"基板処理装置と、前記基板処理装置に関連する付帯設備と、前記付帯設備に関する情報を少なくとも格納する記憶装置と、前記記憶装置に格納された情報に基づいて、前記基板処理装置及び前記付帯設備の接続関係を表示する表示装置とを備える基板処理システム。そこで、本発明の目的は、基板処理装置に接続される付帯設備を把握しながら実施しなければならないメンテナンス作業にかかる負荷を軽減する基板処理システムを提供することにある。本発明に係る基板処理システムは、基板処理装置と、前記基板処理装置に関連する付帯設備と、少なくとも前記付帯設備に関する情報を格納する記憶装置と、前記記憶装置に格納された情報に基づいて、前記基板処理装置及び前記付帯設備の接続関係を表示する表示装置とを備える。本発明によれば、基板処理装置及び基板処理装置に関連する付帯設備の接続関係を把握でき、このことにより、メンテナンス作業にかかる負荷を軽減するとともに、安全性を確保することができる。まず、図2を用いて、本発明の一実施形態に係る基板処理システム1を説明する。図2に示すように、端末装置11-1は、基板処理装置10-1,10-2,,10-nの少なくともいずれかと接続される。ここでは、端末装置11-1は、基板処理装置10-nと接続されている。端末装置11-2は、社内LANなどのネットワーク13-1を介して、基板処理装置10-1,10-2,,10-nと接続される。端末装置11-3は、社外LANやWANなどのネットワーク13-2を介して、基板処理装置10-1,10-2,,10-nと接続される。また、データベースサーバDBサーバ12-1は、基板処理装置10-1,10-2,,10-nとネットワーク13-1を介して接続される。DBサーバ12-2は、基板処理装置10-1,10-2,,10-nとネットワーク13-2を介して接続される。基板処理装置10-1,10-2,,10-nの詳細は後述するが、基板処理装置10-1,10-2,,10-nには付帯設備が接続される。付帯設備は、基板処理装置10-1,10-2,,10-nに接続され、例えばガスボンベ、真空ポンプ及び除害装置等である。付帯設備は、付帯設備に関する管理情報をDBサーバ12-1,12-2に送信する。付帯設備に関する管理情報は、具体的には、いずれの付帯設備のいずれのポートから、いずれの付帯設備又は基板処理装置のいずれのポートにいずれのガスを供給したか、いずれの基板処理装置又は付帯設備のいずれのポートから、いずれの付帯設備のいずれのポートにいずれのガスを排気したか、及び、いずれの基板処理装置又は付帯設備のいずれのポートから、いずれの付帯設備のいずれのポートに熱を排気したかという情報である。端末装置11-1~11-3は、一般的なコンピュータであり、キーボードなどの入力装置やディスプレイなどの出力装置等を備える。DBサーバ12-1,12-2は、リレーショナルデータベースRDB120-1,120-2を備え、付帯設備から送信された情報をRDB120-1,120-2に格納する。なお、後述するように、付帯設備から送信された情報は、正規化され、複数のテーブルとしてRDB120-1,120-2に格納される。DBサーバ12-1,12-2は、端末装置11-1~11-3からの要求に応じて、RDB120-1,120-2に格納された複数のテーブルに基づいて基板処理装置10及び付帯設備の接続関係を示すテーブル以下、接続関係テーブルを作成し、端末装置11-1~11-3に送信する。つまり、端末装置11-1~11-3は、DBサーバ12-1,12-2のクライアントとして動作し、接続関係テーブルを取得する。取得した接続関係テーブルは、端末装置11-1~11-3のディスプレイなどに表示され、端末装置11-1~11-3の操作者によって参照される。後述するように、基板処理装置10及び付帯設備の接続関係は、テーブル以外の形式で作成されてもよい。ここで、nは1以上の整数であって、nが常に同じ数を示すとは限らない。以下の各図において、実質的に同じ構成部分には、同じ符号が付される。以下、基板処理装置10-1~10-nなど、複数存在しうる構成部分のいずれかが、特定されずに示される場合には、単に基板処理装置10などと略記されることがある。図3は、本発明の一実施形態に係る基板処理システム1の概略を示す図である。