"機関排気通路内に排気ガスの空燃比を検出するための空燃比センサを配置し、該空燃比センサにより検出された空燃比に基づいて排気浄化制御を行うようにした内燃機関の排気浄化装置において、該空燃比センサが固体電解質と、固体電解質の両側面を夫々覆う電極と、一方の電極を覆う拡散抵抗層とを有すると共に排気ガスが該拡散抵抗層上に導かれる型式のセンサからなり、排気ガスの空燃比が変化して該空燃比センサにより検出される空燃比が変化したとき、該空燃比センサにより検出される空燃比の変化が空燃比センサへの硫黄成分の付着量により左右され、このとき空燃比センサへの硫黄成分の付着量が多いほど該空燃比センサにより検出される空燃比の変化量が小さくなると共に空燃比の変化期間が長くなり、このときの空燃比センサにより検出される空燃比の変化から空燃比センサの硫黄被毒量を検出するようにした内燃機関の排気浄化装置。機関排気通路内に排気浄化触媒を配置し、該空燃比センサにより検出される空燃比の変化から該排気浄化触媒の硫黄被毒量を推定するようにした請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。該排気浄化触媒上流の機関排気通路内に炭化水素を供給するための炭化水素供給弁を配置し、該排気浄化触媒において排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とが反応せしめられ、該排気浄化触媒の排気ガス流通表面上には貴金属触媒が担持されていると共に該貴金属触媒周りには塩基性の排気ガス流通表面部分が形成されており、該排気浄化触媒は、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、該炭化水素濃度の振動周期を該予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の周期でもって振動するように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射周期が制御されると共に、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が予め定められた範囲内の振幅となるように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量が制御される請求項2に記載の内燃機関の排気浄化装置。該空燃比センサが排気浄化触媒の下流に配置されており、該空燃比センサの出力信号に基づいて、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が予め定められた範囲内の振幅となるように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量が制御される請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。該空燃比センサが、炭化水素供給弁上流の機関排気通路内に配置された上流側空燃比センサと排気浄化触媒下流の機関排気通路内に配置された下流側空燃比センサからなり、該上流側空燃比センサの出力信号に基づいて、機関から排出される排気ガスの空燃比が予め定められた空燃比となるように機関燃焼室に供給される燃料の量が制御され、該下流側空燃比センサの出力信号に基づいて、排気浄化触媒に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が予め定められた範囲内の振幅となるように炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射量が制御される請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。該空燃比センサが排気浄化触媒の下流に配置されており、該空燃比センサにより検出される空燃比の変化から下流側空燃比センサが硫黄被毒をしたのか或いは炭化水素供給弁が目詰まりをしたのかが判別される請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記排気浄化触媒内において排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とが反応して窒素および炭化水素を含む還元性中間体が生成され、上記炭化水素の噴射周期は還元性中間体を生成し続けるのに必要な周期である請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記炭化水素の噴射周期が0.3秒から5秒の間である請求項7に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記貴金属触媒は白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記排気浄化触媒の排気ガス流通表面上にアルカリ金属又はアルカリ土類金属又は希土類又はNOXに電子を供与しうる金属を含む塩基性層が形成されており、該塩基性層の表面が上記塩基性の排気ガス流通表面部分を形成している請求項3に記載の内燃機関の排気浄化装置。該空燃比センサが排気浄化触媒の下流に配置されており、硫黄被毒を生じていないときの該空燃比センサにより検出される空燃比の変化を代表する値が基準値として予め求められており、この基準値に対する、該空燃比センサにより検出された空燃比の変化を代表する値から空燃比センサの硫黄被毒量を検出するようにした請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。該空燃比センサにより検出される空燃比の変化を代表する値がリッチ側ピーク空燃比である請求項11に記載の内燃機関の排気浄化装置。該空燃比センサにより検出される空燃比とベース空燃比との差の積分値が算出されており、排気ガスの空燃比が瞬時的に変化したときに該空燃比センサにより検出される空燃比は、空燃比センサが硫黄被毒をしていなければ予め定められた期間内で瞬時的に変化を完了するが空燃比センサの硫黄被毒量が増大すると該予め定められた期間を超えて変化し続け、空燃比センサにより検出される空燃比の変化を代表する値が該予め定められた期間内における該積分値と該予め定められた期間を超えているときの該積分値との比である請求項11に記載の内燃機関の排気浄化装置。上記基準値は、排気ガス温が上昇せしめられ或いは排気ガスの空燃比がリッチにされ或いはそれらの双方により空燃比センサの硫黄被毒が回復されたときに検出される請求項11に記載の内燃機関の排気浄化装置。該空燃比センサにより検出される空燃比の変化を代表する値を求めるときには、排気ガスの空燃比のリッチ側ピーク空燃比が更にリッチ側とされる請求項11に記載の内燃機関の排気浄化装置。そこで本発明者は、空燃比センサにより検出された空燃比が排気ガス中に含まれるSOXによってどのような影響を受けるかについて検討し、その結果空燃比センサにより検出された空燃比と空燃比センサの硫黄被毒との関係を見付け出したのである。本発明の目的は、この見付け出された関係に基づいて空燃比センサの硫黄被毒を検出するようにした内燃機関の排気浄化装置を提供することにある。本発明によれば、機関排気通路内に排気ガスの空燃比を検出するための空燃比センサを配置し、空燃比センサにより検出された空燃比に基づいて排気浄化制御を行うようにした内燃機関の排気浄化装置において、空燃比センサが固体電解質と、固体電解質の両側面を夫々覆う電極と、一方の電極を覆う拡散抵抗層とを有すると共に排気ガスがこの拡散抵抗層上に導かれる型式のセンサからなり、排気ガスの空燃比が変化して空燃比センサにより検出される空燃比が変化したとき、空燃比センサにより検出される空燃比の変化が空燃比センサへの硫黄成分の付着量により左右され、このとき空燃比センサへの硫黄成分の付着量が多いほど空燃比センサにより検出される空燃比の変化量が小さくなると共に空燃比の変化期間が長くなり、このときの空燃比センサにより検出される空燃比の変化から空燃比センサの硫黄被毒量を検出するようにした内燃機関の排気浄化装置が提供される。空燃比センサの硫黄被毒量を検出することができる。図1に圧縮着火式内燃機関の全体図を示す。図1を参照すると、1は機関本体、2は各気筒の燃焼室、3は各燃焼室2内に夫々燃料を噴射するための電子制御式燃料噴射弁、4は吸気マニホルド、5は排気マニホルドを夫々示す。吸気マニホルド4は吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7aの出口に連結され、コンプレッサ7aの入口は吸入空気量検出器8を介してエアクリーナ9に連結される。吸気ダクト6内にはステップモータにより駆動されるスロットル弁10が配置され、更に吸気ダクト6周りには吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置11内に導かれ、機関冷却水によって吸入空気が冷却される。一方、排気マニホルド5は排気ターボチャージャ7の排気タービン7bの入口に連結される。排気タービン7bの出口は排気管12aを介して排気浄化触媒13の入口に連結され、排気浄化触媒13の出口は排気管12bを介して、排気ガス中に含まれるパティキュレートを捕集するためのパティキュレートフィルタ14に連結される。排気浄化触媒13上流の排気管12a内には圧縮着火式内燃機関の燃料として用いられる軽油その他の燃料からなる炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15が配置される。図1に示される実施例では炭化水素供給弁15から供給される炭化水素として軽油が用いられている。なお、本発明はリーン空燃比のもとで燃焼の行われる火花点火式内燃機関にも適用することができる。この場合、炭化水素供給弁15からは火花点火式内燃機関の燃料として用いられるガソリンその他の燃料からなる炭化水素が供給される。一方、排気マニホルド5と吸気マニホルド4とは排気ガス再循環以下、EGRと称す通路16を介して互いに連結され、EGR通路16内には電子制御式EGR制御弁17が配置される。また、EGR通路16周りにはEGR通路16内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置18が配置される。図1に示される実施例では機関冷却水が冷却装置18内に導かれ、機関冷却水によってEGRガスが冷却される。