"以下の工程を含むことを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法:a基板を用意する工程;b前記基板の上に、透明電極を形成する工程;c前記基板と第1スリットコータとを、前記基板の走行する第1方向に相対移動させながら、前記透明電極の上に、前記第1スリットコータに備わる第1ダイを用いて第1溶液を塗布し、第1有機層を形成する工程;d前記基板と第2スリットコータとを前記第1方向に相対移動させながら、前記第1有機層の上に、前記第2スリットコータに備わる第2ダイを用いて第2溶液を塗布し、第2有機層を形成する工程;e前記基板と第3スリットコータとを前記第1方向に相対移動させながら、前記第2有機層の上に、前記第3スリットコータに備わる第3ダイを用いて第3溶液を塗布し、第3有機層を形成する工程;f前記第3有機層の上に、金属電極を形成する工程、ここで、前記第1ダイは、前記第1方向と垂直な方向である第2方向に沿って設けられた前記第1溶液を吐出するスリット状の吐出口と、第1吐出幅の第1シムとを有し、前記第2ダイは、前記第2方向に沿って設けられた前記第2溶液を吐出するスリット状の吐出口と、前記第1吐出幅よりも狭い第2吐出幅の第2シムとを有し、前記第3ダイは、前記第2方向に沿って設けられた前記第3溶液を吐出するスリット状の吐出口と、前記第2吐出幅よりも狭い第3吐出幅の第3シムとを有し、前記第1有機層の前記第2方向の両端面よりも、前記第2有機層の前記第2方向の両端面が内側に位置し、前記第2有機層の前記第2方向の両端面よりも、前記第3有機層の前記第2方向の両端面が内側に位置している。請求項1記載の有機薄膜太陽電池の製造方法において、前記f工程は、さらに以下の下位工程を含むことを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法:f1前記基板と第4スリットコータとを前記第1方向に相対移動させながら、前記第3有機層の上に、前記第4スリットコータに備わる第4ダイを用いて第4溶液を塗布する工程、ここで、前記第4ダイは、前記第2方向に沿って設けられた前記第4溶液を吐出するスリット状の吐出口と、前記第3吐出幅よりも狭い第4吐出幅の第4シムとを有し、前記第3有機層の前記第2方向の両端面よりも、前記金属電極の前記第2方向の両端面が内側に位置している。請求項1記載の有機薄膜太陽電池の製造方法において、前記第2有機層の前記第2方向に沿った寸法は前記第1有機層の前記第2方向に沿った寸法よりも1.0mm以上短く、前記第3有機層の前記第2方向に沿った寸法は前記第2有機層の前記第2方向に沿った寸法よりも1.0mm以上短いことを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法。請求項1記載の有機薄膜太陽電池の製造方法において、前記基板の前記第1方向の前端面から前記第1溶液の塗布が開始される位置までの第1距離よりも、前記基板の前記第1方向の前記前端面から前記第2溶液の塗布が開始される位置までの第2距離が長く、前記基板の前記第1方向の前記前端面から前記第2溶液の塗布が開始される位置までの前記第2距離よりも、前記基板の前記第1方向の前記前端面から前記第3溶液の塗布が開始される位置までの第3距離が長く、前記第1有機層の前記第1方向の両端面よりも、前記第2有機層の前記第1方向の両端面が内側に位置し、前記第2有機層の前記第1方向の両端面よりも、前記第3有機層の前記第1方向の両端面が内側に位置していることを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法。請求項4記載の有機薄膜太陽電池の製造方法において、前記第2有機層の前記第1方向に沿った寸法は前記第1有機層の前記第1方向に沿った寸法よりも1.0mm以上短く、前記第3有機層の前記第1方向に沿った寸法は前記第2有機層の前記第1方向に沿った寸法よりも1.0mm以上短いことを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法。請求項1記載の有機薄膜太陽電池の製造方法において、前記第1有機層は正孔輸送層、前記第2有機層は発電層、前記第3有機層は電子輸送層であることを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法。請求項1記載の有機薄膜太陽電池の製造方法において、前記f工程の後、さらに以下の工程を含むことを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法:g前記基板の上に積層された前記第1有機層、前記第2有機層、前記第3有機層、および前記金属層にアニール処理を施す工程。固定テーブルと、前記固定テーブルの上に、第1方向に順次配置された複数のスリットコータと、前記複数のスリットコータにそれぞれ備わり、前記第1方向と垂直な方向である第2方向に沿って設けられた溶液を吐出するスリット状の吐出口を有する複数のダイと、前記複数のダイにそれぞれ備わり、前記溶液の吐出幅を規定する複数のシムと、を含む有機薄膜太陽電池の製造装置であって、前記基板と前記複数のスリットコータとは前記第1方向に相対移動し、前記複数のシムのそれぞれの吐出幅が、後続のシムになるに従って順に狭くなっていることを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造装置。