基板に対して熱処理を施す処理ユニットの下方に設けられて、複数の前記基板が保持された基板保持具を前記処理ユニットに対してロード及びアンロードさせると共に前記基板保持具に対して前記基板の移載を行うようにしたローディングユニットにおいて、前記処理ユニットに連設されて全体を囲むようになされたローディング用筐体と、前記基板保持具の下部を保持する保持アームを有すると共に前記基板保持具を前記処理ユニット内に対して昇降させる昇降エレベータ機構と、前記基板保持具に対して前記基板の移載を行う基板移載機構と、前記基板保持具の下方に対応する前記ローディング用筐体の底部に設けられて、前記基板保持具の下端部を収容できるようにするために下方へ突出させて形成された基板保持具収容凹部と、を備えたことを特徴とするローディングユニット。前記昇降エレベータ機構の前記保持アームは、前記基板保持具収容凹部内へ収容された前記基板保持具の下端部を支持できるように下方向へ向けて延在されていることを特徴とする請求項1記載のローディングユニット。前記昇降エレベータ機構の前記保持アームには、前記基板保持具を保持した状態で昇降する補助昇降機構が設けられていることを特徴とする請求項1記載のローディングユニット。前記基板移載機構は、前記基板保持具に対する前記基板の移載を行うために上下方向へ移動することができる移載アームを有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のローディングユニット。前記移載アームは、前記基板の移載を行うために斜め上方向、斜め下方向及び水平方向へ屈伸することができることを特徴とする請求項4記載のローディングユニット。基板に対して熱処理を施す処理ユニットと、前記処理ユニットの下方に設けられた請求項1乃至5のいずれか一項に記載のローディングユニットと、前記ローディングユニットに並設されて、複数枚の前記基板を収容した基板容器を待機させるストッカユニットと、を備えたことを特徴とする処理システム。ところで、最近にあっては、半導体集積回路の生産効率を更に向上させるために、基板の直径も更に大口径化することが期待されており、例えば基板の直径を300mmから450mmへと拡大することが求められている。このように基板の直径が大きくなると、基板間に十分に処理ガスを流すためにウエハボートに載置される基板のピッチを大きくしなければならない。例えば直径300mmの基板のピッチは6~8mm程度であったが、直径450mmの基板のピッチは8~12mm程度が求められる。この場合にも、一度に処理できる基板枚数は、生産効率向上の要請から従来のバッチ式の熱処理装置と同様な枚数、例えば100~150枚程度が要求されることから、上記基板ピッチが増加した分だけ処理容器の高さ、ウエハボートの長さ及びこのウエハボートを昇降させるストロークが長くなる。この結果、処理容器を含む処理ユニットとこの下方に位置されるローディング室を含むローディングユニットとを含む処理システム自体の高さが高くなって全体の高さが4000~5000mmにも達してしまうことになる。このように処理システムの高さが高くなると、既存の建屋のクリーンルーム内に上記処理システムが設置できなくなる、といった問題が発生した。本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明は、処理システムを設置する床面側に凹部を設けて、この凹部内にウエハボート等の基板保持具の下端部を収容できるようにすることによって、実質的な高さを抑制することが可能なローディングユニット及び処理システムである。請求項1に係る発明は、基板に対して熱処理を施す処理ユニットの下方に設けられて、複数の前記基板が保持された基板保持具を前記処理ユニットに対してロード及びアンロードさせると共に前記基板保持具に対して前記基板の移載を行うようにしたローディングユニットにおいて、前記処理ユニットに連設されて全体を囲むようになされたローディング用筐体と、前記基板保持具の下部を保持する保持アームを有すると共に前記基板保持具を前記処理ユニット内に対して昇降させる昇降エレベータ機構と、前記基板保持具に対して前記基板の移載を行う基板移載機構と、前記基板保持具の下方に対応する前記ローディング用筐体の底部に設けられて、前記基板保持具の下端部を収容できるようにするために下方へ突出させて形成された基板保持具収容凹部と、を備えたことを特徴とするローディングユニットである。このように、床面に設置されるローディングユニットのローディング用筐体の底部に、下方へ突出させて基板保持具収容凹部を形成し、床面に形成した凹部内に基板保持具収容凹部を収容すると共にこの基板保持具収容凹部に基板保持具の下端部を収容できるようにしたので、ローディングユニットの実質的な高さである床面からの高さを抑制することが可能となる。