一方、各燃料噴射弁3は燃料供給管19を介してコモンレール20に連結され、このコモンレール20は電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ21を介して燃料タンク22に連結される。燃料タンク22内に貯蔵されている燃料は燃料ポンプ21によってコモンレール20内に供給され、コモンレール20内に供給された燃料は各燃料供給管19を介して燃料噴射弁3に供給される。電子制御ユニット30はデジタルコンピュータからなり、双方向性バス31によって互いに接続されたROMリードオンリメモリ32、RAMランダムアクセスメモリ33、CPUマイクロプロセッサ34、入力ポート35および出力ポート36を具備する。炭化水素供給弁15上流の排気管12a内には、機関から排出された排気ガスの空燃比を検出するための上流側空燃比センサ23が配置されており、排気浄化触媒13下流の排気管12b内には、排気浄化触媒13から流出した排気ガスの空燃比を検出するための下流側空燃比センサ24が配置されている。また、排気浄化触媒13の下流には排気浄化触媒13の温度を検出するための温度センサ24が配置されており、パティキュレートフィルタ14にはパティキュレートフィルタ14の前後の差圧を検出するための差圧センサ26が取付けられている。これら上流側空燃比センサ23、下流側空燃比センサ24、温度センサ25、差圧センサ26および吸入空気量検出器8の出力信号は夫々対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル40にはアクセルペダル40の踏込み量Lに比例した出力電圧を発生する負荷センサ41が接続され、負荷センサ41の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。更に入力ポート35にはクランクシャフトが例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ42が接続される。一方、出力ポート36は対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁3、スロットル弁10の駆動用ステップモータ、炭化水素供給弁15、EGR制御弁17および燃料ポンプ21に接続される。図2は排気浄化触媒13の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。この排気浄化触媒13では図2に示されるように例えばアルミナからなる触媒担体50上には貴金属触媒51,52が担持されており、更にこの触媒担体50上にはカリウムK、ナトリウムNa、セシウムCsのようなアルカリ金属、バリウムBa、カルシウムCaのようなアルカリ土類金属、ランタノイドのような希土類および銀Ag、銅Cu、鉄Fe、イリジウムIrのようなNOXに電子を供与しうる金属から選ばれた少なくとも一つを含む塩基性層53が形成されている。排気ガスは触媒担体50上に沿って流れるので貴金属触媒51,52は排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上に担持されていると言える。また、塩基性層53の表面は塩基性を呈するので塩基性層53の表面は塩基性の排気ガス流通表面部分54と称される。一方、図2において貴金属触媒51は白金Ptからなり、貴金属触媒52はロジウムRhからなる。即ち、触媒担体50に担持されている貴金属触媒51,52は白金PtおよびロジウムRhから構成されている。なお、排気浄化触媒13の触媒担体50上には白金PtおよびロジウムRhに加えて更にパラジウムPdを担持させることができるし、或いはロジウムRhに代えてパラジウムPdを担持させることができる。即ち、触媒担体50に担持されている貴金属触媒51,52は白金Ptと、ロジウムRhおよびパラジウムPdの少なくとも一方とにより構成される。炭化水素供給弁15から排気ガス中に炭化水素が噴射されるとこの炭化水素は排気浄化触媒13において改質される。本発明ではこのとき改質された炭化水素を用いて排気浄化触媒13においてNOXを浄化するようにしている。図3はこのとき排気浄化触媒13において行われる改質作用を図解的に示している。図3に示されるように炭化水素供給弁15から噴射された炭化水素HCは触媒51によって炭素数の少ないラジカル状の炭化水素HCとなる。図4は炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給タイミングと排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化とを示している。なお、この空燃比A/Finの変化は排気浄化触媒13に流入する排気ガス中の炭化水素の濃度変化に依存しているので図4に示される空燃比A/Finの変化は炭化水素の濃度変化を表しているとも言える。ただし、炭化水素濃度が高くなると空燃比A/Finは小さくなるので図4においては空燃比A/Finがリッチ側となるほど炭化水素濃度が高くなっている。図5は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させることによって図4に示されるように排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finを変化させたときの排気浄化触媒13によるNOX浄化率を排気浄化触媒13の各触媒温度TCに対して示している。本発明者は長い期間に亘ってNOX浄化に関する研究を重ねており、その研究課程において、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると、図5に示されるように400°C以上の高温領域においても極めて高いNOX浄化率が得られることが判明したのである。更にこのときには窒素および炭化水素を含む多量の還元性中間体が塩基性層53の表面上に、即ち排気浄化触媒13の塩基性排気ガス流通表面部分54上に保持又は吸着され続けており、この還元性中間体が高NOX浄化率を得る上で中心的役割を果していることが判明したのである。次にこのことについて図6Aおよび6Bを参照しつつ説明する。なお、これら図6Aおよび6Bは排気浄化触媒13の触媒担体50の表面部分を図解的に示しており、これら図6Aおよび6Bには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動せしめたときに生ずると推測される反応が示されている。図6Aは排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低いときを示しており、図6Bは炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されて排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が高くなっているときを示している。さて、図4からわかるように排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比は一瞬を除いてリーンに維持されているので排気浄化触媒13に流入する排気ガスは通常酸素過剰の状態にある。従って排気ガス中に含まれるNOは図6Aに示されるように白金51上において酸化されてNO2となり、次いでこのNO2は更に酸化されてNO3となる。また、NO2の一部はNO2-となる。この場合、NO3の生成量の方がNO2-の生成量よりもはるかに多い。従って白金Pt51上には多量のNO3と少量のNO2-が生成されることになる。これらNO3およびNO2-は活性が強く、以下これらNO3およびNO2-を活性NOXと称する。一方、炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されると図3に示されるようにこの炭化水素は排気浄化触媒13内において改質され、ラジカルとなる。その結果、図6Bに示されるように活性NOX周りの炭化水素濃度が高くなる。ところで活性NOXが生成された後、活性NOX周りの酸素濃度が高い状態が一定時間以上継続すると活性NOXは酸化され、硝酸イオンNO3-の形で塩基性層53内に吸収される。しかしながらこの一定時間が経過する前に活性NOX周りの炭化水素濃度が高くされると図6Bに示されるように活性NOXは白金51上においてラジカル状の炭化水素HCと反応し、それにより還元性中間体が生成される。この還元性中間体は塩基性層53の表面上に付着又は吸着される。なお、このとき最初に生成される還元性中間体はニトロ化合物R-NO2であると考えられる。このニトロ化合物R-NO2は生成されるとニトリル化合物R-CNとなるがこのニトリル化合物R-CNはその状態では瞬時しか存続し得ないのでただちにイソシアネート化合物R-NCOとなる。このイソシアネート化合物R-NCOは加水分解するとアミン化合物R-NH2となる。ただしこの場合、加水分解されるのはイソシアネート化合物R-NCOの一部であると考えられる。従って図6Bに示されるように塩基性層53の表面上に保持又は吸着されている還元性中間体の大部分はイソシアネート化合物R-NCOおよびアミン化合物R-NH2であると考えられる。一方、図6Bに示されるように生成された還元性中間体の周りを炭化水素HCが取り囲んでいると還元性中間体は炭化水素HCに阻まれてそれ以上反応が進まない。この場合、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低下せしめられ、それによって酸素濃度が高くなると還元性中間体周りの炭化水素は酸化せしめられる。その結果、図6Aに示されるように還元性中間体と活性NOXとが反応するようになる。このとき活性NOXは還元性中間体R-NCOやR-NH2と反応してN2,CO2,H2Oとなり、斯くしてNOXが浄化されることになる。このように排気浄化触媒13では、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を高くすることにより還元性中間体が生成され、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を低くして酸素濃度を高くすることにより活性NOXが還元性中間体と反応し、NOXが浄化される。即ち、排気浄化触媒13によりNOXを浄化するには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を周期的に変化させる必要がある。