請求項8記載の有機薄膜太陽電池の製造装置において、後に使用されるシムの吐出幅が、先に使用されるシムの吐出幅よりも1.0mm以上短いことを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造装置。請求項8記載の有機薄膜太陽電池の製造装置において、前記複数のダイの前記溶液の塗布位置を、互いに異なる値に設定できることを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造装置。図35に示すように、有機薄膜太陽電池は、例えば透明電極52を付けた基板51の上に、正孔輸送層53、バルクヘテロ層p-n混合層i層54、電子輸送層55、および金属電極56が順次積層された多層構造を有している。有機薄膜太陽電池に光が照射されると、バルクへテロ層i層54を構成するp型半導体材料の中に励起子と呼ばれる正孔と電子の対が生成される。生成された励起子はp型半導体材料とn型半導体材料との界面まで移動し、界面のエネルギー差により正孔と電子とが分離する。正孔はp型半導体材料を通じて陽極へ流れ、電子はn型半導体材料を通じて陰極へ流れる。そしてこの電極同士を結べば、電流が流れる。正孔輸送層53および電子輸送層55は、正孔と電子とが再結合しないように、また励起子に戻らないように、正孔と電子とを分離するために設けられている。また、有機薄膜太陽電池の効率を上げるためには、p型半導体材料とn型半導体材料との界面で正孔と電子とが分離した後に、正孔が再結合せずに素早く陽極へ移動するように、また、電子が再結合せずに素早く陰極へ移動するようにする必要がある。そこで、図36に示すように、正孔輸送層53とバルクヘテロ層i層54iとの間にp型有機半導体54pを設け、バルクヘテロ層54iと電子輸送層55との間にn型有機半導体54nを設けたp-i-n構造p層-i層-n層の有機薄膜太陽電池もある。さらに、図37に示すように、正孔輸送層53とp型有機半導体54pとの間に、インターレイヤ層57を設けても良く、これにより、強酸性のPEDOT:PSSによる有機薄膜太陽電池の劣化を防止できるという効果が得られる。このように、前述の図35~図37に示すように、有機薄膜太陽電池は複数の有機層が重なることにより構成されている。従って、有機薄膜太陽電池を製造する場合は、透明電極を付けた基板の上に各有機層を順次重ねていくことになる。しかし、印刷プロセスまたは塗布プロセスを用いて、基板の上に各有機層を順次重ねていくと、印刷精度または塗布精度の点から、複数の有機層が積層された多層構造の側面においていずれかの有機層が形状不良を生じ、本来は接触してはいけない層同士、例えばバルクへテロ層と透明電極または金属電極、あるいは正孔輸送層と電子輸送層とが接触する場合がある。接触してはいけない層同士が接触すると、正孔および電子の移動が阻害されて電流が流れなくなり、有機薄膜太陽電池として機能しなくなる。そのため、複数の有機層が積層された多層構造の側面における有機層の形状不良は、製品の製造歩留まりの低下を招く要因となる。基板の上に各有機層を順次重ねた後に、例えばレーザスクライブを用いて多層構造の側面を切り取り、接触してはいけない層同士の接触を防ぐ方法もあるが、設備投資の増加等により有機薄膜太陽電池を安価に製造できなくなるなどの課題を有している。本発明の目的は、有機薄膜太陽電池を歩留まり良く、かつ安価に製造することのできる技術を提供することにある。本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。本願において開示される発明のうち、代表的なものの一実施の形態を簡単に説明すれば、次のとおりである。この実施の形態は、基板と第1スリットコータとを相対移動させながら、透明電極を付けた基板の上に、第1スリットコータに備わり、第1吐出幅の第1シムを有する第1ダイを用いて第1溶液を塗布し、正孔輸送層を形成する工程と、基板と第2スリットコータとを相対移動させながら、正孔輸送層の上に、第2スリットコータに備わり、第1吐出幅よりも狭い第2吐出幅の第2シムを有する第2ダイを用いて第2溶液を塗布し、発電層を形成する工程と、基板と第3スリットコータとを相対移動させながら、発電層の上に、第3スリットコータに備わり、第2吐出幅よりも狭い第3吐出幅の第3シムを有する第3ダイを用いて第3溶液を塗布し、電子輸送層を形成する工程と、基板と第4スリットコータとを相対移動させながら、電子輸送層の上に、第4スリットコータに備わり、第3吐出幅よりも狭い第4吐出幅の第4シムを有する第4ダイを用いて第4溶液を塗布し、金属電極を形成する工程と、を含む有機薄膜太陽電池の製造方法であって、基板の走行方向と垂直な方向において、正孔輸送層の両端面よりも発電層の両端面が内側に位置し、発電層の両端面よりも電子輸送層の両端面が内側に位置し、電子輸送層の両端面よりも金属電極の両端面が内側に位置している。また、この実施の形態は、固定テーブルの上に置かれた基板の走行方向に順次配置された複数のスリットコータと、複数のスリットコータにそれぞれ備わり、溶液を吐出するスリット状の吐出口を有する複数のダイと、複数のダイにそれぞれ備わり、溶液の吐出幅を規定する複数のシムとを含む有機薄膜太陽電池の製造装置であって、基板と複数のスリットコータとは基板の走行方向に相対移動し、複数のシムのそれぞれの吐出幅が、後続のシムになるに従って順に狭くなっている。本願において開示される発明のうち、代表的なものの一実施の形態によって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。