請求項6に係る発明は、基板に対して熱処理を施す処理ユニットと、前記処理ユニットの下方に設けられた請求項1乃至5のいずれか一項に記載のローディングユニットと、前記ローディングユニットに並設されて、複数枚の前記基板を収容した基板容器を待機させるストッカユニットと、を備えたことを特徴とする処理システムである。本発明に係るローディングユニット及び処理システムによれば、次のような優れた作用効果を発揮することができる。床面に設置されるローディングユニットのローディング用筐体の底部に、下方へ突出させて基板保持具収容凹部を形成し、例えば床面に形成した穴部内に基板保持具収容凹部を収容すると共にこの基板保持具収容凹部に基板保持具の下端部を収容できるようにしたので、ローディングユニットの実質的な高さである床面からの高さを抑制することができる。以下に、本発明に係るローディングユニット及び処理システムの一実施例を添付図面に基づいて詳述する。図1は本発明に係るローディングユニットをする処理システム全体を示す断面図、図2は基板保持具を処理容器内へロード挿入した時の処理システム全体を示す断面図である。図1及び図2に示すように、この処理システム2全体は、清浄空気のダウンフローが形成されているクリーンルーム4内の床面6に設置されている。そして、処理システム2の全体は、例えばステンレススチール等よりなる大きな筐体8によりその外殻が形成されている。この筐体8内には高さ方向に例えばステンレススチールよりなる中央区画壁10が設けられており、内部を左右に2分割してフロント側図中右側がストッカユニット12として形成されている。また、上記中央区画壁10と筐体8のリア側の裏面区画壁14との間には、水平方向に例えばステンレススチールよりなる区画壁としてのベースプレート16が設けられており、内部を上下に2分割して上側に処理ユニット18を形成し、下側にローディングユニット20を形成している。従って、上記ローディングユニット20と先のストッカユニット12とは互いに並設された状態となっている。そして、この筐体8の底部を区画する底板区画壁22により、この処理システム2の全体の荷重が支えられている。具体的には、この底板区画壁22の下面には、高さ調整が可能な複数の支持突起24が設けられており、この支持突起24を床面6に当接させることで処理システム2の全体の荷重を支持すると共にこの処理システム2の水平状態を維持している。上記ストッカユニット12の前面区画壁26の下部には、半導体ウエハ等よりなる複数枚の基板Wが収容された基板容器34を載置する搬出入ポート28が設けられている。この基板容器34の前面には、開閉可能な蓋34Aが取り付けられている。そして、この搬出入ポート28に対応する前面区画壁26には、開閉ドア30で開閉される搬出入口32が設けられており、上記基板容器34をストッカユニット12内へ搬出入できるようになっている。上記基板容器34としては、例えば25枚程度の基板Wを収容し得るカセットやFOUP登録商標と称される密閉容器を用いることができる。ここでは密閉容器が用いられており、その内部には基板Wの酸化を防止するためにN2ガス等の不活性ガスが封入されている。上記ストッカユニット12内には、上下方向に沿って複数段になされたストック棚36が設けられており、このストック棚36に未処理の基板Wや処理済みの基板Wを収容した基板容器34を載置して待機させるようになっている。そして、このストッカユニット12内には容器移載機構38が設けられている。具体的には、この容器移載機構38は、上下方向へ起立させて設けた例えばボールネジを含む案内レール40と、この案内レール40に沿って上下動する容器搬送アーム42とを有している。この容器搬送アーム42は、水平方向へ向けて屈曲自在になされると共に、水平面内で回転可能になされており、上記搬出入ポート28と上記ストック棚36との間で基板容器34を搬送し得るようになっている。また、このストッカユニット12内には、上記中央区画壁10に取り付けた容器移載ポート44が設けられると共に、この容器移載ポート44上に上記基板容器34を載置できるようになっている。この容器移載ポート44と上記ストック棚36又は搬出入ポート28との間の基板容器34の搬送は上記容器搬送機構38を用いて行われる。また、この容器移載ポート44を取り付ける上記中央区画壁10には開閉ドア48で開閉される基板搬出入口50が設けられており、この基板搬出入口50を介して上記容器移載ポート44とローディングユニット20内との間で基板Wを搬出入できるようになっている。また、上記ストッカユニット12内には、清浄空気のダウンフローが形成されている。また、上記処理ユニット18内には、下端部が開口された開口部52を有する円筒体状の処理容器54が設けられている。