無論、この場合、還元性中間体を生成するのに十分高い濃度まで炭化水素の濃度を高める必要があり、生成された還元性中間体を活性NOXと反応させるのに十分低い濃度まで炭化水素の濃度を低下させる必要がある。即ち、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅で振動させる必要がある。なお、この場合、生成された還元性中間体が活性NOXと反応するまで、十分な量の還元性中間体R-NCOやR-NH2を塩基性層53上に、即ち塩基性排気ガス流通表面部分54上保持しておかなければならず、そのために塩基性の排気ガス流通表面部分54が設けられている。一方、炭化水素の供給周期を長くすると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給されるまでの間において酸素濃度が高くなる期間が長くなり、従って活性NOXは還元性中間体を生成することなく硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されることになる。これを回避するためには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の周期でもって振動させることが必要となる。そこで本発明による実施例では、排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させて窒素および炭化水素を含む還元性中間体R-NCOやR-NH2を生成するために排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上には貴金属触媒51,52が担持されており、生成された還元性中間体R-NCOやR-NH2を排気浄化触媒13内に保持しておくために貴金属触媒51,52周りには塩基性の排気ガス流通表面部分54が形成されており、塩基性の排気ガス流通表面部分54上に保持された還元性中間体R-NCOやR-NH2の還元作用によりNOXが還元され、炭化水素濃度の振動周期は還元性中間体R-NCOやR-NH2を生成し続けるのに必要な振動周期とされる。因みに図4に示される例では噴射間隔が3秒とされている。炭化水素濃度の振動周期、即ち炭化水素HCの供給周期を上述の予め定められた範囲内の周期よりも長くすると塩基性層53の表面上から還元性中間体R-NCOやR-NH2が消滅し、このとき白金Pt53上において生成された活性NOXは図7Aに示されるように硝酸イオンNO3-の形で塩基性層53内に拡散し、硝酸塩となる。即ち、このときには排気ガス中のNOXは硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されることになる。一方、図7BはこのようにNOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収されているときに排気浄化触媒13内に流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比又はリッチにされた場合を示している。この場合には排気ガス中の酸素濃度が低下するために反応が逆方向NO3-→NO2に進み、斯くして塩基性層53内に吸収されている硝酸塩は順次硝酸イオンNO3-となって図7Bに示されるようにNO2の形で塩基性層53から放出される。次いで放出されたNO2は排気ガス中に含まれる炭化水素HCおよびCOによって還元される。図8は塩基性層53のNOX吸収能力が飽和する少し前に排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finを一時的にリッチにするようにした場合を示している。なお、図8に示す例ではこのリッチ制御の時間間隔は1分以上である。この場合には排気ガスの空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層53内に吸収されたNOXは、排気ガスの空燃比A/Finが一時的にリッチにされたときに塩基性層53から一気に放出されて還元される。従ってこの場合には塩基性層53はNOXを一時的に吸収するための吸収剤の役目を果している。なお、このとき塩基性層53がNOXを一時的に吸着する場合もあり、従って吸収および吸着の双方を含む用語として吸蔵という用語を用いるとこのとき塩基性層53はNOXを一時的に吸蔵するためのNOX吸蔵剤の役目を果していることになる。即ち、この場合には、機関吸気通路、燃焼室2および排気浄化触媒13上流の排気通路内に供給された空気および燃料炭化水素の比を排気ガスの空燃比と称すると、排気浄化触媒13は、排気ガスの空燃比がリーンのときにはNOXを吸蔵し、排気ガス中の酸素濃度が低下すると吸蔵したNOXを放出するNOX吸蔵触媒として機能している。図9は、排気浄化触媒13をこのようにNOX吸蔵触媒として機能させたときのNOX浄化率を示している。なお、図9の横軸は排気浄化触媒13の触媒温度TCを示している。排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合には図9に示されるように触媒温度TCが300°Cから400°Cのときには極めて高いNOX浄化率が得られるが触媒温度TCが400°C以上の高温になるとNOX浄化率が低下する。このように触媒温度TCが400°C以上になるとNOX浄化率が低下するのは、触媒温度TCが400°C以上になると硝酸塩が熱分解してNO2の形で排気浄化触媒13から放出されるからである。即ち、NOXを硝酸塩の形で吸蔵している限り、触媒温度TCが高いときに高いNOX浄化率を得るのは困難である。しかしながら図4から図6A,6Bに示される新たなNOX浄化方法では図6A,6Bからわかるように硝酸塩は生成されず或いは生成されても極く微量であり、斯くして図5に示されるように触媒温度TCが高いときでも高いNOX浄化率が得られることになる。そこで本発明による実施例では、炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15を機関排気通路内に配置し、炭化水素供給弁15下流の機関排気通路内に排気ガス中に含まれるNOXと改質された炭化水素とを反応させるための排気浄化触媒13を配置し、排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上には貴金属触媒51,52が担持されていると共に貴金属触媒51,52周りには塩基性の排気ガス流通表面部分54が形成されており、排気浄化触媒13は、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させると排気ガス中に含まれるNOXを還元する性質を有すると共に、炭化水素濃度の振動周期をこの予め定められた範囲よりも長くすると排気ガス中に含まれるNOXの吸蔵量が増大する性質を有しており、機関運転時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を予め定められた範囲内の振幅および予め定められた範囲内の周期でもって振動させ、それにより排気ガス中に含まれるNOXを排気浄化触媒13において還元するようにしている。即ち、図4から図6A,6Bに示されるNOX浄化方法は、貴金属触媒を担持しかつNOXを吸収しうる塩基性層を形成した排気浄化触媒を用いた場合において、ほとんど硝酸塩を形成することなくNOXを浄化するようにした新たなNOX浄化方法であると言うことができる。実際、この新たなNOX浄化方法を用いた場合には排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合に比べて、塩基性層53から検出される硝酸塩は極く微量である。なお、この新たなNOX浄化方法を以下、第1のNOX浄化方法と称する。次に図10から図15を参照しつつこの第1のNOX浄化方法についてもう少し詳細に説明する。図10は図4に示される空燃比A/Finの変化を拡大して示している。なお、前述したようにこの排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化は同時に排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化を示している。なお、図10においてΔHは排気浄化触媒13に流入する炭化水素HCの濃度変化の振幅を示しており、ΔTは排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期を示している。更に図10においてA/Fbは機関出力を発生するための燃焼ガスの空燃比を示すベース空燃比を表している。言い換えるとこのベース空燃比A/Fbは炭化水素の供給を停止したときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比を表している。一方、図10においてXは、生成された活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸蔵されることなく還元性中間体の生成のために使用される空燃比A/Finの上限を表しており、活性NOXと改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるには空燃比A/Finをこの空燃比の上限Xよりも低くすることが必要となる。別の言い方をすると図10のXは活性NOXと改質された炭化水素とを反応させて還元性中間体を生成させるのに必要な炭化水素の濃度の下限を表しており、還元性中間体を生成するためには炭化水素の濃度をこの下限Xよりも高くする必要がある。この場合、還元性中間体が生成されるか否かは活性NOX周りの酸素濃度と炭化水素濃度との比率、即ち空燃比A/Finで決まり、還元性中間体を生成するのに必要な上述の空燃比の上限Xを以下、要求最小空燃比と称する。図10に示される例では要求最小空燃比Xがリッチとなっており、従ってこの場合には還元性中間体を生成するために空燃比A/Finが瞬時的に要求最小空燃比X以下に、即ちリッチにされる。これに対し、図11に示される例では要求最小空燃比Xがリーンとなっている。この場合には空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させることによって還元性中間体が生成される。この場合、要求最小空燃比Xがリッチになるかリーンになるかは排気浄化触媒13の酸化力による。