有機薄膜太陽電池を歩留まり良く、かつ安価に製造することができる。以下の実施の形態において、便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数等個数、数値、量、範囲等を含むに言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。さらに、以下の実施の形態において、その構成要素要素ステップ等も含むは、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。また、以下の実施の形態で用いる図面においては、平面図であっても図面を見易くするためにハッチングを付す場合もある。また、以下の実施の形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。また、本願において、溶液というときは、液体のみではなく、塗布できる材料であればペースト状の固体も含むものとする。実施の形態1本実施の形態1によるコーティング技術である間歇スリットコート法を用いた有機薄膜太陽電池の製造方法、および有機薄膜太陽電池の製造装置について説明する。<有機薄膜太陽電池の構造>本実施の形態1による有機薄膜太陽電池の具体的構造の一例を、図1に示す要部断面図を用いて説明する。好ましい有機薄膜太陽電池の構成の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。本実施の形態1による有機薄膜太陽電池は、一対の電極陽極および陰極と、この一対の電極の間に配置される積層された複数の有機層とを含んでおり、複数の有機層は、陽極側に設けられた正孔輸送層と、陰極側に設けられた電子輸送層と、両者に挟まれた発電層i構造とから構成される。基板1の上には陽極側の電極である透明電極2が形成されている。基板1には、例えばガラスまたはプラスチックなどが用いられ、透明電極2には、例えばSnO2酸化錫などが用いられる。透明電極2の上には、例えばPEDOT:PSSpolyからなる正孔輸送層3が形成されている。正孔輸送層3は、分離した後の正孔と電子とが再結合して、再び励起子に戻らないように、正孔と電子とを分離するために設けられている。すなわち、正孔輸送層3は、正孔を選択的に透過させて、正孔注入効率を改善する機能を有している。正孔輸送層3の上には、例えばP3HT:PCBM3hexylthiophene:PhenylC61ButyricAcidMethylEsterからなる発電層4が形成されている。ここでは、発電層4にp型半導体材料とn型半導体材料とを混合し、ミクロ層分離構造を有した所謂バルクへテロ層を用いるが、これに限定されるものではない。例えばp型半導体材料とn型半導体材料とを積層したヘテロ層を用いることもできる。発電層4の上には、例えばTiOx酸化チタンからなる電子輸送層5が形成されている。電子輸送層5は、分離した後の正孔と電子とが再結合して、再び励起子に戻らないように、正孔と電子とを分離するために設けられている。すなわち、電子輸送層5は、電子を選択的に透過させて、電子注入効率を改善する機能を有している。電子輸送層5の上には陰極側の電極である金属電極6が形成されている。金属電極6には、例えばAlアルミニウムまたはAg銀などが用いられている。正孔輸送層3と発電層4との間に、電子の輸送を堰き止める機能を有する電子阻止層を設けても良い。同様に、発電層4と電子輸送層5との間に、正孔の輸送を堰き止める機能を有する正孔阻止層を設けても良い。さらに、透明電極2と正孔輸送層3との間に、正孔の注入効率を改善する機能を有する正孔注入層を設けても良い。同様に、電子輸送層5と金属電極6との間に、電子の注入効率を改善する機能を有する電子注入層を設けても良い。但し、このような電子阻止層または正孔阻止層等を重ね合わせることにより、有機薄膜太陽電池の効率を上げることができるが、安価な有機薄膜太陽電池の製造のためには、層数は少ないことが好ましい。<製造装置の構成>本実施の形態1による有機薄膜太陽電池に含まれる複数の有機層を形成する製造装置間歇スリットコート法により有機層を塗工する装置の一例を図2~図5を用いて説明する。図2は、間歇スリットコート法により有機層を塗工する装置の塗工部の側面からみた概略構成図、図3は、間歇スリットコート法により有機層を塗工する装置の塗工部の上面からみた概略構成図、図4は、間歇スリットコート法により有機層を塗工する装置の制御部の概略構成図、図5は、間歇スリットコート法により有機層を塗工する装置の溶液供給部の概略構成図である。図2および図3に、間歇スリットコート法により有機層を塗工する装置以下、間歇スリットコータというの概略構成図を示す。間歇スリットコータ10は、主に、吸着機構を有する固定テーブル定盤11と、固定テーブル11に設けられたスリットコータ12A,12B,12Cと、固定テーブル11に設けられたガイド11aと、各スリットコータ12A,12B,12Cにそれぞれ備わるダイ13A,13B,13Cと、各スリットコータ12A,12B,12Cにそれぞれ備わるカメラ14A,14B,14Cと、制御部15とにより構成されている。間歇スリットコータ10は、さらに、溶液供給部などを備えている。スリットコータ12A、ダイ13A、およびカメラ14Aは、例えば前述した正孔輸送層3を形成するために用いられる設備であり、スリットコータ12B、ダイ13B、およびカメラ14Bは、例えば前述した発電層4を形成するために用いられる設備であり、スリットコータ12C、ダイ13C、およびカメラ14Cは、例えば前述した電子輸送層5を形成するために用いられる設備である。