前面側基板に走査電極および維持電極からなる複数の表示電極対が設けられた前面板と、背面側基板に前記表示電極対と立体交差する複数のデータ電極が設けられ、前記データ電極と前記表示電極対の交差部に各々放電セルを区画するリブが設けられ、前記リブ間に蛍光体層が設けられ、放電空間を形成して前記前面板と接合された背面板と、前記各放電セルの前記蛍光体層に対応させて前記前面板に配置され有機顔料を用いて形成された有機カラーフィルター層と、前記前面板と前記背面板の間の外周縁領域に枠状に設けられ、前記前面板と前記背面板の間を封着しているシール層とを備え、前記前面側基板は、前記放電セルの群が配置された表示領域に対応する薄板領域を有し、前記薄板領域の厚みが、その外周側の外周領域の厚みよりも薄く、前記有機カラーフィルター層は、前記薄板領域おける前記放電空間の反対側に配置され、前記シール層は、前記外周領域に設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。前記前面側基板は、一体の基板における前記表示領域に対応する部分が前記外周領域に対して薄くなって前記薄板領域が形成されている請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。前記前面側基板は、前記外周領域に対応する部分のみからなり前記薄板領域に対応する部分は欠如して貫通領域が形成された外周部基板と、前記外周部基板の前記放電空間側に接合され、前記貫通領域を封鎖しているマイクロシートとから形成されている請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。前記薄板領域の下面と前記リブの上面が当接している請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。前記有機カラーフィルター層はカラーフィルター基板上に形成され、前記カラーフィルター基板は、前記有機カラーフィルター層を前記放電空間側に向けて前記薄板領域上に装着されている請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。前記有機カラーフィルター層は前記薄板領域上に直接形成されている請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。前記薄板領域には、前記リブに対応する突起パターンが形成され、前記有機カラーフィルター層は前記突起パターン内に形成されている請求項6に記載のプラズマディスプレイパネル。前記有機カラーフィルター層から前記放電空間の反対側へ向かう順に、レンチキュラーレンズ層及びマイクロレンズ層が設けられている請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。前面側基板に走査電極および維持電極からなる複数の表示電極対が設けられた前面板と、背面側基板に前記表示電極対と立体交差する複数のデータ電極が設けられ、前記データ電極と前記表示電極対の交差部に各々放電セルを区画するリブが設けられ、前記リブ間に蛍光体層が設けられ、放電空間を形成して前記前面板と接合された背面板と、前記前面板と前記背面板の間の外周縁領域に枠状に設けられ、前記前面板と前記背面板の間を封着しているシール層とを備え、前記前面側基板は、前記放電セルの群が配置された表示領域に対応する薄板領域を有し、前記薄板領域の厚みが、その外周側の外周領域の厚みよりも薄く、前記シール層は、前記外周領域に設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、前記薄板領域が形成されていない状態の前記前面側基板の素材基板に前記表示電極対を設けて予備前面板を作製し、前記背面板を作製し、前記予備前面板と前記背面板とを、前記外周領域に対応する位置に設けた前記シール層により、前記放電空間を形成して封着し、その後、前記前面側基板の前記表示領域に対応する部分を薄くする加工を施して前記薄板領域を形成し、前記薄板領域おける前記放電空間の反対側に前記有機カラーフィルター層を設けることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、前記薄板領域が形成されていない状態の前記前面側基板の素材基板を用いた予備前面板を用意し、前記背面板を作製し、前記予備前面板と前記背面板とを、前記外周領域に対応する位置に設けた前記シール層により、前記放電空間を形成して封着し、その後、前記前面側基板の前記表示領域に対応する部分を薄くする加工を施して前記薄板領域を形成し、前記薄板領域における前記放電空間の反対側に前記表示電極対及び前記有機カラーフィルター層を設けることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。