"表面には真空が供給される真空吸着孔が形成されるとともに、上下方向には貫通孔が形成されたワークステージと、上記貫通孔内を上下動するピンと、ピン上下移動機構とを備えたステージ装置において、ワークステージの貫通孔の下側開口には、貫通孔内を上下動するピンの径よりも大きいが、貫通孔の径よりも小さい開口を形成した蓋部材が設けられ、上記ピンに密着して、上記貫通孔の径よりも小さく上記蓋部材の開口の径よりも大きい鍔部材が、上記ピンが下降した時に、鍔部材の下面が蓋部材の上面に密着する位置に取り付けられていることを特徴とするステージ装置。光を出射する光出射部と、パターンが形成されたマスクを保持するマスクステージと、上記マスクに形成されたパターンが転写されるワークを保持するワークステージとを備える露光装置において、上記ワークステージは、請求項1に記載のワークステージであることを特徴とする露光装置。最近、ワークとして、膨張率の異なる2枚の基板を貼り合せたもの例えばガラス基板にシリコンウエハを貼り付けたものや、基板とは膨張率が異なる層を形成したもの例えばサファイア基板の上に窒化ガリウム層を形成したものなどが使用されるようになってきている。このようなワークの場合、前工程で加熱冷却が繰り返されると、上下の材質の熱膨張係数の違いから反りや変形が生じる。例えば、LEDの製造においては、円形状のサファイア基板の上に窒化ガリウム層を形成したワークが使用される。そのようなワークの場合、前工程での加熱冷却処理の繰り返しにより、基板は膨張係数の大きい材質の側に反る。例えば、500μm程度のサファイア基板上に窒化ガリウム層を形成したワークの場合、約800°Cでサファイア基板上に窒化ガリウムの結晶層を成長させる。この時ワークは平らであるが、冷却するにつれて膨張係数の大きいサファイア基板が窒化ガリウムの結晶層よりも大きく縮むために、ワークはサファイア基板側に反るサファイア基板側が凹面側になる。ワークの径がφ100mm程度である場合、およそ200μm~250μm程度の反りが生じる。このように変形したワークに対し、露光装置を用いて窒化ガリウム層にパターンを形成することがある。そのためには、ワークを、サファイア基板を下側にして露光装置のワークステージに置く。しかし、このように、ワークステージに置かれたワークが、椀を伏せたように中央部が凸型に膨らむように変形していると、ワークステージがワークを吸着保持できないという問題が生じることがある。図9を用いて以下に説明する。図9は、椀を伏せたように中央部が凸に変形したワークWを、図7、図8で示したワークステージ4に置いた状態を示す図である。この状態で、ワークステージ4の真空吸着孔4bに真空を供給すれば、ワークステージ4とワークWの間ワークWの下側の大気が排気され、ワークWは変形が矯正されて、ワークステージ4に吸着保持されるはずである。しかし、ワークステージ4は、上記したように、ワークWを搬送手段20と受け渡すためのピン5aが通る貫通孔4cが形成されている。そのため、真空吸着孔4bに真空を供給した際に、図9に示すように、この貫通孔4c等から大気が流入する。そのため、ワークステージ4とワークWの間の空間は減圧されず、ワークWはワークステージ4に吸着保持されない。したがって、露光処理を行うことができない。以上のように、従来のワークステージにおいては、膨張率の異なる2枚の基板を貼り合せたワークや、基板とは膨張率が異なる層を形成したワーク等であって、前工程での加熱冷却処理により、例えば椀状に大きく反ってしまったワークをワークステージに吸着保持しようとしても、ワークステージとワークの間の空間に大気が流入して吸着保持することができず、露光処理をすることができない場合が生じた。