"荷電粒子カラムを有し、ウエハのようなターゲットに像を、像をターゲットに転送するための複数の荷電粒子小ビームを使用して投影するための、荷電粒子を基本としたリソグラフイシステムであって、荷電粒子源と、コリメータレンズと、アパチャーアレイと、ブランキング手段と、ビーム絞りとを有し、前記複数の荷電粒子小ピームを発生させるための電子光学集合体と、前記像を形成するように、前記ターゲットに前記複数の荷電粒子小ビームを投影させるためのプロジェクターとを具備し、前記プロジェクターは、前記電子光学集合体に対してプロジェクターを移動させるための少なくとも1つのプロジェクターのアクチュエータによりシステム内で移動可能であり、前記プロジェクターのアクチュエータは、前記プロジェクターを機械的に駆動し、移動の少なくとも1自由度をプロジェクターに与え、前記自由度は、システムの光軸を中心とした移動に関連しているシステム。前記アクチュエータは、ピエゾ素子を有している請求項1のシステム。前記アクチュエータは、前記ピエゾ素子の駆動に対する反力を与えるためのばね部材を有している請求項2のシステム。前記プロジェクターは、荷電粒子投射レンズのアレイを備えフレームに支持された投影システムを有する請求項1のシステム。前記プロジェクターは、可撓性の部材により支持されている請求項1のシステム。前記プロジェクターは、3つの可撓性部材により支持され、また、前記プロジェクターのアクチュエータは、これら可撓性部材の1つの移動の自由の方向に駆動する請求項5のシステム。前記アクチュエータは、前記1つの可撓性部材に近接した前記プロジェクターと関連している請求項6のシステム。前記システムは、前記プロジェクターの移動方向でのプロジェクターの移動を測定するためのセンサ素子を具備している請求項1のシステム。前記センサ素子は、容量センサを含んでいる請求項8のシステム。前記アクチュエータとばね部材とは、互いに近接して設けられている請求項3のシステム。前記ばね部材とアクチュエータとは、前記プロジェクターの一部分の対向する両側に位置された形態で設けられている請求項3のシステム。前記プロジェクターを駆動するための3つのアクチュエータが、前記プロジェクターの光軸を中心とした正三角形に配置されている請求項1のシステム。前記少なくとも1つのプロジェクターのアクチュエータが、前記プロジェクターの光軸に直交する仮想面の方向に駆動する請求項1のシステム。少なくとも1つの更なるプロジェクターのアクチュエータが、前記プロジェクターの光軸に実質的に平行な方向に駆動する請求項1のシステム。前記少なくとも1つのプロジェクターのアクチュエータが、前記プロジェクターの光軸に直交する仮想面の方向に駆動し、少なくとも1つの更なるプロジェクターのアクチュエータが、前記光軸に実質的に平行な方向に駆動する請求項1のシステム。前記アクチュエータの各々は、ピエゾ素子を有し、このピエゾ素子の駆動とは反対に動作するばね部材と関連しており、前記各ピエゾ素子と、ピエゾ素子に関連したばね部材とは、対応した形態である請求項12のシステム。このシステムは、対応したプロジェクターのアクチュエータの駆動方向でのプロジェクターの移動を測定するセンサ素子を有し、前記複数のピエゾ素子と、複数のばね部材と、これらピエゾ素子とばね部材とに関連した複数のセンサ素子とは、対応した形態である請求項16のシステム。前記自由度は、前記プロジェクターの光軸に直交する仮想面内での移動可能性と、前記プロジェクターの光軸を中心とした回動の可能性と、前記プロジェクターの光軸に直交した仮想面の軸を中心とした傾動の可能性として定義付けられている請求項1のシステム。前記投影された像とターゲットとの相対的移動は、システムでのアラインメントエラーの調節のために機能する請求項1のシステム。前記ターゲットを支持する移動可能なステージを有し、前記相対的位置付けを実現するためのターゲット位置付けシステムを具備し、前記投影された像とターゲットとの相対的位置付けは、前記ターゲット位置付けシステムの精度の要求を緩和するために使用される請求項1のシステム。前記ターゲットの位置付けは、比較的長いストロークの位置付けステージのみでなされる請求項20のシステム。前記プロジェクターは、1もしくは複数の荷電粒子小ピームを投影するための静電レンズアレイと磁界レンズアレイとの一方を有している請求項1のシステム。特に、請求項1に係る荷電粒子リソグラフイシステムによりターゲットに像を投影する方法であって、前記システムのプロジェクターとターゲットの一面とは、全投影サイクルの間、互いに実質的に平行に維持されている方法。前記プロジェクターは、ターゲットのウエハの厚さの変動を矯正する請求項23の方法。