磁場を形成するための磁場形成部材と、非磁性体からなる基板を当該基板の面に沿って前記磁場を相対的に通過させるために磁場形成部材に対して相対的に移動させる移動機構と、前記磁場に対する相対的な前記基板の移動路において、磁場形成部材の上流側における基板の表面に洗浄液を供給するための洗浄液供給部と、を備え、前記基板が前記磁場を相対的に通過するときに、洗浄液が磁場勾配により基板の相対的進行方向に対して押し戻され、基板から除去されることを特徴とする基板洗浄装置。前記移動機構は、基板を水平に搬送するように構成されていることを特徴とする請求項1記載の基板洗浄装置。前記磁場形成部材は、基板の幅方向全体に亘って伸びるように構成され、前記移動機構は、前記磁場形成部材の伸びる方向と交差するように基板を移動するように構成されていることを特徴とする請求項1または2記載の基板洗浄装置。磁場形成部材により磁場を形成する工程と、非磁性体からなる基板を当該基板の面に沿って前記磁場を相対的に通過させるために磁場形成部材に対して相対的に移動させる工程と、前記磁場に対する相対的な前記基板の移動路において、磁場形成部材の上流側における基板の表面に洗浄液を供給する工程と、を含み、前記基板が前記磁場を相対的に通過するときに、洗浄液が磁場勾配により基板の相対的進行方向に対して押し戻され、基板から除去されることを特徴とする基板洗浄方法。本発明はこのような背景の下になされたものであり、その目的は洗浄液を少量に抑えながら簡便に基板を洗浄する技術を提供することにある。本発明の基板洗浄装置は、磁場を形成するための磁場形成部材と、非磁性体からなる基板を当該基板の面に沿って前記磁場を相対的に通過させるために磁場形成部材に対して相対的に移動させる移動機構と、前記磁場に対する相対的な前記基板の移動路において、磁場形成部材の上流側における基板の表面に洗浄液を供給するための洗浄液供給部と、を備え、前記基板が前記磁場を相対的に通過するときに、洗浄液が磁場勾配により基板の相対的進行方向に対して押し戻され、基板から除去されることを特徴とする。本発明の基板洗浄方法は、磁場形成部材により磁場を形成する工程と、非磁性体からなる基板を当該基板の面に沿って前記磁場を相対的に通過させるために磁場形成部材に対して相対的に移動させる工程と、前記磁場に対する相対的な前記基板の移動路において、磁場形成部材の上流側における基板の表面に洗浄液を供給する工程と、を含み、前記基板が前記磁場を相対的に通過するときに、洗浄液が磁場勾配により基板の相対的進行方向に対して押し戻され、基板から除去されることを特徴とする。本発明は、磁場勾配を形成し、これを利用して洗浄液を基板の表面に沿って押圧し、基板から除去するようにしている。従って、従来に比べて簡単な装置構成で少量の洗浄液により周辺環境への汚染を低減しつつ基板を洗浄することができる。本発明の基板洗浄装置の実施形態として、FPD基板である角型のガラス基板Gを洗浄する装置について説明する。先ず、基板洗浄装置の構造について、図1~図4を用いて説明する。1は筐体であり、この筐体1の一方の側壁には、基板Gの搬入口11及び基板Gの搬出口12が設けられており、これらは夫々シャッター13、14により開閉できるようになっている。筐体1内には、各々左右方向Y方向に水平に伸びる複数の搬送ローラ15及びガイドローラ16が前後方向X方向に並べられており、基板Gの移動路17を形成している。搬送ローラ15は、回転機構であるモータにより回転駆動されて、この上に載置される基板Gを水平搬送する駆動ローラであり、ガイドローラ16は基板Gをガイドする従動ローラである。搬送ローラ15と搬送ローラ15との離間間隔は、基板Gの移動路17に沿った一辺の長さ寸法よりも短く設定されるが、この例では安定した搬送を行うために、前記一辺の長さに対して複数の搬送ローラ15が配列されるように構成される。また紙面の制約により、ガイドローラ16の設置数は便宜的なものである。移動路17はその長さ寸法が基板Gの前記一辺の2倍よりも大きく設定されており、基板Gの進行方向を前方側とすると、後方側の領域が搬入口11に対応する搬入領域、前方側の領域が搬出口12に対応する搬出領域となっている。これら搬入領域及び搬出領域夫々の下方には、本基板洗浄装置の外部に設けられた基板Gの移載機構である搬送アーム7図3参照と搬入領域及び搬出領域における搬送ローラ15及びガイドローラ16との間の基板Gの受け渡しを仲介するための、昇降ピン22、23が設けられている。