本発明は、上記問題を解決するものであって、本発明の目的は、真空吸着により基板ワークを吸着保持するワークステージにおいて、椀を伏せたように中央部が凸に変形したワークであっても、その反りを矯正して全面で吸着保持できるようにすることである。以上のように、ワークステージには、ワークを受け渡すためのピンが設けられ、このピンが通る貫通孔が形成されている。このため、ワークが上側に凸である椀状に反っていると、この貫通孔からワークステージ表面に大気が流入し、ワークとワークステージの間の空間を減圧することができない場合が生ずる。そこで、本発明では、ワークを吸着して保持する際に、上記ピンの動きに支障を与えることなく、上記貫通孔を塞ぐことが可能な機構を設けた。具体的には、ワークステージの貫通孔の下側開口に、貫通孔内を上下動するピンの径よりも大きいが、貫通孔の径よりも小さい開口を形成した蓋部材を設け、また、上記ピンに、上記貫通孔の径よりも小さく上記蓋部材の開口の径よりも大きい鍔部材を設けた。そして、上記ピンが下降した時に、鍔部材の下面を蓋部材の上面に密着させ、上記貫通孔を塞ぐ。この状態で、ワークステージの真空吸着孔に真空を供給することで、貫通孔から大気を流入させることなくワークステージとワークの間の大気を排気することができ、ワークが椀状に大きく反っていても、ワークをワークステージに吸着して保持することができる。以上に基づき、本発明においては、次のようにして前記課題を解決する。1表面には真空が供給される真空吸着孔が形成されるとともに、上下方向には貫通孔が形成されたワークステージと、上記貫通孔内を上下動するピンと、ピン上下移動機構とを備えたステージ装置において、ワークステージの貫通孔の下側開口に、貫通孔内を上下動するピンの径よりも大きいが、貫通孔の径よりも小さい開口を形成した蓋部材を設ける。また、上記ピンに密着して、上記貫通孔の径よりも小さく上記蓋部材の開口の径よりも大きい鍔部材を上記ピンが下降した時に、鍔部材の下面が蓋部材の上面に密着する位置に取り付ける。2光を出射する光出射部と、パターンが形成されたマスクを保持するマスクステージと、上記マスクに形成されたパターンが転写されるワークを保持するワークステージとを備える露光装置において、上記ワークステージとして、上記1のワークステージをもちいる。本発明においては、ピン下降時、ピンに取り付けた鍔部材と、ステージの下面に設けた蓋部材とにより、ワークステージに形成されているピン通過用の貫通孔の一端を閉じるようにしたので、ワークステージにワークを吸着して保持させる際、ピン通過用の貫通孔の一端を閉じるように構成した。これにより、椀を伏せたように変形しているワークであっても、変形を矯正し、ワークステージに全面で吸着して保持することが可能となる。図1、図2は本発明の実施例のワークステージの部分の断面図であり、図1a-図2cはワーク搬送手段でワークをワークステージに搬送してから、ワークステージに吸着して保持させるまでの工程を示している。同図において、前記図7、図8に示したものと同一のものには、同一の符号が付されており、ワークステージ4の表面には、真空吸着溝4aが形成され、この真空吸着溝4aに連通した複数の真空吸着孔4bが設けられる。また、ワーク搬送手段20のアーム21からワークWを受け取る、またはアーム21にワークWを受け渡すためのピン5aが出入りするための貫通孔4cが形成されている。ワークステージ4の裏面側には、ピン上下駆動手段5が設けられ、ピン5aは、複数、少なくとも3本以上設ける。ピン上下駆動手段5は、エアシリンダ5dとエアシリンダ5dの軸5cに取り付けた台5bを有する。複数のピン5aはすべてこの台5bに取り付けられている。エアシリンダの軸5cが上下することにより台5bが上下し、複数のピン5aも同期して上下する。ワークステージ4の貫通孔4cの下側の各開口には、蓋部材6が設けられる。