基板処理システム1は、少なくとも、基板処理装置10、端末装置11、シリンダーキャビネットC/C14、ガスユースポイントU/P16、除害装置17及び排気装置18などの付帯装置、並びに、RDB120によって構成される。基板処理システム1は、従来の基板処理システムとは、付帯装置及びRDB120を備えるという点で異なる。なお、図3において、端末装置11が基板処理装置10に接続されているが、少なくとも一台の端末装置11からなる群管理システムが基板処理装置10の少なくともいずれかに接続されてもよい。また、RDB120は、図2で示したように、DBサーバ12に備えられてもよいし、DBサーバ12を設けず、群管理システムや基板処理装置10などに備えられてもよい。図3では、基板処理システム1を構成する装置の接続関係を単純化しているが、実際の接続関係はこれより複雑になることが多い詳細は図4を参照。C/C14は、ガスボンベを収容する。U/P16は、ガス配管を集積及び分岐させ、ガス配管を中継する。除害装置17は、排気ガスの除害を行う。排気装置18は、基板処理装置10や除害装置17から排気されるガスを工場の外に排気する。これらの付帯装置のうち、C/C14及びU/P16は上流側ガス供給側の装置であり、除害装置17及び排気装置18は下流側ガス排気側の装置である。なお、これら以外の付帯装置として、ガスボンベや、基板処理装置10に液体原料を直接供給する液体原料容器などがある。RDB120は、付帯装置から送信された情報を格納する。C/C14から送信される情報は、残量管理のための情報残量管理情報であり、例えば、基板処理装置10にガスを供給するためのボンベの圧力及びガスの残量などである。U/P16から送信される情報は、流量管理のための情報流量管理情報であり、例えば、ガスの流量などである。除害装置17から送信される情報は、汚染管理のための情報汚染管理情報であり、例えば、ある物質の流量及び濃度や、ある物質の排気量における流量比などである。排気装置18から送信される情報は、排気量管理のための情報排気量管理情報であり、例えば、ガスの排気量などである。なお、上述した液体原料容器がある場合には、RDB120は、残量管理情報として、例えば、液体原料容器が基板処理装置10に液体原料を供給するためのボンベの圧力及び液体原料の残量を格納する。また、付帯装置に機器が取り付けられている場合には、RDB120は、機器によって取得された情報を格納する。例えば、センサが取り付けられている場合には、RDB120は、センサによって取得された情報を格納する。また、付帯装置に流量や排気量などを測定する計器や流量や排気量などを制御する制御機器が取り付けられている場合には、RDB120は、計器や制御機器によって取得された情報を格納する。ここで、上述した各種管理残量管理、流量管理、汚染管理及び排気量管理は、DBサーバ12においてプログラムが実行されることにより実現される。DBサーバ12において実行されるプログラムには、基板処理装置10に敷設される配管及び付帯設備に敷設される配管がどのように接続しているか以下、基板処理装置10及び付帯設備の接続関係を作成するプログラムなどがある。プログラムの詳細は後述するが、DBサーバ12を設けず、群管理システムや基板処理装置10などがRDB120を備える場合には、プログラムは、群管理システムや基板処理装置10などで実行されてもよい。基板処理システム1においてプログラムが実行されることにより、付帯装置から送信された情報を用いて、基板処理装置10及び付帯設備の接続関係が表示されるので、メンテナンス作業時間を短縮するとともに、メンテナンスにおける安全性を向上することができる。また、基板処理システム1の構成によれば、メンテナンスを行う保守員に対して、基板処理装置10及び付帯設備の接続関係を提供することができるので、特に、ガス漏れ、装置故障及び装置事故などが発生した場合など、早急に復旧処理が必要な場合に有効である。図4を参照して、基板処理装置10及び付帯設備の接続関係を説明する。図4は、基板処理装置10及び付帯設備の接続関係を説明するための図である。ここでは、シリンダーキャビネットC/C14、ガスボンベボンベ15、ガスユースポイントU/P16、除害装置17及び排気装置18それぞれが、付帯設備として、基板処理装置10に直接又は間接的に接続される。