この場合、排気浄化触媒13は例えば貴金属51の担持量を増大させれば酸化力が強まり、酸性を強めれば酸化力が強まる。従って排気浄化触媒13の酸化力は貴金属51の担持量や酸性の強さによって変化することになる。さて、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、空燃比A/Finが低下せしめられたときに炭化水素が完全に酸化されてしまい、その結果還元性中間体を生成することができなくなる。これに対し、酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると空燃比A/Finがリッチにされたときに一部の炭化水素は完全に酸化されることなく部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして還元性中間体が生成されることになる。従って酸化力が強い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリッチにする必要がある。一方、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には図11に示されるように空燃比A/Finをリーンに維持しつつ空燃比A/Finを周期的に低下させると、一部の炭化水素は完全に酸化されずに部分酸化され、即ち炭化水素が改質され、斯くして還元性中間体が生成される。これに対し、酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合に図10に示されるように空燃比A/Finを周期的にリッチにさせると多量の炭化水素は酸化されることなく単に排気浄化触媒13から排出されることになり、斯くして無駄に消費される炭化水素量が増大することになる。従って酸化力が弱い排気浄化触媒13を用いた場合には要求最小空燃比Xはリーンにする必要がある。即ち、要求最小空燃比Xは図12に示されるように排気浄化触媒13の酸化力が強くなるほど低下させる必要があることがわかる。このように要求最小空燃比Xは排気浄化触媒13の酸化力によってリーンになったり、或いはリッチになったりするが、以下要求最小空燃比Xがリッチである場合を例にとって、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅や排気浄化触媒13に流入する炭化水素濃度の振動周期について説明する。さて、ベース空燃比A/Fbが大きくなると、即ち炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高くなると空燃比A/Finを要求最小空燃比X以下とするのに必要な炭化水素の供給量が増大し、それに伴って還元性中間体の生成に寄与しなかった余剰の炭化水素量も増大する。この場合、NOXを良好に浄化するためには前述したようにこの余剰の炭化水素を酸化させる必要があり、従ってNOXを良好に浄化するためには余剰の炭化水素量が多いほど多量の酸素が必要となる。この場合、排気ガス中の酸素濃度を高めれば酸素量を増大することができる。従ってNOXを良好に浄化するためには、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いときには炭化水素供給後の排気ガス中の酸素濃度を高める必要がある。即ち、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅を大きくする必要がある。図13は同一のNOX浄化率が得られるときの、炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度と炭化水素濃度の振幅ΔHとの関係を示している。図13から同一のNOX浄化率を得るためには炭化水素が供給される前の排気ガス中の酸素濃度が高いほど炭化水素濃度の振幅ΔHを増大させる必要があることがわかる。即ち、同一のNOX浄化率を得るにはベース空燃比A/Fbが高くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを増大させることが必要となる。別の言い方をすると、NOXを良好に浄化するためにはベース空燃比A/Fbが低くなるほど炭化水素濃度の振幅ΔTを減少させることができる。ところでベース空燃比A/Fbが最も低くなるのは加速運転時であり、このとき炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm程度あればNOXを良好に浄化することができる。ベース空燃比A/Fbは通常、加速運転時よりも大きく、従って図14に示されるように炭化水素濃度の振幅ΔHが200ppm以上であれば良好なNOX浄化率を得ることができることになる。一方、ベース空燃比A/Fbが最も高いときには炭化水素濃度の振幅ΔHを10000ppm程度にすれば良好なNOX浄化率が得られることがわかっている。従って本発明では炭化水素濃度の振幅の予め定められた範囲が200ppmから10000ppmとされている。また、炭化水素濃度の振動周期ΔTが長くなると炭化水素が供給された後、次に炭化水素が供給される間、活性NOX周りの酸素濃度が高くなる。この場合、炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなると活性NOXが硝酸塩の形で塩基性層53内に吸収され始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTが5秒程度よりも長くなるとNOX浄化率が低下することになる。従って炭化水素濃度の振動周期ΔTは5秒以下とする必要がある。一方、炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になると供給された炭化水素が排気浄化触媒13の排気ガス流通表面上に堆積し始め、従って図15に示されるように炭化水素濃度の振動周期ΔTがほぼ0.3秒以下になるとNOX浄化率が低下する。そこで本発明では炭化水素濃度の振動周期が0.3秒から5秒の間とされている。次に図16から図19を参照しつつ排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法について具体的に説明する。このように排気浄化触媒13をNOX吸蔵触媒として機能させた場合のNOX浄化方法を以下、第2のNOX浄化方法と称する。この第2のNOX浄化方法では図16に示されるように塩基性層53に吸蔵された吸蔵NOX量ΣNOXが予め定められた許容量MAXを越えたときに排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finが一時的にリッチにされる。排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされると排気ガスの空燃比A/Finがリーンのときに塩基性層53内に吸蔵されたNOXが塩基性層53から一気に放出されて還元される。それによってNOXが浄化される。吸蔵NOX量ΣNOXは例えば機関から排出されるNOX量から算出される。本発明による実施例では機関から単位時間当り排出される排出NOX量NOXAが機関出力トルクTeおよび機関回転数Nの関数として図17に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されており、この排出NOX量NOXAから吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。この場合、前述したように排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされる周期は通常1分以上である。この第2のNOX浄化方法では図18に示されるように燃焼室2内に燃料噴射弁3から出力発生用燃料Qに加え、追加の燃料WRを噴射することによって排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finがリッチにされる。なお、図18の横軸はクランク角を示している。この追加の燃料WRは燃焼はするが機関出力となって現われない時期に、即ち圧縮上死点後ATDC90°の少し手前で噴射される。この燃料量WRは機関出力トルクTeおよび機関回転数Nの関数として図19に示すようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。無論、この場合炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量を増大させることによって排気ガスの空燃比A/Finをリッチにすることもできる。さて、再び第1のNOX浄化方法についての説明に戻ると、第1のNOX浄化方法を用いてNOXを良好に浄化するためには前述したように炭化水素濃度の振幅ΔHおよび振動周期ΔTを適切に制御する必要がある。即ち、第1のNOX浄化方法を用いてNOXを良好に浄化するためには、排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finが要求最小空燃比X以下となるように炭化水素濃度の振幅ΔHを制御し、炭化水素濃度の振動周期ΔTを0.3秒から5秒の間に制御する必要がある。この場合、本発明では炭化水素濃度の振幅ΔHは炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量を制御することに制御され、炭化水素濃度の振動周期ΔTは炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射周期を制御することによって制御される。この場合、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量は、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射時間又は噴射圧の少なくとも一方を制御することによって制御可能である。しかしながら以下、噴射圧を一定に保持しつつ噴射時間を制御することにより噴射量を制御するようにした場合を例にとって本発明による実施例についての説明を行うこととする。さて、本発明による実施例では、機関の運転状態に応じた最適なスロットル弁10の開度および最適なEGR制御弁17の開度が予め実験により求められており、更にスロットル弁10およびEGR制御弁17が夫々最適な開度とされているときに得られる最適なベース空燃比A/Fbも予め実験により求められている。