間歇スリットコータ10は、吸着機構を有する固定テーブル11の上面に基板16を吸着し、スリットコータ12A,12B,12Cにそれぞれ備わるダイ13A,13B,13Cの先端と基板16の上面との間隔を所定値に保持し、溶液を供給しながら溶液を基板16の上に塗布して、有機層を形成する装置である。有機層の塗布工程は、大気中または窒素雰囲気中において行う。ここでは、3台のスリットコータ12A,12B,12Cを記載しているが、これに限定されるものではない。4台以上のスリットコータが必要な場合は、例えば有機薄膜太陽電池に必要な有機層の枚数分のスリットコータが連結される、または有機薄膜太陽電池に必要な有機層の枚数分のスリットコータが固定テーブル11の上面に増設される。固定テーブル11は、電動機または油圧器などの変位駆動手段によって走行方向塗布方向、図2および図3に示すX方向:第1方向に往復運動をする。従って、固定テーブル11に置かれた基板16と各スリットコータ12A,12B,12Cとは、それぞれ基板16の走行方向X方向に相対移動することができる。溶液の塗布を開始する前は、固定テーブル11の走行方向X方向に沿って、基板16と向かい合うように、スリットコータ12Aを先頭に、スリットコータ12B、スリットコータ12Cの順に設置されている。各スリットコータ12A,12B,12Cは、走行方向X方向における各ダイ13A,13B,13Cの塗布速度、および鉛直方向図2および図3に示すZ方向における各ダイ13A,13B,13Cの高さを制御する機構であり、走行機構および昇降機構は制御部15により制御される。各スリットコータ12A,12B,12Cの走行機構および昇降機構を制御することにより、各ダイ13A,13B,13Cのそれぞれの塗布開始時の有機層の厚さと塗布終了時の有機層の厚さ、塗布開始位置などとが精密に制御される。各ダイ13A,13B,13Cは、それぞれ吐出幅方向走行方向X方向および鉛直方向Z方向に垂直な方向、図2および図3に示すY方向:第2方向に沿って設けられたスリット状の溶液が吐出する吐出口を有している。後に図5を用いて説明するように、各ダイ13A,13B,13Cにはそれぞれ溶液タンクから溶液が供給され、また、塗布に使用されなかった余分な溶液は各ダイ13A,13B,13Cにそれぞれ設けられた吸込口から溶液タンクに戻される。さらに、各ダイ13A,13B,13Cは、それぞれ吐出幅方向Y方向に沿った溶液の吐出幅を規定するシム17A,17B,17Cを有している。図2に示す各シム17A,17B,17Cの形状は、図2に示す基板16側からみた形状を示し、ダイ13A,13B,13Cから抜き出した形状を示している。シム17Aは吐出幅方向Y方向に沿った溶液の吐出幅LAを有し、ダイ13Aの中に挟まれている。同様に、シム17Bは吐出幅方向Y方向に沿った溶液の吐出幅LBを有し、ダイ13Bの中に挟まれており、シム17Cは吐出幅方向Y方向に沿った溶液の吐出幅LCを有し、ダイ13Cの中に挟まれている。各シム17A,17B,17Cの厚さは、溶液の性質、溶液の状態、および有機層の厚さなどに応じて適宜調整されるが、例えば0.01~1mm程度である。各シム17A,17B,17Cの吐出幅方向Y方向に沿ったそれぞれの溶液の吐出幅LA,LB,LCは、後続のシムになるに従って順に狭くなっている。すなわち、シム17Aの吐出幅LAよりもシム17Bの吐出幅LBは狭く、シム17Bの吐出幅LBよりもシム17Cの吐出幅LCは狭くなっており、LA>LB>LCの順に吐出幅が設定されている。従って、シム17Aを用いて塗布された有機層の吐出幅方向Y方向の幅よりもシム17Bを用いて塗布された有機層の吐出幅方向Y方向の幅は狭く、シム17Bを用いて塗布された有機層の吐出幅方向Y方向の幅よりもシム17Cを用いて塗工された有機層の吐出幅方向Y方向の幅は狭くなる。さらに、シム17Aを用いて塗布された有機層の吐出幅方向Y方向の両端面よりもシム17Bを用いて塗布された有機層の吐出幅方向Y方向の両端面は内側に位置し、シム17Bを用いて塗布された有機層の吐出幅方向Y方向の両端面よりもシム17Cを用いて塗布された有機層の吐出幅方向Y方向の両端面は内側に位置する。上層の有機層の塗布に用いるシムの吐出幅は、下層の有機層の塗布に用いるシムの吐出幅よりも塗布精度の2倍または2乗平方根以上狭く設定される。例えば塗布精度が±0.5mmであれば、シム17Aの吐出幅LAよりもシム17Bの吐出幅LBは1.0mm以上短く、シム17Bの吐出幅LBよりもシム17Cの吐出幅LCは1.0mm以上短くする。また、各ダイ13A,13B,13Cから溶液を吐出する際、それぞれの塗布開始位置溶液の吐出開始位置PA,PB,PCは、後続のダイになる従って順に基板16の前端面図2および図3に符号PFLで示す基板16の走行方向X方向に向いた端面からは遠くなっている。さらに、それぞれの塗布終了位置EA,EB,ECは、後続のダイになるに従って順に基板16の前端面PFLからは近くなっている。すなわち、ダイ13Aの塗布開始位置PAよりもダイ13Bの塗布開始位置PBは基板16の前端面PFLから遠く、ダイ13Bの塗布開始位置PBよりもダイ13Cの塗布開始位置PCは基板16の前端面PFLから遠くなっており、基板16の前端面PFLに近い順に、PA、PB、PCとなるように塗布開始位置が設定されている。