C/C14は、U/P16多段接続されたU/P16を含むを介して基板処理装置10に接続され、排気装置18は、除害装置17を介して基板処理装置10に接続される。つまり、C/C14及び排気装置18は、基板処理装置10に間接的に接続される。また、ボンベ15の一部、U/P16及び除害装置17は、基板処理装置10に直接接続される。C/C14には、N2、H2及びO2などのガスが入ったボンベ15が配置される。なお、ガスの種類によっては、ボンベ15がC/C14に配置されないことがある。例えば、液体原料ガスなどのガスが入ったボンベ15はC/C14に配置されない。U/P16は、後述するガス供給管が集積及び分岐する箇所である。図4に示すように、基板処理装置10-1には、U/P16-1を介してC/C14-1に配置されたボンベ15-1及びC/C14-2に配置されたボンベ15-2が接続されるとともに、ボンベ15-4が直接接続される。また、基板処理装置10-1には、除害装置17-2を介して排気装置18-2が接続される。基板処理装置10-2には、U/P16-1を介してC/C14-1に配置されたボンベ15-1及びC/C14-2に配置されたボンベ15-2が接続されるとともに、U/P16-3を介してC/C14-2に配置されたボンベ15-2が接続される。また、基板処理装置10-2には、除害装置17-1を介して排気装置18-2が接続される。基板処理装置10-3には、U/P16-2を介してC/C14-2に配置されたボンベ15-2及びC/C14-3に配置されたボンベ15-3が接続されるとともに、U/P16-3を介してC/C14-2に配置されたボンベ15-2が接続され、ボンベ15-5が直接接続される。また、基板処理装置10-3には、除害装置17-3を介して排気装置18-3が接続される。このように、基板処理装置10及び付帯設備の接続関係は、付帯設備から基板処理装置10又は付帯設備に向かう接続、及び、基板処理装置10又は付帯設備から付帯設備に向かう接続が組み合わさって、複雑になっている。図5,6は、図2等に示した基板処理装置10を概略的に説明するための図である。図5に示すように、基板処理装置10の筐体100内部の前面側には、不図示の外部搬送装置との間でカセット101を受け渡しするカセットステージ102が設けられる。カセットステージ102の後方には、カセット搬送機103が設けられ、カセット搬送機103の後方には、カセット101を保管するためのカセット棚104が設けられる。また、カセットステージ102の上方には、カセット101を保管するための予備カセット棚105が設けられ、予備カセット棚105の上方には、クリーンユニット106が設けられる。クリーンユニット106は、クリーンエアを筐体100内部に流通させる。筐体100の後部上方には、処理炉107が設けられる。処理炉107の下方には、ボート108を処理炉107の内外間で昇降させるボートエレベータ109が設けられる。ボート108は、ウエハ110を搭載し、ウエハ110を水平に多段で保持する。ボートエレベータ109には、処理炉107の下端を塞ぐためのシールキャップ111が取り付けられる。シールキャップ111は、ボート108を垂直に支持する。ボートエレベータ109及びカセット棚104の間には、ウエハ110を搬送するウエハ搬送機112が設けられる。ボートエレベータ109の横には、処理炉107の下端を気密に塞ぐための炉口シャッタ113が設けられる。炉口シャッタ113は、ボート108が処理炉107の外にある場合、処理炉107の下端を塞ぐことができる。ウエハ110が装填されたカセット101は、不図示の外部搬送装置からカセットステージ102に搬入された後、カセット搬送機103によってカセットステージ102からカセット棚104又は予備カセット棚105に搬送される。カセット棚104には、ウエハ移載機112の搬送対象となるカセット101を収納する移載棚114がある。カセット搬送機103がカセット101を移載棚114に移載すると、ウエハ移載機112は移載棚114からボート108にカセット101を移載する。所定枚数のウエハ110がボート108に移載されると、ボートエレベータ109は、ボート108を処理炉107内部に搬入し、シールキャップ111は、処理炉107を気密に塞ぐ。気密に塞がれた処理炉107内部では、ガスが供給され、ウエハ110に所定の処理が施される。