機関運転時には、機関から排出される排気ガスの空燃比がこの最適なベース空燃比A/Fbとなるように、燃料噴射弁3からの燃料噴射量が制御される。また、第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われているときに最も高いNOX浄化率の得られる最適な炭化水素噴射周期ΔTと最適な炭化水素噴射時間WTとが実験により予め求められている。この最適な炭化水素噴射周期ΔTは、機関回転数Nおよび機関出力トルクTeの関数として図20Aに示されるようなマップの形で予めROM32内に記憶されており、またこの最適な炭化水素噴射時間WTも、機関回転数Nおよび機関出力トルクTeの関数として図20Bに示されるようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。図21Aは、炭化水素噴射周期を図20Aに示される最適な炭化水素噴射周期ΔTとし、炭化水素噴射時間を図20Bに示される最適な炭化水素噴射時間WTとしたときの排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finの変化を示しており、図21Bはこのとき下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化を示している。図21Aおよび図21Bからわかるように、排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finのリッチ側ピーク空燃比A/Frはリッチになっているのに対し、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比のリッチ側ピーク空燃比A/Fpはリーンとなっている。これは、供給された炭化水素の一部が排気浄化触媒13に一旦付着した後に時間差をもって蒸発し、それにより排気浄化触媒13から流出する排気ガスの空燃比の変化が平滑化されるので空燃比のピーク値が小さくなるからであると考えられる。次に、本発明において用いられている上流側空燃比センサ23および下流側空燃比センサ24の構造について簡単に説明する。なお、これらの上流側空燃比センサ23および下流側空燃比センサ24は同じ構造を有しており、図22Aはこれら空燃比センサ23、24の構造を概略的に示している。図22Aを参照すると、空燃比センサ23、24のセンサ部60は、ジルコニアZrからなる薄肉カップ状の固体電解質61と、固体電解質61の内周面を覆う白金薄膜電極62と、固体電解質61の外周面を覆う白金薄膜電極63と、電極63の周りを覆うアルミナからなる拡散抵抗層64とに構成されており、このセンサ部60は多数の孔65を有する保護カバー66により覆われている。このセンサ部60は排気ガス中に配置されており、排気ガスは孔65を通って拡散抵抗層64上に導かれる。図22Aに示されるように、電極62と63間には一定電圧Eが印加されており、このとき電極62と63間には排気ガスの空燃比に応じて図22Bに示されるような電流Iが流れる。本発明ではこの電流値Iから図22Bに示される関係に基づいて空燃比が求められる。即ち、空燃比センサ23、24の出力から空燃比が検出される。ところで排気ガス中にはSOXが含まれており、この場合空燃比センサ23,24はこのSOXの影響を受けるものと考えられる。しかしながら、空燃比センサ23,24により検出された空燃比がこの排気ガス中に含まれるSOXによってどのような影響を受けるかについてはこれまで全く知られていない。そこで本発明者は、空燃比センサ23,24により検出された空燃比が排気ガス中に含まれるSOXによってどのような影響を受けるかについて検討し、その結果空燃比センサ23,24により検出された空燃比と空燃比センサ23,24の硫黄被毒との関係を見つけ出したのである。次にこのことについて、下流側空燃比センサ24を例にとって説明する。図23Aの実線は、図21Aに示される下流側空燃比センサ24による検出空燃比の変化をそのまま示している。即ち、図23Aの実線は、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒を生じていないときに下流側空燃比センサ24によって検出される空燃比の変化を示している。ところが、下流側空燃比センサ24に硫黄成分が付着すると、下流側空燃比センサ24への硫黄成分の付着量が多くなるほど図23Aにおいて破線で示されるように、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化量が小さくなると共に空燃比の変化期間が長くなることが判明したのである。その理由は次のように考えられる。即ち、図22Aに示される空燃比センサでは、排気ガス中に含まれる酸素および炭化水素が拡散抵抗層64内を拡散して電極63に達し、電極63上において炭化水素の酸化作用が行われ、このとき酸素が過剰であれば酸素イオンが固体電解質61内を電極63から62に向けて移動し、このとき酸素が不足していれば酸素イオンが固体電解質61内を電極62から63に向けて移動し、それにより発生する電流Iによって空燃比が検出される。ところが排気ガス中にSOXが含まれているとこのSOXも拡散抵抗層64内に侵入し、一方では電極63上において白金と反応してPtSを形成し、他方では拡散抵抗層64内においてSO2の形で或いは硫酸イオンの形でアルミナに吸着する。電極63上にPtSが形成されると電極63上における炭化水素の酸化速度が低下せしめられるために電流値Iは長い時間に亘ってゆっくりと変化することになる。また、SOXがアルミナに吸着すると拡散抵抗層64内の細孔が閉塞されるので、分子量の大きな炭化水素は電極63まで拡散するのに時間を有するようになり、従ってこのことによっても電流値Iは長い時間に亘ってゆっくりと変化することになる。従って、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒を生ずると、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化量が小さくなると共に空燃比の変化期間が長くなることになる。この場合、下流側空燃比センサ24への硫黄成分の付着量が増大するほどそれに伴って下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化量が小さくなると共に空燃比の変化期間が長くなり、従って下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化から下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量を検出できることになる。このことは上流側空燃比センサ23についても同様である。そこで本発明では、空燃比センサ23,24が固体電解質61と、固体電解質61の両側面を夫々覆う電極62,63と、一方の電極63を覆う拡散抵抗層64とを有すると共に排気ガスがこの拡散抵抗層64上に導かれる型式のセンサからなり、排気ガスの空燃比が変化して空燃比センサ23,24により検出される空燃比が変化したとき、空燃比センサ23,24により検出される空燃比の変化が空燃比センサ23,24への硫黄成分の付着量により左右され、このとき空燃比センサ23,24への硫黄成分の付着量が多いほど空燃比センサ23,24により検出される空燃比の変化量が小さくなると共に空燃比の変化期間が長くなり、このときの空燃比センサ23,24により検出される空燃比の変化から空燃比センサ23,24の硫黄被毒量を検出するようにしている。次に空燃比センサ23、24の硫黄被毒量を検出するための具体的な方法について、再び下流側空燃比センサ24を例にとって説明する。図23Aにおいて破線で示されるように、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒を生じると下流側空燃比センサ24により検出された空燃比のリッチ側ピーク空燃比がA/FpからA/Fzに変化する。即ち、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒を生じると、ベース空燃比A/Fbに対する空燃比の変化量がΔAFpからΔAFzに減少する。従って、本発明による一実施例では、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比のリッチ側ピーク空燃比から、或いはベース空燃比A/Fbに対する空燃比の変化量から、下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量が検出される。図23Bは、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比のリッチ側ピーク空燃比の低下率ΔAFRと硫黄被毒量との関係を示している。なお、このピーク空燃比低下率ΔAFRは次式でもって表される。ΔAFR=ΔAFp-ΔAFz/ΔAFpここでΔAFp=A/Fb-A/FpΔAFz=A/Fb-A/Fz上式において、ベース空燃比A/Fbは機関の運転状態が定まるとそれに応じて定まる。一方、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒を生じていないときに下流側空燃比センサ24により検出されるリッチ側ピーク空燃比A/Fpは予め実験により求められており、予め実験により求められているこのリッチ側ピーク空燃比A/Fpは機関回転数Nおよび機関出力トルクTeの関数として図24に示されるようなマップの形で予めROM32内に記憶されている。従って、ΔAFpは機関の運転状態が定まるとそれに応じて定まることになる。一方、リッチ側ピーク空燃比がA/Fzは下流側空燃比センサ24により検出された値であり、この検出されたリッチ側ピーク空燃比A/Fzと機関の運転状態から定まるベース空燃比A/FbからΔAFzが算出される。即ち、ピーク空燃比低下率ΔAFRは下流側空燃比センサ24により検出されたリッチ側ピーク空燃比A/Fzから算出されることになる。図23Bに示されるようにピーク空燃比低下率ΔAFRが増大するほど下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量が大きくなる。さて、排気ガス中に硫黄が含まれていると図25において実線で示されるように、時間の経過に伴い、ピーク空燃比低下率ΔAFRは次第に大きくなっていく。