として、約0.9の値の粗さ指数α、0.2未満の値の成長指数β、6を超える値の動的指数zを含むスケーリング成分を特徴とする無機バリア層14を有するシートを調製することができるようになった。得られた無機バリア層14の表面は、これらの相互に関連するスケーリング成分によって特徴づけられることができ、前記スケーリング成分は、粗さ指数α、成長指数β、および動的指数zを含む。上記被処理基板6’は、スケーリングパラメータとして、α~0.9、β<0.1、z~9およびα~0.83、β<0.1、z~8をそれぞれ有し、いかなる公知の普遍性クラスにも属さない。また、別の複数の実施形態は、この未公知の普遍性クラスに属し、成長指数β<0.2、且つ動的指数z>6である。有利な特徴を示す別の複数の例は、成長指数β<0.1、例えばβ<0.01である被処理基板6’に関する。他の複数例として、動的指数zが9または10の値にさえなる被処理基板6’が挙げられるが、これらに限定されない。関与する仕組みは明らかではないが、有機層の内在欠陥は、粉塵による接着力の低下や基板6の熱成形が原因であると仮定される。処理空間5内で制御される堆積量および制御される酸素量で、基板6が少なくとも3回処理空間5を介してガイドされることによって記載されたような前記方法を使用すれば、薄い無機バリア14を有する中間シート6’を製造できることが証明された。前記無機バリア14は、バリア性が良好で欠陥のないPVセルやPVモジュールを保護するためのフロントシートまたはバックシート用中間物として使用することができるこれは、中間物の基板6’が、1つまたは2つの堆積工程で制御されずに製造された場合ではない。本発明の1つの例示的実施形態において、製造されたシートは、PETまたはPEN基板6を使用したバックシートとして使われる。1つの例示的実施形態では、前記PETまたはPEN基板6は、20μm~100μmの基板である。本発明のさらなる複数の実施形態において、バリアを有する基板6は、次に、その無機バリア面側を上向きにして、接着剤15を使用し、別の樹脂シート9または、図3aの断面図に示すようなバリアを有する第2の基板6に積層されて、積層シート12が得られる。前記第2の基板9は、例えば、厚さが100μm~300μm例えば150μmの範囲にあるPETまたはPEN基板である。使用され得る基板9の他の例としては、エチレン酢酸ビニルEVA、ポリビニルブチラールPVB、ポリテトラフルオロエチレンPTFE、パーフルオロアルコキシ樹脂類PEA、すなわち、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体FEP、テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル-ヘキサフルオロプロピレン共重合体EPE、テトラフルオロエチレン-エチレンもしくはプロピレン共重合体ETFE、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂PCTFE、エチレン-クロロトリフルオロエチレン共重合体ECTFE、フッ化ビニリデン樹脂類PVDF、およびフッ化ポリビニルPVFの透明シート類、または、EVA、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリウレタン、液晶ポリマー、アクラー、アルミニウムとポリエステルとの共押出シート、スパッタ酸化アルミニウムポリエステル、スパッタ酸化ケイ素もしくは窒化ケイ素ポリエステル、スパッタ酸化アルミニウムポリカーボネート、およびスパッタ酸化ケイ素もしくは窒化ケイ素ポリカーボネートの共押出シートである。前記基板9は、選択された接着剤15と良好な接着力を容易に得られるように前処理されてもよい。これは、コロナ処理の適用、アンカー層もしくは下塗層の使用、または化学処理であってもよい。図3aに関連して上記で説明した様な2ロールツー1ロール作業2-rolls-to-1-rolloperationの結果、さらなる製品としての多層積層構造体12が、別の個別の2ロールツー1ロール作業2-rolls-to-1-rolloperation工程で開始基板ロールとして各々製造された多層積層構造体12を使用して作成できることが十分理解され得る。この個別の構造体12は、図3bの断面図に示すように、追加的接着層16を使用して積層される。その結果、より厚くなった多層積層構造体12がなお一層良好なバリア性を有して作成されてもよい。前記シート構造体12のこれらの実施形態は、図2bに示したものと同様の設定を使用して提供されてもよい。当該設定では、テンションローラー9が、各基板6a、6bの前記3つの処理空間5、5’、5’’、5’’’の下流に設けられ、被処理基板6a’、6b’を積層装置23にそして次に、所望により設けられてもよい硬化要素24を介してガイドして、多層積層構造体12の1つの実施形態が提供される。積層装置23および硬化要素24はまた、図3aおよびまたは図3bに示すようなシート構造体12を形成するために適用されてもよい。