蓋部材6はピン5aが通過するための開口6aを有する。蓋部材6の開口6aはピン5aの径よりも大きく、ピン5aと蓋部材6との間には隙間がある。しかし、この開口6aの径は貫通孔4cの径よりも小さい。蓋部材6の材質としては柔らかい樹脂、例えばゴムが望ましい。蓋部材6は、本実施例では、ピン上下駆動手段5の台5bに取り付けたばね8により、ワークステージ4の下面に押付けられて密着している。これにより、ワークステージ4下面と蓋部材6との間には隙間がない。一方、各ピン5aの周囲には円柱形の鍔つば部材7を取り付ける。鍔部材7は例えばフッ素樹脂である。鍔部材7は、ピン5aの太さと同じ径の貫通孔があり、その貫通孔にピン5aを差し込む。ピン5aと鍔部材7との間には接着剤が塗られている。接着剤は、鍔部材7をビン5aに固定するとともに、ピン5aと鍔部材7との隙間を埋める。鍔部材7は、ピン5aの先端から蓋部材6の間、即ちピン5aの下降時にピン5aが貫通孔4c内に隠れる部分に固定される。この鍔部材7は、ピン5aが下降した時に鍔部材7の下面が蓋部材6の上面に密着するように設けられる。鍔部材7の径は、貫通孔4cの径よりも小さく、蓋部材6の開口6aの径よりも大きい。図3は、上記ワークステージを備えた露光装置の概略構成である。前記図6に示したものと同一のものには同一の符号が付されている。図3に示すように、露光装置10は、光照射部1を備え、光照射部1はランプ1aと、ランプ1aからの光を反射するミラー1bなどを備え、紫外線を含む光を出射する。また、パターンが形成されたマスクM、このマスクMを保持するマスクステージ2、レジストが塗布されているウエハやプリント基板等のワークWを保持するワークステージ4、ワークステージ4上に保持されたワークW上にマスクMのパターン像を投影する投影レンズ3などを備える。ワークステージ4の表面には真空吸着溝4aが設けられ、この真空吸着溝4aに連通する真空吸着孔4bが設けられる。また、図1、図2に示すように貫通孔4cが設けられ、貫通孔4c内を、ピン5aがピン上下駆動手段5により駆動されて上下動する。ピン5aには、鍔部材7が取り付けられ、また、上記貫通孔4cの下側開口には、蓋部材6が押付けられている。また、前記したように、ワークステージ4には配管11が接続され、この配管11を介して、真空吸着孔4bや真空吸着溝4aに、ワークWを保持する際には真空が、またワークをステージ4から取外す際にはエアーが供給される。露光装置の動作は、図6に示したものと同様であり、ワークステージ4上に、搬送手段不図示により、表面上面にレジストが塗布されたワークWが置かれる。ワークWは、前述したように膨張率の異なる2枚の基板を貼り合せたものや、基板上に熱膨張率が異なる層を形成したものなど、上下の材質の熱膨張係数の違いから反りや変形が生じるものである。例えば、サファイア基板の上に窒化ガリウム層を形成したものの場合、ワークWはサファイア基板側に反り、椀を伏せたように中央部が凸型に膨らむ。このようにワークWは、一方の面と他方の面の熱膨張率が異なるものであり、熱膨張率の小さい方の面サファイア基板側を下側にしてワークステージ4上に置かれる。上記のように変形したワークWは、ワークステージ4の真空吸着溝4aに真空が供給されることにより、ワークステージ4に吸着され、図3に示すように平らになった状態で保持される。この状態で、光照射部1からワークWに、マスクM、投影レンズ3を介して露光光が照射され、露光処理が行われる。ワークステージ4への真空の供給は、ワークWの、露光処理中、ワークWが移動しないように続けられる。露光処理が終わると、前記したように、真空吸着孔4b真空吸着溝4aへの真空の供給を止めてワークWの吸着保持を解除し、真空吸着孔4bにエアーを供給する。