この処理容器54は、例えば耐熱性及び耐腐食性の石英よりなる容器本体55と、この容器本体55の下端部に設けられる例えばステンレススチール製のマニホールド57とを有する。そして、このマニホールド57の下端が上記開口部52となる。この処理容器54の下部は、上記ベースプレート16により支持されており、ここで処理容器54の荷重を支えるようになっている。そして、この処理容器54の外周側には、筒体状の加熱ヒータ部56が同心円状に設けられており、この処理容器54内へ収容される基板を加熱するようになっている。またこの処理容器54のマニホールド57の側壁には、熱処理に必要な各種のガスを供給するガス供給系図示せずや処理容器54内の雰囲気を圧力制御しつつ排気する排気系図示せずが設けられる。そして、この処理容器54内には、基板Wを多段に保持した基板保持具58が収容できるようになっている。この基板保持具58は、上記基板Wを所定のピッチで多段に支持する石英製のウエハボート60と、このウエハボート60の下部に設けられてこれを支持しつつ基板Wの温度を維持する石英製の保温筒62とを有している。この保温筒62は、上記処理容器54の開口部52を閉じる例えばステンレススチールよりなるキャップ64側に回転可能に、或いは固定的に支持される。そして、このキャップ64の周辺部と上記処理容器54の下端部との間には、例えばOリング等よりなるシール部材66が介在され図2参照、処理容器54内を気密に密封できるようになっている。上記基板保持具58の昇降は、ローディングユニット20に設けた昇降エレベータ機構68により行うようになっている。ここで上記ローディングユニット20の外殻は、ローディング用筐体72により構成され、この内側が気密に密閉されたローディング室70となっている。従って、このローディング室70は、図1中においてローディング用筐体72を形成する上記ベースプレート16、裏面区画壁14の下側部分、中央区画壁10の下側部分及び底板区画壁22の左側部分により区画されている。このように、上記ローディング用筐体72は、上記処理ユニット18の下部に連設された状態となっている。また、上記ベースプレート16は、処理ユニット18を区画する区画壁と共用され、また、中央区画壁10はストッカユニット12を区画する区画壁と共用されることになる。そして、上記処理容器54の直下の部分とストッカユニット12の容器移載ポート44との間には、基板保持具58のウエハボート60に対して基板Wの移載を行う基板移載機構74が設けられている。具体的には、この基板移載機構74は、上下方向へ起立させて設けた例えばボールネジを含む案内レール76と、この案内レール76に沿って上下動する移載アーム78とを有している。上記案内レール76の上端は上記ベースプレート16側に支持固定され、下端は底板区画壁22側に支持固定されている。また上記移載アーム78は、複数本設けられており、水平面内で旋回及び屈伸可能になされて、上記ウエハボート60と上記容器移載ポート44上に設置された基板容器34との間で一度に複数板の基板Wを移載できるようになっている。また、上記基板保持具58を昇降させる上記昇降エレベータ機構68は、上下方向へ起立させて設けた例えばボールネジを含む案内レール80と、この案内レール80に沿って上下動する保持アーム82とを有している。ここでは、保持アーム82の上方向へのストローク量を延ばすために上記ベースプレート16に貫通孔84を形成し、上記案内レール80の上部をこの貫通孔84内に挿通させて上方の処理ユニット18内に延ばしている。そして、この案内レール80の上端を裏面区画壁14側へ固定させている。そして、この処理ユニット18内に延びた案内レール80の部分は、分離区画壁86により気密に囲まれており、その下部はベースプレート16に接続されてローディング室70内の気密性を保持している。上記保持アーム82は、後述する基板保持具収容凹部90内へ収容された上記基板保持具58の下端部を支持できるように下方向へ向けて延在されている。具体的には、ここでは上記保持アーム82は、下方向に延びる垂直部分82Aと、この下端部より水平方向に延びる水平部分82Bとよりなり、全体がL字状に形成されている。そして、この水平部分82Bで上記基板保持具58の下部を支えて保持するようになっている。ここで本発明の特徴として、上記基板保持具58の下方に対応するローディング用筐体72の底部に、基板保持具58の下端部を収容できるようにするために下方に突出させて基板保持具収容凹部90が形成されている。具体的には、上記基板保持具収容凹部90は、上記底板区画壁22に開口92を形成し、この開口92の周辺部に下方向へ延びる有底状の凹部区画壁94を接続することにより形成されている。