結合に採用され得る接着剤15、16は、全ての好適な熱可塑性ならびに弾塑性ポリマー類;紫外線や電子ビーム等の照射、加熱、化学開始剤またはこれらの組み合わせによって硬化可能なポリマー類;アクリル類、ウレタン類、エポキシド類、ポリオレフィン類、有機シリコン類その他の有機接着剤類または有機物含有接着剤類;および、揮発性の、もしくは噴霧、スパッタリング、鋳造、浸漬塗装等の他の手段で堆積させた有機化合物類、有機シリコン化合物類ならびに他の有機金属化合物類のプラズマ重合、オリゴマー化または硬化生成物等が挙げられる。前記接着剤15、16は、好適には厚50nm~1000μmの厚さ、例えば、100nm~100μmの厚さを有していてもよい。前記積層工程の結果、作成されたシート12は、順にa薄い無機バリア14を有する樹脂フィルム6と、b接着剤15と、cASTMD903-98に準ずる耐湿熱剥離接着力試験DampHeatpeeladhesiontestへの暴露後に明らかとなる非常に優れたバリア性を有する樹脂シート9とからなり、且つWVTR測定で明らかな優れたバリア性を有する。これにより、本発明の実施形態に係る積層シート12は、PV用途でのバックシートまたはフロントシートとして使用されることができると共に、無欠陥で、クラックが無く緻密であり、強力で良好な接着性があること等、非常に優れた特性を有している。本発明に係るバリアシート構造体12は、酸素および水蒸気に対し非透過性の透明材料を必要とすることが従来技術において公知である液晶ディスプレイ等他の種類の装置に使用されてもよい。表1に、WVTRおよび耐湿熱接着力試験の結果を示す。バリアフィルムの水蒸気透過率を定量化するために、MoconAquatranを使用する本装置は、最小検出限界が510-4g/m2日であるクーロメトリックセル電気化学セルを使用する。この方法では、当業者に公知のIR吸収を利用する透過測定よりも高感度で正確な透過率評価が得られる。測定条件は、10°C~40°C、および相対湿度を通常60~90まで変更可能ある。接着力を定量化するため、ASTMD903-98準じた耐湿熱剥離接着力試験を実施した。このために、試料を85°C、相対湿度85の条件で環境室に入れ、500/1000/1500/2000時間後に評価した。表2における下記の短縮表記は以下を適用する:XX=PET/無機バリア界面の接着引裂tearbond50を超える;X=界面基板と無機バリア上の一部10~50/C=界面基板と無機バリアに少々の引裂破損10未満およびO=接着引裂無し。動的スケーリング成分dynamicscalingcomponentsα、β、zの値を定量化するために、2×2ミクロンの表面トポロジーを、AFMVeeco社を使用して特徴付けた。本定量については、参照により本明細書に取り込まれる出願人による未公開のPCT/GB2010/050208に記載されている。実施例1~10:全ての電極対2、3を独立して専用電源11に動的に整合させた。電力を継続的に各装置AC/800W/200kHzに供給した。各処理空間5の前駆体として、2ppmのTEOSを使用した。各処理空間5のガス混合体は、O2/N2混合体を含有しており、それぞれ10/90に調整される実施例8~10を除く。実施例8では、各処理空間5でそれぞれ1/99に調整されたO2/N2混合体を使用した。実施例9では、各処理空間5でそれぞれ6/94に調整されたO2/N2混合体を使用した。実施例10では、各処理空間5でガス混合体として普通の空気を使用した。全ての実施例で、PET試料を基板6として使用した。比較実施例1デュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μm上に、大気圧プラズマ装置10および1つの処理空間5を使用し、図1に示すような電極設定を使用してバリアフィルムを堆積させる。基板6のプラズマ放電に面する側に、25nmのSiOx層14を堆積させる。MoconAquatranによりWVTRを調べ、AFMVeeco社により動的スケーリング成分α、β、zを定量した。次の工程として、10ミクロンの疎水性アクリレートを使用し、積層装置laminatorで、前記基板をバリア側を向けて別のデュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μmに積層した後、紫外線硬化を行った。前記積層体は、上記耐湿熱試験によって接着力について調べられた。比較実施例2大気圧プラズマ装置10および1つの処理空間5を使用して、図1に示すような電極設定を使用し、バリアフィルムを堆積させる。基板6のプラズマ放電に面する側に、50nmのSiOx層14を堆積させる。MoconAquatranによりWVTRを調べ、AFMVeeco社により動的スケーリング成分α、β、zを定量した。次の工程として、10ミクロンの疎水性アクリレートを使用し、積層装置で、前記基板をバリア側を向けて別のデュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μmに積層した後、紫外線硬化を行った。比較実施例32つの処理空間を使用し、図1の電極設定を使用してバリアフィルムを堆積させる。各処理空間において、基板6のプラズマ放電に面する側に30nmのSiOx層14を堆積させる。MoconAquatranによりWVTRを調べ、AFMVeeco社により動的スケーリング成分α、β、zを定量した。