この昇降ピン22、23は、基板Gの受け渡し時に搬送アーム7と干渉しない位置に設けられている。移動路17の前後方向における中央部よりも少し後方側上流側の上方には、基板Gの幅方向に伸びる洗浄ノズル2が設けられており、下部の吐出口から基板Gの幅方向移動路17における幅方向全体に、洗浄液例えば純水やイソプロピルアルコールなどの薬液を供給できるようになっている。この吐出口は、Y方向に伸びるスリットあるいは小径の細孔をY方向に多数間隔をおいて配置されて構成される。また、移動路17における洗浄ノズル2の下流側移動路17における前方側には、図4に示すように、移動路17の幅方向に水平に伸びる移動路17と直交して伸びる角型の磁場形成部材3、4が、移動路17を上下に挟むように対向して設けられている。このうち、移動路17の上方に位置する磁場形成部材3は、図5に示すように、各々Y方向に平行に伸びる2つの角型の磁石例えば永久磁石31、32の間にY方向に伸びる角型の磁性体である芯部材33を挟んだ構造として構成されている。永久磁石31、32は夫々の両磁極が基板Gの移動方向に並び、かつお互いに同じ磁極である例えばN極同士が芯部材33を介して対向するように構成されている。一方、移動路17の下方に位置する磁場形成部材4は、図5に示すように、2つの角型の磁石例えば永久磁石41、42の間に角型の磁性体である芯部材43を挟んだ構造となっていて、外観上は上方側の磁場形成部材3と同様であるが、永久磁石41、42は、夫々の両磁極の配置が磁場形成部材3に対して逆の配置になっている。即ちこの例では、永久磁石41、42のS極同士が芯部材43を介して対向するように構成されている。このような構成とすることにより、磁場形成部材3、4の間に強力な磁場が形成される。永久磁石31、32、41、42の材質としては例えばネオジウム等が用いられ、芯部材33、43としては飽和磁束密度の高い例えば鉄等の金属が用いられる。これら磁場形成部材3、4の間隙の大きさ磁石間ギャップLは、例えば2mm~5mmである。また筐体1の底部には、基板Gの洗浄に使用された洗浄液を筐体1の外に排出するための排水ポート18が設けられている。また図1中8は制御部であり、洗浄液の供給、昇降ピン22、23の昇降及び搬送ローラ15の駆動を制御している。次に、本実施形態における作用について、図6を用いて説明する。まず、図3に示すように、外部から搬送アーム7により、シャッター13が開いた搬入口11を介して、基板Gが筐体1内に搬送され、次いで昇降ピンが搬送ローラ15及びガイドローラ16の間あるいはガイドローラ16、16の間を通って上昇し、昇降ピンと搬送アーム7との協働作用により、図1に実線で示すように、搬送ローラ15及びガイドローラ16の並び上に載置される。次いで、洗浄ノズル2により洗浄液Aを吐出すると共に、搬送ローラ15を駆動する。基板Gは搬送ローラ15により前方に押し出され、ガイドローラ16によりガイドされながら前進し、先端側から順次洗浄液Aが供給され、図6aに示すように、洗浄液Aの一部は先端側から流れ落ち、一部は基板Gの後端側に向かって広がる。そして基板Gが磁場形成部材3、4に挟まれる領域を通過すると、洗浄液Aの前進と洗浄ノズル2からの液の吐出力とによって、洗浄液Aも磁場形成部材3、4間の領域を通過しようとするが、洗浄液Aは反磁性なので、磁場形成部材3、4により形成された強力な磁場に反発して押し戻される。即ち移動路17における前記領域の上流側から当該領域に向かって磁場が次第に強くなっていく大きな磁場勾配が形成されており、洗浄液Aはこの磁場勾配に沿って弱い磁場側に移動しようとすることから、図6bに示すように、洗浄液Aが前方に進もうとする力と押し戻される力とが釣り合った位置にて洗浄液Aの前進が阻止される。従って、洗浄ノズル2より洗浄液Aを吐出し続けた状態で基板Gを前進させると、洗浄液Aはその移動速度にもよるが、洗浄ノズル2よりも下流側に広がった洗浄液Aが左右両側縁から零れ落ちる。また洗浄ノズル2よりも上流側に広がった洗浄液Aは大部分が基板Gの後端側から流れ落ちる図6c。こうして基板Gが洗浄ノズル2の下を通過することにより、基板Gの表面全体に洗浄液Aが接触して洗浄処理が行われ、基板G上に洗浄液Aは、その後端が磁場形成部材3、4の間を通過し終えるときに後側に押し切られて基板Gから除去され、こうして洗浄と液切りとが行われる図6d。