ウエハ110への所定の処理が終了すると、上記した手順とは逆の手順により、ウエハ110が移載される。つまり、ウエハ110は、ウエハ移載機112によりボート108から移載棚114のカセット101に移載され、不図示の外部搬送装置により、筐体100の外部に搬出される。図6に示すように、処理炉107は、シールキャップ111及び反応管115によって形成される処理室116並びにヒータ117によって形成される。反応管115は、ヒータ117の内側に設けられ、ウエハ110を加熱処理する反応容器である。反応管115は、下端の開口をシールキャップ111により塞がれるとともに、Oリング118により気密に塞がれる。シールキャップ111の上には、ボート108がこれを保持する石英キャップ119を介して設けられる。ボート108は、処理炉107の下端の開口から処理炉107内に搬入される。処理炉107内に搬入されたウエハ110は、ヒータ117によって所定の温度に加熱される。処理炉107には、ヒータ117によって発生した熱を排気する熱排気管120の一端が接続される。熱排気管120の他端は、バルブ121を介して排気装置18に接続される。処理室116には、ガス供給管122を介して複数種類のガスが供給される。ここでは、窒素、水素、酸素及び液体原料ガスXという4種類のガスが供給される。例えば、窒素は、C/C14-1に配置されたボンベ15-1から、マスフローコントローラMFC123-1及びバルブ124-1を介して、ガス供給管122を通過して処理室116に供給される。水素は、C/C14-2に配置されたボンベ15-2から、MFC123-2及びバルブ124-2を介して、ガス供給管122を通過して処理室116に供給される。酸素は、C/C14-3に配置されたボンベ15-3から、MFC123-3及びバルブ124-3を介して、ガス供給管122を通過して処理室116に供給される。液体原料ガスXは、C/C14に配置されないボンベ15-4から、MFC123-4及びバルブ124-4を介して、ガス供給管122を通過して処理室116に供給される。反応管115内の中央部にはボート108が設けられ、ボート108はボートエレベータ109によって反応管115内に出入り可能となっている。また、処理炉107には、石英キャップ119に保持されたボート108を回転させるボート回転機構125が設けられる。ボート回転機構125によりボート108が回転することにより、ウエハ110への処理の均一性を保つことができる。処理室116には、処理室116内のガスを排気するガス排気管126の一端が接続される。ガス排気管126の他端は、バルブ121を介して又は、バルブ121及び除害装置17を介して排気装置18に接続される。図7は、図3のRDB120に格納される表の例である。RDB120には、接続テーブル19、設備テーブル20及び化学物質テーブル21が格納される。図7Aは、接続テーブル19の例であり、図7Bは、設備テーブル20の例であり、図7Cは、化学物質テーブル22の例である。図7Aに示すように、接続テーブル19は、接続IDカラム190、接続元設備IDカラム191、接続元ポート番号カラム192、接続先設備IDカラム193、接続先ポート番号カラム194及び化学物質IDカラム195などのカラムと、これらのデータ項目を含むレコードここでは6つのレコードとによって構成される。接続IDカラム190には、装置間の接続を識別する接続IDが格納される。接続元設備IDカラム191には、接続元の設備を識別する設備IDが格納される。接続元ポート番号カラム192には、接続元の設備のポート番号が格納される。接続先設備IDカラム193には、接続先の設備を識別する設備IDが格納される。接続先ポート番号カラム194には、接続先の設備を識別する設備IDが格納される。化学物質IDカラム195には、化学物質を識別する化学物質IDが格納される。図7Bに示すように、設備テーブル20は、設備IDカラム200、設備名カラム201及び設備種別カラム202などのカラムと、これらのデータ項目を含むレコードここでは8つのレコードとによって構成される。設備IDカラム200は、図7Aの接続元設備IDカラム191及び接続先設備IDカラム193と対応付けられる。