前記素材基板は、前記薄板領域を形成すべき領域の厚さが、前記外周領域に対応する部分よりも薄く、かつ、前記薄板領域の所定の厚さよりも厚く形成されており、前記予備前面板と前記背面板の封着後に、前記薄板領域を形成すべき領域に対して前記所定の厚さまで薄くする加工を施して前記薄板領域を完成する請求項12または13に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。上記従来例のように、マイクロシートとともに有機CF層を用いた構造の場合には、次のような問題を解決する必要がある。すなわち、視野角依存性の問題を回避するために、上述のように、保護膜表面から約50μm以下の距離内にCF層を配置することが望ましい。光源との距離を50μm以下にするには、少なくともマイクロシートを50μm以下にする必要がある。しかし、50μm以下の均一で大きなマイクロシートの作成は非常に難しく、また搬送工程や封着工程などで割れるリスクが非常に大きくなるため、そのようなマイクロシートのみを用いた構成を採用することは困難である。以上のことを考慮して、本発明は、耐熱性の問題を回避可能なように有機カラーフィルターCF層を配置し、薄さに起因する脆弱性の惧れを回避しつつ、前面側基板の厚みを視野角依存性の問題が解消される程度まで薄くすることを可能としたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。上記課題を解決するために、本発明の第1構成のプラズマディスプレイパネルは、前面側基板に走査電極および維持電極からなる複数の表示電極対が設けられた前面板と、背面側基板に前記表示電極対と立体交差する複数のデータ電極が設けられ、前記データ電極と前記表示電極対の交差部に各々放電セルを区画するリブが設けられ、前記リブ間に蛍光体層が設けられ、放電空間を形成して前記前面板と接合された背面板と、前記各放電セルの前記蛍光体層に対応させて前記前面板に配置され有機顔料を用いて形成された有機カラーフィルター層と、前記前面板と前記背面板の間の外周縁領域に枠状に設けられ、前記前面板と前記背面板の間を封着しているシール層とを備え、前記前面側基板は、前記放電セルの群が配置された表示領域に対応する薄板領域を有し、前記薄板領域の厚みが、その外周側の外周領域の厚みよりも薄く、前記有機カラーフィルター層は、前記薄板領域おける前記放電空間の反対側に配置され、前記シール層は、前記外周領域に設けられていることを特徴とする。本発明の第2構成のプラズマディスプレイパネルは、前面側基板に走査電極および維持電極からなる複数の表示電極対が設けられた前面板と、背面側基板に前記表示電極対と立体交差する複数のデータ電極が設けられ、前記データ電極と前記表示電極対の交差部に各々放電セルを区画するリブが設けられ、前記リブ間に蛍光体層が設けられ、放電空間を形成して前記前面板と接合された背面板と、前記前面板と前記背面板の間の外周縁領域に枠状に設けられ、前記前面板と前記背面板の間を封着しているシール層とを備え、前記前面側基板は、前記放電セルの群が配置された表示領域に対応する薄板領域を有し、前記薄板領域の厚みが、その外周側の外周領域の厚みよりも薄く、前記シール層は、前記外周領域に設けられていることを特徴とする。本発明のプラズマディスプレイパネルの第1の製造方法は、上記構成のプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、前記薄板領域が形成されていない状態の前記前面側基板の素材基板に前記表示電極対を設けて予備前面板を作製し、前記背面板を作製し、前記予備前面板と前記背面板とを、前記外周領域に対応する位置に設けた前記シール層により、前記放電空間を形成して封着し、その後、前記前面側基板の前記表示領域に対応する部分を薄くする加工を施して前記薄板領域を形成し、前記薄板領域おける前記放電空間の反対側に前記有機カラーフィルター層を設けることを特徴とする。