この凹部区画壁94は例えばステンレススチール等の金属よりなり、その上端は上記底部区画壁22に接続された状態となっている。そして、上述したように、この基板保持具収容凹部90内に、基板保持具58の下端部を収容できるようになっている。このような基板保持具収容凹部90を設けるためには、クリーンルーム4内の床面6の対応部分を、取り除くことにより凹部状の穴部96を形成する。すなわち、この穴部96内に上記基板保持具収容凹部90を収容した状態で処理システム2が設置される。従って、基板保持具58の下端部は床板区画壁22よりも下方側へ降下させることができるようになっており、これにより、この処理システム2自体の床面6からの高さを抑制することができるようになっている。この場合、移載アーム78によるウエハボート60に対する基板Wの移載ができるようにしておくためには、保温筒62は基板保持収容凹部90内に収容して基板保持具58のウエハボート60の下端部を底板区画壁22よりも上方に位置させて、移載アーム78がそのストロークの最下端に位置しても上記ウエハボート60の最下端に対して基板移載のためにアクセスができるようにしておく。尚、ウエハボート60のアンロード時に、このウエハボート60の上端とベースプレート16との間に余裕のスペースがある場合には、ウエハボート16を上昇させつつ基板Wを移載することができるので、上記基板保持具収容凹部90内に、保温筒62のみならず、ウエハボート60の下端部も収容できるように基板保持具収容凹部90を深く形成するようにしてもよい。いずれにしても、アンロード時に上記基板保持具収容凹部90内へ収容することができる基板保持具58の高さ分だけ、処理システム2の床面6からの高さを低く設定することができる。また処理容器54の下端部の外周側のローディング室70内には、中央部の下方が上記開口部52として開口されたスカベンジャ箱98が設けられると共に、この開口部52には基板保持具58を下方へアンロードした時に閉じられるシャッタ100が開閉可能に設けられている。そして、このスカベンジャ箱98には、この内部雰囲気を排気する排気通路図示せずが接続されており、処理容器54内の排気熱がローディング室70内へ流れ込むことを防止するようになっている。そして、このローディング室70内には、一側の壁面からこれに対向する他側の壁面に対して不活性ガス、例えばN2ガスの横流が形成されて、半導体ウエハよりなる基板Wが自然酸化されるのを防止している。そして、このように形成された処理システム2の全体の動作は、図示しないコンピュータ等よりなるシステム制御部により制御される。尚、上記ローディング室70内が露点と酸素濃度が管理された乾燥空気雰囲気になされる場合もある。次に、以上のように構成された本発明の処理システムの動作について説明する。まず、全体の流れについて説明すると、前工程にて処理が完了された複数枚の基板Wは、不活性ガスである窒素ガス雰囲気で満たされた基板容器34内に収容された状態で、処理システム2のフロント側の搬出入ポート28上に設置される。この搬出入ポート28に設置された基板容器34は、この搬出入ポート28の開閉ドア30を開いた後に、容器移載機構38の容器搬送アーム42により保持されて、ストッカユニット12内に取り込まれる。この取り込まれた基板容器34は、一時的にストック棚36上に載置されて待機される。そして、処理の順番がきた時に、この基板容器34は上記容器移載機構38を再度用いて、中央区画壁10に設けた容器移載ポート44上に載置されることになる。この容器移載ポート44上に基板容器34を載置したならば、反対側の基板搬出入口50側の開閉ドア48を開く。この際、基板搬出入口50に設けた蓋開閉機構図示せずにより基板容器34の蓋34Aを同時に取り外して基板容器34内を開放する。この場合、上記容器移載ポート44上に載置した基板容器34を図示しないアクチュエータで基板搬出入口50の周縁部に気密状態になるように押し付け、このように押し付けた状態で上記基板容器34の蓋34Aを、ローディング室70内の開閉ドア48と共に開放させる。そして、ローディング室70内の基板移載機構74の移載アーム78を用いて、上記基板容器34内の全ての基板Wを、アンロードされている基板保持具58のウエハボート60上に移載する。この際、上記基板保持具58の下端部は、図1に示すように昇降エレベータ機構68の保持アーム82により支持された状態で基板保持具収容凹部90内に収容されている。そして、上記操作を繰り返すことにより、複数の基板容器34内の基板Wが全てウエハボート60に移載され、例えば満載状態にされる。この際、移載アーム78は、移載のためにウエハボート60の高さ方向に沿って上下移動される。上述のように、基板Wがウエハボート60に満載されたならば、上記昇降エレベータ機構68を駆動して保持アーム82を上昇させ、このウエハボート60を処理ユニット18の処理容器54内へその下方より挿入して図2に示すように基板Wを処理容器54内へロードする。