このように設備IDカラムを対応付けて設けることによって、設備テーブル20は図7Aの接続テーブル19と対応付けることができる。設備名カラム201には、設備の名前が格納される。設備種別カラム202には、設備の種別が格納される。なお、設備名にカッコ付きの数字が付加されているのは、設備名を区別するためである。設備種別が評価装置であるとは、接続関係テーブルを作成する際に基点となることを意味する。ここでは、基板処理装置を評価装置とし、基板処理装置を基点として接続関係テーブルが作成されるものとする。除害装置などの他の装置を評価装置とすることができることはいうまでもない。図7Cに示すように、化学物質テーブル21は、化学物質IDカラム210、化学物質名カラム211、英語名カラム212、化学式カラム213、危険有害性カラム214及び応急措置カラム215などのカラムと、これらのデータ項目を含むレコードここでは4つのレコードとによって構成される。化学物質IDカラム210は、図7Aの化学物質IDカラム195と対応付けられる。このように化学物質IDカラムを対応付けて設けることによって、化学物質テーブル21は図7Aの接続テーブル19と対応付けることができる。化学物質名カラム211には、化学物質の名前が格納される。英語名カラム212には、化学物質の英語名が格納される。化学式カラム213には、化学物質の化学式が格納される。危険有害性カラム214には、化学物質の危険有害性が格納される。応急措置カラム215には、化学物質の応急措置が格納される。図8は、DBサーバ12の動作フローを示すフローチャートである。図8の各ステップは、DBサーバ12に格納されるプログラムによって実行される。DBサーバ12は、図2の端末装置11が接続関係テーブルを作成する要求を送信した場合、プログラムを起動して、RDB120に格納された複数のテーブル図7のテーブルに基づき接続関係テーブルを作成する。作成された接続関係テーブルは、端末装置11に送信され、表示される。なお、DBサーバ12は、基板処理装置10及び端末装置11間の通信が確立された場合、プログラムを起動してもかまわない。また、プログラムは、基板処理装置10などの他の装置に格納されてもよく、この場合、他の装置において接続関係テーブルが作成される。作成された接続関係テーブルは、他の装置に表示されてもよいし、他の装置及び端末装置11の両方に表示されてもかまわない。図8Aに示すように、ステップ100S100において、図7Bの設備テーブル20にアクセスし、設備種別が評価装置であるレコードがあるか否かを判定する。レコードがある場合には、ステップ102の処理に進み、レコードがない場合には、処理を終了する。ステップ102S102において、設備種別が評価装置であるレコードの数をCNT1に設定する。以下、このレコードに含まれる設備IDが小さい順に、CNT1の数だけステップ104~146の処理を繰り返す。ステップ104S104において、設備種別が評価装置であるレコードから、設備ID及び設備名を取り出す。ステップ106S106において、図7Aの接続テーブル19にアクセスし、ステップ104で取り出した設備IDが接続先設備IDに格納されているレコードがあるか否かを判定する。レコードがある場合には、ステップ108の処理に進み、レコードがない場合には、ステップ126の処理に進む。ステップ106では、評価装置が付帯設備などの他の装置の接続先となっているか否か、つまり、上流側の付帯設備及び評価装置の接続があるか否かを判定している。ステップ108~124の処理は、上流側の付帯設備及び評価装置の接続付帯設備から評価装置に向かう接続を作成するものであり、ステップ126~142の処理は、評価装置及び下流側の付帯設備の接続評価装置から付帯設備に向かう接続を作成するものである。ステップ108S108において、ステップ104で取り出した設備IDが接続先設備IDに格納されているレコードの数をCNT2に設定する。以下、このレコードに含まれる接続IDが小さい順に、CNT2の数だけステップ110~124の処理を繰り返す。ステップ108では、評価装置に直接接続される上流側の付帯設備の数をCNT2に設定している。ステップ110S110において、ステップ104で取り出した設備IDが接続先設備IDに格納されているレコードから、接続元設備IDを取り出す。