本発明のプラズマディスプレイパネルの第2の製造方法は、上記構成のプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、前記薄板領域が形成されていない状態の前記前面側基板の素材基板を用いた予備前面板を用意し、前記背面板を作製し、前記予備前面板と前記背面板とを、前記外周領域に対応する位置に設けた前記シール層により、前記放電空間を形成して封着し、その後、前記前面側基板の前記表示領域に対応する部分を薄くする加工を施して前記薄板領域を形成し、前記薄板領域に前記表示電極対及び前記有機カラーフィルター層を設けることを特徴とする。上記構成のPDPによれば、有機CF層は、前面側基板おける放電空間の反対側に配置されているので、耐熱性の問題を回避することが容易である。また、前面側基板は、表示領域に対応する薄板領域を有するので、前面側基板の厚みに起因する視野角依存性の問題を抑制することができる。さらに、薄板領域よりも厚い外周領域を有し、その外周領域でシール層による封着が行われているので、割れ等の脆弱性の問題を回避できる。また、上記構成のPDPの製造方法によれば、薄板領域が形成されていない状態の予備前面板と背面板とを封着するので、封着時には強度的な問題はなく、割れ等のリスクを回避できる。また、封着後に、前面側基板の表示領域に対応する部分を薄くする加工を施して薄板領域を形成するので、薄板領域の形成も容易である。本発明のプラズマディスプレイパネルは、上記構成を基本として、以下のような態様をとることができる。すなわち、前記前面側基板は、一体の基板における前記表示領域に対応する部分が前記外周領域に対して薄くなって前記薄板領域が形成されている構成とすることができる。また、前記前面側基板は、前記外周領域に対応する部分のみからなり前記薄板領域に対応する部分は欠如して貫通領域が形成された外周部基板と、前記外周部基板の前記放電空間側に接合され、前記貫通領域を封鎖しているマイクロシートとから形成されている構成とすることができる。また、前記前面側基板の放電空間側に前記表示電極対が配置され、前記表示電極対を覆って誘電体層が形成されている構成とすることができる。また、前記前面側基板の非放電空間側に前記表示電極対が配置されている構成とすることができる。また、前記薄板領域の下面と前記リブの上面が当接していることが好ましい。前記有機カラーフィルター層はカラーフィルター基板上に形成され、前記カラーフィルター基板は、前記有機カラーフィルター層を前記放電空間側に向けて前記薄板領域上に装着されている構成とすることができる。また、前記有機カラーフィルター層は前記薄板領域上に形成されている構成とすることができる。また、前記薄板領域には、前記リブに対応する突起パターンが形成され、前記有機カラーフィルター層は前記突起パターン内に形成されている構成とすることができる。また、前記有機カラーフィルター層から前記放電空間の反対側へ向かう順に、レンチキュラーレンズ層及びマイクロレンズ層が設けられている設けられている構成とすることができる。上記構成の本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、前記素材基板は、前記薄板領域を形成すべき領域の厚さが、前記外周領域に対応する部分よりも薄く、かつ、前記薄板領域の所定の厚さよりも厚く形成されており、前記予備前面板と前記背面板の封着後に、前記薄板領域を形成すべき領域に対して前記所定の厚さまで薄くする加工を施して前記薄板領域を完成することができる。以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。<実施の形態1>実施の形態1におけるPDPの構造について、図1~図2を参照して説明する。図1及び図2はそれぞれ、実施の形態1におけるPDPの構造の概要を示す断面図、及び平面図である。本実施の形態のPDPにおける背面板8の構造は、図13~図14に示した従来例と同様である。背面板8は、背面側基板9上に複数のデータ電極を設けて構成されているが、図1~図2では、データ電極は図示が省略されている。データ電極の上には図1に示すように、背面側誘電体層11、及び各々放電セルを区画するリブ12が設けられ、リブ12間に蛍光体層図示せずが設けられている。但し、図1におけるリブ12は、その形成された範囲のみが簡略に示され、具体的な図示は省略されている。