次の工程として、10ミクロンの疎水性アクリレートを使用し、積層装置で、前記基板をバリア側を向けて別のデュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μmに積層した後、紫外線硬化を行った。前記積層体は、上記耐湿熱試験によって接着力を調べられた。実施例43つの処理空間を使用し、図1の電極設定を使用してバリアフィルムを堆積させる。各処理空間において、基板6のプラズマ放電に面する側に20nmのSiOx層を堆積させる。MoconAquatranによりWVTRを調べ、AFMVeeco社により動的スケーリング成分α、β、zを定量した。次の工程として、10ミクロンの疎水性アクリレートを使用し、積層装置で、前記基板をバリア側を向けて別のデュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μmに積層した後、紫外線硬化を行った。前記積層体は、上記耐湿熱試験によって接着力を調べられた。実施例54つの処理空間を使用し、図1の電極設定を使用してバリアフィルムを堆積させる。各処理空間において、基板6のプラズマ放電に面する側に15nmのSiOx層を堆積させる。MoconAquatranによりWVTRを調べ、AFMVeeco社により動的スケーリング成分α、β、zを定量した。次の工程として、10ミクロンの疎水性アクリレートを使用し、積層装置で、前記基板をバリア側を向けて別のデュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μmに積層した後、紫外線硬化を行った。前記積層体は、上記耐湿熱試験によって接着力を調べられた。実施例64つの処理空間を使用し、図1の電極設定を使用してバリアフィルムを堆積させる。各処理空間において、基板6のプラズマ放電に面する側に15nmのSiOx層を堆積させる。MoconAquatranによりWVTRを調べ、AFMVeeco社により動的スケーリング成分α、β、zを定量した。次の工程として、10ミクロンの疎水性アクリレートを使用し、積層装置で、前記基板をバリア側を向けて別のデュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μmに積層した後、紫外線硬化を行った。前記積層体は、上記耐湿熱試験によって接着力を調べられた。実施例73つの処理空間を使用し、図1の電極設定を使用してバリアフィルムを堆積させる。各処理空間において、基板6のプラズマ放電に面する側に20nmのSiOx層を堆積させる。MoconAquatranによりWVTRを調べ、AFMVeeco社により動的スケーリング成分α、β、zを定量した。次の工程として、10ミクロンの疎水性アクリレートを使用し、積層装置において、前記基板をバリア側を向けて別のデュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μmに積層した後、紫外線硬化を行った。前記積層体は、上記耐湿熱試験によって接着力を調べられたよりもであった。実施例83つの処理空間を使用し、図1の電極設定を使用してバリアフィルムを堆積させる。各処理空間において、基板6のプラズマ放電に面する側に20nmのSiOx層を堆積させる。実施例7と比較すると、処理空間において、O2/N2混合体は1/99に調整される。MoconAquatranによりWVTRを調べ、AFMVeeco社により動的スケーリング成分α、β、zを定量した。次の工程として、10ミクロンの疎水性アクリレートを使用し、積層装置で、前記基板をバリア側を向けて別のデュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μmに積層した後、紫外線硬化を行った。前記積層体は、上記耐湿熱試験によって接着力を調べられた。実施例93つの処理空間を使用し、図1の電極設定を使用してバリアフィルムを堆積させる。各処理空間において、基板6のプラズマ放電に面する側に20nmのSiOx層を堆積させる。実施例7と比較すると、処理空間において、O2/N2混合体は1/99に調整される。MoconAquatranによりWVTRを調べ、AFMVeeco社により動的スケーリング成分α、β、zを定量した。次の工程として、10ミクロンの疎水性アクリレートを使用し、積層装置で、前記基板をバリア側を向けて別のデュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μmに積層した後、紫外線硬化を行った。実施例103つの処理空間を使用し、図1の電極設定を使用してバリアフィルムを堆積させる。各処理空間において、基板6のプラズマ放電に面する側に20nmのSiOx層を堆積させる。実施例7と比較すると、処理空間において、ガス混合体として空気を使用した。MoconAquatranによりWVTRを調べ、AFMVeeco社により動的スケーリング成分α、β、zを定量した。次の工程として、10ミクロンの疎水性アクリレートを使用し、積層装置において、前記基板をバリア側を向けて別のデュポン帝人フィルム社製PETST505メリネックス幅:20cm/厚さ100μmに積層した後、紫外線硬化を行った。その後、前記積層体について、上記耐湿熱試験によって接着力を調べた。"