ステップ110では、評価装置に直接接続される上流側の付帯設備を特定している。ステップ112S112において、設備テーブル20にアクセスし、ステップ110又はステップ116で取り出した接続元設備IDに対応する設備種別を判定する。設備種別がU/Pである場合には、ステップ114の処理に進み、設備種別がC/C及びボンベである場合には、ステップ118の処理に進む。ステップ110からステップ112に進んだ場合には、評価装置に直接接続される上流側の付帯設備の種別を判定し、ステップ116からステップ112に戻った場合には、評価装置に間接的に接続される上流側の付帯設備の種別を判定している。ステップ114S114において、設備テーブル20にアクセスしたまま、ステップ110又はステップ116で取り出した接続元設備IDに対応する設備名を取り出す。ステップ116S116において、接続テーブル19にアクセスし、ステップ110又は直近のステップ116で取り出した接続元設備IDが接続先設備IDに格納されているレコードから、接続元設備IDを取り出し、ステップ112の処理に戻る。ステップ116では、評価装置に間接的に接続される上流側の付帯設備を特定している。初めてステップ116を実行する場合には、評価装置に直接接続される上流側の付帯設備に、直接接続される上流側の付帯設備を特定し、すでにステップ116を経ている場合には、評価装置に直接接続される上流側の付帯設備に、間接的に接続される上流側の付帯設備を特定している。ステップ118S118において、設備テーブル20にアクセスしたまま、ステップ110又はステップ116で取り出した接続元設備IDに対応する設備名及び化学物質IDを取り出す。ステップ120S120において、図7Cの化学物質テーブル21にアクセスし、ステップ118で取り出した化学物質IDに対応する化学物質名を取り出す。なお、ステップ118で取り出した化学物質IDに対応する英語名、化学式、危険有害性及び応急措置をあわせて取り出してもよい。ステップ122S122において、CNT2をデクリメントする。ステップ124S124において、CNT2が0であるか否かを判定する。0である場合には、ステップ126の処理に進み、0でない場合には、ステップ110の処理に戻る。図8Bに示すように、ステップ126S126において、図7Aの接続テーブル19にアクセスし、ステップ104で取り出した設備IDが接続元設備IDに格納されているレコードがあるか否かを判定する。レコードがある場合には、ステップ128の処理に進み、レコードがない場合には、ステップ144の処理に進む。ステップ126では、評価装置が付帯設備などの他の装置の接続元となっているか否か、つまり、評価装置及び下流側の付帯設備の接続があるか否かを判定している。ステップ128S128において、ステップ104で取り出した設備IDが接続元設備IDに格納されているレコードの数をCNT3に設定する。以下、このレコードに含まれる接続IDが小さい順に、CNT3の数だけステップ130~142の処理を繰り返す。ステップ128では、評価装置に直接接続される下流側の付帯設備の数をCNT3に設定している。ステップ130S130において、ステップ104で取り出した設備IDが接続元設備IDに格納されているレコードから、接続先設備IDを取り出す。ステップ130では、評価装置に直接接続される下流側の付帯設備を特定している。ステップ132S132において、図7Bの設備テーブル20にアクセスし、ステップ130又はステップ136で取り出した接続先設備IDに対応する設備種別を判定する。設備種別が除害装置である場合には、ステップ134の処理に進み、設備種別が排気装置である場合には、ステップ138の処理に進む。ステップ130からステップ132に進んだ場合には、評価装置に直接接続される下流側の付帯設備の種別を判定し、ステップ136からステップ132に戻った場合には、評価装置に間接的に接続される下流側の付帯設備の種別を判定している。ステップ134S134において、設備テーブル20にアクセスしたまま、ステップ128で取り出した接続先設備IDに対応する設備名を取り出す。ステップ136S136において、接続テーブル19にアクセスし、ステップ128で取り出した接続先設備IDが接続元設備IDに格納されているレコードから、接続先設備IDを取り出し、ステップ132の処理に戻る。