これにより、ワークWはワークステージ4から外れ、不図示の搬送手段により、露光装置10外に搬送される。図1、図2を用いて、本発明において、ワークの搬送手段からワークを受け取り真空吸着保持するまでの動作を説明する。図1aに示すように、ワークWが、ワーク搬送手段20のアーム21上に保持されて、ワークステージ4上に搬送される。蓋部材6はピン上下駆動機構5に取り付けたバネ8により、ワークステージ4の貫通孔4cの部分の下面に押付けられている。また、ピン5aは下降しており、ピン5aの鍔部材7の下面と蓋部材6の上面は密着している。図1bに示すように、ピン上下駆動手段5によりピン5aが上昇し、ピン5aがアーム21からワークWを受け取る。また、蓋部材6をワークステージ4の下面に押付けているバネ8も縮む。ピン5aとともに鍔部材7も上昇し、鍔部材7と蓋部材6は離れる。図4は、蓋部材6、ピン5a、鍔部材7を拡大して示した図である。同図aは、ピン5aが上昇し、鍔部材7と蓋部材6は離れている状態のイメージ図を示す。図1cに示すように、ワーク搬送手段20のアーム21が図面右方向に退避し、ピン上下駆動手段5によりピン5aが下降する。ワークWはワークステージ上4に置かれる。ピン5aとともに鍔部材7も下降し、鍔部材7の下面が、ワークステージ4の貫通孔4cが設けられた部分の下面に押付けられている蓋部材6の上面に密着する。図4bに、鍔部材7と蓋部材6が密着している状態のイメージ図を示す。蓋部材6をゴムで形成し、ピン5aが下降した時、鍔部材7が蓋部材6にやや押し込まれるようにすると、蓋部材6とピン12aとの隙間は鍔部材7によりほぼ完全に閉じられる。鍔部材7と蓋部材6が密着することにより、ワークステージ4の貫通孔は閉じられる。また、蓋部材6はばね8によりワークステージ4に押付けられるので、ワークステージ4と蓋部材6も密着し、両者の間の隙間もほぼ完全に閉じられる。この状態で、真空吸着孔4bに真空が供給されると、貫通孔4cからエアーが流入することがなく、図2cに示すように、ワークWが椀を伏せたように変形していたとしても、ワークWとワークステージの間の空間は、真空吸着孔4bに供給した真空により確実に減圧されていく。これによりワークWは大気圧に押されて変形が矯正され、ワークステージ4に押付けられて吸着保持される。すなわち、ワークWの反りは強制的に矯正され、前記図3に示したように、ワークWは平らになり、ワークWの全面がワークステージ4に密着する。したがって、この状態で、ワークWに露光処理を行うことができる。本実施例では、蓋部材6を、ピン5aを上下方向に駆動するピン上下駆動機構5の台5bに、ばね8を介して取り付け、ピン5aが上昇したとき、蓋部材6がばね8により、ワークステージ4の下面に押し付けられるように構成している。このため、ピン5aの位置ピン上下駆動機構5の位置が図面左右方向に多少ずれても、それに応じて蓋部材6も移動し、鍔部材7と蓋部材6の相対位置は変わらない。したがって、大気の流入を防ぐために蓋部材6の開口6aの径を小さく形成し、鍔部材7と蓋部材6間に隙間ができにくくしても、ピン5aと蓋部材6とが擦れてピン5aの動きに支障を与えたり、擦れることによるくずの発生といった問題も生じない。図5は、ばね8の外側にばね8の左右方向の移動を規制する枠部材9a,9bを設けた場合の構成例を示す図である。このように構成することで、ピン5aと蓋部材6の位置関係がさらに変わらないように保持することが可能である。なお、ピン上下駆動機構5とワークステージ4との組み立てを精度よく行うことができ、ピン上下駆動機構5とワークステージ4との相対位置が変わらず、ピン5aがワークステージ4の貫通孔4c内の中心部分を上下方向に精度よく移動できるように構成できる場合には、蓋部材6をワークステージ4の下面に接着剤などにより取り付けてもよい。"