基板上にTCO層を堆積させるステップと、照射パラメータを有するレーザー照射により前記TCO層を焼なましするステップとを含む光起電力デバイスの製作方法において、前記焼なましステップが前記TCO層のヘイズを、堆積したままのTCO層と比較して増加させることを含むように、前記照射パラメータが選定されることを特徴とする方法。請求項1に記載の方法において、前記焼なましステップが、前記堆積したままのTCO層と比較して、前記TCO層のRMSでの表面粗さを減少させることを追加的に含むように、前記照射パラメータが選定されることを特徴とする方法。請求項1又は2に記載の方法において、前記焼なましステップが、少なくとも70ナノメートルの前記TCO層の粒子サイズを生成することを追加的に含むように、前記照射パラメータが選定されることを特徴とする方法。請求項1乃至3の何れか1項に記載の方法において、前記レーザー照射がパルス状であり、100~1000ナノ秒のパルス持続時間を持つことを特徴とする方法。請求項1乃至4の何れか1項に記載の方法において、前記レーザー照射が、前記TCO層を少なくとも前記TCOの溶融温度である温度にさらすことを特徴とする方法。請求項1乃至5の何れか1項に記載の方法において、前記レーザー照射が、0.1~10J/cm2のビームエネルギー密度を有することを特徴とする方法。請求項1乃至6の何れか1項に記載の方法において、前記レーザー照射が、前記TCO表面層の1つの寸法に等しいか、又はそれを超える線長さを有するラインビームを用いた前記TCO層の走査を含むことを特徴とする方法。請求項1乃至6の何れか1項に記載の方法において、前記照射がパルス状であり、各パルスを用いて少なくとも1cm2の面積が照射されることを特徴とする方法。請求項1乃至8の何れか1項に記載の方法において、前記焼なましステップがエキシマーレーザーによって行なわれることを特徴とする方法。請求項1乃至9の何れか1項に記載の方法において、前記TCO層の堆積ステップが、低温堆積、インクジェット印刷又はスクリーン印刷、あるいは溶液吹き付けを含むことを特徴とする方法。可視光の波長範囲内で少なくとも2のヘイズと、RMSで10ナノメートル未満の表面粗さとを有することを特徴とするTCO層。請求項11に記載のTCO層において、少なくとも70ナノメートルの粒子サイズを有することを特徴とするTCO層。請求項11又は12に記載のTCO層を含むことを特徴とする光起電力デバイス。