本実施の形態のPDPは、前面板20の構成に特徴を有する。前面板20に用いられる前面側基板21には、中央部に凹部を設けて薄板領域21aが形成され、その外周側の外周領域21bの厚みと比べると、薄板領域21aでの厚みが十分に薄くなっている。前面側基板21における薄板領域21aの放電空間側下面には、図13~図14に示した従来例と同様の、表示電極対5、前面側誘電体層6、及び保護膜7が配置されている。すなわち、薄板領域21aは、それらの要素により形成された表示領域22に対応するように設けられている。薄板領域21aは、表示領域22より少し広くしてもよい。なお、表示電極対5は、図13、図14に示した透明電極及びバス電極を含むが、図1及び以下に説明する図面では、図示が簡略化されている。前面側基板21の薄板領域21aの非放電空間側上面には、有機CF層23が当接している。すなわち、有機CF層23は、前面側基板21おける放電空間とは反対側の面に配置されている。有機CF層23はCF基板24上に形成され、CF基板24とともに薄板領域21a上に装着されている。有機CF層23に含まれる有機CFセルの各色は、背面側基板9上に形成されたリブ12が区画する各放電セルの蛍光体層の発光色に対応している。前面側基板21と背面側基板9は、前面側基板21の外周領域21bに枠状に設けられたシール層25により封着されている。このように、前面側基板21は、放電セル群が配置された領域に対応する表示領域22における厚みが、その外周側の外周領域21bの厚みよりも薄く形成され、厚い部分である外周領域21bにおいて背面側基板9との間が封着されている。以上の構成によれば、有機CF層23は、前面側基板21の薄板領域21aの非放電空間側に配置されるので、前面側基板21と背面側基板9を封着する工程の後に形成することができる。それにより、有機CF層23が設けられた後の製造工程においては、低融点ガラスシール材を用いてシール層25を形成するときのような高温の処理が行われないことになる。従って、有機CF層23の耐熱性の低さは問題にならない。また、表示領域22における前面側基板21すなわち薄板領域21aの厚さと、前面側誘電体層6の厚さと、保護膜7の厚さとを合計した厚さt図1が、例えば50μm以下のように十分に薄く調整されれば、有機CF層23と光源との距離を、視野角依存性が問題にならない程度に短くすることができる。前面側基板21に薄板領域21aを設けて厚みを薄くすることによる脆弱性の問題は、外周領域21bが従来例と同様の厚さを有し、その部分にシール層25を設けて封着が行われる構成により解消することが可能である。さらに、薄板領域21aは、前面側誘電体層6を介して背面側基板9のリブ12により支持される構造であるため、強度低下の問題は十分に抑制される。また、製造工程については後述するが、封着工程の前には、前面側基板21に薄板領域21aを形成せず、全体が従来例と同様の厚さを有する状態とすることにより、封着工程における強度の問題は回避できる。なお、表示領域22における前面側基板21の厚みが薄いことにより、前面側基板21側の電気容量を低減することが可能であり、その結果、無効電力が低減する効果も得られる。このことは、有機CF層23を設けることとは独立した技術的効果である。上記構成のPDPは、有機CF層23について、以下の第1~第4構成例のような態様を採ることができる。図3は、第1構成例の有機CF層23が設けられたPDPについて、拡大した一部を示す断面図である。この構成例では、各色の有機CF層23r、23g、23bの間にブラックストライプ層BS層23kが設けられている。有機CF層23r、23g、23bは、各放電空間14の蛍光体層13r、13g、13bの各色に対応させて配置されている。図4は、第2構成例の有機CF層23を示し、各色のCF層23r、23g、23bが互いに密接して配置され、ブラックストライプ層23kが設けられていない場合である。図5は、第3構成例の有機CF層23を示し、各色のCF層23r、23g、23bの相互間に、第1構成例のブラックストライプ層23kに代えて隙間23sが設けられている。第1及び第3構成例は、第2構成例と比べて視野角依存性について有利である。図6は、第4構成例の有機CF層23を示し、前面側基板21の薄板領域21a面に直接有機CF層23が形成された構成である。図では、CF層23の構成は図3に示したものが示されているが、第1~第3のいずれの構成例を適用してもよい。