ステップ136では、評価装置に間接的に接続される下流側の付帯設備を特定している。初めてステップ136を実行する場合には、評価装置に直接接続される下流側の付帯設備に、直接接続される下流側の付帯設備を特定し、すでにステップ136を経ている場合には、評価装置に直接接続される下流側の付帯設備に、間接的に接続される下流側の付帯設備を特定している。ステップ138S138において、設備テーブル20にアクセスしたまま、ステップ130又はステップ136で取り出した接続先設備IDに対応する設備名を取り出す。ステップ140S140において、CNT3をデクリメントする。ステップ142S142において、CNT3が0であるか否かを判定する。0である場合には、ステップ144の処理に進み、0でない場合には、ステップ130の処理に戻る。ステップ144S144において、CNT1をデクリメントする。ステップ146S146において、CNT1が0であるか否かを判定する。0である場合には、処理を終了し、0でない場合には、ステップ104の処理に戻る。接続関係テーブルを作成した装置作成装置が、接続関係テーブルを表示する装置表示装置と異なる場合には、作成装置は接続関係テーブルを表示装置に送信し、作成装置が表示装置と同じ場合には、作成装置は接続関係テーブルをディスプレイなどに表示させる。図9は、図8のフローチャートを実行することに作成される接続関係テーブルの例である。ここでは、基板処理装置1を評価装置として、接続関係テーブルが作成されているが、付帯設備などの他の装置を評価装置として、接続関係テーブルを作成することもできる。図9に示すように、接続関係テーブルは、付帯設備から評価装置に向かう接続を示す部分網掛けされた部分と、評価装置から付帯設備に向かう接続を示す部分残りの部分とからなる。網掛けされた部分は、図8Aのステップ104において取り出された設備名、ステップ108において設定されたCNT2、ステップ114において取り出された設備名、ステップ116からステップ112に戻った回数、ステップ118において取り出された設備名、及び、ステップ120において取り出された化学物質名を用いて作成される。残りの部分は、図8Bのステップ128において設定されたCNT3、ステップ134において取り出された設備名、及び、ステップ138において取り出された設備名を用いて作成される。なお、図2のDBサーバ12が、各種情報を用いて接続関係テーブルを作成し、図2の端末装置11に送信するものとして説明したが、DBサーバ12が各種情報を群管理システムに送信し、群管理システムが各種情報を用いて接続関係テーブルを作成してもよい。なお、図8Aのステップ120において、化学物質名、英語名、化学式、危険有害性及び応急措置が取り出された場合には、化学物質テーブルがあわせて作成されてもよい。例えば、図9の接続関係テーブルにおいて、化学物質のうち窒素をクリックすることにより、図10に示す化学物質テーブルが表示されるようにしてもよい。化学物質テーブルは、接続関係テーブルとは別画面で表示されてもよいし、同じ画面で表示されてもよい。さらに、接続関係テーブルを作成するものとして説明したが、接続関係図を作成してもよい。図11は接続関係図の例である。接続関係図は、接続関係テーブルと同様、付帯設備から評価装置に向かう接続を示す部分と、評価装置から付帯設備に向かう接続を示す部分とからなり、接続関係テーブルと同様に作成することができる。ここでは、基板処理装置1を評価装置として、接続関係テーブルが作成されているが、付帯設備などの他の装置を評価装置として、接続関係テーブルを作成することもできる。以下、本発明によって奏される効果を説明する。従来、付帯設備のメンテナンスには多大な時間を要していたが、本発明において、基板処理装置10及び付帯設備の接続関係を操作画面に表示することにより、付帯設備のメンテナンスに要する時間を短縮することができる。反応路内に供給される化学物質又は反応炉内から排出される化学物質について、基板処理装置10及び付帯設備の接続関係を操作画面で確認しながら、当該化学物質の有害性を把握し、当該化学物質への措置を講じることができるので、ガス漏れ、装置故障及び付帯設備故障などの緊急時に素早く対応することができる。