a基板に感光性高分子組成物をコーティングおよび乾燥して光配向膜を形成する段階と、b前記光配向膜の上部に所定の透過軸を有する偏光板およびλ/2位相遅延パターンの光軸が45度の角度差を有して交互に形成されたパターン化した位相遅延マスクpatternedretardingmaskの光軸が前記偏光板の透過軸に対して22.5度、‐22.5度になるように調節して被せ、光源を照射して、パターン化した光配向膜を形成する段階と、c前記パターン化した光配向膜の上部に光架橋性液晶を塗布して液晶層を形成する段階と、d前記液晶層に光源を照射して光架橋を行い、光軸パターンが形成された液晶シートを形成する段階と、を含む、パターン化した光位相変調板の製造方法。前記パターン化した位相遅延マスクは、b1基板に感光性高分子組成物をコーティングおよび乾燥して光配向膜を形成する段階と、b2前記光配向膜の上部に偏光板を積層した後、光源を照射して1次表面配向処理する段階と、b3前記1次配向処理された配向膜に所定の間隔で離隔した透過部を有するフォトマスクを載せ、その上部に前記b2段階の偏光板の透過軸に対して45度の角度に調節した透過軸を有する偏光板を積層した後、光源を照射して配向パターンを形成する2次配向段階と、b4前記2次配向された配向膜上に液晶を塗布した後、光源を照射してλ/2位相遅延パターンの光軸が45度の角度差を有して交互に形成された高分子液晶層を形成する段階と、を含む方法により製造されるものを利用する、請求項1に記載のパターン化した光位相変調板の製造方法。前記d段階における高分子液晶シートは、λ/4波長の位相遅延パターンが形成されて位相変調特性を有する、請求項1に記載のパターン化した光位相変調板の製造方法。前記b段階における光源は、紫外線、イオンビームおよびプラズマビームから選択されるものである、請求項1に記載のパターン化した光位相変調板の製造方法。前記c段階における液晶は、ネマチック液晶、ディスコティック液晶およびコレステリック液晶から選択されるいずれか一つ以上のものである、請求項1に記載のパターン化した光位相変調板の製造方法。前記b2段階からb4段階における光源は、紫外線、イオンビームおよびプラズマビームから選択されるものである、請求項2に記載のパターン化した光位相変調板の製造方法。前記b4段階における液晶は、ネマチック液晶、ディスコティック液晶およびコレステリック液晶から選択されるいずれか一つ以上のものである、請求項2に記載のパターン化した光位相変調板の製造方法。請求項1または請求項2に記載の製造方法により製造される、パターン化した光位相変調板。請求項8に記載の光位相変調板を用いて製造される、3DLCD用偏光板。請求項9に記載の偏光板を用いて製造される、3DLCD。前記の問題点を解消するために本発明が解決しようとする課題は、光配向膜にパターンを形成する過程でマスクの使用が最小化されたパターン化した光学フィルムを製造する方法を提供することにある。具体的に、本発明は、偏光板および前記偏光板の透過軸に対して22.5度、‐22.5度に調節された二つの透過軸が交互に形成されたパターン化した位相遅延マスクを使用することで、一回の光照射によって光配向膜上にパターン配向が形成されることにより、以降の液晶コーティングの際にλ/4波長の位相遅延パターンが形成されて製造工程およびコストを低減できるパターン化した光位相変調板を製造する方法を提供することを目的とする。また、本発明は、光配向時に光配向物質として可逆的物質および非可逆的物質の両方を使用できることにより、材料選択において制限されないパターン化した光位相変調板を製造する方法を提供することを目的とする。前記の課題を解決するための本発明は、既存のフォトマスクを用いて2回の配向工程を実施することに伴う問題を解消するためのものであり、フォトマスクの代わりにパターン化した位相遅延マスクを使用することで、一回の光配向工程によりパターン化した光位相変調板を製造する工程に関するものである。より具体的に、本発明は、a基板に感光性高分子組成物をコーティングおよび乾燥して光配向膜を形成する段階と、b前記光配向膜の上部に所定の透過軸を有する偏光板およびλ/2位相遅延パターンの光軸が45度の角度差を有して交互に形成されたパターン化した位相遅延マスクpatternedretardingmaskの光軸が前記偏光板の透過軸に対して22.5度、‐22.5度になるように調節して被せ、光源を照射して、パターン化した光配向膜を形成する段階と、c前記パターン化した光配向膜の上部に光架橋性液晶を塗布して液晶層を形成する段階と、d前記液晶層に光源を照射して光架橋を行い、光軸パターンが形成された液晶シートを形成する段階と、を含むパターン化した光位相変調板の製造方法に関するものである。