この際、キャップ64により処理容器54の下端の開口部52を密閉する。このように処理容器54内を密閉したならば、処理容器54の外周に設けた加熱ヒータ部56により処理容器54内へロードされた基板Wをプロセス温度まで昇温し、この処理容器54内に所定の処理ガスを流すと共に所定のプロセス圧力に維持し、成膜処理等の所定の熱処理を施すことになる。このようにして、基板Wに対する所定の熱処理が終了したならば、前述した動作と逆の操作を行って処理済みの基板Wを搬出する。まず、昇降エレベータ機構68を駆動して保持アーム82を降下させることにより、ウエハボート60を含む基板保持具58を処理容器54内から下方へ取り出すことにより基板Wをアンロードする。このアンロードが完了した時点で、図1に示すように、基板保持具58の下端部は、保持アーム82に保持された状態で基板保持具収容凹部90内に収容された状態となっている。この際、このローディング室70内には、冷却ガスとしてN2ガスの横流が形成されており、基板Wが所定の温度に冷却される。また、処理容器54の下端部側に設けたスカベンジャ箱98の開口部52はシャッタ100により閉じられており、熱排気がローディング室70内へ流入しないようにしている。そして、所定の温度まで冷却された基板Wは、前述した搬送経路とは逆の経路を辿って搬出される。すなわち、ウエハボート60中の処理済みの基板Wは、基板移載機構74の移載アーム78により取り出され、この基板Wは、容器移載ポート44上に載置されている空の基板容器34内へ収容される。この処理済みの基板容器34は、容器移載機構38の容器搬送アーム42を用いて、一時的にストック棚36内へ保管された後に、或いは直接的に搬出入ポート28へ搬出されることになる。上述したように、本発明ではローディング室70の底部を区画する底部区画壁22であって、処理容器54の下方、すなわち基板保持具58の下方に対応する部分を凹部状に窪ませて、ここに基板保持具収容凹部90を形成し、この基板保持具収容凹部90内にアンロード時の基板保持具58の下端部を収容させるようにしているので、この基板保持具収容凹部90内に収容された基板保持具58の長さ分だけ、床面6より上方の処理システム2の高さを低くすることができる。すなわち、上記長さ分だけローディングユニット20の実質的な高さ床面6からの高さを抑制することができる。従って、例えば450mmサイズの基板のように、基板間のピッチが300mmサイズの基板の場合よりも大きくなることから処理システム全体が高くなるような場合でも、上述のように基板保持具収容凹部90を設けることにより、このような450mmサイズ対応の処理システムを、クリーニングルーム内の高さが制限されている既存の建屋のSEMI規格に準拠したクリーニングルームに設置することができる。以上のように、本発明では、床面6に設置されるローディングユニットのローディング用筐体72の底部に、下方へ突出させて基板保持具収容凹部90を形成し、例えば床面に形成した穴部96内に基板保持具収容凹部90を収容すると共にこの基板保持具収容凹部90に基板保持具の下端部を収容できるようにしたので、ローディングユニット20の実質的な高さである床面からの高さを抑制することができる。<第1変形実施例>次に本発明のローディングユニットの第1変形実施例について説明する。先に説明したローディングユニットにおいては、昇降エレベータ機構68の保持アーム82は、鉛直方向下方に延びる垂直部分82Aと、これより水平方向に延びる水平部分82BとによりL字状に成形した場合を例にとって説明したが、これに限定されない。例えば図3に示すローディングユニットの第1変形実施例の部分断面図のように、垂直部分82Aに替えて、基板保持具収容凹部90の底部中心側に向けて斜め下方に延びる傾斜部分82Cを設けるようにしてもよい。尚、図3においては、図1及び図2に示す構成部分と同一構成部分については同一参照符号を付してある。この第1変形実施例の場合にも、先に説明した実施例と同様な作用効果を発揮することができる。<第2変形実施例>次に本発明のローディングユニットの第2変形実施例について説明する。先に説明したローディングユニットにおいては、基板移載機構74の移載アーム78自体としては、水平方向に屈曲可能になされ且つ水平面内において旋回可能になされている構造の移載機構を採用した場合を例にとって説明したが、これに限定されず、移載アーム自体に垂直方向、すなわち上下方向へも屈伸できる構造の移載機構を採用してもよい。図4はこのような本発明のローディングユニットの第2変形実施例を示す部分断面図である。尚、図4においては図1及び図2に示す構成部分と同一構成部分については同一参照符号を付してある。