本実施の形態におけるPDPを作製するためには、以下のような製造方法を用いることができる。まず、前面側基板21の素材であって薄板領域21aが形成されていない状態の素材基板に電極等を設けたもの以下、予備前面板と記述するを作製する。この予備前面板と背面板8をシール層により封着する。予備前面板及び背面板8の作製、及び封着してパネル化するまでの工程は、以下のように周知の通常の工程により行うことが望ましい。すなわち、周知のいずれかの方法により、背面側基板9上にデータ電極、背面側誘電体層11、リブ12、及び蛍光体層を形成して背面板8を作製する。また、周知のいずれかの方法により、前面側基板21の放電空間側となる面図1等における下面に相当に表示電極対5、前面側誘電体層6、及び保護膜7を形成して、予備前面板を作製する。保護膜7を形成した後の予備前面板は、大気に暴露することなく、雰囲気を制御した空間内で背面板8と位置あわせし、背面板8上の外周領域21bに対応する位置に、低融点シール材料層を形成し加熱してシール層25を形成し、予備前面板と背面板8を封着する。次に、排気後、ガスを入れて背面側基板9に接続された排気管をチップオフする。このようにパネル化を完了した後に、前面側基板21に対して、表示領域22に対応させた表示領域22より若干広い領域であって、シール層25よりは内側の部分を均一に薄くする工程を施し、図7に示すように、薄板領域21aを形成する。薄板領域21aを形成する方法としては、化学エッチング、サンドブラスト、物理研磨、CMPなどを用いることができる。また、これらを組み合わせた工程を用いることも可能である。なお、この工程では、薄板領域21aが形成される範囲は、前面側誘電体層6を介して背面側基板9のリブ12により支持されているため、工程中に前面側基板21が損傷するおそれは少ない。次に、薄板領域21aに有機CF層23を設ける。図7に示した例では、CF基板24上に有機CF層23を形成したものを用いる。CF基板24としては、ガラス、プラスチック、フィルム等を用いることができる。有機CF層23は、フォトリソグラフィ法、あるいはインクジェット法等により形成することができる。有機CF層23を形成した後、有機CF層23を薄板領域21aに対向させて、CF基板24を前面側基板21の凹部内に装着する。CF基板24は、透明接着剤等で前面側基板21に貼り付ける。あるいは、図6に第4構成例として示したように、CF基板24を用いずに、前面側基板21の薄板領域21a面に直接、有機CF層23を形成することもできる。この場合も、薄板領域21a面に対して、フォトリソグラフィ法、あるいはインクジェット法等により有機CF層23を形成することができる。<実施の形態2>実施の形態2におけるPDPについて、その構造の概要を示す断面図である図8を参照して説明する。本実施の形態では、前面側基板26に設けられた薄板領域26aが、実施の形態1の薄板領域21aとは異なり、領域全体を均一に薄くしたものではない構造を有する。すなわち、薄板領域26aには、背面側基板9上に形成されたリブ12の位置に対応させて、若干厚くなった、例えばリブのような突起パターン26cが形成されている。このような突起パターン26cが設けられていることで、有機CF層23をインクジェット等で直接形成する場合に突起パターン26cにより位置決めすることができ、適切なパターニングが容易である。また、高くなった突起パターン26cの上面にブラックストライプ層23kを配置することも容易である。突起パターン26cを形成するプロセスとしては、ブラストによるパターニングや、ブラストと化学エッチングの組み合わせ等を用いることが可能である。<実施の形態3>実施の形態3におけるPDPについて、その構造の概要を示す断面図である図9を参照して説明する。本実施の形態では、前面側基板21における薄板領域21aの構造は、実施の形態1の場合と同様である。但し、薄板領域21aの放電空間側には保護膜7のみが設けられ、表示電極対5及び前面側誘電体層6は設けられていない。表示電極対27は、薄板領域21aの非放電空間側に設けられている。これにより、薄板領域21aを前面側誘電体層として機能させる。なお、表示電極対27は、図13、図14に示した透明電極及びバス電極を含むが、図9での図示は簡略化されている。表示電極対27の上に有機CF層23が配置されている。