本発明において、前記パターン化した位相遅延マスクは、b1基板に感光性高分子組成物をコーティングおよび乾燥して光配向膜を形成する段階と、b2前記光配向膜の上部に偏光板を積層した後、光源を照射して1次表面配向処理する段階と、b3前記1次配向処理された配向膜に所定の間隔で離隔した透過部を有するフォトマスクを載せ、その上部に前記b2段階の偏光板の透過軸に対して45度の角度に調節した透過軸を有する偏光板を積層した後、光源を照射して配向パターンを形成する2次配向段階と、b4前記2次配向された配向膜上に液晶を塗布した後、光源を照射してλ/2位相遅延パターンの光軸が45度の角度差を有して交互に形成された高分子液晶層を形成する段階と、を含む方法により製造されたものを使用する。本発明において、前記d段階における高分子液晶シートは、λ/4波長の位相遅延パターンが形成されて位相変調特性を有する。本発明に係る光位相変調板の製造方法は、マスクを用いた光配向過程において一回の過程により光配向が可能となり、これにより、既存の方法による不良率を解消することができ、工程コストが減少するという優れた効果を有する。以下、図面を参照して本発明についてより具体的に説明する。図1は本発明のパターン化した光位相変調板の製造工程を示す図である。図1に示したように、本発明のパターン化した光位相変調板を製造する方法は、a基板100に感光性高分子組成物をコーティングおよび乾燥して光配向膜200を形成する段階と、b前記光配向膜200の上部に所定の透過軸を有する偏光板400およびλ/2位相遅延パターンの光軸が45度の角度差を有して交互に形成されたパターン化した位相遅延マスクpatternedretardingmask300の光軸を前記偏光板の透過軸に対して22.5度、‐22.5度になるように調節して被せ、光源1を照射して、パターン化した光配向膜210を形成する段階と、c前記パターン化した光配向膜210の上部に光架橋性液晶を塗布して液晶層500を形成する段階と、d前記液晶層500に光源1を照射して光架橋を行い、光軸パターンが形成された液晶シート510を形成する段階と、を含む。本発明において、前記a段階の光配向膜を形成する段階における基板100は、高分子フィルムやガラスなどの光学的に等方性を有する透明な基板素材であれば制限されることなく使用可能である。また、透明で、かつλ/2位相遅延特性を有する基板を使用することがより好ましい。また、前記光配向膜200を形成する感光性高分子組成物は、非可逆的な反応で配向される高分子または可逆的な反応で配向される高分子の両方を含むことができる。ここで、非可逆的irreversible反応とは、光二量化photodimerization、光分解photodissociationなどの非可逆的な反応を起こす方式であり、表面配向処理後に表面が永久的に改質されてこのような光配向膜上に塗布される液晶の配列方向を決定することを意味し、可逆的reversible反応とは、最初の光配向において形成された配向方向を以降の光配向、イオンビームまたはプラズマビームの照射またはラビングにより他の方向に変えられるということを意味する。本発明において、前記a段階における光配向膜200は、感光性高分子組成物をコーティングおよび乾燥した膜を意味し、以降、b段階によりパターン化した光配向膜210を形成することができる。本発明は、b段階に特徴があり、ここで、前記光配向膜200の上部に偏光板400および前記偏光板の透過軸に対して光軸を22.5度、‐22.5度に調節して、λ/2波長位相遅延層がパターン化した位相遅延マスクpatternedretardingmask300を被せ、光源1を照射して、各パターン化した位相遅延領域をパターン配向処理することでパターン化した光配向膜210を形成する。前記パターン化した光配向膜210の配向は、偏光板の透過軸に対してそれぞれ45度、‐45度が交互に光配向された形態を有する。前記b段階における偏光板400としては、グラントムソンGlan‐thompson、ニコルNicol、ウォラストンWollastonなど多様な形態のプリズムprism偏光素子およびLCD用偏光板などを使用してもよい。本発明は、前記b段階において偏光板400に積層したλ/2波長位相遅延層がパターン化したマスクpatternedretardingmask300に特徴がある。また、可逆的な高分子組成物を塗布した後、フォトマスクなしに前面の一方向に配向してからまたフォトマスクを用いて一部分のみ他の方向に配向を変更させる従来の方法よりパターン化した光配向膜を形成するための高分子組成物の選択が制限されないという有利な効果を有する。また、非可逆的な高分子組成物を塗布してからフォトマスクを用いて1次光配向を行った後、1次光配向方向に対して90度に配向された偏光板とフォトマスクを用いて2次光配向を行うことにより、2回の光配向工程によって発生する問題点を解決できるという有利な効果がある。