前記厚さの変動は、前記プロジェクターの光軸に直交する面内の1もしくは複数の軸を中心としたプロジェクターの傾動により補償される請求項24の方法。図1は、像を、特に制御システムにより与えられた像をターゲットに投影するための従来の荷電粒子システム1の概略的な図である。このシステムは、特に、本発明の一部が関連したウエハステージの構成要素を含んでする。このデザインにおいて、荷電粒子システムは、制御システム2と、ベースフレーム8上に装着された真空チャンバ3とを有している。このチャンバ内には、荷電粒子カラム4と、メトロフレーム6と、ターゲット位置付けシステム9~13とが収容されている。ターゲット9は、一般には、基板の面に荷電粒子感応層が設けられたウエハである。このターゲットは、ウエハテーブル10の上面に載置されており、このウエハテーブル10ハ、チャック12並びに長いストローク装置13上に位置されている。測定装置11が前記メトロフレーム6に接続されて、ウエハテーブル10とメトロフレーム6との相対位置の測定を果たす。前記メトロフレーム6は、代表的には、外乱を緩衝するために、比較的高い質量であり、また、ばね部材により例えば、具体化される振動絶縁体7により支えられている。電子光学的な前記カラム4は、プロジェクター5を使用して最後の投影を果たす。このプロジェクター5は、静電もしくは磁界投影レンズのシステムを有している。示された好ましい例では、レンズシステムは、静電荷電粒子レンズのアレイを有している。プロジェクター全体を支持し固定するために、このレンズシステムは、キャリアフレーム内に収容されている。前記プロジェクター5は、ターゲット9に近接させて、即ち、25ミクロンないし75ミクロンの範囲内に、位置されている。この例に従えば、位置付け距離は、約50ミクロンプラスマイナス10である。広い範囲での移動に対して所望の精度を得るために、ウエハ位置付けシステムは、代表的には、走査方向とこの走査方向と直交する方向とに比較的長い距離ウエハステージを移動させるための長いストローク要素13と、ターゲット9を精度良く位置づけるためと乱れを矯正するためとの短いストローク要素12とを有している。前記メトロフレーム6に対するウエハステージの相対的な位置は、前記測定システム11により測定される。ターゲット9は、投影の間にターゲット9を固定するために、ウエハテープル10上にクランプ留めされる。図2は、既知の荷電粒子カラム4の一例の概略図である。既知のシステムにおいて、荷電粒子源17は、荷電粒子ピーム16を発生する。この荷電粒子ピームは、荷電粒子ピームをコリメートするためのコリメータレンズ19を通過する。そして、コリメートされた荷電粒子ピームは、アパチャーアレイ21により複数の小ビーム22に変更される。このアパチャーアレイは、既知のシステムであり、コリメートされたビームの一部をブロックし、小ビームが通過することを可能にする透孔付きのプレートを有する。小ビームは、ブロック手段23に投影される。このブロック手段は、この例では、偏向手段が設けられたアパチャーアレイを有している。前記ブロック手段23は、偏向されなかった小ビームを通すようにブロック手段23のアパチャーアレイとアラインメントされたアパチャーアレイにより形成されたビーム絞り25上へと個々の選定された小ビームを偏向することができる。このようなビーム絞り25上への小ビーム24の偏向は、偏向された個々の小ビーム24をオフに、即ち、ターゲットに達しないように、効果的にスイッチする。偏向されなかった小ビームは、妨げられないで、通過することができ、かくしてブランキングアレイ23とビーム絞りアレイとによってブランキングされない。前記ブランキングアレイ23のための制御信号は、パターンストリーマ14で発生され、電気信号15として送られ、変調手段16により光制御信号20に変換される。この光制御信号20は、スイッチ情報を伝えるために、前記ブランキングアレイ23に送られる。前記プロジェクター5は、偏向されなかった小ビーム収束すると共に、ターゲット上を描画方向へと偏向されなかった小ビームを偏向する。かくして、最後の投影が果たされる。このターゲット9上への荷電粒子ビームの最後の投影は、第1の方向でのターゲット9への小ピーム22の偏向を同時に果たしながら、また、ターゲット9が、上記ターゲット位置付けシステム9~13により、前記第1の方向とは直交する第2の方向に移動されながら、露光を果たす。図3は、本発明に従った前記プロジェクター9と、前記メトロフレーム6と、ターゲット9と、チャック10との相対位置を概略的に示している。前記前記メトロフレーム6とチャック10とは、チャック10のために6-DOFアクチュエータの使用の場合の、メトロフレームとチャックとが平行に維持されるように位置付けられている。