基板Gから筐体1の底部に零れ落ちた洗浄液Aは、排水ポート18を介して基板洗浄装置の外部にある排水処理系19に排水されて処理される。洗浄と液切りを終えて搬送ローラ15及びガイドローラ16により搬出領域に搬送された基板Gは、昇降ピン23を介して搬送アーム7に受け渡され、搬出口12を介して基板洗浄装置の外部に搬出される。上述の実施形態は、洗浄液Aを基板Gに供給した後、局所的に形成された強力な磁場と周囲との間の磁場勾配を利用して、基板Gを通過させたときに洗浄液Aの通過を阻止し、これにより基板Gの表面上の液切りを行って洗浄液Aを除去するようにしている。従って、傾斜式洗浄のように基板Gを傾斜させる必要がないため、基板洗浄装置の機構が簡素化できると共に製造コストを抑えることができ、また傾斜姿勢と水平姿勢との姿勢変更時における基板Gの跳ねの問題もなくなる。また水平式洗浄で併用されるエアナイフを用いる場合には、液を揮発させながら除去するため、既述のように洗浄液Aのシミ残り等の問題があるが、この実施形態では洗浄液Aに直接押圧力を加えて基板Gの表面から除去しているため、このような問題はない。また洗浄液Aを含む多量のエアを排気しなくて済むので環境汚染低減の点でも優れている。上述の実施形態では、磁場形成部材3、4をその長手方向が基板Gの移動方向と水平に直交するように固定して設けているが、図7及び図8に示すように、磁場形成部材3a、4aの各々の長さ方向の中心部に、鉛直軸回りに回転自在な回転軸37a、47aを設け、モータ36a、46aにより磁場形成部材3a、4aが夫々回転軸37a、47aを介して水平方向に回転できるように構成してもよい。この場合、基板Gの進行方向に対する磁場形成部材3a、4aの向きを調整することができ、先の実施形態のように、磁場形成部材3a、4aの向きを基板Gの進行方向に対して直交するように基板Gの幅方向に伸びるように設定することもできるし、また基板Gの進行方向に対して図7に示すように斜めに交差するように設定することもできる。斜めに設定した場合、例えば基板Gの移動方向の上流側から見たときに、その左端側が奥側になるように磁場形成部材3a、4aの向きを設定した場合、強力な磁場により通過を阻止された洗浄液Aは、磁場形成部材3a、4aに沿って基板Gの前記左端側に向かうため、一方向に向かう液流が形成されることから液切れが良く、このためより一層確実に洗浄液Aが除去される。なお、図7及び図8では、搬送ローラ15及びガイドローラ16等は図示を省略している。上述の実施形態では、洗浄ノズル2及び磁場形成部材3、4を固定し基板Gを移動させながら洗浄を行ったが、図9に示すように、基板Gを固定し、移動機構の一部をなす、直線状のガイドレール5に沿って戦場ノズル2b及び磁場形成部材3bを移動させることにより洗浄してもよい。また、基板Gと洗浄ノズル2及び磁場形成部材3、4との両方を移動させながら洗浄してもよい。なお、図9では、搬送アーム7と基板保持部材51との間で基板Gの受け渡しを行う昇降ピンは図示を省略している。本発明における他の実施形態について、図10を用いて説明する。この実施形態における基板洗浄装置の図示しない筐体内には、板状の基台9が水平に設けられている。この基台9の上面には複数の支持部材91が垂立して設けられており、それらの上端には基板Gを載置するための載置部92が設けられている。これら支持部材91及び載置部92は、基板Gの受け渡し時に本基板洗浄装置内への基板Gの搬送を行う搬送アームと干渉しないような位置に設けられている。後述するように基台9が水平軸に対して傾けられるときに下がる側図10における左側の端部にある載置部92には、その縦断面がL字状の係止部材93が設けられており、基台9が傾けられても載置部92に載置された基板Gが滑り落ちないように構成されている。また基台9には水平方向に伸びる傾斜軸94を介して例えばモータからなる図示しない傾斜機構が設けられている。載置台92に載置される基板Gの上方位置には洗浄ノズル2dが設けられており、図示しないガイドレールや移動機構により、基台9の長さ方向傾斜軸94と直交しかつ載置される基板Gと平行な方向に移動させることができる。また基板Gの上方位置には、磁場形成部材3dが設けられており、図示しないガイドレールや移動機構により、基台9の長さ方向に移動させることができる。洗浄ノズル2dのガイド機構は、水平位置から、基板Gの傾きに合わせて傾けることができるようになっている。