図4に示すように、ここでは基板移載機構74の移載アーム78としては、水平面内における旋回機能は勿論のこと、斜め上方向、斜め下方向及び水平方向に対してそれぞれ屈伸することができる多関節屈伸アーム102を用いている。これにより、この多関節屈伸アーム102の全体は、案内レール78に沿って上下方向へ移動できると同時に、一箇所に停止した状態で多関節屈伸アーム102のストローク長だけ上下方向に基板Wを移載させることができる。従って、例えば上記基板保持具収容凹部90内に、ウエハボート60の下端部が収容されている状態では、図1及び図2に示す基板移載機構74では、移載アーム78は水平方向にしか屈伸できないので、ウエハボート60に対して基板Wの移載ができなかったが、この第2変形実施例では上述のように多関節屈伸アーム102は、それ自体で斜め上下方向へも屈伸できることから、基板保持具収容凹部90内に一部が収容されたウエハボート60の下端部に対しても多関節屈伸アーム102のストロークの範囲内で基板Wを移載することができる。この場合、上記多関節屈伸アーム102は、案内レール76の最下端部に位置された状態で斜め下方向へ屈伸することになるので、多関節屈伸アーム102の屈伸時に凹部区画壁94と干渉しないようにするために、基板保持具収容凹部90の幅を少し大きく設定しておく。この第2変形実施例においては、基板保持具収容凹部90内に収容できるウエハボート60の長さ分だけ、処理システム2自体の床面6からの高さを更に低くすることができる。尚、この第2変形実施例において、図3に示す第1変形実施例の保持アーム82を採用してもよいのは勿論である。この第2変形実施例の場合にも、先に説明した実施例と同様な作用効果を発揮することができる。<第3変形実施例>次に本発明のローディングユニットの第3変形実施例について説明する。先に説明したローディングユニットにおいては、昇降エレベータ機構68の保持アーム82としては、垂直部分82Aと水平部分82B図1参照又は傾斜部分82Cと水平部分82B図3参照により構成した場合を例にとって説明したが、この保持アーム82に更に昇降機構を設けるようにしてもよい。図5はこのような本発明のローディングユニットの第3変形実施例を示す部分断面図であり、図5Aはウエハボートのアンロード時を示し、図5Bはウエハボートのロード時を示している。尚、図5においては、図1及び図2に示す構成部分と同一構成部分については同一参照符号を付してある。図5に示すように、ここでは昇降エレベータ機構68の保持アーム82の部分に、上記基板保持具58を保持した状態で昇降する補助昇降機構110が設けられている。具体的には、上記保持アーム82の垂直部分82Aを補助案内レール112として形成し、この補助案内レール112に対して水平部分82Bの基端部を上下方向へ移動可能に取り付けている。従って、この水平部分82Bは、上記補助案内レール112の長さ分のストロークで昇降できるようになっている。図示例では、補助案内レール112にはラック114が形成され、このラック114に図示しない歯車が噛み合って水平部分82Bが昇降できるようになっているが、この構造に限定されないのは勿論である。この場合には、昇降エレベータ68の案内レール80の長さと補助昇降機構110の案内レール112の長さの合計がウエハボート60のストローク量となるので、上記昇降エレベータ68の案内レール80の上端部を処理ユニット18の内側部分まで延長させる必要がなく、従来のローディング室と同様にこの案内レール80の上端部をベースプレート16、またはこの下方で支持固定することができる。すなわち、この第3変形実施例の場合にウエハボート60をロードする場合には、図5Bに示すように、案内レール80の上端に保持アーム82を位置させた状態で、更に補助昇降機構110を駆動して保持アーム82の水平部分82Bを補助案内レール112の上端まで上昇させることにより、ウエハボート60を処理容器54内へ収容することになる。この第3変形実施例の場合にも、先に説明した実施例と同様な作用効果を発揮することができる。尚、この第3変形実施例においても、図4に示す第2変形実施例の基板移載機構74を採用するようにしてもよいのは勿論である。また、ここでは基板として半導体ウエハを例にとって説明したが、この半導体ウエハにはシリコン基板やGaAs、SiC、GaNなどの化合物半導体基板も含まれ、更にはこれらの基板に限定されず、液晶表示装置に用いるガラス基板やセラミック基板等にも本発明を適用することができる。また、上記実施例では石英製の処理容器、ウエハボートと保温筒を例にとって説明したが、これらの材質は、石英のほか、シリコンカーバイトSiCやポリシリコンやシリコン系材質のウエハボートでも本発明を適用することができる。