さらに、ダイ13Aの塗布終了位置EAよりもダイ13Bの塗布終了位置EBは基板16の前端面PFLから近く、ダイ13Bの塗布終了位置EBよりもダイ13Cの塗布終了位置ECは基板16の前端面PFLから近くなっており、基板16の前端面PFLに近い順に、EC、EB、EAとなるように塗布終了位置が設定されている。従って、ダイ13Aを用いて塗布された有機層の走行方向X方向の幅よりもダイ13Bを用いて塗布された有機層の走行方向X方向の幅は狭く、ダイ13Bを用いて塗布された有機層の走行方向X方向の幅よりもダイ13Cを用いて塗布された有機層の走行方向X方向の幅は狭くなる。さらに、ダイ13Aを用いて塗布された有機層の走行方向X方向の両端面よりもダイ13Bを用いて塗布された有機層の走行方向X方向の両端面は内側に位置し、ダイ13Bを用いて塗布された有機層の走行方向X方向の両端面よりもダイ13Cを用いて塗布された有機層の走行方向X方向の両端面は内側に位置する。上層の有機層と、これに接する下層の有機層との走行方向X方向の幅の差は、塗布精度を考慮して決めることができる。例えば塗布精度が±0.5mmであれば、ダイ13Aを用いて形成された有機層の走行方向X方向の幅よりもダイ13Bを用いて形成された有機層の走行方向X方向の幅は1.0mm以上短く、ダイ13Bを用いて形成された有機層の走行方向X方向の幅よりもダイ13Cを用いて形成された有機層の走行方向X方向の幅は1.0mm以上短くする。このように、本実施の形態1による間歇スリットコータ10により積層した有機層を形成すると、有機層の吐出幅方向Y方向の幅および走行方向X方向の幅は、上層の有機層になるに従って順に狭くなるように形成され、かつ、下層の全端面4つの端面よりも内側に上層の全端面4つの端面が位置するので、各有機層をピラミット状に積層することができる。図4に、間歇スリットコータの制御部の概略構成図を示す。ここでは、1台のスリットコータ12Aおよびこれに備わる各設備のみを記載し、他のスリットコータ12B,12Cについての記載は省略しているが、スリットコータ12Aと同様である。スリットコータ12Aは、走行方向X方向と、鉛直方向Z方向とに動くことができる。これらの動きは、2台のカメラ14Aにより得られる画像に基づき、その駆動部18を介して制御部15により制御される。ダイ13Aの吐出口19と基板16の上面との鉛直方向Z方向の距離ギャップGは、レーザ変位計測量等を使用したクローズドループにより制御される。また、固定テーブル11は、走行方向X方向と、吐出幅方向Y方向と、θ方向回転方向とに動くことができる。これらの動きは、2台のカメラ14Aにより得られる基板16に設けられたアライメントマーク前述の図3に符号20で示すアライメントマークに基づき、その駆動部21を介して制御部15により制御される。固定テーブル11を動かすことにより、基板16の位置調整を行った後、固定テーブル11に基板16を吸着して、基板16の反りを矯正する。図5に、間歇スリットコータの溶液供給部の概略構成図を示す。ここでは、1台のダイ13Aのみを記載し、他のダイ13B,13Cについての記載は省略しているが、ダイ13Aと同様である。溶液は、溶液タンク22からポンプP1を介して三方弁23の一方を経由し、ダイ13Aに供給される。ダイ13Aに溶液を供給しないときは、溶液タンク22からポンプP1を介して三方弁23の他方を経由し、さらに背圧弁24を経由して、溶液は溶液タンク22に戻される。基板16への塗布が終了した時には、溶液の吸込動作を行う。吸込動作では、溶液は、ダイ13Aの吸込み口から電磁弁25を経由してポンプP2に吸込まれ、さらに、溶液タンク22に戻される。<有機薄膜太陽電池の製造方法>本実施の形態1による有機薄膜太陽電池の製造方法の一例を図6~図20を用いて順次説明する。図6は、有機薄膜太陽電池の製造プロセスを説明する工程図、図7~図9、図11~図14、および図20は、有機薄膜太陽電池の各製造工程における有機薄膜太陽電池の要部斜視図、図10は、ダイを拡大して示す要部斜視図、図15~図19は、間歇スリットコータの塗工部を側面からみた概略構成図である。ここでは、前述した間歇スリットコータ10と同様の装置を用いて有機薄膜太陽電池に含まれる複数の有機層、および電極層を形成している。工程P100透明電極パターニング図7に示すように、基板1を用意する。基板1には、例えばガラスまたはプラスチックなどが用いられる。基板1の上には陽極側の電極である、例えばSnO2からなる透明電極2が形成されている。本実施の形態1では透明電極2にSnO2を用いたが、他の透明導電膜例えばITOIndiumTinOxide:インジウム酸化錫またはIZOIndiumZincOxide:インジウム酸化亜鉛などを用いても良い。次に、レーザスクライブ26により透明電極2を所定の大きさにパターニングする。工程P101洗浄図8に示すように、溶液洗浄を行う。工程P102PEDOT:PSS形成図9に示すように、ダイ13Aを用いた間歇スリットコート法により透明電極2の上にPEDOT:PSS溶液を塗布して、PEDOT:PSS層3aを形成する。PEDOT:PSS溶液の濃度は、例えば1、塗布厚さは、例えば2μmである。また、図10に示すように、ダイ13Aに挟まれるシム17Aaは、吐出幅方向Y方向のほぼ真ん中に仕切り部HPを有しており、2つの塗布領域が吐出幅方向Y方向に形成される。仕切り部HPで分けられたそれぞれの吐出幅が前述した吐出幅LAである。ここでは、シム17Aaに1つの仕切り部HPを設けたが、仕切り部を設けないシム、2つ以上の仕切り部を設けたシムを用いることもできる。