前記b段階における光源1は、紫外線、イオンビームおよびプラズマビームから選択されるいずれか一つを使用してもよい。次に、前記c段階は、前記b段階により一回のマスク工程によってパターン化した光配向膜210の上部に光架橋性液晶を塗布して液晶層500を形成する段階である。前記光架橋性液晶は、ネマチック液晶、ディスコティック液晶およびコレステリック液晶から選択されるいずれか一つ以上のものであり、該分野において通常使用するものであれば制限されない。この際、コーティングされた液晶の厚さ、液晶の屈折率異方性に応じて光位相変調特性が異なる。本発明では、数μm以下の厚さを有し、より好ましくはλ/4波長の位相遅延パターンが形成される厚さを有してコーティングされることが好ましい。次に、前記d段階は、前記液晶層500に光源1を照射して光架橋を行い、光軸パターンが形成された液晶シート510を形成する段階である。前記d段階における光源1は、紫外線、イオンビームおよびプラズマビームから選択されるいずれか一つを使用してもよい。前記d段階における高分子液晶シートは、λ/4波長の位相遅延パターンが形成され、前記a~d段階により位相変調特性を有するパターン化した光位相変調板を製造することができる。図2は本発明のパターン化した光位相変調板の製造工程に使用されるパターン化した位相遅延マスクの製造工程を示す図である。図2に示したように、前記パターン化した位相遅延マスク300は、b1基板10に感光性高分子組成物をコーティングおよび乾燥して光配向膜20を形成する段階と、b2前記光配向膜20の上部に偏光板40を積層した後、光源1を照射して1次表面配向処理する段階と、b3前記1次配向処理された配向膜21に所定の間隔で離隔した透過部を有するフォトマスク30を載せ、その上部に前記b2段階の偏光板40の透過軸41に対して45度の角度に調節した透過軸51を有する偏光板50を積層した後、光源1を照射して配向パターンを形成する2次配向段階と、b4前記2次配向された配向膜21上に液晶を塗布した後、光源1を照射してλ/2位相遅延層のパターンの光軸が45度の角度差を有して交互に形成された高分子液晶層60を形成する段階と、を含む方法により製造されたものを使用する。前記製造方法によって製造されたパターン化した位相遅延マスク300は、偏光板40の透過軸41に対して45度の角度に調節した二つの透過軸が交互に形成されたλ/2波長の位相遅延層がパターン化した形態を有する。本発明において、前記b1段階の光配向膜20を形成する段階における基板10は、高分子フィルムやガラスなどの光学的に等方性を有する透明な基板素材であれば制限されることなく使用可能である。また、前記光配向膜20を形成する感光性高分子組成物は、非可逆的な反応で配向される高分子を使用することが好ましいが、非可逆的な反応で配向される高分子を使用してもよい。この場合には、b2段階でも所定の間隔で離隔した透過部を有するフォトマスク30を載せ、配向パターンを形成した後、b3段階ではフォトマスク30の位置を調節し、b2段階で覆われた領域が透過されるように調節する。本発明において、前記b1段階における光配向膜20は、感光性高分子組成物をコーティングおよび乾燥した膜を意味し、以降、b2段階およびb3段階により45度の角度に傾斜した光軸が交互に形成されたパターン化した光配向膜21を形成することができる。前記b2段階およびb3段階は、通常、2次光配向を形成する過程によりなされることができ、1次光配向に使用された偏光板40の透過軸41に対して45度の角度に調節した透過軸51を有する偏光板50を用いて2次光配向を行うことを特徴とする。次に、液晶を塗布して液晶層60を形成した後、光源1を照射してλ/2位相遅延層パターンの光軸が45度の角度差を有して交互に形成された高分子液晶層60を形成する。前記製造方法により、全体的に光軸が45度の角度差を有して交互に形成された構造のパターン化した位相遅延マスクを製造することができる。図3は図2によって製造されたパターン化した位相遅延マスクを用いて図1のb段階、すなわち光配向する工程を示す図である。図3に示したように、光配向膜200の上部に所定の透過軸410を有する偏光板400と、その下部にλ/2パターンの位相遅延層の光軸が45度の角度差を有して交互に形成されたパターン化した位相遅延マスク300を被せて光源を照射し、この際、前記パターン化した位相遅延マスク300の光軸311、312が前記偏光板の透過軸410に対して22.5度、‐22.5度になるように調節して被せ、光源1を照射して、偏光板400の透過軸410に対してそれぞれ45度、‐45度が交互に光配向された光軸211、212を形成する。すなわち、パターン化した位相遅延マスク300を通過した偏光は入射した偏光に対して45度、‐45度の角度を有する。