本発明に係れば、プロジェクター5は、ターゲットでの変動を矯正できるように、6-DOF駆動手段を備えている。位置と移動との測定は、この例ではレーザ干渉計を有する測定システム11によりなされる。代わって、測定ルーラのような他のシステムが適用され得る。図4は、本発明に係るレーザプロジェクター5の第1の実施の形態を概略的に示している。このプロジェクター5は、Z方向に硬く。静的に決定された配置で、例えば、第1の実施の形態では図示されているように三角形の配置で位置された支持体26,28,30を有している。これら支持体により、レンズは、メトロフレーム6に対してZ,Rx,Ry方向では固定されている。弾性的に変形可能な更なる3つの支持体27,29,31、所謂可撓性のマウントにより、プロジェクター5は、XY平面内に維持されているけれども、これら支持体が回転中心を有する三角形状に配置されているので、レンズの中心、即ち、Z軸を中心として回動可能になっている。このような形態では、プロジェクター5は、光学Z軸Rzを中心とした回転である1自由度を有している。図4に示された構造では、容量センサ33により前記メトロフレームに対するプロジェクターの位置が測定される。ピエゾアクチュエータ34は、プロジェクターを回動させるための手段を構成している。このピエゾアクチュエータ34は、回転エラーを補償するのに充分に長いストロークを有している。このストロークは、5x10-6ないし25x10-6mの範囲、好ましくは、10x10-6m未満の長さである。前記容量センサ33は、本選定に従えば、5x109m未満、好ましくは0.5x109m未満のエラーでプロジェクター5の位置を精度良くするのに充分な高精度を有している。また、前記制御システム2と接続されたこの容量センサ33は、プロジェクター5の移動と位置とを測定し制御することによって、プロジェクターの位置付けを可能にしている。この実施の形態では、前記ピエゾアクチュエータは、一方向のみに延出しており、プロジェクターの一部5Aに作用する。弾性的なばね部材32が、プロジェクターの前記一部5Aに対して他の方向からピエゾアクチュエータに対して反力を与えるように配置されている。この実施の形態では、前記反力は、ピエゾアクチュエータの動きの方向とは反対の方向の力である。好ましくは、プロジェクターのアクチュエータと弾性のばね部材とは互いにか近接されて関連つけられた状態で配置され、好ましくは、リソグラフイシステム内の制限された予定の空間内で、プロジェクター並びに/もしくはセンサ素子に近接されている。図の上方もしくは下方から見た、図5は、2つの更なるピエゾアクチュエータ38,39を使用することにより、プロジェクター5が、XY平面内で調節可能な、前の実施の形態の改良例を示している。この実施の形態では、XY平面内にプロジェクター5を固定させるためのマウントは、設けられていない。この実施の形態では、3つのピエゾアクチュエータにより、レンズは、Z軸を中心として回動されると同様に、XY平面内で移動される。このような構成では、プロジェクター5は、3自由度を有している。更なる容量センサ36、41と、ばね部材35,42とか、所望の動きを調節するために、使用されている。図6は、Z方向と、Rx方向と、Y方向とのエラーを矯正することが可能なプロジェクター5を有する更に優れた実施の形態を示している。この実施の形態では、Rz、X、Yに対する調節に、Z、Rx、Yの更なる調節が、ピエゾアクチュエータ51、52,53の使用により、追加されている。このような構成では、アクチュエータは、6自由度を有している。図7は、プロジェクター5が、Z方向と、Rx方向と、Y方向とのエラーを矯正することが可能である図6の実施の形態を示している図6の矢印A、A‘方向からの側面図である。プロジェクター5は、ピエゾアクチュエータ51,52によりZ方向で支持されている。更なる容量センサ47,50とばね部材48,49とが、Z方向と、Rx方向と、Y方向との所望の動きを可能にするように設けられている。上記説明は、好ましい実施の形態の動作の説明が含まれており、本発明の範囲を規定する意味では無いことが、理解されるであろう。上記説明から、多くの変更が、本発明の精神と範囲とに含まれるであろうことは、当業者により明らかであろう。前述したコンセンプトと、関連した説明とから離れて、本発明は、当業者により直接かつ明瞭に導かれるような、添付の図面に示されている全てと同様に、特許請求の範囲規定されせた全ての形態に関している。参照符号が特許請求の範囲に記載されていれば、これらは、例示的なものを示すためにだけに記載されているのであって、括弧により示された用語に限定するものではない。"