工程P103P3HT:PCBM形成図11に示すように、ダイ13Bを用いた間歇スリットコート法によりPEDOT:PSS層3aの上にP3HT:PCBM溶液を塗布して、P3HT:PCBM層4aを形成する。P3HT:PCBM溶液の濃度は、例えば10、塗布厚さは、例えば2μmである。工程P104TiOx形成図12に示すように、ダイ13Cを用いた間歇スリットコート法によりP3HT:PCBM層4aの上にTiOx溶液を塗布して、TiOx層5aを形成する。TiOx溶液の濃度は、例えば1、塗布厚さは、例えば2μmである。工程P105金属電極形成図13に示すように、ダイ13Dを用いた間歇スリットコート法によりTiOx層5aの上にAl材料またはAg材料溶液またはペーストを塗布して、Al層またはAg層6aを形成する。工程P106アニール処理図14に示すように、基板1の上に積層された各有機層PEDOT:PSS層3a、P3HT:PCBM層4a、およびTiOx層5aおよび電極層Al層またはAg層6aにアニール処理を施し、溶剤を揮発させる。アニール処理には、例えばステージ加熱または炉体加熱を用いる。アニール処理の温度は、例えば150°C、アニール時間は、例えば10分である。なお、ここではアニール処理を行わず、有機薄膜太陽電池を樹脂封止する際の加熱と兼用しても良い。上記工程P102~工程P106では、前述した間歇スリットコータ10を用いて、各有機層PEDOT:PSS層3a、P3HT:PCBM層4a、およびTiOx層5aおよび電極層Al層またはAg層6aを形成する。本実施の形態1では、電極層Al層またはAg層6aも間歇スリットコート法により形成する。以下に、上記工程P102~工程P106における間歇スリットコータ10の各機構の動作について図15~図19を用いて説明する。図15に示すように、固定テーブル11の上に固定された基板1の位置合わせを行った後、基板1を走行方向X方向に移動させる。基板1の上には透明電極2が形成されている。スリットコータ12Aを基板1が移動する方向とは反対方向に移動させながら、スリットコータ12Aに備わるダイ13Aの吐出口からPEDOT:PSS溶液を基板1に間歇塗布する。これにより、基板1の上にPEDOT:PSS層3aを形成する。次に、図16に示すように、スリットコータ12Bを基板1が移動する方向とは反対方向に移動させながら、スリットコータ12Bに備わるダイ13Bの吐出口からP3HT:PCBM溶液を基板1に間歇塗布する。これにより、PEDOT:PSS層3aの上にP3HT:PCBM層4aを形成する。同様に、スリットコータ12Cを基板1が移動する方向とは反対方向に移動させながら、スリットコータ12Cに備わるダイ13Cの吐出口からTiOx溶液を基板1に間歇塗布する。これにより、P3HT:PCBM層4aの上にTiOx層5aを形成する。次に、図17に示すように、スリットコータ12Dを基板1が移動する方向とは反対方向に移動させながら、スリットコータ12Dに備わるダイ13Dの吐出口からAl材料またはAg材料を基板1に間歇塗布する。これにより、TiOx層5aの上にAl層またはAg層6aを形成する。その後、図18に示すように、各有機層PEDOT:PSS層3a、P3HT:PCBM層4a、およびTiOx層5aおよび電極層Al層またはAg層6aが積層された基板1は、アニール処理装置28へ搬送される。次に、図19に示すように、各有機層PEDOT:PSS層3a、P3HT:PCBM層4a、およびTiOx層5aおよび電極層Al層またはAg層6aが積層された基板1はアニール処理装置28において、アニール処理されて、溶剤を揮発させる。前述したように、各ダイ13A,13B,13C,13Dの吐出口にはそれぞれシム17A,17B,17C,17Dが備わっているが、各シム17A,17B,17C,17Dの吐出幅方向Y方向のそれぞれの吐出幅LA,LB,LC,LDは、後続のシムになるに従って順に狭くなっている。すなわち、各シム17A,17B,17C,17Dでは、LA>LB>LC>LDの順に吐出幅が設定されている。さらに、前述したように、各ダイ13A,13B,13C,13Dから溶液を吐出する際、各ダイのそれぞれの塗布開始位置PA,PB,PC,PDは、後続のダイになる従って順に基板1の前端面基板1の走行方向X方向に向いた端面からは遠くなっており、各ダイのそれぞれの塗布終了位置EA,EB,EC,EDは、後続のダイになる従って順に基板1の前端面基板1の走行方向X方向に向いた端面からは近くなっている。すなわち、各ダイ13A,13B,13C,13Dでは、基板1の前端面に近い順に、PA、PB、PC、PDとなるように塗布開始位置が設定され、基板1の前端面に近い順に、ED、EC、EB、EAとなるように塗布終了位置が設定されている。従って、PEDOT:PSS層3aの4つの端面よりも内側にP3HT:PCBM層4aの4つの端面が位置し、P3HT:PCBM層4aの4つの端面よりも内側にTiOx層5aの4つの端面が位置し、TiOx層5aの4つの端面よりも内側にAl層またはAg層6aの4つの端面が位置して、PEDOT:PSS層3a、P3HT:PCBM層4a、TiOx層5a、およびAl層またはAg層6aが基板1側から順に積層されている。これにより、間歇スリットコータ10により、PEDOT:PSS層3a、P3HT:PCBM層4a、TiOx層5a、およびAl層またはAg層6aを順次積層しても、積層されたPEDOT:PSS層3a、P3HT:PCBM層4a、TiOx層5a、およびAl層またはAg層6aの側面において、本来は接触してはいけない層同士の接触を防止できるので、有機薄膜太陽電池の製造歩留まりが向上する。