有機CF層23は、実施の形態1の図3に示した構成と同様、CF基板24上に形成され、CF基板24とともに薄板領域21a上に装着されている。製造工程としては、前面側基板21に保護膜7のみを形成後、背面板8との間を、通常の低融点シール材からなるシール層25で封着し、排気してパネル化する。パネル化後、実施の形態1と同様に、前面側基板21の一部を薄くして薄板領域21aを形成する。薄板領域21aを形成した後、表示電極対27を形成する。表示電極対27の形成には、低温でパターニングできる電極材料、プロセスを使用することが望ましい。有機CF層23は、実施の形態1の場合と同様の方法で形成可能である。本実施の形態によれば、前面側基板21の薄板領域21aを前面側誘電体層として機能されることにより、前面側誘電体層6を設ける必要がないので、前面板の製造工程が簡略化される。有機CF層23は、図10に示すように、薄板領域21aの非放電空間側の面に直接形成された構成としてもよい。この場合は、有機CF層23上に表示電極対28が形成された構成を採用することもできる。従って、図9の例のようなCF基板24は用いられていない。但し、CF基板24を用い、その上に順次、表示電極対28及び有機CF層23を形成した構成とすることも可能である。その場合は、前面側基板21上に薄板領域21aから外周領域に亘る引出電極を形成しておき、表示電極対28及び有機CF層23が形成されたCF基板24を装着するときに、表示電極対28と引出電極とを接続する必要がある。<実施の形態4>実施の形態4におけるPDPについて、その構造の概要を示す断面図である図11を参照して説明する。本実施の形態では、前面側基板29が、額縁形の厚いガラス基板からなる外周部基板29bと、外周部基板29aの下面に接合されたマイクロシート30により形成されている。外周部基板29aでは、表示領域22図1に対応する範囲が貫通した空間領域29bとなっており、上述の各実施の形態において設けられた薄板領域21aは存在しない。外周部基板29aの放電空間側の面にマイクロシート30が接合され、空間領域29bを覆っている。マイクロシート30は、表示領域よりも広い領域に亘らせるが、シール層25より内側となるような寸法に設定されることが望ましい。シール層25の内側部分の一部と重なる範囲までは、許容できる大きさである。マイクロシート30の放電空間側の面には保護膜7が設けられ、非放電空間側には表示電極対27が設けられている。これにより、マイクロシート30は前面側誘電体層として機能する。図9に示した実施の形態3と同様、表示電極対27の上に有機CF層23が配置されている。表示電極対は、図10のように、マイクロシート30上の有機CF層23の上側に配置されてもよい。<実施の形態5>実施の形態5におけるPDPについて、その構造の概要を示す断面図である図12を参照して説明する。本実施の形態では、実施の形態1と同様の前面側基板21が用いられるが、CF基板24基板に代えて、マイクロレンズ層が形成されたマイクロレンズ基板31が用いられ、さらに、レンチキュラーレンズ層32及び有機CF層23が形成されて、薄板領域21aに装着されている。薄板領域21aを設けることと組み合わせることにより、レンチキュラーレンズ層32及びマイクロレンズ層は光源に近く配置されるので、隣接画素の影響を遮断でき、画質のよい3D画像を出力するのに有効である。<各実施の形態に共通する事項>実施の形態1~3の前面側基板21としては、薄板領域21aを形成し易いように、当初の厚みを通常より薄くしたものを使用することができる。それにより、強度を保持しつつ、容易に薄くする工程を施すことが可能になる。従来、通常は前面側基板21として1~2mmのガラス基板を使用しているが、例えば、0.1~1mm程度のガラス基板を使用することができる。また、予め、通常の厚さの外周領域21bと、薄板領域21aとが形成されたガラス基板を使用しても良い。このとき、封着前にあまりに薄くしすぎると割れが発生するリスクが高いので、割れ難い程度に薄くしておき、封着後に所定の薄板領域21aの薄さに加工することが望ましい。この場合も、シール層25が設けられる部分及び封着時にクリップで止める部分は厚いため、強度の問題は発生しない。薄板領域21aは、表示領域22より広くする必要がある。またシール層25が形成される領域よりは小さいことが必要となるが、ダミーリブを含めたリブ全体より少し小さい方が望ましい。