一方、炭化水素供給弁15が目詰まりを生じ、炭化水素の供給量が低下したときにも下流側空燃比センサ24により検出されるリッチ側ピーク空燃比A/Fzが大きくなり、その結果ピーク空燃比低下率ΔAFRが増大する。しかしながら炭化水素供給弁15の目詰まりは比較的急激に生じ、一旦目詰まりを生ずると図25において破線で示されるようにそれほど変化しなくなるので、ピーク空燃比低下率ΔAFRの時間的な変化を監視し続けると、下流側空燃比センサ24の硫黄被毒によってピーク空燃比低下率ΔAFRが大きくなったのか、炭化水素供給弁15の目詰まりによってピーク空燃比低下率ΔAFRが大きくなったのかを判別できることになる。そこで本発明による実施例では、ピーク空燃比低下率ΔAFRの時間的な変化から、即ち下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化から、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒をしたのか或いは炭化水素供給弁15が目詰まりをしたのかを判別するようにしている。次に、図26Aを参照しつつ別の実施例について説明する。この実施例では下流側空燃比センサ24により検出される空燃比とベース空燃比A/Fbとの差の積分値から下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量を求めるようにしている。即ち、炭化水素供給弁15から炭化水素が一回噴射され、排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比が瞬時的に変化したときに、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒していない場合には、図26Aにおいて実線で示されるように下流側空燃比センサ24により検出される空燃比は図26AのAで示される予め定められた期間内で瞬時的に変化を完了する。これに対し、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒をしている場合には、図26Aにおいて破線で示されるように下流側空燃比センサ24により検出される空燃比は予め定められた期間Aを超えて変化し続ける。なお、この予め定められた期間Aは、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒していない場合において、炭化水素供給弁15から炭化水素が一回噴射されたときに、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の瞬時的な変化がほぼ完了する期間である。この実施例では、図26Aにおいて、予め定められた期間A内における下流側空燃比センサ24により検出される空燃比とベース空燃比A/Fbとの差の積分値SA、即ち面積SAと、これら期間Aと期間Aとの間の期間B内における下流側空燃比センサ24により検出される空燃比とベース空燃比A/Fbとの差の積分値SB、即ち面積SBとが算出される。この場合、図26Aから、実線で示されるように下流側空燃比センサ24が硫黄被毒していない場合には、面積SAは大きいが面積SBはほとんど零となり、これに対し破線で示されるように下流側空燃比センサ24が硫黄被毒をしている場合には、面積SAは小さくなり、面積SBは大きくなることがわかる。即ち、下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量は面積SAに対する面積SBの比に顕著に現れることがわかる。図26Bは、面積SAに対する面積SBの比SB/SAと硫黄被毒量との関係を示しており、この比SB/SAが大きくなるほど硫黄被毒量が大きくなることがわかる。そこで本発明による実施例では、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比とベース空燃比A/Fbとの差の積分値SA,SBが算出されており、排気ガスの空燃比が瞬時的に変化したときに下流側空燃比センサ24により検出される空燃比は、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒をしていなければ予め定められた期間A内で瞬時的に変化を完了するが下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量が増大すると予め定められた期間Aを超えて変化し続け、予め定められた期間A内における積分値SAと予め定められた期間Aを超えているときの積分値SBとの比SB/SAから下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量を検出するようにしている。この場合、積分値SAの値としては空燃比が複数回変動する間の平均値を用いることができ、積分値SBの値についても空燃比が複数回変動する間の平均値を用いることができる。このように下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量は、下流側空燃比センサ24により検出されたリッチ側ピーク空燃比A/Fzから求めることもできるし、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比とベース空燃比A/Fbとの差の積分値SA,SBの比SB/SAから求めることもできる。従って、これらを包括的に表現すると、硫黄被毒を生じていないときの下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化を代表する値が基準値として予め求められており、この基準値に対する、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比の変化を代表する値から下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量が検出される。この場合、図23Aに示される実施例では、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化を代表する値がリッチ側ピーク空燃比がA/Fzであり、基準値が図24に示される予め記憶されているリッチ側ピーク空燃比A/Fpである。一方、図26Aに示される実施例では、下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化を代表する値が予め定められた期間A内における積分値SAと予め定められた期間Aを超えているときの積分値SBとの比SB/SAであり、この場合の基準値はほぼ零SB/SA≒0である。ところでこれら基準値は予め求めておくこともできるし、また実測することもできる。ただし後者の場合には、即ち基準値を実測するようにした場合には、下流側空燃比センサ24が硫黄被毒していたときには、基準値を実測する前に硫黄被毒の回復処理をしておくことが必要となる。次にこのことについて、下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量をリッチ側ピーク空燃比A/Fzから求めるようにした場合を例にとって図27を参照しつつ説明する。図27を参照すると、ピーク空燃比低下率ΔAFRが予め定められた許容値RXに達すると下流側空燃比センサ24の硫黄被毒の回復処理が行われる。この場合、下流側空燃比センサ24に付着したSOXは下流側空燃比センサ24の温度が650°C程度のSOX分解温度を超えると下流側空燃比センサ24から放出され、また下流側空燃比センサ24に付着したSOXは下流側空燃比センサ24に流入する排気ガスの空燃比がリッチとされかつ下流側空燃比センサ24の温度が500°C程度のSOX放出温度を超えると下流側空燃比センサ24から放出される。従って、下流側空燃比センサ24からSOXを放出すべきときには、即ち下流側空燃比センサ24の硫黄被毒を回復すべきときには、下流側空燃比センサ24の温度が650°C程度のSOX分解温度まで上昇せしめられるか、或いは下流側空燃比センサ24の温度が500°C程度のSOX放出温度まで上昇せしめられかつ下流側空燃比センサ24に流入する排気ガスの空燃比がリッチとされる。図27に示されるように、下流側空燃比センサ24の硫黄被毒の回復処理が完了すると、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比に基づき、基準値となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。なお、このリッチ側ピーク空燃比A/Fpは炭化水素の供給量が同一であっても下流側空燃比センサ24の温度、即ち排気ガスの温度が変化し、排気ガスの流量が変化するとそれに伴って変化する。従って、本発明による実施例では、排気ガスの温度が予め定められた温度範囲内でありかつ排気ガスの流量、即ち吸入空気量が予め定められた流量範囲内であるときがリッチ側ピーク空燃比A/Fpを検出するための検出条件であるとされており、この検出条件が満たされるときに下流側空燃比センサ24により検出された空燃比に基づき、基準値となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。図27に示されるように、この基準値となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出されると、その後この検出条件が満たされる毎に、下流側空燃比センサ24により検出された空燃比からリッチ側ピーク空燃比A/Fzが検出され、これらリッチ側ピーク空燃比A/FpおよびA/Fzからピーク空燃比低下率ΔAFRが算出される。なお、本発明による実施例では、例えば、硫黄濃度の高い燃料が用いられたとすると、図27において破線で示されるようにピーク空燃比低下率ΔAFRが急速に変化するようになり、ピーク空燃比低下率ΔAFRが許容値RXに達する間隔が短くなる。従って、このことから硫黄濃度の高い燃料が用いられたことを検知することができることになる。また、炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量を増大すると下流側空燃比センサ24により検出される空燃比の変化が大きくなり、その結果リッチ側ピーク空燃比A/Fzの変化を、より正確に検出できるようになる。