工程P107モジュール化図20に示すように、所定の大きさに分けられた有機薄膜太陽電池をそれぞれ、例えば樹脂シート27などにより封止する。以上説明した製造過程により、有機薄膜太陽電池が略完成する。このように、本実施の形態1によれば、間歇スリットコート法により複数の有機層および電極層を基板の上に積層しても、下層の全端面4つの端面よりも内側に上層の全端面4つの端面が位置するので、複数の有機層および電極層が積層された多層構造の側面において、本来は接触してはいけない同士の接触を防止できて、有機薄膜太陽電池の製造歩留まりを向上させることができる。また、真空技術を使用せずに、間接スリットコート法およびアニール処理法のみで有機薄膜太陽電池を製造できるので、安価な有機薄膜太陽電池を提供することができる。実施の形態2本実施の形態2によるコーティング技術である間歇スリットコート法を用いた有機薄膜太陽電池の製造方法について説明する。<有機薄膜太陽電池の構造>本実施の形態2による有機薄膜太陽電池の具体的構造の一例を、図21に示す要部断面図を用いて説明する。好ましい有機薄膜太陽電池の構成の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。本実施の形態2による有機薄膜太陽電池は、一対の電極陽極および陰極と、この一対の電極の間に配置される積層された複数の有機層とを含んでおり、複数の有機層は、陽極側に設けられた正孔輸送層と、陰極側に設けられた電子輸送層と、両者に挟まれた発電層p-i-n構造とから構成される。基板31の上には陽極側の電極である透明電極32が形成されている。透明電極32には、例えばSnO2などが用いられる。透明電極32の上には、例えばPEDOT:PSSpolyからなる正孔輸送層33が形成されている。正孔輸送層33は、分離した後の正孔と電子とが再結合して、再び励起子に戻らないように、正孔と電子とを分離するために設けられている。すなわち、正孔輸送層33は、正孔を選択的に透過させて、正孔注入効率を改善する機能を有している。正孔輸送層33の上には、p型有機半導体34p、i層バルクへテロ層34i、およびn型有機半導体34nが積層されてなる発電層34が形成されている。p型有機半導体34pは、例えばBPTetrabenzoporphyrinからなり、i層バルクへテロ層34iは、例えばPCBNB:BPフラーレン誘電体phenylC61butyricacidnbutylester:Tetrabenzoporphyrinからなり、n型有機半導体34nは、例えばPCBMPhenylC61ButyricAcidMethylEsterからなる。発電層34をp-i-n構造とすることにより、分離した後の正孔と電子とが再結合して、再び励起子に戻さないようにすることができる。発電層34の上には、例えばBCP29dimenthyl47diphenyl110phenanthrolineからなる電子輸送層35が形成されている。電子輸送層35は、分離した後の正孔と電子とが再結合して、再び励起子に戻らないように、正孔と電子とを分離するために設けられている。すなわち、電子輸送層35は、電子を選択的に透過させて、電子注入効率を改善する機能を有している。電子輸送層35の上には陰極側の電極である金属電極36が形成されている。金属電極36には、例えばAlまたはAgなどが用いられる。正孔輸送層33と発電層34との間に、電子の輸送を堰き止める機能を有する電子阻止層を設けても良い。同様に、発電層34と電子輸送層35との間に、正孔の輸送を堰き止める機能を有する正孔阻止層を設けても良い。さらに、透明電極32と正孔輸送層33と間に、正孔の注入効率を改善する機能を有する正孔注入層を設けても良い。同様に、電子輸送層35と金属電極36との間に、電子の注入効率を改善する機能を有する電子注入層を設けても良い。但し、このような電子阻止層または正孔阻止層等を重ね合わせることにより、有機薄膜太陽電池の効率を上げることができるが、安価な有機薄膜太陽電池の製造のためには、層数は少ないことが好ましい。<有機薄膜太陽電池の製造方法>本実施の形態2による有機薄膜太陽電池の製造方法の一例を図22~図34を用いて順次説明する。図22は、有機薄膜太陽電池の製造プロセスを説明する工程図、図23~図34は、有機薄膜太陽電池の各製造工程における有機薄膜太陽電池の要部斜視図である。ここでは、前述した実施の形態1において説明した間歇スリットコータ10と同様の装置を用いて有機薄膜太陽電池に含まれる複数の有機層、および電極層を形成している。工程P200透明電極パターニング図23に示すように、基板31を用意する。基板31には、例えばガラスまたはプラスチックなどが用いられる。基板31の上には陽極側の電極である、例えばSnO2からなる透明電極32が形成されている。本実施の形態2では透明電極32にSnO2を用いたが、他の透明導電膜例えばITOまたはIZOなどを用いても良い。次に、レーザスクライブ37により透明電極32を所定の大きさにパターニングする。工程P201洗浄図24に示すように、溶液洗浄を行う。工程P202PEDOT:PSS形成図25に示すように、ダイ13Aを用いた間歇スリットコート法により透明電極32の上にPEDOT:PSS溶液を塗布して、PEDOT:PSS層33aを形成する。