付帯設備から送信された情報付帯設備に関する情報は、正規化されるので、DBMSDataBaseManagementSystemのうち最も普及しているRDBMSRelationalDBMSで利用可能となり、汎用的に取り扱うことができる。よって、基板処理の複雑化にともない付帯設備の数が増大し、基板処理装置10及び付帯設備の接続関係が複雑になった場合であっても、対応することができる。なお、本発明は、基板処理装置10として、例えば、半導体装置ICの製造方法を実施する半導体製造装置として構成されているが、半導体製造装置だけでなくLCD装置のようなガラス基板を処理する装置にも適用することができる。基板処理装置10で行われる成膜処理には、例えば、CVD、PVD、酸化膜、窒化膜を形成する処理、金属を含む膜を形成する処理がある。また、本実施形態では、基板処理装置が縦型処理装置10であるとして記載したが、枚葉装置についても同様に適用することができ、また、これらの装置が混在してもよい。さらに、露光装置、リソグラフィ装置、塗布装置等にも同様に適用することができる。次に、本発明の好ましい他の実施形態を付記するが、本発明が以下の記載に限定されないことはいうまでもない。好適には、基板処理装置と、前記基板処理装置と直接又は間接的に接続される付帯設備と、前記付帯設備から収集される情報を格納する記憶装置と、前記基板処理装置及び前記付帯設備の接続関係を表示する表示装置とを備える。好適には、前記付帯設備は、ガスボンベが配置されるシリンダーキャビネットであり、前記表示装置は、前記基板処理装置及び前記シリンダーキャビネットの接続関係を表示する。好適には、前記付帯設備は、ガス及び熱を排気する排気装置であり、前記表示装置は、前記基板処理装置及び前記排気装置の接続関係を表示する。好適には、前記付帯設備は、ガスボンベが配置されるシリンダーキャビネット及びガス及び熱を排気する排気装置であり、前記表示装置は、前記基板処理装置及び前記シリンダーキャビネットの接続関係並びに前記基板処理装置及び前記排気装置の接続関係を連結させて表示する。好適には、前記付帯設備は、ガスボンベが配置されるシリンダーキャビネット、ガス及び熱を排気する排気装置、ガス配管が集積及び分岐するガスユースポイント、及び、ガスを除害する除害装置のうち少なくともいずれかであり、前記表示装置は、前記基板処理装置及び該少なくともいずれかの装置の接続関係を表示する。好適には、前記付帯設備は、ガスボンベが配置されるシリンダーキャビネット、ガス及び熱を排気する排気装置、ガス配管が集積及び分岐するガスユースポイント、及び、ガスを除害する除害装置のうち少なくとも2つであり、前記表示装置は、該少なくとも2つの装置の接続関係を表示する。好適には、前記付帯設備は、前記付帯設備に関する情報として、接続先の設備及び該接続先の設備への動作並びに接続元の設備及び該接続元の設備からの動作を前記記憶装置に送信する。好適には、前記表示装置は、前記記憶装置に格納された情報に基づいて、前記基板処理装置及び前記付帯設備の接続先の設備、接続元の設備並びに接続先の設備及び接続元の設備とやり取りされる化学物質を含む接続テーブル、前記基板処理装置及び前記付帯設備の設備名及び設備種別を含む設備テーブル並びに前記化学物質の名前及び性質を含む化学物質テーブルを作成し、前記接続テーブル、前記設備テーブル及び前記化学物質テーブルに基づいて、前記基板処理装置及び前記付帯設備の接続関係を示す接続関係テーブルを作成する。好適には、基板を処理する基板処理装置から送信される情報を蓄積する第1の蓄積手段と、供給側の付帯設備及び排気側の付帯設備から送信される情報を蓄積する第2の蓄積手段と、前記第1の蓄積手段及び第2の蓄積手段に蓄積された情報に基づいて、前記基板処理装置、前記供給側の付帯設備であってガスボンベを収容する装置であるシリンダーキャビネット、前記供給側の付帯設備であってガス配管を集積及び分岐させ、配管を中継する装置であるユースポイント、前記排気側の付帯設備であって排気ガスの除外を行う除害装置、及び、前記排気側の付帯設備であって前記除害装置からの排気ガスを排気する排気装置のうち連続する少なくとも2つの装置間の接続関係を表示する表示手段とを備える。好適には、前記表示部は、接続テーブル、設備テーブル及び化学物質テーブルに基づいて、前記装置間の接続関係を表示する。"