洗浄ノズル2d及び磁場形成部材3dの詳細な構成は、上述の最初の実施形態における洗浄ノズル2及び磁場形成部材3と同様である。続いて、本実施形態における作用について説明する。先ず基台9が水平姿勢の状態で、基板洗浄装置の外部から搬送アームにより基板Gが搬入されて、載置部92に載置される。そして洗浄ノズル2dから洗浄液Aを吐出しながら洗浄ノズル2dを例えば移動させて基板Gの全面に亘ってスキャンすることにより、基板Gの全面に洗浄液Aを供給する。なお、洗浄ノズル2dを基板Gの傾きに合わせて下から上へ移動させてもよい。その後、前記図示しない傾斜機構により基台9を傾斜させることで、基板Gの表面に供給された洗浄液Aが重力の作用により自然流下して基板Gから零れ落ちる。この時点において、一部の洗浄液Aは基板Gの表面上に残留している。続いて磁場形成部材3dを基板Gの全面をスキャンするように基台9の傾斜方向に上から下に向けて移動させる。このとき、磁場形成部材3dにより形成される磁場勾配に押圧されて、基板Gに残留している洗浄液Aは液切りされる。ここで磁場形成部材3dは、洗浄液Aが完全に液切りされるまで複数回往復してもよい。その後、基台9は、前記傾斜機構により水平に戻されて、洗浄を終えた基板Gは搬送アームにより装置外に搬出される。本実施形態では、洗浄液Aの移動力として傾きに応じて洗浄液Aの重力の鉛直成分が加わるため、上述の最初の実施形態に比べて、洗浄液Aの液切り性能が向上するという利点がある。上述の最初の実施形態では、基板Gの幅よりも長い磁場形成部材3、4を基板Gの幅全体に亘ってまたがるように固定し洗浄を行ったが、基板Gの幅よりも短い磁場形成部材を用いて基板Gの幅方向に磁場形成部材をずらしながら基板Gを磁場形成部材に対して何度も往復するように相対的に移動させて基板Gの全面をスキャンすることにより洗浄を行ってもよい。上述の最初の実施形態では、磁場形成部材3、4は、移動路17の上下両側に設けているが、上下どちらか一方のみに設けてもよい。上述の実施形態では洗浄液の液切りについて述べているが、本発明はこれに限らず例えば薬液の除去あるいは塗布に用いてもよい。上述の実施形態では、磁石として永久磁石が用いられているが、本発明はこれに限らず、例えば電磁石を用いてもよい。以下に、図11に示す実験装置を用い、本発明の評価試験を行った。具体的には、磁場形成部材の移動により液滴が移動するか否かを確認する実験を行った。図11中、6はシリコンより構成された厚さ0.75mmの移動面形成部材であり、3c、4cは移動面形成部材6の両面に夫々配置された磁場形成部材である。磁場形成部材3cは、図12に示すように、断面形状が正方形の四角柱の芯部材33cの周囲を4つの永久磁石31c、32c、34c、35cで囲むように構成されている。芯部材33cの材質は鉄であり、その断面の正方形の一辺は10mmである。永久磁石31c、32c、34c、35cは、材質がネオジウムであり、外側がN極になるように配置されており、磁場形成部材3cの一辺は50mmである。磁場形成部材4cは、芯部材43c及び4つの永久磁石41c、42c、44c、45cにより、磁場形成部材3cと同様に構成されるが、永久磁石41c、42c、44c、45cの磁極の向きは、外側がS極になるように配置される。そして、磁場形成部材3c、4cの間のギャップ磁石間ギャップLと液適量を変え、磁場形成部材3c、4cの移動に伴い液滴61が移動するか否かについて、目視により確認した。なお、直径が5mm~10mmの液滴61とは、液適量が20μl~100μlに相当する。この結果について、図13に示す。図中縦軸は磁石間ギャップ、横軸は液適量を夫々示し、■は磁場形成部材3c、4cの移動により移動した液滴61、□は移動しなかった液滴61を夫々示している。この結果、磁場形成部材3c、4cの移動に伴い、移動面形成部材6の表面において、液滴61が移動することが認められた。また、液滴量が少ないときには、液滴61を移動させるためには、磁場形成部材3c、4cの間のギャップLを小さくして、磁束密度を高める必要があることが理解される。このことは、言い換えると、液適量が多いほど液を移動させ易いということであり、この理由としては液適量が多いほど比表面張力による液滴の移動に対する抵抗力が小さくなるためと考えられる。このことから、本実施例よりも液量の多い本発明においても洗浄液の液切りは可能であると推測される。