PEDOT:PSS溶液の濃度は、例えば1、塗布厚さは、例えば2μmである。工程P203BP形成図26に示すように、ダイ13Bpを用いた間歇スリットコート法によりPEDOT:PSS層33aの上にBP溶液を塗布して、BP層34paを形成する。BP溶液の濃度は、例えば1、塗布厚さは、例えば3μmである。工程P204変性処理図27に示すように、アニール処理を施して、BP層34paの変性処理を行う。アニール処理の温度は、例えば180°C、アニール時間は、例えば20分である。工程P205PCBNB:BP形成図28に示すように、ダイ13Biを用いた間歇スリットコート法によりBP層34paの上にPCBNB:BP溶液を塗布して、PCBNB:BP層34iaを形成する。PCBNB:BP溶液の濃度は、例えば10、塗布厚さは、例えば1μmである。工程P206変性処理図29に示すように、アニール処理を施して、PCBNB:BP層34iaの変性処理を行う。アニール処理の温度は、例えば180°C、アニール時間は、例えば20分である。工程P207PCBM形成図30に示すように、ダイ13Bnを用いた間歇スリットコート法によりPCBNB:BP層34iaの上にPCBM溶液を塗布して、PCBM層34naを形成する。PCBM溶液の濃度は、例えば1、塗布厚さは、例えば3μmである。工程P208BCP形成図31に示すように、ダイ13Cを用いた間歇スリットコート法によりPCBM層34naの上にBCP溶液を塗布して、BCP層35aを形成する。BCP溶液の濃度は、例えば1、塗布厚さは、例えば2μmである。工程P209金属電極形成図32に示すように、ダイ13Dを用いた間歇スリットコート法によりBCP層35aの上にAl材料またはAg材料溶液またはペーストを塗布して、Al層またはAg層36aを形成する。上記工程P202~工程P209では、前述した実施の形態1と同様に、前述した間歇スリットコータ10を用いて、各有機層PEDOT:PSS層33a、BP層34pa、PCBNB:BP層34ia、PCBM層34na、およびBCP層35aおよび電極層Al層またはAg層6aを形成する。本実施の形態2では、電極層Al層またはAg層36aも間歇スリットコート法により形成する。上記工程P202~工程P209における間歇スリットコータ10の各機構の動作についての説明は省略するが、前述した実施の形態1と同様に、PEDOT:PSS層33aの4つの端面よりも内側にBP層34paの4つの端面が位置し、BP層34paの4つの端面よりも内側にPCBNB:BP層34iaの4つの端面が位置し、PCBNB:BP層34iaの4つの端面よりも内側にPCBM層34naの4つの端面が位置し、PCBM層34naの4つの端面よりも内側にBCP層35aの4つの端面が位置し、BCP層35aの4つの端面よりも内側にAl層またはAg層36aの4つの端面が位置して、PEDOT:PSS層33a、BP層34pa、PCBNB:BP層34ia、PCBM層34na、BCP層35a、およびAl層またはAg層36aが基板31側から順に積層されている。これにより、間歇スリットコータ10により、PEDOT:PSS層33a、BP層34pa、PCBNB:BP層34ia、PCBM層34na、BCP層35a、およびAl層またはAg層36aを順次積層しても、積層されたPEDOT:PSS層33a、BP層34pa、PCBNB:BP層34ia、PCBM層34na、BCP層35a、およびAl層またはAg層36aの側面において、本来は接触してはいけない層同士の接触を防止できるので、有機薄膜太陽電池の製造歩留まりが向上する。工程P210アニール処理図33に示すように、基板31の上に積層された各有機層PEDOT:PSS層33a、BP層34pa、PCBNB:BP層34ia、PCBM層34na、およびBCP層35aおよび電極層Al層またはAg層36aにアニール処理を施し、溶剤を揮発させる。アニール処理には、例えばステージ加熱または炉体加熱を用いる。アニールの温度は、例えば150°C、アニール時間は、例えば10分である。なお、ここではアニール処理を行わず、有機薄膜太陽電池を樹脂封止する際の加熱と兼用しても良い。工程P211モジュール化図34に示すように、所定の大きさに分けられた有機薄膜太陽電池をそれぞれ、例えば樹脂シート38などにより封止する。以上説明した製造過程により、有機薄膜太陽電池が略完成する。このように、本実施の形態2によれば、前述した実施の形態1による有機薄膜太陽電池よりも、さらに積層される有機層が増えても、前述した実施の形態1と同様に、下層の全端面4つの端面よりも内側に上層の全端面4つの端面が位置するので、複数の有機層および電極層が積層された多層構造の側面において、本来は接触してはいけない層同士の接触を防止できて、有機薄膜太陽電池の製造歩留まりを向上させることができる。また、真空技術を使用せずに、間接スリットコート法およびアニール処理法のみで有機薄膜太陽電池を製造できるので、安価な有機薄膜太陽電池を提供することができる。以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。例えば前述した実施の形態では、発電層の構成を、i層またはp層-i層-n層としたが、これらに限定されるものではなく、また、これらを構成する各材料についても実施の形態1,2において例示したものに限定されるものではない。また、有機薄膜太陽電池の構造およびこれを構成する各種材料についても、実施の形態1,2において例示したものに限定されるものではない。"