従って、本発明による実施例では図28に示されるように、基準値となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpおよびリッチ側ピーク空燃比A/Fzの検出時には、炭化水素供給弁15からの炭化水素の供給量が機関の運転状態から定まる炭化水素供給量に比べて増大される。即ち、排気ガスの空燃比のリッチ側ピーク空燃比が更にリッチ側とされる。さて、排気ガス中にSO2が含まれているとこのSO2は白金Pt53上において酸化されてSO3となる。次いでこのSO3は塩基性層53内に吸蔵されて硫酸イオンSO42-の形で塩基性層53内に拡散し、安定した硫酸塩を生成する。しかしながらこの硫酸塩は安定していて分解しづらく、排気ガスの空燃比を単にリッチにしただけでは硫酸塩は分解されずにそのまま残る。この場合、吸蔵されている硫酸塩の吸蔵量が増大するとNOX浄化率が低下する。従って、硫酸塩の吸蔵量が増大したときには排気浄化触媒13から吸蔵されているSOXを放出させる必要がある。ところでこの場合、排気浄化触媒13の温度を650°C程度のSOX分解温度まで上昇させるか、或いは排気浄化触媒13の温度を500°C程度のSOX放出温度まで上昇させかつ排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比をリッチにすると、排気浄化触媒13から吸蔵されているSOXを放出させることができる。そこで本発明による実施例では、排気浄化触媒13から吸蔵されているSOXを放出すべきときには、燃焼室2内への追加の燃料量WRを制御することによって排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finを図29に示されるように交互にリッチとリーンに切り替え、それにより排気浄化触媒13の温度を500°C程度のSOX放出温度まで上昇させかつ排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比を間欠的にリッチにさせて排気浄化触媒13から吸蔵されているSOXを放出させるようにしている。一方、前述したように、本発明では下流側空燃比センサ24により検出された空燃比に基づいて下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量が算出される。ところが下流側空燃比センサ24へのSOXの付着量が増大すれば排気浄化触媒13へのSOXの吸蔵量も増大する。即ち、空燃比センサの硫黄被毒量から排気浄化触媒13の硫黄被毒量を推定できることになる。そこで本発明による実施例では、空燃比センサにより検出される空燃比の変化から排気浄化触媒13の硫黄被毒量を推定するようにしている。具体的に言うと、本発明による実施例では、下流側空燃比センサ24の硫黄被毒量から排気浄化触媒13の硫黄被毒量を推定するようにしている。この場合、本発明による実施例では、ピーク空燃比低下率ΔAFRが許容値を超えたときには排気浄化触媒13の硫黄被毒も許容値を超えたと判断され、このとき排気浄化触媒13から吸蔵されているSOXを放出させるために、排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比A/Finが図29に示されるように交互にリッチとリーンに切り替えられる。次に、図30および31に示される機関の運転制御ルーチンについて説明する。なお、このルーチンは一定時間毎の割込みによって実行される。図30を参照するとまず初めにステップ70において温度センサ25の出力信号から排気浄化触媒13の温度TCが活性化温度TCoを越えているか否かが判別される。TC<TCoのとき、即ち排気浄化触媒13が活性化していないときには第2のNOX浄化方法を用いるべきであると判断され、ステップ71に進む。ステップ71では図17に示すマップから単位時間当りの排出NOX量NOXAが算出される。次いでステップ72ではΣNOXに排出NOX量NOXAを加算することによって吸蔵NOX量ΣNOXが算出される。次いでステップ73では吸蔵NOX量ΣNOXが許容値MAXを越えたか否かが判別される。ステップ73においてΣNOX≦MAXであると判断されたときにはステップ74に進んで燃料噴射弁3からの燃料噴射処理が行われる。このときには機関の運転状態から定まる予め定められたリーン空燃比となるように燃料噴射弁3から燃料が噴射される。これに対し、ステップ73においてΣNOX>MAXであると判別されたときにはステップ75に進んでリッチ制御Iが行われる。即ち、図19に示すマップから追加の燃料量WRが算出され、追加の燃料の噴射作用が行われる。このとき排気浄化触媒13から吸蔵されたNOXが放出される。次いでステップ76ではΣNOXがクリアされる。一方、ステップ70においてTC≧TCoになったと判断されたとき、即ち排気浄化触媒13が活性化したときにはステップ77に進み、前回の割り込み時にはTC<TCoであったか否かが判別される。前回の割り込み時にはTC<TCoであったとき、即ち、今排気浄化触媒13が活性化したときにはステップ78に進んでリッチ制御IIが実行される。このときにも図19に示すマップから追加の燃料量WRが算出され、追加の燃料の噴射作用が行われて排気浄化触媒13から吸蔵されたNOXが放出される。次いでステップ79ではΣNOXがクリアされる。これに対し、前回の割り込み時にもTC≧TCoであったときには、即ち排気浄化触媒13が既に活性化しているときにはステップ80に進み、本発明による第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われる。即ち、排気浄化触媒13が活性化していないときには第2のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われており、排気浄化触媒13が活性化すると第2のNOX浄化方法から第1のNOX浄化方法へ切り替えられる。第2のNOX浄化方法から第1のNOX浄化方法に切り替えられたときに排気浄化触媒13にNOXが吸蔵していると、排気浄化触媒13から吸蔵されているNOXが還元されることなく一気に放出される。従って図30に示される例では、このように排気浄化触媒13から吸蔵されているNOXが還元されることなく一気に放出されるのを阻止するために、第2のNOX浄化方法から第1のNOX浄化方法に切り替えられる直前にステップ78において第2のNOX浄化方法により排気浄化触媒13から吸蔵NOXを放出させるためのリッチ制御IIが行われる。さて、図31を参照すると、まず初めにステップ80においてパティキュレートフィルタ14の再生中であるか否かが判別される。パティキュレートフィルタ14の再生中でないときにはステップ81に進んで差圧センサ26の出力信号からパティキュレートフィルタ14の前後の差圧ΔPが予め定められた限界値PXを超えたか否かが判別される。ΔP≦PXのときにはステップ83に進んで排気浄化触媒13から吸蔵されているSOXを放出させる処理、即ち排気浄化触媒13の硫黄被毒の回復処理が行われているか否かが判別される。排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理中でないときにはステップ84に進んでピーク空燃比低下率ΔAFRが算出され、算出されたピーク空燃比低下率ΔAFRが許容値RXを超えているか否かが判別される。ΔAFR≦RXのときにはステップ86に進む。ステップ86および87では、上流側空燃比センサ23の出力信号に基づいて、機関から排出される排気ガスの空燃比が予め定められた空燃比となるように機関燃焼室2に供給される燃料の量が制御され、下流側空燃比センサ24の出力信号に基づいて、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度変化の振幅が予め定められた範囲内の振幅となるように炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射量が制御される。具体的に言うと、ステップ86では、上流側空燃比センサ23の出力信号に基づいて機関から排出される排気ガスの空燃比が機関の運転状態に応じた最適なベース空燃比A/Fbとなるように、燃料噴射弁3からの燃料噴射量が制御される。次いでステップ87では、下流側空燃比センサ24の出力信号に基づくフィードバック制御により第1のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われる。即ち、炭化水素噴射周期を図20Aに示される最適な炭化水素噴射周期ΔTとし、炭化水素噴射時間を図20Bに示される最適な炭化水素噴射時間WTとしたときに下流側空燃比センサ24により検出されるリッチ側ピーク空燃比が目標ピーク空燃比として予め記憶されており、ステップ87では下流側空燃比センサ24により検出されるリッチ側ピーク空燃比が目標ピーク空燃比となるように炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射時間がフィードバック制御される。一方、ステップ81においてΔP>PXであると判別されたときにはステップ83に進んでパティキュレートフィルタ14の再生処理が行われる。次いで処理サイクルを完了する。また、ステップ84においてΔAFR>RXであると判別されたときにはステップ85に進んで排気浄化触媒13から吸蔵されているSOXを放出させる処理、即ち排気浄化触媒13の硫黄被毒を回復する処理が行われる。このとき同時に下流側空燃比センサ24の硫黄被毒も回復される。さて、前述したようにピーク空燃比低下率ΔAFRは基準値に基づいて算出されており、この基準値は予め求めておくこともできるし、実測することもできる。ただし基準値を実測するようにした場合には、前述したように基準値を実測する前に下流側空燃比センサ24の硫黄被毒の回復処理をしておくことが必要となる。このときには、即ち下流側空燃比センサ24の硫黄被毒を回復すべきときには、前述したように、下流側空燃比センサ24の温度が650°C程度のSOX分解温度まで上昇せしめられるか、或いは下流側空燃比センサ24の温度が500°C程度のSOX放出温度まで上昇せしめられかつ下流側空燃比センサ24に流入する排気ガスの空燃比がリッチとされる。次に、この基準値を実測するためのいくつかの例について説明する。前述したように排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理が行われると下流側空燃比センサ24の硫黄被毒も回復される。従って、最初の例では、排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理が完了した後、検出条件が満たされたときに下流側空燃比センサ24により検出された空燃比からリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。なお、前述したように、排気ガスの温度が予め定められた温度範囲内でありかつ排気ガスの流量、即ち吸入空気量が予め定められた流量範囲内であるときに検出条件が満たされていると判断される。図32はこの例を実行するためのリッチ側ピーク空燃比A/FpおよびA/Fzの検出ルーチンを示しており、このルーチンは一定時間毎の割り込みによって実行される。図32を参照すると、まず初めにステップ100において排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理中であるか否かが判別され、排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理中であるときには処理サイクルを完了する。これに対し、排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理中でないときにはステップ101に進んで検出条件を満たしているか否かが判別される。このとき検出条件を満たしていなければ処理サイクルを完了する。これに対し、検出条件を満たしているときにはステップ102に進み、下流側空燃比センサ24によって基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpの検出が完了したか否かが判別される。リッチ側ピーク空燃比A/Fpの検出が完了していないときにはステップ103に進んで、排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理が完了してから一定時間が経過したか否かが判別される。排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理が完了してから一定時間が経過していないときにはステップ104に進んで下流側空燃比センサ24により基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。即ち、排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理が完了してから一定時間が経過していないときには下流側空燃比センサ24は硫黄被毒をしていないと考えられる。従って、排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理が完了してから一定時間が経過していないときに検出条件が満たされたときには、基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。一方、ステップ102において基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpの検出が完了したと判別されたとき、或いはステップ103において排気浄化触媒13の硫黄被毒回復処理が完了してから一定時間が経過していると判別されたときにはステップ105に進んで下流側空燃比センサ24により検出された空燃比からリッチ側ピーク空燃比A/Fzが検出される。即ち、検出条件が満たされる毎にリッチ側ピーク空燃比A/Fzが検出される。ピーク空燃比低下率ΔAFRは、最新の基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpおよび最新のリッチ側ピーク空燃比A/Fzから図31のステップ84において算出される。一方、パティキュレートフィルタ14の再生時には炭化水素の供給量が増大せしめられてパティキュレートフィルタ14の温度が650°C程度まで上昇せしめられる。従って、パティキュレートフィルタ14の再生処理が行われると下流側空燃比センサ24の硫黄被毒も回復されることになる。従って、二つ目の例では、パティキュレートフィルタ14の再生処理が完了した後、検出条件が満たされたときに下流側空燃比センサ24により検出された空燃比からリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。図33はこの二つ目の例を実行するためのリッチ側ピーク空燃比A/FpおよびA/Fzの検出ルーチンを示しており、このルーチンも一定時間毎の割り込みによって実行される。図33を参照すると、まず初めにステップ110においてパティキュレートフィルタ14の再生処理中であるか否かが判別され、パティキュレートフィルタ14の再生処理中であるときには処理サイクルを完了する。これに対し、パティキュレートフィルタ14の再生処理中でないときにはステップ111に進んで検出条件を満たしているか否かが判別される。このとき検出条件を満たしていなければ処理サイクルを完了する。これに対し、検出条件を満たしているときにはステップ112に進み、下流側空燃比センサ24によって基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpの検出が完了したか否かが判別される。リッチ側ピーク空燃比A/Fpの検出が完了していないときにはステップ113に進んで、パティキュレートフィルタ14の再生処理が完了してから一定時間が経過したか否かが判別される。パティキュレートフィルタ14の再生処理が完了してから一定時間が経過していないときにはステップ114に進んで下流側空燃比センサ24により基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。即ち、パティキュレートフィルタ14の再生処理が完了してから一定時間が経過していないときには下流側空燃比センサ24は硫黄被毒をしていないと考えられる。従って、パティキュレートフイルタ14の再生処理が完了してから一定時間が経過していないときに検出条件が満たされたときには、基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。一方、ステップ112において基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpの検出が完了したと判別されたとき、或いはステップ113においてパティキュレートフィルタ14の再生処理が完了してから一定時間が経過していると判別されたときにはステップ115に進んで下流側空燃比センサ24により検出された空燃比からリッチ側ピーク空燃比A/Fzが検出される。即ち、この場合も、検出条件が満たされる毎にリッチ側ピーク空燃比A/Fzが検出される。ピーク空燃比低下率ΔAFRはこれら最新の基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpおよび最新のリッチ側ピーク空燃比A/Fzから算出される。一方、前述したように排気浄化触媒13が活性化する前は第2のNOX浄化方法によるNOX浄化作用が行われ、このとき塩基性層53に吸蔵された吸蔵NOX量ΣNOXが予め定められた許容量MAXを越えると排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比A/Finを一時的にリッチにするリッチ処理が行われる。この場合、もしこのリッチ処理が機関高負荷に行われたとすると、このとき下流側空燃比センサ24の温度は500°C程度のSOX放出温度まで上昇せしめられかつ下流側空燃比センサ24に流入する排気ガスの空燃比がリッチとなる。従って、このときには下流側空燃比センサ24の硫黄被毒が回復されることになる。従って、三つ目の例では、機関高負荷運転時にリッチ処理が行われた場合には、リッチ処理が完了した後、検出条件が満たされたときに下流側空燃比センサ24により検出された空燃比からリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。図34はこの三つ目の例を実行するためのリッチ側ピーク空燃比A/FpおよびA/Fzの検出ルーチンを示しており、このルーチンも一定時間毎の割り込みによって実行される。図34を参照すると、まず初めにステップ120において機関高負荷運転時でのリッチ処理中であるか否かが判別され、リッチ処理中であるときには処理サイクルを完了する。これに対し、リッチ処理中でないときにはステップ121に進んで検出条件を満たしているか否かが判別される。このとき検出条件を満たしていなければ処理サイクルを完了する。これに対し、検出条件を満たしているときにはステップ122に進み、下流側空燃比センサ24によって基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpの検出が完了したか否かが判別される。リッチ側ピーク空燃比A/Fpの検出が完了していないときにはステップ123に進んで、リッチ処理が完了してから一定時間が経過したか否かが判別される。リッチ処理が完了してから一定時間が経過していないときにはステップ124に進んで下流側空燃比センサ24により基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。即ち、機関高負荷運転時でのリッチ処理が完了してから一定時間が経過していないときには下流側空燃比センサ24は硫黄被毒をしていないと考えられる。従って、リッチ処理が完了してから一定時間が経過していないときに検出条件が満たされたときには、基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpが検出される。一方、ステップ122において基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpの検出が完了したと判別されたとき、或いはステップ123においてリッチ処理が完了してから一定時間が経過していると判別されたときにはステップ125に進んで下流側空燃比センサ24により検出された空燃比からリッチ側ピーク空燃比A/Fzが検出される。即ち、この場合も、検出条件が満たされる毎にリッチ側ピーク空燃比A/Fzが検出される。ピーク空燃比低下率ΔAFRはこれら最新の基準となるリッチ側ピーク空燃比A/Fpおよび最新のリッチ側ピーク空燃比A/Fzから算出される。なお、別の実施例として排気浄化触媒13上流の機関排気通路内に炭化水素を改質させるための酸化触媒を配置することもできる。"